(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の内周端面及び／又は外周端面をブラシを用いて研磨する端面研磨工程を含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
ブラシは、回転自在の軸心と、軸心の周囲に配置されたブラシ部とを有し、
ブラシ部は、剛性が相対的に高く、軸心からブラシ部の先端までの長さが相対的に短い第１のブラシ部と、剛性が相対的に低く、軸心からブラシ部の先端までの長さが相対的に長い第２のブラシ部とを少なくとも備え、
端面研磨工程は、第１の研磨段階と、第２の研磨段階とをこの順に含み、
第１の研磨段階では、第１のブラシ部と第２のブラシ部とをガラス基板の端面に接触させてブラシを軸心周りに回転させ、
第２の研磨段階では、ガラス基板の端面とブラシの軸心との間の距離が第１の研磨段階よりも長くなった状態で、第２のブラシ部のみをガラス基板の端面に接触させてブラシを軸心周りに回転させることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
端面研磨工程では、複数のガラス基板を中心を合わせつつ厚み方向に積み重ねて研磨することを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
端面研磨工程では、砥粒を含む研磨液の槽にガラス基板及びブラシを浸漬して研磨することを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
端面研磨工程では、砥粒を含む研磨液をガラス基板とブラシとの接触部に供給しつつ研磨することを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
端面研磨工程では、端面研磨の進み具合に応じて研磨液に含まれる砥粒の径を小さいものに変更することを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
ガラス基板の端面は、面取り加工されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスク等の磁気記録媒体に用いるためのガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に内蔵されるハードディスク（ＨＤ）等の磁気記録媒体に用いるためのガラス基板は、ガラス素材を溶融するガラス溶融工程、溶融したガラス素材を金型でプレス成形することにより円盤状のガラス基板を作製するプレス成形工程、得られたガラス基板の中心に円孔を形成するコアリング工程、得られた環状のガラス基板の主面（記録面）を研削加工してガラス基板の厚みや平坦度等を予備調整する第１ラッピング工程、ガラス基板の内周端面及び外周端面を研削加工してガラス基板の外径寸法や真円度等を微調整する端面研削工程、ガラス基板の内周端面及び外周端面を研磨して平滑化する端面研磨工程、ガラス基板の主面を再び研削加工してガラス基板の厚みや平坦度等を微調整する第２ラッピング工程、ガラス基板の主面を研磨して平滑化するポリッシング工程、及び、ガラス基板を洗浄する洗浄工程等を経て製造される。
【０００３】
この他に、ガラス基板の表面を強化する化学強化工程や、ガラス基板の厚みや平坦度等を検査する検査工程等が行われる場合がある。また、端面研削工程等において、ガラス基板の内周端面及び外周端面が面取り加工される場合がある。
【０００４】
従来、端面研磨工程は、ガラス基板の内周端面及び／又は外周端面に回転するブラシを接触させることにより、それまでの加工作業で端面に生じた加工傷を除去し、さらに端面を平滑化するものである。端面の加工傷を除去するためには、加工傷は相対的に粗いので、剛性が相対的に高い毛のブラシを用いて研磨速度（研磨レート）を高めることが好ましい。これにより、研磨代が大きくても短時間で加工傷を除去することができる。しかし、剛性が相対的に高い毛のブラシを用いると、ブラシ傷が残るので、端面の平滑化が困難になる。一方、端面を平滑化するためには、剛性が相対的に低い毛のブラシを用いてブラシ傷が残らないようにすることが好ましい。しかし、剛性が相対的に低い毛のブラシを用いると、研磨速度が低くなるので、生産性が低下する。つまり、端面の加工傷を短時間で除去することと、端面を高品質に平滑化することとの両立が困難という問題があった。
【０００５】
この問題に対処するため、特許文献１には、研磨ブラシを用いてガラス基板の端面を研磨する端面研磨工程を、第１の研磨工程と第２の研磨工程とに分け、それぞれ異なる研磨条件でガラス基板の端面を研磨することが記載されている。具体的には、第２の研磨工程では、第１の研磨工程よりも剛性が低い研磨ブラシを用いることが記載されている。これによれば、剛性が相対的に高い研磨ブラシを用いる第１の研磨工程では、研磨代が相対的に大きい端面の加工傷を短時間で除去することができ、剛性が相対的に低い研磨ブラシを用いる第２の研磨工程では、ブラシ傷が残らないように端面を平滑化することができる。
【０００６】
また、特許文献２には、ガラス基板の内周端面の斜面部（面取り部）を研磨ブラシを用いて研磨した後、内周端面の側壁部を研磨パッドを用いて研磨することが記載されている。具体的には、ガラス基板の円孔に研磨ブラシを挿入して内周端面を研磨した後、ガラス基板の円孔に研磨パッドを挿入して内周端面を研磨することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−２７３７７７号公報（段落００１９、００４１）
【特許文献２】特開２００７−１９７２３５号公報（段落００１０、００４１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特許文献１に記載の技術では、第１の研磨工程と第２の研磨工程とを行うためには、例えば、第１の研磨工程を行うための剛性が相対的に高い研磨ブラシが備えられた端面研磨装置から、第２の研磨工程を行うための剛性が相対的に低い研磨ブラシが備えられた端面研磨装置へガラス基板を移動しなければならない。あるいは、単一の端面研磨装置において、第１の研磨工程を行うための研磨ブラシと第２の研磨工程を行うための研磨ブラシとを交換しなければならない。そのため、ガラス基板の端面研磨装置間の移動やブラシの交換に時間がかかり、生産性が低下する可能性がある。また、ガラス基板の端面研磨装置間の移動の際にガラス基板に傷がつき、収率が低下して生産コストが上昇する可能性がある。
【０００９】
また、特許文献２に記載の技術では、研磨ブラシを用いて研磨した後は、研磨ブラシを円孔から抜き取り、代わりに、研磨パッドを円孔に挿入するので、ブラシとパッドとの交換に時間がかかり、生産性が低下する。
【００１０】
本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の端面研磨装置間の移動やブラシの交換をすることなく、端面の加工傷を短時間で除去し、かつ端面を高品質に平滑化することが可能な端面研磨工程を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、ガラス基板の内周端面及び／又は外周端面をブラシを用いて研磨する端面研磨工程を含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、ブラシは、回転自在の軸心と、軸心の周囲に配置されたブラシ部とを有し、ブラシ部は、剛性が相対的に高く、軸心からブラシ部の先端までの長さが相対的に短い第１のブラシ部と、剛性が相対的に低く、軸心からブラシ部の先端までの長さが相対的に長い第２のブラシ部とを少なくとも備え、端面研磨工程は、第１の研磨段階と、第２の研磨段階とをこの順に含み、第１の研磨段階では、第１のブラシ部と第２のブラシ部とをガラス基板の端面に接触させてブラシを軸心周りに回転させ、第２の研磨段階では、ガラス基板の端面とブラシの軸心との間の距離が第１の研磨段階よりも長くなった状態で、第２のブラシ部のみをガラス基板の端面に接触させてブラシを軸心周りに回転させることを特徴とする。
【００１２】
この構成によれば、端面研磨工程の第１研磨段階では、剛性が相対的に高い第１ブラシ部と、剛性が相対的に低い第２ブラシ部との両方で、ガラス基板の内周端面及び／又は外周端面を研磨するので、研磨代が相対的に大きい端面の加工傷を短時間で除去することができる。次に、端面研磨工程の第２研磨段階では、剛性が相対的に低い第２ブラシ部のみで、ガラス基板の内周端面及び／又は外周端面を研磨するので、ブラシ傷が残らないように端面を高品質に平滑化することができる。しかも、第１研磨段階から第２研磨段階への切替えが、ガラス基板の端面とブラシの軸心との間の距離が長くなることなので、ガラス基板を単一の端面研磨装置にセッティングしたままでよく、ガラス基板を端面研磨装置間で移動させたりブラシを交換する必要がない。その結果、生産性の低下や生産コストの上昇を抑制できる。
【００１３】
なお、ガラス基板の端面とブラシの軸心との間の距離が長くなった状態は、例えば、ガラス基板の端面とブラシの軸心との間の距離が長くなるようにガラス基板及び／又はブラシを相対移動させることによって達成することができるが、ガラス基板及び／又はブラシを相対移動させなくても達成することができる。すなわち、第１ブラシ部による研磨が支配的である第１研磨段階での端面研磨が進むにつれて、ガラス基板の端面が徐々に後退し、ガラス基板の端面とブラシの軸心との間の距離が徐々に長くなるからである。そして、ガラス基板の端面と第１ブラシ部との接触量が少なくなり、第１ブラシ部が伸びた状態となって、第２ブラシ部による研磨が支配的となったときに、第１研磨段階から第２研磨段階への切替えが起ったことになる。
【００１４】
本発明においては、端面研磨工程では、複数のガラス基板を中心を合わせつつ厚み方向に積み重ねて（束ねて）研磨することが好ましい。複数のガラス基板の端面を一度に研磨することができ、研磨効率が上がり、生産性が向上するからである。
【００１５】
本発明においては、端面研磨工程では、砥粒を含む研磨液の槽にガラス基板及びブラシを浸漬して研磨することが好ましい。ガラス基板とブラシとの接触部（研磨部）に研磨液を常に供給することが容易にできるからである。
【００１６】
また、本発明においては、端面研磨工程では、砥粒を含む研磨液をガラス基板とブラシとの接触部に供給しつつ研磨することも好ましい。研磨部に常に一定の径の砥粒を供給することができ、バッチ数が増えてもガラス基板の品質が安定するからである。
【００１７】
その場合に、端面研磨工程では、端面研磨の進み具合に応じて研磨液に含まれる砥粒の径を小さいものに変更することが好ましい。第２研磨段階で砥粒の径が小さくなるので、端面をより一層高品質に平滑化することができるからである。
【００１８】
本発明によれば、ガラス基板の端面は、面取り加工されていることが好ましい。ガラス基板の主面と端面との間の角部の欠け（チッピング）等が抑制されるからである。また、複数のガラス基板を束ねて研磨するときに、第１研磨段階において、剛性が相対的に高い第１ブラシ部で端面研磨を支配的に行いつつ、長さが相対的に長い第２ブラシ部で研磨屑を面取り加工部（チャンファ面）から掻き出すことができるからである。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の端面研磨工程において、ガラス基板の端面研磨装置間の移動やブラシの交換をすることなく、端面の加工傷を短時間で除去し、かつ端面を高品質に平滑化することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施形態に係る磁気記録媒体用ガラス基板の製造工程図である。
【図２】本発明の実施形態に係る磁気記録媒体用ガラス基板の断面斜視図である。
【図３】本発明の実施形態に係る端面研磨工程で用いられ得る端面研磨装置（浸漬型）の概略構成を示す縦断面図である。
【図４】図３に示した端面研磨装置におけるガラス基板及びブラシの回転方向を示す平面図である。
【図５】本発明の実施形態に係る端面研磨工程の（ａ）第１研磨段階におけるガラス基板とブラシとの接触部（研磨部）の拡大図、（ｂ）第２研磨段階における研磨部の拡大図である。
【図６】第１ブラシ毛の長さ、第２ブラシ毛の長さ、ガラス基板の内周端面とブラシの軸心との間の距離等の各種寸法関係の説明図である。
【図７】本発明の実施形態で用いられ得るブラシの説明図であって、（ａ）ブラシ毛が軸心に螺旋状に植毛された螺旋ブラシの側面図、（ｂ）ブラシ毛が軸心に並列状に植毛された羽根ブラシの斜視図、（ｃ）ブラシ毛が軸心に無秩序に植毛された密集ブラシの平面図である。
【図８】本発明の実施形態で用いられ得るブラシのブラシ毛の説明図であって、（ａ）〜（ｅ）は第１ブラシ毛と第２ブラシ毛とを相互に異なるパターンで備えるブラシ毛の展開図である。
【図９】本発明の実施形態で用いられ得るブラシのブラシ毛の説明図であって、（ａ）〜（ｆ）は相互に異なる形状のブラシ毛の展開図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る端面研磨工程で用いられ得る端面研磨装置（シャワー型）の概略構成を示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施形態を説明する。図１は、本実施形態に係る磁気記録媒体用ガラス基板の製造工程図、図２は、本実施形態に係る磁気記録媒体用ガラス基板の断面斜視図である。
【００２２】
本実施形態では、磁気記録媒体用ガラス基板１０は、ガラス溶融工程（ステップＳ１）、プレス成形工程（ステップＳ２）、コアリング工程（ステップＳ３）、第１ラッピング工程（ステップＳ４）、端面研削工程（ステップＳ５）、端面研磨工程（ステップＳ６）、第２ラッピング工程（ステップＳ７）、ポリッシング工程（ステップＳ８）、及び、洗浄工程（ステップＳ９）を経て製造される。
【００２３】
ガラス溶融工程（Ｓ１）では、ガラス素材を溶融する。ガラス素材は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を主成分とするガラス組成物で構成される。ガラス組成物は、マグネシウム、カルシウム及び／又はセリウムを含んでも含まなくてもよい。代表的なガラス組成物は、例えば、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯ等を含む。
【００２４】
プレス成形工程（Ｓ２）では、溶融したガラス素材を金型に流し込んでプレス成形することにより円盤状のガラス基板を作製する。このときのガラス基板の寸法としては、例えば、外径が２．５インチ、１．８インチ、１．０インチ、０．８インチ等、厚みが、２ｍｍ、１ｍｍ、０．６３ｍｍ等である。
【００２５】
コアリング工程（Ｓ３）では、得られたガラス基板の中心に例えばダイヤモンドコアドリルを用いて円孔を形成する。第１ラッピング工程（Ｓ４）では、得られた環状のガラス基板１０の主面（記録面）１１，１２を研削加工してガラス基板１０の厚みや平行度及び平坦度等を予備調整する。第１ラッピング工程の研削加工には、例えばダイヤモンドペレットが貼り付けられた研削板を備える両面研削装置が用いられる。
【００２６】
端面研削工程（Ｓ５）では、ガラス基板１０の内周端面１３及び外周端面１４を研削加工してガラス基板１０の外径寸法や真円度等を微調整する。端面研削工程では、また、ガラス基板１０の内周端面１３及び外周端面１４を例えばダイヤモンド砥石を用いて面取り加工し、チャンファ面１６を形成する。内周端面１３及び外周端面１４において、チャンファ面１６，１６に挟まれた部分を側壁面１５と呼ぶ。
【００２７】
端面研磨工程（Ｓ６）では、ガラス基板１０の内周端面１３及び外周端面１４を研磨して平滑化する。後述するように、端面研磨工程では、図３に示す端面研磨装置２０が用いられ、第１研磨段階と第２研磨段階とが行われる。
【００２８】
第２ラッピング工程（Ｓ７）では、ガラス基板１０の主面１１，１２を再び研削加工してガラス基板１０の厚みや平行度及び平坦度等を微調整する。第２ラッピング工程の研削加工には、例えばダイヤモンドペレットが貼り付けられた研削板を備える両面研削装置が用いられる。ポリッシング工程（Ｓ８）では、ガラス基板１０の主面１１，１２を研磨して平滑化する。ポリッシング工程の研磨には、例えば研磨パッドとしてスウェードパッドが貼り付けられた上下一対の定盤を備える両面研磨装置が用いられる。
【００２９】
洗浄工程（Ｓ９）では、ガラス基板１０に付着している異物を、例えば、フィルタリングした純水、イオン交換水、超純水、酸性洗剤、中性洗剤、アルカリ性洗剤、有機溶剤、界面活性剤を含んだ各種洗浄剤等を用いて、洗浄し、除去する。
【００３０】
この他に、ガラス基板１０の表面を強化する化学強化工程や、ガラス基板１０の厚みや平坦度等を検査する検査工程等を行ってもよい。そして、これらの工程を経て製造されたガラス基板１０は、最終的に主面１１，１２に磁気層が形成されて、ハードディスク（ＨＤ）等の磁気記録媒体とされる。
【００３１】
以下、本実施形態の特徴部分である端面研磨工程（Ｓ６）を詳しく説明する。図３は、本実施形態に係る端面研磨工程で用いられ得る端面研磨装置（浸漬型）の概略構成を示す縦断面図、図４は、前記端面研磨装置におけるガラス基板及びブラシの回転方向を示す平面図、図５（ａ）は、本実施形態に係る端面研磨工程の第１研磨段階におけるガラス基板とブラシとの接触部（研磨部）の拡大図、図５（ｂ）は、同じく第２研磨段階における研磨部の拡大図である。
【００３２】
図３に示すように、浸漬型の端面研磨装置２０は、研磨液槽２１を有し、この研磨液槽２１の中に、砥粒（遊離砥粒：図示せず）を含む研磨液２２が溜められている。そして、この研磨液２２の中に、ガラス基板１０が浸漬されている。ガラス基板１０は、複数のガラス基板１０…１０を中心を合わせつつ厚み方向に積み重ねたガラス基板１０の束として浸漬されている。ガラス基板１０の束は治具２３で保持され、円孔を中心に回転自在に端面研磨装置２０にセッティングされている。
【００３３】
研磨液２２の中に、さらに、複数（図例では３つ）のブラシ３１，３２，３３が浸漬されている。各ブラシ３１，３２，３３は、回転自在の軸心３１ａ，３２ａ，３３ａと、軸心の周囲に配置されたブラシ部３１ｂ，３２ｂ，３３ｂとを有している。そして、ブラシ３１は、ガラス基板１０の束の円孔の中に配置され、ブラシ３２，３３は、ガラス基板１０の束の外周端面１４の側方に配置されている。各ブラシ３１，３２，３３は、駆動モータ３１ｍ，３２ｍ，３３ｍにより回転される。
【００３４】
図４に示すように、ガラス基板１０は矢印ａ方向に回転され、ブラシ３１は矢印ｂ方向に回転され、ブラシ３２は矢印ｃ方向に回転され、ブラシ３３は矢印ｄ方向に回転される。この結果、ガラス基板１０とブラシ３１，３２，３３とが接触したときには、その接触部（研磨部）では、ガラス基板１０の回転方向とブラシ３１，３２，３３の回転方向とは相互に逆向きになる。
【００３５】
なお、本実施形態では、低回転で研磨効率を上げるために、ガラス基板１０の回転方向とブラシ３１〜３３の回転方向とは相互に逆向きとしたが、ブラシ３１，３２，３３の先端とガラス基板１０の端面１３，１４との間に研磨に十分な速度差が生じるのであれば、同じ向きでも構わない。例えば、ガラス基板１０の周速度に比べてブラシ３１，３２，３３の周速度が十分研磨が行える程度に大きい場合や、その逆に、ブラシ３１，３２，３３の周速度に比べてガラス基板１０の周速度が十分研磨が行える程度に大きい場合等が該当する。
【００３６】
本実施形態では、ブラシ３１，３２，３３は軸心３１ａ，３２ａ，３３ａを中心に回転自在であると共に、図３において、図外の駆動機構により、横方向（水平方向）及び縦方向（上下方向）に移動自在に構成されている。そして、ブラシ３１，３２，３３が横方向に移動されて、ブラシ３１，３２，３３がガラス基板１０と接触したときには、その接触部において、ガラス基板１０の内周端面１３及び外周端面１４がブラシ３１，３２，３３によって研磨されることになる。
【００３７】
本実施形態では、研磨液２２は遊離砥粒を含むスラリーである。砥粒としては、特に限定されず、従来一般にガラス研磨の分野で採用されているものを用いることができる。例えば、酸化セリウム、炭化ケイ素、シリカ、ジルコニア、アルミナ等が好ましく用いられ得る。これらの中では、コストや得られる平滑度等の観点から、酸化セリウムがより好ましい。砥粒の粒径は、得られる平滑度等の観点から、平均粒子径が１〜３μｍ程度のものが好ましく、０．９〜１．３μｍ程度のものがより好ましい。
【００３８】
本実施形態では、図５（図例はブラシとしてブラシ３１を例示するが他のブラシ３２，３３でも同様／図例はガラス基板１０の端面として内周端面１３を例示するが外周端面１４でも同様）に示すように、ブラシ３１のブラシ部３１ｂは、ブラシ毛で構成されている。ブラシ毛３１ｂの素材は、特に限定されないが、例えば、ナイロン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステル、ポリカーボネート等が好ましく用いられ得る。ブラシ毛３１ｂをこのような合成樹脂で作製することによって、ブラシ毛３１ｂの中に、研磨液２２で使用される砥粒と同様の砥粒を含ませておくことができる。
【００３９】
図５に示すように、ブラシ毛３１ｂは、ブラシ３１の軸心３１ａからブラシ毛の先端までの長さが相対的に短い第１ブラシ毛（第１ブラシ部）３１ｃと、ブラシ３１の軸心３１ａからブラシ毛の先端までの長さが相対的に長い第２ブラシ毛（第２ブラシ部）３１ｄとを備えている。そして、第１ブラシ毛３１ｃは剛性が相対的に高く、第２ブラシ毛３１ｄは剛性が相対的に低くされている。
【００４０】
端面研磨工程では、第１研磨段階と第２研磨段階とがこの順に行われる。第１研磨段階では、図５（ａ）に示すように、ガラス基板１０の端面１３とブラシ３１の軸心３１ａとの間の距離を相対的に短くした状態で、第１ブラシ毛３１ｃと第２ブラシ毛３１ｄとをガラス基板１０の端面１３に接触させてブラシ３１を軸心３１ａ周りに回転させる。これにより、剛性が相対的に高い第１ブラシ毛３１ｃと、剛性が相対的に低い第２ブラシ毛３１ｄとの両方で、ガラス基板１０の端面１３が研磨されるので（第１ブラシ毛３１ｃによる研磨が支配的である）、研磨代が相対的に大きい端面１３の加工傷を短時間で除去することができる。
【００４１】
次に、第２研磨段階では、図５（ｂ）に示すように、ガラス基板１０の端面１３とブラシ３１の軸心３１ａとの間の距離を相対的に長くした状態で、第２ブラシ毛３１ｄのみをガラス基板１０の端面１３に接触させてブラシ３１を軸心３１ａ周りに回転させる。これにより、剛性が相対的に低い第２ブラシ毛３１ｄのみで、ガラス基板１０の端面１３が研磨されるので、ブラシ傷が残らないように端面１３を高品質に平滑化することができる。
【００４２】
なお、ガラス基板１０の端面１３とブラシ３１の軸心３１ａとの間の距離を相対的に短くした状態あるいは長くした状態は、ブラシ３１及び／又はガラス基板１０を横方向（水平方向）に移動してブラシ３１とガラス基板１０との横方向（水平方向）の相対位置を調整することにより達成される。もっとも、第１ブラシ毛３１ｃによる研磨が支配的である第１研磨段階での端面研磨が進むにつれて、ガラス基板１０の端面１３が徐々に後退し、ガラス基板１０の端面１３とブラシ３１の軸心３１ａとの間の距離が徐々に長くなるから、ブラシ３１及び／又はガラス基板１０を横方向（水平方向）に相対移動させなくても、第１研磨段階から第２研磨段階への切替えが自動的に達成されることになる。すなわち、第１研磨段階での端面研磨が進み、ガラス基板１０の端面１３と第１ブラシ毛３１ｃとの接触量が少なくなり、第１ブラシ毛３１ｃが伸びた状態となって、第２ブラシ毛３１ｄによる研磨が支配的となったときに、第１研磨段階から第２研磨段階への切替えが起ったことになる。
【００４３】
なお、図５は、ガラス基板１０の端面１３の側壁面１５と第１ブラシ毛３１ｃとが対応し、チャンファ面１６と第２ブラシ毛３１ｄとが対応するように示されているが、これに限らず、例えば、図５（ａ）において、側壁面１５にも第２ブラシ毛３１ｄが接触し、チャンファ面１６にも第１ブラシ毛３１ｃが接触してもよいし、図５（ｂ）において、側壁面１５にも第２ブラシ毛３１ｄが接触してもよい。
【００４４】
図４を再び参照する。例えばブラシ３２が図面上左へ移動すると、ブラシ３２はガラス基板１０の外周端面１４に接触する。ガラス基板１０がａ方向に回転し、ブラシ３２がｃ方向に回転しているので、ブラシ３２とガラス基板１０とが１点で接触していても、ガラス基板１０の外周端面１４は全周に亘って研磨される。他のブラシ３１，３３についても同様である。さらに、ガラス基板１０の円孔の中に配置されたブラシ３１については、ブラシ３１の径、すなわち、図６を参照すると、長さが相対的に短い第１ブラシ毛３１ｃ及び長さが相対的に長い第２ブラシ毛３１ｄを含むブラシ毛３１ｂ全体の外径（Ｒ２）が、ガラス基板１０の内径（ｒ）、すなわち、円孔の径よりも小さいことが好ましい（図６における「（ｉ）Ｒ２＜ｒが好ましく」参照）。これにより、端面研磨工程において、第１研磨段階であれ、第２研磨段階であれ、ブラシ３１を円孔の中心からいずれかの側に偏倚させたときに、ブラシ３１とガラス基板１０とが１点でのみ接触することが確保されるからである。もっとも、同じく図６を参照すると、状況に応じて、ブラシ毛３１ｂのうち、第１ブラシ毛３１ｃの外径（Ｒ１）は円孔の径（ｒ）よりも小さいが、第２ブラシ毛３１ｄの外径（Ｒ２）が円孔の径（ｒ）と同じかそれよりも大きくても構わない場合がある（図６における「（ｉｉ）Ｒ１＜ｒ，Ｒ２≧ｒでもよい」参照）。これによれば、端面研磨工程において、ブラシ３１を円孔の中心に戻したときでも、ブラシ３１の第２ブラシ毛３１ｄとガラス基板１０の内周端面１３とが全周に亘って接触し、第２研磨段階が行われることになる。そして、ブラシ３１を円孔の中心からいずれかの側に偏倚させたときに、第１ブラシ毛３１ｃが内周端面１３と１点で接触し、第１研磨段階が行われることになる。
【００４５】
図６において、第１ブラシ毛３１ｃの長さ（ブラシ３１の軸心３１ａから第１ブラシ毛３１ｃの先端までの長さ）Ｈ１は、軸心３１ａの直径をＲとすると、「（Ｒ１−Ｒ）／２」で表される。同様に、第２ブラシ毛３１ｄの長さ（ブラシ３１の軸心３１ａから第２ブラシ毛３１ｄの先端までの長さ）Ｈ２は、軸心３１ａの直径をＲとすると、「（Ｒ２−Ｒ）／２」で表される。図６において、符号ｘは、ガラス基板１０の内周端面１３とブラシ３１の軸心３１ａとの間の距離を表し、符号ｙは、ブラシ３１を円孔内でいずれかの側に偏倚させたときの接触部（研磨部）におけるブラシ毛３１ｂのオーバーラップ量を表し（図例は第２ブラシ毛３１ｄのみがオーバーラップしている場合（第２研磨段階）を示しているが、第１研磨段階では第１ブラシ毛３１ｃ及び第２ブラシ毛３１ｄの両方がオーバーラップする。）、ここで「ｘ＋ｙ＝Ｈ２」の関係がある。
【００４６】
本実施形態では、第１研磨段階から第２研磨段階への切替えが、ガラス基板１０の内周端面１３及び外周端面１４とブラシ３１，３２，３３の軸心３１ａ，３２ａ，３３ａとの間の距離が長くなることなので、ガラス基板１０を単一の端面研磨装置２０にセッティングしたままでよく、ガラス基板１０を端面研磨装置間で移動させたりブラシを交換する必要がない。その結果、作業数が多くなることによる生産性の低下や、収率が低下することによる生産コストの上昇を抑制できる。
【００４７】
本実施形態では、端面研磨工程において、複数のガラス基板１０…１０を中心を合わせつつ厚み方向に積み重ねて（束ねて）研磨するので、複数のガラス基板１０…１０の内周端面１３…１３及び外周端面１４…１４を一度に研磨することができ、研磨効率が上がり、生産性が向上する。
【００４８】
本実施形態では、端面研磨工程において、浸漬型の端面研磨装置２０を用い、砥粒（遊離砥粒）を含む研磨液２２の槽２１にガラス基板１０及びブラシ３１，３２，３３を浸漬して研磨するので、ガラス基板１０とブラシ３１，３２，３３との接触部（研磨部）に研磨液２２を常に供給することが容易にできる。
【００４９】
本実施形態では、ガラス基板１０の内周端面１３及び外周端面１４は、面取り加工されてチャンファ面１６が形成されているので、ガラス基板１０の主面１１，１２と端面１３，１４との間の角部の欠け（チッピング）等が抑制される。また、端面研磨工程において、複数のガラス基板１０…１０を束ねて研磨するときに、第１研磨段階において、剛性が相対的に高い第１ブラシ毛で端面研磨を支配的に行いつつ、長さが相対的に長い第２ブラシ毛で研磨屑を面取り加工部（チャンファ面１６）から掻き出すことができる（図５（ａ）参照）。
【００５０】
なお、ガラス基板１０の端面１３，１４にチャンファ面１６が形成されている場合に、端面研磨工程の第１研磨段階において、第１ブラシ毛及び第２ブラシ毛の両方が側壁面１５及びチャンファ面１６の両方に接触してもよく、第１ブラシ毛が側壁面１５にのみ接触しつつ第２ブラシ毛が側壁面１５及びチャンファ面１６の両方に接触してもよく、第１ブラシ毛及び第２ブラシ毛の両方が側壁面１５にのみ接触してもよい。また、端面研磨工程の第２研磨段階において、第２ブラシ毛が側壁面１５及びチャンファ面１６の両方に接触してもよく、第２ブラシ毛が側壁面１５にのみ接触してもよい。
【００５１】
端面研磨工程において、複数のガラス基板１０…１０を束ねて研磨するときに、各ガラス基板１０の端面１３，１４の品質の均一化を図る観点から、端面１３，１４に接触して回転しているブラシ３１，３２，３３を縦方向（上下方向）に往復移動させることが好ましい。
【００５２】
本実施形態では、端面研磨工程において、ガラス基板１０の内周端面１３と外周端面１４とを複数のブラシを用いて同時に研磨するようにしたが、これに限らず、内周端面１３と外周端面１４とを別々に研磨してもよい。また、ブラシの数も限定されない。
【００５３】
本実施形態では、端面研磨工程において、第１研磨段階と第２研磨段階とを行うようにしたが、これに限らず、第２研磨段階の後に、第３研磨段階、第４研磨段階、…を行ってもよい。つまり、端面１３，１４の加工傷を除去するための研磨、及び／又は、端面１３，１４を平滑化するための研磨を複数の段階に分けて行ってもよい。例えば、第１ブラシ毛と第２ブラシ毛との両方を使ってガラス基板１０の端面１３，１４を研磨する場合に（加工傷を除去するための研磨）、ブラシの回転速度、端面１３，１４とブラシの軸心との間の距離、研磨液２２の砥粒の粒径等を変化させることにより、異なる研磨条件で段階的に研磨してもよく、同様に、第２ブラシ毛のみを使ってガラス基板１０の端面１３，１４を研磨する場合に（端面を平滑化するための研磨）、ブラシの回転速度、端面１３，１４とブラシの軸心との間の距離、研磨液２２の砥粒の粒径等を変化させることにより、異なる研磨条件で段階的に研磨してもよい。また、これに合わせて、ブラシの方も、第１ブラシ毛及び第２ブラシ毛と長さや剛性が異なる第３ブラシ毛、第４ブラシ毛、…をさらに備えてもよい。
【００５４】
本実施形態では、ブラシ毛の中に砥粒を含ませておく場合、長さが相対的に長いブラシ毛ほど粒径のより小さい砥粒を含ませておくことが、端面をより一層高品質に平滑化することができるので好ましい。
【００５５】
本実施形態では、端面研磨工程における研磨代（第１研磨段階及び第２研磨段階を通しての総研磨量）は、例えば３０〜６０μｍ程度である。
【００５６】
次に、図７、図８を参照して、本実施形態で用いられ得るブラシの具体的態様を説明する。なお、図７、図８は、ブラシとしてブラシ３１を例示するが他のブラシ３２，３３でも同様である。
【００５７】
本実施形態で用いられ得るブラシとしては、図７（ａ）に例示するように、ブラシ毛３１ｂが軸心３１ａに螺旋状に植毛された螺旋ブラシでもよいし、図７（ｂ）に例示するように、ブラシ毛３１ｂが軸心３１ａに並列状に植毛された羽根ブラシでもよいし、図７（ｃ）に例示するように、ブラシ毛３１ｂが軸心３１ａに無秩序に植毛された密集ブラシでもよい。また、軸心３１ａへのブラシ毛３１ｂの固定方法は、植毛式に限るものではなく、その他の方法、例えば、チャネル式、ねじり式、あるいはこれらの組み合わせ等、ブラシ毛を軸心に固定するために従来一般に用いられる方法を限定なく採用することができる。
【００５８】
図７（ａ）に例示した螺旋ブラシにおいては、ブラシ毛３１ｂの螺旋は２条であるが、１条でもよく、３条以上でもよい。条間のピッチも特に限定されないが、複数のガラス基板１０…１０を束ねて研磨するときに、各ガラス基板１０の端面１３，１４の品質の均一化を図る観点から、ブラシの軸方向に連続して同じピッチであることが好ましい。
【００５９】
ブラシ毛３１ｂの螺旋が１条の場合は、その１条の中に第１ブラシ毛及び第２ブラシ毛が混在しなければならない。ブラシ毛３１ｂの螺旋が２条以上の場合は、第１ブラシ毛のみを含む条と、第２ブラシ毛のみを含む条とに分けることができる。もちろん、ブラシ毛３１ｂの螺旋が２条以上の場合においても、第１ブラシ毛及び第２ブラシ毛が混在した条を用いることができる。これらの場合においても、複数のガラス基板１０…１０を束ねて研磨するときに、各ガラス基板１０の端面１３，１４の品質の均一化を図る観点から、第１ブラシ毛と第２ブラシ毛との比率（比率それ自体は問題ではない）は、ブラシの軸方向に連続して同じ比率であることが好ましい。第１ブラシ毛及び第２ブラシ毛が混在した条の具体例は図８を参照して後述する。
【００６０】
図７（ｂ）に例示した羽根ブラシにおいては、ブラシ毛３１ｂの列は４列であるが、これに限定されない。状況に応じて１列でもよいが、通常は２列以上が好ましい。また、ブラシ毛３１ｂの列は等間隔（等角度）で軸心３１ａに割り付けられているが（対称）、相互に異なる間隔（角度）で割り付けられてもよい（非対称）。対称の場合は、ブラシの製造が容易となる。非対称の場合は、ブラシ毛３１ｂがガラス基板１０の端面１３，１４に一定周期で当接を繰り返すことに起因して発生する共振振動の防止が図られる。また、図７（ｂ）においては、ブラシ毛３１ｂは軸心３１ａに垂直に（法線方向に）植毛されているが、ブラシ毛３１ｂの先端がブラシの回転方向の下流側に傾斜して植毛されてもよい。ただし、ブラシが正・逆の両方向に回転される場合は、ブラシ毛３１ｂは軸心３１ａに垂直に植毛されることが好ましい。
【００６１】
ブラシ毛３１ｂの列が１列の場合は、その１列の中に第１ブラシ毛及び第２ブラシ毛が混在しなければならない。ブラシ毛３１ｂの列が２列以上の場合は、第１ブラシ毛のみを含む列と、第２ブラシ毛のみを含む列とに分けることができる。もちろん、ブラシ毛３１ｂの列が２列以上の場合においても、第１ブラシ毛及び第２ブラシ毛が混在した列を用いることができる。これらの場合においても、複数のガラス基板１０…１０を束ねて研磨するときに、各ガラス基板１０の端面１３，１４の品質の均一化を図る観点から、第１ブラシ毛と第２ブラシ毛との比率（比率それ自体は問題ではない）は、ブラシの軸方向に連続して同じ比率であることが好ましい。第１ブラシ毛及び第２ブラシ毛が混在した列の具体例は図８を参照して後述する。
【００６２】
図７（ｃ）に例示した密集ブラシにおいては、ブラシ毛３１ｂの密度は特に限定されないが、複数のガラス基板１０…１０を束ねて研磨するときに、各ガラス基板１０の端面１３，１４の品質の均一化を図る観点から、ブラシの軸方向に連続して同じ密度であることが好ましい。
【００６３】
図８（ａ）〜（ｅ）は、本実施形態で用いられ得るブラシのブラシ毛の展開図である。より詳しくは、第１ブラシ毛と第２ブラシ毛とが相互に異なるパターンで混在するブラシ毛の展開図である。例えば、図８（ａ）〜（ｅ）に示す各ブラシ毛３１ｂを条として軸心３１ａに螺旋状に巻き付けることにより、図７（ａ）に例示した螺旋ブラシが得られる。また、図８（ａ）〜（ｅ）に示す各ブラシ毛３１ｂを列として軸心３１ａに並列状に取り付けることにより、図７（ｂ）に例示した羽根ブラシが得られる。
【００６４】
図８（ａ）は、第１ブラシ毛３１ｃと第２ブラシ毛３１ｄとが１本おきに交互に１：１の比率で配置されている例である。図８（ｂ）は、第１ブラシ毛３１ｃと第２ブラシ毛３１ｄとが複数本（図例では２本）おきに交互に１：１の比率で配置されている例である。図８（ｃ）は、第１ブラシ毛３１ｃと第２ブラシ毛３１ｄとが規則的に１：２の比率で配置されている例である。図８（ｄ）は、第１ブラシ毛３１ｃと第２ブラシ毛３１ｄとが不規則に配置されている例である（第１ブラシ毛と第２ブラシ毛との比率は問わない）。図８（ｅ）は、１本の毛が軸心３１ａ側の第１ブラシ毛３１ｃと反軸心３１ａ側の第２ブラシ毛３１ｄとで構成されている例である。図７（ａ）に例示した螺旋ブラシ又は図７（ｂ）に例示した羽根ブラシを製造するときは、これらのブラシ毛３１ｂの１つ又は２つ以上を組み合わせて使用してもよく、さらに、第１ブラシ毛のみを含むブラシ毛及び／又は第２ブラシ毛のみを含むブラシ毛を組み合わせて使用してもよい。
【００６５】
本実施形態では、第２ブラシ毛３１ｄが第１ブラシ毛３１ｃよりも長いことを条件に、第１ブラシ毛３１ｃの長さは例えば３〜７ｍｍ程度、第２ブラシ毛３１ｄの長さは例えば５〜９ｍｍ程度である。第１ブラシ毛３１ｃと第２ブラシ毛３１ｄとの長さの比率は特に限定されないが、２：３（例えば第１ブラシ毛３１ｃが４ｍｍ：第２ブラシ毛３１ｄが６ｍｍ）程度が好ましい。図８（ｅ）の場合は、太い部分の長さが例えば３〜７ｍｍ程度、全体の長さが例えば５〜９ｍｍ程度が好ましい。
【００６６】
本実施形態では、第１ブラシ毛３１ｃが第２ブラシ毛３１ｄよりも剛性が高くされている。そのためには、例えば、第１ブラシ毛３１ｃと第２ブラシ毛３１ｄとを同じ素材で作製し、図５、図８に示したように、第１ブラシ毛３１ｃを第２ブラシ毛３１ｄよりも径を太くすればよい。例えば、第１ブラシ毛３１ｃが第２ブラシ毛３１ｄよりも径が太いことを条件に、第１ブラシ毛３１ｃの太さ（径）は例えば０．３〜０．７ｍｍ程度、第２ブラシ毛３１ｄの太さ（径）は例えば０．１〜０．５ｍｍ程度である。あるいは、第１ブラシ毛３１ｃを第２ブラシ毛３１ｄよりも剛性が高い素材で作製すればよい。例えば、第１ブラシ毛３１ｃを第２ブラシ毛３１ｄよりも剛性が高い樹脂で作製してもよく、第１ブラシ毛３１ｃの表面をコーティング処理して剛性を高めてもよく、第１ブラシ毛３１ｃに弾性に富む金属の芯材を埋め込んでもよく、これらを組み合わせてもよい。
【００６７】
図９を参照してさらに説明する。図５、図８に示したブラシ毛３１ｂは、第１ブラシ毛３１ｃであれ、第２ブラシ毛３１ｄであれ、ブラシ毛の先端の形状を平坦形状としたが、これに限るものではなく、例えば、図９（ａ）に示すように、角形状でもよく、図９（ｂ）に示すように、円弧形状でもよい。また、図９（ｃ）に示すように、先端が本体部分よりも膨出した形状でもよい（基部や中間部が膨出形状でもよい）。さらに、図５、図８に示したブラシ毛３１ｂは、第１ブラシ毛３１ｃであれ、第２ブラシ毛３１ｄであれ、ブラシ毛の太さを基部から先端まで一定としたが、これに限るものではなく、例えば、図９（ｄ）に示すように、基部が先端よりも太くてもよく、図９（ｅ）に示すように、先端が基部よりも太くてもよい（中間部が先端や基部よりも太くてもよい）。さらに、図５、図８に示したブラシ毛３１ｂは、第１ブラシ毛３１ｃであれ、第２ブラシ毛３１ｄであれ、ブラシ毛の形状を直毛形状としたが、これに限るものではなく、例えば、図９（ｆ）に示すように、波形状等、従来一般に用いられる他の形状とすることもできる。そして、これらの各形状を状況に応じて種々組み合わせて用いても構わない。
【００６８】
本実施形態では、端面研磨工程において、図３に示した浸漬型の端面研磨装置２０を用いたが、これに代えて、図１０に示すようなシャワー型の端面研磨装置５０を用いてもよい。この端面研磨装置５０では、研磨液噴出ノズル５１から砥粒（遊離砥粒）を含む研磨液がガラス基板１０とブラシ３１，３２，３３との接触部（研磨部）に供給されつつ（矢印参照）、端面１３，１４が研磨される。これによれば、研磨部に常に一定の径の砥粒を供給することができ、バッチ数が増えてもガラス基板１０の品質が安定するという利点がある。
【００６９】
シャワー型の端面研磨装置５０を用いる場合、端面研磨の進み具合に応じて研磨液に含まれる砥粒の径を小さいものに変更することが好ましい。第２研磨段階で砥粒の径が小さくなるので、端面をより一層高品質に平滑化することができるからである。
【００７０】
研磨液に含まれる砥粒の径を途中で変更する場合、図７（ｂ）に示した羽根ブラシは、前に使用された研磨液がブラシ及び研磨部に残り難い構造なので好ましい。また、図７（ａ）に示した螺旋ブラシも、スクリューフィーダーの要領で前に使用された研磨液がブラシから排出されるから、前に使用された研磨液がブラシ及び研磨部に残り難く、好ましく用いられ得る。
【００７１】
なお、使用後の研磨液は回収されて再調製された後、循環使用される。
【実施例】
【００７２】
以下、実施例を通して、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこの実施例により限定されるものではない。
【００７３】
（ガラス基板の作製）
図１に示した製造工程に従い、従来一般に使用されるアルミノシリケートガラスの素材を用いて、ガラス溶融工程（Ｓ１）、プレス成形工程（Ｓ２）、コアリング工程（Ｓ３）、第１ラッピング工程（Ｓ４）及び端面研削工程（Ｓ５）を行い、外径が約６５ｍｍ（２．５インチ）、内径（円孔の径）が約２０ｍｍの環状のアルミノシリケートガラス基板を作製した。チャンファ面は形成しなかった。
【００７４】
（端面研磨工程の実行）
図１０に示したようなシャワー型の端面研磨装置を用い、得られたガラス基板の端面研磨を行った。すなわち、ガラス基板を１００枚束ねて端面研磨装置にセッティングし、ガラス基板の束の円孔の中にブラシを配置し、回転するブラシをガラス基板の内周端面に接触させて内周端面の研磨を行った。研磨量は４０μｍとした。この端面研磨工程中、酸化セリウムを含有する研磨液をガラス基板とブラシとの接触部（研磨部）に連続供給した。
【００７５】
（実施例）
実施例は、ブラシとして、図７（ａ）に示したような螺旋ブラシ（ただし螺旋は１条）を用いた。また、ブラシ毛として、図８（ａ）に示したような、第１ブラシ毛と第２ブラシ毛とが１本おきに交互に１：１の比率で配置されたブラシ毛を用いた。ブラシ毛はナイロン製で、第１ブラシ毛の長さは４ｍｍ及び太さ（径）は０．５ｍｍ、第２ブラシ毛の長さは６ｍｍ及び太さ（径）は０．１ｍｍであった。そして、ガラス基板の内周端面とブラシの軸心との間の距離を２ｍｍとして第１研磨段階を行い、その後、ガラス基板の内周端面とブラシの軸心との間の距離を５ｍｍとして第２研磨段階を行った。評価として、研磨量が４０μｍとなるまでに要した研磨時間を計測した。また、研磨後の内周端面の表面粗さ（Ｒａ）を表面粗さ測定機を用いて測定した（測定条件：ＡＦＭにて１μｍの範囲を任意で１０点測定し平均化した値（算術的平均粗さＲａ）を表面粗さとした）。その結果、研磨時間は３５分（第１研磨段階２５分、第２研磨段階１０分）、表面粗さ（Ｒａ）は０．４ｎｍ（１００枚のうち１０枚をランダムに抜き出して測定した平均値）であった。このことから、実施例は、ガラス基板の端面研磨装置間の移動やブラシの交換をすることなく、端面の加工傷が短時間で除去され、かつ端面が高品質に平滑化されたことが分かった。本実施例ではアルミノシリケートガラスを用いたが、例えばボロシリケートガラス等、その他の従来一般に使用されるガラスを用いても同様の結果が期待される。
【００７６】
（比較例１）
比較例１もまた、ブラシとして、図７（ａ）に示したような螺旋ブラシ（ただし螺旋は１条）を用いた。ただし、ブラシ毛として、長さが６ｍｍ及び太さ（径）が０．１ｍｍのナイロン製のブラシ毛のみを用いた。そして、ガラス基板の内周端面とブラシの軸心との間の距離を５ｍｍとして端面研磨を行い、実施例と同様の評価を行ったところ、研磨時間は１３０分、表面粗さ（Ｒａ）は０．４ｎｍ（１００枚のうち１０枚をランダムに抜き出して測定した平均値）であった。このことから、比較例１は、研磨速度が低くなり、生産性が低下したことが分かった。
【００７７】
（比較例２）
比較例２もまた、ブラシとして、図７（ａ）に示したような螺旋ブラシ（ただし螺旋は１条）を用いた。ただし、ブラシ毛として、長さが４ｍｍ及び太さ（径）が０．５ｍｍのナイロン製のブラシ毛のみを用いた。そして、ガラス基板の内周端面とブラシの軸心との間の距離を２ｍｍとして端面研磨を行い、実施例と同様の評価を行ったところ、研磨時間は２５分、表面粗さ（Ｒａ）は１．８ｎｍ（１００枚のうち１０枚をランダムに抜き出して測定した平均値）であった。このことから、比較例２は、端面にブラシ傷が残り、端面の平滑化が困難であったことが分かった。
【符号の説明】
【００７８】
１０        磁気記録媒体用ガラス基板
１１，１２  主面（記録面）
１３        内周端面
１４        外周端面
１５        側壁面
１６        チャンファ面
２０        浸漬型端面研磨装置
２１        研磨液槽
２２        研磨液
３１，３２，３３  ブラシ
３１ａ，３２ａ，３３ａ  軸心
３１ｂ，３２ｂ，３３ｂ  ブラシ部（ブラシ毛）
３１ｃ      第１ブラシ部（第１ブラシ毛）
３１ｄ      第２ブラシ部（第２ブラシ毛）
５０        シャワー型端面研磨装置
【図１】
0005650523.tif 000002
【図２】
0005650523.tif 000003
【図３】
0005650523.tif 000004
【図４】
0005650523.tif 000005
【図５】
0005650523.tif 000006
【図６】
0005650523.tif 000007
【図７】
0005650523.tif 000008
【図８】
0005650523.tif 000009
【図９】
0005650523.tif 000010
【図１０】
0005650523.tif 000011