(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリカーボネートポリオールを含むポリオールバインダと、
正孔輸送材料と、
硬化剤と、
表面処理された酸化スズ粒子充填剤と、
からなる保護オーバーコート層を有する感光体。
【請求項２】
感光体を形成させるためのプロセスであって、
感光体基材を備える工程と、
前記基材の上に、電荷発生層を塗布形成する工程と、
電荷輸送層を塗布形成する工程と、
保護オーバーコート層を塗布形成する工程と、
を含み、
前記保護オーバーコート層が、
ポリカーボネートポリオールを含むポリオールバインダと、
正孔輸送材料と、
硬化剤と、
表面処理された酸化スズ粒子充填剤と、
を含むプロセス。
【請求項３】
画像を形成させるための方法であって、
少なくとも基材と、電荷発生層と、電荷輸送層と、保護オーバーコート層と、を含む感
光体に電荷を付与する工程と、
前記感光体を電磁線に露光させる工程と、
前記感光体を前記電磁線に露光させることによって形成された潜像を現像して、可視画
像を形成させる工程と、
前記可視画像を印刷基材に転写させる工程と、
を含み
前記保護オーバーコート層が、
ポリカーボネートポリオールを含むポリオールバインダと、
正孔輸送材料と、
硬化剤と、
表面処理された酸化スズ粒子充填剤と、
を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書の開示は、一般的には、電子写真（ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ）画像形成部材を目的としており、より詳しくは、表面処理された酸化スズ粒子充填剤を含む保護オーバーコート層を含む多層感光体構造物を目的としている。本明細書の開示はさらに、それらの画像形成部材の製造および使用プロセスにも関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真（ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｙ）ならびにそれらに使用される機械およびプロセスは周知である。電子写真（ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ）プロセスの際には、画像形成部材は一般的に、繰り返して電子写真（ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ）サイクルに露光され、それによって、その露光された帯電輸送層またはそれに代わるそのトップ層が、機械的摩耗、化学的な攻撃、および熱にさらされる。この繰り返しサイクルのために、露光された電荷輸送層の機械的および電気的特性が徐々に劣化することになる。したがって、感光体の機械的な堅牢性を改良すること、特にそれらの耐引っ掻き性を向上させて、それらの使用寿命を延ばすことが望まれる。さらに、光ショックに対する抵抗性を向上させて、印刷物における画像ゴースティング、バックグラウンドシェーディングなどを最小とするのが望ましい。
【０００３】
保護オーバーコート層を設けることは、感光体の使用可能寿命を延ばすことを目的として、慣用されてきた手段である。従来から、感光体の可視時間を延ばすための堅牢なオーバーコートとして、たとえば、ポリマーの耐引掻き性および耐クラック性オーバーコート層が使用されてきた。従来からの配合物には一般的に、ダウアノールおよび／またはイソプロパノールのような１種または複数のアルコール溶媒を使用した溶液からコーティングさせた（ｉ）ポリオールバインダ、（ｉｉ）メラミン−ホルムアルデヒド硬化剤、および（ｉｉｉ）正孔輸送材料が含まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第５，７０２，８５４号明細書
【特許文献２】米国特許第５，９７６，７４４号明細書
【特許文献３】米国特許第４，８７１，６３４号明細書
【特許文献４】米国特許第４，４５７，９９４号明細書
【特許文献５】米国特許第３，１２１，００６号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来からのオーバーコート層配合物は、印刷物においてゴースティングおよびバックグラウンドシェーディングを示す。光ショック抵抗性を改良することによって、より安定な画像形成部材が得られ、それによって改良された印刷品質が得られるであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本明細書の開示は、上述の問題点のいくつかまたは全部を対象とし、電子写真（ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ）感光体の光ショック性を低下させる材料および方法を提供する。この目的は一般的には、表面処理された酸化スズ粒子充填剤を有する保護オーバーコート層を使用することによって達成される。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本開示の実施例および比較例の感光体の、ＰＩＤＣ（光誘導放電曲線）データのグラフである。
【図２】本開示の実施例および比較例の感光体の、横方向電荷移行（ＬＣＭ）サイクル安定性を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明の開示は、一般的には、保護オーバーコート配合物を有する光導電画像形成部材に関し、この保護オーバーコート配合物は光ショック性を抑制して、印刷の際のゴースティング、シェーディングなどを最小限とする。その配合物に含まれるのは、（ｉ）ポリオールバインダ、（ｉｉ）メラミン−ホルムアルデヒド硬化剤、（ｉｉｉ）正孔輸送材料、および（ｉｖ）表面処理された酸化スズ粒子充填剤、である。表面処理された酸化スズ粒子を含むことによって、光ショック性を顕著に抑制しながらも、そのような表面処理された酸化スズを含まない従来からのオーバーコート配合と比較して、同等の電気的性質およびＬＣＭ性能を維持している。
【０００９】
その光導電画像形成部材は、いくつかの実施態様においては、多層化された感光体であって、それには、基材、任意層の導電層、任意層のアンダーコート層、任意層の接着層、電荷発生層、電荷輸送層、および保護オーバーコート層が含まれる。
【００１０】
電子写真画像形成部材は当業者には公知である。典型的には、導電性表面を有する可撓性または硬質の基材を準備する。次いで、電荷発生層をその導電性表面に塗布形成する。場合によっては、電荷阻止（ｃｈａｒｇ  ｂｌｏｃｋｉｎｇ）層をその導電性表面に塗布形成した後で、電荷発生層を塗布形成してもよい。所望により、電荷阻止層と電荷発生層との間に接着層を使用してもよい。通常は、電荷発生層を電荷阻止層の上に塗布形成し、正孔または電荷輸送層をその電荷発生層の上に形成させ、次いで任意層のオーバーコート層を形成させる。この構造は、正孔または電荷輸送層の上または下に電荷発生層を有することができる。いくつかの実施態様においては、電荷発生層および、正孔または電荷輸送層を組み合わせて単一の活性層として、この単一の活性層が、電荷発生と正孔輸送の両方の機能を果たすようにすることもできる。
【００１１】
電荷阻止層または正孔阻止層は、場合によっては、光発生層を塗布形成する前に導電性表面に塗布形成することもできる。所望により、電荷阻止層、正孔阻止層または界面層と光発生層との間に接着層を加えてもよい。通常は、光発生層を阻止層の上に適用し、その光発生層の上に単一の電荷輸送層または複数の電荷輸送層を形成させる。この構造は、電荷輸送層の上または下に光発生層を有することができる。電荷もしくは正孔阻止層、接着層、光発生層、および電荷輸送層の組成は広く知られており、それらを製造するためのプロセスも同様である。次いで、電荷輸送層の上にオーバーコート層を形成させる。
【００１２】
保護オーバーコート層を形成させるための組成物は、ポリオールバインダ、正孔輸送材料、硬化剤、および表面処理された酸化スズ粒子充填剤を含むように準備される。
【００１３】
架橋することが可能なペンダントした官能基を含む各種のタイプのバインダを使用することができる。たとえば、官能化されたポリカーボネート、ポリエステル、およびポリアクリラートが好適なバインダとして使用できる。その架橋基は、ヒドロキシル、エポキシド、およびイソシアネートからなっていてよいが、これらに限定される訳ではない。それらの特性を満たす市販のバインダとしては、ヒドロキシアルキル官能化ポリエステルのデスモフェン（Ｄｅｓｍｏｐｈｅｎ）８００（バイエル（Ｂａｙｅｒ）から入手可能）、およびヒドロキシアルキル官能化されたポリアクリラートのジョンクリル（Ｊｏｎｃｒｙｌ）５８７（ＢＡＳＦから入手可能）が挙げられる。好適なその他の具体的なポリマーバインダとしては、ポリプロピレングリコール（たとえば、ＰＰＧ２０００）、アクリルポリオール（たとえば、ＯＰＣ・ポリマーズ（ＯＰＣ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ）からの７５５８Ｂ−６０、ジョンソン・ポリマーズ（Ｊｏｈｎｓｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ）からのジョンクリル（Ｊｏｎｃｒｙｌ）５１０またはジョンシル（Ｊｏｎｃｙｌ）５１７）などが挙げられる。
【００１４】
オーバーコート層のためのバインダとしては、１種または複数の熱可塑性および熱硬化性樹脂、たとえば、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリシロキサン、ポリアクリラート、ポリビニルアセタール、フェニレンオキシド樹脂、テレフタル酸樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、アクリロニトリルコポリマー、セルロース系塗膜形成剤、ポリ（アミドイミド）などが挙げられる。これらのポリマーは、ブロックコポリマー、ランダムコポリマー、交互コポリマーなどであってもよい。ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）のようなポリマーバインダは、コーティングのための望ましいレオロジーを与えることができる。
【００１５】
いくつかの実施態様においては、そのバインダが、ポリエステルポリオール、たとえば高度に分岐したポリエステルポリオールであってよい。「高度に分岐した」という用語は、顕著な量の３官能性アルコールを使用して、そのポリマー主鎖から顕著な数の枝分かれを有するポリマーを形成するように合成した、プレポリマーを意味している。このことは、２官能性モノマーのみを含み、そのためにポリマー主鎖からの枝分かれがほとんどまたはまったくない直鎖状のプレポリマーとの違いである。本明細書で使用するとき、「ポリエステルポリオール」という用語は、その分子の中に複数のエステル基とさらに複数のアルコール（ヒドロキシル）基とを含むような化合物を包含することを意味しており、それにはその他の基たとえばエーテル基などが含まれていてもよい。したがって、いくつかの実施態様においては、そのポリエステルポリオールにはエーテル基が含まれていてもよいし、あるいはエーテル基がまったく存在しなくてもよい。
【００１６】
場合によっては、その配合物には、コバインダ（たとえば、デスモフェン（Ｄｅｓｍｏｐｈｅｎ）−１６５２Ａ（バイエル（Ｂａｙｅｒ）製）またはポリプロピレングリコールＰＰＧ２０００）がさらに含まれていてもよい。そのようなコバインダは、主たるバインダと同様の反応性を有していてもよい。そのようなコバインダを組み入れることによって、さらなる機械的性能、たとえば感光体の機械的性質を微調節して最善の性能が得られるようにすることができる。
【００１７】
そのようなポリエステルポリオールは、オーバーコーティング層におけるバインダとして組み入れたとき、特に正孔輸送分子と組み合わせたときに、改良された結果を与えるということが見出された。具体的には、ポリエステルポリオールが硬いバインダ層を与えるが、それらの層は可撓性を保持していて、クラックを生じにくい。
【００１８】
そのような好適なポリエステルポリオールの例としては、ポリカルボン酸たとえばジカルボン酸またはトリカルボン酸（酸無水物を含む）を、ポリオールたとえばジオールまたはトリオールと反応させることにより形成されるポリエステルポリオールを挙げることができる。いくつかの実施態様においては、エステルおよびアルコール基の数と、ポリ酸とポリオールの相対量およびタイプとを選択することによって、得られるポリエステルポリオール化合物が、多くの遊離のヒドロキシル基を保持していて、遊離のヒドロキシル基を用いてその材料を次いで架橋させ、オーバーコーティング層用のバインダ材料を形成させることができる。たとえば、好適なポリカルボン酸としては以下のようなものが挙げられる（これらに限定される訳ではない）：アジピン酸（ＨＯＯＣ［ＣＨ２］４ＣＯＯＨ）、ピメリン酸（ＨＯＯＣ［ＣＨ２］５ＣＯＯＨ）、スベリン酸（ＨＯＯＣ［ＣＨ２］６ＣＯＯＨ）、アゼライン酸（ＨＯＯＣ［ＣＨ２］７ＣＯＯＨ）、セバシン酸（ＨＯＯＣ［ＣＨ２］８ＣＯＯＨ）など。好適なポリオールとしては以下のようなものが挙げられる（これらに限定される訳ではない）：２官能性物質たとえばグリコールまたは３官能性アルコールたとえばトリオールなどで、たとえばプロパンジオール（ＨＯ［ＣＨ２］３ＯＨ）、ブタンジオール（ＨＯ［ＣＨ２］４ＯＨ）、ヘキサンジオール（ＨＯ［ＣＨ２］６ＯＨ）、グリセリン（ＨＯＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２ＯＨ）、１，２，６−ヘキサントリオール（ＨＯＣＨ２ＣＨＯＨ［ＣＨ２］４ＯＨ）などである。
【００１９】
いくつかの実施態様においては、好適なポリエステルポリオールはポリカルボン酸とポリオールとの反応生成物であって、次の式（１）で表される：
［ＣＨ２ＲａＣＨ２］ｍ［ＣＯ２ＲｂＣＯ２］ｎ［ＣＨ２ＲｃＣＨ２］ｐ［ＣＯ２ＲｄＣＯ２］ｑ・・・（１）
［式中、ＲａおよびＲｃは独立して、ポリオールから誘導される直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基（それらのアルキル基は、１〜約２０個の炭素原子を有する）を表し、ＲｂおよびＲｄは独立して、ポリカルボン酸から誘導されるアルキル基（それらのアルキル基は１〜約２０個の炭素原子を有する）を表し、ｍ、ｎ、ｐ、およびｑは、０〜１のモル分率を表し、ｎ＋ｍ＋ｐ＋ｑ＝１である］。
【００２０】
そのような好適なポリエステルポリオールの市販されている具体例としては、たとえば以下のようなものが挙げられる：バイエル・ケミカル（Ｂａｙｅｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手可能なデスモフェン（ＤＥＳＭＯＰＨＥＮ）（登録商標）シリーズの製品、たとえばデスモフェン（ＤＥＳＭＯＰＨＥＮ）（登録商標）８００、１１１０、１１１２、１１４５、１１５０、１２４０、１２６２、１３８１、１４００、１４７０、１６３０、２０６０、２０６１、２０６２、３０６０、４０２７、４０２８、４０４、４０５９、５０２７、５０２８、５０２９、５０３１、５０３５、および５０３６製品；コグニス（Ｃｏｇｎｉｓ）から入手可能なソベルモル（ＳＯＶＥＲＭＯＬ）（登録商標）シリーズの製品、たとえばソベルモル（ＳＯＶＥＲＭＯＬ）（登録商標）７５０、８０５、８１５、９０８、９１０、および９１３製品；およびコグニス（Ｃｏｇｎｉｓ）から入手可能なハイダゲン（ＨＹＤＡＧＥＮ）（登録商標）シリーズの製品、たとえばハイダゲン（ＨＹＤＡＧＥＮ）（登録商標）ＨＳＰ製品；およびそれらの混合物である。いくつかの実施態様においては、たとえばデスモフェン（ＤＥＳＭＯＰＨＥＮ）（登録商標）８００およびソベルモル（ＳＯＶＥＲＭＯＬ）（登録商標）７５０、またはそれらの混合物である。デスモフェン（ＤＥＳＭＯＰＨＥＮ）（登録商標）８００はヒドロキシル基を担持する高度に分岐したポリエステルであって、その酸価が０．１Ｎ水酸化カリウム−エタノール溶液で滴定して４ｍｇＫＯＨ／ｇ、ヒドロキシル含量が約８．６±０．３％、当量が約２００である。デスモフェン（ＤＥＳＭＯＰＨＥＮ）（登録商標）８００は、上述の式（１）に相当するものであって、そのポリマーには５０部のアジピン酸、１０部の無水フタル酸、および４０部の１，２，６−ヘキサントリオールが含まれていて、この場合、Ｒｂ＝［ＣＨ２］４、ｎ＝０．５、Ｒｄ＝−１，２−Ｃ６Ｈ４、ｑ＝０．１、Ｒａ＝Ｒｃ＝ＣＨ２［ＣＨＯ］［ＣＨ２］４、そしてｍ＋ｐ＝０．４である。デスモフェン（ＤＥＳＭＯＰＨＥＮ）（登録商標）１１００は、上述の式（１）に相当するものであって、そのポリマーには６０部のアジピン酸、４０部の１，２，６−ヘキサントリオール、および６０部の１，４−ブタンジオールが含まれていて、この場合、Ｒｂ＝Ｒｄ＝［ＣＨ２］４、ｎ＋ｑ＝０．３７５、Ｒａ＝ＣＨ２［ＣＨＯ］［ＣＨ２］４、ｍ＝０．２５、Ｒｃ＝［ＣＨ２］４、ｐ＝０．３７５である。ソベルモル（ＳＯＶＥＲＭＯＬ）（登録商標）７５０は、分岐状のポリエーテル/ポリエステル/ポリオールであって、その酸価は２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシル価が３００〜３３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。
【００２１】
結晶性ポリエステルを得るために使用されるポリオールの例としては以下のようなものが挙げられる：エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−ブテンジオール、ネオペンチルグリコール、１，５−ペンタングリコール、１，６−ヘキサングリコール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ、および水素化ビスフェノールＡである。
【００２２】
非晶質ポリエステルを得るために使用される多価アルコールは、たとえば以下のようなものであってよい：脂肪族、脂環族または芳香族アルコール、たとえば１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサン−ジメタノール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ、および水素化ビスフェノールＡである（これらに限定される訳ではない）。
【００２３】
本発明の開示において使用可能なさらなるポリオールは、付加重合性の不飽和基を有さず、一つの分子の中に２個以上のヒドロキシル基を有する化合物である。それらの化合物から、ジオールは一つの分子の中に２個のヒドロキシル基を有する化合物であって、その例としては以下のようなものが挙げられる：エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ジエチレングリコール、ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール、オクタンジオール、デカンジオール、およびドデカンジオールである。ジオール以外のポリオールの例としては、以下のようなものが挙げられる：グリセリン、ペンタエリスリトール、ヘキサメチロールメラミン、ヘキサエチロールメラミン、テトラメチロールベンゾグアナミン、およびテトラエチロールベンゾグアナミンである。
【００２４】
他の実施態様においては、バインダには、アクリラート化ポリオールを含むことができる。好適なアクリラート化ポリオールとしては、たとえば、エチレンオキシドを用いて変性したプロピレンオキシド、グリコール、トリグリセロールなどの反応生成物が挙げられる。好適なアクリラート化ポリオールは次の式で表すことができる：
［Ｒｔ−ＣＨ２］ｔ−［−ＣＨ２−Ｒａ−ＣＨ２］ｐ−［−ＣＯ−Ｒｂ−ＣＯ−］ｎ−［−ＣＨ２−Ｒｃ−ＣＨ２］ｐ−［−ＣＯ−Ｒｄ−ＣＯ−］ｑ
［式中、ＲｔはＣＨ２ＣＲ１ＣＯ２−（ここで、Ｒ１はアルキル基であり、ｔはアクリラート化部位のモル分率を表していて、０〜１である）、ＲａおよびＲｃは独立して、ポリオールから誘導された、直鎖状アルキルもしくはアルコキシ基、または分岐状アルキルもしくはアルコキシ基を表し、ＲｂおよびＲｄは独立して、アルキルまたはアルコキシ基を表し、ｍ、ｎ、ｐ、およびｑは、０〜１のモル分率を表し、ｎ＋ｍ＋ｐ＋ｑ＝１である］。
【００２５】
さらなる実施態様においては、そのバインダに次式で表されるポリエーテルポリオールが含まれていてもよい：
−［−ＣＨ２−Ｒａ−ＣＨ２］ｍ−［−ＣＯ−Ｒｂ−ＣＯ−］ｎ−［−ＣＨ２−Ｒｃ−ＣＨ２］ｐ−［−ＣＯ−Ｒｄ−ＣＯ−］ｑ
［式中、ＲａおよびＲｃは独立して、ポリオールから誘導された、直鎖状アルキルもしくはアルコキシ基、または分岐状アルキルもしくはアルコキシ基を表し、ＲｂおよびＲｄは独立して、アルキルまたはアルコキシ基を表し、ｍ、ｎ、ｐ、およびｑは、０〜１のモル分率を表し、ｎ＋ｍ＋ｐ＋ｑ＝１である］。
【００２６】
いくつかの実施態様においては、オーバーコート層には、オーバーコートコーティング組成物の約１質量％〜約５０質量％のポリマーバインダ、たとえば約１質量％〜約２５質量％のポリマーバインダ、または約５質量％〜約２０質量％のポリマーバインダ、たとえば約１質量％〜約１５質量％のポリマーバインダが含まれていてよい。
【００２７】
オーバーコーティング層には各種好適な正孔輸送材料を使用してよい。しかしながら、クラッキングに対する抵抗性、所望の機械的特性、画像流れに対する抵抗性なども含めた、一つまたは複数の所望のメリットを得るために、実施態様には、正孔輸送分子として、三級芳香族アミンまたはヒドロキシル含有正孔輸送化合物が含まれていてもよい。
【００２８】
たとえば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（４−メチルフェニル）−（１，１'−ビフェニル）−４，４'−ジアミンのような、置換ビフェニルジアミンは次の一般式で表すことができる：
【化１】
0005669356.tif 000002
［式中、それぞれのＸは独立して、−Ｈ、−ＯＨ、アルキル（−ＣｎＨ２ｎ＋１）（ここで、ｎは、１〜約１０、たとえば１〜約５または１〜約６である）、アラルキル、およびアリール基（それらのアラルキルおよびアリール基は、たとえば約５〜約３０、たとえば約６〜約２０個の炭素原子を含む）からなる群より選択される］。アラルキル基の好適な例としては、たとえば、−ＣｎＨ２ｎ−フェニル基（ここで、ｎは１〜約５または１〜約１０である）が挙げられる。アリール基の好適な例としては、たとえば、フェニル、ナフチル、ビフェニルなどが挙げられる。アルキルには、たとえば、１〜約２５個の炭素原子、１〜約１６個の炭素原子、１〜約１０個の炭素原子、または１〜約６個の炭素原子が含まれ、たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘプチル、ヘキシル、ドデシルなどが挙げられる。
【００２９】
正孔輸送分子の例としてはたとえば以下のようなものが挙げられる：ピラゾリンたとえば、１−フェニル−３−（４'−ジエチルアミノスチリル）−５−（４''−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン；アリールアミンたとえば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１'−ビフェニル）−４，４'−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｐ−トリル−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｏ−トリル−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（４−イソプロピルフェニル）−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（２−エチル−６−メチルフェニル）−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，５−ジメチルフェニル）−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−クロロフェニル）−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン；ヒドラゾンたとえば、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチル−３−（９−エチル）カルバジルヒドラゾンおよび４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，２−ジフェニルヒドラゾン；ならびにオキサジアゾールたとえば、２，５−ビス（４−Ｎ，Ｎ’−ジエチルアミノフェニル）−１，２，４−オキサジアゾール、スチルベンなどである。しかしながら、高速処理を伴う機械の中でのサイクルアップ（ｃｙｃｌｅ−ｕｐ）を最小化または回避するための実施態様においては、電荷輸送層には、ジ−またはトリ−アミノ−トリフェニルメタンを実質的に含まない（約２パーセント未満）ようにするべきである。光発生層の中に正孔を高効率で注入し、それらを短い電荷輸送時間で電荷輸送層を横切って輸送させること可能とする低分子の電荷輸送化合物としては以下のようなものが挙げられる：Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１'−ビフェニル）−４，４'−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｐ−トリル−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｏ−トリル−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（４−イソプロピルフェニル）−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（２−エチル−６−メチルフェニル）−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，５−ジメチルフェニル）−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、およびＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−クロロフェニル）−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、テトラ［ｐ���トリル］ビフェニルジアミン、さらには以下の名称のもの、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラ（４−メチルフェニル）−（１，１'−ビフェニル）−４，４'−ジアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラ（４−エチルフェニル）−（１，１'−ビフェニル）−４，４'−ジアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラ（４−プロピルフェニル）−（１，１'−ビフェニル）−４，４'−ジアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラ（４−ブチルフェニル）−（１，１'−ビフェニル）−４，４'−ジアミンなど，またはそれらの混合物である。所望により、電荷輸送層の中の正孔輸送物質には、ポリマー性の正孔輸送物質、または低分子正孔輸送物質とポリマー性の正孔輸送物質との組合せを含んでいてもよい。
【００３０】
上述の式を有する置換ビフェニルジアミンのさらなる具体例としては以下のようなものが挙げられる：Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−１，１−ビフェニル−４，４'−ジアミン（ここで、アルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルなどからなる群より選択される）；Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（ハロフェニル）−１，１'−ビフェニル−４，４'−ジアミン（ここで、そのハロ置換基はクロロ置換基である）；Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｐ−トリル−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｏ−トリル−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（４−イソプロピルフェニル）−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（２−エチル−６−メチルフェニル）−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，５−ジメチルフェニル）−［ｐ−テルフェニル］−４，４'−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−クロロフェニル）−［ｐ−テルフェニル］−４，４''−ジアミンなどである。
【００３１】
置換ビフェニルジアミンは、高品質な、たとえばＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（４−メチルフェニル）−（１，１'−ビフェニル）−４，４'−ジアミンであるのがよく、それによって、感光体の中に組み入れた場合に、感光体で、その表面電位の放電速度が改良されたり、さらにはサイクル安定性が改良されたりするであろう。本明細書で使用するとき、「サイクル安定性」という用語は、電子写真（ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ）サイクルの間に電気的特性値が変化しないということを指している。高速印刷用途では、短い現像時間での露光が必要となり、その時間の間に感光体がその表面電位を放電しなければならないので、放電速度が改良されれば有利である。したがって、改良された放電速度を示す感光体は、高速印刷用途などにおいて重要であり、大量または商業的な印刷運転に伴うコストを削減することが可能となる。いくつかの実施態様においては、その感光体は、約１ｅｒｇ／ｃｍ２〜約５ｅｒｇ／ｃｍ２の照射エネルギーに対して電子写真（ｘｅｒｏｇｒａｐｈｉｃ）帯電および露光させたときに、約０〜約４０ミリ秒の間にその表面電位の約８５％〜約１００％を放電することができ、たとえば、約１ｅｒｇ／ｃｍ２〜約４ｅｒｇ／ｃｍ２の照射エネルギーに対して電子写真（ｘｅｒｏｇｒａｐｈｉｃ）帯電および露光させたときに、約０〜約４０ミリ秒の間にその表面電位の約８５％〜約１００％を放電することができる。したがって、本明細書で使用するとき、置換ビフェニルジアミンに関して「高品質」という用語は、感光体の中に組み入れたときに、その感光体が、約１ｅｒｇ／ｃｍ２〜約３ｅｒｇ／ｃｍ２の照射エネルギーに対して電子写真（ｘｅｒｏｇｒａｐｈｉｃ）帯電および露光させたときに、約０〜約４０ミリ秒の間にその表面電位の約９０％〜約１００％を放電することができるような、置換ビフェニルジアミンを指している。いくつかの実施態様においては、高品質な置換ビフェニルジアミンを含む感光体は、消去エネルギーが約２００ｅｒｇ／ｃｍ２の場合には、初期帯電電圧約４００〜約１０００ボルトから、後消去電圧を約０〜約１０ボルトとすることができる。置換ビフェニルジアミンはさらに、１０，０００サイクルを超える安定な電子写真（ｘｅｒｏｇｒａｐｈｉｃ）サイクルを示すこともできる。
【００３２】
ヒドロキシル含有正孔輸送化合物の例としては次式のものが挙げられる：
Ｑ−［−Ｌ−ＯＨ］ｎ
［式中、Ｑは電荷輸送成分を表し、Ｌは２価の結合基を表し、ｎは繰り返しセグメントまたは基の数、たとえば１〜約８を表している］。
【００３３】
残基Ｑとしては、各種好適な電荷輸送化合物を使用することができる。たとえば、好適な電荷輸送化合物には、アミン、たとえば三級アリールアミン、ピラゾリン、ヒドラゾン、オキサジアゾール（ｏｘａｌｉａｚｏｌｅ）、スチルベン、およびそれらの混合物が挙げられる。
【００３４】
より詳しくは、いくつかの実施態様においては、Ｑは次の一般式で表される：
【化２】
0005669356.tif 000003
［式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４、およびＡｒ５はそれぞれ独立して、置換または非置換のアリール基を表すか、またはＡｒ５が独立して置換または非置換アリーレン基を表し、ｋは０または１を表すが、ここでＡｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３およびＡｒ４の内の少なくとも一つは結合基Ｌに結合している］。
【００３５】
たとえば、いくつかの実施態様においては、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４、およびＡｒ５はそれぞれ独立して、たとえば次式のような置換または非置換アリール基、
【化３】
0005669356.tif 000004
［式中、Ｒは、１〜約１０個の炭素原子を有するアルキル基、たとえば−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、および−Ｃ４Ｈ９からなる群より選択される］を表すか、またはＡｒ５は独立して、置換または非置換アリーレン基たとえば、
【化４】
0005669356.tif 000005
［式中、Ｒは、１〜約１０個の炭素原子を有するアルキル基、たとえば−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、および−Ｃ４Ｈ９からなる群より選択される］を表す。ｋが０よりも大きい場合、Ａｒ５として好適なその他の基としては、次式のものが挙げられる：
【化５】
0005669356.tif 000006
［式中、ｎは０または１であり、Ａｒは、先にＡｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４、およびＡｒ５で定義されたものであり、Ｘは以下のものからなる群より選択される：
【化６】
0005669356.tif 000007
［ここで、ｓは０、１、または２である］］。
【００３６】
電荷輸送化合物の例としては次式のもの
【化７】
0005669356.tif 000008
およびそれらのメチルエーテル誘導体が挙げられる。
【００３７】
いくつかの実施態様においては、オーバーコート層には、オーバーコート層の約３質量％〜約８０質量％、たとえば、約３質量％〜約４０質量％の正孔輸送分子が含まれていてよい。
【００３８】
いくつかの実施態様においては、任意成分の硬化剤は、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、グアナミンホルムアルデヒド樹脂、マスクされたイソシアネート化合物または樹脂、およびエポキシド樹脂からなる群より選択するのがよい。
【００３９】
いくつかの実施態様においては、オーバーコート層には表面処理された酸化スズ粒子が含まれる。各種好適な表面処理された酸化スズ粒子を使用することが可能であり、当業界においては各種の変法が公知であって、使用できる。そのような表面処理された酸化スズは、単独で、すなわち唯一のタイプの物質として使用することができるし、あるいは組合せ物として、２種以上の異なったタイプの表面処理された酸化スズ（たとえばそれらの酸化スズ粒子が別の表面処理剤を用いて別途に表面処理されている）として使用することもできる。表面処理剤としては、たとえば、オルガノクロロシラン、オルガノシランエーテル、またはそれらのチタン類似物が挙げられる。それら（１種または複数の）表面処理剤は、一般式（Ｉ）によって表すことができる：
Ｒ−Ｚ（Ｘ）ｎＹ３−ｎ・・・（Ｉ）
［式中、ＲおよびＸはそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基、置換アルキル基または置換アリール基を表し、Ｚは、ケイ素原子、チタン原子などを表し、Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、およびアリル基を表す］。
【００４０】
さらなる実施態様においては、（１種または複数の）表面処理剤は、一般式（ＩＩ）によって表すこともできる：
Ｒ−Ｓｉ（Ｘ）ｎＹ３−ｎ・・・（ＩＩ）
［式中、ＲおよびＸは、それぞれ独立してアルキル基、アリール基、置換アルキル基または置換アリール基、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合を含む有機基、およびエポキシ基を表し、Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、およびアリル基を表す］。
【００４１】
いくつかの実施態様においては、ＲおよびＸには、約１個の炭素原子〜約３０個の炭素原子を含むアルキル基たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソ−プロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ドデシル、シクロヘキシルなど；約１〜約３０個の炭素原子を含むハロゲン置換アルキル基たとえば、クロロメチレン、トリフルオロプロピル、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチルなど、が含まれていてよい。Ｒには、約６〜約６０個の炭素原子を含むアリール基たとえば、フェニル、アルキルフェニル、ビフェニル、ベンジル、フェニルエチルなど；約６〜約６０個の炭素原子を含むハロゲン置換アリール基たとえば、クロロフェニル、フルオロフェニル、ペルフルオロフェニルなど；約１〜約３０個の炭素原子の、炭素−炭素二重結合を含む有機基たとえば、γ−アクリルオキシプロピル基、γ−メタクリルオキシプロピル基、およびビニル基；約１〜約３０個の炭素原子の、炭素−炭素三重結合を含む有機基たとえばアセチレニルなど；エポキシ基を含む有機基たとえば、γ−グリシドキシプロピル基およびβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基などが含まれていてよい。
【００４２】
いくつかの実施態様においては、Ｙには、水素原子；ハロゲン原子たとえば塩素、臭素、およびフッ素；ヒドロキシル基；アルコキシ基たとえばメトキシ、エトキシ、イソ−プロポキシなど；およびアリル基が含まれる。
【００４３】
いくつかの実施態様においては、表面活性剤はたとえば以下のようなものからなる群より選択される：メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリメトキシシラン、ｐ−トリルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルエチルトリメトキシシラン、ベンジルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジシラノール、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシ−シラン、３−（トリメトキシシリル）プロピルメタクリラート、およびそれらの混合物である。
【００４４】
いくつかの実施態様においては、式（ＩＩＩ）の環状シロキサンを用いて金属酸化物粒子に表面付加させてもよい：
【化８】
0005669356.tif 000009
（ＩＩＩ）
［式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、約１〜約３０個の炭素原子のアルキル基、約６〜約６０個の炭素原子のアリール基、約１〜約３０個の炭素原子の置換アルキル基もしくは置換アリール基を表し、ｚは、約３〜約１０の整数を表す］。
【００４５】
いくつかの実施態様においては、環状シロキサンは以下のものからなる群から選択することができる：ヘキサメチルシクロトリシロキサン、２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリフェニルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラメチル−２，４，６，８−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、および２，４，６，８−テトラメチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサンである。
【００４６】
表面処理された酸化スズ粒子は、所望の効果を与える各種好適なサイズとすることができる。いくつかの実施態様においては、表面処理された酸化スズ粒子は、約１ｎｍ〜約５０μｍ、たとえば約１０ｎｍ〜約５００ｎｍまたは約１００ｎｍ〜約２５０ｎｍの平均粒径を有していてよい。上述のサイズの測定は、たとえば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって測定するか、あるいはガス吸収またはＢＥＴの測定値から（球状粒子と仮定して）計算することができる。ＢＥＴ値は、約１０〜約１００ｍ２／ｇ、たとえば約２０〜約６０ｍ２／ｇの範囲であってよい。
【００４７】
表面処理された酸化スズ粒子は一般的に、オーバーコート組成物中に、オーバーコート組成物中の全固形分の約０．１〜約２０質量％の量で存在させる。たとえば、表面処理された酸化スズ粒子を、オーバーコート組成物中に、オーバーコート組成物中の全固形分の約１〜約１０パーセント、または約２〜約７もしくは約３〜約５質量％の量で存在させることができる。２種の異なったタイプの表面処理された酸化スズ粒子を使用する場合には、その二つのタイプの比率は、１：９９から９９：１までの範囲の各種所望の比率とすることができる。言うまでもないことではあるが、表面処理された酸化スズ粒子のサイズ、量、および比率のそれぞれが、場合によっては、これらの範囲から外れていてもよい。
【００４８】
いくつかの実施態様においては、その他の各種の好適な金属酸化物粒子を使用してもよい。好適な金属酸化物粒子の例としては、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化チタン（二酸化物）（チタニア）、酸化亜鉛、および酸化鉄が挙げられる。さらなる例としては、酸化ケイ素、酸化セリウム、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化マンガン、酸化ニッケル、酸化銅、インジウムスズ酸化物が挙げられる。金属酸化物の混合物を使用してもよい。
【００４９】
その他の有機粒子、たとえばＰＴＦＥ粒子を使用してもよい。その他の無機の非酸化物粒子、たとえば炭化ケイ素または窒化ホウ素を使用してもよい。酸化スズは、アンチモンまたはインジウムのような重金属を用いてドープされていてもよい。
【００５０】
いくつかの実施態様においては、オーバーコート層には表面処理された酸化スズ粒子が含まれる。酸化スズの表面処理は、酸化スズ粒子を、表面処理剤たとえば３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシランと有機溶媒中で混合し、次いで超音波処理することによって実施する。そうして得られた分散体を、高温下でさらに加熱する。溶媒を除去してから、表面処理された酸化スズ粒子を高温下、たとえば約１５０℃で乾燥させる。
【００５１】
所望または必要があれば、ブロッキング剤をさらに加えることもできる。ブロッキング剤は、酸の効果を「拘束する（ｔｉｅ  ｕｐ）」かまたはブロックして、その酸触媒の機能が必要となるまでは溶液における安定性を与えるために使用することができる。したがって、たとえば、ブロッキング剤は、その溶液の温度が閾値温度を超えるまでは、酸の効果をブロックすることができる。たとえば、いくつかのブロッキング剤を使用して、溶液の温度が約１００℃よりも高くなるまでは、酸の効果をブロックすることができる。その時点で、ブロッキング剤が酸から解離して、蒸発する。次いで、その解離された酸が遊離して重合の触媒作用をする。そのような好適なブロッキング剤としてはピリジン、およびブロッキング剤を含む市販の酸溶液たとえば、サイテック・インダストリーズ（Ｃｙｔｅｃ  Ｉｎｄ）から入手可能なサイキャット（Ｃｙｃａｔ）４０４０が挙げられるが、これらに限定される訳ではない。
【００５２】
成膜性ポリマーに対して各種の好適なアルコール溶媒を使用することができる。典型的なアルコール溶媒としては、たとえば、ブタノール、プロパノール、メタノール、１−メトキシ−２−プロパノールなど、およびそれらの混合物が挙げられる。オーバーコーティング層溶液を形成させるのに使用することが可能なその他の好適な溶媒としては、たとえば、テトラヒドロフラン、モノクロロベンゼン、およびそれらの混合物が挙げられる。それらの溶媒は、上述のアルコール溶媒に加えたり、それらの代わりとして使用することもできるし、あるいはそれらが完全に存在しなくてもよい。しかしながら、いくつかの実施態様においては、高沸点のアルコール溶媒は避けるべきであるが、その理由は、それらが所望の架橋反応を妨害する可能性があるからである。たとえば、その溶媒系は、個別の溶媒（たとえば、ダウアノール（ｄｏｗａｎｏｌ）、ＩＰＡ、水、またはその他の有機溶媒）または複数の溶媒の混合物からなっていてよい。
【００５３】
オーバーコート層のためのコーティング溶媒として使用するために選択することができる溶媒の例を挙げれば、ケトン、アルコール、芳香族炭化水素、ハロゲン化脂肪族炭化水素、エーテル、アミン、アミド、エステルなどがある。具体的な例としては、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、１−ブタノール、アミルアルコール、１−メトキシ−２−プロパノール、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸メトキシエチルなどが挙げられる。
【００５４】
樹脂の分散体は、公知または従来からの方法によって得ることができるが、たとえば、（ａ）全モノマーを基準にして１０〜８０モル％の量の、付加重合性の不飽和基を有さない多価酸モノマーおよび／またはそれらの誘導体、（ｂ）全モノマーを基準にして１０〜８０モル％の量の、付加重合性の不飽和基を有さない多価アルコールモノマー、および（ｃ）全モノマーを基準にして約０．５〜２０モル％の量の、カルボキシル基および付加重合性の不飽和基を有するモノマーおよび／またはそれらの誘導体、を含む組成物を有する重縮合可能なモノマー（組成物）を重縮合させて、末端に付加重合性の不飽和基を有するポリエステルを得て、そのポリエステルの付加重合性の不飽和基を付加重合させる。
【００５５】
選択されるオーバーコート層の厚みは、使用される系の帯電（バイアス帯電ロール）、クリーニング（ブレードまたはウェブ）、現像（ブラシ）、転写（バイアス転写ロール）などの摩耗性に依存するが、連続的とすることができ、約５０μｍ未満、たとえば約０．１μｍ〜約５０μｍ、たとえば約０．１μｍ〜約１５μｍの厚みを有していてよい。
【００５６】
オーバーコート層には、電荷輸送層と同じ成分を含むことができるが、電荷輸送低分子と好適な電気的に不活性な樹脂バインダとの間の質量比は、小さく、たとえば約０/１００〜約６０/４０または約２０/８０〜約４０/６０とする。
【００５７】
いくつかの実施態様においては、そのオーバーコート層を各種好適な方法によって調製する。具体的には、酸化スズの表面処理は、酸化スズ粒子を、表面処理剤たとえば３，３，３−トリフルオロプロピルトリメチルシランと有機溶媒中で混合し、次いでその混合物を超音波処理することによって実施する。そうして得られた分散体を、高温下でさらに加熱する。溶媒を除去してから、表面処理された酸化スズ粒子を高温下、たとえば約１５０℃で乾燥させる。
【実施例】
【００５８】
実施例１：
表面処理された酸化スズ粒子は、トルエン中で酸化スズ粒子を３，３，３−トリフルオロプロピルトリメチルシランと混合することにより調製する。得られる分散体を、高温下で加熱しながら、超音波処理にかける。トルエン溶媒を除去して、得られる表面処理された酸化スズ粒子を約１５０℃で乾燥させる。
【００５９】
保護オーバーコート層のコーティング溶液は、０．６グラムのメトキシメチルブトキシメチルメラミン、０．７５グラムのデスモフェン（Ｄｅｓｍｏｐｈｅｎ）８００、０．２５グラムのデスモフェン（Ｄｅｓｍｏｐｈｅｎ）１６５２Ａ、０．８グラムのＮ−（３，４−ジメチルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ビス−（４−ヒドロキシメチレンフェニル）アミン、０．２グラムの８％ｐ−トルエンスルホン酸溶液、および３，３，３−トリフルオロプロピルトリメチルシランを用いて表面処理された酸化スズ粒子を、一緒に混合して製造する。表面処理された酸化スズ粒子のローディング量は、コーティング溶液中の全固形分の３質量％である。
【００６０】
実施例１でそのようにして調製されたコーティング組成物を使用して、オーバーコートされた画像形成部材シートまたはベルトを形成させる。具体的には、電子写真（ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ）画像形成部材ウェブストックを、厚み３．５ミル（８９μｍ）を有する２軸配向させたポリエチレンナフタレート基材（カダレックス（Ｋａｄａｌｅｘ）、ＩＣＩ・アメリカズ・インコーポレーテッド（ＩＣＩ  Ａｍｅｒｉｃａｓ  Ｉｎｃ．）製）の上にコーティングした厚み０．０２μｍのチタン層を準備し、それに対して、グラビアコーティング法を用いて、１０グラムのガンマアミノプロピルトリエトキシシラン、１０．１グラムの蒸留水、３グラムの酢酸、６８４．８グラムの２００度変性アルコール、および２００グラムのヘプタンを含む溶液を塗布することにより、調製する。次いでこの層を、強制空気循環炉中１３５℃で５分間乾燥させる。得られた阻止層の平均乾燥厚みは、楕円偏光計で測定すると０．０５μｍである。
【００６１】
次いで、接着中間層を阻止層に押出し法を用いて塗布して調製するが、この塗料溶液に含まれるものは、溶液の全重量を基準として５質量％のポリエステル系接着剤（モルエステル（Ｍｏｒ−Ｅｓｔｅｒ）４９，０００、モートン・インターナショナル社（Ｍｏｒｔｏｎ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ、Ｉｎｃ．）製）を、テトラヒドロフラン：シクロヘキサノン（容積比、７０：３０）の混合物中に溶解させたものである。その接着中間層を、強制空気循環炉中１３５℃で５分間乾燥させる。得られた接着中間層は、０．０６５μｍの乾燥時厚みを有している。
【００６２】
次いでその接着中間層に光発生層をコーティングする。光発生層用の分散体は、０．４５グラムのユーピロン（Ｉｕｐｉｌｏｎ）２００（ＰＣ−Ｚ２００）（三菱瓦斯化学（株）（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ  Ｇａｓ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｒｐ．）から入手可能）を、４オンスガラス瓶の中の５０ｍＬのテトラヒドロフランに加えることにより、調製する。この溶液に、２．４グラムのヒドロキシガリウムフタロシアニンと３００グラムの直径１／８インチ（３．２ｍｍ）のステンレススチール製ショットを加える。次いでこの混合物を２０〜２４時間、ボールミル上に置く。次いで、２．２５グラムのＰＣ−Ｚ２００を４６．１ｇのテトラヒドロフランに溶解させてから、このＯＨＧａＰｃスラリーに添加する。さらに、このスラリーを１０分間シェーカーにかける。その後で、得られたスラリーを、押出し塗布プロセスにより接着中間層の上にコーティングして、０．２５ミル（６．３５μｍ）のウェット時厚みを有する層を形成させる。しかしながら、阻止層および接着層を担持した基材ウェブの片端に沿って幅約１０ｍｍの帯状部分は完全に、どの光発生層材料によっても覆われないようにして、後ほどそこに設ける接地ストリップ層がより充分に電気的に接触できるようにする。この光発生層を強制空気循環炉中で１３５℃で５分間かけて乾燥させて、厚み０．４μｍの層を有する乾燥時厚みの光発生層を形成させる。
【００６３】
このコーティングされた画像形成部材ウェブに、押出し共塗装法により、電荷輸送層と接地ストリップ層とを同時にオーバーコートする。電荷輸送層は、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンとマクロロン（Ｍａｋｒｏｌｏｎ）５７０５（重量平均分子量約１２０，０００のポリカーボネート樹脂、バイエル・Ａ．Ｇ．（Ｂａｙｅｒ  Ａ．Ｇ．）製）とを、質量比１対１で褐色ガラス瓶に加えて調製する。得られた混合物を溶解させて、固形分１５質量％、塩化メチレン溶媒８５質量％とする。この溶液を、光発生層の上に塗布して、乾燥させると２９μｍの厚みとなるような、コーティングを形成させる。
【００６４】
光発生層によって覆われないように残してある接着層の幅約１０ｍｍの帯状部分に、共塗装プロセスの間に、接地ストリップ層でコーティングする。この接地ストリップ層は、共コーティングした電荷輸送層と共に、強制空気循環炉中１３５℃で数分間乾燥させた後には、約１９μｍの乾燥厚みを有している。この接地ストリップは、通常の電子写真（ｘｅｒｏｇｒａｐｈｉｃ）画像形成プロセスの間、カーボンブラシのような通常の方法を用いて、電気的に接地される。
【００６５】
カール防止層を調製するには、８．８２ｇのポリカーボネート樹脂（マクロロン（Ｍａｋｒｏｌｏｎ）５７０５、バイエル・Ａ．Ｇ．（Ｂａｙｅｒ  Ａ．Ｇ．）製）、０．７２ｇのポリエステル樹脂（バイテル（Ｖｉｔｅｌ）ＰＥ−２００、グッドイヤー・タイヤ・アンド・ラバー・カンパニー（Ｇｏｏｄｙｅａｒ  Ｔｉｒｅ  ａｎｄ  Ｒｕｂｂｅｒ  Ｃｏｍｐａｎｙ）製）、および９０．１ｇの塩化メチレンをガラス容器中で組み合わせることで、固形分が８．９％のコーティング溶液とする。この容器を密封して、ロールミル上で約２４時間混合すると、ポリカーボネートとポリエステルが塩化メチレンに溶解して、カール防止コーティング溶液が得られる。次いでそのカール防止コーティング溶液を、画像形成部材ウェブストックの裏表面（光発生層および電荷輸送層とは反対の側）に再度押出しコーティングプロセスによって塗布し、強制空気循環炉中１３５℃で約５分間かけて乾燥させると約１７μｍの厚みの乾燥フィルムが得られる。
【００６６】
溶液である保護オーバーコート層を電荷輸送層に塗布し、１２０℃で２分間かけて硬化させる。
【００６７】
比較例１：
実施例１に記載の手順に従って感光体を製造するが、ただし、表面処理された非スズ酸化物粒子をオーバーコート層コーティング溶液に添加する。
【００６８】
対照例：
実施例１に記載の手順に従って感光体を製造するが、ただし、保護オーバーコート層を省略する。
【００６９】
電気的試験：
上述のようにして調製した電子写真（ｘｅｒｏｇｒａｐｈｉｃ）の電気的な性質を、公知の手段によって求めたが、そのような手段としては、たとえば、コロナ放電源を用いたその表面を、静電電位計に取り付けた容量結合プローブによって測定して、その表面電位が、初期値Ｖ０が約−８００ボルトに達するまで荷電する方法である。暗所に０．３３秒間静置させた後では、その荷電した部材の表面電位が、Ｖｄｄｐ、すなわち暗現像電位（ｄａｒｋ  ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ  ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）をとる。フィードバックループで、コロナ放電源の出力を調節して、そのＶｄｄｐを−５００Ｖに維持する。次いでその導電画像形成部材を、少なくとも１５０ワット電球を用いた、フィルタをかけたキセノンランプからの光に暴露させると、それによって、光放電が誘起され、その結果、表面電位が低下して、Ｖｂｇ、すなわちバックグラウンド電位となった。入射光の波長は７８０ｎｍであり、その入射光の露光エネルギーを、０〜２５ｅｒｇ／ｃｍ２で変化させた。表面電位を露光エネルギーに対してプロットすることによって、光放電曲線が得られた。
【００７０】
対照例、比較例、および実施例１の画像形成部材について、スキャナ中におけるそれらの光ショック安定性の試験をする。評価対象のそれぞれの感光体シートを、シャフト上で回転する円筒状のアルミニウムドラム基材の上に搭載させる。次いでそのデバイスを、ドラムの周辺に搭載したスコロトロンによって帯電させる。そのシャフトのまわり各所に位置する容量的に結合された電圧プローブによって、表面電位を時間の関数として測定する。それらのプローブは、そのドラム基材に既知の電位を与えてキャリブレートしておく。ドラム上のそれぞれの感光体シートを、スコロトロンから下流側、ドラムに近い場所に位置させた光源に感光させる。ドラムを回転させながら、初期の（露光前）帯電電位を電圧プローブによって測定する。さらに回転させて露光ステーションに達すると、そこで感光体素子が、既知の強度の単色照射線に露光される。そのデバイスは、帯電よりは上流の場所に位置する光源によって消去される。その測定には、電圧の定電流モードにおけるそれぞれの光導電体デバイスの帯電が含まれる。それらのデバイスは、逆の極性のコロナに帯電される。露光の後の表面電位を第二の電圧プローブで測定する。それらのデバイスは最終的には、適切な強度の消去ランプに露光され、残存している電位があるかどうか、第三の電圧プローブによって測定される。このプロセスを、次のサイクルでは自動的に露光量を変化させながら、繰り返す。次いで、デバイスを広帯域の白色消去用光源に６００サイクル、合計して１．６百万エルグ／平方センチメートルのエネルギーで露光させる。光ショックを与えた後直ちに、すべてのサンプルを上述のようなフィールド試験にかける。デバイスに光ショックを与える前と後の、３．５ｅｒｇ／ｃｍ２の露光での電位の変化をパーセントの単位で表示する。
【００７１】
光誘導放電曲線（ＰＩＤＣ）、横方向電荷移行（ＬＣＭ）、および光ショック試験を、実施例１の、配合物を含む保護オーバーコート層（酸化スズを含む）；比較例１の、配合物を含む保護オーバーコート層（酸化スズを含まない）；および対照例感光体（オーバーコート層なし）を含むデバイスについて実施した。それらの結果を図１および２に示す。
【００７２】
図１に見られるように、ＰＩＤＣ測定結果からは、実施例１の配合物および比較例の溶液を使用したデバイスにおける、サイクル前の消去後残留電圧が、それぞれ４０．８ボルトおよび４１．７ボルトを示していることが判る。したがって、３％の酸化スズの添加は、デバイス電気的性能には実質的に何の影響を与えていない。電気的サイクル安定性の試験からも、この両方のデバイスは同じようなサイクルアップ挙動を有している（サイクル後）。
【００７３】
図２に見られるように、ＬＣＭ測定からは、２０Ｋサイクルの後でも、実施例１の配合物と、酸化スズを有さない比較例との間では、画像流れには何の変化も認められないということが判る。
【００７４】
比較例を用いたデバイスでは、光ショックを与えた後では電位の変化が最大（すなわち、３０％）であり、それに対して、対照例と実施例１では、光ショックによる電位の変化はわずかに３〜５％しか示さない。オーバーコートに３％の酸化スズを添加することによって、光ショックの電位に対する衝撃を顕著に抑制することが可能である。
【００７５】
［好ましい態様］
（１）前記表面処理された酸化スズ粒子充填剤が、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメチルシラン、デシルトリメトキシシラン（ＤＴＭＳ）、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、デシルシラン、およびイソブチルトリメトキシシラン（ｉ−ＢＴＭＳ）からなる群より選択される化合物を用いて表面処理される、請求項１に記載の感光体。
【００７６】
（２）前記感光体が、１０３Ω・ｃｍ〜１０１６Ω・ｃｍの間の範囲の抵抗率を有する、請求項１に記載の感光体。
【００７７】
（３）前記感光体が、１０７Ω・ｃｍ〜１０１４Ω・ｃｍの間の範囲の抵抗率を有する、請求項１に記載の感光体。
【図１】
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【図２】
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