(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搭載し、駆動指示情報に基づいて移動する移動体と、前記移動体よりも上方に位置する除振対象物と、前記除振対象物を支持し、前記除振対象物に伝わる振動を抑制するための力を発生させる除振手段と、を含み、同一の固定台に設置される第１および第２のリソグラフィー装置と、該リソグラフィー装置の動作を制御する制御手段と、を備えるリソグラフィーシステムであって、
前記制御手段は、第２の前記リソグラフィー装置が有する前記移動体への前記駆動指示情報と、前記駆動指示情報と前記除振手段の前記力との関係で表される制御指標とに基づいて、第１の前記リソグラフィー装置に含まれる前記除振手段を制御することを特徴とするリソグラフィーシステム。
【請求項２】
前記除振対象物に設置され、該除振対象物に生じる振動に関する値を計測する計測手段を有することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィーシステム。
【請求項３】
前記制御手段は、更に、前記リソグラフィー装置の配置に係る装置情報に基づいて前記除振手段を制御することを特徴とする請求項１又は２に記載のリソグラフィーシステム。
【請求項４】
少なくとも３台の前記リソグラフィー装置を備え、
前記制御手段は、前記計測手段による出力値に基づいて、前記少なくとも３台のリソグラフィー装置から前記第２のリソグラフィー装置を選択することを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィーシステム。
【請求項５】
前記第２のリソグラフィー装置は、前記第１のリソグラフィー装置に隣接することを特徴とする請求項３に記載のリソグラフィーシステム。
【請求項６】
前記固定台は、梁を有し、
前記制御手段は、前記第１のリソグラフィー装置が配置される前記固定台の前記梁と同一の前記梁上に配置され、かつ前記梁の長手方向に平行な直線と前記移動体の最大加振の方向に平行な直線がなす鋭角が６０度以内であるリソグラフィー装置が有する前記移動体を、前記駆動指示情報を参照する前記移動体と設定し、前記第１のリソグラフィー装置に含まれる除振手段を制御することを特徴とする請求項３に記載のリソグラフィーシステム。
【請求項７】
前記固定台に配置される、少なくとも１つの計測手段を有し、
前記制御手段は、前記固定台に配置された前記計測手段による出力値を、前記第２のリソグラフィー装置に含まれる前記移動体の移動開始時間のトリガとして使用して前記駆動指示情報を算出し、予め保存された前記制御指標に適用することで前記第１のリソグラフィー装置に含まれる前記除振手段を制御することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィーシステム。
【請求項８】
前記計測手段は、加速度計、速度計、又は変位計のいずれかであることを特徴とする請求項２又は７に記載のリソグラフィーシステム。
【請求項９】
前記力は、５Ｈｚ以下の低周波振動であることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィーシステム。
【請求項１０】
前記リソグラフィー装置は、基板上の未硬化樹脂と、型とを互いに押し付けて、前記基板上に樹脂のパターンを形成するインプリント装置であることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィーシステム。
【請求項１１】
前記リソグラフィー装置は、原版に形成されたパターンを基板に露光する荷電粒子線露光装置であることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィーシステム。
【請求項１２】
リソグラフィーシステムを用いた物品の製造方法であって、
前記リソグラフィーシステムは、請求項１０に記載のリソグラフィーシステムであり、
インプリント装置を用いて基板上に樹脂のパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィーシステム、及びそれを用いた物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの微細化の要求が進み、従来のフォトリソグラフィー技術に加え、モールドと基板上の未硬化樹脂とを互いに押し付けて、モールドに形成された微細な凹凸パターンに対応する樹脂のパターンを基板上に形成する微細加工技術が注目を集めている。この技術は、インプリント技術とも呼ばれ、基板上に数ナノメートルオーダーの微細な構造体を形成することができる。例えば、インプリント技術の一つとして光硬化法がある。光硬化法を採用したインプリント装置では、まず、基板（ウエハ）上のショット領域（インプリント領域）に紫外線硬化樹脂（インプリント樹脂、光硬化樹脂）を塗布する。次に、この樹脂（未硬化樹脂）とモールドとを互いに押し付ける。そして、紫外線を照射して樹脂を硬化させたうえで離型することにより、樹脂のパターンが基板上に形成される。
【０００３】
このインプリント装置においても、上記のように数ナノメートルオーダー、例えば、装置に起因する位置合わせ誤差の許容範囲が数〜数十ｎｍの転写精度に加え、転写速度の向上が求められる。一般的に、インプリント装置による転写速度は、従来のステッパーやスキャナー等の露光方式と比較して時間がかかり、１つの装置でのスループットが低い。そこで、例えば、基板の位置決めを実施する基板ステージを高速駆動させる方法や、デバイスの製造工場に複数台のインプリント装置を設置するクラスタ構成のインプリントシステムを採用する方法がある。特に、クラスタ構成のインプリントシステムは、１台あたりのインプリント装置の価格が液浸露光装置等と比較して安いため、インプリント装置を複数台設置した場合でもコスト面に利点がある。
【０００４】
しかしながら、転写速度の向上は、転写精度とトレードオフの関係になる場合が多い。即ち、基板ステージの高速駆動は、そこで発生する反力を増加させて装置自身を加振するだけでなく、周囲に設置している他の装置に影響を及ぼす可能性がある。特に、クラスタ構成を採用する場合、１台の装置で発生する振動が小さくても、複数台の装置で発生する振動の位相や方向成分が重ね合わさることで振動が増幅し、クラスタを構成した工場の床全体を揺らす場合もある。例えば、インプリント装置では、モールドと光硬化樹脂とを互いに押し付ける押印時には、予め取得した位置合わせの条件により高精度な位置関係が維持されている。しかしながら、この振動が装置に伝わると、モールドと未硬化樹脂との接触界面が不安定な状態になり、転写精度が悪化する。そこで、高付加価値の露光装置であれば、例えば、カウンタマスを搭載することで外部に伝わる振動を除去し、周囲の他の露光装置に与える影響を抑制する。これに対して、低コスト、又はフットプリントを小さくすることを利点とするインプリント装置では、カウンタマスの搭載は不利となる。このため、インプリント装置では、カウンタマスとは別の、外部からの振動の伝達を極力遮るための除振装置を搭載するのが一般的である。
【０００５】
この除振装置としては、例えば、除振対象物の振動と、装置の設置床の振動とを計測器で検出し、その出力信号に応じてアクチュエータにて除振対象物を駆動する、所謂アクティブ方式の除振装置がある。このアクティブ方式の除振装置は、バネ及びダンパ特性を有する支持機構のみで構成された受動的な除振装置よりも、高い除振性能を有する。この場合、アクチュエータの駆動を制御する方法は、２通り存在する。１つは、除振対象物上の振動を直接計測器で検出し、その振動を抑えるようにアクチュエータを駆動させる制御方法（フィードバック制御）である。もう１つは、設置床の振動を計測する計測器を設置して、この計測器による出力値に応じて設置床から除振対象物に伝わる振動を予測し、その振動を打ち消すようにアクチュエータを駆動させる方法（フィードフォワード制御）である。前者は、除振対象物自身に生じる外乱に基づいて反省的に制御を実行するので、完全に制御するには限界があるが、後者は、外乱に対して先行的に制御を実行するので、除振効果が大きい。例えば、特許文献１は、上記のような制御技術を採用した除振装置を開示している。一方、特許文献２は、設置床からの計測情報ではなく、除振対象物上にある移動体の駆動信号に基づいてフィードフォワード制御を実行するアクティブ除振装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−２０９９６号公報
【特許文献２】特開２００８−１１５９６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に示す除振装置では、設置床の振動を計測して、その計測値に基づいてフィードフォワード制御を実行するので、制御の結果が計測器の能力に左右されやすい。即ち、この除振装置は、計測値に基づいてアクチュエータの駆動力を発生させるので、計測値に誤差があると、逆に振動を増幅させる。また、通常の計測器では、低周波域の振動の計測の際にノイズが乗りやすいので、このノイズの影響を除去するために、ハイパスフィルター等を用いる。更に、この除振装置では、除振性能を確保するために低固有値部材が使用されるが、除振装置自身は、低周波域で共振するので、低周波成分の振動を好適に抑制することが必要となる。そのために、この防振装置では、低周波域の計測値成分を除去しているので、有効な除振効果が得られない場合がある。
【０００８】
また、特許文献２に示すアクティブ除振装置では、移動体の制御情報に基づいて移動体の位置や加速度を推定し、更にその値に基づいてアクチュエータに制御力を発生させる。この場合、移動体は、除振対象物上に存在するので、移動体が除振対象物に与える力の推定が容易であるものの、設置床からの振動に対しては効果がない。
【０００９】
本発明は、このような状況を鑑みてなされたものであり、リソグラフィー装置を含むクラスタ構成において、あるリソグラフィー装置に対するその周囲の装置からの振動の伝達を抑えることが可能なリソグラフィーシステムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明は、基板を搭載し、駆動指示情報に基づいて移動する移動体と、移動体よりも上方に位置する除振対象物と、除振対象物を支持し、除振対象物に伝わる振動を抑制するための力を発生させる除振手段と、を含み、同一の固定台に設置される第１および第２のリソグラフィー装置と、該リソグラフィー装置の動作を制御する制御手段と、を備えるリソグラフィーシステムであって、制御手段は、第２のリソグラフィー装置が有する移動体への駆動指示情報と、駆動指示情報と除振手段の力との関係で表される制御指標とに基づいて、第１のリソグラフィー装置に含まれる除振手段を制御することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、リソグラフィー装置を含むクラスタ構成において、あるリソグラフィー装置に対するその周囲の装置からの振動の伝達を抑えることが可能なリソグラフィーシステムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】インプリント装置の構成を示す概略図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係るリソグラフィーシステムに関する図である。
【図３】ある除振対象物に対する伝達関数を説明するブロック図である。
【図４】本発明の第２実施形態に係るリソグラフィーシステムに関する図である。
【図５】本発明の第３実施形態に係るリソグラフィーシステムに関する図である。
【図６】低周波振動のみに限定して演算を実行する例を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための形態について図面等を参照して説明する。
【００１４】
（インプリント装置）
まず、以下で説明する本発明の実施形態に係るリソグラフィーシステムに適用するインプリント装置について説明する。図１は、インプリント装置の構成を示す概略図である。本実施形態におけるインプリント装置は、半導体デバイスの製造工程に使用される被処理基板であるウエハ上（基板上）に対してモールドのパターンを転写する加工装置であり、インプリント技術の中でも光硬化法を採用した装置である。なお、図１において、モールドに対する光（紫外線）の照射軸に平行にＺ軸を取り、該Ｚ軸に垂直な平面内で後述のモールドベースに対してウエハが移動する方向にＸ軸を取り、該Ｘ軸に直交する方向にＹ軸を取って説明する。このインプリント装置１は、照明系ユニット２と、モールド３と、モールド保持装置４と、ウエハ５と、ウエハステージ６と、塗布装置７と、モールド搬送装置８とを備える。
【００１５】
照明系ユニット２は、インプリント処理の際に、モールド３に対して紫外線１０を照射する照明手段である。照明系ユニット２は、光源と、該光源から射出された紫外線をインプリントに適切な光に調整するための複数の光学素子から構成される。モールド保持装置４は、モールド３を保持、及び固定するための保持装置である。このモールド保持装置４は、モールド３に圧縮力を加えることにより、モールド３に形成されたパターンを所望の形状に補正する形状補正機構１１と、吸着力や静電力によりモールド３を引きつけて保持するモールドベース１２とを備える。また、モールド保持装置４は、ウエハ５上に形成された紫外線硬化樹脂にモールド３を押し付けるために、モールドベース１２をＺ軸方向に駆動する不図示のベース駆動機構を備える。なお、このインプリント装置１では、上記のように、一方のモールド３をＺ方向に駆動する構成とするが、例えば、他方のウエハステージ６（ウエハ５）をＺ方向に駆動する構成としてもよい。
【００１６】
ウエハ５は、例えば、単結晶シリコンからなる被処理基板であり、被処理面には、成形部となる紫外線硬化樹脂（以下、単に「樹脂」と表記する）が塗布される。また、ウエハステージ６は、ウエハ５を真空吸着により保持し、かつ、ＸＹ平面内を自由に移動可能な基板保持手段（移動体）である。また、塗布装置（ディスペンサー）７は、ウエハ５上に未硬化の樹脂を塗布する塗布手段である。樹脂は、紫外線を受光することにより硬化する性質を有する光硬化樹脂であって、製造する半導体デバイスの種類等により適宜選択される。更に、モールド搬送装置８は、モールド３を搬送し、モールドベース１２に対してモールド３を設置する搬送手段である。
【００１７】
更に、インプリント装置１は、定盤１３、フレーム１４、ベース部材１５、及び除振装置１６を含む。定盤１３は、インプリント装置１全体を支持する平板部材であり、ウエハステージ６の移動の基準平面を形成する。フレーム１４は、定盤１３上に設置され、ウエハ５よりも上方に位置するモールド保持装置４等の各種構成要素を保持するベース部材１５を、除振装置１６を介して支持する支持体である。ここで、除振装置１６は、床面からの振動の伝達を低減する機能を有する除振手段である。
【００１８】
次に、インプリント装置１によるインプリント処理について説明する。まず、後述する制御部は、ウエハステージ６にウエハ５を載置及び固定させた後、ウエハステージ６を塗布装置７の塗布位置へ移動させる。その後、塗布装置７は、塗布工程として、ウエハ５の所定のショット（被処理領域）に樹脂（未硬化樹脂）を塗布する。次に、制御部は、ウエハ５上の塗布面がモールド３の直下に位置するように、ウエハステージ６を移動させる。次に、制御部は、モールド３の押印面とウエハ５上の塗布面との位置合わせ、及び形状補正機構１１によるモールド３の形状補正を実施した後、ベース駆動機構を駆動させ、ウエハ５上の樹脂にモールド３を押印する（押印工程）。このとき、樹脂は、モールド３の押印によりモールド３に形成されたパターンに沿って流動する。この状態で、照明系ユニット２は、硬化工程として、モールド３の背面（上面）から紫外線１０を照射し、モールド３を透過した紫外線１０により樹脂が硬化する。そして、樹脂が硬化した後、制御部は、ベース駆動機構を再駆動させ、モールド３をウエハ５から離型させる（離型工程）。これにより、ウエハ５上のショットの表面には、モールド３のパターンに倣った３次元形状の樹脂の層が形成される。
【００１９】
（荷電粒子線露光装置）
なお、本実施形態のリソグラフィーシステムとしてクラスタを構成するリソグラフィー装置は、上記インプリント装置１に限らず、荷電粒子線露光装置であってもよい。この荷電粒子線露光装置は、電子ビームやイオンビームを光源として用いた露光装置である。この場合、露光方法としては、電子ビーム自体をウエハに対して走査させることでパターンを描写する方法と、原版（レチクル又はマスク）により電子ビームを所望の形状に整形して、原版パターンをウエハ上に転写する方法とがある。特に、スループットが要求される場合には、複数の電子ビームを使用するマルチビーム方式が採用される。
【００２０】
（第１実施形態）
次に、本発明の第１実施形態に係る、リソグラフィー装置を複数台配置したクラスタ構成によるリソグラフィーシステムについて説明する。なお、本実施形態における「クラスタ構成」とは、同様のリソグラフィー装置を複数台同一固定台（床面）内に集合させて、搬送ロボット等の外部装置を共有することでフットプリントや生産性を確保するための構成を示す。以下、このリソグラフィーシステムのクラスタを構成するリソグラフィー装置として、上記インプリント装置を適用するものとする。図２は、本実施形態に係るリソグラフィーシステム２０を示す構成図であり、特に、図２（ａ）は、各インプリント装置２２の構成を含む概略図である。このリソグラフィーシステム２０は、同一の固定台（床面）２１上に配置される３台のインプリント装置２２（２２Ａ〜２２Ｃ）と、各インプリント装置２２Ａ〜２２Ｃを集中管理する制御部２３とを備える。なお、リソグラフィーシステム２０におけるインプリント装置２２の設置台数は、少なくとも２台以上であれば、特に限定しない。
【００２１】
インプリント装置２２（２２Ａ〜２２Ｃ）は、図２（ａ）に示すように、固定台２１に載置されるフレーム２４と、該フレーム２４に対して除振装置２５を介して接続される除振対象物２６と、移動体２７とを備える。この場合、フレーム２４、除振装置２５、除振対象物２６、及び移動体２７は、それぞれ、上記インプリント装置１におけるフレーム１４、除振装置１６、ベース部材１５、及びウエハステージ６に対応する。特に、除振装置２５は、バネ及びダンパ特性（弾性）を有する支持機構２８と、振動抑制力を発生させるアクチュエータで構成される駆動機構２９とを備える。
【００２２】
制御部２３は、各インプリント装置２２Ａ〜２２Ｂの各構成要素の動作、及び調整等を集中管理する制御手段である。図２（ｂ）は、固定台２１上に設置される３台のインプリント装置２２Ａ〜２２Ｃそれぞれの各構成要素に回線（情報伝達手段）３０により接続される制御部２３の構成を示す概略図である。この制御部２３は、磁気記憶媒体等の記憶手段を有するコンピュータ、又はシーケンサ等で構成され、プログラム又はシーケンスにより各構成要素の制御を実行する。特に、本実施形態では、制御部２３は、各インプリント装置２２Ａ〜２２Ｃの各種装置情報３１を取得、及び管理すると共に、後述する伝達関数３２を導出、及び管理し、更に、除振装置２５内の駆動機構２９への駆動力（振動抑制力）を演算する演算器３３を含む。なお、制御部２３は、リソグラフィーシステム２０として一体で構成してもよいし、又は、リソグラフィーシステム２０とは別の場所に設置し、遠隔で制御する構成としてもよい。更には、制御部２３は、あるインプリント装置２２内の制御系に構成するものでもよいし、全てのインプリント装置２２内に含まれる各制御系それぞれを回線にて接続し、全体として構成するものでもよい。
【００２３】
次に、リソグラフィーシステム２０の作用について説明する。このリソグラフィーシステム２０において、固定台２１は、インプリント装置２２Ａ〜２２Ｃ内の各移動体２７Ａ〜２７Ｃによる移動動作に起因して振動する。そこで、制御部２３は、まず、固定台２１の振動によりインプリント装置２２Ａ〜２２Ｃ内のいずれかの除振対象物２６に伝わる振動を、制御指標である伝達関数３２を用いて予測する。そして、制御部２３は、その除振対象物２６に伝達が予想される振動を予め抑えるように、駆動機構２９の駆動力を調整する。このとき、制御部２３が参照するものは、図２（ａ）に示すように、例えば、インプリント装置２２Ａに含まれる除振対象物２６Ａの振動を抑える場合には、他のインプリント装置２２Ｂ、２２Ｃに含まれる移動体２７Ｂ、２７Ｃによる振動である。
【００２４】
ここで、第１のリソグラフィー装置であるインプリント装置２２Ａにおける第１の除振対象物２６Ａに対する除振作用について考える。図３は、除振対象物２６Ａに対する伝達関数３２を説明するブロック図であり、特に、図３（ａ）は、伝達関数３２の位置づけを示すブロック図である。この場合、制御部２３は、第２のリソグラフィー装置である他のインプリント装置２２Ｂ、２２Ｃにおける第２の移動体２７Ｂ、２７Ｃの駆動信号（駆動指示情報）３４ａ、３４ｂと、除振対象物２６Ａとの入出力関係から２つの伝達関数３２ａ、３２ｂを導出する。このとき、伝達関数３２ａ、３２ｂは、入力と出力とが１対１の関係にある。即ち、一方の移動体２７Ｂの駆動信号３４ａと、除振対象物２６Ａとの間の伝達関数３２ａを計測している間は、後述の図３（ｂ）に示すように、他方の移動体２７Ｃは、静止状態にある。そして、制御部２３は、導出した伝達関数３２ａ、３２ｂを演算器３３に送信し、演算器３３にて算出された値を第１の除振装置（第１の除振手段）２５Ａを構成する駆動機構２９Ａに送信することで、駆動機構２９Ａの駆動力を調整する。制御部２３は、このようなインプリント装置２２Ａ〜２２Ｃ間の伝達関数３２の導出を、生産工程に移行する前に実行する。
【００２５】
図３（ｂ）は、移動体２７Ｂの駆動信号３４ａに対する除振対象物２６Ａの伝達関数３２ａを導出する流れを示すブロック図である。本実施形態では、制御部２３は、伝達関数３２ａを導出するために、除振対象物２６Ａ（２６Ｂ、２６Ｃ）上に出力として設置された計測器３５Ａ（３５Ｂ、３５Ｃ）による計測データを参照する。この計測器３５Ａは、加速度計、速度計、又は変位計のいずれかによる計測手段である。一般に、これらの計測器は、低周波域の信号に多くのノイズを含むが、本実施形態では、制御部２３は、この計測器３５Ａによる計測データを、伝達関数３２ａを導出するときのみに使用し、リソグラフィーシステム２０が生産工程に移行した後には使用しない。なお、この伝達関数３２ａを導出するための計測は、時間が許す限り複数回実行してもよく、これらの計測データを平均化することでノイズの影響を更に低減させることができる。また、移動体２７Ｂの計測時の加速度を生産工程時よりも大きくすることで除振対象物２６Ａの振動を故意に大きくすれば、計測器３５Ａの出力がノイズに埋もれることを防ぐことができるので、これによってもノイズの影響を低減させることができる。
【００２６】
一方、本実施形態の入力としては、制御部２３は、上記の通り、移動体２７Ｂに送られる駆動信号３４ａを使用する。ここで採用する入力は、制御部２３が、伝達関数３２ａの導出だけでなく、フィードフォワード制御の信号としても使用するため、精度が重要となる。なぜなら、フィードフォワード制御は、先行的であり、外乱が除振対象物２６Ａに伝わる前に、この外乱を制御信号に基づいて相殺するように作用するからである。ここで、固定台２１の振動の起因となるものは、移動体２７Ｂの運動（移動）である。即ち、制御部２３は、移動体２７Ｂの運動を正確に把握することができれば、固定台２１に生じる振動も正確に把握できることになる。そこで、制御部２３は、移動体２７Ｂの駆動信号が、移動体２７Ｂの運動を命令する信号そのものであることから、移動体２７Ｂの運動を正確に把握する情報として利用する。
【００２７】
これらを踏まえ、制御部２３は、移動体２７Ｂの駆動信号３４ａと、計測器３５Ａによる計測データとを、内部に含むＦＦＴ（高速フーリエ変換）アナライザ３６で処理することで、伝達関数３２ａを導出する。導出された伝達関数３２ａは、制御部２３内の記憶装置に保存される。以上の方法により、制御部２３は、移動体２７Ｃの駆動信号に対する除振対象物２６Ａの伝達関数３２ｂも導出し、更には、インプリント装置２２Ｂ、２２Ｃに係る全ての組み合わせに関する伝達関数３２を導出する。
【００２８】
ここで、伝達関数３２が全て既知となるので、制御部２３は、各駆動信号３４に対する除振対象物２６の運動が予測可能となる。そして、制御部２３は、ある１つの除振対象物２６の運動を抑制するような駆動力を適宜除振装置２５内の駆動機構２９により印加することで、その周辺のインプリント装置２２に含まれる移動体２７に起因する振動を抑えることが可能となる。なお、ＦＦＴアナライザ３６は、図３（ｂ）に示すように、制御部２３の内部に組み込まれるものであるが、例えば、伝達関数３２ａを、予めシミュレーションにより求めてもよい。更に、制御部２３は、図３（ｃ）に示すように、駆動機構２９に印加する駆動力のゲインを調整するゲイン調整手段Ｋ２１、Ｋ３１を有する構成としてもよい。この構成によれば、制御部２３は、事前に除振対象物２６上の計測データを参照しながら駆動機構２９の駆動力を調整することができるので、除振性能を更に高めることができる。
【００２９】
以上のように、本実施形態のリソグラフィーシステム２０によれば、複数のインプリント装置２２を含むクラスタ構成において、あるインプリント装置２２に対するその周囲のインプリント装置２２からの振動の伝達を好適に抑えることが可能となる。
【００３０】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係るリソグラフィーシステムについて説明する。第１実施形態では、制御部２３は、クラスタを構成するインプリント装置２２の全てに関して伝達関数３２を導出し、駆動機構２９の駆動力を全ての伝達関数３２を用いて算出する。これに対して、本実施形態のリソグラフィーシステムの特徴は、制御部が、駆動機構２９の駆動力の算出の際に、インプリント装置の配置に係る装置情報に基づいて、伝達関数３２を適宜選択して用いる点にある。図４は、本実施形態に係るリソグラフィーシステムに関し、固定台の上面（Ｚ方向）から見た概略図である。なお、各インプリント装置の構成要素において、図２及び図３に示す第１実施形態に係るインプリント装置２２と同様のものには同一の符号を付し、説明を省略する。この図４の各図に示す各リソグラフィーシステム４０、５０、６０、８０は、それぞれ同一の固定台４１上に配置される１２台のインプリント装置４２（装置Ａ〜Ｌ）と、各インプリント装置４２を集中管理する制御部４３とを備える。以下、この場合の伝達関数の選択方法について、４つの方法を上げる。
【００３１】
まず、伝達関数の第１の選択方法として、図４（ａ）に示すリソグラフィーシステム４０では、制御部４３は、事前の計測又はシミュレーションにより、計測器３５の計測データが許容値以上となる移動体２７の駆動信号３４のみを使用する。ここでの許容値は、例えば、マイクロメートルオーダーの値とする。次に、制御部４３は、あるインプリント装置４２（例えば、図中の装置Ｅ）内の除振対象物２６に対する周辺のインプリント装置４２の計測データの最大値が、その許容値を超えるかどうかを判断する。次に、制御部４３は、その判断の結果に基づいて、参照する移動体２７（例えば、図中の装置Ｄ、Ｆ内の移動体）を抽出する。そして、制御部４３は、その抽出した移動体２７の駆動信号３４のみを参照して伝達関数を導出し、駆動機構２９の駆動力を算出する。
【００３２】
次に、伝達関数の第２の選択方法として、図４（ｂ）に示すリソグラフィーシステム５０では、制御部４３は、予め、あるインプリント装置４２（例えば、図中の装置Ｅ）内の除振対象物２６に隣接した移動体２７のみを抽出（設定）する。この場合、抽出される移動体２７は、例えば、図中の装置Ｂ、Ｄ、Ｆ、Ｈ内の移動体２７となる。そして、制御部４３は、その抽出した移動体２７の駆動信号３４のみを参照して伝達関数を導出し、駆動機構２９の駆動力を算出する。この方法は、除振対象物２６を有するインプリント装置４２からの距離が比較的離れた他のインプリント装置４２による振動の影響が小さいことが自明である場合、例えば、固定台２１が高剛性である場合等に有効である。
【００３３】
次に、伝達関数の第３の選択方法として、図４（ｃ）に示すリソグラフィーシステム６０では、制御部４３は、まず、予め固定台４１の主支柱４４の設置位置に基づいて固定台４１自身の変形を予測する。そして、制御部４３は、固定台４１の変形の腹上に位置するインプリント装置４２に含まれる移動体２７に関する伝達関数のみを使用する。ここで、「主支柱」とは、固定台４１を支える主要な柱であり、例えば、工場等の建造物を立設する地表面から天井部までを貫き、その建造物を安定して支持するための支柱を示す。この主支柱４４は、地表面に対して強固に設置されているため、固定台４１の主支柱４４付近は、高剛性となり、変形、及び振動が小さい。即ち、主支柱４４から遠い距離に設置されたインプリント装置４２に含まれる移動体２７が、固定台４１の振動源となりやすい。そこで、制御部２３は、あるインプリント装置４２（例えば、図中の装置Ｅ）内の除振対象物２６に対して、主支柱４４の近傍に位置するインプリント装置４２（装置Ａ、Ｃ、Ｊ、Ｌ）を除く、その他のインプリント装置４２の移動体２７を抽出する。そして、制御部４３は、その抽出した移動体２７の駆動信号３４のみを参照して伝達関数を導出し、駆動機構２９Ａの駆動力を算出する。
【００３４】
更に、伝達関数の第４の選択方法として、図４（ｄ）に示すリソグラフィーシステム８０では、制御部４３は、固定台４１の梁の構成とインプリント装置４２の最大加振力の方向との関係から影響の大きいものを抽出（設定）する。以下、その抽出方法を説明する。一般に図４（ｄ）のように固定台４１の梁は、直交して構成され、インプリント装置４２は、その上に格子状に配置される場合が多い。例として、リソグラフィーシステム８０内のインプリント装置４２（図中の装置Ａ〜Ｅ）は、物品製造工程においてＸ方向に最大加振力を発生するような場合を考え、装置Ｅに注目する。この時、装置Ｅの加振力の影響を大きく受けるのは、最大加振力方向と同方向の梁８１ａ上に配置されている装置Ｂ、Ｈ、Ｋとなる。装置Ｅの最大加振力方向と直交方向の梁８１ｂ上に配置される装置Ｄ、Ｆは、装置Ｅの加振力に対し不感である。また、装置Ｅと異なる梁、つまり梁８１ａ、８１ｂ以外の梁上に配置される装置Ａ、Ｃ、Ｇ、Ｉ、Ｊ、Ｌも装置Ｅの最大加振力に対し不感である。理由は、一般的に梁の曲げ剛性は、幅方向と高さ方向と比較して長手方向に低く、長手方向には振動を伝達しやすいからである。つまり、図４（ｄ）のように構成される固定台４１の場合も、振動は、長手方向と一致する方向へ伝達しやすく、長手方向と直交する方向へ伝達しにくい。上記より、装置Ｅの制御を行う場合は、装置Ｂ、Ｈ、Ｋの伝達関数を使用すればよい。もちろん、この場合でも隣接する装置Ｂ、Ｈの伝達関数を使用してもよい。固定台４１の梁の配置は建屋の図面から把握することが望ましいが、事前に固定台４１上に計測器を配置し、加振試験の結果から推定してもよい。上記の例では、装置加振力と梁の長手方向が完全に一致しているが、装置加振力の方向に平行な直線と梁の長手方向に平行な直線がなす角（鋭角）θ（０°≦θ＜９０°）が６０度以内である装置を考慮する。これは、装置加振力の５０％以上が梁の長手方向に伝達するものを考慮する必要があるからである。制御部４３は、上記の関係に該当するインプリント装置４２の移動体２７の駆動信号３４のみを参照して伝達関数を導出し、駆動機構２９の駆動力を算出する。このように、本実施形態のリソグラフィーシステム４０、５０、６０、８０によれば、第１実施形態と同様の効果を奏すると共に、特に、クラスタを構成するインプリント装置４２の設置台数が多い場合には、制御部４３による制御を簡略化させることができる。
【００３５】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係るリソグラフィーシステムについて説明する。第１実施形態では、制御部２３は、移動体２７Ｂ、２７Ｃの駆動信号３４ａ、３４ｂを適宜参照し、伝達関数３２ａ、３２ｂに反映させる。これに対して、本実施形態のリソグラフィーシステムの特徴は、制御部は、各移動体２７の駆動信号（駆動情報）を予め保存しておく点にある。図５は、本実施形態のリソグラフィーシステム７０に関する図であり、特に、図５（ａ）は、リソグラフィーシステム７０の構成を含む制御部７１の制御の流れを示すブロック図である。なお、各インプリント装置の構成要素において、図２及び図３に示す第１実施形態に係るインプリント装置２２と同様のものには同一の符号を付し、説明を省略する。このリソグラフィーシステム７０は、固定台７２上に設置される３台のインプリント装置７３（装置Ａ〜Ｃ）と、それぞれのインプリント装置７３に回線７４により接続される制御部７１とを備える。更に、リソグラフィーシステム７０は、固定台７２上に設置される少なくとも１台（本実施形態では、８台）の計測器７５を備える。ここで、あるインプリント装置７３（例えば、図中の装置Ａ）に含まれる除振対象物２６ａに伝わる振動を予測すると仮定する。この場合、制御部７１は、各計測器７５の計測データを、他のインプリント装置（装置Ｂ、Ｃ）に含まれる移動体２７Ｂ、２７Ｃの移動開始時間のトリガとして使用する。即ち、制御部７１は、この計測データに基づいて、移動体２７Ｂ、２７Ｃの移動開始時間（駆動指示情報）を推定する。そして、制御部７１は、推定した移動開始時間を、予め保存された各移動体２７の駆動信号７６ａ、７６ｂに適用することにより、伝達関数７７ａ、７７ｂを導出し、演算器７８にてインプリント装置７３（装置Ａ）に含まれる駆動機構２９Ａの駆動力を算出する。具体的には、図５（ａ）に示す各位置に配置される計測器７５ａ、７５ｂ、７５ｃの各計測データ（出力データ）が、図５（ｂ）に示す時間に対する出力値で表されるグラフのような傾向を示すと仮定する。例えば、時刻ｔ１において、計測器７５ａ、７５ｂの出力値が、急激に大きくなり、一方、計測器７５ｃの出力値に変化がないような場合には、制御部７１は、装置Ｂに含まれる移動体２７Ｂが移動を開始したと予測する。同様の理由で、制御部７１は、時刻ｔ２においては、装置Ｃに含まれる移動体２７Ｃが移動を開始したと予測する。このように、本実施形態のリソグラフィーシステム７０によれば、第１実施形態と同様の効果を奏する。特に、本実施形態では、制御部７１と、クラスタを構成する各インプリント装置７３に含まれる移動体２７の全てとで回線接続を行う必要がないので、リソグラフィーシステム７０の配線に係る構成を簡略化させることができる。
【００３６】
（物品の製造方法）
物品としてのデバイス（半導体集積回路素子、液晶表示素子等）の製造方法は、前述のリソグラフィーシステムを構成するインプリント装置を用いて基板（ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板）にパターンを形成する工程を含む。更に、該製造方法は、パターンが形成された基板をエッチングする工程を含みうる。なお、パターンドメディア（記録媒体）や光学素子等の他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりに、パターンが形成された基板を加工する他の処理を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００３７】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【００３８】
例えば、上記実施形態における駆動機構２９の駆動力の演算において、制御部は、低周波振動のみに限定して演算を実行してもよい。上述のように、計測器には、一般的に低周波振動の検出の際にノイズが乗るので、このような演算によりノイズの影響を低減させることができる。例えば、図６に示すように、計測器の測定限界が５Ｈｚである場合には、制御部は、５Ｈｚ以下の低周波振動に対してのみ演算を実行する。これに対して、ノイズの少ない高周波振動では、制御部は、従来の床振動フィードフォワード制御を実行する。即ち、この場合、制御部は、上記実施形態の制御と従来の制御とを併用させればよい。
【符号の説明】
【００３９】
２０    リソグラフィーシステム
２２    リソグラフィー装置
２３    制御部
２５    除振装置
２６    除振対象物
２７    移動体
３２    伝達関数
３４    駆動指示情報
【図１】
0005773761.tif 000002
【図２】
0005773761.tif 000003
【図３】
0005773761.tif 000004
【図４】
0005773761.tif 000005
【図５】
0005773761.tif 000006
【図６】
0005773761.tif 000007