(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（２）；
【化１】
0005746732.tif 000061
（式中、Ｒ4は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。＊は不斉炭素原子である。）で表される光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体またはその塩の製造方法であって、
（ｉ）下記式（５）；
【化２】
0005746732.tif 000062
（式中、Ｒ1は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、又は置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、Ｒ2は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、又は置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。＊、Ｒ4は前記に同じ。）で表される光学活性オキサゾリンカルボン酸誘導体を、アルカリ加水分解することにより、下記式（１６）；
【化３】
0005746732.tif 000063
（式中、＊、Ｒ1、Ｒ4は前記に同じ。）で表される化合物を製造する工程、
（ｉｉ）前記式（１６）で表される化合物と下記式（６）；
【化４】
0005746732.tif 000064
で表されるシクロプロピルアミンを反応させることにより、下記式（１７）；
【化５】
0005746732.tif 000065
（式中、＊、Ｒ1、Ｒ4は前記に同じ。）で表される化合物を製造する工程、及び
（ｉｉｉ）前記式（１７）で表される化合物の３位のアミド基を選択的に加水分解（脱保護）することにより、前記式（２）で表される光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体またはその塩を製造する工程を、順次行うことを特徴とする光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体またはその塩の製造方法。
【請求項２】
前記化合物（５）で表される化合物が、下記式（７）；
【化６】
0005746732.tif 000066
（式中、＊、Ｒ2、Ｒ4は前記に同じ。）で表される化合物と下記式（４）；
Ｒ1ＣＮ  （４）
（式中、Ｒ1は前記に同じ。）で表されるニトリルを反応させて得られたものである、請求項１に記載の光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体またはその塩の製造方法。
【請求項３】
前記化合物（７）が、下記式（１１）；
【化７】
0005746732.tif 000067
（式中、＊、Ｒ2、Ｒ4は前記に同じ、Ｘはハロゲン原子を表す。）で表される光学活性２−ハロ−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体に塩基を作用させることにより得られたものである、請求項２に記載の光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体またはその塩の製造方法。
【請求項４】
前記化合物（１１）が、下記式（１０）；
【化８】
0005746732.tif 000068
（式中、Ｒ2、Ｒ4、Ｘは前記に同じ。）で表される２−ハロ−３−オキソプロピオン酸誘導体を不斉還元することにより得られたものである、請求項３に記載の光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体またはその塩の製造方法。
【請求項５】
前記不斉還元が、当該化合物を（２Ｒ,３Ｒ）選択的、又は（２Ｓ,３Ｓ）選択的に還元する能力を有する酵素源を作用させることにより行われることを特徴とする、請求項４に記載の光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体またはその塩の製造方法。
【請求項６】
前記（２Ｓ，３Ｓ）選択的な酵素源が、キャンディダ（Candida）属、デバリオマイセス（Debaryomyces）属、クルイベロマイセス（Kluyveromyces）属、メツクニコウィア（Metschnikowia）属、ピキア（Pichia）属、サッカロマイコプシス（Saccharomycopsis）属、ウィリオプシス（Williopsis）属、アクロモバクター（Achromobacter）属、アルスロバクター（Arthrobacter）属、アシディフィリウム（Acidiphilium）属、セルロモナス（Cellulomonas）属、デボシア（Devosia）属、ミクロバクテリウム（Microbacterium）属、ミクロコッカス（Micrococcus）属、オクロバクトラム（Ochrobactrum）属、オエルスコビア（Oerskovia）属、シュードモナス（Pseudomonas）属、パエニバシラス（Paenibacillus）属、ストレプトマイセス（Streptomyces）属、サッカロポリスポラ（Saccharopolyspora）属、アエゲリタ（Aegerita）属またはクリニペリス（Crinipellis）属に属する微生物由来の酵素源である、請求項５に記載の光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体またはその塩の製造方法。
【請求項７】
前記（２Ｒ，３Ｒ）選択的な酵素源が、アンブロシオジーマ（Ambrosiozyma）属、ブレッタノマイセス（Brettanomyces）属、キャンディダ（Candida）属、クリプトコッカス（Cryptococcus）属、デバリオマイセス（Debaryomyces）属、ハンセニアスポラ（Hanseniaspora）属、イサチェンキア（Issatchenkia）属、クルイベロマイセス（Kluyveromyces）属、クライシア（Kuraishia）属、オガタエア（Ogataea）属、パチソレン（Pachysolen）属、ピキア（Pichia）属、サッカロマイコデス（Saccharomycodes）属、サッカロマイコプシス（Saccharomycopsis）属、シゾサッカロマイセス（Schizosaccharomyces）属、サツルニスポラ（Saturnispora）属、トルラスポラ（Torulaspora）属、ウィリオプシス（Williopsis）属、チゴサッカロマイセス（Zygosaccharomyces）属、コリネバクテリウム（Corynebacterium）属、クラドスポリウム（Cladosporium）属、コルディセプス（Cordyceps）属、コリオラス（Coriolus）属、デンドリフィエラ（Dendryphiella）属、エメリセラ（Emericella）属、フサリウム（Fusarium）属、グロエオフィラム（Gloeophyllum）属、レンティヌラ（Lentinula）属、マクロフォーマ（Macrophoma）属、モナスカス（Monascus）属、ミロセシウム（Myrothecium）属、ナンニチア（Nannizzia）属、パヌス（Panus）属、ペニシリウム（Penicillium）属、プレクトスファエレラ（Plectosphaerella）属、ピクノポラス（Pycnoporus）属、ファネロカエテ（Phanerochaete）属、スコプラリオプシス（Scopulariopsis）属、アンベロプシス（Umbelopsis）属またはベルティシリウム（Verticillium）属に属する微生物由来の酵素源である、請求項５に記載の光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体またはその塩の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医薬品中間体として有用な光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体およびその塩の製造方法、並びにそれらの製造に有用な中間体に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体およびその塩の製造方法として、以下の例が知られている。
（１）Ｌ−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−ノルバリンを縮合剤存在下、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシアミンと反応させてワインレブ（ＷｅｉｎＲｅｂ）アミドへと変換し、これを還元してアルデヒドを得、これにシクロプロピルイソニトリルを付加させて、（２Ｓ，３Ｓ）−３−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−アセトキシヘキサン酸シクロプロピルアミドとした後に、アセチル基の脱保護、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基の脱保護を行い、３−アミノ−２−ヒドロキシ−ヘキサン酸シクロプロピルアミドの塩酸塩を取得する方法（特許文献１、特許文献２）。
（２）Ｌ−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−ノルバリン由来のアルデヒドに青酸を付加させ、次にｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基の脱保護とシアノ基の加水分解を行って、３−アミノ−２−ヒドロキシ−ヘキサン酸とし、窒素上をベンジロキシカルボニル保護した後に、縮合剤を用いてシクロプロピルアミンと縮合させ、加水素分解することにより、（２Ｓ，３Ｓ）−３−アミノ−２−ヒドロキシ−ヘキサン酸シクロプロピルアミドを取得する方法（特許文献３、非特許文献１）。
【０００３】
しかし、１）の方法は、高価なＬ−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−ノルバリンを出発原料として用い、還元工程においても高価で危険性の高い水素化リチウムアルミニウムを用いている点や、アルデヒドへの増炭工程において、入手困難なイソニトリル誘導体を用いている点において、現実的な方法とは言えない。
【０００４】
また、２）の方法においても、高価なＬ−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−ノルバリン誘導体を出発原料に用いている点や、猛毒の青酸を使用する点、更に窒素原子上の保護脱保護を繰り返すことで工程数が多い点から、経済性に劣る上、工業的に実施が困難であり、効率的な合成法とは言えない。
【０００５】
このように、現在知られている光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体およびその塩の製造方法は、いずれも経済性の面に大きな問題があり、工業的実施の観点からも実用的な方法ではなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】ＷＯ２００５／０５８８２１
【特許文献２】ＵＳ２００５／０１９７３０１
【特許文献３】ＷＯ２００５／０３５５２５
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Letters in Drug Design & Discovery, 2005, 118-123
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記に鑑み、本発明の目的は、医薬品中間体として有用な光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体およびその塩を、安価で入手容易な原料から簡便に製造でき、工業的生産に対して実用的な方法、並びに前記光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体およびその塩の製造に有用な中間体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記に鑑み鋭意検討を行った結果、医薬中間体として有用な３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体およびその塩を、安価且つ入手容易な原料から簡便に製造できる方法を開発するに至った。
【００１０】
すなわち本発明は、下記式（１）；
【００１１】
【化２７】
0005746732.tif 000002
【００１２】
（式中、＊は不斉炭素原子を表す。Ｒ1は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、又は置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。Ｒ4は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。）で表される光学活性オキサゾリンアミド誘導体に関する。
【００１３】
また、本発明は、下記式（３）；
【００１４】
【化２８】
0005746732.tif 000003
【００１５】
（式中、＊、Ｒ4は前記に同じ。）で表される光学活性エポキシアミド誘導体に関する。
【００１６】
また、本発明は、下記式（５）；
【００１７】
【化２９】
0005746732.tif 000004
【００１８】
（式中、＊、Ｒ1、Ｒ4は前記に同じ。Ｒ2は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、又は置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。）で表される光学活性オキサゾリンカルボン酸誘導体に関する。
【００１９】
また、本発明は、下記式（１３）；
【００２０】
【化３０】
0005746732.tif 000005
【００２１】
（式中、＊、Ｒ4は前記に同じ。Ｍ1はアルカリ金属を表す。）で表される光学活性エポキシカルボン酸塩に関する。
【００２２】
また、本発明は、下記式（１７）；
【００２３】
【化３１】
0005746732.tif 000006
【００２４】
（式中、＊、Ｒ1、Ｒ4は前記に同じ）で表される化合物に関する。
【００２５】
また、本発明は、下記式（１０）；
【００２６】
【化３２】
0005746732.tif 000007
【００２７】
（式中、Ｒ2、Ｒ4は前記に同じ。Ｘはハロゲン原子を表す。）で表される２−ハロ−３−オキソプロピオン酸誘導体を不斉還元することを特徴とする、下記式（１１）；
【００２８】
【化３３】
0005746732.tif 000008
【００２９】
（式中、＊、Ｒ2、Ｒ4、Ｘは前記に同じ。）で表される光学活性２−ハロ−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体の製造方法に関する。
【００３０】
また、本発明は、下記式（７）；
【００３１】
【化３４】
0005746732.tif 000009
【００３２】
（式中、＊、Ｒ2、Ｒ4は前記に同じ。）で表される光学活性エポキシカルボン酸誘導体と下記式（６）；
【００３３】
【化３５】
0005746732.tif 000010
【００３４】
で表されるシクロプロピルアミンを反応させることを特徴とする、前記式（３）で表される光学活性エポキシアミド誘導体の製造方法に関する。
【００３５】
また、本発明は、酸触媒の存在下、前記式（３）で表される光学活性エポキシアミド誘導体と下記式（４）；
Ｒ1ＣＮ  （４）
（式中、Ｒ1は前記に同じ）で表されるニトリルを反応させることを特徴とする、下記式（１）；
【００３６】
【化３６】
0005746732.tif 000011
【００３７】
（式中、＊、Ｒ1、Ｒ4は前記に同じ。）で表される光学活性オキサゾリンアミド誘導体の製造方法に関する。
【００３８】
また、本発明は、酸触媒存在下、前記式（７）で表される光学活性エポキシカルボン酸誘導体と前記式（４）で表されるニトリルを反応させることにより、前記式（５）で表される光学活性オキサゾリンカルボン酸誘導体を製造し、続いて前記式（６）で表されるシクロプロピルアミンと反応させることを特徴とする、前記式（１）で表される光学活性オキサゾリンアミド誘導体の製造方法に関する。
【００３９】
また、本発明は、前記式（１）で表される光学活性オキサゾリンアミド誘導体のオキサゾリン環を選択的に酸加水分解又は酸加アルコール分解することを特徴とする、下記式（２）；
【００４０】
【化３７】
0005746732.tif 000012
【００４１】
（式中、＊、Ｒ4は前記に同じ。）で表される光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体またはその塩の製造方法に関する。
【００４２】
また、本発明は、前記式（２）で表される光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体またはその塩の製造方法であって、（ｉ）前記式（５）で表される光学活性オキサゾリンカルボン酸誘導体を酸加水分解する工程、（ｉｉ）３位のアミノ基を保護する工程、（ｉｉｉ）前記式（６）;
【００４３】
【化３８】
0005746732.tif 000013
【００４４】
で表されるシクロプロピルアミンを縮合させる工程、（ｉｖ）脱保護する工程を順次行うか、または、（ｉ）前記式（５）で表される化合物をアルカリ加水分解する工程、（ｉｉ）前記式（６）で表されるシクロプロピルアミンを縮合させる工程、（ｉｉｉ）３位のアミド基の加水分解を行う工程を順次行うことからなる、前記式（２）で表される光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体およびその塩の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００４５】
本発明によれば、医薬品中間体として有用な光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体およびその塩を、安価で入手容易な原料から簡便に製造でき、工業的生産に対して実用的な方法、並びに前記光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体およびその塩の製造に有用な中間体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００４６】
本発明は下記スキームで表される全ての工程に関する。
【００４７】
【化３９】
0005746732.tif 000014
【００４８】
本発明において前記式（２）で表される化合物を得るためには、前記スキームに記載されたいずれの化合物を出発化合物としても良い。また、出発化合物に応じて、いずれの工程を実施するか適宜決定すればよい。
以下に、本発明を工程ごとに順を追って説明する。
【００４９】
工程１
本工程においては、下記式（１０）；
【００５０】
【化４０】
0005746732.tif 000015
【００５１】
で表される２−ハロ−３−オキソプロピオン酸誘導体を不斉還元することにより、下記式（１１）；
【００５２】
【化４１】
0005746732.tif 000016
【００５３】
で表される光学活性２−ハロ−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体を製造する。
【００５４】
原料の２−ハロ−３−オキソプロピオン酸誘導体は、市販されている３−オキソプロピオン酸誘導体を、例えば、塩化チオニル、塩化スルフリル、臭素、三臭化リン等のハロゲン化剤でハロゲン化することにより簡便に製造することができる。例えばTetrahedron Asymmetry, 16 (2005), 3124-3127に記載の方法に従って、塩化スルフリルを用いるとよい。
【００５５】
ここで、＊は不斉炭素原子を表す。Ｒ2は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、又は置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。置換基としては例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子等のハロゲン原子；ニトロ基が挙げられ、置換基の数は０〜３個が挙げられる。Ｒ2として好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ビニル基、アリル基、フェニル基、又はベンジル基が挙げられ、更に好ましくはＲ2が水素原子、メチル基、又はエチル基である。Ｘはハロゲン原子を表し、好ましくは塩素原子または臭素原子であり、更に好ましくは塩素原子である。
【００５６】
Ｒ4は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。置換基としては例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子等のハロゲン原子；ニトロ基、アミノ基、水酸基、チオール基等が挙げられ、置換基の数は０〜３個が挙げられる。Ｒ4として好ましくは、ｎ−プロピル基、シクロブチルメチル基、又はベンジル基であり、更に好ましくはｎ−プロピル基である。
【００５７】
本工程における不斉還元方法としては、前記化合物（１０）のカルボニル基を立体選択的に還元できる方法であれば特に限定されず、［１］光学活性化合物によって修飾されたヒドリド還元剤を用いて還元する方法、［２］不斉遷移金属触媒存在下に水素化する方法、［３］不斉金属触媒存在下に水素移動型で還元する方法、若しくは［４］微生物あるいは微生物由来の酵素を用いて還元する方法が挙げられる。
【００５８】
［１］の方法において、光学活性化合物によって修飾されたヒドリド還元剤としては、具体的には、光学活性酒石酸と水素化ホウ素ナトリウムから調製される還元剤、光学活性オキサボロリジン誘導体とボランから調製される還元剤、光学活性ケトイミナト型コバルト錯体と水素化ホウ素ナトリウムとテトラヒドロフラン−２−メタノールから調製される還元剤、光学活性１，１’−ビ−２−ナフトールと水素化リチウムアルミニウムから調製される還元剤等が挙げられる。
【００５９】
光学活性化合物によって修飾されたヒドリド還元剤の使用量としては、前記化合物（１０）に対して５倍モル量以下であり、更に好ましくは０．５〜２倍モル量である。
【００６０】
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒が挙げられ、これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。好ましくは、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒である。混合溶媒を用いる場合、その混合比率は特に制限されない。
【００６１】
反応温度として好ましくは、反応時間の短縮、還元の選択性向上、及び収率向上の観点から−１００〜６０℃であり、更に好ましくは−７８〜２０℃である。
【００６２】
反応の際の前記化合物（１０）、不斉還元剤、及び溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されない。
【００６３】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液から減圧、もしくは加圧ろ過にて遷移金属触媒を除去した後、減圧加熱等の操作により、反応溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、後続工程の収率、若しくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製方法により、さらに純度を高めても良い。
【００６４】
また、不斉遷移金属触媒存在下に水素化する場合（前記［２］の方法）、不斉遷移金属触媒としては、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、又は白金などの周期律表第VIII族元素の金属錯体が好ましく、錯体の安定性や入手の容易さ、経済性の観点からルテニウム錯体がより好ましい。該金属錯体中の不斉配位子としてはホスフィン系配位子が好ましく、ホスフィン系配位子として好ましくは二座配位子である。二座配位子として好ましくは、ＢＩＮＡＰ（２，２’−ビスジフェニルホスフィノ−１，１’−ビナフチル）；Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ（２，２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ−１，１’−ビナフチル）等のＢＩＮＡＰ誘導体；ＢＤＰＰ（２，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン）；ＤＩＯＰ（４，５−ビス（ジフェニルホスフィノメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン；ＢＰＰＦＡ（１−[１’、２−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル]エチルアミン）；ＣＨＩＲＡＰＨＯＳ（２，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン）；ＤＥＧＰＨＯＳ（１−置換−３，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ピロリジン）；ＤｕＰＨＯＳ（１，２−ビス（２，５−置換ホスホラノ）ベンゼン）；ＤＩＰＡＭＰ（１，２−ビス[（ｏ−メトキシフェニル）フェニルホスフィノ]エタン）等が挙げられ、更に好ましくはＢＩＮＡＰ（２，２’−ビスジフェニルホスフィノ−１，１’−ビナフチル）である。ここでＢＩＮＡＰ錯体として好ましくは、（ＢＩＮＡＰ）ＲｕＢｒ2、（ＢＩＮＡＰ）ＲｕＣｌ2、または[（ＢＩＮＡＰ）ＲｕＣｌ2]ＮＥｔ3等が挙げられる。
【００６５】
不斉遷移金属触媒の使用量として好ましくは、前記化合物（１０）に対して０．２倍モル量以下であり、更に好ましくは０．０５〜０．０００１倍モル量である。
【００６６】
本工程の水素圧として、好ましくは１〜１００ｋｇ／ｃｍ2であり、更に好ましくは１〜３０ｋｇ／ｃｍ2である。
【００６７】
反応溶媒としては、水；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒；シメチルプロピレンウレア等のウレア系溶媒；ヘキサメチルホスホン酸トリアミド等のホスホン酸トリアミド系溶媒が挙げられ、これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。好ましくは、水や、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒であり、より好ましくは、これらアルコール溶媒と水の混合溶媒である。更に好ましくはメタノールと水の混合溶媒である。
【００６８】
アルコール溶媒と水の混合溶媒を用いる場合、アルコール溶媒／水の混合比率は任意に選択できるが、好ましくはアルコール溶媒／水の容量比が１００／１〜１／１であり、更に好ましくは２０／１〜４／１である。
【００６９】
前記溶媒の使用量としては、前記化合物（１０）に対し、好ましくは５０倍重量以下、更に好ましくは５〜２０倍重量である。
【００７０】
反応温度として好ましくは、反応時間の短縮、還元の選択性向上、及び収率向上の観点から−２０〜１００℃であり、更に好ましくは０〜７０℃である。
【００７１】
反応の際の前記化合物（１０）、不斉還元剤、及び溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されない。
【００７２】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液から減圧、もしくは加圧ろ過にて遷移金属触媒を除去した後、減圧加熱等の操作により、反応溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、後続工程の収率、若しくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製方法により、さらに純度を高めても良い。
【００７３】
また、不斉遷移金属触媒存在下に水素移動型で還元する方法（前記［３］の方法）として具体的には、下記式（２４）；
【００７４】
【化４２】
0005746732.tif 000017
【００７５】
で表される光学活性ジアミン触媒存在下に水素供与性化合物を用いて実施される。
【００７６】
前記触媒（２４）において、＊は不斉炭素原子を表す。Ｍ2は遷移金属を表し、例えば、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、白金、ジルコニウム、チタン、クロム、コバルト、銅、ニッケル、亜鉛、マンガン、鉄、イッテルビウム、ランタン、サマリウム等が挙げられ、中でもルテニウム、ロジウム、イリジウムが好ましい。
【００７７】
Ｒ5、Ｒ6はそれぞれ同一、又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基を表し、Ｒ5とＲ6が一緒になって環を形成してもよい。
【００７８】
置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基としては例えば、フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基としては例えば、ベンジル基が挙げられる。Ｒ5とＲ6が一緒になって環を形成しているものとしては例えば、テトラメチレン基等が挙げられる。Ｒ5、Ｒ6としては反応の立体選択性の観点からフェニル基、又はテトラメチレン基が好ましい。
【００７９】
Ｒ7は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表し、具体的には前述のものが挙げられる。収率、立体選択性の観点から水素原子、又はメチル基が好ましく、より好ましくは水素原子である。
【００８０】
Ａｒは置換されていてもよい芳香族化合物を表し、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ヘキサメチルベンゼン、エチルベンゼン、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、ｐ−シメン、クメン、又はペンタメチルシクロペンタジエニル等が挙げられ、中でもベンゼン、メシチレン、又はｐ−シメンが好ましい。
【００８１】
Ｚはハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキルスルホニルオキシ基、置換基を有していてもよいアリールスルホニルオキシ基、又は置換基を有していてもよいアラルキルスルホニルオキシ基を表し、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、又はｐ−トルエンスルホニルオキシ基などが挙げられ、中でも塩素原子、又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基が好ましい。
【００８２】
Ｙは酸素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキルスルホニルアミド基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリールスルホニルアミド基、又は置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキルスルホニルアミド基を表し、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキルスルホニルアミド基としては例えば、メタンスルホニルアミド基、トリフルオロメタンスルホニルアミド基、又はカンファースルホニルアミド基等が挙げられる。
【００８３】
置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリールスルホニルアミド基としては例えば、ベンゼンスルホニルアミド基、ｐ−トルエンスルホニルアミド基、メシチレンスルホニルアミド基、ｐ−トリフルオロメチルベンゼンスルホニスアミド基、１−ナフタレンスルホニルアミド基、又は２−ナフタレンスルホニルアミド基等が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキルスルホニルアミド基としては例えば、ベンジルスルホニルアミド基等が挙げられる。中でも収率、立体選択性の観点からｐ−トルエンスルホニルアミド基、カンファースルホニルアミド基、メシチレンスルホニルアミド基、１−ナフタレンスルホニルアミド基、又は２−ナフタレンスルホニルアミド基が好ましい。
【００８４】
前記触媒（２４）として具体的には、例えば、ＲｕＣｌ[（Ｒ，Ｒ）−ＮｐＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体、ＲｕＣｌ[（Ｓ，Ｓ）−ＮｐＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体、ＲｕＯＴｆ[（Ｒ，Ｒ）−ＮｐＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体又はＲｕＯＴｆ[（Ｓ，Ｓ）−ＮｐＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体等が挙げられる。ここで、（Ｓ，Ｓ）−ＮｐＤＰＥＮとは（１Ｓ，２Ｓ）−Ｎ−モノ（１−ナフタレンスルホニル）−１，２−ジフェニルエチレンジアミンを表し、ＯＴｆとはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。例えば、ＲｕＣｌ[（Ｒ，Ｒ）−ＮｐＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体は下記式（２５）；
【００８５】
【化４３】
0005746732.tif 000018
【００８６】
で表され、ＲｕＯＴｆ[（Ｒ，Ｒ）−ＮｐＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体は下記式（２６）；
【００８７】
【化４４】
0005746732.tif 000019
【００８８】
で表される。
【００８９】
本工程で使用する前記触媒（２４）はJ. Am. Chem. Soc., 1996, 118, 2521に記載の方法に従って合成しても良いし、市販のものを用いても良い。本工程で使用する前記触媒（２４）は前もって調製し、単離精製したものを用いても良く、系中で調製したものをそのまま用いても良い。
【００９０】
本工程で使用する前記触媒（２４）の使用量は特に制限されないが、前記式（１０）で表される光学活性２−ハロ−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体に対して通常０．００００１〜１倍モル量であるが、好ましくは０．０００１〜０．２倍モル量である。
【００９１】
本工程で使用する水素供与性化合物としては、特に制限されないが例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等のアルコール；ギ酸；ギ酸ナトリウム、ギ酸アンモニウム等のギ酸塩などが挙げられ、特に収率の観点からギ酸、又はギ酸ナトリウムが好ましく、とりわけギ酸が好ましい。
【００９２】
本工程で使用する水素供与性化合物の使用量は特に制限されないが、前記一般式（１０）で示される光学活性２−ハロ−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体に対して通常１〜１００倍モル量であり、好ましくは１〜１０倍モル量である。
【００９３】
また、本工程は反応を促進させる目的で更に塩基を共存させてもよい。塩基としては例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、又は炭酸カリウム等の無機塩基；ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド；トリエチルアミン、トリメチルアミン、又はアンモニアなどのアミンが挙げられる。水素供与性化合物としてギ酸を使用する場合は塩基を共存させることが好ましく、トリエチルアミン、トリメチルアミン、又はアンモニアなどのアミンを共存させるとよい。特に好ましくはトリエチルアミンである。
【００９４】
本工程で塩基を使用する場合、その使用量に制限はないが、前記式（１０）で表される光学活性２−ハロ−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体に対して通常０．０１〜１００倍モル量であり、好ましくは０．１〜１０倍モル量であり、より好ましくは１〜１０倍モル量である。
【００９５】
本工程において水素供与性化合物が液体であったり、共存させる塩基が液体である場合は、特に反応溶媒は必要ではない。無溶媒で反応を行った方が短時間で反応を完結出来、触媒使用量を削減できる点で好ましいが、反応基質の溶解度が低い場合などは更に反応溶媒を使用してもよい。
【００９６】
反応溶媒は、反応を阻害しない溶媒であれば特に制限は無いが、例えば前述の炭化水素系溶媒；エステル系溶媒；ニトリル系溶媒；エーテル系溶媒；アミド系溶媒；スルホキシド系溶媒；ハロゲン系溶媒；アルコール溶媒；ギ酸、酢酸などのカルボン酸系溶媒；水が挙げられる。また、これらの溶媒の２種以上を混合して用いても良い。混合溶媒を用いる場合、その混合比に特に制限は無い。
【００９７】
反応を行う際の前記式（１０）で表される光学活性２−ハロ−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体の濃度は用いる反応溶媒によって異なるが、一般的には１〜９０重量％で反応を実施することが出来、好ましくは４〜３０重量％である。
【００９８】
本工程の反応温度は、用いる光学活性な遷移金属錯体及び水素供与性化合物の種類と使用量、反応溶媒の種類によって異なるが、通常は用いる反応溶剤の凝固点から沸点以下の範囲である。反応を短時間で完了させる為には温度を高めて実施するほうが良く、副反応を抑える観点からは温度を低く設定して実施するほうが良い。一般的には−２０〜１５０℃であり、好ましくは０〜７０℃である。
【００９９】
反応時の反応時間は用いる光学活性ジアミン触媒や水素供与性化合物の種類と使用量、反応溶媒の種類及び反応温度により異なるが、反応温度を０〜７０℃で実施した場合、通常１〜３６時間である。
【０１００】
本反応に用いる前記式（１０）で表される光学活性２−ハロ−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体、前記式（２４）で表される光学活性ジアミン、水素供与性化合物、塩基、及び反応溶媒等の混合順序は任意であり、特に制限されないが、前記式（１０）で表される光学活性２−ハロ−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体と前記式（２４）で表される光学活性ジアミンの混合物に、水素供与性化合物を添加する順序が好ましい。塩基を添加する場合も、前記式（１０）で表される光学活性２−ハロ−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体と前記式（２４）で表される光学活性ジアミンと塩基の混合物に水素供与性化合物を添加する順序が好ましい。水素供与性化合物は一括添加して反応させても良いし、連続的又は断続的に添加しながら反応させても良い。反応の進行に伴って気体が発生する場合は、安全性の面から、反応の進行に合わせて逐次添加するのが好ましい。
【０１０１】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液から減圧濾過、若しくは加圧濾過にて遷移金属触媒を除去した後、減圧加熱等の操作により、反応溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、後続工程の収率、若しくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製方法により、さらに純度を高めても良い。
【０１０２】
微生物、或いは微生物由来の酵素を用いて還元する場合（前記［４］の方法）においては、工業的に実施するには微生物由来の酵素を用いて還元する方法が好ましい。以下に、例えば前記化合物（１０）のカルボニル基を立体選択的に還元する能力を有する酵素源の存在下、前記化合物（１０）を立体選択的に還元することにより前記化合物（１１）を得る方法について説明する。
【０１０３】
ここで、「酵素源」とは、前記還元活性を有する酵素自体はもちろんのこと、前記還元活性を有する微生物の培養物およびその処理物も含まれる。「微生物の培養物」とは、菌体を含む培養液あるいは培養菌体を意味し、また、その処理物であってもよい。「その処理物」とは、例えば、粗抽出液、凍結乾燥菌体、アセトン乾燥菌体、またはそれら菌体の破砕物等を意味する。さらに前記酵素源は、公知の手段で固定化して、固定化酵素又は固定化菌体として用いることもできる。固定化は、当業者に周知の方法（例えば架橋法、物理的吸着法、包括法等）で行うことができる。
【０１０４】
本発明において、前記化合物（１０）のカルボニル基を（２Ｓ，３Ｓ）選択的に還元する能力を有する酵素源としては、キャンディダ（Candida）属、デバリオマイセス（Debaryomyces）属、クルイベロマイセス（Kluyveromyces）属、メツクニコウィア（Metschnikowia）属、ピキア（Pichia）属、サッカロマイコプシス（Saccharomycopsis）属、ウィリオプシス（Williopsis）属、アクロモバクター（Achromobacter）属、アルスロバクター（Arthrobacter）属、アシディフィリウム（Acidiphilium）属、セルロモナス（Cellulomonas）属、デボシア（Devosia）属、ミクロバクテリウム（Microbacterium）属、ミクロコッカス（Micrococcus）属、オクロバクトラム（Ochrobactrum）属、オエルスコビア（Oerskovia）属、シュードモナス（Pseudomonas）属、パエニバシラス（Paenibacillus）属、ストレプトマイセス（Streptomyces）属、サッカロポリスポラ（Saccharopolyspora）属、アエゲリタ（Aegerita）属またはクリニペリス（Crinipellis）属に属する微生物由来の酵素源が挙げられる。
【０１０５】
好ましくは、キャンディダ・エチェルシー（Candida etchellsii）、キャンディダ・グイリエルモンディー（Candida guilliermondii）、キャンディダ・ラクティス−コンデンシ（Candida lactis-condensi）、キャンディダ・オレオフィラ（Candida oleophila）、キャンディダ・ソラニ（Candida solani）、キャンディダ・フェルメンタティ（Candida fermentati）、デバリオマイセス・カルソニー（Debaryomyces carsonii）、デバリオマイセス・ロベルトシアエ（Debaryomyces robertsiae）、デバリオマイセス・カステリー（Debaryomyces castellii）、デバリオマイセス・ポリモルファス（Debaryomyces polymorphus）、クルイベロマイセス・サーモトレランス（Kluyveromyces thermotolerans）、メツクニコウィア・ビカスピダタ バー ビカスピダタ（Metschnikowia bicuspidatavar. bicuspidata）、ピキア・ボビス（Pichia bovis）、ピキア・アノマラ（Pichia anomala）、ピキア・ハプロフィア（Pichia haplophila）、サッカロマイコプシス・マランガ（Saccharomycopsis malanga）、ウィリオプシス・サツルナス バー スアベオレンス（Williopsis saturnus var. suaveolens）、アクロモバクター・キシロソキシダンス サブスピーシーズ デニトリフィカンス（Achromobacter xylosoxidans subsp. denitrificans）、アルスロバクター・クリスタロポイエテス（Arthrobacter crystallopoietes）、アルスロバクター・ニコチアナエ（Arthrobacter nicotianae）、アルスロバクター・プロトフォルミアエ（Arthrobacter protophormiae）、アシディフィリウム・クリプタム（Acidiphilium cryptum）、セルロモナス・スピーシーズ（Cellulomonas sp.）、セルロモナス・フェルメンタンス（Cellulomonas fermentans）、デボシア・リボフラビナ（Devosia riboflavina）、ミクロバクテリウム・アルボレセンス（Microbacterium arborescens）、ミクロコッカス・ルテウス（Micrococcus luteus）、オクロバクトラム・スピーシーズ（Ochrobactrum sp.）、オエルスコビア・ツルバタ（Oerskovia turbata）、シュードモナス・スツツェリ（Pseudomonas stutzeri）、シュードモナス・プチダ（Pseudomonas putida）、パエニバシラス・アルベイ（Paenibacillus alvei）、ストレプトマイセス・アウレウス（Streptomyces aureus）、ストレプトマイセス・カカオイ サブスピーシーズ アソエンシス（Streptomyces cacaoisubsp. asoensis）、ストレプトマイセス・コエレセンス（Streptomyces coelescens）、ストレプトマイセス・グリセオアウランティカス（Streptomyces griseoaurantiacus）、ストレプトマイセス・ハイドロゲナンス（Streptomyces hydrogenans）、ストレプトマイセス・サルモニス（Streptomyces salmonis）、サッカロポリスポラ・エリスラエア（Saccharopolyspora erythraea）、アエゲリタ・キャンディダ（Aegerita candida）またはクリニペリス・スティピタリア（Crinipellis stipitaria）等の微生物由来の酵素源が挙げられる。
【０１０６】
前記化合物（１０）のカルボニル基を（２Ｒ，３Ｒ）選択的に還元する能力を有する酵素源としては、アンブロシオジーマ（Ambrosiozyma）属、ブレッタノマイセス（Brettanomyces）属、キャンディダ（Candida）属、クリプトコッカス（Cryptococcus）属、デバリオマイセス（Debaryomyces）属、ハンセニアスポラ（Hanseniaspora）属、イサチェンキア（Issatchenkia）属、クルイベロマイセス（Kluyveromyces）属、クライシア（Kuraishia）属、オガタエア（Ogataea）属、パチソレン（Pachysolen）属、ピキア（Pichia）属、サッカロマイコデス（Saccharomycodes）属、サッカロマイコプシス（Saccharomycopsis）属、シゾサッカロマイセス（Schizosaccharomyces）属、サツルニスポラ（Saturnispora）属、トルラスポラ（Torulaspora）属、ウィリオプシス（Williopsis）属、チゴサッカロマイセス（Zygosaccharomyces）属、コリネバクテリウム（Corynebacterium）属、クラドスポリウム（Cladosporium）属、コルディセプス（Cordyceps）属、コリオラス（Coriolus）属、デンドリフィエラ（Dendryphiella）属、エメリセラ（Emericella）属、フサリウム（Fusarium）属、グロエオフィラム（Gloeophyllum）属、レンティヌラ（Lentinula）属、マクロフォーマ（Macrophoma）属、モナスカス（Monascus）属、ミロセシウム（Myrothecium）属、ナンニチア（Nannizzia）属、パヌス（Panus）属、ペニシリウム（Penicillium）属、プレクトスファエレラ（Plectosphaerella）属、ピクノポラス（Pycnoporus）属、ファネロカエテ（Phanerochaete）属、スコプラリオプシス（Scopulariopsis）属、アンベロプシス（Umbelopsis）属またはベルティシリウム（Verticillium）属に属する微生物由来の酵素源が挙げられる。
【０１０７】
好ましくは、アンブロシオジーマ・フィレントマ（Ambrosiozyma philentoma）、ブレッタノマイセス・カステルシアヌス（Brettanomyces custersianus）、キャンディダ・カンタレリー（Candida cantarellii）、キャンディダ・ハエムロニー（Candida haemulonii）、キャンディダ・ピニ（Candida pini）、キャンディダ・マリス（Candida maris）、キャンディダ・パラルゴサ（Candida pararugosa）、キャンディダ・ステラタ（Candida stellata）、キャンディダ・ゼイラノイデス（Candida zeylanoides）、クリプトコッカス・テレウス（Cryptococcus terreus）、デバリオマイセス・ネパレンシス（Debaryomyces nepalensis）、ハンセニアスポラ・バルビエンシス（Hanseniaspora valbyensis）、イサチェンキア・テリコラ（Issatchenkia terricola）、クルイベロマイセス・ラクティス バー ドロソフィラルム（Kluyveromyces lactisvar. drosophilarum）、クルイベロマイセス・ラクティス バー ラクティス（Kluyveromyces lactis var. lactis）、クライシア・カプスラタ（Kuraishia capsulata）、オガタエア・グルコザイマ（Ogataea glucozyma）、パチソレン・タンノフィラス（Pachysolen tannophilus）、ピキア・アングスタ（Pichia angusta）、ピキア・ホルスティー（Pichia holstii）、ピキア・ジャディニー（Pichia jadinii）、ピキア・パストリス（Pichia pastoris）、ピキア・ペテルソニー（Pichia petersonii）、ピキア・ローダネンシス（Pichia rhodanensis）、ピキア・ウィカーミー（Pichia wickerhamii）、ピキア・メンブラニファシエンス（Pichia membranifaciens）、ピキア・キシロサ（Pichia xylosa）、ロードトルラ・ミヌタ（Rhodotorula minuta）、サッカロマイセス・ユニスポラス（Saccharomyces unisporus）、サッカロマイセス・バヤヌス（Saccharomyces bayanus）、サッカロマイセス・セレビシエ ハンセン（Saccharomyces cerevisiaehansen）、サッカロマイセス・セレビシエ バー エリプソイデウス（Saccharomyces cerevisiae var. ellipsoideus）、サッカロマイセス・ウバラム（Saccharomyces uvarum）、サッカロマイセス・パストリアヌス（Saccharomyces pastorianus）、サッカロマイコデス・ルドウィジー（Saccharomycodes ludwigii）、サッカロマイコプシス・クラタエゲンシス（Saccharomycopsis crataegensis）、サッカロマイコプシス・ジャバネンシス（Saccharomycopsis javanensis）、シゾサッカロマイセス・ポンベ（Schizosaccharomyces pombe）、サツルニスポラ・ディスポラ（Saturnispora dispora）、トルラスポラ・グロボサ（Torulaspora globosa）、ウィリオプシス・サツルナス バー サツルナス（Williopsis saturnusvar. saturnus）、チゴサッカロマイセス・バイリー（Zygosaccharomyces bailii）、チゴサッカロマイセス・ロウキシー（Zygosaccharomyces rouxii）、コリネバクテリウム・フラベセンス（Corynebacterium flavescens）、コリネバクテリウム・グルタミカム（Corynebacterium glutamicum）、クラドスポリウム・レシナエ（Cladosporium resinae）、コルディセプス・サブセシリス（Cordyceps subsessilis）、コリオラス・コンソルス（Coriolus consors）、デンドリフィエラ・サリナ（Dendryphiella salina）、エメリセラ・ニドゥランス バー ニドゥランス（Emericella nidulans var. nidulans）、エメリセラ・アンガイス（Emericella unguis）、フサリウム・アングイオイデス（Fusarium anguioides）、グロエオフィラム・トラベウム（Gloeophyllum trabeum）、レンティヌラ・エドデス（Lentinula edodes）、マクロフォーマ・コメリナエ（Macrophoma commelinae）、モナスカス・プルプレウス（Monascus purpureus）、ミロセシウム・ベルカリ��（Myrothecium verrucaria）、ナンニチア・ジプセア バー インカーバタ（Nannizzia gypseavar. incurvata）、パヌス・ラコムテイ（Panus lacomtei）、ペニシリウム・ジャンシネラム（Penicillium janthinellum）、プレクトスファエレラ・ククメリナ（Plectosphaerella cucumerina）、ピクノポラス・コシネウス（Pycnoporus coccineus）、ファネロカエテ・クリソスポリウム（Phanerochaete chrysosporium）、リゾパス・ニベウス（Rhizopus niveus）、リゾパス・オリザエ（Rhizopus oryzae）、リゾパス・ストロニファー バー ストロニファー（Rhizopus stolonifer var. stolonifer）、スコプラリオプシス・ブレビカウリス（Scopulariopsis brevicaulis）、スポロトリカム・アウランティアカム（Sporotrichum aurantiacum）、アンベロプシス・ビナセア（Umbelopsis vinacea）またはベルティシリウム・ニベオストラトサム（Verticillium niveostratosum）等の微生物由来の酵素源が挙げられる。
【０１０８】
また、前記還元酵素の由来となる微生物としては、野生株または変異株のいずれでもよい。あるいは細胞融合または遺伝子操作等の遺伝学的手法により誘導される微生物も用いることができる。さらにはこれら微生物由来の還元酵素を生産する能力を有する組換え微生物であってもよい。該酵素を生産する組換え微生物は、例えば、これらの酵素を単離及び／または精製して酵素のアミノ酸配列の一部または全部を決定する工程、このアミノ酸配列に基づいて酵素をコードするＤＮＡ配列を得る工程、このＤＮＡを他の微生物に導入して組換え微生物を得る工程、及びこの組換え微生物を培養して、本酵素を得る工程を含有する方法により得ることができる（ＷＯ９８／３５０２５を参照）。
【０１０９】
前記のような組換え微生物としては、前記還元酵素をコードするＤＮＡを有するベクターで形質転換された形質転換微生物が挙げられる。また、宿主微生物としては大腸菌（Escherichia coli）が好ましい。より好ましくは、上記セルロモナス・スピーシーズ（Cellulomonas sp.）由来のグリセロール脱水素酵素で形質転換された大腸菌の培養物であり具体的には、セルロモナス・スピーシーズ（Cellulomonas sp.）ＫＮＫ０１０２株由来のグリセロール脱水素酵素遺伝子（ＷＯ２００５／１２３９２１を参照）を有するベクターで形質転換されたEscherichia coli HB101(pTSCS) 受託番号ＦＥＲＭ ＢＰ−１００２４（平成１６年５月１２日 茨城県つくば市東１−１−１ つくばセンター 中央第６ 独立行政法人 産業技術総合研究所 特許生物寄託センターに寄託されている）や、デボシア・リボフラビナ（Devosia riboflavina）ＮＢＲＣ１３５８４株由来のカルボニル還元酵素遺伝子（ＷＯ２００４／０２７０５５参照）を有するベクターで形質転換されたEscherichia coli HB101(pNTDR) 受託番号ＦＥＲＭ ＢＰ−０８４５７（平成１４年５月２９日 茨城県つくば市東１−１−１ つくばセンター 中央第６ 独立行政法人 産業技術総合研究所 特許生物寄託センターに寄託されている）等が挙げられる。
【０１１０】
酵素源として用いる微生物のための培養培地は、その微生物が増殖し得るものである限り特に限定されない。例えば、炭素源として、グルコース、シュークロース等の糖質、エタノール、グリセロール等のアルコール類、オレイン酸、ステアリン酸等の脂肪酸及びそのエステル類、菜種油、大豆油等の油類、窒素源として、硫酸アンモニウム、硝酸ナトリウム、ペプトン、カザミノ酸、コーンスティープリカー、ふすま、酵母エキスなど、無機塩類として、硫酸マグネシウム、塩化ナトリウム、炭酸カルシウム、燐酸１水素カリウム、燐酸２水素カリウムなど、他の栄養源として、麦芽エキス、肉エキス等を含有する通常の液体培地が使用することができる。培養は好気的に行い、通常、培養時間は１〜５日間程度、培地のｐＨが３〜９、培養温度は１０〜５０℃で行うことができる。
【０１１１】
本発明において、前記化合物（１０）のカルボニル基の還元反応は、適当な溶媒に基質となる前記化合物（１０）、補酵素ＮＡＤ（Ｐ）Ｈ及び前記微生物の培養物またはその処理物等を添加し、ｐＨ調整下攪拌することにより行うことができる。
【０１１２】
反応条件は用いる酵素、微生物またはその処理物、基質濃度等によって異なるが、通常、基質濃度は約０．１〜１００重量％、好ましくは１〜６０重量％であり、補酵素ＮＡＤ（Ｐ）Ｈは基質に対して０．０００００１〜１倍モル量、好ましくは０．００００１〜０．００１倍モル量、反応温度は１０〜６０℃、好ましくは２０〜５０℃であり、反応のｐＨは４〜９、好ましくは５〜８であり、反応時間は１〜１２０時間、好ましくは１〜７２時間で行うことができる。
【０１１３】
また、反応には有機系の溶媒を混合して用いてもよい。有機系溶媒としては、例えば、トルエン、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ヘキサン、イソプロパノール、メタノール、ジイソプロピルエーテル、アセトン、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。基質は一括または連続的に添加して行うことができる。
【０１１４】
また、反応はバッチ方式または連続方式で行うことができる。
【０１１５】
本発明の還元工程において、一般に用いられる補酵素ＮＡＤ（Ｐ）Ｈ再生系を組み合わせて用いることにより、高価な補酵素の使用量を大幅に減少させることができる。代表的なＮＡＤ（Ｐ）Ｈ再生系としては、例えば、グルコース脱水素酵素及びグルコースを用いる方法が挙げられる。
【０１１６】
還元酵素遺伝子及びこの酵素が依存する補酵素を再生する能力を有する酵素（例えばグルコース脱水素酵素）の遺伝子を同一宿主微生物内に導入した形質転換微生物、すなわち、本発明の還元酵素をコードするＤＮＡ及び該酵素が依存する補酵素を再生する能力を有する酵素（例えばグルコース脱水素酵素）の遺伝子を同一宿主微生物内に導入した形質転換微生物の培養物またはその処理物等を用いて、前記と同様の反応を行えば、別途に補酵素の再生に必要な酵素源を調製する必要がないため、より低コストで前記化合物（１１）を製造することができる。
【０１１７】
前記のような形質転換微生物としては、前記還元酵素をコードするＤＮＡ及び該酵素が依存する補酵素を再生する能力を有する酵素をコードするＤＮＡの両者を有するプラスミドで形質転換された形質転換微生物が挙げられる。ここで、補酵素を再生する能力を有する酵素としては、グルコース脱水素酵素が好ましく、バシラス・メガテリウム（Bacillus megaterium）由来のグルコース脱水素酵素がより好ましい。また、宿主微生物としては大腸菌（Escherichia coli）が好ましい。そのような好ましい形質転換微生物として、Escherichia coli HB101(pTSCSG1)（ＷＯ２００５／１２３９２１を参照）や、Escherichia coli HB101(pNTRDG1) 受託番号ＦＥＲＭ ＢＰ−０８４５８（平成１４年５月２９日 茨城県つくば市東１−１−１ つくばセンター 中央第６ 独立行政法人 産業技術総合研究所 特許生物寄託センターに寄託されている）が挙げられる。
【０１１８】
形質転換微生物の培養は、それらが増殖する限り、通常の、炭素源、窒素源、無機塩類、有機栄養素などを含む液体栄養培地を用いて実施できる。また、形質転換微生物中の補酵素再生能を有する酵素の活性は、常法により測定することができる。例えば、グルコース脱水素酵素の活性は、１Ｍのトリス塩酸緩衝液（ｐＨ８．０）に、１００ｍＭのグルコース、２ｍＭの補酵素ＮＡＤＰまたはＮＡＤ、および酵素を添加し、２５℃で１分間反応させた際の、波長３４０ｎｍにおける吸光度の増加速度から算出できる。
【０１１９】
なお、本発明の還元工程を、補酵素再生系と組み合わせて実施する、または、酵素源として前記形質転換微生物の培養物もしくはその処理物を用いる場合は、補酵素として、より安価な酸化型のＮＡＤ（Ｐ）を添加して反応を行うことも可能である。
【０１２０】
還元反応で生じた前記化合物（１１）は、定法により精製することが出来る。例えば、反応液を遠心分離、ろ過等の処理を施して菌体等の懸濁物を除去し、次いで一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行う。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、後続工程の収率、若しくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製手法により、さらに純度を高めてもよい。
【０１２１】
工程２
本工程では、前記式（１１）で表される光学活性２−ハロ−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体に塩基を作用させて環化させることにより、下記式（７）；
【０１２２】
【化４５】
0005746732.tif 000020
【０１２３】
で表される光学活性エポキシカルボン酸誘導体を製造する。ここで、＊、Ｒ2、Ｒ4は前記に同じである。なお、前記化合物（１１）については、工程１で製造したものを用いてもよいし、別途入手したものでも良い。
【０１２４】
ここで、前記塩基としては特に制限されないが、トリエチルアミン、トリｎ−ブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン等の第３級アミン類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩；リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキシドを用いることができる。好ましくは１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシドであり、更に好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシドである。
【０１２５】
前記塩基の使用量として、好ましくは前記化合物（１１）に対して、０．５〜１０倍モル量であり、更に好ましくは０．５〜５倍モル量である。
【０１２６】
反応溶媒としては、水；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒；シメチルプロピレンウレア等のウレア系溶媒；ヘキサメチルホスホン酸トリアミド等のホスホン酸トリアミド系溶媒が挙げられ、これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。好ましくは、水；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒である。
【０１２７】
前記溶媒の使用量としては、前記化合物（１１）に対し、好ましくは５０倍重量以下、更に好ましくは２０倍重量以下である。
【０１２８】
反応の際の前記化合物（１１）、塩基、及び反応溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されない。
【０１２９】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液に水、または必要に応じて塩酸水溶液、硫酸水溶液等の酸水溶液を加えて中和し、一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行う。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、後続工程の収率、若しくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製手法により、さらに純度を高めてもよい。
【０１３０】
なお、本工程において得られる前記化合物（７）の立体化学については、第３級アミン類、金属炭酸塩、又は金属水酸化物を塩基に用いた場合、前記化合物（１１）のジアステレオマー比がほぼそのまま生成物である前記化合物（７）のジアステレオマー比に反映される。即ち、（２Ｒ，３Ｒ）の前記化合物（１１）からは（２Ｓ，３Ｒ）の前記化合物（７）が得られ、（２Ｓ，３Ｒ）の前記化合物（１１）からは（２Ｒ，３Ｒ）の前記化合物（７）が得られる。また、（２Ｓ，３Ｓ）の前記化合物（１１）からは（２Ｒ，３Ｓ）の前記化合物（７）が得られ、（２Ｒ，３Ｓ）の前記化合物（１１）からは（２Ｓ，３Ｓ）の前記化合物（７）が得られる。
【０１３１】
一方、金属アルコキシドを塩基に用いた場合は、２位のエピメリ化を伴いながら反応が進行するため、原料である前記化合物（１１）のジアステレオ比に依らず、高選択的にトランス体の前記化合物（７）が得られる。即ち、（２Ｒ，３Ｒ）の前記化合物（１１）および（２Ｓ，３Ｒ）の前記化合物（１１）からは（２Ｓ，３Ｒ）の前記化合物（７）が得られ、（２Ｓ，３Ｓ）の前記化合物（１１）および（２Ｒ，３Ｓ）の前記化合物（１１）からは（２Ｒ，３Ｓ）の前記化合物（７）が得られる。
【０１３２】
前記化合物（７）の立体化学として好ましくは、（２Ｓ，３Ｒ）又は（２Ｒ，３Ｓ）である。
【０１３３】
工程３
本工程では、前記式（７）で表される光学活性エポキシカルボン酸誘導体に、下記式（６）；
【０１３４】
【化４６】
0005746732.tif 000021
【０１３５】
で表されるシクロプロピルアミンを反応させることにより、下記式（３）；
【０１３６】
【化４７】
0005746732.tif 000022
【０１３７】
で表される光学活性エポキシアミド誘導体を製造する。ここで、＊、Ｒ4は前記に同じである。
【０１３８】
なお、本工程で得られる前記化合物（３）は、医薬中間体として有用な文献未記載の新規化合物である。
【０１３９】
前記化合物（７）の入手方法については特に限定されないが、例えばＵＳ５７７３６２９に記載の方法に従って、アルデヒドとクロロ酢酸エステルのＤａｒｚｅｎｓ反応によってラセミ体の前記化合物（７）を合成し、リパーゼ等の微生物由来の酵素によって光学分割することにより、光学活性な前記化合物（７）を製造してもよく、またJ. Am. Chem. Soc., 1987, 109, 5765に記載の方法に従って、アリルアルコール誘導体を不斉エポキシ化した後に、水酸基を酸化することにより、光学活性な前記化合物（７）を製造してもよい。好ましくは、前記工程２で製造したものを用いると良い。
【０１４０】
本工程は、
［１］前記化合物（７）とシクロプロピルアミンを直接反応させることによって前記化合物（３）を製造するか、
又はＲ2が水素である前記化合物（７）については、［２］脱水縮合剤を用いてシクロプロピルアミンと縮合させるか、
又は［３］酸ハロゲン化物または混合酸無水物に誘導してからシクロプロピルアミンと反応させてもよい。
【０１４１】
まずは、シクロプロピルアミンと直接反応させることによって、前記化合物（３）を製造する方法（［１］の方法）について説明する。
【０１４２】
シクロプロピルアミンの使用量としては、前記化合物（７）に対して、好ましくは１〜５０倍モル量であり、更に好ましくは１〜２０倍モル量である。
【０１４３】
反応温度として好ましくは、反応時間短縮、及び収率向上の観点から−２０〜２００℃であり、更に好ましくは０〜１００℃である。
【０１４４】
反応時間として好ましくは、収率向上の観点から５分〜４８時間であり、更に好ましくは２時間〜２４時間である。
【０１４５】
反応時の圧力として好ましくは、１〜２０気圧であり、更に好ましくは１〜５気圧である。
【０１４６】
本工程の反応溶媒としては、シクロプロピルアミンをそのまま反応溶媒として使用してもよいし、又はテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒；ジメチルプロピレンウレア等のウレア系溶媒；ヘキサメチルホスホン酸トリアミド等のホスホン酸トリアミド系溶媒を用いてもよい。好ましくは、エタノール、テトラヒドロフラン、トルエン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上併用する場合、その混合比は特に制限されない。前記反応溶媒の使用量としては、前記化合物（７）に対し、好ましくは５０倍重量以下、更に好ましくは２０倍重量以下である。
【０１４７】
反応の際の前記化合物（７）、シクロプロピルアミン、及び反応溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されない。
【０１４８】
次に、Ｒ2が水素である前記化合物（７）とシクロプロピルアミンを脱水縮合剤で縮合させる方法（［２］の方法）について説明する。
【０１４９】
脱水縮合剤としては、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドの塩酸塩、ジイソプロピルカルボジイミド、１−[ビス（ジメチルアミノ）メチレン]−１Ｈ−１，２，３−トリアゾロ（４，５−ｂ）ピリジニウム３−オキシドヘキサフルオロホスファート、ブロモトリス（ピロリジノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスファート等が挙げられる。反応の後処理が容易であるという点から、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド又はその塩酸塩を用いるのが好ましい。
【０１５０】
脱水縮合剤の使用量としては、前記化合物（７）に対して、１〜５倍モル量であり、好ましくは１〜２倍モル量である。前記添加剤の使用量としては、前記化合物（７）に対して、０．５〜５倍モル量であり、好ましくは１〜２倍モル量である。
【０１５１】
前記シクロプロピルアミンの使用量としては、前記化合物（７）に対して、好ましくは１〜１０倍モル量であり、更に好ましくは１〜４倍モル量である。
【０１５２】
本工程の反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒；ジメチルプロピレンウレア等のウレア系溶媒；ヘキサメチルホスホン酸トリアミド等のホスホン酸トリアミド系溶媒を用いてもよい。好ましくは、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、トルエン、塩化メチレン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上併用する場合、その混合比は特に制限されない。
【０１５３】
反応溶媒の使用量としては、前記化合物（７）に対して、好ましくは５０倍重量以下、更に好ましくは２０倍重量以下である。
【０１５４】
反応温度として好ましくは、反応時間短縮、及び収率向上の観点から−２０〜１００℃であり、更に好ましくは０〜７０℃である。
【０１５５】
反応時間として好ましくは、収率向上の観点から５分〜２０時間であり、更に好ましくは３０分〜５時間である。
【０１５６】
本方法においては、反応時間の短縮、反応収率の向上、副生物の抑制、または反応温度の低下のいずれかを改善する目的で、更に添加剤を加えても良い。
【０１５７】
そのような添加剤としては、例えば、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、６−クロロ−１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、３，４−ジヒドロ−３−ヒドロキシ−４−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアゾジン、１−ヒドロキド−７−アザベンゾトリアゾール、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等が挙げられる。
【０１５８】
なお、反応の際の前記化合物（７）、脱水縮合剤、添加剤、シクロプロピルアミン、及び反応溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されるものではない。
【０１５９】
次に、Ｒ2が水素である前記化合物（７）を酸ハロゲン化物または混合酸無水物に誘導してからシクロプロピルアミンと反応させる方法（［３］の方法）について説明する。
【０１６０】
酸ハロゲン化物としては、酸塩化物、酸臭化物、酸フッ化物等が挙げられる。好ましくは酸塩化物である。酸ハロゲン物の調製方法としては特に制限されないが、例えば第５版実験化学講座１６（日本化学会編、丸善株式会社出版）１０１−１０４頁に記載の方法に従って調製できる。例えば、酸塩化物は、前記化合物（７）に塩化チオニルを作用させることによって調製することができる。塩化チオニルの使用量としては、前記化合物（７）に対して、好ましくは１〜１０倍モル量であり、さらに好ましくは１〜４倍モル量である。
【０１６１】
混合酸無水物としては、酢酸、トリフルオロ酢酸、ピバリン酸、安息香酸等のカルボン酸との無水物；メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ｍ−ニトロベンゼンスルホン酸等のスルホン酸との無水物；メトキシカルボン酸、エトキシカルボン酸、イソプロポキシカルボン酸、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボン酸、ベンジロキシカルボン酸、フェノキシカルボン酸等のアルコキシカルボン酸との無水物が挙げられる。好ましくはピバリン酸との無水物；メトキシカルボン酸、エトキシカルボン酸、イソプロポキシカルボン酸、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボン酸、ベンジロキシカルボン酸、フェノキシカルボン酸等のアルコキシカルボン酸との無水物であり、更に好ましくはピバリン酸との無水物、又はエトキシカルボン酸との無水物である。
【０１６２】
混合酸無水物の調製方法としては特に制限されないが、例えば上記の方法によって前記化合物（７）を酸塩化物とし、第５版実験化学講座１６（日本化学会編、丸善株式会社出版）１０７−１１７頁に記載の方法に従い、それに前記カルボン酸塩を作用させることによって混合酸無水物とすることができる。ここでカルボン酸塩としては、ナトリウム塩、又はカリウム塩が好ましい。カルボン酸塩の使用量としては、化合物（７）の酸塩化物に対して、好ましくは１〜５倍モル量であり、さらに好ましくは１〜２倍モル量である。
【０１６３】
また、前記カルボン酸との無水物、特にピバリン酸との無水物は、前記化合物（７）を後述する塩基の存在下、塩化ピバロイルと反応させることによっても調製できる。
【０１６４】
更に前記アルコキシカルボン酸との無水物は、前記化合物（７）を、後述する塩基の存在下、塩化メトキシカルボニル、塩化エトキシカルボニル、塩化イソプロポキシカルボニル、塩化ベンジロキシカルボニル、塩化フェニキシカルボニル等の塩化アルコキシカルボニル；二炭酸ジエチル、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル、二炭酸ジベンジル等の二炭酸ジアルキルと反応させることにより調製できる。好ましくは塩化メトキシカルボニル、塩化エトキシカルボニル、塩化イソプロポキシカルボニル、塩化ベンジロキシカルボニルと反応させて調製したアルコキシカルボン酸との無水物である。
【０１６５】
ここで、前記塩基については特に制限されないが、第３級アミン類が好ましく、例えばトリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。更に好ましくはトリエチルアミンである。塩基の使用量としては、前記化合物（７）に対して、好ましくは１〜１０倍モル量であり、更に好ましくは１〜４倍モル量である。
【０１６６】
塩化アルコキシカルボニルあるいは二炭酸ジアルキルの使用量としては、前記化合物（７）に対して、好ましくは１〜１０倍モル量であり、更に好ましくは１〜４倍モル量である。
【０１６７】
［３］の方法において、シクロプロピルアミンの使用量としては、前記化合物（７）に対して、好ましくは１〜１０倍モル量であり、更に好ましくは１〜４倍モル量である。
【０１６８】
本工程の反応溶媒としては、Ｒ2が水素である前記化合物（７）とシクロプロピルアミンを脱水縮合剤で縮合させる際に用いた溶媒と同様のものを挙げることができる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上併用する場合、その混合比は特に制限されない。前記反応溶媒の使用量としては、前記化合物（７）に対し、好ましくは５０倍重量以下、更に好ましくは２０倍重量以下である。
【０１６９】
反応温度として好ましくは、反応時間短縮、及び収率向上の観点から−５０〜８０℃であり、更に好ましくは−２５〜５０℃である。
【０１７０】
反応時間として好ましくは、収率向上の観点から５分〜２０時間であり、更に好ましくは３０分〜５時間である。
【０１７１】
反応の際の前記化合物（７）、塩基、塩化アルコキシカルボニルあるいは二炭酸ジアルキル、シクロプロピルアミン、及び反応溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されない。
【０１７２】
前述の各反応（［１］〜［３］の方法）後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液に水、また必要に応じて水酸化ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液等のアルカリ水溶液、あるいは塩酸水溶液、硫酸水溶液等の酸水溶液を加えて中和し、一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行う。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、後続工程の収率、若しくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製手法により、さらに純度を高めてもよい。
【０１７３】
なお、Ｒ2が水素原子でない前記化合物（７）を加水分解して、Ｒ2が水素である前記化合物（７）に変換した後、シクロプロピルアミンと脱水縮合剤で縮合させるか、又は酸ハロゲン物あるいは混合酸無水物に誘導してからシクロプロピルアミンと反応させる方法も本発明に含まれるのは、いうまでもない。
【０１７４】
この場合、化合物（７）を加水分解する方法としては例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶液を用いる方法が挙げられる。なお、本加水分解反応は前記工程２で説明した環化反応と同時に行うこともできる。
【０１７５】
アルカリ金属水酸化物の使用量は、前記化合物（７）に対して、好ましくは１〜５０倍モル量であり、更に１〜１０倍モル量である。
【０１７６】
また、水の使用量はアルカリ金属水酸化物に対して、好ましくは１〜５０倍重量であり、更に好ましくは１〜１０倍重量である。
【０１７７】
反応温度としては、反応時間短縮、及び収率向上の観点から、好ましくは０〜１００℃であり、更に好ましくは２０〜７０℃である。
【０１７８】
反応時間として好ましくは、収率向上の観点から５分〜２０時間であり、更に好ましくは３０分〜５時間である。
【０１７９】
反応後の処理としては例えば、反応液をそのまま減圧加熱等の操作により濃縮して、下記式（１３）；
【０１８０】
【化４８】
0005746732.tif 000023
【０１８１】
で表される光学活性エポキシカルボン酸塩を固体として単離してもよい。ここで、＊、Ｒ4は前記に同じである。Ｍ1はリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム等のアルカリ金属であり、好ましくはナトリウム又はカリウムである。なお、前記化合物（１３）は文献未記載の新規化合物である。
【０１８２】
化合物（１３）の単離法としては、反応液から減圧加熱等により反応溶媒を留去して乾固させるか、又は反応液にメタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、又はアセトニトリル等の溶剤を加えて結晶を析出させ、単離する方法等が挙げられる。
【０１８３】
前記式（１３）で表される光学活性エポキシカルボン酸塩は、上記方法で製造することができるが、もちろん、前記式（７）においてＲ2が水素の化合物に、前記のアルカリ金属水酸化物の水溶液を反応させて製造してもよい。
【０１８４】
単離した化合物（１３）は、塩酸水溶液、硫酸水溶液等の酸水溶液を加えて中和し、一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行う。得られた抽出液から、減圧加熱等の操作により反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると、Ｒ2が水素である前記化合物（７）が得られる。又、前記化合物（１３）の単離を行わずに前記後処理を行って、Ｒ2が水素である前記化合物（７）を得てもよい。
【０１８５】
また、前記式（１３）で表される光学活性エポキシカルボン酸塩と、塩化ピバロイル、塩化アルコキシカルボニルあるいは二炭酸ジアルキルを反応させることにより、Ｒ2が水素である前記化合物（７）を経由せずに直接、アルコキシカルボン酸との無水物を調製してもよい。前記アルコキシカルボン酸との無水物とシクロプロピルアミンとの反応については、前記に同じである。
【０１８６】
なお、本工程において得られる前記化合物（３）の立体化学については、前記化合物（７）の立体化学がそのまま維持される。即ち、前記化合物（３）の立体化学として好ましくは、（２Ｓ，３Ｒ）又は（２Ｒ，３Ｓ）である。
【０１８７】
工程４
本工程では、前記式（３）で表される光学活性エポキシアミド誘導体に酸触媒存在下、下記式（４）；
Ｒ1ＣＮ  （４）
で表されるニトリルを作用させることにより、下記式（１）；
【０１８８】
【化４９】
0005746732.tif 000024
【０１８９】
で表される光学活性オキサゾリンアミド誘導体を製造する。ここで、＊、Ｒ4は前記に同じである。Ｒ1は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、又は置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。置換基としては例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子等のハロゲン原子が挙げられ、置換基の数は０〜３個が挙げられる。Ｒ1として具体的には例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル、トリクロロメチル基、ビニル基、アリル基、フェニル基、又はベンジル基が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、クロロメチル基、フェニル基、又はベンジル基である。更に好ましくはイソプロピル基である。
【０１９０】
なお、本工程で得られる前記化合物（１）は、医薬品中間体として有用な文献未記載の新規化合物である。また前記化合物（３）については、工程３で製造したものを用いても良いし、別途入手したものでも良い。
【０１９１】
前記酸触媒としては例えば、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、過塩素酸リチウム、塩化スカンジウム、塩化亜鉛、塩化マグネシウム、塩化アルミニウム、アルミニウムトリフラート、四塩化チタン、四塩化錫、塩化ハフニウム、塩化ジルコニウム、イットリビウムトリフラート、スカンジウムトリフラート、チタンプロポキシド、ジルコニウムプロポキシド、又はアルミニウムプロポキシド等のルイス酸；硫酸、塩化水素、臭化水素、硝酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸等のブレンステッド酸が挙げられる。好ましくは、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、塩化亜鉛、塩化マグネシウム、塩化アルミニウム、四塩化チタン、硫酸、塩化水素、臭化水素、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、又はトリフルオロ酢酸である。
【０１９２】
酸の使用量としては、好ましくは前記化合物（３）に対して０．０１〜１０倍モル量であり、更に好ましくは０．１〜５倍モル量である。
【０１９３】
前記ニトリル（４）の使用量として、好ましくは前記化合物（３）に対して１〜１００倍モル量であり、更に好ましくは１〜５０倍モル量である。
【０１９４】
反応温度として好ましくは、反応時間短縮、及び収率向上の観点から−２０〜８０℃であり、更に好ましくは−１０〜５０℃である。
【０１９５】
反応時間として好ましくは、収率向上の観点から５分〜４８時間であり、更に好ましくは２時間〜２４時間である。
【０１９６】
本工程の反応溶媒としては、前記ニトリル（４）をそのまま反応溶媒として使用してもよいし、又はテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒を用いてもよい。好ましくは、塩化メチレン、トルエン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上併用する場合、その混合比は特に制限されない。
【０１９７】
反応溶媒の使用量としては、前記化合物（３）に対し、好ましくは５０倍重量以下、更に好ましくは２０倍重量以下である。
【０１９８】
反応の際の化合物（３）、ニトリル（４）、酸触媒、及び反応溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されない。
【０１９９】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液に水、または必要に応じて水酸化ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液等のアルカリ水溶液を加えて中和し、一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行う。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、後続工程の収率、若しくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製手法により、さらに純度を高めてもよい。
【０２００】
なお、立体化学についていえば、本工程では原料である前記化合物（３）の３位の反転を伴って反応が進行する。原料である前記化合物（３）と反応生成物である前記化合物（１）はＩＵＰＡＣ命名法上の主鎖が異なる為、前記化合物（３）の３位の炭素が前記化合物（１）の４位の炭素に相当し、前記化合物（３）の２位の炭素が前記化合物（１）の５位の炭素に相当する。従って、
（２Ｓ，３Ｒ）の前記化合物（３）からは（４Ｓ，５Ｓ）の前記化合物（１）が得られ、
（２Ｓ，３Ｓ）の前記化合物（３）からは（４Ｒ，５Ｓ）の前記化合物（１）が得られ、
（２Ｒ，３Ｓ）の前記化合物（３）からは（４Ｒ，５Ｒ）の前記化合物（１）が得られ、
（２Ｒ，３Ｒ）の前記化合物（３）からは（４Ｓ，５Ｒ）の前記化合物（１）が得られる。前記化合物（１）の立体化学として好ましくは、（４Ｓ，５Ｓ）又は（４Ｒ，５Ｒ）である。
【０２０１】
工程５
本工程では、前記式（１）で表される光学活性オキサゾリンアミド誘導体のオキサゾリン環を選択的に酸加水分解又は酸加アルコール分解することにより、下記式（２）；
【０２０２】
【化５０】
0005746732.tif 000025
【０２０３】
で表される光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体またはその塩を製造する。ここで、＊、Ｒ4は前記に同じである。
【０２０４】
上記式（２）の塩としては、特に制限されないが、硫酸、塩化水素、臭化水素、硝酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸などのブレンステッド酸との塩があげられ、好ましくは、塩化水素、臭化水素、又はメタンスルホン酸であり、特に好ましくは塩化水素との塩である。
【０２０５】
また、前記化合物（１）については、工程４又は後述する工程７で製造したものを用いてもよいし、別途入手したものを用いてもよい。
【０２０６】
本工程においては、酸を用いて前記化合物（１）の加水分解又は加アルコール分解を行うことにより、下記式（１４）；
【０２０７】
【化５１】
0005746732.tif 000026
【０２０８】
で表される化合物を一旦生成させ、そのエステル基のみを加水分解又は加アルコール分解することにより、シクロプロピルアミド骨格の分解を伴わずに、目的とする前記化合物（２）への変換が可能となった。
【０２０９】
ここで、酸としては、例えば、工程４で酸触媒として例示したルイス酸、ブレンステッド酸などが挙げられる。好ましくは、硫酸、塩化水素、臭化水素、又はメタンスルホン酸であり、更に好ましくは塩化水素、臭化水素、又はメタンスルホン酸であり、とりわけ好ましくは塩化水素である。また、これらの酸はそのまま用いてもよいし、水に溶解させて、酸の水溶液として用いても良い。
【０２１０】
酸の使用量としては、前記化合物（１）に対して、好ましくは０．０１〜５０倍モル量であり、更に好ましくは０．１〜２０倍モル量である。
【０２１１】
本工程に用いる反応溶媒としては、水；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒が挙げられ、またこれらの混合溶媒を用いて行ってもよい。好ましくは、水、メタノール、エタノール、イソプロパノールであり、２種以上併用する場合、その混合比は特に制限されない。反応溶媒の使用量としては、前記化合物（１）に対し、好ましくは５０倍重量以下、更に好ましくは２０倍重量以下である。
【０２１２】
反応温度としては、反応時間短縮、及び収率向上の観点から、好ましくは−５０〜９０℃であり、更に好ましくは−２５〜６０℃である。
【０２１３】
反応時間としては、収率向上の観点から、好ましくは５分〜４８時間であり、更に好ましくは２時間〜２４時間である。
【０２１４】
反応の際の化合物（１）、酸、及び反応溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されない。
【０２１５】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液に水、または必要に応じて水酸化ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液等のアルカリ水溶液を加えて中和し、一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行う。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。または、反応終了後の反応液を濃縮乾固させるか、またはメタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、アセトニトリル、トルエン、テトラヒドロフラン等の有機溶媒に溶媒置換することで、光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体を酸との塩である結晶として析出させ、これを濾別することにより目的物を得ることもできる。これらのようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製手法により、さらに純度を高めてもよい。
【０２１６】
なお、立体化学については、原料の立体化学がそのまま生成物に保持されるが、原料である前記化合物（１）と反応生成物である前記化合物（２）はＩＵＰＡＣ命名法上の主鎖が異なる為、前記化合物（１）の５位の炭素が前記化合物（２）の２位の炭素に相当し、前記化合物（１）の４位の炭素が前記化合物（２）の３位の炭素に相当する。従って
（４Ｓ，５Ｒ）の前記化合物（１）からは（２Ｒ，３Ｓ）の前記化合物（２）が得られ、
（４Ｓ，５Ｓ）の前記化合物（１）からは（２Ｓ，３Ｓ）の前記化合物（２）が得られ、
（４Ｒ，５Ｓ）の前記化合物（１）からは（２Ｓ，３Ｒ）の前記化合物（２）が得られ、
（４Ｒ，５Ｒ）の前記化合物（１）からは（２Ｒ，３Ｒ）の前記化合物（２）が得られる。前記化合物（２）の立体化学として好ましくは、（２Ｓ，３Ｓ）又は（２Ｒ，３Ｒ）である。
【０２１７】
工程６
本工程では、前記式（７）で表される光学活性エポキシカルボン酸誘導体に酸触媒存在下、前記式（４）で表されるニトリルを作用させることにより、下記式（５）；
【０２１８】
【化５２】
0005746732.tif 000027
【０２１９】
で表される光学活性オキサゾリンカルボン酸誘導体を製造する。ここで、＊、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4は前記に同じである。なお、本工程で得られる前記化合物（５）は、医薬中間体として有用な文献未記載の新規化合物である。また、前記化合物（７）の入手方法については、前記工程３における説明と同様であり、前記工程２で得られた化合物（７）を用いるのが好ましい。
【０２２０】
反応条件については、前記工程４の反応条件と同様であり、工程４で用いた原料（３）の替わりに（７）を使用してやれば良い。
【０２２１】
なお、立体化学については、本工程が原料である前記化合物（７）の３位の反転を伴って進行する。原料である前記化合物（７）と反応生成物である前記化合物（５）はＩＵＰＡＣ命名法上の主鎖が異なる為、前記化合物（７）の３位の炭素が前記化合物（５）の４位の炭素に相当し、前記化合物（７）の２位の炭素が前記化合物（５）の５位の炭素に相当する。従って
（２Ｓ，３Ｒ）の前記化合物（７）からは（４Ｓ，５Ｓ）の前記化合物（５）が得られ、
（２Ｓ，３Ｓ）の前記化合物（７）からは（４Ｒ，５Ｓ）の前記化合物（５）が得られ、
（２Ｒ，３Ｓ）の前記化合物（７）からは（４Ｒ，５Ｒ）の前記化合物（５）が得られ、
（２Ｒ，３Ｒ）の前記化合物（７）からは（４Ｓ，５Ｒ）の前記化合物（５）が得られる。前記化合物（５）の立体化学として好ましくは、（４Ｓ，５Ｓ）又は（４Ｒ，５Ｒ）である。
【０２２２】
工程７
本工程では、前記式（５）で表される光学活性オキサゾリンカルボン酸誘導体に前記式（６）で表されるシクロプロピルアミンを反応させ、前記式（１）で表される光学活性オキサゾリンアミド誘導体を製造する。前記化合物（５）については、工程６で製造したものを用いてもよいし、別途入手したものを用いても良い。
【０２２３】
本工程は、前記化合物（５）とシクロプロピルアミンを直接反応させることによって前記化合物（１）を製造するか、又はＲ2が水素である場合において、脱水縮合剤を用いてシクロプロピルアミンと縮合させるか、又は酸ハロゲン化物または混合酸無水物に誘導してからシクロプロピルアミンと反応させてもよい。
【０２２４】
本工程の反応条件については、前記工程３の反応条件と同様であり、工程３で用いた原料（７）の替わりに（５）を使用し、他の条件については全て工程３記載の条件と同様にして実施できる。
【０２２５】
なお、本工程において得られる前記化合物（１）の立体化学については、前記化合物（５）の立体化学がそのまま維持される。即ち、前記化合物（１）の立体化学として好ましくは、（４Ｓ，５Ｓ）又は（４Ｒ，５Ｒ）である。
【０２２６】
工程８
本工程では、前記式（１）で表される光学活性オキサゾリンアミド誘導体のオキサゾリン環を選択的にアルカリ加水分解することにより、一般式（１７）；
【０２２７】
【化５３】
0005746732.tif 000028
【０２２８】
で表される化合物を製造する。ここで、＊、Ｒ1、Ｒ4は前記に同じである。なお、本工程で得られる前記化合物（１７）は、医薬中間体として有用な文献未記載の新規化合物である。また前記化合物（１）については、前記工程４又は７で製造したものを用いても良いし、別途入手したものを用いてもよい。
【０２２９】
ここで、前記アルカリについては例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩等が挙げられる。好ましくは、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩であり、更に好ましくは炭酸水素ナトリウムである。前記アルカリの使用量としては、前記化合物（１）に対して、好ましくは１〜５０倍モル量であり、更に好ましくは１〜１０倍モル量である。
【０２３０】
本工程に用いる溶媒は水であり、原料及び生成物の溶解度を高めて反応速度を促進する目的等で更に有機溶媒を添加してもよい。前記有機溶媒としては例えば、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、ニトリル系溶媒、ハロゲン系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレア系溶媒、ホスホン酸トリアミド系溶媒が挙げられる。各溶媒のさらに具体的な例としては、工程３で例示したものと同様なものがあげられる。好ましくは、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等である。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上併用する場合、その混合比は特に制限されない。
【０２３１】
水の使用量としては、前記化合物（１）に対して、好ましくは５０倍重量以下であり、更に好ましくは２０倍重量以下である。また前記有機溶媒の使用量としては、前記化合物（１）に対して、好ましくは５０倍重量以下であり、更に好ましくは２０倍重量以下である。
【０２３２】
反応温度として好ましくは、反応時間短縮、及び収率向上の観点から−５０〜９０℃であり、更に好ましくは−２５〜６０℃である。
【０２３３】
反応時間として好ましくは、収率向上の観点から５分〜４８時間であり、更に好ましくは２時間〜２４時間である。
【０２３４】
反応の際の前記化合物（１）、アルカリ、水、及び有機溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されない。
【０２３５】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液に水、または必要に応じて塩酸水溶液、硫酸水溶液等の酸水溶液を加えて中和し、一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行う。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製手法により、さらに純度を高めてもよい。
【０２３６】
なお、立体化学については、原料の立体化学がそのまま生成物に保持されるが、原料である前記化合物（１）と反応生成物である前記化合物（１７）はＩＵＰＡＣ命名法上の主鎖が異なる為、前記化合物（１）の５位の炭素が前記化合物（１７）の２位の炭素に相当し、前記化合物（１）の４位の炭素が前記化合物（１７）の３位の炭素に相当する。従って
（４Ｓ，５Ｒ）の前記化合物（１）からは（２Ｒ，３Ｓ）の前記化合物（１７）が得られ、
（４Ｓ，５Ｓ）の前記化合物（１）からは（２Ｓ，３Ｓ）の前記化合物（１７）が得られ、
（４Ｒ，５Ｓ）の前記化合物（１）からは（２Ｓ，３Ｒ）の前記化合物（１７）が得られ、
（４Ｒ，５Ｒ）の前記化合物（１）からは（２Ｒ，３Ｒ）の前記化合物（１７）が得られる。前記化合物（１７）の立体化学として好ましくは、（２Ｓ，３Ｓ）又は（２Ｒ，３Ｒ）である。
【０２３７】
工程９
本工程では、前記式（１７）で表される化合物の３位のアミド基を選択的に加水分解（脱保護）することにより、前記式（２）で表される光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミド誘導体またはその塩を製造する。ここで、＊は前記に同じである。また前記化合物（１７）については、前記工程８又は後述する工程１１で製造したものを用いても良いし、別途入手したものを用いてもよい。
【０２３８】
本工程の反応条件については、例えばPROTECTIVE GROUPS in ORGANIC SYNTHESIS THIRD EDITION（Greene Wuts著、WILEY-INTERSCIENCE出版）、550-572頁記載の方法に従って実施すればよい。但し、高温下で強酸あるいは強塩基を用いると、シクロプロピルアミド骨格の分解が進行することがあるため、温和な条件で脱保護することが好ましい。そのような条件としては、例えばクロロアセチル基の場合、チオ尿素を作用させることで選択的に脱保護することができる。この場合、チオ尿素の使用量としては前記化合物（１７）に対して、好ましくは１〜５倍モル量であり、さらに好ましくは１〜２倍モル量である。
【０２３９】
本工程に用いる溶媒は特に制限されないが、例えば、水、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、ニトリル系溶媒、ハロゲン系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレア系溶媒、ホスホン酸トリアミド系溶媒が挙げられる。各溶媒のさらに具体的な例としては、工程３で例示したものと同様なものがあげられる。好ましくは、水、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、トルエン等である。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上併用する場合、その混合比は特に制限されない。前記溶媒の使用量としては、前記化合物（１７）に対して、好ましくは５０倍重量以下であり、更に好ましくは２０倍重量以下である。また前記有機溶媒の使用量としては、前記化合物（１７）に対して、好ましくは５０倍重量以下であり、更に好ましくは２０倍重量以下である。
【０２４０】
反応温度として好ましくは、反応時間短縮、及び収率向上の観点から−５０〜９０℃であり、更に好ましくは−２５〜６０℃である。
【０２４１】
反応時間として好ましくは、収率向上の観点から５分〜４８時間であり、更に好ましくは２時間〜２４時間である。
【０２４２】
また、本工程は酵素を用いる温和な条件で実施することもできる。前記化合物（１７）の３位のアミド基の選択的な加水分解能を有する酵素を作用させるに当たっては、円滑な反応、操作の容易性などの観点から、前記化合物（１７）及び加水分解能を有する酵素を水性溶媒中に溶解または分散して反応を行う方法が好ましく採用される。
【０２４３】
加水分解反応を行なう水性溶媒は、加水分解能を有する酵素の種類に応じて酵素が働き易いｐＨに調整しておくことが必要である。ｐＨの範囲としては、一般的にはｐＨ６〜１２程度、より好ましくはｐＨ７〜１０程度である。ｐＨの調整は、水性溶媒として所定のｐＨを有する緩衝水溶液を用いて行っても良い。その際の緩衝水溶液としては、例えば、リン酸ナトリウム水溶液、リン酸カリウム水溶液などのようなリン酸アルカリ金属塩水溶液等の無機塩の緩衝水溶液、酢酸ナトリウム水溶液、酢酸カリウム水溶液などの酢酸アルカリ金属塩等の有機酸塩の緩衝水溶液などを挙げることができる。また、反応系のｐＨを加水分解反応に適したｐＨに保つために、加水分解反応の初期および／または途中に水酸化ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液などの塩基や塩酸、硫酸などの酸などのｐＨ調整剤を添加してもよい。
【０２４４】
使用する酵素としては、化合物（１７）の３位のアミド基の選択的な加水分解能を有する酵素あれば特に制限されないが、例えばアミダーゼ等が挙げられ、好ましくはペニシリンアミダーゼである。酵素の使用量としては前記化合物（１７）に対して、好ましくは０．０００１〜３倍重量であり、さらに好ましくは０．００１〜１倍重量である。
【０２４５】
反応温度としては、温度が高すぎると酵素の安定性が低下したり酵素が失活する場合があり、一方温度が低すぎると反応速度が低下する場合があるので、通常５〜６５℃の範囲であることが好ましく、２０〜５０℃の範囲であることがより好ましい。
【０２４６】
反応時間としては、使用する酵素の種類や量、反応温度などに応じて変わり得るが、好ましくは５分〜１２０時間程度であり、更に好ましくは３０分〜４８時間である。
【０２４７】
反応における試材の添加方法や添加順序は特に制限されない。
【０２４８】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液に水、または必要に応じて塩酸水溶液、硫酸水溶液等の酸水溶液を加えて中和し、一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行う。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製手法により、さらに純度を高めてもよい。
【０２４９】
なお、立体化学については、原料の立体化学がそのまま生成物に保持される。
【０２５０】
工程１０
本工程では、前記式（５）で表される光学活性オキサゾリンカルボン酸誘導体を、アルカリ加水分解することにより、下記式（１６）；
【０２５１】
【化５４】
0005746732.tif 000029
【０２５２】
で表される化合物を製造する。ここで、＊、Ｒ1、Ｒ4は前記に同じである。また前記化合物（５）については、前記工程６で製造したものを用いてもよいし、別途入手したものを用いても良い。
【０２５３】
本工程の反応条件については、前記工程８の反応条件と同様であり、工程８で用いた原料（１）の替わりに前記式（５）で表される化合物を使用し、他の条件については全て工程８記載の条件と同様にして実施できる。
【０２５４】
なお、立体化学については、原料の立体化学がそのまま生成物に保持されるが、原料である前記化合物（５）と反応生成物である前記化合物（１６）はＩＵＰＡＣ命名法上の主鎖が異なる為、前記化合物（５）の５位の炭素が前記化合物（１６）の２位の炭素に相当し、前記化合物（５）の４位の炭素が前記化合物（１６）の３位の炭素に相当する。従って
（４Ｓ，５Ｒ）の前記化合物（５）からは（２Ｒ，３Ｓ）の前記化合物（１６）が得られ、
（４Ｓ，５Ｓ）の前記化合物（５）からは（２Ｓ，３Ｓ）の前記化合物（１６）が得られ、
（４Ｒ，５Ｓ）の前記化合物（５）からは（２Ｓ，３Ｒ）の前記化合物（１６）が得られ、
（４Ｒ，５Ｒ）の前記化合物（５）からは（２Ｒ，３Ｒ）の前記化合物（１６）が得られる。前記化合物（１６）の立体化学として好ましくは、（２Ｓ，３Ｓ）又は（２Ｒ，３Ｒ）である。
【０２５５】
工程１１
本工程では、前記式（１６）で表される化合物と前記式（６）で表されるシクロプロピルアミンを反応させることにより、前記式（１７）で表される化合物を製造する。ここで、＊、Ｒ1、Ｒ4は前記に同じである。また前記化合物（１６）については、前記工程１０で製造したものを用いてもよいし、別途入手したものを用いても良い。
【０２５６】
本工程においては、前記化合物（１６）とシクロプロピルアミンを直接反応させてもよいが、好ましくは前記化合物（１６）とシクロプロピルアミンを脱水縮合剤で縮合させるか、又は前記化合物（１６）を酸ハロゲン化物または混合酸無水物に誘導してからシクロプロピルアミンと反応させるとよい。
【０２５７】
前記化合物（１６）とシクロプロピルアミンを脱水縮合剤で縮合させるか、又は前記化合物（１６）を酸ハロゲン化物または混合酸無水物に誘導してからシクロプロピルアミンと反応させる反応条件としては、前記工程３記載の反応条件と同様であり、工程３の原料である化合物（７）においてＲ2が水素原子である化合物の替わりに化合物（１６）を用いてやれば良い。
【０２５８】
なお、本工程において得られる前記化合物（１７）の立体化学については、前記化合物（１６）の立体化学がそのまま維持される。即ち、前記化合物（１７）の立体化学として好ましくは、（２Ｓ，３Ｓ）又は（２Ｒ，３Ｒ）である。
【０２５９】
工程１２
本工程では、前記式（５）で表される光学活性オキサゾリンカルボン酸誘導体を酸加水分解し、続いて３位のアミノ基をカルバメート保護することにより、下記式（１２）；
【０２６０】
【化５５】
0005746732.tif 000030
【０２６１】
で表される光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸誘導体を製造する。ここで、＊、Ｒ4は前記に同じである。Ｒ3は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、又は置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。置換基としては例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子等のハロゲン原子；ニトロ基が挙げられ、置換基の数は０〜３個が挙げられる。具体的には例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アリル基、フェニル基、又はベンジル基であり、好ましくはｔｅｒｔ−ブチル基、又はベンジル基である。また前記化合物（５）については、工程６で製造したものを用いても良いし、別途入手したものを用いてもよい。
【０２６２】
加水分解に用いる酸としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸等の鉱酸；メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸；蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸が挙げられ、好ましくは塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸等の鉱酸であり、更に好ましくは塩酸である。酸の使用量としては前記化合物（５）に対して、好ましくは１〜５０倍モル量であり、更に好ましくは２〜２０倍モル量である。
【０２６３】
本工程に用いる溶媒は水であるが、原料を溶解させて反応時間を短縮する目的等で、更に有機溶媒を添加してもよい。有機溶媒としては、例えば、工程３で例示した溶媒があげられる。好ましくは、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上併用する場合、その混合比は特に制限されない。反応溶媒の使用量としては、前記化合物（５）に対して、好ましくは５０倍重量以下、更に好ましくは２０倍重量以下である。
【０２６４】
反応温度として好ましくは、反応時間短縮、及び収率向上の観点から−２０〜１２０℃であり、更に好ましくは０〜１００℃である。
【０２６５】
反応時間として好ましくは、収率向上の観点から５分〜４８時間であり、更に好ましくは２時間〜２４時間である。
【０２６６】
反応の際の前記化合物（５）、酸、水、及び有機溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されない。
【０２６７】
次に、３位のアミノ基をカルバメート保護する方法について説明する。３位のアミノ基をカルバメート保護する方法については特に制限されず、通常実施される保護方法で実施すればよいが、以下に一例を挙げて説明する。
【０２６８】
まずは前記化合物（５）の酸加水分解反応が終了した液に、塩基を加えて中和する。続いて、ｐＨが７〜１３を維持するように塩基を加えながらカルバメート保護試剤を加えるか、若しくは予めｐＨが７〜１３を維持できる量の塩基を加え、ここにカルバメート保護試剤を加えて反応を行うとよい。
【０２６９】
カルバメート保護試剤としては例えば、塩化メトキシカルボニル、塩化エトキシカルボニル、塩化イソプロポキシカルボニル、二炭酸ジｔｅｒｔ−ブチル、塩化アリルオキシカルボニル、塩化フェノキシカルボニル、塩化ベンジロキシカルボニル、二炭酸ジベンジル等が挙げられる。好ましくは二炭酸ジｔｅｒｔ−ブチルである。カルバメート保護試剤の使用量としては、前記化合物（５）に対して、好ましくは１〜５倍モル量であり、更に好ましくは１〜２倍モル量である。
【０２７０】
反応温度としては、反応時間短縮、及び収率向上の観点から、好ましくは−２０〜１２０℃であり、更に好ましくは０〜１００℃である。
【０２７１】
反応時間としては、収率向上の観点から、好ましくは５分〜４８時間であり、更に好ましくは２時間〜２４時間である。
【０２７２】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液に水、または必要に応じて塩酸水溶液、硫酸水溶液等の酸水溶液を加えて中和し、一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行う。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製手法により、さらに純度を高めてもよい。
【０２７３】
なお、立体化学については、原料の立体化学がそのまま生成物に保持されるが、原料である前記化合物（５）と反応生成物である前記化合物（１２）はＩＵＰＡＣ命名法上の主鎖が異なる為、前記化合物（５）の５位の炭素が前記化合物（１２）の２位の炭素に相当し、前記化合物（５）の４位の炭素が前記化合物（１２）の３位の炭素に相当する。従って
（４Ｓ，５Ｒ）の前記化合物（５）からは（２Ｒ，３Ｓ）の前記化合物（１２）が得られ、
（４Ｓ，５Ｓ）の前記化合物（５）からは（２Ｓ，３Ｓ）の前記化合物（１２）が得られ、
（４Ｒ，５Ｓ）の前記化合物（５）からは（２Ｓ，３Ｒ）の前記化合物（１２）が得られ、
（４Ｒ，５Ｒ）の前記化合物（５）からは（２Ｒ，３Ｒ）の前記化合物（１２）が得られる。前記化合物（１２）の立体化学として好ましくは、（２Ｓ，３Ｓ）又は（２Ｒ，３Ｒ）である。
【０２７４】
工程１３
本工程では、前記式（１２）で表される化合物に、前記式（６）で表されるシクロプロピルアミンを縮合させることにより、下記式（１５）；
【０２７５】
【化５６】
0005746732.tif 000031
【０２７６】
で表される化合物を製造する。ここで、＊、Ｒ3、Ｒ4は前記に同じである。また前記化合物（１２）については、工程１２で製造したものを用いても良いし、別途入手したものを用いてもよい。
【０２７７】
本工程は、前記化合物（１２）とシクロプロピルアミンを直接反応させてもよいが、好ましくは前記化合物（１２）とシクロプロピルアミンを脱水縮合剤で縮合させるか、又は前記化合物（１２）を酸ハロゲン化物または混合酸無水物に誘導してからシクロプロピルアミンと反応させるとよい。
【０２７８】
本工程は、前記工程３と同様な方法で実施することができ、工程３で用いる原料である化合物（７）の替わりに化合物（１２）を用いてやれば、反応条件は、同様である。
【０２７９】
なお、本工程において得られる前記化合物（１５）の立体化学については、前記化合物（１２）の立体化学がそのまま維持される。即ち、前記化合物（１５）の立体化学として好ましくは、（２Ｓ，３Ｓ）又は（２Ｒ，３Ｒ）である。
【０２８０】
工程１４
本工程では、前記式（１５）で表される化合物の３位のアミノ基の保護基を脱保護することにより、前記式（２）で表される光学活性３−アミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸シクロプロピルアミドまたはその塩を製造する。ここで、＊、Ｒ4は前記に同じである。また前記化合物（１５）については、工程１３で製造したものを用いると良いし、別途入手したものを用いてもよい。
【０２８１】
ここで、前記脱保護する方法としては、保護基に応じて適宜選択すればよい。例えば、Ｒ3がメチル基やエチル基等の場合、酸やアルカリのいずれの条件でも加水分解を行うことができるが、Ｒ3がｔｅｒｔ−ブチル基の場合は、酸で加水分解することが好ましい。またＲ3がベンジル基の場合は、パラジウム触媒存在下に水素を用いて脱保護することもできる。
【０２８２】
反応後の処理としては、脱保護の方法に応じて適宜行えばよい。例えば、酸加水分解を行った場合は、反応終了後の反応液に、必要に応じて水酸化ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液等のアルカリ水溶液を加えて中和し、一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行う。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。又は、反応終了後の反応液をそのまま濃縮乾固して、目的物を酸との塩として取得してもよく、更には反応液をメタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、トルエン等の有機溶媒に置換することで目的物を酸との塩として析出させ、単離してもよい。このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、後続工程の収率、若しくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製手法により、さらに純度を高めてもよい。
【０２８３】
なお、本工程において得られる前記化合物（２）の立体化学については、前記化合物（１５）の立体化学がそのまま維持される。即ち、前記化合物（２）の立体化学として好ましくは、（２Ｓ，３Ｓ）又は（２Ｒ，３Ｒ）である。
【実施例】
【０２８４】
以下に実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０２８５】
実施例１  （２Ｓ，３Ｒ）−３−プロピル−２−オキシランカルボン酸エチルの製造
【０２８６】
【化５７】
0005746732.tif 000032
【０２８７】
（２Ｒ，３Ｒ）−２−クロロ−３−ヒドロキシヘキサン酸エチル（１．０ｇ、５ｍｍｏｌ）、エタノール（１０ｍｌ）、炭酸カリウム（２．１ｇ、１５ｍｍｏｌ）を混合し、１５℃にて１４時間攪拌した。メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（２０ｍｌ）を加え、水（１０ｍｌ）で３回洗浄した。有機層を減圧濃縮することにより、標題化合物（０．８３ｇ、収率１００％）を得た。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ４．２４−４．２１（ｍ，２Ｈ），３．２０（ｄ，１Ｈ），３．０８−３．０４（ｄｔ，１Ｈ），１．７２−１．６２（ｍ，２Ｈ），１．６１−１．５０（ｍ，２Ｈ），１．２８（ｔ，３Ｈ），０．９８（ｔ，３Ｈ）。
【０２８８】
実施例２  （２Ｓ，３Ｒ）−３−プロピル−２−オキシランカルボン酸メチルの製造
【０２８９】
【化５８】
0005746732.tif 000033
【０２９０】
（２Ｒ，３Ｒ）−２−クロロ−３−ヒドロキシヘキサン酸メチル（０．９ｇ、５ｍｍｏｌ）、エタノール（１０ｍｌ）、炭酸カリウム（２．１ｇ、１５ｍｍｏｌ）を混合し、１５℃にて１４時間攪拌した。メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（２０ｍｌ）を加え、水（１０ｍｌ）で３回水洗した。有機層を減圧濃縮することにより、標題化合物（０．７５ｇ、収率１００％）を得た。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ３．８１（ｓ，３Ｈ），３．２３（ｄ，１Ｈ），３．１８−３．１５（ｄｔ，１Ｈ），１．６６−１．５０（ｍ，４Ｈ），０．９９（ｔ，３Ｈ）。
【０２９１】
実施例３  （２Ｓ，３Ｒ）−３−プロピル−２−オキシランカルボン酸の製造
【０２９２】
【化５９】
0005746732.tif 000034
【０２９３】
（２Ｒ，３Ｒ）−２−クロロ−３−ヒドロキシヘキサン酸エチル（５．０ｇ、２２ｍｍｏｌ）、エタノール（１５ｍｌ）を混合し、５℃に冷却した。これに２０％ナトリウムエトキシド／エタノール溶液（８．３ｇ、２４ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、室温にて１時間攪拌した。析出した無機塩をろ別し、ろ液に水酸化カリウム（１．２４ｇ、２４ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１４時間攪拌した。減圧下にて溶媒を留去し、水（１５ｍｌ）を加えた。濃塩酸にてｐＨ１．８に調製し、酢酸エチル（２０ｍｌ）にて抽出した。減圧下にて溶媒を留去することにより、標題化合物（２．３３ｇ、収率６５％）を得た。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ３．２３（ｄ，１Ｈ），３．１７（ｄｔ，１Ｈ），１．７２−５１（ｍ，４Ｈ），０．９８（ｔ，３Ｈ）。
【０２９４】
実施例４  （２Ｓ，３Ｒ）−Ｎ−シクロプロピル−３−プロピル−２−オキシランカルボキサミドの製造
【０２９５】
【化６０】
0005746732.tif 000035
【０２９６】
（２Ｓ，３Ｒ）−３−プロピル−２−オキシランカルボン酸（１．１６ｇ、７．８ｍｍｏｌ）、塩化メチレン（１０ｍｌ）、シクロプロピルアミン（８．５当量）を混合し、５℃に冷却した。これに１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（２．２３ｇ、１．２当量）の塩化メチレン溶液（５ｍｌ）をゆっくりと加え、５℃から室温にて２時間攪拌した。有機層を水（５ｍｌ）、１規定ＨＣｌ（５ｍｌ）、水（５ｍｌ）にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。無機物をろ別し、ろ液を減圧下にて留去することにより、標題化合物を淡黄色固体（０．７０ｇ、収率５３％）として得た。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ６．１５（ｂｒｓ，１Ｈ），３．１９（ｄ，１Ｈ），２．９１−２．８８（ｍ，１Ｈ），２．６８（ｄｔ，１Ｈ），１．６５−１．４８（ｍ，４Ｈ），０．９９（ｔ，３Ｈ），０．７９−０．７７（ｍ，２Ｈ），０．５２−０．４８（ｍ，２Ｈ）。
【０２９７】
実施例５  （４Ｓ，５Ｓ）−Ｎ−シクロプロピル−２−メチル−４−プロピル−４，５−ジヒドロ−１，３−オキサゾール−５−カルボキサミドの製造
【０２９８】
【化６１】
0005746732.tif 000036
【０２９９】
（２Ｓ，３Ｒ）−Ｎ−シクロプロピル−３−プロピル−２−オキシランカルボン酸（０．４０ｇ、２．４ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（４ｍｌ）を混合し、５℃に冷却した。三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．８４ｇ、６．２ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（１ｍｌ）を加え、５℃で２時間、室温にて２時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水（１０ｍｌ）にて反応を水解し、酢酸エチル（２５ｍｌ）で抽出した。有機層を水（５ｍｌ）にて洗浄し、減圧下にて溶媒を留去することにより、標題化合物を淡黄色固体（０．４５ｇ、収率９０％）として得た。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ６．３２（ｂｒｓ，１Ｈ），４．８３（ｄ，１Ｈ），４．３１（ｄｔ，１Ｈ），２．７５−２．７１（ｍ，１Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），１．７２−１．６６（ｍ，１Ｈ），１．５５−１．５１（ｍ，１Ｈ），１．４２−１．３７（ｍ，１Ｈ），０．９４−０．８９（ｍ，１Ｈ），０．９２（ｔ，３Ｈ），０．８４−０．８０（ｍ，２Ｈ），０．５７−０．５２（ｍ，２Ｈ）。
【０３００】
実施例６  （２Ｓ，３Ｓ）−３−アミノ−２−ヒドロキシ−ヘキサン酸シクロプロピルアミド塩酸塩の製造
【０３０１】
【化６２】
0005746732.tif 000037
【０３０２】
Ｎ−シクロプロピル−２−メチル−４−プロピル−４，５−ジヒドロ−１，３−オキサゾール−５−カルボキサミド（０．１０ｇ、０．５ｍｍｏｌ）、メタノール（４ｍｌ）、濃塩酸（０．５ｍｌ、５．５ｍｍｏｌ）を混合し、室温にて１４時間攪拌した。減圧下にて溶媒を留去した。得られた固体にイソプロパノール（４ｍｌ）を加え、室温にて１０分間攪拌した。結晶をろ別し、減圧下にて乾燥することにより、標題化合物を白色結晶（０．０３ｇ、収率２８％）として得た。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ2Ｏ）：δ４．３８（ｄ，１Ｈ），３．６６−３．６２（ｍ，１Ｈ），２．６６−２．６１（ｍ，１Ｈ），１．６５−１．３０（ｍ，４Ｈ），０．９１（ｔ，３Ｈ），０．８３−０．７６（ｍ，２Ｈ），０．６０−０．５５（ｍ，２Ｈ）。
【０３０３】
実施例７  （４Ｓ，５Ｓ）−２−メチル−４−プロピル−４，５−ジヒドロ−１，３−オキサゾール−５−カルボン酸エチルの製造
【０３０４】
【化６３】
0005746732.tif 000038
【０３０５】
（２Ｓ，３Ｒ）−３−プロピル−２−オキシランカルボン酸エチル（０．８ｇ、５ｍｍｏｌ）にアセトニトリル（５ｍｌ）を加えて５℃に冷却し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．４ｇ、５．５ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。室温で６時間攪拌し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１５ｍｌ）を加えた。混合液を濃縮し、酢酸エチル（２０ｍｌ）にて抽出した。有機層を水（１０ｍl）で２回洗浄し、減圧下にて溶媒を留去した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、標題化合物を無色油状物（０．６９ｇ、収率６５％）として得た。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ４．９０（ｄ，１Ｈ），４．３２−４．２１（ｍ，３Ｈ），２．０５（ｓ，３Ｈ），１．６３−１．２４（ｍ，７Ｈ），０．９２（ｔ，３Ｈ）。
【０３０６】
実施例８  （２Ｓ，３Ｓ）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−３−アミノ−２−ヒドロキシ−ヘキサン酸の製造
【０３０７】
【化６４】
0005746732.tif 000039
【０３０８】
（４Ｓ，５Ｓ）−２−メチル−４−プロピル−４，５−ジヒドロ−１，３−オキサゾール−５−カルボン酸エチル（０．６８ｇ、３ｍｍｏｌ）、６規定塩酸（１０ｍｌ）を混合し、１００℃にて１４時間攪拌した。５℃に冷却し、ｐＨ９．８に調整した。二炭酸ジｔｅｒｔ−ブチル（１ｅｑ）のトルエン溶液（１ｍｌ）を添加し、室温で２時間攪拌した。これに水（１０ｍｌ）、酢酸エチル（２０ｍｌ）を加え、ｐＨ２．３に調整した。水層を除去し、減圧下にて溶媒を留去することにより、標題化合物を得た（０．７１ｇ、収率７８％）。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ４．９１（ｄ，１Ｈ），４．３３（ｄ，１Ｈ），３．９５（ｄｄｔ，１Ｈ），１．５９−１．２８（ｍ，１３Ｈ），０．９８（ｔ，３Ｈ）。
【０３０９】
実施例９  ２−クロロ−３−ヒドロキシへキサン酸エチルの製造
【０３１０】
【化６５】
0005746732.tif 000040
【０３１１】
ベンゼンルテニウム（II）ジクロリドダイマー（１２６ｍｇ、Ｓ／Ｃ＝５０）、（Ｓ）−２，２’−ビスジフェニルホスフィノ−１，１’−ビナフチル（３３２ｍｇ）、ジメチルホルムアミド（４ｍｌ）を混合し、減圧窒素置換した。１００℃で１０分間攪拌し、触媒溶液を調製した。
【０３１２】
２−クロロ−３−オキソへキサン酸エチル（２．５ｇ、１３ｍｍｏｌ）、メタノール（７．５ｍｌ）、水（０．７５ｍｌ）を混合し、減圧窒素置換した。上記触媒溶液をこれに加え、減圧水素置換（３気圧）を行い、７０℃にて１４時間攪拌した。室温まで放冷し、減圧下にて溶媒を留去した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、標題化合物を無色油状物（１．８３ｇ、収率７２％）として得た（（２Ｓ，３Ｒ）：（２Ｓ，３Ｓ）：（２Ｒ，３Ｓ）：（２Ｒ，３Ｒ）＝６．２：５８．５：３３．２：２．２））。
【０３１３】
実施例１０  （２Ｒ，３Ｓ）−３−プロピル−２−オキシランカルボン酸エチルの製造
【０３１４】
【化６６】
0005746732.tif 000041
【０３１５】
実施例９で合成した２−クロロ−３−ヒドロキシへキサン酸エチル（０．８ｇ、４ｍｍｏｌ）、エタノール（３ｍｌ）、２０％ナトリウムエトキシド／エタノール溶液（１．５２ｇ、１．１当量）を混合し、室温にて３０分攪拌した。ヘキサン（１０ｍｌ）を加え、水（１０ｍｌ×２回）にて洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、無機塩をろ別後、ろ液を減圧下にて留去した。標題化合物を無色油状物（０．９ｇ、収率８７％、（２Ｒ，３Ｓ）体が主成分）として得た。
【０３１６】
実施例１１  （２Ｓ，３Ｒ）−３−プロピル−２−オキシランカルボン酸シクロプロピルアミドの製造
【０３１７】
【化６７】
0005746732.tif 000042
【０３１８】
（２Ｓ，３Ｒ）−３−プロピル−２−オキシランカルボン酸メチル（０．２６ｇ、１．８ｍｍｏｌ）、エタノール（１ｍｌ）、シクロプロピルアミン（１．０３ｇ、１８ｍｍｏｌ）を混合し、室温にて１４時間攪拌した。酢酸エチル（２０ｍｌ）を加え、１規定ＨＣｌ（５ｍｌ）、水（５ｍｌ）にて洗浄し、減圧下に溶媒を留去することにより、標題化合物を淡黄色固体（０．１７ｇ、収率５５％）として得た。
【０３１９】
実施例１２  （２Ｓ，３Ｒ）−３−プロピル−２−オキシランカルボン酸シクロプロピルアミドの製造
【０３２０】
【化６８】
0005746732.tif 000043
【０３２１】
（２Ｓ，３Ｒ）−３−プロピル−２−オキシランカルボン酸１１８ｍｇ、０．８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍｌ）を混合し、−２０℃に冷却した。塩化エトキシカルボニル（８６ｍｇ、０．８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍｌ）をゆっくりと加え、同温度にて３０分攪拌した。シクロプロピルアミン（４８ｍｇ、０．８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、同温度にて２時間、室温にて２時間攪拌した。水（１０ｍｌ）にて水解し、酢酸エチル（１０ｍｌ）を加え、減圧下に溶媒を留去した。酢酸エチル（１０ｍｌ）にて抽出し、水（５ｍｌ）で洗浄した。減圧下に溶媒を留去し、標題化合物を無色油状物（０．１０ｇ、収率７６％）として得た。
【０３２２】
実施例１３  （４Ｓ，５Ｓ）−２−メチル−４−プロピル−４，５−ジヒドロ−１，３−オキサゾール−５−カルボン酸メチルの製造
【０３２３】
【化６９】
0005746732.tif 000044
【０３２４】
（２Ｓ，３Ｒ）−３−プロピル−２−オキシランカルボン酸メチル（１．４２ｇ、９．８ｍｍｏｌｍｍｏｌ）にアセトニトリル（１５ｍｌ）を加えて５℃に冷却し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（１，２４ｇ、１１ｍｍｏｌｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。室温で６時間攪拌し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍｌ）を加えた。混合液を濃縮し、酢酸エチル（３０ｍｌ）にて抽出した。有機層を水（１０ｍｌ×２）にて洗浄し、減圧下にて溶媒を留去した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、標題化合物を無色油状物（１．２３ｇ、収率７６％）として得た。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ４．９３（ｄ，１Ｈ），４．３１（ｄｔ，１Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），２．０５（ｓ，３Ｈ），１．６３−１．３１（ｍ，４Ｈ），０．９３（ｔ，３Ｈ）。
【０３２５】
実施例１４  （２Ｓ，３Ｓ）−３−アミノ−２−ヒドロキシ−ヘキサン酸塩酸塩の製造
【０３２６】
【化７０】
0005746732.tif 000045
【０３２７】
（４Ｓ，５Ｓ）−２−メチル−４−プロピル−４，５−ジヒドロ−１，３−オキサゾール−５−カルボン酸メチル（０．６８ｇ、３ｍｍｏｌ）、６規定塩酸（１０ｍｌ）を混合し、１００℃にて１４時間攪拌した。減圧下にて溶媒を留去することにより、標題化合物を白色固体（０．５０ｇ、収率９０％）として得た。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ2Ｏ）：δ４．３７（ｄｄ，１Ｈ），３．６４（ｄｔ，１Ｈ），１．６８−１．２７（ｍ，４Ｈ），０．９８（ｔ，３Ｈ）。
【０３２８】
実施例１５  （２Ｓ，３Ｓ）−３−アミノ−２−ヒドロキシ−ヘキサン酸メチル塩酸塩の製造
【０３２９】
【化７１】
0005746732.tif 000046
【０３３０】
（４Ｓ，５Ｓ）−２−メチル−４−プロピル−４，５−ジヒドロ−１，３−オキサゾール−５−カルボン酸メチル（０．２ｇ、１．１ｍｍｏｌ）、メタノール（２ｍｌ）、濃塩酸（０．２５ｍｌ）を混合し、室温にて３時間攪拌した。減圧下にて溶媒を留去することにより、標題化合物を白色固体（０．１ｇ、収率５０％）として得た。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ2Ｏ）：δ４．６７（ｄ，１Ｈ），３．９０（ｓ，３Ｈ），３．７９−３．７４（ｍ，１Ｈ），１．７９−１．６１（ｍ，１Ｈ），１．５８−１．２４（ｍ，４Ｈ），０．９２（ｔ，３Ｈ）。
【０３３１】
実施例１６  酵母菌による２−クロロ−３−オキソヘキサン酸エチルの還元
グルコース  ４％、イーストエキス  ０．３％、ＫＨ2ＰＯ4  １．３％、（ＮＨ4）2ＨＰＯ4  ０．７％、ＮａＣｌ  ０．０１％、ＭｇＳＯ4・７Ｈ2Ｏ  ０．０８％、ＺｎＳＯ4・７Ｈ2Ｏ  ０．００６％、ＦｅＳＯ4・７Ｈ2Ｏ  ０．００９％、ＣｕＳＯ4・５Ｈ2Ｏ  ０．０００５％、ＭｎＳＯ4・４〜５Ｈ2Ｏ  ０．００１％からなる液体培地（ｐＨ７．０）を調製し、大型試験管に５ｍｌずつ分注して、１２０℃で２０分間蒸気殺菌した。これらの液体培地に表１及び表２に示した酵母菌をそれぞれ１白金耳植菌し、３０℃で２〜３日間振盪培養した。この培養液から遠心分離または吸引ろ過により菌体を集め、水洗後、０．１Ｍリン酸緩衝液（ｐＨ５．５）１ｍｌに懸濁した。この菌体懸濁液０．５ｍｌに、２−クロロ−３−オキソヘキサン酸エチル  １ｍｇ、グルコース  １０ｍｇを添加し、栓付試験管で３０℃にて２４時間振とうした。反応終了後酢酸エチル１ｍｌにより抽出し、抽出液中の生成物をＧＣで分析することにより、収率（％）、ジアステレオマー比（ａｎｔｉ／ｓｙｎ）、及び光学純度（％ｅ．ｅ．）を求めた。結果を表１及び表２に示す。
【０３３２】
分析条件、光学純度の計算方法は以下の通りである。
【０３３３】
〔収率の分析〕
ＧＣ分析条件＝キャピラリーカラム：ＨＰ−５  Φ０．３２ｍｍ  Ｉ．Ｄ．×３０ｍ（Ｊ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製）、キャリアーガス：Ｈｅ  ３００ｋPa、検出器：ＦＩＤ、カラム温度：１２０℃、検出時間：２−クロロ−３−オキソヘキサン酸エチル  ８．８分、２−クロロ−３−ヒドロキシヘキサン酸エチル  １０．１〜１０．５分。
【０３３４】
〔ジアステレオマー比、及び光学純度の分析〕
ＧＣ分析条件＝キャピラリーカラム：ＣＨＩＲＡＬＤＥＸ  Ｇ−ＴＡ  Φ０．２５ｍｍ  Ｉ．Ｄ．×３０ｍ（ＡＳＴＥＣ社製）、キャリアーガス：Ｈｅ  ３００ｋPa、検出器：ＦＩＤ、カラム温度：１１０℃、検出時間：（２Ｒ、３Ｒ）−２−クロロ−３−ヒドロキシヘキサン酸エチル  １６．７分、（２Ｓ、３Ｓ）−２−クロロ−３−ヒドロキシヘキサン酸エチル  １７．８分、（２Ｒ、３Ｓ）−２−クロロ−３−ヒドロキシヘキサン酸エチル  １８．９分、（２Ｓ、３Ｒ）−２−クロロ−３−ヒドロキシヘキサン酸エチル  ２０．７分
光学純度（％ｅｅ）＝（Ａ−Ｂ）／（Ａ＋Ｂ）×１００
（Ａ及びＢは対応する鏡像異性体量を表し、Ａ＞Ｂである）
【０３３５】
【表１】
0005746732.tif 000047
【０３３６】
【表２】
0005746732.tif 000048
【０３３７】
実施例１７  細菌による２−クロロ−３−オキソヘキサン酸エチルの還元
肉エキス  １％、ポリペプトン  １％、イーストエキス  ０．５％、ＮａＣｌ  ０．３％からなる液体培地（ｐＨ７．０）を調製し、大型試験管に５ｍｌずつ分注して、１２０℃で２０分間蒸気殺菌した。これらの液体培地に表３に示した細菌をそれぞれ１白金耳植菌し、３０℃で２〜３日間振盪培養した。この培養液から遠心分離または吸引ろ過により菌体を集め、水洗後、０．１Ｍリン酸緩衝液（ｐＨ５．５）０．５ｍｌに懸濁した。この菌体懸濁液を用いて実施例１６と同条件で反応及び抽出を行い、収率（％）、ジアステレオマー比（ａｎｔｉ／ｓｙｎ）、及び光学純度（％ｅ．ｅ．）を求めた。結果を表３に示す。
【０３３８】
【表３】
0005746732.tif 000049
【０３３９】
実施例１８  放線菌による２−クロロ−３−オキソヘキサン酸エチルの還元
表４に示す微生物について、トリプティックソイブロス  ３％、可溶性澱粉  １％からなる液体培地（ｐＨ７．２）を用いた他は実施例１７と同様の操作を行い、収率（％）、ジアステレオマー比（ａｎｔｉ／ｓｙｎ）、及び光学純度（％ｅ．ｅ．）を求めた。結果を表４に示す。
【０３４０】
【表４】
0005746732.tif 000050
【０３４１】
実施例１９  カビによる２−クロロ−３−オキソヘキサン酸エチルの還元
表５に示すカビについて、肉エキス  １％、ポリペプトン  １％、グルコース  １％、イーストエキス  ０．５％、ＮａＣｌ  ０．１％、ＭｇＳＯ4・７Ｈ2Ｏ  ０．０５％からなる液体培地（ｐＨ７．０）を用いた以外は実施例１６と同様の操作を行い、収率（％）、ジアスエレオマー比（ａｎｔｉ／ｓｙｎ）、及び光学純度（％ｅ．ｅ．）を求めた。結果を表５に示す。
【０３４２】
【表５】
0005746732.tif 000051
【０３４３】
実施例２０  組換え大腸菌による２−クロロ−３−オキソヘキサン酸エチルの還元
バクト−トリプトン１．６％、バクト−イーストエキス１％、ＮａＣｌ０．５％（ｐＨ７．０）からなる培地５０ｍｌを５００ｍｌ坂口フラスコに入れ殺菌後、Escherichia coli HB101(pTSCS)受託番号FERM BP-10024を植菌し、３７℃で２４時間振とう培養した。得られた培養ブロス５０ｍｌに、２−クロロ−３−オキソヘキサン酸エチル  １ｇ、グルコース脱水素酵素（天野エンザイム社製）  １００Ｕｎｉｔｓ、グルコース  １２８０ｍｇ、酸化型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤ+）  ２．５ｍｇを添加し、３０％ＮａＯＨでｐＨを６．５に保ちながら２４時間反応させた。反応終了後、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出し、得られた有機相を減圧濃縮し、油状の２−クロロ−３−ヒドロキシヘキサン酸エチル  ０．９６ｇを得た。得られたものをＧＣにより分析したところ、ａｎｔｉ／ｓｙｎ＝９９／１、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）の光学純度は９９．７％ｅ．ｅ．であった。
【０３４４】
実施例２１  （３Ｒ）−２−クロロ−３−ヒドロキシ−４−フェニル酪酸エチルの製造
【０３４５】
【化７２】
0005746732.tif 000052
【０３４６】
２−クロロ−３−オキソ−４−フェニル酪酸エチル（１８０ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）、ＲｕＣｌ[（Ｓ，Ｓ）−ＴｓＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体（１０ｍｇ、２ｍｏｌ％）を混合し、クロロベンゼン（１ｍｌ）に溶解させた。トリエチルアミン（３７４ｍｇ、５当量）のクロロベンゼン溶液（１ｍｌ）を添加し、次にギ酸（１０２ｍｇ、３当量）のクロロベンゼン溶液（１ｍｌ）をゆっくりと滴下した。４０℃にて３時間攪拌後、水（４ｍｌ）を加えた。酢酸エチル（１０ｍｌ）を加えて抽出し、有機層を減圧濃縮することにより標題化合物を褐色油状物として得た（１８２ｍｇ、収率１００％）。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ７．４１−７．２２（ｍ，５Ｈ），４．２３（ｑ，２Ｈ），４．１５（ｄ，１Ｈ），３．１１（ｄｄ，１Ｈ），２．９０（ｄｄ，１Ｈ），２．５（ｂｒｓ,１Ｈ）,１．２９（ｔ，３Ｈ）。
【０３４７】
実施例２２  （２Ｓ，３Ｒ）−３−ベンジル−２−オキシランカルボン酸の製造
【０３４８】
【化７３】
0005746732.tif 000053
【０３４９】
（３Ｒ）−２−クロロ−３−ヒドロキシ−４−フェニル酪酸エチル（１２２ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）をエタノール（３ｍｌ）に溶かし、２０重量％ナトリウムエトキシド／エタノール溶液（２５４ｍｇ）をゆっくりと添加した。室温にて３時間攪拌し、減圧下にて溶媒を留去した。水（５ｍｌ）を加え、３０重量％水酸化ナトリウム水溶液でｐＨを１３に調整した。トルエン（５ｍｌ）にて洗浄し、濃塩酸にてｐＨ１．５に調整した。酢酸エチル（１５ｍｌ）にて抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、標題化合物を褐色油状物として得た（６６ｍｇ、収率７４％）。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ９．３３（ｂｒｓ，１Ｈ），７．４３−７．１８（ｍ，５Ｈ），３．４０（ｄｔ，１Ｈ），３．３０（ｓ，１Ｈ）。
【０３５０】
実施例２３  （２Ｓ，３Ｒ）−３−ベンジル−２−オキシランカルボン酸シクロプロピルアミドの製造
【０３５１】
【化７４】
0005746732.tif 000054
【０３５２】
（２Ｓ，３Ｒ）−３−ベンジル−２−オキシランカルボン酸（６６ｍｇ）とシクロプロピルアミン（２３．２ｍｇ、１．１当量）のクロロベンゼン溶液（２ｍｌ）を混合し、５℃に冷却した。１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドの塩酸塩（１．５当量）の塩化メチレン溶液（２ｍｌ）をゆっくりと加え、室温にて１４時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍｌ）を加え、酢酸エチル（１０ｍｌ）で抽出した。有機層を１規定塩酸（５ｍｌ）、水（５ｍｌ）で順次洗浄し、減圧下にて溶媒を留去することにより、標題化合物を褐色油状物として得た（５０ｍｇ、収率６２％）。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ７．３０−７．１５（ｍ，５Ｈ），６．２３（ｂｒｓ，１Ｈ），３．２８（ｄ，１Ｈ），３．１４（ｄｄｄ，１Ｈ），３．０５（ｄｄ，１Ｈ），２．８０（ｄｄ,１Ｈ）,０．７５（ｄｔ，２Ｈ）,０．４７（ｄｔ，２Ｈ）。
【０３５３】
実施例２４  （４Ｓ，５Ｓ）−Ｎ−シクロプロピル−２−イソプロピル−４−ベンジル−４，５−ジヒドロ−１，３−オキサゾール−５−カルボキサミドの製造
【０３５４】
【化７５】
0005746732.tif 000055
【０３５５】
（２Ｓ，３Ｒ）−３−ベンジル−２−オキシランカルボン酸シクロプロピルアミド（５０ｍｇ）、イソブチロニトリル（２ｍｌ）を混合し、５℃に冷却した。三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（２．５当量）をゆっくりと加え、５〜２０℃にて２時間攪拌した。酢酸エチル（１０ｍｌ）と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍｌ）の混合溶液を５℃に冷却しておき、この中に反応液をゆっくりと滴下した。水層を除去した後に減圧下にて溶媒を留去することにより、標題化合物を褐色固体として得た（６３ｍｇ、収率９６％）。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ７．３０−７．１８（ｍ，５Ｈ），６．２５（ｂｒｓ，１Ｈ），４．８４（ｄ，１Ｈ），４．６０（ｄｔ，１Ｈ），３．１６（ｄｄ，１Ｈ），２．７６（ｔｔ，１Ｈ），２．６０（ｄｄ,１Ｈ）,２．５２（ｄｄ，１Ｈ），１．２０（ｄ，６Ｈ）,０．８３（ｄｄ，２Ｈ）,０．５７（ｄｄ，２Ｈ）。
【０３５６】
実施例２５  （２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロキシ−３−アミノ−４−フェニル酪酸塩酸塩の製造
【０３５７】
【化７６】
0005746732.tif 000056
【０３５８】
（４Ｓ，５Ｓ）−Ｎ−シクロプロピル−２−イソプロピル−４−ベンジル−４，５−ジヒドロ−１，３−オキサゾール−５−カルボキサミド（６３ｍｇ）、アセトン（２．５ｍｌ）、濃塩酸（０．２５ｇ）を混合し、５０℃にて２３時間攪拌した。反応液を濃縮し、イソプロパノール（５ｍｌ）を加えて減圧濃縮した。更に同じ操作を繰り返した後、イソプロパノール（３ｍｌ）を添加すると結晶が析出した。結晶を減圧ろ別し、真空乾燥することにより、標題化合物を白色結晶として得た（２３ｍｇ、収率３６％）。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ2Ｏ）：δ７．２７−７．１６（ｍ，５Ｈ），４．２７（ｂｒｓ，１Ｈ），３．９８−３．８０（ｍ，１Ｈ），２．９５−２．８５（ｍ，１Ｈ），２．２６−２．２２（ｍ，１Ｈ）,０．８３（ｄｄ，２Ｈ）,０．５７（ｄｄ，２Ｈ）。
【０３５９】
実施例２６  （２Ｓ，３Ｒ）−２−クロロ−３−ヒドロキシへキサン酸エチルの製造
【０３６０】
【化７７】
0005746732.tif 000057
【０３６１】
２−クロロ−３−オキソへキサン酸エチル（１９４ｍｇ）、ＤＭＦ（２．４ｍｌ）、ＲｕＣｌ[（Ｓ，Ｓ）−ＭｅｓＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体（１ｍｏｌ％）、トリエチルアミン（５当量）を混合し、これにギ酸（５当量）をゆっくりと加えた。４０℃、３時間反応を行った。反応液を分析した結果、変換率は９７％であり、異性体比は（（２Ｓ，３Ｒ）：（２Ｓ，３Ｓ）：（２Ｒ，３Ｒ）：（２Ｒ，３Ｓ）＝９４．７：１．３：０：４．０）であった。なお、Ｍｅｓはメチレンスルホニル基を表す。
【０３６２】
実施例２７  （２Ｓ，３Ｒ）−２−クロロ−３−ヒドロキシへキサン酸エチルの製造
２−クロロ−３−オキソへキサン酸エチル（１９４ｍｇ）、ＤＭＦ（２．４ｍｌ）、ＲｕＣｌ[（Ｓ，Ｓ）−ＮｐＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体（１ｍｏｌ％）、トリエチルアミン（５当量）を混合し、これにギ酸（５当量）をゆっくりと加えた。４０℃、３時間反応を行った。反応液を分析した結果、変換率は９５％であり、異性体比は（（２Ｓ，３Ｒ）：（２Ｓ，３Ｓ）：（２Ｒ，３Ｒ）：（２Ｒ，３Ｓ）＝８８．３：４．６：２．１：５．１）であった。
【０３６３】
実施例２８  ２−クロロ−３−ヒドロキシへキサン酸エチルの製造
２−クロロ−３−オキソへキサン酸エチル（１９４ｍｇ）、クロロベンゼン（３ｍｌ）、ＲｕＣｌ[（Ｓ，Ｓ）−ＴｓＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体（１ｍｏｌ％）、トリエチルアミン（５当量）を混合し、これにギ酸（３当量）をゆっくりと加えた。４０℃、３時間反応を行った。反応液を分析した結果、変換率は１００％であり、異性体比は（（２Ｓ，３Ｒ）：（２Ｓ，３Ｓ）：（２Ｒ，３Ｒ）：（２Ｒ，３Ｓ）＝６３．７：２４．９：４．１：７．３）であった。
【０３６４】
参考例１  ３−オキソ−４−フェニル酪酸エチルの製造
【０３６５】
【化７８】
0005746732.tif 000058
【０３６６】
マロン酸モノエチルモノカリウム塩（１２．９ｇ、２．３当量）をテトラヒドロフラン（２００ｍｌ）と混合し、５℃に冷却した。トリエチルアミン（８．２ｇ、２．５当量）、塩化マグネシウム（８．６２ｇ、２．８当量）を加えて５〜２０℃で３時間攪拌した。反応液を５℃に冷却し、フェナシルクロライド（５ｇ、３２ｍｍｏｌ、１当量）をゆっくりと加え５〜２０℃で６３時間攪拌した。５℃に冷却し、１規定塩酸（３０ｍｌ）を添加した。減圧下にてテトラヒドロフランを留去し、酢酸エチル（５０ｍｌ）で抽出した。有機層を１規定塩酸（３０ｍｌ）、水（１０ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３０ｍｌ）、水（１０ｍｌ）で順次洗浄した。減圧下にて溶媒を留去することにより、標題化合物を淡黄色油状物として得た（５．８２ｇ、収率８６％）。
【０３６７】
参考例２  ２−クロロ−３−オキソ−４−フェニル酪酸エチルの製造
【０３６８】
【化７９】
0005746732.tif 000059
【０３６９】
３−オキソ−４−フェニル酪酸エチル（４．８ｇ、２３ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（４８ｍｌ）と混合し、ここに塩化スルフリル（３．１ｇ、１当量）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、２０℃で１時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）を加え、酢酸エチル（２０ｍｌ）で抽出した。溶媒を減圧下に留去し、真空乾燥することにより標題化合物を黄色油状物として得た（４．８ｇ、収率８６％）。
【０３７０】
実施例２９  （４Ｓ，５Ｓ）−Ｎ−シクロプロピル−２−イソプロピル−４−プロピル−４，５−ジヒドロ−１，３−オキサゾール−５−カルボキサミドの製造
【０３７１】
【化８０】
0005746732.tif 000060
【０３７２】
（２Ｓ，３Ｒ）−３−プロピル−２−オキシランカルボン酸エチル（３．２ｇ、１９ｍｍｏｌ）にイソブチロニトリル（６．８ｇ）を加えて５℃に冷却し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（５．５ｇ、２当量）をゆっくりと滴下して室温で２時間攪拌した。酢酸エチル（４０ｍｌ）と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１３ｍｌ）を混合して５℃に冷却しておき、この中に反応液を投入した。ｐＨを６．７に調整し、水層を除去した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液（８ｍｌ）で洗浄し、減圧下にて溶媒を留去することにより、標題化合物を黄色固体（６．２３ｇ、収率９０％）として得た。
1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ６．２４（ｂｒｓ，１Ｈ），４．８０（ｄ，１Ｈ），４．３６（ｄｔ，１Ｈ），２．８０−２．５５（ｍ，２Ｈ），１．８０−１．３６（ｍ，３Ｈ）,１．２２−１．０５（ｍ，７Ｈ）,０．９５（ｔ，３Ｈ）、０．８３−０．８０（ｍ,２Ｈ）,０．５５−０．５０（ｍ,２Ｈ）。
【０３７３】
実施例３０  （２Ｓ，３Ｓ）−３−アミノ−２−ヒドロキシ−ヘキサン酸シクロプロピルアミド塩酸塩の製造
（４Ｓ，５Ｓ）−Ｎ−シクロプロピル−２−イソプロピル−４−プロピル−４，５−ジヒドロ−１，３−オキサゾール−５−カルボキサミド（３．１１ｇ、８．７ｍｍｏｌ）、アセトン（１５ｍｌ）、濃塩酸（１．３９ｇ、１．５当量）を混合し、５０℃にて３９時間攪拌した。減圧下にて溶媒を留去した。イソプロパノール（１０ｍｌ）を加えて濃縮し、再度同様の操作を行なった。得られた固体にメタノール（２．７ｍｌ）を加え、６０℃にて１時間間攪拌した。これに酢酸エチル（２０ｍｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、５℃まで徐々に冷却した。析出した結晶をろ別し、減圧下にて乾燥することにより、標題化合物を白色結晶（１．３６ｇ、収率７２％）として得た。
【０３７４】
実施例３１  組換え大腸菌による２−クロロ−３−オキソ−４−フェニル酪酸エチルの還元
バクト−トリプトン１．６％、バクト−イーストエキス１％、ＮａＣｌ０．５％（ｐＨ７．０）からなる培地５０ｍｌを５００ｍｌ坂口フラスコに入れ殺菌後、Escherichia coli HB101(pNTRDG1)受託番号FERM BP-08458を植菌し、３７℃で２４時間振とう培養した。得られた培養ブロス５０ｍｌに、２−クロロ−３−オキソ−４−フェニル酪酸エチル  １ｇ、グルコース  ２ｇ、酸化型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤ+）  ２．５ｍｇを添加し、３０％ＮａＯＨでｐＨを６．５に保ちながら２４時間反応させた。反応終了後、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出し、得られた有機相を減圧濃縮し、油状の２−クロロ−３−ヒドロキシ−４−フェニル酪酸エチル０．９６ｇを得た。得られたものをＧＣにより分析したところ、ａｎｔｉ／ｓｙｎ＝９９／１、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）の光学純度は９９．８％ｅ．ｅ．であった。