(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線を出射するＸ線発生器と、
入射するＸ線の強度に応じた信号を出力する複数の検出素子を備えたＸ線検出器と、
前記Ｘ線発生器を備えたＸ線発生部と前記Ｘ線検出器を備えたＸ線検出部とを支持する支持部と、
前記Ｘ線発生器と前記Ｘ線検出器とが、頭部を含む被写体を挟んで互いに対向するように、前記支持部を前記被写体周りに旋回させる旋回機構と、
前記Ｘ線検出器から出力される信号に対し画像処理を行いＸ線画像を生成する画像情報処理部と、
を備え、
前記Ｘ線発生部は、
第１及び第２のＸ線遮蔽部を含み、前記Ｘ線発生器から照射したＸ線の照射範囲を規制するＸ線照射規制部を前記Ｘ線発生器のＸ線出射方向側に有し、
前記第１及び第２のＸ線遮蔽部内にはそれぞれＸ線の通過を許容する第１及び第２のＸ線通過領域及びＸ線の通過を遮断する第１及び第２の遮蔽領域が設けられ、
前記Ｘ線発生器から出射されるＸ線が前記第１のＸ線通過領域または前記第２のＸ線通過領域を通過可能な位置関係を設定し、
前記Ｘ線の照射経路上において前記第１のＸ線通過領域と前記第２のＸ線通過領域とを重ね合わせることなく、前記Ｘ線の照射方向と交差する規制方向に前記第１及び第２のＸ線遮蔽部のうち一方を他方に対して相対的に変位させ、前記第２のＸ線遮蔽領域の一部と前記第１のＸ線通過領域の一部との重ね合わせ、あるいは前記第１のＸ線遮蔽領域の一部と前記第２のＸ線通過領域の一部との重ね合わせを実行することにより、前記Ｘ線照射規制部においてＸ線が通過する被写体照射Ｘ線通過領域を規制する第１のＸ線照射範囲規制処理が実現可能であることを特徴とする、
Ｘ線撮影装置。
【請求項２】
請求項１記載のＸ線撮影装置であって、
前記支持部の旋回軸の軸方向が鉛直方向であり、前記旋回軸の前記軸方向に沿った方向を高さ方向としたとき、前記Ｘ線検出器のＸ線検出面の中心位置は前記Ｘ線発生器におけるＸ線の発生点であるＸ線焦点よりも高く配置され、
前記規制方向は前記高さ方向を含み、
前記第１のＸ線照射範囲規制処理は、前記第１のＸ線通過領域の上方の一部に、前記第２のＸ線遮蔽部の前記第２のＸ線遮蔽領域の一部を重ね合わせることにより一部遮蔽する処理を含む、
Ｘ線撮影装置。
【請求項３】
請求項１記載のＸ線撮影装置であって、
前記Ｘ線発生部は、
前記Ｘ線発生器から出射されるＸ線が前記第１のＸ線通過領域を通過可能な位置関係を設定し、前記Ｘ線の照射経路上において前記第１のＸ線通過領域と前記第２のＸ線遮蔽領域とを重ね合わせることなく、前記第１のＸ線通過領域をそのまま前記被写体照射Ｘ線通過領域として規制する第２のＸ線照射範囲規制処理と、
前記Ｘ線発生器から出射されるＸ線が前記第１及び第２のＸ線通過領域を通過可能な位置関係を設定し、前記Ｘ線の照射経路上において前記第１のＸ線通過領域と前記第２のＸ線通過領域との少なくとも一部を重ね合わせることにより、前記第１及び第２のＸ線通過領域の重複領域を前記被写体照射Ｘ線通過領域として規制する第３のＸ線照射範囲規制処理と、
がさらに実行可能である、
Ｘ線撮影装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のうち、いずれか１項に記載のＸ線撮影装置であって、
前記第１及び第２のＸ線遮蔽部における前記第１及び第２のＸ線通過領域は、それぞれ前記被写体照射Ｘ線通過領域を通過させる際、前記Ｘ線発生器から出射されるＸ線を規制してＸ線コーンビームを形成可能な領域を含む、
Ｘ線撮影装置。
【請求項５】
請求項４記載のＸ線撮影装置であって、
前記規制方向において、前記第１のＸ線通過領域は前記第２のＸ線通過領域より広い形成幅を有することを特徴とする、
Ｘ線撮影装置。
【請求項６】
請求項３記載のＸ線撮影装置であって、
前記規制方向において、前記第１のＸ線通過領域は前記第２のＸ線通過領域より広い形成幅を有し、
前記Ｘ線発生部による前記第２のＸ線照射範囲規制処理の実行時における前記被写体照射Ｘ線通過領域を通過後のＸ線は、前記被写体の歯列弓の略全体がＸ線撮影領域となるＸ線コーンビームを含み、
前記第３のＸ線照射範囲規制処理は、前記第２のＸ線通過領域全体と前記第１のＸ線通過領域の一部を重ね合わせて、前記第２のＸ線通過領域をそのまま前記被写体照射Ｘ線通過領域とする狭形成幅Ｘ線通過領域全体利用処理を含み、
前記Ｘ線発生部による前記狭形成幅Ｘ線通過領域全体利用処理の実行時における前記被写体照射Ｘ線通過領域を通過後のＸ線は、前記被写体の歯列弓の歯牙のうち、一部の歯牙が含まれる領域のみがＸ線撮影領域となるＸ線コーンビームを含む、
Ｘ線撮影装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項３のうち、いずれか１項に記載のＸ線撮影装置であって、
前記第１及び第２のＸ線遮蔽部における前記第１及び第２のＸ線通過領域は、それぞれ前記被写体照射Ｘ線通過領域を通過させる際、前記Ｘ線発生器から出射されるＸ線を規制してＸ線細隙ビームを形成可能なスリット状領域を含む、
Ｘ線撮影装置。
【請求項８】
請求項７記載のＸ線撮影装置であって、
前記Ｘ線画像はパノラマ断層画像を含み、
前記画像処理は、前記被写体の歯列弓に対応する断層面に沿って像の重複部分を重ね合わせる処理を行い前記パノラマ断層画像を生成する処理を含む、
Ｘ線撮影装置。
【請求項９】
請求項２記載のＸ線撮影装置であって、
所定の保持位置で前記被写体を保持する被写体保持部と、
前記支持部を前記被写体保持部とともに前記高さ方向に沿って昇降可能な昇降部と、
前記被写体保持部を前記高さ方向に沿って昇降可能な被写体保持部昇降機構を備え、
前記被写体保持部昇降機構は前記高さ方向における前記昇降部による前記支持部の昇降量を打ち消すように前記被写体保持部の前記高さ方向の位置を変位可能に構成したことを特徴とする
Ｘ線撮影装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、Ｘ線撮影装置に関し、特にＸ線ＣＴ撮影装置のＸ線ビームの照射範囲の規制に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、Ｘ線撮影装置として、パノラマＸ線断層画像が生成可能なパノラマＸ線断層撮影装置、Ｘ線コーンビームの照射によるＣＴ画像（３Ｄ画像）を生成可能Ｘ線ＣＴ撮影装置がある。また、上記２つの装置の機能を一装置で実現するＸ線撮影装置もある。
【０００３】
従来のパノラマＸ線断層撮影装置として、例えば、特許文献１で開示されたＸ線撮影装置がある。このＸ線撮影装置は、パノラマＸ線撮影用（以下、単に「パノラマ用」と略記）に実際に被写体に照射するＸ線通過領域（被写体照射Ｘ線通過領域）の形成時に、パノラマ用のＸ線遮蔽部材におけるスリット領域（Ｘ線通過領域）の上端及び下端のうち少なくとも一方を遮蔽して、必要な部分のみを上記被写体照射Ｘ線通過領域として、当該被写体照射Ｘ線通過領域を通過させて得られるＸ線をＸ線細隙ビームとして照射するように構成している。なお、このＸ線撮影装置は、パノラマＸ線断層撮影装置としての機能の他に、Ｘ線ＣＴ撮影装置としての機能を併せもっており、上記Ｘ線細隙ビームの照射時において、ＣＴ画像生成用（以下、単に「ＣＴ用」と略記）のＸ線遮蔽部材におけるＸ線通過領域と上記スリット領域とを重ね合わせることにより上記被写体照射Ｘ線通過領域を決定している。
【０００４】
また、従来のＸ線ＣＴ撮影装置として、例えば、特許文献２で開示されたＸ線ＣＴ撮影装置がある。このＸ線ＣＴ撮影装置は、広い領域のＸ線コーンビームによるＣＴ撮影と、狭い領域のＸ線コーンビームによるＣＴ撮影の双方を可能にし、広い領域のＸ線コーンビームと狭い領域のＸ線コーンビームとの下端位置を一致させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−０４１５９８号公報（図１０(c) ）
【特許文献２】特開２００６−１３００３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１で示された従来のＸ線撮影装置は、ＣＴ用のＸ線遮蔽部材のＸ線通過領域とパノラマ用のＸ線遮蔽部材のスリット領域とを重ね合わせて得られる上記被写体照射Ｘ線通過領域にＸ線を通過させている。したがって、ＣＴ用のＸ線遮蔽部材のＸ線通過領域の大きさによる制約を受けるため、被写体照射Ｘ線通過領域の自由度が制限されてしまうという問題点があった。
【０００７】
また、特許文献２で示されたＸ線ＣＴ撮影装置は、単にＸ線コーンビームの上端を遮蔽してＸ線コーンビームの下端寄りの部分のみ用いるバリエーションを開示しているにすぎず、Ｘ線コーンビームの遮蔽のバリュエーションが乏しい、すなわち、被写体照射Ｘ線通過領域の自由度は低いという問題があった。
【０００８】
この発明は上記問題点を解決するためになされたもので、実際に被写体に照射するＸ線通過領域である被写体照射Ｘ線通過領域の自由度を大きくしたＸ線撮影装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明に係る請求項１記載のＸ線撮影装置は、Ｘ線を出射するＸ線発生器と、入射するＸ線の強度に応じた信号を出力する複数の検出素子を備えたＸ線検出器と、前記Ｘ線発生器を備えたＸ線発生部と前記Ｘ線検出器を備えたＸ線検出部とを支持する支持部と、前記Ｘ線発生器と前記Ｘ線検出器とが、頭部を含む被写体を挟んで互いに対向するように、前記支持部を前記被写体周りに旋回させる旋回機構と、前記Ｘ線検出器から出力される信号に対し画像処理を行いＸ線画像を生成する画像情報処理部とを備え、前記Ｘ線発生部は、第１及び第２のＸ線遮蔽部を含み、前記Ｘ線発生器から照射したＸ線の照射範囲を規制するＸ線照射規制部を前記Ｘ線発生器のＸ線出射方向側に有し、前記第１及び第２のＸ線遮蔽部内にはそれぞれＸ線の通過を許容する第１及び第２のＸ線通過領域及びＸ線の通過を遮断する第１及び第２の遮蔽領域が設けられ、前記Ｘ線発生器から出射されるＸ線が前記第１のＸ線通過領域または前記第２のＸ線通過領域を通過可能な位置関係を設定し、前記Ｘ線の照射経路上において前記第１のＸ線通過領域と前記第２のＸ線通過領域とを重ね合わせることなく、前記Ｘ線の照射方向と交差する規制方向に前記第１及び第２のＸ線遮蔽部のうち一方を他方に対して相対的に変位させ、前記第２のＸ線遮蔽領域の一部と前記第１のＸ線通過領域の一部との重ね合わせ、あるいは前記第１のＸ線遮蔽領域の一部と前記第２のＸ線通過領域の一部との重ね合わせを実行することにより、前記Ｘ線照射規制部においてＸ線が通過する被写体照射Ｘ線通過領域を規制する第１のＸ線照射範囲規制処理が実現可能であることを特徴とする。
【００１０】
請求項２の発明は、請求項１記載のＸ線撮影装置であって、前記支持部の旋回軸の軸方向が鉛直方向であり、前記旋回軸の前記軸方向に沿った方向を高さ方向としたとき、前記Ｘ線検出器のＸ線検出面の中心位置は前記Ｘ線発生器におけるＸ線の発生点であるＸ線焦点よりも高く配置され、前記規制方向は前記高さ方向を含み、前記第１のＸ線照射範囲規制処理は、前記第１のＸ線通過領域の上方の一部に、前記第２のＸ線遮蔽部の前記第２のＸ線遮蔽領域の一部を重ね合わせることにより一部遮蔽する処理を含む。
【００１１】
請求項３の発明は、請求項１記載のＸ線撮影装置であって、前記Ｘ線発生部は、前記Ｘ線発生器から出射されるＸ線が前記第１のＸ線通過領域を通過可能な位置関係を設定し、前記Ｘ線の照射経路上において前記第１のＸ線通過領域と前記第２のＸ線遮蔽領域とを重ね合わせることなく、前記第１のＸ線通過領域をそのまま前記被写体照射Ｘ線通過領域として規制する第２のＸ線照射範囲規制処理と、前記Ｘ線発生器から出射されるＸ線が前記第１及び第２のＸ線通過領域を通過可能な位置関係を設定し、前記Ｘ線の照射経路上において前記第１のＸ線通過領域と前記第２のＸ線通過領域との少なくとも一部を重ね合わせることにより、前記第１及び第２のＸ線通過領域の重複領域を前記被写体照射Ｘ線通過領域として規制する第３のＸ線照射範囲規制処理とをさらに実行可能である。
【００１２】
請求項４の発明は、請求項１ないし請求項３のうち、いずれか１項に記載のＸ線撮影装置であって、前記第１及び第２のＸ線遮蔽部における前記第１及び第２のＸ線通過領域は、それぞれ前記被写体照射Ｘ線通過領域を通過させる際、前記Ｘ線発生器から出射されるＸ線を規制してＸ線コーンビームを形成可能な領域を含む。
【００１３】
請求項５の発明は、請求項４記載のＸ線撮影装置であって、前記規制方向において、前記第１のＸ線通過領域は前記第２のＸ線通過領域より広い形成幅を有することを特徴とする。
【００１４】
請求項６の発明は、請求項３記載のＸ線撮影装置であって、前記規制方向において、前記第１のＸ線通過領域は前記第２のＸ線通過領域より広い形成幅を有し、前記Ｘ線発生部による前記第２のＸ線照射範囲規制処理の実行時における前記被写体照射Ｘ線通過領域を通過後のＸ線は、前記被写体の歯列弓の略全体がＸ線撮影領域となるＸ線コーンビームを含み、前記第３のＸ線照射範囲規制処理は、前記第２のＸ線通過領域全体と前記第１のＸ線通過領域の一部を重ね合わせて、前記第２のＸ線通過領域をそのまま前記被写体照射Ｘ線通過領域とする狭形成幅Ｘ線通過領域全体利用処理を含み、前記Ｘ線発生部による前記狭形成幅Ｘ線通過領域全体利用処理の実行時における前記被写体照射Ｘ線通過領域を通過後のＸ線は、前記被写体の歯列弓の歯牙のうち、一部の歯牙が含まれる領域のみがＸ線撮影領域となるＸ線コーンビームを含む。
【００１５】
請求項７の発明は、請求項１ないし請求項３のうち、いずれか１項に記載のＸ線撮影装置であって、前記第１及び第２のＸ線遮蔽部における前記第１及び第２のＸ線通過領域は、それぞれ前記被写体照射Ｘ線通過領域を通過させる際、前記Ｘ線発生器から出射されるＸ線を規制してＸ線細隙ビームを形成可能なスリット状領域を含む。
【００１６】
請求項８の発明は、請求項７記載のＸ線撮影装置であって、前記Ｘ線画像はパノラマ断層画像を含み、前記画像処理は、前記被写体の歯列弓に対応する断層面に沿って像の重複部分を重ね合わせる処理を行い前記パノラマ断層画像を生成する処理を含む。
【００１７】
請求項９の発明は、請求項２記載のＸ線撮影装置であって、所定の保持位置で前記被写体を保持する被写体保持部と、前記支持部を前記被写体保持部とともに前記高さ方向に沿って昇降可能な昇降部と、記被写体保持部を前記高さ方向に沿って昇降可能な被写体保持部昇降機構を備え、前記被写体保持部昇降機構は前記高さ方向における前記昇降部による前記支持部の昇降量を打ち消すように前記被写体保持部の前記高さ方向の位置を変位可能に構成したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
この発明における請求項１記載の本願発明によれば、Ｘ線の照射方向と交差する規制方向に第１及び第２のＸ線遮蔽部のうち一方を他方に対して相対的に変位させ、第２のＸ線遮蔽領域の一部と第１のＸ線通過領域の一部との重ね合わせ、あるいは第１のＸ線遮蔽領域の一部と第２のＸ線通過領域の一部との重ね合わせを実行することにより、Ｘ線照射規制部をＸ線が通過する被写体照射Ｘ線通過領域を規制する第１のＸ線照射範囲規制処理が実現可能である。
【００１９】
上記第１のＸ線照射範囲規制処理において、第２及び第１のＸ線遮蔽領域の一部と第１及び第２のＸ線通過領域の一部との第１あるいは第２の重ね合わせ内容を変化させて多様な被写体照射Ｘ線通過領域を設定することにより多様なＸ線照射範囲を実現することができる効果を奏する。
【００２０】
また、Ｘ線照射範囲が多様であるために、Ｘ線照射範囲をより関心領域に限定させる設定ができ、被写体のＸ線被曝量が必要最小限にとどめられる効果も奏する。
【００２１】
請求項２記載の本願発明によれば、上記第１のＸ線照射範囲規制処理により、第１（第２）のＸ線通過領域の上方の一部が、前記第２（第１）のＸ線遮蔽部の前記第２のＸ線遮蔽領域により遮蔽される。
【００２２】
このため、Ｘ線検出器のＸ線検出面の中心位置がＸ線発生器におけるＸ線の発生点であるＸ線焦点よりも高く配置してＸ線撮影を行いながら、アーチファクトが生じる可能性が比較的高い第１（第２）のＸ線通過領域の上方領域を通過するＸ線を効果的に遮蔽することができる。
【００２３】
請求項３記載の本願発明によれば、上記第１のＸ線照射範囲規制処理に加え、上記第２及び第３のＸ線照射範囲規制処理を実行可能にすることにより、より多様なＸ線照射範囲を実現することができる効果を奏する。
【００２４】
請求項４記載の本願発明によれば、Ｘ線コーンビームを用いた多様なＸ線撮影を実現することができる。
【００２５】
加えて、支持部の旋回が半回転から概ね１回転でＣＴ撮影を完了することができ、短時間で撮影できるとともに、被撮影者の負担を少なくすることができる。
【００２６】
請求項５記載の本願発明によれば、第１及び第２のＸ線通過領域間の規制方向における形成幅を変化させることにより、より多様なＸ線照射範囲を実現することができる。
【００２７】
請求項６記載の本願発明によれば、第２のＸ線照射範囲規制処理による第１の照射野のＸ線撮影と、第３のＸ線照射範囲規制処理の狭形成幅Ｘ線通過領域全体利用処理による第１の照射野より小さな第２の照射野のＸ線撮影とを選択的に行うことができる。
【００２８】
請求項７記載の本願発明によれば、パノラマ撮影を含み、Ｘ線細隙ビームを用いた多様なＸ線撮影を実現することができる。
【００２９】
請求項８記載の本願発明によれば、Ｘ線細隙ビームを用いて多様なパノラマ断層画像を得ることができる。
【００３０】
請求項９記載の本願発明によれば、被写体保持部昇降機構は、高さ方向における昇降部による支持部の昇降量を打ち消すように被写体保持部の高さ方向の位置を変位可能であるため、被写体に対するＸ線照射位置を高さ方向に変化させても、常に被写体保持部の高さ方向における絶対値を一定に保つことができる。
【００３１】
その結果、被写体保持部にて保持される被写体となる被験者の頭部等の配置を常に一定の絶対高さに保つことにより、被験者に負担をかけることなく、被写体に対する高さ方向におけるＸ線照射位置を変化させてＸ線撮影を行うことができる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】この発明の実施の形態であるＸ線撮影装置を示す概略斜視図である。
【図２】Ｘ線撮影装置に適用可能なセファロスタットを示す正面図である。
【図３】Ｘ線撮影装置の駆動・制御構成を示すブロック図である。
【図４】Ｘ線発生部の内部構成を示す斜視図である。
【図５】Ｘ線規制部による大照射野ＣＴ撮影の際におけるＸ線遮蔽の位置関係を示す説明図である。
【図６】Ｘ線規制部による小照射野ＣＴ撮影（その１）の際におけるＸ線遮蔽の位置関係を示す説明図である。
【図７】Ｘ線規制部による小照射野ＣＴ撮影（その２）の際におけるＸ線遮蔽の位置関係を示す説明図である。
【図８】Ｘ線規制部によるパノラマ撮影の際におけるＸ線遮蔽の位置関係を示す説明図である。
【図９】図７で示した小照射野ＣＴ撮影（その２）における被写体固定部の高さ調整内容を模式的に示す説明図である。
【図１０】被写体固定部の高さ変位の具体例を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
＜実施の形態＞
（１．１．Ｘ線撮影装置の構成および機能）
図１は、この発明の実施の形態であるＸ線撮影装置１００を示す概略斜視図である。Ｘ線撮影装置１００は、パノラマＸ線断層撮影及び通常のＸ線ＣＴ撮影（Computed Tomography）等を実行して、投影データを収集する本体部１と、本体部１において収集した投影データを処理して、各種画像（ＣＴ画像、セファロ画像、パノラマ断層画像等）を生成する情報処理装置８とに大別される。
【００３４】
本体部１は、被験者等の被写体ＯＢに向けてＸ線の束で構成されるＸ線を出射するＸ線発生部１０と、Ｘ線発生部１０から出射されたＸ線からなるＸ線ビームＸＢを検出するＸ線検出部２０と、Ｘ線発生部１０及びＸ線検出部２０をそれぞれ支持する支持部３００（旋回アーム３０）と、支持部３００を吊り下げ、支柱５０に対して鉛直方向に昇降移動可能な支持フレーム４０と、鉛直方向に延びる支柱５０と本体制御部６０とを備えている。
【００３５】
なお、図１およびその他の図には、必要に応じて左手系のＸＹＺ直交座標系およびｘｙｚ直交座標系を付している。ここでは、旋回軸３１の軸方向と平行な方向（ここでは、鉛直方向）を「Ｚ軸方向」とし、このＺ軸に交差する方向を「Ｘ軸方向」とし、さらにＸ軸方向およびＺ軸方向に交差する方向を「Ｙ軸方向」としている。Ｘ軸およびＹ軸方向は任意に定め得るが、ここでは、被写体ＯＢである被検者がＸ線撮影装置１００において位置決めされて支柱５０に正対した時の被検者の左右の方向をＸ軸方向とし、被検者の前後の方向をＹ軸方向と定義する。Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向は、本実施形態では互いに直交するものとする。また、以下において、Ｚ軸方向を垂直方向、Ｘ軸方向とＹ軸方向の２次元で規定される平面上の方向を水平方向と呼ぶこともある。また、Ｚ軸方向を高さ方向とすることもある。
【００３６】
また、ｘｙｚ直交座標系は、旋回する旋回アーム３０上に定義される三次元座標系である。ここでは、Ｘ線発生部１０とＸ線検出部２０とが対向する方向を「ｙ軸方向」とし、ｙ軸方向に直交する水平方向を「ｘ軸方向」とし、これらｘおよびｙ軸方向に直交する鉛直方向を「ｚ軸方向」としている。本実施の形態においては、上記のＺ軸方向は、ｚ軸方向と向きが共通する同一方向となっている。また本実施の形態の旋回アーム３０は、鉛直方向に延びる旋回軸３１を軸に回転する。したがって、ｘｙｚ直交座標系は、ＸＹＺ直交座標系に対してＺ軸（＝ｚ軸）周りに回転することとなる。
【００３７】
本実施の形態の図示の例では旋回軸３１は鉛直方向に延びるが、水平方向を含む他の方向であってもよい。例えば、Ｘ線撮影装置１００を、被検者が仰臥して載置される寝台型に構成する場合は、旋回軸３１が水平方向に延びるように構成する。
【００３８】
また、本実施の形態においては、図１に示したように、被検者が支柱５０に正対したときの右手方向を（＋Ｘ）方向、背面方向を（＋Ｙ）方向、鉛直方向上向きを（＋Ｚ）方向としている。また、Ｘ線発生部１０、Ｘ線検出部２０を上から平面視したときにＸ線発生部１０からＸ線検出部２０へ向かう方向を（＋ｙ）方向、（＋ｙ）側に向いたときの右手？方向を（＋ｘ）方向、鉛直方向上向きを（＋ｚ）方向としている。
【００３９】
さらに、Ｘ、Ｙ、Ｚ、ｘ、ｙ、ｚを平面を定義するのに用いることもある。例えば、ｘ方向とｚ方向に拡がる２次元平面をｘｚ平面と称したりする。
【００４０】
Ｘ線発生部１０およびＸ線検出部２０は、旋回アーム３０の両端部にそれぞれ吊り下げ固定されており、互いに対向するように支持されている。旋回アーム３０は、鉛直方向に延びる旋回軸３１を介して、支持フレーム４０に吊り下げ固定されている。
【００４１】
Ｘ線発生部１０は、Ｘ線源であるＸ線管を有するＸ線発生器１１を、図１では図示しないハウジングの内部に備えている。ハウジングは、支持部３００に対してＺ軸周りに回動可能に取り付けられている。この回動機能は、例えばセファロ撮影時などに利用される（後述する図２参照）。
【００４２】
Ｘ線検出部２０は、被写体ＯＢを透過したＸ線を検出するＸ線検出器２１を備えている。Ｘ線検出器２１はＸ線検出用基板２２上に設けられ、２次元平面（ここでは、ｘｚ平面）に広がるように配置された複数のＸ線検出素子で構成されるイメージセンサを構成している。Ｘ線検出素子は、入射したＸ線の強度に応じた信号を外部に出力する。イメージセンサによって、Ｘ線検出部２０に入射するＸ線の強度が、所要のフレームレートで、各画素がＸ線の強度に応じた画素値を持つフレーム画像データ（画像情報）として取得される。
【００４３】
Ｘ線検出器２１としては、ＭＯＳセンサ、ＣＭＯＳセンサが好適に利用できるが、いずれの電気的撮像センサであっても構わない。具体的には、ＣＣＤセンサ等のフラットパネルディテクタ（ＦＰＤ）、その他の固体撮像素子など、様々なものを用いることができる。単一のＸ線検出器２１をいずれのＸ線撮影にも用いて、Ｘ線検出器２１に入射するＸ線ビームの形状に適合させて、読出し領域を変更させてもよい。いずれにしても、ＣＴ撮影には少なくともフレーム画像が得られる電気的撮像センサを用いるようにする。
【００４４】
本実施の形態では、支持部３００が旋回軸３１回りに旋回する旋回アーム３０で構成され、Ｘ線発生部１０とＸ線検出部２０とが、略直方体状の旋回アーム３０両端のそれぞれに取り付けられている。ただし、Ｘ線発生部１０とＸ線検出部２０とを支持する支持部３００の構成は、これに限られるものではない。例えば円環状部分の中心を回転中心として回転する円環状部材によって、Ｘ線発生部１０とＸ線検出部２０とを対向させた状態で支持するようにしてもよい。
【００４５】
支持フレーム４０は、鉛直方向に沿って延びるように立設された支柱５０に係合している。支持フレーム４０は、その構成部である上部フレーム４１と下部フレーム４２とが、支柱５０に係合する側の反対側に突出しており、略Ｕ字状の構造を有している。
【００４６】
上部フレーム４１には、旋回アーム３０の上端部分が取り付けられている。このように旋回アーム３０は、支持フレーム４０の上部フレーム４１に吊り下げされており、支持フレーム４０が支柱５０に沿って移動することによって、旋回アーム３０が併せて上下に移動する。
【００４７】
下部フレーム４２には、被写体ＯＢ（ここでは、人体の頭部）を左右から固定するロッドや、顎を固定するチンレスト等で構成される被写体固定部４２１が設けられている。旋回アーム３０は、被写体ＯＢの身長に合わせて支持フレーム４０の昇降に従って昇降されて適当な位置に合わせられ、その状態で被写体ＯＢが被写体固定部４２１に固定される。被写体固定部４２１は、図１に示した例では被写体ＯＢの体軸が旋回軸３１の軸方向と同じ方向またはほぼ同じ方向となるように被写体ＯＢを固定する。
【００４８】
被写体固定部４２１を構成するものとして、他に、頭部を固定するヘッドホルダー、耳を固定するイヤーロッド、被検者が着座する椅子等様々な要素が考えられる。
【００４９】
図１に示すように、Ｘ線検出部２０の内部には、本体部１の各構成の動作を制御する本体制御部６０が備えられている。また、本体部１の各構成は、好ましくは防Ｘ線室７０内に収容されている。この防Ｘ線室７０の壁の外側には、本体制御部６０からの制御に基づいて、各種情報を表示する液晶モニタ等で構成された表示部６１と、本体制御部６０に対して各種の命令入力を実現するためのボタン等で構成された操作パネル６２とが取り付けられている。操作パネル６２は、生体器官等の撮影領域の位置等を指定すること等にも用いられる。また、Ｘ線撮影には各種のモード（パノラマＸ線断層撮影、ＣＴ撮影、セファロ撮影など）があるが、操作パネル６２の操作によって、モードの選択ができるようにすることも可能である。
【００５０】
情報処理装置８は、例えばコンピュータやワークステーション等で構成された情報処理本体部８０を備えており、通信ケーブルによって本体部１との間で各種データを送受信することができる。ただし、本体部１と情報処理装置８との間で、無線的にデータのやり取りが行われてもよい。
【００５１】
情報処理本体部８０には、例えば液晶モニタ等のディスプレイ装置からなる表示部８１、および、キーボードやマウス等で構成される操作部８２が接続されている。オペレータは、操作部８２を介して情報処理装置８に対して各種指令を与えることができる。なお、表示部８１は、タッチパネルで構成することも可能であり、この場合は、表示部８１が操作部８２の機能の一部または全部を備えることとなる。
【００５２】
図２は、Ｘ線撮影装置１００に適用可能なセファロスタット４３を示す正面図である。図２に示すように、セファロスタット４３は、例えば、支柱５０の途中から水平方向に延びるアーム５０１に取り付けられる。セファロスタット４３には、頭部を定位置に固定する固定具４３１やセファロ撮影用のＸ線検出器４３２が備えられる。なお、セファロスタット４３としては、特開２００３−２４５２７７号公報に開示されているセファロスタットを含む種々のものを採用することができる。
【００５３】
図３は、本実施の形態のＸ線撮影装置１００の駆動・制御構成を示すブロック図である。なお、図３において、本実施の形態の特徴に関連性が強い制御関係を有する部分を破線で示している。
【００５４】
図３に示したように、本体部１は、旋回用モータ６０Ｒ、Ｘ軸モータ６０Ｘ、Ｙ軸モータ６０Ｙとで構成される駆動部６５を備えている。本実施の形態においては、駆動部６５は、上部フレーム４１に内蔵されている。Ｘ軸モータ６０Ｘ、Ｙ軸モータ６０Ｙは、旋回軸３１をそれぞれＸ軸方向、Ｙ軸方向に水平移動させる。また、旋回用モータ６０Ｒは、旋回アームを旋回軸３１のＺ軸周りに回転させる。
【００５５】
旋回可能な旋回軸３１に旋回アーム３０の本体を旋回不能に固定し、旋回軸３１を旋回用モータ６０Ｒで旋回駆動してもよいし、旋回不能な旋回軸３１に対して旋回アームの本体を旋回可能に設け、旋回アーム３０を旋回軸３１に対して旋回駆動してもよい。後者の場合に旋回用モータ６０Ｒを旋回アーム３０内部に設けてもよい。また、旋回可能な旋回軸３１に旋回アーム３０の本体をさらに回動可能に設けるようにしてもよい。
【００５６】
つまり駆動部６５は、所要位置に位置付けされた被写体ＯＢに対して、旋回アーム３０を相対的に水平移動または旋回移動させる。本実施の形態においては、駆動部６５が旋回軸３１を中心に支持部３００（旋回アーム３０）を被写体ＯＢ周りに旋回させる旋回機構を構成しており、Ｘ線発生器１１とＸ線検出器２１とが、頭部を含む被写体ＯＢを挟んで互いに対向するように、支持部３００を被写体ＯＢ周りに旋回させる機能を果たしている。
【００５７】
本体制御部６０は、駆動部６５を制御するプログラムＰＧ１を含む各種制御プログラムを実行するＣＰＵ６０１と、ハードディスク等の固定ディスクで構成され、各種データやプログラムＰＧ１を記憶する記憶部６０２と、ＲＯＭ６０３と、ＲＡＭ６０４とを、バスラインに接続したコンピュータとしての構成を有している。
【００５８】
ＣＰＵ６０１は、記憶部６０２に記憶されたプログラムＰＧ１をＲＡＭ６０４上で実行することによって、各種の撮影モードに合わせて、Ｘ線発生部１０を制御するＸ線発生部制御部６０１ａ及びＸ線検出部２０を制御するＸ線検出部制御部６０１ｂとして機能する。Ｘ線発生部制御部６０１ａは、Ｘ線の照射Ｘ線量の制御も可能であり、Ｘ線照射制御部の機能も有する。さらに、Ｘ線発生部制御部６０１ａはＸ線遮蔽部駆動部１２Ｄを駆動してＸ線規制部１２に対する後に詳述する第１〜第３のＸ線照射範囲規制処理を制御する。
【００５９】
また、ＣＰＵ６０１は、駆動部６５を駆動制御する駆動制御部６０１ｃとしても機能し、例えばＸ線発生部１０、Ｘ線検出部２０が各種撮影に応じた軌道で移動するように駆動制御する。
【００６０】
さらに、駆動制御部６０１ｃは被写体固定部駆動部４２１Ｄに制御信号を送ることにより、後述する被写体固定部４２１の高さ調整を、駆動制御部６０１ｃの制御下で被写体固定部駆動部４２１Ｄを介して行っている。
【００６１】
なお、本体制御部６０を構成するＣＰＵ６０１と情報処理本体部８０を構成するＣＰＵ８０１とは、総合的に制御系を構成している。
【００６２】
本体制御部６０に接続された操作パネル６２は、複数の操作ボタン等で構成されている。なお、操作パネル６２に代わる、もしくは操作パネル６２に併用される入力装置としては、操作ボタンのほか、キーボード、マウス、タッチペン等を採用することができる。また、音声による指令をマイク等で受け付けて認識するようにしてもよい。つまり、操作パネル６２は操作手段の一例である。したがって、操作手段としては、操作者の操作を受け付けることができるのであればどのようなものでも構わない。また、表示部６１をタッチパネルで構成することも可能であり、この場合、表示部６１が操作パネル６２の機能の一部または全部を備えることとなる。
【００６３】
表示部６１には、本体部１の操作に必要な各種情報が文字や画像等で表示される。ただし、情報処理装置８の表示部８１に表示されている表示内容を、表示部６１にも表示されるようにしてもよい。また、表示部６１に表示される文字や画像の上でマウス等によるポインタ操作等を通して本体部１に各種の指令ができるようにしてもよい。
【００６４】
調整部６０１ｄは、被写体ＯＢの位置を特定し、該特定された被写体ＯＢの位置に合わせて、Ｘ線発生器１１およびＸ線検出器２１の旋回時の軌道を調整する。被写体ＯＢの位置の特定方法は、例えば、レーザービームを利用するものが考えられる。具体的には、Ｘ線発生部１０に備えられた位置検出部１７（ここでは、レーザー光源）からレーザービームを出射させ、該レーザービームが被検者の顔面の特徴的な位置に照射されるようにＸ線発生部１０を移動させる。例えば唇の口角などの位置にレーザービームを照射するようにすれば、歯列の一部である犬歯などの位置をおおよそ特定することができる。これにより、被写体ＯＢが持つ歯列の位置をおおよそ特定することができる。このようにして特定した位置情報に基づいて、Ｘ線発生器１１およびＸ線検出器２１の旋回軌道を調整する（シフトさせる）。これにより、Ｘ線発生器１１，Ｘ線検出器２１および被写体ＯＢとの位置関係を適切に調整して、ＣＴ撮影やパノラマＸ線断層撮影等を行うことができる。
【００６５】
本体部１は、操作パネル６２、あるいは情報処理装置８からの指令に従って、被写体ＯＢの関心領域（生体器官、歯牙を含む骨、関節等）を、Ｘ線を用いて撮影する。また、本体部１は、各種指令や座標データ等を情報処理装置８から受信し、また、撮影して取得したＸ線の投影データを情報処理装置８に送信する。本実施の形態では、図３に示すように、Ｘ線発生部１０内のＸ線発生器１１から照射されるＸ線が、Ｘ線規制部１２によって規制される被写体照射Ｘ線通過領域を介して得られるＸ線ビームＸＢを、被写体ＯＢの感心領域Ｘｒに局所的に照射している。そして、Ｘ線発生器１１に対向するＸ線検出部２０のＸ線検出器２１にて入射するＸ線を検出し、情報処理装置８によってＸ線検出器２１の検出結果に基づく画像処理が行われることによりＣＴ撮影をはじめとする各種Ｘ線撮影を行うことができる。
【００６６】
情報処理本体部８０は、各種プログラムを実行するＣＰＵ８０１と、ハードディスク等の固定ディスクで構成され、各種データやプログラムＰＧ２を記憶する記憶部８０２とＲＯＭ８０３と、ＲＡＭ８０４とを、バスラインに接続した一般的なコンピュータとしての構成を有している。
【００６７】
ＣＰＵ８０１は、記憶部８０２に記憶されたプログラムＰＧ２をＲＡＭ８０４上で実行することによって、位置設定部８０１ａおよび画像情報処理部８０１ｂとして機能する。位置設定部８０１ａは、操作部８２を介した操作入力に基づいて、ＣＴ撮影画像やパノラマ断層画像を生成する際の断層面の位置を設定する。また、画像情報処理部８０１ｂは、ＣＴ撮影やパノラマＸ線断層撮影時に取得されたフレーム画像データ等の画像信号に対して画像処理を行って、断層面の位置に対応したＣＴ画像やパノラマ断層画像を生成する。ＣＰＵ８０１が位置設定部８０１ａおよび画像情報処理部８０１ｂとして機能することにより、情報処理装置８が画像処理装置として機能する。
【００６８】
なお、所定のネットワーク回線等を介して、本体制御部６０または情報処理本体部８０がプログラムＰＧ１，ＰＧ２を取得するようにしてもよい。また、本体制御部６０または情報処理本体部８０が、可搬性のメディア（ＣＤ−ＲＯＭ等）に保存されたプログラムＰＧ１，ＰＧ２を、所定の読取装置にて読み取ることで取得するようにしてもよい。
【００６９】
本実施の形態では、オペレータ（操作者）により、操作パネル６２または操作部８２を介して、ＣＴ撮影領域が指定される。具体的には、生体の一部又は全体を表示する画面（イラストやパノラマ断層画像等）が表示部６１または表示部８１に表示され、オペレータが撮影したい領域を操作パネル６２または操作部８２を介して指定することで、撮影領域が指定される。なお、画面上に領域特定用の画面を表示することなく、操作パネル６２もしくは操作部８２から部位の名称の入力やコード入力等で直接部位の指定を行うようにしてもよい。別途、前述の位置検出部からレーザービームなどの可視光ビームを被検者に照射して位置付けをするようにしてもよい。
【００７０】
なお、操作パネル６２にも制御部を設けて、本体制御部６０の制御の一部を分担させてもよいし、操作パネル６２に全面的に本体制御部６０を設けるようにしてもよい。
【００７１】
（１．２．パノラマＸ線断層撮影とパノラマ断層画像の生成）
パノラマＸ線断層撮影時には、Ｘ線発生器１１およびＸ線検出器２１が、被写体ＯＢの歯列を挟んで互いに対峙するように配置され、一体的に被写体ＯＢ周りに回転するように、Ｘ軸モータ６０Ｘ、Ｙ軸モータ６０Ｙ、および、旋回用モータ０６Ｙが駆動される（図３参照）。また、Ｘ線発生器１１から放射されたＸ線は、Ｘ線発生器１１に対しＸ線出射方向側に設けられたＸ線規制部１２を透過することによって、ｚ軸方向に延びる細長状のＸ線細隙ビームに成形される。被写体ＯＢを照射するＸ線細隙ビームは、Ｘ線規制部１２によって不要なＸ線部分が遮断されたものである。好ましくはＸ線検出部２０側のＸ線検出器２１の直前にも図示しないＸ線規制部を設け、Ｘ線検出部２０における不要な散乱Ｘ線を遮断するようにする。
【００７２】
なお、パノラマＸ線断層撮影においては、標準的な歯列弓（馬蹄形の曲線）が予め想定されている。この歯列弓に対してＸ線ビームＸＢがほぼ直交して入射するようにＸ線発生器１１が移動する。
【００７３】
Ｘ線発生器１１とＸ線検出器２１は、旋回軸３１のＸ軸モータ６０ＸとＹ軸モータ６０Ｙによる２次元移動の駆動と旋回用モータ６０Ｒによる旋回アーム３０の旋回軸３１周りの旋回駆動の合成運動によって歯列弓を照射するＸ線細隙ビームがパノラマＸ線断層撮影中に包絡線を形成する軌跡をとるような軌道をとって移動する。
【００７４】
このようなＸ線発生器１１の移動については、例えば、本願出願人に係る特開２００９−１３１６５６号公報（例えば、図５）に開示されている。
【００７５】
Ｘ線検出器２１では、所要のフレームレートで、入射するＸ線の強度の強度に応じた画素値をもつフレーム画像データとして収集され、記憶部８０２に保存される。収集されたフレーム画像データを用いて、画像情報処理部８０１ｂは、パノラマ断層画像を再構成する。詳細には、連続するフレーム画像上にて像の重複する部分を順次重ね合わせる処理（画素値を加算する処理（シフト加算処理））を、設定された断層面に沿って行う。これにより、単一のパノラマ断層画像が生成される。このシフト加算処理については、これまでにも種々提案されており、本願においてもこれらの技術を適宜適用することができる。また、画像情報処理部８０１ｂは、記憶部８０２に保存、収集されたフレーム画像データを用いて、ＣＴ撮影やセファロ撮影における画像処理も併せて行うことができる。
【００７６】
＜Ｘ線規制部１２＞
（構成）
図４は本実施の形態のＸ線撮影装置１００におけるＸ線発生部１０の内部構成を示す斜視図である。同図に示すように、Ｘ線発生部１０はＸ線発生器１１とＸ線規制部１２とから構成される。
【００７７】
Ｘ線規制部１２はＸ線発生器１１から照射したＸ線の照射範囲を規制するＸ線照射規制部として機能する。Ｘ線規制部１２はＸ線発生部１０においてＸ線発生器１１のＸ線出射方向側に備えられる。
【００７８】
同図に示すように、Ｘ線発生器１１から照射されるＸ線はＸ線規制部１２を通過することにより、Ｘ線照射方向Ｌ１（ｙ方向（Ｘ線検出部２０の存在する方向））に向けて照射される。
【００７９】
以下、本実施の形態の特徴部となるＸ線規制部１２の構成について説明する。Ｘ線規制部１２は、枠体ＢＳと枠体ＢＳ体内に収納された水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２（第１及び第２のＸ線遮蔽部）とを主要構成部として有している。
【００８０】
枠体ＢＳはＸ線発生器１１の前方にＸ線発生器１１に固定されて配置され、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２はそれぞれ枠体ＢＳに対して後述するように変位可能となっている。
【００８１】
枠体ＢＳの基板ＢＳ１の平坦部がＸ線発生器１１の前面に固定され、基板ＢＳ１のｘ方向（左右方向）の一端からｙ方向（前方）に向けて端部ＢＳ２が突出し、他端からｙ方向（前方）に向けて端部ＢＳ３が突出し、基板ＢＳ１のｚ方向（上下方向）の一端、図示の例では上端からｙ方向（前方）に向けて端部ＢＳ４が突出している。
【００８２】
基板ＢＳ１のほぼ中央の、Ｘ線発生器１１からＸ線が外部に射出されるＸ線射出孔が位置する箇所には開口ＯＰ１が設けられ、Ｘ線発生器１１から照射されるＸ線を遮らないようになっている。
【００８３】
水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の本体部はｘ方向が長手方向、ｚ方向が短手方向となる横長矩形状の平面構造の本体部を有している。そして、その本体部内に各々が本体部を貫通して、各々がＸ線の通過を許容するＸ線通過領域（第１のＸ線通過領域）を規定する大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１、Ｘ線スリットＳＬ２、Ｘ線スリットＳＬ１及び中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２がｘ方向に沿って互いに離散して設けられる。水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１において、Ｘ線通過領域に対して、Ｘ線の通過を遮断する領域は遮蔽領域（第１の遮蔽領域）である。
【００８４】
大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１は最も大きな領域で形成され、中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２は大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１に比べｘ方向の形成幅が短い領域で形成され、Ｘ線スリットＳＬ１は中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２に比べｘ方向の形成幅がより短い領域で形成され、Ｘ線スリットＳＬ２は中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２に比べｘ方向の形成幅がより短く、ｚ方向の形成幅がＸ線スリットＳＬ１より短い領域で形成される。
【００８５】
中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２のｚ方向の形成幅と大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１のｚ方向の形成幅は、いずれも適切にＸ線照射できる最大幅にそろえて一致させてもよいが、一方が他方より小さく設定されてもよい。
【００８６】
例えば、大照射野ＣＴ撮影をｘ方向に広いがｚ方向に狭い範囲で行うようにする場合は中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２のｚ方向の形成幅より大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１のｚ方向の形成幅を小さくし、中照射野ＣＴ撮影をさらにｚ方向にも狭い範囲で行うようにする場合は大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１のｚ方向の形成幅より中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２のｚ方向の形成幅を小さくする。
【００８７】
本実施の形態では、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１における大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１及び中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２をＣＴ撮影用、Ｘ線スリットＳＬ１をパノラマＸ線断層撮影用、Ｘ線スリットＳＬ２をセファロ撮影用に用いる。
【００８８】
水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１は本体部の下部（−ｚ方向側）の一端にｘ方向にねじ孔が貫通する雌ねじ部Ｈ１、上部（＋ｚ方向側）の両端にｘ方向に貫通する貫通孔を内部に設けた被案内部材Ｈ２，Ｈ２が設けられ、雌ねじ部Ｈ１内に雄ねじで構成されてｘ方向に伸延する回転軸Ｇ１を嵌め合わせて貫通させ、被案内部材Ｈ２，Ｈ２それぞれ内に案内部材であるガイド軸Ｇ２を貫通させる。被案内部材Ｈ２，Ｈ２はガイド軸Ｇ２の長手方向に沿ってガイド軸Ｇ２に対して摺動可能である。回転軸Ｇ１はモータＭ１の回転軸に連結して設けられ、枠体ＢＳの中央部まで延びて形成される。モータＭ１は枠体ＢＳの端部ＢＳ２、ＢＳ３の一方、図示の例では端部ＢＳ２の内部側面に固定して設けられる。そして、ガイド軸Ｇ２の一端は枠体ＢＳの一方の端部ＢＳ２内部側面に、他端は枠体ＢＳの対向する端部ＢＳ３内部側面に固定して設けられる。
【００８９】
雌ねじ部Ｈ１、回転軸Ｇ１、被案内部材Ｈ２，Ｈ２、ガイド軸Ｇ２は、Ｘ線遮蔽部を、具体的には水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１を水平方向に変位させるＸ線遮蔽部水平方向変位機構を構成する。
【００９０】
回転軸Ｇ１はモータＭ１によって回転される。モータＭ１はＸ線遮蔽部駆動部１２Ｄ（図３参照）を構成する機械的要素であり、前述したようにＸ線発生部制御部６０１ａ（図３参照）による制御信号に従い駆動する。
【００９１】
Ｘ線遮蔽部駆動部１２Ｄを、モータＭ１とモータＭ１用モータドライバから構成し、Ｘ線発生部制御部６０１ａからの制御信号を駆動信号に変換するようにしてもよい。
【００９２】
したがって、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１はモータＭ１による回転軸Ｇ１の回転動作に従い、雌ねじ部Ｈ１をｘ方向に沿って回転方向に対応する方向（＋ｘ方向あるいは−ｘ方向）に駆動することにより、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１全体をｘ方向（水平方向）に沿って移動制御することができる。この際、被案内部材Ｈ２，Ｈ２内に貫通して設けられたガイド軸Ｇ２の存在により、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の移動時においてｚ方向やｙ方向への位置ズレを確実に抑制することができる。
【００９３】
水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１については、ｘ方向への変位がＸ線の照射方向と交差する規制方向への変位となる。
【００９４】
その結果、Ｘ線発生部制御部６０１ａの制御下で、Ｘ線発生器１１から照射されるＸ線が大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１、Ｘ線スリットＳＬ２、Ｘ線スリットＳＬ１及び中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２のいずれかを通過可能な位置関係に、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１を位置決めすることができる。すなわち、Ｘ線の照射経路上に、大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１、Ｘ線スリットＳＬ１、Ｘ線スリットＳＬ２及び中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２のいずれかを位置決めすることができる。
【００９５】
なお、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のｚ方向は固定されているが、大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１、Ｘ線スリットＳＬ２、Ｘ線スリットＳＬ１及び中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２は、それぞれによってＸ線規制部１２を通過する被写体照射Ｘ線通過領域を形成する範囲で、ｚ方向においてＸ線発生器１１からのＸ線照射領域内に完全に含まれる位置にとどまるように予め位置設定されている。
【００９６】
一方、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の本体部はｚ方向及びｘ方向の長さが同程度の略正方形状の平面構造の本体部を有しており、ｙ方向に沿ってＸ線発生器１１と水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１との間に設けられる。
【００９７】
そして、その本体部の中央部にＸ線の通過を許容するＸ線通過領域である小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３（第２のＸ線通過領域）が設けられる。本実施の形態では、小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３をＣＴ撮影用に用いる。小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３はｘ方向において大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１と同程度の形成幅を有し、ｚ方向（規制方向）において大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１の半分程度の形成幅を有している。また、小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３の下方向（−ｚ方向）の周辺遮蔽領域Ｐ３は、ｚ方向において大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１の形成幅以上の形成幅を有している。
【００９８】
水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２において、Ｘ線通過領域に対して、Ｘ線の通過を遮断する領域は遮蔽領域（第２の遮蔽領域）である。
【００９９】
小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３のｘ方向の形成幅と大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１のｘ方向の形成幅は、いずれも適切にＸ線照射できる最大幅にそろえて一致させてもよいが、一方が他方より小さく設定されてもよい。その思想は中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２のｚ方向の形成幅と大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１のｚ方向の形成幅の設定に関して述べたと同様である。
【０１００】
垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２は本体部の右部（＋ｘ方向側）の一端にｚ方向にねじ孔が貫通する雌ねじ部Ｈ３、左部（−ｘ方向側）の上下両端にｚ方向に貫通する貫通孔を内部に設けた被案内部材Ｈ４，Ｈ４が設けられ、雌ねじ部Ｈ３内に雄ねじで構成されてｚ方向に伸延する回転軸Ｇ３を嵌め合わせて貫通させ、被案内部材Ｈ４，Ｈ４それぞれ内に案内部材であるガイド軸Ｇ４を貫通させる。被案内部材Ｈ４，Ｈ４はガイド軸Ｇ４の長手方向に沿ってガイド軸Ｇ４に対して摺動可能である。回転軸Ｇ３はモータＭ２の回転軸に連結して設けられ、枠体ＢＳの中央部（水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の上部）まで延びて形成される。モータＭ２は枠体ＢＳの端部ＢＳ４内部上面に固定して設けられる。そして、ガイド軸Ｇ４の一端は枠体ＢＳの端部ＢＳ４内部上面に固定して設けられる。ガイド軸Ｇ４の他端が枠体ＢＳの底部に固定されるようにしてもよい。
【０１０１】
雌ねじ部Ｈ３、回転軸Ｇ３、被案内部材Ｈ４，Ｈ４、ガイド軸Ｇ４は、Ｘ線遮蔽部を、具体的には垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２を垂直方向に変位させるＸ線遮蔽部垂直方向変位機構を構成する。
【０１０２】
Ｘ線遮蔽部水平方向変位機構、Ｘ線遮蔽部垂直方向変位機構はＸ線遮蔽部を変位させる第１と第２のＸ線遮蔽部変位機構である。
【０１０３】
回転軸Ｇ３はモータＭ２によって回転される。モータＭ２はモータＭ１と同様、Ｘ線遮蔽部駆動部１２Ｄ（図３参照）を構成する機械的要素であり、Ｘ線発生部制御部６０１ａによる制御信号に従い駆動する。
【０１０４】
Ｘ線遮蔽部駆動部１２Ｄを、モータＭ２とモータＭ２用モータドライバから構成し、Ｘ線発生部制御部６０１ａからの制御信号を駆動信号に変換するようにしてもよい。
【０１０５】
したがって、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２はモータＭ２による回転軸Ｇ３の回転動作に従い、雌ねじ部Ｈ３をｚ方向に沿って回転方向に対応する方向（＋ｚ方向あるいは−ｚ方向）に駆動することにより、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２全体をｚ方向に沿って移動制御することができる。この際、被案内部材Ｈ４，Ｈ４内に貫通して設けられたガイド軸Ｇ４の存在により、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の移動時においてｘ方向やｙ方向への位置ズレを確実に抑制することができる。
【０１０６】
垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２については、ｚ方向への変位がＸ線の照射方向と交差する規制方向への変位となる。
【０１０７】
その結果、Ｘ線発生部制御部６０１ａの制御下で、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２をｚ方向に沿って適宜移動させることができる。
【０１０８】
このように、Ｘ線規制部１２は、Ｘ線発生部制御部６０１ａの制御下で、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のｘ方向の移動制御、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｚ方向の移動制御を組み合わせて、Ｘ線発生器１１から照射されるＸ線のうち、Ｘ線規制部１２を通過する被写体照射Ｘ線通過領域を形成するＸ線照射範囲規制処理（後述する第１〜第３のＸ線照射範囲規制処理）を実行することができる。
【０１０９】
なお、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｘ方向は固定されているが、小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３は、小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３によって被写体照射Ｘ線通過領域を形成する範囲で、ｘ方向においてＸ線発生器１１からのＸ線照射領域内に完全に含まれる位置にとどまるように予め位置設定されている。
【０１１０】
＜大照射野ＣＴ撮影＞
図５はＸ線規制部１２のＸ線照射範囲規制処理（第２のＸ線照射範囲規制処理）による大照射野ＣＴ撮影の際におけるＸ線規制部１２内の水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１及び垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｚ方向における位置関係を示す説明図である。
【０１１１】
同図に示すように、Ｘ線検出器２１のＸ線検出面の中心位置２１ｃはＸ線発生器１１におけるＸ線の発生点であるＸ線の焦点Ｆよりもｚ方向に高い位置に配置され、いわゆる打上照射が行われる。このＸ線発生器１１とＸ線検出器２１とのｚ方向の位置関係は、図６〜図８で示す小照射野ＣＴ撮影（その１，その２）及びパノラマＸ線断層撮影時においても同様である。
【０１１２】
同図(a) ，(b) に示すように、大照射野ＣＴ撮影の際、Ｘ線発生器１１から照射されるＸ線が水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１を通過可能な位置になるように、モータＭ１を駆動して水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のｘ方向の位置設定を行う。すなわち、Ｘ線の照射経路上に水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１が位置する位置関係になるように、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のｘ方向の位置設定を行う。
【０１１３】
一方、同図(a)，(b) に示すように、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２を上方（＋ｚ方向）に移動させ、Ｘ線発生器１１の焦点ＦからのＸ線の照射経路から完全に逸脱する退避位置に設定する。すなわち、Ｘ線の照射経路上外に垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２が位置するように、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｚ方向の位置設定を行う。したがって、Ｘ線の照射経路上において、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３の周辺遮蔽領域とのｙ方向から見た重ね合わせは生じない。
【０１１４】
その結果、同図(a) に示すように、Ｘ線発生器１１の焦点Ｆから照射されたＸ線がＸ線規制部１２の水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１をそのまま被写体照射Ｘ線通過領域として通過させて得られるコーンビームＣＢ１を被写体ＯＢの歯列弓ＤＡの全体ＤＡＡに照射するＸ線照射範囲規制処理（第２のＸ線照射範囲規制処理）を実行して大照射野ＣＴ撮影を実現することができる。なお、被写体ＯＢの歯列弓ＤＡの略全体をＸ線撮影領域としてもよい。
【０１１５】
なお、図５(a) ，(b) で示すｘ方向の位置関係における大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１を中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２に置き換えることにより、中照射野ＣＴ撮影を実現することができる。
【０１１６】
＜小照射野ＣＴ撮影（その１）＞
図６はＸ線規制部１２のＸ線照射範囲規制処理（第３のＸ線照射範囲規制処理）による小照射野ＣＴ撮影の際におけるＸ線規制部１２内の水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１及び垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｘ方向及びｚ方向における位置関係を示す説明図である。
【０１１７】
同図(a) ，(b) に示すように、小照射野ＣＴ撮影の際、図５で示した大照射野ＣＴ撮影のときと同様、Ｘ線の照射経路上に水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１が位置するように、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のｘ方向の位置設定を行う。
【０１１８】
一方、同図(a)，(b) に示すように、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２を図５に示した退避位置から下方（−ｚ方向）の完全照射位置に移動させ、Ｘ線の照射経路上に垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３が位置し、かつ、ｙ方向から見て小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３が大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１内に完全に含まれる位置関係になるように位置設定を行う。
【０１１９】
したがって、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３とのｙ方向から見た重複領域は小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３そのものとなる。
【０１２０】
その結果、同図(a) に示すように、Ｘ線発生器１１の焦点Ｆから照射されたＸ線がＸ線規制部１２の垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３をそのまま被写体照射Ｘ線通過領域として通過させて得られるコーンビームＣＢ２を被写体ＯＢの上顎歯列ＤＡＵを選択的に照射するＸ線照射範囲規制処理（第３のＸ線照射範囲規制処理における狭形成幅Ｘ線通過領域全体利用処理）を実行して小照射野ＣＴ撮影を実現することができる。
【０１２１】
小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３の一部のみと大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１の一部とが重なり合う領域を被写体照射Ｘ線通過領域としてもよい。この場合、Ｘ線の照射経路上、小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３と大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１との少なくとも一部とが重なり合う領域が被写体照射Ｘ線通過領域となる。
【０１２２】
水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１がｘ方向に変位する余地を大きくとって、小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３を通過するＸ線の照射経路から全く退避できるようにして、小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３のみがＸ線発生器１１から出射するＸ線を規制する状態で小照射野ＣＴ撮影を行うようにしてもよい。
【０１２３】
このように、第３のＸ線照射範囲規制処理には、大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１と小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３の少なくとも一部を重ね合わせて重複領域を被写体照射Ｘ線通過領域とする処理も、小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３のみを被写体照射Ｘ線通過領域とする処理も含まれる。
【０１２４】
本実施の形態の小照射野ＣＴ撮影の例では、被写体ＯＢの歯列弓ＤＡの歯牙のうち、一部の歯牙が含まれる領域、特にｚ方向について一部の歯牙が含まれる領域のみがＸ線撮影領域となる。
【０１２５】
なお、図５(a) ，(b) で示すｘ方向の位置関係から、Ｘ線の照射経路上において、図６(a) ，(b)に示す状態よりもさらに垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２を下方に移動させることにより、コーンビームＣＢ２を下顎歯列ＤＡＬに選択的に照射する小照射野ＣＴ撮影を実現することができる。
【０１２６】
＜小照射野ＣＴ撮影（その２）＞
図７はＸ線規制部１２のＸ線照射範囲規制処理による小照射野ＣＴ撮影（その２）の際におけるＸ線規制部１２内の水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１及び垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｘ方向及びｚ方向における位置関係を示す説明図である。
【０１２７】
（下顎歯列ＤＡＬ撮影）
同図(a) ，(b) が下顎歯列ＤＡＬに対する小照射野ＣＴ撮影を示している。同図(a) ，(b) に示すように、小照射野ＣＴ撮影の際（その２）、図５で示した大照射野ＣＴ撮影のときと同様、Ｘ線の照射経路上に水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１が位置する位置関係になるように、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のｘ方向の位置設定を行う。
【０１２８】
一方、同図(a)，(b) に示すように、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２を図５に示した退避位置より下方（−ｚ方向）でかつ図６で示した完全照射位置より上方（＋ｚ方向）に位置し、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３下の周辺遮蔽領域Ｐ３によって大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１を通過可能なＸ線の一部を遮蔽可能な位置に垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｚ方向を位置設定する。
【０１２９】
すなわち、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１の一部と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３の一部とがｙ方向から見て重ね合う位置に、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｚ方向移動を行う。この状態において、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３とはｙ方向から見てＸ線の照射経路上全く重なり合わない。
【０１３０】
したがって、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１のうち、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３により遮蔽されなかった領域のみが被写体照射Ｘ線通過領域となる。
【０１３１】
その結果、同図(a) に示すように、Ｘ線の照射経路上において、Ｘ線が垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３によって遮蔽されない範囲で大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１を通過する領域を被写体照射Ｘ線通過領域としてコーンビームＣＢ３が得られる。この際、コーンビームＣＢ３が被写体ＯＢの下顎歯列ＤＡＬに対応した照射領域を形成するように設定することより、被写体ＯＢの下顎歯列ＤＡＬに選択的に照射するＸ線照射範囲規制処理（第１のＸ線照射範囲規制処理）を実行して小照射野ＣＴ撮影（その２）を実現することができる。
【０１３２】
（上顎歯列ＤＡＵ撮影）
同図(c) ，(d) が上顎歯列ＤＡＵに対する小照射野ＣＴ撮影を示している。同図(c) ，(d) に示すように、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｘ方向及びｚ方向の位置関係は、同図(a) ，(b) で示した位置関係と全く同一にして、コーンビームＣＢ３を得る。
【０１３３】
一方、被写体固定部４２１を下方（−ｚ方向）に下降させることにより、被写体ＯＢのＸ線発生器１１の焦点Ｆに対する相対高さを低くして、コーンビームＣＢ３が被写体ＯＢの上顎歯列ＤＡＵに対応した照射領域を形成するように設定する。
【０１３４】
その結果、同図(c) に示すように、Ｘ線の照射経路Ｘ上においてＸ線が垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３によって遮蔽されない範囲で大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１を通過する領域を被写体照射Ｘ線通過領域として得られるコーンビームＣＢ３が被写体ＯＢの上顎歯列ＤＡＵを選択的に照射するＸ線照射範囲規制処理（第１のＸ線照射範囲規制処理）を実行して小照射野ＣＴ撮影（その２）を実現することができる。
【０１３５】
本実施の形態の小照射野ＣＴ撮影の例では、被写体ＯＢの歯列弓ＤＡの歯牙のうち、一部の歯牙が含まれる領域、特にｚ方向について一部の歯牙が含まれる領域のみがＸ線撮影領域となる。
【０１３６】
図示を略するが、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１と、雌ねじ部Ｈ１、回転軸Ｇ１、被案内部材Ｈ２，Ｈ２、ガイド軸Ｇ２からなるＸ線遮蔽部水平方向変位機構一式を、さらに基板に載せ、当該基板全体をＸ線規制部１２の本体に対してｚ方向に変位させる機構を設けてもよい。このように構成すれば、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｚ方向への変位に加え、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１をｚ方向に変位でき、例えば照射方向の調整に利用できる。
【０１３７】
水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１に対する垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｚ方向の変位も、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２に対する水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のｚ方向の変位も、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のうち一方に対する他方の相対的な変位である。
【０１３８】
同様に、図示を略するが、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２と、雌ねじ部Ｈ３、回転軸Ｇ３、被案内部材Ｈ２，Ｈ２、ガイド軸Ｇ２からなるＸ線遮蔽部垂直方向変位機構一式を、さらに基板に載せ、当該基板全体をＸ線規制部１２の本体に対してｘ方向に変位させる機構を設けてもよい。このように構成すれば、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のｘ方向への変位に加え、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２をｘ方向に変位でき、例えば照射方向の調整に利用できる。
【０１３９】
水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１に対する垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｘ方向の変位も、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２に対する水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のｘ方向の変位も、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のうち一方に対する他方の相対的な変位である。
【０１４０】
上述の説明において、「中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２」、「小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３」、という用語を用いているが、必ずしもＣ３が面積的にＣ２よりも小さくなければならないということはないので、これらの用語の呼称・概念を次のように代えて考えてもよい。
【０１４１】
・中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２を水平方向限定照射野Ｘ線通過孔Ｃ２（Ｘ線ビームの水平方向の広がりを大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１よりも狭めるように規制するＸ線通過孔である。）に変更する。
【０１４２】
・小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３を垂直方向限定照射野Ｘ線通過孔Ｃ３（Ｘ線ビームの垂直方向の広がりを大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１よりも狭めるように規制するＸ線通過孔である。）に変更する。
【０１４３】
「中照射野ＣＴ撮影」、「小照射野ＣＴ撮影」の用語についても同様に次のように代えて考えてもよい。
【０１４４】
・中照射野ＣＴ撮影を水平方向限定照射野ＣＴ撮影（水平方向の広がりを大照射野ＣＴ撮影よりも狭めたＣＴ撮影である。）に変更する。
【０１４５】
・小照射野ＣＴ撮影を垂直方向限定照射野ＣＴ撮影（垂直方向の広がりを大照射野ＣＴ撮影よりも狭めたＣＴ撮影である。）に変更する。
【０１４６】
上述の図７に示す例では、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３下の周辺遮蔽領域Ｐ３によって大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１を通過可能なＸ線の一部を遮蔽可能な位置に垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｚ方向を位置設定しているが、大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１に代えて、中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２を用いてもよい。
【０１４７】
すなわち、Ｘ線の照射経路上に水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２が位置するように、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のｘ方向の位置設定を行い、中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２の一部と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３の一部とがｙ方向から見て重ね合う位置に、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｚ方向移動を行う。このようにして、さらに多様な被写体照射Ｘ線通過領域を設定することができる。
【０１４８】
無論、図５(a)，(b) に示すように、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２を上方（＋ｚ方向）に移動させ、Ｘ線発生器１１の焦点ＦからのＸ線の照射経路から完全に逸脱する退避位置に移動させて、中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２の全域を被写体照射Ｘ線通過領域とする中照射野ＣＴ撮影も可能である。
【０１４９】
また、中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２と小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３とを重ね合わせ、両者が重なり合う領域を被写体照射Ｘ線通過領域とするＣＴ撮影も可能である。この場合、中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２と小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３が重なり合うｚ方向の範囲内で小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３の位置をｚ方向に移動調整することもできる。
【０１５０】
このようにして、中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２の全域を被写体照射Ｘ線通過領域とする中照射野ＣＴ撮影と、中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２と小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３が重なり合う領域を被写体照射Ｘ線通過領域とする小照射野ＣＴ撮影（その１）と、中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２の一部と周辺遮蔽領域Ｐ３の一部の重ね合わせにより、周辺遮蔽領域Ｐ３によって遮蔽されない範囲で中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２をＸ線が通過する領域を被写体照射Ｘ線通過領域とする小照射野ＣＴ撮影（その２）もさらに選択可能とすることができる。
【０１５１】
＜パノラマ撮影＞
図８はＸ線規制部１２のＸ線照射範囲規制処理によるパノラマ（Ｘ線断層）撮影の際におけるＸ線規制部１２内の水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１及び垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｘ方向及びｚ方向における位置関係を示す説明図である。
【０１５２】
（下顎歯列ＤＡＬ撮影）
同図(a) ，(b) が下顎歯列ＤＡＬに対するパノラマ撮影を示している。同図(a) ，(b) に示すように、パノラマ撮影の際、Ｘ線の照射経路上に水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のＸ線スリットＳＬ１が位置するように、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のｘ方向の位置設定を行う。Ｘ線スリットＳＬ１によって形成されるＸ線通過領域はスリット状領域である。
【０１５３】
一方、同図(a)，(b) に示すように、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２を図５に示した退避位置から下方（−ｚ方向）に、図６で示した完全照射位置より上方の位置まで移動させ、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３下の周辺遮蔽領域Ｐ３によってＸ線スリットＳＬ１を通過可能なＸ線の一部を遮蔽可能な位置に設定する。
【０１５４】
すなわち、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のＸ線スリットＳＬ１の一部と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３の一部とがｙ方向から見て重なり合う位置に、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｚ方向移動を行う。この状態では、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のＸ線スリットＳＬ１と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３とはｙ方向から見てＸ線の照射経路上全く重なり合わない。
【０１５５】
したがって、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のＸ線スリットＳＬ１のうち、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３により遮蔽されなかった領域のみが被写体照射Ｘ線通過領域となる。
【０１５６】
その結果、同図(a) に示すように、Ｘ線の照射経路上において、Ｘ線が垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３によって遮蔽されない範囲でＸ線スリットＳＬ１を通過する領域を被写体照射Ｘ線通過領域としてＸ線細隙ビームＸＢ１が得られる。この際、Ｘ線細隙ビームＸＢ１が被写体ＯＢの下顎歯列ＤＡＬに対応した照射領域を形成するように設定することより、被写体ＯＢの下顎歯列ＤＡＬを選択的に照射するＸ線照射範囲規制処理（第１のＸ線照射範囲規制処理）を実行してパノラマ撮影を実現することができる。
【０１５７】
（上顎歯列ＤＡＵ撮影）
同図(c) ，(d) が上顎歯列ＤＡＵに対するパノラマ撮影を示している。同図(c) ，(d) に示すように、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｘ方向及びｚ方向の位置関係は、同図(a) ，(b) で示した位置関係と全く同一にして、Ｘ線細隙ビームＸＢ１を得る。
【０１５８】
一方、被写体固定部４２１を下方（−ｚ方向）に下降させることにより、被写体ＯＢのＸ線発生器１１の焦点Ｆに対する相対高さを低くして、Ｘ線細隙ビームＸＢ１が被写体ＯＢの上顎歯列ＤＡＵに対応した照射領域を形成するように設定する。
【０１５９】
その結果、同図(c) に示すように、Ｘ線の照射経路上においてＸ線が垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３によって遮蔽されない範囲でＸ線スリットＳＬ１を通過する領域を被写体照射Ｘ線通過領域として得られるＸ線細隙ビームＸＢ１を被写体ＯＢの上顎歯列ＤＡＵを選択的に照射するＸ線照射範囲規制処理（第１のＸ線照射範囲規制処理）を実行してパノラマ撮影を実現することができる。
【０１６０】
下顎歯列ＤＡＬのパノラマ撮影、上顎歯列ＤＡＵのパノラマ撮影等は、被写体ＯＢの歯列弓ＤＡの歯牙のうち、一部の歯牙が含まれる領域、特にｚ方向について一部の歯牙が含まれる領域のみがＸ線撮影領域となる小照射野パノラマ撮影の例である。
【０１６１】
図５(a) ，(b) に示す大照射野ＣＴ撮影と同じように、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２をＸ線発生器１１の焦点ＦからのＸ線の照射経路から完全に逸脱する退避位置に設定し、すなわち、Ｘ線の照射経路外に垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２が位置するように、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｚ方向の位置設定を行い、Ｘ線の照射経路上において、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のＸ線スリットＳＬ１と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３の周辺遮蔽領域とのｙ方向から見た重ね合わせが生じないようにして、歯列弓ＤＡの歯列弓全体ＤＡＡまたは歯列弓ＤＡの略全体のパノラマ撮影を行うこともできることはいうまでもない。なお、歯列弓全体ＤＡＡまたは歯列弓ＤＡの略全体のパノラマ撮影は、大照射野パノラマ撮影の例である。
【０１６２】
パノラマ撮影についても、スリットＳＬ１の全域を被写体照射Ｘ線通過領域とする大照射野パノラマ撮影と、スリットＳＬ１と小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３が重なり合う領域を被写体照射Ｘ線通過領域とする小照射野パノラマ撮影（その１）と、スリットＳＬ１一部と周辺遮蔽領域Ｐ３の一部の重ね合わせにより、周辺遮蔽領域Ｐ３によって遮蔽されない範囲でスリットＳＬ１をＸ線が通過する領域を被写体照射Ｘ線通過領域とする小照射野パノラマ撮影（その２）もさらに選択可能とすることができる。
【０１６３】
図示は略するが、大照射野セファロ撮影においては、図５(a) ，(b) に示す大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１に代えて、Ｘ線発生器１１から照射されるＸ線が水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のスリットＳＬ２を通過可能な位置になるように、モータＭ１を駆動して水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のｘ方向の位置設定を行い、Ｘ線の照射経路上に水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のスリットＳＬ２が位置するように、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のｘ方向の位置設定を行う。
【０１６４】
その一方、図５(a)，(b) に示すように、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２を上方（＋ｚ方向）に移動させ、Ｘ線発生器１１の焦点ＦからのＸ線の照射経路から完全に逸脱する退避位置に設定する。すなわち、Ｘ線の照射経路上外に垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２が位置するように、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｚ方向の位置設定を行う。したがって、Ｘ線の照射経路上において、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１のスリットＳＬ２と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３の周辺遮蔽領域とのｙ方向から見た重ね合わせは生じない。
【０１６５】
小照射野セファロ撮影においては、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２を大照射野セファロ撮影におけるよりも下方（−ｚ方向）に位置し、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３下の周辺遮蔽領域Ｐ３によってスリットＳＬ２を通過可能なＸ線の一部を遮蔽可能な位置に垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２のｚ方向を位置設定する。
【０１６６】
このようにして、大照射野セファロ撮影と小照射野セファロ撮影の切換を可能とし、例えば、大照射野セファロ撮影で頭部全体または頭部のほぼ全体のセファロ撮影を行い、小照射野セファロ撮影で頭部の上の部分をＸ線照射しないセファロ撮影を行うようにすることができる。
【０１６７】
小照射野セファロ撮影で照射される範囲としては、例えば、セファロ撮影で測定する計測点を含む範囲のみＸ線照射するように、ナジオン位置の少し上の部分から下の範囲のみＸ線照射するようにして、ナジオン位置より少し上の部分から頭頂までの範囲はＸ線照射しないように設定することができる。無論、この範囲を体格等の条件にしたがって調整可能としてもよい。
【０１６８】
＜被写体固定部４２１による高さ調整機能＞
図９は図７で示した小照射野ＣＴ撮影（その２）における被写体固定部４２１の高さ調整内容を模式的に示す説明図である。図９(a) は図７(a)，(b) に対応し、図９(b) は図７(c) ，(d) に対応する。
【０１６９】
まず、図９(a) で示す状態から図９(b) で示す状態における支持フレーム４０及び被写体固定部４２１の状態変位について説明する。
【０１７０】
図９(a) で示す状態では、コーンビームＣＢ３が下顎歯列ＤＡＬを照射している。下顎歯列ＤＡＬの照射と上顎歯列ＤＡＵの照射に必要な領域は実質的に等しいため、旋回アーム３０内に設けられたＸ線発生部１１に対する水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１及び垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の位置関係をそのまま維持させて、図９(b) に示すように上顎歯列ＤＡＵの照射にも適用することができる。
【０１７１】
すなわち、Ｘ線発生器１１、Ｘ線遮蔽板ＸＫ１及びＸＫ２の位置関係をそのままにして支持フレーム４０を上昇させる。
【０１７２】
その結果、上部フレーム４１及び下部フレーム４２が一体構成されてなる支持フレーム４０は変位量Ｄ１で上昇する。変位量Ｄ１は、被写体ＯＢのｚ方向の位置が固定されている場合、コーンビームＣＢ３が上顎歯列ＤＡＵ全体を照射可能な高さに設定される。
【０１７３】
このとき、本実施の形態のＸ線撮影装置１００では、被写体固定部４２１は下部フレーム４２に設けられているため、被写体固定部４２１を下部フレーム４２に対して動かさない以上、被写体固定部４２１も同図(a) の状態から変位量Ｄ１上昇する。したがって、このままでは、被写体ＯＢの上顎歯列ＤＡＵにコーンビームＣＢ３を照射することができない。
【０１７４】
そこで、被写体固定部４２１の軸部分を変位量Ｄ２（＝Ｄ１）分下降させる。すなわち、被写体固定部４２１を高さ方向における下部フレーム４２の上昇量Ｄ１を打ち消す下降量Ｄ２で変位させ、同図(b) に示す状態においても、被写体固定部４２１における被写体保持部であるチンレスト部４２１Ａの絶対高さを同図(a)の状態で維持させる。
【０１７５】
したがって、被写体ＯＢの絶対高さは同図(a) から(b) の状態変位によっても変化しない。その結果、同図(b) に示すように、被写体ＯＢのｚ方向の絶対高さを変化させることなく、上顎歯列ＤＡＵにコーンビームＣＢ３を照射することができる。
【０１７６】
いうまでもないが、図９(b) に示す状態から図９(a)に示す状態にする場合、すなわち支持フレーム４０を変位量Ｄ１で下降させる場合は、上記の逆である。支持フレーム４０を変位量Ｄ１で下降させる分、被写体固定部４２１の軸部分を変位量Ｄ２（＝Ｄ１）分上昇させる。
【０１７７】
なお、図９で示した構成例では、支持フレーム４０の昇降は、支持フレーム４０と図示しないバランス用ウエイトを両端に固定するベルトをかけたプーリを昇降駆動モータ４０Ｍにより回転駆動して行うことができる。昇降駆動モータ４０Ｍの駆動は例えば操作手段６２を操作者が操作することにより行うことができる。
【０１７８】
バランス用ウエイト、バランス用ウエイトを両端に固定するベルト、ベルトをかけたプーリ、昇降駆動モータ４０Ｍ等は支持部昇降機構として昇降部を構成する。
【０１７９】
被写体固定部４２１の昇降は、図示しないアクチュエータで行う。このアクチュエータには、例えば図４に示す雌ねじ部Ｈ３、回転軸Ｇ３、モータＭ２と同様の１組の昇降機構を採用し、被写体固定部４２１の軸部分に雌ねじ部Ｈ３と同様の雌ねじ部を固定し、下部フレーム４２内部に固定したモータＭ２と同様のモータで被写体固定部４２１の昇降駆動をする構成等が考えられる。
【０１８０】
支持フレーム４０の上昇と被写体固定部４２１の下降を同じ変位量で同期して行う方が、被写体ＯＢが動くことなく、被写体ＯＢのｚ方向の絶対高さの維持ができて便宜である。同様に、支持フレーム４０の下降をする場合も、支持フレーム４０の下降と被写体固定部４２１の上昇を同じ変位量で同期して行う方が便宜である。
【０１８１】
図１０は被写体固定部４２１におけるチンレスト部４２１Ａの高さ調整の別の具体例を示す説明図である。図９では、被写体固定部４２１の昇降駆動をアクチュエータで行ったが、図１０は被写体固定部４２１の高さ調整を手動でも行える例である。同図に示すように、下部フレーム４２の表面から底面にかけて凹部状に設けられ、被写体固定軸４２１Ｊを受容可能なチンレスト受容部４５の凸部４５ｄに、被写体固定軸４２１Ｊの側面に設けた溝４６ａ及び溝４６ｂのうちいずれかに嵌合するように被写体固定軸４２１Ｊを回転しながら固定することにより、被写体固定部４２１を下部フレーム４２の上部表面から立設させることができる。
【０１８２】
図９(a) で示す下顎歯列ＤＡＬの撮影時には溝４６ａに凸部４５ｄを嵌合し、チンレスト部４２１ａが下部フレーム４２の表面から比較的高い位置ｈ１になるように設定できる。一方、図９(b) で示す上顎歯列ＤＡＵの撮影時には溝４６ｂに凸部４５ｄを嵌合し、チンレスト部４２１ａが下部フレーム４２の表面から比較的低い位置ｈ２になるように設定できる。この際、「ｈ１−ｈ２＝Ｄ２＝Ｄ１」を満足するように設定する。
【０１８３】
図示の例では、凸部４５ｄが嵌合の際に当接する溝４６ｂの終端の高さが溝４６ａの終端の高さよりもＤ１＝Ｄ２の量の分、高い位置に配置されている。
【０１８４】
図１０の例では、基本的には、これから撮影したい対象が上顎の歯なのか下顎の歯なのかによって操作者が凸部４５ｄを溝４６ａ、溝４６ｂのいずれかに選択的に嵌合させつつチンレスト部４２１Ａの高さ調整を行ってから、必要であれば被写体ＯＢに対して支持フレーム４０全体の高さ調整を行って頭部を位置付けする方法がとられる。
【０１８５】
上顎の歯、下顎の歯の一方を撮影するべくチンレスト部４２１Ａの高さ調整を行った後に他方の撮影に移行する場合は、チンレスト部４２１Ａの高さを変える際に被写体ＯＢが一旦顎を外すなどの動作をする必要があるが、低コストで構成可能である。
【０１８６】
被写体固定部４２１の昇降を行う図示しないアクチュエータ、図１０に示すチンレスト部４２１Ａの高さ調整の機構等は被写体保持部昇降機構を構成する。
【０１８７】
なお、図９及び図１０は、図７で示す小照射野ＣＴ撮影（その２）の場合における被写体固定部４２１の高さ調整例を示したが、同様にして、図８で示したパノラマ撮影における被写体固定部４２１の高さ調整にも適用できる。
【０１８８】
＜本実施の形態の効果＞
本実施の形態のＸ線撮影装置１００によれば、Ｘ線の照射方向（ｙ方向）と交差する規制方向（ｚ方向）に、Ｘ線遮蔽板ＸＫ１及びＸＫ２（第１及び第２のＸ線遮蔽部）のうち垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２を水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１に対して相対的に変位させるｙ方向から見た重ね合わせを実行して、Ｘ線規制部１２をＸ線が通過する被写体照射Ｘ線通過領域を規制するＸ線照射範囲規制処理を実現している。
【０１８９】
そして、Ｘ線撮影装置１００は、図７（図８）に示すように、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３（第２のＸ線遮蔽領域）の一部と水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１（第１のＸ線通過領域（他にＸ線スリットＳＬ１，Ｘ線スリットＳＬ２、中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２））の一部とのｙ方向から見た重ね合わせによる第１のＸ線照射範囲規制処理を実行することができる。上記第１のＸ線照射範囲規制処理は、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３（第２のＸ線通過領域）をＸ線の経路上全く用いることなく、小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３の周辺に形成された周辺遮蔽領域Ｐ３の一部を大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１の一部との重ね合わせ用に活用している。
【０１９０】
このような、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３を用いた第１のＸ線照射範囲規制処理を行うことにより、被写体照射Ｘ線通過領域の内容を変化させて多様な被写体照射Ｘ線通過領域を設定することにより、多様なＸ線照射範囲を実現することができる効果を奏する。
【０１９１】
上記第１のＸ線照射範囲規制処理は、図６で示した小照射野ＣＴ撮影（その１）用の垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３を、図７及び図８で示した小照射野ＣＴ撮影（その２）及びパノラマ撮影時に遮蔽手段として用いることにより実現することができるため、比較的簡単な構成でＸ線撮影装置１００を得ることができる。
【０１９２】
さらに、図７及び図８で示した第１のＸ線照射範囲規制処理では、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１（Ｘ線スリットＳＬ１）の上方の一部が、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３により遮蔽される。
【０１９３】
このため、Ｘ線規制部１２のＸ線検出面の中心位置１２ｃがＸ線発生器１１における焦点Ｆよりもｚ方向に高く配置したパノラマＸ線撮影装置の打上照射の構成でＸ線撮影を行いながら、アーチファクトが生じる可能性が比較的高い、Ｘ線の照射経路の上方領域を効果的に遮蔽して、図７で示した小照射野ＣＴ撮影（その２）や小照射野パノラマ撮影（図８で示したパノラマ撮影）を行うことができる。
【０１９４】
この効果は、例えば、同じ小照射野ＣＴ撮影において、図６で示した小照射野ＣＴ撮影（その１）におけるコーンビームＣＢ２と、図７で示した小照射野ＣＴ撮影（その２）における示したコーンビームＣＢ３との比較からも伺える。
【０１９５】
さらに、実施の形態のＸ線撮影装置１００によれば、上記第１のＸ線照射範囲規制処理に加え、図５で示した大照射野ＣＴ撮影時における第２のＸ線照射範囲規制処理及び図６で示した小照射野ＣＴ撮影（その１）時における第３のＸ線照射範囲規制処理を併せて実行可能であるため、より多様なＸ線照射範囲を実現することができる効果を奏する。
【０１９６】
また、図５〜図７で示したように、コーンビームＣＢ１〜ＣＢ３を用いた多様なＸ線ＣＴ撮影を実現することができる。
【０１９７】
加えて、旋回アーム３０の旋回が半回転から概ね１回転でＣＴ撮影を完了することができ、短時間で撮影できるとともに、被写体ＯＢである被験者の負担を少なくすることができる。
【０１９８】
また、規制方向であるｚ方向において、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３との間における形成幅を変えることにより、より多様なＸ線照射範囲を実現することができる。
【０１９９】
加えて、図５で示した第２のＸ線照射範囲規制処理による大照射野のＸ線撮影と、図６で示した第３のＸ線照射範囲規制処理の狭形成幅Ｘ線通過領域である、ｚ方向に変位可能な小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３の全体利用処理による小照射野のＸ線撮影とを選択的に行うことができる。
【０２００】
また、本実施の形態によれば、大照射野ＣＴ撮影、大照射野パノラマ撮影において歯列弓全体ＤＡＡを対象にしたＸ線撮影と、小照射野ＣＴ撮影、小照射野パノラマ撮影において歯列弓ＤＡの一部を対象にしたＸ線撮影とが選択できるので、必要最小限のＸ線被曝量でＸ線撮影が可能である。
【０２０１】
また、図８で示したパノラマ撮影用の第１のＸ線照射範囲規制処理を実行することにより、Ｘ線細隙ビームＸＢ１を用いた多様なＸ線撮影を実現し、多様なパノラマ断層画像を得ることができる。
【０２０２】
さらに、本実施の形態のＸ線撮影装置１００において、図９及び図１０で示したように、被写体固定部４２１は、高さ方向であるｚ方向における支持フレーム４０（下部フレーム４２）の昇降量を打ち消すように、被写体ＯＢを保持する被写体保持部であるチンレスト部４２１Ａの下部フレーム４２の表面に対する高さを変位させることができる。
【０２０３】
このため、図７及び図８の(a) と(b) に対する同各図(c) ，(d)で示す関係のように、下顎歯列ＤＡＬから上顎歯列ＤＡＵに照射範囲を変更すべく被写体ＯＢに対するＸ線照射位置を高さ方向に変化させても、常にチンレスト部４２１Ａによる被写体ＯＢの保持位置の高さ方向における絶対値を一定に保つことができる。
【０２０４】
その結果、被写体固定部４２１のチンレスト部４２１Ａにて保持される被写体ＯＢとなる被験者の頭部等の配置を常に一定の絶対高さに保つことにより、被験者に負担をかけることなく、被写体ＯＢに対する高さ方向におけるＸ線照射位置を変化させてＸ線撮影を行うことができる効果を奏する。
【０２０５】
（その他）
上述した本実施の形態のＸ線規制部１２では、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１には大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１、Ｘ線スリットＳＬ１，ＳＬ２及び中照射野Ｘ線通過孔Ｃ２を設け、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２には小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３を設け、多種類のＸ線撮影を実現可能にしている。
【０２０６】
しかし、Ｘ線遮蔽板ＸＫ１及びＸＫ２それぞれにＣＴ撮影用の通過孔のみ設けＣＴ撮影専用のＸ線規制部１２を構成することも考えられる。同様に、Ｘ線遮蔽板ＸＫ１及びＸＫ２それぞれパノラマ撮影用のスリットのみ設けパノラマ撮影専用のＸ線規制部１２を構成することも考えられる。
【０２０７】
なお、本実施の形態では、規制方向をｚ方向とし、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の周辺遮蔽領域Ｐ３を用いて水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１（Ｘ線スリットＳＬ１）の一部を遮蔽して被写体照射Ｘ線通過領域を規制して上記第１のＸ線照射範囲規制処理を行ったが、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２との関係を逆にしても良い。
【０２０８】
例えば、規制方向をｘ方向（Ｘ線の照射方向であるｙ方向と交差する方向）として、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の周辺遮蔽領域の一部を用いて、垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３の一部を遮蔽して被写体照射Ｘ線通過領域を規制する第１のＸ線照射範囲規制処理を行う態様も考えられる（この態様において、例えば、Ｚ方向から見たＣＴ撮影領域の径を任意に設定できる。旋回軸３１がＣＴ撮影領域の中心位置から外れた位置に来たとしても、駆動部６５が、旋回軸３１を旋回アーム３０の軸周りの旋回に同期して移動させることで、Ｘ線発生器１１とＸ線検出器２１の旋回中心位置をＣＴ撮影領域の中心位置に維持してＣＴ撮影を実行するように制御する。）。
【０２０９】
図７（図８）で示した第１のＸ線照射範囲規制処理では、水平方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ１の大照射野Ｘ線通過孔Ｃ１（Ｘ線スリットＳＬ１）と垂直方向変位Ｘ線遮蔽板ＸＫ２の小照射野Ｘ線通過孔Ｃ３とはｙ方向から見て全く重なり合わないようにしている。この重なり合わない関係は、Ｘ線発生器１１のＸ線の照射経路上においてのみ満足すれば十分である。
【符号の説明】
【０２１０】
１０  Ｘ線発生部
１１  Ｘ線発生器
１２  Ｘ線規制部
２０  Ｘ線検出部
２１  Ｘ線検出器
３０  旋回アーム
４０  支持フレーム
４０Ｍ  昇降駆動モータ
４１  上部フレーム
４２  下部フレーム
６５  駆動部
１００  Ｘ線撮影装置
３００  支持部
４２１  被写体固定部
４２１Ａ  チンレスト部
８０１ｂ  画像情報処理部
Ｃ１  大照射野Ｘ線通過孔
Ｃ２  中照射野Ｘ線通過孔
Ｃ３  小照射野Ｘ線通過孔
ＣＢ１、ＣＢ２、ＣＢ３  Ｘ線コーンビーム
ＳＬ１  Ｘ線スリット
ＳＬ２  Ｘ線スリット
ＯＢ  被写体
Ｐ３  周辺遮蔽領域
ＸＫ１  水平方向偏位Ｘ線遮蔽板
ＸＫ２  垂直方向変位Ｘ線遮蔽板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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