(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子求引性基と共役した多重結合性基を有するカルボン酸と、塩化チオニル、塩化オキサリル及びホスゲンからなる群より選ばれる少なくとも一種類のハロゲン化剤とを反応させてカルボン酸ハロゲン化物を製造する方法であって、
前記カルボン酸１モルに対して０．８〜３．０モルのアミド化合物（Ａ）の存在下で前記カルボン酸と前記ハロゲン化剤とを反応させ、カルボン酸ハロゲン化物を生成させたのち、二相に分離した相（Ｔ）〔目的とするカルボン酸ハロゲン化物を主として含有する相〕及び相（Ｗ）〔前記ハロゲン化剤から生成した酸性成分と前記アミド化合物（Ａ）とを主として含有する相〕から、前記相（Ｗ）を除去することによって目的物を得る、カルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
【請求項２】
前記電子求引性基がアシル基又はアルコシキカルボニル基である、請求項１に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
【請求項３】
前記多重結合性基がビニル基又はビニレン基である、請求項１又は２に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
【請求項４】
生成したカルボン酸ハロゲン化物のｃｌｏｇＰ値が、−０．５以上である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
【請求項５】
前記アミド化合物（Ａ）が、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、１，１，３，３−テトラメチル尿素、及び１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンからなる群より選ばれる少なくとも一種である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
【請求項６】
前記相（Ｔ）及び前記相（Ｗ）がいずれも液体であり、前記相（Ｔ）と前記相（Ｗ）とが、液−液分離により二相に分離している、請求項１〜５のいずれか一項に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
【請求項７】
前記相（Ｔ）と前記相（Ｗ）とが二相に分離するための前記アミド化合物（Ａ）の添加量を小スケールで決定したのち、カルボン酸ハロゲン化物を製造する方法を大スケールで行う、請求項１〜６のいずれか一項に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機合成上、最も基本的な反応試剤の一つであるカルボン酸ハロゲン化物の製造方法に関し、更に詳しくは簡便、高生産性、省エネルギーかつ反応時間の短縮が可能なカルボン酸ハロゲン化物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カルボン酸ハロゲン化物は各種エステル、アミド、酸無水物の合成に用いられる他、縮合反応用試剤やフリーデル−クラフツ反応におけるアシル化試剤として用いられ、特に医農薬分野を始めとする精密有機化学工業全般にわたって極めて有用な反応試剤である。
【０００３】
カルボン酸ハロゲン化物の工業的製造方法としては、対応するカルボン酸に対して塩化チオニル、塩化オキサリル、塩化ホスホリル、三塩化リン、五塩化リン、ホスゲンなどの求電子的ハロゲン化剤を反応させて合成するのが一般的である。この際、他の反応条件としては、溶媒として、無溶媒又は非プロトン系溶媒（例えば酢酸エチルなどのエステル系溶媒、トルエンやクロルベンゼンなどの芳香族溶媒、塩化メチレンや１，２−ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒の他、アセトニトリル、エーテルなど）を用い、アミド系化合物（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなど）を触媒量添加して、又は添加せずに行うのが最も一般的である。反応温度は室温付近から溶媒（又はハロゲン化剤）の環流温度が通常用いられている。
【０００４】
上記製造方法は有機化学工業分野で広く用いられてはいるが、実験室レベルでは問題にならない大量製造時特有の問題も残されている。上記製造方法においては、反応に伴って、塩化水素や亜硫酸ガスなどの酸性ガスが発生する。これら酸性ガスは腐食性が高く、製造設備にとって本来好ましくないものである上、大気への放出による環境汚染防止の観点から十分な捕捉が必要である。通常は、排ガス洗浄装置を用いてこれら酸性ガスの捕捉を行っているが、捕捉速度には限度があるため、反応試剤の一方（カルボン酸又はハロゲン化剤）の添加速度を調節して、捕捉能力内に収めて反応を行うのが一般的であり、結果として、必要以上の反応時間を要することになる。
【０００５】
カルボン酸からカルボン酸ハロゲン化物への反応が終了したあとにおいても、特に大スケールでの反応においては反応液中に溶存酸性ガスが残存しやすく、次工程で悪い作用を引き起こす場合がある。このような場合には減圧により、溶存ガスを脱気除去することや、空気又は窒素ガスなど、生成物に悪影響を及ぼさないガスをバブリングするなどして除去が必要な場合があり、煩雑な操作と余分な時間、労力を要する結果となるため、こうした工程上の負荷を可能なかぎり軽減することが望ましい。
【０００６】
また、塩化水素は高い化学反応性を有しているため、好ましくない副反応を引き起こすことも少なくない。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、プロピオール酸、マレイン酸、フマル酸などの部分構造を有する（共役多重結合を有する）誘導体では塩化水素の付加反応が容易に起こることがよく知られている。
例えば、非特許文献１（Ｂｕｌｌ．  Ｓｏｃ．  Ｃｈｉｍ．  Ｂｅｌｇ．  Ｖｏｌ．９９，  ９７７−９８０  （１９９０））には、メタクリル酸アミド部分構造を有するカルボン酸の酸ハロゲン化物化反応関して、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で反応を行っても塩化水素の付加反応が経時によって徐々に進行することを示す記載がある。大量スケールでの製造では各操作が実験室のように短時間で完了させることができない場合が多いため、目的とする反応が終了したあとに、時間依存的に反応系が変化する状況は可能な限り避けることが好ましい。従って、共役多重結合を有する酸ハロゲン化物の製造においては、発生した塩化水素に基づく副反応を防止可能な、簡便かつ有効な手段が強く望まれている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Ｂｕｌｌ．  Ｓｏｃ．  Ｃｈｉｍ．  Ｂｅｌｇ．  Ｖｏｌ．９９，  ９７７−９８０  （１９９０）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、カルボン酸ハロゲン化物の製造工程において、反応で生成する酸性ガスによる製造設備への負荷低減と、反応時間の短縮を可能にし、更に反応後の次工程への悪い作用も簡便な操作によって軽減可能な方法を提供することである。
本発明のもう一つの課題は上記課題の達成と同時に、塩化水素による副反応を効果的に抑制する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
カルボン酸をカルボン酸ハロゲン化物へと変換する反応において、最も一般的なハロゲン化剤として、塩化チオニル、塩化オキサリル又はホスゲンなどが挙げられる。また、これらの試剤を用いて反応を行う際に触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを添加することは極めて一般的に行われることである。
本発明者らは本反応において、触媒量以上の、例えば０．５当量や１当量のアミド化合物を添加すると、予想もしなかったことに、反応の様子が異なり、反応系が不均一になる場合があることに目視で気づいた。本発明者らは更に、この不均一化の原因を探り、本現象が、生成したカルボン酸ハロゲン化物を主として含有する相（Ｔ）と、アミド化合物及び反応で生成した酸性成分とを主として含有する相（Ｗ）との二相に相分離したことによる現象であることを突き止めた。
【００１０】
本発明は上記発見に基づいている。即ち、分離した上述の相（Ｗ）を簡便に廃棄することによって、従来カルボン酸ハロゲン化物の製造時の問題点であった酸性ガスの処理や、これに由来する反応の長時間化、次工程への酸性成分の持ち込みなどが大きく軽減できる手段を開発するに到った。
更に、本発明者らは本発明が電子求引性基と共役した多重結合性基を有するカルボン酸を酸ハロゲン化物へと変換する際においても、更に一層の優れた効果を伴って適用可能であることを見出した。電子求引性基と共役した多重結合性基は塩化水素や臭化水素などのハロゲン化水素の付加が容易に起こることが知られている。例えば、上記非特許文献１（Ｂｕｌｌ．  Ｓｏｃ．  Ｃｈｉｍ．  Ｂｅｌｇ．  Ｖｏｌ．９９，  ９７７−９８０  （１９９０））では、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中でメタクリル酸アミド部分構造を有するカルボン酸を酸ハロゲン化物へと変換を行っているが、経時によって徐々に塩化水素の付加反応が進行することを示す記載がある。
本発明の適用によって、ハロゲン化水素の付加反応が抑制でき、更に、不要な酸性成分は反応後、分離した相（Ｗ）を除去することで速やかに除去されるため、大量製造時に必要となる長時間放置における安定性も確保されると予想でき、後述の実施例に示すように上記目論見が達成されることを見出した。
【００１１】
すなわち、本発明の課題は次のようにして達成された。
＜１＞
電子求引性基と共役した多重結合性基を有するカルボン酸と、塩化チオニル、塩化オキサリル及びホスゲンからなる群より選ばれる少なくとも一種類のハロゲン化剤とを反応させてカルボン酸ハロゲン化物を製造する方法であって、
前記カルボン酸１モルに対して０．８〜３．０モルのアミド化合物（Ａ）の存在下で前記カルボン酸と前記ハロゲン化剤とを反応させ、カルボン酸ハロゲン化物を生成させたのち、二相に分離した相（Ｔ）〔目的とするカルボン酸ハロゲン化物を主として含有する相〕及び相（Ｗ）〔前記ハロゲン化剤から生成した酸性成分と前記アミド化合物（Ａ）とを主として含有する相〕から、前記相（Ｗ）を除去することによって目的物を得る、カルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
＜２＞
前記電子求引性基がアシル基又はアルコシキカルボニル基である、＜１＞に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
＜３＞
前記多重結合性基がビニル基又はビニレン基である、＜１＞又は＜２＞に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
＜４＞
生成したカルボン酸ハロゲン化物のｃｌｏｇＰ値が、−０．５以上である、＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
＜５＞
前記アミド化合物（Ａ）が、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、１，１，３，３−テトラメチル尿素、及び１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンからなる群より選ばれる少なくとも一種である、＜１＞〜＜４＞のいずれか一項に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
＜６＞
前記相（Ｔ）及び前記相（Ｗ）がいずれも液体であり、前記相（Ｔ）と前記相（Ｗ）とが、液−液分離により二相に分離している、＜１＞〜＜５＞のいずれか一項に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
＜７＞
前記相（Ｔ）と前記相（Ｗ）とが二相に分離するための前記アミド化合物（Ａ）の添加量を小スケールで決定したのち、カルボン酸ハロゲン化物を製造する方法を大スケールで行う、＜１＞〜＜６＞のいずれか一項に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
本発明は上記＜１＞〜＜７＞に記載した事項に関するものであるが参考のためにその他の事項（たとえば下記〔１〕〜〔１０〕に記載した事項など）についても記載した。
【００１２】
〔１〕
カルボン酸と、塩化チオニル、塩化オキサリル及びホスゲンからなる群より選ばれる少なくとも一種類のハロゲン化剤とを反応させてカルボン酸ハロゲン化物を製造する方法であって、
アミド化合物（Ａ）の存在下で前記カルボン酸と前記ハロゲン化剤とを反応させ、カルボン酸ハロゲン化物を生成させたのち、二相に分離した相（Ｔ）〔目的とするカルボン酸ハロゲン化物を主として含有する相〕及び相（Ｗ）〔前記ハロゲン化剤から生成した酸性成分と前記アミド化合物（Ａ）とを主として含有する相〕から、前記相（Ｗ）を除去することによって目的物を得る、カルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
〔２〕
生成したカルボン酸ハロゲン化物のｃｌｏｇＰ値が、−０．５以上である、上記〔１〕に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
〔３〕
前記アミド化合物（Ａ）の添加量が前記カルボン酸１モルに対して０．８〜３．０モルである、上記〔１〕又は〔２〕に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
〔４〕
前記カルボン酸が、電子求引性基と共役した多重結合性基を有する、上記〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
〔５〕
前記電子求引性基がアシル基又はアルコシキカルボニル基である、上記〔４〕に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
〔６〕
前記多重結合性基がビニル基又はビニレン基である、上記〔４〕又は〔５〕に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
〔７〕
前記アミド化合物（Ａ）が、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、１，１，３，３−テトラメチル尿素、及び１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンからなる群より選ばれる少なくとも一種である、上記〔１〕〜〔６〕のいずれか一項に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
〔８〕
前記相（Ｔ）及び前記相（Ｗ）がいずれも液体であり、前記相（Ｔ）と前記相（Ｗ）とが、液−液分離により二相に分離している、上記〔１〕〜〔７〕のいずれか一項に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
〔９〕
前記相（Ｔ）及び前記相（Ｗ）の一方が液体で、他方が固体であり、前記相（Ｔ）と前記相（Ｗ）とが、固−液分離により二相に分離している、上記〔１〕〜〔７〕のいずれか一項に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
〔１０〕
前記相（Ｔ）と前記相（Ｗ）とが二相に分離するための前記アミド化合物（Ａ）の添加量を小スケールで決定したのち、カルボン酸ハロゲン化物を製造する方法を大スケールで行う、上記〔１〕〜〔９〕のいずれか一項に記載のカルボン酸ハロゲン化物の製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、カルボン酸ハロゲン化物の製造工程において、反応で生成する酸性ガスによる製造設備への負荷低減と、反応時間の短縮を可能にし、更に反応後の次工程への悪い作用も簡便な操作によって軽減可能な方法を提供することができる。
更に本発明によれば、上記の効果を奏しつつ、塩化水素による副反応を効果的に抑制する方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明について更に詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
なお、本明細書において、“（メタ）アクリレート”はアクリレート及びメタアクリレートを表す。また“マレイン酸（エステル）”はマレイン酸及びマレイン酸エステルを表し、“フマル酸（エステル）”はフマル酸及びフマル酸エステルを表す。
また本明細書において、“当量”はモル当量を意味する。
【００１５】
本発明は、カルボン酸と、塩化チオニル、塩化オキサリル及びホスゲンからなる群より選ばれる少なくとも一種類のハロゲン化剤とを反応させてカルボン酸ハロゲン化物を製造する方法であって、アミド化合物（Ａ）の存在下で前記カルボン酸と前記ハロゲン化剤とを反応させ、カルボン酸ハロゲン化物を生成させたのち、二相に分離した相（Ｔ）（目的とするカルボン酸ハロゲン化物を主として含有する相）及び相（Ｗ）（前記ハロゲン化剤から生成した酸性成分と前記アミド化合物（Ａ）とを主として含有する相）から、前記相（Ｗ）を除去することによって目的物を得ることを特徴とするカルボン酸ハロゲン化物の製造方法に関する。
【００１６】
なお本願において、“目的とするカルボン酸ハロゲン化物”又は“目的物”とは、反応に供されるカルボン酸におけるカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）がハロゲン化（具体的には塩素化）され、−Ｃ（Ｏ）Ｃｌになったカルボン酸ハロゲン化物を意味し、更に副反応により塩化水素等が付加した塩化水素付加体などの副反応生成物はこれらに含まれない。
【００１７】
また相（Ｔ）について、“目的とするカルボン酸ハロゲン化物を主として含有する”の意味を説明する。本発明の反応系に、カルボン酸、ハロゲン化剤及びアミド化合物（Ａ）以外に任意に添加してもよい後述の溶媒を添加しない場合、“目的とするカルボン酸ハロゲン化物を主として含有する”とは、相（Ｔ）中の“目的とするカルボン酸ハロゲン化物”の含有量が、相（Ｔ）の全質量に対し、４０質量％〜１００質量％であることを意味する。相（Ｔ）中に含有される“目的とするカルボン酸ハロゲン化物”の含有量は、相（Ｔ）の全質量に対し、５０質量％〜１００質量％であることが好ましく、より好ましくは６０質量％〜１００質量％であり、更に好ましくは７０質量％〜１００質量％であり、特に好ましくは８０質量％〜１００質量％である。
また本発明の反応系に、カルボン酸、ハロゲン化剤及びアミド化合物（Ａ）以外に任意に添加してもよい後述の溶媒を添加する場合、“目的とするカルボン酸ハロゲン化物を主として含有する”とは、相（Ｔ）から、相（Ｔ）中に含まれる該溶媒を除いた残りの全質量に対して、“目的とするカルボン酸ハロゲン化物”の含有量が上記と同様の範囲であることを意味する。
【００１８】
更に相（Ｗ）について、“ハロゲン化剤から生成した酸性成分とアミド化合物（Ａ）とを主として含有する”とは、相（Ｗ）中の“ハロゲン化剤から生成した酸性成分とアミド化合物（Ａ）”の含有量が、相（Ｗ）の全質量に対し、５０質量％〜１００質量％であることを意味する。相（Ｗ）中に含有される“ハロゲン化剤から生成した酸性成分とアミド化合物（Ａ）”の含有量は、相（Ｗ）の全質量に対し、６０質量％〜１００質量％であることが好ましく、より好ましくは７０質量％〜１００質量％であり、更に好ましくは８０質量％〜１００質量％である。
【００１９】
相（Ｔ）は、カルボキシル基がハロゲン化されて極性が小さくなったカルボン酸ハロゲン化物を主として含有することにより、極性が低く、一方で相（Ｗ）は後述の酸性成分やアミド化合物を主として含有することにより、極性が高くなる。本発明の製造方法においては、相（Ｔ）と相（Ｗ）との間の極性の差異により、二相に相分離するものと推定される。
【００２０】
（カルボン酸）
本発明において使用されるカルボン酸は、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）を少なくとも１個有する化合物であり、１〜４個のカルボキシル基を有する化合物であることが好ましく、１又は２個のカルボキシル基を有する化合物であることがより好ましく、１個のカルボキシル基を有する化合物であることが最も好ましい。
【００２１】
本発明において好ましく用いることができるカルボン酸は、反応で生成するカルボン酸ハロゲン化物として、アミド化合物（Ａ）とハロゲン化剤から生成した酸性成分とを主としてなる相（Ｗ）と分離するような物性を有しているものである。このようなカルボン酸ハロゲン化物としては、相（Ｗ）との相分離の観点から、ｃｌｏｇＰ値で−１．０以上のものが好ましく、より好ましくは−０．５以上であり、更に好ましくは０以上である。ｃｌｏｇＰは有機化合物の有機相、水相に対する分配率を計算的に模した指数であり、ＣｈｅｍｂｒｉｄｇｅＳｏｆｔ社製ＣｈｅｍＤｒａｗ２０１１で計算することができる。また、適当な溶媒を別途添加することによって相（Ｗ）との分離性を改善してもよい。ここで好ましく用いられる溶媒は、反応前あるいは反応時から存在していても良いし、反応後に添加しても良い。
【００２２】
溶媒の例としてはトルエン、ジブチルヒドロキシトルエン、キシレン、ジクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタンなどの飽和炭化水素類、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ｔ−ブチル−メチル−エーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチル−メチル−エーテルなどのエーテル類、プロピオニトリル、ブチロニトリルなどのニトリル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類などが挙げられ、これらの溶媒を適宜混合して用いてもよい。
溶媒を添加する場合における溶媒の添加量は、本発明の効果に悪影響を及ぼさなければ制限はない。溶媒の添加量は、好ましくはカルボン酸に対して１〜１００００質量％、より好ましくは１０〜１０００質量％、更に好ましくは２０〜５００質量％である。
【００２３】
本発明において好ましく用いることができるカルボン酸は、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸のいずれであってもよく、また、ヘテロ環に直接カルボキシル基が結合したカルボン酸でもよい。
脂肪族カルボン酸は直鎖、分枝又は環状構造を有していてもよく、飽和脂肪族カルボン酸であっても不飽和脂肪族カルボン酸であってもよい。
芳香族カルボン酸は単環性の芳香族カルボン酸であってもよいし、縮環性の芳香族カルボン酸であってもよい。また、ヘテロ環構造を有するカルボン酸はヘテロ環が芳香族であっても非芳香族であってもよい。
これらのカルボン酸は更に置換基を有していてもよく、置換基の例としては、シアノ基、アゾ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アシル基、ハロゲン（Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉなど）、カルボアミド基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ニトロ基、シリル基、アルキル基などが挙げられる。
【００２４】
本発明に係るカルボン酸は、電子求引性基と共役した多重結合性基を有することが、以下の理由で好ましい。塩化水素等のハロゲン化水素の付加反応は電子求引性基と共役した多重結合性基においてのみ起こる。このため、本発明の有用性は上記多重結合性基を有する化合物において最大に発揮されるためである。
電子求引性基とはハメットのσ値が正の置換基を指す。例えばアシル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０）、アルコシキカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１０）、カルバモイル基、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１０）、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。好ましくはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基であり、より好ましくはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基であり、更に好ましくはアシル基、アルコシキカルボニル基である。
【００２５】
多重結合性基とは炭素−炭素二重結合及び／又は炭素−炭素三重結合を含む基であり、１価の基であっても、２価又は３価の連結基であってもよい。多重結合性基としては、例えば、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０）、アルケニレン基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０）、アルキニレン基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０）等が挙げられる。これらの多重結合性基のうち、ビニル基又はビニレン基が好ましい。
【００２６】
電子求引性基と共役した多重結合性基の具体例としては、（メタ）アクリレート基、マレイン酸（エステル）構造を有する基、フマル酸（エステル）構造を有する基、スチリル基等が挙げられ、（メタ）アクリレート基、マレイン酸エステル構造を有する基、フマル酸エステル構造を有する基が特に好ましい。
【００２７】
以下に本発明において好ましく用いられるカルボン酸の具体例を、そのハロゲン化物（カルボン酸ハロゲン化物、具体的にはカルボン酸塩化物）の化学構造としてｃｌｏｇＰと共に列挙するが、本発明の範囲はこれら具体例に限定されない。すなわち、本発明において好ましく用いられるカルボン酸は、以下の具体例中の化学構造式における−Ｃ（＝Ｏ）Ｃｌを、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨに代えたものが挙げられる。
【００２８】
【化１】
0005728313.tif 000002
【００２９】
【化２】
0005728313.tif 000003
【００３０】
上記カルボン酸ハロゲン化物の具体例のうち、ＣＡ−３、ＣＡ−４、ＣＡ−５、ＣＡ−１６、ＣＡ−２０、ＣＡ−２１、ＣＡ−２６が好ましく、ＣＡ−３、ＣＡ−１６、ＣＡ−２０、ＣＡ−２１、ＣＡ−２６が特に好ましい。
【００３１】
本発明に用いられるカルボン酸中の総炭素数は、好ましくは２〜１００、より好ましくは３〜５０、更に好ましくは３〜２０である。
本発明に用いられるカルボン酸の分子量は、好ましくは６０〜５０００、より好ましくは８０〜２０００、更に好ましくは１００〜１０００である。
本発明の製造方法における反応液中のカルボン酸の含有量は、反応液の全質量に対し、好ましくは１０〜８０質量％、より好ましくは２０〜７０質量％、更に好ましくは３０〜６０質量％である。反応液中のカルボン酸の含有量を上記の範囲とすることにより、二相への良好な分離性と高い生産性、低コスト化が達成できる。
【００３２】
（ハロゲン化剤）
本発明において用いられるハロゲン化剤は、塩化チオニル、塩化オキサリル及びホスゲンからなる群より選ばれる少なくとも一種類である。本発明においては、これらハロゲン化剤を単独で用いても、複数種類を混合して用いてもよいが、単独で用いることが好ましい。
ハロゲン化剤としては、塩化チオニル、ホスゲンが好ましく、塩化チオニルが最も好ましい。
【００３３】
本発明において、ハロゲン化剤の添加量（複数種類を混合する場合はその総添加量）は、反応液中のカルボン酸に対して、１．０〜２．２当量であることが好ましく、より好ましくは１．０〜１．５当量であり、更に好ましくは１．０〜１．１当量である。ハロゲン化剤の添加量を上記の範囲とすることにより、低コスト化が達成できる。
【００３４】
（ハロゲン化剤から生成する酸性成分）
本願における“ハロゲン化剤から生成する酸性成分”とは、本発明の製造方法において、カルボン酸とハロゲン化剤との反応に伴って発生する、塩化水素や亜硫酸ガスなどの酸性ガス等の総称である。
ハロゲン化剤として塩化チオニルを使用する場合には、塩化水素及び亜硫酸ガスが発生し、これらが酸性成分となる。
ハロゲン化剤として塩化オキサリル、ホスゲンを使用する場合には、塩化水素が発生し、これが酸性成分となる。
【００３５】
本発明の製造方法においては、反応液中に弱塩基性である後述のアミド化合物（Ａ）を含有することにより、アミド化合物（Ａ）とハロゲン化剤から生成した酸性成分とが複合体を形成することで酸性成分が反応液中で捕捉され、大気に放出されることが防止されるものと推定される。更に、弱塩基性であるアミド化合物や酸性成分は極性を有する為、上述の相（Ｗ）に含有される傾向が強く、相（Ｗ）を除去することでこれらは容易に取り除けるものと考えられる。
【００３６】
（アミド化合物（Ａ））
アミド化合物（Ａ）としては、アミド結合を有する化合物である限り特に限定されないが、一般的には分子量が４０〜２００であり、好ましくは分子量が４５〜１５０である。アミド化合物（Ａ）としては、脂肪族アミド類や尿素類が好ましい。
また、アミド化合物（Ａ）としては、一般的に安価で入手容易なものが好ましい。アミド化合物（Ａ）としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、１，１，３，３−テトラメチル尿素、及び１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどからなる群より選ばれる少なくとも一種が好ましく用いられ、二種以上のアミド化合物を混合して用いることもできる。アミド化合物（Ａ）としては、適度な塩基性を有する点で、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、及びＮ−メチル−２−ピロリドンからなる群より選ばれる少なくとも一種であることがより好ましく、経済性、２相への分離性が良く、着色が少ない点で、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが最も好ましい。
【００３７】
本発明の製造方法においては、従来の技術とは異なり、アミド化合物（Ａ）が触媒量より多く、溶媒量より少ない適当量添加されることを特徴とする。アミド化合物（Ａ）がこのような量で添加されることにより、相（Ｔ）との相分離を可能にすると共に、上述の酸性成分が十分に捕捉されることにより、酸性成分の大気への放出の抑制や、塩化水素による副反応の抑制に寄与するものと推定される。
本発明におけるアミド化合物（Ａ）の添加量は、使用するカルボン酸、アミド化合物自身の特性（極性など）、任意に添加する溶媒等に応じて当業者であれば適宜設定可能であるが、カルボン酸１モルに対して０．８〜３．０モルであることが好ましく、より好ましくは１．０〜２．０モルであり、更に好ましくは１．２〜１．５モルである。アミド化合物（Ａ）の添加量をこのような範囲にすることにより、塩化水素による副反応の抑制などの本発明の効果がより顕著に奏される。
【００３８】
（相分離）
本発明の製造方法において、上述の相（Ｔ）と相（Ｗ）とは二相に分離する。本発明において、二相に分離するか否かは、反応液を適当な時間（例えば、１０分間程度）静置した後、目視により確認可能である。
相（Ｔ）と相（Ｗ）とを二相に分離するには、使用するカルボン酸の種類、特性（疎水性等）や添加量、アミド化合物（Ａ）の種類、特性（疎水性等）や添加量、任意に添加する溶媒の種類、特性（疎水性等）や添加量、反応温度等の条件を適宜調整することにより達成可能であるが、相分離を容易にすることから、ハロゲン化物が上述のｃｌｏｇＰ値の条件を満たすようなカルボン酸を使用することが好ましく、更に、アミド化合物（Ａ）の添加量をカルボン酸に対して上述の範囲とすることがより好ましい。
相分離に関しては、前記相（Ｔ）及び前記相（Ｗ）がいずれも液体であり、相（Ｔ）と相（Ｗ）とが、液−液分離により二相に分離（以下、“液−液分離型”と呼ぶ）していてもよく、或いは、前記相（Ｔ）及び前記相（Ｗ）の一方が液体で、他方が固体であり、相（Ｔ）と相（Ｗ）とが、固−液分離により二相に分離（以下、“固−液分離型”と呼ぶ）していてもよい。
液−液分離型の場合には下層及び上層のうち、不要な一方の層を廃棄する。この操作は通常の製造設備では極めて容易に行うことができるよう設計されている。
固−液分離型の場合、通常は固体が不要な相（Ｗ）に相当するため、濾過を用いてこれを除去することができる。操作の容易さ、工程時間の観点から、液−液分離型が好ましく、相（Ｔ）及び相（Ｗ）がともに液体になるよう反応系を設定することが好ましい。
【００３９】
（反応工程）
本発明の製造方法において、カルボン酸、ハロゲン化剤及びアミド化合物（Ａ）等の試薬の添加順序は特に限定されず、カルボン酸とハロゲン化剤とが反応する時に、反応系中にアミド化合物（Ａ）が存在していればよい。
塩化水素等のハロゲン化水素の付加反応を抑制する観点からは、カルボン酸とアミド化合物（Ａ）とを混合した後に、ハロゲン化剤を添加することが好ましい。ハロゲン化剤の添加方法としては特に制限がないが、滴下により添加することが好ましい。ハロゲン化剤を添加する際の反応液中の温度は、−２０〜８０℃が好ましく、より好ましく−１０〜６０℃であり、更に好ましくは０〜４０℃である。またカルボン酸が固体である場合、上述の溶媒を使用してカルボン酸を溶解させておくことが好ましい。
【００４０】
カルボン酸とハロゲン化剤との反応は、アミド化合物（Ａ）の存在下、−２０〜８０℃で行われることが好ましく、より好ましくは−１０〜６０℃であり、更に好ましくは０〜４０℃である。またカルボン酸とハロゲン化剤との反応は、１分〜１０時間行われることが好ましく、より好ましくは１０分〜５時間であり、更に好ましくは２０分〜３時間である。カルボン酸とハロゲン化剤との反応は、攪拌しながら行われることが好ましい。
【００４１】
本発明の製造方法を大スケールで行う場合には、前記相（Ｔ）と前記相（Ｗ）とが二相に分離するための前記アミド化合物（Ａ）の添加量を小スケールで決定したのち、本発明のカルボン酸ハロゲン化物を製造する方法を大スケールで行うことが、作業安全性の点で好ましい。
なお本発明における小スケールとは、一般的に、反応系における反応物（すなわち、カルボン酸とハロゲン化剤とアミド化合物（Ａ））の総量が１００ｇ以下である反応系を意味する。小スケールの反応系における反応物の総量は一般的に１ｇ以上である。
また本発明における大スケールとは、一般的に、反応系における反応物（すなわち、カルボン酸とハロゲン化剤とアミド化合物（Ａ））の総量が１０００ｇ以上である反応系を意味する。大スケールの反応系における反応物の総量は一般的に１０ｔ以下である。
【実施例】
【００４２】
以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態を更に具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に限定はされない。
【００４３】
＜実施例１＞
（Ｅ）−４−イソプロポキシ−４−オキソ−２−ブテン酸クロリドの合成
下記スキームにしたがって、（Ｅ）−４−イソプロポキシ−４−オキソ−２−ブテン酸クロリドを合成した。
【００４４】
【化３】
0005728313.tif 000004
【００４５】
窒素雰囲気下、（Ｚ）−４−イソプロポキシ−４−オキソ−２−ブテン酸４．７４ｋｇ（３０．０モル）に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．７９Ｌ（３６．０モル）を添加し撹拌した。そこに、塩化チオニル２．２８Ｌ（１．０５当量）を４０℃以下で４０分かけて滴下した後、同温度下で３０分間攪拌した。該反応液を１０分間静置したところ、反応液が上層及び下層の二相に液−液分離したことが確認された。該二相のうち、下層６．１３ｋｇを除去した。下層の成分を１Ｈ−ＮＭＲで測定することにより、ＤＭＦが主成分であることを確認した。また、反応のメカニズムと得られた下層の重量を鑑みると、下層はＤＭＦ以外に塩化水素及び亜硫酸ガスを含むことは明らかであり、下層がＤＭＦ及びこれら酸性成分の混合物を主として含有することが分かった。
次に、内温３０℃で窒素ガスを毎分１Ｌ流入して一時間脱気後、淡黄色溶液として（Ｅ）−４−イソプロポキシ−４−オキソ−２−ブテン酸クロリド（ｃｌｏｇＰ＝１．１３）を４．９２ｋｇ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．６質量％、塩化水素付加体４．３質量％を含む）を得た。（収率８６．２％）
以下に、得られた（Ｅ）−４−イソプロポキシ−４−オキソ−２−ブテン酸クロリドの１Ｈ−ＮＭＲデータを示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δ値：１．３２（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，６Ｈ），５．１４（ｓｅｐｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ，１Ｈ），７．００（ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ，１Ｈ）
【００４６】
実施例１は、溶媒（アミド化合物としてのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドは除く）を用いていないため、生産性が極めて高い。上記のようにして得られた酸クロリドを室温で一晩放置したのち、ＮＭＲスペクトルを測定して組成を調べたところ、変化は確認できず、塩化水素の付加は実質的に進行していないことを確認した。これによって大量製造時に必要となる長時間放置における安定性も確保されることが分かる。
【００４７】
＜比較例１＞
窒素雰囲気下、（Ｚ）−４−イソプロポキシ−４−オキソ−２−ブテン酸３３．７ｋｇ（２１３モル）に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．２００Ｌ（２．５６モル）を添加し撹拌した。そこに、塩化チオニル２２．２Ｌ（１．４４当量）を５０℃以下で２時間かけて滴下した後、同温度下で３時間撹拌した。該反応液を静置したが、数時間経っても反応液は二相に分離しなかった。黄色溶液として（Ｅ）−４−イソプロポキシ−４−オキソ−２−ブテン酸クロリド（ｃｌｏｇＰ＝１．１３）を収率６３．３％（他に塩化水素付加体３６．７％を含む）で得た。
【００４８】
実施例１及び比較例１から、反応液を上層及び下層の二相に分離させ、該下層を除去することを含む実施例１の製造方法では、それらを含まない比較例１の製造方法と比べて、反応時間が短縮されると共に、塩化水素による副反応が効果的に抑制されたことが分かる。
【００４９】
＜実施例２−１〜２−３、比較例２−１＞
実施例１において、（Ｚ）−４−イソプロポキシ−４−オキソ−２−ブテン酸１モルに対するＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの添加量（モル）を以下の表１に記載のように変えた以外は実施例１と同様のモル比で反応を行った。塩化チオニルの滴下終了後３０分でＮＭＲを用いて塩化水素付加体と目的とするカルボン酸ハロゲン化物のモル比の定量（モル％）を行った結果を表１に示す。なお実施例については、二相に分離した上層及び下層のうち、上層について測定した結果であり、比較例については、二相に分離しなかったため、反応後の液について測定した結果である。
また実施例２−１〜２−３において、上層の質量に対する、酸ハロゲン化物及び塩化水素付加体の合計質量の比率は９５質量％であった。また下層の成分を１Ｈ−ＮＭＲで測定することにより、実施例１と同様にＤＭＦが主成分であることを確認し、下層がＤＭＦ及び酸性成分（塩化水素及び亜硫酸ガス）の混合物を主として含有することが分かった。
【００５０】
【表１】
0005728313.tif 000005
【００５１】
なお、比較例における「反応未完結」とは、原料のカルボン酸（（Ｚ）−４−イソプロポキシ−４−オキソ−２−ブテン酸）が完全に消失せず、一部残存することを意味する。
【００５２】
表１から明らかのように、反応液を上層及び下層の二相に分離させ、該下層を除去することに加え、アミド化合物としてのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの添加量（モル）を、カルボン酸である（Ｚ）−４−イソプロポキシ−４−オキソ−２−ブテン酸１モルに対して特定のモル量範囲とすることにより、塩化水素付加体の生成（すなわち、塩化水素による副反応）が著しく抑制されたことが分かる。
【００５３】
＜実施例３＞
化合物Ｃ〔２，５−ビス（４−（４−アクリロイルオキシブトキシ）ベンゾイルオキシ）トルエン〕の合成
下記スキームにしたがって、化合物Ｃを合成した。
【００５４】
【化４】
0005728313.tif 000006
【００５５】
３つ口フラスコに４−（４−アクリロイルオキシブトキシ）安息香酸（化合物Ａ）２００ｇ（０．７５７ｍｏｌ）、ジブチルヒドロキシトルエン３ｇ、酢酸エチル１５０ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７０ｍｌ（０．９０４ｍｏｌ）を添加し、氷浴に浸して内温を５℃にした。この溶液に、内温を１０℃以下に保ちながら、塩化チオニル９０．８ｇ（０．７６３ｍｏｌ）を滴下し、そのままの温度で２時間攪拌した。攪拌停止後１０分間静置したところ、反応液が上層及び下層の二相に液−液分離したことが確認された。分離した下層（８０ｇ）を除去して、上層として化合物Ｂ（ｃｌｏｇＰ＝２．９９）を含む溶液を得た。得られた上層における化合物Ｂの含有量は、上層に含まれる溶媒（ジブチルヒドロキシトルエン及び酢酸エチル）を除いた残りの全質量に対して、９５質量％以上であることが確認された。なお下層の成分を１Ｈ−ＮＭＲで測定することにより、ＤＭＦが主成分である（すなわち、下層がＤＭＦを主として含有する）ことを確認した。更に上層の成分を１Ｈ−ＮＭＲで測定することにより、化合物Ｂの塩化水素付加体の生成がないことが確認された。
以下に、得られた化合物Ｂの１Ｈ−ＮＭＲデータを示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．８−２．０（ｍ，４Ｈ），４．０９（ｔ，２Ｈ），４．２５（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１３（ｄｄ，１Ｈ），６．３９（ｄｄ，１Ｈ），６．９−７．０（ｍ，２Ｈ），８．０−８．１（ｍ，２Ｈ）
【００５６】
この上層として得られた溶液に、酢酸エチル４４０ｍｌ、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）２２２ｍｌ、メチルハイドロキノン４５．６ｇ（０．３６７ｍｏｌ）及びＮ−メチルイミダゾール５ｍｌ（６３．６ｍｍｏｌ）を順次添加した。内温を２０℃以下に保ちながら、トリエチルアミン１６０ｍｌ（１．１５ｍｏｌ）を滴下し、２３℃で３時間攪拌した。反応液に水１０００ｍｌ、食塩８０ｇを加え、分液ロートに移して水層を除去した。有機層にメタノール１４００ｍｌを添加し、生じた結晶を濾別、乾燥して、白色固体である化合物Ｃを２０３ｇ（収率９０％）得た。
以下に、得られた化合物Ｃの１Ｈ−ＮＭＲデータを示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  ：  δ＝１．８−２．０（ｍ，８Ｈ），２．２４（ｓ，３Ｈ），４．０５−４．１５（ｍ，４Ｈ），４．２−４．３（ｍ，４Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ），６．４２（ｄｄ，２Ｈ），６．９０−７．０５（ｍ，４Ｈ），７．０−７．２（ｍ，３Ｈ），８．１−８．２（ｍ，４Ｈ）
【００５７】
＜比較例３＞
化合物Ｂ〔４−（４−アクリロイルオキシブトキシ）安息香酸クロリド〕の合成
下記スキームにしたがって、化合物Ｂを合成した。
【００５８】
【化５】
0005728313.tif 000007
【００５９】
３つ口フラスコに４−（４−アクリロイルオキシブトキシ）安息香酸（化合物Ａ）２０ｇ（７５．７ｍｍｏｌ）、ジブチルヒドロキシトルエン３００ｍｇ、酢酸エチル４０ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．５ｍｌ（６．４６ｍｍｏｌ）を添加し、内温を８０℃にした。この溶液に、塩化チオニル９．７３ｇ（８１．８ｍｍｏｌ）を滴下し、還流させながら２時間攪拌した。攪拌を止めて１０分静置したが、反応液は均一のままであった。余剰の塩化チオニル及びトルエンを除去して、塩化水素付加体である化合物Ｂ２を含む化合物Ｂを得た（化合物Ｂ／化合物Ｂ２（モル比）＝８３．５％／１６．５％）。また、重合体である不溶な白色固体が生成していた。
【００６０】
実施例３及び比較例３の結果より、本発明では、カルボン酸が含有する共役二重結合として、ラジカル重合可能な（メタ）アクリレート基（アクリレート基及びメタクリレート基の双方を含む意味の用語として用いる）も好適に用いることができる。（メタ）アクリレート基を含有するカルボン酸を酸クロリドへと誘導する場合、（メタ）アクリレート基の二重結合へのＨＣｌ付加が起きやすいうえに、酸クロリド化反応後に副生した亜硫酸ガスや塩酸、未反応の塩化チオニルを蒸留にて除去する過程において予期せぬ熱重合が問題になる。熱重合を懸念して副生成物の除去操作を行わなかった際には、反応液に大量の亜硫酸ガスや塩化水素が残存することになり、不純物の増加や、中和のために過剰量の塩基を用いる必要になるなど、生産性の大幅な低下をもたらす。対して本発明では、生じた亜硫酸ガスや塩酸が酸クロリド溶液と相分離し、低温下で容易に除去可能なため、良好な生産性で高純度な酸クロリド体を得ることができる。
【００６１】
＜実施例４＞
化合物Ｅ〔４−オクチルオキシ安息香酸クロリド〕の合成
下記スキームにしたがって、化合物Ｅを合成した。
【００６２】
【化６】
0005728313.tif 000008
【００６３】
３つ口フラスコに４−オクチルオキシ安息香酸（化合物Ｄ）２０ｇ（７９．９ｍｍｏｌ）、トルエン３０ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７．４２ｍｌ（９５．９ｍｍｏｌ）を添加し、内温を３５℃にした。この溶液に、内温を４０℃以下に保ちながら、塩化チオニル１０．２ｇ（８６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、そのままの温度で３０分間攪拌した。攪拌停止後５分間静置したところ、反応液が上層及び下層の二相に液−液分離したことが確認された。分離した下層（１２ｇ）を除去して、上層として化合物Ｅ（ｃｌｏｇＰ＝４．９５）を含む溶液を得た（変換率９９％）。得られた上層における化合物Ｅの含有量は、上層に含まれる溶媒（トルエン）を除いた残りの全質量に対して、９５質量％以上であることが確認された。なお下層の成分を１Ｈ−ＮＭＲで測定することにより、ＤＭＦが主成分である（すなわち、下層がＤＭＦを主として含有する）ことを確認した。
以下に、得られた化合物Ｅの１Ｈ−ＮＭＲデータを示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  ：  δ＝０．９（ｔ，３Ｈ），１．２−１．５（ｍ，１２Ｈ），１．７５−１．９（ｍ，２Ｈ），４．１５（ｔ，２Ｈ），６．９−７．０（ｍ，２Ｈ），８．０５−８．１５（ｍ，２Ｈ）
【００６４】
＜実施例５＞
化合物Ｇの合成
下記スキームにしたがって、化合物Ｇを合成した。
【００６５】
【化７】
0005728313.tif 000009
【００６６】
３つ口フラスコにデヒドロアビエチン酸（化合物Ｆ）３４．４ｇ（１００ｍｍｏｌ）、トルエン１００ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１７ｍｌ（２２０ｍｍｏｌ）を添加し、内温を１０℃にした。この溶液に、内温を２０℃以下に保ちながら、塩化チオニル２５．１ｇ（２１１ｍｍｏｌ）を滴下し、そのままの温度で３時間攪拌した。攪拌停止後５分間静置したところ、反応液が上層及び下層の二相に液−液分離したことが確認された。分離した下層（２９ｇ）を除去して、上層として化合物Ｇ（ｃｌｏｇＰ＝６．６２）を含む溶液を得た（変換率９９％）。得られた上層における化合物Ｇの含有量は、上層に含まれる溶媒（トルエン）を除いた残りの全質量に対して、９５質量％以上であることが確認された。なお下層の成分を１Ｈ−ＮＭＲで測定することにより、ＤＭＦが主成分である（すなわち、下層がＤＭＦを主として含有する）ことを確認した。
以下に、得られた化合物Ｇの１Ｈ−ＮＭＲデータを示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  ：  δ＝１．２−１．３（ｍ，９Ｈ），１．４１（ｓ，３Ｈ），１．５−１．７（ｍ，２Ｈ），１．８−２．０（ｍ，５Ｈ），２．３−２．５（ｍ，２Ｈ），２．９５−３．０５（ｍ，２Ｈ），３．５７（ｓｅｐ，１Ｈ），７．１（ｓ，１Ｈ），８．０（ｓ，１Ｈ）