(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
オブジェクトを支持するように構成された可動ステージシステムであって、
前記オブジェクトを支持するように構成されたオブジェクトテーブルと、
前記オブジェクトテーブルを支持するように構成されたオブジェクトテーブル支持面を画成するオブジェクトテーブルサポートと、
を含み、
前記オブジェクトテーブルサポートは、前記オブジェクトテーブル支持面に実質的に平行な第１の駆動方向において前記オブジェクトテーブルサポートを駆動する少なくとも１つの第１のアクチュエータを含み、
前記オブジェクトテーブル支持面に平行な面上への投影において、前記少なくとも１つのアクチュエータは、前記オブジェクトテーブルサポートとその上に支持されている前記オブジェクトテーブルとの間のすべりの危険が減少されるように、前記第１の駆動方向に直角な方向において、前記オブジェクトテーブルに対して間隔が置かれている、ステージシステム。
【請求項２】
前記投影において、前記少なくとも１つの第１のアクチュエータは、前記第１の駆動方向に直角な方向において前記オブジェクトテーブルに隣接する領域内に配置される、請求項１に記載のステージシステム。
【請求項３】
前記ステージシステムは、複数の第１のアクチュエータを含み、前記オブジェクトテーブル支持面に平行な面上への前記投影において、前記複数の第１のアクチュエータのそれぞれは、前記第１の駆動方向に直角な方向において前記オブジェクトテーブルに対して間隔が置かれている、請求項１に記載のステージシステム。
【請求項４】
前記少なくとも１つのアクチュエータは、リラクタンスアクチュエータである、請求項１に記載のステージシステム。
【請求項５】
前記リラクタンスアクチュエータは、可変リラクタンスアクチュエータである、請求項４に記載のステージシステム。
【請求項６】
前記ステージシステムは、前記オブジェクトテーブルを前記オブジェクトテーブル支持面にクランプする非機械式クランプシステムを含む、請求項１〜５のいずれか１の請求項に記載のステージシステム。
【請求項７】
前記クランプシステムは真空クランプである、請求項６に記載のステージシステム。
【請求項８】
前記オブジェクトテーブル支持面に向けられた前記オブジェクトテーブルの面は、前記オブジェクトテーブル支持面と前記オブジェクトテーブルとの間に真空空間を形成するよう前記オブジェクトテーブル支持面上に配置されるよう構成された複数のバールを含む、請求項７に記載のステージシステム。
【請求項９】
前記オブジェクトテーブルサポートは、前記オブジェクトテーブル支持面に実質的に平行でかつ前記第１の駆動方向に実質的に直角な第２の駆動方向において前記オブジェクトを駆動する少なくとも１つの第２のアクチュエータを含み、
前記オブジェクトテーブル支持面に平行な面上への投影において、前記少なくとも１つの第２のアクチュエータは、前記第２の駆動方向に直角な方向において、前記オブジェクトテーブルに対して間隔が置かれている、請求項１に記載のステージシステム。
【請求項１０】
前記投影において、前記少なくとも１つの第２のアクチュエータは、前記第２の駆動方向に直角な方向において前記オブジェクトテーブルに隣接する領域内に配置される、請求項９に記載のステージシステム。
【請求項１１】
前記ステージシステムは、複数の第２のアクチュエータを含み、前記オブジェクトテーブル支持面に平行な面上への前記投影において、前記複数の第２のアクチュエータのそれぞれは、前記第２の駆動方向に直角な方向において前記オブジェクトテーブルに対して間隔が置かれている、請求項９に記載のステージシステム。
【請求項１２】
前記オブジェクトテーブルは、基板テーブルであり、前記オブジェクトテーブルサポートは、リソグラフィ装置の基板ステージシステムのエンコーダブロックである、請求項１〜１１のいずれか１の請求項に記載のステージシステム。
【請求項１３】
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築されたサポートであって、前記パターニングデバイスは、パターン付きビームを形成するように前記放射ビームの断面にパターンを付与可能である、サポートと、
基板を保持するように構築された基板サポートと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、
を含む、リソグラフィ装置であって、
前記リソグラフィ装置は、請求項１〜１２のいずれか１の請求項に記載の可動ステージシステムを含み、前記ステージシステムは、前記パターニングデバイスサポートまたは前記基板サポートである、リソグラフィ装置。
【請求項１４】
オブジェクトを支持するように構成された可動ステージシステムであって、前記オブジェクトを支持するように構成されたオブジェクト支持面を画成するオブジェクトサポートを含み、前記オブジェクトサポートは、前記オブジェクト支持面に実質的に平行な第１の駆動方向において前記オブジェクトサポートを駆動させる少なくとも１つの第１のアクチュエータを含み、前記オブジェクト支持面に平行な面上への投影において、前記少なくとも１つのアクチュエータは、前記オブジェクトサポートとその上に支持される前記オブジェクトとの間のすべりの危険が減少されるように、前記第１の駆動方向に直角な方向において、前記オブジェクトサポート上に支持されたオブジェクトに対して間隔が置かれている、ステージシステム。
【請求項１５】
前記オブジェクトは、前記オブジェクトサポート上に取り付けられたエンコーダ測定システムの格子プレートである、請求項１４に記載のステージシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、ステージシステムおよびステージシステムを備えるリソグラフィ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上、通常、基板のターゲット部分上に付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に用いることができる。その場合、ＩＣの個々の層上に形成される回路パターンを生成するために、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを用いることができる。このパターンは、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ以上のダイの一部を含む）に転写することができる。通常、パターンの転写は、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）層上への結像によって行われる。一般には、単一の基板が、連続的にパターニングされる隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置としては、ターゲット部分上にパターン全体を一度に露光することにより各ターゲット部分を照射するいわゆるステッパ、および放射ビームによってある特定の方向（「スキャン」方向）にパターンをスキャンすると同時に、この方向に平行または逆平行に基板をスキャンすることにより各ターゲット部分を照射するいわゆるスキャナが含まれる。パターンを基板上にインプリントすることにより、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００３】
[0003]  公知のリソグラフィ装置は、基板を支持するように構成された可動ステージシステムを備える。ステージシステムは、その上に支持された基板を、高精度に６自由度で位置決めするように移動可能である。ステージシステムの移動の主面は、例えば水平面である基板の主面と平行であるが、ステージシステムは、通常、例えば垂直方向である基板の主面に対し直角方向に、小さな範囲に亘って、基板を移動させることも可能である。
【０００４】
[0004]  ステージシステムは、基板とエンコーダブロックを支持するように構成された基板テーブルを備えうる。その底部側において、基板テーブルは、エンコーダブロックの基板テーブル支持面上に配置される多数のバールを備える。基板テーブルは、真空クランプおよび／または静電クランプによって、基板テーブル支持面上にクランプされる。クランプ力は、エンコーダブロックに対して基板テーブルを同じ位置に維持するのに十分であるべきである。垂直力、即ち、摩擦係数を掛け算した、基板テーブルがエンコーダブロックに対して押される力は、基板テーブルと基板テーブルサポートとの間の（局所的な）すべりを回避するために、基板テーブルおよびエンコーダブロックの加速度によって、および／または、エンコーダブロックの変形によって導入されるバールにおけるせん断力よりも大きいべきである。
【０００５】
[0005]  エンコーダブロックは、エンコーダブロックを２以上の方向に作動させるアクチュエータと、エンコーダブロックの位置を測定するエンコーダシステムとを備える。基板テーブルおよびその上に支持された基板の位置は、エンコーダブロックの位置に基づいて測定されるので、基板テーブルがエンコーダブロックに対して移動することは望ましくない。これは、エンコーダブロックに対する基板テーブルの移動は、パターン付きビームに対する基板の位置ずれをもたらしうるからである。このような位置ずれは、オーバーレイエラーの原因となりうる。
【０００６】
[0006]  従来技術のステージシステムでは、ローレンツアクチュエータを用いてエンコーダブロックを駆動方向に駆動している。ローレンツアクチュエータは、基板テーブルに対して直列に駆動方向に、即ち、駆動方向において見た場合に基板テーブルの前後に配置される。その結果、支持テーブル支持面にかかるローレンツアクチュエータの駆動方向における負荷は、基板テーブルの幾つかのバールに材料応力のホットスポットピークをもたらす。
【０００７】
[0007]  材料応力のこれらのホットスポットピークは、基板テーブルへの局所せん断力が増加しかつ垂直力が減少することにより、加速度レベルが高くなりすぎると基板テーブルと基板テーブルサポートとの間に局所的なすべりをもたらしうる負の影響を局所的に有しうる。
【０００８】
[0008]  リソグラフィ装置のスループットを増加するためには、基板ステージがスキャン速度まで加速する加速度を増加することが望ましい。しかし、基板テーブルと基板テーブルサポートとの間の局所的なすべりの影響によって、ステージシステムにおいて用いられる加速度レベルの増加の可能性が制限されてしまう。
【発明の概要】
【０００９】
[0009]  オブジェクトテーブルとオブジェクトテーブルサポートとを備えるステージシステムを提供することが望ましい。このステージシステムは、オブジェクトテーブルとオブジェクトテーブルサポートとの間にすべりが生じることなく高い加速度が可能である。さらに、基板テーブルと、例えばエンコーダブロックである基板テーブルサポートとを備える、リソグラフィ装置用の基板ステージシステムを提供することが望ましい。このステージシステムは、基板テーブルと基板テーブルサポートとの間にすべりが生じることなく高い加速度が可能である。また、オブジェクトサポートを備えるステージシステムを提供することが望ましい。このステージシステムは、オブジェクトとオブジェクトサポートとの間にすべりが生じることなく高い加速度が可能である。
【００１０】
[0010]  本発明の一実施形態では、オブジェクトを支持するように構成された可動ステージシステムが提供される。このステージシステムは、オブジェクトを支持するように構成されたオブジェクトテーブルと、オブジェクトテーブルを支持するように構成されたオブジェクトテーブル支持面を画定するオブジェクトテーブルとを備え、オブジェクトテーブルサポートは、オブジェクトテーブル支持面に実質的に平行な第１の駆動方向においてオブジェクトテーブルサポートを駆動する少なくとも１つの第１のアクチュエータを備える。オブジェクトテーブル支持面に平行な面上への投影において、少なくとも１つのアクチュエータは、オブジェクトテーブルサポートとその上に支持されたオブジェクトテーブルとの間のすべりの危険が減少されるように、第１の駆動方向に直角な方向において、オブジェクトテーブルに対して間隔が置かれている。
【００１１】
[0011]  本発明の一実施形態では、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、パターン付きビームを形成するように放射ビームの断面にパターンを付与可能なパターニングデバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムとを備えるリソグラフィ装置が提供される。該リソグラフィ装置は、オブジェクトを支持するように構成された可動ステージシステムを備える。このステージシステムは、オブジェクトを支持するように構成されたオブジェクトテーブルと、オブジェクトテーブルを支持するように構成されたオブジェクトテーブル支持面を画定するオブジェクトテーブルとを備え、オブジェクトテーブルサポートは、オブジェクトテーブル支持面に実質的に平行な第１の駆動方向においてオブジェクトテーブルサポートを駆動する少なくとも１つの第１のアクチュエータを備える。オブジェクトテーブル支持面に平行な面上への投影において、少なくとも１つのアクチュエータは、オブジェクトテーブルサポートとその上に支持されたオブジェクトテーブルとの間のすべりの危険が減少されるように、第１の駆動方向に直角な方向において、オブジェクトテーブルに対して間隔が置かれている。
【００１２】
[0012]  本発明の一実施形態では、オブジェクトを支持するように構成された可動ステージシステムが提供される。ステージシステムは、オブジェクトを支持するように構成されたオブジェクト支持面を画定するオブジェクトサポートを備え、オブジェクトサポートは、オブジェクト支持面に実質的に平行な第１の駆動方向においてオブジェクトサポートを駆動させる少なくとも１つの第１のアクチュエータを備える。オブジェクト支持面に平行な面上への投影において、少なくとも１つのアクチュエータは、オブジェクトサポートとその上に支持されたオブジェクトとの間のすべりの危険が減少されるように、第１の駆動方向に直角な方向において、オブジェクトサポート上に支持されたオブジェクトに対して間隔が置かれている。
【００１３】
[0013]  本発明の更なる特徴および利点、並びに本発明の更なる実施形態の構造および動作は、添付図面を参照しながら以下に詳細に述べる。なお、本発明は、本明細書に記載される特定の実施形態に限定されないことに留意されたい。これらの実施形態は、本明細書において、例示目的としてのみ提示されている。当業者であれば、本明細書に含まれる教示内容に基づいてさらなる実施形態が明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
[0014]  明細書内に組み込まれかつ明細書の一部を形成する添付図面は本発明を説明するものであり、また、説明とともに本発明の原理をさらに説明しかつ当業者が本発明をなしかつ使用することを可能にする。
【図１】[0015]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を示す。
【図２】[0016]  図２は、従来技術のステージシステムにおけるアクチュエータ配置の平面図を示す。
【図３】[0017]  図３は、本発明によるステージシステムの一実施形態におけるアクチュエータ配置の平面図を示す。
【図４】[0018]  図４は、図３のステージシステムの側面図を示す。
【図５】[0019]  図５は、ｘｙ面において２方向にステージを作動させるアクチュエータ配置の一実施形態の平面図を示す。
【図６】[0020]  図６は、本発明によるステージシステムの別の実施形態の平面図を示す。
【図７】[0021]  図７は、本発明によるステージシステムの一実施形態における代替アクチュエータ配置の側面図を示す。
【００１５】
[0022]  本発明の特徴および利点は、これらの図面と併せて以下に記載される詳細な説明からより明らかになるであろう。図面において、同じ参照記号は、全体を通じて対応する要素を特定する。図面において、同じ参照番号は、基本的に、同一の、機能的に同様な、および／または構造的に同様な要素を示す。ある要素が初めて登場する図面は、対応する参照番号における左端の数字によって示される。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
[0023]  本明細書は、本発明の特徴を組み込んだ１つ以上の実施形態を開示する。開示された実施形態は本発明を例示するに過ぎない。本発明の範囲は開示された実施形態に限定されない。
【００１７】
[0024]  説明される（１つ以上の）実施形態、および明細書中の「一実施形態」、「ある実施形態」、「例示的な実施形態」等への言及は、説明される実施形態が特定の特徴、構造、または特性を含み得ることを示すが、必ずしもすべての実施形態がその特定の特徴、構造、または特性を含んでいなくてもよい。また、かかる表現は、必ずしも同じ実施形態を指すものではない。また、特定の特徴、構造、または特性がある実施形態に関連して説明される場合、かかる特徴、構造、または特性を他の実施形態との関連においてもたらすことは、それが明示的に説明されているか否かにかかわらず、当業者の知識内のことであると理解される。
【００１８】
[0025]  本発明の実施形態は、ハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア、またはそれらのあらゆる組合せにおいて実施され得る。本発明の実施形態はまた、機械可読媒体に記憶され、１つまたは複数のプロセッサにより読み出され実行され得る命令として実施されてもよい。機械可読媒体は、機械（例えばコンピュータデバイス）によって読み取りが可能な形態で情報を記憶または送信するためのあらゆるメカニズムを含み得る。例えば、機械可読媒体は、読出し専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、磁気ディスク記憶媒体、光記憶媒体、フラッシュメモリデバイス、または電気、光、音、もしくはその他の形態の伝搬信号（例えば、搬送波、赤外線信号、デジタル信号等）、などを含み得る。また、本明細書において、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令が何らかの動作を行うと説明されることがある。しかし、そのような説明は単に便宜上のものであり、かかる動作は実際には、コンピュータデバイス、プロセッサ、コントローラ、またはファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令等を実行する他のデバイスによるものであることが理解されるべきである。
【００１９】
[0026]  このような実施形態をより詳細に記載する前に、本発明の実施形態が実施されうる例示的な環境を提示することが有益であろう。
【００２０】
[0027]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。このリソグラフィ装置は、放射ビームＢ（例えばＵＶ放射または任意の他の適切な放射）を調整するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１位置決めデバイスＰＭに接続されたマスクサポート構造（例えばマスクテーブル）ＭＴを有する。リソグラフィ装置はさらに、基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構成され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２の位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴを含む。リソグラフィ装置はさらに、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付けられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つ以上のダイを含む）上に投影するように構成された投影システム（例えば屈折投影レンズシステム）ＰＬを含む。
【００２１】
[0028]  照明システムとしては、放射を誘導し、整形し、または制御するために、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、またはその他のタイプの光コンポーネント、あるいはそれらの任意の組み合せ等の様々なタイプの光コンポーネントを含むことができる。
【００２２】
[0029]  マスクサポート構造は、パターニングデバイスを支持する。即ち、パターニングデバイスの重量を支える。マスクサポート構造は、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、および、パターニングデバイスが真空環境内で保持されているか否か等の他の条件に応じた態様で、パターニングデバイスを保持する。マスクサポート構造は、機械式、真空式、静電式またはその他のクランプ技術を使って、パターニングデバイスを保持することができる。マスクサポート構造は、例えば、必要に応じて固定または可動式にすることができるフレームまたはテーブルであってもよい。マスクサポート構造は、パターニングデバイスを、例えば、投影システムに対して所望の位置に確実に置くことができる。本明細書において使用される「レチクル」または「マスク」という用語はすべて、より一般的な「パターニングデバイス」という用語と同義であると考えてよい。
【００２３】
[0030]  本明細書において使用される「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分内にパターンを作り出すように、放射ビームの断面にパターンを付与するために使用できるあらゆるデバイスを指していると広く解釈されるべきである。なお、放射ビームに付与されたパターンは、例えばそのパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分内の所望のパターンに正確に一致しなくてもよいことに留意されたい。一般に、放射ビームに付与されたパターンは、集積回路等のターゲット部分内に作り出されるデバイス内の特定の機能層に対応する。
【００２４】
[0031]  パターニングデバイスは、透過型であっても反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルが含まれる。マスクは、リソグラフィでは周知であり、バイナリ、レべンソン型（alternating）位相シフト、およびハーフトーン型（attenuated）位相シフト等のマスク型、ならびに種々のハイブリッドマスク型を含む。プログラマブルミラーアレイの一例では、小型ミラーのマトリックス配列が用いられ、入射する放射ビームを様々な方向に反射させるように各小型ミラーを個別に傾斜させることができる。傾斜されたミラーは、ミラーマトリックスによって反射される放射ビームにパターンを付与する。
【００２５】
[0032]  本明細書において使用される「投影システム」という用語は、使われている露光放射に、或いは液浸液の使用または真空の使用といった他の要因に適切な屈折型、反射型、反射屈折型、磁気型、電磁型、および静電型光学システム、またはそれらの任意の組合せを含むあらゆる種類の投影システムを包含すると広く解釈されるべきである。本明細書において使用される「投影レンズ」という用語はすべて、より一般的な用語「投影システム」と同義であると考えてよい。
【００２６】
[0033]  本明細書に示されているとおり、リソグラフィ装置は、透過型のもの（例えば透過型マスクを採用しているもの）である。或いは、リソグラフィ装置は、反射型のもの（例えば上述したようなタイプのプログラマブルミラーアレイまたは反射型マスクを採用しているもの）であってもよい。
【００２７】
[0034]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）以上の基板テーブル、即ち、「基板サポート」（および／または２つ以上のマスクテーブル、即ち、「マスクサポート」）を有するタイプのものであってもよい。そのような「マルチステージ」機械では、追加のテーブル、即ち、サポートを並行して使うことができ、即ち、予備工程を１つ以上のテーブル、即ち、サポート上で実行しつつ、別の１つ以上のテーブル、即ち、サポートを露光用に使うこともできる。
【００２８】
[0035]  また、リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を満たすように、例えば水といった比較的高い屈折率を有する液体によって基板の少なくとも一部を覆うことができるタイプのものであってもよい。また、例えばマスクと投影システムの間といったリソグラフィ装置内の別の空間に液浸液を加えてもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を増加するよう用いることができる。本明細書にて使用される「液浸」という用語は、基板のような構造体を液体内に沈めなければならないという意味ではなく、単に、露光中、投影システムと基板との間に液体があるということを意味するものである。
【００２９】
[0036]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受ける。例えば放射源がエキシマレーザである場合、放射源とリソグラフィ装置は、別個の構成要素であってもよい。その場合、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成しているとはみなされず、また、放射ビームは放射源ＳＯからイルミネータＩＬへ、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムＢＤを使って送られる。その他の場合、例えば放射源が水銀ランプである場合、放射源はリソグラフィ装置の一体部分とすることもできる。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要ならばビームデリバリシステムＢＤとともに、放射システムと呼んでもよい。
【００３０】
[0037]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角強度分布を調節するアジャスタＡＤを含んでもよい。一般に、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側および／または内側半径範囲（通常、それぞれσ-outerおよびσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。さらに、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯといった様々な他のコンポーネントを含むことができる。イルミネータを使って放射ビームを調整すれば、放射ビームの断面に所望の均一性および強度分布を持たせることができる。
【００３１】
[0038]  放射ビームＢは、マスクサポート構造（例えばマスクテーブルＭＴ）上に保持されたパターニングデバイス（例えばマスクＭＡ）上に入射し、パターニングデバイスによってパターンが付けられる。マスクＭＡを横断した後、放射ビームＢは投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームの焦点を合わせる。第２の位置決めデバイスＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ、または静電容量センサ）を使い、例えば、様々なターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路内に位置決めするように、基板テーブルＷＴを正確に動かすことができる。同様に、第１の位置決めデバイスＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示しない）を使い、マスクＭＡを放射ビームＢの経路に対して、例えばマスクライブラリからの機械的な取り出しの後またはスキャン中に、正確に位置決めすることもできる。通常、マスクテーブルＭＴの移動は、第１の位置決めデバイスＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を使って実現することができる。同様に、基板テーブルＷＴ、即ち、「基板サポート」の移動も、第２の位置決めデバイスＰＷの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使って実現することができる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、マスクテーブルＭＴは、ショートストロークアクチュエータのみに連結されてもよく、または固定されてもよい。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２と、基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使って位置合わせされてもよい。例示では基板アライメントマークが専用ターゲット部分を占めているが、基板アライメントマークをターゲット部分とターゲット部分との間の空間内に置くこともできる（これらはスクライブラインアライメントマークとして知られている）。同様に、複数のダイがマスクＭＡ上に設けられている場合、マスクアライメントマークは、ダイとダイの間に置かれてもよい。
【００３２】
[0039]  例示の装置は、以下に説明するモードのうち少なくとも１つのモードで使用できる。 
【００３３】
[0040]  １．ステップモードでは、マスクテーブルＭＴ、即ち、「マスクサポート」および基板テーブルＷＴ、即ち、「基板サポート」を基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分Ｃ上に投影する（即ち、単一静的露光）。その後、基板テーブルＷＴ、即ち、「基板サポート」は、Ｘおよび／またはＹ方向に移動され、それにより別のターゲット部分Ｃを露光することができる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光時に結像されるターゲット部分Ｃのサイズが限定される。
【００３４】
[0041]  ２．スキャンモードでは、マスクテーブルＭＴ、即ち、「マスクサポート」および基板テーブルＷＴ、即ち、「基板サポート」を同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する（即ち、単一動的露光）。マスクテーブルＭＴ、即ち、「マスクサポート」に対する基板テーブルＷＴ、即ち、「基板サポート」の速度および方向は、投影システムＰＳの（縮小）拡大率および像反転特性によって決めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光時のターゲット部分の幅（非スキャン方向）が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さ（スキャン方向）が決まる。
【００３５】
[0042]  ３．別のモードでは、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、マスクテーブルＭＴ、即ち、「マスクサポート」を基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルＷＴ、即ち、「基板サポート」を動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する。このモードでは、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴ、即ち、「基板サポート」の移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述のタイプのプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
【００３６】
[0043]  上述の使用モードの組合せおよび／またはバリエーション、或いは完全に異なる使用モードもまた採用可能である。
【００３７】
[0044]  図２は、オブジェクトテーブルＯＴとして示される基板テーブルと、オブジェクトテーブルサポートＯＴＳとして示されるエンコーダブロックとを備える、リソグラフィ装置の従来技術の可動基板ステージシステムを示す。オブジェクトテーブルサポートＯＴＳは、オブジェクトテーブルＯＴを支持するように構成された、例えばエンコーダブロックポットホールであるオブジェクトテーブル支持面を備える。オブジェクトテーブル面はｘｙ面内に延在する。
【００３８】
[0045]  オブジェクトテーブルサポートＯＴＳは、例えば基準フレームである基準要素上に取り付けられた１以上の格子プレートに対するＯＴＳの位置を測定する多数のエンコーダセンサＥＳを備える。図２に示されるエンコーダセンサＥＳは、６自由度でオブジェクトテーブルサポートＯＴＳの位置を測定するように構成される。
【００３９】
[0046]  オブジェクトテーブルＯＴは、真空クランプによって、オブジェクトテーブル支持面上にクランプされる。
【００４０】
[0047]  基板テーブルサポートＯＴＳは、多数のローレンツアクチュエータＬＡを備え、それぞれ、基板テーブルサポートＯＴＳと、それと共に基板テーブルＯＳとを駆動方向ＤＤに駆動するように構成される。図２には、第１の駆動方向ＤＤ、即ち、ｙ方向に駆動するためのローレンツアクチュエータのみを示す。リソグラフィ装置用の基板ステージシステムでは、通常、更なるアクチュエータが設けられて、オブジェクトテーブルサポートＯＴＳをｘ方向およびｙ方向に移動させ、オブジェクトテーブルサポートの位置決めが６自由度で可能になるようにされている。
【００４１】
[0048]  オブジェクトテーブル支持面はｘｙ面内に延在するので、図２の平面図は、オブジェクトテーブル支持面に平行な面上の投影と見なすことができる。
【００４２】
[0049]  この投影では、ローレンツアクチュエータは、オブジェクトテーブルＯＴに対して直列に駆動方向に、即ち、駆動方向ＤＤにおいて見た場合にオブジェクトテーブルＯＴの前後に配置される。ローレンツアクチュエータＬＡとオブジェクトテーブルＯＴのこの相対位置の結果、サポートテーブル支持面上のローレンツアクチュエータＬＡの作動により生じる、駆動方向ＤＤにおけるローレンツアクチュエータＬＡの垂直負荷は、オブジェクトテーブルサポートＯＴＳとオブジェクトテーブルＯＴとの間の平面における材料応力にホットスポットピーク（hot spot peak）をもたらす。
【００４３】
[0050]  材料応力のこれらのホットスポットピークは、オブジェクトテーブルＯＴへの局所せん断力が増加しかつ垂直負荷が減少することにより、オブジェクトテーブルＯＴとオブジェクトテーブルサポートＯＴＳとの間に局所的なすべりをもたらす負の影響を局所的に有しうる。このすべりは、オブジェクトテーブルＯＴとオブジェクトテーブルサポートＯＴＳとの間の異なる位置につながりうる。基板は、オブジェクトテーブルＯＴによって支持され、基板の位置は、オブジェクトテーブルサポートの位置に基づいて求められるので、これらの様々な位置は、パターニングデバイスに対する基板の位置ずれ、結果として、基板上の後続の層におけるオーバーレイエラーをもたらしうる。
【００４４】
[0051]  オブジェクトテーブルサポートＯＴＳの加速度が増加するにつれて、オブジェクトテーブルＯＴとオブジェクトテーブルサポートＯＴＳとの間のすべりの危険が高まる。
【００４５】
[0052]  図３は、本発明の一実施形態による可動基板ステージシステムの平面図を示す。図４に、この可動基板ステージシステムの側面図を示す。基板ステージシステムは、基板を支持するように構成されたオブジェクトテーブルＯＴとして示される基板テーブルと、オブジェクトテーブルＯＴを支持するように構成されたオブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳを備えるオブジェクトテーブルサポートＯＴＳとして示される基板テーブルとを備える。オブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳは、必ずしも平らな面でなくともよく、例えば、多数の突起または他の要素によって画定されてもよい。オブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳは、ｘｙ面内に延在する。
【００４６】
[0053]  オブジェクトテーブルサポートＯＴＳは、例えば基準フレームである基準要素上に取り付けられた１以上の格子プレートに対するＯＴＳの位置を測定する多数のエンコーダセンサＥＳを備える。エンコーダセンサＥＳは、６自由度でオブジェクトテーブルサポートＯＴＳの位置を測定するように構成される。
【００４７】
[0054]  干渉計システムといった任意の他の位置測定システムを適用してもよい。例えば干渉計システムの実施形態は、例えば基準フレームである基準要素上に取り付けられた多数の干渉計センサを備える。干渉計センサは、オブジェクトテーブルサポート上のミラー要素に向けて光ビームを放射する。例えばオブジェクトテーブルサポートは、ミラー要素として機能する反射側面を備えるミラーブロックであってもよい。反射された光ビームは、基準ビームと組み合わされ、それにより、基準要素に対するオブジェクトテーブルサポートの位置変化を、反射された光ビームと基準ビームとの干渉に基づいて求めることができる。
【００４８】
[0055]  別の実施形態では、エンコーダセンサは、基準フレームといった１以上の基準要素上に配置されうる。１以上の格子プレートが、基準要素上のエンコーダセンサと協働するようにオブジェクトテーブルサポート上に設けられうる。
【００４９】
[0056]  オブジェクトテーブルＯＴは、真空クランプＶＣによって、オブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳ上にクランプされる。さらに、または、代替として、静電または磁気クランプシステムといった任意の他のタイプのクランプを適用してもよい。
【００５０】
[0057]  オブジェクトテーブルＯＴの底面側には、多数のバールＢＵ（図４参照）が、オブジェクトテーブルＯＴとオブジェクトテーブルサポートＯＴＳとの間に真空空間を形成するように設けられている。これらのバールＢＵは、オブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳに対して特定の垂直力を有する真空力によって押される。クランプ力は、オブジェクトテーブルＯＴを、オブジェクトテーブルサポートＯＴＳに対して一定の位置に維持するのに十分であるべきである。バールＢＵのそれぞれについて、垂直力、即ち、オブジェクトテーブルＯＴがオブジェクトテーブルサポートＯＴＳに対して押される力に、オブジェクトテーブルＯＴとオブジェクトテーブルサポートＯＴＳとの間の摩擦係数を掛け算したものは、オブジェクトテーブルＯＴとオブジェクトテーブルサポートＯＴＳとの間の（局所的な）すべりを回避するために、オブジェクトテーブルＯＴおよびオブジェクトテーブルサポートＯＴＳの加速度によって、および／または、オブジェクトテーブルサポートＯＴＳの変形によって導入されるバールＢＵにおけるせん断力よりも大きいべきである。
【００５１】
[0058]  さらに、オブジェクトテーブルＯＴの非平坦性、オブジェクトテーブルＯＴとオブジェクトテーブルサポートＯＴＳとの組み合わせの重力の中心とアクチュエータによって加えられた力の中心との位置ずれ、および粒子の存在は、垂直力を減少させ、したがって、すべりの危険を高めうる。真空クランプＶＣの真空力を増加させることは、平均垂直力を増加させるが、重力の中心と力の中心との位置ずれと合わされた真空力の増加はオブジェクトテーブルＯＴの傾斜によるすべりの危険を高めるので、加速時には、局所的に垂直力を減少させうる。図３に示すようなアクチュエータ配置は、オブジェクトテーブルＯＴとオブジェクトテーブルサポートＯＴＳとの間にすべりを導入することなく加速度を増加させる可能性を高めうる。
【００５２】
[0059]  オブジェクトテーブルサポートＯＴＳは、４つのリラクタンスアクチュエータ（reluctance actuator）、好適には可変リラクタンスアクチュエータＲＡを含み、それぞれ、オブジェクトテーブルサポートＯＴＳを駆動方向ＤＤ、ここではｙ方向に駆動するように構成されている。実際には、更なるリラクタンスアクチュエータが設けられてオブジェクトサポートテーブルを他の駆動方向、例えばｘ方向および／またはｚ方向に駆動しうる。リラクタンスアクチュエータＲＡは、オブジェクトテーブルサポートＯＴＳを駆動するのに適した任意のリラクタンスアクチュエータであってよい。一実施形態では、リラクタンスアクチュエータは、可変リラクタンスを有する磁気回路を提供するよう互いに変位可能な第１および第２の磁気部材と、使用時に、磁気回路を通る磁束を生成するための電流を受けるためのコイルと、磁気回路を通る磁束を表す測定信号を生成するための測定コイルであって、磁気回路を通る磁束を実質的に囲むように配置される測定コイルと、入力端子において測定信号を受信し、それに応答して、測定信号に基づいた、更なるアクチュエータの電流の振幅または力を制御するための制御信号を出力端子において供給するように配置された制御ユニットとを備える。
【００５３】
[0060]  オブジェクトテーブルサポートＯＴＳの駆動に適したリラクタンスアクチュエータの更なる特徴および／または実施形態は、例えば、参照によりその内容の全体が本明細書に組み込まれる同時係属中の米国仮特許出願第６１／３６２，８８７号、および／または、参照によりその内容の全体が本明細書に組み込まれる同時係属中の米国特許仮出願第６１／４４５，４３６号に記載される。
【００５４】
[0061]  リラクタンスアクチュエータの代わりに、他の適切なタイプのアクチュエータが設けられてもよい。
【００５５】
[0062]  図２と同様に、図３の平面図も、オブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳが図平面に平行であるｘｙ面内に延在するため、オブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳと平行な面上の投影と見なすことができる。
【００５６】
[0063]  図３に示す投影では、リラクタンスアクチュエータＲＡは、駆動方向ＤＤに対して直角方向においてオブジェクトテーブルＯＴから間隔が置かれて配置されている。つまり、この投影において、オブジェクトテーブルＯＴが駆動方向に動かされる場合、オブジェクトテーブルＯＴの経路と、リラクタンスアクチュエータＲＡの経路とは互いに平行となり、重ならない。オブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳに直角な方向、本実施形態ではｚ方向では、オブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳおよびリラクタンスアクチュエータＲＡは、同じまたは異なるレベルに配置されてよいことを述べておく。
【００５７】
[0064]  図３に示す実施形態では、リラクタンスアクチュエータは、駆動方向に直角な方向、ここではｘ方向において、オブジェクトテーブルＯＴに隣接する領域内にも配置されている。したがって、このｘ方向において、リラクタンスアクチュエータは、オブジェクトテーブルＯＴに対して直列に配置される。つまり、この投影において、オブジェクトテーブルＯＴが駆動方向に直角な方向（ｘ方向）においてｘｙ面内を動かされると、オブジェクトテーブルＯＴとリラクタンスアクチュエータＲＡの経路は互いに重なる。
【００５８】
[0065]  材料応力のホットスポットピークが、アクチュエータの垂直方向、即ち、駆動方向ＤＤにおいてより支配的にあるので、オブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳと、オブジェクトテーブルＯＴのバールＢＵは、これらのホットスポットピークの影響をあまり受けない。代わりに、力が接線方向に、オブジェクトテーブルサポートＯＴＳ内にオブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳおよびオブジェクトテーブルＯＴに向けて導入される。剛性率がヤング率より低いので、リラクタンスアクチュエータＲＡのそれぞれのアクチュエータ力は、オブジェクトテーブルＯＴに向かう方向において、オブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳの大きい領域にわたって分割される。これは、オブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳの領域に、より均等な応力分布をもたらす。
【００５９】
[0066]  このアクチュエータ配置、および、オブジェクトテーブル支持面における応力分布の結果として、個々のバールＢＵにおける垂直力の変化は、リラクタンスアクチュエータＲＡによって引き起こされる応力の影響をあまり受けなくなる。オブジェクトテーブルサポートＯＴＳの加速および／または減速のレベルは、オブジェクトテーブルＯＴとオブジェクトテーブルサポートＯＴＳとの間のすべりの危険が実質的にない状態で増加されうる。
【００６０】
[0067]  図４は、オブジェクトテーブルサポートＯＴＳがステージシステムのロングストロークモジュールＬＳＭ上に取り付けられていることをさらに示す。リラクタンスアクチュエータＲＡは、ロングストロークモジュールＬＳＭに対して比較的小さい範囲にわたり高い精度でオブジェクトテーブルサポートＯＴＳを動かすように配置される。ロングストロークモジュールＬＳＭは、ベースフレームＢＦに対してロングストロークモジュールＬＳＭを低い精度で位置決めする更なるアクチュエータを備えてもよい。ベースフレームに対して大きい範囲にわたって移動可能なロングストロークモジュールＬＳＭと、ロングストロークモジュールに対して短いストロークにわたり移動可能なオブジェクトテーブルサポートの組み合わせを用いることで、オブジェクトテーブルＯＴ上に支持された基板Ｗは、大きい範囲にわたって高い精度で位置決め可能となる。
【００６１】
[0068]  図５は、駆動方向ＤＤに実質的に直角なｘｙ面における第２の駆動方向ＤＤ２、即ちｘ方向に、オブジェクトテーブルサポートＯＴＳを駆動するように構成された第２のリラクタンスアクチュエータＲＡ２のセットを有する、図３および図４の基板ステージシステムを示す。オブジェクトテーブルサポートＯＴＳをｚ方向に、即ちｘｙ面に直角に駆動するように更なるアクチュエータが設けられてもよい。
【００６２】
[0069]  第２のリラクタンスアクチュエータＲＡ２は、図５に示す投影では、第２の駆動方向ＤＤ２に直角な方向においてオブジェクトテーブルＯＴから間隔が置かれて配置されている。つまり、この投影において、オブジェクトテーブルＯＴが第２の駆動方向ＤＤ２に動かされる場合、オブジェクトテーブルＯＴの経路と第２のリラクタンスアクチュエータＲＡ２の経路は互いに平行となり、重ならない。
【００６３】
[0070]  さらに、図５に示す実施形態では、第２のリラクタンスアクチュエータＲＡ２は、第２の駆動方向ＤＤ２に直角な方向においてオブジェクトテーブルＯＴに隣接する領域内にも配置される。つまり、第２のリラクタンスアクチュエータＲＡ２は、第２の駆動方向ＤＤ２に直角な方向においてオブジェクトテーブルＯＴに対して直列に配置される。
【００６４】
[0071]  オブジェクトテーブルＯＴに対する第２のアクチュエータＲＡ２のセットの配置は、オブジェクトテーブルサポートＯＴＳをｙ方向に駆動するように構成されたリラクタンスアクチュエータＲＡと同じ利点を有する。具体的には、第２のアクチュエータＲＡ２の垂直方向（第２の駆動方向ＤＤ）は、オブジェクトテーブルＯＴには向けられず、それにより、オブジェクトテーブル支持面ＯＴＳＳおよびバールＢＵにおけるホットスポットピーク応力の導入が回避される。
【００６５】
[0072]  本発明によるアクチュエータ配置は、オブジェクトを支持するように構成されたオブジェクト支持面を画定するオブジェクトサポートを備えるステージシステムであって、オブジェクトサポートがオブジェクトサポートをオブジェクト支持面に実質的に平行な第１の駆動方向に駆動する少なくとも１つの第１のアクチュエータを備える、任意のステージシステムに適用されうることを述べておく。
【００６６】
[0073]  かかるステージシステムでは、オブジェクト支持面と平行な面上の投影では、少なくとも１つのアクチュエータは、第１の駆動方向に直角な方向において、オブジェクトサポート上に支持されたオブジェクトに対して間隔が置かれている。図面に示す実施形態では、オブジェクトはオブジェクトテーブルＯＴであり、オブジェクトサポートはオブジェクトテーブルサポートＯＴＳである。
【００６７】
[0074]  図６は、本発明によるステージシステムの別の実施形態を示し、この実施形態では、アクチュエータの配置は、オブジェクトサポートとその上に支持されたオブジェクトとの間のすべりの危険を回避する、または少なくともその危険を減らすように選択される。
【００６８】
[0075]  図６のステージシステムは、例えばリラクタンスアクチュエータまたはローレンツアクチュエータである、４つのアクチュエータＡを有するオブジェクトサポートＯＳを備える。アクチュエータＡは、オブジェクトサポートＯＳを駆動方向ＤＤに駆動するように構成される。
【００６９】
[0076]  さらに、ステージシステムは、オブジェクトサポートＯＳの支持面上にクランプされる格子プレートＧＰの形式の２つのオブジェクトを備える。支持面は、ｘｙ面内に延在する。図６は、ｘｙ面上への投影として見なされうる。クランプシステムは、例えば、真空、静電、または磁気クランプシステムといった任意の適切なシステムでありうる。
【００７０】
[0077]  格子プレートＧＰの支持面における応力ピークを回避するために、アクチュエータＡは、支持面に平行な平面上の投影において、支持面とその上に支持される格子プレートに対して、駆動方向ＤＤに直角な方向において間隔が置かれて配置される。このアクチュエータ配置により、各格子プレートＧＰとオブジェクトサポートＯＳとの間のすべりの危険が、特に高い加速度レベルにおいて減少する。
【００７１】
[0078]  ステージシステムは、更なるオブジェクト支持面ＦＯＳＳを備える、ことを述べておく。この更なるオブジェクト支持面ＦＯＳＳは、例えば基板またはパターニングデバイスを支持するように構成されうる。有利には、アクチュエータＡも、駆動方向ＤＤに直角な方向において、更なるオブジェクトテーブル支持面ＦＯＳＳに対して間隔が置かれる。アクチュエータＡと更なるオブジェクト支持面ＦＯＳＳとのこの相対的な配置により、更なるオブジェクト支持面ＦＯＳＳにおける応力ピークも回避される。
【００７２】
[0079]  一般的に、リラクタンスアクチュエータは、オブジェクトテーブル支持面（ＯＴＳＳ）と略同一面内である第１の磁性部材（ＦＭＭ）を有する、ことをさらに述べておく。したがって、リラクタンスアクチュエータの第１の磁性部材の周りに巻かれたコイル（ＣＬ）は、オブジェクトテーブルサポート（ＯＴＳ）が比較的薄い場合にはオブジェクトテーブルサポートの外側に突出しうる。リラクタンスアクチュエータのコイルが突出するため、リラクタンスアクチュエータは全体的にオブジェクトテーブル支持面に対して低くされうる。しかし、これは、オブジェクトテーブルサポート（ＯＴＳ）、したがってオブジェクトテーブル（ＯＴ）に望ましくないモーメントを引き起こしうる。代替実施形態では、リラクタンスアクチュエータは、図７に示すようにオブジェクトテーブル支持面（ＯＴＳＳ）に対して傾斜された第１の磁性部材（ＦＭＭ）を有して傾斜されうる。このような実施形態では、リラクタンスアクチュエータのコイル（ＣＬ１、ＣＬ２）は、オブジェクトテーブル支持面（ＯＴＳＳ）の上方にもはや突出せず、したがって、第１の磁性部材（ＦＭＭ１、ＦＭＭ２）と第２の磁性部材（ＳＭＭ）との間の間隙（ＧＰ１、ＧＰ２）に作用するリラクタンスアクチュエータ力は、所望レベルにより近く作用して、オブジェクトテーブルサポート（ＯＴＳ）にかかるモーメントを最小限にすることができる。リラクタンスアクチュエータをオブジェクトテーブルサポート（ＯＴＳ）の周囲に配置するのではなく、アクチュエータをオブジェクトテーブルサポートの下に配置する場合の更なる利点は、アクチュエータを収容するようオブジェクトテーブルサポートに作られなければならないポケットが、非傾斜アクチュエータと比べて小さくすることができる点であり、これにより、一般に、より堅いオブジェクトテーブルサポートがもたらされる。
【００７３】
[0080]  本発明は、オブジェクトを支持することにより、オブジェクトサポートとオブジェクトとの間のすべりの危険がある、任意の他のオブジェクトサポートにも用いられてよい。
【００７４】
[0081]  本明細書において、ＩＣ製造におけるリソグラフィ装置の使用について具体的な言及がなされているが、本明細書記載のインスペクション方法および装置が、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスパターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造といった他の用途を有し得ることが理解されるべきである。当業者には当然のことであるがそのような別の用途においては、本明細書で使用される「ウェーハ」または「ダイ」という用語はすべて、それぞれより一般的な「基板」または「ターゲット部分」という用語と同義であるとみなしてよい。本明細書に記載した基板は、露光の前後を問わず、例えば、トラック（通常、基板にレジスト層を塗布し、かつ露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジーツール、および／またはインスペクションツールで処理されてもよい。適用可能な場合には、本明細書中の開示内容を上記のような基板プロセシングツールおよびその他の基板プロセシングツールに適用してもよい。さらに基板は、例えば、多層ＩＣを作るために複数回処理されてもよいので、本明細書で使用される基板という用語は、すでに多重処理層を包含している基板を表すものとしてもよい。
【００７５】
[0082]  光リソグラフィの関連での本発明の実施形態の使用について上述のとおり具体的な言及がなされたが、当然のことながら、本発明の実施形態は、他の用途、例えば、インプリントリソグラフィに使われてもよく、さらに状況が許すのであれば、光リソグラフィに限定されることはない。インプリントリソグラフィにおいては、パターニングデバイス内のトポグラフィによって、基板上に創出されるパターンが定義される。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に供給されたレジスト層の中にプレス加工され、基板上では、電磁放射、熱、圧力、またはそれらの組合せによってレジストは硬化される。パターニングデバイスは、レジストが硬化した後、レジスト内にパターンを残してレジストの外へ移動される。
【００７６】
[0083]  本明細書において使用される「放射」および「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）（例えば３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、または１２６ｎｍの波長またはおよそこれらの値の波長を有する）および極端紫外線（ＥＵＶ）（例えば５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆる種類の電磁放射、並びにイオンビームまたは電子ビームといった粒子ビームを包含している。
【００７７】
[0084]  「レンズ」という用語は、文脈によって、屈折、反射、磁気、電磁気、および静電型光学コンポーネントを含む様々な種類の光学コンポーネントのいずれか１つまたはこれらの組合せを指しうる。
【００７８】
[0085]  以上、本発明の具体的な実施形態を説明してきたが、本発明は、上述以外の態様で実施できることが明らかである。例えば、本発明の実施形態は、上に開示された方法を記述する１つまたは複数のシーケンスの機械可読命令を含むコンピュータプログラム、または、かかるコンピュータプログラムが記憶されたデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態を取りうる。
【００７９】
[0086]  上記説明は、限定ではなく例示的あることを意図している。したがって、当業者であれば、以下に記載される特許請求の範囲から逸脱することなく本発明に変更を行いうることは明らかであろう。
【００８０】
[0087]発明の概要および要約の項目は、発明者が想定するような本発明の１つまたは複数の例示的実施形態について述べることができるが、全部の例示的実施形態を述べることはできず、したがって本発明および請求の範囲をいかなる意味でも制限しないものとする。
【００８１】
[0088]  本発明は、特定の機能の実施とそれらの関係を示す機能的構成要素を用いて上に説明された。これらの機能的構成要素の境界は、説明の便宜上任意に定義されている。特定の機能およびそれらの関係が適切に行われる限り別の境界が定義されてもよい
【００８２】
[0089]  特定の実施形態の上記の説明は、本発明の一般的性質を十分に明らかにし、それにより、当業者の知識を適用することによって、他の人が、必要以上の実験を行うことなく、本発明の一般的な概念から逸脱することなく、特定の実施形態の様々な適用を容易に修正および／または適応することができるようにする。したがって、このような適応および修正は、本明細書に提示する教示および指導内容に基づいて、開示された実施形態の等価物の意味および範囲内であることを意図するものである。なお、本明細書における表現および用語は、説明のためであって限定を目的とせず、したがって、本明細書の用語および表現は教示および指導内容を鑑みて当業者によって解釈されるべきであることを理解すべきである。
【００８３】
[0090]  本発明の広さおよび範囲は、上述した例示的な実施形態のいずれによっても限定されるべきでなく、以下の特許請求の範囲およびそれらの等価物によってのみ定義されるべきである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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