(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融スズ槽の内部に収容された溶融スズ上にガラスをフローティングしてフロートガラスを製造するフロートガラスの製造方法であって、
ａ）前記溶融スズ槽の下流領域から溶融スズの一部を前記溶融スズ槽の外部に排出するステップ；
ｂ）前記溶融スズ槽の大気から分離している独立的な空間に前記排出された溶融スズを収容するステップ；
ｃ）水素を含む酸素除去ガスを前記独立的な空間に収容された溶融スズ内に噴射して前記溶融スズに含まれた酸素を除去するステップ；
ｄ）前記酸素が除去された溶融スズを加熱するステップ；および
ｅ）前記加熱された溶融スズを前記溶融スズ槽の上流領域に復帰させるステップを含むことを特徴とするフロートガラスの製造方法。
【請求項２】
前記ａ）ステップにおいては、前記溶融スズ槽の全領域のうちの溶融スズの温度が７００〜１０００℃である領域から前記溶融スズ槽の溶融スズを排出する、請求項１に記載のフロートガラスの製造方法。
【請求項３】
前記ｃ）ステップの酸素除去ガスは、流量が０．２〜２Ｎｍ３／ｈｒであり、圧力が２〜５ｋｇｆ／ｃｍ２であり、温度が３００〜５００℃である、請求項１に記載のフロートガラスの製造方法。
【請求項４】
前記ｃ）ステップの酸素除去ガスは不活性ガスをさらに含む、請求項１に記載のフロートガラスの製造方法。
【請求項５】
前記ｃ）ステップの酸素除去ガスの前記不活性ガスと前記水素ガスの混合比率は、体積を基準に、９０〜１００未満：０超過〜１０である、請求項４に記載のフロートガラスの製造方法。
【請求項６】
前記ｃ）ステップにおいては、水素を含む酸素除去ガスを前記溶融スズにバブリングさせて前記溶融スズの温度を下げることにより、前記溶融スズに含まれた酸素の飽和溶解度を減少させて前記溶融スズに含まれた酸素を除去する、請求項１に記載のフロートガラスの製造方法。
【請求項７】
前記ｃ）ステップにおいてバブリング処理された溶融スズの温度は４００〜７００℃である、請求項６に記載のフロートガラスの製造方法。
【請求項８】
前記ｃ）ステップにおいては、前記溶融スズに含まれた酸素と前記水素が反応して水（Ｈ２Ｏ）が生成されることによって前記溶融スズに含まれた酸素を除去する、請求項１に記載のフロートガラスの製造方法。
【請求項９】
前記加熱された溶融スズの温度は１２００〜１４００℃である、請求項１に記載のフロートガラスの製造方法。
【請求項１０】
前記ｅ）ステップにおいては、前記溶融スズ槽の全領域のうちの溶融スズの温度が１２００〜１４００℃である領域に前記酸素が除去された溶融スズを復帰させる、請求項１に記載のフロートガラスの製造方法。
【請求項１１】
溶融スズ槽の内部に収容された溶融スズ上にガラスをフローティングしてフロートガラスを製造するフロートガラスの製造装置であって、
溶融スズ槽；
前記溶融スズ槽の下流領域と連通するように連結され、前記下流領域の溶融スズの一部を前記溶融スズ槽の外部に排出させる排出ライン；
前記溶融スズ槽の大気から分離している独立的な空間を有し、前記排出ラインに連結されて前記排出ラインを介し、前記溶融スズ槽から排出された溶融スズを前記独立的な空間に収容する酸素除去チャンバー；
前記酸素除去チャンバーの底部に備えられ、前記酸素除去チャンバー内の溶融スズに水素を含む酸素除去ガスを噴射する噴射装置；
前記酸素除去チャンバーと連通して、前記酸素除去チャンバーから流入した酸素が除去された溶融スズを加熱する加熱装置を含む加熱チャンバー；および
前記加熱チャンバーで加熱された溶融スズを前記溶融スズ槽の上流領域に復帰させる復帰ラインを含むフロートガラスの製造装置。
【請求項１２】
前記排出ラインは、前記溶融スズ槽の全領域のうちの溶融スズの温度が７００〜１０００℃である領域に連結されている、請求項１１に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項１３】
前記噴射装置は、前記酸素除去チャンバー内の溶融スズの温度を低下させて前記溶融スズに含まれた酸素の飽和溶解度を減少させることにより、前記溶融スズに含まれた酸素が除去されるように、水素を含む酸素除去ガスを前記酸素除去チャンバーの内部に収容された溶融スズにバブリングさせるバブリング装置である、請求項１１に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項１４】
前記バブリング装置は、０．２〜２Ｎｍ３／ｈｒの流量と、２〜５ｋｇｆ／ｃｍ２の圧力で、温度が３００〜５００℃である酸素除去ガスを供給する、請求項１３に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項１５】
前記酸素除去ガスは不活性ガスをさらに含む、請求項１１に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項１６】
前記酸素除去ガスの前記不活性ガスと前記水素ガスの混合比率は、体積を基準に、９０〜１００未満：０超過〜１０である、請求項１５に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項１７】
前記バブリング装置は多孔性部材を含む、請求項１３に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項１８】
前記多孔性部材は平板状であり、
前記多孔性部材に形成された孔は、前記多孔性部材の板面に対して垂直である垂直線に対して傾斜するように形成されている、請求項１７に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項１９】
前記多孔性部材はセラミック材質からなる、請求項１７に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項２０】
前記酸素除去チャンバーに連結され、前記バブリング装置によってバブリングされる前記酸素除去ガスを前記酸素除去チャンバーの内部に供給するガス供給ラインをさらに含む、請求項１３に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項２１】
前記バブリング装置によってバブリング処理された前記酸素除去チャンバー内部の溶融スズの温度は４００〜７００℃である、請求項１３に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項２２】
前記酸素除去チャンバーの内部において、前記溶融スズに含まれた酸素と前記水素が反応して水（Ｈ２Ｏ）が生成されることにより、前記溶融スズに含まれた酸素を除去する、請求項１１に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項２３】
前記酸素除去チャンバーには、前記水（Ｈ２Ｏ）が水蒸気形態で前記酸素除去チャンバーの外部に排出される排出口が備えられている、請求項２２に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項２４】
前記加熱チャンバーで加熱された溶融スズの温度は１２００〜１４００℃である、請求項１１に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項２５】
前記加熱チャンバーと前記酸素除去チャンバーは一体型であって、隔壁によって前記加熱チャンバーと前記酸素除去チャンバーに区切られ、
前記隔壁には、前記酸素除去チャンバーで前記酸素が除去された溶融スズが前記加熱チャンバーに移動できるように貫通口が形成されている、請求項１１に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項２６】
前記貫通口は、前記酸素除去チャンバーに収容された溶融スズの水位より低い位置に位置するように前記隔壁に形成されている、請求項２５に記載のフロートガラスの製造装置。
【請求項２７】
前記復帰ラインは、前記溶融スズ槽の全領域のうちの溶融スズの温度が１２００〜１４００℃である領域に前記酸素が除去された溶融スズを復帰させる、請求項１１に記載のフロートガラスの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶融スズ槽の内部に収容された溶融スズ上にガラスをフローティングしてフロートガラスを製造するにおいて、溶融スズ槽内の溶存酸素量を減少させることができるフロートガラスの製造方法およびその製造装置に関する。本出願は２００８年１０月２日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２００８−００９７３７３号の出願日の優先権を主張し、その内容の全ては本明細書に含まれる。
【背景技術】
【０００２】
フロートガラスは、通常のフロート法（ｆｌｏａｔ  ｐｒｏｃｅｓｓ）を利用して製造する。すなわち、溶融スズ槽の内部に収容された比重の大きい溶融スズの上部に、溶融したガラスを注入して凹凸のない板ガラスを生産するフロート法を利用して製造する。
【０００３】
しかし、溶融スズ槽を利用した板ガラスの生産時、スズの酸化物またはスズ内に溶存している酸素による気泡不良が既存の生産方式では大きな技術的問題となってきた。
【０００４】
そこで、これを解決するために、溶融スズ槽の大気を酸素のない雰囲気に維持し、大気が流入しないようにシーリング（Ｓｅａｌｉｎｇ）して、スズの内部に酸素が溶存することを防止する技術が開発されたが、これではスズ内に溶存している酸素を十分に除去することが容易ではないために製品不良率を低下するのに困難があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、溶融スズ槽内の溶融スズの溶存酸素量を温度に応じた酸素溶解度差と水素を含む酸素除去ガスによって溶融スズの酸素を効果的に除去して製品不良を減少できるフロートガラスの製造方法およびその製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、溶融スズ槽の内部に収容された溶融スズ上にガラスをフローティングしてフロートガラスを製造するフロートガラスの製造方法であって、ａ）前記溶融スズ槽の溶融スズの一部を前記溶融スズ槽の外部に排出するステップ；ｂ）前記溶融スズ槽から排出された溶融スズに含まれた酸素を除去するステップであって、水素を含む酸素除去ガスを前記溶融スズ内に噴射して前記溶融スズに含まれた酸素を除去するステップ；およびｃ）前記酸素が除去された溶融スズを前記溶融スズ槽に復帰させるステップを含むことを特徴とするフロートガラスの製造方法を提供する。
【０００７】
本発明は、溶融スズ槽の内部に収容された溶融スズ上にガラスをフローティングしてフロートガラスを製造するフロートガラスの製造装置であって、溶融スズ槽；前記溶融スズ槽の内部と連通するように連結され、前記溶融スズ槽の溶融スズの一部を前記溶融スズ槽の外部に排出させる排出ライン；前記排出ラインに連結するように備えられ、前記排出ラインを介し、前記溶融スズ槽から排出された溶融スズを収容する酸素除去チャンバー；前記酸素除去チャンバーの内部に備えられ、前記酸素除去チャンバー内の溶融スズに水素を含む酸素除去ガスを噴射する噴射装置；および前記噴射装置によって酸素が除去された溶融スズを前記溶融スズ槽に復帰させる復帰ラインを含むフロートガラスの製造装置を提供する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、溶融スズ槽内の溶存酸素量を減少できることにより、ティンドロップ（Ｔｉｎ  Ｄｒｏｐ）、ティンピックアップ（Ｔｉｎ  Ｐｉｃｋ−ｕｐ）、およびトップスペック（Ｔｏｐ  Ｓｐｅｃｋ）のようなスズ酸化物による不良と、気泡不良（Ｂｏｔｔｏｍ  Ｏｐｅｎ  Ｓｅｅｄ）を減少させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明に係る溶融スズ槽の平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線による酸素除去チャンバーと加熱チャンバーの断面図である。
【図３】図２の多孔性部材の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明に係るフロートガラスの製造方法は、溶融スズ槽の内部に収容された溶融スズ上にガラスをフローティングしてフロートガラスを製造するフロートガラスの製造方法であって、ａ）前記溶融スズ槽の溶融スズの一部を前記溶融スズ槽の外部に排出するステップ；ｂ）前記溶融スズ槽から排出された溶融スズに含まれた酸素を除去するステップであって、水素を含む酸素除去ガスを前記溶融スズ内に噴射して前記溶融スズに含まれた酸素を除去するステップ；およびｃ）前記酸素が除去された溶融スズを前記溶融スズ槽に復帰させるステップを含む。
【００１１】
本発明においては、溶融スズ内の酸素を除去する工程を、フロートガラスを製作する溶融スズ槽にて直接行うことなく、前記溶融スズ槽の外部にて進行することにより、溶融スズ槽内におけるフロートガラスの製作に影響を及ぼさず、効率的に溶融スズ内の酸素を除去することができる。
【００１２】
また、本発明は、溶融スズ内の酸素除去時、酸素除去ガスを利用すると同時に、前記酸素除去ガスを単に溶融スズの表面と接触させるのではなく、酸素除去ガスを溶融スズ内に噴射する方法を利用することを特徴とする。このように酸素除去ガスを溶融スズ内に噴射するのは、酸素除去を溶融スズ槽の外で遂行することによってより効率的に進行させることができる。すなわち、酸素除去を溶融スズ槽にて直接行う場合には、上記のように酸素除去ガスを溶融スズ内に噴射すればフロートガラス製作に影響を及ぼし得る。
【００１３】
本発明においては、酸素除去ガスを単に溶融スズの表面と接触することに止まらず、酸素ガスを溶融スズの内部に直接噴射することによってより効率的に酸素を除去することができる。具体的に説明すれば、酸素除去ガスを溶融スズの表面と単に接触する場合には、酸素除去ガスと溶融スズの接触面積が小さいだけでなく、酸素除去ガスが溶融スズ内の酸素を除去する前に溶融スズと接する雰囲気下で存在し得る酸素と先に反応するために酸素除去効率が落ちる。したがって、本発明による方法では、単に酸素除去ガスを溶融スズと接触させる技術に比べ、はるかに効率的に酸素を除去することができる。
【００１４】
前記ａ）ステップにおいて、溶融スズが排出される溶融スズ槽の領域が限定されるものではないが、前記溶融スズ槽の全領域のうちの溶融スズの温度が７００〜１０００℃である領域から前記溶融スズ槽の溶融スズを排出することができる。例えば、溶融スズ槽内の溶融スズ温度が６００〜８００℃である溶融スズ槽のコールドゾーン（Ｃｏｌｄ  Ｚｏｎｅ）から溶融スズを排出することができる。しかし、これに限定されるものではない。
【００１５】
前記ｂ）ステップの酸素除去ガスは、流量が０．２〜２Ｎｍ３／ｈｒであり、圧力が２〜５ｋｇｆ／ｃｍ２であり、温度が３００〜５００℃であり得る。ここで、前記流量および圧力は反応に必要な量と多孔層を通過できる基準に準じて設定した値であり、前記温度においては溶融スズの過冷を防止することができる。しかし、前記流量、圧力、温度の条件に限定されるものではなく、必要により様々に変更することができる。
【００１６】
前記ｂ）ステップの酸素除去ガスは不活性ガスをさらに含むことができる。前記不活性ガスとしては窒素が挙げられる。しかし、これに限定されるものではない。
【００１７】
純粋な水素ガスだけを使う場合には水素が溶融スズに溶存し得るが、水素ガス（Ｈ２）と共に不活性ガスを含む酸素除去ガスを使用すれば、水素ガスが溶融スズに溶存することを防止することができる。ここで、不活性ガスは排出口に排出されることができる。
【００１８】
前記ｂ）ステップの酸素除去ガスにおいて、前記不活性ガスと前記水素ガスの混合比率は、体積を基準に、９０〜１００未満：０超過〜１０であり得る。ここで、前記不活性ガスが窒素ガスである場合、窒素ガス：水素ガスは９０〜１００未満：０超過〜１０であり得る。一方、体積を基準に、窒素ガス：水素ガスは９０〜１００：０〜１０であり得る。
【００１９】
前記ｂ）ステップにおいては、前記溶融スズに含まれた酸素と前記水素が化学的に反応して水（Ｈ２Ｏ）が生成されることにより、前記溶融スズに含まれた酸素を除去することができる。
【００２０】
また、相対的に温度の低い酸素除去ガスによって溶融スズの温度を下げることにより、前記溶融スズに含まれた酸素の飽和溶解度を減少させて溶存酸素を抽出する物理的な効果も共に発生する。
【００２１】
酸素除去ガスを溶融スズと接触させる時に酸素除去ガスをバブリングさせる場合、酸素除去ガスのバブリングによって溶存酸素の抽出（ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ）がより容易になる。具体的には、バブリングによって発生した酸素除去ガスの気泡が溶融スズに含まれた酸素を吸収して浮上する。このように、バブリングされた酸素除去ガスによって溶融スズとの接触面積を増加させることができ、これにより、溶融スズ内の溶存酸素の化学的除去をより効率的に行うことができるだけでなく、すなわち、溶融スズの酸素と水素の反応によって水（Ｈ２Ｏ）が生成されることによって溶存酸素の除去をより効率的に行うことができるだけでなく、酸素除去ガスによる冷却効果により溶存酸素の飽和度を減少させて溶存酸素を抽出する物理的な機能もより効率的に行うことができる。
【００２２】
前記ｂ）ステップにおいて、バブリング処理された溶融スズの温度は４００〜７００℃であり得る。
【００２３】
前記ｂ）ステップにおいて、減少した酸素の飽和溶解度は数十ｐｐｍ以下であり得る。
【００２４】
前記溶融スズに含まれた酸素の飽和溶解度は、例えば、下記表１の通りである。
【００２５】
【表１】
0005743218.tif 000002
【００２６】
ここで、溶解度は、温度に応じた溶解度（熱力学データ）であって、バブリング後の最大酸素飽和度を意味する。
【００２７】
前記ｃ）ステップにおいては、前記酸素が除去された溶融スズを加熱した後、前記溶融スズ槽に復帰させることができる。
【００２８】
前記加熱された溶融スズの温度は１２００〜１４００℃であり得る。温度が十分に高くなければ、ガラス成形が始まる溶融スズの復帰領域の運転安定性が低下し得る。
【００２９】
前記ｃ）ステップにおいては、前記溶融スズ槽の全領域のうちの溶融スズの温度が１２００〜１４００℃である領域に前記酸素が除去された溶融スズを復帰させることができる。
【００３０】
本発明に係るフロートガラスの製造装置は、溶融スズ槽の内部に収容された溶融スズ上にガラスをフローティングしてフロートガラスを製造するフロートガラスの製造装置であって、溶融スズ槽；前記溶融スズ槽の内部と連通するように連結され、前記溶融スズ槽の溶融スズの一部を前記溶融スズ槽の外部に排出させる排出ライン；前記排出ラインに連結するように備えられ、前記排出ラインを介し、前記溶融スズ槽から排出された溶融スズを収容する酸素除去チャンバー；前記酸素除去チャンバーの内部に備えられ、前記酸素除去チャンバー内の溶融スズに水素を含む酸素除去ガスを噴射する噴射装置；および前記噴射装置によって酸素が除去された溶融スズを前記溶融スズ槽に復帰させる復帰ラインを含む。
【００３１】
前記排出ラインは、前記溶融スズ槽の全領域のうちの溶融スズの温度が７００〜１０００℃である領域に連結されることができる。
【００３２】
前記噴射装置は、前記酸素除去チャンバー内の溶融スズの温度を低下させて、前記溶融スズに含まれた酸素の飽和溶解度を減少させることにより、前記溶融スズに含まれた酸素が除去されるように、水素を含む酸素除去ガスを前記酸素除去チャンバーの内部に収容された溶融スズにバブリングさせるバブリング装置であり得る。
【００３３】
前記バブリング装置は、０．２〜２Ｎｍ３／ｈｒの流量と、２〜５ｋｇｆ／ｃｍ２の圧力で、温度が３００〜５００℃である酸素除去ガスを供給することができる。
【００３４】
前記酸素除去ガスは不活性ガスをさらに含むことができる。前記不活性ガスとしては窒素が挙げられる。しかし、これに限定されるものではない。
【００３５】
前記不活性ガスと前記水素ガスの混合比率は、体積を基準に、９０〜１００未満：０超過〜１０であり得る。ここで、前記不活性ガスが窒素ガスである場合、窒素ガス：水素ガスは９０〜１００未満：０超過〜１０であり得る。一方体積を基準に、窒素ガス：水素ガスは９０〜１００：０〜１０であり得る。
【００３６】
前記バブリング装置は多孔性部材を含むことができ、前記多孔性部材はセラミック材質からなってもよい。
【００３７】
前記多孔性部材の孔は板面に対して垂直方向に形成されてもよく、一方向に傾斜するように形成されてもよい（図３参照）。
【００３８】
前記多孔性部材の孔が斜線方向に傾斜するように形成されていれば、これを通過するバブリング酸素除去ガスの浮上軌跡が垂直方向に形成された孔より長くなり得るため、バブリング酸素除去ガスが溶融スズから浮上する経路（ｐａｔｈ）、すなわち、反応時間を延長させることができる。
【００３９】
また、溶融スズの表面に浮遊できる酸化スズをできるだけ一箇所に集まるようにできる流れを形成し、最終浮遊した酸化スズの除去が必要な場合、容易に酸化スズ浮遊層を除去することができる。
【００４０】
前記酸素除去チャンバーに連結され、前記バブリング装置によってバブリングされる前記酸素除去ガスを前記酸素除去チャンバーの内部に供給するガス供給ラインをさらに含むことができる。
【００４１】
前記バブリング装置によってバブリング処理された前記酸素除去チャンバー内部の溶融スズの温度は４００〜７００℃であり得る。
【００４２】
前記バブリング装置によってバブリング処理された溶融スズに含まれた酸素の飽和溶解度は数十ｐｐｍ以下であり得る。
【００４３】
前記酸素除去チャンバーの内部において、前記溶融スズに含まれた酸素と前記水素が反応して水（Ｈ２Ｏ）が生成されることにより、前記溶融スズに含まれた酸素を除去することができる。
【００４４】
前記酸素除去チャンバーには、前記水（Ｈ２Ｏ）が水蒸気形態で前記酸素除去チャンバーの外部に排出される排出口が備えられてもよい。
【００４５】
本発明に係るフロートガラスの製造装置は、前記酸素除去チャンバーと連結するように備えられ、前記酸素除去チャンバーで酸素が除去された溶融スズを加熱する加熱装置を含む加熱チャンバーをさらに含むことができる。
【００４６】
この場合、前記復帰ラインは前記加熱チャンバーと前記溶融スズ槽を連結するように備えられ、前記加熱チャンバーで加熱された溶融スズを前記溶融スズ槽に復帰させることができる。
【００４７】
前記加熱チャンバーで加熱された溶融スズの温度は１２００〜１４００℃であり得る。
【００４８】
前記加熱チャンバーと前記酸素除去チャンバーは別途に備えられて連結されるように構成することもでき、前記加熱チャンバーと前記酸素除去チャンバーが一体型であって、隔壁によって前記加熱チャンバーと前記酸素除去チャンバーに区切られることもできる。
【００４９】
前記隔壁には、前記酸素除去チャンバーで前記酸素が除去された溶融スズが前記加熱チャンバーに移動できるように貫通口が形成されてもよい。
【００５０】
前記貫通口は、前記酸素除去チャンバーに収容された溶融スズの水位より低い位置に位置するように前記隔壁に形成されてもよい。前記貫通口が溶融スズに浸る程度の位置に形成されることが好ましい。
【００５１】
酸素除去チャンバーにて溶融スズがバブリングされることにより、溶融スズの温度が低下し、これに応じて、酸化スズが表面に発生して浮遊し得るが、この浮遊する酸化スズ層が貫通口を通して加熱チャンバーへ移動することを防止するために、貫通口が溶融スズの水位より低く、例えば、溶融スズに浸る程度の位置に形成されることが好ましい。
【００５２】
一例として、貫通口はチャンバーの底面から一定高さに位置するように隔壁に形成されてもよい。
【００５３】
前記復帰ラインは、前記溶融スズ槽の全領域のうちの溶融スズの温度が１２００〜１４００℃である領域に前記酸素が除去された溶融スズを復帰させることができる。
【００５４】
このように、本発明の方法および装置によれば、酸素除去ガスを溶融スズに噴射して直接接触させる方法を利用することにより、溶融スズの酸素と水素の反応によって水（Ｈ２Ｏ）が生成される化学的反応によって溶存酸素を除去できるだけでなく、相対的に温度の低い酸素除去ガスによって溶融スズ内の溶存酸素を溶解度差によって排出することができ、これにより、溶融スズ槽内の溶存酸素量が減少する物理的な機能も共に発生する。
【００５５】
特に、酸素除去ガスを溶融スズと接触させる時に酸素除去ガスをバブリングさせる方法を利用する場合、酸素除去ガスのバブリングによって溶存酸素の抽出（ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ）がより容易になる。具体的には、バブリングによって発生した酸素除去ガスの気泡が溶融スズに含まれた酸素を吸収して浮上する。このように、バブリングされる酸素除去ガスは溶融スズとの接触面積がより広くなるため、溶融スズの溶存酸素の化学的除去、すなわち、溶融スズの酸素と水素の反応による水（Ｈ２Ｏ）の生成による酸素除去がより効率的に起こるだけでなく、酸素除去ガスによる冷却効果によって溶存酸素の飽和度を減少させて溶存酸素を抽出する物理的な機能もより効率的に行われる。
【００５６】
以下、添付図面を参照して本発明についてより詳細に説明する。
【００５７】
図１の溶融スズ槽の両側には、溶融スズ槽内の溶融スズに溶存している酸素を除去するための、酸素除去チャンバーおよび加熱チャンバーを含むストリッピングチャンバーが備えられている。図１には溶融スズ槽の両側にストリッピングチャンバーが１つずつ備えられているが、ストリッピングチャンバーの個数および設置位置は図面に示されたものに限定されない。
【００５８】
各ストリッピングチャンバーの溶融スズ流入側は、溶融スズ槽から排出された溶融スズを酸素除去チャンバーの内部に供給する排出ラインと連結されている。
【００５９】
各ストリッピングチャンバーの溶融スズ流出側は、酸素除去チャンバー内部において一定レベル以下、例えば、溶存酸素を数ｐｐｍ以下に酸素が除去された溶融スズを加熱する加熱チャンバーと溶融スズ槽を連結する復帰ラインに連結されている。
【００６０】
図２のストリッピングチャンバーは酸素除去チャンバーと加熱チャンバーが一体型であるチャンバーであって、隔壁と、隔壁によって区切られた酸素除去チャンバーおよび加熱チャンバーを含む。
【００６１】
隔壁は、酸素除去チャンバーの大気と加熱チャンバーの大気とを分離し、酸素除去に有利な大気条件と、酸素が除去された溶融スズの加熱過程における再酸化を抑制するための大気条件とを分離する役割をする。
【００６２】
隔壁には、酸素除去チャンバーで酸素が除去された溶融スズを加熱チャンバーに移動させる貫通口が形成されている。
【００６３】
貫通口は、酸素除去チャンバーに収容された溶融スズの水位より低い位置に位置するように隔壁に形成されることが好ましい。図２に示すように、貫通口が溶融スズに浸る程度の位置に形成されることが好ましい。
【００６４】
酸素除去チャンバーは、溶融スズ槽から排出された溶融スズに含まれた酸素を除去する領域である。
【００６５】
酸素除去チャンバーの一側には、溶融スズ槽と酸素除去チャンバーを連結する排出ラインが連結されている。
【００６６】
ここで、排出ラインは、溶融スズ槽内の溶融スズの流れを最大限に妨げないのであればその設置位置は限定されない。
【００６７】
酸素除去チャンバーの内部には、酸素除去ガスである窒素（Ｎ２）と水素（Ｈ２）の混合ガスを酸素除去チャンバー内に吹き込むバブリング装置が備えられている。また、前記混合ガスがバブリング装置を通過できるように、前記酸素除去チャンバーに混合ガスを供給するガス供給ライン（図示せず）が備えられている。
【００６８】
バブリング装置は、溶融スズに対して機械的および化学的耐久性のある多孔性部材であればいずれも使用することができる。
【００６９】
一例として、多孔性部材は複数の孔を有する多孔性セラミックプレートであってもよい。ここで、酸素除去チャンバーの内部に供給される窒素（Ｎ２）と水素（Ｈ２）の混合ガスは多孔性セラミックプレートの孔を通過するようになる。
【００７０】
多孔性部材の孔は、図３に示すように、斜線方向に傾斜するように形成されてもよい。
【００７１】
このように、バブリング装置によってバブリングされる窒素（Ｎ２）と水素（Ｈ２）の混合ガスにより、酸素除去チャンバー内に収容された溶融スズの溶存酸素を化学的に除去できるだけでなく、すなわち、溶融スズの酸素と水素の反応によって水（Ｈ２Ｏ）が生成されることによって溶存酸素を除去できるだけでなく、酸素除去チャンバーに導入される混合ガスによる冷却効果により、溶存酸素の飽和度を減少させて溶存酸素を抽出する物理的な機能も共に果たす。
【００７２】
前記過程によって生成される水（Ｈ２Ｏ）は酸素除去チャンバーの酸素除去領域で水蒸気形態に変換され、酸素除去チャンバーの上側に備えられた排出口を通して排出される。
【００７３】
加熱チャンバーは、酸素除去チャンバーで酸素が除去された溶融スズの温度とガラスが成形されている溶融スズ槽の溶融スズの温度を合わせるために、酸素除去チャンバーを通過した溶融スズを一定温度以上、例えば、１２００〜１４００℃以上に加熱する加熱領域である。
【００７４】
加熱チャンバーの内部には溶融スズを加熱するために複数の電気ヒータが備えられている。
【００７５】
ここで、電気ヒータとしては溶融スズ槽内の電気ヒータと同一または類似する種類の電気ヒータを使うことができる。
【００７６】
加熱チャンバーの一側には溶融スズ槽と加熱チャンバーを連結する復帰ラインが連結されている。
【００７７】
復帰ラインは、スズ深さ（ｄｅｐｔｈ）ができるだけ深いところ、例えば、深さが７０〜１００ｍｍで、溶融スズ槽内の溶融スズ温度が１２００〜１４００℃であるところに設置することが好ましいが、溶融スズ槽内の溶融スズの流れを最大限に妨げないのであればその設置位置は限定されない。
【００７８】
このように、本発明によれば、溶融スズ槽内の溶融スズの溶存酸素量を温度に応じた酸素溶解度差と水素を含む酸素除去ガスのバブリング（Ｂｕｂｂｌｉｎｇ）によって溶融スズの酸素を効果的に除去し、溶存酸素を数ｐｐｍ以下に減少させることができるので製品不良を減少させることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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