(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ発振器と、
前記レーザ発振器から発振されたレーザビームを伝送する光ファイバと、
前記光ファイバの末端が収容され、前記レーザビームの照射方向に直交する平面上で直線運動する光学鏡筒と、
前記光学鏡筒と前記光ファイバの末端との間に位置し、一端が前記光ファイバを支持し、前記レーザビームの方向に直交する平面上で、相互直交する方向に直線往復動する一対の圧電変換器と、を備え、
前記光ファイバを中心に前記一対の圧電変換器にそれぞれ対向して位置し、前記光ファイバの零点位置を調整する一対の零点調整部をさらに備え、
前記光ファイバは、前記一対の圧電変換器及び前記一対の零点調整部の中心に位置することを特徴とするレーザビーム照射装置。
【請求項２】
前記一対の零点調整部は、バネであることを特徴とする請求項１に記載のレーザビーム照射装置。
【請求項３】
前記一対の圧電変換器のうち一つの圧電変換器が運動する時、前記光ファイバは、前記光学鏡筒の進行方向に垂直方向にジグザグ運動することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のレーザビーム照射装置。
【請求項４】
前記一対の圧電変換器が共に運動する時、前記光ファイバは、曲線経路に沿って前記曲線経路に垂直である方向にジグザグ運動することを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のレーザビーム照射装置。
【請求項５】
前記光ファイバ末端が収容される前記光学鏡筒の入口は、前記圧電変換部の振幅の２倍以上のギャップが形成されたことを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載のレーザビーム照射装置。
【請求項６】
前記一対の圧電変換器の振幅、振動数、または振動方向を制御する制御部をさらに備えることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のレーザビーム照射装置。
【請求項７】
前記レーザ発振器と前記光学鏡筒との間に配され、前記レーザビームの断面でのビーム強度を均一にするビーム均質器をさらに備えることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載のレーザビーム照射装置。
【請求項８】
前記光学鏡筒は、前記光ファイバから照射されたレーザビームを集光するレンズ部を備えることを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載のレーザビーム照射装置。
【請求項９】
第１基板、第２基板、及び前記第１基板と第２基板との間に位置する密封部を備える表示装置と、
前記密封部にレーザビームを照射する請求項１ないし請求項８のいずれか１項によるレーザビーム照射装置と、を備える基板密封装置。
【請求項１０】
前記表示装置と前記レーザビーム照射装置との間に配され、前記密封部に対応する領域に開口が形成されたマスクをさらに備えることを特徴とする請求項９に記載の基板密封装置。
【請求項１１】
前記レーザビーム照射装置は、前記光ファイバ末端が収容される前記光学鏡筒の入口にギャップが形成され、前記ギャップは、前記密封部の幅より大きいことを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の基板密封装置。
【請求項１２】
前記レーザビームは、前記密封部の密封経路に左右にディザリングしつつ進行することを特徴とする請求項９ないし請求項１１のいずれか１項に記載の基板密封装置。
【請求項１３】
前記密封経路は、閉ループ状を形成し、前記レーザビーム照射装置は、光学鏡筒の回転なしに前記閉ループ状の密封経路に沿って前記レーザビームを照射することを特徴とする請求項１２に記載の基板密封装置。
【請求項１４】
前記密封経路は、直線経路及び曲線経路を含むことを特徴とする請求項１２または請求項１３に記載の基板密封装置。
【請求項１５】
前記密封部は、フリットであることを特徴とする請求項９ないし請求項１４のいずれか１項に記載の基板密封装置。
【請求項１６】
前記表示装置は、有機発光素子を含むことを特徴とする請求項９ないし請求項１５のいずれか１項に記載の基板密封装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザビーム照射装置及び該レーザビーム照射装置を備える基板密封装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置の密封方法として、上部基板及び下部基板を密封材で密封する方法が使われる。例えば、有機発光素子を含む表示装置の場合、上部基板と下部基板との間の有機発光素子の周囲をフリットで塗布した後、フリットの密封ラインに沿ってレーザビーム照射装置を移動させてレーザビームを照射する。レーザビームの照射でフリットを硬化させて上部基板と下部基板とを密封する。
【０００３】
この時、フリットの密封ラインに一定の曲率を有する曲線経路が含まれている場合、フリットの曲線経路の回転角とレーザビームを照射するレーザビーム照射装置の光学鏡筒の回転角とが同一でなければならない。もし、光学鏡筒の回転角とフリットの曲線経路の回転角とが反れれば、密封不良が発生する恐れがある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明が解決しようとする課題は、光学鏡筒の回転なしにレーザビームを照射して密封品質を高めうるレーザビーム照射装置及びこれを備える基板密封装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記課題を達成するために、本発明の一側面は、レーザ発振器と、前記レーザ発振器から発振されたレーザビームを伝送する光ファイバと、前記光ファイバの末端が収容され、前記レーザビームの照射方向に直交する平面上で直線運動する光学鏡筒と、前記光学鏡筒と前記光ファイバの末端との間に位置し、一端が前記光ファイバを支持し、前記レーザビームの方向に直交する平面上で相互直交する方向に直線往復動する一対の圧電変換器（Ｐｉｅｚｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒ)と、を備えるレーザビーム照射装置を提供する。
【０００６】
本発明の他の特徴によれば、前記光ファイバを中心に、前記一対の圧電変換器にそれぞれ対向して位置し、前記光ファイバの零点位置を調整する一対の零点調整部をさらに備えうる。
本発明のさらに他の特徴によれば、前記一対の零点調整部は、バネでありうる。
本発明のさらに他の特徴によれば、前記光ファイバは、前記一対の圧電変換器及び前記一対の零点調整部の中心に位置しうる。
【０００７】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記一対の圧電変換器のうち一つの圧電変換器が運動する時、前記光ファイバは、前記光学鏡筒の進行方向に垂直である方向にジグザグ(Ｚｉｇｚａｇ)運動しうる。
【０００８】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記一対の圧電変換器が共に運動する時、前記光ファイバは、曲線経路に沿って、前記曲線経路に垂直である方向にジグザグ運動しうる。
本発明のさらに他の特徴によれば、前記光ファイバの末端が収容される前記光学鏡筒の入口は、前記圧電変換器の振幅の２倍以上のギャップ(ｇａｐ)が形成されうる。
本発明のさらに他の特徴によれば、前記一対の圧電変換器の振幅、振動数、または振動方向を制御する制御部をさらに備えうる。
【０００９】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記レーザ発振器と前記光学鏡筒との間に配され、前記レーザビームの断面でのビーム強度を均一にするビーム均質器(Ｂｅａｍ Ｈｏｍｏｇｅｎｉｚｅｒ)をさらに備えうる。
本発明のさらに他の特徴によれば、前記光学鏡筒は、前記光ファイバから照射されたレーザビームを集光するレンズ部を備えうる。
【００１０】
本発明の他の側面は、第１基板、第２基板、及び前記第１基板と第２基板との間に位置する密封部を備える表示装置と、前記密封部にレーザビームを照射する前記レーザビーム照射装置とを備える基板密封装置を提供する。
本発明の他の特徴によれば、前記レーザビーム照射装置は、前記光ファイバを中心に、前記一対の圧電変換器にそれぞれ対向して位置し、前記光ファイバの零点位置を前記密封部の中心にフォーカシングする一対の零点調整部をさらに備えうる。
【００１１】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記表示装置と前記レーザビーム照射装置との間に配され、前記密封部に対応する領域に開口が形成されたマスクをさらに備えうる。
本発明のさらに他の特徴によれば、前記レーザビーム照射装置は、前記光ファイバの末端が収容される前記光学鏡筒の入口にギャップが形成され、前記ギャップは、前記密封部の幅より大きい。
【００１２】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記レーザビームは、前記密封部の密封経路に左右にディザリング(ｄｉｔｈｅｒｉｎｇ)しつつ進行しうる。
本発明のさらに他の特徴によれば、前記密封経路は、閉ループ(Ｃｌｏｓｅｄ ｌｏｏｐ)状に形成し、前記レーザビーム照射装置は、光学鏡筒の回転なしに前記閉ループ状の密封経路に沿って、前記レーザビームを照射しうる。
【００１３】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記密封経路は、直線経路及び曲線経路を含みうる。
本発明のさらに他の特徴によれば、前記密封部は、フリットでありうる。
本発明のさらに他の特徴によれば、前記表示装置は、有機発光素子を含みうる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によるレーザビーム照射装置及び基板密封装置は、一対の圧電変換器の動作によって、光学鏡筒を機械的に回転せずとも、閉ループ状の経路を一回りスキャンすれば、光学鏡筒が３６０°回転したような効果が発生する。したがって、別途の回転機構部を設置する必要がないので、レーザビーム照射装置の構成を簡素化し、光学鏡筒と密封部の密封経路とのアラインメントの反れを除去することによって、密封不良を防止しうる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態によるレーザビーム照射装置を利用して、表示装置の密封部を密封する基板密封装置を概略的に示す図面である。
【図２】図１の表示装置の概略的な上面図である。
【図３】図１の光学鏡筒を詳細に示す断面図である。
【図４】図１の光ファイバ運動調整部を詳細に示す上面図である。
【図５Ａ】光ファイバの運動及び密封部の第１直線経路を過ぎるレーザビームの運動状態を概略的に示す断面図である。
【図５Ｂ】光ファイバの運動及び密封部の第１直線経路を過ぎるレーザビームの運動状態を概略的に示す断面図である。
【図６Ａ】光ファイバの運動及び密封部の第２直線経路を過ぎるレーザビームの運動状態を概略的に示す断面図である。
【図６Ｂ】光ファイバの運動及び密封部の第２直線経路を過ぎるレーザビームの運動状態を概略的に示す断面図である。
【図７Ａ】光ファイバの運動及び密封部の第１曲線経路を過ぎるレーザビームの運動状態を概略的に示す断面図である。
【図７Ｂ】光ファイバの運動及び密封部の第１曲線経路を過ぎるレーザビームの運動状態を概略的に示す断面図である。
【図７Ｃ】第１曲線経路に許容可能な光ファイバの振動角を示す図面である。
【図８Ａ】光ファイバの運動及び密封部の第２曲線経路を過ぎるレーザビームの運動状態を概略的に示す断面図である。
【図８Ｂ】光ファイバの運動及び密封部の第２曲線経路を過ぎるレーザビームの運動状態を概略的に示す断面図である。
【図８Ｃ】第２曲線経路に許容可能な光ファイバの振動角を示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、添付した図面を参照して、本発明の望ましい実施形態を詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態によるレーザビーム照射装置１０を利用して、表示装置１６０の密封部１６４を密封する基板密封装置１を概略的に示した図面であり、図２は、図１の表示装置１６０の概略的な上面図である。
【００１７】
図１を参照すれば、第１基板１６１と第２基板１６２との間に有機発光素子１６３及び、前記有機発光素子１６３を取り囲む密封部１６４が配され、密封部１６４に光学鏡筒１４０から照射されたレーザビームＬが照射される。
第１基板１６１上に、有機発光素子１６３が形成される。
第２基板１６２は、第１基板１６１上に形成された有機発光素子１６３を封じ止める封止基板であって、望ましくは、レーザビームＬが透過されうるものとして、ガラス材基板を使用する。
【００１８】
有機発光素子１６３は、第１電極(図示せず)と第２電極(図示せず)との間に有機発光層を備える。ここで、第１電極(図示せず)と第２電極(図示せず）とは、それぞれ正孔を注入する正極(アノード)及び電子を注入する負極(カソード)の機能を行える。
有機発光素子１６３は、駆動方法によって、受動駆動型(Ｐａｓｓｉｖｅ Ｍａｔｒｉｘ：ＰＭ)及び能動駆動型(Ａｃｔｉｖｅ Ｍａｔｒｉｘ：ＡＭ)に分けられる。本実施形態は、能動及び受動駆動型のうちいずれの場合にも適用されうる。また、本実施形態は、有機発光素子だけでなく、他の表示素子を含む表示装置にも適用されうる。
【００１９】
第１基板１６１と第２基板１６２との間には、有機発光素子１６３を取り囲むように、密封部１６４が形成される。
本実施形態で、第１基板１６１と第２基板１６２との機密性を確保して有機発光素子１６３をさらに効果的に保護するために、密封部１６４にフリットを使用した。フリットは、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）またはペンディスペンシング法(Ｐｅｎ Ｄｉｓｐｅｎｓｉｎｇ)など多様な方法によって、一定の幅を有するように形成される。
【００２０】
また、密封部１６４は、有機発光素子１６３と外部の水分や酸素との接触を遮断するために、閉ループで形成することが望ましい。
図２を参照すれば、本実施形態による密封部１６４は、閉ループからなる密封部１４０の各コーナー部分が、一定の曲率を有する四つの曲線経路Ｃ１,Ｃ２,Ｃ３,Ｃ４、及び各四つの曲線経路Ｃ１,Ｃ２,Ｃ３,Ｃ４の間は、四つの直線経路ＳＬ１,ＳＬ２,ＳＬ３,ＳＬ４で形成される。もちろん、本発明は、これに限定されないので、密封部１６４の各コーナー部分が、曲率なしに直交する形状になってもよい。
【００２１】
一方、前記図面には示されていないが、前記表示装置１６０の下部には、表示装置１６０を支持し、回転自在なステージ(図示せず)がさらに備えられうる。
レーザビーム照射装置１０は、第１基板１６１と第２基板１６２との間に配された密封部１６２の密封経路に左右にディザリング(ｄｉｔｈｅｒｉｎｇ)しつつ速く運動するレーザビームＬを照射する。これについての詳細な説明は、後述する。
【００２２】
レーザビーム照射装置１０は、制御ＰＣ １１０、レーザ発振器１２０、光ファイバ１３０及び集光レンズ１４１を備える光学鏡筒１４０を備える。
制御ＰＣ １１０は、レーザビームの照射強度、レーザビームの照射時間、レーザビームの照射位置など、レーザビーム照射装置１０の全体的な作動を制御する。また、後述する一対の圧電変換器１５２,１５３の振幅、振動数、振動方向を制御しうる。
【００２３】
レーザ発振器１２０は、レーザビームを発振する装置である。
レーザ発振装置１２０は、減衰器(図示せず)をさらに備えうる。減衰器は、レーザビームＬの出力を調整して光ファイバ１３０に伝送する。レーザビームＬを使用してシーリングする過程で、レーザビームＬの出力は、工程時間によって変化するので、工程条件の最適化のためには、工程時間によって、レーザビームＬの出力を調整せねばならない。しかし、レーザ発振器１２０の内部電流を調整してレーザビームＬの出力を調整する場合には、発振されるレーザビームの特性が変化するので、レーザビームＬの出力は、減衰器を使用して調整できる。
【００２４】
レーザ発振器１２０としては、レーザシーリング用に一般的に使われる高出力レーザソースのバンドルタイプ(Ｂｕｎｄｌｅ ｔｙｐｅ)のマルチコアソースを使用できる。
このようなバンドルタイプのマルチコアソースの場合、それぞれのコアの出力がいずれも少しずつ異なる可能性があるので、レーザビームの断面でのビーム強度を均一にするビーム均質器(Ｂｅａｍ Ｈｏｍｏｇｅｎｉｚｅｒ)(図示せず)を使用して、このような不均一を解決することもできる。このようなビーム均質器(図示せず)としては、多重モード光ファイバ（Ｍｕｌｔｉｍｏｄｅ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｂｅｒ）またはフライアイレンズ(Ｆｌｙ−Ｅｙｅ Ｌｅｎｓ)が使われうる。
【００２５】
光ファイバ１３０は、レーザ発振器１２０から発振されたレーザビームＬを伝送し、光ファイバ１３０の末端からレーザビームＬが照射される。前記レーザビームＬは、ビーム均質器(図示せず)を通過したビーム断面の強度が均一なレーザビームＬでありうる。
【００２６】
図３は、光学鏡筒１４０を詳細に示した断面図である。
図３を参照すれば、光ファイバ１３０の末端は、集光レンズ１４１を含む光学鏡筒１４０に連結される。
集光レンズ１４１は、適切に設計された一つ以上のレンズで構成され、表示装置１６０の第１基板１６１及び第２基板１６２上の一定領域に照射されるレーザビームＬが歪曲されずに結像させる。本実施形態の集光レンズ１４１は、１：１フォーカシングを構成するための２つのレンズで構成されたが、本発明は、これに限定されない。
【００２７】
光学鏡筒１４０を通過したレーザビームＬは、表示装置１６０の密封部１６４に結像される。
この時、レーザビームＬによる表示素子１６３の劣化を防止するために、表示装置１６０と光学鏡筒１６４との間に密封部１６４に対応する領域に、開口１７１が形成されたマスク１７０を配し、密封部１６４に照射されるレーザビームＬの幅を調節しうる。
【００２８】
光ファイバ１３０の末端が収容される光学鏡筒１４０の入口には、所定間隔のギャップＧが形成されており、前記ギャップＧの内部で後述する光ファイバ運動調整部１５０の調整によって、光ファイバ１３０の末端が動く。したがって、光ファイバ１３０が所定の振幅Ａの直線運動を行う場合、前記ギャップＧは、最小限光ファイバ１３０の振幅Ａの２倍、すなわち、光ファイバ１３０の振動幅２Ａよりは大きくなければならない。
【００２９】
一方、本実施形態による光学鏡筒１４０は、光学鏡筒１４０を所定の回転角に回転させるための別途の機構部を有さず、レーザビームＬの照射方向Ｚに直交する平面上ＸＹで、Ｘ方向またはＹ方向の直線運動のみを行う。
光ファイバ１３０の末端と光学鏡筒１４０との間に、光ファイバ１３０の動きを調整する光ファイバ運動調整部１５０が位置する。
【００３０】
図４は、光ファイバ運動調整部１５０を詳細に示した上面図である。
図４を参照すれば、光ファイバ運動調整部１５０は、一対の圧電変換器１５２,１５３及び一対の零点調整部１５４,１５５を備える。
一対の圧電変換器１５２,１５３及び一対の零点調整部１５４,１５５は、環状の固定フレーム１５１によって支持される。固定フレーム１５１の形状は、一例示に過ぎず、本発明は、これに限定されない。
【００３１】
一対の圧電変換器１５２,１５３は、レーザビームＬの照射方向Ｚに直交する平面上ＸＹで、相互直交するように配され、それぞれ相互直交する方向に直線往復動する。
例えば、第１圧電変換器１５２は、第１圧電変換器１５２の第１基準Ｏ１を中心にＸ方向の振幅Ａを有する直線往復動を行い、第２圧電変換器１５２は、第２圧電変換器１５３の第２基準Ｏ２を中心にＹ方向の振幅Ａを有する直線往復動を行う。
【００３２】
もし、第１圧電変換器１５２のみが動作すれば、光ファイバ１３０は、Ｘ方向の振幅Ａを有する直線往復動を行う。もし、第２圧電変換器１５２のみが動作すれば、光ファイバ１３０は、Ｙ方向の振幅Ａを有する直線往復動を行う。もし、第１及び第２圧電変換器１５２,１５３が同時に動作すれば、光ファイバ１３０は、所定の角度(例えば、４５°)を有する方向に所定の振幅(例えば、Ａ)に直線往復動するが、光学鏡筒１４０が直線経路に沿って動く場合、光ファイバ１４０は、全体的に曲線経路を有し、前記曲線経路に左右にジグザグ運動する。これについては、後述する。
【００３３】
一対の圧電変換器１５２,１５３の一端には、一対の圧電変換器１５２,１５３の基準点を調整する圧電変換器基準調節部１５２ａ,１５３ａが備えられ、一対の圧電変換器１５２,１５３の他端には、光ファイバ１３０が支持され、光ファイバ１３０が一対の圧電変換器１５２,１５３の運動に連動して動くようにする。
【００３４】
一対の圧電変換器１５２,１５３にそれぞれ対向する位置に光ファイバ１３０の零点位置を調整するための一対の零点調整部１５４,１５５が配される。一対の零点調整部１５４,１５５は、バネとして使われうる。
【００３５】
一対の零点調整部１５４,１５５の一端には、一対の零点調整部１５４,１５５のバネの張力を調節して、バネの微細長を調整する張力調節部１５４ａ,１５５ａが備えられ、一対の零点調整部１５４,１５５の他端には、光ファイバ１３０が支持され、光ファイバ１３０の中心ＦＣを表示装置１６０の密封部１６４の密封経路の中心に一致させる。前記のような一対の零点調整部１５４,１５５の零点調整によって、レーザビームＬの中心も、密封部１６４の密封経路の中心に一致しうる。
【００３６】
図５Ａ及び図５Ｂは、光ファイバ１３０の運動及び密封部１６４の第１直線経路ＳＬ１（図２）を過ぎるレーザビームＬの運動状態を概略的に示した断面図である。
図５Ａを参照すれば、第１圧電変換器１５２のみが動作する状態で、光ファイバ１３０は、Ｘ方向の振幅Ａを有する直線往復動を行う。
【００３７】
図５Ｂを参照すれば、光ファイバ１３０の末端を収容する光学鏡筒１４０が、密封部１６４の第１直線経路ＳＬ１に沿って動けば、光ファイバ１３０は、光学鏡筒１４０の進行方向に垂直である方向にジグザグ運動する。したがって、光ファイバ１３０から照射されるレーザビームＬも、密封部１６４の第１直線経路ＳＬ１に垂直である方向にジグザグ運動する。
【００３８】
図６Ａ及び図６Ｂは、光ファイバ１３０の運動及び密封部１６４の第２直線経路ＳＬ２（図２）を過ぎるレーザビームＬの運動状態を概略的に示した断面図である。
図６Ａを参照すれば、第２圧電変換器１５２のみが動作する状態で、光ファイバ１３０は、Ｙ方向の振幅Ａを有する直線往復動を行う。
【００３９】
図６Ｂを参照すれば、光ファイバ１３０の末端を収容する光学鏡筒１４０が、密封部１６４の第２直線経路ＳＬ２に沿って動けば、光ファイバ１３０は、光学鏡筒１４０の進行方向に垂直である方向にジグザグ運動する。したがって、光ファイバ１３０から照射されるレーザビームＬも、密封部１６４の第２直線経路ＳＬ２に垂直である方向にジグザグ運動する。
【００４０】
前記図面では、密封部１６４の第１直線経路ＳＬ１及び第２直線経路ＳＬ２についての説明のみが示されているが、第３直線経路ＳＬ３及び第４直線経路ＳＬ４にも、同一に適用されうる。
図７Ａ及び図７Ｂは、光ファイバ１３０の運動及び密封部１６４の第１曲線経路Ｃ１（図２)を過ぎるレーザビームＬの運動状態を概略的に示した断面図であり、図７Ｃは、第１曲線経路Ｃ１に許容可能な光ファイバ１３０の振動角θを示した図面である。
【００４１】
図７Ａを参照すれば、第１圧電変換器１５２及び第２圧電変換器１５３が同時に動作する状態で、光ファイバ１３０は、所定の振動角θ、及び所定の振幅Ａに左右に直線往復動する。
【００４２】
図７Ｂを参照すれば、光ファイバ１３０の末端を収容する光学鏡筒１４０が直線経路に沿って動くとしても、光ファイバ１３０は、全体的に曲線経路を有し、前記曲線経路に左右にジグザグ運動する。したがって、光ファイバ１３０から照射されるレーザビームＬも、密封部１６４の第１曲線経路Ｃ１に垂直である方向にジグザグ運動する。
【００４３】
図７Ｃを参照すれば、密封部１６４の第１曲線経路Ｃ１に許容可能な光ファイバ１３０の振動角θを示した図面であって、振動角θは、０°より大きく９０°より小さい。この振動角θは、第１圧電変換器１５２の振動と第２圧電変換器１５３の振動とのベクトル和で調節されうる。すなわち、前記ベクトル和は、第１圧電変換器１５２及び第２圧電変換器１５３に対する振幅、振動数、及び振動角の組合わせによって導出可能であり、これは、制御部(図示せず)で制御しうる。
【００４４】
図８Ａ及び図８Ｂは、光ファイバ１３０の運動及び密封部１６４の第２曲線経路Ｃ２（図２)を過ぎるレーザビームＬの運動状態を概略的に示した断面図であり、図８Ｃは、第２曲線経路Ｃ２に許容可能な光ファイバ１３０の振動角θを示した図面である。
図８Ａを参照すれば、第１圧電変換器１５２及び第２圧電変換器１５３が同時に動作する状態で、光ファイバ１３０は、所定の振動角θ、及び所定の振幅Ａに左右に直線往復動する。
【００４５】
図８Ｂを参照すれば、光ファイバ１３０の末端を収容する光学鏡筒１４０が直線経路に沿って動くとしても、光ファイバ１３０は、全体的に曲線経路を有し、前記曲線経路に左右にジグザグ運動する。したがって、光ファイバ１３０から照射されるレーザビームＬも、密封部１６４の第２曲線経路Ｃ２に垂直である方向にジグザグ運動する。
【００４６】
図８Ｃを参照すれば、密封部１６４の第２曲線経路Ｃ２に許容可能な光ファイバ１３０の振動角θを示した図面であって、振動角θは、９０°より大きく１８０°より小さい。この振動角θは、第１圧電変換器１５２の振動と第２圧電変換器１５３の振動とのベクトル和に調節され、これは、第１圧電変換器１５２及び第２圧電変換器１５３に対する振幅、振動数、及び振動角の組合わせによって導出可能である。
【００４７】
一方、前記図面では、密封部１６４の第１曲線経路Ｃ１及び第２曲線経路Ｃ２についての説明のみが示されているが、第３曲線経路Ｃ３及び第４曲線経路Ｃ４にも同一に適用されうる。例えば、第３曲線経路Ｃ３に許容可能な光ファイバの振動角θは、１８０°より大きく２７０°より小さく、第４曲線経路Ｃ４に許容可能な光ファイバの振動角θは、２７０°より大きく３６０°より小さい。
【００４８】
前述したように、一対の圧電変換器１５２,１５３の動作によって光ファイバ１３０から照射されるレーザビームＬは、曲線経路を含む密封部１６４の閉ループ状の経路を、経路方向に左右にディザリングしつつ動ける。したがって、光学鏡筒１４０は、機械的に回転しないが、閉ループ状の経路を一回りスキャンすれば、光学鏡筒１４０が３６０°回転したような効果が発生する。したがって、光学鏡筒１４０と密封部１６４の密封経路とのアラインメントの反れを除去することによって、密封不良を防止しうる。
【００４９】
本発明は、図面に示された実施形態を参照して説明したが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるということが分かるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されねばならない。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明は、表示装置関連の技術分野に好適に適用可能である。
【符号の説明】
【００５１】
１    基板密封装置
１０    レーザビーム照射装置
１１０    制御ＰＣ
１２０    レーザ発振器
１３０    光ファイバ
１４０    光学鏡筒
１４１    集光レンズ
１５０    光ファイバ運動調整部
１５１    固定フレーム
１５２,１５３    一対の圧電変換器
１５４,１５５    一対の零点調整部
１６０    表示装置
１６１    第１基板
１６２    第２基板
１６３    有機発光素子
１６４    密封部
１７０    マスク
１７１    開口部
Ｌ    レーザビーム
Ｇ    ギャップ
ＳＬ１〜ＳＬ４    第１直線経路〜第４直線経路
Ｃ１〜Ｃ４    第１曲線経路〜第４曲線経路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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