(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
トリアセチルセルロース基材と、前記トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層とを有する光学積層体であって、
前記低屈折率層側表面の耐スチールウール性が、前記トリアセチルセルロース基材の耐スチールウール性と同じか又はより高く、
前記低屈折率層は、中空状シリカ、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂及び溶剤を含有する低屈折率層用組成物を用いて形成される
ことを特徴とする光学積層体。
【請求項２】
溶剤は、メチルイソブチルケトン及び／又はｔ−ブタノールである請求項１記載の光学積層体。
【請求項３】
アクリル系樹脂は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、及び、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの二量体からなる群より選択される少なくとも１種を含有する請求項１又は２記載の光学積層体。
【請求項４】
トリアセチルセルロース基材と、前記トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層とを有する光学積層体であって、
反射率Ｙ値が０．６〜１．０％であり、
前記低屈折率層は、中空状シリカ、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂及び溶剤を含有する低屈折率層用組成物を用いて形成される
ことを特徴とする光学積層体。
【請求項５】
画像表示装置の前面に取り付ける前面板であって、基板の一方の表面に粘着剤層を介して反射防止フィルムを備え、前記基板の他方の表面に粘着剤層を介して請求項１、２、３又は４記載の光学積層体を備えたことを特徴とする前面板。
【請求項６】
反射防止フィルムが最表面となるように請求項５記載の前面板を備えたことを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体、前面板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等において、高級感を持たせる等のために、ディスプレイの前面に、ガラス基板等を貼り合わせた前面板が設置されたものが知られている。前面板には、ガラス基板等の両面もしくは片面に、光の散乱や干渉によって反射を防止するための光学積層体が貼合されている。
【０００３】
このような光学積層体としては、トリアセチルセルロースからなる基材上に、ハードコート層及び低屈折率層を有するものが従来より知られている。上記ハードコート層は、光学フィルムに強度を与える層である。
一方、上記低屈折率層は、上記基材やハードコート層よりも屈折率が低い層であり、主に光の反射を防止するための層である（特許文献１〜３）。上記低屈折率層は、一般に、中空シリカやフッ素系樹脂等の屈折率が低い材料を添加して形成される。
【０００４】
ところで、このような光学積層体において、近年、製造コスト低減のため、製造工程の簡便化が試みられている。製造工程を簡便化する方法として、例えば、トリアセチルセルロース基材の上に直接、低屈折率層を形成する方法等が考えられる。
しかしながら、従来の低屈折率層をトリアセチルセルロース基材上に直接形成すると、該低屈折率層の膜強度が低くなり、耐擦傷性が低下するという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−００６１０３号公報
【特許文献２】特開２００６−２９３２７８号公報
【特許文献３】特開２００７−２６４２７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記現状に鑑み、優れた膜強度と耐擦傷性とを有し、製造工程を簡便化でき、製造コストを低減化できる光学積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、トリアセチルセルロース基材と、上記トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層とを有する光学積層体であって、上記低屈折率層側表面の耐スチールウール性が、上記トリアセチルセルロース基材の耐スチールウール性と同じか又はより高く、上記低屈折率層は、中空状シリカ、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂及び溶剤を含有する低屈折率層用組成物を用いて形成されることを特徴とする光学積層体に関する。
上記溶剤は、メチルイソブチルケトン及び／又はｔ−ブタノールであることが好ましい。
上記アクリル系樹脂は、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、及び、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの二量体からなる群より選択される少なくとも１種を含有することが好ましい。
【０００８】
本発明はまた、トリアセチルセルロース基材と、上記トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層とを有する光学積層体であって、反射率Ｙ値が０．６〜１．０％であり、上記低屈折率層は、中空状シリカ、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂及び溶剤を含有する低屈折率層用組成物を用いて形成されることを特徴とする光学積層体に関する。
本発明はまた、画像表示装置の前面に取り付ける前面板であって、基板の一方の表面に粘着剤層を介して反射防止フィルムを備え、上記基板の他方の表面に粘着剤層を介して上述の光学積層体を備えたことを特徴とする前面板に関する。
本発明はまた、上記反射防止フィルムが最表面となるように上述の前面板を備えたことを特徴とする画像表示装置に関する。
以下、本発明を詳細に説明する。
【０００９】
第一の本発明は、トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層を有する光学積層体であって、上記低屈折率層の表面が特定の物性値を有するものである。このため、第一の本発明の光学積層体は、優れた膜強度及び耐擦傷性を有する。
【００１０】
（トリアセチルセルロース基材）
第一の本発明の光学積層体は、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材を有する。
トリアセチルセルロース基材は、光学的に異方性がなく、また、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れる基材である。
【００１１】
上記トリアセチルセルロース基材の厚さとしては、２０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは上限が２００μｍであり、下限が３０μｍである。
【００１２】
（低屈折率層）
第一の本発明の光学積層体は、上記トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層を有する。
上記低屈折率層は、第一の本発明の光学積層体を構成するトリアセチルセルロース基材の屈折率よりも低い屈折率を有する層であり、通常、屈折率が１．５未満であり、より好ましくは１．４５以下、更に好ましくは１．３５以下の層である。
【００１３】
上記低屈折率層は、中空状シリカ、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂及び溶剤を含有する低屈折率層用組成物を用いて形成されたものであることが好ましい。なお、本明細書においては、以下、フッ素系樹脂とアクリル系樹脂とを合わせてバインダー樹脂ともいう。また、本明細書において、「樹脂」は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。
【００１４】
上記中空状シリカ微粒子は、低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げる役割を果たすものである。なお、本明細書において、「中空状シリカ微粒子」とは、内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体であり、シリカ微粒子本来の屈折率に比べて気体の占有率に反比例して屈折率が低下するシリカ微粒子を意味する。
また、本発明においては、シリカ微粒子の形態、構造、凝集状態、上記低屈折率層用組成物を用いてなる塗膜の内部での分散状態により、内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能なシリカ微粒子も含まれる。
【００１５】
上記中空状シリカ微粒子の具体例としては特に限定されず、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましく挙げられる。中空状シリカ微粒子は、製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、有機系バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率が低くなるよう調整することが可能となる。
【００１６】
上記塗膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能なシリカ微粒子としては上述のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され使用される、充填用のカラム、表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる吸着剤、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、又は、断熱材若しくは低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体若しくは凝集体が挙げられる。そのような具体例としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業社製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）が挙げられる。これらの中から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。
【００１７】
上記中空状シリカ微粒子の平均粒子径としては、５〜３００ｎｍであることが好ましい。中空状シリカ微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することができる。より好ましい下限は８ｎｍ、より好ましい上限は１００ｎｍ、更に好ましい下限は１０ｎｍ、更に好ましい上限は８０ｎｍである。
【００１８】
上記低屈折率層用組成物において、上記中空状シリカ微粒子の含有量としては特に限定されないが、バインダー樹脂固形分１００質量部に対して、２００質量部以下であることが好ましい。２００質量部を超えると、形成する低屈折率層を充分に低屈折率とすることができないばかりでなく、強度が不充分となることがある。より好ましい下限は１０質量部、より好ましい上限は１６５質量部である。
【００１９】
上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を挙げることができる。上記重合性化合物としては、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基（電離放射線硬化性基）や熱で硬化する極性基（熱硬化極性基）等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。
【００２０】
フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールなど）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。
【００２１】
フッ素原子を含有する熱硬化性極性基を有する重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品等を例示することができる。上記熱硬化性極性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基が好ましく挙げられる。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカ等の無機超微粒子との親和性にも優れている。
【００２２】
電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類、完全または部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
【００２３】
フッ素原子を含有する上記重合性化合物の重合体としては、例えば、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体；等が挙げられる。
【００２４】
また、これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も、上記重合性化合物の重合体として用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示できる。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
【００２５】
上記したほか、さらには、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオール等のフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物；なども、フッ素系樹脂として用いることができる。
【００２６】
上記フッ素系樹脂は、一般的に市販されているものであってもよい。
なかでも、上記フッ素系樹脂の市販品としては、低屈折率層の屈折率を小さくし、かつ、耐擦傷性を高めることができる点で、例えば、ＴＵ２２２４（ＪＳＲ社製）、ＡＲ１１０（ダイキン社製）、ＬＩＮＣ３Ａ（共栄社化学社製）が好ましい。
【００２７】
上記アクリル系樹脂としては、例えば、１又は２以上の不飽和結合を有するアクリル系化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有するアクリル系化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有するアクリル系化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物、又は、上記多官能化合物と（メタ）アクリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、又は、上記多官能化合物の二量体等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
また、上記アクリル系樹脂として、ウレタンアクリレート、エステルアクリレート、エポキシアクリレート、エーテルアクリレート等の変性した（メタ）アクリルアクリレート等の多官能を有するものを挙げることができる。
【００２８】
なかでも、耐擦傷性に優れ、透明性に優れる点で、上記アクリル系樹脂として、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、及び、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの二量体からなる群より選択される少なくとも１種を含有することがより好ましい。
【００２９】
上記低屈折率層用組成物において、上記フッ素系樹脂と上記アクリル系樹脂との合計含有量は、上記低屈折率層用組成物の固形分中３０〜９０質量％であることが好ましい。３０質量％未満であると、耐擦傷性が低下するおそれがある。９０質量％を超えると、反射率が上がるおそれがある。上記合計含有量は、固形分で３５〜５０質量％であることがより好ましい。
【００３０】
上記低屈折率層用組成物において、上記フッ素系樹脂と上記アクリル系樹脂との含有比は、固形分質量で２０／８０〜９０／１０であることが好ましい。
上記フッ素系樹脂の割合が、上記範囲未満であると、屈折率を充分に低くすることができないおそれがあり、上記範囲を超えると、耐擦傷性が低下するおそれがある。
上記含有比は、２０／８０〜８５／１５であることがより好ましい。
【００３１】
上記溶剤としては、上記トリアセチルセルロース基材に浸透しにくく、かつ、沸点が低く乾燥が容易な溶剤が好ましい。上記溶剤の沸点としては、１２０℃以下であることが好ましい。
具体的に、上記溶剤としては、例えば、メチルイソブチルケトン等の比較的高分子量で且つトリアセチルセルロース基材に浸透しにくい溶剤、及び、ｔ−ブタノール、ＩＰＡ等のアルコール系溶剤が好ましい。
なかでも、上記溶剤としては、メチルイソブチルケトン及び／又はｔ−ブタノールであることがより好ましい。
【００３２】
上記低屈折率層用組成物は、上述した中空状シリカ、フッ素系樹脂及びアクリル系樹脂以外に、他の成分を含有していてもよい。上記他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、屈折率調製剤、帯電防止剤、防汚剤等を挙げることができる。これらは、公知のものを使用するとよい。
【００３３】
上記低屈折率層用組成物は、固形分が２〜４．５質量％であることが好ましい。上記固形分が２質量％未満であると、乾燥が遅くなり、トリアセチルセルロース基材に溶剤が浸透してしまうおそれがある。４．５質量％を超えると、膜面の異常が発生するおそれがある。上記固形分は、２．５〜３質量％であることがより好ましい。
【００３４】
上記低屈折率層用組成物は、上記中空状シリカ、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂及び必要に応じて他の成分を上記溶剤に混合分散して調製するとよい。
上記混合分散する方法としては、特に限定されず、公知の方法が挙げられ、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。
【００３５】
上記低屈折率層の形成は、上記低屈折率層用組成物をトリアセチルセルロース基材上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて乾燥し、該塗膜を硬化させることにより行うことができる。
上記塗布の方法としては、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の公知の各種方法を挙げることができる。
【００３６】
上記塗膜を硬化させる方法は、特に限定されず、公知の方法であればよく、例えば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させる方法が挙げられる。
【００３７】
上記低屈折率層の膜厚（ｎｍ）ｄＡは、下記式（Ｉ）：
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ）    （Ｉ）
（上記式中、ｎＡは低屈折率層の屈折率を表し、ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。
【００３８】
また、本発明にあっては、上記低屈折率層は下記数式（ＩＩ）：
１２０＜ｎＡｄＡ＜１４５        （ＩＩ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
【００３９】
第一の本発明の光学積層体では、このような上述した低屈折率層用組成物を用いて低屈折率層を形成する。
ここで、従来の、低屈折率剤及びバインダー樹脂を含有する低屈折率層用組成物を用いて、トリアセチルセルロース基材上に直接低屈折率層を形成すると、膜強度や耐擦傷性が低いものしか得られなかった。これは、トリアセチルセルロース基材が、溶剤、バインダー樹脂を浸透させやすい材料であるため、トリアセチルセルロース基材中に、低屈折率層用組成物中のバインダー樹脂が浸透してしまったからであると考えられる。
本発明においては、上述した特定の成分からなる低屈折率層用組成物を用いるため、該低屈折率層用組成物中のバインダー樹脂の浸透を抑制することができ、トリアセチルセルロース基材上に、他の層を介さず、直接、優れた膜強度及び耐擦傷性を有する低屈折率層を好適に形成することができるのである。その結果、光学積層体の製造工程を簡素化し、製造コストを低減することができる。
【００４０】
すなわち、第一の本発明の光学積層体は、低屈折率層用組成物がトリアセチルセルロース基材に浸透して形成された浸透層を有さないことが好ましい。上記浸透層は、上記低屈折率層用組成物に含まれるアクリル系樹脂又は溶剤がトリアセチルセルロース基材に浸透して形成された層である。
上記浸透層の有無は、光学積層体の断面をＳＥＭ等の顕微鏡観察により観察することができる。
【００４１】
第一の本発明の光学積層体は、上述したトリアセチルセルロース基材及び低屈折率層の他に、他の任意の層を有していてもよい。上記任意の層としては、防汚層等を挙げることができる。これらは低屈折率層上に形成される。上記防汚層は、例えば、公知の防汚剤等と樹脂及び溶剤等とを混合して、公知の方法により形成することができる。
【００４２】
上述の構成からなる第一の本発明の光学積層体は、上記低屈折率層側表面の耐スチールウール性が、上記トリアセチルセルロース基材の耐スチールウール性と同じか又はより高い。
上記低屈折率層表面の耐スチールウール性が、上記トリアセチルセルロース基材の耐スチールウール性より低いと、所望の耐擦傷性を有する光学積層体を得ることができない。
なお、上記耐スチールウール性は、低屈折率層とトリアセチルセルロース基材の表面を、＃００００番のスチールウールを用いて、摩擦荷重５０ｇ／ｃｍ２で所定の回数、往復摩擦した後に、表面に観察される傷の数により評価する。例えば、同一回数の往復摩擦において、傷の数がより多いと、上記耐スチールウール性が低いと定義する。
【００４３】
第一の本発明の光学積層体は、全光線透過率が９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、本発明の光学積層体を画像表示装置の表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、９５％以上であることがより好ましく、９８％以上であることが更に好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ  Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。
【００４４】
第一の本発明の光学積層体は、ヘイズが１．０％以下であることが好ましい。１．０％を超えると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある他、所望のコントラストが得られないおそれがある。上記ヘイズは、０．１〜０．６％であることがより好ましい。
上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ  Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定することができる。
【００４５】
第二の本発明は、トリアセチルセルロース基材と、上記トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層とを有する光学積層体であって、反射率Ｙ値が０．６〜１．０％であることを特徴とする光学積層体である。
第二の本発明の光学積層体は、上述した特定の範囲の反射率Ｙ値を有するため、優れた反射防止性能を有する。また、そのような光学積層体を、トリアセチルセルロース基材上に低屈折率層を一層有するだけで得られるため、製造工程を簡略化し、製造コストを削減することができる。
上記反射率Ｙ値が０．６％未満であると、耐擦傷性が低下したり、乾燥ムラなどの外観不良が発生しやすくなる。１．０％を超えると、透過率が低下したり、映り込み防止が不十分であったりする。
上記反射率Ｙ値は、分光器「ＭＰＣ−３１００ＰＣ」島津分光製を使用して、５度反射測定法にて測定することにより得ることができる。
【００４６】
第二の本発明の光学積層体におけるトリアセチルセルロース基材としては、上述した第一の本発明の光学積層体において使用するトリアセチルセルロース基材と同様のものを挙げることができる。
【００４７】
第二の本発明の光学積層体における低屈折率層としては、上述した第一の本発明の光学積層体の低屈折率層と同様のものを挙げることができる。
上記低屈折率層は、上述した第一の本発明の光学積層体の低屈折率層の材料及び形成の方法と同様の材料及び方法により形成することができる。
【００４８】
第二の本発明の光学積層体は、全光線透過率及びヘイズが、上述した第一の本発明の光学積層体の全光線透過率及びヘイズを有することが好ましい。
第二の本発明の光学積層体は、上述した第一の本発明の光学積層体と同様の方法で、形成することができる。
【００４９】
上記第一及び第二の本発明の光学積層体は、基板の一方の表面に粘着剤層を介して反射防止フィルムを備え、上記基板の他方の表面に粘着剤層を介して上述の本発明の光学積層体を備えることにより、画像表示装置の前面に取り付ける前面板とすることができる。
そのような前面板も本発明の一つである。
【００５０】
上記基板としては、ガラス基板又はアクリル基板を挙げることができる。
上記基板の厚みは、０．１〜５ｍｍであることが好ましく、０．５〜３ｍｍであることがより好ましい。
上記粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ウレタン粘着剤、シリコーン系粘着剤、又は、水系粘着剤等を公知のものを挙げることができる。
粘着剤層の厚みは、２５〜３０μｍであることが好ましい。
【００５１】
上記反射防止フィルムとしては、公知の反射防止性能や防眩性を有する光学フィルムであれは、特に限定されないが、光透過性基材、ハードコート層及び低屈折率層を有する反射防止フィルムであることが好ましい。
上記光透過性基材、ハードコート層及び低屈折率層は、公知の材料及び形成方法を用いて得ることができる。
なお、上記反射防止フィルム及び本発明の光学積層体を上記基板に貼り合わせる際、それぞれの基材側を粘着剤層を介して基板に貼り合わせる。
【００５２】
本発明の前面板の断面模式図を一例を図１に示す。
図１に示す前面板は、画像表示装置側から順に、上述した本発明の光学積層体１、粘着剤層２、基板３、粘着剤層２、及び、反射防止フィルム４で構成される。
上記前面板を、上記反射防止フィルムを視認側となるように画像表示装置に設置することにより、光透過率が高く、二重像が発生せず、優れた反射防止性能を有する画像表示装置とすることができる。
上記前面板の設置方法は公知の方法を用いるとよい。
【００５３】
上記画像表示装置としては、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等の非自発光型画像表示装置や、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置を挙げることができる。
このような上記前面板を備えた画像表示装置もまた本発明の一つである。
【００５４】
本発明の光学積層体は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ等の高精細画像用ディスプレイの前面板裏面に好適に使用することができる。
【発明の効果】
【００５５】
本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、膜強度及び耐擦傷性に優れるものである。
このため、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等のディスプレイ、特に高精細化ディスプレイに好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の光学積層体を備えた前面板の断面模式図の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００５７】
以下に実施例及び比較例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例及び比較例のみに限定されるものではない。
なお、文中、「部」又は「％」とあるのは特に断りのない限り、質量基準である。
【００５８】
（実施例１）
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材（厚み８０μｍ、富士フィルム社製ＴＤ８０ＵＬ）を準備し、該ＴＡＣ基材の片面に、下記に示した組成で調製した低屈折率層用組成物１を、塗工厚み０．１μｍ（乾燥後）となるように塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜を温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、塗膜に紫外線を照射線量が１００ｍｊになるよう照射して塗膜を硬化させることにより、低屈折率層を形成し、実施例１の光学積層体を得た。
＜低屈折率層用組成物１＞
中空状シリカ（平均一次粒径６０ｎｍ、スルーリア４３２０（商品名）、触媒化成社製）
１．６質量部
フッ素系樹脂（ＴＵ２２２４（商品名）、ＪＳＲ社製）                  １．０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ０．３質量部
イルガキュア１２７：チバジャパン社製                                ０．１質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）                                ９７．０質量部
【００５９】
（実施例２）
実施例１において、低屈折率層用組成物１の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物２を用いた点以外は、実施例１と同様にして、実施例２の光学積層体を得た。
＜低屈折率層用組成物２＞
中空状シリカ（平均一次粒径６０ｎｍ、スルーリア４３２０（商品名）、触媒化成社製）
１．６質量部
フッ素系樹脂（ＴＵ２２２４（商品名）、ＪＳＲ社製）                  １．１質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ０．２質量部
イルガキュア１２７：チバジャパン社製                                ０．１質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）                                ９７．０質量部
【００６０】
（実施例３）
実施例１において、低屈折率層用組成物１の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物３を用いた点以外は、実施例１と同様にして、実施例３の光学積層体を得た。
＜低屈折率層用組成物３＞
中空状シリカ（平均一次粒径６０ｎｍ、スルーリア４３２０（商品名）、触媒化成社製）
１．６質量部
フッ素系樹脂（ＴＵ２２２４（商品名）、ＪＳＲ社製）                  ０．８質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ０．５質量部
イルガキュア１２７：チバジャパン社製                                ０．１質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）                                ９７．０質量部
【００６１】
（実施例４）
実施例１において、低屈折率層用組成物１の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物４を用いた点以外は、実施例１と同様にして、実施例４の光学積層体を得た。
＜低屈折率層用組成物４＞
中空状シリカ（平均一次粒径６０ｎｍ、スルーリア４３２０（商品名）、触媒化成社製）
１．５質量部
フッ素系樹脂（ＴＵ２２２４（商品名）、ＪＳＲ社製）                １．０５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                          ０．３５質量部
イルガキュア１２７：チバジャパン社製                                ０．１質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）                                ９７．０質量部
【００６２】
（実施例５）
実施例１において、低屈折率層用組成物１の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物５を用いた点以外は、実施例１と同様にして、実施例５の光学積層体を得た。
＜低屈折率層用組成物５＞
中空状シリカ（平均一次粒径６０ｎｍ、スルーリア４３２０（商品名）、触媒化成社製）
１．６質量部
フッ素系樹脂（ＴＵ２２２４（商品名）、ＪＳＲ社製）                  １．０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ０．３質量部
イルガキュア１２７：チバジャパン社製                                ０．１質量部
ｔ−ブタノール                                                    ９７．０質量部
【００６３】
（実施例６）
実施例１において、低屈折率層用組成物１の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物６を用いた点以外は、実施例１と同様にして、実施例６の光学積層体を得た。
＜低屈折率層用組成物６＞
中空状シリカ（平均一次粒径６０ｎｍ、スルーリア４３２０（商品名）、触媒化成社製）
１．６質量部
フッ素系樹脂（ＴＵ２２２４（商品名）、ＪＳＲ社製）                  １．０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート二量体                      ０．３質量部
イルガキュア１２７：チバジャパン社製                                ０．１質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）                                ９７．０質量部
【００６４】
（実施例７）
実施例１において、低屈折率層用組成物１の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物７を用いた点以外は、実施例１と同様にして、実施例７の光学積層体を得た。
＜低屈折率層用組成物７＞
中空状シリカ（平均一次粒径６０ｎｍ、スルーリア４３２０（商品名）、触媒化成社製）
１．７質量部
フッ素系樹脂（ＴＵ２２２４（商品名）、ＪＳＲ社製）                ０．９５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                          ０．２５質量部
イルガキュア１２７：チバジャパン社製                                ０．１質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）                                ９７．０質量部
【００６５】
（比較例１）
実施例１において、低屈折率層用組成物１の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物８を用いた点以外は、実施例１と同様にして、比較例１の光学積層体を得た。
＜低屈折率層用組成物８＞
中空状シリカ（平均一次粒径６０ｎｍ、スルーリア４３２０（商品名）、触媒化成社製）
１．６質量部
フッ素系樹脂（ＴＵ２２２４（商品名）、ＪＳＲ社製）                  １．０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ０．３質量部
イルガキュア１２７：チバジャパン社製                                ０．１質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）                                      ９７．０質量部
【００６６】
（比較例２）
実施例１において、低屈折率層用組成物１の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物９を用いた点以外は、実施例１と同様にして、比較例２の光学積層体を得た。
＜低屈折率層用組成物９＞
中空状シリカ（平均一次粒径６０ｎｍ、スルーリア４３２０（商品名）、触媒化成社製）
１．６質量部
フッ素系樹脂（ＴＵ２２２４（商品名）、ＪＳＲ社製）                  １．０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ０．３質量部
イルガキュア１２７：チバジャパン社製                                ０．１質量部
ポリグリシジルメタクリレート（ＰＧＭＡ）                          ９７．０質量部
【００６７】
（比較例３）
実施例１において、低屈折率層用組成物１の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物１０を用いた点以外は、実施例１と同様にして、比較例３の光学積層体を得た。
＜低屈折率層用組成物１０＞
中空状シリカ（平均一次粒径６０ｎｍ、スルーリア４３２０（商品名）、触媒化成社製）
１．６質量部
フッ素系樹脂（ＴＵ２２２４（商品名）、ＪＳＲ社製）                  １．０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ０．３質量部
イルガキュア１２７：チバジャパン社製                                ０．１質量部
酢酸ｎプロピル                                                    ９７．０質量部
【００６８】
得られた各光学積層体について、下記の項目について評価した。評価結果を表１に示す。
＜耐スチールウール（ＳＷ）性＞
光学積層体の低屈折率層表面を、＃００００番のスチールウールを用いて、摩擦荷重５０ｇ／ｃｍ２で往復摩擦し、表面に傷が入り始めた往復回数と、目視観察によるその傷の様子とについて、トリアセチルセルロース基材表面にて同様に往復摩擦した場合と比較し、下記の基準にて評価した。
○：トリアセチルセルロール基材と同等又は傷が少なかった。
×：トリアセチルセルロース基材よりも傷が入りやすかった。
【００６９】
＜爪スクラッチ＞
人差し指の爪を低屈折率層表面に対して垂直に立て、荷重５００〜６００ｇ、速度１往復／１秒で横方向に１０往復した後の表面の様子について目視観察を行い、下記の基準にて評価した。
○：傷なし。
×：傷あり。
【００７０】
＜反射率Ｙ値＞
各光学積層体の反射率Ｙ値について、分光器「ＭＰＣ−３１００ＰＣ」島津分光社製を使用して、５度反射測定法にて測定した。
【００７１】
＜ヘイズ＞
各光学積層体のヘイズについて、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ  Ｋ−７１３６（ヘイズ）に準拠した方法により測定した。
【００７２】
【表１】
0005678544.tif 000002
【００７３】
表１より、実施例の光学積層体は、耐擦傷性、反射防止性、ヘイズのいずれの項目においても良好であった。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明の光学積層体は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の高精細化ディスプレイに好適に使用することができ、特にこれらのディスプレイの前面板として好適に使用することができる。
【符号の説明】
【００７５】
１  本発明の光学積層体
２  粘着剤層
３  基板  
４  反射防止フィルム
【図１】
0005678544.tif 000003