(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
コイルと、前記コイル内部に摺動可能に挿通され、両端部が突き出た状態で保持されたアーマチュアと、前記アーマチュアに対向して配置された一対の継鉄と、前記一対の継鉄に挟持された永久磁石と、を備える電磁石装置であって、前記一対の継鉄のうちいずれか一方の継鉄の前記永久磁石に接触する部分に磁束通過抵抗部を設け、前記一方の継鉄の前記磁束通過抵抗部の一方側における永久磁石との接触面積と他方側における永久磁石との接触面積とが異なるようにし、
前記アーマチュアに形成された支点部が前記一対の継鉄にそれぞれ形成された支承部の間に配置されており、
前記支点部が常に前記一方の継鉄の支承部に接触し、前記支点部と前記他方の継鉄の支承部との間に所定のギャップが形成されていることを特徴とする電磁石装置。
【請求項２】
前記磁束通過抵抗部は、前記一対の継鉄の前記永久磁石に接触する部分に形成された薄肉部であることを特徴とする請求項１に記載の電磁石装置。
【請求項３】
前記磁束通過抵抗部は、前記一対の継鉄の前記永久磁石に接触する部分に形成された凹部であることを特徴とする請求項１に記載の電磁石装置。
【請求項４】
前記一方の継鉄は、第１の継鉄部と第２の継鉄部とを備えており、当該第１の継鉄部と第２の継鉄部とが間隔をもって前記永久磁石に接触することで、前記磁束通過抵抗部が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電磁石装置。
【請求項５】
請求項１〜４のうちいずれか１項に記載の電磁石装置と、前記アーマチュアに係止されたカードと、前記カードに橋架された可動ばねと、前記可動ばねの一端に固着された可動接点と、前記可動接点に対向して配置された固定接点と、を備えることを特徴とする電磁リレー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁石装置およびこれを用いた電磁リレーに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電磁石装置として、コイルが巻回されたアーマチュアと、アーマチュアの両端部両面に対向して配置された一対の継鉄と、両継鉄間に挟持された永久磁石と、を備えたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
この特許文献１では、一方の継鉄を当該一方の継鉄の長手方向中央部で２分割するとともに、永久磁石を２分割している。そして、２つの永久磁石により生じる磁力を等しくさせたり異ならせたりすることで、継鉄とアーマチュアの吸引力特性を調整し、ラッチング動作またはシングルステイブル動作を行うことができるようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開昭６０−２４６５３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記従来の電磁石装置のように、永久磁石の磁力調整によって継鉄とアーマチュアの吸引力特性の調整を行う構造では、多様な吸引力特性を得ることが難しかった。
【０００６】
そこで、本発明は、より容易に多様な吸引力特性を得ることのできる電磁石装置およびこれを用いた電磁リレーを得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明にあっては、コイルと、前記コイル内部に摺動可能に挿通され、両端部が突き出た状態で保持されたアーマチュアと、前記アーマチュアに対向して配置された一対の継鉄と、前記一対の継鉄に挟持された永久磁石と、を備える電磁石装置であって、前記一対の継鉄のうちいずれか一方の継鉄の前記永久磁石に接触する部分に磁束通過抵抗部を設け、前記一方の継鉄の前記磁束通過抵抗部の一方側における永久磁石との接触面積と他方側における永久磁石との接触面積とが異なるようにし、前記アーマチュアに形成された支点部が前記一対の継鉄にそれぞれ形成された支承部の間に配置されており、前記支点部が常に前記一方の継鉄の支承部に接触し、前記支点部と前記他方の継鉄の支承部との間に所定のギャップが形成されていることを主な特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、一対の継鉄のうちいずれか一方の継鉄の永久磁石に接触する部分に磁束通過抵抗部を設け、一方の継鉄の磁束通過抵抗部の一方側における永久磁石との接触面積と他方側における永久磁石との接触面積とが異なるようにした。このように、磁束通過抵抗部の一方側と他方側での永久磁石との接触面積を異ならせることで、継鉄とアーマチュアの吸引力特性の調整を行うことができ、より容易に多様な吸引力特性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、本発明の第１実施形態にかかる電磁リレーを模式的に示す図であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
【図２】図２は、本発明の第１実施形態にかかる電磁リレーのアーマチュアを示す斜視図である。
【図３】図３は、本発明の第１実施形態にかかる電磁リレーの一方の継鉄を示す図であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
【図４】図４は、本発明の第１実施形態にかかる電磁リレーに用いられる電磁石装置を示す斜視図である。
【図５】図５は、本発明の第１実施形態にかかる電磁リレーに用いられる電磁石装置をアーマチュアからコイルを取り除いた状態で示す斜視図である。
【図６】図６は、本発明の第１実施形態にかかる電磁リレーにおいて、吸引力と可動ばね負荷との関係を示す図である。
【図７】図７は、本発明の第１実施形態にかかる電磁リレーに用いられる電磁石装置の第１変形例をアーマチュアからコイルを取り除いた状態で示す斜視図である。
【図８】図８は、本発明の第１実施形態の第１変形例にかかる電磁石装置の一方の継鉄を示す図であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。
【図９】図９は、本発明の第１実施形態にかかる電磁リレーに用いられる電磁石装置の第２変形例をアーマチュアからコイルを取り除いた状態で示す斜視図である。
【図１０】図１０は、本発明の第１実施形態の第２変形例にかかる電磁石装置の一方の継鉄を示す図であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。
【図１１】図１１は、本発明の第１実施形態にかかる電磁石装置の第１の磁気回路を、本発明の第１実施形態の第２変形例にかかる電磁石装置を用いて示した斜視図である。
【図１２】図１２は、本発明の第１実施形態にかかる電磁石装置の第２の磁気回路を、本発明の第１実施形態の第２変形例にかかる電磁石装置を用いて示した斜視図である。
【図１３】図１３は、本発明の第１実施形態にかかる電磁石装置の永久磁石の位置や大きさを変えた際に変化する磁気回路を、本発明の第１実施形態の第２変形例にかかる電磁石装置を用いて説明した表形式の図である。
【図１４】図１４は、本発明の第１実施形態にかかる電磁石装置の第１の継鉄の形状を変えた際に変化する磁気回路を、本発明の第１実施形態の第２変形例にかかる電磁石装置を用いて説明した表形式の図である。
【図１５】図１５は、本発明の第２実施形態にかかる電磁石装置を第３の磁気回路とともに示す斜視図である。
【図１６】図１６は、本発明の第２実施形態にかかる電磁石装置を第４の磁気回路とともに示す斜視図である。
【図１７】図１７は、本発明の第２実施形態にかかる電磁石装置を第５の磁気回路とともに示す斜視図である。
【図１８】図１８は、本発明の第２実施形態にかかる電磁石装置を第６の磁気回路とともに示す斜視図である。
【図１９】図１９は、本発明の第２実施形態にかかる電磁石装置の第２の継鉄の形状を変えた際に変化する吸引力を説明する図であって、（ａ）は第２の継鉄部を長くした場合を示す表形式の図、（ｂ）は第１の継鉄部を長くした場合を示す表形式の図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の複数の実施形態には、同様の構成要素が含まれている。よって、以下では、それら同様の構成要素には共通の符号を付与するとともに、重複する説明を省略する。
【００１１】
（第１実施形態）
本実施形態にかかる電磁リレー１００は、図１に示すように、電磁石ブロック（電磁石装置）１を用いて形成されている。
【００１２】
電磁石ブロック１は、細長い直方体状の永久磁石２と、永久磁石２の両極面（Ｎ極面とＳ極面）を挟んで対向配置される第１の継鉄３および第２の継鉄４（一対の継鉄）と、を備えている。さらに、電磁石ブロック１は、第１の継鉄３および第２の継鉄４の両端部間に跨って配置されるアーマチュア（接極子）５１と、アーマチュア５１が挿通されるコイルブロック５２と、を備えている。
【００１３】
また、電磁リレー１００は、カード１１５、可動ばね１１６ａ、１１６ｂ、可動接点１１７ａ，１１７ｂおよび固定接点１１８ａ、１１８ｂで構成される接点機構部を備えている。そして、これら接点機構部および電磁石ブロック（電磁石装置）１が樹脂製のベース１１０上に立設されている。なお、本実施形態では、電磁リレー１００は、組立後の状態において、図示せぬカバーが被せられた箱体として形成される。
【００１４】
コイルブロック５２は、樹脂製の絶縁材からなる円筒状のコイルボビン（図示せず）に、コイルを所定回数巻回することで形成されている。そして、内部にアーマチュア５１を挿通した状態で所定の電圧を印可することで電磁石を形成し、コイルの巻数とコイルに流れる電流の積に比例した磁束を発生する。
【００１５】
アーマチュア５１は、電磁軟鉄等の磁性材料により長尺板状に形成されており、両端部が突き出た状態でコイルブロック５２の内部に摺動可能に挿通されている（図１および図３参照）。また、アーマチュア５１の両端部の両面が、図４に示すように、第１の継鉄３および第２の継鉄４の両端部にそれぞれ対向して配置されている。そして、このアーマチュア５１は、コイルブロック５２を励磁した際に、第１，第２の継鉄３、４および永久磁石２とともに磁路を形成して、第１の継鉄３または第２の継鉄４に吸引、離反されるものである。
【００１６】
具体的には、アーマチュア５１の長手方向一端側（図２の左側）に、第１の継鉄３および第２の継鉄４に吸着される吸着部５１ｂが形成されており、他端側（図２の右側）に、第１の継鉄３および第２の継鉄４に支承される支点部５１ａが形成されている。そして、支点部５１ａと吸着部５１ｂとが一般部５１ｃによって連結されている。
【００１７】
本実施形態では、アーマチュア５１の吸着部５１ｂと一般部５１ｃとが、ほぼ一定の厚さ（永久磁石２とアーマチュア５１との並設方向における厚さ：図２の上下方向の厚さ）ｗ２に形成されている。そして、支点部５１ａは、第１の支承部３２および第２の支承部４２の幅（アーマチュア５１の長手方向幅）ｗ３に略相当する幅をもって一般部５１ｃよりも厚さ方向（図２の上下方向）両側に突出するように形成されている。このように、本実施形態では、アーマチュア５１は、支点部５１ａから吸着部５１ｂに至る全体形状が細長いＴ字形となっており、支点部５１ａの面積は吸着部５１ｂよりも大きくなっている。
【００１８】
また、アーマチュア５１は、第１および第２の支承部３２、４２と第１および第２の吸引３３、４３との間に跨って配置される長さに形成されている。すなわち、アーマチュア５１の支点部５１ａが第１の支承部３２と第２の支承部４２との間に配置されるとともに、吸着部５１ｂが第１の吸引部３３と第２の吸引部４３との間に配置されるようにアーマチュア５１が形成されている。
【００１９】
また、図２に示すように、アーマチュア５１の後端部には、他の面より厚くなるような段差Ｂが形成されている。すなわち、アーマチュア５１の支点部５１ａは、幅（第１，第２の継鉄３、４の並設方向の幅：第１，第２の継鉄３、４が互いに対向する方向の幅）が、吸着部５１ｂおよび一般部５１ｃよりも広くなるように形成されている。このような段差Ｂを形成することで、後端部における第２の継鉄４との間に大きなエアギャップを形成することができるようになる。なお、段差Ｂを設けないようにすることも可能である。
【００２０】
なお、本実施形態では、厚みｔ２（図４参照）が第１の継鉄３と第２の継鉄４との間の間隔Ｓよりも所定寸法だけ薄い板材をプレス成形することでアーマチュア５１を形成している。
【００２１】
そして、アーマチュア５１は、励磁状態を切り換える（コイルへの通電、遮断を切り替える）ことで、支点部５１ａを支点に、吸着部５１ｂが第１の吸引部３３および第２の吸引部４３に交互に吸引されるようになっている。なお、コイルの巻回方向は、図５に示すように、励磁時にアーマチュア５１の支点部５１ａがＳ極となり、吸着部５１ｂがＮ極となるように設定されている。
【００２２】
さらに、本実施形態では、励磁状態の切り換えによりアーマチュア５１の吸着部５１ｂを第１の吸引部３３と第２の吸引部４３とに交互に吸引させる際に、アーマチュア５１の支点部５１ａが常に第１の支承部３２に接触した状態で保持されるようにしている。このとき、支点部５１ａと第２の支承部４２との間には所定のギャップδ１が設けられることになる。また、アーマチュア５１の吸着部５１ｂが第１の吸引部３３に吸引されて接触した状態では、吸着部５１ｂと第２の吸引部４３との間に所定のギャップδ２が設けられる。同様に、吸着部５１ｂが第２の吸引部４３に吸引されて接触した状態では、吸着部５１ｂと第１の吸引部３３との間にギャップδ２が設けられることになる。
【００２３】
第１および第２の継鉄３，４は、電磁軟鉄等の磁性材料により略Ｕ字状に形成されており、両端部を磁極部としてアーマチュア５１の両端部に対向して配置され（図４参照）、コイルブロック５２を励磁することで発生する磁束の磁路を形成する。このとき、可動ばね１１６ａ，１１６ｂのばね負荷力（図６参照）との整合をとることで、両端部でアーマチュア５１を吸引して、可動接点１１７ａ、１１７ｂと固定接点１１８ａ，１１８ｂの当接、および離隔を行う。
【００２４】
本実施形態では、第１の継鉄３は、図３（ｂ）に示すように、永久磁石２のＳ極面に沿って延びるほぼ一定幅ｗ１の第１主幹部３１を備えている。さらに、第１の継鉄３は、第１主幹部３１の一端部３１ａからほぼ直角に一方向（図３（ｂ）の上方）に突出する第１の支承部３２と、第１主幹部３１の他端部３１ｂからほぼ直角に第１の支承部３２と同方向に突出する第１の吸引部３３と、を備えている。このように、本実施形態では、第１の継鉄３は、第１主幹部３１、第１の支承部３２および第１の吸引部３３とで略Ｕ字状に形成されている。また、この第１の継鉄３は、永久磁石２の両極方向に対して直交する方向、つまり、永久磁石２の着磁面に沿った長手方向（図３（ｂ）の左右方向）に長くなっている。
【００２５】
そして、第２の継鉄４は、第１の継鉄３とほぼ同一の形状をしている。すなわち、第２の継鉄４は、永久磁石２のＮ極面に沿って延びるほぼ一定幅ｗ１となる第２主幹部４１と、この第２主幹部４１の一端部４１ａからほぼ直角に突出する第２の支承部４２と、第２主幹部４１の他端部４１ｂから同方向に突出する第２の吸引部４３とで略Ｕ字状に形成されている。
【００２６】
なお、第１主幹部３１および第２主幹部４１の幅ｗ１は、永久磁石２の幅（図５の上下方向寸法）よりも若干大きくなっており、永久磁石２を包含できるようにしている。また、第１および第２の継鉄３、４の吸引部３３、４３は、それぞれの支承部３２、４２よりも幅広に形成されている。
【００２７】
そして、永久磁石２の両極を挟んで対向配置した第１の継鉄３と第２の継鉄４との間には、永久磁石２の厚みに相当する一定の間隔Ｓ（図５参照）が設けられている。これにより、第１の支承部３２と第２の支承部４２および第１の吸引部３３と第２の吸引部４３は、それぞれ間隔Ｓを隔てて対向配置されることになる。
【００２８】
永久磁石２は、平板状に形成されて板厚方向に磁化され、第１および第２の継鉄３，４に挟持されている。すなわち、永久磁石２のＮ、Ｓ両極は、図５に示すように、厚みｔ１方向（第１，第２の継鉄３、４の並設方向）両面に着磁されており、Ｎ極面に第１の継鉄３が当接するとともに、Ｓ極面に第２の継鉄４が当接している。
【００２９】
この永久磁石２の磁束は、第２の継鉄４、アーマチュア５１の先端部から後端部、第１の継鉄３を経て再び永久磁石２に至る第１閉磁路と、第２の継鉄４、アーマチュア５１の後端部から先端部、第１の継鉄３を経て再び永久磁石２に至る第２閉磁路を形成している。そして、これら第１および第２閉磁路により、コイルブロック５２を励磁していないときに、アーマチュア５１の先端部と第２の継鉄４との間に吸引保持力を発生させている。
【００３０】
カード１１５は、絶縁性を有する合成樹脂により逆Ｕ字状に形成されており、その中央部がアーマチュア５１に係止され、両端部が可動ばね１１６ａ，１１６ｂに橋架されている。この構成により、アーマチュア５１の動作を可動ばね１１６ａ，１１６ｂに伝達することができる。
【００３１】
可動ばね１１６ａ，１１６ｂは、洋白等の非磁性薄板ばね材料により長尺状に形成されて、一端にそれぞれ可動接点１１７ａ、１１７ｂがかしめ固着され、コイルブロック５２の長手方向両側で略平行に沿うようにして、他端が図示せぬ可動端子に固定されている。この可動ばね１１６ａ、１１６ｂは、その長手方向の略中央をカード１１５によって駆動されることで、可動接点１１７ａ、１１７ｂを固定接点１１８ａ、１１８ｂに当接、離隔するものである。
【００３２】
本実施形態では、可動ばね１１６ａ、１１６ｂは、吸着部５１ｂが第１の継鉄３の第１の吸引部３３に当接するようにアーマチュア５１を付勢している。本実施形態では、可動ばね１１６ａ、１１６ｂのばね負荷は、図６の破線のようになる。そして、コイルブロック５２を励磁していない状態のときには、永久磁石２による第２の吸引部４３側への吸引力が可動ばね１１６ａ、１１６ｂのばね負荷よりも勝るようにすることで、無励磁時には、アーマチュア５１の吸着部５１ｂが第２の継鉄４の第２の吸引部４３に当接するようにしている。
【００３３】
可動接点１１７ａ、１１７ｂは、接触抵抗の低い、例えば銀合金等の接点材料を用いて表面を凸曲面とした円盤状に形成され、それぞれ可動ばね１１６ａ、１１６ｂの一端にかしめ固着されている。
【００３４】
固定接点１１８ａ、１１８ｂは、可動接点１１７ａ、１１７ｂと同様の銀合金等の接点材料を用いて表面を平面とした円盤状に形成され、図示せぬ可動端子に固定されている。
【００３５】
次に、上記構成とした電磁リレー１００の動作について説明する。
【００３６】
まず、図１の状態（無励磁状態）において、コイルブロック５２を所定の極性に励磁すると、発生した磁束および永久磁石２の磁束によって、吸着部５１ｂの第２の吸引部４３側への吸引力が弱まる。そして、アーマチュア５１に係止されたカード１１５に橋架された可動ばね１１６ａ、１１６ｂのばね負荷（吸着部５１ｂを第１の吸引部３３に当接させようとする力）が、吸着部５１ｂの第２の吸引部４３側への吸引力よりも大きくなると、アーマチュア５１の先端部（吸着部５１ｂ）が第１の継鉄３の先端部端面（第１の吸引部３３）に吸引される。すなわち、アーマチュア５１に係止されたカード１１５に橋架された可動ばね１１６ａ、１１６ｂが変位する。そして、離隔していた可動接点１１７ａ、１１７ｂがそれぞれ固定接点１１８ａ、１１８ｂに当接する。
【００３７】
一方、コイルブロック５２の励磁を断つと、吸着部５１ｂの第２の吸引部４３側への吸引力が可動ばね１１６ａ、１１６ｂのばね負荷に勝り、アーマチュア５１の先端部と可動ばね１１６ａ、１１６ｂは、永久磁石２の磁束による第２の継鉄４側の吸引力により元の状態に復帰し、可動接点１１７ａ，１１７ｂと固定接点１１８ａ、１１８ｂはそれぞれ元の離隔状態になる。
【００３８】
このように、本実施形態にかかる電磁リレー１００は、吸着部５１ｂが第１の継鉄３の第１の吸引部３３に当接するようにアーマチュア５１を付勢させる可動ばね１１６ａ、１１６ｂを用い、シングルステイブル動作を行うようにしたものである。
【００３９】
具体的には、電磁リレー１００は、無励磁時には、吸着部５１ｂがｂ接点側（第２の継鉄４の第２の吸引部４３側）に吸引される（ｂ接点側で安定する）ようにするとともに、励磁した際に、吸着部５１ｂがａ接点側（第１の継鉄３の第１の吸引部３３側）に吸引される（ａ接点側で安定する）ようにしたものである。
【００４０】
図６は、アーマチュア５１に対する継鉄３、４の吸引力と可動ばね１１６ａ、１１６ｂのばね負荷力の関係を示す図である。同図において、１００％ＡＴで示す曲線は電磁リレー１００が安定動作するための吸引力であり、５０％ＡＴの曲線は電磁リレー１００が動作を開始するための吸引力である。なお、各吸引力はコイルブロック５２に流れる電流から計算される起磁力（アンペアターン）の定格に対する割合をパラメータとして表している。
【００４１】
このように、吸引力とばね負荷力との整合をとることによって、電磁リレー１００は、可動接点１１７ａ，１１７ｂと固定接点１１８ａ、１１８ｂの当接、離隔を行っている。
【００４２】
ここで、本実施形態では、一対の継鉄３、４のうちいずれか一方の継鉄である第１の継鉄３の永久磁石２に接触する部分に磁束通過抵抗部１０を設け、第１の継鉄３の磁束通過抵抗部１０の永久磁石２の長手方向（永久磁石２の磁極面に沿う方向）一方側における永久磁石２との接触面積と他方側における永久磁石２との接触面積とが異なるようにしている。このように、磁束通過抵抗部１０を境にして第１の継鉄３の両側（本実施形態では、永久磁石２の長手方向両側）で、永久磁石２との接触面積を異ならせることで、図６に示すようなばね負荷を持たせた場合に、吸引力とばね負荷力との整合をとれるようにしている。
【００４３】
具体的には、図４および図５に示すように、一対の継鉄３、４のうち一方の継鉄である第１の継鉄３が永久磁石２に接触する部分となる第１主幹部３１に、第１主幹部３１の両端部３１ａ、３１ｂ間の中心から一方の端部（本実施形態では第１の吸引部３３）に偏った位置に、磁束通過抵抗部１０を設けている。すなわち、本実施形態では、第１主幹部３１の磁束通過抵抗部１０よりも第１の支承部３２側における永久磁石２との接触面積の方が、第１主幹部３１の磁束通過抵抗部１０よりも第１の吸引部３３側における永久磁石２との接触面積よりも大きくなるようにしている。
【００４４】
さらに、本実施形態では、肉厚ｔ４が第１主幹部３１の肉厚ｔ３（図２参照）よりも薄くなるように形成した薄肉部１１を磁束通過抵抗部１０として機能させている。
【００４５】
この薄肉部１１は、図３（ａ）に示すように、第１主幹部３１の永久磁石２に接触する内側面３１ｃ側に形成される。本実施形態では、薄肉部１１は、両側１１ａ、１１ｂが内側面３１ｃとほぼ直角となるように形成されており、底面１１ｃと両側１１ａ、１１ｂとの間もほぼ直角となるように形成されている。このとき、底面１１ｃと第１主幹部３１の外側面３１ｄとの間の肉厚ｔ４は、薄肉部１１の深さｄ１よりも小さくなっている。
【００４６】
なお、第１の継鉄３の第１の支承部３２には、内側面３１ｃ側に第１の支承部３２の突出方向に沿って断面円弧面となる浅い凹溝３４が形成されている。また、第２の継鉄４は、薄肉部１１が形成されていない第１の継鉄３と同じものが用いられている。したがって、第２の継鉄４の第２の支承部４２にも凹溝４４が形成されている。この場合、凹溝４４は第２の継鉄４の外側面４１ｄに設けられることになる。なお、４１ｃは第２の継鉄４の内側面を示している。
【００４７】
（第１変形例）
ところで、上記第１実施形態では、磁束通過抵抗部１０を薄肉部１１で形成した場合を例示したが、図７および図８に示すように、磁束通過抵抗部１０を幅ｗ１方向に凹む凹部１２として形成することも可能である。この場合にあっても凹部１２は、第１主幹部３１の両端部３１ａ、３１ｂ間の中心から一方の端部に偏った位置に設けられており、磁束通過抵抗部１０を境にして第１の継鉄３の両側（本変形例では、永久磁石２の長手方向両側）で、永久磁石２との接触面積が異なるようにしている。そして、本変形例においても、第１主幹部３１の磁束通過抵抗部１０よりも第１の支承部３２側における永久磁石２との接触面積の方が、第１主幹部３１の磁束通過抵抗部１０よりも第１の吸引部３３側における永久磁石２との接触面積よりも大きくなるようにしている。
【００４８】
凹部１２は、図８（ｂ）に示すように、第１主幹部３１の幅ｗ１方向の第１の支承部３２や第１の吸引部３３が突出する方向（図８（ｂ）の上方側）に開口するように設けられている。すなわち、凹部１２は、両側１２ａ、１２ｂが第１主幹部３１の上側面３１ｅとほぼ直角となるように形成されており、底面１２ｃと両側１２ａ、１２ｂとの間もほぼ直角となるように形成されている。このとき、底面１２ｃと第１主幹部３１の下側面３１ｆとの間の肉厚ｔ５が凹部１２の深さｄ２よりも小さくなるように、凹部１２を形成している。
【００４９】
（第２変形例）
また、図９および図１０に示すように、一方の継鉄である第１の継鉄３を、第１の継鉄部３Ａと第２の継鉄部３Ｂとで構成し、第１の継鉄部３Ａと第２の継鉄部３Ｂとを所定間隔Ｌだけ離間させるようにすることで形成される空間部１３を磁束通過抵抗部１０として形成することも可能である。この場合にあっても空間部１３は、第１主幹部３１の両端部３１ａ、３１ｂ間の中心から一方の端部に偏った位置に設けられている。すなわち、磁束通過抵抗部１０を境にして第１の継鉄３の両側（本変形例では、永久磁石２の長手方向両側）で、永久磁石２との接触面積が異なるようにしている。そして、本変形例においても、第１主幹部３１の磁束通過抵抗部１０よりも第１の支承部３２側における永久磁石２との接触面積の方が、第１主幹部３１の磁束通過抵抗部１０よりも第１の吸引部３３側における永久磁石２との接触面積よりも大きくなるようにしている。
【００５０】
第１の継鉄部３Ａと第２の継鉄部３Ｂとは、図１０（ｂ）に示すように、対向面１３ａ、１３ｂがそれぞれほぼ面直状態で対向している。
【００５１】
次に、上記第１実施形態およびその変形例にかかる電磁リレー１００の作用効果について、図１１〜図１４に基づき説明する。以下では、第２変形例で示す電磁石装置（第１の継鉄３を、第１の継鉄部３Ａと第２の継鉄部３Ｂとで構成したもの）を用いて説明する。
【００５２】
（１）第１の磁気回路（図１１参照）
この第１の磁気回路は、アーマチュア５１が第２の吸引部４３（ｂ接点側）に位置しており、かつ、アーマチュア５１が無励磁の場合を示している。
【００５３】
この第１の磁気回路は、実線で示す磁気回路Ｍ１と、破線で示す磁気回路Ｍ２とが形成され、それぞれの磁気回路Ｍ１、Ｍ２は矢印の向きに閉ループが形成されている。
【００５４】
つまり、磁気回路Ｍ１の経路は、Ｎ極→第２主幹部４１→第２の吸引部４３→アーマチュア５１→第１の継鉄部３Ａ（第１の支承部３２経由）→Ｓ極となる閉ループが形成される。一方、磁気回路Ｍ２の経路は、Ｎ極→第２の支承部４２→アーマチュア５１→第２の継鉄部３Ｂ（第１の吸引部３３経由）→Ｓ極となる閉ループが形成される。
【００５５】
このとき、空間部１３は第１の継鉄３の中心部から第１の吸引部３３側に偏った位置に設けられており、第１の継鉄部３Ａの永久磁石２との接触面積の方が第２の継鉄部３Ｂの永久磁石２との接触面積よりも大きいため、磁気回路Ｍ２よりも磁気回路Ｍ１の磁束が多くなる。このことは次の第２の磁気回路にあっても同様である。
【００５６】
そして、磁気回路Ｍ２は、第２の継鉄４の第２の支承部４２とアーマチュア５１との間、およびアーマチュア５１と第２の継鉄部３Ｂとの間にギャップδ１、δ２が設けられているため、磁気回路Ｍ２よりも磁気回路Ｍ１の磁力が大きくなる。このように、アーマチュア５１が第２の吸引部４３に位置し、無励磁の状態では、アーマチュア５１が第２の吸引部４３に吸着された状態が維持される。
【００５７】
（２）第２の磁気回路（図１２参照）
この第２の磁気回路は、アーマチュア５１が第１の吸引部３３（ａ接点側）に位置しており、かつ、アーマチュア５１が無励磁の場合を示している。
【００５８】
この第２の磁気回路は、第１の磁気回路と同様に実線で示す磁気回路Ｍ１と、破線で示す磁気回路Ｍ２とが形成され、それぞれの磁気回路Ｍ１、Ｍ２は第１の磁気回路と同じ経路となる。
【００５９】
この場合（アーマチュア５１が第１の吸引部３３に位置している場合）には、磁気回路Ｍ１にはアーマチュア５１と第２の吸引部４３との間にギャップδ２が設けられる一方、磁気回路Ｍ２には第２の支承部４２とアーマチュア５１との間にギャップδ１が設けられ、双方の磁気回路Ｍ１、Ｍ２にギャップδ１、δ２が存在することになる。また、第１の継鉄部３Ａの永久磁石２との接触面積の方が第２の継鉄部３Ｂの永久磁石２との接触面積よりも大きい。ここで、磁気回路Ｍ１とＭ２の大きさは、第１の継鉄部３Ａと第２の継鉄部３Ｂの接触面積の差が磁気回路Ｍ１とＭ２に与える影響、および、ギャップδ１、δ２が磁気回路Ｍ１とＭ２に与える影響の大小によって決定される。本実施形態では、ギャップδ２により磁気回路Ｍ１の磁力は減少するが、第１の継鉄部３Ａの永久磁石２との接触面積の方が第２の継鉄部３Ｂの永久磁石２との接触面積よりも大きいため、磁気回路Ｍ２よりも磁気回路Ｍ１の磁力が大きくなる。すなわち、アーマチュア５１は、第２の吸引部４３側に吸引され、第２の吸引部４３に吸着されることとなる。
【００６０】
なお、接触面積の差およびギャップの大きさを適宜設定することで、吸引特性を、図６の０％ＡＴ時の吸引特性にすることができる。また、磁気回路Ｍ１よりも磁気回路Ｍ２の磁力が大きくなるようにして、アーマチュア５１が第１の吸引部３３に吸着された状態を維持できるようにすることも可能である。
【００６１】
本実施形態では、可動ばね１１６ａ、１１６ｂに図６に示すようなばね負荷を持たせているため、図６の０％ＡＴ時の吸引特性となるように設定している。
【００６２】
そして、アーマチュア５１を励磁させると、アーマチュア５１により後述する磁気回路Ｍ３と同経路の磁気回路が形成される（図１８参照）。そのため、アーマチュア５１による生じる磁力（アーマチュア５１を第１の吸引部３３側に移動させる力）および磁気回路Ｍ２による磁力（アーマチュア５１を第１の吸引部３３側に移動させる力）によって磁気回路Ｍ１の磁力（アーマチュア５１を第２の吸引部４３側に移動させる力）を上回るようにすることができる。すなわち、図６の１００％ＡＴ時の吸引特性とすることができる。
【００６３】
次に、図１３および図１４に基づき、永久磁石２の位置や大きさの変化や、第１の継鉄３の形状変化が吸引特性に与える影響について説明する。
【００６４】
図１３の（Ａ）は、永久磁石２を第１の継鉄部３Ａ方向に移動させることが吸引特性に与える影響を説明するものである。ここでは、アーマチュア５１が第１の吸引部３３に位置する場合と第２の吸引部４３に位置する場合とに分けて、それぞれの無励磁時と励磁時の磁気回路Ｍ１、Ｍ２を示している。
【００６５】
図１３の（Ｂ）は、永久磁石２を第１の継鉄部３Ａ方向に延長させることが吸引特性に与える影響を説明するものである。また、（Ａ）と同様にアーマチュア５１が第１の吸引部３３に位置する場合と第２の吸引部４３に位置する場合とに分けて、それぞれの無励磁時と励磁時の磁気回路Ｍ１、Ｍ２を示している。
【００６６】
また、図１４の（Ｃ）は、第２の継鉄部３Ｂを第１の継鉄部３Ａ側に延長させることが吸引特性に与える影響を説明するものである。この場合にあっても（Ａ）と同様にアーマチュア５１が第１の吸引部３３に位置する場合と第２の吸引部４３に位置する場合とに分けて、それぞれの無励磁時と励磁時の磁気回路Ｍ１、Ｍ２を示している。
【００６７】
図１４の（Ｄ）は、第１の継鉄部３Ａを第２の継鉄部３Ｂ側に延長させることが吸引特性に与える影響を説明するものである。この場合にあっても（Ａ）と同様にアーマチュア５１が第１の吸引部３３に位置する場合と第２の吸引部４３に位置する場合とに分けて、それぞれの無励磁時と励磁時の磁気回路Ｍ１、Ｍ２を示している。
【００６８】
なお、図１３および図１４では、それぞれの表中の右欄に（Ａ）から（Ｄ）の場合の吸引力特性を実線で示すとともに、基本特性（永久磁石２の位置や大きさを変化させる前、および第１の継鉄３の形状を変化させる前の電磁石装置が示す吸引力特性）を点線で示してある。
【００６９】
図１３の（Ａ）のように永久磁石２を第１の継鉄部３Ａ方向に移動させると、第１の継鉄部３Ａの永久磁石２との接触面積が大きくなり、第２の継鉄部３Ｂの永久磁石２との接触面積が小さくなる。すなわち、第１の継鉄部３Ａの永久磁石２との接触面積と第２の継鉄部３Ｂの永久磁石２との接触面積との差が大きくなる。その結果、アーマチュア５１が第１の吸引部３３に位置する場合と第２の吸引部４３に位置する場合のいずれでも、無励磁時および励磁時において、磁気回路Ｍ１の磁力が大きくなり磁気回路Ｍ２の磁力が小さくなる。
【００７０】
このように、永久磁石２を第１の継鉄部３Ａ方向に移動させると、移動前に比べてアーマチュア５１が第２の吸引部４３側に吸引されやすくなる。
【００７１】
なお、表中、単に吸引力ｕｐ、吸引力ｄｏｗｎと記載されているところは、アーマチュア５１が位置するところへの吸引されやすくなるか吸引されにくくなるかを示している。
【００７２】
例えば、図１３の（Ａ）のアーマチュア５１が第１の吸引部３３側（ａ接点側）に位置しており、無励磁の状態を示す欄には、吸引力ｄｏｗｎと記載されているが、これは、アーマチュア５１のａ接点側へ吸引されにくくなったことを示すものである。このことは、（Ｂ）〜（Ｄ）でも同様である。
【００７３】
次に、図１３の（Ｂ）のように永久磁石２を第１の継鉄部３Ａ方向に延長させると、第１の継鉄部３Ａの永久磁石２との接触面積が大きくなる。すなわち、図１３の（Ｂ）においても第１の継鉄部３Ａの永久磁石２との接触面積と第２の継鉄部３Ｂの永久磁石２との接触面積との差が大きくなる。その結果、アーマチュア５１が第１の吸引部３３に位置する場合と第２の吸引部４３に位置する場合のいずれでも、無励磁時および励磁時において、磁気回路Ｍ１の磁力が大きくなり磁気回路Ｍ２の磁力が小さくなる。
【００７４】
このように、永久磁石２を第１の継鉄部３Ａ方向に延長させると、延長前に比べてアーマチュア５１が第２の吸引部４３側に吸引されやすくなる。
【００７５】
次に、図１４の（Ｃ）のように第２の継鉄部３Ｂを第１の継鉄部３Ａ側に延長させると、第２の継鉄部３Ｂの永久磁石２との接触面積が大きくなる。すなわち、図１４の（Ｃ）においては、第１の継鉄部３Ａの永久磁石２との接触面積と第２の継鉄部３Ｂの永久磁石２との接触面積との差が小さくなる。その結果、アーマチュア５１が第１の吸引部３３に位置する場合と第２の吸引部４３に位置する場合のいずれでも、無励磁時および励磁時において、磁気回路Ｍ１の磁力が小さくなり磁気回路Ｍ２の磁力が大きくなる。
【００７６】
このように、第２の継鉄部３Ｂを第１の継鉄部３Ａ側に延長させると、延長前に比べてアーマチュア５１が第２の吸引部４３側に吸引されにくく（第１の吸引部３３側に吸引されやすく）なる。
【００７７】
次に、図１４の（Ｄ）のように第１の継鉄部３Ａを第２の継鉄部３Ｂ側に延長させると、第１の継鉄部３Ａの永久磁石２との接触面積が大きくなる。すなわち、図１４の（Ｄ）においては、第１の継鉄部３Ａの永久磁石２との接触面積と第２の継鉄部３Ｂの永久磁石２との接触面積との差が大きくなる。その結果、アーマチュア５１が第１の吸引部３３に位置する場合と第２の吸引部４３に位置する場合のいずれでも、無励磁時および励磁時において、磁気回路Ｍ１の磁力が大きくなり磁気回路Ｍ２の磁力が小さくなる。
【００７８】
このように、第１の継鉄部３Ａを第２の継鉄部３Ｂ側に延長させると、延長前に比べてアーマチュア５１が第２の吸引部４３側に吸引されやすく（第１の吸引部３３側に吸引されにくく）なる。
【００７９】
以上説明したように、本実施形態では、一対の継鉄３，４のうちいずれか一方の継鉄３の永久磁石２に接触する部分に磁束通過抵抗部１０を設け、一方の継鉄３の磁束通過抵抗部１０の一方側における永久磁石２との接触面積と他方側における永久磁石２との接触面積とが異なるようにした。
【００８０】
そして、一方の継鉄３の磁束通過抵抗部１０の一方側における永久磁石２との接触面積と他方側における永久磁石２との接触面積とを適宜設定することで、多様な吸引力特性を得られるようにした。
【００８１】
このように、本実施形態によれば、磁束通過抵抗部１０の一方側と他方側での永久磁石２との接触面積を異ならせるだけで、継鉄３，４とアーマチュア５１の吸引力特性の調整を行うことができ、より容易に多様な吸引力特性を得ることができるようになる。
【００８２】
そして、吸引力特性を適宜設定することで、吸引力とばね負荷力との整合を容易に行うことができ、電磁リレー１００の組立の際の調整を容易に行うことができるようになる。
【００８３】
（第２実施形態）
本実施形態にあっても、電磁リレー１００は、電磁石ブロック（電磁石装置）１を用いて形成されている。
【００８４】
そして、接点機構部および電磁石ブロック（電磁石装置）１が樹脂製のベース１１０上に立設されている。なお、本実施形態においても、電磁リレー１００は、組立後の状態において、図示せぬカバーが被せられた箱体として形成される。
【００８５】
ここで、本実施形態が上記第１実施形態と主に異なる点は、一対の継鉄３、４のうちいずれか一方の継鉄である第２の継鉄４の永久磁石２に接触する部分に磁束通過抵抗部１０を設けた点にある。また、第２の継鉄４の磁束通過抵抗部１０の永久磁石２の長手方向（永久磁石２の磁極面に沿う方向）一方側における永久磁石２との接触面積と他方側における永久磁石２との接触面積とが異なるようにした点にある。
【００８６】
具体的には、一方の継鉄である第２の継鉄４を、第１の継鉄部４Ａと第２の継鉄部４Ｂとで構成し、第１の継鉄部４Ａと第２の継鉄部４Ｂとを所定間隔だけ離間させるようにすることで形成される空間部１３を磁束通過抵抗部１０として形成している。なお、上記第１実施形態のように薄肉部を形成したり、上記第１実施形態の第１変形例のように凹部を設けることで磁束通過抵抗部を設けるようにしてもよい。
【００８７】
本実施形態では、空間部１３は、第２主幹部４１の両端部４１ａ、４１ｂ間の中心から一方の端部（本実施形態では第２の支承部４２）に偏った位置に設けられている。すなわち、磁束通過抵抗部１０を境にして第２の継鉄４の両側（本実施形態では、永久磁石２の長手方向両側）で、永久磁石２との接触面積が異なるようにしている。そして、本実施形態においては、第２主幹部４１の磁束通過抵抗部１０よりも第２の支承部４２側における永久磁石２との接触面積の方が、第２主幹部４１の磁束通過抵抗部１０よりも第２の吸引部４３側における永久磁石２との接触面積よりも小さくなるようにしている。
【００８８】
次に、本実施形態にかかる電磁リレー１００の作用効果について、図１５〜図１８に基づき説明する。
【００８９】
（３）第３の磁気回路（図１５参照）
この第３の磁気回路は、アーマチュア５１が第２の吸引部４３（ｂ接点側）に位置しており、かつ、アーマチュア５１が無励磁の場合を示している。
【００９０】
この第３の磁気回路は、実線で示す磁気回路Ｍ１と、破線で示す磁気回路Ｍ２とが形成され、それぞれの磁気回路Ｍ１、Ｍ２は矢印の向きに閉ループが形成されている。
【００９１】
つまり、磁気回路Ｍ１の経路は、Ｎ極→第２の継鉄部４Ｂ→アーマチュア５１→第１の支承部３２→第１主幹部３１→Ｓ極となる閉ループが形成される。一方、磁気回路Ｍ２の経路は、Ｎ極→第１の継鉄部４Ａ→第２の支承部４２→アーマチュア５１→第１の吸引部３３→第１主幹部→Ｓ極となる閉ループが形成される。
【００９２】
このとき、空間部１３は第２の継鉄４の中心部から第２の支承部４２側に偏った位置に設けられており、第１の継鉄部４Ａの永久磁石２との接触面積の方が第２の継鉄部４Ｂの永久磁石２との接触面積よりも小さいため、磁気回路Ｍ２よりも磁気回路Ｍ１の磁束が多くなる。このことは以下で説明する第４から第６の磁気回路にあっても同様である。
【００９３】
そして、磁気回路Ｍ２は、第２の支承部４２とアーマチュア５１との間、およびアーマチュア５１と第１の吸引部３３との間にそれぞれギャップδ１、δ２が設けられているため、磁気回路Ｍ２よりも磁気回路Ｍ１の磁力が大きくなる。このように、アーマチュア５１が第２の吸引部４３に位置し、無励磁の状態では、アーマチュア５１が第２の吸引部４３に吸着された状態が維持される。
【００９４】
（４）第４の磁気回路（図１６参照）
この第４の磁気回路は、アーマチュア５１が第２の吸引部４３（ｂ接点側）に位置しており、かつ、アーマチュア５１が励磁されている場合を示している。
【００９５】
この第４の磁気回路は、第３の磁気回路と同様に実線で示す磁気回路Ｍ１と、破線で示す磁気回路Ｍ２とが形成され、それぞれの磁気回路Ｍ１、Ｍ２は第３の磁気回路と同じ経路となる。なお、第３の磁気回路と同様に、磁気回路Ｍ２には、第２の支承部４２とアーマチュア５１との間、およびアーマチュア５１と第１の吸引部３３との間にそれぞれギャップδ１、δ２が設けられている。
【００９６】
この第４の磁気回路のように、アーマチュア５１が励磁されると、アーマチュア５１により磁気回路Ｍ２と同経路の磁気回路が形成される。そのため、アーマチュア５１による生じる磁力および磁気回路Ｍ２による磁力によって磁気回路Ｍ１の磁力を上回るようにすることができる（図６の１００％ＡＴ時の吸引特性とすることができる）。
【００９７】
そして、図６の１００％ＡＴ時の吸引特性となるようにすれば、可動ばね１１６ａ、１１６ｂに図６に示すようなばね負荷を持たせている場合に、アーマチュア５１を励磁することでアーマチュア５１を第１の吸引部３３側に切り換えることができるようになる。
【００９８】
（５）第５の磁気回路（図１７参照）
この第５の磁気回路は、アーマチュア５１が第１の吸引部３３（ａ接点側）に位置しており、かつ、アーマチュア５１が無励磁の場合を示している。
【００９９】
この第５の磁気回路は、第３の磁気回路と同様に実線で示す磁気回路Ｍ１と、破線で示す磁気回路Ｍ２とが形成され、それぞれの磁気回路Ｍ１、Ｍ２は第３の磁気回路と同じ経路となる。
【０１００】
この場合（アーマチュア５１が第１の吸引部３３に位置している場合）には、磁気回路Ｍ１にはアーマチュア５１と第２の吸引部４３との間にギャップδ２が設けられる一方、磁気回路Ｍ２には第２の支承部４２とアーマチュア５１との間にギャップδ１が設けられ、双方の磁気回路Ｍ１、Ｍ２にギャップδ１、δ２が存在することになる。また、第１の継鉄部４Ａの永久磁石２との接触面積の方が第２の継鉄部４Ｂの永久磁石２との接触面積よりも小さい。ここで、磁気回路Ｍ１とＭ２の大きさは、第１の継鉄部４Ａと第２の継鉄部４Ｂの接触面積の差が磁気回路Ｍ１とＭ２に与える影響、および、ギャップδ１、δ２が磁気回路Ｍ１とＭ２に与える影響の大小によって決定される。本実施形態では、ギャップδ２により磁気回路Ｍ１の磁力は減少するが、第１の継鉄部４Ａの永久磁石２との接触面積の方が第２の継鉄部４Ｂの永久磁石２との接触面積よりも小さいため、磁気回路Ｍ２よりも磁気回路Ｍ１の磁力が大きくなる。すなわち、アーマチュア５１は、第２の吸引部４３側に吸引され、第２の吸引部４３に吸着されることとなる。なお、接触面積の差およびギャップの大きさを適宜設定することで、吸引特性を、図６の０％ＡＴ時の吸引特性にすることができる。また、磁気回路Ｍ１よりも磁気回路Ｍ２の磁力が大きくなるようにして、アーマチュア５１が第１の吸引部３３に吸着された状態を維持できるようにすることも可能である。
【０１０１】
本実施形態では、可動ばね１１６ａ、１１６ｂに図６に示すようなばね負荷を持たせているため、図６の０％ＡＴ時の吸引特性となるように設定している。
【０１０２】
したがって、アーマチュア５１が第１の吸引部３３に位置していたとしても、無励磁状態では、アーマチュア５１は、第２の吸引部４３側に吸引され、第２の吸引部４３に吸着されることとなる。
【０１０３】
（６）第６の磁気回路（図１８参照）
この第６の磁気回路は、アーマチュア５１が第１の吸引部３３（ａ接点側）に位置しており、かつ、アーマチュア５１が励磁されている場合を示している。
【０１０４】
この第６の磁気回路は、第３の磁気回路と同様に実線で示す磁気回路Ｍ１と、破線で示す磁気回路Ｍ２とが形成され、それぞれの磁気回路Ｍ１、Ｍ２は第３の磁気回路と同じ経路となる。さらに、第６の磁気回路では、アーマチュア５１が励磁されているため、２点鎖線で示す磁気回路Ｍ３が形成される。
【０１０５】
この新たに形成された磁気回路Ｍ３の経路は、アーマチュア５１の吸着部５１ｂ→第１の吸引部３３→第１主幹部３１→第１の支承部３２→アーマチュア５１の支点部５１ａとなる閉ループとなっている。したがって、アーマチュア５１から第１の吸引部３３を通過する磁束は、磁気回路Ｍ３と磁気回路Ｍ２とが合わさったものとなり、その吸引力（アーマチュア５１を第１の吸引部３３側に移動させる力）が増すことになる。
【０１０６】
このとき、図６の１００％ＡＴ時の吸引特性となるようにすれば、可動ばね１１６ａ、１１６ｂに図６に示すようなばね負荷を持たせている場合に、アーマチュア５１を励磁することでアーマチュア５１を第１の吸引部３３に吸着した状態を維持することができるようになる。
【０１０７】
次に、図１９に基づき、第１の継鉄部４Ａや第２の継鉄部４Ｂの長さ変化が吸引特性に与える影響について説明する。
【０１０８】
図１９（ａ）は、第２の継鉄部４Ｂを第１の継鉄部４Ａ側に延長させることが吸引特性に与える影響を説明するものである。
【０１０９】
第２の継鉄部４Ｂを第１の継鉄部４Ａ側に延長させると、第２の継鉄部４Ｂの永久磁石２との接触面積が大きくなる。すなわち、第１の継鉄部４Ａの永久磁石２との接触面積と第２の継鉄部４Ｂの永久磁石２との接触面積との差が大きくなる。その結果、アーマチュア５１が第１の吸引部（ａ接点側）３３に位置する場合と第２の吸引部（ｂ接点側）４３に位置する場合、その中央部に位置する場合のいずれでも、無励磁時および励磁時において、磁気回路Ｍ１の磁力が大きくなる。
【０１１０】
このように、第２の継鉄部４Ｂを第１の継鉄部４Ａ側に延長させると、延長前に比べてアーマチュア５１が第２の吸引部４３側に吸引されやすく（第１の吸引部３３側に吸引されにくく）なる。
【０１１１】
なお、図１９では、吸引力の減少とは、アーマチュア５１の位置にかかわらず、アーマチュア５１が第２の吸引部４３側に吸引されやすく（第１の吸引部３３側に吸引されにくく）なることを意味している。また、吸引力の増加とは、アーマチュア５１の位置にかかわらず、アーマチュア５１が第２の吸引部４３側に吸引されにくく（第１の吸引部３３側に吸引されやすく）なることを意味している。
【０１１２】
また、図１９（ａ）の影響大との記載は、延長前後の吸引力の変化量が大きいことを示している。アーマチュア５１が第２の吸引部（ｂ接点側）４３に近くなるほど影響が大きくなるのは、アーマチュア５１と第２の吸引部（ｂ接点側）４３との間のギャップが徐々に少なくなるからである。
【０１１３】
また、図１９（ａ）の巾とは、延長の前後におけるそれぞれの位置での１００％ＡＴ時と０％ＡＴ時の吸引力の差を示している。このことは、図１９（ｂ）でも同様である。
【０１１４】
この巾が増加する（広くなる）と、吸引力とばね負荷力との整合をとりやすくなる。
【０１１５】
すなわち、図１９（ａ）より、第２の継鉄部４Ｂを第１の継鉄部４Ａ側に延長させると、吸引力とばね負荷力との整合をとりやすくなることが理解される。
【０１１６】
図１９（ｂ）は、第１の継鉄部４Ａを第２の継鉄部４Ｂ側に延長させることが吸引特性に与える影響を説明するものである。
【０１１７】
第１の継鉄部４Ａを第２の継鉄部４Ｂ側に延長させると、第１の継鉄部４Ａの永久磁石２との接触面積が大きくなる。すなわち、第１の継鉄部４Ａの永久磁石２との接触面積と第２の継鉄部４Ｂの永久磁石２との接触面積との差が大きくなる。その結果、アーマチュア５１が第１の吸引部（ａ接点側）３３に位置する場合と第２の吸引部（ｂ接点側）４３に位置する場合、その中央部に位置する場合のいずれでも、無励磁時および励磁時において、磁気回路Ｍ２の磁力が大きくなる。
【０１１８】
このように、第１の継鉄部４Ａを第２の継鉄部４Ｂ側に延長させると、延長前に比べてアーマチュア５１が第２の吸引部４３側に吸引されにくく（第１の吸引部３３側に吸引されやすく）なる。
【０１１９】
また、吸引特性の巾は、図１９（ｂ）より、アーマチュア５１が第１の吸引部（ａ接点側）３３に位置する場合と第２の吸引部（ｂ接点側）４３に位置する場合には、延長前に比べて減少する（狭くなる）が、中央部に位置する場合には、増加する（広くなる）ことが理解される。
【０１２０】
以上説明したように本実施形態においても、一対の継鉄３，４のうちいずれか一方の継鉄３の永久磁石２に接触する部分に磁束通過抵抗部１０を設け、一方の継鉄３の磁束通過抵抗部１０の一方側における永久磁石２との接触面積と他方側における永久磁石２との接触面積とが異なるようにした。
【０１２１】
そして、一方の継鉄３の磁束通過抵抗部１０の一方側における永久磁石２との接触面積と他方側における永久磁石２との接触面積とを適宜設定することで、多様な吸引力特性を得られるようにした。
【０１２２】
このように、本実施形態によれば、磁束通過抵抗部１０の一方側と他方側での永久磁石２との接触面積を異ならせるだけで、継鉄３，４とアーマチュア５１の吸引力特性の調整を行うことができ、より容易に多様な吸引力特性を得ることができるようになる。
【０１２３】
そして、吸引力特性を適宜設定することで、吸引力とばね負荷力との整合を容易に行うことができ、電磁リレー１００の組立の際の調整を容易に行うことができるようになる。
【０１２４】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。
【０１２５】
例えば、磁束通過抵抗部は、薄肉部、凹部および空間部に限ることなく、磁束の通過を部分的に減ずる断面形状であればよい。
【０１２６】
また、接点機構部、その他細部のスペック（形状、大きさ、レイアウト等）も適宜に変更可能である。
【符号の説明】
【０１２７】
１  電磁石ブロック（電磁石装置）
２  永久磁石
３  第１の継鉄（一方の継鉄、他方の継鉄）
３Ａ  第１の継鉄部
３Ｂ  第２の継鉄部
４  第２の継鉄（他方の継鉄、一方の継鉄）
４Ａ  第１の継鉄部
４Ｂ  第２の継鉄部
５１  アーマチュア
５２  コイル
１０  磁束通過抵抗部
１１  薄肉部
１２  凹部
１３  空間部
１００  電磁リレー
１１５  カード
１１６ａ，１１６ｂ  可動ばね
１１７ａ，１１７ｂ  可動接点
１１８ａ，１１８ｂ  固定接点
【図１】
0005820993.tif 000002
【図２】
0005820993.tif 000003
【図３】
0005820993.tif 000004
【図４】
0005820993.tif 000005
【図５】
0005820993.tif 000006
【図６】
0005820993.tif 000007
【図７】
0005820993.tif 000008
【図８】
0005820993.tif 000009
【図９】
0005820993.tif 000010
【図１０】
0005820993.tif 000011
【図１１】
0005820993.tif 000012
【図１２】
0005820993.tif 000013
【図１３】
0005820993.tif 000014
【図１４】
0005820993.tif 000015
【図１５】
0005820993.tif 000016
【図１６】
0005820993.tif 000017
【図１７】
0005820993.tif 000018
【図１８】
0005820993.tif 000019
【図１９】
0005820993.tif 000020