(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属板と、金属板の表面上に設けられた電気絶縁性樹脂組成物から得られた電気絶縁樹脂層と、電気絶縁樹脂層の表面上に設けられた金属箔層とを備えた金属基板であって、前記電気絶縁性樹脂組成物が、エポキシ樹脂（Ａ）、ポリカルボジイミド樹脂（Ｂ）、硬化剤（Ｃ）、無機フィラー（Ｄ）、オルガノポリシロキサン（Ｅ）を含有するものである金属基板。
【請求項２】
前記電気絶縁性樹脂組成物が、（Ａ）成分１００質量部に対して、（Ｂ）成分が１〜５０質量部、（Ｄ）成分が１００〜１１００質量部、（Ｅ）成分が１〜６０質量部であり、且つ（Ｃ）成分が（Ａ）成分に対し０．５〜１．３当量である請求項１に記載の金属基板。
【請求項３】
ＬＥＤ用プリント配線基板である請求項１又は２に記載の金属基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐熱性に優れた電気絶縁性樹脂組成物、および該樹脂組成物を用いた金属基板、具体的にはＬＥＤ用プリント配線基板や高周波電子回路あるいは電源回路用プリント配線基板などに好適な金属基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の電子機器技術の高度化および高機能化に伴って、電子部品から発生する熱量の増加が問題になっている。電子部品の温度が高くなると電子部品が壊れたり、寿命が短くなるなどの問題がある。このような電子部品の発熱の問題に対して、電子部品から発生する熱を外部の熱伝導体に効率よく伝導させるために、電子回路用プリント配線基板や近年注目されている発光ダイオード（ＬＥＤ）プリント配線基板に関して熱減少効果を上げるためのさまざまな技術が開発されてきた。代表的なものとして、セラミック材料を絶縁材として用いるセラミック基板や、金属板をベースとし樹脂を絶縁層とする金属基板がある。
しかしながら、セラミック基板は、生産における歩留まりが悪く、コストが高いだけでなく、生産量も限られてしまうという問題がある。金属基板においては絶縁層に樹脂を用いるため、この絶縁樹脂にも高い熱伝導性および高い耐熱性が求められてきているが、十分な熱伝導性及び耐熱性と接着性を併せ持つ絶縁樹脂が未だ存在しないのが実情である。
【０００３】
特許文献１には、エポキシ樹脂を主成分とし合成ゴム又はエラストマーを含有する絶縁樹脂層と、絶縁樹脂層上の金属基板からなる金属ベース印刷配線基板が開示され、特許文献２には、ジエン系モノマーの共重合体からなるゴム状高分子化合物と、末端に１つ以上の二重結合を有する重合性モノマーと、架橋剤と、熱伝導性無機フィラーとを含有する電気絶縁性樹脂組成物が開示されている。しかしながら、何れも樹脂中にゴム成分を有しているため、接着性は改善されているものの、例えば照明用ＬＥＤのように長時間にわたり高い熱を発する基板用樹脂としては、その耐熱性に改善の余地がある。
特許文献３には、ポリシロキサン構造を有する物質と無機粒子を金属基材に被覆してなる配線板の製造方法が開示されている。ポリシロキサン構造を有する物質を使用することにより、耐熱性や電気絶縁性が向上しているが、耐熱性がなお不十分である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平５−７５２２５号公報
【特許文献２】特開２００６−２７３９５４号公報
【特許文献３】特開２００９−４３９１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
今後、電子部品の高機能化、電気自動車やＬＥＤ照明などの新たな用途への展開にしたがって、それに伴い金属基板に使用される絶縁樹脂には耐熱性、接着剤、電気絶縁性など様々な特性の向上、信頼性の向上が求められる。本発明はそのような事情に鑑み、ＬＥＤ用プリント配線基板や各種電子回路用プリント配線基板として優れた熱伝導性・耐熱性、接着性、電気絶縁性を有する電気絶縁性樹脂組成物、および該樹脂組成物を用いた金属基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、エポキシ樹脂、ポリカルボジイミド樹脂、硬化剤、無機フィラー、オルガノポリシロキサンを含有する電気絶縁性樹脂組成物により、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成した。
【０００７】
すなわち、本発明は、
１．エポキシ樹脂（Ａ）、ポリカルボジイミド樹脂（Ｂ）、硬化剤（Ｃ）、無機フィラー（Ｄ）、及びオルガノポリシロキサン（Ｅ）を含有することを特徴とする電気絶縁性樹脂組成物、
２．（Ａ）成分１００質量部に対して、（Ｂ）成分が１〜５０質量部、（Ｄ）成分が１００〜１１００質量部、（Ｅ）成分が１〜６０質量部であり、且つ（Ｃ）成分が（Ａ）成分に対し０．５〜１．３当量である、上記１に記載の電気絶縁性樹脂組成物、
３．金属板と、金属板の表面上に設けられた上記１に記載の電気絶縁性樹脂組成物から得られた電気絶縁樹脂層と、電気絶縁樹脂層の表面上に設けられた金属箔層とを備えることを特徴とする金属基板、
４．ＬＥＤ用金属基板である上記３に記載の金属基板、
を提供するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の電気絶縁性樹脂組成物は、絶縁性および放熱性を有する無機フィラーと、エポキシ樹脂、ポリカルボジイミド樹脂、及びオルガノポリシロキサンからなる樹脂成分とを攪拌混合した樹脂組成物であり、この樹脂組成物を加熱することで得られる硬化物は、エポキシ樹脂とポリカルボジイミド樹脂に由来する高い接着性と電気絶縁性、オルガノポリシロキサンとポリカルボジイミド樹脂に由来する非常に高い耐熱性と電気絶縁性、およびオルガノポリシロキサンに由来する低い透湿・吸水性を有している。この樹脂組成物は、その特性を利用することにより電子材料分野で使われる接着剤、特に金属基板の絶縁樹脂、特にＬＥＤ用基板の絶縁樹脂として好適に使用することができ、従来にはない耐熱性・接着性に優れたＬＥＤ用金属基板の提供が可能となる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の電気絶縁性樹脂組成物は、エポキシ樹脂（Ａ）、ポリカルボジイミド樹脂（Ｂ）、硬化剤（Ｃ）、無機フィラー（Ｄ）、及びオルガノポリシロキサン（Ｅ）（ポリシロキサン構造化合物ということもある。）を含有することを特徴とする。
以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００１０】
（エポキシ樹脂）
エポキシ樹脂（Ａ）は、本発明の樹脂組成物中、成形性確保のためのベースの樹脂成分であり、ポリカルボジイミド樹脂（Ｂ）と共存することで、絶縁樹脂層に高い接着性と電気絶縁性を与える。
本発明に使用するエポキシ樹脂（Ａ）は、一分子中にエポキシ基が複数個ある公知のものを使用することができる。
オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、変性フェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、脂肪族型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられ、これらは単独使用または２種以上を併用してもよい。
特に好ましいエポキシ樹脂（Ａ）として、室温で液状である水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、脂肪族型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、およびこれらの混合物を挙げることができる。
また、基板用樹脂として使用する場合、エポキシ樹脂中の含塩素量はできるだけ少ないものが好ましい。
【００１１】
（ポリカルボジイミド樹脂）
ポリカルボジイミド樹脂（Ｂ）は、接着性と耐熱性に優れた樹脂であり、エポキシ樹脂（Ａ）、オルガノポリシロキサン（Ｅ）と併用することにより、絶縁樹脂層に、より優れた耐熱性、接着性を与えることができる。
ポリカルボジイミド樹脂は、分子中に１個以上のカルボジイミド基を有するものであり、下記一般式（１）で表わされる。
（−Ｒ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｒ−）ｎ      （１）
式（１）中、Ｒは炭素原子を１個以上有する基であり、重合度ｎは好ましくは３〜２０、より好ましくは４〜１０の範囲である。
ポリカルボジイミド樹脂の重合度ｎが３未満の低分子量であると、樹脂組成物の接着性が乏しくなるおそれがあり、逆に重合度ｎが２０を越える高分子量であると、流動性が低くなり、均一な樹脂組成物を得られにくいおそれがある。
【００１２】
本発明に使用するポリカルボジイミド樹脂（Ｂ）は、有機ジイソシアネートの脱二酸化炭素を伴う縮合反応により得られるものを使用することができる。ポリカルボジイミド樹脂の合成原料の有機ジイソシアネートとしては、芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、脂環式ジイソシアネートを使用することができ、具体的には、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ビス（４−イソシアネートシクロヘキシル）メタン、もしくは水添化ジフェニルメタンジイソシアネート等のジイソシアネート、又はその誘導体を挙げることができ、これらを単独で、あるいは２種以上で使用できる。
有機ジイソシアネートとしては、接着性の観点からは、脂肪族ジイソシアネートを使用することが好ましく、テトラメチルキシリレンジイソシアネートが特に好ましい。
本発明に使用するポリカルボジイミド樹脂は、上記有機ジイソシアネートを溶媒または無溶媒中で、リン系またはチタン系触媒の存在下、加熱攪拌することにより得られる。こうして得られたポリカルボジイミド樹脂の形態は、原料として使用するイソシアネートの種類により異なり、主に粉体状、塊状、液状または水飴状、および溶媒に溶解させたワニス状である。本発明においては、どの形態のポリカルボジイミド樹脂を使用してもよいが、作業性や混合性等の観点から室温で液状または水飴状であるポリカルボジイミド樹脂の使用が好ましい。
【００１３】
ポリカルボジイミド樹脂の配合量は、エポキシ樹脂１００質量部に対して、
１〜５０質量部であり、好ましくは２〜３０質量部、さらに好ましくは
３〜１０質量部である。１質量部未満では、ポリカルボジイミド樹脂の効果が十分に発現されにくい場合があり、逆に５０質量部を超えると硬化した樹脂組成物が着色を帯びる傾向があり、ＬＥＤ光の反射に悪影響を及ぼすことがある。
【００１４】
（硬化剤）
本発明で使用する硬化剤（Ｃ）とは、エポキシ樹脂の硬化剤のことを指し、その種類としては公知のものを使用することができる。例えば、アミン系化合物、酸無水物系化合物、シアネート系化合物、アミド系化合物、フェノ−ル系化合物などである。
具体的には、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミドなどのアミン系化合物、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸などの酸無水物系化合物、１分子中に２個以上のシアネート基を有するシアネート樹脂、リノレン酸の２量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、クレゾールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ビフェニル変性フェノールアラルキル樹脂等のビスアラルキルを結節基として水酸基含有芳香族構造が連結された構造を含有するヒドロキシ芳香族化合物、フェノールトリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂、アルコキシ基含有芳香環変性ノボラック樹脂（ホルムアルデヒドでフェノール核およびアルコキシ基含有芳香環が連結された多価フェノール化合物）等の多価フェノール化合物等を始めとする多価フェノール化合物、およびこれらの変性物、ＢＦ3−アミン錯体、並びにグアニジン誘導体などが挙げられる。またこれらの硬化剤は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１５】
固体の硬化剤は、溶媒に溶解させて使用してもよいが、加熱硬化時において残存溶媒に起因するボイドの発生が懸念されるため、粉砕等により適切な大きさに処理されたものを、本発明の樹脂組成物中に均一分散させた方がよい。樹脂組成物の高耐熱性、接着性、長期間の保存安定性等の観点から、硬化剤としてはジシアンジアミドの使用が特に好ましい。
本発明の樹脂組成物において、硬化剤（Ｃ）の使用量は、エポキシ樹脂に対し０．５〜１．３当量、好ましくは０．６〜１．１当量である。
【００１６】
（無機フィラー）
本発明で使用する無機フィラー（Ｄ）は、絶縁性、放熱性のための成分であり、また、本発明の樹脂組成物の特性をさらに引き出すために配合される。例えば、熱伝導性を向上させるためには、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化チタン、酸化亜鉛、炭化タングステン、アルミナ、酸化マグネシウムを配合し、白色度や光反射率を向上させるためには、酸化チタン、ガラスビーズを配合する。誘電率を上げるためには、チタン酸バリウムを配合し、樹脂組成物の粘度調整のために二酸化珪素を配合する。これらは単独使用または２種以上を併用してもよい。
ＬＥＤ基板用絶縁樹脂用途としては、窒化アルミニウムまたは酸化チタンの使用が好ましい。窒化アルミニウムの配合により本発明の樹脂組成物の熱伝導率は向上し、さらに酸化チタンの配合により本発明の樹脂組成物の白色度は向上して、ＬＥＤ光を効率よく反射することができる。
【００１７】
本発明で使用する無機フィラーの平均粒径（Ｄ５０）は５０μｍ以下であるのが好ましく、より好ましくは４０μｍ以下であり、３０μｍ以下がとりわけ好ましい。また、無機フィラーの充填度を向上させるため、平均粒径が異なる無機フィラーを併用してもよい。平均粒径が５０μｍを超える場合、絶縁層の表面に粗大な無機フィラーに起因する凹凸が発生し、金属基板や金属箔との接着性低下に繋がることがある。また、無機フィラーの平均粒径が小さくなりすぎると、粘度が上昇して取り扱い性が低下する傾向にあるため、平均粒径は０．０１μｍ以上であるのが好ましい。
なお、無機フィラーは樹脂組成物中への分散性を向上させるため、エポキシシランカップリング剤、アミノシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤等の各種表面処理剤で表面処理してもよい。
本発明における無機フィラー（Ｄ）の好ましい配合量（複数の無機フィラーを使用の場合はそれらの総量）は、エポキシ樹脂１００質量部に対して、１００〜１１００質量部であり、好ましくは３００〜１０５０質量部、さらに好ましくは５００〜１０００質量部である。１１００質量部を超えると、得られた樹脂組成物の成形性が劣ると共に、接着強度も低下する。
【００１８】
（オルガノポリシロキサン）
オルガノポリシロキサン（Ｅ）は、ポリカルボジイミド樹脂と併用することで非常に高い耐熱性と電気絶縁性を与え、また、それ自体が低い透湿・吸水性である。
オルガノポリシロキサンは、アルコキシシランを加水分解縮合反応させることで得られる。
アルコキシシランは一般的には次式で示される。
（Ｒ’Ｏ）n ＳｉＲ4-n
Ｒ：ＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、Ｃ3Ｈ7、Ｃ4Ｈ9、Ｃ6Ｈ5
Ｒ’：ＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、Ｃ3Ｈ7、Ｃ4Ｈ9
ｎ： １〜４
これらアルコキシシランのうち、ｎが３または４であるアルコキシシランは、加水分解縮合速度が速く、容易に入手できるため好ましい。特に、加水分解縮合速度が速く、生成したＲ’ＯＨを系外に容易に除去できる点で、Ｒ’がメチル基またはエチル基であるものが好ましい。
例えば、アルコキシ基が３つあるトリメトキシメチルシランは加水分解してシラノール基を生じ、ついで縮合を繰り返すことにより網目構造を有するオリゴマー、ポリマーへと変化する。この時、アルコキシシランのｎ数の違うものを併用することにより、鎖状に近いものから網目構造までポリシロキサンの構造を変化させることができる。
【００１９】
本発明で使用するオルガノポリシロキサンは、トリメトキシメチルシランとテトラメトキシシランの混合物を使用するのが好ましく、トリメトキシメチルシランを７０質量％以上使用するのが好ましい。
本発明におけるオルガノポリシロキサンの具体的な製造方法は、例えば次のようである。
テトラメトキシシラン（Ｓｉ(ＯＣＨ3)4）を２０質量部と、メチルトリメトキシシラン（ＣＨ3Ｓｉ(ＯＣＨ3)3）を８０質量部とをエチルアルコール１００質量部に混合し、塩酸を触媒として反応させ、酸性の溶液を得る。次に、その酸性溶液をジエチルアミン（ＣＨ3ＣＨ2ＮＨＣＨ2ＣＨ3）によって中和し、中和溶液を得る。そして、中和溶液をジエチレングリコールブチルエーテルで溶剤置換し、樹脂不揮発分濃度６０％、粘度４００ｃｐの樹脂溶液を得る。
本発明において、オルガノポリシロキサンの樹脂溶液は、本発明の樹脂組成物中に配合されて、金属板の表面上に塗布され、その上に金属箔を配して加熱圧着される。その加熱処理の際に、オルガノポリシロキサンは脱水、脱アルコール等で縮合して硬化する。
このオルガノポリシロキサンを硬化した物質は高い耐熱性を有する。
【００２０】
オルガノポリシロキサンの好ましい配合量は、エポキシ樹脂１００質量部に対して、
１〜６０質量部であり、好ましくは５〜２０質量部である。１質量部未満では、オルガノポリシロキサンの添加効果が十分に発現されず、逆に２０質量部を超えると樹脂組成物の接着性が低下することがある。
【００２１】
（その他配合成分）
本発明では、物性を損なわない範囲において、適宜上記以外のものを配合することができる。たとえばエポキシ樹脂と相溶する熱硬化または熱可塑性樹脂や、イミダゾールなどのエポキシ樹脂の硬化促進剤、シランカップリング剤などの分散剤等を配合してもよい。
【００２２】
（樹脂組成物の製造方法）
本発明の樹脂組成物の製造方法としては、公知の方法を採ることができる。本発明の樹脂組成物を得るための混合の方式として、超音波分散混合方式、高圧衝突式混合方式、高速回転混合方式、ビーズミル方式、高速せん断混合方式、および自転公転式混合方式などの混合方式を採用することができ、具体的には、３本ロールミル、２軸ミキサー、回転式混合機、ニーダ−、ポットミル、プラネタリーミキサー等を挙げることができる。また、反応が進行しない程度の範囲において、加温しながら混合してもよい。
【００２３】
（金属基板）
本発明の樹脂組成物は、耐熱性と接着性に優れていることから、基板の絶縁層として使用に適しており、特に金属基板の絶縁樹脂層として好ましい。金属板に本発明の樹脂組成物を薄く塗布した後、該樹脂組成物の上に金属箔を配して加熱圧着する、又は金属箔の表面に本発明の樹脂組成物を薄く塗布した後、必要に応じこれをＢステージ化し、金属板と貼り合せ加熱硬化する等の方法を採用することができるが、これらの製造方法に限定されるものではない。
金属板は公知のものが使用できるが、軽量であることや熱放散性がよいことから、アルミニウムが好ましい。また、金属箔についても公知のものを使用できるが、特に銅箔が好ましい。さらに金属板および／又は金属箔は、表面に微小孔を有していても良く、この方法を採用することによって、微小孔のアンカー効果が発揮され、金属板／箔と硬化した配合物との密着性が良好になると共に、金属板／箔の表面積が増加して、放熱性がより良好になる。
【００２４】
金属板と金属箔の間に配せられた樹脂層は、加熱することにより硬化し、その際圧力を掛ける および／または系を真空状態にしてもよい。
硬化温度は、１００〜２３０℃が好ましく、さらに好ましくは１３０〜２００℃である。また、段階的に昇温して硬化反応を進めてもよい。硬化時間は５分〜５時間であり、好ましくは１０分〜１時間であるが、生産性の観点から短時間で硬化反応を終了させることが望ましい。
本発明における金属基板の樹脂層の厚さは、５〜２００μｍが好ましく、１０〜１５０μｍがさらに好ましい。５μｍ未満では接着力が低下して剥離の原因になり、逆に２００μｍを超えると基板自体の熱伝導性低下の原因になる。
なお、金属板の厚さは０．１〜５ｍｍであり、金属箔の厚さは５〜５００μｍである。
【実施例】
【００２５】
以下、本発明を実施例および比較例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下において「部」とは質量部である。
【００２６】
本発明に使用した原料は以下の通りである。
エポキシ樹脂：ジャパンエポキシレジン社製  ｊＥＲ８２８（エポキシ当量＝１８５）
ポリカルボジイミド樹脂：日清紡ケミカル社製  カルボジライトＶ−０５
硬化剤１：ジシアンジアミド（ジャパンエポキシレジン社製  Ｄｉｃｙ７）
硬化剤２：クレゾールノボラック樹脂（ＤＩＣ社製  フェノライトＫＡ−１１６０）
無機フィラー
酸化チタン：石原産業社製  ＣＲ−ＥＬ（平均粒径＝０．２５μｍ）
窒化アルミニウム：古河電子社製  ＦＡＮ―ｆ０５（平均粒径＝３〜１０μｍ）
シリカ粒子：信越化学工業社製  ＸＭＰ−５９４（平均粒径＝５μｍ）
ポリシロキサン構造化合物：フューチャープロダクト社製
硬化促進剤：イミダゾール（四国化成工業社製  ２Ｅ４ＭＺ−ＣＮＳ）
シランカップリング剤：信越化学社製  ＫＢＥ４０３
【００２７】
実施例１〜９及び比較例１〜３
表１に示す組成物をロールミルおよび自転公転式混合機を用いて作製した。この樹脂組成物を７０℃で３０分熱処理後、１６０℃、３０分間プレス成形し、厚さ約２００μｍのシート状試験サンプルを作製した。
ピール強度用およびハンダ耐熱用の試験サンプルに関しては、厚さ０．２ｍｍの銅板に実施例および比較例の樹脂組成物を塗布し、ここへ厚さ７５μｍの片面粗化処理された銅箔を、粗化面が樹脂と接着するようセットした後、１６０℃で３０分プレス成形して試験サンプル（ピール強度用：５ｃｍ×５ｃｍ、ハンダ耐熱用：３ｃｍ×３ｃｍ）を作製した。
【００２８】
上述のようにして作製した試料について、下記の方法で物性測定を行い、測定結果を表１に併記した。
（１）体積抵抗率および表面抵抗
上記にて作製したシート状試験サンプルの体積抵抗率および表面抵抗を、ヒューレットパッカード社製絶縁抵抗測定器４３３９Ｂを用い、印加電圧１００Ｖ、印加時間６０秒で測定した。
（２）誘電率および誘電正接
上記にて作製したシート状試験サンプルの誘電率および誘電正接を、アジレントテクノロジー社製インピーダンスアナライザー４２９１Ｂを用いて測定した。
（３）熱伝導率
上記にて作製したシート状試験サンプルの熱伝導率を、京都電子工業社製熱伝導率測定器ＱＴＭ−５００を用いて測定した。
（４）耐電圧(絶縁破壊電圧)
上記にて作製したシート状試験サンプルの耐電圧を、菊水電子工業社製耐電圧測定器ＴＯＳ−９２０１を用いて測定した。
（５）ハンダ耐熱性
上記にて作製したハンダ耐熱用試験サンプルを、２８８℃のハンダ浴に３０秒浸漬し、剥れ・膨れの有無を目視観察した。
（評価基準）
Ａ：剥れ・膨れなし
Ｂ：剥れ・膨れが一部にあり
Ｃ：剥れ・膨れが全面にあり
（６）ピール強度
上記にて作製したピール強度用試験サンプルについて、ＪＩＳ  Ｃ６４８１に準拠してピール強度の測定を行った（ｎ＝５）。
【００２９】
【表１】
0005767916.tif 000002
【００３０】
表１から明らかなように、実施例１〜９の本発明の樹脂組成物は、熱伝導性・耐熱性・接着性(ハンダ耐熱性、ピール強度)と電気絶縁性（体積／表面抵抗、耐電圧）に優れており、基板用絶縁樹脂として好適である。一方、ポリシロキサン構造含有物質を添加しない比較例１、ポリカルボジイミド樹脂を添加しない比較例２は特にハンダ耐熱性が不良であり、エポキシ樹脂を配合しない比較例３は成形ができなかった。