(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸気口と排気口とを有し、互いに連通し、仕切壁で仕切られた複数段のポンプ室を内部に備えたポンプケーシングと、
両端を軸受で回転自在に支承されて前記ポンプケーシングの長さ方向に沿って配置される回転軸と、
前記ポンプ室内にそれぞれ収容され、前記回転軸に連結されて該回転軸の回転に伴って回転する複数のロータとを有し、
最終段ポンプ室は、吸気側の仕切壁と排気側の端壁によって形成され、
前記排気側の端壁の側方にはサイドパネルが設けられており、
前記端壁と前記サイドパネルの間には、前記排気口に連通し大気に開放させた大気開放室が設けられており、
前記ポンプケーシングは、内壁と該内壁と所定間隔離間して配置される外壁とを備えた二重壁構造を有していることを特徴とする真空ポンプ。
【請求項２】
前記サイドパネルの内部には前記回転軸が挿通されており、該回転軸の挿通部にパージガスを供給するパージガス通路が設けられていることを特徴とする請求項１記載の真空ポンプ。
【請求項３】
前記大気開放室は一定の幅を有していることを特徴とする請求項１または２に記載の真空ポンプ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体、液晶、太陽電池、ＬＥＤ等の製造工程の一つであるＣＶＤやエッチングといったプロセスで使用される真空ポンプであって、ポンプ内部に昇華性ガスや腐食性ガスが流入するプロセスで使用される真空ポンプに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、真空チャンバに接続されて、真空チャンバ内に導入したプロセスガスを排気するのに使用される真空ポンプは、一般に、吸気口と排気口とを有し、内部にポンプ室を備えたポンプケーシングと、このポンプケーシングの内部に収容されたロータとを有し、ポンプ室の内部でロータを回転させることで、プロセスガスを吸気口からポンプケーシング内部に流入させて圧縮し、排気口から外部に排気するように構成されている。ロータは、ポンプケーシングの内部を延びる回転軸に固定され、回転軸の両端は、ポンプケーシングの側方に配置された室の内部に収容された一対の軸受で回転自在に支承されている。
【０００３】
このため、真空ポンプの真空チャンバに接続されるポンプケーシングの吸気口付近は、真空チャンバの内部と同じ真空状態となり、ポンプケーシングの排気口付近は、大気に開放されてほぼ大気圧となる。回転軸は、その両端を軸受によって回転自在に支承されているとともに、軸受に入ったプロセスガスによって生成された生成物で軸受が破壊されるのを防止するため、接触シールまたは非接触シールでシールされている。回転軸のシールには、接触による損傷を防止した非接触シールが広く使用されている。
【０００４】
例えば、複数段のポンプ室を有する多段真空ポンプを使用して真空チャンバ等の内部を真空排気する場合は、１段目よりも２段目、２段目よりも３段目と、段数が増加するに従ってポンプ室の内部圧力が段階的に増加し、しかも、同じポンプ室であっても、ポンプ室の出口側に位置する気体の方が入口側に位置する気体よりも圧力が高くなる。つまり、最終段ポンプ室の出口側（排気口）がほぼ大気圧となり、最終段ポンプ室の入口側は大気圧よりも低い圧力となる。摩耗を防止するため、回転軸のシールに非接触シールを使用した場合、最終段ポンプ室に隣接して内部に軸受を収納した室の内部圧力は、最終段ポンプ室の内部圧力（平均圧力）に見合った圧力となる。例えば、真空ポンプの最終段ポンプ室の出口側（排気口）がほぼ大気圧の７６０Ｔｏｒｒで、最終段ポンプ室の入口側が大気圧よりも低い２００Ｔｏｒｒである場合、最終段ポンプ室に隣接して内部に軸受を収納した室の内部圧力は、およそ４８０Ｔｏｒｒ（＝（７６０＋２００）／２）となる。
【０００５】
最終段ポンプ室の入口側の圧力は、真空チャンバ側からのプロセスガスの流入等によって変化する。例えば、真空チャンバ側からプロセスガスが流入すると、最終段ポンプ室の入口側の圧力が２００Ｔｏｒｒから３００Ｔｏｒｒに上昇する。一方、最終段ポンプ室の出口側圧力は、ポンプ排気管を通し大気に連通しているため、大気圧からほとんど変化しない。そして、最終段ポンプ室の入口側の圧力が２００Ｔｏｒｒから３００Ｔｏｒｒに変化すると、最終段ポンプ室内の内部圧力（平均圧力）は、５３０Ｔｏｒｒ（＝（７６０＋３００）／２）となり、最終段ポンプ室に隣接して内部に軸受を収納した室の内部圧力の４８０Ｔｏｒｒよりも高くなる。
【０００６】
そして、このように最終段ポンプ室内の平均圧力の方が最終段ポンプ室に隣接して内部に軸受を収納した室の内部圧力よりも高くなると、この室の内部に最終段ポンプ室の内部に流入したプロセスガスが漏れる。このように、軸受を収納した室の内部にプロセスガスが漏れると、プロセスガスに昇華性物質等が含まれている場合、該室の温度は一般に低いため、該室の内部に配置されている軸受や軸受を潤滑するための潤滑油に生成物等の析出物が析出して、軸受損傷の原因となる。
【０００７】
なお、凝縮性気体や昇華性気体等の気体の排気に適するようにポンプ室の温度を高めに維持しつつ、潤滑油室の潤滑油の温度を低めに維持するのに有利で、潤滑油の蒸気化を抑えるため、相対的に温度が高めのポンプ室と相対的に温度が低めの潤滑油室との間に中空状をなす断熱用の中間室と、冷媒を通過させる冷却通路とを形成するようにしたドライポンプが提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−１０５８２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１に記載のドライポンプは、凝縮性気体や昇華性気体等の気体の排気に適するようにポンプ室の温度を高めに維持しつつ、潤滑油室の潤滑油の温度を低めに維持するのに有利で、潤滑油の蒸気化を抑えるようにしたものであって、ポンプケーシングの側方に位置する室の内部に収容された軸受をプロセスガスから保護するようにしたものではない。なお、回転軸の非接触シールにＮ２ガス等のパージガスを導入することで、プロセスガスの軸受側への漏れを防止することも広く行われているが、回転軸の非接触シールに導入するＮ２ガス等のパージガスの量を増やすとポンプ室の圧力も悪くなってしまうため、回転軸の非接触シールに導入するＮ２ガス等のパージガスの量には一定の限界がある。
【００１０】
本発明は上記事情に鑑みて為されたもので、ポンプ内部に流入したプロセスガスが軸受側に漏れることをより確実に防止して、軸受をプロセスガスから保護できるようにした真空ポンプを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
請求項１に記載の発明は、吸気口と排気口とを有し、互いに連通し、仕切壁で仕切られた複数段のポンプ室を内部に備えたポンプケーシングと、両端を軸受で回転自在に支承されて前記ポンプケーシングの長さ方向に沿って配置される回転軸と、前記ポンプ室内にそれぞれ収容され、前記回転軸に連結されて該回転軸の回転に伴って回転する複数のロータとを有し、最終段ポンプ室は、吸気側の仕切壁と排気側の端壁によって形成され、前記排気側の端壁の側方にはサイドパネルが設けられており、前記端壁と前記サイドパネルの間には、前記排気口に連通し大気に開放させた大気開放室が設けられており、前記ポンプケーシングは、内壁と該内壁と所定間隔離間して配置される外壁とを備えた二重壁構造を有していることを特徴とする真空ポンプである。
【００１２】
このように、ポンプケーシングの排気口側に該排気口に連通し大気に開放させた大気開放室を設けることで、たとえポンプ室の内部圧力が変化し、回転軸のシールに非接触シールを使用した場合でも、大気開放室の側方に位置して内部に軸受を収容している室の内部が常にほぼ大気圧となるようにすることができる。これによって、ポンプ室内に流入したプロセスガスが大気開放室の側方に位置して内部に軸受を収容している室の内部に漏れてしまうことをより確実に防止して、軸受をプロセスガスから保護することができる。
【００１４】
多段真空ポンプにあっては、前述のように、最終段ポンプ室の出口側（排気口）がほぼ大気圧となっても、最終段ポンプ室の入口側は大気圧よりも低い圧力となり、真空チャンバ側からプロセスガスが流入すると、最終段ポンプ室の内部圧力（平均圧力）が変化（上昇）するが、最終段ポンプ室の側方に大気開放室を設けることで、最終段ポンプ室の内部圧力（平均圧力）が変化（上昇）しても、この圧力変化が大気開放室の側方に位置して内部に軸受を収容している室内の圧力に影響することを防止することができる。
【００１５】
請求項２に記載の発明は、前記サイドパネルの内部には前記回転軸が挿通されており、該回転軸の挿通部にパージガスを供給するパージガス通路が設けられていることを特徴とする請求項１記載の真空ポンプである。
請求項３に記載の発明は、前記大気開放室は一定の幅を有していることを特徴とする請求項１または２に記載の真空ポンプである。
【００１６】
このように、内部に回転軸を挿通させるサイドパネルに、該回転軸の挿通部にパージガスを供給するパージガス通路を設けることで、サイドパネルと回転軸との間に、接触による摩耗を防止した非接触シールを構成することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、たとえポンプ室の内部圧力が変化しても、大気開放室の側方に位置して内部に軸受を収容している室の内部圧力が常に大気圧となるため、ポンプ室内に流入したプロセスガスが大気開放室の側方に位置して内部に軸受を収容している室内に漏れてしまうことをより確実に防止して、軸受をプロセスガスから保護することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の実施形態の真空ポンプを示す縦断正面図である。
【図２】図１に示す真空ポンプに備えられているメインポンプの第１段ポンプ室の縦断側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図１は、本発明の実施形態に係る真空ポンプ１０の縦断正面図を示す。図１に示すように、真空ポンプ１０は、真空側に配置されるブースタポンプ１２と大気側に配置されるメインポンプ１４とを有しており、ブースタポンプ１２とメインポンプ１４は、連絡配管１６で互いに接続されている。この例にあっては、メインポンプ１４として、６段のルーツ式真空ポンプが使用され、単段のルーツ式真空ポンプからなるブースタポンプ１２と組合せて使用するように構成されている。
【００２０】
ブースタポンプ１２は、内部にポンプ室１８を区画形成する略円筒状の外胴２０を有するポンプケーシング２２と、モータ２４の駆動に伴って互いに同期して逆方向に回転する一対の回転軸２６とを有している。ポンプ室１８内には、互いに隣接する位置に、所定のクリアランスをもって、例えば２葉のロータからなる一対のロータ２８がそれぞれ回転自在に収容され、この各ロータ２８は、回転軸２６にそれぞれ固着されている。ポンプケーシング２２の外胴２０には、処理対象の真空チャンバ等から延びる吐出管（図示せず）に接続される吸気口２０ａと、連絡配管１６に接続される排気口２０ｂが設けられている。これによって、一対のロータ２８の互いに同期した逆方向の回転に伴って、吸気口２０ａからポンプ室１８内にプロセスガスを流入させ、圧縮させて排気口２０ｂから外部に移送するようになっている。なお、図１には、回転軸２６及び該回転軸２６の駆動機構等の一方のみが図示されているが、紙面と反対側にもほぼ同様な構成が備えられている。
【００２１】
この例において、ポンプケーシング２２の外胴２０の吸気口２０ａ及び排気口２０ｂを除く領域の外周部は、略円筒状のヒータジャケット３０で一体的に包囲されている。これによって、ポンプ室１８の内部がヒータジャケット３０で加熱されるようになっている。
【００２２】
ブースタポンプ１２は、一般に真空度が高い（圧力が低い）ため、圧縮熱があまり発生せず、ポンプ温度が低くなっている。このため、たとえポンプ室１８内の圧力が低くても、ポンプ室１８内に流入したプロセスガスに含まれる昇華性物質等がポンプ室１８の内周面等に析出する恐れがあるが、前述のように、ヒータジャケット３０で、ポンプ室１８内の温度を上昇させることで、ポンプ室１８内に流入したプロセスガスに含まれる昇華性物質等がポンプ室１８の内周面等に析出することを防止することができる。
【００２３】
ポンプケーシング２２の両側方には、サイドパネル３２ａ，３２ｂがそれぞれ配置され、この各サイドパネル３２ａ，３２ｂにそれぞれ取り付けた軸受ハウジング３４ａ，３４ｂ内に収容した軸受３６ａ，３６ｂを介して、回転軸２６がその両端において回転自在に支承されている。更に、サイドパネル３２ａ，３２ｂの側方に位置して、内部に潤滑油を溜める潤滑油ハウジング４０ａ，４０ｂが配置され、一方の潤滑油ハウジング４０ｂにモータ２４のモータハウジングが連結されている。
【００２４】
サイドパネル３２ａ，３２ｂには、サイドパネル３２ａ，３２ｂの回転軸２６の挿通部にＮ２ガス等のパージガスを供給して、ポンプ室１８内に流入したプロセスガスが軸受３６ａ，３６ｂの方向に流出することを防止するためのパージガス通路４２ａ，４２ｂがそれぞれ設けられ、これによって、サイドパネル３２ａ，３２ｂと回転軸２６との間に、接触による摩耗を防止した非接触シールが構成されている。
【００２５】
メインポンプ１４は、この例では、６段のルーツ式真空ポンプで構成されており、内部に第１〜第６の合計６段のポンプ室５０ａ〜５０ｆと、第６段ポンプ室５０ｆに隣接する大気開放室５２を区画形成する略円筒状の外胴５４を有するポンプケーシング５６と、モータ５８の駆動に伴って互いに同期して逆方向に回転する一対の回転軸６０を有している。第１段ポンプ室５０ａの内部には、図２に示すように、例えば３葉ロータからなる一対のロータ６２ａがそれぞれ回転自在に収容されている。同様に、第２段ポンプ室５０ｂの内部には、例えば３葉ロータからなる一対のロータ６２ｂが、第３段ポンプ室５０ｃの内部には、例えば３葉ロータからなる一対のロータ６２ｃが、第４段ポンプ室５０ｄの内部には、例えば３葉ロータからなる一対のロータ６２ｄが、第５段ポンプ室５０ｅの内部には、例えば３葉ロータからなる一対のロータ６２ｅが、第６段ポンプ室５０ｆの内部には、例えば３葉ロータからなる一対のロータ６２ｆがそれぞれ収容されている。そして、直線状に並ぶ一方のロータ６２ａ〜６２ｆは一方の回転軸６０に、他方のロータ６２ａ〜６２ｆは他方の回転軸６０にそれぞれ固着されている。
【００２６】
ポンプケーシング５６は、外胴５４の端部を閉塞する一対の端壁６４ａ，６４ｂと、外胴５４の内部を仕切る５枚の仕切壁６６ａ〜６６ｅとを有しており、一方の端壁６４ａと第１仕切壁６６ａとの間に第１段ポンプ室５０ａが、第１仕切壁６６ａと第２仕切壁６６ｂとの間に第２段ポンプ室５０ｂが、第２仕切壁６６ｂと第３仕切壁６６ｃとの間に第３段ポンプ室５０ｃが、第３仕切壁６６ｃと第４仕切壁６６ｄとの間に第４段ポンプ室５０ｄが、第４仕切壁６６ｄと第５仕切壁６６ｅとの間に第５段ポンプ室５０ｅが、第５仕切壁６６ｅと他方の端壁６４ｂとの間に第６段ポンプ室５０ｆがそれぞれ形成されている。そして、他方の端壁６４ｂと該端壁６４ｂに隣接するサイドパネル８０ｂの間に大気開放室５２が形成されている。
【００２７】
第１段ポンプ室５０ａは、図２に示すように、一対のロータ６２ａの互いに同期した逆方向の回転に伴って、この入口側（図示では上側、以下同じ）から第１段ポンプ室５０ａの内部にプロセスガスを流入させて圧縮し、出口側（図示では下側、以下同じ）から第１段ポンプ室５０ａの外部にプロセスガスを移送するようになっている。このことは、第２段〜第６段ポンプ室５０ｂ〜５０ｆにあってもほぼ同様である。
【００２８】
ポンプケーシング５６の外胴５４には、連絡配管１６に接続されて第１段ポンプ室５０ａの入口側（上側）に連通する吸気口５４ａと、第６段ポンプ室（最終段ポンプ室）５０ｆの出口側（下側）に連通する排気口５４ｂが設けられている。また排気口５４ｂは、端壁６４ｂを介して大気開放室５２に連通している。これにより、大気開放室５２は、排気口５４ｂを通して大気に開放される。更に、ポンプケーシング５６の外胴５４は、内壁６８と該内壁６８と所定間隔離間して配置される外壁７０とを備えた二重壁構造を有しており、内壁６８と外壁７０との間にガス通路７２ａ〜７２ｅが形成されている。つまり、第１段ポンプ室５０ａの周囲に第１ガス通路７２ａが、第２段ポンプ室５０ｂの周囲に第２ガス通路７２ｂが、第３段ポンプ室５０ｃの周囲に第３ガス通路７２ｃが、第４段ポンプ室５０ｄの周囲に第４ガス通路７２ｄが、第５段ポンプ室５０ｅの周囲に第５ガス通路７２ｅがそれぞれ形成されている。第５段ガス通路７２ｅは、さらに、第６段ポンプ室５０ｆの周囲に拡張している。
【００２９】
これらの各ガス通路７２ａ〜７２ｅの一方は、各ポンプ室５０ａ〜５０ｅの出口側（下側）で各ポンプ室５０ａ〜５０ｅの内部にそれぞれ連通し、各ガス通路７２ａ〜７２ｅの他方は、各ポンプ室５０ｂ〜５０ｆの入口側（上側）で各ポンプ室５０ｂ〜５０ｆの内部にそれぞれ連通している。これによって、図２に示すように、吸気口５４ａを通して入口側から第１段ポンプ室５０ａ内に流入したプロセスガスは、第１段ポンプ室５０ａの内部を通過した後、第１段ポンプ室５０ａの出口側（下側）から第１ガス通路７２ａ内に流入し、該第１ガス通路７２ａに沿って上方に流れた後、第２段ポンプ室５０ｂの入口側（上側）に達する。そして、入口側から第２段ポンプ室５０ｂ内に流入したプロセスガスは、第２段ポンプ室５０ｂの内部を通過した後、第２段ポンプ室５０ｂの出口側から第２ガス通路７２ｂ内に流入し、該第２ガス通路７２ｂに沿って上方に流れた後、第３段ポンプ室５０ｃの入口側に達する。このようにして、プロセスガスは、更に第３段〜第６段ポンプ室５０ｃ〜５０ｆ内を順次通過した後、第６段ポンプ室５０ｆの出口側から排気口５４ｂを通して外部に排気される。
【００３０】
この例によれば、ポンプケーシング５６の外胴５４を、内部にガス通路７２ａ〜７２ｅを有する二重壁構造とすることで、このガス通路７２ａ〜７２ｅに沿って流れる高温のプロセスガスを通して、ポンプ室５０ａ〜５０ｆの内部と外部とをより確実に遮断し、これによって、ポンプ内部が低温となって、プロセスガスに含まれる昇華性物質等が気体から固体となってポンプ内部（ポンプケーシング内周面）に付着してしまうことを防止することができる。特に、高温のプロセスガスがガス通路７２ａ〜７２ｅに沿って各ポンプ室５０ａ〜５０ｅの出口側（下側）から次の段の入口側（上側）に向かって流れるようにすることで、この高温のプロセスガスでポンプ室５０ａ〜５０ｆを有効に加熱することができる。
【００３１】
この例では、ポンプケーシング５６の外胴５４の吸気口５４ａ及び排気口５４ｂを除く領域の外周部を略円筒状の保温ジャケット７４で一体的に包囲している。これによって、ポンプ室５０ａ〜５０ｆの内部と外部とを保温ジャケット７４によっても遮断して、ポンプ室５０ａ〜５０ｆの保温効果を高めることができる。
【００３２】
ポンプケーシング５６の端壁６４ａ，６４ｂの側方には、サイドパネル８０ａ，８０ｂがそれぞれ配置され、このサイドパネル８０ａ，８０ｂにそれぞれ取り付けた軸受ハウジング８２ａ，８２ｂ内に収容した軸受８４ａ，８４ｂを介して、回転軸６０がその両端において回転自在に支承されている。更に、サイドパネル８０ａ，８０ｂの側方に位置して、内部に潤滑油を溜める潤滑油ハウジング８８ａ，８８ｂが配置され、一方の潤滑油ハウジング８８ｂの側方にモータ５８のモータハウジングが連結されている。サイドパネル８０ａ，８０ｂには、サイドパネル８０ａ，８０ｂの回転軸６０の挿通部にＮ２ガス等のパージガスを供給して、ポンプ室５０ａ〜５０ｆ内に流入したプロセスガスが軸受８４ａ，８４ｂの方向に流出することを防止するためのパージガス通路９０ａ，９０ｂが設けられ、これによって、サイドパネル８０ａ，８０ｂと回転軸６０との間に、接触による摩耗を防止した非接触シールが構成されている。なお、パージガス通路９０ｂを流れたパージガスは、大気開放室５２内にも流入する。
【００３３】
この例では、最も高圧となる第６段ポンプ室（最終段ポンプ室）５０ｆ側の端壁６４ｂと該端壁６４ｂに隣接して配置されるサイドパネル８０ｂとの間に、排気口５４ｂに連通して大気に開放される大気開放室５２を設け、軸受８４ｂを収納した軸受ハウジング８２ｂを内部に収納した潤滑油ハウジング８８ｂを該サイドパネル８０ｂに取り付けている。これにより、たとえ第６段ポンプ室（最終段ポンプ室）５０ｆの内部圧力が変化しても、大気開放室５２の側方に位置して内部に軸受８４ｂを収容している室、つまりサイドパネル８０ｂと潤滑油ハウジング８８ｂで周囲を包囲された室Ｒの内部が常にほぼ大気圧となるようにすることができる。これによって、ポンプ室５０ａ〜５０ｆ内に流入したプロセスガスが、大気開放室５２の側方に位置して内部に軸受８４ｂを収容している室Ｒの内部に漏れてしまうことをより確実に防止して、軸受８４ｂをプロセスガスから保護することができる。
【００３４】
これは、以下の理由による。回転軸６０とサイドパネル８０ｂとの間を非接触シールでシールし、第６段ポンプ室（最終段ポンプ室）５０ｆとサイドパネル８０ｂとが互いに隣接して配置されている場合、すなわち、大気開放室５２がない場合、サイドパネル８０ｂの側方に位置して内部に軸受８４ｂを収容している室、つまりサイドパネル８０ｂと潤滑油ハウジング８８ｂで周囲を包囲された室Ｒの内部圧力は、第６段ポンプ室（最終段ポンプ室）５０ｆのほぼ平均圧力となる。例えば、第６段ポンプ室５０ｆの出口側圧力はほぼ大気圧（７６０Ｔｏｒｒ）であるが、入口側圧力が大気圧より低い圧力、仮に２００Ｔｏｒｒである場合、サイドパネル８０ｂと潤滑油ハウジング８８ｂで周囲を包囲された室Ｒの内部圧力は、ほぼ４８０Ｔｏｒｒ（＝（７６０＋２００）／２）となる。そして、真空チャンバ側からのプロセスガスの流入により第６段ポンプ室５０ｆの入口側圧力が２００Ｔｏｒｒから３００Ｔｏｒｒに変化（上昇）すると、第６段ポンプ室５０ｆの平均圧力も５３０Ｔｏｒｒ（＝（７６０＋３００）／２）となり、サイドパネル８０ｂと潤滑油ハウジング８８ｂで周囲を包囲された室Ｒの内部圧力が５３０Ｔｏｒｒに上昇するまで、プロセスガスを含んだガスが、第６段ポンプ室５０ｆからサイドパネル８０ｂと回転軸６０の隙間を通って室Ｒに流入する。
【００３５】
これに対して、この例のように、第６段ポンプ室（最終段ポンプ室）５０ｆ側の端壁６４ｂと該端壁６４ｂに隣接して配置されるサイドパネル８０ｂとの間に、排気口５４ｂに連通して大気に開放される大気開放室５２を設けると、前述のように、第６段ポンプ室（最終段ポンプ室）５０ｆの内部圧力（平均圧力）が変化（上昇）しても、大気開放室５２の圧力は大気圧から殆ど変化せず、また、サイドパネル８０ｂの側方に位置して内部に軸受８４ｂを収容している室、つまりサイドパネル８０ｂと潤滑油ハウジング８８ｂで周囲を包囲された室Ｒの内部圧力も、殆ど影響を受けることなく、ほぼ大気圧のままに維持される。
【００３６】
上述のように構成された真空ポンプ１０にあっては、ブースタポンプ１２のモータ２４及びメインポンプ１４のモータ５８を駆動して、真空チャンバの内部に導入されたプロセスガスをブースタポンプ１２及びメインポンプ１４で真空排気する。この時、大気開放室５２の側方に位置して内部に軸受８４ｂを収容している室、つまりサイドパネル８０ｂと潤滑油ハウジング８８ｂで周囲を包囲された室Ｒの内部が常にほぼ大気圧となるようにすることで、ポンプ内部に流入したプロセスガスが軸受側に漏れることをより確実に防止して、軸受をプロセスガスから保護できる。
【００３７】
これまで本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、その技術的思想の範囲内において種々異なる形態にて実施されてよいことは言うまでもない。例えば、上記実施形態では、多段ルーツ式真空ポンプに適用した例を示しているが、単段ルーツ式真空ポンプに適用してもよく、またクロー式真空ポンプの他に、例えばルーツ式、クロー式、スクリュー式の内、２方式もしくは３方式全てを同一回転軸上で組合せた真空ポンプに適用することもできる。
【符号の説明】
【００３８】
１０  真空ポンプ
１２  ブースタポンプ
１４  メインポンプ
１６  連絡配管
１８  ポンプ室
２０  外胴
２０ａ  吸気口
２０ｂ  排気口
２２  ポンプケーシング
２４  モータ
２６  回転軸
２８  ロータ
３０  ヒータジャケット
３２ａ，３２ｂ  サイドパネル
３６ａ，３６ｂ  軸受
４０ａ，４０ｂ  潤滑油ハウジング
４２ａ，４２ｂ  パージガス通路
５０ａ〜５０ｆ  ポンプ室
５２  大気開放室
５４  外胴
５４ａ  吸気口
５４ｂ  排気口
５６  ポンプケーシング
５８  モータ
６０  回転軸
６２ａ〜６２ｆ  ロータ
６４ａ，６４ｂ  端壁
６６ａ〜６６ｅ  仕切壁
６８  内壁
７０  外壁
７２ａ〜７２ｅ  ガス通路
７４  保温ジャケット
８０ａ，８０ｂ  サイドパネル
８４ａ，８４ｂ  軸受
８８ａ，８８ｂ  潤滑油ハウジング
９０ａ，９０ｂ  パージガス通路
【図１】
0005677202.tif 000002
【図２】
0005677202.tif 000003