(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
【化１】
0005814080.tif 000007
（式中、Ｒ１は水素原子、Ｒ２はペンチル基又はベンジル基、Ｒ３はメチル基を表す。Ａ−は（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−を表す。ｎは２である。）で示されるチアゾリウム塩。
【請求項２】
請求項１に記載のチアゾリウム塩を含有することを特徴とする帯電防止剤。
【請求項３】
請求項２に記載の帯電防止剤を含有することを特徴とする帯電防止性樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なカチオンを有するチアゾリウム塩及びそれを含有する帯電防止剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
チアゾリウム塩としては、３−ペンチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド及び３−ベンジルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドが公知である（特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、チアゾリウム環の炭素原子に結合するヒドロキシアルキル基を有するチアゾリウム塩は文献等に記載されていない。また、かかるヒドロキシアルキル基を有するチアゾリウム塩が帯電防止性能を有することは文献等に教示されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−８４１９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、帯電防止性能を有し且つカチオンが新規であるチアゾリウム塩、及び該チアゾリウム塩を用いた帯電防止剤を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らが、前記課題に鑑みて鋭意検討した結果、チアゾリウム環の５位にヒドロキシアルキル基を有するチアゾリウム塩が当該ヒドロキシアルキル基を有さないチアゾリウム塩に比べて高い帯電防止性能を有すること、言い換えれば、チアゾリウム環の５位にヒドロキシアルキル基を導入することによって優れた帯電防止性能が得られること、そしてチアゾリウム環の５位にヒドロキシアルキル基を有するチアゾリウムカチオンが新規であって、当該カチオンからなるチアゾリウム塩が新規であることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明は、式（１）で示されるチアゾリウム塩及び該チアゾリウム塩を含有する帯電防止剤に関する。
【０００８】
【化１】
0005814080.tif 000002
【０００９】
（式中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基、Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、アリル基、炭素数１〜２０のフルオロアルキル基又は炭素数７〜２０のアラルキル基、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ａ−はアニオンを表す。ｎは１〜３の整数である。）で示されるチアゾリウム塩（以下、チアゾリウム塩（１）という）。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、樹脂に対して高い帯電防止性を付与できるチアゾリウム塩を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。本発明においてフルオロアルキル基とは、炭素原子に１個又は２個以上のフッ素原子が結合しているアルキル基を表す。
【００１２】
式（１）中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基、Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数１〜２０のフルオロアルキル基又は炭素数７〜２０のアラルキル基、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ａ−はアニオンを表す。ｎは１〜３の整数である。
【００１３】
Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基であり、好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基、より好ましくは水素原子である。Ｒ１としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。
【００１４】
Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキル基、アリル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数１〜２０のフルオロアルキル基又は炭素数７〜２０のアラルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜５のアルキル基又はベンジル基である。Ｒ２としては、具体例には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ヘキサデシル基、エイコシル基、アリル基、１，１，１−トリフルオロブチル基、ベンジル基等が挙げられる。
【００１５】
Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基であり、好ましくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ３としては、具体例には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。
【００１６】
Ａ−はアニオンを表し、具体的には、（ＦＳＯ２）２Ｎ−、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）２Ｎ−、ＣＦ３ＳＯ３−、ＣＦ３ＣＯ３−、ＢＦ４−、ＰＦ６−、Ｃ６Ｆ５Ｏ−、Ｃ６Ｆ５ＣＯ２−、Ｃ６Ｆ５ＳＯ３−、ＣＨ３ＳＯ３−、ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−、Ｃ１２Ｈ２５Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−，Ｂ（ＣＮ）４−、Ｎ（ＣＮ）２−又はＳＣＮ−である。好ましいアニオンとしては、（ＦＳＯ２）２Ｎ−、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）２Ｎ−、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＣＨ３ＳＯ３−、ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−、又はＳＣＮ−であり、より好ましいアニオンとしては、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−又はＳＣＮ−である。
【００１７】
チアゾリウム塩（１）の具体例としては、例えば、５−（２−ヒドロキシエチル）−３，４−ジメチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−プロピルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、３−ブチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−ペンチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、３−ヘキシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、３−ヘプチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−オクチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、３−ドデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、３−ヘキサデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、３−エイコシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、３−アリル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、３−（１，１，１−トリフルオロブチル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、５−（２−ヒドロキシエチル）−３−メトキシエチル−４−メチルチアゾリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、
【００１８】
５−（２−ヒドロキシエチル）−３，４−ジメチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−プロピルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−ブチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−ペンチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−ヘキシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−ヘプチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−オクチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−ドデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−ヘキサデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−エイコシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−アリル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−（１，１，１−トリフルオロブチル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、５−（２−ヒドロキシエチル）−３−メトキシエチル−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、
【００１９】
５−（２−ヒドロキシエチル）−３，４−ジメチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−プロピルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、３−ブチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−ペンチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、３−ヘキシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、３−ヘプチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−オクチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、３−ドデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、３−ヘキサデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、３−エイコシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、３−アリル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、３−（１，１，１−トリフルオロブチル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−３−メトキシエチル−４−メチルチアゾリウム＝トリフルオロメタンスルホナート、
【００２０】
５−（２−ヒドロキシエチル）−３，４−ジメチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−プロピルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、３−ブチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−ペンチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、３−ヘキシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、３−ヘプチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−オクチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、３−ドデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、３−ヘキサデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、３−エイコシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、３−アリル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、３−（１，１，１−トリフルオロブチル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、５−（２−ヒドロキシエチル）−３−メトキシエチル−４−メチルチアゾリウム＝テトラフルオロボレート、
【００２１】
５−（２−ヒドロキシエチル）−３，４−ジメチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−プロピルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、３−ブチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−ペンチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、３−ヘキシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、３−ヘプチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−オクチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、３−ドデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、３−ヘキサデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、３−エイコシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、３−アリル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、３−（１，１，１−トリフルオロブチル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、５−（２−ヒドロキシエチル）−３−メトキシエチル−４−メチルチアゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、
【００２２】
５−（２−ヒドロキシエチル）−３，４−ジメチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−プロピルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−ブチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−ペンチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−ヘキシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−ヘプチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−オクチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−ドデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−ヘキサデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−エイコシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−アリル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−（１，１，１−トリフルオロブチル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−３−メトキシエチル−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、
【００２３】
５−（２−ヒドロキシエチル）−３，４−ジメチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−プロピルチアゾリウム＝チオシアナート、３−ブチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−ペンチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−ヘキシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−ヘプチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−オクチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−ドデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−ヘキサデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−エイコシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−アリル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−（１，１，１−トリフルオロブチル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−３−メトキシエチル−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート等を挙げることができる。
【００２４】
チアゾリウム塩（１）として、特に好ましいものとしては、５−（２−ヒドロキシエチル）−３，４−ジメチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−プロピルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−ブチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−ヘキシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−オクチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−ドデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−アリル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、３−（１，１，１−トリフルオロブチル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、
【００２５】
５−（２−ヒドロキシエチル）−３，４−ジメチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−プロピルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−ブチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−ヘキシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−オクチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−ドデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−アリル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、３−（１，１，１−トリフルオロブチル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート、
【００２６】
５−（２−ヒドロキシエチル）−３，４−ジメチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−プロピルチアゾリウム＝チオシアナート、３−ブチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−ヘキシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−オクチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−ドデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−アリル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート、３−（１，１，１−トリフルオロブチル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート等が挙げられる。
【００２７】
本発明のチアゾリウム塩（１）は、例えば、式（２）：
【００２８】
【化２】
0005814080.tif 000003
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は前記と同じ。Ｘ−は、ハロゲンイオンを表す。）で示されるチアゾリウム＝ハライド（以下、チアゾリウム＝ハライド（２）という。）と式（３）：
【００２９】
Ｍ＋・Ａ−          （３）
（式中、Ｍ＋はアルカリ金属イオンを表す。Ａ−は前記と同じ。）で示されるアルカリ金属塩（以下、アルカリ金属塩（３）という。）、式（４）：
【００３０】
Ｈ＋・Ａ−          （４）
（式中、Ａ−は前記と同じ。）で示される酸類（以下、酸類（４）という。）又は式（５）：
【００３１】
Ａｇ＋・Ａ−          （５）
（式中、Ａ−は前記と同じ。）で示される銀塩（以下、銀塩（５）という。）をイオン交換反応させることにより得ることができる。
【００３２】
チアゾリウム＝ハライド（２）において、Ｘ−で示されるハロゲンイオンとしては、例えば、塩素イオン、臭素イオンおよびヨウ素イオンを挙げることができる。
【００３３】
アルカリ金属塩（３）において、Ｍ＋としては、例えば、リチウム、ナトリウムおよびカリウム等を挙げることができる。アルカリ金属塩（３）としては、具体的には、Ｌｉ＋・（ＦＳＯ２）２Ｎ−、Ｌｉ＋・（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、Ｌｉ＋・（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）２Ｎ−、Ｌｉ＋・ＣＦ３ＳＯ３−、Ｌｉ＋・ＣＦ３ＣＯ３−、Ｎａ＋・ＢＦ４−、Ｋ＋・ＰＦ６−、Ｎａ＋・ＣＨ３ＳＯ３−、Ｎａ＋・ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−、Ｎａ＋・Ｃ１２Ｈ２５Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−、Ｌｉ＋・Ｂ（ＣＮ）４−、Ｌｉ＋・Ｎ（ＣＮ）２−、Ｎａ＋・Ｃ６Ｆ５Ｏ−、Ｎａ＋・Ｃ６Ｆ５ＣＯ２−、Ｎａ＋・Ｃ６Ｆ５ＳＯ３−等が挙げられる。
【００３４】
酸類（４）として具体的には、Ｈ＋・ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−、Ｈ＋・Ｃ１２Ｈ２５Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−、Ｈ＋・Ｃ６Ｆ５Ｏ−、Ｈ＋・Ｃ６Ｆ５ＣＯ２−、Ｈ＋・Ｃ６Ｆ５ＳＯ３−等が挙げられる。
【００３５】
銀塩（５）として具体的には、Ａｇ＋ＢＦ４−、Ａｇ＋・ＳＣＮ−、Ａｇ＋・Ｎ（ＣＮ）２−  等が挙げられる。
【００３６】
イオン交換反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒の使用量は特に制限はないが、通常、チアゾリウム＝ハライド（２）１重量部に対して通常２０．０重量部以下、好ましくは０．５〜１０重量部であり、特に好ましくは１．０重量部〜５．０重量部である。また、２種以上の溶媒を混合して使用することも可能である。
【００３７】
チアゾリウム＝ハライド（２）、アルカリ金属塩類（３）もしくは酸類（４）もしくは銀塩（５）及び溶媒の混合順序は特に限定されず、チアゾリウム＝ハライド（２）と溶媒を混合した後にアルカリ金属塩類（３）もしくは酸類（４）もしくは銀塩（５）を添加してもよいし、アルカリ金属塩類（３）もしくは酸類（４）もしくは銀塩（５）と溶媒を混合した後にチアゾリウム＝ハライド（２）を添加してもよい。
【００３８】
イオン交換反応の反応温度は、生成するチアゾリウム塩（１）の融点より高い温度であることが好ましく、通常１０℃〜８０℃、好ましくは１５℃〜６０℃、特に好ましくは２０℃〜４０℃である。反応時間としては、通常１５分以上、好ましくは３０分〜３時間、特に好ましくは４５分〜３時間である。
【００３９】
反応終了後の反応液からチアゾリウム塩（１）を取り出す方法としては、反応液が有機層と水層とに分液している場合には、有機層を分離し、所望により有機層を水洗した後、有機層を濃縮することによってチアゾリウム塩（１）を得る方法、反応液が均一な場合には、前記の水に不溶で、且つチアゾリウム塩（１）が可溶な有機溶媒を添加してチアゾリウム塩（１）を有機溶媒に抽出、得られた有機層を所望により水洗し、次いで有機溶媒を留去することにより、チアゾリウム塩（１）を得る方法等が挙げられる。
【００４０】
アルカリ金属塩（３）もしくは酸類（４）もしくは銀塩（５）の使用割合は、収率を向上させる観点および経済性の観点から、チアゾリウム＝ハライド（２）１モルに対して、０．８〜２モルの割合であることが好ましく、０．９〜１．５モルの割合であることがより好ましい。
【００４１】
イオン交換に用いる溶媒としては、特に制限されるものではないが、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、シクロヘキサノール、エチレングリコールおよびプロピレングリコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジヘプチルエーテル、ジオクチルエーテル、ＴＨＦ、テトラヒドロピランおよび１，４−ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、アクリロニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ブロモプロパン、ブロモブタン、ブロモペンタン、ブロモヘキサン、ヨウ化メチル、ヨウ化エチルおよびヨウ化プロピル等のハロゲン化アルキル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよびシクロヘキサノン等のケトン類、ブチロラクトン、カプロラクトン、ヘキサノラクトンおよび酢酸エチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、シクロヘキサン、ベンジン、ケロシン、トルエン、キシレン、メシチレンおよびベンゼン等の炭化水素類、並びに水等を挙げることができる。これらのなかでも、アルコール類、ニトリル類、ハロゲン化アルキル類および水が好適に用いられる。なお、これら溶媒は、１種単独で使用してもよいし、あるいは２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００４２】
チアゾリウム＝ハライド（２）は、例えば、式（６）：
【００４３】
【化３】
0005814080.tif 000004
（式中、Ｒ１、Ｒ３及びｎは、前記に同じ。）で示されるチアゾール化合物（以下、チアゾール化合物（６）という。）と式（７）：
【００４４】
Ｒ２−Ｘ  （７）
（式中、Ｒ２及びＸは、前記と同じ。）で示されるハライド化合物（以下、ハライド化合物（７）という。）を反応させることにより、製造することができる。
【００４５】
チアゾール化合物（６）は、市販のものを用いてもよいし、適宜合成したものを用いてもよい。
【００４６】
チアゾール化合物（６）とハライド化合物（７）との反応において、ハライド化合物（７）の使用量は、チアゾール化合物（６）１モルに対して、０．８〜１０モルが好ましく、１〜５モルであることがより好ましい。
【００４７】
チアゾール化合物（６）とハライド化合物（７）との反応における反応温度は、０〜２００℃が好ましく、１０〜１５０℃がより好ましい。反応時間は、通常、１〜３０時間である。
【００４８】
本発明の帯電防止剤は、チアゾリウム塩（１）を導電性成分として含有してなるものであり、単独であっても帯電防止剤として用いることができるが、必要に応じて安定化剤等の添加剤又は溶媒等を混合して用いることもできる。本発明の帯電防止剤を使用できる絶縁物としては樹脂組成物、ゴム等が挙げられる。帯電防止性を付与するには、本発明の帯電防止剤を樹脂組成物、ゴム等の製造時にそれらの材料に添加、混合する等の方法または樹脂組成物、ゴム等に塗布する方法等が挙げられる。
【００４９】
以下に実施例を挙げ、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限定されるものではない。実施例中、１Ｈ−ＮＭＲは日本ブルカー株式会社製ＡＶＡＮＣＥ４００を使用し、４００ＭＨｚでテトラメトキシシランを基準としてケミカルシフトを算出した。実施例１０において、１Ｈ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲは日本電子データム社製ＡＬ−４００を使用して測定し、１Ｈ−ＮＭＲは４００ＭＨｚでテトラメトキシシランを基準として、１９Ｆ−ＮＭＲは３７６ＭＨｚでトリフルオロトルエンを基準としてケミカルシフトを算出した。
【００５０】
実施例１  ５−（２−ヒドロキシエチル）−３，４−ジメチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの合成
撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器に窒素雰囲気下、４−メチル−５−チアゾールエタノール３．０７ｇ（０．０２モル）、アセトニトリル７．２０ｇ及びヨードメタン６．６２ｇ（０．０４モル）を仕込み、４０℃で３２時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、ロータリーエバポレーターにて濃縮して、黄色固体を得た。この黄色固体をヘキサン１０ｇで３回洗浄し、撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器にいれ、イオン交換水３．２１ｇ及びリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（７３．５％  水溶液）９．０８ｇ（０．０２モル）を加えて３時間室温にて撹拌した。撹拌終了後に水層と有機層に分液した反応液から有機層を分離した。この有機層をイオン交換水１０ｇで３回洗浄した後に、ロータリーエバポレーターにいれ、減圧乾燥させて、液体の５−（２−ヒドロキシエチル）−３，４−ジメチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド５．６４ｇを得た（収率：６０％）。
【００５１】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）２．４２（ｓ，３Ｈ），３．０１（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），３．６３（ｑ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ）４．０７（ｓ，３Ｈ），５．１９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．２），９．９４（ｓ，１Ｈ）
【００５２】
実施例２  ３−ペンチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの合成
撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器に窒素雰囲気下、４−メチル−５−チアゾールエタノール９．０６ｇ（０．０６モル）及び１−ヨードペンタン１３．８９ｇ（０．０７モル）を仕込み、６０℃で２４時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、ロータリーエバポレーターにて濃縮した。得られた濃縮物をヘキサン１０ｇで３回洗浄した後に、撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器にいれ、イオン交換水９．０２ｇ及びリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（７３．５％  水溶液）２３．８９ｇ（０．０６モル）を加えて３時間室温にて撹拌した。撹拌終了後に水層と有機層に分液し反応液から有機層を分離した。この有機層をイオン交換水１０ｇで３回洗浄した後に、ロータリーエバポレーターにいれ、減圧乾燥させて、液体の３−ペンチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド３０．５６ｇを得た（収率：９８％）。
【００５３】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）１．１２−１．３５（ｍ，４Ｈ），  １．７７−１．８３（ｍ，３Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），３．０１（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），３．６４（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ）４．４３（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），９．９９（ｓ，１Ｈ）
【００５４】
実施例３  ３−ドデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの合成
撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器に窒素雰囲気下、４−メチル−５−チアゾールエタノール９．９９ｇ（０．０７モル）、アセトニトリル８．９８ｇ及び１−ヨードドデカン３７．９７ｇ（０．１３モル）を仕込み、７０℃で４９時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、ロータリーエバポレーターにて濃縮した。得られた濃縮物をヘキサン１０ｇで３回洗浄した後に、撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器にいれ、イオン交換水３０．５９ｇ及びリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（７３．５％  水溶液）２７．７１ｇ（０．０７モル）を加えて３時間室温にて撹拌した。撹拌終了後に水層と有機層に分液した反応液から有機層を分離した。この有機層をイオン交換水１０ｇで５回洗浄した後に、ロータリーエバポレーターにいれ、減圧乾燥させて、液体の３−ドデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド３７．３３ｇを得た（収率：９０％）。
【００５５】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝０．８５（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ）１．１０−１．４５（ｍ，１８Ｈ），  １．７８（ｍ，２Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），３．０１（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），３．６４（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ）４．１２（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），５．１０−５．３０（ｂｒｓ，１Ｈ），９．９８（ｓ，１Ｈ）
【００５６】
実施例４  ３−ヘキサデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの合成
撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器に窒素雰囲気下、４−メチル−５−チアゾールエタノール２．８８ｇ（０．０２モル）、アセトニトリル７．５０ｇ及び１−ヨードヘキサデカン１２．２７ｇ（０．０４モル）を仕込み、７０℃で４８時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、ロータリーエバポレーターにて濃縮して、黄色固体を得た。この黄色固体をヘキサン１０ｇで３回洗浄した後に、撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器にいれ、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（７３．５％  水溶液）９．０８ｇ（０．０２モル）を加えて３時間室温にて撹拌した。撹拌終了後に水層と有機層に分液した反応液から有機層を分離した。この有機層をイオン交換水１０ｇで３回洗浄した後に、ロータリーエバポレーターで濃縮して、濃縮物を得た。この濃縮物を減圧乾燥させて、固体の３−ヘキサデシル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド１１．９８ｇを得た（収率：９２％）。
【００５７】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝０．８４（ｍ，３Ｈ）１．１０−１．４０（ｍ，２８Ｈ），  １．６０−１．８０（ｂｒｓ，２Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），３．０１（ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ），３．６４（ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ）４．１２（ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ），５．２３（ｔ，Ｊ＝５．４，１Ｈ），９．９８（ｓ，１Ｈ）
【００５８】
実施例５  ３−アリル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの合成
撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器に窒素雰囲気下、４−メチル−５−チアゾールエタノール３．２７ｇ（０．０２モル）、アセトニトリル７．５９ｇ、ヨウ化アリル４．３８ｇ（０．０３モル）を仕込み、７０℃で１４時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、ロータリーエバポレーターにて濃縮した。得られた濃縮物をヘキサン１０ｇで３回洗浄した後に、洗浄した濃縮物とイオン交換水３．１０ｇを、撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器に仕込み、そこにリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（７３．５％  水溶液）８．９６ｇ（０．０２モル）を加えて２時間室温にて撹拌した。撹拌終了後に水層と有機層に分液した反応液から有機層を分離した。この有機層をイオン交換水１０ｇで３回洗浄した後に、ロータリーエバポレーターにいれ、減圧乾燥させて、液体の３−アリル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド９．４４ｇを得た（収率：８９％）。
【００５９】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝２．４５（ｓ，３Ｈ），３．０３（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），３．６３（ｑ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ）４．０７（ｓ，３Ｈ），５．１９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．２），９．９４（ｓ，１Ｈ）
【００６０】
実施例６  ３−（１，１，１−トリフルオロブチル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの合成
撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器に窒素雰囲気下、４−メチル−５−チアゾールエタノール３．００ｇ（０．０２モル）、アセトニトリル７．５０ｇ及び１，１，１−トリフルオロ−４−ヨードブタン７．４３ｇ（０．０３モル）を仕込み、７０℃で１５時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、ロータリーエバポレーターにて濃縮した。得られた濃縮物をヘキサン１０ｇで３回洗浄した後に、撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器に仕込み、イオン交換水３．０２ｇ及びリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（７３．５％  水溶液）９．９３ｇ（０．０３モル）を加えて２時間室温にて撹拌した。撹拌終了後に水層と有機層に分液した反応液から有機層を分離した。この有機層をイオン交換水１０ｇで３回洗浄した後に、ロータリーエバポレーターにいれ、減圧乾燥させて、液体の３−（１，１，１−トリフルオロブチル）−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド８．１９ｇを得た（収率：３９％）。
【００６１】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝１．９０−２．２０（ｍ，２Ｈ），２．６０−２．２０（ｍ，５Ｈ），３．０１（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ）３．６４（ｑ，２Ｈ），４．９５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．７），５．２３（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ）１０．００（ｓ，１Ｈ）
【００６２】
実施例７  ３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの合成
撹拌機を備えた２０Ｌ容の反応装置に、メチルヒドロキシエチルチアゾール２．８６ｋｇ、アセトニトリル８．５８ｋｇ及び塩化ベンジル２．５４ｋｇを仕込み、６．５時間還流させた。反応液を室温まで冷却して固体を生じさせた後、反応液にアセトニトリル３ｋｇを加えて濾過を行った。得られた固体をアセトニトリル２．０ｋｇで洗浄し、減圧乾燥させて、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウムクロライド２．３６ｋｇを得た（収率：４４％）。
撹拌機及び窒素ガス導入管を備えた２Ｌ容の四つ口フラスコに、窒素雰囲気下で３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウムクロライド３００．９ｇ（１．１２モル）、イオン交換水３００．３ｇ及びリチウムビストリフルオロメタンスルホニルイミド５５７．４ｇ（７３．５％  水溶液）（１．４３モル）を仕込み、室温で２４時間撹拌した。撹拌終了後、水層と有機層に分液した反応液から有機層を分離した。この有機層をイオン交換水３００ｇで洗浄した後に、撹拌機を備えた２Ｌナスフラスコで仕込み、アセトニトリル３０７．６ｇと活性炭（ＳＷ−３０）３６．２ｇを加えて、室温で８時間撹拌した。この溶液を濾別し、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮した後に、濃縮物を減圧乾燥させて、液体の３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド５５３．０ｇを得た（収率：９６％）。
【００６３】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝２．３５（ｓ，３Ｈ），３．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．２），３．６４（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝５．２），５．２４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．２），５．７６（ｓ，２Ｈ），７．３２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．２），７．３７−７．５０（ｍ，３Ｈ）１０．０７（ｓ，１Ｈ）
【００６４】
実施例８  ３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナートの合成
撹拌機及び窒素ガス導入管を備えた２Ｌ容の四つ口フラスコに、窒素雰囲気下で３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウムクロライド３０１．７ｇ（１．１２モル）、イオン交換水３００．３ｇ及びパラトルエンスルホン酸ナトリウム２２２．０５ｇ（１．４３モル）を仕込み、室温で４時間撹拌した。撹拌終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた濃縮物をアセトニトリル２６４．９６ｇにより溶解させ、生じた白色沈殿をろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターにいれ、濃縮し、次いで濃縮物を減圧乾燥させて、粘調な液体の３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート３６２．３ｇを得た（収率：９８％）。
【００６５】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＤＭＳＯ−Ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝２．２５（ｓ，３Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ），３．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．２），３．６４（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝５．２），５．２４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．２），５．７７（ｓ，２Ｈ），７．０８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．２），７．３２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．２），７．３７−７．６０（ｍ，５Ｈ）１０．０９（ｓ，１Ｈ）
【００６６】
実施例９  ３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナートの合成
撹拌機及び窒素ガス導入管を備えた２Ｌ容の四つ口フラスコに、窒素雰囲気下で３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウムクロライド３０１．７ｇ（１．１２モル）、イオン交換水３００．３ｇ及びチオシアン酸ナトリウム９１．６ｇ（１．４３モル）を仕込み、室温で３時間撹拌した。撹拌終了後、水層と有機層に分液した反応液から有機層を分離した。この有機層をイオン交換水３００ｇで３回洗浄した後に、ロータリーエバポレーターにいれ濃縮した。得られた濃縮物を減圧乾燥させ、メタノール１５７．４８ｇで溶解させ、６５℃に加熱し、冷却することで再結晶を行った。得られた結晶をろ別し、減圧乾燥させて、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝チオシアナート２４８．９７ｇを得た（収率：７６％）。
【００６７】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＤＭＳＯ−Ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝２．３５（ｓ，３Ｈ），３．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．２），３．６４（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝５．２），５．２４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．２），５．７７（ｓ，２Ｈ），７．３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．２），７．３７−７．５０（ｍ，３Ｈ）１０．１０（ｓ，１Ｈ）
【００６８】
実施例１０  ３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ペンタフルオロフェノレートの合成
撹拌子を備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器に、ペンタフルオロフェノールナトリウム塩６．６３ｇ（０．０３モル）、イオン交換水１７．３９ｇ、酢酸エチル１６．０２ｇ及び３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウムクロライド８．００ｇ（０．０３モル）を仕込み、室温にて２時間撹拌した。撹拌終了後、水層と酢酸エチル層に分液した反応液からエチル酢酸層を分離した。この酢酸エチル層をイオン交換水１６ｇで３回洗浄した後に、ロータリーエバポレーターにいれ濃縮し、濃縮物を減圧乾燥させて、粘調な液体の３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム＝ペンタフルオロフェノレート１０．１０ｇを得た（収率８２％）。
【００６９】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝２．３７（ｓ，３Ｈ），３．００（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．６），３．８６（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝５．６），４．９２−４．９４（ｂｒｓ，１Ｈ），５．６１（ｓ，２Ｈ），７．１６−７．１８（ｍ，２Ｈ），７．３７−７．４０（ｍ，３Ｈ）１０．５５（ｓ，１Ｈ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝−１１７．６３−−１１７．５３（ｍ，１Ｆ），−１０５．７０−−１０５．５５（ｍ，２Ｆ），−１０３．５０−−１０３．３０（ｍ，２Ｆ）
【００７０】
比較例１  ３−ペンチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの合成
撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器に窒素雰囲気下、チアゾール５．０５ｇ（０．０７モル）及び１−ヨードペンタン１５．１６ｇ（０．０８モル）を仕込み、６０℃で２４時間、さらに８０℃９時間撹拌した。室温まで冷却し、ヘキサン５ｇで３回洗浄して下層を取り出した。得られた下層に、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（７３．５％  水溶液）２０．４７ｇを加えて３時間室温にて撹拌した。撹拌終了後に水層と有機層に分液した反応液から有機層を分離した。この有機層をイオン交換水１０ｇで３回洗浄し、ロータリーエバポレーターにいれ、減圧乾燥させて、液体の３−ペンチルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド２０．４６ｇを得た（収率：６９％）。
【００７１】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝０．８７（ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，３Ｈ）１．２０−１．３２（ｍ，４Ｈ），  １．８５−１．９０（ｍ，２Ｈ），４．５４（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），８．３６（ｓ，１Ｈ），８．６０（ｓ，１Ｈ），１０．０２（ｓ，１Ｈ）
【００７２】
比較例２  ３−ベンジルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの合成
撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器に窒素雰囲気下、３−ベンジルチアゾニウムブロミド５．６０ｇ（０．０２モル）、イオン交換水６．５９ｇ及びリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（７３．５％  水溶液）９．３０ｇを加えて３時間室温にて撹拌した。撹拌終了後に水層と有機層に分液した反応液から有機層を分離した。この有機層をイオン交換水１０ｇで３回洗浄し、ロータリーエバポレーターにいれ減圧乾燥させて、液体の３−ベンジルチアゾリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド９．８４ｇを得た（収率：９８％）。
【００７３】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝５．７８（ｓ，２Ｈ），７．３０−７．６０（ｍ，５Ｈ），８．３４（ｓ，１Ｈ），８．５７（ｓ，１Ｈ），１０．３２（ｓ，１Ｈ）
【００７４】
比較例３  ３−ベンジルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナートの合成
撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器に窒素雰囲気下、３−ベンジルチアゾニウムブロミド３．００ｇ（０．０２モル）、イオン交換水３．１３ｇ及びパラトルエンスルホン酸・一水和物２．０２ｇを加えて４時間室温にて撹拌した。反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後に、濃縮物を減圧乾燥させて、固体の３−ベンジルチアゾリウム＝パラトルエンスルホナート４．００ｇを得た（収率：９９％）。
【００７５】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝２．２５（ｓ，３Ｈ），５．８５（ｓ，２Ｈ），７．１２（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．３０−７．６０（ｍ，９Ｈ），８．３８（ｓ，１Ｈ），８．６５（ｓ，１Ｈ），１０．４８（ｓ，１Ｈ）
【００７６】
比較例４  ３−ベンジルチアゾリウム＝チオシアナートの合成
撹拌子及びすりつき三方コックを備えた１００ｍＬ容のガラスの反応器に窒素雰囲気下、３−ベンジルチアゾニウムブロミド３．００ｇ（０．０２モル）、メタノール６．１３ｇ及びチオシアン銀１．９５ｇを加えて２時間室温にて撹拌した。撹拌終了後、２層に分液した反応液から下層を分離した。この下層をメンブレンフィルター（０．４５μｍ）で濾過し、ろ液を減圧乾燥させて、粘調液体の３−ベンジルチアゾリウム＝チオシアナート１．６０ｇを得た（収率：５８％）。
【００７７】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝３．３６（ｂｒｓ，２Ｈ）５．７８（ｓ，２Ｈ），７．３５−７．６０（ｍ，５Ｈ），８．３４（ｓ，１Ｈ），８．５６（ｓ，１Ｈ），１０．３２（ｓ，１Ｈ）
【００７８】
熱分解温度の測定
得られたチアゾリウム塩の熱安定性を検討するため、実施例及び比較例により得られたチアゾリウム塩の分解温度を測定した。その結果を表１に示す。ここで分解温度は、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製示差熱熱重量測定装置（ＴＧ／ＤＴＡ２２０）を用い、試料１０ｍｇを白金製容器に載せ、窒素雰囲気下（窒素流量５０ｍｌ／分）で昇温速度１０℃／分で２０℃〜６００℃まで測定し、重量減が５％となる温度とした。
【００７９】
【表１】
0005814080.tif 000005
【００８０】
帯電防止性能の評価
蓋付きの５０ｍｌ試料瓶に、ポリカーボネート樹脂（住友ダウ製、カリバー２００Ｔ  ＮＡＴ）３．２ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬ、実施例及び比較例で得られたチアゾリウム塩０．１６ｇをはかりとり、蓋を閉めて混合物を完溶させた。ステンレス製バット（１２ｃｍ×２０ｃｍ×２ｃｍ）に試料瓶内容物を取りだし、常温で１時間、４０℃で２時間乾燥させた。得られたポリカーボネートシートを１０ｃｍ×１２ｃｍの大きさに切りとり、帯電防止能評価用試料とした。
得られたポリカーボネートシートを温度２５度、湿度７０ＲＨ％の環境で、抵抗計（三菱化学株式会社製ハイレスターＵＰ（ＭＣＰ−ＨＴ４５０））により各シートの表面抵抗値を求めた値を表２に示す。
【００８１】
【表２】
0005814080.tif 000006