(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射要素のアレイであって、反射要素の少なくともひとつはマウンティングに取り付けられており、そのマウンティングは少なくとも部分的にスリーブ内に位置するロッドとロッドを直接押すように構成されたアクチュエータとを含み、
ロッドの第１端はスリーブの第１端に固定され、ロッドの第２端は可動とされ、
スリーブは、ロッドの第２端の動きが生じることを許すために曲がるよう構成された第１弾性柔軟部を含み、
反射要素は、スリーブが曲がることで反射要素が回転するようにスリーブの第１端に取り付けられ、
アクチュエータがロッドを直接押すことにより、ロッドの第２端が移動し、その結果、ロッドの第１端に固定されたスリープが曲がることでスリーブの第１端に取り付けられた反射要素が回転するように構成された、アレイ。
【請求項２】
スリーブは、ロッドの動きが生じることを許すために曲がるよう構成された第２弾性柔軟部を含む、請求項１に記載のアレイ。
【請求項３】
第１弾性柔軟部は第１向きに曲がるよう構成され、第２弾性柔軟部は第２向きに曲がるよう構成され、第１および第２向きは実質的に交差する、請求項２に記載のアレイ。
【請求項４】
第１弾性柔軟部は少なくとも２つの剛体部を含み、少なくとも２つの剛体部は両端で弾性接続部によってスリーブの他の部分と接続される、請求項１から３のいずれかに記載のアレイ。
【請求項５】
第１弾性柔軟部は少なくとも４つの剛体部を含み、少なくとも４つの剛体部は両端で弾性接続部によってスリーブの他の部分と接続される、請求項４に記載のアレイ。
【請求項６】
少なくともひとつの弾性接続部は、曲げが生じることを許すのに十分なほど薄いスリーブの直線的延在部を含む、請求項４または５に記載のアレイ。
【請求項７】
剛体部の少なくともひとつは、スリーブの中心軸に対してある角度をなすよう方向付けられている、請求項４から６のいずれかに記載のアレイ。
【請求項８】
スリーブは略円筒形である、請求項１から７のいずれかに記載のアレイ。
【請求項９】
マウンティングは調整可能なエンドストップを備え、エンドストップはロッドの移動方向の調整を可能とするよう構成される、請求項１から８のいずれかに記載のアレイ。
【請求項１０】
エンドストップは、ロッドの動きを制限することによって、反射要素の第１向きおよび第２向きを規定する、請求項９に記載のアレイ。
【請求項１１】
マウンティングの幅は、マウンティングに取り付けられている反射要素の幅よりも大きい、請求項１から１０のいずれかに記載のアレイ。
【請求項１２】
各反射要素はひとつのマウンティングに取り付けられ、
第１マウンティングは第１反射要素が第１軸の周りに回転することができるよう構成され、
第２マウンティングは第２反射要素が第２軸の周りに回転することができるよう構成され、
向きについて、第１軸は第２軸よりも反射要素を横切るように走る軸に近く、
第１マウンティングから第１反射要素の中心までの距離は、第２マウンティングから第２反射要素の中心までの距離よりも大きい、請求項１から１１のいずれかに記載のアレイ。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれかに記載のアレイを備えるリソグラフィ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願へのクロスリファレンス
本出願は、２００９年６月３０日に出願された米国仮出願（６１／２１３６５９）の優先権の利益を享受する。その仮出願は参照によりその全体が本明細書に組み入れられる。
【０００２】
本発明はリソグラフィ装置および反射要素のアレイに関する。
【背景技術】
【０００３】
リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板のターゲット部分に転写する機械である。リソグラフィ装置は例えば集積回路（ＩＣ）の製造に用いられる。この場合、例えばマスクまたはレチクルとも称されるパターニングデバイスが、集積回路の個々の層に対応する回路パターンを形成するために使用されうる。このパターンが基板（例えばシリコンウエハ）の（例えばひとつまたは複数のダイもしくはダイの一部を含む）ターゲット部分に転写される。パターン転写は典型的には基板に形成された放射感応性材料（レジスト）層への結像による。一般に一枚の基板にはネットワーク状に隣接する一群のターゲット部分が含まれ、これらは連続的にパターン形成される。公知のリソグラフィ装置にはいわゆるステッパとスキャナとがある。ステッパにおいては、ターゲット部分にパターン全体が一度に露光されるようにして各ターゲット部分は照射を受ける。スキャナにおいては、所与の方向（「走査」方向）にビームによりパターンを走査するとともに基板をこの方向に平行または逆平行に同期して走査するようにして各ターゲット部分は照射を受ける。
【０００４】
一般にリソグラフィ装置は照明システムを含む。照明システムはレーザなどのソースから放射を受け、放射ビーム（ときに「投影」ビームと称される）を提供し、その放射ビームはパターニングデバイスに入射する。放射ビームはパターニングデバイスによってパターン付与され、次に投影システムによって基板上に投影される。
【０００５】
放射ビームを適切な照明モードで提供することによって、基板上に投影されるパターニングデバイスのイメージを改善できることがリソグラフィの分野において知られている。したがって、典型的には、リソグラフィ装置の照明システムは、強度分布調整装置を含む。この強度分布調整装置は、放射ビームが照明モードを有するよう、照明システムの瞳面内で、放射ビームの強度分布を方向付け、成形し、制御するよう構成される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
種々の強度分布調整装置は所望の照明モードを獲得するために照明ビームを制御することができる。例えば、環状照明モードを生成するためにズームアキシコンデバイス（ズームレンズとアキシコンの組み合わせ）を使用することができる。そこでは、照明モードの内側半径範囲および外側半径範囲（σinnerおよびσouter）が制御可能となっている。ズームアキシコンデバイスは通常、個々に移動可能な複数の屈折光学素子を備える。したがって、ズームアキシコンデバイスは、例えば極端紫外（ＥＵＶ）放射（例えば、約１３．５ｎｍでの放射）での使用には適していない。この波長の放射は屈折材料を通過する際に大きく吸収されるからである。
【０００７】
空間フィルタを使用して照明モードを生成することができる。例えば、ダイポール照明モードを生成するために、ダイポール照明モードに対応する開口を有する空間フィルタを照明システムの瞳面に提供してもよい。異なる照明モードが望まれる場合、空間フィルタを除去し、異なる空間フィルタで置き換えてもよい。しかしながら、空間フィルタは放射ビームのかなりの割合を遮るので、放射ビームがパターニングデバイスに入射するときの放射ビームの強度は低減される。既知のＥＵＶソースは、リソグラフィ装置が効率的に動作できるようになるのに十分な強度でＥＵＶ放射を提供しようと苦労している。したがって、照明モードを形成する際に放射ビームのかなりの部分を遮るのは望ましくない。
【０００８】
例えば、本明細書またはいずこかで説明されるひとつ以上の短所を軽減するまたは克服するために使用されうる反射要素のアレイを提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
ある態様では、反射要素のアレイであって、反射要素の少なくともひとつはマウンティングに取り付けられており、そのマウンティングは少なくとも部分的にスリーブ内に位置するロッドを含み、ロッドの第１端はスリーブの第１端に固定され、ロッドの第２端は可動とされ、スリーブは、ロッドの第２端の動きが生じることを許すために曲がるよう構成された第１弾性柔軟部を含み、反射要素は、スリーブが曲がることで反射要素が回転するようにスリーブの第１端に取り付けられる、アレイが提供される。
【００１０】
反射要素のアレイはリソグラフィ装置の一部を形成してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
本発明の実施の形態は、例示のみを目的として添付の模式的な図面を参照して説明される。図面では、対応する参照符号は、対応する部分を示す。
【００１２】
【図１】本発明の実施の形態に係るリソグラフィ装置を模式的に示す図である。
【００１３】
【図２】図１のリソグラフィ装置の部分をより詳細に示す模式図である。
【００１４】
【図３】リソグラフィ装置の照明システムの可動反射要素の動作を示す図である。
【００１５】
【図４】リソグラフィ装置の照明システムの第１反射素子の主反射要素の動作の影響を示す図である。
【００１６】
【図５】図５ａおよび図５ｂは、リソグラフィ装置の照明システムの可動反射要素の動作およびその結果得られるｙダイポール照明モードを示す図である。
【００１７】
【図６】図６ａおよび図６ｂは、リソグラフィ装置の照明システムの可動反射要素の動作およびその結果得られるｘダイポール照明モードを示す図である。
【００１８】
【図７】瞳面の第１象限を示す図である。
【００１９】
【図８】図８ａ−ｅは、本発明の実施の形態を使用して獲得可能な５つの照明モードを示す図である。
【００２０】
【図９】瞳面の第１象限を示す図である。
【００２１】
【図１０】図１０ａ−ｇは、本発明の実施の形態を使用して獲得可能な７つの照明モードを示す図である。
【００２２】
【図１１】本発明の実施の形態に係る複数のマウンティングおよび反射要素を示す図である。
【００２３】
【図１２】図１１のマウンティングのうちのひとつをより詳細に示す図である。
【００２４】
【図１３】図１１のマウンティングのうちのひとつの下面図である。
【００２５】
【図１４】図１１のマウンティングおよび反射要素の下面図である。
【００２６】
【図１５】ある反射要素が隣の反射要素の陰になることを模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本明細書ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、本明細書に記載されたリソグラフィ装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。他の用途としては、集積光学システム、磁区メモリ用案内パターンおよび検出パターン、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどがある。これらの代替的な適用に際して、本明細書において「ウエハ」あるいは「ダイ」という用語が使用される場合はいつでも、それぞれ「基板」あるいは「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義であるとみなされうると、当業者であれば理解するであろう。本明細書で言及される基板は露光前または露光後において例えばトラック（典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像するツール）、メトロロジツール、及び／またはインスペクションツールにおいて処理されてもよい。適用可能であれば、本明細書の開示はこれらのまたは他の基板処理装置にも適用され得る。また、基板は例えば多層ＩＣを製造するために複数回処理されてもよく、その場合には本明細書における基板という用語は処理されている多数の層を既に含む基板をも意味してもよい。
【００２８】
本明細書で使用される「放射」及び「ビーム」という用語は、（例えば３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、または１２６ｎｍの波長を有する）紫外（ＵＶ）放射、（例えば５−２０ｎｍの範囲に含まれる波長を有する）極端紫外（ＥＵＶ）放射を含むあらゆる電磁放射、及びイオンビームまたは電子ビーム等の粒子線を含む。
【００２９】
本明細書で使用される「パターニングデバイス」なる用語は、例えば基板のターゲット部分にパターンを生成するために放射ビームの断面にパターンを付与するのに使用される何らかのデバイスであると広義に解釈されるべきである。放射ビームに与えられるパターンは、基板のターゲット部分における所望のパターンと厳密に対応していなくてもよいことを注意しておく。一般には、放射ビームに付与されるパターンは、ターゲット部分に形成される集積回路などのデバイスの特定の機能層に対応する。
【００３０】
パターニングデバイスは透過型であっても反射型であってもよい。ＥＵＶリソグラフィ装置では典型的にはパターニングデバイスは反射型である。パターニングデバイスの例としては、例えばマスク（透過型）やプログラマブルミラーアレイ（反射型）、プログラマブルＬＣＤパネルなどがある。マスクはリソグラフィの分野では周知であり、バイナリマスクやレベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスク、更に各種のハイブリッド型マスクが含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例としては、小型のミラーがマトリックス状に配列され、各ミラーが入射してくる放射ビームを異なる方向に反射するように個別に傾斜されるというものがある。この方法で反射ビームはパターン形成される。
【００３１】
サポート構造はパターニングデバイスを保持する。サポート構造は、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置のデザイン、及びパターニングデバイスが真空環境で保持されるか否か等のその他の条件に応じた方式でパターニングデバイスを保持する。パターニングデバイスサポート構造は、機械的固定、真空固定、または、真空条件下での静電固定などの他の固定技術を用いてもよい。パターニングデバイスサポート構造は、例えばフレームまたはテーブルであってもよく、これらは固定されていてもよいし必要に応じて移動可能であってもよい。サポート構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して所望の位置にあることを保証してもよい。本明細書では「レチクル」または「マスク」という用語を用いた場合には、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義であるとみなされるものとする。
【００３２】
本明細書で使用される「投影システム」なる用語は、屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システムを含む種々のタイプの投影システムを指し示すものとして広義に解釈されるべきである。投影システムは、例えば使用される露光放射に応じて、あるいは特に真空の使用や液浸液の使用などのその他の要因に応じて適切とされる投影システムであってもよい。通常、ＥＵＶ放射リソグラフィ装置では、投影システムの光学素子は反射型である。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用する場合はいつでも、より一般的な用語である「投影システム」と同義であると見なされうる。
【００３３】
本明細書で説明される照明システムは、反射素子およびオプションで放射ビームを方向付け、成形し、および制御するための各種の他の光学素子を含んでもよい。
【００３４】
リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）またはそれ以上の基板テーブル（及び／または２つ以上のサポート構造）を有するタイプのものであってもよい。このような「多重ステージ」型の装置においては、追加的なテーブルが並行して使用されてもよく、あるいは１以上のテーブルが露光に使用されている間に１以上の他のテーブルで準備工程が実行されてもよい。
【００３５】
例えば米国特許出願公開第２００７−００１３８９０号公報に記載されるように、リソグラフィ装置は２以上のマスク間（または制御可能パターニングデバイスに設けられる複数のパターン間）での高速切り替えが可能なタイプのものであってもよい。
【００３６】
また、リソグラフィ装置は、基板が比較的屈折率の高い液体、たとえば水で覆われ、それにより投影システムの最終要素と基板との間の空間が充填されるタイプの装置であってもよい。液浸液は例えばパターニングデバイスと投影システムの最初の要素との間などの、リソグラフィ装置の他の空間に与えられてもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を大きくするため技術として周知である。
【００３７】
図１は、本発明の実施の形態に係るリソグラフィ装置を模式的に示す図である。この装置は、
−放射ビームＢ（例えばＤＵＶ放射やＥＵＶ放射）を調整する照明システムＩＬと、
−パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持し、パターニングデバイスをアイテムＰＬに対して正確に位置決めする第１位置決め装置ＰＭに接続されているサポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴと、
−基板（例えば、レジストでコーティングされたウエハ）Ｗを保持し、基板をアイテムＰＬに対して正確に位置決めする第２位置決め装置ＰＷに接続されている基板テーブル（例えば、ウエハテーブル）ＷＴと、
−パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを基板Ｗの（例えば１つまたは複数のダイを含む）ターゲット部分Ｃに結像させる投影システム（例えば反射投影レンズ）ＰＬと、
を備える。
【００３８】
図１に示される通り、リソグラフィ装置は（例えば、上述のタイプの反射マスクまたはプログラマブルミラーアレイを使用する）反射型の装置である。あるいはまた、装置は（例えば透過マスクを使用する）透過型の装置であってもよい。
【００３９】
照明システムＩＬは放射源ＳＯから放射ビームＢを受ける。例えば光源がエキシマレーザである場合には、光源とリソグラフィ装置とは別体であってもよい。この場合、光源はリソグラフィ装置の一部を構成しているとはみなされなく、放射ビームは光源ＳＯからビーム搬送系を介して照明システムＩＬへと到達する。このビーム搬送系は例えば適切な方向変更用ミラー及び／またはビームエキスパンダを含む。他の場合、例えば光源が水銀ランプである場合には、光源はリソグラフィ装置に一体に構成されていてもよい。光源ＳＯと照明システムＩＬとは、またビーム搬送系が必要とされる場合にはこれも合わせて、放射システムと称されることがある。
【００４０】
照明システムＩＬは、放射ビームに所望の均一性および所望の照明モードを提供するように、放射ビームを調整する。照明システムＩＬは、瞳面における放射ビームの空間強度分布を調整する（例えば、所望の照明モードを選択する）ための強度分布調整装置を含む。照明システムはインテグレータやカップリング光学素子などの種々の他の素子を有してもよい。
【００４１】
放射ビームＢは、照明システムＩＬを放れると、サポート構造ＭＴに保持されているパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡに入射する。パターニングデバイスＭＡを通過した後、放射ビームＢは投影システムＰＬを通過する。投影システムＰＬはビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃに合焦させる。第２位置決めデバイスＰＷと位置センサＩＦ２（例えば、干渉計、リニアエンコーダ、静電容量センサなど）により基板テーブルＷＴは正確に移動される。例えば放射ビームＢの経路に異なる複数のターゲット部分Ｃをそれぞれ位置決めするように移動される。同様に、第１位置決め装置ＰＭおよび別の位置センサＩＦ１を使用して、放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイスＭＡを正確に位置決めできる。この位置決めは例えばマスクライブラリからのマスクの機械検索後や走査中に行われる。一般に対象テーブルＭＴおよびＷＴの移動は、ロングストロークモジュール（粗い位置決め用）及びショートストロークモジュール（精細な位置決め用）により実現されうる。これらのモジュールは位置決めデバイスＰＭおよびＰＷの一部を形成する。しかしながら、ステッパでは（スキャナとは異なり）、サポート構造ＭＴはショートストロークのアクチュエータにのみ接続されているか、あるいは固定されていてもよい。パターニングデバイスＭＡと基板Ｗとは、パターニングデバイスアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を用いてアライメントされてもよい。図においては基板アライメントマークが専用のターゲット部分を占拠しているが、基板アライメントマークはターゲット部分間のスペースに配置されてもよい（これはスクライブライン・アライメントマークとして公知である）。同様に、パターニングデバイスＭＡに複数のダイがある場合にはパターニングデバイスアライメントマークをダイ間に配置してもよい。
【００４２】
図１および図２の両方に示される装置は以下の好適なモードで使用することができる。
【００４３】
１．ステップモードにおいては、放射ビームＰＢに付与されたパターンの全体が１回の照射で１つのターゲット部分Ｃに投影される間、サポート構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは実質的に静止状態とされる（すなわち単一の静的な露光）。そして基板テーブルＷＴがＸ方向及び／またはＹ方向に移動されて、異なるターゲット部分Ｃが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で転写されるターゲット部分Ｃのサイズを制限することになる。
【００４４】
２．スキャンモードにおいては、放射ビームＰＢに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影される間、サポート構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは同期して走査される（すなわち１回の動的な露光）。サポート構造ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＬの拡大（縮小）特性及び像反転特性により定められてもよい。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが単一動的露光でのターゲット部分の（非走査方向の）幅を制限し、走査移動距離がターゲット部分の（走査方向の）高さを決定する。
【００４５】
３．別のモードにおいては、放射ビームＰＢに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影される間、サポート構造ＭＴはプログラム可能パターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、基板テーブルＷＴは移動または走査される。このモードでは一般にパルス放射源が用いられ、プログラマブルパターニングデバイスは走査中に基板テーブルＷＴが移動するたびに、または連続する放射パルスと放射パルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述のタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用可能である。
【００４６】
上記の使用モードを組み合わせて動作させてもよいし、使用モードに変更を加えて動作させてもよく、さらに全く別の使用モードを用いてもよい。
【００４７】
上述の通り、照明システムＩＬは強度分布調整装置を備える。強度分布調整装置は、パターニングデバイスに入射する放射ビームの角強度分布を制御するために、照明システムの瞳面における放射ビームの空間強度分布を調整するよう構成される。強度分布調整装置を使用して、照明システムの瞳面において異なる照明モードを選択することができる。照明モードの選択は、例えばパターニングデバイスＭＡから基板Ｗ上へ投影されるべきパターンの性質に依存する。
【００４８】
照明システム瞳面における放射ビームの空間強度分布は、放射ビームがパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡに入射する前に、角強度分布に変換される。言い換えると、照明システムの瞳面とパターニングデバイスＭＡ（パターニングデバイスはフィールド面にある）との間にはフーリエ関係が存在する。照明システムの瞳面はパターニングデバイスＭＡが配置されている対物面のフーリエ変換面である。照明システムの瞳面は、投影システムの瞳面と共役となっている。
【００４９】
図２は、図１のリソグラフィ装置の部分をより詳細に示す模式図である。ソースＳＯは放射ビームＢを生成し、放射ビームＢは照明システムＩＬに設けられた入り口アパーチャ２０にある仮想ソース点収集フォーカス１８へと集束される。放射ビームＢは照明システムＩＬ内で第１および第２反射素子２２、２４を介して反射され、サポート構造ＭＴに保持されているパターニングデバイスＭＡへと導かれる。放射ビームＢは次に、投影システムＰＬ内で第１および第２反射素子２８、３０を介してイメージされ、基板テーブルＷＴに保持されている基板Ｗ上に投影される。
【００５０】
ソースＳＯ、照明システムＩＬおよび投影システムＰＬには一般に、図２に示されているよりも多くのまたは少ない要素が存在しうることは理解されるであろう。例えば、ある実施の形態では、リソグラフィ装置はひとつ以上の透過性または反射性スペクトル純度フィルタを備えてもよい。リソグラフィ装置には、より多くのまたはより少ない反射素子部分が存在してもよい。
【００５１】
図３は、照明システムの第１および第２反射素子２２、２４を含むリソグラフィ装置の部分を模式的に示す図である。第１反射素子２２は、複数の主反射要素２２ａ−ｄ（フィールドファセットミラーとして広く知られている）を含む。第２反射素子２４は、複数の二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’（瞳ファセットミラーとして広く知られている）を含む。主反射要素２２ａ−ｄは二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’に向けて放射を導く（反射する）よう構成される。４つの主反射要素２２ａ−ｄのみが示されているが、任意の数の主反射要素を提供してもよい。主反射要素は、二次元アレイ（または他の二次元配列）に配列されてもよい。８つの二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’のみが示されているが、任意の数の二次反射要素を提供してもよい。二次反射要素は、二次元アレイ（または他の二次元配列）に配列されてもよい。
【００５２】
主反射要素２２ａ−ｄは調整可能な向きを有し、選択された二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’に向けて放射を導くために使用されてもよい。
【００５３】
第２反射素子２４は照明システムＩＬの瞳面Ｐと一致する。したがって、第２反射素子２４は、パターニングデバイスＭＡ上に放射を導く仮想放射源として作用する。第２反射素子２４とパターニングデバイスＭＡとの間にコンデンサミラー（不図示）が設けられてもよい。コンデンサミラーはミラーシステムであってもよい。コンデンサミラーは主反射要素２２ａ−ｄをパターニングデバイスＭＡ上に結像するよう構成されてもよい。
【００５４】
第２反射素子２４における放射ビームＢの空間強度分布は、放射ビームの照明モードを決定する。主反射要素２２ａ−ｄは調整可能な向きを有しているので、それらを使用して、瞳面Ｐに異なる空間強度分布を形成し、それによって異なる照明モードを提供することができる。
【００５５】
使用中、放射ビームＢは第１反射素子２２の主反射要素２２ａ−ｄに入射する。各主反射要素２２ａ−ｄは、第２反射素子２４の異なる二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’に向けて放射のサブビームを反射する。第１サブビームＢａは、第１主反射要素２２ａによって第１二次反射要素２４ａに導かれる。第２、第３および第４サブビームＢｂ−ｄは、第２、第３および第４主反射要素２２ｂ−ｄによって第２、第３および第４二次反射要素２４ｂ−ｄに導かれる。
【００５６】
サブビームＢａ−ｄは、二次反射要素２４ａ−ｄによってパターニングデバイスＭＡに向けて反射される。それらのサブビームはまとめて単一の放射ビームＢを形成するものとみなされうる。この単一の放射ビームＢはパターニングデバイスＭＡの露光領域Ｅを照らす。露光領域Ｅの形状は、主反射要素２２ａ−ｄの形状によって決定される。露光領域Ｅは例えば矩形、湾曲バンド、または他の形状であってもよい。
【００５７】
各主反射要素２２ａ−ｄは、第２反射素子２４の異なる二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’に、仮想ソース点収集フォーカス１８の像を形成する。実際、フォーカス１８は点ではないであろう。むしろフォーカス１８は有限の断面寸法（例えば４−６ｍｍの直径）を有する仮想ソースである。
その結果、各主反射要素２２ａ−ｄは、二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’に、有限の断面寸法（例えば３−５ｍｍの直径）を有する仮想ソースの像を形成するであろう。二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’は、像の断面寸法よりも大きな断面寸法（例えば、直径）を有してもよい（放射が二次反射要素間に落ちて失われないようにするためである）。図では説明を簡単とするために、フォーカス１８およびフォーカスの像は点として描かれている。
【００５８】
主および二次反射要素は光学パワーを有する。各主反射要素２２ａ−ｄは負の光学パワーを有する。各主反射要素２２ａ−ｄは仮想ソース１８の像を形成するのであるが、その像は仮想ソースよりも小さい。各二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’は正の光学パワーを有する。各二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’は主反射要素２２ａ−ｄの像を形成するのであるが、その像は主反射要素よりも大きい。上述の通り、主反射要素２２ａ−ｄの像は露光領域Ｅである。
【００５９】
主反射要素２２ａ−ｄの向きは、瞳面Ｐに形成される照明モードを決定する。例えば、主反射要素２２ａ−ｄは、放射サブビームが４つの最も内側の二次反射要素２４ｃ、ｄ、ａ’、ｂ’に導かれるように方向付けられてもよい。これは、標準（ディスク形状）照明モードの１次元等価物とみなされうる照明モードを提供する。代替的な例では、主反射要素２２ａ−ｄは、放射サブビームが第２反射素子２４の左端の２つの二次反射要素２４ａ−ｂに導かれるように、かつ、放射サブビームが第２反射素子の右端の２つの二次反射要素２４ｃ’−ｄ’に導かれるように、方向付けられてもよい。これは、環状照明モードの１次元等価物とみなされうる照明モードを提供する。
【００６０】
主反射要素２２ａ−ｄのそれぞれは、それが２つの特定の向きすなわち第１向きおよび第２向きのうちのひとつに向けられうるように構成される。第１向きは、主反射要素が放射のサブビームを第２反射素子２４上の第１の所望の箇所に向けて反射するような向きである。第２向きは、主反射要素が放射のサブビームを第２反射素子２４上の第２の所望の箇所に向けて反射するような向きである。ある実施の形態では、主反射要素は第３向きへ動くよう構成されてはおらず、代わりに第１向きと第２向きとの間でのみ可動である。
【００６１】
図４は、第１反射素子２２の第１主反射要素２２ａを例として使用して、主反射要素の第１および第２向き間での動きを説明する。第１主反射要素２２ａが第１向きを向いているとき、その第１主反射要素２２ａは、第２反射素子２４の第１二次反射要素２４ａに放射サブビームＢａを導く。第１主反射要素２２ａが第２向きを向いているとき、その第１主反射要素２２ａは、第２反射素子２４の第２二次反射要素２４ａ’に放射サブビームＢａ’（点線により示されている）を導く。ある実施の形態では、第１主反射要素２２ａは他のどの向きへも動かないよう構成され、したがって他のどの二次反射要素２４ｂ−ｄ、ｂ’−ｄ’にも放射サブビームを導かないよう構成されている。
【００６２】
上記説明は、二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’に放射サブビームを導く各主反射要素２２ａ−ｄに当てはまる。任意の実施の形態において、所与のサブビームによって照らされる二次反射要素は、瞳面上のまたは第２反射素子上の単一の箇所内に全てが配置された二次要素のグループの要素であってもよい。その箇所は、照明モードに関連する。この理由で、「箇所」という用語は、二次反射要素の代わりに使用されうる（「箇所」という用語は、単一の二次反射要素または複数の二次反射要素を包含することが意図されている）。
【００６３】
各主反射要素２２ａ−ｄは、放射サブビームを２つの異なる箇所に導くよう構成される。各主反射要素２４ａ−ｄに関連する第１箇所および第２箇所は、他の主反射要素から放射サブビームを受ける箇所とは異なる一意のものである。各主反射要素２２ａ−ｄを適切に設定することにより、所望の照明モードに対応する空間強度分布を生成するよう第２反射素子２４の瞳面Ｐにおける必要な箇所に放射を導くことができる。
【００６４】
図３および図４は４つの主反射要素２２ａ−ｄのみを示しているが、第１反射素子２２はより多くの主反射要素を含んでいてもよい。第１反射素子２２は例えば１００程度、２００程度または４００程度の主反射要素を含んでいてもよい。第１反射素子２２は例えば１００−８００の範囲のなかの任意の数の主反射要素を含んでいてもよい。反射要素はミラーであってもよい。第１反射素子２２は、１０２４（例えば３２ｘ３２）のミラーからなるアレイまたは４０９６（例えば６４ｘ６４）のミラーからなるアレイもしくは任意の適切な数のミラーを含んでいてもよい。主反射要素は、二次元格子形状に配列されてもよい。主反射要素は、放射ビームを横切る面に配列されてもよい。
【００６５】
第１反射素子２２は主反射要素のひとつ以上のアレイを含んでいてもよい。例えば、主反射要素は、複数のアレイを形成するよう配列またはグループ化されていてもよい。各アレイは例えば３２ｘ３２のミラーを有する。本明細書では、「アレイ」という用語は単一のアレイまたはアレイのグループを意味してもよい。
【００６６】
二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’は二次反射要素の向きが固定されるように取り付けられてもよい。
【００６７】
図５および図６は、瞳面Ｐにおける空間強度分布を変更し所望の照明モードを得るために、放射を再方向付けする原理を模式的に示す。図５ｂおよび図６ｂの紙面は、図５ａおよび図６ａに示される瞳面Ｐと一致する。図の説明を容易とするため、図５ｂおよび図６ｂにおいて直交座標系が示されている。示されている直交座標系は、得られうる空間強度分布の向きに対する制限を暗示するよう意図されるものではない。空間強度分布の半径範囲はσinner（内側半径範囲）およびσouter（外側半径範囲）によって定義される。内側および外側半径範囲は円形であってもよく、または他の形状を有していてもよい。
【００６８】
上述の通り、瞳面Ｐにおける放射ビームの空間強度分布（およびしたがって照明モード）は、主反射要素２２ａ−ｄの向きによって決定される。照明モードは、主反射要素２２ａ−ｄのそれぞれを選択し選択された主反射要素２２ａ−ｄを例えば要求される通りにその第１向きまたは第２向きに動かすことによって制御される。
【００６９】
本例では１６の主反射要素が存在し、そのうちの４つのみが示されている（２２ａ−ｄ）。図５ａに示されているように、第１主反射要素２２ａ−ｄが第１向きを向いているとき、放射のサブビームは関連する第１箇所２４ａ−ｄに向けて反射される。図５ｂを参照すると、第１箇所２４ａ−ｄは図５ｂの上部にあるかまたは上部に近い。他の主反射要素（不図示）もまた第１向きにあり、放射のサブビームを第１箇所に導く。これらの第１箇所には図５ｂの上部にあるかまたは上部に近いものがあり、また図５ｂの下部にあるかまたは下部に近いものもある。放射のサブビームを受ける箇所は点線を使用して網掛けされている。図５ｂから、主反射要素２２ａ−ｄが第１向きにあるとき、極がｙ方向に分離されているダイポール照明モードが形成されることが分かる。
【００７０】
図６ａに示されているように、第１主反射要素２２ａ−ｄが第２向きを向いているとき、放射のサブビームは関連する第２箇所２４ａ’−ｄ’に向けて反射される。図６ｂを参照すると、第２箇所２４ａ’−ｄ’は図６ｂの右側にあるかまたは右側に近い。他の主反射要素（不図示）もまた第２向きにあり、放射のサブビームを第２箇所に導く。これらの第２箇所には図６ｂの右側にあるかまたは右側に近いものがあり、また図６ｂの左側にあるかまたは左側に近いものもある。放射のサブビームを受ける箇所は点線を使用して網掛けされている。図６ｂから、主反射要素２２ａ−ｄが第２向きにあるとき、極がｘ方向に分離されているダイポール照明モードが形成されることが分かる。
【００７１】
ｙ方向ダイポール照明モードからｘ方向ダイポール照明モードへの切り替えは、各主反射要素２２ａ−ｄを第１向きから第２向きへ動かすことにより達成される。同様に、ｘ方向ダイポール照明モードからｙ方向ダイポール照明モードへの切り替えは、各主反射要素２２ａ−ｄを第２向きから第１向きへ動かすことにより達成される。
【００７２】
以下でさらに説明されるように、主反射要素２２ａ−ｄのうちのいくつかを第１向きへと動かし、いくつかを第２向きへと動かすことによって、他のモードを形成することができる。各主反射要素の第１向きおよび第２向き（およびしたがって第１および第２関連箇所）は、生成されうる有益な照明モードの数を最大化するように選択されてもよい。
【００７３】
主反射要素を所定の軸の周りで回転させることによって主反射要素を第１向きと第２向きとの間で動かしてもよい。ひとつ以上のアクチュエータを使用して主反射要素を動かしてもよい。
【００７４】
ひとつ以上の主反射要素は、同じ軸の周りに回転するよう駆動されてもよい。ひとつ以上の他の主反射要素は、他の軸の周りに回転するよう駆動されてもよい。
【００７５】
ある実施の形態では、主反射要素は、その主反射要素を第１向きと第２向きとの間で動かすよう構成されたアクチュエータを含む。アクチュエータは例えばモータであってもよい。第１および第２向きはエンドストップによって決められてもよい。第１エンドストップは、主反射要素が第１向きを越えて動くのを防ぐ機械装置を含む。第２エンドストップは、主反射要素が第２向きを越えて動くのを防ぐ機械装置を含む。エンドストップを含む、主反射要素のための適切なマウントが、図１１から図１５に関連して以下にさらに説明される。
【００７６】
主反射要素の動きはエンドストップによって制限されてもよいので、主反射要素の位置を監視する必要はなく（例えば、位置監視センサおよびフィードバックシステムを使用する必要はなく）、主反射要素を正確に第１向きまたは第２向きへ動かすことができる。パターニングデバイスから基板上へのパターンのリソグラフィ投影において使用されるのに十分な質を有する照明モードを主反射要素が形成するのに十分な正確さで、主反射要素を方向付けることができる。
【００７７】
アクチュエータに供給される駆動信号はバイナリ信号であってもよい。アクチュエータは主反射要素を第１エンドストップまたは第２エンドストップへ動かしさえすればよいので、可変アナログ電圧や可変デジタル電圧などのより複雑な信号を使用する必要はないであろう。より複雑なシステムではなくむしろアクチュエータに対してバイナリ（２値）駆動信号を使用することにより、そうでない場合よりもシンプルな制御システムを使用することができる。
【００７８】
図５および図６に関連して上述された装置は、１６の主反射要素を含む。実際は、より多くの主反射要素が設けられてもよい。しかしながら、いくつかの異なる照明モードを得ることができる方法の説明を可能とするには、１６の主反射要素で十分である。以下の照明モードは１６の主反射要素を使用して得られうる：環状、ｃクアッド（c-quad）、クエーサー（quasar）、ダイポールｙおよびダイポールｘ。放射を照明システムの瞳面における３２の関連する箇所に適切に導くよう１６の主反射要素を構成することによって、これらの照明モードを形成することができる。
【００７９】
図７は、５つの異なる所望の照明モードを生成するよう構成された照明システム内の瞳面Ｑ１の第１象限を示す。第１象限の各セグメント２４ａ−ｄ、２４ａ’−ｄ’は照明箇所（すなわち、主反射要素から放射サブビームを受ける箇所）に対応する。ある実施の形態では、照明箇所は、瞳面の周りに環状に配列される。照明箇所の内側半径範囲はσinnerと表記される。照明箇所の外側半径範囲はσouterと表記される。
【００８０】
各照明箇所に複数の二次反射要素が設けられてもよい。各照明箇所に、例えば１０から２０の間の二次反射要素が設けられてもよい。この場合、主反射要素の数はそれにしたがって増減する。例えば、所与の照明箇所に１０の二次反射要素が存在する場合、その照明箇所へ放射を導くよう構成された１０の主反射要素が存在する（各主反射要素は放射を異なる二次反射要素に導くよう構成される）。以下の説明では、「主反射要素」という用語が使用される場合、これは一斉に動くよう構成された複数の主反射要素を包含してもよい。
【００８１】
照明箇所の瞳面に亘る相対表面積は
0005688410.tif 000002
になる。したがって、エタンデュ比Ｘ（すなわち、相対的に使用されている瞳面面積の逆数）は、
0005688410.tif 000003
となる。
【００８２】
図７に示される象限Ｑ１には８の照明箇所２４ａ−ｄ、２４ａ’−ｄ’が存在する（瞳面全体では３２の照明箇所に対応する）。各照明箇所は、主反射要素によって反射された放射のサブビームによって照らされるようサイズが規定されまた形状が規定される。各主反射要素は、同じ象限の異なる部分から選択された２つの照明箇所を個々に照明するよう構成される。より具体的には、各主反射要素は、第１向きと第２向きとの間で動くことによって、同じ象限にある第１関連照明箇所または第２関連照明箇所のいずれかに放射を導き照らすよう構成される。
【００８３】
図７の同じ象限Ｑ１に一対の照明箇所２４ａ、ａ’（および他のもの）が提供されているが、これに限られる必要はない。例えば、第１照明箇所はひとつの象限に設けられ、その対は異なる象限に設けられてもよい。照明箇所の対に含まれる第１照明箇所と第２照明箇所との距離が増えると、放射サブビームをそれらの照明箇所に導くために主反射要素によって要求される回転量もまた増える。照明箇所の位置は、主反射要素に要求される回転量が最小化されるまたはどの主反射要素に対しても所定の最大回転量以上回転することが要求されないように選択されてもよい。照明箇所の位置は、照明モードの所望の組が得られうるような（例えば、図８に関連して後述されるような）ものであってもよい。
【００８４】
第１主反射要素２２ａ（図５および図６参照）は、第１向きを向いている場合に象限Ｑ１の第１関連照明箇所２４ａを照らし、第２向きを向いている場合にその象限の第２関連照明箇所２４ａ’を照らすよう構成される。第２主反射要素２２ｂは、第１向きを向いている場合に第１関連照明箇所２４ｂを照らし、第２向きを向いている場合に第２関連照明箇所２４ｂ’を照らすよう構成される。第３主反射要素２２ｃは、第１向きを向いている場合に第１関連照明箇所２４ｃを照らし、第２向きを向いている場合に第２関連照明箇所２４ｃ’を照らすよう構成される。第４主反射要素２２ｄは、第１向きを向いている場合に第１関連照明箇所２４ｄを照らし、第２向きを向いている場合に第２関連照明箇所２４ｄ’を照らすよう構成される。
【００８５】
他の象限（不図示）にも、照明箇所および関連する主反射領域についての同等な構成が適用されてもよい。
【００８６】
各主反射要素を所定の軸の周りで回転させることによってその主反射要素を第１向きと第２向きとの間で動かす。複数の主反射要素は、同じ軸の周りに回転するよう構成されてもよい。例えば、瞳面の同じ象限の隣接する照明箇所に関連する主反射要素は、同じ軸の周りで回転するよう構成されてもよい。説明されている例では、第１および第２主反射要素２２ａ、２２ｂは第１軸ＡＡの周りで回転するよう構成され、第３および第４主反射要素２２ｃ、２２ｄは第２軸ＢＢの周りで回転するよう構成される。第１軸ＡＡはＱ１のｘ軸に対して５６．２５°をなすよう設けられ、第２軸ＢＢはＱ１のｘ軸に対して３３．７５°をなすよう設けられる。図７の面には第１および第２軸ＡＡ、ＢＢが示されているが、これは説明の容易化のみを目的とする。それらの軸は主反射要素２２ａ−ｄの面に存在するであろう。
【００８７】
追加的にまたは代替的に、瞳面の対向する象限において対応する照明箇所に関連する主反射要素は同じ軸の周りで回転するよう構成されてもよい。例えば、第１象限Ｑ１に関連する主反射要素２２ａ、ｂおよび第３象限に関連する対応する主反射要素は第１軸ＡＡの周りで回転するよう構成されてもよい。同様に、第１象限Ｑ１に関連する主反射要素２２ｃ、ｄおよび第３象限に関連する対応する主反射要素は第２軸ＢＢの周りで回転するよう構成されてもよい。
【００８８】
第２象限に関連する主反射要素および第４象限に関連する主反射要素は第３軸（例えば、ｘ軸に対して１２３．７５°をなすよう設けられた軸）の周りで回転してもよい。加えて、第２象限に関連する主反射要素および第４象限に関連する主反射要素は第４軸（例えば、ｘ軸に対して１４６．２５°をなすよう設けられた軸）の周りで回転してもよい。これらの象限のいずれも図７に示されていない。
【００８９】
主反射要素は、同じ軸の周りで同じ向きまたは反対の向きに回転するよう構成されてもよい。
【００９０】
主反射要素が一緒に同じ軸の周りで同じ向きに回転するようグループ化されている場合、主反射要素を第１向きと第２向きとの間で動かすよう構成されたアクチュエータは単純化されうる。例えば、同じ軸の周りで回転するようグループ化された主反射要素に関連するアクチュエータは、それらの主反射要素を一斉に動かすよう構成されてもよい。したがって、４つの回転軸が存在する実施の形態では、４つのアクチュエータが存在する。
【００９１】
図８は、５つの異なる照明モードが、説明された装置を使用して（すなわち１６の主反射要素および４つの回転軸を使用して）、照明システムの瞳面においてどのように形成されうるかを示す。照明モードは以下の通りである：環状照明モード（図８ａ）、ダイポールｘ照明モード（図８ｂ）、ダイポールｙ照明モード（図８ｃ）、クエーサー照明モード（図８ｄ）、ｃクアッド照明モード（図８ｅ）。
【００９２】
図８ａに示されるような環状照明モードを生成するために、第１象限に関連する主反射要素２２ａ−ｄは、照明箇所２４ｂ、２４ｄ、２４ａ’、２４ｃ’が照らされるように方向付けられる。これは、第１主反射要素２２ａを第１軸ＡＡの周りで第２向きへ回転させ、第２主反射要素２２ｂを第１軸ＡＡの周りで第１向きへ回転させ、第３主反射要素２２ｃを第２軸ＢＢの周りで第２向きへ回転させ、第４主反射要素２２ｄを第２軸ＢＢの周りで第１向きへ回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。
【００９３】
図８ｂ（図６ｂも参照）に示されるようなダイポールｘ照明モードを生成するために、第１象限に関連する主反射要素は、照明箇所２４ｂ’、２４ａ’２４ｄ’、２４ｃ’が照らされるように方向付けられる。これは、第１主反射要素２２ａを第１軸ＡＡの周りで第２向きへ回転させ、第２主反射要素２２ｂを第１軸ＡＡの周りで第２向きへ回転させ、第３主反射要素２２ｃを第２軸ＢＢの周りで第２向きへ回転させ、第４主反射要素２２ｄを第２軸ＢＢの周りで第２向きへ回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。
【００９４】
図８ｃ（図５ｂも参照）に示されるようなダイポールｙ照明モードを生成するために、第１象限に関連する主反射要素は、照明箇所２４ａ、２４ｂ、２４ｃ、２４ｄが照らされるように方向付けられる。これは、第１主反射要素２２ａを第１軸ＡＡの周りで第１向きへ回転させ、第２主反射要素２２ｂを第１軸ＡＡの周りで第１向きへ回転させ、第３主反射要素２２ｃを第２軸ＢＢの周りで第１向きへ回転させ、第４主反射要素２２ｄを第２軸ＢＢの周りで第１向きへ回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。
【００９５】
図８ｄに示されるようなクエーサー照明モードを生成するために、第１象限に関連する主反射要素は、照明箇所２４ｃ、２４ｄ、２４ｂ’、２４ａ’が照らされるように方向付けられる。これは、第１主反射要素２２ａを第１軸ＡＡの周りで第２向きへ回転させ、第２主反射要素２２ｂを第１軸ＡＡの周りで第２向きへ回転させ、第３主反射要素２２ｃを第２軸ＢＢの周りで第１向きへ回転させ、第４主反射要素２２ｄを第２軸ＢＢの周りで第１向きへ回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。
【００９６】
図８ｅに示されるようなｃクアッド照明モードを生成するために、第１象限に関連する主反射要素は、照明箇所２４ａ、２４ｂ、２４ｄ’、２４ｃ’が照らされるように方向付けられる。これは、第１主反射要素２２ａを第１軸ＡＡの周りで第１向きへ回転させ、第２主反射要素２２ｂを第１軸ＡＡの周りで第１向きへ回転させ、第３主反射要素２２ｃを第２軸ＢＢの周りで第２向きへ回転させ、第４主反射要素２２ｄを第２軸ＢＢの周りで第２向きへ回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。
【００９７】
図８に示される照明モードの上記説明では、第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は第１象限のそれと同様に方向付けられることは言及された。以下にこれがどのようになされるかが説明される。図８から、ダイポール、クエーサーおよびｃクアッドモードはｘおよびｙ軸について対称であることが分かる。しかしながら、図８ａの環状モードはｘ軸、ｙ軸のいずれについても対称ではない。環状モードは（９０°またはその倍数の回転について）回転対称である。
【００９８】
照明モードが同じ対称性を共有しないという事実により、照明箇所の位置に対して制限が課される。その制限とは、照明箇所の各対は照明箇所の関連する対を有しており、その２つの対は象限を二等分する線ＳＳ（図７参照）について対称となっていることである。例えば、照明箇所２４ａ、ａ’の第１対は、照明箇所２４ｃ、ｃ’の第３対に関連する。これら２つの対は線ＳＳについて対称となっている。照明箇所２４ｂ、ｂ’の第２対は、照明箇所２４ｄ、ｄ’の第４対に関連する。これら２つの対もまた線ＳＳについて対称となっている。他の象限に対しても同じ制限が課される。
【００９９】
第２象限は第１象限の鏡像である。第３および第４象限は第１および第２象限の鏡像である。照明箇所をこのように配置することにより、図８に示される全ての照明モードを得ることが可能となる。図８ｂ−ｄに示される照明モードのいずれかが生成されるとき、各象限の対応する主反射要素の向きは同じである。図８ａの環状モードが生成されるとき、第１および第３象限の主反射要素の向きは、第２および第４象限の主反射要素に適用される向きと反対である。
【０１００】
ある実施の形態では、放射サブビームによって照らされる照明箇所は例えばディスクおよびリングとして提供されてもよい（または２つのリングとして提供されてもよい）。リングはディスクに隣接して設けられる。図９は、照明箇所のこの配置での瞳面の第１象限Ｑ１を示す。象限Ｑ１には２４の照明箇所Ａ１、Ａ２〜Ｌ１、Ｌ２が存在する（瞳面全体では９６の照明箇所となる）。１２の主反射要素Ａ〜Ｌ（不図示）は、象限Ｑ１の関連する２４の照明箇所を照らすよう構成される（４８の主反射要素が全ての照明箇所を照らすよう構成される）。
【０１０１】
各照明箇所に複数の二次反射要素が設けられてもよい。各照明箇所に、例えば１０から２０の間の二次反射要素が設けられてもよい。この場合、主反射要素の数はそれにしたがって増減する。例えば、所与の照明箇所に１０の二次反射要素が存在する場合、その照明箇所へ放射を導くよう構成された１０の主反射要素が存在する（各主反射要素は放射を異なる二次反射要素に導くよう構成される）。本説明では、「主反射要素」という用語が使用される場合、これは一斉に動くよう構成された複数の主反射要素を包含してもよい。
【０１０２】
照明箇所は、内側照明箇所グループと外側照明箇所グループとに分類されてもよい。内側照明箇所グループの照明箇所は、関連する主反射要素が第１向きにあるときに照らされる。外側照明箇所グループの照明箇所は、関連する主反射要素が第２向きにあるときに照らされる。
【０１０３】
内側照明箇所グループは内側半径範囲σinnerおよび外側半径範囲σ２を有する。外側照明箇所グループは内側半径範囲σ２および外側半径範囲σ３を有する。
【０１０４】
照明箇所の瞳面に亘る相対表面積は
0005688410.tif 000004
になる。したがって、エタンデュ比Ｘ（すなわち、相対的に使用されている瞳面面積の逆数）は、
0005688410.tif 000005
となる。
【０１０５】
各主反射要素は、同じ象限（例えば、Ｑ１）の異なる部分から選択された２つの照明箇所を個々に照明するよう構成される。より具体的には、各主反射要素は、第１向きと第２向きとの間で動くよう構成される。主反射要素が第１向きを向いているとき、放射サブビームは内側照明箇所グループの第１関連照明箇所に導かれる。主反射要素が第２向きを向いているとき、放射サブビームは外側照明箇所グループの第２関連照明箇所に導かれる（両方の箇所は同じ象限にある）。
【０１０６】
図３および図９を参照すると、主反射要素２２ａは第１向きを向いている場合に第１関連照明箇所Ａ１を照らし、第２向きを向いている場合に第２関連照明箇所Ａ２を照らすよう構成されてもよい。異なる主反射要素２２ｂは、第１向きを向いている場合に第１関連照明箇所Ｂ１を照らし、第２向きを向いている場合に第２関連照明箇所Ｂ２を照らすよう構成されてもよい。他の主反射要素も同様に構成されてもよい。
【０１０７】
照明箇所の位置に対して制限が課される。その制限とは、照明箇所の各対は照明箇所の関連する対を有しており、その２つの対は象限を二等分する線ＳＳについて対称となっていることである。例えば、照明箇所Ａ１、Ａ２の第１対は、照明箇所Ｇ１、Ｇ２の第７対に関連する。これら２つの対は線ＳＳについて対称となっている。第２の例では、照明箇所Ｂ１、Ｂ２の第２対は、照明箇所Ｈ１、Ｈ２の第４対に関連する。これら２つの対もまた線ＳＳについて対称となっている。照明箇所の他の対に対しても同じ制限が課される。さらに、他の象限に対しても同じ制限が課される。
【０１０８】
照明箇所および関連する主反射領域の構成は、瞳面の各象限について同じであってもよい。例えば、第２象限は第１象限の鏡像であってもよい。第３および第４象限は第１および第２象限の鏡像であってもよい。
【０１０９】
各主反射要素を所定の軸の周りで回転させることによってその主反射要素を第１向きと第２向きとの間で動かしてもよい。回転はひとつ以上のエンドストップによって制限されてもよい。外側照明グループの照明箇所および内側照明グループの照明箇所を照らすために、軸は照明システムの光軸を通過しなくてもよい。
【０１１０】
図３および図９を参照すると、第１主反射要素２２ａは第１関連照明箇所Ａ１、Ａ２を照らし、第１軸ＡＡの周りで回転してもよい。第２主反射要素２２ｂは第２関連照明箇所Ｌ１、Ｌ２を照らし、第２軸ＢＢの周りで回転してもよい。他の主反射要素は他の軸（不図示）の周りで回転してもよい。第１象限Ｑ１には全部で１２の回転軸が存在する。第３象限の回転軸は第１象限の回転軸と平行である。第２象限には１２の回転軸が存在し、これらの回転軸は第４象限の回転軸と平行である。したがって、全部で２４の回転軸が存在する。
【０１１１】
瞳面の対向する象限において対応する照明箇所に関連する主反射要素は同じ軸の周りで回転するよう構成されてもよい。図９に示される例では、例えば全部で１２の回転軸が存在してもよい。これは、Ｑ１およびＱ３に亘って延びる６つの軸とＱ２およびＱ４に亘って延びる６つの軸とを含む。
【０１１２】
主反射要素は７つの異なる照明モードを生成するために使用されてもよい。図１０に照明モードが示される。照明モードは、通常（ディスク）モード、環状モード、第２ディスクモード、ダイポールモードおよび四極モードである。
【０１１３】
図１０ａに示されるような通常（ディスク）モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する主反射要素は、照明箇所Ａ１〜Ｌ１が照らされるように方向付けられる。これは、全ての主反射要素をその軸の周りで第１向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。内側半径範囲σinnerがゼロでなく代わりに有限値である場合、このモードは通常（ディスク）モードではなくむしろ環状モードとなるであろう。
【０１１４】
図１０ｂに示されるような環状照明モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する主反射要素は、照明箇所Ａ２〜Ｌ２が照らされるように方向付けられる。これは、全ての主反射要素をその軸の周りで第２向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。
【０１１５】
図１０ｃに示されるような第２ディスク照明モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する主反射要素は、照明箇所Ａ２、Ｂ１、Ｃ２、Ｄ１、Ｅ２、Ｆ１、Ｇ２、Ｈ１、Ｉ２、Ｊ１、Ｋ２およびＬ１が照らされるように方向付けられる。これは、照明箇所Ａ、Ｃ、Ｅ、Ｇ、ＩおよびＫに関連する主反射要素をその軸の周りで第２向きへと回転させ、照明箇所Ｂ、Ｄ、Ｆ、Ｈ、ＪおよびＬに関連する主反射要素をその軸の周りで第１向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。
【０１１６】
図１０ｄに示されるようなｙダイポールモード照明モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する主反射要素は、照明箇所Ａ２〜Ｆ２およびＧ１〜Ｌ１が照らされるように方向付けられる。これは、照明箇所Ａ〜Ｆに関連する主反射要素をその軸の周りで第２向きへと回転させ、照明箇所Ｇ〜Ｌに関連する主反射要素をその軸の周りで第１向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。
【０１１７】
図１０ｅに示されるようなｘダイポール照明モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する主反射要素は、照明箇所Ａ１〜Ｆ１およびＧ２〜Ｌ２が照らされるように方向付けられる。これは、照明箇所Ａ〜Ｆに関連する主反射要素をその軸の周りで第１向きへと回転させ、照明箇所Ｇ〜Ｌに関連する主反射要素をその軸の周りで第２向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。
【０１１８】
図１０ｆに示されるような四極照明モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する主反射要素は、照明箇所Ｄ１〜Ｉ１、Ｊ２〜Ｌ２およびＡ２〜Ｃ２が照らされるように方向付けられる。これは、照明箇所Ｄ〜Ｉに関連する主反射要素をその軸の周りで第１向きへと回転させ、照明箇所Ｊ〜ＬおよびＡ〜Ｃに関連する主反射要素をその軸の周りで第２向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。
【０１１９】
図１０ｇに示されるような代替的な四極照明モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する主反射要素は、照明箇所Ａ１〜Ｃ１、Ｇ２〜Ｉ２、Ｊ１〜Ｌ１およびＤ２〜Ｆ２が照らされるように方向付けられる。これは、照明箇所Ａ〜ＣおよびＪ〜Ｌに関連する主反射要素をその軸の周りで第１向きへと回転させ、照明箇所Ｇ〜ＩおよびＤ〜Ｆに関連する主反射要素をその軸の周りで第２向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。
【０１２０】
瞳面において他の所望の照明モードを生成するために主反射要素を方向付けてもよい。
【０１２１】
図１１は、８のマウンティングの斜視図である。８のマウンティングのそれぞれは異なる主反射要素（以下、ミラーと称す）を保持する。より明確とするために、第１ミラー２２ａおよび第１マウンティング４０にのみ符号が付される。
【０１２２】
図１２には、マウンティング４０のひとつが拡大された形で示される。マウンティングの構造を見えるようにするために、マウンティングの部分は半透明に示される。マウンティング４０は、スリーブ４２内に含まれたロッド４１を含む。ある実施の形態では、ロッド４１の断面は円柱形であり、ロッド４１は最上端４１ａから最下端４１ｂに向けてテーパしている。ロッド４１の最上端４１ａには（円形の）プラットフォーム４３が設けられる。
【０１２３】
図１１では半透明化されていないので、スリーブ４２は図１１においてより明確に示されうる。スリーブ４２は（環状の）最上端４２ａおよび（環状の）最下端４２ｂを有する。スリーブ４２の最上端４２ａと最下端４２ｂとの間に、２つの弾性柔軟部５１、４４が設けられる。弾性柔軟部５１、４４は、スリーブの中間（環状）部４２ｃによって分離される。以下、弾性柔軟部５１、４４を第１弾性柔軟部５１および第２弾性柔軟部４４と称す。
【０１２４】
第１弾性柔軟部５１は２つの剛体中間セクション４５ａ、４５ｂを含む。これらの剛体中間セクション４５ａ、４５ｂは、スリーブの最上端４２ａとスリーブの中間部４２ｃとの間に接続される。剛体中間セクション４５ａ、ｂのそれぞれの上端は、弾性接続部４６ａ、ｂ（以下、最上弾性接続部４６ａ、ｂと称す）によってスリーブの最上端４２ａと接続される。剛体中間セクションのそれぞれの下端は、弾性接続部４７ａ、ｂ（以下、最下弾性接続部４７ａ、ｂと称す）によってスリーブの中間部４２ｃと接続される。剛体中間セクション４５ａ、ｂは、剛体中間セクションの上端同士が剛体中間セクションの下端同士よりも近くなるように、内向きに角度がつけられている。
【０１２５】
第２弾性柔軟部４４は第１弾性柔軟部５１と同じ構造を有する。第２弾性柔軟部４４は第１弾性柔軟部５１に対して、スリーブ４２の中心軸の周りで９０度回転している。その結果、第１および第２弾性柔軟部５１、４４は互いに横となる関係にある。
【０１２６】
第２弾性柔軟部４４は２つの剛体中間セクション４８ａ、ｂを含む。これらの剛体中間セクション４８ａ、ｂは、スリーブの最下端４２ｂとスリーブの中間部４２ｃとの間に弾性的に接続される。剛体中間セクション４８ａ、ｂのそれぞれの上端は、弾性接続部４９ａ、ｂ（以下、最上弾性接続部４９ａ、ｂと称す）によって中間部４２ｃと接続される。剛体中間セクション４８ａ、ｂのそれぞれの下端は、弾性接続部５０ａ、ｂ（以下、最下弾性接続部５０ａ、ｂと称す）によってスリーブの最下端４２ｂと接続される。剛体中間セクション４８ａ、ｂは、剛体中間セクションの上端同士が剛体中間セクションの下端同士よりも近くなるように、内向きに角度がつけられている。
【０１２７】
説明における「上」および「下」という用語の使用は、単に図の説明を助けるためのものであり、マウンティング４０やミラー２２ａや他の要素の向きに対するいかなる限定をも意図するものではない。図３を参照すると、ミラー２２ａの反射面は下を向いていることが分かる。この場合、マウンティング４０は実質的にひっくり返されるであろう。
【０１２８】
スリーブの最下端４２ｂは基板（不図示）に固定されてもよい。
【０１２９】
スリーブ４２は金属（または合金）から形成されてもよい。上述のスリーブの種々の特徴は、円柱からスタートし、そのような特徴が形成されるようにその円柱から材料を除去することによって形成されうる。材料は例えばワイヤ放電を使用して除去されてもよい。
【０１３０】
弾性接続部４６、４７、４９、５０はスリーブの一部を含み、その一部では、スリーブ材料はそれが曲がるのに十分なほど薄い。弾性接続部は直線的である。直線的接続部は対（例えば４６ａ、ｂ）で設けられ、その対は互いに実質的に平行に走る。このような構成により、ロッド４１が移動するとき弾性接続部は曲がることができる。弾性接続部は、ある程度の復元力を提供し、したがってロッド４１に力が加えられないときに元の向きに戻るのに十分なほど厚い。
【０１３１】
第２弾性柔軟部４４の弾性接続部は、第１弾性柔軟部５１の弾性接続部よりも厚い。その結果、第２弾性柔軟部４４は第１弾性柔軟部５１よりも柔軟性に劣る。
【０１３２】
第１弾性柔軟部５１は２以上の剛体中間セクションおよび関連する弾性接続部を有してもよい。例えば、４以上の剛体中間セクションおよび関連する弾性接続部が提供されてもよい。同じことが第２弾性柔軟部４４にも当てはまる。
【０１３３】
ロッド４１の第１弾性柔軟部５１における断面寸法（例えば直径）は、最上弾性接続部４６ａ、ｂ間の距離よりも大きい。このため、最上弾性接続部４６ａ、ｂの一部はロッド４１を収容するため切り取られる。ロッド４１の断面寸法は剛体中間セクション４５ａ、ｂの間の距離よりも大きい。このため、剛体中間セクション４５ａ、ｂの一部はロッド４１を収容するため切り取られる。第２弾性柔軟部４４の最上弾性接続部４９ａ、ｂは同様の理由で部分的に切り取られる。
【０１３４】
スリーブ４２の両側に２つのバイメタルストリップ６０ａ、ｂ（図１２参照）が設けられる。図１２において右側のバイメタルストリップは部分的に隠されているので、左側のバイメタルストリップが説明される。バイメタルストリップ６０ａは、スリーブ４２の中間点からスリーブの最下端に隣接する位置まで延びる屈曲部６１を有する。バイメタルストリップはさらに接続部６２を有する。接続部６２は屈曲部６１と接続される。接続部６２はスリーブ４２の途中位置からスリーブの外側に沿って下向きに延びる。接続部６２および屈曲部６１は、自身に重なるよう曲げられた細長いＵ字形状に形成される。その結果、接続部６２は第１アーム６３ａおよび第２アーム６３ｂを有する。アーム６３ａ、ｂのそれぞれは開口６４ａ、ｂを備える。開口６４ａ、ｂのそれぞれは、ワイヤ（不図示）または他の電気コネクタを受けるよう構成される。バイメタルストリップ６０ａは、互いに重ね合わされた２つの金属から形成される。２つの金属は異なる熱膨張係数を有するので、バイメタルストリップを熱するとバイメタルストリップは曲がる。
【０１３５】
使用中、第１バイメタルストリップ６０ａを通じて電流が流れ、それによってバイメタルストリップが熱せられる。これにより、バイメタルストリップの屈曲部６１が内向き（すなわち、ロッド４１に向けて）に曲がる。屈曲部６１はロッド４１を押し、ロッドの最下端４１ｂは第１位置７０ａ（円形の線により示される）に移動する。第１弾性柔軟部５１の弾性接続部４６ａ、ｂ、４７ａ、ｂは曲がり、それによって最上端４２ａおよびプラットフォーム４３の回転が可能となる。プラットフォーム４３は、図１２の底部に示されている軸７１に平行な軸の周りで回転する。図１１を参照すると、ミラー２２ａはプラットフォーム４３と接続されているので、ミラーもまた軸７１に平行な軸の周りで回転する。再度図１２を参照すると、ロッド４１は、それがワッシャー５２ａ、ｂに押しつけられるまで移動する。ワッシャー５２ａ、ｂは、ロッド４１の動きを制限するエンドストップとして機能する。
【０１３６】
第１バイメタルストリップ６０ａの上述の動作によりミラー２２ａは第１向きへと回転する（ミラー２２ａの第１および第２向きは上で詳述されている）。第２バイメタルストリップは、ミラー２２ａを第２向きへ回転させるために使用されてもよい。第１バイメタルストリップ６０ａへの電流の供給が停止され、それにより第１バイメタルストリップは冷やされその元の向きに戻ることが可能となる。第２バイメタルストリップ６０ｂを通じて電流が流れる。第２バイメタルストリップ６０ｂの屈曲部はロッド４１を押し、ロッドの最下端４１ｂは第２位置７０ｂ（円形の線により示される）に移動する。第１弾性柔軟部５１の弾性接続部４６ａ、ｂ、４７ａ、ｂは曲がり、それによって最上端４２ａおよびプラットフォーム４３の回転が可能となる。プラットフォーム４３は、軸７１に平行な軸の周りで回転する。ロッド４１は、それがワッシャー５２ｃ、ｄに押しつけられるまで移動する。ワッシャー５２ｃ、ｄは、ロッド４１の動きを制限するエンドストップとして機能する。ロッド４１の第２位置への移動により、ミラー２２ａは第２向きへ回転する。
【０１３７】
バイメタルストリップ６０ａ、ｂは、ロッド４１の動きを介して、ミラー２２ａを第１向きと第２向きとの間で駆動するための、シンプルで頑丈なアクチュエータを提供する。他のアクチュエータが使用されてもよい。ロッド４１の移動方向は線７２によって示される。
【０１３８】
上の説明は、ロッド４１が動くとき、第１弾性柔軟部５１の弾性接続部４６ａ、ｂ、４７ａ、ｂが曲がることに関する。このことは、ロッド４１の移動方向７２が第１弾性柔軟部５１の弾性接続部４６ａ、ｂ、４７ａ、ｂの向きと正確に直交する場合に生じる。しかしながら、ロッド４１の移動方向はこれとは異なってもよい。この場合、ロッド４１が動くとき、第２弾性柔軟部４４の弾性接続部４９ａ、ｂ、５０ａ、ｂは曲がるであろう。第２弾性柔軟部４４の弾性接続部４９ａ、ｂ、５０ａ、ｂに必要な曲がり量は、第１弾性柔軟部５１の弾性接続部４６ａ、ｂ、４７ａ、ｂに必要な曲がり量よりも少ない。このため、第２弾性柔軟部４４の弾性接続部４９ａ、ｂ、５０ａ、ｂは、第１弾性柔軟部５１の弾性接続部４６ａ、ｂ、４７ａ、ｂよりも柔軟性に劣る。
【０１３９】
図９に関して上述されたように、異なるミラーを異なる軸の周りで回転させることが望ましい。図１３に関連して説明されるように、マウンティング４０は、異なる選択された軸の周りでの回転が達成されることを可能とする。図１３は下から見たマウンティング４０を示す。ロッド４１の最下端およびスリーブ４２の最下端を見ることができる。４つのワッシャー５２ａ−ｄはボルト５３によってその位置に保持されている。一方のバイメタルストリップ６０ａが示されている（他方のバイメタルストリップは示されていない）。ロッド４１の移動方向は線７２によって示され、ミラー２２ａの対応する回転軸は線７１によって示される。
【０１４０】
粗いレベルでは、ロッド４１の移動方向７２は、第１弾性柔軟部５１の弾性接続部４６、４７の向きによって決定される。これは、第１弾性柔軟部５１の弾性接続部４６、４７は第２弾性柔軟部４４の弾性接続部４９、５０よりも柔軟性に富み、ロッド４１はそれにしたがって動こうとするからである。精緻なレベルでは、ロッド４１の動きの終点を決めるのはワッシャーである（ワッシャーはエンドストップとして機能する）から、移動方向はワッシャー５２ａ−ｄの位置によって決定される。
【０１４１】
ロッド４１の所望の移動方向を得るため、したがってミラー２２ａの所望の回転軸を得るため、ミラー２２ａをマウンティング４０に取り付ける前に、マウンティング４０には適切な向きが与えられる。マウンティングを保持する基板（不図示）にマウンティングを取り付けることによって、マウンティング４０の向きが固定される。マウンティングの向きは、粗いレベルにおいて、ロッド４１の移動方向を決定する。ミラー２２ａがマウンティング４０に取り付けられてしまうと、ワッシャー５２ａ−ｄのひとつ以上の位置を変えることによってロッドの移動方向の微調整を行うことができる。
【０１４２】
各ワッシャー５２ａ−ｄはボルト５３を使用してマウンティングに固定される。ボルト５３はワッシャーのアパーチャを通過しスリーブ４２に入る。各ワッシャーのアパーチャはワッシャーの中心とは同軸ではなく、代わりに中心からオフセットしている。アパーチャはオフセットしているので、ワッシャー５２ａ−ｄを回転させることにより、ワッシャーのエッジをロッド４１に近づけたり離したりすることができる。したがって、ワッシャーの向きを調整することで、ロッド４１の第１位置７０ａや第２位置７０ｂの場所を調整することができる。これにより、ワッシャー５２ａ−ｄはロッド４１の移動方向の微調整を提供する（移動方向は、第１ロッド位置７０ａと第２ロッド位置７０ｂとを結ぶ直線と見なされてもよい）。
【０１４３】
図１１に見られるように、マウンティング４０はミラー２２ａよりも幅が広い。マウンティング４０は例えば１０ｍｍより大きい幅を有してもよく、また２０ｍｍよりも小さい幅を有してもよい。マウンティングは１６ｍｍの幅を有してもよい。対して、ミラーは例えば１０ｍｍより小さい幅を有してもよく、また例えば５ｍｍよりも小さい幅を有してもよい。ミラー２２ａよりも幅が広いマウンティング４０を提供することは、マウンティングがミラーと同じ幅を有する場合よりも高いロバスト性を提供できるという利点を有する。加えて、マウンティング４０はミラー２２ａから熱をより効率的に伝達して除去することができるであろう。マウンティング４０は高度な機械的安定性および熱的安定性を提供しうる。
【０１４４】
ミラーを互いに隣接して配置することを可能とするために、マウンティング４０はミラーの下に分散される。図１４は８のミラー２２ａ−ｈおよび８の関連するマウンティング４０ａ−ｈを下から見た図である。マウンティング４０ａ−ｈのそれぞれはそれに関連するミラーと、ミラー２２ａ−ｈに沿った異なる位置で接続されていることが示されている。各ロッド４１の移動方向は長い矢印で示され、各ミラーの回転軸は短い矢印で示される。
【０１４５】
図１４には４つの回転軸Ａ−Ｄが示される。２つの回転軸Ａ、Ｂは、ミラーを横切るように走る軸（ここではｙ軸として示されている）により近い。２つの回転軸Ｃ、Ｄは直交軸（ここではｘ軸として示されている）により近い。図１４および図１５における直交座標の使用は、図の説明を助けるためのものであり、ミラー２２ａ−ｈやマウンティング４０ａ−ｈの向きを制限するよう意図されたものではない。
【０１４６】
ｙ軸により近い回転軸Ａ、Ｂを提供するマウンティング４０ｂ、ｃ、ｇ、ｆは、ミラー２２ｂ、ｃ、ｇ、ｆの中心のより近くに配置される。ｘ軸により近い回転軸Ｃ、Ｄを提供するマウンティング４０ａ、ｄ、ｅ、ｈは、ミラー２２ａ、ｄ、e、ｈの中心からより離れた位置に配置される。マウンティング４０ａ−ｈをこれらの位置に設けることは、ミラーにより生じる陰影に関して有利な効果を有する。
【０１４７】
図１５は、２対のミラー１２２ａ−ｄを上から見た模式図である。説明を容易とするために、また、幾何的解析を容易とするために、ミラーは曲がったものではなくむしろ矩形のものとして示される。まず図１５の左側を参照すると、左側ミラー１２２ａは回転軸Ｅの周りで回転する。回転軸Ｅはミラーを横切るよう（ここではｙ方向として示される）に延び、ミラーの一端側に配置される。右側ミラー１２２ｂは固定である。ミラー１２２ａは、ミラーの上部が図の紙面に向かう向きに動き、ミラーの下部が図の紙面から出て行く向きに動くよう、回転することができる。図の紙面から出て延びる法線の左側（ｙの負の向き）に１０度の角度をなす方向から、放射がミラー１２２ａ、ｂに入射しうる。この状況では、左側ミラー１２２ａは右側ミラー１２２ｂ上に影１２３を投じるこれは望ましくない。影はリソグラフィ装置のパターニングデバイスに形成される露光領域の一様性を低減するからである。
【０１４８】
図１５の右側を参照すると、回転軸Ｆはミラー１２２ｃを横切るように延びるが、ミラーの中心に配置される。ミラー１２２ｃの回転は、右側ミラー１２２ｄ上により小さい影１２４を生じさせる。
【０１４９】
図１５の左側に示されるミラーは矩形であり、種々の寸法符号を含む。影の幅Ｗｓを決めるために幾何学を使用してもよい。
0005688410.tif 000006
ここで、jはミラーの回転角であり、Ｌはミラーの長さであり、Ｒは回転軸とミラーの中心との距離であり、θは法線に対する入射放射の角度であり（ｙの負の向きから来る放射）、Ｄはミラー間の離間距離である。
【０１５０】
影の長さＬｓを決めるために幾何学を使用してもよい。
0005688410.tif 000007
式１と式２とを組み合わせることにより、影の面積Ａｓを決めることができる。
0005688410.tif 000008
最大の影領域は、Ｒ＝Ｌ／２およびＤ＝０のとき得られる。これは、式３の右側の式を生む。
【０１５１】
図１５の右側の影領域１２４は、Ｒ＝０のとき、式３から直接導かれる。
0005688410.tif 000009
上記の式は、ミラー間の距離Ｄが小さいとき、回転軸をミラーの中心から端へと動かすことにより、影領域のサイズが係数４で増大することを示す。
【０１５２】
ミラーに影が生じる度合いを最小化するために、ミラーの横断方向に近い軸の周りで回転するミラーは、ミラーの中心の近くに配置されるマウンティングに保持される。ミラーを横切るのからは遠い軸の周りで回転するミラーは、ミラーの中心からより離れて配置されるマウンティングに保持される。このような構成の一例は図１４に示されており、上でさらに説明されている。
【０１５３】
説明された実施の形態は、１６の主反射要素または４８の主反射要素について言及したが、任意の適切な数の主反射要素が使用されてもよい。同様に、任意の適切な数の二次反射要素が使用されてもよい。主反射要素の数の２倍の数の二次反射要素が存在してもよい。
【０１５４】
上記説明は反射型の照明システム（例えば、ＥＵＶリソグラフィ装置の一部を含む）について言及した。しかしながら、本発明の実施の形態は、屈折要素を含む照明システムに提供されてもよい。例えば、本発明の実施の形態はＤＵＶリソグラフィ装置に提供されてもよい。反射光学素子に代えてまたは加えて、屈折光学素子が照明システムの瞳面に提供されてもよい。
【０１５５】
本発明の説明された実施の形態はリソグラフィ装置の照明システムに関するものであるが、本発明の実施の形態はリソグラフィ装置の任意の適切な位置に提供されてもよい。
【０１５６】
反射要素のアレイはリソグラフィ装置の文脈の中で説明されたが、そのアレイは他の装置に設けられてもよい。
【０１５７】
本発明の具体的な実施の形態が上述のように説明されたが、本発明は上述の形式以外の形式でも実施可能であると理解されたい。説明は本発明を限定することを意図するものではない。
【０１５８】
本発明の特徴は本発明の全ての態様に適用可能であり、任意の組み合わせで使用可能である。
【図１】
0005688410.tif 000010
【図２】
0005688410.tif 000011
【図３】
0005688410.tif 000012
【図４】
0005688410.tif 000013
【図５ａ】
0005688410.tif 000014
【図５ｂ】
0005688410.tif 000015
【図６ａ】
0005688410.tif 000016
【図６ｂ】
0005688410.tif 000017
【図７】
0005688410.tif 000018
【図８ａ−８ｅ】
0005688410.tif 000019
【図９】
0005688410.tif 000020
【図１０ａ】
0005688410.tif 000021
【図１０ｂ】
0005688410.tif 000022
【図１０ｃ】
0005688410.tif 000023
【図１０ｄ】
0005688410.tif 000024
【図１０ｅ】
0005688410.tif 000025
【図１０ｆ】
0005688410.tif 000026
【図１０ｇ】
0005688410.tif 000027
【図１１】
0005688410.tif 000028
【図１２】
0005688410.tif 000029
【図１３】
0005688410.tif 000030
【図１４】
0005688410.tif 000031
【図１５】
0005688410.tif 000032