(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス部材にガラス層を形成してガラス層形成体を製造するためのガラス層形成方法であって、
前記ガラス層を形成するための形成予定領域を覆うように、前記ガラス部材に対して、レーザ光吸収材及びガラス粉を含む粉末を配置する第１の工程と、
前記第１の工程の後に、前記形成予定領域に沿って前記粉末に第１のレーザ光を照射することにより、前記形成予定領域に沿って前記粉末を溶融させて前記ガラス部材に前記ガラス層を形成する第２の工程と、
前記第２の工程の後に、前記ガラス部材から前記粉末を除去する第３の工程と、を備える、ガラス層形成方法。
【請求項２】
前記第２の工程では、前記ガラス部材を介して前記粉末に前記第１のレーザ光を照射する、請求項１記載のガラス層形成方法。
【請求項３】
前記第２の工程では、前記第１のレーザ光の集光スポットが前記ガラス部材と前記粉末との界面に位置するように前記粉末に前記第１のレーザ光を照射する、請求項２記載のガラス層形成方法。
【請求項４】
前記第２の工程の後に、前記ガラス層を覆うように、前記ガラス部材に対して前記粉末を配置する第４の工程と、
前記第４の工程の後に、前記ガラス層に沿って、前記ガラス層、及び前記ガラス層上の前記粉末の少なくとも一方に第２のレーザ光を照射することにより、少なくとも前記ガラス層上の前記粉末を溶融させて前記ガラス層の厚さを増加させる第５の工程と、
前記第５の工程の後に、前記ガラス部材から前記粉末を除去する第６の工程と、を更に備える、請求項１〜３のいずれか一項記載のガラス層形成方法。
【請求項５】
前記第２のレーザ光による入熱量は、前記第１のレーザ光による入熱量よりも小さい、請求項４記載のガラス層形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス部材にガラス層を形成してガラス層形成体を製造するためのガラス層形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記技術分野における従来のガラス層形成方法として、有機物（有機溶剤やバインダ）、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むペースト層をガラス部材に形成し、その後、ペースト層にレーザ光を照射することにより、ペースト層から有機物を除去してガラス部材にガラス層を形成する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。このようにして製造されたガラス層形成体は、次のように用いられる。すなわち、ガラス層を介してガラス層形成体に別のガラス部材を重ね合わせ、その後、ガラス層にレーザ光を照射することにより、ガラス層を溶融させてガラス部材同士を溶着する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−０５１８１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述したようなガラス層形成方法にあっては、ペースト層にレーザ光を照射するときに、加工効率を向上させるべくレーザ光の走査速度を高くすると、ペースト層から有機物を除去しきれずにガラス層内に有機物が残存し、ガラス層の品質が低下するおそれがある。
【０００５】
そこで、本発明は、品質の良好なガラス層を得ることができるガラス層形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のガラス層形成方法は、ガラス部材にガラス層を形成してガラス層形成体を製造するためのガラス層形成方法であって、ガラス層を形成するための形成予定領域を覆うように、ガラス部材に対して、レーザ光吸収材及びガラス粉を含む粉末を配置する第１の工程と、第１の工程の後に、形成予定領域に沿って粉末に第１のレーザ光を照射することにより、形成予定領域に沿って粉末を溶融させてガラス部材にガラス層を形成する第２の工程と、第２の工程の後に、ガラス部材から粉末を除去する第３の工程と、を備える。
【０００７】
このガラス層形成方法では、ガラス層を形成するための形成予定領域を覆うように、ガラス部材に対して、レーザ光吸収材及びガラス粉を含む粉末を配置し、第１のレーザ光の照射によって形成予定領域に沿って粉末を溶融させる一方で、溶融しなかった粉末をガラス部材から除去する。これにより、レーザ光吸収材及びガラス粉に有機物を混合しなくても、形成予定領域に沿って精度良くガラス層を形成することができる。しかも、レーザ光吸収材及びガラス粉に有機物を混合する必要がなくなるため、ガラス層内に有機物が残存するような事態を防止することができる。よって、このガラス層形成方法によれば、品質の良好なガラス層を得ることが可能となる。
【０００８】
ここで、第２の工程では、ガラス部材を介して粉末に第１のレーザ光を照射してもよい。これによれば、ガラス部材が加熱され易くなるため、溶融した粉末が凝集するのを抑制して、ガラス部材に対するガラス層の形成を確実化することができる。
【０００９】
このとき、第２の工程では、第１のレーザ光の集光スポットがガラス部材と粉末との界面に位置するように粉末に第１のレーザ光を照射してもよい。これによれば、溶融した粉末をガラス部材に一層馴染み易くして、ガラス部材に対するガラス層の形成をより確実化することができる。
【００１０】
また、本発明のガラス層形成方法は、第２の工程の後に、ガラス層を覆うように、ガラス部材に対して粉末を配置する第４の工程と、第４の工程の後に、ガラス層に沿って、ガラス層、及びガラス層上の粉末の少なくとも一方に第２のレーザ光を照射することにより、少なくともガラス層上の粉末を溶融させてガラス層の厚さを増加させる第５の工程と、第５の工程の後に、ガラス部材から粉末を除去する第６の工程と、を更に備えてもよい。これによれば、ガラス層の幅が増大するのを抑制しつつ、ガラス層の厚さを増加させることができる。
【００１１】
このとき、第２のレーザ光による入熱量は、第１のレーザ光による入熱量よりも小さくてもよい。これによれば、第１のレーザ光の照射によって形成されたガラス層に損傷が生じるのを防止しつつ、第２のレーザ光の照射によって、ガラス層上の粉末を溶融させることができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、品質の良好なガラス層を得ることができるガラス層形成方法を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を含むガラス溶着方法によって製造されたガラス溶着体の斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための（ａ）平面図及び（ｂ）端面図である。
【図３】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための（ａ）平面図及び（ｂ）端面図である。
【図４】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための（ａ）平面図及び（ｂ）端面図である。
【図５】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための（ａ）平面図及び（ｂ）端面図である。
【図６】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための（ａ）平面図及び（ｂ）端面図である。
【図７】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための（ａ）平面図及び（ｂ）端面図である。
【図８】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための（ａ）平面図及び（ｂ）端面図である。
【図９】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための（ａ）平面図及び（ｂ）端面図である。
【図１０】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための（ａ）平面図及び（ｂ）端面図である。
【図１１】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための（ａ）平面図及び（ｂ）端面図である。
【図１２】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための（ａ）平面図及び（ｂ）端面図である。
【図１３】本発明の一実施形態のガラス層形成方法によって製造されたガラス層形成体の斜視図である。
【図１４】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を含むガラス溶着方法を説明するための斜視図である。
【図１５】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を含むガラス溶着方法を説明するための斜視図である。
【図１６】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための端面図である。
【図１７】本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための端面図である。
【図１８】本発明の一実施形態のガラス層形成方法に用いられるガラス層形成装置の構成図である。
【図１９】本発明の他の実施形態のガラス層形成方法を説明するための端面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
【００１５】
図１は、本発明の一実施形態のガラス層形成方法を含むガラス溶着方法によって製造されたガラス溶着体の斜視図である。図１に示されるように、ガラス溶着体１は、溶着予定領域Ｒ１に沿うように配置されたガラス層３を介して、ガラス部材４とガラス部材５とが溶着されたものである。ガラス溶着体１は、例えば有機ＥＬディスプレイであり、溶着予定領域Ｒ１の内側に形成された発光素子領域がガラス部材４，５及びガラス層３によって外部雰囲気から封止されている。溶着予定領域Ｒ１は、ガラス部材４，５の外縁に沿うように所定の幅で矩形環状に設定されている。ガラス層３は、例えば低融点ガラス（バナジウムリン酸系ガラス、鉛ホウ酸ガラス等）からなる層である。ガラス部材４，５は、例えば無アルカリガラスからなる厚さ０．７ｍｍの矩形板状の部材である。
【００１６】
次に、上述したガラス溶着体１を製造するためのガラス溶着方法（ガラス部材４にガラス層３を形成してガラス層形成体を製造するためのガラス層形成方法を含む）について説明する。
【００１７】
図２〜図１２は、本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための（ａ）平面図及び（ｂ）端面図であり、図１３は、本発明の一実施形態のガラス層形成方法によって製造されたガラス層形成体の斜視図である。まず、図２に示されるように、ガラス部材４の表面４ａに、溶着予定領域Ｒ１に対応する形成予定領域Ｒ２を設定する。続いて、図３に示されるように、ガラス部材４の表面４ａにメタルマスク６を配置する。メタルマスク６は、例えば金属材料からなる厚さ２０μｍの矩形枠状の部材である。メタルマスク６の開口６ａは、ガラス部材４の表面４ａに垂直な方向から見た場合に形成予定領域Ｒ２を含んでいる。
【００１８】
続いて、図４に示されるように、メタルマスク６の開口６ａ内に粉末２を供給する。粉末２は、例えば酸化鉄等の無機顔料であるレーザ光吸収性顔料（レーザ光吸収材）と、例えば低融点ガラスからなる粉末状のガラスフリット（ガラス粉）と、が混合されたものである。続いて、図５に示されるように、ヘラ７を用いて、メタルマスク６の開口６ａから溢れている粉末２を除去する。続いて、図６に示されるように、ガラス部材４の表面４ａからメタルマスク６を外す。以上のようにして、ガラス層３を形成するための形成予定領域Ｒ２を覆うように、ガラス部材４に対して、レーザ光吸収材及びガラス粉を含む粉末２を配置する（第１の工程）。ここでは、粉末２は、例えば厚さ３０μｍという略一定の厚さでガラス部材４の表面４ａに配置される。
【００１９】
続いて、図７に示されるように、形成予定領域Ｒ２に沿ってレーザ光（第１のレーザ光）Ｌ１の照射領域ＩＲ１が相対的に移動するように粉末２にレーザ光Ｌ１を照射することにより、形成予定領域Ｒ２に沿って粉末２を溶融させてガラス部材４にガラス層３を形成する（第２の工程）。より具体的には、レーザ光Ｌ１の集光スポットＣＳ１がガラス部材４と粉末２との界面（すなわち、ガラス部材４の表面４ａ）に位置するように、ガラス部材４を介して粉末２にレーザ光Ｌ１を照射する。ガラス層３は、形成予定領域Ｒ２に沿って粉末２が溶融・再固化することにより、ガラス部材４の表面４ａに定着させられる。このように、形成予定領域Ｒ２に沿ってレーザ光Ｌ１の照射領域ＩＲ１を相対的に移動させることで、レーザ加工装置の構成を簡単化することができ、しかも、形成予定領域Ｒ２に沿って粉末２を確実に溶融させることができる。
【００２０】
続いて、図８に示されるように、除電ブロワ８を用いて、ガラス部材４から粉末２を除去する（第３の工程）。ここで除去される粉末２は、レーザ光Ｌ１の照射によって溶融せずに、ガラス部材４の表面４ａ等に残存していたものである。これにより、図９に示されるように、ガラス部材４の表面４ａに、形成予定領域Ｒ２に沿って例えば厚さ１５μｍ程度のガラス層３が形成される。
【００２１】
続いて、図１０に示されるように、パウダフィーダ９を用いて、ガラス層３に沿って粉末２を供給する。このようにして、ガラス層３を覆うように、ガラス部材４に対して粉末２を配置する（第４の工程）。ここでは、粉末２は、例えば、ガラス層３の両側に１ｍｍ程度はみ出した状態で、厚さ３０μｍという略一定の厚さでガラス層３上に配置される。このように、配置する粉末２の厚さは、形成すべきガラス層３の厚さの２倍程度とする。これは、粉末２が溶融して凝固する際に収縮し、その体積が大きく減少するためである。
【００２２】
続いて、図１１に示されるように、ガラス層３に沿ってレーザ光（第２のレーザ光）Ｌ２の照射領域ＩＲ２が相対的に移動するようにガラス層３にレーザ光Ｌ２を照射することにより、形成済みのガラス層３、及びガラス層３上の粉末２を溶融させてガラス層３の厚さを増加させる（第５の工程）。より具体的には、レーザ光Ｌ２の集光スポットＣＳ２がガラス部材４と形成済みのガラス層３との界面（すなわち、ガラス部材４の表面４ａ）に位置するように、ガラス部材４を介して形成済みのガラス層３にレーザ光Ｌ２を照射する。ガラス層３は、形成済みのガラス層３、及びガラス層３上の粉末２が溶融・再固化することにより、その厚さが増加させられる。このように、ガラス層３に沿ってレーザ光Ｌ２の照射領域ＩＲ２を相対的に移動させることで、レーザ加工装置の構成を簡単化することができ、しかも、形成済みのガラス層３、及びガラス層３上の粉末２をガラス層３に沿って確実に溶融させることができる。
【００２３】
なお、レーザ光Ｌ２による入熱量は、レーザ光Ｌ１による入熱量よりも小さくされる。レーザ光による入熱量（レーザ光がその照射領域で有するエネルギ密度）は、レーザ光の照射パワーを低くしたり、レーザ光の走査速度（照射対象に対するレーザ光の照射領域の相対的な移動速度）を高くしたりすることで、小さくすることができる。一例として、レーザ光Ｌ１の波長は９４０ｎｍであり、レーザ光Ｌ１の照射パワーは２０Ｗであり、集光スポットＣＳ１の直径は１．６ｍｍであり、レーザ光Ｌ１の走査速度は１０ｍｍ／ｓである。また、レーザ光Ｌ２の波長は９４０ｎｍであり、レーザ光Ｌ２の照射パワーは１５Ｗであり、集光スポットＣＳ２の直径は１．６ｍｍであり、レーザ光Ｌ２の走査速度は１０ｍｍ／ｓである。
【００２４】
続いて、図１２に示されるように、除電ブロワ８を用いて、ガラス部材４から粉末２を除去する（第６の工程）。ここで除去される粉末２は、レーザ光Ｌ２の照射によって溶融せずに、ガラス部材４の表面４ａ等に残存していたものである。これにより、図１３に示されるように、ガラス部材４の表面４ａに、形成予定領域Ｒ２に沿って例えば厚さ３０μｍ程度のガラス層３が形成され、ガラス層形成体１０が得られる。なお、ガラス層３の厚さを更に増加させるべき場合には、上述した第４の工程、第５の工程及び第６の工程を繰り返し実施すればよい。
【００２５】
図１４及び図１５は、本発明の一実施形態のガラス層形成方法を含むガラス溶着方法を説明するための斜視図である。ガラス層形成体１０を製造した後に、図１４に示されるように、ガラス層形成体１０に対して、ガラス層３を介してガラス部材５を重ね合わせる。このとき、形成予定領域Ｒ２が、ガラス部材４とガラス部材５とを溶着するための溶着予定領域Ｒ１に対応することになる。なお、ガラス部材５においてガラス部材４の表面４ａに対向する表面５ａには、発光素子領域が形成されている。
【００２６】
続いて、図１５に示されるように、溶着予定領域Ｒ１に沿ってレーザ光Ｌ３の照射領域ＩＲ３が相対的に移動するようにガラス層３にレーザ光Ｌ３を照射することにより、溶着予定領域Ｒ１に沿ってガラス層３及びその周辺部分（ガラス部材４，５の表面４ａ，５ａ部分）を溶融させて、ガラス部材４とガラス部材５とを溶着する。より具体的には、レーザ光Ｌ３の集光スポットＣＳ３がガラス部材５とガラス層３との界面（すなわち、ガラス層３の表面３ａ）に位置するように、ガラス部材５を介してガラス層３にレーザ光Ｌ３を照射する。ガラス部材４とガラス部材５とは、溶着予定領域Ｒ１に沿ってガラス層３及びその周辺部分（ガラス部材４，５の表面４ａ，５ａ部分）が溶融・再固化することにより、溶着される。これにより、図１に示されるように、ガラス溶着体１が得られる。なお、ガラス部材４とガラス部材５との溶着においては、ガラス層３が溶融し、ガラス部材４，５の少なくとも一方が溶融しない場合もある。
【００２７】
一例として、レーザ光Ｌ３の波長は９４０ｎｍであり、レーザ光Ｌ３の照射パワーは２２Ｗであり、集光スポットＣＳ３の直径は１．６ｍｍであり、レーザ光Ｌ３の走査速度は１０ｍｍ／ｓである。
【００２８】
以上説明したように、ガラス層形成体１０を製造するためのガラス層形成方法では、ガラス層３を形成するための形成予定領域Ｒ２を覆うように、ガラス部材４に対して、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリットを含む粉末２を配置し、レーザ光Ｌ１の照射によって形成予定領域Ｒ２に沿って粉末２を溶融させる一方で、溶融しなかった粉末２をガラス部材４から除去する。これにより、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリットに有機溶剤やバインダ等の有機物を混合しなくても、形成予定領域Ｒ２に沿って精度良くガラス層３を形成することができる。しかも、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリットに有機溶剤やバインダ等の有機物を混合する必要がなくなるため、ガラス層３内に有機物が残存するような事態を防止することができる。よって、上述したガラス層形成方法によれば、品質の良好なガラス層３を得ることが可能となる。
【００２９】
また、上述したガラス層形成方法では、レーザ光Ｌ１の集光スポットＣＳ１がガラス部材４と粉末２との界面に位置するように、ガラス部材４を介して粉末２にレーザ光Ｌ１を照射する。これにより、ガラス部材４と粉末２との界面に加え、ガラス部材４が加熱され易くなるため、溶融した粉末２が凝集するのを抑制して（換言すれば、溶融した粉末２をガラス部材４に馴染み易くして）、ガラス部材４に対するガラス層３の形成を確実化することができる。
【００３０】
また、上述したガラス層形成方法では、レーザ光Ｌ１の照射によって形成されたガラス層３を覆うように、ガラス部材４に対して粉末２を配置し、その後、レーザ光Ｌ２の照射によって、形成済みのガラス層３、及びガラス層３上の粉末２を溶融させてガラス層３の厚さを増加させる。これにより、ガラス層３の幅が増大するのを抑制しつつ、ガラス層３の厚さを増加させることができる。なお、形成済みのガラス層３上に盛る粉末２の厚さを調整したり、形成済みのガラス層３上に粉末２を厚く盛った上でレーザ光Ｌ２の走査速度を調整したりすることで、増加させるガラス層３の厚さを調整することが可能となる。また、レーザ光Ｌ２の照射領域ＩＲ２をリング状にすれば、ガラス層３の表面の平坦化を図ることができる。これは、ガラス層３を介してガラス層形成体１０にガラス部材５を重ね合わせる上で、特に有効である。
【００３１】
また、上述したガラス層形成方法では、レーザ光Ｌ２による入熱量がレーザ光Ｌ１による入熱量よりも小さくされる。これにより、レーザ光Ｌ１の照射によって形成されたガラス層３はレーザ光吸収率が高くなっているものの、形成済みのガラス層３に損傷が生じるのを防止しつつ、レーザ光Ｌ２の照射によって、ガラス層３上の粉末２を溶融させることができる。
【００３２】
図１６及び図１７は、本発明の一実施形態のガラス層形成方法を説明するための端面図である。図１６に示されるように、レーザ光Ｌ１の照射によってガラス層３を形成し、更に、レーザ光Ｌ２の照射によってガラス層３の厚さを増加させる方法によれば、ガラス層３の幅が増大するのを抑制しつつ、ガラス層３の厚さを増加させることができる。それに対し、図１７に示されるように、ガラス部材４の表面４ａに粉末２を厚く盛った上で、レーザ光Ｌ１による入熱量を大きくして、より多くの量の粉末２を溶融・再固化させる方法によれば、ガラス層３の厚さだけでなく、ガラス層３の幅も増加させることができる。
【００３３】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、粉末２が含むレーザ光吸収性顔料（レーザ光吸収材）は、ガラスフリット（ガラス粉）自体に含まれていてもよい。また、粉末２が含むガラスフリット（ガラス粉）は、ガラス部材４，５の融点よりも低い融点を有するものに限定されず、ガラス部材４，５の融点以上の融点を有するものであってもよい。また、形成予定領域Ｒ２は、矩形環状に限定されず、他の形状であってもよい（環状に閉じていても閉じていなくてもよい）。更に、形成予定領域Ｒ２は、一つに限定されず、ガラス部材４に複数設定されてもよい。形成予定領域Ｒ２が複数設定されるのは、例えば、形成予定領域Ｒ２に沿って形成されたガラス層３ごとにガラス層形成体１０（ガラス部材５が溶着された後であれば、ガラス溶着体１）を切断する場合である。このように、上述したガラス層形成方法に適用される各構成の形状や材料としては、上述したもの限定されず、様々な形状や材料を適用することができる。
【００３４】
また、メタルマスク６を用いずに、図１８に示されるように、パウダフィーダ９を用いて、形成予定領域Ｒ２に沿うようにガラス部材４の表面４ａに粉末２を供給してもよい。このとき、パウダフィーダ９を用いて粉末２を供給しつつ、ガラス部材４を介して粉末２にレーザ光Ｌ１を照射してもよい。また、スクリーン印刷用の印刷版を用いて、形成予定領域Ｒ２に沿うようにガラス部材４の表面４ａに粉末２をパターニングしてもよい。
【００３５】
また、図１９に示されるように、表面４ａに粉末２が配置されたガラス部材４の裏面４ｂに、形成予定領域Ｒ２に沿って開口する開口１１ａを有するメタルマスク１１を配置し、開口１１ａに沿ってレーザ光Ｌ１の照射領域ＩＲ１が相対的に移動するように粉末２にレーザ光Ｌ１を照射してもよい。これによれば、照射領域ＩＲ１を大きくしても、形成予定領域Ｒ２の両側に位置する粉末にレーザ光Ｌ１が照射されるのを防止することができる。その一方で、照射領域ＩＲ１を大きくすることにより、形成予定領域Ｒ２上の単位面積当たりの粉末２に照射されるレーザ光Ｌ１の時間を長くすることができる。従って、レーザ光Ｌ１の走査速度を高くしても、レーザ光Ｌ１による入熱量が小さくなるのを抑制して、形成予定領域Ｒ２に沿って粉末２を溶融させることが可能となる。
【００３６】
また、レーザ光Ｌ１，Ｌ２の照射は、ガラス部材４を介さずに粉末２側から実施してもよい。ガラス部材４を介さずに粉末２側から形成済みのガラス層３上の粉末２にレーザ光Ｌ２を照射すれば、形成済みのガラス層３の厚さが厚い場合や、形成済みのガラス層３上に粉末２が厚く盛られているような場合にも、形成済みのガラス層３上の粉末２を溶融させることができる。また、レーザ光Ｌ２の照射は、ガラス層３、及びガラス層３上の粉末２の少なくとも一方に実施され、少なくともガラス層３上の粉末２を溶融させるものであればよい。
【００３７】
また、レーザ光Ｌ１，Ｌ２の照射によって溶融しなかった粉末２の除去は、エアーの吹付け、軟Ｘ線の照射、水やアルコール等による洗浄等のいずれか一つ又は複数の組合せによっても、実施することができる。
【符号の説明】
【００３８】
２…粉末、３…ガラス層、４…ガラス部材、１０…ガラス層形成体、Ｒ２…形成予定領域、Ｌ１…レーザ光（第１のレーザ光）、ＩＲ１…照射領域、ＣＳ１…集光スポット、Ｌ２…レーザ光（第２のレーザ光）、ＩＲ２…照射領域、ＣＳ２…集光スポット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
0005833487.tif 000017
【図１７】
0005833487.tif 000018
【図１８】
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【図１９】
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