(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電放電（ＥＳＤ）能動デバイスと、
前記ＥＳＤ能動デバイスから基板への低直列抵抗経路をもたらす少なくとも１つのウェハ貫通ビアと、
を備え、
前記少なくとも１つのウェハ貫通ビアは、ガードリングをもたらして少数キャリアの移動を防止し、
さらに、
前記基板の底面上に形成された接地面と、
前記少なくとも１つのウェハ貫通ビアとの間に間隙を設けて形成され、前記少なくとも１つのウェハ貫通ビアとともに、前記ガードリングを形成する、付加的なウェハ貫通ビアと、
を備え、
前記少なくとも１つのウェハ貫通ビアは、負電源及び前記接地面と接触し、前記付加的なウェハ貫通ビアは、前記接地面と接触するが前記接地面以外の電気的接続はない、
ＥＳＤ構造体。
【請求項２】
前記少なくとも１つのウェハ貫通ビアおよび前記付加的なウェハ貫通ビアの夫々は、前記接地面に垂直で平坦な板状である、
請求項１に記載のＥＳＤ構造体。
【請求項３】
前記接地面と接触するが前記接地面以外には電気的接続がなく、前記ＥＳＤ構造体の抵抗を横方向及び垂直方向のうちの少なくとも１つにおいて低下させるように構築された、さらに別のウェハ貫通ビアを備え、
前記さらに別のウェハ貫通ビアは、前記ＥＳＤ能動デバイスと前記少なくとも１つのウェハ貫通ビアとの間、及び、前記ＥＳＤ能動デバイスと前記付加的なウェハ貫通ビアとの間、の双方あるいは何れか一方に配置されている、
請求項１に記載のＥＳＤ構造体。
【請求項４】
前記少なくとも１つのウェハ貫通ビア、前記付加的なウェハ貫通ビア、及び、前記さらに別のウェハ貫通ビアの夫々は、前記接地面に垂直で平坦な板状である、
請求項３に記載のＥＳＤ構造体。
【請求項５】
前記ＥＳＤ能動デバイスの要素間に形成されて前記ＥＳＤ能動デバイスの前記要素間の回路内少数キャリア移動を防止する、少なくとも１つのウェハ貫通ビアをさらに備える、
請求項１に記載のＥＳＤ構造体。
【請求項６】
前記ガードリングは、
１つ又は複数の外部ソースから前記ＥＳＤ構造体内への少数キャリアの注入、又は、
前記ＥＳＤ能動デバイスから前記１つ又は複数の外部ソースへの少数キャリアの注入のうちの少なくとも１つを防止するように構築され配置される、
請求項１に記載のＥＳＤ構造体。
【請求項７】
前記少なくとも１つのウェハ貫通ビアは導電体材料又は絶縁体材料を含む、請求項１に記載のＥＳＤ構造体。
【請求項８】
前記少なくとも１つのウェハ貫通ビアに電気的に接続される少なくとも１つのインダクタをさらに備える、請求項１に記載のＥＳＤ構造体。
【請求項９】
前記少なくとも１つのインダクタと前記基板の間に形成されたインダクタ・シールドをさらに備える、請求項８に記載のＥＳＤ構造体。
【請求項１０】
前記ＥＳＤ能動デバイスはデュアル・ダイオード回路を含む、請求項１に記載のＥＳＤ構造体。
【請求項１１】
入力部と、
少なくとも１つの電力レールと、
前記入力部と前記少なくとも１つの電力レールとの間を電気的に接続する、請求項１乃至１０の何れか一つに記載のＥＳＤ構造体と、
を備える装置。
【請求項１２】
基板上にＥＳＤ能動デバイスを形成することと、
前記基板の裏面に接地面を形成することと、
前記ＥＳＤ能動デバイスの負電源及び前記接地面に電気的に接続された少なくとも１つのウェハ貫通ビアを形成して前記基板への低直列抵抗経路をもたらすことと、
前記少なくとも１つのウェハ貫通ビアを、少数キャリアの移動を防止するガードリングをもたらすように構築し、
前記少なくとも１つのウェハ貫通ビアとともに前記ガードリングを形成し、前記接地面と接触するが前記接地面以外には電気的接触のない、付加的なウェハ貫通ビアを形成することと、
を含む、ＥＳＤ構造体の形成方法。
【請求項１３】
前記少なくとも１つのウェハ貫通ビアおよび前記付加的なウェハ貫通ビアの夫々を、前記接地面に垂直で平坦な板状に形成する、
請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記接地面と接触するが前記接地面以外には電気的接続がなく、前記ＥＳＤ構造体の抵抗横方向及び垂直方向のうちの少なくとも１つにおいて低下させるように構築した、さらに別のウェハ貫通ビアを形成し、
前記さらに別のウェハ貫通ビアは、前記ＥＳＤ能動デバイスと前記少なくとも１つのウェハ貫通ビアとの間、及び、前記ＥＳＤ能動デバイスと前記付加的なウェハ貫通ビアとの間、の双方あるいは何れか一方に配置する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記少なくとも１つのウェハ貫通ビア、前記付加的なウェハ貫通ビア、および、前記さらに別のウェハ貫通ビアの夫々は、前記接地面に垂直で平坦な板状に形成する、
請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記基板上に、前記少なくとも１つのウェハ貫通ビアに電気的に接続される少なくとも１つのインダクタを形成することをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
前記少なくとも１つのインダクタと前記基板の間にインダクタ・シールドを設けることをさらに含む、請求項１６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一般に回路構造及び回路の製造方法に関し、より具体的にはウェハ貫通ビア構造を有する静電放電（ＥＳＤ）回路及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＥＳＤ事象とは、大電流が集積回路に加えられる短時間の電流（正又は負）放電の現象を指す。大電流は人体など様々なソースから蓄積される可能性がある。ＥＳＤ事象は普通高電位（典型的には数キロボルト）の放電に起因し、短時間（典型的には１００ナノ秒）の高電流（数アンペア）パルスを生じる。ＥＳＤ事象はＩＣ内部で、例えば、ＩＣのリード線と人の接触により、又はＩＣの他のリード線内で放電する帯電機械によって引き起こされる。集積回路を製品に取り付ける際に、これらの静電放電はＩＣを破壊して製品の高額の修理を必要とする可能性があるが、これはＩＣがさらされ得る静電放電を散逸させる機構を設けることによって防止することができたはずである。
【０００３】
ＩＣの製造者及びユーザはＥＳＤを防止するために予防措置を講ずる必要がある。例えば、ＥＳＤ防止はデバイス自体の役割とすることができ、デバイスの入力及び出力ピンに対する特別な設計技術を含めることができる。さらに、外部保護要素を回路レイアウトと共に用いることもできる。例えば、ＩＣをＥＳＤ事象から保護するために、例えば、シリコン制御整流器（ＳＣＲ）の使用を含む多くの機構がＥＳＤ構造体に実装されている。ＳＣＲは高電流に耐えてＳＣＲの両端の電圧を低レベルに保持することができ、ＥＳＤ事象に関連する高電流放電をバイパスさせるように実装することができる。
【０００４】
ＥＳＤデバイスはまた、ラッチアップを防ぎノイズ分離をもたらすのに使用することができる。より具体的には、ノイズ分離及び相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）のラッチアップ除去は、最新のＣＭＯＳ技術、無線周波数（ＲＦ）ＣＭＯＳ、及びバイポーラＣＭＯＳ（ＢｉＣＭＯＳ）シリコンゲルマニウム（ＳｉＧｅ）技術の重要な課題である。ラッチアップ状態は、通常、周辺回路若しくは内部回路の内部、１つの回路の内部（回路内）、又は複数の回路の間（回路間）で起る。一例を挙げると、ラッチアップは、ＰＮＰＮ構造のトランジスタが低電流／高電圧状態から高電流／低電圧状態に、負抵抗領域（即ちＳ型Ｉ−Ｖ（電流／電圧）特性を形成する）を通して遷移するときに起る。
【０００５】
ラッチアップは、オーバシュート及びアンダシュート現象から基板内に引き起こされる、静電放電（ＥＳＤ）デバイス、入力／出力（Ｉ／Ｏ）オフチップ・ドライバ及び隣接回路の相互作用の結果として起こり得る。これらの要因はＣＭＯＳオフチップ・ドライバ（ＯＣＤ）回路、レシーバ・ネットワーク、及びＥＳＤデバイスによって発生する可能性がある。ＣＭＯＳのＩ／Ｏ回路においては、アンダシュート及びオーバシュートは基板内での注入を招く可能性があり、オーバシュート又はアンダシュート注入が起る回路の同時スイッチングはノイズ注入及びラッチアップ状態の両方を招く可能性がある。同様に、これらの回路内には支持要素、例えば、パス・トランジスタ、抵抗要素、テスト機能、過電圧誘電体制限回路、ブリード抵抗、キーパ・ネットワーク及び他の要素が存在する可能性があり、基板へのノイズ注入及びラッチアップの一因となり得る。
【０００６】
ラッチアップはまた、電源ライン上で発生する電圧又は電流パルスに起因する可能性がある。例えば、電力レール（例えば、基板又はウェル）上の過渡パルスがラッチアップ・プロセスを引き起こす可能性がある。ラッチアップはまた、サイリスタ構造の領域外のウェル又は基板に対する少数キャリアによる刺激から起こり得る。
【０００７】
さらにラッチアップは、内部又は外部刺激から引き起こされる可能性があり、単一事象アップセット（ＳＥＵ）から起ることが知られており、それには核過程からの地上放射、宇宙線事象、並びに宇宙環境内の事象を挙げることができる。宇宙線粒子には、陽子、中性子、及びガンマ事象、並びに地球大気に入る多くの粒子を含めることができる。アルファ粒子及び他の放射性崩壊放射などの放射能事象による地上放射もまた、半導体内のラッチアップを招く可能性がある。
【０００８】
動作の際に、ＥＳＤ構造体（又はネットワーク）は、ＶＤＤ（正）電源及びＶＳＳ（負）電源への高電流を放電させる低抵抗の電流経路を必要とする。即ち、ＥＳＤネットワークは基板への低抵抗分路を必要とする。さらに、ＥＳＤ回路は能動素子と受動素子の両方を含むことが必要である。さらにＥＳＤ要素には、隣接構造への少数キャリア注入を分離するためのガードリングが用いられる。
【０００９】
ＥＳＤ回路の目的は、基板への低抵抗経路を設けることである。通常、標準的な金属レベルを用いてこの低抵抗経路が設けられる。しかし、金属レベルがスケール縮小によってより薄くなるにつれて、配線レベルは異なる物理レベル間の容量をより大きくする。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
従って、当技術分野には上述の欠陥及び制約を克服する必要性が存在する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の第１の態様において、静電放電（ＥＳＤ）構造体は、ＥＳＤ能動デバイスと、ＥＳＤ能動デバイスから基板への低直列抵抗経路をもたらす少なくとも１つのウェハ貫通ビア構造とを備える。
【００１２】
本発明の付加的な態様において、装置は、入力部と、少なくとも１つの電力レールと、入力部と少なくとも１つの電力レールとの間に電気的に接続されるＥＳＤ回路とを備える。このＥＳＤ回路は、基板への低直列抵抗経路をもたらす少なくとも１つのウェハ貫通ビア構造を備える。
【００１３】
本発明のさらに別の態様において、方法は、基板の上にＥＳＤ能動デバイスを形成することと、基板の裏面に接地面を形成することとを含む。さらにこの方法は、ＥＳＤ能動デバイスの負電源及び接地面に電気的に接続された少なくとも１つのウェハ貫通ビアを形成して基板への低直列抵抗経路を設けることを含む。
【００１４】
本発明は、本発明の例示的な実施形態の非限定的な例として示す複数の図面を参照しながら、以下の詳細な説明において説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】ＥＳＤ回路の例示的な上面図を示す。
【図２】ＥＳＤ回路の例示的な側面図を示す。
【図３】本発明の態様によるＥＳＤネットワークの例示的な回路略図を示す。
【図４】本発明の態様による、ウェハ貫通ビアを有するＥＳＤ回路の例示的な側面図を示す。
【図５】本発明の態様による、ウェハ貫通ビアを有するＥＳＤ回路の例示的な側面図を示す。
【図６】本発明の態様による、ウェハ貫通ビアを有するＥＳＤ回路の例示的な側面図を示す。
【図７】本発明の態様による、ウェハ貫通ビアを有するＥＳＤ回路の例示的な上面図を示す。
【図８】本発明の態様による、ウェハ貫通ビアを有するＥＳＤ回路の例示的な上面図を示す。
【図９】本発明の態様による、ウェハ貫通ビア及びインダクタを有するＥＳＤ回路の例示的な側面図を示す。
【図１０】本発明の態様による、ウェハ貫通ビア及びインダクタを有するＥＳＤ回路の例示的な側面図を示す。
【図１１】本発明の態様による、付加的なウェハ貫通ビアを有するＥＳＤ回路の例示的な上面図を示す。
【図１２】半導体設計、製造、及び／又はテストに用いる設計プロセスのフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明は一般に回路構造及び回路の製造方法に関し、より具体的にはウェハ貫通ビア構造を有する静電放電（ＥＳＤ）回路及び製造方法に関する。上述のように、ＥＳＤ回路は、例えば、電流、電力及び／又は熱を放出することができる低抵抗分路構造を必要とする。さらに上述のように、ＥＳＤ回路には、隣接構造への少数キャリア注入を分離するためのガードリングが用いられる。
【００１７】
本発明の態様によれば、ウェハ貫通ビアをＥＳＤ構造体内に用いてＥＳＤ回路用の基板への低抵抗経路を設けることができる。さらにウェハ貫通ビアはＥＳＤ回路用の「ガードリング」として機能して、例えば、ＮＭＯＳ、ＰＭＯＳ又はＣＭＯＳ半導体チップ内で見られる、隣接構造への及び／又は注入ソースからの、横方向少数キャリア注入を防止することができる。本発明を実施することにより、ウェハ貫通ビアを用いて、接地への低抵抗分路と、負キャリア注入を防ぐためのガードリングの一部分との二重の役割を果たさせることができる。さらに、これらの二重の役割を果たす単一要素を用いることにより、製造及び設計コストを減らすことができる。
【００１８】
実施形態において、ガードリング又は本発明の構造（以後一般にガードリングと呼ぶ）は、例えば、隣接する回路要素間の電気的及び空間的分離をもたらして、デバイスとラッチアップを被る可能性のある回路との間の相互作用を防止する目的を果たす。これは、少数キャリアが所与の回路内部で移動することの防止（回路内）、又は少数キャリアが高感度回路に入ることの防止（回路間）によって達成される。第１の場合には、ガードリングは、少数キャリアがＥＳＤ回路のある領域を離れてＥＳＤ回路の別の領域に入ることを防ぐ。第２の場合、注入が回路間であるとき、ガードリングは、少数キャリアがＥＳＤ回路の領域を離れて周囲の回路に影響を及ぼすことを防ぐ。さらに、注入がＥＳＤ回路の外部であるとき、ガードリングは少数キャリアがＥＳＤ回路に影響を及ぼすことを防ぐ。
【００１９】
ＥＳＤ構造体
図１は例示的なＥＳＤ回路１００の上面図を示す。より具体的には、図１は、ダイオード１５０及び１６０を備えた例示的な二重ダイオード又はデュアル・ダイオードＥＳＤ回路１００を示す。図１に示すように、ＥＳＤ回路１００はＶＤＤ正電源１０５、入力部１１０及びＶＳＳ負電源１１５を含む。さらに、ＥＳＤ回路１００は、それぞれＮ型ウェル１２５及び１２５’内の２つのＰ＋型アノード１２０及び１２０’並びにそれらそれぞれのカソード１３０及び１３０’を含む。当業者であれば理解するはずであるように、Ｎ型ウェル１２５及び１２５’はＰ型基板（図１には示さない）内に形成される。浅いトレンチ分離（ＳＴＩ）１３５及び１３５’はそれぞれＮ型ウェル１２５及び１２５’内に配置されてＰ＋型アノード１２０及び１２０’を電気的に分離する。
【００２０】
図１に示すように、Ｐ＋型アノード１２０は入力部１１０と電気的に接続され、カソード１３０はＶＤＤ正電源１０５と電気的に接続される。さらに、Ｐ＋型アノード１２０’はＶＳＳ負電源１１５と電気的に接続され、カソード１３０’は入力部１１０と電気的に接続される。例示的なＥＳＤ回路１１０の動作は、当業者であれば直ちに理解することになるので、本発明の理解のためには、ＥＳＤ回路のさらに別の説明は必要ない。
【００２１】
図２は、図１に示した例示的な二重ダイオード又はデュアル・ダイオードＥＳＤ回路１００の側面図を示す。図２に示すように、ＥＳＤ回路１００はＶＤＤ正電源１０５、入力部１１０及びＶＳＳ負電源１１５を含む。さらに、ＥＳＤ回路１００は、それぞれＮ型ウェル１２５及び１２５’内の２つのＰ＋型アノード１２０及び１２０’並びにそれらそれぞれのカソード１３０及び１３０’を含む。Ｎ型ウェル１２５及び１２５’はＰ型基板２０５内に形成される。浅いトレンチ分離（ＳＴＩ）１３５及び１３５’はそれぞれＮ型ウェル１２５及び１２５’内に配置されてＰ＋型アノード１２０及び１２０’を分離する。
【００２２】
図２に示すように、ＥＳＤ回路１１０は動作中に、電子２１０即ち少数キャリアをＰ型基板２０５に注入する。例えば、右側のダイオード１６０に対する入力１１０が負になる場合、右側のダイオード１６０のカソード１３０’が基板２０５に電気的に接続されているので、右側のダイオードは電子２１０を基板２０５内に注入する。さらに、ダイオード１６０から任意の周囲回路への注入は異なる方向（例えば、北、南、東及び／又は西）にすることができる。
【００２３】
当業者であれば理解するはずであるように、この電子２１０の少数キャリア注入は、隣接構造に有害な影響を及ぼす可能性がある。例えば、ＥＳＤ回路は電子を基板に注入することができるが、これは周囲回路にラッチアップを引き起こすか又は他の影響を与える可能性がある。
【００２４】
ウェハ貫通ビアを有するＥＳＤ構造体
図３は本発明の態様による例示的なＥＳＤネットワーク３００を示す。図３に示すように、ＥＳＤ回路３０５（例えば、デュアル・ダイオード回路）はＶＤＤ正電源１０５及びＶＳＳ負電源１１５に電気的に接続される。当業者であれば理解するはずであるように、デュアル・ダイオードＥＳＤ回路は例示的なＥＳＤ回路であり、ＥＳＤ回路は、ＥＳＤ機能を果たすように動作可能な任意の能動又は受動素子を含むことができる。
【００２５】
さらに、図３に示すように、ＥＳＤ回路３０５はパッド３１０と、ＥＳＤ回路３０５で保護される回路３１５との間に配置される。さらに、本発明の態様によれば、以下でさらに説明するようにＥＳＤ回路３０５内にウェハ貫通ビア３２０を用いてＶＳＳ負電源１１５から基板（接地）への低抵抗経路を設ける。即ち、ウェハ貫通ビア３２０によりＥＳＤ回路３０５から基板への電気的接続をもたらして基板への低インピーダンス分路を設ける。実施形態において、低抵抗経路は０．０１オーム乃至０．１オームの程度とすることができ、他の抵抗値も本発明により企図される。
【００２６】
図４は、本発明の態様による例示的なＥＳＤネットワーク４００を示す。より具体的には、図４は、基板への低抵抗接触、例えば、ＶＳＳ負電源１１５から基板への経路を与えるウェハ貫通ビア３２０を有する図２のＥＳＤネットワーク１００を示す。従って、図４に示すように、ウェハ貫通ビア３２０はＶＳＳ負電源１１５から基板への経路を与えて電子４０５が接地に分路されるようにする。即ち、ＶＤＤ正電源１０５に戻る代りに、ＶＳＳ負電源１１５とウェハ貫通ビア３２０の間の電気的接触は、電子４０５に基板の接地面（図示せず）への直接的経路を与える。ウェハ貫通ビア３２０は、当業者には既知の通常のリソグラフィ及びエッチング・プロセスを用いて形成することができる。
【００２７】
図５は、本発明の態様による例示的なＥＳＤネットワーク５００を示す。より具体的には、図５は、ＶＳＳ負電源１１５から基板への低抵抗分路をもたらすウェハ貫通ビア３２０を有する図２のＥＳＤネットワーク１００を示す。さらに図５は、ウェハ貫通ビア３２０及び付加的なウェハ貫通ビア５１０の両方に接触する金属接地面５０５を示す。ウェハ貫通ビア５１０はＶＤＤ正電源１０５とは接触しないことを理解されたい。即ち、ウェハ貫通ビア５１０は接地面５０５との接触によって接地されるが、別にＥＳＤネットワーク５００の他の要素とは接続されない。
【００２８】
図５に示すように、本発明の態様により、ウェハ貫通ビア３２０は接地への低抵抗分路として機能し、ウェハ貫通ビア３２０及び５１０は（接地面５０５、及びこの図には示さない付加的なウェハ貫通ビアとともに）ＥＳＤネットワーク５００の「ガードリング」として機能して、ウェハ貫通ビア３２０及び５１０を越えた位置にある隣接回路（図示せず）へのＥＳＤネットワーク１００の負キャリア注入２１０を防止する。換言すれば、ウェハ貫通ビア３２０及び５１０はガードリングとして機能して電子がどこかへ移動するか又はどこかから入ってくるのを防止する。即ち、電子２１０がＰ型基板２０５を通して隣接回路（図示せず）へ移動する代りに、電子２１０は、ガードリングとして機能するウェハ貫通ビア３２０及び５１０によってブロックされて接地へ運ばれる。
【００２９】
図６は、図５の例示的なＥＳＤネットワーク５００を示し、ＥＳＤネットワーク５００を越えた位置にある、例えばＮＭＯＳ、ＰＭＯＳ又はＣＭＯＳ半導体チップ内で見られる、注入ソースからの横方向の少数キャリア注入６０５の防止を図示する。図６に示すように、ＥＳＤネットワークを越えた位置にある回路からの少数キャリア６０５の外部注入も同様に、ガードリングとして機能するウェハ貫通ビア３２０及び５１０によって防止される。従って、本発明の態様によれば、外部の少数キャリア注入による電子６０５は、ガードリングとして機能するウェハ貫通ビア３２０及び５１０を介して接地に導かれる。従って、ＥＳＤネットワークは、ＥＳＤネットワーク５００を越えた位置にある回路（図示せず）からの少数キャリア６０５の外部注入から保護される。
【００３０】
ガードリングは、ＥＳＤネットワーク５００に対して、外部ソースからの障壁又は分離構造を与える。これらの外部ソースは、例えば幾つかを挙げれば、他のデバイス、アルファ粒子、宇宙線、ノイズ、ケーブル放電事象、重イオン、又は任意の単一事象ラッチアップであり得る。さらに別の例として、ガードリングは、例えば、サブ回路、他のＥＳＤデバイス、高電圧論理回路などの第２のソースからの注入を防止することができる。例えば、動作中に、ガードリングが例えば金属材料で構成されているとき、外部ソースは金属に接触して基板に落とされることになる。
【００３１】
図７は、本発明の態様による例示的なＥＳＤ回路７００の上面図を示す。より具体的には、図７はウェハ貫通ビア３２０、５１０及び７０５を有する図１のＥＳＤ回路を示す。ウェハ貫通ビア３２０はＶＳＳ負電源１１５と接触して、上記のように接地への低抵抗経路を与える。図７の実施形態に示すように、実施形態においてウェハ貫通ビア５１０はＶＤＤ正電源１０５の下方に配置することができる。しかし、ウェハ貫通ビア５１０はＶＤＤ正電源１０５とは接触しない（図５及び図６に示すように）。さらに、図７に示すように、ウェハ貫通ビア７０５を設けて、ウェハ貫通ビア３２０及び５１０と共にＥＳＤ回路７００の周りのガードリングを形成する。
【００３２】
図７の実施形態により、ウェハ貫通ビア３２０、５１０及び７０５を有するＥＳＤ回路７００は、回路間の負キャリア注入を防ぐように動作可能である。従って、本発明の態様により、ガードリングは、ＥＳＤ回路７００の領域から発して周囲回路に影響を及ぼす（図５に示すように）負キャリア注入を防止する。さらに、ガードリングは、ＥＳＤ回路７００の外部の注入少数キャリアがＥＳＤ回路７００に影響を及ぼす（図６に示すように）ことを防止するように機能する。このように、図７は、本発明の態様による回路間の負キャリア注入を防止するウェハ貫通ビアを有するＥＳＤ回路７００を示す。
【００３３】
当業者であれば理解するはずであるように、ウェハ貫通ビアという用語を用いるが、実施形態においてウェハ貫通ビアは、ウェハを部分的にだけ貫通するように、例えば、ウェハの裏面からデバイスの絶縁表面に至るまで形成することができる。例えば、実施形態において、ウェハ貫通ビアは物理的ウェハを貫通することができるが、例えば、ライン配線、絶縁体、及び／又は誘電体の後端までは貫通しない。
【００３４】
さらに、図７に示すように、ウェハ貫通ビア３２０、５１０及び７０５によって形成されるガードリングは、完全に中実のリング構造を形成する必要はない。即ち、実施形態において、ウェハ貫通ビアの間には空隙があってもよい。その理由は、例えば、孔開け（又はエッチング）により中実のウェハ貫通ビアのガードリングを形成したとすると、孔開け（又はエッチング）により中央部分全体が抜け落ちる可能性があるためである。従って、実施形態において、ガードリング構造は真のリング構造である必要はない。
【００３５】
従って、図７に示すように、実施形態においてウェハ貫通ビア３２０、５１０及び７０５は相互に間隔を空けることができ（例えば、互いに１乃至２ミクロン離す）、それでもなおガードリング機能の目的を果たすことになるが、その理由は負キャリアがガードリングを横切ることを防止されることになるからである。さらに、全ての負キャリアがガードリングを横切ることを防止されない場合でも、実施形態において、ガードリングの効率が１００パーセントでなくともガードリングは依然として大部分の負キャリアを遮断するように働くことになる。
【００３６】
図８は、本発明の態様による例示的なＥＳＤ回路８００の上面図を示す。より具体的には、図８は、図７のものに類似のウェハ貫通ビア３２０、５１０及び７０５を有する図１のＥＳＤ回路を示す。即ち、ウェハ貫通ビア３２０はＶＳＳ負電源１１５に接触して、上記のように接地への低抵抗経路を与える。さらに図８に示すように、ウェハ貫通ビア７０５が設けられて、ウェハ貫通ビア３２０及び５１０と共にＥＳＤ回路８００の周りのガードリングを形成する。しかし、ウェハ貫通ビア５１０がＶＤＤ正電源１０５の下方に配置され得る図７とは対照的に、図８の実施形態により、ウェハ貫通ビア５１０はＶＤＤ正電源１０５とＮ型ウェル１２５の間に配置される。さらに、ＥＳＤ回路８００は、入力部１１０の下方に配置される付加的なウェハ貫通ビア８０５（例えば、回路内ウェハ貫通ビア）を含む。ウェハ貫通ビア５１０と同様に、ウェハ貫通ビア８０５は接地面（図示せず）と接触するが、入力部１１０とは接触しない。
【００３７】
図８の実施形態により、ウェハ貫通ビア３２０、５１０、７０５及び８０５を有するＥＳＤ回路８００は、回路間の負キャリア注入及び回路内の負キャリア注入を防止するように動作可能である。従って、本発明の態様により、ガードリングは、負キャリア注入がＥＳＤ回路８００の領域から発して周囲回路に影響を及ぼす（図５に示すように）ことを防止するように機能する。さらに、ガードリングは、ＥＳＤ回路８００の外部の注入少数キャリアがＥＳＤ回路８００に影響を及ぼす（図６に示すように）ことを防止する。
【００３８】
さらに、ウェハ貫通ビア８０５は、少数キャリアの回路内注入（即ち、デュアル・ダイオードＥＳＤ回路内の）を防止するように機能する。即ち、図８に示すように、ウェハ貫通ビア８０５は、例えば、下のダイオード１６０からの電子が上のダイオード１５０に注入されるのを防止する。図８の実施例では、ＥＳＤ回路８００はデュアル・ダイオード回路を備えるが、当業者であれば理解するはずであるように、ＥＳＤ回路は、ＥＳＤ機能を行うように動作可能な任意の数の要素を備えることができる。図８に示すように、ウェハ貫通ビア８０５は、ＥＳＤ回路８００内において任意の回路要素を異なる要素から分離するのに用いることができる。実施形態において、回路の型、例えばＥＳＤ回路の型に応じて、異なる回路要素を用いることができ、１つ又は複数の回路内ウェハ貫通ビアを用いて、これらの回路要素の幾つか又は全てを分離することが有利な場合がある。このように、図８は、本発明の態様により、回路間の負キャリア注入及び回路内の負キャリア注入を防止するウェハ貫通ビアを有するＥＳＤ回路を示す
【００３９】
ウェハ貫通ビア及びインダクタを有するＥＳＤ構造体。
実施形態において、例えば無線周波数（ＲＦ）用途に関して、ＥＳＤ回路は能動要素及びインダクタの両方を必要とする可能性がある。しかし、インダクタを有するＥＳＤ回路は多くの課題を引き起こす。第１に、インダクタ自体が大きいのでインダクタが貴重な回路空間を消費する可能性がある。第２に、実施形態においてインダクタはＱファクタ（Ｑ）を向上させるシールドを必要とする可能性がある。インダクタのＱファクタは、所与の周波数におけるその誘導リアクタンスとその抵抗の比であり、その効率の尺度である。インダクタのＱファクタが高い程、インダクタは理想的な無損失のインダクタの挙動に近づく。
【００４０】
図９は、他の要素の中でも特にインダクタ９０５を含むＥＳＤネットワーク９００を示す。より具体的には、図９は、ＶＳＳ負電源１１５との接続を介してウェハ貫通ビア３２０に電気的に接続される低インピーダンスのインダクタ・コイル９０５を有するキャパシタ・インダクタ回路を含んだＥＳＤネットワーク９００を示す。さらに、実施形態においてＥＳＤネットワーク９００は、ＥＳＤネットワーク９００の入力部１１０及びインダクタ・コイル９０５に電気的に接続されたボンド・パッド９１０を含む。ＥＳＤネットワーク９００に、ウェハ貫通ビア３２０、及び基板２０５に電気的に接続される低抵抗のＥＳＤインダクタ９０５を設けることにより、基板２０５への最小インピーダンスの経路が作られる。
【００４１】
より具体的には、図９は単一のダイオード９１５の上のインダクタ・コイル９０５を示す。即ち、２つのダイオードを用いる（例えば、図４に示すように）代りに、図９の実施形態では、単一のダイオードを備えたＥＳＤデバイスを用いることにより、シリコン面積を半分に減らすことができる。さらに、実施形態において、シリコン回路の上に配置されたインダクタ・コイル９０５によって、ＥＳＤネットワーク９００の物理的面積が減る。図９に示すように、ＥＳＤネットワーク９００のウェハ貫通ビア３２０は、接地面５０５への分路として機能する。さらに、本発明の態様により、インダクタ・コイル９０５の下端は、ＶＳＳ負電源１１５との接続を介してウェハ貫通ビア３２０に電気的に接続される。
【００４２】
図１０は、本発明の態様による、インダクタ９０５及びインダクタ・シールド１００５を含む例示的なＥＳＤネットワーク１０００を示す。実施形態において、インダクタ９０５を基板２０５から分離するために、金属インダクタ・シールド１００５をインダクタ９０５と基板２０５の間に配置することができる。さらに、当業者であれば理解するはずであるように、インダクタ・シールド１００５は、インダクタ・シールド内に反電流が生じないように内部にスロットを有することができる。従って、本発明の態様により、インダクタ・コイル９０５をウェハ貫通ビア３２０と電気的に接続するために、１つ又は複数の通路１０１０を、インダクタ・シールドを通して作成することができ（例えば、エッチング・プロセス、例えばＲＩＥプロセスを用いて）、その内部にビアを形成してインダクタ・コイル９０５をＶＳＳ負電源１１５（これが次にウェハ貫通ビア３２０に電気的に接続される）に接続することができる。
【００４３】
さらに別のウェハ貫通ビア
図１１は、本発明のさらに別の態様による、さらに別のウェハ貫通ビア１１０５を有するには、図１１の実施形態は、ＶＳＳ負電源１１５及び接地面（図示せず）と電気的に接触するウェハ貫通ビア３２０を含む。さらに、図１の実施形態は、やはり接地面と接触する（例えば図５に部分的に示すように）ウェハ貫通ビア５１０及び７０５を含む。
【００４４】
さらに、図１１に示すように、さらに別のウェハ貫通ビア１１０５を接地面（図示せず）と接触する基板内に、間隔を空けて形成することができる。付加的なウェハ貫通ビアを実装することは、さらに別のウェハ貫通ビア１１０５が接地面以外のいずれの他の要素にも電気的に接続されていなくても、ＥＳＤ回路１１００内の横方向及び垂直方向の抵抗を減らすように作用する（前述のウェハ貫通ビア５１０及び７０５と同様に）。例えば、付加的なウェハ貫通ビアを用いることは、ＶＳＳ負電源１１５がウェハ貫通ビア３２０に単に取り付けられていても、回路の全物理的領域内における基板抵抗を減らすことになる。即ち、ウェア貫通ビア５１０、７０５及び１１０５がＶＳＳ負電源に直接接続されていなくても、これらのウェア貫通ビア５１０、７０５及び１１０５は、チップ基板の裏面の接地平面５０５（図５に示す）を通してＶＳＳ負電源に接続される。
【００４５】
本発明の態様によれば、さらに別のウェハ貫通ビアは下の基板への全抵抗を減らすように機能することができる。実施形態において、基板の抵抗のさらなる低下は、さらに別のウェハ貫通ビア１１０５と、ウェハ貫通ビア３２０、５１０及び７０５との間の間隔に依存する。例えば、ウェハ貫通ビア３２０、５１０、７０５及び１１０５の間隔が狭めると、より低い基板抵抗を得ることができ、逆もまた同様である。
【００４６】
図１１は、ウェハ貫通ビア７０５の内部のＥＳＤ回路１１００の左及び右側に形成された付加的なウェハ貫通ビア１１０５、並びにウェハ貫通ビア５１０を越えた位置に形成されたウェハ貫通ビア１１０５を示すが、本発明では、これらの付加的なウェハ貫通ビア１１０５を、ウェハ貫通ビア７０５を越えた位置及びウェハ貫通ビア５１０の内部に形成できることを考慮している。さらに、図１１はウェハ貫通ビア３２０（これもまた接地への分路として機能する）の内部又は越えた位置に付加的なウェハ貫通ビアを示していないが、本発明では付加的なウェハ貫通ビアをウェハ貫通ビア３２０の内部又は越えた位置に形成できることを考慮している。図１１は５つの付加的なウェハ貫通ビアを示すが、本発明では任意の数の付加的なウェハ貫通ビアを用いて基板への全抵抗を低下させることができることを考慮していることを理解されたい。
【００４７】
付加的なウェハ貫通ビアはガードリングの障壁効率（又は能力）に影響を与える可能性もあり、与えない可能性もある。例えば、異なる大きさの付加的なウェハ貫通ビアを配置すると、どこに隣接回路があるかによって、電子がＥＳＤデバイスに入ること又はそれから出ることの防止を改善することができる。さらに、上述のように、付加的なウェハ貫通ビアは、ＥＳＤ構造体の抵抗を改善（即ち低下）することになる。
【００４８】
デバイスの形成
実施形態において、ウェハ貫通ビア３２０、５１０、７０５及び１１０５は基板の裏面から、通常のエッチング法、例えば反応性イオン・エッチング（ＲＩＥ）を用いて形成することができる。より具体的には、標準的なデバイス形成の後、マスクを構造体の上に配置し、次に構造体を裏返して１つ又は複数のウェハ貫通ビアを、通常のリソグラフィ及びエッチング・プロセスを用いて基板を通してエッチング形成することができる。ガードリング及び接地への低抵抗経路の両方として機能するウェハ貫通ビア３２０に関しては、ビアは、ウェハ貫通ビア３２０がＶＳＳ負電源１１５と電気的に接触するようにエッチングされることを理解されたい。エッチング・プロセスの後、ビアは具体的な用途に応じて種々の材料で充填することができる。これらの材料は、高融点金属、アルミニウム、絶縁体、又は絶縁体ライナを有する金属材料とすることができる。この構造体を次に通常の研磨技術、例えば、化学機械研磨などを用いて研磨する。さらに、基板の底面に、ウェハ貫通ビア３２０、５１０、７０５及び、実施形態において１１０５の各々を電気的に接触する接地面を蒸着することができる。
【００４９】
設計構造
図１２は、例えば、半導体ＩＣ論理回路設計、シミュレーション、テスト、レイアウト及び製造に用いる例示的な設計フロー１２００のブロック図を示す。設計フロー１２００は、図４−図１１に示す本発明の実施形態の論理的又はその他機能的に等価な表現を生成するために、設計構造を処理するためのプロセス及び機構を含む。設計フロー１２００によって処理及び／又は作成される設計構造を機械可読伝送又はストレージ媒体上でエンコードして、データ処理システム上で実行又はその他処理されたときにハードウェア・コンポーネント、回路、デバイス又はシステムの論理的、構造的、又はその他、機能的に等価な表現を生成するデータ及び／又は命令を含むようにすることができる。
【００５０】
図１２は、好ましくは設計プロセス１２１０によって処理される入力設計構造１２２０を含む、複数のこのような設計構造を示す。設計構造１２２０は、設計プロセス１２１０によって生成及び処理され、ハードウェア・デバイスの論理的に等価な機能的表現を生じる、論理的シミュレーション設計構造とすることができる。設計構造１２２０はさらに、或いは代替的に、設計プロセス１２１０によって処理されたときにハードウェア・デバイスの物理的構造の機能的表現を生成するデータ及び／又はプログラム命令を含むことができる。機能的及び／又は構造的設計特徴のどちらを表現するのであれ、設計構造１２２０は、コア開発者／設計者によって実施されるような電子的コンピュータ支援設計（ＥＣＡＤ）を使用して生成することができる。機械可読データ伝送又はストレージ媒体上でエンコードされた場合、設計構造１２２０を設計プロセス１２１０内の１つ又は複数のハードウェア及び／又はソフトウェア・モジュールによってアクセス及び処理して、図４−図１１に示すもののような電子コンポーネント、回路、電子若しくは論理モジュール、装置、デバイス、又はシステムをシミュレーションするか、又は他の方法で機能的に表現することができる。そのため、設計構造１２２０は、設計又はシミュレーション・データ処理システムによって処理されたときに回路又は他のレベルのハードウェア論理設計を機能的にシミュレートするか、又は他の方法で表現する、人間及び／又は機械可読のソース・コード、コンパイルされた構造、及びコンピュータ実行可能コード構造を含む、ファイル又は他のデータ構造を含むことができる。このようなデータ構造は、ハードウェア記述言語（ＨＤＬ）設計エンティティ、又は、Ｖｅｒｉｌｏｇ及びＶＨＤＬのような低レベルＨＤＬ設計言語、及び／又はＣ若しくはＣ＋＋のような高レベル設計言語に適合する及び／又は互換性のある他のデータ構造を含むことができる。
【００５１】
設計プロセス１２１０は、設計構造１２２０のような設計構造を含むことができるネットリスト１２８０を生成するために、好ましくは、図４−図１１に示したコンポーネント、回路、デバイス又は論路構造の設計／シミュレーションの機能的等価物を合成、翻訳又はその他の方法で処理するためのハードウェア及び／又はソフトウェア・モジュールを使用し、組み込む。ネットリスト１２８０は、例えば、集積回路設計内の他の素子及び回路への接続を記述する配線、個々の部品、論理ゲート、制御回路、Ｉ／Ｏデバイス、モデルなどのリストを表す、コンパイル又はその他の方法で処理されたデータ構造を含むことができる。ネットリスト１２８０は、繰り返しプロセスを用いて合成することができ、このプロセスにおいて、ネットリスト１２８０は、デバイスの設計仕様及びパラメータに応じて１回又は複数再合成される。本明細書で説明された他の設計構造のタイプと同様に、ネットリスト１２８０を機械可読データ・ストレージ媒体上に記録することができる。媒体は、磁気又は光ディスク・ドライブのような不揮発性ストレージ媒体、コンパクトフラッシュ、又は他のフラッシュ・メモリ等とすることができる。付加的に、又は代替的に、媒体は、インターネット又は他のネットワーキングに適した手段を介してデータ・パケットを伝送し、中間的に格納することができる、システム又はキャッシュ・メモリ、バッファ領域、又は電気的若しくは光学的に伝導性のデバイス及び材料とすることができる。
【００５２】
設計プロセス１２１０は、ネットリスト１２８０を含む様々な入力データ構造のタイプを処理するためのハードウェア及びソフトウェア・モジュールを含むことができる。このようなデータ構造タイプは、例えば、ライブラリ要素１２３０内に存在することができ、これは、所与の製造技術（例えば、異なる技術ノード、３２ｎｍ、４５ｎｍ、９０ｎｍなど）について共通して用いられるモデル、レイアウト、及び、記号表現を含めた素子、回路、及びデバイスのセットを含むことができる。データ構造タイプは、設計仕様１２４０、特徴データ１２５０、検証データ１２６０、設計ルール１２７０、並びに入力テスト・パターン、出力テスト結果、及び他のテスト情報を含むことができるテストデータ・ファイル１２８５をさらに含むことができる。設計プロセス１２１０は、例えば、タイミング解析、検証、設計ルール・チェック、配置及び経路の操作などの標準的な回路設計プロセスを実行するためのモジュールをさらに含むことができる。
【００５３】
設計プロセス１２１０は、第２の設計構造１２９０を生成するために、ＨＤＬコンパイラ及びシミュレーション・モデル構築ツールのような周知の論理的及び物理的設計ツールを使用し、組み込んで、設計構造１２２０を、図示された支持データ構造のうちの幾つか又は全てと共に処理する。設計構造１２２０と同様に、設計構造１２９０は、好ましくは、１つ又は複数のファイル、データ構造、又は他のコンピュータコード化データ又は命令を含み、これは、伝送又はデータ・ストレージ媒体上に存在し、ＥＣＡＤシステムによって処理されると図４−図１１に示す本発明の１つ又は複数の実施形態の、論理的又はその他の方式で機能的に等価な形態を生成する。一実施形態において、設計構造１２９０は、図４−図１１に示すデバイスを機能的にシミュレーションする、コンパイルされた実行可能なＨＤＬシミュレーション・モデルを含むことができる。
【００５４】
設計構造１２９０は、集積回路のレイアウトデータの交換に用いられるデータ形式及び／又は記号データ形式（例えば、ＧＤＳＩＩ（ＧＤＳ２）、ＧＬ１、ＯＡＳＩＳ、マップファイル、又はこのような設計データ構造を格納するためのその他のいずれかの適切な形式で格納される情報）も使用することができる。設計構造１２９０は、例えば、記号データ、マップファイル、テストデータ・ファイル、設計コンテンツ・ファイル、製造データ、レイアウト・パラメータ、配線、金属のレベル、ビア、形状、製造ラインを通じた経路選択のデータ、並びに、図４−図１１に示すような本発明の実施形態を作製するための半導体製造ツールによって処理されるその他のいずれかのデータといった情報を含むことができる。次に、設計構造１２９０はステージ１２９５に進み、ここで、例えば、設計構造１２９０は、テープアウトされたり、製造に引き渡されたり、マスク会社に引き渡されたり、別の設計会社に送られたり、顧客に送り返されたりされる。
【００５５】
上述したような方法は、集積回路チップの製造に用いられる。結果として得られる集積回路チップは、生ウェハの形態で（すなわち、複数のパッケージされていないチップを有する単一のウェハとして）、ベア・ダイとして、又はパッケージされた形態で、製造業者により流通させることができる。後者の場合、チップは、単一チップ・パッケージ（マザーボード又は他のより高いレベルのキャリアに取り付けられたリード線を有するプラスチック製キャリアのような）、又は、マルチチップ・パッケージ（片面又は両面の相互接続部、或いは埋め込まれた相互接続部を有するセラミック製キャリアのような）の中にマウントされる。いずれにせよ、その後、チップは、他のチップ、別個の回路素子、及び／又は、（ａ）マザーボードのような中間製品又は（ｂ）最終製品のいずれかの部品のような他の信号処理デバイスと共に統合される。最終製品は、集積回路チップを含む何らかの製品とすることができる。
【００５６】
本明細書において用いられる用語は、特定の実施形態を説明する目的のためのものにすぎず、本発明を限定することを意図するものではない。本明細書において用いられる場合、文脈から明らかにそうでないことが示されていない限り、単数で示されたものは、複数でも良いことが意図されている。「含む」及び／又は「含んでいる」という用語は、本発明において用いられる場合、言明された特徴、整数、ステップ、動作、要素、及び／又はコンポーネントの存在を特定するものではあるが、１つ又は複数の他の特徴、整数、ステップ、動作、コンポーネント、及び／又はそれらの群の存在又は追加を排除するものではないこともさらに理解されるであろう。
【００５７】
以下の特許請求の範囲における全ての「手段又はステップと機能との組合せ」要素の対応する構造、材料、行為及び均等物は、その機能を、明確に特許請求されているように他の特許請求された要素と組み合わせて実行するための、いかなる構造、材料又は行為をも含むことが意図される。本発明の説明は、例示及び説明の目的で提示されたものであるが、網羅的であることを意図するものではなく、本発明を開示された形態に限定することを意図するものでもない。本発明の範囲及び思想から逸脱することのない多くの変更及び変形が、当業者には明らかである。実施形態は、本発明の原理及び実際の用途を最も良く説明するため、及び、当業者が本発明を種々の変更を有する種々の実施形態について企図される特定の使用に好適なものとして理解することを可能にするために、選択及び記載された。
【符号の説明】
【００５８】
１００、７００、８００、１１００：ＥＳＤ回路
１０５：ＶＤＤ正電源
１１０：入力部
１１５：ＶＳＳ負電源
１２０、１２０’：Ｐ＋型アノード
１２５、１２５’：Ｎ型ウェル
１３０、１３０’：カソード
１３５、１３５’：浅いトレンチ分離（ＳＴＩ）
１５０、１６０、９１５：ダイオード
２００：二重ダイオード又はデュアル・ダイオードＥＳＤ回路１００の側面図
２０５：Ｐ型基板
２１０、４０５：電子
３００、４００、５００、９００、１０００：ＥＳＤネットワーク
３０５：ＥＳＤ回路
３１０：パッド
３１５：回路
３２０、５１０、７０５、８０５、１１０５：ウェハ貫通ビア
５０５：金属接地面
６０５：少数キャリア（電子）
９０５：インダクタ（インダクタ・コイル）
９１０：ボンド・パッド
１００５：インダクタ・シールド
１０１０：通路
１２００：設計フロー
１２１０：設計プロセス
１２２０、１２９０：設計構造
１２３０：ライブラリ要素
１２４０：設計仕様
１２５０：特性データ
１２６０：検証データ
１２７０：設計ルール
１２８０：ネットリスト
１２８５：テストデータ・ファイル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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