(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも沸点が３００℃以下のフッ素含有エーテル又はフッ素含有エステルのいずれかを０．１〜５０質量％含有し、一般式（２）
【化１】
0005678676.tif 000085
（式中、Ｐは反応性官能基を表し、Ｓｐは炭素原子数１〜２０のスペーサー基を表し、ｍは０又は１を表し、ＭＧはメソゲン基又はメソゲン性支持基を表し、Ｒ1は、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２０のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ2基又は隣接していない２つ以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良く、あるいはＲ1は一般式（２−ａ）
【化２】
0005678676.tif 000086
（式中、Ｐは反応性官能基を表し、Ｓｐは炭素原子数１〜２０のスペーサー基を表し、ｍは０又は１を表す。）で表される構造を表す。）で表される化合物を含有することを特徴とする重合性液晶組成物及び有機溶媒を含有する重合性組成物。
【請求項２】
一般式（１）
【化３】
0005678676.tif 000087
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基中の水素原子は１つ以上のハロゲン原子で置換されていても良い。）で表される重量平均分子量が２００〜１００００００である化合物を含有する請求項１記載の重合性組成物。
【請求項３】
一般式（２）において、Ｓｐがアルキレン基を表し、（該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ2基又は隣接していない２つ以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良い。）ＭＧが一般式（２−ｂ）
【化４】
0005678676.tif 000088
（式中、Ａ１、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、
ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ3、ＯＣＦ3、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基又はアルケノイルオキシ基を有していても良く、Ｚ０、Ｚ１、Ｚ２及びＺ３はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＯＣＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−又は単結合を表し、ｎは０、１又は２を表す。）で表される請求項１又は請求項２記載の重合性組成物。
【請求項４】
一般式（２）において、Ｐが一般式（２−ｃ）、一般式（２−ｄ）及び一般式（２−ｅ）
【化５】
0005678676.tif 000089
（式中、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ41、Ｒ42及びＲ43はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、ｎは０又は１を表す。）で表される置換基からなる群より選ばれる置換基を表す、請求項１〜３のいずれか一項に記載の重合性組成物。
【請求項５】
一般式（２）で表される化合物を少なくとも２つ以上含有する請求項１記載の重合性組成物。
【請求項６】
一般式（３）
【化６】
0005678676.tif 000090
（式中、ｍは０又は１を表し、Ｗ1及びＷ2はそれぞれ独立的に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立的に−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、ｒ及びｓはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有する請求項４〜５記載の重合性組成物。
【請求項７】
一般式（４）
【化７】
0005678676.tif 000091
（式中、Ｚ1は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｚ2は水素原子又はメチル基を表し、tは０又は1を表し、Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、隣接しないＣＨ基が窒素で置換された１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのＣＨ2基が酸素又は硫黄原子で置換された１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、１，４−ナフチレン基を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Ｙ3及びＹ4はそれぞれ独立的に単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−又はーＯＣＯＣＨ2ＣＨ2-を表し、Ｙ5は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−を表す。）で表される化合物を含有する請求項４〜６のいずれか一項に記載の重合性組成物。
【請求項８】
一般式（５）
【化８】
0005678676.tif 000092
（式中、Ｚ3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｚ4は水素原子又はメチル基を表し、Ｗ3は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、vは２〜１８の整数を表し、ｕは０又は１を表し、Ｄ、Ｅ及びＦはそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、隣接しないＣＨ基が窒素で置換された１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのＣＨ2基が酸素又は硫黄原子で置換された１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、１，４−ナフチレン基を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Ｙ6及びＹ7はそれぞれ独立的に単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−又はーＯＣＯＣＨ2ＣＨ2-を表し、Ｙ8は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−を表す。）で表される化合物を含有する請求項４〜７のいずれか一項に記載の重合性組成物。
【請求項９】
請求項１から８の何れかに記載の重合性組成物の重合体により構成される硬化物。
【請求項１０】
請求項１から８の何れかに記載の重合性組成物の重合体により構成される光学異方体。
【請求項１１】
請求項１から８の何れかに記載の重合性組成物の重合体が積層された請求項１０記載の光学異方体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、液晶ディスプレイの光学補償、液晶デバイス、光学部品等に用いられる光学異方体の構成部材として有用な重合性液晶組成物及び当該組成物の重合体により構成される硬化物に関する。
【背景技術】
【０００２】
重合性液晶組成物は光学異方体の構成部材として有用であり、光学異方体は例えば位相差フィルムとして種々の液晶ディスプレイに応用されている。位相差フィルムは、重合性液晶組成物を基板に塗布して、配向膜等により重合性液晶組成物を配向させた状態で活性エネルギー線を照射して重合性液晶組成物を硬化することにより得られる。得られた位相差フィルムには、膜厚の均一性が求められるので、重合性液晶組成物を基板に塗布した段階でムラやハジキの発生がなく、かつ、膜厚を均一にする必要がある。
【０００３】
そのような塗布ムラやハジキを発生させない方法として、フッ素系界面活性剤を重合性液晶組成物に少量添加する方法が提案されている（特許文献１参照）。しかしながら、前記方法は、フッ素系界面活性剤が光学異方体に残留するため、例えば、液晶セル内に位相差フィルムを設ける場合や配向膜として使用する場合には、残留したフッ素系界面活性剤を洗浄して取り除く必要があった。
【０００４】
また、塗布ムラやハジキを発生させない方法として、フッ素系アクリル共重合体を重合性液晶組成物に添加する方法が提案されている（特許文献２及び３参照）。しかしながら、前記方法は、フッ素系アクリル共重合体が得られた塗布膜の表面に残留する。そのため、得られた塗布膜の上に新たに層を形成しようとした場合には、塗布性が著しく低下する傾向がみられた。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１２２７３７号公報
【特許文献２】特開２００４−１９８５１１号公報
【特許文献３】特開２００５−１１５３５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、塗布膜中に残留すること無く、重合性液晶組成物を基板に塗布した場合、塗布ムラやハジキの発生がなく、得られた塗布膜上に新たな層を形成した場合の塗布性を損なわない重合性液晶組成物を提供し、当該組成物の塗布膜から得られる光学異方体、及び硬化物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、沸点が溶剤と同じ程度のフッ素含有アルコール、フッ素含有エーテル、あるいはフッ素含有エステルが塗布膜に残留することなく、かつ、均一な塗布膜が得られる添加剤機能を有する溶剤であることを見出した。さらにフッ素含有アルコール、フッ素含有エーテル、あるいはフッ素含有エステルの添加について鋭意検討し、本発明に至った。
【０００８】
即ち、本発明は、
少なくとも沸点が３００℃以下のフッ素含有アルコール、フッ素含有エーテル又はフッ素含有エステルのいずれかを含有する重合性液晶組成物を提供する。また前記重合性液晶組成物の重合体より構成される硬化物、及び、光学異方体を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の重合性液晶組成物は、塗布膜中に残留すること無く、塗布ムラやハジキの発生がなく、均一な塗布膜を得ることができる特徴を有しており、得られた塗布膜上に新たな層を形成した場合の塗布性を損なわないので、液晶ディスプレイ、液晶デバイス、光学部品等に適した光学異方体を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に本発明による重合性液晶組成物の最良の形態について説明する。
ａ）フッ素含有アルコール、フッ素含有エーテル、フッ素含有エステル
本発明の重合性液晶組成物に用いられるフッ素含有アルコール、フッ素含有エーテル、フッ素含有エステルは、塗布膜への残留を考慮して沸点は３００℃以下である。沸点が３００℃以下であれば、公知慣用のものが用いられるが、一般的に塗布ムラの発生をなくすには、塗布した際に塗布膜の表面付近に存在する必要があるため、化合物中に占めるフッ素の割合は高い方が好ましい。
【００１１】
具体的には、１Ｈ，１Ｈ−ペンタフルオロプロパノール、1Ｈ,1Ｈ-ヘプタフルオロブタノール、４，４，５，５，５−ペンタフルオロ−１−ペンタノール、２−（パーフルオロブチル）エタノール、３−（パーフルオロブチル）プロパノール、３−（パーフルオロヘキシル）プロパノール、６−（パーフルオロブチル）ヘキサノール、２−（パーフルオロヘキシル）エタノール、３−（パーフルオロヘキシル）プロパノール、６−（パーフルオロヘキシル）ヘキサノール、２−（パーフルオロオクチル）エタノール、２−（パーフルオロオクチル）プロパノール、３−（パーフルオロオクチル）プロパノール、６−（パーフルオロオクチル）ヘキサノール、２−（パーフルオトドデシル）エタノール、６−（パーフルオロ−１−メチルエチル）ヘキサノール、１Ｈ，１Ｈ−ノナフルオロペンタノール、１Ｈ，１Ｈ−トリフルオロエタノール、１Ｈ,１Ｈ,３Ｈ−テトラフルオロプロパノール、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブタノール、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンタノール、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ，−ドデカフルオロペンタノール、1Ｈ,1Ｈ,9Ｈ-ヘキサデカフルオロノナノール、２Ｈ−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１，４−ブタンジオール、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロ−１，５−ペンタンジオール、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ−１，６−ヘキサンジオール、２,２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロ−１，８−オクタンジオール、２−パーフルオロプロポキシ−２，３，３，３−テトラフルオロプロパノール、1Ｈ,1Ｈ-２，５−ジ（トリフルオロメチル）−３，６−ジオキサウンデカフルオロノナノール、等のフッ素含有アルコール、
【００１２】
２，２，２−トリフルオロエチルメチルエーテル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメチルエーテル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルジフルオロメチルエーテル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル−１，１，２，２−テトラフルオロエチルエーテル、１，１，２，２−テトラフルオロエチルメチルエーテル、１，１，２，２−テトラフルオロエチルエーテル、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，３，３−テトラフルオロプロピルエーテル、ヘキサフルオロイソプロピルエーテル、１，１，３，３，３−ペンタフルオロ−２−トリフルオロメチルプロピルメチルエーテル、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロピルエチルエーテル、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルジフルオロメチルエーテル、等のフッ素含有エーテル、エチルトリフルオロアセテート、メチルパーフルオロプロピオネート、エチルパーフルオロプロピオネート、メチルパーフルオロブチレート、エチルパーフルオロブチレート、メチルジフルオロアセテート、エチルジフルオロアセテート、エチル５Ｈ−オクタフルオロペンタノエート、エチル７Ｈ−ドデカフルオロペンタノエート、メチル２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピオネート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ−ペンタデカフルオロオクチル（メタ）アクリレート、
等のフッ素含有エステルが挙げられる。
【００１３】
本発明の重合性液晶組成物に用いられるフッ素含有アルコール、フッ素含有エーテル、フッ素含有エステルの含有量は、０．１〜５０質量％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。
ｂ）一般式（１）
本発明の重合性液晶組成物に用いられる、一般式（１）で表される化合物は、
【００１４】
【化１】
0005678676.tif 000002
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基中の水素原子は１つ以上のハロゲン原子で置換されていても良い。）で表される重量平均分子量が２００〜１００００００である化合物で、重合性液晶組成物中に該化合物が溶解している状態又は分散している状態でも良く、更に、固体が析出している状態であっても、析出した固体が液晶材料としての特性を損なわない程度の粒子径以下の微粒子であれば良いが、溶解している状態又は分散している状態が好ましい。
具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、パラフィン、流動パラフィン、塩素化ポリプロピレン、塩素化パラフィン、塩素化流動パラフィン、また式（１−ａ）〜式（１−ｅ）で表される
【００１５】
【化２】
0005678676.tif 000003
【００１６】
化合物が挙げられる。中でも、ポリプロピレン、塩素化ポリプロピレン、流動パラフィン、式（１−ａ）又は式（１−ｃ）で表される構造が好ましい。また、それぞれの構造を２種類以上共重合させた共重合体も好ましい。
本発明の重合性液晶組成物で用いられる一般式（１）の重量平均分子量は、具体的には、２００〜１００００００であることが好ましく、４００〜１０００００であることがさらに好ましい。
【００１７】
前記化合物は、本発明の重合性液晶組成物中に０．０１〜３質量％含有することが好ましく、０．０２〜１質量％含有することがより好ましい。
ｃ）重合性官能基を有する液晶化合物
本発明の重合性液晶組成物に用いられる、重合性官能基を有する液晶化合物は、単独または他の液晶化合物との組成物において液晶性を示す。前記液晶化合物は、重合官能基を有していれば、特に限定はなく、公知慣用のものを用いることができる。前記液晶化合物として棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物が好ましく、棒状重合性液晶化合物が特に好ましい。
【００１８】
例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ（Ｄ．Ｄｅｍｕｓ，Ｊ．Ｗ．Ｇｏｏｄｂｙ，Ｇ．Ｗ．Ｇｒａｙ，Ｈ．Ｗ．Ｓｐｉｅｓｓ，Ｖ．Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ社発行，１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編，１９９４年）、あるいは、特開平４−２２７６８４号公報、特開平１１−８００９０号公報、特開平１１−１１６５３８号公報、特開平１１−１４８０７９号公報、特開２０００−１７８２３３号公報、特開２００２−３０８８３１号公報、特開２００２−１４５８３０号公報、特開２００４−１２５８４２号公報等に記載されているような、１，４−フェニレン基１，４−シクロヘキレン基等の構造が複数繋がったメソゲンと呼ばれる剛直な部位と、ビニル基、アクリル基、（メタ）アクリル基といった重合性官能基を有する棒状重合性液晶化合物、あるいは特開２００４−２３７３号公報、特開２００４−９９４４６号公報に記載されているようなマレイミド基を有する棒状重合性液晶化合物が挙げられる。中でも、重合性基を有する棒状液晶化合物が、液晶温度範囲として室温前後の低温を含むものを作りやすく好ましい。
具体的には、一般式（２）
【００１９】
【化３】
0005678676.tif 000004
（式中、Ｐは重合性官能基を表し、Ｓｐは炭素原子数０〜１８のスペーサー基を表し、ｍは０又は１を表し、ＭＧはメソゲン基又はメソゲン性支持基を表し、Ｒ1は一般式（２−ａ）
【００２０】
【化４】
0005678676.tif 000005
（式中、Ｐは反応性官能基を表し、Ｓｐは炭素原子数０〜１８のスペーサー基を表し、ｍは０又は１を表す。）で表される構造を表す。）で表される化合物が挙げられる。
【００２１】
より具体的には、一般式（２）において、Ｓｐがアルキレン基を表し、（該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ2基又は隣接していない２つ以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良い。）ＭＧが一般式（２−ｂ）
【００２２】
【化５】
0005678676.tif 000006
【００２３】
（式中、Ａ１、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ3、ＯＣＦ3、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基又はアルケノイルオキシ基を有していても良く、Ｚ０、Ｚ１、Ｚ２及びＺ３はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＯＣＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、炭素数２〜１０のハロゲン原子を有してもよいアルキル基又は単結合を表し、ｎは０、１又は２を表す。）で表される化合物が挙げられる。
【００２４】
重合性官能基は、ビニル基、ビニルエーテル基アクリル基、（メタ）アクリル基、グリシジル基、オキセタニル基、マレイミド基、チオール基が好ましく、生産性の観点から、ビニルエーテル基、アクリル基、（メタ）アクリル基、グリシジル基が特に好ましい。より具体的には一般式（２）において、Ｐが一般式（２−ｃ）、一般式（２−ｄ）及び一般式（２−ｅ）
【００２５】
【化６】
0005678676.tif 000007
【００２６】
（式中、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ41、Ｒ42及びＲ43はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、ｎは０又は１を表す。）で表される。
さらには、一般式（３）
【００２７】
【化７】
0005678676.tif 000008
（式中、ｍは０又は１を表し、Ｗ1及びＷ2はそれぞれ独立的に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立的に−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、ｒ及びｓはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物、一般式（４）
【００２８】
【化８】
0005678676.tif 000009
【００２９】
（式中、Ｚ1は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜１８の炭化水素基を表し、Ｚ2は水素原子又はメチル基を表し、tは０又は1を表し、Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、隣接しないＣＨ基が窒素で置換された１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのＣＨ2基が酸素又は硫黄原子で置換された１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、１，４−ナフチレン基を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Ｙ3及びＹ4はそれぞれ独立的に単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−又はーＯＣＯＣＨ2ＣＨ2-を表し、Ｙ5は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−を表す。）で表される化合物、及び、一般式（５）
【００３０】
【化９】
0005678676.tif 000010
【００３１】
（式中、Ｚ3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜１８の炭化水素基を表し、Ｚ4は水素原子又はメチル基を表し、Ｗ3は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、vは２〜１８の整数を表し、ｕは０又は１を表し、Ｄ、Ｅ及びＦはそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、隣接しないＣＨ基が窒素で置換された１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのＣＨ2基が酸素又は硫黄原子で置換された１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、１，４−ナフチレン基を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基、または２，６−ナフチレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Ｙ6及びＹ7はそれぞれ独立的に単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−又はーＯＣＯＣＨ2ＣＨ2-を表し、Ｙ8は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−を表す。）で表される化合物が好ましい。
例示化合物としては、以下に示されるが、これらに限定される訳ではない。
【００３２】
【化１０】
0005678676.tif 000011
【００３３】
【化１１】
0005678676.tif 000012
【００３４】
【化１２】
0005678676.tif 000013
【００３５】
【化１３】
0005678676.tif 000014
【００３６】
【化１４】
0005678676.tif 000015
【００３７】
【化１５】
0005678676.tif 000016
【００３８】
【化１６】
0005678676.tif 000017
【００３９】
【化１７】
0005678676.tif 000018
【００４０】
【化１８】
0005678676.tif 000019
【００４１】
【化１９】
0005678676.tif 000020
【００４２】
【化２０】
0005678676.tif 000021
【００４３】
【化２１】
0005678676.tif 000022
【００４４】
【化２２】
0005678676.tif 000023
【００４５】
【化２３】
0005678676.tif 000024
【００４６】
【化２４】
0005678676.tif 000025
【００４７】
【化２５】
0005678676.tif 000026
【００４８】
【化２６】
0005678676.tif 000027
【００４９】
【化２７】
0005678676.tif 000028
【００５０】
【化２８】
0005678676.tif 000029
【００５１】
【化２９】
0005678676.tif 000030
【００５２】
【化３０】
0005678676.tif 000031
【００５３】
【化３１】
0005678676.tif 000032
【００５４】
【化３２】
0005678676.tif 000033
【００５５】
【化３３】
0005678676.tif 000034
【００５６】
【化３４】
0005678676.tif 000035
【００５７】
【化３５】
0005678676.tif 000036
【００５８】
【化３６】
0005678676.tif 000037
【００５９】
【化３７】
0005678676.tif 000038
【００６０】
【化３８】
0005678676.tif 000039
【００６１】
【化３９】
0005678676.tif 000040
【００６２】
【化４０】
0005678676.tif 000041
【００６３】
【化４１】
0005678676.tif 000042
【００６４】
【化４２】
0005678676.tif 000043
【００６５】
【化４３】
0005678676.tif 000044
【００６６】
【化４４】
0005678676.tif 000045
【００６７】
【化４５】
0005678676.tif 000046
【００６８】
【化４６】
0005678676.tif 000047
【００６９】
【化４７】
0005678676.tif 000048
【００７０】
【化４８】
0005678676.tif 000049
【００７１】
【化４９】
0005678676.tif 000050
【００７２】
【化５０】
0005678676.tif 000051
【００７３】
【化５１】
0005678676.tif 000052
【００７４】
【化５２】
0005678676.tif 000053
【００７５】
【化５３】
0005678676.tif 000054
【００７６】
【化５４】
0005678676.tif 000055
【００７７】
【化５５】
0005678676.tif 000056
【００７８】
式中、ｍは２〜１８の整数を表し、ｎは０〜１８の整数を表し、Ｒは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、カルボキシル基、シアノ基を示す。これらの基が炭素数１〜６のアルキル基、あるいは炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは１つまたは２つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい。）また、
【００７９】
【化５６】
0005678676.tif 000057
【００８０】
【化５７】
0005678676.tif 000058
【００８１】
【化５８】
0005678676.tif 000059
【００８２】
【化５９】
0005678676.tif 000060
【００８３】
【化６０】
0005678676.tif 000061
【００８４】
【化６１】
0005678676.tif 000062
【００８５】
【化６２】
0005678676.tif 000063
【００８６】
【化６３】
0005678676.tif 000064
【００８７】
【化６４】
0005678676.tif 000065
【００８８】
【化６５】
0005678676.tif 000066
【００８９】
【化６６】
0005678676.tif 000067
【００９０】
【化６７】
0005678676.tif 000068
【００９１】
【化６８】
0005678676.tif 000069
【００９２】
【化６９】
0005678676.tif 000070
【００９３】
【化７０】
0005678676.tif 000071
【００９４】
【化７１】
0005678676.tif 000072
【００９５】
【化７２】
0005678676.tif 000073
【００９６】
【化７３】
0005678676.tif 000074
【００９７】
【化７４】
0005678676.tif 000075
【００９８】
（式中、ｍ、ｎはそれぞれ独立して１〜１８の整数を表し、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基を示す。これらの基が炭素数１〜６のアルキル基、あるいは炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは１つまたは２つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい。）これらの液晶化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。
【００９９】
又、円盤状液晶化合物は、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体又はシクロヘキサン誘導体を分子の中心の母核とし、直鎖のアルキル基、直鎖のアルコキシ基又は置換ベンゾイルオキシ基がその側鎖として放射状に置換した構造を有することが好ましく、一般式（６）
円盤状液晶化合物が一般式（６）
【０１００】
【化７５】
0005678676.tif 000076
（式中、R5はそれぞれ独立して一般式（６−ａ）、一般式（６−ｂ）、一般式（６−ｃ）または一般式（６−ｄ）
【０１０１】
【化７６】
0005678676.tif 000077
【０１０２】
（式中、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｒ8は炭素原子数１〜２０アルコキシ基を表すが、該アルコキシ基中の水素原子は一般式（６−ｂ）、一般式（６−ｃ）又は一般式（６−ｄ）で表される置換基によって置換されていても良い。式中、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86、Ｒ87、Ｒ88及びＲ89はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、ｎは０又は１を表す。）で表される構造を有することがさらに好ましく、一般式（６）においてＲ8の内少なくとも一つは一般式（６−ｂ）、一般式（６−ｃ）又は一般式（６−ｄ）で表される置換基によって置換されたアルコキシ基を表すことが好ましく、Ｒ8の全てが一般式（６−ｂ）、一般式（６−ｃ）又は一般式（６−ｄ）で表される置換基によって置換されたアルコキシ基を表すことが特に好ましい。
さらに、一般式(６−ａ)は具体的には一般式(６−ｅ)
【０１０３】
【化７７】
0005678676.tif 000078
（式中nは２〜９の整数を表す。）で表される構造を有することが特に好ましい。
以上述べた重合性液晶組成物は有機溶媒などに溶かした溶液の状態で使用してもよい。
【０１０４】
ｄ）（重合開始剤）
本発明の重合性液晶組成物は、重合性官能基を有する液晶化合物を重合させるために重合開始剤を用いることもできる。重合を光照射によって行う場合に使用する光重合開始剤としては公知慣用のものが使用できる。
【０１０５】
例えば２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１７３」）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、２−メチル−１−［（メチルチオ）フェニル］−２−モリホリノプロパン−１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア９０７」）。ベンジルメチルケタ−ル（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア６５１」）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア３６９」）、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリリン−４−イル−フェニル）ブタン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア３７９」）、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（ダロキュアＴＰＯ）、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア８１９」）、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュアＯＸＥ０１」）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュアＯＸＥ０２」）。２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサントン（ワ−ドプレキンソップ社製「カンタキュア−ＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物、アシルフォスフィンオキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）、などが挙げられる。光重合開始剤の使用量は立体画像表示用複屈折レンズ材料に対して０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。
【０１０６】
また、熱重合の際に使用する熱重合開始剤としては公知慣用のものが使用でき、例えば、メチルアセトアセテイトパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パ−オキシジカーボネイト、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエイト、メチルエチルケトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパ−オキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｐ−ペンタハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、イソブチルパーオキサイド、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネイト、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾニトリル化合物、２，２’−アゾビス（２−メチル−Ｎ−フェニルプロピオン−アミヂン）ジハイドロクロライド等のアゾアミヂン化合物、２，２’アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝等のアゾアミド化合物、２，２’アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等のアルキルアゾ化合物等を使用することができる。熱重合開始剤の使用量は立体画像表示用複屈折レンズ材料に対して０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。また、光重合開始剤と併用することもできる。
【０１０７】
ｅ）（重合禁止剤）
本発明の重合性液晶組成物は、安定的に生産するため、または、安定的に保存するために、重合禁止剤を使用することもできる。重合禁止剤としては、フェノール系化合物、キノン系化合物、アミン系化合物、チオエーテル系化合物、ニトロソ化合物、等が挙げられる。
フェノール系化合物としては、ｐ−メトキシフェノール、クレゾール、ｔ−ブチルカテコール、３．５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、２．２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２．２'−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４．４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４−メトキシ−１−ナフトール、４，４’−ジアルコキシ−２，２’−ビ−１−ナフトール、等が挙げられる。
キノン系化合物としては、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、メチル−ｐ−ベンゾキノン、ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジフェニルベンゾキノン、２−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン、１，４−ナフトキノン、２，３−ジクロロ−１，４−ナフトキノン、アントラキノン、ジフェノキノン等が挙げられる。
アミン系化合物としては、ｐ−フェニレンジアミン、４−アミノジフェニルアミン、Ｎ．Ｎ'−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−ｉ−プロピル−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１．３−ジメチルブチル）−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ．Ｎ'−ジ−２−ナフチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−β−ナフチルアミン、４．４'−ジクミル−ジフェニルアミン、４．４'−ジオクチル−ジフェニルアミン等が挙げられる。
チオエーテル系化合物としては、フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネート等が挙げられる。
【０１０８】
ニトロソ系化合物としては、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソフェニルナフチルアミン、Ｎ−ニトロソジナフチルアミン、ｐ−ニトロソフェノール、ニトロソベンゼン、ｐ−ニトロソジフェニルアミン、α−ニトロソ−β−ナフトール等、Ｎ、Ｎ−ジメチルｐ−ニトロソアニリン、ｐ−ニトロソジフェニルアミン、ｐ−ニトロンジメチルアミン、ｐ−ニトロン−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミン、Ｎ−ニトロソエタノールアミン、Ｎ−ニトロソジ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ  −ｎ−ブチル−４−ブタノールアミン、Ｎ−ニトロソ−ジイソプロパノールアミン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−エチル−４−ブタノールアミン、５−ニトロソ−８−ヒドロキシキノリン、Ｎ−ニトロソモルホリン、Ｎ−二トロソーＮ−フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、二トロソベンゼン、２，４．６−トリーｔｅｒｔ−ブチルニトロンベンゼン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−エチルウレタン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−ｎ−プロピルウレタン、１−ニトロソ−２−ナフトール、２−ニトロソー１−ナフトール、１−ニトロソ−２−ナフトール−３，６−スルホン酸ナトリウム、２−ニトロソ−１−ナフトール−４−スルホン酸ナトリウム、２−ニトロソ−５−メチルアミノフェノール塩酸塩、２−ニトロソ−５−メチルアミノフェノール塩酸塩等が挙げられる。
【０１０９】
ｆ）（安定剤）
本発明の重合性液晶組成物は、各々の目的に応じて汎用の添加剤を使用することもできる。例えば、レベリング剤、チキソ剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、表面処理剤等の添加剤を液晶の配向能を著しく低下させない程度添加することができる。
【０１１０】
ｇ）（溶剤）
本発明の重合性液晶組成物に用いられる溶剤は、基材上に塗布した際に基材、あるいは、基材上に形成されている配向膜を完全させず、本発明の重合性液晶組成物が欠陥なく配向できれば、使用する溶剤としては特に限定はないが、重合性液晶化合物が良好な溶解性を示す溶媒が好ましい。そのような溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、等のアミド系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、クロロベンゼン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。
【０１１１】
（光学異方体の製法）
（基材）
本発明の光学異方体は、液晶デバイス、ディスプレイ、光学部品や光学フィルムに通常使用する基材であって、本発明の重合性液晶組成物の塗布後の乾燥時、あるいは、液晶デバイス製造時における加熱に耐えうる耐熱性を有する材料であれば、特に制限はない。そのような基材としては、ガラス基材、金属基材、セラミックス基材やプラスチック基材等が挙げられる。特に基材が有機材料の場合、セルロース誘導体、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンエーテル、ナイロン、ポリスチレン等が挙げられる。中でもポリエステル、ポリスチレン、ポリオレフィン、セルロース誘導体、ポリアリレート、ポリカーボネートが好ましい。
【０１１２】
本発明の重合性液晶組成物の塗布性や接着性向上のために、これらの基材の表面処理を行っても良い。表面処理として、オゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理、シランカップリング処理などが挙げられる。また、光の透過率や反射率を調節するために、基材表面に有機薄膜、無機酸化物薄膜や金属薄膜等を蒸着など方法によって設ける、あるいは、光学的な付加価値をつけるために、基材がピックアップレンズ、ロッドレンズ、光ディスク、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルター、等であっても良い。中でも付加価値がより高くなるピックアップレンズ、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルターは好ましい。
【０１１３】
また、上記基材には、本発明の重合性液晶組成物を塗布乾燥した際に重合性液晶組成物が配向するように、通常配向処理が施されている、あるいは配向膜が設けられていても良い。配向処理としては、延伸処理、ラビング処理、偏光紫外可視光照射処理、イオンビーム処理、等が挙げられる。配向膜を用いる場合、配向膜は公知慣用のものが用いられる。そのような配向膜としては、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂、アクリル樹脂、クマリン化合物、カルコン化合物、シンナメート化合物、フルギド化合物、アントラキノン化合物、アゾ化合物、アリールエテン化合物等の化合物が挙げられる。ラビングにより配向処理する化合物は、配向処理、もしくは配向処理の後に加熱工程を入れることで材料の結晶化が促進されるものが好ましい。ラビング以外の配向処理を行う化合物の中では光配向材料を用いることが好ましい。
【０１１４】
（塗布）
本発明の光学異方体を得るための塗布法としては、アプリケーター法、バーコーティング法、スピンコーティング法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディッピング等、公知慣用の方法を行うことができる。通常は、溶剤で希釈した重合性液晶組成物を塗布するので、塗布後は乾燥させることになるが、溶剤で希釈しない場合は、本発明の重合性液晶組成物を塗布に適した温度に上げた上で塗布を行う。
【０１１５】
（重合工程）
本発明の重合性液晶組成物の重合操作については、重合性液晶組成物に溶剤を用いた場合は、前記重合性液晶組成物中の溶剤を乾燥等で除去した後、一様に配向した状態で一般に紫外線等の光照射、あるいは加熱によって行われる。重合性液晶組成物に溶剤を用いない場合は、塗布後に一様に配向した状態で一般に紫外線等の光照射、あるいは加熱によって行われる。重合を光照射で行う場合は、具体的には３９０ｎｍ以下の紫外光を照射することが好ましく、２５０〜３７０ｎｍの波長の光を照射することが最も好ましい。但し、３９０ｎｍ以下の紫外光により重合性液晶組成物が分解などを引き起こす場合は、３９０ｎｍ以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。この光は、拡散光で、かつ偏光していない光であることが好ましい。
【０１１６】
一方、加熱による重合は、重合性液晶組成物が液晶相を示す温度又はそれより低温で行うことが好ましく、特に加熱によりラジカルを放出する熱重合開始剤を使用する場合にはその開裂温度が上記の温度域内にあるものを使用することが好ましい。また該熱重合開始剤と光重合開始剤とを併用する場合には上記の温度域の制限と共に光配向膜と重合性液晶膜の両層の重合速度が大きく異なることの無い様に重合温度と各々の開始剤を選択することが好ましい。加熱温度は、重合性液晶組成物の液晶相から等方相への転移温度にもよるが、熱による不均質な重合が誘起されてしまう温度よりも低い温度で行うことが好ましい。ただし、有機材料からなる基材のガラス転移点を越えると基材の熱変形が著しくなるので、室温〜基材のガラス転移点が好ましい。また例えば、重合性基が（メタ）アクリロイル基である場合は、９０℃よりも低い温度で行うことが好ましい。
得られた光学異方体の耐溶剤特性や耐熱性の安定化のために、光学異方体を加熱処理することもできる。この場合、前期重合性液晶膜のガラス転移点以上で加熱することが好ましい。通常は、有機材料からなる基材のガラス転移点を越えない範囲での加熱が好ましい。また、上記目的のために、光照射処理することもできる。この場合、光照射により、光学異方体中の液晶化合物成分が光分解しない程度であることが好ましい。
【実施例】
【０１１７】
以下に本発明を合成例、実施例、及び、比較例によって説明するが、もとより本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
（重合性液晶組成物（１）の調製）
式（Ｃ−１）で表される液晶化合物４０部、式（Ｃ−２）で表される液晶化合物４０部、式（Ｃ−３）で表される液晶化合物２０部、２−（パーフルオロブチル）エタノール（Ａ−１）１部、流動パラフィン（Ｂ−１）０．３部、イルガキュア９０７（Ｄ−１）３部、ｐ−メトキシフェノール（Ｅ−１）０．１部をシクロペンタノン（Ｇ−１）３９６部に溶解して本発明の重合性液晶組成物（１）を得た。
【０１１８】
【化７８】
0005678676.tif 000079
【０１１９】
【化７９】
0005678676.tif 000080
【０１２０】
【化８０】
0005678676.tif 000081
【０１２１】
（重合性液晶組成物（２）〜（１０）の調製）
本発明の重合性液晶組成物（１）の調製と同様にして本発明の重合性液晶組成物（２）〜（１０）を得た。表１に、本発明の重合性液晶組成物（１）〜（１０）の具体的な組成を示す。
【０１２２】
【表１】
0005678676.tif 000082
【０１２３】
１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプタノール（Ａ−２）
１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンタノール（Ａ−３）
エチル  ５Ｈ−オクタフルオロペンタノエート（Ａ−４）
１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート（Ａ−５）
ポリプロピレン（Ｂ−２）
塩素化ポリプロピレン（Ｂ−３）
【０１２４】
【化８１】
0005678676.tif 000083
イルガキュアＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）（Ｄ−２）
【０１２５】
（実施例１）
配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得た。得られた塗膜をラビング処理した。ラビング処理は、市販のラビング装置を用いて行った。
ラビングした基材に本発明の重合性液晶組成物（１）をスピンコート法で塗布し、８０℃で２分乾燥した。得られた塗布膜を室温まで冷却した後、高圧水銀ランプを用いて、２０ｍＷ／ｃｍ２の強度で５秒間ＵＶ光を照射した。得られた光学異方体のリタデーションは２８２ｎｍであった。
なお、光学異方体のリタデーションは、液晶特性評価装置ＯＭＳ（中央精機株式会社製）を用いて測定した。得られた光学異方体を５ｍｍ間隔で６４点測定し、平均値をリタデーションとした。また、リタデーションの最大値から最小値を引いた数値を膜厚均一性として評価した。実施例１の光学異方体の膜厚均一性は、８ｎｍであった。
【０１２６】
（比較例１）
重合性液晶組成物（１０）を用いた以外は、実施例１と同様にして比較例１の光学異方体を得た。得られた光学異方体のリタデーションは２７７ｎｍ、膜厚均一性は３４ｎｍであった。
【０１２７】
（実施例２〜９）
実施例１と同様にして、実施例２〜９の光学異方体を得た。いずれの光学異方体も膜厚均一性が９〜１３ｎｍと比較例１の膜厚均一性と比較して半分以下になっていた。得られた結果は、表２に示している。本発明の重合性液晶組成物は、フッ素系界面活性剤を用いていないことから、特別な洗浄工程を得ることなく塗布ムラやハジキがない均一な塗布膜を得ることができる。
【０１２８】
【表２】
0005678676.tif 000084
実施例の重合性液晶組成物によって得られた均一な塗布膜を硬化させることにより、均一は硬化物及び光学異方体を得ることができた。
【０１２９】
（実施例１０）
実施例１で得た光学異方体上に、実施例１と同様な条件で重合性液晶組成物（１）を塗布したところ、実施例１と同様に均一な塗布膜を得ることができ、効果により二つの光学異方体層が積層した均一な光学異方体を得ることができた。
【０１３０】
実施例１０の光学異方体は、フッ素系アクリル共重合体を添加した光学異方体のように得られた塗布膜の表面にフッ素系アクリル共重合体が残留することが無いため、容易に積層した光学異方体を得ることができた。