(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
自己の表面に付着した１つ以上のより小さいゲスト粒子を有するホスト粒子を含む複合粒子を生産する方法であって、
（ｉ）ホスト粒子をガス流中に入れて、動いている１つ以上の摩擦帯電粒子と接触させ、帯電したホスト粒子を提供する工程；
（ｉｉ）帯電したホスト粒子を摩擦帯電粒子から分離する工程；および
（ｉｉｉ）エレクトロスプレイ処理であって、ゲスト粒子は帯電したホスト粒子の電荷とは反対の電荷を与えられ、次いで、ゲスト粒子をホスト粒子に接触させ、これによって、ゲスト粒子がホスト粒子に付着して、複合粒子を形成するエレクトロスプレイ処理に、帯電したホスト粒子を付する工程を含み、
（ｉ）の工程は、ホスト粒子を浮遊させた流動床で実行され、ガス流は流動床の底に供給され、摩擦帯電粒子はガス流によって動かされることを特徴とする方法。
【請求項２】
（ｉｉ）の工程は、ホスト粒子を通過させ摩擦帯電粒子を止める篩を、ガス流内に配設することによって実行されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（ｉｉｉ）の工程は、ホスト粒子を２回以上のエレクトロスプレイ工程に付すことを含むことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
ホスト粒子の電荷とは反対の電荷を有する複数のエレクトロスプレイが使用されることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
多数のホスト粒子が被覆されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
連続的に行われることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
ホスト粒子は体に吸収され得る物質に基づき、薬理的に活性な化合物はゲスト粒子であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
薬剤活性成分は、副腎皮質ステロイドおよびＣＯＰＤ（慢性閉塞性肺疾患）のための抗炎症薬からなる群から選ばれることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
複合粒子を生産する装置であって、
摩擦帯電粒子と、
流動床接触器（１）であって、ガス（６）を前記流動床接触器（１）に供給する第１供給入口部と、ホスト粒子を前記流動床接触器（１）に供給する第２供給入口部と、前記ガス（６）を通過させ、前記ホスト粒子および前記摩擦帯電粒子を止める第１の篩板（２）とを有し、前記流動床接触器（１）において前記ホスト粒子を前記摩擦帯電粒子に接触させて、帯電したホスト粒子を形成し、前記帯電したホスト粒子を、前記帯電したホスト粒子と前記摩擦帯電粒子との浮力の差によって前記摩擦帯電粒子から分離し、前記第１供給入口部および前記第１の篩板（２）が、前記流動床接触器（１）の底に設けられる流動床接触器（１）と、
前記帯電したホスト粒子の電荷とは反対の電荷を有するゲスト粒子をスプレイし、前記ゲスト粒子を前記帯電したホスト粒子に付着させることによって前記複合粒子を形成する１つ以上のエレクトロスプレイ装置（５，５’，５”）を備えるエレクトロスプレイ領域と、
前記流動床接触器（１）の上端から前記エレクトロスプレイ領域内までを接続する通路（４）であって、前記帯電したホスト粒子を前記流動床接触器（１）の上端から前記エレクトロスプレイ領域に通し、前記帯電したホスト粒子を前記エレクトロスプレイ領域に供給する通路（４）とを備えることを特徴とする装置。
【請求項１０】
複合粒子を生産する装置であって、
摩擦帯電粒子と、
流動床接触器（１）であって、ガス（６）を前記流動床接触器（１）に供給する第１供給入口部と、ホスト粒子を前記流動床接触器（１）に供給する第２供給入口部と、前記ガス（６）を通過させ、前記ホスト粒子および前記摩擦帯電粒子を止める第１の篩板（２）と、前記ガス（６）および前記ホスト粒子を通過させ、前記摩擦帯電粒子を止める第２の篩板（３）とを有し、前記流動床接触器（１）において前記ホスト粒子を前記摩擦帯電粒子に接触させて、帯電したホスト粒子を形成し、前記帯電したホスト粒子を前記第２の篩板（３）によって前記摩擦帯電粒子から分離し、前記第１供給入口部および前記第１の篩板（２）が前記流動床接触器（１）の底に設けられ、前記第２の篩板（３）が前記流動床接触器（１）の上端に設けられる流動床接触器（１）と、
前記帯電したホスト粒子の電荷とは反対の電荷を有するゲスト粒子をスプレイし、前記ゲスト粒子を前記帯電したホスト粒子に付着させることによって前記複合粒子を形成する１つ以上のエレクトロスプレイ装置（５，５’，５”）を備えるエレクトロスプレイ領域と、
前記流動床接触器（１）の上端から、前記エレクトロスプレイ領域内までを接続する通路（４）であって、前記帯電したホスト粒子を前記流動床接触器（１）の上端から前記エレクトロスプレイ領域に通し、前記帯電したホスト粒子を前記エレクトロスプレイ領域に供給する通路（４）とを備えることを特徴とする装置。
【請求項１１】
微小なゲスト粒子の懸濁液を電圧が印加された狭い開口にポンプで供給することによってエレクトロスプレイを提供して、エレクトロスプレイが形成されるように構成されることを特徴とする請求項９または１０に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被覆粒子を調製するための方法および装置に関し、特に、エレクトロスプレイを用いて分散された微小な粒子で被覆された粒子を調製するための方法に関する。本発明に従って生産される被覆粒子には、たとえば、触媒としてのまたは薬剤としての用途がある。
【背景技術】
【０００２】
この技術分野において、より小さいゲスト粒子が表面に付着したホスト粒子を含む複合粒子は、一般に、液相中にてホスト粒子をゲスト粒子と接触させることによって、生産される。ホスト粒子とゲスト粒子との間の化学的および／または物理的相互作用に基づいて、後者は前者に結合する。たとえば、キャリアと活性物質とを含む触媒は、一般にこの方法で生産される。
【０００３】
こうしてゲスト粒子で被覆されたホスト粒子が得られるが、実際には、液体ベースの分散系を使用する粒子は、分散系が、したがって、粒子（ホスト粒子および／またはゲスト粒子）が汚染される結果になり易い。これは、液体が環境から不純物を吸収する傾向を有するからである。薬剤用途などのいくつかの用途では、これは許容することができない。また、液体ベースの分散系の使用は、いずれかの段階で、液体を蒸発させる必要がある。これは、蒸発した液体を捕捉し再循環させる手段、または、蒸発した液体を補充する手段のいずれかのために、コストが高くなる。また、とりわけ、液体ベースの系においては懸濁濃度を制御することが困難であるという理由で、現在の処理は通常バッチ処理である。
【０００４】
Ｄａｂｋｏｗｓｋｉら（Partec 2007 - CD proceedings, pp. 1-4, Nuernberg Messe GmbH）は、エレクトロスプレイ技術を使用して、ミクロンサイズの粒子（「ホスト粒子」）をナノサイズのポリスチレン粒子（「ゲスト粒子」）で被覆する方法を記述している。この方法においては、まず、アルミナ粒子が、摩擦帯電と呼ばれる現象によって、帯電される。摩擦帯電は、摩擦電気効果に基づく。物質は、異なる物質と接触させられその後分離された後に、この効果のために、帯電する。したがって、摩擦帯電は、物体を、異種物質の第２の物体との、摺るなどの表面接触によって、帯電させることに基づく。帯電の機構は、仕事関数モデルに従った電子の移動に基づくと考えられている。仕事関数は、最も弱い結合電子を物体から無限遠に移動させるのに必要な、最小のエネルギとして定義される。この移動の有効性は、選ばれた２つの物質間の仕事関数の差に依存する。Ｄａｂｋｏｗｓｋｉらは、テフロン（登録商標）（ＰＴＦＥ）が、アルミナ粉末を帯電させるのに、最も効果的な物質であると結論付けた。ＰＴＦＥは、アルミナを正味の正極性に帯電させる。
【０００５】
Ｄａｂｋｏｗｓｋｉらの方法によれば、帯電したアルミナ粒子は、コンベアベルトで移送されて、エレクトロスプレイ領域を通る。エレクトロスプレイ領域において、ホスト粒子は、負に帯電したゲスト粒子のスプレイに曝される。このスプレイは、主にエタノール中のゲスト粒子の分散系を、エレクトロスプレイすることによって得られる。
【０００６】
結果として、負に帯電したゲスト粒子は、正に帯電したホスト粒子に引かれて、ホスト粒子に付着する。
【０００７】
実際には、この既知の方法におけるコンベアベルトの使用は、不充分な帯電およびホスト粒子の被覆という結果になる。さらに、液体ベースの分散系のエレクトロスプレイに基づくこの既知の方法を、スケールアップすることは困難である。
【発明の概要】
【０００８】
本発明の目的は、上記の欠点に関して少なくとも部分的に改良された方法を提供することである。本発明者らは、この目的が、エレクトロスプレイ工程に先立って、ホスト粒子を帯電させる他の物質とホスト粒子をガス流中で接触させることによりホスト粒子を帯電させることによって、達成されることを見出した。したがって、第１の側面において、本発明は、自己の表面に付着した１つ以上のより小さいゲスト粒子を有するホスト粒子を含む複合粒子を生産する方法に向けられており、この方法は、
ホスト粒子をガス流中に入れて、動いている１つ以上の摩擦帯電粒子と接触させ、帯電したホスト粒子を提供する工程；
帯電したホスト粒子を摩擦帯電粒子から分離する工程；および
エレクトロスプレイ処理であって、ゲスト粒子は帯電したホスト粒子の電荷とは反対の電荷を与えられ、次いで、ゲスト粒子をホスト粒子に接触させ、これによって、ゲスト粒子がホスト粒子に付着して、複合粒子を形成するエレクトロスプレイ処理に、帯電したホスト粒子を付する工程を含む。
【０００９】
驚いたことに、この方法によって、ホスト粒子をゲスト粒子で被覆する非常に効率的なやり方が得られることが判明した。ゲスト粒子およびホスト粒子は、それらの反対の電荷の結果として、互いに引かれる。ゲスト粒子は、ホスト粒子の表面へと移動して、そこに結合する。ホスト粒子とゲスト粒子の結合は、優れている。この結合は、初めは２種の粒子の静電電荷が異なることに依存するが、電荷差が平衡に達するようにした場合でも、結合は非常に強いことが判明した。理論に束縛されるのを望むわけではないが、粒子の最終的な結合は、ファンデルワールス力に基づくと考えられる。
【００１０】
ここで使用されるエレクトロスプレイとは、液体ジェットが電気力の影響下で分解するプロセスを言う。この目的のために、液体は、ノズルを介して、比較的遅い流速で供給される。ノズルと対向電極との間に電位差を印加することによって、液体全体にわたって電界が印加される。電気的ストレスが表面張力ストレスに打ち克つと、ノズルの先端から現れるメニスカスが、円錐形に変形される。円錐の頂点からジェットが出現して、液滴に分解する。この液滴は、単分散またはおおよそ単分散であると、一般に考えられている。このスプレイモードは、コーンジェットモードと呼ばれる。液滴は同じ極性（単極性）を有するため、凝集が防止されて分散が増進される。液滴の大きさは、一般に、ナノメートルから数ミクロンのオーダーである。
【００１１】
本発明に従うエレクトロスプレイ工程に好適な構成は、たとえば、Ｄａｂｋｏｓｗｋｉらによって記載されているものであり、この参考文献は本明細書で引用される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明を実施するための装置の模式図である。
【図２】本発明に従って使用することが可能なエレクトロスプレイ装置の概観の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
図１に、本発明を実施するための装置を模式的に示す。図１の装置は、一般に中空の円筒形状を有する容器である、流動床接触器（１）を含んでいる。流動床接触器（１）には、第１の篩板（２）および随意の第２の篩板（３）が取り付けられる。流動床接触器（１）は、その上端にて、通路（４）に接続され、これから粒子が、１つ以上のエレクトロスプレイ装置（ここでは符号５，５'，５”を付した３つを図示している）を備えた、エレクトロスプレイ領域に入る。
【００１４】
この構成は、ガス流（６）を流動床接触器（１）の底に供給することによって、運転される。ガス流は、篩板（２）を通過して、ホスト粒子（７）および摩擦帯電粒子（８）にモーメントを移転し、その結果粒子が動く。こうして、ホスト粒子は摩擦帯電粒子との多点相互作用に付され、これが粒子間に、特に従来の方法の直接接触帯電と比べて、均一な電荷分布をもたらす。随意的に、開口（１０）を通じて新鮮なホスト粒子（９）を、連続的にまたはバッチ方式で供給することが可能である。
【００１５】
帯電したホスト粒子（７）は、頂部にて、容器（１）を出る。摩擦帯電粒子（８）がホスト粒子（７）の大きさによく似た大きさを有する場合は、随意的な篩板（３）を使用して摩擦帯電粒子（８）を止めることが可能である。摩擦帯電粒子がホスト粒子よりも充分に大きい場合は、浮力の差で分離が生じるので、篩板（３）は省略してよい。
【００１６】
帯電したホスト粒子は、その後、通路（４）の内表面からはじかれるように、帯電したホスト粒子の電荷とは反対の電荷が随意的に供給される、通路（４）を通じて運ばれる。次いで、ホスト粒子はエレクトロスプレイ領域に入る。
【００１７】
接触器（１）からエレクトロスプレイ領域への移送は、ホスト粒子がガス流で引きずられることによって起こる。エレクトロスプレイ領域においては、エレクトロスプレイ装置（５）が液体（１２）中のゲスト粒子（１１）の懸濁液をスプレイする。（Ａ）における拡大図は、エレクトロスプレイ装置（５）のノズルからホスト粒子の流れ内へと動いている間に、液体が蒸発して、負に帯電したゲスト粒子の流れを残すことを示している。ゲスト粒子はホスト粒子に衝突し付着して、（Ｂ）の拡大図に示すように、付着したゲスト粒子を有するホスト粒子を含む複合粒子（１３）を形成する。ゲスト粒子の懸濁液をエレクトロスプレイ領域内にスプレイすることに代えて、ゲスト粒子（の懸濁液）をエレクトロスプレイ領域の内側で形成してもよい。これは、たとえば、ゲスト粒子の前駆物質の液体（１２）中の溶液であって、液体の蒸発でこの前駆物質からゲスト粒子が形成される溶液を、スプレイすることによって、達成される。
【００１８】
このような実施形態は、原理的に、液体がエレクトロスプレイ装置内で、液体における飽和濃度が達成される程度に、蒸発した後に固化する（沈殿する）、あらゆる先駆物質に適している。よって、たとえば、ゲスト粒子（の懸濁液）を形成するたんぱく溶液を、エレクトロスプレイ領域内にスプレイすることが可能である。
【００１９】
図１に模式的に示したように、複数のエレクトロスプレイ装置を、直列に使用することが可能である。好ましい実施形態において、異なるエレクトロスプレイ装置は、反対の電荷の粒子を生成する。たとえば、エレクトロスプレイ装置（５）は、負電荷を有するゲスト粒子（１１）を生成してよい。正に帯電したホスト粒子（７）がこれらの負のゲスト粒子（１１）と接触するとき、充分な量のゲスト粒子（１１）がホスト粒子（７）に付着した後、接触時間に応じて、中性のまたはさらには負に帯電した複合粒子が生じる結果となる。負帯電のゲスト粒子の流れを使用する場合、このような複合粒子にさらに担持させることは困難であろう。したがって、エレクトロスプレイ装置（５’）によって、正に帯電した粒子の流れを生成することが有利であろう。次いで、このようにして生成された複合粒子（１３）が、充分な接触時間後に再び中性または正に帯電した後、さらなるエレクトロスプレイ装置（５”）を使用して、再び負に帯電した粒子をスプレイすることなどが可能である。
【００２０】
図２に、本発明に従って使用することが可能なエレクトロスプレイ装置の概観を模式的に示す。図２は、微小なゲスト粒子（「ナノ粒子」）の懸濁液（１４）を示しており、該懸濁液は、たとえば、メンブレンポンプまたはシリンジポンプなどの蠕動ポンプ（１５）を用いて、狭い開口（１６）たとえば中空針に対して供給され、該狭い開口には、電圧（１７）（図１では、負電荷を使用）が印加される。結果として、エレクトロスプレイ（１８）が形成される。もちろん、この実施形態においても、ゲスト粒子は、上記のようにエレクトロスプレイを形成した後に形成されてよい。
【００２１】
開口の一般的な内径は０．１〜１ｍｍであり、好ましくは０．２５〜０．７５ｍｍである。開口（針）の長さは、安定した流れパターンが得られるようなものであり、これは普通、その内径の１００倍超であることを意味する。
【００２２】
懸濁液の一般的な流速は、スプレイユニット当たり０．１〜１０ｍｌ／ｈであり、好ましくは、０．２〜１ｍｌ／ｈである。
【００２３】
懸濁液の一般的な濃度は、粒子の種類および粒子が懸濁される液体の種類に依存する。懸濁液は安定であることが好ましい。一般的には、濃度は０．０１〜１容積％の範囲内であり、好ましくは０．０２〜０．１容積％の範囲内である。
【００２４】
本発明に従えば、固体ゲスト粒子の懸濁液、または、物質が溶解されている液体の充分な部分が蒸発した後に固体ゲスト粒子を形成する物質の溶液が、分散される液体として使用される。そのような懸濁液または溶液のエレクトロスプレイは、粒子、または、スプレイが蒸発したときに粒子を形成する物質、を含む帯電した液滴のスプレイを生成する。揮発性液体の使用が、速やかな蒸発をもたらす。分散を提供するのに好ましい液体は、たとえば、エタノール、アセトン、水、またはこれらの混合物であるが、使用されるホスト粒子およびゲスト粒子の種類にも依存する。好ましい液体は、エレクトロスプレイを可能にしなければならず、ゲスト粒子の物質と適合すべきである。ほとんどの場合、エタノールと水の混合物が、特に適する。蒸発の結果、液滴は収縮し、臨界直径にて分解してより小さな液滴になる。分解は、表面における電荷の相互反発が、閉じ込めようとする表面張力を超えるときに達する、いわゆるレイリー帯電限界で生じる。このプロセスは、懸濁液の初期粒子濃度に応じて、０，１，２またはそれ以上の粒子を含む液滴が形成されるまで繰り返し生じる。ゲスト粒子がホスト粒子と接触するまでにすべての液体を蒸発させることは必須ではないが、そのようにすることが好ましい。液相の全蒸発は単一のまたは凝集した粒子の帯電スプレイとなる。
【００２５】
エレクトロスプレイ工程で印加される一般的な電圧は、正または負の、数ｋＶのオーダーであり、たとえば１〜１０ｋＶである。
【００２６】
好ましい実施形態において、ホスト粒子は、２回以上のエレクトロスプレイ工程で、ゲスト粒子に接触させられる。より好ましくは、これは、ゲスト粒子にそれぞれ反対の電荷が与えられるエレクトロスプレイ工程を含む。複数のエレクトロスプレイ工程が、ホスト粒子の帯電が非効率的である場合に、特に有用であり、殊に交互極性の複数のエレクトロスプレイ工程が、有用である。こうして、より帯電したゲスト粒子の構築が達成される。つまり、初めは正に帯電したホスト粒子が、負に帯電したゲスト粒子を引き寄せる。上述のように、ある極性のゲスト粒子の堆積があまりに長い期間にわたって続くと、正味電荷がまずゼロになり（中性粒子）、やがて反対の値に変わり得るので、堆積は結局停止するかもしれない。このような堆積を改善するために、正に帯電したゲスト粒子を提供するエレクトロスプレイが、ホスト粒子の経路上に必要である。これは、所望の被覆が実現されるまで、繰り返すことが可能である。
【００２７】
他の実施形態において、交互スプレイは、異なる種類の粒子を含む。これは、複合構造、つまり、異なる種類のゲスト粒子で被覆されたホスト粒子の形成を可能にする。
【００２８】
本発明に従って使用されるホスト粒子は、用途に応じた、好適なあらゆるキャリア物質であり得る。たとえば、アルミナ、シリカ、ジルコニア、他のキャリア物質などのホスト粒子を提供することによって、複合触媒が製造される。
【００２９】
薬剤用途の場合、ホスト粒子は、たとえば吸入剤の用途の乳糖キャリアのように、体に吸収され得る物質に基づくことが可能であり、薬理的に活性な化合物がゲスト粒子である。好ましい薬剤は、たとえば、喘息患者のための副腎皮質ステロイド（たとえば、シクレソニド(ciclesonide)／オルベスコ(Alvesco)（商標）もしくはトリアムシノロン(triamcinolone)−アセトナイド／アズマコート(Azmacort)（商標））、または、ＣＯＰＤ（慢性閉塞性肺疾患）のための抗炎症薬である。
【００３０】
喘息の場合、２種の活性薬物が使用される：急性症状の処置のためのものと、長期管理のためのものである。前者には、選択的β（２）アドレナリン受容体拮抗薬の使用が含まれ、後者には、抗アレルギー薬および／または副腎皮質ステロイドなどの抗炎症薬の使用が含まれる。乾燥粉末吸入剤に使用される活性成分のさらなる例は、たとえば、ＳｍｙｔｈおよびＨｉｃｋｅｙ(American Journal of Drug Delivery 3(2005)117-132)に見られ、アルブテロール(albuterol)（スルブタモール(salbutamol)）；ベクロメタゾン(beclomethasone)ジプロピオネート（ＢＤＰ）；ブデソニド(budesonide)；エフォルモテロール(eformoterol)；フルチカゾン(fluticasone)；イプラトロピウム(ipratropium)；サルメテロール(salmeterol)；クロモグリク酸(cromoglycate)ナトリウム；および、テルブタリン(terbutaline)などの化合物がある。有用な化合物またはこれらの化合物の組み合わせには、イプラトロピウム；エフォルモテロール；アルブテロール（スルブタモール）とベクロメタゾンジプロピオネート（ＢＤＰ）；アルブテロールとイプラトロピウムとＢＤＰとブデソニド；アルブテロールとサルメテロールとＢＤＰとフルチカゾン；アルブテロールとサルメテロールとフルチカゾンとサルメテロールとフルチカゾン；アルブテロールとＢＤＰ；アルブテロールとＢＤＰとアルブテロールとＢＤＰ；クロモグリク酸ナトリウム；および、アルブテロールとテルブタリンとエフォルモテロールとブデソニドとエフォルモテロールとブデソニドがある。
さらに、ゲスト粒子は、ポリペプチドなどの生物学的活性高分子を含んでもよい。
【００３１】
他の可能な用途は、粒子をいわゆる流動性向上剤つまりホスト粒子と同じ物質のナノ粒子で被覆することを含む。これらの流動性向上剤のいくつかは、「スペーサ」と呼ばれることもある。これらのスペーサは、小さなボールベアリングと見ることが可能であり、より粗い表面を生成して、２つのホスト粒子間の直接の接触を最小にし、また、ファンデルワールス力の低減をもたらす。
【００３２】
ホスト粒子をガス流中に入れて、動いている摩擦帯電粒子と接触させる工程は、好ましくは、流動床で実行される。一般的な構成を図２に示す。この図において、ガスが接触器の床にて注入され、摩擦帯電粒子とホスト粒子の両者を浮遊させる。ガス流および他のプロセスパラメータ、特に装置の寸法は、ホスト粒子が所望の電荷を帯びて接触器を出るように選択される。その後、ホスト粒子は、通路壁との接触を避けるために、好ましくはホスト粒子の電荷と同様に帯電された通路を通って、エレクトロスプレイ工程に提供される。これは、ホスト粒子の壁堆積を最小にする。
【００３３】
ゲスト分子としては、原理上、微細に分割された粉末の形状になり得るあらゆる固体が使用可能である。好ましくは、ゲスト粒子はナノ粒子である。ここで言う「ナノ粒子」とは、約１〜数百ナノメートルのオーダーの、特に１〜１００ｎｍの平均直径を有する粒子である。
【００３４】
ガス流の機能は、必要な場合にホスト粒子を浮遊させて、摩擦帯電粒子とホスト粒子との接触を生じさせることである。上述のように、摩擦帯電粒子はホスト粒子への電荷移動という結果になって、帯電したホスト粒子が得られる。ホスト粒子の平均直径は、通常、１μｍ〜１ｍｍの範囲内である。ホスト粒子は、好ましくは１〜２００μｍ、より好ましくは５〜１００μｍの範囲内の平均直径を有する。特に、ホスト粒子がガス流で浮遊させられる場合は、ホスト粒子は、好ましくは少なくとも数μｍ〜１ｍｍ、好ましくは５〜１００μｍ、特に好ましくは１０〜１００μｍの平均直径を有する。ガスは、たとえば、空気または窒素である。
【００３５】
好ましくは、ガスの湿度は、ガスを本発明の処理に適用する前に、乾燥状態に制御される。湿度が低すぎる場合、静電気が生じて、粒子が流動床接触器の内面に付着する結果となるため、粒子を流動させることが困難になるかもしれない。湿度が高すぎる場合、粒子を充分に帯電させることができないかもしれない。
【００３６】
帯電粒子として好適な物質は、たとえば、真ちゅう、アルミニウム、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ステンレス鋼またはＰＴＦＥである。好適な物質の選択は、主としてホスト粒子の性質に依存する。仕事関数の差異は、第１の基準として使用することが可能であり、選択は処理の必要条件に基づいて最適化することができる。
【００３７】
摩擦帯電粒子の平均直径は、好ましくは、それらがホスト粒子から容易に分離し、同時に効率的な電荷移送を可能にする充分な面積をもたらすようなものである。これは、摩擦帯電粒子が、好ましくは、ホスト粒子よりも大きく、より好ましくは、ホスト粒子の平均直径よりも３〜５倍大きい平均直径を有することを、意味する。一般に、摩擦帯電粒子の平均直径は、５０μｍ〜１ｍｍであり、好ましくは１００μｍ〜０．５ｍｍである。
【００３８】
ホスト粒子は、帯電された後、摩擦帯電粒子から分離され得る。これは、いくつかの方法で行うことが可能である。これは、摩擦帯電粒子を捕捉し、帯電ホスト粒子を通過させる篩を、ガス流中に適用することによって行うことが好ましい。これは、ホスト粒子と摩擦帯電粒子とを接触させるために、流動床が使用される場合に、特に好ましい。ただし、分離は、たとえば、流動床のガス流出流で引きずられることにおける両粒子の差に基づいて、行うこともできる。また、たとえば、フィルタ、またはサイクロンなどの分離装置を使用することも可能である。
【図１】
0005699122.tif 000002
【図２】
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