(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変の光学特性及び／又はエネルギ特性を有する電気化学及び／又は電気的に制御可能なデバイスであって、少なくとも１つのキャリア基板と、少なくとも１つの電気活性層と、少なくとも１つの下側電極と、少なくとも１つの上側電極とを備え、少なくとも１つの電気活性層が、下側電極と上側電極との間にあり、下側電極及び／又は上側電極は、金属グリッド（９）から構成される少なくとも１つの導電層（２）を備え、
前記金属グリッド（９）が、銀、銅、亜鉛、アルミニウム、ニッケル、クロム、およびニッケル−クロム合金から選択される純粋材料に基づいており、かつ少なくとも１つの電気化学保護層（１０）でコーティングされ、前記電気化学保護層が、チタン、金、白金、および、パラジウムからなるグループから選択される材料に基づいており、前記電気化学保護層（１０）が、金属酸化物に基づく少なくとも１つのバリア層（１１）と組み合わされ、前記金属酸化物が、酸化亜鉛、一群の以下の金属、すなわち、Ａｌ、Ｇａ、Ｂ、及びＳｃから選択される他の金属がドープされた酸化亜鉛、スズがドープされた酸化インジウム、およびアンチモンがドープされた酸化スズからなるグループから選択されることを特徴とする、電気化学及び／又は電気的に制御可能なデバイス。
【請求項２】
金属グリッド（９）の厚さが、１μｍから３μｍであることを特徴とする、請求項１に記載の電気化学及び／又は電気的に制御可能なデバイス。
【請求項３】
金属グリッド（９）が、２２％から３３％の光掩蔽を表わす周期的構造または非周期的構造を有することを特徴とする、請求項１または２に記載の電気化学及び／又は電気的に制御可能なデバイス。
【請求項４】
電気化学保護層（１０）の厚さが、２０ｎｍから５０ｎｍであることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載の電気化学及び／又は電気的に制御可能なデバイス。
【請求項５】
バリア層（１１）の厚さが、少なくとも９０ｎｍであることを特徴とする、請求項１に記載の電気化学及び／又は電気的に制御可能なデバイス。
【請求項６】
金属グリッド（９）が、特に窒化珪素に基づく第２のバリア層上に堆積されることを特徴とする、請求項１に記載の電気化学及び／又は電気的に制御可能なデバイス。
【請求項７】
金属グリッド（９）の抵抗率が、０．３オーム／□から０．９オーム／□であることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の電気化学及び／又は電気的に制御可能なデバイス。
【請求項８】
金属グリッドが、熱処理の前後でその導電特性を保つことを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の電気化学及び／又は電気的に制御可能なデバイス。
【請求項９】
エレクトロクロミックシステム、特に「全固体型」エレクトロクロミックシステムまたは「全固体型」或いは「全高分子型」エレクトロクロミックシステム、液晶システム、または、ビオロゲンシステム、または、エレクトロルミネセントシステムであることを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の電気化学及び／又は電気的に制御可能なデバイス。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか一項に記載の電気化学及び／又は電気的に制御可能なデバイスを組み込むことを特徴とする、グレージング。
【請求項１１】
構造的グレージング、内部の間仕切りまたは窓または屋根のためのグレージングパネル、或いは航空機、列車、車、ボート、または作業場車両タイプの輸送手段のためのグレージングパネル、ディスプレイスクリーン、例えば、コンピュータスクリーンまたはテレビスクリーンまたは投影スクリーンまたはタッチセンシティブスクリーンを形成するための、または、メガネレンズまたはカメラレンズを形成するための、または、ソーラーパネルを保護するための、または、表面を照明するための、請求項１０に記載のグレージングの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の主題は、可変の光学特性及び／又はエネルギ特性を有するグレージングタイプの電気化学及び／又は電気的に制御可能なデバイス、または、光起電デバイス、または、エレクトロルミネセントデバイスのための導電層である。特に、本発明は、曲げタイプまたは強靭化タイプの熱処理を受けるのに適する、最適化された電気化学抵抗を有する金属グリッドを伴う高導電性透明層に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在のところ、実際に、ユーザの要件を満たすことができるいわゆる「スマート」グレージングに対する需要が増大している。
【０００３】
また、太陽エネルギを電気エネルギへ変換できるようにする光起電グレージングに対する需要、および、デバイスにおいて且つ照射面として有用な用途を有するエレクトロルミネセントグレージングに対する需要も増大している。
【０００４】
「スマート」グレージングに関しては、これにより、建物の外側または車、列車、または、航空機タイプの車両の外側に取り付けられたグレージングパネルを介した太陽熱流入を制御することができる。目的は、客室／部屋の内側の過度の加熱を制限できるようにすることであるが、強い太陽光が存在する場合に限られる。
【０００５】
また、これは、ドライバを眩しくさせないようにバックミラーとして使用されるミラー、または、メッセージが必要なときに或いはドライバの注意をうまく引くように断続的に、メッセージが現れるようにする表示パネルにも関連する。拡散を行なうことができるグレージングパネルは、望ましいとき、例えば、投影スクリーンのために使用されてもよい。
【０００６】
また、これは、特にグレージングパネルを暗くするために、または、グレージングパネルを拡散させるために、または、更には望ましいときに任意の視覚を妨げるために、グレージングパネルを通じた視覚の度合いを制御してもよい。これは、部屋、列車、または、航空機の内部の間仕切りに組み込まれるグレージングパネル、または、自動車のサイドウインドウとして取り付けられるグレージングパネルに関連してもよく、あるいは、特に更には、これらのグレージングパネルが例えば、ＬＣＤまたはプラズマタイプのフラットスクリーンの前面に装着される場合に関連してもよい。フラットスクリーンのこの特定の用途において、正面要素、一般的にはガラス基板は、主に、スクリーンの誘引性を決定する。
【０００７】
これは、ＯＦＦ状態でこれらのスクリーンが黒色の前面を有する必要があるためであり、また、点灯状態で、画像を明示するためにこの黒色の前面が可能な限り急速に消失する必要があるからである。
【０００８】
現在のところ、このタイプのスクリーンの製造メーカは、約５０％の光透過率ＴＬを有する基板を前面として取り付ける。なお、点灯状態で、ＴＬのこの減少が保たれ、この減少によって画質が悪化することは言うまでもない。
【０００９】
本発明者らは、ＴＬが減少したこの前面を、審美的外観のそのような変化を行なうことができるようにする電気的に制御可能なシステムを備える透明基板で置き換えることを提案する考えをもっていた。
【００１０】
グレージングの光透過率または光吸収を調整するために、例えば、米国特許第５２３９４０６号明細書および欧州特許第６１２８２６号明細書に開示されるようなビオロゲンシステムが存在する。
【００１１】
グレージングパネルの光透過率及び／又は熱伝達率を調整するため、エレクトロクロミックシステムも存在する。知られているように、これらは、一般に、電解質層によって分離され且つ２つの導電層が側面に位置されるエレクトロクロミック材料の２つの層を備える。エレクトロクロミック材料の層のそれぞれは、陽イオンおよび電子を可逆的に挿入でき、そのような注入／排出後のそれらの層の酸化度合いの変化は、その光学特性及び／又は熱特性の変化をもたらす。特に、可視光及び／又は赤外光の波長に関してそれらの層の吸収及び／又はそれらの反射を調整することができる。
【００１２】
エレクトロクロミックシステムを以下の３つのカテゴリーに分けることは通例である：
−電解質が高分子またはゲルの形態を成し、例えば、欧州特許第２５３７１３号明細書または欧州特許第６７０３４６号明細書に開示されるような陽子伝導高分子、または、例えば、欧州特許第３８２６２３号明細書、欧州特許第５１８７５４号明細書および欧州特許第５３２４０８号明細書に開示されるリチウムイオンによって伝導する高分子の形態を成し、システムの他の層が一般に無機性であるカテゴリー。
−電解質が、システムを形成する他の全ての層と同様に、ほぼ無機の層であるカテゴリー。このカテゴリーは、しばしば、「全固体型」システムと称される。この例は、欧州特許第８６７７５２号明細書、欧州特許第８３１３６０号明細書および国際公開第００／５７２４３号パンフレット、国際公開第００／７１７７７号パンフレットにおいて見出すことができる。
−全ての層が高分子に基づくカテゴリー。このカテゴリーは、しばしば、「全高分子型」システムと称される。
【００１３】
「光バルブ」と呼ばれるシステムも存在する。これらは、粒子を含む微液滴が分散され且つ磁場または電場の作用下で粒子を好ましい方向に向けることができる一般的な架橋ポリマーのマトリクスを備えるフィルムである。したがって、国際公開第９３／０９４６０号パンフレットは、フィルムが電圧下にあるときに光を殆ど遮断するポリヨウ化物タイプの粒子およびポリオルガノシランマトリクスを備える光バルブを開示する。
【００１４】
また、先の形態と同様の形態で動作する液晶システムについて言及される場合もある。これらのシステムは、２つの導電層間に配置されるフィルムの使用に基づいているとともに、液晶液滴が内部に配置される高分子、特に正の誘電異方性を有するネマチック液晶に基づいている。フィルムに対して電圧が印加されると、液晶が好ましい軸に沿って向き、それにより、視認できる。電圧が印加されない状態では、液晶が位置合わせされないと、フィルムが拡散するようになって視覚を妨げる。そのようなフィルムの例は、特に、欧州特許第０２３８１６４号明細書および米国特許第４４３５０４７号明細書、米国特許第４８０６９２２号明細書、米国特許第４７３２４５６号明細書に開示されている。このタイプのフィルムは、それが積層されて２つのガラス基板間に組み入れられると、商品名「Ｐｒｉｖａ−Ｌｉｔｅ」でＳａｉｎｔ−Ｇｏｂａｉｎ  Ｖｉｔｒａｇｅにより販売される。
【００１５】
実際に、用語ＮＣＡＰ（Ｎｅｍａｔｉｃ  Ｃｕｒｖｉｌｉｎｅａｒｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｐｈａｓｅ）または用語ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）によって知られる液晶デバイスのいずれかを使用することができる。
【００１６】
また、例えば、国際公開第９２／１９６９５号パンフレットに開示されるようなコレステリック液晶ポリマーを使用することもできる。
【００１７】
エレクトロルミネセントシステムに関しては、これらは、電極を介して電気が供給される材料または有機或いは無機エレクトロルミネセント材料の積層体を含む。
【００１８】
これらの混同されるシステムの全ては、共通して、システムの活性層または様々な活性層の両側に２つの導電層の形態をほぼ成して電極を供給するために、電流リード線が設けられる必要がある。
【００１９】
これらの導電層（実際には、層の重ね合わせであってもよい）は、一般に、酸化インジウム、一般的にはＩＴＯの略語でよく知られるスズドープ酸化インジウムに基づく層を含む。また、ドープされた酸化スズ、例えば、アンチモンドープ酸化スズに基づく層、または、ドープされた酸化亜鉛、例えば、アルミドープ酸化亜鉛に基づく層（あるいは、これらの酸化物のうちの少なくとも２つに基づく混合物）が存在してもよい。
【００２０】
ＩＴＯ層は特別に研究されてきた。ＩＴＯ層は、酸化物ターゲット（非反応性スパッタリング）またはインジウムおよびスズに基づくターゲット（酸素タイプの酸化剤の存在下での反応性スパッタリング）のいずれかを使用する磁気的に強められるカソードスパタリングによって容易に堆積させることができる。しかしながら、用途にとって十分な導電性を有するように、また、電気化学的に強くなるように、上記層は、インサイチュで或いはその後に熱処理ステップの使用を必要とする（しばしば、３００℃を超える）。
【００２１】
それにもかかわらず、ＩＴＯは、電気的に制御可能なシステム内の導電層として機能的に非常に適しているが、アニールされても不十分な導電性を有し、そのため、システムの状態変化（着色状態から脱色状態への切り換え）中に帯電現象が損なわれる。これは、不均一なスイッチングおよびシステムの面積に伴って直線的に減少されるスイッチ速度によって、エレクトロクロミックタイプの電気的に制御可能なシステムの特定のケースで反映される。フラットスクリーンのための前面要素としてガラス機能を有する基板と組み合わされるエレクトロクロミックシステムにおいてＩＴＯ系の導電層が使用される場合には、ＩＴＯの技術的仕様がこのタイプの使用（例えば、スクリーンのＯＦＦ状態とＯＮ状態との間の切り換えの速度）と適合しないことは言うまでもない。
【００２２】
他の手法は、導電層の表面抵抗を改善するための金属層を酸化物層の積層体中へ挿入することにある。また、この金属層は、光透過率の特定のレベルを保つために十分に薄い。
【００２３】
この文脈の中で、国際公開第９３／０５４３８号パンフレットは、例えば、鉄、ジルコニウム、チタン、または、タングステンなどの金属ブロッカに基づく層と組み合わされる特に銀、銅、または、アルミニウムに基づく薄い金属層からなる導電層を教示する。このＴＣＯ（透明導電酸化物）積層体は、エレクトロクロミックタイプの電気化学デバイス内に組み込まれるようになっており、このデバイス内で、金属ブロッカ層が、活性層のうちの１つと金属層との間でのＬｉ＋イオンの拡散に対するバリアを構成する。
【００２４】
また、国際公開第９４／１５２４７号パンフレットにより、例えば、酸化亜鉛またはスズドープ酸化インジウムなどの透明導電酸化物に基づく層が、補足される前述した構造に類似する構造を有する導電層も教示される。
【００２５】
また、米国特許第５５１０１７３号明細書および米国特許第５７６３０６３号明細書は、貴金属と有利に合金化される銀または銅の層を組み込むエネルギ制御積層構造を教示しており、この場合、酸化物または酸化物の混合物に基づく二重層、例えば、Ｉｎ２Ｏ３およびＩＴＯ、または、ＺｎＯ２／Ｉｎ２Ｏ３およびＩＴＯでコーティングすることによって腐食保護が得られる。ＺｎＯ２を使用する場合、この酸化物の絶縁特性のために電極としての適用は、不可能である。
【００２６】
更に、電気化学的に安定な銀−金合金に基づく層を組み込む反射性電極構造について記載する特許ＵＳ  ６  ８７０  ６５６が知られている。
【００２７】
前述した導電層構造にもかかわらず、その電気化学抵抗は、この導電層が合金化されるときだけ得られる。
【００２８】
金属層の電気化学抵抗を改善するための他の方法は、２つの酸化物、すなわち、ＺｎＯ：ＡｌおよびＩＴＯを組み合わせることによって金属層を保護することにある（仏国特許出願公開第２８８６４１９号明細書を参照されたい）。
【００２９】
しかしながら、ＴＣＯ構造にもかかわらず、光透過率をかなり低下させるであろう厚い金属層を使用することなくアクティブシステムのための迅速なスイッチング速度と非常に低い表面抵抗とを有することは難しい。
【００３０】
スイッチング速度を改善するための解決策は、ＩＴＯタイプの酸化物でコーティングされる金属グリッドの使用による米国特許第５２９３５４６号明細書に記載されている。しかしながら、エレクトロクロミック分野の用途では、グリッドの電気化学抵抗が明らかに不十分である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００３１】
本発明の定められた目的は、前述したタイプ（エレクトロクロミック、光起電性など）の電気化学／電気的に制御可能なシステムの電極を構成するために迅速なスイッチング時間を得ることができるようにする導電層の電気化学的に頑強なアセンブリを達成することである。因みに、この目的は、本発明に関連する電気化学システムの知られている形態を乱すことなく、熱処理ステップを回避して、非常に低いコストで達成されるべきである。より一般的には、これは、ほぼ透明な基板（ガラスまたは高分子材料から形成される）上により良好な電極を作り上げることを伴う。
【課題を解決するための手段】
【００３２】
本発明の１つの対象は、金属グリッドから構成され、ガラス機能を有する基板と組み合わされるようになっている導電層であって、金属グリッドが純金属からなり、金属グリッドが、少なくとも１つの電気化学保護層、特に金属層または金属窒化物層でコーティングされる導電層である。
【００３３】
この特定のグリッド構造のおかげにより、高い導電特性を依然として有しつつ、より低いコストで、電気的に制御可能なシステムに適合する電気化学抵抗を有する電極を得ることができ、したがって、電気的に制御可能なシステムの着色状態と脱色状態との間の極めて迅速なスイッチング時間が保証される。
【００３４】
本発明の好ましい実施形態では、以下の構成のうちの１つ以上が場合によっては更に用いられてもよい：
−電気化学保護層が金属酸化物に基づく少なくとも１つのバリア層と組み合わされる。
−金属酸化物は、酸化亜鉛、一群の以下の金属、すなわち、Ａｌ、Ｇａ、Ｂ、及びＳｃから選択される他の金属がドープされた混合酸化亜鉛、ドープされた、特にスズがドープされた酸化インジウム、および、ドープされた、特にアンチモンがドープされた酸化スズから選択される。
−グリッドは、銀、銅、亜鉛、アルミニウム、ニッケル、クロム、および、ニッケル−クロム合金から選択される純粋材料に基づいている。
−電気化学保護層は、チタン、金、白金、および、パラジウムから選択される材料に基づいており、上記材料が場合によっては窒化される。
−グリッドの厚さが、１から１５μｍ、より好ましくは２から８μｍ、更に好ましくは約３μｍである。
−電気化学保護層の厚さが、１０から１００ｎｍ、より好ましくは２５から７５ｎｍ、更に好ましくは約５０ｎｍである。
−バリア層の厚さが、４０から４００ｎｍ、より好ましくは６０から３００ｎｍ、更に好ましくは約２５０ｎｍである。
−グリッドが特に窒化珪素に基づく第２のバリア層上に堆積される。
−導電層の抵抗率が、０．０１オーム／□から１オーム／□、好ましくは０．２から０．６オーム／□、より好ましくは約０．４オーム／□である。
−導電層は、曲げ或いは強靭化タイプの熱処理を受けるのに適している。
【００３５】
本発明の文脈の中で、用語「下側電極」は、基準として見なされるキャリア基板に対して最も近くに位置する電極を意味するように理解され、この電極上には活性層のうちの少なくとも一部（例えば、「全固体型」エレクトロクロミックシステムにおける全ての活性層）が堆積される。「上側電極」は、同じ基準基板に対して活性層の積層体よりも上側に位置する。
【００３６】
本発明に係る導電層を組み込む下側電極は、０．２から０．６オーム／□の電気抵抗率と７５から８５％のＴＬとを有し、それにより、透明電極としてのその使用が完全に満たされることが有利である。
【００３７】
特にこのレベルの抵抗率を得るため、金属グリッドが１から３μｍの全厚を有することが好ましい。
【００３８】
これらの厚さ範囲内では、電極が透明のままである。すなわち、電極は、可視的に、グリッドの存在下であっても、低い光吸収を有する（その網目構造は、その寸法に起因して、殆ど目に見えない）。グリッドは、１５から２５％の光掩蔽を表わす周期的構造または非周期的構造を有する。例えば、３００μｍの間隔で隔てられた幅が２０μｍの金属ストランド２０を有する正方形網目構造は、露出時の９２％の光透過率と比べて、８０％の光透過率を基板に対して与える。これらの周期的構造または非周期的構造の例示的な実施例が、独国特許出願公開第１０２００６０４５５１４．２号明細書に記載されている。
【００３９】
前述したように、本発明は、様々なタイプの電気化学システムまたは電気的に制御可能なシステムに適用されてもよい。本発明は、特に、エレクトロクロミックシステム、特に「全固体型」エレクトロクロミックシステム（用語「全固体型」は、本発明の文脈の中では、全ての層が無機性を有する多層積層体に関して規定される）または「全高分子型」エレクトロクロミックシステム（用語「全高分子型」は、本発明の文脈の中では、全ての層が有機性を有する多層積層体に関して規定される）または複合或いはハイブリッドエレクトロクロミックシステム（積層体の層が有機性および無機性を有する）または液晶システムまたはビオロゲンシステムまたはエレクトロルミネセントシステムに関する。
【００４０】
本発明が適用されてもよいエレクトロクロミックシステムまたはグレージングパネルは、前述した特許に記載されている。これらは、少なくとも１つのキャリア基板と機能層の積層体とを備えてもよく、機能層の積層体は、少なくとも、前述した第１の導電層と、アノードおよびカソードのぞれぞれのエレクトロクロミック材料タイプのＨ＋、Ｌｉ＋およびＯＨ−などのイオンを可逆的に挿入できる電気化学活性層と、電解質層と、カソードおよびアノードのぞれぞれのエレクトロクロミック材料タイプのＨ＋、Ｌｉ＋およびＯＨ−などのイオンを可逆的に挿入できる第２の電気化学活性層と、第２の導電層とを連続的に備えている（用語「層」は、層が連続であろうと不連続であろうと、単層または幾つかの層の重ね合わせを意味するように理解されるべきである）。
【００４１】
また、本発明は、透過状態で作用するグレージングにおいて本出願の前提部分に記載される電気化学デバイスの結合に関する。用語「グレージング」は、広い意味で理解されるべきであり、ガラスからなる任意のほぼ透明な材料及び／又は高分子材料（例えば、ポリカーボネートＰＣまたはポリメチルメタクリレートＰＭＭＡ）を包含する。キャリア基板及び／又は対向基板、すなわち、アクティブシステムの側面に位置する基板は、硬質、フレキシブル、または、セミフレキシブルであってもよい。
【００４２】
また、本発明は、これらのデバイスにおいて見出すことができる様々な用途、すなわち、グレージングまたはミラーにも関連する。つまり、これらは、構造的グレージング、特に外装グレージング、内部グレージング、または、グレージングドアを生成するために使用されてもよい。また、これらは、列車、航空機、車、ボート、および、作業場車両などの輸送手段の窓、屋根、または、内部の間仕切りのために使用されてもよい。また、これらは、ディスプレイスクリーン、例えば、投影スクリーンまたはテレビスクリーンまたはコンピュータスクリーンおよびタッチセンシティブスクリーンのために使用されてもよい。また、これらは、メガネレンズまたはカメラレンズを形成するため、または、ソーラーパネルを保護するために使用されてもよい。また、バッテリタイプのエネルギ蓄積デバイス、燃料電池、および、バッテリ、並びに、電池自体としてこれらを使用することもできる。
【００４３】
ここで、非限定的な実施例および図面を用いて、本発明を更に詳しく説明する。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明に係る導電層を使用するエレクトロクロミックセルの概略平面図である。
【図２】本発明に係る導電層を含む積層体全体の断面図である。
【図３】本発明に係る導電層の拡大断面図である。
【図４】本発明の別の実施形態の概略図である。
【図５】本発明の電気的接続の１つの特定の方法を示している。
【図６】引き伸ばされて変形されたグリッドの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００４５】
図１および図２は、意図的に非常に概略的な図であり、これらの図の考察を容易にするために必ずしも一定の倍率になっていない。これらの図は：
−２．１ｍｍの厚さを有する透明なソーダ石灰シリカガラス基板Ｓ１と、
−一方で、３００μｍの間隔をもって隔てられた２０μｍ幅のストランドを有する正方形の網目状形態を成してアルミニウムから形成され、且つ約３μｍの厚さを有するグリッド９（図３において見ることができる）を備え、このグリッド９が、約５０ｎｍの厚さを有する窒化チタンに基づく電気化学保護層１０（図３において見ることができる）でコーティングされるとともに、それぞれの厚さがＺｎＯ：Ａｌに関して６０ｎｍ、ＩＴＯに関して３０ｎｍであるＺｎＯ：Ａｌ／ＩＴＯ型の多層積層体を備える少なくとも１つのバリア層１１（図３において見ることができる）と組み合わされる、下側電極２と、
−ＩＴＯまたはＳｎＯ２：Ｆに基づく上側電極４と、
−その構造については後述するエレクトロクロミックシステム３と、
−ガラスＳ１を該ガラスＳ１と同じ特性を有する他のガラスＳ２に積層させることができるようにするＰＵシート７と、
を連続的に備える本発明の教示内容に係る「全固体型」エレクトロクロミックデバイスを表わしている。場合によっては、ＰＵシート７の方を向くガラスＳ２の面には、太陽光保護機能を有する薄層からなる積層体が設けられている。この積層体は、特に、知られている態様で誘電体層が差し込まれた２つの銀層を備えてもよい。変形例として、ＰＵシート７には、活性積層体３と接触するその面上に、下側電極２のような基板上に堆積されるグリッドと同様のグリッド９が設けられる。電極２、４は電流リード線６、８に接続される。
【００４６】
エレクトロクロミックシステム３は、
−他の金属と合金化されるか否かにかかわらず、厚さが４０から１００ｎｍの水酸化イリジウム、または厚さが４０から４００ｎｍの水酸化ニッケルからなるアノードエレクトロクロミック材料の第１の層ＥＣ１（変形例として、他の金属と合金化されるか否かにかかわらず、この層は厚さが１００から３００ｎｍの酸化ニッケルからなるアノードエレクトロクロミック材料の層と置き換えられてもよい）と、
−厚さが１００ｎｍの酸化タングステン層１００と、
−厚さが１００ｎｍの水酸化タンタルまたは水酸化シリカまたは水酸化ジルコニウムからなる第２の層であって、後者の２つの層が電解機能を有する層ＥＬを形成する第２の層と、
−厚さが３７０ｎｍの酸化タングステンＷＯ３に基づくカソードエレクトロクロミック材料の第２の層ＥＣ２と、
を備える。
【００４７】
全ての層は、磁気的に強められるカソードスパッタリングによって堆積された。
【００４８】
前述したエレクトロクロミックデバイスは実施例１を構成する。
【００４９】
下側電極および上側電極の両方がＩＴＯまたはＳｎＯ２：Ｆに基づく従来技術の知られている構造である実施例２が以下に与えられている。
【００５０】
実施例２（比較例＝標準的なＥＣ例）
ＥＣ（エレクトロクロミック）グレージングは、
下側電極２が、５００ｎｍ厚のＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）に基づいており、熱間（３５０℃で）で堆積されるとともに、グリッドを組み込まない、
という点を除いて、実施例１と同じ組成を有する。
【００５１】
変形例として、上側電極が他の導電要素を含む。特に、電極は、それよりも導電性が高い層及び／又は複数の導電帯または導電ワイヤと組み合わされてもよい。更なる詳細については、そのような多成分電極の実施に関する前述した国際公開第００／５７２４３号パンフレットを参照されたい。このタイプの電極の好ましい実施形態は、高分子のシート（ひいては、エレクトロアクティブグレージングの製造、例えば、エレクトロクロミックタイプの製造の場合に、アクティブシステムを保護し及び／又はガラスタイプのキャリア基板を他のガラスと積層させることができるようにする）の表面中に張り巡らされる導電ワイヤの網目構造をＩＴＯ層（場合によっては、１つ以上の他の導電層を載せられる）に対して適用することにある。
【００５２】
アルミニウムグリッド９は例えば、フォトリソグラフィ技術によって、或いはレーザアブレーション技術によって得られてもよく、また、得られたＴＬ（光透過率）および電気伝導値が以下の表１で与えられる。
【表１】
0005675103.tif 000002
【００５３】
３０ｃｍ×３０ｃｍの寸法を有する２つのエレクトロクロミックセルに対して比較テストが行なわれ、また、以下の表２に比較テストが要約されている。
【表２】
0005675103.tif 000003
【００５４】
一定のコントラスト（約３）において、実施例１のＥＣグレージング（金属グリッドを有する電極に関する）は、実施例２のＥＣグレージングと比べると、以下によって特徴付けられる：
−より迅速なスイッチング（着色時間では３から４のファクタだけ速度が増大し、脱色時間では１．６から２．６のファクタだけ速度が増大する）
−均一なスイッチング（表面全体にわたって同じスイッチング時間）
【表３】
0005675103.tif 000004
【００５５】
本発明の他の有利な特徴によれば、本発明の主題を形成するグリッドが熱処理を受けることができ、特に曲げまたは更には強靭化作用に耐えることが分かってきた。
【００５６】
例えば、マグネトロンスパッタリングプロセスを使用して約３μｍ厚のアルミニウム層が、ガラス機能を有する基板上に堆積された後、この層は、例えば、同様にマグネトロンスパッタリングによって堆積される厚さが約２０ｎｍの窒化チタンに基づく電気化学保護層でコーティングされる。変形例として、ガラス機能を有する基板とアルミニウム系金属層との間には、窒化珪素に基づくバリア層が介挿される。
【００５７】
この積層体は、次いで、リソグラフィ技術またはレーザアブレーション技術によってエッチングされる。
【００５８】
このようにして第１の基板上に形成されるグリッドは、対向窓枠を形成する第２の基板と組み合わされ、また、２つの基板の重ね合わせによって形成されるアセンブリの面２上または面３上のいずれかにあるように組み合わされる。２つの重ね合わされたシートの曲げは、任意の適したプロセス、特に、骨組み或いはフレームなどの支持体上の重力プロセスによって、押圧によって、及び／又は、フレームまたは固体金型上の吸引によって行なわれる。
【００５９】
強靭化する場合、このように形成されたグリッドは、任意の従来の強靭化プロセスによって強靭化される基板と組み合わされる。
【００６０】
その上にグリッドが形成されて成る積層体の性質は、酸化（パッシベーションを受けるアルミニウム）に耐えるように特に適合され、窒化チタンが酸化に対するバリアを形成し、また、グリッドが積層物によって酸素から保護される。
【００６１】
以下で与えられる抵抗率測定値は、グリッドが曲げ前後に或いは強靭化後にその導電特性を保持することを完全に明示している。
【００６２】
したがって、例えば、４０μｍの幅のストランドを有し、且つストランド間の間隔が３００μｍである厚さが３μｍのグリッドは、熱処理前に０．３Ω／□の表面抵抗率を有するとともに、曲げ或いは強靭化後に０．２５Ω／□の抵抗率を有する。
【００６３】
また、本発明は、それが組み込まれる、或いは組み込まれるようになっている電気／電気化学デバイスとは関係なく、前述したタイプの少なくとも１つの電極を備える基板、および、電極それ自体にも関連する。
【００６４】
上記グリッドの他の可能な用途によれば、グリッドは、可変の光学特性及び／又はエネルギ特性を有する電気化学及び／又は電気的に制御可能なデバイス、または、光起電デバイス、または、エレクトロルミネセントデバイス、または、加熱デバイス、または、場合によりフラットランプデバイス、電磁シールドデバイス、あるいは、透明導電層を必要とする任意の他のデバイスにおいて活性層として使用されてもよい。
【００６５】
このグリッドは、加熱デバイスとして、ウインドシールドに形成された開口内に位置されてもよく、カメラまたは任意の他の電子装置のレンズが上記開口を通じて向けられ、この開口は、加熱デバイスのおかげにより常に曇ることがない（図４参照）。
【００６６】
他の実施形態によれば、グリッドは、隣接する領域とは異なる電気（導電）特性を局所的に有するように、その支持体上で変形され、引き伸ばされてもよい。
【００６７】
変形の優先的方向に応じて、すなわち、伸張方向（２つの隣接するセルが移動して更に離間する）または収縮方向（逆に、２つの隣接するセルが移動して互いに近づく）で、電流がグリッド内を流れるときに、優先的方向に沿って加熱領域をもたらすことができる。したがって、グレージングのプロファイル（平坦、湾曲、複合など）に応じて、均一な加熱を得ることができ、且つ形状係数を補償することができ、または、逆に、例えば、中心よりも縁部に沿って加熱を促進するためにグレージングの特定の領域に応じて異なる加熱領域を得ることができる（図６参照）。
【００６８】
本発明の範囲から逸脱することなく、幾つかのグリッドを使用することもでき、その場合、各グリッドは、バスバーを使用してグリッド同士を直列に或いは並列に電気的に接続することにより、それら自体の特徴（例えば、抵抗率）を有する（図５参照）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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