(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスク用合成石英ガラス基板またはフォトマスクブランクの保管ケースの製造方法であって、
合成樹脂製部材を接合して形成したケースを用意することと、
ゲル状の媒体に活性炭が分散した吸着材を前記ケース内に設置し、所定時間放置することと、
前記吸着材を前記ケースから取り出すことと、
前記吸着材が取り出された前記ケースを洗浄することを含み、
前記吸着材を前記ケース内に設置および放置するとき、前記吸着材を前記ケース内の合成樹脂製部材の接合部分に接触させ、
前記吸着材を洗浄剤によって洗い流すことによって、前記吸着材が前記ケースから除去されつつ、前記ケースが洗浄されるフォトマスク用合成石英ガラス基板またはフォトマスクブランクの保管ケースの製造方法。
【請求項２】
前記洗浄剤が、アルコールである請求項１に記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板またはフォトマスクブランクの保管ケースの製造方法。
【請求項３】
前記ケースは、
底板を含む複数の板状の合成樹脂部材を接合して形成され、該底板と対向する上面が開口した箱体であって、前記フォトマスク用合成石英ガラス基板またはフォトマスクブランクを収納するケース本体と、
前記開口を覆ってケース本体に着脱可能に装着され、複数の板状の合成樹脂部材を接合して形成された蓋を備えるケースであって、
前記吸着材は、前記ケース内における、前記合成樹脂部材同士の接合部分の一部又は全部に接触させて設置される請求項１又は２に記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板またはフォトマスクブランクの保管ケースの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスク用合成石英ガラス基板またはフォトマスクブランクの保管ケースの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの高集積化が進むにつれ、フォトリソグラフィ工程での微細化に対する要求が高まってきている。フォトリソグラフィに用いるフォトマスクは、合成石英ガラス基板にクロム等からなる遮光性薄膜を成膜し、更にレジストを塗布した後、電子ビーム等での描画、現像、エッチング等の工程を経て製造される。描画前の合成石英ガラス基板に遮光膜が形成された状態のものをフォトマスクブランクという。
【０００３】
半導体デバイスにおける配線パターンの微細化に伴い、合成石英ガラス基板への遮光膜の成膜及びフォトマスクブランクへのレジスト塗布において、成膜ムラや塗布ムラを起こさない技術が求められている。このような要求から、合成石英ガラス基板及びフォトマスクブランク（以下、必要に応じて「基板等」と記す）についても、極めて高い清浄度が要求される。このため、基板等の保管は、基板等に異物等が付着するのを抑制し、出来るだけ高い清浄度に維持する必要がある。
【０００４】
ところで、基板等の保管ケースは、例えばポリアクリロニトリル等の樹脂板をアセトニトリル等の有機溶剤で溶かして接合することにより、すなわち、溶着により形成される。そして、保管ケースの樹脂材料由来のアウトガスの化学成分が、その中に保管される基板等の表面に吸着することが問題となる。溶着した樹脂板の接合部からのアウトガスは特に多い。
【０００５】
化学成分吸着の影響を防ぐ提案として、特許文献１〜３は活性炭を含むフィルターを装着したケースやそのフィルターの機構について開示している。これらによれば、ケース内外の気圧差を解消することにより、輸送時に生じる気圧差による外部環境からの汚染を防ぐことができる。一方、特許文献４では、有機物を除去するために保管ケース内に活性炭を配置している。また、特許文献５では、アウトガスの発生しない金属製の保管ケースが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−１５３２２１号公報
【特許文献２】特開２００４−１７９４４９号公報
【特許文献３】特開２００４−１９３２７２号公報
【特許文献４】特開２００９−５５００５号公報
【特許文献５】特開２００９−１７９５３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１〜３に開示される技術では、保管ケースの材質に起因する保管ケース内部のアウトガス対策としては不十分である。また、特許文献４では、活性炭の包材に合成樹脂系不織布を使用している。合成樹脂系不織布のガスの透過能力は低いため、特許文献４に開示される技術では化学成分を十分に吸着できない。また活性炭やその包材である合成樹脂系不織布からは、微小な塵が発生する。保管中の基板等の表面に塵等の微小異物が付着すると、固着して洗浄によって除去できなくなる。一方、特許文献５に開示される金属製の保管ケースではアウトガスは発生しないが、その金属光沢のために保管ケースが汚染されているか否かの目視判断が困難になり、保管ケースの汚染を見逃しやすい。汚染された保管ケースに基板等を保存すると、保存した基板等が汚染される可能性がある。したがって、金属製ケースよりも、汚染状態を目視判断し易い合成樹脂製の保管ケースの方が好ましい。
【０００８】
そこで、本発明は上記課題を解決するためになされたもので、フォトマスク用合成石英ガラス基板及びフォトマスクブランクの保管ケースの製造方法であって、合成樹脂製部材を接合して形成したケースを用いながら、基板等へ吸着するおそれのあるアウトガス成分が発生しにくい保管ケースの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の態様によれば、フォトマスク用合成石英ガラス基板またはフォトマスクブランクの保管ケースの製造方法であって、合成樹脂製部材を接合して形成したケースを用意することと、ゲル状の媒体に活性炭が分散した吸着材を前記ケース内に設置し、所定時間放置することと、前記吸着材を前記ケースから取り出すことと、前記吸着材が取り出された前記ケースを洗浄することを含み、前記吸着材を前記ケース内に設置および放置するとき、前記吸着材を前記ケース内の合成樹脂製部材の接合部分に接触させ、前記吸着材を洗浄剤によって洗い流すことによって、前記吸着材が前記ケースから除去されつつ、前記ケースが洗浄されるフォトマスク用合成石英ガラス基板またはフォトマスクブランクの保管ケースの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の態様の保管ケースの製造方法では、保管ケースに基板等を収納する前に、ゲル状の媒体に活性炭を分散させた吸着材を用いて合成樹脂製ケース由来のアウトガス成分を吸着除去しておくことにより、保管される基板等へのアウトガス成分の吸着を抑制できる。この結果、製造される保管ケースは、基板等を清浄な状態で保管でき、基板等への遮光膜の成膜ムラ及びレジスト塗布ムラを防止できる。また、ゲル状の媒体に活性炭を分散させた吸着材は、発塵が少ないため、塵等の微小異物の基板への付着も防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】参考形態及び実施形態のフォトマスク用合成石英ガラス基板の保管ケースの製造方法を説明するフローチャートである。
【図２】参考形態で用いた、内部に吸着材が設置されたケースの概略図である。
【図３】（ａ）及び（ｂ）は、参考形態で用いた、内部に吸着材が設置されたケースの断面図である。（ｃ）は、参考形態で用いた、内部に吸着材が設置されたケース本体の上面図である。
【図４】参考形態で用いたフォトマスク用合成石英ガラス基板及びその保管ケースの斜視図である。
【図５】実施形態で用いた、内部に吸着材が設置されたケースの概略図である。
【図６】（ａ）及び（ｂ）は、実施形態で用いた、内部に吸着材が設置されたケースの断面図である。（ｃ）は、実施形態で用いた、内部に吸着材が設置されたケース本体の上面図である。
【図７】参考例における、ケース作製時から経過した時間とケース内部のアウトガス発生量（濃度）との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
［参考形態］
本発明の参考形態として、図１に従ってフォトマスク用合成石英ガラス基板の保管ケースの製造方法(調製方法)を説明する。フォトマスク用合成石英ガラス基板とは、フォトリソグラフィの原盤となるフォトマスクを形成するための基板である。そして、フォトマスク用合成石英ガラス基板上にクロム等からなる遮光膜が形成されたものが、フォトマスクブランクである。本参考形態においては、フォトマスク用合成石英ガラス基板の保管ケースの製造方法について説明するが、同様の方法でフォトマスクブランクの保管ケースも製造可能である。
【００１３】
まず、フォトマスク用合成石英ガラス基板１０（以下、必要に応じて「基板１０」と記す）を保管するケース１を用意する（ステップ１）。図２から図４に示すように、本参考形態のケース１は、例えば、上面が開口した直方体の箱型形状を有し、矩形板状の基板１０を内部に収納する箱型のケース本体２と、ケース本体２の開口を覆ってケース本体２に着脱可能に装着される蓋３とから主に構成される。ケース本体２は、矩形の底板２１と、底板２１の長辺と連結し且つ互いに対向する一対の第１側壁２２と、底板２１の短辺と連結し且つ互いに対向する一対の第２側壁２３からなる。第２側壁２３は、互いに対向する一対の第１側壁２２同士を連結する。ケース１は、基板１０を略垂直に立てて保管する縦型ケースである。底板２１、第１側壁２２及び第２側壁２３について、ケース１の内側を形成する面をそれぞれの「内面」とし、ケース１の外側を形成する面をそれぞれの「外面」とする。基板１０の保管時において、第１側壁２２の内面は基板１０の表面と対向する。一方、第２側壁２３の内面は基板１０の端面と対向し、後述する支持部材２７を介して基板１０を保持する。
【００１４】
第１及び第２側壁２２及び２３の外面には、鍔２４が突出して設けられる。鍔２４は、第１及び第２側壁２２及び２３の４つの外面に亘ってケース本体２の外側を一周するように連結して設けられる。鍔２４より上面側（開口側）に位置するケース本体２の部分を嵌合部２５とする。
【００１５】
蓋３は、下面が開口した直方体の箱体であり、上板３１と、上板３１に連結し且つ互いに対向する２対の蓋側壁３２及び３３からなる。上板３１及び蓋側壁３２、３３について、ケース１の内側を形成する面をそれぞれの「内面」とし、ケース１の外側を形成する面をそれぞれの「外面」とする。蓋側壁３２及び３３の外面の下側端部（開口側の端部）は、外側に突出して鍔３４を形成する。鍔３４は、蓋側壁３２及び３３の４つの外面に亘って蓋３の外側を一周するように連結して設けられる。
【００１６】
図３に示すように、蓋３は、その下面の開口にケース本体２の嵌合部２５を嵌合させてケース本体２へ装着される。このとき、ケース本体２と蓋３の互いの鍔２４及び３４は接触する。ケース１の密閉性を高めるため、ケース本体２は鍔２４の内方縁に沿って環状の弾性部材２６を有している。
【００１７】
更に、第２側壁２３及び底板２１の内面には、基板１０の収納時に基板１０を支持する支持部材２７が設けられる。支持部材２７は、中央に凹部を有する棒状の部材で、第２側壁２３及び底板２１の長手方向にそって延在し、中央の凹部も支持部材２７の延在方向に沿って延在する。つまり、支持部材２７の延在方向と垂直な断面は凹形であり、この凹部に基板１０の端部を挟持して基板１０を支持する。また、蓋３の上板３１の内面には、チューブ３７が設けられ、チューブ３７は上板３１の長手方向に沿って延在する。蓋３をケース本体２に装着したとき、チューブ３７は基板１０の上部端面（蓋側の端面）に接触する。このように、基板１０は、蓋側のチューブ３７とケース本体側の支持体２７によって支持される。
【００１８】
ケース本体２、蓋３、支持体２７及びチューブ３７を構成する材料としては、例えばポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリメタアクリロニトリル（ＰＭＡＮ）、ポリアクリル酸メチル（ＰＭＡ）、ポリエチルメタクリレート（ＰＥＭＡ）等の樹脂、あるいはこれらの共重合体からなる合成樹脂から適宜選ばれる。このうち、ケース本体２及び蓋３の材質としては、ポリカーボネート（ＰＣ）又はポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）が、強度が強く、衝撃に強いため好ましく、支持体２７及びチューブ３７の材質としては、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）又はポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）が化学成分ガスの放出が少ないため好ましい。また、弾性部材２６としては、例えば、ポリオレフィンエラストマー、ポリエステルエラストマーを用いることができる。
【００１９】
ケース１は、公知の方法により溶剤や接着剤等を用いて、複数の板状の合成樹脂部材を接合して形成される。例えば、ポリアクリロニトリル等の樹脂板をアセトニトリル等の有機溶剤で溶かして溶着する。本参考形態のケース本体２においては、底板２１、一対の第１側壁２２及び一対第２の側壁２３の５枚の樹脂板からなるパーツを有機溶剤を用いて溶着してケース本体２を作製する。同様に、蓋体３は、上板３１と２対の蓋側壁３２及び３３の５枚の樹脂板からなるパーツを有機溶剤によって溶着して作製する。溶着に用いる溶剤は、ケースの材料に応じて適宜選択するが、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、アセトン等を用いることができる。
【００２０】
次に、用意したケース１内にゲル状の媒体に活性炭が分散した吸着材４を設置し、所定時間放置する（ステップＳ２）。本参考形態では、プラスチックケースに収納された市販の吸着材４を図２及び図３に示すように、ケース本体２の底板２１の内面上に１６個設置した。
【００２１】
上述のように、基板を保管するケースは、合成樹脂から形成されており、これに含まれる可塑剤、溶着に用いた溶剤または接着剤成分が、アウトガス成分としてケース内に発生する。特に、ケースの作製直後は、接合箇所から有機溶剤および溶解した合成樹脂成分のアウトガスが大量に発生する。合成石英ガラス基板の表面が、アウトガス成分の吸着により汚染されると表面に遮光膜を均一に成膜することができない。同様に、フォトマスクブランクの表面が、アウトガス成分で汚染されると、レジスト膜を均一に塗布できない。基板等の表面に吸着したアウトガス成分は、洗浄によっては取り除くことが出来ないため、表面への吸着を防止することが重要である。本参考形態では、ケース１に基板１０を収納する前にこのアウトガス成分を吸着除去し、アウトガス成分の基板１０への吸着を防ぐことができる。この結果、基板１０を清浄な状態で保管でき、基板１０への遮光膜の成膜ムラ及びレジストの塗布ムラを防止することができる。
【００２２】
更に、本発明に用いる吸着材４は、ゲル状の媒体に活性炭を分散させているので、活性炭からの発塵を防止できる。活性炭の包材も不要であり、包材からの発塵の心配もない。更に、本参考形態の吸着材４は、従来の活性炭を合成樹脂系不織布で包装した吸着材よりもアウトガスの吸着性能が高いことがわかった。この理由は、従来の吸着材に用いられている粒状の活性炭や繊維状の活性炭に比べ、吸着材に用いられる粉末活性炭の方が表面積が大きいためであると考えられる。
【００２３】
本参考形態のゲル状の媒体に活性炭が分散した吸着材４としては、市販されている吸着材を用いることができ、吸着材４は、プラスチック等のケースに収納された構成であってもよい。ゲル状の媒体は、水ベースのゲルが好ましく、ゲルを形成するためのゲル化剤としては、カラギーナン、ジェランガム、カンテン、ゼラチン、グアーガム、ペクチン、ローカストビーンガム、キサンタンガム、アルギン酸ソーダ、セルロース誘導体等公知のものが用いられる。また、ゲル中の各種添加剤として、例えば、分散剤としてのエチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類等や、ゲル強化剤としての塩化ナトリウム等のアルカリ金属塩や塩化カルシウム等のアルカリ土類金属塩、防腐剤としてクロロイソチアゾール等の四級アンモニウム塩、安息香酸ナトリウム等の安息香酸塩、紫外線吸収剤としてベンゾフェノン系化合物を必要に応じて配合していてもよい。    
【００２４】
本参考形態に用いる吸着材４は、ケース１内に放置されている間、いかなる成分も放出しないか、又は基板１０を汚染しない成分のみを放出する吸着材であることが好ましい。基板１０を汚染しない成分としては、水又は、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類がある。吸着材からの放出成分がケース１内に残留し、それによって基板１０が汚染されることを防止するためである。したがって、本参考形態の吸着材４は、基板１０を汚染する成分を含まないことが好ましい。
【００２５】
吸着材４の設置方法は特に問わないが、プラスチックケースに収納された構成の吸着材を用いる場合、プラスチックケースに収納したままの状態でケース１内に設置してよい。この場合、ゲル状の媒体が直接ケース１の内面に接触しないため、媒体成分がケース１に付着することを防止できる。一方、吸着材４を直接、ケース１内に設置してもよい。この場合、ケース１の内面に媒体成分が付着する可能性もあるが、後述する後工程の洗浄工程によって除去可能である。また、吸着材４は、治具を用いて設置しても良い。
【００２６】
尚、本参考形態では、１６個の吸着材４を用いたが、設置数はケース１の容積と吸収剤４のガス吸着能力の関係により適宜選定される。吸着材４の設置場所も、ケース１の内部であればよく、例えばケース本体２の底板２１の上であっての良いし、ケース内に予め設置場所を設けておき、その設置場所に設置してもよい。
【００２７】
吸着材４をケース１内に放置する時間は、ケースの大きさ、材質、製造方法等に起因するアウトガスの種類及び発生量、吸着材のアウトガスの吸着性能、量、個数等に基づいて任意に設定できるが、３週間以上であることが好ましい。吸着材４をケース１内に３週間以上放置することによって、ケース内のアウトガスは十分に吸着除去され、その後に保管ケースに保管される基板１０の表面へのアウトガスの吸着が抑制される。尚、吸着材４は、ケース１を密閉状態として放置することが好ましい。例えば、ケース本体２の底板２１の上に吸着材４を設置した後、ケース本体２に蓋３を装着してケース１を密閉した後、所定時間放置する。ケース１を密閉状態とすることで、効果的にケース１内に発生するアウトガスを吸着することができる。
【００２８】
ゲル状の媒体に活性炭が分散した吸着材４をケース１内に所定時間放置した後、吸着材４をケース１から取り出す（ステップＳ３）。吸着材４をケース１から取り出す方法は、特に限定されず、必要に応じて治具等を用いてもよい。ケース１の接合部からのアウトガスの発生量は、ケース作製直後が最も多く、その後、徐々に低下していく。したがって、ケースに基板１０を収納する前に、ケース内に吸着材１を所定時間放置してアウトガスを除去しておけば、その後はケース１から吸着材４を取り出してもケース内のアウトガスが基板１０に吸着するのを抑制できる。
【００２９】
このように、本参考形態では、ケース１に基板１０を収納する前に、ケース１０から吸着材４を取り出すので、ケース１内に吸着材４を設置した状態で基板１０を保管することはない。したがって、吸着材４由来の汚染物が基板１０に付着するのを抑制できる。例えば、基板１０をケース１に保管した状態で運搬する場合も考えられ、このような場合にケース内に吸着材４が存在すると、運搬による振動により吸着材４から汚染物質が発生する恐れもあるが、本参考形態ではそのような心配がない。更に、基板１０の運搬時にケース１内に吸着材４は存在しないので、吸着材４はケース１内部に固定する必要はなく、例えば底板上に静置するだけでよい。
【００３０】
吸着材４をケース１から取り出した後、ケース１を洗浄する（ステップＳ４）。これにより、吸着材４の設置及び取り出しにおいてケース１に侵入した異物又は吸着材４由来の汚染物が発生していたとしても、これらを除去し、ケース内を清浄な状態にすることができる。
【００３１】
以上の工程を経て、フォトマスク用合成石英ガラス基板の保管ケースが製造される。本参考形態の保管ケースは、基板等へ吸着するおそれのあるアウトガス成分が発生しにくく、吸着材由来の発塵も少ない。したがって、基板等を清浄な状態で保管できる。
【００３２】
［実施形態］
実施形態として、吸着材をケース内に設置および放置するとき（ステップＳ２）、吸着材をケース内の合成樹脂製部材の接合部分に接触させ、前記吸着材を洗浄剤によって洗い流すことによって、前記吸着材が前記ケースから除去されつつ(ステップＳ３)、前記ケースが洗浄される（ステップＳ４）保管ケースの製造方法(調製方法)について説明する。つまり、本実施形態では、吸着材をケースから取り出すこと（ステップＳ３）とケースを洗浄すること（ステップＳ４）を同時に行う。以下の説明において、参考形態と同一の部材には、同一の符号を用いるものとする。
【００３３】
まず、参考形態と同様に、合成樹脂製部材を接合したケース１を用意する（ステップＳ１）。次に、図５及び図６に示すように、ケース１内部における溶着箇所に、ゲル状の媒体に活性炭が分散した吸着材５を直接接触させる。具体的には、ケース本体２内部における底板２１、一対の第１側壁２２及び一対の第２側壁２３の接合箇所、蓋体３内部における上板３１、２対の蓋側壁３２及び３３の溶接箇所である。これら溶接箇所の一部又は全部に、ゲル状の吸着材５を塗布等により密着させる。その後、蓋３をケース本体２に装着し、ケース１を密閉した状態で所定時間放置する（ステップＳ２）。ケースの接合箇所からは溶接に用いた有機溶剤および溶解した合成樹脂成分のアウトガスが大量に発生する。本実施形態では、溶接部分に直接、吸着材５を接触させるため、効率的にアウトガスを吸着することができる。
【００３４】
吸着材５をケース１内に所定時間放置した後、吸着材５を洗浄剤によって洗い流すことによって、ケース１から取り出す（ステップＳ３）。この操作によって、同時に洗浄剤によりケース１を洗浄することができる（ステップＳ４）。洗浄剤としては、吸着材５をケース１から流しだすことが可能で、且つケース１を洗浄可能である種々の溶剤が使用可能であるが、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール等のアルコールが好ましく、特にエタノールが好ましい。
【００３５】
以上の工程を経て、フォトマスク用合成石英ガラス基板の保管ケースが製造される。本実施形態の保管ケースは、参考形態の保管ケースと同様の効果を奏することが出来る。更に、本実施形態では、吸着材５のケース１からの取り出し（ステップＳ３）とケース１の洗浄（ステップＳ４）を同時に実施できるので、製造工程の簡略化及び製造時間の短縮化を図ることができる。
【００３６】
参考形態及び実施形態において説明したケース１には、短辺３００ｍｍ以上、長辺４００ｍｍ以上の矩形板状体の基板を収納することができる。例えば基板サイズが短辺（ｍｍ）×長辺（ｍｍ）で、３３０×４５０、３７０×４５０、４２０×５２０、４２０×５３０、４３０×５３０、４４０×５２０、５００×７５０、５２０×６１０、５２０×８００、６２０×７２０、６５０×７５０、６５０×８００、７００×８００、８００×９２０、７００×１，１００、８００×９６０、８３０×９６０、８５０×１，０００、８３０×１，１９６、８５０×１，２００、８３０×１，３９６、８１０×１，３８０、８５０×１，４００、１，２２０×１，４００、１，６２０×１，７８０等のフォトマスク用合成石英ガラス基板である。
【００３７】
尚、参考形態及び実施形態において、基板を地面に対して略垂直な状態で立たせて保管する縦型ケースについて説明したが、ケースは、ケース内で基板を地面に対して略水平な状態に寝かせて保管する横型ケースであってもよい。更に、参考形態及び実施形態において、１枚の基板を保管するケースについて説明したが、ケースは、２枚又はそれ以上の複数枚の基板を保管するケースでもよい。
【実施例】
【００３８】
以下、参考例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の参考例に制限されるものではない。
【００３９】
［参考例］
まず、図２〜図４に示すケース１として、１６２０ｍｍ×１７８０ｍｍ×１７ｍｍの大きさの矩形板状のフォトマスク用合成石英ガラス基板１０、１枚を地面に対して略垂直な状態で立たせて保管する縦型ケースを用意した。基板１０を収納するケース１の内部空間の大きさは、約１８００ｍｍ×約２０００ｍｍ×約２３０ｍｍであった。本参考例のケース１のケース本体２及び蓋３は、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）の樹脂板をアセトニトリルによって溶着して形成されていた。また、支持部材２７及びチューブ３７の材質はポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、弾性部材２６の材質はポリオレフィンエラストマーであった。
【００４０】
次にケース１内部に吸着材４を１６個設置した。吸着材４は、ゲル状の媒体に活性炭及び備長炭が分散した吸着材をプラスチック容器に入れた構成のエステー株式会社製脱臭炭キッチン・流しの下用（５５ｇ）を用いた。吸着材は、底板２１の内面上であって、底板２１の長辺、短辺それぞれの長さを３等分に区切った線の交点上に４箇所および、その周辺に１２箇所の合計１６箇所に配置した。ケース本体２に蓋３を装着し、ケース１を密閉した後、３週間放置した。３週間後、ケース１から吸着材を取り出し、その後、ケース１を洗浄及び乾燥した。
【００４１】
以上の操作を施すことによって製造された保管ケースに、研磨、洗浄及び外観検査を行ったフォトマスク用合成石英ガラス基板１０を収納した。収納作業はクリーンルーム内で行った。フォトマスク用合成石英ガラス基板１０を保管ケース１に収納した状態で、クリーンルームではない温度２０〜３０度、湿度４０〜６０％の環境で３箇月間保管した。
【００４２】
３箇月間の保管後、保管ケース１から基板１０を取り出した。取り出した基板１０には、塵等の付着物は無かった。基板１０に対して、所定の手順に従って洗浄及びＣｒＯ膜の成膜を行い、フォトマスクブランクを作製した。基板１０には、成膜ムラの無いＣｒＯ膜が形成できた。
【００４３】
［アウトガス発生量の時間的変化］
ケース１内部のアウトガス発生量（濃度）について、ケース作製時からの時間的変化を評価した。この評価を行うために、本参考例に用いた上述の保管ケース１と同材質の試験用ケースを作製した。試験用ケースの作製から６０日後までの間に、それぞれ異なる日に５回、試験用ケース内の気体のサンプリングを行った。サンプリングした気体中のアセトニトリルの量を加熱脱離−ＧＣ／ＭＳ（ガスクロマトグラフィ／質量分析法）により測定し、アウトガス発生量とした。経過日数と試験用ケース内のアセトニトリルの発生量の関係を図７に示す。
【００４４】
［比較例１］
ケース１内部に吸着材４を設置しなかった以外は、参考例と同様の方法で、保管ケースを製造した。製造した保管ケースに、参考例と同様にフォトマスク用合成石英ガラス基板を保管した。
【００４５】
保管後、保管ケースから基板１を取り出し、参考例と同様にフォトマスクブランクを作製した。形成したＣｒＯ膜には成膜ムラが発生した。
【００４６】
［比較例２］
吸着材として合成樹脂系不織布で包んだ繊維状活性炭を用いた以外は、参考例と同様の方法で、保管ケースを製造した。製造した保管ケースに、参考例と同様にフォトマスク用合成石英ガラス基板を保管した。
【００４７】
保管後、ケースから基板を取り出した。取り出した基板には塵等の微小異物が多く付着していた。そのため、本比較例においては、この基板からのフォトマスクブランクの作製を中止した。基板に付着していた塵は、繊維状活性炭を合成樹脂系不織布で包んだ形態の吸着材に由来すると考えられる。
【００４８】
参考例と比較例１との比較から、以下のことがわかる。比較例１では、保管ケース由来の何らかのアウトガス成分が基板に吸着して基板の濡れ性が悪化した（疎水化した）ため、成膜ムラが発生したと考えられる。これに対し、参考例では、保管ケースに基板を収納する前に、ケース内のアウトガス成分を吸着除去し、アウトガス成分の基板への吸着を抑制できた。この結果、基板を清浄な状態で保管でき、ＣｒＯ膜の成膜ムラを防止することができた。
【００４９】
図７から、ケース内のアウトガス（アセトニトリル）の発生量は、ケース作製直後が最も多く、その後、日を追って低下し、ケース作製から２１日目以降は、ほぼ一定となることがわかる。参考例では、ケース作製直後に多く発生するアウトガスを基板１０の保管前に吸着材により十分に吸着除去するで、その後に保管される基板１０の表面へのアウトガスの吸着が抑制されると考えられる。
【００５０】
参考例と比較例２との比較から、参考例で用いたゲル状の媒体に活性炭を分散した吸着材は発塵が無いか、あっても極めて少ないため、参考例の保管ケースは基板を清浄な状態で保管できることがわかった。
【符号の説明】
【００５１】
１    ケース（保管ケース）
２    ケース本体
３    蓋
４、５  吸着材
１０  フォトマスク用合成石英ガラス基板
２１  底板
２２  第１側壁
２３  第２側壁
２４  鍔
２５  嵌合部
２６  弾性部材
２７  支持部材
３１  上板
３２、３３  蓋側壁
３４  鍔
３７  チューブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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