(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、該導電性基体上に、下記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の少なくとも１種、および不飽和結合を有する化合物の少なくとも１種、が重合されてなる重合体を含有する感光層と、を有する電子写真感光体。
Ｆ−［（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨ］ｂ    一般式（Ｉ）
（式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および−Ｏ−から選ばれる基を、Ｙは炭素数１以上５以下の−ＳＨを置換基として含んでもよい２価の有機基を、ａ１およびａ２は１を、ｂは１以上６以下の整数を表す。）
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）における前記Ｆが、正孔輸送能を有する有機基である請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料が、下記一般式（II）で示されるチオール基含有電荷輸送材料である請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体。
【化１】
0005672027.tif 000103
（式（II）中、Ｄは−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨで表される結合基を、Ａｒ１乃至Ａｒ４はそれぞれ独立に置換または未置換のアリール基を、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基または置換若しくは未置換のアリーレン基を、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および−Ｏ−から選ばれる基を、Ｙは炭素数１以上５以下の−ＳＨを置換基として含んでもよい２価の有機基を、ａ１およびａ２は１を表す。Ａｒ１乃至Ａｒ５のうちの１個以上４個以下は−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨで表される結合基と結合し得る結合手を有し、ｃ１乃至ｃ５はそれぞれ独立に０以上２以下の整数を、ｋは０または１を表す。）
【請求項４】
前記不飽和結合を有する化合物が電荷輸送性骨格を有するモノマー、オリゴマーまたはポリマーである請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記不飽和結合を有する化合物が同一分子内に２つ以上の不飽和結合を有し、且つ電荷輸送性骨格を有さないモノマー、オリゴマーまたはポリマーである請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
前記感光層が、潤滑性粒子を含有する請求項１〜請求項５の何れか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項７】
導電性基体上に、下記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の少なくとも１種と、不飽和結合を有する化合物の少なくとも１種と、が重合されてなる重合体を含有する感光層を有する電子写真感光体、
該電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置、
帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置、
前記静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置、
および、前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置、
を備える画像形成装置。
Ｆ−［（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨ］ｂ    一般式（Ｉ）
（式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および−Ｏ−から選ばれる基を、Ｙは炭素数１以上５以下の−ＳＨを置換基として含んでもよい２価の有機基を、ａ１およびａ２は１を、ｂは１以上６以下の整数を表す。）
【請求項８】
前記電子写真感光体における感光層の総膜厚が２０μｍ以下であり、且つ前記露光装置が非干渉性の露光光源を有する請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記非干渉性の露光光源によって露光される前記電子写真感光体表面の露光スポットの面積が１０００μｍ２以下であり、且つ前記非干渉性の露光光源の発光の中心波長が４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下である請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記電子写真感光体が、電荷発生材料としてｎ型の有機顔料を含有する請求項７〜請求項９の何れか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記ｎ型の有機顔料が、縮合多環芳香族化合物、ペリレン化合物、およびアゾ化合物から選ばれる少なくとも１種の有機顔料である請求項１０に記載の画像形成装置。
【請求項１２】
導電性基体上に、下記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の少なくとも１種と、不飽和結合を有する化合物の少なくとも１種と、が重合されてなる重合体を含有する感光層を有する電子写真感光体を備え、
且つ画像形成装置に着脱し得るプロセスカートリッジ。
Ｆ−［（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨ］ｂ    一般式（Ｉ）
（式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および−Ｏ−から選ばれる基を、Ｙは炭素数１以上５以下の−ＳＨを置換基として含んでもよい２価の有機基を、ａ１およびａ２は１を、ｂは１以上６以下の整数を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、画像形成装置およびプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真感光体、有機ＥＬデバイス、有機トランジスター、有機太陽電池など、有機化合物を用いた電子デバイスが盛んに開発されている。
特に、耐熱性、強度の点においては、架橋構造とすることが有効であり、例えば、熱、あるいは光硬化した膜を用いた有機ＥＬデバイス（例えば特許文献１参照）、電荷輸送性基を含有するアクリルポリマーを用いた電子写真感光体（例えば特許文献２乃至４参照）、電荷輸送性基と反応性基を含有するアクリルポリマーを、膜形成後に架橋した電子写真感光体（例えば特許文献５参照）、光硬化型アクリル系モノマーを含有する液を塗布し硬化した膜（例えば特許文献６参照）等が開示されている。また、炭素−炭素二重結合を有するモノマー、炭素−炭素二重結合を有する電荷移動材およびバインダー樹脂の混合物を熱、あるいは光のエネルギーによって前記モノマーの炭素−炭素二重結合と前記電荷移動材の炭素−炭素二重結合とを反応させることにより形成された膜が開示され、特に、単官能メタクリル変性した電荷移動材と、電荷輸送性を有さないメタクリルモノマーと、ポリカーボネート樹脂とに有機過酸化物を用いて硬化したものが開示されている（例えば特許文献７参照）。
【０００３】
また、同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合した化合物からなる膜（例えば特許文献８参照）、チオール基を有する正孔輸送性化合物をシロキサンマトリックス中にドーピングし、硬化した膜を用いた電子写真感光体（例えば特許文献９参照）、チオール基を有する正孔輸送性化合物をオキセタンマトリックス中にドーピングし、硬化した膜を用いた電子写真感光体（例えば特許文献１０参照）等が開示されている。
【０００４】
更に、電荷輸送性構造を有する化合物と電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマーと連鎖移動剤からなり、光エネルギー照射手段によって架橋膜を有する電子写真感光体も開示されている（例えば特許文献１１参照）。
また、露光波長を５００ｎｍ以下とし、スポット面積を２０００μｍ２以下とした画像形成装置（例えば特許文献１２参照）、連鎖重合性官能基を有する輸送剤を電子線で硬化した表面層を有する感光体を３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長で露光すること（例えば特許文献１３参照）、１μｍ以上１０μｍ以下の表面保護層を有する感光体を３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長で、スポット径４０μｍ以下で露光すること（例えば特許文献１４参照）、感光体を３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長で、トナー粒子が重量平均粒径６μｍ以下で現像すること（例えば特許文献１５参照）、アゾ顔料を電荷発生剤として用い、３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長で露光すること（例えば特許文献１６参照）が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２００９／７３３１９３号
【特許文献２】特開平５−２０２１３５号公報
【特許文献３】特開平６−２５６４２８号公報
【特許文献４】特開平９−１２６３０号公報
【特許文献５】特開２００５−２２９１号公報
【特許文献６】特開平５−４０３６０号公報
【特許文献７】特開平５−２１６２４９号公報
【特許文献８】特開２０００−２０６７１５号公報
【特許文献９】特開２０００−３１０８７０号公報
【特許文献１０】特開平２００６−１８４８０３号公報
【特許文献１１】特開２００７−３２２４８３号公報
【特許文献１２】特開２００４−２１１３６号公報
【特許文献１３】特開２００５−５５８１８号公報
【特許文献１４】特開２００５−７０６４８号公報
【特許文献１５】特開２００５−７０６４９号公報
【特許文献１６】特開２００６−１２６３２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料以外の電荷輸送材料を用いる場合に比べ、優れた電気特性を得ることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は、以下の本発明によって達成される。
即ち、請求項１に係る発明は、
導電性基体と、該導電性基体上に、下記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の少なくとも１種、および不飽和結合を有する化合物の少なくとも１種、が重合されてなる重合体を含有する感光層と、を有する電子写真感光体である。
Ｆ−［（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨ］ｂ    一般式（Ｉ）
（式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および−Ｏ−から選ばれる基を、Ｙは炭素数１以上５以下の−ＳＨを置換基として含んでもよい２価の有機基を、ａ１およびａ２は１を、ｂは１以上６以下の整数を表す。）
【０００８】
請求項２に係る発明は、
前記一般式（Ｉ）における前記Ｆが、正孔輸送能を有する有機基である請求項１に記載の電子写真感光体である。
【０００９】
請求項３に係る発明は、
前記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料が、下記一般式（II）で示されるチオール基含有電荷輸送材料である請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体である。
【００１０】
【化１】
0005672027.tif 000002
【００１１】
（式（II）中、Ｄは−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨで表される結合基を、Ａｒ１乃至Ａｒ４はそれぞれ独立に置換または未置換のアリール基を、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基または置換若しくは未置換のアリーレン基を、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および−Ｏ−から選ばれる基を、Ｙは炭素数１以上５以下の−ＳＨを置換基として含んでもよい２価の有機基を、ａ１およびａ２は１を表す。Ａｒ１乃至Ａｒ５のうちの１個以上４個以下は−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨで表される結合基と結合し得る結合手を有し、ｃ１乃至ｃ５はそれぞれ独立に０以上２以下の整数を、ｋは０または１を表す。）
【００１２】
請求項４に係る発明は、
前記不飽和結合を有する化合物が電荷輸送性骨格を有するモノマー、オリゴマーまたはポリマーである請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１３】
請求項５に係る発明は、
前記不飽和結合を有する化合物が同一分子内に２つ以上の不飽和結合を有し、且つ電荷輸送性骨格を有さないモノマー、オリゴマーまたはポリマーである請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１４】
請求項６に係る発明は、
前記感光層が、潤滑性粒子を含有する請求項１〜請求項５の何れか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１５】
請求項７に係る発明は、
導電性基体上に、下記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の少なくとも１種と、不飽和結合を有する化合物の少なくとも１種と、が重合されてなる重合体を含有する感光層を有する電子写真感光体、
該電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置、
帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置、
前記静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置、
および、前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置、
を備える画像形成装置である。
Ｆ−［（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨ］ｂ    一般式（Ｉ）
（式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および−Ｏ−から選ばれる基を、Ｙは炭素数１以上５以下の−ＳＨを置換基として含んでもよい２価の有機基を、ａ１およびａ２は１を、ｂは１以上６以下の整数を表す。）
【００１６】
請求項８に係る発明は、
前記電子写真感光体における感光層の総膜厚が２０μｍ以下であり、且つ前記露光装置が非干渉性の露光光源を有する請求項７に記載の画像形成装置である。
【００１７】
請求項９に係る発明は、
前記非干渉性の露光光源によって露光される前記電子写真感光体表面の露光スポットの面積が１０００μｍ２以下であり、且つ前記非干渉性の露光光源の発光の中心波長が４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下である請求項８に記載の画像形成装置である。
【００１８】
請求項１０に係る発明は、
前記電子写真感光体が、電荷発生材料としてｎ型の有機顔料を含有する請求項７〜請求項９の何れか１項に記載の画像形成装置である。
【００１９】
請求項１１に係る発明は、
前記ｎ型の有機顔料が、縮合多環芳香族化合物、ペリレン化合物、およびアゾ化合物から選ばれる少なくとも１種の有機顔料である請求項１０に記載の画像形成装置である。
【００２０】
請求項１２に係る発明は、
導電性基体上に、下記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の少なくとも１種と、不飽和結合を有する化合物の少なくとも１種と、が重合されてなる重合体を含有する感光層を有する電子写真感光体を備え、
且つ画像形成装置に着脱し得るプロセスカートリッジである。
Ｆ−［（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨ］ｂ    一般式（Ｉ）
（式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および−Ｏ−から選ばれる基を、Ｙは炭素数１以上５以下の−ＳＨを置換基として含んでもよい２価の有機基を、ａ１およびａ２は１を、ｂは１以上６以下の整数を表す。）
【発明の効果】
【００２１】
請求項１に係る発明によれば、一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料以外の電荷輸送材料を用いる場合に比べ、優れた電気特性が得られる。
【００２２】
請求項２に係る発明によれば、一般式（Ｉ）におけるＦが正孔輸送能を有する有機基でない場合に比べ、優れた正孔輸送性が得られる。
【００２３】
請求項３に係る発明によれば、一般式（II）で示されるチオール基含有電荷輸送材料以外の電荷輸送材料を用いる場合に比べ、優れた正孔輸送性が得られる。
【００２４】
請求項４に係る発明によれば、不飽和結合を有する化合物が電荷輸送性骨格を有するモノマー、オリゴマーまたはポリマーでない場合に比べ、電気特性と機械的強度に優れた電子写真感光体が得られる。
【００２５】
請求項５に係る発明によれば、不飽和結合を有する化合物が同一分子内に２つ以上の不飽和結合を有さない場合および／または電荷輸送性骨格を有さないモノマー、オリゴマーもしくはポリマーでない場合に比べ、機械的強度に優れた電子写真感光体が得られる。
【００２６】
請求項６に係る発明によれば、潤滑性粒子を含有しない場合に比べ、電気特性の長期的安定性に優れた電子写真感光体が得られる。
【００２７】
請求項７に係る発明によれば、電子写真感光体において一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料以外の電荷輸送材料を用いる場合に比べ、画質に優れた画像が得られる。
【００２８】
請求項８に係る発明によれば、電子写真感光体における感光層の総膜厚が２０μｍ以下の薄膜であっても、露光装置が非干渉性の露光光源を有しない場合に比べ、高精細な画像が得られる。
【００２９】
請求項９に係る発明によれば、非干渉性の露光光源によって露光される電子写真感光体表面の露光スポットの面積が１０００μｍ２を超えるおよび／または非干渉性の露光光源の発光の中心波長が４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の範囲にない場合に比べ、高精細な画像が得られる。
【００３０】
請求項１０に係る発明によれば、電荷発生材料としてｎ型の有機顔料を含有しない場合に比べ、感光層の総膜厚が薄膜であっても、カブリ、黒ポチなどと呼ばれる画像欠陥が抑制され高精細な画像が得られる。
【００３１】
請求項１１に係る発明によれば、ｎ型の有機顔料が、縮合多環芳香族化合物、ペリレン化合物、およびアゾ化合物から選ばれる少なくとも１種の有機顔料でない場合に比べ、高精細な画像が得られる。
【００３２】
請求項１２に係る発明によれば、電子写真感光体において一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料以外の電荷輸送材料を用いる場合に比べ、画質に優れた画像が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す概略部分断面図。
【図２】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の一例を示す概略部分断面図。
【図３】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の一例を示す概略部分断面図。
【図４】本実施形態に係るプロセスカートリッジを備えた画像形成装置の概略断面図。
【図５】本実施形態に係るタンデム型画像形成装置の概略断面図。
【図６】（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）はそれぞれゴースト評価の基準を示す説明図。
【図７】露光ヘッドを示す模式図
【図８】露光ヘッドにより感光体に露光を施している状態を示す模式図。
【図９】実施例にて合成したチオール基含有電荷輸送材料のＩＲスペクトルを示すグラフ。
【図１０】実施例にて合成したチオール基含有電荷輸送材料のＩＲスペクトルを示すグラフ。
【図１１】実施例にて合成したチオール基含有電荷輸送材料のＩＲスペクトルを示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００３５】
＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る電子写真感光体（以下単に「感光体」と称すことがある）は、導電性基体と、該導電性基体上に、下記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の少なくとも１種、および不飽和結合を有する化合物の少なくとも１種、が重合されてなる重合体（以下単に「特定重合体」と称すことがある）を含有する感光層と、を有する。
Ｆ−［（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨ］ｂ    一般式（Ｉ）
（式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および−Ｏ−から選ばれる基を、Ｙは炭素数１以上５以下の−ＳＨを置換基として含んでもよい２価の有機基を、ａ１およびａ２はそれぞれ独立に０または１を、ｂは１以上６以下の整数を表す。）
尚、本実施形態では、上記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の中でも、ａ１およびａ２が１であるものが用いられる。
【００３６】
一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料は、極性基として−ＳＨを有しているが、硫黄原子の電気陰性度が小さいため、−ＯＨや−ＮＨ−などと異なりキャリア輸送を妨げる影響が比較的少ないため、これを用いて形成された膜においても電荷を捕獲するトラップの形成が抑制され、残留電位の蓄積が抑制され、電位安定性に優れるものと推察される。
また、通常、多官能の電荷輸送材料を架橋して得た感光層では、固定化されることに伴って層中での残留歪が増大するが、一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料は、電荷輸送性成分が運動自由度の高いチオエステル基を介して架橋されるために層中での残留歪が抑制され、構造的なトラップを生じにくいため、これらによって優れた電気特性が得られるものと推察される。
そのため、優れた電気特性を得たまま、更に形成する感光層の厚さをより厚くし得る。
【００３７】
また、感光層の強度を高める目的で、電荷輸送材料に対し更に多官能のアクリルモノマーを混合して成膜する場合、通常の電荷輸送材料では両者の相溶性が低いために上記多官能のアクリルモノマーの添加量を上げるには限界がある。しかし、一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料は、多官能のアクリルモノマーと類似したエステル構造を有しており、両者が相溶性に優れるために、多官能のアクリルモノマーと相分離を生じることなく架橋され、電気特性と強度とを兼ね備えた感光層が得られるものと推察される。
【００３８】
よって、前記一般式（１）で示されるチオール基含有電荷輸送材料を用いることで、電気特性と強度とを兼ね備えた感光層が形成され、特に１０μｍ以上の厚膜化を実現し得る。尚、一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の少なくとも１種と、不飽和結合を有する化合物の少なくとも１種と、が重合されてなる重合体（特定重合体）を含有する層が、本実施形態に係る感光体における最外表面を構成する表面層である場合、上記の厚膜化によって、繰り返し使用後での画質の低下が抑制される。高強度の表面層を有する場合、感光体の寿命はその表面層が摩滅した時点で決定されるため、厚膜化の実現は感光体の長寿命化に有効である。
【００３９】
さらに、画像を形成する際には感光体を放電によって帯電させ使用するが、その際に電気的なストレスや、オゾン等の放電ガスによるストレス等により、感光体の表面材料の劣化が起こり結果として放電生成物と呼ばれる硝酸アンモニウムなどのイオン性物質を吸着しやすくなる。そのために、特に高湿下で水分を吸着し、感光体の表面抵抗が低下し、形成される画像においては潜像にじみが生じ、結果として画像流れを生じやすい。これを抑制するためには、感光体に接触する清掃部材を設けその清掃部材との摩擦によって表面層を適度に磨耗させて、前記放電生成物を除去し前記潜像にじみを抑制する方法が有効である。尚、この磨耗量は、画像形成における帯電の方式、清掃の方式、用いるトナーの形状などの影響が大きく、画像形成のシステムによって大きく左右されるため、感光体の表面層の強度をそれに合わせて調整し得ることが重要となる。
これに対し、本実施形態に係る電子写真感光体では、一般式（１）で示されるチオール基含有電荷輸送材料等の架橋成分の割合や、一般式（１）で示されるチオール基含有電荷輸送材料等の反応性のモノマーの構造を選択することで、システムに合わせた最適な強度の表面層を形成し得る。
【００４０】
尚、一般式（１）で示されるチオール基含有電荷輸送材料自身を多官能の電荷輸送性モノマーとすることで、電荷輸送成分の濃度を低下させることなく、感光層に対して強度を付与し得る。
【００４１】
＜チオール基含有電荷輸送材料＞
本実施形態の新規なチオール基含有電荷輸送材料は、下記一般式（Ｉ）で示される。
Ｆ−［（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨ］ｂ    一般式（Ｉ）
（式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および−Ｏ−から選ばれる基を、Ｙは炭素数１以上５以下の−ＳＨを置換基として含んでもよい２価の有機基を、ａ１およびａ２はそれぞれ独立に０または１を、ｂは１以上６以下の整数を表す。）
【００４２】
Ｇとしては、置換もしくは未置換の炭素数１以上５以下のアルキレン基（直鎖状、分枝鎖状、環状のものを含む）、置換もしくは未置換の炭素数１以上５以下のアルキレン基と−Ｏ−とを組合わせた有機基等が好ましいものとして挙げられる。これらの中でも、直鎖状且つ未置換であり炭素数１以上５以下のアルキレン基、直鎖状且つ未置換であり炭素数１以上５以下のアルキレン基と−Ｏ−とを組合わせた有機基がより好ましい。
【００４３】
より具体的には、−ＣＨ２−、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、−Ｃ４Ｈ８−、−Ｃ５Ｈ１０−、−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−等が好ましいものとして挙げられる。
【００４４】
Ｙとしては、置換もしくは未置換の炭素数１以上５以下のアルキレン基（直鎖状、分枝鎖状、環状のものを含む）等が好ましいものとして挙げられる。尚、上記置換基としては、例えば−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＳＨ、等が挙げられ、これらの中でも特に−ＳＨ基が好ましい。
これらの中でも、直鎖状または分枝鎖状であり、−ＣＨ３、−ＳＨ基で置換されているかまたは未置換であり、且つ炭素数１以上５以下のアルキレン基がより好ましい。
【００４５】
より具体的には、−ＣＨ２−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＳＨ）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２−ＳＨ）−等が好ましいものとして挙げられる。
【００４６】
Ｆは、電荷輸送性を有する構造を示し、具体的には、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物、などが用いられる。
【００４７】
これらのうち、アリールアミン骨格を有するものが、電荷輸送性が高いため好ましく、特に一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の中でも、下記一般式（II）で表されるものが最も好ましい。
【００４８】
【化２】
0005672027.tif 000003
【００４９】
（式（II）中、Ｄは−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨで表される結合基を、Ａｒ１乃至Ａｒ４はそれぞれ独立に置換または未置換のアリール基を、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基または置換若しくは未置換のアリーレン基を、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および−Ｏ−から選ばれる基を、Ｙは炭素数１以上５以下の−ＳＨを置換基として含んでもよい２価の有機基を、ａ１およびａ２はそれぞれ独立に０または１を表す。Ａｒ１乃至Ａｒ５のうちの１個以上４個以下は−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨで表される結合基と結合し得る結合手を有し、ｃ１乃至ｃ５はそれぞれ独立に０以上２以下の整数を、ｋは０または１を表す。）
【００５０】
一般式（II）において、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３およびＡｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３およびＡｒ４は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
ここで、置換アリール基における置換基としては、−Ｄ（即ち−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨで表される結合基）以外のものとして、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数６以上１０以下のアリール基等が挙げられ、且つこれらのアルキル基、アルコキシ基、アリール基は置換、未置換の何れであってもよい。
【００５１】
Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３およびＡｒ４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３およびＡｒ４の各々に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ１」乃至「−（Ｄ）Ｃ４」を総括的に示した「−（Ｄ）Ｃ」と共に示す。
【００５２】
【化３】
0005672027.tif 000004
【００５３】
上記式（１）乃至（７）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、および炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、およびハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換または未置換のアリーレン基を表し、Ｄは−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨで表される結合基を表し、ｃは０、１または２を表し、ｓは０または１を表し、ｔは０以上３以下の整数を表し、Ｚ’は２価の有機連結基を示す。
【００５４】
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記構造式（８）または（９）で表されるものが望ましい。
【００５５】
【化４】
0005672027.tif 000005
【００５６】
上記式（８）および（９）中、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、およびハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔ’はそれぞれ０以上３以下の整数を表す。
【００５７】
また、前記式（７）中、Ｚ’は、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれかで表されるものが望ましい。また、ｓはそれぞれ０または１を表す。
【００５８】
【化５】
0005672027.tif 000006
【００５９】
上記式（１０）乃至（１７）中、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、およびハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑおよびｒはそれぞれ独立に１以上１０以下の整数を表し、ｔ”はそれぞれ０以上３以下の整数を表す。
【００６０】
前記式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【００６１】
【化６】
0005672027.tif 000007
【００６２】
また、一般式（II）中、Ａｒ５は、ｋが０のときは置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基が挙げられる。また、ｋが１のとき、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基から水素原子を１つ除いたアリーレン基が挙げられる。
【００６３】
一般式（II）における−Ｄ（即ち−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨで表される結合基）における、ＧおよびＹとしては、一般式（Ｉ）の説明において例示された各基が挙げられる。
【００６４】
上記一般式（II）中、ｃ１乃至ｃ５は各々独立に０、１または２を表し、Ｄの総数は１以上である。得られる硬化膜の強度を高め、繰り返し使用後の画質の低下を抑える観点からは、Ｄの総数は２以上であることが好適であり、４以上であることが更に好適である。
【００６５】
ここで、一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の具体例を下記に例示するが、これに限られるものではない。尚、一般式（Ｉ）で示される化合物の例を示す以下の表では、Ｆ−（Ｇ）ａ１−と−（Ｘ）ａ２−との接続部を「＊」で、−（Ｘ）ａ２−と−Ｙ−ＳＨとの接続部を「＃」で表す。但し、ａ２＝０の場合には「＊」と「＃」とが直接結合する。
尚、下記具体例中、(1),(38),(55)〜(56),(70)〜(74)の化合物は参考例として示すものである。
【００６６】
【化７】
0005672027.tif 000008
【００６７】
【化８】
0005672027.tif 000009
【００６８】
【化９】
0005672027.tif 000010
【００６９】
【化１０】
0005672027.tif 000011
【００７０】
【化１１】
0005672027.tif 000012
【００７１】
【化１２】
0005672027.tif 000013
【００７２】
【化１３】
0005672027.tif 000014
【００７３】
【化１４】
0005672027.tif 000015
【００７４】
【化１５】
0005672027.tif 000016
【００７５】
【化１６】
0005672027.tif 000017
【００７６】
【化１７】
0005672027.tif 000018
【００７７】
次いで、合成法について説明する。
一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料は、通常のエステル化反応で合成される。
例えば、特開平９−３１０３９号公報などに記載されたエステル基を含有するアリールアミン化合物を含チオールアルコールとエステル交換反応を行う方法や、エステル基を含有するアリールアミン化合物を加水分解によりフリーのカルボン酸とした後に、含チオールアルコール、あるいは含チオール炭化水素の塩素化物、臭素化物またはヨウ素化物などでエステル化する方法等により合成される。また、エステル基を含有するアリールアミン化合物をリチウムアルミニウムハイドライド、水素化ホウ素ナトリウムなどで対応するアルコールに還元した後に、含チオールカルボン酸化合物と反応させることで合成される。
【００７８】
また、下記一般式（３）で示されるアルコールと、下記一般式（４）で示されるカルボン酸、あるいは下記一般式（５）で示されるカルボン酸と、下記一般式（６）で示されるアルコールを、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの酸触媒を用いてエステル化することにより合成される。また、カルボン酸の代わりに対応するカルボン酸クロライドを用いてもよい。
【００７９】
Ｆ−[（Ｇ）ａ１−ＯＨ]ｂ      一般式（３）
ＨＯＯＣ−Ｙ−ＳＨ        一般式（４）
Ｆ−[（Ｇ）ａ１−ＣＯＯＨ]ｂ  一般式（５）
ＨＯ−Ｙ−ＳＨ            一般式（６）
（式中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を、Ｙは炭素数１以上５以下の−ＳＨを置換基として含んでもよい２価の有機基を示し、ａ１は０または１を、ｂは１以下６以下の整数を表わす。）
【００８０】
また、下記一般式（７）で示されるアルコールと、下記一般式（８）で示されるアルコールまたはハロゲン化物、あるいは下記一般式（９）で示されるアルコールまたはハロゲン化物と、下記一般式（１０）で示されるアルコールからＸがエーテル結合である化合物が合成される。
【００８１】
Ｆ−［（Ｇ）ａ１−ＯＨ］ｂ  一般式（７）
Ｊ−Ｙ−ＳＨ              一般式（８）
Ｆ−［（Ｇ）ａ１−Ｊ］ｂ    一般式（９）
ＨＯ−Ｙ−ＳＨ            一般式（１０）
（式中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を、Ｙは炭素数１以上５以下の−ＳＨを置換基として含んでもよい２価の有機基を示し、ａ１は０または１を、ｂは１以下６以下の整数を、Ｊは水酸基、または塩素、臭素もしくはヨウ素を表す。)
【００８２】
エステル交換は、たとえば、実験化学講座、第４版、２８巻、Ｐ．２１７などに記載されたように、過剰量の含チオールアルコールと、チタン、スズ、亜鉛などの有機金属化合物を用いて加熱することで行われる。
【００８３】
含チオールアルコールは、アリールアミン化合物のエステル基に対し１当量以上、好ましくは、１．２当量以上、より好ましくは１．５当量以上加えることが好ましい。
硫酸、リン酸などの無機酸、チタンアルコキシド、カルシウム、コバルトなどの酢酸塩あるいは炭酸塩、亜鉛や鉛の酸化物を触媒として加えてもよい。触媒は、アリールアミン化合物１質量部に対して、１／１００００質量部以上１質量部以下、好ましくは１／１０００質量部以上１／２質量部以下で用いることが好ましい。
【００８４】
反応は、反応温度１００℃以上３００℃以下で行うことが好ましく、更に好ましくは脱離するアルコールの沸点以上で行う。
【００８５】
アリールアミン化合物のエステル基としては、エステル交換反応を促進するため、メタノール、エタノールなどの低沸点アルコールとのエステルが好ましい。
反応は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス中で行うことが好ましく、またｐ−シメン、１−クロロナフタレンなどの高沸点溶剤を用いて反応させてもよい。
【００８６】
アリールアミン化合物カルボン酸は、アリールアミン化合物のエステル基を、たとえば、実験化学講座、第４版、２０巻、Ｐ．５１などに記載されたように、ＮａＯＨ、Ｋ２ＣＯ３などの塩基性触媒、あるいはリン酸、硫酸などの酸性触媒を用いる加水分解により行われる。この際、溶剤としては、種々のものが使用されるが、メタノール、エタノール、エチレングリコールなどのアルコール系を用いるか、これに水を混合して用いることが好ましい。さらに、溶解性が低い場合には、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、ジメチルスルホキシド、エーテル、テトラヒドロフランなどを加えてもよい。
溶剤量に特に制限はないが、エステル基を含有するアリールアミン化合物１質量部に対して１質量部以上１００質量部以下、好ましくは２質量部以上５０質量部以下で用いることが好ましい。
反応温度は、室温（２０℃）以上溶剤の沸点以下で設定され、反応速度の問題上、５０℃以上が好ましい。
触媒の量については特に制限はないが、エステル基を含有するアリールアミン化合物１質量部に対して０．００１質量部以上１質量部以下、好ましくは０．０１質量部以上０．５質量部以下で用いることが好ましい。
加水分解反応後、塩基性触媒で加水分解を行った場合には、生成した塩を塩酸などの酸で中和し、遊離させる。さらに、十分に水洗した後、乾燥して使用するか、必要によっては、メタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、アセトンなど、適当な溶剤により、再結晶を行った後、乾燥して使用してもよい。
【００８７】
アリールアミン化合物カルボン酸に対し、含チオールアルコールを１当量以上、好ましくは１．２当量以上、より好ましくは１．５当量以上加えることが好ましい。
硫酸、リン酸などの無機酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸を触媒として脱水、エステル化により合成する。触媒は、アリールアミン化合物の１質量部に対して、１／１００００質量部以上１質量部以下、好ましくは１／１０００質量部以上１／２質量部以下で用いることが好ましい。
【００８８】
反応は、重合中に生成する水を除去するために、水と共沸し得る溶剤を用いることが好ましい。トルエン、クロロベンゼン、１−クロロナフタレンなどが有効であり、アリールアミン化合物カルボン酸１質量部に対して、１質量部以上１００質量部以下、好ましくは２質量部以上５０質量部以下の範囲で用いることが好ましい。
反応温度は自由に設定されるが、重合中に生成する水を除去するために、溶剤の沸点で反応させることが好ましい。反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶剤で抽出、水洗し、さらに必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
【００８９】
また、Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハロゲン基を有する含チオール炭化水素を、アリールアミン化合物カルボン酸の酸基に対し１等量以上５等量以下、好ましくは１．１等量以上３等量以下と、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、ＤＢＵ、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基と、をＮ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶剤、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤などの有機溶剤中で反応させ合成する。
塩基はカルボン酸に対し、１等量以上３等量以下、好ましくは１等量以上２等量以下で使用することが好ましい。使用する非プロトン性の有機溶媒はカルボン酸誘導体に対し１質量部以上５０質量部以下、好ましくは１．５質量部以上３０質量部以下で用いることが好ましい。
反応温度は、０℃以上溶剤の沸点以下で自由に設定されるが、０℃以上１５０℃以下が好ましい。反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶剤で抽出、水洗し、さらに必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
【００９０】
また、アリールアミン化合物のエステル基を、たとえば、実験化学講座、第４版、２０巻、Ｐ．１０などに記載されたように、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウムなどを用いて対応するアルコールに還元し、含チオールカルボン酸とエステル化して合成してもよい。
【００９１】
−不飽和結合を有する化合物−
ついで、不飽和結合を有する化合物について説明する。電荷輸送成分を有さないものとしては以下のようなものが挙げられる。
１官能のモノマーは、例えば、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、スチレン、などが挙げられる。
【００９２】
２官能のモノマーは、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート等が挙げられる。
３官能のモノマーは、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、脂肪族トリ（メタ）アクリレート、トリビニルシクロヘキサン等が挙げられる。
４官能のモノマーは、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、脂肪族テトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
５官能以上のモノマーは、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９３】
また、反応性のポリマーとしては、例えば、特開平５−２１６２４９号公報、特開平５−３２３６３０号公報、特開平１１―５２６０３号公報、特開２０００−２６４９６１号公報、特開２００５−２２９１号公報などに開示されたものが挙げられる。
【００９４】
電荷輸送成分を有さない不飽和結合を有する化合物を用いる場合には、単独又は２種以上の混合物として使用される。電荷輸送成分を有さない不飽和結合を有する化合物を、電子写真感光体の最表面層の形成に用いる場合であれば、該載表面層を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して、好ましくは６０質量％以下、より好ましくは５５質量％以下で用い、更に好ましくは５０質量％以下で使用される。
【００９５】
ついで、不飽和結合を有し、さらに電荷輸送性骨格を有する化合物（モノマー、オリゴマー、ポリマー）について説明する。
（Ｉ）連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物
連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物における連鎖重合性官能基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性官能基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基であることが望ましい。
また（Ｉ）連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物における電荷輸送性骨格としては電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が望ましい。
ここで、（Ｉ）連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物として、電荷輸送性に優れかつ、連鎖重合性に優れるといった観点から、好ましい例として、下記一般式（Ａ）で表される化合物が挙げられる。
【００９６】
【化１８】
0005672027.tif 000019
【００９７】
一般式（Ａ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、Ｄは、炭素二重結合を持つ官能基を有する基を表し、ｃ１乃至ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は１以上（２以上がより好ましい）である。
【００９８】
ここで、一般式（Ａ）で表される化合物としては、Ｄがアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを有する基（特に、これら基を末端に有する基）を表す化合物がよい。
また、一般式（Ａ）で表される化合物としては、Ｄが−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２（但し、Ｒ’は水素原子、又はメチル基を表し、ｄは１以上５以下の整数、ｅは０又は１を表す）を表す化合物もよい。
【００９９】
一般式（Ａ）において、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表す。Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
ここで、置換アリール基における置換基としては、Ｄで表される基以外のものとして、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。
【０１００】
Ａｒ１乃至Ａｒ４として具体例は、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれか一つであることがよい。なお、下記式（１）乃至（７）は、Ａｒ１乃至Ａｒ４の各々に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ１」乃至「−（Ｄ）Ｃ４」を総括的に表した「−（Ｄ）Ｃ」と共に表す。
【０１０１】
【化１９】
0005672027.tif 000020
【０１０２】
式（１）乃至（７）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表す。Ｒ２乃至Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｄは一般式（Ａ）におけるＤと同義の基を表し、ｃは１又は２を表し、ｓは０又は１を表し、ｔは０以上３以下の整数を表す。
【０１０３】
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記構造式（８）又は（９）で表されるものがよい。
【０１０４】
【化２０】
0005672027.tif 000021
【０１０５】
式（８）及び（９）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔ’は０以上３以下の整数を表す。
【０１０６】
また、式（７）中、Ｚ’は２価の有機連結基を表すが、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれか一つで表されるものがよい。また、ｓは０又は１を表す。
【０１０７】
【化２１】
0005672027.tif 000022
【０１０８】
式（１０）乃至（１７）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ独立に１以上１０以下の整数を表し、ｔ”は０以上３以下の整数を表す。
【０１０９】
式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれか一つであることがよい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【０１１０】
【化２２】
0005672027.tif 000023
【０１１１】
また、一般式（Ａ）中、Ａｒ５は、ｋが０の時は置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基として列挙したものが挙げられる。また、Ａｒ５は、ｋが１の時は置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基から目的とする位置の水素原子を１つ除いたアリーレン基が挙げられる。
【０１１２】
以下、一般式（Ａ）で表される化合物（（Ｉ）の化合物）の具体例を示す。なお、一般式（Ａ）で表される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
まず、炭素二重結合を持つ反応性官能基を１つ有する化合物の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【０１１３】
【化２３】
0005672027.tif 000024
【０１１４】
【化２４】
0005672027.tif 000025
【０１１５】
【化２５】
0005672027.tif 000026
【０１１６】
【化２６】
0005672027.tif 000027
【０１１７】
【化２７】
0005672027.tif 000028
【０１１８】
【化２８】
0005672027.tif 000029
【０１１９】
【化２９】
0005672027.tif 000030
【０１２０】
次に、炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ有する化合物の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【０１２１】
【化３０】
0005672027.tif 000031
【０１２２】
【化３１】
0005672027.tif 000032
【０１２３】
【化３２】
0005672027.tif 000033
【０１２４】
【化３３】
0005672027.tif 000034
【０１２５】
【化３４】
0005672027.tif 000035
【０１２６】
【化３５】
0005672027.tif 000036
【０１２７】
【化３６】
0005672027.tif 000037
【０１２８】
【化３７】
0005672027.tif 000038
【０１２９】
【化３８】
0005672027.tif 000039
【０１３０】
【化３９】
0005672027.tif 000040
【０１３１】
【化４０】
0005672027.tif 000041
【０１３２】
【化４１】
0005672027.tif 000042
【０１３３】
【化４２】
0005672027.tif 000043
【０１３４】
【化４３】
0005672027.tif 000044
【０１３５】
【化４４】
0005672027.tif 000045
【０１３６】
次に、炭素二重結合を持つ反応性官能基を３つ有する化合物の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【０１３７】
【化４５】
0005672027.tif 000046
【０１３８】
【化４６】
0005672027.tif 000047
【０１３９】
【化４７】
0005672027.tif 000048
【０１４０】
【化４８】
0005672027.tif 000049
【０１４１】
【化４９】
0005672027.tif 000050
【０１４２】
次に、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つから６つ有する化合物の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【０１４３】
【化５０】
0005672027.tif 000051
【０１４４】
【化５１】
0005672027.tif 000052
【０１４５】
【化５２】
0005672027.tif 000053
【０１４６】
【化５３】
0005672027.tif 000054
【０１４７】
【化５４】
0005672027.tif 000055
【０１４８】
【化５５】
0005672027.tif 000056
【０１４９】
【化５６】
0005672027.tif 000057
【０１５０】
【化５７】
0005672027.tif 000058
【０１５１】
【化５８】
0005672027.tif 000059
【０１５２】
【化５９】
0005672027.tif 000060
【０１５３】
【化６０】
0005672027.tif 000061
【０１５４】
【化６１】
0005672027.tif 000062
【０１５５】
【化６２】
0005672027.tif 000063
【０１５６】
【化６３】
0005672027.tif 000064
【０１５７】
【化６４】
0005672027.tif 000065
【０１５８】
【化６５】
0005672027.tif 000066
【０１５９】
（Ｉ）の化合物は、例えば、以下のようにして合成される。
即ち、（Ｉ）の化合物は、例えば、前駆体であるアルコールを、対応するメタクリル酸、又はメタクリル酸ハロゲン化物と縮合させて合成する。特定の電荷輸送性材料は、例えば、前駆体であるアルコールがベンジルアルコール構造の場合、アルコールと、ヒドロキシエチルメタクリレート等の水酸基を有するメタクリル酸誘導体と、の脱水エーテル化などにより合成してもよい。
【０１６０】
上記例示化合物ｉｖ−４及び例示化合物ｉｖ−１７の合成経路を一例として以下に示す。
【０１６１】
【化６６】
0005672027.tif 000067
【０１６２】
【化６７】
0005672027.tif 000068
【０１６３】
他の（Ｉ）の化合物は、例えば、上述した化合物ｉｖ−４の合成経路、及び化合物ｉｖ−１７合成経路に準じて合成される。
【０１６４】
（Ｉ）の化合物としては、前述のように、得られる膜の機械的強度が向上するといった観点から、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上含む化合物が用いられることがよい。
また、（Ｉ）の化合物として、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上含む化合物と、炭素二重結合を持つ反応性官能基を１つ以上３つ以下含む化合物と、を併用してもよい。この併用により、電荷輸送性能の低下を抑制しつつ、膜の強度が調整される。
（Ｉ）の化合物として、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上含む化合物と、炭素二重結合を持つ反応性官能基を１つ以上３つ以下含む化合物と、を併用する場合、（Ｉ）の化合物の総含有量に対して、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上含む化合物の含有量を５質量％以上とすることがよく、特に２０質量％以上とすることがよい。
【０１６５】
次に、他の（Ｉ）の化合物について説明する。
（Ｉ）の化合物としては、下記一般式（Ｂ）及び（Ｃ）によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーであってもよい。
【０１６６】
【化６８】
0005672027.tif 000069
【０１６７】
一般式（Ｂ）及び（Ｃ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、Ｘ、Ｙはそれぞれ独立して炭素数１以上２０以下の２価の有機基を表し、ａは０又は１を表し、ＣＴは電荷輸送性骨格を持つ有機基を表す。
ここで、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーの末端基としては、ラジカル重合反応による停止反応で生じた構造である。
【０１６８】
一般式（Ｂ）中、ＣＴが表す電子輸送性骨格を持つ有機基としては、上述した電荷輸送性骨格が挙げられるが、例えば、トリアリールアミン骨格、ベンジジン骨格、アリールアルカン骨格、アリール置換エチレン骨格、スチルベン骨格、アントラセン骨格、ヒドラゾン骨格を持つものなどが好適に挙げられるが、この中でもトリアリールアミン骨格、ベンジジン骨格、スチルベン骨格を持つものが望ましい。
【０１６９】
一般式（Ｂ）及び（Ｃ）中、Ｘ、Ｙが表す２価の有機基としては、例えば、アルキレン基、−Ｃ(＝Ｏ)−、−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−、芳香環、及びこれらを組み合わせた連結基から選択される一つを含む２価の有機基が挙げられる。なお、Ｘ、Ｙが表す２価の有機基は、水酸基を有さないことが望ましい。
Ｘが表す２価の有機基として具体的には、例えば、−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−（但し、ｎは０又は１以上１０以下の整数を表す）等が挙げられる。
Ｙが表す２価の有機基として具体的には、−（ＣＨ）ｎ−（但し、ｎは１以上１０以下の整数を表す）、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−（但し、ｎは０又は１以上１０以下の整数を表し、「（ＣＨ２）ｎ」の水素原子の一部は水酸基が置換していてもよい）、−（ＣＨ２）ｎ−Ａｒ−（但し、Ａｒは芳香環数１以上３以下のアリーレン基を表し、ｎは０又は１以上１０以下の整数を表す）、−Ａｒ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−（但し、Ａｒは芳香環数１以上３以下のアリーレン基を表し、ｎは０又は１以上１０以下の整数を表す）等が挙げられる。
【０１７０】
一般式（Ｂ）で表される部分構造の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限られるわけではない。なお、「（Ｘ）ａ」の欄において、「−」が示されている場合は、ａ＝０のときを示してり、基が示されている場合は、ａ＝１のときで、ＣＴと共にＸが表す基を示している。
【０１７１】
【化６９】
0005672027.tif 000070
【０１７２】
【化７０】
0005672027.tif 000071
【０１７３】
【化７１】
0005672027.tif 000072
【０１７４】
【化７２】
0005672027.tif 000073
【０１７５】
次に、一般式（Ｃ）で表される部分構造の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限られるわけではない。
【０１７６】
【化７３】
0005672027.tif 000074
【０１７７】
【化７４】
0005672027.tif 000075
【０１７８】
このうち、更に下記構造式（Ｄ）で表されるものが溶解性、製膜性に優れ、望ましい。
【０１７９】
【化７５】
0005672027.tif 000076
【０１８０】
一般式（Ｄ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、Ｘは炭素数１以上２０以下の２価の有機基を表し、Ｙ’は−Ｃ(＝Ｏ)−、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−を表し、ａ、ｂはそれぞれ独立して０又は１を表し、ＣＴは電荷輸送性骨格を持つ有機基を表す。
ｍ、ｎはそれぞれ５以上の整数を表し、１０＜ｍ＋ｎ＜２０００、かつ０．２＜ｍ／（ｍ＋ｎ）＜０．９５であり、強度、可とう性、電気特性の観点から、１５＜ｍ＋ｎ＜２０００、かつ０．３＜ｍ／（ｍ＋ｎ）＜０．９５が望ましく、２０＜ｍ＋ｎ＜２０００、かつ０．４＜ｍ／（ｍ＋ｎ）＜０．９５がさらに望ましい。
なお、一般式（Ｄ）中、Ｘが表す２価の有機基、及びＣＴが表す電荷輸送性骨格を持つ有機基としては、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）中のＸ、ＣＴと同義である。
【０１８１】
一般式（Ｂ）及び（Ｃ）によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーは、例えば、一般式（Ａ）で表される化合物をモノマーとして使用し、メタクリル酸、アクリル酸、グリシジル化合物およびこれらの誘導体との共重合等、公知の方法によって製造される。
【０１８２】
また、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーは、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）で示されるものに加え、溶解性、可とう性を付与するために１官能のモノマーを共重合してもよい。
１官能のモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、などのアクリレート、あるいは、メタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、４−メチルスチレンなどのスチレン誘導体などが挙げられる。
これらを共重合する際に使用される量（ｌ）は、溶解性及び可とう性を付与する観点から、上記一般式（Ｄ）中のｍに対してｌ／ｍ＜０．３が望ましく、ｌ／ｍ＜０．２がより望ましい。
【０１８３】
なお、これら（Ｉ）の化合物は、１単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
【０１８４】
〔電子写真感光体〕
本実施形にかかる電子写真感光体は、導電性基体上に、前記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の少なくとも１種、および不飽和結合を有する化合物の少なくとも１種、が重合されてなる重合体を含有する感光層を有する。
【０１８５】
さらに、架橋性モノマー自身を多官能の電荷輸送性モノマーとすることで、電荷輸送成分の濃度を低下させることなく強度を付与してもよい。
【０１８６】
本実施形態に係る電子写真感光体では、一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料を含有する層を最表面層として有するものが好ましく、当該最表面層は電子写真感光体自体の最上面を形成していればよく、保護層として機能する層、または電荷輸送層として機能する層として設けられる。
なお、最表面層が保護層として機能する層である場合、この保護層の下層には、電荷輸送層および電荷発生層からなる感光層、または単層型感光層を有することとなる。
【０１８７】
最表面層が保護層として機能する層の場合、導電性基体上に、感光層、および最表面層としての保護層を有し、該保護層が前記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料を用いて形成されたポリマーを含有する組成物、あるいはその硬化物を含有する層である形態が挙げられる。
一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、および最表面層としての電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が前記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の少なくとも１種、および不飽和結合を有する化合物の少なくとも１種、が重合されてなる重合体を含有する組成物、あるいはその硬化物を含有する層である形態が挙げられる。
また、チオール基、不飽和結合などの反応性を有さない電荷輸送材料を混合してもよい。
【０１８８】
以下、最表面層が保護層として機能する層の場合の、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一または相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
【０１８９】
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体の好適な一例を示す模式断面図である。図２乃至図３はそれぞれ他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。
【０１９０】
図１に示す電子写真感光体７Ａは、いわゆる機能分離型感光体（または積層型感光体）であり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、電荷輸送層３、および保護層５が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ａにおいては、電荷発生層２および電荷輸送層３により感光層が構成される。
【０１９１】
図２に示す電子写真感光体７Ｂは、図１に示す電子写真感光体７Ａのごとく、電荷発生層２と電荷輸送層３とに機能が分離された機能分離型感光体である。
図２に示す電子写真感光体７Ｂにおいては、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に、電荷輸送層３、電荷発生層２、および保護層５が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ｂにおいては、電荷輸送層３および電荷発生層２により感光層が構成される。
【０１９２】
図３に示す電子写真感光体７Ｃは、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層（単層型感光層６）に含有するものである。図３に示す電子写真感光体７Ｃにおいては、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に単層型感光層６、保護層５が順次形成された構造を有するものである。
【０１９３】
そして、図１、図２および図３に示す電子写真感光体７Ａ、７Ｂおよび７Ｃにおいて、保護層５が、導電性基体２から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記の構成となっている。
尚、図１、図２および図３に示す電子写真感光体において、下引層１は設けてもよいし、設けなくてもよい。
【０１９４】
以下、代表例として図１に示す電子写真感光体７Ａに基づいて、各要素について説明する。
【０１９５】
−保護層−
まず、電子写真感光体７Ａにおける最表面層である保護層５について説明する。
保護層５は、電子写真感光体７Ａにおける最表面層であり、前記一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の少なくとも１種、および不飽和結合を有する化合物の少なくとも１種、が重合されてなる重合体を含有して形成されることが好ましい。
【０１９６】
硬化方法としては、熱、光、または放射線などによるラジカル重合が行なわれる。反応が早く進行しすぎないよう調整すると膜のムラやシワの発生が抑制されるため、ラジカル発生が比較的ゆっくりと起こる条件下で重合させることが望ましい。この点からは、重合速度を調整しやすい熱重合が好適である。
【０１９７】
・非反応性の電荷輸送材料
保護層（最表面層）５を構成する膜は、非反応性の電荷輸送材料を併用してもよい。非反応性の電荷輸送材料は電荷輸送を担っていない反応性基を有さないため、非反応性の電荷輸送材料を保護層（最表面層）５に用いた場合には実質的に電荷輸送成分の濃度が高まり、電気特性を更に改善するのに有効である。また、非反応性の電荷輸送材料を添加して架橋密度を減じ、強度を調整してもよい。
【０１９８】
非反応性の電荷輸送材料としては、公知の電荷輸送材料を用いてもよく、具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等が用いられる。
中でも、モビリティー、相溶性など点から、トリフェニルアミン骨格を有するものが望ましい。
【０１９９】
非反応性の電荷輸送材料は、層形成のための塗布液中の全固形分に対して０質量％以上３０質量％以下で用いられることが望ましく、より望ましくは１質量％以上２５質量％以下であり、更に望ましくは５質量％以上２５質量％以下である。
【０２００】
・その他の添加剤
保護層（最表面層）５を構成する硬化膜は、更に成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、特にフッ素含有のカップリング剤と混合して用いてもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。また、ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物を用いてもよい。
【０２０１】
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が挙げられる。
市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−８２３９（以上、信越化学工業社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が挙げられる。
【０２０２】
また、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。
【０２０３】
シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、架橋膜の成膜性の観点から、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。更に、特開２００１−１６６５１０号公報などに開示されている反応性のフッ素化合物などを混合してもよい。
ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物としては、特開２００７−１１００５号公報に記載の化合物などが挙げられる。
【０２０４】
保護層（最表面層）５を構成する硬化膜には、劣化防止剤を添加することが好ましい。劣化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。
劣化防止剤の添加量としては２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。
【０２０５】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、イルガノックス１０７６、イルガノックス１０１０、イルガノックス１０９８、イルガノックス２４５、イルガノックス１３３０、イルガノックス３１１４、イルガノックス１０７６、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシビフェニル等が挙げられる。
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、サノールＬＳ２６２６、サノールＬＳ７６５、サノールＬＳ７７０、サノールＬＳ７４４、チヌビン１４４、チヌビン６２２ＬＤ、マークＬＡ５７、マークＬＡ６７、マークＬＡ６２、マークＬＡ６８、マークＬＡ６３が挙げられ、チオエーテル系として、スミライザーＴＰＳ、スミライザーＴＰ−Ｄが挙げられ、ホスファイト系として、マーク２１１２、マークＰＥＰ−８、マークＰＥＰ−２４Ｇ、マークＰＥＰ−３６、マーク３２９Ｋ、マークＨＰ−１０等が挙げられる。
【０２０６】
更に、保護層（最表面層）５を構成する硬化膜には導電性粒子や、有機、無機粒子を添加してもよい。
この粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカおよびシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、好ましくは平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれる。該粒子としては一般に市販されているものを使用してもよい。
【０２０７】
保護層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、保護層５の全固形分全量を基準として、０．１質量％以上５０質量％以下、好ましくは０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。
【０２０８】
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。
これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は好ましくは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
表面層中のシリコーン粒子の含有量は、保護層５の全固形分全量を基準として、好ましくは０．１質量％以上３０質量％以下、より好ましくは０．５質量％以上１０質量％以下である。
【０２０９】
また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集、８９頁”に示される、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂で構成される粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ２−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。さらに、粒子を分散させるために公知の種々の分散材を用いてもよい。
【０２１０】
また、シリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。
シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１．３．５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
【０２１１】
また、金属、金属酸化物およびカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀およびステンレス等、またはこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズおよびアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。
これらは単独で、または２種以上を組み合わせて用いる。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着での混合でもよい。導電性粒子の平均粒径は０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が好ましい。
【０２１２】
（組成物）
保護層５を形成するために用いる組成物は、一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料の少なくとも１種、および不飽和結合を有する化合物の少なくとも１種、が溶媒中に溶解してなる溶解液（保護層形成用塗布液）として調製されることが望ましい。
この保護層形成用塗布液は、無溶媒であってもよいし、必要に応じて、トルエン、キシレンなどの芳香族、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのセロソルブ系、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール系等の溶媒などの単独または混合溶媒を用いて調製される。
【０２１３】
また、前述の成分を反応させて塗布液を得るときには、各成分を単純に混合、溶解させるだけでもよいが、望ましくは室温（２０℃）以上１００℃以下、より望ましくは３０℃以上８０℃以下で、望ましくは１０分以上１００時間以下、より望ましくは１時間以上５０時間以下の条件で加温する。また、この際に超音波を照射することも望ましい。
【０２１４】
（保護層５の作製）
保護層形成用塗布液は、被塗布面（図１に示す態様では電荷輸送層３）の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、インクジェット塗布法等の通常の方法により塗布される。
その後、得られた塗膜に対して、光、電子線または熱を付与してラジカル重合を生起させて、該塗膜を重合、硬化させる。
【０２１５】
熱により塗膜を重合、硬化させる際、加熱条件は５０℃以上であることが望ましい。特に、加熱温度としては、１００℃以上１８０℃以下が望ましい。
【０２１６】
光により塗膜を重合、硬化させる際、水銀灯、メタルハライドなどの公知の方法で照射して硬化膜を得る。
【０２１７】
上記のごとき、重合、硬化反応の際には、光、電子線または熱によって発生したラジカルが失活することなく連鎖反応を行えるよう、真空または不活性ガス雰囲気下で、酸素濃度が望ましくは１０％以下、より望ましくは５％以下、更に望ましくは２％以下、最も望ましくは５００ｐｐｍ以下の低酸素濃度で行われる。
【０２１８】
本実施態様では、ラジカルの発生が比較的ゆっくりと起こる熱による硬化方法が特に好ましい。
【０２１９】
保護層５の膜厚は３μｍ以上４０μｍ以下が好ましく、５μｍ以上３５μｍ以下とするのがさらに好ましい。
【０２２０】
以上、図１に示される電子写真感光体７Ａを参照し、機能分離型の感光層における各層の構成を説明したが、図２に示される機能分離型の電子写真感光体７Ｂにおける各層においてもこの構成が採用しうる。また、図３に示される電子写真感光体７Ｃの単層型感光層６の場合、以下の態様であることが望ましい。
【０２２１】
即ち、単層型感光層６中の電荷発生材料の含有量は、保護層（最表面層）５を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下が望ましく、更には１０質量％以上４０質量％以下がより望ましく、１５質量％以上３５質量％以下が特に好ましい。
【０２２２】
単層型感光層６の形成方法は、電荷発生層２や電荷輸送層３における形成方法を採用しうる。単層型感光層６の膜厚は５μｍ以上５０μｍ以下が望ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下とするのが更に望ましい。
【０２２３】
また、上述の実施形態では、最表面層が保護層５である形態を説明したが、保護層５がない層構成の場合には、その層構成において最表面に位置する電荷輸送層が該最表面層となる。最表面層が電荷輸送層である場合、この層の厚みは、７μｍ以上７０μｍ以下が望ましく、１０μｍ以上６０μｍ以下がより望ましい。
【０２２４】
・非反応性のバインダー樹脂
上記チオール基含有電荷輸送材料を樹脂に相溶させる場合、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂など公知の非反応性のバインダー樹脂が挙げられる。
【０２２５】
非反応性のバインダー樹脂の総含有量は、膜を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して、０質量％以上６０質量％以下が望ましく、より望ましくは０質量％以上５５質量％以下、更に望ましくは０質量％以上５０質量％以下である。
【０２２６】
・反応性化合物
硬化する場合、一般式（Ｉ）で示されるチオール基含有電荷輸送材料に、さらに反応性化合物を含有させてもよく、特に、同一分子内に２つ以上の二重結合を含むモノマー、オリゴマー、あるいはポリマーを混合して硬化することが、強度向上に好ましい。
【０２２７】
反応性化合物として、１官能のモノマーは、例えば、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、スチレンなどが挙げられる。
【０２２８】
反応性化合物として、２官能のモノマーは、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート等が挙げられる。
【０２２９】
反応性化合物として、３官能のモノマーは、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、脂肪族トリ（メタ）アクリレート、トリビニルシクロヘキサン等が挙げられる。
【０２３０】
反応性化合物として、４官能のモノマーは、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、脂肪族テトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０２３１】
反応性化合物として、５官能以上のモノマーは、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０２３２】
また、反応性化合物として、反応性のポリマーは、例えば、特開平５−２１６２４９号公報、特開平５−３２３６３０号公報、特開平１１―５２６０３号公報、特開２０００−２６４９６１号公報、特開２００５−２２９１号公報などに開示されたものが挙げられる。
【０２３３】
反応性化合物を用いる場合には、単独または２種以上の混合物として使用される。反応性化合物は、膜を形成する際に用いられる組成物の全固形分の全固形分に対して、好ましくは６０質量％以下、より好ましくは５５質量％以下で用い、更に好ましくは５０質量％以下で使用される。
【０２３４】
・重合、硬化
前記チオール基含有電荷輸送材料が溶解した溶解液を用い、該溶解液中の成分を重合することで硬化された膜を得る場合、その重合の際には熱、光、放射線などが用いられる。熱、光で重合、硬化を行う場合、重合開始剤は必ずしも必要ではないが、光硬化触媒または熱重合開始剤を用いてもよい。この光硬化触媒および熱重合開始剤としては、公知の光硬化触媒や熱重合開始剤が用いられる。放射線としては電子線が好ましい。
【０２３５】
−電子線硬化−
電子線を用いる場合、加速電圧は３００ＫＶ以下が好ましく、最適には１５０ＫＶ以下である。また、線量は好ましくは１Ｍｒａｄ以上１００Ｍｒａｄ以下の範囲、より好ましくは３Ｍｒａｄ以上５０Ｍｒａｄ以下の範囲である。加速電圧が３００ＫＶ以下であることにより感光体特性に対する電子線照射のダメージが抑制される。また、線量が１Ｍｒａｄ以上であることにより架橋が十分に行なわれ、１００Ｍｒａｄ以下であることにより感光体の劣化が抑制される。
【０２３６】
照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が１０００ｐｐｍ、好ましくは５００ｐｐｍ以下で行い、さらに照射中、あるいは照射後に５０℃以上１５０℃以下に加熱してもよい。
【０２３７】
−光硬化−
光源としては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプなどが用いられ、バンドパスフィルター等のフィルターを用いて好適な波長を選択してもよい。照射時間、光強度は自由に選択されるが、例えば照度（３６５ｎｍ）は３００ｍＷ／ｃｍ２以上、１０００ｍＷ／ｃｍ２以下が好ましく、例えば６００ｍＷ／ｃｍ２のＵＶ光を照射する場合、５秒以上３６０秒以下照射すればよい。
【０２３８】
照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が好ましくは１０００ｐｐｍ以下、より好ましくは５００ｐｐｍ以下で行い、さらに照射中、あるいは照射後に５０℃以上１５０℃以下に加熱してもよい。
【０２３９】
光硬化触媒として、分子内開裂型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系などが挙げられる。
より具体的には、ベンジルケタール系として、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンが挙げられる。
【０２４０】
また、アルキルフェノン系としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、アセトフェノン、２−フェニル−２−（ｐ−トルエンスルフォニルオキシ）アセトフェノンが挙げられる。
【０２４１】
アミノアルキルフェノン系としては、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モリホニル）フェニル］−１−ブタノンなどが挙げられる。
【０２４２】
ホスフィノキサイド系としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンキサイドなどが挙げられる。
【０２４３】
チタノセン系としては、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムなどが挙げられる。
【０２４４】
オキシム系としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）などが挙げられる。
【０２４５】
水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。
より具体的には、ベンゾフェノン系として、２−ベンゾイル安息香酸、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、ｐ，ｐ’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。
【０２４６】
チオキサントン系としては、２，４−ジエチルチオキサンテン−９−オン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
【０２４７】
ベンジル系としては、ベンジル、（±）−カンファーキノン、ｐ−アニシルなどが挙げられる。
【０２４８】
これらの光重合開始剤は、単独でまたは２種類以上を組み合わせて用られる。
【０２４９】
−熱硬化−
熱重合開始剤としては、Ｖ−３０、Ｖ−４０、Ｖ−５９、Ｖ６０１、Ｖ６５、Ｖ−７０、ＶＦ−０９６、ＶＥ−７３、Ｖａｍ−１１０、Ｖａｍ−１１１（和光純薬製）、ＯＴａｚｏ−１５、ＯＴａｚｏ−３０、ＡＩＢＭ、ＡＭＢＮ、ＡＤＶＮ、ＡＣＶＡ（大塚化学）等のアゾ系開始剤；パーテトラＡ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーヘキサＶ、パーヘキサ２２、パーヘキサＭＣ、パーブチルＨ、パークミルＨ、パークミルＰ、パーメンタＨ、パーオクタＨ、パーブチルＣ、パーブチルＤ、パーヘキシルＤ、パーロイルＩＢ、パーロイル３５５、パーロイルＬ、パーロイルＳＡ、ナイパーＢＷ、ナイパーＢＭＴ−Ｋ４０／Ｍ、パーロイルＩＰＰ、パーロイルＮＰＰ、パーロイルＴＣＰ、パーロイルＯＰＰ、パーロイルＳＢＰ、パークミルＮＤ、パーオクタＮＤ、パーヘキシルＮＤ、パーブチルＮＤ、パーブチルＮＨＰ、パーヘキシルＰＶ、パーブチルＰＶ、パーヘキサ２５０、パーオクタＯ、パーヘキシルＯ、パーブチルＯ、パーブチルＬ、パーブチル３５５、パーヘキシルＩ、パーブチルＩ、パーブチルＥ、パーヘキサ２５Ｚ、パーブチルＡ、パーヘキシルＺ、パーブチルＺＴ、パーブチルＺ（日油化学社製）、カヤケタールＡＭ−Ｃ５５、トリゴノックス３６−Ｃ７５、ラウロックス、パーカドックスＬ−Ｗ７５、パーカドックスＣＨ−５０Ｌ、トリゴノックスＴＭＢＨ、カヤクメンＨ、カヤブチルＨ−７０、ペルカドックスＢＣ−ＦＦ、カヤヘキサＡＤ、パーカドックス１４、カヤブチルＣ、カヤブチルＤ、カヤヘキサＹＤ−Ｅ８５、パーカドックス１２−ＸＬ２５、パーカドックス１２−ＥＢ２０、トリゴノックス２２−Ｎ７０、トリゴノックス２２−７０Ｅ、トリゴノックスＤ−Ｔ５０、トリゴノックス４２３−Ｃ７０、カヤエステルＣＮＤ−Ｃ７０、カヤエステルＣＮＤ−Ｗ５０、トリゴノックス２３−Ｃ７０、トリゴノックス２３−Ｗ５０Ｎ、トリゴノックス２５７−Ｃ７０、カヤエステルＰ−７０、カヤエステルＴＭＰＯ−７０、トリゴノックス１２１、カヤエステルＯ、カヤエステルＨＴＰ−６５Ｗ、カヤエステルＡＮ、トリゴノックス４２、トリゴノックスＦ−Ｃ５０、カヤブチルＢ、カヤカルボンＥＨ−Ｃ７０、カヤカルボンＥＨ−Ｗ６０、カヤカルボンＩ−２０、カヤカルボンＢＩＣ−７５、トリゴノックス１１７、カヤレン６−７０（化薬アクゾ社製）、ルルペロックス６１０、ルペロックス１８８、ルペロックス８４４、ルペロックス２５９、ルペロックス１０、ルペロックス７０１、ルペロックス１１、ルペロックス２６、ルペロックス８０、ルペロックス７、ルペロックス２７０、ルペロックスＰ、ルペロックス５４６、ルペロックス５５４、ルペロックス５７５、ルペロックスＴＡＮＰＯ、ルペロックス５５５、ルペロックス５７０、ルペロックスＴＡＰ、ルペロックスＴＢＩＣ、ルペロックスＴＢＥＣ、ルペロックスＪＷ、ルペロックスＴＡＩＣ、ルペロックスＴＡＥＣ、ルペロックスＤＣ、ルペロックス１０１、ルペロックスＦ、ルペロックスＤＩ、ルペロックス１３０、ルペロックス２２０、ルペロックス２３０、ルペロックス２３３、ルペロックス５３１などが挙げられる。
【０２５０】
これらのうち、分子量２５０以上のアゾ系重合開始剤を用いると、低い温度でムラなく反応が進行することから、ムラの抑制された高強度の膜の形成が図られる。より好適には、アゾ系重合開始剤の分子量は、２５０以上であり、３００以上が更に好適である。
【０２５１】
加熱は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が好ましくは１０００ｐｐｍ以下、より好ましくは５００ｐｐｍ以下で行い、好ましくは５０℃以上１７０℃以下、より好ましくは７０℃以上１５０℃以下で、好ましくは１０分以上１２０分以下、より好ましくは１５分以上１００分以下加熱する。
【０２５２】
光硬化触媒または熱重合開始剤の総含有量は、層形成のための溶解液中の全固形分に対して０．１質量％以上１０質量％以下が好ましく、更には０．１質量％以上８質量％以下がより好ましく、０．１質量％以上５質量％以下の範囲が特に好ましい。
【０２５３】
−導電性基体−
導電性基体４としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属または合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、および金属ベルトが挙げられる。また、導電性基体４としては、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属または合金を塗布、蒸着またはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等も挙げられる。
ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【０２５４】
電子写真感光体７Ａがレーザープリンターに使用される場合、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、導電性基体４の表面は、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化することが望ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要ない。
【０２５５】
粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、または回転する砥石に支持体を接触し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。
【０２５６】
また、他の粗面化の方法としては、導電性基体４表面を粗面化することなく、導電性または半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も望ましく用いられる。
【０２５７】
ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性である。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが望ましい。
陽極酸化膜の膜厚については、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。
【０２５８】
また、導電性基体４には、酸性水溶液による処理またはベーマイト処理を施してもよい。リン酸、クロム酸およびフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。
先ず、酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲が好ましい。処理温度は４２℃以上４８℃以下が好ましいが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜が形成される。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【０２５９】
ベーマイト処理は、９０℃以上１００℃以下の純水中に５分以上６０分以下浸漬すること、または９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分以上６０分以下接触させて行うことが好ましい。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【０２６０】
−下引層−
下引層１は、例えば、結着樹脂に無機粒子を含有して構成される。
無機粒子としては、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ω・ｃｍ以上１０１１Ω・ｃｍ以下のものが望ましく用いられる。
【０２６１】
なかでも上記抵抗値を有する無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子を用いるのが望ましく、特に、酸化亜鉛は望ましく用いられる。
【０２６２】
また、無機粒子は表面処理を行ったものでもよく、表面処理の異なるもの、または、粒子径の異なるものなど２種以上混合して用いてもよい。
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、１０ｍ２／ｇ以上が望ましい。
無機粒子の体積平均粒径は５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（望ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）の範囲であることが望ましい。
【０２６３】
更に、無機粒子と共にアクセプター性化合物を含有させることが好ましい。
アクセプター性化合物としては、上記特性が得られるものであれば限定されず、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。更にヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。
【０２６４】
これらのアクセプター性化合物の含有量は上記特性が得られる範囲であれば限定されないが、望ましくは無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下の範囲で含有され、更に０．０５質量％以上１０質量％以下の範囲で添加されることが望ましい。
【０２６５】
アクセプター化合物は、下引層形成用塗布液に添加するだけでもよいし、無機粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。
無機粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法、または、湿式法が挙げられる。
【０２６６】
乾式法にて表面処理を施す場合には、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接または有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって処理される。添加または噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。添加または噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間は任意の範囲で実施される。
【０２６７】
また、湿式法としては、無機粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、アクセプター化合物を添加し攪拌または分散した後、溶剤除去することで処理される。溶剤除去方法はろ過または蒸留により留去される。溶剤除去後には更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分を除去してもよく、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。
【０２６８】
また、無機粒子にはアクセプター化合物を付与する前に表面処理を施してもよい。表面処理剤としては、所望の特性が得られるものであればよく、公知の材料から選択される。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤は良好な電子写真特性を与えるため望ましく用いられる。更にアミノ基を有するシランカップリング剤が望ましく用いられる。
【０２６９】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、電子写真感光体特性が得られればいかなるものを用いてもよく、具体的例としては、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０２７０】
また、シランカップリング剤は２種以上混合して使用してもよい。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いてもよいシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０２７１】
また、これらの表面処理剤を用いた表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法または湿式法が用いられる。また、アクセプター化合物の付与と、カップリング剤等の表面処理剤による表面処理と、をいっぺんに行ってもよい。
【０２７２】
下引層１中の無機粒子に対するシランカップリング剤の量は電子写真特性が得られる量であれば限定されず、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が望ましい。
【０２７３】
また、下引層１には結着樹脂が含有されてもよい。
下引層１に含有される結着樹脂としては、良好な膜が形成されるもので、かつ、所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものを使用してもよく、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。
また、下引層１に含有される結着樹脂として、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いてもよい。なかでも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が好適である。これらを２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【０２７４】
下引層形成用塗布液中の、表面にアクセプター化合物を付与させた無機粒子（アクセプター性を付与した金属酸化物）とバインダー樹脂、または、無機粒子とバインダー樹脂との比率は電子写真感光体特性が得られる範囲で設定される。
【０２７５】
また、下引層１中には種々の添加物を用いてもよい。
添加物としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層形成用塗布液に添加してもよい。
【０２７６】
添加剤としてのシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
また、ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【０２７７】
チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【０２７８】
アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【０２７９】
これらの化合物は単独に若しくは複数の化合物の混合物または重縮合物として用いてもよい。
【０２８０】
下引層形成用塗布液を調製するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択される。
溶媒として、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が用いられる。
【０２８１】
また、これらの溶剤は単独または２種以上混合して用いてもよい。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤として結着樹脂を溶かし得る溶剤であれば、いかなるものでも使用される。
【０２８２】
下引層形成用塗布液を調製する際の無機粒子の分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法が用いられる。
更に、下引層１を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０２８３】
このようにして得られた下引層形成用塗布液を用い、導電性基体上に下引層１が成膜される。
【０２８４】
また、下引層１は、ビッカース硬度が３５以上とされていることが望ましい。
更に、下引層１は、所望の特性が得られるのであれば、いかなる厚さに設定されてもよいが、厚さ１５μｍ以上が望ましく、更に望ましくは１５μｍ以上５０μｍ以下とされていることが望ましい。
【０２８５】
また、下引層１の表面粗さ（十点平均粗さ）は、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整することが好ましい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が用いられる。
また、表面粗さ調整のために下引層表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が用いられる。ＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレーなどの非干渉性光源を用いる場合には平滑な表面を用いてもよい。
【０２８６】
下引層１は、導電性基体４上に塗布した前述の下引層形成用塗布液を乾燥させることで得られるが、通常乾燥は、溶剤を蒸発させ製膜し得る温度で行われる。
【０２８７】
−電荷発生層−
電荷発生層２は、電荷発生材料及び結着樹脂を含有する層である。また、結着樹脂を含有しない蒸着膜として形成してもよい。特に、ＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレーなどの非干渉性光源を用いる場合には好ましい。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。これらの中でも、近赤外域のレーザー露光に対応させるためには、電荷発生材料として、金属フタロシアニン顔料、及び無金属フタロシアニン顔料を用いることが望ましく、特に、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１１１７２号公報、特開平５−１１１７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報、特開平５−４３８２３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより望ましい。また、近紫外域のレーザー露光に対応させるためには、電荷発生材料として、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン、特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等を用いることがより望ましい。また、４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレーなどの非干渉性光源を用いる場合にも上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いる場合には、感光層中の電界強度が高くなり、基材からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒ぽちと呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレンや、フタロシアニン顔料などのp-型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いた時に顕著となる。これに対し、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料などのn-型半導体を用いた場合、暗電流を生じにくく、薄膜にしても黒ぽちと呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレーなどの非干渉性光源を用い、平滑な基材、下引き層を形成し、さらにn-型の電荷発生材料を用いることで、感光層を２０μｍ以下の薄膜にしても画像欠陥を生じず、長期に渡って高解像度の画像が得られることを見出した。n-型の電荷発生材料としては、具体的に以下の例があげられるがこれに限られるものではない。なお、n-型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをn-型とする。
【０２８８】
【化７６】
0005672027.tif 000077
【０２８９】
【化７７】
0005672027.tif 000078
【０２９０】
【化７８】
0005672027.tif 000079
【０２９１】
【化７９】
0005672027.tif 000080
【０２９２】
電荷発生層２に使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが望ましい。ここで、「絶縁性」とは、ここで、「絶縁性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
【０２９３】
電荷発生層２は、上述の電荷発生材料及び結着樹脂を定められた溶剤中に分散した電荷発生層形成用塗布液を用いて形成される。また、結着樹脂を含有しない蒸着膜として形成させてもよく、特に縮環芳香族顔料、ペリレン顔料は蒸着膜として好ましく使用し得る。
【０２９４】
分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【０２９５】
また、電荷発生材料及び結着樹脂を溶剤中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いられる。これらの分散方法により、分散による電荷発生材料の結晶型の変化が防止される。
更にこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、望ましくは０．３μｍ以下、更に望ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【０２９６】
また、電荷発生層２を形成する際には、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０２９７】
このようにして得られる電荷発生層２の膜厚は、望ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、更に望ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下である。
【０２９８】
−電荷輸送層−
図１に示す電荷輸送層３は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して、または高分子電荷輸送材を含有して形成される。
【０２９９】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物や、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独でまたは２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。
【０３００】
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が望ましい。
【０３０１】
【化８０】
0005672027.tif 000081
【０３０２】
（上記構造式（ａ−１）中、Ｒ９は、水素原子、メチル基、−Ｃ（Ｒ１０）＝Ｃ（Ｒ１１）（Ｒ１２）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１３）（Ｒ１４）を示す。ｌは１または２を示す。Ａｒ６およびＡｒ７は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ１０）＝Ｃ（Ｒ１１）（Ｒ１２）、または−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１３）（Ｒ１４）を示し、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。）
【０３０３】
ここで、上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、または炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
【０３０４】
【化８１】
0005672027.tif 000082
【０３０５】
（上記構造式（ａ−２）中、Ｒ１５およびＲ１５’は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、または炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。Ｒ１６、Ｒ１６’、Ｒ１７、およびＲ１７’は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ２１）（Ｒ２２）を示し、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１およびＲ２２は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍおよびｎは各々独立に０以上２以下の整数を示す。）
【０３０６】
ここで、前記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１３）（Ｒ１４）」を有するトリアリールアミン誘導体、および「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ２１）（Ｒ２２）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度、保護層との接着性、前画像の履歴が残ることで生じる残像（以下「ゴースト」と言う場合がある）などの観点で優れ望ましい。
【０３０７】
電荷輸送層３に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。特開平８−１７６２９３号公報および特開平８−２０８８２０号公報に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材料等を用いてもよい。これらのうち、ポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂が好適である。
これらの結着樹脂は１種を単独でまたは２種以上で用いる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は質量比で１０：１から１：５までが望ましい。
【０３０８】
特に、電荷輸送層３上には、反応性の電荷輸送材料とポリカーボネート樹脂とを含有する組成物の硬化膜からなる保護層（最表面層）を備える場合、電荷輸送層３に用いる結着樹脂としては、粘度平均分子量５００００以上のものが望ましく、５５０００以上のものがより望ましい。
なお、電荷輸送層３に用いる結着樹脂の粘度平均分子量の上限値としては１０００００以下が望ましい。
ここで、本実施形態における結着樹脂の粘度平均分子量は、毛細管粘度計によって測定した値である。
なお、最表面層が電荷輸送層である場合には、その下層中に含まれる結着樹脂の粘度平均分子量が上記の範囲であることが望ましい。
【０３０９】
また、電荷輸送材料として高分子電荷輸送材を用いてもよい。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は特に望ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも成膜し得るが、前述の結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【０３１０】
電荷輸送層３は、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。
電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独または２種以上混合して用いられる。また、上記各構成材料の溶解方法としては、公知の方法が使用される。
【０３１１】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層２の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０３１２】
電荷輸送層３の膜厚は、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下である。
電荷輸送層として本実施形態の表面層材料を使用してもよい。
【０３１３】
＜プロセスカートリッジおよび画像形成装置＞
次に、本実施形態の電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジおよび画像形成装置について説明する。
本実施形態のプロセスカートリッジは、潜像保持体の表面の静電潜像を現像して得られたトナー像を記録媒体に転写して、該記録媒体上に画像を形成する画像形成装置に対して着脱自在であり、前記潜像保持体としての前述の本実施形態に係る電子写真感光体を少なくとも備えた構成である。
【０３１４】
また、本実施形態の画像形成装置は、前述の本実施形態に係る電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置と、前記静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置と、を備えた構成である。なお、本実施形態の画像形成装置は、各色のトナーに対応した感光体を複数有するいわゆるタンデム機であってもよく、この場合、全ての感光体が本実施形態の電子写真感光体であることが望ましい。また、トナー像の転写は、中間転写体を利用した中間転写方式であってもよい。
【０３１５】
図４は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。画像形成装置１００は、図４に示すように。電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９と、転写装置４０と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。
【０３１６】
図４におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８、現像装置１１およびクリーニング装置１３を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材）を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。
【０３１７】
また、潤滑材１４を感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、クリーニングをアシストする繊維状部材１３３（平ブラシ状）を用いた例を示してあるが、これらは使用しても、使用しなくてもよい。
【０３１８】
帯電装置８としては、例えば、導電性または半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０３１９】
なお、図示しないが、電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。
【０３２０】
露光装置９としては、例えば、感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。特に、４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長がある非干渉性の露光光源が高画質をえる上で好ましい。
【０３２１】
尚、前記電子写真感光体における感光層の総膜厚が２０μｍ以下であって、且つ露光装置９が非干渉性の露光光源を有する態様が好ましく、更に、前記非干渉性の露光光源によって露光される電子写真感光体表面の露光スポットの面積が１０００μｍ２以下であり、且つ前記非干渉性の露光光源の発光の中心波長が４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下である態様がより好ましい。
【０３２２】
次に、露光ヘッドについて説明する。
図７は露光ヘッドを示す図であり、図８は露光ヘッドにより感光体に露光を施している状態を示す図である。各露光ヘッドは、図７および図８に示すように、例えば、有機ＥＬ素子アレイ（発光素子アレイ６０Ｂ）と、結像部（レンズ７０）と、を備えている。
発光素子アレイ６０Ｂは、例えば、有機ＥＬ素子（発光素子６０Ａ）で構成される発光部と有機ＥＬ素子が実装される実装基板（図７の発光素子アレイ基板６１に相当）とを備える。
有機ＥＬ素子アレイ（発光素子アレイ６０Ｂ）と結像部（レンズ７０）とは、発光部（発光素子６０Ａ）と結像部の光入射面７０Ａとの光学距離が結像部の作動距離となるように、離間した状態で保持部材により保持されている。
【０３２３】
ここで、結像部の作動距離とは、結像部に用いるレンズ７０の焦点から結像部の入射面７０Ａまでの距離である。
そして、結像部では、発光部からの発光を光の入射面７０Ａから入射すると共に光の出射面７０Ｂから出射して予め定められた位置に結像させる、つまり、発光素子６０Ａからの発光を感光体３０に結像することによって、感光体３０が露光されて潜像が形成される（図８）。
ここで、有機ＥＬ素子アレイ（発光素子アレイ６０Ｂ）について説明する。
有機ＥＬ素子アレイは、例えば発光部から照射される光を実装基板（発光素子アレイ基板６１）側から取り出す、所謂、ボトムエミッション方式となっている。無論、トップエミッション方式であってもよい。
発光部は、例えば、単一の発光素子６０Ａの群で構成されている。発光素子６０Ａは、実装基板（発光素子アレイ基板６１）の長手方向に沿って線状（直列）又は千鳥状に配置して、発光部を構成している。発光素子６０Ａの群で構成された発光部は、感光体３０の画像形成領域以上の長さとしている。
【０３２４】
次いで、結像部（レンズ７０）について説明する。
結像部は、例えば、ロッドレンズが複数配列されたレンズアレイで構成されている。レンズアレイとして具体的には、例えば、セルフォックレンズアレイ（ＳＬＡ：セルフォックは、日本板硝子（株）の登録商標）と呼ばれる屈折率分散型レンズアレイを適用することが最もよいが、シリンドリカルレンズを組み合わせても良い。さらに、個々の光源用有機ＥＬ素子上にマイクロレンズを接合しても良い。
【０３２５】
現像装置１１としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤または二成分系現像剤等を接触または非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤または二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。
【０３２６】
以下、現像装置１１に使用されるトナーについて説明する。
本実施形態の画像形成装置に用いられるトナーは、平均形状係数（（ＭＬ２／Ａ）×（π／４）×１００、ここでＭＬは粒子の最大長を表し、Ａは粒子の投影面積を表す）が１００以上１５０以下であることが望ましく、１０５以上１４５以下であることがより望ましく、１１０以上１４０以下であることがさらに望ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が３μｍ以上１２μｍ以下であることが望ましく、３．５μｍ以上９μｍ以下であることがさらに望ましい。
【０３２７】
トナーは、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤および離型剤、やその他更に帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。
【０３２８】
また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法が使用される。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。
【０３２９】
トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤および離型剤を含有することが望ましく、更にシリカや帯電制御剤を含有してもよい。
【０３３０】
トナー母粒子に使用される結晶性樹脂としては、結晶性ポリエステル樹脂が好ましく、その融点から脂肪族結晶性樹脂が好ましく、この脂肪族結晶性樹脂は分子間凝集力が小さいため、より離型剤を用いた離型効果が要求される。さらに高光沢画像を出すためにコア層に含まれる結着樹脂の粘度を下げた場合も同様である。
【０３３１】
−結着樹脂：（結晶性）ポリエステル樹脂−
上記トナーに用いられる結晶性ポリエステル樹脂や、その他すべてのポリエステル樹脂は多価カルボン酸成分と多価アルコール成分とから合成される。なお、本実施形態においては、前記ポリエステル樹脂として市販品を使用してもよいし、合成したものを使用してもよい。
【０３３２】
多価カルボン酸成分としては、例えば、シュウ酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、１，９−ノナンジカルボン酸、１，１０−デカンジカルボン酸、１，１２−ドデカンジカルボン酸、１，１４−テトラデカンジカルボン酸、１，１８−オクタデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタレン−２，６−ジカルボン酸、マロン酸、メサコニン酸等の二塩基酸等の芳香族ジカルボン酸、などが挙げられ、さらに、これらの無水物やこれらの低級アルキルエステルも挙げられるがこの限りではない。
【０３３３】
３価以上のカルボン酸としては、例えば、１，２，４−ベンゼントリカルボン酸、１，２，５−ベンゼントリカルボン酸、１，２，４−ナフタレントリカルボン酸等、及びこれらの無水物やこれらの低級アルキルエステルなどが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０３３４】
また、酸成分としては、前述の脂肪族ジカルボン酸や芳香族ジカルボン酸の他に、スルホン酸基を持つジカルボン酸成分が含まれていることが好ましい。前記スルホン酸基を持つジカルボン酸は、顔料等の色材の分散を良好にし得る点で有効である。また、樹脂全体を水に乳化或いは懸濁して、粒子を作製する際に、スルホン酸基があれば、後述するように、界面活性剤を使用しないで、乳化或いは懸濁し得る。
【０３３５】
このようにスルホン基を持つジカルボン酸としては、例えば、２−スルホテレフタル酸ナトリウム塩、５−スルホイソフタル酸ナトリウム塩、スルホコハク酸ナトリウム塩等が挙げられるが、これらに限定されない。また、これらの低級アルキルエステル、酸無水物等も挙げられる。これらスルホン酸基を有する２価以上のカルボン酸成分は、ポリエステルを構成する全カルボン酸成分に対して１モル％以上１５モル％以下、好ましくは２モル％以上１０モル％以下含有する。含有量が１モル％以上であると乳化粒子の経時安定性が得られる一方、１５モル％以下であると、ポリエステル樹脂の結晶性の低下が抑制されるばかりではなく、凝集後、粒子が融合する工程において、トナー径の調整が容易に行なわれる。
【０３３６】
さらに、前述の脂肪族ジカルボン酸や芳香族ジカルボン酸の他に、２重結合を持つジカルボン酸成分を含有することがより好ましい。２重結合を持つジカルボン酸は、２重結合を介して、ラジカル的に架橋結合させ得る点で定着時のホットオフセットを防ぐ為に好適に用いられる。このジカルボン酸としては、例えばマレイン酸、フマル酸、３−ヘキセンジオイック酸、３−オクテンジオイック酸等が挙げられるが、これらに限定されない。また、これらの低級エステル、酸無水物等も挙げられる。これらの中でもコストの点で、フマル酸、マレイン酸等が挙げられる。
【０３３７】
多価アルコール成分としては、脂肪族ジオールが好ましく、主鎖部分の炭素数が７以上２０以下である直鎖型脂肪族ジオールがより好ましい。前記脂肪族ジオールが直鎖型であると、ポリエステル樹脂の結晶性の低下が抑制され、融点の降下が抑制される為、耐トナーブロッキング性、画像保存性、及び低温定着性がより向上する。また、炭素数が７以上であると、芳香族ジカルボン酸と縮重合させる場合、融点が高くなり過ぎず、低温定着性が得られる一方、２０以下であると材料の入手が容易となる。前記炭素数としては１４以下であることがより好ましい。
【０３３８】
上記トナーに用いられる結晶性ポリエステルの合成に好適に用いられる脂肪族ジオールとしては、具体的には、例えば、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１１−ウンデカンジオール、１，１２−ドデカンジオール、１，１３−トリデカンジオール、１，１４−テトラデカンジオール、１，１８−オクタデカンジオール、１，１４−エイコサンデカンジオールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらのうち、入手容易性を考慮すると１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオールが好ましい。
【０３３９】
３価以上のアルコールとしては、例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０３４０】
多価アルコール成分のうち、前記脂肪族ジオール成分の含有量が８０モル％以上であることが好ましく、より好ましくは、９０％以上である。前記脂肪族ジオール成の含有量が８０モル％以上であると、ポリエステル樹脂の結晶性の低下が抑制され、融点の降下が抑制される為、耐トナーブロッキング性、画像保存性及び、低温定着性がより向上する。
【０３４１】
なお、必要に応じて、酸価や水酸基価の調製等の目的で、酢酸、安息香酸等の１価の酸や、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等の１価のアルコールも使用し得る。
【０３４２】
また、上記トナーに用いられる結晶性ポリエステルは下式（７）で規定されるエステル濃度が、０．０１以上０．１２以下の範囲内であることが好ましい。
・式（７）  Ｍ＝Ｋ／Ａ
但し、式（７）中、Ｍはエステル濃度を、Ｋは結晶性ポリエステル中のエステル基数を、Ａは結晶性ポリエステルの高分子鎖を構成する原子数を、それぞれ表す。
【０３４３】
結晶性ポリエステルのエステル濃度を０．０１以上０．１２以下に抑えることで、耐トナーブロッキング性、画像の保存性、および、低温での定着性に優れると共に、さらに帯電性も向上し得る。
【０３４４】
結晶性ポリエステルのエステル濃度が０．０１以上であると、帯電性は良好であると共に、結晶性ポリエステルの融点が高くなりすぎず、低温定着性の低下が抑制されるエステル濃度の下限としては、０．０４以上であることがより好ましい。
【０３４５】
一方、エステル濃度が０．１２以下であると、帯電性の低下が抑制され、結晶性ポリエステルの融点が低くなりすぎず、定着画像の安定性や粉体ブロッキング性の低下が抑制される。エステル濃度の上限としては、０．１０以下であることがより好ましい。
【０３４６】
なお、「エステル濃度」とは、結晶性ポリエステル樹脂のポリマーにおけるエステル基の含有割合を示す一つの指標である。上記式中のＫで表される「ポリマー中のエステル基数」は、言い換えればポリマー全体に含まれるエステル結合の数を指す。
【０３４７】
上記式（７）中のＡで表される「ポリマーの高分子鎖を構成する原子数」は、ポリマーの高分子鎖を構成する原子の合計であり、エステル結合に関与する原子数は全て含むが、その他の構成部位における枝分かれした部分の原子数は含まない。
すなわち、エステル結合に関与するカルボキシル基やアルコール基に由来する炭素原子および酸素原子（１つのエステル結合中酸素原子は２個）や、高分子鎖を構成する、例えば芳香環における６つの炭素は、前記原子数の計算に含まれるが、高分子鎖を構成する、例えば芳香環やアルキル基における水素原子、その置換体の原子ないし原子群は、前記原子数の計算に含まれない。
【０３４８】
−結着樹脂：無定形高分子−
上記トナーに使用される無定形高分子樹脂としては、例えば、従来公知の熱可塑性結着樹脂などが挙げられ、具体的には、スチレン、パラクロロスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類の単独重合体又は共重合体（スチレン系樹脂）；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸２−エチルヘキシル等のビニル基を有するエステル類の単独重合体又は共重合体（ビニル系樹脂）；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のビニルニトリル類の単独重合体又は共重合体（ビニル系樹脂）；ビニルメチルエーテル、ビニルイソブチルエーテル等のビニルエーテル類の単独重合体又は共重合体（ビニル系樹脂）；ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類の単独重合体又は共重合体（ビニル系樹脂）；エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類の単独重合体又は共重合体（オレフィン系樹脂）；エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂等の非ビニル縮合系樹脂、及びこれらの非ビニル縮合系樹脂とビニル系モノマーとのグラフト重合体などが挙げられる。これらの樹脂は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの樹脂の中でもビニル系樹脂やポリエステル樹脂が特に好ましい。
【０３４９】
ビニル系樹脂の場合、イオン性界面活性剤などを用いて乳化重合やシード重合により樹脂粒子分散液を容易に調製し得る点で有利である。前記ビニル系モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、ケイ皮酸、フマル酸、ビニルスルフォン酸、エチレンイミン、ビニルピリジン、ビニルアミンなどのビニル系高分子酸やビニル系高分子塩基の原料となるモノマー挙げられる。
【０３５０】
尚、前記樹脂粒子が、前記ビニル系モノマーをモノマー成分として含有していることが好ましい。これらのビニル系モノマーの中でも、ビニル系樹脂の形成反応の容易性等の点でビニル系高分子酸がより好ましく、具体的にはアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、ケイ皮酸、フマル酸などのカルボキシル基を解離基として有する解離性ビニル系モノマーが、重合度やガラス転移点の制御の点で特に好ましい。
【０３５１】
また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等が代表的なものとして例示される。
【０３５２】
離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等が代表的なものとして例示される。
【０３５３】
また、帯電制御剤としては、公知のものが使用され、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤が用いられる。湿式製法でトナーを製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減の点で水に溶解しにくい素材を使用することが好ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナー及び磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。
【０３５４】
現像装置１１に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はＶブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。
【０３５５】
現像装置１１に用いるトナーにはフッ素元素を有する粒子を含有させる。
フッ素元素を有する粒子としては、黒鉛やグラファイトにフッ素が結合したフッ化炭素、ポリ四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシ・フッ素樹脂（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン・四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロ三フッ化エチレン（ＰＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル（ＰＶＦ）等が用いられ、平均粒径としては０．１μｍ以上４μｍ以下の範囲が好ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は好ましくは０．０５質量％以上２．０質量％以下、より好ましくは０．１質量％以上１．５質量％以下の範囲である。０．０５質量％以上であると摩擦係数が高くなり過ぎず、ゴーストの発生が抑制され、２．０質量％以下であるとトナーの帯電特性において、逆極性トナーの生成が抑制される。
さらに、滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス、ミツロウ等の動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用される。これらは、１種を単独で、又は２種以上を併用して使用される。但し、平均粒径としては０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲が好ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は好ましくは０．０５質量％以上２．０質量％以下、より好ましくは０．１質量％以上１．５質量％以下の範囲である。
【０３５６】
現像装置１１に用いるトナーには、電子写真感光体表面の付着物、劣化物除去の目的等で、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えてもよい。
【０３５７】
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。
【０３５８】
また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも好ましく使用される。
【０３５９】
有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等が挙げられる。
【０３６０】
粒子径としては、個数平均粒子径で好ましくは５ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以上８００ｎｍ以下、さらに好ましくは５ｎｍ以上７００ｎｍ以下でのものが使用される。平均粒子径が、上記下限値以上であると、研磨能力に優れる傾向があり、他方、上記上限値以下であると、電子写真感光体表面での傷の発生が抑制される。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が０．６質量％以上であることが好ましい。
【０３６１】
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性、帯電制御等の為、１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機酸化物を用い、更に付着力低減や帯電制御の為、それより大径の無機酸化物を添加することが好ましい。これらの無機酸化物粒子は公知のものを使用し得るが、精密な帯電制御を行う為にはシリカと酸化チタンを併用することが好ましい。
【０３６２】
また、小径無機粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性を上げる効果が大きくなる。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト、酸化セリウムの無機鉱物を添加することも放電精製物を除去するために好ましい。
【０３６３】
また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉又はそれ等の表面に樹脂コーティングを施したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、自由に設定し得る。
【０３６４】
感光体上に残留したトナーのクリーニング方法としては、装置を小型化し得ることから、ゴムブレードを用いたクリーニングブレード方式が用いられる。
【０３６５】
クリーニングブレードの耐磨耗性を向上させる目的で放電生成物を除去する手段を付加したり、ＢＣＯの発生に伴い像保持体表面に付着し、エッジ欠けの原因ともなる微粉キャリアを捕集する目的でキャリア捕集手段を付加してもよい。
【０３６６】
また、クリーニングブレードの耐磨耗性を向上させるために、像保持体に接触する部分の材料として、高硬度や高モジュラスな材料を採用してもよい。この高モジュラスな材料を用いて単層のゴムブレードとしても使用し得るが、一般的には耐性は向上するが弾性が低下する場合がある。弾性が低下するとは、ゴムらしさが無くなり伸び難くなることである。伸び難くなる為、ＢＣＯの発生に伴い像保持体表面に埋没したキャリア片などの異物が、クリーニングブレードのエッジと像保持体表面との接触部を通過する際、異物がエッジを変形させる力に追従して、エッジ先端が変形しないためにブレードエッジが欠け易くなってしまう場合がある。
【０３６７】
また、高モジュラス（高硬度）の材料は永久伸びが大きいためにへたり（永久変形）が悪化してしまうことがあり、へたりの量が大きくなると接触圧が維持されなくなり、結果としてクリーニング不良を招いてしまう場合があった。
【０３６８】
上記のクリーニングブレードのエッジ欠けを防止するためには、クリーニングブレードのエッジと像保持体表面との接触部を異物が通過する際に、エッジ先端が変形する（伸びる）低硬度の材料で、エッジ先端部が構成されていることが有利である。また、上記のへたりを防止する観点においても、上記の低硬度の材料が有利である。
しかし、この低硬度の材料では、耐磨耗性に劣るため、長期に渡り良好なクリーニング性能を維持し得ない。
【０３６９】
そのため、クリーニングブレードとしては、
感光体表面と接触する第一層と、感光体表面と接触しない背面層と、から構成され、前記第一層の材料が、下式（１）乃至（３）を満たすことが好ましい。
・式（１）  ３．９２≦Ｍ≦２９．４２
・式（２）  ０＜α≦０．２９４
・式（３）  Ｓ≧２５０
〔但し、式（１）乃至（３）中、Ｍは１００％モジュラス（ＭＰａ）を表し、αは、応力−歪曲線において、歪量が１００％以上２００％以下における歪量変化（Δ歪量）に対する応力変化（Δ応力）の割合｛Δ応力／Δ歪量＝（歪量２００％における応力−歪量１００％における応力）／（２００−１００）｝（ＭＰａ／％）を表し、Ｓは、ＪＩＳ  Ｋ６２５１（ダンベル状３号形試験片使用）に基づいて測定された破断伸び（％）を表す。〕
【０３７０】
ここで、上記クリーニングブレードは、被クリーニング部材表面に接触する第一層の背面に、背面層としての第二層が設けられた２層構成であってもよいし、また、第一層の背面に第二層、第三層など複数の層からなる背面層を設けた構成であってもよい。尚、以下においては、第一層と背面層としての第二層とからなる２層構成のクリーニングブレードを取り上げて、詳細に説明する。
【０３７１】
−第一層−
上記クリーニングブレードは、被クリーニング部材表面と接触する第一層の材料が、式（１）を満たすため、良好なクリーニング性を発揮しつつ、耐磨耗性にも優れる。
【０３７２】
１００％モジュラスＭが、３．９２ＭＰａ（４０ｋｇｆ／ｃｍ２）以上であると、耐磨耗性が得られ、長期に渡り良好なクリーニング性が維持される。また、２９．４２ＭＰａ（３００ｋｇｆ／ｃｍ２）以下であると、第一層材料が硬過ぎず、被クリーニング部材に対する追従性が得られ、良好なクリーニング性が発揮される。加えて、被クリーニング部材表面の傷つけが抑制される。
なお、１００％モジュラスＭは、５ＭＰａ以上２０ＭＰａ以下の範囲内であることが好ましく、６．５ＭＰａ以上１５ＭＰａ以下の範囲内であることがより好ましい。
【０３７３】
また、第一層材料が、式（２）および式（３）を満たすため、耐欠け性に優れる。
式（２）に示されるαが０．２９４以下であると、第一層材料の柔軟性が得られる。それゆえ、ＢＣＯの発生に伴い、像保持体表面に埋没・固着した異物等のように、被クリーニング部材表面に存在する異物、特に表面に埋没・固着した異物が、被クリーニング部材とクリーニングブレードとの接触部を繰り返し通過することにより、クリーニングブレードの第一層先端に大きな応力が繰り返し加わった際であっても、この応力を効率的に分散するように変形し、比較的短期間の内のエッジ欠けが抑制される。従って、早期の欠けが抑制されるため、長期に渡って良好なクリーニング性が維持される。
なお、αは０．２以下であることが好ましく、０．１以下であることがより好ましく、物性上の限界下限値である０に近ければ近いほどよい。
【０３７４】
さらに、式（３）に示される破断伸びＳが２５０％以上である場合、上述した被クリーニング部材表面の異物と第一層先端が強い力で衝突した際にも、第一層先端が追従変形するため比較的短期間の内のエッジ欠けが抑制される。従って、早期での欠けが抑制されるため、長期に渡って良好なクリーニング性が維持される。
なお、破断伸びＳは３００％以上であることが好ましく、３５０％以上であることがより好ましく、エッジ欠けに対しては大きい程好ましい反面、破断伸びＳが５００％以下である場合は被クリーニング部材に対する追従性（密着性）が増し過ぎず、被クリーニング部材との摩擦力の増大が抑制され、結果として第一層先端の磨耗（エッジ摩耗）が抑制される。それゆえ、エッジ磨耗の観点から破断伸びＳは５００％以下であることが好ましく、４５０％以下であることがより好ましく、４００％以下であることが更に好ましい。
【０３７５】
また、画像形成装置のクリーニングブレード周辺温度つまり使用環境温度は概ね１０℃以上６０℃以下の範囲である。従って、被クリーニング部材表面と接触する第一層の材料のガラス転移温度Ｔｇが使用環境温度を超えなければゴムらしさが維持されクリーニングブレードの接触圧が安定する。それゆえ、第一層の材料のガラス転移温度Ｔｇは使用環境温度の下限値（１０℃）以下であることが好ましい。
【０３７６】
一方、被クリーニング部材表面と接触する第一層の材料の反発弾性Ｒは、当該材料のガラス転移温度Ｔｇが１０℃以下である場合、低温程反発弾性は小さくなる傾向にある。そのため、反発弾性Ｒが１０％以上であれば第一層先端のスティック＆スリップ挙動が鈍くなり過ぎず、ある接触姿勢で変形した状態で摺擦する部分が発生してしまうことが抑制される。
スティック＆スリップ挙動により接触姿勢が解放さることにより、第一層先端の姿勢が保たれたまま摺擦が起こることがなく、局所的な塑性変形の発生が抑制される。この局所的な塑性変形の発生が抑制されると、第一層先端と被クリーニング部材との密着性の低下が抑制され、クリーニング不良の発生が抑制される。この局所的な塑性変形を抑制する為には第一層先端は常にスティック＆スリップ挙動が行われている事が好ましく、そのためには、使用環境温度の実質的な下限値である温度１０℃以上の環境下において、反発弾性Ｒは、１０％以上であることが好ましく、１５％以上がより好ましく、２０％以上が更に好ましい。
尚、上記反発弾性Ｒは、前述の通りＪＩＳＫ６２５５（１９９６年）に基づいて測定される。
【０３７７】
なお、式（１）に示す１００％モジュラスＭは、ＪＩＳＫ６２５１（１９９３年）に準拠して、ダンベル状３号形試験片を用い、引張速度５００ｍｍ/ｍｉｎで計測し、１００％歪み時の応力より求めた。尚、測定装置は、東洋精機（株）製、ストログラフＡＥエラストマを用いた。
また、式（２）に示すαは、応力−歪曲線から求められるものであるが、ここで、応力および歪量は以下に説明する手順・方法により求めたものである。すなわち、ＪＩＳＫ６２５１（１９９３年）に準拠して、ダンベル状３号形試験片を用い、引張速度５００ｍｍ/ｍｉｎで計測し、１００％歪み時の応力と２００％歪み時の応力より求めた。尚、測定装置は、東洋精機（株）製、ストログラフＡＥエラストマを用いた。
【０３７８】
さらに、被クリーニング部材表面と接触する第一層の材料のガラス転移温度や、後述するソフトセグメント材料やハードセグメント材料のガラス転移温度は、粘弾性測定装置により温度分散を測定し、ｔａｎδ（損失正接）のピーク温度として求めた。
【０３７９】
ここで、ｔａｎδ値は、以下に説明する貯蔵及び損失弾性率から導かれるものである。線形弾性体に、正弦波の歪みを定常振動的に与えたとき、応力は式（４）で表される。｜Ｅ＊｜は複素弾性率と呼ばれる。また、レオロジー学の理論より、弾性体成分は式（５）、及び粘性体成分は式（６）で表される。ここで、Ｅ’は貯蔵弾性率、Ｅ''は損失弾性率と呼ばれる。δは応力と歪みとの位相差角を表し、“力学的損失角”と呼ばれるものである。
ｔａｎδ値は、式（７）の様にＥ''／Ｅ’で表され、“損失正弦”と呼ばれるものであり、その値が大きい程、その線形弾性体は、ゴム弾性を有するものとなる。
式（４）  σ＝｜Ｅ＊｜γcos(ωt)
式（５）  Ｅ’＝｜Ｅ＊｜cosδ
式（６）  Ｅ”＝｜Ｅ＊｜sinδ
式（７）  ｔａｎδ＝Ｅ”／Ｅ’
ｔａｎδ値は、レオペクトラ−ＤＶＥ−Ｖ４（レオロジ−（株）製）によって静止歪み５％、１０Ｈｚ  正弦波引張加振を温度範囲−６０℃以上１００℃以下で測定した。
【０３８０】
以上に説明したように上記クリーニングブレードに用いられる第一層用材料は、耐磨耗性および耐欠け性の双方に優れ、長期に渡り良好なクリーニング性能が維持される。
このため、ＢＣＯの発生に伴い、像保持体表面に埋没・固着した異物等のように、被クリーニング部材表面に存在する異物、特に表面に埋没・固着した異物に対応するために、従来のように画像形成装置内に別途耐磨耗性や耐欠け性を向上させるための装置を新たに設ける必要が無いため、装置の大型化・高コスト化が防止される。
【０３８１】
加えて、クリーニングブレードの寿命が長くなるため、上記クリーニングブレードを具備したプロセスカートリッジや、クリーニング装置、画像形成装置の長寿命化や、メンテナンスコストの低減が容易である。特に、表面の耐磨耗性を向上させた像保持体および上記クリーニングブレードの双方を具備したプロセスカートリッジや、画像形成装置であれば、上述したメリットをより一層享受し得る。
【０３８２】
式（１）乃至（３）を満たす材料は、エラストマー材料であれば特に限定されないが、ハードセグメントおよびソフトセグメントを含むエラストマー材料であることが特に好ましい。エラストマー材料が、ハードセグメントおよびソフトセグメントの双方を含むことにより、式（１）乃至（３）に示す物性を満たすことが容易となり、耐磨耗性および耐欠け性の双方を、より高いレベルで両立し得るためである。
なお、「ハードセグメント」および「ソフトセグメント」とは、エラストマー材料中で、前者を構成する材料の方が、後者を構成する材料よりも相対的に硬い材料からなり、後者を構成する材料の方が前者を構成する材料よりも相対的に柔らかい材料からなるセグメントを意味する。
【０３８３】
ここで、ハードセグメントおよびソフトセグメントを含むエラストマー材料のガラス転移温度は、−５０℃以上３０℃以下の範囲内であることが好ましく、−３０℃以上１０℃以下の範囲内であることが好ましい。ガラス転移温度が３０℃以下であると、クリーニングブレードを使用する実用温度域において脆化の発生が抑制される。また、ガラス転移温度が−５０℃以上であると、実使用領域において十分な硬度、応力が得られる。
従って、上述したガラス転移温度を実現するためには、エラストマー材料のハードセグメントを構成する材料（以下、「ハードセグメント材料」と称す場合がある）のガラス転移温度は、３０℃以上１００℃以下の範囲内であることが好ましく、３５℃以上６０℃以下の範囲内であることがより好ましく、ソフトセグメントを構成する材料（以下、「ソフトセグメント材料」と称す場合がある）のガラス転移温度は、−１００℃以上−５０℃以下の範囲内であることが好ましく、−９０℃以上−６０℃以下の範囲内であることがより好ましい。
【０３８４】
また、上述したガラス転移温度を有するハードセグメント材料およびソフトセグメント材料を用いる場合、ハードセグメント材料およびソフトセグメント材料の総量に対するハードセグメントを構成する材料の質量比（以下、「ハードセグメント材料比」と称す場合がある）が４６質量％以上９６質量％以下の範囲内であることが好ましく、５０質量％以上９０質量％以下の範囲内であることがより好ましく、６０質量％以上８５質量％以下の範囲内であることが更に好ましい。
ハードセグメント材料比が、４６質量％以上であると、第一層先端の耐磨耗性が確保され、磨耗の発生が抑制されることにより、長期に渡って良好なクリーニング性が維持される。また、ハードセグメント材料比が９６質量％以下であると、第一層先端が硬くなり過ぎず、柔軟性や伸張性が得られ、欠けの発生が抑制されることにより、長期に渡って良好なクリーニング性が維持される。
【０３８５】
ハードセグメント材料とソフトセグメント材料との組み合わせとしては、特に限定されず、一方が他方に対して相対的に硬く、他方が一方に対して相対的に柔らかい組み合わせとなるように公知の樹脂材料から選択されるが、以下の組み合わせが好適である。
すなわち、ハードセグメント材料としては、ポリウレタン樹脂を用いることが好ましい。この場合のポリウレタン樹脂の重量平均分子量は、１０００以上４０００以下の範囲内であることが好ましく、１５００以上３５００以下の範囲内であることがより好ましい。
重量平均分子量が１０００以上の場合、クリーニングブレードが低温環境下で使用される場合にハードセグメントを構成するポリウレタン樹脂の弾性が失われないために、クリーニング不良が抑制される生。また、重量平均分子量が４０００以下の場合は、ハードセグメントを構成するポリウレタン樹脂の永久歪みが大きくなり過ぎず、第一層先端が、被クリーニング部材に対して接触圧力を保持し得るため、クリーニング不良が抑制される。
なお、上述したハードセグメント材料として用いられるポリウレタン樹脂としては、例えば、ダイセル化学社製、プラクセル２０５やプラクセル２４０などが挙げられる。
また、クリーニングブレードの押し付け圧は、好ましくは１．７ｇｆ／ｍｍ以上６．５ｇｆ／ｍｍ以下、より好ましくは２．０ｇｆ／ｍｍ以上６．０ｇｆ／ｍｍ以下に設定される。該下限値以上であると高硬度ブレードを用いた場合でもトナーのクリーニング不良が抑制され、該上限値以下であると感光体との摩擦が高くなり過ぎず、トルク上昇、感光体磨耗、ブレードエッジの欠けによるスジの発生、感光体との摩擦によるゴーストの発生などが抑制される。
【０３８６】
転写装置５０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０３８７】
中間転写体としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０３８８】
画像形成装置１００は、上述した各装置の他に、例えば、感光体７に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。
【０３８９】
図５は、本実施形態の電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを用いたタンデム型の画像形成装置の一実施形態を示す概略断面図である。
図５は、本実施形態の画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０３９０】
タンデム型の画像形成装置に本実施形態の電子写真感光体を用いた場合、４本の感光体の電気特性が安定することから、より長期に渡ってカラーバランスの優れた画質が得られる。
【実施例】
【０３９１】
以下、実施例および比較例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。尚、以下において「部」は、特に断りのない限り質量基準である。
【０３９２】
＜化合物部の合成＞
［化合物（１３）の合成］
５００ｍｌフラスコに、下記構造式（Ａ）で示される化合物２０ｇ、３−メルカプトプロピオン酸１５ｇ、パラトルエンスルホン酸０．５ｇ、トルエン２００ｍｌを入れ、窒素置換したのち、発生する水をディーンスタークトラップで除去しながら１０時間加熱還流した。反応後、炭酸カリウム水溶液で洗浄し、次いで、蒸留水で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、２３ｇの化合物（１３）を油状物として得た。
得られた化合物（１３）のＩＲスペクトルを図９に示す。
【０３９３】
【化８２】
0005672027.tif 000083
【０３９４】
［化合物（２９）の合成］
５００ｍｌフラスコに、下記構造式（Ｂ）で示される化合物２０ｇ、３−メルカプトプロピオン酸１５ｇ、パラトルエンスルホン酸０．５ｇ、トルエン２００ｍｌを入れ、窒素置換したのち、発生する水をディーンスタークトラップで除去しながら１０時間加熱還流した。反応後、炭酸カリウム水溶液で洗浄し、次いで、蒸留水で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、２０ｇの化合物（２９）を油状物として得た。
得られた化合物（２９）のＩＲスペクトルを図１０に示す。
【０３９５】
【化８３】
0005672027.tif 000084
【０３９６】
［化合物（１４）の合成］
５００ｍｌフラスコに、前記構造式（Ａ）で示される化合物２０ｇ、２−メルカプトプロピオン酸１５ｇ、パラトルエンスルホン酸０．５ｇ、トルエン２００ｍｌを入れ、窒素置換したのち、発生する水をディーンスタークトラップで除去しながら１０時間加熱還流した。反応後、炭酸カリウム水溶液で洗浄し、次いで、蒸留水で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、２６ｇの化合物（１４）を油状物として得た。
得られた化合物（１４）のＩＲスペクトルを図１１に示す。
【０３９７】
＜感光体の作製＞
続いて、感光体における各層の作製方法について説明する。
【０３９８】
（下引層の作製）
［下引層１］
酸化亜鉛（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００部をテトラヒドロフラン５００部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学工業社製）１．３部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間）焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛１１０部を５００部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン１．０部を５０部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛を濾別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛を得た。
このアリザリン付与酸化亜鉛６０部と硬化剤（ブロック化イソシアネート、スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５部とブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１５部とをメチルエチルケトン８５部に溶解した溶液３８部と、メチルエチルケトン２５部と、を混合し１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４５部を添加し、下引層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて、直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ１８μｍの下引層を得た。形成された下引層の外側表面の表面粗さＲａは０．３μｍであった。
【０３９９】
［下引層２］
シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４５部を添加しなかった以外は、下引層１に記載の方法により下引層２を形成した。形成された下引層の外側表面の表面粗さＲａは０．１μｍであった。
【０４００】
［下引層３］
直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に、有機ジルコニウム化合物（商品名：オルガチックス  ＺＣ５４０、松本製薬（株）製）１０部、シランカップリング剤（商品名：Ａ１１１０、日本ユニカー（株）製）２部、イソプロピルアルコール３０部、およびｎ−ブタノール３０部からなる塗布液を用いて浸漬塗布法にて塗布し、１５０℃、５分加熱乾燥し、膜厚０．１μｍの下引層を形成した。形成された下引層の外側表面の表面粗さＲａは０．０５μｍであった。
【０４０１】
（電荷発生層の作製）
［電荷発生層１］
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０部、およびｎ−酢酸ブチル２００部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５部、メチルエチルケトン１８０部を添加し、攪拌して電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を、下引層上に浸漬塗布し、１００℃で５分間乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０４０２】
［電荷発生層２］
昇華精製したジブロムアントアントロン顔料（ＣＧ−２５：クラリアント社製、ｎ型有機顔料）４５ｇを、容量０．２５Ｌのメノウ製容器に２０ｍｍφのメノウボール１２個と共に入れ、遊星ボールミル（Ｆｒｉｔｓｃｈ  Ｐ−５）により粉砕した。粉砕条件は、ディスク回転数（公転）２３５ｒｐｍ、ポット回転数（自転）５０ｒｐｍとし、８時間粉砕した。このジブロムアントアントロン顔料１０部、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）５部、およびシクロヘキサノン１００部を混合し、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にシクロヘキサノン３００部を添加し、攪拌して電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、１００℃で５分間乾燥して、膜厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。
【０４０３】
［電荷発生層３］
昇華精製したジブロムアントアントロン顔料（ＣＧ−２５：クラリアント社製、ｎ型有機顔料）を、０．１μｍの膜厚となるよう、バリアン  モデル（Ｖａｒｉａｎ  Ｍｏｄｅｌ）３１１７真空コーターにより蒸着させて下引層上に電荷発生層を形成した。尚、上記ＣＧ−２５はタンタルボート中で３５０℃に加熱して、上記の真空コーターを１０−３Ｐａｓに減圧した。また、基層はボートから１６ｃｍのところに置き、光励起層は６Å／秒の速さで付着させた。
【０４０４】
［電荷発生層４］
ビスベンズイミダゾールペリレン顔料（ＣＧ−１９：富士ゼロックス社製、ｎ型有機顔料）を昇華精製した。昇華精製後のビスベンズイミダゾールペリレン顔料１０ｇを、遊星ボールミル（メノーポット内径１０ｍｍφ、メノーボール２０ｍｍφを４４個、２５ｍｍφを３個使用）を用いて２７時間粉砕した。得られた微粉化ビスベンズイミダゾールペリレン顔料は、粉末Ｘ線回折図で６．２°、１２．３°、２７．０°に強いピークを示し、粒径は０．０４μｍ×０．０８μｍ−０．０５μｍ×０．１μｍであった。このビスベンズイミダゾールペリレン顔料１０部、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）５部、およびシクロヘキサノン１００部を混合し、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にシクロヘキサノン３００部を添加し、攪拌して電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、１００℃で５分間乾燥して、膜厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。
【０４０５】
［電荷発生層５］
昇華精製したビスベンズイミダゾールペリレン顔料（ＣＧ−１９：富士ゼロックス社製、ｎ型有機顔料）を、０．１μｍの膜厚となるよう、バリアン  モデル（Ｖａｒｉａｎ  Ｍｏｄｅｌ）３１１７真空コーターにより蒸着させて下引層上に電荷発生層を形成した。尚、上記ＣＧ−１９はタンタルボート中で３５０℃に加熱して、上記の真空コーターを１０−３Ｐａｓに減圧した。また、基層はボートから１６ｃｍのところに置き、光励起層は４Å／秒の速さで付着させた。
【０４０６】
［電荷発生層６］
ビスアゾ顔料（ＣＧ−４：富士ゼロックス社製、ｎ型有機顔料）１０部、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）５部、およびシクロヘキサノン１００部を混合し、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にシクロヘキサノン３００部を添加し、攪拌して電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、１００℃で５分間乾燥して、膜厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。
【０４０７】
［電荷発生層７］
ビスアゾ顔料（ＣＧ−８：富士ゼロックス社製、ｎ型有機顔料）１０部、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）５部、およびシクロヘキサノン１００部を混合し、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にシクロヘキサノン３００部を添加し、攪拌して電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、１００℃で５分間乾燥して、膜厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。
【０４０８】
［電荷発生層８］
ビスアゾ顔料（ＣＧ−１１：富士ゼロックス社製、ｎ型有機顔料）１０部、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）５部、およびシクロヘキサノン１００部を混合し、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にシクロヘキサノン３００部を添加し、攪拌して電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、１００℃で５分間乾燥して、膜厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。
【０４０９】
（電荷輸送層の作製）
［電荷輸送層１］
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）４０部、Ｎ，Ｎ−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン１０部、およびビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（ＰＣ（Ｚ）：粘度平均分子量：６万）５５部をクロルベンゼン８００部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃、４５分の乾燥を行って膜厚が１５μｍの電荷輸送層を形成した。
【０４１０】
［電荷輸送層２］
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）の量を２５部とし、且つ下記構造式（Ｃ）の電荷輸送材料２０部を用いた以外は、電荷輸送層１に記載の方法により電荷輸送層２を形成した。
【０４１１】
【化８４】
0005672027.tif 000085
【０４１２】
（表面層の作製）
［硬化方法：熱硬化］
前記化合物（１３）（チオール基含有電荷輸送材料）を１０部、トリメチロールプロパントリアクリレート（Ａ−ＴＭＰＴ、新中村化学社製、不飽和結合を有する化合物）１２部、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製、分子量３５４．４、重合開始剤）０．２部をシクロペンタノール３０部に溶解し、突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温（２０℃）で３０分風乾した後、酸素濃度２００ｐｐｍの窒素下で室温（２０℃）から１０℃／分の速度で１５０℃まで昇温し、１５０℃で１時間加熱処理して硬化させ、膜厚５μｍの表面層を形成した。
尚、熱硬化の場合には材料の種類、比率を表１乃至表５に示す数値に変えた上で、この条件で硬化を行なった。
【０４１３】
［硬化方法：光硬化］
前記化合物（１３）（チオール基含有電荷輸送材料）を１０部、トリメチロールプロパントリアクリレート（Ａ−ＴＭＰＴ、新中村化学社製、不飽和結合を有する化合物）１２部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製、重合開始剤）０．５部をシクロペンタノール３０部に溶解し、突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温（２０℃）で３０分風乾した後、メタルハライドランプ：１６０Ｗ／ｃｍ、照射距離：１２０ｍｍ、照射強度：５００ｍＷ／ｃｍ２、照射時間：６０秒の条件で酸素濃度２００ｐｐｍの窒素下で光照射を行ない、塗布膜を硬化させた。更に１３０℃で２０分乾燥を加え、膜厚５μｍの表面層を形成した。
尚、光硬化の場合には材料の種類、比率を表１に示す数値に変えた上で、この条件で硬化を行なった。
【０４１４】
［硬化方法：電子線硬化］
前記化合物（１３）（チオール基含有電荷輸送材料）を１０部、トリメチロールプロパントリアクリレート（Ａ−ＴＭＰＴ、新中村化学社製、不飽和結合を有する化合物）１２部をシクロペンタノール３０部に溶解し、突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温（２０℃）で３０分風乾した後、酸素濃度２０ｐｐｍの窒素下で感光体を３００ｒｐｍの速度で回転させながら、照射距離が３０ｍｍ、電子線加速電圧が９０ｋＶ、電子線ビーム電流が２ｍＡ、電子線照射時間が１．０秒の条件で電子線を照射した。照射後すぐに、酸素濃度２０ｐｐｍの窒素下で１５０℃に加熱し、１０分保持して硬化反応を完結させ、膜厚５μｍの表面層を形成した。
尚、電子線硬化の場合には材料の種類、比率を表１および表２に示す数値に変えた上で、この条件で硬化を行なった。
【０４１５】
〔感光体１乃至３５の作製〕
適用する下引層、電荷発生層、および電荷輸送層を表１および表２に記載のものとし、また表面層の形成に用いる材料（チオール基含有電荷輸送材料、不飽和結合を有する化合物、添加剤、重合開始剤）の種類および比率、並びに表面層の硬化方法を表１および表２に記載のものとして、感光体１乃至３５を作製した。
【０４１６】
〔感光体３６乃至５７の作製〕
電荷輸送層を形成せずに、適用する下引層、および電荷発生層を表３に記載のものとし、また表面層の形成に用いる材料（チオール基含有電荷輸送材料、不飽和結合を有する化合物、添加剤、重合開始剤）の種類および比率、並びに表面層の硬化方法を表３に記載のものとして、感光体３６乃至５７を作製した。
尚、表面層の膜厚は１８μｍであった。
【０４１７】
〔比較感光体１乃至１３の作製〕
適用する下引層、電荷発生層、および電荷輸送層を表４に記載のものとし、また表面層の形成に用いる材料（不飽和結合を有する化合物、添加剤、重合開始剤）の種類および比率、並びに表面層の硬化方法を表４に記載のものとして、比較感光体１乃至１３を作製した。
【０４１８】
〔比較感光体１４乃至２６の作製〕
電荷輸送層を形成せずに、適用する下引層、および電荷発生層を表５に記載のものとし、また表面層の形成に用いる材料（不飽和結合を有する化合物、添加剤、重合開始剤）の種類および比率、並びに表面層の硬化方法を表５に記載のものとして、比較感光体１４乃至２６を作製した。
【０４１９】
【表１】
0005672027.tif 000086
【０４２０】
【表２】
0005672027.tif 000087
【０４２１】
【表３】
0005672027.tif 000088
【０４２２】
【表４】
0005672027.tif 000089
【０４２３】
【表５】
0005672027.tif 000090
【０４２４】
尚、上記表中において、
・Ａ−ＴＭＰＴ：トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学社製
・ＯＴａｚｏ−１５：大塚化学社製、分子量３５４．４
・イルガキュア１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製
・ＰＴＦＥ：ルブロンＬ２、ダイキン社製
【０４２５】
＜画質の評価＞
上述のようにして作製した電子写真感光体を富士ゼロックス社製、ＡｐｅｏｓＰｏｒｔ−ＩＩＩ  Ｃ４４００（オリジナルの露光装置発光波長：７８０ｎｍの赤外レーザー、露光スポット：６５μｍ×５５μｍ、面積３６００μｍ２（ピーク値の１／ｅ２になる幅で定義））改造機に装着し、低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）および高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）において、以下の評価を連続して行なった。
【０４２６】
［評価装置−１］
露光装置は変更せず、現像剤として平均粒子径３．８μｍのトナーを用いた。
【０４２７】
［評価装置−２］
露光装置を発光波長:７８０ｎｍのＬＥＤイメージバー、面積：３０μｍ×５０μｍ、１５００μｍ２（ピーク値の１／ｅ２になる幅で定義）を用い、イメージャーの解像度に合わせて駆動回路を作製した。現像剤として平均粒子径３．８μｍのトナーを用いた。
【０４２８】
［評価装置−３］
露光装置を発光波長：中心波長５８０ｎｍの有機ＥＬイメージバー、露光スポット：２０μｍ×２０μｍ、面積４００ｎｍ２を用い、イメージャーの解像度に合わせて駆動回路を作製した。現像剤として平均粒子径３．８μｍのトナーを用いた。
有機ＥＬイメージバーは、以下のようにして作製した。図７に示されるように、基板としてのガラス基板に、ＩＴＯ（Indium-Tin-Oxide）を20μｍ幅、２０μｍピッチでパターニングをした陽極を形成する。次に、正孔注入層として、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォネート）をスピンコート法により１０ｎｍに塗布する。さらに、発光層して、モノクロロベンゼンにＭＥＨ−ＰＰＶを１質量％溶解し、その塗布液をスピンコート法により塗布して８０ｎｍの膜を作製した。最後に露光光源用の陽極と直交するように開口部が２０μｍ幅のマスクを用い、陰極Ｃａ、反射層としてのＡｌを順次蒸着した。これによって、基板主走査方向Ｘに沿って配置された複数の露光源用有機ＥＬ素子を形成した。作製した発光素子アレイのガラス基板（実施基板）側に、有機電界発光素子（発光部）とＳＬＡの光入射面との光学距離が結像部の作動距離となるように、当該ガラス基板（実施基板）と離間して、ＳＬＡ保持部材によりＳＬＡを実装した。
これにより感光体への書き込みスポットの大きさが２０μｍ、露光中心波長５８０ｎｍの露光ヘッドを作製した。
【０４２９】
［実施例１］
感光体−１、評価装置−１を用いて以下のプリントテストを行った。
まず低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）環境下で１００００枚の画像形成テストを行い、１００００枚目の画質評価（下記ゴースト、カブリ、感光体表面付着、画像流れ）を実施した。次いで、低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）環境下で２４時間放置した後の最初の１枚目の画質について画質評価を行った。
その結果を表６乃至表８に示した。
【０４３０】
この低温低湿環境下での画質評価に続いて、高温高湿（３０℃、８５％ＲＨ）の環境下にて１００００枚の画像形成テストを行い、１００００枚目の画質評価を実施した。次いで、高温高湿（３０℃、８５％ＲＨ）環境下で２４時間放置した後の最初の１枚目の画質について画質評価を行った。
その結果を表９乃至表１１に示した。
【０４３１】
（ゴースト評価）
ゴーストは、図６（Ａ）に示したＧと画像濃度５０％の灰色領域を有するパターンのチャートをプリントし、５０％の灰色部分にＧの文字の現れ具合を目視にて評価した。
Ａ：図６（Ａ）のように良好または軽微である。
Ｂ：図６（Ｂ）のようにやや目立つ。
Ｃ：図６（Ｃ）のようにはっきり確認される。
【０４３２】
（カブリ評価）
カブリ評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて白地部のトナーの付着した度合いを目視にて観察し判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：うっすらとカブリあり。
Ｃ：画質上問題となるカブリあり。
【０４３３】
（感光体表面付着評価）
感光体表面付着評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：部分的に画像にスジの発生があり、感光体表面をイソプロパノールをしみ込ませた布で軽く拭くことで回復する。
Ｃ：画質上問題となるスジ発生があり、感光体表面をイソプロパノールをしみ込ませた布で軽く拭いても回復しない。
【０４３４】
（画像流れ評価）
画像流れは上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：連続的にプリントテストしている時は問題ないが、１日（２４時間）放置後に発生。
Ｃ：連続的にプリントテストしている時にも発生。
【０４３５】
＜現像電位安定性の評価＞
以下の方法により、現像電位を測定し、評価を行った。
ＡｐｅｏｓＰｏｒｔ−ＩＩＩ  Ｃ４４００の現像機を取り外し、電位計を装着して低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）プリントテスト初期の現像電位を２５０Ｖに設定した。その後、低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）、高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）でのプリントテスト終了後に、再度現像機を取り外し、電位計を装着して低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）での現像電位を測定した。
【０４３６】
＜保護層の接着性の評価＞
保護層の接着性は、画像形成テスト後の感光体に２ｍｍ角で５×５個の切れ目をカッターナイフで付け、３Ｍ社製メンディングテープを貼り付け、剥離した時の残存数で評価した。
その結果を表６乃至表８に示した。
Ａ：２１個以上残存。
Ｂ：１１個以上２０個以下残存。
Ｃ：１０個以下残存。
【０４３７】
＜磨耗量の評価＞
初期の感光体膜厚と、前述した低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）環境下および高温高湿（３０℃、８５％ＲＨ）環境下での画像形成テストを終了した後の膜厚を渦電流測定装置（フィッシャースコープＭＭＳ）にて測定し、磨耗量を評価した。
【０４３８】
［実施例２−５９］
感光体、評価装置の組み合わせを表６乃至表８に記載のものとし、実施例１と同様に評価を行った。結果を表６乃至表１１に示す。
特に評価装置−３を用いたものは、ドットサイズが小さく、非常に繊細な画質が得られた。また、干渉縞対策を施す必要がないため、感光層が薄くてもかぶりを生じにくく、安定した画像が長期に渡って得られた。
【０４３９】
［比較例１−２６］
比較感光体、評価装置の組み合わせを表１２および表１３に記載のものとし、実施例１と同様に評価を行った。結果を表１２乃至表１５に示す。
【０４４０】
［参考例１，２］
感光体７、感光体９を用い、評価装置１と組み合わせて実施例１と同様に評価を行った。結果を表１６、１７に示す。尚、表１６、１７に示される評価項目以外に干渉縞の発生が見られた。
【０４４１】
【表６】
0005672027.tif 000091
【０４４２】
【表７】
0005672027.tif 000092
【０４４３】
【表８】
0005672027.tif 000093
【０４４４】
【表９】
0005672027.tif 000094
【０４４５】
【表１０】
0005672027.tif 000095
【０４４６】
【表１１】
0005672027.tif 000096
【０４４７】
【表１２】
0005672027.tif 000097
【０４４８】
【表１３】
0005672027.tif 000098
【０４４９】
【表１４】
0005672027.tif 000099
【０４５０】
【表１５】
0005672027.tif 000100
【０４５１】
【表１６】
0005672027.tif 000101
【０４５２】
【表１７】
0005672027.tif 000102
【０４５３】
上記表に示すように、実施例の電子写真感光体は、長期間に渡って繰り返し使用後における画質の低下が抑えられている。
【符号の説明】
【０４５４】
１…下引層、２…電荷発生層、３…電荷輸送層、４…導電性基体、５…保護層、６…単層型感光層、７Ａ，７Ｂ，７Ｃ，７…電子写真感光体、８…帯電装置、９…露光装置、１１…現像装置、１３…クリーニング装置、１４…潤滑材、３０…感光体、４０…転写装置、５０…中間転写体、６０Ａ…発光素子、６０Ｂ…発光素子アレイ、６１…発光素子アレイ基板、７０…レンズ、７０Ａ…入射面、７０Ｂ…出射面、１００…画像形成装置、１２０…画像形成装置、３００…プロセスカートリッジ
【図４】
0005672027.tif 000104
【図５】
0005672027.tif 000105
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
0005672027.tif 000109
【図１１】
0005672027.tif 000110
【図１】
0005672027.tif 000111
【図２】
0005672027.tif 000112
【図３】
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【図６】
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