(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材上に有機銀錯体化合物を含む塗布液を塗布し、焼成することにより形成され少なくとも一層の銀反射層を有するフィルムミラーにおいて、該樹脂基材に対して該銀反射層よりも離れた位置にＵＶ吸収剤含有ハードコート層を有し、
前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層が無機ＵＶ吸収剤、トリアジン系ＵＶ吸収剤、およびアクリル系ＵＶ硬化性樹脂を硬化した樹脂を含有し、
前記無機ＵＶ吸収剤がシリコーンまたは酸化ケイ素を含有する被覆層により表面被覆されていることを特徴とするフィルムミラー。
【請求項２】
前記無機ＵＶ吸収剤が酸化ケイ素被覆酸化鉄、酸化ケイ素被覆酸化セリウム、酸化ケイ素被覆酸化亜鉛またはこれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項１に記載のフィルムミラー。
【請求項３】
前記樹脂基材、前記銀反射層、腐蝕防止剤含有層、ＵＶ吸収剤含有層および前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層を順に有することを特徴とする請求項１または２に記載のフィルムミラー。
【請求項４】
前記腐蝕防止剤含有層に含有される腐蝕防止剤の分子量が８００以下であることを特徴とする請求項３に記載のフィルムミラー。
【請求項５】
前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層が酸化防止剤を含有し、該酸化防止剤を前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層の全質量に対し０．１〜５質量％含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項６】
前記酸化防止剤がヒンダードアミン系化合物であることを特徴とする請求項５に記載のフィルムミラー。
【請求項７】
前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層が、前記トリアジン系ＵＶ吸収剤を前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層の樹脂固形分に対して０．１〜１０質量％含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項８】
前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層が、前記無機ＵＶ吸収剤を前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層の樹脂固形分に対して１〜５０質量％含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項９】
前記無機ＵＶ吸収剤が数平均粒径１０ｎｍ〜１００ｎｍの微粒子であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項１０】
前記銀反射層は銀と有機銀錯体化合物を含有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載のフィルムミラーと金属支持体が粘着剤層を介して貼合されてなる太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムミラーと、それを金属支持体に貼合して作製される太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、従来、板状のガラス製ミラーが用いられてきた。板状のガラス製ミラーは紫外線や温度、湿度に対する耐久性が高い反面、輸送時や設置後の外圧によって破損したり、質量が重いため、ミラーを設置する架台の強度を持たせるために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。
【０００３】
一方、樹脂製反射シートは液晶ディスプレイのバックライトユニットの反射シートとして実用化されており、太陽光反射ミラーに適用すれば、板状ガラス製ミラーの欠点である外圧による破損や質量の重さといった問題が解消できる。
【０００４】
このような樹脂製ミラーは、板状のガラスミラーに対して連続生産適性が高く、生産性を高めることができる。特に、特許文献１に記載のように、銀の有機錯塩の溶液を塗布し、加熱処理することにより銀を析出させて銀反射層を設けることにより、銀を蒸着して銀反射層を設ける方法より、一層生産性を高めることが出来る。
【０００５】
しかし、銀の錯塩から銀を析出させる方法で銀反射層を形成する場合、加熱処理により有機銀錯体の分解と銀の析出を進行させるが、基材の樹脂の耐熱性がガラスより低いため、加熱処理の温度を高くすることができず、有機化合物が銀反射層に残留する。太陽熱発電用反射装置は屋外で長期間紫外線の照射を受けると、残留した有機化合物が分解し、着色するため、反射率が低下するという問題があった。また、銀反射層の有機化合物が分解するために銀反射層と隣接層の間の接着が劣化し、銀反射層の劣化が進むといった問題があった。
【０００６】
一方、太陽光が入射する側から順に、紫外線反射膜、プラスチックフィルム層、金属反射層、保護層を設けたフィルムミラーが特許文献２に記載されており、紫外線反射膜が紫外線暴露によるプラスチックフィルム層の着色や劣化を防止することにより、反射率の低下を防止しているが、このような紫外線反射膜の形成は工程数が多く生産性が低いことと紫外線の遮断が充分でないことが欠点である。また、特許文献２には、銀反射層の形成方法として、銀の無機錯塩の溶液を塗布して銀反射層を設ける例が記載されているが、銀の無機錯塩としてアンモニア性硝酸銀を用い還元剤としてブドウ糖を用いており、このような無機錯塩を用いると、反応の速度が速いため、銀反射層に微小な凹凸が生じやすく、正反射率の高い銀反射層が形成されないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特表２００９−５３５６６１号公報
【特許文献２】特開２０１０−２３７４１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明者は、正反射率の高いフィルムミラーを作製するために、有機銀錯体化合物から銀を析出させることを検討したが、焼成した後に残存する有機銀錯体や分解した有機化合物が太陽光の照射により着色したり分解して、正反射率が低下したり銀反射層と隣接層との密着性が低下することが分かり、屋外暴露における正反射率の低下および密着性の低下を防止することが課題となった。
【０００９】
本発明の目的は、高い生産性で製造できるフィルムミラーおよび太陽熱発電用装置を提供することであり、更に、初期の正反射率が高く、屋外で長期間紫外線の照射を受けても正反射率の低下がなく、銀反射層と隣接層の接着性の低下の無いフィルムミラーおよび太陽熱発電用装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的は以下の手段によって達成された。
【００１１】
１．樹脂基材上に有機銀錯体化合物を含む塗布液を塗布し、焼成することにより形成され少なくとも一層の銀反射層を有するフィルムミラーにおいて、該樹脂基材に対して該銀反射層よりも離れた位置にＵＶ吸収剤含有ハードコート層を有することを特徴とするフィルムミラー。
【００１２】
２．前記樹脂基材、前記銀反射層、腐蝕防止剤含有層、ＵＶ吸収剤含有層および前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層を順に有することを特徴とする前記１に記載のフィルムミラー。
【００１３】
３．前記腐蝕防止剤含有層に含有される腐蝕防止剤の分子量が８００以下であることを特徴とする前記１または２に記載のフィルムミラー。
【００１４】
４．前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層がトリアジン系ＵＶ吸収剤または無機ＵＶ吸収剤を含有することを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【００１５】
５．前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層が酸化防止剤と樹脂を含有し、該酸化防止剤を該樹脂固形分に対して０．１〜５質量％含有することを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【００１６】
６．前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層がトリアジン系ＵＶ吸収剤を前記樹脂固形分に対して０．１〜１０質量％含有することを特徴とする前記１〜５のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【００１７】
７．前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層が無機ＵＶ吸収剤を前記樹脂固形分に対して１〜５０質量％含有し、該無機ＵＶ吸収剤が酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムまたは酸化鉄であることを特徴とする前記１〜６のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【００１８】
８．前記無機ＵＶ吸収剤が数平均粒径１０ｎｍ〜１００ｎｍの微粒子であることを特徴とする前記４〜７のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【００１９】
９．前記無機ＵＶ吸収剤の微粒子が該ＵＶ吸収剤以外の物質で表面被覆されていることを特徴とする前記４〜８のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【００２０】
１０．前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層がアクリル系ＵＶ硬化性樹脂を硬化した樹脂を含有することを特徴とする前記１〜９のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【００２１】
１１．前記酸化防止剤がヒンダードアミン系化合物であることを特徴とする前記５〜１０のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【００２２】
１２．前記銀反射層は銀と有機銀錯体化合物を含有することを特徴とする前記１〜１１のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【００２３】
１３．前記１〜１２のいずれか１項に記載のフィルムミラーと金属支持体が粘着剤層を介して貼合されてなる太陽熱発電用反射装置。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、生産性が高く、初期の正反射率が高く、屋外で長期間紫外線の照射を受けても正反射率の低下がなく、銀反射層と隣接層の接着性の低下の無いフィルムミラーおよび太陽熱発電用装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２６】
本発明のフィルムミラーは、樹脂基材上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該銀反射層が、有機銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより形成され、さらにＵＶ吸収剤含有ハードコート層を有することを特徴とする。
【００２７】
（太陽熱発電反射装置）
本発明のフィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽光反射用ミラーとして用いることもできるが、耐久性の点から、前記樹脂基材の銀反射層を有する側と反対側の面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて太陽熱発電用反射装置として用いることが好ましい。
【００２８】
太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められるため、本発明のフィルムミラーが特に好適に用いられる。
【００２９】
〈粘着層〉
粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。
【００３０】
例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどが用いられる。
【００３１】
ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
【００３２】
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【００３３】
（銀反射層）
前記銀反射層は、有機銀錯体化合物を含む溶液を塗布し、焼成することにより形成されたものであることを特徴とする。
【００３４】
前記有機銀錯体化合物を形成する配位子は、該有機銀錯体化合物を焼成することにより、分解、脱離、気化しうることが好ましく、焼成の結果、金属銀が析出する。
【００３５】
前記銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【００３６】
（有機銀錯体化合物）
このような有機銀錯体化合物の例は、公知である特表２００９−５３５６６１号、特表２０１０−５００４７５号各公報等に記載されており、下記一般式（１）で表される銀化合物と、一般式（２）〜（４）で表されるアンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物とを反応して得られる有機銀錯体化合物であることが好ましい。
【００３７】
また、本発明に係る有機銀錯体化合物は塗布液（銀コーティング液組成物ともいう）に含有され、これを塗布することにより支持体上に本発明に係る錯体を含有する塗布膜が形成される。すなわち、有機銀錯体化合物を用いて樹脂基材上に塗布膜を形成した後に、塗布膜を８０〜２５０℃の範囲内の温度において加熱焼成することにより銀反射層を形成することが好ましい。更に好ましくは１００〜２２０の範囲内、特に好ましくは１２０〜２００℃の範囲内である。焼成温度が１００℃以上であれば、有機銀錯体の銀以外の分解物の残留が少ないため、熱湿環境下ＵＶ照射後の耐擦傷性が強く、熱湿環境下ＵＶ照射後の正反射率が高い。また、２２０度以下であれば、低コストの樹脂基材を用いることができる。焼成のための加熱焼成手段としては、特に制限は無く、一般的に用いられる加熱手段はどんなものでも適用できる。ただし、樹脂基材の耐熱性により焼成温度上限が決定され、樹脂基材としてＰＥＴを使用する場合は、１００℃以下が好ましいが、ポリイミドのような耐熱性の高い樹脂を用いれば２５０℃も可能である。
【００３８】
（塗布液）
本発明の高反射、高光沢の反射面の形成のために使用される銀コーティング液組成物は、前記の有機銀錯体化合物を含有し、必要に応じて、溶媒、安定剤、レベリング剤（Ｌｅｖｅｌｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）、薄膜補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、本発明の銀コーティング組成物に含有することができる。
【００３９】
（有機銀錯体化合物）
前記有機銀錯体化合物としては、銀と、アンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物との錯体が、単に焼成することによって銀を析出することが出来ることから好ましく用いられる。
【００４０】
前記錯体の製造方法としては、下記一般式（１）で表される銀化合物と、一般式（２）〜（４）で表されるアンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物を混合して反応させる方法が挙げられる。
【００４１】
以下、下記一般式（１）で表される銀化合物と、一般式（２）〜（４）で表されるアンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物等について説明をする。
【００４２】
一般式（１）：  ＡｇｎＸ
【００４３】
【化１】
0005747547.tif 000002
【００４４】
（一般式（１）〜（４）において、Ｘは、酸素、硫黄、ハロゲン、シアノ、シアネート、カーボネート、ニトレート、ニトライト、サルフェート、ホスフェート、チオシアネート、クロレート、パークロレート、テトラフルオロボレート、アセチルアセトネート、カルボキシレート、及びこれらの誘導体から選択される置換基であり、ｎは、１〜４の整数であって、Ｒ１〜Ｒ６は、互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ３０の脂肪族や脂環族アルキル基、アリール基又はアラルキル（ａｒａｌｋｙｌ）基、官能基が置換されたアルキル及びアリール基、ヘテロ環化合物基と高分子化合物及びその誘導体から選択される置換基である。）
一般式（１）の具体例としては、例えば、酸化銀、チオシアネート化銀、硫化銀、塩化銀、シアン化銀、シアネート化銀、炭酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、硫酸銀、燐酸銀、過塩素酸銀、四フッ素ボレート化銀、アセチルアセトネート化銀、酢酸銀、乳酸銀、シュウ酸銀及びその誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００４５】
また、一般式（２）〜（４）において、Ｒ１〜Ｒ６は、具体的に例えば、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシル、エチルヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アリール、ヒドロキシ、メトキシ、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、メトキシプロピル、シアノエチル、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、カルボキシメチル、トリメトキシシリルプロピル、トリエトキシシリルプロピル、フェニル、メトキシフェニル、シアノフェニル、フェノキシ、トリル、ベンジル及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンアミンのような高分子化合物及びこれらの誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００４６】
一般式（２）〜（４）の化合物例としては、例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム  エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウムイソプロピルカルバメート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカルバメート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカルバメート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカルバメート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカルバメート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウムジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム  モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム  エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  バイカーボネート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  バイカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  バイカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  バイカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム  モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム  バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム  バイカーボネート、及びその誘導体から選択される一種又は二種以上の混合物などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００４７】
一方、上記のアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート系化合物の種類及び製造方法は、特に制限する必要はない。例えば、米国特許第４，５４２，２１４号では、第１アミン、第２アミン、第３アミン、又は少なくとも１つ以上のこれらの混合物と二酸化炭素からアンモニウムカルバメート系化合物が製造できると記述しており、前記アミン１モル当り水０．５モルをさらに添加すると、アンモニウムカーボネート系化合物が得られて、水１モル以上を添加する場合は、アンモニウムバイカーボネート系化合物を得ることができる。この際、常圧又は加圧状態で特別な溶媒を使用せずに直接製造するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒又はこれらの混合溶媒などが挙げられて、二酸化炭素は、気相状態でバブリング（ｂｕｂｂｌｉｎｇ）するか、固体相ドライアイスを使用することができて、超臨界（ｓｕｐｅｒｃｒｉｔｉｃａｌ）状態でも反応することができる。本発明で使用されるアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート誘導体の製造には、上記の方法の他にも、最終物質の構造が同一であれば、公知のいかなる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度又は触媒などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。
【００４８】
このように製造されたアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート系化合物と銀化合物とを反応して、有機銀錯体化合物を製造することができる。例えば、一般式（１）に示したような少なくとも一つ以上の銀化合物と、一般式（２）〜（４）に示したような少なくとも一つ以上のアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート誘導体及びこれらの混合物を、窒素雰囲気の常圧又は加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒又はこれらの混合溶媒などを使用することができる。
【００４９】
本発明で使用される有機銀錯体化合物の製造には、上記の方法の他に、一般式（１）の銀化合物と一つ以上のアミン化合物とが混合された溶液を製造した後、二酸化炭素を反応して、有機銀錯体化合物を製造することもできる。上記のように、窒素雰囲気の常圧又は加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用して反応することができる。しかしながら、最終物質の構造が同一であれば、公知の如何なる方法を使用してもよい。
【００５０】
本発明で使用される有機銀錯体化合物は、特表２００８−５３０００１号公報にその製造方法が記載されており、下記一般式（５）の構造で認識される。
【００５１】
一般式（５）：  Ａｇ［Ａ］ｍ
（一般式（５）において、Ａは、一般式（２）〜（４）の化合物であり、ｍは、０．５〜１．５である。）
（安定剤）
一方、前記安定剤としては例えば、第１アミン、第２アミン又は第３アミンのようなアミン化合物や、前記アンモニウムカルバメート、アンモニウムカーボネート、アンモニウムバイカーボネート系化合物、又はホスフィン（ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）、ホスファイ（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスフェート（ｐｈｏｓｐｈａｔｅ）のようなリン化合物、チオール（ｔｈｉｏｌ）やスルフィド（ｓｕｌｆｉｄｅ）のような硫黄化合物と、少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられ、アミン化合物としては、具体的に例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、イソオクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、ドコデシルアミン、シクロプロピルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アリールアミン、ヒドロキシアミン、アンモニウムヒドロキシド、メトキシアミン、２−エタノールアミン、メトキシエチルアミン、２−ヒドロキシプロピルアミン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルアミン、メトキシプロピルアミン、シアノエチルアミン、エトキシアミン、ｎ−ブトキシアミン、２−ヘキシルオキシアミン、メトキシエトキシエチルアミン、メトキシエトキシエトキシエチルアミン、ジメチルアミン、ジプロピルアミン、ジエタノールアミン、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、２，２−（エチレンジオキシ）ビスエチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、アミノアセトアルデヒドジメチルアセタル、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、アニリン、アニシジン、アミノベンゾニトリル、ベンジルアミン及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンイミンのような高分子化合物及びその誘導体などのようなアミン化合物が挙げられる。
【００５２】
前記安定剤としてのアンモニウムカルバメート、カーボネート、バイカーボネート系化合物として具体的に例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム  エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカルバメート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカルバメート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカルバメート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカルバメート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカルバメート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム  モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム  エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  バイカーボネート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  バイカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  バイカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  バイカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム  モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム  バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム  バイカーボネート、及びその誘導体などが挙げられる。
【００５３】
また、リン化合物としては、一般式Ｒ３Ｐ、（ＲＯ）３Ｐ又は（ＲＯ）３ＰＯで表されるリン化合物で挙げられる。ここでＲは、炭素数１〜２０のアルキル又はアリール基を示し、具体的に例えば、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ジベンジルホスフェート、トリエチルホスフェートなどが挙げられる。
【００５４】
そして、硫黄化合物として、具体的に例えば、ブタンチオール、ｎ−ヘキサンチオール、ジエチルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、アリールジスルフィド、２−メルカプトベンゾアゾール、テトラヒドロチオフェン、オクチルチオグリコレートなどが挙げられる。
【００５５】
このような安定剤の使用量は、本発明のインク特性に符合する限り、特に制限する必要はない。しかしながら、その含量は、銀化合物に対し、モル比で０．１％〜９０％が好ましい。
【００５６】
（薄膜補助剤）
また、薄膜補助剤としては、有機酸及び有機酸誘導体、又は少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられる。具体的に例えば、酢酸、酪酸（Ｂｕｔｙｒｉｃ  ａｃｉｄ）、吉草酸（Ｖａｌｅｒｉｃ  ａｃｉｄ）、ピバル酸（Ｐｉｖａｌｉｃ  ａｃｉｄ）、ヘキサン酸、オクタン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ネオデカン酸（Ｎｅｏｄｅｃａｎｏｉｃ  ａｃｉｄ）、ラウリン酸（Ｌａｕｒｉｃ  ａｃｉｄ）、ステアリン酸、ナフタル酸などの有機酸が挙げられ、有機酸誘導体としては、具体的に例えば、酢酸アンモニウム塩、クエン酸アンモニウム塩、ラウリン酸アンモニウム塩、乳酸アンモニウム塩、マレイン酸アンモニウム塩、シュウ酸アンモニウム塩、モリブデン酸アンモニウム塩などの有機酸アンモニウム塩と、Ａｕ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｃｄ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ａｃ、Ｔｈなどのような金属を含有するシュウ酸マンガン、酢酸金、シュウ酸パラジウム、２−エチルヘキサン酸銀、オクタン酸銀、ネオデカン酸銀、ステアリン酸コバルト、ナフタル酸ニッケル、ナフタル酸コバルトなどの有機酸金属塩が挙げられる。前記薄膜補助剤の使用量は、特に限定されないが、有機銀錯体化合物に対して、モル比で０．１〜２５％が好ましい。
【００５７】
（還元剤）
前記還元剤としては、ルイス酸又は弱いブレンステッド酸（ｂｒｏｎｓｔｅｄ  ａｃｉｄ）が挙げられ、具体的に例えば、ヒドラジン、ヒドラジンモノハイドレート、アセトヒドラジド、水酸化ホウ素ナトリウム又は水酸化ホウ素カリウム、ジメチルアミンボラン、ブチルアミンボランのようなアミン化合物、第１塩化鉄、乳酸鉄のような金属塩、水素、ヨウ化水素、一酸化炭素、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、グリオキサールのようなアルデヒド化合物、ギ酸メチル、ギ酸ブチル、トリエチル−ｏ−ギ酸のようなギ酸化合物、グルコース、アスコルビン酸、ヒドロキノンのような還元性有機化合物を少なくとも一つ以上含有するこれらの混合物を挙げることができる。
【００５８】
前記熱分解反応促進剤としては、具体的に例えば、エタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、ヘキサノールアミン、ジメチルエタノールアミンのようなヒドロキシアルキルアミン類、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、ピペラジン、Ｎ，Ｎ′−ジメチルピペラジン、１−アミノ−４メチルピペラジン、ピロリジン、Ｎ−メチルピロリジン、モルホリンのようなアミン化合物、アセトンオキシム、ジメチルグリオキシム、２−ブタノンオキシム、２，３−ブタジオンモノオキシムのようなアルキルオキシム類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールのようなグリコール類、メトキシエチルアミン、エトキシエチルアミン、メトキシプロピルアミンのようなアルコキシアルキルアミン類、メトキシエタノール、メトキシプロパノール、エトキシエタノールのようなアルコキシアルカノール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類、アセトール、ジアセトンアルコールのようなケトンアルコール類、多価フェノール化合物、フェノール樹脂、アルキド樹脂、ピロール、エチレンジオキシチオフェン（ＥＤＯＴ）のような酸化重合性樹脂などが挙げられる。
【００５９】
なお、銀コーティング液組成物の粘度調節や円滑な薄膜形成のために溶媒が必要な場合があるが、この際使用できる溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−メトキシプロパノール、ブタノール、エチルヘキシルアルコール、テルピネオールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテートのようなアセテート類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、１−メチル−２−ピロリドンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタン、ドデカン、パラフィンオイル、ミネラルスピリットのような炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、又はこれらの混合溶媒などを使用することができる。
【００６０】
（ＵＶ吸収剤含有ハードコート層）
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーにおいては、最外層として、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層を設ける。本発明に係るＵＶ吸収剤含有ハードコート層は、ＵＶ吸収剤を含有し、傷防止と紫外線を遮蔽する性能が高く、容易に形成することが可能である。
【００６１】
ＵＶ吸収剤含有ハードコート層のＵＶ吸収剤が、紫外線を遮断することにより、銀反射層に紫外線が到達するのを防止する。それにより、銀反射層に残留していた有機化合物が分解して、着色したり、銀反射層と隣接層の間の接着性が低下するのを防止する。
【００６２】
前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層の厚さは、紫外線吸収等の観点から、０．５〜２０μｍが好ましく、より好ましくは１〜１０μｍである。
【００６３】
前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層は、長時間紫外線を照射しても紫外線を吸収する能力が低下しない点から、また、該ＵＶ吸収剤含有ハードコート層のバインダーの樹脂が紫外線により酸化的開裂するのを防止する能力が高い点から、トリアジン系ＵＶ吸収剤または無機ＵＶ吸収剤を含有することが好ましい。さらに、前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層は、トリアジン系ＵＶ吸収剤および無機ＵＶ吸収剤の両方を含有することが、前記樹脂の酸化的開裂防止と銀反射層の着色防止および腐食防止機能が長期間維持できることから好ましい。
【００６４】
前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層は、バインダーとして、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂等を用い、ＵＶ硬化または熱硬化で作製することができる。特に、本発明においては樹脂基材の熱による平面性劣化を避けるために、ＵＶ硬化で作製するのが好ましい。また、特に本発明においては硬度と耐久性等の点で、アクリル系ＵＶ硬化性樹脂を用いるのが好ましい。
【００６５】
前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層は、ＵＶ硬化または熱硬化で作製される樹脂のほかに、熱可塑性樹脂を含有しても良い。
【００６６】
前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層において、樹脂固形分とは、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層に含まれる固体の樹脂および、ＵＶ硬化または熱硬化により固体の樹脂になる重合性成分である。重合性成分は重合性のモノマー、オリゴマーを意味する。
【００６７】
（アクリル系ＵＶ硬化性樹脂）
ＵＶ吸収剤含有ハードコート層のバインダーとして好ましく用いられる前記アクリル系樹脂は、アクリル系ＵＶ硬化性樹脂を紫外線で硬化して形成することが好ましい。
【００６８】
アクリル系ＵＶ硬化性樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
【００６９】
前記多官能アクリレートとしては、たとえば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリス（ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、多官能ウレタン化（メタ）アクリレート等を主成分とする（メタ）アクリレート系樹脂などが例示される。
【００７０】
ここで、多官能ウレタン化（メタ）アクリレートとは、たとえば、イソホロンジイソシアネートやヘキサメチレンジイソシアネートのような、分子内に少なくとも２個のイソシアナト基（−ＮＣＯ）を有するポリイソシアネートに、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレートやペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートのような、分子内に１個の水酸基および少なくとも１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を付加反応させて得られる、ウレタン結合と少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。
【００７１】
前記多官能アクリレートは単独または２種以上混合して使用することができる。また、多官能ウレタン化（メタ）アクリレートに、上述したようなウレタン結合を有しない多官能（メタ）アクリレートを組み合わせて用いることも可能である。
【００７２】
前記多官能アクリレートとしては市販されているものを好適に用いることができる。多官能アクリレートの市販品としては、具体的には、カヤラッド  ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＤＰＣＡ−２０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＤＰＣＡ−３０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＤＰＣＡ−６０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＤＰＣＡ−１２０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  Ｄ−３１０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  Ｄ−３３０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＰＥＴ−３０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＧＰＯ−３０３（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＴＭＰＴＡ（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＴＨＥ−３３０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＴＰＡ−３３０（日本化薬（株）製）、アロニックスＭ−３１５（東亞合成（株）製）、アロニックスＭ−３２５（東亞合成（株）製）などが挙げられる。
【００７３】
上述したようなＵＶ硬化性樹脂は、通常、光重合開始剤と混合して使用される。光重合開始剤としては、たとえば、イルガキュアー  ９０７（ＢＡＳＦジャパン（株）製）、イルガキュアー  １８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ルシリン  ＴＰＯ（ＢＡＳＦジャパン（株）製）などの市販品を好適に用いることができる。
【００７４】
また、充分な高硬度を有し、硬化収縮によるカールを充分に抑制し得るＵＶ吸収剤含有ハードコート層を得る観点から、ＵＶ硬化樹脂中にシリカ微粒子を添加するようにしてもよい。この場合、シリカ微粒子としては、粉体状シリカまたはコロイダルシリカが挙げられ、平均粒子径が０．０１〜２０μｍの範囲内のものが好適に用いられる。また、シリカ微粒子は、ハードコートフィルムの光透過性に影響を与えないものであることが好ましく、そのためには、一次粒子径が１０〜３５０ｎｍの範囲内にあることが好ましく、１０〜５０ｎｍの範囲内にあることがより好ましい。なお、上述したシリカ微粒子の平均粒子径は、たとえば透過型電子顕微鏡で観察することにより測定することができ、また、シリカ微粒子の一次粒子径は、たとえばイソプロピルアルコールなどの溶媒に微粒子を分散させ、その分散液から、コールター粒度分布測定法、レーザー回折散乱法、動的光散乱法などにより測定することができ、これらの中でもコールター粒度分布測定法が一般的である。
【００７５】
シリカ微粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、もしくは不定形状であってよいが、紫外線硬化性樹脂中で凝集することなく粒子を好適に分散させるためには、好ましくは球状である。また、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層３の硬度や平面性を維持する観点から、シリカ微粒子の比表面積は０．１〜３０００ｍ２／ｇの範囲内であることが好ましく、さらには１ｍ２／ｇ以上、とりわけ１０ｍ２／ｇ以上、また１５００ｍ２／ｇ以下であることがより好ましい。
【００７６】
このようなシリカ微粒子も市販されているものを好適に用いることができる。シリカ微粒子の市販品を例示すると、コロイダルシリカとしては、メタノールシリカゾル（日産化学工業（株）製）、ＩＰＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＭＥＫ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＮＢＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＸＢＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＤＭＡＣ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＵＰ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＯＵＰ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−２０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−４０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｃ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｎ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｏ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−５０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＯＬ（日産化学工業（株）製）などを挙げることができる。
【００７７】
また粉体状シリカとしては、アエロジル１３０（日本アエロジル（株）製）、アエロジル３００（日本アエロジル（株）製）、アエロジル３８０（日本アエロジル（株）製）、アエロジルＴＴ６００（日本アエロジル（株）製）、アエロジルＯＸ５０（日本アエロジル（株）製）、シルデックスＨ３１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ３２（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ５１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ５２（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ１２１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ１２２（旭硝子（株）製）、Ｅ２２０Ａ（日本シリカ工業（株）製）、Ｅ２２０（日本シリカ工業（株）製）、サイリシア４７０（富士シリシア（株）製）、ＳＧフレーク（日本板硝子（株）製）などを挙げることができる。
【００７８】
（トリアジン系ＵＶ吸収剤）
前記トリアジン系ＵＶ吸収剤は下記一般式（Ｉ）で表わされる。
【００７９】
一般式（Ｉ）      Ｑ１−Ｑ２−ＯＨ
式中、Ｑ１は１，３，５−トリアジン環を表す。Ｑ２は芳香族環を表し、好ましくはベンゼン環を表わす。
【００８０】
一般式（Ｉ）としてさらに好ましくは下記一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物である。
【００８１】
【化２】
0005747547.tif 000003
【００８２】
式中、Ｒ１は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；フェニル基、ヒドロキシ基、炭素原子数１〜１８のアルコキシ基、炭素原子数５〜１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数３〜１８のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ４、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ５、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ６、−ＣＯ−ＮＨ２、−ＣＯ−ＮＨＲ７、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ７）（Ｒ８）、ＣＮ、ＮＨ２、ＮＨＲ７、−Ｎ（Ｒ７）（Ｒ８）、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ５、フェノキシ基、炭素原子数１〜１８のアルキル基で置換されたフェノキシ基、フェニル−炭素原子数１〜４のアルコキシ基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルコキシ基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルキルアルコキシ基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニルアルコキシ基、または炭素原子数６〜１５のトリシクロアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１８のアルキル基；ヒドロキシ基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数２〜６のアルケニル基または−Ｏ−ＣＯ−Ｒ５で置換された炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；グリシジル基；−ＣＯ−Ｒ９または−ＳＯ２−Ｒ１０を表すか；あるいはＲ１は１以上の酸素原子で中断された及び／またはヒドロキシ基、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換された炭素原子数３〜５０のアルキル基を表すか；あるいはＲ１は−Ａ；−ＣＨ２−ＣＨ（ＸＡ）−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１２；−ＣＲ１３Ｒ′１３−（ＣＨ２）ｍ−Ｘ−Ａ；−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＡ）−Ｒ１４；−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＸＡ；
【００８３】
【化３】
0005747547.tif 000004
【００８４】
−ＣＲ１５Ｒ′１５−Ｃ（＝ＣＨ２）−Ｒ″１５；−ＣＲ１３Ｒ′１３−（ＣＨ２）ｍ−ＣＯ−Ｘ−Ａ；−ＣＲ１３Ｒ′１３−（ＣＨ２）ｍ−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１５Ｒ′１５−Ｃ（＝ＣＨ２）−Ｒ″１５または−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１５Ｒ′１５−Ｃ（＝ＣＨ２）−Ｒ″１５（式中、Ａは−ＣＯ−ＣＲ１６＝ＣＨ−Ｒ１７を表す。）で表される定義の一つを表す。
【００８５】
Ｒ２は、互いに独立して、炭素原子数６〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜６のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；ＣＯＯＲ４；ＣＮ；−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ５；ハロゲン原子；トリフルオロメチル基；−Ｏ−Ｒ３を表す。
【００８６】
Ｒ３はＲ１に対して与えられた定義を表す。
【００８７】
Ｒ４は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表すか；あるいはＲ４は１以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ７−、−Ｓ−で中断された及びＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数３〜５０のアルキル基を表す。
【００８８】
Ｒ５はＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜１８のアルケニル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニル基；炭素原子数６〜１５のトリシクロアルキル基を表す。
【００８９】
Ｒ６はＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表す。
【００９０】
Ｒ７及びＲ８は互いに独立して炭素原子数１〜１２のアルキル基；炭素原子数３〜１２のアルコキシアルキル基；炭素原子数４〜１６のジアルキルアミノアルキル基を表すか；または炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表し；あるいはＲ７及びＲ８は一緒になって炭素原子数３〜９のアルキレン基、炭素原子数３〜９のオキサアルキレン基または炭素原子数３〜９のアザアルキレン基を表す。
【００９１】
Ｒ９は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニル基；または炭素原子数６〜１５のトリシクロアルキル基を表す。
【００９２】
Ｒ１０は炭素原子数１〜１２のアルキル基；フェニル基；ナフチル基；または炭素原子数７〜１４のアルキルフェニル基を表す。
【００９３】
Ｒ１１は互いに独立してＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜６のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；ハロゲン原子；炭素原子数１〜１８のアルコキシ基を表す。
【００９４】
Ｒ１２は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数３〜８のアルケノキシ基、ハロゲン原子またはトリフルオロメチル基で１〜３回置換されたフェニル基を表すか；または炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のトリシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキルアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニルアルキル基；−ＣＯ−Ｒ５を表し；またはＲ１２は１以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ７−、−Ｓ−で中断された及びＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数３〜５０のアルキル基を表す。
【００９５】
Ｒ１３及びＲ′１３は互いに独立してＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；フェニル基を表す。
【００９６】
Ｒ１４は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１２のアルコキシアルキル基；フェニル基；フェニル−炭素原子数１〜４のアルキル基を表す。
【００９７】
Ｒ１５、Ｒ′１５及びＲ″１５は互いに独立してＨまたはＣＨ３を表す。
【００９８】
Ｒ１６はＨ；−ＣＨ２−ＣＯＯ−Ｒ４；炭素原子数１〜４のアルキル基；またはＣＮを表す。
【００９９】
Ｒ１７はＨ；−ＣＯＯＲ４；炭素原子数１〜１７のアルキル基；またはフェニル基を表す。
【０１００】
Ｘは−ＮＨ−；−ＮＲ７−；−Ｏ−；−ＮＨ−（ＣＨ２）ｐ−ＮＨ−；または−Ｏ−（ＣＨ２）ｑ−ＮＨ−を表す。
【０１０１】
指数ｍは数０〜１９を表し；ｎは数１〜８を表し；ｐは数０〜４を表し；ｑは数２〜４を表す。
【０１０２】
ただし一般式一般式（Ｉ−Ａ）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ１１の少なくとも１つが２個以上の炭素原子を含む。
【０１０３】
前記トリアジン系ＵＶ吸収剤の使用量は、前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層の樹脂固形分に対し０．１〜１０質量％であることが好ましい。１０質量％以下であれば密着性が良好であり、１質量％以上であれば太陽光による劣化を強く抑制できる。
【０１０４】
（無機ＵＶ吸収剤）
前記無機ＵＶ吸収剤は、好ましくは金属酸化物顔料であり、アクリル樹脂に２０質量％以上の濃度で分散させて、６μｍ厚のフィルムを形成したときに、ＵＶ−Ｂ域（２９０−３２０ｎｍ）域における光線透過率を１０％以下にする機能を備えた化合物である。本発明に適用可能な無機ＵＶ吸収剤としては、特に、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化セリウムまたはこれらの混合物から選択されることが好ましい。
【０１０５】
また、無機ＵＶ吸収剤含有層の透明性を向上させる点から、数平均粒径が５ｎｍと１５０ｎｍとの間の平均基本粒子径であるものが好ましく、特に好ましくは１０ｎｍと１００ｎｍとの間の平均基本粒子径であって、粒径分布の最大粒径が１５０ｎｍ以下の金属酸化物粒子である。この種の被覆または非被覆金属酸化物顔料は、より詳細に、特許出願ＥＰ−Ａ−０  ５１８  ７７３に記載されている。
【０１０６】
前記無機ＵＶ吸収剤としては、Ｓｉｃｏｔｒａｎｓ  Ｒｅｄ  Ｌ２８１５（酸化鉄；ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ＣｅＯ−Ｘ０１（酸化セリウム；株式会社イオックス製）、ＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０（酸化亜鉛；堺化学工業株式会社製）、ＳＴＲ−６０（酸化チタン；堺化学工業株式会社製）、ＣＭ−１０００（酸化鉄  ケミライト工業株式会社製）、ＣＥＲＩＧＵＡＲＤ  Ｓ−３０１８−０２（酸化セリウム  大東化成工業株式会社製）、ＭＺ−３００（酸化亜鉛  テイカ株式会社製）、ＭＴ−７００Ｂ（酸化チタン  テイカ株式会社製）などが市販されている。
【０１０７】
前記無機ＵＶ吸収剤の粒子径は、動的光散乱式粒径分布測定装置であるＬＢ−５５０（株式会社堀場製作所製）により測定することができ、測定結果の出力より、数平均粒径を求めることができる。
【０１０８】
前記無機ＵＶ吸収剤の使用量は、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層の樹脂固形分に対し１〜５０質量％が好ましく、更に好ましくは５〜２５質量％、最も好ましくは１０〜２０質量％である。５０質量％以下であれば密着性が良好であり、１質量％以上であれば太陽光による劣化を強く抑制できる。
【０１０９】
また、無機ＵＶ吸収剤を有機ＵＶ吸収剤と併用して用いる場合、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層の樹脂固形分に対し、無機ＵＶ吸収剤の使用量は３〜２０質量％、好ましくは５〜１５質量％であり、有機ＵＶ吸収剤の使用量は０．１〜１０質量％、好ましくは０．５〜５質量％である。前記の使用量の範囲で無機ＵＶ吸収剤と有機ＵＶ吸収剤とを併用すると、ＵＶ吸収層の透明度は高く、耐侯性も良好となる。
【０１１０】
（表面被覆）
また、本発明においては、無機酸化物の光触媒能による隣接樹脂の酸化劣化作用を抑える観点から、無機ＵＶ吸収剤が、被覆層により表面被覆され、数平均粒径（被覆層を含む）が、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の無機ＵＶ吸収剤微粒子であることが好ましい。また、被覆層には無機ＵＶ吸収剤粒子の分散性を向上させる効果もあるため、被覆層を有することはなお好ましい。ここでいう被覆層とは、アミノ酸、蜜蝋、脂肪酸、脂肪アルコール、陰イオン界面活性剤、レシチン、脂肪酸のナトリウム塩、カリウム塩、亜鉛塩、鉄塩またはアルミニウム塩、金属アルコキシド（チタンまたはアルミニウムの）、ポリエチレン、シリコーン、タンパク質（コラーゲン、エラスチン）、アルカノールアミン、酸化ケイ素、金属酸化物あるいはヘキサメタリン酸ナトリウムのような化合物を含有し、化学的、電子工学的、メカノケミストリー的または機械的な１つまたは複数の手段により、無機ＵＶ吸収剤の表面に設けることが出来る。
【０１１１】
（酸化防止剤）
また、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層と隣接する樹脂層との界面の密着性が太陽光照射により劣化するのを防止するために、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層は酸化防止剤を含有することが好ましい。
【０１１２】
本発明に適用可能な酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物の酸化防止剤群の中から選ぶことができるが、中でもヒンダードアミン系化合物が好ましい。
【０１１３】
前記酸化防止剤は、前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層の全質量に対し０．１〜５質量％含有されることが好ましい。０．１質量％以上であれば樹脂鎖の酸化的開裂やＵＶ吸収剤の分解を抑制することができ、５質量％以下であれば密着性が良好である。
【０１１４】
（ヒンダードフェノール系化合物）
ヒンダードフェノール系化合物の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９−ビス−｛２−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウン���カン、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトールテトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、ＢＡＳＦジャパン（株）から、“ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６”及び“ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０”という商品名で市販されている。
【０１１５】
（ヒンダードアミン系化合物）
ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
【０１１６】
また、高分子タイプの化合物でもよく、具体例としては、Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′−テトラキス−［４，６−ビス−〔ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ〕−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１１７】
これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。
【０１１８】
上記タイプのヒンダードアミン化合物は、例えば、ＢＡＳＦジャパン（株）から、“ＴＵＮＵＶＩＮ１４４”及び“ＴＵＮＵＶＩＮ７７０”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ−５２”という商品名で市販されている。
【０１１９】
上記ヒンダードアミン系化合物は、前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層の全質量に対し０．１〜５質量％含有されることが好ましい。０．１質量％以上であれば樹脂鎖の酸化的開裂やＵＶ吸収剤の分解を抑制することができ、５質量％以下であれば密着性が良好である。
【０１２０】
（リン系化合物）
リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物；トリフェニルホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系化合物；トリフェニルホスフィナイト、２，６−ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系化合物；トリフェニルホスフィン、トリス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィン等のホスフィン系化合物；等が挙げられる。
【０１２１】
上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−２４Ｇ”、“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−３６”及び“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ３０１０”、ＢＡＳＦジャパン（株）から“ＩＲＧＡＦＯＳ  Ｐ−ＥＰＱ”、堺化学工業株式会社から“ＧＳＹ−Ｐ１０１”という商品名で市販されている。
【０１２２】
（ＵＶ吸収剤含有層）
前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層と前記銀反射層の間に、ＵＶ吸収剤含有層を設けることにより、該銀反射層に届く紫外線を低減し紫外線遮断能力の耐久性を向上することができ、熱湿環境下ＵＶ照射後の耐擦傷性を高め、熱湿環境下ＵＶ照射後の正反射率を高めることができる。
【０１２３】
前記ＵＶ吸収剤含有層は、前記ＵＶ吸収剤含有ハードコート層と同様に、前記トリアジン系ＵＶ吸収剤または前記無機ＵＶ吸収剤を含有することが好ましい。
【０１２４】
（腐食防止剤含有層）
前記腐食防止剤含有層は前記銀反射層に隣接して設けられることが好ましい。腐食防止剤には、腐食防止剤が含有される。該腐食防止剤の分子量は８００以下であることが好ましい。このような低分子の腐食防止剤を添加することによって、銀反射層との界面に腐食防止剤が移動しやすくなり、腐食防止機能が向上すると考えられ、これにより劣化が抑制されると考えられる。
【０１２５】
ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的又は電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
【０１２６】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、０．０１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【０１２７】
〈腐食防止剤〉
前記腐食防止剤は銀に対する吸着性基を有することが好ましい。
【０１２８】
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【０１２９】
アミン類及びその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１３０】
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１３１】
トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１３２】
ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１３３】
チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１３４】
イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１３５】
インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１３６】
銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１３７】
チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１３８】
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２−エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１３９】
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【０１４０】
（樹脂基材）
本発明の基材は樹脂性であり、該基材としては従来公知の樹脂フィルムを用いることができる。
【０１４１】
例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム、ポリイミドフィルム等を挙げることができる。
【０１４２】
中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。特に、ポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０１４３】
また、銀を析出させるための焼成温度が高い場合、樹脂基材はポリイミドフィルムであることが好ましい。
【０１４４】
前記樹脂基材は、コストが低いことも重要であり、コストと耐熱性の点からは、ＰＥＴフィルムが好ましい。
【０１４５】
樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。
【実施例】
【０１４６】
以下、本発明について実施例及び比較例を用いて具体的に説明する。
【０１４７】
（銀コーティング液組成物の調製）
攪拌器付き５００ｍｌのシュレンク（Ｓｃｈｌｅｎｋ）フラスコに、２−エチルヘキシルアンモニウム２−エチルカルバメート６５．０ｇ（２１５ミリモル）を１５０．０ｇのイソプロパノールに溶解させた後、酸化銀２０．０ｇ（８６．２ミリモル）を添加して、常温で反応した。前記反応溶液は、最初は黒色懸濁液（Ｓｌｕｒｒｙ）で反応が進行され、錯化合物が生成されるにつれて段々色が薄くなり、透明に変わることが観察されて、２時間反応した結果、無色透明な溶液が得られた。この溶液に、安定剤として２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルアミン２．５ｇに、溶媒としてｎ−ブタノール８５．０ｇとアミルアルコール５０．０ｇを添加して攪拌した後、０．４５ミクロンのメンブレンフィルタ（ｍｅｍｂｒａｎｅ  ｆｉｌｔｅｒ）を使用してフィルタし、熱分析（ＴＧＡ）した結果、銀含量４．８７質量％の銀コーティング液組成物を製造した。
【０１４８】
《太陽熱発電用反射装置の作製》
〔試料１の作製：参考例１〕
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、エスペル９９４０Ａ（日立化成工業株式会社製、ポリエステル系樹脂）、ＭＭ−Ａ（パナソニック電工株式会社製、メラミン樹脂）、トリレンジイソシアネート（三井化学ファイン株式会社製、ジイソシアネート架橋剤）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）（三井化学ファイン株式会社製）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２：に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのアンカー層を形成した。アンカー層上に、前記銀コーティング液組成物を、加熱乾燥後の銀の膜厚が８０ｎｍとなるように塗布した後、ドライオーブンにて１００℃、３分間加熱乾燥し、銀反射層を形成した。
【０１４９】
続いて、銀反射層上に接着層としてアクリル樹脂接着剤であるビニロール９２Ｔ（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートし、接着層の上にＵＶ吸収剤を含有するアクリル樹脂フィルム（ＫＯＲＡＤ  ＣＬＲＡＲ０５００５，ポリマー・エクスクルーディドプロダクト社製）５０μｍを積層させた。続いて該アクリル樹脂フィルムの上にＵＶ吸収剤含有ハードコート層として、リオデュラスＬＣＨ（ＵＶ硬化性アクリル樹脂；東洋インキ社製）にトリアジン系ＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ４７７（ＢＡＳＦジャパン社製）を樹脂固形分に対して０．０５質量％、無機系ＵＶ吸収剤として酸化亜鉛  ＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０（堺化学工業株式会社製、数平均粒径２０ｎｍ）を１０質量％となる量添加し、グラビアコートによりウエット膜厚２０μｍで塗布し、ＵＶコンベア（光源；高圧水銀ランプ、照度；１００ｍＷ／ｃｍ２）を用いてＵＶ照射することによりＵＶ吸収剤含有ハードコート層を設けることで太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。
【０１５０】
さらに、樹脂基材に粘着層としてアクリル樹脂粘着剤であるＳＥ−６０１０（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートし、厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのアルミ板（住友軽金属社製）上に、上記サンプルを、粘着層を介して貼り付け、太陽熱発電用反射装置である試料１を作製した。
【０１５１】
〔試料２の作製：参考例２〕
前記試料１の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層に添加するＴｉｎｕｖｉｎ４７７を樹脂固形分に対して０．１質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料２を作製した。
【０１５２】
〔試料３の作製：参考例３〕
前記試料１の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層に添加するＴｉｎｕｖｉｎ４７７を樹脂固形分に対して１．５質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料３を作製した。
【０１５３】
〔試料４の作製：参考例４〕
前記試料１の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層に添加するＴｉｎｕｖｉｎ４７７を樹脂固形分に対して６．５質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料４を作製した。
【０１５４】
〔試料５の作製：参考例５〕
前記試料１の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層に添加するＴｉｎｕｖｉｎ４７７を樹脂固形分に対して１０質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料５を作製した。
【０１５５】
〔試料６の作製：参考例６〕
前記試料１の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層に添加するＴｉｎｕｖｉｎ４７７を樹脂固形分に対して１１質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料６を作製した。
【０１５６】
〔試料７の作製：参考例７〕
前記試料１の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層に酸化亜鉛  ＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０は添加せず、Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７の添加量を樹脂固形分に対して１．５質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料７を作製した。
【０１５７】
〔試料８の作製：参考例８〕
前記試料１の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層にＴｉｎｕｖｉｎ４７７は添加せず、ほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料８を作製した。
【０１５８】
〔試料９の作製：比較例１〕
前記試料１の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層にＴｉｎｕｖｉｎ４７７及びＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０は添加せず、ほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料９を作製した。
【０１５９】
〔試料１０の作製：参考例２−１〕
前記試料１の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層にＴｉｎｕｖｉｎ４７７及びＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０は添加せず、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ２３４を樹脂固形分に対して１．５質量％添加したほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料１０を作製した。
【０１６０】
〔試料１１の作製：参考例２−２〕
前記試料１０の作製において、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ２３４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）を樹脂固形分に対して５質量％添加したほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料１１を作製した。
【０１６１】
〔試料１２の作製：参考例２−３〕
前記試料１の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層にＴｉｎｕｖｉｎ４７７及びＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０は添加せず、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤としてＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ  ８１（ＢＡＳＦジャパン（株）製）を樹脂固形分に対して１．５質量％添加したほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料１２を作製した。
【０１６２】
〔試料１３の作製：参考例２−４〕
前記試料１２の作製において、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤としてＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ  ８１（ＢＡＳＦジャパン（株）製）を樹脂固形分に対して５質量％添加したほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料１３を作製した。
【０１６３】
〔試料１４の作製：参考例９〕
前記試料３の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層に添加するＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を樹脂固形分に対して２５質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料１４を作製した。
【０１６４】
〔試料１５の作製：参考例１０〕
前記試料３の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層に添加するＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を樹脂固形分に対して４０質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料１５を作製した。
【０１６５】
〔試料１６の作製：参考例１１〕
樹脂基材／アンカー層／銀反射層までは前記試料１と同様に作製した後、この銀反射層上に、エスペル９９４０Ａ（日立化成工業株式会社製、ポリエステル系樹脂）とトリレンジイソシアネート（三井化学ファイン株式会社製、ジイソシアネート架橋剤）とを樹脂固形分比率（質量比）で１０：２に混合した樹脂中に、腐食防止剤としてＭＭ−Ａ（パナソニック電工株式会社製、メラミン樹脂、分子量５０，０００）を樹脂固形分に対して１０質量％となる量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの腐食防止層（トップコート下層）を形成した。
【０１６６】
続いてこの腐食防止層上に、エスペル９９４０Ａ（日立化成工業株式会社製、ポリエステル系樹脂）とトリレンジイソシアネート（三井化学ファイン株式会社製、ジイソシアネート架橋剤）とを、樹脂固形分比率（質量比）で１０：２に混合した樹脂中に、ＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ４７７（ＢＡＳＦジャパン社製）を樹脂固形分に対して１．５質量％となる量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして厚さ３μｍのＵＶ吸収層（トップコート上層）を形成した。
【０１６７】
続いて、トップコート層上に接着層としてアクリル樹脂接着剤であるビニロール９２Ｔ（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートし、接着層の上にＵＶ吸収剤を含有するアクリル樹脂フィルム（ＫＯＲＡＤ  ＣＬＲＡＲ０５００５，ポリマー・エクスクルーディドプロダクト社製）５０μｍを積層させた。続いてアクリル樹脂フィルムの上にＵＶ吸収剤含有ハードコート層として、リオデュラスＬＣＨ（ＵＶ硬化性アクリル樹脂；東洋インキ社製）にトリアジン系ＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ４７７（ＢＡＳＦジャパン（株）製）を樹脂固形分に対して１．５質量％、無機系ＵＶ吸収剤として酸化亜鉛  ＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０（堺化学工業株式会社製）を１０質量％となる量添加し、グラビアコートによりウエット膜厚４０μｍで塗布し、ＵＶコンベア（光源；高圧水銀ランプ、照度；１００ｍＷ／ｃｍ２）を用いてＵＶ照射することによりＵＶ吸収剤含有ハードコート層を設けることで太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。
【０１６８】
さらに、基材樹脂に粘着層としてアクリル樹脂粘着剤であるＳＥ−６０１０（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートし、厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのアルミ板（住友軽金属社製）上に、上記サンプルを、粘着層を介して貼り付け、太陽熱発電用反射装置である試料１６を作製した。
【０１６９】
〔試料１７の作製：参考例１２〕
前記試料１６の作製において、トップコート上層にＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ４７７（ＢＡＳＦジャパン（株）製）を添加せず、ほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料１７を作製した。
【０１７０】
〔試料１８の作製：参考例１３〕
前記試料１６の作製において、トップコート下層に腐食防止剤としてＴｉｎｕｖｉｎ２３４（ＢＡＳＦジャパン（株）製、分子量４４７．６）を樹脂固形分に対して１０質量％、トップコート上層にＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ４７７（ＢＡＳＦジャパン（株）製）を樹脂固形分に対して１．５質量％となる量を添加し、ほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料１８を作製した。
【０１７１】
〔試料１９の作製：参考例１４〕
前記試料１６の作製において、トップコート下層に腐食防止剤としてＴｉｎｕｖｉｎ２３４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）を樹脂固形分に対して１０質量％となる量を添加し、トップコート上層にはＴｉｎｕｖｉｎ４７７（ＢＡＳＦジャパン（株）製）を添加せず、ほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料１９を作製した。
【０１７２】
〔試料２０の作製：参考例１５〕
前記試料１８の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層に酸化防止剤としてヒンダードアミン系化合物のＴｉｎｕｖｉｎ１５２を樹脂固形分に対して１質量％添加したほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料２０を作製した。
【０１７３】
〔試料２１〜２４の作製：参考例１６〜１９〕
前記試料２０の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層に添加したＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を、数平均粒径２０ｎｍの無機ＵＶ吸収剤である、Ｓｉｃｏｔｒａｎｓ  Ｒｅｄ  Ｌ２８１５（酸化鉄；ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ＣｅＯ−Ｘ０１（酸化セリウム；株式会社イオックス製）、ＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０（酸化亜鉛；堺化学工業株式会社製）、ＳＴＲ−６０（酸化チタン；堺化学工業株式会社製）に変え、その添加量を表２に記載のように樹脂固形分に対して１５質量％に変えた他は同様に、太陽熱発電用反射装置である試料２１〜２４を作製した。
【０１７４】
〔試料２５〜２８の作製：参考例２０〜２３〕
前記試料２０の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層に添加したＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を、数平均粒径１５０ｎｍの無機ＵＶ吸収剤である、ＣＭ−１０００（酸化鉄；ケミライト工業株式会社製）、ＣＥＲＩＧＵＡＲＤ  Ｓ−３０１８−０２（酸化セリウム；大東化成工業株式会社製）、ＭＺ−３００（酸化亜鉛；テイカ株式会社製）、ＭＴ−７００Ｂ（酸化チタン；テイカ株式会社製）に変え、その添加量を表２に記載のように樹脂固形分に対して１５質量％に変えた他は同様に、太陽熱発電用反射装置である試料２５〜２８を作製した。
【０１７５】
〔試料２９〜３２の作製：実施例２４〜２７〕
前記試料２０の作製において、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層に添加したＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を、数平均粒径２０ｎｍ（被覆厚さ５ｎｍを含む）のシリカ被覆無機ＵＶ吸収剤である、Ｃｏｎｃｅｌｉｇｈｔ  ＢＰ−１０Ｓ（酸化鉄；日揮触媒化成株式会社製）、ＣＥＲＩＧＵＡＲＤＳＣ−６８３２（酸化セリウム；大東化成工業株式会社製）、ＦＩＮＥＸ−５０Ｗ−ＬＰ２（酸化亜鉛；堺化学工業株式会社製）、ＳＴＲ−１００Ａ−ＬＰ（酸化チタン；堺化学工業株式会社製）に変え、その添加量を表２に記載のように添加量を樹脂固形分に対して１５質量％に変えた他は同様に、太陽熱発電用反射装置である試料２９〜３２を作製した。
【０１７６】
〔試料３３の作製：比較例〕
前記試料２０の作製において銀反射層の形成方法を特開２０１０−２３７４１５号公報の実施例１に記載のように、アンモニア性硝酸銀水溶液を含む銀メッキ液をブドウ糖で還元する無電解の銀鏡反応によりアンカー層表面に銀を析出させて形成するものに変え、そのほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料３３を作製した。
【０１７７】
作製した試料３３の正反射率を下記の方法で測定した結果、表３に示したように初期の正反射率が低かったので、それ以上の耐久性試験は行わなかった。
【０１７８】
《太陽熱発電用反射装置の評価》
上記作製した太陽熱発電用反射装置について、下記の方法に従って湿熱処理後の耐擦傷性およびＵＶ劣化処理後の耐擦傷性の評価を行った。
【０１７９】
〔湿熱環境下ＵＶ照射後の耐擦傷性試験（スチールウールＪＩＳ試験）〕
各試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃相対湿度６０％の環境下で１０００Ｗ９６時間の紫外線照射を行った後、フィルムミラーの最表層面を＃００００のスチールウールに５００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけて、ストローク５０ｍｍ、速度５００ｍｍ／ｍｉｎで１０回往復摩擦した後に下記の基準に従って、湿熱処理後及びＵＶ劣化処理後の耐擦傷性を評価した。
【０１８０】
◎：傷本数が０本
○：傷本数が１本〜５本
△：傷本数が６本〜１０本
×：傷本数が１０本より多い
〔湿熱環境下ＵＶ照射後の正反射率の測定〕
各試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃相対湿度６０％の環境下で９６時間紫外線照射を行ったのち、以下の測定を行った。
【０１８１】
島津製作所社製の分光光度計Ｕ−４１００を、積分球反射付属装置を取り付けたものに改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、各試料の反射角５°での正反射率を測定した。４００ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定し、下記の基準に従ってＵＶ劣化処理後の正反射率を評価した。
７  ：  正反射率の平均値が、９０％以上である
６  ：  正反射率の平均値が、８５％以上９０％未満である
５  ：  正反射率の平均値が、８０％以上８５％未満である
４  ：  正反射率の平均値が、７５％以上８０％未満である
３  ：  正反射率の平均値が、７０％以上７５％未満である
２  ：  正反射率の平均値が、６５％以上７０％未満である
１  ：  正反射率の平均値が、６５％未満である
上記評価結果を表１、２に示す。
【０１８２】
【表１】
0005747547.tif 000005
【０１８３】
【表２】
0005747547.tif 000006
【０１８４】
【表３】
0005747547.tif 000007
【０１８５】
表１、２より、本発明のフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置は、アンモニア性硝酸銀から銀を析出させた試料３３に比べて、初期の正反射率が高いことが分かる。試料３３は初期の性能が不十分だったので、湿熱環境下ＵＶ照射による評価は行わなかった。また、本発明のフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置は、ＵＶ吸収剤含有ハードコート層にＵＶ吸収剤を含有しない比較例に対し湿熱環境下ＵＶ照射後の正反射率も高く、湿熱環境下ＵＶ照射後の耐擦傷性試験においても優れた性能を有することが分かる。