(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光線を透過するレンズ部と、前記レンズ部に近接して設けられた遮光部とを有する光学レンズであって、
前記遮光部は、レンズ母材表面に形成される遮光膜を有し、
前記遮光膜の少なくとも前記レンズ部側の内縁を含む部分の表層と、前記レンズ部の前記遮光膜との境界部分とが粗面化処理されている光学レンズ。
【請求項２】
請求項１に記載の光学レンズであって、
前記遮光膜は、前記レンズ部に向かって厚みが薄くされた光学レンズ。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の光学レンズであって、
前記遮光膜は、複数の層からなる光学レンズ。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の光学レンズが、少なくとも１枚以上配置されたレンズユニット。
【請求項５】
請求項４に記載のレンズユニットと、
前記レンズユニットにより結像される画像を検出する撮像素子と、
を備える撮像モジュール。
【請求項６】
請求項５に記載の撮像モジュールが搭載された電子機器。
【請求項７】
請求項６に記載の電子機器がデジタルカメラである電子機器。
【請求項８】
請求項６に記載の電子機器が車載用カメラである電子機器。
【請求項９】
光線を透過するレンズ部と、前記レンズ部に近接して設けられた遮光部とを有する光学レンズの製造方法であって、
前記遮光部の少なくとも一部に遮光膜を形成し、
前記遮光膜の表層の前記レンズ部側の内縁から更に前記レンズ部の光軸側に延出した位置まで粗面化処理を行う光学レンズの製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の光学レンズの製造方法であって、
前記粗面化処理は、レーザブラスト処理である光学レンズの製造方法。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０に記載の光学レンズの製造方法であって、
前記遮光膜を、遮光性物質の含有されるインクを用いたインクジェット方式により形成する光学レンズの製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の光学レンズの製造方法であって、
前記インクの１回の吐出量を０．１ｆｌ以上、１０ｐｌ以下にする光学レンズの製造方法。
【請求項１３】
請求項９乃至請求項１２のいずれか一項に記載の光学レンズの製造方法であって、
前記遮光膜を、複数の層に分けて形成する光学レンズの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学レンズ及びその製造方法、並びにレンズユニット、撮像モジュール、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタルカメラや携帯電話機等の電子機器に組み込まれて使用される撮像モジュールは、不要な入射光を除去してフレアやゴースト等の発生を防ぎ、撮影画像の画質を向上させる改良が進められている。その画質対策として、例えば撮像モジュールに使用されるレンズ部の周辺に、リング状の遮光シートを設けて不要光を遮光する構成や、レンズ表面に遮光膜を直接形成した構成（特許文献１〜３参照）等が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−２０８３９１号公報
【特許文献２】特開２００９−１７５３３１号公報
【特許文献３】特開２００８−１８５７７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、遮光シートをレンズ部の周辺に設けた場合でも迷光が発生し、フレアやゴーストを完全に防止することはできない。遮光シートには、遮光性、組み立て時のハンドリング性、機械的強度等の点で、ある程度の厚みが必要となる。そのため、遮光シートの内縁側の側面が厚くなり、この内縁側の側面で反射した入射光がレンズ内に入り込むことで、迷光が生じる。
また、遮光膜をレンズ表面に直接形成する場合でも迷光が発生する。これは、遮光膜を印刷又は塗布して形成した後の遮光膜表面で入射光が反射し、この反射光が迷光となるためである。
このように、遮光シートを配置しても、遮光膜をレンズ表面に形成しても、外光やレンズ内の内部反射光による影響を完全になくすことができないのが実情となっている。そのため、光学レンズの不要光をより確実に除去する技術が求められている。【０００５】
本発明は、上記背景に基づいてなされたものであり、遮光膜の表面反射を抑えて迷光の発生を防止できる光学レンズ及びその製造方法、並びにレンズユニット、撮像モジュール、電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は下記構成からなる。
（１）  光線を透過するレンズ部と、上記レンズ部に近接して設けられた遮光部とを有する光学レンズであって、
上記遮光部は、レンズ母材表面に形成される遮光膜を有し、
上記遮光膜の少なくとも上記レンズ部側の内縁を含む部分の表層と、上記レンズ部の上記遮光膜との境界部分とが粗面化処理されている光学レンズ。
（２）  上記光学レンズが、少なくとも１枚以上配置されたレンズユニット。
（３）  上記レンズユニットと、
上記レンズユニットにより結像される画像を検出する撮像素子と、
を備える撮像モジュール。
（４）  上記の撮像モジュールが搭載された電子機器。
（５）  光線を透過するレンズ部と、上記レンズ部に近接して設けられた遮光部とを有する光学レンズの製造方法であって、
上記遮光部の少なくとも一部に遮光膜を形成し、
上記遮光膜の表層の上記レンズ部側の内縁から更に上記レンズ部の光軸側に延出した位置まで粗面化処理を行う光学レンズの製造方法。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、光学レンズの遮光膜の表面反射を抑えて迷光の発生を防止し、不要光を確実に除去する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の実施形態を説明するための図で、撮像モジュールの概略断面図である。
【図２】光学レンズのレンズ光軸を含む断面を示す一部拡大断面図である。
【図３】遮光部の模式的な断面図である。
【図４】図４Ａ、図４Ｂ、及び図４Ｃは遮光膜を形成して粗面化処理する様子を示す説明図である。
【図５】遮光膜の粗面化領域と遮光膜自体の作用を示す説明図である。
【図６】遮光層を複数の層から構成した光学レンズの一部拡大断面図である。
【図７】図７Ａ、図７Ｂ、及び図７Ｃは遮光膜の各種の平面形状を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は本発明の実施形態を説明するための図で、撮像モジュールの概略断面図である。
撮像モジュール１００は、レンズユニット１１０と、撮像素子を含む撮像部１１とを有し、図示しない基板等の支持部材に支持されてデジタルカメラ等の電子機器の筐体内に配置される。
【００１０】
レンズユニット１１０は、レンズホルダ１３の内部でレンズ光軸Ａｘの方向に重ね合わせて配置された少なくとも一枚の光学レンズ１５を有する。レンズホルダ１３に固定された複数の光学レンズ１５は、図中下側の被写体側から図中上側の撮像部１１に集光し、被写体の光学像を撮像部１１の撮像素子受光面上に結像させる。
【００１１】
図１では、５枚の光学レンズ１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄ，１５Ｅを例示しているが、レンズ枚数はこれに限らない。また、各光学レンズ１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄ，１５Ｅは、それぞれ個別に用意された複数のレンズホルダに支持された構成であってもよく、特定の光学レンズが光軸方向に移動可能に支持されたズームレンズ機構、オートフォーカス機構、手振れ防止機構を構成したものであってもよい。
【００１２】
図２は光学レンズ１５Ａのレンズ光軸Ａｘを含む断面を示す一部拡大断面図である。光学レンズ１５Ａは、光線を透過するレンズ部１５ａと、レンズ部１５ａに近接して設けられた遮光部１５ｂとを有する。遮光部１５ｂは、少なくとも一部の表層に粗面化処理された領域を有する遮光膜１７を含んでいる。
【００１３】
光学レンズ１５Ａ（１５Ｂ〜１５Ｅも同様）の材料としては、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等の高い光透過率、形状安定性、優れた加工性を有する透明樹脂材料が好適に用いられる。
【００１４】
遮光部１５ｂは、レンズ部１５ａの外側に設けられ、遮光部１５ｂにおけるレンズ母材
２７の表面の光出射側の面１５ｃと光入射側の面１５ｄの少なくともいずれか一方の面上で透過光束を制限する遮光膜１７を含んで構成される。図示例では、光出射側の面１５ｃ上に遮光膜１７を形成している。
【００１５】
光学レンズ１５Ａは、レンズ母材２７の表面の光入射側の面１５ｄをレンズホルダ１３の内側に形成された段付部１３ａ（図１参照）に当接させ、レンズホルダ１３に支持される。
【００１６】
レンズ母材２７の表面の光出射側の面１５ｃに形成される遮光膜１７は、レンズ半径方向に一定幅でレンズ部１５ａの外縁に沿った膜であり、少なくとも光学レンズ１５Ａの露出面に形成されている。ここでいう露出面とは、遮光膜１７が他の部材により当接された領域又は覆われた領域を除く、外側（空気）に表出された領域を意味する。
【００１７】
遮光膜１７は、図示例のようにレンズ母材２７の表面の光出射側の面１５ｃの全面に設ける他に、光出射側の面１５ｃの少なくとも内縁側のみ設けた構成であってもよい。また、光入射側の面１５ｄのみ設けた構成、双方の面１５ｃ，１５ｄにそれぞれ設けた構成、更に、双方の面１５ｃ，１５ｄと側面１５ｅに設けた構成であってもよい。光学レンズ１５Ａのレンズ部１５ａの表面には、ＡＲコート(Anti-reflection coat)等の反射防止処理が施されていてもよい。
【００１８】
遮光膜１７は、黒色顔料や黒色染料等の遮光性物質を含むインクの印刷、塗布、スタンプ等、各種方式により形成できる。中でも、高い寸法精度が得られるインクジェット方式を用いることが好適である。また、粗面化処理は、ブラスト処理等の物理的処理やエッチング等の化学的処理が利用可能である。中でも、光拡散特性を自在に、かつ簡単に強弱調整できるレーザブラスト処理を用いることが好適である。
【００１９】
レーザブラスト処理を行う場合、用いるレーザとしては、例えば、中心波長１１００ｎｍ以下のＱスイッチレーザで、高ピーク短パルス発振のレーザが好ましい。
【００２０】
遮光膜１７に含まれる遮光性物質は、各種公知の黒色顔料や黒色染料を用いることができる。黒色色材としては、少量で高い光学濃度を実現できるカーボンブラック、チタンブラック、酸化鉄、酸化マンガン、グラファイトが好ましい。また、赤色色材、緑色色材、青色色材の混合による黒色色材を用いてもよい。
【００２１】
インクジェット方式で用いるインクとしては、例えば、感光性モノマーの含有量が８０〜９０％、開始剤の含有量が１０〜２０％、カーボンブラックの含有量が１〜５％のインクジェットインクを用いることができる。
【００２２】
また、遮光膜１７は、レンズ材料の屈折率に近い屈折率であることが、レンズ内面での反射を低減できる点で好適である。この反射低減効果は、インク密度が均一であるほど高くなる。
【００２３】
遮光膜１７には、露出面の全体に粗面化処理が施される。この粗面化処理は、遮光膜１７の露出面における、少なくともレンズ部１５ａ側の内縁２３を含む部分の表層と、レンズ部１５ａの遮光膜１７との境界部分とに施される。つまり、遮光膜１７のレンズ部１５ａ側の内縁２３から更にレンズ部１５ａのレンズ光軸Ａｘ側に延出した位置まで粗面化処理が行われる。
【００２４】
図３に遮光膜１７の模式的な断面図を示した。粗面化処理によって遮光膜１７の表層は微小凹凸を有する粗面にされる。この粗面の微小凹凸の深さｔｂは、１μｍ以上５μｍ以下である。また、粗面化処理後に残される遮光膜１７の膜厚ｔａは、１０〜４０μｍ、より好ましくは２０〜３０μｍである。粗面化処理後の遮光膜１７の膜厚ｔａを上記範囲にすることで、生産性を低下させない範囲で必要十分な遮光性が得られ、光学レンズ１５Ａとの密着性も良好に維持される。
【００２５】
粗面化処理で形成される微小凹凸の平均ピッチｐと上記深さｔｂとの関係は、（ｔｂ／ｐ）の値が０．１以上であり、この値が１より大きいことがより好ましい。上記範囲にすることで、粗面化処理された領域の表面反射を、撮像モジュール１００の撮像画質に影響しないレベルに抑えることができる。微小凹凸の平均ピッチは、大きすぎても小さすぎても表面反射が強くなる傾向があるが、上記範囲とすれば光散乱効果が高くなる。
【００２６】
この粗面化処理された領域の表面粗さは、光学設計に応じて適宜決定されるが、ＲＭＳ値で表すと０．１〜５μｍ以下（測定機：フォームタリサーフ（テイラー ホブソン社製））であることが好ましい。
【００２７】
次に、遮光膜１７の形成と粗面化処理について説明する。
図４Ａ、図４Ｂ、及び図４Ｃは、遮光膜１７を形成して粗面化処理する様子を示す説明図である。まず、図４Ａに示すように、光学レンズ１５Ａの遮光部１５ｂの光入射側の面１５ｃに、インクジェット方式により遮光膜１７を形成する。次に、図４Ｂ及び図４Ｃに示すように、形成された遮光膜１７の露出面にレーザ光を走査するレーザブラスト処理により、遮光膜１７上に微小な凹凸を付けて粗面化する。
【００２８】
レーザブラスト処理は、レーザ光の照射を遮光膜１７の成膜範囲のみに施せばよいが、レーザ光の照射範囲をブラスト処理前の遮光膜１７の内縁２３に高精度に位置合わせすることは難しい。つまり、遮光膜１７の内縁２３を目標位置としてブラスト処理する場合、工程誤差によってはブラスト処理が遮光膜１７の内縁２３に及ばず、遮光膜１７の縁部にブラスト未処理部分を生じることがある。その場合、遮光膜１７の内縁２３に残存するブラスト未処理部分が反射面となり、ここからの反射光が迷光となってフレアやゴーストの原因になる。
【００２９】
そこで、遮光膜１７の内縁２３から更に、レンズ部１５ａ側（レンズ光軸Ａｘ側）に越えた位置までブラスト処理することで、遮光膜１７の内縁２３を含む遮光膜の表層を確実に粗面化処理できる。遮光膜１７の内縁２３よりレンズ部１５ａ側にはみ出したブラスト処理範囲では、レンズ部１５ａの表面が粗面化加工されることになる。しかし、レンズ部１５ａの表面の一部が粗面化され光拡散性を生じても、透過光束の光量低下が少ないため、被写体の光学像に大きな影響を及すことはない。
【００３０】
また、ブラスト処理前の遮光膜１７は、図４Ａに示すように遮光部１５ｂからレンズ部１５ａに向かって厚みを薄く形成することが好ましい。遮光膜１７の厚みを傾斜させることで、光学レンズ１５Ａをレンズ光軸Ａｘから見たときに、遮光膜１７が隠れる部分は存在しなくなり、レーザ光が遮られることがない。そのため、遮光膜１７の全露出部分の粗面化処理が行いやすくなる。
【００３１】
図５は遮光膜の粗面化領域と遮光膜自体の作用を示す説明図である。遮光膜１７の粗面化領域は、粗面化された表層の微小凹凸による光散乱と、遮光膜１７自体による光吸収によって、外光の正反射やレンズ内への進入を防止できる。
【００３２】
レンズ内の内部反射光Ｌ０は、レンズ母材２７の表面の光出射側の面１５ｃと遮光膜１７との界面において、再びレンズ側に戻る反射光Ｌ１と遮光膜１７に吸収される吸収光Ｌ２とに分かれる。遮光膜１７はレンズに近い屈折率の材料であるため、レンズ母材２７の表面の光出射側の面１５ｃと遮光膜１７との界面の反射率は小さく、そのため、反射光Ｌ１の強度は小さくなる。よって、レンズ内の内部反射光Ｌ０による反射光Ｌ１は、分離される吸収光Ｌ２によって弱められ、反射光Ｌ１の強度自体も弱められる。また、レンズ母材２７の表面の出射側の面１５ｃと遮光膜１７との界面は、平担性が高く、インク密度が均一な状態に保持されるので、これによってもレンズ内に戻される光の散乱が抑えられる。
【００３３】
遮光膜１７の粗面化処理は、上記したレーザブラスト処理の他、サンドブラストであってもよい。粗面化処理にレーザブラスト処理を適用する場合、被処理面にマスクを設ける等の前処理が必要なく、粗面化処理を簡略化できるため、より好ましい。また、レーザスポットサイズの増減は自在に行えるため、広いスポットサイズで広範囲を均等に処理することや、狭いスポットサイズで微小な領域を高精度に処理することが、任意の位置に対して簡単に行える。更に、レーザ出力の強弱調整やレーザ描画のパターンに応じて、表面粗さを自在に変更でき、所望の粗面化度合いに容易に変更できる。
【００３４】
また、光学レンズ１５の遮光膜１７に、他の光学レンズの一部を当接させて光学レンズを積み重ねたり、レンズホルダ１３（図１参照）の段付部１３ａに当接させたりして、遮光膜１７を介してレンズを固定する場合がある。その場合、上記のレーザブラスト処理を、レーザ出力の強弱調整によって遮光膜１７の厚みを変更し、レンズの支持姿勢の調整やレンズ同士の間隔調整を行うことに利用できる。
【００３５】
さらに、遮光部１５ｂは複数層に分けて形成することが更に好ましい。図６に遮光層を複数の層から構成した光学レンズの一部拡大断面図を示した。
【００３６】
この場合の遮光膜１７Ａは、光学レンズ１５Ａにおけるレンズ母材２７の表面の光出射側の面１５ｃ上に形成され、透過光束を制限する遮光層１９と、遮光層１９上に形成された粗面化層２１とを有する多層膜である。遮光層１９は前述の遮光膜１７と同様の材料を使用できる。粗面化層２１は、印刷や塗布等により成膜した後に膜表面に微小凹凸が形成されて粗面化される光拡散層であればよい。粗面化層２１に対する粗面化処理はレーザブラスト法に限らず、サンドブラスト法等の他の公知の粗面化処理であってよい。
【００３７】
遮光部１５ｂに多層構造の遮光膜１７Ａを用いることで、遮光層１９については光吸収に優れた材料選択を行い、粗面化層２１については、レーザブラスト処理等の粗面化処理に適した材料選択を行うことができる。このため、材料選択の自由度が増し、遮光性の高い材料、表面反射の少ない材料等が使用でき、設計自由度を向上できる。
【００３８】
本構成の光学レンズ１５は、遮光膜１７をインクジェット方式で形成している。遮光膜１７をインクジェット方式で形成することにより、インク塗布領域の変更が容易に行える。そのため、光学レンズの多品種生産に低コストで対応できる。また、紫外線硬化型のＵＶインクを使用すれば、熱処理を伴うことなく、インク着弾後、紫外線照射により即時に硬化させることができる。このため、熱に弱いプラスチックレンズに対して、インク着弾位置の精度、即ち、遮光膜１７の内縁におけるエッジ位置の精度が得やすくなる。
【００３９】
また、インクジェット方式においては、インク吐出ヘッドからのインク１回あたりの吐出量を０．１ｆｌ以上、１０ｐｌ以下にした場合、インク着弾位置でのインク流れやインク跳ねの発生が少なくなり、着弾位置（エッジ位置）精度を高められる。そのため、遮光膜の被形成面が平坦でなく凹凸が多い場合でも、高い着弾位置精度が得られ、遮光膜を正確な形状に形成できる。また、個々のインク液滴の着弾面積は小さいため、遮光膜１７の形状の微調整も容易に行える。そして、吐出１回あたりのインク液滴の体積が小さいため、着弾後のインク厚みが薄く、遮光膜１７の厚みとなるインク堆積量をきめ細かに調整できる。
【００４０】
以上、光学レンズ１５Ａに対する遮光部１５ｂについて説明してきたが、レンズユニット１１０が有する全ての光学レンズ１５Ｂ，１５Ｄ，１５Ｅに対しても同様に遮光部を形成する。これにより、レンズユニット１１０全体としてのフレアやゴーストの発生をより確実に防止できる。
【００４１】
上記構成の撮像モジュール１００によれば、光学レンズのレンズ表面に遮光膜１７を形成するため、光学レンズ間に円環状の遮光シートを挟み込む必要がない。従って、遮光シートの内縁側の側面による入射光の反射を生じることなく、光学レンズと遮光膜１７との界面における反射率を遮光シート表裏面の反射率より低く抑えることができ、迷光の発生を低減できる。また、複数の光学レンズを組み合わせたレンズユニット１１０の光軸方向の高さを低くできる。以て、撮像モジュール全体の小型化、低背化に有利な構成にできる。
【００４２】
固定焦点の光学設計やズーム機構等により撮像モジュール１００の画角を広角化した場合には、画角の広がりによってレンズ部１５ａの外縁（遮光部１５ｂの内縁２３）より更に外側にも入射光が照射されやすくなる。その結果、レンズ内の内部反射によってフレアやゴーストが増加する虞があるが、上記構成の撮像モジュール１００によれば、各遮光膜１７が、レンズ部１５ａと遮光部１５ｂとの境界が確実に粗面化処理され、遮光性が確保される。このため、レンズ内に迷光が生じることや、他のレンズに反射光が及ぶことを確実に防止できる。
【００４３】
なお、レンズの種類は、上述した円盤状の凸レンズ、凹レンズに限らず、メニスカスレンズ、円筒面状のレンズ面を有するシリンドリカルレンズ、ボールレンズ、ロッドレンズ等であってもよい。これら各種のレンズに対しても前述同様の遮光部を設けることで、フレアやゴーストの発生を防止できる。
【００４４】
また、遮光部１５ｂの遮光膜１７の平面形状は、図７Ａに示す円環状である他にも、図７Ｂに示すように、内縁が長方形に形成された矩形開口３１を有する形状の遮光膜１７Ｂとしてもよい。また、図７Ｃに示すように、上下端の画角のみ制限する一対の「Ｄ」文字型の遮光膜１７Ｃが、直線部３３を対向させて光学レンズ上に配置された形状としてもよい。
【００４５】
以上説明した撮像モジュール１００は、その組み込み対象の一例としてデジタルカメラを例示したが、これに限定されない。その他の撮像モジュール１００の組み込み対象としては、例えば、ＰＣ（Personal Computer）内蔵型又は外付け型のＰＣ用カメラ、カメラ付きインターフォン、車載用カメラ、或いは、撮影機能を有する携帯端末装置等の電子機器を挙げることができる。携帯端末装置としては、例えば、携帯電話機やスマートフォン、ＰＤＡ(Personal Digital Assistants)、携帯型ゲーム機等が挙げられる。
【００４６】
このように、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、実施形態の各構成を相互に組み合わせることや、明細書の記載、並びに周知の技術に基づいて、当業者が変更、応用することも本発明の予定するところであり、保護を求める範囲に含まれる。
【００４７】
以下、実施例を説明する。
【００４８】
（実施例１）
基板上に、下記組成の紫外線硬化型のインクをインクジェット方式により塗布して遮光膜を形成した。
【００４９】
＜インク成分＞
モノマー：８５％
重合開始剤：１０％
添加剤：３％
ジフェニル−２，４，６−トリメチルベンゾイルホスフィン＝オキシド：１％
カーボンブラック：１％
【００５０】
この遮光膜に対し、以下の表１に示すレーザ条件でレーザブラスト処理を行って、遮光膜表面を粗面化した。
【００５１】
【表１】
0005807139.tif 000002
【００５２】
粗面化する前の遮光膜に対し、表面に垂直に入射する光の入射角を０°として入射角６０°で光を入射したときの遮光膜の光沢度を測定した。また、粗面化した遮光膜に対し、同様に入射角６０°で光を入射したときの遮光膜の光沢度を測定した。この結果、粗面化前では光沢度５１．２％であったのに対し、粗面化後では光沢度０．５％と大幅に減少し、表面での反射を十分に防ぐことができた。
【００５３】
（実施例２）
日本ゼオン株式会社製のＺＥＯＮＥＸ（登録商標）  グレードＦ５２Ｒを材料とするレンズの表面に反射防止コートを形成した。反射防止コートは、ＳｉＯ２とＺｒＯ２を交互に重ねた４層構造（厚み０．２μｍ）であり、空気と触れる面がＳｉＯ２となっているものを形成した。このレンズ表面に、実施例１と同一条件でレーザを照射して表面を粗面化し、粗面化前後でのレンズの透過率を測定した。測定は、レンズを３つ用意し、各レンズについて行った。測定結果を表２に示す。表２において、“ａｖｅ”は、３回の測定値の平均を示す。
【００５４】
【表２】
0005807139.tif 000003
【００５５】
表２に示したように、レーザ加工前とレーザ加工後の透過率差は０．２５％であり、測定誤差範囲内であることから、レーザ照射によるレンズの透過率低下は無視できるほど小さいことが分かる。
【００５６】
実施例１，２の結果から、インク塗布範囲よりもレーザ加工範囲を大きくすることで、レンズの光学性能（透過率）を落とすことなく、インク塗布範囲を全て低反射化できることが証明された。
【００５７】
以上の通り、本明細書には次の事項が開示されている。
（１）  光線を透過するレンズ部と、上記レンズ部に近接して設けられた遮光部とを有する光学レンズであって、
上記遮光部は、レンズ母材表面に形成される遮光膜を有し、
上記遮光膜の少なくとも上記レンズ部側の内縁を含む部分の表層と、上記レンズ部の上記遮光膜との境界部分とが粗面化処理されている光学レンズ。
（２）  （１）に記載の光学レンズであって、
上記遮光膜は、上記レンズ部に向かって厚みが薄くされた光学レンズ。
（３）  （１）又は（２）に記載の光学レンズであって、
上記遮光膜は、複数の層からなる光学レンズ。
（４）  （１）乃至（３）のいずれか一項に記載の光学レンズが、少なくとも１枚以上配置されたレンズユニット。
（５）  （４）に記載のレンズユニットと、
上記レンズユニットにより結像される画像を検出する撮像素子と、
を備える撮像モジュール。
（６）  （５）に記載の撮像モジュールが搭載された電子機器。
（７）  （６）に記載の電子機器がデジタルカメラである電子機器。
（８）  （６）に記載の電子機器が車載用カメラである電子機器。
（９）  光線を透過するレンズ部と、上記レンズ部に近接して設けられた遮光部とを有する光学レンズの製造方法であって、
上記遮光部の少なくとも一部に遮光膜を形成し、
上記遮光膜の表層の上記レンズ部側の内縁から更に上記レンズ部の光軸側に延出した位置まで粗面化処理を行う光学レンズの製造方法。
（１０）  （９）に記載の光学レンズの製造方法であって、
上記粗面化処理は、レーザブラスト処理である光学レンズの製造方法。
（１１）  （９）又は（１０）に記載の光学レンズの製造方法であって、
上記遮光膜を、遮光性物質の含有されるインクを用いたインクジェット方式により形成する光学レンズの製造方法。
（１２）  （９）乃至（１１）のいずれか一項に記載の光学レンズの製造方法であって、
上記インクの１回の吐出量を０．１ｆｌ以上、１０ｐｌ以下にする光学レンズの製造方法。
（１３）  （９）乃至（１２）のいずれか一項に記載の光学レンズの製造方法であって、
上記遮光膜を、複数の層に分けて形成する光学レンズの製造方法。
【符号の説明】
【００５８】
１１  撮像部
１３  レンズホルダ
１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄ、１５Ｅ  光学レンズ
１５ａ  レンズ部
１５ｂ  遮光部
１５ｃ  光出射側の面
１５ｄ  光入射側の面
１７  遮光膜
１９  遮光層
２１  粗面化層
２３  遮光膜の内縁
２７  レンズ母材
１００  撮像モジュール
１１０  レンズユニット
【図１】
0005807139.tif 000004
【図２】
0005807139.tif 000005
【図３】
0005807139.tif 000006
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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