(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、以下に示す（一般式１）または（一般式２）を含む第１の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第２の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式（１）乃至式（３）を満たす電子写真感光体。
式（１） ｜Ｉｐ（ＣＴＬ）−Ｉｐ（ＣＧＬ）｜≦０．１（ｅＶ）
式（２） ｜Ｉｐ（ＯＣＬ）−Ｉｐ（ＣＴＬ）｜≦０．３（ｅＶ）
式（３） μ（ＣＴＬ）≧１．８×１０−５［ｃｍ２／Ｖｓ］
（式（１）乃至式（３）において、Ｉｐ（ＣＧＬ）は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＣＴＬ）は前記第１の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＯＣＬ）は前記第２の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ（ＣＴＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。）
【化１】
0005672900.tif 000041
（上記（一般式１）中、Ｒ３１，Ｒ３２，Ｒ３３，Ｒ３４，Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。ｍおよびｎは１を示す。）
【化２】
0005672900.tif 000042
（上記（一般式２）中、Ｒ３７，Ｒ３８，Ｒ３９，Ｒ４０，Ｒ４１，Ｒ４２，Ｒ４３はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。ｍおよびｎは１を示す。）
【請求項２】
前記式（２）が下記式（２’）を満たし、前記式（３）が下記式（３’）を満たし、更に下記式（４）を満たす請求項１に記載の電子写真感光体。
式（２’） ｜Ｉｐ（ＯＣＬ）−Ｉｐ（ＣＴＬ）｜≦０．２（ｅＶ）
式（３’） μ（ＣＴＬ）≧２．５×１０−５［ｃｍ２／Ｖｓ］
式（４） ０．５≦μ（ＣＴＬ）／μ（ＯＣＬ）≦５
（式（２’）、式（３’）および式（４）において、Ｉｐ（ＣＴＬ）は前記第１の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＯＣＬ）は前記第２の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ（ＣＴＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける電荷輸送層のホール移動度を、μ（ＯＣＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける表面保護層のホール移動度を表す。）
【請求項３】
前記表面保護層が、フッ素系樹脂粒子を含む組成物の架橋物を含有する請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、以下に示す（一般式１）または（一般式２）を含む第１の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第２の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式（１）乃至式（３）を満たす電子写真感光体を備え、
且つ前記電子写真感光体を帯電する帯電装置、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置、前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置、および前記電子写真感光体の表面を清掃する清掃装置から選択される少なくとも１つを備えたプロセスカートリッジ。
式（１） ｜Ｉｐ（ＣＴＬ）−Ｉｐ（ＣＧＬ）｜≦０．１（ｅＶ）
式（２） ｜Ｉｐ（ＯＣＬ）−Ｉｐ（ＣＴＬ）｜≦０．３（ｅＶ）
式（３） μ（ＣＴＬ）≧１．８×１０−５［ｃｍ２／Ｖｓ］
（式（１）乃至式（３）において、Ｉｐ（ＣＧＬ）は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＣＴＬ）は前記第１の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＯＣＬ）は前記第２の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ（ＣＴＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。）
【化３】
0005672900.tif 000043
（上記（一般式１）中、Ｒ３１，Ｒ３２，Ｒ３３，Ｒ３４，Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。ｍおよびｎは１を示す。）
【化４】
0005672900.tif 000044
（上記（一般式２）中、Ｒ３７，Ｒ３８，Ｒ３９，Ｒ４０，Ｒ４１，Ｒ４２，Ｒ４３はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。ｍおよびｎは１を示す。）
【請求項５】
基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、以下に示す（一般式１）または（一般式２）を含む第１の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第２の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式（１）乃至式（３）を満たす電子写真感光体、
前記電子写真感光体を帯電する帯電装置、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置、
および前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置、
を備えた画像形成装置。  
式（１） ｜Ｉｐ（ＣＴＬ）−Ｉｐ（ＣＧＬ）｜≦０．１（ｅＶ）
式（２） ｜Ｉｐ（ＯＣＬ）−Ｉｐ（ＣＴＬ）｜≦０．３（ｅＶ）
式（３） μ（ＣＴＬ）≧１．８×１０−５［ｃｍ２／Ｖｓ］
（式（１）乃至式（３）において、Ｉｐ（ＣＧＬ）は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＣＴＬ）は前記第１の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＯＣＬ）は前記第２の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ（ＣＴＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。）
【化５】
0005672900.tif 000045
（上記（一般式１）中、Ｒ３１，Ｒ３２，Ｒ３３，Ｒ３４，Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。ｍおよびｎは１を示す。）
【化６】
0005672900.tif 000046
（上記（一般式２）中、Ｒ３７，Ｒ３８，Ｒ３９，Ｒ４０，Ｒ４１，Ｒ４２，Ｒ４３はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。ｍおよびｎは１を示す。）
【請求項６】
前記電子写真感光体の外周表面の移動速度が５００ｍｍ／ｓ以上である請求項５に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、定着手段を有する、いわゆるゼログラフィー方式の画像形成装置は、各部材、システムの技術進展により一層の高速化、高画質化、長寿命化が図られている。
【０００３】
電子写真感光体では、機械強度の高い樹脂が使用されており、さらに表面保護層に含フッ素樹脂粒子を含有させる方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、小粒径なトナーに対応した感光体が求められており、感光体の表面保護層に含フッ素樹脂粒子を含有させ、表面を低表面エネルギー化する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０４−３２４４５１号公報
【特許文献２】特開２００８−４６１９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、式（１）乃至式（３）の少なくとも１つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ経時における残留電位の上昇を抑制した電子写真感光体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、以下に示す（一般式１）または（一般式２）を含む第１の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第２の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式（１）乃至式（３）を満たす電子写真感光体である。
式（１） ｜Ｉｐ（ＣＴＬ）−Ｉｐ（ＣＧＬ）｜≦０．１（ｅＶ）
式（２） ｜Ｉｐ（ＯＣＬ）−Ｉｐ（ＣＴＬ）｜≦０．３（ｅＶ）
式（３） μ（ＣＴＬ）≧１．８×１０−５［ｃｍ２／Ｖｓ］
（式（１）乃至式（３）において、Ｉｐ（ＣＧＬ）は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＣＴＬ）は前記第１の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＯＣＬ）は前記第２の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ（ＣＴＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。）
【０００８】
請求項２に係る発明は、
前記式（２）が下記式（２’）を満たし、前記式（３）が下記式（３’）を満たし、更に下記式（４）を満たす請求項１に記載の電子写真感光体である。
式（２’）  ｜Ｉｐ（ＯＣＬ）−Ｉｐ（ＣＴＬ）｜≦０．２（ｅＶ）
式（３’）  μ（ＣＴＬ）≧２．５×１０−５［ｃｍ２／Ｖｓ］
式（４）    ０．５≦μ（ＣＴＬ）／μ（ＯＣＬ）≦５
（式（２’）、式（３’）および式（４）において、Ｉｐ（ＣＴＬ）は前記第１の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＯＣＬ）は前記第２の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ（ＣＴＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける電荷輸送層のホール移動度を、μ（ＯＣＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける表面保護層のホール移動度を表す。）
【００１０】
【化１】
0005672900.tif 000002
【００１１】
（上記（一般式１）中、Ｒ３１，Ｒ３２，Ｒ３３，Ｒ３４，Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。ｍおよびｎは１を示す。）  
【００１２】
【化２】
0005672900.tif 000003
【００１３】
（上記（一般式２）中、Ｒ３７，Ｒ３８，Ｒ３９，Ｒ４０，Ｒ４１，Ｒ４２，Ｒ４３はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。ｍおよびｎは１を示す。）
【００１４】
請求項３に係る発明は、
前記表面保護層が、フッ素系樹脂粒子を含む組成物の架橋物を含有する請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体である。
【００１５】
請求項４に係る発明は、
基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、上記に示す（一般式１）または（一般式２）を含む第１の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第２の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式（１）乃至式（３）を満たす電子写真感光体を備え、
且つ前記電子写真感光体を帯電する帯電装置、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置、前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置、および前記電子写真感光体の表面を清掃する清掃装置から選択される少なくとも１つを備えたプロセスカートリッジである。
式（１） ｜Ｉｐ（ＣＴＬ）−Ｉｐ（ＣＧＬ）｜≦０．１（ｅＶ）
式（２） ｜Ｉｐ（ＯＣＬ）−Ｉｐ（ＣＴＬ）｜≦０．３（ｅＶ）
式（３） μ（ＣＴＬ）≧１．８×１０−５［ｃｍ２／Ｖｓ］
（式（１）乃至式（３）において、Ｉｐ（ＣＧＬ）は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＣＴＬ）は前記第１の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＯＣＬ）は前記第２の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ（ＣＴＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。）
【００１６】
請求項５に係る発明は、
基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、上記に示す（一般式１）または（一般式２）を含む第１の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第２の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式（１）乃至式（３）を満たす電子写真感光体、
前記電子写真感光体を帯電する帯電装置、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置、
および前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置、
を備えた画像形成装置である。
式（１） ｜Ｉｐ（ＣＴＬ）−Ｉｐ（ＣＧＬ）｜≦０．１（ｅＶ）
式（２） ｜Ｉｐ（ＯＣＬ）−Ｉｐ（ＣＴＬ）｜≦０．３（ｅＶ）
式（３） μ（ＣＴＬ）≧１．８×１０−５［ｃｍ２／Ｖｓ］
（式（１）乃至式（３）において、Ｉｐ（ＣＧＬ）は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＣＴＬ）は前記第１の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＯＣＬ）は前記第２の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ（ＣＴＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。）
【００１７】
請求項６に係る発明は、
前記電子写真感光体の外周表面の移動速度が５００ｍｍ／ｓ以上である請求項５に記載の画像形成装置である。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１に係る発明によれば、式（１）乃至式（３）の少なくとも１つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ経時における残留電位の上昇を抑制した電子写真感光体が提供される。
請求項１に係る発明によれば、電荷輸送材料が上記（一般式１）または（一般式２）を満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ経時における残留電位の上昇を抑制した電子写真感光体が提供される。
【００１９】
請求項２に係る発明によれば、式（２’）、式（３’）および式（４）の少なくとも１つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ経時における残留電位の上昇を抑制した電子写真感光体が提供される。
【００２１】
請求項３に係る発明によれば、フッ素系樹脂粒子を含有する場合であっても、式（１）乃至式（３）の少なくとも１つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ経時における残留電位の上昇を抑制した電子写真感光体が提供される。
【００２２】
請求項４に係る発明によれば、式（１）乃至式（３）の少なくとも１つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ長期にわたって画質に優れた画像を形成し得るプロセスカートリッジが提供される。
【００２３】
請求項５に係る発明によれば、式（１）乃至式（３）の少なくとも１つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ長期にわたって画質に優れた画像を形成し得る電子写真感光体が提供される。
【００２４】
請求項６に係る発明によれば、外周表面の移動速度が５００ｍｍ／ｓ以上と高速であっても、式（１）乃至式（３）の少なくとも１つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ長期にわたって画質に優れた画像を形成し得る電子写真感光体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体の概略を示す断面図である。
【図２】本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図３】本実施形態に係る他の画像形成装置を示す概略構成図である。
【図４】本実施形態に係る他の画像形成装置を示す概略構成図である。
【図５】ゴーストの評価パターンと評価基準を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明の実施形態について、詳細に説明する。
【００２７】
＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る電子写真感光体（以下単に「感光体」と称すことがある）は、基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、第１の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第２の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式（１）乃至式（３）を満たすことを特徴とする。
式（１） ｜Ｉｐ（ＣＴＬ）−Ｉｐ（ＣＧＬ）｜≦０．１（ｅＶ）
式（２） ｜Ｉｐ（ＯＣＬ）−Ｉｐ（ＣＴＬ）｜≦０．３（ｅＶ）
式（３） μ（ＣＴＬ）≧１．８×１０−５［ｃｍ２／Ｖｓ］
（式（１）乃至式（３）において、Ｉｐ（ＣＧＬ）は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＣＴＬ）は前記第１の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＯＣＬ）は前記第２の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ（ＣＴＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。）
但し、本実施形態において、第１の電荷輸送材料としては（一般式１）または（一般式２）が採用される。
【００２８】
まず、画像形成装置において電子写真感光体が静電潜像を形成する過程を説明する。まず帯電装置により帯電された感光体は露光装置（潜像形成装置）により書き込み光を照射されると、光を吸収した電荷発生物質は電荷キャリアを発生し、この電荷キャリアが電荷輸送層に注入される。さらに帯電によって生じた電界により前記電荷キャリアは電荷輸送層内を移動し、さらに該電荷キャリアが表面保護層にも注入され、電界に従って表面保護層内を移送し、感光体の表面まで到達することで、電荷キャリアと帯電電荷とが中和して静電潜像が形成される。
この際、各層間（電荷発生層と電荷輸送層および電荷輸送層と表面保護層）の電荷の注入のしやすさに影響を及ぼすのがイオン化ポテンシャルであり、電荷発生材料と第１の電荷輸送材料とのイオン化ポテンシャルの差、および第１の電荷輸送材料と第２の電荷輸送材料とのイオン化ポテンシャルの差がそれぞれ適度な範囲に収まっていない、即ち前記式（１）および式（２）を満たさない場合、長期にわたって画像形成を繰り返すことにより各層の界面に電荷キャリアが蓄積されてゆくことがあり、その結果経時において残留電位の上昇が発生する。
また、電荷輸送層内を移動する電荷キャリアの移動速度が遅い、即ち式（３）を満たさない場合、電荷輸送層内でのキャリアの移動が遅くなり、高速応答性が劣る。
【００２９】
また、本実施形態においては、更に下記式（４）を満たすことが好ましい。
式（４）    ０．５≦μ（ＣＴＬ）／μ（ＯＣＬ）≦５
（式（４）において、μ（ＣＴＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける電荷輸送層のホール移動度を、μ（ＯＣＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける表面保護層のホール移動度を表す。）
【００３０】
電荷輸送層と表面保護層との電荷移動度の差が小さい、即ち式（４）を満たすことにより、長期にわたって画像形成を繰り返した場合であってもその界面における電荷キャリアの蓄積が抑制され、その結果経時における残留電位の上昇が抑制される。また、電荷輸送層および表面保護層内を移動する電荷キャリアの移動の比が小さい、即ち式（４）を満すことにより、層内での電荷キャリアの移動が速くなり、優れた高速応答性が得られる。
【００３１】
尚、前記式（２）および式（３）は、それぞれ更に下記式（２’）および式（３’）を満たすことがより好ましい。
式（２’）  ｜Ｉｐ（ＯＣＬ）−Ｉｐ（ＣＴＬ）｜≦０．２（ｅＶ）
式（３’）  μ（ＣＴＬ）≧２．５×１０−５［ｃｍ２／Ｖｓ］
（式（２’）および式（３’）において、Ｉｐ（ＣＴＬ）は前記第１の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ｉｐ（ＯＣＬ）は前記第２の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ（ＣＴＬ）は電界強度３０Ｖ／μｍにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。）
【００３２】
−イオン化ポテンシャルの測定−
イオン化ポテンシャルとは、材料の基底状態から電子一個を取り出すのに必要なエネルギー量を意味する。イオン化ポテンシャルの測定は、大気雰囲気中でサンプルにモノクロメーターで分光した紫外光を、エネルギーを変化させながら照射し、光電効果により光電子が放出され始めるエネルギーを求めることで行なわれる。尚、上記電荷発生材料、第１の電荷輸送材料および第２の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルの測定は、理研計器社製の大気中光電子分光装置ＡＣ−２を用いて測定した。
【００３３】
−ホール移動度の測定−
ホール移動度は、電荷キャリアの移動量について過渡光電流波形を測定し、その時の印加電圧と測定サンプルの厚さとから求められる。これはいわゆるＴｉｍｅ  ｏｆ  Ｆｌｉｇｈｔ法（ＴＯＦ法）として普通に知られている電荷キャリア移動度の測定方法である。上記電荷輸送層および表面保護層のホール移動度の測定は、上記ＴＯＦ法により行なわれ、且つ本明細書に記載の数値は電界強度が３０Ｖ／μｍの際の値を採用した。
【００３４】
−制御方法−
電荷発生材料と第１の電荷輸送材料とのイオン化ポテンシャルの差、および第１の電荷輸送材料と第２の電荷輸送材料とのイオン化ポテンシャルの差をそれぞれ適度な範囲に収まるよう制御する、即ち前記式（１）および式（２）（さらには式（２’））を満たすよう制御するには、電荷発生層に用いる電荷発生材料，電荷輸送層に用いる第１の電荷輸送材料および表面保護層に用いる第２の電荷輸送材料の種類をそれぞれ選択する方法が挙げられる。
また、電荷輸送層内を移動する電荷キャリアの移動速度を速く制御する、即ち前記式（３）（さらには式（３’））を満たすよう制御する方法、および電荷輸送層と表面保護層との電荷移動度の差を小さく制御する、即ち式（４）を満たすよう制御する方法としては、電荷発生層に用いる電荷発生材料，電荷輸送層に用いる第１の電荷輸送材料および表面保護層に用いる第２の電荷輸送材料の種類をそれぞれ選択する方法、並びにそれらの量を調整する方法が挙げられる。
尚、電荷発生材料，第１の電荷輸送材料および第２の電荷輸送材料の好ましい組み合わせについては後述する。
【００３５】
次いで、本実施形態に係る感光体の構成について説明する。
【００３６】
以下、本実施形態に係る感光体の構成について、図１を参照して説明するが、本実施形態は図１によって限定されることはない。
図１は、本実施形態に係る感光体の層構成の一例を示す模式断面図であり、図１中、１は基体、２は感光層、２Ａは電荷発生層、２Ｂは電荷輸送層、４は下引層、５は表面保護層を表す。図１に示す感光体は、基体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂ、表面保護層５がこの順に積層された層構成を有する。
【００３７】
・基体
基体１としては、導電性を有する基体が用いられ、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属または合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、および金属ベルト、または、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属または合金を塗布、蒸着またはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００３８】
図１に示す感光体がレーザープリンターに使用される場合であれば、基体１の表面は中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化することが望ましい。但し、非干渉光を光源に用いる場合には粗面化は特に行わなくてもよい。
【００３９】
粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、または回転する砥石に支持体を接触させ、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。
【００４０】
また、他の粗面化の方法としては、基体１表面を粗面化することなく、導電性または半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も望ましく用いられる。
【００４１】
ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であるため、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが望ましい。陽極酸化膜の膜厚については、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。
【００４２】
また、基体１には、酸性水溶液による処理またはベーマイト処理を施してもよい。
リン酸、クロム酸およびフッ酸を含む酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲が望ましい。処理温度は４２℃以上４８℃以下が望ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。
【００４３】
ベーマイト処理は、９０℃以上１００℃以下の純水中に５分間以上６０分間以下浸漬すること、または９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分間以上６０分間以下接触させることにより行われる。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が望ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の他種に比べ被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００４４】
・下引層
下引層４は、例えば、結着樹脂に無機粒子を含有した層として構成される。
無機粒子としては、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ω・ｃｍ以上１０１１Ω・ｃｍ以下のものが望ましく用いられる。
【００４５】
中でも上記抵抗値を有する無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子（導電性金属酸化物）を用いるのが望ましく、特に酸化亜鉛は望ましく用いられる。
【００４６】
また、無機粒子は表面処理を行ったものでもよく、表面処理の異なるもの、または、粒子径の異なるものなど２種以上混合して用いてもよい。無機粒子の体積平均粒径は５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（望ましくは６０以上１０００以下）の範囲であることが望ましい。
【００４７】
また、無機粒子としては、ＢＥＴ法による比表面積が１０ｍ２／ｇ以上のものが望ましく用いられる。
【００４８】
さらに無機粒子に加えて、アクセプター性化合物を含有させてもよい。アクセプター性化合物としてはいかなるものでも使用し得るが、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。さらに、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。
【００４９】
これらのアクセプター性化合物の含有量は任意に設定してもよいが、望ましくは無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下含有される。さらに０．０５質量％以上１０質量％以下が望ましい。
【００５０】
アクセプター化合物は、下引層４の塗布時に添加するだけでもよいし、無機粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。無機粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法、または、湿式法が挙げられる。
【００５１】
乾式法にて表面処理を施す場合には無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接または有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって処理される。添加または噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。添加または噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については任意の範囲で実施される。
【００５２】
湿式法としては、無機粒子を溶剤中で攪拌し、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、アクセプター化合物を添加し攪拌または分散したのち、溶剤除去することで処理される。溶剤除去方法はろ過または蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については任意の範囲で実施される。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分を除去してもよく、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。
【００５３】
また、無機粒子はアクセプター化合物を付与する前に表面処理を施してもよい。表面処理剤としては、公知の材料から選択される。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が望ましく用いられる。さらにアミノ基を有するシランカップリング剤も望ましく用いられる。
【００５４】
アミノ基を有するシランカップリング剤としてはいかなる物を用いてもよいが、具体例としてはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。
【００５５】
また、シランカップリング剤は２種以上混合して使用してもよい。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いてもよいシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。
【００５６】
表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用し得るが、乾式法または湿式法を用いることがよい。また、アクセプター付与とカップリング剤等による表面処理とを並行して行ってもよい。
【００５７】
下引層４中の無機粒子に対するシランカップリング剤の量は、任意に設定されるが、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が望ましい。
【００５８】
下引層４に含有される結着樹脂としては、公知のいかなるものでも使用し得るが、例えばポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等が用いられる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が望ましく用いられる。これらを２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００５９】
尚、下引層形成用塗布液中のアクセプター性を付与した金属酸化物とバインダー樹脂、または無機粒子とバインダー樹脂との比率は、任意に設定される。
【００６０】
下引層４中には種々の添加剤を用いてもよい。添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。
シランカップリング剤は金属酸化物の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いてもよい。ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。
ジルコニウムキレート化合物の例として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００６１】
チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００６２】
アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００６３】
これらの化合物は単独で若しくは複数の化合物の混合物または重縮合物として用いてもよい。
【００６４】
下引層形成用塗布液を調製するための溶媒としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から選択される。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が用いられる。
【００６５】
また、これらの分散に用いる溶剤は単独または２種以上混合して用いてもよい。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤として結着樹脂を溶かし得る溶剤であれば、いかなるものでも使用される。
【００６６】
分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法が用いられる。さらにこの下引層４を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００６７】
このようにして得られた下引層形成用塗布液を用い、基体１上に下引層４が成膜される。
また、下引層４は、ビッカース強度が３５以上とされていることが望ましい。
さらに、下引層４はいかなる厚さに設定してもよいが、厚さが１５μｍ以上が望ましく、さらに望ましくは１５μｍ以上５０μｍ以下とされていることが望ましい。
【００６８】
また、下引層４の表面粗さ（十点平均粗さ）は、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整することが望ましい。表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が用いられる。
【００６９】
また、表面粗さ調整のために下引層を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が用いられる。
【００７０】
塗布したものを乾燥させて下引層を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、製膜し得る温度で行われる。
【００７１】
・電荷発生層
電荷発生層２Ａは、少なくとも電荷発生材料および結着樹脂を含有する層であることが望ましい。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。これらの中でも、近赤外域のレーザー露光に対しては、金属および／または無金属フタロシアニン顔料が望ましく、特に、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報、特開平５−４３８２３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより望ましい。また、近紫外域のレーザー露光に対してはジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン等がより望ましい。電荷発生材料としては、３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が望ましく、７００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には、金属および無金属フタロシアニン顔料が望ましい。
【００７２】
電荷発生材料としては、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を用いることが望ましい。このヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、従来のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とは異なるものであり、分光吸収スペクトルの最大ピーク波長を従来のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料よりも短波長側にシフトさせたものである。
【００７３】
また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが望ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより望ましく、一方、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましく、５０ｍ２／ｇ以上であることがより望ましく、５５ｍ２／ｇ以上１２０ｍ２／ｇ以下であることが特に望ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所社製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ比表面積はＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
【００７４】
また、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが望ましく、１．０μｍ以下であることがより望ましく、更に望ましくは０．３μｍ以下である。
【００７５】
更に、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、比表面積値が４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましい。
【００７６】
また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°および２８．３°に回折ピークを有するものであることが望ましい。
【００７７】
また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、２５℃から４００℃まで昇温したときの熱重量減少率が２．０％以上４．０％以下であることが望ましく、２．５％以上３．８％以下であることがより望ましい。尚、熱重量減少率は熱天秤により測定される。
【００７８】
電荷発生層２Ａに使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが望ましい。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
【００７９】
電荷発生層２Ａは、例えば、上記電荷発生材料および結着樹脂を溶剤中に分散した塗布液を用いて形成される。
分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられる。
【００８０】
また、電荷発生材料および結着樹脂を溶剤中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法が用いられる。さらにこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、望ましくは０．３μｍ以下、さらに望ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【００８１】
また、電荷発生層２Ａを形成する際には、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００８２】
このようにして得られる電荷発生層２Ａの膜厚は、望ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、さらに望ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下である。
【００８３】
・電荷輸送層
電荷輸送層２Ｂは、少なくとも第１の電荷輸送材料と結着樹脂とを含有する層であるか、または高分子量の第１の電荷輸送材料を含有する層であることが望ましい。
第１の電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの第１の電荷輸送材料は１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。
【００８４】
第１の電荷輸送材料としては、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が望ましい。
【００８５】
【化３】
0005672900.tif 000004
【００８６】
（構造式（ａ−１）中、Ｒ８は、水素原子またはメチル基を示す。ｎは１または２を示す。Ａｒ６およびＡｒ７は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ９）＝Ｃ（Ｒ１０）（Ｒ１１）、または−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１２）（Ｒ１３）を示し、Ｒ９乃至Ｒ１３はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、または炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。）
【００８７】
【化４】
0005672900.tif 000005
【００８８】
（構造式（ａ−２）中、Ｒ１４およびＲ１４’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。Ｒ１５、Ｒ１５’、Ｒ１６、およびＲ１６’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ１７）＝Ｃ（Ｒ１８）（Ｒ１９）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ２０）（Ｒ２１）を示し、Ｒ１７乃至Ｒ２１は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍおよびｎは各々独立に０以上２以下の整数を示す。）
【００８９】
ここで、上記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および上記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１２）（Ｒ１３）」を有するトリアリールアミン誘導体、および「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ２０）（Ｒ２１）」を有するベンジジン誘導体が望ましい。
【００９０】
また、前記第１の電荷輸送材料としては、以下に示す（一般式１）または（一般式２）であることがより好ましい。
【００９１】
【化５】
0005672900.tif 000006
【００９２】
（上記（一般式１）中、Ｒ３１，Ｒ３２，Ｒ３３，Ｒ３４，Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。ｍおよびｎは１を示す。）
【００９３】
【化６】
0005672900.tif 000007
【００９４】
（上記（一般式２）中、Ｒ３７，Ｒ３８，Ｒ３９，Ｒ４０，Ｒ４１，Ｒ４２，Ｒ４３はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。ｍおよびｎは１を示す。）
【００９５】
尚、第１の電荷輸送材料としては、特に以下に示す化合物が好ましい。
【００９６】
【化７】
0005672900.tif 000008
【００９７】
電荷輸送層２Ｂに用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。また、上述のように、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材等の高分子電荷輸送材を用いてもよい。これらの結着樹脂は１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられる。第１の電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は質量比で１０：１から１：５までが望ましい。
【００９８】
結着樹脂としては、特に限定されないが、粘度平均分子量５００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂、および粘度平均分子量５００００以上８００００以下のポリアリレート樹脂の少なくとも１種が望ましい。
【００９９】
また、第１の電荷輸送材料として高分子電荷輸送材を用いてもよい。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は特に望ましい。高分子電荷輸送材はそれだけでも成膜し得るものであるが、後述する結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【０１００】
電荷輸送層２Ｂは、例えば、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独または２種以上混合して用いられる。また、上記各構成材料の分散方法としては、公知の方法が使用される。
【０１０１】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層２Ａの上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０１０２】
電荷輸送層２Ｂの膜厚は、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下である。
【０１０３】
なお、図１に示す感光体において電荷発生層および電荷輸送層には、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加してもよい。例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノンおよびそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。
また、少なくとも１種の電子受容性物質を含有させてもよい。使用し得る電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等が挙げられる。これらの中でも、フルオレノン系、キノン系やＣｌ−、ＣＮ−、ＮＯ２−等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【０１０４】
・表面保護層
図１に示す感光体において表面保護層５は、既述の通り、第２の電荷輸送材料を含有する。尚、以下の（Ａ）および（Ｂ）の成分を含有することがより好ましく、更に以下の（Ｃ）の成分を含有してもよい。
（Ａ）グアナミン構造を有する化合物（グアナミン化合物）またはメラミン構造を有する化合物（メラミン化合物）と、−ＯＨ，−ＯＣＨ３，−ＮＨ２，−ＳＨおよび−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも１つを有する電荷輸送性材料（以下単に「特定の電荷輸送性材料」と称す）を含有する化合物と、の架橋物
（Ｂ）フッ素系樹脂粒子
（Ｃ）その他の組成物
【０１０５】
尚、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種の化合物は、該化合物および特定の電荷輸送性材料を含む組成物における固形分濃度が０．１質量％以上１５質量％以下であることが望ましい。
【０１０６】
（Ａ）グアナミン構造またはメラミン構造を有する化合物と、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨおよび−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも１つを持つ前記電荷輸送性材料（特定の電荷輸送性材料）を含有する化合物
図１に示す感光体における表面保護層５は、グアナミン化合物またはメラミン化合物と、特定の電荷輸送性材料と、が架橋された架橋物を含有することが好ましい。尚、表面保護層５における電荷輸送性材料の含有量は８０質量％以上９９質量％以下であることが好ましい。
【０１０７】
まず、グアナミン構造を有する化合物（グアナミン化合物）について説明する。
グアナミン化合物は、グアナミン骨格（構造）を有する化合物であり、例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミンなどが挙げられる。
【０１０８】
グアナミン化合物としては、特に下記一般式（Ａ）で示される化合物およびその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ａ）で示される化合物は、一種単独で用いてもよいが、２種以上を併用してもよい。特に、一般式（Ａ）で示される化合物は、２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすることが好ましい。
【０１０９】
【化８】
0005672900.tif 000009
【０１１０】
一般式（Ａ）中、Ｒ１は、炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基、または炭素数４以上１０以下の置換若しくは未置換の脂環式炭化水素基を示す。Ｒ２乃至Ｒ５は、それぞれ独立に水素、−ＣＨ２−ＯＨ、または−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ６を示す。Ｒ６は、水素、または炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基を示す。
【０１１１】
一般式（Ａ）において、Ｒ１を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以下８以上であり、より望ましくは炭素数が１以上５以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。
【０１１２】
一般式（Ａ）中、Ｒ１を示すフェニル基は、炭素数６以上１０以下であるが、より望ましくは６以上８以下である。当該フェニル基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
【０１１３】
一般式（Ａ）中、Ｒ１を示す脂環式炭化水素基は、炭素数４以上１０以下であるが、より望ましくは５以上８以下である。当該脂環式炭化水素基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
【０１１４】
一般式（Ａ）中、Ｒ２乃至Ｒ５を示す「−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ６」において、Ｒ６を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以下８以上であり、より望ましくは炭素数が１以上６以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。望ましくは、メチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。
【０１１５】
一般式（Ａ）で示される化合物としては、特に望ましくは、Ｒ１が炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基を示し、Ｒ２乃至Ｒ５がそれぞれ独立に−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ６を示される化合物である。また、Ｒ６は、メチル基またはｎ−ブチル基から選ばれることが望ましい。
【０１１６】
一般式（Ａ）で示される化合物は、例えば、グアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページ参照）で合成される。
【０１１７】
以下、一般式（Ａ）で示される化合物の具体例を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。
【０１１８】
【化９】
0005672900.tif 000010
【０１１９】
【化１０】
0005672900.tif 000011
【０１２０】
【化１１】
0005672900.tif 000012
【０１２１】
【化１２】
0005672900.tif 000013
【０１２２】
一般式（Ａ）で示される化合物の市販品としては、例えば、”スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４８−５５、スーパーベッカミン（Ｒ）１３−５３５、スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４５−６０、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１２６”以上ＤＩＣ社製、”ニカラックＢＬ−６０、ニカラックＢＸ−４０００”以上日本カーバイド社製、などが挙げられる。
【０１２３】
また、一般式（Ａ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後または市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。
【０１２４】
次に、メラミン構造を有する化合物（メラミン化合物）について説明する。
メラミン化合物としては、メラミン骨格（構造）であり、特に下記一般式（Ｂ）で示される化合物およびその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）のごとく、一般式（Ｂ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ｂ）で示される化合物またはその多量体は、１種単独で用いてもよいが、２種以上を併用してもよい。また、前記一般式（Ａ）で示される化合物またはその多量体と併用してもよい。特に、一般式（Ｂ）で示される化合物は、２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすることが好ましい。
【０１２５】
【化１３】
0005672900.tif 000014
【０１２６】
一般式（Ｂ）中、Ｒ７乃至Ｒ１２はそれぞれ独立に、水素原子、−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１３を示し、Ｒ１３は炭素数１以上５以下の分岐してもよいアルキル基を示す。Ｒ１３としてはメチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。
【０１２７】
一般式（Ｂ）で示される化合物は、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページのメラミン樹脂のごとく合成される）で合成される。
【０１２８】
以下、一般式（Ｂ）で示される化合物の具体例を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。
【０１２９】
【化１４】
0005672900.tif 000015
【０１３０】
一般式（Ｂ）で示される化合物の市販品としては、例えば、スーパーメラミＮｏ．９０（日油社製）、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１３９−６０（ＤＩＣ社製）、ユーバン２０２０（三井化学）、スミテックスレジンＭ−３（住友化学工業）、ニカラックＭＷ−３０（日本カーバイド社製）、などが挙げられる。
【０１３１】
また、一般式（Ｂ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後または市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチルなどの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。
【０１３２】
次いで、特定の電荷輸送性材料について説明する。
特定の電荷輸送性材料としては、例えば、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、および−ＣＯＯＨから選択される置換基（以下単に「特定の反応性官能基」と称す場合がある）の少なくとも１つを持つものが好適に挙げられる。特に、特定の電荷輸送性材料としては、上記特定の反応性官能基を少なくとも２つ持つものが好適に挙げられ、さらには３つ持つものが好適に挙げられる。
【０１３３】
特定の電荷輸送性材料としては、下記一般式（Ｉ）で示される化合物であることが望ましい。
Ｆ−（（−Ｒ７−Ｘ）ｎ１（Ｒ８）ｎ３−Ｙ）ｎ２    （Ｉ）
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、ｎ１は０または１を示し、ｎ２は１以上４以下の整数を示し、ｎ３は０または１を示す。Ｘは酸素、ＮＨ、または硫黄原子を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、または−ＣＯＯＨ（即ち上記特定の反応性官能基）を示す。
【０１３４】
一般式（Ｉ）中、Ｆで示される正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基における正孔輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。
【０１３５】
そして、一般式（Ｉ）で示される化合物は、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物であることが望ましい。
【０１３６】
【化１５】
0005672900.tif 000016
【０１３７】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基または置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（−Ｒ７−Ｘ）ｎ１（Ｒ８）ｎ３−Ｙを示し、ｃはそれぞれ独立に０または１を示し、ｋは０または１を示し、Ｄの総数は１以上４以下である。また、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、ｎ１は０または１を示し、ｎ３は０または１を示し、Ｘは酸素、ＮＨ、または硫黄原子を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、または−ＣＯＯＨを示す。
【０１３８】
一般式（ＩＩ）中、Ｄを示す「−（−Ｒ７−Ｘ）ｎ１（Ｒ８）ｎ３−Ｙ」は、一般式（Ｉ）と同じであり、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基である。また、ｎ１として望ましくは、１である。また、Ｘとして望ましくは、酸素である。また、Ｙとして望ましくは水酸基である。
【０１３９】
なお、一般式（ＩＩ）におけるＤの総数は、一般式（Ｉ）におけるｎ２に相当し、望ましくは、２以上４以下であり、さらに望ましくは３以上４以下である。つまり、一般式（Ｉ）や一般式（ＩＩ）において、望ましくは一分子中に２以上４以下、さらに望ましくは３以上４以下の、上記特定の反応性官能基を有することが望ましい。
【０１４０】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、各Ａｒ１乃至Ａｒ４に連結され得る「−（Ｄ）ｃ」と共に示す。
【０１４１】
【化１６】
0005672900.tif 000017
【０１４２】
［式（１）乃至（７）中、Ｒ９は水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ１０乃至Ｒ１２はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換または未置換のアリーレン基を表し、Ｄおよびｃは一般式（ＩＩ）における「Ｄ」、「ｃ」と同じであり、ｓはそれぞれ０または１を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。］
【０１４３】
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記式（８）または（９）で表されるものが望ましい。
【０１４４】
【化１７】
0005672900.tif 000018
【０１４５】
［式（８）、（９）中、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。］
【０１４６】
また、式（７）中のＺ’としては、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれかで表されるものが望ましい。
【０１４７】
【化１８】
0005672900.tif 000019
【０１４８】
［式（１０）乃至（１７）中、Ｒ１５およびＲ１６はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑおよびｒはそれぞれ１以上１０以下の整数を表し、ｔはそれぞれ１以上３以下の整数を表す。］
【０１４９】
上記式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【０１５０】
【化１９】
0005672900.tif 000020
【０１５１】
また、一般式（ＩＩ）中、Ａｒ５は、ｋが０のときはＡｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示された上記（１）乃至（７）のアリール基であり、ｋが１のときはかかる上記（１）乃至（７）のアリール基から１つの水素原子を除いたアリーレン基であることが望ましい。
【０１５２】
一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、以下に示す化合物（Ｉ−１）乃至（Ｉ−３４）が挙げられる。なお、上記一般式（Ｉ）で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
【０１５３】
【化２０】
0005672900.tif 000021
【０１５４】
【化２１】
0005672900.tif 000022
【０１５５】
【化２２】
0005672900.tif 000023
【０１５６】
【化２３】
0005672900.tif 000024
【０１５７】
【化２４】
0005672900.tif 000025
【０１５８】
【化２５】
0005672900.tif 000026
【０１５９】
【化２６】
0005672900.tif 000027
【０１６０】
上記特定の電荷輸送性材料の前記組成物における固形分濃度は、８０質量％以上であることが望ましく、より望ましくは９０質量％以上である。なお、この固形分濃度の上限は、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種や、他の添加剤が有効に機能する限り限定されるものではい。
【０１６１】
また、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種の塗布液における固形分濃度は、０．１質量％以上１５質量％以下であることが望ましく、より望ましくは１質量％以上１０質量％以下である。
【０１６２】
表面保護層５中における特定の電荷輸送性材料の含有量は、前記組成物中における特定の電荷輸送性材料を調整することによって制御される。該固形分濃度は、０．１質量％以上１５質量％以下であることが望ましく、より望ましくは１質量％以上１０質量％以下である。
なお、表面保護層５中における、特定の電荷輸送性材料、または上記グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種の含有量は、前記組成物中におけるこれらの化合物の固形分濃度を調整することによって制御される。
【０１６３】
（Ｂ）フッ素系樹脂粒子
表面保護層５は、フッ素系樹脂粒子を含有してもよい。該フッ素系樹脂粒子としては、特に限定されるものではないが、４フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体の中から１種あるいは２種以上を選択するのが望ましいが、さらに望ましくは４フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂であり、特に望ましくは４フッ化エチレン樹脂である。
【０１６４】
フッ素系樹脂粒子の平均一次粒径は０．０５μｍ以上１μｍ以下が望ましく、更には０．１μｍ以上０．５μｍ以下が望ましい。
尚、上記フッ素系樹脂粒子の平均一次粒径は、レーザー回折式粒度分布測定装置ＬＡ−９２０（堀場製作所製）を用いて、フッ素系樹脂粒子が分散された分散液と同じ溶剤に希釈した測定液を屈折率１．３５で測定した値をいう。
【０１６５】
最外表面層である保護層５の固形分全量に対するフッ素系樹脂粒子の含有量は１質量％以上３０質量％以下が望ましく、２質量％以上２０質量％以下がさらに望ましい。
【０１６６】
また、表面保護層５には、さらにフッ化アルキル基含有共重合体を含有してもよい。
該フッ化アルキル基含有共重合体としては、特に限定されるものではないが、下記構造式（１）および構造式（２）で表される繰り返し単位を含むフッ素系グラフトポリマーであることが望ましく、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、等からなるマクロモノマーおよびパーフルオロアルキルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロアルキル（メタ）アクリレートを用いて例えばグラフト重合により合成される樹脂であることがより望ましい。ここで、（メタ）アクリレートはアクリレートまたはメタクリレートを示す。
【０１６７】
【化２７】
0005672900.tif 000028
【０１６８】
〔構造式（１）および構造式（２）において、ｌ、ｍおよびｎは１以上の正数を、ｐ、ｑ、ｒおよびｓは０または１以上の正数を、ｔは１以上７以下の正数を、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は水素原子またはアルキル基を、Ｘはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−または単結合を、Ｙはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−（ＣｚＨ２ｚ−１（ＯＨ））−または単結合を、ｚは１以上の正数を、Ｑは−Ｏ−または−ＮＨ−を表す。〕
【０１６９】
フッ化アルキル基含有共重合体の重量平均分子量は、１００００以上１０００００以下が望ましく、さらに望ましくは３００００以上１０００００以下である。
【０１７０】
フッ化アルキル基含有共重合体において、構造式（１）と構造式（２）との含有比即ちｌ：ｍは、１：９乃至９：１が望ましく、３：７乃至７：３がさらに望ましい。
【０１７１】
構造式（１）および構造式（２）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４としては、水素原子、メチル基が望ましく、これらの中でもメチル基がさらに望ましい。
【０１７２】
フッ化アルキル基含有共重合体は、構造式（３）で表される繰り返し単位をさらに含んでもよい。構造式（３）の含有量は、構造式（１）および構造式（２）の含有量の合計即ちｌ＋ｍとの比で、ｌ＋ｍ：ｚとして１０：０乃至７：３が望ましく、９：１乃至７：３がさらに望ましい。
【０１７３】
構造式（３）
【化２８】
0005672900.tif 000029
【０１７４】
〔構造式（３）において、Ｒ５およびＲ６は水素原子またはアルキル基を、ｚは１以上の正数を表す。〕
【０１７５】
尚、Ｒ５、Ｒ６としては、水素原子、メチル基、エチル基が望ましく、これらの中でもメチル基がさらに望ましい。
【０１７６】
最外表面層である保護層５におけるフッ化アルキル基含有共重合体の含有量は、フッ素系樹脂粒子の質量に対して１質量％以上１０質量％以下であることが望ましい。
【０１７７】
（Ｃ）その他の組成物
表面保護層５には、前述のグアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種と、特定の電荷輸送性材料と、が架橋された架橋物と共に、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの他の熱硬化性樹脂を混合して用いてもよい。また、スピロアセタール系グアナミン樹脂（例えば「ＣＴＵ−グアナミン」（味の素ファインテクノ（株）））など、一分子中の官能基のより多い化合物を当該架橋物中の材料に共重合させてもよい。
【０１７８】
また、表面保護層５には界面活性剤を添加してもよい。用いる界面活性剤としては、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造のうち少なくとも一種類以上の構造を含む界面活性剤が好適に挙げられる。
【０１７９】
フッ素原子を有する界面活性剤としては、様々なものが挙げられる。フッ素原子およびアクリル構造を有する界面活性剤として具体的は、ポリフローＫＬ６００（共栄社化学社製）、エフトップＥＦ−３５１、ＥＦ−３５２、ＥＦ−８０１、ＥＦ−８０２、ＥＦ−６０１（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。アクリル構造を有する界面活性剤とは、アクリルもしくはメタクリル化合物などのモノマーを重合もしくは共重合したものが主に挙げられる。
【０１８０】
また、フッ素原子を有する界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキル基を持つ界面活性剤が挙げられ、さらに具体的には、パーフルオロアルキルスルホン酸類（例えば、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸など）、パーフルオロアルキルカルボン酸類（例えば、パーフルオロブタンカルボン酸、パーフルオロオクタンカルボン酸など）、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルが好適に挙げられる。パーフルオロアルキルスルホン酸類、およびパーフルオロアルキルカルボン酸類は、その塩およびそのアミド変性体であってもよい。
【０１８１】
パーフルオロアルキルスルホン酸類の市販品としては、例えばメガファックＦ−１１４（大日本インキ化学工業株式会社製）、エフトップＥＦ−１０１、ＥＦ１０２、ＥＦ−１０３、ＥＦ−１０４、ＥＦ−１０５、ＥＦ−１１２、ＥＦ−１２１、ＥＦ−１２２Ａ、ＥＦ−１２２Ｂ、ＥＦ−１２２Ｃ、ＥＦ−１２３Ａ（以上、ＪＥＭＣＯ社製）、Ａ−Ｋ、５０１（以上、ネオス社製）などが挙げられる。
【０１８２】
パーフルオロアルキルカルボン酸類の市販品としては、例えばメガファックＦ−４１０（大日本インキ化学工業株式会社製）、エフトップＥＦ−２０１、ＥＦ−２０４（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。
【０１８３】
パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルの市販品としては、メガファックＦ−４９３、Ｆ−４９４（以上、大日本インキ化学工業株式会社製）エフトップＥＦ−１２３Ａ、ＥＦ−１２３Ｂ、ＥＦ−１２５Ｍ、ＥＦ−１３２、（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。
【０１８４】
アルキレンオキサイド構造を持つ界面活性剤としてはポリエチレングリコール、ポリエーテル消泡剤、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。ポリエチレングリコールとしては数平均分子量が２０００以下のものが好ましく、数平均分子量が２０００以下のポリエチレングリコールとしては、ポリエチレングリコール２０００（数平均分子量２０００）、ポリエチレングリコール６００（数平均分子量６００）、ポリエチレングリコール４００（数平均分子量４００）、ポリエチレングリコール２００（数平均分子量２００）等が挙げられる。
【０１８５】
また、ポリエーテル消泡剤としては、ＰＥ−Ｍ、ＰＥ−Ｌ（以上、和光純薬工業社製）、消泡剤Ｎｏ．１、消泡剤Ｎｏ．５（以上、花王社製）等が挙げられる。
【０１８６】
シリコーン構造を有する界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、ジフェニルシリコーンやそれらの誘導体のごとき一般的なシリコーンオイルが挙げられる。
【０１８７】
さらに、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造の両方を有する界面活性剤としてはアルキレンオキサイド構造、もしくはポリアルキレン構造を側鎖に有するものや、アルキレンオキサイドもしくはポリアルキレンオキサイド構造の末端がフッ素を含む置換基で置換されたものなどが挙げられる。アルキレンオキサイド構造を有する界面活性剤として、具体的には、例えば、メガファックＦ−４４３、Ｆ−４４４、Ｆ−４４５、Ｆ−４４６（以上、大日本インキ化学工業株式会社製）、ＰＯＬＹ  ＦＯＸ  ＰＦ６３６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ６５６（以上、北村化学社製）などが挙げられる。
【０１８８】
また、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造の両方を有する界面活性剤としてはＫＦ３５１（Ａ）、ＫＦ３５２（Ａ）、ＫＦ３５３（Ａ）、ＫＦ３５４（Ａ）、ＫＦ３５５（Ａ）、ＫＦ６１５（Ａ）、ＫＦ６１８、ＫＦ９４５（Ａ）、ＫＦ６００４（以上、信越化学工業社製）、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４６０（以上、ＧＥ東芝シリコン社製）、ＢＹＫ−３００、３０２、３０６、３０７、３１０、３１５、３２０、３２２、３２３、３２５、３３０、３３１、３３３、３３７、３４１、３４４、３４５、３４６、３４７、３４８、３７０、３７５、３７７，３７８、ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５７０等（以上、ビックケミー・ジャパン株式会社社製）が挙げられる。
【０１８９】
界面活性剤の含有量は、表面保護層５の固形分量に対して、望ましくは０．０１質量％以上１質量％以下、より望ましくは０．０２質量％以上０．５質量％以下である。
【０１９０】
また、表面保護層５には、さらに他のカップリング剤、フッ素化合物と混合して用いてよい。この化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。
【０１９１】
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が用いられる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−８２３９（以上、信越シリコーン社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が用いられる。
【０１９２】
また、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。
【０１９３】
また、表面保護層５にはアルコールに溶解する樹脂を加えてもよい。
ここで、アルコールに可溶な樹脂とは、炭素数５以下のアルコールに１質量％以上溶解する樹脂を意味する。アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋ等）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などが挙げられる。特に、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が望ましい。当該樹脂の重量平均分子量は２，０００以上１００，０００以下が望ましく、５，０００以上５０，０００以下がより望ましい。また、当該樹脂の添加量は１質量％以上４０質量％以下が望ましく、１質量％以上３０質量％以下がより望ましく、５質量％以上２０質量％以下がさらに望ましい。
【０１９４】
表面保護層５には、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系またはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。
【０１９５】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。
【０１９６】
また、ヒンダードフェノール系酸化防止剤の市販品としては、「イルガノックス１０７６」、「イルガノックス１０１０」、「イルガノックス１０９８」、「イルガノックス２４５」、「イルガノックス１３３０」、「イルガノックス３１１４」、「イルガノックス１０７６」、「３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシビフェニル」等が挙げられる。
【０１９７】
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」が挙げられ、チオエーテル系として「スミライザ−ＴＰＳ」、「スミライザーＴＰ−Ｄ」が挙げられ、ホスファイト系として「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ−８」、「マークＰＥＰ−２４Ｇ」、「マークＰＥＰ−３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ−１０」等が挙げられる。
【０１９８】
更に、表面保護層５には、各種粒子を添加してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカおよびシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、望ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性もしくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、またはエステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。保護層５中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、保護層５の固形分量を基準として、０．１質量％以上５０質量％以下、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。
【０１９９】
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より望ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。保護層５中のシリコーン粒子の含有量は、保護層５の固形分量を基準として、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上１０質量％以下である。
【０２００】
また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集  ｐ８９”に示される如く、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ２−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。また、同じ目的でシリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
【０２０１】
また、表面保護層５には、金属、金属酸化物およびカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀およびステンレス等、またはこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズおよびアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層の透明性の点で０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が望ましい。
【０２０２】
表面保護層５には、グアナミン化合物およびメラミン化合物や前記特定の電荷輸送材料の硬化を促進するための硬化触媒を含有させてもよい。硬化触媒として酸系の触媒が望ましく用いられる。酸系の触媒としては、酢酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸などの脂肪族カルボン酸、安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸などの芳香族カルボン酸、メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、などの脂肪族、および芳香族スルホン酸類などが用いられるが、含硫黄系材料を用いることが望ましい。
【０２０３】
硬化触媒としての含硫黄系材料は、常温（例えば２５℃）、または加熱後に酸性を示すものが望ましく、有機スルホン酸およびその誘導体の少なくとも１種が最も望ましい。表面保護層５中にこれら触媒の存在は、エネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＳ）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）等により容易に確認される。
【０２０４】
有機スルホン酸および／またはその誘導体としては、例えば、パラトルエンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸（ＤＮＮＳＡ）、ジノニルナフタレンジスルホン酸（ＤＮＮＤＳＡ）、ドデシルベンゼンスルホン酸、フェノールスルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸が望ましい。また、硬化性樹脂組成物中で、解離し得るものであれば、有機スルホン酸塩を用いてもよい。
【０２０５】
また、熱をかけた際に触媒能力が高くなる、所謂熱潜在性触媒を用いてもよい。
熱潜在性触媒として、たとえば有機スルホン化合物等をポリマーで粒子状に包んだマイクロカプセル、ゼオライトの如く空孔化合物に酸等を吸着させたもの、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体を塩基でブロックした熱潜在性プロトン酸触媒や、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体を一級もしくは二級のアルコールでエステル化したもの、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体をビニルエーテル類および／またはビニルチオエーテル類でブロックしたもの、三フッ化ホウ素のモノエチルアミン錯体、三フッ化ホウ素のピリジン錯体などが挙げられる。
【０２０６】
中でも、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体を塩基でブロックしたものが望ましい。
熱潜在性プロトン酸触媒のプロトン酸として、硫酸、塩酸、酢酸、ギ酸、硝酸、リン酸、スルホン酸、モノカルボン酸、ポリカルボン酸類、プロピオン酸、シュウ酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フタル酸、マレイン酸、ベンゼンスルホン酸、ｏ、ｍ、ｐ−トルエンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ウンデシルベンゼンスルホン酸、トリデシルベンゼンスルホン酸、テトラデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等が挙げられる。また、プロトン酸誘導体として、スルホン酸、リン酸等のプロトン酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属円などの中和物、プロトン酸骨格が高分子鎖中に導入された高分子化合物（ポリビニルスルホン酸等）等が挙げられる。プロトン酸をブロックする塩基として、アミン類が挙げられる。
【０２０７】
アミン類は、１級、２級または３級アミンに分類される。特に制限はなく、いずれも使用してもよい。
【０２０８】
１級アミンとして、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、セカンダリーブチルアミン、アリルアミン、メチルヘキシルアミン等が挙げられる。
【０２０９】
２級アミンとして、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジｔ−ブチルアミン、ジヘキシルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ−イソプロピルＮ−イソブチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、ジセカンダリーブチルアミン、ジアリルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、２，４−ルペチジン、２，６−ルペチジン、３，５−ルペチジン、モルホリン、Ｎ−メチルベンジルアミン等が挙げられる。
【０２１０】
３級アミンとして、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリｎ−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリｔ−ブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリ（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ−メチルジアリルアミン、トリアリルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ーテトラメチルー１，２ージアミノエタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ーテトラメチルー１，３ージアミノプロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ーテトラアリルー１，４ージアミノブタン、Ｎーメチルピペリジン、ピリジン、４ーエチルピリジン、Ｎープロピルジアリルアミン、３−ジメチルアミノプロパノ−ル、２−エチルピラジン、２，３−ジメチルピラジン、２，５−ジメチルピラジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、２，４，６−コリジン、２−メチル−４−エチルピリジン、２−メチル−５−エチルピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ −テトラメチルヘキサメチレンジアミン、Ｎ−エチル−３−ヒドロキシピペリジン、３−メチル−４−エチルピリジン、３−エチル−４−メチルピリジン、４−（５−ノニル）ピリジン、イミダゾ−ル、Ｎ−メチルピペラジン等が挙げられる。
【０２１１】
市販品としては、キングインダストリーズ社製の「ＮＡＣＵＲＥ２５０１」（トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．２以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２１０７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５００」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５３０」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ５．７以上ｐＨ６．５以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５４７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度１０７℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５５８」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、エチレングリコール溶媒、ｐＨ３．５以上ｐＨ４．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３５７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール溶媒、ｐＨ２．０以上ｐＨ４．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８６」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ６．１以上ｐＨ６．４以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＣ−２２１１」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、ｐＨ７．２以上ｐＨ８．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５２２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５４１４」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５５２８」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５９２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ７．５以下、解離温度１３０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１３２３」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１４１９」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン／メチルイソブチルケトン溶媒、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１５５７」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、ブタノール／２−ブトキシエタノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸ４９−１１０」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３５２５」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．５以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８３」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３３２７」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ４１６７」（リン酸解離、イソプロパノール／イソブタノール溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．３以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−２９７」（リン酸解離、水／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃、「ＮＡＣＵＲＥ４５７５」（リン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１１０℃）等が挙げられる。
これらの熱潜在性触媒は単独または二種類以上組み合わせても使用される。
【０２１２】
ここで、触媒の配合量は、上記グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種の量（塗布液における固形分濃度）に対し、０．１質量％以上５０質量％以下の範囲であることが望ましく、特に１０質量％以上３０質量％以下が望ましい。
【０２１３】
（表面保護層の形成方法）
以上の構成の表面保護層５は、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種と特定の電荷輸送性材料とを少なくとも含む表面保護層用塗布液を用いて形成される。この表面保護層用塗布液は、必要に応じて、表面保護層５の任意の構成成分が添加される。
【０２１４】
表面保護層５の形成は、無溶媒で行うか、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の溶剤を用いて行ってもよい。かかる溶剤は１種を単独で又は２種以上を混合して使用されるが、望ましくは沸点が１００℃以下のものである。溶剤としては、特に、少なくとも１種以上の水酸基を持つ溶剤（例えば、アルコール類等）を用いることがよい。
【０２１５】
溶媒量は任意に設定されるが、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種の１質量部に対し、０．５質量部以上３０質量部以下、望ましくは１質量部以上２０質量部以下で使用される。
【０２１６】
また、上記成分を反応させて塗布液を得るときには、単純に混合、溶解させるだけでもよいが、室温（例えば２５℃）以上１００℃以下、望ましくは３０℃以上８０℃以下で１０分以上１００時間以下、望ましくは１時間以上５０時間以下加温してもよい。また、この際に超音波を照射することも望ましい。
【０２１７】
そして、表面保護層用塗布液を電荷輸送層２Ｂの上に、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法により塗布し、必要に応じて例えば温度１００℃以上１７０℃以下で加熱することで、硬化させることで、表面保護層５が得られる。
【０２１８】
表面保護層５の膜厚は、望ましくは１μｍ以上１５μｍ以下、より望ましくは３μｍ以上１０μｍ以下である。
【０２１９】
＜プロセスカートリッジおよび画像形成装置＞
次に、本実施形態の電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジおよび画像形成装置について説明する。
本実施形態のプロセスカートリッジは、本実施形態の電子写真感光体を用いたものであれば特に限定されないが、具体的には、潜像保持体の表面の静電潜像を現像して得られたトナー像を記録媒体に転写して、該記録媒体上に画像を形成する画像形成装置に対して着脱自在であり、前記潜像保持体としての前述の本実施形態に係る電子写真感光体と、帯電装置、現像装置およびクリーニング装置から選択された少なくとも１つと、を備えた構成であることが望ましい。
【０２２０】
また、本実施形態の画像形成装置は、本実施形態の電子写真感光体を用いたものであれば特に限定されないが、具体的には、本実施形態に係る電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電する帯電装置と、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置と、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置と、を備えた構成であることが望ましい。なお、本実施形態の画像形成装置は、各色のトナーに対応した感光体を複数有するいわゆるタンデム機であってもよく、この場合、全ての感光体が本実施形態の電子写真感光体であることが望ましい。また、トナー像の転写は、中間転写体を利用した中間転写方式であってもよい。
【０２２１】
図２は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。画像形成装置１００は、図２に示すように。電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９と、転写装置４０と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。
【０２２２】
図２におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８、現像装置１１およびクリーニング装置１３を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材）を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。
【０２２３】
また、潤滑材１４を感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、クリーニングをアシストする繊維状部材１３３（平ブラシ状）を用いた例を示してあるが、これらは使用しても、使用しなくてもよい。
【０２２４】
帯電装置８としては、例えば、導電性または半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、接触型の帯電器には限られず、図３に示す画像形成装置１１０のごとく、コロナ放電を利用した非接触型帯電器１８（スコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等）や、非接触方式のローラ帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０２２５】
なお、図示しないが、電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。
【０２２６】
露光装置９としては、例えば、感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下近傍に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。
【０２２７】
現像装置１１としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤または二成分系現像剤等を接触または非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤または二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。
【０２２８】
以下、現像装置１１に使用されるトナーについて説明する。
本実施形態の画像形成装置に用いられるトナーは、平均形状係数（（ＭＬ２／Ａ）×（π／４）×１００、ここでＭＬは粒子の最大長を表し、Ａは粒子の投影面積を表す）が１００以上１５０以下であることが望ましく、１０５以上１４５以下であることがより望ましく、１１０以上１４０以下であることがさらに望ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が３μｍ以上１２μｍ以下であることが望ましく、３．５μｍ以上９μｍ以下であることがさらに望ましい。
【０２２９】
トナーは、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤および離型剤、やその他更に帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。
【０２３０】
また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法が使用される。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。
【０２３１】
トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤および離型剤を含有することが望ましく、更にシリカや帯電制御剤を含有してもよい。
【０２３２】
トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体および共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。
【０２３３】
特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等が挙げられる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等が挙げられる。
【０２３４】
また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして例示される。
【０２３５】
離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示される。
【０２３６】
また、帯電制御剤としては、公知のものが使用されるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤が用いられる。湿式製法でトナーを製造する場合、水に溶解しにくい素材を使用することが望ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナーおよび磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。
【０２３７】
現像装置１１に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子および上記外添剤をヘンシェルミキサーまたはＶブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。
【０２３８】
現像装置１１に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪族アミド類やカルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス、ミツロウの動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の鉱物、石油系ワックス、およびそれらの変性物が使用される。これらは、１種を単独で、または２種以上を併用して使用される。但し、平均粒径としては０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲が望ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は望ましくは０．０５質量％以上２．０質量％以下、より望ましくは０．１質量％以上１．５質量％以下の範囲である。
【０２３９】
現像装置１１に用いるトナーには、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えてもよい。
【０２４０】
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。
【０２４１】
また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも望ましく使用される。
【０２４２】
有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等が挙げられる。
【０２４３】
粒子径としては、個数平均粒子径で望ましくは５ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、より望ましくは５ｎｍ以上８００ｎｍ以下、さらに望ましくは５ｎｍ以上７００ｎｍ以下でのものが使用される。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が０．６質量％以上であることが望ましい。
【０２４４】
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機酸化物を用い、更にそれより大径の無機酸化物を添加することが望ましい。これらの無機酸化物粒子は公知のものが使用されるが、シリカと酸化チタンを併用することが望ましい。
【０２４５】
また、小径無機粒子については表面処理してもよい。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも望ましい。
【０２４６】
また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉またはそれ等の表面に樹脂を被覆したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、必要に応じて設定される。
【０２４７】
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０２４８】
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものが用いられる。
【０２４９】
画像形成装置１００は、上述した各装置の他に、例えば、感光体７に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。
【０２５０】
図４は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略断面図である。画像形成装置１２０は、図４に示すように、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０２５１】
また、本実施形態に係る画像形成装置（プロセスカートリッジ）において、現像装置は、電子写真感光体の移動方向（回転方向）に対して逆方向に移動（回転）する現像剤保持体である現像ローラを有してもよい。ここで、現像ローラは表面に現像剤を保持する円筒状の現像スリーブを有しており、また、現像装置はこの現像スリーブに供給する現像剤の量を規制する規制部材を有する構成のものが挙げられる。現像装置の現像ローラを電子写真感光体の回転方向に対して逆方向に移動（回転）させることで、現像ローラと電子写真感光体との間に留まるトナーで電子写真感光体表面が摺擦される。
【０２５２】
また、本実施形態の画像形成装置においては、現像スリーブと感光体との間隔を２００μｍ以上６００μｍ以下とすることが望ましく、３００μｍ以上５００μｍ以下とすることがより望ましい。また、現像スリーブと上述の現像剤量を規制する規制部材である規制ブレードとの間隔を３００μｍ以上１０００μｍ以下とすることが望ましく、４００μｍ以上７５０μｍ以下とすることがより望ましい。
【０２５３】
更に、現像ロール表面の移動速度の絶対値を、感光体表面の移動速度の絶対値（プロセススピード）の１．５倍以上２．５倍以下とすることが望ましく、１．７倍以上２．０倍以下とすることがより望ましい。
【０２５４】
また、本実施形態に係る画像形成装置（プロセスカートリッジ）において、現像装置（現像手段）は、磁性体を有する現像剤保持体を備え、磁性キャリアおよびトナーを含む２成分系現像剤で静電潜像を現像するものであることが望ましい。
【０２５５】
尚、本実施形態に係る画像形成装置においては、そのプロセススピード、即ち電子写真感光体の外周表面の移動速度が５００ｍｍ／ｓ以上の高速度であることが好ましい。
【実施例】
【０２５６】
以下、実施例および比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。尚、以下において「部」は、特に断りのない限り質量基準である。
【０２５７】
＜下地感光体の作製＞
［下地感光体Ａ］
・下引層
酸化亜鉛（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ６０３：信越化学社製）１．２５部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤にて酸化亜鉛に表面処理を施した。
前記表面処理を施した酸化亜鉛１００部を５００部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン１部を５０部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛顔料を得た。
このアリザリン付与酸化亜鉛顔料６０部と硬化剤ブロック化イソシアネート（スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５部とブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１５部をメチルエチルケトン８５部に溶解した溶液３８部と、メチルエチルケトン２５部と、を混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４０部を添加し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い下引層用塗布液を得た。この下引層用塗布液を浸漬塗布法にて直径８４ｍｍ、長さ３４７ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に浸漬塗布し、厚さ２１μｍの下引層を得た。
【０２５８】
・電荷発生層
次いで、電荷発生物質としてＸ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニン結晶１部を、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）１部とともに酢酸ブチル１００部に加え、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散させて、電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を前記下引層表面に浸漬塗布し、１００℃にて１０分間加熱乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０２５９】
・電荷輸送層
下記式で示される電荷輸送材料１（第１の電荷輸送材料）２部、下記構造式１で示される高分子化合物（粘度平均分子量：３９，０００）３部を、テトラヒドロフラン１０部およびトルエン５部に溶解して電荷輸送層用塗布液を得た。この電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層表面に浸漬塗布し、１３５℃にて３５分加熱乾燥して、膜厚２２μｍの電荷輸送層を形成し、この感光体を下地感光体Ａとした。
【０２６０】
【化２９】
0005672900.tif 000030
【０２６１】
［下地感光体Ｂ］
下地感光体Ａの電荷輸送層の形成において、電荷輸送材料Ａ１（第１の電荷輸送材料）２部の代わりに、下記に示される電荷輸送材料Ａ２（第１の電荷輸送材料）２部および電荷輸送材料Ｂ１：２部を使用した以外は、下地感光体Ａに記載の方法により感光体を得、この感光体を下地感光体Ｂとした。
【０２６２】
【化３０】
0005672900.tif 000031
【０２６３】
［下地感光体Ｃ］
下地感光体Ａの電荷輸送層の形成において、電荷輸送材料Ａ１（第１の電荷輸送材料）２部の代わりに、前述の電荷輸送材料Ａ２（第１の電荷輸送材料）１部および電荷輸送材料Ｂ１：３部を使用した以外は、下地感光体Ａに記載の方法により感光体を得、この感光体を下地感光体Ｃとした。
【０２６４】
［下地感光体Ｄ］
下地感光体Ａの電荷輸送層の形成において、電荷輸送材料Ａ１（第１の電荷輸送材料）の代わりに、下記に示される電荷輸送材料Ｂ２を使用した以外は、下地感光体Ａに記載の方法により感光体を得、この感光体を下地感光体Ｄとした。
【０２６５】
【化３１】
0005672900.tif 000032
【０２６６】
［下地感光体Ｅ］
下地感光体Ａの電荷輸送層の形成において、電荷輸送材料Ａ１（第１の電荷輸送材料）の代わりに、前述の電荷輸送材料Ｂ１を使用した以外は、下地感光体Ａに記載の方法により感光体を得、この感光体を下地感光体Ｅとした。
【０２６７】
［下地感光体Ｆ］
下地感光体Ａの電荷輸送層の形成において、電荷輸送材料Ａ１（第１の電荷輸送材料）の代わりに、下記に示される電荷輸送材料Ｂ３を使用した以外は、下地感光体Ａに記載の方法により感光体を得、この感光体を下地感光体Ｆとした。
【０２６８】
【化３２】
0005672900.tif 000033
【０２６９】
〔実施例１〕
［感光体１］
下記式で示される電荷輸送材料Ｃ１（第２の電荷輸送材料）：９４部、およびベンゾグアナミン樹脂（ニカラックＢＬ−６０、三和ケミカル社製）５部をシクロペンタノン２４０部に加えて、十分に溶解混合した後、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学社製）を０．９部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）を０．１部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Ａの上に塗布し１５５℃で４０分乾燥し、膜厚６μｍの表面保護層を形成し、この感光体を感光体１とした。
【０２７０】
【化３３】
0005672900.tif 000034
【０２７１】
〔実施例２〕
［感光体２］
４フッ化エチレン樹脂粒子としてルブロンＬ−２（ダイキン工業社製）４部、および下記構造式２で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体（重量平均分子量５０，０００、ｌ：ｍ＝１：１、ｓ＝１、ｎ＝６０）０．２部を、シクロペンタノン１６部に十分に攪拌混合して、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。
【０２７２】
【化３４】
0005672900.tif 000035
【０２７３】
次に、前述の電荷輸送材料Ｃ１（第２の電荷輸送材料）：９４部、ベンゾグアナミン樹脂１部をシクロペンタノン２２０部に加えて、十分に溶解混合した後、前記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて攪拌混合し、微細な流路をもつ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興業製、ＹＳＮＭ−１５００ＡＲ）を用いて７００ｋｇf／ｃｍ２まで昇圧しての分散処理を３０回繰返した。その後、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学社製）を０．９部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）を０．１部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Ａの上に塗布し１５５℃で４０分乾燥し、膜厚６μｍの表面保護層を形成し、この感光体を感光体２とした。
【０２７４】
〔実施例３〕
［感光体３］
前述の電荷輸送材料Ｃ１（第２の電荷輸送材料）：９２部、およびメチル化メラミン樹脂（Ｂ−２：ニカラックＭＷ−３０ＨＭ、三和ケミカル社製）７部をシクロペンタノン２４０部に加えて、十分に溶解混合した後、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学社製）を０．９部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）を０．１部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Ｂの上に塗布し１５５℃で４０分乾燥し、膜厚６μｍの表面保護層を形成し、この感光体を感光体３とした。
【０２７５】
〔実施例４〕
［感光体４］
前記感光体１の表面保護層の形成において、電荷輸送材料Ｃ１（第２の電荷輸送材料）の量を７５部に、ベンゾグアナミン樹脂（ニカラックＢＬ−６０、三和ケミカル社製）の量を２４部に、変更した以外は感光体１に記載の方法により感光体を得、これを感光体４とした。
【０２７６】
〔実施例５〕
［感光体５］
前述の電荷輸送材料Ｃ１（第２の電荷輸送材料）：９７部、およびベンゾグアナミン樹脂（ニカラックＢＬ−６０、三和ケミカル社製）２部をシクロペンタノン２４０部に加えて、十分に溶解混合した後、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学社製）を０．９部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）を０．１部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Ｂの上に塗布し１５５℃で４０分乾燥し、膜厚６μｍの表面保護層を形成し、この感光体を感光体５とした。
【０２７７】
〔実施例６〕
［感光体６］
前述の電荷輸送材料Ｃ１（第２の電荷輸送材料）：８５部、およびメチル化メラミン樹脂（Ｂ−２：ニカラックＭＷ−３０ＨＭ）１４部をシクロペンタノン２４０部に加えて、十分に溶解混合した後、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学社製）を０．９部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）を０．１部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Ｂの上に塗布し１５５℃で４０分乾燥し、膜厚６μｍの表面保護層を形成し、この感光体を感光体６とした。
【０２７８】
〔実施例７〕
［感光体７］
下記に示される電荷輸送材料Ｃ２（第２の電荷輸送材料）：９４部、ベンゾグアナミン樹脂（ニカラックＢＬ−６０、三和ケミカル社製）５部をシクロペンタノン２４０部に加えて、十分に溶解混合した後、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学社製）を０．９部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）を０．１部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Ｂの上に塗布し１５５℃で４０分乾燥し、膜厚６μｍの表面保護層を形成し、この感光体を感光体７とした。
【０２７９】
【化３５】
0005672900.tif 000036
【０２８０】
〔実施例８〕
［感光体８］
前述の電荷輸送材料Ｃ２（第２の電荷輸送材料）：９８部、ベンゾグアナミン樹脂（ニカラックＢＬ−６０、三和ケミカル社製）１部をシクロペンタノン２４０部に加えて、十分に溶解混合した後、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学社製）を０．９部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）を０．１部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Ｃの上に塗布し１５５℃で４０分乾燥し、膜厚６μｍの表面保護層を形成し、この感光体を感光体８とした。
【０２８１】
〔実施例９〕
［感光体９］
前記感光体２の表面保護層用塗布液の調製において、ベンゾグアナミン樹脂の代わりにメチル化メラミン樹脂を用いた。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Ｂの上に塗布し１５５℃で４０分乾燥し、膜厚６μｍの表面保護層を形成し、この感光体を感光体９とした。
【０２８２】
〔比較例１〕
［感光体１０］
前記感光体１において、下地感光体Ａの代わりに下地感光体Ｄを用いたこと以外は、感光体１に記載の方法により感光体を得、これを感光体１０とした。
【０２８３】
〔比較例２〕
［感光体１１］
前記感光体１において、下地感光体Ａの代わりに下地感光体Ｅを用いたこと以外は、感光体１に記載の方法により感光体を得、これを感光体１１とした。
【０２８４】
〔比較例３〕
［感光体１２］
前記感光体１において、下地感光体Ａの代わりに下地感光体Ｆを用いたこと以外は、感光体１に記載の方法により感光体を得、これを感光体１２とした。
【０２８５】
〔比較例４〕
［感光体１３］
前記感光体７において、下地感光体Ｂの代わりに下地感光体Ｆを用いたこと以外は、感光体７に記載の方法により感光体を得、これを感光体１３とした。
【０２８６】
〔比較例５〕
［感光体１４］
４フッ化エチレン樹脂粒子としてルブロンＬ−２（ダイキン工業製）４部、および前述の構造式２で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体（重量平均分子量５０，０００、ｌ：ｍ＝１：１、ｓ＝１、ｎ＝６０）０．２部を、シクロペンタノン１６部に十分に攪拌混合して、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。
次に、前述の電荷輸送材料Ｃ１（第２の電荷輸送材料）：７０部、ベンゾグアナミン樹脂２５部をシクロペンタノン２２０部に加えて、十分に溶解混合した後、前記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて攪拌混合し、微細な流路をもつ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興業製、ＹＳＮＭ−１５００ＡＲ）を用いて７００ｋｇf／ｃｍ２まで昇圧しての分散処理を３０回繰返した。その後、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学社製）を０．９部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）を０．１部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Ａの上に塗布し１５５℃で４０分乾燥し、膜厚６μｍの表面保護層を形成し、この感光体を感光体１４とした。
【０２８７】
〔比較例６〕
［下地感光体Ｇ］
電荷発生層までは前述の下地感光体Ａに記載の方法により作製した。
次に下記に示される電荷輸送材料Ｂ４（第１の電荷輸送材料）７部、ポリカーボネート樹脂（パンライトＴＳ−２０５０、帝人化成社製）１０部を、テトラヒドロフラン７９部および１％シリコーンオイル（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業社製）テトラヒドロフラン溶液１部に溶解して電荷輸送層用塗布液を得た。この電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層表面に浸漬塗布し、１２０℃にて３０分加熱乾燥して、膜厚２２μｍの電荷輸送層を形成し、この感光体を下地感光体Ｇとした。
【０２８８】
【化３６】
0005672900.tif 000037
【０２８９】
［感光体１５］
次に下記で示される電荷輸送材料Ｃ３（第２の電荷輸送材料）：３部、およびメラミン樹脂（スーパーベッカミン  Ｌ−１４５−６０、大日本インキ化学工業社製）１２部、熱硬化性界面活性剤（疎水性樹脂ＺＸ−００７Ｃ、富士化成工業社製）２部をテトラヒドロフラン１９０部、シクロヘキサノン５３部に加えて、十分に溶解混合し、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液をスプレー塗布法で、前述の下地感光体Ｇの上に塗布し１７０℃で３０分乾燥し、膜厚３μｍの表面保護層を形成し、この感光体を感光体１５とした。
【０２９０】
【化３７】
0005672900.tif 000038
【０２９１】
＜物性値の測定＞
電荷発生材料のイオン化ポテンシャル（Ｉｐ（ＣＧＬ））、第１の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャル（Ｉｐ（ＣＴＬ））、第２の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャル（Ｉｐ（ＯＣＬ））、電荷輸送層のホール移動度（電界強度３０Ｖ／μｍ）（μ（ＣＴＬ））、表面保護層のホール移動度（電界強度３０Ｖ／μｍ）（μ（ＯＣＬ））を前述の方法により測定し、｜Ｉｐ（ＣＴＬ）−Ｉｐ（ＣＧＬ）｜、｜Ｉｐ（ＯＣＬ）−Ｉｐ（ＣＴＬ）｜、μ（ＣＴＬ）／μ（ＯＣＬ）の値を算出した。結果を表１に示す。
【０２９２】
【表１】
0005672900.tif 000039
【０２９３】
＜評価試験＞
−画像形成テスト−
前記感光体１乃至１１を用いて画像形成テストを行った。実験機は富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＣｏｌｏｒｅ  ８０００ＡＰ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｐｒｅｓｓをプリントスピード８０枚／分（電子写真感光体の外周表面の移動速度が４４０ｍｍ／ｓ）および１２０枚／分（電子写真感光体の外周表面の移動速度が６６０ｍｍ／ｓ）で出力し得るように改造したものを用いた。
テストは、まず多色カラーにて２２℃，５５％ＲＨ環境下で初期の画質（下記［１］および［２］に示すゴースト評価／ハーフトーン）の評価を行った。その後、画像密度５％のＡ４用紙サイズの画像を１０万枚形成（ランニング）し、更にランニングした後（ラン後）の画質（下記［１］および［２］に示すゴースト評価／ハーフトーン）の評価、下記［３］感光体残留電位の評価、及び下記［４］１０００回転あたりの摩耗量（ｎｍ）の評価を実施した。
尚、ランニングはプリントスピード８０枚／分で実施し、初期画質の評価およびランニング後画質の評価の際には、通常速度（８０枚／分）と高速度（１２０枚／分）との両方で評価を実施した。
【０２９４】
［１］ゴースト評価（通常速度：８０枚／分）
ゴースト評価は、図５（Ａ）に示すごとく、「Ｇ」の文字と「黒ベタ領域」とを有するパターンのチャートをプリントし、黒ベタ領域における「Ｇ」の文字（ゴースト）の現れ具合を目視にて観察し、以下の基準で評価した
○：図５（Ａ）のごとく、黒ベタ領域には「Ｇ」の文字が確認されない。
△：図５（Ｂ）のごとく、黒ベタ領域には「Ｇ」の文字が若干確認される。
×：図５（Ｃ）のごとく、黒ベタ領域には「Ｇ」の文字がはっきり確認される。
【０２９５】
［２］ゴースト評価（高速度：１２０枚／分）
前記［１］ゴースト評価と同様の評価を、プリントスピード１２０枚／分で出力した画像について実施した。
○：図５（Ａ）のごとく、黒ベタ領域には「Ｇ」の文字が確認されない。
△：図５（Ｂ）のごとく、黒ベタ領域には「Ｇ」の文字が若干確認される。
×：図５（Ｃ）のごとく、黒ベタ領域には「Ｇ」の文字がはっきり確認される。
【０２９６】
［３］感光体残留電位
感光体残留電位の測定は、前記実験機の中に電位プローブを取り付け、初期とランニング後との残留電位（画像形成終了後の感光体電位）を測定し、その差を算出した。
○：上記差が３８Ｖ未満
△：上記差が３８Ｖ以上６０Ｖ未満
×：上記差が６０Ｖ以上
【０２９７】
［４］摩耗量
摩耗量の測定は、上記画像形成テストの際に、画像形成前の膜厚をあらかじめ測定し、ランニング後の膜厚との差分を測定して、感光体１０００回転あたりの摩耗量（ｎｍ）を算出した。
○：３ｎｍ／ｋｃｙｃ以下
△：３ｎｍ／ｋｃｙｃを超え５ｎｍ／ｋｃｙｃ未満
×：５ｎｍ／ｋｃｙｃ以上
【０２９８】
［５］総合判定の評価基準
ゴースト評価（通常速度）、ゴースト評価（高速度）、感光体残留電位、摩耗量の各評価の結果に基づき、以下の基準で総合判定をした。
○：良好（△が２つまで）
△：若干劣るが問題なし（△が３つまで）
×：使用不可（△が４つ以上もしくは×が１つ以上）
【０２９９】
【表２】
0005672900.tif 000040
【０３００】
表２に示すように、本実施例では比較例に比べ、良好な耐摩耗性を維持しながら高速応答性に優れ、かつ長期に渡って安定した電気特性と高画質を維持することが判る。
【符号の説明】
【０３０１】
１  基体、２  感光層、２Ａ  電荷発生層、２Ｂ  電荷輸送層、４  下引層、５  表面保護層、７  感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑材、１８  非接触型帯電器、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００，１１０，１２０  画像形成装置、１３１  クリーニングブレード、１３２  繊維状部材、１３３  繊維状部材、３００  プロセスカートリッジ
【図３】
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【図１】
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【図２】
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【図４】
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【図５】
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