(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
湿式スクラバによってプロセスガスを浄化する方法であって、
湿式スクラバタワーにおいて下方へ流れる、第２のスプレーレベルシステムのノズルによって噴霧された吸着液を、第１のスプレーレベルシステムの全てのノズルのうち少なくとも半分のそれぞれの鉛直方向上方に配置された個々の気液接触プレートによって、前記第１のスプレーレベルシステムの複数のノズルから逸らせ、これにより、逸らされた前記吸着液を、前記第１のスプレーレベルシステムの前記少なくとも１つのノズルによって噴霧された吸着液によってすでに接触されたプロセスガス（Ｆ）と接触させることを特徴とする、湿式スクラバによってプロセスガスを浄化する方法。
【請求項２】
前記第２のスプレーレベルシステムのノズルによって噴霧され前記湿式スクラバタワー内において下方へ流れる前記吸着液は、前記第１のスプレーレベルシステムの全てのノズルのうち少なくとも半分から、それらの鉛直方向上方に配置された個々の気液接触プレートによって逸らされる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
水平方向で隣接した気液接触プレートの間の開放空間は、５〜１５ｍ／ｓの鉛直方向プロセスガス速度での鉛直方向煙道ガス流を可能にする、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つの気液接触プレートに隣接して配置されたダンパを調節することによって鉛直方向プロセスガス速度を制御することをさらに含む、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記湿式スクラバタワーにおいて下方へ流れる、第３のスプレーレベルシステムのノズルによって噴霧された吸着液を、前記第２のスプレーレベルシステムの少なくとも１つのノズルの鉛直方向上方に配置された気液接触プレートによって、前記第２のスプレーレベルシステムの少なくとも１つのノズルの近くから逸らせることをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項６】
プロセスガスを浄化するために有効な湿式スクラバであって、該湿式スクラバは、
少なくとも第１のスプレーレベルシステムであって、該第１のスプレーレベルシステムに設けられたノズルによる噴霧のために吸着液が供給される、第１のスプレーレベルシステムと、
該第１のスプレーレベルシステムの鉛直方向上方に配置された第２のスプレーレベルシステムであって、該第２のスプレーレベルシステムに設けられたノズルによる噴霧のために吸着液が供給される、第２のスプレーレベルシステムと、
前記第１および第２のスプレーレベルシステムを収容した湿式スクラバタワーであって、タワーの基部に配置されたプロセスガス入口と、タワーの上側部分に配置されたプロセスガス出口とを有する、湿式スクラバタワーと、を備え、
前記第１のスプレーレベルシステムは、該第１のスプレーレベルシステムの全てのノズルのうち少なくとも半分のそれぞれの鉛直方向上方に配置された個々の気液接触プレートを有し、該個々の気液接触プレートのそれぞれは、前記湿式スクラバタワーにおいて下方へ流れる、前記第２のスプレーレベルシステムのノズルによって噴霧された吸着液を、前記第１のスプレーレベルシステムの少なくとも１つのノズルによって噴霧された吸着液によってすでに接触されたプロセスガスと接触するように、逸らせるように作用することを特徴とする、プロセスガスをクリーニングするために有効な湿式スクラバ。
【請求項７】
前記第２のスプレーレベルシステムのノズルによって噴霧され前記湿式スクラバタワー内において下方へ流れる前記吸着液は、前記第１のスプレーレベルシステムの全てのノズルのうち少なくとも半分から、該第１のスプレーレベルシステムの全てのノズルのうちの少なくとも半分のそれぞれの鉛直方向上方に配置された個々の気液接触プレートによって逸らされる、請求項６記載の湿式スクラバ。
【請求項８】
前記第１のスプレーレベルシステムの全ての気液接触プレートの合計の水平方向表面積は、前記第１のスプレーレベルシステムの少なくとも１つの気液接触プレートのレベルにおいて測定された、前記湿式スクラバタワーの内部湿式スクラバ水平方向横断面の３０〜７５％をカバーしている、請求項６記載の湿式スクラバ。
【請求項９】
ノズルのスプレー開口から、対応する気液接触プレートの底面における最も近い箇所までの鉛直方向距離は、０．１〜０．９ｍである、請求項６記載の湿式スクラバ。
【請求項１０】
前記第１のスプレーレベルシステムは、逸らされた吸着液によって接触されたプロセスガスの鉛直方向速度を制御するために、少なくとも１つの気液接触プレートに隣接して配置された少なくとも１つの調節可能なダンパを有する、請求項６記載の湿式スクラバ。
【請求項１１】
前記第１のスプレーレベルシステムは、少なくとも２つの隣接する気液接触プレートの間に、該少なくとも２つの隣接する気液接触プレートと実質的に同じ水平面において配置された少なくとも１つのダンパを有する、請求項６記載の湿式スクラバ。
【請求項１２】
第３のスプレーレベルシステムであって、該第３のスプレーレベルシステムに設けられたノズルによる噴霧のために吸着液が供給される、第３のスプレーレベルシステムが、前記第２のスプレーレベルシステムの鉛直方向上方に配置されており、前記第２のスプレーレベルシステムは、該第２のスプレーレベルシステムのノズルのうちの少なくとも１つの鉛直方向上方に配置された少なくとも１つの気液接触プレートを有し、該少なくとも１つの気液接触プレートは、湿式スクラバタワーにおいて下方へ流れる、前記第３のスプレーレベルシステムのノズルによって噴霧された吸着液を、前記第２のスプレーレベルシステムの少なくとも１つのノズルによって噴霧された吸着液によってすでに接触されたプロセスガスに接触するように、逸らせるように作用する、請求項６記載の湿式スクラバ。
【請求項１３】
１つのスプレーレベルシステムの全ての気液接触プレートの合計の組み合わされた上面の面積は、同じ湿式スクラバタワー内で前記スプレーレベルシステムの上方に配置された別のスプレーレベルシステムの全ての気液接触プレートの合計の組み合わされた上面の面積よりも小さい、請求項６記載の湿式スクラバ。
【請求項１４】
少なくとも第１のスプレーレベルシステムのノズルは、該ノズルに供給される吸着液の少なくとも半分を下方へ噴霧する、請求項６記載の湿式スクラバ。
【請求項１５】
最も上側のスプレーレベルシステムを除く各スプレーレベルシステムの全てのノズルの少なくとも７５％には、その上方に１つの対応する気液接触プレートが装備されている、請求項６記載の湿式スクラバ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、湿式スクラバによってプロセスガスを浄化する方法であって、前記湿式スクラバは、湿式スクラバタワーと、少なくとも、ノズルによる噴霧のために吸着液が供給されるノズルを備えた、湿式スクラバタワー内の第１のスプレーレベルシステムと、第２のスプレーレベルシステムに含まれたノズルによる噴霧のために吸着液が供給される、湿式スクラバタワーにおいて第１のスプレーレベルシステムの上方に配置された第２のスプレーレベルシステムとを有する、方法に関する。
【０００２】
本発明はさらに、プロセスガスを浄化するために有効な湿式スクラバに関する。
【０００３】
発明の背景
石炭、油、泥炭、廃棄物などの燃料を発電プラントなどの燃焼プラントにおいて燃焼させることにより、その他の成分の中でも特に二酸化硫黄ＳＯ2等の硫黄酸化物および二酸化炭素ＣＯ2を含有する高温プロセスガスが発生する。二酸化硫黄は環境汚染物である。したがって、プロセスガスを大気中へ放出する前にプロセスガスに含有された二酸化硫黄の少なくとも一部を除去する必要がある。さらに、二酸化炭素ガスのネガティブな環境的影響への注目が高まるにつれて、プロセスガスを大気中へ放出する前にプロセスガスから二酸化炭素も除去することが重要になっている。
【０００４】
国際公開第２００８／０４２５５４号には、多数の噴霧ノズルに隣接して小孔付きプレートが配置されている湿式スクラバが記載されている。小孔付きプレートにおける小孔のそれぞれは、噴霧ノズルから噴霧される吸着液の円錐体と位置合わせされている。
【０００５】
国際公開第２００８／０４２５５４号に示された小孔付きプレートは、場合によっては、かなり大きなプロセスガス圧力降下を生じ、これは、必ずしも、二酸化硫黄除去効率の増大を示さない。
【０００６】
発明の概要
本発明の目的は、従来の湿式スクラバおよび湿式スクラバを使用する従来の方法よりも効率的な、湿式スクラバおよびプロセスガスを浄化するために湿式スクラバを使用する方法を提供することである。
【０００７】
この目的は、湿式スクラバによってプロセスガスを浄化する主体の方法であって、前記湿式スクラバは、湿式スクラバタワーと、少なくとも、ノズルによる噴霧のために吸着液が供給されるノズルを備えた、湿式スクラバタワー内の少なくとも第１のスプレーレベルシステムと、第２のスプレーレベルシステムに含まれたノズルによる噴霧のために吸着液が供給される、湿式スクラバタワーにおいて第１のスプレーレベルシステムの上方に配置された第２のスプレーレベルシステムと、を備える方法において、
湿式スクラバタワーにおいて下方へ流れる第２のスプレーレベルシステムのノズルによって噴霧された吸着液を、第１のスプレーレベルシステムの少なくとも１つのノズルの鉛直方向上方に配置された気液接触プレートによって、第１のスプレーレベルシステムの少なくとも１つのノズルの近くから逸らせ、逸らされた吸着液を、第１のスプレーレベルシステムの少なくとも１つのノズルによって噴霧された吸着液によって接触されたプロセスガスと接触させる、湿式スクラバによってプロセスガスを浄化する主体の方法によって達成される。
【０００８】
主体の方法の利点は、逸らされた吸着液と、第１のスプレーレベルシステムの少なくとも１つのノズルによって噴霧された吸着液と接触されたプロセスガスとの接触が、液体／ガスの強い混合を生じ、吸着液およびプロセスガスの"クラウド"と称することができるものを発生する。吸着液およびプロセスガスのこのクラウドは、湿式スクラバタワーにおける吸着液によって、二酸化硫黄および二酸化炭素などの汚染物の極めて効率的な吸着を生じる。
【０００９】
１つの実施の形態によれば、湿式スクラバタワーを上方へ流れるプロセスガスは、第１のスプレーレベルシステムノズルによって噴霧された吸着液と接触させられる。
【００１０】
１つの方法の実施の形態によれば、個々の気液接触プレートが、湿式スクラバタワーにおいて、全ての第１のスプレーレベルシステムノズルのうちの少なくとも半分のそれぞれの鉛直方向上方に配置されている。気液接触プレートは、吸着液を、気液接触プレートの下方に配置された全ての第１のスプレーレベルシステムのノズルのうちの少なくとも半分のそれぞれから逸らせる。この実施の形態の利点は、間に開放空間を備えて配置された多数の隣接する気液収集プレートが、吸着液の逸らせおよびプロセスガスとの混合を生じる場合に、プロセスガスからの汚染物の除去が、極めて効率的となるということである。
【００１１】
１つの方法の実施の形態によれば、湿式スクラバタワー内の同じ水平面に配置された隣接する気液接触プレートの間の開放空間は、５〜１５ｍ／ｓの鉛直方向プロセスガス速度での開放空間を通るプロセスガスの上方への流れを許容する。５ｍ／ｓよりも低い鉛直方向プロセスガス速度では、吸着液とプロセスガスとの混合は、より効率的でなくなる傾向がある。１５ｍ／ｓよりも高い鉛直方向プロセスガス速度では、湿式スクラバタワー内でのプロセスガス圧力降下は、許容できないほど高いレベルに高まる傾向がある。このような高い圧力降下レベルは、プロセスガスを湿式スクラバタワーに通過させ、かつプロセスガスを湿式スクラバタワーから排出させるために必要とされる大量のエネルギにより、許容できない。また、より高い鉛直方向プロセスガス速度では、逸らされた吸着液の大部分がプロセスガス内に同伴され、湿式スクラバタワーミストエリミネータにおける増大した液体負荷を生じ、潜在的に湿式スクラバからの吸着液の増大した損失を生じる。
【００１２】
１つの方法の実施の形態によれば、少なくとも１つのダンパは、少なくとも１つの気液接触プレートに隣接して配置されている。主体の方法は、さらに、ダンパを調節することによって、少なくとも１つの気液接触プレートによって逸らされた吸着液に接触するプロセスガスの鉛直方向速度を制御することを含む。この実施の形態の利点は、逸らされた吸着液に接触するプロセスガスの鉛直方向プロセスガス速度が、ダンパの位置を調節することによって、５〜１５ｍ／ｓのような適切な速度に調節されるということである。
【００１３】
本発明の別の課題は、従来技術の湿式スクラバよりも効率的にプロセスガスから汚染物を除去する湿式スクラバを提供することである。
【００１４】
この課題は、プロセスガスを浄化するために有効な湿式スクラバによって達成される。主体の湿式スクラバは、少なくとも、ノズルによる噴霧のために吸着液が供給される、湿式スクラバタワーにおけるノズルを備えた少なくとも第１のスプレーレベルシステムと、第２のスプレーレベルシステムであって、該第２のスプレーレベルシステムに設けられたノズルによる噴霧のために吸着液が供給される、第１のスプレーレベルシステムの上方において湿式スクラバタワー内に配置された第２のスプレーレベルシステムと、湿式スクラバタワーであって、第１および第２のスプレーレベルシステムを収容し、かつ湿式スクラバタワーの基部に配置されたプロセスガス入口と、湿式スクラバタワーの上部に配置されたプロセスガス出口とを有する、湿式スクラバタワーと、を有する。第１のスプレーレベルシステムは、第１のスプレーレベルシステムのノズルのうちの少なくとも１つの上方に配置された少なくとも１つの気液接触プレートを有する。少なくとも１つの気液接触プレートは、第２のスプレーレベルシステムの噴霧ノズルから湿式スクラバ内で下方へ流れる吸着液を、少なくとも１つの第１のスプレーレベルシステムのノズルから離れるように逸らせ、これにより、逸らされた吸着液が、少なくとも１つの第１のスプレーレベルシステムノズルによって噴霧された吸着液によってすでに接触されたプロセスガスと接触する。
【００１５】
この湿式スクラバの実施の形態の利点は、湿式スクラバが、第２のスプレーレベルシステムから提供される下方へ流れる吸着液を、第１のスプレーレベルシステムの噴霧ノズルから提供された吸着液とすでに接触したプロセスガスと接触させることである。したがって、第２のスプレーレベルシステムノズルによって噴霧された吸着液が、まず、第２のスプレーレベルシステムノズルに隣接したプロセスガスと効率的に接触し、次いで、第１のスプレーレベルシステムに隣接したところで再びプロセスガスと接触するように効率的に逸らされることである。
【００１６】
１つの実施の形態によれば、主体の第１のスプレーレベルシステムは、第１のスプレーレベルシステムノズルの全てのうちの少なくとも半分のそれぞれの上方において湿式スクラバタワー内に配置された多数の別個の気液接触プレートを有する。より多くのノズルに、対応する気液接触プレートが装備されるほど、逸らされた吸着液とプロセスガスとの混合はより効率的となる。
【００１７】
１つの実施の形態によれば、第１のスプレーレベルシステムにおける全ての気液接触プレートの合計組合せ水平方向表面積は、少なくとも１つの気液接触プレートと同じ水平面において測定された場合に、内部湿式スクラバ水平方向断面積の約３０〜７５％に等しい。全ての気液接触プレートの合計の水平方向表面積が、内部湿式スクラバ水平方向断面積の少なくとも３０％をカバーしていることが好ましい。なぜならば、全ての気液接触プレートの合計の水平方向表面積が減ると、湿式スクラバタワー内で下方へ流れる吸着液の逸らせが減少するからである。逸らせが減少すると、逸らされた吸着液とプロセスガスとの混合効率が減少する。好適には、全ての気液接触プレートの合計組合せ水平方向表面積は、気液接触プレートと同じ平面において測定した場合に、内部湿式スクラバ水平方向断面積の約７５％以下をカバーする。気液接触プレートカバー範囲がより大きいと、プロセスガスの圧力降下がより大きくなり、これにより、プロセスガスを湿式スクラバタワーに通過させかつ湿式スクラバタワーから排出するために大量のエネルギを必要とする。７５％よりも大きなカバー範囲は、実質的に、上方へ流れるプロセスガス内に同伴される吸着液の量をも増大させ、これにより、湿式スクラバタワーから吸着液を損失するリスクを高める。
【００１８】
１つの実施の形態によれば、少なくとも１つの気液接触プレートの底面における箇所から、その気液接触プレートの下方のノズルのスプレー開口までの最短距離は、約０．１〜０．９ｍである。好適には、少なくとも１つの気液接触プレートの底面における箇所から、その気液接触プレートの下方のスプレー開口までの最短距離は、少なくとも０．１ｍである。なぜならば、より小さな距離は、噴霧された吸着液からプロセスガスを早く離れさせるからである。好適には、少なくとも１つの気液接触プレートの底面における箇所から、その気液接触プレートの下方のノズルのスプレー開口までの最短距離は、約０．９ｍを超えない。より大きな距離は、湿式スクラバタワーの所要の高さを過度に増大させる傾向があり、これにより、それに関連した投資およびメンテナンスコストを増大させる。別の実施の形態によれば、少なくとも１つの気液接触プレートの底面における箇所から、その気液接触プレートのスプレー開口までの最短距離は、約０．１〜０．６ｍである。
【００１９】
１つの実施の形態によれば、第１のスプレーレベルシステムは、逸らされた吸着液によって接触されたプロセスガスの鉛直方向速度を制御するための、少なくとも１つの気液接触プレートに隣接して配置された少なくとも１つの調節可能なダンパを有する。ダンパの利点は、鉛直方向プロセスガス速度を適切な範囲に制御および維持するためにダンパの位置を調節することによって、様々なプロセスガス流において汚染除去効率が達せられるということである。別の実施の形態によれば、第１のスプレーレベルシステムは、少なくとも２つの隣接する気液接触プレートと実質的に同じ水平面において、少なくとも２つの隣接する気液接触プレートの間に配置された少なくとも１つのダンパを有する。主体のダンパは、２つの隣接する気液接触プレートによって逸らされた吸着液によって接触されたプロセスガスの鉛直方向速度を制御するために、少なくとも２つの隣接する気液接触プレートの間の開放空間のサイズを調節するために使用されてよい。この実施の形態の利点は、ダンパが、２つの隣接する気液接触プレートの間の開放空間における鉛直方向プロセスガス速度の効率的な制御を可能にすることである。さらに、主体のダンパは、極めて低いプロセスガス流の時に少なくとも幾つかの開放空間を閉鎖するために使用されてもよい。
【００２０】
１つの実施の形態によれば、１つのスプレーレベルシステムの全ての気液接触プレートの合計組合せ上面面積は、同じ湿式スクラバタワー内に前記スプレーレベルシステムの上方に配置された別のスプレーレベルシステムの全ての気液接触プレートの合計組合せ上面面積よりも小さい。この実施の形態は、湿式スクラバタワーを通って下方へ流れる吸着液体積が、湿式スクラバタワーの上側部分よりも湿式スクラバタワーの基部においてより大きいことを考慮している。これにより、この実施の形態の利点は、気液接触プレートが、吸着液の体積がより少ない湿式スクラバタワーの上側部分に配置されている場合に、より大きな合計組合せ上面面積を有することである。
【００２１】
１つの実施の形態によれば、少なくとも第１のスプレーレベルシステムのノズルは、ノズルに供給される吸着液の少なくとも半分を下方へ噴霧する。吸着液の少なくとも半分を下方へ噴霧することは、第１のスプレーレベルシステムによるプロセスガス汚染物除去を、２つの個別の分離したゾーンに分離する。汚染物除去の第１のゾーンは、プロセスガスが、第１のスプレーレベルシステムノズルによって噴霧された吸着液と接触するときに生じる。汚染物除去の第２のゾーンは、第１のゾーンの汚染物除去の後に、第１のスプレーレベルシステムの上方において湿式スクラバタワー内に配置されたスプレーレベルシステムからの逸らされた吸着液が、第１のゾーンから流れるプロセスガスに接触したときに生じる。
【００２２】
本発明の別の目的および特徴は以下の詳細な説明および請求項から明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】第１の実施の形態による湿式スクラバの概略的な側面図である。
【図２】線ＩＩ−ＩＩに沿って見た図１の湿式スクラバのスプレーレベルシステムの概略的な上面図である。
【図３】スプレーレベルシステムの詳細な特徴を示す図１の領域ＩＩＩを拡大した概略的な側面図である。
【図４】作動中の２つのスプレーレベルシステムを拡大した概略的な斜視図である。
【図５ａ】択一的な実施の形態によるスプレーレベルシステムの概略的な上面図である。
【図５ｂ】線Ｖｂ−Ｖｂに沿って見た図５のスプレーレベルシステムの側面図である。
【図６】さらに別の択一的な実施の形態によるスプレーレベルシステムの側面図である。
【００２４】
好適な実施の形態の説明
図１は湿式スクラバ１を示す。湿式スクラバ１は、石炭、油、泥炭、廃棄物および同様のもののような燃料を燃焼させるために作動するボイラ（図示せず）において発生された煙道ガスＦの形態のプロセスガスの二酸化硫黄の少なくとも一部を除去するために働く。
【００２５】
湿式スクラバ１は、鉛直開放湿式スクラバタワー２を有する。鉛直開放湿式スクラバタワー２は、内部２ａと、流体通流可能に接続された内部２ａへの浄化されるべき煙道ガスＦの流れのための、湿式スクラバタワー２の基部２ｂに配置されたプロセスガス入口４と、流体通流可能に接続された内部２ａからの、二酸化硫黄含有物の少なくとも一部が除去された浄化された煙道ガスＣＦの流れのための、湿式スクラバタワー２の上側部分２ｃに配置されたプロセスガス出口６とを備える。図１に鉛直の上向きの矢印として示されているように、煙道ガスＦは、湿式スクラバタワー２の内部２ａを実質的に鉛直方向上方に移動する。
【００２６】
湿式スクラバタワー２の基部２ｂの底部２ｄに吸着液タンク８が配置されている。吸着液タンク８には流体通流可能に接続された酸化配列１０が具備されている。新しい石灰石ＣａＣＯ3のような吸着体が、石灰石貯蔵領域１４および石灰石供給管１４ａを有する流体通流可能に接続された吸着体供給装置１２から吸着液タンク８に供給される。吸着液タンク８は、択一的に、湿式スクラバタワー２の外部に配置されてよく、石灰石の供給は、択一的に、乾燥粉末、スラリ、またはその両方として、他の位置において湿式スクラバ１に進入することができる。
【００２７】
湿式スクラバ１は、さらに第１の循環ポンプ１６を有する。第１の循環ポンプ１６は、流体通流可能に接続された吸着液循環管１８において、時に石灰石スラリと称される石灰石吸着液を循環させる。吸着液は、第１の循環ポンプ１６によって、吸着液タンク８から、流体通流可能に接続された循環管１８を通って、基部２ｂに隣接した湿式スクラバタワー２の中間部２ｅにおいて内部２ａを横切って水平に配置された、流体通流可能に接続された第１のスプレーレベルシステム２０へポンピングされる。湿式スクラバ１は、さらに、第２の循環ポンプ２２を有する。第２の循環ポンプ２２は、流体通流可能に接続された吸着液循環管２４において、流体通流可能に接続された吸着液タンク８から、石灰石吸着液を循環させる。吸着液は、第２の循環ポンプ２２によって、流体通流可能に接続された循環管２４を通って、第１のスプレーレベルシステム２０の上方において湿式スクラバタワー２の中間部２ｅにおいて内部２ａを横切って水平に配置された、流体通流可能に接続された第２のスプレーレベルシステム２６へポンピングされる。湿式スクラバ１は、さらに、第３の循環ポンプ２８を有する。第３の循環ポンプ２８は、流体通流可能に接続された吸着液循環管３０において、流体通流可能に接続された吸着液タンク８から、石灰石吸着液を循環させる。吸着液は、第３の循環ポンプ２８から、流体通流可能に接続された循環管３０を通って、第２のスプレーレベルシステム２６の上方において湿式スクラバタワー２の中間部２ｅにおいて内部２ａを横切って水平に配置された、流体通流可能に接続された第３のスプレーレベルシステム３２へポンピングされる。図１に示された距離ＣＣは、１つのスプレーレベルシステム、たとえば第１のスプレーレベルシステム２０の中間点から、隣接するスプレーレベルシステム、たとえば第２のスプレーレベルシステム２６の中間点までを測定することによって決定される。距離ＣＣは好適には約１．２５ｍ〜３ｍである。１．２５ｍ未満の距離ＣＣは、隣接するスプレーレベルシステムの間の望ましくない吸着液スプレー干渉により、あまり望ましくなく、二酸化硫黄除去効率を低下させる。３ｍを超える距離ＣＣは、あまり好ましくない。なぜならば、より大きな距離ＣＣは、湿式スクラバタワー２の全高の増大を必要とし、これにより、投資および運転コストを増大させるからである。湿式スクラバ１は、４つ以上または２つ以下のスプレーレベルシステム、たとえば湿式スクラバタワー２の内部２ａに配置された２〜１０のスプレーレベルシステムを有することができる。
【００２８】
第１のスプレーレベルシステム２０は、多数の流体通流可能に接続された噴霧ノズル３６を具備した管部分３４を有する。噴霧ノズル３６は、ポンプ１６によって噴霧ノズルに供給された石灰石吸着液を微細に分散させる。吸着液と、湿式スクラバタワー２の内部２ａを上方へ流過する煙道ガスとの有効な接触を達成するために、吸着液はノズル３６によって微細に分散される。ノズル３６のうちの全てまたは幾つかは、たとえば、米国イリノイ州ウィートン所在のSpraying Systems Co.から市販されているモデル22298−2CF−SILCNB75−120と同じタイプであってよい。このタイプの噴霧ノズルは、約０．５ｂａｒの、水を使用して測定される噴霧圧力において、１７０００リットル／時もしくは２８０リットル／分に相当する約１７ｍ3／時の液体流量を生ぜしめるように作動する。
【００２９】
第１のスプレーレベルシステム２０は、さらに、多数の気液接触プレート３８を有する。それぞれの気液接触プレート３８は、後でより詳細に説明するように、ノズル３６の鉛直方向上方に配置されている。
【００３０】
第２のスプレーレベルシステム２６は、第１のスプレーレベルシステム２０と同じではないとしても、同様であり、多数の流体通流可能に接続された噴霧ノズル３６および多数の気液接触プレート３９を具備した管部分４０を有する。第２のスプレーレベルシステム２６の気液接触プレート３９は、第１のスプレーレベルシステム２０の気液接触プレート３８と同じ形状およびサイズであってよいか、または異なる形状および／またはサイズを有してよい。１つの択一例において、気液接触プレート３９のうちの少なくとも幾つかの上側３９ａは、気液接触プレート３８のうちの少なくとも幾つかの上側３８ａよりも大きな表面積を有してよい。
【００３１】
第３のスプレーレベルシステム３２は、多数の噴霧ノズル３６を具備した管部分４２を有する。第３の、最も上位のスプレーレベルシステム３２は、気液接触プレートなしに配置されていてよい。
【００３２】
ミストエリミネータ４４は、第３のスプレーレベルシステム３２の上方に配置されている。プロセスガス出口６に隣接して上側部分２ｃにおいて内部２ａを横切って水平に配置されたミストエリミネータ４４は、浄化された煙道ガスに含有された吸着液の滴の少なくとも一部を除去する。したがって、吸着液の滴は、プロセスガス出口６を経て湿式スクラバ１から出る前に、浄化された煙道ガスが湿式スクラバタワー２の内部２ａを通って上方へ流れるときに、浄化された煙道ガスＣＦから除去される。
【００３３】
湿式スクラバ１において、煙道ガスにおける二酸化硫黄ＳＯ2は、吸着液における石灰石ＣａＣＯ3と反応して亜硫酸カルシウムＣａＳＯ3を形成し、この亜硫酸カルシウムＣａＳＯ3は続いて酸化させられて石膏ＣａＳＯ4を形成する。亜硫酸カルシウムの酸化は、好適には、酸化配列１０を用いて吸着液に空気または酸素ガスを泡立たせることによって行われる。したがって、吸着液は、石灰石に加え、少量の亜硫酸カルシウムと、主要な成分として石膏とを含む。このプロセスを介して形成された石膏は、湿式スクラバ１から、流体通流可能に接続された廃棄管４６を介して、ベルトフィルタ４８として概略的に示された、流体通流可能に接続された石膏脱水ユニットへ除去される。脱水された石膏は、たとえば壁板の製造において商業的に利用されてよい。
【００３４】
二酸化硫黄ＳＯ2に加え、湿式スクラバ１は、少なくとも部分的に、煙道ガスからその他の汚染物も除去する。このようなその他の汚染物の例は、三酸化硫黄ＳＯ3、塩酸ＨＣｌ、フッ化水素酸ＨＦ、およびその他の酸性プロセス汚染物を含む。さらに、湿式スクラバ１は、少なくとも部分的に、たとえば塵埃粒子および水銀などのその他のタイプの汚染物を煙道ガスから除去してもよい。
【００３５】
図２は、図１の線ＩＩ−ＩＩに沿って見た第１のスプレーレベルシステム２０の拡大した上面図を示す。第２のスプレーレベルシステム２６（図示せず）は、例示された第１のスプレーレベルシステム２０と同じ原理的設計を有する。図２に示したように、管部分３４には、管部分３４とともに"グリッド"を形成しかつ管部分３４から延びる、多数の流体通流可能に接続された垂直な管延長部５０が具備されている。噴霧ノズル３６は、管部分３４および管延長部５０に流体通流可能に接続されており、これにより、第１のスプレーレベルシステム２０のノズル３６は、湿式スクラバタワー２の水平方向断面全体にわたってかなり均等に分配されている。
【００３６】
図２に示した実施の形態において、各ノズル３６は、１つの、対応する気液接触プレート３８によってカバーされている。図２に示した実施の形態では、第１のスプレーレベルシステム２０のノズル３６の合計数は１３である。あらゆる適切な数のノズル３６を使用することができると認められるであろう。さらに、ノズル３６を、図２に示したように場合に応じて、管部分３４または管延長部５０に直接に結合することができるか、または自体公知の形式で、流体通流可能に接続された接続管を介して部分３４または延長部５０に結合することができる。通常、それぞれのスプレーレベルシステム２０におけるノズル３６の数は、約４〜約５００である。さらに、それぞれのノズル３６の上方に１つの対応する気液接触プレート３８を配置する必要はない。ノズル３６のうちの幾つかの上方、たとえば図２に示された１３のノズルのうちの５〜１０のノズルの上方に気液接触プレート３８を配置すれば十分であり得る。スプレーレベルシステム２０のノズル３６のうちの少なくとも半分のノズルのそれぞれの上方に１つの対応する気液接触プレート３８を配置することが好ましい場合もある。より好適には、スプレーレベルシステム２０の全てのノズル３６のうちの少なくとも７５％に、それらの上方において１つの対応する気液接触プレート３８が具備されていてよい。
【００３７】
スプレーレベルシステム２０の気液接触プレート３８のレベルにおいて測定された、湿式スクラバタワー２の内部２ａの内径ｄｉは、図２に示された例においては５ｍである。したがって、スプレーレベルシステム２０の気液接触プレート３８のレベルにおいて測定された湿式スクラバタワー２の内部２ａの断面積は、約２０ｍ2（πｒ2＝３．１４×５／２×５／２＝１９．６ｍ2）である。図２の実施の形態において、それぞれの気液接触プレート３８は、上面図で見て実質的に正方形であり、平坦な上面３８ａは４つの自由なエッジ３８ｂによって区切られている。４つの自由エッジ３８ｂのそれぞれは、約０．８５ｍの長さＬを有する。したがって、上面３８ａの面積は０．７２ｍ2（Ｌ2＝０．８５×０．８５＝０．７２ｍ2）である。スプレーレベルシステム２０の全ての気液接触プレート３８の合計の組み合わされた面積は、１３×０．７２ｍ2＝９．３６ｍ2である。したがって、気液接触プレート３８は、合計で、スプレーレベルシステム２０の気液接触プレート３８のレベルにおいて測定された、湿式スクラバタワー２の内部２ａの水平方向断面積の９．３６ｍ2／２０ｍ2＝４７％をカバーしている。スプレーレベルシステム２０の気液接触プレート３８は、組み合わせて、スプレーレベルシステム２０の気液接触プレート３８のレベルにおいて測定された、湿式スクラバタワー２の内部２ａの水平方向断面積の３０〜７５％を構成してよい。
【００３８】
１つの実施の形態によれば、湿式スクラバタワー２を通る煙道ガス流が移動する順に、特定のスプレーレベルシステムの全ての上面３８ａの合計組合せ面積は増大する。したがって、たとえば、第２のスプレーレベルシステム２６の気液接触プレート３９の上面３９ａは、１１ｍ2の合計組合せ面積を有してよい。したがって、気液接触プレート３９は、第２のスプレーレベルシステム２６の気液接触プレート３９のレベルにおいて測定された、湿式スクラバタワー２の内部２ａの水平断面積の１１ｍ2／２０ｍ2＝５５％を占める。これは、第１のスプレーレベルシステム２０の気液接触プレート３８によって占められる４７％と対照的である。このような設計の理由は、基部２ｂにより近くスプレーレベルシステムが配置されているほど、より多くの吸着液が存在し、開放空間について増大した必要性を生じるからである。
【００３９】
図３は、スプレーレベルシステム２０をより詳細に示す、図１の領域ＩＩＩの拡大した側面図である。それぞれの気液接触プレート３８は、管延長部５０に流体通流可能に接続された対応するノズル３６上に中心合わせされている。鉛直方向距離ＨＰは、対応する気液接触プレート３８の底面３８ｄにおける最も近い箇所までの、ノズル３６のスプレー開口５２からの鉛直方向距離である。距離ＨＰは、通常、約０．１〜０．９ｍ、しばしば約０．１〜０．６ｍである。ノズル３６は、ノズル３６に供給される吸着液の少なくとも一部を、湿式スクラバタワー２の内部２ａにおいて下方へ噴霧するために配置されている。１つの実施の形態によれば、ノズル３６に供給される吸着液の少なくとも半分は下方へ噴霧される。
【００４０】
１つの実施の形態によれば、ノズル３６に供給される実質的に全ての吸着液が下方へ噴霧される。
【００４１】
図４は、作動中のスプレーレベルシステム２０，２６を斜視図で示す。第１のスプレーレベルシステム２０のノズル３６は、ノズル３６に供給される吸着液を噴霧し、吸着液のスプレークラウドＳＣを発生する。通常、ノズル３６は、約６０°〜１８０°、より一般的には９０°〜１３０°の吸着液スプレー角度αを提供する。図４に示したように、第１のスプレーレベルシステム２０のノズル３６からの噴霧された吸着液の運動量の下で、煙道ガスＦは、ノズル３６から離れる方向に、隣接するノズル３６の間の開放空間に向かって強制される。したがって、煙道ガスＦは、できるだけノズル３６から離れて流れる。第２および第３のスプレーレベルシステム２６および３２のノズル３６によって噴霧された、影付き矢印ＡＬによって図４に示された吸着液は、湿式スクラバタワー２において下方へ流れ、気液接触プレート３８の上面３８ａに少なくとも部分的に接触する。次いで、吸着液ＡＬは、気液接触プレート３８の間の開放空間ＯＳに向かって流れる。
【００４２】
開放空間ＯＳは、第１の噴霧レベルシステム２０のノズル３６からの噴霧された吸着液の運動量により、煙道ガスＦの流路と一致する。開放空間ＯＳにおいて、煙道ガスＦと吸着液ＡＬとの強い混合が生じる。このような強い混合は、開放空間ＯＳに隣接して、"クラウド"Ｃと見なすことができるものの形成をもたらす。開放空間ＯＳにおいて、煙道ガスＦは、湿式スクラバタワー２の内部２ａの断面積の実質的な部分が気液接触プレート３８によって占められていることにより、比較的高い鉛直方向煙道ガス速度を有する。通常、鉛直方向煙道ガス速度は、開放空間ＯＳにおいて約５〜１５ｍ／ｓ、しばしば６〜１０ｍ／ｓであってよい。開放空間ＯＳにおける鉛直方向煙道ガス速度は、タワー２における測定されたガス流から計算されてよい。このガス流は、たとえばスプレーレベルシステム２０のすぐ下方の箇所Ｐにおいて測定されるか、または一般的なプラント制御システムにおけるセンサから得られてよく、ｍ3／ｓの単位でこのように測定されたガス流を、気液接触プレート３８のレベルにおいて測定された湿式スクラバタワー２の合計開放内部２ａの水平方向断面積によって割る。鉛直方向煙道ガス速度は、箇所Ｐにおいてスプレーレベルシステム２０のすぐ下方において生じる実際のガス温度、実際のガス圧力および実際のガス組成において測定された実際のガス速度である。箇所Ｐは、湿式スクラバタワー２の内部２ａの断面積の部分のいかなる部分も管延長部５０、ノズル３６、プレート３８などによって占められない鉛直方向レベルに適切に配置されている。したがって、箇所Ｐは、内部２ａの"空のフロア"と称することができるところに配置されており、これは、箇所Ｐにおいて測定された煙道ガス速度が、湿式スクラバタワー２が全ての内部構造を有さない場合に湿式スクラバタワー２に生じるであろう煙道ガス速度を反映する。上に提供された例を用いて、プレート３８のレベルにおける湿式スクラバタワー２の全開放内部２ａの水平方向断面積は、内部湿式スクラバ断面積から、気液接触プレート３８の上面３８ａの全水平方向表面積を引いたものとして計算される。この例において、合計開放内部湿式スクラバ水平方向断面積は、１０．６４ｍ2、すなわち２０ｍ2−９．３６ｍ2＝１０．６４ｍ2である。たとえば箇所Ｐにおいて測定された、８０ｍ3／ｓの、タワー２を通る合計ガス流の場合、開放空間ＯＳにおける鉛直方向煙道ガス速度は、７．５ｍ／ｓ、すなわち８０ｍ3／ｓ／１０．６４ｍ2＝７．５ｍ／ｓである。
【００４３】
開放空間ＯＳにおけるこのような高い鉛直方向煙道ガス速度により、第２および第３のスプレーレベルシステム２６，３２から開放空間ＯＳに進入する吸着液ＡＬは、煙道ガスからかなりゆっくりと、消散、解消もしくは排出される。ゆっくりとした吸着液ＡＬ消散は、開放空間ＯＳに隣接しておよび開放空間ＯＳの上方に"クラウド"Ｃの形成を生じる。クラウドＣは、容易に排出または消散することができない吸着液ＡＬと混合された煙道ガスを有する。したがって、クラウドＣは、湿式スクラバタワー２内の乱流のバブリングベッドに似ている。クラウドＣにおける吸着液ＡＬおよび煙道ガスＦの強い混合は、増大した二酸化硫黄吸着レベルを生じ、これにより、煙道ガスＦからの二酸化硫黄の効率的な除去を生じる。吸着液ＡＬは最後に、図４に流れＤとして示されたように、クラウドＣから排出される。しかしながら、吸着液ＡＬは、クラウドＣから排出される前にクラウドＣにおける比較的長い平均滞留時間を有する。
【００４４】
湿式スクラバタワー２内で、ノズル３６は、ノズル３６に供給される吸着液の少なくとも半分が下方へ噴霧されるように配置されている。実際には、図４に示したように、全ての吸着液が概して下方へ噴霧されてよい。第１のスプレーレベルシステム２０のノズル３６から概して下方へスプレークラウドＳＣにおいて吸着液を噴霧することは、煙道ガスからの二酸化硫黄の除去を、第１のスプレーレベルシステム２０の二酸化硫黄吸着の２つの別個の分離したゾーンに分離する。第１のゾーンは、第１のスプレーレベルシステム２０のノズル３６から噴霧された吸着液に接触する煙道ガスＦに基づき形成されたスプレークラウドＳＣである。第２のゾーンは、第１のゾーンから流れる煙道ガスＦ、すなわち第１のスプレーレベルシステム２０のノズル３６からのスプレークラウドＳＣにおける吸着液と直前に接触した煙道ガスＦと接触する、スプレーレベルシステム２６，３２からの逸らされた吸着液ＡＬから形成されたクラウドＣである。
【００４５】
図５ａおよび図５ｂは、択一的な実施の形態によるスプレーレベルシステム１２０を示す。図１〜図４に関して上述されたスプレーレベルシステム２０の特徴と同じ図５ａおよび図５ｂの特徴は、同じ参照番号が与えられている。図５ａは、スプレーレベルシステム１２０を上面図で示す。管部分３４には、管部分３４から延びた"グリッド"を形成する複数の流体通流可能に接続された管延長部５０，１５１が設けられている。複数の噴霧ノズル３６は、ノズル３６が湿式スクラバタワー２の水平方向断面全体に亘ってかなり均一に分配されるように、管部分３４および管延長部５０，１５１に流体通流可能に接続されている。それぞれのノズル３６は、図２に関して上述したのと同じ形式で、気液接触プレート３８の下方に配置されている。
【００４６】
スプレーレベルシステム１２０には、第１のダンパ配列１５２および第２のダンパ配列１５４が設けられている。それぞれのダンパ配列１５２，１５４は、湿式スクラバタワー２を横切って水平に延びている。第１および第２のダンパ配列１５２，１５４は、中央の管延長部１５１のそれぞれの側に延びている。それぞれの第１および第２のダンパ配列１５２，１５４は、湿式スクラバタワー２内に、ダンパブレード１５６の形態のダンパと、水平ダンパシャフト１５８とを有する。また、それぞれの第１および第２のダンパ配列１５２，１５４は、ダンパブレード１５６を所望のように位置決めするために水平ダンパシャフト１５８を回転させるための、湿式スクラバタワー２の外部に配置されたダンパモータ１６０を有する。
【００４７】
図５ａの矢印Ｖｂ−Ｖｂの方向で見たスプレーレベルシステム１２０の側面図を示す図５ｂは、中央の管延長部１５１のそれぞれの側に配置された第１および第２のダンパ配列１５２，１５４を示す。配列１５２，１５４のそれぞれの水平ダンパシャフト１５８は、湿式スクラバタワー２を横切って気液接触プレート３８と実質的に同じ水平面に配置されている。図５ａのモータ１６０を用いてダンパシャフト１５８を回転させることによって、水平面に関するダンパブレード１５６の角度βが調節されてよい。ダンパブレード１５６の角度βは、気液接触プレート３８の間の開放空間ＯＳの幅に影響する。したがって、角度βが約９０°である場合、ダンパブレード１５６は、開放空間ＯＳを通る煙道ガスＦの流れにほとんど影響しない。約９０°の角度βは、通常、湿式スクラバタワー２が煙道ガスＦ流れの全負荷において作動させられるときに用いられる。たとえば図５ｂに示したように角度βが約４０°に減じられると、開放空間ＯＳは実質的に減じられ、隣接するダンパブレード１５６の間に配置された開放空間ＯＳを通る煙道ガスＦの流速を増大させる。したがって、９０°未満の角度βは、湿式スクラバタワー２が、減じられた流れ負荷において、たとえば煙道ガスＦ流れの全負荷の７５％において作動させられる場合に用いられてよい。角度βを調節することにより、開放空間ＯＳを通る鉛直方向ガス流速は、約５ｍ／ｓ〜約１５ｍ／ｓの所望の範囲内で調節されてよい。また、湿式スクラバタワー２が減じられた負荷で作動させられる場合、角度βはこれに対応して調節されてよい。角度βは０°まで減じられてもよい。このような場合、ダンパブレード１５６に隣接した開放空間ＯＳは、完全にまたはほとんど完全にダンパブレード１５６によって遮断される。しかしながら、図５ａに示されたように、２つのダンパ配列１５２，１５４は、０°の角度βを有するように調節されるとしても、気液接触プレート３８を包囲する全ての開放空間ＯＳを遮断するように働かない。煙道ガスＦが流れる開放空間ＯＳは依然として残る。残っている開放空間ＯＳにおける鉛直方向煙道ガス速度は、５ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓの所望の範囲にある。残っている開放空間ＯＳにおける鉛直方向煙道ガス速度が５ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓの所望の範囲にない場合、ダンパ配列１５２，１５４は、同じことを達成するように調節されてよい。したがって、ダンパ配列１５２，１５４により、図４に関して上述した所望の"クラウド"Ｃを発生することが可能になる。また、煙道ガス流れ負荷が、完全作動ガス流よりも低い場合、ダンパ配列１５２，１５４は、所望のクラウドＣを維持するように調節されてよい。ダンパ配列１５２，１５４は、煙道ガス流負荷が完全作動ガス流であるときの状況においてさえも、開放空間ＯＳを遮断するまたは部分的に遮断するために用いられてよい。完全作動ガス流の条件において開放空間ＯＳを遮断するまたは部分的に遮断することは、除去を必要とする二酸化硫黄の量が一時的に増大された場合に有利である。開放空間ＯＳを通る増大した鉛直方向煙道ガス速度は、このような条件において、二酸化硫黄除去効率を高める。
【００４８】
必要な場合に水平プレートが開放空間ＯＳ上を摺動するように形成されているダンパを含む、その他の形式のダンパが使用されてもよいことが認められるであろう。
【００４９】
図６は、別の択一的な実施の形態によるスプレーレベルシステム２２０を示す。図１〜図４に関して上述されたスプレーレベルシステム２０の特徴と同様の図６の特徴は、同じ参照番号が付されている。図６は、スプレーレベルシステム２２０を側面図で示す。図２に示された管部分３４と同様の管部分３４には、複数の流体通流可能に接続された管延長部５０が設けられている。複数の噴霧ノズル２３６が管延長部５０に流体通流可能に接続されている。図２に関して上述されたのと同様の形式で、各ノズル２３６は気液接触プレート２３８の下方に配置されている。
【００５０】
ノズルは、いわゆるデュアルオリフィスノズル、たとえば、米国イリノイ州ウィートン所在のSpraying Systems Co.から市販されているDual Orifice WhirlJet Nozzlesである。ノズル２３６は吸着液を２つの方向に排出する。ノズル２３６に供給される液体の量の第１の部分は、第１の下側のノズル２３６のスプレー開口２５２から噴霧および排出され、吸着液のスプレークラウドＳＣ１を発生する。スプレークラウドＳＣ１は、概して下方へ方向付けられる。ノズル２３６に供給される液体の量の第２の部分は、第２の上側ノズル２３６のスプレー開口２５３から噴霧および排出され、吸着液のスプレークラウドＳＣ２を発生する。スプレークラウドＳＣ２は概して上方へ方向付けられる。通常、ノズル２３６は、約６０°〜１８０°の各方向において吸着液スプレー角度αを提供する。しばしば、ノズル２３６に供給される吸着液の少なくとも５０％は、第１の下側のスプレー開口２５２から排出される。
【００５１】
図４に関して上述したのと同様の原理にしたがって、気液接触プレート２３８は、スプレーレベルシステム２２０の鉛直方向上方に配置されたスプレーレベルシステムから到来する吸着液を、気液接触プレート２３８の間の開放空間ＯＳへ逸らせるために働く。鉛直方向距離ＨＰ１，ＨＰ２はそれぞれ、それぞれのノズル２３６のスプレー開口２５２，２５３から、対応する気液接触プレート２３８の底面２３８ｄにおける最も近い箇所までの鉛直方向距離である。距離ＨＰ１，ＨＰ２は、通常、約０．１〜０．９ｍである。デュアルオリフィスタイプノズル２３６が図６に示された形式で配置されていることにより、ＨＰ１はＨＰ２よりも大きくなる。図６に示された実施の形態において、より低いスプレー開口２５２から、底面２３８ｄにおける最も近い箇所までの鉛直方向距離ＨＰ１は、０．２〜０．９ｍであってよい。上側のスプレー開口２５３から、底面２３８ｄにおける最も近い箇所までの鉛直方向距離ＨＰ２は、０．１〜０．８ｍであってよい。
【００５２】
添付の請求項の範囲において上述の実施の形態の多数の変化態様が可能であることが認められるであろう。
【００５３】
これまで、各スプレーレベルシステムには、その上面図で見た場合に正方形の形状を有する気液接触プレートが装備されていることが説明されてきた。気液接触プレートは、円形、三角形、楕円形、矩形、その他の多角形、不規則形またはそれらの組合せなどの形状を含む、正方形以外の形状を有することもできることが認められるであろう。スプレーレベル配列は、それ自体に、様々な形状の気液接触プレートを有してよい。たとえば、あるスプレーレベルシステムの幾つかの気液接触プレートは、湿式スクラバタワー２を形成する内部円形壁部と一致するための特別な形状であることができる。同様に、気液接触プレートは、それぞれのノズルの上方に中心合わせされる必要はないが、このような中心合わせされた配列は好ましい。また、図２に示したような上面図で見た場合に、各気液接触プレート３８は、各気液接触プレートに関連したノズル２６全体を完全に覆い隠すべきであることも好ましい。気液接触プレート３８，３９は、ステンレス鋼などの金属、繊維強化プラスチックを含む様々なプラスチック材料などを含むあらゆる適切な材料から製造することができる。各気液接触プレート３８，３９のプレート厚さは、選択される材料の機械的強度に依存する。しばしば、２〜１５ｍｍのプレート厚さが適切である。
【００５４】
図１〜図４を参照して説明した実施の形態において、湿式スクラバタワー２内に"積層された"鉛直方向整合状態に配置された合計で３つのスプレーレベルシステム２０，２６，３２のうちの、下側の２つのスプレーレベルシステム２０，２６に気液接触プレート３８，３９が設けられている。湿式スクラバタワー２は、積層された鉛直方向整合状態に配置された２〜２０のあらゆる数のスプレーレベルシステムを有することができる。あらゆる数のこれらのスプレーレベルシステムに気液接触プレートを設けることができる。これにより、たとえば、５つのスプレーレベルシステムを有する湿式スクラバタワー２において、１つのスプレーレベルシステムにのみ気液接触プレートが設けられてよく、１つのスプレーレベルシステムは、湿式スクラバタワー２の基部に最も近いスプレーレベルシステムである必要はない。むしろ、たとえば、気液接触プレートが設けられた１つのスプレーレベルシステムは、中央のスプレーレベルシステム、すなわち、湿式スクラバタワー２の基部から３つめのスプレーレベルシステムであってよい。さらに、５つのスプレーレベルシステムを有する湿式スクラバタワー２の場合、全ての５つのスプレーレベルシステムに気液接触プレートを提供することも可能である。しかしながら、最も上側のスプレーレベルシステムに関連して気液接触プレートを使用する効果は、むしろ制限される。したがって、気液接触プレートは、湿式スクラバタワー２のために要求される二酸化硫黄除去のための所要の効率に応じて、湿式スクラバタワー２の全てのスプレーレベルシステムのうちの１つ以上のために、および各スプレーレベルシステムの全てのノズルの１つ以上のために、取り付けることができる。したがって、除去効率の限定的な増大で十分である場合、気液接触プレートを１つのスプレーレベルシステムにのみ、おそらくそのスプレーレベルシステムのノズルのうちの幾つかにのみ取り付けることができ、これに対して、二酸化硫黄除去の大きな増大が必要とされる別の場合には、全てのまたはほとんど全てのスプレーレベルシステムのために、またそれらのスプレーレベルシステムのノズルのほとんどまたは全てのために気液接触プレートを取り付けることが好ましい。
【００５５】
気液接触プレートは、新たな湿式スクラバ設備を製造する場合、および既存の湿式スクラバ設備を改装する場合の両方に使用することができる。
【００５６】
これまで、プロセスガスから二酸化硫黄を除去するための方法および湿式スクラバが説明された。この方法および湿式スクラバは、プロセスガスからその他の汚染物を除去するために利用されてもよいことが認められるであろう。たとえば、この方法および湿式スクラバを、プロセスガスから二酸化炭素を除去するために利用することができる。プロセスガスからの二酸化炭素の除去は、このような場合、しばしば、二酸化硫黄を除去するために作動する湿式スクラバと同じ形式の湿式スクラバにおいて行われてよいが、この湿式スクラバは、二酸化硫黄が除去される湿式スクラバの、プロセスガスを送る方向に関して下流に配置されている。さらに、石灰石はしばしば、二酸化硫黄除去湿式スクラバにおける吸着液の一部であってよいが、二酸化炭素除去湿式スクラバは、別のタイプの吸着液、たとえば、アンモニア添加溶剤またはアミン溶剤を含む吸着液を使用してよい。
【００５７】
要するに、湿式スクラバタワー２は、第１のスプレーレベルシステム２０と、湿式スクラバタワー２内で第１のスプレーレベルシステム２０の鉛直方向上方に配置された第２のスプレーレベルシステム２６とを有し、各スプレーレベルシステム２０，２６は、吸着液を噴霧するために作動するノズル３６を有する。第１のスプレーレベルシステム２０は、第１のスプレーレベルシステム２０のノズル３６のうちの少なくとも１つの鉛直方向上方に配置された少なくとも１つの気液接触プレート３８を有する。気液接触プレート３８は、第２のスプレーレベルシステム２６によって噴霧された吸着液を、第１のスプレーレベルシステム２０の少なくとも１つのノズル３６の近くから逸らせる。逸らされた吸着液は、第１のスプレーレベルシステム２０によって噴霧された吸着液とすでに接触させられたプロセスガスＦと接触させられてよい。
【００５８】
本発明は多数の好適な実施の形態に関連して説明されたが、本発明の範囲から逸脱することなく様々な変更がなされてよく、またその要素の代わりに均等物が代用されてよいことが当業者によって理解されるであろう。さらに、発明の本質的な範囲から逸脱することなく発明の開示に特定の状況または材料を適応させるために、多くの変更がなされてよい。したがって、発明は、本発明を実施するために考えられる最良の態様として開示された特定の実施の形態に限定されるのではなく、発明は、添付の請求項の範囲に当てはまる全ての実施の形態を含むことが意図されている。さらに、第１、第２などの用語の使用は、いかなる順序または重要性をも示すのではなく、第１、第２などの用途は、１つの要素を別の要素から区別するために使用されている。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図６】
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