(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の縦方向に平行な一対の端面及びこれらの端面に連なる表裏面の縁部を、エッチング液に浸してエッチングを施すガラス基板のエッチング方法であって、
前記ガラス基板の横方向における少なくとも中央部を前記縦方向に延びる支持部材上に載置し、該支持部材から前記横方向の両側に食み出し、且つそれら食み出し部が下方に撓んだ状態での前記一対の端面及び縁部を、前記エッチング液に浸すことを特徴とするガラス基板のエッチング方法。
【請求項２】
前記支持部材は、ガラス基板の横方向における中央部のみを下方より支持するものであることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項３】
前記支持部材は、前記ガラス基板を前記縦方向に搬送する搬送手段であることを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項４】
前記ガラス基板の端面を支持する支持面を有する端面支持体を設け、前記支持面に前記ガラス基板の端面を支持させた状態で、前記ガラス基板の端面及び縁部をエッチング液に浸すことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項５】
前記端面支持体の支持面に、エッチング液を滴下することにより、前記ガラス基板の端面及び縁部をエッチング液に浸すことを特徴とする請求項４に記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項６】
前記端面支持体を多孔質材料で形成し且つその一部を前記エッチング液に浸漬させることにより、前記ガラス基板の端面及び縁部をエッチング液に浸すことを特徴とする請求項４に記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項７】
前記端面支持体は、その一部が前記エッチング液に浸漬した端面支持ローラーであることを特徴とする請求項４に記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項８】
前記搬送手段と前記ガラス基板の端面との間に、前記ガラス基板を支持する複数の補助支持ローラーを設けると共に、該複数の補助支持ローラーは、前記端面の側にその配設位置が移行するに連れて、その径が小さくされていることを特徴とする請求項３〜７のいずれかに記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項９】
前記搬送手段と前記ガラス基板の端面との間に、前記ガラス基板を下方に押圧する押圧部材を設けたことを特徴とする請求項３〜８のいずれかに記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項１０】
前記エッチング液は、前記縦方向に延びる一対の樋状容器に収容されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項１１】
前記エッチング液は、前記樋状容器の一端から供給し、前記樋状容器の他端から排出することを特徴とする請求項１０に記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項１２】
前記エッチング液は、フッ酸又はフッ化水素酸アンモニウムを主成分とするものであることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のガラス基板のエッチング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板のエッチング方法に係り、詳しくは、ガラス基板の端面周辺を効率良くエッチングするための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、ＦＰＤ用ガラス基板は、近年急速に普及しているモバイル用端末等の軽量化への要求の高まりに伴って、薄肉化が推進されている。この種の厚みの薄いガラス基板は、その主たる特性として可撓性を有しており、この特性を近い将来において曲面ディスプレイ等に利用することが検討されている。
【０００３】
ところで、上記のような薄肉のガラス基板を湾曲させる場合に、当該基板の端面や端面に連なる縁部に微小クラックが存在していると、基板に致命的な悪影響を及ぼす。詳述すると、基板の湾曲が大きくなる（曲率が大きくなる）につれて、湾曲した基板の凸面となる側の部位に作用する引張応力も次第に大きくなる。このとき、基板の端面や縁部に微小クラックが存在していると、微小クラックの先端で応力集中が発生しやすく、そのため微小クラックを基点として亀裂が進展し、基板の損傷や破損を引き起こす要因となっていた。
【０００４】
このような微小クラックは、主として、ガラス基板の製造工程において、大面積の基板から小面積の基板を切り出す際に生じることが判明している。しかしながら、従来ガラス基板の切断に用いられてきたレーザー割断法等を実施する際に、微小クラックの発生を効果的に防止することは困難であった。そのため、基板の切断後に下記の特許文献１，２に開示されているような技術を用いて、基板の端面及び縁部にエッチングを施すことにより、上述のような問題に対策を採ることが通例となっている。
【０００５】
特許文献１には、複数の搬送ローラーに支持されたガラス基板の端面及び端面に連なる縁部に、横向きに対向して開口した一対の溝内において、表面張力によって形成されたエッチング液の膜を通過させることで、エッチングを施す技術が開示されている。
【０００６】
特許文献２には、ガラス基板のエッチングの対象となる端面及び端面に連なる縁部を、容器内に収容されたエッチング液に浸漬することで、エッチングを施す技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−１２５６４３号公報
【特許文献２】特開２０１０−２６１３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記特許文献１，２に開示された技術によれば、ガラス基板の端面及び端面に連なる縁部に存在する微小クラックを除去、或いは微小クラックの屈曲した輪郭形状を、丸みを帯びた輪郭形状に変形させることができる。このため、微小クラックの切欠きの先端において、応力集中の発生を抑制することが可能となる。
【０００９】
しかしながら、特許文献１に開示された技術は、ガラス基板が、搬送ローラー上に水平面に沿う姿勢で載置されると共に、このようなガラス基板の姿勢に由来してエッチング液の膜を形成する溝が横向きに開口しているため、以下に示すような問題を有していた。
【００１０】
すなわち、エッチング液の膜を形成する溝が横向きに開口していると、溝内からのエッチング液の漏出を防止することが困難であるため、基板の切断の際に端面周辺に付着したガラス粉等が、溝内から漏出したエッチング液の流れによって誘導されて、エッチングの対象ではない部位まで流出してしまう恐れがあった。このような事態を生じると、後工程において、基板を乾燥する際にガラス粉等がパーティクルとして基板の表面に残存し、基板を汚染することがあり、基板の品質を低下させる要因の一つとなっていた。
【００１１】
一方、特許文献２に開示された技術は、ガラス基板が鉛直面に沿う姿勢で保持されて下方の端部及びその縁部のみがエッチング液に浸される構成であるため、特にガラス基板の生産効率という観点から大きな問題を招来する。
【００１２】
すなわち、同文献に開示されたエッチング方法によると、ガラス基板にはエッチングを施すべき端面及び縁部が複数箇所に存在しているにも拘らず、一箇所ずつにしかエッチングを施すことができない。このため、ガラス基板の複数箇所にエッチングを施すには、その作業が極めて面倒且つ煩雑になると共に、作業に要する時間が不当に長期化され、基板の生産効率が著しく悪化するという問題があった。
【００１３】
上記事情に鑑みなされた本発明は、ガラス基板にエッチングを施すに当たって、基板の品質の低下を抑制すると共に、生産効率の向上を図ることを技術的課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために創案された本発明は、ガラス基板の縦方向に平行な一対の端面及びこれらの端面に連なる表裏面の縁部を、エッチング液に浸してエッチングを施すガラス基板のエッチング方法であって、前記ガラス基板の横方向における少なくとも中央部を前記縦方向に延びる支持部材上に載置し、該支持部材から前記横方向の両側に食み出し、且つそれら食み出し部が下方に撓んだ状態での前記一対の端面及び縁部を、前記エッチング液に浸すことに特徴づけられる。ここで、上記の「エッチング液に浸す」とは、エッチング液に浸漬させる場合のみならず、浸漬されずに濡れた状態にする場合をも含む。
【００１５】
このような方法によれば、ガラス基板は、支持部材から横方向の両側に食み出し且つ下方に撓んだ状態にある平行な一対の端面及びこれらの端面に連なる表裏面の縁部（以下、この端面と縁部とを総称して端面部という）が、エッチング液に浸される。このような状態の下では、エッチング液が、ガラス基板の端面部から中央部（エッチングの対象ではない部位）に向かって流出する恐れがなくなる。これにより、基板を乾燥する際に、基板の切断時に生じたガラス粉等がパーティクルとして基板の中央部に残存し、基板が汚染されるという事態を適切に回避することができる。従って、基板の品質低下の抑制を図ることが可能となる。加えて、支持部材から横方向に食み出した上記の一対の端面部に対して、同時にエッチングを施すことができるため、基板の生産効率を向上させることも可能となる。
【００１６】
上記の方法において、支持部材は、ガラス基板の横方向における中央部のみを下方より支持するものであることが好ましい。この場合、支持部材は、ガラス基板の横方向における中央部のみを支持し、縦方向に延びた唯一つの支持部材であってもよく、或いは、縦方向に相互に離間して一列に並んだ複数の支持部材の組であってもよい。
【００１７】
このようにすれば、ガラス基板における支持部材との当接面が、横方向の一箇所のみとなるため、基板に傷が生じ難くなる。
【００１８】
上記の方法において、支持部材は、ガラス基板を縦方向に搬送する搬送手段であることが好ましい。
【００１９】
このようにすれば、複数のガラス基板の端面部に対して、連続的にエッチングを施すことが可能となり、より基板の生産効率を高めることができる。
【００２０】
上記の方法において、ガラス基板の端面を支持する支持面を有する端面支持体を設け、支持面にガラス基板の端面を支持させた状態で、ガラス基板の端面部をエッチング液に浸すことが好ましい。
【００２１】
このようにすれば、ガラス基板の縦方向に平行な一対の端面が端面支持体によって支持されることにより、基板の端面部の横方向移動を規制することが可能となり、基板を搬送経路から脱落させることなく、安定的に搬送することが可能となる。
【００２２】
上記の方法において、端面支持体の支持面に、エッチング液を滴下することにより、ガラス基板の端面部をエッチング液に浸すようにしてもよい。
【００２３】
このようにすれば、端面支持体の支持面にエッチング液の膜を形成することができ、基板の端面部に当該膜を通過させ、エッチング液に浸すことで、端面部にエッチングを施すことが可能となる。
【００２４】
上記の方法において、端面支持体を多孔質材料で形成し且つその一部をエッチング液に浸漬させることにより、ガラス基板の端面及び縁部をエッチング液に浸すようにしてもよい。
【００２５】
このようにすれば、端面支持体が多孔質材料で形成され且つその一部がエッチング液に浸漬されていることにより、端面支持体内に含浸されたエッチング液は、毛細管現象によって端面支持体の支持面から沁みだす。これにより、ガラス基板の端面部が浸され、エッチングを施すことができる。
【００２６】
上記の方法において、端面支持体は、その一部がエッチング液に浸漬した端面支持ローラーであってもよい。
【００２７】
このようにすれば、端面支持ローラーにおける基板の端面を支持する支持面は、ローラーの一部がエッチング液に浸漬していることにより、ローラーの回転に伴って、ローラーの周面（支持面）には、常にエッチング液が付着していることになる。これにより、ローラーは、基板を搬送経路に沿って搬送しつつ、支持面に付着したエッチング液によって基板の端面部にエッチングを施すことができる。また、ローラーの支持面の周速度と、基板の端面を縦方向に搬送する速度とを同一にすることができるため、両者間の摺動を可及的に防止することが可能となり、基板の端面に擦り傷等が発生するという不具合も起こり難くなる。
【００２８】
上記の方法において、搬送手段とガラス基板の端面との間に、ガラス基板を支持する複数の補助支持ローラーを設けると共に、複数の補助支持ローラーは、端面の側にその配設位置が移行するに連れて、その径が小さくされているようにしてもよい。
【００２９】
このようにすれば、特に薄肉のガラス基板を搬送する場合に、基板が過度に撓むことを抑制し得ると共に、搬送手段上に載置された基板の中央部において、基板の曲率の増大に起因する大きな引張応力の発生を防止することができる。また、補助支持ローラーを設けたことによって生じる危惧も下記のように的確に排除される。すなわち、基板による荷重の大部分は、基板の中央部を支持する搬送手段に負荷され、補助支持ローラーに負荷される荷重は、搬送手段と比べて小さいため、基板における補助支持ローラーとの当接面において、擦り傷等が生じる恐れも可及的に低減することができる。
【００３０】
上記の方法において、搬送手段とガラス基板の端面との間に、ガラス基板を下方に押圧する押圧部材を設けてもよい。
【００３１】
このようにすれば、板厚が大きく、撓みにくいガラス基板にエッチングを施すような場合であっても、押圧部材を設けたことにより、上述の効果を奏することができる。特に、基板の厚みと基板の横方向の長さとが（基板の横方向長さ／基板の厚み）＜２０００の関係にあるとき、基板の可撓性が発揮されにくいため、押圧部材を設けることが好ましい。
【００３２】
上記の方法において、エッチング液は、縦方向に延びる一対の樋状容器に収容されていることが好ましい。
【００３３】
このようにすれば、不要に多量のエッチング液を使用する必要がなくなるため、生産コストの低廉化を図ることが可能となる。
【００３４】
上記の方法において、エッチング液は、樋状容器の一端から供給し、樋状容器の他端から排出することが好ましい。
【００３５】
このようにすれば、常に新鮮なエッチング液によって、基板の端面部にエッチングを施すことが可能となり、エッチングに要する時間を短縮し得るため、さらなる基板の生産効率の向上を図ることができる。
【００３６】
上記の方法において、エッチング液は、フッ酸又はフッ化水素酸アンモニウムを主成分とするものであることが好ましい。
【００３７】
このようにすれば、エッチングに要する時間を好適に低減することができる。このため、より基板の生産効率の向上を図ることが可能となる。
【発明の効果】
【００３８】
以上のように、本発明によれば、ガラス基板にエッチングを施すに際して、基板の品質の低下を抑制すると共に、生産効率の向上を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の第一実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置を示す平面図である。
【図２】本発明の第一実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置を示す断面図である。
【図３】本発明の第一実施形態に係るガラス基板のエッチング方法を示す側面図である。
【図４】本発明の第二実施形態に係るガラス基板のエッチング方法を示す断面図である。
【図５】本発明の第三実施形態に係るガラス基板のエッチング方法を示す断面図である。
【図６】本発明の第四実施形態に係るガラス基板のエッチング方法を示す断面図である。
【図７】本発明の第五実施形態に係るガラス基板のエッチング方法を示す断面図である。
【図８】本発明の第六実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下、本発明の実施形態について添付の図面に基づいて説明する。図１は、本発明の第一実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置を示す平面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ断面図である。
【００４１】
これらの各図に示すように、エッチング装置１は、ガラス基板Ｇ（以下、単に基板Ｇという）を縦方向に搬送する搬送手段である複数の搬送ローラーＲ１と、基板Ｇにエッチングを施すエッチング液Ｌを収容する一対の樋状容器Ｔと、基板Ｇの端面Ｇａを支持する端面支持体である複数の端面支持ローラーＲ２とで構成される。
【００４２】
複数の搬送ローラーＲ１は、基板Ｇの中央部Ｇｃに沿って一直線に備えられており、基板Ｇの横方向（幅方向）における中央部Ｇｃを支持すると共に、図示しない駆動機構の動作により回転することによって、複数の基板ＧをＶ方向（縦方向）に連続的に搬送することが可能である。また、これら搬送ローラーＲ１の基板Ｇとの当接面は、曲面に形成されている。
【００４３】
一対の樋状容器Ｔは、複数の搬送ローラーＲ１から横方向に平行に離間して備えられると共に、上方に向かって開口している。また、その高さ位置は、搬送ローラーＲ１と比べて下方に位置している。さらに、樋状容器Ｔ内では、Ｖ方向に向かってフッ化水素酸アンモニウムを主成分とするエッチング液Ｌが流れている。
【００４４】
端面支持ローラーＲ２は、樋状容器Ｔの側壁に取り付けられた軸を介して、樋状容器Ｔ内で回転すると共に、その一部が樋状容器Ｔ内に収容されるエッチング液Ｌに浸漬している。また、基板Ｇの端面Ｇａを支持する円錐状の支持面Ｒ２ａが形成されている。この支持面Ｒ２ａは、端面支持ローラーＲ２の内側から外側に向かって漸次拡径している。
【００４５】
次に、上記エッチング装置１を用いたガラス基板のエッチング方法を、図１に示すＢ方向からエッチング装置１を視た図である図３に基づいて説明する。このガラス基板のエッチング方法は、図１〜図３においてクロスハッチングで示す部位、つまり基板Ｇの端面Ｇａと端面Ｇａに連なる表裏面の縁部Ｇｂとに連続的にエッチングを施すものである。なお、図３において、搬送ローラーＲ１の図示は省略している。また、基板Ｇは、複数枚が連続してＶ方向に搬送される。
【００４６】
搬送ローラーＲ１によって基板ＧがＶ方向に搬送されると、図３に示すように、基板Ｇの端面Ｇａを支持する端面支持ローラーＲ２が、端面Ｇａと支持面Ｒ２ａとの摩擦によって同図に示すＷ方向に回転（空転）する。このため、支持面Ｒ２ａは、端面支持ローラーＲ２の一部がエッチング液Ｌに浸漬していることによって、端面支持ローラーＲ２の回転に伴い、エッチング液Ｌへの侵入とエッチング液Ｌからの脱出とを繰り返す。これにより、端面支持ローラーＲ２は基板ＧをＶ方向に搬送しつつ、支持面Ｒ２ａに付着したエッチング液Ｌによって基板Ｇの端面Ｇａと端面Ｇａに連なる縁部Ｇｂとにエッチングを施す。
【００４７】
このような方法によれば、基板Ｇの横方向における中央部Ｇｃと端面Ｇａのみが搬送ローラーＲ１と端面支持ローラーＲ２とによって支持される状態となる。このため、基板Ｇの内、搬送ローラーＲ１から横方向に食み出した部位に、擦り傷等が生じる可能性を可及的に低減することができ、基板Ｇの品質低下を効果的に抑制し得る状態でエッチングを施すことが可能となる。
【００４８】
また、搬送ローラーＲ１から横方向に食み出した部位は、重力によって下方に撓んだ状態にあるため、基板Ｇの端面Ｇａや端面Ｇａに連なる縁部Ｇｂから基板Ｇのエッチングの対象ではない部位に向かって、エッチング液Ｌが流出する恐れがなくなる。これにより、基板Ｇを乾燥する際に、基板Ｇの切断時に生じたガラス粉等がパーティクルとして基板Ｇに残存し、基板Ｇが汚染されるという事態も適切に回避することができる。さらに、端面支持ローラーＲ２の支持面Ｒ２ａの周速度と基板Ｇの端面Ｇａの搬送速度との相対速度が略ゼロとなるため、両者間の摺動を可及的に防止することが可能となり、基板Ｇの端面Ｇａに擦り傷等が発生するという不具合も起こりにくくなる。従って、さらなる基板Ｇの品質低下の抑制を図ることが可能となる。
【００４９】
加えて、基板Ｇにおける一対の端面Ｇａと縁部Ｇｂに対して、同時にエッチングを施すことができるため、基板Ｇの生産効率を向上させることも可能となる。また、基板Ｇの端面Ｇａが端面支持ローラーＲ２によって支持されることにより、基板Ｇの横方向移動が規制され得ることになるため、基板Ｇを安定的に搬送することができる。さらに、エッチング液Ｌが樋状容器Ｔ内に収容されていることにより、不要に多量のエッチング液Ｌを使用する必要がなくなるため、生産コストの低廉化を図ることも可能となる。
【００５０】
図４は、本発明の第二実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１を示す断面図である。なお、図４において、上記第一実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１と共通の構成要素については、同一の符号を付すことにより重複する説明を省略する。また、後述する第三実施形態〜第六実施形態についても同様である。
【００５１】
この第二実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１が、上述の第一実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１と相違している点は、端面支持体として端面支持ローラーＲ２ではなく、エッチング治具Ｓを使用している点と、エッチング治具Ｓの支持面Ｓａに対して、エッチング液Ｌを滴下する図示しないエッチング液供給源が備えられている点である。
【００５２】
このエッチング装置１を使用したガラス基板のエッチング方法によれば、エッチング治具Ｓの支持面Ｓａにエッチング液Ｌの膜を形成することができ、基板Ｇの端面Ｇａと縁部Ｇｂとに当該膜を通過させ、エッチング液Ｌに浸すことで、端面Ｇａと縁部Ｇｂとにエッチングを施すことが可能となる。
【００５３】
図５は、本発明の第三実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１を示す断面図である。
【００５４】
この第三実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１が、上述の第一実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１と相違している点は、端面支持体として端面支持ローラーＲ２ではなく、板状体Ｈを使用している点である。この板状体Ｈは、多孔質材料で形成されている。
【００５５】
このエッチング装置１を使用したガラス基板のエッチング方法によれば、板状体Ｈが多孔質材料で形成されていることにより、板状体Ｈ内に含浸されたエッチング液Ｌは、毛細管現象によって板状体Ｈ内を上昇する。この上昇したエッチング液Ｌが板状体Ｈの支持面Ｈａから沁みだすことによって、基板Ｇの端面Ｇａと縁部Ｇｂとが浸され、エッチングを施すことができる。
【００５６】
ここで、上記の第一実施形態〜第三実施形態に係るガラス基板のエッチング方法において、エッチングが施される基板Ｇの厚みは０．７ｍｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｍｍ以下であり、最も好ましくは０．３ｍｍ以下である。また、基板Ｇの横方向の長さは、１５００ｍｍ以上であることが好ましい。
【００５７】
図６は、本発明の第四実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１を示す断面図である。
【００５８】
この第四実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１が、上述の第一実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１と相違している点は、端面支持ローラーＲ２が備えられていない点と、搬送ローラーＲ１と基板Ｇの端面Ｇａとの間に、基板Ｇを支持する複数の補助支持ローラーＲ３を備えている点である。この補助支持ローラーＲ３は、端面Ｇａの側に備えられたもの程、その径が小さくなっており、搬送ローラーＲ１と平行に離間して備えられている。
【００５９】
このエッチング装置１を使用したガラス基板のエッチング方法は、特に薄い基板Ｇにエッチングを施すものであり、厚みが０．１ｍｍ以下の基板Ｇに用いることが好ましい。このような方法によれば、薄い基板Ｇを搬送する場合であっても、基板Ｇが過度に撓むことを抑制し得ると共に、搬送ローラーＲ１上に載置された基板Ｇの中央部Ｇｃにおいて、基板Ｇの曲率の増大に起因する大きな引張応力の発生を防止することができる。
【００６０】
図７は、本発明の第五実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１を示す断面図である。
【００６１】
この第五実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１が、上述の第一実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１と相違している点は、端面支持ローラーＲ２が備えられていない点と、搬送ローラーＲ１と基板Ｇの端面Ｇａとの間に、基板Ｇを下方に押圧する押圧部材である押圧ローラーＲ４を備えている点である。この押圧ローラーＲ４は、同図に示すＺ方向に沿って上下動することが可能となっている。
【００６２】
このエッチング装置１を使用したガラス基板のエッチング方法は、厚みの大きい基板Ｇにエッチングを施すものであり、特に基板Ｇの厚みと基板Ｇの横方向の長さとが（基板Ｇの横方向長さ／基板Ｇの厚み）＜２０００の関係にあるときに用いることが好ましい。このような方法によれば、厚みの大きい基板Ｇにエッチングを施す場合であっても、良好に基板Ｇの端面Ｇａと縁部Ｇｂとを下方に撓ませることができる。
【００６３】
図８は、本発明の第六実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置２を示す斜視図である。
【００６４】
エッチング装置２は、基板Ｇの搬送手段である台車１０と、図示しない上記第一〜第五実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に使用するエッチング装置１と同一の樋状容器Ｔとを備えている。
【００６５】
台車１０には、基板Ｇの中央部Ｇｃを支持する支持部Ｄが形成されている。また、支持部Ｄにおける基板Ｇとの当接面は、曲面に形成されると共に、複数の通気孔Ｐが備えられており、図示しない負圧源によって負圧を作用させることにより、基板Ｇを吸着保持することが可能となっている。
【００６６】
このエッチング装置２を使用したガラス基板のエッチング方法によれば、支持部Ｄにおける基板Ｇとの当接面が曲面に形成されていることに起因して、図示しない負圧源によって基板Ｇに作用する負圧の大小を調節することにより、基板Ｇの撓み具合を調節することが可能となる。これにより、様々な厚みの基板Ｇに対して、このエッチング装置２を用いてエッチングを施すことができる。
【００６７】
ここで、上記の第一実施形態〜第六実施形態において、エッチングが施される基板Ｇの縁部Ｇｂの幅は、１．０ｍｍ以下であることが好ましい。
【００６８】
また、本発明に係るガラス基板のエッチング方法は、上記の各実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に限定されるものではない。上記の第一実施形態〜第五実施形態においては、基板Ｇを搬送する搬送手段として、搬送ローラーＲ１を使用しているが、第六実施形態に示すような台車１０を使用してもよいし、台車１０における支持部Ｄに形成された複数の通気孔Ｐと、通気孔Ｐに負圧を作用させる負圧源とを備えた搬送コンベヤ等を使用してもよい。また、樋状容器Ｔは、上記実施形態に示したように基板Ｇの縦方向長さよりも長い必要はなく、基板Ｇの縦方向長さの半分程度の長さを有していれば十分である。さらに、樋状容器Ｔは必ずしも設ける必要はなく、エッチングの対象となる一対の端面Ｇａと縁部Ｇｂの双方を、基板Ｇの横方向長さよりも長い横幅を有する一つの容器を用いて、当該容器に収容されたエッチング液Ｌに浸すようにしてもよい。さらに、樋状容器Ｔ内を流れるエッチング液Ｌの流れの向きは、第一実施形態で説明したＶ方向と逆向きであってもよい。また、エッチング液Ｌとしては、上記実施形態に使用しているフッ化水素酸アンモニウムを主成分としたもの以外にも、フッ酸や塩酸、水酸化ナトリウム等を使用することができる。さらに、端面支持ローラーＲ２、エッチング治具Ｓ、板状体Ｈの形状も基板Ｇの撓み具合等を勘案して適宜変更してよい。加えて、上記の各実施形態では、エッチングが施される基板Ｇの縦方向長さが横方向長さと比較して長くなっているが、この限りではなく、横方向長さが縦方向長さより長くなっていてもよい。
【符号の説明】
【００６９】
１            エッチング装置
２            エッチング装置
Ｒ１          搬送ローラー
Ｒ２          端面支持ローラー
Ｒ２ａ        支持面
Ｇ            ガラス基板
Ｇａ          基板の端面
Ｇｂ          基板の縁部
Ｇｃ          基板の中央部
Ｔ            樋状容器
Ｌ            エッチング液
Ｖ            基板の搬送方向
Ｗ            端面支持ローラーの回転方向
Ｓ            エッチング治具
Ｓａ          支持面
Ｙ            エッチング液の滴下方向
Ｈ            板状体
Ｈａ          支持面
Ｒ３          補助支持ローラー
Ｒ４          押圧ローラー
Ｚ            押圧ローラーの移動方向
１０          台車
Ｄ            支持部
Ｐ            通気孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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