(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体と、
該本体の上部に設けられたトッププレートと、
該トッププレートの裏面もしくは上面に設けられ、複数の立体炎マークが書込まれた透過ホログラムと、
該透過ホログラムに再生光を照射する発光素子と
を具備し、
前記再生光によって前記立体炎マークに対応する再生立体炎マークが前記トッププレート上に再生されるようにした誘導加熱装置。
【請求項２】
前記発光素子は前記透過ホログラムへの再生光の照射範囲を可変とし、
前記透過ホログラムは前記再生光の照射範囲の変化に応じて前記再生立体炎マークが変化する請求項１に記載の誘導加熱装置。
【請求項３】
前記発光素子は前記再生光の中心光波長を可変とし、
前記透過ホログラムは異なる前記再生光の中心光波長に応じて異なる再生立体炎マークを再生する請求項１に記載の誘導加熱装置。
【請求項４】
誘導加熱装置の再生立体炎マークを再生させるための立体炎マークを記憶する透過ホログラムを書込むための透過ホログラム書込みユニットであって、
光源系と、
該光源系から分岐された第１の光から参照光を発生する参照光系と、
前記光源系から分岐された第２の光から物体光を発生する物体光系と、
前記参照光及び前記物体光が干渉して書込まれる透過ホログラムとしてのホログラムフィルムと
を具備し、
前記物体光系は複眼レンズを組合わせた反射鏡を含有し、該反射鏡の入射方向に炎形状立体模型を載置し、前記複眼レンズのレンズ数だけ該炎形状立体模型が前記ホログラムフィルムに書込まれるようにした透過ホログラム書込みユニット。
【請求項５】
誘導加熱装置の再生立体炎マークを再生させるための立体炎マークを記憶する透過ホログラムを書込むための透過ホログラム書込みユニットであって、
光源系と、
該光源系から分岐された第１の光から参照光を発生する参照光系と、
前記光源系から分岐された第２の光から物体光を発生する物体光系と、
前記参照光及び前記物体光が干渉して書込まれる透過ホログラムとしてのホログラムフィルムと
を具備し、
前記物体光系の光路中に炎形状立体模型を載置し、該炎形状立体模型を左右方向及び／または上下方向に移動させることにより複数の該炎形状立体模型が前記ホログラムフィルムに書込まれるようにした透過ホログラム書込みユニット。
【請求項６】
誘導加熱装置の再生立体炎マークを再生させるための立体炎マークを記憶する透過ホログラムを書込むための透過ホログラム書込みユニットであって、
光源系と、
該光源系から分岐された第１の光から参照光を発生する参照光系と、
前記光源系から分岐された第２の光から物体光を発生する物体光系と、
前記参照光及び前記物体光が干渉して書込まれる透過ホログラムとしてのホログラムフィルムと
を具備し、
前記物体光系の光路中に炎形状立体模型及び該炎形状立体模型に応じたマスクを載置し、異なる炎形状立体模型が前記ホログラムフィルムに書込まれるようにした透過ホログラム書込みユニット。
【請求項７】
誘導加熱装置の再生立体炎マークを再生させるための立体炎マークを記憶する透過ホログラムを書込むための透過ホログラム書込みユニットであって、
光源系と、
該光源系から分岐された第１の光から参照光を発生する参照光系と、
前記光源系から分岐された第２の光から物体光を発生する物体光系と、
前記参照光及び前記物体光が干渉して書込まれる透過ホログラムとしてのホログラムフィルムと
を具備し、
前記光源系の光源の中心光波長を変更し、前記物体光系の光路中に該中心光波長毎に炎形状立体模型を載置し、異なる炎形状立体模型が前記ホログラムフィルムに書込まれるようにした透過ホログラム書込みユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電磁誘導加熱コイルの出力レベルに応じて炎を報知できる誘導加熱装置及びこれに用いられる透過ホログラム書込みユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
誘導加熱装置においては、電磁誘導加熱コイルに高周波電流を流して高周波磁場を発生させ、この高周波磁場により負荷である鍋に渦電流を発生させ、この渦電流によるジュール熱で鍋を発熱させる。このような誘導加熱装置においては、鍋の加熱状態を視覚的に捉えることが必要である。
【０００３】
第１の従来の誘導加熱装置においては、出力レベルに応じた炎マークを平面的に表示していた（参照：特許文献１）。
【０００４】
第２の従来の誘導加熱装置においては、トッププレートに負荷としての鍋を載置したときに、鍋上に出力レベルに応じた光による炎マークを立体的に表示していた（参照：特許文献２の図５）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−３０２４０８号公報
【特許文献２】特開２００３−２５７６０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述の第１の従来の誘導加熱装置においては、炎マークを視覚的に捉えるが、平面的であるので使用者が直感的に認識できないという課題があった。
【０００７】
また、上述の第２の従来の誘導加熱装置においては、炎マークを立体的かつ視覚的に捉えるが、炎マークは鍋に表示しているので、立体性に乏しく、近くに行かないと視覚的に捉えることができないという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述の課題を解決するために、本発明に係る誘導加熱装置は、本体と、本体の上部に設けられたトッププレートと、トッププレートの裏面もしくは上面に設けられ、複数の立体炎マークが書込まれた透過ホログラムと、透過ホログラムに再生光を照射する発光素子とを具備し、再生光によって立体炎マークに対応する再生立体炎マークがトッププレート上に再生されるようにしたものである。
【０００９】
また、本発明に係る誘導加熱装置に用いられる透過ホログラム書込みユニットは、光源系と、光源系から分岐された第１の光から参照光を発生する参照光系と、光源系から分岐された第２の光から物体光を発生する物体光系と、参照光及び物体光が干渉して書込まれる透過ホログラムとしてのホログラムフィルムとを具備し、物体光系は複眼レンズを組合わせた反射鏡を含有し、反射鏡の入射方向に炎形状立体模型を載置し、複眼レンズのレンズ数だけ炎形状立体模型がホログラムフィルムに書込まれるようにしたものである。あるいは、物体光系の光路中に炎形状立体模型を載置し、炎形状立体模型を左右方向及び／または上下方向に移動させることにより複数の炎形状立体模型がホログラムフィルムに書込まれるようにしたものである。
【００１０】
また、光源系と、光源系から分岐された第１の光から参照光を発生する参照光系と、光源系から分岐された第２の光から物体光を発生する物体光系と、参照光及び物体光が干渉して書込まれる透過ホログラムとしてのホログラムフィルムとを具備し、物体光系の光路中に炎形状立体模型及び炎形状立体模型に応じたマスクを載置し、異なる炎形状立体模型がホログラムフィルムに書込まれるようにしたものである。
【００１１】
さらに、透過ホログラム書込みユニットであって、光源系と、光源系から分岐された第１の光から参照光を発生する参照光系と、光源系から分岐された第２の光から物体光を発生する物体光系と、参照光及び物体光が干渉して書込まれる透過ホログラムとしてのホログラムフィルムとを具備し、光源系の光源の中心光波長を変更し、物体光系の光路中に中心光波長毎に炎形状立体模型を載置し、異なる炎形状立体模型がホログラムフィルムに書込まれるようにしたものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、出力レベルに応じた完全な立体性を有する再生立体炎マークを表示でき、しかも、遠くからもかついかなる方向からも認識できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る誘導加熱装置の第１の実施の形態を示す部分断面図である。
【図２】図１の透過ホログラム書込みユニットの第１の例を示す図である。
【図３】図１の透過ホログラム書込みユニットの第２の例を示す図である。
【図４】本発明に係る誘導加熱装置の第２の実施の形態を示す部分断面図である。
【図５】図４の透過ホログラム書込みユニットの一例を示す図である。
【図６】本発明に係る誘導加熱装置の第３の実施の形態を示す部分断面図である。
【図７】図６の透過ホログラム書込みユニットの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
図１は本発明に係る誘導加熱装置の第１の実施の形態を示す部分断面図である。
【００１５】
図１において、誘導加熱装置は、本体１、本体１上部に設けられたトッププレート２及びトッププレート２に負荷として載置される鍋３よりなる。トッププレート２は耐熱性ガラスよりなる。
【００１６】
本体１には、電源スイッチ、出力調整ボタン等よりなる操作盤１１、操作盤１１に接続された制御回路（たとえばマイクロコンピュータ）１２、電磁誘導加熱コイル１３及び発光ダイオード（LED）素子１４が設けられ、他方、トッププレート２の裏面には透過ホログラム２１が設けられている。
【００１７】
制御回路１２は操作盤１１の電源スイッチのオンかつ出力調整ボタンによる出力レベルに応じて電磁誘導加熱コイル１３への高周波電流を制御する。
【００１８】
制御回路１２は操作盤１１の電源スイッチのオンに応じてLED素子１４をオンにする。他方、透過ホログラム２１には、後述するように、予め複数の立体炎マークが書込まれており、LED素子１４からの再生光ＲＲによって複数の再生立体炎マーク４がトッププレート２上に再生される。この場合、LED素子１４の中心光波長はたとえば赤色の場合630nmであり、後述の書込み用レーザ光の波長647nmに近いものである。また、LED素子１４の透過ホログラム２１の中心への角度θは書込み用レーザ光の参照光Ｒの透過ホログラム２１の中心への角度（図２、図３参照）とほぼ同一になるように設定する。
【００１９】
図２は図１の透過ホログラム書込みユニットの第１の例を示す図である。この透過ホログラム書込みユニットは光学分割系の干渉露光装置によって構成されている。
【００２０】
図２において、透過ホログラム書込みユニットは、光源系Ｓ１、光源系Ｓ１の光から参照光Ｒを発生する参照光系Ｓ２、光源系Ｓ１の同一光から物体光Ｏを発生する物体光系Ｓ３、及び参照光Ｒと物体光Ｏとが干渉して書込まれる図１の透過ホログラム２１を構成するホログラムフィルム４０１及びホログラムフィルム４０１を支持するガラス４０２よりなる。
【００２１】
光源系Ｓ１は、波長647nmの赤色クリプトンレーザ光源１０１及びハーフミラー１０２よりなり、レーザ光源１０１の赤色レーザ光ＲＬはハーフミラー１０２によって参照光系Ｓ２と物体光系Ｓ３に分岐される。また、これらの光軸上にホログラムフィルム４０１を配置する。ホログラムフィルム４０１は赤色光を受けてポリマーとなる感光性モノマーよりなる。感光性モノマーはたとえばデュポン製フォトポリマーOmnidex（商標）、他の銀塩剤等のフォトポリマーである。
【００２２】
参照光系Ｓ２は、ミラー２０１、凸レンズ２０２、ピンホール２０３及び凸レンズ２０４よりなり、参照光Ｒはホログラムフィルム４０１の中心に角度θで入射するように設定される。上述したように、この入射角度θは図１のLED素子１４の透過ホログラム２１への入射角度θとほぼ同一である。２つの凸レンズ２０２、２０４の曲率は、参照光Ｒがホログラムフィルム４０１のサイズもしくはそれより少し大きいサイズとなるように、調整されている。
【００２３】
他方、物体光系Ｓ３は、ミラー３０１、凸レンズ３０２、ピンホール３０３、凸レンズ３０４及び複数のレンズ（複眼レンズ）を組合わせた反射鏡３０５よりなり、凸レンズ３０４と反射鏡３０５との間には、炎形状立体模型Ｍが載置されている。
【００２４】
炎形状立体模型Ｍ及び反射鏡３０５を反射した物体光Ｏは参照光Ｒと干渉してホログラムフィルム４０１に入射することにより、炎形状立体模型Ｍを露光して得られた３次元情報がホログラムフィルム４０１に書込まれて透過ホログラム２１を得ることになる。これにより、反射鏡３０５の複眼レンズのレンズ数だけ炎形状立体模型Ｍが透過ホログラム２１に書込まれることになる。
【００２５】
図２の透過ホログラム書込みユニットによって書込まれたホログラムフィルム４０１をガラス４０２から剥がして透過ホログラム２１を得る。この透過ホログラム２１を図１の誘導加熱装置のトッププレート２の裏面に載置すると、各複眼レンズに対応する広い視域から複数の再生立体炎マーク４（図１では、便宜上１つの再生立体炎マークのみを図示）が観察できる。また、これらの再生立体炎マーク４はトッププレート２から浮き上がったように観察でき、この場合の浮き上がり量は図２の炎形状立体模型Ｍとホログラムフィルム４０１との光路長分である。従って、この光路長を大きくすれば浮き上がり量も大きくなるが、その分、再生立体炎マーク４のぼけがひどくなり鮮明でなくなる。但し、図１の再生立体炎マーク４は元々鮮明さを要求していないので多少のぼけは使用者に大きな違和感を与えない。
【００２６】
図３は図１の透過ホログラム書込みユニットの第２の例を示す図である。図３においては、図２の物体光系Ｓ３の代りに物体光系Ｓ３’が設けられている。
【００２７】
すなわち、物体光系Ｓ３’においては、図２のミラー３０１及び反射鏡３０５は存在せず、凸レンズ３０２とホログラムフィルム４０１との間の光路に炎形状立体模型Ｍを設ける。この結果、炎形状立体模型Ｍを反射した物体光Ｏは参照光Ｒと干渉してホログラムフィルム４０１に入射することにより、炎形状立体模型Ｍを露光して得られた３次元情報がホログラムフィルム４０１に書込まれて透過ホログラム２１を得ることになる。このとき、図３に図示のごとく、炎形状立体模型Ｍを上下方向及び／または左右方向に相対的に移動することにより複数回露光する。移動中は図示していないシャッターによりレーザ光源からの光を遮断し、参照光、物体光が当たらないようにしている。この結果、移動した炎形状立体模型Ｍの数だけ炎形状立体模型Ｍが透過ホログラム２１に書込まれることになる。
【００２８】
図３の透過ホログラム書込みユニットによって書込まれたホログラムフィルム４０１をガラス４０２から剥がして透過ホログラム２１を得る。この透過ホログラム２１を図１の誘導加熱装置のトッププレート２の裏面に載置すると、複数の炎形状立体模型Ｍに対応する広い視域から複数の再生立体炎マーク４（図１では、便宜上１つの再生立体炎マークのみを図示）が観察できる。また、これらの再生立体炎マーク４はトッププレート２から浮き上がったように観察でき、この場合の浮き上がり量は図３の炎形状立体模型Ｍとホログラムフィルム４０１との光路長分である。従って、この光路長を大きくすれば浮き上がり量も大きくなるが、その分、再生立体炎マーク４のぼけがひどくなり鮮明でなくなる。但し、図１の再生立体炎マーク４は元々鮮明さを要求していないので多少のぼけは使用者に大きな違和感を与えない。
【００２９】
尚、図１においては、LED素子１４の数を複数個配置することにより視域を広げることができる。また、LED素子１４の光を複眼レンズを有する反射鏡を介して照射することによりLED素子１４の数を少なくして複眼レンズの数だけLED素子１４を配置したことにより視域を広げることができる。
【００３０】
図４は本発明に係る誘導加熱装置の第２の実施の形態を示す部分断面図であり、（Ａ）、（Ｂ）は同一図面であるが、（Ａ）はLED素子１４の輝度が低い場合、（Ｂ）はLED素子１４の輝度が高い場合を示す。尚、LED素子１４は砲弾型であれば、正面が高くかつ周辺が低い輝度の配向分布（ガウシアン分布）を示す。
【００３１】
すなわち、操作盤１１の電源スイッチがオンかつ出力調整ボタンによる出力レベルが低レベルのときには、制御回路１２はLED素子１４の輝度を低くする。この結果、図４の（Ａ）に示すごとく、LED素子１４の輝度が低いと、周辺の輝度が相対的に低い再生光ＲＲ−１は透過ホログラム２１の中央部しかホログラムを作るのに十分な輝度で照射せず、従って、透過ホログラム２１の中央部に予め書込まれた小型の再生立体炎マーク４−１が再生される。
【００３２】
他方、操作盤１１の電源スイッチがオンかつ出力調整ボタンによる出力レベルが高レベルのときには、制御回路１２は電磁誘導加熱コイル１３の加熱を高レベルにすると共にLED素子１４の輝度を高くする。この結果、図４の（Ｂ）に示すごとく、LED素子１４の輝度が高いと、周辺の輝度も相対的に高い再生光ＲＲ−２は透過ホログラム２１の全体を照射し、従って、透過ホログラム２１全体に予め書込まれた大型の再生立体炎マーク４−２が再生される。このとき、小型の再生立体炎マーク４−１も再生されるが、大型の再生立体炎マーク４−２に隠れてしまい、使用者にとっては大型の再生立体炎マーク４−２のみが再生されているように観察される。つまり、図４においては、LED素子１４の輝度を変化させることで、実質的に透過ホログラム２１への再生光ＲＲ−２の照射範囲を変化させている。また、制御回路１２が電磁誘導加熱コイル１３の加熱レベルと共にLED素子１４の照射範囲を制御することで、加熱レベルに応じた再生立体炎マーク４を表示することが可能となる。
【００３３】
図５は図４の透過ホログラム書込みユニットの一例を示す図であって、（Ａ）は露光される炎形状立体模型が小型の場合、（Ｂ）は露光される炎形状立体模型が大型の場合を示し、２回露光するようにしたものである。
【００３４】
１回目露光の場合を図５の（Ａ）を参照して説明する。
【００３５】
図５の（Ａ）においては、物体光系Ｓ３−１が、凸レンズ３０２、ピンホール３０３、凸レンズ３０４及びマスク３０６−１により構成され、凸レンズ３０４とマスク３０６−１との間に小型の炎形状立体模型Ｍ−１を設ける。この場合、マスク３０６−１は物体光Ｏの一部を遮光するように設けられ、図５の（Ａ）においては、物体光Ｏの外周部が遮光させられ、中央部のみが光透過可能となっている。この結果、炎形状立体模型Ｍ−１を反射した物体光Ｏは参照光Ｒと干渉してホログラムフィルム４０１に入射することにより、炎形状立体模型Ｍ−１を露光して得られた３次元情報がホログラムフィルム４０１に書込まれて透過ホログラム２１を得ることができる。
【００３６】
２回目露光の場合を図５の（Ｂ）を参照して説明する。
【００３７】
図５の（Ｂ）においては、物体光系Ｓ３−２が、凸レンズ３０２、ピンホール３０３、凸レンズ３０４及びマスク３０６−２により構成され、凸レンズ３０４とマスク３０６−２との間に図５の（Ａ）にて用いた小型の炎形状立体模型Ｍ−１よりも大型の炎形状立体模型Ｍ−２を設ける。この場合、マスク３０６−２は図５の（Ａ）においてマスク３０６−１で物体光が遮光されていた周辺部のみが光透過可能となっている。この結果、炎形状立体模型Ｍ−２を反射した物体光Ｏは参照光Ｒと干渉してホログラムフィルム４０１に入射することにより、炎形状立体模型Ｍ−２を露光して得られた３次元情報がホログラムフィルム４０１に書込まれて透過ホログラム２１を得ることができる。
【００３８】
このようにして、２回露光することにより、２つの炎形状立体模型Ｍ−１、Ｍ−２が透過ホログラム２１に書込まれることになる。
【００３９】
図５の透過ホログラム書込みユニットによって書込まれたホログラムフィルム４０１をガラス４０２から剥がして透過ホログラム２１を得る。この透過ホログラム２１を図４の誘導加熱装置のトッププレート２の裏面に載置すると、複数の炎形状立体模型Ｍ−１、Ｍ−２に対応する広い視域から複数の再生立体炎マーク４−１、４−２が観察できる。また、これらの再生立体炎マーク４−１、４−２はトッププレート２から浮き上がったように観察でき、この場合の浮き上がり量は図５の炎形状立体模型Ｍ−１、Ｍ−２とホログラムフィルム４０１との光路長分である。従って、この光路長を大きくすれば浮き上がり量も大きくなるが、その分、再生立体炎マーク４−１、４−２のぼけがひどくなり鮮明でなくなる。但し、図４の再生立体炎マーク４−１、４−２は元々鮮明さを要求していないので多少のぼけは使用者に大きな違和感を与えない。
【００４０】
尚、図４においても、LED素子１４の数を複数個配置することにより視域を広げることができる。また、LED素子１４の光を複眼レンズを有する反射鏡を介して照射することによりLED素子１４の数を少なくして複眼レンズの数だけLED素子１４を配置したことにより視域を広げることができる。このとき、複眼レンズを構成する各レンズの焦点位置が透過ホログラム２１の中央付近に合うよう設定されていることが望ましい。
【００４１】
また、図５においては、炎形状立体模型の数を３以上とすると共に、マスクのパターンを３以上にすることにより、３回以上露光して、図４の再生立体炎マークを３以上たとえば、強火、中火、弱火、とろ火等の炎マークにすることもできる。
【００４２】
さらに、図４においては、LED素子１４の輝度を変化させることにより透過ホログラム２１への照射領域を変化させたが、これに限らず、LED素子１４の照射範囲を変化させられればよい。たとえば、LED素子１４は複数個有り、操作盤１１への操作により制御回路１２がオンとするLED素子１４の数を変化させることによって照射範囲を変えてもかまわない。ただし、この場合には複数のLED素子１４をできる限り密着させる必要がある。
【００４３】
図６は本発明に係る誘導加熱装置の第３の実施の形態を示す部分断面図であり、図１、図４のLED素子１４の代りに2IN1型の青色／赤色LED素子１４’を設けてある。（Ａ）、（Ｂ）は同一図面であるが、（Ａ）は青色／赤色LED素子１４’の青色LED素子がオンとなった場合、（Ｂ）は青色／赤色LED素子１４’の赤色LED素子がオンとなった場合を示す。また、透過ホログラム２１は感度波長が広いもの、たとえば青色光及び赤色光に感度を有するものである。
【００４４】
すなわち、操作盤１１の電源スイッチがオンかつ出力調整ボタンによる出力レベルが低レベルのときには、制御回路１２は電磁誘導加熱コイル１３の加熱を低レベルにすると共に青色／赤色LED素子１４’の青色LED素子のみをオンにする。この結果、図６の（Ａ）に示すごとく、青色／赤色LED素子１４’の配光ＲＲ−Ｂは青色光となり、従って、青色レーザ光によって予め書込まれた小型の再生立体炎マーク４−１が再生される。尚、青色LED素子の中心光波長は後述の書込み用青色レーザ光の波長440nm（図７の（Ａ）参照）に近いものである。
【００４５】
他方、操作盤１１の電源スイッチがオンかつ出力調整ボタンによる出力レベルが高レベルのときには、制御回路１２は電磁誘導加熱コイル１３の加熱を高レベルにすると共に青色／赤色LED素子１４’の赤色LED素子のみをオンにする。この結果、図６の（Ｂ）に示すごとく、青色／赤色LED素子１４’の配光ＲＲ−Ｒは赤色光となり、従って、赤色レーザ光によって予め書込まれた大型の再生立体炎マーク４−２が再生される。このとき、小型の再生立体炎マーク４−１も再生されるが、大型の再生立体炎マーク４−２に隠れてしまい、使用者にとっては大型の再生立体炎マーク４−２のみが再生されているように観察される。尚、赤色LED素子の中心光波長は630nmであり、後述の書込み用赤色レーザ光の波長647nm（図７の（Ｂ）参照）に近いものである。
【００４６】
つまり、図６においては、LED素子１４の波長を変化させることにより、透過ホログラム２１が再生する再生立体炎マーク４を切り替えている。また、制御回路１２が電磁誘導加熱コイル１３の加熱レベルと共にLED素子１４の発光波長を制御することにより、加熱レベルに応じた再生立体炎マーク４を表示することが可能となる。
【００４７】
図７は図６の透過ホログラム書込みユニットの一例を示す図であって、（Ａ）は露光される炎形状立体模型が小型の場合、（Ｂ）は露光される炎形状立体模型が大型の場合を示し、２回露光するようにしたものである。
【００４８】
１回目露光の場合を図７の（Ａ）を参照して説明する。
【００４９】
図７の（Ａ）においては、光源系Ｓ１’を設け、光源系Ｓ１’のレーザ光源１０１’を波長440nmの青色レーザ光ＢＬを発生する。また、物体光系Ｓ３−１’が、凸レンズ３０２、ピンホール３０３及び凸レンズ３０４により構成され、凸レンズ３０４とホログラムフィルム４０１との間に小型の炎形状立体模型Ｍ−１を設ける。この結果、炎形状立体模型Ｍ−１を反射した物体光Ｏは参照光Ｒと干渉してホログラムフィルム４０１に入射することにより、炎形状立体模型Ｍ−１を露光して得られた３次元情報がホログラムフィルム４０１に書込まれて透過ホログラム２１を得ることができる。
【００５０】
２回目露光の場合を図７の（Ｂ）を参照して説明する。
【００５１】
図７の（Ｂ）においては、光源系Ｓ１は図２、図３、図５と同一のレーザ光源１０１を有し、波長647nmの赤色レーザ光ＲＬを発生する。また、物体光系Ｓ３−２’が、凸レンズ３０２、ピンホール３０３及び凸レンズ３０４により構成され、凸レンズ３０４とホログラムフィルム４０１との間に大型の炎形状立体模型Ｍ−２を設ける。この結果、炎形状立体模型Ｍ−２を反射した物体光Ｏは参照光Ｒと干渉してホログラムフィルム４０１に入射することにより、炎形状立体模型Ｍ−２を露光して得られた３次元情報がホログラムフィルム４０１に書込まれて透過ホログラム２１を得ることができる。
【００５２】
このようにして、２回露光することにより、２つの炎形状立体模型Ｍ−１、Ｍ−２が透過ホログラム２１に書込まれることになる。
【００５３】
図７の透過ホログラム書込みユニットによって書込まれたホログラムフィルム４０１をガラス４０２から剥がして透過ホログラム２１を得る。この透過ホログラム２１を図６の誘導加熱装置のトッププレート２の裏面に載置すると、炎形状立体模型Ｍ−１、Ｍ−２に対応する広い視域から複数の再生立体炎マーク４−１、４−２が観察できる。また、これらの再生立体炎マーク４−１、４−２はトッププレート２から浮き上がったように観察でき、この場合の浮き上がり量は図６の炎形状立体模型Ｍ−１、Ｍ−２とホログラムフィルム４０１との光路長分である。従って、この光路長を大きくすれば浮き上がり量も大きくなるが、その分、再生立体炎マーク４−１、４−２のぼけがひどくなり鮮明でなくなる。但し、図６の再生立体炎マーク４−１、４−２は元々鮮明さを要求していないので多少のぼけは使用者に大きな違和感を与えない。
【００５４】
尚、図６においても、青色／赤色LED素子１４’の数を複数個配置することにより視域を広げることができる。また、青色／赤色LED素子１４’の光を複眼レンズを有する反射鏡を介して照射することにより青色／赤色LED素子１４’の数を少なくして複眼レンズの数だけ青色／赤色LED素子１４’を配置したことにより視域を広げることができる。
【００５５】
また、図６においては、2IN1型の青色／赤色LED素子１４’を用いたが、青色LED素子と赤色LED素子を別に用意し、操作盤１１への操作により制御回路１２がオンとするLED素子１４’を切り替えることで照射光の波長を変えてもよい。さらに、LED素子を別々に用意し、青色LED素子から透過ホログラム２１への入射角度θと赤色LED素子から透過ホログラム２１への入射角度θを異なってしまう場合がある。この場合、図７の（Ａ）における参照光Ｒの透過ホログラム２１の中心への入射角度θと図７の（Ｂ）における参照光Ｒの透過ホログラム２１の中心への入射角度θを、図６の青色LED素子と赤色LED素子からのそれぞれの透過ホログラム２１への入射角度θとほぼ同一になるように設定することが望ましい。
【００５６】
さらに、図７においては、炎形状立体模型の数を３以上とすると共に、波長が異なるレーザ光源の種類及び再生光の種類をそれぞれ３以上にすることにより、３回以上露光して、図６の再生立体炎マークを３以上たとえば、強火、中火、弱火、とろ火等の炎マークにすることもできる。
【００５７】
さらに、図７において、１枚のホログラムフィルム４０１に炎形状立体模型Ｍ−１、Ｍ−２に書込んでいるが、炎形状立体模型Ｍ−１用のホログラムフィルムと炎形状立体模型Ｍ−２用のホログラムフィルムとを別個に設け、書込み後に２つのホログラムフィルムを貼り合わせて一枚の透過ホログラム２１としてもよい。
【００５８】
さらに、図２、図３、図５、図７において、参照光Ｒと物体光Ｏとの光強度比は、好ましくは、２：１〜１０：１であり、参照光Ｒと物体光Ｏとの光強度の和はたとえば1mJ/cm2、照射時間はたとえば30秒である。また、上述のデュポン製フォトポリマーは120℃にて2時間アニール処理することにより高回折効率化できる。
【００５９】
さらに、図１、図４及び図６においては、透過ホログラム２１はトッププレート２の裏面に貼り付けてあるが、トッププレート２の上面に貼り付けてもよい。
【００６０】
さらに、図２、図３、図５及び図７の透過ホログラム書込みユニットにおけるハーフミラー１０２はビームスプリッタでもよい。
【００６１】
さらに、図１、図４及び図６において、光源としてのLED素子１４及び青色／赤色LED素子１４’は、透過ホログラム２１へ所定方向から照射する配置再生立体炎マークをなるべく明瞭に表示する点で優れているが、他の点光源たとえば小型電球でもよい。また、光波長も特に制限されないが、再生立体炎マークのイメージから、赤色、アンバー色、黄色、青色等の方が好ましく、特に、明瞭に認識し易い赤色が好ましい。尚、緑色は人間の視感度が高くかつ透過ホログラム２１を形成し易いが、再生立体炎マークのイメージから遠い。また、LED素子１４及び青色／赤色LED素子１４’と透過ホログラム２１との距離は、再生立体炎マークの浮き上がり量に依存するので、ある程度必要である。たとえば、LED素子１４及び青色／赤色LED素子１４’の大きさが10mm径程度であれば、上述の距離は100mm程度である。さらに、LED素子１４及び青色／赤色LED素子１４’の再生光のみが透過ホログラム２１に照射されたときに、再生立体炎マークが表示され、誘導加熱装置の外部からの光が透過ホログラム２１に照射しても誤動作しない。さらにまた、図１、図４及び図６の光源の各中心光波長は透過ホログラム書込みユニットのレーザ光源の中心光波長と理想的には一致すべきであり、同一のレーザ光源を用いるのが理想であるが、再生立体炎マークは元々鮮明さを要求していないので、LED素子１４及び青色／赤色LED素子１４’で十分であり、製造コストの点で有利である。但し、LED素子１４及び青色／赤色LED素子１４’の中心光波長とこれに対応する透過ホログラム書込みユニットのレーザ光源の中心光波長との差は±50nm以内である必要がある。
【符号の説明】
【００６２】
１：本体
２：トッププレート
３：鍋
４：再生立体炎マーク
１１：操作盤
１２：制御回路
１３：電磁誘導加熱コイル
１４：LED素子
１４’：青色／赤色LED素子
２１：透過ホログラム
Ｓ１、Ｓ１’：光源系
１０１、１０１’：レーザ光源
１０２：ハーフミラー
Ｓ２：参照光系
２０１：ミラー
２０２：凸レンズ
２０３：ピンホール
２０４：凸レンズ
Ｓ３、Ｓ３’、Ｓ３−１、Ｓ３−２：物体光系
３０１：ミラー
３０２：凸レンズ
３０３：ピンホール
３０４：凸レンズ
４０１：ホログラムフィルム
４０２：ガラス
Ｒ：参照光
Ｏ：物体光
ＲＲ、ＲＲ−１、ＲＲ−２、ＲＲ−Ｂ、ＲＲ−Ｒ：再生光
Ｍ−１、Ｍ−２：炎形状立体模型
ＲＬ：赤色レーザ光
ＢＬ：青色レーザ光
【図１】
0005660935.tif 000002
【図２】
0005660935.tif 000003
【図３】
0005660935.tif 000004
【図４】
0005660935.tif 000005
【図５】
0005660935.tif 000006
【図６】
0005660935.tif 000007
【図７】
0005660935.tif 000008