(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザーを用いた回路形成方法において、
チオフェニール含有ジフェニレン誘導体を包含する感光材料を基板の上に塗布して感光材料層を形成する感光材料塗布ステップと、
該感光材料層を有する該基板をレーザー露光機中に置き、該感光材料層に対してパターン化の方式でレーザー露光し、該感光材料層に露光領域と未露光領域とを形成させるレーザー露光ステップと、
該露光領域と該未露光領域とを具えた基板を複数のナノ金属粒子を具えたナノ導電金属溶液中に入れ、これらナノ金属粒子を該露光領域に吸着させて金属回路を形成する金属回路形成ステップと、
を包含し、
該感光材料中の該チオフェニール含有ジフェニレン誘導体の分子構造が該露光領域でレーザー露光によりシス異性体からトランス異性体へと変化することを特徴とする、レーザーを用いた回路形成方法。
【請求項２】
請求項１記載のレーザーを用いた回路形成方法において、該感光材料の対応するレーザー波長は紫外光範囲内であることを特徴とする、レーザーを用いた回路形成方法。
【請求項３】
請求項１記載のレーザーを用いた回路形成方法において、該金属回路形成ステップ中にさらに洗浄ステップと加熱乾燥ステップを含むことを特徴とする、レーザーを用いた回路形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一種のレーザーを用いた回路形成方法に係り、特に、レーザーで感光材料に対してパターン化露光を行ない、露光後の感光材料にナノ金属粒子を吸着させて金属回路層を形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
周知の技術において基板上に回路を形成する印刷方法は、減除法と加成法があり、減除法は、リソグラフィー技術或いはマスク方式を用い、基板上の金属膜をエッチングして除去し、回路を形成し、さらに、ホトレジスト除去が必要であり、電気メッキ、ケミカルエッチング、洗浄などが必要であり、大量の化学廃液が発生する。これらの化学廃液は適当に処理してから排出されなければ、環境に対して厳重な汚染を発生する。加成法は、基板上の回路形成部分に直接銅或いは其の他の金属を、例えば蒸着、スパッタ或いは化学気相堆積などにより堆積させる。その機械のコストは比較的高く、工程条件及び環境要求は厳格で、機械の占用する空間は比較的大きく、このため製造コストが高く、且つ機械の状態が明かに製品の品質に影響を与え、厳密な管理が必要となる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、レーザー照射を利用して回路を形成する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の方法は、感光材料塗布ステップ、レーザー露光ステップ、及び金属回路形成ステップを包含する。感光材料塗布ステップにおいて、感光材料を基板の上に塗布して感光材料層を形成する。レーザー露光ステップにおいて、感光材料層を有する基板をレーザー露光機中に置き、感光材料層に対してパターン化の方式でレーザー露光する。本発明で使用する感光材料はＴＤＢ０１（チオフェニール含有ジフェニレン誘導体）を少なくとも包含し、その使用するレーザー波長範囲は紫外光の波長範囲にある。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の特徴は、レーザー照射の方式を利用し、感光材料に対してパターン化露光を行ない、露光後の感光材料の直線状の分子構造を以て、金属粒子を容易に吸着させられるようにして、金属回路層を形成する。レーザー光のハイパワー、高密度、高指向性及び単色性の長所により、有効に製品の品質を制御できる。このほか、露光後に形成される直線状の分子構造の感光材料により金属粒子を吸着することで、周知の技術において発生した大量の廃液を有効に減らすことができ、現代の環境保護の概念に一層符合する。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】本発明のレーザーを用いた回路形成方法のフローチャートである。
【図２Ａ】本発明のレーザーを用いた回路形成方法の構造表示図である。
【図２Ｂ】本発明のレーザーを用いた回路形成方法の構造表示図である。
【図２Ｃ】本発明のレーザーを用いた回路形成方法の構造表示図である。
【図２Ｄ】本発明のレーザーを用いた回路形成方法の構造表示図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
本発明の技術内容、構造特徴、達成する目的を詳細に説明するため、以下に実施例を挙げ並びに図面を組み合わせて説明する。
【０００８】
図１及び図２Ａから図２Ｄを参照されたい。これらはそれぞれ本発明のレーザーを用いた回路形成方法のフローチャート、及び本発明のレーザーを用いた回路形成方法の構造表示図である。図１に示されるように、本発明のレーザーを用いた回路形成方法Ｓ１は、感光材料塗布ステップＳ１１、レーザー露光ステップＳ１３、及び金属回路形成ステップＳ１５を包含する。
【０００９】
感光材料塗布ステップにおいて、図２Ａに示されるように、感光材料を基板１０の上に塗布して感光材料層２０を形成する。
【００１０】
レーザー露光ステップＳ１３において、感光材料層２０を有する基板１０をレーザー露光機中に置き、感光材料層２０に対してパターン化の方式でレーザー露光する。このパターン化露光により、感光材料層２０は図２Ｂに示されるように露光領域３１と未露光領域３３に変わる。露光領域３１の感光材料分子構造は直線状の構造へと改変させられており、未露光領域３３の感光材料分子構造は微湾曲状である。
【００１１】
金属回路形成ステップＳ１５において、図２Ｃと図２Ｄに示されるように、露光領域３１と未露光領域３３を具えた基板１０がナノ導電金属溶液４０中に入れられ、該ナノ導電金属溶液４０は複数のナノ金属粒子４５を包含する。露光領域３１の感光材料はその直線状の構造によりナノ金属粒子４５を容易に吸着し、これにより基板１０を取り出して洗浄、加熱乾燥のステップを終えた後、ナノ金属粒子４５は露光領域３１の感光材料に吸着しており、感光材料上に金属回路層３０を形成している。
【００１２】
本発明の使用する感光材料は、ＴＤＢ０１（チオフェニール含有ジフェニレン誘導体）を少なくとも包含し、その使用するレーザー波長範囲は紫外光の波長範囲にある。
【００１３】
本発明の特徴は、レーザー照射の方式で、を利用し、感光材料に対してパターン化露光を行ない、露光後の感光材料の直線状の分子構造を以て、金属粒子を容易に吸着させられるようにして、金属回路層を形成する。レーザー光のハイパワー、高密度、高指向性及び単色性の長所により、有効に製品の品質を制御できる。このほか、露光後に形成される直線状の分子構造の感光材料により金属粒子を吸着することで、周知の技術において発生した大量の廃液を有効に減らすことができ、現代の環境保護の概念に一層符合する。
【００１４】
以上述べたことは、本発明の実施例にすぎず、本発明の実施の範囲を限定するものではなく、本発明の特許請求の範囲に基づきなし得る同等の変化と修飾は、いずれも本発明の権利のカバーする範囲内に属するものとする。
【符号の説明】
【００１５】
１０  基板
２０  感光材料層
３１  露光領域
３３  未露光領域
４０  ナノ導電金属溶液
４５  ナノ金属粒子
５０  金属回路層
Ｓ１  レーザーを用いた回路形成方法
Ｓ１１  感光材料塗布ステップ
Ｓ１３  レーザー露光ステップ
Ｓ１５  金属回路形成ステップ
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
0005738568.tif 000005
【図２Ｄ】
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