(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）：
【化１】
0005671204.tif 000020
で表される化合物が溶解した溶液に、炭化水素系溶媒を混合して種晶を析出し、１０分以上の熟成を行って、前記種晶の量が、前記式（１）で表される化合物重量に対して５重量％以上２００重量％以下となるようにし、
その後、炭化水素系溶媒を添加し晶析することを特徴とする晶析方法。
【請求項２】
晶析によって得られた前記式（１）で表される化合物の結晶中、粒径が３５０μｍ以上である結晶の重量比率が３１％以上であることを特徴とする請求項１に記載の晶析方法。
【請求項３】
炭化水素系溶媒を連続添加または分割添加することを特徴とする請求項１又は２に記載の晶析方法。
【請求項４】
前記式（１）で表される化合物が溶解した溶液において、前記式（１）で表される化合物を溶解する溶媒が、ケトン類、エステル類、ハロゲン化炭化水素類からなる群から選ばれる１種または２種以上である請求項１〜３のいずれかに記載の晶析方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の晶析方法により得られた一般式（１）：
【化２】
0005671204.tif 000021
で表される化合物の結晶であって、その結晶中、
粒径が３５０μｍ以上である結晶の重量比率が３１％以上であり、
粒径が１７７μｍ未満である結晶の重量比率が２４％以下であり、
粒径が５００μｍ以下である結晶の嵩密度が０．３９以上であることを特徴とする前記式（１）で表される化合物の結晶。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、１β−メチルカルバペネム化合物の共通合成中間体として極めて有用なアゼチジノン化合物の改良された晶析方法、及び不純物の含有量が少ない高純度アゼチジノン化合物、及び結晶の粒径分布が制御され、操作性、安定性が向上したアゼチジノン化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
１β−メチルカルバペネム化合物は、広範囲の病原菌に対して優れた抗菌作用を示し、かつ、生体内での安定性にも優れていることから最も注目されている抗菌剤の一つである。上記１β−メチルカルバペネム化合物を合成するための有用な中間体として、一般式（１）：【０００３】
【化５】
0005671204.tif 000002
【０００４】
で表されるアゼチジノン化合物が知られている（特許文献１、２、３）。前記式（１）で表される化合物（以下、化合物（１）と略す場合がある）は、通常、特許文献４に記載されているように、化合物（１）とチオール化合物とのカップリング工程と、得られた中間体の脱保護工程の、わずか２つの工程で１β−メチルカルバペネム化合物を合成できるため、非常に重要でかつ有用な中間体である。【０００５】
化合物（１）の晶析方法として、化合物（１）を含有する塩化メチレン溶液にｎ−ヘキサンを滴下する晶析方法が開示されている（特許文献１）。また、合成反応で得た化合物（１）を含有する酢酸エチルやメチルイソブチルケトンなどの有機溶媒溶液に水を添加して混合溶媒とし、これに貧溶媒を添加する晶析方法が開示されている（特許文献２）。また、合成反応で得た化合物（１）を含有する酢酸エチルやメチルイソブチルケトンなどの有機溶媒溶液を、メチルエチルケトンの存在下で水洗し、分液操作により水溶性成分を除去した後、濃縮などの後処理操作を経て貧溶媒を添加する晶析方法が開示されている（特許文献３）。しかしながら、本発明者らによりこれらの方法を追試したところ、（Ａ）得られる結晶には、不純物として、一般式（２）：【０００６】
【化６】
0005671204.tif 000003
【０００７】
で表される化合物、一般式（３）：【０００８】
【化７】
0005671204.tif 000004
【０００９】
で表される化合物及び／又は一般式（４）：【００１０】
【化８】
0005671204.tif 000005
【００１１】
で表される化合物の含有量が０．４％以上であり、品質として十分満足できるものではなく、医薬品バルクを短段階で合成可能な有用な中間体としての位置付けを考慮すると、これらの不純物量をより少なく制御する必要がある、（Ｂ）晶析したスラリーを固液分離して結晶を取得する際、濾過性が悪いため、工業規模で生産を行う場合に濾過時間が長くなり、生産性の低下に繋がり、さらには、化合物（１）は溶液状態では分解が起こりやすく不安定であるため、濾過時間が長時間となる場合には不純物の増加に伴う品質の低下に繋がる、等の問題があることがわかった。さらに、（Ｃ）結晶形態の化合物（１）は４０℃で２０日経過しても分解がなく、その安定性は極めて良好であることが開示されているが（特許文献４）、本発明者らにより（特許文献４）に記載の方法と同様の方法で取得した結晶形態の化合物（１）について６０℃での保存安定性を調べたところ、８日間で２０％の分解が認められ、６０℃といった過酷条件では安定性が悪く、工業規模での流通、保管を考える場合に、必ずしも長期間の保存に適していない、等の実用面での問題を有していることがわかった。
【特許文献１】特許３４７９７２０号公報
【特許文献２】特開平８−３１１０９２号公報
【特許文献３】特開２０００−４４５８７号公報
【特許文献４】特許３０８０４１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
このように、従来の晶析方法は、１）品質として十分満足できるものではない、２）結晶取得時の濾過性が悪く、工業規模での生産では濾過時間が長くなり生産性の低下や品質の低下に繋がる、３）過酷条件では取得した結晶の安定性が悪く長期間の保存には問題がある、といった課題を有しており、化合物（１）の晶析方法として十分であるとは言えず、これらの課題を解決する晶析方法の開発が望まれていた。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは上記現状に鑑み、上記課題を解決する晶析方法について鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、前記式（１）で表される化合物が溶解した溶液に、該化合物重量に対して２００重量％以下の種晶の存在下、炭化水素系溶媒を添加することを特徴とする前記式（１）で表される化合物の晶析方法に関する。【００１４】
また、本発明は、不純物として、一般式（２）：【００１５】
【化９】
0005671204.tif 000006
【００１６】
で表される化合物、一般式（３）：【００１７】
【化１０】
0005671204.tif 000007
【００１８】
で表される化合物及び／又は一般式（４）：【００１９】
【化１１】
0005671204.tif 000008
【００２０】
で表される化合物の含有量が０．３％以下に抑制された前記式（１）で表される化合物に関する。【００２１】
また、本発明は、前記式（１）で表される化合物の結晶中、粒径が３５０μｍ以上である結晶の重量比率が３１％以上であることを特徴とする前記式（１）で表される化合物に関する。【００２２】
また、本発明は、前記式（１）で表される化合物の結晶中、粒径が１７７μｍ未満である結晶の重量比率が２４％以下であることを特徴とする前記式（１）で表される化合物に関する。【００２３】
さらに、本発明は、前記式（１）で表される化合物の結晶中、粒径が５００μｍ以下である結晶の嵩密度が０．３９以上であることを特徴とする前記式（１）で表される化合物に関する。
【発明の効果】
【００２４】
本発明にかかる方法によれば、１β−メチルカルバペネム化合物の共通合成中間体として極めて有用なアゼチジノン化合物に関して、従来よりも高品質で、高い安定性を有していて、さらに結晶取得時の濾過性に優れた結晶を取得できる。また、このようにして得られる化合物は、不純物の含有量が少なく、また、結晶の粒径分布が制御され、操作性、安定性が向上したアゼチジノン化合物である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下に本発明を詳しく述べる。【００２６】
本発明は、一般式（１）：【００２７】
【化１２】
0005671204.tif 000009
【００２８】
で表される化合物が溶解した溶液に、前記式（１）で表される化合物（以下、化合物（１）と略す場合がある）重量に対して２００重量％以下の種晶の存在下、炭化水素系溶媒を添加することを特徴とする。【００２９】
まず、化合物（１）が溶解した溶液について説明する。【００３０】
化合物（１）が溶解した溶液とは、後述する富溶媒に、化合物（１）が溶解した溶液を指す（以下、化合物（１）の富溶媒溶液と略す場合がある）。富溶媒とは、化合物（１）の溶解度が高い溶媒であり、以下に具体的な例を挙げて説明する。【００３１】
富溶媒としては特に制限されないが、例えば、アセトン、２−ブタノン（メチルエチルケトン）、３−メチル−２−ブタノン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、４−メチル−２−ペンタノン（メチルイソブチルケトン）、２−ヘキサノンなどのケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチル等のエステル類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、２−ブタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル等のエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン等のアミド類；アセトニトリル等のニトリル類等を挙げることができる。上記の溶媒の中で好適にはケトン類、エステル類、ハロゲン化炭化水素類またはそれらの混合溶媒であり、より好ましくは酢酸エチル、酢酸イソプロピル、ジクロロメタン、アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノンまたはそれらの混合溶媒である。【００３２】
本発明で用いる化合物（１）の富溶媒溶液は、化合物（１）を公知の方法で合成した富溶媒を含む粗反応液でもよいし、一旦単離した化合物（１）を富溶媒に溶解してもよい。また、化合物（１）の粗反応液を必要に応じて水（酸、塩基、塩などを含んでいてもよい）による洗浄、濃縮による濃度調整、不溶物の濾過処理、活性炭による吸着処理等の後処理を行って調製した溶液であってもよい。また、言うまでもなく、富溶媒以外の溶媒が悪影響のない範囲で存在してもよい。例えば、化合物（１）の富溶媒溶液に水溶性成分を除去するための水を添加して、結果的にエマルジョンを形成した層を含んでいてもよいし、二層に分離していてもよい。また、後述する炭化水素系溶媒が混入していてもよい。【００３３】
化合物（１）の富溶媒溶液の濃度は、使用する富溶媒により異なり、特に制限されないが、生産性や回収率などを考慮して通常は５ｗｔ％以上であることが好ましく、８ｗｔ％以上が更に好ましい。また、富溶媒溶液の濃度の上限は、操作性を考慮して、通常は、使用する富溶媒に対する化合物（１）の飽和溶解度以下であることが好ましいが、過飽和の溶液であっても構わない。【００３４】
次に、化合物（１）が溶解した富溶媒溶液に添加する炭化水素系溶媒について説明する。【００３５】
炭化水素系溶媒としては特に制限されないが、炭素数５〜２０の鎖状または環状の脂肪族炭化水素類、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素類、及び炭化水素類を混合した溶媒としてエクソン化学株式会社製アイソパーＥ、アイソパーＧ等が挙げられる。炭素数５〜２０の鎖状または環状の脂肪族炭化水素類としては、例えば、ペンタン、２−メチルペンタン、２，２−ジメチルペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、イソオクタン、ｎ−デカン等の鎖状飽和炭化水素類；シクロペンタン、メチルシクロペンタン、エチルシクロペンタン、プロピルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、プロピルシクロヘキサン等の環状飽和炭化水素類；２−ペンテン、１−ヘキセン、シクロヘキセン等の不飽和炭化水素類等を挙げることができる。炭素数６〜２０の芳香族炭化水素類としては、ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、エチルベンゼン等を挙げることができる。これらの溶媒は単独で用いてもよく、２種以上を用いてもよい。中でも鎖状または環状の飽和炭化水素類が好ましく、安価で入手が容易である点からｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンが特に好ましい。【００３６】
次に、種晶及びその調製方法について説明する。【００３７】
種晶とは、一般に、飽和あるいは過飽和の溶液や過冷却の溶液から結晶化を誘起するために用いられる小結晶を指し、結晶化を誘起するために系外から添加することもできるし、自然発生したり、濃度勾配、温度勾配、外部からの刺激により過飽和溶液から作り出すこともでき、晶析に際して、系内で発生させた結晶核も、系外から添加した結晶核も新たな結晶核の発生を促す役目を果たす。過飽和溶液から結晶のできる過程は、まず核が発生し、次いで、その核が成長するという二つの段階に分けてとらえられ、晶出は結晶核の発生と結晶核からの成長の両現象が相伴って起こる。通常、晶析を実施したい化合物の過飽和溶液に対して種晶を添加することで結晶の析出が促される。本発明においては、通常種晶として用いられる量よりも多量に使用することで、核の発生よりも核の成長を促すことにより、高純度で、安定性および操作性等のあらゆる面で従来よりも有用な結晶が取得できる。【００３８】
種晶は、系外で別途調製したものを化合物（１）の富溶媒溶液に添加してもよいし、予め系内で調製してもよい。好ましくは、予め系内で調製したものである。【００３９】
本発明において、種晶の系内での調製は、自然発生や、濃度勾配、温度勾配、外部からの刺激等により実施される。系内で調製する方法としては、化合物（１）の富溶媒溶液と炭化水素系溶媒を混合することにより化合物（１）を析出させる方法が挙げられ、化合物（１）の富溶媒溶液に炭化水素系溶媒を添加し、化合物（１）を析出させる方法でもよいし、炭化水素系溶媒に化合物（１）の富溶媒溶液を一括添加、連続添加または分割添加して化合物（１）を析出させる方法でもよい。また、化合物（１）の富溶媒溶液を濃縮や昇温、冷却などの操作に付して化合物（１）を析出させる方法でもよい。さらにこれらの方法を組み合わせて行ってもよい。【００４０】
炭化水素系溶媒と混合して種晶を予め系内で調製する場合、化合物（１）の濃度としては特に制限されないが、富溶媒と炭化水素系溶媒を含有する溶液中、化合物（１）が過飽和となる濃度であればよい。これにより、通常２時間以内、好ましくは１時間以内、より好ましくは３０分以内に種晶の析出が開始する。【００４１】
種晶の添加及び／又は調製を行う際の温度としては特に制限されないが、富溶媒溶液中での化合物（１）の安定性を考慮して、上限は６０℃以下、好ましくは５０℃以下、より好ましくは４０℃以下であり、下限は−３０℃以上、好ましくは−２５℃以上、より好ましくは−２０℃以上である。【００４２】
種晶の添加及び／又は調製には、通常撹拌を行いながら実施される。その際の撹拌の強さは特に制限されないが、単位体積当たりの撹拌所要動力として、通常０．０１ｋＷ／ｍ3以上であり、好適には０．０５ｋＷ／ｍ3以上であり、より好ましくは０．１ｋＷ／ｍ3以上であり、更に好ましくは０．３ｋＷ／ｍ3以上である。【００４３】
種晶の添加及び／又は調製に際して、種晶の添加途中及び／又は添加後、及び／又は種晶の調製途中及び／又は終了後に熟成工程を含むことが、結晶核の成長を促すことができる点で好ましい。熟成工程とは、具体的には、別途調製した種晶の添加や、化合物（１）の富溶媒溶液への炭化水素系溶媒の添加、あるいは、化合物（１）の富溶媒溶液の炭化水素系溶媒への添加等の操作を行わず、上記の攪拌操作、または、静置を行う工程を示し、結晶核の成長を促す工程である。熟成工程の時間としては特に制限されないが、１分以上であることが好適であり、１０分以上が好ましく、より好ましくは２０分以上であり、３０分以上であることが更に好ましい。【００４４】
添加及び／又は調製した富溶媒溶液中の種晶の量は、富溶媒溶液中に溶解している化合物（１）が結晶化する際に結晶核の成長を促す量である必要がある。晶析に際して、晶析を実施したい化合物の過飽和溶液に対して種晶を極力少量添加することで結晶化させることが一般的であるが、本発明では多量の種晶存在下で結晶化を行う。本発明において、化合物（１）の富溶媒溶液中の種晶の存在量としては、富溶媒溶液中に溶解した化合物（１）の重量に対して２００重量％以下、好ましくは１５０重量％以下、さらに好ましくは１００重量％以下である。また、下限は、富溶媒溶液中に溶解している化合物（１）が結晶化する際に結晶核の成長を促す量として、１重量％以上、好ましくは５重量％以上、さらに好ましくは１０重量％以上である。なお、基準となる富溶媒溶液中に溶解した化合物（１）の重量は、系内で種晶を調製する場合は、種晶を調製した後に溶液中に溶解した化合物（１）の量である。このようにして、富溶媒溶液中に溶解した化合物（１）が結晶化する際に、結晶核を成長させることにより、濾過性を改善することでき、濾過時間を短縮することが可能となる。さらに、得られる結晶形態の化合物（１）を高品質にコントロールでき、更に化合物（１）の安定性をも向上させることが可能となる。【００４５】
次に、本発明において化合物（１）の富溶媒溶液に炭化水素系溶媒を添加して晶析を行う際の操作条件について説明する。【００４６】
添加する炭化水素系溶媒の液量については、使用する富溶媒との組み合わせにより富溶媒と炭化水素系溶媒の混合溶媒に対する化合物（１）の溶解度が異なるため、特に制限されず、高い回収率を維持しつつ、且つ高純度で不純物の少ない結晶が取得できるように適宜設定するのが好ましいが、通常化合物（１）の富溶媒溶液に対し、下限は０．０１ｖ／ｖ倍量以上が好ましく、０．０３ｖ／ｖ倍量以上がさらに好ましく、０．０５ｖ／ｖ倍量以上が特に好ましい。上限は１０ｖ／ｖ倍量以下が好ましく、５ｖ／ｖ倍量以下がさらに好ましく、３ｖ／ｖ倍量以下が特に好ましい。なお、炭化水素系溶媒の量は、炭化水素系溶媒を添加することにより系内で種晶を調製する場合は、この際に加えた炭化水素系溶媒も含む。【００４７】
化合物（１）の富溶媒溶液に炭化水素系溶媒を添加する際の温度は特に制限されないが、富溶媒溶液中での化合物（１）の安定性を考慮して、上限は６０℃以下、より好ましくは５０℃以下であり、下限は−３０℃以上、好ましくは−２５℃以上、より好ましくは−２０℃以上である。【００４８】
炭化水素系溶媒を添加する方法は特に制限されず、一括添加でも逐次添加でもよい。逐次添加は炭化水素系溶媒を連続的に添加することによって行ってもよいし、炭化水素系溶媒をいくつかに分割してそれらを順次添加することによって行ってもよい。逐次添加にかける時間は、添加時の温度、濃度や攪拌状態によって異なり、特に制限されないが、生産性などの観点から、上限は３時間以内が普通であり、２時間以内で行ってもよく、更に１時間以内で行ってもよい。【００４９】
炭化水素系溶媒の添加は、通常撹拌を行いながら実施される。その際の撹拌の強さは特に制限されないが、単位体積当たりの撹拌所要動力として、通常０．０１ｋＷ／ｍ3以上であり、好適には０．０５ｋＷ／ｍ3以上であり、より好ましくは０．１ｋＷ／ｍ3以上であり、更に好ましくは０．３ｋＷ／ｍ3以上である。【００５０】
炭化水素系溶媒を添加した後、晶析回収率を高めるため、冷却晶析や濃縮晶析を実施してもよい。言うまでもなく、化合物（１）の富溶媒溶液に炭化水素系溶媒を添加する方法と、冷却晶析や濃縮晶析を適宜組み合わせて実施してもよい。富溶媒の沸点が添加する炭化水素系溶媒の沸点よりも低い場合には、濃縮晶析を組み合わせることにより晶析回収率を高めることができる。また、富溶媒の沸点が添加する炭化水素系溶媒の沸点よりも高い場合でも冷却晶析を組み合わせることにより、富溶媒と炭化水素系溶媒の混合溶媒に対する化合物（１）の溶解度を低下させ、晶析回収率を高めることができる。【００５１】
本発明の晶析方法で得られた結晶形態の化合物（１）は、一般的な固液分離操作により単離することができる。本発明の晶析方法で得られたスラリーを固液分離操作に付す際、従来の晶析方法で得られたスラリーを固液分離操作に付す際と比較して、濾過性が非常に良好であり、化合物（１）の工業規模での製造を考慮すると、濾過時間を大幅に短縮することができ、非常に有効である。【００５２】
また、本発明の晶析方法で取得された化合物（１）の結晶には、不純物として、一般式（２）：【００５３】
【化１３】
0005671204.tif 000010
【００５４】
で表される化合物、一般式（３）：【００５５】
【化１４】
0005671204.tif 000011
【００５６】
で表される化合物及び／又は一般式（４）：【００５７】
【化１５】
0005671204.tif 000012
【００５８】
で表される化合物の含有量が０．３％以下に抑制され、非常に高品質であり、医薬品バルクを短段階で合成できる有用な中間体としての位置付けを考慮すると、これらの不純物量をより少なく制御できており非常に有用である。【００５９】
また、本発明の晶析方法によれば、従来の方法で取得された化合物（１）の結晶と比較して、粒径の大きな結晶の重量比率を上げることが可能になる。本発明の晶析方法で取得された化合物（１）の結晶と従来の方法で取得された化合物（１）の結晶について粒径分布を測定したところ、従来の方法で取得された結晶に比べて、本発明の晶析方法で取得された結晶の方が、粒径の大きな結晶の重量比率が多くなっていた。これは、多量の種晶存在下で結晶化させて、特に、種晶を添加及び／又は系内で調製する工程で熟成工程を行うことにより、新たな結晶核の発生ではなく、結晶核の成長を促すことができたためであると考えられる。本発明の晶析方法に従えば、粒径の大きな結晶の重量比率を上げることができ、化合物（１）の結晶中、粒径が３５０μｍ以上である結晶の重量比率が３１％以上である化合物（１）を取得できる。なお、粒径が３５０μｍ以上である結晶の重量比率は、濾過等の取り扱い性の点から、好ましくは３５％以上、さらに好ましくは４０％以上、特に好ましくは４５％以上である。また、本発明の晶析方法に従えば、化合物（１）の結晶中、粒径が１７７μｍ未満である結晶の重量比率が２４％以下である化合物（１）を取得できる。なお、粒径が１７７μｍ未満である結晶の重量比率は、濾過等の取り扱い性の点から、好ましくは２０％以下、さらに好ましくは１８％以下である。本発明の晶析方法で取得された化合物（１）の結晶と従来の方法で取得された化合物（１）の結晶について結晶の大きさを光学顕微鏡で確認したところ、従来の方法で取得された結晶よりも、本発明の晶析方法で取得された結晶の方が大きいことがわかった。このように結晶が大きくなるように、及び／又は、上述のように粒径分布を制御した結果、結晶取得時の濾過性を改善でき、化合物（１）の工業規模での生産を行う場合において、生産性の低下や、濾過時間延長による不純物増加に伴う品質の低下といった問題を回避することができる。【００６０】
また、本発明の晶析方法に従えば、従来の晶析方法で取得した結晶よりも粒径の大きな結晶が相対的に多くなり、それに伴い、嵩密度も大きくなる。本発明の晶析方法に従えば、例えば、化合物（１）の結晶中、粒径が５００μｍ以下である結晶の嵩密度が０．３９以上である化合物（１）を取得できる。結晶の嵩密度は、以下の観点から、より好ましくは０．４０以上である。従来の晶析方法で取得された結晶に比べて、より小さい体積で取り扱うことができるため、市場での流通を考慮すると、容器数や運搬費の削減に繋がり、非常に有効である。【００６１】
さらに、本発明の晶析方法で取得された化合物（１）の結晶と従来の方法で取得された化合物（１）の結晶について６０℃での保存安定性を測定したところ、従来の方法で取得された結晶に比べて、本発明の晶析方法で取得された結晶の方が、より安定であることがわかった。工業規模での製造では長期保管が必要な場合もあるため、保存安定性がより高い結晶は、より有用である。【００６２】
以上のように、本発明の晶析方法によれば、従来よりも高品質で、高い安定性を有していて、さらに結晶取得時の濾過性に優れ、嵩密度の大きい、有用な化合物（１）の結晶を取得できる。
【実施例】
【００６３】
以下に実施例、比較例、参考例を用いて、本発明をより一層明らかにするが、本発明はこれらに限定されるものではない。【００６４】
（参考例１）  ｐ−ニトロベンジル  （４Ｒ，５Ｒ，６Ｓ）−１−アザ−３−ジフェニルオキシホスホリルオキシ−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソビシクロ−［３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボキシレート（１）の富溶媒溶液の調製【００６５】
【化１６】
0005671204.tif 000013
【００６６】
窒素雰囲気下、（３Ｓ，４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−４−［（Ｒ）−１−メチル−３−ジアゾ−３−（ｐ−ニトロベンジルオシカルボニル）−２−オキソプロピル］−２−アゼチジノン２１．６ｇをジクロロメタン５００ｍｌに溶解した溶液に、ロジウムオクタノエート１３５ｍｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解した液を添加して、４０℃で６時間反応させた。この反応液を−１５℃に冷却し、同温度にてジフェニルクロロホスフェート１６．４ｇを加えた。その後、この反応液に、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン９．５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン１４０ｍｇをジクロロメタン１１０ｍｌに溶解した溶液を、−１５℃にて３０分かけて滴下し、３０分間反応させた。この反応液を１０℃以下に保ちながら０．３規定塩酸水溶液２１６ｍｌ、５％炭酸水素ナトリウム水溶液２１６ｍｌで順次、洗浄・分液した。得られた有機層を濃縮し、表記化合物（１）３０．５ｇを含むジクロロメタン溶液１５０ｍｌを得た。【００６７】
（実施例１）
参考例１で得た化合物（１）１５．３ｇを含むジクロロメタン溶液に、ｎ−ヘキサン１０ｍｌを１５℃で３分かけて添加した。添加５分後には結晶が析出し、その後同温度で３０分間熟成した。熟成後の結晶の析出量は、富溶媒に溶解している化合物（１）の量に対して２５重量％であった。次いで、この富溶媒溶液に、ｎ−ヘキサン１００ｍｌを１５℃で３０分かけて滴下し、同温度で１時間熟成させた。熟成後、６０ｍｍ径の濾紙（フィルター４μｍ）を用いて得られたスラリーを濾過した。濾過に要した時間は５０秒であり、以下に示す比較例１よりも短時間で濾過が終了した。得られた結晶ケーキを、ジクロロメタン１５ｍｌとｎ−ヘキサン６０ｍｌの混合溶液、及びｎ−ヘキサン７５ｍｌで順次洗浄した後、減圧下乾燥させて、表記化合物（１）の結晶１５．２ｇ（純度９９％）を得た。得られた結晶を任意に取り出して光学顕微鏡で結晶の大きさを確認したところ、比較例１で得られた結晶よりも大きいことがわかった。【００６８】
（比較例１）
参考例１で得た化合物（１）１５．２ｇを含むジクロロメタン溶液に、ｎ−ヘキサン１１０ｍｌを１５℃で３０分かけて滴下し、同温度で１時間熟成させた。熟成後、６０ｍｍ径の濾紙（フィルター４μｍ）を用いて得られたスラリーを濾過した。濾過に要した時間は１３０秒であった。得られた結晶ケーキを、ジクロロメタン１５ｍｌとｎ−ヘキサン６０ｍｌの混合溶液、及びｎ−ヘキサン７５ｍｌで順次洗浄した後、減圧下乾燥させて、表記化合物（１）の結晶１５．１ｇ（純度９９％）を得た。得られた結晶を任意で取り出して光学顕微鏡で結晶の大きさを確認した。【００６９】
（参考例２）
ｐ−ニトロベンジル  （４Ｒ，５Ｒ，６Ｓ）−１−アザ−３−ジフェニルオキシホスホリルオキシ−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソビシクロ−［３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボキシレート（１）の富溶媒溶液の調製【００７０】
【化１７】
0005671204.tif 000014
【００７１】
窒素雰囲気下、（３Ｓ，４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−４−［（Ｒ）−１−メチル−３−ジアゾ−３−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−オキソプロピル］−２−アゼチジノン２１．７ｇを４−メチル−２−ペンタノン２００ｍｌに加え、メタンスルホン酸４１ｍｇ、ロジウムオクタノエート１３２ｍｇを順次添加して、５２℃で１時間反応させた。この反応液を−１０℃に冷却し、同温度にてジフェニルクロロホスフェート１６．４ｇ、２−ブタノン１２０ｍｌを順次加えた。この反応液に、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン９．５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン１４０ｍｇを２−ブタノン１２０ｍｌに溶解した溶液を、−１０℃にて３０分かけて滴下し、３０分間反応させた。反応後、この反応液を３０℃以下で０．３規定塩酸水溶液２００ｍｌ、５％炭酸水素ナトリウム水溶液２００ｍｌで順次、洗浄・分液し、表記化合物（１）２７．８ｇを含む４−メチル−２−ペンタノン／２−ブタノンの混合溶液を得た。【００７２】
（実施例２）
参考例２で得た化合物（１）１３．９ｇを含む４−メチル−２−ペンタノン／２−ブタノン溶液を、３０℃を保ちながら、１７０ｍｌとなるまで濃縮した。この溶液にヘキサン５ｍｌを３０℃で３分かけて添加した。添加後すぐに結晶が析出し、同温度で３０分間熟成した。熟成後の結晶の析出量は、富溶媒に溶解している化合物（１）の量に対して１９４重量％であった。次いで、この富溶媒溶液にｎ−ヘキサン１４０ｍｌを３０℃で４０分かけて滴下し、同温度で１時間熟成させた。熟成後、６０ｍｍ径の濾紙（フィルター４μｍ）を用いて、得られたスラリーを濾過した。濾過に要した時間は６０秒であり、以下に示す比較例２よりも短時間で濾過が終了した。得られた結晶ケーキを、４−メチル−２−ペンタノン３６ｍｌとｎ−ヘキサン３６ｍｌの混合溶液、及びｎ−ヘキサン７２ｍｌで順次洗浄した後、減圧下乾燥させて、表記化合物（１）の結晶１２．２ｇ（純度９９％）を得た。【００７３】
（比較例２）
参考例２で得た化合物（１）１３．９ｇを含む４−メチル−２−ペンタノン／２−ブタノン溶液を、３０℃を保ちながら、１７０ｍｌとなるまで濃縮した。この溶液にｎ−ヘキサン１４５ｍｌを３０℃で４０分かけて滴下し、同温度で１時間熟成させた。熟成後、６０ｍｍ径の濾紙（フィルター４μｍ）を用いて得られたスラリーを濾過した。濾過に要した時間は１９０秒であった。得られた結晶ケーキを、４−メチル−２−ペンタノン３６ｍｌとｎ−ヘキサン３６ｍｌの混合溶液、及びｎ−ヘキサン７２ｍｌで順次洗浄した後、減圧下乾燥させて、表記化合物（１）の結晶１２．４ｇ（純度９８％）を得た。【００７４】
（参考例３）
ｐ−ニトロベンジル  （４Ｒ，５Ｒ，６Ｓ）−１−アザ−３−ジフェニルオキシホスホリルオキシ−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソビシクロ−［３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボキシレート（１）の富溶媒溶液の調製【００７５】
【化１８】
0005671204.tif 000015
【００７６】
窒素雰囲気下、（３Ｓ，４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−４−［（Ｒ）−１−メチル−３−ジアゾ−３−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−オキソプロピル］−２−アゼチジノン２５．０ｇを酢酸エチル２１５ｍｌに溶解し、メタンスルホン酸４５ｍｇ、ロジウムオクタノエート１５２ｍｇを順次添加して、５２℃で２時間３０分反応させた。この反応液を−７℃に冷却し、同温度にてジフェニルクロロホスフェート１８．９ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン１１７ｍｇを順次添加し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン９．３ｇを２時間かけて添加した。−７℃で３０分間反応させた後、リン酸二水素ナトリウム５．０ｇと炭酸水素ナトリウム０．６ｇを水９６ｍｌに溶解させた水溶液を、１０℃以下で１０分かけて添加した。添加後４５℃に昇温して、表記化合物（１）２９．８ｇを含む酢酸エチルと水との混合溶液を得た。【００７７】
（実施例３）
参考例３で得た化合物（１）１４．９ｇを含む酢酸エチルと水との混合溶液を２０℃に冷却し、ｎ−ヘプタン１０ｍｌを同温度で１０分かけて添加した。添加後すぐに結晶が析出し、３０分間熟成した。熟成後の結晶の析出量は、富溶媒に溶解している化合物（１）の量に対して１５０重量％であった。次いで、この富溶媒溶液にｎ−ヘプタン３０ｍｌを２０℃で３０分かけて滴下した後、５℃に冷却して１時間熟成させた。熟成後、６０ｍｍ径の濾紙（フィルター４μｍ）を用いて得られたスラリーを濾過した。濾過に要した時間は５分であり、以下に示す比較例３よりも短時間で濾過が終了した。得られた結晶ケーキを、酢酸エチル１１ｍｌとｎ−ヘプタン９ｍｌの混合溶液、及び水５０ｍｌで順次洗浄した後、減圧下乾燥させて、表記化合物（１）の結晶１３．３ｇ（純度９８％）を得た。【００７８】
（比較例３）
参考例３で得た化合物（１）１４．９ｇを含む酢酸エチルと水との混合溶液を２０℃に冷却し、ヘプタン４０ｍｌを同温度で３０分かけて添加した。添加中に結晶が析出し、添加終了後５℃に冷却して１時間熟成させた。熟成後、６０ｍｍ径の濾紙（フィルター４μｍ）を用いて得られたスラリーを濾過した。濾過に要した時間は８分であった。得られた結晶ケーキを、酢酸エチル１１ｍｌとｎ−ヘプタン９ｍｌの混合溶液、及び水５０ｍｌで順次洗浄した後、減圧下乾燥させて、表記化合物（１）の結晶１３．３ｇ（純度９８％）を得た。【００７９】
（実施例４）不純物量の測定
実施例１、実施例２、実施例３、比較例１、比較例２、及び比較例３で取得した結晶形態の化合物（１）を以下の２種類の分析条件で分析した。それぞれで取得された結晶中の化合物（２）、化合物（３）、化合物（４）の不純物量の合計を表１に示す。本発明の晶析方法で得られる化合物（１）の不純物量は、従来の方法で得られる化合物（１）の不純物量よりも少なくなることがわかった。
［ＨＰＬＣ分析条件１］
機種  ：（株）島津製作所製  ＬＣ−１０Ａシリーズ
カラム：（株）ジーエルサイエンス製ＯＤＳカラム
Ｉｎｅｒｔｓｉｌ  ＯＤＳ−２（４．６ｍｍ×１５０ｍｍ）
溶離液：アセトニトリル／酢酸緩衝液（ｐＨ６．０）＝１／１（ｖ／ｖ）
流速  ：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
検出  ：２５４ｎｍ（ＵＶ検出器）
温度  ：２５℃
［ＨＰＬＣ分析条件２］
機種  ：（株）島津製作所製  ＬＣ−１０Ａシリーズ
カラム：ＹＭＣ製順相系カラム
ＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＳＩＬ  Ａ−００３（４．６ｍｍ×２５０ｍｍ）
溶離液：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝２／１（ｖ／ｖ）
流速  ：０．５ｍｌ／ｍｉｎ
検出  ：２７０ｎｍ（ＵＶ検出器）
温度  ：２５℃【００８０】
【表１】
0005671204.tif 000016
【００８１】
（実施例５）結晶安定性の分析
実施例１、及び比較例１で取得した結晶形態の化合物（１）約５００ｍｇをそれぞれガラス瓶に秤量、密栓して、６０℃の恒温室にて８日間放置した。初日の活性を１００％としてＨＰＬＣにて残存活性を測定した結果を表２に示す。実施例１で取得した結晶の安定性は比較例１で取得した結晶の安定性よりも極めて良好であることがわかった。【００８２】
【表２】
0005671204.tif 000017
【００８３】
（実施例６）結晶粒径分布の測定
実施例２、比較例２、実施例３、及び比較例３で取得した結晶形態の化合物（１）を任意に３．０ｇとり、日本工業規格（ＪＩＳ  Ｚ  ８８０１）に準じた目開きの試験用ふるい（５００μｍ、４２０μｍ、３５０μｍ、２５０μｍ、１７７μｍ、１４９μｍ、１２５μｍ、７４μｍ、４４μｍの目開きのふるい［内径８ｃｍ］）を用いて、ＪＩＳ  Ｚ  ８９０１で定められた標準ふるい法の測定順序にしたがって手動で振動させた。「実施例２の結晶」対「比較例２の結晶」、及び「実施例３の結晶」対「比較例３の結晶」について、粒径分布を比較した結果を表３に示す。「実施例２の結晶」の方が「比較例２の結晶」よりも、また「実施例３の結晶」の方が「比較例３の結晶」よりも、目開きの大きいふるいに残留した重量比率が大きく、本発明の晶析方法で取得される結晶の方が従来の方法で取得される結晶よりも、相対的に粒径が大きい結晶の割合が多いことがわかった。【００８４】
【表３】
0005671204.tif 000018
【００８５】
（実施例７）結晶の嵩密度の測定
実施例１、比較例１、実施例２、及び比較例２で取得した結晶形態の化合物（１）を任意に３．０ｇとり、日本工業規格（ＪＩＳ  Ｚ  ８８０１）に準処した目開き５００μｍの試験用ふるい（直径８ｃｍ）を用いてふるいにかけ、通過した結晶の嵩密度を測定した。嵩密度の測定は、上述のふるいにかけた結晶１０ｍＬをメスシリンダーにはかり取り、容積が変わらなくなるまでタッピングすることにより実施した。嵩密度の計算方法として「結晶重量」／「結晶容積」より算出した。その結果を表４に示す。「実施例１の結晶」対「比較例１の結晶」、及び「実施例２の結晶」対「比較例２の結晶」について比較したところ、「実施例１の結晶」「実施例２の結晶」の方が、それぞれ「比較例１の結晶」「比較例２の結晶」よりも大きく、本発明の晶析方法で取得される結晶の方が従来の方法で取得される結晶よりも、嵩密度が大きくなることがわかった。【００８６】
【表４】
0005671204.tif 000019