(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の凹凸部が配列された反射防止構造体を含む光学面を有し、
前記凹凸部の配列ピッチをｐ、前記光学面に入射する光の波長域のうち最も短い波長をλｍｉｎ、前記光学面よりも光入射側の媒質の屈折率をｎ１、前記光学面よりも光射出側の媒質の屈折率をｎ２、前記光学面における位置ｘに入射する光線の最大入射角をθ１ｍａｘ（ｘ）、前記光学面における位置ｘから射出して像面に到達する光線の最大射出角をθ２ｍａｘ（ｘ）、とするとき、
【数１】
0005686554.tif 000006
なる条件を満足することを特徴とする光学系。
【請求項２】
複数の凹凸部が配列された反射防止構造体を含む光学面を有し、
前記凹凸部の配列ピッチをｐ、前記光学面に入射する光の波長域のうち最も短い波長をλｍｉｎ、前記光学面よりも光入射側の媒質の屈折率をｎ１、前記光学面よりも光射出側の媒質の屈折率をｎ２、前記光学面における位置ｘに入射する光線の最大入射角をθ１ｍａｘ（ｘ）、前記光学面における位置ｘから射出して像面に到達する光線の最大射出角をθ２ｍａｘ（ｘ）、とするとき、
【数２】
0005686554.tif 000007
なる条件を満足し、
前記波長λｍｉｎの光線が何れの入射角で前記光学面に入射した場合にも回折光が発生することを特徴とする光学系。
【請求項３】
【数３】
0005686554.tif 000008
なる条件を満足することを特徴とする請求項１または２に記載の光学系。
【請求項４】
８００ｎｍ＜ｐ
なる条件を満足することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の光学系。
【請求項５】
前記反射防止構造体が形成された光学面を含む光学素子を有することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の光学系。
【請求項６】
前記反射防止構造体は、前記光学素子と同一の材料により形成されていることを特徴とする請求項５に記載の光学系。
【請求項７】
前記光学素子は、型を用いて成形され、前記型は、アルミニウムまたはアルミニウム合金を陽極酸化することで形成された複数の細孔を表面に有することを特徴とする請求項５または６に記載の光学系。
【請求項８】
光源からの光を偏向する偏向部材と、該偏向部材により偏向された光が通過する前記光学素子と、を有することを特徴とする請求項５から７のいずれか一項に記載の光学系。 
【請求項９】
前記光学系に入射する光の波長域が、可視域または赤外域であることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の光学系。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか一項に記載の光学系を有することを特徴とする光学機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１つの光学面に微細な反射防止構造体が形成された光学系に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラスやプラスチック等の透光性媒質（透光性材料）を用いて形成されたレンズ等の光学素子においては、表面反射による透過光の損失を低減するための表面処理として、例えば、入射面および射出面のうち少なくとも一方に反射防止膜を設けている。可視光に対する反射防止膜としては、誘電体薄膜を複数層重ねた多層膜である、いわゆるマルチコートが知られている。この多層膜は、透光性の基板表面に、真空蒸着法やスパッタ法により金属酸化物等を成膜して形成される。
【０００３】
また、透光性材料の表面に、微細な凹凸部が所定のピッチで複数形成された反射防止構造体を設ける反射低減方法も知られている。特許文献１は、周期（ピッチ）が４００ｎｍ以下で、深さ（高さ）が７００ｎｍ以下の凹凸形状を有する金型を用いて光透過性プラスチックを射出成形することで、被成形物の表面に微細な複数の凹凸部を転写して反射防止構造体を形成する方法を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−４３２０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ただし、特許文献１が開示する反射防止構造体の形成方法では、金型に形成された微細な凹凸形状を被成形物に十分に転写することが難しいという問題がある。これは、射出成形時の溶融プラスチックの流動性が低いために、周期が４００ｎｍ以下という非常に微細な凹凸形状の内部にまで溶融プラスチックが十分に充填することができないためである。
【０００６】
このような問題を解決する方法の１つとして、金型の温度をガラス転移点以上に高めた状態で溶融プラスチックを充填し、その後、金型を冷却して離型するヒートサイクル成形法がある。この方法では、金型の温度が高いために溶融プラスチックの流動性が上がるので、微細な凹凸形状の内部まで十分に溶融プラスチックが充填され、この結果、凹凸形状の転写性を向上させることができる。
【０００７】
しかしながら、このようなヒートサイクル成形法は、通常の成形法に対して、金型の加熱や冷却に要する時間が加わるために、１回の成形に要する時間が長くなるという問題がある。
【０００８】
本発明は、反射防止構造体の形成に必要な時間が長くなることを回避し、かつ良好な反射防止性能を持つ反射防止構造体を備えた光学系を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一側面としての光学系は、複数の凹凸部が配列された反射防止構造体を含む光学面を有し、
前記凹凸部の配列ピッチをｐ、前記光学面に入射する光の波長域のうち最も短い波長をλｍｉｎ、前記光学面よりも光入射側の媒質の屈折率をｎ１、前記光学面よりも光射出側の媒質の屈折率をｎ２、前記光学面における位置ｘに入射する光線の最大入射角をθ１ｍａｘ（ｘ）、前記光学面における位置ｘから射出して像面に到達する光線の最大射出角をθ２ｍａｘ（ｘ）、とするとき、
【数１】
0005686554.tif 000002
なる条件を満足することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、反射防止構造体の形成に必要な時間が長くなることを回避することができるとともに、反射防止構造体の良好な反射防止性能によってゴーストやフレア等の不要光の発生を抑制することが可能な光学系を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施例１である走査光学系の構成を示す断面図。
【図２】本発明の実施例２である撮影光学系の構成を示す断面図。
【図３】実施例２における反射防止構造体の反射率特性を示す図。
【図４】比較例における反射防止構造体の反射率特性を示す図。
【図５】実施例１，２に共通する基本的事項を示す図。
【図６】図２の撮影光学系を備えたデジタルカメラを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。
【００１５】
まず、具体的な実施例の説明に先立って、図５を用いて本発明の実施例に共通する基本的事項について説明する。
【００１６】
図５（ａ）には、微細凹凸形状により構成された反射防止構造体３を有する光学素子２の例を示している。この例では、光学素子２の射出側の光学面（射出面）に反射防止構造体３が形成されている。なお、光学素子２の入射側の光学面（入射面）に反射防止構造体が形成してもよい。
【００１７】
反射防止構造体３は、１つの凹部３ａと１つの凸部３ｂを含む微細な凹凸部が所定のピッチで複数形成される（繰り返し形成される）ことにより構成されている。凹凸部の「ピッチ」は互いに隣り合う２つの凹凸部における凸部３ｂ間（または凹部３ａ間）の間隔に相当する。
【００１８】
光学素子２は、プラスチックやガラス等の透光性媒質を材料とし、射出成形やプレス成形等の型を用いた成形法により製作される。この場合の型としては、例えば、アルミニウムまたはアルミニウム合金を陽極酸化することで表面に複数の細孔を形成した型を用いることができる。
【００１９】
光学素子２に入射した光１は、反射防止構造体３を経て像面５に到達する。このとき、凹凸部のピッチが回折限界以下に設定されているために、射出光４は回折することなく像面５に到達する。
【００２０】
回折限界以下のピッチは、理論的に回折光が発生しなくなるピッチを意味する。回折限界以下のピッチｐlimitは、入射光１の波長をλとし、射出面よりも光入射側の媒質の屈折率をｎ１とし、射出面よりも光射出側の媒質の屈折率をｎ２とするとき、
【００２１】
【数２】
0005686554.tif 000003
【００２２】
…［式１］
により表される。
【００２３】
ただし、実際には、凹凸部のピッチが回折限界以下であると、型（金型等）の表面に形成される凹部（反射防止構造３の凸部３ｂを成形する部分）の寸法も非常に小さくなるため、溶融した透光性媒質を十分に凹部の内側に充填することができない。このため、反射防止構造３の凸部３ｂの高さが設計値よりも低くなってしまう。
【００２４】
図５（ａ）に示すような断面形状を有する反射防止構造体３は、空気と媒質の空間充填率に応じた低屈折率の単層膜と等価となる。このため、凸部３ｂの高さが入射光１の波長の４分の１程度に達しないと十分な反射防止性能が得られず、発生した反射光によりゴーストやフレア等の不要光が発生するおそれが生ずる。
【００２５】
そこで、実施例では、図５（ｂ）に示すように、凹凸部のピッチ（所定のピッチ）ｐを、以下の条件を満足するように設定している。
【００２６】
【数３】
0005686554.tif 000004
【００２７】
…［式２］
ただし、ｐは凹凸部のピッチ（場合によっては、平均ピッチ）であり、λｍｉｎは該光学系に入射する光の波長域のうち最も短い波長である。
【００２８】
ｎ１は反射防止構造体３が形成された光学面（図５の例では光学素子２の射出面）よりも光入射側の媒質の屈折率であり、ｎ２は反射防止構造体３が形成された光学面よりも光射出側の媒質の屈折率である。
【００２９】
また、θ１ｍａｘ（ｘ）は反射防止構造体３が形成された光学面における位置ｘに入射する光線の最大入射角であり、θ２ｍａｘ（ｘ）は反射防止構造体３が形成された光学面における位置ｘから射出して像面５に到達する光線の最大射出角である。
【００３０】
このように凹凸部のピッチｐを回折限界（［式２］の左辺の値）よりも大きく設定することで、回折光６，７が発生する。しかし、ピッチｐを［式２］の右辺の値よりも小さく設定しているために、回折光６，７は像面５に到達しない大きな射出角（回折角）を持つので、回折光６，７の発生は問題とならない。
【００３１】
一方、凹凸部のピッチｐを回折限界よりも大きく設定することで、反射防止構造体３（光学素子２）を成形するための型の表面の凹部の寸法が拡大され、図５（ａ）に示す場合に比べて成形時における透光性媒質の充填性が向上する。したがって、同じ成形条件であっても反射防止構造体３における凸部３ｂの高さを設計値に近づける又は一致させることができる。これにより、反射防止構造体３の形成に要する時間が長くなることを回避しつつ、反射防止構造体３の良好な反射防止性能（低い反射率）を確保することができ、反射光によるゴースト等の不要光の発生を抑制することができる。
【００３２】
図５（ｃ）には、図５（ｂ）に示した反射防止構造体３に対する比較例としての反射防止構造体３’を備えた光学素子２’を示している。この比較例では、凹凸部のピッチｐを、
【００３３】
【数４】
0005686554.tif 000005
【００３４】
…［式３］
に拡大している。これにより、型の凹部の寸法をさらに拡大することはできるが、ピッチｐが大きくなることで回折光６’，７’の射出角（回折角）が小さくなり、回折光６’，７’が像面５に到達する。したがって、ゴーストやフレア等の不要光が問題になる。
【００３５】
すなわち、図５（ｂ）に示す反射防止構造体３は、［式２］の条件を満足する範囲でピッチｐを回折限界よりも拡大したことを特徴とする。これにより、発生する回折光の悪影響を回避しつつ、反射防止構造体３の反射率を低減することができ、不要光の発生が問題とならない光学系を実現することができる。
【実施例１】
【００３６】
図１には、本発明の実施例１である走査光学系の構成を示している。この走査光学系は、レーザ光によって像面５としての感光ドラム上に画像を形成するレーザービームプリンタ等の画像形成装置（光学機器）に用いられる。
【００３７】
同図において、１１は光源であり、例えば、赤外域（近赤外域）に含まれる波長７８０ｎｍの光を発する半導体レーザ光源である。すなわち、本実施例の走査光学系は、赤外域の光に対して使用される。
【００３８】
１２はコリメーターレンズ、１３は開口絞り、１４はシリンドリカルレンズ、１５は光偏向部材（例えば、ポリゴンミラー）である。光偏向部材１５によって向きが変更されるレーザ光（入射光）１は、光学素子（レンズ）２ａ，２ｂの複数の光学面（レンズ面）を介して像面５に到達する。
【００３９】
光学素子２ａは、透光性媒質であるシクロオレフィンポリマー（日本ゼオン製：ゼオネックス、波長７８０ｎｍにおける屈折率は１．５２４）を用いた射出成形法により製作されている。該光学素子２ａの射出面には、該光学素子２ａと同一の材料であるシクロオレフィンポリマーによって形成された反射防止構造体３が設けられている。反射防止構造体３は、図５（ｂ）に示す凹凸部がピッチｐで複数形成されて構成されている。
【００４０】
この走査光学系では、光学素子２ａの射出面（反射防止構造体３が形成された光学面）への光線の最大入射角は４°であり、該射出面の任意の位置ｘから射出角５８°以上で射出した光線は像面５には到達しない。そこで、位置ｘからの光線の射出角を５８°以上とするために、［式２］に、
λｍｉｎ＝７８０ｎｍ
ｎ１＝１．５２４
θ１ｍａｘ（ｘ）＝４°
ｎ２＝１．０００
θ２ｍａｘ（ｘ）＝５８°
を代入して、凹凸部のピッチｐを８００ｎｍと決定した。
【００４１】
光学素子２ａを成形するための型（金型）の製法については特に限定されるものではないが、本実施例では、陽極酸化法を用いて製作した。
【００４２】
まず、射出成形に使用する通常の金型の面上にアルミニウム層を成膜する。その後、リン酸水溶液中で、直流電流を通電してアルミニウム層の表面に垂直な微細孔を形成し、続いて通電無しでリン酸水溶液中に浸漬することで微細孔の孔径を拡大した。得られた金型の表面を走査型電子顕微鏡により観察したところ、直径が約６００ｎｍの微細孔が平均ピッチ約８００ｎｍの三角配列で形成されていることが確認された。
【００４３】
ここで、［式２］のピッチｐを平均ピッチとするのは、この方法で製作した微細孔が完璧な周期構造ではなく、若干の分散を持っているためである。このようにピッチが完璧な周期構造ではない場合は、平均ピッチが［式２］の条件を満足するようにすればよい。
【００４４】
このように製作した金型にシクロオレフィンポリマーを注入する射出成形法によって光学素子２ａを作製した。このときの成形条件は、金型の温度を１２５℃とし、シクロオレフィンポリマーの注入時の保圧を９５０Ｋｇ／ｃｍ２とした。これは、微細な凹凸形状を転写するための特別な成形法（例えば、ヒートサイクル成形法）を用いていない通常の成形法であるので、金型の加熱および冷却に要する時間を短くして、反射防止構造体３（光学素子２ａ）の成形に要する時間が長くなることを回避できる。
【００４５】
以上のようにして製作された光学素子２ａの射出面を走査型電子顕微鏡および原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察および測定したところ、直径が約６００ｎｍで高さが約１４０ｎｍの円柱状の突起（凸部）が平均ピッチ約８００ｎｍで複数形成されていた。また、光学素子２ａの射出面（反射防止構造体３）の波長７８０ｎｍにおける反射率は、０．２％以下の非常に低い値であった。
【００４６】
なお、突起（凸部）の高さは、反射防止膜の膜厚に相当するものであり、波長７８０ｎｍで使用する場合、８０ｎｍから２５０ｎｍの範囲であることが好ましい。
【００４７】
光学素子２ａを組み込んだ走査光学系を、レーザービームプリンタに装着して評価したところ、ゴースト等の不要光（ノイズ）がほとんどない高品位な画像を得ることができた。
【００４８】
図１に示すように、反射防止構造体３における凹凸部のピッチｐが回折限界よりも大きいために回折光６が発生する。しかし、［式２］の条件を満足するようにピッチｐを約８００ｎｍに設定したため、回折光６は光学素子２ａの射出面で大きく向きが変えられ、像面５には到達しない。このため、回折光６が画像に悪影響を与えることはない。
【００４９】
また、回折光６が発生したことにより、射出光４は、若干、光量（エネルギ）が減少するが、光源１１の発光強度を上げたり感光ドラム５の感度を調整したりすることで対処することが可能である。
【００５０】
以上説明したように、本実施例では、回折光が像面に到達しない範囲で反射防止構造体の凹凸部のピッチを回折限界より大きく設定した。これにより、反射防止構造体の形成に要する時間が長くなることを回避しつつ、良好な反射防止性能を有する反射防止構造体を備えた光学系を実現することができる。
【００５１】
なお、本実施例では、走査光学系に含まれる複数の光学面のうち１つの光学面に反射防止構造体を設けた場合について説明したが、本発明の実施例としては、複数の光学面のうち少なくとも１つの光学面（つまりは２以上の光学面）に反射防止構造体を設けてもよい。
［比較例１］
実施例１との比較のために、［式１］の条件を満足するように凹部のピッチが３００ｎｍである金型を製作した。金型の製造方法は実施例１と同じであるが、陽極酸化において、直流電流を通電する際の電圧を低く設定することで、ピッチが約３００ｎｍで、直径が約２３０ｎｍの微細孔が形成された金型を得た。
【００５２】
このようにして得られた金型を用いて実施例１と同じ成形条件にて光学素子２ａを成形し、その射出面を観察した。直径が約２３０ｎｍで高さが約５０ｎｍの円柱状の突起（凸部）が、約３００ｎｍのピッチで形成されていた。この射出面の波長７８０ｎｍにおける反射率は、３．３％であった。
【００５３】
光学素子２ａを実施例１と同様に走査光学系内に配置し、該走査光学系をレーザービームプリンタに用いて評価したとき、強いゴーストによるノイズが発生し、良好な画像を得ることができなかった。
【実施例２】
【００５４】
図２は、波長４００〜７００ｎｍの可視域の光に対して使用される撮影光学系の構成を示している。同図において、入射光１は、光学素子（レンズ）２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆの複数の光学面（レンズ面）を介して像面５に配置された固体撮像素子に到達する。固体撮像素子は、ＣＣＤセンサやＣＭＯＳセンサにより構成される。
【００５５】
光学素子２ｃは、アクリル樹脂（波長４５０ｎｍにおける屈折率は１．５０１）を用いた射出成形法により製作されたものであり、その射出面には微細凹凸形状により構成された反射防止構造体３が設けられている。
【００５６】
図２に示す撮影光学系は、光学素子２ｃの射出面（反射防止構造体３が形成された光学面）への光線の最大入射角は１５°である。そして、該射出面における任意の位置ｘから射出角４５°以上で射出された光は像面５に到達しない。
【００５７】
そこで、本実施例では、光学素子２ｃの射出面の任意の位置ｘからの光線の射出角を４５°以上とするために、［式２］に、
λｍｉｎ＝４５０ｎｍ
ｎ１＝１．５０１
θ１ｍａｘ（ｘ）＝１５°
ｎ２＝１．０００
θ２ｍａｘ（ｘ）＝４５°
を代入して、凹凸部のピッチｐを４１０ｎｍと決定した。
【００５８】
なお、使用される波長がある幅を持った領域（波長域）に広がっている場合は、使用波長のうち最も短い波長を用いて凹凸部のピッチｐを決定すればよい。これは、長波長の光は短波長の光よりも大きな回折角で射出されるためである。
【００５９】
光学素子２ｃを成形するための型（金型）の製法については特に限定されるものではないが、本実施例では、実施例１と同様に陽極酸化法を用いて製作した。得られた金型の表面を走査型電子顕微鏡により観察したところ、直径が約３００ｎｍの微細孔が平均ピッチ約４１０ｎｍの三角配列で形成されていることが確認された。
【００６０】
このように製作した金型にアクリル樹脂を注入する射出成形法によって光学素子２ｃを作製した。このときの成形条件は、金型の温度を９５℃とし、アクリル樹脂の注入時の保圧を８０ＭＰａとした。これは、微細な凹凸形状を転写するための特別な成形法（例えば、ヒートサイクル成形法）を用いていない通常の成形法であるので、金型の加熱および冷却に要する時間を短くして、反射防止構造体３（光学素子２ｃ）の成形に要する時間が長くなることを回避できる。
【００６１】
以上のようにして製作された光学素子２ｃの射出面を走査型電子顕微鏡および原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察および測定したところ、直径が約３００ｎｍで高さが約１００ｎｍの円柱状の突起（凸部）が平均ピッチ約４１０ｎｍで複数形成されていた。また、光学素子２ｃの射出面（反射防止構造体３）の波長４００〜７００ｎｍの全域における反射率は、図３に示すように、１％以下の低い値であった。
【００６２】
なお、突起（凸部）の高さは、反射防止膜の膜厚に相当するものであり、可視域で使用する場合、６０ｎｍから２００ｎｍの範囲であることが好ましい。
【００６３】
光学素子２ｃを組み込んだ撮影光学系を、デジタルカメラ等の撮像装置（光学機器）に装着して評価したところ、フレアやゴースト等の不要光（ノイズ）がほとんどない高品位な画像を得ることができた。
【００６４】
以上説明したように、本実施例では、回折光が像面に到達しない範囲で反射防止構造体の凹凸部のピッチを回折限界より大きく設定した。これにより、反射防止構造体の形成に要する時間が長くなることを回避しつつ、良好な反射防止性能を有する反射防止構造体を備えた光学系を実現することができる。
【００６５】
なお、本実施例では、撮影光学系に含まれる複数の光学面のうち１つの光学面に反射防止構造体を設けた場合について説明したが、本発明の実施例としては、複数の光学面のうち少なくとも１つの光学面（つまりは２以上の光学面）に反射防止構造体を設けてもよい。
【００６６】
また、本実施例では、光学素子２ｃがアクリル樹脂を用いた射出成形法により製作された場合について説明したが、本発明の実施例における反射防止構造体を備えた光学素子の製作方法はこれに限定されるものではない。例えば、低融点ガラスを用いたガラスモールド法によって光学素子を製作してもよい。
【００６７】
図６には、図２に示した撮影光学系を備えたデジタルスチルカメラ（撮像装置）を示している。図６において、２０はカメラ本体、２１は撮影光学系、２２はカメラ本体２０に内蔵され、撮影光学系２１によって形成された被写体像を受光するＣＣＤセンサやＣＭＯＳセンサ等の固体撮像素子（光電変換素子）である。
【００６８】
２３は撮像素子２２によって光電変換された被写体像に対応する情報を記録するメモリ、２４は液晶ディスプレイパネル等によって構成され、固体撮像素子２２上に形成された被写体像を観察するためのファインダである。
【００６９】
このように、図２に示した撮影光学系を撮像装置に適用することにより、高い光学性能を有する撮像装置を実現することができる。
【００７０】
なお、ここでは撮像装置について説明したが、実施例の光学系は、撮像装置に限定されず、双眼鏡等の観察装置（光学機器）の観察光学系として用いてもよい。
［比較例２］
実施例２との比較のために、［式１］の条件を満足するように凹部のピッチが１７０ｎｍである金型を製作した。金型の製造方法は実施例２と同じであるが、陽極酸化において、直流電流を通電する際の電圧を低く設定することで、ピッチが約１７０ｎｍで、直径が約１２５ｎｍの微細孔が形成された金型を得た。
【００７１】
このようにして得られた金型を用いて実施例２と同じ成形条件にて光学素子２ｃを成形し、その射出面を観察した。直径が約１２５ｎｍで高さが約４０ｎｍの円柱状の突起（凸部）が、約１７０ｎｍのピッチで形成されていた。この射出面の可視域における反射率は、図４に示すように２．１〜３．２％と高かった。
【００７２】
光学素子２ｃを実施例２と同様に撮影光学系内に配置し、該撮影光学系を撮像装置に用いて評価したとき、ゴースト光が発生し、良好な画像を得ることができなかった。
【００７３】
以上説明した各実施例は代表的な例にすぎず、本発明の実施に際しては、各実施例に対して種々の変形や変更が可能である。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
良好な反射防止性能を持つ反射防止構造体を備えた光学系を実現することで、高品位な画像が得られる光学機器を提供できる。
【符号の説明】
【００７５】
２，２ａ，２ｃ  光学素子
３  反射防止構造体
３ａ，３ｂ  凹凸部
【図３】
0005686554.tif 000009
【図４】
0005686554.tif 000010
【図１】
0005686554.tif 000011
【図２】
0005686554.tif 000012
【図５】
0005686554.tif 000013
【図６】
0005686554.tif 000014