(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（成分Ａ）下記（１）又は（２）を満たすポリマー成分、
（成分Ｂ）ｐＫａが３．０以下の酸を発生する光酸発生剤、及び、
（成分Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とする
感光性樹脂組成物。
（１）（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位、（ａ２）架橋性基を有する構成単位及び（ａ３）下記式（ａ３−１）で表される構成単位を少なくとも有するポリマー（I）。
（２）（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を有するポリマー（II）及び（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマー（III）。ただし、前記ポリマー（II）及び前記ポリマー（III）のうち、少なくとも一方のポリマーは、（ａ３）下記式（ａ３−１）で表される構成単位を有する。
【化１】
0005755585.tif 000049
（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表し、Ｌは単結合を表す。）
【請求項２】
化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記構成単位（ａ１）における酸基が酸分解性基で保護された残基が、カルボキシル基がアセタールの形で保護された残基である、請求項１又は２に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記構成単位（ａ１）が、下記式（ａ１−１）で表される構成単位である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【化２】
0005755585.tif 000050
（式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともＲ1及びＲ2のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、Ｒ3はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ1又はＲ2とＲ3とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ4は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは単結合又はアリーレン基を表す。）
【請求項５】
前記構成単位（ａ２）における架橋性基が、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和基、及び、−ＮＨ−ＣＨ2−ＯＲ’（Ｒ’はアルキル基を表す。）よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
成分Ａに含まれる少なくとも１種のポリマーが、下記式（ａ４−１）で表される構成単位及び／又は下記式（ａ４−２）で表される構成単位を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【化３】
0005755585.tif 000051
（式中、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。）
【請求項７】
成分Ａに含まれる少なくとも１種のポリマーが、下記式（ａ４−３）で表される構成単位を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【化４】
0005755585.tif 000052
（式中、Ｒ6は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ1は炭素数２〜１１のアルキレン基を表す。）
【請求項８】
成分Ｂが、オキシムスルホネート化合物又はオニウム塩化合物である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項９】
（１）請求項１〜８のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、
（２）塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する乾燥工程、
（３）溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程、
（４）露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、及び、
（５）現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、を含むことを特徴とする硬化膜の製造方法。
【請求項１０】
前記現像工程後、前記ポストベーク工程前に、全面露光する工程を含む、請求項９に記載の硬化膜の製造方法。
【請求項１１】
請求項９又は１０に記載の製造方法により製造された硬化膜。
【請求項１２】
層間絶縁膜である、請求項１１に記載の硬化膜。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置。
【請求項１４】
請求項１１又は１２に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置に関する。更に詳しくは、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、集積回路素子、固体撮像素子などの電子部品の平坦化膜、保護膜や層間絶縁膜の形成に好適な、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置などには、輝度向上、消費電力低減などの観点から層間絶縁膜が設けられている。この層間絶縁膜の形成には、必要とするパターン形状を得るための工程数が少なく、しかも十分な平坦性が得られるといったことから、感光性樹脂組成物が広く使用されている（例えば、特許文献１参照。）。
近年は生産性向上の観点から、感光性樹脂組成物の高感度化、高解像度化が求められるようになった。高感度な感光性樹脂組成物として例えば、アセタール構造を有するバインダーを用いた層間絶縁膜用の感光性樹脂組成物が開発された。これは化学増幅と呼ばれる技術であり、非化学増幅のものに比べて大幅に高感度化できる（例えば、特許文献２参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−２１６４９１号公報
【特許文献２】特開２０１１−２２１４９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
例えば、特許文献１に記載されているような層間絶縁膜用の感光性樹脂組成物には、従来キノンジアジドを用いた感光性樹脂組成物が用いられてきた。キノンジアジドを用いた感光性樹脂組成物は各種信頼性に優れるものの、感度が低いという問題があった。
また、例えば、特許文献２に記載されているような化学増幅技術を用いる場合には、露光から現像までの時間によって感度及びＰＥＤ特性が大きく変化するという問題があった。なお、ＰＥＤ（Post Exposure Delay）特性とは、露光後に現像までの時間に対する硬化膜の線幅変動の大きさ、すなわち、露光後に現像までの時間に対する得られる硬化膜の形状安定性のことである。前記線幅変動が小さいほど、ＰＥＤ特性が優れる。
更に、感度変動を低減させる手段として、塩基性化合物を大量に添加することが知られているが、感度が大きく低下するという問題があった。
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、感度及びＰＥＤ特性に優れた感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を使用した硬化膜及びその製造方法、液晶表示装置、並びに、有機ＥＬ表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者が上記課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、以下の＜１＞、＜１０＞、＜１２＞、＜１４＞又は＜１５＞に記載の手段により上記課題を解決できることを見出し、本発明の完成に至った。すなわち、本発明は以下の構成である。好ましい実施態様である＜２＞〜＜９＞、＜１１＞及び＜１３＞と共に以下に記載する。
＜１＞（成分Ａ）下記（１）又は（２）を満たすポリマー成分、（成分Ｂ）ｐＫａが３．０以下の酸を発生する光酸発生剤、及び、（成分Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、
（１）（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位、（ａ２）架橋性基を有する構成単位及び（ａ３）下記式（ａ３−１）で表される構成単位を少なくとも有するポリマー（I）。
（２）（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を有するポリマー（II）及び（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマー（III）。ただし、前記ポリマー（II）及び前記ポリマー（III）のうち、少なくとも一方のポリマーは、（ａ３）下記式（ａ３−１）で表される構成単位を有する。
【０００７】
【化１】
0005755585.tif 000002
（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表し、Ｌは単結合又はカルボニル基と酸素原子若しくは窒素原子で結合する二価の有機基を表す。）
【０００８】
＜２＞化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物である、上記＜１＞に記載の感光性樹脂組成物、
＜３＞前記式（ａ３−１）におけるＬが、単結合である、上記＜１＞又は＜２＞に記載の感光性樹脂組成物、
＜４＞前記構成単位（ａ１）における酸基が酸分解性基で保護された残基が、カルボキシル基がアセタールの形で保護された残基である、上記＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物、
＜５＞前記構成単位（ａ１）が、下記式（ａ１−１）で表される構成単位である、上記＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物、
【０００９】
【化２】
0005755585.tif 000003
（式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともＲ1及びＲ2のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、Ｒ3はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ1又はＲ2とＲ3とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ4は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは単結合又はアリーレン基を表す。）
【００１０】
＜６＞前記構成単位（ａ２）における架橋性基が、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和基、及び、−ＮＨ−ＣＨ2−ＯＲ’（Ｒ’はアルキル基を表す。）よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基である、上記＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物、
＜７＞成分Ａに含まれる少なくとも１種のポリマーが、下記式（ａ４−１）で表される構成単位及び／又は下記式（ａ４−２）で表される構成単位を有する、上記＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物、
【００１１】
【化３】
0005755585.tif 000004
（式中、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。）
【００１２】
＜８＞成分Ａに含まれる少なくとも１種のポリマーが、下記式（ａ４−３）で表される構成単位を有する、上記＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物、
【００１３】
【化４】
0005755585.tif 000005
（式中、Ｒ6は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ1は炭素数２〜１１のアルキレン基を表す。）
【００１４】
＜９＞成分Ｂが、オキシムスルホネート化合物又はオニウム塩化合物である、上記＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物、
＜１０＞（１）上記＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、（２）塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する乾燥工程、（３）溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程、（４）露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、及び、（５）現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、を含むことを特徴とする硬化膜の製造方法、
＜１１＞前記現像工程後、前記ポストベーク工程前に、全面露光する工程を含む、上記＜１０＞に記載の硬化膜の製造方法、
＜１２＞上記＜１０＞又は＜１１＞に記載の製造方法により製造された硬化膜、
＜１３＞層間絶縁膜である、上記＜１２＞に記載の硬化膜、
＜１４＞上記＜１２＞又は＜１３＞に記載の硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置、
＜１５＞上記＜１２＞又は＜１３＞に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、感度及びＰＥＤ特性に優れた感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を使用した硬化膜及びその製造方法、液晶表示装置、並びに、有機ＥＬ表示装置を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】有機ＥＬ表示装置の一例の構成概念図を示す。ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜４を有している。
【図２】液晶表示装置の一例の構成概念図を示す。液晶表示装置におけるアクティブマトリックス基板の模式的断面図を示し、層間絶縁膜である硬化膜１７を有している。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。「（成分Ａ）（１）又は（２）を満たすポリマー成分」等を単に「成分Ａ」等ともいい、「（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位」等を単に「構成単位（ａ１）」等ともいう。また、「アクリレート」、「メタクリレート」の双方あるいはいずれかを指す場合「（メタ）アクリレート」と、「アクリル」、「メタクリル」の双方あるいはいずれかを指す場合「（メタ）アクリル」と、それぞれ記載することがある。
また、本発明において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
また、本発明に使用するポリマーが含有する構成単位を導入する方法は、重合法でもよく、高分子反応法でもよい。重合法では、所定の官能基を含有するモノマーを予め合成した後に、これらのモノマーを共重合する。高分子反応法では、重合反応を行った後に、得られたポリマーの構成単位に含まれる反応性基を利用して必要な官能基を構成単位中に導入する。ここで、官能基としては、カルボキシル基又はフェノール性水酸基等の酸基を保護すると同時に酸、好ましくは強酸の存在下で分解しこれらを遊離するための保護基、エポキシ基又はオキセタニル基などの架橋性基、また、フェノール性水酸基やカルボキシル基のようなアルカリ可溶性基（酸基）等が例示できる。
【００１８】
（感光性樹脂組成物）
本発明の感光性樹脂組成物（以下、単に「樹脂組成物」ともいう。）は、（成分Ａ）下記（１）又は（２）を満たすポリマー成分、（成分Ｂ）ｐＫａが３．０以下の酸を発生する光酸発生剤、及び、（成分Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とする。
（１）（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位、（ａ２）架橋性基を有する構成単位及び（ａ３）下記式（ａ３−１）で表される構成単位を少なくとも有するポリマー（I）。
（２）（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を有するポリマー（II）及び（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマー（III）。ただし、前記ポリマー（II）及び前記ポリマー（III）のうち、少なくとも一方のポリマーは、（ａ３）下記式（ａ３−１）で表される構成単位を有する。
【００１９】
【化５】
0005755585.tif 000006
（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表し、Ｌは単結合又はカルボニル基と酸素原子若しくは窒素原子で結合する二価の有機基を表す。）
【００２０】
本発明の感光性樹脂組成物は、ポジ型感光性樹脂組成物であることが好ましく、化学増幅型のポジ型感光性樹脂組成物（化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物）であることがより好ましい。
以下、本発明の感光性樹脂組成物について各成分の好ましい態様を順に説明する。
【００２１】
（成分Ａ）（１）又は（２）を満たすポリマー成分
本発明の感光性樹脂組成物は、（成分Ａ）前記（１）又は（２）を満たすポリマー成分を含有する。
なお、本願明細書中、特に断りなく「成分Ａ」という場合は、前記（１）を満たすポリマー成分と、前記（２）を満たすポリマー成分との両者を含む。
本発明の感光性樹脂組成物は、相溶性の観点からは、成分Ａとして、前記（１）を満たす成分を含有することが好ましい。
一方、分子設計の自由度の観点からは、本発明の感光性樹脂組成物は、成分Ａとして、前記（２）を満たす成分を含有することが好ましい。
なお、前記（１）を満たす成分を含有する場合であっても、更に、（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を有するポリマー及び／又は（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマーを含有していてもよい。
また、前記（２）を満たす成分を含有する場合であっても、（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位及び（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマーを含有する場合は、前記（１）を満たす成分を含有する場合に該当するものとする。
【００２２】
成分Ａにおけるポリマーはそれぞれ独立に、アクリル系ポリマーであることが好ましく、いずれもアクリル系ポリマーであることがより好ましい。
本発明における「アクリル系ポリマー」は、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来するモノマー単位を含むポリマーであり、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来するモノマー単位以外のモノマー単位、例えば、スチレン類に由来するモノマー単位やビニル化合物に由来するモノマー単位等を有していてもよい。
成分Ａにおけるポリマーは、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来する構成単位を、重合体における全構成単位に対し、５０モル％以上含有することが好ましい。
なお、「（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来する構成単位」を「アクリル系構成単位」ともいう。また、「（メタ）アクリル酸」は、「メタクリル酸及び／又はアクリル酸」を意味するものとする。
成分Ａにおけるポリマーは、前記構成単位（ａ１）及び／又は構成単位（ａ２）以外にも、その他の構成単位（ａ３）を含有していてもよい。
【００２３】
成分Ａにおけるポリマーは、アルカリ不溶性であることが好ましく、かつ、構成単位（ａ１）が有する酸分解性基が分解したときにアルカリ可溶性となる樹脂であることが好ましい。ここで、酸分解性基とは酸の存在下で分解することが可能な官能基を意味する。すなわち、カルボキシル基が酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位は、酸により保護基が分解することによって、カルボキシル基を生成可能であり、また、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された保護フェノール性水酸基を有する構成単位は、酸により保護基が分解することによって、フェノール性水酸基を生成可能である。ここで、本発明において「アルカリ可溶性」とは、当該化合物（樹脂）の溶液を基板上に塗布し、９０℃で２分間加熱することによって形成される当該化合物（樹脂）の塗膜（厚さ３μｍ）の、２３℃における０．４質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が、０．０１μｍ／秒以上であることをいい、「アルカリ不溶性」とは、当該化合物（樹脂）の溶液を基板上に塗布し、９０℃で２分間加熱することによって形成される当該化合物（樹脂）の塗膜（厚さ３μｍ）の、２３℃における０．４質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が、０．０１μｍ／秒未満であることをいう。
成分Ａにおけるポリマーは、後述するカルボキシル基、カルボン酸無水物由来の構造及び／又はフェノール性水酸基を有するその他の構成単位等を有していてもよい。ただし、酸性基の導入をする場合は、ポリマー全体をアルカリ不溶性に保つ範囲で、導入することが好ましい。
以下、構成単位（ａ１）、構成単位（ａ２）、構成単位（ａ３）それぞれについて説明する。
【００２４】
＜（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位＞
成分Ａにおけるポリマーの少なくとも１種は、（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を有する。
（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位における酸基としては、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、リン酸基、及び、ヒドロキシフルオロアルキル基等が挙げられる。中でも、カルボキシル基、及び／又は、フェノール性水酸基であることが好ましく、カルボキシル基がより好ましい。
また、（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位は、酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位、又は、酸分解性基で保護された保護フェノール性水酸基を有する構成単位であることが好ましく、酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位であることがより好ましい。
【００２５】
酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位は、カルボキシ基がアセタールの形で保護された残基を有する構成単位であることが好ましく、下記式（ａ１−１）で表される構成単位であることがより好ましい。
【００２６】
【化６】
0005755585.tif 000007
（式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともＲ1及びＲ2のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、Ｒ3はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ1又はＲ2とＲ3とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ4は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは単結合又はアリーレン基を表す。）
【００２７】
式（ａ１−１）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基としては、炭素数１〜１２であることが好ましく、炭素数１〜６であることがより好ましく、炭素数１〜４であることが更に好ましい。前記アルキル基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜６のアルコキシ基が例示できる。置換基としてハロゲン原子を有する場合、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はハロアルキル基となり、置換基としてアリール基を有する場合、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はアラルキル基となる。アラルキル基としては、ベンジル基が好ましい。
式（ａ１−１）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3におけるアリール基としては、炭素数６〜１２であることが好ましく、炭素数６〜１０であることがより好ましい。前記アリール基は置換基を有していてもよく、前記置換基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましく例示できる。
また、式（ａ１−１）におけるＲ1、Ｒ2及びＲ3は互いに結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成することができる。Ｒ1とＲ2、Ｒ1とＲ3又はＲ2とＲ3が結合した場合の環構造としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、テトラヒドロフラニル基、アダマンチル基及びテトラヒドロピラニル基等を挙げることができる。
式（ａ１−１）中、Ｒ1及びＲ2は、水素原子、又は、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、水素原子、又は、メチル基が好ましい。Ｒ3は、直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数６以下のアルキル基、又は、炭素数７〜１０のアラルキル基が好ましく、エチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基がより好ましい。Ｒ1又はＲ2とＲ3とが連結した環状エーテルとしては、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基が好ましい。Ｒ4は、メチル基が好ましい。Ｘは単結合又はフェニレン基が好ましい。
【００２８】
式（ａ１−１）で表される構成単位は、下記式（ａ１−１−１）で表される構成単位であることが更に好ましい。
【００２９】
【化７】
0005755585.tif 000008
（式中、Ｒ3は炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数４〜７のシクロアルキル基を表し、Ｒ4は水素原子又はメチル基を表す。）
【００３０】
前記式（ａ１−１−１）におけるＲ3は、感度の観点から、炭素数２〜４のアルキル基又は炭素数５又は６のシクロアルキル基であることが好ましく、エチル基又はシクロへキシル基であることがより好ましい。
前記式（ａ１−１−１）におけるＲ4は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。
【００３１】
前記式（ａ１−１−１）で表される構成単位における−ＣＯＯＣＨ（ＣＨ3）ＯＲ3の部分構造は、酸により分解、例えば、活性光線の露光によって成分Ｂから生じた酸により分解し、−ＣＯＯＨ（カルボキシル基）を生じる。新たにカルボキシル基が生じることにより、アルカリ可溶性が増大し、露光部分が可溶になり、現像を行うことができる。また、未露光部においても、後述するポストベーク工程における熱処理により、前記部分構造が分解し、カルボキシル基を生じる。生じたカルボキシル基は、構成単位（ａ２）のエポキシ基等の架橋性基と反応することにより架橋を形成することができる。
【００３２】
構成単位（ａ１−１）を形成するモノマーとしては、下記式（ａ１’）で表される化合物が好ましく例示できる。
【００３３】
【化８】
0005755585.tif 000009
（式中、Ｒ3は炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数４〜７のシクロアルキル基を表し、Ｒ4は水素原子又はメチル基を表す。）
【００３４】
式（ａ１’−１−１）におけるＲ1及びＲ2は、前記式（ａ１−１−１）におけるＲ1及びＲ2とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。
式（ａ１）で表される構成単位は、前記式（ａ１’−１−１）で表される化合物を重合して形成しても、アクリル酸やメタクリル酸を重合した後、高分子反応により−ＣＨ（ＣＨ3）ＯＲ3を導入してもよいが、前記式（ａ１’−１−１）で表される化合物を重合して形成することが好ましい。前記式（ａ１’）で表される化合物を重合して形成した場合、成分Ａにおいて式（ａ１−１−１）で表される構成単位は、式（ａ１−１−１）で表されるモノマー単位でもある。
【００３５】
酸分解性基で保護された保護フェノール性水酸基を有する構成単位としては、下記式（ａ１−２）で表される構成単位であることが好ましい。
【００３６】
【化９】
0005755585.tif 000010
（式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともＲ1及びＲ2のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、Ｒ3はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ1又はＲ2とＲ3とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ4は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは単結合又はアリーレン基を表す。）
【００３７】
式（ａ１−２）におけるＲ1〜Ｒ4は、式（ａ１−１）におけるＲ1〜Ｒ4とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。
式（ａ１−２）で表される構成単位としては、下記式（ａ１−２−１）〜式（ａ１−２−４）で表される構成単位であることがより好ましい。
【００３８】
【化１０】
0005755585.tif 000011
【００３９】
＜＜構成単位（ａ１）の好ましい態様＞＞
成分Ａが前記（２）を満たす成分である場合、（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を有するポリマーを構成する全モノマー単位中、構成単位（ａ１）を形成するモノマー単位の含有量は、５〜９０モル％が好ましく、２０〜８０モル％がより好ましい。
成分Ａが前記（１）を満たす成分である場合、（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位及び（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマーを構成する全モノマー単位中、構成単位（ａ１）を形成するモノマー単位の含有量は、感度の観点から、３〜７０モル％が好ましく、１０〜６０モル％がより好ましい。また、特に前記構成単位（ａ１）に用いることができる前記酸分解性基が、カルボキシル基がアセタールの形で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位である場合、（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位及び（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマーを構成する全モノマー単位中の構成単位（ａ１）を形成するモノマー単位の含有量は、１０〜４０モル％が更に好ましい。
【００４０】
前記酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位（ａ１−１）は、前記酸分解性基で保護された保護フェノール性水酸基を有する構成単位（ａ１−２）に比べると、現像が速い。よって、速く現像したい場合には酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位（ａ１−１）が好ましい。逆に現像を遅くしたい場合には酸分解性基で保護された保護フェノール性水酸基を有する構成単位（ａ１−２）を用いることが好ましい。
【００４１】
＜（ａ２）架橋性基を有する構成単位＞
成分Ａにおけるポリマーの少なくとも１種は、（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有する。
前記架橋性基は、加熱処理で硬化反応を起こす基であれば特に限定はされない。好ましい架橋性基を有する構成単位の態様としては、エポキシ基（「オキシラニル基」ともいう。）、オキセタニル基、エチレン性不飽和基、及び、−ＮＨ−ＣＨ2−ＯＲ’（Ｒ’はアルキル基を表す。）よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基を有する構成単位が挙げられる。構成単位（ａ２）を有することにより、ベーク後の諸工程に耐え得る硬い硬化膜が得られる。
その中でも、構成単位（ａ２）は、エポキシ基及びオキセタニル基のうち少なくとも１つを有する構成単位であることがより好ましい。
【００４２】
＜＜（ａ２−１）オキシラニル基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位＞＞
成分Ａにおけるポリマーの少なくとも１種は、オキシラニル基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（構成単位（ａ２−１））を含有することが好ましい。前記３員環の環状エーテル基はオキシラニル基（エポキシ基）とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。
前記オキシラニル基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（ａ２−１）としては、脂環オキシラニル基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位であることが好ましく、オキセタニル基を有する構成単位であることがより好ましい。
前記オキシラニル基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（ａ２−１）は、１つの構成単位中にオキシラニル基又はオキセタニル基を少なくとも１つ有していればよく、１つ以上のオキシラニル基及び１つ以上オキセタニル基、２つ以上のオキシラニル基、又は、２つ以上のオキセタニル基を有していてもよく、特に限定されないが、オキシラニル基及び／又はオキセタニル基を合計１〜３つ有することが好ましく、オキシラニル基及び／又はオキセタニル基を合計１又は２つ有することがより好ましく、オキシラニル基又はオキセタニル基を１つ有することが更に好ましい。
【００４３】
オキシラニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、α−エチルアクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、特許第４１６８４４３号公報の段落００３１〜００３５に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物などが挙げられる。
オキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、特開２００１−３３０９５３号公報の段落００１１〜００１６に記載のオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどを挙げることができる。
前記構成単位（ａ２−１）を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。
【００４４】
これらのモノマーの中で、更に好ましいものとしては、特許第４１６８４４３号公報の段落００３４〜００３５に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物及び特開２００１−３３０９５３号公報の段落００１１〜００１６に記載のオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルであり、特に好ましいものとしては特開２００１−３３０９５３号公報の段落００１１〜００１６に記載のオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルである。これらの中でも、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルが好ましく、（メタ）アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルがより好ましい。これらの構成単位は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００４５】
前記オキシラニル基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（ａ２−１）が、下記式（ａ２−１−１）及び式（ａ２−１−２）よりなる群から選択された構造を有することが好ましい。
【００４６】
【化１１】
0005755585.tif 000012
【００４７】
前記オキシラニル基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（ａ２−１）が、上記式（ａ２−１−１）で表される３つの構造のいずれかを有するとは、式（ａ２−１−１）で表される構造から水素原子を１つ以上除いた基を有することを意味する。
前記オキシラニル基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（ａ２−１）は、３，４−エポキシシクロヘキシル基、２，３−エポキシシクロヘキシル基、２，３−エポキシシクロペンチル基を有することが更に好ましい。
【００４８】
【化１２】
0005755585.tif 000013
（式（ａ２−１−２）中、Ｒ1b及びＲ6bはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ2b、Ｒ3b、Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ7b、Ｒ8b、Ｒ9b及びＲ10bはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表す。）
【００４９】
前記式（ａ２−１−２）中、Ｒ1b及びＲ6bはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基（以下、「低級アルキル基」ともいう。）であることがより好ましい。
Ｒ2b、Ｒ3b、Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ7b、Ｒ8b、Ｒ9b及びＲ10bはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表す。
前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示でき、フッ素原子及び塩素原子がより好ましく、フッ素原子が更に好ましい。
前記アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよく、また、置換基を有していてもよい。直鎖状及び分岐鎖状のアルキル基としては、炭素数１〜８であることが好ましく、炭素数１〜６であることがより好ましく、炭素数１〜４であることが更に好ましい。前記環状アルキル基としては、炭素数３〜１０であることが好ましく、炭素数４〜８であることがより好ましく、炭素数５〜７であることが更に好ましい。なお、直鎖状及び分岐鎖状のアルキル基は、環状アルキル基で置換されていてもよく、環状アルキル基は直鎖状及び／又は分岐鎖状アルキル基で置換されていてもよい。
前記アリール基としては、炭素数６〜２０のアリール基であることが好ましく、炭素数６〜１０のアリール基であることが更に好ましい。
前記アルキル基、アリール基は、更に置換基を有していてもよく、アルキル基の有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、が例示でき、アリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基が例示できる。
これらの中でも、Ｒ2b、Ｒ3b、Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ7b、Ｒ8b、Ｒ9b及びＲ10bはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、又は、炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
前記式（ａ２−１−２）で表される構造を有する基としては、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル基が好ましく例示できる。
【００５０】
前記オキシラニル基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（ａ２−１）の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。なお、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。
【００５１】
【化１３】
0005755585.tif 000014
【００５２】
本発明において、感度の観点からは、オキセタニル基が好ましい。また、透過率（透明性）の観点からは、脂環オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましい。以上より、本発明においては、オキシラニル基及び／又はオキセタニル基としては、脂環オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、オキセタニル基が特に好ましい。
【００５３】
＜＜（ａ２−２）エチレン性不飽和基を有する構成単位＞＞
前記架橋性基を有する構成単位（ａ２）の１つとして、エチレン性不飽和基を有する構成単位（ａ２−２）が挙げられる（以下、「構成単位（ａ２−２）」ともいう。）。前記エチレン性不飽和基を有する構成単位（ａ２−２）としては、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位が好ましく、末端にエチレン性不飽和基を有し、炭素数３〜１６の側鎖を有する構成単位がより好ましく、下記式（ａ２−２−１）で表される側鎖を有する構成単位が更に好ましい。
【００５４】
【化１４】
0005755585.tif 000015
（式（ａ２−２−１）中、Ｒ301は炭素数１〜１３の二価の連結基を表し、Ｒ302は水素原子又はメチル基を表し、波線部分は架橋性基を有する構成単位（ａ２）の主鎖に連結する部位を表す。）
【００５５】
Ｒ301は、炭素数１〜１３の二価の連結基であって、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリーレン基又はこれらを組み合せた基を含み、エステル結合、エーテル結合、アミド結合、ウレタン結合等の結合を含んでいてもよい。また、二価の連結基は、任意の位置にヒドロキシ基、カルボキシル基等の置換基を有していてもよい。Ｒ301の具体例としては、下記の二価の連結基が挙げられる。
【００５６】
【化１５】
0005755585.tif 000016
【００５７】
前記式（ａ２−２−１）で表される側鎖の中でも、前記Ｒ301で表される２価の連結基を含めて脂肪族の側鎖が好ましい。
【００５８】
＜＜（ａ２−３）−ＮＨ−ＣＨ2−ＯＲ’（Ｒ’はアルキル基）基を有する構成単位＞＞
前記架橋性基を有する構成単位（ａ２）の１つとして、−ＮＨ−ＣＨ2−ＯＲ（Ｒはアルキル基）基を有する構成単位（ａ２−３）が挙げられる（以下、「構成単位（ａ２−３）」ともいう。）。
Ｒ’は、炭素数１〜２０のアルキル基であることが好ましい。前記アルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
構成単位（ａ２−３）としては、下記式（ａ２−３−１）で表される構成単位であることが好ましい。
【００５９】
【化１６】
0005755585.tif 000017
（式（ａ２−３−１）中、Ｒ’は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ”は水素原子又はメチル基を表す。）
【００６０】
式（ａ２−３−１）におけるＲ’は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。また、式（ａ２−３−１）におけるＲ’の炭素数は、１〜９が好ましく、１〜４がより好ましい。
式（ａ２−３−１）におけるＲ’の具体例としては、シクロヘキシル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、メチル基を挙げることができる。中でも、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、又は、メチル基が好ましい。
【００６１】
＜＜構成単位（ａ２）の好ましい態様＞＞
成分Ａが前記（２）を満たす成分である場合、（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマーを構成する全モノマー単位中、構成単位（ａ２）を形成するモノマー単位の含有量は、５〜９０モル％が好ましく、２０〜８０モル％がより好ましい。上記数値範囲内であると、感光性樹脂組成物から得られるベーク後の硬化膜のホール形状が特に良好となる。
成分Ａが前記（１）を満たす成分である場合、（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位及び（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマーを構成する全モノマー単位中、構成単位（ａ２）を形成するモノマー単位の含有量は、感度の観点から、３〜７０モル％が好ましく、１０〜６０モル％がより好ましい。上記数値範囲内であると、感光性樹脂組成物から得られるベーク後の硬化膜のホール形状が特に良好となる。
【００６２】
＜（ａ３）式（ａ３−１）で表される構成単位＞
成分Ａにおけるポリマーの少なくとも１種は、（ａ３）下記式（ａ３−１）で表される構成単位を有する。
【００６３】
【化１７】
0005755585.tif 000018
（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表し、Ｌは単結合又はカルボニル基と酸素原子若しくは窒素原子で結合する二価の有機基を表す。）
【００６４】
前記カルボニル基と酸素原子若しくは窒素原子で結合する二価の有機基としては、炭素数１〜１２のアルキレンオキシ基又は炭素数１〜１２のアリーレンオキシ基が好ましい。
また、Ｌは、単結合、炭素数１〜１２のアルキレンオキシ基、又は炭素数１〜１２のアリーレンオキシ基であることが好ましく、単結合であることがより好ましい。
【００６５】
＜＜構成単位（ａ３）の好ましい態様＞＞
成分Ａが前記（２）を満たす成分である場合、（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を有するポリマーを構成する全モノマー単位中、構成単位（ａ３）を形成するモノマー単位の含有量は、１〜３０モル％が好ましく、３〜２０モル％がより好ましい。上記範囲であると、ＰＥＤ特性が優れる。
また、成分Ａが前記（２）を満たす成分である場合、（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマーを構成する全モノマー単位中、構成単位（ａ３）を形成するモノマー単位の含有量は、１〜３０モル％が好ましく、３〜２０モル％がより好ましい。上記範囲であると、ＰＥＤ特性が優れる。
成分Ａが前記（２）を満たす成分である場合、（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を有するポリマーと、（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマーとの両方に、構成単位（ａ３）を有していることが好ましい。上記態様であると、ＰＥＤ特性が優れる。
成分Ａが前記（１）を満たす成分である場合、（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位及び（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマーを構成する全モノマー単位中、構成単位（ａ３）を形成するモノマー単位の含有量は、感度の観点から、１〜３０モル％が好ましく、３〜２０モル％がより好ましい。上記範囲であると、ＰＥＤ特性が優れる。
【００６６】
＜（ａ４）その他の構成単位＞
本発明において、成分Ａにおけるポリマーの少なくとも１種は、本発明の効果を妨げない範囲で、前記構成単位（ａ１）〜（ａ３）以外の構成単位（以下、適宜「構成単位（ａ４）」ともいう。）を有していてもよい。
構造単位（ａ４）を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、特に限定されないが、例えば、特開２００４−２６４６２３号公報の段落００２１〜００２４に記載の化合物を挙げることができる（ただし、前述の構成単位（ａ１）〜（ａ３）を除く。）。
好ましい構成単位（ａ４）、及び、構成単位（ａ４）を形成するために用いられるラジカル重合性単量体として好ましい態様を具体的に説明する。
【００６７】
＜＜（ａ４−１）脂環構造を有する構成単位＞＞
成分Ａにおけるポリマーの少なくとも１種は、電気特性の観点から、脂環構造を有する構成単位（ａ４−１）を有することが好ましい。
（ａ４−１）脂環構造を有する構成単位としては、下記式（ａ４−１）で表される構成単位であることが好ましい。
【００６８】
【化１８】
0005755585.tif 000019
（式中、Ｒ5は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ6は脂環基を表し、Ｌ1は単結合、アルキレン基又はアルキレンオキシ基を表す。）
【００６９】
前記式（ａ４−１）におけるＲ5は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。
前記式（ａ４−１）におけるＲ6は、炭素数５〜１８の脂環基であることが好ましく、炭素数５〜１２の脂環基であることがより好ましく、シクロへキシル基、２−メチルシクロヘキシル基、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン−８−イル基又はイソボルニル基であることが特に好ましい。
また、前記脂環基における脂肪族環は、縮合環及び／又は橋かけ環であることが好ましく、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン環であることが特に好ましい。
前記式（ａ４−１）におけるＬ1は、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基であることが好ましく、単結合、メチレン基又はエチレンオキシ基であることがより好ましい。
【００７０】
前記（ａ４−１）脂環構造を有する構成単位を形成するモノマーとしては、脂環構造を有する（メタ）アクリレート化合物が好ましく例示でき、下記式（ａ４’−１）で表される化合物がより好ましく例示できる。
【００７１】
【化１９】
0005755585.tif 000020
【００７２】
式（ａ４’−１）におけるＲ5、Ｒ6及びＬ1は、前記式（ａ４−１）におけるＲ5、Ｒ6及びＬ1とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。
式（ａ４’−１）で表される化合物の具体例としては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン−８−イル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン−８−イルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
中でも、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン−８−イル（メタ）アクリレートが最も好ましい。
なお、本発明において、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」及び「メタクリル」のいずれか一方、又は、その両方を含む語であり、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」及び「メタクリレート」のいずれか一方、又は、その両方を含む語である。
【００７３】
＜＜（ａ４−２）カルボン酸アルキルエステル残基を有する構成単位＞＞
成分Ａにおけるポリマーの少なくとも１種は、透明性の観点から、（ａ４−２）カルボン酸アルキルエステル残基を有する構成単位を有することが好ましい。
（ａ４−２）カルボン酸アルキルエステル残基を有する構成単位としては、下記式（ａ４−２）で表される構成単位であることが好ましい。
【００７４】
【化２０】
0005755585.tif 000021
（式中、Ｒ7は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ8は炭素数１〜１２のアルキル基を表す。）
【００７５】
前記式（ａ４−２）におけるＲ7は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性を向上させる観点から、メチル基が好ましい。
前記式（ａ４−２）におけるＲ8は、炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。また、前記Ｒ8におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していてもよい。
【００７６】
前記（ａ４−２）カルボン酸アルキルエステル残基を有する構成単位を形成するモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート化合物が好ましく例示でき、下記式（ａ４’−２）で表される化合物がより好ましく例示できる。
【００７７】
【化２１】
0005755585.tif 000022
【００７８】
式（ａ４’−２）におけるＲ7及びＲ8は、前記式（ａ４−２）におけるＲ7及びＲ8とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。
【００７９】
＜＜（ａ４−３）マレイミド残基を有する構成単位＞＞
成分Ａにおけるポリマーの少なくとも１種は、熱硬化性の観点から、（ａ４−３）マレイミド残基を有する構成単位を有することが好ましい。
（ａ４−３）マレイミド残基を有する構成単位としては、下記式（ａ４−３）で表される構成単位であることが好ましい。
【００８０】
【化２２】
0005755585.tif 000023
（式中、Ｒ9は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は下記式（Ｓ）で表される基を表す。）
【００８１】
【化２３】
0005755585.tif 000024
（式中、ｘは２〜１０の整数を表し、波線部分は式（ａ４−３）における窒素原子との結合位置を表す。）
【００８２】
前記式（ａ４−３）におけるＲ9は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基又は前記式（Ｓ）で表される基であることが好ましく、ベンジル基、シクロヘキシル基、フェニル基又は前記式（Ｓ）で表される基であることがより好ましい。
前記式（Ｓ）におけるｘは、２〜８であることが好ましく、２〜７であることがより好ましい。
前記（ａ４−３）マレイミド残基を有する構成単位を形成するモノマーとしては、下記式（ａ４’−３）で表される化合物が好ましく例示できる。
【００８３】
【化２４】
0005755585.tif 000025
【００８４】
式（ａ４’−３）におけるＲ9は、前記式（ａ４−３）におけるＲ9と同義であり、好ましい態様も同様である。
式（ａ４’−３）で表される化合物の具体例としては、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等が挙げられる。中でも、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドやＮ−フェニルマレイミドが特に好ましい。
【００８５】
＜＜（ａ４−４）ヒドロキシ基を有する構成単位＞＞
成分Ａにおけるポリマーの少なくとも１種は、現像性の観点から、（ａ４−４）ヒドロキシ基を有する構成単位を有することが好ましい。
（ａ４−４）ヒドロキシ基を有する構成単位としては、下記式（ａ４−４）で表される構成単位であることが好ましい。
【００８６】
【化２５】
0005755585.tif 000026
（式中、Ｒ10は水素原子又はメチル基を表し、ｙは２〜１１の整数を表す。）
【００８７】
前記式（ａ４−４）におけるＲ10は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。
前記式（ａ４−４）におけるｙは、２〜８の整数であることが好ましく、２〜４の整数であることがより好ましく、２であることが特に好ましい。
【００８８】
前記ヒドロキシ基を有する構成単位（ａ４−４）を形成するモノマーとしては、下記式（ａ４’−４）で表される化合物がより好ましく例示できる。
【００８９】
【化２６】
0005755585.tif 000027
【００９０】
式（ａ４’−４）におけるＲ10及びｙは、前記式（ａ４−４）におけるＲ10及びｙとそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。
【００９１】
＜＜（ａ４−５）ポリエーテル構造を有する構成単位＞＞
成分Ａにおけるポリマーの少なくとも１種は、現像性の観点から、（ａ４−５）ポリエーテル構造を有する構成単位を有することが好ましい。
（ａ４−５）ポリエーテル構造を有する構成単位としては、下記式（ａ４−５−１）又は式（ａ４−５−２）で表される構成単位であることが好ましい。
【００９２】
【化２７】
0005755585.tif 000028
（式中、Ｒ11は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ12は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又はフェニル基を表し、Ｘ2は単結合又は二価の連結基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、０〜５０の整数を表す。ただし、ｍとｎとが共に０となることはない。）
【００９３】
前記式（ａ４−５−１）及びに前記式（ａ４−５−２）おけるＲ11は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性を向上させる観点から、メチル基が好ましい。
前記式（ａ４−５−１）及びに前記式（ａ４−５−２）おけるＲ12は、炭素数１〜８のアルキル基又はフェニル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが更に好ましい。また、前記Ｒ12におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していてもよい。
前記式（ａ４−５−１）及びに前記式（ａ４−５−２）おけるＸ2は、単結合又は炭素数１〜５０の二価の連結基であることが好ましく、単結合又は炭素数１〜２０のアルキレン基であることがより好ましく、単結合であることが更に好ましい。
前記式（ａ４−５−１）及びに前記式（ａ４−５−２）おけるｍ及びｎはそれぞれ独立に、０〜４０の整数であることが好ましく、０〜２０の整数であることがより好ましい。
また、前記式（ａ４−５−１）及びに前記式（ａ４−５−２）おける−Ｃ3Ｈ6Ｏ−は、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ−又は−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ−であることが好ましい。
【００９４】
前記（ａ４−５）ポリエーテル構造を有する構成単位を形成するモノマーとしては、下記式（ａ４’−５−１）又は式（ａ４’−５−２）で表される化合物がより好ましく例示できる。
【００９５】
【化２８】
0005755585.tif 000029
【００９６】
式（ａ４’−５−１）及び式（ａ４’−５−２）におけるＲ11、Ｒ12、Ｘ2、ｍ及びｎは、前記式（ａ４’−５−１）及び式（ａ４’−５−２）におけるＲ11、Ｒ12、Ｘ2、ｍ及びｎとそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。
【００９７】
＜＜（ａ４−６）カルボキシ基を有する構成単位＞＞
成分Ａにおけるポリマーの少なくとも１種は、（ａ４−６）カルボキシ基を有する構成単位を有することが好ましい。
前記（ａ４−６）カルボキシ基を有する構成単位を形成するモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等が挙げられる。
これらの中でも、（メタ）アクリル酸が好ましく、メタクリル酸が特に好ましい。
また、（ａ４−６）カルボキシ基を有する構成単位としては、下記式（ａ４−６−１）又は式（ａ４−６−２）で表される構成単位であることが好ましく、下記式（ａ４−６−１）で表される構成単位であることが特に好ましい。
【００９８】
【化２９】
0005755585.tif 000030
【００９９】
＜＜（ａ４−７）式（ａ４−７）で表される構成単位＞＞
成分Ａにおけるポリマーの少なくとも１種は、（ａ４−７）式（ａ４−７）で表される構成単位を有することが好ましい。
【０１００】
【化３０】
0005755585.tif 000031
（式中、Ｒ13は水素原子又はメチル基を表す。）
【０１０１】
前記式（ａ４−７）におけるＲ13は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、水素原子であることが好ましい。
前記式（ａ４−７）で表される構成単位を形成するモノマーとしては、下記式（ａ４’−７）で表される化合物が好ましく例示できる。
【０１０２】
【化３１】
0005755585.tif 000032
【０１０３】
式（ａ４’−７）におけるＲ13は、前記式（ａ４−７）におけるＲ13と同義であり、好ましい態様も同様である。
式（ａ４−７）で表される構成単位は、前記式（ａ４’−７）で表される化合物を重合して形成することが好ましい。前記式（ａ４’−７）で表される化合物を重合して形成した場合、成分Ａにおいて式（ａ４−７）で表される構成単位は、式（ａ４−７）で表されるモノマー単位でもある。
【０１０４】
これら構成単位（ａ４）は、成分Ａにおける各ポリマー中に、１種単独で有していても、２種以上を有していてもよい。
【０１０５】
成分Ａは、その全体が活性光線の露光による現像が可能である限り、酸性基の導入が排除されるものではない。
本発明においては、成分Ａとして、アセタールの形以外で保護されたカルボキシル基又はフェノール性水酸基を有する構成単位と、保護されていないカルボキシル基又はフェノール性水酸基を有する構成単位を共に含むことが好ましい。
【０１０６】
＜＜その他の構成単位の好ましい態様＞＞
成分Ａが前記（２）を満たす成分である場合、（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を有するポリマーを構成する全モノマー単位中、構成単位（ａ４）を形成するモノマー単位の含有量は、０〜４０モル％が好ましく、３〜３０モル％がより好ましい。上記範囲であると、ＰＥＤ特性が優れる。
また、成分Ａが前記（２）を満たす成分である場合、（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマーを構成する全モノマー単位中、構成単位（ａ４）を形成するモノマー単位の含有量は、０〜４０モル％が好ましく、３〜３０モル％がより好ましい。上記範囲であると、ＰＥＤ特性が優れる。
成分Ａが前記（１）を満たす成分である場合、（ａ１）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位及び（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有するポリマーを構成する全モノマー単位中、構成単位（ａ４）を形成するモノマー単位の含有量は、感度の観点から、０〜４０モル％が好ましく、３〜３０モル％がより好ましい。上記範囲であると、ＰＥＤ特性が優れる。
【０１０７】
＜成分Ａにおけるポリマーの分子量＞
成分Ａにおけるポリマーの分子量は、ポリスチレン換算重量平均分子量で、１，０００〜２００，０００であることが好ましく、２，０００〜５０，０００であることがより好ましい。上記数値範囲内であると、感度とＩＴＯ適性とが良好である。
また、成分Ａにおけるポリマーの数平均分子量と重量平均分子量との比（分散度）は、１．０〜５．０が好ましく、１．５〜３．５がより好ましい。
【０１０８】
＜成分Ａにおけるポリマーの製造方法＞
また、成分Ａにおけるポリマーの合成法についても、様々な方法が知られているが、一例を挙げると、少なくとも前記構成単位（ａ１）及び前記構成単位（ａ２）をそれぞれ形成するために用いられるラジカル重合性単量体を含むラジカル重合性単量体混合物を有機溶剤中、ラジカル重合開始剤を用いて重合することにより合成することができる。また、いわゆる高分子反応で合成することもできる。
【０１０９】
本発明の感光性樹脂組成物は、金属の含有量が少ないことが好ましい。金属の含有量が少ないと、表示装置の誤作動を防止することができる。
具体的には、各成分、特に成分Ａの原材料にナトリウム、カリウム、鉄、ニッケルなどが、合成途中や、調液中に混入することがあるため、これらをできるだけ混入させないか、濾過などで除去することが好ましい。
中でも、本発明の感光性樹脂組成物におけるナトリウム原子の総含有量が、感光性樹脂組成物の全固形分中１ｐｐｍ以下であることが好ましく、５０ｐｐｂ以下であることがより好ましい。
感光性樹脂組成物における金属の含有量の測定方法としては、特に制限はないが、原子吸光法により測定する方法が好ましく挙げられる。
また、同様の理由で、本発明の感光性樹脂組成物におけるハロゲン原子の含有量も少ないことが好ましい。
感光性樹脂組成物におけるハロゲン原子の含有量の測定方法としては、特に制限はないが、フラスコ燃焼法により測定する方法が好ましく挙げられる。
【０１１０】
本発明の感光性樹脂組成物中における成分Ａの含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、２０〜９９質量％であることが好ましく、４０〜９７質量％であることがより好ましく、６０〜９５質量％であることが更に好ましい。含有量がこの範囲であると、現像した際のパターン形成性が良好となる。なお、感光性樹脂組成物の固形分量とは、溶剤などの揮発性成分を除いた量を表す。
なお、本発明の感光性樹脂組成物中では、本発明の効果を妨げない範囲で成分Ａ以外の樹脂を併用してもよい。ただし、成分Ａ以外の樹脂の含有量は、成分Ａの含有量より少ない方が好ましい。
【０１１１】
（成分Ｂ）ｐＫａが３．０以下の酸を発生する光酸発生剤
本発明の感光性樹脂組成物は、（成分Ｂ）ｐＫａが３．０以下の酸を発生する光酸発生剤（以下、単に「光酸発生剤」ともいう。）を含有する。
本発明で使用される光酸発生剤としては、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００〜４５０ｎｍの活性光線に感応し、ｐＫａが３．０以下の酸を発生する化合物が好ましい。その化学構造は制限されるものではない。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、ｐＫａが３．０以下の酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。本発明で使用される光酸発生剤としては、ｐＫａが３．０以下の酸を発生する光酸発生剤であり、ｐＫａが２以下の酸を発生する光酸発生剤が好ましい。ｐＫａがこの範囲であると、構成単位（ａ１）における酸分解性基の脱保護反応を促進できる。
成分Ｂは、感度の観点から、オニウム塩化合物又はオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。これらの中でも、電気特性の観点で、オキシムスルネート化合物がより好ましい。
【０１１２】
光酸発生剤の例としては、トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、スルホニウム塩やヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、絶縁性の観点から、オキシムスルホネート化合物を用いることが好ましい。これら光酸発生剤は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、第四級アンモニウム塩類及びジアゾメタン誘導体の具体例としては、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落００８３〜００８８に記載の化合物が例示できる。
【０１１３】
オキシムスルホネート化合物、すなわち、オキシムスルホネート構造を有する化合物としては、下記式（Ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を有する化合物が好ましく例示できる。
【０１１４】
【化３２】
0005755585.tif 000033
（式（Ｂ１）中、Ｒ21は、アルキル基、アリール基、フッ化アルキル基、フッ化アルキル基を表し、波線部分は他の化学構造との結合位置を表す。）
【０１１５】
いずれの基も置換されてもよく、Ｒ21におけるアルキル基は直鎖状でも分岐状でも環状でもよい。許容される置換基は以下に説明する。
Ｒ21のアルキル基としては、炭素数１〜１０の、直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。Ｒ21のアルキル基は、炭素数６〜１１のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、又は、シクロアルキル基（７，７−ジメチル−２−オキソノルボルニル基などの有橋式脂環基を含む、好ましくはビシクロアルキル基等）で置換されてもよい。
Ｒ21のアリール基としては、炭素数６〜１１のアリール基が好ましく、フェニル基又はナフチル基がより好ましい。Ｒ21のアリール基は、低級アルキル基、アルコキシ基あるいはハロゲン原子で置換されてもよい。
【０１１６】
前記式（Ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を有する化合物は、下記式（Ｂ２）で表されるオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。
【０１１７】
【化３３】
0005755585.tif 000034
（式（Ｂ２）中、Ｒ42は、アルキル基、アリール基、フッ化アルキル基、フッ化アルキル基を表し、Ｘ3は、アルキル基、アルコキシ基、又は、ハロゲン原子を表し、ｍ４は、０〜３の整数を表し、ｍ４が２又は３であるとき、複数のＸ3は同一でも異なっていてもよい。）
【０１１８】
Ｘ3としてのアルキル基は、炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。
Ｘ3としてのアルコキシ基は、炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状アルコキシ基が好ましい。
Ｘ3としてのハロゲン原子は、塩素原子又はフッ素原子が好ましい。
ｍ４は、０又は１が好ましい。
前記式（Ｂ２）中、ｍ４が１であり、Ｘ3がメチル基であり、Ｘ3の置換位置がオルト位であり、Ｒ42が炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、７，７−ジメチル−２−オキソノルボルニルメチル基又はｐ−トルイル基である化合物が特に好ましい。
【０１１９】
また、前記式（Ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物は、下記式（Ｂ３）で表されるオキシムスルホネート化合物であることも好ましい。
【０１２０】
【化３４】
0005755585.tif 000035
（式（Ｂ３）中、Ｒ43は式（Ｂ２）におけるＲ42と同義であり、Ｘ5は、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を表し、ｎ４は０〜５の整数を表す。）
【０１２１】
前記式（Ｂ３）におけるＲ43としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ−ｎ−プロピル基、パーフルオロ−ｎ−ブチル基、ｐ−トリル基、４−クロロフェニル基又はペンタフルオロフェニル基が好ましく、ｎ−オクチル基が特に好ましい。
Ｘ5としては、炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基がより好ましい。
ｎ４としては、０〜２が好ましく、０〜１が特に好ましい。
【０１２２】
前記式（Ｂ３）で表される化合物の具体例としては、α−（メチルスルホニルオキシイミノ）ベンジルシアニド、α−（エチルスルホニルオキシイミノ）ベンジルシアニド、α−（ｎ−プロピルスルホニルオキシイミノ）ベンジルシアニド、α−（ｎ−ブチルスルホニルオキシイミノ）ベンジルシアニド、α−（４−トルエンスルホニルオキシイミノ）ベンジルシアニド、α−〔（メチルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリル、α−〔（エチルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリル、α−〔（ｎ−プロピルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリル、α−〔（ｎ−ブチルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリル、α−〔（４−トルエンスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリルを挙げることができる。
【０１２３】
好ましいオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記化合物（i）〜（viii）等が挙げられ、１種単独で使用、又は、２種類以上を併用することができる。化合物（i）〜（viii）は、市販品として、入手することができる。また、他の種類の光酸発生剤と組み合わせて使用することもできる。
【０１２４】
【化３５】
0005755585.tif 000036
【０１２５】
前記前記式（Ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物としては、下記式（ＯＳ−１）で表される化合物であることも好ましい。
【０１２６】
【化３６】
0005755585.tif 000037
【０１２７】
前記式（ＯＳ−１）中、Ｒ101は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、又は、ヘテロアリール基を表す。Ｒ102は、アルキル基、又は、アリール基を表す。
Ｘ101は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ105−、−ＣＨ2−、−ＣＲ106Ｈ−、又は、−ＣＲ105Ｒ107−を表し、Ｒ105〜Ｒ107はそれぞれ独立に、アルキル基、又は、アリール基を表す。
Ｒ121〜Ｒ124はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、又は、アリール基を表す。Ｒ121〜Ｒ124のうち２つは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。
Ｒ121〜Ｒ124としては、水素原子、ハロゲン原子、及び、アルキル基が好ましく、また、Ｒ121〜Ｒ124のうち少なくとも２つが互いに結合してアリール基を形成する態様もまた、好ましく挙げられる。中でも、Ｒ121〜Ｒ124がいずれも水素原子である態様が感度の観点から好ましい。
既述の官能基は、いずれも、更に置換基を有していてもよい。
【０１２８】
本発明では、前記式（Ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物としては、下記式（ＯＳ−３）、下記式（ＯＳ−４）又は下記式（ＯＳ−５）で表されるオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。
【０１２９】
【化３７】
0005755585.tif 000038
（式（ＯＳ−３）〜式（ＯＳ−５）中、Ｒ22、Ｒ25及びＲ28はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ23、Ｒ26及びＲ29はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、Ｒ24、Ｒ27及びＲ30はそれぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基又はアルコキシスルホニル基を表し、Ｘ6〜Ｘ8はそれぞれ独立に酸素原子又は硫黄原子を表し、ｎ1〜ｎ3はそれぞれ独立に１又は２を表し、ｍ1〜ｍ3はそれぞれ独立に０〜６の整数を表す。）
【０１３０】
前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ22、Ｒ25及びＲ28におけるアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。
前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ22、Ｒ25及びＲ28におけるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数１〜３０のアルキル基であることが好ましい。
【０１３１】
Ｒ22、Ｒ25及びＲ28におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基が好ましい。
Ｒ22、Ｒ25及びＲ28におけるアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。
【０１３２】
また、前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ22、Ｒ25及びＲ28におけるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数６〜３０のアリール基が好ましい。
【０１３３】
Ｒ22、Ｒ25及びＲ28におけるアリール基としては、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｐ−フェノキシフェニル基が好ましい。
Ｒ22、Ｒ25及びＲ28におけるアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基が挙げられる。
【０１３４】
また、前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ22、Ｒ25及びＲ28におけるヘテロアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数４〜３０のヘテロアリール基が好ましい。
【０１３５】
前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ22、Ｒ25及びＲ28におけるヘテロアリール基は、少なくとも１つの環が複素芳香環であればよく、例えば、複素芳香環とベンゼン環とが縮環していてもよい。
Ｒ22、Ｒ25及びＲ28におけるヘテロアリール基としては、置換基を有していてもよい、チオフェン環、ピロール環、チアゾール環、イミダゾール環、フラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾチアゾール環、及び、ベンゾイミダゾール環よりなる群から選ばれた環から１つの水素原子を除いた基が挙げられる。
Ｒ22、Ｒ25及びＲ28におけるヘテロアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基が挙げられる。
【０１３６】
前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ23、Ｒ26及びＲ29は、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましい。
前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、化合物中に２以上存在するＲ23、Ｒ26及びＲ29のうち、１つ又は２つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることが好ましく、１つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることがより好ましく、１つがアルキル基であり、かつ残りが水素原子であることが特に好ましい。
前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ23、Ｒ26及びＲ29におけるアルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよい。ここで、Ｒ23、Ｒ26及びＲ29におけるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基としては、前記Ｒ22、Ｒ25及びＲ28におけるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基と同様の基が例示できる。
【０１３７】
Ｒ23、Ｒ26及びＲ29におけるアルキル基としては、置換基を有してもよい総炭素数１〜１２のアルキル基であることが好ましく、置換基を有してもよい総炭素数１〜６のアルキル基であることがより好ましい。
Ｒ23、Ｒ26及びＲ29におけるアルキル基として、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、アリル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、メトキシメチル基、ベンジル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基が更に好ましく、メチル基が好ましい。
【０１３８】
Ｒ23、Ｒ26及びＲ29におけるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数６〜３０のアリール基であることが好ましい。
Ｒ23、Ｒ26及びＲ29におけるアリール基として具体的には、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｐ−フェノキシフェニル基が好ましい。
【０１３９】
Ｒ23、Ｒ26及びＲ29におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
これらの中でも、塩素原子、臭素原子が好ましい。
【０１４０】
前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｘ6〜Ｘ8はそれぞれ独立にＯ又はＳを表し、Ｏであることが好ましい。
前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）において、Ｘ6〜Ｘ8を環員として含む環は、５員環又は６員環である。
前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、ｎ1〜ｎ3はそれぞれ独立に１又は２を表し、Ｘ6〜Ｘ8がＯである場合、ｎ1〜ｎ3はそれぞれ独立に１であることが好ましく、また、Ｘ6〜Ｘ8がＳである場合、ｎ1〜ｎ3はそれぞれ独立に２であることが好ましい。
【０１４１】
前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ24、Ｒ27及びＲ30はそれぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基又はアルコキシスルホニル基を表す。その中でも、Ｒ24、Ｒ27及びＲ30はそれぞれ独立にアルキル基又はアルキルオキシ基であることが好ましい。
Ｒ24、Ｒ27及びＲ30におけるアルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基及びアルコキシスルホニル基は、置換基を有していてもよい。
前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ24、Ｒ27及びＲ30におけるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数１〜３０のアルキル基であることが好ましい。
【０１４２】
Ｒ24、Ｒ27及びＲ30におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基が好ましい。
Ｒ24、Ｒ27及びＲ30におけるアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。
【０１４３】
前記式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ24、Ｒ27及びＲ30におけるアルキルオキシ基としては、置換基を有してもよい総炭素数１〜３０のアルキルオキシ基であることが好ましい。
【０１４４】
本発明の感光性樹脂組成物において、（成分Ｂ）光酸発生剤は、感光性樹脂組成物中の成分Ａの総含有量１００質量部に対して、０．１〜１０質量部使用することが好ましく、０．５〜１０質量部使用することがより好ましい。２種以上を併用することもできる。
【０１４５】
本発明の感光性樹脂組成物は、活性光線に感応する光酸発生剤として１，２−キノンジアジド化合物を含んでいてもよい。１，２−キノンジアジド化合物は、逐次型光化学反応によりカルボキシル基を生成するが、その量子収率は必ず１以下である。また、１，２−キノンジアジド化合物が活性光線に感応し生成されるカルボキシル基のｐＫａは３．０を超える。
【０１４６】
（成分Ｃ）溶剤
本発明の感光性樹脂組成物は、（成分Ｃ）溶剤を含有する。本発明の感光性樹脂組成物は、必須成分である成分Ａ及び成分Ｂ、好ましい成分である後述の成分Ｄ〜成分Ｈ、更に後述の任意の成分を（成分Ｃ）溶剤に溶解した溶液として調製されることが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物に使用される（成分Ｃ）溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。
これら溶剤は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
本発明に用いることができる溶剤は、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類が好ましく、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類がより好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルが特に好ましい。
【０１４７】
また、成分Ｃとしては、沸点１３０℃以上１６０℃未満の溶剤、沸点１６０℃以上の溶剤、又は、これらの混合物であることが好ましく、沸点１３０℃以上１６０℃未満の溶剤、沸点１６０℃以上２００℃以下の溶剤、又は、これらの混合物であることがより好ましく、沸点１３０℃以上１６０℃未満の溶剤と沸点１６０℃以上２００℃以下の溶剤との混合物であることが更に好ましい。
沸点１３０℃以上１６０℃未満の溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点１４６℃）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（沸点１５８℃）、プロピレングリコールメチル−ｎ−ブチルエーテル（沸点１５５℃）、プロピレングリコールメチル−ｎ−プロピルエーテル（沸点１３１℃）が例示できる。
沸点１６０℃以上の溶剤としては、３−エトキシプロピオン酸エチル（沸点１７０℃）、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（沸点１７６℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート（沸点１６０℃）、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート（沸点２１３℃）、３−メトキシブチルエーテルアセテート（沸点１７１℃）、ジエチレングリコールジエチエルエーテル（沸点１８９℃）、ジエチレングリコールジメチルエーテル（沸点１６２℃）、プロピレングリコールジアセテート（沸点１９０℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（沸点２２０℃）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル（沸点１７５℃）、１，３−ブチレングリコールジアセテート（沸点２３２℃）が例示できる。
【０１４８】
本発明の感光性樹脂組成物における（成分Ｃ）溶剤の含有量は、感光性樹脂組成物中の成分Ａの総含有量１００質量部当たり、５０〜３，０００質量部であることが好ましく、１００〜２，０００質量部であることがより好ましく、１５０〜１，５００質量部であることが更に好ましい。
【０１４９】
＜その他の成分＞
本発明のポジ型感光性樹脂組成物には、成分Ａ、成分Ｂ及び成分Ｃ以外に、必要に応じて、（成分Ｄ）増感剤、（成分Ｅ）架橋剤、（成分Ｆ）密着改良剤、（成分Ｇ）塩基性化合物、（成分Ｈ）界面活性剤を好ましく加えることができる。
更に本発明のポジ型感光性樹脂組成物には、可塑剤、熱ラジカル発生剤、酸化防止剤、熱酸発生剤、紫外線吸収剤、増粘剤、現像促進剤、及び、有機又は無機の沈殿防止剤などの公知の添加剤を加えることができる。
【０１５０】
（成分Ｄ）増感剤
本発明の感光性樹脂組成物は、（成分Ｂ）光酸発生剤との組み合わせにおいて、その分解を促進させるために、増感剤を含有することが好ましい。
増感剤は、活性光線又は放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感剤は、光酸発生剤と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じる。これにより光酸発生剤は化学変化を起こして分解し、酸を生成する。好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ３５０ｎｍから４５０ｎｍの波長域のいずれかに吸収波長を有する化合物を挙げることができる。
【０１５１】
多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、アントラセン、９，１０−ジブトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン，３，７−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジプロピルオキシアントラセン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、キサントン類（例えば、キサントン、チオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン）、シアニン類（例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、ローダシアニン類、オキソノール類、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アクリドン類（例えば、アクリドン、１０−ブチル−２−クロロアクリドン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、スチリル類、ベーススチリル類（例えば、２−［２−［４−（ジメチルアミノ）フェニル］エテニル］ベンゾオキサゾール）、クマリン類（例えば、７−ジエチルアミノ４−メチルクマリン、７−ヒドロキシ４−メチルクマリン、２，３，６，７−テトラヒドロ−９−メチル−１Ｈ，５Ｈ，１１Ｈ［１］ベンゾピラノ［６，７，８−ｉｊ］キノリジン−１１−ノン）。
これら増感剤の中でも、多核芳香族類、アクリドン類、スチリル類、ベーススチリル類、クマリン類が好ましく、多核芳香族類がより好ましい。多核芳香族類の中でもアントラセン誘導体が最も好ましい。
【０１５２】
本発明の感光性樹脂組成物中における増感剤の添加量は、感光性樹脂組成物の光酸発生剤１００質量部に対し、０〜１，０００質量部であることが好ましく、１０〜５００質量部であることがより好ましく、５０〜２００質量部であることが更に好ましい。
また、増感剤は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
【０１５３】
（成分Ｅ）架橋剤
本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じ、架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤を添加することにより、本発明の感光性樹脂組成物により得られる硬化膜をより強固な膜とすることができる。
架橋剤としては、熱等によって架橋反応が起こるものであれば制限はない。ただし、（成分Ｅ）架橋剤は成分Ａ以外のものである。例えば、以下に述べる分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、アルコキシメチル基含有架橋剤、又は、少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を添加することができる。
これらの架橋剤の中で、分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、及び／又は、エポキシ樹脂が好ましく、エポキシ樹脂が特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物中における架橋剤の添加量は、感光性樹脂組成物の全固形分１００質量部に対し、０．０１〜５０質量部であることが好ましく、０．５〜３０質量部であることがより好ましく、２〜１０質量部であることが更に好ましい。この範囲で添加することにより、機械的強度及び耐溶剤性に優れた硬化膜が得られる。架橋剤は複数を併用することもでき、その場合は架橋剤を全て合算して含有量を計算する。
【０１５４】
＜分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物＞
分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【０１５５】
これらは市販品として入手できる。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ８２７、ＪＥＲ８２８、ＪＥＲ８３４、ＪＥＲ１００１、ＪＥＲ１００２、ＪＥＲ１００３、ＪＥＲ１０５５、ＪＥＲ１００７、ＪＥＲ１００９、ＪＥＲ１０１０（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ８０６、ＪＥＲ８０７、ＪＥＲ４００４、ＪＥＲ４００５、ＪＥＲ４００７、ＪＥＲ４０１０（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＬＣＥ−２１、ＲＥ−６０２Ｓ（以上、日本化薬（株）製）等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ１５２、ＪＥＲ１５４、ＪＥＲ１５７Ｓ７０、ＪＥＲ１５７Ｓ６５（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７７５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６９５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ−１０２０（以上、日本化薬（株）製）等であり、脂肪族エポキシ樹脂としては、ＡＤＥＫＡ  ＲＥＳＩＮ  ＥＰ−４０８０Ｓ、同ＥＰ−４０８５Ｓ、同ＥＰ−４０８８Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ  ＰＢ  ３６００、同ＰＢ  ４７００（以上、ダイセル化学工業（株）製）等である。
【０１５６】
その他にも、ＡＤＥＫＡ  ＲＥＳＩＮ  ＥＰ−４０００Ｓ、同ＥＰ−４００３Ｓ、同ＥＰ−４０１０Ｓ、同ＥＰ−４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ−２０００、ＮＣ−３０００、ＮＣ−７３００、ＸＤ−１０００、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、デナコールＥＸ−６１１、ＥＸ−６１２、ＥＸ−６１４、ＥＸ−６１４Ｂ、ＥＸ−６２２、ＥＸ−５１２、ＥＸ−５２１、ＥＸ−４１１、ＥＸ−４２１、ＥＸ−３１３、ＥＸ−３１４、ＥＸ−３２１、ＥＸ−２１１、ＥＸ−２１２、ＥＸ−８１０、ＥＸ−８１１、ＥＸ−８５０、ＥＸ−８５１、ＥＸ−８２１、ＥＸ−８３０、ＥＸ−８３２、ＥＸ−８４１、ＥＸ−９１１、ＥＸ−９４１、ＥＸ−９２０、ＥＸ−９３１、ＥＸ−２１２Ｌ、ＥＸ−２１４Ｌ、ＥＸ−２１６Ｌ、ＥＸ−３２１Ｌ、ＥＸ−８５０Ｌ、ＤＬＣ−２０１、ＤＬＣ−２０３、ＤＬＣ−２０４、ＤＬＣ−２０５、ＤＬＣ−２０６、ＤＬＣ−３０１、ＤＬＣ−４０２（以上、ナガセケムテックス（株）製）、ＹＨ−３００、ＹＨ−３０１、ＹＨ−３０２、ＹＨ−３１５、ＹＨ−３２４、ＹＨ−３２５（以上、新日鐵化学（株）製）などが挙げられる。
これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０１５７】
これらの中でも、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂及び脂肪族エポキシ樹脂が好ましく挙げられる。
【０１５８】
分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）を用いることができる。
【０１５９】
＜アルコキシメチル基含有架橋剤＞
アルコキシメチル基含有架橋剤としては、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル及びアルコキシメチル化尿素等が好ましい。これらは、それぞれメチロール化メラミン、メチロール化ベンゾグアナミン、メチロール化グリコールウリル、又は、メチロール化尿素のメチロール基をアルコキシメチル基に変換することにより得られる。このアルコキシメチル基の種類については特に限定されるものではなく、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等を挙げることができるが、アウトガスの発生量の観点から、メトキシメチル基が特に好ましい。
【０１６０】
これらのアルコキシメチル基含有架橋剤のうち、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリルが好ましい架橋剤として挙げられ、透明性の観点から、アルコキシメチル化グリコールウリルが特に好ましい。
【０１６１】
これらアルコキシメチル基含有架橋剤は、市販品として入手可能であり、例えば、サイメル３００、３０１、３０３、３７０、３２５、３２７、７０１、２６６、２６７、２３８、１１４１、２７２、２０２、１１５６、１１５８、１１２３、１１７０、１１７４、ＵＦＲ６５、３００（以上、三井サイアナミッド（株）製）、ニカラックＭＸ−７５０、−０３２、−７０６、−７０８、−４０、−３１、−２７０、−２８０、−２９０、ニカラックＭＳ−１１、ニカラックＭＷ−３０ＨＭ、−１００ＬＭ、−３９０、（以上、（株）三和ケミカル製）などを好ましく使用することができる。
【０１６２】
−少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物−
少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アクリレート、３官能以上の（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリレート化合物を好適に用いることができる。
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられる。
２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチレングリコール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、１種単独又は２種以上を組み合わせて用いられる。
少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を加える場合には、後述の熱ラジカル発生剤を添加することが好ましい。
【０１６３】
（成分Ｆ）密着改良剤
本発明の感光性樹脂組成物は、（成分Ｆ）密着改良剤を含有してもよい。
本発明の感光性樹脂組成物に用いることができる（成分Ｆ）密着改良剤は、基材となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物である。具体的には、シランカップリング剤、チオール系化合物等が挙げられる。本発明で使用される（成分Ｆ）密着改良剤としてのシランカップリング剤は、界面の改質を目的とするものであり、特に限定することなく、公知のものを使用することができる。
好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシランが挙げられる。これらのうち、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランやγ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランがより好ましく、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランが更に好ましく、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランがより更に好ましい。これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。これらは基板との密着性の向上に有効であると共に、基板とのテーパー角の調整にも有効である。
本発明の感光性樹脂組成物における（成分Ｆ）密着改良剤の含有量は、感光性樹脂組成物中の全固形分１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましい。
【０１６４】
（成分Ｇ）塩基性化合物
本発明の感光性樹脂組成物は、（成分Ｇ）塩基性化合物を含有することが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物に用いることができる（成分Ｇ）塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものの中から任意に選択して使用することができる。例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、第四級アンモニウムヒドロキシド、カルボン酸の第四級アンモニウム塩等が挙げられる。
【０１６５】
脂肪族アミンとしては、例えば、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミンなどが挙げられる。
芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ジフェニルアミンなどが挙げられる。
複素環式アミンとしては、例えば、ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、Ｎ−メチル−４−フェニルピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、４−メチルイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール、２，４，５−トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、８−オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、４−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．３．０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。
第四級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられる。
カルボン酸の第四級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムベンゾエートなどが挙げられる。
本発明に用いることができる塩基性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよいが、２種以上を併用することが好ましく、２種を併用することがより好ましく、複素環式アミンを２種併用することが更に好ましい。
【０１６６】
本発明の感光性樹脂組成物における（成分Ｇ）塩基性化合物の含有量は、感度とＰＥＤ特性との両立の観点から、感光性樹脂組成物中の全固形分１００質量部に対して、０．０００１〜１質量部であることが好ましく、０．００１〜０．３質量部であることがより好ましい。
【０１６７】
（成分Ｈ）界面活性剤
本発明の感光性樹脂組成物は、（成分Ｈ）界面活性剤を含有してもよい。
本発明の感光性樹脂組成物に用いることができる（成分Ｈ）界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。
ノニオン系界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類、シリコーン系、フッ素系界面活性剤を挙げることができる。また、以下商品名で、ＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄社化学（株）製）、エフトップ（三菱マテリアル電子化成（株）製）、メガファック（ＤＩＣ（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ（ＯＭＮＯＶＡ社製）、ＳＨ−８４００（東レ・ダウコーニング（株）製）、フタージェント（（株）ネオス製）等の各シリーズを挙げることができる。
【０１６８】
これらの界面活性剤は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
本発明の感光性樹脂組成物における（成分Ｈ）界面活性剤の添加量は、感光性樹脂組成物中の全固形分１００質量部に対して、１０質量部以下であることが好ましく、０．００１〜５０質量部であることがより好ましく、０．０１〜１０質量部であることが更に好ましい。
【０１６９】
〔酸化防止剤〕
本発明の感光性樹脂組成物は、酸化防止剤を含有してもよい。
酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減でき、また、耐熱透明性に優れるという利点がある。
このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤が好ましい。これらは１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１７０】
フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカスタブＡＯ−２０、アデカスタブＡＯ−３０、アデカスタブＡＯ−４０、アデカスタブＡＯ−５０、アデカスタブＡＯ−６０、アデカスタブＡＯ−７０、アデカスタブＡＯ−８０、アデカスタブＡＯ−３３０、住友化学（株）製のＳＵＭＩＬＩＺＥＲ  ＧＭ、ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ  ＧＳ、ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ  ＭＤＰ−Ｓ、ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ  ＢＢＭ−Ｓ、ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ  ＷＸ−Ｒ、ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ  ＧＡ−８０、チバジャパン（株）製のＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５、ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６、ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８、ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５、ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０、ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６、ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５ＷＬ、ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ、ＩＲＧＡＮＯＸ２４５、ＩＲＧＡＮＯＸ２５９、ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４、ＩＲＧＡＮＯＸ５６５、ＩＲＧＡＭＯＤ２９５、（株）エーピーアイコーポレーション製のヨシノックスＢＨＴ、ヨシノックスＢＢ、ヨシノックス２２４６Ｇ、ヨシノックス４２５、ヨシノックス２５０、ヨシノックス９３０、ヨシノックスＳＳ、ヨシノックスＴＴ、ヨシノックス９１７、ヨシノックス３１４等が挙げられる。
中でも、アデカスタブＡＯ−６０、アデカスタブＡＯ−８０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５、ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８（以上、チバジャパン（株）製）が好ましい。
【０１７１】
酸化防止剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．２〜５質量％であることがより好ましく、０．５〜４質量％であることが特に好ましい。この範囲にすることで、形成された膜の十分な透明性が得られ、且つ、パターン形成時の感度も良好となる。
また、酸化防止剤以外の添加剤として、“高分子添加剤の新展開（（株）日刊工業新聞社）”に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の感光性樹脂組成物に添加してもよい。
【０１７２】
〔熱ラジカル発生剤〕
本発明の感光性樹脂組成物は、熱ラジカル発生剤を含んでいてもよく、前述の少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物のようなエチレン性不飽和化合物を含有する場合、熱ラジカル発生剤を含有することが好ましい。
本発明における熱ラジカル発生剤としては、公知の熱ラジカル発生剤を用いることができる。
熱ラジカル発生剤は、熱のエネルギーによってラジカルを発生し、重合性化合物の重合反応を開始又は促進させる化合物である。熱ラジカル発生剤を添加することによって、得られた硬化膜がより強靭になり、耐熱性、耐溶剤性が向上する場合がある。
好ましい熱ラジカル発生剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物、ビベンジル化合物等が挙げられる。
熱ラジカル発生剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用することも可能である。
本発明の感光性樹脂組成物における熱ラジカル発生剤の含有量は、膜物性向上の観点から、成分Ａの総含有量を１００質量部としたとき、０．０１〜５０質量部が好ましく、０．１〜２０質量部がより好ましく、０．５〜１０質量部であることが最も好ましい。
【０１７３】
〔熱酸発生剤〕
本発明では、低温硬化での膜物性等を改良するために、熱酸発生剤を使用してもよい。
本発明に用いることができる熱酸発生剤とは、熱により酸が発生する化合物であり、熱分解点が、好ましくは１３０℃〜２５０℃、より好ましくは１５０℃〜２２０℃の範囲の化合物であり、例えば、加熱によりスルホン酸、カルボン酸、ジスルホニルイミドなどの低求核性の酸を発生する化合物である。
熱酸発生剤により発生する酸としては、ｐＫａが２以下と強い、スルホン酸や、電子求引基の置換したアルキル又はアリールカルボン酸、同じく電子求引性基の置換したジスルホニルイミドなどが好ましい。電子求引性基としては、フッ素原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基を挙げることができる。
【０１７４】
また、本発明においては、露光光の照射によって実質的に酸を発生せず、熱によって酸を発生するスルホン酸エステルを使用することも好ましい。
露光光の照射によって実質的に酸を発生していないことは、化合物の露光前後での赤外吸収（ＩＲ）スペクトルや核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクトル測定により、スペクトルに変化がないことで判定することができる。
スルホン酸エステルの分子量は、２３０〜１，０００であることが好ましく、２３０〜８００であることがより好ましい。
本発明に用いることができるスルホン酸エステルは、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いてもよい。スルホン酸エステルは、例えば、塩基性条件下、スルホニルクロリド又はスルホン酸無水物を対応する多価アルコールと反応させることにより合成することができる。
熱酸発生剤の感光性樹脂組成物への含有量は、成分Ａの総含有量を１００質量部としたとき、０．５〜２０質量部が好ましく、１〜１５質量部がより好ましい。
【０１７５】
〔酸増殖剤〕
本発明の感光性樹脂組成物は、感度向上を目的に、酸増殖剤を用いることができる。
本発明に用いることができる酸増殖剤は、酸触媒反応によって更に酸を発生して反応系内の酸濃度を上昇させることができる化合物であり、酸が存在しない状態では安定に存在する化合物である。このような化合物は、１回の反応で１つ以上の酸が増えるため、反応の進行に伴って加速的に反応が進むが、発生した酸自体が自己分解を誘起するため、ここで発生する酸の強度は、酸解離定数、ｐＫａとして３以下であることが好ましく、２以下であることが特に好ましい。
酸増殖剤の具体例としては、特開平１０−１５０８号公報の段落０２０３〜０２２３、特開平１０−２８２６４２号公報の段落００１６〜００５５、及び、特表平９−５１２４９８号公報第３９頁１２行目〜第４７頁２行目に記載の化合物を挙げることができる。
具体的には、下記の化合物等を挙げることができる。
【０１７６】
【化３８】
0005755585.tif 000039
【０１７７】
本発明で用いることができる酸増殖剤としては、酸発生剤から発生した酸によって分解し、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、フェニルホスホン酸などのｐＫａが３以下の酸を発生させる化合物を挙げることができる。
酸増殖剤の感光性樹脂組成物への含有量は、光酸発生剤１００質量部に対して、１０〜１，０００質量部とすることが、露光部と未露光部との溶解コントラストの観点から好ましく、２０〜５００質量部とすることが更に好ましい。
【０１７８】
〔現像促進剤〕
本発明の感光性樹脂組成物は、現像促進剤を含有することができる。
現像促進剤としては、現像促進効果のある任意の化合物を使用できるが、カルボキシル基、フェノール性水酸基、及びアルキレンオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種の構造を有する化合物であることが好ましく、カルボキシル基又はフェノール性水酸基を有する化合物がより好ましく、フェノール性水酸基を有する化合物が最も好ましい。
また、現像促進剤の分子量としては、１００〜２，０００が好ましく、１００〜１，０００が更に好ましく、１００〜８００が特に好ましい。
【０１７９】
現像促進剤の例として、アルキレンオキシ基を有するものとしては、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールのモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールのジメチルエーテル、ポリエチレングリコールグリセリルエステル、ポリプロピレングリコールグリセリルエステル、ポリプロピレングリコールジグリセリルエステル、ポリブチレングリコール、ポリエチレングリコール−ビスフェノールＡエーテル、ポリプロピレングリコール−ビスフェノールＡエーテル、ポリオキシエチレンのアルキルエーテル、ポリオキシエチレンのアルキルエステル、及び特開平９−２２２７２４号公報に記載の化合物等を挙げることができる。
カルボキシル基を有するものとしては、マレイン酸、フマル酸、アセチレンカルボン酸、１，４‐シクロヘキサンジカルボン酸、スベリン酸、アジピン酸、クエン酸、リンゴ酸などが挙げられる。この他、特開２０００−６６４０６号公報、特開平９−６００１号公報、特開平１０−２０５０１号公報、特開平１１−３３８１５０号公報等に記載の化合物を挙げることができる。
フェノール性水酸基を有するものとしては、特開２００５−３４６０２４号公報、特開平１０−１３３３６６号公報、特開平９−１９４４１５号公報、特開平９−２２２７２４号公報、特開平１１−１７１８１０号公報、特開２００７−１２１７６６号公報、特開平９−２９７３９６号公報、特開２００３−４３６７９号公報等に記載の化合物を挙げることができる。これらの中でも、ベンゼン環数が２〜１０個のフェノール化合物が好適であり、ベンゼン環数が２〜５個のフェノール化合物が更に好適である。特に好ましいものとしては、特開平１０−１３３３６６号公報に溶解促進剤として開示されているフェノール性化合物を挙げることができる。
【０１８０】
現像促進剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用することも可能である。
本発明の感光性樹脂組成物における現像促進剤の添加量は、感度と残膜率の観点から、成分Ａを１００質量部としたとき、０〜３０質量部が好ましく、０．１〜２０質量部がより好ましく、０．５〜１０質量部であることが最も好ましい。
【０１８１】
（硬化膜の製造方法）
次に、本発明の硬化膜の製造方法を説明する。
本発明の硬化膜の形成方法は、以下の（１）〜（５）の工程を含むことを特徴とする。
（１）本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程；
（２）塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程；
（３）溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程；
（４）露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程；
（５）現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程。
以下に各工程を順に説明する。
【０１８２】
（１）の塗布工程では、本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布して溶剤を含む湿潤膜とすることが好ましい。
（２）の溶剤除去工程では、塗布された上記の膜から、減圧（バキューム）及び／又は加熱により、溶剤を除去して基板上に乾燥塗膜を形成させることが好ましい。
【０１８３】
（３）の露光工程では、得られた塗膜に波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の活性光線を照射することが好ましい。この工程では、（成分Ｂ）光酸発生剤が分解し酸が発生する。発生した酸の触媒作用により、成分Ａ中に含まれる酸分解性基が加水分解されて、カルボキシル基又はフェノール性水酸基等の酸基が生成する。
【０１８４】
酸触媒の生成した領域において、上記の加水分解反応を加速させるために、露光後加熱処理：Ｐｏｓｔ  Ｅｘｐｏｓｕｒｅ  Ｂａｋｅ（以下、「ＰＥＢ」ともいう。）を行う。ＰＥＢにより、酸分解性基からのカルボキシル基又はフェノール性水酸基の生成を促進させることができる。ＰＥＢを行う場合の温度は、３０℃以上１３０℃以下が好ましく、４０℃以上１１０℃以下がより好ましく、５０℃以上１００℃以下が特に好ましい。
【０１８５】
本発明における構成単位（ａ１）中の酸分解性基は、酸分解の活性化エネルギーが低く、露光による酸発生剤由来の酸により容易に分解し、カルボキシル基又はフェノール性水酸基等の酸基を生じるため、必ずしもＰＥＢを行うことなく、現像によりポジ画像を形成することもできるが、本発明の硬化膜の製造方法では、本発明の感光性樹脂組成物を用いて（５）のポストベーク工程を行うことで、得られた硬化膜は熱フローを少なくすることができる。そのため、本発明の硬化膜の製造方法で得られた硬化膜は、例えばレジストとして基板に用いた場合に基板ごと本発明の硬化膜を加熱したとしても、パターンの解像性がほとんど悪化しない。なお、本明細書中、「熱フロー」とは、露光及び現像工程によって形成されたパターン硬化膜の断面形状が、その硬化膜を加熱（好ましくは１８０℃以上、より好ましくは２００℃〜２４０℃）したときに変形し、寸法、テーパー角などが劣化することをいう。
【０１８６】
（４）の現像工程では、遊離したカルボキシル基又はフェノール性水酸基等の酸基を有する共重合体を、アルカリ性現像液を用いて現像することが好ましい。アルカリ性現像液に溶解しやすいカルボキシル基又はフェノール性水酸基等の酸基を有する樹脂組成物を含む露光部領域を除去することにより、ポジ画像が形成する。
（５）のポストベーク工程において、得られたポジ画像を加熱することにより、構成単位（ａ１）中の酸分解性基を熱分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基等の酸基を生成させ、構成単位（ａ２）における架橋性基、架橋剤等と架橋させることにより、硬化膜を形成することができる。この加熱は、１５０℃以上の高温に加熱することが好ましく、１８０〜２５０℃に加熱することがより好ましく、２００〜２４０℃に加熱することが特に好ましい。加熱時間は、加熱温度などにより適宜設定できるが、１０〜１２０分の範囲内とすることが好ましい。
ポストベーク工程の前に活性光線、好ましくは紫外線を現像パターンに全面照射する工程を加えると、活性光線照射により発生する酸により架橋反応を促進することができる。
更に、本発明の感光性樹脂組成物より得られた硬化膜は、ドライエッチングレジストとして使用することもできる。
（５）のポストベーク工程により熱硬化して得られた硬化膜をドライエッチングレジストとして使用する場合、エッチング処理としてはアッシング、プラズマエッチング、オゾンエッチングなどのドライエッチング処理を行うことができる。
次に、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の製造方法を具体的に説明する。
【０１８７】
＜感光性樹脂組成物の調製方法＞
成分Ａ〜成分Ｃの必須成分を所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解して感光性樹脂組成物を調製する。例えば、成分Ａ及び成分Ｂを、それぞれ予め（成分Ｃ）溶剤に溶解させた溶液とした後、これらを所定の割合で混合して樹脂組成物を調製することもできる。以上のように調製した組成物溶液は、孔径０．２μｍのフィルター等を用いて濾過した後に、使用に供することもできる。
【０１８８】
＜塗布工程及び溶剤除去工程＞
本発明の感光性樹脂組成物を、所定の基板に塗布し、減圧及び／又は加熱（プリベーク）により溶剤を除去することにより、所望の乾燥塗膜を形成することができる。前記の基板としては、例えば液晶表示素子の製造においては、偏光板、更に必要に応じてブラックマトリックス層、カラーフィルター層を設け、更に透明導電回路層を設けたガラス板などが例示できる。感光性樹脂組成物を基板へ塗布する方法としては特に制限はないが、その中でも、本発明では基板へ感光性樹脂組成物を塗布することが好ましい。基板への塗布方法は特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、流延塗布法等の方法を用いることができる。中でもスリットコート法が大型基板に適するという観点で好ましい。大型基板で製造すると生産性が高く好ましい。ここで大型基板とは、各辺が１ｍ以上５ｍ以下の大きさの基板をいう。
【０１８９】
また、（２）溶剤除去工程の加熱条件は、未露光部における成分Ａ中の構成単位（ａ１）において酸分解性基が分解して、成分Ａをアルカリ現像液に可溶性としない範囲であり、各成分の種類や配合比によっても異なるが、好ましくは８０〜１３０℃で３０〜１２０秒間程度である。
【０１９０】
＜露光工程及び現像工程（パターン形成方法）＞
露光工程では、塗膜を設けた基板に所定のパターンを有するマスクを介して、活性光線を照射することが好ましい。露光工程の後、必要に応じて加熱処理（ＰＥＢ）を行った後、現像工程では、アルカリ性現像液を用いて露光部領域を除去して画像パターンを形成することが好ましい。
活性光線による露光には、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ＬＥＤ光源、エキシマレーザー発生装置などを用いることができ、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）などの波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。また、必要に応じて長波長カットフィルター、短波長カットフィルター、バンドパスフィルターのような分光フィルターを通して照射光を調整することもできる。
【０１９１】
現像工程で使用する現像液には、塩基性化合物が含まれることが好ましい。塩基性化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類；重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩類；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類；ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの水溶液を使用することができる。また、上記アルカリ類の水溶液にメタノールやエタノールなどの水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。
【０１９２】
現像液のｐＨは、好ましくは１０．０〜１４．０である。
現像時間は、好ましくは３０〜１８０秒間であり、また、現像の手法は液盛り法、ディップ法等の何れでもよい。現像後は、流水洗浄を３０〜９０秒間行い、所望のパターンを形成させることができる。
現像の後に、リンス工程を行うこともできる。リンス工程では、現像後の基板を純水などで洗うことで、付着している現像液除去、現像残渣除去を行う。リンス方法は公知の方法を用いることができる。例えばシャワーリンスやディップリンスなどを挙げることができる。
【０１９３】
＜ポストベーク工程（架橋工程）＞
現像により得られた未露光領域に対応するパターンについて、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて、所定の温度、例えば１８０〜２５０℃で所定の時間、例えばホットプレート上なら５〜９０分間、オーブンならば３０〜１２０分間、加熱処理をすることにより、架橋反応を進行させることにより、耐熱性、硬度等に優れた保護膜や層間絶縁膜を形成することができる。また、加熱処理を行う際は窒素雰囲気下で行うことにより透明性を向上させることもできる。
ポストベークの前に、比較的低温でベークを行い、更にその後にポストベークすることもできる（ミドルベーク工程の追加）。ミドルベークを行う場合は、９０〜１５０℃で１〜６０分加熱した後に、２００℃以上の高温でポストベークすることが好ましい。また、ミドルベーク、ポストベークを３段階以上の多段階に分けて加熱することもできる。このようなミドルベーク、ポストベークの工夫により、パターンのテーパー角を調整することができる。これらの加熱は、ホットプレート、オーブン、赤外線ヒーターなど、公知の加熱方法を使用することができる。
なお、加熱処理に先立ち、パターンを形成した基板に活性光線により再露光した後、ポストベークすること（再露光／ポストベーク）により未露光部分に存在する成分Ｂから酸を発生させ、架橋工程を促進する触媒として機能させることが好ましい。
すなわち、本発明の硬化膜の製造方法は、現像工程とポストベーク工程との間に、活性光線により再露光する再露光工程を含むことが好ましい。再露光工程における露光は、前記露光工程と同様の手段により行えばよいが、前記再露光工程では、基板の本発明の感光性樹脂組成物により膜が形成された側に対し、全面露光を行うことが好ましい。
再露光工程の好ましい露光量としては、１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【０１９４】
（硬化膜）
本発明の硬化膜は、本発明の感光性樹脂組成物を硬化して得られた硬化膜である。また、本発明の硬化膜は、本発明の硬化膜の製造方法により製造されることが好ましい。
本発明の硬化膜は、層間絶縁膜として好適に用いることができる。また、本発明の硬化膜は、本発明の硬化膜の形成方法により得られた硬化膜であることが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物により、絶縁性に優れ、高温でベークされた場合においても高い透明性を有する層間絶縁膜が得られる。本発明の感光性樹脂組成物を用いてなる層間絶縁膜は、高い透明性を有し、硬化膜物性に優れるため、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置の用途に有用である。
【０１９５】
（有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置）
本発明の有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置は、本発明の硬化膜を具備することを特徴とする。
本発明の有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置としては、前記本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。
例えば、本発明の有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置が具備するＴＦＴ（Ｔｈｉｎ−Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）の具体例としては、アモルファスシリコン−ＴＦＴ、低温ポリシリコンーＴＦＴ、酸化物半導体ＴＦＴ等が挙げられる。本発明の硬化膜は電気特性に優れるため、これらのＴＦＴに組み合わせて好ましく用いることができる。
また、本発明の液晶表示装置が取りうる液晶表示装置の方式としてはＴＮ（ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）方式、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｓ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）方式などが挙げられる。
また、本発明の液晶表示装置が取りうる液晶配向膜の具体的な配向方式としては、ラビング配向法、光配向法などが挙げられる。また、特開２００３−１４９６４７や特開２０１１−２５７７３４に記載のＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）技術によってポリマー配向支持されていてもよい。
また、本発明の感光性樹脂組成物及び本発明の硬化膜は、前記用途に限定されず種々の用途に使用することができる。例えば、平坦化膜や層間絶縁膜以外にも、カラーフィルターの保護膜や、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーや固体撮像素子においてカラーフィルター上に設けられるマイクロレンズ等に好適に用いることができる。
【０１９６】
図１は、有機ＥＬ表示装置の一例の構成概念図を示す。ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜４を有している。
ガラス基板６上にボトムゲート型のＴＦＴ１を形成し、このＴＦＴ１を覆う状態でＳｉ3Ｎ4から成る絶縁膜３が形成されている。絶縁膜３に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してＴＦＴ１に接続される配線２（高さ１．０μｍ）が絶縁膜３上に形成されている。配線２は、ＴＦＴ１間又は、後の工程で形成される有機ＥＬ素子とＴＦＴ１とを接続するためのものである。
更に、配線２の形成による凹凸を平坦化するために、配線２による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜３上に平坦化層４が形成されている。
平坦化膜４上には、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子が形成されている。すなわち、平坦化膜４上に、ＩＴＯからなる第一電極５が、コンタクトホール７を介して配線２に接続させて形成されている。また、第一電極５は、有機ＥＬ素子の陽極に相当する。
第一電極５の周縁を覆う形状の絶縁膜８が形成されており、この絶縁膜８を設けることによって、第一電極５とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。
更に、図１には図示していないが、所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設け、次いで、基板上方の全面にＡｌから成る第二電極を形成し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止し、各有機ＥＬ素子にこれを駆動するためのＴＦＴ１が接続されてなるアクティブマトリックス型の有機ＥＬ表示装置が得られる。
【０１９７】
図２は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置１０の一例を示す概念的断面図である。このカラー液晶表示装置１０は、背面にバックライトユニット１２を有する液晶パネルであって、液晶パネルは、偏光フィルムが貼り付けられた２枚のガラス基板１４，１５の間に配置されたすべての画素に対応するＴＦＴ１６の素子が配置されている。ガラス基板上に形成された各素子には、硬化膜１７中に形成されたコンタクトホール１８を通して、画素電極を形成するＩＴＯ透明電極１９が配線されている。ＩＴＯ透明電極１９の上には、液晶２０の層とブラックマトリックスを配置したＲＧＢカラーフィルター２２が設けられている。
【実施例】
【０１９８】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
【０１９９】
以下の合成例において、以下の符号はそれぞれ以下の化合物を表す。
Ｖ−６５：２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）（和光純薬工業（株）製）
Ｖ−６０１：ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）（和光純薬工業（株）製）
ＭＡＥＶＥ：メタクリル酸１−エトキシエチル
ＭＡＴＨＦ：メタクリル酸テトラヒドロフラン−２−イル
ＭＡＴＨＰ：メタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル
ＣＨＯＥＭＡ：メタクリル酸１−（シクロヘキシルオキシ）エチル
ＳｔＯＥＶＥ:４−（１−エトキシエチルオキシ）スチレン
ＳｔＣＯＯＥＶＥ：スチレンカルボン酸の１−エトキシエチルエーテル
ＮＢＭＡ：ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド
ＧＭＡ：グリシジルメタクリレート
ＯＸＥ：メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル（大阪有機化学工業（株）製）
ＡＣＭＯ：アクリロイルモルホリン
ＭＡＣＭＯ：メタアクリロイルモルホリン
ＴＨＦＦＭＡ：テトラヒドロフルフリルメタクリレート
Ｓｔ：スチレン
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
ＭＡＡ：メタクリル酸
ＤＣＰＭ：ジシクロペンタニルメタクリレート
ＭＡＡ−ＧＭＡ：下記構造
【０２００】
【化３９】
0005755585.tif 000040
【０２０１】
ＨＥＭＡ：メタクリル酸２−ヒドロキシエチル（和光純薬工業（株）製）
ＥＤＭ：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル（東邦化学工業（株）製、ハイソルブＥＤＭ）
【０２０２】
＜重合体Ａ−１の合成＞
アクリル系ポリマー（I）である重合体Ａ−１を以下のごとく合成した。
エチルビニルエーテル１４４．２部（２モル当量）にフェノチアジン０．５部を添加し、反応系中を１０℃以下に冷却しながらメタクリル酸８６．１部（１モル当量）を滴下後、室温（２５℃）で４時間撹拌した。ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム５．０部を添加後、室温で２時間撹拌し、一夜室温放置した。反応液に炭酸水素ナトリウム５部及び硫酸ナトリウム５部を添加し、室温で１時間撹拌し、不溶物を濾過後４０℃以下で減圧濃縮し、残渣の黄色油状物を減圧蒸留して沸点（ｂｐ．）４３〜４５℃／７ｍｍＨｇ留分のメタクリル酸１−エトキシエチル（ＭＡＥＶＥ）１３４．０部を無色油状物として得た。
得られたメタクリル酸１−エトキシエチル（６３．２８部（０．４モル当量））、ＧＭＡ（４２．６５部（０．３モル当量））、ＭＡＡ（８．６１部（０．１モル当量））、ＨＥＭＡ（１３．０２部（０．１モル当量））、アクリロイルモルホリン（１４．１２部（０．１モル当量））及びＥＤＭ（１１０．８部）の混合溶液を窒素気流下、８０℃に加熱した。この混合溶液を撹拌しながら、ラジカル重合開始剤Ｖ−６０１（商品名、和光純薬工業（株）製、４部）及びＥＤＭ（１００．０部）の混合溶液を２．５時間かけて滴下した。滴下が終了してから、８０℃で４時間反応させることにより、重合体Ａ−１のＥＤＭ溶液（固形分濃度：４０％）を得た。
得られた重合体Ａ−１のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した重量平均分子量は、１５，０００であった。
【０２０３】
＜重合体Ａ−２〜Ａ−５、Ａ−７〜Ａ−１０、Ａ’−１、Ａ’−２、Ａ”−１、Ａ”−２及びａ−１の合成＞
使用した各モノマー及びその使用量を、下記表１に記載のものに変更した以外は、重合体Ａ−１の合成と同様にして、重合体Ａ−２〜Ａ−５、Ａ−７〜Ａ−１０、Ａ’−１、Ａ’−２、Ａ”−１、Ａ”−２及びａ−１をそれぞれ合成した。
【０２０４】
＜重合体Ａ−６の合成＞
メタクリル酸１−エトキシエチル（６３．２８部（０．４モル当量））、メタクリル酸（４３．０５質量部（０．５モル当量））、アクリロイルモルホリン（１４．１２部（０．１モル当量））及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル（９９．９質量部）の混合溶液を窒素気流下、７０℃に加熱した。この混合溶液を撹拌しながら、ラジカル重合開始剤Ｖ−６５（和光純薬工業（株）製、４．５質量部）及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル（９０．０質量部）の混合溶液を２．５時間かけて滴下した。滴下が終了してから、７０℃で５時間反応させることによりバインダーａ−１のジエチレングリコールエチルメチルエーテル溶液（固形分濃度：４０質量％）を得た。
上記バインダーａ−１溶液に更にメタクリル酸グリシジル（５６．８６質量部（０．４モル当量））、ベンジルトリエチルアンモニウム（２．４１質量部）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル（８５．３質量部）を加えて、７５℃で反応させることにより、バインダーＡ−１のジエチレングリコールエチルメチルエーテル溶液（固形分濃度：４０質量％）を得た。得られたバインダーＡ−６のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した重量平均分子量は２０，０００であった。
【０２０５】
＜ＣＨＯＥＭＡの合成＞
前記重合体Ａ−１の合成におけるＭＡＥＶＥの合成法と同様の方法でＣＨＯＥＭＡの合成を行った。
【０２０６】
＜ＭＡＴＨＦの合成＞
メタクリル酸（８６ｇ、１ｍｏｌ）を１５℃に冷却しておき、カンファースルホン酸（４．６ｇ，０．０２ｍｏｌ）添加した。その溶液に、２−ジヒドロフラン（７１ｇ、１ｍｏｌ、１．０当量）を滴下した。１時間撹拌した後に、飽和炭酸水素ナトリウム（５００ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５００ｍＬ）で抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、不溶物を濾過後４０℃以下で減圧濃縮し、残渣の黄色油状物を減圧蒸留して沸点（ｂｐ．）５４〜５６℃／３．５ｍｍＨｇ留分のメタクリル酸テトラヒドロフラン−２−イル（ＭＡＴＨＦ）１２５ｇを無色油状物として得た（収率８０％）。
【０２０７】
【表１】
0005755585.tif 000041
【０２０８】
（実施例１）
表２の組成となるように各成分を溶解混合し、口径０．２μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで濾過して、実施例１の感光性樹脂組成物を得た。
【０２０９】
（実施例２〜１９、並びに、比較例１及び２）
実施例１において用いた各化合物を、表２に記載の化合物に変更した以外は、実施例１と同様に溶解混合し、実施例２〜１９、並びに、比較例１及び２の感光性樹脂組成物を調製した。
【０２１０】
実施例１〜１９、並びに、比較例１及び２に用いた各化合物を示す略号の詳細は、以下の通りである。
Ｂ−１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＰＡＧ−１０３（商品名、下記に示す構造、ＢＡＳＦ社製）
Ｂ−２：ＰＡＩ−１０１（商品名、下記に示す化合物、みどり化学（株）製）
Ｂ−９：Ｎ−ヒドロキシナフタルイミドメタンスルホネート、
Ｂ−１０：ＴＰＳ−１０００（商品名、下記に示す構造、みどり化学（株）製）
Ｃ−１：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル（東邦化学工業（株）製、ハイソルブＥＤＭ）
Ｃ−２：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（（株）ダイセル製）
Ｄ−１：ＮＢＣＡ（下記に示す構造、黒金化成（株）製）
Ｄ−２：ＤＢＡ（商品名、下記に示す構造、９，１０−ジブトキシアントラセン、川崎化成工業（株）製）
Ｅ−１：ＪＥＲ１５７Ｓ６５（商品名、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン（株）製）
Ｅ−２：ニカラックＭＷ−１００ＬＭ（三和ケミカル（株）製）
Ｅ−３：トリメチロールプロパントリアクリレート（東亞合成（株）製）
Ｆ−１：ＫＢＭ−４０３（商品名、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、下記に示す構造、信越化学工業（株）製）
Ｇ−１：１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン
Ｈ−１：フッ素系界面活性剤（フタージェントＦＴＸ−２１８、（株）ネオス製）
ＡＯ−６０：ヒンダードフェノール化合物（アデカスタブＡＯ−６０（（株）ＡＤＥＫＡ製）
ＢＣ−９０：ノフマーＢＣ−９０（日油（株）製）
ＳＥ−１：スベリン酸
ＮＱＤ：ＴＡＳ−２００（東洋合成工業（株）製、下記に示す構造）
【０２１１】
【化４０】
0005755585.tif 000042
【０２１２】
【化４１】
0005755585.tif 000043
【０２１３】
【化４２】
0005755585.tif 000044
【０２１４】
【化４３】
0005755585.tif 000045
【０２１５】
【化４４】
0005755585.tif 000046
【０２１６】
【化４５】
0005755585.tif 000047
【０２１７】
＜感度の評価＞
ヘキサメチルジシラザン蒸気で１分間表面処理をしたガラス基板（コーニング１７３７、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上に、各感光性樹脂組成物をスリット塗布した後、７５℃／１４０秒ホットプレート上でプリベークして溶剤を揮発させ、膜厚３．５μｍの感光性樹脂組成物層を形成した。
次に、得られた感光性樹脂組成物層を、キヤノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用いて、６．０μｍホールパターンのマスクを介して露光した。そして、露光後９０秒経過してから感光性組成物層を、アルカリ現像液（０．４質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で２４℃で現像し（現像時間は６０秒）、超純水で２０秒リンスした。
これらの操作により、下底の径が６．０μｍのホールパターンを形成する時の最適露光量（Ｅｏｐｔ）を感度とした。なお、評価基準は下記の通りである。値が小さいほど好ましく、１〜３が実用範囲である。結果を表２に示す。
１：６０ｍＪ／ｃｍ2未満
２：６０ｍＪ／ｃｍ2以上９０ｍＪ／ｃｍ2未満
３：９０ｍＪ／ｃｍ2以上１２０ｍＪ／ｃｍ2未満
４：１２０ｍＪ／ｃｍ2以上１５０ｍＪ／ｃｍ2未満
５：１５０ｍＪ／ｃｍ2以上
【０２１８】
＜ＰＥＤの評価＞
上記で求めた最適露光量露光し、露光後６００秒後に現像したこと以外は感度の評価と同様にしてホールを形成し、ホールの下底径を測定した。結果を表２に示す。
１：５．８μｍ以上６．２μｍ未満
２：６．２μｍ以上６．４μｍ未満
３：６．４μｍ以上６．６μｍ未満
４：６．６μｍ以上７．０μｍ未満
５：７．０μｍ以上
６．０μｍに近いほど好ましく、１〜３が実用範囲である。
【０２１９】
＜パターンの評価＞
各実施例、比較例について、ヘキサメチルジシラザン蒸気で１分間表面処理をしたシリコンウエハー基板上に、各感光性樹脂組成物をスリット塗布した後、７５℃／１４０秒ホットプレートでプリベークして溶剤を揮発させ、膜厚４．０μｍの感光性樹脂組成物層を形成した。
次に、得られた感光性樹脂組成物層を、ニコン（株）製ＮＳＲ−２２０５ｉ１４Ｅ２Ｆ露光機（ｉ線ステッパー）を用いて、９μｍホールパターン形状に、各組成物の最適露光量（Ｅｏｐｔ）露光した。そして、露光後９０秒の感光性組成物層を、アルカリ現像液（０．４質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で２４℃／６０秒間現像した後、超純水で２０秒リンスした。超高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍにおいて５００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射した後、オーブン中にて、１４０℃で２０分間加熱、１８０℃で２０分間加熱、更に２３０℃で６０分間加熱し、硬化膜を得た。電子顕微鏡でホールパターンを観察した。
また、実施例１〜１９及び比較例１については、きれいにホールパターンが形成されたが、比較例２については、３００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射してもホールパターンが形成されなかった。
【０２２０】
＜感光性樹脂組成物のナトリウム含有量の測定＞
得られた感光性樹脂組成物を、原子吸光法により測定し、組成物中のナトリウム原子の含有量を測定した。測定装置は、（株）日立製作所製Ｚ−５０１０を使用した。
【０２２１】
【表２】
0005755585.tif 000048
【０２２２】
（実施例２０）
薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を用いた有機ＥＬ表示装置を以下の方法で作製した（図１参照）。
ガラス基板６上にボトムゲート型のＴＦＴ１を形成し、このＴＦＴ１を覆う状態でＳｉ3Ｎ4から成る絶縁膜３を形成した。次に、この絶縁膜３に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してＴＦＴ１に接続される配線２（高さ１．０μｍ）を絶縁膜３上に形成した。この配線２は、ＴＦＴ１間又は、後の工程で形成される有機ＥＬ素子とＴＦＴ１とを接続するためのものである。
【０２２３】
更に、配線２の形成による凹凸を平坦化するために、配線２による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜３上へ平坦化膜４を形成した。絶縁膜３上への平坦化膜４の形成は、実施例１６の感光性樹脂組成物を基板上にスピン塗布し、ホットプレート上でプリベーク（９０℃×２分）した後、マスク上から高圧水銀灯を用いてｉ線（３６５ｎｍ）を４５ｍＪ／ｃｍ2（照度２０ｍＷ／ｃｍ2）照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、２３０℃で６０分間の加熱処理を行った。
感光性樹脂組成物を塗布する際の塗布性は良好で、露光、現像、焼成の後に得られた硬化膜には、しわやクラックの発生は認められなかった。更に、配線２の平均段差は５００ｎｍ、作製した平坦化膜４の膜厚は２，０００ｎｍであった。
【０２２４】
次に、得られた平坦化膜４上に、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を形成した。まず、平坦化膜４上に、ＩＴＯからなる第一電極５を、コンタクトホール７を介して配線２に接続させて形成した。その後、レジストを塗布、プリベークし、所望のパターンのマスクを介して露光し、現像した。このレジストパターンをマスクとして、ＩＴＯエッチャント用いたウエットエッチングによりパターン加工を行った。その後、レジスト剥離液（リムーバ１００、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製）を用いて該レジストパターンを５０℃で剥離した。こうして得られた第一電極５は、有機ＥＬ素子の陽極に相当する。
【０２２５】
次に、第一電極５の周縁を覆う形状の絶縁膜８を形成した。絶縁膜８には、実施例１の感光性樹脂組成物を用い、前記と同様の方法で絶縁膜８を形成した。この絶縁膜８を設けることによって、第一電極５とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。
【０２２６】
更に、真空蒸着装置内で所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設けた。次いで、基板上方の全面にＡｌから成る第二電極を形成した。得られた上記基板を蒸着機から取り出し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止した。
【０２２７】
以上のようにして、各有機ＥＬ素子にこれを駆動するためのＴＦＴ１が接続してなるアクティブマトリックス型の有機ＥＬ表示装置が得られた。駆動回路を介して電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置であることが分かった。
【０２２８】
（実施例２１）
特許第３３２１００３号公報の図１に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置において、層間絶縁膜として硬化膜１７を以下のようにして形成し、実施例２１の液晶表示装置を得た。
すなわち、実施例１の感光性樹脂組成物を用い、上記実施例２０における有機ＥＬ表示装置の平坦化膜４の形成方法と同様の方法で、層間絶縁膜として硬化膜１７を形成した。
【０２２９】
得られた液晶表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い液晶表示装置であることが分かった。
【符号の説明】
【０２３０】
１：ＴＦＴ（薄膜トランジスター）、２：配線、３：絶縁膜、４：平坦化膜、５：第一電極、６：ガラス基板、７：コンタクトホール、８：絶縁膜、１０：液晶表示装置、１２：バックライトユニット、１４，１５：ガラス基板、１６：ＴＦＴ、１７：硬化膜、１８：コンタクトホール、１９：ＩＴＯ透明電極、２０：液晶、２２：カラーフィルター
【図１】
0005755585.tif 000053
【図２】
0005755585.tif 000054