(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の入浴者が同時に利用する共同浴槽（３）と、一人の入浴者が利用する個別浴槽（７）とが設置された浴場設備であって、原水槽（１）から汲み上げた水を所定温度に加熱して湯として共同浴槽（３）へ供給する給湯ライン（Ａ）と、共同浴槽（３）から抜き出した利用済みの湯に消毒剤を添加し且つ当該湯を濾過して共同浴槽（３）へ還流する循環ライン（Ｂ）と、原水槽（１）から汲み上げた水を純水製造装置（６）によって純水に精製し且つ当該純水を所定温度に加熱して湯として個別浴槽（７）へ供給する第２の給湯ライン（Ｃ）とを備え、純水製造装置（６）が、逆浸透膜を利用した濾過装置であり、かつ、第２の給湯ライン（Ｃ）には、純水製造装置（６）によって精製された純水を貯蔵する純水貯槽（６４）が備えられ、当該純水貯槽には、系外に純水を供給する純水供給手段（９）が設けられており、しかも、給湯ライン（Ａ）で得られた湯と循環ライン（Ｂ）で濾過された湯との間で熱交換する熱交換器（４）を備えていることを特徴とする浴場設備。
【請求項２】
個別浴槽（７）から抜き出した利用済みの湯に消毒剤を添加し且つ当該湯を濾過して共同浴槽（３）へ供給する再利用ライン（Ｄ）を備えている請求項１に記載の浴場設備。
【請求項３】
再利用ライン（Ｄ）は、熱交換器（４）よりも上流側で循環ライン（Ｂ）に繋ぎ込まれている請求項２に記載の浴場設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、浴場設備に関するものであり、詳しくは、多数の入浴者が同時に利用する共同浴槽と一人の入浴者が利用する個別浴槽とが設置された浴場設備であって、浴用の水資源を飲料水として供給できるようにした浴場設備に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
公衆浴場では、水および熱を有効利用するため、多数の入浴者が同時に使用する共同浴槽において湯を循環利用している。一般的な浴場設備は、浴槽から湯を抜き出し、これに消毒剤を添加し且つ濾過処理を施した後、浴槽へ戻している（特許文献１〜３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−８２９１８
【特許文献２】特開２００６−１９２３７３
【特許文献３】特開平９−１１７３８２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、公衆浴場においては、共同浴槽の湯を消毒、濾過しながら循環利用するにせよ、一人で浴槽を利用し且つよりきれいな湯を使用したいという要望があり、共同浴槽とは別に、個人用浴槽を設置する傾向にある。一方、緊急時における水資源の確保の観点からすると、浴場に利用される水の飲料水への転用が要望される。
【０００５】
本発明は、上記の実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、多数の入浴者が同時に利用する共同浴槽と一人の入浴者が利用する個別浴槽とが設置された浴場設備であって、個別浴槽に一層きれいな湯を供給でき且つ水資源を飲料用として一層有効に活用できる浴場設備を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するため、本発明では、給湯ラインにより、原水槽の水を加熱して湯として共同浴槽へ供給し、循環ラインにより、共同浴槽から回収した湯に消毒、濾過処理を施してこれを再び共同浴槽へ還流すると共に、一層きれいな湯を個別浴槽に供給するため、第２の給湯ラインにより、原水槽の水から純水を製造し、これを加熱して湯として個別浴槽へ供給するようにした。そして、緊急時における飲料水確保のため、第２の給湯ラインにおいて、製造された純水を一旦貯蔵し、これを飲料用として系外に供給できるようにした。
【０００７】
すなわち、本発明の要旨は、多数の入浴者が同時に利用する共同浴槽（３）と、一人の入浴者が利用する個別浴槽（７）とが設置された浴場設備であって、原水槽（１）から汲み上げた水を所定温度に加熱して湯として共同浴槽（３）へ供給する給湯ライン（Ａ）と、共同浴槽（３）から抜き出した利用済みの湯に消毒剤を添加し且つ当該湯を濾過して共同浴槽（３）へ還流する循環ライン（Ｂ）と、原水槽（１）から汲み上げた水を純水製造装置（６）によって純水に精製し且つ当該純水を所定温度に加熱して湯として個別浴槽（７）へ供給する第２の給湯ライン（Ｃ）とを備え、純水製造装置（６）が、逆浸透膜を利用した濾過装置であり、かつ、第２の給湯ライン（Ｃ）には、純水製造装置（６）によって精製された純水を貯蔵する純水貯槽（６４）が備えられ、当該純水貯槽には、系外に純水を供給する純水供給手段（９）が設けられており、しかも、給湯ライン（Ａ）で得られた湯と循環ライン（Ｂ）で濾過された湯との間で熱交換する熱交換器（４）を備えていることを特徴とする浴場設備に存する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の浴場設備によれば、第２の給湯ラインにより、純水を加熱して得られた一層きれいな湯を個別浴槽に供給でき、また、第２の給湯ラインにおいて、純水貯槽に貯蔵された純水を純水供給手段によって系外に供給できるため、緊急時にはこれを直ちに飲料水として活用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明に係る浴場設備の主要な構成を示すフロー図である。
【図２】循環ライン及び再利用ラインに使用される濾過装置を示す外観斜視図である。
【図３】図２の濾過装置の内部構造を示す縦断面図である。
【図４】第２の給湯ラインに使用される純水製造装置の概要を示すフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明に係る浴場設備の一実施形態を図面に基づいて説明する。本発明の浴場設備は、図１に示すように、多数の入浴者が同時に利用する共同浴槽３と、一人の入浴者が利用する個別浴槽７とが設置された設備であり、給湯ラインＡ、循環ラインＢ、第２の給湯ラインＣ及び再利用ラインＤから主として構成される。
【００１１】
給湯ラインＡは、原水槽１から汲み上げた水を所定温度に加熱して共同浴槽３へ湯として供給するラインであり、原水槽１から水を汲み上げる汲上げ管２０及びポンプ２１と、当該ポンプから配管２２を通じて供給された水を濾過する無撚糸フィルター２３と、当該無撚糸フィルターで濾過され且つ配管２４を通じて供給された水を加熱するボイラー２ａと、当該ボイラーで製造された湯が配管２５を通じて供給される熱交換器４と、当該熱交換器に通過させた湯を共同浴槽３へ供給する給湯管２６とから構成される。
【００１２】
原水槽１は、例えば貯水量１００〜５００トン程度の水槽であり、ポンプ（図示省略）で例えば井戸水を汲み上げると共に、フロートセンサーで当該原水槽の液面を検出して前記ポンプを制御することにより、常時、所定量の原水を貯蔵するようになされている。ポンプ２１は、原水槽１内に設置される水中ポンプでもよい。無撚糸フィルター２３は、平均直径１〜５０μｍの無撚糸の集合体をフィルターエレメントとして容器に充填したものであり、原水中のＳＳ成分や砂などの異物を除去するために配置される。無撚糸フィルター２３は複数設置されてもよく、その容器の全内容積は１０〜２００リットル程度に設計され、無撚糸の全充填量は０．５〜５０ｋｇ程度とされる。
【００１３】
ボイラー２ａとしては、例えば、熱媒体としての水がポンプで循環する循環路中に複数の伝熱パイプを配置し、バーナーで燃料ガスを燃焼させてその燃焼ガス及び排ガスを前記の伝熱パイプに通過させることにより、循環路中の熱媒体である水を加熱すると共に、前記の循環路に付設された熱交換器を介して、当該熱交換器に通水された水を二次加熱する構造の無圧ボイラーが使用される。給湯ラインＡにおいては、上記のようなボイラー２ａにより、無撚糸フィルター２３で濾過された常温の水を原料として、３５〜８０℃の湯を０．０１〜１ｍ３／分製造するように設計される。
【００１４】
熱交換器４は、ボイラー２ａで加熱された湯を使用し、後述する循環ラインＢの湯を昇温するために配置される。熱交換器４としては、例えば、肉厚０．１〜０．４ｍｍ、外径５．０〜５．５ｍｍのステンレス又はチタン製の細管を内径６０〜２００ｍｍ、長さ９００〜１８００ｍｍ程度の外套管の内部に多数挿通し、一方の流体を外套管の一端から他端に流し、他方の流体を細管の一端から他端に流すことにより、外套管側の流体と細管側の流体とで熱交換を行ういわゆる多管式熱交換器が使用される。給湯ラインＡにおいては、上記のような熱交換器４を使用し、ボイラー２ａで製造された湯の温度の温度を３０〜５０℃に調整するようになされている。なお、給湯管２６は、通常、熱交換器４で温度調節された湯を共同浴槽３の上部に注ぐように配置される。
【００１５】
共同浴槽３は、貯水量１０〜１００トン程度の浴槽本体３０と、当該浴槽本体の上縁部に切り欠いた構造に設けられたオーバフロー口３２と、浴槽本体３０に隣接して配置され且つオーバフロー口３２から溢れた湯を貯留する回収槽３１とを備えており、共同浴槽３に貯留された湯の水面部分が回収槽３１に溢れ出るように構成される。そして、回収槽３１に底部には、循環ラインＢの上流端としての抜出し管４０が接続される。なお、洗い場側には、共同浴槽３から床に溢れて排水ピットに流れ込んだ湯を系外に排出する排水管３３が設けられる。
【００１６】
循環ラインＢは、共同浴槽３から抜き出した利用済みの湯に消毒剤を添加し且つ当該湯を濾過して再び共同浴槽へ還流するラインであり、上記の回収槽３１の底部から湯を抜き出す抜出し管４０及びポンプ４２と、当該ポンプから配管４３を通じて供給された湯を濾過する濾過装置５ａと、配管４３を流れる湯に消毒剤を添加する消毒剤添加装置４１と、濾過装置５ａで濾過された湯が配管４４を通じて供給される前述の熱交換器４と、当該熱交換器に通過させた湯を共同浴槽３へ供給する給湯管４５とから構成される。
【００１７】
消毒剤添加装置４１は、塩素系消毒剤を湯に添加する装置であり、例えば、消毒剤として次亜塩素酸ナトリウムの１〜１２％水溶液を収容する貯蔵容器と、当該貯蔵容器に付設された注入ポンプと、当該注入ポンプから配管４３に繋ぎ込まれた消毒剤注入管と、当該消毒剤注入管よりも上流側の配管４３の湯を試料として抽出し且つ当該試料中の塩素濃度を検出する塩素濃度計とから構成され、注入ポンプは、塩素濃度計で検出された試料中の塩素濃度が設定値に満たない場合に作動するように構成される。循環ラインＢにおいては、消毒剤添加装置４１により、配管４３に流れる湯中の塩素濃度を略一定に保つことができる。
【００１８】
濾過装置５ａとしては、砂礫、珪藻土あるいは多孔質構造のセラミックが濾材として充填された従来公知の各種の濾過装置を使用することもできるが、保守管理の観点からは、濾材としてスポンジシートを使用した組立方式の装置が好ましい。図２及び図３に示すように、濾過装置５ａは、上部に被処理水の導入口（配管４３の接続口）が設けられ且つ下部に濾過水の排出口（配管４４の接続口）が設けられた容器本体５１と、当該容器本体に装入されて容器本体内部を上下に仕切る濾材収容篭５３とを備えている。濾材収容篭５３は、容器本体５１の内壁上部に張出片として設けられた掛止部５１ｃに対し、当該濾材収容篭の上端周縁に鍔として設けられた張出片５３ｃを引掛けることにより、容器本体５１内において吊持されるようになされている。
【００１９】
濾材収容篭５３は、底部を含む下半部が多孔状の材料で構成され且つ上端面が開放された上半部が非透水性の材料で構成される。濾材収容篭５３の上半部には、格子構造の底部を各備えた２つの受皿５４が重箱状に積み重ねられた状態で収容される。上段側の第１の受皿５４ａには、第１のスポンジシート５５１が濾材として敷かれ、下段側の第２の受皿５４ｂには、第１のスポンジシート５５１よりも低発泡の第２のスポンジシート５５２が濾材として敷かれる。そして、第１の受皿５４ａ及び第２の受皿５４ｂの各側面の同等の部位には、濾材点検用窓がそれぞれ設けられ、かつ、容器本体５１の側面部および濾材収容篭５３の上半部には、前記の各濾材点検用窓に重畳する位置に覗き窓５１２（濾材収容篭５３の覗き窓は図示省略）が設けられる。
【００２０】
また、上記の覗き窓５１２の設けられていない容器本体１の他の側面部には、濾材収容篭５３の内部に光を照射する白色ＬＥＤライト等の照明具５７が付設される。符号５２は、容器本体５１の上蓋を示し、符号５６は、第１の受皿５４ａに落し込まれる多孔構造の蓋を示し、符号５３１は、濾材収容篭５３を容器本体５１に出し入れする際に当該濾材収容篭を持ち上げるための把手を示す。
【００２１】
スポンジシート５５１，５５２としては、ポリウレタン、塩化ビニル、ポリエチレン等の各種合成樹脂からなる伸張性および通水性に優れたスポンジシートが使用される。第１のスポンジシート５５１の嵩密度は３０〜６０ｋｇ／ｍ３程度、第２のスポンジシート５５２の嵩密度は５０〜８０ｋｇ／ｍ３程度であり、各スポンジシート５５１，５５２の厚さ（吸水していない常態厚さ）は３〜１０ｍｍ程度である。蓋５６は、大きな異物、具体的には包装容器、包装容器の蓋、包装袋、紙片などを除去する濾材であり、第１のスポンジシート５５１は、湯中の比較的大きな異物、具体的には毛髪、タオル等の糸くず、皮膚片などを除去するための濾材であり、そして、第２のスポンジシート５５２は、湯中の更に小さな異物、具体的には垢、滑り、濁り等を除去するための濾材である。
【００２２】
上記の濾過装置５ａにおいては、容器本体５１の側面部の覗き窓５１２、濾材収容篭５３の覗き窓ならびに第１の受皿５４ａ及び第２の受皿５４ｂの各濾材点検用窓を通じて、第１のスポンジシート５５１及び第２のスポンジシート５５２の各表面を観察でき、それらの劣化状態を簡単に確認できる。そして、濾材が劣化した場合には、容器本体５１の上蓋５２を外し、容器本体５１から濾材収容篭５３を引き上げるようにして取り出し、蓋５６、第１の受皿５４ａ、第２の受皿５４ｂを濾材収容篭５３から取り出すことにより、第１のスポンジシート５５１及び第２のスポンジシート５５２を簡単に交換でき、また、濾材収容篭５３、第１の受皿５４ａ、第２の受皿５４ｂ、蓋５６をそれぞれに洗浄できる。
【００２３】
循環ラインＢにおいては、濾過装置５ａで濾過された湯が熱交換器４に供給されるようになされている。すなわち、本発明の浴場設備では、給湯ラインＡにおいて、原水槽１のから汲み上げてボイラー２ａで予め３５〜８０℃まで加熱された湯を熱交換器４に通水し、循環ラインＢにおいて、共同浴槽３から回収された例えば２０〜４５℃湯を熱交換器４に通水することにより、熱交換器４において熱交換を行い、給湯ラインＡの給湯管２６及び循環ラインＢの給湯管４５からそれぞれ３０〜５０℃の湯を共同浴槽３に供給するようになされている。これにより、１基のボイラー２ａで循環ラインＢの湯も加熱することができる。なお、循環ラインＢの給湯管４５は、通常、熱交換器４で温度調節された湯を共同浴槽３の底部側に供給するように接続される。
【００２４】
第２の給湯ラインＣは、原水槽１から汲み上げた水を純水製造装置６によって純水に精製し且つ当該純水を所定温度に加熱して個別浴槽７へ湯として供給するラインであり、原水槽１から水を汲み上げる汲上げ管６０及びポンプ６１と、当該ポンプから配管６２を通じて供給された水を濾過して純水を製造する純水製造装置６と、当該純水製造装置で得られ且つ配管６３を通じて供給された純水を貯留する純水貯槽６４と、当該純水貯槽の純水を取り出す配管６５及びポンプ６６と、当該ポンプから配管６７を通じて供給された純水を加熱するボイラー２ｂと、当該ボイラーで製造された湯を個別浴槽７へ供給する給湯管６８とから構成される。
【００２５】
純水製造装置６としては、逆浸透膜を利用した濾過装置が使用される。逆浸透膜を利用した純水製造装置の基本的な構造は周知であり、純水製造装置６は、例えば、図４に示すように、殺菌用の塩素添加装置６０１と、無撚糸フィルター６０２、活性炭フィルター６０３及びガードフィルター６０４を順次配置してなる前処理装置と、逆浸透膜モジュール６０６とから主として構成される。
【００２６】
塩素添加装置６０１は、例えば粒状の塩を収容する容器、当該容器に付設された定量ポンプ（図示省略）、および、前記の容器から配管６２に繋ぎ込まれた注入管などから構成され、定量ポンプによって微量の水を容器に供給することにより、容器内の塩を溶解し、注入管を通じて、配管６２中の原水に塩素成分を添加するようになされている。無撚糸フィルター６０２は、平均直径０．５〜１０μｍの無撚糸の集合体をフィルターエレメントとして容器に充填したものであり、原水中のＳＳ成分や砂などの異物を除去するために配置される。無撚糸フィルター６０２は複数設置されてもよく、その容器の全内容積は１０〜２００リットル程度、無撚糸の全充填量は０．５〜５０ｋｇ程度である。
【００２７】
活性炭フィルター６０３は、平均粒径４〜６０ｍｍの活性炭を容器に収容して構成され、原水中の残留塩素を除去するために配置される。活性炭フィルター６０３の容器の内容積は０．０１〜２ｍ３程度、活性炭の充填量は５〜１０００ｋｇ程度である。また、ガードフィルター６０４は、平均粒径４〜６０ｍｍの活性炭を容器に充填して構成され、原水中の更に微細な微粒子を除去し、逆浸透膜モジュール６０６を保護するために配置される。ガードフィルター６０４の容器の内容積は１０〜２００リットル程度、活性炭の充填量は０．５〜５０ｋｇ程度である。なお、活性炭フィルター６０３、ガードフィルター６０４に代えて、カーボンフィルターを使用することもできる。
【００２８】
逆浸透膜モジュール６０６は、原水中に含まれる食塩などの電解質およびシリカ成分や硬度成分などの難溶解性物質の浸透を逆浸透膜（ＲＯ）で阻止し且つ水分のみを透過させることにより、脱塩処理された透過水と濃縮水とに原水を分離するものであり、逆浸透膜と当該逆浸透膜により区分された２つの領域、すなわち、処理すべき水が供給される領域と分離された透過水を集約する領域とから構成される。逆浸透膜の素材としては、酢酸セルロース系、ポリアミド系、架橋ポリアミン系、架橋ポリエーテル系、スルホン化ポリスルホン等の素材が挙げられる。また、膜エレメントの構造としては、スパイラル型、中空糸型、チューブラー型などが挙げられる。
【００２９】
上記の純水製造装置６においては、前述のポンプ６１により配管６２を通じて供給された原水に塩素添加装置６０１で塩素成分を添加した後、斯かる原水が無撚糸フィルター６０２に供給される。無撚糸フィルター６０２で濾過された濾過水は、管路６１１を通じてカーボンフィルター６０３に供給され、無撚糸フィルター６０２で分離された濃縮水は、管路６１９，６２６を通じて系外に排出される。カーボンフィルター６０３で濾過された濾過水は、管路６１２を通じて更にカーボンフィルター６０４に供給され、カーボンフィルター６０３で分離された濃縮水は、管路６１９，６２６を通じて系外に排出される。更に、カーボンフィルター６０４で濾過された濾過水は、管路６１３、６１７及び昇圧用のポンプ６０５並びに管路６１８を通じて逆浸透膜モジュール６０６に供給される。カーボンフィルター６０４で分離された濃縮水は、上記と同様に、管路６１９，６２６を通じて系外に排出される。
【００３０】
逆浸透膜モジュール６０６においては、逆浸透膜を透過させて塩類やその他の不純物、細菌類が完全に除去された純水を精製する。逆浸透膜モジュール６０６で得られた純水は、管路６２０から取り出され、配管６３を通じて純水貯槽６４へ供給される。また、逆浸透膜モジュール６０６で分離された濃縮水は、管路６２３及び上記の管路６２６を通じて系外に排出される。第２の給湯ラインＣにおいては、上記の純水製造装置６を使用し、電気伝導率０．１５〜１５ｍＳ／ｍの純水または不純物濃度０．１〜１０ｐｐｍの純水、好ましくは電気伝導率０．１５〜０．８０ｍＳ／ｍの純水または不純物濃度０．１〜０．５ｐｐｍの純水を製造するようになされている。図４中、符号６１４，６２４は電磁弁、符号６２１，６２５は逆止弁を示し、符号６１６，６２２は、水の電気伝導度を測定する水質計を示す。
【００３１】
図１に示すように、純水貯槽６４は、純水製造装置６で製造された純水を貯留する貯水量１〜５トン程度の水槽であり、フロートセンサーで液面を検出して前述の純水製造装置６の稼働を制御することにより、常時、所定量の純水を貯蔵するようになされている。ボイラー２ｂは、前述の給湯ラインＡのボイラー２ａと同様の無圧ボイラーであり、純水貯槽６４から供給される常温の純水を原料として、３５〜８０℃の湯を０．０１〜１ｍ３／分製造するように設計される。なお、給湯管６８は、通常、個別浴槽７の上部または当該個別浴槽に付設された蛇口に接続され、また、個別浴槽７に取り付けられたシャワーに接続される。
【００３２】
個別浴槽７は、例えば１〜１０基設置される。個別浴槽７としては、浸透力の強い上記の純水を使用するため、漏水を防止する観点から、通常はＦＲＰ成形された槽が使用される。個別浴槽７の形状は、適宜の形状に設計できるが、１回の入浴ごとに湯を交換するため、効率的な水利用と省エネルギー化を図る観点から、個別浴槽７の大きさは、通常、幅６５〜７５ｃｍ程度、長さ９０〜１２０ｃｍ程度、深さ５０〜６０ｃｍ程度に設計される。なお、洗い場側には、個別浴槽７から床に溢れて排水ピットに流れ込んだ湯を系外に排出する排水管７１が設けられる。
【００３３】
本発明の浴場設備においては、浴用の水資源を飲料用に使用できるように、上記の第２の給湯ラインＣには、純水製造装置６によって精製された純水を貯蔵する純水貯槽６４が備えられ、当該純水貯槽には、系外に純水を供給する純水供給手段９が設けられる。すなわち、純水貯槽６４は、貯蔵した純水を純水供給手段９によって直接外部へ抜出し可能に構成される。
【００３４】
純水供給手段９としては、ポンプ６６を利用して純水貯槽６４の純水を系外に供給する手段、または、純水貯槽６４に貯蔵された純水の水圧（ヘッド差）を利用して系外に供給する手段が挙げられる。例えば、ポンプ６６を利用した純水供給手段９は、図１に例示するように、切替弁９０を介して配管６７から分岐して設けられた配管９１、除菌フィルター９２及び抜出し管９３とから構成される。また、図示しないが、水圧を利用した純水供給手段９は、切替弁を介して配管６５から分岐して設けられた配管、あるいは、純水貯槽６４の底部に直接取り付けられ且つ開閉弁が介装された抜出し用の配管で構成される。
【００３５】
更に、本発明においては、純水貯槽６４の純水を飲料水として使用するため、純水貯槽６４の内部には、紫外線ランプ６４ｖが付設されてもよい。紫外線ランプ６４ｖとしては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、キセノン−水銀ランプ等のランプが使用される。紫外線ランプ６４ｖの出力は、高圧水銀ランプの場合で０．１〜１０ｋＷ程度である。紫外線ランプ６４ｖは、紫外線の照射効率を高め且つ保守管理を容易にする観点から、純水貯槽６４の高さ方向に沿わせて配置され、また、純水との直接の接触を避けるため、石英、硬質ガラス等からなる外套管に挿入される。なお、除菌フィルター９２は、貯蔵中の純水に大気から雑菌が混入した場合に更にこれを除去するための中空糸膜フィルターである。
【００３６】
再利用ラインＤは、上記の個別浴槽７から抜き出した利用済みの湯に消毒剤を添加し且つ当該湯を濾過して共同浴槽３へ供給するラインであり、個別浴槽７の底部から湯を抜き出す抜出し管８０及びポンプ８２と、当該ポンプから配管８３を通じて供給された湯を濾過する濾過装置５ｂと、配管８３を流れる湯に消毒剤を添加する消毒剤添加装置８１と、濾過装置５ｂで濾過され且つ配管８４を通じて供給された湯を貯留する中継貯槽８５と、当該中継貯槽の湯を汲み上げる汲上げ管８６及びポンプ８８と、当該ポンプにより送液される湯を前述の循環ラインＢに供給する配管８９とから構成される。
【００３７】
消毒剤添加装置８１は、前述の循環ラインＢの消毒剤添加装置４１と同様の装置であり、次亜塩素酸ナトリウム水溶液の貯蔵容器、塩素注入配管、注入ポンプ、塩素濃度計とから構成される。また、濾過装置５ｂとしては、前述の循環ラインＢの濾過装置５ａと同様の図２及び図３に示す装置が使用される。
【００３８】
すなわち、濾過装置（５ｂ）は、上部に被処理水の導入口が設けられ且つ下部に濾過水の排出口が設けられた容器本体（５１）と、当該容器本体に装入されて容器本体内部を上下に仕切る濾材収容篭（５３）とを備え、当該濾材収容篭の上半部には、格子構造の底部を各備えた２つの受皿（５４）が重箱状に積み重ねられた状態で収容され、上段側の第１の受皿（５４ａ）には、第１のスポンジシート（５５１）が濾材として敷かれ、下段側の第２の受皿（５４ｂ）には、第１のスポンジシート（５５１）よりも低発泡の第２のスポンジシート（５５２）が濾材として敷かれている。上記の濾過装置５ｂにおいては、濾材の劣化状態や湯の濁度を確実に視認でき、濾材が汚れた場合には、簡単に濾材を交換でき且つ部品を洗浄できる。
【００３９】
中継貯槽８５は、個別浴槽７から回収され且つ上記の濾過装置５ｂで濾過された湯を一時的に貯留する貯水量０．５〜３トン程度の断熱水槽である。また、中継貯槽８５から湯を汲み出すポンプ８８は、当該中継貯槽の湯の液面をフロートセンサーで検出し、湯の貯蔵量が予め設定された下限量以上の場合に稼働するようになされている。なお、中継貯槽８５においては、湯の貯蔵量が上限量を超える場合は、上部に設けられたホーバーフロー管（図示省略）から系外に排出されるように構成される。また、汲上げ管８６には、大気から湯中に混入した雑菌などを除去するため、中空糸をフィルターエレメントとして容器に充填してなる中空糸膜フィルター８７が介装されてもよい。
【００４０】
本発明においては、中継貯槽８５に蓄えられた利用済みの湯を共同浴槽３で使用するため、中継貯槽８５から湯を汲み上げるポンプ８８の吐出側の配管８９は、前述の循環ラインＢの濾過装置５ａの下流側の配管４４に接続される。すなわち、再利用ラインＤは、熱交換器４よりも上流側で循環ラインＢに繋ぎ込まれる。これにより、個別浴槽７から排出される湯と熱を共同浴槽３において有効に再利用できる。
【００４１】
次に、本発明の浴場設備の運転方法について説明する。本発明の浴場設備においては、給湯ラインＡで湯を製造して共同浴槽３に供給し、循環ラインＢにより共同浴槽３の湯を循環させると共に、第２の給湯ラインＣで純水を製造し且つ当該純水から湯を製造して個別浴槽７に供給し、そして、再利用ラインＤにより個別浴槽７の湯を個別浴槽７で再利用する。
【００４２】
具体的には、給湯ラインＡにおいては、汲上げ管２０、ポンプ２１及び配管２２を通じて原水槽１から原水を汲み上げ、無撚糸フィルター２３で濾過する。次いで、濾過した水を配管２４からボイラー２ａに供給し、これを加熱して例えば８０℃の湯を製造する。得られた湯は、配管２５を通じて熱交換器４に通水し、循環ラインＢの湯に熱の一部を放出することにより、湯の温度を例えば５０℃に調節する。そして、斯かる湯を給湯管２６から共同浴槽３に供給する。共同浴槽３に最初に湯を満たした後は、共同浴槽３への湯の供給量を利用者数に応じてある程度絞り、一定流量の湯を共同浴槽３に供給する。
【００４３】
また、循環ラインＢにおいては、抜出し管４０、ポンプ４２及び配管４３を通じて共同浴槽３から利用済みの湯を抜き出すと共に、消毒剤添加装置４１により消毒剤を所定流量で配管４３の湯に添加する。次いで、斯かる湯を濾過装置５ａに供給して濾過処理を行う。濾過された湯は、配管４４を通じて熱交換器４に通水し、上記の給湯ラインＡの湯との熱交換により、湯の温度を例えば５０℃に調節する。そして、斯かる湯を給湯管４５から共同浴槽３に供給する。
【００４４】
一方、第２の給湯ライン（Ｃ）においては、汲上げ管６０、ポンプ６１及び配管６２を通じて原水槽１から原水を汲み上げ、これを純水製造装置６に供給する。純水製造装置６においては、配管６２から供給される原水に塩素添加装置６０１によって塩素を添加して滅菌処理を施した後、無撚糸フィルター６０２、カーボンフィルター６０３及び６０４によって順次に濾過することにより、原水中の異物を除去する。濾過された水は、ポンプ６０５で昇圧して逆浸透膜モジュール６０６に供給し、電解質、シリカ成分および硬度成分を除去して純水に精製する。次いで、得られた純水は、配管６３を通じて純水貯槽６４に一旦貯蔵する。純水貯槽６４の純水は、必要に応じて、配管６５及びポンプ６６を通じて汲み上げ、配管６７を通じてボイラー２ｂに供給し、当該ボイラーで加熱して例えば５０℃の湯を製造する。そして、斯かる湯を給湯管６８から個別浴槽７に供給する。
【００４５】
また、再利用ラインＤにおいては、使用後の個別浴槽７から抜出し管８０、ポンプ８２及び配管８３を通じて利用済みの湯を抜き出すと共に、消毒剤添加装置８１により配管８３の湯に消毒剤を添加する。次いで、斯かる湯を濾過装置５ｂに供給して濾過処理を行う。濾過された湯は、配管８４を通じて中継貯槽８５に一旦貯蔵する。中継貯槽８５の湯は、汲上げ管８６及びポンプ８８を通じて汲み上げると共に、中空糸膜フィルター８７で異物を除去した後、配管８９を通じて循環ラインＢの配管４４へ送液することにより、循環ラインＢの湯に混合して共同浴槽３において再利用する。
【００４６】
更に、上記の第２の給湯ラインＣの純水貯槽６４には、個別浴槽７で使用する浴用の純水が貯蔵されているため、飲料水が不足する緊急時には、純水貯槽６４の純水を純水供給手段９により系外に抜き出して、飲料水として使用することができる。すなわち、純水貯槽６４の純水を飲料水として使用する場合は、切替弁９０を操作し、ポンプ６６から下流側の流路を配管９１、除菌フィルター９２、抜出し管９３に切り替えることにより、抜出し管９３を通じて系外の容器やタンクローリーに純水を供給する。
【００４７】
上記のように、本発明の浴場設備では、給湯ラインＡにより、原水槽１の水を加熱して湯として共同浴槽３へ供給し、循環ラインＢにより、共同浴槽３から回収した湯に消毒、濾過処理を施してこれを再び共同浴槽３へ還流する一方、第２の給湯ラインＣにより、原水槽１の水から純水を製造し、これを加熱して一層きれいな湯として個別浴槽７へ供給することができる。そして、第２の給湯ラインＣには、純水製造装置６によって精製された純水を貯蔵する純水貯槽６４が備えられ、斯かる純水貯槽６４には、系外に純水を供給する純水供給手段９が設けられているため、緊急時には、純水貯槽６４内の純水を直ちに飲料水として供給することができる。換言すれば、本発明によれば、浴用の水を飲料用として有効に活用できる。
【００４８】
また、本発明の浴場設備では、再利用ラインＤにより、個別浴槽７から排出される利用済みではあるが十分にきれいな湯を回収し、斯かる湯に消毒、濾過処理を施して循環ラインＢから共同浴槽３へ供給するため、水資源と熱を有効に再利用することができる。
【符号の説明】
【００４９】
１    ：原水槽
２ａ  ：ボイラー
２ｂ  ：ボイラー
３    ：共同浴槽
３０  ：浴槽本体
３１  ：回収槽
４    ：熱交換器
４１  ：消毒剤添加装置
５ａ  ：濾過装置
５ｂ  ：濾過装置
６    ：純水製造装置
６０６：逆浸透膜モジュール
６４  ：純水貯槽
６４ｖ：紫外線ランプ
７    ：個別浴槽
８１  ：消毒剤添加装置
８５  ：中継貯槽
９    ：純水供給手段
Ａ    ：給湯ライン
Ｂ    ：循環ライン
Ｃ    ：第２の給湯ライン
Ｄ    ：再利用ライン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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