(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、反射層、１つの面内に液晶の膜厚を制御する深さの異なる段差を有し、段差表面に配向制御用の溝は形成されていないエンボス原版を使用して、位置合わせの上エンボス加工を施した表面が凹凸状態を呈する形成層、液晶を配向させる配向制御部、前記凹凸を埋設することで厚みが異なるとともに前記配向制御部の効果で所定方向に配向した部位を有する液晶層、保護層がこの順で積層されていることを特徴とする偽造防止媒体。
【請求項２】
前記配向制御部が、複数の配向方向を有することを特徴とする請求項１に記載の偽造防止媒体。
【請求項３】
前記配向制御部が、形成層の表面に該形成層とは異質の材料で形成した配向膜であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の偽造防止媒体。
【請求項４】
前記基材の裏面に粘着層を備えたことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の偽造防止媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光フィルタを用いることによって隠し文字や隠しパターン等の潜像を顕在化させる偽造防止媒体の構成および偽造防止媒体の真贋を判定する真偽判定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、銀行券、商品券、パスポートなどの有価証券や認証媒体は、偽造防止対策として偽造の困難な何らかの媒体（以下、偽造防止媒体と記す）を貼付することでなされてきた。そこでは、偽造防止媒体の有無あるいは目視又は検証器を用いた偽造防止媒体自体の真贋判定により認証媒体の真贋判定を行っている。
【０００３】
しかし、単なる目視により真贋判定が行える偽造防止媒体は偽造がされやすい。そこで、近年、より偽造が困難な、偏光光だけで見えるような潜像を予め媒体中に形成し、偏光板と組み合わせて該潜像を顕現する技術が偽造防止技術として開示されている。これは単純な平板偏光板を媒体に重ねることによりモノトーンの潜像を出現させるもので、潜像が見えるか見えないかで真贋判定を行っている（特許文献１参照）。
【０００４】
以下に、上記先行発明特許を示す。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１８３８３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記の偏光潜像を利用した偽造防止媒体は、モノトーンであるため検証時に視覚に訴える力が弱く、一瞥して偽造とは判別できないという問題がある。また、困難であるにせよ必ずしも模倣・偽造ができないというものではない。
そこで本発明は、偏光潜像を利用した偽造防止媒体ではあるが、より偽造が困難で、且つ偽造された媒体であるか否かの判別が視覚的に容易な偽造防止媒体を提供することを目的とした。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、基材上に、反射層、１つの面内に液晶の膜厚を制御する深さの異なる段差を有し、段差表面に配向制御用の溝は形成されていないエンボス原版を使用して、位置合わせの上エンボス加工を施した表面が凹凸状態を呈する形成層、液晶を配向させる配向制御部、前記凹凸を埋設することで厚みが異なるとともに前記配向制御部の効果で所定方向に配向した部位を有する液晶層、保護層がこの順で積層されていることを特徴とする偽造防止媒体としたものである。
【０００８】
また、請求項２に記載の発明は、前記配向制御部が、複数の配向方向を有することを特徴とする請求項１に記載の偽造防止媒体としたものである。
【００１０】
また、請求項３に記載の発明は、配向制御部が、形成層の表面に該形成層とは異質の材料で形成した配向膜であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の偽造防止媒体としたものである。
【００１１】
また、請求項４に記載の発明は、前記基材の裏面に粘着層を備えたことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の偽造防止媒体としたものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明になる偽造防止媒体は、偏光板を重ねた場合に見える偏光潜像画像が多色に着色しており、偏光板を回転させると異なる着色画像が観察できるという特殊な視覚効果を有している。可視化された変化する着色画像は、モノカラー表示に比べ視覚に対する訴求力が強く、容易に判別可能なので高い偽造判別力を発揮するという効果がある。
【００１５】
また、偏光潜像を着色させるためには、液晶を収容する狭い空間を複数確保して、壁面に配向性を付与するという高度な加工技術が必要であり、液晶を取り囲むこのような環境を模倣して、真正品と同じ視覚効果を発現させることはモノトーンタイプを模倣するのと比較すると極めて困難である。
【００１６】
また、裏面に粘着層を備える構成の偽造防止媒体は、容易に紙等の被貼付媒体に装着できる。
【００１７】
また、液晶の厚さを変える巨視的な凹凸と液晶の配向を制御する微細な溝とを同時に形成すれば、工程が合理化され低コストで上記特徴を有する偽造防止媒体を製造できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第一実施形態の係る偽造防止媒体を概略的に示す平面視図である。
【図２】図１に示す偽造防止媒体のＡ−Ａ線に沿った断面視図である。
【図３】図１に示す偽造防止媒体の形成層の作成方法を概略的に示す模式図である。
【図４】図３により得られた形成層を概略的に示す模式図である。
【図５】（Ａ）、（Ｂ）図１の構成の偽造防止媒体を用いて偏光板を介して観察する場合の種々の実施形態を示す模式図である。
【図６】本発明の第二実施形態の係る偽造防止媒体を概略的に示す平面視図である。
【図７】図６に示す偽造防止媒体のＢ−Ｂ線に沿った断面視図である。
【図８】図６に示す偽造防止媒体の形成層および配向制御層を概略的に示す模式図である。
【図９】図６に示す偽造防止媒体の形成層の作成方法を概略的に示す模式図である。
【図１０】図９により得られた形成層を概略的に示す模式図である。
【図１１】（Ａ）、（Ｂ）図６の構成の偽造防止媒体を用いて偏光板を介して観察する場合の種々の実施形態を示す模式図である。
【図１２】本発明の転写箔の層構成の一例を示す断面視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の態様について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、同一又は類
似した機能を発揮する構成要素には全ての図面を通じて同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【００２０】
（第一の構成）
図１は、本発明になる偽造防止媒体の第一の構成を概略的に示す平面視図である。
図２は、図１に示す偽造防止媒体１０のＡ−Ａ線に沿った断面視図である。
【００２１】
この偽造防止媒体１０は、基材１１と反射層１２と形成層１３と液晶層１４と保護層１５を含んでいる。偽造防止媒体１０の前面は、基材１１から見て保護層１５側の面である。
【００２２】
（基材）
基材１１は、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂からなるフィルム又はシートである。基材１１は光透過性を有していてもよく、有していなくてもよい。また、基材１１は、単層構造を有していてもよく、多層構造を有していてもよい。更に、基材１１に対して、偏光潜像の画像認識に影響を及ぼさない程度で、全面もしくは部分的に帯電防止処理やマット加工、エンボス処理等の加工をしても良い。基材１１は、反射層１２が自己支持性があれば省略することができる。
【００２３】
（反射層）
反射層１２は、基材１１の前面側の全体を被覆している。反射層１２は、基材１１の前面の一部のみを被覆していてもよい。或いは、反射層１２は、基材１１の背面を少なくとも部分的に被覆していてもよい。この場合、基材１１は、反射層１２に対応した位置の少なくとも一部で光透過性とする。そして、この場合、典型的には、基材１１として、反射層１２に対応した位置の少なくとも一部で透明なものを使用する。
【００２４】
反射層１２は、光散乱性を有していてもよく、光散乱性を有していなくてもよい。また、反射層１２は、単層構造を有していてもよく、多層構造を有していてもよい。
【００２５】
反射層の設け方としては、光反射効果の有するインキ等を公知の印刷方法により設けてもよいし、金属を反射層として蒸着もしくはスパッタリングのような方法で設けてもよい。反射層に使用する金属は、例えばＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、インコネル、ステンレス、ジュラルミンなどの金属を挙げられる。また、印刷法により、光反射効果を有するインキ層を基材上に全面あるいはパターン状で設けた転写箔を作製するか、もしくは金属反射層を備えた転写箔を作製するかして、本発明に使用する基材１１に転写を行うことで反射層を設けてもよいし、金属箔や金属層を有するフィルムをラミネートして反射層を設けてもよい。
【００２６】
金属反射層をパターン化する場合、基材全面に金属反射層を形成した後にエッチング加工、レーザー加工、水洗シーライト加工等の公知の方法でパターン化してもよいし、前記公知の方法にてパターン化した金属反射層を転写もしくはラミネートしてもよい。また、平坦な金属反射層の代わりに回折構造を有する回折構造形成層設けてもよい。回折構造を形成することにより、装飾効果および偽造防止効果が向上する。
【００２７】
また、本発明では、反射層上にＯＶＤ層を設けることができる。ＯＶＤ層としてはホログラム、回折格子などの光学層があげられる。ホログラムとしては、光の干渉を微細な凹凸パターンとして平面に記録するレリーフ型、体積方向に干渉縞を記録する体積型などがあり、中でも量産性やコストの点からレリーフホログラムを好適に用いることができる。
【００２８】
（形成層）
形成層１３は、液晶層の配向および液晶層の膜厚を制御するための層であるが、図３は形成層の作成方法を概略的に示す模式図である。エンボス原版４１は１つの面内に膜厚制御領域２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、等を有している。この膜厚制御領域２Ａ、２Ｂ、２Ｃはそれぞれ深さが異なる。また、配向制御のための溝１６を有している。配向制御のための溝１６が形成されている領域を配向制御領域２１、配向制御領域２２、等とする。配向制御領域２１と配向制御領域２２は、形成された溝１６の方向が異なるようにすることができる。
【００２９】
形成層１３は、例えば、熱可塑性樹脂層であって、複数の厚さを持つ凸部が設けられた原版を、熱を印加しながら押し当てる方法、即ち、熱エンボス加工法により得られる。或いは、形成層１３は、例えば、紫外線硬化樹脂であり、これに原版を押し当てながら樹脂基材裏面側から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させ、その後、原版を取り除く方法により形成することも可能である。
【００３０】
尚、配向制御のための溝１６を有している原版を使用することにより、以上の方法で、形成層１３に液晶層の厚さを制御するための凹凸状態と配向制御用の溝１６とを同時に一括して形成することができる。また溝のない部位を形成しても構わない。
【００３１】
図４は膜厚制御領域２Ａ、２Ｂ、２Ｃおよび、配向制御領域２１、２２が形成された形成層１３を概略的に示す模式図である。この膜厚制御領域２Ａ、２Ｂ、２Ｃはそれぞれ深さが異なる。また、配向制御領域２１と配向制御領域２２は、液晶を配向させる方向が異なっている。
【００３２】
これらの方法によれば、形成層１３の一方の側に、膜厚制御のための凹凸の深さと幅が異なる複数の領域が、配向制御のための延長方向の異なる溝１６を有するように加工ができる。
【００３３】
ここで、配向制御領域２１、２２の各々に採用可能な構造について詳しく説明する。配向制御領域２１、２２の各々には、例えば、複数の溝１６を幅方向に等間隔で平行に並べた構造を採用することができる。
【００３４】
これら溝１６は、互いに平行であるのが望ましいが厳密な意味で平行でなくてもよい。但し、これら溝１６が平行に近いほど、液晶が配向しやすくその方向に光軸が揃い易くなる。これら溝が為す角度は、例えば５°以下とし、典型的には３°以下が望ましい。
【００３５】
配向制御領域２１、２２の各々において、これら溝１６は、縦横に並べてもよい。また、溝の長さは、互いに等しくてもよく、互いに異なっていてもよい。また、長さ方向に隣り合う溝間の距離は均一であってもよく、不均一であってもよい。更に、幅方向に隣り合う溝間の距離は均一であってもよく、不均一であってもよい。例えば、配向制御領域２１、２２の各々には、互いに長さが等しい溝１６を縦横に並べてもよい。或いは、配向制御領域２１、２２の各々には、様々な長さの溝１６をランダムに並べてもよい。
【００３６】
これら配向制御のための溝の深さは、例えば、０．０５μｍから０．５μｍの範囲とする。また、溝の長さは、例えば、０．５μｍ以上とする。このとき、溝の深さは液晶層の厚さより十分に浅くすることが好ましい。溝のピッチは、例えば０．１μｍ以上であり、典型的には０．７５μｍ以上である。液晶を高い秩序度で配向させるには、溝のピッチは小さいことが有利である。また、液晶膜厚は、例えば１０μｍ以下であり、典型的には２μｍから６μｍである。
【００３７】
（液晶層）
液晶層１４は、液晶材料を固化してなる。典型的には、液晶層１４は、流動性を有する重
合性液晶材料を紫外線又は熱により硬化させてなる高分子複屈折性層である。
【００３８】
図２に示すように、液晶層１４は、配向状態が異なる複数の液晶部分１４１、１４２および液晶の膜厚が異なる複数の液晶部位１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃを含んでいる。配向状態が異なる複数の液晶部分１４１、１４２は配向制御領域２１、２２にそれぞれ対応する。また、膜厚が異なる複数の液晶部位１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃは膜厚制御領域２Ａ、２Ｂ、２Ｃにそれぞれ対応する。
【００３９】
（保護層）
保護層１５は、液晶層１４の前面を被覆している。保護層１５は、光透過性を有している光透過層であり、典型的には透明であるが、無色透明であってもよく、有色透明であってもよく、少なくとも、光学的に等方性である必要がある。
【００４０】
保護層１５は、液晶層１４などの損傷や光劣化を生じ難くして、偽造防止媒体１０が表示する像の劣化を抑制する保護層としての役割を果たす。保護層１５は、単層構造を有していてもよく、多層構造を有していてもよい。
【００４１】
保護層１５は、例えば樹脂からなる。保護層１５の材料としては、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂およびポリイミド樹脂などの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又は紫外線若しくは電子線硬化樹脂を、単独で又は組み合わせて使用することができる。保護層１５は省略することができる。
【００４２】
（第二の構成）
次に、本発明の第二の構成について説明する。
図６は、本発明の第二の構成に係る偽造防止媒体を概略的に示す平面視の図である。
図７は、図６に示す偽造防止媒体のＢ―Ｂ線に沿った断面視の図である。
【００４３】
この偽造防止媒体３０は、以下の構成を採用したこと以外は、図１から図４を参照しながら説明した偽造防止媒体１０と同様の構成を有している。即ち、この偽造防止媒体３０では、図１の液晶１３の配向を制御する領域２１、２２の表面の処理方法が異なっているだけであり、以下この部分を配向制御層３１、３２と称する。
【００４４】
（配向制御層）
配向制御層は液晶を配向させるために用い、配向制御層を形成する方法としては、公知の技術を用いることができ、例えばラビングや真空斜方蒸着により配向処理を行う方法や、直線偏光や斜め非偏光照射による光反応を用いる光配向膜を使って配向させる方法等を採用できる。この場合、溝を組成する形成層材料とは異なる異質な材料が形成層の上に存在することになる。
【００４５】
図８は配向制御層の配向方向を示しており、配向制御層３１、３２はそれぞれストライプの伸びる方向に液晶の配向を制御する効果を有している。図８の左右で概ね４５度配向方向が異なっている。
【００４６】
図９は形成層の作成方法を概略的に示す模式図である。エンボス原版４２は１つの面内に液晶の膜厚を制御する深さ２Ａ、２Ｂ、２Ｃの段差（凹凸）を有しているが、段差表面に配向制御用の溝は形成されていないものである。図９の下段の図は、基材１１の前面側に反射層１２、形成層１３が積層され、更に前記の配向制御層３１，３２がその上に形成されたものである。この積層物に対し、エンボス原版４２を使用して、位置合わせの上エンボス加工を施す。
【００４７】
図１０は膜厚制御のための深さ２Ａ、２Ｂ、２Ｃの凹凸部、および配向制御層３１、３２を有する形成層を概略的に示す模式図である。上記の方法によれば、１つの面内に液晶１３の膜厚制御のための深さ、幅が異なる複数の領域を形成することができる。また、これらの方法によると、前記領域に、複数の所定の液晶配向性を付与することもできる。配向制御能を有さない配向制御層とすることもできる。この場合、液晶は当該部位で無配向の光学的等方層となる。
【００４８】
（第一の観察形態）
次に、本発明の偽造防止媒体１０を用いて偏光潜像を観測する形態と、該偽造防止媒体１０を備える物品が真正品であることを検証するための真贋判定方法を説明する。
【００４９】
図１は偽造防止媒体１０を概略的に示す平面視図である。偏光板５０をかざさずに目視で観察したとき、点線で示される潜像表示領域は他の領域と区別することができず、どの領域も同じに見える。
【００５０】
図５（Ａ）、（Ｂ）は本発明の偽造防止媒体１０に偏光板５０をかざして観察したときの偏光潜像を示す一例である。矢印は偏光板１０の光軸方向を示している。
【００５１】
図５（Ａ）では表示部１０１、１０２は、偏光板の光軸と液晶からなる位相差層の光軸の角度が平行なため、偏光板１０を介した偏光は透過でき、それぞれの領域で異なる色の潜像が明るく表示される。また、表示部２０１、２０２については、偏光板の光軸と液晶層の光軸の角度が４５°で交わるため、偏光板５０を介した偏光が位相差層により９０°回転されることにより遮光され、暗く表示される。また表示部３０１においては液晶部位が存在しないため変化が起こらない。
【００５２】
図５（Ｂ）は、図５（Ａ）の状態から偏光板を４５°回転させたときの偽造防止媒体１０の見え方を示す平面視図である。これらも前記と同様の原理で表示部１０１、１０２は暗く、表示部２０１、２０２はそれぞれの領域で異なる色の潜像が明るく表示される。
【００５３】
このようにして、偏光板５０を介して偽造防止媒体１０を観測し、その偏光潜像が所定の着色状態を有する潜像パターンであることを確認することにより、偽造防止媒体１０が正規のものであることが確認できる。同じ偏光潜像を示す偽造防止媒体であれば、その媒体を備える物品が真正品であることの真贋判定ができる。
【００５４】
（第二の観察形態）
偽造防止媒体３０においても偽造防止媒体１０と同じ効果が得られ、この偽造防止媒体を備える物品が真正品であることの真贋判定ができる。
【００５５】
ここで、表示部１０１、表示部２０１、表示部１０２、表示部２０２それぞれが異なる色に見える理由について、数式を参照しながら説明する。
【００５６】
液晶層のリターデイションＲｅは、下記等式（１）に示すように、液晶層の膜厚ｄとその複屈折性Δｎとに依存する。
【００５７】
Ｒｅ＝Δｎ×ｄ  ・・・・・・・・・・・・・（１）
ここで、Δｎ＝ｎe−ｎoであって、ｎe、ｎoは、それぞれ異常光、常光に対する屈折率である。
【００５８】
一対の直線偏光フィルムを、それらの透過軸が平行または直交するように向かい合わせ
、それらの間に液晶層をその光学軸が直線偏光フィルムの一方の透過軸に対して角度θを為すように介在させる。一方の直線偏光フィルムをその法線方向から波長λの光で照明した場合、液晶層に入射する光の強度をＩ0とし、他方の直線偏光フィルムを透過する光の強度をＩとすると、強度Ｉは、下記等式（２）で表すことができる。
【００５９】
Ｉ＝Ｉ0×ｓｉｎ2（２θ）×ｓｉｎ2（Ｒe×π／λ）・・・・（２）
式（２）から明らかなように、透過光の強度Ｉが最大値を示す波長λは、リターデイションＲｅに依存している。そして、式（１）に示すように、リターデイションＲｅは、液晶層の膜厚ｄとその複屈折性Δｎとに依存している。即ち、透過光の強度Ｉが最大値を示す波長λは、液晶層の膜厚ｄに依存する。それゆえ、透過光のスペクトルは、入射光のスペクトルとは異なるプロファイルを有することとなる。
【００６０】
このように、液晶層を一対の直線偏光フィルムで挟むと、入射光とはスペクトルのプロファイルが異なる透過光を得ることができる。これと同様に、液晶層を直線偏光フィルムと反射層とで挟んだ場合も、液晶層を一対の直線偏光フィルムで挟むのと同じことになり、入射光とはスペクトルのプロファイルの異なる反射光を得ることができる。従って、表示部１０１、２０１、１０２、２０２のそれぞれでは厚みと配向方向が相違するので異なる色に見える。
【００６１】
基材１１上または／もしくは反射層１２、液晶層１４、保護層１５には情報表示層を設けても良い。また、このとき偏光潜像を隠さないように注意する。
【００６２】
情報表示層は、文字や数字による個体識別情報等の情報を、ラベルへ保持させる為の層であり、その材料や形成方法については、公知の手法が適宜用いられる。例えば、グラビア印刷法やスクリーン印刷法等による各種インクの印刷、真空蒸着法等による金属薄膜の形成等の手法が可能である。
【００６３】
本発明の偽造防止媒体の背面、例えば基材１１の裏面（背面）に、粘着剤又は接着剤による接着加工を施して偽造防止ラベルを形成することができる。すなわち、偽造防止媒体を用いて、偽造防止ラベルを形成してもよい。
【００６４】
本発明の偽造防止媒体は、様々な方法で印刷物に適用できる。例えば、前記偽造防止ラベルを紙などを用いた印刷物に貼り付けた印刷物としてもよい。
【００６５】
この場合、基材１１に切り込み又はミシン目を設けておいてもよい。これにより、ラベルを剥がそうとしたときに、基材１１が切り込みから破れるような構造を採用することができる。破れやすくしておくと貼変えて再使用することが困難になる。もちろん、本発明の偽造防止媒体は、印刷物以外の物品に貼り付けて用いることもできる。
【００６６】
本発明の偽造防止媒体において、剥離可能な支持基材と接着層とを含むことで、転写箔を形成することもできる。また、この転写箔を物品に取り付けて用いてもよい。
【００６７】
また、転写箔の場合、反射層１２を液晶層１４の上または保護層１５の上に設置する必要がある。
【００６８】
図１２は、本発明の偽造防止媒体を用いた転写箔の一例を模式的に示す断面視図である。
転写箔６０は、基材６１上に、剥離層６２、偽造防止媒体、および接着層６３が順次積層されている。この偽造防止媒体には、前記第一および第二の構成で示した偽造防止媒体を用いることができる。また剥離層６２は、紫外線を吸収しないものが望ましい。
【００６９】
偽造防止媒体の前面は、基材６１と向き合っている。偽造防止媒体は、図２から図７などを参照しながら説明した基材１１を含んでいなくてもよい。
【００７０】
偽造防止媒体を前記印刷物に適用する場合、スレッド（ストリップ、フィラメント、糸状物、安全帯片などとも称される）と呼ばれる形態により、前記偽造防止媒体を紙にすき込んでもよい。
【００７１】
前記偽造防止ラベル、あるいは印刷物において粘着剤を用いる場合、粘着剤の材料としては、一般的な材料を用いることができる。
【００７２】
例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル系ポリアミド、アクリル系、ブチルゴム系、天然ゴム系、シリコン系、ポリイソブチル系などの粘着剤を単独で用いることができる。またはこれらの粘着剤にアルキルメタクリレート、ビニルエステル、アクリルニトリル、スチレン、ビニルモノマー等の凝集成分、不飽和カルボン酸、ヒドロキシ基含有モノマー、アクリルニトリル等に代表される改質成分や重合開始剤、可塑剤、硬化剤、硬化促進剤、酸化防止剤等の添加剤を必要に応じて添加したものを用いることができる。
【００７３】
粘着層の形成方法には、公知のグラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法などの印刷方法やバーコート法、グラビア法、ロールコート法などの塗布方法を用いることができる。
【００７４】
さらに、前記粘着剤を予めセパレーターに形成したものを準備しておき、偽造防止媒体へセパレーターを剥がして貼り合わせてもよい。
【００７５】
また、粘着加工を施した偽造防止媒体の取り扱いを容易にするため、離型処理を行った離型紙や離型フィルムを粘着層の上に設置してもよい。
【００７６】
本発明の偽造防止媒体は、偽造や複製に対する手段としての媒体に使用されるだけでなく、例えば、光学および配向性機能を果たす電気光学的な液晶セルとして利用してもよい。
【実施例】
【００７７】
以下、本発明の偽造防止媒体の具体的な実施例について、図２から図９を用いて説明する。
【００７８】
離型処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを用意し、反射層１２として、真空蒸着法を用いて膜厚５０ｎｍのアルミニウム薄膜層を全面に設けた。
【００７９】
次に、反射層１２の上に、ウレタン樹脂をマイクログラビアによって、塗布厚８μｍ、乾燥温度１１０℃で形成層１３を形成した。
【００８０】
次に、バーコーター法を用いて、全面に配向膜用インキの溶液を塗布した。塗布した配向膜用インキの組成を以下に示す。
・ポリビニルアルコール樹脂（商品名：ＰＶＡ−１１７  クラレ（株）製）１０重量％
・溶剤（水）                                                        ９０重量％
この塗膜は、乾燥膜厚が２μｍとなるように形成した。
【００８１】
次いで、ラビング布（ＦＩＮＥ  ＰＵＦＦ  ＹＡ−２０−Ｒ  吉川化工（株）製）を用
いて、この塗膜を一方をカバーしつつ他方をラビングする処理を２回行った。これにより、図８に示すような異なる配向方向を有する二つの配向制御領域を得た。
【００８２】
次に、図９の上段に模式的に示すような段差（凹凸部）を有するエンボス原版を用意した。また、凹凸部２Ａ、２Ｂ、２Ｃの深さはそれぞれ３μｍ、４μｍ、５μｍとした。
【００８３】
次に、エンボス版を用いて形成層に対して２２０℃、１０ｋｇｆ／ｃｍ２の圧力で熱エンボスをおこない、形成層に図４に示すようナ膜厚制御のための凹凸領域を転写形成した。
【００８４】
その後、大日本インキ化学工業製のＵＶキュアラブル液晶ＵＣＬ−００８を、マイクログラビアにて形成層１３の上に塗工した後、無偏光紫外線を照射することにより硬化させた。液晶層１４は、形成層１３の深さの異なる凹凸領域を埋設するように形成した。形成層１３を薄く被覆するように形成しても構わない。
【００８５】
次に、保護層１５としてアクリル樹脂をマイクログラビアによって、塗布厚１μｍ、乾燥温度１００℃で形成した。
【００８６】
次に、偏光板５０を用いた偽造防止媒体１０を観察して所望の画像が発現するか調べた。
【００８７】
図５（Ａ）は作成した偽造防止媒体１０を偏光板５０を介して観察した一例を示す平面視図である。表示部１０１、１０２は、偏光板の光軸と位相差層の光軸の角度が平行なため、偏光板１０を介した偏光は透過でき、それぞれの領域で異なる色の潜像が明るく表示される。また、表示部２０１、２０２については、偏光板の光軸と液晶層の光軸の角度が４５°で交わるため、偏光板５０を介した偏光が位相差層により９０°回転されることにより遮光され、暗く表示される。また領域３０１においては液晶部位が存在しないため変化が起こらない。
【００８８】
次に、図５（Ｂ）は図５（Ａ）から偏光板を４５°回転させたときの偽造防止媒体１０を観察した一例を示す平面視図である。これらも前記と同様の原理で表示部１０１、１０２は暗く、表示部２０１、２０２はそれぞれの領域で異なる色の潜像が明るく表示された。
【００８９】
このようにして偏光板を介しながら、偏光板の角度を変えることで、偏光潜像の明暗が反転するか否かで真贋判定を行うことができる。所望の画像が顕現しない偽造防止媒体は、偽造品と判断される。
【産業上の利用可能性】
【００９０】
本発明の偽造防止媒体および偽造防止ラベル、印刷物、転写箔は、銀行券、商品券、パスポートなどの有価証券や各種認証媒体において、偽造防止対策として前記の物品に用いることができる。また本発明の偽造防止媒体の真贋判定方法によって、前記のような物品の真贋判定が可能になる。
【符号の説明】
【００９１】
１０、３０・・・偽造防止媒体
１１、６１・・・基材
１２・・・反射層
１３・・・形成層
１４・・・液晶層
１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ・・・膜厚の異なる液晶部位
１４１、１４２、１４３、１４４・・・配向の異なる液晶部位
１５・・・保護層
１６・・・溝
２Ａ、２Ｂ、２Ｃ・・・膜厚制御領域
２１、２２・・・配向制御層
３１、３２・・・配向制御領域
４１、４２・・・エンボス原版
５０・・・偏光板
６２・・・剥離層
６３・・・接着層
１０１、１０２、２０１、２０２、３０１・・・表示部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１２】
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【図５】
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【図１１】
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