(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
検体を収納する検体容器と、
試薬を収納する試薬容器と、
検体と試薬が注入される反応セルと、
分注ノズルを備え、検体または試薬を前記反応セルに分注する分注機構と、
前記分注ノズルを洗浄する洗浄機構と有する分析装置において、
前記洗浄機構は、円筒状の絶縁体と、該絶縁体に設けられた円筒状の電極を有し、
前記電極と、前記電極を貫通した状態の前記分注ノズルとの間に交流電圧を印加することによりプラズマを発生させることで前記分注ノズルの外側表面を洗浄を行うものであり、
前記プラズマ洗浄中の前記分注ノズルの先端位置は、前記電極の下端よりも下側にあることを特徴とする分析装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記分注ノズルは、液体を分注時には、静電容量検知により液面を検知する液面検知機構に電気的に接続され、前記プラズマ洗浄を行う際には、前記液面検知機構との電気的接続を外すことを特徴とする分析装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記分注ノズルの上昇、下降動作中に前記分注ノズルに対して前記プラズマ洗浄を行うことを特徴とする分析装置
【請求項４】
請求項１において、
前記分注ノズルの外側表面及び内側表面を洗浄することを特徴とする分析装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記分注ノズルの外側からガスを供給することにより、発生した前記プラズマを分注ノズル内部に導入して前記内側表面を洗浄することを特徴とする分析装置。
【請求項６】
請求項４において、
前記分注ノズル内部に吸引することにより、発生した前記プラズマをノズル内部に導入して前記内側表面を洗浄することを特徴とする分析装置。
【請求項７】
請求項１乃至４のいずれかにおいて、
前記洗浄機構は、前記検体容器、前記試薬容器及び前記反応セルと同じ面であり、前記分注ノズルの移動範囲内に設けられていることを特徴とする分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、分注ノズルの洗浄方法、洗浄装置及び前記洗浄装置を搭載した分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
医療診断用の臨床検査においては、血液や尿などの生体検体中のタンパク、糖、脂質、酵素、ホルモン、無機イオン、疾患マーカー等の生化学分析や免疫学的分析を行う。臨床検査では、複数の検査項目を信頼度高く、かつ高速に処理する必要があるため、その大部分を自動分析装置で実行している。
【０００３】
自動分析装置としては、例えば、血清や尿等の検体に所望の試薬を混合して反応させた反応溶液を分析対象とし、その吸光度を測定することで生化学分析を行う生化学分析装置が知られている。この種の生化学分析装置は、検体及び試薬を収納する容器、検体及び試薬を注入する反応セルを備え、検体及び試薬を反応セルに自動注入する分注ノズルを備えた分注機構と、反応セル内の検体及び試薬を混合する攪拌棒を持つ自動攪拌機構、反応中又は反応が終了した検体の吸光度を計測する機構、計測終了後の反応溶液を吸引・排出し反応セルを洗浄する自動洗浄機構等を備えている（例えば特許文献１）。近年の自動分析装置への要求としては、検体及び試薬の微量化、測定の高感度化がある。
【０００４】
自動分析装置では、同一の分注ノズルにより多数の検体及び試薬を次々と分注することが一般的である。例えば検体分注ノズルは、採血管などの検体を収納する容器から所定量の検体を分取して、試薬を反応させる反応セルに検体を吐出する。試薬分注ノズルは、試薬を収納する容器から分取した所定量の試薬を検体反応セルへ吐出する。
【０００５】
この際、分注ノズル表面に残留した被分注液体の成分が次の被分注液体に混入すると測定結果に影響を及ぼす場合がある。こうした残留成分の影響を低減し、分注ノズル表面の清浄度を上げることで、微量化・高感度化へ向けて、分析の信頼性を向上出来る。
【０００６】
分注ノズル表面の清浄度を上げる方法としては、従来、純水や界面活性剤を含む洗剤による洗浄が実施されてきた（特許文献２）。しかし、こうした方法ではタンパク質に代表される検体中の生体高分子の洗浄が困難な場合がある。また、純水や界面活性剤を含む洗剤による洗浄でより大きな洗浄効果を上げるためには、洗浄時間を長くする必要があり、分析スループットの低下を招いてしまうという欠点があった。
【０００７】
純水や界面活性剤を含む洗剤による洗浄を強化する以外にも、使い捨て可能なディスポーザブルノズル（ディスポーザブルティップ）を使用する方法が分注ノズル表面を清浄に保つ方法として知られている。この方法は、分注ノズルを使い捨てにして利用することで、課題を回避する方法である。ただし、同一の分注ノズルを繰返し使用する場合と比較して、ランニングコストがかかり、また、使用後の分注ノズルを大量に廃棄する必要がある、といった課題が残る。また、ディスポーザブルノズルは樹脂により作成されることが一般的であるため、強度、加工精度の観点から、微細な構造を形成することは難しい。
【０００８】
他にも、分注ノズルの表面を低表面エネルギーの樹脂で被覆する表面処理法により、分注ノズル表面を清浄に保つ方法も提案されている（特許文献３）。この方法では、低エネルギー表面を形成することで、被分注液体自体を付着しにくくし、それにより生体由来高分子の残存量を低減することを狙っている。
【０００９】
確かにこの方法によって、ノズル表面の液体に対する静的接触角を大きくすることは出来る。しかし、静的接触角が大きいことは、必ずしも液体の残存を防止する効果が大きいことを意味するわけではないことが広く知られている。これは、液体の残存しやすさや転落しやすさといった表面での液体の動的な挙動に関係した因子は、静的接触角に加えて、表面粗さなどにも大きく影響されるためである（非特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特許第１７０６３５８号公報
【特許文献２】特開２００７−８５９３０号公報
【特許文献３】特開２０００−３２９７７１号公報
【非特許文献】
【００１１】
【非特許文献１】Thin Solid Films, 351, pp.279-283 (1999)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
被分注液体に含まれるタンパク質などの生体高分子は分注ノズル表面に吸着する。これが、分析信頼性を向上する上での課題となる。分析信頼性向上のために，現状広く用いられている純水や界面活性剤を含む洗剤による洗浄を強化する方法をとる場合には，分析スループットの低下が避けられない。
【００１３】
本発明の目的は、表面の清浄度を上げながらスループットの低下を抑えた自動分析装置用分注ノズルの洗浄方法、洗浄装置、及びそれを用いた自動分析装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明では、洗浄機構によりプラズマを発生させ、分注ノズルの外側表面をプラズマにより洗浄することで、分注ノズル表面に残存したタンパク質などの生体由来高分子などの残存を低減し、上記の課題を解決する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、スループットの低下を抑え、かつ分注ノズル表面の清浄度を上げることで分析信頼性の向上を実現するノズル洗浄技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施例にかかる自動分析装置の構成例を示す概略図である。
【図２】本発明の一実施例にかかる分注ノズルの断面図である。
【図３】本発明の一実施例にかかる洗浄槽の概略図である。
【図４】本発明の一実施例にかかる洗浄槽の断面図である。
【図５】本発明の一実施例にかかるノズルのＸＰＳの結果を示す図である。
【図６】本発明の一実施例にかかる洗浄槽の概略図である。
【図７】本発明の一実施例にかかる洗浄槽の断面図である。
【図８】本発明の一実施例にかかる洗浄槽の断面図である。
【図９】本発明の一実施例にかかる洗浄槽の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の実施の形態について、実施例を、図面を参照しながら以下に説明する。本発明を実施例により詳細に説明をするが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【００１８】
本発明に係る第一の実施の形態について説明する。ここで、図１は自動分析装置の一例を示したものである。まず、これを用いて、自動分析装置の基本動作を述べる。検体収納部機構１には、一つ以上の検体容器２５が配置されている。ここでは、ディスク状の機構部に搭載された検体収納部機構である検体ディスク機構の例で説明するが、検体収納部機構の他の形態としては自動分析装置で一般的に用いられている検体ラック又は検体ホルダー状の形態であってもよい。またここで言う検体とは、反応容器で反応させるために使用する被検査溶液のことを指し、採集検体原液でもよく、またそれを希釈や前処理等の加工処理をした溶液であってもよい。検体容器２５内の検体は、検体供給用分注機構２の検体用分注ノズル２７によって抽出され、所定の反応容器に注入される。試薬ディスク機構５は、多数の試薬容器６を備えている。また、機構５には、試薬供給用分注機構７が配置されており、試薬は、この機構７の試薬用分注ノズル２８によって、吸引され所定の反応セルに注入される。これら分注ノズル２７、２８の材料には、加工性の良さ、耐腐食性などの観点からステンレススチールなどが広く用いられている。分光光度計１０、２６は集光フィルタつき光源であり、分光光度計１０と集光フィルタつき光源２６の間に、測定対象を収容する反応ディスク３が配置される。この反応ディスク３の外周上には、例えば、１２０個の反応セル４が設置されている。また、反応ディスク３の全体は、恒温槽９によって、所定の温度に保持されている。１１は反応セル洗浄機構であり、洗浄剤容器１３から洗浄剤が供給され、セル内の吸引は吸引ノズル１２で行う。
【００１９】
１９はコンピュータ、２３はインターフェース、１８はＬｏｇ変換器及びＡ／Ｄ変換器、１７は試薬用ピペッタ、１６は洗浄水ポンプ、１５は検体用ピペッタである。また、２０はプリンタ、２１は表示装置、２２は記憶装置としてのフロッピー（登録商標）ディスクやハードディスク、２４は操作パネルである。検体ディスク機構は駆動部１００により、試薬ディスク機構は駆動部１０１により、反応ディスクは駆動部１０２により、それぞれインターフェースを介して制御並びに駆動されている。また自動分析装置の各部はインターフェースを介してコンピュータ１９により制御される。
【００２０】
上述の構成において、操作者は、操作パネル２４を用いて分析依頼情報の入力を行う。操作者が入力した分析依頼情報は、マイクロコンピュータ１９内のメモリに記憶される。検体容器２５に入れられ、検体収納部機構１の所定の位置にセットされた測定対象検体はマイクロコンピュータ１９のメモリに記憶された分析依頼情報に従って、検体ピペッタ１５及び検体供給用分注機構２の検体用分注ノズル２７によって、反応セルに所定量分注される。検体用分注ノズル２７は洗浄され、次の検体の分注に使用される。分注ノズルの先端は中空の筒上の形状が広く用いられている。図２に分注ノズル先端の断面図を示す。２０１が分注ノズル本体部、２０２が分注ノズル中空部である。
【００２１】
ここで、自動分析装置に洗浄槽１０３を設置する。洗浄槽１０３の詳細な構造を図３に示す。この洗浄槽は、絶縁体部３０１とその外周を覆う導体部３０２を持つ。導体部３０２は絶縁体部３０１に密着している。洗浄絶縁体３０１の材料としては、例えば、ガラスなどを用いることが出来る。外周を覆う導体３０２には、例えば、銅などを用いることが出来る。この導体部３０２は交流電源３０３に接続されている。
【００２２】
プラズマ洗浄を行う際には分注ノズル３０４の表面は接地され、導体部３０２の表面との間に交流電源３０３により電圧がかけられる。これにより、導体部３０２と分注ノズル３０４表面で放電が起きれば、洗浄槽内においてプラズマが発生する。この発生したプラズマにより分注ノズル３０４の表面洗浄を行う。ここで、分注ノズル３０４の材料としては、上に述べた様に、ステンレススチールなどの導電性を持つ金属材料が広く用いられているため、分注ノズル３０４自体を放電のための電極として用いることが出来る。
【００２３】
分注ノズル３０４は、例えば、洗浄槽上方から洗浄槽に対して下降し、洗浄槽内でプラズマ洗浄が行われ、再び上昇する。洗浄槽で分注ノズルを洗浄する際、分注ノズル３０４は停止していてもよいし、下降または上昇動作中に洗浄を行っても良い。
【００２４】
効率よく放電を起こすためには、導体部３０２と分注ノズル３０４は対向していることが望ましい。先に述べたように、分注ノズル３０４は中空の円筒形状である場合が多く、その場合、導体部３０２もこれと対向するように、円筒形状とすることが考えられる。
【００２５】
洗浄槽の詳細について、図４を用いて説明する。図４は、図３に示した洗浄槽の断面図である。４０１は絶縁体部、４０２はその外周を覆う導体部、４０３は交流電源、４０４は分注ノズルを示している。先に述べた通り、分注ノズル４０４の表面は接地され、導体部４０２との間に交流電源４０３により電圧がかけられることで放電を起こし、プラズマを発生し、分注ノズル４０４の表面が洗浄される。分注ノズル４０４側に交流電源を接続し、導電部４０２側を接地としてもよい。また、ノズルには、静電容量検知により液面を検知する液面検知機構（図示せず）が接続されているが、これの故障を防ぐために、プラズマ発生時には、液面検知機構への電気的接続を外すようにしてもよい。
【００２６】
我々は検討の結果、洗浄中における、分注ノズル４０４に対する導体部４０２の位置関係が、洗浄効果に重要な影響を持つことを見出した。具体的には、導体４０２の下端部よりも分注ノズル４０４の先端がより下側に来た状態（すなわち、分注ノズル４０４が導体部４０２の円筒形状を軸方向に貫通した状態）で洗浄を行うことで著しく洗浄効率が向上した。また、分注ノズル４０４が絶縁体４０１及び導体部４０２の中心部付近にくることで洗浄効率が著しく向上した。
【００２７】
こうした分注ノズル位置で、プラズマ洗浄を行うことが望ましいとの結論は、以下の検討結果に基づく。
【００２８】
分注ノズル４０４の先端が導体部４０２の下端部よりも上部にある状態で放電を行ったところ、分注ノズル４０４の先端―導体部４０２間でのストリーマ放電と呼ばれる現象が観測された。この現象は、これは分注ノズル４０４の先端部が鋭利であるため、分注ノズル４０４の先端に電界集中した状態で放電が起こったためであると考えられる。ストリーマ放電が発生した場合には分注ノズル４０４の表面に対し、十分な洗浄効果が得られなかった。
【００２９】
加えて、分注ノズル４０４が絶縁体部４０１の中心部から外れた位置で放電した場合にも同様に強い電界が発生し、ストリーマ放電が発生した。そこで、導体部４０２の下端部よりも分注ノズル４０４の先端がより下側に来るように分注ノズル４０４を停止させ、また、分注ノズル４０４が絶縁体部４０２の中心部付近で停止し、放電を行ったところ、分注ノズル４０４の先端部表面全体に放電が発生し、十分な洗浄効果を得ることが出来た。
【００３０】
上記のプラズマ洗浄法を用いて、分注ノズルの洗浄を行った具体的な結果の一例を示す。実験はウシ血清アルブミン２．５ｍｇ／ｍｌリン酸緩衝溶液を繰返し分注後に水洗を行い、洗浄を行った分注ノズルに対して、上記のプラズマ洗浄法により洗浄を行った。プラズマ洗浄のための放電は、交流電源の電圧４．５ｋＶ、交流電源の周波数２０ｋＨｚ、洗浄時間１秒間の条件で行った。比較のため、純水洗浄のみを行った分注ノズルについても分析を行った。これらの分注ノズル表面に残存するＢＳＡの量は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により分析した。ＸＰＳの測定はＰＨＩ社製ＱｕａｎｔｅｒａＳＸＭで行った。Ｘ線源としては単色化Ａｌ（１４８６．６ｅＶ）を用いた。検出領域は１００μｍΦとし、光電子の取り出し角は４５°とした。  
ＸＰＳの窒素原子（Ｎ）１ｓスペクトルにおいて、ＢＳＡに含まれているアミン、アミドに帰属されるピークが、結合エネルギー４００ｅＶ付近に現れる。従って、分注ノズル表面に残存したタンパク質量は、Ｎ１ｓスペクトルのピーク強度により定量分析が可能である。そこで、ＢＳＡ残存量をプラズマ洗浄の有無で比較するため、それぞれの分注ノズルに対して、ＸＰＳ  Ｎ１ｓスペクトルの測定を行った。測定条件は、結合エネルギー３９３〜４０８ｅＶ、エネルギーステップ０．１ｅＶとした。測定結果を図５に示す。
【００３１】
純水洗浄のみを行った分注ノズルのＸＰＳ  Ｎ １ｓスペクトルを５０１に、プラズマ洗浄を１秒間行った分注ノズルのスペクトルを５０２にそれぞれ示す。
【００３２】
純水洗浄のみを行った分注ノズルに対するスペクトル５０１では、結合エネルギーが４００ｅＶ付近にピークが検出された。これは、タンパク質中のアミン、アミドに由来するものであり、純水洗浄だけでは、分注ノズル表面にＢＳＡが残存していることが分かる。これに対し、プラズマ洗浄を行ったものは、もピークが本測定の検出下限以下となっていることが分かる。本測定の検出下限値を考えると、ＢＳＡは純水洗浄のみを行ったものに対し、４％以下となっていると考えられる。
【００３３】
このようにＸＰＳ分析において、Ｎ  １ｓのピークが検出下限以下となったことは、以下の様に説明することが出来ると考えられる。本洗浄法では、発生したプラズマによる活性種である気体分子や、励起されたガスから放出される紫外線などにより分注ノズル表面のＢＳＡが分解される。加えて、それらの分解物は、分子量が小さく揮発性であるため、空中に放出されると考えられる。このため分解物由来のピークも検出されなかったと考えられる。
【００３４】
もし、分解物が揮発性でなく、分注ノズル表面に残存してしまった場合には、その分解物の残渣が次の分析に持ち込まれるなどして、分析結果に影響を与えてしまうことが考えられる。しかし、本発明のプラズマ洗浄法による分注ノズル表面洗浄においては、そうした影響がなく、残渣による信頼性低下などが発生しにくいと考えられる。
【００３５】
また、この直接プラズマを照射する方法では、放電時間を１秒という短い時間であってもＮ １ｓのピークは検出下限以下となっており、十分な効果が得られていることが分かる。従って本発明のプラズマ洗浄法では、極めて効率的に分注ノズル洗浄を行うことが可能であり、装置のスループットの大きな低下を招くことない。
【００３６】
上記のプラズマ洗浄を行うのは、例えば、ある被分注液体を分注後、次の被分注液体を分注するまでの間が考えられるが、特に被分注液体を分注後、分注ノズルを純水洗浄した後であり次の分注前にプラズマ洗浄を行うことも出来る。また、洗浄水量などの洗浄条件によっては、例えば、純水洗浄後にノズル表面に付着した水を真空吸引などで吸い取り、その後プラズマ洗浄を行うことも考えられる。そのために、洗浄機構１０３は、検体容器２５、試薬容器６や反応セル４が設置される面であり、かつ分注ノズルの移動範囲内に設けられる。
【００３７】
以上の他、プラズマ洗浄を分注動作ごとに行う以外の使用法以外にも、１日の終了時や１日の使用開始など、定期的に行うメンテナンス洗浄として用いることも出来る。
【００３８】
また、毎回の分注動作のたびにプラズマ洗浄を行うのではなく、特に分注ノズルが汚染されやすい分析項目の後や、高感度な分析項目を分析する直前など、プラズマ洗浄を利用するタイミングを限定する機能を付与すれば、分析スループットの低下を最小限に食い止めながら、分注信頼性を向上することが出来る。
【００３９】
また、汚染が蓄積するなどした後にプラズマ洗浄を行う場合には、長時間にわたりプラズマを照射する必要がある場合がある。こうした際には、絶縁体を水冷するなどして絶縁体の温度が極端に上昇しないようにすることも出来る。
【００４０】
また、放電の際にノズルと対向する電極は分注ノズルの洗浄が必要な先端部のみに対向するように電極を配置しておけば、洗浄の必要のある被分注液体と接触するノズルの部位のみを選択的に洗浄することが出来る。
【００４１】
以上では、検体用分注ノズルを例にとり説明をしたが、試薬用分注ノズルについても同様の洗浄を行うことが出来る。
【実施例２】
【００４２】
本発明に係る実施の形態である洗浄機構ついて他の実施例を、図６、７を参照して説明する。ここで図６は洗浄槽の機構を示したものである。
【００４３】
図６に示す洗浄槽は、先に説明した洗浄槽と同様の絶縁体部６０１とその内部に２ヶ所の導体部６０２、６１２を持つことを特徴とする。片方を交流電源６０３に、片方を接地電極に接続する。図６では分注ノズル６０４が侵入してくる側にある導体部６０２に対し、交流電源６０３を、下側にある導体部６１２に接地電極を接続しているが、逆であっても良い。２ヶ所の導体部６０２、６１２の間に交流電源６０３により電圧がかけられると、絶縁体６０１の表面に沿って放電が起きる。これにより、プラズマが発生する。
【００４４】
分注ノズル６０４は、例えば、洗浄槽上方から洗浄槽に対して下降し、洗浄槽内で洗浄が行われ、再び上昇する。この時、分注ノズル６０４は停止していてもよいし、下降または上昇動作中に洗浄を行っても良い。
【００４５】
我々は検討の結果、洗浄中における、分注ノズル６０４の導体部６０２に対する位置関係が、洗浄効果に重要な影響を持つことを見出した。
【００４６】
以下、断面図である図７を用いて説明をする。絶縁体部７０１とその内部に２ヶ所の導体部７０２、７１２を持つことを特徴とする。片方を交流電源７０３に、片方を接地電極に接続する。図７では分注ノズル７０４が侵入してくる側にある導体部７０２に対し、交流電源７０３を、下側にある導体部７１２に接地電極を接続しているが、逆であっても良い。２ヶ所の導体部７０２、７１２の間に交流電源７０３により電圧がかけられると、絶縁体７０１の表面に沿って放電が起きる。これにより、プラズマが発生する。
【００４７】
導体部７０２の上端部よりも分注ノズル７０４の先端がより上側に来た状態でプラズマ洗浄を行うことで著しく洗浄効率が向上した。
【００４８】
こうした分注ノズル位置で、プラズマ洗浄を行うことが望ましい理由は、以下の検討結果に基づく。分注ノズル７０４の先端が導体部７０２の上端部よりも下部にある状態で放電を行ったところ、分注ノズル７０４の先端―導体部７０２間でのストリーマ放電と呼ばれる現象が観測された。この現象は、これは分注ノズル７０４の先端部が鋭利であるため、電界集中し、分注ノズル７０４表面と導体部７０２で放電が起こったためであると考えられる。ストリーマ放電が発生した場合には分注ノズル７０４の表面に対し、十分な洗浄効果が得られなかった。
【実施例３】
【００４９】
本発明に係る実施の形態である洗浄機構について他の実施例を、図８を参照して説明する。ここで図８は洗浄槽の断面図を示したものである。
【００５０】
図８において、絶縁体部を８０１、その外周を覆う導体部を８０２、交流電源を８０３、分注ノズルを８０４に示す。先に述べた通り、分注ノズル８０４の表面は接地され、電位を分注ノズル８０４の表面との間に交流電源８０３により電圧がかけられることで放電を起こし、プラズマを発生することで洗浄を行う。
【００５１】
ここでこの洗浄槽は、ガス導入口８０５を持つ。プラズマ洗浄中にガス導入口８０５から空気などを送り込むことで分注ノズル８０４内部の洗浄を行うことが出来る。
【実施例４】
【００５２】
本発明に係る第一の実施の形態である洗浄の更に他の実施例について図９を参照して説明する。ここで図９は洗浄槽の機構を示したものである。
【００５３】
絶縁体部を９０１、その外周を覆う導体部を９０２、交流電源を９０３、分注ノズルを９０４に示す。先に述べた通り、分注ノズル９０４の表面は接地され、電位を分注ノズル９０４の表面との間に交流電源９０３により電圧がかけられることで放電を起こし、プラズマを発生することで洗浄を行う。
【００５４】
その上で、洗浄槽底部を閉口部９０５のあるのものとする。これにより、放電により発生した、生体由来高分子の分解を行うための活性種が対流によりノズル先端内部に入り込む。こうすることで、分注ノズル内面の洗浄を行うことが出来る。また、洗浄槽閉口部の形状を上に凸の形状とすることで、より多くの空気が分注ノズル内部へ入り込むことが出来、より大きな洗浄効果を得ることが出来る。
【００５５】
また、分注ノズルでガスを吸引しながらプラズマ洗浄を行えば、放電された空気がノズル内部に吸引されることで取り込まれ、内壁の洗浄を行うことが出来る。
【００５６】
本発明によれば、分注ノズル表面へのタンパク質などの生体高分子の非特異吸着を劇的に低減し、キャリーオーバの抑制を図ることで、自動分析装置の信頼性の向上に貢献することが出来る。
【符号の説明】
【００５７】
１…検体収納部機構、２…検体供給用分注機構、３…反応ディスク、４…反応セル、５…試薬ディスク機構、６…試薬容器、７…試薬供給用分注機構、８…撹拌機構、９…恒温槽、１０…分光光度計、１１…反応セル洗浄機構、１２…吸引ノズル、１３…洗浄剤容器、１５…検体用ピペッタ、１６…洗浄水ポンプ、１７…試薬用ピペッタ、２５…検体容器、２６…集光フィルタつき光源、２７…検体用分注ノズル、２８…試薬用分注ノズル、２９…撹拌棒、１００…駆動部、１０１…駆動部、１０２…駆動部、２０１…分注ノズル本体部、２０２…分注ノズル中空部、３０１…絶縁体部、３０２…導体部、３０３…交流電源、３０４…分注ノズル、４０１…絶縁体部、４０２…導体部、４０３…交流電源、４０４…分注ノズル、５０１…純水洗浄のみを行った分注ノズルのＸＰＳ  Ｎ １ｓスペクトル、５０２…プラズマ洗浄を１秒間行った分注ノズルに対するＸＰＳ  Ｎ １ｓスペクトル、６０１…絶縁体部、６０２…導体部、６１２…導体部、６０３…交流電源、６０４…分注ノズル、７０１…絶縁体部、７０２…導体部、７１２…導体部、７０３…交流電源、７０４…分注ノズル、８０１…絶縁体部、８０２…導体部、８０３…交流電源、８０４…分注ノズル、８０５…ガス導入部、９０１…絶縁体部、９０２…導体部、９０３…交流電源、９０４…分注ノズル、９０５…閉口部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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