(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
多重ノズルヘッドを用いたラインパターンの形成方法において、
前記多重ノズルヘッドに備えられたノズル線間隔に自然数を乗じた値に該当する高さを持つディスプレイセルが２次元で繰り返されたセル領域を形成するステップと、
前記セル領域上に交互に繰り返される種類の異なる第１ラインパターン及び第２ラインパターンを前記多重ノズルヘッドを用いたインクジェットプリント法で形成するステップと、
ディスプレイ基板のセル領域の周辺部に各ラインパターンから直線上に延びる連結配線とパッドブロックを順次形成するステップと、
を含み、
前記ディスプレイセルの高さ及び組合せ可能な２つのラインパターンの間隔が前記多重ノズルヘッドに備えられたノズル線間隔に自然数を乗じた値に該当する条件で、多重ノズルヘッドの１回のスキャンで前記第１ラインパターン及び前記第２ラインパターンを同時に形成し、
前記連結配線と前記パッドブロックは前記多重ノズルヘッドによって形成されるインク弾着ラインの結合個数を調節してラインパターン側からパッドブロック側に行くほど線幅を広げることを特徴とする、
多重ノズルヘッドを用いたラインパターンの形成方法。
【請求項２】
前記第１ラインパターン及び前記第２ラインパターンは、それぞれＰＤＰの前面基板に形成されるスキャン電極及びサステイン電極であることを特徴とする、
請求項１に記載の多重ノズルヘッドを用いたラインパターンの形成方法。
【請求項３】
同一直線上に位置するラインパターン、連結配線、及びパッドブロックは、１回の前記多重ノズルヘッドのスキャン過程で共に形成することを特徴とする、
請求項１又は請求項２に記載の多重ノズルヘッドを用いたラインパターンの形成方法。
【請求項４】
組合せ可能な２つのパッドブロックの間隔は、ノズル線間隔に自然数を乗じた値に該当することを特徴とする、
請求項１から請求項３までの何れか一項に記載の多重ノズルヘッドを用いたラインパターンの形成方法。
【請求項５】
前記ノズル線間隔は、噴射されるインク滴直径の０．３〜５倍であることを特徴とする、
請求項１から請求項４までの何れか１項に記載の多重ノズルヘッドを用いたラインパターンの形成方法。
【請求項６】
インクジェットプリント法によるインク噴射時、インク噴射間隔は、インク滴直径の０．３〜５倍であることを特徴とする、
請求項１から請求項４の何れか１項に記載の多重ノズルヘッドを用いたラインパターンの形成方法。
【請求項７】
ディスプレイセルが２次元で繰り返されたセル領域と、
交互になるように多重ノズルヘッドを用いたインクジェットプリント法で前記セル領域に形成された種類の異なる第１ラインパターン及び第２ラインパターンと、
前記セル領域の周辺部に各ラインパターンから直線上に順次延びる連結配線及びパッドブロックと、
を含み、
前記セル領域の高さと組合せ可能な２つのラインパターンの間隔とは、前記多重ノズルヘッドのノズル線間隔に自然数を乗じた値に該当し、
前記パッドブロックは前記ラインパターンより線幅が広く、前記連結配線は前記ラインパターンと前記パッドブロック間に介在されてその線幅が前記ラインパターンの線幅値から前記パッドブロックの線幅値に順次増加することを特徴とする、
ディスプレイ基板。
【請求項８】
組合せ可能な２つパッドブロックの間隔は、前記多重ノズルヘッドのノズル線間隔に自然数を乗じた値に該当することを特徴とする、
請求項７に記載のディスプレイ基板。
【請求項９】
前記第１ラインパターン及び前記第２ラインパターンは、それぞれＰＤＰの前面基板のスキャン電極及びサステイン電極であることを特徴とする、
請求項７又は請求項８に記載のディスプレイ基板。
【請求項１０】
前記セル領域の高さとパッドブロックが形成されるパッド領域の高さとが同一であることを特徴とする、
請求項７から請求項９までの何れか一項に記載のディスプレイ基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多重ノズルヘッドを用いたラインパターンの形成方法に関し、より詳しくは、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ）などの各種ディスプレイ基板に多重ノズルヘッドを用いたインクジェットプリント法でラインパターンを形成するとき、多重ノズルヘッドの移動回数を最小化できる方法、及びその方法で製造されたディスプレイ基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１は、従来技術によるＰＤＰの前面基板上部のセル領域、パッド領域、及び連結領域を概略的に示した上部平面図である。
【０００３】
図面を参照すれば、一般的なＰＤＰの前面基板１０は、画像具現のためのバス電極２５（スキャン電極及びサステイン電極）及びブラックマトリクスパターン（図示せず）が形成されているセル領域２０と、セル領域２０の周辺で各バス電極２５を外部電極と電気的に連結するためのパッドブロック３５が形成されるパッド領域３０と、セル領域２０に形成されたバス電極２５とパッド領域３０に形成されたパッドブロック３５とを相互連結するための連結配線４５が形成された連結領域４０と、に大別される。ここで、前記連結配線４５は、バス電極２５の間隔とパッドブロック３５の間隔とが異なるため、通常対角線上に傾いている。
【０００４】
図２は、図１に示された３つの領域のうち、セル領域２０に形成されるバス電極Ｘ、Ｙの配置関係を説明するため、セル領域２０の一部を切開して示した断面図である。
【０００５】
図面を参照すれば、各セル領域２０はスキャン電極Ｘとサステイン電極Ｙとがストライプ状に対をなして形成される。また、各電極対（スキャン電極Ｘ及びサステイン電極Ｙ）は連続的に配列されて全体セル領域２０をなす。前記スキャン電極Ｘ及びサステイン電極Ｙは、フォトリソグラフィープロセスによって形成することもできるが、プロセスが複雑であって材料の無駄使いが多く、マスクが必要であるため製造コストを増加させる短所がある。したがって、近年は多重ノズルヘッドを用いたインクジェットプリント法で電極パターンを形成する方法が脚光を浴びている。多重ノズルヘッドを用いたインクジェットプリント法でスキャン電極Ｘとサステイン電極Ｙを形成すれば、一度に複数の電極パターンを形成することができるという長所がある。
【０００６】
ところが、従来のインクジェットプリント法を用いて電極パターンを形成すれば、多重ノズルヘッドに備えられたノズルの間隔を設計する条件とスキャン電極及びサステイン電極の配置設計条件とが整合していないため、スキャン電極とサステイン電極を同時に形成できず、スキャン電極形成工程とサステイン形成工程を別に行わなければならず煩雑であった。これについて、図面を参照して具体的に説明する。
【０００７】
図３は、多重ノズルヘッドに備えられたノズル間隔の設計条件、及びスキャン電極とサステイン電極の配置設計条件を例示した図である。
【０００８】
図２及び図３を参照すれば、一般に隣接するピクセル２０に形成されたスキャン電極Ｘ１〜Ｘ３間の間隔Ｄ１及びサステイン電極Ｙ１〜Ｙ３間の間隔Ｄ２はそれぞれピクセル２０の線間隔Ｄｐと同一に設計される。ところが、従来のように多重ノズルヘッドに備えられたノズルの間隔を反映せずスキャン電極Ｘ１〜Ｘ３とサステイン電極Ｙ１〜Ｙ３との間隔Ｄｓを設計すれば、スキャン電極Ｘ１〜Ｘ３とサステイン電極Ｙ１〜Ｙ３を同時に噴射することができない。したがって、従来は多重ノズルヘッドに備えられたノズルのピッチをピクセルの高さＤｐと同一にした後、スキャン電極Ｘ１〜Ｘ３とサステイン電極Ｙ１〜Ｙ３を形成するためのインク噴射を別に行わなければならなかった。
【０００９】
さらに、従来のインクジェットプリント法を用いて電極パターンを形成すれば、連結領域（図１の４０参照）に形成する連結配線（図１の４５参照）が断線される可能性が高いというもう１つの問題がある。すなわち、セル領域２０に形成されるバス電極の間隔とパッド領域に形成されるパッドブロックの間隔とが同一でないため、連結領域に形成される連結配線は所定角度で必然的｛ひつぜん てき｝に傾く。一方、弾着インクの間隔はノズルのピッチと同一であるため、図４に示されたように、傾いたラインパターンを形成する場合が水平ラインパターンを形成する場合に比べて断線の可能性が高くなる。例えば、連結配線が４５度傾いていれば、連結配線が水平である場合に比べてインク弾着間隔が１．４１倍であるため、同じ拡がり性のインク使用を前提にして、連結配線が断線される可能性が４０％ほど増加する。
【００１０】
図５は、実際に断線が発生した連結配線４５を撮影した写真であって、連結領域４０に形成された連結配線４５の数個所に弾着されたインクが互いに連結できず断線していることを確認することができる。このように連結配線４５に断線が発生すれば不良画素の発生に繋がり、このような問題は連結配線４５の設計条件を改良しなければ根本的に解決することができないと指摘されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記のような従来技術の問題を解決するために創案されたものであり、各種ディスプレイ用基板に形成される各種ラインパターンを形成する過程で多重ノズルヘッドに備えられたノズル間隔条件に整合するようにラインパターンの配置間隔を設計し、インク噴射のためのヘッドスキャン回数を減らせる多重ノズルヘッドを用いたラインパターンの形成方法、及びその方法で製造されたディスプレイ基板を提供することを目的とする。
【００１２】
また、本発明は、ディスプレイ基板のセル領域、連結領域、及びパッド領域に形成されるラインパターンを直線型に設計変更することで、連結領域で断線が発生することを効果的に防止できる多重ノズルヘッドを用いたラインパターンの形成方法、及びその方法で製造されたディスプレイ基板を提供することを他の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記の技術的課題を達成するため、本発明による多重ノズルヘッドを用いたラインパターンの形成方法は、前記多重ノズルヘッドに備えられたノズル線間隔の倍数に該当する高さを持つディスプレイセルが２次元で繰り返されたセル領域を形成するステップと、前記セル領域上に交互に繰り返される種類の異なる第１ラインパターン及び第２ラインパターンを前記多重ノズルヘッドを用いたインクジェットプリント法で形成するステップと、を含み、前記セルの高さ及び組合せ可能な２つのラインパターンの間隔を前記多重ノズルヘッドに備えられたノズル線間隔の倍数にする条件で多重ノズルヘッドの１回のスキャンで第１ラインパターン及び第２ラインパターンを同時に形成することを特徴とする。
【００１４】
本発明において、前記第１ラインパターン及び第２ラインパターンはそれぞれＰＤＰの前面基板に形成されるスキャン電極及びサステイン電極であり得る。
【００１５】
望ましくは、前記ディスプレイ基板のセル領域の周辺部に各ラインパターンから直線上に延びる連結配線及びパッドブロックを順次形成するステップをさらに含み、前記連結配線及びパッドブロックは多重ノズルヘッドによって形成されるインク弾着ラインの結合個数を調節してラインパターン側からパッドブロック側に行くほど線幅が広がる。このとき、組合せ可能な２つのパッドブロックの間隔はノズル線間隔の倍数である。
【００１６】
望ましくは、同一直線上に位置するラインパターン、連結配線、及びパッドブロックは、１回の多重ノズルヘッドのスキャン過程で共に形成する。
【００１７】
望ましくは、前記ノズル線間隔は噴射されるインク滴直径の０．３〜５倍であり、インク噴射時のインク噴射間隔はインク滴直径の０．３〜５倍である。
【００１８】
上記の技術的課題を達成するための本発明によるディスプレイ基板は、ディスプレイセルが２次元で繰り返されたセル領域と、交互に交差するように多重ノズルヘッドを用いたインクジェットプリント法で前記セル領域に形成された種類の異なる第１ラインパターン及び第２ラインパターンと、を含むが、組合せ可能な２つのラインパターンの間隔は最大公約数を持ち、該最大公約数はノズル線間隔の倍数であることを特徴とする。
【００１９】
本発明において、前記第１ラインパターン及び第２ラインパターンはそれぞれＰＤＰの前面基板のスキャン電極及びサステイン電極であり得る。
【００２０】
望ましくは、前記セル領域の周辺部に各ラインパターンから直線上に順次延びる連結配線及びパッドブロックをさらに含み、前記パッドブロックはラインパターンより線幅が広く、前記連結配線はラインパターンとパッドブロック間に介在されてその線幅がラインパターンの線幅値からパッドブロックの線幅値に順次増加する。
【００２１】
ここで、セル領域の高さとパッド領域の高さは同一である。また、組合せ可能な２つのパッドブロックの間隔は最大公約数を持つ。望ましくは、前記最大公約数は多重ノズルヘッドのノズル線間隔の倍数である。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
本明細書に添付される次の図面は、本発明の望ましい実施例を例示するものであり、発明の詳細な説明とともに本発明の技術的な思想をさらに理解させる役割をするため、本発明は図面に記載された事項だけに限定されて解釈されてはならない。
【図１】従来技術によるＰＤＰの前面基板上部のセル領域、パッド領域、及び連結領域を概略的に示した上部平面図である。
【図２】図１に示された３つの領域のうち、セル領域に形成されるバス電極Ｘ、Ｙの配置関係を説明するため、セル領域の一部を切開して示した断面図である。
【図３】多重ノズルヘッドに備えられたノズル間隔の設計条件、及びスキャン電極とサステイン電極の配置設計条件を例示した図である。
【図４】傾いたラインパターンと水平ラインパターンをインクジェットプリント法で形成する場合、パターンの断線可能性を比べた図である。
【図５】ＰＤＰの前面基板上部の連結領域に形成された連結配線で断線が発生した場合を例示した写真である。
【図６】本発明の望ましい実施例によって多重ノズルヘッドに備えられたノズル間隔の設計条件、及びＰＤＰの前面基板のセル領域に形成するバス電極の設計条件を示した図である。
【図７】本発明の望ましい実施例によって多重ノズルヘッドに備えられたノズル間隔の設計条件、及びＰＤＰの前面基板のパッド領域に形成するパッドブロックの設計条件を示した図である。
【図８】多重ノズルヘッドの傾斜角が大きい場合のインク弾着の様子を示した図である。
【図９】多重ノズルヘッドの傾斜角が小さい場合のインク弾着の様子を示した図である。
【図１０】本発明によって設計されたセル領域、連結領域、及びパッド領域の全体を示した上部平面図である。
【図１１】本発明によってＰＤＰの前面基板のスキャン電極とサステイン電極を形成した場合の基板写真である。
【図１２】本発明によってＰＤＰの前面基板のパッドブロックを形成した場合の基板写真である。
【図１３】本発明によってセル領域、連結領域、及びパッド領域を形成したときの基板写真である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、添付された図面を参照して本発明の望ましい実施例を詳しく説明する。これに先立ち、本明細書及び請求範囲に使われた用語や単語は通常的や辞書的な意味に限定して解釈されてはならず、発明者自らは発明を最善の方法で説明するために用語の概念を適切に定義できるという原則に則して本発明の技術的な思想に応ずる意味及び概念で解釈されねばならない。したがって、本明細書に記載された実施例及び図面に示された構成は、本発明のもっとも望ましい一実施例に過ぎず、本発明の技術的な思想のすべてを代弁するものではないため、本出願の時点においてこれらに代替できる多様な均等物及び変形例があり得ることを理解せねばならない。
【００２４】
以下、ＰＤＰの前面基板にバス電極、連結配線、及びパッドブロック（これら全て「ラインパターン」の一種）を形成する場合を一実施例として本発明の構成を詳しく説明するが、本発明がディスプレイ基板の種類とラインパターンの具体的な種類によって限定されないことは本発明が属した技術分野で通常の知識を持つ者には自明である。
【００２５】
図６は、本発明の望ましい実施例によって多重ノズルヘッドに備えられたノズル間隔の設計条件、及びＰＤＰの前面基板のセル領域に形成するバス電極の設計条件を示した図である。
【００２６】
図面を参照すれば、多重ノズルヘッド１００を用いたインクジェットプリント法でバス電極Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２を形成するときは、多重ノズルヘッド１００に備えられたノズル１１０のピッチとバス電極パターンとの間隔が正確に一致しないため、多重ノズルヘッド１００を一定の角度θほど回転させてバス電極パターンの間隔とインク弾着ラインの間隔とを正確に合わせる。ここで、インク弾着ラインとは、ノズルを通って噴射されたインクが弾着される地点を連結した直線を言う。もちろん、多重ノズルヘッド１００を回転させなくてもバス電極パターンの間隔とインク弾着ラインの間隔とが一致する場合は、θを０に設定することができる。
【００２７】
一方、多重ノズルヘッド１００はその特性上、複数のノズル１１０が全て等間隔で配置されているため、全てのノズル１１０からインクを噴射すれば各ノズルによって形成されるインク弾着ラインはその間隔が全て同一になる。もし形成しようとするバス電極が多重ノズルヘッド１００によって形成されるインク弾着ライン上に正確に位置せずそれらの間に位置すれば、１回のヘッド移動では全体のバス電極を形成することができない。したがって、インク弾着ラインに整合しないバス電極のグループ数ほど多重ノズルヘッドのスキャンを繰り返してバス電極を形成しなければならない。
【００２８】
本発明は、上記のような問題点を解決するため、異なる機能をするラインパターンを多重ノズルヘッドを用いて形成するとき、多重ノズルヘッドによって形成されるインク弾着ライン線上にラインパターンが全て位置するようにノズル間隔の設計条件とラインパターンの位置設計条件とを整合させることで、多重ノズルヘッドのスキャン回数を減少させることを特徴とする。
【００２９】
より具体的に、本発明は、図６に示されたように、セル領域のバス電極を構成するスキャン電極Ｘ１、Ｘ２とサステイン電極Ｙ１、Ｙ２の間隔を設計するとき、スキャン電極Ｘ１、Ｘ２とサステイン電極Ｙ１、Ｙ２間の距離Ｄｓ、及びセルの高さＤｐ（通常、セルの高さはセルの幅と同一）を多重ノズルヘッド１００に備えられたノズル１１０の線間隔Ｄｎの倍数に設定する。ここで、ノズル１１０の線間隔は、多重ノズルヘッド１００が電極の進行方向となす角をθとするとき、「ノズルピッチ×ｓｉｎθ」によって計算される値である。上記のようにノズル１１０の線間隔Ｄｎ、及びスキャン電極Ｘ１、Ｘ２とサステイン電極Ｙ１、Ｙ２の間隔を設計すれば、異なる機能をするスキャン電極Ｘ１、Ｘ２とサステイン電極Ｙ１、Ｙ２が多重ノズルヘッド１００によって形成されるインク弾着ライン上に全て位置するようになるため、一回のヘッドスキャンでスキャン電極Ｘ１、Ｘ２とサステイン電極Ｙ１、Ｙ２を同時に形成することができる。一方、インク弾着ライン上の全てのインクが断線なく連結されるためには、インク滴のピッチがインク滴直径の０．３〜５倍であることが望ましい。
【００３０】
図７は、本発明の望ましい実施例によって多重ノズルヘッドに備えられたノズル間隔の設計条件、及びＰＤＰの前面基板のパッド領域に形成するパッドブロックの設計条件を示した図である。
【００３１】
図面を参照すれば、パッド領域に形成されるパッドブロックＰＢ１、ＰＢ２は１つ以上のノズル１１０によって形成される複数のインク弾着ラインＺＬが１つとして結合されて形成される。パッドブロックＰＢ１、ＰＢ２はセル領域に形成されるバス電極と１：１に対応するように形成され、図面でＰＢ１とＰＢ２はそれぞれスキャン電極とサステイン電極を外部の電極と連結するためのパッドブロックである。例えば、ＰＢ１はセル領域のスキャン電極を外部電極と連結するためのパッドブロックであり、ＰＢ２はセル領域のサステイン電極と外部電極を連結するためのパッドブロックである。
【００３２】
本発明は、パッド領域にパッドブロックＰＢ１、ＰＢ２を形成するときにも、パッドブロックの間隔Ｐ１、Ｐ２をノズル線間隔Ｄｎの倍数に設定する。ここで、パッドブロックの間隔Ｐ１、Ｐ２はパッドブロックの上端辺を基準にした間隔である。すると、パッドブロックＰＢ１、ＰＢ２を形成するために結合される全てのインク弾着ラインＺＬの位置が多重ノズルヘッド１００によって形成されるインク弾着ラインＺＬと正確に一致するため、多重ノズルヘッド１００を１回スキャンしただけでもスキャン電極及びサステイン電極とそれぞれ連結されたパッドブロックＰＢ１及びＰＢ２を同時に形成することができる。
【００３３】
一方、パッドブロックＰＢ１、ＰＢ２は複数のインク弾着ラインＺＬが結合されて形成されるため、多重ノズルヘッド１００の傾斜角θに応じてインク弾着ラインＺＬ間の結合可否が決定される。例えば、図８に示されたように、多重ノズルヘッド１００の傾きを大きくしてノズル１１０の線間隔を狭くすれば、ノズル１１０から噴射されたインク滴が互いに結合して線幅が広くなる。そのために、ヘッド１００の傾きを大きくするほどヘッド１００のスキャン幅が細くなり、同一面積に対してインク噴射工程を行うと仮定すれば、より多い回数のスキャンを行わなければならないという短所がある。反面、図９に示されたように、多重ノズルヘッド１００の傾きを小さくすれば、隣接するインク滴が相互結合できずに断線が発生する恐れがある。したがって、多重ノズルヘッド１００の傾斜角に応じて計算されるノズル１１０の線間隔は、噴射されるインク滴の大きさとインクの拡がり性に応じて適切に調節されなければならない。このような点を勘案し、ノズル１１０の線間隔は噴射されたインク滴直径の０．３〜５倍であることが望ましい。
【００３４】
本発明は上述した設計条件の外に連結領域に形成される連結配線の形態を従来と違って直線型に設計することで、連結配線で断線が発生することを防止する。これについて図１０を参照して説明する。
【００３５】
図１０は、本発明によって設計されたセル領域、連結領域、及びパッド領域全体を示した上部平面図である。
【００３６】
図面を参照すれば、本発明は連結領域に形成される連結配線１３０を直線型に設計する。パッドブロック１２０とバス電極１４０とはその幅が異なるため、前記連結配線１３０はテーパー状になる。パッドブロック１２０とバス電極１４０は１：１で対応するため、パッドブロック１２０の間隔Ａ１とバス電極１４０の間隔Ａ２は同一であってそれぞれの間隔はノズル線間隔の倍数である。バス電極１４０は複数のインク噴射ラインの結合によって形成できるが、このような場合、バス電極１４０の間隔Ｂ１とバス電極１４０の線幅Ｂ２もノズル線間隔の倍数になる。
【００３７】
上記のようにセル領域、連結領域、及びパッド領域が設計されれば、セル領域全体の高さＣ２とパッド領域の全体高さＣ１は同一である。また、多重ノズルヘッドに備えられた複数のノズルのうち、インクが噴射されるノズルを選択的に制御すれば、１回のスキャンでパッドブロック１２０、連結配線１３０、及びバス電極１４０を同時に形成できるだけでなく、連結配線１３０が直線型で設計されているため、連結配線１３０の部位で断線が発生する従来の問題を解決することができる（図４参照）。
【００３８】
上述した本発明の実施例は、ＰＤＰの前面基板のセル領域、連結領域、及びパッド領域に多重ノズルヘッドを用いてラインパターンを形成する場合に関する。しかし、本発明はこれに限定されないため、セル当り形成するラインパターンの種類が複数であればＰＤＰ以外の他のディスプレイ基板にも適用することができる。例えば、本発明はＬＣＤ ＴＦＴのソース及びドレーン電極、ＯＬＥＤの電極、及び太陽電池の電極などの形成に広く適用することができる。
【００３９】
＜実際の適用例＞
図１１は、１２８個のノズルを持つ多重ノズルヘッド（Ｄｉｍａｔｉｘ社製、ＳＥ−１２８ヘッド）でＰＤＰの前面基板のバス電極（スキャン電極及びサステイン電極）を形成した写真である。ＳＥ−１２８ヘッドのノズル間隔は５０８ｕｍであってノズル直径は３８ｕｍである。このとき、水平方向のインク滴のピッチは噴射滴の大きさ４０ｕｍの２倍である８０ｕｍであり、ノズル線間隔Ｄｎは噴射滴の大きさの２．２５倍である９０ｕｍである。スキャン電極とサステイン電極との間隔Ｄｓは２７０ｕｍであり、セル間隔Ｄｐは１０８０ｕｍであってノズル線間隔の倍数で設定した。６つのラインを形成するためにヘッドスキャンを１回のみ実施し、使用したノズル番号は下から１番、４番、１３番、１６番、２５番、２８番ノズルであった。図１２はパッド領域に形成したパッドブロックを撮影した写真である。同一セル内におけるパッドブロックの間隔は８１０ｕｍであり、隣接するセルを基準にしたパッドブロックの間隔は２１６０ｕｍであって、両方ともノズル線間隔９０ｕｍの倍数に設定した。また、各パッドブロックは５つのインク弾着ラインを結合させて形成し、４つのパッドブロックを１回のヘッドスキャンで同時に形成した。
【００４０】
図１３は、上述した噴射条件でセル領域、連結領域、及びパッド領域を形成したときの基板上部の一部を撮影した写真である。連結配線を直線型に設計することで連結配線部分で断線の可能性を減らすことができた。
【００４１】
以上のように、本発明を限定された実施例及び図面によって説明したが、本発明はこれに限定されるものでなく、本発明が属する技術分野で通常の知識を持つ者によって本発明の技術思想と特許請求の範囲の均等範囲内で多様な修正及び変形が可能であることは言うまでもない。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明によれば、多重ノズルヘッドを用いたインクジェットプリント法でディスプレイ基板上にラインパターンを形成するとき、ラインパターン間の相互組合せ可能な間隔をノズルヘッド線間隔の倍数に設定することで、多重ノズルヘッドのスキャン回数を減少させることができる。また、ディスプレイ基板のセル領域とパッド領域との間の連結領域に形成されるラインパターンを直線型に設計することで、インク噴射によってラインパターンを形成するとき、断線が発生する可能性を減少させることができる。
【符号の説明】
【００４３】
２０    セル領域
２５    バス電極
３０    パッド領域
３５    パッドブロック
４０    連結領域
４５    連結配線
１００    多重ノズルヘッド
１１０    ノズル
Ｘ    スキャン電極
Ｙ    サステイン電極
Ｄｎ    ノズル線間隔
Ｄｐ    セル高さ
Ｄｓ    スキャン電極とサステイン電極との間隔
【図１】
0005703507.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１３】
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【図１４】
0005703507.tif 000014
【図１２】
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