(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート状基材に絵柄を転写するエンボス加工に用いられるエンボス型と前記エンボス型に対向して配置されたバックアップ手段とを有するエンボス装置のエンボス型と、前記バックアップ手段と、の間でシート状基材にエンボス加工を施す工程を備え、
前記エンボス型は、前記絵柄の外輪郭に対応したパターンで線状に延びる凸部を有した成型面を有し、前記成型面は、円筒の側面に重なる基準面と、前記基準面上に設けられた線状の凸部と、によって画成され、前記シート状基材は、前記線状の凸部のみを介して前記成型面から圧力を加えられる、エンボス加工シートの製造方法。
【請求項２】
前記エンボス加工を施す工程の前に実施される工程であって、前記シート状基材上の絵柄を形成すべき領域に印刷を施す工程を、さらに備え、
前記エンボス装置は、前記シート状基材上の印刷が施された領域の外輪郭に沿って溝を形成する、請求項１に記載のエンボス加工シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エンボス加工によって形成された絵柄を有するエンボス加工シートに係り、とりわけ、高速生産可能なエンボス加工シートに関する。また、本発明は、エンボス加工に使用され得るエンボス型およびエンボス装置、並びに、エンボス加工シートの製造に使用され得る加工装置およびエンボス加工シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、シート状の基材に絵柄を転写するエンボス加工が広く知られている。従来の一般的なシート状基材へのエンボス加工では、例えば特許文献１に開示されているように、円柱状からなるエンボスロールとしてのエンボス型と、エンボス型に対向して配置されたバックアップロールと、を有したエンボス装置が使用されている。
【０００３】
図６〜図９に示すように、このエンボス装置１５ａを用いた場合、シート状基材８０がエンボスロール２０ａとバックアップロール３０との間で加圧されて、エンボスロール２０ａの成型面２１ａに形成された凹凸が、絵柄９５ａとして、シート状基材８０に転写される。また通常のエンボス加工では、とりわけ、意匠性を向上させる装飾紙としての役割も期待された食料品の包装紙へのエンボス加工では、図８および図９に示すように、絵柄９５ａに対応した形状を有する凹部２７が形成された成型面２１ａを有したエンボス型２０ａが用いられ、図６および図７に示すような、突出部８５ａとして視認される絵柄９５ａが、シート状の基材８０に形成される。なお、図６および図７に示す例においては、シート状の基材８０の突出部８５ａが形成されている領域に、例えば装飾の目的で、予め印刷が施されてインキ層８８が形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−１４３４６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このようなエンボス加工では、シート状基材の絵柄が形成されない領域にエンボス型の成型面から圧力が加えられる。したがって、絵柄としての突出部をシート状基材上にはっきりと浮かび上がらせるためには、非常に大きな荷重でエンボス型をバックアップロールに向けて押圧する必要がある。この点、エンボス型としてエンボスロールを用いた場合、エンボス型とバックアップロールとの間で圧力が加えられる領域は線状の領域となり、荷重を減じる上で若干有利となる。しかしながら、シート状基材の幅が１０００ｍｍ程度ともなると、エンボス型としてエンボスロールを用いた場合であっても、３００ｋＮ程度の荷重を加える必要が生じてしまう。
【０００６】
結果として、加工速度、すなわち、シート状基材の搬送速度またはロールの周速度を１０ｍ／ｍｉｎ程度まで低下させて、エンボス加工における転写率を向上させる必要が生じている。また、大荷重に耐え得るように、エンボス装置の構成を高剛性化する必要も生じ、エンボス装置が大型化してしまう。さらに、転写率の向上を目的として、シート状基材を予め加湿や加熱しておくことも実施されているが、この場合、加湿装置や加熱装置等を設けるため、加工装置の全体構成がさらに大型化してしまう。
【０００７】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであって、エンボス加工時における荷重を低減することによりエンボス加工シートの生産効率を改善することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によるエンボス加工シートは、
エンボス加工によってシート状の基材に絵柄を形成してなるエンボス加工シートであって、
前記絵柄の外輪郭に沿って線状に延びる溝が形成されている。
【０００９】
本発明によるエンボス加工シートにおいて、前記溝が形成されている側における前記シート状基材の面は、溝が形成されていてない領域において、同一の仮想平面上に位置していてもよい。
【００１０】
本発明によるエンボス加工シートにおいて、前記溝は、前記絵柄の周囲を周状に延びていてもよい。
【００１１】
本発明によるエンボス加工シートにおいて、前記溝が形成されている側の表面において、前記溝によって囲まれた絵柄の領域は、その他の領域と異なる色を有していてもよい。
【００１２】
本発明によるエンボス加工シートにおいて、前記溝が形成されている側の表面において、前記溝によって囲まれた絵柄の領域は、その他の領域よりも高い可視光反射率を有していてもよい。
【００１３】
本発明によるエンボス加工シートにおいて、線状に延びる前記溝の幅は、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下であってもよい。
【００１４】
本発明によるエンボス加工シートにおいて、線状に延びる前記溝の深さは、２５μｍ以上６５μｍ以下であってもよい。
【００１５】
本発明によるエンボス型は、
シート状基材に絵柄を転写するエンボス加工に用いられるエンボス型であって、
前記絵柄の外輪郭に対応したパターンで線状に延びる凸部を有した成型面を備える。
【００１６】
本発明によるエンボス型において、前記成型面は、円筒の側面に重なる基準面と、前記基準面上に設けられた凸部と、によって画成されていてもよい。
【００１７】
本発明によるエンボス型において、線状に延びる前記凸部の幅は、３０μｍ以上９０μｍ以下であってもよい。
【００１８】
本発明によるエンボス型において、線状に延びる前記凸部の高さは、１００μｍ以上３００μｍ以下であってもよい。
【００１９】
本発明によるエンボス装置は、
上述した本発明によるエンボス型のいずれかと、
前記エンボス型に対向して配置されたバックアップ手段と、を備える。
【００２０】
本発明による加工装置は、
上述した本発明によるエンボス装置のいずれかと、
前記エンボス装置の上流側に配置された印刷装置と、を備え、
前記印刷装置は、前記シート状基材上の絵柄を形成すべき領域に印刷を施し、
前記エンボス装置は、前記シート状基材上の印刷が施された領域の外輪郭に沿って溝を形成する。
【００２１】
本発明によるエンボス加工シートの製造方法は、
上述した本発明によるいずれかのエンボス装置の前記エンボス型と、前記バックアップ手段と、の間でシート状基材にエンボス加工を施す工程を備える。
【００２２】
本発明によるエンボス加工シートの製造方法が、前記エンボス加工を施す工程の前に実施される工程であって、前記シート状基材上の絵柄を形成すべき領域に印刷を施す工程を、さらに備え、
前記エンボス装置は、前記シート状基材上の印刷が施された領域の外輪郭に沿って溝を形成するようにしてもよい。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、同様の絵柄が視認され得るエンボス加工シートを製造する際に、エンボス加工時の荷重を大幅に低減することができる。これにより、所望の絵柄を有するエンボス加工シートを高速生産することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】図１は、本発明による一実施の形態を説明するための図であって、エンボス加工シートを示す部分斜視図である。
【図２】図２は、図１のエンボス加工シートのＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。
【図３】図３は、図１のエンボス加工シートを製造し得る加工装置（製造装置）を示す概略側面図である。
【図４】図４は、図３の加工装置に組み込まれたエンボス型を示す斜視図である。
【図５】図５は、図３のＶ−Ｖ線に沿った断面図であって、図１のエンボス加工シートの製造方法を説明するための図である。
【図６】図６は、図１に対応する図であって、従来のエンボス加工シートを示す部分斜視図である。
【図７】図７は、図６のエンボス加工シートのＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿った断面図である。
【図８】図８は、図４に対応する図であって、図６の従来のエンボス加工シートを製造し得るエンボス型を示す斜視図である。
【図９】図９は、図５に対応する図であって、図６の従来のエンボス加工シートの製造方法を説明するための図である。
【図１０】図１０は、実験においてシート状の基材にエンボス加工で形成した絵柄を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
図１〜図５は本発明の一実施の形態を示す図である。以下、この図１〜図５に示された一実施の形態について説明する。
【００２６】
このうち、まず図１および図２を参照して、エンボス加工シート９０について説明する。エンボス加工シート９０は、シート状の基材８０にエンボス加工で絵柄９５を形成することによって、形成されるシート状の物品である。このようなエンボス加工シート９０は、種々の分野において利用に供されている。一例として本実施の形態では、食品用の包装材、とりわけ、食品の外装用の包装紙として用いられるエンボス加工シート９０について説明する。エンボス加工シート９０が食品用の包装材として使用される場合、シート状の基材８０として、例えば、紙、シート状の樹脂、樹脂層と紙との積層体、複数の樹脂層を含んだ積層体、樹脂層を含んだ積層体、金属箔が用いられる。また、後述する製造方法およびその作用効果を期待する上で、このような材料からなるシート状基材の厚みを、１０μｍ以上２００μｍ以下とすることができる。
【００２７】
食品用の包装材としてのエンボス加工シート９０、とりわけ、食品の外装用の包装紙としてのエンボス加工シート９０は、意匠性を向上させる目的での装飾効果を期待されており、例えば、商品名等の絵柄９５を目立たせる工夫が施される。図示された本実施の形態では、絵柄９５を、インキ層８８とエンボス痕としての溝８５によって効果的に視認されるようにしている。より具体的に説明すると、図１および図２に示すように、エンボス加工シート９０をなすシート状の基材８０には、絵柄９５の外輪郭に沿って線状に延びる溝８５が形成されている。図１および図２に示す例においては、発明の理解の便宜を図り、絵柄９５を単純な矩形状としている。
【００２８】
図１に示すように、溝８５は、絵柄９５の周囲を取り囲むように周状に延びている。溝８５が形成されている側におけるシート状基材９０の面は、溝８５が形成されていてない領域において、同一の仮想平面上に位置している。すなわち、溝８５によって取り囲まれた絵柄９５が形成されている領域と、周状の溝８５の外部に相当する領域と、の間で、シート状基材９０の面は、同一の仮想平面上に位置している、言い換えると、同一の高さとなっている。
【００２９】
溝８５が形成されている側のシート状基材８０の面のうちの、溝８５によって囲まれた絵柄９５の領域上には、インキ層８８が形成されている。結果として、溝８５が形成されている側のエンボス加工シート９０の表面において、溝８５によって囲まれた絵柄９５の領域は、その他の領域と異なる色を有することができる。これにより、絵柄９５が目立ち、エンボス加工シート９０の意匠性を向上させることができる。また、絵柄９５を効果的に目立たせる観点からは、溝８５が形成されている側のエンボス加工シート８０の表面において、溝８５によって囲まれた絵柄９５の領域は、その他の領域よりも高い可視光反射率を有していることが好ましい。
【００３０】
なお、線状に延びる溝８５の延在方向に直交する方向に沿った幅Ｗａ（図２参照）を、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下とすることができ、また、線状に延びる溝８５の法線方向に沿った深さＤａ（図２参照）を、２５μｍ以上６５μｍ以下とすることができる。このような寸法で形成された溝８５を有するエンボス加工シート９０は、従来のエンボス加工により突出部８５ａとして同一の外輪郭の絵柄９５ａを形成されたエンボス加工シート９０ａ（図６および図７参照）との間で、人間の目での識別を困難とすることができる。
【００３１】
次に、図３〜図５を主として参照して、図１および図２に示されたエンボス加工シート９０を製造する方法について説明する。まず、図１および図２に示されたエンボス加工シート９０を製造するための加工装置（製造装置）１０について説明する。
【００３２】
加工装置１０は、シート状の基材８０に印刷を施す印刷装置４０と、シート状の基材８０の搬送方向における印刷装置４０の下流側に配置されたエンボス装置１５と、を有している。印刷装置４０は、シート状基材８０上の絵柄９５を形成すべき領域に印刷を施す。このような印刷装置４０としては、種々の既知な印刷装置を用いることができる。図示する例において、印刷装置４０は、グラビア印刷機として構成され、グラビアロール４２と、グラビアロールに対向して配置されたバックアップロール（圧胴）４４と、を有している。
【００３３】
一方、エンボス装置１５は、印刷装置４０によって印刷を施されたシート状基材８０に対して、上述した溝８５をエンボス加工によって形成する。図３および図５に示すように、エンボス装置１５は、シート状基材８０に転写すべき絵柄９５に対応したパターンで溝８５を形成するためのエンボス型２０と、エンボス型２０に対向して配置されたバックアップ手段３０と、を有している。
【００３４】
図３および図４に示すように、エンボス型２０は、絵柄９５の外輪郭に対応したパターンで線状に延びる凸部２５が設けられた成型面２１を有している。とりわけ、図３および図４に示すように、エンボス型２０は、円柱状に形成されるとともに当該円柱の外周面に成型面２１が形成されたエンボスロールとして、構成されている。そして、本実施の形態では、成型面２１は、円筒の側面と重なる基準面と、基準面上に設けられた凸部２５と、によって画成されている。すなわち、成型面２１は、凸部２５以外の領域において、仮想の連続面上に位置していることになる。
【００３５】
なお、具体的な寸法として、線状に延びる凸部２５の延在方向に直交する方向に沿った幅Ｗｂ（図５参照）は、３０μｍ以上９０μｍ以下とすることができる。このような幅Ｗｂの凸部２５を有したエンボス型２０によれば、上述した寸法の溝８５をシート状基材８０に形成することができる。一方、凸部２５の幅Ｗｂが、３０μｍよりも小さくなると、凸部２５の先端からシート状基材８０への圧力が高くなり過ぎ、エンボス加工中にシート状基材８０を損傷してしまう可能性がある。また、凸部２５の幅Ｗｂが、９０μｍよりも大きくなると、凸部２５の先端からシート状基材８０への圧力が低くなり過ぎ、十分な深さの溝８５をシート状基材８０に形成することができなくなる。また、上述した幅Ｗｂを有した凸部８５の成型面２１への法線方向に沿った高さＨｂ（図５参照）は、１００μｍ以上３００μｍ以下とすることができる。このような高さＨｂの凸部８５は、エンボス加工中にシート状基材８０へ押し付けられた際に変形してしまうことを効果的に防止される。
【００３６】
以上のエンボス型２０は、円筒状のエンボス版を心材と組み合わせることによって作製され得る。このうち、エンボス版は、エッチングを用いた刷版法によって作製され得る。具体的には、まず、鋼管の表面に銅メッキ層を形成した後、レジスト層をさらに形成する。次に、形成すべき凸部２５のパターンに対応したパターンで、すなわち、対象となる絵柄９５の外輪郭に沿ったパターンで、レジスト層をパターニングする。その後、パターニングされたレジスト層をマスクとして、銅メッキ層をエッチングしてパターニングする。次に、レジスト層を取り除き、銅メッキ層上にクロムをメッキすることにより、エンボス版が作製され得る。
【００３７】
一方、図３に示すように、バックアップ手段３０は、エンボスロールとして構成されたエンボス型２０に対応して、円柱状に形成されたバックアップロール（圧胴）として構成されている。バックアップ手段３０の表面層は、エンボス加工時にシート状基材８０を介したエンボス型２０の成型面２１からの圧力に追従して変形し得るよう、例えば、弾力性を有したゴムや、紙等から構成され得る。
【００３８】
次に、このような加工装置１０を用いて、エンボス加工シート９０を作製する方法について説明する。まず、シート状の基材８０が用意され、印刷装置４０に供給される。シート状基材８０は、印刷装置４０のグラビアロール４２とバックアップロール４４との間を通過する際、絵柄９５を形成すべき領域に印刷を施される。
【００３９】
印刷を施されたシート状基材８０は、その後、エンボス装置１５に搬送される。シート状基材８０は、エンボス装置１５のエンボス型２０とバックアップ手段３０との間において、絵柄９５を形成すべき領域の外輪郭に沿って延びる溝８５を形成される。詳しくは図５に示すように、エンボス型２０の成型面２１が、バックアップ手段３０に支持された状態のシート状基材８０に当接する。この結果、印刷を施されたシート状基材８０は、エンボス型２０の成型面２１とバックアップ手段３０との間で押圧され、成型面２１に形成された凹凸がシート状基材８０に転写されることになる。
【００４０】
この際、シート状基材８０は、バックアップ手段３０によって支持された状態で、主として成型面２１の凸部２５から、また理想的には図５に示すように成型面２１の凸部２５のみから圧力を加えられる。すなわち、本実施の形態では、エンボス型２０およびバックアップ手段３０に加えられる荷重が、成型面２１の凸部２５を介してシート状基材８０に集中的に加えられる。したがって、エンボス型２０およびバックアップ手段３０に加える荷重が、絵柄９５の態様に大きく影響を受けることなく、効率的にエンボス加工に用いられ得る。この結果、十分なエンボス加工をシート状基材８０に施しながら、エンボス型２０およびバックアップ手段３０に加える荷重を大幅に低減することが可能となる。言い換えると、絵柄９５の態様に大きく影響を受けることなく、シート状基材８０に対して十分な圧力を加えながらエンボス加工を行うことができるため、エンボス加工の転写率およびエンボス加工の加工速度を大幅に改善させることができる。
【００４１】
このようにして、エンボス加工シート９０が作製される。作製されたエンボス加工シート９０には、所望の領域にインキ層８８が形成されるとともに当該インキ層８８の周囲に溝８５が形成されている。この結果、このインキ層８８は、絵柄９５として視認されるようになり、エンボス加工シート９０の意匠性の向上に寄与することになる。また、既に上述したように、溝８５が特定の幅Ｗａおよび深さＤａを有する場合、以上のようにして作製されたエンボス加工シート９０は、従来のエンボス加工により同一の外輪郭を有する絵柄９５ａを突出部８５aとして形成したエンボス加工シート９０ａ（図６および図７参照）と、目視で区別することが困難となる。
【００４２】
すなわち、本実施の形態によれば、従来のエンボス加工シート９０ａと同様の意匠性を有するエンボス加工シート９０を、エンボス型２０およびバックアップ手段３０に加える荷重を大幅に低減しながら、作製することができる。このようにエンボス装置１５に大きな荷重が加えられないことから、エンボス装置１５の構成を大幅に簡略化することができる。また、本実施の形態におけるエンボス加工では、エンボス型２０およびバックアップ手段３０に加える荷重を大幅に低減しながら、シート状基材８０の溝８５を形成すべき領域に十分に大きな圧力を加えることができる。したがって、シート状基材８０へのエンボス加工を短時間で行うことができる。このため、上述したエンボスロールからなるエンボス型２０を用いた場合には、高速でシート状基材８０を搬送しながら、極めて高い生産効率でエンボス加工シート２０を作製することができ、エンボス加工シート２０の製造原価を大幅に低減することができる。この結果、図３に示すように、印刷を施す印刷装置４０が組み込まれた印刷ライン内に、エンボス装置１５を組み込んで、連続した一つのライン内で印刷およびエンボス加工の両方をシート状基材８０に対して施すことも可能となる。
【００４３】
なお、本件発明者らは、実際の装置で実験を行い、上述した作用効果の実証を行っている。具体的には、図４および図５を参照しながら説明した本実施の形態に係る製造方法のエンボス加工と、図８および図９に示された従来の製造方法のエンボス加工と、の両方によって、図１０に示された絵柄（文字）をシート状基材に形成した。本実施の形態に係る製造方法と従来の製造方法との間で、次の条件を同一とした。
・シート状基材：１２０ｇ／ｍ2のコート紙、厚さ９０μｍ
・エンボス型の外形：幅１０００ｍｍで版周長８００ｍｍのエンボスロール
・バックアップ手段：直径１５０ｍｍのバックアップロール、表面層の材質はＮＢＲ（ニトリルブタジエンゴム）、表面層のゴム硬度（新ＪＩＳＫ６２５３のデュロメータ タイプＡにて測定した値）７０、表面層の厚さ１６ｍｍ
【００４４】
本実施の形態での製造方法に係るエンボス加工で用いたエンボス型２０は、転写すべき絵柄の外輪郭（図９の各文字の外輪郭）に沿って延びる凸部２５を成型面２１に有するようにし、当該凸部の高さを２５０μｍとし、凸部２５の先端部の幅を４０〜９０μｍとした。そして、シート状基材８０を１００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送しながら、シート状基材８０にエンボス加工を行った。このとき、エンボス型２０とバックアップ手段３０との間に、２０ｋＮの荷重を加えた。
【００４５】
従来の製造方法に係るエンボス加工で用いたエンボス型２０ａは、転写すべき絵柄（図９の各文字）と同形状の凹部２７を成型面２１ａに有するようにし、当該凹部２７の深さを２００μｍとした。そして、シート状基材８０を１０ｍ／ｍｉｎの速度で搬送しながら、シート状基材８０にエンボス加工を行った。このとき、エンボス型２０とバックアップ手段３０との間に、２５０ｋＮの荷重を加えた。
【００４６】
以上のような本実施の形態の製造方法に係るエンボス加工で得られたエンボス加工シート２０と、従来の製造方法に係るエンボス加工で得られたエンボス加工シート２０ａと、を比較したところ、同程度の意匠性を有するとともに、両者を目視で識別することが困難であった。すなわち、図１０の絵柄をエンボス加工で形成する実験において、本実施の形態によれば、従来のエンボス加工と比較して、加工荷重を８％に削減するとともに、加工速度を１０倍に上昇させることができた。
【００４７】
以上、本発明を図示する実施の形態に基づいて説明したが、本発明はこれらの実施の形態に限定されるものではなく、この他にも種々の態様で実施可能である。
【００４８】
例えば、上述した実施の形態において、印刷装置４０が、シート状基材８０上の絵柄９５を形成すべきのみ領域に印刷を施してインキ層８８を形成する例を示したが、これに限られない。印刷装置４０が、シート状基材８０上の絵柄９５を形成しない領域のみに印刷を施すようにしてもよいし、シート状基材８０上の絵柄９５を形成すべき領域と形成しない領域との両方に印刷を施すようにしてもよい。また、印刷装置４０が、複数設けられ、複数色のインキをシート状基材８０上に印刷するようにしてもよい。例えば、シート状基材８０上の絵柄９５を形成すべき領域と形成しない領域とに、異なる色のインキを印刷するようにしてもよい。さらには、シート状基材８０に、絵柄９５と関連しない印刷を施すようにしてもよいし、あるいは、シート状基材８０に、全く印刷を施さないようにしてもよい。
【００４９】
また、上述した実施の形態に対して、加工装置（製造装置）１０が、印刷装置４０およびエンボス装置１５のみからなる例を示したが、これに限られない。例えば、加工装置（製造装置）１０が、エンボス装置１５のみから構成されるようにしてもよい。また、加工装置１０が、エンボス装置１５に供給されるシート状基材８０を加湿する加湿装置を、さらに有していてもよい。この例によれば、加湿装置で加湿されたシート状基材８０にエンボス加工を施すことが可能となり、エンボス装置１５でのエンボス加工をより高い転写率で行うことが可能となる。
【００５０】
さらに、加工装置１０が、エンボス装置１５でエンボス加工を施されるシート状基材８０を加熱する加熱機構を、さらに有していてもよい。加熱機構は、シート状基材８０の搬送経路におけるエンボス装置１５の上流側に配置されていてもよい。また、加熱機構は、エンボス装置１５のエンボス型２０およびバックアップ手段３０の少なくとも一方に内蔵され、当該エンボス型２０およびバックアップ手段３０の少なくとも一方を介して、シート状の基材８０を加熱するようにしてもよい。この例によれば、加熱機構で加熱したシート状基材８０または加熱機構で加熱されたシート状基材８０にエンボス加工を施すことが可能となり、エンボス装置１５でのエンボス加工をより高い転写率で行うことが可能となる。なお、シート状基材８０は、加熱機構によって、例えば、８０℃以上１２０℃以下の温度に加熱され得る。
【００５１】
さらに、上述した実施の形態において、加工装置（製造装置）１０の印刷装置４０およびエンボス装置１５が同一の連続するライン上に配置されている例を示したがこれに限られず、印刷装置４０およびエンボス装置１５が独立した別のラインを形成するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００５２】
１０  加工装置（製造装置）
１５，１５ａ  エンボス装置
２０，２０ａ  エンボス型
２１，２１ａ  成型面
２５  凸部
２７  凹部
３０  バックアップ手段
４０  印刷装置
４２  グラビアロール
４４  バックアップロール
８０  シート状の基材
８５  溝
８５ａ  突出部
８８  インキ層
９０，９０ａ  エンボス加工シート
９５，９５ａ  絵柄
【図１】
0005699629.tif 000002
【図２】
0005699629.tif 000003
【図３】
0005699629.tif 000004
【図４】
0005699629.tif 000005
【図５】
0005699629.tif 000006
【図６】
0005699629.tif 000007
【図７】
0005699629.tif 000008
【図８】
0005699629.tif 000009
【図９】
0005699629.tif 000010
【図１０】
0005699629.tif 000011