(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された状態の前記基板を囲うカップ部と、
前記基板と前記カップ部との間に異物を回収する回収液を供給する回収液供給部と、
平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレートとを備える
基板収容装置。
【請求項２】
前記回収液供給部から供給された前記回収液を貯留する回収液貯留部を更に備える
請求項１に記載の基板収容装置。
【請求項３】
前記カップ部は、前記基板の側部を囲う壁部と、前記壁部を支持する底部とを有し、
前記回収液貯留部は、前記壁部の一部と前記底部とを含む部分に設けられている
請求項２に記載の基板収容装置。
【請求項４】
前記回収液供給部は、前記回収液貯留部に向けて前記回収液を吐出する第一ノズルを有する
請求項２又は請求項３に記載の基板収容装置。
【請求項５】
前記第一ノズルは、前記基板保持部に設けられている
請求項４に記載の基板収容装置。
【請求項６】
前記回収液貯留部は、前記基板の外周に沿って環状に形成されており、
前記回収液供給部は、前記回収液貯留部の周方向に向けて前記回収液を吐出する第二ノズルを有する
請求項２から請求項５のうちいずれか一項に記載の基板収容装置。
【請求項７】
前記第二ノズルは、複数設けられ、
複数の前記第二ノズルは、前記回収液貯留部の周方向に等しいピッチで配置されている
請求項６に記載の基板収容装置。
【請求項８】
前記回収液貯留部は、前記回収液を排出する排出部を有する
請求項２から請求項７のうちいずれか一項に記載の基板収容装置。
【請求項９】
前記カップ部で囲まれた空間を吸引する吸引部
を更に備える請求項１から請求項８のうちいずれか一項に記載の基板収容装置。
【請求項１０】
前記吸引部は、前記カップ部を介して外側に接続された吸引経路を有する
請求項９に記載の基板収容装置。
【請求項１１】
前記吸引部は、前記吸引経路に設けられた気液分離部を有する
請求項１０に記載の基板収容装置。
【請求項１２】
前記気液分離部に到達して分離された前記回収液を前記回収液供給部へ送る送り部
を更に備える請求項１１に記載の基板収容装置。
【請求項１３】
前記カップ部は、前記基板の側部を囲う壁部を有し、
前記壁部へ向けて洗浄液を吐出する洗浄液ノズルを更に備える
請求項１から請求項１２のうちいずれか一項に記載の基板収容装置。
【請求項１４】
前記洗浄液として、前記回収液と同一種類の液体が用いられる
請求項１３に記載の基板収容装置。
【請求項１５】
前記基板保持部は、前記基板の裏面を吸着する吸着部を有し、
前記吸着部は、前記基板の周囲に向けて気体を噴射する気体噴射部を有する
請求項１から請求項１４のうちいずれか一項に記載の基板収容装置。
【請求項１６】
前記基板保持部は、前記基板の温度を調整する温調部を有する
請求項１から請求項１５のうちいずれか一項に記載の基板収容装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板収容装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板に液状体を塗布する塗布技術として、例えばカップなどを備えた基板収容装置内に基板を収容し、当該基板収容装置に収容された状態でノズルから基板上に液状体を吐出する構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平０３−０２６３７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記構成においては、塗布動作を行う際に塗布液がミスト状に飛散する場合がある。ミスト状に飛散した塗布液が装置内部のうち基板以外の部分に付着すると、装置を汚してしまうという問題がある。
【０００５】
以上のような事情に鑑み、本発明は、装置内の環境を清浄化することができる基板収容装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第一の態様に係る基板収容装置は、基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された状態の前記基板を囲うカップ部と、前記基板と前記カップ部との間に異物を回収する回収液を供給する回収液供給部とを備える。
【０００７】
本発明によれば、回収液供給部からの回収液が基板とカップ部との間に供給されるので、基板とカップとの間の異物を回収することができる。これにより、装置の環境を清浄化することができる。
【０００８】
上記の基板収容装置は、前記回収液供給部から供給された前記回収液を貯留する回収液貯留部を更に備える。  
本発明によれば、回収液供給部から供給された回収液を貯留する回収液貯留部を更に備えることとしたので、供給された回収液を貯留させることができるので、貯留された状態で異物を回収することができる。
【０００９】
上記の基板収容装置において、前記カップ部は、前記基板の側部を囲う壁部と、前記壁部を支持する底部とを有し、前記回収液貯留部は、前記壁部の一部と前記底部とを含む部分に設けられている。  
本発明によれば、カップ部が、基板の側部を囲う壁部と、壁部を支持する底部とを有し、回収液貯留部が壁部の一部と底部とを含む部分に設けられているので、当該壁部及び底部において異物を回収することができる。
【００１０】
上記の基板収容装置において、前記回収液供給部は、前記回収液貯留部に向けて前記回収液を吐出する第一ノズルを有する。  
本発明によれば、第一ノズルから回収液貯留部に向けて回収液が吐出されるため、吐出による回収液の流れを形成することができる。これにより、回収液貯留部に付着する異物を洗い流すことができる。
【００１１】
上記の基板収容装置は、前記第一ノズルは、前記基板保持部に設けられている。  
本発明によれば、第一ノズルが基板保持部に設けられているので、基板保持部から回収液貯留部に回収液が吐出されることになる。これにより、基板保持部から回収液貯留部までの間において異物を洗い流すことができる。
【００１２】
上記の基板収容装置において、前記回収液貯留部は、前記基板の外周に沿って環状に形成されており、前記回収液供給部は、前記回収液貯留部の周方向に向けて前記回収液を吐出する第二ノズルを有する。  
本発明によれば、回収液貯留部が基板の外周に沿って環状に形成されており、回収液供給部が回収液貯留部の周方向に向けて回収液を吐出する第二ノズルを有するので、回収液貯留部の周方向に回収液の流れを形成することができる。これにより、回収された異物が沈殿して溜まるのを防ぐことができる。
【００１３】
上記の基板収容装置において、前記第二ノズルは、複数設けられ、複数の前記第二ノズルは、前記回収液貯留部の周方向に等しいピッチで配置されている。  
本発明によれば、第二ノズルが複数設けられ、複数の第二ノズルが回収液貯留部の周方向に等しいピッチで配置されるので、回収液の流れを回収液貯留部の周方向に均一に形成することができる。
【００１４】
上記の基板収容装置において、前記回収液貯留部は、前記回収液を排出する排出部を有する。  
本発明によれば、異物を含んだ回収液を排出部から排出することができるので、装置内から異物を除去することができる。
【００１５】
上記の基板収容装置は、前記カップ部で囲まれた空間を吸引する吸引部を更に備える。
本発明によれば、カップ部で囲まれた空間を吸引することができるので、カップ部で囲まれた空間から吸引によって気体、回収液や異物などを除去することができる。
【００１６】
上記の基板収容装置において、前記吸引部は、前記カップ部を介して外側に接続された吸引経路を有する。  
本発明によれば、吸引部がカップ部を介して外側に接続された吸引経路を有するので、当該吸引経路を介して回収液や異物などを除去することができる。
【００１７】
上記の基板収容装置において、前記吸引部は、前記吸引経路に設けられた気液分離部を有する。  
本発明によれば、吸引経路に気液分離部が設けられるので、吸引された物質の中から回収液を分離することができる。
【００１８】
上記の基板収容装置は、前記気液分離部に到達して分離された前記回収液を前記回収液供給部へ送る送り部を更に備える。  
本発明によれば、気液分離部に到達して分離された回収液が回収液供給へ送ることができるので、回収液を再利用することができる。
【００１９】
上記の基板収容装置は、前記カップ部は、前記基板の側部を囲う壁部を有し、前記壁部へ向けて洗浄液を吐出する洗浄液ノズルを更に備える。  
本発明によれば、カップ部が基板の側部を囲う壁部を有し、壁部へ向けて洗浄液を吐出する洗浄液ノズルが設けられるので、壁部を清浄化することができる。
【００２０】
上記の基板収容装置において、前記洗浄液として、前記回収液と同一種類の液体が用いられる。  
本発明によれば、洗浄液として回収液と同一種類の液体が用いられるので、洗浄液を用いて異物を回収することができる。また、洗浄液及び回収液の供給源を共通化することができる。
【００２１】
上記の基板収容装置において、前記基板保持部は、前記基板の裏面を吸着する吸着部を有し、前記吸着部は、前記基板の周囲に向けて気体を噴射する気体噴射部を有する。  
本発明によれば、吸着部から基板の周囲に向けて気流を形成することができるので、異物が基板へ向けて飛散してくるのを防ぐことができる。
【００２２】
上記の基板収容装置において、前記基板保持部は、前記基板の温度を調整する温調部を有する。  
本発明によれば、基板保持部によって基板の温度を調整することができるので、基板の温度を収容目的に応じた温度に設定することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、装置内の環境を清浄化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の実施の形態に係る塗布装置の構成を示す断面図。
【図２】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す平面図。
【図３】本実施形態に係る塗布装置の一部の構成を示す図。
【図４】本実施形態に係る塗布装置の動作を示す図。
【図５】本実施形態に係る塗布装置の動作を示す図。
【図６】本実施形態に係る塗布装置の他の動作例を示す図。
【図７】本実施形態に係る塗布装置の他の動作例を示す図。
【図８】本実施形態に係る塗布装置の他の構成及び他の動作例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。  
図１は、本実施形態に係る塗布装置ＣＴＲの構成を示す図である。  
図１に示すように、塗布装置ＣＴＲは、基板収容装置ＡＣＭ及び塗布ノズルＣＮＺを有している。塗布装置ＣＴＲは、基板収容装置ＡＣＭに収容される基板Ｓに対して、塗布ノズルＣＮＺを用いて液状体を塗布する装置である。塗布装置ＣＴＲは、水平面に平行な床面に載置されて用いられる。塗布ノズルＣＮＺとしては、例えばスプレーノズルや、スリットノズル、スピンコート用の滴下ノズルなど、種々のノズルを用いることができる。
【００２６】
以下、本実施形態に係る塗布装置ＣＴＲの構成を説明する際に、ＸＹＺ直交座標系を用いることとする。ここでは、水平面上の一方向をＸ方向とし、当該水平面に平行であってＸ方向に直交する方向をＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。また、Ｘ軸周り、Ｙ軸周り、Ｚ軸周りの各方向については、θＸ方向、θＹ方向、θＺ方向と表記する場合がある。
【００２７】
基板収容装置ＡＣＭは、基板保持部１０、カップ部２０、回収液供給部３０、回収液貯留部４０、吸引部５０、昇降部６０及び制御部ＣＯＮＴを有している。図２は、塗布装置ＣＴＲを＋Ｚ側から見たときの構成を示す図である。なお、図２においては、図を判別しやすくするため、昇降部６０の構成を一点差線で示している。
【００２８】
図１及び図２に示すように、基板保持部１０は、吸着部１１、温調部１２及び気体噴射部１３を有している。吸着部１１は、カップ部２０の内部のうちＺ方向視中央部に配置されている。吸着部１１は、吸引機構によって吸引動作を行う構成となっている。
【００２９】
吸着部１１のうち＋Ｚ側の面１１ａは、基板Ｓを保持する保持面である。保持面１１ａは、ＸＹ平面に平行となるように平坦に形成されている。吸着部１１は、基台１０ａ上に配置されている。
【００３０】
温調部１２は、吸着部１１に吸着される基板Ｓの温度を調整する。温調部１２は、不図示の加熱機構や冷却機構を有している。当該加熱機構及び冷却機構の動作は、制御部ＣＯＮＴによって制御可能である。温調部１２は、不図示の固定部材を介して吸着部１１の−Ｚ側の面に取り付けられている。
【００３１】
気体噴射部１３は、吸着部１１に吸着された状態の基板Ｓの周囲に向けて気体（例えば窒素ガスなど）を噴射する。気体噴射部１３は、吸着部１１の側面に形成された噴射口１３ａを有する。当該噴射口１３ａは、吸着部１１の径方向の外側へ向けて開口されている。当該噴射口は、気体流路１３ｂを介して不図示の気体供給源に接続されている。
【００３２】
気体流路１３ｂは、吸着部１１の径方向の外側へ向けて水平方向に対して＋Ｚ側に傾いている。このため、気体噴射部１３は、基板Ｓの周囲に径方向の外側かつ＋Ｚ側へ向けた気流を形成する。この気流により、基板Ｓの裏面に対して異物が近づくのを防ぐことができる。
【００３３】
カップ部２０は、基板保持部１０によって保持される基板Ｓを囲うように配置されている。カップ部２０は、底部２１及び壁部２２を有する。カップ部２０は、Ｚ方向視で円形に形成されている。底部２１には、−Ｚ側へ向けて傾斜部２１ａが形成されている。傾斜部２１ａは、図２に示すように、基台１０ａの外周面に沿って円環状に形成されている。
【００３４】
図１及び図２に示すように、壁部２２は、基板保持部１０の周囲を囲うように円筒状に形成されている。図１に示すように、壁部２２の＋Ｚ側端部には、折り返し部２２ａが形成されている。折り返し部２２ａは、カップ部２０のＺ方向視で中央部側へ向けて形成されている。
【００３５】
回収液供給部３０は、第一ノズル３１、第二ノズル３２、洗浄液ノズル３３及び供給源３４を有する。回収液供給部３０は、基板Ｓとカップ部２０との間の異物を回収する回収液を供給する。回収液としては、例えば純水、塗布ノズルから供給される液状体の溶媒などが挙げられる。
【００３６】
第一ノズル３１は、基台１０ａに取り付けられている。第一ノズル３１は、基台１０ａに対して外側に向けられている。具体的には、第一ノズル３１は、カップ部２０の底部２１に向けられている。第一ノズル３１は、昇降部６０に設けられるプレート６１の液受面６１ａ（後述）を洗浄する。第一ノズル３１は、底部２１へ向けて回収液を吐出する。第一ノズル３１は、基台１０ａの周方向にほぼ等しいピッチで配置されている。このため、液受面６１ａの一周に亘って満遍なく回収液が供給されることになる。なお、第一ノズル３１からエアを噴射させる構成としても構わない。
【００３７】
第二ノズル３２は、基台１０ａの外周面に形成されている。第二ノズル３２は、カップ部２０の底部２１に向けられている。第二ノズル３２は、底部２１に対して回収液を吐出する。第二ノズル３２は、基台１０ａの外周面の周方向に向けられている。具体的には、図２に示すように、反時計回りの方向に向けられている。このため、第二ノズル３２から吐出される回収液により、底部２１では回収液の流れが反時計回りに形成されることになる。第二ノズル３２は、底部２１の周方向に等しいピッチで配置されている。このため、回収液の流れが底部２１の一周に亘ってほぼ等しい速度となって形成される。
【００３８】
洗浄液ノズル３３は、底部２１の傾斜部２１ａに配置されている。洗浄液ノズル３３は、カップ部２０の壁部２２に向けられている。洗浄液ノズル３３は、壁部２２へ向けて洗浄液を吐出する。当該洗浄液としては、純水、塗布ノズルから供給される液状体の溶媒に加えて、例えばオゾン水などを用いることができる。
【００３９】
洗浄液ノズル３３は、ＸＹ平面に対して傾斜する方向に角度を調整可能に設けられている。このため、折り返し部２２ａから壁部２２の−Ｚ側までの範囲で洗浄液ノズル３３の向きを調整することができる。また、洗浄液ノズル３３の角度を調整することにより、昇降部６０に設けられる気流調整部材６２（後述）に洗浄液を供給し、当該気流調整部材６２を洗浄することも可能である。洗浄液ノズル３３は、底部２１の周方向にほぼ等しいピッチで配置されている。このため、壁部２２には周方向の一周に亘って満遍なく洗浄液が供給されることになる。
【００４０】
供給源３４は、例えばカップ部２０の外部に配置されている。供給源３４は、第一ノズル３１及び第二ノズル３２に回収液を供給する。このように第一ノズル３１と第二ノズル３２とで回収液の供給源を共通化させることで、別々に供給源を設ける場合に比べてスペースを節約することができる。また、メンテナンスの手間が軽減されることにもなる。加えて、供給源３４は、洗浄液ノズル３３に洗浄液を供給する。回収液及び洗浄液として同一種類の液体が用いられる場合には、洗浄液ノズル３３についても供給源を共通化させることができる。
【００４１】
更に、供給源３４は、エア噴出口３５にクリーンドライエアを供給する。このエア噴出口３５は、基台１０ａのうち第一ノズル３１の＋Ｚ側に複数設けられている。複数のエア噴出口３５は、基台１０ａの周方向に等しいピッチで配置されている。各エア噴出口３５は、昇降部６０に設けられるプレート６１の液受面６１ａ（後述）を乾燥させる。各エア噴出口３５は、底部２１へ向けられている。なお、エア噴出口３５から上記回収液を噴出させる構成としても構わない。
【００４２】
回収液貯留部４０は、液受部４１及び排出部４２を有する。液受部４１は、カップ部２０の底部２１と、壁部２２の−Ｚ側の部分とを含む部分に形成されている。液受部４１は、第一ノズル３１から吐出された回収液や、第二ノズル３２から吐出された回収液などを受ける部分である。液受部４１が回収液を受けた状態を維持することにより、回収液貯留部４０に回収液が貯留される。液受部４１のうち外周部分の＋Ｚ側端部４１ａは、第二ノズル３２よりも−Ｚ側に配置されている。
【００４３】
排出部４２は、カップ部２０の底部２１に形成された開口部である。排出部４２は、液受部４１に貯留された回収液をカップ部２０の外側に排出する。排出部４２は、傾斜部２１ａの底面に形成されている。このため、液受部４１に受けられた回収液が傾斜部２１ａを伝わって排出されやすくなる。排出部４２には、不図示の排出経路が接続されている。排出部４２には、不図示の開閉弁が設けられている。当該開閉弁を閉塞させることにより、回収液貯留部４０に回収液が貯留される。また、開閉弁を開放させることにより、排出部４２から回収液が排出される。
また、壁部２２の外周側には、排気部２４が設けられている。排気部２４は、カップ部２０によって囲まれた空間Ｋの気体を排出すると共に、壁部２２の表面に付着した塗布液を流し出す役割をする。なお、排気部２４が設けられない構成であっても構わない。排気部２４には、トラップ部２４ａ及び２４ｂが設けられている。当該トラップ部２４ａ及び２４ｂにより、排気部２４に排出された成分のうち気体成分の少なくとも一部が開口部２４ｃへ送出され、液体成分が開口部２４ｄへ送られる。トラップ部２４ａ及び２４ｂでは、気体成分の一部を液化させる機能をも有している。この場合、液化された成分については、開口部２４ｄへ送られる。なお、排気部２４の開口部２４ｃは、吸引部５０に接続されている。また、排気部２４の開口部２４ｄは、廃液回収部（不図示）又は供給源３４へ送られる。
【００４４】
吸引部５０は、排気部２４を介して、カップ部２０によって囲まれた空間Ｋを吸引する。吸引部５０は、排気部２４の開口部２４ｃに接続されている。また、吸引部５０は、当該開口部２４ｃ及びトラップ部２４ａ、２４ｂを介して空間Ｋに接続されている。図３は、吸引部５０の構成を示す図である。  
図５に示すように、吸引部５０は、配管部５０ａ〜５０ｆ、気液分離部５１及びオゾン洗浄部５２を有する。
【００４５】
配管部５０ａは、カップ部２０に接続されている。配管部５０ａは、壁部２２に対して外側から接続されている。配管部５０ａを介して、カップ部２０の内部に存在していた吸引対象物がカップ部２０の外側に吸引される。配管部５０ａは、気液分離部５１に接続されている。
【００４６】
気液分離部５１は、トラップ部５１ａを有している。気液分離部５１は、吸引されたカップ部２０内の吸引対象物のうち液体成分をトラップ部５１ａにより配管部５０ｂへ送り出すと共に、気体成分を配管部５０ｃへ送り出す。なお、トラップ部５１ａが気体成分の一部を液化する機能をも有しており、液化された成分を配管部５０ｂへ送り出す場合もある。配管部５０ｃにはファンが設けられ、工場排気などにより、配管部５０ｃへ送り出された気体成分を外部へ排気する。
【００４７】
配管部５０ｂは、オゾン洗浄部５２に接続されている。オゾン洗浄部５２は、オゾン発生装置５２ａ及び洗浄槽５２ｂを有している。オゾン発生装置５２ａで発生したオゾンガスは、洗浄槽５２ｂに設けられる不図示の散気管により液体成分に接触する。このオゾンガスにより、液体成分が溶剤とレジストとに分解される。なお、上記のオゾン洗浄部５２は必ずしも設けられていなくても構わない。
【００４８】
洗浄槽５２ｂは、洗浄後の液体成分を配管部５０ｅへ送り出す。配管部５０ｅは、上記の供給源３４に接続されている。配管部５０ｅへ送り出された液体成分は、当該配管部５０ｅを介して上記の供給源３４へと送られる。また、洗浄に用いたオゾンガスについては、配管部５０ｆを介して排気させる。なお、配管部５０ｂには配管部５０ｄが分岐して接続されている。配管部５０ｄは、廃液回収部（不図示）に接続されている。配管部５０ｂへ送り出された液体成分の一部は、当該配管部５０ｄを介して排出される。
【００４９】
図１に戻って、昇降部６０は、プレート６１、気流調整部材６２、連結部材６３、昇降ガイド６４及び駆動部６５を有する。  
図１及び図２に示すように、プレート６１は、基板Ｓの周囲を囲うように円環状に形成されている。プレート６１は、平坦に形成された液受面６１ａを有している。図１に示す状態では、プレート６１は、基板保持部１０に保持された状態の基板Ｓの＋Ｚ側の第一面Ｓａと液受面６１ａとが面一になる第一位置ＰＳ１に配置されている。プレート６１は、基板保持部１０に保持された基板Ｓの外周との間に隙間を空けて配置されている。なお、気体噴射部１３の噴出口１３ａは、基板Ｓの−Ｚ側の第二面Ｓｂ側から当該隙間に向けられている。
【００５０】
気流調整部材６２は、基板Ｓの外周を通過した気体の流れを調整する。気流調整部材６２は、基板Ｓの周囲を囲うように円環状に形成されている。気流調整部材６２は、プレート６１を囲うように当該プレート６１の外側に配置されている。気流調整部材６２は、連結部材６３によってプレート６１と一体的に連結されている。気流調整部材６２は、基板Ｓの外周を通過した気体が吸引部５０へ向けて流れるように湾曲されている。
【００５１】
昇降ガイド６４は、Ｚ方向に平行に設けられている。プレート６１は、駆動部６５の駆動動作により、昇降ガイド６４に沿ってＺ方向に移動可能に設けられている。プレート６１がＺ方向に移動することにより、当該プレート６１と一体的に連結された気流調整部についてもＺ方向に移動可能である。
【００５２】
プレート６１は、例えばＺ方向の第二位置ＰＳ２及び第三位置ＰＳ３に移動可能である。第二位置Ｐ２は、第一ノズル３１から噴射される回収液の軌道上に設けられる。したがって、プレート６１が第二位置ＰＳ２に配置された場合、第一ノズル３１から回収液を噴射することで、プレート６１の洗浄を行うことが可能である。また、第三位置ＰＳ３は、プレート６１の待機位置である。
【００５３】
上記のように構成された塗布装置ＣＴＲの動作を説明する。  
まず、基板Ｓを不図示の搬送機構によって基板収容装置ＡＣＭに収容する。収容された基板Ｓは、吸着部１１上に載置される。その後、制御部ＣＯＮＴは、吸着部１１上に基板Ｓを吸着させる。
【００５４】
基板Ｓを吸着させた後、制御部ＣＯＮＴは、温調部１２によって基板Ｓの温度を調節しつつ、気体噴射部１３から気体を噴射させる。また、制御部ＣＯＮＴは、吸引部５０の動作を開始させる。加えて、制御部ＣＯＮＴは、昇降部６０を第一位置ＰＳ１に配置させる。昇降部６０が第一位置ＰＳ１に配置されることにより、気体噴射部１３からの気体は、基板Ｓの側部を通過し、気流調整部材６２を介して吸引部５０へと流れる。また、プレート６１の液受面６１ａが基板Ｓの第一面Ｓａと面一状態となる。
【００５５】
この状態で、制御部ＣＯＮＴは、図４に示すように、第一ノズル３１から回収液Ｑを吐出させる。回収液Ｑは、Ｚ方向視において、基板Ｓとカップ部２０の壁部２２との間に設けられる回収液貯留部４０に満たされていく。この状態で、制御部ＣＯＮＴは、塗布ノズルＣＮＺを用いて基板Ｓの第一面Ｓａ上に液状体の塗布膜Ｒを形成する。
【００５６】
塗布ノズルＣＮＺを用いて塗布膜Ｒを形成する際に、液状体がミスト状に飛散する場合がある。このようなミスト状の液状体がカップ部２０に付着すると、カップ部２０が汚れた状態となってしまう。これに対して、本実施形態によれば、第一ノズル３１からの回収液が基板Ｓとカップ部２０の壁部２２との間に供給されるので、基板Ｓとカップ部２０との間にミスト状の液状体が飛散した場合であっても、当該液状体を回収することができる。また、液状体に限られず、塵や埃などについても回収することができる。これにより、装置環境を清浄化することができる。
【００５７】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、制御部ＣＯＮＴは、第一ノズル３１から回収液を吐出させる際に、図５に示すように、第二ノズル３２から回収液Ｑを吐出させるようにしても構わない。この場合、第二ノズル３２が回収液貯留部４０の周方向に向けて回収液Ｑを吐出するので、回収液貯留部４０の周方向（反時計回りの方向）に回収液Ｑの流れを形成することができる。これにより、回収された異物が沈殿して溜まるのを防ぐことができる。
【００５８】
なお、第一ノズル３１からの回収液の吐出動作と、第二ノズル３２からの回収液の吐出動作とを、同時に行うようにしても構わないし、異なるタイミングで行わせるようにしても構わない。
【００５９】
また、上記実施形態においては、回収液Ｑによってカップ部２０における液状体Ｑを回収する構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。  
図６は、塗布装置ＣＴＲの他の動作例を示す図である。図６に示すように、制御部ＣＯＮＴが、昇降部６０に設けられたプレート６１を第二位置ＰＳ２に配置させ、第一ノズル３１から回収液Ｑを吐出させるようにしても構わない。この場合、回収液Ｑは、プレート６１の液受面６１ａに供給され、液受面６１ａが回収液Ｑによって洗浄される。
【００６０】
また、制御部ＣＯＮＴは、液受面６１ａの洗浄後、エア噴出口３５からエアを噴射させても構わない。この場合、エアは液受面６１ａ上を流れ、液受面６１ａ上に残留する回収液Ｑを除去する。また、エアの流れにより、回収液Ｑの一部を蒸発させる。このように、液受面６１ａ上を乾燥させることができる。
【００６１】
図７は、塗布装置ＣＴＲの他の動作例を示す図である。プレート６１を洗浄する場合、図７に示すように、制御部ＣＯＮＴは、回収液貯留部４０に回収液Ｑを貯留させた状態で、プレート６１を第三位置ＰＳ３へ移動させる。この動作により、プレート６１が回収液Ｑに漬けられた状態となり、液受面６１ａが回収液Ｑによって洗浄される。
【００６２】
プレート６１を漬ける際、当該プレート６１が漬かった体積に応じて回収液Ｑの液面が＋Ｚ側に移動し、回収液貯留部４０の外壁の＋Ｚ側の端部４１ａを超えて吸引部５０へ溢れだすことになる。本実施形態において、液受部４１のうち外周部分の＋Ｚ側端部４１ａは、第二ノズル３２よりも−Ｚ側に配置されているため、回収液Ｑが第二ノズル３２を満たしてしまうのを回避することができる。
【００６３】
また、上記実施形態の塗布装置ＣＴＲにおいて、洗浄ノズル３３を用いた動作を説明する。図８は、洗浄ノズル３３の動作を示す図である。  
図８に示すように、制御部ＣＯＮＴは、洗浄ノズル３３を用いて、カップ部２０の壁部２２や折り返し部２２ａに向けて洗浄液ＱＲを噴射させる。この動作により、壁部２２及び折り返し部２２ａが洗浄液ＱＲによって洗浄される。
【００６４】
図８では、上記実施形態の構成に加えて、壁部２２に開口部２２ｂが設けられている。開口部２２ｂには、洗浄液供給部２３が接続されている。制御部ＣＯＮＴは、洗浄液供給部２３から洗浄液ＱＲを供給することにより、開口部２２ｂから壁部２２へ洗浄液ＱＲが垂れてくる。この動作により、壁部２２が洗浄される。
また、当該洗浄液が広い範囲に流れるように、例えば壁部２２に洗浄液が濡れ広がりやすくなる材料などをコーティングする構成であっても構わない。また、洗浄液が壁部２２の内周方向に流れるように、壁部２２に凹凸などが形成された構成であっても構わない。また、壁部２２の近傍に刷毛などを配置させ、当該刷毛を用いて洗浄液を塗布する構成としても構わない。また、壁部２２に紙や布などを配置させ、洗浄液を当該紙や布に浸み込ませることで、洗浄液を広い範囲に濡れ広がらせる構成としても構わない。
【符号の説明】
【００６５】
ＣＴＲ…塗布装置  ＡＣＭ…基板収容装置  ＣＮＺ…塗布ノズル  Ｓ…基板  ＣＯＮＴ…制御部  Ｋ…空間  Ｑ…回収液  Ｒ…塗布膜  １０…基板保持部  １０ａ…基台  １１…吸着部  １１ａ…保持面  １２…温調部  １３…気体噴射部  １３ａ…噴射口  １３ｂ…気体流路  ２０…カップ部  ２１…底部  ２１ａ…傾斜部  ２２…壁部  ３０…回収液供給部  ３１…第一ノズル  ３２…第二ノズル  ３３…洗浄液ノズル  ３４…供給源  ３５…エア噴出口  ４０…回収液貯留部  ４１…液受部  ４２…排出部  ５０…吸引部  ５０ａ〜５０ｆ…配管部  ５１…気液離部
【図１】
0005816468.tif 000002
【図２】
0005816468.tif 000003
【図３】
0005816468.tif 000004
【図４】
0005816468.tif 000005
【図５】
0005816468.tif 000006
【図６】
0005816468.tif 000007
【図７】
0005816468.tif 000008
【図８】
0005816468.tif 000009