(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルのパターンを基板に投影して前記基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持して移動する基板ステージと、
前記レチクルを保持して移動するレチクルステージと、
前記基板ステージおよび前記レチクルステージを支持する構造部材と、
前記構造部材により支持され、前記基板ステージの駆動に起因して発生する前記構造部材に対する駆動反力を相殺する第１カウンタマスステージと、
前記構造部材により支持され、前記レチクルステージの駆動に起因して発生する前記構造部材に対する駆動反力を相殺する第２カウンタマスステージと、
前記基板ステージと前記第１カウンタマスステージとの間に力を発生させる基板ステージ駆動部と、
前記レチクルステージと前記第２カウンタマスステージとの間に力を発生させるレチクルステージ駆動部と、
前記構造部材と前記第１カウンタマスステージとの間に力を発生させる第１カウンタマス駆動部と、
前記構造部材と前記第２カウンタマスステージとの間に力を発生させる第２カウンタマス駆動部と、
前記構造部材に作用する力の情報を取得し、前記第１カウンタマス駆動部により前記構造部材と前記第１カウンタマスステージとの間に力を発生させると同時に、前記第２カウンタマス駆動部により前記構造部材と前記第２カウンタマスステージとの間に力を発生させることによって前記構造部材に作用する力を相殺するように前記第１カウンタマス駆動部及び前記第２カウンタマス駆動部を制御する制御器と、
を備える、ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御器は、前記構造部材により支持されて前記構造部材に前記構造部材に作用する力を発生する駆動部の駆動情報に基づいて前記構造部材に作用する力を演算することによって前記情報を取得する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記構造部材に作用する力を発生する前記駆動部は、前記基板ステージ駆動部、前記レチクルステージ駆動部及び前記レチクルの照明範囲を限定するマスキングブレードの駆動部の少なくとも１つを含む、ことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御器は、前記基板ステージ駆動部により発生された駆動力の前記第１カウンタマスステージに対する作用点と前記第１カウンタマスステージの重心との位置ずれに伴って発生したモーメントと、前記レチクルステージ駆動部により発生された駆動力の前記第２カウンタマスステージに対する作用点と前記第２カウンタマスステージの重心との位置ずれに伴って発生したモーメントと、の少なくとも一方が前記構造部材に作用する力を演算する、ことを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項５】
前記構造部材に設置されて前記構造部材の振動を検出する検出器を備え、
前記制御器は、前記検出器の検出結果から前記構造部材に作用する力の情報を取得する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
デバイスを製造する方法であって、
請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、半導体デバイスの製造装置である露光装置では、光学系に対してレチクルとウエハとを走査しながら露光する走査型露光装置が主流となっている。レチクル及びウエハをそれぞれ走査移動させるために、レチクルステージ及びウエハステージが設けられ、両ステージが同一の構造部材に固定される構成が提案されている。各ステージに設けられる駆動部で力を発生させることで、レチクル及びウエハを高加速度で移動させる。この高加速度での移動時に発生する駆動反力が構造部材に加わり、構造部材の振動を引き起こす。構造部材は除振装置を介して投影光学系が設置された基準定盤を支持しており、構造部材が振動することで基準定盤や投影光学系の振動を引き起こし、露光装置における重ね合わせ精度の低下を招く。
【０００３】
そのため、露光装置では各ステージから構造部材に伝わる駆動反力を極力小さくするために、特許文献１に示されるように、運動量保存の法則を利用したカウンタマス機構の技術が適用されることが多い。カウンタマス機構は、レチクルステージ又はウエハステージの移動に応じて、受動的に逆方向に移動するカウンタマスステージを有し、これにより理想的にはステージから構造部材に駆動力が伝達しない。
【０００４】
カウンタマスステージ機構について図３を用いて説明する。構造部材１０７は床にレベリングブロック１２４などのバネ要素を介して支持されている。構造部材１０７は、位置決めステージ１０１及びカウンタマスステージ１０３を静圧軸受などのガイド１５１で水平方向の摩擦が無視できるように鉛直方向に支持している。位置決めステージ１０１とカウンタマスステージ１０３との間に力を発生させる位置決めステージ駆動部１１５が設けられている。この位置決めステージ駆動部１１５が発生する力によって位置決めステージ１０１を水平方向に移動させて位置決めを行う。この例では位置決めステージ１０１とカウンタマスステージ１０３の質量はｍで同じである。位置決めステージ１０１の重心位置、カウンタマスステージ１０３の重心位置、及び位置決めステージ駆動部１１５で発生する力Fの作用点の位置は、移動方向で一直線上になるように設計されている。また、構造部材１０７が傾いたりしたときに、カウンタマスステージ１０３が想定する位置から大きくずれないようにするため、カウンタマスステージ１０３と構造部材１０７との間に力を発生させるカウンタマス駆動部１０５が設けられている。理想的には、カウンタマス駆動部１０５で力を発生させる必要はなく、カウンタマスステージ１０３が所望の位置から大きくずれるときなどにのみ、適切なタイミングで力を発生させてカウンタマスステージ１０３の位置を補正する。
【０００５】
このようなカウンタマス機構において、位置決めステージ駆動部１１５で力Ｆを発生させた場合、位置決めステージ１０１が移動する方向と反対方向にカウンタマスステージ１０３が移動する。両ステージの質量が一致しているため、移動する速度や距離も同じになる。このとき、構造部材１０７には位置決めステージ駆動部１１５で発生する力Fに起因した外乱力は入力されないため、構造部材１０７の振動は発生しない。また、特許文献２には、構造部材に入力される外乱力を相殺させるために、構造部材を支持する部分に駆動部を設ける技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−２０８５６２号公報
【特許文献２】特開２００５−１０９４４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
理想的なカウンタマス機構を適用すれば、２つのステージ１０１，１０３を支持する構造部材１０７に対して、２つのステージ１０１，１０３の駆動反力に起因した外乱力は発生しない。しかし、設計上の制限や加工上のばらつきなどで理想的なカウンタマス機構を構成できない場合が多く、それに起因した外乱力が構造部材１０７に対して発生し、構造部材１０７の振動が発生してしまう。
【０００８】
カウンタマス機構を適用しても構造部材１０７の振動が発生する理由について図４を用いて説明する。図４は、位置決めステージ１０１の重心位置とカウンタマスステージ１０３の重心位置と位置決めステージ駆動部１１５で発生する力Ｆの作用点の位置とが、移動方向で一直線上になっていない点を除いて、構成は図３と同じである。この場合も、位置決めステージ駆動部１１５で力Ｆを発生させた場合、位置決めステージ１０１とカウンタマスステージ１０３は、互いに反対方向に移動し、位置決めステージ駆動部１１５で発生する力は構造部材１０７へ直接的には入力されない。しかし、カウンタマスステージ１０３の重心と位置決めステージ駆動部１１５で発生する力の作用点の鉛直方向の位置がずれている。そのため、ずれ量Ｌを腕の長さとする力Ｆによるモーメント力Ｍがカウンタマスステージ１０３に発生する。このモーメント力Ｍはガイド１５１を介して構造部材１０７に伝わり、構造部材１０７は回転方向の振動を生じてしまう。
【０００９】
つまり、位置決めステージ駆動部１１５から構造部材１０７へ入力される力を発生させないようにするためには、各ステージの重心位置と力の作用点位置を鉛直方向で一致させることが求められる。しかし、設計上の制限や部品のばらつきなどで、重心位置と作用点とのずれを数ｍｍオーダーで生じてしまうことが多い。露光装置の性能仕様が厳しくなるにつれ、位置決めステージ駆動部で１０００Ｎ以上の力を発生させると、数ｍｍオーダーのずれによるモーメント力でも、構造部材１０７の振動が許容できなくなってきているのが実情である。そのため、より理想的なカウンタマス機構に近づけるように設計的な工夫や、加工ばらつきを小さくする取り組みを行っている。一方で、両ステージ１０１，１０３を支持する構造部材１０７に発生してしまった外乱力を相殺させることで構造部材１０７の振動を抑制することが望まれている。
【００１０】
さらに、露光装置上の構造部材には、カウンタマス機構の構成に起因する外乱力の他にも様々な外乱力が想定されている。例えば、ステージ移動に伴って、ステージに接続される実装部品によって発生する外乱力や、構造部材上に設置される様々な駆動部に起因する外乱力、さらには床振動などに起因する外乱力などが想定され、それらに対する制振システムが求められている。ステージ１０１，１０５を支持する構造部材１０７に入力される外乱力を相殺する方法として、特許文献２で開示されているように、専用の駆動部を設ける構成が提案されているが、駆動部の設置スペースやコストが課題になる。
【００１１】
本発明は、露光装置の構造部材の振動を効果的に抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、レチクルのパターンを基板に投影して前記基板を露光する露光装置であって、前記基板を保持して移動する基板ステージと、前記レチクルを保持して移動するレチクルステージと、前記基板ステージおよび前記レチクルステージを支持する構造部材と、  前記構造部材により支持され、前記基板ステージの駆動に起因して発生する前記構造部材に対する駆動反力を相殺する第１カウンタマスステージと、前記構造部材により支持され、前記レチクルステージの駆動に起因して発生する前記構造部材に対する駆動反力を相殺する第２カウンタマスステージと、前記基板ステージと前記第１カウンタマスステージとの間に力を発生させる基板ステージ駆動部と、前記レチクルステージと前記第２カウンタマスステージとの間に力を発生させるレチクルステージ駆動部と、前記構造部材と前記第１カウンタマスステージとの間に力を発生させる第１カウンタマス駆動部と、前記構造部材と前記第２カウンタマスステージとの間に力を発生させる第２カウンタマス駆動部と、前記構造部材に作用する力の情報を取得し、前記第１カウンタマス駆動部により前記構造部材と前記第１カウンタマスステージとの間に力を発生させると同時に、前記第２カウンタマス駆動部により前記構造部材と前記第２カウンタマスステージとの間に力を発生させることによって前記構造部材に作用する力を相殺するように前記第１カウンタマス駆動部及び前記第２カウンタマス駆動部を制御する制御器と、備える、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、露光装置の構造部材の振動を効果的に抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施例１における露光装置の構成を示した図である。
【図２】実施例１における情報の流れを示した図である。
【図３】カウンタマス機構の概要を示した図である。
【図４】カウンタマス機構でモーメント力が発生する一例を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
［実施例１］
図１は、実施例１のレチクルのパターンを基板に投影して基板を露光する走査型の露光装置の概略を示した図である。本実施例の露光装置５０では、ウエハ（基板）を保持して移動するウエハステージ（基板ステージ）２とレチクルを保持して移動するレチクルステージ１とが同一の構造部材７に支持されている。またウエハステージ２及びレチクルステージ１には以下に述べるカウンタマス機構がそれぞれ設けられている。ウエハステージ２の駆動に起因して発生する構造部材７に対する駆動反力を相殺する第１カウンタマスステージ４が構造部材７により支持されている。さらに、ウエハステージ２と第１カウンタマスステージ４との間に力を発生させる基板ステージ駆動部（ウエハステージ駆動部）４０と、第１カウンタマスステージ４と構造部材７との間に力を発生させる第１カウンタマス駆動部６とが設けられている。
【００１６】
同様に、レチクルステージ１の駆動に起因して発生する構造部材７に対する駆動反力を相殺する第２カウンタマスステージ３が構造体７により支持されている。さらに、レチクルステージ１と第２カウンタマスステージ３との間に力を発生させるレチクルステージ駆動部４１と、第２カウンタマスステージ３と構造部材７との間に力を発生させる第２カウンタマス駆動部５とが設けられている。ウエハステージ駆動部４０、レチクルステージ駆動部４１、第１カウンタマス駆動部６、第２カウンタマス駆動部５は、ローレンツ力などを用いた電磁アクチュエータとすることができる。
【００１７】
構造部材７は、床に対してレベリングブロック２４などのバネとダンパー要素で固定されている。また、構造部材７の上には、バネ剛性の低い除振装置２３を介して基準定盤２１が設置され、さらに基準定盤２１の上に投影光学系を含む鏡筒２２が支持されている。基準定盤２１には、干渉計２５が設置されており、干渉計レーザー２６を介してウエハステージ２やレチクルステージ１の位置を計測している。露光装置５０では、鏡筒２２や基準定盤２１の振動によって生じる姿勢変化や弾性変形が露光性能に影響を与えるため、鏡筒２２や基準定盤２１の振動を極力抑制するように設計されている。鏡筒２２や基準定盤２１は、除振装置２３によって構造部材７とある程度、振動的に絶縁する設計思想になっているが、露光性能仕様が厳しくなるにつれて、構造部材７の振動も極力抑制する必要が生じてきている。
【００１８】
次に、構造部材７に作用する力（外乱力）、例えばモーメント力９が構造部材７に対して発生する場合の構造部材７の振動抑制技術について図１および図２を用いて説明する。本発明で定義する外乱力とは、構造部材７に対して第１カウンタマス駆動部６と第２カウンタマス駆動部５とから入力される制御力以外の力である。構造部材７に作用する外乱力の例としては、レチクルステージ１、ウエハステージ２、第１カウンタマスステージ３、第２カウンタマスステージ４など構造部材７に搭載されたステージ部の駆動に伴う力が挙げられる。床振動によりレベリングブロック２４などを介して構造体７に入力される力も本発明で定義する外乱力に含まれる。また、ここでいう制御力とは、本発明に基づいて構造部材７を制振するために第１カウンタマス駆動部６と第２カウンタマス駆動部５とから構造部材７に発生させる力である。
【００１９】
鉛直方向に関する第２カウンタマスステージ３における重心位置とレチクルステージ駆動部４１で発生する駆動力の作用点位置がずれている場合、レチクルステージ１が駆動することで、構造部材７に外乱力（モーメント力）９が発生する。これにより、通常であれば構造部材７にＹ軸周りの回転が起こり、振動が発生する。そこで、外乱力（モーメント力）９に対応させて、第１カウンタマス駆動部６と第２カウンタマス駆動部５とにより、それぞれ第１カウンタマスステージ４及び第２カウンタマスステージ３と構造部材７との間に力１１，１０を同時に発生させている。
【００２０】
ここで、カウンタマス機構で発生する外乱力（モーメント力）９をＭとして、鉛直方向の第２カウンタマスステージ３における重心位置とレチクルステージ駆動部４１で発生する力の作用点との位置ずれ量をＬとする。また、レチクルステージ駆動部４１で発生させる力をＦとすると、これらの関係式は以下の式１のように表現される。
Ｍ＝Ｆ×Ｌ  ・・・（１）
これに対応させて、第１カウンタマス駆動部６と第２カウンタマス駆動部５で発生させる制御力は以下のように演算される。図１で、第１カウンタマス駆動部６と第２カウンタマス駆動部５で発生させるＸ方向の制御力をそれぞれＦ１、Ｆ２とする。また、構造部材７と、構造部材７に搭載され、ほぼ一体に剛体運動する部品を含めた全体（例えば図１中の１〜６）の重心８と、第１カウンタマス駆動部６で発生させる制御力Ｆ１の作用点位置との鉛直方向（Ｚ軸方向）距離をＬ１とする。ここで、重心９は、演算する外乱力の計算精度を考慮した上で様々な定義が可能であり、基準定盤２１や鏡筒２２も含めた装置全体の重心で定義しても構わない。同様に装置全体の重心８と、第２カウンタマス駆動部５で発生させる制御力Ｆ２の作用点位置との鉛直方向（Ｚ軸方向）距離をＬ２とする。さらに、レチクル駆動ステージ１の駆動によって発生する外乱力（モーメント力）９をＭとすると、以下の式２、式３のような関係が成り立つ。
Ｆ１＋Ｆ２＝０  ・・・（２）
Ｆ１×Ｌ１＋Ｆ２×Ｌ２＝Ｍ  ・・・（３）
この２つの式よりＦ１、Ｆ２は式４、式５で表わされる。
Ｆ１＝Ｍ／（Ｌ１−Ｌ２）  ・・・（４）
Ｆ２＝−Ｍ／（Ｌ１−Ｌ２）  ・・・（５）
【００２１】
第１カウンタマス駆動部６と第２カウンタマス駆動部５とでそれぞれＦ１，Ｆ２の制御力を発生させれば、構造部材７に加わる外乱力（モーメント力）９のみを相殺させる力を発生させることが出来る。以上より、構造部材７の振動発生を抑制することが可能となり、構造部材７上に設置される鏡筒２２や基準定盤２１の振動が抑制され、露光装置５０としての露光性能が向上する。ここまで、レチクルステージ１の駆動によって発生する外乱力（モーメント力）９への対応のみ説明してきたが、ウエハステージ２の駆動によって発生する外乱力（モーメント力）に対しても同様に対応可能である。
【００２２】
図２は、カウンタマス機構における情報の流れを示したものである。ウエハステージ制御部３１でウエハステージ２の駆動を制御しており、ウエハステージ２と第２カウンタマスステージ４との間で力を発生させるウエハステージ駆動部４０に対して、ウエハの位置決めをする上での制御力を決定している。この制御力情報Ｓ１は、第１カウンタマス制御部３２に伝達される。第１カウンタマス制御部３２は、制御力情報Ｓ１と、第１カウンタマスステージ４の位置情報Ｓ４と、後述する構造部材７への制振制御部３８からの制御力情報Ｓ１２とにより、第１カウンタマスステージ４に与える制御力Ｆ１を決定する。決定された制御力指令Ｓ２は第１カウンタマス駆動部６に伝達され、第１カウンタマスステージ４と構造部材７との間に制御力Ｆ１を発生させる。これにより第１カウンタマスステージ４は所望の移動をする。第１カウンタマスステージ４の移動は変位センサなどの第１カウンタマス位置計測部３３により計測され、その位置情報Ｓ４を第１カウンタマス制御部３２に伝達する。レチクルステージ側のカウンタマス機構も同様の流れで情報Ｓ５〜Ｓ７が伝達されながら、第２カウンタマスステージ３の移動制御が行われている。
【００２３】
本発明では、さらにウエハステージ制御部３１及びレチクルステージ制御部３４から各ステージへの制御力情報Ｓ９，Ｓ１０が外乱力推定部３７へ伝達され、前述の式１により構造部材７に入力される外乱力（モーメント力）９を演算することで取得している。そして、取得された外乱力情報Ｓ１１は制振制御部３８に伝達される。制振制御部３８は、第１及び第２カウンタマス駆動部６，５で発生させるべき力Ｆ１，Ｆ２を式４及び式５で算出して、第１及び第２カウンタマス制御部３２，３５に制御力情報Ｓ１２，Ｓ１３を伝達している。従来技術では、第１カウンタマスステージ４の制御と第２カウンタマスステージ３の制御はそれぞれウエハステージ２とレチクルステージ１とに対応して独立に行われていた。しかし、本発明では構造部材７の制振を行うために、第１カウンタマス駆動部６と第２カウンタマス駆動部５とを同期させて力を発生させている点が大きく異なる。これにより、レチクルステージ１及びウエハステージ２の一方又は双方の駆動によって構造部材７に発生する外乱力（モーメント力）９を新たな駆動部を設けずに効率よく相殺することが出来る。ウエハステージ制御部３１、レチクルステージ制御部、第１及び第２カウンタマス制御部３２，３５、外乱力推定部３７、制振制御部３８は、制御器Ｃを構成している。
【００２４】
本実施例では、外乱力推定部３７において式１を用いて外乱力を演算によって取得する例を説明したが、これに限定されるものではなく、他の理論式を用いてもよく、さらには実験的に求めた関係式を用いて推定しても良い。また、制振制御部３８において、式４及び式５で第１カウンタマス駆動部６と第２カウンタマス駆動部５で発生させる力Ｆ１，Ｆ２を決定した例を示したが、他の理論式や実験式を用いて各駆動部６，５への制御力情報Ｓ１２，Ｓ１３を決定しても良い。
【００２５】
［実施例２］
実施例１では、レチクルステージ１の駆動に伴うモーメント力９に対する構造部材７の振動抑制技術に関して説明してきたが、モーメント力だけでなく並進力（図１の場合Ｘ軸方向の力）を含めた外乱力に対しても相殺する力を発生させることが可能である。例えば、レチクルステージ１と構造部材７との間で多数の配線や配管などの実装部材を引き回すことが多い。その場合、レチクルステージ１のＸ軸方向の移動に伴い、実装部材を介して構造部材７にＸ軸方向の並進力が伝達されることがある。また、レチクルステージ１と構造部材７との間で無視できない摩擦力がある場合もレチクルステージ１のＸ軸方向の移動に伴う並進力が構造部材７に働く。この場合、レチクルステージ１の駆動に伴い、モーメント力Ｍと同時に並進力Ｆ３が構造部材７に入力されることになる。
【００２６】
このような場合には、並進力Ｆ３を理論的な式で推定することも可能であるが、通常、外乱力推定部３７は、事前に導き出した実験的な関係式を用いて並進力Ｆ３を推定する。また、制振制御部３８では、以下の式で第１及び第２カウンタマス駆動部６，５への制御力Ｆ１，Ｆ２を決定する。式２及び式３に対応して、構造部材７に関する力のつり合い式は、式６、式７となる。
Ｆ１＋Ｆ２＝Ｆ３  ・・・（６）
Ｆ１×Ｌ１＋Ｆ２×Ｌ２＝Ｍ  ・・・（７）
この２つの式よりＦ１、Ｆ２は式８、式９で表わされる。
Ｆ１＝（Ｍ−Ｆ３×Ｌ２）／（Ｌ１−Ｌ２）  ・・・（８）
Ｆ２＝−（Ｍ−Ｆ３×Ｌ１）／（Ｌ１−Ｌ２）  ・・・（９）
ここでは、構造部材７に対する外乱力として、レチクルステージ１の駆動によるモーメント力Ｍと並進力Ｆ３が発生する例を述べてきたが、ウエハステージ２の駆動でモーメント力Ｍ又は並進力Ｆ３が発生した場合でも同様に対応可能である。
【００２７】
［実施例３］
実施例１，２では、レチクルステージ１やウエハステージ２で発生する構造部材７に対する外乱力を対象に説明してきた。しかし、構造部材７に設置される他の駆動部によって発生する外乱力を対象にしても構わない。例えば、露光装置５０は、レチクルの照明範囲を限定するマスキングブレードと呼ばれる、レチクル駆動ステージ１の駆動に同期して駆動する駆動部を有する場合がある。その場合、マスキングブレードの駆動反力が構造部材７に外乱力（モーメント力や並進力）が入力される可能性がある。このような駆動部によって発生する構造部材７への外乱力が図１におけるＹ軸周りのモーメントやＸ軸方向の並進力である場合は、実施例１や実施例２で述べたように制振制御部３８で対応が可能である。但し、その場合は、外乱力推定部３７で対象とする駆動部の駆動情報と構造部材７への外乱力との関係を事前に理論式又は実験式で作成しておき、駆動部の駆動情報をもとに、構造部材７への外乱力を推定出来るようにしておく必要がある。
【００２８】
［実施例４］
実施例１〜３では、外乱力推定部３７が構造部材７への外乱力を推定して、推定された外乱力をもとに制振制御部３８で構造部材７への相殺力を計算し、構造部材７を制振する例を説明してきたが、それに限定されるものではない。例えば、構造部材７上に加速度センサ、変位センサ、速度センサなどの振動を検出する検出器を設置して、その検出結果をもとにして、構造部材７への外乱力を推定せず直接的に構造部材７の振動を抑制するのでも構わない。検出器の検出結果に基づいて、制振制御部３８で構造部材７の振動が抑制するように第１及び第２カウンタマス駆動部６，５で発生させる力を調整することで構造部材７の振動を抑制する。この場合、予め実験的に第１及び第２カウンタマス駆動部６，５での力の調整方法を算出しておく。このような構成にした場合、外乱力が発生する原因が良く分からないような場合でも構造部材７の振動を抑制することが可能になる。また、床振動による構造部材７へのランダム的な外乱力に対しても効率よく対応出来る。
【００２９】
〔デバイス製造方法〕
次に、デバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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