(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種の金属粒子を含有する金属粒子含有層と、コレステリック液晶層とを有する熱線遮蔽材であって、
前記金属粒子が、略六角形状乃至略円盤形状の金属平板粒子を６０個数％以上有し、
前記金属平板粒子の主平面が、金属粒子含有層の一方の表面に対して０°〜±３０°の範囲で面配向しており、
前記金属粒子含有層における水平方向に隣接する前記金属平板粒子の平均粒子間距離が、前記金属平板粒子の平均粒径の１／１０以上であり、
前記コレステリック液晶層の選択反射波長が、赤外光領域であることを特徴とする熱線遮蔽材。
【請求項２】
コレステリック液晶層の選択反射波長が、８００ｎｍ〜１，８００ｎｍである請求項１に記載の熱線遮蔽材。
【請求項３】
コレステリック液晶層の選択反射波長が、８００ｎｍ〜１，３００ｎｍである請求項１から２のいずれかに記載の熱線遮蔽材。
【請求項４】
金属平板粒子の粒度分布における変動係数が、３０％以下である請求項１から３のいずれかに記載の熱線遮蔽材。
【請求項５】
金属平板粒子の平均粒子径が、７０ｎｍ〜５００ｎｍであり、
金属平板粒子のアスペクト比（平均粒子径／平均粒子厚み）が、８〜４０である請求項１から４のいずれかに記載の熱線遮蔽材。
【請求項６】
金属平板粒子のアスペクト比（平均粒子径／平均粒子厚み）が、２０〜３５である請求項１から５のいずれかに記載の熱線遮蔽材。
【請求項７】
金属平板粒子が、少なくとも銀を含む請求項１から６のいずれかに記載の熱線遮蔽材。
【請求項８】
可視光透過率が、７０％以上である請求項１から７のいずれかに記載の熱線遮蔽材。
【請求項９】
波長８００ｎｍ〜１，８００ｎｍにおける反射率が、３０％以上である請求項１から８のいずれかに記載の熱線遮蔽材。
【請求項１０】
金属粒子含有層及びコレステリック液晶層の合計厚みが、５０μｍ以下である請求項１から９のいずれかに記載の熱線遮蔽材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可視光線透過性及び電波透過性に優れ、短波長側の赤外線の遮蔽率が高く、赤外線を広帯域に遮蔽でき、脆性が低く、薄層化可能な熱線遮蔽材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、二酸化炭素削減のための省エネルギー施策の一つとして、自動車や建物の窓に対する熱線遮蔽性付与材料が開発されている。熱線遮蔽性（日射熱取得率）の観点からは、吸収した光の室内への再放射（吸収した日射エネルギーの約１／３量）がある熱線吸収型より、再放射がない熱線反射型が望ましく、様々な提案がなされている。
【０００３】
例えば、金属Ａｇ薄膜は、その反射率の高さから、熱線反射材として一般に使用されているが、可視光や熱線だけでなく電波も反射してしまうため、可視光透過性及び電波透過性が低いことが問題となっていた。可視光透過性を上げるために、Ａｇ及びＺｎＯ多層膜を利用したＬｏｗ−Ｅガラス（例えば旭硝子株式会社製）は、広く建物に採用されているが、Ｌｏｗ−Ｅガラスは、ガラス表面に金属Ａｇ薄膜が形成されているため、電波透過性が低いという課題があった。
【０００４】
前記課題を解決するため、例えば、電波透過性を付与した島状Ａｇ粒子付きガラスが提案されている。蒸着により製膜したＡｇ薄膜をアニールすることにより、粒状Ａｇを形成したガラスが提案されている（特許文献１参照）。しかし、この提案では、アニールにより粒状Ａｇを形成しているため、粒子サイズ、形状、面積率などを制御することが難しく、熱線の反射波長、帯域等の制御、可視光透過率の向上などが難しく、その結果、赤外光の中で太陽光エネルギーが高い短波長側の赤外線を十分に遮蔽できないという問題があった。
【０００５】
また、赤外線遮蔽フィルタとして、Ａｇ平板粒子を用いたフィルタが提案されている（特許文献２〜６参照）。しかし、これらの提案は、いずれもプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いることを意図したものであり、また、赤外域の波長光の吸収能を向上させるために体積の小さな粒子を用いており、熱線を遮蔽する材料（熱線を反射する材料）としてＡｇ平板粒子を用いるものではなかった。
【０００６】
一方、赤外光を選択的に反射するコレステリック液晶層を有する赤外光反射物品が提案されている（特許文献７参照）。しかし、この提案では、コレステリック液晶層だけで広い帯域の赤外光を遮蔽するためには、多層塗布が必要となり、膜脆化の原因となるという問題があった。
【０００７】
また、ＰＤＰ用のフィルタとして、赤外線吸収無機粒子と赤光領域を選択的に反射するコレステリック液晶層とを有する可視光透過性の近赤外吸収材が提案されている（特許文献８参照）。しかし、前記近赤外吸収材には、赤外線を吸収するため、太陽光の遮熱に使用すると、この近赤外吸収材自体が暖まり、その熱で室温が上昇してしまうという問題があり、よって、赤外線遮蔽材としての用途に流用できるものではなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第３４５４４２２号公報
【特許文献２】特開２００７−１０８５３６号公報
【特許文献３】特開２００７−１７８９１５号公報
【特許文献４】特開２００７−１３８２４９号公報
【特許文献５】特開２００７−１３８２５０号公報
【特許文献６】特開２００７−１５４２９２号公報
【特許文献７】特表２００９−５１４０２２号公報
【特許文献８】特開２００９−２２７９３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、可視光線透過性及び電波透過性に優れ、短波長側の赤外線の遮蔽率が高く、赤外線を広帯域に遮蔽でき、脆性が低く、薄層化可能な熱線遮蔽材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するため本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、略六角形状乃至略円盤形状の平板状の金属粒子を含有する金属粒子含有層と、赤外線を選択的に反射するコレステリック液晶層とを備えることで、前記課題を効果的に解決し得ることを知見した。
【００１１】
本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  少なくとも１種の金属粒子を含有する金属粒子含有層と、コレステリック液晶層とを有する熱線遮蔽材であって、前記金属粒子が、略六角形状乃至略円盤形状の金属平板粒子を６０個数％以上有し、前記コレステリック液晶層の選択反射波長が、赤外光領域であることを特徴とする熱線遮蔽材である。
＜２＞  コレステリック液晶層の選択反射波長が、８００ｎｍ〜１，８００ｎｍである前記＜１＞に記載の熱線遮蔽材である。
＜３＞  コレステリック液晶層の選択反射波長が、８００ｎｍ〜１，３００ｎｍである前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の熱線遮蔽材である。
＜４＞  金属平板粒子の粒度分布における変動係数が、３０％以下である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の熱線遮蔽材である。
＜５＞  金属平板粒子の平均粒子径が、７０ｎｍ〜５００ｎｍであり、金属平板粒子のアスペクト比（平均粒子径／平均粒子厚み）が、８〜４０である前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の熱線遮蔽材である。
＜６＞  金属平板粒子のアスペクト比（平均粒子径／平均粒子厚み）が、２０〜３５である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の熱線遮蔽材である。
＜７＞  金属平板粒子が、少なくとも銀を含む前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の熱線遮蔽材である。
＜８＞  可視光透過率が、７０％以上である前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の熱線遮蔽材である。
＜９＞  波長８００ｎｍ〜１，８００ｎｍにおける反射率が、３０％以上である前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の熱線遮蔽材である。
＜１０＞  金属粒子含有層及びコレステリック液晶層の合計厚みが、５０μｍ以下である前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の熱線遮蔽材である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によると、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、可視光線透過性及び電波透過性に優れ、短波長側の赤外線の遮蔽率が高く、赤外線を広帯域に遮蔽でき、脆性が低く、薄層化可能な熱線遮蔽材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１Ａ】図１Ａは、本発明の熱線遮蔽材に含まれる平板粒子の形状の一例を示した概略斜視図であって、略円盤形状の平板粒子を示す。
【図１Ｂ】図１Ｂは、本発明の熱線遮蔽材に含まれる平板粒子の形状の一例を示した概略斜視図であって、略六角形状の平板粒子を示す。
【図２Ａ】図２Ａは、本発明の熱線遮蔽材において、金属平板粒子を含む金属粒子含有層の存在状態を示した概略断面図であって、最も理想的な存在状態を示す。
【図２Ｂ】図２Ｂは、本発明の熱線遮蔽材において、金属平板粒子を含む金属粒子含有層の存在状態を示した概略断面図であって、基材の平面と平板粒子の平面とのなす角度（θ）を説明する図を示す。
【図２Ｃ】図２Ｃは、本発明の熱線遮蔽材において、金属平板粒子を含む金属粒子含有層の存在状態を示した概略断面図であって、金属粒子含有層の熱線遮蔽材の深さ方向における存在領域を示す図である。
【図３】図３は、本発明の熱線遮蔽材の一例を示す断面模式図である。
【図４】図４は、実施例３で得られた熱線遮蔽材の分光スペクトルを示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
（熱線遮蔽材）
本発明の熱線遮蔽材は、少なくとも１種の金属粒子を含有する金属粒子含有層と、コレステリック液晶層とを有してなり、基材、必要に応じてその他の層を有する。
【００１５】
＜金属粒子含有層＞
前記金属粒子含有層は、少なくとも１種の金属粒子を含有する層であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００１６】
−金属粒子−
前記金属粒子としては、金属平板粒子を含むものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば金属平板粒子の他、粒状、立方体状、六面体状、八面体状、ロッド状などが挙げられる。
前記金属粒子含有層において、金属粒子の存在形態としては、金属粒子含有層の一方の表面（熱線遮蔽材が基材を有する場合は、基材表面）に対して略水平に偏在していてもよく、ランダムに配向していてもよい。略水平に偏在する形態としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基材と金属粒子とが略接触する形態、基材と金属粒子とが熱線遮蔽材の深さ方向に一定の距離で配置されている形態などが挙げられる。
なお、前記金属粒子含有層の一方の表面とは、基材と接する面であり、前記基材の表面と同様に、フラットな平面である。ここで、前記熱線遮蔽材は、前記基材を有していてもよく、有していなくてもよい。
前記金属粒子の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５００ｎｍ以下の平均粒子径を有するものであってもよい。
前記金属粒子の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、熱線（近赤外線）の反射率が高い点から、銀、金、アルミニウム、銅、ロジウム、ニッケル、白金などが好ましい。
【００１７】
−金属平板粒子−
前記金属平板粒子としては、２つの主平面からなる粒子（図１Ａ及び図１Ｂ参照）であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、略六角形状、略円盤形状、略三角形状などが挙げられる。これらの中でも、可視光透過率が高い点で、略六角形状、略円盤形状であることが特に好ましい。
前記略円盤形状としては、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で金属平板粒子を主平面の上方から観察した際に、角が無く、丸い形状であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記略六角形状としては、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で金属平板粒子を主平面の上方から観察した際に、略六角形状であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、六角形状の角が鋭角のものでも、鈍っているものでもよいが、可視光域の吸収を軽減し得る点で、角が鈍っているものであることが好ましい。角の鈍りの程度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記金属平板粒子の材料としては、特に制限はなく、前記金属粒子と同じものを目的に応じて適宜選択することができる。前記金属平板粒子は、少なくとも銀を含むことが好ましい。
【００１８】
前記金属粒子含有層に存在する金属粒子のうち、略六角形状乃至略円盤形状の金属平板粒子は、金属粒子の全個数に対して、６０個数％以上であり、６５個数％以上が好ましく、７０個数％以上が更に好ましい。前記金属平板粒子の割合が、６０個数％未満であると、可視光線透過率が低くなってしまうことがある。
【００１９】
［面配向］
本発明の熱線遮蔽材において、金属平板粒子は、その主平面が金属粒子含有層の一方の表面（熱線遮蔽材が基材を有する場合は、基材表面）に対してランダムに配向していてもよく、所定の範囲で面配向していてもよいが、所定の範囲で面配向することが好ましい。
前記金属平板粒子の存在状態は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、後述する図２Ａのように基材上に並んでいることが好ましい。
前記面配向としては、金属平板粒子の主平面と、金属粒子含有層の一方の表面（熱線遮蔽材が基材を有する場合は、基材表面）とが、所定の範囲内で略平行になっている態様であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、面配向の角度は、０°〜±３０°であり、０°〜±２０°が好ましい。
【００２０】
ここで、図２Ａ〜図２Ｃは、本発明の熱線遮蔽材において、金属平板粒子を含む金属粒子含有層の存在状態を示した概略断面図である。図２Ａは、金属粒子含有層２中における金属平板粒子３の最も理想的な存在状態を示す。図２Ｂは、基材１の平面と金属平板粒子３の平面とのなす角度（±θ）を説明する図である。図２Ｃは、金属粒子含有層２の熱線遮蔽材の深さ方向における存在領域を示すものである。
図２Ｂにおいて、基材１の表面と、金属平板粒子３の主平面乃至主平面の延長線とのなす角度（±θ）は、前記の面配向における所定の範囲に対応する。即ち、面配向とは、熱線遮蔽材の断面を観察した際、図２Ｂに示す傾角（±θ）が小さい状態をいい、特に、図２Ａは、基材１の表面と金属平板粒子３の主平面とが接している状態、即ち、θが０°である状態を示す。基材１の表面に対する金属平板粒子３の主平面の面配向の角度、即ち図２Ｂにおけるθが±３０°を超えると、熱線遮蔽材の所定の波長（例えば、可視光域長波長側から近赤外光領域）の反射率が低下してしまう。
【００２１】
［面配向の評価］
前記金属粒子含有層の一方の表面（熱線遮蔽材が基材を有する場合は、基材表面）に対して金属平板粒子の主平面が面配向しているかどうかの評価としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、適当な断面切片を作製し、この切片における金属粒子含有層（熱線遮蔽材が基材を有する場合は、基材）及び金属平板粒子を観察して評価する方法であってもよい。具体的には、熱線遮蔽材を、ミクロトーム、集束イオンビーム（ＦＩＢ）を用いて熱線遮蔽材の断面サンプル乃至断面切片サンプルを作製し、これを、各種顕微鏡（例えば、電界放射型走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）等）を用いて観察して得た画像から評価する方法などが挙げられる。
【００２２】
前記熱線遮蔽材において、金属平板粒子を被覆するバインダーが水で膨潤する場合は、液体窒素で凍結した状態の試料を、ミクロトームに装着されたダイヤモンドカッター切断することで、前記断面サンプル乃至断面切片サンプルを作製してもよい。また、熱線遮蔽材において金属平板粒子を被覆するバインダーが水で膨潤しない場合は、前記断面サンプル乃至断面切片サンプルを作製してもよい。
【００２３】
前記の通り作製した断面サンプル乃至断面切片サンプルの観察としては、サンプルにおいて金属粒子含有層の一方の表面（熱線遮蔽材が基材を有する場合は、基材表面）に対して金属平板粒子の主平面が面配向しているかどうかを確認し得るものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＦＥ−ＳＥＭ、ＴＥＭ、光学顕微鏡などを用いた観察が挙げられる。前記断面サンプルの場合は、ＦＥ−ＳＥＭにより、前記断面切片サンプルの場合は、ＴＥＭにより観察を行ってもよい。ＦＥ−ＳＥＭで評価する場合は、金属平板粒子の形状と傾角（図２Ｂの±θ）が明瞭に判断できる空間分解能を有することが好ましい。
【００２４】
［平均粒子径（平均円相当径）及び平均粒子径（平均円相当径）の粒度分布］
前記金属平板粒子の平均粒子径（平均円相当径）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、７０ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、１００ｎｍ〜４００ｎｍがより好ましい。前記平均粒子径（平均円相当径）が、７０ｎｍ未満であると、金属平板粒子の吸収の寄与が反射より大きくなるため十分な熱線反射能が得られなくなることがあり、５００ｎｍを超えると、ヘイズ（散乱）が大きくなり、基材の透明性が損なわれてしまうことがある。
ここで、前記平均粒子径（平均円相当径）とは、ＴＥＭで粒子を観察して得た像から任意に選んだ２００個の平板粒子の主平面直径（最大長さ）の平均値を意味する。
前記金属粒子含有層中に平均粒子径（平均円相当径）が異なる２種以上の金属粒子を含有することができ、この場合、金属粒子の平均粒子径（平均円相当径）のピークが２つ以上、即ち２つの平均粒子径（平均円相当径）を有していてもよい。
【００２５】
本発明の熱線遮蔽材において、金属平板粒子の粒度分布における変動係数としては、３０％以下が好ましく、２０％以下がより好ましい。前記変動係数が、３０％を超えると、熱線遮蔽材における熱線の反射波長域がブロードになってしまうことがある。
ここで、前記金属平板粒子の粒度分布における変動係数は、例えば前記の通り得た平均値の算出に用いた２００個の金属平板粒子の粒子径の分布範囲をプロットし、粒度分布の標準偏差を求め、前記の通り得た主平面直径（最大長さ）の平均値（平均粒子径（平均円相当径））で割った値（％）である。
【００２６】
［アスペクト比］
前記金属平板粒子のアスペクト比としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、波長１，２００ｎｍ〜１，８００ｎｍの赤外光領域での反射率が高くなる点から、８〜４０が好ましく、２０〜３５がより好ましい。前記アスペクト比が、８未満であると、反射波長が１，２００ｎｍより小さくなり、４０を超えると、反射波長が１，８００ｎｍより長くなり、十分な熱線反射能が得られないことがある。
前記アスペクト比は、金属平板粒子の平均粒子径（平均円相当径）を金属平板粒子の平均粒子厚みで除算した値を意味する。平均粒子厚みは、金属平板粒子の主平面間距離に相当し、例えば、図１Ａ及び図１Ｂに示す通りであり、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定することができる。
前記ＡＦＭによる平均粒子厚みの測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ガラス基板に金属平板粒子を含有する粒子分散液を滴下し、乾燥させて、粒子１個の厚みを測定する方法などが挙げられる。
【００２７】
［金属平板粒子の存在範囲］
本発明の熱線遮蔽材において、図２Ｃに示すように、金属粒子含有層２における金属平板粒子３を構成する金属のプラズモン共鳴波長をλとし、金属粒子含有層２における媒質の屈折率をｎとするとき、前記金属粒子含有層２が、熱線遮蔽材の水平面からの深さ方向において、０〜（λ／ｎ）／４の範囲で存在することが好ましい。
【００２８】
前記金属粒子含有層における金属平板粒子を構成する金属のプラズモン共鳴波長λは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、熱線反射性能を付与する点で、４００ｎｍ〜２，５００ｎｍであることが好ましく、可視光透過率を付与する点から、８００ｎｍ〜１，８００ｎｍであることがより好ましい。
前記金属粒子含有層における媒質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゼラチンやセルロース等の天然高分子等の高分子、二酸化珪素、酸化アルミニウム等の無機物などが挙げられる。
前記媒質の屈折率ｎは、１．４〜１．７であることが好ましい。
【００２９】
［金属平板粒子の面積率］
前記熱線遮蔽材を上から見た時の基材の面積Ａ（金属粒子含有層に対して垂直方向から見たときの前記金属粒子含有層の全投影面積Ａ）に対する金属平板粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率〔（Ｂ／Ａ）×１００〕としては、１５％以上が好ましく、２０％以上がより好ましい。前記面積率が、１５％未満であると、熱線の最大反射率が低下してしまい、遮熱効果が十分に得られないことがある。
ここで、前記面積率は、例えば熱線遮蔽材基材を上からＳＥＭ観察で得られた画像や、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）観察で得られた画像を画像処理することにより測定することができる。
【００３０】
［金属平板粒子の平均粒子間距離］
前記金属粒子含有層における水平方向に隣接する金属平板粒子の平均粒子間距離としては、可視光線透過率及び熱線の最大反射率の点から、金属平板粒子の平均粒子径の１／１０以上が好ましい。
前記金属平板粒子の水平方向の平均粒子間距離が、前記金属平板粒子の平均粒子径の１／１０未満となると、熱線の最大反射率が低下してしまう。また、水平方向の平均粒子間距離は、可視光線透過率の点で、不均一（ランダム）であることが好ましい。ランダムでない場合、即ち、均一であると、可視光線の吸収が起こり、透過率が低下してしまうことがある。
【００３１】
ここで、前記金属平板粒子の水平方向の平均粒子間距離とは、隣り合う２つの粒子の粒子間距離の平均値を意味する。また、前記平均粒子間距離がランダムであるとは、「１００個以上の金属平板粒子が含まれるＳＥＭ画像を二値化した際の輝度値の２次元自己相関を取ったときに、原点以外に有意な極大点を持たない」ことを意味する。
【００３２】
［金属粒子含有層の層構成］
本発明の熱線遮蔽材において、金属平板粒子は、図２Ａ〜図２Ｃに示すように、金属平板粒子を含む金属粒子含有層の形態で配置される。
前記金属粒子含有層としては、図２Ａ〜図２Ｃに示すように、単層で構成されてもよく、複数の金属粒子含有層で構成されてもよい。複数の金属粒子含有層で構成される場合、遮熱性能を付与したい波長帯域に応じた遮蔽性能を付与することが可能となる。
ここで、前記金属粒子含有層の各層の厚みは、例えば、熱線遮蔽材の断面試料をＳＥＭ観察した画像より測定することができる。
【００３３】
［金属平板粒子の合成方法］
前記金属平板粒子の合成方法としては、略六角形状乃至略円盤形状を合成し得るものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、化学還元法、光化学還元法、電気化学還元法等の液相法などが挙げられる。これらの中でも、形状とサイズ制御性の点で、化学還元法、光化学還元法などの液相法が特に好ましい。六角形乃至三角形状の金属平板粒子を合成後、例えば、硝酸、亜硫酸ナトリウム等の銀を溶解する溶解種によるエッチング処理、加熱によるエージング処理などを行うことにより、六角形乃至三角形状の金属平板粒子の角を鈍らせて、略六角形状乃至略円盤形状の金属平板粒子を得てもよい。
【００３４】
前記金属平板粒子の合成方法としては、前記の他、予めフィルム、ガラスなどの透明基材の表面に種晶を固定後、平板状に金属粒子（例えばＡｇ）を結晶成長させてもよい。
【００３５】
本発明の熱線遮蔽材において、金属平板粒子は、所望の特性を付与するために、更なる処理を施してもよい。前記更なる処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、高屈折率シェル層の形成、分散剤、酸化防止剤等の各種添加剤を添加することなどが挙げられる。
【００３６】
−高屈折率シェル層の形成−
前記金属平板粒子は、可視光域透明性を更に高めるために、可視光域透明性が高い高屈折率材料で被覆されてもよい。
前記高屈折率材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＴｉＯｘ、ＢａＴｉＯ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２、ＮｂＯｘなどが挙げられる。
【００３７】
前記被覆する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｌａｎｇｍｕｉｒ、２０００年、１６巻、ｐ．２７３１−２７３５に報告されているようにテトラブトキシチタンを加水分解することにより銀の金属平板粒子の表面にＴｉＯｘ層を形成する方法であってもよい。
【００３８】
また、前記金属平板粒子に直接高屈折率金属酸化物層シェルを形成することが困難な場合は、前記の通り金属平板粒子を合成した後、適宜ＳｉＯ２やポリマーのシェル層を形成し、更に、このシェル層上に前記金属酸化物層を形成してもよい。ＴｉＯｘを高屈折率金属酸化物層の材料として用いる場合には、ＴｉＯｘが光触媒活性を有することから、金属平板粒子を分散するマトリクスを劣化させてしまう懸念があるため、目的に応じて金属平板粒子にＴｉＯｘ層を形成した後、適宜ＳｉＯ２層を形成してもよい。
【００３９】
−各種添加物の添加−
本発明の熱線遮蔽材において、金属平板粒子は、該金属平板粒子を構成する銀などの金属の酸化を防止するために、メルカプトテトラゾール、アスコルビン酸などの酸化防止剤を吸着していてもよい。また、酸化防止を目的として、Ｎｉなどの酸化犠牲層が金属平板粒子の表面に形成されていてもよい。また、酸素を遮断することを目的として、ＳｉＯ２などの金属酸化物膜で被覆されていてもよい。
【００４０】
前記金属平板粒子は、分散性付与を目的として、例えば、４級アンモニウム塩、アミン類等のＮ元素、Ｓ元素、及びＰ元素の少なくともいずれかを含む低分子量分散剤、高分子量分散剤などの分散剤を添加してもよい。
【００４１】
＜コレステリック液晶層＞
前記コレステリック液晶層は、コレステリック液晶性を有する化合物（以下、「コレステリック液晶性化合物」と称することもある）を含むコレステリック液晶層用組成物を固定してなり、特定の選択反射波長を有する。
前記コレステリック液晶層用組成物は、コレステリック液晶性化合物を含んでなり、コレステリック液晶相を示し、更に必要に応じて、多官能重合性化合物、光学活性化合物（キラル剤）、重合開始剤、配向制御剤、溶剤などのその他の成分を含む。
【００４２】
前記コレステリック液晶層は、積層体であることが好ましく、その積層数としては、２層〜８層が好ましく、４層〜７層がより好ましい。前記積層数が、２層未満であると前記熱線遮蔽材において短波長側の赤外線の遮蔽効果が十分に得られないことがあり、８層を超えると前記熱線遮蔽材の厚みが厚くなり、脆化が生じることがある。
前記コレステリック液晶層の選択反射波長としては、赤外光領域である限り特に制限なく、適宜選択することができるが、積層体として、８００ｎｍ〜１，８００ｎｍが好ましく、前記熱線遮蔽材において短波長側の赤外線の遮蔽率を高め、薄層化する観点から、８００ｎｍ〜１，３００ｎｍがより好ましい。
【００４３】
前記コレステリック液晶層は、各層のコレステリック液晶相の螺旋ピッチに基づいて、特定の波長の光を反射する光選択反射性を示す。
以下、図面を用いて、本発明の熱線遮蔽材の好ましい実施形態について説明する。図３に示す熱線遮蔽材１０は、基材１２の少なくとも一方の側に、金属粒子含有層１４及びコレステリック液晶層１６Ｒ、１６Ｌ、１８Ｒ、１８Ｌを有する。
【００４４】
本発明の熱線遮蔽材においては、例えば、図３に示すように、基材１２上に金属粒子含有層１４が積層され、さらに金属粒子含有層１４上にコレステリック液晶層１６Ｒ、１６Ｌ、１８Ｒ、１８Ｌが積層されていてもよく、また、基材１２上にコレステリック液晶層１６Ｒ、１６Ｌ、１８Ｒ、１８Ｌが積層され、さらに該コレステリック液晶層の積層体の上に金属粒子含有層１４が積層されていてもよいが、基材、金属粒子含有層、コレステリック液晶層の順に積層された前者の形態が好ましい。
本発明の別の実施形態においては、基材１２の一方の面上に金属粒子含有層１４が積層され、さらに基材１２の反対の面上にコレステリック液晶層１６Ｒ、１６Ｌ、１８Ｒ、１８Ｌが積層されていてもよい。
なお、前記コレステリック液晶層の積層数については、４層に限らず、目的に応じて適宜前述の事項を適用することができる。
【００４５】
本発明の１つの実施形態では、コレステリック液晶層１６Ｒと１６Ｌは、それぞれのコレステリック液晶相の螺旋方向が互いに逆であるとともに、その反射中心波長λ１６が同一である。また、同様に、コレステリック液晶層１８Ｒと１８Ｌは、それぞれのコレステリック液晶相の螺旋方向が互いに逆であるとともに、その反射中心波長λ１８が同一である。本実施形態では、λ１６≠λ１８を満足するので、コレステリック液晶層１６Ｒと１６Ｌによって所定の波長λ１６の右円偏光及左円偏光を選択反射するとともに、コレステリック液晶層１８Ｒと１８Ｌによって、波長λ１６とは異なる波長λ１８の右円偏光及び左円偏光を選択反射しており、全体として、反射特性の広帯域化を図ることができる。
【００４６】
また、前記コレステリック液晶層の選択反射波長を、８００ｎｍ〜１，８００ｎｍに設定することにより、前記熱線遮蔽材において短波長側の赤外線の遮蔽率を高めることができる。そのような選択反射波長を有するコレステリック液晶層としては、例えば、コレステリック液晶層１６Ｒと１６Ｌによる選択反射の中心波長λ１６が、例えば、８９０ｎｍ〜９９０ｎｍの範囲にあり、コレステリック液晶層１８Ｒと１８Ｌによる選択反射の中心波長λ１８が、例えば、９９０ｎｍ〜１，０９０ｎｍの範囲にある、互いに異なる選択反射の中心波長を有する２組のコレステリック液晶層を少なくとも含む積層体が挙げられる。前記コレステリック液晶層は、さらに、前記２組のコレステリック液晶層とは異なる、例えば、１，１１０ｎｍ〜１，２１０ｎｍ、１，２２０ｎｍ〜１，３２０ｎｍ、１，３３０ｎｍ〜１，４３０ｎｍなどの中心波長λを有する１組以上、乃至右円偏光及左円偏光のいずれかを選択反射するコレステリック液晶層を有してもよい。
本発明の熱線遮蔽材は、前記コレステリック液晶層と、主に、１，２００ｎｍ〜１，８００ｎｍを遮蔽する前記金属粒子含有層との相乗作用により、短波長側の赤外線の遮蔽率が高く、赤外線を広帯域に遮蔽でき、脆性が低く、薄層化することができる。
【００４７】
−コレステリック液晶性化合物−
前記コレステリック液晶性化合物としては、特に制限なく、適宜選択することができるが、棒状液晶化合物であることが好ましく、該棒状液晶化合物として低分子液晶化合物を用いてもよく、高分子液晶化合物を用いてもよい。
前記低分子液晶化合物（低分子棒状液晶化合物）としては、例えば、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類などが挙げられる。
前記高分子液晶化合物のモノマー乃至オリゴマーである重合性棒状液晶化合物は、重合性基を前記低分子棒状液晶化合物に導入することにより得られる。前記重合性基としては、例えば、不飽和重合性基、エポキシ基、アジリジニル基などが挙げられる。これらの中でも、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。前記重合性基は種々の方法で、前記低分子棒状液晶化合物の分子中に導入できる。重合性棒状液晶化合物が有する重合性基の個数としては、１個〜６個が好ましく、１個〜３個がより好ましい。
前記重合性棒状液晶化合物としては、例えば、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報等に記載の化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。２種類以上の前記重合性棒状液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。
【００４８】
−−光学活性化合物（キラル剤（カイラル剤））−−
前記コレステリック液晶層用組成物は、コレステリック液晶相を示すために、光学活性化合物を含有することが好ましい。ただし、上記コレステリック液晶性化合物が、不正炭素原子を有する分子である場合には、光学活性化合物を添加しなくても、コレステリック液晶相を安定的に形成できることもある。
前記光学活性化合物としては、特に制限なく、適宜公知の種々のキラル剤を選択することができ、例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載されたキラル剤などが挙げられる。光学活性化合物は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物及び面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。前記軸性不斉化合物及び面性不斉化合物としては、例えば、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が挙げられる。前記光学活性化合物は、重合性基を有していてもよい。前記光学活性化合物が重合性基を有するとともに、併用するコレステリック液晶性化合物も重合性基を有する場合は、重合性光学活性化合物と重合性コレステリック液晶性化合物との重合反応により、コレステリック液晶性化合物から誘導される繰り返し単位と、光学活性化合物から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、前記重合性光学活性化合物が有する重合性基は、前記重合性コレステリック液晶性化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。したがって、光学活性化合物の重合性基としては、不飽和重合性基、エポキシ基及びアジリジニル基のいずれかが好ましく、不飽和重合性基がよりに好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。
また、光学活性化合物は、液晶化合物であってもよい。
【００４９】
前記コレステリック液晶層用組成物中の光学活性化合物の含有量としては、併用されるコレステリック液晶性化合物に対して、１モル％〜３０モル％が好ましい。光学活性化合物の含有量は、より少なくした方が液晶性に影響を及ぼさないことが多いため好まれる。従って、キラル剤として用いられる光学活性化合物は、少量でも所望の螺旋ピッチの捩れ配向を達成可能なように、強い捩り力のある化合物が好ましい。この様な、強い捩れ力を示すキラル剤としては、例えば、特開２００３−２８７６２３公報に記載のキラル剤が挙げられ、本発明に好ましく用いることができる。
【００５０】
−−重合開始剤−−
前記コレステリック液晶層用組成物は、重合開始剤を含有することが好ましい。本発明では、紫外線照射により硬化反応を進行させることが好ましく、その場合に使用する重合開始剤としては、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤が好ましい。前記光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）などが挙げられる。
【００５１】
前記重合開始剤の含有量としては、前記コレステリック液晶層用組成物（塗布液の場合は固形分）に対して０．１質量％〜２０質量％が好ましく、１質量％〜８質量％がより好ましい。
【００５２】
−−配向制御剤−−
前記コレステリック液晶層用組成物は、液晶配向の安定化などのために、配向制御剤を含有してもよい。通常、液晶性化合物は、空気界面側では傾斜して配向する性質を有するので、均一に水平配向した状態を得るために、空気界面側において液晶性化合物を水平に配向制御することが必要である。この目的のために、空気界面側に偏在して、その排除体積効果、静電気的な効果などによって液晶性化合物を水平に配向させる作用を及ぼす化合物（配向制御剤）を液晶塗布液に含有させて、コレステリック液晶層を形成することが好ましい。
ここで、「水平配向」とは、液晶分子長軸と層面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が２０度未満の配向を意味するものとする。コレステリック液晶性化合物が空気界面付近で水平配向する場合、配向欠陥が生じ難いため、可視光領域での透明性が高くなり、また赤外領域での反射率が増大する。一方、コレステリック液晶性化合物の分子が大きなチルト角で配向すると、コレステリック液晶相の螺旋軸が層面法線からずれるため、反射率が低下したり、フィンガープリントパターンが発生してヘイズの増大や回折性を示したりするため好ましくない。
【００５３】
前記配向制御剤としては、特に制限なく、適宜選択することができるが、フッ素系配向制御剤が好ましい。前記フッ素系配向制御剤としては、公知のものの中から適宜選択して使用することができる。
【００５４】
以下、前記フッ素系配向制御剤としてとして利用可能な、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される化合物について、順に説明する。
【００５５】
【化２】
0005688950.tif 000002
式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立して、水素原子及び置換基（ただし、少なくとも１つのフッ素原子を含む）のいずれかを表し、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、単結合及び二価の連結基のいずれかを表す。
【００５６】
前記Ｒ１〜Ｒ３で各々表される置換基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、置換又は無置換のアルキル基（中でも、無置換のアルキル基又はフッ素置換アルキル基がより好ましい）、置換又は無置換のアリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換又は無置換のアミノ基、置換又は無置換のアルコキシ基、置換又は無置換のアルキルチオ基、ハロゲン原子などが好ましい。
前記Ｘ１、Ｘ２及びＸ３で各々表される二価の連結基としては、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、―ＮＲａ−（ただし、Ｒａは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子を表す）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−及びそれらの組み合わせからなる群より選択される二価の連結基が好ましく、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲａ−、−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＳＯ２−からなる群より選択される二価の連結基及び該群より選択される基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基のいずれかがより好ましい。前記アルキレン基の炭素原子数としては、１〜１２が好ましい。前記アルケニレン基の炭素原子数としては、２〜１２が好ましい。前記二価の芳香族基の炭素原子数としては、６〜１０が好ましい。
【００５７】
【化３】
0005688950.tif 000003
式中、Ｒは、置換基（ただし、少なくとも１つのフッ素原子を含む）を表し、ｍは、０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でもよく、異なっていてもよい。
【００５８】
前記Ｒで表される置換基としては、前記一般式（Ｉ）におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３で表される置換基の好ましい範囲として挙げたものと同様のものが好適に挙げられる。前記ｍは、１〜３の整数が好ましく、２又は３が特に好ましい。
【００５９】
【化４】
0005688950.tif 000004
式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、各々独立して、水素原子及び置換基（ただし、少なくとも１つのフッ素原子を含む）のいずれかを表す。
【００６０】
前記Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９で各々表される置換基としては、一般式（Ｉ）におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基の好ましい範囲として挙げたものと同様のものが好適に挙げられる。
【００６１】
前記フッ素系配向制御剤として使用可能な、前記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される化合物の例には、特開２００５−０９９２４８号公報に記載の化合物が含まれる。
なお、本発明では、前記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６２】
前記配向制御剤の含有量としては、前記コレステリック液晶層用組成物に対し、０．０５質量％〜５質量％が好ましい。また、前記配向制御剤としてフッ素系配向制御剤を用いる場合、前記含有量は、１質量％以下が好ましい。
【００６３】
前記コレステリック液晶層用組成物中における前記フッ素系配向制御剤の添加量としては、後述する多官能重合性化合物及び前記フッ素系配向制御剤の質量比（多官能重合性化合物／フッ素系配向制御剤）で、５０／１〜１，０００／１が赤外光反射層を塗布したときの表面粗さＲａを小さくする観点から好ましく、６０／１〜９００／１がより好ましく、７０／１〜５００／１が特に好ましい。
【００６４】
−−多官能重合性化合物−−
前記コレステリック液晶層用組成物は、前記多官能重合性化合物を含んでもよい。また、前記多官能重合性化合物は、コレステリック液晶層以外の機能層に含まれていてもよく、例えば、後述の易接着層に含まれていてもよい。
ここで「多官能」の化合物とは、重合に関与する重合性基が、１分子中に２以上含まれている化合物のことを言う。
前記多官能重層性化合物は、多官能のモノマーであっても、ある程度重合が進んだオリゴマーであってもよい。そのなかでも、多官能のモノマーであることが好ましい。
また、前記多官能重合性化合物は、液晶性化合物でもよく、非液晶性化合物でもよく、特に制限はない。その中でも、前記多官能重合性化合物は、前記コレステリック液晶層の表面またはその近傍に偏在しやすいように、コレステリック液晶相との相溶性を抑えるという観点から非液晶性であることが好ましい。
【００６５】
前記多官能重合性化合物が有する前記重合性基としては、特に制限はなく、公知の重合性基を挙げることができるが、不飽和重合性基、エポキシ基及びアジリジニル基のいずれかが好ましく、不飽和重合性基がより好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。前記多官能重合性化合物が、前記エチレン性不飽和重合性基の中でも（メタ）アクリロイル基を有することが好ましく、２以上の（メタ）アクリロイル基を有することがより好ましく、２個の（メタ）アクリロイル基を有することが特に好ましく、２個のアクリロイル基を有することが最も好ましい。なお、本明細書中、（メタ）アクリロイル基とは、メタクリロイル基とアクリロイル基の総称を表す。
【００６６】
前記多官能重合性化合物としては、重合性基以外の骨格として、少なくとも１つの２価の芳香環基を含むことが好ましく、２価の炭素数６〜３０の芳香環基を含むことが好ましい。前記多官能重合性化合物は、２価の芳香環基を２個以上含むことが好ましく、２個含むことが好ましく、さらに２個の２価の芳香環基が、連結基を介して結合した非液晶性の化合物であることが好ましい。
前記２個の２価の芳香環基を連結する連結基としては、例えば、置換又は無置換のアルキレン基、アルケニレン基、−ＣＯ−、―ＮＲａ−（ただし、Ｒａは、炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子を表す）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基などを挙げることができる。これらの中でも、炭素数１〜３の置換又は無置換のアルキレン基が好ましく、炭素数１〜３の置換基を有するアルキレン基がより好ましい。前記置換基としては、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
【００６７】
前記多官能重合性化合物は、２つの前記重合性基と２価の芳香環基（２個であることが好ましい）の間に、それぞれ連結基を有していてもよく、有していなくてもよいが、連結基を有していていることが、分子量を好ましい範囲に制御できる観点から好ましい。その中でも、２つの前記重合性基と２価の芳香環基の間の連結基は、前記多官能重合性化合物が非液晶性となる連結基であることが好ましく、そのような連結基としては、例えば、アルキレンオキシ基（又はオキシアルキレン基）、アルキレン基、アルケニレン基、−ＣＯ−、―ＮＲａ−（ただし、Ｒａは、炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子を表す）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、及びこれらの組合せなどを挙げることができる。これらの中でも、炭素数１〜１０のアルキレンオキシ基が好ましく、炭素数１〜５のアルキレンオキシ基がより好ましく、炭素数１〜３のアルキレンオキシ基が特に好ましい。
【００６８】
さらに、前記多官能重合性化合物は、下記一般式（１）で表される構造であることが好ましい。
【化５】
0005688950.tif 000005
一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、Ｍ１及びＭ２は、それぞれ独立に−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｎ−、−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｎ−、−（ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｍ−、−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２）ｍ−、−（ＣＨ２）ｐ−及びこれらの組合せを表す。ｎ、ｍ及びｐは、それぞれ独立に１〜５０の整数を表す。
【００６９】
前記Ｒ１及びＲ２としては、水素原子が好ましい。
前記Ｍ１及びＭ２としては、−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｎ−、−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｎ−、−（ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｍ−、−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２）ｍ−及び−（ＣＨ２）ｐ−のいずれかが好ましい。これらの中でも、前記Ｍ１が−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｎ−及び−（ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｍ−のいずれかであることが好ましく、−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｎ−であることがより好ましい。一方、前記Ｍ２が−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｎ−及び−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２）ｍ−のいずれかであることが好ましく、−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｎ−であることがより好ましい。
前記ｎとしては、１〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１８がより好ましい。
前記ｍとしては、０〜１５が好ましく、０〜５がより好ましく、０であることが特に好ましい。
前記ｐとしては、０〜３０が好ましく、０〜１０がより好ましく、０が特に好ましい。
【００７０】
前記多官能重合性化合物の分子量としては、３５０〜２，０００が好ましく、４００〜１，７００がより好ましく、５００〜１，３００が特に好ましい。
【００７１】
−−溶媒−−
前記溶媒としては、前記コレステリック液晶性化合物を溶解乃至分散できる限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、主溶媒としてケトン系の溶媒、エステル系の溶媒、アルコール系の溶媒などが挙げられる。
前記ケトン系の溶媒としては、例えば、２−ブタノン（メチルエチルケトン、ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノンなどが好適に挙げられる。前記エステル系の溶媒としては、例えば、メトキシエチルアセテート、メトキシプロピルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、エトキシプロピルアセテートなどが好適に挙げられる。前記アルコール系の溶媒としては、例えば、エタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）などが好適に挙げられる。これらの中でも、ケトン系の溶媒が好ましく、２−ブタノンが特に好ましい。
主溶媒以外のその他の溶媒として、同じケトン系溶媒や、ケトン系溶媒ではないエステル系溶媒やアルコール系溶媒などを併用してもよい。なお、本明細書中、主溶媒とは、溶媒の組成の中で最も体積比の大きい溶媒のことをいう。
【００７２】
＜基材＞
前記基材としては、光学的に透明な基材であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、可視光線透過率が７０％以上のもの、好ましくは８０％以上のもの、近赤外線域の透過率が高いものなどが挙げられる。
前記基材としては、その形状、構造、大きさ、材料などについては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記形状としては、例えば、平板状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記熱線遮蔽材の大きさなどに応じて適宜選択することができる。
前記基材の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、白板ガラス、青板ガラス等のガラス材料、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などが挙げられる。
【００７３】
＜その他の層＞
＜＜保護層＞＞
本発明の熱線遮蔽材において、基材との密着性を向上させたり、機械強度的に保護するため、保護層を有することが好ましい。
前記保護層は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、バインダー、及び界面活性剤を含有し、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記バインダーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、可視光透明性や日射透明性が高い方が好ましく、例えば、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。なお、バインダーが熱線を吸収すると、金属平板粒子による反射効果が弱まってしまうことから、熱線源と金属平板粒子との間に中間層を形成する場合は、７８０ｎｍ〜１，５００ｎｍの領域に吸収を持たない材料を選択したり、保護層の厚みを薄くすることが好ましい。
【００７４】
＜＜下塗り層＞＞
本発明の熱線遮蔽材は、前記金属粒子含有層乃至前記コレステリック液晶層と前記基材との間に下塗り層を有していてもよく、下塗り層として前記金属粒子含有層を有していてもよい。前記コレステリック液晶層と前記基材との密着力が弱いと、前記コレステリック液晶層を積層して製造する際の工程で剥離故障や、赤外光反射板としてガラスに貼り合わせた際の強度（耐衝撃性）低下を引き起こす。よって、下塗り層として、前記コレステリック液晶層と前記基材との接着性を向上させることができる層を利用することができる。
前記基材と前記下塗り層との界面、乃至前記下塗り層と前記金属粒子含有層乃至前記コレステリック液晶層との界面には、剥離しない程度の接着性の強さが必要である。一方、前記熱線遮蔽材から基材を剥離しながら別の基材に転写した態様の熱線遮蔽材を作製する場合には、金属粒子含有層乃至コレステリック液晶層／下塗り層／基材のいずれかの界面にて、剥離ができる程度の弱さが必要である。
前記下塗り層の形成に利用可能な材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、水性ポリエステル、ポリウレタンなどが挙げられる。
下塗り層の厚みとしては、０．０５μｍ〜０．５μｍが好ましい。
【００７５】
＜＜配向層＞＞
本発明の熱線遮蔽材は、前記コレステリック液晶層と基材との間に配向層を有していてもよい。前記配向層は、前記コレステリック液晶層中のコレステリック液晶性化合物の配向方向をより精密に規定する機能を有する。
前記配向層は、前記コレステリック液晶層と隣接する必要があるので、前記コレステリック液晶層と前記金属粒子含有層、前記下塗り層、及び前記基材のいずれかとの間に設けるのが好ましい。ただし、前記下塗り層が配向層の機能を有していてもよい。また、積層された前記コレステリック液晶層の間に配向層を有していてもよい。
【００７６】
前記配向層は、隣接する、前記コレステリック液晶層と、前記金属粒子含有層、前記下塗り層、及び前記基材のいずれかに対しても、ある程度の密着力を有することが好ましい。ただし、コレステリック液晶層／配向層／金属粒子含有層／下塗り層／基材のいずれかの界面にて、剥離が生じない程度の強さが必要である。一方、赤外光反射層から樹脂基材を剥離しながら別の樹脂基材に転写した態様の赤外光反射板を作製する場合には、コレステリック液晶層／配向層／金属粒子含有層／下塗り層／基材のいずれかの界面にて、剥離ができる程度の弱さが必要である。
【００７７】
前記配向層として用いられる材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機化合物のポリマーが好ましく、これらの中でも、それ自体が架橋可能なポリマー、架橋剤により架橋されるポリマー、及び双方の機能を有するポリマーがより好ましい。前記ポリマーとしては、例えば、ポリメチルメタクリレ−ト、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコ−ル、変性ポリビニルアルコ−ル、ポリ（Ｎ−メチロ−ルアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロ−ス、ゼラチン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等のポリマー；シランカップリング剤等の化合物などを挙げることができる。これらの中でも、ポリ（Ｎ−メチロ−ルアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロ−ス、ゼラチン、ポリビルアルコール、変性ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーが好ましく、ゼラチン、ポリビルアルコール、変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビルアルコール、変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
前記配向層の厚みとしては、０．１μｍ〜２．０μｍが好ましい。
【００７８】
＜＜易接着層＞＞
本発明の熱線遮蔽材は、前記コレステリック液晶層に易接着層を含むことが好ましい。前記熱線遮蔽材は、一方乃至双方の最外層として、易接着層を有していてもよい。前記易接着層は、例えば、合わせガラス用中間膜シート、ガラス板、ガラス貼付用粘着材層などと前記熱線遮蔽材との接着性を改善する機能を有する。
前記易接着層の形成に利用可能な材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、アクリル樹脂、スチレン／アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂が好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの材料からなる易接着層は、塗布により形成することができる。
前記ポリビニルブチラール樹脂は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）とブチルアルデヒドを酸触媒で反応させて生成するポリビニルアセタールの一種である。
さらに、前記易接着層には、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、ブロッキング防止剤などを添加してもよい。
前記易接着層の厚みとしては、０．１μｍ〜１０μｍが好ましい。
【００７９】
［熱線遮蔽材の製造方法］
本発明の熱線遮蔽材の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、塗布方法により、前記基材の表面に前記金属粒子含有層、前記コレステリック液晶層、更に必要に応じてその他の層を形成する方法が挙げられる。
本発明の熱線遮蔽材における金属粒子含有層及びコレステリック液晶層の合計厚みとしては、５０μｍ以下が好ましい。ここで、各層の「厚み」とは、平均厚みを意味する。前記平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０点以上の厚みの平均が好ましい。前記厚みは、例えば、熱線遮蔽材の断面試料をＳＥＭ観察した画像より測定することができる。
【００８０】
−金属粒子含有層の形成方法−
本発明の金属粒子含有層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記基材、乃至前記下塗り層などの下層の表面上に、金属平板粒子を有する分散液を、ディップコーター、ダイコーター、スリットコーター、バーコーター、グラビアコーター等による塗布する方法、ＬＢ膜法、自己組織化法、スプレー塗布などの方法で面配向させる方法が挙げられる。
【００８１】
また、金属平板粒子の基材表面への吸着性や面配向性を高めるために、静電的な相互作用を利用して、面配向させる方法であってもよい。具体的には、金属平板粒子の表面が負に帯電している場合（例えば、クエン酸等の負帯電性の媒質に分散した状態）は、基材の表面を正に帯電（例えば、アミノ基等で基材表面を修飾）させておき、静電的に面配向性を高めることにより、面配向させる方法であってもよい。また、金属平板粒子の表面が親水性である場合は、基材の表面をブロックコポリマー、μコンタクトスタンプ法などにより、親疎水の海島構造を形成しておき、親疎水性相互作用を利用して面配向性と金属平板粒子の粒子間距離とを制御してもよい。
【００８２】
なお、面配向を促進するために、金属平板粒子を塗布後、カレンダーローラーやラミローラーなどの圧着ローラーを通すことにより促進させてもよい。
【００８３】
−コレステリック液晶層の形成方法−
本発明のコレステリック液晶層は、塗布方法によって作製される。製造方法の一例は、
（１）前記基材、前記金属粒子含有層、前記下塗り層などの下層の表面上に、多官能重合性化合物、重合性コレステリック液晶性化合物、配向制御剤を含むコレステリック液晶層用組成物を塗布して、コレステリック液晶相の状態にすること、
（２）前記コレステリック液晶層用組成物に紫外線を照射して硬化反応を進行させ、コレステリック液晶相を固定してコレステリック液晶層を形成すること、
を少なくとも含む。
異なる選択反射波長及び円偏向反射性を有する前記コレステリック液晶性化合物をそれぞれ有する各コレステリック液晶層用組成物について、（１）及び（２）の工程を行うことにより、複数のコレステリック液晶層が積層された積層体を作製することができる。
【００８４】
前記（１）工程では、まず、前記下層の表面上に、前記コレステリック液晶層用組成物を塗布する。前記コレステリック液晶層用組成物は、前記溶媒に材料を溶解乃至分散した塗布液として調製されることが好ましい。前記塗布液の塗布方法としては、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法などが挙げられる。また、インクジェット装置を用いて、前記コレステリック液晶層用組成物をノズルから吐出して、塗膜を形成することもできる。
【００８５】
前記コレステリック液晶層用組成物の粘度としては、０.１ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓが好ましく、１ｍＰａ・ｓ〜８ｍＰａ・ｓがより好ましく、２ｍＰａ・ｓ〜５ｍＰａ・ｓが特に好ましい。
【００８６】
次に、表面に塗布され、塗膜となった前記コレステリック液晶層用組成物を、コレステリック液晶相の状態にすることが好ましい。前記コレステリック液晶層用組成物が、前記溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗膜を乾燥し、溶媒を除去することで、コレステリック液晶相の状態にすることができる場合がある。また、コレステリック液晶相への転移温度とするために、所望により、前記塗膜を加熱してもよい。例えば、一旦等方性相の温度まで加熱し、その後、コレステリック液晶相転移温度まで冷却するなどによって、安定的にコレステリック液晶相の状態にすることができる。前記コレステリック液晶層用組成物の液晶相転移温度としては、製造適性などの面から１０℃〜２５０℃が好ましく、１０℃〜１５０℃がより好ましい。前記液晶相転移温度が、１０℃未満であると液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるために冷却工程などが必要となることがあり、一方、２５０℃を超えると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にするために高温を要し、熱エネルギーの浪費、基材の変形、変質などからも不利になる。
【００８７】
次に、前記（２）の工程では、コレステリック液晶相の状態となった塗膜に、紫外線を照射して、硬化反応を進行させる。紫外線照射には、紫外線ランプ等の光源が利用される。この工程では、紫外線を照射することによって、前記コレステリック液晶層用組成物の硬化反応が進行し、コレステリック液晶相が固定されて、コレステリック液晶層が形成される。
前記紫外線の照射エネルギー量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。また、前記塗膜に紫外線を照射する時間としては、特に制限はなく、目的に応じて硬化膜の充分な強度及び生産性の双方の観点から決定することができる。
また、前記多官能重合性化合物の前記コレステリック液晶層の表面乃至その近傍への偏在の度合いも、硬化反応の条件により多少の影響は受けるが、前記紫外線照射条件であれば前記コレステリック液晶層が十分に硬化するので、特に制限はない。
【００８８】
硬化反応を促進するため、加熱条件下で紫外線照射を実施してもよい。また、紫外線照射時の温度としては、コレステリック液晶相が乱れないように、コレステリック液晶相を呈する温度範囲に維持することが好ましい。
また、雰囲気の酸素濃度は、重合度に関与するため、空気中で所望の重合度に達せず層強度が不十分の場合には、窒素置換等の方法により雰囲気中の酸素濃度を低下させることが好ましい。前記酸素濃度としては、１０％以下が好ましく、７％以下がより好ましく、３％以下が特に好ましい。
紫外線照射によって進行される硬化反応（例えば重合反応）の反応率としては、層の機械的強度の保持等や未反応物が層から流出するのを抑える等の観点から、７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上が特に好ましい。反応率を向上させるためには、照射する紫外線の照射量を増大する方法、窒素雰囲気下乃至加熱条件下での重合などが効果的である。また、一旦重合させた後に、重合温度よりも高温状態で保持して熱重合反応によって反応をさらに推し進める方法、再度紫外線を照射する（ただし、本発明の条件を満足する条件で照射する）方法などを用いることもできる。前記反応率の測定は、反応性基（例えば重合性基）の赤外振動スペクトルの吸収強度を、反応進行の前後で比較することによって行うことができる。
【００８９】
上記工程では、コレステリック液晶相が固定されて、前記コレステリック液晶層が形成される。ここで、液晶相を「固定化した」状態としては、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持された状態が最も典型的、且つ好ましい態様である。それだけには限定されず、具体的には、通常０℃〜５０℃、より過酷な条件下では−３０℃〜７０℃の温度範囲において、該層に流動性が無く、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を意味するものとする。本発明では、紫外線照射によって進行する硬化反応により、コレステリック液晶相の配向状態を固定することができる。
【００９０】
前記コレステリック液晶層の各層の厚みとしては、特に制限なく、適宜選択することができるが、通常１μｍ〜１０μｍであり、３μｍ〜７μｍが好ましい。前記コレステリック液晶層用組成物の成分（主にはコレステリック液晶性化合物及びキラル剤）の種類及びその濃度などを調整することにより所望の螺旋ピッチの前記コレステリック液晶層を形成することができる。また、前記コレステリック液晶層の厚みは、前記コレステリック液晶層用組成物の塗布量を調整することで所望の範囲とすることができる。
【００９１】
−−下塗り層の形成方法−−
前記下塗り層は、塗布により前記基材の前記コレステリック液晶層乃至前記金属粒子含有層が形成される側の表面上に形成されることが好ましい。このときの塗布方法については特に限定はなく、公知の方法を用いることができる。
【００９２】
−−配向層の形成方法−−
前記配向層は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成などの手段で設けることができる。さらには、電場の付与、磁場の付与、光照射などにより配向機能が生じる配向層も知られており、これを用いることができる。前記配向層は、ラビング処理により形成することが好ましい。前記配向層は、前記コレステリック液晶層に隣接する、前記基材、前記下塗り層、前記金属粒子含有層、前記易接着層などの下層の前記コレステリック液晶層が形成される側の表面上に形成されることが好ましい。
【００９３】
−−易接着層の形成方法−−
前記易接着層は、塗布により形成することが好ましい。例えば、前記基材、前記下塗り層、前記金属粒子含有層などの下層の表面上に積層することができる。このときの塗布方法については特に限定はなく、公知の方法を用いることができる。
前記易接着層は、塗布により形成することが好ましい。例えば、前記コレステリック液晶層の表面（最外層）に、塗布により形成してもよい。より具体的には、ポリビニルブチラール樹脂の１種を溶媒に溶解して塗布液を調製し、該塗布液を、赤外光反射層の表面乃至基材の裏面に塗布して、所望により加熱して乾燥し、易接着層を形成することができる。
前記易接着層用の塗布液の調製に用いる溶媒としては、例えば、主溶媒としてケトン系の溶媒、エステル系の溶媒、アルコール系の溶媒などが挙げられる。
前記ケトン系の溶媒としては、例えば、２−ブタノン（メチルエチルケトン、ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノンなどが好適に挙げられる。前記エステル系の溶媒としては、例えば、メトキシエチルアセテート、メトキシプロピルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、エトキシプロピルアセテートなどが好適に挙げられる。前記アルコール系の溶媒としては、例えば、エタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）などが好適に挙げられる。
乾燥時の温度としては、塗布液の調製に用いた材料によって好ましい範囲が異なり、一概に規定することができないが、１４０℃〜１６０℃が好ましい。乾燥時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、一般的には、５分間〜１０分間程度である。
【００９４】
本発明の熱線遮蔽材の日射反射率としては、６００ｎｍ〜２，０００ｎｍの範囲（好ましくは８００ｎｍ〜１，８００ｎｍ）で最大値を有することが、熱線反射率の効率を上げることができる点で好ましく、波長８００ｎｍ〜１，８００ｎｍにおける反射率が、３０％以上であることがより好ましい。
本発明の熱線遮蔽材の可視光線透過率としては、６０％が好ましく、７０％以上がより好ましい。前記可視光線透過率が、６０％未満であると、例えば自動車用ガラスや建物用ガラスとして用いた時に、外部が見にくくなることがある。
本発明の熱線遮蔽材のヘイズは、２０％以下であることが好ましい。前記ヘイズが２０％を超えると、例えば、自動車用ガラスや建物用ガラスとして用いた時に外部が見にくくなるなど、安全上好ましくないことがある。
【００９５】
［熱線遮蔽材の使用態様］
本発明の熱線遮蔽材は、熱線（近赤外線）を選択的に反射乃至吸収するために使用される態様であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すればよく、例えば、乗り物用ガラスやフィルム、建材用ガラスやフィルム、農業用フィルムなどが挙げられる。これらの中でも、省エネルギー効果の点で、乗り物用ガラスやフィルム、建材用ガラスやフィルムであることが好ましい。
なお、本発明において、熱線（近赤外線）とは、太陽光に約５０％含まれる近赤外線（８００ｎｍ〜１，８００ｎｍ）を意味する。
【００９６】
前記ガラスの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記のようにして製造した熱線遮蔽材に、更に接着層を形成し、自動車等の乗り物用ガラスや建材用ガラスに貼合せたり、合せガラスに用いるＰＶＢやＥＶＡ中間膜に挟み込んで用いることができる。また、粒子／バインダー層のみをＰＶＢやＥＶＡ中間膜に転写し、基材を剥離除去した状態で使用してもよい。
【実施例】
【００９７】
以下、本発明の実施例及び比較例を挙げて説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、比較例は、公知技術とは限らない。
以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００９８】
（製造例１：銀平板粒子分散液Ｂ１の調製）
−銀平板粒子の合成−
−−平板核粒子の合成工程−−
２．５ｍＭのクエン酸ナトリウム水溶液５０ｍＬに０．５ｇ／Ｌのポリスチレンスルホン酸水溶液を２．５ｍＬ添加し、３５℃まで加熱した。この溶液に１０ｍＭの水素化ほう素ナトリウム水溶液を３ｍＬ添加し、０．５ｍＭの硝酸銀水溶液５０ｍＬを２０ｍＬ／ｍｉｎで攪拌しながら添加した。この溶液を３０分間攪拌し、種溶液を作製した。
−−平板粒子の第１成長工程−−
次に、２．５ｍＭのクエン酸ナトリウム水溶液１３２．７ｍＬにイオン交換水４９．５ｍＬを添加し、３５℃まで加熱した。この溶液に１０ｍＭのアスコルビン酸水溶液を２ｍＬ添加し、前記種溶液を８０ｍＬ添加し、０．５ｍＭの硝酸銀水溶液７９．６ｍＬを１０ｍＬ／ｍｉｎで攪拌しながら添加した。
−−平板粒子の第２成長工程−−
さらに、上記溶液を３０分間攪拌した後、０．３５Ｍのヒドロキノンスルホン酸カリウム水溶液を７１．１ｍＬ添加し、７質量％ゼラチン水溶液を２００ｇ添加した。この溶液に、０．２５Ｍの亜硫酸ナトリウム水溶液１０７ｍＬと０．４７Ｍの硝酸銀水溶液１０７ｍＬを混合してできた亜硫酸銀の白色沈殿物混合液を添加した。銀が十分に還元されるまで攪拌し、０．１７ＭのＮａＯＨ水溶液７２ｍＬを添加した。このようにして銀平板粒子分散液Ａを得た。
【００９９】
得られた銀平板粒子分散液Ａ中には、平均円相当径２４０ｎｍの銀の六角平板粒子（以下、Ａｇ六角平板粒子と称する）が生成していることを確認した。また、原子間力顕微鏡（ＮａｎｏｃｕｔｅＩＩ、セイコーインスツル社製）で、六角平板粒子の厚みを測定したところ、平均８ｎｍであり、アスペクト比が２９．８の平板粒子が生成していることが分かった。結果を表５に示す。
【０１００】
前記銀平板粒子分散液Ａ１２ｍＬに１ＮのＮａＯＨを０．５ｍＬ添加し、イオン交換水１８ｍＬ添加し、遠心分離器（コクサン社製Ｈ−２００Ｎ、アンブルローターＢＮ）で７,０００ｒｐｍ５分間遠心分離を行い、Ａｇ六角平板粒子を沈殿させた。遠心分離後の上澄み液を捨て、水を２ｍＬ添加し、沈殿したＡｇ六角平板粒子を再分散させ、製造例１の銀平板粒子分散液Ｂ１を得た。
【０１０１】
（製造例２：銀平板粒子分散液Ｂ２の調製）
製造例１の銀平板粒子分散液Ｂ１において、イオン交換水４９．５ｍＬを添加しないこと及び前記種溶液の添加量を１２７．６ｍＬに変えたこと以外は、銀平板粒子分散液Ｂ１と同様にして銀平板粒子分散液Ｂ２を作製した。
【０１０２】
（製造例３：銀平板粒子分散液Ｂ３の調製）
製造例２の銀平板粒子分散液Ｂ２において、亜硫酸銀の白色沈殿物混合液を添加した後すぐに０．０５ＭのＮａＯＨ水溶液７２ｍＬを添加したこと以外は、銀平板粒子分散液Ｂ２と同様にして銀平板粒子分散液Ｂ３を作製した。
【０１０３】
（製造例４：銀平板粒子分散液Ｂ４の調製）
製造例１の銀平板粒子分散液Ｂ１において、前記種溶液の添加量を４３ｍＬに変えたこと以外は、銀平板粒子分散液Ｂ１と同様にして銀平板粒子分散液Ｂ４を作製した。
【０１０４】
（製造例５：銀平板粒子分散液Ｂ５の調製）
製造例４の銀平板粒子分散液Ｂ４において、亜硫酸銀の白色沈殿物混合液を添加した後すぐに０．１７ＭのＮａＯＨ水溶液７２ｍＬを添加したこと以外は、銀平板粒子分散液Ｂ４と同様にして銀平板粒子分散液Ｂ５を作製した。
【０１０５】
（製造例６：銀平板粒子分散液Ｂ６の調製）
製造例１の銀平板粒子分散液Ｂ１において、前記種溶液の添加量を３９ｍＬに変えたこと以外は、銀平板粒子分散液Ｂ１と同様にして銀平板粒子分散液Ｂ６を作製した。
【０１０６】
（製造例７：銀平板粒子分散液Ｂ７の調製）
製造例２の銀平板粒子分散液Ｂ２において、亜硫酸銀の白色沈殿物混合液を添加した後すぐに１ＭのＮａＯＨ水溶液７２ｍＬを添加したこと以外は、銀平板粒子分散液Ｂ２と同様にして銀平板粒子分散液Ｂ７を作製した。
【０１０７】
（製造例８〜９：コレステリック層用塗布液の調製）
下記表１及び２に示す組成の液晶組成物を含む塗布液（Ｒ１１）及び（Ｌ１１）をそれぞれ調製した。
【０１０８】
【表１】
0005688950.tif 000006
【０１０９】
【表２】
0005688950.tif 000007
【０１１０】
【化１】
0005688950.tif 000008
【０１１１】
【化２】
0005688950.tif 000009
（ただし、式中、Ｒ１及びＲ２は、−Ｏ（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）６Ｆを表し、Ｘは、−ＮＨ−を表す。）
【０１１２】
【化３】
0005688950.tif 000010
【０１１３】
（製造例１０〜１３：コレステリック層用塗布液の調製）
また、液晶組成物を含む塗布液（Ｒ１１）のキラル剤ＬＣ−７５６の処方量を下記表３に示す量に変更した以外は、製造例８の塗布液（Ｒ１１）と同様にして液晶組成物を含む塗布液（Ｒ１２）〜（Ｒ１５）を調製した。
【０１１４】
【表３】
0005688950.tif 000011
【０１１５】
（製造例１４〜１９：コレステリック層用塗布液の調製）
また、液晶組成物を含む塗布液（Ｌ１１）のキラル剤化合物２の処方量を下記表４に示す量に変更した以外は、製造例９の塗布液（Ｌ１１）と同様にして液晶組成物を含む塗布液（Ｌ１２）〜（Ｌ１５）を調製した。
【０１１６】
【表４】
0005688950.tif 000012
【０１１７】
［下塗り層用塗布液（Ｓ）の調製］
下記に示す組成の下塗り層用塗布液（Ｓ）を調製した。
下塗り層用塗布液（Ｓ）の組成：
ポリウレタンラテックス水分散液：オレスターＵＤ−３５０
（三井化学（株）製、固形分濃度３８％）              １５．４質量部
界面活性剤Ａ：ラピゾールＢ−９０
（日本油脂（株）製、固形分１％）                    １２．５質量部
界面活性剤Ｂ：アロナクティーＨＮ−１００
（三洋化成工業（株）製、固形分１％）                １５．５質量部
銀平板粒子分散液Ｂ１                                  ２００質量部
水                                                    ８００質量部
【０１１８】
［配向層用塗布液（Ｈ）の調製］
下記に示す組成の配向層用塗布液（Ｈ）を調製した。
配向層用塗布液（Ｈ）の組成：
変性ポリビニルアルコールＰＶＡ２０３（クラレ社製）      １０質量部
グルタルアルデヒド                                    ０．５質量部
水                                                    ３７１質量部
メタノール                                            １１９質量部
【０１１９】
［易接着層用塗布液（Ｉ）の調製］
下記に示す組成の易接着層用塗布液（Ｉ）を調製した。
易接着層用塗布液（Ｉ）の組成：
ポリビニルブチラール樹脂Ｂ１７７６（長春株式会社（台湾）製）
１０質量部
メトキシプロピルアセテート（ＰＧＭＥＡ）              １００質量部
【０１２０】
（実施例１）
ＰＥＴフィルム（フジペット、富士フイルム株式会社製、厚み：１８８μｍ）の表面上に、下塗り層用塗布液（Ｓ）を、ワイヤーバーを用いて、乾燥後の平均厚みが０．０８μｍになるように塗布した。その後、１５０℃で１０分間加熱し、乾燥、固化し、下塗り層を形成した。
次いで、形成した下塗り層の上に、配向層用塗布液（Ｈ）を、ワイヤーバーを用いて、乾燥後の平均厚みが１．０μｍになるように塗布した。その後、１００℃で２分間加熱し、乾燥、固化し、配向層を形成した。配向層に対し、ラビング処理（レーヨン布、圧力：０．1ｋｇｆ、回転数：１０００ｒｐｍ、搬送速度：１０ｍ／ｍｉｎ、回数：１往復）を施した。
なお、前記平均厚みは、レーザー顕微鏡（ＶＫ−８５１０、キーエンス社製）を用いて塗布前と塗布後の差を厚みとして測定し、これら１０点の厚みを平均することにより算出することができる。
【０１２１】
次いで、形成した配向層の上に、液晶組成物塗布液（Ｒ１１）、（Ｒ１２）、（Ｌ１１）及び（Ｌ１２）を用い、下記の手順にてコレステリック液晶層を形成した。
（１）各塗布液を、ワイヤーバーを用いて、乾燥後の層厚みが７μｍになるように、室温にて塗布した。
（２）室温にて３０秒間乾燥させて溶剤を除去した後、１２５℃で２分間加熱し、その後９５℃でコレステリック液晶相とした。次いで、フージョンＵＶシステムズ（株）製無電極ランプ「Ｄバルブ」（９０ｍＷ／ｃｍ）にて、出力６０％で６秒間〜１２秒間ＵＶ照射し、コレステリック液晶相を固定して、コレステリック液晶層を形成した。
（３）室温まで冷却した後、上記工程（１）及び（２）を繰り返し、４層積層されたコレステリック液晶相のコレステリック液晶層を形成した。
なお、塗布液は、（Ｒ１１）、（Ｌ１１）、（Ｒ１２）、（Ｌ１２）の順番に塗布を行なった。
塗布液（Ｒ１１）及び（Ｌ１１）によるコレステリック液晶層の選択反射波長は、中心波長９４０ｎｍ、反射幅１００ｎｍであった。また、塗布液（Ｒ１２）及び（Ｌ１２）によるコレステリック液晶層の選択反射波長は、中心波長１，０４０ｎｍ、反射幅１２０ｎｍであった。
なお、前記選択反射波長は、紫外可視近赤外分光機（日本分光株式会社製、Ｖ−６７０）を用いて反射スペクトルで測定することができる。
【０１２２】
次いで、形成したコレステリック液晶層の上に、易接着層用塗布液（Ｉ）を、ワイヤーバーを用いて、乾燥後の平均厚みが１．０μｍになるように塗布した。その後、１５０℃で１０分間加熱し、乾燥、固化し、易接着層を形成し、熱線遮蔽材を作製した。
【０１２３】
次に、得られた金属粒子及び熱線遮蔽材について、以下のようにして諸特性を評価した。結果を表５〜７に示す。
【０１２４】
＜＜金属粒子の評価＞＞
−平板粒子の割合、平均粒子径（平均円相当径）、変動係数−
Ａｇ平板粒子の形状均一性は、観察したＳＥＭ画像から任意に抽出した２００個の粒子の形状を、略六角形状及び略円盤形状のいずれかの粒子をＡ、涙型などの不定形形状の粒子をＢとして画像解析を行い、Ａに該当する粒子個数の割合（個数％）を求めた。
また同様にＡに該当する粒子１００個の粒子径をデジタルノギスで測定し、その平均値を平均粒子径（平均円相当径）とし、粒径分布の標準偏差を平均粒子径（平均円相当径）で割った変動係数（％）を求めた。
【０１２５】
−平均粒子厚み−
得られた金属平板粒子を含む分散液を、ガラス基板上に滴下して乾燥し、金属平板粒子１個の厚みを、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（ＮａｎｏｃｕｔｅＩＩ、セイコーインスツル社製）を用いて測定した。なお、ＡＦＭを用いた測定条件としては、自己検知型センサー、ＤＦＭモード、測定範囲は、５μｍ、走査速度は、１８０秒／１フレーム、データ点数は、２５６×２５６とした。
【０１２６】
−アスペクト比−
得られた金属平板粒子の平均粒子径（平均円相当径）及び平均粒子厚みから、平均粒子径（平均円相当径）を平均粒子厚みで除算して、アスペクト比を算出した。
【０１２７】
−銀平板分散液の透過スペクトル−
得られた銀平板分散液の透過スペクトルは、水で希釈し、紫外可視近赤外分光機（日本分光株式会社製、Ｖ−６７０）を用いて評価した。
【０１２８】
＜＜熱線遮蔽材の評価＞＞
−反射スペクトル及び透過スペクトル測定−
作製した各熱線遮蔽材の反射スペクトル及び透過スペクトルを、紫外可視近赤外分光機（日本分光株式会社製、Ｖ−６７０）を用いて測定した。反射スペクトル測定には、絶対反射率測定ユニット（ＡＲＶ−４７４、日本分光株式会社製）を用い、入射光は、４５°偏光板を通し、無偏光とみなせる入射光とした。
【０１２９】
−可視光線透過率−
作製した各熱線遮蔽材について、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍまで測定した各波長の透過率を、各波長の分光視感度により補正した値を可視光線透過率とした。
【０１３０】
−遮熱性能評価−
作製した各熱線遮蔽材について、紫外可視近赤外分光機（日本分光株式会社製、Ｖ−６７０）にて反射スペクトルを測定し、７８０ｎｍ〜１，８００ｎｍの波長範囲の日射スペクトルに対する遮熱性能（反射率）を算出し、以下の基準に基づいて判定を行った。遮熱性能の評価としては、反射率が高いことが好ましい。
［評価基準］
◎：反射率３０％以上
○：反射率２７％以上３０％未満
△：反射率２５％以上２７％未満
×：反射率２５％未満
【０１３１】
−脆性評価−
作製した各熱線遮蔽材について、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−１「塗料一般試験方法  第５部：塗膜の機械的性質  第１部：耐屈曲性（円筒形マンドレル法）」に準拠して脆性の評価を行った。コレステリック液晶層を設けた側が外側になるように屈曲させ、円筒径の大きいサイズから試験を開始し、徐々に円筒径のサイズを小さくし、熱線遮蔽材にひびが入った時点を『不良』と判定した。評価欄には、判定が『不良』となった円筒径サイズの１つ前のサイズを記載した。耐屈曲性（円筒形マンドレル法）の評価は、９以下であることが実用上好ましく、７以下であることがより好ましい。
【０１３２】
−斜め入射反射光−
作製した各熱線遮蔽材について、紫外可視近赤外分光機（日本分光株式会社製、Ｖ−６７０）にて塗布面に対して垂直方向から６０度の角度で入射した光の反射スペクトルを測定し、７８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長範囲の着色性（反射率）を算出し、以下の基準に基づいて判定を行った。着色性の評価としては、反射率が低いことが好ましい。
［評価基準］
○：反射率２０％未満
×：反射率２０％以上
【０１３３】
−電波透過性−
表面抵抗測定装置（ロレスタ、三菱化学アナリテック株式会社製）を用いて、前記の通りに得た熱線遮蔽材の表面抵抗（Ω／□）を測定し、以下の基準に基づいて電波透過性の評価を行った。この表面抵抗値が、１０６Ω／□以下になると電波透過性が不十分であると判断できる。
［評価基準］
○：表面抵抗値１０６Ω／□を超える
×：表面抵抗値１０６Ω／□以下
【０１３４】
（実施例２）
実施例１において、銀平板分散液Ｂ１を銀平板分散物Ｂ２に代えたこと以外は、実施例１と同様にして熱線遮蔽材を作製した。
【０１３５】
（実施例３）
実施例１において、塗布液（Ｌ１２）を塗布した後に、塗布液（Ｒ１３）及び（Ｌ１３）を更に塗布したこと以外は、実施例１と同様にして熱線遮蔽材を作製した。
【０１３６】
（実施例４）
実施例１において、銀平板分散液Ｂ１を銀平板分散物Ｂ３に代えたこと以外は、実施例１と同様にして熱線遮蔽材を作製した。
【０１３７】
（実施例５）
実施例１において、銀平板分散液Ｂ１を銀平板分散物Ｂ４に代えたこと以外は、実施例１と同様にして熱線遮蔽材を作製した。
【０１３８】
（実施例６）
実施例１において、銀平板分散液Ｂ１を銀平板分散物Ｂ５に代えたこと以外は、実施例１と同様にして熱線遮蔽材を作製した。
【０１３９】
（実施例７）
実施例１において、銀平板分散液Ｂ１を銀平板分散物Ｂ６に代えたこと以外は、実施例１と同様にして熱線遮蔽材を作製した。
【０１４０】
（実施例８）
実施例１において、銀平板分散液Ｂ１を銀平板分散物Ｂ７に代えたこと以外は、実施例１と同様にして熱線遮蔽材を作製した。
【０１４１】
（比較例１）
実施例１において、コレステリック液晶層を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして熱線遮蔽材を作製した。
【０１４２】
（比較例２）
実施例３において、銀平板分散液Ｂ１を添加しなかったこと以外は、実施例３と同様にして熱線遮蔽材を作製した。
【０１４３】
（比較例３）
比較例２において、塗布液（Ｌ１３）を塗布した後に、塗布液（Ｒ１４）、（Ｌ１４）、（Ｒ１５）及び（Ｌ１５）を更に塗布したこと以外は、比較例２と同様にして熱線遮蔽材を作製した。
【０１４４】
（比較例４）
比較例１において、下塗り層用塗布液で銀平板粒子分散液Ｂ１と同量の銀平板粒子分散液Ｂ３を追加添加したこと以外は、比較例１と同様にして熱線遮蔽材を作製した。
【０１４５】
（比較例５）
実施例１において、銀平板粒子分散液Ｂ１を塗布せずに、厚み１００ｎｍのＡｇ膜をスパッタ法で形成したこと以外は、実施例１と同様にして熱線遮蔽材を作製した。
【０１４６】
製造例２〜７の金属粒子、及び実施例２〜８及び比較例１〜５の熱線遮蔽材について、製造例１及び実施例１と同様にして、諸特性を評価した。結果を表５〜７に示す。また、実施例３の透過スペクトルを図４に示す。
【０１４７】
【表５】
0005688950.tif 000013
【０１４８】
【表６】
0005688950.tif 000014
【０１４９】
【表７】
0005688950.tif 000015
【０１５０】
表７の結果から、本発明の熱線遮蔽材は、脆性、可視光透過性、遮熱性能、斜め入射光の着色性、及び電波透過性が全て良好であり、薄層化可能であることが分かった。
すなわち、本発明の熱線遮蔽材は、金属粒子含有層単体（比較例１）よりも広帯域に熱線を遮蔽することができ、遮熱性能に優れることが分かった。また、複数の金属粒子含有層を有し、遮熱性能を向上させた比較例４より、本発明の熱線遮蔽材は、可視光透過率が良好であることが認められた。
また、本発明の熱線遮蔽材は、コレステリック液晶層単体（比較例２）よりも広帯域に熱線を遮蔽することができ、遮熱性能に優れることが明らかである。比較例２よりも多層のコレステリック液晶層を用い、遮熱性能を向上させた比較例３では、熱線遮蔽材の厚みが厚くなってしまい、脆性が悪化する一方、本発明の熱線遮蔽材は、脆性を低減でき、薄層化可能であることが示された。
そして、金属薄膜を有する比較例５では、電波透過性が悪いという問題があることに対し、本発明の熱線遮蔽材は、電波透過性に優れることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１５１】
本発明の熱線遮蔽材は、可視光線透過性及び電波透過性に優れ、短波長側の赤外線の遮蔽率が高く、赤外線を広帯域に遮蔽でき、脆性が低く、薄層化可能であるので、例えば、自動車、バス等の乗り物用ガラス、建材用ガラスなど、熱線の透過を防止することの求められる種々の部材として好適に利用可能である。
【符号の説明】
【０１５２】
１      基材
２      金属粒子含有層
３      金属平板粒子
１０      熱線遮蔽材
１２      基材
１４      金属粒子含有層
１６Ｒ、１６Ｌ      コレステリック液晶層
１８Ｒ、１８Ｌ      コレステリック液晶層
【図２Ａ】
0005688950.tif 000016
【図２Ｂ】
0005688950.tif 000017
【図２Ｃ】
0005688950.tif 000018
【図１Ａ】
0005688950.tif 000019
【図１Ｂ】
0005688950.tif 000020
【図３】
0005688950.tif 000021
【図４】
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