(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水平面に平行な二次元平面内の第１方向に沿った位置を移動可能な第１移動体と、
前記第１移動体に設けられ、前記第１移動体と共に前記第１方向に沿った位置を移動可能、且つ前記第１移動体に対して前記二次元平面内で前記第１方向に直交する第２方向に沿った位置を移動可能な第２移動体と、
物体を保持し、前記第２移動体に誘導されて前記二次元平面に沿って移動する物体保持部材と、
前記第１方向に関して前記第１移動体の一側に配置され、前記物体保持部材が前記第２方向に沿って移動する際に該物体保持部材の前記第１方向に関する一側の領域を下方から支持するとともに、前記物体保持部材と共に前記第１方向に沿って移動可能な第１ガイド部材と、
前記第１方向に関して前記第１移動体の他側に配置され、前記物体保持部材が前記第２方向に沿って移動する際に該物体保持部材の前記第１方向に関する他側の領域を下方から支持するとともに、前記物体保持部材と共に前記第１方向に沿って移動可能な第２ガイド部材と、を備える移動体装置。
【請求項２】
前記物体保持部材は、前記第１及び第２ガイド部材に非接触支持される請求項１に記載の移動体装置。
【請求項３】
前記物体保持部材は、該物体保持部材と前記第１ガイド部材との間、及び該物体保持部材と第２ガイド部材との間に供給される気体の静圧により前記第１及び第２ガイド部材上に非接触浮上する請求項２に記載の移動体装置。
【請求項４】
前記物体保持部材を前記第２移動体に対して前記第１及び第２方向、並びに前記水平面に直交する軸回りに微少駆動するアクチュエータを更に備える請求項１〜３のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項５】
前記物体保持部材は、前記アクチュエータが発生する推力により前記水平面に沿って前記第２移動体に誘導される請求項４に記載の移動体装置。
【請求項６】
前記第１移動体と前記第１及び第２ガイド部材とを物理的に連結する連結部材を更に備える請求項１〜５のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の移動体装置と、
前記物体保持部材に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置。
【請求項８】
前記物体に対して前記パターンを形成する際、前記移動体装置は、前記物体を前記エネルギビームに対して前記第２方向に沿って相対移動させる請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項７又は８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が５００ｍｍ以上である請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
請求項９又は１０に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。
【請求項１２】
請求項７又は８に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、物体を保持する物体保持部材を水平面に沿って駆動する移動体装置、前記移動体装置を含み、前記物体に所定のパターンを形成する露光装置、前記露光装置を用いたフラットパネルディスプレイの製造方法、及び前記露光装置を用いたデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示素子、半導体素子（集積回路等）等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル（以下、「マスク」と総称する）と、ガラスプレート又はウエハ（以下、「基板」と総称する）とを所定の走査方向（スキャン方向）に沿って同期移動させつつ、マスクに形成されたパターンをエネルギビームを用いて基板上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置が用いられている。
【０００３】
この種の露光装置としては、基板の水平面内の位置（スキャン方向、クロススキャン方向、及び水平面に直交する軸線回り方向の位置）を高速、且つ高精度で制御するため、いわゆるガントリタイプの２軸粗動ステージと、微動ステージとを組み合わせた粗微動構成の基板ステージ装置を有しているものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
ここで、近年の基板の大型化に伴い基板ステージ装置も大型化しており、簡単な構成で高精度且つ高速に大型基板の水平面内の位置制御が可能な基板ステージ装置が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１０／００１８９５０号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、水平面に平行な二次元平面内の第１方向に沿った位置を移動可能な第１移動体と、前記第１移動体に設けられ、前記第１移動体と共に前記第１方向に沿った位置を移動可能、且つ前記第１移動体に対して前記二次元平面内で前記第１方向に直交する第２方向に沿った位置を移動可能な第２移動体と、物体を保持し、前記第２移動体に誘導されて前記二次元平面に沿って移動する物体保持部材と、前記第１方向に関して前記第１移動体の一側に配置され、前記物体保持部材が前記第２方向に沿って移動する際に該物体保持部材の前記第１方向に関する一側の領域を下方から支持するとともに、前記物体保持部材と共に前記第１方向に沿って移動可能な第１ガイド部材と、前記第１方向に関して前記第１移動体の他側に配置され、前記物体保持部材が前記第２方向に沿って移動する際に該物体保持部材の前記第１方向に関する他側の領域を下方から支持するとともに、前記物体保持部材と共に前記第１方向に沿って移動可能な第２ガイド部材と、を備える移動体装置である。
【０００７】
これによれば、物体保持部材は、第１及び第２移動体により水平面に平行な二次元平面に沿って誘導される。物体保持部材の第１方向に関する一側及び他側の領域を下方から支持する第１及び第２ガイド部材は、物体保持部材と共に第１方向に沿って移動するので、装置の構成が簡単となる。
【０００８】
本発明は、第２の観点からすると、本発明の第１の観点にかかる移動体装置と、前記物体保持部材に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置である。
【０００９】
本発明は、第３の観点からすると、本発明の第２の観点にかかる露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法である。
【００１０】
本発明は、第４の観点からすると、本発明の第２の観点にかかる露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】一実施形態に係る液晶露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１の液晶露光装置が有する基板ステージ装置の平面図である。
【図３】図２のＢ−Ｂ線断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、一実施形態について、図１〜図３を用いて説明する。
【００１３】
図１には、一実施形態に係る液晶露光装置１０の構成が概略的に示されている。液晶露光装置１０は、例えば液晶表示装置（フラットパネルディスプレイ）などに用いられる矩形（角型）のガラス基板Ｐ（以下、単に基板Ｐと称する）を露光対象物とするステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。
【００１４】
液晶露光装置１０は、照明系１２、マスクＭを保持するマスクステージ１４、投影光学系１６、基板ステージ架台１８、表面（図１で＋Ｚ側を向いた面）にレジスト（感応剤）が塗布された基板Ｐを保持する基板ステージ装置２０、及びこれらの制御系等を含む。以下、露光時にマスクＭと基板Ｐとが投影光学系１６に対してそれぞれ相対走査される方向をＸ軸方向とし、水平面内でＸ軸に直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸及びＹ軸に直交する方向をＺ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００１５】
照明系１２は、例えば米国特許第５，７２９，３３１号明細書などに開示される照明系と同様に構成されている。照明系１２は、露光用の照明光ＩＬをマスクＭに照射する。照明光ＩＬとしては、例えばｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）などの光（あるいは、上記ｉ線、ｇ線、ｈ線の合成光）が用いられる。
【００１６】
マスクステージ１４は、所定の回路パターンが形成されたマスクＭを、例えば真空吸着により保持している。マスクステージ１４は、例えばリニアモータを含むマスクステージ駆動系（不図示）により走査方向（Ｘ軸方向）に所定の長ストロークで駆動されるとともに、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に適宜微少駆動される。マスクステージ１４のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転量情報を含む）は、不図示のレーザ干渉計を含むマスク干渉計システムにより求められる。
【００１７】
投影光学系１６は、マスクステージ１４の下方に配置されている。投影光学系１６は、例えば米国特許第６，５５２，７７５号明細書に開示された投影光学系と同様に構成されている。すなわち、投影光学系１６は例えば両側テレセントリックな等倍系で正立正像を形成する光学系を複数含む、いわゆるマルチレンズ投影光学系であり、Ｙ軸方向を長手方向とする長方形状の単一のイメージフィールドを持つ投影光学系と同等に機能する。
【００１８】
このため、照明系１２からの照明光ＩＬによってマスクＭ上の照明領域が照明されると、マスクＭを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系１６を介してその照明領域内のマスクＭの回路パターンの投影像が、基板Ｐ上の照明領域に共役な照明光ＩＬの照射領域に形成される。そして、照明領域（照明光ＩＬ）に対してマスクＭが走査方向に駆動されるとともに、露光領域（照明光ＩＬ）に対して基板Ｐが走査方向に駆動されることで、基板Ｐ上の１つのショット領域にマスクＭに形成されたパターンが転写される。
【００１９】
基板ステージ架台１８は、Ｙ軸方向に延びる板状の部材から成り、図２に示されるように、Ｘ軸方向に所定間隔で、例えば２つ設けられている。例えば２つの基板ステージ架台１８それぞれの上面には、Ｙ軸方向に延びるＹリニアガイド２７ａがＸ軸方向に所定間隔で複数、本実施形態では、例えば３本固定されている。基板ステージ架台１８は、その長手方向の端部近傍が、図１に示されるように、クリーンルームの床１１上に設置された防振装置１９により下方から支持されている。基板ステージ架台１８は、液晶露光装置１０の装置本体（ボディ）の一部を構成している。上記マスクステージ１４、及び投影光学系１６は、装置本体に支持されており、床１１から振動的に分離されている。なお、図１に示される基板ステージ装置２０は、図２のＡ−Ａ線断面図に相当する。
【００２０】
基板ステージ装置２０は、図２に示されるように、一対のベースフレーム２２、一対のベースフレーム２２上に架設されたＸビーム２４、Ｘビーム２４上に搭載された粗動ステージ２６、粗動ステージ２６によりＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に所定のストロークで誘導される微動ステージ２８、及び微動ステージ２８のＸＹ平面に沿った移動をガイドする一対のステップガイド３０を有している。
【００２１】
一対のベースフレーム２２は、一方が＋Ｘ側の基板ステージ架台１８の＋Ｘ側に、他方が−Ｘ側の基板ステージ架台１８の−Ｘ側に、それぞれ基板ステージ架台１８に所定距離隔てて（振動的に分離された状態で）クリーンルームの床１１上に設置されている。一対のベースフレーム２２は、後述するＸビーム２４の長手方向の両端部近傍を下方から支持しており、Ｘビーム２４がＹ軸方向に所定の長ストロークで移動する際のガイド部材として機能する。図３に示されるように、ベースフレーム２２の両側面それぞれには、Ｙ軸方向に所定間隔で配列された複数の永久磁石を含む磁石ユニット２１ａ（Ｙ固定子）が固定されている。また、ベースフレーム２２の上端面（＋Ｚ側の端部）には、Ｙリニアガイド装置２３の要素であるＹリニアガイド２３ａが固定されている。
【００２２】
Ｘビーム２４は、Ｘ軸方向に延びるＹＺ断面が矩形（図１参照）の部材から成る。Ｘビーム２４の長手方向両端部近傍における下面には、上記一対のベースフレーム２２に対応してＹキャリッジ２５と称されるＸＺ断面逆Ｕ字状の部材が固定されている。上記ベースフレーム２２は、Ｙキャリッジ２５の一対の対向面間に挿入されている。Ｙキャリッジ２５の天井面には、上記Ｙリニアガイド２３ａと共にＹリニアガイド装置２３を構成するＹスライド部材２３ｂが固定されている。Ｙスライド部材２３ｂは、対応するＹリニアガイド２３ａに低摩擦でスライド自在に係合しており、Ｘビーム２４は、一対のベースフレーム２２上を低摩擦でＹ軸方向に所定のストロークで移動可能となっている。
【００２３】
また、Ｙキャリッジ２５の一対の対向面それぞれには、上記磁石ユニット２１ａと共にＹリニアモータ２１を構成するコイルユニット２１ｂ（Ｘ可動子）が固定されている。Ｘビーム２４は、上記Ｙリニアモータ２１により、一対のベースフレーム２２上でＹ軸方向に駆動される。なお、Ｘビーム２４を駆動するＹアクチュエータの種類は、これに限定されず、例えば送りねじ装置、ベルト駆動装置、ワイヤ駆動装置などを用いることができる。
【００２４】
Ｘビーム２４の下面のＺ位置は、図１に示されるように、Ｙリニアガイド２７ａの上端部よりも＋Ｚ側に設定されており、Ｘビーム２４は、基板ステージ架台１８（すなわち装置本体）から振動的に分離されている。なお、Ｘビーム２４の長手方向中央部を下方から支持する補助的なベースフレームを一対の基板ステージ架台１８の間に配置しても良い。
【００２５】
また、Ｘビーム２４の上面には、図２に示されるように、Ｘリニアガイド装置２９の要素であるＸリニアガイド２９ａがＸ軸方向に所定間隔で、例えば２本固定されている。また、Ｘビーム２４の両側面には、Ｘ軸方向に所定間隔で配列された複数の永久磁石を含む磁石ユニット３１ａ（Ｘ固定子）が固定されている。
【００２６】
粗動ステージ２６は、直方体状の部材から成り、その下面には、上記Ｘリニアガイド２９ａと共にＸリニアガイド装置２９を構成するＸスライド部材２９ｂが複数固定されている。Ｘスライド部材２９ｂは、図３に示されるように、ひとつのＸリニアガイド２９ａにつき、Ｘ軸方向に所定間隔で、例えば２つ設けられている。Ｘスライド部材２９ｂは、対応するＸリニアガイド２９ａに低摩擦でスライド自在に係合しており、粗動ステージ２６は、Ｘビーム２４上を低摩擦でＸ軸方向に所定のストロークで移動可能となっている。
【００２７】
また、粗動ステージ２６の両側面には、磁石ユニット３１ａと共に粗動ステージ２６をＸ軸方向に所定のストロークで駆動するためのＸリニアモータ３１を構成するコイルユニット３１ｂ（Ｘ可動子）が取付板３２を介して固定されている。
【００２８】
粗動ステージ２６は、Ｘリニアガイド装置２９によりＸビーム２４に対するＹ軸方向への相対移動が制限されており、Ｘビーム２４と一体的にＹ軸方向に移動する。すなわち、粗動ステージ２６は、Ｘビーム２４と共に、ガントリ式の２軸ステージ装置を構成している。Ｘビーム２４のＹ位置情報、及び粗動ステージ２６のＸ位置情報それぞれは、例えば不図示のリニアエンコーダシステム（あるいは光干渉計システム）により求められる。
【００２９】
一対のステップガイド３０それぞれは、図２に示されるように、一対の基板ステージ架台１８上に搭載されている。一対のステップガイド３０は、それぞれＸ軸方向に延びるＹＺ断面が矩形（図１参照）の部材から成り、Ｙ軸方向に所定間隔で互いに平行に配置されている。上記Ｘビーム２４は、一対のステップガイド３０間に所定のクリアランスを介して挿入されている。ステップガイド３０の長手方向（Ｘ軸方向）の寸法は、Ｘビーム２４よりも幾分短く設定され、幅方向（Ｙ軸方向）寸法は、Ｘビーム２４よりも幾分広く設定されている。ステップガイド３０の上面は、平面度が非常に高く仕上げられている。
【００３０】
ステップガイド３０の下面には、図１に示されるように、上記Ｙリニアガイド２７ａと共にＹリニアガイド装置２７を構成するＹスライド部材２７ｂが複数固定されている。Ｙスライド部材２７ｂは、ひとつのＹリニアガイド２７ａにつき、Ｙ軸方向に所定間隔で、例えば２つ設けられている。Ｙスライド部材２７ｂは、対応するＹリニアガイド２７ａに低摩擦でスライド自在に係合しており、ステップガイド３０は、一対の基板ステージ架台１８上を低摩擦でＹ軸方向に所定のストロークで移動可能となっている。
【００３１】
一対のステップガイド３０それぞれは、図２に示されるように、長手方向の両端部近傍において、連結装置３４を介してＸビーム２４に機械的に連結されている。連結装置３４は、Ｙ軸方向に延びる棒状の部材と、該棒状部材の両端部に取り付けられた滑節装置（例えばボールジョイント）とを含み、上記滑節装置を介してＸビーム２４とステップガイド３０との間に架設されている。棒状部材は、Ｙ軸方向の剛性が高く設定されている。
【００３２】
基板ステージ装置２０では、Ｘビーム２４が複数のＹリニアモータ２１（図２では不図示。図３参照）によりＹ軸方向に関する一方の（例えば＋Ｙ）方向に駆動されると、Ｙ軸方向に関する他方側（例えば−Ｙ側）のステップガイド３０が連結装置３４を介してＸビーム２４に牽引されるとともに、Ｙ軸方向に関する一方側（例えば＋Ｙ側）のステップガイド３０が連結装置３４を介してＸビーム２４に押圧される。これにより、一対のステップガイド３０がＸビーム２４と一体的にＹ軸方向に移動する。
【００３３】
図１に戻り、微動ステージ２８は、平面視矩形の箱形部材から成り、その上面に基板ホルダ３６が固定されている。基板ホルダ３６は、平面視矩形の板状の部材から成り、基板Ｐを吸着保持する。微動ステージ２８の−Ｙ側の側面には、ミラーベース３８を介してＹ軸に直交する反射面を有するＹバーミラー４０ｙが固定され、微動ステージ２８の−Ｘ側の側面には、図３に示されるように、ミラーベース３８を介してＸ軸に直交する反射面を有するＸバーミラー４０ｘが固定されている。なお、図２では、図面の錯綜を避ける観点から基板ホルダ３６、ミラーベース３８、Ｙバーミラー４０ｙ、及びＸバーミラー４０ｘ（図１又は図３参照）の図示がそれぞれ省略されている。
【００３４】
微動ステージ２８の下面における四隅部近傍それぞれには、図２に示されるように、嵩上げブロック４２が取り付けられている。また、嵩上げブロック４２の下面には、図１に示されるように、エアベアリング４４が取り付けられている。図２に戻り、＋Ｙ側の、例えば２つのエアベアリング４４の気体噴出面（軸受け面）は、＋Ｙ側のステップガイド３０の上面に、−Ｙ側の、例えば２つのエアベアリング４４の気体噴出面は、−Ｙ側のステップガイド３０の上面にそれぞれ対向している。例えば４つのエアベアリング４４それぞれは、対応するステップガイド３０の上面に対して加圧気体（例えば空気）を噴出する。微動ステージ２８は、エアベアリング４４とステップガイド３０との間に供給される気体の静圧により、一対のステップガイド３０上に微少なクリアランスを介して浮上している。なお、エアベアリング４４の配置、及び数は、一対のステップガイド３０上で微動ステージ２８を安定した状態で浮上させることができれば特に限定されない。
【００３５】
微動ステージ２８は、複数のボイスコイルモータを含む微動ステージ駆動系により、粗動ステージ２６に誘導されてＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に駆動される。複数のボイスコイルモータには、図２に示されるように、Ｘ軸方向の推力を発生する、例えば２つのＸボイスコイルモータ４６ｘと、例えば２つのＹボイスコイルモータ４６ｙが含まれる。例えば２つのＸボイスコイルモータ４６ｘは、一方が微動ステージ２８の＋Ｙ側、他方が微動ステージ２８の−Ｙ側にそれぞれ配置され、例えば２つのＹボイスコイルモータ４６ｙは、一方が微動ステージ２８の＋Ｘ側、他方が微動ステージ２８の−Ｘ側にそれぞれ配置されている。
【００３６】
上記複数のボイスコイルモータの構成は、配置が異なる点を除き、同じであるので、以下、微動ステージ２８の＋Ｙ側に配置されたＸボイスコイルモータ４６ｘについて説明する。図１に示されるように、Ｘボイスコイルモータ４６ｘは、粗動ステージ２６の＋Ｙ側の側面に固定されたＸ固定子４６ａと、微動ステージ２８の下面に固定されたＸ可動子４６ｂとを含む。Ｘ固定子４６ａは、不図示のコイルユニットを有している。Ｘ可動子４６ｂは、断面ＹＺ断面Ｕ字状に形成され、その一対の対向面に永久磁石が固定されている。Ｘ固定子４６ａが有するコイルユニットは、上記一対の永久磁石間に所定のクリアランスを介して挿入されている。なお、本実施形態のＸボイスコイルモータ４６ｘは、ムービングマグネット型であるが、ムービングコイル型であっても良い。
【００３７】
基板ステージ装置２０では、例えば粗動ステージ２６がＸビーム２４に沿ってＸ軸方向に長ストロークで移動する際に、微動ステージ２８が粗動ステージ２６と同方向且つ同速度で移動するように例えば２つのＸボイスコイルモータ４６ｘが発生するＸ軸方向の推力（ローレンツ力）が制御される。また、Ｘビーム２４がＹ軸方向にに長ストロークで移動する際に、微動ステージ２８がＸビーム２４（すなわち粗動ステージ２６）と同方向且つ同速度で移動するように例えば２つのＹボイスコイルモータ４６ｙが発生するＹ軸方向の推力が制御される。これにより、粗動ステージ２６と微動ステージ２８とが一体的にＸＹ平面に沿って長ストロークで移動する。
【００３８】
また、微動ステージ２８は、例えば２つのＸボイスコイルモータ４６ｘ（あるいは、例えば２つのＹボイスコイルモータ４６ｙ）の推力の向きが互いに反対の方向とされることにより、粗動ステージ２６に対してθｚ方向に微少駆動される。微動ステージ２８は、粗動ステージ２６に誘導されてＸ軸方向に長ストロークで駆動される際、Ｙ軸方向及び／θｚ方向に適宜微少駆動される。
【００３９】
上述のようにして構成された液晶露光装置１０（図１参照）では、不図示の主制御装置の管理の下、不図示のマスクローダによって、マスクステージ１４上へのマスクＭのロードが行われるとともに、不図示の基板ローダによって基板ホルダ３６上への基板Ｐのロードが行なわれる。その後、主制御装置により、不図示のアライメント検出系を用いてアライメント計測が実行され、そのアライメント計測の終了後、基板Ｐ上に設定された複数のショット領域に逐次ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行なわれる。なお、この露光動作は従来から行われているステップ・アンド・スキャン方式の露光動作と同様であるので、ここでは詳細な説明を省略する。
【００４０】
例えば、上記ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作時におけるスキャン露光動作時などにおいて、基板ステージ装置２０では、基板ホルダ３６を介して基板Ｐを保持する微動ステージ２８が、Ｘ軸方向に所定の長ストロークで駆動される。ステップガイド３０は、長手方向（Ｘ軸方向）の寸法が微動ステージ２８のＸ軸方向に関する移動可能距離よりも幾分長く設定されており、微動ステージ２８は、粗動ステージ２６と一体的にＸ軸方向に移動する際には、一対のステップガイド３０上を移動する。また、微動ステージ２８がＹ軸方向にステップ動作を行う際には、粗動ステージ２６、Ｘビーム２４、及び一対のステップガイド３０が一体的にＹ軸方向に移動する。したがって、微動ステージ２８が一対のステップガイド３０上から脱落することがない。
【００４１】
以上説明した本実施形態の基板ステージ装置２０によれば、微動ステージ２８が一対のステップガイド３０上に非接触状態で搭載されているので、小さな推力で微動ステージ２８をＸ軸、及び／又はＹ軸方向に駆動（誘導）することができる。また、微動ステージ２８の位置制御制が向上するので、高精度の露光が可能となる。また、微動ステージ２８に対する外部からの振動、および反力の伝達が抑制されるので、微動ステージ２８を高精度で位置制御することができる。
【００４２】
また、一対のステップガイド３０は、Ｘ軸方向に関して微動ステージ２８の移動可能範囲をカバーするとともに、Ｙ軸方向に関して微動ステージ２８と一体的に移動するので、基板ステージ装置２０では、微動ステージ２８のＸＹ平面内の全移動範囲をカバーするような広い面積を有するガイド部材（例えば定盤）が不要である。したがって、コストが安く、且つ搬送、組み立てが容易である。
【００４３】
また、Ｘビーム２４を駆動するためのＹリニアモータ２１の要素である磁石ユニット２１ａ（Ｙ固定子）が基板ステージ架台１８に対して振動的に分離されているので、Ｘビーム２４を駆動する際の駆動反力、振動などが、装置本体に支持された投影光学系１６などに伝達することが抑制される。
【００４４】
なお、以上説明した本実施形態の構成は、適宜変更が可能である。例えば、微動ステージ２８と基板ホルダ３６との間、あるいは嵩上げブロック４２と微動ステージ２８との間にＺ・チルトアクチュエータを配置して基板ＰのＺ軸方向、θｘ方向、及びθｙ方向の位置を制御可能としても良い。また、Ｘビーム２４は、一対のステップガイド３０間に複数配置されても良い。
【００４５】
また、上記実施形態において、ステップガイド３０は、Ｘビーム２４により牽引されることによりＹ軸方向に移動したが、これに限られず、例えばリニアモータなどのアクチュエータを用いて一対のステップガイド３０それぞれをＸビーム２４と独立して駆動しても良い。この場合、一対のステップガイド３０を駆動するためのリニアモータの固定子として、ベースフレーム２２に固定されたＹ固定子２１ａ（図３参照）を用いても良い。
【００４６】
また、上記実施形態では、Ｘビーム２４が複数のＹリニアモータ２１によりＹ軸方向に駆動されることにより、一対のステップガイド３０がＸビーム２４と一体的にＹ軸方向に移動する構成であったが、これに限られず、一対のステップガイド３０がアクチュエータ（例えばリニアモータ）によりＹ軸方向に駆動され、これに伴いＸビーム２４がＹ軸方向に移動する構成であっても（Ｘビーム２４を駆動するアクチュエータも設けなくても）良い。
【００４７】
また、上記実施形態において、微動ステージ２８は、複数のエアベアリング４４を介して一対のステップガイド３０上に下方から非接触支持されたが、転動体（例えばボール）を介して接触状態で微動ステージ２８をステップガイド３０上に搭載しても良い。
【００４８】
また、一対のステップガイド３０を物理的（機械的）に（ただし、Ｘビーム２４に抵触しないように）連結しても良い。この場合、一方のステップガイド３０がＸビーム２４に牽引されると、他方のステップガイド３０も一体的に移動するため、例えばＸビーム２４が一方のステップガイド３０のみを牽引（又は押圧）すれば良い。
【００４９】
また、照明光は、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。また、照明光としては、例えばＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、固体レーザ（波長：３５５ｎｍ、２６６ｎｍ）などを使用しても良い。
【００５０】
また、上記実施形態は、複数本の投影光学ユニットを備えたマルチレンズ方式の投影光学系１６である場合について説明したが、投影光学ユニットの本数はこれに限らず、１本以上あれば良い。また、マルチレンズ方式の投影光学系に限らず、例えばオフナー型の大型ミラーを用いた投影光学系などであっても良い。また、上記実施形態では投影光学系１６として、投影倍率が等倍のものを用いる場合について説明したが、これに限らず、投影光学系は縮小系及び拡大系のいずれでも良い。
【００５１】
また、光透過性のマスク基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクが用いられたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク）、例えば、非発光型画像表示素子（空間光変調器とも呼ばれる）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）を用いる可変成形マスクを用いても良い。
【００５２】
また、露光装置としては、サイズ（外径、対角線の長さ、一辺の少なくとも１つを含む）が５００ｍｍ以上の基板、例えば液晶表示素子などのフラットパネルディスプレイ用の大型基板を露光対象物とする露光装置が特に適している。
【００５３】
また、露光装置としては、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置、ステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用することができる。また、移動体装置に保持される物体は、露光対象物体である基板などに限られず、マスクなどのパターン保持体（原版）であっても良い。
【００５４】
また、露光装置の用途としては、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば半導体製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。なお、露光対象となる物体はガラスプレートに限られるものでなく、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。また、露光対象物がフラットパネルディスプレイ用の基板である場合、その基板の厚さは特に限定されず、例えばフィルム状（可撓性を有するシート状の部材）のものも含まれる。
【００５５】
液晶表示素子（あるいは半導体素子）などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたマスク（あるいはレチクル）を製作するステップ、ガラス基板（あるいはウエハ）を製作するステップ、上述した各実施形態の露光装置、及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをガラス基板に転写するリソグラフィステップ、露光されたガラス基板を現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ガラス基板上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
以上説明したように、本発明の移動体装置は、物体を保持する物体保持部材を水平面に平行な二次元平面に沿って駆動するのに適している。また、本発明の露光装置は、物体を露光するのに適している。また、本発明のフラットパネルディスプレイの製造方法は、フラットパネルディスプレイの製造に適している。また、本発明のデバイス製造方法は、マイクロデバイスの製造に適している。
【符号の説明】
【００５７】
１０…液晶露光装置、２０…基板ステージ装置、２４…Ｘビーム、２６…粗動ステージ、２８…微動ステージ、３０…ステップガイド、４４…エアベアリング、４６ｘ…Ｘボイスコイルモータ、４６ｙ…Ｙボイスコイルモータ、Ｐ…基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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