(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の透過軸を所定方向に配置した第１のパターン領域及び前記第１の透過軸と直交する方向に第２の透過軸を配置した第２のパターン領域を有するワイヤーグリッド型の偏光素子における光の透過率を測定する光学特性評価方法であって、
前記偏光素子は、前記第１のパターン領域及び前記第２のパターン領域が光源から出射される光のスポットよりも小さいことにより前記スポット内に分布する前記各透過軸と直交する偏光成分又は平行な偏光成分を透過させ、
無偏光光を直線偏光に変換する偏光子と、前記偏光素子と、前記偏光素子から出射される光の特定成分を透過させる検光子と、該検光子から出射された光の強度を検出する検出器と、を光路上に配置し、
前記検光子の角度を前記各透過軸に対して４５°に固定して、前記偏光子を回転させつつ前記光源から光を出射して前記検出器により前記検光子から出射される光の強度を検出し、
前記検出器に接続された信号処理手段により、前記検光子から出射される光の強度に基づいて前記偏光素子における光の透過率を算出することを特徴とする光学特性評価方法。
【請求項２】
第１の透過軸を所定方向に配置した第１のパターン領域及び前記第１の透過軸と直交する方向に第２の透過軸を配置した第２のパターン領域を有するワイヤーグリッド型の偏光素子における光の透過率を測定する光学特性評価方法であって、
前記偏光素子は、前記第１のパターン領域及び前記第２のパターン領域が光源から出射される光のスポットよりも小さいことにより前記スポット内に分布する前記各透過軸と直交する偏光成分又は平行な偏光成分を透過させ、
無偏光光を直線偏光に変換する偏光子と、前記偏光素子と、前記偏光素子から出射される光の特定成分を透過させる検光子と、該検光子から出射された光の強度を検出する検出器と、を光路上に配置し、
前記検光子の角度を前記第１の透過軸の方向と同一に固定して、前記偏光子を回転させつつ前記光源から光を出射して前記検出器により前記検光子から出射される、前記第１の透過軸から透過した光の強度を検出し、
信号処理手段により、当該強度に基づいて前記第１の透過軸における光の透過率を算出し、
前記検光子の角度を前記第２の透過軸の方向と同一に固定して、前記偏光子を回転させつつ前記光源から光を出射して前記検出器により前記検光子から出射される、前記第２の透過軸から透過した光の強度を検出し、
信号処理手段により、当該強度に基づいて第２の透過軸における光の透過率を算出することを特徴とする光学特性評価方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学特性評価方法により求められた光学特性から、前記偏光素子の面内における光学特性のばらつきを検出する光学素子の検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワイヤグリッド型偏光子などの平板型光学素子の光学特性を評価する方法及び評価した光学特性により光学素子を検査する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の微細加工技術の進展に伴い、光の波長レベルのピッチを有する微細構造パターンを形成することが可能となり、特に光学分野では、微細構造パターンを応用した平板型光学素子の開発が進んでいる。
平板型光学素子の例としては偏光子があるが、かかる偏光子は、例えばプロジェクターでは、偏光ビームスプリッタや検光子としての利用のほか、偏光再利用のための反射型偏光子としても利用される（非特許文献１）。
さらに、平板型の偏光子の一例として、非特許文献２に示すような、平行な導電ワイヤアレイよりなるワイヤグリッド型の偏光子がある。
平行な導電ワイヤアレイによる無線波の偏光形成や、電磁スペクトルの赤外偏光子などは古くから知られてきたが、前述の微細加工技術の進展により、グリッドの間隔を１００ｎｍ以下にすることも可能となり、実際に金属ナノ構造からなるワイヤグリッド偏光子を用いたプロジェクターなども開発されている（特許文献１、非特許文献３）。
【０００３】
図７は、ワイヤグリッド偏光子の原理を説明する図である。
また、図８は、従来用いられるワイヤグリッド偏光子の構成及びその光学特性の評価方法を説明する図である。
図７、図８に示すように、ワイヤグリッド偏光子に、実際にスポット光を当てることで、光の透過率、消光率など光学特性を検出して評価する。
ここでは、透過率の定義としては、［（試料有りでの光強度）−（ダーク光強度）］／［（試料無しでの光強度）−（ダーク光強度）］とする。
また、消光比（コントラスト）の定義としては、（ＴＭ波の透過率）／（ＴＥ波の透過率）とする。
【０００４】
図７において、ワイヤグリッドとは、金、銀、アルミニウムまたは銅等の導体で構成される金属細線（ワイヤー）５１がフレーム５０内に平行に多数張られた構成を有している。
ワイヤグリッドに入射する電磁波における、偏光面がワイヤー５１に対して平行な偏波（ＴＥ波：Transverse Electric Wave、光の場合はＳ偏光）は反射され、ワイヤーに対して偏光面が垂直な偏波（ＴＭ波：Transverse Magnetic Wave、光の場合はＰ偏光）が透過されることで、無偏光光（ランダム偏光光）からＴＭ偏光のみを取り出す偏光フィルター（偏光子）として機能する。
ただし、ワイヤグリッドが偏光フィルタとして機能するためには、金属細線の間隔または周期が、電磁波（光）の波長よりも小さいことが条件となる。
なお、図７に示す式において、Ｔｐは上記ＴＥ波の透過率、Ｔｖは上記ＴＭ波の透過率であり、各金属細線５１（円筒状完全導体、半径ａ、格子定数ｄ）からの散乱波（波長λ）を加えることで求められた強度透過率である。
図７に示すように、ワイヤグリッド素子における測定スポット光の照射側面（入射面）とは本体側の面（出射面）への透過ＴＭ波の透過率が１となる（ＴＭ波が全て透過・出射される）ことが理想的であり、逆に、スポット光の照射側で反射するＴＥ波の透過率が０である（ＴＥ波が全て反射する、すなわち、ＴＥ波が出射されない）ことが理想的である。
【０００５】
ところで、ワイヤグリッド偏光子は、従来は、一方向のみのワイヤグリッドを備え、偏光子の透過軸を一方向のみ形成した偏光子としての用途が主だったが、前述の微細加工技術の進展にともない、複数方向のワイヤグリッドを形成し、異なる透過軸方向を混在させたデバイスも形成可能となり、その光学特性、および投影画像を情報として利用する技術が進んでいる。
特に近年では、図８（ａ）に示すような一方向のみのラインパターン（縦方向ワイヤグリッド６０）だけではなく、図８（ｂ）に示すような、直交する二方向のラインパターン領域（縦方向ワイヤグリッド６０及び、横方向ワイヤグリッド６１）が同一面内にて混在する偏光フィルタによって、互いに直交する直線偏光に分離して用いる技術が、高画質（高解像度）が必要なカメラやプロジェクターの分野にて求められてきている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、前述のような要望があるものの、図８の測定スポット６２におけるプローブ光を用いて透過率や反射率を測定する従来のワイヤグリッド素子の評価方法では、図８（ｂ）に示すような、直交する２方向のワイヤグリッドのラインパターンが同一面内にて混在したパターンを有する領域分割素子に対しては、透過率や反射率の光学特性（具体的には透過側の透過率としてＴＭ透過率、遮断側の透過率としてＴＥ透過率）を数値として導き出せず、実際に作製した素子を検査できないという問題があった。
具体的には、図８（ａ）に示す場合は、パターン領域（縦方向ワイヤグリッド６０）は測定スポット６２より充分大きく（ワイヤグリッド６０＞測定スポット６２）、透過率などの光学特性の測定が可能であるが、図８（ｂ）の場合では、測定スポット６２が通常数ｍｍはあるのに対し、区切られた各パターン領域（縦方向ワイヤグリッド６０、横方向ワイヤグリッド６１）は幅数μｍ（集光しても数十μｍ程度）と、これよりも遙かに小さいため（測定スポット６２＞ワイヤグリッド６０、６１）、測定スポット６２の出射面側から出射する光には、各偏光成分が混在し、各パターン領域の特性を直接導くことはほぼ不可能である。
ワイヤグリッド領域を広くしたモニタパターンを近傍に設けたとしても、モニタパターンの幅と、領域分割箇所の縦横ラインのパターン幅が異なることが多く、モニタパターンと混在パターン（図８（ｂ））にて特性が一致しないため、やはり正確な特性の評価は出来ず、領域分割パターンを非破壊にて直接評価する必要がある。
【０００７】
上記の特許文献１には、一方向の偏光子を作製する目的で、光学特性が良好な構成やその作製方法が開示されているが、直交する２方向の偏光子が入った素子に対して、光を用いて特性を検出しようとする手段も、装置もこれまでなかったため、上記に示すような問題を解決する手法はなんら開示されていない。
そこで、本発明は、図７中に示した通常の一方光パターンのワイヤグリッド素子等の偏光子の透過率を算出する数式を、二方向パターンにも適用することで、微小領域ごとに偏光特性が異なるパターンに対しても、各々の領域における偏光特性を分離して評価し、従来技術では取得できなかった光学特性を把握し、評価することが可能な光学特性の評価方法を提供することを目的とする。すなわち、測定対象のＴＥ透過率やＴＭ透過率、縦方向と横方向の光学特性の違いを判断できるようにすることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明は、第１の透過軸を所定方向に配置した第１のパターン領域及び前記第１の透過軸と直交する方向に第２の透過軸を配置した第２のパターン領域を有するワイヤーグリッド型の偏光素子における光の透過率を測定する光学特性評価方法であって、前記偏光素子は、前記第１のパターン領域及び前記第２のパターン領域が光源から出射される光のスポットよりも小さいことにより前記スポット内に分布する前記各透過軸と直交する偏光成分又は平行な偏光成分を透過させ、無偏光光を直線偏光に変換する偏光子と、前記偏光素子と、前記偏光素子から出射される光の特定成分を透過させる検光子と、該検光子から出射された光の強度を検出する検出器と、を光路上に配置し、前記検光子の角度を前記各透過軸に対して４５°に固定して、前記偏光子を回転させつつ前記光源から光を出射して前記検出器により前記検光子から出射される光の強度を検出し、前記検出器に接続された信号処理手段により、前記検光子から出射される光の強度に基づいて前記偏光素子における光の透過率を算出する光学特性評価方法を特徴とする。
【０００９】
また、請求項２の発明は、第１の透過軸を所定方向に配置した第１のパターン領域及び前記第１の透過軸と直交する方向に第２の透過軸を配置した第２のパターン領域を有するワイヤーグリッド型の偏光素子における光の透過率を測定する光学特性評価方法であって、前記偏光素子は、前記第１のパターン領域及び前記第２のパターン領域が光源から出射される光のスポットよりも小さいことにより前記スポット内に分布する前記各透過軸と直交する偏光成分又は平行な偏光成分を透過させ、無偏光光を直線偏光に変換する偏光子と、前記偏光素子と、前記偏光素子から出射される光の特定成分を透過させる検光子と、該検光子から出射された光の強度を検出する検出器と、を光路上に配置し、前記検光子の角度を前記第１の透過軸の方向と同一に固定して、前記偏光子を回転させつつ前記光源から光を出射して前記検出器により前記検光子から出射される、前記第１の透過軸から透過した光の強度を検出し、信号処理手段により、当該強度に基づいて前記第１の透過軸における光の透過率を算出し、前記検光子の角度を前記第２の透過軸の方向と同一に固定して、前記偏光子を回転させつつ前記光源から光を出射して前記検出器により前記検光子から出射される、前記第２の透過軸から透過した光の強度を検出し、信号処理手段により、当該強度に基づいて第２の透過軸における光の透過率を算出する光学特性評価方法を特徴とする。
【００１０】
また、請求項３の発明は、請求項１又は２に記載の光学特性評価方法により求められた光学特性から、前記偏光素子の面内における光学特性のばらつきを検出する光学素子の検査方法を特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
上記のように構成したので、本発明によれば、微小領域（ワイヤグリッド領域）ごとに偏光特性が異なる試料（ワイヤグリッド偏光子）に対しても、試料全体のＴＥ透過率やＴＭ透過率といった光学特性を数値化し、従来ではできなかった光学特性把握が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】検光子角度をｘ軸に固定した場合の透過率を導く光学系の概念及び各素子のジョーンズベクトルを示す図。
【図２】検光子角度をｘ軸に固定した場合の透過率を導く光学系の概念及び各素子のジョーンズベクトルを示す図。
【図３】検光子の角度を０°（縦方向とし）とし、偏光子の角度を変化させた場合の透過率を示すグラフ図。
【図４】検光子の角度を９０°（横方向とし）とし、偏光子角度を変化させた場合の透過率を示すグラフ図。
【図５】検光子の角度を４５°（縦方向、横方向から４５°）とし、偏光子角度を変化させた場合の透過率を示すグラフ図。
【図６】本発明における測定対象としてのワイヤグリッドと測定スポット径の関係の例を示す図。
【図７】ワイヤグリッド偏光子の原理を説明する図。
【図８】従来用いられるワイヤグリッド偏光子の光学特性の評価方法を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に、図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
また、ワイヤグリッド偏光子自体の構成は、従来と同様であるので、図８（ｂ）も本願適用可能な偏光子として参照するものとする。
上記に説明したように、本来、ワイヤーの方向（透過軸の方向）が同一面内に混在している場合には測定不能であるワイヤグリッド偏光子の光学特性であるが、ワイヤーの方向がランダムではなく、直交する２方向である場合には、測定方法を工夫することにより光学特性を測定することが出来る。
本発明では、直交するｘｙ２方向のワイヤグリッドをもつ素子（ｘ方向（横方向）ワイヤグリッド６１領域とｙ方向（縦方向）ワイヤグリッド６０領域）の光学特性を、以下に説明する２つの方法により透過率を把握することにより評価する。
なお、以下に説明するワイヤグリッド偏光子の光学特性の測定は、下記図１、図２に示す、スポット光を出射する光源１、光源１からから出射された無偏光光を直線偏光に変換する偏光子（１／２位相差板）２０、試料としてのワイヤグリッド素子１０を設置する不図示の試料ステージ、直交するワイヤグリッド領域で透過されて偏光子１０から出射された光の特定成分を透過させる他の偏光子である検光子３０、検光子３０からの出射光の強度を検出する検出器（ディテクター）２、出射光の電場ベクトルから透過率等の光学特性を計算する信号処理部３を備えたシステムを用いる。
【００１４】
［実施例１］
まず、第１の方法について説明する。
方法（１）：検光子３０をｘ軸（縦方向ワイヤグリッド６０の方向）で固定（ｘ成分：ｘ軸から透過するＴＭ波を透過）し、偏光子２０を光源からの出射光の光軸１ａを中心に回転させる（φｄｅｇ）。
方法（１）の場合、２次元パターン（縦方向ワイヤグリッド６０、横方向ワイヤグリッド６１）の片側成分のＴＥ波の透過率とＴＭ波の透過率の平均透過率を取得可能である。これは、ワイヤグリッド偏光子３０から出射される透過ＴＭ波には、ワイヤグリッド６０及びワイヤグリッド６１で透過した、互いに偏波面が直交するＴＭ波が混在しているが、検光子３０をｘ軸で固定している（実際は、光学軸がｘ軸に対する角度が４５°）ので、縦方向ワイヤグリッド６０から透過したＴＭ波のみが通過するからである。
なお、強度は、透過ＴＭ波＞＞透過ＴＥ波のため、おおよそのＴＭ成分がわかる。
【００１５】
図１は、方法（１）の場合、すなわち、検光子角度をｘ軸に固定した場合の透過率を導く光学系の概念及び各素子のジョーンズベクトルを示す図である。
なお、透過率の算出は、検出器２に接続されたＰＣ（Personal Computer）などの信号処理装置（信号処理手段）で行うものとする。
ここで、ｘ方向ワイヤグリッド領域６１と、ｙ方向ワイヤグリッド領域６０の透過係数は均一と仮定した。
検光子３０を透過して検出器２に入光した光の電場ベクトルは次式（１）で与えられる。
0005724441.tif 000002
…式（１）
したがって、検光子３０を透過した光の電場ベクトルは次式（２）で与えられる。ただし、ｘ方向ワイヤグリッド領域と、ｙ方向ワイヤグリッド領域を透過した光の干渉項は無視した。
0005724441.tif 000003
…式（２）
上式より、ｔ２ＴＭ＋ｔ２ＴＥ〜ｔ２ＴＭ（ｔＴＭ＞＞ｔＴＥ）とすれば、ｃｏｓ成分の振幅の大きさ（もしくは振動中心）がワイヤグリッド偏光子２０の透過側成分の透過率（ｔ２ＴＭ）に一致する。
【００１６】
次に、第２の方法について説明する。
方法（２）：検光子３０をｘ軸ｙ軸に対して４５°で固定（４５°成分透過（実際は、光学軸のｘ軸に対する角度が９０°となる））し、偏光子２０を、光軸１ａを中心に回転させる（φｄｅｇ）
方法（２）の場合、直流成分と振動成分が得られ、それぞれの大きさからＴＥ波とＴＭ波の透過率、すなわち透過率と消光比が算出可能である。
【００１７】
図２は、方法（２）の場合、すなわち、検光子角度を４５°に固定した場合の透過率を導く光学系の概念及び各素子のジョーンズベクトルを示す図である。
検光子３０を透過した光の電場ベクトルは次式（３）で与えられる。
0005724441.tif 000004
…式（３）
検光子３０を透過した光の電場ベクトルは次式（４）で与えられる。ただし、ｘ方向ワイヤグリッド領域６１と、ｙ方向ワイヤグリッド領域６２を透過した光の干渉項は無視した。
0005724441.tif 000005
…式（４）
上式（３）、（４）より、偏光子角度に対する振動成分と直流成分を抽出すれば、ｔＴＭ、ｔＴＥの連立方程式から各成分が算出できる。連立方程式の解を用いて透過率および消光比を導出すると、以下のように求められる。
0005724441.tif 000006
さらに、検光子３０の角度を９０°（実際は、光学軸のｘ軸に対する角度が１３５°）に固定して、同様に偏光子２０を回転させて透過率を測定する。
つまり、直交する二方向のワイヤグリッドであっても、検光子３０の角度を特定の角度（０°、４５°、９０°）とし、偏光子２０を回転させて透過率を測定することにより、ＴＭ透過率、ＴＥ透過率、おおよその消光比などの値を得られる。
【００１８】
透過率の測定結果の一例を以下に示す。測定対象は直交する２つの方向（縦と横）をもつワイヤグリッド素子である。なお、光の波長は、いずれも５５０ｎｍとする。
なお、以下の説明では、上記のｘｙ座標軸において、縦方向（ｙ軸）を０°とした場合について説明する。
図３は、検光子３０の角度を０°（縦方向）とし、偏光子２０の角度を変化させた場合の透過率の変化を示すグラフ図である。
図３は、検光子３０の角度が０°（縦方向ワイヤグリッド６０から透過した偏光のみ透過）であるため、偏光子２０の角度も０°の場合には、縦方向の偏光は透過する。
したがって、検光子３０、偏光子２０の角度がともに０°の場合の透過率は、測定試料１０の中で縦方向のワイヤグリッド領域６０の透過機能（特性）を示していると言える。
【００１９】
図４は、検光子の角度を９０°（横方向）とし、偏光子角度を変化させた場合の透過率を示すグラフ図である。
図４は、検光子３０の角度が９０°（横方向ワイヤグリッド６１から透過した偏光のみ透過）であるため、偏光子２０の角度も９０°の場合には、横方向の偏光は透過する。したがって、検光子３０、偏光子２０がともに９０°の場合の透過率は、測定試料１０の中で横方向のワイヤグリッドの透過機能（特性）を示していると言える。
【００２０】
図５は、検光子の角度を４５°（縦方向、横方向から４５°）とし、偏光子角度を変化させた場合の透過率を示すグラフ図である。
図５は、検光子３０の角度が４５°の場合の、透過率の偏光子角度依存性であるため、図２について先に示した計算により、試料としてのワイヤグリッド素子１０全体のＴＭ透過率、ＴＥ透過率を計算することができる。
このように、検光子４５°の測定値のみからでもワイヤグリッド素子１０全体のＴＭ透過率、ＴＥ透過率を算出することが可能である。
測定結果に近似式をもとめ、その値から換算すると、ＴＭ透過率は８３％、ＴＥ透過率は２．５％と求まった。
この値は、試料全体にて縦方向と横方向の透過率が一致するという仮定により求められているが、さらに厳密な計算により、縦方向のみ、横方向のみのＴＭ透過率、ＴＥ透過率を求めることも可能である。
したがって、測定手順としては、まず、検光子角度を０°として、偏光子を回転させて透過率を測定し、その後、４５°、９０°にて同じ測定を行う。
透過率測定装置に、透過率の値を計算処理する機構を組み合わせることで、即座に試料の光学特性を把握できる。
ここで、検光子３０の角度を０°、４５°、９０°として透過率を取得する手順はどの角度からでも良い。
【００２１】
また、上記したように、原理的には検光子角度を４５°とし、偏光子を回転させる透過率結果のみでもＴＭ透過率、ＴＥ透過率を計算することができる。
また、実施例では波長５５０ｎｍの値を取り出したが、ハロゲン光源を用いた場合には、これらの特性の波長依存性を求めることができる。
また、直交する二方向（縦方向と横方向）の光学特性の違いを判断でき、最終的に作製される素子の検査を行うことができ、光学素子としての性能を判別できるという効果を奏する。
測定の注意事項としては、図８（ｂ）のように光源からのレーザ光がワイヤグリッドの２方向の領域（ｘ方向ワイヤグリッド領域と、ｙ方向ワイヤグリッド領域）をほぼ同面積（同割合）で照射している必要がある。したがって、測定スポットの中に、２方向の領域が同割合で存在している必要がある。
レーザ光を用いた場合には、ホモナイザーなどを用いて、ビームを均質強度となるように広げる必要がある。
【００２２】
図６は、本発明における測定対象としてのワイヤグリッドと測定スポット径の関係の例を示す図である。
図６（ａ）では、縦横方向のワイヤグリッド１１、１２が、同面積にて交互に存在している。
また、図６（ｂ）は二方向（縦横方向）ワイヤグリッド１１、１２が同面積にて、平行四辺形にて交互に連続する場合である。
いずれも、パターン領域の一辺に対して測定スポット１３の径が十分大きい場合には、スポット径内に縦と横のワイヤグリッド素子が同じ領域で入る。
レーザなど指向性の強い光を集光して、測定するという方法についても補足しておく。
各領域（ｘ方向（横方向）ワイヤグリッド領域１１、ｙ方向（縦方向）ワイヤグリッド領域１２）の幅が数マイクロメーターのような場合には、レーザ光では測定できない。
逆に１０μｍ以上の大きさを持つ場合には、レーザ光を対物レンズなどで集光することにより各領域ごとの透過率を求めることも可能となり、本内容のような測定手法は必要とならない。
したがって、レーザを集光しても測定が困難な領域のサイズをもつもの、具体的には数μｍ以下の領域が交互に存在するような測定試料に対して本手法が効果をなす。
【００２３】
［実施例２］
実施例１と同様のワイヤグリッド素子に対し、検光子３０を４５°とした場合の透過率に加え、０°、９０°とした場合の透過率を測定し、その値から、ＴＭ透過率、ＴＥ透過率を算出した。
例えば、ある試料を取り上げた場合には、縦方向のワイヤグリッドラインに対して、ＴＭ透過率８５．０％、ＴＥ透過率０．４％であり、横方向のワイヤグリッドラインに対して、ＴＭ透過率８６．５％、ＴＥ透過率が０．５％であった。
検光子が０°、９０°の場合の測定値も測定済みの場合には、より多くの計算値を用いることになるため、ＴＭ透過率、ＴＥ透過率の算出の精度を向上させることができる。
【００２４】
［実施例３］
本実施例では、ウェハ面内光学測定を行った。実施例１と同様の素子が４インチウェハ内に８×８個、一定間隔に配置されたウェハを用意した。
試料ステージに、ウェハを自動で送れる機構を付加し、ウェハを光学特性測定位置に搬送した。
偏光子の方向をカメラ画像で把握し、方向をアライメントした。その後、各素子に対して、ＴＭ透過率、ＴＥ透過率を測定した。測定結果に対し、仕様として設定した値（例えば、縦横各方向に対して、ＴＭ透過率８５．０％以上、ＴＥ透過率０．８％以下）を良・不良の境界とすることにより、良品と不良品の区別が可能であることを確かめた。各素子のデータをコンピュータで処理し、その結果、８×８個の素子をもつウェハ面が、どのような光学特性分布をしているかを確認できた。
ウェハ内での測定位置の自動移動機構と、測定値の判別機構を設けることにより、検査装置としての利用も可能であることを確かめた。
２次元パターンをもつ偏光子が多数配列したウェハにおいてもその偏光透過率をはじめとする光学特性を取得し、光学特性が所定の値かどうかの検査工程として利用できる。
【符号の説明】
【００２５】
１  光源、２  検出器、３  信号処理部、１０  ワイヤグリッド素子、２０  偏光子、３０  検光子、５０  フレーム、６０  横方向ワイヤグリッド、６１  縦方向ワイヤグリッド、６２  測定スポット
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２６】
【特許文献１】特表２００３−５０２７０８公報
【非特許文献】
【００２７】
【非特許文献１】‘Simulation of sub-100nm gratings incorporated in LCD stack’， M. Paukshto， K. Lovetsky, A. Zhukov， V. Smirnov， D. Kibalov， and G. King’， SID 06 DIGEST， 848 (2006).
【非特許文献２】「第３・光の鉛筆」、鶴田匡夫著、ｐ．２７８，新技術コミュニケーションズ
【非特許文献３】‘30-nm-wide aluminum nanowire grid for ultrahigh contrast and transmittance polarizers made by UV-nanoimprint lithography’, J. J. Wang, L. Chen, X. Liu, P. Sciortino, F. Liu, F. Walters, and X. Deng, Appl.Phys.Lett. 89, 141105 (2006).
【図１】
0005724441.tif 000007
【図２】
0005724441.tif 000008
【図３】
0005724441.tif 000009
【図４】
0005724441.tif 000010
【図５】
0005724441.tif 000011
【図６】
0005724441.tif 000012
【図７】
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【図８】
0005724441.tif 000014