(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性金属酸化物、β-ジケトンを含む金属錯体、活性エネルギー線硬化性化合物、光重合開始剤、及び分散媒を含み、前記β-ジケトンを含む金属錯体が、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、亜鉛、インジウム及び錫からなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属と、ピバロイルトリフルオルアセトン、アセチルアセトン、トリフルオルアセチルアセトン、及びヘキサフルオルアセチルアセトンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の配位子とで形成された金属錯体であり、前記分散媒が少なくとも１つのカルボニル基を有する分散媒Ａと少なくとも１つのヒドロキシル基を有する分散媒Ｂとを含有することを特徴とする透明導電膜形成用組成物（但し、活性エネルギー線硬化性化合物が、３以上の官能基を有する電離放射線硬化型化合物と、１および／または２官能の電離放射線硬化型化合物とを含む場合を除く。）。
【請求項２】
分散媒Ａが、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、及びシクロヘキサノンからなる群より選ばれた１種又は２種以上であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項３】
分散媒Ｂが、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルからなる群より選ばれた１種又は２種以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項４】
導電性金属酸化物が、錫ドープ酸化インジウム（ITO）、アンチモンドープ酸化錫（ATO）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン酸亜鉛、及び五酸化アンチモンからなる群より選ばれた１種又は２種以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項５】
導電性金属酸化物１００質量部当り、β-ジケトンを含む金属錯体の含有量が３〜４５０質量部であり、活性エネルギー線硬化性化合物の含有量が１４〜１００００質量部であり、及び分散媒の含有量が６０〜７００００質量部であって、また、光重合開始剤の含有量が前記活性エネルギー線硬化性化合物１００質量部当り０．１〜２０質量部であり、かつ、分散媒Ａと分散媒Ｂとの質量比（Ａ／Ｂ）が９０／１０〜１０／９０であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物を硬化させて得られたものであることを特徴とする透明導電膜。
【請求項７】
屈折率が１．４５〜１．９０の範囲内であり、全光線透過率が７５%以上であり、ヘーズが１．５%以下であり、かつ、表面抵抗値が１×１０12Ω／□以下であることを特徴とする請求項６に記載の透明導電膜。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物を用いて作製されたものであることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項９】
導電性金属酸化物、屈折率１．８以上３．０未満の非導電性高屈折率金属酸化物、β-ジケトンを含む金属錯体、活性エネルギー線硬化性化合物、光重合開始剤、及び分散媒を含み、前記β-ジケトンを含む金属錯体が、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、亜鉛、インジウム及び錫からなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属と、ピバロイルトリフルオルアセトン、アセチルアセトン、トリフルオルアセチルアセトン、及びヘキサフルオルアセチルアセトンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の配位子とで形成された金属錯体であり、前記分散媒が少なくとも１つのカルボニル基を有する分散媒Ａと少なくとも１つのヒドロキシル基を有する分散媒Ｂとを含有することを特徴とする透明導電膜形成用組成物（但し、活性エネルギー線硬化性化合物が、３以上の官能基を有する電離放射線硬化型化合物と、１および／または２官能の電離放射線硬化型化合物とを含む場合を除く。）。
【請求項１０】
分散媒Ａが、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、及びシクロヘキサノンからなる群より選ばれた１種又は２種以上であることを特徴とする請求項９に記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項１１】
分散媒Ｂが、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルからなる群より選ばれた１種又は２種以上であることを特徴とする請求項９又は１０に記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項１２】
導電性金属酸化物が、錫ドープ酸化インジウム（ITO）、アンチモンドープ酸化錫（ATO）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン酸亜鉛、及び五酸化アンチモンからなる群より選ばれた１種又は２種以上であることを特徴とする請求項９〜１１のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項１３】
屈折率１．８以上３．０未満の非導電性高屈折率金属酸化物が、酸化ジルコニウム、酸化チタン、及び酸化セリウムからなる群より選ばれた１種又は２種以上であることを特徴とする請求項９〜１２のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項１４】
導電性金属酸化物と非導電性高屈折率金属酸化物との合計１００質量部当り、β-ジケトンを含む金属錯体の含有量が３〜４５０質量部であり、活性エネルギー線硬化性化合物の含有量が１４〜１００００質量部であり、及び分散媒の含有量が６０〜７００００質量部であって、また、光重合開始剤の含有量が前記活性エネルギー線硬化性化合物１００質量部当り０．１〜２０質量部であり、かつ、分散媒Ａと分散媒Ｂとの質量比（Ａ／Ｂ）が９０／１０〜１０／９０であることを特徴とする請求項９〜１３のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項１５】
請求項９〜１４のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物を硬化させて得られたものであることを特徴とする透明導電膜。
【請求項１６】
屈折率が１．５５〜１．９０の範囲内であり、全光線透過率が８０%以上であり、ヘーズが１．５%以下であり、かつ、表面抵抗値が１×１０12Ω／□以下であることを特徴とする請求項１５に記載の透明導電膜。
【請求項１７】
請求項９〜１４のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物を用いて作製されたものであることを特徴とする反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電膜形成用組成物、及びこの透明導電膜形成用組成物を用いて形成された透明導電膜及び反射防止フィルムに関し、より詳しくは、保存安定性に優れて長期に亘り経時的に安定した導電特性を示し、また、塗装スピードを低下させることなく、３０℃×RH８５%の高湿度条件においても良好な成膜性を示し、更に、プラスチック、金属、木材、紙、ガラス、スレート等の各種基材の表面に適用されて透明性、膜硬度、耐擦傷性及び帯電防止機能に優れた透明導電膜を形成し得る透明導電膜形成用組成物、及び、該組成物を用いて形成された透明性、膜硬度、耐擦傷性及び帯電防止機能に優れた透明導電膜、及び該組成物を用いて作製された反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種基材の表面の傷付き（擦傷）防止や汚染防止のための保護コーティング材や、印刷インクのバインダー材として、優れた塗工性を有し、かつ、各種基材の表面に硬度、耐擦傷性、耐摩耗性、低カール性、密着性、透明性、耐薬品性、塗膜面の外観等に優れた硬化膜を形成し得る硬化性組成物が要求されている。
【０００３】
また、フラットパネルディスプレイ、タッチパネル、プラスチック光学部品等への用途においては、上記要求に加えて、透明性に優れ、かつ、帯電防止機能を有する透明導電膜等の硬化膜を形成し得る硬化性組成物が要求されている。
【０００４】
更に、液晶ディスプレイ、陰極管表示装置等の画像表示装置及び光学製品においては反射防止膜（硬化膜）が使用されている。この反射防止膜には、高い透明性及び低い反射率の特性に加え、耐擦傷性及び埃やゴミ等の異物の付着を防止する機能が要求されている。そのため、反射防止膜の高屈折率層には、高い透明性及び高い屈折率特性に加え、優れた耐擦傷性及び帯電防止特性が求められている。
【０００５】
そして、このような硬化膜に帯電防止機能を付与する手段としては、硬化性組成物中に界面活性剤、導電性ポリマー、又は主として金属酸化物からなる導電性微粒子等を添加する方法が知られており、特に永久帯電防止効果を有する膜を作製するという目的を考慮した場合には、導電性微粒子を添加する方法が一般的となっている。また、このような導電性微粒子を添加する方法としては、樹脂溶液又は溶剤中にキレート剤を配合し、その配合物中に無機酸化物を分散させる方法が提案されている（例えば、特許文献１及び２参照）。
【０００６】
また、本発明者らは、主として分散処理過程で使用される金属製機器や塗布機材の腐食を防止するため、キレート剤に代えて金属錯体を配合する方法を提案している。（特願2009-217,991号参照）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開2001-139,847号公報
【特許文献２】特開2001-139,889号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、このような透明導電膜形成用組成物において、その生産性を向上させるためには、長期保管した際における保存安定性に優れており、長期に亘って導電特性の変動がないことが必要である。
【０００９】
また、このような透明導電膜形成用組成物を用いて形成される透明導電膜や反射防止フィルムに対して、鉛筆硬度２Ｈ以上の高い膜硬度を付与させるためには、約２μm以上のdry膜厚を必要とするが、このような２μm以上のdry膜厚を得るための塗装においては、雰囲気の湿度が高くなると、形成される透明導電膜に白化現象が起こり易いという問題がある。この白化現象は、透明導電膜形成用組成物塗布後の溶剤の揮発時に発生する蒸発潜熱により、大気中の水分が硬化途中の塗膜表面に凝縮し、塗膜成分の一部が析出するものである。そこで、この白化現象を解決する手段として、２５℃×RH３０%以下という低湿度条件下での塗装、表面調整剤の添加、あるいは、高沸点溶剤の添加の方法がよく採用されているが、低湿度条件下で塗装する方法では塗装条件が制限されて生産性が低下し、また、表面調整剤を添加する方法では基材及び上塗り層との密着性不良が生じ易く、更に、高沸点溶剤を添加する方法では塗装スピードが低下して生産性が低下するという別の問題が発生する。
【００１０】
そこで、本発明者らは、このような問題を解決すべく鋭意検討した結果、意外なことには、導電性金属酸化物（又は、導電性金属酸化物及び非導電性高屈折率金属酸化物）、β-ジケトンを含む金属錯体、活性エネルギー線硬化性化合物、及び光重合開始剤を、少なくとも１つのカルボニル基を有する分散媒（分散媒Ａ）及び、少なくとも１つのヒドロキシル基を有する分散媒（分散媒Ｂ）を含む混合分散媒中に分散させることにより、長期に亘り経時的に安定した導電特性を示し、しかも、３０℃×RH８５%以上という高湿度条件においても良好な成膜性を示すことを見出し、本発明を完成した。
【００１１】
従って、本発明の目的は、長期に亘り経時的に安定した導電特性を示し、塗装スピードを低下させることなく、３０℃×RH８５%以上の高湿度条件においても良好な成膜性を示し、更に、プラスチック、金属、木材、紙、ガラス、スレート等の各種基材の表面に適用されて透明性、膜硬度、耐擦傷性及び帯電防止機能に優れた透明導電膜を形成し得る透明導電膜形成用組成物を提供することにある。
【００１２】
また、本発明の他の目的は、このような透明導電膜形成用組成物を各種基材の表面に適用して形成され、透明性、膜硬度、耐擦傷性及び帯電防止機能に優れた透明導電膜や反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
即ち、本発明は、導電性金属酸化物、β-ジケトンを含む金属錯体、活性エネルギー線硬化性化合物、光重合開始剤、及び分散媒を含み、前記β-ジケトンを含む金属錯体が、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、亜鉛、インジウム及び錫からなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属と、ピバロイルトリフルオルアセトン、アセチルアセトン、トリフルオルアセチルアセトン、及びヘキサフルオルアセチルアセトンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の配位子とで形成された金属錯体であり、前記分散媒が少なくとも１つのカルボニル基を有する分散媒Ａと少なくとも１つのヒドロキシル基を有する分散媒Ｂとを含有することを特徴とする透明導電膜形成用組成物であり、また、この発明において、導電性金属酸化物１００質量部当り、β-ジケトンを含む金属錯体の含有量が３〜４５０質量部であり、活性エネルギー線硬化性化合物の含有量が１４〜１００００質量部であり、及び分散媒の含有量が６０〜７００００質量部であって、また、光重合開始剤の含有量が前記活性エネルギー線硬化性化合物１００質量部当り０．１〜２０質量部であり、かつ、分散媒Ａと分散媒Ｂとの質量比（Ａ／Ｂ）が９０／１０〜１０／９０であることを特徴とする透明導電膜形成用組成物である（但し、活性エネルギー線硬化性化合物が、３以上の官能基を有する電離放射線硬化型化合物と、１および／または２官能の電離放射線硬化型化合物とを含む場合を除く。）。
【００１４】
また、本発明に係る上記の透明導電膜形成用組成物を基材上に塗布又は印刷し、硬化させて得られる透明導電膜は、好ましくは、屈折率が１．４５〜１．９０の範囲内であり、光透過率が７５%以上であり、ヘーズが１．５%以下であり、かつ、表面抵抗値が１×１０12Ω／□以下であることを特徴とする。
【００１５】
そして、本発明において、透明導電特性に加えて高屈折率特性が求められる場合には上記の透明導電膜形成用組成物において配合される導電性金属酸化物の一部に代えて屈折率１．８以上３．０未満の高屈折率金属酸化物を用いることができる。この場合には、導電性金属酸化物、屈折率１．８以上３．０未満の高屈折率金属酸化物、β-ジケトンを含む金属錯体、活性エネルギー線硬化性化合物、光重合開始剤、及び分散媒を含み、前記β-ジケトンを含む金属錯体が、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、亜鉛、インジウム及び錫からなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属と、ピバロイルトリフルオルアセトン、アセチルアセトン、トリフルオルアセチルアセトン、及びヘキサフルオルアセチルアセトンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の配位子とで形成された金属錯体であり、前記分散媒が少なくとも１つのカルボニル基を有する分散媒Ａと少なくとも１つのヒドロキシル基を有する分散媒Ｂとを含有することを特徴とする透明導電膜形成用組成物であり、また、この発明において、導電性金属酸化物と非導電性高屈折率金属酸化物との合計１００質量部当り、β-ジケトンを含む金属錯体の含有量が３〜４５０質量部であり、活性エネルギー線硬化性化合物の含有量が１４〜１００００質量部であり、及び分散媒の含有量が６０〜７００００質量部であって、また、光重合開始剤の含有量が前記活性エネルギー線硬化性化合物１００質量部当り０．１〜２０質量部であり、かつ、分散媒Ａと分散媒Ｂとの質量比（Ａ／Ｂ）が９０／１０〜１０／９０であることを特徴とする透明導電膜形成用組成物である（但し、活性エネルギー線硬化性化合物が、３以上の官能基を有する電離放射線硬化型化合物と、１および／または２官能の電離放射線硬化型化合物とを含む場合を除く。）。
【００１６】
また、本発明に係る上記の非導電性高屈折率金属酸化物配合の透明導電膜形成用組成物を基材上に塗布又は印刷し、硬化させて得られる透明導電膜は、高屈折率特性を有するものであり、好ましくは、屈折率が１．５５〜１．９０の範囲内であり、光透過率が８０%以上であり、ヘーズが１．５%以下であり、かつ、表面抵抗値が１×１０12Ω／□以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明により、（１）長期に亘り経時的に安定した導電特性を示し、塗装スピードを低下させることなく、３０℃×RH８５%以上という高湿度条件においても良好な成膜性を示す透明導電膜形成用組成物が提供され、また、（２）該透明導電膜形成用組成物から得られる透明性、膜硬度、耐擦傷性及び帯電防止機能に優れた透明導電膜が提供され、更に、（３）該透明導電膜を用いて作製した反射防止フィルムが提供される。更にまた、非導電性高屈折率金属酸化物配合の透明導電膜形成用組成物を用いることにより、透明導電特性に加えて高屈折率特性をも備えた透明導電膜形成用組成物、透明導電膜、及び反射防止フィルムが提供される。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に、本発明の好適な実施の形態を具体的に説明する。
本発明の透明導電膜形成用組成物は、導電性金属酸化物、β-ジケトンを含む金属錯体、活性エネルギー線硬化性化合物、光重合開始剤、少なくとも１つのカルボニル基を有する分散媒（分散媒Ａ）及び少なくとも１つのヒドロキシル基を有する分散媒（分散媒Ｂ）を含有するものである。
【００１９】
ここで、本発明の透明導電膜形成用組成物で用いる導電性金属酸化物については、その形状等において特に限定されるものではないが、その導電性としては体積抵抗率として１０7Ω・cm以下、好ましくは１０3Ω・cm以下であるのがよく、また、その大きさについては、一次粒子径で、通常１nm以上５００nm以下、好ましくは１０nm以上１００nm以下であるのがよい。この導電性金属酸化物の体積抵抗率が１０7Ω・cmを超えると目的を達成するのに必要な導電性が得られ難くなるという問題が生じ、また、一次粒径が１nm未満では鉛筆硬度及び耐擦傷性が顕著に低下し、５００nmを超えると透明導電膜が得られ難くなる。
【００２０】
このような導電性金属酸化物としては、上記の目的を達成できるものであれば特に限定されず、市販品等の公知のものを用いることができる。例えば、ＩＴＯ、ＡＴＯ、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン酸亜鉛、五酸化アンチモン等の金属酸化物を用いることができる。ここで、酸化錫については、リン等の元素をドープしたものを用いることもでき、また、酸化亜鉛については、ガリウムやアルミニウムをドープしたものを用いることもできる。これらの導電性金属酸化物はその１種類のみを用いてもよく、また、２種類以上を併用してもよい。
【００２１】
また、本発明において、透明導電特性に加えて高屈折率特性が求められる場合に、上記の導電性金属酸化物の一部に代えて屈折率１．８以上３．０未満の非導電性高屈折率金属酸化物を用いることができる。この非導電性高屈折率金属酸化物は、形成される透明導電膜の屈折率を制御するためのものであり、屈折率が１．８以上３．０未満、好ましくは２．０以上２．８以下の非導電性高屈折率金属酸化物が用いられ、また、その大きさについては、一次粒子径で、通常１nm以上５００nm以下、好ましくは１０nm以上１００nm以下であるのがよい。なお、個々の非導電性高屈折率金属酸化物の屈折率は材料固有の値であり、種々の文献に記載されている。ここで、屈折率が１．８未満の金属酸化物を用いた場合には高屈折率の透明導電膜が得られず、また、屈折率が３．０を超える高屈折率金属酸化物を用いた場合には透明導電膜の透明性が低下する傾向がある。また、高屈折率金属酸化物の一次粒径が１nm未満では鉛筆硬度及び耐擦傷性が顕著に低下し、５００nmを超えると透明膜が得られ難くなる。
【００２２】
この目的で用いられる非導電性高屈折率金属酸化物については、目的を達成できるものであれば特に限定されず、市販品等の公知のものを用いることができる。好適に用いられる非導電性高屈折率金属酸化物としては、例えば、酸化ジルコニウム（n=2.4）、酸化チタン（n=2.76）及び酸化セリウム（n=2.2）等を挙げることができ、これらはその１種類のみを用いてもよく、また、２種類以上を併用してもよい。
【００２３】
そして、このような非導電性高屈折率金属酸化物配合の透明導電膜形成用組成物において、導電性金属酸化物に対する非導電性高屈折率金属酸化物の配合比率については、この非導電性高屈折率金属酸化物配合の透明導電膜形成用組成物を用いて形成される透明導電膜に求められる導電性及び屈折率に応じて適宜選択できるものであるが、導電性金属酸化物と非導電性高屈折率金属酸化物との質量比（導電性物／高屈折率）で、通常３０／７０〜９０／１０の範囲内であるのがよく、好ましくは３５／６５〜８５／１５の範囲内であるのがよい。導電性金属酸化物と非導電性高屈折率金属酸化物との質量比（導電性物／高屈折率）が３０／７０より低いと形成される膜の屈折率は高くなるが、導電性が低下する傾向がある。反対に９０／１０より高い場合、形成される膜の導電性は高くなるが、高屈折率膜は得られ難くなる。
【００２４】
本発明において、β-ジケトンを含む金属錯体は、透明導電膜形成用組成物における導電性金属酸化物や非導電性高屈折率金属酸化物の分散剤として機能し、この透明導電膜形成用組成物に優れた保存安定性を付与する。この金属錯体としては、ジルコニウム、チタン、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、バナジウム、アルミニウム、亜鉛、インジウム、錫、及び白金からなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属と、β-ジケトンからなる群より選ばれた配位子とで形成された金属錯体を用いることができ、また、透明導電膜形成用組成物の保存安定性の観点からは、系中の水分と反応するアルコキシドを含まない金属錯体を用いることがより好ましい。
【００２５】
また、これらの金属錯体については、透明導電膜形成用組成物に色味を生じさせないものが適しており、この観点からは、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、亜鉛、インジウム、及び錫からなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属と、β-ジケトンからなる群から選ばれる配位子、好ましくはピバロイルトリフルオルアセトン、アセチルアセトン、トリフルオルアセチルアセトン、及びヘキサフルオルアセチルアセトンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の配位子とで形成された金属錯体を用いることが好ましい。これらの金属錯体は、既にβ-ジケトンが金属に配位した状態であり、分散過程で使用される金属製機器や塗布機材を腐食することは殆どない。
【００２６】
なお、透明導電膜形成用組成物の保存安定性をより向上させる目的で、分散助剤として更に他の分散剤を添加してもよい。この目的で用いられる分散助剤については特に限定されるものではなく、例えば、リン酸エステル系分散剤を挙げることができる。
【００２７】
本発明においては、分散媒として少なくとも２種類の分散媒が用いられ、その一方は少なくとも１つのカルボニル基を有する分散媒（分散媒Ａ）であり、また、他方は少なくとも１つのヒドロキシル基を有する分散媒（分散媒Ｂ）であり、必要により第三の分散媒を配合してもよい。ここで、カルボニル基を有する分散媒Ａはβ-ジケトンを有する金属錯体に対して高い親和性を示し、また、ヒドロキシル基を有する分散媒Ｂは導電性金属酸化物微粒子表面の官能基の活性を抑えて分散後の凝集を防止する作用を発揮し、これによって、透明導電膜形成用組成物に対して長期に亘る安定した導電特性と高湿度下での良好な成膜性とが与えられる。
【００２８】
このような分散媒Ａとしては、好ましくは沸点が２００℃以下のものであり、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等を挙げることができ、特にメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンを用いることが好ましい。また、分散媒Ｂとしては、好ましくは沸点が２００℃以下のものであり、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ノルマルブタノール、イソブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等を挙げることができ、特にイソプロパノール、イソブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いることが好ましい。これら分散媒Ａ及びＢは、透明導電膜形成用組成物の用途等に応じて、成膜時の乾燥温度を考慮し選択されることが好ましく、また、２種類以上の分散媒Ａを用いることもできるし、２種類以上の分散媒Ｂを用いることもできる。
【００２９】
また、本発明において、使用する上記２種類の分散媒Ａ及びＢの混合割合については、透明導電膜形成用組成物の用途等によって適宜選択できるものではあるが、分散媒Ａと分散媒Ｂとの質量混合比（A/B）が、通常、９０／１０〜１０／９０の範囲、好ましくは８５／１５〜１５／８５の範囲であることが好ましい。分散媒Ａの混合割合が９０／１０より高い場合には分散媒Ｂの添加効果が小さくなり、長期に亘る保存安定性が得られ難くなり、反対に、１０／９０より低い場合には分散媒Ａの添加効果が小さくなり、長期に亘る安定した導電特性及び高湿度下における成膜性が低下する。
【００３０】
なお、本発明において、上記の分散媒Ａ及びＢ以外に必要に応じて分散媒として用いられる第三の分散媒としては、これら分散媒Ａ及びＢと混合し得るものであって、分散媒Ａと金属錯体との親和性及び分散媒Ｂによる導電性金属酸化物微粒子表面の官能基の活性抑制作用を妨げないものである限り、特に制限されるものではなく、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、N-メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド等のアミド類、トルエン、m-キシレン等の炭化水素、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等が挙げられる。
【００３１】
本発明で用いる活性エネルギー線硬化性化合物としては、ラジカル重合性モノマー、ラジカル重合性オリゴマー等を挙げることができる。
そして、ラジカル重合性モノマーの具体例としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールポリテトラメチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等の単官能(メタ)アクリレートや、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、アリルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールＡジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ(メタ)アクリレート、ポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＳジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールＳジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の二官能(メタ)アクリレートや、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の三官能以上の(メタ)アクリレートや、スチレン、ビニルトルエン、酢酸ビニル、N-ビニルピロリドン、アクリロニトリル、アリルアルコール等のその他のラジカル重合性モノマーを挙げることができる。
【００３２】
また、ラジカル重合性オリゴマーの具体例としては、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、オリゴ(メタ)アクリレート、アルキド(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリロイル基を少なくとも１個有するプレポリマーを挙げることができる。特に好ましいラジカル重合性オリゴマーは、ポリエステル、エポキシ、ポリウレタンの各(メタ)アクリレートである。本発明において、活性エネルギー線硬化性化合物はその１種のみを単独で用いることも、また、２種以上を併用することもできる。
【００３３】
本発明の透明導電膜形成用組成物においては、光重合開始剤（光増感剤）が含有されるので、少量の活性エネルギー線の照射で透明導電膜形成用組成物を硬化させることができる。
【００３４】
本発明で用いる光重合開始剤（光増感剤）としては、例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、p-クロロベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4-メチルジフェニルサルファイド、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタノン-1、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパノン-1等を挙げることができる。光重合開始剤はその１種のみを単独で用いることも、また、２種以上を併用することもできる。
【００３５】
本発明の透明導電膜形成用組成物においては、各成分の配合割合は透明導電膜形成用組成物の用途に応じて適宜設定できるが、導電性金属酸化物１００質量部当り（また、透明導電特性の他に高屈折率特性が求められる場合には、導電性金属酸化物と非導電性高屈折率金属酸化物の合計１００質量部当り）、β-ジケトンを含む金属錯体の含有量が３質量部以上４５０質量部以下、より好ましくは７質量部以上２００質量部以下であり、活性エネルギー線硬化性化合物の含有量が１４質量部以上１００００質量部以下、より好ましくは３５質量部以上２０００質量部以下であり、分散媒の含有量が６０質量部以上７００００質量部以下、より好ましくは１００質量部以上５００００質量部以下であるのがよく、かつ、活性エネルギー線硬化性化合物１００質量部当り、光重合開始剤の含有量が好ましくは０．１質量部以上２０質量部以下、より好ましくは１質量部以上１５質量部以下であるのがよい。
【００３６】
β-ジケトンを含む金属錯体の量が上記の下限値より少ない場合には導電性金属酸化物粒子及び非導電性高屈折率金属酸化物粒子の分散が不良となる傾向があり、上記の上限値より多い場合にはβ-ジケトンを含む金属錯体が分散媒中に溶解せず、沈殿が生じることがある。分散媒の量が上記の下限値より少ない場合にはβ-ジケトンを含む金属錯体の溶解及び金属酸化物粒子の分散が不十分となる傾向があり、上記の上限値より多い場合には透明導電膜形成用組成物の濃度が薄すぎて実用的でなくなる。活性エネルギー線硬化性化合物の量が上記の下限値より少ない場合には透明性が低下する傾向があり、上記の上限値より多い場合には膜硬度及び耐擦傷性が不十分となる。また、光重合開始剤の量が上記の下限値より少ない場合には光硬化性組成物の硬化速度が低下する傾向があり、上記の上限値よりも多くてもそれに見合った効果が得られない。
【００３７】
更に、本発明の透明導電膜形成用組成物には、その目的を損なわない範囲内で、上記以外の慣用の各種添加剤を配合してもよい。このような添加剤としては、例えば、重合禁止剤、硬化触媒、酸化防止剤、カップリング剤等を挙げることができる。
【００３８】
本発明の透明導電膜形成用組成物は、分散媒の一部にβ-ジケトンを含む金属錯体を溶解し、得られた金属錯体を含む分散媒中に導電性金属酸化物、更には高屈折率特性が求められる用途の場合に配合される非導電性高屈折率金属酸化物を分散させ、次いで、活性エネルギー線硬化性化合物、光重合開始剤及び残りの分散媒を添加し、十分に攪拌させることにより製造することができる。また、分散媒中にβ-ジケトンを含む金属錯体を溶解し、得られた金属錯体を含む分散媒中に導電性金属酸化物、非導電性高屈折率金属酸化物、活性エネルギー線硬化性化合物及び光重合開始剤を同時に添加し、分散させて製造することもできる。
【００３９】
また、非導電性高屈折率金属酸化物が配合される場合には、非導電性高屈折率金属酸化物、金属錯体及び一部の分散媒からなる分散液と、導電性金属酸化物、金属錯体及び一部の分散媒からなる分散液とを予め調製し、次いでこれらの分散液を混合し、得られた混合分散液中に活性エネルギー線硬化性化合物、光重合開始剤及び残りの分散媒を添加し、十分に攪拌させることにより製造することができる。また、非導電性高屈折率金属酸化物、金属錯体、活性エネルギー線硬化性化合物、光重合開始剤及び一部の分散媒からなる分散液と、導電性金属酸化物、金属錯体、活性エネルギー線硬化性化合物、光重合開始剤及び残りの分散媒からなる分散液とを予め調製し、これらの分散液を混合し、十分に攪拌させることにより製造することも可能である。
【００４０】
ここで、分散時の分散媒については、分散媒Ａと分散媒Ｂの比率が最終的に９０／１０〜１０／９０の範囲となるように設定すればよく、また、分散操作を行う前にプレ分散操作を行うとなおよい。このプレ分散操作は、β-ジケトンを含む金属錯体を溶解した分散媒中に、導電性金属酸化物や、高屈折率特性が求められる用途の場合に配合される非導電性高屈折率金属酸化物を分散させる際に、ディスパー等で撹拌しながら、これら導電性金属酸化物や非導電性高屈折率金属酸化物を徐々に加えていき、導電性金属酸化物や非導電性高屈折率金属酸化物の塊が目視で確認されなくなるまでよく撹拌することにより行われる。
【００４１】
また、導電性金属酸化物や非導電性高屈折率金属酸化物の分散操作は、ペイントシェーカー、ボールミル、サンドミル、セントリミル等を用いて行うことができる。分散操作の際に、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ等の分散ビーズを用いることが好ましい。ビーズ径は、特に限定されないが、通常０．０５〜１mmφ程度であり、好ましくは０．１〜０．６５mmφである。
【００４２】
本発明の透明導電膜形成用組成物においては、使用する導電性金属酸化物や非導電性高屈折率金属酸化物の粒子径がメジアン径で好ましくは１２０nm以下、更に好ましくは８０nm以下であるのがよい。メジアン径がそれ以上であると、透明導電膜形成用組成物から得られる透明導電膜のヘーズが高くなる。
【００４３】
本発明の透明導電膜形成用組成物は、プラスチック（ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ノルボルネン系樹脂等）、金属、木材、紙、ガラス、スレート等の各種基材の表面に塗布し又は印刷し、硬化させて、これら基材の表面に透明導電膜を形成することができ、例えば、プラスチック光学部品、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスチック容器、建築内装材としての床材、壁材、人工大理石等においてその傷付き（擦傷）防止や汚染防止のための保護コーティング材として、また、フィルム型液晶素子、タッチパネル、プラスチック光学部品等の反射防止膜として、更に、各種基材の接着剤、シーリング材として、更には、印刷インクのバインダー材等として、各種の用途に用いられ、特に反射防止膜の高屈折率膜を形成する組成物として好適に用いることができる。
【００４４】
基材への透明導電膜形成用組成物の塗布又は印刷は、常法に従って、例えば、ロールコート、スピンコート、スクリーン印刷等の手法で行うことができる。必要により加熱して分散媒（溶媒）を蒸発させ、塗膜を乾燥させ、次いで、活性エネルギー線（紫外線又は電子線）を照射する。活性エネルギー線源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマレーザー、色素レーザー、ＬＥＤ等の紫外線源、並びに電子線加速装置を使用することができる。活性エネルギー線の照射量は、紫外線の場合には５０〜３０００mJ/cm2、電子線の場合には０．２〜１０００μC/cm2の範囲内が適当である。この活性エネルギー線の照射により、上記活性エネルギー線硬化性化合物が重合し、導電性金属酸化物や必要に応じて添加される非導電性高屈折率金属酸化物の粒子が樹脂で結合された透明導電膜が形成される。この透明導電膜の膜厚については一般的に０．１μm以上１０．０μm以下、好ましくは０．２μm以上５．０μm以下の範囲内であることが好ましい。透明導電膜はその膜厚が０．１μmより薄いと導電性及び膜硬度が低下するという問題があり、反対に、１０．０μmより厚くなると透明性が低下するという問題が発生し易くなる。
【００４５】
本発明の透明導電膜形成用組成物を硬化させて得られる透明導電膜は、導電性金属酸化物や必要に応じて添加される非導電性高屈折率金属酸化物の微粒子が透明導電膜内で均一に分散していて、屈折率の制御が可能で、透明性が高く、ヘーズが低く、また、表面抵抗値が低いという特徴を有する。具体的には、主として高導電特性が求められて導電性金属酸化物のみが用いられた場合には、通常、屈折率が１．４５〜１．９０であり、光透過率が７５%以上であり、ヘーズが１．５%以下であり、かつ、表面抵抗値が１０12Ω／□以下であり、また、高導電特性に加えて高屈折率特性が求められて、導電性金属酸化物及び非導電性高屈折率金属酸化物が用いられた場合には、通常、屈折率が１．５５〜１．９０であり、光透過率が８０%以上であり、ヘーズが１．５%以下、且つ表面抵抗値が１０12Ω／□以下である。ここで、屈折率を制御するためには、透明導電膜形成用組成物中に配合される非導電性高屈折率金属酸化物及び導電性金属酸化物の量と活性エネルギー線硬化性化合物の量との比率を調整すればよい。高導電特性及び高屈折率特性を備えた該透明導電膜は、特に導電性反射防止材やディスプレイの表示面等の用途に好適に用いることができる。
【実施例】
【００４６】
以下に、実施例及び比較例により、本発明を具体的に説明する。なお、実施例及び比較例において「部」は全て「質量部」である。
【００４７】
［実施例１〜１０及び比較例１〜４］
実施例及び比較例で使用した成分は以下の通りである。
＜導電性金属酸化物＞
ＡＴＯ（屈折率２．０、粉体抵抗１０Ω・cm、一次粒子径０．０３μm）
酸化錫（屈折率２．０、粉体抵抗５０Ω・cm、一次粒子径０．０３μm）
酸化亜鉛（屈折率２．０、粉体抵抗１００Ω・cm、一次粒子径０．０４μm）
五酸化アンチモン（屈折率１．６４、粉体抵抗１００Ω・cm、一次粒子径０．０５μm）
【００４８】
＜非導電性高屈折率金属酸化物＞
酸化ジルコニウム（屈折率２．４、一次粒子径０．０２μm）
酸化チタン（屈折率２．７６、一次粒子径０．０２μm）
【００４９】
＜β-ジケトンを含む金属錯体＞
ジルコニウムアセチルアセトナート〔Zr(C5H7O2)4〕
ジブチル-錫ビスアセチルアセトナート〔(C4H9)2Sn(C5H7O2)2〕
亜鉛アセチルアセトナート〔Zn(C5H7O2)2〕
チタンアセチルアセトナート〔Ti(C5H7O2)4〕
【００５０】
＜分散助剤＞
BYK-142（NV. 60%以上；ビックケミージャパン社製商品名）
＜活性エネルギー線硬化性化合物＞
多官能(メタ)アクリレートモノマー〔日本化薬社製商品名：KAYARAD DPHA；ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの質量比60対40の混合物〕
＜光重合開始剤＞
IRGACURE 184（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製商品名）
【００５１】
＜透明導電膜形成用組成物及びこれを用いた透明導電膜の作製＞
実施例１
ペイントシェーカーの混合容器内に、表１に示すように、１００部のＡＴＯ（導電性金属酸化物）に対して、２０部のジブチル-錫ビスアセチルアセトナート（β-ジケトンを含む金属錯体）、１０部のBYK-142（分散助剤）、７５部のシクロヘキサノン（分散媒Ａ）、７５部のプロピレングリコールモノメチルエーテル（分散媒Ｂ）、及び８００部の０．６０mmφガラスビーズを仕込み、７時間混練した。混練終了後、ガラスビーズを取り除いて導電性金属酸化物微粒子の分散液を得た。次に、この分散液に２３部のKAYARAD DPHA（活性エネルギー線硬化性化合物）、２．３部のIRGACURE 184（光重合開始剤）、及び４９部のシクロヘキサノン（分散媒Ａ）、及び４９部のプロピレングリコールモノメチルエーテル（分散媒Ｂ）を加え、実施例１の透明導電膜形成用光硬化性組成物を得た。
【００５２】
次に、この実施例１の光硬化性組成物を膜厚７５μmのPETフィルム（東洋紡社製商品名：A4300；光透過率91%、ヘーズ0.5%）上にロールコーターを用いて３０℃、RH８５%の条件下に塗布し、有機溶媒を蒸発させた後、空気中で高圧水銀灯を用いて３００mJ/cm2の光を照射し、厚さ３μmの透明導電膜を作製した。この際、透明導電膜の作製は、光硬化性組成物の調製直後、調製６ヵ月後、及び調製９ヶ月後に行い、その保存安定性を調べた。
結果を表１に示す。
【００５３】
実施例２
表１に示すように、ペイントシェーカーの混合容器内に、酸化錫（導電性金属酸化物）１００部に対し、２０部のジブチル-錫ビスアセチルアセトナート（β-ジケトンを含む金属錯体）、１０部のBYK-142（分散助剤）、７５部のメチルイソブチルケトン（分散媒Ａ）、７５部のプロピレングリコールモノメチルエーテル（分散媒Ｂ）、及び８００部の０．６０mmφガラスビーズを仕込み、７時間混練した。混練終了後、ガラスビーズを取り除いて導電性金属酸化物微粒子の分散液を得た。この分散液に、２３部のKAYARAD DPHA（活性エネルギー線硬化性化合物）、２．３部のIRGACURE 184（光重合開始剤）、４９部のメチルイソブチルケトン（分散媒Ａ）、及び４９部のプロピレングリコールモノメチルエーテル（分散媒Ｂ）を加え、実施例２の透明導電膜形成用光硬化性組成物を得た。その後、実施例１と同様の方法により、厚さ３μmの透明導電膜を作製し、また、その保存安定性を調べた。
【００５４】
実施例３
表１に示すように、ペイントシェーカーの混合容器内に、酸化亜鉛（導電性金属酸化物）１００部に対し、５部の亜鉛アセチルアセトナート（β-ジケトンを含む金属錯体）、１０部のBYK-142（分散助剤）、９０部のメチルイソブチルケトン（分散媒Ａ）、６０部のイソブタノール（分散媒Ｂ）、及び８００部の０．６０mmφガラスビーズを仕込み、７時間混練した。混練終了後、ガラスビーズを取り除いて導電性金属酸化物微粒子の分散液を得た。この分散液に、２３部のKAYARAD DPHA（活性エネルギー線硬化性化合物）、２．３部のIRGACURE 184（光重合開始剤）、５９部のメチルイソブチルケトン（分散媒Ａ）、及び３９部のイソブタノール（分散媒Ｂ）を加え、実施例３の透明導電膜形成用光硬化性組成物を得た。その後、実施例１と同様の方法により、厚さ３μmの透明導電膜を作製し、また、その保存安定性を調べた。
【００５５】
実施例４
表１に示すように、ペイントシェーカーの混合容器内に、ＡＴＯ（導電性金属酸化物）５０部及び酸化ジルコニウム（非導電性高屈折率金属酸化物）５０部の合計１００部に対し、１０部のジルコニウムアセチルアセトナート（β-ジケトンを含む金属錯体）、１０部のBYK-142（分散助剤）、４５部のシクロヘキサノン（分散媒Ａ）、１０５部のプロピレングリコールモノメチルエーテル（分散媒Ｂ）、及び８００部の０．６０mmφガラスビーズを仕込み、７時間混練した。混練終了後、ガラスビーズを取り除いて導電性金属酸化物微粒子の分散液を得た。この分散液に、２３部のKAYARAD DPHA（活性エネルギー線硬化性化合物）、２．３部のIRGACURE 184（光重合開始剤）、２９部のシクロヘキサノン（分散媒Ａ）、及び６９部のプロピレングリコールモノメチルエーテル（分散媒Ｂ）を加え、実施例４の透明導電膜形成用光硬化性組成物を得た。その後、実施例１と同様の方法により、厚さ３μmの透明導電膜を作製し、また、その保存安定性を調べた。
【００５６】
実施例５
表１に示すように、ペイントシェーカーの混合容器内に、五酸化アンチモン（導電性金属酸化物）７０部及び酸化チタン（非導電性高屈折率金属酸化物）３０部の合計１００部に対し、１０部のチタンアセチルアセトナート（β-ジケトンを含む金属錯体）、１０部のBYK-142（分散助剤）、１０５部のメチルイソブチルケトン（分散媒Ａ）、４５部のイソプロパノール（分散媒Ｂ）、及び８００部の０．６０mmφガラスビーズを仕込み、７時間混練した。混練終了後、ガラスビーズを取り除いて導電性金属酸化物微粒子の分散液を得た。この分散液に、３３部のKAYARAD DPHA（活性エネルギー線硬化性化合物）、３．３部のIRGACURE 184（光重合開始剤）、８０．５部のメチルイソブチルケトン（分散媒Ａ）、及び３４．５部のイソプロパノール（分散媒Ｂ）を加え、実施例５の透明導電膜形成用光硬化性組成物を得た。その後、実施例１と同様の方法により、厚さ３μmの透明導電膜を作製し、また、その保存安定性を調べた。
【００５７】
実施例６
表１に示すように、ペイントシェーカーの混合容器内に、五酸化アンチモン（導電性金属酸化物）４０部及び酸化ジルコニウム（非導電性高屈折率金属酸化物）６０部の合計１００部に対し、２５部のジルコニウムアセチルアセトナート（β-ジケトンを含む金属錯体）、５部のBYK-142（分散助剤）、１０５部のメチルイソブチルケトン（分散媒Ａ）、４５部のイソブタノール（分散媒Ｂ）、及び８００部の０．６０mmφガラスビーズを仕込み、７時間混練した。混練終了後、ガラスビーズを取り除いて導電性金属酸化物微粒子の分散液を得た。この分散液に、２０部のKAYARAD DPHA（活性エネルギー線硬化性化合物）、２．０部のIRGACURE 184（光重合開始剤）、８０．５部のメチルイソブチルケトン（分散媒Ａ）、及び３４．５部のイソプロパノール（分散媒Ｂ）を加え、実施例５の透明導電膜形成用光硬化性組成物を得た。その後、実施例１と同様の方法により、厚さ３μmの透明導電膜を作製し、また、その保存安定性を調べた。
【００５８】
比較例１
ペイントシェーカーの混合容器内に、表１に示すように、１００部の酸化亜鉛（導電性金属酸化物）に対して、２０部の亜鉛アセチルアセトナート（β-ジケトンを含む金属錯体）、１０部のBYK-142（分散助剤）、１５０部のイソブタノール（分散媒）、及び８００部の０．６０mmφガラスビーズを仕込み、７時間混練した。混練終了後、ガラスビーズを取り除いて導電性金属酸化物微粒子の分散液を得た。次に、この分散液に２３部のKAYARAD DPHA（活性エネルギー線硬化性化合物）、２．３部のIRGACURE 184（光重合開始剤）、及び９８部のイソブタノール（分散媒）を加え、比較例１の透明導電膜形成用光硬化性組成物を得た。その後、実施例１と同様の方法により、厚さ３μmの透明導電膜を作製し、また、その保存安定性を調べた。
【００５９】
比較例２
ペイントシェーカーの混合容器内に、表１に示すように、１００部のＡＴＯ（導電性金属酸化物）に対して、２０部のジブチル−錫ビスアセチルアセトナート（β-ジケトンを含む金属錯体）、１０部のBYK-142（分散助剤）、１５０部のメチルイソブチルケトン（分散媒）、及び８００部の０．６０mmφガラスビーズを仕込み、７時間混練した。混練終了後、ガラスビーズを取り除いて導電性金属酸化物微粒子の分散液を得た。次に、この分散液に２３部のKAYARAD DPHA（活性エネルギー線硬化性化合物）、２．３部のIRGACURE 184（光重合開始剤）、及び９８部のメチルイソブチルケトン（分散媒）を加え、比較例１の透明導電膜形成用光硬化性組成物を得た。その後、実施例１と同様の方法により、厚さ３μmの透明導電膜を作製し、また、その保存安定性を調べた。
【００６０】
＜評価方法＞
(1) 金属酸化物粒子のメジアン径(nm)
上記の実施例１〜６及び比較例１、２で作製した透明導電膜形成用組成物に分散している金属酸化物の粒子のメジアン径を、作製直後、３ヶ月後（４０℃保管）、６ヶ月後（４０℃保管）、９ヶ月後に、以下の条件で測定した。
使用測定機器：日機装社製 Microtrac粒度分布計
測定条件：温度 ２０℃
試料：サンプルを分散媒で５%濃度に希釈した後、測定
データ解析条件：粒子径基準、体積基準
【００６１】
(2) 透明導電膜形成用組成物の透過率(%)及びヘーズ(%)
上記の実施例１〜６及び比較例１、２で得られた透明導電膜について、透過率及びヘーズを東京電色技術センター製の測定機器TC-HIII DPKを用いて測定した。測定値は基材を含んだ値である。
【００６２】
(3) 表面抵抗値(Ω/□)
上記の実施例１〜６及び比較例１、２で得られた透明導電膜について、三菱化学社製の測定機器ハイレスタIP MCP-HT260を用いて測定した。
【００６３】
(4) 鉛筆硬度
鉛筆硬度の測定方法はJIS K5600-5-4に準じて行った。
【００６４】
(5) 耐擦傷性
耐擦傷性については、スチールウール＃0000を２５０g荷重で１０往復させた後、以下の基準により、傷の程度を目視にて判定した。
Ａ：ほとんど傷が認められない。
Ｂ：少し傷が認められる。
Ｃ：明らかな傷が認められる。
Ｄ：ＣとＥの中間
Ｅ：多数の傷が認められる。
【００６５】
(6) ブラッシング（膜白化）評価
成膜後の膜の外観を下記の基準により、目視にて評価した。
×：風紋状の白化あり
○：風紋状の白化なし
【００６６】
(7) 屈折率
上記の実施例１〜６及び比較例１、２で得られた透明導電膜について、アタゴ社製のアッベ屈折計DR-M4を用い、２０℃で測定した。
【００６７】
上記の各々の測定の結果、及び評価の結果を表１に示す。
【表１】
0005837292.tif 000002
【００６８】
表１に示す結果から明らかなように、分散媒Ａ及び分散媒Ｂを含む分散媒を用いた実施例１〜６の場合には、３０℃、RH８５%という高湿度条件で透明導電膜を形成したにもかかわらず、透明導電膜の白化が発生せず、透過率８０%以上、ヘーズ１．５%以下、表面抵抗値１×１０12Ω／□以下、鉛筆硬度２Ｈ、及び耐擦傷性が良好な透明導電膜が得られた。しかも、これら透明導電膜形成用組成物は、その保存安定性が良く、９ヵ月後においても特性の安定した透明導電膜が得られた。一方、分散媒Ａを使用しなかった比較例１の場合には高湿度条件で得られた透明導電膜に白化現象が認められ、また、分散媒Ｂを使用しなかった比較例２の場合には分散安定性が低下し、６ヵ月後にメジアン径が増大し、得られた透明導電膜の透明性が低下した。
【００６９】
＜反射防止フィルムの作製＞
次に、上記実施例１〜６及び比較例１、２で得られた各透明導電膜の上に、バーコーターを用いて、中空シリカ微粒子分散活性エネルギー線硬化性化合物塗料を塗布し、硬化することにより、各透明導電膜上に低屈折率膜が積層された反射防止フィルムを作製した。膜厚については、乾燥膜厚が５５０nmで最小反射率を示すように調整した。
【００７０】
＜最小反射率の測定＞
上記実施例１〜６及び比較例１、２の透明導電膜形成用組成物を用いて作製された反射防止フィルムの裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計（日本分光社製U-BEST 50）により、４００〜７００nmの正反射スペクトルを測定した。そして、測定された反射スペクトルから反射率の極小値を読み取り、最小反射率とした。
【００７１】
最小反射率の測定結果は、実施例１〜３、実施例６の透明導電膜形成用組成物を用いて作製された反射防止フィルムの最小反射率が１．０%であって、実施例４、５の透明導電膜形成用組成物を用いて作製された反射防止フィルムの最小反射率が０．９%であって、目標の最小反射率１%以下の反射防止フィルムが得られた。
これに対して、比較例１の透明導電膜形成用組成物を用いて作製された反射防止フィルムの最小反射率は１．５%であって、比較例２の透明導電膜形成用組成物を用いて作製された反射防止フィルムの最小反射率は１．０%であり、比較例１の場合には所望の反射防止フィルムが得られなかった。