(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
UV線に対してヒトおよび動物の毛および皮膚を保護するための組成物であって、式(1)
【化１】
0005722312.tif 000083
〔式中、
R1は、メチルであり；
Rは、tert-ブチル；または
【化２】
0005722312.tif 000084
で表される基である〕
で表されるベンジリデンマロネート類を含む前記組成物。
【請求項２】
請求項１で定義されているベンジリデンマロネート類および別のUVフィルター類を含む化粧品製剤であって、ベンジリデンマロネート類により別のUVフィルター類が安定化されている化粧品製剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化粧品調製物のための特定の単量体ベンジリデンマロネート類の使用および新規単量体ベンジリデンマロネート類に関する。
【背景技術】
【０００２】
ヒトの皮膚にとって紫外線(紫外光)が有害であることは周知である。UV線は、その波長に応じて、皮膚の異なったタイプの損傷を引き起こす。UV-B線(約290nm〜約320nm)は、日光皮膚炎(sunburn)に関与し、そして、皮膚癌の原因となり得る。UV-A線(約320nm〜約400nm)は、皮膚を日焼けさせるが、日光皮膚炎および皮膚癌誘発の一因にもなる。さらに、UV-B線の有害な効果は、UV-A線によって増大され得る。
【０００３】
従って、効果的な日焼け止め製剤は、ヒトの皮膚が太陽光によって損傷されるのを防止するために、好ましくは、少なくとも1種のUV-AおよびUV-Bフィルターと約290nmから約400nmまでの全範囲にわたる広帯域UVフィルターの両方を含む。
【０００４】
UVフィルターは、太陽放射に対する遮蔽能力に加えて、水および汗に対する優れた耐性も有していなくてはならず、さらに、充分な光安定性も有していなくてはならない。
【０００５】
残念なことに、多くの効果的な有機UVフィルターは、特定の濃度において油溶性に乏しく、結晶化する傾向を有する。結果として、UV保護効力は、著しく低減される。
【０００６】
ブチルメトキシジベンゾイルメタン("Parsol 1789"の商品名でDSM社によって販売されている)のような、特殊性を有しおよびさらに周囲温度で固体であるという欠点も有している親油性UVフィルターが存在していることは知られている。結果として、日焼け止め化粧品組成物中においてそれらを使用することには、それらの製剤およびそれらの使用に関して、特に、それらUVフィルターの適切な溶解性をもたらす特定の適切な化粧品用溶媒の選定に関して、一定の制約が伴っている。かくして、UVフィルターは、一般的な化粧用油中で高い溶解性を示すべきであり、または、油溶性に乏しい別のUVフィルターのための優れた溶媒であるべきである。
【０００７】
さらに、油溶性UVフィルターは、日焼け防止用化粧品(cosmetic sun care product)の中に、そのエマルションの感覚的特性に対してどのような影響も及ぼすことなく含まれているべきである。そのような理由により、薄く塗った後で皮膚の上に残された汗-脂質被膜(hydro-lipid film)内において、紫外線吸収剤の最適分布が保証されるべきである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、本発明の目的は、紫外線吸収剤に関して改善された特性を有する紫外線吸収製剤を見いだすことである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
驚くべきことに、特定の単量体ベンジリデンマロネート類が化粧用UV-B吸収剤として極めて良好な特性を有しているということが分かった。
【００１０】
従って、本発明は、UV線に対してヒトおよび動物の毛および皮膚を保護するための、式(1)
【化１】
0005722312.tif 000002
【００１１】
〔式中、
R1は、メチル；エチル；プロピル；または、n-ブチルであり；
R1がメチルである場合、
Rは、tert-ブチル；
【化２】
0005722312.tif 000003
【００１２】
式(1a)
【化３】
0005722312.tif 000004
【００１３】
で表される基；または、式(1b)
【化４】
0005722312.tif 000005
【００１４】
で表される基であり；
ここで、
R2およびR3は、互いに独立して、水素；または、メチルであり；
R4は、メチル；エチル；または、n-プロピルであり；
R5およびR6は、互いに独立して、水素；または、C1-C3アルキルであり；
R1がエチル；プロピル；または、n-ブチルである場合、
Rは、イソプロピルである〕
で表されるベンジリデンマロネート類の使用に関する。
【００１５】
好ましくは、式(1)〔式中、
R1は、メチル；エチル；プロピル；または、n-ブチルであり；
R1がメチルである場合、
Rは、tert-ブチル；
【化５】
0005722312.tif 000006
【００１６】
式(1a)
【化６】
0005722312.tif 000007
【００１７】
で表される基；または、式(1b)
【化７】
0005722312.tif 000008
【００１８】
で表される基であり；
ここで、
R2およびR3は、互いに独立して、水素；または、メチルであり；
R4は、メチル；エチル；または、n-プロピルであり；
R5およびR6は、互いに独立して、水素；または、C1-C3アルキルであり；
R1がエチル；プロピル；または、n-ブチルである場合、
Rは、イソプロピルである〕
で表される化合物を使用する。
【００１９】
好ましくは、式(1)において、
Rは、式
【化８】
0005722312.tif 000009
【００２０】
で表される基であり；および、
R1は、メチルである。
【００２１】
式(1a)中においてR2またはR3のうちの少なくとも１つがメチルである式(1)の化合物が最も好ましい。
【００２２】
式(1a)中においてR2およびR3がメチルである式(1)の化合物も最も好ましい。
【００２３】
好ましいのは、さらにまた、
R1が、エチル；プロピル；または、n-ブチルであり；および、
Rが、イソプロピルである；
化合物である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
式(1)で表される化合物の例を、下記表１に記載する：
【表１】
0005722312.tif 000010
【００２５】
0005722312.tif 000011
【００２６】
本発明は、さらにまた、新規単量体ベンジリデン化合物にも関する。これらの化合物は、式(1')
【化９】
0005722312.tif 000012
【００２７】
〔式中、
R'1は、メチル；エチル；プロピル；または、n-ブチルであり；
R'1がメチルである場合、
R'は、tert-ブチル；
【化１０】
0005722312.tif 000013
【００２８】
または、式(1'a)
【化１１】
0005722312.tif 000014
【００２９】
で表される基；または、式(1'b)
【化１２】
0005722312.tif 000015
【００３０】
で表される基であり；
ここで、
R'2およびR'3は、互いに独立して、水素；または、メチルであり；
R'4は、メチル；エチル；または、n-プロピルであり；
R'1がエチル；または、プロピルである場合、
R'は、イソプロピルである〕
に対応する。
【００３１】
好ましいのは、R'1がメチルである式(1')のベンジリデンマロネート類である。
【００３２】
R'2およびR'3がメチルである式(1')のベンジリデンマロネート類が、最も好ましい。
【００３３】
さらに一層好ましいのは、
R'が、式
【化１３】
0005722312.tif 000016
【００３４】
で表される基であり；および、
R'1が、メチルである；
式(1')で表されるベンジリデンマロネート類である。
【００３５】
好ましいのは、さらにまた、
R'1が、エチル、エチル；プロピル；または、n-ブチルであり；および、
R'が、イソプロピルである；
式(1')のベンジリデンマロネート類である。
【００３６】
本発明によるベンジリデンマロネート類は、自体公知の方法で、以下の反応スキームに従って調製される：
【化１４】
0005722312.tif 000017
【００３７】
条件(a)下のクネベナーゲル縮合は、触媒の存在下において、水の共沸除去下で実施する〔文献：Jones, Gurnos. Knoevenagel condensation. Organic Reactions (New York) 15, 204-599 (1967)〕。
【００３８】
このステップにおいて使用する溶媒は、例えば、ベンゼン、トルエン、o-キシレン、m-キシレン、p-キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、エタノール、メタノール、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、CCl4、シクロヘキサン、n-ヘキサン、n-ペンタンなどであるか、または、例えば1-メチル-3-ブチルイミダゾリウムブロミドなどのようなイオン液体である。溶媒の混合物も使用することができる。
【００３９】
反応温度は、好ましくは、0℃〜当該溶媒混合物の還流温度であり、好ましくは、0℃〜180℃、さらに好ましくは、20℃〜150℃である。
【００４０】
反応時間は、好ましくは、5分間〜72時間、さらに好ましくは、1時間〜10時間である。
【００４１】
この反応ステップにおいて使用される触媒は、好ましくは、ピペリジン、n-ヘキシルアミン、ピリジンまたはトリエチルアミンのような第一級アミン、第二級アミンまたは第三級アミンである。該塩基性アミンは、そのままで使用することができるか、または、酢酸、安息香酸またはHClのような酸性化合物と組み合わせて使用することができる。適切な触媒は、クネベナーゲル反応において通常使用される任意の触媒である。好ましくは、有機塩基と有機酸の塩(例えば、酢酸ピペリジン)のような触媒を使用する
条件(b)下のクネベナーゲル縮合は、例えば「K. Yamashita et al., Tetrahedron 2005, 61, 7981-7985」に記載されているように、オルトチタン酸テトラ-アルキル Ti(OR')(当該アルデヒドに対して、0.5req.〜5eq.)の存在下で実施する。このステップにおいて使用される溶媒は、アルコール R'OH、例えば、エタノール、メタノール、イソプロパノール、n-プロパノール、n-ブタノール、2-メチル-1-ブタノール、イソブタノール、2-ブタノール、2-ペンタノールなどである。適切な別の溶媒は、ベンゼン、トルエン、o-キシレン、m-キシレン、p-キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、CCl4、シクロヘキサン、n-ヘキサン、n-ペンタンであるか、または、例えば1-メチル-3-ブチルイミダゾリウムブロミドなどのようなイオン液体である。溶媒の混合物も使用することができる。
【００４２】
反応温度は、好ましくは、-10℃〜当該溶媒混合物の還流温度であり、好ましくは、0℃〜180℃、さらに好ましくは、20℃〜150℃である。
【００４３】
条件(c)下のクネベナーゲル縮合は、例えば「W. Lehnert, Tetrahedron Letters 1970, 54, 4723-4724」または「H. Chen et al., Eur. J. Org. Chem. 2006, 2329-2335」に記載されているように、四塩化チタン TiCl4(当該アルデヒドに対して、0.5req.〜5eq.)の存在下で実施する。このステップにおいて使用される溶媒は、エーテル類、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、tert-ブチル-メチルエーテル、ジエチルエーテル、または、アルコール R'OH、例えば、エタノール、メタノール、イソプロパノール、n-プロパノール、n-ブタノール、2-メチル-1-ブタノール、イソブタノール、2-ブタノール、2-ペンタノールなどである。適切な別の溶媒は、ベンゼン、トルエン、o-キシレン、m-キシレン、p-キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、CCl4、シクロヘキサン、n-ヘキサン、n-ペンタンであるか、または、例えば1-メチル-3-ブチルイミダゾリウムブロミドなどのようなイオン液体である。溶媒の混合物も使用することができる。
【００４４】
反応温度は、好ましくは、-10℃〜当該溶媒混合物の還流温度であり、好ましくは、0℃〜180℃、さらに好ましくは、20℃〜150℃である。
【００４５】
式(1)で表される単量体ベンジリデンマロネートは、UVフィルターとして特に適している。換言すれば、式(1)で表される単量体ベンジリデンマロネートは、紫外光の影響を受けやすい有機物質〔特に、ヒトおよび動物の皮膚および毛〕をUV線の作用に対して保護するのに特に適している。そのような化合物は、従って、化粧品調製物、医薬調製物および獣医薬調製物の中の光保護剤(light-protective agent)として適している。そのような化合物は、好ましくは、溶解した状態で使用する。
【００４６】
本発明は、従って、式(1)で表される少なくとも1種の化合物と化粧品的に許容される担体または補助剤を含む化粧品調製物にも関する。
【００４７】
該化粧品調製物は、本発明によるUV吸収剤に加えて、以下の物質類のうちの1種以上のさらなるUV保護剤も含有することができる：
p-アミノ安息香酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ジフェニルアクリレート類、3-イミダゾール-4-イルアクリル酸およびエステル；ベンゾフラン誘導体、高分子UV吸収剤、ケイ皮酸誘導体、カンファー誘導体、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、トリアニリノ-s-トリアジン誘導体、2-フェニルベンゾイミダゾール-5-スルホン酸およびその塩；o-アミノ安息香酸メンチル；メロシアニン誘導体；カプセル化UV吸収剤、4,4-ジフェニル-1,3-ブタジエン誘導体、トリス(アリール)トリアジン類、TiO2、ZnO、および、雲母。
【００４８】
「"Sunscreens", Eds. N.J. Lowe, N.A.Shaath, Marcel Dekker, Inc., New York and Basle」または「Cosmetics & Toiletries (107), 50ff (1992)」に記載されているUV吸収剤も、付加的なUV保護物質として使用することができる。
【００４９】
下記表２中に示されている光保護剤が、特に好ましい：
【表２】
0005722312.tif 000018
【００５０】
0005722312.tif 000019
【００５１】
0005722312.tif 000020
【表３】
0005722312.tif 000021
【００５２】
0005722312.tif 000022
【００５３】
0005722312.tif 000023
【００５４】
0005722312.tif 000024
【００５５】
0005722312.tif 000025
【００５６】
0005722312.tif 000026
【００５７】
さらに、「IP.com Journal (2009), 9(1B), 17」に記載されているような、ポリマーマトリックス中に(例えば、PMMA中に)カプセル化されたBEMT(Tinosorb S,ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)も、付加的なUV保護物質として使用することができる。
【００５８】
以下の化合物も、付加的なUV保護物質として使用することができる：
【化１５】
0005722312.tif 000027
【００５９】
上記光保護剤のそれぞれは、特に、好ましいものとして示されている上記表中の光保護剤は、本発明によるUV吸収剤と混合させて使用することができる。その点に関して、本発明のUV吸収剤に加えて上記付加的な光保護剤のうちの2種以上を使用することも可能であること、例えば、2種、3種、4種、5種または6種のさらなる光保護剤を使用することも可能であることは、理解されるであろう。重量基準で、1:99〜99:1、特に、1:95〜95:1、好ましくは、10:90〜90:10の本発明のUV吸収剤/さらなる光保護剤の混合比を用いるのが好ましい。特に興味深いのは、20:80〜80:20の混合比、特に、40:60〜60:40の混合比であり、好ましくは、約50:50の混合比である。そのような混合物を使用して、とりわけ、溶解性を改善することが可能であるか、または、UV吸収を増大させること可能である。
【００６０】
適切な混合物は、本発明による化粧品組成物の中において、特に有利に使用することができる。
【００６１】
好ましくは、本発明によるベンジリデンマロネート類は、
-  少なくとも1種の付加的な油溶性UVフィルターと組み合わせて
-  少なくとも1種の付加的な水溶性UVフィルターと組み合わせて
-  少なくとも1種の付加的な不溶性可溶性UVフィルターと組み合わせて
-  少なくとも1種の付加的な不溶性有機UVフィルターと組み合わせて
-  少なくとも1種の付加的な不溶性無機UVフィルターと組み合わせて
-  少なくとも1種の付加的な有機UVフィルターと組み合わせて
-  少なくとも1種の付加的な無機UVフィルターと組み合わせて
-  少なくとも1種の付加的な有機/無機ハイブリッド材料UVフィルターと組み合わせて
-  少なくとも1種の付加的なカプセル化UVフィルターと組み合わせて
-  少なくとも1種の付加的な高分子UVフィルターと組み合わせて
使用する。
【表４】
0005722312.tif 000028
【００６２】
0005722312.tif 000029
【００６３】
0005722312.tif 000030
【００６４】
0005722312.tif 000031
【００６５】
0005722312.tif 000032
【００６６】
0005722312.tif 000033
【表５】
0005722312.tif 000034
【００６７】
以下の油混和性有機UVフィルターの混合物(表４)は、本発明のベンジリデンマロネート類と一緒に混合させることができる。
【表６】
0005722312.tif 000035
【００６８】
0005722312.tif 000036
【００６９】
0005722312.tif 000037
【表７】
0005722312.tif 000038
【００７０】
以下の水溶性または水分散性UVフィルターの混合物(表５)は、本発明のベンジリデンマロネート類と一緒に混合させることができる。
【表８】
0005722312.tif 000039
【００７１】
0005722312.tif 000040
【００７２】
0005722312.tif 000041
【００７３】
0005722312.tif 000042
【００７４】
0005722312.tif 000043
【００７５】
0005722312.tif 000044
【００７６】
0005722312.tif 000045
【００７７】
0005722312.tif 000046
【００７８】
0005722312.tif 000047
【００７９】
0005722312.tif 000048
【表９】
0005722312.tif 000049
【００８０】
UVフィルター組合せの例
上記表中で先に挙げたUVフィルター組合せの全てにおいて、「X」は、特定のUVフィルターを表す。特定の各UV吸収剤の重量比(当該組合せ中のUV吸収剤全体の重量を基準とする)は、例えば、0.01から0.99、特に、0.1から0.9、好ましくは、0.2から0.8の範囲である(例えば、0.3)。
【００８１】
UVフィルター組合せのさらなる例は、以下のとおりである：
先に挙げたUVフィルター組合せの全てにおいて、UV吸収剤の重量比(当該組合せ中のUV吸収剤全体の重量を基準とする)は、以下のとおりである：
(a)２種のUV吸収剤の組合せ:
1:1または1:2または2:1または1:3または3:1。
【００８２】
(b)３種のUV吸収剤の組合せ:
1:1:1または1:2:1または1:1:2または2:1:1または1:2:2または2:1:2または2:2:1
または1:3:1または1:1:3または3:1:1または1:3:3または3:1:3または3:3:1
または1:2:3または1:3:2または2:1:3または2:3:1または3:1:2または3:2:1。
【００８３】
(c)４種のUV吸収剤の組合せ:
1:1:1:1または1:1:2:1または1:1:1:2または1:2:1:1または2:1:1:1または1:1:1:3または1:1:3:1
または1:3:1:1または3:1:1:1または1:2:2:1または2:1:2:1または2:2:1:1または2:1:1:2
または1:3:3:1または3:1:3:1または3:3:1:1または3:1:1:3または1:2:3:1または1:3:2:1または1:1:2:3
または1:1:3:2または2:1:1:3または2:1:3:1または2:3:1:1または3:1:1.2または3:2:1:1
または3:1:2:1。
【００８４】
製剤の例
以下の製剤例において：
新規のUVフィルターは（表１に記載されるように）、MBM-01またはMBM-02またはMBM-03またはMBM-04またはMBM-05またはMBM-06またはMBM-07またはMBM-081またはMBM-09またはMBM-10またはMBM-11またはMBM-12であってよい。
【００８５】
「UV SOL」は（表２に記載されるように）、UV SOL 1、またはUV SOL 2、またはUV SOL 3、またはUV SOL 4、またはUV SOL 5、またはUV SOL 6、またはUV SOL 7、またはUV SOL 8、またはUV SOL 9、またはUV SOL 10、またはUV SOL 11、またはUV SOL 12、またはUV SOL 13、またはUV SOL 14、またはUV SOL 15、またはUV SOL 16、またはUV SOL 17、またはUV SOL 18、またはUV SOL 19、またはUV SOL 20、またはUV SOL 21、またはUV SOL 22、またはUV SOL 23、またはUV SOL 24、またはUV SOL 25、またはUV SOL 26、またはUV SOL 27、またはUV SOL 28、またはUV SOL 29、またはUV SOL 30、またはUV SOL 31、またはUV SOL 32、またはUV SOL 33、またはUV SOL 34、またはUV SOL 35、またはUV SOL 36、またはUV SOL 37、またはUV SOL 38、またはUV SOL 39、またはUV SOL 40、またはUV SOL 41、またはUV SOL 42、またはUV SOL 43、またはUV SOL 44、またはUV SOL 45、またはUV SOL 46、またはUV SOL 47、またはUV SOL 48、またはUV SOL 49、またはUV SOL 50、またはUV SOL 51、またはUV SOL 52、またはUV SOL 53、またはUV SOL 54、またはUV SOL 55、またはUV SOL 56、またはUV SOL 57、またはUV SOL 58、またはUV SOL 59、またはUV SOL 60、またはUV SOL 61、またはUV SOL 62、またはUV SOL 63、またはUV SOL 64、またはUV SOL 65、またはUV SOL 66、またはUV SOL 67、またはUV SOL 68、またはUV SOL 69、またはUV SOL 70、またはUV SOL 71、またはUV SOL 72、またはUV SOL 73、またはUV SOL 74、またはUV SOL 75、またはUV SOL 76、またはUV SOL 77、またはUV SOL 78、またはUV SOL 79、またはUV SOL 80、またはUV SOL 81、またはUV SOL 82、またはUV SOL 83、またはUV SOL 84、またはUV SOL 85、またはUV SOL 86、またはUV SOL 87、またはUV SOL 88、またはUV SOL 89、またはUV SOL 90、またはUV SOL 91、またはUV SOL 92、またはUV SOL 93、またはUV SOL 94、またはUV SOL 95、またはUV SOL 96、またはUV SOL 97、またはUV SOL 98、またはUV SOL 99、またはUV SOL 100、またはUV SOL 101、またはUV SOL 102、またはUV SOL 103、またはUV SOL 104、またはUV SOL 105、またはUV SOL 106、またはUV SOL 107、またはUV SOL 108、またはUV SOL 109、またはUV SOL 110、またはUV SOL 111、またはUV SOL 112、またはUV SOL 113、またはUV SOL 114、またはUV SOL 115、またはUV SOL 116、またはUV SOL 117、またはUV SOL 118、またはUV SOL 119、またはUV SOL 120、またはUV SOL 121、またはUV SOL 122、またはUV SOL 123、またはUV SOL 124、またはUV SOL 125、またはUV SOL 126、またはUV SOL 127、またはUV SOL 128、またはUV SOL 129、またはUV SOL 130、またはUV SOL 131、またはUV SOL 132、またはUV SOL 133、またはUV SOL 134、またはUV SOL 135、またはUV SOL 136、またはUV SOL 137、またはUV SOL 138、またはUV SOL 139、またはUV SOL 140、またはUV SOL 141、またはUV SOL 142、またはUV SOL 143、またはUV SOL 144、またはUV SOL 145、またはUV SOL 146、またはUV SOL 147、またはUV SOL 148、またはUV SOL 149、またはUV SOL 150、またはUV SOL 151、またはUV SOL 152、またはUV SOL 153、またはUV SOL 154、またはUV SOL 155、またはUV SOL 156、またはUV SOL 157、またはUV SOL 158、またはUV SOL 159、またはUV SOL 160、またはUV SOL 161、またはUV SOL 162、またはUV SOL 163、またはUV SOL 164、またはUV SOL 165、またはUV SOL 166、またはUV SOL 167、またはUV SOL 168、またはUV SOL 169、またはUV SOL 170、またはUV SOL 171、またはUV SOL 172、またはUV SOL 173、またはUV SOL 174、またはUV SOL 175、またはUV SOL 176、またはUV SOL 177、またはUV SOL 178、またはUV SOL 179、またはUV SOL 180、またはUV SOL 181、またはUV SOL 182、またはUV SOL 183、またはUV SOL 184、またはUV SOL 185、またはUV SOL 186、またはUV SOL 187、またはUV SOL 188、またはUV SOL 189、またはUV SOL 190、またはUV SOL 191、またはUV SOL 192、またはUV SOL 193、またはUV SOL 194、またはUV SOL 195、またはUV SOL 196、またはUV SOL 197、またはUV SOL 198、またはUV SOL 199、または UV SOL 200、またはUV SOL 201、またはUV SOL 202、またはUV SOL 203、またはUV SOL 204、またはUV SOL 205、またはUV SOL 206、またはUV SOL 207、またはUV SOL 208、またはUV SOL 209、またはUV SOL 210、またはUV SOL 211、またはUV SOL 212、またはUV SOL 213、またはUV SOL 214、またはUV SOL 215、またはUV SOL 216、またはUV SOL 217、またはUV SOL 218、またはUV SOL 219、またはUV SOL 220、またはUV SOL 221、またはUV SOL 222、またはUV SOL 223、またはUV SOL 224、またはUV SOL 225、またはUV SOL 226、またはUV SOL 227、またはUV SOL 228、またはUV SOL 229、またはUV SOL 230、またはUV SOL 231、またはUV SOL 232、またはUV SOL 233、またはUV SOL 234、またはUV SOL 235、またはUV SOL 236、またはUV SOL 237、またはUV SOL 238、またはUV SOL 239、またはUV SOL 240、またはUV SOL 241、またはUV SOL 242、またはUV SOL 243、またはUV SOL 244、またはUV SOL 245、またはUV SOL 246、またはUV SOL 247、またはUV SOL 248、またはUV SOL 249、またはUV SOL 250、またはUV SOL 251、またはUV SOL 252、またはUV SOL 253であってよく；
「UV LIQ」は（表３に記載されるように）、UV LIQ 1、またはUV LIQ 2、またはUV LIQ 3、またはUV LIQ 4、またはUV LIQ 5、またはUV LIQ 6、またはUV LIQ 7、またはUV LIQ 8、またはUV LIQ 9、またはUV LIQ 10、またはUV LIQ 11、またはUV LIQ 12、またはUV LIQ 13、またはUV LIQ 14、またはUV LIQ 15、またはUV LIQ 16、またはUV LIQ 17、またはUV LIQ 18、またはUV LIQ 19、またはUV LIQ 20、またはUV LIQ 21、またはUV LIQ 22、またはUV LIQ 23、またはUV LIQ 24、またはUV LIQ 25、またはUV LIQ 26、またはUV LIQ 27、またはUV LIQ 28、またはUV LIQ 29、またはUV LIQ 30、またはUV LIQ 31、またはUV LIQ 32、またはUV LIQ 33、またはUV LIQ 34、またはUV LIQ 35、またはUV LIQ 36、またはUV LIQ 37、またはUV LIQ 38、またはUV LIQ 39、またはUV LIQ 40、またはUV LIQ 41、またはUV LIQ 42、またはUV LIQ 43、またはUV LIQ 44、またはUV LIQ 45、またはUV LIQ 46、またはUV LIQ 47、またはUV LIQ 48、またはUV LIQ 49、またはUV LIQ 50、またはUV LIQ 51、またはUV LIQ 52、またはUV LIQ 53、またはUV LIQ 54、またはUV LIQ 55、またはUV LIQ 56、またはUV LIQ 57、またはUV LIQ 58、またはUV LIQ 59、またはUV LIQ 60、またはUV LIQ 61、またはUV LIQ 62、またはUV LIQ 63、またはUV LIQ 64、またはUV LIQ 65、またはUV LIQ 66、またはUV LIQ 67、またはUV LIQ 68、またはUV LIQ 69、またはUV LIQ 70、またはUV LIQ 71、またはUV LIQ 72、またはUV LIQ 73、またはUV LIQ 74、またはUV LIQ 75、またはUV LIQ 76、またはUV LIQ 77、またはUV LIQ 78、またはUV LIQ 79、またはUV LIQ 80、またはUV LIQ 81、またはUV LIQ 82、またはUV LIQ 83、またはUV LIQ 84、またはUV LIQ 85、またはUV LIQ 86、またはUV LIQ 87、またはUV LIQ 88、またはUV LIQ 89、またはUV LIQ 90、またはUV LIQ 91、またはUV LIQ 92、またはUV LIQ 93、またはUV LIQ 94、またはUV LIQ 95、またはUV LIQ 96、またはUV LIQ 97、またはUV LIQ 98、またはUV LIQ 99、またはUV LIQ 100、またはUV LIQ 101、またはUV LIQ 102、またはUV LIQ 103、またはUV LIQ 104、またはUV LIQ 105、またはUV LIQ 106、またはUV LIQ 107、またはUV LIQ 108、またはUV LIQ 109、またはUV LIQ 110、またはUV LIQ 111、またはUV LIQ 112、またはUV LIQ 113、またはUV LIQ 114、またはUV LIQ 115、またはUV LIQ 116、またはUV LIQ 117、またはUV LIQ 118、またはUV LIQ 119、またはUV LIQ 120、またはUV LIQ 121、またはUV LIQ 122、またはUV LIQ 123であってよく；
「UV WAT」は（表４に記載されるように）、UV WAT 1、またはUV WAT 2、またはUV WAT 3、またはUV WAT 4、またはUV WAT 5、またはUV WAT 6、またはUV WAT 7、またはUV WAT 8、またはUV WAT 9、またはUV WAT 10、またはUV WAT 11、またはUV WAT 12、またはUV WAT 13、またはUV WAT 14、またはUV WAT 15、またはUV WAT 16、またはUV WAT 17、またはUV WAT 18、またはUV WAT 19、またはUV WAT 20、またはUV WAT 21、またはUV WAT 22、またはUV WAT 23、またはUV WAT 24、またはUV WAT 25、またはUV WAT 26、またはUV WAT 27、またはUV WAT 28、またはUV WAT 29、またはUV WAT 30、またはUV WAT 31、またはUV WAT 32、またはUV WAT 33、またはUV WAT 34、またはUV WAT 35、またはUV WAT 36、またはUV WAT 37、またはUV WAT 38、またはUV WAT 39、またはUV WAT 40、またはUV WAT 41、またはUV WAT 42、またはUV WAT 43、またはUV WAT 44、またはUV WAT 45、またはUV WAT 46、またはUV WAT 47、またはUV WAT 48、またはUV WAT 49、またはUV WAT 50、またはUV WAT 51、またはUV WAT 52、またはUV WAT 53、またはUV WAT 54、またはUV WAT 55、またはUV WAT 56、またはUV WAT 57、またはUV WAT 58、またはUV WAT 59、またはUV WAT 60、またはUV WAT 61、またはUV WAT 62、またはUV WAT 63、またはUV WAT 64、またはUV WAT 65、またはUV WAT 66、またはUV WAT 67、またはUV WAT 68、またはUV WAT 69、またはUV WAT 70、またはUV WAT 71、またはUV WAT 72、またはUV WAT 73、またはUV WAT 74、またはUV WAT 75、またはUV WAT 76、またはUV WAT 77、またはUV WAT 78、またはUV WAT 79、またはUV WAT 80、またはUV WAT 81、またはUV WAT 82、またはUV WAT 83、またはUV WAT 84、またはUV WAT 85、またはUV WAT 86、またはUV WAT 87、またはUV WAT 88、またはUV WAT 89、またはUV WAT 90、またはUV WAT 91、またはUV WAT 92、またはUV WAT 93、またはUV WAT 94、またはUV WAT 95、またはUV WAT 96、またはUV WAT 97、またはUV WAT 98、またはUV WAT 99、またはUV WAT 100、またはUV WAT 101、またはUV WAT 102、またはUV WAT 103、またはUV WAT 104、またはUV WAT 105、またはUV WAT 106、またはUV WAT 107、またはUV WAT 108、またはUV WAT 109、またはUV WAT 110、またはUV WAT 111、またはUV WAT 112、またはUV WAT 113、またはUV WAT 114、またはUV WAT 115、またはUV WAT 116、またはUV WAT 117、またはUV WAT 118、またはUV WAT 119、またはUV WAT 120、またはUV WAT 121、またはUV WAT 122、またはUV WAT 123、またはUV WAT 124、またはUV WAT 125、またはUV WAT 126、またはUV WAT 127、またはUV WAT 128、またはUV WAT 129、またはUV WAT 130、またはUV WAT 131、またはUV WAT 132、またはUV WAT 133、またはUV WAT 134、またはUV WAT 135、またはUV WAT 136、またはUV WAT 137、またはUV WAT 138、またはUV WAT 139、またはUV WAT 140、またはUV WAT 141、またはUV WAT 142、またはUV WAT 143、またはUV WAT 144、またはUV WAT 145、またはUV WAT 146、またはUV WAT 147、またはUV WAT 148、またはUV WAT 149、またはUV WAT 150、またはUV WAT 151、またはUV WAT 152、またはUV WAT 153、またはUV WAT 154、またはUV WAT 155、またはUV WAT 156、またはUV WAT 157、またはUV WAT 158、またはUV WAT 159、またはUV WAT 160、またはUV WAT 161、またはUV WAT 162、またはUV WAT 163、またはUV WAT 164、またはUV WAT 165、またはUV WAT 166、またはUV WAT 167、またはUV WAT 168、またはUV WAT 169、またはUV WAT 170、またはUV WAT 171、またはUV WAT 172、またはUV WAT 173、またはUV WAT 174、またはUV WAT 175、またはUV WAT 176、またはUV WAT 177、またはUV WAT 178、またはUV WAT 179、またはUV WAT 180、またはUV WAT 181、またはUV WAT 182、またはUV WAT 183、またはUV WAT 184、またはUV WAT 185、またはUV WAT 186、またはUV WAT 187、またはUV WAT 188、またはUV WAT 189、またはUV WAT 190、またはUV WAT 191、またはUV WAT 192、またはUV WAT 193、またはUV WAT 194、またはUV WAT 195、またはUV WAT 196、またはUV WAT 197、またはUV WAT 198、またはUV WAT 199、または UV WAT 200、またはUV WAT 201、またはUV WAT 202、またはUV WAT 203、またはUV WAT 204、またはUV WAT 205、またはUV WAT 206、またはUV WAT 207、またはUV WAT 208、またはUV WAT 209、またはUV WAT 210、またはUV WAT 211、またはUV WAT 212、またはUV WAT 213、またはUV WAT 214、またはUV WAT 215、またはUV WAT 216、またはUV WAT 217、またはUV WAT 218、またはUV WAT 219、またはUV WAT 220、またはUV WAT 221、またはUV WAT 222、またはUV WAT 223、またはUV WAT 224、またはUV WAT 225、またはUV WAT 226、またはUV WAT 227、またはUV WAT 228、またはUV WAT 229、またはUV WAT 230、またはUV WAT 231、またはUV WAT 232、またはUV WAT 233、またはUV WAT 234、またはUV WAT 235、またはUV WAT 236、またはUV WAT 237、またはUV WAT 238、またはUV WAT 239、またはUV WAT 240、またはUV WAT 241、またはUV WAT 242、またはUV WAT 243、またはUV WAT 244、またはUV WAT 245、またはUV WAT 246、またはUV WAT 247、またはUV WAT 248、またはUV WAT 249、またはUV WAT 250、またはUV WAT 251、またはUV WAT 252、またはUV WAT 253、またはUV WAT 254、またはUV WAT 255、またはUV WAT 256、またはUV WAT 257、またはUV WAT 258、またはUV WAT 259、またはUV WAT 260、またはUV WAT 261、またはUV WAT 262、またはUV WAT 263、またはUV WAT 264、またはUV WAT 265、またはUV WAT 266、またはUV WAT 267、またはUV WAT 268、またはUV WAT 269、またはUV WAT 270、またはUV WAT 271、またはUV WAT 272、またはUV WAT 273、またはUV WAT 274、またはUV WAT 275、またはUV WAT 276、またはUV WAT 277、またはUV WAT 278、またはUV WAT 279、またはUV WAT 280、またはUV WAT 281、またはUV WAT 282、またはUV WAT 283、またはUV WAT 284、またはUV WAT 285、またはUV WAT 286、またはUV WAT 287、またはUV WAT 288、またはUV WAT 289、または UV WAT 290、またはUV WAT 291、またはUV WAT 292、またはUV WAT 293、またはUV WAT 294、またはUV WAT 295、またはUV WAT 296、またはUV WAT 297、またはUV WAT 298、またはUV WAT 299、またはUV WAT 300、またはUV WAT 301、またはUV WAT 302、またはUV WAT 303、またはUV WAT 304、またはUV WAT 305、またはUV WAT 306、またはUV WAT 307、またはUV WAT 308、またはUV WAT 309、またはUV WAT 310、またはUV WAT 311、またはUV WAT 312、またはUV WAT 313、またはUV WAT 314、またはUV WAT 315、またはUV WAT 316、またはUV WAT 317、またはUV WAT 318、またはUV WAT 319、またはUV WAT 320、またはUV WAT 321、またはUV WAT 322、またはUV WAT 323、またはUV WAT 324、またはUV WAT 325、またはUV WAT 326、またはUV WAT 327、またはUV WAT 328、またはUV WAT 329、またはUV WAT 330、またはUV WAT 331、またはUV WAT 332、またはUV WAT 333、またはUV WAT 334、またはUV WAT 335、またはUV WAT 336、またはUV WAT 337、またはUV WAT 338、またはUV WAT 339、またはUV WAT 340、またはUV WAT 341、またはUV WAT 342、またはUV WAT 343、またはUV WAT 344、またはUV WAT 345、またはUV WAT 346、またはUV WAT 347、またはUV WAT 348、またはUV WAT 349、またはUV WAT 350、またはUV WAT 351、またはUV WAT 352、またはUV WAT 353、またはUV WAT 354、またはUV WAT 355、またはUV WAT 356、またはUV WAT 357、またはUV WAT 358、またはUV WAT 359、またはUV WAT 360、またはUV WAT 361、またはUV WAT 362、またはUV WAT 363、またはUV WAT 364、またはUV WAT 365、またはUV WAT 366、またはUV WAT 367、またはUV WAT 368、またはUV WAT 369、またはUV WAT 370、またはUV WAT 371、またはUV WAT 372、またはUV WAT 373、またはUV WAT 374、またはUV WAT 375���またはUV WAT 376、またはUV WAT 377であってよい。
【００８６】
製剤例：
【表１０】
0005722312.tif 000050
【表１１】
0005722312.tif 000051
【表１２】
0005722312.tif 000052
【表１３】
0005722312.tif 000053
【表１４】
0005722312.tif 000054
【表１５】
0005722312.tif 000055
【表１６】
0005722312.tif 000056
【表１７】
0005722312.tif 000057
【表１８】
0005722312.tif 000058
【表１９】
0005722312.tif 000059
【表２０】
0005722312.tif 000060
【表２１】
0005722312.tif 000061
【表２２】
0005722312.tif 000062
【表２３】
0005722312.tif 000063
【表２４】
0005722312.tif 000064
【表２５】
0005722312.tif 000065
【表２６】
0005722312.tif 000066
【表２７】
0005722312.tif 000067
【表２８】
0005722312.tif 000068
【表２９】
0005722312.tif 000069
【表３０】
0005722312.tif 000070
【００８７】
本発明は、さらにまた、本発明による少なくとも1種のUV吸収剤を含む化粧品組成物にも関する。該化粧品組成物は、UVフィルターとして特に適している。換言すれば、該化粧品組成物は、紫外線の影響を受けやすい有機物質（特に、皮膚および毛）をUV線の有害作用に対してを保護するのに特に適している。
【００８８】
該化粧品組成物は、その組成物の総重量に基づいて、例えば、0.1〜30重量%、好ましくは、0.1〜15重量%、特に、0.5〜10重量%の、1種以上のUV吸収剤および少なくとも1種の化粧品的に許容される補助剤を含む。
【００８９】
該化粧品組成物は、慣習的な方法を用いて、例えば、個々の成分を単に一緒に撹拌することによって、特に、既に知られている化粧品用UV吸収剤（例えば、とりわけ、OMC、サリチル酸イソオクチルエステルなど）の溶解特性を用いて、UV吸収剤(1種または複数種)を補助剤と物理的に混合させることによって調製することができる。該UV吸収剤は、例えば、さらなる処理に付すことなく使用することができる。
【００９０】
該化粧品組成物は、例えば、クリーム、ゲル、ローション、アルコール溶液および水/アルコール溶液、エマルション、蝋/脂肪組成物、棒状調製物、粉末または軟膏などであることができる。
【００９１】
本発明による組成物（例えば、クリーム、ゲル、ローション、アルコール溶液および水/アルコール溶液、エマルション、蝋/脂肪組成物、棒状調製物、粉末または軟膏など）は、さらなる補助剤および添加剤として、低刺激性界面活性剤、過脂肪剤、真珠光沢ワックス(pearlescent wax)、稠度調節剤、増粘剤、ポリマー、シリコーン化合物、脂肪、蝋、安定剤、生物起源活性成分、脱臭活性成分、抗フケ剤、被膜剤、膨潤剤、さらなるUV線保護因子、酸化防止剤、ヒドロトロピー剤(hydrotropic agent)、防腐剤、昆虫忌避剤、セルフタンニング剤、可溶化剤、香油、着色剤、細菌抑制剤などをさらに含有することもできる。
【００９２】
本発明による化粧品製剤は、多種多様の化粧品調製物の中に含まれる。例えば、特に以下の調製物が考慮される：スキンケア調製物、浴用調製物、スキンケア調製物、化粧用パーソナルケア調製物、フットケア調製物、光防護調製物、スキンタンニング調製物、脱色調製物、昆虫忌避剤、脱臭剤、発汗抑制剤、傷ついた皮膚を洗浄およびケアするための調製物、化学形態にある除毛(脱毛)調製物、シェービング調製物、芳香調製物、化粧用ヘアトリートメント調製物。
【００９３】
挙げられている最終的な製剤は、多種多様な調製物の形態で存在することができ、例えば、
・  W/O、O/W、O/W/O、W/O/WまたはPITエマルションおよび全ての種類のマイクロエマルションとしての液体調製物の形態；
・  ゲルの形態
・  オイル、クリーム、乳液またはローションの形態；
・  粉末、ラッカー、錠剤またはメーキャップの形態；
・  棒状物の形態；
・  スプレー(噴射剤ガスを用いるスプレーまたはポンプアクションスプレー)またはエーロゾルの形態；
・  フォームの形態；または、
・  ペーストの形態；
で存在することができる。
【００９４】
皮膚用の化粧品組成物として特に重要なものは、光防護調製物、例えば、サンミルク、ローション、クリーム、オイル、サンブロックもしくはトロピカル、日焼け前用調製物(pretanning preparation)または日焼け後用調製物(after-sun preparation)、さらに、皮膚日焼け用調製物(skin-tanning preparation)、例えば、セルフタンニングクリームである。特に興味深いのは、サンプロテクションクリーム、サンプロテクションローション、サンプロテクションオイル、サンプロテクションミルクおよびスプレーの形態にあるサンプロテクション調製物である。
【００９５】
毛髪用の化粧品組成物として特に重要なものは、上記で記載したヘアトリートメント用の調製物、特に、シャンプーの形態にある毛髪洗浄調製物、ヘアコンディショナー、ヘアケア調製物、例えば、プレトリートメント調製物、ヘアトニック、スタイリングクリーム、スタイリングゲル、ポマード、ヘアリンス、トリートメントパック、インテンシブヘアトリートメント、ヘアストレートニング調製物、液体ヘアセッティング調製物、ヘアフォームおよびヘアスプレーである。特に興味深いのは、シャンプーの形態にある毛髪洗浄調製物である。
【００９６】
本発明による化粧品調製物は、該組成物の総重量に基づいて、0.1〜15重量%、好ましくは、0.5〜10重量%の、式(1)で表されるUV吸収剤を含むかまたはUV吸収剤と化粧品的に許容される補助剤の混合物を含む。
【００９７】
該化粧品調製物は、慣習的な方法を用いて、例えば、個々の成分を単に一緒に撹拌することにより、該UV吸収剤(1種または複数種)を補助剤と物理的に混合させることによって調製することができる。
【００９８】
本発明による化粧品調製物は、油中水型エマルションもしくは水中油型エマルションとして、アルコール中油型ローションとして、イオン性もしくは非イオン性の両親媒性脂質のベシクル分散液(vesicular dispersion)として、ゲル、固体棒状物として、または、エーロゾル製剤として、製剤化することができる。
【００９９】
油中水型エマルションまたは水中油型エマルションとして、化粧品的に許容される補助剤は、好ましくは、5〜50%の油相、5〜20%の乳化剤および30〜90%の水を含む。該油相は、化粧品製剤に適する任意の油、例えば、1種以上の炭化水素油、蝋、天然油、シリコーン油、脂肪酸エステルまたは脂肪アルコールなどを含有することができる。好ましいモノオールまたはポリオールは、エタノール、イソプロパノール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、グリセロールおよびソルビトールである。
【０１００】
本発明による化粧品調製物に関して、慣習的に使用され得る任意の乳化剤、例えば、以下のものを使用することができる：天然の誘導体の1以上のエトキシル化エステル、例えば、硬化ヒマシ油のポリエトキシル化エステル、または、シリコーン油乳化剤、例えば、シリコーンポリオール；非エトキシル化脂肪酸石鹸もしくはエトキシル化脂肪酸石鹸；エトキシル化脂肪アルコール；非エトキシル化ソルビタンエステルもしくはエトキシル化ソルビタンエステル；エトキシル化脂肪酸；または、エトキシル化グリセリド。
【０１０１】
本発明による化粧品調製物は、太陽光の有害な効果に対してヒトの皮膚を極めて良好に保護する点で区別される。
【０１０２】
下記実施例において、百分率は重量に関するものである。使用するベンジリデンマロネート化合物の量は、その純粋な物質に関するものである。
【実施例】
【０１０３】
調製実施例
実施例1：  4-メトキシベンジリデン-ジ-(2-メチルブチル)-マロネート
【化１６】
0005722312.tif 000071
【０１０４】
蒸留ヘッドが付いているフラスコの中で、マロン酸ジエチル(103g, 0.637mol)と2-メチル-1-ブタノール(284g, 3.18mol)と濃硫酸(95%, 12.9g, 0.125mol)の混合物を油浴(浴温度  160℃)によって3時間加熱する。この時間の間に120mLの留出物を収集する。その反応混合物を室温まで冷却し、水で洗浄する。過剰の2-メチル-1-ブタノールをロータリーエバポレーターを使用して減圧下に除去した後、ジ-(2-メチルブチル)-マロネート(153g, 98%)が無色の液体として得られる。該化合物は、減圧蒸留(bp. 115-125℃/5mbar)によってさらに精製することができる。
【０１０５】
1H-NMR(360MHz，CDCl3)：δ=0.86-0.93(m, 12H), 1.12-1.24(m, 2H), 1.36-1.48(m, 2H), 1.65-1.78(m, 2H), 3.37(s, 2H), 3.93(dd, J=6.5Hz, 10.5Hz, 2H), 4.03(dd, J=6.5Hz, 10.5Hz, 2H)；
13C-NMR(90MHz，CDCl3)：δ=11.06, 16.19, 25.84, 33.98, 41.62, 70.00, 166.6 ppm。
【０１０６】
ディーン−スターク装置が付いているフラスコの中で、4-メトキシベンズアルデヒド(67.4g, 0.495mol)、ジ-(2-メチルブチル)-マロネート(110g, 0.450mol)とn-ヘキシルアミン(4.7g, 0.045mol)の混合物を4時間加熱還流する。その反応混合物を室温まで冷却し、ロータリーエバポレーターを使用して減圧下にトルエンを除去する。高真空下におけるクーゲルロール蒸留によって精製して、4-メトキシベンジリデン-ジ-(2-メチルブチル)-マロネート(136g, 83%)を得た。
【０１０７】
1H-NMR(360MHz，CDCl3)：δ=0.87-0.95(m, 12H), 1.11-1.28(m, 2H), 1.36-1.51(m, 2H), 1.65-1.85(m, 2H), 3.83(s, 3H), 4.01-4.17(m, 4H), 6.88(d, J=8.5Hz, 2H), 7.41(d, J=8.5Hz, 2H), 7.66(s, 1H) ppm；
13C-NMR(90MHz，CDCl3)：δ=11.06, 11.14, 16.29, 25.85, 25.92, 33.90, 34.14, 55.30, 69.86, 70.27, 114.3, 123.7, 125.4, 131.5, 141.7, 161.5, 164.5, 167.4 ppm。
【０１０８】
以下の実施例は、実施例１と類似した方法で調製する：
【表３１】
0005722312.tif 000072
【０１０９】
実施例13：  4-メトキシベンジリデン-ジ-(1-メチルブチル)-マロネート
【化１７】
0005722312.tif 000073
【０１１０】
蒸留ヘッドが付いているフラスコの中で、マロン酸ジエチル(32.0g, 0.200mol)と2-プロパノール(106g, 1.20mol)とTi(OEt)4(9.1g, 0.040mol)の混合物を油浴(浴温度  160℃)によって14時間加熱し、それによって、遊離エタノールを留去する。その反応混合物を室温まで冷却した後、0.5M 水性HCl(200mL)およびEtOAc(200mL)を添加する。相を分離し、その有機相を水(200mL)で洗浄し、ブライン(200mL)で洗浄し、Na2SO4で脱水する。ロータリーエバポレーターを使用して減圧下に溶媒を除去した後、ジ-(1-メチルブチル)-マロネート(45.8g, 94%)が無色の液体として得られる。該化合物は、減圧蒸留によってさらに精製することができる。
【０１１１】
1H-NMR(360MHz，CDCl3)：δ=0.90(t, J=7.5Hz, 6H), 1.22(d, J=6.5Hz, 6H), 1.27-1.51(m, 6H), 1.54-1.65(m, 2H), 3.30(s, 2H), 4.96(sext., J=6.5Hz, 2H)；
13C-NMR(90MHz，CDCl3)：δ=13.78, 18.48, 19.74, 37.88, 42.31, 72.11, 166.3 ppm。
【０１１２】
TiCl4(8.05g, 0.0420mol)を0℃でTHF(90mL)に滴下して加えることにより、黄色の沈澱物が得られる。4-メトキシベンズアルデヒド(2.78g, 0.02mol)とジ-(1-メチルブチル)-マロネート(4.89g, 0.02mol)をTHF(10mL)に溶解させた溶液をゆっくりと添加した後、ピリジン(25.3g, 0.32mol)を添加する。その反応混合物を0℃で2時間撹拌し、次いで、室温で一晩撹拌する。水(60mL)および酢酸エチル(120mL)を添加し、固形物が溶解するまで撹拌を継続する。有機相を分離し、ブラインで洗浄し、飽和水性NaHCO3溶液で洗浄し、Na2SO4で脱水する。ロータリーエバポレーターを使用して減圧下に溶媒を除去して、4-メトキシベンジリデン-ジ-(1-メチルブチル)-マロネート(7.17g, 99%)を得る。この生成物は、高真空下におけるクーゲルロール蒸留によってさらに精製することができる。
【０１１３】
1H-NMR(360MHz，CDCl3)：δ=0.90(t, J=7.5Hz, 3H), 0.92(t, J=7.5Hz, 3H), 1.27(t, J=5.5Hz, 3H), 1.28(t, J=5.5Hz, 3H), 1.30-1.55(m, 6H), 1.58-1.70(m, 2H), 3.82(s, 3H), 5.01-5.19(m, 2H), 6.87(d, J=9.0Hz, 2H), 7.44(d, J=9.0Hz, 2H), 7.62(s, 1H)。
【０１１４】
実施例14：  4-メトキシベンジリデン-ジ-イソプロピル-マロネート
【化１８】
0005722312.tif 000074
【０１１５】
4-メトキシベンズアルデヒド(16.7g, 0.12mol)とマロン酸ジイソプロピル(23.1g, 0.12mol)の溶液にTi(OiPr)4(47.4mL, 0.16mol)を添加し、得られた混合物を室温で2日間撹拌する。生じた懸濁液を氷冷1M HCl(280mL)の上に注ぎ、その混合物を0℃で30分間撹拌する。次いで、その生成物を酢酸エチルで抽出し、その有機層を飽和水性NaHCO3およびブラインで洗浄し、次いで、Na2SO4で脱水する。ロータリーエバポレーターを使用して減圧下に溶媒を除去する。クーゲルロール蒸留による精製に付して、4-メトキシベンジリデン-ジイソプロピルマロネート(33.1g, 90%)を得る。
【０１１６】
1H-NMR(360MHz，CDCl3)：δ=1.29(d, J=6.5Hz, 6H), 1.31(d, J=6.5Hz, 6H), 3.82(s, 3H), 5.14(sept, J=6.5Hz, 1H), 5.26(sept, J=6.5Hz, 1H), 6.87(d, J=8.8Hz, 2H), 7.44(d, J=8.8Hz, 2H), 7.61(s, 1H) ppm。
【０１１７】
実施例15：  4-エトキシベンジリデン-ジ-イソプロピル-マロネート
【化１９】
0005722312.tif 000075
【０１１８】
この化合物は、実施例14と同様にして、マロン酸ジイソプロピルを4-エトキシベンズアルデヒドとクネベナーゲル縮合させることによって調製することができる。
【０１１９】
実施例16：  4-n-プロポキシベンジリデン-ジ-イソプロピル-マロネート
【化２０】
0005722312.tif 000076
【０１２０】
この化合物は、実施例14と同様にして、マロン酸ジイソプロピルを4-n-プロポキシベンズアルデヒドとクネベナーゲル縮合させることによって調製することができる。
【０１２１】
実施例17：  4-n-ブトキシベンジリデン-ジ-イソプロピル-マロネート
【化２１】
0005722312.tif 000077
【０１２２】
この化合物は、実施例14と同様にして、マロン酸ジイソプロピルを4-n-ブトキシベンズアルデヒドとクネベナーゲル縮合させることによって調製することができる。
【０１２３】
1H-NMR(360MHz，CDCl3)：δ=0.97(t, J=7.5Hz, 3H), 1.30(d, J=6.0Hz, 6H), 1.31(d, J=6.0Hz, 6H), 1.43-1.54(m, 2H), 1.73-1.82(m, 2H), 3.98(t, J=6.5Hz, 2H), 5.14(sept., J=6.0Hz, 1H), 5.27(sept., J=6.0Hz, 1H), 6.86(d, J=9.0Hz, 2H), 7.42(d, J=9.0Hz, 2H), 7.61(s, 1H)；
13C-NMR(90MHz，CDCl3)：δ=13.72, 19.12, 21.49, 21.74, 31.10, 67.75, 69.86, 68.96, 114.6, 124.2, 125.2, 131.5, 141.0, 161.1, 164.0, 166.7 ppm。
【０１２４】
実施例18：  4-メトキシベンジリデン-ジ-tert-ブチル-マロネート
【化２２】
0005722312.tif 000078
【０１２５】
TiCl4(1.15mL, 10.5mmol)をCCl4(2.5mL)に溶解させた溶液を0℃でTHF(20mL)に滴下して加えることにより黄色の沈澱物が得られる。4-メトキシベンズアルデヒド(0.61mL, 5.0mmol)とマロン酸ジ-tert-ブチル(1.12mL, 5.0mmol)をTHFに溶解させた溶液をゆっくりと添加した後、ピリジン(6.75mL, 83.5mmol)を添加する。その反応混合物を0℃で2時間撹拌し、次いで、室温で一晩撹拌する。水(30mL)および酢酸エチル(30mL)を添加し、固形物が溶解するまで撹拌を継続する。有機相を分離し、ブラインで洗浄し、飽和水性NaHCO3溶液で洗浄し、Na2SO4で脱水し、ロータリーエバポレーターを使用して減圧下に溶媒を除去する。次いで、その残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(シクロヘキサン/酢酸エチル  9:1)に付して、4-メトキシベンジリデン-ジ-tert-ブチル-マロネート(1.32g, 79%)を得る。
【０１２６】
1H-NMR(360MHz，CDCl3)：δ=1.53(s, 9H), 1.55(s, 9H), 3.83(s, 3H), 6.87(d, J=8.5Hz, 2H), 7.47(d, J=8.5Hz, 2H), 7.48(s, 1H) ppm；
13C-NMR(90MHz，CDCl3)：δ=27.89, 28.09, 55.27, 81.65, 82.04, 114.0, 125.9, 126.6, 131.4, 139.5, 161.2, 163.8, 166.4 ppm；
13C-NMR(90MHz，CDCl3)：δ=27.89, 28.09, 55.27, 81.65, 82.04, 114.0, 125.9, 126.6, 131.4, 139.5, 161.2, 163.8, 166.4 ppm。
【０１２７】
実施例19：  4-メトキシベンジリデン-ジ-(1,1-ジメチルプロピル)-マロネート
【化２３】
0005722312.tif 000079
【０１２８】
ジ-(1,1-ジメチルプロピル)-マロネートは、EP278914に記載されているように、マロン酸ジメチルまたはマロン酸ジエチルを2-メチル-2-ブタノールとの塩基が触媒するエステル交換反応に付すことにより調製する。あるいは、ジ-(1,1-ジメチルプロピル)-マロネートは、マロニルジクロリドを2-メチル-2-ブタノールと反応させることによって調製する。
【０１２９】
2-メチル-2-ブタノール(55mL, 0.50mol)とN,N-ジメチルアニリン(41mL, 0.32mol)の混合物に、5℃で、マロニルジクロリド(14.0g, 0.1mol)をCHCl3(30mL)に溶解させた溶液をゆっくりと添加する。その反応混合物を4時間90℃に加熱する。次いで、その反応混合物を室温まで冷却し、6N H2SO4(75mL)をゆっくりと添加する。次いで、その生成物を125mLのtert-ブチルメチルエーテルで3回抽出する。そのエーテル抽出物を合して6N H2SO4で1回洗浄し、水で2回洗浄し、10%K2CO3水溶液で2回洗浄し、および、ブラインで1回洗浄し、最後に、Na2SO4で脱水し、それに、少量のK2CO3を添加する。ロータリーエバポレーターを使用して減圧下に溶媒を除去する。次いで、その残渣を減圧下(bp. 113-114℃/10mbar)に蒸留して、ジ-(1,1-ジメチルプロピル)-マロネート(11.4g, 47%)を得る。
【０１３０】
1H-NMR(360MHz，CDCl3)：δ=0.89(t, J=7.5Hz, 6H), 1.43(s, 12H), 1.77(q, J=7.5Hz, 4H), 3.19(s, 2H) ppm；
13C-NMR(90MHz，CDCl3)：δ=8.101, 25.31, 33.36, 44.28, 84.11, 166.0 ppm；
13C-NMR(90MHz，CDCl3)：δ=8.101, 25.31, 33.36, 44.28, 84.11, 166.0 ppm。
【０１３１】
実施例17と同様にして、ジ-(1,1-ジメチルプロピル)-マロネートと4-メトキシベンズアルデヒドの間のクネベナーゲル縮合を実施する。カラムクロマトグラフィーに付した後、4-メトキシベンジリデン-ジ-(1,1-ジメチルプロピル)-マロネートが87%の収率で得られる。
【０１３２】
1H-NMR(360MHz，CDCl3)：δ=0.87(t, J=7.5Hz, 3H), 0.92(t, J=7.5Hz, 3H), 3.82(s, 3H), 6.86(d, J=8.8Hz, 2H), 7.47(d, J=8.8Hz, 2H), 7.49(s, 1H) ppm；
13C-NMR(90MHz，CDCl3)：δ=8.156, 8.209, 24.86, 25.61, 33.28, 34.22, 55.26, 84.28, 84.66, 114.0, 125.9, 126.8, 131.4, 139.5, 161.1, 163.8, 166.4 ppm；
13C-NMR(90MHz，CDCl3)：δ=8.156, 8.209, 24.86, 25.61, 33.28, 34.22, 55.26, 84.28, 84.66, 114.0, 125.9, 126.8, 131.4, 139.5, 161.1, 163.8, 166.4 ppm。
【０１３３】
適用実施例：
4-メトキシベンジリデン-ジ-tert-ブチル-マロネートを含むＯ/Ｗ日焼け止め製剤(実施例18の化合物；製剤A)
【表３２】
0005722312.tif 000080
【０１３４】
製造についての説明：
部分Ａと部分Ｂを別々に調製し、75℃に加熱する。撹拌を強めながら、部分Ｂを部分Ａの中に入れ、Ultra Turraxを用いて10000rpmで10秒間均質化する。撹拌しながら室温まで冷却させる。室温で、pHを5.80〜6.20に調節する。
【０１３５】
SPFについての試験：
サンドブラストを掛けたPMMAプレート(供給元：Helioscience, Marseille, France)の表面上に1.4mg/cm2の塗布量でサンプルを塗布し、Atlas CPS+ ソーラーシミュレータを用いて照射し、Optometrics SPF 290分析器内で試験する。インビトロSPFの計算は、「B. L. Diffey and J. Robson, J. Soc. Cosmet. Chem. 1989, 40, 127-133」に準じて行う。インビトロSPFは、5.0であると決定される。
【０１３６】
光安定性についての試験：
4-メトキシベンジリデン-ジ-tert-ブチル-マロン酸ブチルの光安定性は、当該エマルションを4枚の石英プレートの表面上に厚さ20μmの塗膜として塗布することによって決定する。そのプレートに、ソーラーシミュレータを用いて、1時間(5MED)、2時間(10MED)、4時間(20MED)および10時間(50MED)照射する。示されている照射時間が経過した後、その石英プレートのうちの1枚を5mLのテトラヒドロフランの中に浸す。次いで、高性能液体クロマトグラフィーを用いて、UV-Bフィルター「4-メトキシベンジリデン-ジ-tert-ブチル-マロネート」の量を求める。残留している4-メトキシベンジリデン-ジ-tert-ブチル-マロネートは、全ての場合において、100%(±1%)であると決定される。かくして、4-メトキシベンジリデン-ジ-tert-ブチル-マロネートは、Ｏ/Ｗ日焼け止め製剤中において完璧な光安定性を示す。
【０１３７】
ブチルメトキシジベンゾイルメタン(BMDBM, Parsol 1789)の安定性についての試験：
4-メトキシベンジリデン-ジ-tert-ブチル-マロネート(実施例17の化合物)とブチルメトキシジベンゾイルメタンを含むＯ/Ｗ日焼け止め製剤(製剤B)
【表３３】
0005722312.tif 000081
【０１３８】
該製剤は、製剤Aに関して上記で記載されているのと同様にして調製する。
【０１３９】
サンドブラストを掛けたPMMAプレート(供給元：Helioscience, Marseille, France)の表面上に1.4mg/cm2の塗布量でサンプルを塗布し、Atlas CPS+ ソーラーシミュレータを用いて照射し、Optometrics SPF 290分析器内で試験する。インビトロSPFの計算は、「B. L. Diffey and J. Robson, J. Soc. Cosmet. Chem. 1989, 40, 127-133」に準じて行う。インビトロSPFは、5.3であると決定される。
【０１４０】
ブチルメトキシジベンゾイルメタンの光安定性は、当該エマルションを石英プレートの表面上に厚さ20μmの塗膜として塗布することによって決定する。その塗膜に、ソーラーシミュレータを用いて、2時間(10MED)照射する。照射後、その石英プレートを5mLのテトラヒドロフランの中に浸す。次いで、高性能液体クロマトグラフィーを用いて、UV-Aフィルター「ブチルメトキシジベンゾイルメタン」の量を求める。残留しているブチルメトキシジベンゾイルメタンは、47%であると決定される。
【０１４１】
ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含むＯ/Ｗ日焼け止め製剤(比較製剤C)
【表３４】
0005722312.tif 000082
【０１４２】
該製剤は、製剤Aに関して上記で記載されているのと同様にして調製する。
【０１４３】
比較製剤C中におけるブチルメトキシジベンゾイルメタンの光安定性は、製剤Bに関して上記で記載されているのと同様にして決定する。残留しているブチルメトキシジベンゾイルメタンは、4%であると決定される。かくして、ブチルメトキシジベンゾイルメタンの回収率は、4-メトキシベンジリデン-ジ-tert-ブチル-マロネート(実施例17の化合物)の存在下においては11.75倍高いことが示された。