(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホルダー本体と、該ホルダー本体に設けられ、被処理基板を所定位置で保持する保持部材とを備えた基板ホルダーであって、
前記ホルダー本体が、
被処理基板の被処理面を露出させる第１開口を有し、被処理基板の被処理面側の外周部に当接するマスク部材と、
前記第１開口よりも広い第２開口を有し、マスク部材の外周部に当接して前記被処理基板の前記被処理面を前記第１開口を介して第２開口から露出させた状態で該マスク部材を支持する支持部材と、を有し、前記保持部材による前記被処理基板への挟持又は接触により、前記支持部材に支持された前記マスク部材に該被処理基板を保持可能とされており、
前記支持部材と前記マスク部材とが当接する領域に設けられた衝撃吸収性を有するテープ状の緩衝材とを備えることを特徴とする基板ホルダー。
【請求項２】
前記保持部材の前記被処理基板と接触する領域は、衝撃吸収性を有する弾性部材からなることを特徴とする請求項１記載の基板ホルダー。
【請求項３】
前記基板ホルダーが、前記被処理基板を略垂直となるように保持するものであることを特徴とする請求項１又は２記載の基板ホルダー。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板ホルダーを備えたことを特徴とする基板搬送装置。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は基板ホルダー及び基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板を支持する基板ホルダーは、被処理基板のセット時における衝撃や、セット後の搬送時における振動による衝撃で、基板受け部と被処理基板との接触する箇所において被処理基板に傷や割れが発生しやすく、これを抑制することが求められていた。特に、被処理基板を鉛直方向にたてた状態で保持するいわゆる縦型の基板ホルダーでは、被処理基板の下側では衝撃が大きいためにこのような問題は顕著であった。そこで、従来、縦型の基板ホルダーにおいては、被処理基板の下端の端面に接してこの端面で被処理基板を支える複数の基板受け部を有するものが知られている（例えば、特許文献１参照）。この基板受け部は、被処理基板側から下側に力を受けて変形し、かつ変形することにより上向きに力が働く弾性部を備えている。この弾性部を備えていることで、被処理基板のセット時における衝撃や、セット後の搬送時における振動による衝撃で、基板受け部と被処理基板との接触する箇所において被処理基板に傷や割れが発生することを防止している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−２６２５３９号公報（請求項１等）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１では、被処理基板の成膜面が枠部に接触することにより、被処理基板の傷や割れが発生するという問題がある。
【０００５】
そこで、本発明の課題は、上記従来技術の問題点を解決することにあり、基板のセット時や搬送時の衝撃により被処理基板の被処理面に傷や割れが発生することを抑制できる基板ホルダー及びこれを用いた基板搬送装置を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の基板ホルダーは、ホルダー本体と、該ホルダー本体に設けられ、被処理基板を所定位置で保持する保持部材とを備えた基板ホルダーであって、前記ホルダー本体が、被処理基板の被処理面を露出させる第１開口を有し、被処理基板の被処理面側の外周部に当接するマスク部材と、前記第１開口よりも広い第２開口を有し、マスク部材の外周部に当接して前記被処理基板の前記被処理面を前記第１開口を介して第２開口から露出させた状態で該マスク部材を支持する支持部材と、を有し、前記保持部材による前記被処理基板への挟持又は接触により、前記支持部材に支持された前記マスク部材に該被処理基板を保持可能とされており、前記支持部材と前記マスク部材とが当接する領域に設けられた衝撃吸収性を有するテープ状の緩衝材とを備えることを特徴とする。本発明の基板ホルダーは、支持部材と、マスク部材と、緩衝材とを備えることで、被処理基板の被処理面に傷や割れが発生することを抑制できる。 
【０００７】
ここで、前記保持部材の前記被処理基板と接触する領域は、衝撃吸収性を有する弾性部材からなることが好ましい。このような保持部材の前記被処理基板と接触する領域が衝撃吸収性を有する弾性部材からなることで、より被処理基板の被処理面に傷や割れが発生することを抑制できる。
【０００８】
本発明の好ましい実施形態としては、前記基板ホルダーが、前記被処理基板を略垂直となるように保持するものであることが挙げられる。
【０００９】
本発明の基板搬送装置は、前記したいずれかの基板ホルダーを備えたことを特徴とする。被処理基板の被処理面に傷や割れが発生することを抑制した基板ホルダーを用いることで、基板搬送装置においても、被処理基板の被処理面に傷や割れが発生することを抑制できる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の基板ホルダー及び基板搬送装置によれば、基板のセット時や搬送時の衝撃により被処理基板の被処理面に傷や割れが発生することを抑制できるという優れた効果を奏し得る。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】実施形態１にかかる基板ホルダーの斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ’線における断面図である。
【図３】吸収部材の（ａ）斜視図（ｂ）断面図である。
【図４】挟持部材の（ａ）斜視図（ｂ）断面図である。
【図５】載置部材の斜視図である。
【図６】接触部材の斜視図である。
【図７】実施形態１にかかる基板ホルダーを用いた基板搬送装置の模式図及び要部拡大断面図である。
【図８】（ａ）実施形態１にかかる基板ホルダーを用いたさらに別の基板搬送装置の模式図、（ｂ）（ａ）のＸ−Ｘ線における断面図である。
【図９】実施形態１にかかる基板ホルダーを用いた別の基板搬送装置の設置状態を示した一部拡大図である。
【図１０】図９の（ａ）Ａ−Ａ線における断面図（ｂ）Ｂ−Ｂ線における断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
（実施形態１）
本発明の基板ホルダーにかかる実施形態について、図１〜図６を用いて説明する。基板ホルダー１は、例えばＳＵＳ等から構成される略長方形の枠状の支持部材１１と、マスク部材２１とを備える。マスク部材２１は、例えば第８世代以上の被処理基板Ｓをマスクするために設けられている物であり、詳しくは後述するように支持部材１１とは別体となっている。マスク部材２１は、例えばＳＵＳ等からなる板状の部材である。図２に示すように、マスク部材２１は、この板状のマスク本体２１１と、その中央に形成された第１開口部２１２とを備える。マスク本体２１１には、詳しくは後述する被処理基板Ｓを保持する保持部材が設けられている。なお、本発明においてホルダー本体は、支持部材１１と、マスク部材２１と、保持部材からなる。被処理基板Ｓは、マスク本体２１１に被処理基板Ｓの被処理面の外周部で当接し、第１開口部２１２から被処理基板Ｓの被処理面側が露出している状態で保持部材によりマスク本体２１１に固定され保持される。
【００１３】
支持部材１１は、その四方を囲う側壁部１１１を備える。また、支持部材１１は、マスク部材２１の被処理面側の外周部に当接する当接部１１２と、マスク部材２１に支持された被処理基板Ｓの被処理面を露出するように形成された第２開口部１１３とを備える。当接部１１２は、側壁部１１１の一方面側に、側壁部１１１に対して垂直となるように設けられたフランジ部である。これらの側壁部１１１と当接部１１２とにより、図２に示すように被処理基板Ｓ及びマスク部材２１を収容する収容部１１４が画成されている。収容部１１４に収容された被処理基板Ｓは、第１開口部２１２を介して第２開口部１１３からその被処理面が露出される。収容部１１４は、マスク部材２１及び被処理基板Ｓを収容しやすいように、被処理基板Ｓよりもやや大きく構成されている。また、マスク部材２１は、収容部１１４に収容された状態で当接部１１２に図示しない固定部材により固定されている。
【００１４】
この基板ホルダー１は、後述する基板搬送装置により、略垂直となるように保持される。これにより、基板ホルダー１の収容部１１４に収容された被処理基板Ｓは安定して基板ホルダー１に保持される。
【００１５】
この被処理基板Ｓを基板ホルダー１の収容部１１４に収容する時、また、被処理基板Ｓをマスク部材２１に保持して収容部１１４に収容して基板ホルダー１を搬送する時に、被処理基板Ｓの被処理面の外周がマスク部材２１に接触することにより、被処理基板Ｓの被処理面に割れや欠けが発生しやすいので、これを抑制する必要がある。
【００１６】
そこで、本実施形態においては、ホルダー本体は、マスク部材２１と、支持部材１１と、支持部材１１の当接部１１２に設けられた緩衝材１２からなる。即ち、例えば第８世代以上の大型基板のマスク部材２１は大型であるため従前の世代のマスクに比べ重量も増加し、これが振動や衝撃の原因となった。そこで本実施形態ではマスク部材２１を支持部材１１とは別体とし、さらにマスク部材２１搬送時の基板への衝撃を吸収するためにマスク部材２１と支持部材１１との間に緩衝材１２を設けていることで、本実施形態では、大型基板である被処理基板Ｓの被処理面における割れや欠けを抑制する。即ち、本実施形態のように構成することで、従来よりもより基板が大型化したことにより大きくなった衝撃をより緩和することが可能である。
【００１７】
緩衝材１２は、テープ状であり、４枚の緩衝材１２から当接部１１２の各辺を覆うように設けられている。即ち、支持部材１１は、４枚の緩衝材１２により、収容部１１４の第２開口部１１３の周縁部が覆われている。緩衝材１２は、耐熱性（２００〜２８０℃）が高く、また、衝撃吸収性を有する材料からなる。このような緩衝材１２としては、例えばポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、パーフルオロアルキルビニルエーテル等が挙げられ、本実施形態ではポリイミドからなるカプトン（登録商標）テープを用いている。緩衝材１２は、本実施形態では、図示しない耐熱性の高い粘着剤で当接部１１２に固定されている。
【００１８】
さらに、本実施形態においては、マスク部材２１に設けられた被処理基板Ｓを保持する保持部材についても被処理基板Ｓとの接触面に弾性部材を設けて、これにより被処理基板の被処理面の割れや欠けを抑制できる。即ち、本実施形態においては、マスク部材２１と支持部材１１との間に設けられた緩衝材１２及び保持部材に設けられた弾性部材により、被処理基板Ｓの被処理面の割れや欠けをより抑制できる。
【００１９】
マスク部材２１の保持部材について以下詳細に説明する。
【００２０】
本実施形態のマスク部材２１のマスク本体２１１には、保持部材、即ち、被処理基板Ｓの振動を吸収するための吸収部材１３、被処理基板Ｓを挟持して保持するための挟持部材１４、被処理基板Ｓが載置される載置部材１５、及び被処理基板Ｓを接触して保持する接触部材１６が設けられている。これらの保持部材により被処理基板Ｓは、マスク部材２１に保持されている。
【００２１】
図１に示すように吸収部材１３は、被処理基板Ｓの振動を吸収して被処理基板Ｓを保持するためのものであり、マスク本体２１１の第１開口部２１２の左右側及び下側にそれぞれ隣接する各保持部材とは離間して設けられている。
【００２２】
図３を用いて詳細に説明すれば、吸収部材１３は、円柱状部１３１を備える。円柱状部１３１は、略円柱状である円柱状部１３１と、円柱状部１３１の一端面側に設けられた円形状フランジ部１３２とからなる。この円柱状部１３１が被処理基板Ｓに接触して保持するように構成されている。また、円形状フランジ部１３２により、被処理基板Ｓが落下するのを防止している。これらの円柱状部１３１及び円形状フランジ部１３２は、被処理基板Ｓの振動を軽減して割れや欠けを抑制すべく、弾性部材から構成されている。このような弾性部材としては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、パーフルオロアルキルビニルエーテル等が挙げられ、本実施形態ではポリイミドからなるベスペル（登録商標）を用いている。
【００２３】
円柱状部１３１には、円形状フランジ部１３２とは逆側の面の中央部に吸収部凹部１３３が形成されている。吸収部凹部１３３は、マスク本体２１１に設けられた凸部１１５に遊びをもって嵌合される。この円柱状部１３１の中央には、円柱状部１３１を貫通する吸収部貫通孔１３４が形成されている。この吸収部貫通孔１３４は、凸部１１５の中央部に形成された凸部開口１１６に連通する。凸部開口１１６よりも径が広い吸収部貫通孔１３４及び凸部開口１１６にネジＦが挿入され、固定される。ネジＦの軸には、カラー１３６が設けられている。
【００２４】
また、円柱状部１３１の側面の、被処理基板Ｓとは逆側には側面を押圧する板バネ１３７がマスク本体２１１に設けられた凹部１１７に設けられている。板バネ１３７が設けられていることで、円柱状部１３１に被処理基板Ｓが載置された場合に、被処理基板Ｓの振動を板バネ１３７で吸収することができ、より被処理基板Ｓの振動による割れや欠けを抑制できる。
【００２５】
挟持部材１４は、被処理基板Ｓを挟持することにより保持するためのものであり、マスク本体２１１の第１開口部２１２の下側に隣接する各保持部材とは離間して設けられている。図４に示すように、挟持部材１４は、マスク本体２１１に固定されたベース部１４１と、このベース部１４１に揺動可能に設けられるクランプアーム１４２と、クランプアーム１４２を付勢する付勢部材１４３と備える。
【００２６】
クランプアーム１４２は、ベース部１４１に設けられた支持シャフト１４５を支点として揺動可能に支持されている。支持シャフト１４５を挟んだクランプアーム１４２の一端側には、被処理基板Ｓに当接する弾性部材からなる基板押さえ部１４６が設けられている。また、マスク本体２１１にも同様に基板押さえ部１４６に対向する領域に弾性部材である受け部２１５を設けており、基板押さえ部１４６及び受け部２１５により被処理基板Ｓを挟持する。これにより、弾性部材からなる基板押さえ部１４６及び受け部２１５により被処理基板Ｓを挟持することで、被処理基板Ｓの割れや欠けを抑制することができる。弾性部材としては、上述したものと同様のものを用いることができ、本実施形態ではベスペル（登録商標）を用いている。
【００２７】
付勢部材１４３は、例えば、コイルばね等のばね部材によって構成され、クランプアーム１４２が固定された支持シャフト１４５に装着されている。付勢部材１４３は、クランプアーム１４２の基板押さえ部１４６がベース部１４１に近づく方向にクランプアーム１４２を付勢するように設けられている。即ち、付勢部材１４３によってクランプアーム１４２が付勢されていることで、クランプアーム１４２の基板押さえ部１４６によって被処理基板Ｓが押圧されてマスク本体２１１に固定される。即ち、本実施形態においては、クランプアーム１４２の他端側を例えば、ロボットアーム等によって押圧することで、クランプアーム１４２が支持シャフト１４５を軸中心として揺動し、付勢部材１４３により付勢されて被処理基板Ｓをマスク本体２１１に固定することができる。
【００２８】
載置部材１５は、下側のマスク本体２１１に、隣接する各保持部材とは離間して設けられている。図５に示すように、被処理基板Ｓが載置される載置部材１５は、それぞれ、角柱状部１５１と、角柱状部１５１の一端側に延設された矩形状の矩形状フランジ部１５２とを備える。
【００２９】
図２に示すように、角柱状部１５１の他端側、即ち矩形状フランジ部１５２とは逆側には、載置部凹部１５３が形成されている。角柱状部１５１には、この載置部凹部１５３に貫通するように載置部貫通孔１５４が形成されている。また、下側のマスク本体２１１には、その当接部の長手方向に沿って凸部１１５が形成されており、この凸部１１５と載置部凹部１５３とが嵌合するように載置部材１５は構成されている。載置部貫通孔１５４は凸部１１５の凸部開口１１６に連通する。そして、この載置部貫通孔１５４及び凸部開口１１６にネジＦが挿入固定され、載置部材１５が基板ホルダー１の下側のマスク本体２１１に固定される。
【００３０】
この場合に角柱状部１５１は、被処理基板Ｓの振動を軽減して割れや欠けを抑制すべく、弾性部材から構成されている。被処理基板Ｓが載置された場合に弾性部材としては、上述したものと同様のものを用いることができ、本実施形態ではベスペル（登録商標）を用いている。このような載置部材１５上に、被処理基板Ｓを設置することで、基板を安定して保持することができると共に、被処理基板Ｓが搬送時などに接触しても割れや欠けが発生しにくい。
【００３１】
被処理基板Ｓの一端面に接触して支持する接触部材１６は、マスク本体２１１の第１開口部２１２の左右側及び上側にそれぞれ隣接する各保持部材とは離間して設けられている。接触部材１６は、接触部本体１６１を備える。接触部本体１６１は、略円柱状となっている。接触部本体１６１のマスク本体２１１側の面には、接触部凹部１６３が形成されている。接触部本体１６１には、この接触部凹部１６３に貫通するように接触部貫通孔１６４が形成されている。また、下側のマスク本体２１１には、凸部１１５が離間して形成されており、この凸部１１５と接触部凹部１６３とが嵌合するように接触部材１６は構成されている。接触部貫通孔１６４は凸部１１５の凸部開口１１６に連通する。そして、この接触部貫通孔１６４及び凸部開口１１６にネジＦが挿入固定され、接触部材１６が基板ホルダー１の下側のマスク本体２１１に固定される。
【００３２】
この場合に、図６に示すように、接触部本体１６１が、被処理基板Ｓの一端面と接触している。このような接触部本体１６１についても、上述したような弾性部材からなることで（本実施形態ではベスペルからなる）被処理基板Ｓの割れや欠けを抑制することができる。
【００３３】
このように、本実施形態においては、マスク部材２１及び支持部材１１を別体とし、かつ、マスク部材２１と支持部材１１との間に緩衝材１２を設けると共に、保持部材に設けられた弾性部材により、被処理基板Ｓの被処理面の割れや欠けをより抑制できる。この場合に、吸収部材１３と載置部材１５と接触部材１６とにより接触しながら保持すると共に、挟持部材１４により被処理基板Ｓを固定して保持していることで、安定して基板を保持することができる。
【００３４】
（基板搬送装置）
かかる基板ホルダー１を用いた基板搬送装置Ｉについて図７を用いて説明する。基板搬送装置Ｉは、被処理基板Ｓを枠状の基板ホルダー１によって略垂直に保持しながら、基板ホルダー１の第２開口部１１３から露出した被処理基板Ｓの成膜面に対して処理を行う縦型搬送式の基板搬送装置である。かかる基板搬送装置Ｉは、スパッタリング法により成膜を行う成膜室を含む複数の処理室からなるインライン式成膜装置に用いられる。
【００３５】
基板ホルダー１の支持部材１１の底面には、その長手方向に沿って円柱状の棒状部材３１が設けられている。支持部材１１は、棒状部材３１の円周方向に回動自在となるように構成されている。
【００３６】
また、成膜装置の床面には、ローラー３２が所定の間隔を空けて固定部材３３を介して並設されている。このローラー３２上に棒状部材３１が載置され、ローラー３２の回転に伴って棒状部材３１が移動されるように構成されている。具体的には、ローラー３２は、断面視において棒状部材３１が係合するように中央部が凹となった曲面状となっている。ローラー３２の回転軸３４は、固定部材３３に回転自在に設置されると共に、この回転軸３４の一端が図示しない駆動制御装置に接続されており、この駆動制御装置により回転軸３４が回転される。この回転によりローラー３２上に設置された支持部材１１が棒状部材３１を介して回転方向に移動することができる。なお、本実施形態では、これらの複数のローラー３２が並設されてホルダー搬送路が構成されている。
【００３７】
また、基板ホルダー１の支持部材１１の天井部には、ホルダーマグネット３５が装着されている。また、成膜装置の天井面には、シャッター搬送路に対向する位置からやや外側に外れてこの各ホルダーマグネット３５に対向するように複数のマグネット３６が並設されている。このホルダーマグネット３５とマグネット３６との間の吸引力により基板ホルダー１は床面に対して略垂直に保持された状態で移動される。
【００３８】
このような基板搬送装置Ｉにおいては、基板ホルダー１に支持された被処理基板Ｓの被処理面における割れや欠けが抑制され、これにより歩留まりを向上させることが可能である。なお、本実施形態においては、基板ホルダー１は略垂直に保持されているが、傾斜させることも可能である。
【００３９】
また、基板搬送装置の別の実施形態について図８〜図１０を用いて説明する。
【００４０】
基板ホルダー１の下端面には、ラック部材４１が設けられている。ラック部材４１は、図８（ｂ）に示すようにその下端面の中央部に凹部４２が設けられており、この凹部４２内に支持部材４２ａを介してラック４３が支持されている。
【００４１】
他方で、図９及び図１０に示すように、基板ホルダー１が搬入される成膜装置には、ラック４３と嵌合するピニオン５１が設けられている。ピニオン５１は、ピニオン５１に設けられたピニオン回転軸５２が一対のピニオン支持部材５３により回転可能に支持されることで、成膜装置の床面上に支持されている。なお、このピニオン回転軸５２は、傾斜するように（図１０（ａ）中、ピニオン回転軸５２は、左端部が右端部よりも高くなるように設定されている。）、ピニオン支持部材５３の異なる高さ位置に設けられている。ピニオン回転軸５２は、成膜装置外部に設けられた図示しないモーターに接続されており、このモーターにより回転駆動されるように構成されている。即ち、基板ホルダー１が成膜装置に搬入されてラック４３とピニオン５１とが係合すると、この状態でピニオン５１が回転駆動することにより基板ホルダー１は搬送される。
【００４２】
ここで、ピニオン５１は、図示しないが成膜装置内において所定の距離離間して複数設けられている。所定の距離とは、本実施形態では、基板ホルダー１の短手方向（横方向）の長さであり、基板ホルダー１は、常に一つのピニオン５１により搬送されるように構成されている。
【００４３】
また、成膜装置には、搬送ローラー５４が、基板ホルダー１の幅方向に対して複数離間するように設けられている。図１０（ｂ）に示すように、搬送ローラー５４は、基板ホルダー１の厚み方向に対して、一つの搬送ローラー回転軸５５に二つ設けられている。即ち、一対の搬送ローラー５４は、一つの搬送ローラー回転軸５５にそれぞれ設けられ、この一対の搬送ローラー５４は、基板ホルダー１の幅方向に離間して複数設けられている。各搬送ローラー回転軸５５は、搬送ローラー支持部材５６に回転可能に支持されている。また、この場合の搬送ローラー回転軸５５も傾斜するように（即ち、図１０（ｂ）中搬送ローラー回転軸５５は、左端部が右端部よりも高くなるように設定されている。）、搬送ローラー支持部材５６の異なる高さ位置に設けられている。このように、本実施形態では、ピニオン支持部材５３や搬送ローラー支持部材５６が底部に対して傾斜して設けられている。このため、基板ホルダー１は角度θで傾斜した状態を維持したまま成膜および搬送が可能である。
【００４４】
この一対の搬送ローラー５４は基板ホルダー１が成膜装置に搬入され設置された場合に、そのローラー面が基板ホルダー１のラック部材４１の底面に接触し、基板ホルダー１の搬送時にラック部材４１を支持して基板ホルダー１を支持する。この搬送ローラー５４を備えることで、基板ホルダー１がピニオン５１により搬送される場合に、ピニオン５１に基板ホルダーの荷重が全てかかることがなく、これによりピニオン５１がラック４３との間にバックラッシュ（バックラッシ）を保持することができるので、回転自在となる。即ち、この搬送ローラー５４がない場合には、ピニオン５１に基板ホルダー１の荷重が全てかかってしまい、ピニオンのバックラッシュがなくなってピニオンが回転することができなくなり、基板ホルダー１を搬送することができない。
【００４５】
さらにまた、成膜装置には、ガイドローラー５７が複数離間して設けられている。ガイドローラー５７は、その一端にガイドローラー回転軸５８に接続され、ガイドローラー回転軸５８は、支持台５９により回転可能であるように支持されている。ガイドローラー５７は、ローラー面が基板ホルダー１のラック部材４１の側面に接触し、搬送時における基板ホルダー１のがたつきを抑制する。
【００４６】
このように、本実施形態においては、ラック４３と回転駆動されるピニオン５１とにより基板ホルダー１が傾斜した状態で搬送される。この場合に、搬送ローラー５４により基板ホルダー１の荷重が支持されることにより、ピニオン５１が回転する。従って、保持部材により基板ホルダー１に支持された被処理基板Ｓ１の被処理面における割れや欠けが防止された状態で搬送することができる。さらに、このように基板ホルダー１の荷重が支持されることで、ピニオン５１にバックラッシュを生じさせることができ、ピニオン５１が回転しやすいことにより、よりスムーズに搬送することができるので、より歩留まりを向上させることが可能である。また、ガイドローラー５７により、基板をより安定して搬送することが可能である。さらにまた、基板ホルダー１が傾斜した状態で搬送されることで、被処理基板上にダストやパーティクルが付着することを防止できる。
【００４７】
上述した各基板搬送装置を用いた場合においても、本発明における基板ホルダー１を用いていることで、大型基板であっても衝撃を抑制して、搬送することができ、被処理基板の被処理面における割れや欠けが抑制され、歩留まりを向上することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
本発明の基板ホルダー及び基板搬送装置によれば、被処理基板の被処理面における割れや欠けが抑制され、歩留まりを向上することができる。従って、半導体素子製造産業において利用可能である。
【符号の説明】
【００４９】
１     基板ホルダー
１１   支持部材
１２   緩衝材
１３   吸収部材
１４   挟持部材
１５   載置部材
１６   接触部材
２１   マスク部材
３１   棒状部材
３２   ローラー
３３   固定部材
３４   回転軸
３５   ホルダーマグネット
３６   マグネット
１１１ 側壁部
１１２ 当接部
１１３ 第２開口部
１１４ 収容部
１１５ 凸部
１１６ 凸部開口
１３１ 円柱状部
１３２ 円形状フランジ部
１３３ 吸収部凹部
１３４ 吸収部貫通孔
１３６ カラー
１４１ ベース部
１４２ クランプアーム
１４３ 付勢部材
１４５ 支持シャフト
１４６ 基板押さえ部
１５１ 角柱状部
１５２ 矩形状フランジ部
１５３ 載置部凹部
１５４ 載置部貫通孔
１６１ 接触部本体
１６３ 接触部凹部
１６４ 接触部貫通孔
２１１ マスク本体
２１２ 第１開口部
【図１】
0005682911.tif 000002
【図２】
0005682911.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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