(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の透明電極層、発光層及び第二の透明電極層をこの順に備える両面発光型の有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の少なくとも一方の表面に直接又は間接的に設けられた出光面構造層とを備える面発光素子であって、
前記出光面構造層は、前記有機エレクトロルミネッセンス素子とは反対側の表面に、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の前記一方の表面に対して平行な平坦面部と、前記平坦面部に対して傾斜した斜面部とを含む凹凸構造を有し、
前記平坦面部は、一方向に延在する帯状面部を含み、
前記帯状面部は、前記帯状面部が延在する方向において幅が変化していて、
前記斜面部を、前記平坦面部に対して垂直な方向に、前記平坦面部に対して平行な平面へと投影して形成される投影面積が、前記平坦面部の合計面積の０．１倍以下である、面発光素子。
【請求項２】
前記凹凸構造における前記平坦面部の高低差の最大値が２２μｍ以下である、請求項１記載の面発光素子。
【請求項３】
前記斜面部が前記平坦面部に対して８０°以上９０°未満の傾斜角度で傾斜している、請求項１又は２記載の面発光素子。
【請求項４】
前記平坦面部の高低差の最大値が０．１μｍ以上である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の面発光素子
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の面発光素子を備える照明器具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」ということがある。）を備えた面発光素子、及びその面発光素子を備えた照明器具に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子を備える発光素子は、その形状を面状とすることが可能であり、且つ、その光の色を白色又はそれに近い色とすることが可能である。このため、有機ＥＬ素子を備える面発光素子は、住環境等の空間を照明する照明器具の光源として、または、表示装置のバックライトとしての用途に用いることが考えられる。
【０００３】
しかしながら、現在知られている有機ＥＬ素子は、上記照明の用途に用いるには効率が低い。そこで、有機ＥＬ素子の光取出効率を向上させることが望まれる。有機ＥＬ素子の光取出効率を向上させる方法として、有機ＥＬ素子の発光面に、種々の凹凸構造を設けることが知られている。例えば、有機ＥＬ素子の発光面に、凹凸構造を有する構造層を設けることが提案されている（特許文献１参照）。この凹凸構造により、良好な集光を達成することができ、前記の光取出効率を向上させることができる。
【０００４】
さらに、有機ＥＬ素子の電極を透明にすることで、面発光素子の向こう側が見渡せるシースルータイプの面発光素子についても検討がなされている（特許文献２参照）。本願の出願人は、このようなシースルータイプの面発光素子についても光取出効率を向上させるべく、特願２０１０−１４７７８７においてシースルータイプの面発光素子に適した凹凸構造を提案した。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２００４／０１７１０６号
【特許文献２】特許第３５６０３７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
有機ＥＬ素子の発光面に設けられる凹凸構造の表面の形状の一例として、平坦な面に凹部又は凸部が離散的に配置された形状がある。このような形状の凹凸構造では、凹部又は凸部が形成されていない面部が、面内方向に延在する帯状の面部（以下、「帯状面部」ということがある。）を含むことがある。凹凸構造にこのような帯状面部が含まれていると、シースルータイプの面発光素子では、観察する角度によっては前記の帯状面部が視認されることがあった。例えば、有機ＥＬ素子の発光面に対して斜めの極角で凹凸構造を観察すると、帯状面部が延在する方向に沿ったスジが視認されることがあった。特に、帯状面部が格子状になっている場合には、帯状面部のスジがある一定の領域で視認されることにより、凹凸構造の表面での反射光のムラが観察されることがあった。このムラを、以下、「格子ムラ」と呼ぶことがある。格子ムラは、面発光素子の外部から照射されて凹凸構造の表面で反射された光がムラ状に観察されたものであるので、前記の帯状面部のスジが視認されなくなれば、解消されるものと考えられる。ただし、ここで課題となっている格子ムラは、視認される反射光の強さが周囲よりも強かったり大きかったりすることを意味するものではなく、前記の帯状面部のスジが視認されることにより、帯状面部が延在する方向が認識できる程度に反射光の見え方にムラがあることを意味する。
【０００７】
本発明は上記の課題に鑑みて創案されたもので、光取出効率が高く、帯状面部のスジが視認され難い、シースルータイプの面発光素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は上述した課題を解決するべく鋭意検討した結果、有機ＥＬ素子の発光面に設けられた凹凸構造層において、前記凹凸構造層が有する平坦面部及び斜面部の面積比を制御することにより、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができることを見出した。また、本発明者は、凹凸構造層の平坦面部が帯状面部を含む場合に、帯状面部が延在する方向において当該帯状面部の幅を変化させることで、帯状面部のスジを見え難くすることができることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。
すなわち、本発明は、以下の〔１〕〜〔５〕を要旨とする。
【０００９】
〔１〕  第一の透明電極層、発光層及び第二の透明電極層をこの順に備える両面発光型の有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の少なくとも一方の表面に直接又は間接的に設けられた出光面構造層とを備える面発光素子であって、
前記出光面構造層は、前記有機エレクトロルミネッセンス素子とは反対側の表面に、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の前記一方の表面に対して平行な平坦面部と、前記平坦面部に対して傾斜した斜面部とを含む凹凸構造を有し、
前記平坦面部は、一方向に延在する帯状面部を含み、
前記帯状面部は、前記帯状面部が延在する方向において幅が変化していて、
前記斜面部を、前記平坦面部に対して垂直な方向に、前記平坦面部に対して平行な平面へと投影して形成される投影面積が、前記平坦面部の合計面積の０．１倍以下である、面発光素子。
〔２〕  前記凹凸構造における前記平坦面部の高低差の最大値が２２μｍ以下である、〔１〕記載の面発光素子。
〔３〕  前記斜面部が前記平坦面部に対して８０°以上９０°未満の傾斜角度で傾斜している、〔１〕又は〔２〕記載の面発光素子。
〔４〕  前記平坦面部の高低差の最大値が０．１μｍ以上である、〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載の面発光素子。
〔５〕  〔１〕〜〔４〕のいずれか一項に記載の面発光素子を備える照明器具。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、光取出効率が高く、帯状面部のスジが視認され難い、シースルータイプの面発光素子を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の第一実施形態に係る面発光素子を模式的に示す斜視図である。
【図２】図２は、図１に示す面発光素子を線１ａ−１ｂを通り出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。
【図３】図３は、面発光素子の出光面の一部を、面発光素子の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す部分平面図である。
【図４】図４は、凹凸構造層を、図３の線３ａを通り出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す部分断面図である。
【図５】図５は、面発光素子の出光面の一部を、面発光素子の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す部分平面図である。
【図６】図６は、面発光素子の出光面の一部を、面発光素子の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す部分平面図である。
【図７】図７は、面発光素子の出光面の斜面部を、平坦面部に対して垂直な方向に、平坦面部に対して平行な平面へと投影した様子を模式的に示す投影図である。
【図８】図８は、本発明の第二実施形態に係る面発光素子を模式的に示す斜視図である。
【図９】図９は、本発明の第三実施形態に係る凹凸構造層の断面を模式的に示す断面図である。
【図１０】図１０は、本発明の第四実施形態に係る面発光素子を模式的に示す斜視図である。
【図１１】図１１は、本発明の別の実施形態に係る凹凸構造層の断面を模式的に示す断面図である。
【図１２】図１２は、本発明の別の実施形態に係る凹凸構造層の断面を模式的に示す断面図である。
【図１３】図１３は、本発明の別の実施形態に係る構造層の断面を模式的に示す断面図である。
【図１４】図１４は、実施例１で用いた金属モールドの製造の様子を説明するため、金属モールドの切削される面の一部を模式的に示す平面図である。
【図１５】図１５は、実施例１で用いた金属モールドの一部を、切削方向の一方に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。
【図１６】図１６は、実施例１で得られた凹凸構造層の一部を、金属モールドの切削方向のうちの一方に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。
【図１７】図１７は、実施例２〜９及び比較例２〜５で用いた金属モールドを、その切削終了位置において、一方の切削方向に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、実施形態及び例示物等を示して本発明について詳細に説明するが、本発明は以下に説明する実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の要旨及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。なお、以下の説明においてある方向に沿うとは、ある方向と平行であることを意味する。
【００１３】
〔１．第一実施形態〕
図１及び図２はいずれも本発明の第一実施形態に係る面発光素子を説明する図であって、図１は面発光素子を模式的に示す斜視図であり、図２は図１に示す面発光素子を線１ａ−１ｂを通り出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。
【００１４】
図１に示すように、本発明の第一実施形態に係る面発光素子１０は、矩形の平板状の構造を有する装置であり、両面発光型の有機ＥＬ素子１４０と、この有機ＥＬ素子１４０の少なくとも一方の表面に直接または間接的に設けられる出光面構造層１００とを備える。有機ＥＬ素子１４０は、少なくとも第一の透明電極層１４１、発光層１４２及び第二の透明電極層１４３をこの順に備え、その表面１４４及び１４５の両方から発光できるようになっている。本実施形態では、第一の透明電極層１４１及び第二の透明電極層１４３が透明電極層となっているため、発光層１４２からの光は、第一の電極層１４１及び第二の電極層１４３をそれぞれ透過して、表面１４４及び１４５を通って有機ＥＬ素子１４０の外部へと射出する。したがって、以下の説明においては表面１４４及び１４５を「発光面」と呼ぶ。
【００１５】
前述したように、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４４には出光面構造層１００が設けられている。本実施形態では、出光面構造層１００は発光面１４４に接するように直接に設けられているものとする。
さらに、本実施形態の面発光素子１０は上述した部材以外にも構成要素を備えていてもよい。本実施形態では、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４５に封止基材１５１が設けられているものとする。
【００１６】
したがって、面発光素子１０は、封止基材１５１と、有機ＥＬ素子１４０と、出光面構造層１００とをこの順に備える。このような面発光素子１０では、出光面構造層１００における有機ＥＬ素子１４０とは反対側の表面１０Ｕを通って光が射出し、また、封止基材１５１における有機ＥＬ素子１４０とは反対側の表面１０Ｄを通って光が射出する。なお、表面１０Ｕ及び１０Ｄは、面発光素子１０の最も外側に位置し、この表面１０Ｕ及び１０Ｄを通って面発光素子１０の外部へ光が射出するため、表面１０Ｕ及び１０Ｄを「出光面」と呼ぶ。
【００１７】
〔１−１．有機ＥＬ素子〕
例えば有機ＥＬ素子１４０として例示するように、有機ＥＬ素子は、通常、２層以上の電極層と、これらの電極層間に設けられ、電極から電圧を印加されることにより発光する発光層と、を備える。
【００１８】
有機ＥＬ素子は、基板上に有機ＥＬ素子を構成する電極、発光層等の層を形成し、さらにそれらの層を覆う封止部材を設け、基板と封止部材で発光層等の層を封止した構成とされるのが一般的である。
【００１９】
前記発光層としては、特に限定されず既知のものを適宜選択しうる。発光層中の発光材料は１種類に限らず、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、発光層は１層に限らず、光源としての用途に適合すべく、一種の層単独又は複数種類の層の組み合わせとしてもよい。これにより、白色又はそれに近い色の光を発光するものとし得る。
【００２０】
本発明において、有機ＥＬ素子を構成する電極層は、いずれも透明な材料により形成されている透明電極層である。ここで「透明」であるとは、光学部材に用いるのに適した程度の光線透過率を有する意味である。例えば、面発光素子１０が全体として後述する所望の全光線透過率を有する程度に高い光線透過率を有する電極を、透明電極層として用いてもよい。このように高い透明性を有する透明電極層を備えることにより、発光層で発生した光の取出効率を向上でき、また、面発光素子を通じて向こう側を明瞭に見通すことができる。なお、透明電極層の材料は１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。さらに透明電極層は１層のみを備える単層構造の層であってもよく、２層以上の層を備える複層構造の層であってもよい。
【００２１】
有機ＥＬ素子１４０は、第一の透明電極層１４１と第二の透明電極層１４３との間に、発光層１４２に加えてホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層及び電子注入層等の他の層（図示せず。）をさらに有していてもよい。また、有機ＥＬ素子１４０は、第一の透明電極層１４１及び第二の透明電極層１４３に通電するための配線、発光層１４２の封止のための周辺構造等の任意の構成要素をさらに備えていてもよい。
【００２２】
透明電極層及びその間に設ける層を構成する材料としては、特に限定されないが、具体例として下記のものを挙げることができる。
透明電極層の材料としてはＩＴＯ（酸化インジウムスズ）等を挙げることができる。
正孔注入層の材料としてはスターバースト系芳香族ジアミン化合物等を挙げることができる。
正孔輸送層の材料としてはトリフェニルジアミン誘導体等を挙げることができる。
黄色発光層のホスト材料としてはトリフェニルジアミン誘導体等を挙げることができ、黄色発光層のドーパント材料としてはテトラセン誘導体等を挙げることができる。
緑色発光層の材料としてはピラゾリン誘導体等を挙げることができる。
青色発光層のホスト材料としてはアントラセン誘導体等を挙げることができ、青色発光層のドーパント材料としてはペリレン誘導体等を挙げることができる。
赤色発光層の材料としてはユーロピウム錯体等を挙げることができる。
電子輸送層の材料としてはアルミニウムキノリン錯体（Ａｌｑ）等を挙げることができる。
【００２３】
上記のもの又はその他の発光層を適宜組み合わせて、積層型又はタンデム型と呼ばれる、補色関係にある発光色を発生する発光層としてもよい。補色関係の組み合わせは、例えば、黄／青、又は緑／青／赤等としてもよい。
【００２４】
〔１−２．出光面構造層〕
出光面構造層１００は、面発光素子１０の最も外側に位置する出光面１０Ｕを備える。出光面１０Ｕは、出光面構造層１００の有機ＥＬ素子１４０とは反対側の表面であり、面発光素子１０としての出光面、即ち、面発光素子１０から装置外部に光が射出する際の出光面である。
【００２５】
出光面１０Ｕは、巨視的に見ると、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４４と平行な面であり、面発光素子１０の主面と平行である。しかし、出光面１０Ｕは、微視的に見ると、凹凸構造を有するため、凹部又は凸部上の面は発光面１４４と非平行な角度をなしうる。そこで、以下の説明において、出光面に対して平行又は垂直であるとは、別に断らない限り、凹部又は凸部を無視して巨視的に見た出光面に対して平行又は垂直であることをいう。また、面発光素子１０は、別に断らない限り、かかる出光面１０Ｕが水平方向と平行で且つ上向きになるよう載置した状態で説明する。
さらに、構成要素が「平行」又は「垂直」であるとは、本発明の効果を損ねない範囲、例えば±５°の範囲内で誤差を含んでいてもよい。
【００２６】
出光面構造層１００は、凹凸構造層１１１及び基材フィルム層１１２を含む複層体１１０と、基板としての支持基板１３１と、複層体１１０及び支持基板１３１を接着する接着層１２１とを備える。
凹凸構造層１１１は、面発光素子１０の一方の表面（即ち面発光素子１０の一方の出光面側の最外層。図中の上側）に位置する層である。凹凸構造層１１１の表面である出光面１０Ｕには凹凸構造が形成されている。凹凸構造については詳しくは後述するが、この凹凸構造は、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４４に対して平行な平坦面部１１３及び１１４と、これらの平坦面部１１３及び１１４に対して傾斜した斜面部１１５とを有して構成されている。具体的には、凹凸構造層１１１の出光面１０Ｕは、平坦面部１１４を底面とし、かつ斜面部１１５を側面とする複数の凹部１１６と、隣り合う凹部１１６間の隙間部分に相当する平坦面部１１３とを有して構成される。ここで、斜面部が平坦面部に対して傾斜するとは、斜面部が平坦面部と平行でないことを表す。
【００２７】
なお、本明細書においては、図面は模式的な図示であるため、出光面１０Ｕ上には僅かな個数の凹部１１６のみを示しているが、実際の面発光素子においては、一枚の面発光素子の出光面上に、これよりも遥かに多い数の凹部を設けてもよい。
【００２８】
（凹凸構造の説明）
以下、出光面１０Ｕの凹凸構造について、図面を参照して詳細に説明する。
図３は、面発光素子１０の出光面１０Ｕの一部を、面発光素子１０の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す部分平面図である。また、図４は、凹凸構造層１１１を、図３の線３ａを通り出光面１０Ｕに対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す部分断面図である。なお、前記の線３ａは、一列の凹部１１６の全ての平坦面部１１４の上を通る線であるものとする。また、以下の説明において「厚み方向」とは、特に断らない限り、面発光素子の厚み方向を指す。
【００２９】
図３に示すように、出光面１０Ｕは、複数の凹部１１６と、これらの凹部１１６間の隙間部分である平坦面部１１３とを備えている。各凹部１１６は、それぞれ四角錐の頂部を底面と平行に切り取った形状（角錐台形状）である。各凹部１１６は、その底部分に相当する四角形状の平坦面部１１４と、この四角形の四辺からそれぞれ延びる４面の斜面部１１５とにより構成されている。具体的には、凹部１１６を構成する四面の斜面部１１５は、いずれも台形状である。また、斜面部１１５と平坦面部１１３との境界線１１７は、四角形を構成している。すなわち、本実施形態では、凹部１１６は、四角錐台形状である。
【００３０】
出光面１０Ｕが平坦面１１３及び１１４と斜面１１５とを有する凹凸構造を有することにより、凹凸構造を有さない場合と比較して、面発光素子１０では、出光面１０Ｕを通した光の取出効率を高めることができる。すなわち、平坦面部１１３及び１１４で内部反射することにより取り出すことができなかった光であっても、斜面部１１５を通ってであれば取り出すことができるので、光の取出効率を向上させることができる。
【００３１】
凹部１１６は、通常、位置が離散的になるように設けられる。ここでは、複数の凹部１１６は、出光面１０Ｕに対して平行で互いに直交する２方向Ｘ及びＹに沿って配列されている。具体的には、凹部１１６は、ある間隔を空けて、直交する２方向Ｘ及びＹに沿って連続して配置されている。前記の２方向Ｘ及びＹにおいて、隣り合う凹部１１６の間には隙間が設けられていて、この隙間が平坦面部１１３を構成している。したがって、出光面１０Ｕにおいては、通常、平坦面部１１４の周囲には斜面部１１５が位置し、斜面部１１５の周囲（ひいては、凹部１１６の周囲）には平坦面部１１３が位置している。
【００３２】
図５及び図６は、面発光素子１０の出光面１０Ｕの一部を、面発光素子１０の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す部分平面図である。なお、図５においては、方向Ｘに沿って延在する帯状面部１１３Ｘに斜線を付して示す。また、図６においては、Ｙ方向に沿って延在する帯状面部１１３Ｙに斜線を付して示す。
図５及び図６に示すように、平坦面部１１３には、一方向Ｘに沿って延在する一群の帯状面部１１３Ｘと、別の一方向Ｙに沿って延在する一群の帯状面部１１３Ｙとが含まれる。ここで、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙはいずれも平坦面部１１３に含まれる面部であるので、本実施形態では周囲の斜面部１１５よりも厚み方向の外側に位置する。このため、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙは、周囲の斜面部１１５よりも突出した面部となっている。
【００３３】
また、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙは、いずれも厚み方向から見た形状が帯状の面部である。帯状面部１１３Ｘが延在する方向Ｘと帯状面部１１３Ｙが延在する方向Ｙとが平行でないので、帯状面部１１３Ｘと帯状面部１１３Ｙとは複数の交差部分１１３Ｚにおいて交差している。このため、帯状面部１１３Ｘ及び帯状面部１１３Ｙを厚み方向から見ると、全体として格子状となっている。
【００３４】
さらに、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙは、当該帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙが延在する方向Ｘ及びＹにおいて、幅が変化している。ここで「幅が変化する」とは、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙが延在する方向Ｘ及びＹにおいて帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅が不均一であることをいう。
この際、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅の変化は、不連続であってもよいが、製造が容易であるために連続的であることが好ましい。ここで、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅の変化が連続的であるとは、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙが延在する方向Ｘ及びＹの一端から他端に行くにしたがって、当該帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅が次第に大きくなるか小さくなっていくことにより、方向Ｘ及びＹにおいて帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅が不均一となっていることを意味する。
【００３５】
本実施形態では、帯状面部１１３Ｘの幅は方向Ｘにおいて変化していて、例えば図５に示すように方向Ｘの一端における帯状面部１１３Ｘの幅Ｌ１と他端における帯状面部１１３Ｘの幅Ｌ２とは異なっている。また、帯状面部１１３Ｙの幅は方向Ｙにおいて変化していて、例えば図６に示すように方向Ｙの一端における帯状面部１１３Ｙの幅Ｌ３と他端における帯状面部１１３Ｙの幅Ｌ４とは異なっている。
【００３６】
帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅が、その延在する方向Ｘ及びＹにおいて変化していることにより、面発光素子１０を観察した場合に、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙのスジが視認されることを防止でき、ひいては格子ムラを防止することができる。このように帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの視認を防止できる理由は必ずしも定かではないが、本発明者の検討によれば、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅を不均一にすることにより、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの形状の規則性を低下させられるためと推察される。例えば従来のように帯状面部の幅を均一にすると厚み方向から見た場合の出光面の面形状の規則性が高くなるので、その高い規則性に応じて出光面での反射光の見え方にも一定の規則性が生じ、この規則性が帯状面部のスジが見える原因となっていたと考えられる。また、従来のように出光面の面形状の規則性が高いと、帯状面部の周囲の斜面の周期的構造に起因して干渉及び回折が生じ、これらの干渉及び回折によって光が強められたり弱められたりすることも、帯状面部のスジが見える一因であったと考えられる。これに対し、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅を不均一にすれば出光面の面形状の規則性が低くなるので、帯状面部がスジとして視認されることを抑制できるものと推察される。
【００３７】
延伸する方向が異なる帯状面部が交差している場合、交差する帯状面部の厚み方向の位置が異なっていれば、それらの帯状面部の幅は容易に特定できる。しかし、本実施形態のように、交差する帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの厚み方向の位置が同じである場合、交差部分１１３Ｚでの帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅は明確には特定できない場合がある。この場合には、交差部分１１３Ｚ以外の帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅が変化していれば、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの視認を防止できる。帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙは、交差部分１１３Ｚ以外の帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙで反射、回折、干渉などを生じた光が見られることにより、視認されていると考えられるためである。
【００３８】
帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙが一方の端部から他方の端部にかけて次第に幅が広くなる形状である場合、その幅が広くなっていく向きは、同じでもよく、異なっていてもよい。例えば図５では、帯状面部１１３Ｘの幅が図中左端から図中右端にかけて広くなっていく帯状面部（図５において上から一番目の帯状面部１１３Ｘ）と、図中右端から図中左端にかけて広くなっていく帯状面部（図５において上から二番目の帯状面部１１３Ｘ）とが同じ出光面１０Ｕに混在している例を示したが、これらを何れか一方に揃えてもよい。
また、各帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの寸法は、同じでもよく、異なっていてもよい。
【００３９】
具体的な帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの寸法は、本発明の効果を損なわない限り任意である。例を挙げると、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅は、通常５．０μｍ以上、好ましくは７．５μｍ以上、より好ましくは１０．０μｍ以上であり、通常５００μｍ以下、好ましくは４００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下である。帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅を前記範囲の下限値以上とすれば光の取出効率を効果的に高めることができ、上限値以下とすれば面発光素子１０を通じて反対側を肉眼で見通しやすくできる。
【００４０】
さらに、各帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅が変化する程度は、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅及び長さにもよるが、本発明の効果を奏する観点から好適な範囲を挙げると、当該帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅の最大値と最小値との比（最大値／最小値）で、通常１．１以上、好ましくは１．２以上、より好ましくは１．５以上であり、通常３以下、好ましくは２．９以下、より好ましくは２．８以下である。
【００４１】
図７は、面発光素子１０の出光面１０Ｕの斜面部１１５を、平坦面部１１３及び１１４に対して垂直な方向に、平坦面部１１３及び１１４に対して平行な平面９００へと投影した様子を模式的に示す投影図である。なお、本実施形態では、平坦面部１１３及び１１４に対して垂直な方向は、出光面１０Ｕに対して垂直な方向、及び、面発光素子１０の厚み方向に対して平行な方向に一致する。また、平坦面部１１３及び１１４に対して平行な平面９００は、出光面１０Ｕに対して平行な平面となる。ただし、前記の平坦面部１１３及び１１４に対して平行な平面９００は、面発光素子１０が有する平面ではなく、斜面部１１５の投影面積を測定するために設定される投影平面である。また、図７において、面発光素子１０の出光面１０Ｕの斜面部１１５を、平坦面部１１３及び１１４に対して垂直な方向に、平坦面部１１３及び１１４に対して平行な平面９００へと投影した投影像９０１には斜線を付して示す。
【００４２】
図７に示すように、本実施形態の面発光素子１０において、斜面部１１５を、平坦面部１１３及び１１４に対して垂直な方向に、平坦面部１１３及び１１４に対して平行な平面９００へと投影して形成される投影面積が、平坦面部１１３及び１１４の合計面積の、通常０．１倍以下、好ましくは０．０５倍以下、より好ましくは０．０１倍以下である。また、平坦面部１１３及び１１４の合計面積に対する斜面部１１５の投影面積の比の下限は、通常０．０００１倍以上、好ましくは０．０００５倍以上、より好ましくは０．００１倍以上である。
【００４３】
これにより、面発光素子１０の向こう側を見通せるようになる。従来の片面発光型の面発光素子に設けられる凹凸構造を両面発光型の面発光素子に適用した場合、通常は斜面部の割合が大きくなることによりヘイズが大きくなり、面発光素子の向こう側を見通せなくなる。これに対し、平坦面部１１３及び１１４の合計面積に対する斜面部１１５の投影面積の割合を前記の範囲に収めると、出光面１０Ｕに対して垂直な方向から見た場合の凹凸構造によるヘイズの向上を抑制できる。したがって、本実施形態の面発光素子１０によれば、凹凸構造を有しながらもヘイズの上昇を抑制できるので、シースルーを損なわないようになっている。
【００４４】
さらに、本実施形態の面発光素子１０によれば、外部衝撃により凹凸構造の欠け等が生じることを防止でき、ひいては出光面１０Ｕの機械的強度を向上させることができる。一般に、面に凹凸構造があると、その面に衝撃が加えられた場合に当該凹凸構造の一部に力が集中し、破損を招きやすくなる傾向がある。ところが、本実施形態の面発光素子１０では、平坦面部１１３の厚み方向の位置を揃えて均一で平坦な面としているため、外部から出光面１０Ｕに加えられる力又は衝撃によって凹凸構造層１１１の一部に力が集中することを抑制できるようになっている。このため、凹凸構造層１１１の破損を防止し、良好な光取り出し効率と、面発光素子１０の出光面１０Ｕの高い機械的強度とを両立させることができるようになっている。
【００４５】
さらに、図４に示すように、出光面１０Ｕにおける平坦面部１１３と平坦面部１１４との高低差Ｈの最大値は、好ましくは２２μｍ以下であり、２１．５μｍ以下もしくは２１．０μｍ以下としてもよい。なお、下限は、通常０．１μｍ以上であり、０．１５μｍ以上もしくは０．２μｍ以上としてもよい。ここで、高低差とは、厚み方向における距離をいう。したがって、本実施形態における平坦面部１１３と平坦面部１１４との高低差Ｈは、凹部１１６の深さのことを意味する。
【００４６】
平坦面部１１３と平坦面部１１４との高低差Ｈの最大値をこのような範囲に収めることにより、出光面１０Ｕの法線方向に対して傾斜した方向（斜め方向）から見た場合にも面発光素子１０の向こう側を見通すことができるようになる。斜面部１１５の面積割合が大きいと、斜め方向から出光面１０Ｕを見た場合のヘイズが大きくなる傾向がある。これに対し、平坦面部１１３及び１１４の合計面積（全面積）に対する斜面部１１５の投影面積の割合が前記の範囲に収まり、且つ、平坦面部１１３と平坦面部１１４との高低差Ｈの最大値が前記の範囲に収まることにより、斜め方向から見た場合のヘイズの向上を抑制できるので、斜め方向から面発光素子１０を見た場合でもシースルーを損なわないようにできる。
【００４７】
図４に示すように、斜面部１１５は、平坦面部１１３及び１１４に対して、通常８０°以上、好ましくは８１°以上、より好ましくは８２°以上、また、通常９０°未満、好ましくは８９°以下、より好ましくは８８°以下の傾斜角度θで傾斜していることが好ましい。すなわち、斜面部１１５はいずれも平坦面部１１３及び１１４に対して平行でない面であるが、これらの斜面部１１５と平坦面部１１３及び１１４とがなす角度θが前記の範囲に収まることが好ましい。このように斜面部１１５の傾斜角度θが大きいことにより、光の取出効率を安定して高めることができる。また、傾斜角度θが小さい場合と比べ、傾斜角度θが大きいと斜面部１１５一つあたりの前記投影面積を小さくできるので、出光面１０Ｕに対して垂直な方向から見た場合に面発光素子１０の向こう側をより明瞭に見通しやすくなる。出光面１０Ｕに対して垂直な方向は面発光素子１０の正面方向に相当し、通常はこの正面方向から面発光素子１０の向こう側を見通す頻度が高いと想定されるため、前記の利点は実用上、有用である。
【００４８】
また、本実施形態では、全ての斜面部１１５の傾斜角度θは、同じ大きさに設定されているが、特に限定されず異なっていてもよい。
【００４９】
凹凸構造層１１１の厚みＴは、前記の平坦面部１１３と平坦面部１１４との高低差Ｈの最大値との関係で、適切な範囲にすることが好ましい。例えば、凹凸構造層１１１の材料として、凹凸構造層１１１の耐久性の維持に有利な硬質の材料を用いた場合、凹凸構造層１１１の厚みＴを薄くしたほうが面発光素子１０の可撓性を高めることが可能となり、面発光素子１０の製造工程における凹凸構造層１１１の取り扱いが容易となるので、好ましい。具体的には、平坦面部１１３と平坦面部１１４との高低差Ｈの最大値と凹凸構造層１１１の厚みＴとの差は、０〜３０μｍであることが好ましい。
【００５０】
凹部１１６が並ぶ方向Ｘ及びＹにおいて、凹部１１６のピッチＰは、通常０．１μｍ以上、好ましくは０．１５μｍ以上、より好ましくは０．２μｍ以上であり、通常５００μｍ以下、好ましくは４５０μｍ以下、より好ましくは４００μｍ以下である。ピッチＰが前記範囲の下限値以上となることにより光の取出効率を向上させることができ、上限値以下となることにより透明性を高くできる。
【００５１】
凹凸構造層１１１の厚さＴは、特に限定されないが、１μｍ〜７０μｍであることが好ましい。本実施形態では、凹凸構造層１１１の厚さＴとは、凹凸構造が形成されていない基材フィルム層１１２側の面と、平坦面部１１３との距離のことである。
また、基材フィルム層１１２の厚さは、２０μｍ〜３００μｍであることが好ましい。
【００５２】
（複層体の材料の説明）
出光面構造層１００は、複数の層からなるものとしうるが、単一の層からなってもよい。所望の特性を備えた出光面構造層１００を容易に得る観点からは、複数の層からなることが好ましい。本実施形態では、図１に示すように、出光面構造層１００は、凹凸構造層１１１と基材フィルム層１１２とを組み合わせた複層体１１０を含むようになっているものとする。これにより、性能の高い出光面構造層１００を容易に得ることができる。
【００５３】
凹凸構造層１１１及び基材フィルム層１１２は、通常、透明樹脂により形成する。本実施形態においては、出光面構造層１００を構成する各層が、光学部材に用いるのに適した光線透過率を有するものとしうる。例えば、出光面構造層１００全体として８０％以上の全光線透過率を有するものとする。
【００５４】
透明樹脂は、特に限定されず、透明な層を形成することができる各種の樹脂を用いてもよい。例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂を挙げることができる。なかでも熱可塑性樹脂は熱による変形が容易であるため、また紫外線硬化性樹脂は硬化性が高く効率が良いため、凹凸構造層１１１の効率的な形成が可能となり、それぞれ好ましい。
【００５５】
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル系、ポリアクリレート系、シクロオレフィンポリマー系等の樹脂を挙げることができる。また、紫外線硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系、エン／チオール系、イソシアネート系等の樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂としては、複数個の重合性官能基を有するものを好ましく用いることができる。なお、前記の樹脂は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００５６】
なかでも、複層体１１０を構成する凹凸構造層１１１の材料としては、出光面１０Ｕの凹凸構造を形成しやすく且つ凹凸構造の耐擦傷性を得やすいという観点から、硬化時の硬度が高い材料が好ましい。具体的には、７μｍの膜厚の樹脂層を基材上に凹凸構造が無い状態で形成した際に、鉛筆硬度でＨＢ以上になるような材料が好ましく、Ｈ以上になる材料がさらに好ましく、２Ｈ以上になる材料がより好ましい。一方、基材フィルム層１１２の材料としては、凹凸構造層１１１の形成に際しての取り扱い、並びに、複層体１１０を成形した後の複層体１１０の取り扱いを容易とするために、ある程度の柔軟性があるものが好ましい。このような材料を組み合わせることにより、取り扱いが容易で且つ耐久性に優れる複層体１１０を得ることができ、その結果、高性能の面発光素子１０を容易に製造することができる。
【００５７】
このような材料の組み合わせは、それぞれの材料を構成する樹脂として、上に例示した透明樹脂を適宜選択することにより得ることができる。具体的には、凹凸構造層１１１の材料を構成する透明樹脂として、アクリレート等の紫外線硬化性樹脂を用い、一方、基材フィルム層１１２の材料を構成する透明樹脂として、脂環式オレフィンポリマー製のフィルム（後述するゼオノアフィルム等）や、ポリエステルフィルムを用いることが好ましい。
【００５８】
本実施形態のように、出光面構造層１００が凹凸構造層１１１と基材フィルム層１１２とを含む場合、凹凸構造層１１１と基材フィルム層１１２との屈折率はできるだけ近くする態様としてもよい。この場合、凹凸構造層１１１と基材フィルム層１１２との屈折率差は、好ましくは０．１以内、さらに好ましくは０．０５以内である。
【００５９】
凹凸構造層１１１、基材フィルム層１１２等の出光面構造層１００の構成要素となる層の材料として、シースルー性を阻害しない範囲で、光拡散性のある材料を用いてもよい。これにより、シースルー性を維持しつつ、出光面構造層１００を透過する光を拡散させることができ、観察角度による色味の変化等の不具合を更に低減し得る。
【００６０】
光拡散性のある材料としては、例えば、粒子を含んだ材料、２種類以上の樹脂を混ぜ合わせて光を拡散させるアロイ樹脂、等を挙げることができる。なかでも、光拡散性を容易に調節できるという観点から、粒子を含んだ材料が好ましく、特に粒子を含んだ樹脂が特に好ましい。
【００６１】
粒子は、透明であってもよく、不透明であってもよい。粒子の材料としては、例えば、金属及び金属化合物、並びに樹脂等が挙げられる。金属化合物としては、例えば、金属の酸化物及び窒化物を挙げることができる。金属及び金属化合物の具体例を挙げると、銀、アルミのような反射率が高い金属；酸化ケイ素、酸化アルミ、酸化ジルコニウム、窒化珪素、錫添加酸化インジウム、酸化チタン等の金属化合物；などを挙げることができる。一方、樹脂としては、例えば、メタクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。なお、粒子の材料は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００６２】
粒子の形状は、例えば、球状、円柱状、立方体状、直方体状、角錐状、円錐状、星型状等の形状としうる。
【００６３】
さらに、樹脂組成物は、必要に応じて任意の成分を含んでいてもよい。当該任意の成分としては、例えば、フェノール系、アミン系等の劣化防止剤；界面活性剤系、シロキサン系等の帯電防止剤；トリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系等の耐光剤；などの添加剤を挙げることができる。
【００６４】
（支持基板）
図１に示すように、本実施形態の面発光素子１０は、有機ＥＬ素子１４０と複層体１１０との間に、支持基板１３１を備える。支持基板１３１を備えることにより、面発光素子１０に、たわみを抑制する剛性を与えることができる。また、支持基板１３１として、有機ＥＬ素子１４０を封止する性能に優れて、且つ、製造工程において有機ＥＬ素子１４０を構成する層をその上に順次形成することを容易に行い得る基板を備えることにより、面発光素子１０の耐久性を向上させ、且つ製造を容易にすることができる。
【００６５】
支持基板１３１を構成する材料の例としては、通常、透明な材料を用いる。その材料の例を挙げると、ガラス、樹脂などが挙げられる。なお、支持基板１３１の材料は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００６６】
支持基板１３１を構成する材料の屈折率は、特に制限されないが、１．４〜２．０とすることが好ましい。
支持基板１３１の厚さは、特に限定されないが、０．１ｍｍ〜５ｍｍであることが好ましい。
【００６７】
（接着層）
本実施形態の面発光素子１０は、複層体１１０と支持基板１３１との間に接着層１２１を備える。接着層１２１は、複層体１１０の基材フィルム層１１２と支持基板１３１との間に介在して、これらの２層を接着する層である。
接着層１２１の材料である接着剤は、狭義の接着剤（２３℃における剪断貯蔵弾性率が１〜５００ＭＰａであり、常温で粘着性を示さない、いわゆるホットメルト型の接着剤）のみならず、２３℃における剪断貯蔵弾性率が１ＭＰａ未満である粘着剤をも包含する。具体的には、支持基板１３１あるいは基材フィルム層１１２に近い屈折率を有し、且つ透明な材料を適宜用いうる。より具体的には、アクリル系接着剤あるいは粘着剤が挙げられる。接着層の厚さは、５μｍ〜１００μｍであることが好ましい。
【００６８】
〔１−３．封止基材〕
本実施形態の面発光素子１０は、発光面１４５に封止基材１５１を備える。封止基材１５１は、発光面１４５に直接接するように設けてもよい。また、発光面１４５と封止基材１５１との間に、充填材や接着剤等の任意の物質が存在していてもよいし、空隙が存在していてもよい。空隙には、発光層１４２の耐久性を大きく損なう等の不都合がない限りは空気やその他の気体が存在してもよいし、空隙内を真空としてもよい。
【００６９】
封止基材１５１としては、有機ＥＬ素子１４０を封止でき、発光面１４５から発せられる光を透過させる任意の部材を用いることができる。例えば、支持基材１３１と同様の部材を用いることができる。
【００７０】
〔１−４．製造方法〕
面発光素子１０の製造方法は、特に限定されない。例えば、支持基板１３１の一方の面に有機ＥＬ素子１４０を構成する各層を積層する工程と、凹凸構造層１１１及び基材フィルム層１１２を有する複層体１１０を用意する工程と、用意した複層体１１０を接着層１２１を介して支持基板１３１の他方の面に貼付する工程と、有機ＥＬ素子１４０の支持基板１３１とは反対側の面に封止基材１５１を設ける工程とを行うことにより製造してもよい。なお、前記の各工程は、所望の面発光素子１０が得られる限り順番に制限はない。
【００７１】
凹凸構造層１１１及び基材フィルム層１１２を有する複層体１１０の製造は、例えば、所望の形状を有する金型等の型を用意し、この型を凹凸構造層１１１を形成する材料の層に転写することにより行いうる。より具体的な方法としては、
（方法１）基材フィルム層１１２を構成する樹脂組成物Ａの層及び凹凸構造層１１１を構成する樹脂組成物Ｂの層（凹凸構造はまだ形成されていない）を有する未加工複層体を用意し、かかる未加工複層体の樹脂組成物Ｂ側の面上に、凹凸構造を形成する方法；及び
（方法２）基材フィルム層１１２の上に、液体状態の樹脂組成物Ｂを塗布し、塗布された樹脂組成物Ｂの層に型を当て、その状態で樹脂組成物Ｂを硬化させ、凹凸構造層１１１を形成する方法
などを挙げることができる。
【００７２】
方法１において、未加工複層体は、例えば樹脂Ａ及び樹脂Ｂを共押出する押出成形により得ることができる。未加工複層体の樹脂Ｂ側の面上に、所望の表面形状を有する型を押し当てることにより、凹凸構造を形成することができる。
より具体的には、長尺の未加工複層体を押出成形により連続的に形成し、所望の表面形状を有する転写ロールとニップロールとで未加工複層体を加圧し、それにより、連続的な製造を効率的に行うことができる。転写ロールとニップロールとによる挟み圧力は、好ましくは数ＭＰａ〜数十ＭＰａである。また転写時の温度は、樹脂Ｂのガラス転移温度をＴｇとすると、好ましくはＴｇ以上（Ｔｇ＋１００℃）以下である。未加工複層体と転写ロールとの接触時間はフィルムの送り速度、すなわちロール回転速度によって調整でき、好ましくは５秒以上６００秒以下である。
【００７３】
方法２において、凹凸構造層１１１を構成する樹脂Ｂとしては、紫外線等のエネルギー線により硬化しうる樹脂を用いることが好ましい。かかる樹脂Ｂを、基材フィルム層１１２上に塗布し、型を当てた状態で、塗布面の裏側（基材フィルム層の、樹脂Ｂを塗布した面とは反対側）に位置する光源から、紫外線等のエネルギー線を照射し、樹脂Ｂを硬化させ、その後型を剥離することにより、樹脂Ｂの塗膜を凹凸構造層１１１とし、複層体１１０を得ることができる。
【００７４】
〔１−５．主な利点の説明〕
本実施形態の面発光素子１０は上述したように構成されているため、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４４から発せられる光は出光面構造層１００を透過して出光面１０Ｕを通って出光し、発光面１４５から発せられる光は封止基材１５１を透過して出光面１０Ｄを通って出光する。
【００７５】
この際、出光面１０Ｕが平坦面部１１３及び１１４並びに斜面部１１５を含む凹凸構造を有するため、出光面１０Ｕを通して光を高効率で取り出すことができる。
【００７６】
また、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙの幅を、その延伸する方向Ｘ及びＹにおいて変化させたため、当該帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙが視認されることを防止でき、更には、格子ムラが生じることも防止できる。
【００７７】
さらに、面発光素子１０が備える層がいずれも透明であるため、面発光素子１０では、一方の出光面１０Ｕに入射した光は面発光素子１０を透過して他方の出光面１０Ｄを通って出光できるようになっており、また、他方の出光面１０Ｄに入射した光も面発光素子１０を透過して一方の出光面１０Ｕを通って出光できるようになっている。さらに、本実施形態では、平坦面部１１３及び１１４の合計面積に対する斜面部１１５の投影面積の割合を所定の範囲に収めてあるので、ヘイズを抑制できる。したがって、面発光素子１０を通じて反対側を肉眼で明瞭に見通すことができるようになり、シースルータイプの面発光素子を実現できる。
【００７８】
具体的には、面発光素子１０は、面発光素子１０全体として、通常６０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上の全光線透過率を有する。なお、上限は理想的には１００％であるが、通常は９０％以下である。
【００７９】
さらに、面発光素子１０では凹凸構造の形状を適切に設定してあるので、面発光素子１０のヘイズは、面発光素子１０全体として、通常１０％以下、好ましくは８％以下、より好ましくは６％以下と小さい値になっている。なお、下限値は理想的にはゼロであるが、通常は０．１％以上である。
【００８０】
〔２．第二実施形態〕
第一実施形態においては、有機ＥＬ素子の２つの発光面のうち一方の発光面に凹凸構造を配置するようにしたが、両方の出光面に凹凸構造を配置するようにしてもよい。以下、その例を、図面を用いて説明する。
【００８１】
図８は本発明の第二実施形態に係る面発光素子を模式的に示す斜視図である。図８に示すように、本発明の第二実施形態に係る面発光素子２０は、封止基材１５１の代わりに出光面構造層１００を備えること以外は、第一実施形態に係る面発光素子１０と同様である。これにより、面発光素子２０は、有機ＥＬ素子１４０の２つの発光面１４４及び１４５の両方に、出光面構造層１００を備えることになる。したがって、面発光素子２０は、２つの出光面１０Ｕ及び１０Ｄの両方に凹凸構造を有することになる。なお、本実施形態では、２つの出光面に、それぞれ同じ形状の凹凸構造層を設けているが、必ずしもこのような形態には限定されず、一方の出光面の凹凸構造の形状と、他方の出光面の凹凸構造の形状を異なるものとしてもよい。
【００８２】
本実施形態の面発光素子２０は上述したように構成されているため、有機ＥＬ素子１４０の発光面１４４から発せられる光は出光面１０Ｕを通って出光し、発光面１４５から発せられる光は出光面１０Ｄを通って出光することになる。この際、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができる。また、出光面１０Ｕ及び出光面１０Ｄの両方において、帯状面部１１３Ｘ及び１１３Ｙ（図３参照）の視認を防止できる。さらに、第一実施形態と同様の効果を奏することができる。
【００８３】
〔３．第三実施形態〕
第一及び第二実施形態においては、同じ出光面１０Ｕにおける平坦面部１１３と平坦面部１１４との高低差Ｈを一定にしたが、この高低差Ｈを不揃いにして寸法差を設けるようにしてもよい。中でも、出光面１０Ｕを通って出光する出射光及び出光面１０Ｕで反射した反射光の一方又は両方の干渉をもたらす差異を超える寸法差を設けると、前記の出射光及び反射光の一方又は両方の干渉による虹ムラを抑制できるため、好ましい。ここで、出光面通って出光する出射光には、有機ＥＬ素子が発した光だけでなく、当該出光面の反対側から面発光素子へ入射して面発光素子を透過した透過光も含む。以下、このような凹凸構造の例を、図面を用いて説明する。
【００８４】
図９は本発明の第三実施形態に係る凹凸構造層の断面を模式的に示す断面図である。図９に示すように、本発明の第三実施形態に係る凹凸構造層３１１の表面である出光面３０Ｕには、平坦面部３１４を底面とし斜面部３１５を側面とする凹部３１６と、平坦面部３１７を底面とし斜面部３１８を側面とする凹部３１９とが、それぞれ複数設けられている。また、凹部３１６及び３１９の間には隙間が設けられていて、この隙間が平坦面部３１３を構成している。
【００８５】
本実施形態の出光面３０Ｕにおいて、平坦面部３１３は、第一実施形態の平坦面部１１３と同様に、出光面３０Ｕに対して平行で互いに直交する２方向に沿って延在する２群の帯状面部を含み、この帯状面部の幅はそれぞれの帯状面部が延在する方向において変化している。また、斜面部３１５及び３１８の投影面積は、第一実施形態と同様に、平坦面部３１３、３１４及び３１７の合計面積の通常０．１倍以下となっている。
【００８６】
ここで、凹部３１６の深さ（すなわち、平坦面部３１３と平坦面部３１４との高低差）Ｈ３１６は、凹部３１９の深さ（すなわち、平坦面部３１３と平坦面部３１７との高低差）Ｈ３１９よりも小さくなっている。この場合、凹部３１６の深さＨ３１６と凹部３１９の深さＨ３１９との間に、出射光及び反射光の一方又は両方の干渉をもたらす差異を超える寸法差Ｈ３１９−Ｈ３１６があると、干渉による虹ムラを抑制できる。この際、前記の寸法差Ｈ３１９−Ｈ３１６は、出射光の干渉をもたらす差異を超える寸法差であってもよいが、出射光よりも反射光の方が虹ムラへの影響が大きい傾向があるので、反射光の干渉をもたらす差異を超える寸法差であることが好ましく、出射光及び反射光の両方の干渉をもたらす差異を超える寸法差であることがより好ましい。より具体的には、前述した寸法差が無い場合には、凹凸構造層３１１の上面における平坦面部３１３、３１４および３１７での反射光と凹凸構造層３１１の下面での反射光との間で干渉が起こり、虹ムラが生じていた。しかしながら、表面の凹凸構造に前記所定の寸法差を備えることにより、反射光間の干渉を抑えることができ、出光面３０Ｕにおける虹ムラを抑えることができる。
【００８７】
前記の干渉をもたらす差異を超える寸法差とは、有機ＥＬ素子から発せられた出射光の干渉を例に挙げると、例えば、出射光の中心波長の、通常０．６２倍以上、好ましくは１．５倍以上の寸法差である。この寸法差を設けることにより、虹ムラの発生を抑制することができる。かかる寸法差の上限は特に限定されないが、好ましくは、出射光の中心波長の６０倍以下である。
【００８８】
上記数値範囲は、以下に示す知見から確認している。すなわち、凹部の深さを全て揃える態様で設計した構造層において、凹部の深さに１７０ｎｍ以上の誤差が生じると干渉が発生して虹ムラが現れるという場合に、かかる虹ムラを発生させる誤差の最小値の２倍以上の高さの寸法差を敢えて設けると、虹ムラの発生を抑制することができることが分かっている。さらに、凹部の深さを全て揃える態様で設計した構造層において、凹部の深さに標準偏差でσ１ｎｍ（≒６０ｎｍ）のバラツキが生じると干渉が発生し虹ムラが現れるという場合、６×σ１ｎｍ（＝３６０ｎｍ）以上の寸法差を敢えて設けることにより、虹ムラの発生を抑制することができることが分かっている。上記２つの知見により、出射光の干渉をもたらす差異を超える寸法差は、面発光素子が出光する光の中心波長の０．６２倍以上であると示すことができる。
【００８９】
また、同様の理由から、透過光及び反射光の干渉では、干渉をもたらす差異を超える寸法差は、透過光及び反射光の中心波長の、通常０．６２倍以上、好ましくは１．５倍以上の寸法差であり、また通常６０倍以下の寸法差である。ただし、通常は、透過光及び反射光は自然光であり、任意の波長を含む光であるため、反射する光の中心波長を決定することは難しい。そこで、虹ムラの原因となる光が可視光であることに鑑みて、通常は、可視光の中心波長である５５０ｎｍを反射する光の中心波長として、前記の寸法差を設定する。
【００９０】
さらに、本実施形態のように凹凸構造が寸法差を有するようにした場合でも、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができる。また、出光面３０Ｕにおいて、帯状面部の視認を防止できる。さらに、第一実施形態と同様の効果を奏することができる。
【００９１】
また、平坦面部同士の高低差以外の要素において、前記の寸法差を設けた場合でも、同様の効果を得ることができる。例えば、平坦面部同士の高低差、帯状面部の最大幅、凹部又は凸部等の繰り返し構造のピッチ、などの要素群のうち１つ以上の要素において前記の寸法差があれば、同様に虹ムラを抑制することができる。
【００９２】
〔４．第四実施形態〕
本発明に係る出光面構造層は、有機ＥＬ素子を備える面発光素子であれば、任意のものに適用できる。したがって、有機ＥＬ素子に対して対称な層構造を有する面発光素子に対して上述した出光面構造層を設けてもよく、有機ＥＬ素子に対して非対称な層構造を有する面発光素子に対して出光面構造層を設けてもよい。例えば、有機ＥＬ素子に対して非対称な層構造を有する面発光素子に出光面構造層を適用してもよい。以下、その例を、図面を用いて説明する。
【００９３】
図１０は本発明の第四実施形態に係る面発光素子を模式的に示す斜視図である。図１０に示すように、本発明の第四実施形態に係る面発光素子４０は、有機ＥＬ素子１４０の第二の透明電極層１４３と封止基材１５１との間に不活性ガス層４６１を備えること以外は第一実施形態に係る面発光素子１０と同様である。
【００９４】
不活性ガス層４６１は外部から浸入する酸素及び湿気が有機ＥＬ素子１４０を劣化させないように保護する層であり、窒素ガス等の不活性ガスが充填された層である。なお、通常は面発光素子４０の側面は図示しない封止部材で封止されるため、不活性ガス層４６１内のガスが外部に漏れ出すことは無い。
【００９５】
この面発光素子４０は、有機ＥＬ素子１４０の一方の発光面１４５側にだけ不活性ガス層４６１を有する点で、有機ＥＬ素子１４０に対して非対称な層構造を有する。このような面発光素子４０であっても、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができる。また、出光面３０Ｕにおいて、帯状面部の視認を防止できる。さらに、第一実施形態と同様の効果を奏することができる。
【００９６】
〔５．その他〕
本発明の面発光素子について実施形態を示して説明したが、本発明は更に変更して実施してもよい。
例えば、上述した実施形態では、全ての帯状面部が、その延在する方向において幅が変化している形態を示したが、一部の帯状面部は、その延在する方向において幅が均一になっていてもよい。
【００９７】
また、例えば、上述した実施形態では出光面に凹部を設け、この凹部により平坦面部と斜面部とを有する凹凸構造を構成したが、凹部の代わりに凸部を設けてもよい。凹部の代わりに凸部を設けた場合、平坦面部は通常は周囲の斜面部よりも厚み方向の内側の位置（すなわち、発光面１４４に近い位置）に位置する。このため、その平坦面部に含まれる帯状面部も、周囲の斜面部よりも窪んだ面部となる。このような場合も、帯状面部の幅を、当該帯状面部が延在する方向において変化させることにより、帯状面部が視認されることを防止できる。具体例を挙げると、第一実施形態で説明した出光面１０Ｕの凹凸構造を反転した形状の凹凸構造を有する出光面は、凹部１１６を反転させた四角錐台形状の凸部が離散的に形成された出光面となる。この出光面を厚み方向から見た場合、図３，５及び６に示すのと同様の形状となり第一実施形態と同様の利点を得ることができる。さらに、例えば、同じ出光面に凹部と凸部とを混在させてもよい。
【００９８】
また、例えば、出光面に形成される凹部及び凸部の形状は、四角錐台形状以外の形状でもよい。具体例を挙げると、三角形、五角形、六角形等の四角形以外の形状の底面を有する角錐台形状などが挙げられる。さらに、角錐形状、角柱形状等であってもよい。
【００９９】
また、上述した実施形態では、出光面の全面に分布する凹部又は凸部として、同じ種類の形状（具体的には、四角錐台形状）からなるもののみが分布しているものを示したが、出光面には異なる形状の凹部又は凸部が混在していてもよい。例えば、大きさの異なる凹部又は凸部が混在していたり、三角錐台形状及び四角錐台形状の凹部又は凸部が混在していたり、異なる傾斜角度の斜面部が混在していたりしてもよい。
【０１００】
また、例えば、平坦面部及び斜面部の位置、向き、形状、数及びこれらの組み合わせは、実施形態のものに限られず、本発明の効果を著しく損なわない範囲で変更してもよい。
具体例を挙げると、平坦面部は、上述した実施形態のように高さ位置を２段階に揃えて設ける以外にも、図１１に示すように１段階に揃えて設けてもよい。図１１は、本発明の別の実施形態に係る凹凸構造層の断面を模式的に示す断面図である。図１１に示す凹凸構造層５１１においては、錐形状の凹部５１６の側面として斜面部５１５が設けられ、隣り合う凹部５１６間の隙間に高さ位置を揃えて平坦面部５１３が設けられている。このように平坦面部の高さ位置を１段階に揃える場合でも、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができ、また、出光面５０Ｕにおいて帯状面部の視認を防止できる。なお、平坦面部の高さ位置を１段階で揃える場合、平坦面部同士の高低差はゼロになるが、この場合でも凹部又は凸部の高さＨに寸法差を設けると、出射光及び反射光の一方又は両方の干渉による虹ムラを抑制できる。
【０１０１】
また、例えば、図１２に示すように、平坦面部の高さ位置を３段階以上に揃えるようにしてもよい。図１２は、本発明の別の実施形態に係る凹凸構造層の断面を模式的に示す断面図である。図１２に示す凹凸構造層６１１において凹部６１６は平坦面部６１４及び６１７並びに斜面部６１５及び６１８を有する。また、底面として平坦面部６１４の周囲に斜面部６１５が設けられ、斜面部６１５の周囲に平坦面部６１７が設けられ、平坦面部６１７の周囲に斜面部６１８が設けられ、隣り合う凹部６１６間の隙間に平坦面部６１３が設けられている。このように平坦面部の高さ位置を３段階以上の複数段階で揃える場合でも、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができ、また、出光面６０Ｕにおいて帯状面部の視認を防止できる。なお、平坦面部の高さ位置を３段階以上の複数段階で揃える場合、厚み方向の平坦面部の高低差の最大値は、図１２において符号ＨＭＡＸで示す寸法となる。
【０１０２】
また、上述した実施形態のように斜面部を平坦な平面とする以外にも、図１３に示すように曲面としてもよい。図１３は本発明の別の実施形態に係る構造層の断面を模式的に示す断面図である。図１３に示す凹凸構造層７１１においては、凹部７１６の底面として平坦面部７１４が設けられ、平坦面部７１４の周囲に、平坦面部７１４からの距離が離れるにつれて次第に傾斜角度が増加又は減少する曲面状の斜面部７１５が設けられ、斜面部７１５の周囲に平坦面部７１３が設けられている。このように斜面部７１５が曲面となっている場合でも、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができ、また、出光面７０Ｕにおいて帯状面部の視認を防止できる。
【０１０３】
また、例えば、上述した実施形態では、帯状面部として、方向Ｘに沿う群と方向Ｙに沿う群の２群設けたが、一方向に沿う帯状面部を１群だけ設けるようにしてもよく、３方向以上に沿う帯状面部を３群以上設けるようにしてもよい。さらに、異なる方向に沿って複数群の帯状面部を設ける場合、それらの帯状面部が交差する角度は９０°に限定されず、例えば６０°など、任意の角度にしてもよく、ランダムにしてもよい。
【０１０４】
また、例えば、上述した実施形態では発光面に直接に接するように出光面構造層を設けたが、出光面構造層は他の層を介して発光面に設けられていてもよい。他の層としては、例えば、有機ＥＬ素子を外気及び湿気から保護するガスバリア層、紫外線を遮断する紫外線カット層などが挙げられる。
【０１０５】
さらに、例えば、上述した実施形態では、出光面構造層としては、凹凸構造層、基材フィルム層、接着層及び支持基板からなるものを示したが、出光面構造層は、これらよりも少ない層から構成されたものであってもよく、又は逆にこれらの層に加えて任意の層をさらに含むものであってもよい。例えば、凹凸構造層の表面にさらにコーティング層を有し、これが出光面の凹凸構造を規定するものであってもよい。
【０１０６】
〔６．用途〕
本発明の面発光素子は、例えば、照明器具、バックライト装置及び表示装置等の用途に用いてもよい。
照明器具は、本発明の面発光素子を光源として有し、さらに、必要に応じて、光源を保持する部材、電力を供給する回路等の任意の構成要素を備える。
また、バックライト装置は、本発明の面発光素子を光源として有し、さらに、必要に応じて、筐体、電力を供給する回路、出光する光をさらに均一にするための拡散板、拡散シート、プリズムシート等の任意の構成要素を含む。バックライト装置の用途は、液晶表示装置等、画素を制御して画像を表示させる表示装置、並びに看板等の固定された画像を表示させる表示装置のバックライト等が挙げられる。
さらに、表示装置としては、例えば有機ＥＬディスプレイ装置などが挙げられる。また、前記のバックライト装置を備える液晶表示装置等も、表示装置に含まれる。
【実施例】
【０１０７】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。
以下の説明において、量を示す「部」及び「％」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
【０１０８】
〔実施例１〕
（複層体の製造）
ロール状の基材フィルム（商品名「ゼオノアフィルム」、日本ゼオン株式会社製、脂環式構造含有重合体樹脂のフィルム、厚さ１００μｍ、屈折率１．５３）に、ウレタンアクリレートを主成分とするＵＶ硬化樹脂（屈折率１．５４）を塗布して塗膜を形成し、かかる塗膜上に金属モールドを押し付けた。この状態で、紫外線を１．５ｍＪ／ｃｍ２照射し塗膜を硬化させ、凹凸構造を有する凹凸構造層（２５μｍ）を形成した。
【０１０９】
図１４は、実施例１で用いた金属モールドの製造の様子を説明するため、金属モールドの切削される面の一部を模式的に示す平面図である。図１４に示すように、凹凸構造を作製する金属モールドは、頂角５°、先端幅５０μｍの切削バイトを用いて、以下の手順に従って切削して作製した。
（１）型とする金属板の一方の面上において、面内のある方向に沿って、ある切削ピッチＰで切削する。この１回目の切削により形成された切削跡８０１は、図１４では一点鎖線で示す。
（２）切削開始位置８０２および切削ピッチＰが１回目の切削と同じになるように設定して、再び切削を行う。この切削での切削方向は、既に形成された切削跡８０１と、今回の切削により形成される切削跡８０３とが重複し、切削終了位置８０４での切削面幅の合計が切削バイトの先端部幅のおよそ切削回数倍（例えば、２回目の切削であれば２倍）以下となる方向とする。例として、２回目の切削により形成された切削跡８０３を、図１４に実線で示す。
（３）さらに前記（２）で説明した切削を、切削終了位置８０４における切削面幅の合計が所望の切削面幅となる回数だけ行う。通常、切削終了位置８０４における切削面幅が、切削により形成される溝の最大切削面幅となる。この最大切削面幅は、切削バイトの先端部幅の３倍以内であれば、切削方向の角度を調整することによって任意に変更できる。これにより、その延在方向において溝幅が連続的に変化した第一群の溝が、金属モールドに形成される。
（４）第一群の溝を形成するために１回目に切削した方向に対して所定の交差角度で交差する方向に沿って、前記の（１）〜（３）の切削方法で切削を行い、第一群の溝に交差する第二群の溝を、金属モールドに形成する。
【０１１０】
図１５は、実施例１で用いた金属モールドの一部を、切削方向の一方に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。図１５に示すように、実施例１では、切削ピッチＰを２００μｍ、最大切削面幅を１５０μｍ、第一群の溝と第二群の溝との切削方向の交差角度を９０°とした。作製した金属モールド８０５に形成された溝８０６は、面内における切削面幅Ｗが、その延伸方向において５０μｍから１５０μｍで連続的に変化していた。また、切削により形成される溝８０６の深さはＨ１〜Ｈ５の順で５段階に変え、こうして形成される５本の溝８０６を繰り返し単位として、繰り返し切削を行った。本実施例においては、繰り返し単位に含まれる溝８０６の深さＨ１〜Ｈ５は、Ｈ１が１９．４μｍ、Ｈ２が１９．７μｍ、Ｈ３が２０．０μｍ、Ｈ４が２０．３μｍ、およびＨ５が２０．６μｍとなるようにした。
【０１１１】
図１６は、実施例１で得られた凹凸構造層の一部を、金属モールドの切削方向のうちの一方に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。図１６に示すように、得られた凹凸構造層８０７の表面には、金属モールドに形成された溝に対応して四角錐台形状の凹部８０８を多数有する凹凸構造が形成され、凹部８０８の底には平坦面部８０９が形成され、また、凹部８０８同士の間には複数の平坦面部８１０が形成された。このうち、平坦面部８１０は、金属モールドの切削方向に平行に延在する帯状面部となっている。
【０１１２】
また、この凹凸構造層８０７において、凹部８０８の斜面部８１１の平坦面部８０９及び８１０に対する平均傾斜角度は８７．５°であった。また、平坦面部８０９及び８１０の合計面積に対する斜面部８１１の投影面積の比は０．０３であった。さらに、平坦面部８０９と平坦面部８１０との高低差の最大は２０．６μｍであった。
【０１１３】
（透明有機ＥＬ素子の製造）
主面に透明電極層が形成されたガラス基板上に、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、ホール阻止層、電荷発生層、金属酸化物層及び陰極を、この順に形成した。各層を形成した材料と膜厚は下記の通りである。
【０１１４】
・透明電極層：ＩＴＯ  ３００ｎｍ
・ホール注入層：三酸化モリブデン（ＭｏＯ３）５ｎｍ
・ホール輸送層：ＮＳ−２１［新日鉄化学株式会社製］及びＭｏＯ３  ２０ｎｍ、さらにＮＳ−２１  ５ｎｍ、合計２５ｎｍ
・発光層：ＮＳ−２１及びＥＹ５２（ｅ−Ｒａｙ  Ｏｐｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社（以下、ｅ−Ｒａｙ社とする）製）２０ｎｍ、さらにＥＢ４３及びＥＢ５２（共にｅ−Ｒａｙ社製）３０ｎｍ、合計５０ｎｍ
・ホール阻止層：ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（ｐ−フェニルフェノラート）アルミニウム（ＢＡｌｑ）  ５ｎｍ
・電荷発生層：Ｌｉｑ及びＤＰＢ  ３５ｎｍ、さらにアルミニウム  １．５ｎｍ、さらにＮＳ−２１及びＭｏＯ３  １０ｎｍ、合計３７．５ｎｍ
・金属酸化物層：ＭｏＯ３  ５ｎｍ
・陰極：ＩＴＯ  １００ｎｍ
【０１１５】
ホール注入層から金属酸化物層までの形成は、真空蒸着装置内に透明電極層を既に形成したガラス基板を設置し、上記のホール輸送層から金属酸化物層までの材料を抵抗加熱式により順次蒸着させることにより行なった。系内圧は５×１０−３Ｐａで、蒸発速度０．１〜０．２ｎｍ／ｓで行った。その後、陰極層のＩＴＯは、対向ターゲット型スパッタ法により製膜した。これを、ＵＶ硬化樹脂を用いて、別のガラス板により封止し、透明有機ＥＬ素子１を得た。得られた透明有機ＥＬ素子１に通電し駆動させたところ、良好な白色の発光が得られ、正面方向及び斜め方向共に、透明性が優れていた。なお、ここで正面方向とは発光面の法線方向に平行な方向を指し、斜め方向とは発光面に対して４５°傾斜した方向を指す。
【０１１６】
（面発光素子１の製造）
得られた透明有機ＥＬ素子１に、凹凸構造層を形成した基材フィルムを粘着層（アクリル系樹脂、屈折率１．４９、日東電工社製、ＣＳ９６２１）を介して貼り合せ、透明有機ＥＬ素子１−粘着層−基材フィルム−凹凸構造層との層構成を有する面発光素子１を得た。得られた面発光素子１を通電して発光させ、面発光素子１の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１１７】
〔実施例２〕
図１７は、実施例２（及び後述する実施例３〜９及び比較例２〜５）で用いた金属モールドを、その切削終了位置において、一方の切削方向に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。
切削バイトを、頂角が３０．０°、先端幅が１００．０μｍのものに変更した。
また、図１７に示すように、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を２０．０μｍとし、切削ピッチＰ１〜Ｐ５を４００μｍにし、さらに溝の切削終了位置における切削面幅Ｗ１〜Ｗ５を、Ｗ１が１００μｍ、Ｗ２が１５０μｍ、Ｗ３が２００μｍ、Ｗ４が２５０μｍ、Ｗ５が３００μｍとなるようにし、こうして形成される５本の溝を繰り返し単位として繰り返し切削を行った。
以上のこと以外は実施例１と同様にして金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み２５μｍ）を製造し、面発光素子２を製造した。
【０１１８】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は７５．０°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．０９であり、平坦面部の高低差の最大は２０．１μｍであった。得られた面発光素子２を通電して発光させ、面発光素子２の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１１９】
〔実施例３〕
切削バイトを、頂角が２０．０°、先端幅が１００μｍのものに変更した。
また、図１７に示すように、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を３０．０μｍでとし、切削ピッチＰ１〜Ｐ５を、Ｐ１が４５０μｍ、Ｐ２が４７５μｍ、Ｐ３が５００μｍ、Ｐ４が５２５μｍ、Ｐ５が５５０μｍとなるようにし、さらに溝の切削終了位置における切削面幅Ｗ１〜Ｗ５を２００μｍとし、こうして形成される５本の溝を繰り返し単位として、繰り返し切削を行った。
以上のこと以外は実施例１と同様にして金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み３５μｍ）を製造して、面発光素子３を製造した。
【０１２０】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は８０．０°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．０５であり、平坦面部の高低差の最大は３０．１μｍであった。得られた面発光素子３を通電して発光させ、面発光素子３の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１２１】
〔実施例４〕
切削バイトを、頂角が３０．０°、先端幅が１５０μｍのものに変更した。
また、図１７に示すように、溝の深さＨ１〜Ｈ５を、Ｈ１が２４．４μｍ、Ｈ２が２４．７μｍ、Ｈ３が２５．０μｍ、Ｈ４が２５．３μｍ、およびＨ５が２５．６μｍとなるようにし、切削ピッチＰ１〜Ｐ５を、Ｐ１が３６０μｍ、Ｐ２が３８０μｍ、Ｐ３が４００μｍ、Ｐ４が４２０μｍ、Ｐ５が４４０μｍとなるようにし、さらに溝の切削終了位置における切削面幅Ｗ１〜Ｗ５を３００μｍとし、こうして形成される５本の溝を繰り返し単位として、繰り返し切削を行った。
以上のこと以外は実施例１と同様にして金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み３０μｍ）を製造して、面発光素子４を製造した。
【０１２２】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は７５．０°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．０９であり、平坦面部の高低差の最大は２５．６μｍであった。得られた面発光素子４を通電して発光させ、面発光素子４の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１２３】
〔実施例５〕
切削バイトを、頂角が８．０°、先端幅が５０．０μｍのものに変更した。
また、図１７に示すように、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を２０．０μｍとし、切削ピッチＰ１〜Ｐ５を、Ｐ１が１８０μｍ、Ｐ２が１９０μｍ、Ｐ３が２００μｍ、Ｐ４が２１０μｍ、Ｐ５が２２０μｍとなるようにし、さらに溝の切削終了位置における切削面幅Ｗ１〜Ｗ５を、Ｗ１が５０μｍ、Ｗ２が７５μｍ、Ｗ３が１００μｍ、Ｗ４が１２５μｍ、Ｗ５が１５０μｍになるようにし、こうして形成される５本の溝を繰り返し単位として、繰り返し切削を行った。
以上のこと以外は、実施例１と同様にして金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み２５μｍ）を製造して、面発光素子５を製造した。
【０１２４】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は８６．０°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．０４であり、平坦面部の高低差の最大は２０．１μｍであった。得られた面発光素子５を通電して発光させ、面発光素子５の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１２５】
〔実施例６〕
切削バイトを、頂角が２５．０°、先端幅が５０．０μｍのものに変更した
また、図１７に示すように、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を、Ｈ１が１９．４μｍ、Ｈ２が１９．７μｍ、Ｈ３が２０．０μｍ、Ｈ４が２０．３μｍ、Ｈ５が２０．６μｍとなるようにし、切削ピッチＰ１〜Ｐ５が４００μｍとなるようにし、さらに溝の切削終了位置における切削面幅Ｗ１〜Ｗ５を、Ｗ１が５０μｍ、Ｗ２が６２．５μｍ、Ｗ３が７５μｍ、Ｗ４が８７．５μｍ、Ｗ５が１００μｍになるようにし、こうして形成される５本の溝を繰り返し単位として、繰り返し切削を行った。
以上のこと以外は、実施例１と同様にして金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み２５μｍ）を製造して、面発光素子６を製造した。
【０１２６】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は７７．５°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．０９であり、平坦面部の高低差の最大は２０．６μｍであった。得られた面発光素子６を通電して発光させ、面発光素子６の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１２７】
〔実施例７〕
切削バイトを、頂角が５．０°、先端幅が５０．０μｍのものに変更した。
また、図１７に示すように、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を、Ｈ１が１９．４μｍ、Ｈ２が１９．７μｍ、Ｈ３が２０．０μｍ、Ｈ４が２０．３μｍ、Ｈ５が２０．６μｍとなるようにし、切削ピッチＰ１〜Ｐ５を、Ｐ１が１８０μｍ、Ｐ２が１９０μｍ、Ｐ３が２００μｍ、Ｐ４が２１０μｍ、Ｐ５が２２０μｍとなるようにし、溝の切削終了位置における切削面幅Ｗ１〜Ｗ５を、Ｗ１が５０μｍ、Ｗ２が７５μｍ、Ｗ３が１００μｍ、Ｗ４が１２５μｍ、Ｗ５が１５０μｍになるようにし、こうして形成される５本の溝を繰り返し単位として、繰り返し切削を行った。
以上のこと以外は、実施例１と同様にして金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み２５μｍ）を製造して、面発光素子７を製造した。
【０１２８】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は８７．５°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．０３であり、平坦面部の高低差の最大は２０．６μｍであった。得られた面発光素子７を通電して発光させ、面発光素子７の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１２９】
〔実施例８〕
切削バイトを、頂角が５．０°、先端幅が２５．０μｍのものに変更した。
また、図１７に示すように、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を、Ｈ１が１９．４μｍ、Ｈ２が１９．７μｍ、Ｈ３が２０．０μｍ、Ｈ４が２０．３μｍ、Ｈ５が２０．６μｍとなるようにし、切削ピッチＰ１〜Ｐ５を、Ｐ１が１８０μｍ、Ｐ２が１９０μｍ、Ｐ３が２００μｍ、Ｐ４が２１０μｍ、Ｐ５が２２０μｍとなるようにし、溝の切削終了位置における切削面幅Ｗ１〜Ｗ５を、Ｗ１が２５．０μｍ、Ｗ２が３７．５μｍ、Ｗ３が５０．０μｍ、Ｗ４が６２．５μｍ、Ｗ５が７５．０μｍになるようにし、第一群の溝と第二群の溝との交差角度を６０°となるようにした。
以上のこと以外は、実施例１と同様にして金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み２５μｍ）を製造して、面発光素子８を製造した。
【０１３０】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は８７．５°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．０３であり、平坦面部の高低差の最大は２０．６μｍであった。得られた面発光素子８を通電して発光させ、面発光素子８の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１３１】
〔実施例９〕
切削バイトを、頂角が１０．０°、先端幅が６０．０μｍのものに変更した。
また、図１７に示すように、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を、Ｈ１が１４．４μｍ、Ｈ２が１４．７μｍ、Ｈ３が１５．０μｍ、Ｈ４が１５．３μｍ、Ｈ５が１５．６μｍとなるようにし、切削ピッチＰ１〜Ｐ５を、Ｐ１が１８０μｍ、Ｐ２が１９０μｍ、Ｐ３が２００μｍ、Ｐ４が２１０μｍ、Ｐ５が２２０μｍとなるようにし、溝の切削終了位置における切削面幅Ｗ１〜Ｗ５を、Ｗ１が６０．０μｍ、Ｗ２が９０．０μｍ、Ｗ３が１２０．０μｍ、Ｗ４が１５０．０μｍ、Ｗ５が１８０．０μｍになるようにし、第一群の溝と第二群の溝との交差角度を６０°となるようにしたこと以外は実施例１と同様にして金属モールドを製造した。Ｎｉ電鋳（厚み約３００μｍ）にて、この金属モールドから反転した形状の型を製造した。こうして得られた型を、凹凸構造層を形成する転写型としたこと以外は、実施例１と同様にして凹凸構造層（厚み２０μｍ）を製造し、面発光素子９を製造した。
【０１３２】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は８５．０°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．０４であり、平坦面部の高低差の最大は１５．６μｍであった。得られた面発光素子９を通電して発光させ、面発光素子９の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１３３】
〔比較例２〕
切削バイトを、頂角が２０．０°、先端幅が１０．０μｍのものに変更した。
また、図１７に示すように、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を、Ｈ１が１９．４μｍ、Ｈ２が１９．７μｍ、Ｈ３が２０．０μｍ、Ｈ４が２０．３μｍ、Ｈ５が２０．６μｍとなるようにし、切削ピッチＰ１〜Ｐ５を１００．０μｍとした。
さらに、各方向への切削はそれぞれ１回だけ行うようにして、溝が延在する方向において切削面幅が均一になるようにした。
以上のこと以外は、実施例１と同様にして金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み２５μｍ）を製造して、面発光素子１０を製造した。
【０１３４】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．３２であり、平坦面部の高低差の最大は２０．６μｍであった。
得られた面発光素子１０を通電して発光させ、面発光素子１０の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。
【０１３５】
〔比較例３〕
切削バイトを、頂角が４０．０°、先端幅が１０．０μｍのものに変更した。
また、図１７に示すように、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を５．０μｍとなるようにし、切削ピッチＰ１〜Ｐ５を、Ｐ１が３１．５μｍ、Ｐ２が３３．３μｍ、Ｐ３が３５．０μｍ、Ｐ４が３６．８μｍ、Ｐ５が３８．５μｍとなるようにした。
さらに、各方向への切削はそれぞれ１回だけ行うようにして、溝が延在する方向において切削面幅が均一になるようにした。
以上のこと以外は、実施例１と同様にして金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み１０μｍ）を製造し、面発光素子１１を製造した。
【０１３６】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．４０であり、平坦面部の高低差の最大は５．１μｍであった。
得られた面発光素子１１を通電して発光させ、面発光素子１１の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。
【０１３７】
〔比較例４〕
切削バイトを、頂角が２０．０°、先端幅が３０．０μｍのものに変更した。
また、図１７に示すように、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を、Ｈ１が２４．４μｍ、Ｈ２が２４．７μｍ、Ｈ３が２５．０μｍ、Ｈ４が２５．３μｍ、Ｈ５が２５．６μｍとなるようにし、切削ピッチＰ１〜Ｐ５を、Ｐ１が９０．０μｍ、Ｐ２が９５．０μｍ、Ｐ３が１００．０μｍ、Ｐ４が１０５．０μｍ、Ｐ５が１１０．０μｍとなるようにした。
さらに、各方向への切削はそれぞれ１回だけ行うようにして、溝が延在する方向において切削面幅が均一になるようにした。
以上のこと以外は、実施例１と同様にして金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み３０μｍ）を製造し、面発光素子１２を製造した。
【０１３８】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．２８であり、平坦面部の高低差の最大は２５．６μｍであった。
得られた面発光素子１２を通電して発光させ、面発光素子１２の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。
【０１３９】
〔比較例５〕
切削バイトを、頂角が３０．０°、先端幅が５０．０μｍのものに変更した。
また、図１７に示すように、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を、Ｈ１が２４．４μｍ、Ｈ２が２４．７μｍ、Ｈ３が２５．０μｍ、Ｈ４が２５．３μｍ、Ｈ５が２５．６μｍとなるようにし、切削ピッチＰ１〜Ｐ５を、Ｐ１が９０．０μｍ、Ｐ２が９５．０μｍ、Ｐ３が１００．０μｍ、Ｐ４が１０５．０μｍ、Ｐ５が１１０．０μｍとなるようにした。
さらに、各方向への切削はそれぞれ１回だけ行うようにして、溝が延在する方向において切削面幅が均一になるようにした。
以上のこと以外は、実施例１と同様にして金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み３０μｍ）を製造し、面発光素子１３を製造した。
【０１４０】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．２６であり、平坦面部の高低差の最大は２５．６μｍであった。
得られた面発光素子１３を通電して発光させ、面発光素子１３の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。
【０１４１】
［評価］
（光取り出し量）
実施例１で得られた透明有機ＥＬ素子１、並びに実施例１〜９及び比較例２〜５で得られた面発光素子１〜１３について、プログラム（プログラム名「ＡＳＡＰ」、Ｂｒｅａｕｌｔ  Ｒｅｓｅｒｃｈ社製）を用いた光学シミュレーションで、発光層の光度を１ｌｍとし、両面からでてくる光度を算出した。得られた値を表１〜３に示す。なお、表１〜３において「貼合面」欄の数値は、凹凸構造層が設けられて凹凸構造を有する出光面からの光取出量を表し、「裏面」欄の数値は、凹凸構造層の無いガラス表面からの光取出量を表す。また、透明有機ＥＬ素子１については比較例１として取り扱う。比較例１において、「貼合面」欄の数値および「裏面」欄の数値は、いずれも、凹凸構造層の無いガラス表面からの光取出量を表す。
【０１４２】
（凹凸構造層の透明性）
実施例１〜９並びに比較例２〜５で得られた凹凸構造層について、プログラム（プログラム名「ＡＳＡＰ」、Ｂｒｅａｕｌｔ  Ｒｅｓｅｒｃｈ社製）を用いた光学シミュレーションで、平行光透過率と拡散光透過率を算出し、凹凸構造層の透明性を表す数値として、（拡散光透過率）／（平行光透過率＋拡散光透過率）×１００を算出した。この数値が低いほど、厚み方向から見た透明性に優れることを表す。得られた値を表１〜３に示す。
【０１４３】
（格子ムラ）
実施例１〜実施例９、および比較例２〜比較例５で得られた面発光素子１〜１３について目視観察し、格子ムラの有無を確認した。実施例１〜実施例９は凹凸構造層に含まれる平坦面部の幅が変化しているため、格子ムラがほとんど観察されず優良であった。
【０１４４】
（視認性）
５ｍｍ×５ｍｍサイズの文字を配列した表示面の５０ｃｍ手前に、透明有機ＥＬ素子１および面発光素子１〜１３を非点灯状態で配置し、透明有機ＥＬ素子１および面発光素子１〜１３を通して、正面方向および斜め方向から文字を観察した。文字がにじみやゆがみが無くはっきり見えるものを「優」、にじみやゆがみがあるが、文字が読み取れるものを「良」、にじみやゆがみが多く、文字がはっきり読み取れないものを「不良」とした。結果を表１〜３に示す。
【０１４５】
（虹ムラ）
実施例１〜実施例９、および比較例２〜比較例５で得られた面発光素子について目視観察し、虹ムラの有無を確認した。実施例１〜実施例４、および比較例２〜比較例５は、いずれも凹凸構造の高低差を所定範囲で不揃いとしているため、凹凸構造層の表裏面での反射光における干渉に基づく虹ムラがほとんど観察されず優良であった。
【０１４６】
【表１】
0005672108.tif 000002
【０１４７】
【表２】
0005672108.tif 000003
【０１４８】
【表３】
0005672108.tif 000004
【０１４９】
〔実施例１０〕
図１５に示すように、切削バイトを、頂角が５．０°、先端幅が５０．０μｍのものに変更し、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を２０．０μｍとなるようにし、溝の切削終了位置における切削面幅Ｗを１００．０μｍになるようにし、切削ピッチＰを２００．０μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み２５μｍ）を製造して、面発光素子１４を製造した。
【０１５０】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は８７．５°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．０３であり、平坦面部の高低差の最大は２０．１μｍであった。
得られた面発光素子１４を通電して発光させ、面発光素子１４の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１５１】
〔実施例１１〕
図１５に示すように、切削バイトを、頂角が４０．０°、先端幅が１００．０μｍのものに変更し、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を１０．０μｍとなるようにし、溝の切削終了位置における切削面幅Ｗを２００．０μｍになるようにし、切削ピッチＰを３００．０μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み１５μｍ）を製造して、面発光素子１５を製造した。
【０１５２】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は７０．０°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．０８であり、平坦面部の高低差の最大は１０．１μｍであった。
得られた面発光素子１５を通電して発光させ、面発光素子１５の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１５３】
〔実施例１２〕
図１５に示すように、切削バイトを、頂角が１５．０°、先端幅が１００．０μｍのものに変更し、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を２７．０μｍとなるようにし、切削終了位置における切削面幅Ｗを３００．０μｍになるようにし、切削ピッチＰを４００．０μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み３２．０μｍ）を製造して、面発光素子１６を製造した。
【０１５４】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は８２．５°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．０４であり、平坦面部の高低差の最大は２７．１μｍであった。
得られた面発光素子１６を通電して発光させ、面発光素子１６の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１５５】
〔実施例１３〕
図１５に示すように、切削バイトを、頂角が３０．０°、先端幅が２００．０μｍのものに変更し、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を２５．０μｍとなるようにし、切削終了位置における切削面幅Ｗを４００．０μｍになるようにし、切削ピッチＰを５００．０μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚３０．０μｍ）を製造して、面発光素子１７を製造した。
【０１５６】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は７５．０°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．０７であり、平坦面部の高低差の最大は２５．１μｍであった。
得られた面発光素子１７を通電して発光させ、面発光素子１７の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
【０１５７】
〔比較例６〕
図１５に示すように、切削バイトを、頂角が２０．０°、先端幅が１０．０μｍのものに変更し、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を２０．０μｍとなるようにし、切削ピッチＰを１００．０μｍとし、さらに、各方向への切削はそれぞれ１回だけ行うようにして溝が延在する方向において切削面幅が均一になるようにしたこと以外は、実施例１と同様にして、金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み２５μｍ）を製造して、面発光素子１８を製造した。
【０１５８】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は０．３２であり、平坦面部の高低差の最大は２０．１μｍであった。
得られた面発光素子１８を通電して発光させ、面発光素子１８の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。
【０１５９】
〔比較例７〕
図１５に示すように、切削バイトを、頂角が４０．０°、先端幅が１０．０μｍのものに変更し、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を５．０μｍとなるようにし、切削ピッチＰを３５．０μｍとし、さらに、各方向への切削はそれぞれ１回だけ行うようにして溝が延在する方向において切削面幅が均一になるようにしたこと以外は、実施例１と同様にして、金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み１０μｍ）を製造して、面発光素子１９を製造した。
【０１６０】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の面積に対する斜面部の投影面積の比は０．４０であり、平坦面部の高低差の最大は５．１μｍであった。
得られた面発光素子１９を通電して発光させ、面発光素子１９の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。
【０１６１】
〔比較例８〕
図１５に示すように、切削バイトを、頂角が２０．０°、先端幅が３０．０μｍのものに変更し、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を２５．０μｍとなるようにし、切削ピッチＰを１００．０μｍとし、さらに、各方向への切削はそれぞれ１回だけ行うようにして溝が延在する方向において切削面幅が均一になるようにしたこと以外は、実施例１と同様にして、金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み３０μｍ）を製造して、面発光素子２０を製造した。
【０１６２】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の面積に対する斜面部の投影面積の比は０．２８であり、平坦面部の高低差の最大は２５．１μｍであった。
得られた面発光素子２０を通電して発光させ、面発光素子２０の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。
【０１６３】
〔比較例９〕
図１５に示すように、切削バイトを、頂角が３０．０°、先端幅が５０．０μｍのものに変更し、金属モールドに形成する溝の高さＨ１〜Ｈ５を２５．０μｍとなるようにし、切削ピッチＰを１００．０μｍとし、さらに、各方向への切削はそれぞれ１回だけ行うようにして溝が延在する方向において切削面幅が均一になるようにしたこと以外は、実施例１と同様にして、金属モールドを製造し、さらに凹凸構造層（厚み３０μｍ）を製造して、面発光素子２１を製造した。
【０１６４】
製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の面積に対する斜面部の投影面積の比は０．２６であり、平坦面部の高低差の最大は２５．１μｍであった。
得られた面発光素子２１を通電して発光させ、面発光素子２１の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。
【０１６５】
［評価］
実施例１０〜１３及び比較例６〜９で得られた面発光素子１４〜２１について、上述した要領で、光取り出し量及び透明性を評価した。結果を表４及び表５に示す。
【０１６６】
また、実施例１０〜実施例１３、および比較例６〜比較例９で得られた面発光素子１４〜２１について目視観察したところ、多少の虹ムラが存在するものの、使用態様によっては問題視されない程度のものであった。
【０１６７】
【表４】
0005672108.tif 000005
【０１６８】
【表５】
0005672108.tif 000006
【符号の説明】
【０１６９】
１０  面発光素子
１０Ｕ，１０Ｄ  出光面
２０  面発光素子
３０Ｕ  出光面
４０  面発光素子
５０Ｕ  出光面
６０Ｕ  出光面
７０Ｕ  出光面
１００  出光面構造層
１１０  複層体
１１１  凹凸構造層
１１２  基材フィルム層
１１３  平坦面部
１１３Ｘ  帯状面部
１１３Ｙ  帯状面部
１１３Ｚ  帯状面部の交差部分
１１４  平坦面部
１１５  斜面部
１１６  凹部
１１７  斜面部１１５と平坦面部１１３との境界線
１２１  接着層
１３１  支持基板
１４０  有機ＥＬ素子
１４１  第一の透明電極層
１４２  発光層
１４３  第二の透明電極層
１４４，１４５  発光面
１５１  封止基材
３１１  凹凸構造層
３１３  平坦面部
３１４  平坦面部
３１５  斜面部
３１６  凹部
３１７  平坦面部
３１８  斜面部
３１９  凹部
４６１  不活性ガス層
５１１  凹凸構造層
５１３  平坦面部
５１５  斜面部
５１６  凹部
６１１  凹凸構造層
６１３  平坦面部
６１４  平坦面部
６１５  斜面部
６１６  凹部
６１７  平坦面部
６１８  斜面部
７１１  凹凸構造層
７１３  平坦面部
７１４  平坦面部
７１５  斜面部
７１６  凹部
８０１  切削跡
８０２  切削開始位置
８０３  切削跡
８０４  切削終了位置
８０５  金属モールド
８０６  溝
８０７  凹凸構造層
８０８  凹部
８０９  平坦面部
８１０  平坦面部
８１１  斜面部
９００  平坦面部に対して平行な平面
９０１  斜面の投影像
【図１】
0005672108.tif 000007
【図２】
0005672108.tif 000008
【図３】
0005672108.tif 000009
【図４】
0005672108.tif 000010
【図５】
0005672108.tif 000011
【図６】
0005672108.tif 000012
【図７】
0005672108.tif 000013
【図８】
0005672108.tif 000014
【図９】
0005672108.tif 000015
【図１０】
0005672108.tif 000016
【図１１】
0005672108.tif 000017
【図１２】
0005672108.tif 000018
【図１３】
0005672108.tif 000019
【図１４】
0005672108.tif 000020
【図１５】
0005672108.tif 000021
【図１６】
0005672108.tif 000022
【図１７】
0005672108.tif 000023