(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性である第１の基板と、
前記第１の基板の導電性の表面に対向させて配置された第２の基板と、
前記第１の基板の導電性の表面を有する面側の少なくとも一部に配設された疎水性絶縁膜と、
前記疎水性絶縁膜と前記第２の基板との間に疎水性絶縁膜上を移動可能に設けられ、非極性溶媒、染料、及び前記非極性溶媒に対する２５℃における溶解度が１質量％以上であるハイドロキノン誘導体を含有する非導電性のオイルと、
前記疎水性絶縁膜と前記第２の基板との間に、前記オイルと接するように設けられた導電性の親水性液体と、
を有する表示部を備え、
前記親水性液体と前記第１の基板の導電性の表面との間に電圧を印加し、前記オイルと前記親水性液体との界面の形状を変化させることで画像を表示するエレクトロウェッティング表示装置。
【請求項２】
前記オイル全体に対する前記染料の含有比率が１０質量％以上である請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【請求項３】
前記オイル全体に対する前記染料の含有比率が２０質量％以上である請求項１又は請求項２に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【請求項４】
前記ハイドロキノン誘導体が、炭素数６以上のアルキル基を有する請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【請求項５】
前記非極性溶媒に前記ハイドロキノン誘導体を１質量％の濃度となるように溶解させて得られた溶液の粘度が、２０℃で５ｍＰａ・ｓ以下である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【請求項６】
前記染料は、アゾ染料、アゾメチン染料、メチン染料、フタロシアニン染料、及びアントラキノン染料からなる群より選ばれる請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【請求項７】
非極性溶媒、染料、及び前記非極性溶媒に対する２５℃における溶解度が１質量％以上であるハイドロキノン誘導体を含有するエレクトロウェッティング表示用染料組成物。
【請求項８】
前記染料の含有比率が１０質量％以上である請求項７に記載のエレクトロウェッティング表示用染料組成物。
【請求項９】
前記染料の含有比率が２０質量％以上である請求項７又は請求項８に記載のエレクトロウェッティング表示用染料組成物。
【請求項１０】
前記ハイドロキノン誘導体が、炭素数６以上のアルキル基を有する請求項７〜請求項９のいずれか１項に記載のエレクトロウェッティング表示用染料組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロウェッティング表示装置及びエレクトロウェッティング表示用染料組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、互いに混じり合わない２種以上の液体（例えばオイルと親水性液体の２液）を含むセルを備え、電圧の印加により動作（駆動）する光学素子に関する検討が行なわれている。このような光学素子としては、例えば、光シャッターや可変焦点レンズ、画像表示装置などが知られており、近年では、特にエレクトロウェッティング現象を利用した技術が注目されている。
【０００３】
エレクトロウェッティング現象を利用した技術の例として、互いに対向配置された第一基板及び第二基板と、複数の画素ユニットを定義する複数の突起と、隣り合う２つの突起の間の画素ユニットに封入された非導電性な第一流体と、第一流体と互いに混和しない導電性又は極性液体である第二流体とを備えたエレクトロウェッティングディスプレイが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、エレクトロウェッティング素子を構成する液中に、カチオン系やアニオン系の界面活性剤を含有する技術が開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−８６６６８号公報
【特許文献２】国際公開第２００８／１４２０８６号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述したエレクトロウェッティングディスプレイでは、画像表示を担う液体（流体）として、染料を含有するオイルが用いられることがある。
しかしながら、染料を含有するオイルを用いた場合、画像表示時の（電圧印加に対する）応答性が低下することや、電圧印加状態で保持されたときにバックフロー現象により画像乱れが生じることがある。
【０００７】
本発明は、上記に鑑みなされたものであり、画像表示時の応答性に優れ、バックフロー現象による画像乱れが防止されたエレクトロウェッティング表示装置及びエレクトロウェッティング表示用染料組成物を提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞  少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性である第１の基板と、前記第１の基板の導電性の表面に対向させて配置された第２の基板と、前記第１の基板の導電性の表面を有する面側の少なくとも一部に配設された疎水性絶縁膜と、前記疎水性絶縁膜と前記第２の基板との間に疎水性絶縁膜上を移動可能に設けられ、非極性溶媒、染料、及び前記非極性溶媒に対する２５℃における溶解度が１質量％以上であるハイドロキノン誘導体を含有する非導電性のオイルと、前記疎水性絶縁膜と前記第２の基板との間に、前記オイルと接するように設けられた導電性の親水性液体と、を有する表示部を備え、前記親水性液体と前記第１の基板の導電性の表面との間に電圧を印加し、前記オイルと前記親水性液体との界面の形状を変化させることで画像を表示するエレクトロウェッティング表示装置である。
【０００９】
＜２＞  前記オイル全体に対する前記染料の含有比率が１０質量％以上である＜１＞に記載のエレクトロウェッティング表示装置である。
＜３＞  前記オイル全体に対する前記染料の含有比率が２０質量％以上である＜１＞又は＜２＞に記載のエレクトロウェッティング表示装置である。
＜４＞  前記ハイドロキノン誘導体が、炭素数６以上のアルキル基を有する＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のエレクトロウェッティング表示装置である。
＜５＞  前記非極性溶媒に前記ハイドロキノン誘導体を１質量％の濃度となるように溶解させて得られた溶液の粘度が、２０℃で５ｍＰａ・ｓ以下である＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のエレクトロウェッティング表示装置である。
＜６＞  前記染料は、アゾ染料、アゾメチン染料、メチン染料、フタロシアニン染料、及びアントラキノン染料からなる群より選ばれる＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載のエレクトロウェッティング表示装置である。
【００１０】
＜７＞  非極性溶媒、染料、及び前記非極性溶媒に対する２５℃における溶解度が１質量％以上であるハイドロキノン誘導体を含有するエレクトロウェッティング表示用染料組成物である。
＜８＞  前記染料の含有比率が１０質量％以上である＜７＞に記載のエレクトロウェッティング表示用染料組成物である。
＜９＞  前記染料の含有比率が２０質量％以上である＜７＞又は＜８＞に記載のエレクトロウェッティング表示用染料組成物である。
＜１０＞  前記ハイドロキノン誘導体が、炭素数６以上のアルキル基を有する＜７＞〜＜９＞のいずれか１つに記載のエレクトロウェッティング表示用染料組成物である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、画像表示時の応答性に優れ、バックフロー現象による画像乱れが防止されたエレクトロウェッティング表示装置及びエレクトロウェッティング表示用染料組成物が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施形態に係るエレクトロウェッティング表示装置の電圧オフ時の状態を示す概略断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係るエレクトロウェッティング表示装置の電圧オン時の状態を示す概略断面図である。
【図３】特定ハイドロキノン誘導体を含有させたときの応答性に及ぼす影響を示すグラフである。
【図４】特定ハイドロキノン誘導体及び染料を含有させたときの応答性に及ぼす影響を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面を参照して、エレクトロウェッティング表示装置の実施形態について詳細に説明し、該説明を通じて、エレクトロウェッティング表示用染料組成物についても詳述することとする。但し、本発明においては、下記の実施形態に制限されるものではない。
【００１４】
本発明のエレクトロウェッティング表示装置の第１実施形態を図１〜図２を参照して説明する。本実施形態は、導電性を有する第１の基板としてＩＴＯ付ガラス基板を用い、オイルを構成する非極性溶媒としてデカンを用いた構成となっている。
【００１５】
図１に示すように、本実施形態のエレクトロウェッティング表示装置１００は、導電性を有する基板（第１の基板）１１と、基板１１に対向させて配置された導電性を有する基板（第２の基板）１２と、基板１１上に配設された疎水性絶縁膜２０と、疎水性絶縁膜２０及び基板１２間のシリコーンゴム壁２２ａとシリコーンゴム壁２２ｂとにより区画された領域に充填された親水性液体１４及びオイル１６とを備えている。疎水性絶縁膜２０と基板１２との間がシリコーンゴム壁２２ａとシリコーンゴム壁２２ｂとで区画された領域は、オイル１６の移動により画像表示を行なう表示部（表示セル）として構成されている。オイル１６は、非極性溶媒、染料、及び前記非極性溶媒に対する２５℃における溶解度が１質量％以上であるハイドロキノン誘導体を含有する。
【００１６】
従来から、エレクトロウェッティング表示装置に関して種々の検討がなされている。
しかし、エレクトロウェッティング表示装置において、画像表示を担う液体（流体）として染料を含有するオイルを用いると、画像表示の際の印加電圧に対する応答性が低下したり、電圧印加状態でのバックフロー現象が顕著となる場合があることが判明した。これらの問題は、オイルにおける染料の含有比率が高くなるにつれて（例えば、含有比率が１０質量％以上、更には２０質量％以上となるにつれて）より顕著となる傾向がある。
これらの問題に関し、本発明のエレクトロウェッティング表示装置では、染料を含有するオイルに対し、更に、特定のハイドロキノン誘導体を含有させることにより、上述の応答性が向上し、かつ、バックフロー現象が抑制される。
なお、上述の応答性に関し、染料を含有しないオイルに対して特定のハイドロキノン誘導体を含有させた場合には、染料を含有しないオイルに対して特定のハイドロキノン誘導体も含有させない場合と比較して、応答性は寧ろ低下する（例えば、後述の図３参照）。従って、特定のハイドロキノン誘導体による応答性向上の効果は、染料を含有しないオイルに対して奏される効果ではなく、染料を含有するオイルに対して奏される効果である。バックフロー現象抑制の効果についても同様である。
【００１７】
図１に示すエレクトロウェッティング表示装置１００において、基板１１は、基材１１ａと、基材１１ａに設けられ、導電性を有する導電膜１１ｂとを有しており、基板表面の全面が導電性を示すように構成されている。また、基板１２は、基板１１と対向する位置に配設されている。基板１２は、基板１１と同様に、基材１２ａと、基板１２ａに設けられ、導電性を有する導電膜１２ｂとを有しており、基板表面の全面が導電性を示すように構成されている。本実施形態では、基板１１及び基板１２は、透明性のガラス基板と、その上に設けられた透明性のＩＴＯ膜とで構成されている。
【００１８】
基材１１ａ及び基材１２ａは、装置の表示形態に応じて、透明性材料又は不透明材料のいずれを用いて形成されたものでもよい。画像を表示する観点からは、基材１１ａ及び基材１２ａの少なくとも一方は、光透過性を有していることが好ましい。具体的には、基材１１ａ及び基板１２ａの少なくとも一方が、３８０ｎｍ〜７７０ｎｍの波長領域全域において８０％以上（より好ましくは９０％以上）の透過率を有していることが好ましい。
【００１９】
基材１１ａ及び基材１２ａに用いる材料の例としては、ガラス基板（例えば、無アルカリガラス基板、ソーダガラス基板、パイレックス（登録商標）ガラス基板、石英ガラス基板等）、プラスチック基板（例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）基板、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板、ポリカーボネート（ＰＣ）基板、ポリイミド（ＰＩ）基板等）、アルミ基板やステンレス基板等の金属基板、シリコン基板等の半導体基板等を用いることができる。中でも、光透過性の観点から、ガラス基板又はプラスチック基板が好ましい。
また、基材として、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が設けられたＴＦＴ基板を用いることもできる。この場合、導電膜がＴＦＴに接続された形態（すなわち、導電膜がＴＦＴに接続された画素電極である形態）が好適である。これにより、画素ごとに独立して電圧を印加できるようになり、ＴＦＴを備えた公知の液晶表示装置と同様に、画像表示装置全体のアクティブ駆動が可能となる。
前記ＴＦＴ基板における、ＴＦＴ、各種配線、積蓄容量等の配置については、公知の配置とすることができ、例えば、特開２００９−８６６６８号公報に記載された配置を参照することができる。
【００２０】
導電膜１１ｂ及び導電膜１２ｂは、装置の表示形態に応じて、透明性の膜又は不透明膜のいずれであってもよい。導電膜は、導電性を有する膜のことであり、導電性とは、電圧を印加できる程度の電気伝導性を有していればよく、表面抵抗が５００Ω／□以下（好ましくは７０Ω／□以下、より好ましくは６０Ω／以下、更に好ましくは５０Ω／□以下）の性質を有していることをいう。
【００２１】
導電膜は、銅膜などの不透明な金属膜、又は透明膜のいずれでもよいが、光透過性を与えて画像表示を行なう観点からは、透明導電膜が好ましい。透明導電膜は、３８０ｎｍ〜７７０ｎｍの波長領域全域において８０％以上（より好ましくは９０％以上）の透過率を有していることが好ましい。透明導電膜の例としては、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、酸化スズ、酸化インジウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化カドミウム、及び酸化マグネシウムの少なくとも１種を含む膜が挙げられる。中でも、透明導電膜としては、光透過性及び導電性の点で、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を含む膜が好ましい。
ＩＴＯを含む膜における酸化スズの量は、抵抗値を小さくする点で、５〜１５質量％の範囲が好ましく、８〜１２質量％の範囲がより好ましい。
【００２２】
導電膜の比抵抗としては、特に制限はなく、例えば、１．０×１０−３Ω・ｃｍ以下とすることができる。
【００２３】
好ましい形態として、基板１２の導電膜１２ｂに表示画素をなす複数の表示セルに対して共通の電位を付与する一方、基板１１の導電膜１１ｂには表示画素（表示セル）毎に独立した電位を付与することで、各表示セル（画素）に独立した電圧を印加する形態が挙げられる。この形態については、公知の液晶表示装置の形態を参照することができる。
【００２４】
本実施形態では、基板１２は、基板１１と同様に導電性を有する基板として配設されているが、基板１２は導電膜を設けずに導電性を有しない態様でもよく、導電膜１１ｂと親水性液体１４との間で電圧印加するようにしてもよい。この場合、基板１２の構成に特に制限はなく、例えば基板１１の基材１１ａの例として挙げた基板を用いることができる。
【００２５】
疎水性絶縁膜２０は、基板１１の導電膜１１ｂの全面に亘って設けられており、少なくともオイル１６と接している。この疎水性絶縁膜は、電圧が印加されていないときは（画像非表示時）、主としてオイルと接触した状態にあり、電圧が印加されたときは（画像表示時）、オイルがその表面を移動し、オイルが存在しなくなった領域は親水性液体と接触している状態となる。
【００２６】
疎水性とは、水を接触させたときの接触角が６０°以上である性質をいい、好ましくは接触角が７０°以上（より好ましくは８０°以上）である性質をいう。
接触角は、ＪＩＳ Ｒ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」内の「６．静滴法」に記載された方法が適用される。具体的には、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計ＣＡ−Ａ）を用い、２０メモリの大きさの水滴をつくり、針先から水滴を出して、疎水性絶縁膜に接触させて水滴を形成し、１０秒静置後、接触角計の覗き穴から水滴の形状を観察したときの接触角θ（２５℃）から求められる。
【００２７】
絶縁膜の「絶縁」とは、比抵抗が１０７Ω・ｃｍ以上である性質をいい、好ましくは比抵抗が１０８Ω・ｃｍ以上（より好ましくは１０９Ω・ｃｍ以上）である性質をいう。
【００２８】
疎水性絶縁膜は、オイル１６との間で親和性を示し、親水性液体１４との親和性が低い絶縁膜を用いることができるが、電圧印加を繰り返すことでオイルを移動させることで生じる膜劣化を抑制する観点から、多官能性化合物に由来する架橋構造を有する膜が好ましい。中でも、疎水性絶縁膜は、重合性基を２つ以上有する多官能性化合物に由来する架橋構造を有する膜がより好ましい。前記架橋構造は、多官能性化合物の少なくとも１種を（必要に応じ他のモノマーとともに）重合させることにより好適に形成される。
本実施形態では、５員環状パーフルオロジエンを共重合した共重合体で構成されている。
【００２９】
前記多官能性化合物は、分子中に重合性基を２つ以上有する化合物である。重合性基としては、ラジカル重合性基、カチオン重合性基、縮合重合性基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アルコキシシリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２等が好ましい。また、多官能性化合物に含まれる２つ以上の重合性基は、同一であっても互いに異なっていてもよい。
架橋構造の形成において、多官能性化合物は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００３０】
前記多官能性化合物としては、公知の多官能の重合性化合物（ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、縮合重合性化合物等）を用いることができる。多官能性化合物としては、例えば、多官能アクリレートとして、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化イソシアヌール酸トリアクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチルイソシアヌレート）トリアクリレート、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、１，４−ブタンジオールオリゴアクリレート、１，６−ヘキサンジオールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。
【００３１】
前記多官能性化合物としては、上記以外にも、例えば、特開２００８−１８１０６７号公報の段落００３１〜００３５、特開２００８−１３９３７８号公報の段落０１４９〜０１５５、特開２０１０−１３４１３７号公報の段落０１４２〜０１４６等に記載の公知の重合性化合物の中から、多官能の重合性化合物を適宜選択して用いることができる。
【００３２】
多官能性化合物は、分子中に重合性基を３つ以上（好ましくは４つ以上、より好ましくは５つ以上）有することが好ましい。これにより、膜中における架橋構造の密度を更に増加させることができるので、電圧印加を繰り返したときの疎水性絶縁膜の劣化がさらに抑制される。
【００３３】
多官能性化合物としては、含フッ素化合物が好ましく、フッ素含有率が分子量の３５質量％以上（好ましくは４０質量％以上、より好ましくは４５質量％以上）である多官能性化合物がより好ましい。多官能性化合物がフッ素原子を（特にフッ素含有率が分子量の３５質量％以上）含むことにより、疎水性絶縁膜の疎水性がより向上する。多官能性化合物におけるフッ素含有率の上限には特に制限はないが、上限は、例えば分子量の６０質量％（好ましくは５５質量％、より好ましくは５０質量％）とすることができる。
多官能性化合物である含フッ素化合物としては、例えば、特開２００６−２８２８０号公報の段落０００７〜００３２に記載された含フッ素化合物を用いることができる。
【００３４】
前記多官能性化合物の重合方法は、好ましくは塊状重合又は溶液重合である。
重合の開始方法は、重合開始剤（例えばラジカル開始剤）を用いる方法、光又は放射線を照射する方法、酸を加える方法、光酸発生剤を添加した後に光を照射する方法、加熱により脱水縮合させる方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二著、「高分子合成方法」改訂版（日刊工業新聞社刊、１９７１年）や大津隆行・木下雅悦共著、「高分子合成の実験法」、化学同人、昭和４７年、１２４〜１５４頁に記載されている。
【００３５】
疎水性絶縁膜は、多官能性化合物を含有する硬化性組成物を用いて好適に作製される。硬化性組成物に含まれる多官能性化合物は、１種又は２種以上のいずれでもよく、硬化性組成物は、さらに単官能性化合物を含んでもよい。
単官能性化合物としては、公知の単官能モノマーを用いることができる。
【００３６】
硬化性組成物中における多官能性化合物の含有量（２種以上である場合には総含有量；以下同じ）は特に制限はないが、硬化性の観点からは、硬化性組成物の全固形分に対し、３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。全固形分とは、溶剤を除いた全成分をいう。
【００３７】
硬化性組成物は、さらに溶剤の少なくとも１種を含むことが好ましい。溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタムなどが挙げられる。
硬化性組成物中における溶剤の含有量（２種以上である場合には総含有量）は、硬化性組成物の全質量に対して、２０〜９０質量％が好ましく、３０〜８０質量％がより好ましく、４０〜８０質量％が特に好ましい。
【００３８】
硬化性組成物は、さらに重合開始剤の少なくとも１種を含むことが好ましい。重合開始剤としては、熱及び光の少なくとも一方の作用によりラジカルを発生する重合開始剤が好ましい。
熱の作用によりラジカル重合を開始する重合開始剤としては、有機過酸化物、無機過酸化物、有機アゾ化合物、ジアゾ化合物等が挙げられる。有機過酸化物としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロペルオキシドが挙げられる。無機過酸化物としては、例えば、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、有機アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等が、ジアゾ化合物としては、例えばジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウムなどが挙げられる。
【００３９】
光の作用によりラジカル重合を開始する重合開始剤としては、ヒドロキシアルキルフェノン類、アミノアルキルフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類などがある。
前記ヒドロキシアルキルフェノン類の例には、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが含まれる。
前記アミノアルキルフェノン類の例には、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）ブタン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンが含まれる。
前記アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン及びｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
また、これらの重合開始剤と併用して増感色素を用いることもできる。
【００４０】
前記重合開始剤の含有量は特に制限されないが、硬化性組成物の全固形分に対して０．１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜１０質量％であり、特に好ましくは２〜５質量％である。
【００４１】
硬化性組成物は、必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、無機酸化物微粒子、シリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤等が挙げられる。
その他の成分を含有する場合、その含有量は、硬化性樹脂組成物の全固形分に対して０〜３０質量％の範囲であることが好ましく、０〜２０質量％の範囲であることがより好ましく、０〜１０質量％の範囲であることが特に好ましい。
【００４２】
疎水性絶縁膜の膜厚は、特に制限されるものではないが、５０ｎｍ〜１０μｍが好ましく、より好ましくは１００ｎｍ〜１μｍである。疎水性絶縁膜の膜厚が上記範囲であると、絶縁性と駆動電圧とのバランスの点で好ましい。
【００４３】
〜疎水性絶縁膜の形成方法〜
疎水性絶縁膜は、下記の方法により好適に作製できる。すなわち、
基板１１の導電性が付与されている面（本実施形態では基板１１の導電膜１１ａの表面）に、多官能性化合物を含有する硬化性組成物を付与して硬化性層を形成する硬化性層形成工程と、形成された硬化性層中の多官能性化合物を重合させて該硬化性層を硬化させる硬化工程とを有する方法である。このような方法により、架橋構造を有する疎水性絶縁膜が形成される。
【００４４】
基板１１上に硬化性層である疎水性絶縁膜２０を形成する場合、公知の塗布法又は転写法により行なうことができる。
塗布法による場合、基板１１上に硬化性組成物を塗布し（好ましくは乾燥させて）硬化性層を形成する。塗布法としては、例えば、スピンコート法、スリットコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法等の公知の方法を用いることができる。
転写法による場合、あらかじめ硬化性組成物を用いて形成された硬化性層を有する転写材料を準備しておき、該転写材料の硬化性層を基板１１上に転写することにより、基板１１上に硬化性層を形成する。転写法の詳細については、例えば、特開２００８−２０２００６号公報の段落００９４〜０１２１や特開２００８−１３９３７８号公報の段落００７６〜００９０を参照することができる。
【００４５】
硬化性層の硬化（多官能性化合物の重合）は、例えば、活性エネルギー線の照射（以下、露光ともいう）及び加熱の少なくとも一方を施すことにより行なえる。
前記露光に用いられる活性エネルギー線としては、例えば、紫外線（ｇ線、ｈ線、ｉ線等）、電子線、Ｘ線が好ましく用いられる。露光は、プロキシミティ方式、ミラープロジェクション方式、ステッパー方式等の公知の露光装置を用いて行なってもよい。露光時の露光量は、例えば、１０ｍＪ／ｃｍ２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２とすることができ、５０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
露光の際には、所定のフォトマスクを介して露光し、次いでアルカリ溶液などの現像液を用いて現像することにより、所望とするパターンにパターニングされた疎水性絶縁膜を得ることも可能である。
また、前記加熱は、例えば、ホットプレートや炉を用いた公知の方法により行なうことができる。加熱温度は適宜設定できるが、例えば１００℃〜２８０℃とすることができ、１５０℃〜２５０℃が好ましい。加熱時間も適宜設定できるが、例えば、２分〜１２０分とすることができ、５分〜６０分が好ましい。
【００４６】
本実施形態において、疎水性絶縁膜２０と基板１２との間には、親水性液体１４とオイル１６とが注入されている。
【００４７】
親水性液体１４とオイル１６とは、互いに混じり合わない液体であり、図１〜図２に示すように、界面１７Ａ又は界面１７Ｂを境に互いに分離して存在している。なお、図１〜図２において、界面１７Ａは、電圧オフ状態における親水性液体１４とオイル１６との界面を表し、界面１７Ｂは、電圧オン状態における親水性液体１４とオイル１６との界面を表す。
【００４８】
本発明におけるオイル（例えば本実施形態におけるオイル１６。以下同じ。）は、非極性溶媒、染料、及び前記非極性溶媒に対する２５℃における溶解度が１質量％以上であるハイドロキノン誘導体を含有する非導電性のオイルである。
本明細書中では、かかるオイルを「染料インク」とも称することがある。
【００４９】
ここで、非導電性とは、比抵抗が１０６Ω・ｃｍ以上（好ましくは１０７Ω・ｃｍ以上）である性質をいう。
【００５０】
オイルは、比誘電率が小さいことが好ましい。オイルの比誘電率は、１０．０以下の範囲が好ましく、２．０〜１０．０の範囲がより好ましい。比誘電率がこの範囲内であると、比誘電率が１０．０を超える場合と比較して、応答速度が速く、より低い電圧で駆動（動作）させ得る点で好ましい。
比誘電率は、オイルをセルギャップ１０μｍのＩＴＯ透明電極付きガラスセルに注入し、得られたセルの電気容量を、エヌエフ株式会社製の型式２３５３ＬＣＲメーター（測定周波数：１ｋＨｚ）を用いて２０℃、４０％ＲＨにて測定される値である。
【００５１】
オイルの粘度としては、２０℃での動的粘度で１０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。中でも、粘度は、０．０１ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、更には０．０１ｍＰａ・ｓ以上８ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。前記オイルの粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下であることで、粘度が１０ｍＰａ・ｓを超える場合と比較して、応答速度が速くより低い電圧で駆動させ得る点で好ましい。なお、動的粘度は、粘度計（５００型、東機産業（株）製）を用いて２０℃に調整して測定される値である。
【００５２】
オイルは、実質的に後述する親水性液体と混ざり合わないことが好ましい。具体的には、オイルの親水性液体に対する溶解度（２５℃）が、０．１質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下がより好ましく、０．００１質量％以下が特に好ましい。
【００５３】
〜非極性溶媒〜
オイルは、非極性溶媒の少なくとも一種を含有する。非極性溶媒とは、比誘電率の値が小さい溶媒（いわゆる無極性溶媒）をいう。非極性溶媒としては、例えば、ｎ−ヘキサン、ｎ−デカン、ドデカン、テトラデカン、ヘキサデカン等の脂肪族炭化水素系溶媒（好ましくは、炭素数６〜３０の脂肪族炭化水素系溶媒）、前記脂肪族炭化水素系溶媒がフッ素で置換された溶媒（例えばフルオロカーボンオイル等）、シリコーン系溶媒（例えばシリコーンオイル等）などが挙げられる。中でも、脂肪族炭化水素系溶媒が好ましい。
【００５４】
前記非極性溶媒（又は前記オイル）の溶存酸素は、１０ｐｐｍ以下の範囲であることが好ましい。溶存酸素量が１０ｐｐｍを超えると、劣化しやすく（例えば耐光性が低下しやすく）、応答性が低下しやすい。溶存酸素量は、少ないほど好ましく、８ｐｐｍ以下であることがより好ましい。
【００５５】
非極性溶媒のオイル中に占める含有量は、オイル全量に対して、３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましい。非極性溶媒の含有量が３０質量％以上であることで、より優れた光シャッター特性が発現される。また、オイルに含有される染料の溶解性がより良好に保たれる。
また、オイルには、非極性溶媒以外の他の溶媒が含まれてもよい。この場合、非極性溶媒のオイル中に占める比率は、オイル中の溶媒全量に対して７０質量％以上が好ましく、より好ましくは９０質量％以上である。
【００５６】
〜染料〜
オイルは、有色画像を表示する観点から、色材として染料の少なくとも１種を含有する。染料としては、非極性溶媒に対して溶解性を有するものが好適に選択される。
【００５７】
染料としては、非極性溶媒に対して溶解性を有している染料であれば、特に制限されるものではなく、公知の任意な化合物を選択して用いることができる。染料は、オイル相の電圧印加時の応答性の点で、２５℃、０．１ＭＰａにおけるｎ−ヘキサンへの溶解度が１質量％以上であり、非極性溶媒への溶解性、特に炭化水素系溶媒への溶解性に優れたものが好ましい。溶解度が１質量％以上であることで、エレクトロウェッティング表示装置に適する。前記溶解度としては、３質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることが更に好ましい。溶解度は高ければ高いほど好ましいが、通常は８０質量％以下程度である。
【００５８】
染料の分子量として好ましい範囲は、５０〜２，０００の範囲であり、特に好ましくは１００〜１，５００の範囲であり、さらに好ましくは１００〜１，０００の範囲である。
【００５９】
オイルは、染料を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
前記染料の含有比率（２種以上である場合には総含有比率）は、オイル全量に対し、１０質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることが好ましい。染料の含有比率が１０質量％以上（更には２０質量％以上）であると、画像の濃度をより高くすることができ、画像の識別性や鮮明さがより向上する。
エレクトロウェッティング表示装置のＯＤ（画像濃度）値は、高いほど画像の識別性や鮮明さがより向上する。その為、染料の極大吸収波長におけるＯＤ値はオイル層の厚みあたり、ＯＤ＝０．５／μｍ以上が好ましく、より好ましくは０．８／μｍ以上、更に好ましくは１．０／μｍ以上である。
また、一般には、染料の含有比率がオイル全量に対し１０質量％以上（更には２０質量％以上）であると、電圧印加に対するオイルの応答性が低下しやすく、かつ、電圧印加状態でのバックフロー現象が生じやすい傾向となる。このため、本発明では、染料の含有比率がオイル全量に対し１０質量％以上（更には２０質量％以上）であると、特定のハイドロキノン誘導体による応答性向上の効果及びバックフロー現象抑制の効果がより顕著に奏される。
前記染料の含有比率の上限は特に限定はないが、応答性の観点から、上限として好ましくは８０質量％であり、より好ましくは７５質量％であり、更に好ましくは７０質量％であり、特に好ましくは６０質量％である。
【００６０】
染料としては、炭素数６〜３０の長鎖アルキル基を有する構造を含む染料が好ましく、特に好ましくは炭素数６〜２０の長鎖アルキル基を有する構造を含む染料である。染料の構造中に炭素数６〜３０の長鎖アルキル基を有することで、非極性溶媒への溶解性が向上し、応答性がより高められる
【００６１】
以下、好ましい染料について、略説する。
好ましい染料としては、アゾ染料、アゾメチン染料、メチン染料、フタロシアニン染料、ピロメテン染料、アントラキノン染料が挙げられる。
【００６２】
１．アゾ染料
好ましいアゾ染料として、下記一般式（１）で表されるものが挙げられる。
【００６３】
【化１】
0005819254.tif 000002
【００６４】
前記一般式（１）において、Ａは、芳香族基又は複素環基を表す。Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、カルボニル基、ハロゲン原子、芳香族基、又は複素環基を表す。Ｘ１及びＸ２は、各々独立に−Ｃ（Ｒ２）＝又は窒素原子を表し、Ｒ２は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、芳香族基、又は複素環基を表し、Ｒ１とＲ２とは互いに結合して環構造を形成してもよい。
【００６５】
中でも、オイル中の非極性溶媒への溶解性が高く（２５℃、０．１ＭＰａにおけるｎ−ヘキサンへの溶解度が１質量％以上）染料濃度の高いオイル組成とすることができる観点から、Ｒ１、Ｘ１〜Ｘ２、及びＡの少なくとも１つが炭素数６〜３０のアルキル基を有しており、Ｒ１、Ｘ１〜Ｘ２、及びＡがいずれも解離性基及びハロゲン原子を有しない場合が好ましい。
【００６６】
前記一般式（１）で表されるアゾ染料のうち、非極性溶媒に対する溶解性により優れる点で、下記一般式（１ａ）又は一般式（１ｂ）で表される化合物が好ましい。
【００６７】
【化２】
0005819254.tif 000003
【００６８】
前記一般式（１ａ）及び（１ｂ）において、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、カルボニル基、芳香族基、又は複素環基を表し、Ｒ２は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、芳香族基、又は複素環基を表す。
Ｒ３は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基を表す。中でも、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基が好ましい。
Ｒ４及びＲ５は、各々独立に、水素原子、アルキル基、芳香族基を表す。中でも、Ｒ４及びＲ５は、その少なくとも一方がアルキル基を表す場合が好ましく、炭素数６〜３０（好ましくは炭素数６〜２０）のアルキル基を表す場合がより好ましい。更には、Ｒ４及びＲ５の両方が炭素数６〜３０（好ましくは炭素数６〜２０）のアルキル基を表す場合が好ましい。
Ｒ７は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、カルボニル基、芳香族基を表す。中でも、Ｒ７は、水素原子又は炭素数６〜２０のアルキル基が好ましい。
【００６９】
前記一般式（１ａ）及び（１ｂ）において、非極性溶媒に対してより良好な溶解性を示す観点から、一般式（１ａ）及び（１ｂ）の構造のうち、Ｒ１がアルキル基又はアリール基であり、Ｒ２がアルキル基又はシアノ基であり、Ｒ３（一般式（１ａ）の場合；以下同様）が水素原子又は炭素数６〜２０のアルキル基であり、Ｒ４、Ｒ５が水素原子又はアルキル基であり、Ｒ７が水素原子又は炭素数６〜２０のアルキル基である場合が好ましい。更には、前記一般式（１ａ）及び（１ｂ）の構造のうち、Ｒ１が炭素数６〜２０のアルキル基であり、Ｒ２がシアノ基であり、Ｒ３が水素原子又は炭素数６〜２０のアルキル基であり、Ｒ４、Ｒ５が炭素数６〜３０（好ましくは炭素数６〜２０）のアルキル基であり、Ｒ７が水素原子又は炭素数６〜２０のアルキル基である場合が好ましい。
【００７０】
また、アゾ染料は、色素の非極性溶媒への溶解性が更に向上し粘度をより低減できる点で、光学活性な炭素原子を有する化合物であってもよい。中でも、１分子中に光学活性な部位（光学活性点）が複数存在することが好ましく、光学活性な部位（光学活性点）が分子内に３個以上有することが、非極性溶媒への溶解性向上にさらに効果が高い。また、色素における光学活性点を有する置換基としては、光学活性点を有する炭素数６〜３０の分岐アルキル基、光学活性点を有する炭素数６〜３０の脂環アルキル基が挙げられる。
分子中に光学活性点を有することは、分子の化学構造を解析し、化学構造において、同一の炭素原子が有する４つの置換基が全て異なる基であるかを調べることからわかる。立体異性体の混合物であることは、対象となる光学活性点を有する色素化合物の溶液を調製して、該溶液の旋光度を測定したときに旋光度を示さない（すなわち旋光度が０°）ことから、容易に判断することができる。
【００７１】
以下、アゾ染料の具体例を示す。但し、本発明においては、これらの具体例に制限されるものではない。なお、Ｍｅはメチルを、Ｅｔはエチルを、Ｂｕはブチルを、Ｐｈはフェニルをそれぞれ表す。
【００７２】
【化３】
0005819254.tif 000004
【００７３】
【化４】
0005819254.tif 000005
【００７４】
【化５】
0005819254.tif 000006
【００７５】
【化６】
0005819254.tif 000007
【００７６】
【化７】
0005819254.tif 000008
【００７７】
【化８】
0005819254.tif 000009
【００７８】
また、好ましいアゾ染料として、下記一般式（２）で表されるものが挙げられる。
【００７９】
【化９】
0005819254.tif 000010
【００８０】
前記一般式（２）において、Ａは、５員複素環ジアゾ成分Ａ−ＮＨ２の残基を表す。Ｂ１及びＢ２は、各々独立に、−ＣＲ１＝、−ＣＲ２＝、又は窒素原子を表し、Ｂ１及びＢ２が同時に窒素原子を表すことはい。Ｒ５及びＲ６は、各々独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、又はスルファモイル基を表す。Ｇ、Ｒ１、及びＲ２は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル基又はアリール基又は複素環基で置換された置換アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、スルホ基、又はヘテロ環チオ基を表す。Ｒ１とＲ５、及び／又は、Ｒ５とＲ６は互いに結合して５員又は６員環を形成してもよい。
【００８１】
前記一般式（２）で表されるアゾ染料については、特開２００６−１２６６４９号公報の段落番号００３３〜００７１の記載を参照することができる。
【００８２】
アゾ系色素の合成は、細田豊著「新染料化学」（昭和４８年１２月２１日技報堂発行）、Ａ．Ｖ．Ｉｖａｓｈｃｈｅｎｋｏ著、Ｄｉｃｈｒｏｉｃ  Ｄｙｅｓ  ｆｏｒ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙｓ、ＣＲＣ  Ｐｒｅｓｓ、１９９４年、Ｂｕｌｌｅｔｉｎ  ｏｆ  ｔｈｅ    Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ｊａｐａｎ，  第７６巻、第６０７−６１２頁、２００３年、Ｂｕｌｌｅｔｉｎ  ｏｆ  ｔｈｅ    Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ｊａｐａｎ，第７２巻、第１２７−１３２頁、１９９９年、に記載されている方法により行なうことができる。
【００８３】
２．アゾメチン染料
好ましいアゾメチン染料として、下記一般式（３）で表されるものが挙げられる。
【００８４】
【化１０】
0005819254.tif 000011
【００８５】
前記一般式（３）において、Ｈｅｔ１は、解離性基を有しない環を表し、Ａｒは、解離性基を有しない芳香環又は飽和複素環を表す。中でも、アゾメチン染料は、オイル中の非極性溶媒への溶解性が高く（２５℃、０．１ＭＰａにおけるｎ−ヘキサンへの溶解度が１質量％以上）染料濃度の高いオイル組成とすることができる観点から、染料分子中に炭素数が６〜３０である比較的炭素数の多い直鎖又は分岐のアルキル基（好ましくは直鎖アルキル基）を少なくとも１つ有している場合が好ましい。
【００８６】
アゾメチン染料の具体例を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。なお、Ｍｅはメチルを、Ｅｔはエチルを、Ｂｕはブチルを、Ｐｈはフェニルをそれぞれ表す。
【００８７】
【化１１】
0005819254.tif 000012
【００８８】
【化１２】
0005819254.tif 000013
【００８９】
【化１３】
0005819254.tif 000014
【００９０】
【化１４】
0005819254.tif 000015
【００９１】
前記ＥＳＴ１は、下記の構造を表す。
【００９２】
【化１５】
0005819254.tif 000016
【００９３】
本発明におけるアゾメチン色素の合成は、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．），１９５７年、７９巻、５８３頁、特開平９−１００４１７号公報、特開２０１１−１１６８９８号公報、特開２０１１−１２２３１号公報、  特開２０１０−２６０９４１号公報、特開２００７−２６２１６５号公報に記載の方法に準じて行なうことができる。
【００９４】
３．メチン染料
好ましいメチン染料として、下記一般式（４）で表されるものが挙げられる。
【００９５】
【化１６】
0005819254.tif 000017
【００９６】
前記一般式（４）において、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アリール基、−ＣＯＯＲ１１、又は−ＣＯＮＲ１１Ｒ１２を表し、Ａｒは芳香環を表す。Ｒ２、Ｒ３は、各々独立に、水素原子、又はアルキル基を表す。Ｒ１１及びＲ１２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。Ｒ１１、Ｒ１２は、互いに結合して５員環、６員環、又は７員環を形成してもよい。ｎは、０〜２の整数を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＡｒは、解離性基を有しない。Ｘは、酸素原子もしくはＮ−Ｒ１３であり、Ｒ１３は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。
【００９７】
メチン染料の具体例を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限される物ではない。なお、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチルを、Ｂｕはブチルを、Ｐｈはフェニルをそれぞれ表す。
【００９８】
【化１７】
0005819254.tif 000018
【００９９】
【化１８】
0005819254.tif 000019
【０１００】
前記ＥＴ１は、下記の構造を表す。
【０１０１】
【化１９】
0005819254.tif 000020
【０１０２】
これらの化合物は、特許第２７０７３７１号、並びに特開平５−４５７８９号、特開２００９−２６３５１７号、及び特開平３−７２３４０号の各公報などに示す公知の方法で製造することができる。
【０１０３】
４．フタロシアニン染料
フタロシアニン染料としては、炭素数６以上のアルキル基を有するものが好ましい。具体例としては、例えば、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｅｘｐｒｅｓｓ、第４巻、第２１６０４頁、２０１１年、Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ，第１８３巻、第４１１頁、１９９０年、Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ，第２６０巻、第２５５頁、１９９５年に記載されているものや、特開２００６−１３３５０８号公報に記載の一般式（Ｃ１）で表される色素などが適宜用いられる。
【０１０４】
５．アントラキノン染料
好ましいアントラキノン染料として、下記一般式（５）で表されるものが挙げられる。
【０１０５】
【化２０】
0005819254.tif 000021
【０１０６】
前記一般式（５）において、Ｒ１，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ８は、各々独立に、水素原子、ＮＲ１１Ｒ１２、アルキルチオ、アリールチオ、アルコキシ、アリールオキシ基を表し、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ６，Ｒ７は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシカルボニル基を表す。Ｒ１１及びＲ１２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表すが、Ｒ１１とＲ１２とが同時に水素原子を表すことはない。一般式（５）では、炭素数４以上のアルキル基を有する形態が好ましい。具体例としては、ＷＯ２００８／１４２０８６号記載のものが挙げられる。
アントラキノン系色素の合成は、細田豊著「新染料化学」（昭和４８年１２月２１日技報堂発行）、Ａ．Ｖ．Ｉｖａｓｈｃｈｅｎｋｏ著、Ｄｉｃｈｒｏｉｃ Ｄｙｅｓ ｆｏｒ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙｓ、ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ、１９９４年に記載されている方法により行なうことができる。
【０１０７】
〜ハイドロキノン誘導体〜
本発明におけるオイルは、非極性溶媒に対する２５℃における溶解度が１質量％以上であるハイドロキノン誘導体（以下、「特定ハイドロキノン誘導体」ともいう）を少なくとも一種含有する。
ここで、前記溶解度が１質量％以上であることは、ハイドロキノン誘導体が非極性溶媒に対し実質的に溶解性を有することを意味し、これにより、染料を含有するオイルの応答性を向上させることができ、かつ、染料を含有するオイルにおけるバックフロー現象を抑制することができる。即ち、前記溶解度が１質量％未満であると、オイル中にハイドロキノン誘導体を存在させることが困難であるため、ハイドロキノン誘導体による応答性向上の効果やバックフロー現象抑制の効果が得られない。
更に、染料を含有するオイルが更に特定ハイドロキノン誘導体を含有することにより、染料を含有するオイルの耐光性が向上し、ひいては表示装置の耐光性が向上する。
前記溶解度は、本発明の効果をより効果的に奏する観点から、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましい。
なお、ここでいう溶解度は、大気圧（０．１ＭＰａ）下で測定された溶解度である。
【０１０８】
また、前記特定ハイドロキノン誘導体としては、応答性の観点からは、オイルの粘度を低下させにくいハイドロキノン誘導体が好ましい。
具体的には、オイルの成分である非極性溶媒にハイドロキノン誘導体を１質量％の濃度となるように溶解させて得られた溶液の粘度が、２０℃で５ｍＰａ・ｓ以下（好ましくは３ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは１ｍＰａ・ｓ以下）であることが好ましい。
【０１０９】
また、前記特定ハイドロキノン誘導体としては、応答性をより向上させバックフロー現象をより抑制する観点からは、総炭素数６以上のアルキル基を有するハイドロキノン誘導体が好ましい。前記アルキル基は、直鎖アルキル基であっても分岐アルキル基であってもよいが、分岐アルキル基が好ましい。
前記アルキル基の総炭素数は、８以上が好ましく、１０以上がより好ましい。
前記アルキル基の総炭素数の上限には特に制限はないが、総炭素数は、３０が好ましく、２５がより好ましく、２０が特に好ましい。
【０１１０】
前記特定ハイドロキノン誘導体としては、下記一般式（Ａ）で表される化合物が好ましい。
【０１１１】
【化２１】
0005819254.tif 000022
【０１１２】
一般式（Ａ）中、Ｒ１Ａ及びＲ２Ａは、それぞれ独立に、総炭素数６以上のアルキル基（直鎖アルキル基であっても分岐アルキル基であってもよい）を表す。
【０１１３】
Ｒ１Ａ及びＲ２Ａで表されるアルキル基の総炭素数は、８以上が好ましく、１０以上がより好ましい。
Ｒ１Ａ及びＲ２Ａで表されるアルキル基の総炭素数の上限には特に制限はないが、総炭素数の上限は、３０が好ましく、２５がより好ましく、２０が特に好ましい。
Ｒ１Ａ及びＲ２Ａは、同一の基であっても異なる基であってもよいが、同一の基であることが好ましい。
【０１１４】
以下、本発明における特定ハイドロキノン誘導体の具体例（例示化合物）を示すが、本発明は以下の具体例によって限定されない。
【０１１５】
【化２２】
0005819254.tif 000023
【０１１６】
【化２３】
0005819254.tif 000024
【０１１７】
前記特定ハイドロキノン誘導体のオイル中における含有量（２種以上である場合には総含有量；以下同じ）は、染料の総含有量に対して、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましい。染料の総含有量に対する含有量が０．０１質量％以上であると、印加電圧に対する応答性がより向上し、バックフロー現象がより抑制される。また、染料の総含有量に対する含有量が５０質量％以下であると、コントラスト比が向上する。
【０１１８】
また、前記特定ハイドロキノン誘導体のオイル中における含有量は、オイルの全量に対して、０．００１〜５０質量％が好ましく、０．００５〜２０質量％がより好ましい。オイルの全量に対する含有量が０．００１質量％以上であると、印加電圧に対する応答性がより向上し、バックフロー現象がより抑制される。また、オイルの全量に対する含有量が５０質量％以下であると、コントラスト比が向上する。
【０１１９】
〜各種添加剤〜
前記オイルは、必要に応じて、他の成分として紫外線吸収剤、酸化防止剤、界面活性剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。添加剤を含有する場合、その含有量は特に制限されるものではないが、通常はオイルの全質量に対して２０質量％以下程度で用いられる。
【０１２０】
オイルは、一種単独の染料を用いて黒色等のインクとして調製されたものでもよく、複数の染料を混合して黒色等のインクとして調製されたものでもよい。
複数の染料を組み合わせて用いる場合、その組み合わせとしては、吸収波長が４００〜５００ｎｍの範囲のイエロー染料、吸収波長が５００〜６００ｎｍの範囲のマゼンタ染料、吸収波長が６００〜７００ｎｍの範囲のシアン染料を混合して用いることが好ましい。
ここで、「黒色」とは、４５０ｎｍ、５００ｎｍ、５５０ｎｍ、６００ｎｍにおける各々の透過率のうち、最大値となる透過率と最小値となる透過率との差が２０％以下である性質を示し、前記差は、好ましくは１５％以下であり、特に好ましくは１０％以下である。
【０１２１】
本発明における親水性液体（例えば本実施形態における親水性液体１４）は、導電性の親水性液体である。
ここで、導電性とは、比抵抗１０５Ω・ｃｍ以下（好ましくは１０４Ω・ｃｍ以下）の性質をいう。
【０１２２】
前記親水性液体は、例えば、少なくとも水性溶媒を含んで構成される。前記親水性液体は、電解質及び水性溶媒を含む電解質溶液として構成されていてもよい。
前記電解質としては、例えば、塩化ナトリウム、塩化カリウム、テトラブチルアンモニウムクロリド等の塩が挙げられる。親水性液体中における電解質の濃度は、０．１〜１０ｍｏｌ／Ｌが好ましく、０．１〜５ｍｏｌ／Ｌがより好ましい。
前記水性溶媒としては、水及びアルコールが好適であり、さらに水以外の水性溶媒を含んでいてもよい。アルコールとしては、エタノール、エチレングリコール、グリセリン等のアルコール系溶媒が挙げられる。
【０１２３】
前記親水性液体の溶存酸素は、１０ｐｐｍ以下の範囲であることが好ましい。溶存酸素量が１０ｐｐｍを超えると、劣化しやすく（例えば耐光性が低下しやすく）、応答性が低下しやすい。溶存酸素量は、少ないほど好ましく、８ｐｐｍ以下であることがより好ましい。
【０１２４】
エレクトロウェッティング表示装置１００には、導電膜１１ｂと親水性液体１４との間に電圧を印加するための電源２５（電圧印加手段）及びこの電圧をオン／オフするためのスイッチ２６が電気的に接続されている。
【０１２５】
本実施形態では、基板１２に設けられている導電膜１２ｂに電圧印加することで、親水性液体１４への電圧（電位）の印加が行なえるようになっている。このように、本実施形態では、基板１２の親水性液体１４に接する側の表面が導電性を有する構成（基材１２ａの親水性液体１４に接する側に導電膜としてＩＴＯ膜が存在する構成）となっているが、この形態に限られるものではない。例えば、基板１２に導電膜１２ｂを設けずに親水性液体１４中に電極を差し込んで、差し込まれた電極によって親水性液体１４に電圧（電位）を印加するようにしてもよい。
【０１２６】
次に、エレクトロウェッティング表示装置１００の動作（電圧オフ状態及び電圧オン状態）について説明する。
【０１２７】
図１に示すように、電圧オフ状態では、疎水性絶縁膜２０とオイル１６との親和性が高いことから、疎水性絶縁膜２０の全面にオイル１６が接した状態となっている。エレクトロウェッティング表示装置１００のスイッチ２６をオンして電圧が印加されると、親水性液体１４とオイル１６との界面は、図１の界面１７Ａから図２に示す界面１７Ｂに変形する。このとき、疎水性絶縁膜２０とオイル１６との接触面積が減少し、図２に示すようにオイル１６がセルの端に移動する。この現象は、電圧印加により疎水性絶縁膜２０の表面に電荷が発生し、この電荷によって、親水性液体１４が、疎水性絶縁膜２０に接していたオイル１６を押しのけて疎水性絶縁膜２０に接触するために生じる現象である。
エレクトロウェッティング表示装置１００のスイッチ２６をオフし、電圧の印加をオフ状態とすると、再び図１の状態に戻る。
エレクトロウェッティング表示装置１００では、図１及び図２に示す動作が繰り返し行なわれる。
【０１２８】
上記では、エレクトロウェッティング表示装置の実施形態について、図１及び図２を参照して説明したが、本実施形態に限定されるものではない。
例えば、図１及び図２では、基板１１において、導電膜１１ｂが基材１１ａの表面全体に亘って設けられているが、導電膜１１ｂが基材１１ａの表面の一部にのみ設けられた形態であってもよい。また、基板１２では、導電膜１２ｂが基材１２ａの表面全体に亘って設けられているが、導電膜１２ｂが基材１２ａの表面の一部にのみ設けられた形態であってもよい。
【０１２９】
また、本実施形態において、オイル１６に染料を含めて所望の色（例えば黒、赤、緑、青、シアン、マゼンタ、イエロー等）に着色することにより、エレクトロウェッティング表示装置の画像表示を担う画素として機能させることができる。この場合、オイル１６が、例えば、画素のオン状態及びオフ状態を切り替える光シャッターとして機能する。この場合、エレクトロウェッティング表示装置は、透過型、反射型、半透過型のいずれの方式に構成されてもよい。
【０１３０】
また、本実施形態におけるエレクトロウェッティング表示装置は、第１の基板及び第２の基板の少なくとも一方の外側（オイルに対向する面の反対側）に、紫外線カット層を有していてもよい。これにより、表示装置の耐光性を更に向上させることができる。
紫外線カット層としては公知のものを用いることができ、例えば、紫外線吸収剤を含有する紫外線カット層（例えば紫外線カットフィルム）を用いることができる。
前記紫外線カット層は、波長３８０ｎｍの光を９０％以上吸収することが好ましい。
前記紫外線カット層は、第１の基板及び第２の基板の少なくとも一方の外側に接着剤を用いて貼り付ける方法等、公知の方法により設けることができる。
【０１３１】
エレクトロウェッティング表示装置では、図１に示す構造（疎水性絶縁膜２０と基板１２との間がシリコーンゴム壁２２ａとシリコーンゴム壁２２ｂとで例えば格子状に区画された領域（表示セル）を表示部となる一画素とし、この表示セルを複数個２次元方向に配列することによって、画像表示が可能になる。このとき、導電膜１１ｂは、一画素（表示セル）毎に独立してパターニングされた膜であってもよいし（例えばアクティブマトリクス型の画像表示装置の場合など）、複数の画素（表示セル）に跨るストライプ状にパターニングされた膜であってもよい（例えばパッシブマトリクス型の画像表示装置の場合など）。
【０１３２】
エレクトロウェッティング表示装置１００は、基材１１ａ及び基板１２ａとして、ガラス、プラスチック（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）等の光透過性を有する基板を用い、かつ導電膜１１ｂ、１２ｂ及び疎水性絶縁膜２０として光透過性を有する膜を用いることにより、透過型の表示装置とすることができる。この透過型の表示装置の画素において、表示セルの外部に反射板を設けることで、反射型の表示装置とすることもできる。
また、導電膜１１ｂとして、反射板としての機能を兼ね備えた膜（例えばＡｌ膜、Ａｌ合金膜などの金属膜）を用いたり、基材１１ａとして、反射板としての機能を兼ね備えた基板（例えばＡｌ基板、Ａｌ合金基板などの金属基板）を用いたりすることで、反射型の表示装置の画素とすることもできる。
【０１３３】
本実施形態のエレクトロウェッティング表示装置１００を構成する表示セルや画像表示装置のその他の構成は、例えば、特開２００９−８６６６８号公報、特開平１０−３９８００、特表２００５−５１７９９３、特開２００４−２５２４４４、特開２００４−２８７００８、特表２００５−５０６７７８、特表２００７−５３１９１７号公報、特開２００９−８６６６８号公報等に記載の公知の構成とすることができる。また、公知のアクティブマトリクス型又はパッシブマトリクス型の液晶表示装置の構成も参照することができる。
【０１３４】
エレクトロウェッティング表示装置は、表示セル（表示画素）に加え、必要に応じてバックライト、セルギャップ調整用のスペーサ、封止用のシール材等、公知の液晶表示装置と同様の部材を用いて構成することができる。このとき、オイル及び親水性液体は、例えば、基板１１上のシリコーンゴム壁によって区画された領域にインクジェット法により付与することで設けられてもよい。
【０１３５】
本実施形態のエレクトロウェッティング表示装置１００は、例えば、基板１１を準備する基板準備工程と、基板１１の導電性表面側に疎水性絶縁膜２０を形成する工程と、基板１１の疎水性絶縁膜２０形成面上を区画する隔壁を形成する隔壁形成工程と、隔壁により区画された領域に（例えばインクジェット法により）オイル１６及び親水性液体１４を付与する付与工程と、付与工程後の基板１１のオイル１６及び親水性液体１４が付与された側に基板１２を重ねてセル（表示部）を形成するセル形成工程と、必要に応じて基板１１と基板１２とをセルの周囲で接着することでセルを封止する封止工程とを有する方法が挙げられる。基板１１と基板１２との接着は、液晶表示装置の作製に通常用いられるシール材を用いて行なうことができる。
また、隔壁形成工程の後であってセル形成工程の前に、セルギャップ調整用のスペーサを形成するスペーサ形成工程が設けられていてもよい。
【実施例】
【０１３６】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量部を示し、「ｗｔ％」は質量％を示す。
【０１３７】
〔実験例１〕
＜ハイドロキノン誘導体の溶解度及び１質量％デカン溶液の粘度の測定＞
非極性溶媒としてのノルマルデカン（以下、単に「デカン」ともいう）に、前述の特定ハイドロキノン誘導体の例示化合物Ｈ−１を添加し（このときの添加量は、溶液全体に対し１０質量％に相当する量とした）、得られた溶液を５０℃に加熱した後、室温（２５℃）にて１２時間放置した。放置後に溶け残った例示化合物Ｈ−１の量に基づき、例示化合物Ｈ−１のノルマルデカンに対する溶解度（２５℃）を算出した。なお、例示化合物Ｈ−１では、上記１２時間の放置後に例示化合物Ｈ−１が溶け残らなかったため、表１に示すように溶解度（２５℃）は「１０質量％以上」とした（後述の例示化合物Ｈ−２も同様である）。
別途、例示化合物Ｈ−１の１質量％デカン溶液（溶液全体に対する例示化合物Ｈ−１の量は１質量％）を調製し、得られた１質量％デカン溶液の２０℃での粘度を測定した。
これらの結果を下記表１に示す。
【０１３８】
次に、上記例示化合物Ｈ−１を、前述の例示化合物Ｈ−２又は下記比較化合物Ｒ−１に変更したこと以外は上記と同様にして、各化合物のノルマルデカンに対する溶解度（２５℃）、及び、各化合物の１質量％デカン溶液の粘度（２０℃）を求めた。
これらの結果を下記表１に示す。
【０１３９】
【化２４】
0005819254.tif 000025
【０１４０】
【表１】
0005819254.tif 000026
【０１４１】
〔実験例２〕
＜テストセルを用いた駆動評価＞
−染料インクの調製−
ノルマルデカンに対し、下記染料Ｍ−１を下記表２又は表３に示す染料濃度（染料濃度４０質量％又は染料濃度１０質量％）となるように添加するとともに、下記表２又は表３に示すハイドロキノン誘導体（例示化合物Ｈ−１、例示化合物Ｈ−２、又は比較化合物Ｒ−１）を濃度１．０質量％となるように添加して、非導電性のオイルとして、本発明の染料インク及び比較用の染料インクをそれぞれ調製した。
また、比較用の染料インクとしては、ハイドロキノン誘導体を添加しない染料インクも調製した。
【０１４２】
【化２５】
0005819254.tif 000027
【０１４３】
−テストセルの作製−
透明電極として厚み１００ｎｍのインジウムスズオキサイド（ＩＴＯ）膜が付いたガラス基板（１ｃｍ×１ｃｍ）のＩＴＯ膜の表面に、フッ素系ポリマー（商品名：サイトップ、旭硝子社製、型番ＣＴＬ−８０９Ｍ）をスピンコート塗布して厚み６００ｎｍのフッ素系ポリマー層を形成し、疎水性絶縁膜とした。
続いて、このフッ素系ポリマー層（疎水性絶縁膜）上に、ガラス基板の縁に沿った額縁状のシール材（幅１ｍｍ、厚み５０μｍ）を置いた。この額縁状のシール材は、１ｃｍ×１ｃｍサイズのシリコーンゴム（厚み５０μｍのシール材；扶桑ゴム社製のシリウス（商品名））の中心部から８ｍｍ×８ｍｍ×５０μｍサイズの四面体を切り抜いて作製した。
次に、シール材によって囲まれた領域内に、上記で得られた染料インクのいずれか１つを厚み４μｍとなるように注入した。注入された染料インクの上に、エチレングリコール（親水性液体）を厚み４６μｍとなるように注入した。
更にその上部から、ＩＴＯ膜付ガラス基板をＩＴＯ膜が染料インクや親水性液体と向き合うようにして置き、固定化することで、図１に示す構造を有するエレクトロウェッティング表示装置（テストセル）を作製した。
【０１４４】
−評価−
２枚のＩＴＯ膜付ガラス基板の各ＩＴＯ膜（透明電極）間に、信号発生器にて１００Ｖ直流電圧を印加（フッ素系ポリマー層（疎水性絶縁膜）が形成されている側のＩＴＯ電極にマイナス電圧を印加）し、表示セル（図２中の表示セル３０）を観察したところ、染料インクがフッ素系ポリマー層の表面を一方向に移動し、フッ素系ポリマー層上を覆う面積が縮小していることを確認した。このときの染料インクの応答性、及び電圧を印加したままの状態で保持したときのバックフロー現象の程度を評価した。
【０１４５】
染料インクの応答性については、下記式で算出される応答時間［ｍｓｅｃ］及び面積収縮率［％］により、バックフロー現象の程度については、下記式で算出されるバックフロー比率［％］により、それぞれ評価した。これらの評価結果を下記表２及び表３に示す。
ａ）応答時間［ｍｓｅｃ］＝電圧未印加状態から電圧印加を開始し、印加時点から最も縮んだ状態に達するまでに要した時間
ｂ）面積収縮率［％］＝（最も縮んだ時の染料インクの面積）／（電圧印加前の染料インクの面積）×１００
ｃ）バックフロー比率［％］＝（電圧印加状態で５秒経過した後の染料インクの面積）／（最も縮んだ時の染料インクの面積）×１００
また、ＯＤ（画像濃度）は、ＴＯＰＣＯＭ社製の分光放射計ＳＲ−３を用い、染料の極大吸収波長におけるＯＤ値（染料インク（オイル層）の厚み１μｍあたりのＯＤ値）を測定し、評価した。染料インク（オイル層）の厚み１μｍあたりのＯＤ値を下記表２及び表３の「ＯＤ」欄に示す。
【０１４６】
【表２】
0005819254.tif 000028
【０１４７】
【表３】
0005819254.tif 000029
【０１４８】
表２及び表３に示すように、染料インクに特定ハイドロキノン誘導体（例示化合物Ｈ−１、例示化合物Ｈ−２）を含有させた本発明の表示装置では、染料インクに特定ハイドロキノン誘導体ではないハイドロキノン誘導体（比較化合物Ｒ−１）を含有させた比較用の表示装置、及び、染料インクにハイドロキノン誘導体を含有させない比較用の表示装置と比較して、応答性が向上し、しかも画像表示後（電圧印加状態）のバックフロー現象が改善された。
また、特定ハイドロキノン誘導体による、応答性の向上効果、及び、バックフロー現象の改善効果は、染料濃度が高い組成ほど顕著な効果として現れた。
【０１４９】
次に、テストセルの各ＩＴＯ膜（透明電極）間に印加した印加電圧と染料インクの面積との関係（印加電圧に対する応答性）を図３及び図４に示す。
図３及び図４の縦軸の面積相対値（％）は、電圧未印加時の染料インクの面積を１００％としたときの染料インクの相対的な面積（％）を示す。
図３は、デカン単独の場合（図３の◇印（未添加））、及び、デカンに例示化合物Ｈ−１のみを添加した場合（図３の■印（Ｈ−１添加）；例示化合物Ｈ−１の濃度は１．０質量％とした）における、印加電圧に対する応答性を示す。図３から明らかなように、デカン単独では良好な応答性を示すものの、デカンに例示化合物Ｈ−１を添加すると応答性が低下した。つまり、例示化合物Ｈ−１を含有する場合には、デカン単独の場合と比較して、同じ面積の収縮を得るためにより大きな電圧が必要である。
図４は、デカン単独の場合（図４の◇印（未添加））、デカンに染料Ｍ−１のみを濃度１０質量％となるように添加した場合（図４の■印（Ｍ−１（１０ｗｔ％）））、及び、デカンに染料Ｍ−１及び例示化合物Ｈ−１を添加した場合（図４の▲印（Ｍ−１＋Ｈ−１）；染料Ｍ−１の濃度は１０質量％とし、例示化合物Ｈ−１の濃度は１．０質量％とした）における、印加電圧に対する応答性を示す。図４から明らかなように、デカンに染料Ｍ−１のみを添加すると応答性が低下したが、染料Ｍ−１に加えて例示化合物Ｈ−１を添加した場合には、染料Ｍ−１を含有したことによる応答性の低下が改善された。
【０１５０】
〔実験例３〕
＜ガラスセルを用いた耐光性評価＞
−染料インクの調製−
ノルマルデカンをアルゴンガスでバブリング処理し、溶存酸素量１０ｐｐｍ以下に調整した。この溶存酸素量１０ｐｐｍ以下に調整されたノルマルデカン中に、下記表４に示す染料を濃度１０質量％となるように溶解させ、さらに下記表４に記載の特定ハイドロキノン誘導体を染料全体の量に対して１０質量％となるように溶解させ、染料インクを調製した。また、比較用の染料インクとして、特定ハイドロキノン誘導体を添加しない染料インクも調製した。
【０１５１】
−耐光性評価用ガラスセルの作製−
上記染料インクのいずれか１つを８μｍのギャップを有するガラスセルに注入し、次いで、含有エポキシ封止剤にてこのガラスセルを封止し、更にこのガラスセルのガラスの外側（両側）に、波長３８０ｎｍにおける透過率が１０％であるＵＶカットフィルターを装着し、耐光性評価用ガラスセルを得た。
【０１５２】
−耐光性評価−
上記耐光性評価用ガラスセルに対し、キセノンランプにより１２０時間光を照射した。
この１２０時間の光照射の前後において、ＵＶスペクトルメーター（島津ＵＶ３１００）を用いて耐光性評価用ガラスセルの吸光度をそれぞれ測定し、下記式に従って、光照射による吸光度の変化（％）を求めた。得られた結果を表４に示す。
光照射による吸光度の変化（％）  ＝  （１２０時間の光照射後の極大吸収波長における吸光度／１２０時間の光照射前の極大吸収波長における吸光度）×１００
【０１５３】
【表４】
0005819254.tif 000030
【０１５４】
表４において、特定ハイドロキノン誘導体欄のＨ−１及びＨ−２は、既述の例示化合物Ｈ−１及びＨ−２である。染料欄における、Ｍ−１は上述の染料であり、Ｙ−１、Ｍ−２、Ｃ−１、及びＣ−２は、それぞれ下記の染料である。
【０１５５】
【化２６】
0005819254.tif 000031
【０１５６】
表４に示すように、染料インクに特定ハイドロキノン誘導体（例示化合物Ｈ−１、例示化合物Ｈ−２）を含有させた場合、染料インクに特定ハイドロキノン誘導体を含有させない場合と比較して、光照射による吸光度の変化が少なく、染料インクの耐光性に優れていた。
【０１５７】
〔実験例４〕
＜テストセルを用いた耐光性評価＞
−染料インクの調製−
ノルマルデカンをアルゴンガスでバブリング処理し、溶存酸素量１０ｐｐｍ以下に調整した。
次に、下記組成の成分を混合し、染料インクを調製した。
−−染料インクの組成−−
上記染料Ｙ−１    …    ２６０ｍｇ
上記染料Ｍ−１    …    ２００ｍｇ
上記染料Ｍ−２    …    １６０ｍｇ
上記染料Ｃ−１    …    ３００ｍｇ
上記染料Ｃ−２    …    １００ｍｇ
溶存酸素量１０ｐｐｍ以下に調整されたノルマルデカン    …    ９８０ｍｇ
下記表５に示す特定ハイドロキノン誘導体  …  １０ｍｇ（但し、比較用染料インクでは０ｍｇ）
【０１５８】
−親水性液体の調製−
エチレングリコール（親水性液体）を、アルゴンガスでバブリング処理し、溶存酸素量１０ｐｐｍ以下に調整した。
【０１５９】
−耐光性評価用テストセルの作製−
染料インク及び親水性液体として、上記の染料インク（溶存酸素量１０ｐｐｍ以下のノルマルデカンを含む染料インク）及び親水性液体（溶存酸素量１０ｐｐｍ以下のエチレングリコール）を用いたこと以外は実験例２と同様にして、テストセルを作製した。
次に、このテストセルのガラスの外側（両側）に、波長３８０ｎｍにおける透過率が１０％であるＵＶカットフィルターを装着し、耐光性評価用テストセルを得た。
【０１６０】
−耐光性評価−
上記耐光性評価用テストセルに対し、実験例３と同様の条件にてキセノンランプによる光照射を行なった。
実験例４では、下記式に従って、光照射による透過率の積分値の変化（％）を求めた。ここで、「透過率の積分値」とは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍにおける光透過率を積分した値である。得られた結果を表５に示す。
光照射による透過率の積分値の変化（％）  ＝  （１２０時間の光照射後の透過率の積分値／１２０時間の光照射前の透過率の積分値）×１００
【０１６１】
【表５】
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【０１６２】
表５に示すように、染料インクに特定ハイドロキノン誘導体（例示化合物Ｈ−１、例示化合物Ｈ−２）を含有させた本発明の表示装置では、染料インクに特定ハイドロキノン誘導体を含有させない比較用の表示装置と比較して、光照射による透過率の積分値の変化が少なく、耐光性に優れていた。
【符号の説明】
【０１６３】
１１・・・第１基板
１１ｂ，１２ｂ・・・ＩＴＯ膜
１２・・・第２基板
１４・・・親水性液体
１６・・・オイル
１７Ａ、１７Ｂ・・・親水性液体とオイルとの界面
２０・・・疎水性絶縁膜
２２ａ、２２ｂ・・・シリコーンゴム壁
３０・・・表示セル
１００・・・エレクトロウェッティング表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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