(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
(a) 複数の処理槽と、
(b) 複数の基板を各処理槽に一括搬送することによって、各処理槽に対応して貯留された処理液に前記複数の基板を浸漬する単一の搬送ロボットと、
を備え、
前記単一の搬送ロボットは、
(b-1) 本体部と、
(b-2) 屈伸するとともに、前記本体部に対して回動することによって、前記本体部から離隔して配置された各処理槽に向かって伸びるアーム部と、
を有し、
前記複数の処理槽のそれぞれは、前記単一の搬送ロボットの可動範囲内となるように、前記複数の基板の搬送空間に配置され、
前記単一の搬送ロボットは、
(b-3) 前記アーム部の先端付近に設けられており、前記アーム部の延伸方向から見て前記本体部と逆側に突出する位置で前記複数の基板を保持するとともに、保持された前記複数の基板を前記処理液に浸漬させる保持部、
を有し、
前記複数の処理槽のうち、前記単一の搬送ロボットと近接する第１処理槽は、前記処理液として洗浄液を貯留し、
前記複数の処理槽のうち、前記単一の搬送ロボットから見て前記第１処理槽より遠方側に配置された第２処理槽は、前記処理液として薬液を貯留することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
(a) 複数の処理槽と、
(b) 複数の基板を各処理槽に一括搬送することによって、各処理槽に対応して貯留された処理液に前記複数の基板を浸漬する単一の搬送ロボットと、
を備え、
前記単一の搬送ロボットは、
(b-1) 本体部と、
(b-2) 屈伸するとともに、前記本体部に対して回動することによって、前記本体部から離隔して配置された各処理槽に向かって伸びるアーム部と、
を有し、
前記複数の処理槽のそれぞれは、前記単一の搬送ロボットの可動範囲内となるように、前記複数の基板の搬送空間に配置され、
前記複数の処理槽は、格子状に配置され
前記単一の搬送ロボットは、
(b-3) 前記アーム部の先端付近に設けられており、前記アーム部の延伸方向から見て前記本体部と逆側に突出する位置で前記複数の基板を保持するとともに、保持された前記複数の基板を前記処理液に浸漬させる保持部、
を有し、
格子状に配置された前記複数の処理槽のうち、前記単一の搬送ロボットと近接する第１列に配置された第１処理槽は、前記処理液として洗浄液を貯留し、
格子状に配置された前記複数の処理槽のうち、前記単一の搬送ロボットから見て前記第１列より遠方の第２列に配置された第２処理槽は、前記処理液として薬液を貯留することを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の基板処理装置において、
前記保持部は、前記複数の基板が格納されたキャリアを把持し、
前記キャリアは、前記保持部により把持された状態で、搬送され、前記処理液に浸漬されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、
(c) 少なくとも前記第２処理槽が配置された処理チャンバと、
(d) 前記処理チャンバの上部に形成された開口に沿って設けられるとともに、第１排気口が形成されており、前記開口付近から前記第１排気口を介して吸い込まれた薬液雰囲気が流通する第１排気ダクトと、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の基板処理装置において、
(e) 前記処理チャンバと連通接続されており、前記処理チャンバ内の薬液雰囲気が、吸い込まれ、かつ、流通する第２排気ダクト、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載の基板処理装置において、
(f) 前記開口を閉鎖可能とされた蓋部、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、
(g) 処理されていない前記複数の基板を収容するとともに、処理済みの前記複数の基板を収容するローダ・アンローダ部、
をさらに備え、
前記単一の搬送ロボットは、前記複数の処理槽および前記ローダ・アンローダ部のそれぞれの間で、前記複数の基板を受け渡すことを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、
(g) 処理されていない前記複数の基板を収容するローダ部と、
(h) 処理済みの前記複数の基板を収容するアンローダ部と、
をさらに備え、
前記単一の搬送ロボットは、前記複数の処理槽、前記ローダ部、および前記アンローダ部のそれぞれの間で、前記複数の基板を受け渡すことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、および太陽電池用パネル等（以下、単に「基板」と称する）に対して処理を施す基板処理装置に関するもので、特に、複数の処理ユニットおよび単一の搬送ロボットの配置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、複数の基板に一括して処理を施すバッチ式の基板処理装置が知られている（例えば、特許文献１）。特許文献１の基板処理装置において、複数の基板は、複数の搬送要素（例えば、リフタヘッドおよび搬送ロボット）によって、一括搬送される。
【０００３】
また、特許文献１の基板処理装置において、各処理槽（例えば、薬液槽、水洗槽、および乾燥部）は、リフタヘッドおよび搬送ロボットによる基板の搬送方向（すなわち、水平方向）に沿って、一列に配置されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−２０７２７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、各処理槽への搬送順序は、各処理槽および各搬送要素の位置関係を考慮して決定される。例えば、特許文献１の基板処理装置のように、各処理槽が搬送方向に沿って一列に配置されている場合、搬送時間が増大することを抑制するという観点から、複数の基板は、搬送方向から見て上流側の処理槽から下流側の処理槽に、一括搬送される。
【０００６】
その結果、特許文献１の基板処理装置において、各処理槽への搬送順序が、各処理槽および各搬送要素の位置関係によらず、任意に決定されると、場合によっては、搬送時間が増大し、基板処理装置内における処理時間が増大するという問題が生ずる。
【０００７】
そこで、本発明では、複数の処理槽のそれぞれに複数の基板を良好に一括搬送することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するため、請求項１の発明は、複数の処理槽と、複数の基板を各処理槽に一括搬送することによって、各処理槽に対応して貯留された処理液に前記複数の基板を浸漬する単一の搬送ロボットとを備え、前記単一の搬送ロボットは、本体部と、屈伸するとともに、前記本体部に対して回動することによって、前記本体部から離隔して配置された各処理槽に向かって伸びるアーム部とを有し、前記複数の処理槽のそれぞれは、前記単一の搬送ロボットの可動範囲内となるように、前記複数の基板の搬送空間に配置され、前記単一の搬送ロボットは、前記アーム部の先端付近に設けられており、前記アーム部の延伸方向から見て前記本体部と逆側に突出する位置で前記複数の基板を保持するとともに、保持された前記複数の基板を前記処理液に浸漬させる保持部、を有し、前記複数の処理槽のうち、前記単一の搬送ロボットと近接する第１処理槽は、前記処理液として洗浄液を貯留し、前記複数の処理槽のうち、前記単一の搬送ロボットから見て前記第１処理槽より遠方側に配置された第２処理槽は、前記処理液として薬液を貯留することを特徴とする。
【００１０】
また、請求項２の発明は、複数の処理槽と、複数の基板を各処理槽に一括搬送することによって、各処理槽に対応して貯留された処理液に前記複数の基板を浸漬する単一の搬送ロボットとを備え、前記単一の搬送ロボットは、本体部と、屈伸するとともに、前記本体部に対して回動することによって、前記本体部から離隔して配置された各処理槽に向かって伸びるアーム部とを有し、前記複数の処理槽のそれぞれは、前記単一の搬送ロボットの可動範囲内となるように、前記複数の基板の搬送空間に配置され、前記複数の処理槽は、格子状に配置され、前記単一の搬送ロボットは、前記アーム部の先端付近に設けられており、前記アーム部の延伸方向から見て前記本体部と逆側に突出する位置で前記複数の基板を保持するとともに、保持された前記複数の基板を前記処理液に浸漬させる保持部、を有し、格子状に配置された前記複数の処理槽のうち、前記単一の搬送ロボットと近接する第１列に配置された第１処理槽は、前記処理液として洗浄液を貯留し、格子状に配置された前記複数の処理槽のうち、前記単一の搬送ロボットから見て前記第１列より遠方の第２列に配置された第２処理槽は、前記処理液として薬液を貯留することを特徴とする。
【００１２】
また、請求項３の発明は、請求項１または請求項２に記載の基板処理装置において、前記保持部は、前記複数の基板が格納されたキャリアを把持し、前記キャリアは、前記保持部により把持された状態で、搬送され、前記処理液に浸漬されることを特徴とする。
【００１３】
また、請求項４の発明は、請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、少なくとも前記第２処理槽が配置された処理チャンバと、前記処理チャンバの上部に形成された開口に沿って設けられるとともに、第１排気口が形成されており、前記開口付近から前記第１排気口を介して吸い込まれた薬液雰囲気が流通する第１排気ダクトとをさらに備えることを特徴とする。
【００１４】
また、請求項５の発明は、請求項４に記載の基板処理装置において、前記処理チャンバと連通接続されており、前記処理チャンバ内の薬液雰囲気が、吸い込まれ、かつ、流通する第２排気ダクト、をさらに備えることを特徴とする。
【００１５】
また、請求項６の発明は、請求項４または請求項５に記載の基板処理装置において、前記開口を閉鎖可能とされた蓋部、をさらに備えることを特徴とする。
【００１６】
また、請求項７の発明は、請求項１から請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、処理されていない前記複数の基板を収容するとともに、処理済みの前記複数の基板を収容するローダ・アンローダ部、をさらに備え、前記単一の搬送ロボットは、前記複数の処理槽および前記ローダ・アンローダ部のそれぞれの間で、前記複数の基板を受け渡すことを特徴とする。
【００１７】
また、請求項８の発明は、請求項１から請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、処理されていない前記複数の基板を収容するローダ部と、処理済みの前記複数の基板を収容するアンローダ部とをさらに備え、前記単一の搬送ロボットは、前記複数の処理槽、前記ローダ部、および前記アンローダ部のそれぞれの間で、前記複数の基板を受け渡すことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１から請求項８に記載の発明によれば、単一の搬送ロボットは、本体部およびアーム部を有しており、各処理槽は、単一の搬送ロボットの可動範囲内となるように、複数の基板の搬送空間に配置されている。これにより、単一の搬送ロボットは、複数の基板を、各処理槽の配置によらず、任意の順番で、各処理槽に対応して貯留された処理液に浸漬することができる。そのため、各処理液によるバッチ式の基板処理が、任意の順番で実行できる。
【００１９】
また、請求項１から請求項８に記載の発明によれば、単一の搬送ロボットの保持部は、アーム部から見て本体部と逆側に突出した位置で、複数の基板を保持する。これにより、薬液に複数の基板が浸漬される場合であっても、アーム部は、薬液を貯留する第２処理槽の直上から離隔して配置される。そのため、アーム部および本体部が、第２処理槽に貯留された薬液に起因して汚染されることを抑制できる。
【００２０】
特に、請求項２に記載の発明によれば、複数の処理槽は、格子状に配置されている。これにより、各処理槽を搬送空間に効率的に配置することができる。そのため、基板処理装置のフットプリントが増大することを抑制できる。
【００２１】
特に、請求項３に記載の発明によれば、キャリアが処理液に浸漬されることにより、複数の基板に対して処理が実行される。そのため、キャリアを交換するだけで、さまざまな種類の（例えば、直径の異なった）基板に対して処理を実行することができる。
【００２２】
特に、請求項４に記載の発明において、薬液に浸漬されてキャリアが、処理チャンバの開口を経由して第２処理槽から離隔する場合、開口付近の薬液雰囲気（例えば、薬液ミストまたは薬液蒸気等）は、第１排気ダクトを介して排気される。これにより、搬送空間に薬液雰囲気が流出することを抑制できる。そのため、搬送空間および搬送空間に搬入された他の基板（例えば、薬液および洗浄処理が完了した処理済み基板、または未処理基板等）が薬液汚染されることを抑制できる。
【００２３】
特に、請求項５に記載の発明によれば、第２処理槽から処理チャンバ内に流出する薬液雰囲気は、第２排気ダクトによって処理チャンバ外に排出される。そのため、処理チャンバから搬送空間に薬液雰囲気が流出することを未然に防止できる。
【００２４】
特に、請求項６に記載の発明によれば、処理チャンバ上部に形成された開口は、蓋部により閉鎖できる。そのため、開口を介して処理チャンバから搬送空間に薬液雰囲気が流出することを未然に防止できる。
【００２５】
特に、請求項７に記載の発明によれば、複数の基板は、単一の搬送ロボットによって、複数の処理槽およびローダ・アンローダ部のそれぞれの間で、受け渡される。すなわち、複数の処理槽と、ローダ・アンローダ部と、の間で複数の基板を受け渡すため、基板処理装置内に別の搬送ロボットを設ける必要がない。そのため、基板処理装置のフットプリントが増大することを抑制できる。
【００２６】
特に、請求項８に記載の発明によれば、単一の搬送ロボットによって、複数の処理槽、ローダ部、およびアンローダ部のそれぞれの間で、複数の基板を受け渡すことができる。すなわち、複数の処理槽と、ローダ部およびアンローダ部と、の間で複数の基板を受け渡すため、基板処理装置１内に別の搬送ロボットを設ける必要がない。そのため、基板処理装置のフットプリントが増大することを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の実施の形態における基板処理装置の構成の一例を示す正面図である。
【図２】本発明の実施の形態における基板処理装置の構成の一例を示す平面図である。
【図３】本発明の実施の形態における基板処理装置の構成の一例を示す側面図である。
【図４】排気部の構成の一例を示す斜視図である。
【図５】図２のＶ−Ｖ線から見た処理部および排気部付近の正面断面図である。
【図６】図２のＶ−Ｖ線から見た処理部および排気部付近の正面断面図である。
【図７】図２のＶ−Ｖ線から見た処理部および排気部付近の正面断面図である。
【図８】保持部の構成の一例を示す側面図である。
【図９】保持部の構成の一例を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００２９】
＜１．基板処理装置の構成＞
図１から図３は、それぞれ本発明の実施の形態における基板処理装置１の構成の一例を示す正面図、平面図、および側面図である。基板処理装置１は、いわゆるバッチ式の装置であり、複数の基板に一括して処理を施す。
【００３０】
図１から図３に示すように、基板処理装置１は、主として、ファンフィルタユニット５、６と、搬送ロボット１０と、ローダ・アンローダ部３０と、処理部４０と、排気部６０と、を備える。なお、図１および以降の各図には、それらの方向関係を明確にすべく必要に応じて適宜、Ｚ軸方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系が、付されている。
【００３１】
ファンフィルタユニット５、６は、基板処理装置１が配置されているクリーンルーム内の空気を搬送空間８に取り込むとともに、この取り込まれた空気からパーティクルを除去する。また、ファンフィルタユニット５、６は、搬送空間８内にパーティクルが除去された清浄空気のダウンフローを形成する。
【００３２】
図１に示すように、ファンフィルタユニット５、６は、それぞれ、ローダ・アンローダ部３０および乾燥部７０の上方、および処理部４０および排気部６０の上方に、設けられている。
【００３３】
搬送ロボット１０は、単一の搬送ユニットとして構成されている。図２に示すように、搬送ロボット１０は、基板処理装置１のハウジング１ａにより形成される搬送空間８の中心付近に配置されている。そして、搬送ロボット１０は、搬送空間８内に配置されたローダ・アンローダ部３０、処理部４０、および乾燥部７０のそれぞれとの間で、キャリアＣに格納された複数の基板を受け渡す。なお、搬送ロボット１０の詳細な構成については、後述する。
【００３４】
ローダ・アンローダ部３０は、図２に示すように、搬送ロボット１０の本体部１２を挟んで、処理部４０と逆側に設けられている。また、ローダ・アンローダ部３０の載置台３２には、複数（本実施の形態では、２つ）のキャリアＣが、載置可能とされている。
【００３５】
例えば、載置台３２には、処理されていない複数の基板が格納されており、基板処理装置１外から搬入されたキャリアＣが、載置される。また、処理部４０および乾燥部７０で処理された複数の基板が格納されており、基板処理装置１外に搬出されるキャリアＣが、載置される。すなわち、ローダ・アンローダ部３０は、未処理基板および処理済み基板を収容する。
【００３６】
処理部４０は、図２に示すように、複数の処理槽４１ａ〜４１ｃ、４２ａ〜４２ｃを有している。ここで、処理槽４１ａ〜４１ｃ、４２ａ〜４２ｃには、薬液または純水（以下、これらを総称して「処理液」とも呼ぶ）が貯留可能とされている。そして、処理液に複数の基板が浸漬されることによって、複数の基板に対して一括して処理が実行される。
【００３７】
なお、以下では、処理槽４１ａ〜４１ｃを総称して「処理槽４１」と、処理槽４２ａ〜４２ｃを総称して「処理槽４２」と、それぞれ呼ぶ。また、処理部４０の詳細な構成については、後述する。
【００３８】
排気部６０は、図２に示すように、主として、複数の分岐ダクト６１（６１ａ〜６１ｆ）（第１排気ダクト）と、共通ダクト６２（第２排気ダクト）と、を有している。排気部６０は、処理槽４１（４１ａ〜４１ｃ）、４２（４２ａ〜４２ｃ）付近の雰囲気を、基板処理装置１外に排出する。なお、排気部６０の詳細な構成については、後述する。
【００３９】
乾燥部７０は、処理部４０で洗浄処理された複数の基板を、一括して乾燥させる。図２に示すように、乾燥部７０は、搬送ロボット１０の本体部１２を挟んで処理部４０と逆側に設けられるとともに、ローダ・アンローダ部３０に隣接して配置されている。
【００４０】
制御部９０は、基板処理装置１の各要素の動作制御、およびデータ演算を実現する。図１に示すように、制御部９０は、主として、ＲＯＭ９１と、ＲＡＭ９２と、ＣＰＵ９３と、を有している。なお、図２では、図示の都合上、制御部９０が省略されている。
【００４１】
ＲＯＭ（Read Only Memory）９１は、いわゆる不揮発性の記憶部であり、例えば、プログラム９１ａが格納されている。なお、ＲＯＭ９１としては、読み書き自在の不揮発性メモリであるフラッシュメモリが使用されてもよい。ＲＡＭ（Random Access Memory）９２は、揮発性の記憶部であり、例えば、ＣＰＵ９３の演算で使用されるデータが格納される。
【００４２】
ＣＰＵ（Central Processing Unit）９３は、ＲＯＭ９１のプログラム９１ａに従った制御（例えば、搬送ロボット１０によるキャリアＣの搬送動作および蓋部４３の開閉動作等の制御）、が実行される。
【００４３】
＜２．処理部および排気部の構成＞
図４は、排気部６０の構成の一例を示す斜視図である。図５から図７は、図２のＶ−Ｖ線から見た処理部４０および排気部６０付近の正面断面図である。ここでは、処理部４０および排気部６０の詳細な構成について説明する。
【００４４】
まず、処理部４０について、図２に示すように、処理部４０は、主として、複数の処理槽４１、４２と、蓋部４３（４３ａ〜４３ｃ）と、を有している。各処理槽４１、４２は、搬送ロボット１０の可動範囲内となるように、複数の基板の搬送空間８に配置されている。なお、以下では、蓋部４３ａ〜４３ｃを総称して「蓋部４３」と呼ぶ。
【００４５】
ここで、本実施の形態において、各処理槽４１、４２は、図２に示すように、処理チャンバ４０ａ内に格子状（すなわち、Ｘ軸方向に沿って２個、Ｙ軸方向に沿って３個）に配置されている。そして、格子状に配置された各処理槽４１、４２のうち、搬送ロボット１０と近接する第１列に配置された処理槽４１（第１処理槽）は、処理液として、薬液が付着した各基板を洗浄する洗浄液（例えば、純水等）を貯留する。
【００４６】
一方、格子状に配置された各処理槽４１、４２のうち、搬送ロボット１０から見て処理槽４１より遠方側（すなわち、搬送ロボット１０から見て第１列より遠方の第２列）に配置された処理槽４２（第２処理槽）は、処理液として薬液（例えば、ＨＦやＮＨ4ＯＨ等）を貯留する。
【００４７】
処理チャンバ４０ａの上部には、図２に示すように、開口４４（４４ａ〜４４ｃ）、４５（４５ａ〜４５ｃ）が形成されている。搬送ロボット１０は、開口４４ａを介して処理槽４１ａに、開口４４ｂ（図示省略）を介して処理槽４１ｂに、開口４４ｃを介して処理槽４１ｃに、キャリアＣを供給する。
【００４８】
また、搬送ロボット１０は、開口４５ａを介して処理槽４２ａに、開口４５ｂ（図示省略）を介して処理槽４２ｂに、開口４５ｃを介して処理槽４２ｃに、キャリアＣを供給する。
【００４９】
蓋部４３は、対応する処理槽４２の上方に形成された開口４５を閉鎖可能とされている。これにより、処理槽４２に貯留された薬液に起因し、開口４５を介して処理チャンバ４０ａから搬送空間８に薬液雰囲気が流出することを未然に防止できる。
【００５０】
続いて、排気部６０について、図２に示すように、排気部６０は、主として、複数の分岐ダクト６１ａ〜６１ｆと、共通ダクト６２と、排気口ダクト６８（６８ａ、６８ｂ）と、を有している。
【００５１】
複数の分岐ダクト６１（６１ａ〜６１ｆ）（図２参照）は、対応する処理槽４１、４２の上方に設けられた筒体である。また、分岐ダクト（６１ａ〜６１ｆ）の側面には、排気口６４、６５（第１排気口）が形成されている。
【００５２】
例えば、図４および図５に示すように、分岐ダクト６１ａ、６１ｂは、処理チャンバ４０ａの上部に形成された開口４４ａ、４５ａに沿って設けられている。また、分岐ダクト６１ａ、６１ｂのそれぞれは、共通ダクト６２と隣接して設けられている。
【００５３】
また、図２および図４に示すように、分岐ダクト６１ａ、６１ｂの側面のうち、処理槽４１ａと対向する面には、それぞれ排気口６４ａ、６４ｂが、形成されている。一方、分岐ダクト６１ａ、６１ｂの側面のうち、処理槽４１ｂと対向する面には、それぞれ排気口６５ａ、６５ｂが、形成されている。さらに、図示を省略するが、分岐ダクト６１ｃ〜６１ｆの側面にも、排気口６４、６５と同様なもの（第１排気口）が設けられている。
【００５４】
共通ダクト６２は、図５に示すように、処理チャンバ４０ａの上部に設けられており、処理チャンバ４０ａ内、および隣接配置された各分岐ダクト６１ａ〜６１ｆと連通接続されている。
【００５５】
また、図４に示すように、共通ダクト６２の側面のうち、処理槽４２ａと対向する面には、排気口６６が形成されている。なお、図示を省略するが、処理槽４２ｂ、４２ｃと対向する面にも、排気口６６と同様なものが設けられてもよい。
【００５６】
排気口ダクト６８（６８ａ、６８ｂ）は、図１および図２に示すように、基板処理装置１のハウジング１ａ外に配置されている。排気口ダクト６８（６８ａ、６８ｂ）は、共通ダクト６２内と連通接続されている。そして、排気口ダクト６８（６８ａ、６８ｂ）は、基板処理装置１外の排気ファン（図示省略）と連通接続されている。したがって、排気ファンが回転すると、共通ダクト６２および各分岐ダクト６１内から排気口ダクト６８に向かう気流が生ずる。
【００５７】
これにより、開口４４、４５付近から排気口６４、６５を介して吸い込まれた雰囲気は、対応する分岐ダクト６１および共通ダクト６２を流通する。また、開口４４付近から排気口６６を介して吸い込まれた雰囲気は、共通ダクト６２を流通する。さらに、処理チャンバ４０ａ内の雰囲気は、共通ダクト６２に吸い込まれ、共通ダクト６２を流通する。そのため、処理チャンバ４０ａの雰囲気、および開口４４、４５付近の雰囲気は、基板処理装置１外に強制的に排気される。
【００５８】
例えば、図６に示すように、搬送ロボット１０のアーム部１３が昇降することによって、処理槽４２ａの薬液に浸漬されたキャリアＣが、処理チャンバ４０ａの開口４５ａを経由して処理槽４２ａから離隔する場合、開口４５ａ付近の薬液雰囲気（例えば、薬液ミストまたは薬液蒸気等）は、分岐ダクト６１ａ、６１ｂを介して排気される。
【００５９】
これにより、搬送空間８に薬液雰囲気が流出することを抑制できる。そのため、搬送空間８および搬送空間８に搬入された他の基板（例えば、薬液および洗浄処理が完了した処理済み基板、または未処理基板等）が薬液汚染されることを抑制できる。
【００６０】
また、図７に示すように、処理槽４２ａに浸漬された複数の基板に対して、一括して薬液処理が実行される場合、処理槽４２ａ上方の蓋部４３ａは、開口４５ａを介して薬液雰囲気が流出することを抑制するため、閉鎖される。また、処理槽４２ａから処理チャンバ４０ａに流出する薬液雰囲気は、共通ダクト６２によって、処理チャンバ４０ａ外に排出される。
【００６１】
そのため、処理槽４２ａで薬液処理が実行される場合において、処理チャンバ４０ａから搬送空間８に薬液雰囲気が流出することを未然に防止できる。
【００６２】
＜３．搬送ロボットの保持部の構成＞
図８および図９は、保持部２０の構成の一例を示す側面図である。ここでは、搬送ロボット１０の構成について説明する。
【００６３】
搬送ロボット１０は、キャリアＣに格納された複数の基板を、処理部４０の各処理槽４１、４２に一括搬送する。また、搬送ロボット１０は、ローダ・アンローダ部３０、複数の処理槽４１、４２、および乾燥部７０のそれぞれの間で、複数の基板を受け渡す。
【００６４】
これにより、搬送ロボット１０は、各処理槽４１、４２に対応して貯留された処理液に、複数の基板を浸漬する。また、薬液、洗浄、および乾燥処理、未処理基板をローダ・アンローダ部３０から受け取ること、並びに処理済み基板をローダ・アンローダ部３０に受け渡すこと、が、１台（単一）の搬送ロボット１０により実現される。
【００６５】
ここで、本実施の形態の搬送ロボット１０としては、例えば、垂直多関節ロボットが採用できる。
【００６６】
図２、図３、および図５に示すように、搬送ロボット１０は、主として、本体部１２と、アーム部１３と、回転軸１４と、保持部２０と、を有している。本体部１２は、ハウジング１ａ内に設けられた搬送ロボット１０の基部である。アーム部１３は、複数のリンク（図示省略）と、複数のジョイント（図示省略）と、を有している。
【００６７】
例えば、アーム部１３は、図２に示すように、軸心１３ａを中心に回転するジョイントを有している。これにより、アーム部１３は、屈伸するとともに、本体部１２に対して回動する。
【００６８】
そのため、各リンクが対応するジョイントを中心に回転することによって、アーム部１３は、本体部１２から離隔して配置された各処理槽４１、４２に向かって伸びる。また、アーム部１３の先端付近に設けられた保持部２０は、アーム部１３により昇降させられる。
【００６９】
回転軸１４は、アーム部１３に対して保持部２０を回転させる。図５に示すように、回転軸１４は、アーム部１３の延伸方向（矢印ＡＲ１方向）における端部のうち、本体部１２と逆側の端部に設けられている。
【００７０】
保持部２０は、図２に示すように、アーム部１３の先端付近に設けられており、複数の基板Ｗを保持する。図８および図９に示すように、保持部２０は、主として、一対のハンド２１（２１ａ、２１ｂ）と、揺動部２２（２２ａ、２２ｂ）と、取付部２５と、格納部２７と、を有している。
【００７１】
一対のハンド２１（２１ａ、２１ｂ）は、キャリアＣの両側から挟み込むことによって、キャリアＣの鍔部Ｆを把持する把持部である。図８および図９に示すように、一対のハンド２１（２１ａ、２１ｂ）の上端は、対応する揺動部２２（２２ａ、２２ｂ）に固定されている。
【００７２】
揺動部２２（２２ａ、２２ｂ）は、取付部２５に対して揺動する。図９に示すように、軸心２３（２３ａ、２３ｂ）は、取付部２５に設けられている。また、軸心２３（２３ａ、２３ｂ）は、対応する揺動部２２に連動連結されている。これにより、軸心２３（２３ａ、２３ｂ）が回転させられると、対応するハンド２１（２１ａ、２１ｂ）が揺動し、キャリアＣの固定動作および固定解除動作が実現される。
【００７３】
格納部２７は、図５に示すように、取付部２５と隣接して設けられており、軸心２３（２３ａ、２３ｂ）に回転力を付与する駆動部２７ａを格納する。駆動部２７ａとしては、例えば、ロータリーアクチュエータが用いられても良い。また、図５に示すように、格納部２７は、回転軸１４と連動連結されている。これにより、格納部２７は、回転軸１４を軸心として回動させられる。
【００７４】
ここで、図５に示すように、複数の基板Ｗが格納されたキャリアＣは、アーム部１３の延伸方向から見て本体部１２と逆側に突出する位置で、把持される。また、キャリアＣは、一対ハンド２１（２１ａ、２１ｂ）により把持された状態で、搬送され、処理槽４１、４２に貯留された処理液に浸漬される。
【００７５】
この場合において、アーム部１３が動作させられるとによって、保持部２０が下降させられ、キャリアＣが処理槽４２（第２処理槽）の薬液に貯留されると、搬送ロボット１０のアーム部１３は、処理槽４２の直上でなく、洗浄水が貯留された処理槽４１の直上に位置される。すなわち、アーム部１３は、処理槽４２の直上から離隔して配置される。
【００７６】
そのため、処理槽４２に貯留された薬液に複数の基板Ｗが浸漬される場合であっても、搬送ロボット１０のアーム部１３が、処理槽４２の薬液に起因して汚染されることを抑制できる。
【００７７】
また、上述のように、キャリアＣが処理槽４１、４２に貯留された処理液に浸漬されることによって、複数の基板Ｗに対して処理が実行される。そのため、保持部２０に把持されるキャリアＣを交換するだけで、さまざまな種類の（例えば、直径の異なった）基板に対して処理を実行することができる。
【００７８】
また、各処理槽４１、４２は、図２に示すように、格子状に配置されている。これにより、各処理槽４１、４２が一列に配置される場合と比較して、各処理槽４１、４２を搬送空間８に効率的に配置することができる。そのため、基板処理装置１のフットプリント（基板処理装置１が平面的に占有する面積）が増大することを抑制できる。
【００７９】
＜４．本実施の形態における基板処理装置の利点＞
以上のように、本実施の形態における基板処理装置１において、単一の搬送ロボット１０は、本体部１２およびアーム部１３を有しており、各処理槽４１、４２は、この搬送ロボット１０の可動範囲内となるように、複数の基板Ｗの搬送空間８に配置されている。これにより、搬送ロボット１０は、複数の基板Ｗを、各処理槽４１、４２の配置によらず、任意の順番で、各処理槽４１、４２に対応して貯留された処理液に、浸漬することができる。そのため、各処理液によるバッチ式の基板処理が、任意の順番で実行できる。
【００８０】
また、本実施の形態において、複数の基板Ｗは、搬送ロボット１０によって、複数の処理槽４１、４２、およびローダ・アンローダ部３０のそれぞれの間で、受け渡される。すなわち、複数の処理槽４１、４２と、ローダ・アンローダ部３０と、の間で複数の基板Ｗを受け渡すため、基板処理装置１内に別の搬送ロボットを設ける必要がない。そのため、基板処理装置１のフットプリントが増大することを抑制できる。
【００８１】
＜５．変形例＞
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
【００８２】
（１）本実施の形態において、ローダ・アンローダ部３０は、ローダ機能と、アンローダ機能と、を有するもとして説明したが、これに限定されるものでない。基板処理装置１は、ローダ・アンローダ部３０でなく、ローダ機能を有するローダ部と、アンローダ機能を有するアンローダ部と、を備えており、複数の基板は、これらローダ部およびアンローダ部と、搬送ロボット１０との間で、受け渡しされてもよい。この場合も、基板処理装置１内に別の搬送ロボットを設ける必要がなく、基板処理装置１のフットプリントが増大することを抑制できる。
【００８３】
（２）また、本実施の形態において、洗浄液が貯留された処理槽４１、および薬液が貯留された処理槽４２の両者が、処理チャンバ４０ａに配置されるものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、処理チャンバ４０ａには、少なくとも処理槽４２が配置されており、処理槽４１は、処理チャンバ４０ａとは別の処理チャンバに配置されても良い。この場合も、薬液雰囲気が搬送空間８に流出することを抑制できる。
【００８４】
（３）また、本実施の形態において、洗浄液を貯留する処理槽４１の上方に排気口６４が、薬液を貯留する処理槽４２の上方に排気口６５が、それぞれ形成されているが、これに限定されるものでない。少なくとも排気口６５が形成されていれば、薬液雰囲気を排気することができる。
【００８５】
（４）さらに、本実施の形態において、排気部６０は、薬液雰囲気を排気するものとして説明したが、排気対象は限定されるものでない。排気対象は、例えば、昇温された薬液に起因した熱雰囲気であっても良い。
【符号の説明】
【００８６】
１  基板処理装置
１ａ  ハウジング
８  搬送空間
１０  搬送ロボット
１２  本体部
１３  アーム部
１３ａ  軸心
２０  保持部
２１（２１ａ、２１ｂ）  ハンド
２２（２２ａ、２２ｂ）  揺動部
２３（２３ａ、２３ｂ）  軸心
３０  ローダ・アンローダ部
４０  処理部
４０ａ  処理チャンバ
４１（４１ａ〜４１ｃ）  処理槽（第１処理槽）
４２（４２ａ〜４２ｃ）  処理槽（第２処理槽）
４３（４３ａ〜４３ｃ）  蓋部
４４（４４ａ〜４４ｃ）、４５（４５ａ〜４５ｃ）  開口
６０  排気部
６１（６１ａ〜６１ｆ）  分岐ダクト（第１排気ダクト）
６２  共通ダクト（第２排気ダクト）
６４（６４ａ、６４ｂ）、６５（６５ａ、６５ｂ）  排気口
６６  排気口（第２排気口）
７０  乾燥部
９０  制御部
Ｃ  キャリア
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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