(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光、現像処理されてパターンマスクが形成された基板に対して、前記パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う装置において、
処理容器内に設けられ、前記基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された基板の中央部の温度が当該基板の周縁部の温度よりも高くなるように温度勾配を形成して、当該基板を加熱する基板加熱機構と、
前記ステージに載置された基板に対向して設けられ、前記パターンマスクを膨潤させる溶剤ガスを前記基板の表面に供給する溶剤ガス供給部と、
前記溶剤ガスを基板の周囲から排気する排気部と、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら前記排気部により排気する第１のステップと、前記基板加熱機構により当該基板に前記温度勾配を形成する第２のステップと、を並行して行うように制御信号を出力する制御部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
露光、現像処理されてパターンマスクが形成された基板に対して、前記パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う方法において、
前記基板を処理容器内のステージに載置して基板を加熱する工程と、
次いで前記パターンマスクを膨潤させるために、溶剤ガスを前記基板の表面に供給しながら基板の周囲から排気する工程と、
この工程を行いながら、前記ステージを介して基板の中央部の温度が基板の周縁部の温度よりも高くなるように基板に温度勾配を形成する工程と、を含むことを特徴とする基板処理方法。
【請求項３】
露光、現像処理されてパターンマスクが形成された基板に対して、前記パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う装置において、
処理容器内に設けられ、前記基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された基板の中央部の温度が当該基板の周縁部の温度よりも高くなるように温度勾配を形成して、当該基板を加熱する基板加熱機構と、
前記パターンマスクを膨潤させるための溶剤ガスを前記基板の表面の中央部に供給する溶剤ガス供給部と、
前記溶剤ガスを基板の周囲から排気する排気部と、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら前記排気部により排気する第１のステップと、前記基板加熱機構により当該基板に前記温度勾配を形成する第２のステップと、を並行して行うように制御信号を出力する制御部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
基板に前記温度勾配を形成するために、前記ステージの温度を調整する調整機構が設けられるか、あるいは前記ステージにおいてその表面の中央部が周縁部よりも高く構成されることを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
【請求項５】
露光、現像処理されてパターンマスクが形成された基板に対して、前記パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う装置において、
処理容器内に設けられ、前記基板を載置するステージと、
前記パターンマスクを膨潤させるための溶剤ガスを加熱するガス加熱機構と、
前記ガス加熱機構により前記ステージに載置された基板の温度よりも高い温度に加熱された前記溶剤ガスを、当該基板の表面の中央部に供給する溶剤ガス供給部と、
前記溶剤ガスを基板の周囲から排気する排気部と、
前記溶剤ガスを乾燥させるための乾燥用のガスを基板の中央部に供給する乾燥ガス供給部と、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板の中央部に供給しながら前記排気部により基板の周囲から排気するステップと、次いで前記乾燥ガス供給部により乾燥ガスを前記基板の中央部に供給しながら前記排気部により基板の周囲から排気するステップと、を複数回繰り返し行うステップを行うように制御信号を出力する制御部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
前記溶剤ガスを乾燥させるための乾燥用のガスを基板の中央部に供給する乾燥ガス供給部を備え、
前記第１のステップは、前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら前記排気部により排気するステップである代わりに、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板の中央部に供給しながら前記排気部により基板の周囲から排気するステップと、次いで前記乾燥ガス供給部により乾燥ガスを前記基板の中央部に供給しながら前記排気部により基板の周囲から排気するステップと、を複数回繰り返し行うステップであることを特徴とする請求項３または４記載の基板処理装置。
【請求項７】
露光、現像処理されてパターンマスクが形成された基板に対して、前記パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う装置において、
処理容器内に設けられ、前記基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された前記基板の中央部の温度が当該基板の周縁部の温度よりも高くなるように基板に温度勾配を形成して、当該基板を加熱する基板加熱機構と、
前記パターンマスクを膨潤させるための溶剤ガスを前記基板の表面の周縁部に供給する溶剤ガス供給部と、
前記溶剤ガスを基板の中央部の上方から排気する排気部と、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら前記排気部により排気する第１のステップと、前記基板加熱機構により当該基板に前記温度勾配を形成する第２のステップと、を並行して行うように制御信号を出力する制御部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
基板に前記温度勾配を形成するために、前記ステージの温度を調整する調整機構が設けられるか、あるいは前記ステージにおいてその表面の中央部が周縁部よりも高く構成されることを特徴とする請求項７記載の基板処理装置。
【請求項９】
露光、現像処理されてパターンマスクが形成された基板に対して、前記パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う装置において、
処理容器内に設けられ、前記基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された前記基板の一端部の温度が当該基板の他端部の温度よりも高くなるように基板に温度勾配を形成して、当該基板を加熱する基板加熱機構と、
前記パターンマスクを膨潤させるための溶剤ガスを前記基板の表面の一端側に供給する溶剤ガス供給部と、
前記溶剤ガスを基板の他端側から排気する排気部と、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら前記排気部により排気する第１のステップと、前記基板加熱機構により当該基板に前記温度勾配を形成する第２のステップと、を並行して行うように制御信号を出力する制御部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１０】
露光、現像処理されてパターンマスクが形成された基板に対して、前記パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う装置において、
処理容器内に設けられ、前記基板を載置するステージと、
前記パターンマスクを膨潤させるための溶剤ガスを加熱するガス加熱機構と、
前記ガス加熱機構により前記ステージに載置された基板の温度よりも高い温度に加熱された前記溶剤ガスを、当該基板の表面の一端側に供給する溶剤ガス供給部と、
前記溶剤ガスを基板の他端側から排気する排気部と、
前記溶剤ガスを乾燥させるための乾燥用のガスを基板の一端側に供給する乾燥ガス供給部と、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを基板の一端側に供給しながら前記排気部により基板の他端側から排気するステップと、次いで前記乾燥ガス供給部により当該基板の一端側に乾燥用のガスを供給しながら前記排気部により基板の他端側から排気するステップと、を複数回繰り返すステップを行うように制御信号を出力する制御部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１１】
前記溶剤ガスを乾燥させるための乾燥用のガスを基板の周囲に供給する乾燥ガス供給部が設けられ、
前記第１のステップは、前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら前記排気部により排気するステップである代わりに、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板の周囲に供給しながら前記排気部により基板の中央部から排気するステップと、次いで前記乾燥ガス供給部により乾燥ガスを前記基板の周囲に供給しながら前記排気部により基板の中央部から排気するステップと、を複数回繰り返し行うステップであることを特徴とする請求項７または８に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記溶剤ガスを乾燥させるための乾燥用のガスを基板の一端側に供給する乾燥ガス供給部が設けられ、
前記第１のステップは、前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら前記排気部により排気するステップである代わりに、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを基板の一端側に供給しながら前記排気部により基板の他端側から排気するステップと、次いで前記乾燥ガス供給部により当該基板の一端側に乾燥用のガスを供給しながら前記排気部により基板の他端側から排気するステップと、を複数回繰り返すステップであることを特徴とする請求項９記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターンマスクの荒れを改善する基板処理装置及び基板処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光処理時にウエハのレジスト膜に照射される光の波動的性質によって、現像後に形成されるレジストパターンにはＬＷＲ（Line Width Roughness）と呼ばれる測定寸法のばらつきが生じる。このようにパターンが荒れているレジスト膜をマスクとして下地膜をエッチングすると、エッチング形状がこの荒れに影響され、結果としてエッチングにより形成される回路パターンの形状も荒れてしまい、所望の品質の半導体デバイスが製造できなくなるおそれがある。
【０００３】
そこで、溶剤雰囲気中にレジストパターンを曝して、その表面を膨潤させて溶解させることにより、当該レジストパターンの表面を平滑化することが検討されている。例えば特許文献１には、このような処理を行う装置としてウエハを吸着するチャックと、ウエハ上から気化した溶剤を供給するノズルと、このノズルを前記ウエハの径方向に沿って移動させる移動機構と、ウエハの側周を囲むと共に内部を排気するカップ体と、を備えた基板処理装置について示されている。しかし、前記基板処理装置は前記カップ体やノズルの移動機構を設けることにより、フットプリントが大きくなり、製造コストも比較的高くなっていた。
【０００４】
そのために、ウエハを格納する処理容器と、この処理容器に設けられた吐出口と、前記吐出口から気化した溶剤を供給する供給機構とを備えた基板処理装置を用いてレジストパターンの荒れを改善することが検討されている。しかし、この基板処理装置はウエハの面内に均一性高く処理を行うことが難しいという問題がある。
【０００５】
具体的に説明すると、前記気化した溶剤はウエハに付着しながらウエハ表面を流れるため、前記吐出口の近傍では吐出口から離れた位置よりも溶剤の供給量が多くなる。また、前記吐出口と処理容器に設けられた排気口との配置によりウエハの面内において気化した溶剤の流速にばらつきが生じ、濃度分布が異なり、溶剤の分子がウエハに衝突する割合が高くなる箇所がある。それによって、当該レジストパターンが過大に膨潤して倒れたり、溶解してしまうおそれがある。特に下地膜に微細な回路パターンを形成するために、レジストパターンの線幅を小さくすると、パターンの厚さに対して溶剤が染みこむ厚さ領域の比率が大きくなるため、このようなパターンの倒れや溶解が起こりやすくなると考えられる。その一方で、ウエハの前記吐出口から離れた位置や流速のばらつきにより前記衝突する割合が小さい位置では、供給される溶剤が少ないため、十分にレジストパターンの荒れを解消できないおそれがある。
【０００６】
特許文献１には、上記の問題を解決する手法については記載されていない。また、特許文献２にもノズルから気化した溶剤を供給する基板処理装置について記載されているが、この問題を解決する手法については記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第４３４３０１８（段落００３９、図４など）
【特許文献２】特許第４３２８６６７（図４など）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は基板に形成されたパターンマスクの溶解を防ぐと共に、基板の面内で当該パターンマスクの表面を均一に平滑化させることができる技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の基板処理装置は、露光、現像処理されてパターンマスクが形成された基板に対して、前記パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う装置において、
処理容器内に設けられ、前記基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された基板の中央部の温度が当該基板の周縁部の温度よりも高くなるように温度勾配を形成して、当該基板を加熱する基板加熱機構と、
前記ステージに載置された基板に対向して設けられ、前記パターンマスクを膨潤させる溶剤ガスを前記基板の表面に供給する溶剤ガス供給部と、
前記溶剤ガスを基板の周囲から排気する排気部と、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら前記排気部により排気する第１のステップと、前記基板加熱機構により当該基板に前記温度勾配を形成する第２のステップと、を並行して行うように制御信号を出力する制御部と、
を備えることを特徴とする。
溶剤ガス供給部は、例えば前記パターンマスクを膨潤させるための溶剤ガスを前記基板の表面の中央部に供給する。
本発明の基板処理方法は、露光、現像処理されてパターンマスクが形成された基板に対して、前記パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う方法において、
前記基板を処理容器内のステージに載置して基板を加熱する工程と、
次いで前記パターンマスクを膨潤させるために、溶剤ガスを前記基板の表面に供給しながら基板の周囲から排気する工程と、
この工程を行いながら、前記ステージを介して基板の中央部の温度が基板の周縁部の温度よりも高くなるように基板に温度勾配を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１０】
本発明の他の基板処理装置は、露光、現像処理されてパターンマスクが形成された基板に対して、前記パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う装置において、
処理容器内に設けられ、前記基板を載置するステージと、
前記パターンマスクを膨潤させるための溶剤ガスを加熱するガス加熱機構と、
前記ガス加熱機構により前記ステージに載置された基板の温度よりも高い温度に加熱された前記溶剤ガスを、当該基板の表面の中央部に供給する溶剤ガス供給部と、
前記溶剤ガスを基板の周囲から排気する排気部と、
前記溶剤ガスを乾燥させるための乾燥用のガスを基板の中央部に供給する乾燥ガス供給部と、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板の中央部に供給しながら前記排気部により基板の周囲から排気するステップと、次いで前記乾燥ガス供給部により乾燥ガスを前記基板の中央部に供給しながら前記排気部により基板の周囲から排気するステップと、を複数回繰り返し行うステップを行うように制御信号を出力する制御部と、
を備えることを特徴とする。
【００１１】
本発明のさらに他の基板処理装置は、露光、現像処理されてパターンマスクが形成された基板に対して、前記パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う装置において、
処理容器内に設けられ、前記基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された前記基板の中央部の温度が当該基板の周縁部の温度よりも高くなるように基板に温度勾配を形成して、当該基板を加熱するための基板加熱機構と、
前記パターンマスクを膨潤させるための溶剤ガスを前記基板の表面の周縁部に供給する溶剤ガス供給部と、
前記溶剤ガスを基板の中央部の上方から排気する排気部と、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら前記排気部により排気する第１のステップと、前記基板加熱機構により当該基板に前記温度勾配を形成する第２のステップと、を並行して行うように制御信号を出力する制御部と、
を備えることを特徴とする。
【００１２】
本発明のさらに他の基板処理装置は、露光、現像処理されてパターンマスクが形成された基板に対して、前記パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う装置において、
処理容器内に設けられ、前記基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された前記基板の一端部の温度が当該基板の他端部の温度よりも高くなるように基板に温度勾配を形成して、当該基板を加熱する基板加熱機構と、
前記パターンマスクを膨潤させるための溶剤ガスを前記基板の表面の一端側に供給する溶剤ガス供給部と、
前記溶剤ガスを基板の他端側から排気する排気部と、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら前記排気部により排気する第１のステップと、前記基板加熱機構により当該基板に前記温度勾配を形成する第２のステップと、を並行して行うように制御信号を出力する制御部と、
を備えることを特徴とする。
【００１３】
本発明のさらに他の基板処理装置は、露光、現像処理されてパターンマスクが形成された基板に対して、前記パターンマスクの荒れを改善するために処理を行う装置において、
処理容器内に設けられ、前記基板を載置するステージと、
前記パターンマスクを膨潤させるための溶剤ガスを加熱するガス加熱機構と、
前記ガス加熱機構により前記ステージに載置された基板の温度よりも高い温度に加熱された前記溶剤ガスを、当該基板の表面の一端側に供給する溶剤ガス供給部と、
前記溶剤ガスを基板の他端側から排気する排気部と、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら、前記排気部により排気する第１のステップを行うように制御信号を出力する制御部と、
を備えることを特徴とする。
【００１４】
上記の各基板処理装置の具体的態様は、例えば下記の通りである。
（ａ）基板に前記温度勾配を形成するために、前記ステージの温度を調整する調整機構が設けられるか、あるいは前記ステージにおいてその表面の中央部が周縁部よりも高く構成される。
（ｂ）前記溶剤ガスを乾燥させるための乾燥用のガスを基板の中央部に供給する乾燥ガス供給部を備え、
前記第１のステップは、前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら前記排気部により排気するステップである代わりに、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板の中央部に供給しながら前記排気部により基板の周囲から排気するステップと、次いで前記乾燥ガス供給部により乾燥ガスを前記基板の中央部に供給しながら前記排気部により基板の周囲から排気するステップと、を複数回繰り返し行うステップである。
（ｃ）前記溶剤ガスを乾燥させるための乾燥用のガスを基板の周囲に供給する乾燥ガス供給部が設けられ、
前記第１のステップは、前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら前記排気部により排気するステップである代わりに、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板の周囲に供給しながら前記排気部により基板の中央部から排気するステップと、次いで前記乾燥ガス供給部により乾燥ガスを前記基板の周囲に供給しながら前記排気部により基板の中央部から排気するステップと、を複数回繰り返し行うステップである。
（ｄ）前記溶剤ガスを乾燥させるための乾燥用のガスを基板の一端側に供給する乾燥ガス供給部が設けられ、
前記第１のステップは、前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを前記基板に供給しながら前記排気部により排気するステップである代わりに、
前記溶剤ガス供給部により前記溶剤ガスを基板の一端側に供給しながら前記排気部により基板の他端側から排気するステップと、次いで前記乾燥ガス供給部により当該基板の一端側に乾燥用のガスを供給しながら前記排気部により基板の他端側から排気するステップと、を複数回繰り返すステップである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、基板の表面に溶剤ガスを供給するにあたり、基板を加熱して、当該溶剤ガスの濃度が高く、溶剤の分子がマスクパターンに衝突しやすい箇所の温度を、溶剤ガスの濃度が低く、溶剤の分子がマスクパターンに衝突しにくい箇所の温度よりも高くなるように基板に温度勾配を形成する。このように温度勾配を形成することで、前記溶剤の分子がマスクパターンに衝突しやすい箇所では衝突しにくい箇所に比べて多くの量の溶剤が揮発する。従って、パターンマスクの溶解を防ぎ、その表面を均一性高く平滑化させることができるので、歩留りの低下を抑えることができる。また、基板の温度よりも高い温度に加熱された溶剤ガスを、基板の中央部から基板の周囲、または基板の一側部から他端側に向けて供給する。溶剤ガスの供給側では、排気側に比べて当該溶剤ガスの温度が高いため、基板に溶剤が抑えられる結果として、同様にパターンマスクの溶解を防ぎ、その表面を均一性高く平滑化させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明に係る溶剤供給装置の縦断側面図である。
【図２】前記溶剤供給装置の平面図である。
【図３】前記溶剤供給装置に設けられた熱板の裏面を示す平面図である。
【図４】前記溶剤供給装置のガス供給部の縦断側面図である。
【図５】前記溶剤供給装置の処理容器のガスの流れを示す説明図である
【図６】レジストの動きやすさと、溶剤濃度との関係を示すグラフ図である。
【図７】ウエハ表面の溶剤分子の動きを示す説明図である。
【図８】ウエハ表面の溶剤分子の動きを示す説明図である。
【図９】ウエハ表面の溶剤分子の動きを示す説明図である。
【図１０】前記溶剤供給装置による処理を示す工程図である。
【図１１】前記溶剤供給装置による処理を示す工程図である。
【図１２】前記溶剤供給装置による処理を示す工程図である。
【図１３】前記溶剤供給装置による処理を示す工程図である。
【図１４】前記溶剤供給装置による処理を示す工程図である。
【図１５】前記溶剤供給装置による処理を示す工程図である。
【図１６】前記溶剤供給装置による処理を示す工程図である。
【図１７】レジストパターンの状態を示す模式図である。
【図１８】前記溶剤供給装置によるガス供給及び動作を示すタイムチャートである。
【図１９】熱板の他の構成を示す縦断側面図である。
【図２０】熱板の他の構成を示す縦断側面図である。
【図２１】熱板の他の構成を示す縦断側面図である。
【図２２】ステージの他の構成を示す縦断側面図である。
【図２３】移動プレートの横断平面図である。
【図２４】前記溶剤供給装置を構成する処理容器の他の構成を示す縦断側面図である。
【図２５】前記処理容器のステージに載置されたウエハの平面図である。
【図２６】前記溶剤供給装置を構成する処理容器のさらに他の構成を示す縦断側面図である。
【図２７】前記処理容器の横断平面図である。
【図２８】評価試験の結果を示すグラフ図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
（第１の実施形態）
本発明の実施の形態に係る溶剤供給装置１について、その縦断側面図、横断平面図である図１、図２を参照しながら説明する。溶剤供給装置１は、ウエハＷを処理するための処理容器２と、処理容器２と溶剤供給装置１の外部との間で基板であるウエハＷを搬送する搬送機構６と、を備えている。この処理容器２に搬送されるウエハＷ表面にはレジスト膜が形成されている。レジスト膜は露光、現像処理を受けており、パターンマスクであるレジストパターンが形成されている。
【００１８】
処理容器２は扁平な円形状に形成され、容器本体２１と、蓋体４１とを備えている。容器本体２１は、その周縁部をなす側壁部２２と、側壁部２２の下端から内側方向に突出した底壁部２３と、を備えており、底壁部２３上にはステージ２４が設けられている。ステージ２４の表面はウエハＷを水平に載置する熱板３１により構成されている。熱板３１の裏面側の中央部には図３に示すようにステージ２４の温調機構をなすリング状のヒータ３２が夫々設けられている。ヒータ３２は電熱線により構成されているが、図では便宜上板状の部材として示している。ヒータ３２は当該ヒータ３２に供給する電力を独立して制御する電力コントローラ３５に接続されている。
【００１９】
図１、２に戻って説明を続けると、ステージ２４に設けられた３つの各孔２６にはピン２７が挿通されている。これらピン２７は、昇降機構２８によりステージ２４上にて突没し、搬送機構６との間でウエハＷを受け渡す。
【００２０】
側壁部２２の表面にはその周方向に沿って多数のパージガス吐出口２９が開口している。側壁部２２の下方にはパージガス吐出口２９に連通するリング状の空間３６が形成され、当該空間３６の下方には周方向に間隔をおいて、複数のパージガス供給管３７の一端が接続されている。各パージガス供給管３７の他端は、パージガスとしてＮ2ガスを圧送する不図示の供給機構に接続され、供給機構から空間３１に供給されたパージガスは、当該空間３６を広がって各パージガス吐出口２９から吐出される。
【００２１】
蓋体４１は昇降機構１１により昇降自在に構成されている。蓋体４１は、その周縁部をなす側壁部４２と、その側壁部４２に囲まれる上壁部４３とを備えており、側壁部４２の下端は上壁部４３の下端よりも下方に位置している。ウエハＷに処理を行うときには、蓋体４１が図１に示す処理位置に移動し、上壁部４３の下端と、容器本体２１の側壁部２２の上端とが隙間１２を介して互いに近接する。
【００２２】
上壁部４３の裏面側中央部は下方に突出し、ガス供給部４を形成している。図４に示すように、このガス供給部４の側周には周方向に沿って多数のガス吐出口４４が開口し、ステージ２４に載置されたウエハＷの中央部から周縁部に向かってガスを吐出し、ウエハＷ全体にガスを供給することができる。図２中では点線の矢印でガス吐出口４４から吐出されるガスの流れを示している。
【００２３】
蓋体４１の上部にはガス供給管４５の下流端が接続され、ガス供給管４５の上流側は分岐してガス供給管４５Ａ、４５Ｂを構成している。ガス供給管４５Ａの上流側は、流量制御機構４７Ａを介して溶剤供給源４８Ａに接続されている。溶剤供給源４８Ａはレジストを膨潤させることができる溶剤が貯留されたタンクをなし、貯留された溶剤の液相にＮ2ガスを供給するＮ2ガス供給部４９に接続されている。
【００２４】
Ｎ2ガス供給部４９からＮ2ガスが前記タンク内に供給されると当該タンク内が加圧されると共に溶剤が気化し、気化した溶剤と前記Ｎ2ガスとからなる処理ガスが、流量制御機構４７Ａでその流量が制御され、ガス吐出口４４からウエハＷに供給される。また、ガス供給管４５Ｂの上流側はガス流量制御機構４７Ｂを介して、乾燥用ガスであるＮ2ガスを下流側に圧送するＮ2ガス供給源４８Ｂに接続されている。圧送された乾燥用ガスは、ガス流量制御機構４７Ｂでその流量が制御されてガス吐出口４４からウエハＷに供給される。
【００２５】
蓋体４１の側壁部４２の下端には、パージガス吐出口２９に重なる位置にリング状の凹部５１が形成されている。複数の排気路５２を介して処理容器蓋体４１の上部に開放されており、各排気路５２は前記周方向に複数設けられている。また、側壁部４２の下端において、凹部５１の内側には多数の排気口５３がウエハＷの周方向に配列されている。この排気口５３は排気機構５４に接続されている。
【００２６】
図５ではウエハＷ処理中の処理容器２の処理ガスの流れを実線の矢印で、パージガスの流れを点線の矢印で各々示している。パージガス吐出口２９から吐出されたパージガスは、その一部が凹部５１に流れ込んで処理容器２の外部へと流通すると共にその一部が排気口５３により吸引されて処理容器２の内側へ向かい、当該排気口５３に流れ込んで排気される。このようにパージガスの流れが形成されている状態で、処理ガスがガス吐出口４４から吐出され、ウエハＷの中央部から周縁部へと横方向に広がり、排気口５３へ向かう。排気口５３の外側では、上記のようにパージガスの外側から内側へ向かう流れが形成されているため、処理ガスはこの流れに阻まれて排気口５３の外側へ出ることなく、当該排気口５３により除去される。処理ガスの流れについて説明したが、乾燥用ガスをウエハＷに供給するときにも、パージガスが同様に処理容器２に供給され、当該乾燥用ガスは処理ガスと同様に処理容器２を流れて排気される。
【００２７】
図１、図２に戻って説明する。処理容器２の外部には基台６１が設けられ、この基台６１に前記搬送機構６が設けられている。搬送機構６は、水平な移動プレート６２と、移動プレート６２を基台６１上に支持する支持部６３と、移動機構６４とにより構成されている。支持部６３は移動プレート６２から基台６１の下方に伸び、移動機構６４に接続されている。図１及び図２に示した移動プレート６２の位置を待機位置とすると、当該移動機構６４により移動プレート６２は待機位置と、処理容器２のステージ２４上との間で水平に移動することができる。図中６５は、この移動を妨げないように基台６１に設けられたスリットである。
【００２８】
移動プレート６２について説明する。移動プレート６２の内部にはヒータ６６が設けられており、表面に載置されたウエハＷを予め設定された温度に加熱する。図中６７はスリットであり、ステージ２４との間でウエハＷを受け渡すためにピン２７が通過する。図中６８は切り欠きであり、溶剤供給装置１にウエハＷを搬送する搬送アーム１３との間でウエハＷを受け渡すために設けられている。
【００２９】
図２に示す搬送アーム１３は、搬送アーム１３は、ウエハＷの側周を囲む扁平なフォーク１４と、当該フォーク１４から内側に突出してウエハＷの裏面を支持する支持部１５と、を備えている。搬送アーム１３は、移動プレート６２に対して前後（図２中上下）移動、昇降移動自在に構成され、これらの動作を組み合わせて移動プレート６２との間でウエハＷを受け渡す。
【００３０】
溶剤供給装置１は、コンピュータからなる制御部１０を備えている。制御部１０は、制御部１０は溶剤供給１の各部に制御信号を送り、各種のガスの給断及び各ガスの供給量、移動プレート６２及びステージ２４でのウエハＷの温度、処理容器２と移動プレート６２とステージ２４との間でのウエハＷの受け渡し、処理容器２内の排気、電力コントローラ３５を介してヒータ３２への供給電力などの動作を制御して、後述のように溶剤供給装置１での処理を進行させるように命令（各ステップ）が組み込まれている。このプログラムは、コンピュータ記憶媒体例えばフレキシブルディスク、コンパクトディスク、ハードディスク、ＭＯ（光磁気ディスク）等の記憶媒体に格納されて制御部１０にインストールされる。
【００３１】
上記の溶剤供給装置１の処理の概要を説明するために、図６のグラフを参照しながら、溶剤供給装置１によりウエハＷに既述の処理ガスを供給したときのウエハＷ表面のレジストパターン中の溶剤の濃度とレジストを構成するポリマーの動きやすさとの関係を説明する。グラフの縦軸、横軸が前記動きやすさ、溶剤濃度を夫々示している。
【００３２】
レジストパターンに処理ガスを供給するとき、処理ガスの持つ温度エネルギーに応じて溶剤の分子は運動しているが、当該溶剤の分子がレジストパターンに衝突すると、その瞬間にこの分子とレジストパターンとの間で熱の授受が起こる。それによって、溶剤ガスは速やかにウエハＷの温度になり、分子はレジストパターンの表面に付着する。つまり、レジストパターンに処理ガスを供給すると、レジストパターンの表面に溶剤が浸透する。しかし、処理ガスの供給量が少なく、レジストパターン中の溶剤濃度が所定の閾値以下の範囲（グラフ中範囲Ｌ１）であると、前記ポリマーはほとんど流動しない。例えばグラフ中の点Ａの状態のレジストパターンは溶剤濃度が前記閾値にあり、そのようにポリマーがほとんど流動しない状態にある。前記閾値よりもレジストパターン中の溶剤濃度が高くなると、前記ポリマーの流動性が高くなり、レジストパターンの表面が膨潤し、前記荒れが改善される。例えばグラフ中の点Ｂでは、最適なポリマーの流動性が得られる状態を示している。
【００３３】
処理ガスの供給が続けられ、溶剤濃度が高くなりすぎると、溶剤はレジストパターンの内部に向けて浸透し、レジストパターンの膨潤量が過大になる。このように過大に膨潤したレジストパターンはその形状を保てずに湾曲し、背景技術の項目で説明したように溶解してしまう。グラフ中の点Ｃではパターンの形状が保たれているが、さらに溶剤濃度が高くなると、そのようなパターンの溶解が起こる。グラフ中ではパターンが改善される溶剤濃度の範囲をＬ２で示し、パターンの溶解が起こる溶剤濃度の範囲をＬ３で夫々示している。
【００３４】
従って、ウエハＷの面内においてレジストパターンの荒れを均一性高く改善するには、レジストパターン中の溶剤濃度をグラフ中Ｌ２で示す範囲内の所定の濃度に揃うように処理を行うことが求められる。ここで、溶剤供給装置１は、吐出口４３から連続して処理ガスを吐出すると、当該吐出口４３付近、つまりウエハＷの中央部では、ウエハＷの周縁部に比べて処理ガスが供給される量が多くなるので、当該中央部の溶剤の濃度が周縁部の溶剤の濃度よりも高くなってしまう。
【００３５】
より具体的に説明すると、吐出口４３に近いウエハＷ中央部では比較的処理ガスの流速が高く、処理ガスの濃度が高くなるため、上記のように溶剤の分子がレジストパターンへ衝突し、付着する割合（確率）が高くなり、結果としてウエハＷの中央部ではレジストパターンの膨潤が進む。しかし、処理ガスは周縁部へと拡散するため、周縁部では処理ガスの流速が低下し、その濃度が低くなる。従って、溶剤の分子がレジストパターンへ衝突し、付着する割合が低く、中央部に比べてレジストパターンが膨潤しにくい。
【００３６】
そこで、溶剤供給装置１では処理ガス供給時において、ヒータ３２によりウエハＷの中央部の温度が周縁部の温度よりも高くなるように制御する。図７〜図９の模式図を使い、このように温度制御したときのウエハＷ表面の様子を説明する。図７に示すように処理ガスの供給が開始されると、処理ガスはウエハＷの中央部へ供給される量が多いので、図８に示すように溶剤の分子７０は周縁部よりも当該中央部に付着しやすい。しかし、ウエハＷの中央部は温度が高いため、当該中央部からの揮発量が多い。
【００３７】
より詳しく説明すると、上記のようにレジストパターンに衝突し、付着した溶剤の分子がレジストパターンから離れる量、つまり溶剤ガスとしてレジストパターンから揮発する量は、ウエハＷ直上の気層の溶剤濃度とレジストパターン中の溶剤濃度とのつり合いに影響される。このつり合いとは、レジストパターン中の液体の溶剤と前記気層中の気体の溶剤との気液平衡である。ウエハＷの温度を上昇させることによって、ウエハＷ直上の雰囲気の溶剤濃度が低くなり、前記気液平衡によりレジストパターンから溶剤の揮発が進行する。
【００３８】
つまり、図９に示すように多くの分子７０がウエハＷの表面から離れ、ガス流に乗って排気される。それに対してウエハＷの周縁部では中央部に比べて温度が低いので、処理ガスが結露しやすい。つまり付着した分子７０の揮発量が少ない。従って、ウエハＷの中央部と周縁部との間で溶剤の濃度を揃えることができる。また、処理ガスの供給時間が長くなることにより、溶剤がレジストパターンの内部に浸透するが、これを防ぐ目的と、レジストパターンの表面の溶剤濃度が前記グラフ中の範囲Ｌ２に収まる時間を十分に確保する目的とから、処理ガスの供給によるレジストパターンの膨潤と、前記乾燥用ガスの供給及び移動プレート６２による加熱からなる乾燥処理とを繰り返し行う。吐出口４４から供給される乾燥用ガスは、溶剤ガス同様に吐出口４４に近いウエハＷの中央部側の流速が高くなるため、ウエハＷの中央部直上の気層の溶剤濃度がウエハＷの周縁部直上の溶剤濃度よりも低くなり、それによって前記気液平衡によりウエハＷの中央部から溶剤の揮発が促進される。前記乾燥用ガスは、本実施形態ではＮ2ガスを用いているが、これに限られず例えばドライエアでもよい。
【００３９】
以下、各工程の溶剤供給装置１の動作を示す図１０〜図１６と、処理の各段階のレジストパターンの模式図である図１７とを参照しながら溶剤供給装置１の作用について具体的に説明する。また、図１８も適宜参照しながら説明を行う。図１８は、溶剤供給装置１でウエハＷが処理される区間と、ステージ２４のピンが昇降するタイミングと、処理ガスが供給される区間と、Ｎ2ガスが供給される区間と、移動プレート６２の位置及び移動方向とを互いに対応付けて示したタイムチャートである。このタイムチャート中、移動プレート６２の位置及び移動方向については、ステージ２４上に位置しているとき及びステージ２４に向かって移動しているときを「ＩＮ」として示し、前記待機位置に位置しているとき及びステージ２４上から当該待機位置に移動しているときを「ＯＵＴ」として示している。
【００４０】
先ず、搬送アーム１３により、ウエハＷが待機位置にある移動プレート６２に受け渡される（図１８中時刻ｔ１）。図１４に状態１として示すように、ウエハＷのレジストパターン７１の表面７２は荒れており、凹凸が形成されている。図１０に示すように移動プレート６２がステージ２４上へと移動する（図１８中時刻ｔ２）（ステップＳ１）。ヒータ３２により、ステージ２４の熱板３１の温度が上昇し、熱板３１の中央部の温度が周縁部の温度よりも高くなる。そして、ピン２７が上昇してウエハＷを受け取ると（図１８中時刻ｔ３）、移動プレート６２が待機位置に戻り、図１１に示すように前記ピン２７が下降してウエハＷがステージ２４に載置される（図１８中時刻ｔ４）。熱板３１によりウエハＷが温調され、ウエハＷの中央部の温度が周縁部よりも高くなる（ステップＳ２）。前記中央部の温度は例えば３０度〜５０度であり、前記周縁部の温度は例えば２３度〜４５度である。
【００４１】
ウエハＷの温調に並行して蓋体４１の下降、パージガス吐出口２９からのパージガスが吐出及び排気口５３からの排気が行われる。ウエハＷがステージ２４に載置されてから例えば１０秒経過すると、図１２に示すようにガス供給部４の吐出口４４から処理ガスがウエハＷの中央部に供給され（図１８中時刻ｔ５）（ステップＳ３）、既述したようにウエハＷの周縁部へと流れてパージガスと共に排気される。なお、この図１２などの作用図では、図が煩雑化することを防ぐためにウエハＷの周囲のガスの流れのみ矢印で示しているが、実際には処理容器２内では図５に示すようにガス流が形成される。
【００４２】
処理ガスに曝されて、図１７の状態２に示すようにレジストパターン７１の表面７２が膨潤する。図７〜図９で説明したようにウエハＷの中央部では、処理ガスの供給量がウエハＷの周縁部に比べて多いが、当該中央部の表面は周縁部に比べて溶剤の揮発量が多い。逆に言えばウエハＷの周縁部では処理ガスの供給量がウエハＷの中央部に比べて少ないが、中央部に比べて揮発せずに付着する溶剤の量が多い。従って、ウエハＷの中央部と周縁部とでレジストパターン７１の表面７２に付着、浸透する溶剤の量が揃い、これら中央部と周縁部との間で均一性高く表面７２が膨潤し、表面７２が溶解する。
【００４３】
処理ガス供給開始後、例えば５〜１０秒経過すると、吐出口４４から処理ガスの供給が停止し、図１３に示すようにガス供給部４の吐出口４４から乾燥用ガスがウエハＷの中央部に吐出され、周縁部へと流れてパージガスと共に排気される（図１８中時刻ｔ６）（ステップＳ４）。図１７に状態３として示すように、この乾燥用ガスに曝されることでレジストパターン７１の表面７２に浸透した溶剤が揮発し、乾燥する。この乾燥用ガスは吐出口４３から供給されることで、ウエハＷの周縁部よりも中央部への供給量が多くなるため、ウエハＷの中央部は周縁部に比べて乾燥速度が速く、より確実にウエハＷの面内でレジストパターン７１の表面７２の膨潤量が揃う。
【００４４】
乾燥用ガス供給開始後、例えば５〜１０秒経過すると吐出口４４から乾燥用ガスの供給及びパージガス吐出口２９からのパージガスの供給が停止し、蓋体４１が上昇し、図１４に示すようにピン２７がウエハＷを上昇させ、移動プレート６２がステージ２４上に移動する（図１８中時刻ｔ７）（ステップＳ４）。ヒータ６６により移動プレート６２がステージ２４よりも高い温度に制御され、ピン２７が下降して図１５に示すように移動プレート６２にウエハＷが載置されると（図１８中時刻ｔ８）、ウエハＷ全体が例えば６０度に加熱される。それによって、図１７の状態４に示すようにウエハＷの中央部及び周縁部におけるレジストパターン７１の表面７２がさらに乾燥すると共に、ウエハＷの温度が上昇することでレジストパターンを構成するポリマーの流動性が高くなり、凹凸の改善が進行する。そして、溶剤が揮発して表面７２の乾燥が進行すると、前記ポリマーの流動性が低下し、レジストパターン７１内への溶剤の浸透が抑制される（ステップＳ５）。
【００４５】
ウエハＷが移動プレート６２に載置されてから例えば１０〜６０秒経過すると、ピン２７が上昇してウエハＷが移動プレート６２から持ち上げられ（図１８中時刻ｔ９）、移動プレート６２は待機位置へ移動する。ピン２７が下降してウエハＷがステージ２４に載置されると共に（図１８中時刻ｔ１０）、処理容器２の蓋体４１が下降し、図１６に示すようにステージ２４によりウエハＷが温調される（ステップＳ７）。つまり再度上記ステップＳ２が行われる。
【００４６】
以降、図１８のタイムチャートに示すように、ステップＳ３の処理ガスの供給（図１８中時刻ｔ１１）、ステップＳ４の乾燥用ガスの供給（図１８中時刻ｔ１２）、ステップＳ５の移動プレート６２へのウエハＷの受け渡し（図１８中時刻ｔ１３）、ステップＳ６のウエハＷの加熱が行われ、前記ステップＳ６終了後は、さらにステップＳ２〜Ｓ６の処理が繰り返し行われる。それによって、ウエハＷの中央部及び周縁部でレジストパターン７１は、図１７の状態２〜状態４の各状態に繰り返しおかれ、次第にレジストパターンの凹凸が均され、状態５のように表面７２が平滑化される。例えば３回目のステップＳ２〜Ｓ６が行われると、移動プレート６２はウエハＷを載置したまま待機位置へと戻り（図１８中時刻ｔ１４）、搬送アーム１３がウエハＷを受け取り、当該ウエハＷを溶剤供給装置１の外部へと搬送する（図１８中時刻ｔ１５）。その後、溶剤を完全に除去するために、ウエハＷは例えば加熱装置に搬送され、移動プレート６２の加熱温度よりも高い温度で加熱される。
【００４７】
この溶剤供給装置１によれば、ウエハＷ中央部の吐出口２８から処理ガスを供給する際にウエハＷの中央部を周縁部よりもその温度が高くなるように加熱し、ウエハＷに温度勾配を形成する。それによってウエハＷの中央部では周縁部に比べて溶剤の揮発量が多くなるので、ウエハＷの面内でパターンの膨潤量を揃えることができる。従って、ウエハＷの面内でレジストパターンの溶解を抑えることができ、均一性高くレジストパターンの表面の荒れを改善することができる。
【００４８】
また、この溶剤供給装置１では、この処理ガス及び乾燥用ガスの供給を１枚のウエハＷに繰り返し行っている。それによって、レジストパターンの内部への溶剤の浸透を抑え、より確実にウエハＷの面内でレジストパターンの溶解を抑えることができ、且つレジストパターンの表面の荒れを改善することができる。
【００４９】
また、この溶剤供給装置１では乾燥用ガスの供給後、移動プレート６２によりウエハＷの加熱を行うことで、溶剤の乾燥速度が大きくなるためスループットが向上する。移動プレート６２により加熱を行う代わりにステージ２４の温度を高く設定してもよいが、処理ガス供給時にウエハＷからの溶剤の揮発量が多くなりすぎてしまうことを防ぐため、このようにステージ２４よりも高く温度調整した移動プレート６２にウエハＷを移動させて乾燥を行うことが有効である。ただし、この移動プレート６２にウエハＷを移動させず、乾燥用ガスの供給を続けることでレジストパターンを乾燥させてもよい。
【００５０】
（第１の実施形態の変形例）
以下、第１の実施形態の各変形例について説明する。図１９は熱板３１を加熱する熱源をＬＥＤ群８１により構成した第１の変形例を示している。ＬＥＤ群８１は、熱板３１の下方全体に亘って設けられた多数のＬＥＤ８２からなり、各ＬＥＤ８２は赤外線を熱板３１に照射して、熱板３１を加熱する。ＬＥＤ群８１のうち、図中点線８３で囲った熱板３１の中央部を加熱するＬＥＤ８２は、他のＬＥＤ８２よりも出力が高く設定され、それによってウエハＷの中央部が周縁部に比べて高い温度に加熱される。
【００５１】
図２０には第２の変形例を示している。図２０中の熱板８４の表面は湾曲しており、中央部の表面が周縁部の表面よりも高く構成されている。それによって、ウエハＷの周縁部と熱板８４までの距離が、ウエハＷの中央部と熱板８４までの距離よりも大きくなるように構成されている。そして、熱板８４の裏面には、ヒータ３２を囲うように互いに径の異なるリング状のヒータ８５、８６がヒータ３２に対して同心円状に配置されている。これらヒータ３２、８５、８６により、熱板８４の表面が均一な温度になるように制御されるが、上記の距離の大きさの違いによるウエハＷへの伝熱量の差により、ウエハＷの中央部の温度が周縁部の温度に比べて高くなる。それによって、ウエハＷの周縁部よりも中央部における溶剤の乾燥量を大きくすることができる。
【００５２】
図２１には第３の変形例を示している。図２１の熱板３１には既述のヒータ３２、８５、８６が設けられており、これらヒータ３２、８５、８６により熱板３１の表面は均一な温度に加熱される。また、既述の処理容器２に接続されるガス供給管４５にはヒータ８０が設けられており、当該ガス供給管４５を流通する処理ガスを加熱する。ウエハＷを処理するときには、ヒータ８０により処理容器２内に供給される処理ガスの温度が、熱板３１により温調されたウエハＷの温度よりも高くなるように制御される。
【００５３】
そして、ウエハＷの中央部に供給された処理ガスはウエハＷ表面を流通する間に冷却されるため、処理ガス中の溶剤はウエハＷの周縁部に向かうほどウエハＷに結露して付着しやすくなる。従って、ウエハＷの面内で膨潤量を揃えることができる。この第３の変形例は、第１の実施形態や第１の実施形態の他の変形例で示した、熱板３１によりウエハＷに温度分布を形成する手法と組み合わせることができる。ところで、この第１の実施形態や後述の各実施形態及びそれらの変形例においては、適切な処理が行われるように、例えばこのようなヒータ８０を設けて処理ガスの温度を適切な温度に調整してもよい
【００５４】
また、図２２は第４の変形例であり、ステージ２４において、熱板３１の下面中央部にＮ2ガスを吐出するノズル８７と、ノズル８７付近にて当該ノズル８７を囲む複数の排気口８８とが設けられている。Ｎ2ガスの供給源８９とノズル８７とを接続する流路には前記ヒータ８０が設けられている。ヒータ８０により加熱されてノズル８６に供給されたＮ2ガスは、図中に矢印で示すように排気口８８から排気される。これによって、ウエハＷの中央部が周縁部よりも高い温度に加熱される。また、熱板３１の中央部を加熱するためには、熱板３１の下面中央部に液体の流路を形成し、温調された液体を当該流路に流通させてもよい。
【００５５】
第５の変形例として、処理ガス供給時だけでなく移動プレート６２による加熱時にも温度勾配を形成する例を説明する。図２３は移動プレート６２の横断平面図である。この図に示すように移動プレート６２の中央部にリング状のヒータ９０Ａが設けられ、周縁部に複数のヒータ９０Ｂが設けられている。各ヒータ９０Ｂはリングが周方向に分割されたように形成され、ヒータ９０Ａを囲っている。ヒータ９０Ａの出力は、ヒータ９０Ｂの出力よりも高く設定され、ウエハＷの中央部が周縁部よりも高い温度に加熱される。このように移動プレート６２を構成することで、移動プレート６２に載置されたときにウエハＷの中央部では周縁部に比べて溶剤の揮発が促進されるため、より確実にレジストパターンの膨潤量を揃えることができる。
【００５６】
（第２の実施形態）
以下、他の実施形態について、第１の実施形態との差異点を中心に説明する。溶剤供給装置１において、処理容器を図２４に示すように構成してもよい。この図２４では処理容器２とは異なる方向に処理ガスを供給する処理容器９１の縦断側面図を示している。この処理容器９１を構成する蓋体９２にはウエハＷの外方に、当該ウエハＷを囲むようにリング状のガス吐出口９３が設けられている。また、ウエハＷの中央部の上方には排気口９４が開口しており、ガス吐出口９３から吐出された処理ガス及び乾燥用ガスは、図中矢印で示すようにウエハＷの中央部に向かい、排気口９４から排気される。図中９５はシール部材である。
【００５７】
ガス吐出口９３から吐出された処理ガスは、排気されてウエハＷの中央部に集まってくる。従って、ウエハＷの中央部では周縁部よりも処理ガスの流速が高くなり、それによって当該処理ガスの濃度が大きくなるため、レジストパターンに処理ガスの分子が衝突する割合が大きくなり、膨潤量が大きくなりやすい。そこで、図２４、図２５に示すようにヒータ３２を第１の実施形態と同様にウエハＷの中央部下方に配置し、ウエハＷの中央部が周縁部よりも高い温度になるように構成している。
【００５８】
このような構成により、ウエハＷ中央部では周縁部よりも溶剤の揮発が促進され、第１の実施形態と同様にウエハＷの面内でレジストパターンの膨潤量を揃えることができる。また、この第２の実施形態においても、例えば第１の実施形態と同様に処理ガスの供給と乾燥用ガス及び移動プレートによる乾燥処理とを交互に繰り返し行う。乾燥用ガスは処理ガスと同方向に供給されるので、ガス吐出口８３に近いウエハＷの中央部では、乾燥用ガスの流速及び濃度が高くなる。つまり、ウエハＷの周縁部よりも中央部の方が、当該乾燥ガスによる乾燥速度が大きいため、ウエハＷの面内でレジストパターンの膨潤量をより確実に揃えることができる。そして、各ガスを交互に繰り返し供給することで、第１の実施形態と同様にレジストパターンの内部への溶剤の浸透を抑え、且つより確実にレジストパターンの荒れを改善することができる。この第２の実施形態においても第１の実施形態で示した各変形例を適用して、熱板３１、８４によりウエハＷの中央部を周縁部よりも高い温度に加熱することができる。
【００５９】
（第３の実施形態）
図２６、図２７には処理容器１０１の縦断側面図、横断平面図を夫々示している。図中１０２はステージ２４の一端側に設けられたガス供給部であり、その上面にはガス吐出口１０３が形成されている。図中１０４はステージ２４の他端側に設けられた排気部であり、排気口１０５を備えている。ガス吐出口１０３から吐出された処理ガス及び乾燥用ガスは、ステージ２４と処理容器１０１の蓋体１０６の天板との間をウエハＷの一端側から他端側へ向かい、排気される。
【００６０】
このように処理ガスを一方向に流す処理容器１０１では、処理ガスを周縁部側から中央部側または中央部側から周縁部側へと流す処理容器に比べてウエハＷ表面における流速の分布が抑えられるため、ウエハＷの面内においてレジストパターンの溶剤濃度の勾配が形成されにくいが、ガス吐出口１０３から吐出された処理ガスは、含まれる溶剤分子がウエハＷに吸収されながら排気口１０５へと向かっていく。従って、ウエハＷの表面上において処理ガスの下流側に向かうほど僅かずつ溶剤の濃度が低くなる。つまり、ガス吐出口１０３に近いウエハＷの一端部では溶剤分子の衝突する割合（確率）が、排気口１０５に近いウエハＷの他端部における溶剤分子の衝突する割合（確率）に比べて高くなる。そこで、この例では熱板３１の下面の前記一端側にヒータ１０７を設けている。
【００６１】
このヒータ１０７は、処理ガスの流通方向と直交する方向に伸びている。このヒータ１０７によって、処理ガス供給時にウエハＷの一端部の温度が他端部の温度よりも高くなり、当該一端部では他端部よりも溶剤の揮発が促進され、第１の実施形態と同様にウエハＷの面内でレジストパターンの膨潤量を揃えることができる。また、この第３の実施形態においても、例えば第１の実施形態と同様に処理ガスの供給と乾燥用ガス及び移動プレートによる乾燥処理とを交互に繰り返し行う。乾燥用ガスは処理ガスと同方向に供給され、溶剤雰囲気を取り込みながら排気口１０５へと向かっていくことで、前記一端部の方が他端部よりもその濃度が高くなる。従って、ウエハＷの一端部の乾燥力が他端部よりも高くなる。ウエハＷの面内でレジストパターンの膨潤量をより確実に揃えることができる。また、処理ガスの供給と乾燥処理とを交互に繰り返し行うことで、第１の実施形態と同様にレジストパターンの内部への溶剤の浸透を抑え、且つより確実にレジストパターンの荒れを改善することができる。
【００６２】
この第３の実施形態にも、第２の実施形態と同様に第１の実施形態で示した各変形例を適用して、ウエハＷの中央部の温度を周縁部の温度より高くする代わりにウエハＷの前記一端部の温度を他端部の温度よりも高くすることができるし、ウエハＷの温度よりも高い温度に調整された処理ガスをガス吐出口１０３から供給すると共に排気口１０５から排気することができる。このように処理ガスの温度制御を行う手法は、第１の実施形態と同様に熱板に温度分布を形成する手法と組み合わせることができる。また、第５の実施形態を適用する場合を具体的に説明すると、図２３に示すヒータ９０Ｂのうち、ウエハＷの一端部の下方に位置するヒータ９０Ｂを、他のヒータ９０Ｂよりも高い温度に昇温させる。
【００６３】
上記の各例では処理ガスの吐出口と乾燥用ガスの吐出口とが共用されているが、処理ガスの流通方向と乾燥用ガスの流通方向とが同じであれば、既述の効果が得られるので、これら吐出口は別々に形成してもよい。また各処理容器を排気して真空雰囲気とし、その真空雰囲気に各ガスを供給してもよい。また、ウエハＷの中央部から周縁部に向けて処理ガス及び乾燥用ガスを供給する場合、第１及び第２の実施形態のようにウエハＷの全周に排気口を設けることに限られず、ウエハＷの一端側、他端側に排気口を設け、これら一端側及び他端側から排気を行ってもよい。
【００６４】
[参考試験]
続いて本発明に関連して行った参考試験について説明する。レジストパターンが形成されたウエハＷ（ウエハＡ１とする）の径方向に沿った複数箇所において、当該レジストパターンの測定寸法のばらつき（ＬＷＲ）を測定した。ＬＷＲはばらつきの標準偏差の３倍（３シグマ）で示す。また、ウエハＡ１と同様にレジストパターンが形成されたウエハＡ２、Ａ３を用意した。ウエハＡ２については温度を均一にした熱板３１に載置し、第１の実施形態に従って各ガスの供給処理を行い、ウエハＡ１と同様に測定を行って、各部のレジストパターンの粗さの３シグマを算出した。また、ウエハＡ３については処理ガスと乾燥ガスとの繰り返し供給を行わず、連続して所定の時間ウエハＷに処理ガスを供給した後、加熱処理を行い、ウエハＡ１、Ａ２と同様に各部の３シグマを算出した。
【００６５】
図２８のグラフは、この評価試験の結果を示している。横軸はウエハＷの測定位置を示している。横軸中の−１５０、＋１５０が夫々ウエハＷの一端、他端であり、０がウエハＷの中心である。縦軸が算出された３シグマを示し、単位はｎｍである。このグラフに示すようにウエハＡ２は、ウエハＡ１に比べて各測定箇所の３シグマが小さい。即ちウエハＷの面内でレジストパターンの粗さのばらつきが小さい。また、ウエハＡ３はウエハＷの中央部の３シグマがウエハＡ１の値よりも大きくなっていた。これはウエハＡ３の中央部ではレジストパターンの溶解が起きたためである。この評価試験の結果から、処理ガスの供給と乾燥ガスの供給とを繰り返し行うことにより、ウエハＷの面内で均一性高くレジストパターンの粗さを改善することができることが示された。
【符号の説明】
【００６６】
Ｗ        ウエハ
１        溶剤供給装置
１０      制御部
２        処理容器
２４      ステージ
２５      ヒータ
４        ガス供給部
４４      ガス吐出口
６        搬送機構
６２      移動プレート
６６      ヒータ
７１      レジストパターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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