(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
離型剤を金型表面へ塗布するための塗布装置であり、
離型剤を間欠的に噴霧することができるノズルと、
間欠噴霧の周期をＴとし、周期Ｔのうちの噴霧時間をｔとしたときの割合ｔ／Ｔを制御するコントローラと、
を備えており、コントローラは、
金型表面の単位面積に単位時間当たりに噴霧される離型剤の総運動エネルギが予め定められた上限値以下となるように割合ｔ／Ｔを制御することを特徴とする離型剤の塗布装置。
【請求項２】
ノズルと金型表面との間の距離が所定距離以下の場合に、コントローラは、当該距離が小さくなるに従って前記割合を小さくすることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記上限値は、３０００×１０３［ｇ・（ｃｍ／ｓｅｃ）２／（ｃｍ）２／ｓｅｃ］であることを特徴とする請求項１または２に記載の塗布装置。
【請求項４】
コントローラは、前記総運動エネルギが下限値の７０×１０３［ｇ・（ｃｍ／ｓｅｃ）２／（ｃｍ）２／ｓｅｃ］以上となるように割合ｔ／Ｔを制御することを特徴とする請求項３に記載の塗布装置。
【請求項５】
ノズルを移動させる駆動手段を備えており、コントローラは、金型に対してノズルを相対的に移動させながら、前記総運動エネルギが前記上限値と前記下限値の間となるように割合ｔ／Ｔを制御することを特徴とする請求項４に記載の塗布装置。
【請求項６】
離型剤を金型表面へ塗布する方法であり、
ノズルから噴霧される離型剤の総運動エネルギであって金型表面の単位面積に単位時間当たりに噴霧される離型剤の総運動エネルギが予め定められた上限値以下となるように、周期をＴとし、周期Ｔのうちの噴霧時間をｔとしたときの割合ｔ／Ｔを定めて離型剤を間欠的に噴霧することを特徴とする塗布方法。
【請求項７】
ノズルと金型表面との間の距離が所定距離以下の場合に、当該距離が小さくなるに従って前記割合を小さくすることを特徴とする請求項６に記載の塗布方法。
【請求項８】
前記上限値は、３０００×１０３［ｇ・（ｃｍ／ｓｅｃ）２／（ｃｍ）２／ｓｅｃ］であることを特徴とする請求項６または７に記載の塗布方法。
【請求項９】
前記総運動エネルギが下限値の７０×１０３［ｇ・（ｃｍ／ｓｅｃ）２／（ｃｍ）２／ｓｅｃ］以上となるように離型剤を間欠的に噴霧することを特徴とする請求項８に記載の塗布方法。
【請求項１０】
金型に対してノズルを相対的に移動させながら、前記総運動エネルギが前記上限値と前記下限値の間となるように離型剤を間欠的に噴霧することを特徴とする請求項９に記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、離型剤を金型に効率よく塗布する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
鋳造用の金型には、成形された製品を金型から取り出し易くするため、離型剤が塗布される。離型剤を無駄なく塗布する工夫が例えば特許文献１や特許文献２に提案されている。特許文献１と特許文献２のいずれも、離型剤を間欠的に噴霧することを提案している。特許文献１では、複数のノズルから連続的に離型剤を噴霧すると、異なるノズルから噴霧された離型剤同士が相互干渉し、多くの離型剤が飛散して金型に届かなくなってしまうことを抑制する目的で、離型剤を間欠的に噴霧することが提案されている。特許文献２では、高温の金型に離型剤を噴霧すると、先に金型に到達した離型剤が蒸発して金型表面付近に蒸気膜を形成し、後続の離型剤の金型への到達を阻害してしまうことを防止する目的で間欠的に噴霧することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開昭５９−１８９０３１号公報
【特許文献２】特開２００５−７４２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１や特許文献２では、離型剤を間欠的に噴霧することがよいといっても、具体的にどのような指標に基づいてどの程度に間欠的に噴霧すればよいのかの指針は示されていない。本明細書は、間欠的に噴霧することが効果的であることの理由を考察し、その結果に基づき、従来にない新たな指標を導入して離型剤を効率よく塗布する技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
発明者らの考察によると、離型剤を連続的に噴霧すると、先に金型表面に到達した離型剤の一部が跳ね返ることにより、後続の離型剤の金型表面への到達が阻害されると推察される。従って跳ね返りを抑制することが、離型剤の効率的な塗布に寄与すると考えられる。一つの考え方として、噴霧された離型剤の粒の大きさ（粒径）を小さくすれば、跳ね返りを抑制できる。また、別の考え方として、噴霧速度を遅くしても跳ね返りを抑制できる。これらのことから、発明者らは、粒の大きさと噴霧速度とに依存するパラメータとして、金型表面の単位面積に単位時間当たりに噴霧される離型剤の総運動エネルギに着目した。以下、「総運動エネルギ」を単に「運動エネルギ」と称することがある。離型剤一粒一粒の運動エネルギは、質量と速度の二乗の積であり、粒の大きさは質量に依存するから、運動エネルギは噴霧速度と粒の大きさに依存する。従って、離型剤を金型表面に効率よく塗布するための噴霧状態を、離型剤の総運動エネルギという一つの指標に基づいて特定できる。即ち、金型表面の単位面積に単位時間当たりに噴霧される離型剤の総運動エネルギが予め定められた上限値以下となるように制限することによって、効率的な塗布が達成される。
【０００６】
本明細書が開示する塗布装置の一態様は、離型剤を間欠的に噴霧することができるノズルと、間欠噴霧の周期をＴとし、周期Ｔのうちの噴霧時間ｔの割合ｔ／Ｔを制御するコントローラを備える。コントローラは、ノズルから噴霧される離型剤が有する運動エネルギであって金型表面の単位面積に単位時間当たりに噴霧される運動エネルギが予め定められた上限値以下となるように割合ｔ／Ｔを制御することを特徴とする。以下、簡単のため、「ノズルから噴霧される離型剤が有する運動エネルギであって金型表面の単位面積に単位時間当たりに噴霧される運動エネルギ」を「単位噴霧エネルギ」と称することにする。なお、離型剤は、水性、油性のいずれであってもよい。あるいは離型剤は、エマルジョン（分散質、分散媒が共に液体である分散系溶液）であってもよい。
【０００７】
定性的には、ノズルと金型表面との距離（塗布距離）が小さくなるほど、塗布面積が小さくなるから、ノズルと金型表面との間の距離が所定距離以下の場合に、コントローラは、塗布距離が小さくなるに従って割合ｔ／Ｔを小さくすることが好ましい。
【０００８】
発明者らの検討によると、単位噴霧エネルギの上限値は、具体的には、３０００×103［g・（cm／sec）2／（cm）2／sec］が好ましいことが判明した。なお、単位噴霧エネルギが低すぎると、金型に到達しない離型剤の割合が多くなるため、単位噴霧エネルギの下限値を設定することも好ましい。発明者らの検討によると、下限値は７０×103［g・（cm／sec）2／（cm）2／sec］が好ましいことが判明した。即ち、塗布装置は、単位噴霧エネルギが上記の上限値と下限値の間の範囲となるように割合ｔ／Ｔを制御することが好ましい。
【０００９】
「離型剤を間欠的に噴霧する」とは、離型剤をパルス状に噴霧すると換言できる。従って、上記の塗布装置は、別言すれば、離型剤をパルス状に噴霧することができるノズルと、噴霧の周期をＴとし、パルス幅ｔとしたときのｔ／Ｔを制御するコントローラを備える。また、このことから、「間欠噴霧の周期Ｔに対する噴霧時間ｔの割合ｔ／Ｔ」は、いわゆるデューティ比に相当する。上記の範囲で好適な塗布が得られることは、実施例にて具体的に説明する。
【００１０】
金型の表面に離型剤を塗布するには、ノズルを移動させながら噴霧するのがよい。従って上記の塗布装置は、ノズルを移動する駆動手段を備えていることが好ましい。このときコントローラは、金型に対してノズルを相対的に移動させながら、単位噴霧エネルギが上記した上限値と下限値の間となるように割合ｔ／Ｔを制御することが好ましい。
【００１１】
駆動手段は、例えばロボットアームである。ここで、離型剤のノズルからの噴霧速度（射出速度）、噴霧角度、ノズルの移動速度（金型の移動速度であってもよい）、及び、ノズルから金型までの距離などのパラメータは予め設定できる。また、単位噴霧エネルギは、それらのパラメータから決定される。従って、単位噴霧エネルギが上記範囲内となるように、噴霧速度、噴霧角度、及び、アーム先端の軌道（即ち、ノズルの移動速度、及び、ノズルと金型との間の距離）を予め設定し、その設定に沿ってアームとノズルを動作させればよい。
【００１２】
本明細書が開示する技術は、離型剤の塗布方法にも具現化される。その方法は、ノズルから噴霧される離型剤の単位噴霧エネルギが予め定められた上限値以下となるように、周期をＴとし、周期Ｔのうちの噴霧時間をｔとしたときの割合ｔ／Ｔを定めて離型剤を間欠的に噴霧することである。さらには、単位噴霧エネルギが上記した上限値と下限値の間となるように間欠的に噴霧することが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、金型の表面に離型剤を効率よく噴霧することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】塗布装置の模式図である。
【図２】塗布範囲とノズル移動速度の関係を説明する図である（１）。
【図３】塗布範囲とノズル移動速度の関係を説明する図である（２）。
【図４】単位噴霧エネルギを説明する図である。
【図５】単位噴霧エネルギの計算結果を示す図である。
【図６】塗布距離とノズルの種類による塗布量ムダへの影響を示す表である。
【図７】塗布距離と塗布量ムダとの関係を示す図である。
【図８】応答性と塗布量ムダとの関係を示すグラフである。
【図９】塗布距離と単位噴霧エネルギとの関係を示すグラフである。
【図１０】離型抵抗試験の結果を示すグラフである（１）。
【図１１】離型抵抗試験の結果を示すグラフである（２）。
【図１２】実施例の塗布装置（塗布方法）のその他の利点を示す表である。
【実施例】
【００１５】
図１に、塗布装置１０の模式図を示す。塗布装置１０は、先端にノズル１２を取り付けたロボットアーム１４、ノズル１２に離型剤を供給する供給装置１６、及び、コントローラ１８を備える。なお、図１に示す符号５５は、離型剤を噴霧する対象の金型を示しており、符号５５ａは、離型剤を噴霧すべき金型表面を示している。金型表面５５ａは、典型的にはキャビティ面である。
【００１６】
通常、鋳造に使用された高温の金型に離型剤を塗布する。即ち、離型剤は金型の冷却の役割も兼ねている。離型剤を塗布する際の金型の温度は、１００度以上である。
【００１７】
供給装置１６は、ノズル１２に送る離型剤の液圧を制御することができる。ノズル１２は、供給装置１６から送られる液状の離型剤を噴霧、即ち、霧状に射出することができる。また、ノズル１２は、離型剤を間欠噴霧することができる。ノズル１２は、ロボットアーム１４によって、金型５５に対して移動する。離型剤の液圧、間欠噴霧のデューティ比（後述）、ロボットアーム先端の移動経路と移動速度は、コントローラ１８によって制御される。
【００１８】
ノズル１２は、１流体を噴霧するタイプと、２流体を噴霧するタイプに交換可能である。ここで、「２流体を噴霧するタイプ」とは、異なる２種類の流体（例えば油と空気）を混合して噴出するタイプを意味する。
【００１９】
「間欠的に噴霧する」とは、パルス状に周期的離散的に噴霧することである。すなわち、ｔ［ｓｅｃ（秒）］だけ離型剤を連続的に噴霧した後、Ｔ−ｔ［ｓｅｃ］だけ噴霧しないことを繰り返すことである。別言すれば、周期Ｔ［ｓｅｃ］、デューティ比ｔ／Ｔで離型剤をパルス状に噴霧する、と表現できる。なお、以下では、「ｔ」を噴霧時間、「Ｔ−ｔ」を無噴霧時間と称することがある。
【００２０】
ノズル１２を移動させながら離型剤を間欠噴霧する場合、ノズルの移動速度が速すぎると、或いは、無噴霧時間（Ｔ−ｔ）が長すぎると、塗布にムラが生じてしまう。ムラは、塗布範囲にも依存する。そこで、噴霧範囲とノズル移動速度、及び、間欠塗布の周期Ｔとの関係を次に説明する。
【００２１】
図２に、塗布範囲とノズル移動速度の関係を示す。ここで、ノズルが静止している状態での噴霧によって離型剤が金型表面に吹き付けられる範囲を塗布範囲と称する。塗布範囲は円形であると仮定する。図２のＣ１とＣ２が塗布範囲を示す。塗布範囲Ｃ１、Ｃ２の直径を符号ＤＬで表す。塗布範囲Ｃ１は、ある一瞬に離型剤が塗布された範囲を示す。離型剤を周期Ｔ、塗布時間ｔで間欠噴霧している場合、ある一瞬に塗布範囲Ｃ１に噴霧した後に、距離ｄＶだけずれた位置に次回の噴霧による塗布範囲Ｃ２が形成される。ノズルが金型表面に平行に速度Ｖｓで移動していると仮定すると、２つの塗布範囲Ｃ１、Ｃ２の中心間の距離ｄＶは、ｄＶ＝Ｖｓ×（Ｔ−ｔ）となる。ここで、（Ｔ−ｔ）は前述したとおり無塗布時間である。経験的に、隣接する２つの塗布範囲Ｃ１とＣ２の重複部分（図２のＬＡＰが示す距離）が、塗布範囲の直径ＤＬの半分以上となるようにすれば、塗布ムラをなくすことができる。そうすると、図２より、ｄＶ＝ＬＡＰ＝ＤＬ／２となるときが、塗布ムラをなくすことができる限界であることがわかる。他方、無塗布時間の上限値は周期Ｔであると考えることができるから、周期Ｔ、ノズル移動速度Ｖｓ、塗布範囲直径ＤＬには、図３に示す関係があることがわかる。図３は、周期Ｔ＝０．０５［ｓｅｃ］を最大無塗布時間と仮定したときの、ＬＡＰ＝ＤＬ／２を満たす塗布範囲直径ＤＬとノズル移動速度Ｖｓの関係を示すグラフである。例えば、ノズル移動速度Ｖｓが１０００［ｍｍ／ｓｅｃ］の場合、最大無塗布時間（周期Ｔ）＝０．０５［ｓｅｃ］におけるノズル移動量ｄＶは５０［ｍｍ］である。ＤＬ＝ＬＡＰ＝２ｄＶであるから、塗布範囲の直径ＤＬが１００［ｍｍ］以上であれば、塗布範囲Ｃ１とＣ２の重複部分ＬＡＰが、塗布範囲の直径ＤＬの半分以上となる。即ち、図３のグラフよりも上側の領域となるようにノズル移動速度Ｖｓと塗布範囲直径ＤＬを設定すれば塗布ムラをなくすことができる。例えば、間欠噴霧の周期Ｔ＝０．０５［ｓｅｃ］のノズルを使用し、塗布範囲直径ＤＬが１００［ｍｍ］となるように金型表面に離型剤を吹き付ける場合、ノズルの移動速度（金型表面に平行な方向の移動速度）Ｖｓを１０００［ｍ／ｓｅｃ］以下とすれば塗布ムラを防止することができる。
【００２２】
次に、図４を参照して、単位噴霧エネルギについて説明する。前述したように、「単位噴霧エネルギ」とは、ノズル１２から噴霧される離型剤が有する運動エネルギであって金型表面５５ａの単位面積に単位時間当たりに噴霧される運動エネルギのことである。図４に示すように、ノズル１２と金型表面５５ａとの間の距離（塗布距離）を符号Ｌｓで表す。また、ノズル１２の噴霧角度を２θｓで表す。このとき、塗布範囲の半径ＤＬ／２は、Ｌｓ・ｔａｎ（θｓ）で表せる。即ち、塗布面積Ｓ＝｛Ｌｓ・ｔａｎ（θｓ）｝2・π［ｃｍ2］となる。離型剤の１秒当たりの噴霧量をＭ［ｇ／ｓｅｃ］、噴霧粒子の速度をｖ［ｃｍ／ｓｅｃ］で表すと、単位噴霧エネルギＥｓは、次の（数１）で表すことができる。
【００２３】
【数１】
0005728974.tif 000002
【００２４】
図５に、周期Ｔ＝５０、１００、２００［ｍｓｅｃ］の場合の塗布距離（図４のＬｓ）と単位噴霧エネルギＥｓの関係を示す。図５は、ノズルから実際に離型剤を噴霧し、そのときの離型剤液滴の射出速度をレーザー流速計で測定した結果に基づいて、数１により算出した結果である。図の縦軸は対数スケールであることに留意されたい。塗布距離が短くなるほど、単位噴霧エネルギが漸増することがわかる。なお、図５には、１流体の場合と２流体の場合の結果を示してある。
【００２５】
ノズル１２を移動させずに離型剤を噴霧した場合、ノズル１２から先に噴霧された離型剤が金型表面で跳ね返り、後続する離型剤に影響を与える。塗布距離Ｌｓやノズルの種類による影響を実験にて調べた結果を図６に示す。図６において、「粒速度」は、噴霧された離型剤の液滴の速度である。粒速度は、レーザー流速計にて測定した。「跳ね返り無し時間」とは、ノズルから噴霧された離型剤が金型に到達するまでの時間を意味する。「応答性」とは、間欠塗布の周期Ｔに相当する。「跳ね返り有り時間」とは、跳ね返りの影響を受ける時間を意味し、「応答時間−液滴到達時間」に相当する。「影響塗布量」とは、２０［ｍｌ（ミリリットル）］の離型剤を塗布したときに、金型表面からの跳ね返りの影響を受ける塗布量を意味する。図６〜図８は、シミュレーションにより得られた結果である。図６の表の上７行は、２流体を噴霧するノズルを用いたときの計算結果であり、下７行は、１流体を噴霧するノズルを用いたときの計算結果である。
【００２６】
シミュレーションの結果から得られるノズル選定手法について説明する。具体的には、影響塗布量（２０［ｍｌ（ミリリットル）］の離型剤を塗布したときに、金型表面からの跳ね返りの影響を受ける塗布量）をムダな塗布量とみなし、ムダな塗布量を減らすために必要なノズル応答性について説明する。シミュレーションの結果、応答性（間欠噴霧周期Ｔ）が５００［ｍｓｅｃ］の場合、いずれのノズルおよび塗布距離であっても噴霧した離型剤のおよそ５０％はムダとなることが判る。一方、応答性（間欠噴霧周期Ｔ）を１０［ｍｓｅｃ］とした場合、ほとんどムダが生じないことが判る。具体的には、応答性を１０［ｍｓｅｃ］とした場合、ムダとなった離型剤は、噴霧した離型剤の量（２０［ｍｌ］）の１％以下となる。例えば塗布量ムダの上限を噴霧量の２％とした場合、２０［ｍｌ／ｓｅｃ］で離型剤を噴霧するノズルを使用するなら塗布量ムダは２［ｍｌ］以内に抑える必要がある。図６から、間欠噴霧の周期Ｔは、少なくとも１０［ｍｓｅｃ］以下が好ましいと言える。
【００２７】
図７に、さらに幾つかの応答性について、塗布距離と塗布量ムダの関係を示す。図７は、２０［ｍｌ／ｓｅｃ］の塗布量を有するノズルを用い、流速＝５０［ｍｍ／ｓｅｃ］で離型剤を塗布した場合の影響塗布量（跳ね返りの影響を受ける塗布量）と距離の関係をノズル応答性で導いたものである。図７より、影響塗布量を例えば１０％に抑えるために必要な応答性を導くことができる。
【００２８】
図８に、応答性と影響塗布量の関係を示す。図８より、例えば、塗布距離５０ｍｍにおいて影響塗布量を２［ｍｌ］以内（総塗布量２０［ｍｌ］の１０％）に抑えるためには、応答性は約１００［ｍｓｅｃ］以下に設定する必要があることが判る。塗布距離３５０ｍｍにおいて影響塗布量を２［ｍｌ］以内に抑えるためには、応答性は約１３０［ｍｓｅｃ］以下に設定する必要があることが判る。
【００２９】
次に、離型剤を効率よく塗布するための単位噴霧エネルギの範囲について説明する。図９は、１流体、２流体の夫々における単位噴霧エネルギと塗布距離との関係を示したグラフである。グラフにおける上限値と下限値は、ＬｕｂテスターＵ（株式会社メックインタナショナル製のアルミダイキャスト用自動引っ張り試験機）にて試験を行い、導いたものである。上限値とは、噴霧される離型剤の運動エネルギが大きく、溶媒により溶質（有効成分）が流されてしまい、塗布後の離型剤が薄膜化してしまう限界を表す。上限値は、具体的には、３０００×１０3［ｇ・（ｃｍ／ｓｅｃ）2／（ｃｍ）2／ｓｅｃ］である。下限値とは、噴出される離型剤の運動エネルギが小さく、ノズルから噴霧されても金型表面に届かない限界を表している。下限値は、具体的には、７０×１０3［ｇ・（ｃｍ／ｓｅｃ）2／（ｃｍ）2／ｓｅｃ］である。図９における四角形のマーカは、単位噴霧エネルギを上限値以下に制限した場合の結果（２流体の場合）を示す。上限値と下限値は、図１１から得られる。あるノズルで連続塗布したときの離型抵抗は、エネルギ５００×１０3［ｇ・（ｃｍ／ｓｅｃ）2／（ｃｍ）2／ｓｅｃ］で最小となる。このときの離型抵抗を基準にして、離型抵抗が２０％を超えて悪化すると、経験則上製品品質が顕著に悪化する。これより、上限値：３０００×１０3［ｇ・（ｃｍ／ｓｅｃ）2／（ｃｍ）2／ｓｅｃ］と下限値：７０×１０3［ｇ・（ｃｍ／ｓｅｃ）2／（ｃｍ）2／ｓｅｃ］が定まる。
【００３０】
また、ＬｕｂテスターＵにて、離型抵抗試験を実施した。その結果を図１０と図１１に示す。試験の条件は次の通りです。離型剤を噴霧するノズルには２流体用のノズルを用いた。塗布条件は、２０［ｍｌ／ｓｅｃ］で１秒間だけ連続噴霧した（間欠噴霧ではない）。塗布対象（金型を模擬した金属体）の温度は１００度である。噴霧する離型剤としては、油性原液タイプのものを用いた。図１０のグラフは、塗布距離２００［ｍｍ］の位置に変曲点を有しており、この点を境に塗布距離が遠くても近くても離型抵抗は増加する。図１１に、連続塗布した場合と間欠塗布した場合との比較を示す。×印のマーカが、間欠塗布した場合を示す。間欠塗布では、単位噴霧エネルギが前記した上限値、即ち、３０００×１０3［ｇ・（ｃｍ／ｓｅｃ）2／（ｃｍ）2／ｓｅｃ］を超えないようにデューティ比を制御した。前述したように、ここでいうディーティ比とは、連続塗布時の塗布時間＝Ｔとしたときのデューティ比を意味する。図１０のグラフが示すように、連続塗布では、塗布距離が小さくなるほど塗布面積が小さくなり単位噴霧エネルギが増加する。間欠噴霧では、単位噴霧エネルギを一定に維持すべく、塗布距離が小さくなるほど、ディーティ比を小さくしている。即ち、塗布距離が２００［ｍｍ］以下の場合、コントローラ１８は、塗布距離が小さくなるに従ってディーティ比を小さくする。別言すれば、コントローラ１８は、ノズル１２と金型表面５５ａとの間の距離（塗布距離Ｌｓ）が所定距離以下の場合に（本実施例では２００［ｍｍ］以下の場合に）、塗布距離Ｌｓが小さくなるに従ってデューティ比を小さくする。なお、この試験では、塗布距離が近くなってエネルギが上昇して５００×１０3［ｇ・（ｃｍ／ｓｅｃ）2／（ｃｍ）2／ｓｅｃ］を超えたところから、連続噴霧から間欠噴霧／デューティ比制御に切り換えている。なお、離型抵抗２０％悪化まで許容できるとすると、エネルギが３０００×１０3［ｇ・（ｃｍ／ｓｅｃ）2／（ｃｍ）2／ｓｅｃ］を超えてから間欠噴霧に切り換えてもよい。
【００３１】
なお、連続塗布の場合、塗布距離が２００［ｍｍ］以下で離型抵抗が増加するのは以下の理由であると推定される。油性の離型剤を用いた場合は、（ａ）離型剤の運動エネルギが大きすぎて溶媒により溶質（有効成分）が洗い流され、薄膜化してしまうこと、及び、（ｂ）溶質が堆積し、溶湯の熱で激しくガス化し、鋳造界面が真空化してしまうこと、を原因として離型抵抗が増大するものと推定される。水溶性離型剤を用いた場合は、堆積は問題にならないが、上記（ａ）の要因及び気化が阻害されるため、同様に離型抵抗が増大するものと推定される。
【００３２】
図１２に、実施例の塗布装置（塗布方法）のその他の利点を示す。
【００３３】
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
【符号の説明】
【００３４】
１０：塗布装置
１２：ノズル
１４：ロボットアーム
１６：供給装置
１８：コントローラ
５５：金型
【図１】
0005728974.tif 000003
【図２】
0005728974.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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