(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェブ状の第一基材と、
前記第一基材上に第一塗布液を塗布して設けられた第一塗布膜と、
前記第一基材と前記第一塗布膜とを有する第二基材上に第二塗布液を塗布して設けられた第二塗布膜と、
を備えた積層フィルムにおいて、
前記第一塗布膜と異なる幅の前記第二塗布膜と、
前記第一塗布膜の両側縁に沿って前記第一塗布膜上に形成された第一突条対と、
第二塗布膜の両側縁に沿って前記第二塗布膜上に形成され、前記第一突条対よりも前記湿潤フィルムの幅方向での中央寄りと側端側とのいずれか一方に設けられた第二突条対とを備え、
前記第一突条対と前記第二突条対とは前記積層フィルムの幅方向での中央部より１μｍ以上高いことを特徴とする、積層フィルム。
【請求項２】
前記第一及び第二塗布液は、高分子液晶化合物，フッ素系配向制御剤，及び溶剤を有することを特徴とする、請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項３】
前記第一及び第二塗布膜は、その表面から深さ５００ｎｍまでの表層に総フッ素含有量の９０％以上のフッ素が偏析していることを特徴とする、請求項２に記載の積層フィルム。
【請求項４】
前記第一及び第二突条対の高さの差が３μｍ以下であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一つに記載の積層フィルム。
【請求項５】
前記第一及び第二突条対の間隔が１ｍｍ以上であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一つに記載の積層フィルム。
【請求項６】
前記第一及び第二塗布膜の膜厚は、１μｍ以上であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一つに記載の積層フィルム。
【請求項７】
前記第一及び第二塗布膜は、コレステリック相を示すことを特徴とする、請求項２〜６のいずれか一つに記載の積層フィルム。
【請求項８】
前記第一及び第二基材の表面エネルギーが４０ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一つに記載の積層フィルム。
【請求項９】
前記第一又は第二塗布液の表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４０ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一つに記載の積層フィルム。
【請求項１０】
前記第一及び第二塗布液の溶剤揮発後の粘度が０．５Ｐａ・ｓ以下であることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一つに記載の積層フィルム。
【請求項１１】
ウェブ状の第一基材上の第一塗布領域に第一塗布液を塗布して第一湿潤膜を得る第一塗布工程と、
前記第一湿潤膜から溶剤を蒸発させ第一乾燥膜を得る第一乾燥工程と、
前記第一乾燥膜を硬化させ第一塗布膜を得る第一硬化工程と、
前記第一基材と前記第一塗布膜とを有する第二基材上の前記第一塗布領域よりも内側の第二塗布領域に第二塗布液を塗布して第二湿潤膜を得る第二塗布工程と、
前記第二湿潤膜から溶剤を蒸発させ第二乾燥膜を得る第二乾燥工程と、
前記第二乾燥膜を硬化させ第二塗布膜を得る第二硬化工程と、
を有し、
前記第一及び前記第二基材の表面エネルギーが４０ｍＮ／ｍ以下であり、
前記第一又は第二塗布液の表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４０ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする、積層フィルムの製造方法。
【請求項１２】
前記第一及び第二塗布液は、高分子液晶化合物，フッ素系配向制御剤，及び溶剤を有し、
前記第一乾燥工程と前記第一硬化工程の間に第一配向工程と、
前記第二乾燥工程と前記第二硬化工程の間に第二配向工程と、
を有することを特徴とする、請求項１１に記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項１３】
前記第一及び第二塗布膜は、コレステリック相を示すことを特徴とする、請求項１２に記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項１４】
前記第一及び第二塗布液の溶剤揮発後の粘度が０．５Ｐａ・ｓ以下であることを特徴とする、請求項１１〜１３のいずれか一つに記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項１５】
前記第一塗布領域の端部と前記第二塗布領域の端部との間隔が１ｍｍ以上であることを特徴とする、請求項１１〜１４のいずれか一つに記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項１６】
前記第一及び第二塗布膜の膜厚は、１μｍ以上であることを特徴とする、請求項１１〜１５のいずれか一つに記載の積層フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層フィルム及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
薄い透明の積層フィルムは近年、自動車及び建材の窓用遮熱部材の光学反射部材、液晶ディスプレイの偏光板の保護膜、位相差板等の光学補償フィルム、プラスチック基板、写真用支持体、あるいは動画用セルや光学フィルタ、さらにはＯＨＰフィルムなどの光学材料として需要が増大している。
【０００３】
このような積層フィルムは、支持体となる例えばセルローストリアセテート（ＴＡＣ）などの透明な基材フィルムに成膜をすることによって得られる。主な成膜方法として、スパッタリングやプラズマＣＶＤなどの真空成膜法や、金属や高分子などの主成分に溶剤や各種の添加剤を加えた溶液を塗布し乾燥して成膜する塗布成膜法などが知られている。これらの成膜法によって、効率よく、高い生産性を確保して成膜を行うために、長尺な基材フィルムに連続的に成膜することが行われている。
【０００４】
特に最近、環境・エネルギーへの関心の高まりから省エネルギーに関する工業製品へのニーズは高く、その一つとして住宅及び自動車等の窓ガラスの遮熱、つまり日光による熱負荷を減少させるのに有効な、ガラス及びフィルムが求められている。このようなガラス及びフィルムは、太陽光スペクトルにおける可視光領域の太陽光線を透過し、赤外領域の太陽光線の透過を防ぐ特性が要求される。
【０００５】
このような遮熱用のガラス及びフィルムの特性を得る方法として、コレステリック液晶層を利用する方法が知られている。例えば、近赤外〜赤外域にて機能する同一回転方向の円偏光を与えるコレステリック液晶層を、λ／２板の両面に形成する方法が知られている（例えば特許文献１）。
【０００６】
特にこのような積層フィルムを製造する上で、成膜方法を実施する設備として、長尺な基材（フィルム）をロール状に巻回してなる供給ロールと、成膜済の基材をロール状に巻回する巻取りロールと、を用いる。いわゆるロール・ツー・ロール（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ）の成膜装置が知られている。このロール・ツー・ロールの成膜装置は、真空成膜法や塗布成膜法による成膜室に、供給ロールから巻取りロールまで長尺な基材を挿通し、供給ロールからの基材の送出しと巻取りロールによる成膜済基材の巻取りとを同期して行いつつ、成膜室において、搬送される基材に連続的に成膜を行う。
【０００７】
このように成膜したフィルムが巻取られる際に、巻取り時のフィルムの裏面と膜面との過度な接触や密着、塵埃により、膜面やフィルムに傷やシワなどのダメージが与えられてしまったり、フィルムの円周上に黒い帯が視認されたりという問題があった。また一方で、問題が起こらないように巻き取り時の張力を低くして巻き取る場合には、フィルム同士の保持が弱く横ズレが生じ、製品として問題となる場合があった。
【０００８】
このような現象を回避するため、連続的に搬送されるプラスチックフィルムをロール上に巻取る際、ナーリングと呼ばれるエンボス加工によりフィルムの両端部に微小凸部を付与して、巻取り時の横ズレ及び巻締まり防止や、巻取り時にフィルムの裏面と膜面との間に隙間を確保することで接触や密着による問題の発生を低減させることが知られている（特許文献２，３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特許第４１０９９１４号
【特許文献２】特許第３２２６１９０号
【特許文献３】特開２００２−２１１８０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上記効果を得るためには、ナーリングにより形成された凸部の高さは、塗布膜の膜厚よりも大きくする必要がある。しかし、ナーリングにより形成できる凸部の高さは、基材の厚みや剛性などに影響し限界があることから、膜厚がナーリングの凸部よりも大きい場合には上記効果が得られないという問題点がある。また、形成された凸部は、巻取り後の圧力で変形することが多く、高さにバラつきが生じて上記効果が得られないという問題点もある。さらに、ナーリングを形成するには新たに工程が増えることから、生産性の低下や製造コストの増加という問題点もある。
【００１１】
発明者の鋭意検討の結果、塗布成膜法を用いた場合において、基材及び塗布液にある一定の条件下において、両端部に突条が形成されることがわかった。また、この突条は条件の設定により制御できることがわかった。
【００１２】
本発明は上記課題を解決するためのものであり、この突条を制御することで、ナーリング工程を施すことなく、巻取り時の横ズレ及び巻締まり防止や、巻取り時にフィルムの裏面と膜面との間に隙間を確保し、フィルムが巻取られる際に、巻取り時のフィルムの裏面と膜面との過度な接触や密着、塵埃により、膜面やフィルムに傷やシワなどのダメージが与えられてしまったり、フィルムの円周上に黒い帯が視認されたりすることなく、また巻き取り時の張力を低くすることもなく、巻取ることができる積層フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するために、本発明は、ウェブ状の第一基材と、第一基材上に第一塗布液を塗布して設けられた第一塗布膜と、第一基材と第一塗布膜とを有する第二基材上に第二塗布液を塗布して設けられた第二塗布膜と、を備えた積層フィルムにおいて、第一塗布膜と異なる幅の第二塗布膜と、第一塗布膜の両側縁に沿って第一塗布膜上に形成された第一突条対と、第二塗布膜の両側縁に沿って第二塗布膜上に形成され、第一突条対よりも湿潤フィルムの幅方向での中央寄りと側端側とのいずれか一方に設けられた第二突条対とを備え、第一突条対と第二突条対とは積層フィルムの幅方向での中央部より１μｍ以上高いことを特徴とする。
【００１４】
第一及び第二塗布液は、高分子液晶化合物，フッ素系配向制御剤，及び溶剤を有することが望ましい。また、第一及び第二塗布膜は、その表面から深さ５００ｎｍまでの表層に総フッ素含有量の９０％以上のフッ素が偏析していることが望ましい。
【００１５】
第一及び第二突条対の高さの差が３μｍ以下であることが望ましい。また、第一及び第二突条対の間隔が１ｍｍ以上であることが望ましい。また、第一及び第二塗布膜の膜厚は、１μｍ以上であることが望ましい。また、第一及び第二塗布膜は、コレステリック相を示すことが望ましい。
【００１６】
また、第一及び第二基材の表面エネルギーが４０ｍＮ／ｍ以下であることが望ましい。また、第一又は第二塗布液の表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４０ｍＮ／ｍ以下であることが望ましい。また、第一及び第二塗布膜は、溶剤揮発後の粘度が０．５Ｐａ・ｓ以下であることが望ましい。
【００１７】
上記目的を達成するために、本発明の積層フィルムの製造方法は、ウェブ状の第一基材上の第一塗布領域に第一塗布液を塗布して第一湿潤膜を得る第一塗布工程と、第一湿潤膜から溶剤を蒸発させ第一乾燥膜を得る第一乾燥工程と、第一乾燥膜を硬化させ第一塗布膜を得る第一硬化工程と、第一基材と第一塗布膜とを有する第二基材上の第一塗布領域よりも内側の第二塗布領域に第二塗布液を塗布して第二湿潤膜を得る第二塗布工程と、第二湿潤膜から溶剤を蒸発させ第二乾燥膜を得る第二乾燥工程と、第二乾燥膜を硬化させ第二塗布膜を得る第二硬化工程と、を有し、第一及び第二基材の表面エネルギーが４０ｍＮ／ｍ以下であり、第一又は第二塗布液の表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４０ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする。
【００１８】
第一及び第二塗布液は、高分子液晶化合物，フッ素系配向制御剤，及び溶剤を有し、第一乾燥工程と第一硬化工程の間に第一配向工程と、第二乾燥工程と第二硬化工程の間に第二配向工程と、を有することが望ましい。また、第一及び第二塗布膜は、コレステリック相を示すことが望ましい。また、第一及び第二塗布液の溶剤揮発後の粘度が０．５Ｐａ・ｓ以下であることが望ましい。
【００１９】
第一塗布領域の端部と第二塗布領域の端部との間隔が１ｍｍ以上であることが望ましい。また、第一及び第二塗布膜の膜厚は、１μｍ以上であることが望ましい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の積層フィルムは、突条対がフィルムの幅方向側端部の両端付近にそれぞれ形成されているため、ナーリング工程を施すことなく、巻取り時の横ズレ及び巻締まり防止や、巻取り時にフィルムの裏面と膜面との間に隙間を確保することができるため、フィルムが巻取られる際に、巻取り時のフィルムの裏面と膜面との過度な接触や密着、塵埃により、膜面やフィルムに傷やシワなどのダメージが与えられてしまったり、フィルムの円周上に黒い帯が視認されたりすることなく、また巻き取り時の張力を低くすることもなく、巻取ることができる。
【００２１】
本発明の積層フィルムの製造方法は、突条対をフィルムの幅方向側端部の両端付近にそれぞれ形成するため、ナーリング工程を施すことなく、巻取り時の横ズレ及び巻締まり防止や、巻取り時にフィルムの裏面と膜面との間に隙間を確保することができるため、フィルムが巻取られる際に、巻取り時のフィルムの裏面と膜面との過度な接触や密着、塵埃により、膜面やフィルムに傷やシワなどのダメージが与えられてしまったり、フィルムの円周上に黒い帯が視認されたりすることなく、また巻き取り時の張力を低くすることもなく、巻取ることが可能な、積層フィルムを提供する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施形態に係る積層フィルムを説明する概略図である。
【図２】本発明の積層フィルム製造装置の概略を示す平面図である。
【図３】本発明の塗布工程に用いた塗布装置を示す概略図である。
【図４】本発明の塗布工程に用いた塗布ヘッドを示す概略図である。
【図５】本発明の乾燥工程に用いた乾燥装置を示す概略図である。（Ａ）はフィルムの幅方向に垂直な断面における断面図、（Ｂ）は（Ａ）のＢ−Ｂ´における断面図である。
【図６】本発明の配向工程に用いた加熱装置を示す概略図である。（Ａ）はフィルムの幅方向に垂直な断面における断面図、（Ｂ）は（Ａ）のＣ−Ｃ´における断面図である。
【図７】本発明の硬化工程に用いたＵＶ照射装置の概略図である。（Ａ）はフィルムの幅方向に垂直な断面における断面図、（Ｂ）は（Ａ）のＤ−Ｄ´における断面図である。
【図８】条件１における、塗布液が塗布膜となるまでの形状変化を説明する概略図である。
【図９】条件２における、塗布液が塗布膜となるまでの形状変化を説明する概略図である。
【図１０】条件３における、塗布液が塗布膜となるまでの形状変化を説明する概略図である。
【図１１】突条対が形成される条件をマップ上に示した概略図である。
【図１２】本発明における積層フィルムの第二塗布膜の表面をＥＳＣＡにより深さ方向にフッ素を分析した結果を示すグラフである。
【図１３】本発明における積層フィルムの第一，第二塗布層及び基材フィルムの表面形状を膜厚計を用いて測定したプロファイルである。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
（積層フィルム）
図１に示すように、積層フィルム２は、基材フィルム１０に第一塗布層１１と第二塗布層１２と第三塗布層１３とを形成した構造を有しており、積層フィルム２の幅方向側端部の両端付近に第一突条対１６及び第二突条対１７を有している。本発明における積層フィルム２は、図１の例のみに限らず、幅方向側端部の両端付近に第一突条対１６及び第二突条対１７を有していればどのような形態であってもかまわない。
【００２４】
第一突条対１６を形成する要因となる塗布層を第一塗布膜、第二突条対１７を形成する要因となる塗布層を第二塗布膜、とここでは呼ぶこととする。第一塗布膜の原料となる塗布液を第一塗布液、第二塗布膜の原料となる塗布液を第二塗布液、とし、第一塗布液を塗布する前の基材を第一基材、第二塗布液を塗布する前の基材を第二基材、とする。
【００２５】
図１（Ａ−１），（Ａ−２），（Ａ−３）においては、それぞれ第一塗布層１１と第二塗布層１２とが第一及び第二塗布膜である。また、図１（Ｂ−１），（Ｂ−２），（Ｂ−３）においては、それぞれ第一塗布層１１と第三塗布層１３とが第一及び第二塗布膜である。また、図１（Ｃ−１），（Ｃ−２），（Ｃ−３），（Ｃ−４），（Ｃ−５），（Ｃ−６）においては、それぞれ第二塗布層１２と第三塗布層１３とが第一及び第二塗布膜である。積層フィルム２は、その幅方向側端部の両端付近に第一突条対１６及び第二突条対１７を有していればよく、いかなる他の塗布層及び他の成膜手段による成膜層が別途形成されていても構わない。
【００２６】
図１に示す積層フィルム２は、その幅方向側端部の両端付近にある第一突条対１６及び第二突条対１７が、積層フィルム２の中央付近の高さより少なくとも１μｍ以上高いことを特徴としている。また、第一突条対１６と第二突条対１７との高さの差は１μｍ以下であることが望ましく、第一突条対１６と第二突条対１７との間隔が１ｍｍ以上であることが望ましい。
【００２７】
以後、基材フィルム１０に表面エネルギーが４０ｍＮ／ｍであるＴＡＣを用いた実施形態について説明するため、第一塗布層１１には突条対は形成されない。そのため、以後、図１（Ｃ−１）の積層フィルム２について発明を実施するための形態を記載するが、図１の（Ｃ−１）以外の積層フィルム２について発明については、適宜設計変更を加えることで実施が可能である。この場合においては、第一塗布層１１は突条対を持たない層であり、第二塗布層１２が第一突条対１６を形成する要因となる塗布層を第一塗布膜であり、第三塗布層１３が第二突条対１７を形成する要因となる塗布層を第二塗布膜である。また、基材フィルム１０に第一塗布層１１を塗布したものは第一基材１１Ａである。
【００２８】
（積層フィルム製造装置）
図２に示すように、積層フィルム製造装置２０は、成膜装置２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃを有している。成膜装置２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃはそれぞれ、高分子液晶化合物，フッ素系配向制御剤，及び溶剤を含有する塗布液を基材に塗布して湿潤層を形成する塗布装置２４Ａ，２４Ｂ，２４Ｃと、湿潤層から溶剤を蒸発させて乾燥層を形成する乾燥装置２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃと、乾燥層において高分子液晶化合物を配向させて配向層を形成する加熱装置２８Ａ，２８Ｂ，２８Ｃと、配向層にＵＶを照射して硬化させ塗布層を形成するＵＶ照射装置３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃと、を備えている。
【００２９】
この積層フィルム製造装置２０は、ロール・ツー・ロールによって塗布により成膜する装置で、帯状の基材フィルム１０は供給軸３２に供給ロール３４として装填され、帯状方向に搬送されつつ塗布により成膜される。成膜された積層フィルム２が巻取り軸３６に巻取りロール３８として巻取られる。また、フィルムが成膜装置２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃを安定して通過できるように、搬送ローラ４０が適宜設けられている。
【００３０】
図３，図４に示すように、塗布装置２４Ｂは、第一塗布液を第一基材１１Ａに塗布し第一湿潤層１２Ａを形成する塗布ヘッド４２と、塗布液を塗布ヘッド４２に供給する塗布液供給タンク４４と、塗布ヘッド４２と塗布液供給タンク４４とを接続する塗布液供給ライン４６と、を有する。塗布ヘッド４２には、塗布液供給ライン４６より塗布液を供給する塗布用供給口４２Ａと、塗布液を満遍なく基材に塗布する隘路な流路である塗布スリット４２Ｂと、塗布用供給口４２Ａより供給された塗布液を塗布スリット４２Ｂへ供給する前に一時的に貯蔵する塗布用ポケット４２Ｃと、が設けられている。塗布スリット４２Ｂは基材の経路側を向いて基材に近い位置に設置される。塗布装置２４Ａ，２４Ｃも塗布装置２４Ｂと同様であるため、説明を省略する。
【００３１】
図５（Ａ）（Ｂ）に示すように、乾燥装置２６Ｂは、第一基材１１Ａと第一湿潤層１２Ａからなる第一湿潤フィルム１２Ｂの経路と、第一湿潤フィルム１２Ｂの第一塗布液を塗布した側に熱風を当てる熱風装置４８とが設置されており、下部に溶剤を回収する溶剤回収装置５０が備え付けられている。また、乾燥装置２６Ｂ内には温度や湿度などの環境を調節する調節器（図示なし）が備え付けられており、第一湿潤層を乾燥させて第一巻早々を形成するのに最適な環境に調節されている。乾燥装置２６Ｂから、第一乾燥フィルム１２Ｃが送り出される。乾燥装置２６Ａ，２６Ｃも乾燥装置２６Ｂと同様であるため、説明を省略する。
【００３２】
図６（Ａ）（Ｂ）に示すように、加熱装置２８Ｂは、第一乾燥フィルム１２Ｃの経路と、第一乾燥フィルム１２Ｃを厚さ方向から加熱するヒータ５２が設置されている。また、加熱装置２８Ｂ内には温度や湿度などの環境を調節する調節器（図示なし）が備え付けられており、第一乾燥層において高分子液晶化合物を配向させて第一配向層を形成するのに最適な環境に調節されている。加熱装置２８Ｂから、第一配向フィルム１２Ｄが送り出される。加熱装置２８Ａ，２８Ｃも加熱装置２８Ｂと同様であるため、説明を省略する。
【００３３】
図７（Ａ）（Ｂ）に示すように、ＵＶ照射装置３０Ｂは、第一配向フィルム１２Ｄの経路と、第一配向フィルム１２Ｄの第一塗布液を塗布した側にＵＶを照射するＵＶ照射ランプ５４が設置されている。また、ＵＶ照射装置３０Ｂ内には温度や湿度などの環境を調節する調節器（図示なし）が備え付けられており、第一配向層を硬化させ第一塗布膜を形成するのに最適な環境に調節されている。加熱装置２８Ｂから、第一硬化フィルム１２Ｅが送り出される。ＵＶ照射装置３０Ａ，３０ＣもＵＶ照射装置３０Ｂと同様であるため、説明を省略する。
【００３４】
（塗布液）
本発明において、第一塗布層１１〜第三塗布層１３を形成する塗布液には、いずれも１種類以上の重合性液晶化合物、配向制御剤、重合開始剤、キラル剤、溶媒を有する。それぞれ、以下に示すような化合物を用いることが可能である。
【００３５】
本発明において、重合性液晶化合物には、棒状ネマティック液晶化合物などのような棒状の硬化性コレステリック液晶化合物が用いられる。例えば、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が用いられる。
【００３６】
また、重合性基をコレステリック液晶化合物に導入することで得られる重合性コレステリック液晶化合物を用いることもできる。重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、及びアジリジニル基が含まれ、その中でも不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。重合性コレステリック液晶化合物が有する重合性基の個数は、好ましくは１〜６個、より好ましくは１〜３個である。重合性コレステリック液晶化合物の例は、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物が含まれ、２種類以上の重合性コレステリック液晶化合物を併用してもかまわない。
【００３７】
これらの重合性液晶化合物のコレステリック相になる温度範囲は、２０℃〜１５０℃である。そのため、乾燥装置２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃにおける温度が、このコレステリック相になる温度の上限を超えない範囲で、熱風装置４８などの条件を設定することができる。本実施形態においては、加熱工程における温度を８５度に設定した。
【００３８】
本発明において、配向制御剤には、特開２００５−０９９２４８号公報の段落００１６〜段落００５０に記載されているような化合物などが用いられる。例えば、化１に記載の化合物が用いられる。なお、これらの化合物に制限されるものではなく、また、これらと同様の機能を有する化合物を単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもかまわない。
【００３９】
【化１】
0005774452.tif 000002
【００４０】
本発明において、紫外線照射により重合反応を進行させる態様では、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。例えば、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が用いられる。なお、これらの化合物に制限されるものではなく、また、これらと同様の機能を有する化合物を単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもかまわない。
【００４１】
本発明において、キラル剤には、特開２００２−１７９６６８号公報の段落００５７〜段落００９６に記載されているような水平配向剤が用いられる。例えば、化２に記載の化合物が用いられる。なお、これらの化合物に制限されるものではなく、また、これらと同様の機能を有する化合物を単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもかまわない。
【００４２】
【化２】
0005774452.tif 000003
【００４３】
本発明において、溶媒には特に制限はなく、硬化性コレステリック液晶化合物を溶解させる公知の溶剤を用いることができる。例えば、ケトン類（アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）などが用いられる。なお、これらの化合物に制限されるものではなく、また、これらと同様の機能を有する化合物を単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもかまわない。
【００４４】
（突条対形成メカニズム）
以下に、第一基材１１Ａ上に第一湿潤層１２Ａを塗布する際の第一湿潤層１２Ａの形状の形成メカニズムについて説明する。第一湿潤層１２Ａの形状は、式１で表現されるエネルギーＥが最小となるように定められる。なお、単位面積当たりの第一基材１１Ａと大気との界面エネルギーを第一基材１１Ａの表面エネルギーと称し、単位面積当たりの第一湿潤層１２Ａと大気との界面エネルギーを第一湿潤層１２Ａの表面張力と称する。また、表面エネルギー及び表面張力という言葉は、これらと同様に定義する。
【００４５】
【数１】
0005774452.tif 000004
【００４６】
式１の第１項と第２項は、それぞれ第一基材１１Ａと大気，第一基材１１Ａと第一湿潤層１２Ａの間における界面エネルギー量を示しており、式１の第３項と第４項は、それぞれ第一湿潤層１２Ａと大気の間における界面エネルギーと第一湿潤層１２Ａの重力位置エネルギーを示している。式１より、系を決定する因子は３つの界面エネルギーと重力位置エネルギーと、により構成されているといえる。
【００４７】
第一基材１１Ａと大気が触れる面積と、第一基材１１Ａと第一湿潤層１２Ａが触れる面積と、の合計は第一湿潤層１２Ａの形状に依存せず一定値であるため、式２が成立する。
【００４８】
【数２】
0005774452.tif 000005
【００４９】
これより、エネルギーＥは次のように二つに分けて式３，式４として考えることが可能となる。
【００５０】
【数３】
0005774452.tif 000006
【００５１】
式２を考慮すれば、式３については大きくは濡れ角の要素などが第一湿潤層１２Ａの形状の決定に寄与することがわかる。これより、以下では濡れ角が９０度より大きい系をＡ、９０度の系をＢ、９０度より小さい系をＣとして場合分けする。
【００５２】
そのため、濡れ角以外の他の第一湿潤層１２Ａの形状の要素に関しては、式４におけるＥ２について考慮すればいいことがわかる。そこで、以下の式５〜式７に示す条件に分けて、第一湿潤層１２Ａの形状の決定プロセスについて説明する。
【００５３】
【数４】
0005774452.tif 000007
【００５４】
式５の条件下における第一湿潤層１２Ａの形状の決定プロセスを、図８を用いて説明する。式５の条件から、第一湿潤層１２Ａの塗布直後の形状は、第一湿潤層１２Ａと大気との界面エネルギーを最小にするように決定される。つまり、第一湿潤層１２Ａと大気との接触面積を最小にするように決定される。そのため、第一湿潤層１２Ａの塗布直後の形状は、それぞれ濡れ角が９０度より大きい系，９０度の系，９０度より小さい系において、それぞれ図８（Ａ−１），図８（Ｂ−１），図８（Ｃ−１）に示すようになる。
【００５５】
第一湿潤層１２Ａの両端部が最も外気に触れている面積が大きいために効率よく溶剤が飛ばされるため、第一湿潤層１２Ａの両端部が乾燥しやすい。そのため、図８（Ａ−１），図８（Ｂ−１），図８（Ｃ−１）のそれぞれにおいて、図８（Ａ−２），図８（Ｂ−２），図８（Ｃ−２）のそれぞれに示すように、第一湿潤層１２Ａの両端部に第一初期乾燥領域１２ＡＳが形成される。
【００５６】
第一初期乾燥領域１２ＡＳが形成されると、第一湿潤層１２Ａは、第一基材１１Ａだけでなく第一初期乾燥領域１２ＡＳに対しても適切な濡れ角を形成するように、なおかつ式１に示すエネルギーＥが最小となるように、形状を変化させる可能性がある。しかし、式５の条件下によれば、第一湿潤層１２Ａと大気との接触面積を最小にするように決定されることから、図８（Ａ−３），図８（Ｂ−３），図８（Ｃ−３）のそれぞれに示すように、実質的に第一湿潤層１２Ａの形状はほとんど変化しないことがわかる。つまり、式５の条件化においては、突条対は形成されないといえる。
【００５７】
式６の条件下における第一湿潤層１２Ａの形状の決定プロセスを、図９を用いて説明する。式６の条件から、第一湿潤層１２Ａの塗布直後の形状は、第一湿潤層１２Ａの重力位置エネルギーを最小にするように決定される。そのため、第一湿潤層１２Ａの塗布直後の形状は、それぞれ濡れ角が９０度より大きい系，９０度の系，９０度より小さい系において、それぞれ図９（Ａ−１），図９（Ｂ−１），図９（Ｃ−１）に示すように、極端に濡れ広がった形状となる。
【００５８】
第一湿潤層１２Ａの両端部が最も外気に触れている面積が大きいために効率よく溶剤が飛ばされるため、第一湿潤層１２Ａの両端部が乾燥しやすい。そのため、図９（Ａ−１），図９（Ｂ−１），図９（Ｃ−１）のそれぞれにおいて、図９（Ａ−２），図９（Ｂ−２），図９（Ｃ−２）のそれぞれに示すように、第一湿潤層１２Ａの両端部に第一初期乾燥領域１２ＡＳが形成される。
【００５９】
第一初期乾燥領域１２ＡＳが形成されると、第一湿潤層１２Ａは、第一基材１１Ａだけでなく第一初期乾燥領域１２ＡＳに対しても適切な濡れ角を形成するように、なおかつ式１に示すエネルギーＥが最小となるように、形状を変化させる可能性がある。しかし、式６の条件下によれば、第一湿潤層１２Ａの重力位置エネルギーを最小にするように決定されることから、図９（Ａ−３），図９（Ｂ−３），図９（Ｃ−３）のそれぞれに示すように、実質的に第一湿潤層１２Ａの形状はほとんど変化しないことがわかる。つまり、式６の条件化においては、突条対は形成されないといえる。
【００６０】
式７の条件下における第一湿潤層１２Ａの形状の決定プロセスを、図１０を用いて説明する。式７の条件から、第一湿潤層１２Ａの塗布直後の形状は、第一湿潤層１２Ａと大気との接触面積を最小にしようとする傾向と、第一湿潤層１２Ａの重力位置エネルギーを最小にしようとする傾向と、のバランスによって、式１におけるエネルギーＥを最小にするように決定される。そのため、第一湿潤層１２Ａの塗布直後の形状は、それぞれ濡れ角が９０度より大きい系，９０度の系，９０度より小さい系において、それぞれ図１０（Ａ−１），図１０（Ｂ−１），図１０（Ｃ−１）に示すように、式５の条件と式６の条件の中間の形状となる。
【００６１】
第一湿潤層１２Ａの両端部が最も外気に触れている面積が大きいために効率よく溶剤が飛ばされるため、第一湿潤層１２Ａの両端部が乾燥しやすい。そのため、図１０（Ａ−１），図１０（Ｂ−１），図１０（Ｃ−１）のそれぞれにおいて、図１０（Ａ−２），図１０（Ｂ−２），図１０（Ｃ−２）のそれぞれに示すように、第一湿潤層１２Ａの両端部に第一初期乾燥領域１２ＡＳが形成される。
【００６２】
第一初期乾燥領域１２ＡＳが形成されると、第一湿潤層１２Ａは、第一基材１１Ａだけでなく第一初期乾燥領域１２ＡＳに対しても適切な濡れ角を形成するように、なおかつ式１に示すエネルギーＥが最小となるように、形状を変化させる可能性がある。第一湿潤層１２Ａと第一初期乾燥領域１２ＡＳとの濡れ角は実質０度であることから、第一湿潤層１２Ａの重力位置エネルギーを最小にしようとする傾向と、のバランスによって式１におけるエネルギーＥを最小にするような解が変化するため、図１０（Ａ−３），図１０（Ｂ−３），図１０（Ｃ−３）のそれぞれに示すように、第一湿潤層１２Ａの形状は第一初期乾燥領域１２ＡＳの影響を受けて変化する。この結果、突条対が形成される。つまり、式７の条件化においてのみ、突条対は形成されるといえる。特に、図１０の（Ｂ−１），（Ｂ−２），（Ｂ−３）の条件が、突条対がほぼ垂直方向に発生する条件である。
【００６３】
図１１に示すように、本発明において高分子液晶化合物，フッ素系配向制御剤，及び溶剤を用いた系は、おおよそ領域５８の条件を満たす。そのうち、おおよそ領域６０の条件を満たすとき、つまり図１０（Ｂ−１），（Ｂ−２），（Ｂ−３）の条件を満たすときが、突条対がほぼ垂直方向に発生する条件であり、本発明を実施する上で最も好ましい条件である。そのため、領域５８内においては、できるだけ第一基材１１Ａの表面エネルギーを小さく設計することで矢印６２に従って条件が移行し、突条対がほぼ垂直方向に発生しやすくなる。また、同様に、できるだけ第一湿潤層１２Ａの表面張力を大きく設計することで、矢印６４に従って条件が移行し、突条対がほぼ垂直方向に発生しやすくなる。また、第一湿潤層１２Ａの膜厚を増加させることで、突条対の高さを高くすることができる。なお、第一基材１１Ａ上における第一湿潤層１２Ａに形状決定のメカニズムついてここでは説明したが、これに限ることなく、全ての基材上における湿潤層の形状決定に適用できる。
【００６４】
次に、本発明の作用を説明する。図２に示すように、積層フィルム製造装置２０において、供給軸３２に装填された供給ロール３４から供給された基材フィルム１０に対し、成膜装置２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃにより、それぞれ第一塗布層１１，第二塗布層１２，第三塗布層１３が順次形成され、成膜された積層フィルム２が巻取り軸３６に巻取りロール３８として巻取られる。以下、第一塗布膜である第二塗布層１２の形成について詳しく記載するが、第一塗布層１１及び第三塗布層１３の形成についてもほぼ同等の工程によってなされるため、説明は省略する。
【００６５】
図３，図４に示すように、塗布装置２４Ｂにおいて、成膜装置２２Ａから供給された第一基材１１Ａに対し、塗布液供給タンク４４から塗布液供給ライン４６を経て塗布用供給口４２Ａから塗布ヘッド４２に供給された第一塗布液が、塗布用ポケット４２Ｃに一旦貯蔵され、塗布用スリットより塗布されることで、第一湿潤層１２Ａが形成される。
【００６６】
図５に示すように、第一基材１１Ａ上に第一湿潤層１２Ａが塗布された第一湿潤フィルム１２Ｂにおいて、乾燥装置２６Ｂに備え付けられた熱風装置４８より第一湿潤膜１２Ａに含有される溶剤が蒸発し、第一乾燥フィルム１２Ｃを得る。同時にこの溶剤は吸着回収装置５０によって回収され、再利用される。
【００６７】
第一湿潤層１２Ａの両端部が最も外気に触れている面積が大きいために効率よく溶剤が飛ばされるため、第一湿潤層１２Ａの両端部が乾燥しやすい。そのため、式７の条件を満たすように第一基材１１Ａの表面エネルギー及び第一湿潤層１２Ａの表面張力を設計し、乾燥装置２６Ｂの乾燥条件を調整することで、図１０（Ｂ−３）に示すように本発明に係る積層フィルムに要求する第一突条対１６を有する形状の第一乾燥層を有する第一乾燥フィルム１２Ｃ得ることが可能である。
【００６８】
高分子液晶化合物，フッ素系配向制御剤，及び溶剤を有する塗布液を用いる場合、基材の表面エネルギーが４０ｍＮ／ｍ以下であり、塗布液の表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４０ｍＮ／ｍ以下であるため、図１０（Ｂ−１），（Ｂ−２），（Ｂ−３）の条件を満たす系となっている。そのため、突条対を有する塗布層を形成する場合、例えば本実施例では第二塗布層１２及び第三塗布層１３にはこのような条件で成膜を行い、突条対を有さない塗布層を形成する場合、例えば本実施例では第一塗布層１１にはこれを満たさない条件で成膜を行う必要がある。
【００６９】
また、高分子液晶化合物，フッ素系配向制御剤，及び溶剤を有する塗布液を用いる場合、フッ素系配向制御剤に用いられる有機化合物の方がフッ素を含有しない他の有機物よりも表面張力が低いことから、フッ素が表面付近に偏在する。このため、フッ素系配向制御剤を用いる場合には突条対の制御がしやすくなる。また、フッ素系有機物の方がフッ素を含有しない有機物よりも軟らかいため（例えば、ロックウェル硬さ試験をスケールＲの試験条件で行った際、ポリ四フッ化エチレンが５８程度、ポリフッ化エチレン・プロピレンが２５程度であるのに対し、ポリプロピレンが９０〜９５程度である）、第一及び第二突条対１６，１７は基材フィルム１０の裏側よりも少し軟らかい構造となる。このため、フィルムが巻取られる際に、巻取り時のフィルムの裏面と膜面との過度な接触や密着、塵埃により、膜面やフィルムに傷やシワなどのダメージが与えられてしまったり、フィルムの円周上に黒い帯が視認されたりすることなく、また巻き取り時の張力を低くすることもなく、巻取ることができる。
【００７０】
図６に示すように、乾燥装置２６Ｂを通過した第一乾燥フィルム１２Ｃにおいて、加熱装置２８Ｂに備え付けられたヒータ５２により第一乾燥層に含有される高分子液晶化合物がコレステリック液晶層となるように配向される。加熱装置２８Ｂはフィルム幅方向に温度差が発生しにくいように設計されているため、配向させるのに適している。この配向条件は、各材料に応じて、赤外領域の太陽光線の透過を防ぐ特性を有するコレステリック液晶層となるように調整されることで、所望の特性を有する第一配向層を有する第一配向フィルム１２Ｄを得る。なお、塗布液に高分子液晶化合物を用いない場合は、加熱装置２８Ｂによるこの配向工程は必要ない。
【００７１】
また、塗布液の溶剤揮発後の粘度が０．５Ｐａ・ｓ以下であることが望ましい。この場合、加熱装置２８Ｂにおける温度下で粘度が低下し、第一基材１１Ａに対して第一乾燥層が微妙に弾く様に流動し、突条対の高さが上昇する現象が起きるからである。
【００７２】
図７に示すように、加熱装置２８Ｂを通過した第一配向フィルム１２Ｄにおいて、ＵＶ照射装置３０Ｂによりフィルム上部よりＵＶ照射が行われ、第一配向層が硬化し、第一基材１１Ａの上に第二塗布層１２が形成される。これにより、第一硬化フィルム１２Ｅを得る。
【００７３】
第二塗布層１１と同様にして、成膜装置２２Ａ，２２Ｃにより第一塗布層１１，第三塗布層１３が形成される。第一塗布層１１，第二塗布層１２，第三塗布層１３は、その厚さが１μｍ以上であることが望ましい。この場合、赤外領域の太陽光線の透過を防ぐ特性を有する。加えて、第一あるいは第二突条対の高さの差が３μｍ以下であり、それらの間隔が１ｍｍ以上であることが望ましい。これらの場合、第一あるいは第二突条対の形状が、巻取り時の横ズレ及び巻締まり防止や巻取り時にフィルムの裏面と膜面との間に隙間を確保できる形状となり、巻取り時のフィルムの裏面と膜面との接触や密着及びフィルムに付着した塵埃及び横ズレや巻締まりにより、膜面やフィルムに傷やシワなどのダメージが与えられてしまったり、フィルムの円周上に黒い帯が視認されたりすることがないように、フィルムを巻取ることが可能となる。
【００７４】
このようにして得られた図１（Ｃ−１）に示すような積層フィルム２において、第二塗布膜１３の表面をＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ  ｆｏｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｓ、Ｘ線光電子分光）によりアルゴンイオンで数ｎｍ／ｍｉｎ．のエッチングレートで厚み方向の元素分析を行って算出を行ったところ、図１２のようなフッ素の分析結果が得られた。図１２に示すように、第二塗布膜１３の表面から深さ５００ｎｍまでの表層に総フッ素含有量の９０％以上のフッ素が偏析していることがわかった。また、同様の積層フィルム２において、突条対を有する端部の片側において、膜厚計を用いてその形状を測定したところ、図１３に示すようなプロファイルが得られた。なお、第二塗布膜１３に限らず、フッ素系配向制御剤を用いた全ての塗布層においてほぼ同様のフッ素の偏析の傾向が見られた。
【００７５】
なお、本実施形態においては、第一塗布層１１は突条対を持たない層であり、第二塗布層１２が第一突条対１６を形成する要因となる塗布層を第一塗布膜であり、第三塗布層１３が第二突条対１７を形成する要因となる塗布層を第二塗布膜であるとしたが、これに限ることはなく、第一塗布層１１，第二塗布層１２，第三塗布層１３のうちいずれか二つの膜において突条対が形成されれば十分であり、その組み合わせは図１に示すようにいずれの組み合わせであっても構わない。ただし、第一塗布層１１を第一塗布膜とする場合には、第一基材となる基材フィルム１０の表面エネルギーが４０ｍＮ／ｍよりも小さいものを選ぶ必要がある。
【００７６】
また、第一塗布層１１，第二塗布層１２，第三塗布層１３の塗布幅は、例えば図１（Ａ−１）（Ｂ−１）（Ｃ−１）に示すように、塗布幅が大きい順に第一塗布層１１，第二塗布層１２，第三塗布層１３となることが望ましい。この場合が、第一及び第二突条対の制御が容易になる場合だからである。
【００７７】
本実施形態では、基材フィルム１０と三層の塗布層１１，１２，１３からなる形態について説明したが、本発明はこれに限ることなく、塗布層が二層のみであってもかまわないし、例えば突条対を形成しやすいように基材の表面エネルギーの条件を有利にするために塗布層を増やして合計の塗布層が四層以上としても、積層フィルム２が二つの突条対を幅方向側端部に有する構造であればかまわない。また、例えば塗布層を四層以上とするのと同等の目的で、基材フィルム１０上や各塗布層上に、真空成膜プロセスなどで形成されるいかなる層を設けてもかまわない。また、本実施形態では、フィルムを遮熱用の積層フィルムとするため、以下の実施例に示すように右円偏光反射層を２層と左円偏向反射層を１層とを設けたが、反射特性向上を目的として塗布層を適宜追加してもかまわない。
【実施例】
【００７８】
次に、本発明の実施例を説明する。以下に実施例と比較例（なお比較例は公知技術というわけではない）を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００７９】
本実施例及び本比較例は、さまざまな条件において、基材フィルム１０上に、第一塗布層１１，第二塗布層１２，第三塗布層１３を形成して積層フィルムを得、その積層フィルムを巻取り軸３６で巻取り、その時の状況について以下の基準に従って評価したものである。
１．巻取り評価
○：巻取り形状変形なし
△：一部巻取り形状変形あり
×：全体的に巻取り形状変形あり
２．横ズレ評価
○：横ズレなし
△：一部横ズレあり
×：全体的に横ズレあり
【００８０】
なお、実施例及び比較例において、基材フィルム１０には厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ、富士フイルム株式会社製）を用いた。また、全ての実施例及び比較例において、フィルムの搬送速度は１０ｍ／ｍｉｎとし、乾燥工程における乾燥時間は３０秒間とし、加熱工程における加熱温度は８５度とし加熱時間は４分間とした。また、ＵＶ照射工程では、装置内の雰囲気を窒素置換して酸素濃度を３００ｐｐｍとし、温度を３０℃に設定して、アイグラフィック製メタルハライドランプにて出力を調整して５００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ照射し、高分子液晶化合物の配向相を硬化させた。
【００８１】
また、全ての塗布層に対して、高分子液晶化合物，フッ素系配向制御剤，及び溶剤を有する塗布液（Ａ）及び塗布液（Ｂ）を用いた。塗布液（Ａ）及び塗布液（Ｂ）の組成は、それぞれ表１及び表２に示す組成である。
【００８２】
【表１】
0005774452.tif 000008
【００８３】
【表２】
0005774452.tif 000009
【００８４】
また、各塗布層の形成に用いた塗布液の組み合わせを、以下の表３に示す。表３には、各層の反射特性及び反射波長のピークも合わせて示した。
【００８５】
【表３】
0005774452.tif 000010
【００８６】
本実施例の実施条件及び評価結果を表４に、本比較例の実施条件及び評価結果を表５に示す。
【００８７】
【表４】
0005774452.tif 000011
【００８８】
【表５】
0005774452.tif 000012
【００８９】
表４に示すように、高さが１μｍ以上で高さの差が３μｍ以下である第一及び第二突条対１６，１７を有する積層フィルム２については、巻取り評価と横ズレ評価の双方においてよい結果が得られた。一方、表５に示すように、高さが１μｍ以上の第一突条対のみ有する積層フィルムにおいては、巻取り評価と横ズレ評価の双方においてまずまずの結果が得られた。高さが１μｍ以上の突条対を有さない積層フィルムにおいては、巻取り評価においてまずまずの結果が、横ズレ評価においては悪い結果が得られた。
【００９０】
これより、高さが１μｍ以上で高さの差が３μｍ以下である第一及び第二突条対１６，１７を有する積層フィルム２が、本課題を解決する発明であることがわかった。また、基材の表面エネルギーが４０ｍＮ／ｍ以下であり、塗布液の表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４０ｍＮ／ｍ以下である場合に突条対が形成されやすいこともわかった。
【符号の説明】
【００９１】
２  積層フィルム
１０  基材フィルム
１１  第一塗布層
１１Ａ  第一基材
１２  第二塗布層
１２Ａ  第一湿潤層
１２Ｂ  第一湿潤フィルム
１２Ｃ  第一乾燥フィルム
１２Ｄ  第一配向フィルム
１２Ｅ  第一硬化フィルム
１２ＡＳ  第一初期乾燥領域
１３  第三塗布層
１６  第一突条対
１７  第二突条対
２０  積層フィルム製造装置
２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃ  成膜装置
２４Ａ，２４Ｂ，２４Ｃ  塗布装置
２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃ  乾燥装置
２８Ａ，２８Ｂ，２８Ｃ  加熱装置
３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃ  ＵＶ照射装置
【図１】
0005774452.tif 000013
【図２】
0005774452.tif 000014
【図３】
0005774452.tif 000015
【図４】
0005774452.tif 000016
【図５】
0005774452.tif 000017
【図６】
0005774452.tif 000018
【図７】
0005774452.tif 000019
【図８】
0005774452.tif 000020
【図９】
0005774452.tif 000021
【図１０】
0005774452.tif 000022
【図１１】
0005774452.tif 000023
【図１２】
0005774452.tif 000024
【図１３】
0005774452.tif 000025