(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属表面の酸化浸食または酸化浸食による除染方法であって、
浸食または除染される金属表面を分極すること、該表面の腐食電位よりもよりアノード電位においてマンガン（ＶＩＩ）を含有する溶液と接触させることからなる工程を含み、該分極が間欠的なものであり、少なくとも１回の電気パルスによって生じ、それによって該金属表面が酸化浸食に供されることを特徴とする、方法。
【請求項２】
金属表面が分極する電位と該表面の腐食電位との間のアノード過電圧が、０．００５から０．８００Ｖの間にあることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
各パルスの持続時間が、１秒±０．１秒から１時間±６分の間であることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
パルスの頻度が、２５０ｈ−１から０．０５ｈ−１の範囲であることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記溶液が、硝酸を含有することを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
オゾンの存在下で行われることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
マンガンが、初めにマンガン（ＩＩ）、マンガン（ＩＶ）、マンガン（ＶＩＩ）、またはそれらの混合物の形態で前記溶液に添加されることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
マンガンが、初めに５００ｍｇ／Ｌ未満の濃度で前記溶液に添加されることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
マンガン（ＶＩＩ）をマンガン（ＩＩ）に安定化させることからなる後続の工程を含むことを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記安定化工程が、前記マンガン（ＶＩＩ）を含有する溶液に過酸化水素水（Ｈ２Ｏ２）を添加することからなることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
以下の工程（ａ）〜（ｆ）、工程（ａ）〜（ｅ）、工程（ｂ）〜（ｆ）または工程（ｂ）〜（ｅ）からなる工程を含むことを特徴とする、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法、
ａ）浸食または除染される金属表面を少なくとも１回の非腐食性リンスに供すること；
ｂ）マンガン（ＩＩ）、マンガン（ＩＶ）およびマンガン（ＶＩＩ）から選択される少なくとも１種のマンガンを溶液中に置くこと；
ｃ）工程（ｂ）で得られた溶液がマンガン（ＩＩ）および／またはマンガン（ＩＶ）を含む場合、該溶液をオゾンと接触させること；
ｄ）前記浸食または除染される金属表面を、工程（ｃ）が実施されない場合には工程（ｂ）の後で、あるいは、工程（ｃ）が実施される場合には工程（ｃ）の後で得られた溶液と接触させること；
ｅ）前記浸食または除染される金属表面を、工程（ｃ）が実施されない場合には工程（ｂ）の後で、あるいは、工程（ｃ）が実施される場合には工程（ｃ）の後で得られた溶液と接触させた状態で、前記表面の腐食電位よりもよりアノード電位において分極化すること；
ｆ）前記溶液に含有されるマンガン（ＶＩＩ）をマンガン（ＩＩ）に安定化すること。
【請求項１２】
工程（ｄ）および（ｅ）がオゾンの存在下で実行されることを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
−溶液にオゾンを添加するのに適合した手段、および
−金属表面を分極するのに適合した手段
を含むことを特徴とする、請求項１から１２のいずれか一項で定義されたような方法において使用されることができる装置。
【請求項１４】
前記溶液にオゾンを添加するのに適合した手段が、トランスファー、天然水中または真空エアリフト；ミキサーエアリフト、およびそれを介して液体または気体の試薬が添加され得る浸漬されたパイプの中から選択される少なくとも１つの要素を含むことを特徴とする、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
金属表面を分極するのに適合した手段が、直流または電圧発生器、該金属表面を電気的に該発生器と接続するのに適合した手段、および該発生器を制御および指令するのに適合した手段を含むことを特徴とする、請求項１３または１４に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の分野は、設備の除染、とりわけ核施設の壁および金属構成部の放射能除染に関する分野に関連する。
【０００２】
本発明は、除染される表面の間欠的な分極を併用し、酸化剤としてマンガン（ＶＩＩ）を使用する酸化浸食による化学エッチングを伴う上記施設の除染方法を提案する。本発明はまた、この除染に使用される装置にも関連する。
【背景技術】
【０００３】
放射性元素を含有する金属酸化物を含む放射能汚染物質は、原子炉または使用済み燃料処理施設の構成部の壁に表面吸着の現象を介して付着する。したがって、その除染には２から１０μｍの浸食で十分であると考えられる。
【０００４】
金属表面、とりわけ加圧水型原子炉の構成部の金属表面または解体された核施設由来の設備の金属壁を除染するための文献調査により、酸化剤および硝酸の十分に高濃度の溶液を使用してＡＩＳＩ  ３０４Ｌ  ステンレススチールの表面を酸化する処理方法の実現可能性が明らかになった。より詳細には、ステンレススチールの除染は硝酸溶媒中に酸化剤としてマンガン（ＶＩＩ）を使用して、またはオゾン化硝酸溶媒（オゾン化空気または酸素）中にセリウム（ＩＶ）を使用してなし得る。これらの結果は既に特許文献１−４に記載されている。当該分野のこの状況においては、０．０３５−０．１Ｍ硝酸溶媒中において８０℃（特許文献１）までの温度で除染が実施される。
【０００５】
したがって、提案される強力な酸化剤はセリウム（ＩＶ）（特許文献１）またはマンガン（ＶＩＩ）（特許文献２−４）であり得る。それらの酸化還元電位は非常に高く：Ｃｅ４＋／Ｃｅ３＋の対およびＭｎＯ４−／Ｍｎ２＋の対に関してそれぞれ１．７４Ｖ／ＳＨＥおよび１．５１Ｖ／ＳＨＥである。
【０００６】
セリウムと比べてマンガンは、液体の放射性放出物の処理に関する全てのチャンネルに顕著に受け入れ可能なので、除染後に扱いやすいという利点を有する。排出処理は可逆的に利用され、安全化される。
【０００７】
しかしながら、マンガンに関しては、マンガン（ＶＩＩ）（ＭｎＯ４−）（Ｅ°ＭｎＯ４−／ＭｎＯ２  ＝  ＋１．６２Ｖ／ＳＨＥ）は水（Ｅ°Ｏ２／Ｈ２Ｏ  ＝  １．２３Ｖ／ＳＨＥ）と反応するので、プロセスを通じて酸化マンガン（ＩＶ）（ＭｎＯ２）の自然な生成がある。ＭｎＯ２の堆積は必然的に、除染されるステンレススチール製部分の表面上に形成される。この堆積は、マンガン（ＶＩＩ）の利用可能な濃度の進行性減少を含み、したがって、金属の腐食速度が相当減速する。酸化剤の有効性もまた、時間とともに急速に減少する。さらに、金属上へのＭｎＯ２の堆積開始は、その表面が酸化されなくなるので除染有効性の観点から有害である。
【０００８】
マンガン（ＶＩＩ）を使用する先の特許出願はこれらの欠点に言及し、高濃度の酸化剤の使用に至っている（特許文献２−４）。例としては、これらの文献で提案されるＭｎ（ＶＩＩ）の濃度は次のとおりである：２４ｈ、２ｈ、および８ｈの順にそれぞれ異なる処理時間に渡って、０．９４８−１５．８００ｇ（特許文献２）；１．０−５．０ｇ（特許文献３）；０．５−１．４ｇ（特許文献４）。ＭｎＯ２沈殿の問題を解決するために提案された別の技術的解決策は、超音波または気体のバブリングによって酸化溶液を撹拌することからなる（特許文献３）。
【０００９】
マンガンのこれらの添加は廃棄物として管理され、貯蔵されるべきである。除染のために使用されるマンガンの量は、厳密な必要最小限まで必ず低減されなければならない。
【００１０】
マンガンのさらなる短所は、水性溶液中におけるその相対的な不安定さであり、処理の終わりにおける生成物を安定化、一般的には還元して、制御されていないあらゆる沈殿を防止する必要がある。これらの安定化剤は：
−アルカリ性のグルコン酸塩（特許文献２）、アスコルビン酸（特許文献３）、クエン酸（特許文献３）、ＥＤＴＡ（特許文献３）、デヒドロアスコルビン酸（特許文献４）、アスコルビン酸（特許文献４）、アルドール（特許文献４）、還元糖（特許文献４）などの有機物、
−または、水酸化ナトリウム（特許文献２）などの無機物
であり得る。
【００１１】
これらの不可逆的な安定化剤の使用は、除染放出物のより複雑な処理につながる。
【００１２】
したがって、マンガンを酸化剤として合理的な量で使用する除染方法であって、その有効性が方法の進行を通じて維持され、安定化剤をほとんどまたは全く必要としない方法に対する真の必要性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】フランス国特許出願第２７９２７６３号
【特許文献２】フランス国特許出願第２６４１８９５号
【特許文献３】フランス国特許出願第２６４４６１８号
【特許文献４】フランス国特許出願第２８５０６７３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、腐食を進めるために酸化剤マンガン（ＶＩＩ）（ＭｎＯ４−）を使用する酸化浸食を介する化学エッチングを伴う除染方法であって、上述の必要性および技術的問題を満足させる方法を提供することを目指す。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明に従う方法を通して、除染される表面上への沈殿によるＭｎＯ２の堆積は、最小まで低減され、完全に回避されることすらある。この理由により、処理プロセスの全体に渡って、マンガン（ＶＩＩ）の酸化能は、この酸化剤を高い初期量で使用すること、または処理の間にマンガンを追加供給することを必要とすることなく一定に維持される。
【００１６】
最後に、本発明の方法は、金属表面を除染するだけでなく、放射性元素がその表面に付着しているか否かに関わらず、酸化によって任意の金属表面を浸食することに使用され得るので、注目すべきものである。
【００１７】
したがって、本発明は、マンガン（ＶＩＩ）を含有する溶液Ｓと接触した状態で配置された浸食または除染される金属表面を、該表面の腐食電位よりもよりアノードの電位において分極することからなる工程を含む、金属表面の酸化浸食または除染方法に関連する。
【００１８】
以下の実験の項で提示する通り、本発明者らの研究によって、浸食または除染される金属表面を十分な電位にすることにより、金属表面上でマンガンをその酸化形態Ｍｎ（ＶＩＩ）の状態で維持し、この表面上へのＭｎＯ２の沈殿を防止することが可能であることが証明できた。
【００１９】
本発明において、《金属表面》とは、少なくとも８０％、とりわけ少なくとも９０％、特に少なくとも９５％、より特に少なくとも９９％が金属または金属混合物から形成された表面を意味する。有利なことには、該金属表面は金属のみを含有する。
【００２０】
上記金属表面を形成するもしくはその中に存在する金属または金属混合物は、０価を有する。有利なことには、金属は、オーステナイトスチール、マルテンサイトスチール、フェライトスチール、およびフェライト−オーステナイトスチールなどのステンレススチールの中、より特に、ＩＮＣＯＬＯＹ（登録商標）スチール、ＩＮＣＯＮＥＬ（登録商標）スチール、ＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチール、およびＡＩＳＩ  ３１６Ｌステンレススチールの中から選択される。
【００２１】
さらに、本発明の方法は、大きさおよび形状に関わらず、任意の金属表面上に実施されることができる。浸食または除染される表面は、とりわけ、内部回路の、ダクトの、原子炉の、使用済核燃料を扱う施設における設備の、および加圧水によって冷却される原子炉における一次回路の金属表面である。
【００２２】
有利なことには、金属表面が分極される電位と該表面の腐食電位との間のアノード過電圧は、０．００５から０．８００Ｖの間、とりわけ０．０１０から０．５００Ｖの間、特に０．０２０から０．２００Ｖの間、より特に０．０５０から０．１００Ｖの間にある。
【００２３】
本発明においては、本方法の間に金属表面が分極される電位がＥａｐｐｌｉｅｄとされており、該金属表面の腐食電位がＥｒｅｓｔとされる。したがって、浸食または除染される金属表面に印加され、πとされるアノード過電圧は、π＝Ｅａｐｐｌｉｅｄ−Ｅｒｅｓｔである。
【００２４】
興味深いことに、本発明者らは、浸食または除染される金属表面に該表面の腐食電位よりもよりアノード電位を間欠的な方法で印加することにより、本発明に従う方法を通して、電解質の電気分解、とりわけ水素ガスの放出を防止できることに気付いた。
【００２５】
したがって、本発明の下で使用される分極は、有利なことには間欠的であり、少なくとも１回の電気パルスによって発生する。より詳細には、この分極は少なくとも２回、とりわけ少なくとも５回、特に少なくとも１０回、より特に少なくとも２０回の電気パルス／秒によって発生する。同一の浸食または除染サイクルの間に使用される種々の電気パルスは持続時間および強度の点で互いに独立している。同様に、電気パルスの頻度は同一サイクルを通して一定であってもよく、一定でなくてもよい。
【００２６】
有利なことには、本発明の方法に従う浸食または除染される表面の間欠的な分極の間の各パルスの持続時間は、約１秒から約１時間；とりわけ約１０秒から約４５分；特に約１分から約３０分；より特に約１００秒から約１０００秒の範囲である。
【００２７】
本発明において、《約ｘ秒》、《約ｘ分》、および《約ｘ時間》は、ｘは上記のような整数であり、それぞれ《ｘ秒±（ｘ／１０）秒》、《ｘ分±（ｘ／１０）分》、および《ｘ時間±（ｘ／１０）時間》を意味する。
【００２８】
特に、本発明の方法に従う浸食または除染される表面の間欠的な分極の間のパルスの頻度は、２５０ｈ−１から０．０５ｈ−１の間、とりわけ１００ｈ−１から０．１ｈ−１の間、特に５０ｈ−１から０．５ｈ−１の間にある。
【００２９】
本発明に従う金属表面の酸化浸食または除染方法は、間欠的な酸化および低いアノード過電圧によって特徴づけられる。これらの条件下において、浸食または除染される金属表面上の電流密度は非常に低く、有利なことには、０．１から５．０Ａ．ｍ−２の間、とりわけ０．２から２．０Ａ．ｍ−２の間、特に０．５から１．０Ａ．ｍ−２の間にある。
【００３０】
腐食駆動力、すなわちマンガン（ＶＩＩ）（ＭｎＯ４−）を含有し、本発明の方法に従う浸食または除染される表面と接触する酸化溶液Ｓは、有利なことには水性溶液である。この溶液Ｓは、マンガン（ＶＩＩ）に加えて酸を含み得る。この酸は、有利なことには鉱酸である。該酸は、硝酸、リン酸、塩酸、および硫酸を含む群から選択され得る。
【００３１】
特に有利な方式では、腐食のための駆動力、すなわちマンガン（ＶＩＩ）（ＭｎＯ４−）を含有し、本発明の方法に従う浸食または除染される表面と接触した状態に置かれる酸化溶液Ｓは、硝酸を含む。
【００３２】
浸食または除染される表面と接触する酸化溶液Ｓに含有され得る酸、特に硝酸は、とりわけ金属表面の保護層にイオン透過性を与え、それにより、この表面の酸化腐食に対する感受性を高める。このことは、浸食または除染される表面の金属がステンレススチールを含有する場合に特に重要である。
【００３３】
浸食または除染される表面と接触する酸化溶液Ｓに含有され得る酸、特に硝酸は、酸化溶液Ｓ中、０．０１から１０ｍｏｌｅｓ／Ｌの間、とりわけ０．０５から５ｍｏｌｅｓ／Ｌの間、特に０．１から３．５ｍｏｌｅｓ／Ｌの間、より特に０．５から２ｍｏｌｅｓ／Ｌの間の濃度で存在する。
【００３４】
本発明の方法に従う浸食または除染される金属表面の酸化反応の間に、マンガン（ＶＩＩ）はマンガン（ＩＩ）に還元される。したがって、それは再生されることを必要とする。マンガン（ＶＩＩ）よりも酸化力の高い化合物が関与する任意の反応がこの再生のために使用され得る。
【００３５】
しかしながら、本発明に従う金属表面の触媒的浸食または除染方法は、オゾンの存在下で実行される。有利なことには、該方法はオゾンフラッシング下で実施される。出願ＦＲ２７９２７６３［特許文献１］においてセリウム（ＩＶ）／セリウム（ＩＩＩ）の対に関して記載されているように、オゾンは本発明の下でマンガン（ＩＩ）からマンガン（ＶＩＩ）を再生するために使用される。
【００３６】
オゾンの溶解、溶液中への配置、または溶液への添加を可能にする当業者に既知の任意の技術に従って、オゾンは本発明に従う方法について使用されるマンガン（ＶＩＩ）を含有する溶液に溶解され得、溶液中に置かれ得、または溶液に添加され得る。
【００３７】
１つの特定の実施形態において、オゾンはオゾン含有ガスの形態でマンガン含有溶液に直接添加される。この実施形態は、とりわけ出願ＦＲ２７９２７６３［特許文献１］において使用された形態である。該ガスは、有利なことにはオゾンに加えて、酸素および窒素の間から選択された少なくとも１つのガスを含む。マンガン（ＶＩＩ）および任意にマンガン（ＩＩ）を含有する溶液Ｓに添加されるガスは、より特にオゾン化空気およびオゾン化酸素の間から選択される。
【００３８】
本発明下で使用されるオゾン含有ガスのオゾン含有量は、１から６００ｇ／Ｎｍ３の間、とりわけ５から４００ｇ／Ｎｍ３の間、特に１０から２５０ｇ／Ｎｍ３の間、さらに特に２０から５０ｇ／Ｎｍ３の間である。
【００３９】
この実施形態の第一の変形において、オゾン含有ガスは、トランスファー、天然水中または真空エアリフト、および／またはミキサーエアリフトのいずれかであり得る２つの気液接触部材の手段によって、本発明に従う方法の溶液Ｓに添加される。
【００４０】
この実施形態の第二の変形において、オゾン含有ガスは、それを介して液体または気体の試薬が添加され得る任意の浸漬されたパイプの手段による直接注入によって、本発明に従う方法の溶液Ｓに添加される。
【００４１】
これら２つの変形において、使用される手段は、マンガン（ＩＩ）をマンガン（ＶＩＩ）に再生するためにオゾンをマンガン含有溶液中へ確実に移動し、本発明の酸化浸食または除染方法において使用される溶液Ｓにおけるマンガン含有量のほとんどをＭｎ（ＶＩＩ）の形態に確実に維持する。
【００４２】
オゾンは水性溶媒中にほとんど溶けないので、硝酸溶媒中およびオゾン単独の存在下におけるステンレススチールなどの金属表面の腐食速度は非常に遅いことに留意すべきである。
【００４３】
有利なことには、本発明の方法で使用されるマンガンは、初めにマンガン（ＩＩ）（Ｍｎ２＋）、マンガン（ＩＶ）（ＭｎＯ２）、マンガン（ＶＩＩ）（ＭｎＯ４−）、またはその混合物の形態で溶液Ｓに添加される。
【００４４】
本発明の下、《混合物》は、異なる酸化状態における２つまたは３つの形態のマンガンを含む混合物を意味する。
【００４５】
本発明に従う方法の１つの独創的な局面は、マンガンが、Ｍｎ（ＩＩ）、Ｍｎ（ＩＶ）、またはＭｎ（ＶＩＩ）の形態で差別なく溶液Ｓに初めに添加され得るという事実にある。マンガンは、その後、本発明に従う方法の実施条件下において、Ｍｎ（ＶＩＩ）、それは電解質中の大多数の種である、に転換される。当業者は特に、発明的な段階を必要とすることなく、浸食または除染される金属表面の分極の間に適用される温度、ｐＨ、および電位の条件を適合することができるであろう。
【００４６】
１つの変形において、マンガン（ＩＩ）（Ｍｎ２＋）の、またはマンガン（ＩＶ）（ＭｎＯ２）のマンガン（ＶＩＩ）（ＭｎＯ４−）への転換は、Ｍｎ（ＩＩ）からのＭｎ（ＶＩＩ）の再生に関して定義されたような条件下における硝酸溶媒中のオゾンの使用を通じて得られ得る。
【００４７】
本発明に従う金属表面の酸化浸食およびとりわけ除染方法は、その有効性が方法全体を通して一定のままであるので、使用されるマンガンの初期量を非常に少なくできるという点で注目に値する。
【００４８】
有利なことには、マンガンは初めに、Ｍｎ（ＩＩ）、Ｍｎ（ＩＶ）またはＭｎ（ＶＩＩ）の形態で、溶液Ｓ中、５００ｍｇ／Ｌ未満、とりわけ１０から４００ｍｇ／Ｌの間、特に２０から２００ｍｇ／Ｌの間、より特に５０から１００ｍｇ／Ｌの間の濃度で添加される。
【００４９】
本発明に従う方法は、マンガン（ＶＩＩ）を水性溶媒中で十分に安定な形態であるマンガン（ＩＩ）に安定化させることからなる後続の工程を含み得る。
【００５０】
本発明の下、《後続の工程》は、マンガン（ＶＩＩ）を含有する酸化溶液の存在下における金属表面の酸化浸食または除染、および該表面の分極が十分であると考えられる場合に行われる工程を意味する。当業者は、創意工夫の必要もなく、この安定化を実行するために適した時点を理解するだろう。本発明の下、マンガン（ＶＩＩ）をマンガン（ＩＩ）に安定化するための任意の既知の工程が使用され得る。
【００５１】
しかしながら、本発明の方法に要求されるマンガンの最少量を考慮すると、この安定化工程は、従来技術の除染技術と違って、任意的な工程であることに留意すべきである。
【００５２】
この安定化の１つの特定の実施形態において、溶液Ｓに安定化剤、例えば安定化還元剤を添加する必要があり得る。有機無機を問わず、任意の既知の安定化剤が使用され得る。例えば、それは、アルカリ性グルコン酸塩、アスコルビン酸、クエン酸、ＥＤＴＡ、デヒドロアスコルビン酸、アスコルビン酸、アルドール、還元糖、水酸化ナトリウム、および過酸化水素水の中から選択され得る。
【００５３】
有利なことには、本発明の方法において使用される安定化還元剤は過酸化水素水（Ｈ２Ｏ２）である。この還元化合物は、マンガン（ＶＩＩ）をマンガン（ＩＩ）形態に安定化する。この反応の間、過酸化水素水が水に分解し、このことは、したがって、この操作が溶液Ｓに他の物質を何も添加しないことを意味する。さらに、除染を通して過酸化水素水が一旦消失すると、オゾン注入を繰り返すことによってマンガンは再度ＶＩＩの原子価状態になり得、安定化操作は可逆的なものになる。この特定の実施形態を用いて、本発明の方法は少なくとも２回、とりわけ少なくとも３回、特に少なくとも５回、より特に少なくとも１０回の酸化／安定化サイクルを有し得る。
【００５４】
マンガン（ＶＩＩ）を安定化する目的で溶液Ｓに添加され得る過酸化水素水の量は、溶液Ｓ中、０．００１から０．５ｍｏｌ／Ｌの間、とりわけ０．００５から０．４ｍｏｌ／Ｌの間、特に０．０１から０．２ｍｏｌ／Ｌの間、より特に０．０５から０．１ｍｏｌ／Ｌの間にある。
【００５５】
本発明に従う方法の安定化工程は必須ではないことが指摘されるべきである。当業者は、安定化工程が必要か否かを決定することができるであろう。マンガン（ＩＶ）の形態のマンガンを維持することは、とりわけ除染排出物を沈殿させることに大いに有利であり得、それにより、係る排出物を事前除染する。
【００５６】
本発明に従う金属表面の酸化浸食または除染方法はさらに、容易に除去できる汚染物質および／または金属表面上に付着している主な堆積物を取り除くために、１回以上のリンス、有利なことには非腐食性リンスに関する少なくとも１つの先行工程を含み得る。該工程は酸化工程の前に実行される。当業者は、このまたはこれらの種々のリンスに使用され得る種々の溶液を理解している。
【００５７】
要約すると、本発明に従う金属表面の酸化浸食または除染方法は、有利なことには：
ａ）任意に、浸食または除染される金属表面を少なくとも１回の非腐食性リンスに供すること；
ｂ）マンガン、例えば、マンガン（ＩＩ）、マンガン（ＩＶ）、マンガン（ＶＩＩ）を溶液中に置くこと；
ｃ）任意に、工程（ｂ）で得られた溶液をオゾンと、とりわけ上記で想定された実施形態で接触させること；
ｄ）該浸食または除染される金属表面を工程（ｂ）の後または任意に工程（ｃ）の後で得られた溶液と接触させること；
ｅ）該浸食または除染される金属表面を、工程（ｂ）の後または任意に工程（ｃ）の後で得られた溶液と接触させた状態で、該表面の腐食電位よりもよりアノード電位において、とりわけ上記で想定された実施形態で、分極させること；
ｆ）任意に、該溶液に含有されるマンガン（ＶＩＩ）を、とりわけ上記で想定された実施形態の下で（例えば、断続的な窒素フラッシングおよび／または過酸化水素水などの安定化剤の使用）、マンガン（ＩＩ）に安定化すること；
からなる工程を含む。
【００５８】
上記で想定された通り、および上記で想定された条件下で、工程（ｂ）および（ｃ）において準備された溶液は、有利なことには硝酸などの酸を含有する水性溶液である。工程（ｂ）で溶液中に置かれるマンガンの量は、上記で想定された量である。
【００５９】
工程（ｂ）＋（ｃ）は、任意に工程（ｄ）の後に実行され得る。同様に、該溶液のオゾンとの接触は、マンガン（ＩＩ）をマンガン（ＶＩＩ）に再生することを目的として、有利なことには工程（ｄ）および（ｅ）の間維持される。したがって、工程（ｄ）および（ｅ）はオゾンの存在下で実施される。
【００６０】
最後に、一連の工程（ｅ）および（ｆ）は、工程（ｆ）で使用される安定化剤が過酸化水素水である場合に、少なくとも２回、少なくとも３回、少なくとも５回、または少なくとも１０回反復され得る。
【００６１】
本発明に従う金属表面の酸化浸食または除染方法、より特に金属表面の分極を伴う酸化工程（上記工程（ｅ））は、０℃を超える、とりわけ０から８５℃の間、特に１０から６５℃の間、より特に２０から５０℃の間の温度において実施される。
【００６２】
同様に、工程（ｂ）および（ｄ）ならびに任意の工程（ａ）、（ｃ）および（ｆ）はそれぞれ互いに独立して０℃を超える、とりわけ０から８５℃の間、特に１０から６５℃の間、より特に２０から５０℃の間の温度において実施され得る。
【００６３】
金属表面の分極を伴う酸化工程（上記工程（ｅ））は、１から７２時間の間、とりわけ６から４８時間の間、特に１２から３６時間の間に渡って実行される。方法の全体、すなわち、任意工程（ａ）、（ｃ）および（ｆ）を有する工程（ｂ）、（ｄ）および（ｅ）は、２から９６時間の間、とりわけ４から７２時間の間、特に８から４８時間の間に渡って行われる。
【００６４】
本発明はまた、マンガン（ＶＩＩ）に対する安定化剤としての過酸化水素水の使用に関する上述の利点を考慮すると、マンガン（ＶＩＩ）を用いた金属表面の酸化処理および過酸化水素水を用いた還元処理工程を含む、金属表面の酸化による浸食方法または除染方法にも関連する。
【００６５】
この場合、マンガン（ＶＩＩ）を使用する酸化処理工程は、腐食を進めるためにマンガン（ＶＩＩ）を使用する当業者に既知の任意のプロセス、とりわけ特許文献［２−４］に記載の任意のプロセスに従って実施され得る。
【００６６】
還元剤としての過酸化水素水の使用に関して既に記載されている種々の実施形態もまた、変更すべきところは変更して本発明の方法の還元処理工程に適用される。
【００６７】
本発明はまた、本発明に従う方法のいくつかの局面に関して、とりわけ第一に浸食または除染される表面の分極を伴い、第二に窒素のフラッシングを伴う方法に対して使用され得る装置に関連する。
【００６８】
上記装置は：
−オゾンを溶液に添加するのに適合した手段、および
−金属表面を分極するのに適合した手段
を含む。
【００６９】
オゾンを溶液に添加するための既に記載された手段が本発明に従う装置に使用され得る。これらの手段は、トランスファー、天然水中または真空エアリフト；ミキサーエアリフト、および液体または気体の試薬を添加するための浸漬されたパイプの中から選択される少なくとも１つの要素、有利なことには少なくとも２つの要素を含む。
【００７０】
金属表面を分極するのに適合した手段は有利なことには、直流または電圧発生器、該金属表面の該発生器との電気的な接続に適合した手段、および該発生器を制御および指令して所望の電位における該表面の間欠的な分極を確保するのに適合した手段を含む。
【００７１】
本発明に従う装置はまた、オゾンの産生に適合した手段、および任意に過酸化水素水などの安定化剤を溶液に添加するのに適合した手段を含み得る。
【００７２】
本発明に従う方法の化学的側面
酸化還元反応
酸化状態のマンガンＭｎ（ＶＩＩ）は、腐食反応を進めて、設備を形成するＡＩＳＩ  ３１６Ｌ（Ｍ°）ステンレススチールなどの金属を酸化させる。
【００７３】
硝酸溶媒に関わる反応は：
ｎ  Ｍｎ（ＶＩＩ）  ＋  ５Ｍ０  ⇔  ｎ  Ｍｎ（ＩＩ）  ＋  ５Ｍ＋ｎ
（式中、２＜ｎ＜６）
である。
【００７４】
マンガン（Ｍｎ（ＶＩＩ））は、ＡＩＳＩ  ３１６Ｌステンレススチールなどの金属の種々の構成元素を酸化することができる：例えば、
−鉄：
Ｆｅ→Ｆｅ２＋＋２ｅ−  （Ｅ°＝−０．４４Ｖ／ＳＨＥ）および
Ｆｅ２＋→Ｆｅ３＋＋１ｅ−  （Ｅ°＝＋０．７７Ｖ／ＳＨＥ）
−ニッケル：
Ｎｉ→Ｎｉ２＋＋２ｅ−  （Ｅ°＝−０．２５Ｖ／ＳＨＥ）
−クロム：
Ｃｒ→Ｃｒ６＋＋６ｅ−  （Ｅ°＝−０．７４Ｖ／ＳＨＥ）
【００７５】
腐食駆動力の再生
スチールの酸化反応を通して、マンガン（ＶＩＩ）はマンガン（ＩＩ）に還元され、そのためその再生が必要となる。これにはマンガン（ＶＩＩ）よりも酸化力の高い化合物の使用を必要とする。
【００７６】
この再生は、以下の反応のようにオゾンを使用して達成される：
５Ｏ３＋２Ｍｎ（ＩＩ）＋１０Ｈ＋  ⇔  ５Ｏ２＋２Ｍｎ（ＶＩＩ）＋５Ｈ２Ｏ
【００７７】
オゾンが酸化剤を再生するので、Ｍｎ（ＶＩＩ）の再生を介して連続的な金属への攻撃が達成できる。
【００７８】
反応溶媒の安定化
反応の終わりの時点において、過酸化水素水の添加は、以下の反応のようにマンガン（ＶＩＩ）をマンガン（ＩＩ）に安定化する：
Ｍｎ（ＶＩＩ）＋５／２Ｈ２Ｏ２＋５Ｈ＋  ⇔  Ｍｎ（ＩＩ）＋５Ｈ２Ｏ
【００７９】
本発明の他の特徴および有利な点は、以下に与えられる非限定的な説明のための実施例を添付の図面を参照して解釈することにより、当業者にさらに明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】３７℃の温度において［ＨＮＯ３］＝０．５Ｍおよび種々のＭｎ（ＩＩ）初期濃度を用いた場合のＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの腐食電流密度の変化を示す。
【図２】３７℃の温度および種々のＭｎ（ＩＩ）初期濃度におけるＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの腐食電流密度に対する硝酸濃度の影響を示す。
【図３】［ＨＮＯ３］＝０．５Ｍおよび種々のＭｎ（ＩＩ）初期濃度におけるＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの腐食電流密度に対する温度の影響を示す。
【図４】３７℃の温度および６４ｍ−１の表面／体積比で、０．５Ｍ硝酸溶媒中２４ｈの攻撃時間に渡るＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの腐食速度に対するＭｎ（ＩＩ）濃度の影響を示す。
【図５】３７℃の温度および［ＨＮＯ３］＝０．５Ｍにおいて、静止して測定されたＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの分極抵抗の経時的変化に対するＭｎ（ＩＩ）初期濃度の影響を示す。
【図６】３７℃の温度および［ＨＮＯ３］＝０．５Ｍにおいて、Ｅ＝＋０．１Ｖ／Ｅｒｅｓｔで測定されたＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの分極抵抗の経時的変化に対するＭｎ（ＩＩ）濃度の影響を示す。
【図７】３７℃の温度、［Ｍｎ（ＩＩ）］＝１００ｍｇ／Ｌ、［ＨＮＯ３］＝０．５Ｍにおいて、ＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの腐食速度（１／Ｒｐ）に対する印加された電位の影響を示す。
【図８】［Ｍｎ（ＩＩ）］＝１００ｍｇ／Ｌ、３７℃の温度、およびＥ＝Ｅｒｅｓｔにおいて、ＨＮＯ３の０．５Ｍ溶液中で２４時間腐食した後のＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの表面のＳＥＭ写真である。
【図９】［Ｍｎ（ＩＩ）］＝１００ｍｇ／Ｌ、３７℃の温度、およびＥ＝＋０．１Ｖ／Ｅｒｅｓｔにおいて、０．５ＭのＨＮＯ３溶液中で２４時間腐食した後のＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの表面のＳＥＭ写真である。
【図１０】［Ｍｎ（ＩＩ）］＝１００ｍｇ／Ｌ、３７℃の温度、およびＥ＝＋０．２Ｖ／Ｅｒｅｓｔにおいて、０．５ＭのＨＮＯ３溶液中で２４時間腐食した後のＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの表面のＳＥＭ写真である。
【発明を実施するための形態】
【００８１】
本研究の目的は、酸化マンガン（ＩＶ）（ＭｎＯ２）の生成を限定的なものにし、それにより、持続的なオゾンフラッシング（過酸化水素水または空気）下に保持される硝酸溶媒へのマンガンの最小限の添加でＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの最大腐食を得るための最適の操作条件を提示することである。
【００８２】
第一の部分において、表面／体積（Ｓ／Ｖ）比を設定し、マンガン（ＩＩ）（Ｍｎ２＋）の初期濃度、硝酸濃度、温度などの種々のパラメーターを変化させることによってＡＩＳＩ  ３０４Ｌの挙動を調べた。これにより、ＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの腐食のための最適条件を決定することができる。この研究は、３つの電極を備えた電気化学セル中で実施した。ダブルジャンクションを備えた飽和カロメル電極を参照電極として、プラチナ電極を補助電極として使用した。
【００８３】
第二の部分において、電気化学セル中で先に決定した最適条件下、２リットルリアクター内でスチールの腐食を調べた。得られた結果により、方法の最適条件を確認した。続いて、腐食電位と比べてアノード過電圧をスチールに印加した。このアノード過電圧は、スチール表面上へのマンガン（ＩＶ）の堆積を回避し、したがって、時間が経過しても電解質中のＭｎ（ＶＩＩ）の濃度を一定に保つに違いなく、それにより、除染プロセスを通してずっとステンレススチールの腐食速度を維持する。ステンレススチール表面へＭｎＯ２が堆積しないことをこれらの条件下で確認した。
【００８４】
ステレンレススチールへの腐食攻撃後の表面形態を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、質量損失をマイクロバランスを使用して調べた。
【００８５】
Ｉ．電気化学セルの研究
電気化学セルの研究によって、実験条件が決定できた（Ｍｎ濃度、硝酸、および温度）。
【００８６】
Ｉ．１．３７℃におけるＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの腐食速度に対するマンガン初期濃度および硝酸濃度の影響
オゾン流速を１．５ｇ／ｈ／ｌに、Ｓ／Ｖ比を３４ｍ−１に設定した。
【００８７】
０．５Ｍに設定された硝酸濃度での種々のＭｎ（ＩＩ）［Ｍｎ２＋］初期濃度に関して、分極曲線をプロットした。
【００８８】
この実験で使用されたＭｎ（ＩＩ）初期濃度はそれぞれ：０、２５、５０、１００、１５０、および２００ｍｇ／Ｌであった。
【００８９】
分極曲線から、Ｍｎ（ＩＩ）［Ｍｎ２＋］初期濃度に関連してグラフを使って（カソードの拡散限界電流の刻み値を介して）ステンレススチールの腐食電流密度を決定した。結果を図１に示す。
【００９０】
ＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの腐食電流密度は、溶液中におけるＭｎ（ＩＩ）の初期濃度（［Ｍｎ（ＩＩ）］）と共に直線的に増加する。
【００９１】
この傾向の一次特性方程式は：
ｉｃｏｒｒ（ｍＡ．ｃｍ−２）＝５＊１０−４  ［Ｍｎ（ＩＩ）］  （ｍｇ／Ｌ）
である。
【００９２】
除染方法では、硝酸濃度は、一般に０．５Ｍよりも高く、２．５Ｍに到達し得る。これらの条件下で、３７℃におけるステンレススチールの腐食速度は初期のＭｎ（ＩＩ）濃度に関連して様々に変化する。二つの酸性度を比較する結果を図２に記録する。
【００９３】
硝酸の２つの異なる濃度に関して、腐食電流密度は、全体的にＭｎ（ＩＩ）の初期濃度と共に増加する。しかしながら、２．５Ｍの硝酸濃度において、腐食電流密度は１００ｍｇ／Ｌより大きいＭｎ（ＩＩ）初期濃度では一定のままである。
【００９４】
したがって、１００ｍｇ／Ｌ以上のＭｎ（ＩＩ）の初期濃度に関して、０．５Ｍの硝酸濃度に対するステンレススチールの腐食電流密度は２．５Ｍの硝酸濃度で得られるものよりも高くなる。
【００９５】
結論として、３７℃におけるステンレススチールの腐食速度は、低濃度の硝酸溶媒（０．５Ｍ）の溶液中に存在するＭｎ（ＩＩ）の初期濃度に伴って上昇する。しかしながら、硝酸濃度が２．５Ｍに到達する場合、腐食はＭｎ（ＩＩ）の初期濃度の上昇によって促進されないように思われる。
【００９６】
測定したところ、ＭｎＯ２の堆積物がＡＩＳＩ  ３０４Ｌスチールの表面に見られた。この堆積物は、２．５Ｍの硝酸濃度の場合に非常に大きい。これは、酸化剤の有効性を低減する堆積物の形成である。マンガンの高い初期濃度は、これらの条件下では役に立たないであろう。
【００９７】
Ｉ．２．ＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの腐食速度に対する温度および初期マンガン濃度の影響
温度および初期Ｍｎ（ＩＩ）濃度に関連するＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの腐食電流密度の変化（図３）は、０．５Ｍの硝酸濃度および３７℃の温度で観察されたものと比較可能である。
【００９８】
腐食電流密度は初期Ｍｎ（ＩＩ）濃度に伴って増加するが、温度によって様式が異なる。６０℃まで温度を上昇させると、ステンレススチールの腐食速度に悪影響となる。この温度では、ＭｎＯ２の黒色堆積物が他の全ての場合よりも非常に多い。それは硝酸濃度の上昇に伴ってさらに増加する。
【００９９】
温度は、ＭｎＯ２形成の速度に寄与する動力学的因子であり、これ（６０℃）は、２５℃および３７℃の温度と比べて、ステンレススチールの腐食速度の低減につながる。
【０１００】
２５℃では酸化マンガンの形成はごくわずかであるが、その温度は、３７℃で観察されるステンレススチールの腐食に匹敵する腐食ができるほど高くない。
【０１０１】
Ｉ．３．結論
我々の実験結果によれば、電気化学セルにおけるステンレススチールの腐食速度は、０．５Ｍの硝酸濃度およびオゾン化媒体（オゾン化空気または酸素）を用いた場合に０−２００ｍｇ／Ｌの範囲にわたってＭｎ（ＩＩ）の初期濃度に伴って上昇する。
【０１０２】
しかしながら、６０℃までの温度の上昇および／または硝酸濃度の上昇は、ＭｎＯ２の黒色堆積物の形成を促進する。この堆積物の形成は、酸化剤（ＭｎＯ４−）の有効濃度を低減し、これはステンレススチールの腐食速度の低下につながる。
【０１０３】
ＩＩ．リアクターにおける研究
リアクター内での研究のおかげで、ＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの腐食速度を実際の除染条件下で評価することができ、該条件の試験でＭｎＯ２の形成を回避することができる。
【０１０４】
ＩＩ．１．実験条件
２つの２リットルリアクターを直列に取り付ける。以下でリアクター１と指定する第一のリアクターに硝酸溶液および硝酸マンガン（Ｍｎ（ＩＩ））を添加する。このリアクター１にはエアリフトの手段によってオゾン（オゾン化空気または酸素）が供給されており、酸化されるべき溶液で満たされている。リアクター１へのオゾン（オゾン化酸素）流入速度を１０Ｌ／ｈに設定する。リアクター１への流入時のオゾン濃度は７２ｇ／Ｎｍ３である。このリアクター１内で、無色のＭｎ（ＩＩ）（Ｍｎ２＋）から紫色のＭｎ（ＶＩＩ）（ＭｎＯ４−）への完全な酸化が起こる。
【０１０５】
一旦、Ｍｎ（ＶＩＩ）形成の反応が完了すると、酸化溶液を第二のリアクター（リアクター２）に静かに移し、その中には既に６４ｍ−１の表面／体積比を有するＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールのシートが置かれている。Ｍｎ（ＶＩＩ）の再生を確実にするために、実験の間中、一定で連続的なオゾンの流入を維持する。
【０１０６】
リアクター２内部の電解質の温度をサーモスタットおよびこのリアクターが備えるダブルジャケットの手段によって一定に保持する。
【０１０７】
全ての電気化学測定に関して、飽和カロメル参照電極およびプラチナ電極を使用した。
【０１０８】
リアクター研究は、
−ＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの４０ｃｍ２のシート；
−０．５Ｍの硝酸濃度に対して、溶液中における１００および２００ｍｇ／Ｌの初期Ｍｎ（ＩＩ）濃度；
−３７℃の温度；
−２４ｈの時間
を用いた。
【０１０９】
ＩＩ．２  腐食電位での２４ｈ攻撃後におけるＡＩＳＩ  ３０４Ｌスチールの腐食速度に対する初期Ｍｎ（ＩＩ）濃度の影響
初期Ｍｎ（ＩＩ）濃度の関数としてμｍ／ｈで表わされるステンレススチールの腐食速度を図４に示す。結果は、３７℃で０．５Ｍ硝酸溶媒を用い、２４ｈの攻撃時間後に得られた。
【０１１０】
攻撃速度は、Ｍｎ（ＩＩ）濃度に比例している。溶液中における１００ｍｇ／ＬのＭｎ（ＩＩ）初期濃度に関して、２４ｈ後のステンレススチールの平均腐食速度は、０．０７μｍ／ｈであった。この値は既に、施設の表面除染を確実なものにするのに十分である。
【０１１１】
ＩＩ．３．ＭｎＯ２堆積物の形成のモニタリング。処理の間のステンレススチールの分極抵抗の測定。
リアクター２中でのステンレススチールの２４ｈ処理の間、ＭｎＯ２の堆積物がスチールの表面上に形成された。
【０１１２】
この現象の及ぶ範囲を評価するために、スチールの分極抵抗Ｒｐ（Ω．ｃｍ２）の変化を電気化学的｛でんき かがく てき｝インピーダンス分光法（ＥＩＳ）によってその期間にわたって測定した。この値は、ステンレススチールの腐食電位において決定されたボード線図またはナイキスト線図から、低周波での曲線を外挿することにより得られた。｛ぶんこうほう｝
【０１１３】
−３７℃の温度、
−０．５Ｍの硝酸濃度、および
−Ｍｎ（ＩＩ）の二つの濃度：１００ｍｇ／Ｌおよび２００ｍｇ／Ｌに関して：
プロセスの継続期間（すなわち、２４ｈ）の間中の分極抵抗の変動を（図５）に示す。
【０１１４】
１００ｍｇ／Ｌの初期Ｍｎ（ＩＩ）濃度を用いると、分極抵抗は、時間の経過とともに２０００ｏｈｍ．ｃｍ２から８０００ｏｈｍ．ｃｍ２まで増加する。
【０１１５】
この現象は、ステンレススチールの表面上におけるＭｎＯ２堆積物の形成を説明する。この堆積物は、２４ｈの期間に渡るステンレススチールの腐食速度の低下を引き起こす。
【０１１６】
２００ｍｇ／Ｌの初期Ｍｎ（ＩＩ）濃度を用いて同様の結果が得られた。分極抵抗もまた３ｈ以降は時間とともに増加したが、［Ｍｎ（ＩＩ）］＝１００ｍｇ／Ｌを用いて測定した場合よりも低いままであった。したがって、この場合もまたＭｎＯ２堆積物の形成があった。この溶媒はより酸化的であり、これはＲｐ（［Ｍｎ（ＩＩ）］＝２００ｍｇ／Ｌ）＜Ｒｐ（［Ｍｎ（ＩＩ）］＝１００ｍｇ／Ｌ）を説明する。これは、酸化剤の濃度が２倍に増加すると腐食速度が増加すると述べることと同等である。
【０１１７】
ＩＩ．４  結論。
リアクター内における２４ｈの処理を通してのステンレススチールの分極抵抗（Ｒｐ）の測定により、硝酸濃度が低く（０．５Ｍ）、温度がそれほど高くない（３７℃）場合でさえも漸進的上昇｛ぜんしんてき ぞうか｝が証明された。この分極抵抗の上昇は、より高い濃度の酸化剤を用いた場合にも観察された。測定時間に渡ってのこのＲｐの上昇は、ステンレススチールの腐食速度を低下させる。
【０１１８】
したがって、ＭｎＯ２堆積物の減速効果を制限するためには、溶媒の腐食攻撃に関するさらなる要素を提案することが必要である。この工程は、ＭｎＯ２堆積物の形成を制限または解消しなければならず、酸化溶媒に対して更なる攻撃要素として作用してはならない。
【０１１９】
ＩＩＩ．抗−ＭｎＯ２堆積電気化学処理。ＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの間欠的な酸化。
攻撃の間におけるステンレススチールの表面へのＭｎＯ２の形成を解消するために、本発明者らはステンレススチールの腐食電位（Ｅｒｅｓｔ）よりもわずかに高い電位を印加することを提案する。このようにスチールをよりアノード電位で保持することは、ＭｎＯ２堆積物の溶解を生じさせることのみを目的としている。酸化溶媒は既に大いに効果的であるので、金属の腐食速度は、この電位の変更を通して変更しなくてもよい。このことは、２４ｈを超えて確保されなければならない有効性を維持する。
【０１２０】
したがって、例えば、２つの前述のＭｎ（ＩＩ）濃度において、１時間毎に１０分間、３０４Ｌスチールのシートに対して０．１Ｖ／Ｅｒｅｓｔおよび０．２Ｖ／Ｅｒｅｓｔの過電圧を試験した。電極が腐食電位よりも高い電位に保持される時間は、リアクター内で自然発生的に形成されたＭｎＯ２の再可溶化に制限されなければならない。
【０１２１】
化学腐食に加えて電位が印加される場合は、これらの種々の状況に関して２４ｈに渡る分極抵抗の時間モニタリングによって、本方法に付与された有効性を決定できる。
【０１２２】
ＩＩＩ．１．  電位の印加。初期Ｍｎ（ＩＩ）濃度の分極抵抗に対する影響。
１００ｍｇ／Ｌおよび２００ｍｇ／Ｌの初期Ｍｎ（ＩＩ）濃度を用い、３７℃の温度における０．５Ｍ硝酸溶媒中、１０ｍｉｎ／ｈで電位＋０．１Ｖ／ＥｒｅｓｔがもたらされたＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの分極抵抗の変化を図６に示す。
【０１２３】
腐食電位を用いてなされた測定（図５）と対照的に、１００ｍｇ／Ｌおよび２００ｍｇ／Ｌの両方の初期Ｍｎ（ＩＩ）濃度に関して、時間が経過しても分極抵抗は一定のままであった。＋０．１Ｖ／Ｅｒｅｓｔのアノード電位のステンレススチールへの間欠的な印加（１０ｍｉｎ／ｈ）は、十分であり、ＭｎＯ２堆積物の不動態化効果を有効に解消した。
【０１２４】
さらに、両方の場合において、分極抵抗値は非常に近い。したがって、初期Ｍｎ（ＩＩ）濃度は、分極抵抗にほとんど影響を与えず、そのため腐食速度にもほとんど影響を与えないようにみえる。
【０１２５】
ＩＩＩ．２．印加電位の腐食速度に対する影響  
同じ操作条件下：Ｔ＝３７℃、硝酸濃度＝０．５Ｍ、初期Ｍｎ（ＩＩ）濃度＝１００ｍｇ／Ｌ、間欠スケジュール＝１０ｍｉｎ／ｈでステンレススチールの腐食速度（１／Ｒｐ）に対する印加電位の影響を比較した（図７）。３つのケースを想定した：
−電位が無印加  Ｅ＝Ｅｒｅｓｔ、
−Ｅａｐｐｌｉｅｄ＝＋０．１Ｖ／Ｅｒｅｓｔ
−Ｅａｐｐｌｉｅｄ＝＋０．２Ｖ／Ｅｒｅｓｔ。
【０１２６】
ステンレススチールへの＋０．２Ｖ／Ｅｒｅｓｔまたは＋０．１Ｖ／Ｅｒｅｓｔのアノード電位の間欠的印加は、腐食電位（Ｅｒｅｓｔ）を用いた試験と比較して腐食速度を著しく上昇（１／Ｒｐ比の上昇）させる。
【０１２７】
腐食速度は、より高い電位を印加する場合にも上昇するが、このことは目指している目的ではない。腐食速度が、最小の摂動で除染処理の間を通して一定のままであれば十分である。したがって、これらの結果によれば、そして特に、使用された実験条件下においては、＋０．１Ｖ／Ｅｒｅｓｔの電位の間欠的印加が好ましい。
【０１２８】
ＩＩＩ．３．結論。
ステンレススチールの電位をよりアノード値Ｅａｐｐｌｉｅｄ＝＋０．１Ｖ／Ｅｒｅｓｔにする間欠的シグナル（例えば、１０ｍｉｎ／ｈ）の印加は、ＭｎＯ２堆積物の形成を防止し、除染処理の全持続時間（２４ｈ）を通して腐食速度を一定に維持する。したがって、初期マンガン濃度は、１００ｍｇ／Ｌまで制限することができ、追加のマンガンが無くても２４ｈ有効なままである。
【０１２９】
間欠的酸化および低いアノード過電圧を用いる場合、ステンレススチール上の電流密度は、非常に低い。したがって、オゾン化酸素または空気で飽和され、かつ、酸化剤を多く含む水性溶媒中において、補助電極上での考慮すべき水素の放出は無い。
【０１３０】
ＩＶ．腐食の形態
ＩＶ．１．質量損失
腐食後のステンレススチール板の質量損失を表１にまとめる。当該板は
−Ｍｎ（ＩＩ）の初期濃度＝１００ｍｇ／Ｌを用い、０．５Ｍ硝酸溶媒中、２４ｈ、３７℃でのリアクター内における攻撃；
−または、同じ条件下で、さらに、＋０．１Ｖ／ＳＨＥでの１０ｍｉｎ／ｈの間欠的分極を用いたリアクター内における攻撃；
−または、同じ条件下で、さらに、＋０．２Ｖ／ＳＨＥでの１０ｍｉｎ／ｈの間欠的分極を用いたリアクター内における攻撃
のいずれかに供された。
【０１３１】
得られた質量損失によって、形成されたＭｎＯ２堆積物の質量の評価、およびこれらの条件下におけるステンレススチールの腐食速度の評価ができる（表１）。
【０１３２】
【表１】
0005717638.tif 000002
【０１３３】
表１：ＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチール（ＳＳ）の腐食速度に対する処理の影響。Ｔ＝３７℃、［ＨＮＯ３］＝０．５Ｍ、［Ｍｎ（ＩＩ）］＝１００ｍｇ／Ｌ、間欠的酸化１０ｍｉｎ／ｈ。
【０１３４】
これらの結果は、静止電位（ｒｅｓｔ  ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）におけるステンレススチールの腐食の間に、スチールの表面上にＭｎＯ２堆積物が形成されること、および、腐食に加えて間欠的なアノード酸化が適用される（１０ｍｉｎ／ｈ）場合にそれらがほぼ完全に消失することを裏付ける。＋０．１Ｖ／Ｅｒｅｓｔの低い分極の適用が、十分であるようだ。それは、ステンレススチールの１日の腐食速度を平均で５６％上昇させる。
【０１３５】
ＩＶ．２．攻撃後の表面の比較
種々のタイプの処理（間欠的なアノード過電圧を用いる場合または用いない場合）に供されたステンレススチールシートの表面をＳＥＭ下で観察した。結果を図８−１０に示す。
【０１３６】
ＡＩＳＩ  ３０４Ｌステンレススチールの３つの表面のＳＥＭ写真（図８−１０）によれば、３つの処理に関する粒間タイプの腐食が明らかである。
【０１３７】
腐食は、スチールシートが静止電位よりも高い電位に供された場合に、より具体的には、＋０．２Ｖ／Ｅｒｅｓｔの電位の印加後により顕著になるように思われる。この結果は、腐食後のサンプルの質量損失と一致する。
【０１３８】
スチールの横断面に対して行った観察により、これらの結果が確認された。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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