(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表される化合物９９モル％〜５モル％と、ジヒドロキシ化合物１モル％〜９５モル％との２種の成分を、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂を含み、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２/Ｎ〜３７×１０−１２ｍ２/Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１．２ｎｍ〜１．６ｎｍであり、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであることを特徴とするフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム。
【化１】
0005760396.tif 000012
（前記一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基、又は、炭素数６〜２０のアリールオキシ基を表す。また、前記一般式（１）中、Ｘは、炭素数２〜８のアルキレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキレン基、又は、炭素数６〜２０のアリーレン基を表す。）
【請求項２】
前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ1及びＲ2が水素原子であり、Ｘがエチレン基であることを特徴とする請求項１記載のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム。
【請求項３】
前記ジヒドロキシ化合物が構造式（１）で表されることを特徴とする請求項１又は２に記載のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム。
【化２】
0005760396.tif 000013
【請求項４】
前記ジヒドロキシ化合物が一般式（２）で表されることを特徴とする請求項１又は２に記載のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム。
【化３】
0005760396.tif 000014
（一般式（２）中、Ｙは、炭素数１〜１０のアルキレン基又は炭素数４〜２０のシクロアルキレン基を表す。）
【請求項５】
前記一般式（２）で表される化合物が、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、及びペンタシクロペンタデカンジメタノールから選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項４に記載のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム。
【請求項６】
前記一般式（２）で表される化合物が、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールであることを特徴とする請求項５に記載のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム。
【請求項７】
リタデーションは、全可視光領域で、１０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム。
【請求項８】
延伸速度０．０００１ｍ／ｓｅｃ〜１０ｍ／ｓｅｃ、かつ、面積延伸倍率１．０５倍〜４．０倍で少なくとも１方向に延伸されてなることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム。
【請求項９】
一般式（１）で表される化合物９９モル％〜５モル％と、ジヒドロキシ化合物１モル％〜９５モル％との２種の成分を、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂を含み、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２/Ｎ〜３７×１０−１２ｍ２/Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１．２ｎｍ〜１．６ｎｍであり、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであることを特徴とするフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム。
【化４】
0005760396.tif 000015
（前記一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基、又は、炭素数６〜２０のアリールオキシ基を表す。また、前記一般式（１）中、Ｘは、炭素数２〜８のアルキレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキレン基、又は、炭素数６〜２０のアリーレン基を表す。）
【請求項１０】
前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ1及びＲ2が水素原子であり、Ｘがエチレン基であることを特徴とする請求項９記載のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム。
【請求項１１】
前記ジヒドロキシ化合物が構造式（１）で表されることを特徴とする請求項９又は１０に記載のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム。
【化５】
0005760396.tif 000016
【請求項１２】
前記ジヒドロキシ化合物が一般式（２）で表されることを特徴とする請求項９又は１０に記載のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム。
【化６】
0005760396.tif 000017
（一般式（２）中、Ｙは、炭素数１〜１０のアルキレン基又は炭素数４〜２０のシクロアルキレン基を表す。）
【請求項１３】
前記一般式（２）で表される化合物が、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、及びペンタシクロペンタデカンジメタノールから選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項１２に記載のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム。
【請求項１４】
前記一般式（２）で表される化合物が、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールであることを特徴とする請求項１３に記載のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム。
【請求項１５】
リタデーションが、全可視光領域で、２０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項９から１４のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム。
【請求項１６】
延伸速度０．０００１ｍ／ｓｅｃ〜１０ｍ／ｓｅｃ、かつ、面積延伸倍率１．０５倍〜４．０倍で少なくとも１方向に延伸されてなることを特徴とする請求項９から１５のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム。
【請求項１７】
一般式（１）で表される化合物９９モル％〜５モル％と、ジヒドロキシ化合物１モル％〜９５モル％との２種の成分を、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂を含み、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２/Ｎ〜３７×１０−１２ｍ２/Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１．２ｎｍ〜１．６ｎｍであり、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであるフィルムをフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムとして使用することを特徴とする方法。
【化７】
0005760396.tif 000018
（前記一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基、又は、炭素数６〜２０のアリールオキシ基を表す。また、前記一般式（１）中、Ｘは、炭素数２〜８のアルキレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキレン基、又は、炭素数６〜２０のアリーレン基を表す。）
【請求項１８】
前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ1及びＲ2が水素原子であり、Ｘがエチレン基であることを特徴とする請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
前記ジヒドロキシ化合物が構造式（１）で表されることを特徴とする請求項１７又は１８に記載の方法。
【化８】
0005760396.tif 000019
【請求項２０】
前記ジヒドロキシ化合物が一般式（２）で表されることを特徴とする請求項１７又は１８に記載の方法。
【化９】
0005760396.tif 000020
（一般式（２）中、Ｙは、炭素数１〜１０のアルキレン基又は炭素数４〜２０のシクロアルキレン基を表す。）
【請求項２１】
前記一般式（２）で表される化合物が、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、及びペンタシクロペンタデカンジメタノールから選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記一般式（２）で表される化合物が、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールであることを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記フラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムのリタデーションが、全可視光領域で、１０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１７から２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
延伸速度０．０００１ｍ／ｓｅｃ〜１０ｍ／ｓｅｃ、かつ、面積延伸倍率１．０５〜４．０倍で少なくとも１方向に延伸されてなることを特徴とする請求項１７から２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】
一般式（１）で表される化合物９９モル％〜５モル％と、ジヒドロキシ化合物１モル％〜９５モル％との２種の成分を、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂を含み、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２/Ｎ〜３７×１０−１２ｍ２/Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１．２ｎｍ〜１．６ｎｍであり、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであるフィルムをフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムとして使用することを特徴とする方法。
【化１０】
0005760396.tif 000021
（前記一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基、又は、炭素数６〜２０のアリールオキシ基を表す。また、前記一般式（１）中、Ｘは、炭素数２〜８のアルキレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキレン基、又は、炭素数６〜２０のアリーレン基を表す。）
【請求項２６】
前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ1及びＲ2が水素原子であり、Ｘがエチレン基であることを特徴とする請求項２５記載の方法。
【請求項２７】
前記ジヒドロキシ化合物が構造式（１）で表されることを特徴とする請求項２５又は２６に記載の方法。
【化１１】
0005760396.tif 000022
【請求項２８】
前記ジヒドロキシ化合物が一般式（２）で表されることを特徴とする請求項２５又は２６に記載の方法。
【化１２】
0005760396.tif 000023
（一般式（２）中、Ｙは、炭素数１〜１０のアルキレン基又は炭素数４〜２０のシクロアルキレン基を表す。）
【請求項２９】
前記一般式（２）で表される化合物が、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、及びペンタシクロペンタデカンジメタノールから選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記一般式（２）で表される化合物が、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールであることを特徴とする請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記フラットパネルディスプレイ用位相差フィルムのリタデーションが、全可視光領域で、２０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２５から３０のいずれかに記載の方法。
【請求項３２】
前記フラットパネルディスプレイ用位相差フィルムが、延伸速度０．０００１ｍ／ｓｅｃ〜１０ｍ／ｓｅｃ、かつ、面積延伸倍率１．０５倍〜４．０倍で少なくとも１方向に延伸されてなることを特徴とする請求項２５から３１のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム及びフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム、並びに、これらの使用方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
偏光板は、液晶表示装置等のフラットパネルディスプレイにおいて、偏光機能を発現する部材として用いられ、例えば、延伸配向したポリビニルアルコール中にヨウ素又は二色性色素が配向して保持されたもの、などが挙げられる。一般に、これらの偏光機能を有する部材は、耐擦傷性、機械的強度、耐久性等の点で、実用上問題が生じる場合があるため、これらの片面又は両面に保護フィルムが、接着剤又は粘着剤を介して、設けられているのが通常である。
【０００３】
液晶表示装置等のフラットパネルディスプレイにおいて広く用いられている偏光板保護フィルムとしては、例えば、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）が挙げられる。
【０００４】
前記偏光板保護フィルムに要求される特性としては、例えば、湿熱耐久性が高いこと、透明性が高いこと、複屈折度が低いこと、水蒸気透過率が高いこと、生産性（加工性）が高いこと、などが挙げられる。
【０００５】
また、前記偏光板保護フィルムは、視野角特性の要求の高度化に伴い、偏光板の視野角特性が問題になる場合があるため、特に、透明性が高く、三次元的な屈折率異方性が小さい（複屈折度が低い）ことが好ましい。
【０００６】
前記偏光板保護フィルムとして広く用いられているトリアセチルセルロースフィルムは、偏光板保護フィルムの保護対象である偏光素子との接着性が低い、押出ではフィルム成形できない、などの問題がある。
また、環状ポリオレフィンからなるフィルムが提案されているが、水蒸気透過率が低く気泡の発生及び偏光フィルムがカール、反りなどの変形が発生する問題があった。
【０００７】
斯かる問題を有するトリアセチルセルロースフィルムに対して、ポリカーボネート樹脂（例えば、特許文献１参照）を用いたフィルムも提案されているが、三次元の屈折率異方性が大きい（複屈折度が大きい）という問題がある。
【０００８】
三次元の屈折率異方性が大きい（複屈折度が大きい）ことは、通常、膜厚方向の屈折率が、面内方向の屈折率と大きく異なっていることによるものであり、これは、例えば、フィルム溶融成形時の流動配向や、溶液キャスト製膜であれば、キャスト直後の溶媒蒸発時の流動配向やその後の工程である乾燥工程で、フィルムのしわ等を無くすために、フィルムに張力をかけざるを得ないこと等が主な原因となっている。これらの製膜工程を改善して、光学異方性を低減するには限界があり、他の特性、例えば、表面平坦性や膜厚むら、光学的なむら等の両立が難しいといった問題や極端に生産性が悪くなるという問題がある。
【０００９】
また、従来より、特殊なポリカーボネート樹脂が開発されているが（特許文献２及び３参照）、このポリカーボネート樹脂をフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム又はフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムとして用いることについては、全く検討されていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特許３９９５３８７号公報
【特許文献２】特開２００８−１６３１９４号公報
【特許文献３】特開２００５−３１６１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、複屈折度が低く、水分透過率が高く、生産性を向上させることが可能なフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム及びフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム、並びに、これらの使用方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、所定のポリカーボネート樹脂を含有するフィルムがフラットパネルディスプレイにおける偏光板保護フィルム又は位相差フィルムとして特に適していることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
【００１３】
すなわち、本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムは、一般式（１）で表される化合物９９モル％〜５モル％と、ジヒドロキシ化合物１モル％〜９５モル％との２種の成分を、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂を含み、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２/Ｎ〜３７×１０−１２ｍ２/Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１．２ｎｍ〜１．６ｎｍであり、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであることを特徴とする。
【化１】
0005760396.tif 000002
（前記一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基、又は、炭素数６〜２０のアリールオキシ基を表す。また、前記一般式（１）中、Ｘは、炭素数２〜８のアルキレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキレン基、又は、炭素数６〜２０のアリーレン基を表す。）
【００１４】
前記一般式（１）で表される化合物は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンである（前記一般式（１）において、Ｒ1及びＲ2が水素原子であり、Ｘがエチレン基である）ことが望ましい。
【００１５】
前記ジヒドロキシ化合物は、構造式（１）で表される化合物（ビスフェノールＡ）であってもよく、一般式（２）で表される化合物であってもよい。
【化２】
0005760396.tif 000003
【化３】
0005760396.tif 000004
（一般式（２）中、Ｙは、炭素数１〜１０のアルキレン基又は炭素数４〜２０のシクロアルキレン基を表す。）
前記一般式（２）で表される化合物は、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、及びペンタシクロペンタデカンジメタノールから選ばれる少なくとも１つであることが望ましく、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールであることがより望ましい。
【００１６】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムのリタデーションは、全可視光領域で、１０ｎｍ以下が望ましい。
【００１７】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの水蒸気透過率が、１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜６００ｇ／ｍ２／ｄａｙであることが望ましい。
【００１８】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの光弾性係数は、５０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下が望ましく、４０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下がより望ましい。
【００１９】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの波長６００ｎｍにおけるリタデーションが２０ｎｍ以下であることが望ましい。
【００２０】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムは、延伸速度０．０００１ｍ／ｓｅｃ〜１０ｍ／ｓｅｃ、かつ、面積延伸倍率１．０５倍〜４．０倍で少なくとも１方向に延伸されていてもよい。
【００２１】
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムは、一般式（１）で表される化合物９９モル％〜５モル％と、ジヒドロキシ化合物１モル％〜９５モル％との２種の成分を、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂を含み、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２/Ｎ〜３７×１０−１２ｍ２/Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１．２ｎｍ〜１．６ｎｍであり、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであることを特徴とする。
【化４】
0005760396.tif 000005
（前記一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基、又は、炭素数６〜２０のアリールオキシ基を表す。また、前記一般式（１）中、Ｘは、炭素数２〜８のアルキレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキレン基、又は、炭素数６〜２０のアリーレン基を表す。）
【００２２】
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムのリタデーションは、全可視光領域で、２０ｎｍ以下が望ましい。
【００２３】
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムの水蒸気透過率が、１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜６００ｇ／ｍ２／ｄａｙであることが望ましい。
【００２６】
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムは、延伸速度０．０００１ｍ／ｓｅｃ〜１０ｍ／ｓｅｃ、かつ、面積延伸倍率１．０５倍〜４．０倍で少なくとも１方向に延伸されていてもよい。
【００２７】
本発明の使用方法は、一般式（１）で表される化合物９９モル％〜５モル％と、ジヒドロキシ化合物１モル％〜９５モル％との２種の成分を、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂を含み、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２/Ｎ〜３７×１０−１２ｍ２/Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１．２ｎｍ〜１．６ｎｍであり、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであるフィルムをフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムとして使用することを特徴とする。
【化５】
0005760396.tif 000006
（前記一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基、又は、炭素数６〜２０のアリールオキシ基を表す。また、前記一般式（１）中、Ｘは、炭素数２〜８のアルキレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキレン基、又は、炭素数６〜２０のアリーレン基を表す。）
【００２８】
本発明の使用方法は、一般式（１）で表される化合物９９モル％〜５モル％と、ジヒドロキシ化合物１モル％〜９５モル％との２種の成分を、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂を含み、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２/Ｎ〜３７×１０−１２ｍ２/Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１．２ｎｍ〜１．６ｎｍであり、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであるフィルムをフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムとして使用することを特徴とする。
【化６】
0005760396.tif 000007
（前記一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基、又は、炭素数６〜２０のアリールオキシ基を表す。また、前記一般式（１）中、Ｘは、炭素数２〜８のアルキレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキレン基、又は、炭素数６〜２０のアリーレン基を表す。）
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、複屈折度が低く、水分透過率が高く、生産性を向上させることが可能なフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム及びフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム、並びに、これらの使用方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の偏光板保護フィルムが用いられたフラットパネルディスプレイの構成の一例を示す概略構成図である。
【図２】本発明の位相差フィルムの配設方法の一例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、本発明について、必要に応じて図面を参照しつつ具体的に説明する。
【００３２】
（フラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム及びその使用方法）
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムは、少なくとも、所定のポリカーボネート樹脂を含有してなり、さらに必要に応じて、その他の成分を含有してなる。
【００３３】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムのリタデーションは、全可視光領域で、１０ｎｍ以下が好ましい。
前記リタデーションが１０ｎｍを超えると、偏光子の偏光度を低下させ、フラットパネルディスプレイの視認性が低下することがある。
なお、前記リタデーションは、例えば、エリプソメ−ター（商品名：Ｍ２２０、日本分光製）を用いて測定することができる。
【００３４】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの水蒸気透過率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜６００ｇ／ｍ２／ｄａｙが好ましく、２０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜６００ｇ／ｍ２／ｄａｙがより好ましく、３０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜４００ｇ／ｍ２／ｄａｙが特に好ましい。
前記水蒸気透過率が、１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であると、カール、反り等の変形や気泡が発生することがあり、６００ｇ／ｍ２／ｄａｙを超えると、高温高湿での耐久性が低下することがある。
なお、前記水蒸気透過率は、例えば、Ｌ８０−４０００Ｌ（ＬＹＳＳＹ  ＡＧ  ＺＬＬＩＫＯＮ社製）を使用して、４０℃／９０％ＲＨ条件で、ＪＩＳ−Ｋ７２０９のＡ法に準じて測定することができる。
【００３５】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの光弾性係数としては、５０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下が好ましく、４０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下がより好ましい。
前記光弾性係数が、５０×１０−１２ｍ２／Ｎを超えると、リタデーションが大きくなってしまうことがある。一方、前記光弾性係数が、より好ましい範囲内であると、リタデーションを小さくすることができる点で有利である。
なお、前記光弾性係数は、例えば、エリプソメーター（商品名：Ｍ２２０、日本分光製
）を用いて、厚さ１００μｍのキャストフィルムに、波長６３３ｎｍのレーザー光線を照射し、フィルムにかけた荷重の変化に対する複屈折の変化を測定し算出することにより測定することができる。
【００３６】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの波長６００ｎｍにおけるリタデーションとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。
前記リタデーションが、２０ｎｍを超えると、保護対象である偏光フィルム（偏光子）の偏光度を低下させることがある。一方、前記リタデーションが、より好ましい範囲内であると、保護フィルムの張り合わせの角度の自由度を拡大し、着色等を防止することができる点で有利である。
なお、前記リタデーションは、例えば、エリプソメーター（商品名：Ｍ２２０、日本分光製）を用いて測定することができる。
また、偏光板保護フィルムに位相差フィルムの機能をもたせる際には、リタデーションを液晶にあわせて発現させてもよい。
【００３７】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５μｍ〜５００μｍが好ましく、        １０μｍ〜１５０μｍがより好ましい。
前記厚みが、５μｍ未満であると、強度が低下することがあり、５００μｍを超えると、透明性が低下し、リタデーションが高くなり、外観が悪くなることがある。一方、前記厚みが、より好ましい範囲内であると、強度を保ちつつ、外観が良好となる点で有利である。    
なお、前記厚みは、例えば、電子マイクロ膜厚計（商品名：ＫＬ１３００Ｂ、アンリツ社製）を用いて、測定することができる。
【００３８】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの引張強度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６０ＭＰａ以上が好ましく、７０ＭＰａ以上がより好ましい。
前記引張強度が、６０ＭＰａ未満であると、強度不足となることがある。
なお、前記引張強度は、例えば、引っ張り試験機（商品名：オートグラフＡＧＳ-100Ｇ、島津製作所製）を用いて、ＡＳＴＭ  Ｄ８８２−６１Ｔに基づき測定することができる。
【００３９】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶融押出法、キャスト法、などが挙げられる。これらの中でも、溶融押出法が、生産性の点で、好ましい。
溶融押出法における条件としては、特に制限はなく、Ｔダイを用いた方法、インフレーション法など、目的に応じて適宜選択することができるが、厚さムラが小さく、厚さ１５μｍ〜５００μｍに加工しやすいＴダイを用いる方法が好ましい。
【００４０】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムは、少なくとも１方向に延伸されていてもよい。
前記延伸としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、一軸延伸及び二軸延伸のいずれであってもよい。前記二軸延伸の場合は、逐次延伸及び同時延伸のいずれであってもよい。
【００４１】
前記延伸における延伸速度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０００１ｍ／ｓｅｃ〜１０ｍ／ｓｅｃが好ましい。
前記延伸速度が、０．０００１ｍ／ｓｅｃ未満であると、生産性が悪いことがあり、１０ｍ／ｓｅｃを超えると、フィルムが破断しやすく歩留まりが低下することがある。
【００４２】
前記延伸における面積延伸倍率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１．０５倍〜４．０倍が好ましく、１．０５倍〜３．０倍がより好ましい。
前記面積延伸倍率が、１．０５倍未満であると、リタデーションの制御が難しいことがあり、４．０倍を超えると、破断しやすく歩留まりが低下することがある。
前記面積延伸倍率は、生産性に応じて選択できる。
【００４３】
前記延伸における延伸温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ガラス転移点（Ｔｇ）−３０℃〜ガラス転移点（Ｔｇ）＋５０℃が好ましく、Ｔｇ−２０℃〜Ｔｇ＋３０℃がより好ましい。
前記延伸温度が、Ｔｇ−３０℃未満であると、破断することがあり、Ｔｇ＋５０℃を超えると、形状を保てないことがある。一方、前記延伸温度が、より好ましい範囲内であると、リタデーションの制御の点で有利である。    
【００４４】
＜フラットパネルディスプレイ＞
前記フラットパネルディスプレイとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、液晶表示装置、などが挙げられる。
例えば、図１に示すように、液晶表示装置１は、２枚の保護フィルム２，３により介装された偏光フィルム４を有する２つの偏光板５，６と、２つの偏光板５，６間に配設された液晶セル７とを備える。
【００４５】
−偏光板−
前記偏光板は、偏光フィルムの片面又は両面に保護フィルムを貼り合わせることによって製造されるが、偏光フィルムの両面に貼り合わせることが好ましい。
ここで、貼り合わせには、透明度が高く、経時的に着色しにくく、耐熱性に優れた接着剤を用いるのが好ましい。前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤が好ましい。
【００４６】
−−偏光フィルム−−
前記偏光フィルムとしては、偏光機能を有する薄膜である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素又は２色性色素を吸着させて延伸配向させたフィルム、などが挙げられる。
前記偏光フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ヨウ素又は２色性色素を溶解させた１０℃〜５０℃の水溶液に高分子フィルムを浸漬し、ヨウ素又は２色性色素を吸着させた後、該フィルムを金属イオン、ホウ酸などの添加剤を溶解した１０℃〜８０℃の水溶液中に浸漬した状態で、１方向に２．５倍〜８倍に延伸する方法、などが挙げられる。
前記偏光フィルムの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、強度と外観のバランスの点から、１μｍ〜２００μｍが好ましく、１０μｍ〜１５０μｍがより好ましく、１５μｍ〜１００μmが特に好ましい。
【００４７】
＜ポリカーボネート樹脂＞
前記ポリカーボネート樹脂は、一般式（１）で表される化合物と、ジヒドロキシ化合物とを反応させたものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【化７】
0005760396.tif 000008
（前記一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基、又は、炭素数６〜２０のアリールオキシ基を表す。また、前記一般式（１）中、Ｘは、炭素数２〜８のアルキレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキレン基、又は、炭素数６〜２０のアリーレン基を表す。）
【００４８】
前記ポリカーボネート樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０，０００〜３００，０００が好ましく、３５，０００〜１２０，０００がより好ましい。前記ポリカーボネート樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が、２０，０００未満であると、フィルムが脆くなることがあり、３００，０００を超えると、溶融粘度が高くなるため、製造後の樹脂の抜き取りが困難となり、また、溶剤への溶解性が悪くなってキャスト法でのシート成形が困難となり、溶融粘度が高くなるため押し出し成形が困難となる、などの問題が生じることがある。
なお、前記ポリスチレン換算重量平均分子量は、ＧＰＣ（商品名：ＧＰＣ  Ｓｙｓｔｅｍ−２１Ｈ、昭和電工（株）製）を用い、クロロホルムを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて作成した検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムから算出することができる。
【００４９】
前記ポリカーボネート樹脂の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ランダム構造、ブロック構造、交互共重合構造、などが挙げられる。
【００５０】
前記ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、９０℃〜１８０℃が好ましく、１００℃〜１７０℃がより好ましい。前記ガラス転移温度（Ｔｇ）が９０℃未満であると、使用温度範囲が狭くなることがあり、１８０℃を超えると、押し出し成形を行う際の成形条件が厳しくなることがある。
なお、前記ガラス転移温度（Ｔｇ）は、示差走査熱量分析計（ＤＳＣ）（セイコーインスツルメンツ（株）製）を用いて測定することができる。
【００５１】
−一般式（１）で表される化合物−
前記一般式（１）で表される化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン（前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ1及びＲ2が水素原子であり、Ｘがエチレン基である）、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン（前記一般式（１）において、Ｒ1及びＲ2が水素原子であり、Ｘがエチレン基である）が、樹脂の物性バランスの点で、好ましい。
【００５２】
前記一般式（１）で表される化合物の仕込み量としては、前記一般式（１）で表される化合物と前記ジヒドロ化合物との合計に対して、５モル％〜９９モル％である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６５モル％〜９５モル％が好ましく、８０モル％〜９５モル％がより好ましい。
前記一般式（１）で表される化合物の仕込み量が、５モル％未満となる、又は、９９モル％を超えると、ポリカーボネート樹脂の複屈折が大きくなる。一方、前記一般式（１）で表される化合物の仕込み量が前記好ましい範囲内であると、ポリカーボネート樹脂の複屈折が小さくなる点で有利である。
【００５３】
−ジヒドロキシ化合物−
前記ジヒドロキシ化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、構造式（１）で表される化合物（ビスフェノールＡ）、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、デカリン−２，６−ジメタノール、ノルボルナンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール、シクロペンタン−１，３−ジメタノール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等の、一般式（２）で表される化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【化８】
0005760396.tif 000009
【化９】
0005760396.tif 000010
（一般式（２）中、Ｙは、炭素数１〜１０のアルキレン基又は炭素数４〜２０のシクロアルキレン基を表す。）
【００５４】
これらの中でも、ビスフェノールＡ、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、及びペンタシクロペンタデカンジメタノールが好ましく、ビスフェノールＡ及びトリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールがより好ましく、ビスフェノールＡが特に好ましい。
【００５５】
前記ジヒドロキシ化合物の仕込み量としては、前記一般式（１）で表される化合物と前記ジヒドロ化合物との合計に対して、１モル％〜９５モル％である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５モル％〜３５モル％が好ましく、５モル％〜２０モル％がより好ましい。
前記ジヒドロキシ化合物の仕込み量が、１モル％未満である、又は、９５モル％を超えると、ポリカーボネート樹脂の複屈折が大きくなる。一方、前記ジヒドロキシ化合物の仕込み量が前記好ましい範囲内であると、ポリカーボネート樹脂の複屈折が小さくなる点で有利である。
【００５６】
−ポリカーボネート樹脂の製造方法−
前記ポリカーボネート樹脂の製造方法としては、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを、塩基性化合物触媒、重金属系のエステル交換触媒、又は、その双方からなる混合触媒の存在下反応させる溶融重縮合法が好ましい。
【００５７】
−−炭酸ジエステル−−
前記炭酸ジエステルとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、ジフェニルカーボネートが、入手しやすい点で、好ましい。
【００５８】
前記炭酸ジエステルの仕込み量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記一般式（１）で表される化合物及び前記ジヒドロキシ化合物との合計１モルに対して、０．９７モル〜１．２０モルが好ましく、０．９８モル〜１．１０モルがより好ましい。
前記炭酸ジエステルの仕込み量が、０．９７モル未満である、又は、１．２０モルを超えると、高分子量の樹脂が得られないことがある。
【００５９】
−−塩基性化合物触媒−−
前記塩基性化合物触媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、含窒素化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、アルカリ金属化合物又はアルカリ土類金属化合物の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物、アルコキシド、４級アンモニウムヒドロキシド、それらの塩、及びアミン類が、好ましい。
【００６０】
−−−アルカリ金属化合物−−−
前記アルカリ金属化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩、２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６１】
−−−アルカリ土類金属化合物−−−
前記アルカリ土類金属化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６２】
−−−含窒素化合物−−−
前記含窒素化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル基、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類；トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類；ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類；プロピルアミン、ブチルアミン等の１級アミン類；２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類；アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基又は塩基性塩；などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６３】
−−エステル交換触媒−−
前記エステル交換触媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛の塩、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６４】
前記エステル交換触媒の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、２−エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＶ）、酢酸スズ（ＩＩ）、酢酸スズ（ＩＶ）、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛（ＩＩ）、酢酸鉛（ＩＶ）、などが挙げられる。
【００６５】
前記エステル交換触媒の仕込み量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記一般式（１）で表される化合物及び前記ジヒドロキシ化合物との合計１モルに対して、１０-9モル〜１０-3モルが好ましく、１０-7モル〜１０-4モルがより好ましい。
前記エステル交換触媒の仕込み量が、１０-9モル未満であると、重合活性が不十分となることがあり、１０-3モルを超えると、樹脂の着色原因となる等、樹脂が不安定となることがある。
【００６６】
−−溶融重縮合法−−
前記溶融重縮合法は、前記の原料及び触媒を用いて、加熱下に、常圧又は減圧下にエステル交換反応により副生成物を除去しながら溶融重縮合を行うものである。反応は、一般には、二段以上の多段行程で実施される。
【００６７】
具体的には、第一段目の反応を、１２０℃〜２６０℃、好ましくは、１８０℃〜２４０℃の温度で、０．１時間〜５時間、好ましくは、０．５時間〜３時間反応させる。次いで、反応系の減圧度を上げながら、反応温度を高めてジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には、１ｍｍＨｇ以下の減圧下、２００℃〜３５０℃の温度で、０．３時間〜１０時間重縮合反応を行う。このような反応は、連続式で行ってもよく、また、バッチ式で行ってもよい。上記の反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であっても、スクリューを装備した押出機型であってもよく、また、これらを重合物の粘度を勘案して、適宜組み合わせた反応装置を使用することが好ましい。
【００６８】
前記ポリカーボネート樹脂は、重合反応終了後、熱安定性および加水分解安定性を保持するために、触媒を除去又は失活させる。一般的には、公知の酸性物質の添加による触媒の失活を行う方法が好ましい。
【００６９】
前記酸性物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、安息香酸ブチル等のエステル類；ｐ−トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類；ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類；亜リン酸、リン酸、ホスホン酸等のリン酸類；亜リン酸トリフェニル、亜リン酸モノフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジｎ−プロピル、亜リン酸ジｎ−ブチル、亜リン酸ジｎ−ヘキシル、亜リン酸ジオクチル、亜リン酸モノオクチル等の亜リン酸エステル類；リン酸トリフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノフェニル、リン酸ジブチル、リン酸ジオクチル、リン酸モノオクチル等のリン酸エステル類；ジフェニルホスホン酸、ジオクチルホスホン酸、ジブチルホスホン酸等のホスホン酸類；フェニルホスホン酸ジエチル等のホスホン酸エステル類；トリフェニルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン等のホスフィン類；ホウ酸、フェニルホウ酸等のホウ酸類；ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類；ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ｐ−トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物；ジメチル硫酸等のアルキル硫酸；塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物；などが挙げられる。
【００７０】
触媒失活後、ポリマー中の低沸点化合物を０．１ｍｍＨｇ〜１ｍｍＨｇの圧力、２００℃〜３５０℃の温度で脱揮除去する工程を設けてもよく、このためには、パドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新能の優れた攪拌翼を備えた横型装置、又は薄膜蒸発器が好適に用いられる。
【００７１】
＜その他の成分＞
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、流動性改質剤、結晶核剤、強化剤、染料、帯電防止剤、抗菌剤、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７２】
（フラットパネルディスプレイ用位相差フィルム及びその使用方法）
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムは、少なくとも、前記所定のポリカーボネート樹脂を含有してなり、さらに必要に応じて、その他の成分を含有してなる。
【００７３】
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムのリタデーションとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、全可視光領域で、２０ｎｍ以下が好ましい。
前記リタデーションが、２０ｎｍを超えると、フラットパネルディスプレイの視認性が低下してしまうことがある。
なお、液晶の種類に応じて、リタデーションが選択される。
【００７４】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板位相差フィルムの水蒸気透過率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜６００ｇ／ｍ２／ｄａｙが好ましく、２５ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜５００ｇ／ｍ２／ｄａｙがより好ましい。
前記水蒸気透過率が、１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であると、カール、反り等の変形や気泡が発生することがあり、６００ｇ／ｍ２／ｄａｙを超えると、高温高湿での耐久性が低下することがある。一方、前記水蒸気透過率が、より好ましい範囲内であると、位相差フィルムと偏光フィルムとの接着性をより向上させることができる点で有利である。
【００７５】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板位相差フィルムの光弾性係数としては、５０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下が好ましく、４０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下がより好ましい。
【００７６】
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板位相差フィルムの波長６００ｎｍにおけるリタデーションとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２５ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下が特に好ましい。
【００７７】
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、強度と外観のバランスの点から、１μｍ〜２００μｍが好ましく、１０μｍ〜１５０μｍがより好ましく、１５μm〜１００μmが特に好ましい。
【００７８】
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムの引張強度としては、６０ＭＰａ以上が好ましく、７０ＭＰａ以上がより好ましい。
前記引張強度が、６０ＭＰａ未満であると、強度不足となることがある。
【００７９】
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムの形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶融押出法、キャスト法、などが挙げられる。これらの中でも、溶融押出法が、生産性の点で、好ましい。
【００８０】
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムは、少なくとも１方向に延伸されていてもよい。
前記延伸としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、一軸延伸及び二軸延伸のいずれであってもよい。前記二軸延伸の場合は、逐次延伸及び同時延伸のいずれであってもよい。
【００８１】
前記延伸における延伸速度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０００１ｍ／ｓｅｃ〜１０ｍ／ｓｅｃが好ましい。
前記延伸速度が、０．０００１ｍ／ｓｅｃ未満であると、生産性が悪いことがあり、１０ｍ／ｓｅｃを超えると、フィルムが破断しやすく、歩留まりが低下することがある。
【００８２】
前記延伸における面積延伸倍率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１．０５倍〜４．０倍が好ましく、１．０５倍〜３倍がより好ましい。
前記面積延伸倍率が、１．０５倍未満であると、リタデーションの制御が難しいことがあり、４．０倍を超えると、破断しやすく歩留まりが低下することがある。
【００８３】
前記延伸における延伸温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ガラス転移点（Ｔｇ）に対してＴｇ−３０℃〜Ｔｇ＋５０℃が好ましく、Ｔｇ−２０℃〜Ｔｇ＋３０℃がより好ましい。
前記延伸温度が、Ｔｇ−３０℃未満であると、破断することがあり、Ｔｇ＋５０℃を超えると、形状を保てないことがある。一方、前記延伸温度が、より好ましい範囲内であると、リタデーションの制御の点で有利である。    
【００８４】
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムの配設方法としては、位相差フィルムの位相差値が液晶セルにおける液晶層の位相差と合わせこまれて、楕円偏光が直線偏光に近い状態に変換することが可能な配置である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、図１において、位相差フィルムが、液晶セル７側に配設された保護フィルム３として配設され、フィルム枚数が低減されてもよく、保護フィルム３と液晶セル７との間に配設されてもよい。
位相差フィルムが保護フィルム３と液晶セル７との間に配設される場合の配設方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、図２（ａ）に示す片側１枚型、図２（ｂ）に示す片側２枚型、図２（ｃ）に示す両側各１枚型、などが挙げられる。なお、図２において、２０が位相差フィルムを表す。
【実施例】
【００８５】
以下、本発明について、実施例に基づき具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００８６】
（実施例１：フィルムＡの作製）
９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン２１．９５ｋｇ（５０．０モル）、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール９．８０ｋｇ（５０．０モル）、ジフェニルカーボネート２１．８５ｋｇ（５２．０モル）、及び炭酸水素ナトリウム２．５×１０−３ｇ（３×１０−５モル）を攪拌機及び留出装置付きの５０Ｌ反応器に入れ、窒素雰囲気７６０Ｔｏｒｒで、１時間かけて２１５℃まで加熱し、攪拌した。
その後、１５分間かけて、減圧度を１５０Ｔｏｒｒに調整し、２１５℃、１５０Ｔｏｒｒの条件下で２０分間保持し、エステル交換反応を行った。さらに、３７．５℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、２４０℃、１５０Ｔｏｒｒの条件下で１０分間保持した。その後、１０分間かけて１２０Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１２０Ｔｏｒｒの条件下で７０分間保持した。その後、１０分間かけて１００Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１００Ｔｏｒｒの条件下で１０分間保持した。さらに、４０分間かけて１Ｔｏｒｒ以下とし、２４０℃、１Ｔｏｒｒ以下の条件下で、１０分間撹拌下重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込み加圧にし、生成したポリカーボネート樹脂をペレタイズしながら抜き出した。得られたポリカーボネート樹脂は、分子量（Ｍｗ）が６４５００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１２５℃であった。このポリカーボネート樹脂１０．０ｋｇを１００℃で２４時間真空乾燥し、樹脂に対して、高分子量酸化防止剤（商品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、チバスペシャリティケミカルズ製）１０００ｐｐｍを添加し、リン系酸化防止剤（アデカスタブＰＥＰ−３６、旭電化工業（株）製）５００ｐｐｍを添加して、押出機により２５０℃で混練して、ペレタイズし、ペレット（ＥＰ４０００、三菱瓦斯化学社製）を得た。このペレットの分子量（Ｍｗ）が６３５００であった。
該ペレットを１００℃で２４時間真空乾燥した後、シリンダー温度２５０℃、ダイ温度２５０℃で、ロール温度１５５℃でフィルム成形し、厚みが１００μｍのフィルムＡを得た。
得られたフィルムＡは、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２／Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１．６ｎｍであり、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙであった。
なお、分子量（Ｍｗ）、ガラス転移温度（Ｔｇ）、厚み、光弾性係数、波長６００ｎｍにおけるリタデーション、及び水蒸気透過率は、以下のように測定し、以下の実施例及び比較例でも同様とした。
【００８７】
＜分子量（Ｍｗ）の測定方法＞
前記分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ（商品名：ＧＰＣ  Ｓｙｓｔｅｍ−２１Ｈ、昭和電工（株）製）を用い、クロロホルムを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて作成した検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムから算出した。
【００８８】
＜ガラス転移温度（Ｔｇ）の測定方法＞
前記ガラス転移温度（Ｔｇ）は、示差走査熱量分析計（ＤＳＣ）（セイコーインスツルメンツ（株）製）を用いて測定した。
【００８９】
＜厚みの測定方法＞
前記厚みは、ダイヤル式厚さゲージ（商品名：ダイヤルスイフトゲージＱ−１、尾崎製作所製）を用いて、測定した。
【００９０】
＜光弾性係数の測定方法＞
前記光弾性係数は、エリプソメーター（商品名：Ｍ２２０、日本分光製）を用いて、厚さ１００μｍのキャストフィルムに、波長６３３ｎｍのレーザー光線を照射し、フィルムにかけた荷重の変化に対する複屈折の変化を測定し算出することにより測定した。
【００９１】
＜波長６００ｎｍにおけるリタデーションの測定方法＞
前記波長６００ｎｍにおけるリタデーションは、エリプソメーター（商品名：Ｍ２２０、日本分光製）を用いて、フィルムをセットしてスキャンすることにより測定した。
【００９２】
＜水蒸気透過率の測定方法＞
なお、前記水蒸気透過率は、Ｌ８０−４０００Ｌ（ＬＹＳＳＹ  ＡＧ  ＺＬＬＩＫＯＮ社製）を使用して、４０℃／９０％ＲＨ条件で、ＪＩＳ−Ｋ７２０９のＡ法に準じて測定した。
【００９３】
（参考例２：フィルムＡ２の作製）
実施例１のフィルムＡを一軸延伸機にて、１２７℃、延伸速度１５ｍｍ／分、面積延伸倍率１．１倍で延伸して、フィルムＡ２を作製した。
作製したフィルムＡ２は、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２／Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１５５．０ｎｍであり、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙであった。
【００９４】
（実施例３：フィルムＢの作製）
９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン１５．４６ｋｇ（３５．２６モル）、ビスフェノールＡ１．２０３ｋｇ（５．２６９モル）、ジフェニルカーボネート８．８６９ｋｇ（５２．６６モル）、及び炭酸水素ナトリウム０．０２６０２ｇ（３．０９７×１０−４モル）を、攪拌機及び留出装置付きの５０Ｌ反応器に入れ、窒素雰囲気７６０Ｔｏｒｒの条件下で１時間かけて２１５℃に加熱し撹拌した。
その後、１５分間かけて減圧度を１５０Ｔｏｒｒに調整し、２１５℃、１５０Ｔｏｒｒの条件下で２０分間保持しエステル交換反応を行った。さらに、３７．５℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、２４０℃、１５０Ｔｏｒｒの条件下で１０分間保持した。その後、１０分間かけて１２０Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１２０Ｔｏｒｒの条件下で７０分間保持した。その後、１０分間かけて１００Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１００Ｔｏｒｒの条件下で１０分間保持した。さらに、４０分間かけて１Ｔｏｒｒ以下とし、２４０℃、１Ｔｏｒｒ以下の条件下で１０分間撹拌下重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込み加圧にし、生成したポリカーボネート樹脂をペレタイズしながら抜き出した。得られたポリカーボネート樹脂のＭｗ＝５６９００、Ｔｇ＝１４５℃であった。このポリカーボネート樹脂１０．０ｋｇを１００℃で２４時間真空乾燥し、樹脂に対して、高分子量酸化防止剤（商品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、チバスペシャリティケミカルズ製）１０００ｐｐｍを添加し、リン系酸化防止剤（アデカスタブＰＥＰ−３６、旭電化工業（株）製）５００ｐｐｍを添加して、押出機により２５０℃で混練して、ペレタイズし、ペレット（ＥＰ５０００、三菱瓦斯化学社製）を得た。このペレットの分子量（Ｍｗ）が５６１００であった。
該ペレットを１００℃で２４時間真空乾燥した後、シリンダー温度２５０℃、ダイ温度２５０℃で、ロール温度１５５℃でフィルム成形し、厚みが１００μｍのフィルムＢを得た。
得られたフィルムＢは、光弾性係数が３７×１０−１２ｍ２／Ｎであり、リタデーションが１．２ｎｍであり、水蒸気透過率が５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであった。
【００９５】
（参考例４：フィルムＢ２の作製）
実施例３のフィルムＢを一軸延伸機にて、１４７℃、延伸速度１５ｍｍ／分、面積延伸倍率１．１倍で延伸して、フィルムＢ２を作製した。
作製したフィルムＡ２は、光弾性係数が３７×１０−１２ｍ２／Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１４９．０ｎｍであり、水蒸気透過率が５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであった。
【００９６】
（比較例１：フィルムＣの物性値測定）
ビスフェノールＡポリカーボネート（ＢＰＡＰＣ）フィルムとしてのフィルムＣ（商品名：ユーピロンＥ２０００、三菱エンジニアリングプラスチック製）の物性値を測定した結果、分子量６３１００、ガラス転移温度１４５℃、光弾性係数が８３×１０−１２ｍ２／Ｎであり、リタデーションが１８５．２ｎｍであり、水蒸気透過率が６０ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、厚み１００μｍであった。
【００９７】
（比較例２：フィルムＤの物性値測定）
環状ポリオレフィンフィルムとしてのフィルムＤ（商品名：ゼオノア１４２０Ｒ、日本ゼオン製）の物性値を測定した結果、ガラス転移温度１３９℃、光弾性係数が３×１０−１２ｍ２／Ｎであり、リタデーションが３７．１ｎｍであり、水蒸気透過率が１０ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、厚み１００μｍであった。
【００９８】
【表１】
0005760396.tif 000011
【００９９】
表１より、本発明（実施例１及び３）のフィルムは、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２／Ｎ〜３７×１０−１２ｍ２／Ｎ、リタデーション１．２ｎｍ〜１．６ｎｍ、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであることから、偏光板保護フィルムとして使用した場合、カール、反り等の変形、及び気泡の発生を防止することができ、また、張り合わせの角度の自由度を拡大し、リタデーションが原因の着色等を防止することが分かる。
また、フィルムを延伸することにより、リタデーションを適宜調整することができることが分かる。
【符号の説明】
【０１００】
１  液晶表示装置
２  保護フィルム
３  保護フィルム
４  偏光フィルム
５  偏光板
６  偏光板
７  液晶セル
２０  位相差フィルム
【図１】
0005760396.tif 000024
【図２】
0005760396.tif 000025