(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体と、該透明支持体の一方の主面に形成された第１感光層と、前記透明支持体の他方の主面に形成された第２感光層とを有する感光材料を露光し、現像処理して導電シートを製造する導電シートの製造方法において、
前記感光材料の露光処理は、
前記第１感光層に対し、前記透明支持体に向かって光を照射して前記第１感光層を露光する第１露光処理と、前記第２感光層に対し、前記透明支持体に向かって光を照射して前記第２感光層を露光する第２露光処理とが行われ、且つ、
前記第１感光層に照射された光が前記第２感光層に到達せず、前記第２感光層に照射された光が前記第１感光層に到達しないように制御して行われ、
前記第１感光層は、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、
前記第２感光層は、第２感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、
前記第１感光層での像形成が、少なくとも前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれる色素の吸光度により制御され、
前記第２感光層での像形成が、少なくとも前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれる色素の吸光度により制御されることを特徴とする導電シートの製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の導電シートの製造方法において、
前記第１感光層での像形成が、少なくとも前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量及び前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれる色素の吸光度により制御され、
前記第２感光層での像形成が、少なくとも前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量及び前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれる色素の吸光度により制御されることを特徴とする導電シートの製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２記載の導電シートの製造方法において、
アンチハレーション層を有しない構成であって、前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層及び前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量が、５ｇ／ｍ2以上、３０ｇ／ｍ2以下であることを特徴とする導電シートの製造方法。
【請求項４】
透明支持体と、該透明支持体の一方の主面に形成された第１感光層と、前記透明支持体の他方の主面に形成された第２感光層とを有する感光材料を露光し、現像処理して導電シートを製造する導電シートの製造方法において、
前記感光材料の露光処理は、
前記第１感光層に対し、前記透明支持体に向かって光を照射して前記第１感光層を露光する第１露光処理と、前記第２感光層に対し、前記透明支持体に向かって光を照射して前記第２感光層を露光する第２露光処理とが行われ、且つ、
前記第１感光層に照射された光が前記第２感光層に到達せず、前記第２感光層に照射された光が前記第１感光層に到達しないように制御して行われ、
前記第１感光層は、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層と、該第１感光性ハロゲン化銀乳剤層と前記透明支持体間に形成された第１アンチハレーション層とを有し、
前記第２感光層は、第２感光性ハロゲン化銀乳剤層と、該第２感光性ハロゲン化銀乳剤層と前記透明支持体間に形成された第２アンチハレーション層とを有し、
前記第１感光層での像形成が、少なくとも前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量及び前記第１及び第２アンチハレーション層に含まれる色素の吸光度により制御され、
前記第２感光層での像形成が、少なくとも前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量及び前記第１及び第２アンチハレーション層に含まれる色素の吸光度により制御されることを特徴とする導電シートの製造方法。
【請求項５】
請求項４記載の導電シートの製造方法において、
前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層及び前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量が、３ｇ／ｍ2以上、３０ｇ／ｍ2以下であることを特徴とする導電シートの製造方法。
【請求項６】
請求項４記載の導電シートの製造方法において、
前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層及び前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量が１５ｇ／ｍ2未満であり、
前記第１アンチハレーション層及び第２アンチハレーション層への色素の塗布量が５０〜２５０ｍｇ／ｍ2であることを特徴とする導電シートの製造方法。
【請求項７】
請求項６記載の導電シートの製造方法において、
前記第１アンチハレーション層及び第２アンチハレーション層への色素の塗布量が７０〜２００ｍｇ／ｍ2であることを特徴とする導電シートの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の導電シートの製造方法において、
前記第１感光層に対する前記第１露光処理と、前記第２感光層に対する前記第２露光処理を同時に行うことを特徴とする導電シートの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の導電シートの製造方法において、
前記色素の吸光度が、０．１（無単位）以上、１．５（無単位）以下であることを特徴とする導電シートの製造方法。
【請求項１０】
透明支持体と、前記透明支持体の一方の主面に形成された第１導電パターンと、前記透明支持体の他方の主面に形成された第２導電パターンとを有する導電シートを用いたタッチパネルの製造方法において、
前記透明支持体の一方の主面に形成された第１感光層と、前記透明支持体の他方の主面に形成された第２感光層とを有する感光材料を露光する露光工程と、
露光後の感光材料を現像処理して、前記第１感光層を前記第１導電パターンとし、前記第２感光層を前記第２導電パターンとする現像処理工程とを有し、
前記露光工程は、
前記第１感光層に対し、前記透明支持体に向かって光を照射して前記第１感光層を露光する第１露光処理と、前記第２感光層に対し、前記透明支持体に向かって光を照射して前記第２感光層を露光する第２露光処理とが行われ、且つ、
前記第１感光層に照射された光が前記第２感光層に到達せず、前記第２感光層に照射された光が前記第１感光層に到達しないように制御して行われ、
前記第１導電パターンは、第１方向に配列された多数の第１導電パターンとこれら第１導電パターンにつながる多数の第１端子配線パターンとを有し、
前記第２導電パターンは、前記第１方向と直交する第２方向に配列された多数の第２導電パターンとこれら第２導電パターンにつながる多数の第２端子配線パターンとを有し、
多数の前記第１導電パターンと多数の前記第２導電パターンとが互い違いに重なっている部分がセンサ部を構成し、多数の第１端子配線パターンの部分が第１端子配線部を構成し、多数の第２端子配線パターンの部分が導電シートの第２端子配線部を構成することを特徴とするタッチパネルの製造方法。
【請求項１１】
請求項１０記載のタッチパネルの製造方法において、
さらに、
前記第１端子配線部及び前記第２端子配線部を前記センサ部の裏面側に折り曲げる工程とを有することを特徴とするタッチパネルの製造方法。
【請求項１２】
請求項１１記載のタッチパネルの製造方法において、
前記第１端子配線部は、多数の前記第１端子配線パターンが外部に導出される部分の辺の長さが、多数の前記第１端子配線パターンが多数の前記第１導電パターンと結合される部分の辺の長さよりも短く、且つ、多数の前記第１導電パターンの配列方向中央から最も離間した両側の第１導電パターンに対応する第１端子配線パターンの長さがほぼ同じであり、
前記第２端子配線部は、多数の前記第２端子配線パターンが外部に導出される部分の辺の長さが、多数の前記第２端子配線パターンが多数の前記第２導電パターンと結合される部分の辺の長さよりも短く、且つ、多数の前記第２導電パターンの配列方向中央から最も離間した両側の第２導電パターンに対応する第２端子配線パターンの長さがほぼ同じであることを特徴とするタッチパネルの製造方法。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか１項に記載のタッチパネルの製造方法において、
前記第１導電パターンは、２以上の導電性の第１大格子と、隣接する前記第１大格子間を電気的に接続する第１接続部とが形成され、
前記第２導電パターンは、２以上の導電性の第２大格子と、隣接する前記第２大格子間を電気的に接続する第２接続部とが形成され、
前記第１大格子及び前記第２大格子は、それぞれ２以上の小格子が組み合わされて構成され、
前記第１導電パターン及び前記第２導電パターンの線幅が１〜２０μｍであり、
前記小格子の一辺の長さが５０〜５００μｍであることを特徴とするタッチパネルの製造方法。
【請求項１４】
透明支持体と、前記透明支持体の一方の主面に形成された第１導電パターンと、前記透明支持体の他方の主面に形成された第２導電パターンとを有する導電シートを用いたタッチパネルの製造方法において、
前記透明支持体の一方の主面に形成された第１感光層と、前記透明支持体の他方の主面に形成された第２感光層とを有する感光材料を露光する露光工程と、
露光後の感光材料を現像処理して、前記第１感光層を前記第１導電パターンとし、前記第２感光層を前記第２導電パターンとする現像処理工程とを有し、
前記露光工程は、
前記第１感光層に対し、前記透明支持体に向かって光を照射して前記第１感光層を露光する第１露光処理と、前記第２感光層に対し、前記透明支持体に向かって光を照射して前記第２感光層を露光する第２露光処理とが行われ、且つ、
前記第１感光層に照射された光が前記第２感光層に到達せず、前記第２感光層に照射された光が前記第１感光層に到達しないように制御して行われ、
前記第１導電パターンは、２以上の導電性の第１大格子と、隣接する前記第１大格子間を電気的に接続する第１接続部とが形成され、
前記第２導電パターンは、２以上の導電性の第２大格子と、隣接する前記第２大格子間を電気的に接続する第２接続部とが形成され、
前記第１大格子及び前記第２大格子は、それぞれ２以上の小格子が組み合わされて構成され、
前記第１導電パターン及び前記第２導電パターンの線幅が１〜２０μｍであり、
前記小格子の一辺の長さが５０〜５００μｍであることを特徴とするタッチパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電シートの製造方法及びタッチパネルの製造方法に関し、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに用いて好適な導電シートの製造方法及びタッチパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、高精細な導電パターンを支持体の両面に形成する方法として、例えば特許文献１記載の方法がある。
この特許文献１には、透明支持体上の一方の面（Ａ面）に感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、他方の面（Ｂ面）に感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する感光材料について前記Ａ面側のみから画像露光した後現像処理することにより前記透明支持体の両面同位置に画像を形成する方法が開示されている。
また、従来において、静電容量方式のタッチパネルは、人間の指先と導電膜との間での静電容量の変化を捉えて指先の位置を検出する位置入力装置であるが、この静電容量方式のタッチパネルとしては、表面型と投影型とがある。表面型は、構造が簡便ではあるが、同時に２点以上の接触（マルチタッチ）を検知することができない。一方、投影型は、例えば液晶表示装置の画素構成のように、多数の電極がマトリクス状に配列して構成され、より具体的には、垂直方向に並ぶ複数の電極が直列に接続された複数の第１電極群が水平方向に配列され、水平方向に並ぶ複数の電極が直列に接続された複数の第２電極群が垂直方向に配列されて構成され、複数の第１電極群及び複数の第２電極群で容量変化を順次検出していくことで、マルチタッチが検出できる構成となっている。
【０００３】
この投影型静電容量方式のタッチパネルの先行技術として例えば特許文献２記載の静電容量型入力装置が挙げられる。この静電容量型入力装置は、上部電極基板側における共通電極ｃ１とＸ検出電極ｘ１及びＸ検出電極ｘ２との間のスペースＳ１，Ｓ２内に、ダミー電極Ｄ１として透明な電極線ｄ１を配置し、下部電極基板側の隣り合うＹ検出電極ｙｎの間のスペースＳ３内に、ダミー電極Ｄ２として透明な電極線ｄ２を配置することで、共通電極ｃ１、Ｘ検出電極ｘｂ及びＹ検出電極ｙｎを有する部分と、ダミー電極Ｄ１，Ｄ２のみが配置された部分とのコントラストの差を小さくして、外部から透明タッチパネルを覗いたときに、内部に配線されている透明電極を見え難くするようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１５８１０８号公報
【特許文献２】特開２００８−１２９７０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上述した特許文献１記載の方法では、透明支持体の両面同位置にそれぞれ同じパターンを形成する場合には好適であるが、特許文献２記載の投影型静電容量方式のタッチパネルのように、それぞれ異なる導電パターンを形成するには不適である。
その理由は、透明支持体のＡ面とＢ面にそれぞれ異なったパターンの露光を行った場合、Ａ面に対する露光パターンがＢ面にも形成され、同じくＢ面に対する露光パターンがＡ面にも形成されてしまい、結果的にＡ面及びＢ面には同じパターンが形成されることになるからである。
【０００６】
一方、特許文献２記載のタッチパネルにおいて、例えば図３に示す下層電極基板の端子パターンを見ると、端子パターンを一まとめにした部分から最も遠いｙ１に対応する端子パターンの長さが他の端子パターンよりも長く、端子パターンを一まとめにした部分から最も近いｙ１６に対応する端子パターンの長さが他の端子パターンよりも短くなっている。そのため、ｙ１及びその周辺の電極のＲＣ時定数が大きくなり、その結果、検出電圧波形がなまり、駆動時間（スキャン時間）内での位置検出が困難になるという問題がある。これは、タッチパネルのサイズが大きくなるほど顕著になり、タッチパネルの画面サイズ（縦×横のサイズで、厚みを含まず）の大型化には限界がある。
【０００７】
本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、透明支持体を有する感光材料への露光処理によって、感光材料の両面に同一パターンや異なったパターンを任意に形成することができ、導電シートの製造工程の簡略化を図ることができると共に、タッチパネル等の電極を容易に形成することができ、しかも、タッチパネル等の薄型化（低背化）を図ることができる導電シートの製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明の他の目的は、上述した導電シートの製造方法を使用して、タッチパネルの薄型化を図ると共に、導電シートに形成される電極の時定数を低減することができ、タッチパネルの画面サイズの大型化を図ることができるタッチパネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
［１］  第１の本発明に係る導電シートの製造方法は、透明支持体と、該透明支持体の一方の主面に形成された第１感光層と、前記透明支持体の他方の主面に形成された第２感光層とを有する感光材料を露光し、現像処理して導電シートを製造する導電シートの製造方法において、前記感光材料の露光処理は、前記第１感光層に対し、前記透明支持体に向かって光を照射して前記第１感光層を露光する第１露光処理と、前記第２感光層に対し、前記透明支持体に向かって光を照射して前記第２感光層を露光する第２露光処理とが行われ、且つ、前記第１感光層に照射された光が前記第２感光層に実質的に到達せず、前記第２感光層に照射された光が前記第１感光層に実質的に到達しないように制御して行われることを特徴とする。
［２］  第１の本発明において、前記第１感光層に対する前記第１露光処理と、前記第２感光層に対する前記第２露光処理を同時に行うことを特徴とする。
［３］  第１の本発明において、前記第１感光層での像形成が、前記第２感光層の少なくとも感度により制御され、前記第２感光層での像形成が、前記第１感光層の少なくとも感度により制御されることを特徴とする。
［４］  第１の本発明において、前記第１感光層は、該第１感光層に照射される光の波長域に、光吸収感度を有する材料を有し、前記第２感光層は、該第２感光層に照射される光の波長域に、光吸収感度を有する材料を有することを特徴とする。
［５］  第１の本発明において、前記第１感光層は、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、前記第２感光層は、第２感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、前記第１感光層での像形成が、前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも塗布銀量により制御され、前記第２感光層での像形成が、前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも塗布銀量により制御されることを特徴とする。
［６］  第１の本発明において、前記第１感光層は、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、前記第２感光層は、第２感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、前記第１感光層での像形成が、少なくとも前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれる色素の吸光度により制御され、前記第２感光層での像形成が、少なくとも前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれる色素の吸光度により制御されることを特徴とする。
［７］  第１の本発明において、前記第１感光層は、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、前記第２感光層は、第２感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、前記第１感光層での像形成が、少なくとも前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量及び前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれる色素の吸光度により制御され、前記第２感光層での像形成が、少なくとも前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量及び前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれる色素の吸光度により制御されることを特徴とする。
［８］  第１の本発明において、アンチハレーション層を有しない構成であって、前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層及び前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量が、５ｇ／ｍ2以上、３０ｇ／ｍ2以下であることを特徴とする。
［９］  第１の本発明において、前記第１感光層は、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層と、該第１感光性ハロゲン化銀乳剤層と前記透明支持体間に形成された第１アンチハレーション層とを有し、前記第２感光層は、第２感光性ハロゲン化銀乳剤層と、該第２感光性ハロゲン化銀乳剤層と前記透明支持体間に形成された第２アンチハレーション層とを有し、前記第１感光層での像形成が、少なくとも前記第１及び第２アンチハレーション層に含まれる色素の吸光度により制御され、前記第２感光層での像形成が、少なくとも前記第１及び第２アンチハレーション層に含まれる色素の吸光度により制御されることを特徴とする。
［１０］  第１の本発明において、前記第１感光層は、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層と、該第１感光性ハロゲン化銀乳剤層と前記透明支持体間に形成された第１アンチハレーション層とを有し、前記第２感光層は、第２感光性ハロゲン化銀乳剤層と、該第２感光性ハロゲン化銀乳剤層と前記透明支持体間に形成された第２アンチハレーション層とを有し、前記第１感光層での像形成が、少なくとも前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量及び前記第１及び第２アンチハレーション層に含まれる色素の吸光度により制御され、前記第２感光層での像形成が、少なくとも前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量及び前記第１及び第２アンチハレーション層に含まれる色素の吸光度により制御されることを特徴とする。
［１１］  第１の本発明において、前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層及び前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量が、３ｇ／ｍ2以上、３０ｇ／ｍ2以下であることを特徴とする。
［１２］  第１の本発明において、前記第１感光性ハロゲン化銀乳剤層及び前記第２感光性ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量が１５ｇ／ｍ2未満であり、前記第１アンチハレーション層及び第２アンチハレーション層への色素の塗布量が５０〜２５０ｍｇ／ｍ2であることを特徴とする。
［１３］  第１の本発明において、前記第１アンチハレーション層及び第２アンチハレーション層への色素の塗布量が７０〜２００ｍｇ／ｍ2であることを特徴とする。
［１４］  第１の本発明において、前記色素の吸光度が、０．１（無単位）以上、１．５（無単位）以下であることを特徴とする。
［１５］  第２の本発明に係るタッチパネルの製造方法において、透明支持体と、前記透明支持体の一方の主面に形成された第１導電パターンと、前記透明支持体の他方の主面に形成された第２導電パターンとを有する導電シートを用いたタッチパネルの製造方法において、前記透明支持体の一方の主面に形成された第１感光層と、前記透明支持体の他方の主面に形成された第２感光層とを有する感光材料を露光する露光工程と、露光後の感光材料を現像処理して、前記第１感光層を前記第１導電パターンとし、前記第２感光層を前記第２導電パターンとする現像処理工程とを有し、前記露光工程は、前記第１感光層に対し、前記透明支持体に向かって光を照射して前記第１感光層を露光する第１露光処理と、前記第２感光層に対し、前記透明支持体に向かって光を照射して前記第２感光層を露光する第２露光処理とが行われ、且つ、前記第１感光層に照射された光が前記第２感光層に実質的に到達せず、前記第２感光層に照射された光が前記第１感光層に実質的に到達しないように制御して行われることを特徴とする。
［１６］  第２の本発明において、前記第１導電パターンは、第１方向に配列された多数の第１導電パターンとこれら第１導電パターンにつながる多数の第１端子配線パターンとを有し、前記第２導電パターンは、前記第１方向と直交する第２方向に配列された多数の第２導電パターンとこれら第２導電パターンにつながる多数の第２端子配線パターンとを有し、多数の前記第１導電パターンと多数の前記第２導電パターンとが互い違いに重なっている部分がセンサ部を構成し、多数の第１端子配線パターンの部分が第１端子配線部を構成し、多数の第２端子配線パターンの部分が導電シートの第２端子配線部を構成することを特徴とする。
［１７］  第２の本発明において、さらに、前記第１端子配線部及び前記第２端子配線部を前記センサ部の裏面側に折り曲げる工程とを有することを特徴とする。
［１８］  第２の本発明において、前記第１端子配線部は、多数の前記第１端子配線パターンが外部に導出される部分の辺の長さが、多数の前記第１端子配線パターンが多数の前記第１導電パターンと結合される部分の辺の長さよりも短く、且つ、多数の前記第１導電パターンの配列方向中央から最も離間した両側の第１導電パターンに対応する第１端子配線パターンの長さがほぼ同じであり、前記第２端子配線部は、多数の前記第２端子配線パターンが外部に導出される部分の辺の長さが、多数の前記第２端子配線パターンが多数の前記第２導電パターンと結合される部分の辺の長さよりも短く、且つ、多数の前記第２導電パターンの配列方向中央から最も離間した両側の第２導電パターンに対応する第２端子配線パターンの長さがほぼ同じであることを特徴とする。
［１９］  第２の本発明において、前記第１導電パターンは、２以上の導電性の第１大格子と、隣接する前記第１大格子間を電気的に接続する第１接続部とが形成され、前記第２導電パターンは、２以上の導電性の第２大格子と、隣接する前記第２大格子間を電気的に接続する第２接続部とが形成され、前記第１大格子及び前記第２大格子は、それぞれ２以上の小格子が組み合わされて構成され、前記第１導電パターン及び前記第２導電パターンの線幅が１〜２０μｍであり、前記小格子の一辺の長さが５０〜５００μｍであることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
以上説明したように、本発明に係る導電シートの製造方法によれば、透明支持体を有する感光材料への露光処理によって、感光材料の両面（表裏）に同一パターンや異なったパターンを任意に、且つ、表裏に対して位置精度よく形成することができ、タッチパネル等の電極を容易に形成することができると共に、タッチパネル等の薄型化（低背化）を図ることができる。
また、本発明に係るタッチパネルの製造方法によれば、上述した導電シートの製造方法を使用して、タッチパネルの薄型化を図ると共に、導電シートに形成される電極の時定数を低減することができ、タッチパネルの画面サイズの大型化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本実施の形態に係る導電シートの製造方法を示すフローチャートである。
【図２】図２Ａは作製された感光材料を一部省略して示す断面図であり、図２Ｂは感光材料に対する両面同時露光を示す説明図であり、図２Ｃは露光後の感光材料を現像処理して導電シートとした状態を一部省略して示す断面図である。
【図３】第１感光層に照射された光が第２感光層に到達せず、第２感光層に照射された光が第１感光層に到達しないように制御して第１露光処理及び第２露光処理を行っている状態を示す説明図である。
【図４】第１感光層に照射された光が第２感光層に到達し、第２感光層に照射された光が第１感光層に到達した場合の作用を示す説明図である。
【図５】第１感光層に照射された光が第２感光層に到達し、第２感光層に照射された光が第１感光層に到達した場合の導電パターンの乱れを示す説明図である。
【図６】図６Ａは第１感光層を第１感光性ハロゲン化銀乳剤層にて構成し、第２感光層を第２感光性ハロゲン化銀乳剤層にて構成した場合の感光材料を一部省略して示す断面図であり、図６Ｂは第１感光層が第１感光性ハロゲン化銀乳剤層と第１アンチハレーション層とを有し、第２感光層が第２感光性ハロゲン化銀乳剤層と第２アンチハレーション層とを有する感光材料を一部省略して示す断面図である。
【図７】本実施の形態に係る導電シートの製造方法にて作製された導電シートを一部省略して示す断面図である。
【図８】タッチパネルとして使用される導電シートを示す斜視図である。
【図９】図８に示す導電シートを一部省略して示す断面図である。
【図１０】図８に示す導電シートのセンサ部において、透明支持体の一方の主面に形成される導電パターンの一例を一部省略して示す斜視図である。
【図１１】図１０に示す導電パターンを一部省略して示す平面図である。
【図１２】図８に示す導電シートのセンサ部において、透明支持体の他方の主面に形成される導電パターンの一例を一部省略して示す斜視図である。
【図１３】図１２に示す導電パターンを一部省略して示す平面図である。
【図１４】図８に示す導電シートのセンサ部を上面から見た例を一部省略して示す平面図である。
【図１５】本実施の形態に係るタッチパネルの製造方法を示すフローチャートである。
【図１６】図１６Ａは長尺の感光材料を両面同時露光及び現像処理して長尺の導電シートとした状態を一部省略して示す説明図であり、図１６Ｂは長尺の導電シートを打ち抜いて、複数の導電シートとした状態を一部省略して示す説明図である。
【図１７】図１７Ａは液晶表示パネルの表示画面に導電シートを設置した例を示す説明図であり、図１７Ｂは導電シートの第１端子配線部及び第２端子配線部を折り曲げた状態を一部省略して示す説明図である。
【図１８】導電シートの第１端子配線部及び第２端子配線部を折り曲げた状態を一部省略して示す斜視図である。
【図１９】図１９Ａ及び図１９Ｂは第１実施例及び第２実施例で使用される第１フォトマスク及び第２フォトマスクの露光パターンを示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明に係る導電シートの製造方法及びタッチパネルの製造方法の実施の形態例を図１〜図１９Ｂを参照しながら説明する。なお、本明細書において数値範囲を示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味として使用される。
【００１２】
本実施の形態に係る導電シートの製造方法について図１〜図７を参照しながら説明する。
先ず、図１のステップＳ１において、長尺の感光材料１００を作製する。感光材料１００は、図２Ａに示すように、透明支持体１０２と、該透明支持体１０２の一方の主面に形成された第１感光層１０４ａと、透明支持体１０２の他方の主面に形成された第２感光層１０４ｂとを有する。
【００１３】
図１のステップＳ２において、感光材料１００を露光する。この露光処理では、図２Ｂに示すように、第１感光層１０４ａに対し、透明支持体１０２に向かって光を照射して第１感光層１０４ａを第１露光パターンに沿って露光する第１露光処理と、第２感光層１０４ｂに対し、透明支持体１０２に向かって光を照射して第２感光層１０４ｂを第２露光パターンに沿って露光する第２露光処理とが行われる（両面同時露光）。図２Ｂの例では、長尺の感光材料１００を一方向に搬送しながら、第１感光層１０４ａに第１光１０６ａ（平行光）を第１フォトマスク１０８ａを介して照射すると共に、第２感光層１０４ｂに第２光１０６ｂ（平行光）を第２フォトマスク１０８ｂを介して照射する。第１光１０６ａは、第１光源１１０ａから出射された光を途中の第１コリメータレンズ１１２ａにて平行光に変換されることにより得られ、第２光１０６ｂは、第２光源１１０ｂから出射された光を途中の第２コリメータレンズ１１２ｂにて平行光に変換されることにより得られる。図２Ｂの例では、２つの光源（第１光源１１０ａ及び第２光源１１０ｂ）を使用した場合を示しているが、１つの光源から出射した光を光学系を介して分割して、第１光１０６ａ及び第２光１０６ｂとして第１感光層１０４ａ及び第２感光層１０４ｂに照射してもよい。
【００１４】
そして、図１のステップＳ３において、露光後の感光材料１００を現像処理することで、図２Ｃに示すように、導電シート１１４が作製される。導電シート１１４は、透明支持体１０２と、該透明支持体１０２の一方の主面に形成された第１露光パターンに沿った第１導電層１１６ａと、透明支持体１０２の他方の主面に形成された第２露光パターンに沿った第２導電層１１６ｂとを有する。なお、第１感光層１０４ａ及び第２感光層１０４ｂの露光時間及び現像時間は、第１光源１１０ａ及び第２光源１１０ｂの種類や現像液の種類等で様々に変化するため、好ましい数値範囲は一概に決定することができないが、現像率が１００％となる露光時間及び現像時間に調整されている。また、第１導電層１１６ａ及び第２導電層１１６ｂに、さらに物理現像及び／又はめっき処理を施すことによって第１導電層１１６ａ及び第２導電層１１６ｂに導電性金属を担持させるようにしてもよい。
【００１５】
そして、本実施の形態に係る製造方法のうち、第１露光処理は、図３に示すように、第１感光層１０４ａ上に第１フォトマスク１０８ａを例えば密着配置し、該第１フォトマスク１０８ａに対向して配置された第１光源１１０ａから第１フォトマスク１０８ａに向かって第１光１０６ａを照射することで、第１感光層１０４ａを露光する。第１フォトマスク１０８ａは、透明なソーダガラスで形成されたガラス基板と、該ガラス基板上に形成されたマスクパターン（第１露光パターン１１８ａ）とで構成されている。従って、この第１露光処理によって、第１感光層１０４ａのうち、第１フォトマスク１０８ａに形成された第１露光パターン１１８ａに沿った部分が露光される。第１感光層１０４ａと第１フォトマスク１０８ａとの間に２〜１０μｍ程度の隙間を設けてもよい。
【００１６】
同様に、第２露光処理は、第２感光層１０４ｂ上に第２フォトマスク１０８ｂを例えば密着配置し、該第２フォトマスク１０８ｂに対向して配置された第２光源１１０ｂから第２フォトマスク１０８ｂに向かって第２光１０６ｂを照射することで、第２感光層１０４ｂを露光する。第２フォトマスク１０８ｂは、第１フォトマスク１０８ａと同様に、透明なソーダガラスで形成されたガラス基板と、該ガラス基板上に形成されたマスクパターン（第２露光パターン１１８ｂ）とで構成されている。従って、この第２露光処理によって、第２感光層１０４ｂのうち、第２フォトマスク１０８ｂに形成された第２露光パターン１１８ｂに沿った部分が露光される。この場合、第２感光層１０４ｂと第２フォトマスク１０８ｂとの間に２〜１０μｍ程度の隙間を設けてもよい。
第１露光処理及び第２露光処理は、第１光源１１０ａからの第１光１０６ａの出射タイミングと、第２光源１１０ｂからの第２光１０６ｂの出射タイミングを同時にしてもよいし、異ならせてもよい。同時であれば、１度の露光処理で、第１感光層１０４ａ及び第２感光層１０４ｂを同時に露光することができ、処理時間の短縮化を図ることができる。
【００１７】
そして、本実施の形態においては、図３に示すように、第１感光層１０４ａに照射された第１光源１１０ａからの第１光１０６ａが第２感光層１０４ｂに実質的に到達せず、第２感光層１０４ｂに照射された第２光源１１０ｂからの第２光１０６ｂが第１感光層１０４ａに実質的に到達しないように制御して行われる。ここで、「実質的に到達しない」とは、光が到達しない場合や、光は到達しているが、現像で結像しない光量である場合を示す。従って、「光が到達する」とは、現像で結像する程度の光量の光が到達することを示す。
第１感光層１０４ａに照射された第１光源１１０ａからの第１光１０６ａが第２感光層１０４ｂに到達し、第２感光層１０４ｂに照射された第２光源１１０ｂからの第２光１０６ｂが第１感光層１０４ａに到達した場合は、以下のような問題が生じる。
【００１８】
すなわち、図４に示すように、第１感光層１０４ａに到達した第１光源１１０ａからの第１光１０６ａは、第１感光層１０４ａ中のハロゲン化銀粒子にて散乱し、散乱光として透明支持体１０２を透過し、その一部が第２感光層１０４ｂにまで達する。そうすると、第２感光層１０４ｂと透明支持体１０２との境界部分が広い範囲にわたって露光され、潜像１２０が形成される。そのため、第２感光層１０４ｂでは、第２光源１１０ｂからの第２光１０６ｂによる露光と第１光源１１０ａからの第１光１０６ａによる露光が行われてしまい、その後の現像処理にて導電シートとした場合に、図５に示すように、第２露光パターン１１８ｂによる第２導電層１１６ｂに加えて、該第２導電層１１６ｂ間に第１光源１１０ａからの第１光１０６ａによる薄い導電層１２２が形成されてしまい、所望のパターン（第２露光パターン１１８ｂに沿ったパターン）を得ることができない。
【００１９】
これは、第１感光層１０４ａにおいても同様であり、図４に示すように、第２感光層１０４ｂに到達した第２光源１１０ｂからの第２光１０６ｂは、第２感光層１０４ｂ中のハロゲン化銀粒子にて散乱し、散乱光として透明支持体１０２を透過し、その一部が第１感光層１０４ａにまで達する。そうすると、第１感光層１０４ａと透明支持体１０２との境界部分が広い範囲にわたって露光され、潜像１２０が形成される。そのため、第１感光層１０４ａでは、第１光源１１０ａからの第１光１０６ａによる露光と第２光源１１０ｂからの第２光１０６ｂによる露光が行われてしまい、その後の現像処理を経ると、図５に示すように、第１露光パターン１１８ａによる第１導電層１１６ａに加えて、該第１導電層１１６ａ間に第２光源１１０ｂからの第２光１０６ｂによる薄い導電層１２２が形成されてしまい、所望のパターン（第１露光パターン１１８ａに沿ったパターン）を得ることができない。
【００２０】
この導電シートを例えばタッチパネル用の導電シートとして使用した場合、液晶表示パネルの表示画面から表示される画像が薄い導電層１２２によって遮られてしまい、タッチパネルとして機能しなくなるおそれがある。
そこで、本実施の形態では、第１感光層１０４ａに照射された第１光源１１０ａからの第１光１０６ａが第２感光層１０４ｂに実質的に到達せず、第２感光層１０４ｂに照射された第２光源１１０ｂからの第２光１０６ｂが第１感光層１０４ａに実質的に到達しないように制御する。
【００２１】
ここで、第１感光層１０４ａに照射された第１光１０６ａが第２感光層１０４ｂに実質的に到達せず、第２感光層１０４ｂに照射された第２光１０６ｂが第１感光層１０４ａに実質的に到達しないように制御する方法を説明する。
先ず、第１感光層１０４ａでの像形成を、第２感光層１０４ｂの少なくとも感度により制御し、第２感光層１０４ｂでの像形成を、第１感光層１０４ａの少なくとも感度により制御する。
この場合、例えば第１感光層１０４ａに、第１光１０６ａの波長域に、光吸収感度を有する材料を設け、第２感光層１０４ｂに、第２光１０６ｂの波長域に、光吸収感度を有する材料を設けるようにしてもよい。
【００２２】
特に、図６Ａに示すように、第１感光層１０４ａが第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａにて構成され、第２感光層１０４ｂが第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂにて構成されている場合は、以下の（１−ａ）〜（１−ｃ）に示す方法が挙げられる。
（１−ａ）  第１感光層１０４ａでの像形成に影響する第２光１０６ｂの照射エネルギー吸収量を、第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの少なくとも塗布銀量により制御し、第２感光層１０４ｂでの像形成に影響する第１光１０６ａの照射エネルギー吸収量を、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａの少なくとも塗布銀量により制御する。
（１−ｂ）  第１感光層１０４ａでの第２光１０６ｂの照射エネルギー吸収量を、少なくとも第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂに含まれる色素の吸光度により制御し、第２感光層１０４ｂでの第１光１０６ａの照射エネルギー吸収量を、少なくとも第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａに含まれる色素の吸光度により制御する。
（１−ｃ）  第１感光層１０４ａでの第２光１０６ｂの照射エネルギー吸収量を、少なくとも第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂに含まれる色素の吸光度により制御し、第２感光層１０４ｂでの第１光１０６ａの照射エネルギー吸収量を、少なくとも第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａの塗布銀量及び第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａに含まれる色素の吸光度により制御する。
【００２３】
また、図６Ｂに示すように、第１感光層１０４ａが、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａと、該第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａと透明支持体１０２間に形成された第１アンチハレーション層１２６ａとを有し、第２感光層１０４ｂが、第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂと、該第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂと透明支持体１０２間に形成された第２アンチハレーション層１２６ｂとを有する場合は、以下の（２−ａ）及び（２−ｂ）に示す方法が挙げられる。
（２−ａ）  第１感光層１０４ａでの像形成に影響する第２光１０６ｂの照射エネルギー吸収量を、少なくとも第１アンチハレーション層１２６ａ及び第２アンチハレーション層１２６ｂに含まれる色素の吸光度により制御し、第２感光層１０４ｂでの像形成に影響する第１光１０６ａの照射エネルギー吸収量を、少なくとも第１アンチハレーション層１２６ａ及び第２アンチハレーション層１２６ｂに含まれる色素の吸光度により制御する。
（２−ｂ）  第１感光層１０４ａでの第２光１０６ｂの照射エネルギー吸収量を、少なくとも第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量、並びに第１アンチハレーション層１２６ａ及び第２アンチハレーション層１２６ｂに含まれる色素の吸光度により制御し、第２感光層１０４ｂでの第１光１０６ａの照射エネルギー吸収量を、少なくとも第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａの塗布銀量、並びに第１アンチハレーション層１２６ａ及び第２アンチハレーション層１２６ｂに含まれる色素の吸光度により制御する。
【００２４】
そして、第１アンチハレーション層１２６ａ及び第２アンチハレーション層１２６ｂを有しない場合（上述した（１−ａ）〜（１−ｃ）参照）、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量は、銀に換算して５ｇ／ｍ2以上、３０ｇ／ｍ2以下であることが好ましく、さらに好ましくは７ｇ／ｍ2以上、２０ｇ／ｍ2以下、より好ましくは１０ｇ／ｍ2以上、２０ｇ／ｍ2以下である。
第１アンチハレーション層１２６ａ及び第２アンチハレーション層１２６ｂを有する場合（上述した（２−ａ）〜（２−ｂ）参照）、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量は、銀に換算して３ｇ／ｍ2以上、３０ｇ／ｍ2以下であることが好ましく、より好ましくは３ｇ／ｍ2以上、２０ｇ／ｍ2以下、さらに好ましくは３ｇ／ｍ2以上、１５ｇ／ｍ2以下、さらに好ましくは３ｇ／ｍ2以上、９ｇ／ｍ2以下である。この場合、前記塗布銀量が、銀で換算して１５ｇ／ｍ2未満であれば、第１アンチハレーション層１２６ａ及び第２アンチハレーション層１２６ｂへの色素や光吸収染料の塗布量は５０〜２５０ｍｇ／ｍ2であることが好ましく、７０〜２００ｍｇ／ｍ2であることがさらに好ましい。
また、上述した（１−ｂ）、（１−ｃ）、（２−ａ）及び（２−ｂ）において、色素の吸光度は、０．１（無単位）以上、１．５（無単位）以下であることが好ましく、さらに好ましくは、０．２（無単位）以上、１．０（無単位）以下である。なお、色素や光吸収染料は、その後の現像処理にて除去される。また、単位時間当たりの露光量は、第１光源１１０ａ及び第２光源１１０ｂにそれぞれ設置された減光フィルタ（ＮＤフィルタ）の濃度で制御され、適正な露光条件を得る。
【００２５】
このように制御することによって、図３に示すように、第１感光層１０４ａに到達した第１光源１１０ａからの第１光１０６ａは、第２感光層１０４ｂまで達しなくなり、同様に、第２感光層１０４ｂに到達した第２光源１１０ｂからの第２光１０６ｂは、第１感光層１０４ａまで達しなくなり、その結果、その後の現像処理にて導電シート１１４とした場合に、図７に示すように、透明支持体１０２の一方の主面には第１露光パターン１１８ａによる第１導電層１１６ａのみが形成され、透明支持体１０２の他方の主面には第２露光パターン１１８ｂによる第２導電層１１６ｂのみが形成されることとなり、所望のパターンを得ることができる。
このように、１つの透明支持体１０２への露光処理によって、透明支持体１０２の両面（表裏）に同一パターンや異なったパターンを任意に、且つ、表裏に対して位置精度よく形成することができ、これにより、例えばタッチパネル等の電極を容易に形成することができると共に、タッチパネル等の薄型化（低背化）を図ることができる。
【００２６】
次に、本実施の形態に係る導電シートの製造方法を使用した本実施の形態に係るタッチパネルの製造方法について図８〜図１８を参照しながら説明する。先ず、本実施の形態に係るタッチパネルの製造方法にて作製されるタッチパネルの構成について図８〜図１４を参照しながら説明する。
最初に、タッチパネルとして使用される導電シート１０の構成について説明すると、この導電シート１０は、図８及び図９に示すように、１つの透明支持体１０２に第１導電層１１６ａと第２導電層１１６ｂによるセンサ部１５０と第１端子配線部１５２ａと第２端子配線部１５２ｂとが一括露光、現像にて形成されている。図８においてセンサ部１５０の導電パターンは細かすぎるため、図示を省略し、図１０以降に示した。また、第１端子配線部１５２ａ及び第２端子配線部１５２ｂの導電パターンも一部の図示を省略してある。
【００２７】
センサ部１５０について図１０〜図１４を参照しながら説明する。センサ部１５０は、図１０に示すように、透明支持体１０２の一方の主面１０２ａ（例えば上面）に、２以上の導電性の第１大格子１６Ａが形成されている。各第１大格子１６Ａは、それぞれ２以上の小格子１８（図１１参照）が組み合わされて構成され、各第１大格子１６Ａの辺の周囲に、第１大格子１６Ａと非接続とされた第１ダミーパターン２０Ａ（第１非接続パターン）が形成されている。また、隣接する第１大格子１６Ａ間には、これら第１大格子１６Ａを電気的に接続する第１接続部２２Ａが形成されている。第１接続部２２Ａは、小格子１８のｎ倍（ｎは１より大きい実数）のピッチを有する１以上の中格子２４（２４ａ〜２４ｄ）が配置されて構成されている。小格子１８は、ここでは一番小さい正方形状とされている。
【００２８】
第１大格子１６Ａの一辺の長さは、３〜１０ｍｍであることが好ましく、４〜６ｍｍであることがより好ましい。一辺の長さが、上記下限値未満であると、導電シート１０を例えばタッチパネルに利用した場合に、検出時の第１大格子１６Ａの静電容量が減るため、検出不良になる可能性が高くなる。他方、上記上限値を超えると、位置検出精度が低下する虞がある。同様の観点から、第１大格子１６Ａを構成する小格子１８の一辺の長さは５０〜５００μｍであることが好ましく、１５０〜３００μｍであることがさらに好ましい。小格子１８が上記範囲である場合には、さらに透明性も良好に保つことが可能であり、表示装置の前面にとりつけた際に、違和感なく表示を視認することができる。
さらに、２以上の第１大格子１６Ａが第１接続部２２Ａを介してｘ方向（第１方向）に配列されて１つの第１導電パターン２６Ａが構成され、２以上の第１導電パターン２６Ａがｘ方向と直交するｙ方向（第２方向）に配列され、隣接する第１導電パターン２６Ａ間は電気的に絶縁された第１絶縁部２８Ａが配されている。
【００２９】
一方、図１２に示すように、透明支持体１０２の他方の主面１０２ｂ（裏面）には、２以上の導電性の第２大格子１６Ｂが形成され、各第２大格子１６Ｂは、それぞれ２以上の小格子１８（図１３参照）が組み合わされて構成され、各第２大格子１６Ｂの辺の周囲に、第２大格子１６Ｂと非接続とされた第２ダミーパターン２０Ｂ（第２非接続パターン）が形成されている。また、隣接する第２大格子１６Ｂ間には、これら第２大格子１６Ｂを電気的に接続する第２接続部２２Ｂが形成されている。第２接続部２２Ｂは、小格子１８のｎ倍（ｎは１より大きい実数）のピッチを有する１以上の中格子２４（２４ｅ〜２４ｈ）が配置されて構成されている。第２大格子１６Ｂの一辺の長さについても、上述した第１大格子１６Ａと同様に、３〜１０ｍｍであることが好ましく、４〜６ｍｍであることがより好ましい。
【００３０】
さらに、２以上の第２大格子１６Ｂが第２接続部２２Ｂを介してｙ方向（第２方向）に配列されて１つの第２導電パターン２６Ｂが構成され、２以上の第２導電パターン２６Ｂがｘ方向（第１方向）に配列され、隣接する第２導電パターン２６Ｂ間は電気的に絶縁された第２絶縁部２８Ｂが配されている。
ここで、透明支持体１０２の一方の主面１０２ａに形成される第１導電層１１６ａ及び透明支持体１０２の他方の主面１０２ｂに形成される第２導電層１１６ｂのうち、センサ部１５０の導電パターンの一具体例を説明する。
【００３１】
すなわち、透明支持体１０２の一方の主面１０２ａに形成されるセンサ部１５０のパターンは、図１１に示すように、第１大格子１６Ａの４つの辺部、すなわち、隣接する第１大格子１６Ａと接続していない一方の頂点３０ａに隣接する第１辺部３２ａ及び第２辺部３２ｂ、並びに隣接する第１大格子１６Ａと接続していない他方の頂点３０ｂに隣接する第３辺部３２ｃ及び第４辺部３２ｄは、それぞれ直線形状を有する。換言すれば、第１辺部３２ａの直線形状と第２辺部３２ｂの直線形状との境界部分が第１大格子１６Ａの一方の頂点３０ａを構成し、第３辺部３２ｃの直線部分と第４辺部３２ｄの直線部分との境界部分が第１大格子１６Ａの他方の頂点３０ｂを構成している。
【００３２】
第１接続部２２Ａは、４つ分の小格子１８を含む大きさを有する中格子２４が４つ（第１中格子２４ａ〜第４中格子２４ｄ）、ジグザグ状に配列された形状を有する。すなわち、第１中格子２４ａは、第２辺部３２ｂと第４辺部３２ｄとの境界部分に存在し、１つの小格子１８とＬ字状の空間が形成された形状を有する。第２中格子２４ｂは、第１中格子２４ａの１つ辺に隣接し、正方形状の空間が形成された形状、すなわち、４つ分の小格子１８をマトリクス状に配列し、中央の十字を取り外したような形状を有する。第３中格子２４ｃは、第１中格子２４ａの１つの頂点に隣接すると共に、第２中格子２４ｂの１つの辺に隣接して配され、第２中格子２４ｂと同様の形状を有する。第４中格子２４ｄは、第３辺部３２ｃと第１辺部３２ａとの境界部分に存在し、第２中格子２４ｂの１つの頂点に隣接すると共に、第３中格子２４ｃの１つの辺に隣接して配され、第１中格子２４ａと同様に、１つの小格子１８とＬ字状の空間が形成された形状を有する。そして、小格子１８の配列ピッチをＰとしたとき、中格子２４の配列ピッチは２Ｐの関係を有している。
【００３３】
また、第１大格子１６Ａの４つの辺部（第１辺部３２ａ〜第４辺部３２ｄ）の周辺には、それぞれ上述した第１ダミーパターン２０Ａが形成されており、各第１ダミーパターン２０Ａは、それぞれ小格子１８の一部を除去した形状が２以上、対応する辺部（直線形状）に沿って配列された形状を有する。図１１の例では、小格子１８の１つの辺を除去した形状（略Ｕ字状であって、２つの屈曲部を有し、且つ、１つの開口を有する形状：便宜的に略Ｕ字形状と記す）が、開口の部分を、第１大格子１６Ａの対応する辺部に対して反対方向に向けて、１０個配列され、その配列ピッチが、第１大格子１６Ａの小格子１８の配列ピッチＰの２倍とされた例を示している。また、例えば第１辺部３２ａの直線形状から第１ダミーパターン２０Ａの略Ｕ字形状までの最短距離は、小格子１８の内周側の１つの辺の長さとほぼ同一とされている。これは、第２辺部３２ｂ〜第４辺部３２ｄにおいても同様である。
【００３４】
また、第１絶縁部２８Ａには、第１大格子１６Ａと非接続とされた第１絶縁パターン３４Ａが形成されている。この第１絶縁パターン３４Ａは、２以上の小格子１８が配列された第１集合パターン部３６ａと、小格子１８が存在しない３つの空白部３８（３８ａ〜３８ｃ）とを有する。
具体的には、第１集合パターン部３６ａは、複数の小格子１８による４つの直線部分（２つの長い直線部分と２つの短い直線部分）が組み合わされて構成されている。各直線部分は、複数の小格子１８がそれぞれ頂点を結ぶように配列されて構成されている。３つの空白部３８は、第１絶縁部２８Ａを間に挟んで隣接する２つの第１大格子１６Ａに注目したとき、第１集合パターン部３６ａにて囲まれた小格子１８の存在しない第１空白部３８ａと、一方の第１大格子１６Ａにおける他方の頂点３０ｂ付近の小格子１８が存在しない第２空白部３８ｂと、他方の第１大格子１６Ａにおける一方の頂点３０ａ付近の小格子１８が存在しない第３空白部３８ｃとで構成される。
【００３５】
４つの直線部分のうち、２つの長い直線部分は、それぞれ例えば７つの小格子１８がそれぞれ頂点を結ぶように配列されて構成され、一方の長い直線部分の一端に位置する小格子１８は、一方の第１大格子１６Ａの第３辺部３２ｃに沿って配列された第１ダミーパターン２０Ａに対して、一方の第１大格子１６Ａの他方の頂部３０ｂ側に同一ピッチで隣接した位置に配され、他端に位置する小格子１８は、他方の第１大格子１６Ａの第１辺部３２ａに沿って配列された第１ダミーパターン２０Ａに対して、他方の第１大格子１６Ａの一方の頂部３０ａ側に同一ピッチで隣接した位置に配されている。同様に、他方の長い直線部分の一端に位置する小格子１８は、一方の第１大格子１６Ａの第４辺部３２ｄに沿って配列された第１ダミーパターン２０Ａに対して、一方の第１大格子１６Ａの他方の頂部３０ｂ側に同一ピッチで隣接した位置に配され、他端に位置する小格子１８は、他方の第１大格子１６Ａの第２辺部３２ｂに沿って配列された第１ダミーパターン２０Ａに対して、他方の第１大格子１６Ａの一方の頂部３０ａ側に同一ピッチで隣接した位置に配されている。
【００３６】
２つの短い直線部分のうち、一方の短い直線部分は、一方の長い直線部分における一端から２番目の小格子１８と、他方の長い直線部分における一端から２番目の小格子１８とを結ぶ２つの小格子１８にて構成されている。同様に、他方の短い直線部分は、一方の長い直線部分における他端から２番目の小格子１８と、他方の長い直線部分における他端から２番目の小格子１８とを結ぶ２つの小格子１８にて構成されている。
そして、小格子１８の配列ピッチをＰとし、隣接する第１導電パターン２６Ａ間の最短距離、すなわち、一方の第１大格子１６Ａの他方の頂点３０ｂと他方の第１大格子１６Ａの一方の頂点３０ａとの間の距離を、第１絶縁部２８Ａの幅と定義したとき、第１絶縁部２８Ａの幅はｍＰ（ｍは１以上の整数）であり、且つ、第１絶縁パターン３４Ａのうち、第１絶縁部２８Ａの幅の方向の部分の最大長さ、すなわち、一方の短い直線部分のうち、一方の第１大格子１６Ａの他方の頂点３０ｂと対向する部分と、他方の短い直線部分のうち、他方の第１大格子１６Ａの一方の頂点３０ａと対向する部分との間の距離はｍＰ以下である。
【００３７】
上述のように構成された導電パターンは、図１０に示すように、各第１導電パターン２６Ａの一方の端部側に存在する第１大格子１６Ａの開放端は、第１接続部２２Ａが存在しない形状となっている。各第１導電パターン２６Ａの他方の端部側に存在する第１大格子１６Ａの端部は、第１結線部４０ａを介して第１端子配線部１５２ａの対応する第１端子配線パターン４２ａに電気的に接続されている。
一方、透明支持体１０２の他方の主面１０２ｂに形成されるセンサ部１５０のパターンの第２大格子１６Ｂは、図１３に示すように、上述した第１大格子１６Ａと異なり、略八角形の形状を有し、４つの短辺４４（第１短辺４４ａ〜第４短辺４４ｄ）と４つの長辺４６（第１長辺４６ａ〜第４長辺４６ｄ）とを有する。第２接続部２２Ｂは、ｙ方向に隣接する一方の第２大格子１６Ｂの第１短辺４４ａと他方の第２大格子１６Ｂの第２短辺４４ｂとの間に形成され、第２絶縁部２８Ｂは、ｘ方向に隣接する一方の第２大格子１６Ｂの第３短辺４４ｃと他方の第２大格子１６Ｂの第４短辺４４ｄとの間に配されている。
【００３８】
第２大格子１６Ｂの４つの長辺、すなわち、一方の第２絶縁部２８Ｂと対向する第３短辺４４ｃに隣接する第１長辺４６ａ及び第２長辺４６ｂ、並びに他方の第２絶縁部２８Ｂと対向する第４短辺４４ｄに隣接する第３長辺４６ｃ及び第４長辺４６ｄは、それぞれ直線形状を有する。
第２接続部２２Ｂは、４つ分の小格子１８を含む大きさを有する中格子２４が４つ（第５中格子２４ｅ〜第８中格子２４ｈ）、ジグザグ状に配列された形状を有する。すなわち、第５中格子２４ｅは、第１短辺４４ａに存在し、１つの小格子１８とＬ字状の空間が形成された形状を有する。第６中格子２４ｆは、第５中格子２４ｅの１つ辺に隣接し、正方形状の空間が形成された形状、すなわち、４つ分の小格子１８をマトリクス状に配列し、中央の十字を取り外したような形状を有する。第７中格子２４ｇは、第５中格子２４ｅの１つの頂点に隣接すると共に、第６中格子２４ｆの１つの辺に隣接して配され、第６中格子２４ｆと同様の形状を有する。第８中格子２４ｈは、第２短辺４４ｂに存在し、第６中格子２４ｆの１つの頂点に隣接すると共に、第７中格子２４ｇの１つの辺に隣接して配され、第５中格子２４ｅと同様に、１つの小格子１８とＬ字状の空間が形成された形状を有する。そして、小格子１８の配列ピッチをＰとしたとき、中格子２４の配列ピッチは２Ｐの関係を有している。
【００３９】
また、第２大格子１６Ｂの４つの長辺４６（第１長辺４６ａ〜第４長辺４６ｄ）の周辺には、それぞれ上述した第２ダミーパターン２０Ｂが形成されており、各第２ダミーパターン２０Ｂは、それぞれ小格子１８の一部を除去した形状が２以上、対応する辺部（直線形状）に沿って配列された形状を有する。図１３の例では、小格子１８の１つの辺を除去した形状（略Ｕ字形状）が、開口の部分を、第２大格子１６Ｂの対応する長辺に対して反対方向に向けて、１０個配列され、その配列ピッチが、第２大格子１６Ｂの小格子１８の配列ピッチＰの２倍とされた例を示している。また、例えば第１長辺４６ａの直線形状から第２ダミーパターン２０Ｂの略Ｕ字形状までの最短距離は、小格子１８の内周側の１つの辺の長さとほぼ同一とされている。これは、第２長辺４６ｂ〜第４長辺４６ｄにおいても同様である。
【００４０】
また、第２絶縁部２８Ｂには、第２大格子１６Ｂと非接続とされた第２絶縁パターン３４Ｂが形成されている。この第２絶縁パターン３４Ｂは、２以上の小格子１８が配列された第２集合パターン部３６ｂと、それぞれ２つの略Ｕ字形状で構成された第１屈曲パターン部４８ａ及び第２屈曲パターン部４８ｂと、小格子１８が存在しない１つの空白部（第４空白部３８ｄ）とを有する。
具体的には、第２集合パターン部３６ｂは、図１１に示した第１導電パターン２６Ａにおける第１絶縁パターン３４Ａの第１空白部３８ａに収まる数（例えば６つ）の小格子１８がそれぞれ頂点を結ぶようにマトリクス状に配列されて構成されている。
第１屈曲パターン部４８ａは、第２絶縁パターン３４Ｂの一方の端部（一方の第２大格子１６Ｂにおける第４短辺４４ｄと第３長辺４６ｃとの境界と、他方の第２大格子１６Ｂにおける第３短辺４４ｃと第１長辺４６ａとの境界との間）に形成された２つの略Ｕ字形状にて構成され、これら２つの略Ｕ字形状は一端で連結され、且つ、該一端での各辺のなす角がほぼ９０°とされている。
【００４１】
同様に、第２屈曲パターン部４８ｂは、第２絶縁パターン３４Ｂの他方の端部（一方の第２大格子１６Ｂにおける第４短辺４４ｄと第４長辺４６ｄとの境界と、他方の第２大格子１６Ｂにおける第３短辺４４ｃと第２長辺４６ｂとの境界との間）に形成された２つの略Ｕ字形状にて構成され、これら２つの略Ｕ字形状は一端で連結され、且つ、該一端での各辺のなす角がほぼ９０°とされている。
第４空白部３８ｄは、図１１に示す第１絶縁パターン３４Ａの第１集合パターン部３６ａを構成する４つの直線部分が収まる形状の空白領域（小格子１８が存在しない領域）にて構成されている。
そして、小格子１８の配列ピッチをＰとし、隣接する第２導電パターン２６Ｂ間の最短距離、すなわち、一方の第２大格子１６Ｂの第４短辺４４ｄと他方の第２大格子１６Ｂの第３短辺４４ｃとの間の距離を、第２絶縁部２８Ｂの幅と定義したとき、第２絶縁部２８Ｂの幅はｎＰ（ｎは１以上の整数）であり、且つ、第２絶縁パターン３４Ｂのうち、第２絶縁部２８Ｂの幅の方向の部分の最大長さ、すなわち、第２集合パターン部３６ｂのうち、一方の第２大格子１６Ｂの第４短辺４４ｄと対向する部分と、他方の第２大格子１６Ｂの第３短辺４４ｃと対向する部分との間の距離は、ｎＰ以下、好ましくはｎＰ未満である。
【００４２】
上述のように構成された導電パターンは、図１２に示すように、各第２導電パターン２６Ｂの一方の端部側に存在する第２大格子１６Ｂの開放端は、第２接続部２２Ｂが存在しない形状となっている。各第２導電パターン２６Ｂの他方の端部側に存在する第２大格子１６Ｂの端部は、第２結線部４０ｂを介して第２端子配線部１５２ｂの対応する第２端子配線パターン４２ｂに電気的に接続されている。
そして、センサ部１５０における透明支持体１０２の一方の主面１０２ａに形成された第１導電層１１６ａのパターンと、他方の主面１０２ｂに形成されたダ２導電層１１６ｂのパターンとの位置関係をみると、図１４に示すように、第１導電パターン２６Ａの第１接続部２２Ａと第２導電パターン２６Ｂの第２接続部２２Ｂとが透明支持体１０２を間に挟んで対向し、第１導電パターン２６Ａの第１絶縁部２８Ａと第２導電パターン２６Ｂの第２絶縁部２８Ｂとが透明支持体１０２を間に挟んで対向した形態となる。なお、第１導電パターン２６Ａと第２導電パターン２６Ｂの各線幅は同じであるが、図１４では、第１導電パターン２６Ａと第２導電パターン２６Ｂの位置がわかるように、第１導電パターン２６Ａの線幅を太く、第２導電パターン２６Ｂの線幅を細くして誇張して図示してある。
【００４３】
センサ部１５０を上面から見たとき、第１大格子１６Ａの隙間を埋めるように、第２大格子１６Ｂが配列された形態となる。つまり、大格子が敷き詰められた形態となる。このとき、第１大格子１６Ａと第２大格子１６Ｂとの間に、第１ダミーパターン２０Ａと第２ダミーパターン２０Ｂとが対向することによる組合せパターンが形成される。第１大格子１６Ａの例えば第１辺部３２ａと該第１辺部３２ａと対向する第２大格子１６Ｂの第２長辺４６ｂとの最短距離を透明支持体１０２の一方の主面１０２ａに投影した距離を、組合せパターンの幅と定義したとき、該組合せパターンの幅は、小格子１８の辺の長さの１倍以上の長さを有する。図１４の例では、組合せパターンの幅は、小格子１８の辺の長さの２倍の長さを有する。これは、第１大格子１６Ａの第２辺部３２ｂ〜第４辺部３２ｄと、第２大格子１６Ｂの第２長辺４６ｂ〜第４長辺４６ｄとの関係も同様である。
【００４４】
従って、第１大格子１６Ａの第１ダミーパターン２０Ａにおける複数の略Ｕ字形状の各開口が第２大格子１６Ｂの長辺の各直線形状にて接続されたような形状になると共に、複数の略Ｕ字形状の各底部間が第２大格子１６Ｂの第２ダミーパターン２０Ｂにおける複数の略Ｕ字形状の各底部にて接続されたような形状になり、同様に、第２大格子１６Ｂの第２ダミーパターン２０Ｂにおける複数の略Ｕ字形状の各開口が第１大格子１６Ａの長辺の各直線形状にて接続されたような形状になると共に、複数の略Ｕ字形状の各底部間が第１大格子１６Ａの第１ダミーパターン２０Ａにおける複数の略Ｕ字形状の各底部にて接続されたような形状になって、結果的に複数の小格子１８が配列された形態となり、第１大格子１６Ａと第２大格子１６Ｂとの境界をほとんど見分けることができない状態となる。
【００４５】
ここで、例えば第１ダミーパターン２０Ａ及び第２ダミーパターン２０Ｂを形成しなかった場合は、組合せパターンの幅に相当する空白領域が形成され、これにより、第１大格子１６Ａの境界、第２大格子１６Ｂの境界が目立ってしまい、視認性が劣化するという問題が生じる。これを避けるために、第１大格子１６Ａの各辺部に第２大格子１６Ｂの長辺を重ねて、空白領域をなくすことも考えられるが、重ね合わせの位置精度の僅かなズレにより、直線形状同士の重なり部分の幅が大きくなり（線太り）、これにより、第１大格子１６Ａと第２大格子１６Ｂとの境界が目立ってしまい、視認性が劣化するという問題が生じる。
【００４６】
これに対して、本実施の形態では、上述したように、第１ダミーパターン２０Ａと第２ダミーパターン２０Ｂとの重なりにより、第１大格子１６Ａと第２大格子１６Ｂとの境界が目立たなくなり、視認性が向上する。
また、第１接続部２２Ａと第２接続部２２Ｂとが対向した部分を上面から見たとき、第２接続部２２Ｂの第５中格子２４ｅと第７中格子２４ｇとの交点が第１接続部２２Ａの第２中格子２４ｂのほぼ中心に位置し、第２接続部２２Ｂの第６中格子２４ｆと第８中格子２４ｈとの交点が第１接続部２２Ａの第３中格子２４ｃのほぼ中心に位置することとなり、これら第１中格子２４ａ〜第８中格子２４ｈの組み合わせによって、複数の小格子１８が形成された形態となる。すなわち、第１接続部２２Ａと第２接続部２２Ｂとが対向した部分に、第１接続部２２Ａと第２接続部２２Ｂの組み合わせによって、複数の小格子１８が配列された形態となり、周りの第１大格子１６Ａを構成する小格子１８や第２大格子１６Ｂを構成する小格子１８と見分けがつかなくなり、視認性が向上する。
【００４７】
また、第１絶縁部２８Ａの第１絶縁パターン３４Ａと第２絶縁部２８Ｂの第２絶縁パターン３４Ｂとが対向した部分を上面から見たとき、第１絶縁パターン３４Ａの第１集合パターン部３６ａと第２絶縁パターン３４Ｂの第４空白部３８ｄとが対向すると共に、第１絶縁パターン３４Ａの第１空白部３８ａと第２絶縁パターン３４Ｂの第２集合パターン部３６ｂとが対向する。また、第１絶縁パターン３４Ａの第２空白部３８ｂと第２絶縁パターン３４Ｂの第１屈曲パターン部４８ａとが対向すると共に、第１絶縁パターン３４Ａの第３空白部３８ｃと第２絶縁パターン３４Ｂの第２屈曲パターン部４８ｂとが対向することとなり、このとき、第１屈曲パターン部４８ａの各開口が第１大格子１６Ａの第３辺部３２ｃと第４辺部３２ｄの各直線形状（他方の頂点３０ｂ近傍の各直線形状）で接続されたような形状となり、第２屈曲パターン部４８ｂの各開口が第１大格子１６Ａの第１辺部３２ａと第２辺部３２ｂの各直線形状（一方の頂点３０ａ近傍の各直線形状）で接続されたような形状となる。これにより、第１絶縁パターン３４Ａと第２絶縁パターン３４Ｂとの組み合わせによって、複数の小格子１８が形成された形態となる。その結果、周りの第１大格子１６Ａを構成する小格子１８や第２大格子１６Ｂを構成する小格子１８と見分けがつかなくなり、視認性が向上する。
【００４８】
そして、この導電シート１０をタッチパネルとして構成する場合は、導電パターンが形成されたセンサ部１５０、第１端子配線部１５２ａ及び第２端子配線部１５２ｂ上に保護層を形成し、センサ部１５０の多数の第１導電パターン２６Ａから第１端子配線部１５２ａに導出された第１端子配線パターン４２ａと、センサ部１５０の多数の第２導電パターン２６Ｂから第２端子配線部１５２ｂに導出された第２端子配線パターン４２ｂとを、コネクタを介して例えば位置演算を行うＩＣ回路に接続する。
指先を保護層上に接触させることで、指先に対向する第１導電パターン２６Ａと第２導電パターン２６Ｂからの信号がＩＣ回路に伝達される。ＩＣ回路では、供給された信号に基づいて指先の位置を演算する。従って、同時に２つの指先を接触させても、各指先の位置を検出することが可能となる。
【００４９】
上述の導電シート１０では、小格子１８の形状を正方形状としたが、その他、多角形状としてもよい。また、一辺の形状を直線状のほか、湾曲形状でもよいし、円弧状にしてもよい。円弧状とする場合は、例えば対向する２辺については、外方に凸の円弧状とし、他の対向する２辺については、内方に凸の円弧状としてもよい。また、各辺の形状を、外方に凸の円弧と内方に凸の円弧が連続した波線形状としてもよい。もちろん、各辺の形状を、サイン曲線にしてもよい。
上述した導電シート１０においては、第１接続部２２Ａ及び第２接続部２２Ｂを構成する中格子２４の配列ピッチを小格子１８の配列ピッチＰの２倍に設定したが、その他、１．５倍、３倍等、中格子の数に応じて任意に設定することができる。中格子２４の配列ピッチは、その間隔が狭すぎたり、大きすぎたりすると、第１大格子１６Ａや第２大格子１６Ｂの配置が難しくなり、見栄えが悪くなることがあることから、小格子１８の配列ピッチＰの１〜１０倍が好ましく、１〜５倍がより好ましい。
また、小格子１８のサイズ（１辺の長さや対角線の長さ等）や、第１大格子１６Ａを構成する小格子１８の個数、第２大格子１６Ｂを構成する小格子１８の個数も、適用されるタッチパネルのサイズや分解能（配線数）に応じて適宜設定することができる。
【００５０】
次に、上述した本実施の形態に係るタッチパネルの製造方法について図２Ａ〜図３、図８、図１０、図１２、図１５〜図１８を参照しながら説明する。
先ず、図１５のステップＳ１０１において、長尺の感光材料１００を作製する。感光材料１００は、図２Ａに示すように、長尺の透明支持体１０２と、該透明支持体１０２の一方の主面に形成された第１感光層１０４ａと、透明支持体１０２の他方の主面に形成された第２感光層１０４ｂとを有する。
ステップＳ１０２において、感光材料１００を露光する。この露光処理では、図２Ｂ及び図３に示すように、長尺の感光材料１００の一方の主面に第１フォトマスク１０８ａを配置すると共に、感光材料１００の他方の主面に第２フォトマスク１０８ｂを配置し、さらに、感光材料１００を一方向に搬送しながら、第１感光層１０４ａに対し、第１光源１１０ａから透明支持体１０２に向かって第１光１０６ａを照射して第１感光層１０４ａを露光する（第１露光処理）と同時に、第２感光層１０４ｂに対し、第２光源１１０ｂから透明支持体１０２に向かって第２光１０６ｂを照射して第２感光層１０４ｂを露光する（第２露光処理）。
【００５１】
この第１露光処理及び第２露光処理によって、第１感光層１０４ａのうち、第１フォトマスク１０８ａに形成された第１露光パターン１１８ａに沿った部分が露光され、第２感光層１０４ｂのうち、第２フォトマスク１０８ｂに形成された第２露光パターン１１８ｂに沿った部分が露光される。このとき、上述と同様に、第１光源１１０ａからの第１光１０６ａが第２感光層１０４ｂに到達せず、第２光源１１０ｂからの第２光１０６ｂが第１感光層１０４ａに到達しないように制御して行われる。
ステップＳ１０３において、露光後の感光材料１００を現像処理することで、図２Ｃに示すように、長尺の導電シート１１４が作製される。すなわち、現像処理によって、透明支持体１０２の一方の主面１０２ａに第１露光パターン１１８ａに沿った第１導電層１１６ａのパターンが形成され、透明支持体１０２の他方の主面１０２ｂに第２露光パターン１１８ｂに沿った第２導電層１１６ｂのパターンが形成される。
【００５２】
第１導電層１１６ａのパターンは、図１０及び図１６Ａに示すように、多数の第１導電パターン２６Ａとこれら第１導電パターン２６Ａにつながる多数の第１端子配線パターン４２ａとを１組とするパターン（図８において、透明支持体１０２の一方の主面１０２ａに形成されたパターンであって、１つのタッチパネルを構成する第１パターン）が一方向に複数組配列されたパターンを有し、第２導電層１１６ｂのパターンは、図１２及び図１６Ａに示すように、多数の第２導電パターン２６Ｂとこれら第２導電パターン２６Ｂにつながる多数の第２端子配線パターン４２ｂとを１組とするパターン（図８において、透明支持体１０２の他方の主面１０２ｂに形成されたパターンであって、１つのタッチパネルを構成する第２パターン）が一方向に複数組配列されたパターンを有する。図１６Ａにおいて、１つのタッチパネルを構成する第１パターンと第２パターンとで構成される外形形状（図８参照）を二点鎖線にて示し、この二点鎖線で示す部分が後に図８の導電シート１０になる。
【００５３】
その後、ステップＳ１０４において、長尺の導電シート１１４を打ち抜き加工して、図１６Ｂに示すように、センサ部１５０と第１端子配線部１５２ａと第２端子配線部１５２ｂとを有する複数の導電シート１０を得る。すなわち、導電シート１０のうち、多数の第１導電パターン２６Ａと多数の第２導電パターン２６Ｂとが互い違いに重なっている部分がセンサ部１５０を構成し、多数の第１端子配線パターン４２ａ（図１０参照）が形成された部分が第１端子配線部１５２ａを構成し、多数の第２端子配線パターン４２ｂ（図１２参照）が形成された部分が第２端子配線部１５２ｂを構成する。
【００５４】
そして、図８に示すように、第１端子配線部１５２ａは、多数の第１端子配線パターン４２ａが外部に導出される部分（第１導出部分１６０ａ）の辺の長さＬ１ａが、多数の第１端子配線パターン４２ａが多数の第１導電パターン２６Ａと結合される部分（第１結合部分１６２ａ）の辺の長さＬ１ｂよりも短く、且つ、多数の第１導電パターン２６Ａの配列方向中央から最も離間した両側の第１導電パターン２６Ａに対応する第１端子配線パターン４２ａの長さがほぼ同じになっている。同様に、第２端子配線部１５２ｂは、多数の第２端子配線パターン４２ｂが外部に導出される部分（第２導出部分１６０ｂ）の辺の長さＬ２ａが、多数の第２端子配線パターン４２ｂが多数の第２導電パターン２６Ｂと結合される部分（第２結合部分１６２ｂ）の辺の長さＬ２ｂよりも短く、且つ、多数の第２導電パターン２６Ｂの配列方向中央から最も離間した両側の第２導電パターン２６Ｂに対応する第２端子配線パターン４２ｂの長さがほぼ同じになっている。
例えば図８の例では、第１端子配線部１５２ａの多数の第１端子配線パターン４２ａは、第１結合部分１６２ａから第１方向（ｘ方向）に導出され、第２方向（ｙ方向）の中央部分を除く両側部分のパターンが互いに近づく方向（収束する方向）に曲げられ、さらに、第１方向に曲げられ、中央部分を含む全てのパターンが第２方向に曲げられて第１導出部分１６０ａに導かれている。
【００５５】
一方、第２端子配線部１５２ｂの多数の第２端子配線パターン４２ｂは、第２結合部分１６２ｂから第２方向に導出され、第１方向の中央部分を除く両側部分のパターンが互いに近づく方向（収束する方向）に曲げられ、中央部分を含む全てのパターンが第２導出部分１６０ｂに導かれている。
その後、ステップＳ１０５において、例えば図８及び図１７Ａに示すように、液晶表示パネル１７０上に導電シート１０を設置する。このとき、液晶表示パネル１７０の表示面にセンサ部１５０が対向するように導電シート１０を設置する。
その後、ステップＳ１０６において、図１７Ｂ及び図１８に示すように、導電シート１０のうち、第１端子配線部１５２ａと第２端子配線部１５２ｂをセンサ部１５０の裏面側、すなわち、液晶表示パネル１７０の裏面側に折り曲げる。
そして、これら第１導出部分１６０ａと第２導出部分１６０ｂをそれぞれ対応するコネクタ１７２ａ、１７２ｂに挿入することによって、例えば位置演算を行うＩＣ回路に電気的に接続されることとなる。この段階で、１つのタッチパネルが完成する。
【００５６】
このように、本実施の形態に係るタッチパネルの製造方法は、上述した図１〜図７に示す導電シート１１４の製造方法を使用するようにしたので、図１５におけるステップＳ１０２の露光処理時間を大幅に短縮することができる。
また、１つの透明支持体１０２の一方の主面１０２ａにセンサ部１５０を構成する多数の第１導電パターン２６Ａと第１端子配線部１５２ａを構成する多数の第１端子配線パターン４２ａを形成し、透明支持体１０２の他方の主面１０２ｂにセンサ部１５０を構成する多数の第２導電パターン２６Ｂと第２端子配線部１５２ｂを構成する多数の第２端子配線パターン４２ｂを形成するようにしたので、タッチパネルの薄型化（低背化）を図ることができる。
【００５７】
しかも、多数の第１導電パターン２６Ａの配列方向中央から最も離間した両側の第１導電パターン２６Ａに対応する第１端子配線パターン４２ａの長さがほぼ同じになっていることから、第１端子配線パターン４２ａの各線幅が同じであれば、第１導電パターン２６Ａの配列方向中央から離間するにつれてＣＲ時定数が大きくなるが、特許文献２のように、多数の第１導電パターン２６Ａの配列方向一端部のパターンを最も短く、他端部のパターンを最も長くするような形態と比して、全体のパターンの長さを短くすることができ、特に、配列方向中央から最も離間した両側の第１導電パターン２６Ａの長さを、上述の従来における最も長いパターンと比して１／２の長さにすることができる。これは、多数の第２導電パターン２６Ｂについても同様である。その結果、多数の第１導電パターン２６ＡのＣＲ時定数を大幅に低減することができ、これにより、応答速度を速めることができ、駆動時間（スキャン時間）内での位置検出も容易になる。これは、タッチパネルの画面サイズ（縦×横のサイズで、厚みを含まず）の大型化を促進できることにつながる。
【００５８】
さらに、本実施の形態では、ＣＲ時定数をより低減するために、第１導電パターン２６Ａの配列方向中央から最も離間した両側の第１端子配線パターン４２ａの線幅を最も広くし、順次、配列方向中央に近づくにつれて、第１端子配線パターン４２ａの線幅を徐々に狭くするようにしてもよい。この場合、第１端子配線パターン４２ａ全体のＣＲ時定数をさらに低減することができると共に、線幅の種類として、最大で、第１端子配線パターン４２ａの全本数の１／２で済み、線幅の設計も容易になる。これは、第２端子配線パターン４２ｂについても同様である。
また、第１端子配線部１５２ａ及び第２端子配線部１５２ｂをセンサ部１５０の裏側に折り曲げるようにしたので、周辺回路をコンパクトに納めることができ、液晶表示パネル１７０を含めた装置構成の小型化を図ることができる。
【００５９】
次に、ハロゲン化銀写真感光材料を用いた本実施の形態に係る導電シートの製造方法のその他の好ましい態様を以下に示す。
本実施の形態に係る導電シートの製造方法は、感光材料と現像処理の形態によって、次の３通りの形態が含まれる。
（１）  物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を化学現像又は熱現像して導電パターンを該感光材料１００上に形成させる態様。
（２）  物理現像核をハロゲン化銀乳剤層中に含む感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を溶解物理現像して導電パターンを該感光材料１００上に形成させる態様。
（３）  物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料と、物理現像核を含む非感光性層を有する受像シートを重ね合わせて拡散転写現像して導電パターンを非感光性受像シート上に形成させる態様。
【００６０】
上記（１）の態様は、一体型黒白現像タイプであり、感光材料上に光透過性導電膜等の透光性導電性膜が形成される。得られる現像銀は化学現像銀又は熱現像銀であり、高比表面のフィラメントである点で後続するめっき又は物理現像過程で活性が高い。
上記（２）の態様は、露光部では、物理現像核近縁のハロゲン化銀粒子が溶解されて現像核上に沈積することによって感光材料上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。これも一体型黒白現像タイプである。現像作用が、物理現像核上への析出であるので高活性であるが、現像銀は比表面の小さい球形である。
上記（３）の態様は、未露光部においてハロゲン化銀粒子が溶解されて拡散して受像シート上の現像核上に沈積することによって受像シート上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。いわゆるセパレートタイプであって、受像シートを感光材料から剥離して用いる態様である。
【００６１】
いずれの態様もネガ型現像処理及び反転現像処理のいずれの現像を選択することもできる（拡散転写方式の場合は、感光材料としてオートポジ型感光材料を用いることによってネガ型現像処理が可能となる）。
ここでいう化学現像、熱現像、溶解物理現像、拡散転写現像は、当業界で通常用いられている用語どおりの意味であり、写真化学の一般教科書、例えば菊地真一著「写真化学」（共立出版社、１９５５年刊行）、Ｃ．Ｅ．Ｋ．Ｍｅｅｓ編「Ｔｈｅ  Ｔｈｅｏｒｙ  ｏｆ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ，  ４ｔｈ  ｅｄ．」（Ｍｃｍｉｌｌａｎ社、１９７７年刊行）に解説されている。本件は液処理に係る発明であるが、その他の現像方式として熱現像方式を適用する技術も参考にすることができる。例えば、特開２００４−１８４６９３号、同２００４−３３４０７７号、同２００５−０１０７５２号の各公報、特願２００４−２４４０８０号、同２００４−０８５６５５号の各明細書に記載された技術を適用することができる。
【００６２】
ここで、本実施の形態に係る導電シートの各層の構成について、以下に詳細に説明する。
［透明支持体１０２］
透明支持体１０２としては、プラスチックフイルム、プラスチック板、ガラス板等を挙げることができる。
上記プラスチックフイルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡ等のポリオレフィン類；ビニル系樹脂；その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等を用いることができる。
透明支持体１０２としては、ＰＥＴ（融点：２５８℃）、ＰＥＮ（融点：２６９℃）、ＰＥ（融点：１３５℃）、ＰＰ（融点：１６３℃）、ポリスチレン（融点：２３０℃）、ポリ塩化ビニル（融点：１８０℃）、ポリ塩化ビニリデン（融点：２１２℃）やＴＡＣ（融点：２９０℃）等の融点が約２９０℃以下であるプラスチックフイルム、又はプラスチック板が好ましく、特に、光透過性や加工性等の観点から、ＰＥＴが好ましい。タッチパネル用の導電シート１０は透明性が要求されるため、透明支持体１０２の透明度は高いことが好ましい。
【００６３】
［感光性ハロゲン化銀乳剤層］
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂ（以下、感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４と記す）は、銀塩とバインダーの他、溶媒や染料等の添加剤を含有する。
本実施の形態に用いられる銀塩としては、ハロゲン化銀等の無機銀塩及び酢酸銀等の有機銀塩が挙げられる。本実施の形態においては、光センサーとしての特性に優れるハロゲン化銀を用いた。
感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４の塗布銀量（銀塩の塗布量）は、アンチハレーション層がない場合は、銀に換算して７〜３０ｇ／ｍ2が好ましく、１０〜２０ｇ／ｍ2がより好ましい。アンチハレーション層がある場合は、銀に換算して３〜３０ｇ／ｍ2が好ましく、３〜２０ｇ／ｍ2がより好ましく、３〜１５ｇ／ｍ2がさらに好ましく、３〜９ｇ／ｍ2がさらに好ましい。この塗布銀量を上記範囲とすることで、感光材料に対する露光処理において、第１感光層１０４ａに照射された第１光１０６ａが第２感光層１０４ｂに到達せず、第２感光層１０４ｂに照射された第２光１０６ｂが第１感光層１０４ａに到達しないように制御することができる。
本実施の形態に用いられるバインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。
本実施の形態の感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４中に含有されるバインダーの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４中のバインダーの含有量は、銀／バインダー体積比で１／４以上が好ましく、１／２以上がより好ましい。銀／バインダー体積比は、１００／１以下が好ましく、５０／１以下がより好ましい。また、銀／バインダー体積比は１／１〜４／１であることがさらに好ましい。１／１〜３／１であることが最も好ましい。感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４中の銀／バインダー体積比をこの範囲にすることで、塗布銀量を調整した場合でも電気抵抗値のばらつきを抑制し、均一な表面抵抗を有するタッチパネル用の導電シート１０を得ることができる。なお、銀／バインダー体積比は、原料のハロゲン化銀量／バインダー量（重量比）を銀量／バインダー量（重量比）に変換し、さらに、銀量／バインダー量（重量比）を銀量／バインダー量（体積比）に変換することで求めることができる。
【００６４】
＜色素：光吸収染料＞
感光性ハロゲン化銀乳剤層又はアンチハレーション層に添加される光吸収染料（色素）としては、下記一般式（Ａ）で表される化合物を使用することができる。
一般式（Ａ）
Ｑ１−Ｘ−Ｑ２
［Ｑ１、Ｑ２は、ヘテロ環、−Ｃ（ＣＮ）2−、−Ｃ（ＣＮ）ＣＯ−Ｙ、−Ｃ（ＣＯ−Ｙ）ＳＯ2−Ｙ、置換基として水酸基、アルコキシ基、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基、アルコキシスルホン酸基、−Ｎ（アルキル）アルキルスルホン酸、−Ｎ（アルキル）2、を有するベンゼン環、又は置換基を有しないベンゼン環を表す。Ｙは、水酸基、−ＮＨＰｈ、−Ｐｈを表す。Ｐｈは置換基を有していてもよい。Ｘは、２価の連結基−ＣＯ−、−ＮＨ−、３価の連結基−Ｃ＝、−Ｎ＝、−ＣＨ＝、又はこれらを組み合わせた連結基を表す。連結基同士は、結合して５又は６員環を形成してもよい。］
具体的には、特開平２−２９４６３８号公報の第１１頁左上欄第６行〜右下欄の下から第４行に示される一般式（Ｄ−ａ）〜（Ｄ−ｄ）で表される化合物を使用することができ、より具体的には、例えば同公報の第１２頁及び第１３頁に示されるＤ−１〜Ｄ２３で表される化合物を使用することができる。この場合、Ｄ−１〜Ｄ２３で表される化合物のうち、一部の化合物は、媒染剤を用いて、また一部の化合物は固体分散染料として、感光性ハロゲン化銀乳剤層又はアンチハレーション層に固定することができる。その他、特開２００７−１９９７０３号公報の請求項１の一般式（Ｉ）で表される染料の固体微粒子分散物を使用することができる。一般式（Ｉ）で表される染料は特開２００７−１９９７０３号公報の００２４〜００７１欄に開示されており、それと同様に好適な染料を使用することができる。
【００６５】
すなわち、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が上記好適な染料である。
一般式（Ｉ）
Ｄ−（Ｘ）y
一般式（Ｉ）中、Ｄは発色団を有する化合物残基を表し、Ｘは解離性水素原子又は解離性水素原子を有する基を表し、ｙは１〜７の整数を表す。ここで、ｙが２〜７のとき、複数のＸは同一でも異なってもよい。
一般式（Ｉ）で表される化合物（染料）は、分子構造中に解離性水素等を有する点に特徴がある。Ｄにおける発色団を有する化合物残基は、多くの周知である色素の中から選ぶことができる。これらの化合物としては、オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、アリーリデン色素、アゾメチン色素、トリフェニルメタン色素、アゾ色素、アントラキノン色素、インドアニリン色素を挙げることができる。
Ｘは、Ｄに直接もしくは２価の連結基を介して結合した解離性水素又は解離性水素を有する基を表す。ＸとＤとの間の２価の連結基は、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＳＯn−（ｎ＝０，１，２）、−ＮＲ’−（Ｒ’は水素原子、アルキル基、アリール基を表す）、−Ｏ−、及びこれらの連結基を組み合わせた２価の基であり、さらに、それらはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホンアミド基等の置換基を有していてもよい。好ましい例として−（ＣＨ2）n'−（ｎ’＝１，２，３）、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−、１，２−フェニレン、５−カルボキシ−１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、６−メトキシ−１，３−フェニレン、−ＣＯＮＨＣ6Ｈ4−等を挙げることができる。
Ｘで表される解離性水素又は解離性水素を有する基は、一般式（Ｉ）で表される染料がハロゲン化銀写真感光材料中に添加された状態では、非解離であって、一般式（Ｉ）の染料を実質的に水不溶性にする特性を有し、該感光材料が現像処理される工程では、解離して一般式（Ｉ）の化合物を実質的に水可溶性にする特性を有する。Ｘで表される解離性水素を有する基の例としては、カルボン酸基、スルホンアミド基、スルファモイル基、スルホニルカルバモイル基、アシルスルファモイル基、フェノール性水酸基などを有する基を挙げることができる。Ｘで表される解離性水素はオキソノール色素のエノール基の水素等を挙げることができる。
ｙの好ましい範囲は、１〜５、特に好ましい範囲は、１〜３である。
一般式（Ｉ）で表される化合物のうち好ましいものは、Ｘにおける解離性水素を有する基がカルボン酸基を有する基であるものであり、特にカルボキシル基で置換されたアリール基を有する化合物が好ましい。
【００６６】
また、一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、より好ましいものは下記一般式（ＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ）で表される化合物である。
一般式（ＩＩ）
Ａ1＝Ｌ1−（Ｌ2＝Ｌ3）m1−Ｑ
一般式（ＩＩ）中、Ａ1は酸性核を表し、Ｑはアリール基又は複素環基を表し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン基を表し、ｍ１は０、１又は２を表す。但し、一般式（ＩＩ）の化合物は分子内に水溶性基としてカルボン酸基、スルホンアミド基、スルファモイル基、スルホニルカルバモイル基、アシルスルファモイル基、フェノール性水酸基及びオキソノール色素のエノール基からなる群の中より選ばれる基を１〜７個有する。
【００６７】
一般式（ＩＩＩ）
Ａ1＝Ｌ1−（Ｌ2＝Ｌ3）n1−Ａ2
一般式（ＩＩＩ）中、Ａ1及びＡ2は酸性核を表し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン基を表し、ｎ１は０、１、２又は３を表す。但し、一般式（ＩＩＩ）の化合物は分子内に水溶性基としてカルボン酸基、スルホンアミド基、スルファモイル基、スルホニルカルバモイル基、アシルスルファモイル基、フェノール性水酸基及びオキソノール色素のエノール基からなる群の中より選ばれる基を１〜７個有する。
【００６８】
以下、一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）について詳細に説明する。
Ａ１及びＡ２で表される酸性核は、環状のケトメチレン化合物又は電子吸引性基によって挟まれたメチレン基を有する化合物から誘導されるものが好ましい。環状のケトメチレン化合物の例としては、２−ピラゾリン−５−オン、ロダニン、ヒダントイン、チオヒダントイン、２，４−オキサゾリジンジオン、イソオキサゾロン、バルビツール酸、チオバルビツール酸、インダンジオン、ジオキソピラゾロピリジン、ヒドロキシピリドン、ピラゾリジンジオン、２，５−ジヒドロフランを挙げることができる。これらは置換基を有していてもよい。
電子吸引性基によって挟まれたメチレン基を有する化合物は、Ｚ1ＣＨ2Ｚ2と表すことができる。ここにＺ1及びＺ2はそれぞれ−ＣＮ、−ＳＯ2Ｒ１１、−ＣＯＲ11、−ＣＯＯＲ12、−ＣＯＮＨＲ12、−ＳＯ2ＮＨＲ12又は−Ｃ〔＝Ｃ（ＣＮ）2〕Ｒ11を表す。Ｒ11は、アルキル基、アリール基、又は複素環基を表し、Ｒ12は水素原子又はＲ11で表される基を表し、そして、これらはそれぞれ置換基を有していてもよい。
Ｑで表されるアリール基の例としては、フェニル基、ナフチル基を挙げることができる。これらはそれぞれ置換基を有していてもよい。Ｑで表される複素環基の例としては、ピロール、インドール、フラン、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、インドリジン、キノリン、カルバゾール、フェノチアジン、フェノキサジン、インドリン、チアゾール、ピリジン、ピリダジン、チアジアジン、ピラン、チオピラン、オキソジアゾール、ベンゾキノリン、チアジアゾール、ピロロチアゾール、ピロロピリダジン、テトラゾール、オキサゾール、クマリン、及びクマロンを挙げることができる。これらはそれぞれ置換基を有していてもよい。
Ｌ1、Ｌ2及びＬ3で表されるメチン基は、置換基を有していてもよく、その置換基同士が連結して５又は６員環（例えば、シクロペンテン、シクロヘキセン）を形成していてもよい。
上述した各基が有していてもよい置換基は、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の化合物をｐＨ５〜ｐＨ７の水に実質的に溶解させるような置換基でなければ特に制限はない。例えば、以下の置換基を挙げることができる。
カルボン酸基、炭素数１〜１０のスルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ｎ−オクタンスルホンアミド）、炭素数０〜１０の無置換又はアルキルもしくはアリール置換スルファモイル基（例えば、無置換のスルファモイル、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル、ナフチルスルファモイル、ブチルスルファモイル）、炭素数２〜１０のスルホニルカルバモイル基（例えば、メタンスルホニルカルバモイル、プロパンスルホニルカルバモイル、ベンゼンスルホニルカルバモイル）、炭素数１〜ｌ０のアシルスルファモイル基（例えば、アセチルスルファモイル、プロピオニルスルファモイル、ピバロイルスルファモイル、ベンゾイルスルファモイル）、炭素数１〜８の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、２−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチル、ベンジル、フェネチル、４−カルボキシベンジル、２−ジエチルアミノエチル）、炭素数２〜８のアルケニル基（例えば、ビニル、アリル）、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、炭素数０〜１０のアミノ基（例えば、無置換のアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、カルボキシエチルアミノ）、炭素数２〜１０のエステル基（例えば、メトキシカルボニル）、炭素数１〜１０のアミド基（例えば、アセチルアミノ、ベンズアミド）、炭素数１〜１０のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル）、炭素数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、ヒドロキシフェニル、４−カルボキシフェニル、３−カルボキシフェニル、３，５−ジカルボキシフェニル、４−メタンスルホンアミドフェニル、４−ブタンスルホンアミドフェニル）、炭素数６〜１０のアリーロキシ基（例えば、フェノキシ、４−カルボキシフェノキシ、３−メチルフェノキシ、ナフトキシ）、炭素数１〜８のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ナフチルチオ）、炭素数１〜１０のアシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、プロパノイル）、炭素数１〜１０のスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、炭素数１〜１０のウレイド基（例えば、ウレイド、メチルウレイド）、炭素数２〜１０のウレタン基（例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ）、シアノ基、水酸基、ニトロ基、複素環基（例えば、５−カルボキシベンゾオキサゾール環、ピリジン環、スルホラン環、ピロール環、ピロリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、ピリミジン環、フラン環）。
【００６９】
＜溶媒＞
感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。
本実施の形態の感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４に用いられる溶媒の含有量は、感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４に含まれる銀塩、バインダー等の合計の質量に対して３０〜９０質量％の範囲であり、５０〜８０質量％の範囲であることが好ましい。
【００７０】
＜その他の添加剤＞
本実施の形態に用いられる各種添加剤に関しては、特に制限は無く、公知のものを好ましく用いることができる。
［その他の層構成］
感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４の上に図示しない保護層を設けてもよい。本実施の形態において「保護層」とは、ゼラチンや高分子ポリマーといったバインダーからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために感光性を有する感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４上に形成される。その厚みは０．５μｍ以下が好ましい。保護層の塗布方法及び形成方法は特に限定されず、公知の塗布方法及び形成方法を適宜選択することができる。また、感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４よりも下に、例えばアンチハレーション層１２６を設けることもできる。
【００７１】
次に、導電シート１０の作製方法の各工程について説明する。
［露光］
上述したように、透明支持体１０２上に設けられた感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４を有する感光材料１００への両面同時露光を行う。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線等の光、Ｘ線等の放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長の光源を用いてもよい。より好ましくは、感光材料１００への両面同時露光する方法であるが、感光材料の両面にフォトマスクを配置し、平行光を用いて両面同時に露光する。
【００７２】
［現像処理］
本実施の形態では、感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４を露光した後、さらに現像処理が行われる。現像処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。現像液については特に限定はしないが、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもでき、市販品では、例えば、富士フイルム社処方のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社処方のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄ−１９、Ｄ−７２等の現像液、又はそのキットに含まれる現像液を用いることができる。また、リス現像液を用いることもできる。
本発明における現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。本発明における定着処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
上記定着工程における定着温度は、約２０℃〜約５０℃が好ましく、さらに好ましくは２５〜４５℃である。また、定着時間は５秒〜１分が好ましく、さらに好ましくは７秒〜５０秒である。定着液の補充量は、感光材料の処理量に対して６００ｍｌ／ｍ2以下が好ましく、５００ｍｌ／ｍ2以下がさらに好ましく、３００ｍｌ／ｍ2以下が特に好ましい。
現像、定着処理を施した感光材料は、水洗処理や安定化処理を施されるのが好ましい。上記水洗処理又は安定化処理においては、水洗水量は通常感光材料１ｍ2当り、２０リットル以下で行われ、３リットル以下の補充量（０も含む、すなわちため水水洗）で行うこともできる。
現像処理後の露光部に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。
本実施の形態における現像処理後の階調は、特に限定されるものではないが、４．０を超えることが好ましい。現像処理後の階調が４．０を超えると、光透過性部の透光性を高く保ったまま、導電性金属部の導電性を高めることができる。階調を４．０以上にする手段としては、例えば、前述のロジウムイオン、イリジウムイオンのドープが挙げられる。
以上の工程を経て導電シート１０は得られるが、得られた導電シート１０の表面抵抗は０．１〜１００オーム／ｓｑ．の範囲にあることが好まい。下限値は、１オーム／ｓｑ．以上、３オーム／ｓｑ．以上、５オーム／ｓｑ．以上、１０オーム／ｓｑ．であることが好ましい。上限値は、７０オーム／ｓｑ．以下、５０オーム／ｓｑ．以下であることが好ましい。このような範囲に表面抵抗を調整することで、面積が１０ｃｍ×１０ｃｍ以上の大型のタッチパネルでも位置検出を行うことができる。また、現像処理後の導電シート１０に対しては、さらにカレンダー処理を行ってもよく、カレンダー処理により所望の表面抵抗に調整することができる。
【００７３】
［物理現像及びめっき処理］
本実施の形態では、両面同時露光及び現像処理により形成された導電パターンの導電性を向上させる目的で、導電パターンに導電性金属粒子を担持させるための物理現像及び／又はめっき処理を行ってもよい。本発明では物理現像又はめっき処理のいずれか一方のみで導電性金属粒子を金属性銀部に担持させてもよく、物理現像とめっき処理とを組み合わせて導電性金属粒子を導電パターンに担持させてもよい。なお、導電パターンに物理現像及び／又はめっき処理を施したものを含めて「導電性金属部」と称する。
本実施の形態における「物理現像」とは、金属や金属化合物の核上に、銀イオン等の金属イオンを還元剤で還元して金属粒子を析出させることをいう。この物理現象は、インスタントＢ＆Ｗフイルム、インスタントスライドフイルムや、印刷版製造等に利用されており、本発明ではその技術を用いることができる。また、物理現像は、露光後の現像処理と同時に行っても、現像処理後に別途行ってもよい。
本実施の形態において、めっき処理は、無電解めっき（化学還元めっきや置換めっき）を用いることができる。本実施の形態における無電解めっきは、公知の無電解めっき技術を用いることができ、例えば、プリント配線板等で用いられている無電解めっき技術を用いることができ、無電解めっきは無電解銅めっきであることが好ましい。
【００７４】
［酸化処理］
本実施の形態では、現像処理後の導電パターン、並びに、物理現像及び／又はめっき処理によって形成された導電性金属部には、酸化処理を施すことが好ましい。酸化処理を行うことにより、例えば、光透過性部に金属が僅かに沈着していた場合に、該金属を除去し、光透過性部の透過性をほぼ１００％にすることができる。
【００７５】
［導電性金属部］
本実施の形態の導電パターンの線幅は、１μｍ以上２０μｍ以下がよいが、１μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。さらに好ましくは５μｍ以上１０μｍ以下、最も好ましくは５μｍ以上９μｍ以下である。線幅が上記下限値未満の場合には、導電性が不十分となるためタッチパネルに使用した場合に、検出感度が不十分となる。他方、上記上限値を越えると導電性金属部に起因するモアレが顕著になったり、タッチパネルに使用した際に視認性が悪くなったりする。なお、上記範囲にあることで、導電性金属部のモアレが改善され、視認性が特によくなる。線間隔（ここでは小格子１８の互いに対向する辺の間隔）は３０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、さらに好ましくは５０μｍ以上４００μｍ以下、最も好ましくは１００μｍ以上３５０μｍ以下である。また、導電性金属部は、アース接続等の目的においては、線幅は２００μｍより広い部分を有していてもよい。
本実施の形態における導電パターンは、可視光透過率の点から開口率（透過率）は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。開口率とは、第１大格子１６Ａ、第１接続部２２Ａ、第１絶縁部２８Ａの第１絶縁パターン３４Ａ、第２大格子１６Ｂ、第２接続部２２Ｂ、第２絶縁部２８Ｂにおける第２絶縁パターン３４Ｂ、小格子１８等の導電部を除いた透光性部分が全体に占める割合であり、例えば、線幅１５μｍ、ピッチ３００μｍの正方形の格子状の開口率は、９０％である。
【００７６】
［光透過性部］
本実施の形態における「光透過性部」とは、導電シート１０のうち導電パターン以外の透光性を有する部分を意味する。光透過性部における透過率は、前述のとおり、透明支持体１０２の光吸収及び反射の寄与を除いた３８０〜７８０ｎｍの波長領域における透過率の最小値で示される透過率が９０％以上、好ましくは９５％以上、さらに好ましくは９７％以上であり、さらにより好ましくは９８％以上であり、最も好ましくは９９％以上である。
露光方法に関しては、ガラスマスクを介した方法やレーザー描画によるパターン露光方式が好ましい。
【００７７】
［導電シート１０］
本実施の形態に係る導電シート１０における透明支持体１０２の厚さは、５〜３５０μｍであることが好ましく、３０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。５〜３５０μｍの範囲であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。
透明支持体１０２上に設けられる導電パターンの厚さは、透明支持体１０２上に塗布される感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４の塗布厚みに応じて適宜決定することができる。導電パターンの厚さは、０．００１ｍｍ〜０．２ｍｍから選択可能であるが、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、０．０１〜９μｍであることがさらに好ましく、０．０５〜５μｍであることが最も好ましい。また、導電パターンは１層でもよく、２層以上の重層構成であってもよい。２層以上の重層構成である場合、異なる波長に感光できるように、異なる感色性を付与することができる。これにより、露光波長を変えて露光すると、各層において異なるパターンを形成することができる。
導電パターンの厚さは、タッチパネルの用途としては、薄いほど表示パネルの視野角が広がるため好ましく、視認性の向上の点でも薄膜化が要求される。このような観点から、導電パターンに担持された導電性金属からなる層の厚さは、９μｍ未満であることが好ましく、０．１μｍ以上５μｍ未満であることがより好ましく、０．１μｍ以上３μｍ未満であることがさらに好ましい。
本実施の形態では、上述した感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４の塗布厚みをコントロールすることにより所望の厚さの導電パターンを形成し、さらに物理現像及び／又はめっき処理により導電性金属粒子からなる層の厚みを自在にコントロールできるため、５μｍ未満、好ましくは３μｍ未満の厚みを有する導電シート１０であっても容易に形成することができる。
なお、本実施の形態に係る導電シート１０の製造方法では、めっき等の工程は必ずしも行う必要はない。本実施の形態に係る導電シート１０の製造方法では銀塩乳剤層の塗布銀量、銀／バインダー体積比を調整することで所望の表面抵抗を得ることができるからである。なお、必要に応じてカレンダー処理等を行ってもよい。
【００７８】
（現像処理後の硬膜処理）
感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４に対して現像処理を行った後に、硬膜剤に浸漬して硬膜処理を行うことが好ましい。硬膜剤としては、例えば、グルタルアルデヒド、アジポアルデヒド、２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジオキサン等のジアルデヒド類及びほう酸等の特開平２−１４１２７９号公報に記載のものを挙げることができる。
導電シート１０には、反射防止層やハードコート層などの機能層を付与してもよい。
【００７９】
なお、本発明は、下記表１及び表２に記載の公開公報及び国際公開パンフレットの技術と適宜組合わせて使用することができる。「特開」、「号公報」、「号パンフレット」等の表記は省略する。
【００８０】
【表１】
0005661533.tif 000002
【００８１】
【表２】
0005661533.tif 000003
【実施例】
【００８２】
以下に、本発明の実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
［第１実施例］
実施例１〜７、比較例１、２について、透明支持体１０２の一方の主面に形成される第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び透明支持体１０２の他方の主面に形成される第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を変えて、両面同時露光の状態を評価した。なお、アンチハレーション層は設けていない。
【００８３】
＜実施例１＞
（ハロゲン化銀感光材料）
水媒体中のＡｇ１５０ｇに対してゼラチン１０．０ｇを含む、球相当径平均０．１μｍの沃臭塩化銀粒子（Ｉ＝０．２モル％、Ｂｒ＝４０モル％）を含有する乳剤を調製した。
また、この乳剤中にはＫ3Ｒｈ2Ｂｒ9及びＫ2ＩｒＣｌ6を濃度が１０-7（モル／モル銀）になるように添加し、臭化銀粒子にＲｈイオンとＩｒイオンをドープした。この乳剤にＮａ2ＰｄＣｌ4を添加し、さらに塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを用いて金硫黄増感を行った後、ゼラチン硬膜剤と共に、銀の塗布量（塗布銀量）を銀で換算して７ｇ／ｍ2となるように透明支持体１０２（ここでは、共にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））の両面に塗布した。この際、Ａｇ／ゼラチン体積比は２／１とした。
幅３０ｃｍのＰＥＴ支持体に２５ｃｍの幅で２０ｍ分塗布を行ない、塗布の中央部２４ｃｍを残すように両端を３ｃｍずつ切り落としてロール状のハロゲン化銀感光材料を得た。
【００８４】
（露光）
両面同時露光にて使用される第１フォトマスク１０８ａ及び第２フォトマスク１０８ｂの第１露光パターン１１８ａ及び第２露光パターン１１８ｂは、図１９Ａ及び図１９Ｂに示すように、第１方向（ｘ方向）に延びるスリット１８０の幅ｗが１０μｍの多数の直線状のパターンを第２方向（ｙ方向）にピッチＰｒ＝１００μｍで配列したパターンとした。さらに、第１露光パターン１１８ａと第２露光パターン１１８ｂとでは、スリット１８０がＰｒ／２だけずらした位置に形成されている。従って、両面同時露光によって第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂに形成されるパターンは、Ｐｒ／２だけずれることになる。露光は、上記第１露光パターン１１８ａ及び第２露光パターン１１８ｂを有する第１フォトマスク１０８ａ及び第２フォトマスク１０８ｂを介して高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光した。減光フィルタ（ＮＤフィルタ）として、濃度が１．２の減光フィルタを用いた。
【００８５】
（現像処理）
・現像液１Ｌ処方
ハイドロキノン                        ２０  ｇ
亜硫酸ナトリウム                      ５０  ｇ
炭酸カリウム                          ４０  ｇ
エチレンジアミン・四酢酸                ２  ｇ
臭化カリウム                            ３  ｇ
ポリエチレングリコール２０００          １  ｇ
水酸化カリウム                          ４  ｇ
ｐＨ                            １０．３に調整
・定着液１Ｌ処方
チオ硫酸アンモニウム液（７５％）    ３００  ｍｌ
亜硫酸アンモニウム・１水塩            ２５  ｇ
１，３−ジアミノプロパン・四酢酸        ８  ｇ
酢酸                                    ５  ｇ
アンモニア水（２７％）                  １  ｇ
ｐＨ                              ６．２に調整
上記処理剤を用いて露光済み感材を、富士フイルム社製自動現像機  ＦＧ−７１０ＰＴＳを用いて処理条件：現像３５℃  ３０秒、定着３４℃  ２３秒、水洗  流水（５Ｌ／分）の２０秒処理で行った。この現像処理によって、透明支持体の両面に多数の導電パターンが形成された導電シートを得た。導電パターンの配列ピッチは１００μｍ、厚みは２μｍ、線幅は１０μｍであった。これをサンプル１とした。
同様に、図１９Ａ及び図１９Ｂに示す第１露光パターン１１８ａ及び第２露光パターン１１８ｂとして、ピッチＰｒ＝２００μｍの露光パターンを用いて、両面同時露光及び現像処理を行って、透明支持体の両面に多数の導電パターン（配列ピッチ＝２００μｍ、厚み＝２μｍ、線幅＝１０μｍ）が形成された導電シートを得た。これをサンプル２とした。
同様に、図１９Ａ及び図１９Ｂに示す第１露光パターン１１８ａ及び第２露光パターン１１８ｂとして、ピッチＰｒ＝３００μｍの露光パターンを用いて、両面同時露光及び現像処理を行って、透明支持体の両面に多数の導電パターン（配列ピッチ＝３００μｍ、厚み＝２μｍ、線幅＝１０μｍ）が形成された導電シートを得た。これをサンプル３とした。
【００８６】
＜実施例２＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して７．８ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述の実施例１と同様にして、サンプル１〜３を作製した。
＜実施例３＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して９．０ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述の実施例１と同様にして、サンプル１〜３を作製した。
＜実施例４＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して１０．０ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述の実施例１と同様にして、サンプル１〜３を作製した。
＜実施例５＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して１５．０ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述の実施例１と同様にして、サンプル１〜３を作製した。
＜実施例６＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して２０．０ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述の実施例１と同様にして、サンプル１〜３を作製した。
＜実施例７＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して３０．０ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述の実施例１と同様にして、サンプル１〜３を作製した。
＜比較例１＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して２．０ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述の実施例１と同様にして、サンプル１〜３を作製した。
＜比較例２＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して３１．０ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述の実施例１と同様にして、サンプル１〜３を作製した。
【００８７】
＜評価＞
両面同時露光において、第２光源１１０ｂからの第２光１０６ｂが散乱光となって一方の主面側の第１感光層１０４ａに到達すると、図４に示すように、第１感光層１０４ａと透明支持体１０２との境界部分が広い範囲にわたって露光され、潜像１２０が形成される。その結果、図５に示すように、第１導電層１１６ａ間に第２光源１１０ｂからの第２光１０６ｂによる薄い導電層１２２が形成されることになる。この場合、隣接する第１導電層１１６ａ間の距離が実質的に狭くなり、隣接する第１導電層１１６ａ間の絶縁抵抗値が低下することとなる。
そこで、基準となるサンプルを作製し、この基準サンプルの隣接する導電パターン間の絶縁抵抗値を測定し、この絶縁測定値からどれだけ低下しているかをみることで、両面同時露光の状態を評価することができる。
【００８８】
（評価用基準サンプルの作製）
実施例１と同様のハロゲン化銀感光材料を調製した後、透明支持体１０２の一方の主面のみに感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４を形成し、第１フォトマスク１０８ａを介して片面露光を行い、さらに現像処理を行って、透明支持体１０２の一方の主面のみに多数の導電パターン（配列ピッチ＝１００μｍ）が形成された評価用基準サンプル１を作製し、同様にして、評価用基準サンプル２（配列ピッチ＝２００μｍ）及び評価用基準サンプル３（配列ピッチ＝３００μｍ）を作製した。
その後、評価用基準サンプル１について、隣接する導電パターン間の絶縁抵抗を測定するポイントを１０箇所選択し、これら１０箇所の絶縁抵抗を絶縁抵抗測定器を用いて測定し、その平均値を評価用基準サンプル１の絶縁抵抗値とした。評価用基準サンプル２及び３についても評価用基準サンプル１と同様にして、評価用基準サンプル２及び３の各絶縁抵抗値を求めた。
【００８９】
（評価方法）
実施例１のサンプル１について、隣接する導電パターン間の絶縁抵抗を測定するポイントを１０箇所選択し、これら１０箇所の絶縁抵抗を絶縁抵抗測定器を用いて測定し、その平均値を、実施例１のサンプル１の絶縁抵抗値とした。同様にして、実施例１のサンプル２及び３の絶縁抵抗値を求め、さらに、実施例２〜７並びに比較例１、２の各サンプル１〜３の各絶縁抵抗値を求めた。
そして、以下のように評価した。
（ａ）  サンプル１〜３の各絶縁抵抗値が、対応する評価用基準サンプル１〜３の絶縁抵抗値の１％未満の低下であれば、評価「◎」。
（ｂ）  サンプル１〜３の各絶縁抵抗値が、対応する評価用基準サンプル１〜３の絶縁抵抗値の２％以上３％未満の低下であれば、評価「○」。
（ｃ）  サンプル１〜３のいずれかが、対応する評価用基準サンプルの絶縁抵抗値の３％以上の低下であれば、評価「△」。例えば、サンプル２及び３の各絶縁抵抗値が、対応する評価用基準サンプル２及び３の絶縁抵抗値の３％未満の低下であるが、サンプル１の絶縁抵抗値が、対応する評価用基準サンプル１の絶縁抵抗値の３％以上の低下である場合等が該当する。
（ｄ）  サンプル１〜３の各絶縁抵抗値が、対応する評価用基準サンプル１〜３の絶縁抵抗値の３％以上の低下であれば、評価「×」。
【００９０】
（評価結果）
下記表３に示すように、実施例１〜７はいずれも、対応する評価用基準サンプルの絶縁抵抗値の３％未満の低下であり、特に、実施例４〜６は、対応する評価用基準サンプルの絶縁抵抗値の１％未満の低下であった。これは、導電パターンにほとんど薄い導電層１２２が形成されていないことを示しており、両面同時露光の状態が良好であることがわかる。
一方、比較例１は、対応する評価用基準サンプルの絶縁抵抗値の３％以上の低下であり、導電パターンに、絶縁抵抗値を３％以上低下させる薄い導電層が形成されていることがわかる。つまり、両面同時露光の状態が悪くなっている。
比較例２は、各サンプル１〜３のうち、配列ピッチが１００μｍ及び２００μｍのサンプル１及び２が、対応する評価用基準サンプルの絶縁抵抗値の３％以上の低下であった。これは、両面同時露光の再現性が悪く、安定に両面同時露光ができないことを示している。
【００９１】
【表３】
0005661533.tif 000004
【００９２】
［第２実施例］
実施例１１〜２０について、透明支持体１０２の一方の主面に形成される第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び透明支持体１０２の他方の主面に形成される第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂに含まれる色素の吸光度（光吸収染料の添加量）を変えて、両面同時露光の状態を評価した。
＜実施例１１＞
上述した実施例１に示すハロゲン化銀感光材料において、塗布銀量を銀で換算して７ｇ／ｍ2となるようにし、さらに以下の光吸収染料を添加して、感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれる色素の吸光度を０．１（無単位）にしたこと以外は、上述した実施例１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
（光吸収染料の組成あるいは種類）
特開２００７−１９９７０３号公報の請求項１の一般式（Ｉ）で表される染料の固体微粒子分散物を使用した。
＜実施例１２＞
光吸収染料を添加して、感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれる色素の吸光度を０．２（無単位）にしたこと以外は、上述した実施例１１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例１３＞
光吸収染料を添加して、感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれる色素の吸光度を０．８（無単位）にしたこと以外は、上述した実施例１１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例１４＞
光吸収染料を添加して、感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれる色素の吸光度を１．４（無単位）にしたこと以外は、上述した実施例１１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例１５＞
光吸収染料を添加して、感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれる色素の吸光度を１．５（無単位）にしたこと以外は、上述した実施例１１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例１６〜２０＞
実施例１６〜２０は、塗布銀量を銀で換算して５ｇ／ｍ2となるようにした点以外は、上述した実施例１１〜１５と同様にしてそれぞれサンプル１〜３を作製した。
【００９３】
＜評価＞
上述した第１実施例と同様の方法で評価を行った。
（評価結果）
下記表４に示すように、実施例１１〜２０はいずれも、対応する評価用基準サンプルの絶縁抵抗値の３％未満の低下であり、特に、実施例１３及び１８は、対応する評価用基準サンプルの絶縁抵抗値の１％未満の低下であった。これは、導電パターンにほとんど薄い導電層１２２が形成されていないことを示しており、両面同時露光の状態が良好であることがわかる。
【００９４】
【表４】
0005661533.tif 000005
【００９５】
［第３実施例］
第１感光層１０４ａが、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａと、該第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａと透明支持体１０２間に形成された第１アンチハレーション層１２６ａとを有し、第２感光層１０４ｂが、第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂと、該第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂと透明支持体１０２間に形成された第２アンチハレーション層１２６ｂとを有する実施例２１〜３１について、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量並びに第１アンチハレーション層１２６ａ及び第２アンチハレーション層１２６ｂに含まれる色素の吸光度（光吸収染料の添加量）を変えて、両面同時露光の状態を評価した。
光吸収染料として、下記固体分散染料Ａ及び水溶性染料Ｂを使用した。
【００９６】
（固体分散染料Ａ）
【化１】
0005661533.tif 000006
【００９７】
（水溶性染料Ｂ）
【化２】
0005661533.tif 000007
【００９８】
＜実施例２１＞
上述した実施例１において、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａと透明支持体１０２間に第１アンチハレーション層１２６ａを形成し、第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂと透明支持体１０２間に第２アンチハレーション層１２６ｂを形成し、さらに、第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して５ｇ／ｍ2となるようにし、また、第１アンチハレーション層１２６ａ及び第２アンチハレーション層１２６ｂへの固体分散染料Ａの塗布量を１００ｍｇ／ｍ2として、染料の吸光度を０．７５としたこと以外は、上述した実施例１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。なお、染料の吸光度は、アンチハレーション層のみを塗布したサンプルを別途製作し、ハロゲン化銀の感光波長である４２０ｎｍの吸光度を求めた。
＜実施例２２＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して６ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述した実施例２１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例２３＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して８ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述した実施例２１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例２４＞
第１アンチハレーション層１２６ａ及び第２アンチハレーション層１２６ｂへの固体分散染料Ａの塗布量を７０ｍｇ／ｍ2として、染料の吸光度を０．５２としたこと以外は、上述した実施例２１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例２５＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して６ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述した実施例２４と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例２６＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して８ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述した実施例２４と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例２７＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して１５ｇ／ｍ2となるようにし、さらに、第１アンチハレーション層１２６ａ及び第２アンチハレーション層１２６ｂへの固体分散染料Ａの塗布量を０ｍｇ／ｍ2として、染料の吸光度を０としたこと以外は、上述した実施例２１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例２８＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して６ｇ／ｍ2となるようにし、さらに、第１アンチハレーション層１２６ａ及び第２アンチハレーション層１２６ｂへの固体分散染料Ａの塗布量を１００ｍｇ／ｍ2とし、水溶性染料Ｂの塗布量を５０ｍｇ／ｍ2として、染料の吸光度を０．９としたこと以外は、上述した実施例２１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例２９＞
水溶性染料Ｂの塗布量を１００ｍｇ／ｍ2として、染料の吸光度を１．０としたこと以外は、上述した実施例２８と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例３０＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して１５ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述した実施例２９と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例３１＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して３ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述した実施例２９と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜実施例３２＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して８ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述した第１実施例における実施例１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜比較例２１＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して５ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述した第１実施例における実施例１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜比較例２２＞
第１感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ａ及び第２感光性ハロゲン化銀乳剤層１２４ｂの塗布銀量を銀で換算して６ｇ／ｍ2となるようにしたこと以外は、上述した第１実施例における実施例１と同様にしてサンプル１〜３を作製した。
＜評価＞
上述した第１実施例と同様の方法で評価を行った。
（評価結果）
下記表５に示すように、実施例２１〜３２はいずれも、対応する評価用基準サンプルの絶縁抵抗値の３％未満の低下であり、特に、実施例２３、２６〜３０は、対応する評価用基準サンプルの絶縁抵抗値の１％未満の低下であった。これは、導電パターンにほとんど薄い導電層１２２が形成されていないことを示しており、両面同時露光の状態が良好であることがわかる。
【００９９】
【表５】
0005661533.tif 000008
【０１００】
なお、本発明に係る導電シートの製造方法及びタッチパネルの製造方法は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。
【符号の説明】
【０１０１】
１０…導電シート                      ２６Ａ…第１導電パターン
２６Ｂ…第２導電パターン              ４２ａ…第１端子配線パターン
４２ｂ…第２端子配線パターン          １００…感光材料
１０２…透明支持体                    １０４ａ…第１感光層
１０４ｂ…第２感光層                  １０６ａ…第１光
１０６ｂ…第２光                      １０８ａ…第１フォトマスク
１０８ｂ…第２フォトマスク            １１０ａ…第１光源
１１０ｂ…第２光源                    １１４…導電シート
１１６ａ…第１導電層                  １１６ｂ…第２導電層
１１８ａ…第１露光パターン            １１８ｂ…第２露光パターン
１２４ａ…第１感光性ハロゲン化銀乳剤層
１２４ｂ…第２感光性ハロゲン化銀乳剤層
１２６ａ…第１アンチハレーション層    １２６ｂ…第２アンチハレーション層
１５０…センサ部                      １５２ａ…第１端子配線部
１５２ｂ…第２端子配線部              １６０ａ…第１導出部分
１６０ｂ…第２導出部分                １６２ａ…第１結合部分
１６２ｂ…第２結合部分                １７０…液晶表示パネル
【図１】
0005661533.tif 000009
【図２】
0005661533.tif 000010
【図３】
0005661533.tif 000011
【図４】
0005661533.tif 000012
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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