(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を一分子内に持つ第１化合物の重合体と、
下記一般式（ＡＡ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種を含み且つ重量平均分子量が１００００以下の化合物から選択される少なくとも１種の第２化合物と、
を含んで構成される機能層を有する電子写真感光体。
【化１】
0005691578.tif 000062
（一般式（ＡＡ）中、Ｒａは、水素原子、又はアルキル基を表す。Ｒｂは、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。）
【請求項２】
前記機能層に含有される前記第２化合物の含有量が１質量％以上３０質量％以下である、請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記一般式（ＡＡ）中、Ｒａは水素原子又はメチル基を表し、Ｒｂは炭素数１以上６以下のアルキル基を表す、請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記第２化合物は、２５℃、１気圧下において液状の化合物である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記機能層が、最表面層である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
前記第１化合物が、一分子内に前記連鎖重合性官能基を２つ以上持つ化合物である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項７】
前記第１化合物が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【化２】
0005691578.tif 000063
（一般式（Ｉ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、Ｄは、炭素二重結合を持つ官能基を有する基を表し、ｃ１乃至ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は１以上である。）
【請求項８】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ｄが、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを有する基を表す請求項７に記載の電子写真感光体。
【請求項９】
前記機能層が、熱ラジカル発生剤又はその誘導体を含む請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項１０】
請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項１１】
請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置は、一般的には、次の如き構成及びプロセスを有するものである。
即ち、電子写真感光体表面を帯電手段で所定の極性及び電位に帯電させ、帯電後の電子写真感光体表面を、像露光により選択的に除電することにより静電潜像を形成させた後、現像手段で該静電潜像にトナーを付着させることにより、潜像をトナー像として現像し、トナー像を転写手段で被転写媒体に転写させることにより、画像形成物として排出させるといったものである。
【０００３】
電子写真感光体の保護層（最表面層）の材料系については、以下のものが提案されている
例えば、特許文献１には導電粉をフェノール樹脂に分散したものが提案されている。
また、特許文献２には、有機―無機ハイブリッド材料によるものが提案されている。
また、特許文献３には、連鎖重合性材料によるものが提案されている。
また、特許文献４には、アクリル系材料によるものが提案されている。
また、特許文献５には、放射線架橋剤と電荷輸送物質からなり、放射線架橋されたものが提案されている。
また、特許文献６〜８には、保護層（最表面層）形成用の塗布液に、可塑剤を添加することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３２８７６７８号公報
【特許文献２】特開平１２−０１９７４９号公報
【特許文献３】特開２００５−２３４５４６号公報
【特許文献４】特開２０００−６６４２４号公報
【特許文献５】特開２００４−２４００７９号公報
【特許文献６】特開２００８−２２５０４３号公報
【特許文献７】特開２００８−２２５４１１号公報
【特許文献８】特開２００８−２１６２９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生を抑制した電子写真感光体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を一分子内に持つ第１化合物の重合体と、
下記一般式（ＡＡ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種を含み且つ重量平均分子量が１００００以下の化合物から選択される少なくとも１種の第２化合物と、
を含んで構成される機能層を有する電子写真感光体。
【０００７】
【化１】
0005691578.tif 000002
【０００８】
（一般式（ＡＡ）中、Ｒａは、水素原子、又はアルキル基を表す。Ｒｂは、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。）
【０００９】
請求項２に係る発明は、
前記機能層に含有される前記第２化合物の含有量が１質量％以上３０質量％以下である、請求項１に記載の電子写真感光体。
請求項３に係る発明は、
前記一般式（ＡＡ）中、Ｒａは水素原子又はメチル基を表し、Ｒｂは炭素数１以上６以下のアルキル基を表す、請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
請求項４に係る発明は、
前記第２化合物は、２５℃、１気圧下において液状の化合物である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００１０】
請求項５に係る発明は、
前記機能層が、最表面層である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００１１】
請求項６に係る発明は、
前記第１化合物が、一分子内に前記連鎖重合性官能基を２つ以上持つ化合物である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００１２】
請求項７に係る発明は、
前記第１化合物が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００１３】
【化２】
0005691578.tif 000003
【００１４】
（一般式（Ｉ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、Ｄは、炭素二重結合を持つ官能基を有する基を表し、ｃ１乃至ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は１以上である。）
【００１５】
請求項８に係る発明は、
前記一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ｄが、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを有する基を表す請求項７に記載の電子写真感光体。
【００１６】
請求項９に係る発明は、
前記機能層が、熱ラジカル発生剤又はその誘導体を含む請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００１７】
請求項１０に係る発明は、
請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【００１８】
請求項１１に係る発明は、
請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【００１９】
請求項１、２、３に係る発明によれば、上記第１化合物の重合体と上記第２化合物とを含んで構成される機能層を有さない場合に比べ、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。
請求項４に係る発明によれば、上記第２化合物が液状の化合物ではない場合い比べ、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。
請求項５に係る発明によれば、上記機能層が最表面層ではない場合に比べ、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。
請求項６に係る発明によれば、上記第１化合物として、一分子内に前記連鎖重合性官能基を２つ以上持つ化合物を適用しない場合に比べ、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。
請求項７、８に係る発明によれば、上記第１化合物として、上記一般式（Ｉ）で表される化合物を適用しない場合に比べ、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。
請求項９に係る発明によれば、上記機能層が熱ラジカル発生剤又はその誘導体を含まない場合に比べ、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。
【００２０】
請求項１０、１１に係る発明によれば、上記第１化合物の重合体と上記第２化合物とを含んで構成される機能層を有する電子写真感光体を適用しない場合に比べ、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生を抑制した画像が得られるプロセスカートリッジ、及び画像形成装置が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図２】実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図３】実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図４】実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図５】他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図６】（Ａ）乃至（Ｃ）はそれぞれゴースト評価の基準を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
〔電子写真感光体〕
本実施形態に係る電子写真感光体は、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を一分子内に持つ化合物（第１化合物：以下、特定の電荷輸送性材料と称することがある）の重合体と、下記一般式（ＡＡ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種を含み且つ重量平均分子量が１００００以下の化合物、下記一般式（ＢＢ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種を含み且つ重量平均分子量が１００００以下の化合物、フタル酸エステル、トリメリット酸エステル、脂肪酸エステル、多価アルコールエステル、及び多価アルコールエーテルから選択される少なくとも１種の化合物（第２化合物：以下、特定のエステル・エーテル化合物と称することがある）と、を含んで構成される機能層を有する電子写真感光体である。
【００２３】
ここで、特定の電荷輸送性材料の重合体を用いた層は、機械的強度が高いものの、これを電子写真感光体に適用すると、電気特性の悪化、特に、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生が生じることがある。
【００２４】
そこで、本実施形態に係る電子写真感光体では、上記機能層を有することで、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生が抑制される。この理由は定かではないが、以下のように推測される。
【００２５】
特定の電荷輸送性材料を重合させる過程においては、開始剤から発生するカチオン、アニオン、ラジカルや、刺激（例えば熱、電子線、光等）により連鎖重合性官能基を攻撃し、連鎖重合を開始することが知られている。その際に、少なからず、開始剤から発生するカチオン、アニオン、ラジカルや、刺激（例えば熱、電子線、光等）により、電荷輸送性材料における電荷輸送性の部位（電荷輸送性骨格）も攻撃を受け、これにより電気特性の悪化を招いていていたり、連鎖重合反応の際に分子運動が制限されるため重合不良が生じていたりするものと考えられる。
これを抑制するには、前述の刺激を温和な条件にすれば解決されるが、温和な条件にすると、連鎖重合反応の際の分子運動が制限されるため、重合反応が進行し難く、膜強度が得られないことがある。
【００２６】
これに対して、本実施形態の如く、特定の電荷輸送性材料と共に上記特定のエステル・エーテル化合物を併用すると、第２化合物が可塑剤の如く役割を担うためか、特定の電荷輸送性材料の連鎖重合反応の際に生じる分子運動の制限が抑制され、また、理由は定かではないが、連鎖重合反応時において、開始剤から発生するカチオン、アニオン、ラジカルや、刺激（例えば熱、電子線、光等）が、選択的に連鎖重合性官能基を攻撃し連鎖重合を開始することにより、特定の電荷輸送性材料における電荷輸送性の部位（電荷輸送性骨格）への攻撃が抑制され、電荷輸送性を損なうことなく、強度に優れた硬化膜が形成されると考えられる。
【００２７】
その結果、本実施形態に係る電子写真感光体では、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生が抑制されると考えられる。
また、これらの結果、上記機能層は機械的強度が高く、当該機能層を最表面層として有すると、機械的強度も高く、長期に亘る繰り返し使用による電気特性及び画像特性の劣化が抑制される、つまり、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生が抑制されると考えられる。
また、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ、及び画像形成装置では、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生を抑制した画像が得られる。そして、安定した画像が得られる。
【００２８】
本実施形態に係る電子写真感光体では、前述の通り、上記機能層を有するもので、当該機能層は、最表面層、又は最表面層以外の層のいずれであってもよいが、機械的強度が高く、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）の発生を抑制する観点から、最表面層であることがよい。
【００２９】
ここで、最表面層は、電子写真感光体自体の最上面を形成しているものであり、特に保護層として機能する層、又は、電荷輸送層として機能する層として設けられることが望ましい。
最表面層が保護層として機能する層の場合、導電性基体上に、感光層、及び最表面層として保護層を有し、該保護層が上記機能層で構成される形態が挙げられる。
一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層として電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が上記機能層で構成される形態が挙げられる。
なお、上記機能層が最表面層以外の層を構成する場合、導電性基体上に、電荷発生層及び最表面層を含む感光層と共に、感光層上に最表面層として保護層を有し、該電荷輸送層が上記機能層で構成される形態が挙げられる。
【００３０】
以下、上記機能層が最表面層である保護層として機能する層の場合の、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
図１は、実施形態に係る電子写真用感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図２乃至図３はそれぞれ他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。
【００３１】
図１に示す電子写真感光体７Ａは、いわゆる機能分離型感光体（又は積層型感光体）であり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、電荷輸送層３、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ａにおいては、電荷発生層２及び電荷輸送層３により感光層が構成されている。
【００３２】
図２に示す電子写真感光体７Ｂは、図１に示す電子写真感光体７Ａと同様に電荷発生層２と電荷輸送層３とに機能が分離された機能分離型感光体である。また、図３に示す電子写真感光体７Ｃは、電荷発生材料と電荷輸送性材料とを同一の層（単層型感光層６（電荷発生／電荷輸送層））に含有するものである。
【００３３】
図２に示す電子写真感光体７Ｂにおいては、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に、電荷輸送層３、電荷発生層２、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ｂにおいては、電荷輸送層３及び電荷発生層２により感光層が構成されている。
また、図３に示す電子写真感光体７Ｃにおいては、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に単層型感光層６、保護層５が順次形成された構造を有するものである。
【００３４】
そして、上記図１乃至図３に示す電子写真感光体７Ａ乃至７Ｃにおいて、保護層５が、導電性基体２から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記機能層で構成された構成となっている。
なお、図１乃至図３に示す電子写真感光体において、下引層１は設けてもよいし、設けなくてもよい。
【００３５】
以下、代表例として図１に示す電子写真感光体７Ａに基づいて、各要素について説明する。
【００３６】
（導電性基体）
導電性基体としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、薄膜（例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）等の膜）を設けたプラスチックフィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、導電性付与剤を塗布又は含浸させたプラスチックフィルム等が挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。
なお、導電性基体は、例えば体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ未満の導電性を有するものがよい。
【００３７】
導電性基体として金属パイプを用いる場合、表面は素管のままであってもよいし、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。
【００３８】
（下引層）
下引層は、導電性基体表面における光反射の防止、導電性基体から感光層への不要なキャリアの流入の防止などの目的で、必要に応じて設けられる。
【００３９】
下引層は、例えば、結着樹脂と、必要に応じてその他添加物とを含んで構成される。
下引層に含まれる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などが挙げられる。これらの中でも、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが望ましく用いられる。
【００４０】
下引層には、シリコン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物等の金属化合物等を含有してもよい。
【００４１】
金属化合物と結着樹脂との比率は、特に制限されず、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で設定される。
【００４２】
下引層には、表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子を添加してもよい。樹脂粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）樹脂粒子等が挙げられる。なお、表面粗さ調整のために下引層を形成後、その表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等が用いられる。
【００４３】
ここで、下引層の構成として、結着樹脂と導電性粒子とを少なくとも含有する構成が挙げられる。なお、導電性粒子は、例えば体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ未満の導電性を有するものがよい。
【００４４】
導電性粒子としては、例えば、金属粒子（アルミニウム、銅、ニッケル、銀などの粒子）、導電性金属酸化物粒子（酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの粒子）、導電性物質粒子（カーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト粉末の粒子）等が挙げられる。これらの中でも、導電性金属酸化物粒子が好適である。導電性粒子は、２種以上混合して用いてもよい。
また、導電性粒子は、疎水化処理剤（例えばカップリング剤）等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。
導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが望ましく、より望ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００４５】
下引層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた下引層形成用塗布液が使用される。
また、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【００４６】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【００４７】
下引層の膜厚は、１５μｍ以上が望ましく、２０μｍ以上５０μｍ以下がより望ましい。
【００４８】
ここで、図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。中間層に用いられる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素原子などを含有する有機金属化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いてもよい。中でも、ジルコニウム若しくはケイ素を含有する有機金属化合物は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど点から好適である。
【００４９】
中間層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた中間層形成用塗布液が使用される。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００５０】
なお、中間層は上層の塗布性改善の他に、電気的なブロッキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こすことがある。したがって、中間層を形成する場合には、０．１μｍ以上３μｍ以下の膜厚範囲に設定することがよい。また、この場合の中間層を下引層として使用してもよい。
【００５１】
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂中とを含んで構成される。かかる電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．７゜、９．３゜、１６．９゜、１７．５゜、２２．４゜及び２８．８゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．５゜、９．９゜、１２．５゜、１６．３゜、１８．６゜、２５．１゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも９．６゜、２４．１゜及び２７．２゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は２種以上を混合して用いてもよい。
【００５２】
電荷発生層を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡタイプあるいはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、例えば１０：１乃至１：１０の範囲が望ましい。
【００５３】
電荷発生層の形成の際には、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液が使用される。
【００５４】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【００５５】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【００５６】
電荷発生層の膜厚は、望ましくは０．０１μｍ以上５μｍ以下、より望ましくは０．０５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲に設定される。
【００５７】
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、電荷輸送性材料と、必要に応じて結着樹脂と、を含んで構成される。
【００５８】
電荷輸送性材料としては、例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ′−ジフェニルベンジジン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４′−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４′−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロアントラキノン等のキノン系化合物、テトラアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、及び上記した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送性材料は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５９】
電荷輸送層を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡタイプあるいはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等があげられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
なお、電荷輸送性材料と上記結着樹脂との配合比は、例えば１０：１乃至１：５が望ましい。
【００６０】
電荷輸送層は、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。
【００６１】
電荷輸送層形成用塗布液中に粒子（例えばフッ素樹脂粒子）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【００６２】
電荷輸送層層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
電荷輸送層の膜厚は、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲に設定される。
【００６３】
（保護層）
保護層は、特定の電荷輸送性材料の重合体、特定のエステル・エーテル化合物と、の重合体を含んで構成された機能層である。
具体的には、保護層（機能層）は、例えば、少なくとも特定の電荷輸送性材料と特定のエステル・エーテル化合物とを含む電荷輸送性組成物を塗布した後、特定の電荷輸送性材料を重合することで、硬化させた硬化膜からなる機能層である。
【００６４】
ここで、本重合体は、他の単量体との共重合体であってもよく、また、未架橋の重合体であっても、架橋された、所謂３次元網目構造を持つ重合体であってもよい。この架橋・未架橋は、例えば、特定の電荷輸送性材料の連鎖重合性官能基の数により制御される。具体的には、例えば、連鎖重合性官能基の数が２つの場合には、直鎖状又は未架橋の重合体となり易く（但し、必ずしもなる未架橋となるわけではない）、連鎖重合性官能基の数が３つ以上の場合には、架橋された重合体となり易い。
【００６５】
まず、特定のエステル・エーテル化合物について説明する。
特定のエステル・エーテル化合物は、下記一般式（ＡＡ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種を含み且つ重量平均分子量が１００００以下の化合物（以下一般式（ＡＡ）の化合物と称することがある）、下記一般式（ＢＢ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種を含み且つ重量平均分子量が１００００以下の化合物（以下一般式（ＢＢ）の化合物）、フタル酸エステル、トリメリット酸エステル、脂肪酸エステル、多価アルコールエステル、及び多価アルコールエーテルから選択される少なくとも１種の化合物が適用される。
【００６６】
【化３】
0005691578.tif 000004
【００６７】
一般式（ＡＡ）中、Ｒａは、水素原子、又はアルキル基を表す。Ｒｂは、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。
一般式（ＢＢ）中、Ａ及びＢは、それぞれ独立に炭素数１以上２０以下のアルキレン基を表す。
【００６８】
ここで、一般式（ＡＡ）中、Ｒａが表すアルキル基は、例えば、その炭素数が１以上５０以下のものがよく、望ましくは炭素数が１以上５以下のもの、より望ましくは炭素数が１以上２以下のものである。
一般式（ＡＡ）中、Ｒｂが表すアルキル基、又はアリール基は、望ましくは炭素数が１以上５０、より望ましくは炭素数が２以上以下２０のものである。
【００６９】
アルキル基としては、直鎖状、分枝状、環状のいずれであってもよく、具体的には、例えば、直鎖アルキルの例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イコシル基が挙げられ、分岐アルキル基の具体例としては、イソプロピル基、イソブチル基、トリイソブチル基、ｓｅｃ-ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソトリデシル基、イソセチル基、イソステアリル基が挙げられ、環状のアルキルの具体例としてはシクロヘキシル基等が挙げられる。
アリール基としては、具体的には、例えば、置換、もしくは未置換のフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００７０】
一般式（ＢＢ）中、Ａ及びＢが表すアルキレン基としては、炭素数１以上２０以下のものであるが、望ましくは炭素数１以上１８以下のもの、より望ましくは炭素数２以上１０以下のものであり、直鎖状、分枝状のいずれであってもよく、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基等が挙げられる。
【００７１】
一般式（ＡＡ）の化合物について説明する。
一般式（ＡＡ）の化合物は、一般式（ＡＡ）で表される繰り返し単位単独の重合体であってもよく、当該繰り返し単位と他の繰り返し単位との共重合体であってもよい。
但し、一般式（ＡＡ）の化合物が一般式（ＡＡ）で表される繰り返し単位と他の繰り返し単位との共重合体の場合、一般式（ＡＡ）で表される繰り返し単位は、少なくとも５質量％以上（望ましくは１０質量％以上）含むことがよい。
無論、一般式（ＡＡ）の化合物は、種類の異なる一般式（ＡＡ）で表される繰り返し単位の共重合体であってもよい。
【００７２】
一般式（ＡＡ）で表される繰り返し単位としては、特に、ゴースト発生抑制の観点から、Ｒａが水素原子、又はメチルを表し、Ｒｂが炭素数１以上１０以下のアルキル基、又はアリ−ル基を表す繰り返し単位であることがよく、望ましくは、Ｒａが水素原子又はメチルを表し、Ｒｂが炭素数１以上６以下のアルキル基を表す繰り返し単位である。
【００７３】
他の繰り返し単位としては、例えば、スチレン、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、マレイン酸エステル、フマル酸、フマル酸エステル等の単量体による繰り返し単位が挙げられる。
【００７４】
一般式（ＡＡ）の化合物は、その重量平均分子量Ｍｗが１００００以下であるが、望ましくは２００以上１０００００以下のもの、より望ましくは３０００以上８０００以下のものである。
なお、重量平均分子量Ｍｗは、測定対象物のＴＨＦ（テトラヒドロフラン）可溶物を、東ソー（株）製ＧＰＣ・ＨＬＣ−８１２０、東ソー製カラム・ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｍ（１５ｃｍ）を使用し、ＴＨＦ溶媒で測定し、単分散ポリスチレン標準試料により作成した分子量校正曲線を使用して算出したものである。以下同様である。
【００７５】
一般式（ＡＡ）の化合物として具体的には、以下に示す単量体（モノマー）の少なくとも１種の重合体が挙げられる。
当該単量体（モノマー）としては、例えば。イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等が挙げられる。
【００７６】
また、一般式（ＡＡ）の化合物の市販品としては、例えば、ＡＲＵＦＯＮ  ＵＰ−１０００（重量平均分子量Ｍｗ３０００）、ＵＰ−１０２０（重量平均分子量Ｍｗ２０００）、ＵＰ−１０２１（重量平均分子量Ｍｗ１６００）、ＵＰ−１０８０（重量平均分子量Ｍｗ５０００）、ＵＰ−１１１０（重量平均分子量Ｍｗ２５００）、ＵＰ−１１７０（重量平均分子量Ｍｗ８０００）（以上東亜合成社製）などが挙げられる。
【００７７】
一般式（ＢＢ）の化合物について説明する。
一般式（ＢＢ）の化合物は、一般式（ＢＢ）で表される繰り返し単位単独の重合体であってもよく、当該繰り返し単位と他の繰り返し単位との共重合体であってもよい。
但し、一般式（ＢＢ）の化合物が一般式（ＢＢ）で表される繰り返し単位と他の繰り返し単位との共重合体の場合、一般式（ＢＢ）で表される繰り返し単位は、少なくとも５質量％以上（望ましくは１０質量％以上）含むことがよい。
無論、一般式（ＢＢ）の化合物は、種類の異なる一般式（ＢＢ）で表される繰り返し単位の共重合体であってもよい。
【００７８】
一般式（ＢＢ）で表される繰り返し単位としては、特に、ゴースト発生抑制の観点から、Ａが炭素数１以上２０以下の分岐もしくは直鎖のアルキレン基を表し、Ｂが炭素数１以上２０以下の分岐もしくは直鎖のアルキレン基を表す繰り返し単位であることがよく、望ましくは、Ａが炭素数１以上1０以下の分岐もしくは直鎖のアルキレン基を表し、Ｂが炭素数１以上1０以下の分岐もしくは直鎖のアルキレン基を表す繰り返し単位であり、より望ましくは、Ａが炭素数２以上６以下の直鎖のアルキレン基を表し、Ｂが炭素数２以上６以下の直鎖のアルキレン基を表す繰り返し単位である。
【００７９】
他の繰り返し単位としては、例えば、一般式（ＢＢ）において、Ａ及びＢが、炭素数１以上２０の分岐もしくは直鎖のアルキレン基以外に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、アリーレン基を含む基を表す繰り返し単位が挙げられる。
【００８０】
一般式（ＢＢ）の化合物は、その重量平均分子量Ｍｗが１００００以下であるが、望ましくは２００以上１００００以下のもの、より望ましくは２０００以上８０００以下のものである。
【００８１】
一般式（ＢＢ）の化合物として具体的には、以下に示す単量体（モノマー）の少なくとも１種の重合体が挙げられる。
当該単量体（モノマー）としては、例えば、フタル酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等が挙げられる。
【００８２】
一般式（ＢＢ）の化合物の市販品としては、例えばＤ６２３（重量平均分子量Ｍｗ約１８００）、Ｄ６４３（重量平均分子量Ｍｗ約１８００）、Ｄ６６３（重量平均分子量Ｍｗ約１８００）、Ｄ６２０（重量平均分子量Ｍｗ約８００）、Ｄ６２０Ｎ（重量平均分子量Ｍｗ約８００）、Ｄ６２３Ｎ（重量平均分子量Ｍｗ約１８００）、Ｄ６４５（重量平均分子量Ｍｗ約２２００）、Ｄ６６３Ｄ（重量平均分子量Ｍｗ約２０００）（以上株式会社  ジェイ・プラス社製）等が挙げられる。
なお、一般式（ＢＢ）の化合物の末端基としては、例えば、アリール基等が挙げられる。
【００８３】
フタル酸エステルについて説明する。
フタル酸エステルとして、例えば、ベンジル２−エチルヘキシルフタレート、ベンジルブチルフタレート、ベンジルイソノニルフタレート、ビス（２−エチルヘキシル）フタレート、ジーｎ−オクチルフタレート、ジアミルフタレート、ジブチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジエチルフタレート、ジヘキシルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジイソプロピルフタレート、ジメチルイソフタレート、ジメチルフタレート、ジノニルフタレート、ジフェニルフタレート、ジプロピルフタレート、ジトリデシルフタレート、ジウンデシルフタレート（以上東京化成社製）等が挙げられる。
これらの中でも、ゴースト発生抑制の観点から、ジブチルフタレートがよい。
【００８４】
トリメリット酸エステルについて説明する。
トリメリット酸エステルとしてはトリス（２−エチルヘキシル）トリメリット酸、トリメリット酸トリノルマルオクチル等が挙げられる。
【００８５】
脂肪酸エステルについて説明する。
脂肪酸エステルとしては、例えば、アジピン酸エステル、アゼライン酸エステル、フマル酸エステル、マレイン酸エステル、セバシン酸エステル、こはく酸エステル、オレイン酸エステル、クエン酸エステルが挙げられる。
脂肪酸エステルとしては、具体的には、例えば、二価のエステル（例えば、アジピン酸ビス（２−ブトキシエチル）、アジピン酸ビス（２−エチルヘキシル）、アゼライン酸ビス（２−エチルヘキシル）、アゼライン酸ビス（２−エチルヘキシル）、フマル酸ビス（２−エチルヘキシル）、マレイン酸ビス（２−エチルヘキシル）、セバシン酸ビス（２−エチルヘキシル）、アジピン酸ジ−ｎ−アルキル（混合物）、セバシン酸ジ−ｎ−オクチル、アジピン酸ジブチル、フマル酸ジブチル、マレイン酸ジブチル、セバシン酸ジブチル、アジピン酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、セバシン酸ジエチル、こはく酸ジエチル、アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジイソノニル、アジピン酸ジイソプロピル、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、マレイン酸ジメチル、セバシン酸ジメチル、アジピン酸ジプロピル、オレイン酸エチル、オレイン酸エチル、アジピン酸ヘプチルノニル、オレイン酸メチル（以上東京化成社製）等）、多価のエステル（例えば、ブチルフタリルブチルグリコラート、エチルフタリルエチルグリコラート、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル、Ｏ−アセチルリシノール酸メチル、クエン酸トリアミル、クエン酸トリブチル、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル、クエン酸トリエチル、クエン酸トリプロピル等）が挙げられる。
これらの中でも、ゴースト発生抑制の観点から、アジピン酸ビス（２−エチルヘキシルがよい。
【００８６】
多価アルコールエステル及び多価アルコールエーテルについて説明する。
多価アルコールエステル及び多価アルコールエーテルとしては、ジエチレン  グリコール  ジアセタート、ジエチレングリコールジベンゾアート、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、モノオレイン、トリアセチン、トリブチリン、トリエチレングリコールジアセタート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。
これらの中でも、ゴースト発生抑制の観点から、ジエチレングリコールジアセタート、ジエチレングリコールジブチルエーテルがよい。
【００８７】
特定のエステル・エーテル化合物は、固体状の化合物であってもよいが、電荷輸送性組成物（塗布液）の成膜性や、ゴーストの発生を抑制する観点から、２５℃、１気圧下において液状の化合物であることがよい。これは、電荷輸送性組成物（塗布液）において、特定のエステル・エーテル化合物が特定の電荷輸送性材料と混ざり易くなるためと考えられる、
【００８８】
特定のエステル・エーテル化合物の含有量は、例えば、電荷輸送性組成物（溶媒の除く全固形分質量）に対して、１質量％以上３０質量％以下が望ましく、より望ましくは２質量％以上２０  質量％以下、更に望ましくは５質量％以上１５質量％以下である。
【００８９】
次に、特定の電荷輸送性材料について説明する。
特定の電荷輸送性材料は、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を一分子内に持つ化合物である。
【００９０】
ここで、特定の電荷輸送性材料における連鎖重合性官能基としては、例えば、炭素二重結合を持つ官能基が挙げられ、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される基が挙げられる。これらの中も、その反応性に優れる観点から、連鎖重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、ビニル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つが挙げられる。
一方、特定の電荷輸送性材料における電荷輸送性骨格としては、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が電荷輸送性骨格であるものが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格がよい。
【００９１】
特定の電荷輸送性材料としては、一分子内に連鎖重合性官能基を２つ以上（特に４以上）持つ化合物であることがよい。これにより、硬化膜の電気特性（電荷輸送性や、帯電性、残留電位等）が向上すると共に、これら特性が繰り返し使用によっても維持され易くなり、繰り返し使用によるゴーストの発生が抑制され易くなる。また、架橋密度が上がり、より機械的強度の高い硬化膜が得られ易くなる。
この連鎖重合性官能基の数は、電荷輸送性組成物（塗布液）の安定性、電気特性の点から、２０以下の範囲、１０以下の範囲が挙げられる。
【００９２】
特定の電荷輸送性材料として具体的には、例えば、電気特性及び膜強度の観点から、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。
下記一般式（Ｉ）で表される化合物を適用すると、硬化膜の電気特性（電荷輸送性や、帯電性、残留電位等）が向上すると共に、これら特性が繰り返し使用によっても維持され易くなり、繰り返し使用によるゴーストの発生が抑制され易くなる。
【００９３】
【化４】
0005691578.tif 000005
【００９４】
一般式（Ｉ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、Ｄは、炭素二重結合を持つ官能基を有する基を表し、ｃ１乃至ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は１以上である。
【００９５】
ここで、一般式（Ｉ）で表される化合物としては、Ｄが、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを有する基（特に、これら基が末端に有する基）を表がよい。
特に、一般式（Ｉ）で表される化合物としては、Ｄが−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２（但し、Ｒ’は水素原子、又はメチル基を表し、ｄは１以上５以下の整数、ｅは０又は１を表す）を表し、Ｄの総数が４以上を表す化合物がよい。
本化合物を適用すると、硬化膜の電気特性（電荷輸送性や、帯電性、残留電位等）が向上すると共に、これら特性が繰り返し使用によっても維持され易くなり、繰り返し使用によるゴーストの発生が抑制され易くなる。また、架橋密度が上がり、より機械的強度の高い硬化膜が得られ易くなる。
なお、クリロイル基、メタクロイル基、ビニルフェニル基は、反応性が高く、得られる硬化膜の機械的強度が高まる傾向があり、好適である。
【００９６】
一般式（Ｉ）において、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表す。Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
ここで、置換アリール基における置換基としては、Ｄで表される基以外のものとして、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。
Ａｒ１乃至Ａｒ４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれか一つであることがよい。なお、下記式（１）乃至（７）は、Ａｒ１乃至Ａｒ４の各々に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ１」乃至「−（Ｄ）Ｃ４」を総括的に表した「−（Ｄ）Ｃ」と共に表す。
【００９７】
【化５】
0005691578.tif 000006
【００９８】
式（１）乃至（７）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表す。Ｒ２乃至Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｄは一般式（Ｉ）におけるＤと同様の基を表し、ｃは１又は２を表し、ｓは０又は１を表し、ｔは０以上３以下の整数を表す。
【００９９】
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記構造式（８）又は（９）で表されるものがよい。
【０１００】
【化６】
0005691578.tif 000007
【０１０１】
式（８）及び（９）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔ’は０以上３以下の整数を表す。
【０１０２】
また、式（７）中、Ｚ’は２価の有機連結基を表すが、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれか一つで表されるものがよい。また、ｓは０又は１を表す。
【０１０３】
【化７】
0005691578.tif 000008
【０１０４】
式（１０）乃至（１７）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ独立に１以上１０以下の整数を表し、ｔ”は０以上３以下の整数を表す。
【０１０５】
式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれか一つであることがよい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【０１０６】
【化８】
0005691578.tif 000009
【０１０７】
また、一般式（Ｉ）中、Ａｒ５は、ｋが０の時は置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基と同様のものが挙げられる。また、Ａｒ５は、ｋが１の時は置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基から目的とする位置の水素原子を１つ除いたアリーレン基が挙げられる。
【０１０８】
以下、特定の電荷輸送性材料の具体例を示す。なお、特定の電荷輸送性材料は、これらにより何ら限定されるものではない。
【０１０９】
まず、１つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【０１１０】
【化９】
0005691578.tif 000010
【０１１１】
【化１０】
0005691578.tif 000011
【０１１２】
【化１１】
0005691578.tif 000012
【０１１３】
【化１２】
0005691578.tif 000013
【０１１４】
【化１３】
0005691578.tif 000014
【０１１５】
【化１４】
0005691578.tif 000015
【０１１６】
次に、２つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【０１１７】
【化１５】
0005691578.tif 000016
【０１１８】
【化１６】
0005691578.tif 000017
【０１１９】
【化１７】
0005691578.tif 000018
【０１２０】
【化１８】
0005691578.tif 000019
【０１２１】
【化１９】
0005691578.tif 000020
【０１２２】
【化２０】
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【０１２３】
【化２１】
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【０１２４】
【化２２】
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【０１２５】
【化２３】
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【０１２６】
【化２４】
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【０１２７】
【化２５】
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【０１２８】
【化２６】
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【０１２９】
【化２７】
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【０１３０】
【化２８】
0005691578.tif 000029
【０１３１】
次に、３つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【０１３２】
【化２９】
0005691578.tif 000030
【０１３３】
【化３０】
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【０１３４】
【化３１】
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【０１３５】
【化３２】
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【０１３６】
【化３３】
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【０１３７】
次に、４つから６つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【０１３８】
【化３４】
0005691578.tif 000035
【０１３９】
【化３５】
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【０１４０】
【化３６】
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【０１４１】
【化３７】
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【０１４２】
【化３８】
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【０１４３】
【化３９】
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【０１４４】
【化４０】
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【０１４５】
【化４１】
0005691578.tif 000042
【０１４６】
【化４２】
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【０１４７】
【化４３】
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【０１４８】
【化４４】
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【０１４９】
【化４５】
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【０１５０】
【化４６】
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【０１５１】
【化４７】
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【０１５２】
【化４８】
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【０１５３】
【化４９】
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【０１５４】
特定の電荷輸送性材料は、例えば、以下のようにして合成される。
即ち、特定の電荷輸送性材料は、例えば、前駆体であるアルコールを、対応するメタクリル酸、又はメタクリル酸ハロゲン化物と縮合させて合成する。特定の電荷輸送性材料は、例えば、前駆体であるアルコールがベンジルアルコール構造の場合、アルコールと、ヒドロキシエチルメタクリレート等の水酸基を有するメタクリル酸誘導体と、の脱水エーテル化などにより合成してもよい。
【０１５５】
本実施形態で用いる化合物ｉｖ−４及び化合物ｉｖ−１７の合成経路を一例として以下に示す。
【０１５６】
【化５０】
0005691578.tif 000051
【０１５７】
【化５１】
0005691578.tif 000052
【０１５８】
他の特定の電荷輸送性材料は、例えば、上述した化合物ｉｖ−４の合成経路、及び化合物ｉｖ−１７合成経路と同様にして合成される。
【０１５９】
本実施形態において、特定の電荷輸送性材料としては、前述のように、連鎖重合性官能基を２つ以上含む化合物が用いられることがよく、特に４つ以上含む化合物が用いられることがよい。
また、特定の電荷輸送性材料として、連鎖重合性官能基を４つ以上である化合物と、連鎖重合性官能基を１乃至３つ含む化合物と、を併用してもよい。この併用により、電荷輸送性能の低下を抑制しつつ、硬化膜の強度が調整される。
特定の電荷輸送性材料として、連鎖重合性官能基を４つ以上である化合物と、連鎖重合性官能基を１乃至３つ含む化合物と、を併用する場合、特定の電荷輸送性材料の総含有量に対して、連鎖重合性官能基を４つ以上である化合物の含有量を５質量％以上とすることがよく、特に２０質量％以上とすることがよい。
【０１６０】
特定の電荷輸送性材料の総含有量は、電荷輸送性組成物（溶媒の除く全固形分質量）に対して、例えば、４０質量％以上が望ましく、より望ましくは５０質量％以上、更に望ましくは６０質量％以上である。
この範囲とすることで、電気特性に優れ、硬化膜の厚膜化が実現される。
【０１６１】
また、本実施形態においては、特定の電荷輸送性材料と、反応性基を有さない公知の電荷輸送性材料とを併用してもよい。反応性基を有さない公知の電荷輸送性材料は、電荷輸送を担わない反応性基を有さないため、電荷輸送性材料の成分濃度を高め、電気特性が更に改善されることから有効である。
この公知の電荷輸送性材料としては、前述の電荷輸送層を構成する電荷輸送性材料として挙げられたものが用いられる。
【０１６２】
以下、保護層（機能層）を形成するための電荷輸送性組成物の他の成分について説明する。
保護層（機能層）を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、製膜性を確保する観点から、下記界面活性剤を含んでいてもよい。
【０１６３】
界面活性剤は、例えば、（Ａ）フッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造、（Ｂ）炭素−炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造、（Ｃ）アルキレンオキサイド構造、（Ｄ）炭素−炭素三重結合及び水酸基を有する構造のうち１種以上の構造を分子内に含む界面活性剤である。
この界面活性剤は、分子内に、（Ａ）乃至（Ｄ）の構造を１種以上含有していればよく、２種以上を含有していてもよい。
【０１６４】
以下、上記の（Ａ）乃至（Ｄ）の構造と該構造を有する界面活性剤について説明する。
【０１６５】
・（Ａ）フッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造
（Ａ）フッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造としては、特に制限されないが、フルオロアルキル基を有するアクリルモノマーを重合してなる構造であることが望ましく、パーフルオロアルキル基を有するアクリルモノマーを重合してなる構造であることがより望ましい。
【０１６６】
上記（Ａ）の構造を有する界面活性剤としては、具体的には、ポリフローＫＬ−６００（共栄社化学社製）、エフトップＥＦ−３５１、ＥＦ−３５２、ＥＦ−８０１、ＥＦ−８０２、ＥＦ−６０１（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。
【０１６７】
・（Ｂ）炭素−炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造
（Ｂ）炭素−炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造としては、特に制限されないが、下記構造式（Ｂ１）及び（Ｂ２）の少なくとも一方で示される基であることが望ましい。
【０１６８】
【化５２】
0005691578.tif 000053
【０１６９】
（Ｂ）の構造を有する界面活性剤としては、アクリル重合体の側鎖に上記構造式（Ｂ１）及び（Ｂ２）の少なくとも一方で示される基を有する化合物、若しくは、下記構造式（Ｂ３）乃至（Ｂ５）のいずれかで示される化合物であることが望ましい。
（Ｂ）の構造を有する界面活性剤がアクリル重合体の側鎖に構造式（Ｂ１）及び（Ｂ２）の少なくとも一方を有する化合物である場合には、アクリル構造が組成物中の他の成分となじみやすい性質を有しているため、均一な最表面層を形成しうる。
また、（Ｂ）の構造を有する界面活性剤が、構造式（Ｂ３）乃至（Ｂ５）のいずれかで示される化合物である場合には、塗布の際のはじきを防止する傾向にあり、塗膜欠陥を抑制しうる。
【０１７０】
【化５３】
0005691578.tif 000054
【０１７１】
上記構造式（Ｂ３）乃至（Ｂ５）中、ｖ及びｗはそれぞれ独立に１以上の整数を示し、Ｒ’は水素原子又は１価の有機基を示し、Ｒｆはそれぞれ独立に構造式（Ｂ１）又は（Ｂ２）で示される基を表す。
構造式（Ｂ３）乃至（Ｂ５）中、Ｒ’が表す１価の有機基としては、例えば、炭素数１以上３０以下のアルキル基、炭素数１以上３０以下のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
【０１７２】
（Ｂ）の構造を有する界面活性剤の市販品としては以下のものが挙げられる。
例えば、構造式（Ｂ３）乃至（Ｂ５）のいずれかで示される化合物として、フタージェント１００、１００Ｃ、１１０、１４０Ａ、１５０、１５０ＣＨ、Ａ−Ｋ、５０１、２５０、２５１、２２２Ｆ、ＦＴＸ−２１８、３００、３１０、４００ＳＷ、２１２Ｍ、２４５Ｍ、２９０Ｍ、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１１Ｓ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２３０Ｓ、ＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２１３Ｆ、ＦＴＸ−２２２Ｆ、ＦＴＸ−２３３Ｆ、ＦＴＸ−２４５Ｆ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２１８Ｇ、ＦＴＸ−２３０Ｇ、ＦＴＸ−２４０Ｇ、ＦＴＸ−２０４Ｄ、ＦＴＸ−２８０Ｄ、ＦＴＸ−２１２Ｄ、ＦＴＸ−２１６Ｄ、ＦＴＸ−２１８Ｄ、ＦＴＸ−２２０Ｄ、ＦＴＸ−２２２Ｄ（ネオス株式会社製）等が挙げられる。
また、アクリル重合体の側鎖に構造式（Ｂ１）及び（Ｂ２）の少なくとも一方を有する化合物としては、ＫＢ−Ｌ８２、ＫＢ−Ｌ８５、ＫＢ−Ｌ９７、ＫＢ−Ｌ１０９、ＫＢ−Ｌ１１０、ＫＢ−Ｆ２Ｌ、ＫＢ−Ｆ２Ｍ、ＫＢ−Ｆ２Ｓ、ＫＢ−Ｆ３Ｍ、ＫＢ−ＦａＭ（ネオス株式会社製）等が挙げられる。
【０１７３】
・（Ｃ）アルキレンオキサイド構造
（Ｃ）アルキレンオキサイド構造としては、アルキレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイドを含む。具体的には、アルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどがあり、これらのアルキレンオキサイドの繰り返し数が２以上１００００以下であるポリアルキレンオキサイドであってもよい。
（Ｃ）アルキレンオキサイド構造を有する界面活性剤としては、ポリエチレングリコール、ポリエーテル消泡剤、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。
ポリエチレングリコールとしては、平均分子量が２０００以下のものが好ましく、平均分子量が２０００以下のポリエチレングリコールとしては、ポリエチレングリコール２０００（平均分子量２０００）、ポリエチレングリコール６００（平均分子量６００）、ポリエチレングリコール４００（平均分子量４００）、ポリエチレングリコール２００（平均分子量２００）等が挙げられる。
また、ＰＥ−Ｍ、ＰＥ−Ｌ（以上、和光純薬工業社製）、消泡剤Ｎｏ．１、消泡剤Ｎｏ．５（以上、花王社製）等のポリエーテル消泡剤も好適な例として挙げられる。
【０１７４】
（Ｃ）アルキレンオキサイド構造の他に分子内にフッ素原子を含む界面活性剤としては、アルキレンオキサイド若しくはポリアルキレンオキサイドをフッ素原子を有する重合体の側鎖に有するものや、アルキレンオキサイド若しくはポリアルキレンオキサイドの末端がフッ素原子を含む置換基で置換されたものなどが挙げられる。
（Ｃ）アルキレンオキサイド構造の他に分子内にフッ素原子を含む界面活性剤として具体的には、例えば、メガファックＦ−４４３、Ｆ−４４４、Ｆ−４４５、Ｆ−４４６（以上、大日本インキ化学工業株式会社製）、フタージェント２５０、２５１、２２２Ｆ（以上、ネオス社製）、ＰＯＬＹ  ＦＯＸ  ＰＦ６３６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ６５６（以上、北村化学社製）などが挙げられる。
【０１７５】
（Ｃ）アルキレンオキサイド構造の他に分子内にシリコーン構造を含む界面活性剤としては、具体的には、ＫＦ３５１（Ａ）、ＫＦ３５２（Ａ）、ＫＦ３５３（Ａ）、ＫＦ３５４（Ａ）、ＫＦ３５５（Ａ）、ＫＦ６１５（Ａ）、ＫＦ６１８、ＫＦ９４５（Ａ）、ＫＦ６００４（以上、信越化学工業社製）、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４６０（以上、ＧＥ東芝シリコン社製）、ＢＹＫ−３００、３０２、３０６、３０７、３１０、３１５、３２０、３２２、３２３、３２５、３３０、３３１、３３３、３３７、３４１、３４４、３４５、３４６、３４７、３４８、３７０、３７５、３７７，３７８、ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５７０等（以上、ビックケミー・ジャパン株式会社社製）が挙げられる。
【０１７６】
・（Ｄ）炭素−炭素三重結合及び水酸基を有する構造
（Ｄ）炭素−炭素三重結合及び水酸基を有する構造としては特に制限はなく、この構造を有する界面活性剤としては、以下に示す化合物が挙げられる。
（Ｄ）炭素−炭素三重結合及び水酸基を有する構造を有する界面活性剤としては、分子中に三重結合及び水酸基を有する化合物が挙げられ、具体的には、例えば、２−プロピン−１−オール、１−ブチン−３−オール、２−ブチン−１−オール、３−ブチン−１−オール、１−ペンチン−３−オール、２−ペンチン−１−オール、３−ペンチン−１−オール、４−ペンチン−１−オール、４−ペンチン−２−オール、１−ヘキシン−３−オール、２−ヘキシン−１−オール、３−ヘキシン−１−オール、５−ヘキシン−１−オール、５−ヘキシン−３−オール、１−ヘプチン−３−オール、２−ヘプチン−１−オール、３−ヘプチン−１−オール、４−ヘプチン−２−オール、５−ヘプチン−３−オール、１−オクチン−３−オール、１−オクチン−３−オール、３−オクチン−１−オール、３−ノニン−１−オール、２−デシン−１−オール、３−デシン−１−オール、１０−ウンデシン−１−オール、３−メチル−１−ブチン−３−オール、３−メチル−１−ペンテン−４−イン−３−オール、３−メチル−１−ペンチン−３−オール、５−メチル−１−ヘキシン−３−オール、３−エチル−１−ペンチン−３−オール、３−エチル−１−ヘプチン−３−オール、４−エチル−１−オクチン−３−オール、３，４−ジメチル−１−ペンチン−３−オール、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、３，６−ジメチル−１−ヘプチン−３−オール、２，２，８，８−テトラメチル−３，６−ノナジイン−５−オール、４，６−ノナデカジイン−１−オール、１０，１２−ペンタコサジイン−１−オール、２−ブチン−１，４−ジオール、３−ヘキシン−２，５−ジオール、２，４−ヘキサジイン−１，６−ジオール、２，５−ジメチル−３−ヘキシン−２，５−ジオール、３，６−ジメチル−４−オクチン−３，６−ジオール、２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，７−ジオール、（＋）−１，６−ビス（２−クロロフェニル）−１，６−ジフェニル−２，４−ヘキサジイン−１，６−ジオール、（−）−１，６−ビス（２−クロロフェニル）−１，６−ジフェニル−２，４−ヘキサジイン−１，６−ジオール、２−ブチン−１，４−ジオール  ビス（２−ヒロドキシエチル）、１，４−ジアセトキシ−２−ブチン、４−ジエチルアミノ−２−ブチン−１−オール、１，１−ジフェニル−２−プロピン−１−オール、１−エチニル−１−シクロヘキサノール、９−エチニル−９−フルオレノール、２，４−ヘキサジインジイル−１，６−ビス（４−フェニルアゾベンゼンスルフォネート）、２−ヒドロキシ−３−ブチン酸、２−ヒドロキシ−３−ブチン酸  エチルエステル、２−メチル−４−フェニル−３−ブチン−２−オール、メチル  プロパラギル  エーテル、５−フェニル−４−ペンチン−１−オール、１−フェニル−１−プロピン−３−オール、１−フェニル−２−プロピン−１−オール、４−トリメチルシリル−３−ブチン−２−オール、３−トリメチルシリル−２−プロピン−１−ｏｌ等が挙げられる。
また、上記の化合物の水酸基の一部又は全部にエチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドが付加した化合物（例えば、サーフィノール４００シリーズ（信越化学社製））等が挙げられる。
【０１７７】
（Ｄ）炭素−炭素三重結合及び水酸基を有する構造を有する界面活性剤としては、下記一般式（Ｄ１）及び（Ｄ２）のいずれかで示される化合物が望ましい。
【０１７８】
【化５４】
0005691578.tif 000055
【０１７９】
上記一般式（Ｄ１）及び（Ｄ２）中、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、及びＲｄは、それぞれ独立に、１価の有機基を示し、ｘ、ｙ、及びｚは、それぞれ独立に、１以上の整数を示す。
上記一般式（Ｄ１）又は（Ｄ２）で示される化合物の中でも、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄが、アルキル基であるものが望ましい。また、Ｒａ及びＲｂの少なくとも一方、Ｒｃ及びＲｄの少なくとも一方が分岐アルキル基であるものがより望ましい。更に、ｚは１以上１０以下であることが望ましい。ｘ及びｙは、それぞれ１以上５００以下であることが望ましい。
【０１８０】
一般式（Ｄ１）又は（Ｄ２）で示される化合物の市販品としては、サーフィノール４００シリーズ（信越化学社製）が挙げられる。
【０１８１】
上述した（Ａ）乃至（Ｄ）の構造を有する界面活性剤は、１種を単独で用いてもよいが、複数種を混合して用いてもよい。また、複数種を混合して用いる場合、効果を損なわない範囲において、（Ａ）乃至（Ｄ）の構造を有する界面活性剤とは異なる構造の界面活性剤を併用してもよい。
併用しうる界面活性剤としては、以下に挙げるフッ素原子を有する界面活性剤やシリコーン構造を有する界面活性剤が挙げられる。
即ち、（Ａ）乃至（Ｄ）の構造を有する界面活性剤と併用しうるフッ素原子を有する界面活性剤としては、パーフルオロアルキルスルホン酸類（例えば、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸など）、パーフルオロアルキルカルボン酸類（例えば、パーフルオロブタンカルボン酸、パーフルオロオクタンカルボン酸など）、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルが好適に挙げられる。パーフルオロアルキルスルホン酸類、及びパーフルオロアルキルカルボン酸類は、その塩及びそのアミド変性体であってもよい。
パーフルオロアルキルスルホン酸類の市販品としては、例えば、メガファックＦ−１１４（大日本インキ化学工業株式会社製）、エフトップＥＦ−１０１、ＥＦ１０２、ＥＦ−１０３、ＥＦ−１０４、ＥＦ−１０５、ＥＦ−１１２、ＥＦ−１２１、ＥＦ−１２２Ａ、ＥＦ−１２２Ｂ、ＥＦ−１２２Ｃ、ＥＦ−１２３Ａ（以上、ＪＥＭＣＯ社製）、フタージェント  １００、１００Ｃ、１１０、１４０Ａ、１５０、１５０ＣＨ、Ａ−Ｋ、５０１（以上、ネオス社製）などが挙げられる。
パーフルオロアルキルカルボン酸類の市販品としては、例えば、メガファックＦ−４１０（大日本インキ化学工業株式会社製）、エフトップ  ＥＦ−２０１、ＥＦ−２０４（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。
パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルの市販品としては、メガファックＦ−４９３、Ｆ−４９４（以上、大日本インキ化学工業株式会社製）エフトップ  ＥＦ−１２３Ａ、ＥＦ−１２３Ｂ、ＥＦ−１２５Ｍ、ＥＦ−１３２、（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。
【０１８２】
なお、（Ａ）乃至（Ｄ）の構造を有する界面活性剤と併用しうるフッ素原子を有する界面活性剤としては、上記に限られず、例えば、フッ素原子含有ベタイン構造化合物（例えば、フタージェント  ４００ＳＷ、ネオス社製）、両性イオン基を持つ界面活性剤（例えば、フタージェント  ＳＷ（ネオス社製））も好適に用いられる。
【０１８３】
（Ａ）乃至（Ｄ）の構造を有する界面活性剤と併用しうるシリコーン構造を有する界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、ジフェニルシリコーンや、それらの誘導体の如く一般的なシリコーンオイルが挙げられる。
【０１８４】
界面活性剤の含有量は、電荷輸送性組成物（溶媒の除く全固形分質量）に対して、望ましくは０．０１質量％以上１質量％以下、より望ましくは０．０２質量％以上０．５質量％以下である。界面活性剤の含有量が０．０１質量％未満の場合は塗膜欠陥防止効果が不十分となる傾向にある。また、界面活性剤の含有量が１質量％を超えると、界面活性剤と硬化成分（一般式（Ｉ）で示される化合物やその他のモノマー、オリゴマーなど）の分離により、得られる硬化膜の強度が低下する傾向にある。
また、全界面活性剤中、（Ａ）乃至（Ｄ）の構造を有する界面活性剤は、１質量％以上含まれることが望ましい、１０質量％以上含まれることがより望ましい。
【０１８５】
また、保護層（機能層）を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、該組成物の粘度、膜の強度、かとう性、平滑性、クリーニング性などの制御を目的とし、電荷輸送能を持たないラジカル重合性のモノマー、オリゴマー等が添加されていてもよい。
１官能のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等が挙げられる。
【０１８６】
２官能のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３‐プロパンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート、トリシクロデカンメタノールジメタクリレート等が挙げられる。
【０１８７】
３官能以上のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ付加トリアクリレート、グリセリンＰＯ付加トリアクリレート、トリスアクロイルオキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化イソシアヌルトリアクリレートが挙げられる。
【０１８８】
また、ラジカル重合性のオリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。
【０１８９】
電荷輸送能を持たないラジカル重合性のモノマー、オリゴマーは、電荷輸送性組成物（溶媒の除く全固形分質量）に対して０質量以上５０質量％以下含有することが望ましく、０質量以上４０質量％以下含有することがより望ましく、０質量以上３０質量％以下含有することが更に望ましい。
【０１９０】
また、保護層（機能層）を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、熱ラジカル発生剤又はその誘導体を添加することが望ましい。つまり、保護層（機能層）には、熱ラジカル発生剤又はその誘導体が含まれていることが望ましい。
ここで、保護層（機能層）を構成する硬化膜（架橋膜）は、上記各成分を含む電荷輸送性組成物を、熱、光、電子線など様々な方法にて硬化することで得られるが、硬化膜の電気特性、機械的強度等の特性のバランスを取るためには熱硬化が望ましい。通常、一般的なアクリル塗料などを硬化する際には無触媒で硬化が可能な電子線、短時間で硬化が可能な光重合が好適に用いられる。しかしながら、電子写真感光体は最表面層の被形成面となる感光層が感光材料を含むため、この感光材料にダメージを与え難くするため、また、得られる硬化膜の表面性状を高めるため、穏やかに反応を進められる熱硬化が望ましい。
したがって、熱硬化は無触媒で行ってもよいが、上記熱ラジカル発生剤又はその誘導体を触媒として用いることが望ましい。これにより、繰り返し使用による、ゴーストの発生が抑制され易くなる。
熱ラジカル発生剤又はその誘導体は特に限定されないが、保護層（機能層）の形成時における感光層中の感光材料のダメージを抑制するために、１０時間半減期温度が４０℃以上１１０℃以下のものが望ましい。
【０１９１】
熱ラジカル発生剤又はその誘導体の市販品としては、Ｖ−３０（１０時間半減期温度：１０４℃）、Ｖ−４０（同：８８℃）、Ｖ−５９（同：６７℃）、Ｖ−６０１（同：６６℃）、Ｖ−６５（同：５１℃）、Ｖ−７０（同：３０℃）、ＶＦ−０９６（同：９６℃）、Ｖａｍ−１１０（同：１１１℃）、Ｖａｍ−１１１（同：１１１℃）（以上、和光純薬工業製）、ＯＴＡＺＯ−１５（同：６１℃）、ＯＴＡＺＯ−３０、ＡＩＢＭ（同：６５℃）、ＡＭＢＮ（同：６７℃）、ＡＤＶＮ（同：５２℃）、ＡＣＶＡ（同：６８℃）（以上、大塚化学社製）等のアゾ系開始剤；
パーテトラＡ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーヘキサＶ、パーヘキサ２２、パーヘキサＭＣ、パーブチルＨ，パークミルＨ、パークミルＰ、パーメンタＨ、パーオクタＨ、パーブチルＣ、パーブチルＤ、パーヘキシルＤ、パーロイルＩＢ、パーロイル３５５、パーロイルＬ、パーロイルＳＡ、ナイパーＢＷ、ナイパーＢＭＴ−Ｋ４０／Ｍ、パーロイルＩＰＰ、パーロイルＮＰＰ、パーロイルＴＣＰ、パーロイルＯＰＰ、パーロイルＳＢＰ、パークミルＮＤ、パーオクタＮＤ、パーヘキシルＮＤ、パーブチルＮＤ、パーブチルＮＨＰ、パーヘキシルＰＶ、パーブチルＰＶ、パーヘキサ２５０、パーオクタＯ、パーヘキシルＯ、パーブチルＯ、パーブチルＬ、パーブチル３５５、パーヘキシルＩ、パーブチルＩ、パーブチルＥ、パーヘキサ２５Ｚ、パーブチルＡ、パーへヘキシルＺ、パーブチルＺＴ、パーブチルＺ（以上、日油化学社製）、カヤケタールＡＭ−Ｃ５５、トリゴノックス３６−Ｃ７５、ラウロックス、パーカドックスＬ−Ｗ７５、パーカドックスＣＨ−５０Ｌ、トリゴノックスＴＭＢＨ、カヤクメンＨ、カヤブチルＨ−７０、ペルカドックスＢＣ−ＦＦ、カヤヘキサＡＤ、パーカドックス１４、カヤブチルＣ、カヤブチルＤ、カヤヘキサＹＤ−Ｅ８５、パーカドックス１２−ＸＬ２５、パーカドックス１２−ＥＢ２０、トリゴノックス２２−Ｎ７０、トリゴノックス２２−７０Ｅ、トリゴノックスＤ−Ｔ５０、トリゴノックス４２３−Ｃ７０、カヤエステルＣＮＤ−Ｃ７０、カヤエステルＣＮＤ−Ｗ５０、トリゴノックス２３−Ｃ７０、トリゴノックス２３−Ｗ５０Ｎ、トリゴノックス２５７−Ｃ７０、カヤエステルＰ−７０、カヤエステルＴＭＰＯ−７０、トリゴノックス１２１、カヤエステルＯ、カヤエステルＨＴＰ−６５Ｗ、カヤエステルＡＮ、トリゴノックス４２、トリゴノックスＦ−Ｃ５０、カヤブチルＢ、カヤカルボンＥＨ−Ｃ７０、カヤカルボンＥＨ−Ｗ６０、カヤカルボンＩ−２０、カヤカルボンＢＩＣ−７５、トリゴノックス１１７、カヤレン６−７０（以上、化薬アクゾ社製）、ルペロックス  ＬＰ（同：６４℃）、ルペロックス  ６１０（同：３７℃）、ルペロックス  １８８（同：３８℃）、ルペロックス  ８４４（同：４４℃）、ルペロックス  ２５９（同：４６℃）、ルペロックス  １０（同：４８℃）、ルペロックス  ７０１（同：５３℃）、ルペロックス  １１（同：５８℃）、ルペロックス  ２６（同：７７℃）、ルペロックス  ８０（同：８２℃）、ルペロックス  ７（同：１０２℃）、ルペロックス  ２７０（同：１０２℃）、ルペロックス  Ｐ（同：１０４℃）、ルペロックス  ５４６（同：４６℃）、ルペロックス  ５５４（同：５５℃）、ルペロックス  ５７５（同：７５℃）、ルペロックス  ＴＡＮＰＯ（同：９６℃）、ルペロックス  ５５５（同：１００℃）、ルペロックス  ５７０（同：９６℃）、ルペロックス  ＴＡＰ（同：１００℃）、ルペロックス  ＴＢＩＣ（同：９９℃）、ルペロックス  ＴＢＥＣ（同：１００℃）、ルペロックス  ＪＷ（同：１００℃）、ルペロックス  ＴＡＩＣ（同：９６℃）、ルペロックス  ＴＡＥＣ（同：９９℃）、ルペロックス  ＤＣ（同：１１７℃）、ルペロックス  １０１（同：１２０℃）、ルペロックス  Ｆ（同：１１６℃）、ルペロッ���ス  ＤＩ（同：１２９℃）、ルペロックス  １３０（同：１３１℃）、ルペロックス  ２２０（同：１０７℃）、ルペロックス  ２３０（同：１０９℃）、ルペロックス  ２３３（同：１１４℃）、ルペロックス  ５３１（同：９３℃）（以上、アルケマ吉富社製）などが挙げられる。
【０１９２】
熱ラジカル発生剤又はその誘導体は、電荷輸送性組成物中の反応性化合物（特定の電荷輸送性材料）に対して０．００１質量％以上１０質量％以下含有することが望ましく、０．０１質量％以上５質量％以下含有することがより望ましく、０．１質量以上３質量％以下含有することが更に望ましい。
【０１９３】
また、保護層（機能層）を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、放電生成ガスを吸着しすぎないように、添加することで放電生成ガスによる酸化を効果的に抑制する目的から、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの他の熱硬化性樹脂を添加してもよい。
【０１９４】
また、保護層（機能層）を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、更に、膜の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、カップリング剤、ハードコート剤、含フッ素化合物を添加してもよい。これらの添加剤として具体的には、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が用いられる。
また、市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−８２３９（以上、信越シリコーン社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が用いられる。
更に、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の含フッ素化合物を加えてもよい。
シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。この使用量を超えると、架橋膜の成膜性に問題が生じる場合がある。
【０１９５】
また、保護層（機能層）を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、保護層（機能層）の放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長などや、粒子分散性、粘度コントロールの目的で、熱可塑性樹脂を加えてもよい。
ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋ等）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などがあげられる。特に、電気特性の点でポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が望ましい。当該樹脂の重量平均分子量は２，０００以上１００，０００以下が望ましく、５，０００以上５０，０００以下がより望ましい。樹脂の分子量が２，０００未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、１００，０００を超えると溶解度が低下して添加量が制限され、更には塗布時に製膜不良を招く傾向にある。また、当該樹脂の添加量は１質量％以上４０質量％以下が望ましく、１質量％以上３０質量％以下がより望ましく、５質量％以上２０質量％以下が更に望ましい。当該樹脂の添加量が１質量％未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、４０質量％を超えると高温高湿下（例えば２８℃、８５％ＲＨ）での画像ボケが発生しやすくなる。
【０１９６】
保護層（機能層）を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、保護層（機能層）の帯電装置で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、酸化防止剤を添加することが望ましい。感光体表面の機械的強度を高め、感光体が長寿命になると、感光体が酸化性ガスに長い時間接触することになるため、従来より強い酸化耐性が要求される。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系又はヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。
【０１９７】
更に、保護層（機能層）を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、保護層（機能層）の残留電位を下げる目的、又は強度を向上させる目的で、各種粒子を添加してもよい。
粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、望ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、又はエステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。保護層（機能層）中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、電荷輸送性組成物（溶媒の除く全固形分質量）に対して、０．１質量％以上５０質量％以下、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より望ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、更に十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状が改善される。すなわち、強固な架橋構造中にバラツキが生じることなくに取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性が維持される。
保護層（機能層）中のシリコーン粒子の含有量は、電荷輸送性組成物（溶媒の除く全固形分質量）に対して、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上１０質量％以下である。
【０１９８】
また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集  ｐ８９”に示される如く、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ２−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１．３．５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
【０１９９】
また、保護層（機能層）を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層（機能層）の透明性の点で０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が望ましい。
【０２００】
保護層（機能層）を形成するために用いる電荷輸送性組成物は、保護層形成用塗布液（機能層形成用塗布液）として調製されることが好ましく、この保護層形成用塗布液は、無溶媒であってもよいし、必要に応じて、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の溶剤を含有していてもよい。
かかる溶剤は１種を単独で又は２種以上を混合して使用可能であるが、望ましくは沸点が１００度以下のものである。溶剤としては、特に、少なくとも１種以上の水酸基を持つ溶剤（例えば、アルコール類等）を用いることが望ましい。
【０２０１】
保護層（機能層）を形成するために用いる電荷輸送性組成物からなる保護層形成用塗布液は、電荷輸送層の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法により塗布され、必要に応じて、例えば、温度１００度以上１７０度以下で加熱して重合（硬化）させることで、膜が得られる。その結果、この膜からなる保護層（機能層）が得られる。
なお、保護層形成用塗布液の重合（硬化）中の酸素濃度は１％以下が望ましく、１０００ｐｐｍ以下がより望ましく、５００ｐｐｍ以下が更に望ましい。
【０２０２】
以上、電子写真感光体として機能分離型の例を説明したが、図２に示される単層型感光層６（電荷発生／電荷輸送層）中の電荷発生材料の含有量は、１０質量％以上８５質量％以下程度、望ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。また、電荷輸送性材料の含有量は５質量％以上５０質量％以下とすることが望ましい。単層型感光層６（電荷発生／電荷輸送層）の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層６の膜厚は５μｍ以上５０μｍ以下程度が望ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下とするのが更に望ましい。
【０２０３】
また、本実施形態では、上記機能層からなる最表面層が保護層である形態を説明したが、保護層がない層構成の場合には、その層構成において最表面に位置する電荷輸送層が該最表面層となり、当該層に機能層を適用してもよい。
また、保護層があっても、その下層の電荷輸送層として上記機能層を適用してもよい。
【０２０４】
〔画像形成装置／プロセスカートリッジ〕
図４は、実施形態に係る画像形成装置１００を示す概略構成図である。
図４に示される画像形成装置１００は、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置（静電潜像形成手段）９と、転写装置（転写手段）４０と、中間転写体５０と、を備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光可能な位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。
【０２０５】
図４におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置（帯電手段）８、現像装置（現像手段）１１、及びクリーニング装置１３を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材）を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。
なお、プロセスカートリッジ３００は、電子写真感光体７を備え、画像形成装置に着脱される構成であれば、特に制限はなく、必要に応じて電子写真感光体７以外の装置（例えば、帯電装置（帯電手段）８、現像装置（現像手段）１１、及びクリーニング装置１３から選択される一つ）を電子写真感光体７と共に一体に支持した構成であってもよい。
【０２０６】
また、図４では、クリーニング装置１３として、潤滑材１４を感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）を備え、また、クリーニングをアシストする繊維状部材１３３（平ブラシ状）を用いた例を示してあるが、これらは必要に応じて使用される。
【０２０７】
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０２０８】
なお、図示しないが、画像の安定性を高める目的で、電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。
【０２０９】
露光装置９としては、例えば、感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、所望の像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下近傍に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビーム出力が可能なタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。
【０２１０】
現像装置１１としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤等を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。
【０２１１】
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０２１２】
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いられる。
【０２１３】
画像形成装置１００は、上述した各装置の他に、例えば、感光体７に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。
【０２１４】
図５は、他の実施形態に係る画像形成装置１２０を示す概略断面図である。
図５に示される画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式のカラー画像形成装置である。
画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０２１５】
本実施形態に係る画像形成装置は、上記構成に限られず、他の周知の方式の画像形成装置を適用してもよい。
【実施例】
【０２１６】
以下実施例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例９、１０、１１、２０、２３、２４は、参考例として示す。
【０２１７】
［実施例１］
（電子写真感光体の作製）
−下引層の作製−
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学社製）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤で表面処理を施した酸化亜鉛を得た。
表面処理を施した酸化亜鉛１１０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．６質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、更に６０℃で減圧乾燥を行い、アリザリンを付与させた酸化亜鉛を得た。
【０２１８】
このアリザリンを付与させた酸化亜鉛：６０質量部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート  スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）：１３．５質量部と、ブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）：１５質量部と、をメチルエチルケトン８５質量部に混合した液３８質量部とメチルエチルケトン：２５質量部とを混合し、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部、及びシリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）：４０質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い、厚さ２０μｍの下引層を得た。
【０２１９】
−電荷発生層の作製−
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、及びｎ−酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５質量部、及びメチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温（２５℃）で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０２２０】
−電荷輸送層の作製−
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン（以下、「ＴＰＤ」と標記）４８質量部、及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（以下、「ＰＣＺ５００」と標記、粘度平均分子量：５万）５２質量部をクロルベンゼン８００質量部に加えて溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃、４５分の乾燥を行って膜厚が２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２２１】
−保護層の作製−
一般式（Ｉ）で表される化合物（上記化合物ｉ−１０）３０質量部、一般式（Ｉ）で表される化合物（上記化合物iｉ−１８）７０質量部、電荷輸送能を有さないモノマー（「ＢＥＰ−５００」新中村化学工業社製）２０質量部をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２００質量部に溶解し、更に開始剤ＶＥ−７３（和光純薬社製）２．４質量部、及びポリマー（４）  １０質量部を溶解させ保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度約８０ｐｐｍの雰囲気下で１４５℃、４０分加熱し、厚み７μｍの保護層を形成した。
以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体１とする。
【０２２２】
（評価）
作製した電子写真感光体を富士ゼロックス社製「Ｃｏｌｏｒ  １０００  Ｐｌｕｓ」に装着し、１０℃、１５％ＲＨの環境下において、１５％ハーフトーン画像を連続して５万枚印刷した。
５万枚印刷後、同環境下で画像評価テスト（１）を行った。また、画像評価テスト（１）の後、画像形成装置を２８℃、８０％ＲＨで２４時間放置し、その後印刷した１枚目の画像の画質について同環境下で画質評価テスト（２）を行った。
ここで、画像評価テスト（１）及び画像評価テスト（２）では、以下に示す濃度ムラ、スジ、画像流れ、及び前画像の履歴が残ることで生じる残像現象（「ゴースト」と標記）について評価した。
なお、画像形成テストには、富士ゼロックスオフィスサプライ製  Ｐ紙（Ａ４サイズ、横送り）を用いた。
評価結果は、表４に示す。
【０２２３】
−濃度ムラ評価−
濃度ムラ評価は２０％ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：濃度ムラの発生なし。
Ｂ：部分的に濃度ムラの発生あり。
Ｃ：画質上問題となる濃度ムラ発生。
【０２２４】
−スジ評価−
スジ評価は２０％ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：スジの発生なし。
Ｂ：部分的にスジの発生あり。
Ｃ：画質上問題となるスジ発生。
【０２２５】
−画像流れの評価−
また、上記テストとともに画像流れの評価も以下のような要領で行った。
画像流れは２０％ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：画像流れの発生なし。
Ｂ：連続的にプリントテストしている時は問題ないが、２４時間放置後に発生。
Ｃ：連続的にプリントテストしている時にも発生。
【０２２６】
−ゴーストの評価−
ゴーストは、図６（Ａ）に示したＧと黒領域を有するパターンのチャートをプリントし、黒領域部分にＧの文字の現れ具合を目視にて評価した。
Ａ：図６（Ａ）のように良好乃至軽微である。
Ｂ：図６（Ｂ）のように若干目立つ程度である
Ｃ：図６（Ｃ）のようにはっきり確認されることを示す。
【０２２７】
−表面観察−
また、画質評価テスト（１）、（２）時において電子写真感光体表面を観察し、以下のように評価した。
Ａ：２０倍に拡大しても傷、付着ともに見らせず良好。
Ｂ：２０倍に拡大するとわずかな傷、若しくは付着物が見られる
Ｃ：肉眼でも傷、若しくは付着物が見られる。
【０２２８】
［実施例２〜２０、２３〜２４、比較例１〜３］
（電子写真感光体の作製）
電荷輸送層までは実施例１と同様に作製し、保護層の組成を表１〜表３のように変更して、保護層形成用塗布液を得た。それぞれの塗布液を電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度約８０ｐｐｍの雰囲気下で１４５℃、４０分加熱し、７μｍの保護層を形成した。
以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体２〜２０、２３〜２４、比較感光体１〜３とする。
【０２２９】
（評価）
得られた感光体について、実施例１と同様な評価を行った。結果を表４〜表６に示す。
【０２３０】
［実施例２１］
（電子写真感光体の作製）
電荷輸送層までは実施例１と同様に作製し、保護層の組成を表３のように変更して、保護層形成用塗布液を得た。その塗布液を電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度約８０ｐｐｍの雰囲気下で、メタルハライドランプ（ウシオ電機社製）を用いて、照度７００ｍＷ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）、照射時間６０秒にてＵＶ照射を行った。１５０℃、４０分加熱し、７μｍの保護層を形成した。
以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体２１とする。
【０２３１】
（評価）
得られた感光体について、実施例１と同様な評価を行った。結果を表６に示す。
【０２３２】
［実施例２２］
（電子写真感光体の作製）
電荷発生層までは実施例１と同様に作製し、電荷輸送層の組成を表３に示すように変更し、使用溶剤量を２５０質量部に変更して、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、酸素濃度約８０ｐｐｍの雰囲気下で１４５℃、４０分加熱し、２０μｍの電荷輸送層を形成した。
以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体２２とする。
【０２３３】
（評価）
得られた感光体について、実施例１と同様な評価を行った。結果を表６に示す。
【０２３４】
【表１】
0005691578.tif 000056
【０２３５】
【表２】
0005691578.tif 000057
【０２３６】
【表３】
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【０２３７】
【表４】
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【０２３８】
【表５】
0005691578.tif 000060
【０２３９】
【表６】
0005691578.tif 000061
【０２４０】
上記結果から、本実施例は、比較例に比べ、濃度ムラ、スジ、画像流れ、ゴースト、表面観察につき、総合的に良好な結果が得られたことがわかる。
【０２４１】
上記表１〜表３に記載の略記について以下に説明する。
【０２４２】
（電荷輸送能を有さないモノマー）
・ＢＥＰ−１００（新中村化学工業社製）
【０２４３】
（熱可塑性樹脂）
・ＰＣＺ−４００：  三菱ガス化学社製のビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４万）
【０２４４】
（開始剤）
・ＶＥ−７３：  和光純薬工業製の開始剤（熱ラジカル発生剤）
・Ｉｒａｃｕｒｅ８１９：  チバ  スペシャリティ  ケミカルズ社製の開始剤（光ラジカル発生剤）
【０２４５】
（添加剤）
・ジブチルフタレート：東京化成社製
・アジピン酸ビス（２−エチルヘキシル）：東京化成工業株式会社社製（２５℃、１気圧下で液状）
・ジエチレングリコールジアセテート：東京化成工業株式会社社製（２５℃、１気圧下で液状）
・ジエチレングリコールジブチルエーテル：  東京化成工業株式会社社製（２５℃、１気圧下で液状）
・ＡＲＵＦＯＮ  ＵＰ−１０００：  一般式（ＡＡ）で表される繰り返し単位（Ｒａ＝水素原子（Ｈ）、Ｒｂ＝ブチル基）からなる化合物、東亜合成社製、重量平均分子量Ｍｗ３０００（２５℃、１気圧下で液状）
・ＡＲＵＦＯＮ  ＵＰ−１１７０：  一般式（ＡＡ）で表される繰り返し単位（Ｒａ＝水素原子、Ｒｂ＝ブチル基）からなる化合物、東亜合成社製、重量平均分子量Ｍｗ８０００（２５℃、１気圧下で液状）
・Ｄ６４３：  一般式（ＢＢ）で表される繰り返し単位（Ａ＝ブチレン基、Ｂ＝ブチレン基）からなる化合物、株式会社  ジェイ・プラス社製、重量平均分子量Ｍｗ１８００（２５℃、１気圧下で液状）
・ＢＡ−２グリコール：日本乳化剤株式会社製（２５℃、１気圧下で固体）
【０２４６】
・ポリマー（１）：  下記合成例１で得られたポリマー：重量平均分子量Ｍｗ９７００
−合成例１−
窒素導入管、コンデンサーを装着した二口フラスコに、ブチルメタクリレート３０質量部、トルエン５０質量部、及びアゾビスイソブチロニトリル０．７質量部を採取し、窒素置換をした。その後攪拌しながら温度を徐々に９０℃に上げ、３時間反応させた。その後減圧下溶剤を留去し、さらに空気を流しながら温度を１４０℃に上げ１時間攪拌し、２５℃、１気圧下で液状のポリマー（１）を得た。得られたポリマーの重量平均分子量Ｍｗは９７００（ポリスチレン換算）であった。
本ポリマー（１）は、一般式（ＡＡ）で表される繰り返し単位（Ｒａ＝メチル基、Ｒｂ＝ブチル基）からなる化合物である。
【０２４７】
・ポリマー（２）：  下記合成例２で得られたポリマー：重量平均分子量Ｍｗ１９０００
−合成例２−
アゾビスイソブチロニトリル０．４質量部を用いた以外は、合成例１と同様にして、２５℃、１気圧下で液状のポリマー（２）を得た。得られたポリマーの重量平均分子量Ｍｗは１９０００（ポリスチレン換算）であった。
【０２４８】
・ポリマー（３）：  下記合成例３で得られたポリマー：重量平均分子量Ｍｗ１１０００
−合成例３−
アゾビスイソブチロニトリル０．６質量部を用いた以外は、合成例１と同様にして、２５℃、１気圧下で液状のポリマー（３）を得た。得られたポリマーの重量平均分子量Ｍｗは１１０００（ポリスチレン換算）であった。
【０２４９】
・ポリマー（４）：  下記合成例４で得られたポリマー：重量平均分子量Ｍｗ８０００
−合成例４−
アゾビスイソブチロニトリル０．７５質量部を用いた以外は、合成例１と同様にして、２５℃、１気圧下で液状のポリマー（４）を得た。得られたポリマーの重量平均分子量Ｍｗは８０００（ポリスチレン換算）であった。
【符号の説明】
【０２５０】
１  下引層、２  電荷発生層、３  電荷輸送層、４  導電性基体、５  保護層、６  単層型感光層、７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７  電子写真感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑材、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、３００  プロセスカートリッジ
【図５】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図６】
0005691578.tif 000069