(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一面側にペリクル膜が膜粘着層を介して粘着されたペリクルフレームの他面側に、前記ペリクルフレームの外周縁に沿ってマスク粘着層が形成されているペリクルを、前記マスク粘着層側を当接して載置する第１載置台が形成されている樹脂製の容器本体と、前記第１載置台に載置された前記ペリクルに当接することなく被覆し且つ前記容器本体の周縁部で嵌め合い係止される樹脂製の蓋体とから構成されるペリクル収納容器であって、
前記ペリクルが前記容器本体と同一樹脂からなる第１載置台に載置された状態で収納された前記ペリクル収納容器を、前記蓋体が下側となるように上下を逆転したとき、前記ペリクルが、前記マスク粘着層側が前記ペリクル収納容器に非接触状態で収納されるように、前記膜粘着層側で当接して載置される前記蓋体と同一樹脂からなる第２載置台が、前記蓋体に形成されていることを特徴とするペリクル収納容器。
【請求項２】
前記第１載置台及び前記第２載置台の各外周縁に沿って、前記ペリクルの位置決用ピンが周設されていることを特徴とする請求項１に記載のペリクル収納容器。
【請求項３】
前記マスク粘着層にセパレータが剥離可能に貼着されており、前記セパレータが前記容器本体の第１載置台に当接するように前記ペリクルが載置される請求項１又は請求項２に記載のペリクル収納容器。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載のペリクル収納容器を用い、前記容器本体の第１載置台に、前記マスク粘着層側を当接して載置した前記ペリクルを、その外周面に接触することなく被覆するように前記容器本体に前記蓋体を被着した後、前記蓋体の周縁部と前記容器本体の周縁部とで嵌め合い係止して、前記ペリクルを前記ペリクル収納容器内に収納し、
次いで、前記ペリクル収納容器を、前記蓋体が下側となるように上下を逆転して、前記膜粘着層側が当接するように前記ペリクルを前記蓋体の前記第２載置台に載置し、前記マスク粘着層側が前記ペリクル収納容器に非接触状態の前記ペリクルを保管することを特徴とするペリクルの保管方法。
【請求項５】
前記マスク粘着層にセパレータを剥離可能に貼着し、前記セパレータが前記容器本体の第１載置台に当接するように前記ペリクルを載置することを特徴とする請求項４に記載のペリクルの保管方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一面側にペリクル膜が貼着されたペリクルフレームの他面側に、そのペリクルフレームの外周縁に沿ってマスク粘着層が形成されているペリクルを収納するペリクル収納容器及びペリクル保管方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩや超ＬＳＩ等の半導体製造或は液晶ディスプレイ等の製造において、半導体ウエハー或いは液晶用原板に光を照射してパターンを作製するリソグラフィーの作業が行われる。この際に、フォトマスク或いはレチクルにゴミが付着していると、このゴミが光を吸収したり光を曲げてしまうために、転写したパターンが変形したり、エッジがガサツいたものとなる他、下地が黒く汚れたりする等の現象が発生することがある。かかる作業は通常クリーンルームで行われているが、それでもフォトマスクを常に清浄に保つことが難しいため、透明なペリクル膜がペリクルフレームに貼着されたペリクルが使用されている。このペリクルをフォトマスク上に載置して露光を行うことにより、異物はフォトマスクの表面には直接付着せず、ペリクル膜上に付着するため、リソグラフィーの際に、焦点をフォトマスクのパターン上に合わせておけば、ペリクル膜上の異物は転写に無関係となる。
【０００３】
かかるペリクルは、それ自体に異物が付着すると、フォトマスクへの異物付着にも繋がるため、高い清浄性が求められる。このため、その保管や輸送の際には、ペリクル収納容器が用いられる。かかるペリクル収納容器として、例えば下記特許文献１に記載されているものがある。具体的には、ペリクル枠の上端面にペリクル膜が張設され、下端面にマスク粘着層が形成され、且つこのマスク粘着層にライナーが剥離可能に貼着されたペリクルを収納する容器であって、底部に前記ペリクルが載置される載置台が形成された容器本体と、前記ペリクル枠の上端面に当接する当接部を有し、この当接部により前記ペリクルを下方に押しつけるように前記容器本体に取り付けられる蓋体とを具備するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−２４２４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載されたペリクル収納容器にペリクルを収納して保管や輸送に供しても、保管や輸送中にペリクルに異物が付着することを防止できる。更に、ペリクル収納容器に収納したペリクルは、その一部が容器本体と蓋体とに挟まれており、輸送中にペリクルが横ずれして発塵することも防止できる。
【０００６】
しかし、ペリクル収納容器に収納して所定期間保管したペリクルを、そのマスク粘着層によってフォトマスクに張り付けたとき、フォトマスクの歪みが問題になってきた。このため、本発明者等がフォトマスクの歪み発生原因について検討したところ、ペリクル収納容器に収納して保管したペリクルのマスク粘着層の平坦度が低下していることが、その発生原因の一つであることが判明した。
【０００７】
本発明は前記の課題を解決するためになされたもので、収納したペリクルを保管しても、そのマスク粘着層の平坦度を保持できるペリクル収納容器及びペリクル保管方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記の目的を達成するためになされた、特許請求の範囲の請求項１に記載されたペリクル収納容器は、一面側にペリクル膜が膜粘着層を介して粘着されたペリクルフレームの他面側に、前記ペリクルフレームの外周縁に沿ってマスク粘着層が形成されているペリクルを、前記マスク粘着層側を当接して載置する第１載置台が形成されている樹脂製の容器本体と、前記第１載置台に載置された前記ペリクルに当接することなく被覆し且つ前記容器本体の周縁部で嵌め合い係止される樹脂製の蓋体とから構成されるペリクル収納容器であって、前記ペリクルが前記容器本体と同一樹脂からなる第１載置台に載置された状態で収納された前記ペリクル収納容器を、前記蓋体が下側となるように上下を逆転したとき、前記ペリクルが、前記マスク粘着層側が前記ペリクル収納容器に非接触状態で収納されるように、前記膜粘着層側で当接して載置される前記蓋体と同一樹脂からなる第２載置台が、前記蓋体に形成されていることを特徴とする。
【０００９】
請求項２に記載されたペリクル収納容器は、請求項１に記載されたものであって、前記第１載置台及び前記第２載置台の各外周縁に沿って、前記ペリクルの位置決用ピンが周設されていることを特徴とする。
【００１０】
請求項３に記載されたペリクル収納容器は、請求項１又は請求項２に記載されたものであって、前記マスク粘着層にセパレータが剥離可能に貼着されており、前記セパレータが前記容器本体の第１載置台に当接するように前記ペリクルが載置されることを特徴とする。
【００１１】
請求項４に記載されたペリクルの保管方法は、請求項１又は請求項２に記載のペリクル収納容器を用い、前記容器本体の第１載置台に、前記マスク粘着層側を当接して載置した前記ペリクルを、その外周面に接触することなく被覆するように前記容器本体に前記蓋体を被着した後、前記蓋体の周縁部と前記容器本体の周縁部とで嵌め合い係止して、前記ペリクルを前記ペリクル収納容器内に収納し、次いで、前記ペリクル収納容器を、前記蓋体が下側となるように上下を逆転して、前記膜粘着層側が当接するように前記ペリクルを前記蓋体の前記第２載置台に載置し、前記マスク粘着層側が前記ペリクル収納容器に非接触状態の前記ペリクルを保管することを特徴とする。
【００１２】
請求項５に記載されたペリクルの保管方法は、請求項４に記載されたものであって、前記マスク粘着層にセパレータを剥離可能に貼着し、前記セパレータが前記容器本体の第１載置台に当接するように前記ペリクルを載置することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
一般的にペリクル収納容器は樹脂製であるため、ペリクルが載置されるペリクル収納容器の載置台の平坦度はペリクルのマスク粘着層の平坦度に比較して劣るものとなる。かかるペリクル収納容器の載置台に載置されたペリクルのマスク粘着層は、保管中に載置台の平坦度に倣って次第に変形し、その平坦度が低下する。
【００１４】
この点、本発明に係るペリクル収納容器は、その容器本体の第１載置部にマスク粘着層側を当接させて収納したペリクルを保管する際に、蓋体が上側となるようにペリクル収納容器の上下を逆転させて、ペリクルを蓋体の第２載置部に載置する。この状態のペリクルは、そのペリクル膜の貼着部側が蓋体の第２載置部に当接しているが、マスク粘着層はペリクル収納容器と非接触状態である。かかる非接触状態をペリクルの保管中に保持できる結果、保管が終了してペリクル収納容器から取り出されたペリクルのマスク粘着層の平坦度は、ペリクルの作製当初の平坦度を維持できる。その結果、ペリクルをフォトマスクに張り付けたとき、マスク粘着層の平坦度の低下に起因するフォトマスクの歪み可及的に小さくできる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に係るペリクル収納容器を形成する容器本体１２、蓋体１４及びペリクル１６の概略を説明する説明図である。
【図２】図１に示すペリクル１６を説明する部分拡大断面図である。
【図３】図１に示す容器本体１２の断面図及び正面図である。
【図４】図１に示すペリクル収納容器１０の蓋体１４の断面図及び蓋体１４の開口部側から見た正面図である。
【図５】図１に示す容器本体１２と蓋体１４とで形成したペリクル収納容器１０の部分断面図及びその部分拡大断面図である。
【図６】図５に示すペリクル収納容器１０の上下を逆転した状態を説明する部分断面図及びその部分拡大断面図である。
【図７】図１に示す容器本体１２及び蓋体１４の各載置台の平坦度を示すグラフである。
【図８】容器本体１２の載置部に載置されたペリクル１６に当接する当接部が形成された蓋体１０２を用いたペリクル収納容器１００を説明する部分断面図及び部分拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明を実施するための形態を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらの形態に限定されるものではない。
【００１７】
本発明に係るペリクル収納容器を構成する容器本体及び蓋体の一例を図１に示す。図１に示す容器本体１２及び蓋体１４は樹脂製であって、その周縁部で嵌め合い係止される。かかる容器本体１２と蓋体１４との間には、ペリクル１６が収納される。このペリクル１６は、その部分断面図である図２に示すように、四角形状のアルミニウム等の金属製のペリクルフレーム１６ａの一面側に透明なフッ素樹脂等のペリクル膜１６ｂが膜粘着層１６ｃによって貼着されている。更に、ペリクルフレーム１６ａの他面側に、フォトマスクに貼着するマスク粘着層１６ｄが形成されている。このマスク粘着層１６ｄは、その表面にセパレータ１６ｅが剥離可能に貼着されている。尚、容器本体１２と蓋体１４とは、ＡＢＳ樹脂（アクリルニトリルブタジエンスチレン樹脂）、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の合成樹脂シートを真空成型で形成したものや一箇所又は数箇所のゲートから金型内に樹脂を高速注入する射出成型で形成したものが用いられる。
【００１８】
かかる容器本体１２の断面図を図３（ａ）に示し、その正面図を図３（ｂ）に示す。図３（ａ）（ｂ）に示すように、容器本体１２は、四角形状であって、ペリクル１６のマスク粘着層１６ｄ側が載置される第１載置台１２ａが枠状に突出して形成されていると共に、第１載置台１２ａの外周縁に沿って複数個のペリクル１６の位置決用ピン１２ｂが周設されている。この容器本体１２に被着される蓋体１４の断面図を図４（ａ）に示し、その開口部側から見た正面図を図４（ｂ）に示す。図４（ａ）（ｂ）に示すように、蓋体１４は、四角形状であって、容器本体１２に被着したとき、容器本体１２の第１載置台１２ａと対向する位置に第２載置台１４ａが枠状に形成されている。かかる第２載置台１４ａの外周縁に沿って複数個のペリクル１６の位置決用ピン１４ｂが周設されている。
【００１９】
図３に示す容器本体１２と図４に示す蓋体１４とによって形成されたペリクル収納容器内にペリクル１６を収納する際には、図５（ａ）に示すように容器本体１２の第１載置台１２ａにペリクル１６を載置した後、ペリクル１６を被覆するように蓋体１４を容器本体１２に被着し、容器本体１２と蓋体１４との周縁部で嵌め合い係止して、ペリクル収納容器１０を形成する。形成されたペリクル収納容器１０では、その部分拡大断面図である図５（ｂ）に示すようにペリクル１６は、そのマスク粘着層１６ｄ側のセパレータ１６ｅが容器本体１２の第１載置台１２ａに当接して載置されている。この状態のペリクル１６は、蓋体１４とは非接触状態である。
【００２０】
図５に示すように容器本体１２の第１載置台１２ａ上にペリクル１６を載置した状態で保管すると、ペリクル１６のマスク粘着層１６ｄが第１載置台１２ａの平坦度に倣って次第に変形し、マスク粘着層１６ｄの平坦度が低下する。このため、図５に示すペリクル収納容器１０の上下を逆転し、図６（ａ）に示すように蓋体１４を下側とし、蓋体１４の第２載置台１４ａにペリクル１６を載置する。このように蓋体１４の第２載置台１４ａに載置したペリクル１６は、図６（ｂ）に示すようにペリクル１６の膜粘着層１６ｃ側が第２載置台１４ａに当接して載置される。このため、ペリクル１６のマスク粘着層１６ｄ側はペリクル収納容器１０に非接触状態とすることができる。このため、図６に示す状態でペリクル１６を保管することによって、保管中にマスク粘着層１６ｄ側が容器本体１２の第１載置台１２ａに当接することに因るマスク粘着層１６ｄの変形を防止でき、マスク粘着層１６ｄの平坦度をペリクル１６の作製時の状態を維持できる。
【００２１】
ところで、ペリクル１６をペリクル収納容器１０に収納する際に、膜粘着層１６ｃ側が蓋体１４の第２載置台１４ａに載置されるように、ペリクル１６を蓋体１４に載置することによって、ペリクル収納容器１０の上下を逆転する操作を不要にできる。しかしながら、一般的にペリクル１６のペリクル収納容器１０への収納作業及び取り出し作業は、ペリクル１６のマスク粘着層１６ｄ側が下側となるようにして行われている。このため、ペリクル１６の収納装置や取出装置は、ペリクル１６のマスク粘着層１６ｄ側が下側で各作業が行われることを前提として設計されており、その変更は至難のことである。この点、図１〜図６に示すペリクル収納容器１０及び保管方法によれば、従来のペリクル１６の収納装置や取出装置をそのまま使用できる。
【００２２】
図１〜図６に示すペリクル収納容器１０及び保管方法によれば、ペリクル収納容器１０に収納されたペリクル１６を所定期間保管しても、取り出されたペリクル１６のマスク粘着層１６ｄの平坦度を、ペリクル１６の作製時の平坦度を維持できる。このため、ペリクル１６を、そのマスク粘着層１６ｄによってフォトマスクに張り付けたときのフォトマスクの歪み発生という問題を解消できる。
【実施例】
【００２３】
以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００２４】
（実施例１）
ペリクル収納容器１０を形成する容器本体１２及び蓋体１４をポリカーボネート樹脂により製作した。この容器本体１２は、図３に示すように四角形状であって、ペリクル１６のマスク粘着層１６ｄ側が載置される第１載置台１２ａが枠状に突出して形成されていると共に、第１載置台１２ａの外周縁に沿って複数個のペリクル１６の位置決用ピン１２ｂが周設されている。また、蓋体１４は、図４に示すように四角形状であって、容器本体１２に被着したとき、容器本体１２の第１載置台１２ａと対向する位置に第２載置台１４ａが枠状に形成されている。この第２載置台１４ａにも、その外周縁に沿って複数個のペリクル１６の位置決用ピン１４ｂが周設されている。
【００２５】
図３に示す容器本体１２の第１載置台１２ａの平坦度と図４に示す蓋体１４の第２載置台１４ａの平坦度を測定した。この平坦度の測定結果を図７（ａ）（ｂ）に示す。図７（ａ）は容器本体１２の第１載置台１２ａの平坦度であり、図７（ｂ）は蓋体１４の第２載置台１４ａの平坦度である。この平坦度は、第１載置台１２ａと第２載置台１４ａとの各任意位置で測定した高さを、想定した仮想平面の高さからの変位として示した。図７（ａ）（ｂ）に示す測定ポイントのうち、１，１３，２３，３５の測定ポイントが各載置台のコーナ部であり、コーナ部とコーナ部との間の各測定ポイントは載置台の各辺中途部の測定ポイントである。図７（ａ）（ｂ）から判るように、容器本体１２及び蓋体１４の各載置台の各辺の中央部分が凸形状になっている。容器本体１２の第１載置台１２ａの仮想平面の高さからの変位の平均値は５３μｍであり、蓋体１４の第２載置台１４ａの仮想平面の高さからの変位の平均値は３４μｍであった。
【００２６】
この容器本体１２の第１載置台１２ａ上にペリクル１６を載置した。このペリクル１６は、四角形状のアルミニウム製のペリクルフレーム１６ａの一面側に透明なフッ素樹脂のペリクル膜１６ｂが膜粘着層１６ｃによって貼着されている。更に、ペリクルフレーム１６ａの他面側に、平坦度が１０μｍのマスク粘着層１６ｄが形成されている。このマスク粘着層１６ｄは、その表面にセパレータ１６ｅが剥離可能に貼着されている。容器本体１２の第１載置台１２ａに、マスク粘着層１６ｄ側のセパレータ１６ｅが当接している。このように容器本体１２の第１載置台１２ａに載置したペリクル１６を覆うように蓋体１４を容器本体１２に被着し、周縁部で嵌め合い係止してペリクル収納容器１０を形成した。ペリクル収納容器１０に収容されたペリクル１６は蓋体１４と非接触状態であった。
【００２７】
次いで、ペリクル収納容器１０の上下を逆転して蓋体１４を下側とした。蓋体１４の第２載置台１４ａに、膜粘着層１６ｃ側が当接してペリクル１６が載置されていた。このペリクル１６のマスク粘着層１６ｄ側のセパレータ１６ｅは、ペリクル収納容器１０と非接触状態であった。このように蓋体１４を下側にしたペリクル収納容器１０に収納されたペリクル１６を１ヶ月間保管した。その後、ペリクル収納容器１０を、容器本体１２が下側となるように上下を逆転して蓋体１４を開け、ペリクル１６を取り出した。セパレータ１６ｅを剥離してマスク粘着層１６ｄの平坦度を測定したところ、１０μｍとペリクル１６の作製時の平坦度を維持できた。
【００２８】
（比較例）
図８に示すように実施例１で用いた容器本体１２に、実施例１と同様にマスク粘着層１６ｄの平坦度が１０μｍのペリクル１６を載置した後、容器本体１２に蓋体１０２を被着してペリクル収納容器１００を形成した。この蓋体１０２は、ポリカーボネート樹脂製であり、図８に示すように容器本体１２に載置されたペリクル１６の膜粘着層１６ｃ側に当接する当接部１０４が形成されている。この状態で実施例１と同様にペリクル１６を１ヶ月間保管した。その後、ペリクル収納容器１０の蓋体１０２を開け、ペリクル１６を取り出した。セパレータ１６ｅを剥離してマスク粘着層１６ｄの平坦度を測定したところ、２０μｍと平坦度が悪化していた。
【産業上の利用可能性】
【００２９】
本発明に係るペリクル収納容器は、半導体装置用のペリクルの収納容器及び保管容器として用いることができ、半導体装置用のペリクルよりも大型の液晶用のペリクルの収納容器及び保管容器として用いることができる。
【符号の説明】
【００３０】
１０，１００はペリクル収納容器、１２は容器本体、１２ａは第１載置台、１２ｂ，１４ｂは位置決用ピン、１４，１０２は蓋体、１４ａは第２載置台、１６はペリクル、１６ａはペリクルフレーム、１６ｂはペリクル膜、１６ｃは膜粘着層、１６ｄはマスク粘着層、１６ｅはセパレータ、１０４は当接部である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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