(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層を有し、該セルロースアシレートフィルム基材と該ハードコート層との界面に、基材成分とハードコート層成分とが混在した領域が存在し、該領域の厚さが、ハードコート層全体の厚さに対して１０％以上８０％以下であり、かつハードコート層内における下記防汚剤（ａ）の膜厚方向の分布状態が、Ｘをハードコート層の表面から１μｍ未満の範囲である表面近傍におけるフッ素量あるいはシリコーン量、Ｙをハードコート層全体でのフッ素量あるいはシリコーン量としたとき、５１％＜Ｘ／Ｙ＜１００％を満たす光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有し、下記炭酸ジメチル（ｂ）の全溶剤に対する含有量が１０〜７０質量％であるハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
（ａ）重合性不飽和基を有する含フッ素化合物、及び重合性不飽和基を有する重量平均分子量が１５０００以上のポリシロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の防汚剤
（ｂ）炭酸ジメチル
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｄ）光重合開始剤
【請求項２】
前記（ａ）防汚剤として重合性不飽和基を有する含フッ素化合物を含有し、該含フッ素化合物が、パーフルオロポリエーテル基を有し、かつ重合性不飽和基を一分子中に複数有する、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記含フッ素化合物が重合性不飽和基を一分子中に４つ以上有する、請求項２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記含フッ素化合物が、−（ＣＦ２Ｏ）ｐ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｑ−で表されるパーフルオロポリエーテル基（上記ｐ及びｑはそれぞれ独立に０〜２０の整数を表す。ただしｐ＋ｑは１以上の整数である。）を有する、請求項２又は３に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記含フッ素化合物の重量平均分子量が１０００以上５０００未満である、請求項２〜４のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記（ａ）として、重合性不飽和基を有する重量平均分子量が１５０００以上のポリシロキサン化合物を含有し、該ポリシロキサン化合物が、重合性不飽和基を一分子中に複数有するジメチルシロキサンである、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記（ａ）防汚剤の表面張力が２５．０ｍＮ／ｍ以下である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項８】
更に（ｅ）シリカ微粒子を含有する請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項９】
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物が水素結合性の置換基を有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１０】
更に、導電性化合物を含有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法により製造された光学フィルム。
【請求項１２】
請求項１１に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
【請求項１３】
請求項１１に記載の光学フィルム又は請求項１２に記載の偏光板を有する画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面への傷付きを防止するために、透明基材上にハードコート層を有するハードコートフィルムを設けることが好適である。該ハードコート層は高い硬度の他に、高い防汚性、及び透明基材との高い密着性が要求される。
【０００３】
前記ハードコートフィルムなどの光学フィルムに防汚性を付与する方法としては、含フッ素化合物又はポリシロキサン化合物などの防汚剤を添加することが知られている。例えば特許文献１には、反射防止フィルムにおける低屈折率層に含フッ素化合物からなる防汚剤を含有させることが記載されている。
特許文献２には、含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を含む防汚層を有する反射防止フィルムが記載されている。
また、光学フィルムにおいて、含フッ素化合物又はポリシロキサン化合物は、界面活性剤としても使用され得る。例えば、特許文献３には、反射防止フィルムにおける防眩層に、界面活性剤として含フッ素化合物又はポリシロキサン化合物を添加してもよいことが記載されている。
【０００４】
また、これとは別に、特許文献４及び５には、ハードコート層形成用組成物、又は防眩層形成用組成物に、溶媒として炭酸ジメチルを使用することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−１５２３１１号公報
【特許文献２】特開２００４−３５４６９９号公報
【特許文献３】特開２００８−１３４３９４号公報
【特許文献４】特開２００７−２６８４２０号公報
【特許文献５】特開２０１０−２０２６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１〜５に記載された技術では、膜硬度に優れ、防汚性及び透明基材との密着性に優れたハードコート層を有する光学フィルムを提供するには至っていない。
本発明の目的は、膜硬度に優れ、防汚性及び透明基材との密着性に優れたハードコート層を提供し得るハードコート層形成用組成物を提供することである。
本発明の別の目的は、膜硬度に優れ、透明基材とハードコート層との密着性、及び防汚性に優れるハードコート層を有する光学フィルムを提供することである。
本発明の更なる別の目的は、該光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該光学フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らの検討により、防汚剤は、少ない添加量で優れた防汚機能を発揮するためには、ハードコート層の表面に局在化することが好ましいことがわかった。また、防汚剤がハードコート層の表面ではなく、内部に均一に分布すると防汚機能が低下し、かつハードコート層の硬度を低下させる傾向があることがわかった。
本発明者らは、防汚剤の局在化について更に検討を進めた結果、ハードコート層形成用組成物に用いる溶媒が防汚剤の局在化（ひいては防汚性の向上）に大きく影響することをつきとめ、特に炭酸ジメチルと特定の防汚剤を用いることで、膜強度に優れ、防汚性及び透明基材との密着性に優れたハードコート層を提供し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、下記手段により、前記課題を解決し目的を達成し得る。
＜１＞
セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層を有し、該セルロースアシレートフィルム基材と該ハードコート層との界面に、基材成分とハードコート層成分とが混在した領域が存在し、該領域の厚さが、ハードコート層全体の厚さに対して１０％以上８０％以下であり、かつハードコート層内における下記防汚剤（ａ）の膜厚方向の分布状態が、Ｘをハードコート層の表面から１μｍ未満の範囲である表面近傍におけるフッ素量あるいはシリコーン量、Ｙをハードコート層全体でのフッ素量あるいはシリコーン量としたとき、５１％＜Ｘ／Ｙ＜１００％を満たす光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有し、下記炭酸ジメチル（ｂ）の全溶剤に対する含有量が１０〜７０質量％であるハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
（ａ）重合性不飽和基を有する含フッ素化合物、及び重合性不飽和基を有する重量平均分子量が１５０００以上のポリシロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の防汚剤
（ｂ）炭酸ジメチル
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｄ）光重合開始剤
＜２＞
前記（ａ）防汚剤として重合性不飽和基を有する含フッ素化合物を含有し、該含フッ素化合物が、パーフルオロポリエーテル基を有し、かつ重合性不飽和基を一分子中に複数有する、＜１＞に記載の光学フィルムの製造方法。
＜３＞
前記含フッ素化合物が重合性不飽和基を一分子中に４つ以上有する、＜２＞に記載の光学フィルムの製造方法。
＜４＞
前記含フッ素化合物が、−（ＣＦ２Ｏ）ｐ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｑ−で表されるパーフルオロポリエーテル基（上記ｐ及びｑはそれぞれ独立に０〜２０の整数を表す。ただしｐ＋ｑは１以上の整数である。）を有する、＜２＞又は＜３＞に記載の光学フィルムの製造方法。
＜５＞
前記含フッ素化合物の重量平均分子量が１０００以上５０００未満である、＜２＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
＜６＞
前記（ａ）として、重合性不飽和基を有する重量平均分子量が１５０００以上のポリシロキサン化合物を含有し、該ポリシロキサン化合物が、重合性不飽和基を一分子中に複数有するジメチルシロキサンである、＜１＞に記載の光学フィルムの製造方法。
＜７＞
前記（ａ）防汚剤の表面張力が２５．０ｍＮ／ｍ以下である、＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
＜８＞
更に（ｅ）シリカ微粒子を含有する＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
＜９＞
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物が水素結合性の置換基を有する、＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
＜１０＞
更に、導電性化合物を含有する、＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
＜１１＞
＜１＞〜＜１０＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法により製造された光学フィルム。
＜１２＞
＜１１＞に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
＜１３＞
＜１１＞に記載の光学フィルム又は＜１２＞に記載の偏光板を有する画像表示装置。
本発明は、上記＜１＞〜＜１３＞に関するものであるが、その他の事項（たとえば下記１〜１６など）についても参考のために記載した。
【０００８】
１．
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物。
（ａ）重合性不飽和基を有する含フッ素化合物、及び重合性不飽和基を有する重量平均分子量が１５０００以上のポリシロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の防汚剤
（ｂ）炭酸ジメチル
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｄ）光重合開始剤
２．
前記（ａ）防汚剤として重合性不飽和基を有する含フッ素化合物を含有し、該含フッ素化合物が、パーフルオロポリエーテル基を有し、かつ重合性不飽和基を一分子中に複数有する、上記１に記載のハードコート層形成用組成物。
３．
前記含フッ素化合物が重合性不飽和基を一分子中に４つ以上有する、上記２に記載のハードコート層形成用組成物。
４．
前記含フッ素化合物が、−（ＣＦ２Ｏ）ｐ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｑ−で表されるパーフルオロポリエーテル基（上記ｐ及びｑはそれぞれ独立に０〜２０の整数を表す。ただしｐ＋ｑは１以上の整数である。）を有する、上記２又は３に記載のハードコート層形成用組成物。
５．
前記含フッ素化合物の重量平均分子量が１０００以上５０００未満である、上記２〜４のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
６．
前記（ａ）として、重合性不飽和基を有する重量平均分子量が１５０００以上のポリシロキサン化合物を含有し、該ポリシロキサン化合物が、重合性不飽和基を一分子中に複数有するジメチルシロキサンである、上記１に記載のハードコート層形成用組成物。
７．
前記（ａ）防汚剤の表面張力が２５．０ｍＮ／ｍ以下である、上記１〜６のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
８．
更に（ｅ）シリカ微粒子を含有する上記１〜７のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
９．
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物が水素結合性の置換基を有する、上記１〜８のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
１０．
更に、導電性化合物を含有する、上記１〜９のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
１１．
前記（ｂ）炭酸ジメチルの含有量が全溶剤に対して１０質量％以上である上記１〜１０のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
１２．
透明基材上に、上記１〜１１のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有する光学フィルム。
１３．
前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである上記１２に記載の光学フィルム。
１４．
上記１２又は１３に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
１５．
上記１２若しくは１３に記載の光学フィルム又は上記１４に記載の偏光板を有する画像表示装置。
１６．
セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に上記１〜１１のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、膜硬度に優れ、防汚性及び透明基材との密着性に優れたハードコート層を提供し得るハードコート層形成用組成物を提供することができる。また、膜硬度に優れ、透明基材とハードコート層との密着性、及び防汚性に優れるハードコート層を有する光学フィルムを提供することができる。
また、該光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該光学フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」等も同様である。
なお、本発明においては、「モノマーに相当する繰り返し単位」、及び「モノマーに由来する繰り返し単位」とは、モノマーの重合後に得られる成分が繰り返し単位となることを意味している。
【００１１】
本発明のハードコート層形成用組成物は、下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有する。
（ａ）重合性不飽和基を有する含フッ素化合物、及び重合性不飽和基を有する重量平均分子量が１５０００以上のポリシロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の防汚剤
（ｂ）炭酸ジメチル
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｄ）光重合開始剤
【００１２】
［（ａ）防汚剤］
本発明のハードコート層形成用組成物に含まれる前記（ａ）重合性不飽和基を有する含フッ素化合物、及び重合性不飽和基を有する重量平均分子量が１５０００以上のポリシロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の防汚剤について説明する。
【００１３】
［重合性不飽和基を有する含フッ素化合物］
本発明における重合性不飽和基を有する含フッ素化合物（以下、「含フッ素防汚剤」ともいう）について説明する。
本発明の含フッ素防汚剤は下記一般式（Ｆ）で表される構造を含むフッ素系化合物であることが好ましい。
一般式（Ｆ）：  （Ｒｆ）−［（Ｗ）−（ＲＡ）ｎ］ｍ
（式中、Ｒｆは（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基、Ｗは連結基、ＲＡは重合性不飽和基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。ｍは１〜３の整数を表す。）
【００１４】
本発明における含フッ素防汚剤は、重合性不飽和基を有することで、以下の（１）〜（３）の効果があると考えられる。
（１）有機溶剤への溶解性、不飽和二重結合を有する化合物等との相溶性が高まるため、防汚剤が凝集体を形成することなく、均一に表面に局在化できるようになると考えられる。また、凝集体による欠陥の発生を防ぐことができる。
（２）含フッ素防汚剤が表面に局在化しても、含フッ素防汚剤同士、或いは不飽和二重結合を有する化合物と光重合反応により共有結合を形成できるため、磨耗による防汚剤の剥がれ、ひいては防汚性の悪化を防ぐことができる。
（３）防汚剤がブリードアウトして析出することによる防汚性の損失や、外観の悪化を防ぐことができる。
【００１５】
一般式（Ｆ）において、ＲＡは重合性不飽和基を表す。重合性不飽和基は、紫外線や電子線などの活性エネルギー線を照射することによりラジカル重合反応を起こしうる基であれば特に限定は無く、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、及びこれらの基における任意の水素原子がフッ素原子に置換した基が好ましく用いられる。
重合性不飽和基の具体例としては以下のものが好ましい。
【００１６】
【化１】
0005759848.tif 000002
【００１７】
一般式（Ｆ）において、Ｒｆは（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基を表す。
ここで、（パー）フルオロアルキル基は、フルオロアルキル基及びパーフルオロアルキル基のうち少なくとも１種を表し、（パー）フルオロポリエーテル基は、フルオロポリエーテル基及びパーフルオロポリエーテル基のうち少なくとも１種を表す。防汚性の観点では、Ｒｆ中のフッ素含有率は高いほうが好ましい。
【００１８】
（パー）フルオロアルキル基は、炭素数１〜２０の基であることが好ましく、より好ましくは炭素数１〜１０の基である。
（パー）フルオロアルキル基は、直鎖（例えば−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ、−ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ等）であっても、分岐構造（例えばＣＨ（ＣＦ３）２、ＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）２、ＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦ３、ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＦ２）５ＣＦ２Ｈ等）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等）であっても良い。
【００１９】
（パー）フルオロポリエーテル基は、（パー）フルオロアルキル基がエーテル結合を有している場合を指し、１価でも２価以上の基であってもよい。フルオロポリエーテル基としては、例えば−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｃ８Ｆ１７、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ、フッ素原子を４個以上有する炭素数４〜２０のフルオロシクロアルキル基等が挙げられる。また、パーフルオロポリエーテル基としては、例えば、−（ＣＦ２Ｏ）ｐ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｑ−、−［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｐ―［ＣＦ２（ＣＦ３）］−、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐ−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐ−などが挙げられる。
ｐ及びｑの総計は１〜８３が好ましく、１〜４３が更に好ましく、５〜２３が最も好ましい。
本発明の含フッ素防汚剤は、防汚性に優れるという観点から−（ＣＦ２Ｏ）ｐ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｑ−で表されるパーフルオロポリエーテル基を有することが特に好ましい。
上記ｐ及びｑはそれぞれ独立に０〜２０の整数を表す。ただしｐ＋ｑは１以上の整数である。
【００２０】
本発明においては、前記（１）〜（３）に示した効果がより顕著に得られるという観点から、含フッ素防汚剤は、パーフルオロポリエーテル基を有し、かつ重合性不飽和基を一分子中に複数有することが好ましい。
【００２１】
一般式（Ｆ）において、Ｗは連結基を表す。Ｗとしては、例えばアルキレン基、アリーレン基、ヘテロアルキレン基、又はこれらの組み合わさった連結基が挙げられる。これらの連結基は、更に、オキシ基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、カルボニルイミノ基、スルホンアミド基等やこれらの組み合わさった官能基を有しても良い。
Ｗとして、好ましくは、エチレン基、より好ましくは、カルボニルイミノ基と結合したエチレン基である。
【００２２】
含フッ素防汚剤のフッ素原子含有量には特に制限は無いが、２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。
【００２３】
好ましい含フッ素防汚剤の例としてはダイキン化学工業（株）製、Ｒ−２０２０、Ｍ−２０２０、Ｒ−３８３３、Ｍ−３８３３、オプツールＤＡＣ（以上商品名）、大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７９Ａ、ディフェンサＭＣＦ−３００、ＭＣＦ−３２３（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００２４】
前記（１）〜（３）に示した効果がより顕著に得られるという観点から、一般式（Ｆ）において、ｎとｍの積（ｎ×ｍ）は２以上が好ましく、４以上がより好ましい。
【００２５】
一般式（Ｆ）において、ｎとｍが同時に１である場合について、以下の好ましい態様の具体例として下記一般式（Ｆ−１）〜（Ｆ−３）が挙げられる。
【００２６】
一般式（Ｆ−１）：
Ｒｆ２（ＣＦ２ＣＦ２）ｐＲ’２ＣＨ２ＣＨ２Ｒ２ＯＣＯＣＲ１＝ＣＨ２
【００２７】
（式中、Ｒｆ２は、フッ素原子、又は炭素数が１〜１０であるフルオロアルキル基のいずれかを示し、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は単結合又はアルキレン基を示し、Ｒ’２は単結合又は２価の連結基を示し、ｐは重合度を示す整数であり、重合度ｐはｋ（ｋは３以上の整数）以上である。）
【００２８】
Ｒ’２が２価の連結基を表す場合、該２価の連結基としては、前述のＷと同様のものが挙げられる。
【００２９】
一般式（Ｆ−１）におけるフッ素原子を含むテロマー型アクリレートとしては、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類等が挙げられる。
【００３０】
一般式（Ｆ−１）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるわけではない。
【００３１】
【化２】
0005759848.tif 000003
【００３２】
上記の一般式（Ｆ−１）で表される化合物は、合成の際にテロメリゼイションを用いると、テロメリゼイションの条件及び反応混合物の分離条件等によっては一般式（Ｆ−１）の基Ｒｆ２（ＣＦ２ＣＦ２）ｐＲ’２ＣＨ２ＣＨ２Ｒ２Ｏ−のｐがそれぞれｋ、ｋ＋１、ｋ＋２、・・・等の複数の含フッ素（メタ）アクリル酸エステルを含むことがある。
【００３３】
一般式（Ｆ−２）：
Ｆ（ＣＦ２）ｑ−ＣＨ２−ＣＨＸ−ＣＨ２Ｙ（式中、ｑは１〜２０の整数、Ｘ及びＹはそれぞれ独立に（メタ）アクリロイルオキシ基又は水酸基のいずれかであり、少なくとも一方は（メタ）アクリロイルオキシ基である。）
【００３４】
一般式（Ｆ−２）で表される含フッ素（メタ）アクリル酸エステルは、末端にトリフルオロメチル基（ＣＦ３−）をもつ炭素数１〜２０のフルオロアルキル基を有しており、この含フッ素（メタ）アクリル酸エステルは少量でもトリフルオロメチル基が表面に有効に配向される。
【００３５】
防汚性及び製造の容易性から、ｑは６〜２０が好ましく、８〜１０より好ましい。炭素数８〜１０のフルオロアルキル基を有する含フッ素（メタ）アクリル酸エステルは、他の鎖長のフルオロアルキル基を有する含フッ素（メタ）アクリル酸エステルと比較しても優れた撥水・撥油性を発現するため、防汚性に優れる。
【００３６】
一般式（Ｆ−２）で表される含フッ素（メタ）アクリル酸エステルとして具体的には、１−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３−ヘンエイコサフルオロトリデカン、２−（メタ）アクリロイルオキシ−１−ヒドロキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３−ヘンエイコサフルオロトリデカン及び１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシ４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３−ヘンエイコサフルオロトリデカン等が挙げられる。本発明においては、１−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３−ヘンエイコサフルオロトリデカンが好ましい。
【００３７】
一般式（Ｆ−３）：
Ｆ（ＣＦ２）ｒＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｓＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣＲ３＝ＣＨ２  （式中Ｒ３は水素原子又はメチル基であり、ｓは１〜２０の整数であり、ｒは１〜４の整数を表す。）
【００３８】
上記一般式（Ｆ−３）で表されるフッ素原子含有単官能（メタ）アクリレートは、下記一般式（ＦＧ−３）で表されるフッ素原子含有アルコール化合物と（メタ）アクリル酸ハライドとを反応させることにより得ることができる。
【００３９】
一般式（ＦＧ−３）：
Ｆ（ＣＦ２）ｒＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｓＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（一般式（ＦＧ−３）中、ｓは１〜２０の整数の整数であり、ｒは１〜４の整数を表す。）
【００４０】
前記一般式（ＦＧ−３）表されるフッ素原子含有アルコール化合物の具体例としては、例えば、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６−ジオキサヘプタン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６−ジオキサオクタン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６−ジオキサデカン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９−トリオキサデカン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９−トリオキサウンデカン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９−トリオキサトリデカン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９，１２−テトラオキサトリデカン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９，１２−テトラオキサテトラデカン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９，１２−テトラオキサヘキサデカン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９，１２，１５−ペンタオキサヘキサデカン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９，１２，１５−ペンタオキサヘプタデカン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９，１２，１５−ペンタオキサノナデカン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９，１２，１５，１８−ヘキサオキサイコサン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９，１２，１５，１８−ヘキサオキサドコサン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９，１２，１５，１８，２１−ヘプタオキサトリコサン−１−オール、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９，１２，１５，１８，２１−ヘプタオキサペンタコサン−１−オール等を挙げることができる。
これらは市場で入手でき、その具体例としては例えば、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６−ジオキサヘプタン−１−オール（商品名「Ｃ５ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９−トリオキサデカン−１−オール（商品名「Ｃ７ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６−ジオキサデカン−１−オール（商品名「Ｃ８ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９−トリオキサトリデカン−１−オール（商品名「Ｃ１０ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９，１２−テトラオキサヘキサデカン−１−オール（商品名「Ｃ１２ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）等が挙げられる。
本発明においては、１Ｈ，１Ｈ−ペルフルオロ−３，６，９，１２−テトラオキサトリデカン−１−オールを用いることが好ましい。
【００４１】
また、前記一般式（ＦＧ−３）で表されるフッ素原子含有アルコール化合物と反応させる（メタ）アクリル酸ハライドとしては、（メタ）アクリル酸フルオライド、（メタ）アクリル酸クロライド、（メタ）アクリル酸ブロマイド、（メタ）アクリル酸アイオダイドを挙げることができる。入手しやすさ等の観点から（メタ）アクリル酸クロライドが好ましい。
【００４２】
以下に一般式（Ｆ−３）で表される化合物の好ましい具体例を示すが、これらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｆ−３）で表される好ましい具体例は、特開２００７−２６４２２１号公報にも記載がある。
【００４３】
（ｂ−１）：Ｆ９Ｃ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２ 
（ｂ−２）：Ｆ９Ｃ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２
【００４４】
更に一般式（Ｆ−３）で表される化合物とは別に、下記一般式（Ｆ−３）’で表される化合物も好ましく用いることができる。
【００４５】
一般式（Ｆ−３）’：  
Ｒｆ３−［（Ｏ）ｃ（Ｏ＝Ｃ）ｂ（ＣＸ４Ｘ５）ａ−ＣＸ３＝ＣＸ１Ｘ２］
（式中、Ｘ１及びＸ２は各々独立に、Ｈ又はＦを表し、Ｘ３はＨ、Ｆ、ＣＨ３又はＣＦ３を表し、Ｘ４及びＸ５は各々独立に、Ｈ、Ｆ、又はＣＦ３を表し、ａ、ｂ、及びｃは各々独立に０又は１を表し、Ｒｆ３は炭素数１８〜２００のエーテル結合を含む含フッ素アルキル基を表す）であって、Ｒｆ３基中に、
一般式（ＦＧ−３）’：
−（ＣＸ６２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−
（式中、Ｘ６はＦ又はＨ）で示される繰り返し単位を６個以上有することを特徴とする含フッ素不飽和化合物。
【００４６】
前記一般式（Ｆ−３）’表される含フッ素ポリエーテル化合物の例としては、
（ｃ−１）  Ｒｆ３−［（Ｏ）（Ｏ＝Ｃ）ｂ−ＣＸ３＝ＣＸ１Ｘ２］
（ｃ−２）  Ｒｆ３−［（Ｏ）（Ｏ＝Ｃ）−ＣＸ３＝ＣＸ１Ｘ２］
（ｃ−３）  Ｒｆ３−［（Ｏ）ｃ（Ｏ＝Ｃ）−ＣＦ＝ＣＨ２］
などを挙げることができ、上記含フッ素ポリエーテル化合物の重合性不飽和基としては、以下の構造を含むものを好ましく用いることができる。（ｃ−１）〜（ｃ−３）における各記号の定義は一般式（ＦＧ−３）’と同義である。
【００４７】
【化３】
0005759848.tif 000004
【００４８】
また、前記一般式（Ｆ−３）’表される含フッ素ポリエーテル化合物は、重合性不飽和基を複数個有していても良く、
【００４９】
【化４】
0005759848.tif 000005
【００５０】
などの構造が好ましく挙げられる。本発明においては−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＣＦ＝ＣＨ２の構造を有するものが重合（硬化）反応性が特に高く、効率よく硬化物を得ることができる点で好ましい。
【００５１】
前記一般式（Ｆ−３）’表される含フッ素ポリエーテル化合物においてＲｆ３基は、一般式（ＦＧ−３）’の含フッ素ポリエーテル鎖は繰り返し単位で６個以上Ｒｆ３中に含んでいることが重要であり、それによって防汚性を付与できる。
また更に詳しくは、含フッ素ポリエーテル鎖の繰り返し単位が６個以上のものを含んでいる混合物でもよいが、混合物の形で使用する場合、前記繰り返し単位が６個未満の含フッ素不飽和化合物と６個以上の含フッ素不飽和化合物との分布においてポリエーテル鎖の繰り返し単位が６個以上の含フッ素不飽和化合物の存在比率が最も高い混合物とするのが好ましい。
一般式（ＦＧ−３）’の含フッ素ポリエーテル鎖の繰り返し単位は６個以上であることが好ましく、１０個以上がより好ましく、１８個以上が更に好ましく、２０個以上が特に好ましい。それによって、撥水性だけでなく、防汚性、特に油成分を含む汚れに対する除去性を改善できる。また、気体透過性もより一層効果的に付与できる。また、含フッ素ポリエーテル鎖はＲｆ３基の末端にあっても、鎖中の途中に存在していても良い。
【００５２】
Ｒｆ３基は具体的には、
一般式（ｃ−４）：
Ｒ４−（ＣＸ６２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｔ−（Ｒ５）ｅ−
（式中、Ｘ６は式（ＦＧ−３）’と同じ、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基、含フッ素アルキル基、エーテル結合を含むアルキル基及びエーテル結合を含む含フッ素アルキル基から選ばれる少なくとも１種、Ｒ５は二価以上の有機基、ｔは６〜６６の整数、ｅは０又は１を表す。）の構造であることが好ましい。
つまり、二価以上の有機基Ｒ５を介して、反応性の炭素−炭素二重結合と結合し、更に末端にＲ４を有する含フッ素有機基である。
Ｒ５は一般式（ＦＧ−３）’の含フッ素ポリエーテル鎖を反応性の炭素−炭素二重結合に結合させることができる有機基であれば、如何なるものでもよい。例えば、アルキレン基、含フッ素アルキレン基、エーテル結合を含むアルキレン基及びエーテル結合を含む含フッ素アルキレン基から選ばれる。中でも含フッ素アルキレン基、エーテル結合を含む含フッ素アルキレン基であることが、透明性、低屈折率性の面で好ましい。
【００５３】
一般式（Ｆ−３）’で表される含フッ素ポリエーテル化合物の具体例としては、再公表特許ＷＯ２００３／０２２９０６号パンフレットに挙げられる化合物などが好ましく用いられる。本発明においては、ＣＨ２＝ＣＦ−ＣＯＯ―ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）７−ＯＣ３Ｆ７を特に好ましく用いることができる。
【００５４】
一般式（Ｆ）において、ｎとｍが同時に１でない場合については、以下の好ましい態様として一般式（Ｆ−４）及び一般式（Ｆ−５）が挙げられる。
【００５５】
一般式（Ｆ−４）：（Ｒｆ１）−［（Ｗ）−（ＲＡ）ｎ］ｍ
（一般式（Ｆ−４）中、Ｒｆ１は（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基、Ｗは連結基、ＲＡは不飽和二重結合を有する官能基を表す。ｎは１〜３、ｍは１〜３の整数を表し、ｎとｍは同時に１であることはない。）
撥水撥油性に優れると共に撥水撥油性の持続（防汚耐久性）に優れるという観点からｎが２〜３、ｍが１〜３であることが好ましく、ｎが２〜３、ｍが２〜３であることがより好ましく、ｎが３、ｍが２〜３であることが最も好ましい。
【００５６】
Ｒｆ１は一価から三価のものを用いることができる。Ｒｆ１が一価の場合、末端基としては（ＣｎＦ２ｎ＋１）−、（ＣｎＦ２ｎ＋１Ｏ）−、（ＸＣｎＦ２ｎＯ）−、（ＸＣｎＦ２ｎ＋１）−（式中Ｘは水素、塩素、又は臭素であり、ｎは１〜１０の整数）であることが好ましい。具体的にはＣＦ３Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２−、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ２ＣＦ２−、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−、Ｆ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−等を好ましく使用することができる。
【００５７】
ここでｐの平均値は０〜５０である。好ましくは３〜３０、より好ましくは３〜２０、最も好ましくは４〜１５である。
【００５８】
Ｒｆ１が二価の場合は、−（ＣＦ２Ｏ）ｑ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｒＣＦ２−、−（ＣＦ２）３Ｏ（Ｃ４Ｆ８Ｏ）ｒ（ＣＦ２）３−、−ＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｒＣＦ２−、−Ｃ２Ｆ４Ｏ（Ｃ３Ｆ６Ｏ）ｒＣ２Ｆ４−、−ＣＦ（ＣＦ３）（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｓＯＣｔＦ２ｔＯ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｒＣＦ（ＣＦ３）−等を好ましく使用することができる。
【００５９】
ここで、式中ｑ、ｒ、ｓの平均値は０〜５０である。好ましくは３〜３０、より好ましくは３〜２０、最も好ましくは４〜１５である。ｔは２〜６の整数である。
一般式（Ｆ−４）で表される化合物の好ましい具体例や合成方法は国際公開第２００５／１１３６９０号に記載されている。
【００６０】
以下では、Ｆ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−においてｐの平均値が６〜７のものを“ＨＦＰＯ−”と記載し、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−においてｐの平均値が６〜７のものを“−ＨＦＰＯ−”と記載し、一般式（Ｆ−４）の具体的化合物を示すが、これらに限定されるものではない。
【００６１】
（ｄ−１）：ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨ−Ｃ−（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）２ＣＨ２ＣＨ３
（ｄ−２）：ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨ−Ｃ−（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）２Ｈ
（ｄ−３）：ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨ−Ｃ３Ｈ６ＮＨＣＨ３とトリメチロールプロパントリアクリレートの１：１マイケル付加重合物
（ｄ−４）：（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）２Ｈ−Ｃ−ＣＯＮＨ−ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨ−Ｃ−（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）２Ｈ
（ｄ−５）：（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３−Ｃ−ＣＯＮＨ−ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨ−Ｃ−（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）３
【００６２】
更に、一般式（Ｆ−４）で表される化合物として下記一般式（Ｆ−５）で表される化合物を用いることもできる。
【００６３】
一般式（Ｆ−５）：
ＣＨ２＝ＣＸ１−ＣＯＯ−ＣＨＹ−ＣＨ２−ＯＣＯ−ＣＸ２＝ＣＨ２
（式中Ｘ１及びＸ２は、各々独立に、水素原子又はメチル基を示し、Ｙは、フッ素原子を３以上有する炭素数２〜２０のフルオロアルキル基又はフッ素原子を４個以上有する炭素数４〜２０のフルオロシクロアルキル基を示す。）
【００６４】
本発明において、重合性不飽和基が（メタ）アクリロイルオキシ基である化合物は、複数の（メタ）アクリロイルオキシ基を有していても良い。含フッ素防汚剤が複数の（メタ）アクリロイルオキシ基を有していることにより、硬化させた際には、三次元網目構造を呈し、ガラス転移温度が高く、防汚剤の転写性が低く、また汚れの繰り返しの拭取りに対する耐久性を向上させることができる。更には、耐熱性、耐候性等に優れた硬化被膜を得ることができる。
【００６５】
前記一般式（Ｆ−５）で表される化合物の具体例としては、例えば、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，２−トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフルオロブチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−１−メチル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルエチレングリコール等を好ましく挙げることができ、使用に際しては単独若しくは混合物として用いることができる。このようなジ（メタ）アクリル酸エステルを調製するには、特開平６−３０６３２６号公報に挙げられるような公知の方法により製造できる。本発明においては、ジアクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールが好ましく用いられる。
【００６６】
本発明においては、重合性不飽和基が（メタ）アクリロイルオキシ基である化合物として、一分子中に複数個の（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基を有している化合物であってもよい。
【００６７】
本発明における含フッ素防汚剤は、モノマー、オリゴマー、ポリマーいずれでも良い。
含フッ素防汚剤は、更にハードコート層皮膜中での結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタアクリロイル基、ビニル基、アリル基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。
含フッ素防汚剤はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよい。
【００６８】
また、（ａ）成分である重合性不飽和基を有する含フッ素化合物は、分子中にケイ素原子を含有してもよく、シロキサン構造を含有してもよいし、シロキサン構造以外の構造を有してもよい。ただし、重合性不飽和基を有する含フッ素化合物がシロキサン構造を含有する場合、重量平均分子量は１５０００未満である。
【００６９】
含フッ素化合物がシロキサン構造を含有する場合、該化合物は好ましくは下記一般式（Ｆ−６）で表される。
【００７０】
一般式（Ｆ−６）：
ＲａＲｆｂＲＡｃＳｉＯ（４−ａ−ｂ−ｃ）／２
（式中、Ｒは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基又はフェニル基であり、Ｒｆはフッ素原子を含有する有機基であり、ＲＡは重合性不飽和基を含有する有機基であり、０＜ａ、０＜ｂ、０＜ｃ、ａ＋ｂ＋ｃ＜４である。）
【００７１】
ａは好ましくは１〜１．７５、より好ましくは１〜１．５であり、１以上であると化合物の合成が工業的に容易となり、１．７５以下であると硬化性、防汚性の両立がしやすくなる。
【００７２】
ＲＡにおける重合性不飽和基としては、前記一般式（Ｆ）におけるＲＡと同様の重合性不飽和基が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、及びこれらの基における任意の水素原子がフッ素原子に置換した基である。
【００７３】
含フッ素化合物がシロキサン構造を含有する場合、該シロキサン構造の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としては（メタ）アクリロイル基、（メタアクリロイルオキシ）基、ビニル基、アリル基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられ、特に（メタ）アクリロイルオキシ基が防汚剤のブリードアウトを抑止する観点で好ましい。また置換基数としては、官能基等量として１５００〜２００００ｇ・ｍｏｌ−１が防汚剤の偏在性向上とブリードアウト抑止の観点で好ましい。
【００７４】
Ｒｆはフッ素原子を含有する有機基であり、ＣｘＦ２ｘ＋１（ＣＨ２）ｐ−（式中、ｘは１〜８の整数、ｐは２〜１０の整数である。）で示される基又はパーフルオロポリエーテル置換アルキル基であることが好ましい。ｂは好ましくは０．２〜０．４、より好ましくは０．２〜０．２５であり、０．２以上であると防汚性が向上し、０．４以下であると硬化性が向上する。Ｒｆは炭素数８のパーフルオロアルキル基であることが好ましい。
【００７５】
ＲＡは（メタ）アクリル基を含有する有機基であり、工業的な合成のし易さからＳｉ原子への結合がＳｉ−Ｏ−Ｃ結合であることがより好ましい。ｃは好ましくは０．４〜０．８、より好ましくは０．６〜０．８であり、０．４以上であると硬化性が向上し、０．８以下であると防汚性が向上する。
【００７６】
また、ａ＋ｂ＋ｃは好ましくは２〜２．７、より好ましくは２〜２．５であり、２より小さいと表面への偏在化が起こりにくくなり、２．７より大きいと硬化性、防汚性の両立ができなくなる。
【００７７】
含フッ素化合物がシロキサン構造を含有する場合、該化合物は、１分子中にＦ原子を３個以上及びＳｉ原子を３個以上、好ましくはＦ原子を３〜１７個及びＳｉ原子を３〜８個含有するものであることが好ましい。Ｆ原子が３個以上あると防汚性が十分となり、Ｓｉ原子が３個以上あるとでは表面への偏在化が促進され、防汚性が十分となる。
【００７８】
含フッ素化合物がシロキサン構造を含有する場合、該化合物は、特開２００７−１４５８８４号公報に挙げられる公知の方法などを用いて製造することができる。
【００７９】
含フッ素化合物がシロキサン構造を含有する場合、該シロキサン構造としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよいが、これらの中で特に分岐状、環状のものが、後述する不飽和二重結合を有する化合物等と相溶性がよく、ハジキがなく、表面への偏在化が起こりやすいために好ましい。
【００８０】
ここで、シロキサン構造が分岐状の化合物としては、下記一般式（Ｆ−７）で表されるものが好ましい。
一般式（Ｆ−７）：
ＲｆＳｉＲｋ〔ＯＳｉＲｍ（ＯＲＡ）３−ｍ〕３−ｋ
（式中、Ｒ、Ｒｆ、ＲＡは上記と同様であり、ｍ＝０，１又は２、特にｍ＝２であり、ｋ＝０又は１である。）
【００８１】
また、シロキサン構造が環状構造の化合物としては、下記一般式（Ｆ−８）で表されるものが好ましい。
一般式（Ｆ−８）：
（ＲｆＲＳｉＯ）（ＲＡＲＳｉＯ）ｎ（式中、Ｒ、Ｒｆ、ＲＡは上記と同様であり、ｎ≧２、特に３≦ｎ≦５である。）
【００８２】
このような含フッ素ポリシロキサン化合物の具体例としては以下の化合物等が挙げられる。
【００８３】
【化５】
0005759848.tif 000006
【００８４】
［含フッ素防汚剤の分子量］
重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤の重量平均分子量（Ｍｗ）は、分子排斥クロマトグラフィー、例えばゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）などを用いて測定できる。本発明で用いる含フッ素防汚剤のＭｗは４００以上５０００未満が好ましく、１０００以上５０００未満がより好ましく、１０００以上３５００未満が更に好ましい。Ｍｗが４００以上であると、防汚剤の表面移行性が高くなるため好ましい。また、Ｍｗが５０００未満であると、塗布から硬化する工程の間に、含フッ素防汚剤の表面移行性が妨げられず、ハードコート層表面に均一に配向しやすいため、防汚性及び膜硬度が向上するため好ましい。
ただし、含フッ素化合物がシロキサン構造を含有する場合、Ｍｗは１５０００未満であり、好ましくは１０００以上５０００未満であり、より好ましくは１０００以上３５００未満である。
【００８５】
［含フッ素防汚剤の添加量］
重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤の添加量は、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して１〜２０質量％であることが好ましく、１〜１５質量％がより好ましく、１〜１０質量％が更に好ましい。添加量が１質量％以上であると、撥水撥油性を有する防汚剤の割合が適度になり、十分な防汚性が得られる。また、添加量が２０質量％以下であると、バインダー成分と混合できない防汚剤が表面に析出することがなく、膜が白化したり表面に白粉を生じることがないため好ましい。
【００８６】
［重合性不飽和基を有する重量平均分子量が１５０００以上のポリシロキサン化合物］
次に、前記（ａ）成分として用いることができる、重合性不飽和基を有する重量平均分子量が１５０００以上のポリシロキサン化合物について説明する。なお、以下、分子量が１５０００以上のポリシロキサン化合物を「ポリシロキサン防汚剤」と呼ぶ。
【００８７】
ポリシロキサン防汚剤は、好ましくは下記一般式（Ｆ−６）で表される。
【００８８】
一般式（Ｆ−６）：
ＲａＲｆｂＲＡｃＳｉＯ（４−ａ−ｂ−ｃ）／２
（式中、Ｒは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基又はフェニル基であり、Ｒｆはフッ素原子を含有する有機基であり、ＲＡは重合性不飽和基を含有する有機基であり、０＜ａ、０＜ｂ、０＜ｃ、ａ＋ｂ＋ｃ＜４である。）
【００８９】
ａは好ましくは１〜１．７５、より好ましくは１〜１．５であり、１以上であると化合物の合成が工業的に容易となり、１．７５以下であると硬化性、防汚性の両立がしやすくなる。
【００９０】
ＲＡにおける重合性不飽和基としては、前記一般式（Ｆ）におけるＲＡと同様の重合性不飽和基が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、及びこれらの基における任意の水素原子がフッ素原子に置換した基である。
ポリシロキサン防汚剤においても、前記（１）〜（３）の効果がより顕著に得られるという観点から、ポリシロキサン防汚剤は、一分子中に重合性不飽和基を複数有することが好ましく、一分子中に重合性不飽和基を複数有するポリジメチルシロキサンであることがより好ましい。
【００９１】
ポリシロキサン防汚剤の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としては（メタ）アクリロイル基、（メタアクリロイルオキシ）基、ビニル基、アリル基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられ、特に（メタ）アクリロイルオキシ基が防汚剤のブリードアウトを抑止する観点で好ましい。また置換基数としては、官能基等量として１５００〜２００００ｇ・ｍｏｌ−１が防汚剤の偏在性向上とブリードアウト抑止の観点で好ましい。
【００９２】
Ｒｆはフッ素原子を含有する有機基であり、ＣｘＦ２ｘ＋１（ＣＨ２）ｐ−（式中、ｘは１〜８の整数、ｐは２〜１０の整数である。）で示される基又はパーフルオロポリエーテル置換アルキル基であることが好ましい。ｂは好ましくは０．２〜０．４、より好ましくは０．２〜０．２５であり、０．２以上であると防汚性が向上し、０．４以下であると硬化性が向上する。
【００９３】
ＲＡは（メタ）アクリル基を含有する有機基であり、工業的な合成のし易さからＳｉ原子への結合がＳｉ−Ｏ−Ｃ結合であることがより好ましい。ｃは好ましくは０．４〜０．８、より好ましくは０．６〜０．８であり、０．４以上であると硬化性が向上し、０．８以下であると防汚性が向上する。
【００９４】
また、ａ＋ｂ＋ｃは好ましくは２〜２．７、より好ましくは２〜２．５であり、２より小さいと表面への偏在化が起こりにくくなり、２．７より大きいと硬化性、防汚性の両立ができなくなる。
【００９５】
ポリシロキサン防汚剤は、１分子中にＦ原子を３個以上及びＳｉ原子を３個以上、好ましくはＦ原子を３〜１７個及びＳｉ原子を３〜８個含有するものであることが好ましい。Ｆ原子が３個以上あると防汚性が十分となり、Ｓｉ原子が３個以上あるとでは表面への偏在化が促進され、防汚性が十分となる。
【００９６】
ポリシロキサン防汚剤は、特開２００７−１４５８８４号公報に挙げられる公知の方法などを用いて製造することができる。
ポリシロキサン構造を有する添加剤としては、反応性基含有ポリシロキサン｛例えば“ＫＦ−１００Ｔ”，“Ｘ−２２−１６９ＡＳ”，“ＫＦ−１０２”，“Ｘ−２２−３７０１ＩＥ”，“Ｘ−２２−１６４Ｃ”，“Ｘ−２２−５００２”，“Ｘ−２２−１７３Ｂ”，“Ｘ−２２−１７４Ｄ”，“Ｘ−２２−１６７Ｂ”，“Ｘ−２２−１６１ＡＳ”（商品名）、以上、信越化学工業（株）製；“ＡＫ−５”，“ＡＫ−３０”，“ＡＫ−３２”（商品名）、以上東亜合成（株）製；、「サイラプレーンＦＭ０７２５」，「サイラプレーンＦＭ０７２１」（商品名）、以上チッソ（株）製；、“ＤＭＳ−Ｕ２２”、“ＲＭＳ−０３３”、“ＵＭＳ−１８２”（商品名）、以上Ｇｅｌｅｓｔ製等｝を添加するのも好ましい。また、特開２００３−１１２３８３号公報の表２、表３に記載のシリコーン系化合物も好ましく使用できる。
【００９７】
ポリシロキサン防汚剤に含まれるシロキサン構造としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよいが、これらの中で特に分岐状、環状のものが、後述する不飽和二重結合を有する化合物等と相溶性がよく、ハジキがなく、表面への偏在化が起こりやすいために好ましい。
【００９８】
［ポリシロキサン防汚剤の分子量］
ポリシロキサン防汚剤の重量平均分子量は、１５０００以上であり、好ましくは１５０００以上５００００以下であり、より好ましくは、１８０００以上３００００以下である。ポリシロキサン防汚剤の重量平均分子量が１５０００未満であると、ポリシロキサンの表面偏在性が低減することにより、防汚性の悪化並びに硬度の低下を招く観点から好ましくない。ただし、前述の重合性不飽和基を有する含フッ素化合物がポリシロキサン構造を有する場合は上記問題は起こらない。
ポリシロキサン防汚剤の重量平均分子量は、分子排斥クロマトグラフィー、例えばゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）などを用いて測定できる。
【００９９】
［ポリシロキサン防汚剤の添加量］
ポリシロキサン防汚剤の添加量は、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して１質量％以上２５質量％未満であることが好ましく、１質量％以上２０質量％未満がより好ましく、１質量％以上１５質量％未満が更に好ましく、１質量％以上１０質量％未満が最も好ましい。添加量が１質量％以上であると、撥水撥油性を有する防汚剤の割合が適度になり、十分な防汚性が得られる。また、添加量が２５質量％未満であると、バインダー成分と混合できない防汚剤が表面に析出することがなく、膜が白化したり表面に白粉を生じることがないため好ましい。
【０１００】
ハードコート層内における防汚剤の膜厚方向の分布状態は、Ｘをハードコート層の表面近傍におけるフッ素量あるいはシリコーン量、Ｙをハードコート層全体でのフッ素量あるいはシリコーン量としたとき、５１％＜Ｘ／Ｙ＜１００％を満たすことが好ましい。Ｘ／Ｙが５１％より大きい場合、防汚剤がハードコート層の膜内部まで分布しておらず、防汚性、膜硬度の点で好ましい。なお、表面近傍とは、ハードコート層の表面から１μｍ未満の深さの領域を指し、飛行時間二次イオン質量分析（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で測定したＦ−フラグメントあるいはＳｉ２Ｃ５Ｈ１５Ｏ＋フラグメントの比率で測定することができる。
【０１０１】
前記（ａ）防汚剤は、２０℃において液体又は溶媒に溶解するものが好ましい。該溶媒としては、化合物の極性に応じて適宜選択することができるが炭酸ジメチルと混和する有機溶媒が好ましく、脂肪族又は報告族のアルコール、ケトン、エステル、エーテル系溶媒が挙げられる。炭酸ジメチルに溶解すれば特に好ましい。
前記（ａ）防汚剤の表面張力は、防汚性の観点から、表面張力が２５．０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２３．０ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましく、１６．０ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。
防汚剤の表面張力は、単膜での表面張力であり、以下のようにして測定できる。
（防汚剤の表面張力の測定方法）
石英基板上に防汚剤をスピンコート、溶媒を含有する場合は乾燥させ膜を作成した。続いて、接触角計［“ＣＡ−Ｘ”型接触角計、協和界面科学（株）製］を用い、乾燥状態（２０℃／６５％ＲＨ）で、液体として純水を使用して直径１．０ｍｍの液滴を針先に作り、これを上記のスピンコート膜の表面に接触させてフィルム上に液滴を作った。フィルムと液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を接触角とし、測定した。また、水の代わりにヨウ化メチレンを用いて接触角を測定し、以下の式より表面自由エネルギーを求めた。
表面自由エネルギー（γｓｖ：単位、ｍＮ／ｍ）とはＤ．Ｋ．Ｏｗｅｎｓ：Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，１３，１７４１（１９６９）を参考に、反射防止フィルム上で実験的に求めた純水Ｈ２Ｏとヨウ化メチレンＣＨ２Ｉ２のそれぞれの接触角θＨ２Ｏ、θＣＨ２Ｉ２から以下の連立方程式ａ，ｂより求めたγｓｄとγｓｈの和で表される値γｓｖ（＝γｓｄ＋γｓｈ）で定義した。
ａ．１＋ｃｏｓθＨ２Ｏ＝２√γｓｄ（√γＨ２Ｏｄ／γＨ２Ｏｖ）＋２√γｓｈ（√γＨ２Ｏｈ／γＨ２Ｏｖ）
ｂ．１＋ｃｏｓθＣＨ２Ｉ２＝２√γｓｄ（√γＣＨ２Ｉ２ｄ／γＣＨ２Ｉ２ｖ）＋２√γｓｈ（√γＣＨ２Ｉ２ｈ／γＣＨ２Ｉ２ｖ）
γＨ２Ｏｄ＝２１．８、γＨ２Ｏｈ＝５１．０、γＨ２Ｏｖ＝７２．８、
γＣＨ２Ｉ２ｄ＝４９．５、γＣＨ２Ｉ２ｈ＝１．３、γＣＨ２Ｉ２ｖ＝５０．８  
【０１０２】
［（ｂ）炭酸ジメチル］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物は、（ｂ）炭酸ジメチルを含有する。
本発明において、前記（ａ）特定の防汚剤と、（ｂ）炭酸ジメチルとを組み合わせることで、（ａ）防汚剤がハードコート層の表面に局在化し、防汚性が大きく向上し、かつ膜の硬度も向上する。これらの効果は、種々の溶媒のなかでも炭酸ジメチルのみに特有のものである。また、上記効果は、（ａ）防汚剤の表面張力が２５ｍＮ／ｍ以下である場合に特に顕著になる。
更に、炭酸ジメチルを用いることで防汚剤の添加量を少なくすることも期待される。
【０１０３】
後述するように、本発明の光学フィルムは、透明基材としてセルロースアシレートフィルムを用いることが好ましい。（ｂ）炭酸ジメチルは、セルロースアシレートフィルムを短時間で膨潤・溶解する溶剤であり、ハードコート層とセルロースアシレートフィルムとの密着性を良好にするとともに、ＴＡＣ（セルローストリアセテート）フィルムに塗工する場合、例えばワイヤーバーコート法、ダイコート法等で塗工する時に、レベリング性が良好となる。特に単層流延法によって作成されたＴＡＣフィルムは、複数層共流延法と比較し、フィルム表面の平滑性が劣る傾向があり、防眩層をウエット塗工した際に生じるＴＡＣフィルムの平面性不良起因の筋状の塗工ムラ等が発生し易いが、沸点が８０℃以上、好ましくは８５℃以上の溶剤を使用すると、平面性不良起因の筋状の塗工ムラ等が改善できる傾向があり、塗工適性上優位である。
【０１０４】
溶剤としては、塗工時の乾燥性、更なる防汚性向上等を考慮し、（ｂ）炭酸ジメチル以外の有機溶剤を、密着性、及び防汚性が低下しない範囲で使用できる。
係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０５】
本発明のハードコート層形成用組成物の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、更に好ましくは４０〜７０質量％である。
（ｂ）炭酸ジメチルの含有量は、（ａ）防汚剤を十分表面に偏在させるようコントロールできる量使用することが好ましい。またハードコート層に含有される他の素材の塗布液への溶解性の調整の観点、及び基材とハードコート層との混在領域の厚みを調整する観点から、全溶剤（（ａ），（ｃ），（ｄ）成分を溶解又は分散させるための、（ｂ）及び（ｂ）以外の有機溶剤）に対して１０質量％以上が好ましく、１０質量％〜７０質量％がより好ましく、１５質量％〜６０質量％が更に好ましい。
【０１０６】
［（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物について説明する。
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。該重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は３つ以上であることがより好ましい。
【０１０７】
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【０１０８】
重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【０１０９】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【０１１０】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１１１】
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、防汚剤の表面偏在性が向上し、防汚性、膜硬度を更に向上させることができるという理由から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの電気陰性度が大きな原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的にはＯＨ−、ＳＨ−、−ＮＨ−、ＣＨＯ−、ＣＨＮ−などが挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレート類や水酸基を有する（メタ）アクリレート類が好ましい。市販されている（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫオリゴ  Ｕ４ＨＡ、同ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
【０１１２】
本発明のハードコート層形成用組成物中の（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、７０〜９９質量％が好ましく、８０〜９９質量％がより好ましい。
【０１１３】
［（ｄ）光重合開始剤］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｄ）光重合開始剤について説明する。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【０１１４】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１１５】
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」（ＣＧＩ−４０３／Ｉｒｇ１８４＝７／３混合開始剤）、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」、“ＯＸＥ０１”等；日本化薬（株）製の「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ−１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２−ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」、「カヤキュアーＭＣＡ」など；サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴＯ４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
【０１１６】
本発明のハードコート層形成用組成物中の（ｄ）光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【０１１７】
本発明のハードコート層形成用組成物には、上記した以外の成分を添加することもできる。特に、（ｅ）シリカ微粒子を含有することは、シリカ微粒子が親水的であることにより防汚剤の表面偏在性が向上し、防汚性、膜硬度を更に向上させることができるという理由から好ましい。また、これ以外にも屈折率を制御する効果や架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。
【０１１８】
［（ｅ）シリカ微粒子］
シリカ微粒子のサイズ（１次粒径）は１５ｎｍ以上１００ｎｍ未満、更に好ましくは２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、最も好ましくは２５ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。無機微粒子の粒径が小さすぎると、防汚剤の表面偏在性を高める効果が少なくなり、大きすぎるとハードコート層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。また、シリカ微粒子は粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いてもよい。
【０１１９】
本発明に使用することができるシリカ微粒子は塗布液中での分散性向上、膜強度向上のために表面処理を施していてもよく、表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開２００７−２９８９７４号公報の［０１１９］〜［０１４７］に記載のものと同様である。
【０１２０】
シリカ微粒子の具体的な例としては、ＭｉＢＫ−ＳＴ、ＭｉＢＫ−ＳＤ（以上、平均粒子径１５ｎｍ、日産化学工業（株）製シリカゾル）、ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（平均粒子径５０ｎｍ、日産化学工業（株）製シリカゾル）などを好ましく用いることができる。
【０１２１】
シリカ微粒子の添加量は、防汚剤の偏在性向上を補助する観点から、組成物中の全固形分に対して５〜４０質量％が好ましく、１５〜３０質量％がより好ましい。
【０１２２】
［導電性化合物］
本発明の光学フィルムにおけるハードコート層は、帯電防止性を付与する目的で導電性化合物を含有してもよい。特に、親水性を有する導電性化合物を用いることにより、防汚剤の表面偏在性を向上させることができ、防汚性、膜硬度を更に向上させることができる。導電性化合物に親水性を持たせるためには、親水性基を導電性化合物に導入してもよく、親水性基としては、高い導電性を発現させ、かつ比較的安価である観点から、カチオン性基を有することが好ましく、中でも４級アンモニウム塩基を有することがより好ましい。
【０１２３】
本発明に用いられる導電性化合物は、特に制限はないが、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物が挙げられる。イオン導電性化合物としては、カチオン性、アニオン性、非イオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。電子伝導性化合物としては、芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である電子伝導性化合物が挙げられる。これらの中では帯電防止性能が高く、比較的安価で、更に基材側領域に偏在させる観点から、４級アンモニウム塩基を有する化合物（カチオン系化合物）が好適である。
【０１２４】
４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、基材側領域に偏在させる観点から、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーが好ましい。
【０１２５】
【化６】
0005759848.tif 000007
【０１２６】
一般式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ２ＣＯＯ−Ｍ＋を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ−Ｍ＋を表す。Ｍ＋はプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。
【０１２７】
【化７】
0005759848.tif 000008
【０１２８】
式中、Ｒ２、Ｒ２’及びＲ２’’は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｘ−はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。
【０１２９】
【化８】
0005759848.tif 000009
【０１３０】
【化９】
0005759848.tif 000010
【０１３１】
一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ３とＲ４及びＲ５とＲ６はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ７ＣＯＲ８−、−Ｒ９ＣＯＯＲ１０ＯＣＯＲ１１−、−Ｒ１２ＯＣＲ１３ＣＯＯＲ１４−、−Ｒ１５−（ＯＲ１６）ｍ−、−Ｒ１７ＣＯＮＨＲ１８ＮＨＣＯＲ１９−、−Ｒ２０ＯＣＯＮＨＲ２１ＮＨＣＯＲ２２−又は―Ｒ２３ＮＨＣＯＮＨＲ２４ＮＨＣＯＮＨＲ２５−を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ７ＣＯＲ８−、−Ｒ９ＣＯＯＲ１０ＯＣＯＲ１１−、−Ｒ１２ＯＣＲ１３ＣＯＯＲ１４−、−Ｒ１５−（ＯＲ１６）ｍ−、−Ｒ１７ＣＯＮＨＲ１８ＮＨＣＯＲ１９−、−Ｒ２０ＯＣＯＮＨＲ２１ＮＨＣＯＲ２２−又は―Ｒ２３ＮＨＣＯＮＨＲ２４ＮＨＣＯＮＨＲ２５−又は−ＮＨＣＯＲ２６ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５及びＲ２６はアルキレン基を表す。Ｒ１０、Ｒ１３、Ｒ１８、Ｒ２１及びＲ２４は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ‐はアニオンを表す。Ｚ１、Ｚ２は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ＋［Ｘ−］−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。ｎは５〜３００の整数を表す。
【０１３２】
一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。アルキル基は、炭素数１〜４の分岐又は直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。アルキレン基は、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。アリーレン基は、炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。アルケニレン基は、炭素数２〜１０のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数６〜１２のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【０１３３】
一般式（Ｉ）において、Ｒ１は水素原子が好ましい。
Ｙは、好ましくは水素原子である。
Ｊは、好ましくはフェニルメチレン基である。
Ｑは、好ましくは群Ａから選ばれる下記一般式（ＶＩ）であり、Ｒ２、Ｒ２’及びＲ２’’は各々メチル基である。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。ｐ及びｑは、好ましくは０又は１であり、より好ましくはｐ＝０、ｑ＝１である。
【０１３４】
【化１０】
0005759848.tif 000011
【０１３５】
一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）において、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、好ましくは炭素数１〜４の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。Ａ、Ｂ及びＤは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数２〜１０の置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Ｅは、好ましくはＥは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。Ｚ１、Ｚ２が、−Ｎ＝Ｃ−基とともに形成する５員又は６員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。
【０１３６】
以下に、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造のユニットを有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字（ｍ、ｘ、ｙ、ｚ、ｒ及び実際の数値）の内、ｍは各ユニットの繰り返し単位数を表し、ｘ、ｙ、ｚ、ｒは各々のユニットのモル比を表す。
【０１３７】
【化１１】
0005759848.tif 000012
【０１３８】
【化１２】
0005759848.tif 000013
【０１３９】
【化１３】
0005759848.tif 000014
【０１４０】
【化１４】
0005759848.tif 000015
【０１４１】
【化１５】
0005759848.tif 000016
【０１４２】
上記で例示した導電性化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上の化合物を併用して用いることもできる。また、帯電防止剤の分子内に重合性基を有する帯電防止化合物は、帯電防止層の耐擦傷性（膜強度）も高めることができるので、より好ましい。
【０１４３】
電子伝導性化合物としては、好ましくは芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族炭素環としては、例えばベンゼン環が挙げられ、更に縮環を形成してもよい。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族ヘテロ環としては、例えばピリジン環、ビラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、インドール環、カルバゾール環、ペンゾイミダゾール環、イミダゾピリジン環などが挙げられ、更に縮環を形成してもよく、置換基を有してもよい。
【０１４４】
また、非共役高分子又は共役高分子における前記二価以上の連結基としては、炭素原子、珪素原子、窒素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子、金属、金属イオンなどで形成される連結基が挙げられる。好ましくは、炭素原子、窒素原子、珪素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子及びこれらの組み合わせから形成される基であり、組み合わせにより形成される基としては、置換若しくは無置換のメチレン基、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、エステル基、アミド基、シリル基などが挙げられる。
【０１４５】
電子伝導性化合物としては、具体的には、置換又は非置換の導電性ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリセレノフェン、ポリイソチアナフテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセチレン、ポリピリジルビニレン、ポリアジン、又はこれらの誘導体等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく、また、目的に応じて２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１４６】
また、所望の導電性を達成できる範囲であれば、導電性を有しない他のポリマーとの混合物として用いることもでき、導電性ポリマーを構成し得るモノマーと導電性を有しない他のモノマーとのコポリマーも用いることができる。
【０１４７】
電子伝導性化合物としては、共役高分子であることが更に好ましい。共役高分子の例としては、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（パラフェニレン）、ポリフルオレン、ポリアズレン、ポリ（パラフェニレンサルファイド）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）、複鎖型共役系高分子（ポリペリナフタレンなど）、金属フタロシアニン系高分子、その他共役系高分子（ポリ（パラキシリレン）、ポリ［α−（５，５’−ビチオフェンジイル）ベンジリデン］など）、又はこれらの誘導体等が挙げられる。
好ましくはポリ（パラフェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）が挙げられ、より好ましくはポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール又はこれらの誘導体、更に好ましくはポリチオフェン及びその誘導体の少なくともいずれかが挙げられる。
【０１４８】
以下に、電子伝導性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、これらの他にも、国際公開第９８／０１９０９号記載の化合物等が挙げられる。ｘ及びｙは各ユニットの繰り返し単位数を表す。
【０１４９】
【化１６】
0005759848.tif 000017
【０１５０】
【化１７】
0005759848.tif 000018
【０１５１】
本発明で用いる電子伝導性化合物の質量平均分子量は、１，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは１０，０００〜５００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。ここで質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定されるポリスチレン換算質量平均分子量である。
【０１５２】
本発明で用いる電子伝導性化合物は、塗布性及び他の成分との親和性付与の観点から、有機溶剤に可溶であることが好ましい。ここで、「可溶」とは溶剤中に単一分子状態又は複数の単一分子が会合した状態で溶解しているか、粒子径が３００ｎｍ以下の粒子状に分散されている状態を指す。
一般に、電子伝導性化合物は水を主成分とする溶媒に溶解することから、化合物としては親水性を有するが、このような電子伝導性化合物を有機溶剤に可溶化するには、電子伝導性化合物を含む組成物中に、有機溶剤との親和性を上げる化合物（例えば可溶化補助剤等）や有機溶剤中での分散剤等を添加する、あるいは疎水化処理したポリアニオンドーパントを用いることにより、有機溶剤に可溶化することができる。これらの方法により本発明で示される有機溶剤へも溶解可能となるが、化合物としての親水性は残っており、本発明の方法を適用すれば導電性化合物の偏在が可能である。
【０１５３】
導電性化合物のハードコート層における分布としては、元素分析（ＥＳＣＡ）によるハードコート層表面側の窒素又は硫黄の原子量が０．５〜５ｍｏｌ％であることが好ましい。この範囲であれば良好な帯電防止性が得易い。より好ましくは０．５〜３．５ｍｏｌ％であり、更に好ましくは０．５〜２．５ｍｏｌ％である。
【０１５４】
本発明のハードコート層形成用組成物は導電性化合物を含有してもよいし、含有しなくてもよい。導電性化合物を含有する場合、導電性化合物の好ましい含有量は、ハードコート層形成用組成物の全固形分に対して、１〜３０質量％である。
【０１５５】
本発明のハードコート層には、これらの他に更に添加剤を含有することも可能である。更に含有し得る添加剤としては、ポリマーの分解を抑える目的で、紫外線吸収剤、亜リン酸エステル、ヒドロキサム酸、ヒドロキシアミン、イミダゾール、ハイドロキノン、フタル酸、などを挙げることができる。また、膜強度を高める目的で無機微粒子、ポリマー微粒子、シランカップリング剤、屈折率を下げて透明性を高める目的でフッ素系化合物（特に、フッ素系界面活性剤）、内部散乱性付与の目的でのマット粒子などを挙げることができる。更には、防眩性を付与する目的で、特開２００８−２６８９３９号公報等に記載されている樹脂粒子、膜の均一性を高める目的で、特開２００４−３３１８１２号公報、特開２００４−１６３６１０号公報等に記載されているレベリング剤なども好ましく併用することができる。
【０１５６】
［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、透明基材上に前記ハードコート層形成用組成物を用いて形成されたハードコート層を有する。
【０１５７】
本発明の光学フィルムとして、特に好ましい態様は、セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムであって、該セルロースアシレートフィルム基材のハードコート層の界面には、基材成分とハードコート層成分が混在した領域が存在し、かつ該ハードコート層が前記防汚剤を含有し、該防汚剤が該ハードコート層の表面側（透明基材と反対側の界面側）に局在して存在する光学フィルムである。
ここで、ハードコート層とは、ハードコート層成分が含まれている部分全体を指し、基材とは、ハードコート層成分を含まない部分を示すこととする。
本発明の光学フィルムでは、基材成分とハードコート層成分が混在した領域が存在していることが好ましい。このように各成分が混じり合うことにより、基材とハードコート層密着性が向上する。基材成分とハードコート層成分が混在した領域の厚さは、ハードコート層全体の厚さに対して５％以上９９％以下であることが好ましく、１０％以上８０％以下であることが更に好ましく、１５％以上７０％以下であることがもっとも好ましい。混在した領域が５％以上であると基材とハードコート層との密着性が十分になり、また９９％以下であるとハードコート層の最表面に基材成分が露出することがないため、更なる上層との密着性が低下しない。
また、混在した領域は、フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析した時に、基材成分とハードコート層成分が共に検出される部分として測定することができ、この領域の膜厚も同様にＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定することができる。例えば、基材としてセルロースアセテートフィルムを、ハードコート成分（不飽和二重結合を有する化合物）としてアクリロイル基を有する化合物を用いた場合は、基材を表す二次イオンとしてＣ６Ｈ５Ｏ２＋を、ハードコート成分（不飽和二重結合を有する化合物）を表す二次イオンとしＣ３Ｈ３Ｏ２−をそれぞれ検出し、全膜厚に対す両二次イオンが検出される領域の膜厚を測定することで、混在した領域の割合を知ることができる。
【０１５８】
［透明基材］
本発明の光学フィルムにおいては、透明基材（支持体）として種々用いることができるが、セルロース系ポリマーを含む基材が好ましく、セルロースアシレートフィルムを用いることがより好ましい。
セルロースアシレートフィルムとしては、特に限定されないが、ディスプレイに設置する場合は、セルローストリアセテートフィルムを偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてそのまま用いることができるため、生産性やコストの点でセルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。
セルロースアシレートフィルムの厚さは、通常、２５μｍ〜１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、かつ必要な基材強度が得られる４０μｍ〜２００μｍが好ましい。
【０１５９】
本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることが更に好ましい。
【０１６０】
また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の値が１．０に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることが更に好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
【０１６１】
一般に、セルロースアシレートの２，３，６位の水酸基は全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。更にセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。
【０１６２】
本発明ではセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４、実施例、合成例１、段落番号００４８〜００４９、合成例２、段落番号００５１〜００５２、合成例３に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
【０１６３】
［ハードコート層の物性］
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性能を得るための光学設計から、１．４８〜１．６５であることが好ましい。更に望ましくは１．４８〜１．６０、最も好ましくは１．４８〜１．５５である。
【０１６４】
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、０．５μｍ〜２０μｍとし、好ましくは１μｍ〜１０μｍ、更に好ましくは１μｍ〜５μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１６５】
（光学フィルムの製造方法）
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まずハードコート層形成用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
【０１６６】
塗布した後、乾燥、光照射してハードコート層形成用組成物から形成される層を硬化し、これによりハードコート層が形成される。必要に応じて、透明基材上にあらかじめその他の層を塗設しておき、その上にハードコート層を形成することも可能である。このようにして本発明の光学フィルムが得られる。また必要に応じて前記したようなその他の層を設けることもできる。本発明の光学フィルムの製造方法において、複数の層を同時に塗布してもよいし、逐次塗布してもよい。
【０１６７】
本発明の光学フィルムの製造方法の特に好ましい態様としては、セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該基材上に前記ハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する光学フィルムの製造方法である。
【０１６８】
［偏光板用保護フィルム］
光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化する、所謂ケン化処理を行うことで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０１６９】
上述したケン化処理について説明する。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間光学フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。透明支持体の偏光膜と貼り合わせる側の面が浸水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から３分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が３質量％〜２５質量％であり、処理温度は３０℃〜７０℃、処理時間は１５秒〜５分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。
本発明の光学フィルムの帯電防止層は、このようなケン化処理によってアルカリ水溶液に晒されても、帯電防止性能が良好に保たれる。
【０１７０】
本発明の光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、セルロースアシレートフィルムは、セルローストリアセテートフィルムであることが好ましい。
【０１７１】
［偏光板］
次に、本発明の偏光板について説明する。
本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光学フィルム又は反射防止フィルムであることを特徴とする。
【０１７２】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。
【０１７３】
光学フィルムのセルロースアシレートフィルムが、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。
【０１７４】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、帯電防止性、耐久性に優れた偏光板が作製できる。
【０１７５】
また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記光学フィルムを用いて形成されており、該偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。
【０１７６】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。
【０１７７】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルム、反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有する。
本発明の光学フィルム、反射防止フィルム及び偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いることができる。
特に、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、透過型／半透過型液晶表示装置において、液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。
【実施例】
【０１７８】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０１７９】
〔光学フィルムの作製〕
下記に示す通りに、ハードコート層形成用の塗布液を調製し、透明基材上にハードコート層を形成して、光学フィルム試料１〜２３を作製した。
【０１８０】
（ハードコート層用塗布液Ａ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液Ａ−１（固形分濃度５０質量％）とした。
炭酸ジメチル                                                      ３００質量部
メチルイソブチルケトン                                            ７００質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物（ＰＥＴ３０、日本化薬（株）製）                              ９２０質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
３０質量部
反応性シリコーン（ＲＭＳ−０３３、信越化学（株）製）                ５０質量部
【０１８１】
ハードコート層用塗布液Ａ−１と類似の方法で、各成分を下記表１のように混合して溶剤に溶解して表１記載の比率になるように調整し、固形分濃度５０質量％のハードコート層用塗布液Ａ−２〜Ａ−２３を作製した。表１において溶剤１と溶剤２の含有量は（溶剤１＋溶剤２）の合計の含有量に対する質量％である。
【０１８２】
【表１】
0005759848.tif 000019
【０１８３】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
ＭＩＢＫ−ＳＴ：シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、固形分３０質量％、日産化学工業（株）製）
光重合開始剤イルガキュア１８４（Ｉｒｇ．１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
ＲＭＳ−０３３：反応性基含有ポリシロキサン（Ｇｅｌｅｓｔ製、Ｍｗ＝２８０００）
Ｘ２２−１６４Ｂ：反応性シリコーン（信越化学（株）製、Ｍｗ＝３３００）
ＩＰ−９：前記導電性化合物ＩＰ−９
オプツールＤＡＣ：フッ素系化合物（ダイキン化学工業（株）製）
ｄ−４：前記一般式（Ｆ−４）の具体的化合物（ｄ−４）
ａ−５：前記一般式（Ｆ−１）の具体的化合物ａ−５
Ａ−ＴＭＭ−３：ペンタエリスリトールトリアクリレート（新中村化学工業（株）ＮＫエステル）
Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）ＮＫエステル）
ＭＦ−１：国際公開第２００３／０２２９０６号の実施例記載の下記含フッ素不飽和化合物
【０１８４】
【化１８】
0005759848.tif 000020
【０１８５】
（ハードコート層Ａ−１の作製）
層厚８０μｍの透明支持体としてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記ハードコート層用塗布液Ａ−１をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層Ａ−１を形成した。
【０１８６】
同様の方法でハードコート層用塗布液Ａ−２〜２３を用いてハードコート層Ａ−２〜２３を作製した。なお、ハードコート層の屈折率の測定は、各層の塗布液を約４μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定した。「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ
部品番号：ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。
【０１８７】
（光学フィルムの評価）
以下の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表２に示す。
【０１８８】
（１）基材とハードコート層界面の観察
フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析し、界面の状態を観察した。基材成分とハードコート層成分が共に検出される部分を基材とハードコート層成分が混在した領域とし、この領域の膜厚も同じＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定し、ハードコート層全体の厚さに対する基材成分とハードコート層成分が混在した領域の厚さの割合を算出した。また、Ｘをハードコート層の表面近傍におけるフッ素量あるいはシリコーン量、Ｙをハードコート層全体でのフッ素量、あるいはシリコーン量としたときのＸ／Ｙを算出した。なお、基材を表す二次イオンとしてＣ６Ｈ５Ｏ２＋を、ハードコート成分（不飽和二重結合を有する化合物）を表す二次イオンとしＣ３Ｈ３Ｏ２−をそれぞれ検出した。防汚剤を表す二次イオンとしてはＦ−フラグメントあるいはＳｉ２Ｃ５Ｈ１５Ｏ＋フラグメントを検出した。
【０１８９】
（２）防汚性
フィルムをガラス面上に粘着剤で固定し、２５℃６０ＲＨ％の条件下で黒マジック「マッキー極細（商品名：ＺＥＢＲＡ製）」のペン先（細）にて直径５ｍｍの円形を３周書き込み、１０秒後に１０枚重ねに折り束ねたベンコット（商品名、旭化成（株））でベンコットの束がへこむ程度の荷重で２往復拭き取る。マジック跡が拭き取りで消えなくなるまで前記の書き込みと拭き取りを前記条件で繰り返し、拭き取りできた回数により防汚性を以下の基準で評価し、△以上をＯＫとした。
◎：消えなくなるまでの回数が３０回以上
○：消えなくなるまでの回数が５回以上３０回未満
△：消えなくなるまでの回数が１回以上５回未満
×：拭取れない
【０１９０】
（３）密着性評価
ＪＩＳ−Ｋ−５４００に記載の碁盤目剥離法にて評価を行った。即ち、試料表面に１ｍｍ間隔で１００個の碁盤目を入れ、セロハンテープ（ニチバン（株）製）で密着試験を行った。新しいセロハンテープを貼ったあとに剥離し、以下の基準で判定した。
◎・・碁盤目中のマスの剥離が起こらない
○・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが９０％以上で、僅かに剥離するが問題がない
△・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが７０％以上９０％未満であり、僅かに剥離するがほとんど問題がない
×・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが７０％未満であり、非常に問題である
【０１９１】
（４）鉛筆硬度
ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。光学フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６に規定する試験用鉛筆を用いて評価した。ハードコート性能として、硬度は２．５Ｈ以上であることが好ましい。
【０１９２】
（５）ゴミ付き防止性評価
光学フィルムの透明支持体側をＣＲＴ表面に貼り付け、０．５μｍ以上の埃及びティッシュペーパー屑を、１ｆｔ３（立法フィート）当たり１００〜２００万個有する部屋で２４時間使用した。反射防止フィルム１００ｃｍ２当たり、付着した埃とティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値で以下のように評価した。
Ａ：２０個未満で、ほとんど屑が付着しない
Ｂ：２０個以上２００個未満で、小量の屑が付着するが問題はない
Ｃ：２００個以上で、多量の屑が付着する
【０１９３】
【表２】
0005759848.tif 000021
【０１９４】
表２に示すように、本発明のハードコート層形成用組成物を使用すると、防汚性を改善してかつ、密着性、鉛筆硬度にも優れた光学フィルムを得ることができた。また、導電性化合物を含有する試料Ｎｏ．２１及び２２ではごみ付き防止性もＡ又はＢランクになり、上記効果に加えて良好なごみ付き防止性も付与することができた。
【０１９５】
（光学フィルムの鹸化処理）
前記試料Ｎｏ．６に以下の処理を行った。１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した光学フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの光学フィルムを作製した。
【０１９６】
（偏光板の作製）
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）と、鹸化処理済みの光学フィルムを、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面に接着、保護して偏光板（試料Ｎｏ．２４）を作製した。
【０１９７】
有機ＥＬディスプレイの表面にハードコート層が外側になるように試料Ｎｏ．２４を接着剤で貼り付けた。傷つきや面状ムラが無く良好な表示性能が得られ、かつマジック汚れも良好に拭取れた。
【０１９８】
参考のため、下記表３に各溶媒の分子量、ＳＰ値、沸点、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）溶解性、及び防汚性を示す。
【０１９９】
（ＳＰ値）
化合物のＳＰ値とは溶解性パラメーターで、どれだけ溶媒などに溶けやすいかということを数値化したものであり、有機化合物ではよく使われる極性と同義で、このＳＰ値が大きい程、極性が大きいことを表す。ＳＰ値は例えばＦｅｄｏｒの推算法（ＳＰ値基礎・応用と計算方法  ｐ．６６：山本秀樹著：情報機構（２００５．３．３１発行）で計算した値である。
【０２００】
（ＴＡＣ溶解性）
溶媒のＴＡＣ溶解性Ｓは次の方法で評価できる。質量Ｍを測った基材フィルムを溶媒に５分間浸漬し、溶媒から取り出したものを（著しく軟化している場合はろ過する）２００℃のオーブンで１分間乾燥させる。その後再び質量Ｍ’を測定し、基材フィルムの質量の変化分より、溶解性Ｓ＝基材フィルムの質量変化量＝（Ｍ−Ｍ’）／Ｍ×１００  （質量％）とし、以下のように評価した。
◎・・・５０％＜Ｓ≦１００％で、基材を非常に溶解する
○・・・３０％＜Ｓ≦５０％で、基材を溶解する
△・・・５％＜Ｓ≦３０％で、基材を小量溶解するが効果は小さい
×・・・０％≦Ｓ＜５％で、基材をほとんど溶解しない
【０２０１】
【表３】
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【０２０２】
表３に示すとおり、本発明における炭酸ジメチルと同じような物性（分子量、ＳＰ値、沸点、及びＴＡＣ膨潤性）を示す溶媒であっても、炭酸ジメチルのような防汚剤の局在性を示す溶媒はない。この結果からも、炭酸ジメチルを用いることで本発明のような格別の効果が得られることは予想し得ないことがわかる。