(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表される縮合複素環化合物の製造方法であって、
前記縮合複素環化合物を含む溶液に、一般式（３）で表される安定化剤の存在下に一般式（２）で表されるエーテル系溶媒を添加し、水又は水溶液で洗浄した後、有機層を分離し、前記有機層から溶媒を減圧蒸留した後に、
前記有機層から溶媒を減圧蒸留して得られる粗結晶を、アセトニトリルを３０％以上含有する再結晶溶媒にて再結晶精製することを特徴とする縮合複素環化合物の製造方法。
【化１】
0005831068.tif 000017
〔但し、一般式（１）において、Ｗは、酸素原子、硫黄原子又は―ＮＲn（Ｒnは、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す）を表す。Ｚ1及びＺ2は、それぞれ独立に芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。Ｒａ及びＲｂは、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。
また、一般式（２）において、Ｒ1及びＲ2は、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ1とＲ2が互いに環を形成していてもよい。
さらに、一般式（３）において、Ｒｘは、アルキル基、アルコキシ基又はヒドロキシル基を表し、Ｒｙは、アルキル基を表す。ｎは、０から４の整数を表す。〕
【請求項２】
前記一般式（１）で表される縮合複素環化合物の最終物に含有される一般式（３）で表される安定化剤含有量が、ガスクロマトグラフィー測定において１０ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の縮合複素環化合物の製造方法。
【請求項３】
前記一般式（１）において、Ｗが、酸素原子又は硫黄原子であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の縮合複素環化合物の製造方法。
【請求項４】
前記再結晶溶媒が、アセトニトリルとトルエンの混合溶媒であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の縮合複素環化合物の製造方法。
【請求項５】
前記一般式（１）において、Ｒａ又はＲｂが、カルバゾール環基又はアザカルバゾール環基であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の縮合複素環化合物の製造方法。
【請求項６】
前記一般式（３）が、下記一般式（４）で表される安定化剤であることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の縮合複素環化合物の製造方法。
【化２】
0005831068.tif 000018
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンスの材料として用いることのできる縮合複素環化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般式（１）で表される縮合複素環化合物は、有機電子材料、特に有機エレクトロルミネッセンス材料において広く用いられており、高純度を必要とされる化合物である。高純度に精製する方法としては、カラムクロマトグラフィー、再結晶、昇華等の操作が一般的であり、有機エレクトロルミネッセンス材料となる化合物の原料やハロゲン中間体といった不純物の含有量を低減させた高純度の材料を提供する製造方法は、既に幾つか報告されている（特許文献１、特許文献２、特許文献３）。
【０００３】
【化１】
0005831068.tif 000002
【０００４】
〔但し、一般式（１）において、Ｗは、酸素原子、硫黄原子又は―ＮＲn（Ｒnは、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す）を表す。Ｚ1及びＺ2は、それぞれ独立に芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。Ｒａ及びＲｂは、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。
また、一般式（２）において、Ｒ1及びＲ2は、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ1とＲ2が互いに環を形成していてもよい。
さらに、一般式（３）において、Ｒｘは、アルキル基、アルコキシ基又はヒドロキシル基を表し、Ｒｙは、アルキル基を表す。ｎは、０から４の整数を表す。〕
【０００５】
一般式（１）で表される縮合複素環化合物に由来する不純物以外にも、製造工程の一部で、一般式（２）で表されるエーテル系溶媒を使用することが多い。かかるエーテル系溶媒は、光や酸素に曝されると、爆発性の高い過酸化物が生成することが知られている。そのため、一般に入手できるほとんどのエーテル系溶媒には、過酸化物の生成を抑えるために、一般式（３）で表わされる安定化剤（安定剤、酸化防止剤とも呼ばれる）化合物が添加されている。かかる安定化剤は、一般式（２）で表されるエーテル系溶媒中で発生したラジカルを捕捉して過酸化物の生成を抑制するラジカル捕捉剤として機能する。
【０００６】
前記した安定化剤の多くは２，６−ジ−tert−ブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）やヒドロキノン（ＨＱ）である。一般式（１）で表される縮合複素環化合物はこれらの安定化剤との相互作用が非常に強く、これを包含しやすい性質を有するため、単純な精製操作だけでは安定化剤を除去することはできない。従って、一般式（２）で表されるエーテル系溶媒に含まれる安定化剤の当初の含有量が１００〜３００ｐｐｍ程度であったとしても、縮合複素環化合物の製造にあたって安定化剤を含むエーテル系溶媒を使用すると、当該溶媒を濃縮する過程で安定化剤が蓄積し、縮合複素環化合物中には、最終的に１００〜１０００ｐｐｍ程度残存することになる。これらの安定化剤はフェノール構造を有しているため、数十ｐｐｍでも有機エレクトロルミネッセンス素子内に含有されると、素子性能を大幅に劣化させる。そのため、可能な限り含有量を減量させる必要がある。
【０００７】
なお、一般式（１）で表される縮合複素環化合物は溶媒に対する溶解度が低いため、極性の高い溶媒、特にエーテル系溶媒にしか溶解しないものが多い。そのため、一般式（１）で表される縮合複素環化合物を製造する際の反応、処理、精製工程において、一般式（２）で表されるエーテル系溶媒の使用は避けられない。
【０００８】
安定化剤を含有しないエーテル系溶媒を入手することも可能ではあるが、過酸化物が生成する前に短期間で使い切ってしまう必要があり、また、操作中も爆発のおそれがあるため、研究室レベルでの少量使用の場合は別として、工業的な大量生産には不向きである。
【０００９】
そのため、一般式（１）で表される縮合複素環化合物は、製造後に安定化剤を除去する精製を行う必要がある。精製方法として再結晶やクロマトグラフィーが挙げられる。なお、再結晶では、再結晶用の溶媒としてトルエン、キシレン、ヘキサン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール等の単一又は混合溶媒が使われるが、これらの溶媒だけでは、安定化剤の数ｐｐｍオーダーまでの除去はできていなかった。
【００１０】
一般式（３）で表される安定化剤を除去する方法として再結晶やクロマトグラフィーのほかに、水との接触あるいはゼオライト等の吸着剤による吸着除去が知られているが（特許文献４、特許文献５）、一般式（１）で表される縮合複素環化合物については、吸着精製だけでは安定化剤が除去できないことが分かった。また、安定化剤の多くは昇華しやすい性質があり、昇華精製時に除去が可能な場合もあるが（特許文献６）、一般式（２）で表されるエーテル系溶媒は昇華精製時に１５０〜２００℃の範囲で融解するものが多く、飛散した安定化剤が融解した一般式（１）で表される縮合複素環化合物中に包含されてしまう可能性が高いため、最終生成物において、安定化剤の含有量を数ｐｐｍオーダーまで除去することは非常に困難であった。
【００１１】
なお、純度測定に用いられる高速クロマトグラフィーでは、安定化剤の感度が非常に低く、５０ｐｐｍ以下は正確に測定することができない。そのため、従来の精製方法では安定化剤が除去できておらず、実際には安定化剤を数十ｐｐｍ以上含有しているものでも高純度材料と見なして有機エレクトロルミネッセンス素子に用いてしまうことがあり、安定化剤の影響による効率や寿命の劣化が原因で本来の性能を引き出せずに見落としてしまっていた縮合複素環化合物も少なくなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】国際公開第２００５／０８４０８３号パンフレット
【特許文献２】特表２００８−５１６４２１号公報
【特許文献３】特表２０１０−５０９７７５号公報
【特許文献４】特開平３−４７５１４号公報
【特許文献５】特開２００３−２６６１９号公報
【特許文献６】特開２０００−９５８３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
一般式（３）で表される化合物（安定化剤）の含有量を低減した縮合複素環化合物の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者らは、前記課題に対して鋭意研究開発した結果、再結晶操作において、従来の精製方法では用いられることがなかったアセトニトリルを用いることによって安定化剤を効率よく除去できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１５】
１．一般式（１）で表される縮合複素環化合物の製造方法であって、前記縮合複素環化合物を含む溶液に、一般式（３）で表される安定化剤の存在下に一般式（２）で表されるエーテル系溶媒を添加し、水又は水溶液で洗浄した後、有機層を分離し、前記有機層から溶媒を減圧蒸留した後に、前記有機層から溶媒を減圧蒸留して得られる粗結晶を、アセトニトリルを３０％以上含有する再結晶溶媒にて再結晶精製することを特徴とする縮合複素環化合物の製造方法。
【００１６】
【化２】
0005831068.tif 000003
【００１７】
〔但し、一般式（１）において、Ｗは、酸素原子、硫黄原子又は―ＮＲn（Ｒnは、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す）を表す。Ｚ1及びＺ2は、それぞれ独立に芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。Ｒａ及びＲｂは、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。
また、一般式（２）において、Ｒ1及びＲ2は、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ1とＲ2が互いに環を形成していてもよい。
さらに、一般式（３）において、Ｒｘは、アルキル基、アルコキシ基又はヒドロキシル基を表し、Ｒｙは、アルキル基を表す。ｎは、０から４の整数を表す。〕
【００１８】
２．前記一般式（１）で表される縮合複素環化合物の最終物に含有される一般式（３）で表される安定化剤含有量が、ガスクロマトグラフィー測定において１０ｐｐｍ以下であることを特徴とする１に記載の縮合複素環化合物の製造方法。
３．前記一般式（１）において、Ｗが、酸素原子又は硫黄原子であることを特徴とする１又は２に記載の縮合複素環化合物の製造方法。
【００１９】
４．前記再結晶溶媒が、アセトニトリルとトルエンの混合溶媒であることを特徴とする１から３のいずれか１つに記載の縮合複素環化合物の製造方法。
【００２０】
５．前記一般式（１）において、Ｒａ又はＲｂが、カルバゾール環基又はアザカルバゾール環基であることを特徴とする１から４のいずれか１つに記載の縮合複素環化合物の製造方法。
【００２１】
６．前記一般式（３）が、下記一般式（４）で表される安定化剤であることを特徴とする１から５のいずれか１つに記載の縮合複素環化合物の製造方法。
【００２２】
【化３】
0005831068.tif 000004
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、一般式（３）で表される化合物（安定化剤）の含有量を低減した縮合複素環化合物の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一実施形態に係る縮合複素環化合物の製造方法で製造した縮合複素環化合物を用いた有機ＥＬ素子の一例を説明する模式断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る縮合複素環化合物の製造方法で製造した縮合複素環化合物を用いた有機ＥＬ素子を備えて構成される表示装置の一例を示した模式図である。
【図３】図２に示す表示部Ａの模式図である。
【図４】図３に示す画素の模式図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る縮合複素環化合物の製造方法で製造した縮合複素環化合物を用いたパッシブマトリクス方式フルカラー表示装置の分解斜視図である。
【図６】本発明の一実施形態に係る縮合複素環化合物の製造方法で製造した縮合複素環化合物を用いた有機ＥＬフルカラー表示装置の概略断面図である。
【図７】本発明の一実施形態に係る縮合複素環化合物の製造方法で製造した縮合複素環化合物を用いた照明装置の斜視図である。
【図８】図７のＡ−Ａ線断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明を実施するための形態（以下「実施形態」という）について詳細に説明する。
【００２６】
《縮合複素環化合物の製造方法》
本発明の一実施形態に係る縮合複素環化合物の製造方法は、一般式（１）で表される縮合複素環化合物を、一般式（３）で表される安定化剤の存在下に一般式（２）で表されるエーテル系溶媒を用いて製造した後、アセトニトリルを３０％以上含有する再結晶溶媒にて再結晶精製するというものである。
【００２７】
【化４】
0005831068.tif 000005
【００２８】
但し、一般式（１）において、Ｗは、酸素原子、硫黄原子又は―ＮＲn（Ｒnは、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す）を表す。
【００２９】
なお、Ｒnで表わされるアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
【００３０】
アリール基の例としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００３１】
ヘテロアリール基の例としては、ピリジン環基、カルバゾール環基、アザカルバゾール環基、フラン環基、ベンゾフラン環基、チオフェン環基、ベンゾチオフェン環基、ピロール環基、ピラゾール環基、イミダゾール環基、オキサジアゾール環基、インドール環基等が挙げられる。Ｒnとして好ましくは水素原子又はフェニル基である。
【００３２】
一般式（１）において、Ｚ1及びＺ2は、それぞれ独立に芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。
【００３３】
Ｚ1及びＺ2で表される芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンゾピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環等が挙げられる。
【００３４】
Ｚ1及びＺ2で表される芳香族複素環としては、例えば、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、アザカルバゾール環（ここで、アザカルバゾール環とは、前記カルバゾール環を構成する炭素原子の１つ以上が窒素原子で置き換わったものを示す）、トリアゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環、シロール環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、ジベンゾカルバゾール環、ベンゾジチオフェン環、フェナントロリン環、アクリジン環、ベンゾキノリン環、フェナジン環、サイクラジン環、キンドリン環、テペニジン環、キニンドリン環、トリフェノジチアジン環、トリフェノジオキサジン環、フェナントラジン環、アントラジン環、ナフトフラン環、ナフトチオフェン環、ベンゾジフラン環、ナフトジフラン環、ナフトジチオフェン環、アントラフラン環、アントラジフラン環、アントラチオフェン環、アントラジチオフェン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、チオファントレン環（ナフトチオフェン環）、構成する炭素原子の１つ以上が窒素原子で置き換わったジベンゾフラン環、構成する炭素原子の１つ以上が窒素原子で置き換わったジベンゾチオフェン環から導出される芳香族複素環等が挙げられる。Ｚ1及びＺ2として好ましくは、ベンゼン環、カルバゾール環、アザカルバゾール環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環であり、より好ましくは、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環である。
【００３５】
一般式（１）において、Ｒａ及びＲｂは、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。ＲａとＲｂは、同一でも異なっていてもよい。
【００３６】
Ｒａ及びＲｂで表される芳香族炭化水素基の例としては、ベンゼン環基、ナフタレン環基、アントラセン環基、フェナントレン環基、フルオレン環基等が挙げられ、好ましくはベンゼン環である。
【００３７】
Ｒａ及びＲｂで表される芳香族複素環基の具体例としては、前記Ｚ1及びＺ2で表される芳香族複素環基として挙げた例が挙げられ、好ましくは、カルバゾール環基、アザカルバゾール環基、ジベンゾフラン環基、ジベンゾチオフェン環基であり、より好ましくは、カルバゾール環基、アザカルバゾール環基である。
【００３８】
Ｒａ及びＲｂは、更に置換基で置換されていてもよい。置換基の具体例としては、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）、シクロアルキル基(シクロヘキシル基等)、芳香族基（フェニル基、ナフチル基等）、複素環基（ピリジン環基、カルバゾール環基、アザカルバゾール環基、フラン環基、ベンゾフラン環基、チオフェン環基、ベンゾチオフェン環基、ピロール環基、ピラゾール環基、イミダゾール環基、オキサジアゾール環基、インドール環基等）、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基等）、アルコキシカルボニル基（メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（フェニルオキシカルボニル基等）、アシル基（アセチル基、プロピオニル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基等）等を挙げることができる。また、これらの基はさらにこれらの基で置換されていてもよい。
【００３９】
以下に一般式（１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【００４０】
【化５】
0005831068.tif 000006
【００４１】
【化６】
0005831068.tif 000007
【００４２】
【化７】
0005831068.tif 000008
【００４３】
【化８】
0005831068.tif 000009
【００４４】
また、一般式（２）において、Ｒ1及びＲ2は、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ1とＲ2が互いに環を形成していてもよい。
【００４５】
Ｒ1及びＲ2で表されるアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。
【００４６】
これらの基は更に置換基で置換されていてもよい。置換基の具体例としては、芳香族基（フェニル基等）、複素環基（ピリジル基、チアゾリル基、イミダゾリル基等）、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基等）、アルコキシカルボニル基（メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（フェニルオキシカルボニル基等）、アシル基（アセチル基、プロピオニル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基等）等を挙げることができる。また、これらの基はさらにこれらの基で置換されていてもよい。
【００４７】
以下に一般式（２）で表されるエーテル系溶媒の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
かかるエーテル系溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル（Ｒ1＝ＣＨ2ＣＨ3、Ｒ2＝ＣＨ2ＣＨ3）、メチル−tert−ブチルエーテル（Ｒ1＝ＣＨ3、Ｒ2＝Ｃ（ＣＨ3）3）、ジイソプロピルエーテル（Ｒ1，Ｒ2＝ＣＨ（ＣＨ3）2）、ジブチルエーテル（Ｒ1，Ｒ2＝ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3）、メトキシシクロヘキサン（Ｒ1＝ＣＨ3、Ｒ2＝Ｃ6Ｈ11）、テトラヒドロフラン（Ｒ1，Ｒ2＝―（ＣＨ2）4―）、テトラヒドロピラン（Ｒ1，Ｒ2＝―（ＣＨ2）5―）、ジフェニルエーテル（Ｒ1，Ｒ2＝Ｃ6Ｈ5）、ブチルフェニルエーテル（Ｒ1＝（ｎ）ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3、Ｒ2＝Ｃ6Ｈ5）、エチレングリコールジメチルエーテル（Ｒ1＝ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3，Ｒ2＝ＣＨ3）、ジエチレングリコールジブチルエーテル（Ｒ1，Ｒ2＝ＣＨ2ＣＨ2ＯＣ4Ｈ9）等を挙げることができる。一般式（２）で表される溶媒として、好ましくはジイソプロピルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、テトラヒドロフランである。
【００４８】
一般式（３）において、Ｒｘは、アルキル基、アルコキシ基又はヒドロキシル基を表し、Ｒｙは、アルキル基を表す。ｎは、０から４の整数を表す。
【００４９】
Ｒｘで表わされるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。
Ｒｘで表されるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。
Ｒｘとして、好ましくはメチル基、メトキシ基、ヒドロキシル基であり、より好ましくはメチル基である。
【００５０】
Ｒｙで表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。好ましくは、tert−ブチル基である。
【００５１】
以下に一般式（３）で表される安定化剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
かかる安定化剤の具体例としては、２，６−ジ−tert−ブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、ブチルヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）、ヒドロキノン（ＨＱ）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等が挙げられる。
【００５２】
再結晶溶媒は、アセトニトリルを体積比で３０％以上含有している。再結晶溶媒におけるアセトニトリルの含有量は、好ましくは４０％以上、より好ましくは５０％以上である。アセトニトリルと組み合わせる溶媒としては、例えば、トルエン、メタノール、エタノール等が挙げられるが、アセトニトリルとトルエンを組み合わせると精製効率が高く、好ましい。
【００５３】
本発明における再結晶操作は、例えば、一般式（１）で表される縮合複素環化合物をアセトニトリル以外の溶媒に溶解させた後、アセトニトリルを滴下して結晶を析出させる方法や、一般式（１）で表される縮合複素環化合物をアセトニトリルと他の溶媒との混合溶媒に溶解させた後に、冷却して結晶を析出させる方法や、一般式（１）で表される縮合複素環化合物をアセトニトリルとトルエンとの混合溶媒中で懸濁洗浄させる方法等の、一般的な方法でも行うことができる。
【００５４】
析出した結晶は、濾過、遠心分離等により分離し、必要に応じて少量の冷溶媒で洗浄した後、乾燥することにより、精製された目的化合物（縮合複素環化合物）を得ることができる。
【００５５】
なお、一般式（１）で表される縮合複素環化合物の最終物に含有される安定化剤含有量の正確な定量は、ガスクロマトグラフィーで行うことができる。
【００５６】
以上に説明した本発明の一実施形態に係る縮合複素環化合物の製造方法は、アセトニトリルを３０％以上含有する再結晶溶媒にて再結晶精製を行うため、一般式（２）で表されるエーテル系溶媒に含まれている一般式（３）で表される安定化剤を、後述する実施例に示す如く、効率よく除去することができる。そのため、本発明の一実施形態に係る縮合複素環化合物の製造方法で製造された縮合複素環化合物には、一般式（３）で表される安定化剤の含有量が１０ｐｐｍ以下に低減されている。
【００５７】
従って、本発明の一実施形態に係る縮合複素環化合物の製造方法で製造された一般式（１）で表される縮合複素環化合物を用いて有機ＥＬ素子を作製すれば、当該縮合複素環化合物中の一般式（３）で表される安定化剤の含有量が低減されているので、電力効率と発光寿命に優れたものとすることができる。
また、一般式（１）で表される縮合複素環化合物は、パッシブマトリクス方式フルカラー表示装置、照明装置、有機ＥＬフルカラー表示装置などにも用いることができ、前記と同様に、これらの装置について電力効率と発光寿命に優れたものとすることができる。
【００５８】
《有機ＥＬ素子、パッシブマトリクス方式フルカラー表示装置、照明装置、有機ＥＬフルカラー表示装置》
以下、図１〜７を参照して、一実施形態に係る縮合複素環化合物の製造方法で製造された、一般式（１）で表される縮合複素環化合物を用いて作製された有機ＥＬ素子、表示装置、パッシブマトリクス方式フルカラー表示装置、照明装置、有機ＥＬフルカラー表示装置について説明する。
【００５９】
（有機ＥＬ素子）
図１に示すように、有機ＥＬ素子１０は、支持基板１１と、支持基板１１の上に形成される陽極１２と、陽極１２の上に形成される有機ＥＬ層１３と、有機ＥＬ層１３の上に形成される陰極１４と、陰極１４の上に形成される保護膜１５または保護板と、光取り出し側に任意に設けられる集光シート（図示せず）と、これらを封止する封止部材（図示せず）とを含んでなる。
【００６０】
有機ＥＬ層１３は、具体的には以下のように構成することができるが、これらに限定されるものではない。
(i)   陽極/発光層/電子輸送層/陰極
(ii)  陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(iii) 陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極
(iv)  陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(v)   陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(vi)  陽極//正孔輸送層/陽極バッファー層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(vii) 陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
【００６１】
図１には、前記した有機ＥＬ層１３の構成のうち、(v)に記載のものを示している。すなわち、陽極１２と陰極１４の間に、陽極１２から順に陽極バッファー層１３１と、正孔輸送層１３２と、発光層１３３と、正孔阻止層１３４と、電子輸送層１３５と、陰極バッファー層１３６とを積層して構成されている。
【００６２】
なお、複数の発光層が含まれる場合、当該発光層間に非発光性の中間層を有してもよい。また、前記層構成のうち、陽極及び陰極を除く発光層を含む有機化合物層を１つの発光ユニットとし、複数の発光ユニットを積層することが可能である。当該複数の積層された発光ユニットにおいては、発光ユニット間に非発光性の中間層を有していてもよく、更に中間層は電荷発生層を含んでいてもよい。
【００６３】
かかる有機ＥＬ層１３を有機ＥＬ素子１０に用いる場合、当該有機ＥＬ層１３は白色発光層とするのが好ましい。白色発光層とすれば、照明装置（図１に図示せず）に好適に用いることができる。照明装置については後述する。
【００６４】
前記(i)〜(vii)で例示した構成のうち、一実施形態に係る縮合複素環化合物の製造方法で製造された一般式（１）で表される縮合複素環化合物は、一般式（３）で表される安定化剤の含有量が低減されているため、発光層１３３に好適に用いることができる。
【００６５】
発光層１３３は、発光ホストと、蛍光ドーパントや燐光ドーパントといった発光ドーパントとを含んで構成されるが、これらの中でも、一般式（１）で表される縮合複素環化合物は、発光ホストとして好適に用いることができる。なお、一般式（１）で表される縮合複素環化合物は、電子輸送層１３５の材料として用いることも可能である。
【００６６】
有機ＥＬ素子１０のその他の構成、例えば、陽極バッファー層１３１（正孔注入層）、正孔輸送層１３２、正孔阻止層１３４、電子輸送層１３５、陰極バッファー層１３６（電子注入層）、陽極１２、陰極１４、保護膜１５（保護板）、支持基板１１、集光シートおよび封止部材や、発光ドーパント等の材料は、例えば、特許文献１に記載されているような公知のものを用いることができる。また、有機ＥＬ素子１０は、当該特許文献１に記載の製造方法によって製造することができる。
【００６７】
（表示装置）
図２に示す表示装置２０は、携帯電話等のディスプレイであり、前述した有機ＥＬ素子１０（図２に図示せず、図１参照）を用いて構成され、複数の画素２１（図３参照）を有する表示部Ａと、表示部Ａと電気的に接続された制御部Ｂとを備えて構成されている。かかる表示装置２０は、有機ＥＬ素子１０の発光により画像情報の表示を行う。
【００６８】
制御部Ｂは、画像情報に基づいて表示部Ａの画像走査等を行う。具体的には、制御部Ｂは、複数の画素２１それぞれに外部からの画像情報に基づいて走査信号と画像データ信号を送り、走査信号により走査線毎の画素が画像データ信号に応じて順次発光して画像走査を行って画像情報を表示部Ａに表示する。
【００６９】
図３に示すように、表示部Ａは、支持基板１１上に、複数の走査線２２およびデータ線２３を含む配線部と、複数の画素２１等とを有する。表示部Ａの主要な部材の説明を以下に行う。なお、図３においては、画素２１の発光した光が白矢印方向（下方向）へ取り出される場合を示している。
【００７０】
配線部の走査線２２及び複数のデータ線２３はそれぞれ導電材料からなり、走査線２２とデータ線２３は格子状に直交して、直交する位置で画素２１に接続している（詳細は図示していない）。
【００７１】
画素２１は、走査線２２から走査信号が印加されると、データ線２３から画像データ信号を受け取り、受け取った画像データに応じて発光する。発光の色が赤領域の画素、緑領域の画素、青領域の画素を適宜同一の支持基板１１上に並置することによって、フルカラー表示が可能となる。
【００７２】
図４に示すように、画素２１は、一般式（１）で表される縮合複素環化合物を含む有機ＥＬ素子１０、スイッチングトランジスタ２４、駆動トランジスタ２６、コンデンサ２５、電源ライン２７等を備えている。前記したように、複数の画素２１に有機ＥＬ素子１０として、赤色、緑色、青色発光の有機ＥＬ素子１０を用い、これらを同一の支持基板１１上に並置することでフルカラー表示を行う。
【００７３】
図４において、制御部Ｂ（図２参照）からデータ線２３を介してスイッチングトランジスタ２４のドレインに画像データ信号が印加される。そして、制御部Ｂから走査線２２を介してスイッチングトランジスタ２４のゲートに走査信号が印加されると、スイッチングトランジスタ２４の駆動がオンし、ドレインに印加された画像データ信号がコンデンサ２５と駆動トランジスタ２６のゲートに伝達される。
【００７４】
画像データ信号の伝達により、コンデンサ２５が画像データ信号の電位に応じて充電されるとともに、駆動トランジスタ２６の駆動がオンする。駆動トランジスタ２６は、ドレインが電源ライン２７に接続され、ソースが有機ＥＬ素子１０の電極に接続されており、ゲートに印加された画像データ信号の電位に応じて電源ライン２７から有機ＥＬ素子１０に電流が供給される。
【００７５】
制御部Ｂの順次走査により走査信号が次の走査線２２に移ると、スイッチングトランジスタ２４の駆動がオフする。ここで、スイッチングトランジスタ２４の駆動がオフしてもコンデンサ２５は充電された画像データ信号の電位を保持するので、駆動トランジスタ２６の駆動はオン状態が保たれて、次の走査信号の印加が行われるまで有機ＥＬ素子１０の発光が継続する。順次走査により次に走査信号が印加されたとき、走査信号に同期した次の画像データ信号の電位に応じて駆動トランジスタ２６が駆動して有機ＥＬ素子１０が発光する。
【００７６】
すなわち、有機ＥＬ素子１０の発光は、複数の画素それぞれの有機ＥＬ素子１０に対して、アクティブ素子であるスイッチングトランジスタ２４と駆動トランジスタ２６を設けて、複数の画素２１それぞれの有機ＥＬ素子１０の発光を行っている。このような発光方法はアクティブマトリクス方式と呼ばれている。
【００７７】
ここで、有機ＥＬ素子１０の発光は、複数の階調電位を持つ多値の画像データ信号による複数の階調の発光でもよいし、２値の画像データ信号による所定の発光量のオン、オフでもよい。また、コンデンサ２５の電位の保持は次の走査信号の印加まで継続して保持してもよいし、次の走査信号が印加される直前に放電させてもよい。
【００７８】
表示装置２０は、上述したアクティブマトリクス方式に限られず、走査信号が走査されたときのみデータ信号に応じて有機ＥＬ素子１０を発光させるパッシブマトリクス方式の発光駆動でもよい。
【００７９】
また、表示装置２０は単色でも多色でもよい。多色表示装置の場合は、発光層１３３（図１参照）形成時のみシャドーマスクを設け、一面に蒸着法、キャスト法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等で膜を形成できる。
【００８０】
発光層１３３のみパターニングを行う場合、その方法に限定はないが、好ましくは蒸着法、インクジェット法、スピンコート法、印刷法である。
【００８１】
表示装置２０に具備される有機ＥＬ素子１０の構成は、必要に応じて前記した有機ＥＬ素子１０の構成例の中から選択できる。なお、有機ＥＬ素子１０の製造は、公知の手法、例えば、特許文献１に記載されている手法で行うことができる。
【００８２】
得られた多色表示装置に直流電圧を印加する場合には、陽極を＋、陰極を−の極性として電圧２〜４０Ｖ程度を印加すると発光が観測できる。また、逆の極性で電圧を印加しても電流は流れずに発光は全く生じない。更に交流電圧を印加する場合には、陽極が＋、陰極が−の状態になったときのみ発光する。なお、印加する交流の波形は任意でよい。
【００８３】
多色表示装置は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。表示デバイス、ディスプレイにおいて、青、赤、緑発光の３種の有機ＥＬ素子を用いることによりフルカラーの表示が可能となる。
【００８４】
表示デバイス、ディスプレイとしては、テレビ、パソコン、モバイル機器、ＡＶ機器、文字放送表示、自動車内の情報表示等が挙げられる。特に静止画像や動画像を再生する表示装置として使用してもよく、動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は単純マトリクス（パッシブマトリクス）方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。
【００８５】
発光光源としては、家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００８６】
（パッシブマトリクス方式フルカラー表示装置）
図５に示すように、パッシブマトリクス方式フルカラー表示装置５０は、複数の走査線２２と複数の画像データ線２３が有機ＥＬ素子１０を含んで構成される画素２１（図３、図４参照）を挟んで対向して格子状に設けられている。
【００８７】
パッシブマトリクス方式フルカラー表示装置５０は、順次走査により走査線２２の走査信号が印加されたとき、印加された走査線２２に接続している画素２１が画像データ信号に応じて発光する。かかるパッシブマトリクス方式フルカラー表示装置５０では、画素２１にアクティブ素子が無いため、低コスト化を図ることができる。
【００８８】
（有機ＥＬフルカラー表示装置）
図６に示すように、有機ＥＬフルカラー表示装置６０は、支持基板１１と、支持基板１１上に形成される陽極１２と、陽極１２の上に形成される陽極バッファー層（正孔注入層）１３１と、陽極バッファー層１３１の上に形成される発光層１３３Ｂ、１３３Ｇ、１３３Ｒと、発光層１３３Ｂ、１３３Ｇ、１３３Ｒを隔てる隔壁６１と、これらの上に形成される陰極１４とで構成されている。
【００８９】
なお、隔壁６１は、非感光性ポリイミド等で形成することができる。
また、発光層１３３Ｂ、１３３Ｇ、１３３Ｒは、それぞれ公知の青色発光層組成物、緑色発光層組成物、赤色発光層組成物を含んでなる。そのため、有機ＥＬフルカラー表示装置６０は、それぞれの電極に電圧を印加することにより青色、緑色、赤色の発光を示し、フルカラー表示することができる。
【００９０】
（照明装置）
図７に示す照明装置７０は、ガラスケース７１とガラス基板７２内に前記した有機ＥＬ素子１０（図８参照）を固設している。かかる有機ＥＬ素子１０には、共振器構造を持たせることができる。共振器構造を有した有機ＥＬ素子１０は、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等として使用することができる。
【００９１】
また、有機ＥＬ素子１０は、レーザー発振をさせることにより上記用途に使用することもでき、照明用や露光光源のような一種のランプとして使用してもよく、画像を投影するタイプのプロジェクション装置や、静止画像や動画像を直接視認するタイプの表示装置（ディスプレイ）として使用してもよい。
【００９２】
動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は、単純マトリクス（パッシブマトリクス）方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。または、異なる発光色を有する本発明の有機ＥＬ素子を２種以上使用することにより、フルカラー表示装置を作製することが可能である。
【００９３】
有機ＥＬ素子１０に用いられる材料は、実質的に白色の発光を生じる有機ＥＬ素子（白色有機ＥＬ素子ともいう）に適用できる。また、複数の発光材料により複数の発光色を同時に発光させて混色により白色発光を得ることもできる。複数の発光色の組み合わせとしては、青色、緑色、青色の３原色の３つの発光極大波長を含有させたものでもよいし、青色と黄色、青緑と橙色等の補色の関係を利用した２つの発光極大波長を含有したものでもよい。
また、複数の発光色を得るための発光材料の組み合わせは、複数のリン光または蛍光で発光する材料を複数組み合わせたもの、蛍光またはリン光で発光する発光材料と、発光材料からの光を励起光として発光する色素材料との組み合わせたもののいずれでもよいが、白色有機ＥＬ素子においては、発光ドーパントを複数組み合わせて混合したものでもよい。
【００９４】
照明装置７０に用いられる有機ＥＬ素子１０の発光層１３３、正孔輸送層１３２あるいは電子輸送層１３５（いずれも図１参照）等の形成時のみマスクを設け、マスクにより塗り分ける等単純に配置するだけでよく、他層は共通であるのでマスク等のパターニングは不要であり、一面に蒸着法、キャスト法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等で例えば電極膜を形成でき、生産性も向上する。この方法によれば、複数色の発光素子をアレー状に並列配置した白色有機ＥＬ装置と異なり、有機ＥＬ素子１０自体が白色を発光する。
【００９５】
発光層１３３に用いる発光材料としては、本発明の製造方法で製造された、一般式（１）で表される縮合複素環化合物であれば特に制限はなく、例えば、液晶表示素子におけるバックライトであれば、ＣＦ（カラーフィルター）特性に対応した波長範囲に適合するように、公知の金属錯体、また公知の発光材料の中から任意のものを選択して組み合わせて白色化すればよい。
以上に説明した白色有機ＥＬ素子を用いれば、実質的に白色の発光を生じる照明装置７０を作製することが可能である。
【００９６】
有機ＥＬ素子１０を備えた照明装置７０の一態様を図８に示す。
図８に示すように、陽極１２（図８において図示せず）を形成した支持基板１１と、有機ＥＬ層１３と、陰極１４とを含む有機ＥＬ素子１０が、シール材７３（例えば、エポキシ系光硬化型接着剤（東亞合成社製ラックストラックＬＣ０６２９Ｂ））によって封止用のガラス基板７２上に固定されている。ガラス基板７２に固定された有機ＥＬ素子１０は、ガラス基板７２と封止部材であるガラスケース７１と、シール材７３とによって封止されている。シール材７３は、有機ＥＬ素子１０の固定に使用したものと同じものを用いることができる。なお、ガラスケース７１の内部は、有機ＥＬ素子１０を大気に接触させないようにするため窒素ガス７４が充填されている。そのため、ガラスケース７１での封止作業は、窒素雰囲気下のグローブボックス（純度９９．９９９％以上の高純度窒素ガスの雰囲気下）内で行うのが好ましい。また、ガラスケース７１の内部には捕水剤７５が設けられている。
【実施例】
【００９７】
以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００９８】
安定化剤量の定量及び各化合物の純度の測定は、ガスクロマトグラフィーを用いて行った。測定装置は島津製作所製のＧＣ−１４Ａ型ガスクロマトグラフを用いた。カラムはキャピラリーカラムＤＢ−１、キャリアーガスはヘリウム（流量１ｍＬ／分）を使い、カラム温度８０℃、試料注入部及び検出部（ＦＩＤ）の温度を１５０℃に設定した。試料は酢酸エチルに対して１質量％となるように調整し、得られた溶液１μＬを注入して測定した。
【００９９】
また、安定化剤の定量に用いる検量線は次のようにして測定した。安定化剤を１ｐｐｍ、５ｐｐｍ、１０ｐｐｍ、５０ｐｐｍずつ含有する酢酸エチル溶液をそれぞれ準備し、検量線用サンプルとした。この検量線用サンプルの測定を２回ずつ行い、ピーク面積の平均値を求めた。次に、測定サンプルを２回測定してピーク面積の平均値を求め、検量線に基づいて測定サンプル中の安定化剤の濃度を求めた。
【０１００】
〔実施例１〕化合物１の合成・精製
（１−１）化合物１の合成
【０１０１】
【化９】
0005831068.tif 000010
【０１０２】
３００ｍＬの３口フラスコに、化合物Ａ（１５．０ｇ）、カルバゾール（１３．１ｇ）、銅粉（１３．６ｇ）、炭酸カリウム（１４．８ｇ）、ジメチルスルホキシド（１５０ｍＬ）を入れ、窒素置換を行った。１４０℃で２０時間かき混ぜた後に、室温まで放冷させた。反応溶液にテトラヒドロフラン（ＢＨＴ２００ｐｐｍ含有）１００ｍＬを加え、飽和食塩水５０ｍＬで３回洗浄した。得られた有機層から溶媒を減圧留去した。残った固体（化合物１の粗結晶）は１４．７ｇ（粗収率８２％）であった。
【０１０３】
（１−２）化合物１の精製
化合物１の粗結晶１４．７ｇに、塩化メチレン１０ｍＬとアセトニトリル３０ｍＬ（アセトニトリル７５％）の混合溶媒を入れて、６５℃に加熱して溶解させた後に４０℃まで冷却した。再び６０℃に加熱した後、５０℃で１時間、３０℃で１時間、２０℃で１時間かき混ぜ、析出した固体をろ過した（収率７０％）。ＢＨＴ残存量をガスクロマトグラフィーで測定したところ、３ｐｐｍ以下であった。化合物１の純度は９９．８５％であった。
【０１０４】
〔比較例Ａ〕化合物１の比較例（比較化合物１ｃ）の精製
化合物１の粗結晶１４．７ｇに、塩化メチレン１５ｍＬとヘプタン３０ｍＬの混合溶媒で加熱して溶解させた後に冷却し、固体をろ別した（収率８５％）。ＢＨＴ残存量をガスクロマトグラフィーで測定したところ、１１５ｐｐｍであった。化合物１（以下、比較化合物１ｃ）の純度は９９．５４％であった。
【０１０５】
〔比較例Ｂ〕化合物１の比較例（比較化合物１ｃ−Ｍ）の精製
化合物１の粗結晶１４．７ｇに、塩化メチレン２５ｍＬを加え溶解させた。ここに、ゼオライト（モレキュラーシーブス５Ａ）５０ｇを添加し、室温で２時間かき混ぜた。ゼオライトをろ別し、溶媒を減圧留去した（収率８５％）。ＢＨＴ残存量をガスクロマトグラフィーで測定したところ、１５３ｐｐｍであった。化合物１（以下、比較化合物１ｃ−Ｍ）の純度は９９．２１％であった。
【０１０６】
〔実施例２〕化合物５の合成・精製
（２−１）化合物５の合成
（中間体５の合成）
【０１０７】
【化１０】
0005831068.tif 000011
【０１０８】
３００ｍＬの３口フラスコに、化合物Ｂ（１５．０ｇ）、カルバゾール（５．８２ｇ）、銅粉（５．８ｇ）、炭酸カリウム（７．４ｇ）、ジメチルスルホキシド（１５０ｍＬ）を入れ、窒素置換を行った。１４０℃で２０時間かき混ぜて放冷した。反応溶液にメチル−tert−ブチルエーテル１００ｍＬを添加し、飽和食塩水５０ｍＬで３回洗浄した。有機層から溶媒を減圧留去した。残った固体（中間体５の粗結晶）の粗収率は８５％であった。
【０１０９】
【化１１】
0005831068.tif 000012
【０１１０】
３００ｍＬの３口フラスコに、中間体５（１２．０ｇ）、化合物Ｃ（１０．４ｇ）、炭酸カリウム（５．１ｇ）、ジメチルスルホキシド（１２０ｍＬ）を入れ、窒素置換を行った。ここに、Ｐｄ（ｄｐｐｆ）（１．８ｇ）を添加し、９０℃で３時間加熱した。放冷後、反応溶液にテトラヒドロフラン１００ｍＬ（ＢＨＴ２００ｐｐｍ含有）を添加し、飽和食塩水５０ｍＬで３回洗浄した。有機層から溶媒を減圧留去した。残った固体（化合物５の粗結晶）は１２．９ｇ（粗収率７８％）であった。
【０１１１】
（２−２）化合物５の精製
化合物５の粗結晶１２．９ｇにトルエン２５ｍＬを加えて溶解した後にアセトニトリル１５ｍＬ（アセトニトリル３７．５％）を加えて６０℃に加熱し、粗結晶を溶解した。４０℃に放冷した後、再び６０℃に加熱した。その後、４０℃で２時間、室温で２時間かき混ぜ、析出した固体をろ過した（収率８０％）。ＢＨＴ残存量をガスクロマトグラフィーで測定したところ、６ｐｐｍであった。化合物５の純度は９９．８８％であった。
【０１１２】
〔比較例Ｃ〕化合物５の比較例（比較化合物５ｃ）の精製
化合物５の粗結晶１２．９ｇに塩化メチレン１０ｍＬを加えて溶解した後に、イソプロピルアルコール１５ｍＬを加えて冷却し、固体をろ別した（収率９２％）。ＢＨＴ残存量をガスクロマトグラフィーで測定したところ、９５ｐｐｍであった。化合物５（以下、比較化合物５ｃ）の純度は、９９．６２％であった。
【０１１３】
〔実施例３〕化合物２５の合成・精製
（３−１）化合物２５の合成
【０１１４】
【化１２】
0005831068.tif 000013
【０１１５】
３００ｍＬの３口フラスコに、化合物Ｄ（１０．４ｇ）、化合物Ｅ（９．７ｇ）、炭酸カリウム（７．８ｇ）、ジメチルスルホキシド６０ｍＬを入れ、窒素置換を行った。ここに、Ｐｄ（ｄｐｐｆ）（２．８ｇ）を添加し、９０℃で３時間加熱した。放冷後、反応溶液にテトラヒドロフラン（ＢＨＴ２００ｐｐｍ含有）２００ｍＬを添加し、飽和食塩水５０ｍＬで３回洗浄した。有機層から溶媒を減圧留去した。残った固体（化合物２５の粗結晶）は１４．０ｇ（粗収率８９％）であった。
【０１１６】
（３−２）化合物２５の精製
化合物２５の粗結晶１４．０ｇにジメトキシエタン２５ｍＬを加えて溶解した後に、アセトニトリル１５ｍＬ（アセトニトリル３７．５％）を加えて６０℃に加熱し、粗結晶を溶解した。４０℃に放冷した後、再び６０℃に加熱した。その後、４０℃で２時間、室温で２時間かき混ぜ、析出した固体をろ過した（収率７５％）。ＢＨＴ残存量をガスクロマトグラフィーで測定したところ、５ｐｐｍであった。化合物２５の純度は９９．８５％であった。
【０１１７】
〔実施例４〕化合物３１の合成・精製
（４−１）化合物３１の合成
【０１１８】
【化１３】
0005831068.tif 000014
【０１１９】
３００ｍＬの３口フラスコに、ｍ−ジブロモベンゼン（５．０ｇ）、化合物Ｄ（２０．５ｇ）、炭酸カリウム（７．６２ｇ）、ジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）を入れ、窒素置換を行った。ここに、Ｐｄ（ｄｐｐｆ）（２．８ｇ）を添加し、９０℃で６時間加熱した。放冷後、反応溶液にテトラヒドロフラン（ＢＨＴ２００ｐｐｍ含有）１００ｍＬを添加し、飽和食塩水５０ｍＬで３回洗浄した。有機層から溶媒を減圧留去した。残った固体（化合物３１の粗結晶）は１２．７ｇ（粗収率８１％）であった。
【０１２０】
（４−２）化合物３１の精製
化合物３１の粗結晶１２．７ｇに、ジイソプロピルエーテル（ヒドロキノン２００ｐｐｍ含有）１３０ｍＬを加えて加熱し、溶解した後に、１時間かけて放冷し、析出した固体をろ過した。得られた固体に、トルエン３０ｍＬとアセトニトリル３０ｍＬ（アセトニトリル５０％）を加え、６５℃に加熱して溶解させた後に、４０℃に冷却し、結晶が析出した。この溶液を６０℃に加熱して結晶を溶解させてから、１時間かけて放冷し、さらに、１０℃で２時間かき混ぜて、析出した結晶をろ過した。化合物３１は８．６ｇ（全体収率５５％）であった。ＢＨＴ及びヒドロキノンの残存量をガスクロマトグラフィーで測定したところ、それぞれ５ｐｐｍ、３ｐｐｍであった。化合物３１の純度は９９．９０％であった。
【０１２１】
〔比較例Ｄ〕化合物３１の比較例（比較化合物３１ｃ）の精製
化合物３１の粗結晶８．６ｇに酢酸エチル３０ｍＬとアセトニトリル１０ｍＬ（アセトニトリル２５％）を加えて溶解した後に冷却した（収率９０％）。ＢＨＴ残存量及びヒドロキノン残存量をガスクロマトグラフィーで測定したところ、それぞれ７５ｐｐｍ、８０ｐｐｍであった。化合物３１の純度は、９９．７０％であった。
また、再結晶後の化合物３１を用いてさらに昇華精製を行った（３００℃／２．０×１０-3Ｐａ）。昇華精製後の化合物３１に含有するＢＨＴ残存量は４８ｐｐｍであり、ヒドロキノン残存量は５９ｐｐｍであった。化合物３１（以下、比較化合物３１ｃ）の純度は９９．７８％であった。
【０１２２】
〔実施例４〕素子評価
以上に説明した各化合物（一般式（１）で表される化合物）をホストとして用いた素子評価の実施例を以下に示す。実施例４で用いる前記した以外の化合物の構造は下記の通りである。
【０１２３】
【化１４】
0005831068.tif 000015
【０１２４】
≪有機ＥＬ素子１−１の作製≫
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上にＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ成膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。
【０１２５】
この透明支持基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、一方のモリブデン製抵抗加熱ボートにＨＴ−３０を２００ｍｇ入れ、別のモリブデン抵抗加熱ボートにＨＴ−２を２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートに比較化合物１ｃを２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにｃＤＰ−１とｃＨＳ−１をそれぞれ２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにＥＴ−８を２００ｍｇ入れ、さらに別のモリブデン製抵抗加熱ボートにＥＴ−７を２００ｍｇ入れ、真空蒸着装置に取り付けた。
【０１２６】
次いで真空槽を４×１０-4Ｐａまで減圧した後、ＨＴ−３０の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で透明支持基板に蒸着し、厚さ１０ｎｍの正孔注入層を設けた。
更にＨＴ−２の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で前記正孔注入層上に蒸着し、厚さ３０ｎｍの正孔輸送層を設けた。
更にｃＨＳ−１とｃＤＰ−１の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、それぞれ蒸着速度０．１ｎｍ／秒、０．０１０ｎｍ／秒で前記正孔輸送層上に共蒸着し、厚さ４０ｎｍの発光層を設けた。
更にＥＴ−８の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で前記発光層上に蒸着し、厚さ１０ｎｍの正孔阻止層を設けた。
更にＥＴ−７の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で前記正孔阻止層上に蒸着し、厚さ３０ｎｍの電子輸送層を設けた。
引き続き、陰極バッファー層としてフッ化リチウムを０．５ｎｍの厚さで蒸着し、更にアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬ素子１−１を作製した。
【０１２７】
≪有機ＥＬ素子１−２〜１−８の作製≫
有機ＥＬ素子１−１の作製において、比較化合物１ｃを表１に記載の他の化合物に変えた以外は同様にして有機ＥＬ素子１−２〜１−８を作製した。
【０１２８】
≪有機ＥＬ素子１−１〜１−８の評価≫
得られた有機ＥＬ素子を評価するに際しては、作製後の各有機ＥＬ素子の非発光面をガラスケースで覆い、ガラスケースと有機ＥＬ素子が作製されたガラス基板とが接触するガラスケース側の周囲にシール材としてエポキシ系光硬化型接着剤（東亞合成社製ラクストラックＬＣ０６２９Ｂ）を適用し、これを前記陰極側に重ねて前記透明支持基板と密着させ、ガラス基板側から有機ＥＬ素子を除いた部分にＵＶ光を照射して硬化させ、封止して、図７、８に示すような照明装置を作製した。
【０１２９】
有機ＥＬ素子１−１〜１−８を用いて作製した各照明装置の電力効率、発光寿命及び発光色を次のようにして評価した。
【０１３０】
（電力効率）
分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング社製）を用いて、各有機ＥＬ素子の正面輝度及び輝度角度依存性を測定し、正面輝度１０００ｃｄ／ｍ2における電力効率を求めた。なお、電力効率は有機ＥＬ素子１−１の電力効率を１００と設定する相対値で表した。電力効率が１００を超えるものを優れると評価した。
【０１３１】
（発光寿命）
有機ＥＬ素子を室温下、２．５ｍＡ／ｃｍ2の定電流条件下による連続発光を行い、初期輝度の半分の輝度になるのに要する時間（τ１／２）を測定した。なお、発光寿命は有機ＥＬ素子１−１を１００と設定する相対値で表した。発光寿命が１００を超えるものを優れると評価した。
【０１３２】
（発光色）
２．５ｍＡ／ｃｍ2の定電流条件下における連続発光を行った際の発光色を目視で評価した。
【０１３３】
【表１】
0005831068.tif 000016
【０１３４】
表１から明らかなように、一般式（１）で表される縮合複素環化合物を、一般式（２）で表されるエーテル系溶媒を用いて製造した後、アセトニトリルを３０％以上含有する再結晶溶媒にて再結晶させる、本発明に係る縮合複素環化合物の製造方法によって製造されたホスト化合物（化合物１、５、２５、３１）は、当該製造方法によらないで製造されたホスト化合物（比較化合物１ｃ、１ｃ−Ｍ、５ｃ、３１ｃ）に比べ、安定化剤の含有量が低いことが分かった。
また、化合物１、５、２５、３１を用いて作製した有機ＥＬ素子、すなわち照明装置は、比較化合物１ｃ、１ｃ−Ｍ、５ｃ、３１ｃを用いて作製した有機ＥＬ素子、すなわち照明装置に比べ、電力効率及び発光寿命に優れていることが分かった。
【符号の説明】
【０１３５】
１０    有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）
１１    支持基板
１２    陽極
１３    有機ＥＬ層
１３１  正孔注入層（陽極バッファー層）
１３２  正孔輸送層
１３３（１３３Ｂ、１３３Ｇ、１３３Ｒ）  発光層
１３４  正孔阻止層
１３５  電子輸送層
１３６  陰極バッファー層
１４    陰極
１５    保護膜（保護板）
２０    表示装置
Ａ      表示部
Ｂ      制御部
２１    画素
２２    走査線
２３    データ線
２４    スイッチングトランジスタ
２５    コンデンサ
２６    駆動トランジスタ
２７    電源ライン
５０    パッシブマトリックス方式フルカラー表示装置
６０    有機ＥＬフルカラー表示装置
６１    隔壁
７０    照明装置
７１    ガラスケース
７２    ガラス基板
７３    シール材
７４    窒素ガス
７５    捕水剤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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