(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナノ形状遷移金属粒子の有機マトリックス中での合成、分離及び再分散のための方法であって、
ａ）遷移金属塩の水溶液に、アクリルアミド、アクリレートもしくはメタクリレートモノマーもしくはオリゴマー、又はポリアクリレートもしくはポリメタクリレート、及び還元剤を添加すること、
ｂ１）コロイド溶液をペルオキシドで処理すること、又は
ｂ２）コロイド溶液をＵＶ光又は可視光にさらすこと、
ｃ）水溶性アミンを添加すること、並びに
ｄ）ナノ形状遷移金属粒子を分離すること、又はナノ形状遷移金属粒子を液体のアクリレートもしくはメタクリレートモノマー中で分散剤と共に再分散すること
を含む、Ｚｎ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｒｕ、及びＴｉからなる群から選択された、ナノ形状遷移金属粒子の有機マトリックス中での合成、分離及び再分散のための方法。
【請求項２】
前記遷移金属が、銀であり、かつ銀（Ｉ）塩が、ＡｇＮＯ3、ＣＨ3ＣＯ2Ａｇ、ＡｇＣｌＯ4、Ａｇ2ＳＯ4、Ａｇ2Ｏ3、ＡｇＢＦ4、ＡｇＩＯ3、ＡｇＣｌ、ＡｇＩ及びＡｇＢｒからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記アクリルアミド、アクリレートもしくはメタクリレートモノマー又はオリゴマーが、多官能性、三官能性、二官能性又は一官能性である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記一官能性アクリレートが、式（Ｉ）
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒa）−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒb  （Ｉ）
［式中、Ｒaは水素又はＣＨ3であり、Ｒbは、Ｏ-（Ｍｅ+）、グリシジル、非置換のＣ1〜Ｃ18アルコキシ、少なくとも１つのＮ及び／又はＯ原子で割り込まれたＣ2〜Ｃ100アルコキシ、ヒドロキシ置換されたＣ1〜Ｃ18アルコキシ、−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）2又は−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｎ+Ｈ（ＣＨ3）2Ａｎ-、又はイソボニルアクリレートの残基であり、
Ａｎ-は、一価の有機酸又は無機酸のアニオンであり、
Ｍｅは、一価の金属原子又はアンモニウムイオンである］で示される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記ポリアクリレート又はポリメタクリレートが、請求項４に記載のモノマー又はモノマー混合物から製造される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記還元剤が、ボラン、水素化銅、ジボラン、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、アスコルビン酸、ジメチルスルフィドボラン、ホルムアルデヒド、ギ酸、ヒドラジン、イソプロパノール、リチウムアルミニウムヒドリド、リチウムテトラヒドリドアルミネート、ニッケル、ニッケルボロヒドリド、シュウ酸、ポリメチルヒドロシロキサン、ナトリウムビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムヒドリド、ナトリウムボロヒドリド、ナトリウムシアノボロヒドリド、ナトリウムヒドロスルフィット、ナトリウムテトラヒドロボレート、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド、トリブチルスタンナン、トリブチルスズヒドリド、トリクロロシラン、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスファイト、トリエチルシラン、トリス（トリメチルシリル）シラン及びナトリウムボロヒドリドからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記ペルオキシドが、Ｈ2Ｏ2、アセチルシクロヘキサンスルホニルペルオキシド、ジイソプロピルペルオキシジカーボネート、ｔ−アミルペルネオデカノエート、ｔ−ブチルペルネオデカノエート、ｔ−ブチルペルピバレート、ｔ−アミルペルピバレート、ビス（２，４−ジクロロベンゾイル）ペルオキシド、ジイソノナノイルペルオキシド、ジデカノイルペルオキシド、ジオクタノイルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシド、ビス（２−メチルベンゾイル）ペルオキシド、ジコハク酸ペルオキシド、ジアセチルペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ｔ−ブチルペル２−エチルヘキサノエート、ビス−（４−クロロベンゾイル）−ペルオキシド、ｔ−ブチルペルイソブチレート、ｔ−ブチルペルマレイネート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）３，５，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−ブチルペルイソノナノエート、２，５−ジメチルヘキサン２，５−ジベンゾエート、ｔ−ブチルペルアセテート、ｔ−アミルペルベンゾエート、ｔ−ブチルペルベンゾエート、２，２−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）ブタン、２，２ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）プロパン、ジクミルペルオキシド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、３−ｔ−ブチルペルオキシ３−フェニルフタリド、ジ−ｔ−アミルペルオキシド、α，α’−ビス（ｔ−ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼン、３，５−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）３，５−ジメチル１，２−ジオキソラン、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチルヘキシン−２，５−ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、及び３，３，６，６，９，９−ヘキサメチル１，２，４，５−テトラオキサシクロノナンからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記アミンが、式
【化１】
0005686598.tif 000016
［式中、Ｒ’、Ｒ’’、Ｒ’’’は、それぞれ独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ2〜Ｃ18アルケニル、Ｃ2〜Ｃ18アルキニル、フェニル又は基
【化２】
0005686598.tif 000017
［式中ＸはＯ又はＮＨであり、かつＲ100は水素又はメチルであり、かつ
ｎは１〜１２の数である］である］で示される、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記分散剤が、アミン基を有する非イオン性分散剤である、請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記ナノ形状遷移金属粒子が、長さ１５〜５００ｎｍ、及び厚さ２〜３０ｎｍの範囲であり、又は該粒子を定義する三軸が、独立して２〜２５０ｎｍの長さである、請求項１から９までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
分離及び再分散させることができ、かつ請求項１に記載の方法によって製造される、ナノ形状遷移金属粒子。
【請求項１２】
以下、
ａ）熱可塑性又は架橋性ポリマー、及び
ｂ）請求項１に記載の方法によって製造されるナノ形状遷移金属粒子
を含む組成物。
【請求項１３】
前記熱可塑性又は架橋性ポリマーが、ポリカーボネート、ポリエステル、アクリル、ハロゲン化ポリマー、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、ビニル芳香族モノマーから誘導された芳香族ホモポリマー及びコポリマー、並びにそれらのグラフトコポリマー、アクリルニトリル−ブタジエン−スチレンターポリマー、及びポリビニルアセタール、並びにそれらの配合物及びコポリマーを含む、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
他の成分として、抗酸化剤、難燃剤、清澄剤、ＵＶ吸収剤及び／又は立体ヒンダードアミン、顔料、並びに他のＮＩＲ吸収剤から選択される添加剤を含有する、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
熱遮蔽構造物もしくは自動車ガラスもしくは農業用フィルム、レーザー溶接、レーザー印刷、機密保護印刷、被覆のＮＩＲ硬化におけるＩＲ吸収剤として、請求項１に記載の方法によって製造された、ナノ形状遷移金属粒子の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に透明な熱可塑性ポリマー又は架橋性ポリマーにおける、容易に分散可能な及び再分散可能な遷移金属ナノ粒子、それらの製造、並びにＩＲ吸収体としての使用に関する。本発明の他の観点は、熱可塑性ポリマー又は架橋性ポリマーと共に前記の遷移金属ナノ粒子の組成物、並びに建築又は自動車の板ガラスにおけるＩＲ吸収体としてのそれらの使用である。
【０００２】
近赤外線（ＮＩＲ）の吸収は、種々の分野において重要な技術課題である。建築物及び車内への熱伝達の著しい低減は、太陽スペクトルの近赤外部分を遮断又は濾光することによって可能である。これは、主に空気調整のため要求が少なくなるため、かなりの省エネルギーを可能とする。
【０００３】
今日までに、いくつかの解決策が提案されており、かつますます多くの建物の板ガラス表面、例えば干渉反射膜、半導電皮膜又は導電皮膜上に適用されている：それらは良好な選択性で、ＮＩＲ放射線を全て反射することができる。いわゆる“ｌｏｗ−ｅ（低放射率）”窓は、例えば反射性の被覆された鉱物又はポリマーガラスである。しかしながら、特に、ほぼ全ての解決策が、複数の層を必要とし、かつその耐久性が、一般に低い耐引掻性によりかなり制限されうることを考慮して、かかる被覆の製造は非常に時間のかかる工程である。これは、例えばＷＯ ２００５／０７２９４７号において記載されている。
【０００４】
他のアプローチは、ＮＩＲ放射線を吸収するバルク添加物の使用である。このアプローチは、安価であり、時間を消費せず、長持ちし、かつ特に板ガラスにおいて使用される熱可塑性ポリマーに必要である。板ガラスの適用において使用されるポリマーに関するいくつかの例は、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエステル様ＰＥＴ−Ｇ、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリビニルブチラル（ＰＶＢ）等である。ポリオレフィンフィルムが農業適用のために主に使用される。
【０００５】
この目的のために、いくつかのＮＩＲ吸収染料及び顔料が、提案されており、かつ例えばフタロシアニン及びクアテリレン（すなわちＢＡＳＦ社製のＬＵＭＯＧＥＮ （ＲＴＭ） ７８８又は７６５）として市販されている。
【０００６】
より最近、ナノ粒子が、科学界において多くの興味を得ている。これは、通常無機の性質のナノ粒子が、殆どのプラスチック適用要求、例えば効率のよい熱遮蔽特性、高い熱安定性及び長期光安定性、可視域における高い透過率、並びに色の欠如をほぼ完全に満たすからである。例は、ホウ化ランタン（ＬａＢ6）及び酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）である。一方、必要量のＬａＢ6を用いた最終生成物は濃い緑色となり、ＩＴＯの使用は、インジウムの量が増加するために非常に高価となる。
【０００７】
銀及び金のナノ粒子も記載されている。ＷＯ ２００６／１３２６４３号は、金属、特にコロイド懸濁液の形での銀ナノプリズムを製造する熱的法を記載している。ＷＯ ２００４／０８９８１３号は、波長調整を介する制御されたエッジの銀ナノプリズムの製造のための光化学法を記載している。ＷＯ ２００６／０９９３１２号は、Ａｕ−ナノプリズムの合成を記載している。全てのそれらの文献は、化学的及び生物学的検出のための材料、触媒、光学、及びデータ貯蔵の重要な分類としてナノ粒子又はナノクラスターを言及する。
【０００８】
先行技術のナノ材料は、容易に分離及び再分散されにくく、それらの光学特性を維持する。かかる材料を、近赤外吸収体として、及び特に溶融する処理可能な添加物として使用することの例は開示されていない。
【０００９】
本発明は、近赤外域における表面プラズマ共鳴によって特徴付けられる、Ｚｎ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｒｕ、及びＴｉからなる群から選択された遷移金属から製造されるナノ粒子に、特にナノ小板に関する。これら遷移金属ナノ粒子は、典型的にプラスチック物品における熱遮蔽添加剤として好適である。特に、本発明は、かかるナノ小板を、それらの分離及び再分散を可能にしてそれらの特別な形態を保持し、かつ従ってプラスチック物品のための添加剤としてそれらを使用する方法で、製造する方法に関する。
【００１０】
それらの遷移金属ナノ小板は、水性分散液（アクリレート、例えばヒドロキシプロピルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、及び１．６−ヘキサンジオールアクリレート、並びにそれらの相応するポリマー、並びにアミン、例えばアリルアミン、Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−メタクリルアミド、２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレート、並びに分散剤、例えばＥＦＫＡ社製のＥ−４３００及びＥ−４４０１）の高真空乾燥を可能にする、表面安定剤モノマー又はポリマーを使用して製造される。該材料は、分離及び再分散後に、その光学特性を維持している。
【００１１】
より嵩高いアクリレート、好適な分散剤の使用、及びアミンを使用して、その粒子は、それらの形態、及び従ってそれらの吸収性を維持し、かつ例えばメチルメタクリレート中で容易に再分散されうる。これは、特に、よりＮＩＲに吸収するそれらの小板に関する場合である。このような観点は、プラスチックマトリックス、例えばポリカーボネート及びメチルメタクリレートにおける使用に必須である。メチルメタクリレート中で均一な分散液を有する可能性は、それ自体、最終生成物の製造のためにモノマーをＰＭＭＡにラジカル重合するために分散液の使用を可能にする。その調合物は、ＰＣ適用のために十分に使用されうる。
【００１２】
透過性は高く、かつその生成物は、ほとんど無色であり、又はかかる生成物のために許容できるわずかな青みを帯びている。
【００１３】
本発明の１つの観点は、
ａ）遷移金属塩の水溶液に、アクリレートもしくはメタクリレートモノマーもしくはオリゴマー、又はポリアクリレートもしくはポリメタクリレート、及び還元剤を添加すること、
ｂ１）コロイド溶液をペルオキシドで処理すること、又は
ｂ２）コロイド溶液をＵＶ光又は可視光にさらすこと、並びに
ｃ）ナノ形状遷移金属粒子を分離すること、又はナノ形状遷移金属粒子を液体アクリレートもしくはメタクリレートモノマー中で分散剤と共に再分散すること
を含む、分離及び再分散されうる、Ｚｎ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｒｕ、及びＴｉからなる群から選択された、ナノ形状遷移金属粒子の水性分散液の製造方法である。
【００１４】
特定の一実施態様において、本発明は、
ａ）遷移金属塩の水溶液に、アクリレートもしくはメタクリレートモノマーもしくはオリゴマー、又はポリアクリレートもしくはポリメタクリレート、及び還元剤を添加すること、
ｂ１）コロイド溶液をペルオキシドで処理すること、又は
ｂ２）コロイド溶液をＵＶ光又は可視光にさらすこと、
ｃ）水溶性アミンを添加すること、並びに
ｄ）ナノ形状遷移金属粒子を分離すること、又はナノ形状遷移金属粒子を液体アクリレートもしくはメタクリレートモノマー中で分散剤と共に再分散すること
を含む、分離及び再分散されうる、Ｚｎ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｒｕ、及びＴｉからなる群から選択された、ナノ形状遷移金属粒子の有機マトリックス中での合成、分離及び再分散のための方法である。
【００１５】
場合により、前記反応混合物は、緩衝液系、例えばクエン酸ナトリウムを５０ｍＭ／リットルまで含有したものでよい。
【００１６】
有利には、前記遷移金属は、Ａｇ、Ｃｕ又はＡｕ、より有利にはＡｇである。前記ナノ粒子は、前記遷移金属の２つから製造されて、コアシェルタイプのナノ粒子を形成することも可能である。
【００１７】
例えば、前記遷移金属は銀であり、かつその銀（Ｉ）塩は、ＡｇＮＯ3、ＣＨ3ＣＯ2Ａｇ、ＡｇＣｌＯ4、Ａｇ2ＳＯ4、Ａｇ2Ｏ3、ＡｇＢＦ4、ＡｇＩＯ3、ＡｇＣｌ、ＡｇＩ及びＡｇＢｒからなる群から選択される。ＡｇＮＯ3が最も好ましい。
【００１８】
他の実施態様において、該遷移金属は金であり、かつその金塩は、Ａｕ（ＣＮ）2Ｋ、ＡｕＩ、ＡｕＢｒ、ＡｕＣｌ、ＣＨ3ＣＯ2Ａｕ、ＨＡｕＣｌ4、ＡｕＢｒ3、ＡｕＢｒ4Ｋ、ＡｕＢｒ4Ｎａ、ＡｕＣｌ3、ＡｕＣｌ4Ｋ及びＡｕＣｌ4Ｎａからなる群から選択される。ＨＡｕＣｌ4が最も好ましい。
【００１９】
該遷移金属が銅である場合に、その銅塩は、Ｃｕ（ＮＯ3）2、ＫＣｕ（ＣＮ）2、銅（ｌｌ）アセチルアセトネート、酢酸銅（ｌｌ）、Ｃｕ（ＣｌＯ4）2、ＣｕＢｒ、ＣｕＢｒ2、ＣｕＣｌ、ＣｕＣｌ2、Ｃｕｌ及びＣｕ（ＳＯ4）からなる群から選択される。
【００２０】
モノマーもしくはオリゴマーアクリレート又はメタクリレートを使用する場合に、これは、多官能性、三官能性、二官能性又は一官能性でありうる。
【００２１】
前記アクリレート又はメタクリレートは、低分子量（モノマー）又は高分子量（オリゴマー）であってよい。モノマーの例は、アルキル及びヒドロキシアルキルアクリレート及びメタクリレート、例えばメチル、エチル、ブチル、２−エチルヘキシル及び２−ヒドロキシエチルもしくは２−ヒドロキシプロピルアクリレート又はメタクリレート、イソボルニルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート及びメタクリレート、イソホリル（ｉｓｏｐｈｏｒｙｌ）アクリレート及びメタクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート及びメタクリレート、並びにメチル及びエチルメタクリレートである。シリコーンアクリレートも関心がある。他の例は、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、及びＮ−置換された（メタ）アクリルアミドである。
【００２２】
いくつかの二重結合を有するモノマーの例は、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレート、ビスフェノール−Ａジアクリレート、４，４’−ビス（２−アクリロイルオキシエトキシ）ジフェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート又はビニルアクリレートである。
【００２３】
高分子量（オリゴマー）多不飽和化合物の例は、アクリレート化エポキシ樹脂、アクリレート化ポリエステル、ポリウレタン及びポリエーテルである。アクリレート、メタクリレートモノマー又はオリゴマーの他の例は、例えば、トリメチルプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリトリトールジアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールジアクリレート、ジペンタエリトリトールトリアクリレート、ジペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリトリトールオクタアクリレート、ペンタエリトリトールジメタクリレート、ペンタエリトリトールトリメタクリレート、ジペンタエリトリトールジメタクリレート、ジペンタエリトリトールテトラメタクリレート、トリペンタエリトリトールオクタメタクリレート、ペンタエリトリトールジイタコネート、ジペンタエリトリトールトリスイタコネート、ジペンタエリトリトールペンタイタコネート、ジペンタエリトリトールヘキサイタコネート、エチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトール改質トリアクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、オリゴエステルアクリレート及びメタクリレート、グリセロールジアクリレート及びトリアクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、分子量２００〜１５００を有するポリウレタングリコールのビスアクリレート及びビスメタクリレート、並びにそれらの混合物である。
【００２４】
不飽和アミドの例は、メチレンビスアクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビス（メタクリルアミドプロポキシ）エタン、β−メタクリルアミドエチルメタクリレート及びＮ−［（β−ヒドロキシエトキシ）エチル］−アクリルアミドである。
【００２５】
ヒドロキシアルキルアクリレート及びメタクリレート、例えばヒドロキシエチル及びヒドロキシプロピルアクリレート及びメタクリレートが好ましい。
【００２６】
本発明の他の実施態様において、立体的に嵩高いアクリレート及びメタクリレートが好ましい。例えば、ノルボルニル、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、テトラヒドロフルフリル及びイソホリルアクリレート並びにメタクリレートである。
【００２７】
アミンの例は、アリルアミン、ヘキシルアミン、アルキルアミン、アクリルアミンである。例えばアミンは、式
【化１】
0005686598.tif 000002
［式中、Ｒ’、Ｒ’’、Ｒ’’’は、それぞれ独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ2〜Ｃ18アルケニル、Ｃ2〜Ｃ18アルキニル、フェニル又は群
【化２】
0005686598.tif 000003
［式中ＸはＯ又はＮＨであり、かつＲ100は水素又はメチルである］であり、かつ
ｎは１〜１２の数である］で示される。
【００２８】
Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミン、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルメタクリレート及びアルキルアミンが好ましい。
【００２９】
典型的に、アミンと銀（アトマリック（ａｔｏｍａｒｉｃ）銀として計算される）とのモル比は、５：１〜１０００：１、有利には１０：１〜１００：１である。
【００３０】
例えば、一官能性モノマーアクリレートは、式（Ｉ）
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒa）−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒb  （Ｉ）
［式中、Ｒaは水素又はＣＨ3であり、ＲbはＮＨ2、Ｏ-（Ｍｅ+）、グリシジル、非置換のＣ1〜Ｃ18アルコキシ、少なくとも１つのＮ及び／又はＯ原子によって割り込まれたＣ2〜Ｃ100アルコキシ、又はヒドロキシ置換されたＣ1〜Ｃ18アルコキシ、非置換のＣ1〜Ｃ18アルキルアミノ、ジ（Ｃ1〜Ｃ18アルキル）アミノ、Ｃ5〜Ｃ11ヘテロシクロアルキル、ヒドロキシ置換されたＣ1〜Ｃ18アルキルアミノ又はヒドロキシ置換されたジ（Ｃ1〜Ｃ18アルキル）アミノ、−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）2又は−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｎ+Ｈ（ＣＨ3）2Ａｎ-、又は二環式もしくは三環式炭化水素の残留物であり、
Ａｎ-は、一価の有機酸又は無機酸のアニオンであり、
Ｍｅは、一価の金属原子又はアンモニウムイオンである］で示される。
【００３１】
少なくとも１つのＯ原子によって割り込まれたＣ2〜Ｃ100アルコキシとしてＲbの例は、式
【化３】
0005686598.tif 000004
［式中、Ｒcは、Ｃ1〜Ｃ25アルキル、フェニル又はＣ1〜Ｃ18アルキルによって置換されたフェニルであり、Ｒdは、水素又はメチルであり、かつｖは、１〜５０の数である］で示される。それらのモノマーは、例えば、相応するアルコキシル化アルコール又はフェノールのアクリル化によって非イオン界面活性剤から誘導される。反復単位は、エチレンオキシド、プロピレンオキシド又は双方の混合物から誘導されてよい。
【００３２】
ポリアクリレート又はポリメタクリレートを使用する場合に、それは、例えば前記の１つ以上のモノマーを基礎とする。特に、ポリアクリレート又はポリメタクリレートは、式（Ｉ）によるモノマー又はモノマー混合物から製造される。
【００３３】
本発明の記載内容において、種々のモノマーを共重合化することもできる。
【００３４】
前記のモノマー、オリゴマー及びポリマーは公知であり、かつそれらの多数の商品がある。
【００３５】
例えば、前記還元剤は、ボラン、水素化銅、ジボラン、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、アスコルビン酸、ジメチルスルフィドボラン、ホルムアルデヒド、ギ酸、ヒドラジン、イソプロパノール、リチウムアルミニウムヒドリド、リチウムテトラヒドリドアルミネート、ニッケル、ニッケルボロヒドリド、シュウ酸、ポリメチルヒドロシロキサン、ナトリウムビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムヒドリド、ナトリウムボロヒドリド、ナトリウムシアノボロヒドリド、ナトリウムヒドロスルフィット、ナトリウムテトラヒドロボレート、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド、トリブチルスタンナン、トリブチルスズヒドリド、トリクロロシラン、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスファイト、トリエチルシラン、トリス（トリメチルシリル）シラン及びナトリウムボロヒドリドからなる群から選択される。
【００３６】
ナトリウムボロヒドリド（ＮａＢＨ4）及びアスコルビン酸が好ましい。
【００３７】
例えば、ペルオキシドは、Ｈ2Ｏ2、アセチルシクロヘキサンスルホニルペルオキシド、ジイソプロピルペルオキシジカーボネート、ｔ−アミルペルネオデカノエート、ｔ−ブチルペルネオデカノエート、ｔ−ブチルペルピバレート、ｔ−アミルペルピバレート、ビス（２，４−ジクロロベンゾイル）ペルオキシド、ジイソノナノイルペルオキシド、ジデカノイルペルオキシド、ジオクタノイルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシド、ビス（２−メチルベンゾイル）ペルオキシド、ジコハク酸ペルオキシド、ジアセチルペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ｔ−ブチルペル２−エチルヘキサノエート、ビス−（４−クロロベンゾイル）−ペルオキシド、ｔ−ブチルペルイソブチレート、ｔ−ブチルペルマレイネート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）３，５，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−ブチルペルイソノナノエート、２，５−ジメチルヘキサン２，５−ジベンゾエート、ｔ−ブチルペルアセテート、ｔ−アミルペルベンゾエート、ｔ−ブチルペルベンゾエート、２，２−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）ブタン、２，２ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）プロパン、ジクミルペルオキシド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、３−ｔ−ブチルペルオキシ３−フェニルフタリド、ジ−ｔ−アミルペルオキシド、α，α’−ビス（ｔ−ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼン、３，５−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）３，５−ジメチル１，２−ジオキソラン、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチルヘキシン−２，５−ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、及び３，３，６，６，９，９−ヘキサメチル１，２，４，５−テトラオキサシクロノナンからなる群から選択される。
【００３８】
Ｈ2Ｏ2が好ましい。
【００３９】
コロイド溶液は、ＵＶ光又は可視光にさらされる場合に、全体の波長領域２５０ｎｍ〜７５０ｎｍ、又は有利には選択された波長領域、例えば３００ｎｍ〜３７０ｎｍ又は５００ｎｍ〜７００ｎｍであってよい。単色光源を使用すること、及び単色光にさらすことも可能である。光源、例えばレーザー又は水銀灯が、好適であり、かつ市販されている。
【００４０】
典型的に、前記の方法は、水中で、又は水溶性有機溶剤と水との混合物中で実施される。好適な有機溶剤は、例えばアルコールである。水と有機溶剤との比は、決定的ではなく、しかしながら過剰な水が好ましい。
【００４１】
工程ｂ１）が適用される場合に、この反応工程は、有利には、温度２０〜４０℃で実施される。
【００４２】
工程ｂ２）が適用され、かつ溶液が放射線照射される場合に、その温度は、８０℃を超えてはならず、有利には、４０〜７０℃で維持されるべきである。
【００４３】
工程ａ）及びｂ）に関する典型的な反応時間は、０．５〜４時間、有利には０．５〜２時間の範囲である。該反応は、典型的に、標準圧力及び標準大気下で適用される。しかしながら、いくつかの場合において、不活性ガス雰囲気を使用することが有利であってよい。好適なガスは、アルゴン又は窒素である。
【００４４】
抽出物の濃度は、特に重要ではない。遷移金属塩に関する好適な濃度は、例えば０．０１〜２．０ｍＭ（又はｍｍｏｌ／リットル）、還元剤に関しては、０．１〜５．０ｍＭ、及びペルオキシドに関しては、１０〜２５０ｍＭである。
【００４５】
モノマー又はオリゴマーアクリレート又はメタクリレートを使用する場合に、典型的に濃度０．１〜２．０ｍＭで適用され、かつそれぞれのポリマーを使用する場合に、その濃度は、全体の反応混合物の質量に対して、典型的に０．００１〜０．１質量％である。
【００４６】
アミンは、典型的に、濃度０．０１〜５０ｍＭで使用される。
【００４７】
分散剤は、アニオン又は非イオンであってよい。アニオン分散剤に関する例は、以下で与えられる。次の生成物を、特に考慮する：芳香族スルホン酸及びホルムアルデヒドの縮合生成物、芳香族スルホン酸と不飽和もしくは塩素化ビスフェニル又は酸化ビスフェニル及び場合によりホルムアルデヒドとの縮合生成物、（モノ−／ジ−）アルキルナフタレンスルホネート、重合化有機スルホン酸のナトリウム塩、重合化アルキルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、重合化アルキルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、アルキルアリールスルホネート、アルキルポリグリコールエーテルスルフェートのナトリウム塩、ポリアルキル化多核性アリールスルホネート、アリールスルホン酸及びヒドロキシアリールスルホン酸のメチレン結合濃縮生成物、ジアルキルスルホコハク酸のナトリウム塩、アルキルジグリコールエーテルスルフェートのナトリウム塩、ポリナフタレンメタンスルホネートのナトリウム塩、リグノスルホネートもしくはオキシリグノスルホネート、又は複素環式ポリスルホン酸。
【００４８】
特に好適なアニオン分散剤は、ナフタレンスルホン酸とホルムアルデヒドとの縮合生成物、重合化有機スルホン酸のナトリウム塩、（モノ−／ジ−）アルキルナフタレンスルホネート、ポリアルキル化多核性アリールスルホネート、重合化アルキルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、リグノスルホネート、オキシリグノスルホネート、及びナフタレンスルホン酸とポリクロロメチルビスフェニルとの縮合生成物である。
【００４９】
非イオン分散剤の例は、例えば、酸化エチレン３〜８モルと、炭素原子９〜１５個からなる第一級アルコール１モルとの縮合生成物である。
【００５０】
アミン官能性を有するコポリマー非イオン性分散液が、特に好適である。かかる分散剤は、市販されており、例えばＥＦＫＡ ４３００又はＥＦＫＡ ４４０１又はＮｕｏｓｐｅｒｓｅ ＦＸ９０８６である。
【００５１】
典型的に、分散剤マトリックスにおける銀（原子基準で）の質量％は、０．１〜１０質量％、有利には０．２〜２質量％である。
【００５２】
ナノ形状遷移金属粒子は、典型的に、ナノケージ、ナノプリズム、ナノトライアングル、ナノスター（分枝状粒子）、ナノキューブ、ナノクレセント、ナノディスク、ナノプレート、ナノスフェア、ナノワイヤ、ナノロッド、ナノヘキサゴン、ナノスフェロイド、ナノシリンダー、ナノレンズ形状、ナノコーン形状、錐体、種々のナノ多角体、又は中空構造の形である。
【００５３】
例えば、ナノ形状遷移金属粒子は、長さ１５〜５００ｎｍ、及び厚さ２〜３０ｎｍに及び、又はそれらを定義する三軸は、２〜２５０ｎｍである。
【００５４】
従って、分離及び再分散されることができ、かつ前記のように製造されるナノ形状遷移金属粒子は、本発明の目的でもある。
【００５５】
本発明の他の観点は、
ａ）透明もしくは半透明な熱可塑性ポリマー又は架橋性ポリマー、及び
ｂ）前記の方法によって製造される、ナノ形状粒子
を含有する組成物である。
【００５６】
本発明の材料を介して透過された光の量、すなわち半透明性又は透明性の程度は、主に、よく知られているパラメータ、例えば粒子負荷、他の使用された添加物、ポリマーマトリックスの曇りレベル（ｈａｚｅ ｌｅｖｅｌ）、及び材料の厚さに依存する。本発明の材料は、通常、可視範囲（４００〜８００ｎｍ）のそれぞれの部分において少なくとも６０％の半透明性であり、好ましい材料は、良好な透明性を有し、かつ特に厚さ１０ｍｍ未満（例えば０．０１〜５ｍｍ）の明澄透明シート及びフィルム、又は全ての可能な寸法の厚いシートから選択される。好ましい材料は、さらに、１つ以上の次の有利な特徴を有する：
全太陽放射透過率（３４０〜１８００ｎｍ）６０％未満、
低い曇りレベル値、及び
全可視光透過率（４００〜８００ｎｍ）６０％超え。
【００５７】
広い種類のポリマーが使用されてよい。例は、以下で挙げられる。
− ポリカーボネート（ＰＣ）、又はポリカーボネートに対する被覆又は共押出された層、ポリエステル、アクリル、ハロゲン化ポリマー、例えばポリビニルクロリド（ＰＶＣ）、ポリオレフィン、芳香族ホモポリマー、及びビニル芳香族モノマーから誘導されたコポリマー、並びに特に主な成分として又は実質的に純粋な形で（例えば５０〜１００質量％）それらのポリマーを含有するそれらのグラフトコポリマー、例えばアクリルニトリル−ブタジエン−スチレンターポリマー（ＡＢＳ）、
− 配合物、合金、コポリマーを含む、ＰＣ、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、ＰＥＴ−Ｇ）、ＰＣＶ、透過性ＡＢＳ、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、スチレン−アクリロニトリルコポリマー（ＳＡＮ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）。
【００５８】
ポリビニルアセタール、例えばポリビニルブチラル（ＰＶＢ）も好適である。
【００５９】
本発明の範囲内で有用であるポリマーは、以下も含む：
１． モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（場合により架橋していてよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
【００６０】
ポリオレフィン、すなわち、前記の段落に例示されたモノオレフィンのポリマー、有利にはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法、及び特に以下の方法によって製造されうる：
ラジカル重合（通常、高圧下及び高温で）。
【００６１】
ｂ）通常、１つ以上の周期律表ＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ族の金属を含有する触媒を使用する触媒重合。前記金属は、通常、π又はσ配位であってよい、１つ以上のリガンド、典型的に酸化物、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル、及び／又はアリールを有する。該金属の錯体は、遊離形態であってよく、又は基質に、典型的に、活性化塩化マグネシウム、塩化チタン（ＩＩＩ）、アルミナもしくはケイ素酸化物に固定されてよい。前記触媒は、重合媒体中で可溶性又は不溶性であってよい。該触媒は、重合においてそれら自体で使用されることができ、又は他の活性剤、典型的に、金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハロゲン化物、金属アルキル酸化物、もしくは金属アルキルオキサンが使用されてよく、その際前記金属は、周期律表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ族の元素である。前記活性剤は、適宜、さらなるエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で改質されてよい。前記触媒系は、通常、Ｐｈｉｌｌｉｐｓ、Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｏｉｌ Ｉｎｄｉａｎａ、Ｚｉｅｇｌｅｒ（−Ｎａｔｔａ）、ＴＮＺ（ＤｕＰｏｎｔ）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と言われる。
【００６２】
２．  前記１．で述べられたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）、及び種々のタイプのポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００６３】
３． モノオレフィン及びジオレフィンのお互いの、又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えば、エチレン／プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びそれらと低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えばエチレン／ノルボルネン、例えばＣＯＣ）、エチレン／１−オレフィンコポリマー、その際１−オレフィンはその場で生成される；プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（イオノマー）、並びにエチレンとプロピレン及びジエン、例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンとのターポリマー、；並びに、かかるコポリマー同士の、及び上記１）で述べられたポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテートコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ、及び交互又は無作為なポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらと他のポリマーとの混合物、例えばポリアミド。
【００６４】
４． スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの全ての異性体、特にｐ−ビニルトルエン、エチルスチレン、プロピルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン及びビニルアントラセンの全ての異性体、及びそれらの混合物を含む、ビニル芳香族モノマーから誘導される芳香族ホモポリマー及びコポリマー。ホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミアイソタクチック、又はアタクチックを含むあらゆる立体構造を有してよく、その際アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーも含まれる。
【００６５】
５． エチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、マレイン酸無水物、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニル又はアクリル誘導体及びそれらの混合物、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル（ＳＡＮ）、スチレン／エチレン（共重合体）、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；耐衝撃性スチレンコポリマーと他のポリマーとの混合物、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマー；及びスチレンのブロックコポリマー、例えば、スチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンから選択される、前記のビニル芳香族モノマー及びコモノマーを含むコポリマー。
【００６６】
６． ビニル芳香族モノマー、例えばスチレン又はα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエン上のスチレン、ポリブタジエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマー上のスチレン；ポリブタジエン上のスチレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエン上のスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート；ポリブタジエン上のスチレン及びマレイン酸無水物；ポリブタジエン上のスチレン、アクリロニトリル及びマレイン酸無水物又はマレイミド；ポリブタジエン上のスチレン及びマレイミド；ポリブタジエン上のスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマー上のスチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレート上のスチレン及びアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマー上のスチレン及びアクリロニトリル、並びにそれらと４）で示されたコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡ又はＡＥＳポリマーとして公知のコポリマー混合物。
【００６７】
７． ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化及び臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化又はスルホ塩素化（ｓｕｌｐｈｏｃｈｌｏｒｉｎａｔｅｄ）ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、エピクロロヒドリンホモポリマー及びコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
【００６８】
８． α，β−不飽和酸から誘導されるポリマー及びその誘導体、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレート；ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル、ブチルアクリレートを用いた耐衝撃性改質物。
【００６９】
９． ジカルボン酸及びジオールから誘導される、及び／又はヒドロキシカルボン酸又は相応するラクトンから誘導されるポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）及びポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル末端ポリエーテルから誘導されるブロックコポリエーテルエステル；並びにポリカーボネート又はＭＢＳで改質されたポリエステル。
【００７０】
１０． 例えば既に前記で挙げられているポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。
【００７１】
好適なポリビニルアセタールは、不飽和アルコール及びアミン（すなわちアシル誘導体又はそれらのアセタール）から誘導されるポリマー、例えばポリビニルアセテート、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラル、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン；並びに前記１．で挙げられたオレフィンとのそれらのコポリマーを含む。
【００７２】
ポリマーマトリックス中への遷移金属ナノ粒子の取り込みは、高い透過性であるプラスチック物品を導き、それらは、無色（例えば透明な板ガラス又はフィルムのための）であってよく、又は、例えば顔料又は顔料の混合物の添加によって、例えば好適な光遮断又は日除けが所望される場合の適用のために着色されてよい。本発明の遷移金属ナノ粒子は、高い遮熱効果を達する、高い装填量を可能にする。
【００７３】
好適な装填量は、最終のポリマー組成物の質量に対して、分散剤を含むナノ粒子の０．００１〜１０質量％、特に０．００３〜５質量％である。銀のみの量は、最終のポリマー組成物に対して、典型的に０．００１〜１質量％である。
【００７４】
前記のポリマーは、全て熱可塑性ポリマーである。しかしながら、透過性物質、例えばガラス又は前記のポリマーの１つに適用される、当該のナノ形状遷移金属粒子を硬化性／架橋性被覆に取り込むことも可能である。硬化性／架橋性被覆の例を、以下に示す。
【００７５】
１． 一方でアルデヒド、並びに他方でフェノール、尿素及びメラミンから誘導される架橋性ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂、及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
【００７６】
２． 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール、及び架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから誘導される不飽和ポリエステル樹脂、並びにそれらの低燃焼性のハロゲン含有改質物。
【００７７】
３． 置換されたアクリレートから誘導される架橋性アクリル樹脂、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、又はポリエステルアクリレート。
【００７８】
４． メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート又はエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
【００７９】
５． 促進剤を使用してもしくは使用せずに、従来の硬化剤、例えば無水物又はアミンで架橋されている、脂肪族、脂環式、複素環式又は芳香族グリシジル化合物から誘導される架橋性エポキシ樹脂、例えばビスフェノールＡとビスフェノールＦとのジグリシジルエーテル製品。
【００８０】
一般に、熱可塑性ポリマーが好ましい。
【００８１】
好ましい熱可塑性又は架橋性ポリマーは、ポリカーボネート、ポリカーボネート上の被覆層又は共押出層、ポリエステル、アクリル、ハロゲン化ポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、ビニル芳香族モノマーから誘導された芳香族ホモポリマー及びコポリマー、並びにそれらのグラフトコポリマー、例えばアクリルニトリル−ブタジエン−スチレンテルポリマー、及びポリビニルアセタール、並びにそれらの配合物及びコポリマーを含む。
【００８２】
本発明の特定の一実施態様において、熱可塑性又は架橋性ポリマーは、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、透明ＡＢＳ、ポリフッ化ビニリデン、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、ポリプロピレン、ポリエチレン、又はそれらの混合物を含む。
【００８３】
熱可塑性ポリマーに関して、ポリアクリレート及びポリカーボネートが最も好ましい。
【００８４】
前記の組成物は、他の成分として、抗酸化剤、難燃剤、清澄剤、ＵＶ吸収剤及び／又は立体ヒンダードアミン、顔料、並びに他のＮＩＲ吸収剤、例えばＡＴＯ、ＩＴＯ、ＬａＢ6、ＷＯx、ドープされたＷＹＯｘ、ＺｎＯ又はドープされたＺｎＹＯ、シアニン、フタロシアニン、ルモゲン７８８又は他のクオテリレン、ジチオレン、並びに他の金属錯体から選択される従来の添加物を含有してよい。
【００８５】
例は、以下で挙げられる。
【００８６】
１．酸化防止剤
１．１． アルキル化モノフェノール、例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、側鎖内で直鎖又は分岐鎖であってよいノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデカ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデカ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデカ−１’−イル）フェノール、及びそれらの混合物。
【００８７】
１．２． アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００８８】
１．３． ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００８９】
１．４． トコフェロール、例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール、及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００９０】
１．５． ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば、２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ジスルフィド。
【００９１】
１．６． アルキリデンビスフェノール、例えば、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル−フェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００９２】
１．７． Ｏ−、Ｎ−、及びＳ−ベンジル化合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００９３】
１．８． ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００９４】
１．９． 芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００９５】
１．１０． トリアジン化合物、例えば２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００９６】
１．１１． ベンジルホスホネート、例えば、ジメチル−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００９７】
１．１２． アシルアミノフェノール、例えば、４−ヒドロキシラウルアニリド（ｈｙｄｒｏｘｙｌａｕｒａｎｉｌｉｄｅ）、４−ヒドロキシステアルアニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【００９８】
１．１３． β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と、一価又は多価アルコールとの、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００９９】
１．１４． β−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と、一価又は多価アルコールとの、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン；３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］−ウンデカンとのエステル。
【０１００】
１．１５． β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と、一価又は多価アルコールとの、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１０１】
１．１６． ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と、一価又は多価アルコールとの、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１０２】
１．１７． β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（Ｕｎｉｒｏｙａｌ社製のＮａｕｇａｒｄ（登録商標）ＸＬ−１）。
【０１０３】
１．１８． アスコルビン酸（ビタミンＣ）。
【０１０４】
１．１９． アミン系酸化防止剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチル−アミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔｅｒｔ−オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノアルキル化及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノアルキル化及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ｔｅｒｔ−オクチル−フェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブト−２−エン。
【０１０５】
２． ＵＶ吸収剤及び光安定剤。
【０１０６】
２．１． ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシ−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−［３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと、ポリエチレングリコール３００とのエステル交換反応生成物；
【化４】
0005686598.tif 000005
［式中、前記Ｒ＝３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］−ベンゾトリアゾールである］で示される化合物；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）−フェニル］ベンゾトリアゾール。
【０１０７】
２．２． ２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【０１０８】
２．３． 置換された、及び非置換の安息香酸のエステル、例えば、４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレソルシノール、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レソルシノール、ベンゾイルレソルシノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１０９】
２．４． アクリレート、例えば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン、ネオペンチルテトラ（α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート。
【０１１０】
２．５． ニッケル化合物、例えば、２，２’−チオ−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチル−ブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１又は１：２錯体であって、さらなる配位子、例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールミンを有する又は有さないもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル、例えばメチル又はエチルエステルのニッケル塩、ケトキシムの、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、さらなる配位子を有するもの、又は有さないもの。
【０１１１】
２．６． 立体ヒンダードアミン、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状又は環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状又は環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブ��ルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；１，６−ヘキサンジアミンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン、並びにＮ，Ｎ−ジブチルアミンと４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１９２２６８−６４−７］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ−［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物、２，４−ビス［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−ｙｌ）−Ｎ−ブチルアミノ］−６−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−１，３，５−トリアジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、５−（２−エチルヘキサノイル）−オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、Ｓａｎｄｕｖｏｒ（Ｃｌａｒｉａｎｔ；ＣＡＳ登録番号［１０６９１７−３１−１］）、５−（２−エチルヘキサノイル）オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、２，４−ビス−［（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−ピペリジン−４−イル）ブチルアミノ］−６−クロロ−ｓ−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン）との反応生成物、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン−４−イル）アミノ）−ｓ−トリアジン、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペラジン−３−オン−４−イル）−アミノ）−ｓ−トリアジン。
【０１１２】
２．７． オキサミド、例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド（ｂｕｔｏｘａｎｉｌｉｄｅ）、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−エトキサニリド（ｅｔｈｏｘａｎｉｌｉｄｅ）、及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドとの混合物、並びにｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドとの混合物。
【０１１３】
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（４−［２−エチルヘキシルオキシ］−２−ヒドロキシフェニル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【０１１４】
３． 金属不活性化剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラール−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０１１５】
４． ホスフィット及びホスホナイト、例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−クミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２’’−ニトリロ−［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィラン。
【０１１６】
下記のホスフィットが特に好ましい：
トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット（ｌｒｇａｆｏｓ（登録商標）１６８、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｉｎｃ）、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化５】
0005686598.tif 000006
【０１１７】
５． ヒドロキシルアミン、例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化タローアミンから誘導されるＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【０１１８】
６． ニトロン、例えば、Ｎ−ベンジル−アルファ−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタ−デシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサデシルニトロン、水素化タローアミンから誘導されるＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシル−アミンから誘導されるニトロン。
【０１１９】
７． チオ相乗剤、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、又はジステアリルジスルフィド。
【０１２０】
８． ペルオキシド捕捉剤、例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルのエステル、メルカプトベンズイミダゾール、又は２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１２１】
９． ポリアミド安定剤、例えば、ヨウ化物及び／又はリン化合物との組合せでの銅塩、並びに二価のマンガン塩。
【０１２２】
１０． 塩基性補助安定剤、例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウム及びパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモン又はピロカテコール酸亜鉛。
【０１２３】
１１． 成核剤、例えば、無機物質、例えば滑石、金属酸化物、例えば二酸化チタン又は酸化マグネシウム、有利にはアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩又は硫酸塩；有機化合物、例えばモノカルボン酸又はポリカルボン酸及びそれらの塩、例えば４−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；ポリマー化合物、例えばイオン性コポリマー（イオノマー）。１，３：２，４−ビス（３’，４’−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ジ（パラメチルジベンジリデン）ソルビトール、及び１，３：２，４−ジ（ベンジリデン）ソルビトールが、特に好ましい。
【０１２４】
１２． 充填剤及び強化剤、例えば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラスビーズ、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。
【０１２５】
１３． 他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤及び膨張剤。
【０１２６】
１４． ベンゾフラノン及びインドリノン、例えば、Ｕ．Ｓ．４，３２５，８６３号；Ｕ．Ｓ．４，３３８，２４４号；Ｕ．Ｓ．５，１７５，３１２号；Ｕ．Ｓ．５，２１６，０５２号；Ｕ．Ｓ．５，２５２，６４３号；ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号；ＤＥ−Ａ−４３１６６２２号；ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号；ＥＰ−Ａ−０５８９８３９号、ＥＰ−Ａ−０５９１１０２号；ＥＰ−Ａ−１２９１３８４号において開示されているもの、又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オン］、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（２−アセチル−５−イソオクチルフェニル）−５−イソオクチル−ベンゾフラン−２−オン。
【０１２７】
本発明において挙げられるべき好適なＵＶ吸収剤は、以下である：
【化６−１】
0005686598.tif 000007
【化６−２】
0005686598.tif 000008
【化６−３】
0005686598.tif 000009
【化６−４】
0005686598.tif 000010
【０１２８】
ヒドロキシフェニルトリアジンＵＶ吸収剤は公知であり、かつ商品の一部である。
【０１２９】
最も好適なベンゾトリアゾールＵＶ吸収剤は、商標名ＴＩＮＵＶＩＮ ２１３（ＲＴＭ）、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２６（ＲＴＭ）、ＴＩＮＵＶＩＮ ９００（ＲＴＭ）、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２８（ＲＴＭ）及びＴＩＮＵＶＩＮ ３５０（ＲＴＭ）、ＴＩＮＵＶＩＮ ３６０（ＲＴＭ）、ＴＩＮＵＶＩＮ ５７１（ＲＴＭ）のもと、市販されている。
【０１３０】
１つ以上のそれらの他の添加剤は、通常、その組成物の０．０１〜約１０％の量で、しばしば最終組成物の約０．１〜５質量％の濃度レベルで含まれる。例えば、抗酸化剤（例えば、フェノール系抗酸化剤及び／又は前記のホスフィット（ホスホナイト））、並びに、多くの適用のための難燃剤が重要である。清澄剤／成核剤は、特にポリオレフィン組成物における透過性を提供又は改良するために添加されてよい。本発明のナノ形状遷移金属粒子と、光安定剤、例えばＵＶ吸収剤及び／又は立体ヒンダードアミン（ＨＡＬＳ）との組合せ物が特に好ましい。
【０１３１】
本発明の他の実施態様において、さらにナノ形状遷移金属粒子に対して、それらは、厚さ２００ｎｍ未満の他の成分の固体のナノスケール粒子として、それぞれ周期律表のＩＩＩ及びＩＶの主族に属している１つ以上の元素でドープされる、亜鉛の酸化物及び／又は周期律表ＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、ＶＩ族の遷移金属の窒化物からなり、又はドープされていない窒化バナジウムもしくは窒化スカンジウムからなる、組成物中に存在してよい。
【０１３２】
特に、窒化物は、ランタノイド、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステンを含むスカンジウム、イットリウム、ランタンの窒化物から選択され、ドープ元素は、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、炭素、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛から選択され、その際粒子は、有利には、アルミニウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、アルミニウムドープ窒化チタン、インジウムドープ窒化チタン、ガリウムドープ窒化チタン、アルミニウムドープ窒化バナジウム、インジウムドープ窒化バナジウム、ガリウムドープ窒化バナジウム、窒化バナジウム、アルミニウムドープ窒化スカンジウム、インジウムドープ窒化スカンジウム、ガリウムドープ窒化スカンジウム、窒化スカンジウムからなる。
【０１３３】
有用な酸化物は、例えば、ドープ酸化亜鉛、例えば
ＡＺＯ（アルミニウム酸化亜鉛）
ＩＺＯ（インジウム酸化亜鉛）
ＧａＺＯ（ガリウム酸化亜鉛）
である。
【０１３４】
本発明の他の成分として有用な窒化物及びドープ窒化物材料の例は、以下である：
ＡｌＴｉＮ（アルミニウムでドープされた窒化チタン）
ＩｎＴｉＮ（インジウムでドープされた窒化チタン）
ＧａＴｉＮ（ガリウムでドープされた窒化チタン）
ＶＮ（窒化バナジウム）
ＡｌＶＮ（アルミニウムでドープされた窒化バナジウム）
ＩｎＶＮ（インジウムでドープされた窒化バナジウム）
ＧａＶＮ（ガリウムでドープされた窒化バナジウム）
ＳｃＮ（窒化スカンジウム）
ＡｌＳｃＮ（アルミニウムでドープされた窒化スカンジウム）
ＩｎＳｃＮ（インジウムでドープされた窒化スカンジウム）
ＧａＳｎＮ（ガリウムでドープされた窒化スカンジウム）。
【０１３５】
通常の酸化亜鉛は、ＮＩＲ領域で吸収を示さない：ドーピングは、ＮＩＲ領域で吸収を示す導電性材料における導電性を変換しない。
【０１３６】
ドーピングレベルに関して、本発明の酸化物及び窒化物は、式：
ＸaＺｎbＯc    （ＩＩ）
ＸaＹdＮe      （ＩＩＩ）
［式中、Ｘは、周期律表ＩＩＩ及び／又はＩＶの主族に属する１つ以上の元素であり、Ｙは、周期律表ＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ及び／又はＶＩ族に属する遷移金属であり（それらの族に属する元素の詳細は以下を参照）、指数ａ〜ｅは、成分の存在量を示し、その際式（ＩＩ）は条件ａ＜ｂ＜ｃに従い、かつ式（ＩＩＩ）は、条件ａ＜ｄ≦ｅに従う］によって示されてよい。例えば、ＺｎＯ又はＴｉＮにおけるＡｌ、Ｇａ及び／又はＩｎのドーピングレベルは、しばしば、最終粒子材料の０．０１〜約２０質量％、特に０．１〜１０質量％の範囲内である。そのナノ粒子は、固体であり、かつ、しばしば、重要ではないが結晶である。それらは、当業者に公知の方法によって、例えば、スパッタリング、熱蒸着、化学蒸着（ＣＶＤ）、噴霧熱分解及びゾル−ゲル法を使用して製造されてよく、その材料は、しばしば市販されている。
【０１３７】
好ましい材料は、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎでドープされた酸化亜鉛；Ａｌでドープされた窒化チタン；窒化バナジウムもしくは特に窒化スカンジウム；又はＡｌ、Ｇａ、Ｉｎでドープされた窒化バナジウムもしくは特に窒化スカンジウムである。ドーピング要素としてＧａ又は特にＡｌが、特に重要である。
【０１３８】
次の材料も特に興味深い：ＡＴＯ（アンチモンでドープされた酸化チタン）、ＩＴＯ（インジウムでドープされた酸化スズ）、ＡＺＯ（アルミニウムでドープされた酸化亜鉛）、ＩＺＯ（インジウムでドープされた酸化亜鉛）、ＧａＺＯ（ガリウムでドープされた酸化亜鉛）、ＬａＢ6及びドープ酸化タングステン（ＹＷＯx）。
【０１３９】
かかるドープ酸化物及びＩＲ遮蔽適用におけるそれらの使用は、例えば、ＵＳ ２００３／０１２２１１４号及びＵＳ ７ ０７４ ３５１号において記載されている。
【０１４０】
１つ以上の前記材料が使用されてよい。
【０１４１】
本発明の範囲内で他の成分として使用される酸化物又は窒化物のナノ粒子は、反射材として、しかし吸収剤として、光と相互作用することを見出していない（散乱は存在するが、小さい分布のみを示す）。
【０１４２】
前記のようなポリマー及びナノ粒子を含有するプラスチック材料、特に本発明のフィルムは、有利には、技術適用分野、例えば建築ガラス、建築物及び構造物におけるガラス、自動車ガラス、輸送ガラス、農業用フィルム及び構造物において使用されてよい。前記材料は、固形シート、モノリシックシート、ツインウォールシート、マルチウォールシート、平坦シート、波形シート、フィルム、延伸又は一軸又は二軸延伸フィルム、積層フィルム、キャップストック（ｃａｐｓｔｏｃｋ）フィルムであってよい。
【０１４３】
特定の適用分野は、ウィンターガーデン及びベランダ建築物、ファサード、天窓、プールカバー及び耐水カバー、屋根構造物、ボールト、あゆみ板、シェルター、信号、インテリア及びエクステリアデザイン要素、日除け、側窓、リアウインドウ、パノラマルーフ、温室を含む。
【０１４４】
主な適用は、熱遮断、光管理、熱管理、エネルギー管理、太陽光調整であり、レーザー溶接、機密保護機能、標識、トレーサー、熱伝達、及び被覆のＮＩＲ硬化も重要である。
【０１４５】
本発明のナノ形状遷移金属粒子及び場合により他の構成成分は、個々にポリマー材料に適用され、又は互いに混合されてよい。所望される場合に、個々の構成成分は、例えば乾式混合、圧縮によって又は溶融でポリマー中に取り込まれる前に、互いに混合されうる。
【０１４６】
ポリマー中への本発明のナノ形状遷移金属粒子及び場合により他の構成成分の取り込みは、公知の方法、例えば粉末の形での乾式混合、又は溶液、分散液もしくは懸濁液の形で、例えば不活性溶剤、水もしくは油中での湿式混合によって実施される。本発明の添加剤及び場合により他の添加剤は、例えば成形の前もしくは後に、或いは溶解もしくは分散された添加剤又は添加剤混合物を適用することによって、続いて溶剤又は懸濁液／分散液の薬剤を蒸発して、又は蒸発しないで、ポリマー材料に取り込まれてよい。それらを加工装置（例えば押出機、密閉式混合機等）中に、例えば乾燥混合物もしくは粉末として、又は溶液もしくは分散液もしくは懸濁液もしくは溶融物として、直接添加してよい。
【０１４７】
取り込みは、撹拌機を装備したあらゆる加熱可能なコンテナ中で、例えば密閉装置、例えば混練機、混合器又は攪拌容器中で実施されうる。前記取り込みは、有利には押出機又は混練機中で実施される。処理が、不活性雰囲気中で、又は酸素の存在で実施されるかどうかは重要ではない。
【０１４８】
ナノ形状遷移金属粒子の、場合により他の添加剤で、又は添加剤混合物としての、熱可塑性ポリマーへの添加は、ポリマーが溶融し、そして添加剤と混合される、全ての通常の混合器中で実施されうる。好適な機器は、当業者に公知である。該機器は、主に混合器、混練機、及び押出機である。
【０１４９】
前記の工程は、有利には、処理中に添加剤を導入することによって、押出機中で実施される。
【０１５０】
特に好ましい加工機は、一軸スクリュー押出機、反転及び共回転二軸スクリュー押出機、遊星歯車押出機、リング押出機又は共混練機である。真空が適用されうる、少なくとも１つのガス除去室と共に提供される加工機を使用することも可能である。
【０１５１】
好適な押出機及び混練機は、例えば、Ｈａｎｄｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅｘ−ｔｒｕｓｉｏｎ、Ｖｏｌ．１ Ｇｒｕｎｄｌａｇｅｎ、Ｅｄｉｔｏｒｓ Ｆ．Ｈｅｎｓｅｎ、Ｗ．Ｋｎａｐｐｅ、Ｈ．Ｐｏｔｅｎｔｅ、１９８９、ｐｐ．３−７、ＩＳＢＮ：３−４４６−１４３３９−４（Ｖｏｌ．２ Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎｓａｎｌａｇｅｎ １９８６、ＩＳＢＮ ３−４４６−１４３２９−７）において記載されている。
【０１５２】
例えば、前記スクリューの長さは、１〜６０スクリュー直径、有利には２０〜４８スクリュー直径である。該スクリューの回転速度は、有利には１〜８００毎分回転数（ｒｐｍ）、非常に特に有利には２５〜４００ｒｐｍである。
【０１５３】
最大処理量は、スクリュー直径、回転速度及び駆動力に依存する。本発明の工程は、最大処理量より低いレベルで、前記のパラメータを変動すること、又は投与量を提供する天秤を使用することによっても実施されうる。
【０１５４】
多数の成分を添加する場合に、該成分は、予め混合、又は個々に添加されうる。
【０１５５】
本発明のナノ形状遷移金属粒子及び場合により他の添加剤は、例えばポリマー組成物の質量に対して、約１質量％〜約４０質量％、及び有利には２質量％〜約２０質量％の濃度で共に全ての構成成分を含有する、マスターバッチ（"濃縮物"）の形でポリマーにも添加されうる。前記遷移金属の含有率は、ポリマー組成物の質量に対して、約８ｐｐｍ〜４質量％である。該ポリマーは、添加剤が最終的に添加される場合に、ポリマーと同一の構造である必要はない。かかる作業において、該ポリマーは、粉末、顆粒、溶液、懸濁液の形で、又はラテックスの形で使用されうる。
【０１５６】
取り込みは、成型操作前にもしくは成型操作中に、又は溶解もしくは分散させた化合物をポリマーに適用することによって、続いて溶剤を蒸発して又は蒸発しないで実施されうる。本発明の添加剤をポリマー中に取り込む他の可能性は、対応するモノマーの重合前に、重合中に、もしくは重合直後に、又は架橋前に添加することである。本記載内容において、本発明の添加剤は、そのまま、或いは封入された形で（例えばワックス、油又はポリマー中で）添加されうる。
【０１５７】
本発明のナノ形状遷移金属粒子をポリマー中に取り込む他の可能性は、対応するモノマーの重合前に、重合中に、もしくは重合直後に、又は架橋前に添加することである。本記載内容において、本発明の添加剤は、そのまま、或いは封入された形で（例えばワックス、油又はポリマーで）添加されうる。
【０１５８】
本明細書で記載されている本発明のナノ形状遷移金属粒子を含有する材料は、成形物、回転成形物、注入成形品、吹込成形品、フィルム、テープ、表面被覆等の製造のために使用されうる。
【０１５９】
さらに本発明の他の目的は、熱遮蔽構造物もしくは自動車ガラスもしくは農業用フィルム、レーザー溶接、レーザー印刷、機密保護印刷、又は被覆のＮＩＲ硬化におけるＩＲ吸収剤として、前記の方法によって製造された、ナノ形状遷移金属粒子の使用である。
【０１６０】
前記の方法に関する、前記で示されている定義及び選択は、本発明の他の側面に関しても適用する。
【図面の簡単な説明】
【０１６１】
【図１Ａ】ＡｇＮＰｓの吸収スペクトルを示す図。
【図１Ｂ】吸収スペクトルを示す図。
【図１Ｃ】吸収スペクトルを示す図。
【図１Ｄ】ＭＭＡ中でのＮｇＮＰｓのＴＥＭ図を示す図。
【図１Ｅ】吸収スペクトルを示す図。
【図１Ｆ】吸収スペクトルを示す図。
【図１Ｇ】吸収スペクトルを示す図。
【図１Ｈ】種々のＡｇＮＰｓ濃度を有するＰＭＭＡプラークの吸収スペクトルを示す図。
【図１Ｉ】水性分散液とＭＭＡ分散液との吸収スペクトルを示す図。
【０１６２】
次の実施例によって、本発明を説明する。
【０１６３】
略語：
ＰＨＰＭは、ポリヒドロキシプロピルメタクリレートである。
ＰＶＰは、ポリビニルピロリドンである。
ＩＢＡは、イソボルニルアクリレートである。
ＨＤＤＡは、ヘキサンジオールジアクリレートである。
ＭＭＡは、メチルメタクリレートである。
【０１６４】
商品：
分散剤：Ｃｉｂａ Ｉｎｃ．社製の商品ＥＦＫＡ ４３００
分散剤：Ｃｉｂａ Ｉｎｃ．社製の商品ＥＦＫＡ ４４０１
分散剤：Ｅｌｅｍｅｎｔｉｓ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ社製のＮｕｏｓｐｅｒｓｅ ＦＸ９０８６。
【０１６５】
Ａｇ−ナノ小板の合成及び分離
合成工程０
１Ｌフラスコ中に、蒸留水４２３ｍｌ、ＡｇＮＯ3の１ｍＭ溶液５０ｍｌ、クエン酸ナトリウムの３０ｍＭ溶液３０ｍｌ、イソボルニルアクリレート０．０６７５ｍｌ、ヘキサンジオールジアクリレート０．０７３５ｍｌ、及びＨ2Ｏ2の２．００％溶液５８．５ｍｌを、順次添加した。その溶液を、激しい撹拌下に置き、そして１００ｍＭ ＮａＢＨ4溶液５．２ｍｌを添加した。溶液の色は、すぐに変化し、かつ黄色から青への色の移行は、数分の時間内で得られた。相対スペクトルを、図１Ａ、線Ａで示す。
【０１６６】
プリズム形成の点での反応経過は、ＵＶ−ＶＩＳ及びＤＬＳ解析の双方に従った。一昼夜の撹拌後の安定性も検査した。
【０１６７】
合成工程１
工程０の新しく合成した溶液３００．０ｍｌを、機械撹拌を装備した密閉反応容器中に導入した。そして４０ｍＭアスコルビン酸溶液６．０ｍｌを添加した。ＡｇＮＯ3の１ｍＭ溶液２００．０ｍｌを、シリンジポンプで、３０ｍｌ／ｍｉｎで設定した固定フラックスで滴加した。その反応を、恒温浴で２５℃で実施した。
【０１６８】
吸収スペクトルの解析は、最大値が、同一の波長で中心にあったが、しかしより鋭くかつより高くなったことを示している（図１Ａ、線Ｂを参照）。
【０１６９】
合成工程２
典型的に、工程１において記載されているように得られたもの２５０．０ｍｌを、機械撹拌を装備した、密閉反応フラスコ中に導入した。その反応を、恒温浴で２５℃で実施した。最大ピーク約１０５０ｎｍでの吸収スペクトルを達するために、撹拌下で、アスコルビン酸４０ｍＭの１３．５ｍｌを導入した。
【０１７０】
続いて窒化銀の１ｍＭ溶液４５０ｍｌを、３０ｍｌ／ｍｉｎの一定フラックスでポンプで添加した。銀ナノ小板の最終の大きさ及び相対吸収スペクトルを、導入された窒化銀の量によって容易に適合することができる（図１Ａ、線Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆを参照）。アスコルビン酸と窒化銀との比（ｍｏｌ／ｍｏｌ）を、１．２ｍｏｌ／ｍｏｌと同等に保った。
【０１７１】
図１Ａ ＡｇＮＰｓの吸収スペクトル。Ａ）工程０において合成されたＡｇＮＰｓ。Ｂ）工程１におけるＡｇＮＰｓ。ＡｇＮＰｓの吸収スペクトルを、工程１（３００ｍｌ）から、１ｍＭ ＡｇＮＯ3溶液：１００ｍｌ（Ｃ）、２００ｍｌ（Ｄ）、３００ｍｌ（Ｅ）及び４５０ｍｌ（Ｆ）を添加して変化した−工程２において記載されている方法−。
【０１７２】
実施例１：
工程２から得られた銀ナノ小板懸濁液を、銀（原子）の公称濃度０．０８９ｍＭまで希釈した。この懸濁液７０．０ｍｌをフラスコ中に導入し、そしてＮ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド（純度９９．０％）（アクリルアミン／Ａｇモル比１０：１）０．０１１ｍｌを、撹拌下で添加した。アミン／Ａｇモル比は、５：１〜１００：１の範囲でありうる。
【０１７３】
アクリルアミンの役割は、ＡｇＮＰｓ凝集を妨げ、かつ水中での安定性を増加することであり（図１Ｂを参照）、アミンがない場合には、その粒子は、反応フラスコ中で崩壊しかつ沈澱する。この実施例において、アミンを、溶剤蒸発中の損失を避けるために高い分子量及び沸点で選択した。
【０１７４】
前記の安定化したＡｇＮＰｓ水溶液に、分散剤Ｅｆｋａ ４３００アルコール溶液（１２．１％（ｗ／ｗ）、０．７６６ｇ／ｃｍ3）１．０９ｍｌを、激しい撹拌下で添加し；Ｅｆｋａマトリックスに対するＡｇの質量百分率０．６６％を達した。得られた混合物を、３０℃で調整した恒温浴中で、一昼夜、撹拌下で放置した。
【０１７５】
分散剤の質を、分散剤マトリックスにおけるＡｇの質量百分率０．４４％、０．６６％又は０．８８％（ｗ／ｗ）と同等で得るために調整した。そして、その水を、減圧下で、フラスコ温度４０℃未満を保ちながら取り除いた。
【０１７６】
そして、ＡｇＮＰｓを含有する乾燥させたＥｆｋａマトリックスを、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）７０．０ｍｌ中で分散し、公称銀濃度を０．０８９ｍＭまで回復した（図Ｃを参照）。
【０１７７】
アクリルアミンとＥｆｋａ分散剤（この実施例の４３００と実施例２において報告されているＥ４４０１）との組合せは、均一なＭＭＡ分散剤を生じた。
【０１７８】
図１Ｂ。この図は、次の吸収スペクトルを示す：合成された（Ａ）として工程２のＡｇＮＰｓを、アクリルアミン１５：１を添加後に（Ｂ）、同様の材料を、２４時間後に（Ｃ）、７２時間後に（Ｄ）、及び１４４時間後に（Ｅ）解析した。挿入図：強度ｖｓ時間のピーク。組成物として、アクリルアミンなしに、１４４時間後に、工程２のＡｇＮＰｓのスペクトル（Ｆ）を報告した：最大ピークは、青く変動し、かつ強度において低減された。この混合物を乾燥した場合に、さらに分散剤を添加した場合に、主にＡｇ堆積を導き、かつ吸収は、主に消失する。
【０１７９】
図１Ｃ。グラフにおいて、次の吸収スペクトルを記録した：水中でアクリルアミンでの工程２のＡｇＮＰｓ、並びにＮ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド（アクリルアミン／Ａｇモル比１０：１）及びＥｆｋａ ４３００（Ａｇ／Ｅｆｋａ ０．６６％（ｗ／ｗ））を使用したＭＭＡ中での再分散後。
【０１８０】
図１Ｄ。この図は、ＭＭＡ中でのＡｇＮＰｓのＴＥＭ図を示す。
【０１８１】
ＰＭＭＡプラークの達成
半重合
開始剤ラウリルペルオキシド０．１９７ｇ（０．３％（ｗ／ｗ））を、前記のように、新しい蒸留したＭＭＡ中で懸濁したＡｇＮＰｓ７０．０ｍｌに添加し、そして密閉反応フラスコ中に置いた。その混合物を、撹拌下で保持し、そして６０℃で３時間、恒温浴中に置いた。約３時間後に、その懸濁液は、オリゴマーの形成による粘度の増加を示した。そして、そのシロップを、室温で冷却するまで、氷浴中に容器をおいて急冷した。そのフラスコを、室温で３０分間、減圧炉に置き、その液体を脱ガスした。
【０１８２】
重合
前記のプレポリマーを、金型に流し込み（９５％まで満した）、厚さ２〜３ｍｍのプラークを得た。その金型を、６０℃で１５時間、通気炉に置いた。そして３時間１２０℃で置いた。
【０１８３】
そのプラークを、金型から外し、そして光学スペクトルを記録した。この方法の質を評価するために、スペクトル強度を、出発材料と比較した（水中でアクリルアミンで安定化させたＡｇＮＰｓ）。さらに、熱安定性を試験するために、いくつかのプラークを、１８０℃で２０分間試験した。
【０１８４】
全てのアクリルアミドとＥｆｋａ ４３００との組合せの試験した比を、記録した性能と共に第１表において要約した。
【０１８５】
図１Ｅ。水中でＮ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド／Ａｇ １０：１で安定化させたＡｇＮＰｓの吸収スペクトル（Ａ）；（Ｂ）Ｅｆｋａ ４３００の量に関して本明細書において記載されている方法を使用して、Ａｇ／Ｅ４３００の０．６６％（ｗ／ｗ）を達成することを実現したスラブの吸収スペクトル；（Ｃ）１８０℃で２０分間熱処理後のいくかのスラブの吸収スペクトル。全てのスペクトルを、いくつかの光学距離に標準化した。
【０１８６】
【表１】
0005686598.tif 000011
【０１８７】
この表は、いくつかのＮ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド／Ａｇ及びＡｇ／Ｅ４３００比に関して得られた残りの吸光度の値を要約している。
【０１８８】
実施例２：
工程２から得られた銀ナノ小板懸濁液を、銀（原子）の公称濃度０．０８９ｍＭまで希釈した。この懸濁液７０．０ｍｌをフラスコ中に導入し、そしてＮ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド（純度９９．０％）（アクリルアミド／Ａｇモル比５０：１）０．０５７ｍｌを、撹拌下で添加した。アミド／Ａｇモル比は、１０：１〜１００：１の範囲であった。
【０１８９】
前記の安定化したＡｇＮＰｓ水懸濁液に、分散剤Ｅｆｋａ ４４０１アルコール溶液（１６．８％（ｗ／ｗ）、０．７９８／ｃｍ3）１．１３ｍｌを、激しい撹拌下で添加した。このように得られた混合物を、撹拌下で一昼夜、３０℃で設定した恒温浴中に放置した。
【０１９０】
分散剤の質を調整し、０．４４％、０．６６％又は０．８８％（ｗ／ｗ）と同等の分散剤マトリックスにおけるＡｇの質量百分率を得た。
【０１９１】
そしてその水を、フラスコ温度４０℃未満を保ちながら、減圧下で取り除いた。水の残りを、酢酸エチル５０．０ｍｌで共沸真空蒸留によって取り除くことができる。そして、ＡｇＮＰｓを含有する乾燥させたＥｆｋａマトリックスを、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）７０．０ｍｌ中で分散し、公称銀濃度を０．０８９ｍＭまで回復した。
【０１９２】
図１Ｆ。グラフにおいて、次の吸収スペクトルを記録した：合成された工程２のＡｇＮＰｓ、並びにＮ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド（アクリルアミン／Ａｇモル比５０：１）及びＥｆｋａ ４４０１（Ａｇ／Ｅｆｋａ ０．４４％（ｗ／ｗ））を使用したＭＭＡ中での再分散後。
【０１９３】
ＰＭＭＡプラークの製造
ＡｇＮＰｓとＥｆｋａ ４４０１とのモノマー懸濁液からのＰＭＭＡプラークを、実施例１に記載されている同様の方法で得た。
【０１９４】
全てのアクリルアミンとＥｆｋａ ４４０１との組合せの試験された比を、達成した性能と共に第２表において要約した。
【０１９５】
図１Ｇ。水中でＮ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド／Ａｇ ５０：１で安定化されａｔＡｇＮＰｓの吸収スペクトル（Ａ）；（Ｂ）にＥｆｋａ ４４０１の量に関して本明細書において記載されている方法を使用してＡｇ／Ｅ４４０１ ０．４４％（ｗ／ｗ）を達成することを実現したプラークの吸収スペクトル；（Ｃ）１８０℃で２０分間熱処理後のいくかのプラークの吸収スペクトル。全てのスペクトルを、いくつかの光学距離に標準化した。
【０１９６】
【表２】
0005686598.tif 000012
【０１９７】
この表は、いくつかのＮ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド／Ａｇ及びＡｇ／Ｅ４４０１比に関して得られた残りの吸光度の値を要約している。
【０１９８】
実施例３：
ＮＩＲ領域におけるプラーク吸収の強度を増加するために、銀ナノ小板の濃度を増加するべきである。これは、以下に記載されている方法に従って得られる。
【０１９９】
実施例２における報告に関する二倍の濃度を、Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド（アミン／Ａｇモル比５０：１）で安定化させたＡｇＮＰｓ懸濁液（公称Ａｇ濃度０．０８９ｍＭ）１４０．０ｍｌをフラスコに導入して得た。激しい撹拌下で、分散剤Ｅｆｋａ４４０１アルコール溶液（１６．８％（ｗ／ｗ）、０．７９８ｇ／ｃｍ3）１．５１ｍｌを添加して、Ｅｆｋａマトリックスに対するＡｇの質量百分率０．６６％を得た。このように得られた混合物を、一昼夜、３０℃で設定した恒温浴中に、撹拌しながら放置した。
【０２００】
そしてその水を、４０℃で減圧下で取り除いた。溶液の残りを、酢酸エチル１００．０ｍｌで共沸真空蒸留によって取り除いた。
【０２０１】
そしてＡｇＮＰｓを含有する乾燥Ｅｆｋａマトリックスを、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）７０．０ｍｌ中に分散させ、公称銀濃度０．１７８ｍＭを得た。そしてその懸濁液を、実施例２において記載されているように重合して、プラークを製造した。
【０２０２】
三倍の濃度を、同様の方法で、安定化されたＡｇＮＰｓ水懸濁液２１０．０ｍｌから出発して得た。分散液の量を、前記の実施例におけるようにＡｇで同様の性質で維持した。Ｅｆｋａマトリックス中でＡｇＮＰｓを、ＭＭＡ７０．０ｍｌ中で分散し、Ａｇの公称濃度０．２６７ｍＭを得た。重合化は、前記の報告と同様の方法で実施した。
【０２０３】
図Ｈにおける比較のために、濃度０．０８９ｍＭと共に得られた結果を報告している。そのスペクトルを、同様の光学距離に対して測定した。
【０２０４】
全ての二倍及び三倍のＡｇＮＰｓ濃度でのプラーク試料は、一倍の濃度に関して報告されたように、１８０℃で２０分間の処理後に同様の強度を維持した。
【０２０５】
この高い安定性のために、ＰＭＭＡマスターバッチ（又は濃縮物）を製造することができ、ＰＣ又はＰＥＴとの配合物のために使用されるべきである。
【０２０６】
図１Ｈ。種々のＡｇＮＰｓ濃度を有するＰＭＭＡプラークの吸収スペクトル。Ｃ１）Ａｇ０．０８９ｍＭ、１１００ｎｍでＡｂｓ０．０８２５；Ｃ２）Ａｇ０．１７８ｍＭ、１１００ｎｍでＡｂｓ０．１６４；Ｃ３）Ａｇ０．２６７ｍＭ、１１００ｎｍでＡｂｓ０．２５８。挿入図：ＮＩＲ装置で記録された最大の完全な吸収。全てのスペクトルを、１ｍｍ光学距離に標準化した。
【０２０７】
実施例３ｂ：
他のアミノアクリルモノマーを、Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミドの結果と比較して、ＡｇＮＰｓの水中での安定性に関して試験した。
【０２０８】
工程２から得られたＡｇＮＰｓ懸濁液を、銀（原子）の公称濃度０．０８９ｍＭまで希釈した。この懸濁液７０．０ｍｌをフラスコ中に導入し、そして２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレート（純度９８．０％）（アミン／Ａｇモル比１０：１）０．０１１ｍｌを、撹拌下で添加した。その相対吸収強度を、以下の第３ｂ表において報告する。
【０２０９】
ＭＭＡ中でのＥｆｋａ４３００及びＥｆｋａ４４０１での分離及び再分散を、それぞれ実施例１及び２において報告したように実施した。
【０２１０】
【表３】
0005686598.tif 000013
【０２１１】
実施例３ｃ：
工程２から得られたＡｇＮＰｓ懸濁液を、銀（原子）の公称濃度０．４４８ｍＭまで希釈した。この懸濁液５０．０ｍｌをフラスコ中に導入し、そしてアリルアミン（純度９８．０％）（アミン／Ａｇモル比５：１）０．００８５ｍｌを、撹拌下で添加した。このアミン／Ａｇモル比を、５：１〜１３：１の範囲内にした。この相対吸収強度を、以下の第３ｃ表において報告する。
【０２１２】
ＭＭＡ中でＥｆｋａ４４０１での分離及び再分散を、実施例２において報告したように実施した。
【０２１３】
【表４】
0005686598.tif 000014
【０２１４】
実施例４：
工程０の溶液の３０ｍｌに、Ｎｕｏｓｐｅｒｓｅ ＦＸ９０８６のエタノール溶液０．５ｍｌ（合計５０ｍｌのエタノール溶液までのＮｕｏｓｐｅｒｓｅ ＦＸ９０８６の８ｍｌ）を添加した。そして、この溶液を、４０℃で高真空（１５Ｔｏｒｒ）下で水浴を維持しながら、回転蒸気系中で乾燥した。
【０２１５】
ＭＭＡ中での再分散性及びＡｇ−プリズムを取り込むための重合
その残りを、メチルメタクリレート３０ｇ中で再分散して、均一な青いコロイド溶液を導いた。ＭＭＡ分散液の光学特性を、ＵＶ−ＶＩＳ解析を介して検査した。その結果を、図１Ｉに示す。
【０２１６】
図１Ｉは、水性分散液とＭＭＡ分散液との吸収スペクトルを示す（点線：ＭＭＡ分散液；直線：Ｈ2Ｏ分散液）。
【０２１７】
前記で製造されたＭＭＡ−Ａｇプリズム分散液１０ｇに、光開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４の０．５ｇを添加した。その溶液を、ペトリ皿中で堆積し、そして光化学重合を生じさせるＵＶランプにさらした。取り込まれたＡｇ−プリズムを有するポリメチルメタクリレートの薄い青みを帯びたフィルムを得た。
【０２１８】
熱放射重合も実施した。前記で製造されたＭＭＡ−Ａｇプリズム分散液１０ｇに、ラウリルペルオキシドの触媒量を添加した。この溶液を、８５℃まで、３０分間加熱し、重合させた。得られたポリマーのＵＶ−ＶＩＳスペクトルを、吸収がＰＭＭＡ中で前記の実施例に類似して維持されることを示すことを記録した。
【０２１９】
実施例５：
工程０で記載されたＡｇプリズム溶液３０ｍｌアリコートに、分散剤ＥＦＫＡ ４３００のエタノール溶液０．５ｍｌ（エタノール溶液の合計５０ｍｌまでのＥＦＫＡ ４３００の８ｍｌ）を添加して、溶液のエマルションタイプを生じた。そして、この溶液を、４０℃で、及び高真空（１５Ｔｏｒｒ）下で水浴を維持しながら、回転蒸気中で乾燥した。
【０２２０】
そして得られた材料を、新しい蒸留させたＭＭＡ中で再分散し、そしてその後０．１％ラウリルペルオキシドで重合した。０．１５％ ＴＩＮＵＶＩＮ Ｐ、０．１５％ ＴＩＮＵＶＩＮ ７７０を、さらに添加剤として添加した。
【０２２１】
最初に、この混合物を、６０℃で、試験管中で、約２時間再重合し、そして第二工程において、そのシロップを、６０℃で、水浴中で、続いて１５時間炉中で重合し、続いて３時間１２０℃の炉で最終重合した。Ａｇプリズムを取り込んだ場合に、最終のプラスチック物品を得た。
【０２２２】
人工曝露
その試料を、ＡＴＬＡＳ社製のＷｅａｔｈｅｒ−Ｏｍｅｔｅｒ Ｃｉ６５で、ＡＳＴＭ Ｇ １５５／ＡＳＴＭ Ｇ １５１に従って、２ボロシリケート膜を有するキセノンランプ、３４０ｎｍで０．３５Ｗ／ｍ2、６３±３℃のバックパネル温度、１０２分の乾燥及び光、１８分の水噴霧及び光を照射した。
【０２２３】
評価
ＵＶ−ＶＩＳ−ＮＩＲスペクトルを、ＩＳＲ３１００積分球を備えたＳｈｉｍａｄｚｕ ＵＶ ３１０１ ＵＶ：パラメーター：スリット広さ２０、波長２５０〜１８００ｎｍ、スキャン速度速い、３６０ｎｍで光源変更及び８３０ｎｍで検出器変更、で記録する。
【０２２４】
相対吸収を、同一の波長で最初の吸収により分けられた最大値での吸収によって計算する。
【０２２５】
実施例１、２及び３において記載されている試料のＷＯＭ曝露は、ＮＩＲ吸収の強い変動を示さなかった。例えば、実施例５からのプラークは、２０００時間のＷＯＭ後に９５％のＲｅｌ ＮＩＲ ａｂｓを示した：
【表５】
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【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図１Ｄ】
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【図１Ｅ】
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【図１Ｆ】
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【図１Ｇ】
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【図１Ｈ】
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【図１Ｉ】
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