(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
単一の記録マスタから両面テンプレートを作成する方法であって、
単一の記録マスタを使用して第一面テンプレートを製造するステップを備え、第一面テンプレートにおいては、デューティサイクルが変更され、サーボアーク配向は変更されず、方法はさらに、
第一面テンプレートの複製物を作成するステップを備え、複製物においては、サーボアーク配向が鏡写しとなり、デューティサイクルが逆となり、方法はさらに、
パターンドスタックの第二面に転写するための所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルを作成するために、複製物を使用して第二面テンプレートを製造するステップを備え、
第一面テンプレートは、クロム剥離処理またはスピンオンガラスをネガ型レジストに塗布する処理のいずれか１つを含む逆トーン処理を行うことによって製造され、第二面テンプレートは、直接エッチング処理、クロム剥離処理、またはスピンオンガラスでネガ型レジストを覆う処理のいずれか１つを含む逆トーン処理によって製造される、方法。
【請求項２】
複製物を作成するために、単一の記録マスタを使用して第一面テンプレートを製造するための手段と、
サーボアーク配向を鏡写しにして、デューティサイクルを逆にするために、第一面テンプレートの複製物を作成するための手段と、複製物を使用して第二面テンプレートを製造し、両面パターンドスタック作成用の単一の記録マスタの所定の鏡写しのサーボアーク配向と所定のデューティサイクルとをもたらすための手段とを備え、
第一面テンプレートは、クロム剥離処理またはスピンオンガラスをネガ型レジストに塗布する処理のいずれか１つを含む逆トーン処理を行うことによって製造され、第二面テンプレートは、直接エッチング処理、クロム剥離処理、またはスピンオンガラスでネガ型レジストを覆う処理のいずれか１つを含む逆トーン処理によって製造される、装置。
【請求項３】
逆トーン処理によって第一面テンプレートを作成するために、単一の記録マスタを使用するための手段をさらに備える、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
インプリントリソグラフィによって第一面テンプレートの複製物を作成するための手段をさらに備える、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
単一の記録マスタの所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルをもたらすために、逆トーン処理によって第二面テンプレートを製造するために、複製物を使用するための手段をさらに備える、請求項２に記載の装置。
【請求項６】
両面パターンドスタックの作成に使用される第一面テンプレートと第二面テンプレートとを含むテンプレート群を作成するために、逆トーン処理とインプリントリソグラフィ処理とを併用する手段をさらに備える、請求項２に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本願は、２０１１年５月３１日に出願された米国特許出願第１３／１４９，７６８号の一部継続出願であり、この一部継続出願は引用によりその全体が援用される。
【背景技術】
【０００２】
背景
従来、両面インプリント用のテンプレートを作成するためには、２つのマスタを記録しなければならなかった。第一のマスタは、スタックの第一面に転写するために使用されるマスタテンプレートである。第二のマスタテンプレートは、第一のマスタテンプレートに対して鏡写しのサーボアーク配向と、第一のマスタテンプレートと同じランド／ピッチのデューティサイクルとを有する必要がある。第二のテンプレートは、スタックの第二面に転写を行うために使用される。各マスタへの記録は、書き込み作業に数日を要する。
【図面の簡単な説明】
【０００３】
【図１】一実施例による単一の記録マスタから両面テンプレートを作成する方法の概略を示すブロック図である。
【図２】一実施例による単一の記録マスタから両面テンプレートを作成する方法の概略フローチャートを示すブロック図である。
【図３Ａ】一実施例によるサーボアーク配向およびデューティサイクルを例示することのみを目的とした図である。
【図３Ｂ】一実施例による所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルを例示することのみを目的とした図である。
【図４】一実施例による所定の鏡写しのサーボアーク配向を例示することのみを目的とした図である。
【図５】一実施例による第一のテンプレートの製造を例示することのみを目的とした図である。
【図６】一実施例による複製物の製造を例示することのみを目的とした図である。
【図７】一実施例によるＢ面テンプレートの製造を例示することのみを目的とした図である。
【発明を実施するための形態】
【０００４】
詳細な説明
以下の詳細な説明においては、添付の図面が参照される。これらの図面は、詳細な説明の一部を構成し、本発明を実施するための具体的な例を示す。当然のことながら、他の実施例も利用することができ、本発明の範囲から逸脱することなく構造を変更することができる。
【０００５】
全体の概略
以下の詳細な説明は、例えば、単一の記録マスタから両面テンプレートを作成する方法について例示することを目的として記載されており、基本的なシステムは、両面テンプレートを含むあらゆる数のテンプレートおよび多様な種類のテンプレートに適用することができる。一実施例において、両面テンプレートは、別個の逆トーン処理およびインプリントリソグラフィ処理を行ってＢ面テンプレートを製造するように構成することができる。本処理は、複数の処理を併用してＡ面テンプレートとＢ面テンプレートとを含むテンプレート群を作成するように構成することができる。また、本処理は、複数の処理を連続して併用し、両面テンプレートを作成するように構成することができる。これらの処理によって作成されたテンプレートは、ビットパターンド媒体のようなパターンドスタックを作るために使用される。
【０００６】
図１は、一実施例による単一の記録マスタから両面テンプレートを作成する方法の概略を示すブロック図である。図１は、パターンドスタックを作るために使用される単一の記録マスタ１００を示す。パターンドスタックは、ビットパターンドスタックのような、スタックの両面にパターンが形成されたスタックを含む。両面スタックの第一の面をＡ面といい、第二の面をＢ面という。単一の記録マスタ１００は、両面スタックディスクのＡ面である。両面スタックディスクは、コンピュータまたは他のデジタル機器に使用される記憶部の容量を増加させるために使用される。記録マスタのテンプレートを製造するためには、装置への指示の書き込みに数日を要する。一実施例において、単一の記録マスタから両面テンプレートを作成する方法は、両面ディスクの裏Ｂ面テンプレートを作成する処理を行い、第二の記録Ｂ面テンプレートの作成にかかる時間を短縮する。
【０００７】
単一の記録マスタからテンプレートを製造する処理１１０は、逆トーン処理１２０を行うステップから始まる。逆トーン処理１２０によって、第一のテンプレート１３０が作成される。逆トーン処理１２０によって製造された第一のテンプレート１３０においては、デューティサイクルが変更されるが、サーボアーク配向は変更されない。デューティサイクルは、逆となる。一実施例において、逆トーン処理１２０は、Ｃｒ剥離処理を含んでもよい。Ｃｒ剥離処理は、露光したパターンレジストの最上部にクロム（Ｃｒ）を方向性堆積させるステップを含んでもよい。
【０００８】
Ｃｒ剥離処理における次のステップとして、上昇したレジストトポグラフィの最上部にあるＣｒを除去するための高圧反応性イオンエッチング処理を含んでもよい。レジストアッシング処理によって、上昇したレジストトポグラフィのレジストマスクを剥離させてもよい。一実施例において、反応性イオンエッチング処理を行って石英テンプレートにエッチングを施し、残ったＣｒをウェット除去処理によって除去してもよい。これにより、第一のテンプレート１３０が作成される。次のステップでは、インプリントリソグラフィ処理１４０が行われ、これによって第一のテンプレート１３０の複製物１５０が作成される。複製物１５０においては、サーボアーク配向が鏡写しとなり、デューティサイクルが第一のテンプレート１３０で変更されたデューティサイクルに対して逆となる。
【０００９】
複製物１５０は、複製物逆トーン処理１６０において使用される。複製物逆トーン処理１６０によって、Ｂ面テンプレート１７０が作成される。Ｂ面テンプレート１７０は、単一の記録マスタ１００に対して鏡写しのサーボアーク配向を作り、単一の記録マスタ１００における所定のデューティサイクルを作る。Ｂ面テンプレート１７０は、単一の記録マスタ１００のＡ面マスタテンプレートと組み合わされ、両面スタックが製造される。Ｂ面テンプレート１７０は、デューティサイクルのランドおよびピッチの正しい値または所定の値を有し、これによって所定のデューティサイクルを形成する。Ｂ面テンプレート１７０は、サーボアーク配向の正しい値または所定の値を有し、これによって所定の鏡写しのサーボアーク配向を形成する。一実施例において、Ｂ面テンプレート１７０は、所定のデューティサイクルと所定の鏡写しのサーボアーク配向とを有して、より短い時間で製造される。
【００１０】
単一の記録マスタから両面テンプレートを作成する方法においては、逆トーン処理とインプリント処理とを併用した処理が行われ、Ａ面テンプレートとＢ面テンプレートとを含むテンプレート群が作成される。単一の記録マスタから両面テンプレートを作成する方法により、テンプレートの製造にかかる時間が短縮され、費用効果が高くなる。一実施例によれば、時間の節約により、パターンドスタック媒体の製造が円滑に行われ、大量の両面テンプレートを短い時間で作成することができる。
【００１１】
詳細な説明
図２は、一実施例による単一の記録マスタから両面テンプレートを作成する方法の概略フローチャートを示すブロック図である。図２は、単一の記録マスタから両面テンプレートを作成する方法において使用される単一の記録マスタ１００によって、単一の記録マスタからテンプレートを製造する処理１１０を示す。一実施例において、逆トーン処理１２０によって第一のテンプレート１３０が製造される。
【００１２】
逆トーン処理１２０は、例えばＣｒ剥離処理２１０とＳＯＧでＺＥＰを覆う処理２２０とを含む。スピンオンガラス（ＳＯＧ）は、ガラスのような材料であり、有機化学物質および無機化学物質を含む。ＳＯＧは、ＺＥＰのようなネガ型レジスト上にスピンコートされてもよい。ＺＥＰは、市場に流通している電子ビームネガ型レジストである。ＺＥＰのようなネガ型レジストを使用することによって、露光後の現像処理において、露光した部分がパターンとして残る。一実施例において、単一の記録マスタからテンプレートを製造する処理１１０は、直接エッチング処理２００を含んでもよい。
【００１３】
第一のテンプレート１３０は、逆トーン処理１２０の影響を受ける。逆トーン処理１２０は、サーボアーク配向を変更することなく行われる（２３０）。第一のテンプレート１３０のマスクへの他の影響として、デューティサイクルが変更される（２４０）。一実施例において、スタックのＢ面は、デューティサイクルが変更されない。
【００１４】
次のステップでは、インプリントリソグラフィ処理１４０において第一のテンプレート１３０が使用され、単一の記録マスタ１００のサーボアーク配向に対して鏡写しのサーボアーク配向が形成される。インプリントリソグラフィ処理１４０では、第一のテンプレートを使用して、複製物１５０が作成される。複製物１５０は、鏡写しのサーボアーク配向を有する（２５０）。複製物１５０は、単一のインプリントマスクを形成する。単一のインプリントマスクは、反対のデューティサイクルを有する（２６０）。一実施例において、複製物１５０は、サーボアーク配向を維持しながら反対のデューティサイクルを逆にするテンプレートを作成するために使用される。
【００１５】
複製物逆トーン処理１６０において、複製物１５０は、Ｂ面テンプレート１７０を作成するための型として使用される。複製物逆トーン処理１６０において、鏡写しのサーボアーク配向が維持される。複製物逆トーン処理１６０のエッチング処理により、デューティサイクルが逆となる。Ｂ面テンプレート１７０は、所定のデューティサイクル２７０と所定の鏡写しのサーボアーク配向２８０とを有して製造される。両面スタックの作成において、Ｂ面テンプレート１７０はＡ面テンプレートと併せて使用することができる。単一の記録マスタから両面テンプレートを作成する方法により、Ｂ面テンプレートを製造するための指示セットの書き込みに時間をとられないため、両面テンプレートの製造にかかる時間を短縮することができる。一実施例において、これは費用効果が高く、製造数の増加のための処理を加速させる。
【００１６】
サーボアーク配向およびデューティサイクル
図３Ａは、一実施例によるサーボアーク配向およびデューティサイクルを例示することのみを目的とした図である。図３Ａは、一方向のサーボアーク配向３１０を有するＡ面テンプレート３００を示す。デューティサイクルは、スタックディスクのデータ処理にかかる時間であり、ランド３２０とピッチ３３０との比率である。主領域３４０は、スタック上の磁性材料の領域である。一実施例において、ディスク面３５０上のランド３２０およびピッチ３３０が測定され、デューティサイクル＝ランド／ピッチ（３６０）が算出される。
【００１７】
所定のサーボアーク配向および所定のデューティサイクル
図３Ｂは、一実施例による所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルを例示することのみを目的とした図である。Ｂ面テンプレート３７０は、所定の鏡写しのサーボアーク配向３８０を有して示される。ディスク面は、図３ＡのＡ面テンプレート３００の反対側の面に反転されると、図３Ａのサーボアーク配向３１０のサーボアークと一致する。ランド３２０およびピッチ３３０は、Ａ面テンプレートのランドおよびピッチと一致するが、鏡写しではない。主領域３４０とディスク面３５０とは一致し、ランド／ピッチの比率である所定のデューティサイクル（３６５）は、Ａ面テンプレート３００上のデューティサイクルと同じ配向で読み込まれる。図１の第一のテンプレート１３０を形成する図１の逆トーン処理１２０において図１の単一の記録マスタ１００のデューティサイクルが変更されると、主領域３４０のデータの正確な読み込みが妨げられ得る。また、一実施例において、図１の逆トーン処理１２０において図１の単一の記録マスタ１００のサーボアーク配向が変更されずに鏡写しとならない場合、両面スタックの両面の間のサーボデータに不一致が起こり、書き込みヘッドの正確な位置決めが妨げられ得る。
【００１８】
鏡写しのサーボアーク配向
図４は、一実施例による所定の鏡写しのサーボアーク配向を例示することのみを目的とした図である。図４は、逆トーン処理１２０において第一のテンプレート１３０を作成するために使用される単一の記録マスタ１００を示す。一実施例において、サーボアーク配向は、サーボアークの単一の断片が示されており、寸法が誇張して示されている。これにより、実施例の描画を容易にしている。
【００１９】
第一のテンプレート１３０において、サーボアーク配向は鏡写しとなっていない。複製物１５０を作成するためのインプリントリソグラフィ処理１４０において、サーボアーク配向が鏡写しとなる。インプリントリソグラフィ１４０により、反対のデューティサイクルが作成される。これにより、複製物逆トーン処理１６０において、デューティサイクルが逆となる。複製物逆トーン処理１６０では、複製物に逆トーン処理のインプリントを施す際（４００）、インプリントリソグラフィからの所定の鏡写しのサーボアーク配向がレジストにエッチングされる。エッチングされた形態は、Ｂ面テンプレート１７０を作成する際に型として利用される。これにより、一実施例による所定の鏡写しのサーボアーク配向が維持される。
【００２０】
第一のテンプレート
図５は、一実施例による第一のテンプレートの製造を例示することのみを目的とした図である。単一の記録マスタ１００は、第一のテンプレート１３０を作成するための逆トーン処理１２０に使用される。逆トーン処理１２０は、基板５００および基板に塗布された接着層コーティングの上にレジスト層を塗布することから始まる。単一の記録マスタ１００が、レジスト層の上に配置される。レジスト材料は、逆さとなった単一の記録マスタ１００の凹部を毛管作用によって満たす。単一の記録マスタ１００を通ってインプリントテンプレートに紫外光が照射され、ＵＶ硬化５１０によってレジストが硬化する。インプリントテンプレートから型が取り外され、硬化したレジスト層５２０の上にクロム（Ｃｒ）が積層される。Ｃｒは硬化され、次のステップにおいて、Ｃｒおよび硬化したレジストが剥離され、基板に対してエッチングが行われる（５３０）。残ったＣｒおよび接着層は、除去される。エッチングされた基板は、第一のテンプレート１３０を形成する。一実施例において、第一のテンプレート１３０は、デューティサイクルが変更され（５４０）、サーボアーク配向は変更されない。
【００２１】
複製物
図６は、一実施例による複製物の製造を例示することのみを目的とした図である。図６は、インプリントリソグラフィ処理１４０に第一のテンプレート１３０が使用され、複製物１５０テンプレートにおいて単一の記録マスタ１００のサーボアーク配向を鏡写しにする状態を示す。レジスト層は、基板６００の上に積層される。第一のテンプレート１３０は逆さ状態でインプリントテンプレート上のレジスト層に配置され、レジストに対するＵＶ硬化６１０が行われる。ＵＶ光は、逆さ状態のテンプレートを露光し、テンプレートを通過してレジスト層を硬化させる。逆さ状態のテンプレートは、圧縮されて凹部となったレジスト材料のクッションの上に静止して配置される。第一のテンプレートは除去され、凹部領域がエッチングされる（６２０）。凹部領域は、基板の表面までエッチングされる（６３０）。エッチングされた硬化レジストおよび基板は、複製物１５０を形成する。一実施例において、複製物１５０は、反対のデューティサイクルおよび鏡写しのアーク配向を有する（６４０）硬化テンプレートである。
【００２２】
Ｂ面テンプレート
図７は、一実施例による、Ｂ面テンプレートの製造を例示することのみを目的とした図である。図７は、所定のデューティサイクル２７０と所定の鏡写しのサーボアーク配向２８０とを有するＢ面テンプレートを作成するための処理を示す。複製物１５０は、複製物逆トーン処理１６０に使用される。複製物逆トーン処理１６０では、次のステップにおいて、基板５００の上にレジスト層が塗布される。基板は、レジスト層の前に積層された接着層を有する。つぎに、複製物テンプレートの設置およびＵＶ硬化処理７００が行われる。複製物テンプレートは逆さ状態でレジスト材料に設置される。複製物テンプレートは透明な材料、例えば石英であり、紫外（ＵＶ）光が通過してレジスト層を硬化させる。ＵＶ光によってレジストが硬化すると、複製物テンプレートは型抜き作業により取り外される。
【００２３】
硬化したレジスト層の上に、クロム（Ｃｒ）が積層される（５２０）。積層されたＣｒは、硬化される。Ｃｒおよび硬化したレジストは、例えば溶剤を使用する処理によって剥離され、基板がエッチングされる（５３０）。接着層の上に残ったＣｒは、エッチング処理においてマスクとして使用される。エッチングが完了すると、残ったＣｒおよび接着層が除去される。エッチングされた基板は、Ｂ面テンプレート１７０を形成する。Ｂ面テンプレート１７０は、所定のデューティサイクル２７０と所定の鏡写しのサーボアーク配向２８０とを有する。一実施例において、Ｂ面テンプレート１７０は、両面パターンドスタックの製造に使用することができる。
【００２４】
上述の明細書本文では、本発明の基本的原理、実施例、および動作のモードについて記載した。しかし、本発明は上述の具体的な実施例に限定して解釈されるべきものではない。上述の実施例は限定ではなく例示であると解されるべきであり、以下のクレームにより規定される本発明の範囲から逸脱することなく、当業者はこれらの実施例を多様に変更しても良い。
【００２５】
好ましくは、ここに記載される全ての構成要素、部品、ステップが含まれる。これらの構成要素、部品、ステップはいずれも他の構成要素、部品、ステップと置き換えることができる、または全てまとめて除去することができる点は、当業者にとって自明である。
【００２６】
明細書本文の記載は、単一の記録マスタから両面テンプレートを作成する方法を少なくとも開示し、本方法は、単一の記録マスタを使用して第一のテンプレートを製造するステップを含み、第一のテンプレートにおいては、デューティサイクルが変更され、サーボアーク配向は変更されていない。本方法はさらに、第一のテンプレートの複製物を作成するステップを含み、複製物においては、サーボアーク配向が鏡写しとなり、デューティサイクルが変更される。本方法はさらに、複製物を使用して第二のテンプレートを製造するステップを備え、パターンドスタックの第二面に転写するための所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルをもたらす。
【００２７】
コンセプト
上述の明細書本文は、少なくとも以下のコンセプトを開示する。
【００２８】
コンセプト１
単一の記録マスタから両面テンプレートを作成する方法であって、
単一の記録マスタを使用して第一のテンプレートを製造するステップを備え、第一のテンプレートにおいては、デューティサイクルが変更され、サーボアーク配向は変更されず、方法はさらに、
第一のテンプレートの複製物を作成するステップを備え、複製物においては、サーボアーク配向が鏡写しとなり、デューティサイクルが変更され、方法はさらに、
パターンドスタックの第二面に転写するための所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルを作成するために、複製物を使用して第二のテンプレートを製造するステップを備える、方法。
【００２９】
コンセプト２
単一の記録マスタとしての第一面テンプレートを形成するために、テンプレート設計を使用するステップをさらに備える、コンセプト１に記載の方法。
【００３０】
コンセプト３
クロム剥離処理またはスピンオンガラスをネガ型レジストに塗布する処理のいずれか１つを含む逆トーン処理を行うことによって第一のテンプレートを製造する、コンセプト１に記載の方法。
【００３１】
コンセプト４
第一のテンプレートは、直接エッチング処理によって製造される、コンセプト１に記載の方法。
【００３２】
コンセプト５
鏡写しのサーボアーク配向を作成するために、インプリントリソグラフィ処理によって複製物を作成する、コンセプト１に記載の方法。
【００３３】
コンセプト６
第二のテンプレートは、直接エッチング処理、クロム剥離処理、またはスピンオンガラスでネガ型レジストを覆う処理のいずれか１つを含む逆トーン処理によって製造される、コンセプト１に記載の方法。
【００３４】
コンセプト７
両面パターンドスタックの作成に使用するための第一面テンプレートと第二面テンプレートとを含むテンプレート群を作成するために、逆トーン処理とインプリント処理とを併用してテンプレートを製造するステップをさらに備える、コンセプト１に記載の方法。
【００３５】
コンセプト８
逆トーン処理によって第二面テンプレートを製造するために、複製物を使用してサーボアーク配向を鏡写しの状態にする、コンセプト１に記載の方法。
【００３６】
コンセプト９
パターンドスタックの製造のためのテンプレートをマスタリングする時間を短くするために、単一の記録マスタから第二面テンプレートを製造する、コンセプト１に記載の方法。
【００３７】
コンセプト１０
単一の記録マスタを使用して両面パターンドスタックを製造するために、両面テンプレートを使用するステップをさらに備える、コンセプト１に記載の方法。
【００３８】
コンセプト１１
所定の鏡写しのサーボアーク配向と所定のデューティサイクルとを有する第二のテンプレートを製造するステップは、両面パターンドスタックを製造するために使用される単一の記録マスタを基に行われる、コンセプト１に記載の方法。
【００３９】
コンセプト１２
複製物を作成するために、単一の記録マスタを使用して第一のテンプレートを製造するための手段と、
サーボアーク配向を鏡写しにして、デューティサイクルを逆にするために、第一のテンプレートの複製物を作成するための手段と、
複製物を使用して第二のテンプレートを製造し、両面パターンドスタック作成用の単一の記録マスタの所定の鏡写しのサーボアーク配向と所定のデューティサイクルとをもたらすための手段とを備える、装置。
【００４０】
コンセプト１３
逆トーン処理によって第一のテンプレートを作成するために、単一の記録マスタを使用するための手段をさらに備える、コンセプト１２に記載の装置。
【００４１】
コンセプト１４
インプリントリソグラフィによって第一のテンプレートの複製物を作成するための手段をさらに備える、コンセプト１２に記載の装置。
【００４２】
コンセプト１５
単一の記録マスタの所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルをもたらすために、逆トーン処理によって第二面テンプレートを製造するために、複製物を使用するための手段をさらに備える、コンセプト１２に記載の装置。
【００４３】
コンセプト１６
両面パターンドスタックの作成に使用される第一面テンプレートと第二面テンプレートとを含むテンプレート群を作成するために、逆トーン処理とインプリントリソグラフィ処理とを併用する手段をさらに備える、コンセプト１２に記載の装置。
【００４４】
コンセプト１７
所定の鏡写しのサーボアーク配向と、
所定のデューティサイクルとを備え、
所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルは、両面パターンドスタックの作成のための単一の記録マスタを使用して作成される、第二面テンプレート。
【００４５】
コンセプト１８
さらに逆トーン処理を行って第一のテンプレートを製造することを備える、コンセプト１７に記載の第二面テンプレート。
【００４６】
コンセプト１９
さらに、第一のテンプレートを製造するための逆トーン処理と、第一のテンプレートの複製物を製造するためのインプリントリソグラフィ処理とを併用することを備える、コンセプト１７に記載の第二面テンプレート。
【００４７】
コンセプト２０
処理の併用によって、両面パターンドスタックの製造に使用される第一面テンプレートと第二面テンプレートとを含むテンプレート群を作成する、コンセプト１９に記載の第二面テンプレート。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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