(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージ（１００）に載置されるワーク（１０２）に対して、多点一括で溶融はんだ（１２）を供給するはんだ供給装置であって、
溶融はんだを収容するものであり、底部（１６）に複数の貫通孔（１８）が形成されたはんだ槽（１４）と、
前記はんだ槽の底部内面（１６ａ）における各貫通孔の開口部及び該開口部の周囲部（１６ｃ）と対向するように、前記はんだ槽に対して保持されたシャッタ（２６）と、
前記はんだ槽の深さ方向において前記シャッタを移動させる第１アクチュエータ（３８）と、
前記深さ方向において、前記シャッタを含む前記はんだ槽と前記ワークとを相対的に移動させる第２アクチュエータ（７０，８０）と、
前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータの駆動を制御する制御部（８８）と、を備え、
前記制御部は、
前記ワークが前記ステージに搬入され、前記溶融はんだの供給後に前記ステージから搬出されるまでの間に、前記はんだ槽の底部外面（１６ｂ）は、前記ワークに接触しない非接触位置から、前記ワークに接触する接触位置となり、次いで前記非接触位置に戻るように、前記第２アクチュエータを制御するとともに、
前記はんだ槽が前記非接触位置とされた状態で、前記シャッタは、前記周囲部に最も近い閉位置となり、前記はんだ槽が前記接触位置とされた状態で、前記シャッタは、前記閉位置から、該閉位置よりも前記周囲部から離れ、前記貫通孔内に前記溶融はんだが流れ込む開位置となり、次いで前記閉位置に戻るように、前記第１アクチュエータを制御し、
前記閉位置は、前記シャッタ、該シャッタと対向する前記周囲部、各貫通孔の壁面、及び前記ワークにより形成される切出空間の前記溶融はんだが、前記切出空間を除く前記はんだ槽の部分の前記溶融はんだと分離され、前記はんだ槽が前記接触位置から前記非接触位置に戻る際に前記ワークに転写される位置に設定され、
前記第２アクチュエータ（７０）は、前記深さ方向において前記はんだ槽（１４）を移動させるとともに、前記深さ方向において、上死点と下死点との間を往復移動する懸架部（８０）を有し、
前記下死点から前記上死点への移動において前記懸架部が前記上死点に到達する前に、前記懸架部が前記はんだ槽（１４）と機械的に接続されて前記はんだ槽を吊り上げ、前記上死点において、前記はんだ槽の底部外面（１６ｂ）が前記非接触位置となり、
前記上死点から前記下死点への移動において前記懸架部が前記下死点に到達する前に、前記はんだ槽の底部外面が前記ワーク（１０２）に接触し、前記下死点において、前記懸架部と前記はんだ槽との機械的な接続は解除されることを特徴とするはんだ供給装置。
【請求項２】
ステージ（１００）に載置されるワーク（１０２）に対して、多点一括で溶融はんだ（１２）を供給するはんだ供給装置であって、
溶融はんだを収容するものであり、底部（１６）に複数の貫通孔（１８）が形成されたはんだ槽（１４）と、
前記はんだ槽の底部内面（１６ａ）における各貫通孔の開口部及び該開口部の周囲部（１６ｃ）と対向するように、前記はんだ槽に対して保持されたシャッタ（２６）と、
前記はんだ槽の深さ方向において前記シャッタを移動させる第１アクチュエータ（３８）と、
前記深さ方向において、前記シャッタを含む前記はんだ槽と前記ワークとを相対的に移動させる第２アクチュエータ（７０，８０）と、
前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータの駆動を制御する制御部（８８）と、を備え、
前記制御部は、
前記ワークが前記ステージに搬入され、前記溶融はんだの供給後に前記ステージから搬出されるまでの間に、前記はんだ槽の底部外面（１６ｂ）は、前記ワークに接触しない非接触位置から、前記ワークに接触する接触位置となり、次いで前記非接触位置に戻るように、前記第２アクチュエータを制御するとともに、
前記はんだ槽が前記非接触位置とされた状態で、前記シャッタは、前記周囲部に最も近い閉位置となり、前記はんだ槽が前記接触位置とされた状態で、前記シャッタは、前記閉位置から、該閉位置よりも前記周囲部から離れ、前記貫通孔内に前記溶融はんだが流れ込む開位置となり、次いで前記閉位置に戻るように、前記第１アクチュエータを制御し、
前記閉位置は、前記シャッタ、該シャッタと対向する前記周囲部、各貫通孔の壁面、及び前記ワークにより形成される切出空間の前記溶融はんだが、前記切出空間を除く前記はんだ槽の部分の前記溶融はんだと分離され、前記はんだ槽が前記接触位置から前記非接触位置に戻る際に前記ワークに転写される位置に設定され、
前記シャッタ（２６）を複数有し、
各シャッタは、ホルダ（２８）を介して前記第１アクチュエータ（３８）と機械的に接続されており、
前記シャッタごとに、前記ホルダに対して前記深さ方向の取り付け高さを調整できることを特徴とするはんだ供給装置。
【請求項３】
前記はんだ槽（１４）の線膨張係数α、前記深さ方向と直交する直交方向おける前記底部（１６）の長さＬ、前記溶融はんだ（１２）を保持している状態での前記はんだ槽と外部雰囲気との温度差ΔＴにより規定されるＡ＝α×Ｌ×ΔＴに対し、
前記直交方向において、前記シャッタ（２６）と前記周囲部（１６ｃ）とのオーバーラップする幅Ｗが、前記Ａの１／２以上の長さとされていることを特徴とする請求項２に記載のはんだ供給装置。
【請求項４】
ステージ（１００）に載置されるワーク（１０２）に対して、多点一括で溶融はんだ（１２）を供給するはんだ供給装置であって、
溶融はんだを収容するものであり、底部（１６）に複数の貫通孔（１８）が形成されたはんだ槽（１４）と、
前記はんだ槽の底部内面（１６ａ）における各貫通孔の開口部及び該開口部の周囲部（１６ｃ）と対向するように、前記はんだ槽に対して保持されたシャッタ（２６）と、
前記はんだ槽の深さ方向において前記シャッタを移動させる第１アクチュエータ（３８）と、
前記深さ方向において、前記シャッタを含む前記はんだ槽と前記ワークとを相対的に移動させる第２アクチュエータ（７０，８０）と、
前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータの駆動を制御する制御部（８８）と、を備え、
前記制御部は、
前記ワークが前記ステージに搬入され、前記溶融はんだの供給後に前記ステージから搬出されるまでの間に、前記はんだ槽の底部外面（１６ｂ）は、前記ワークに接触しない非接触位置から、前記ワークに接触する接触位置となり、次いで前記非接触位置に戻るように、前記第２アクチュエータを制御するとともに、
前記はんだ槽が前記非接触位置とされた状態で、前記シャッタは、前記周囲部に最も近い閉位置となり、前記はんだ槽が前記接触位置とされた状態で、前記シャッタは、前記閉位置から、該閉位置よりも前記周囲部から離れ、前記貫通孔内に前記溶融はんだが流れ込む開位置となり、次いで前記閉位置に戻るように、前記第１アクチュエータを制御し、
前記閉位置は、前記シャッタ、該シャッタと対向する前記周囲部、各貫通孔の壁面、及び前記ワークにより形成される切出空間の前記溶融はんだが、前記切出空間を除く前記はんだ槽の部分の前記溶融はんだと分離され、前記はんだ槽が前記接触位置から前記非接触位置に戻る際に前記ワークに転写される位置に設定され、
前記はんだ槽（１４）の線膨張係数α、前記深さ方向と直交する直交方向おける前記底部（１６）の長さＬ、前記溶融はんだ（１２）を保持している状態での前記はんだ槽と外部雰囲気との温度差ΔＴにより規定されるＡ＝α×Ｌ×ΔＴに対し、
前記直交方向において、前記シャッタ（２６）と前記周囲部（１６ｃ）とのオーバーラップする幅Ｗが、前記Ａの１／２以上の長さとされていることを特徴とするはんだ供給装置。
【請求項５】
前記第２アクチュエータ（７０）は、前記深さ方向において前記はんだ槽（１４）を移動させることを特徴とする請求項２〜４いずれか１項に記載のはんだ供給装置。
【請求項６】
前記第２アクチュエータは、前記深さ方向において、上死点と下死点との間を往復移動する懸架部（８０）を有し、
前記下死点から前記上死点への移動において前記懸架部が前記上死点に到達する前に、前記懸架部が前記はんだ槽（１４）と機械的に接続されて前記はんだ槽を吊り上げ、前記上死点において、前記はんだ槽の底部外面（１６ｂ）が前記非接触位置となり、
前記上死点から前記下死点への移動において前記懸架部が前記下死点に到達する前に、前記はんだ槽の底部外面が前記ワーク（１０２）に接触し、前記下死点において、前記懸架部と前記はんだ槽との機械的な接続は解除されることを特徴とする請求項５に記載のはんだ供給装置。
【請求項７】
複数の前記貫通孔（１８）として、容積が互いに異なる貫通孔を含むことを特徴とする請求項１〜６いずれか１項に記載のはんだ供給装置。
【請求項８】
前記閉位置において、前記シャッタ（２６）は、前記周囲部（１６ｃ）との間に所定の間隙を有することを特徴とする請求項１〜７いずれか１項に記載のはんだ供給装置。
【請求項９】
前記はんだ槽（１４）は、前記底部（１６）に凹部（９４）を有し、
前記凹部の底に前記貫通孔（１８）が形成され、
前記凹部の底壁及び側壁が、前記周囲部（１６ｃ）とされていることを特徴とする請求項８に記載のはんだ供給装置。
【請求項１０】
前記閉位置において、前記シャッタ（２６）は、前記周囲部（１６ｃ）に接触することを特徴とする請求項１〜７いずれか１項に記載のはんだ供給装置。
【請求項１１】
前記はんだ槽（１４）と前記シャッタ（２６）とが、互いに同一の材料を用いて形成されていることを特徴とする請求項１〜１０いずれか１項に記載のはんだ供給装置。
【請求項１２】
前記底部外面（１６ｂ）における各貫通孔（１８）の開口部の周囲に、他の部分に対して突出する凸部（９６）が形成されていることを特徴とする請求項１〜１１いずれか１項に記載のはんだ供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージに載置されるワークに対して、多点一括で溶融はんだを供給するはんだ供給装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、特許文献１に記載のように、リードフレーム（ワーク）に対して液体半田（溶融はんだ）を供給するはんだ供給装置が知られている。
【０００３】
特許文献１に記載のはんだ供給装置は、溶融はんだの液面に印加される圧力を制御することで、ワークに溶融はんだを供給する圧力制御方式の装置となっている。また、小容積の密閉容器であるルツボを用い、溶融はんだの減少分に応じてルツボ内にはんだワイヤを補給するようになっている。このようにして、ワークに対し溶融はんだの連続供給を可能とするとともに、はんだ供給量のばらつきを抑制するようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１４９７８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の構成の場合、小容積の密閉容器であるルツボを用いるため、ワークに対して、多点一括で溶融はんだを供給する場合には、供給箇所に応じた複数のはんだ供給装置が必要となる。また、複数のルツボを用いるため、塗布間隔の狭い部分に、はんだを供給することが困難である。
【０００６】
本発明は上記問題点に鑑み、多点に対して一括で溶融はんだを供給できるはんだ供給装置において、構成を簡素化し、塗布箇所の自由度を向上することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、開示された発明のひとつは、ステージ（１００）に載置されるワーク（１０２）に対して、多点一括で溶融はんだ（１２）を供給するはんだ供給装置であって、溶融はんだを収容するものであり、底部（１６）に複数の貫通孔（１８）が形成されたはんだ槽（１４）と、はんだ槽の底部内面（１６ａ）における各貫通孔の開口部及び該開口部の周囲部（１６ｃ）と対向するように、はんだ槽に対して保持されたシャッタ（２６）と、はんだ槽の深さ方向においてシャッタを移動させる第１アクチュエータ（３８）と、深さ方向において、シャッタを含むはんだ槽とワークとを相対的に移動させる第２アクチュエータ（７０，８０）と、第１アクチュエータ及び第２アクチュエータの駆動を制御する制御部（８８）と、を備える。制御部は、ワークがステージに搬入され、溶融はんだの供給後にステージから搬出されるまでの間に、はんだ槽の底部外面（１６ｂ）は、ワークに接触しない非接触位置から、ワークに接触する接触位置となり、次いで非接触位置に戻るように、第２アクチュエータを制御するとともに、はんだ槽が非接触位置とされた状態で、シャッタは、周囲部に最も近い閉位置となり、はんだ槽が接触位置とされた状態で、シャッタは、閉位置から、該閉位置よりも周囲部から離れ、貫通孔内に溶融はんだが流れ込む開位置となり、次いで閉位置に戻るように、第１アクチュエータを制御する。そして、上記閉位置は、シャッタ、該シャッタと対向する周囲部、各貫通孔の壁面、及びワークにより形成される切出空間の溶融はんだが、切出空間を除くはんだ槽の部分の溶融はんだと分離され、はんだ槽が接触位置から非接触位置に戻る際にワークに転写される位置に設定される。また、第２アクチュエータ（７０）は、深さ方向においてはんだ槽（１４）を移動させるとともに、深さ方向において、上死点と下死点との間を往復移動する懸架部（８０）を有し、下死点から上死点への移動において懸架部が上死点に到達する前に、懸架部がはんだ槽（１４）と機械的に接続されてはんだ槽を吊り上げ、上死点において、はんだ槽の底部外面（１６ｂ）が非接触位置となり、上死点から下死点への移動において懸架部が下死点に到達する前に、はんだ槽の底部外面がワーク（１０２）に接触し、下死点において、懸架部とはんだ槽との機械的な接続は解除されることを特徴とする。
【０００８】
本発明では、はんだ槽（１４）の底部（１６）に複数の貫通孔（１８）が形成されている。また、深さ方向に移動可能にシャッタ（２６）が設けられており、シャッタが閉位置の状態で、シャッタ、該シャッタと対向する周囲部（１６ｃ）、各貫通孔の壁面、及びワーク（１０２）により、切出空間が形成される。また、切出空間の溶融はんだ（１２）は、切出空間を除くはんだ槽の部分の溶融はんだと分離されて、はんだ槽がワークから離反する際に、ワークに転写される。このように、はんだ槽を複数用いることなく、すなわち従来に較べて簡素な構成で、ワークに対し多点一括で溶融はんだを供給することができる。また、貫通孔の配置によって塗布間隔が決定されるため、複数のルツボを用いる従来の構成に較べて、塗布間隔を狭くすることができる。すなわち、塗布箇所の自由度を向上することができる。
【０００９】
なお、圧力制御方式の場合、一般的に、溶融はんだの液面に印加するガス圧の微妙な変動や溶融はんだの液面高さによる水頭圧変化により、はんだ供給量がばらつくという問題がある。これに対し、本発明によれば、シャッタ、該シャッタと対向する周囲部、各貫通孔の壁面、及びワークにより形成される切出空間（所定容積の空間）の溶融はんだを供給する。言うなれば、本発明は定寸切出方式（定積切出方式）である。このため、従来一般の圧力制御方式に較べて、溶融はんだの供給量のばらつきを低減することもできる。
【００１８】
また、フリーの状態ではんだ槽（１４）がワーク（１０２）に接触する。このため、ワークにどのような反りが生じていても、ワークの反りを低減することができる。したがって、はんだ供給量のばらつきを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】第１実施形態に係るはんだ供給装置の概略構成を示す断面図であり、懸架部が上死点の状態を示している。
【図２】ホルダへのシャッタシャフトの固定状態を示す図である。
【図３】図１に示すはんだ供給装置について、懸架部が下死点の状態を示す断面図である。
【図４】ワークへの溶融はんだの転写動作を説明する断面図であり、ステージにワークが搬入された直後で、懸架部が上死点の状態を示している。
【図５】図４のうち、貫通孔周辺を拡大した図である。
【図６】ワークへの溶融はんだの転写動作を説明する断面図であり、図４に対し、懸架部が下死点となっている。
【図７】図６のうち、貫通孔周辺を拡大した図である。
【図８】ワークへの溶融はんだの転写動作を説明する断面図であり、図６に対し、シャッタが開位置となっている。
【図９】図８のうち、貫通孔周辺を拡大した図である。
【図１０】ワークへの溶融はんだの転写動作を説明する断面図であり、図８に対し、シャッタが閉位置となっている。
【図１１】図１０のうち、貫通孔周辺を拡大した図である。
【図１２】ワークへの溶融はんだの転写動作を説明する断面図であり、図１０に対し、懸架部が上死点とされ、ワークがステージから搬出される直前の状態を示している。
【図１３】図１２のうち、貫通孔周辺を拡大した図である。
【図１４】第２実施形態に係るはんだ供給装置のうち、貫通孔周辺を拡大した図である。本図では、図１１同様、はんだ槽が接触位置、シャッタシャフトが閉位置の状態を示している。
【図１５】はんだ供給装置のうち、貫通孔周辺を拡大した図である。本図では、図１３同様、ワークに溶融はんだが転写された状態を示している。
【図１６】切出空間の溶融はんだが転写されるメカニズムのシミュレーション結果を示す図であり、（ｂ）は（ａ）を白抜き矢印方向から見た断面図である。本図では、はんだ槽が上昇を開始してから５ｍｓ後の状態を示している。
【図１７】切出空間の溶融はんだが転写されるメカニズムのシミュレーション結果を示す図であり、（ｂ）は（ａ）を白抜き矢印方向から見た断面図である。本図では、はんだ槽が上昇を開始してから１０ｍｓ後の状態を示している。
【図１８】切出空間の溶融はんだが転写されるメカニズムのシミュレーション結果を示す図であり、（ｂ）は（ａ）を白抜き矢印方向から見た断面図である。本図では、はんだ槽が上昇を開始してから４０ｍｓ後の状態を示している。
【図１９】切出空間の溶融はんだが転写されるメカニズムのシミュレーション結果を示す図であり、（ｂ）は（ａ）を白抜き矢印方向から見た断面図である。本図では、はんだ槽が上昇を開始してから７０ｍｓ後の状態を示している。
【図２０】シャッタシャフトと周囲部との間隙と溶融はんだの転写量との関係を示す図である。
【図２１】はんだ供給装置の変形例を示す断面図であり、図１４に対応している。
【図２２】第３実施形態に係るはんだ供給装置のうち、貫通孔周辺を拡大した図である。本図では、図１３同様、ワークに溶融はんだが転写された状態を示している。
【図２３】テストに用いた底部プレートにおいて、貫通孔のレイアウトを示す平面図である。
【図２４】転写結果を示す図である。
【図２５】はんだ供給装置の、その他変形例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。なお、以下に示す各図において、共通乃至関連する要素には同一の符号を付与するものとする。また、はんだ槽の深さ方向を単に深さ方向とする。
【００２１】
（第１実施形態）
先ず、図１を用いてはんだ供給装置１０の概略構成を説明する。はんだ供給装置１０は、ステージ１００に載置されるワーク１０２に対して、多点一括で溶融はんだ１２を供給する装置である。このはんだ供給装置１０は、還元炉内で用いられる。
【００２２】
ステージ１００は、ワーク１０２を予備加熱するため、ヒータなどの図示しない加熱手段を備えている。例えば還元炉内においてワーク１０２を搬送する搬送ＣＶのうち、はんだ供給工程の部分を、ステージ１００として採用することができる。
【００２３】
また、ワーク１０２としては、単数、複数のいずれでも良い。溶融はんだ１２がそれぞれ一点で供給される複数のワーク１０２に対して、共通のはんだ供給装置１０により溶融はんだ１２を一括で供給するようにしても良い。本実施形態では、ワーク１０２としてリードフレームを採用しており、１つのリードフレームに対して、溶融はんだ１２を多点で供給するようになっている。
【００２４】
はんだ供給装置１０は、要部として、はんだ槽１４、シャッタシャフト２６、モータ３８、モータ７０、懸架部８０、及び通電制御部８８を備えている。
【００２５】
はんだ槽１４は、溶融はんだ１２を収容するものであり、有底筒状をなしている。はんだ槽１４のうち、底部をなす底部プレート１６には、内面１６ａから外面１６ｂにわたって貫通する貫通孔１８が複数形成されている。各貫通孔１８は、ワーク１０２における溶融はんだ１２の供給位置に対応して形成されている。貫通孔１８の断面形状及び開口面積は特に限定されるおのではない。本実施形態では、全ての貫通孔１８が、互いに同一の断面形状及び開口面積を有している。底部プレート１６の内面１６ａ及び貫通孔１８の壁面を含むはんだ槽１４の内面には、溶融はんだ１２による溶食を防ぐための図示しない保護膜が設けられている。
【００２６】
また、はんだ槽１４は、加熱手段としてのヒータ２０を有している。このヒータ２０により、はんだ槽１４内において溶融はんだ１２の溶融状態が保持される。本実施形態では、ヒータ２０が、底部プレート１６ではなく、筒状の側壁部分に設けられている。このように構成されるはんだ槽１４には、複数本のシャフト２２がそれぞれ固定されている。そして、各シャフト２２におけるはんだ槽１４と反対の端部が、調整プレート２４に固定されている。なお、図１では、底部プレート１６の外面１６ｂが、ワーク１０２に対して、深さ方向上方に離反した状態を示している。
【００２７】
シャッタシャフト２６は、ワーク１０２に対して、溶融はんだ１２を供給／供給を遮断するためのシャッタとしての機能するものである。また、貫通孔１８の壁面などとともに所定の切出空間を形成し、該切出空間内の溶融はんだ１２、言うなれば所定容積の溶融はんだ１２をワーク１０２に供給する機能も果たす。この切出空間の詳細については後述する。このような機能を果たすため、シャフトシャッタ２６は、底部プレート１６の内面１６ｂにおける各貫通孔１８の開口部及び該開口部の周囲部と対向するように、はんだ槽１４に対して保持されている。詳しくは、深さ方向に沿って延びており、少なくとも深さ方向の一端面である底面が、底部プレート１６の内面１６ｂ（周囲部）と対向している。
【００２８】
なお、深さ方向と直交する方向において、シャッタシャフト２６と周囲部とのオーバーラップする幅Ｗ（図５参照は、底部プレート１６の膨張量Ａの１／２以上の長さとされると良い。はんだ槽１４の線膨張係数をα、記深さ方向と直交する向おける底部プレート１６の長さをＬ、溶融はんだ１２を保持している状態でのはんだ槽１４と外部雰囲気との温度差をΔＴとすると、底部プレート１６の膨張量（歪量）Ａは、Ａ＝α×Ｌ×ΔＴにて示される。これによれば、はんだ槽１４の底部プレート１６が直交方向に膨張しても、シャッタシャフト２６が、底部プレート１６における貫通孔１８の開口部及び周囲部と対向することとなる。したがって、所定容積の切出空間を形成することができる。
【００２９】
シャッタシャフト２６は、全ての貫通孔１８に対して配置されればよく、その本数は、単数、複数のいずれでも良い。例えば複数の貫通孔１８に対して１つのシャッタシャフト２６が配置されても良いし、貫通孔１８の個数よりも少ない複数のシャッタシャフト２６が配置されても良い。本実施形態では、貫通孔１８の個数とシャッタシャフト２６の本数が同数となっている。また、複数本のシャッタシャフト２６が、互いに同一形状をなしている。さらに、各シャッタシャフト２６が、底部プレート１６を含むはんだ槽１４と同一の材料を用いて形成されている。
【００３０】
各シャッタシャフト２６は、底面と反対側の端部付近において、ホルダ２８に保持されている。本実施形態では、各シャッタシャフト２６が、共通のホルダ２８に取り付けられている。また、図２に示すように、シャッタシャフト２６は、ホルダ２８にねじ３０を用いてそれぞれ固定（締結）されており、各シャッタシャフト２６が独立して深さ方向の位置を調整できるようになっている。このホルダ２８は、リニアブッシュ３２を介して、複数本のガイドシャフト３４に取り付けられている。ガイドシャフト３４は、深さ方向に沿って延びており、ホルダ２８、ひいてはシャッタシャフト２６を、深さ方向に沿って移動させるガイド機能を果たす。各ガイドシャフト３４の一端は、上記した調整プレート２４に固定されており、他端は下部プレート３６に固定されている。なお、下部プレート３６は、シャッタシャフト２６の深さ方向の移動を妨げないように設けられている。
【００３１】
なお、はんだ槽１４の線膨張係数をα、記深さ方向と直交する直交方向おける底部プレート１６の長さをＬ、溶融はんだ１２を保持している状態でのはんだ槽１４と外部雰囲気との温度差をΔＴとすると、底部プレート１６の膨張量（歪量）Ａは、Ａ＝α×Ｌ×ΔＴにて示される。したがって、好ましくは、直交方向において、シャッタシャフト２６と周囲部１６ｃとのオーバーラップする幅Ｗ（図５参照）が、膨張量Ａの１／２以上の長さとされると良い。これによれば、はんだ槽１４の底部プレート１６が直交方向に膨張しても、シャフトシャッタ２６が、底部プレート１６の開口部及び周囲部１６ｃと対向することとなる。したがって、所定容積の切出空間を形成することができる。
【００３２】
モータ３８は、調整プレート２４におけるはんだ槽１４と反対側の面に配置された取付台４０に固定されている。このモータ３８は、シャッタシャフト２６を、深さ方向に移動させてシャッタとして機能させるためのものである。換言すれば、底部プレート１６の内面１６ａに対するシャッタシャフト２６の位置を調整するためのものである。このモータ３８のモータ軸４２には、カップリング４４を介して、ねじ軸４６が接続されている。ねじ軸４６は深さ方向に延びており、カップリング４４と反対の端部には、上記した下部プレート３６が取り付けられている。また、ねじ軸４６の中間には、ナット４８が設けられ、ねじ軸４６とナット４８を有してボールねじが構成されている。そして、ナット４８に上記したホルダ２８が固定されている。このため、モータ３８の回転運動を、ホルダ２８、ひいてはシャッタシャフト２６の、深さ方向に沿う直線運動に変換することができる。このように、モータ３８、モータ軸４２、カップリング４４、ねじ軸４６及びナット４８を含むボールねじにより、深さ方向においてシャッタシャフト２６を移動させる第１アクチュエータが構成されている。なお、符号５０は、ベアリングであり、ねじ軸４６は、ベアリング５０を介して調整プレート２４に保持されている。
【００３３】
また、調整プレート２４は、ミドルプレート５２に対して略平行となるように、ミドルプレート５２に固定されている。ミドルプレート５２は、複数本のガイドシャフト５６に、リニアブッシュ５４を介して取り付けられている。ガイドシャフト５６の下端はベースプレート５８に固定され、上端はトッププレート６０に固定されている。このため、ガイドシャフト５６は、その長手方向が深さ方向と略平行となっている。そして、ミドルプレート５２は、深さ方向と直交する面に対して略平行となっている。また、ミドルプレート５２は、深さ方向に平行移動できるようになっている。上記したように、はんだ槽１４、調整プレート２４、シャッタシャフト２６、ホルダ２８、モータ３８などは、ミドルプレート５２と一体化されており、１つのユニット６２をなしている。このため、ユニット６２は、ガイドシャフト５６により、深さ方向に平行移動できるようになっている。
【００３４】
ミドルプレート５２におけるはんだ槽１４と反対側の面には、ユニット６２を深さ方向に移動させるためのアーム部６４が接続されている。このアーム部６４は、言うなればかばんの持ち手に相当する部分であり、かばんはユニット６２に相当する。本実施形態において、アーム部６４は、一端がミドルプレート５２に固定された複数本のアームシャフト６６と、アームシャフト６６の他端に取り付けられたアームプレート６８と、を有している。各アームシャフト６６は、その長さが互いに等しくされ、これにより、アームプレート６８は、ミドルプレート５２と略平行、すなわち深さ方向と直交する面に対して略平行となっている。
【００３５】
モータ７０は、トッププレート６０におけるはんだ槽１４と反対側の面に配置された取付台７２に固定されている。このモータ７０は、懸架部８０を深さ方向に移動させ、ひいてはユニット６２（はんだ槽１４及びシャッタシャフト２６）を深さ方向に移動させるためのものである。換言すれば、ワーク１０２に対するユニット６２の位置を調整するためのものである。このモータ７０のモータ軸７４には、カップリング７６を介して、ねじ軸７８が接続されている。ねじ軸７８は深さ方向に延びている。また、ねじ軸７８の中間には、ナット７９が設けられ、ねじ軸７８とナット７９を有してボールねじが構成されている。
【００３６】
懸架部８０は、モータ７０の駆動により、深さ方向において上死点と下死点との間を往復移動し、下死点（最下点）から上死点（最上点）への移動過程において、アーム部６４のアームプレート６８、すなわちユニット６２（はんだ槽１４）を吊り上げる機能を果たす。本実施形態において、懸架部８０は、それぞれ平面矩形状をなす対向プレート８２，８４と、対向プレート８２，８４の４隅をそれぞれ連結するシャフト８６と、を有している。このシャフト８６は、対向プレート８２，８４を、アームプレート６８の厚さよりも長い対向距離で保持する機能を果たす。アームプレート６８は、対向プレート８２，８４に挟まれており、各シャフト８６は、アームプレート６８に形成された図示しない貫通孔を挿通している。また、上記したナット７９に上側の対向プレート８４が固定されている。このため、モータ７０の回転運動を深さ方向に沿う直線運動に変換し、懸架部８０は、深さ方向において上死点と下死点との間を往復移動することができる。このように、モータ７０、モータ軸７４、カップリング７６、ねじ軸７８及びナット７９を含むボールねじ、及び懸架部８０により、深さ方向においてユニット６２を移動させる第２アクチュエータが構成されている。
【００３７】
通電制御部８８は、各モータ３８，７０に内蔵のコイルに電気的に接続されており、これらコイルへの通電を所定のプログラムを実行することで制御する。この通電制御を受けてモータ３８，７０は、各永久磁石に作用する磁界を各コイルの励磁により発生することにより、モータ軸４２，７２を時計方向又は反時計方向へ回転駆動する。
【００３８】
次に、ユニット６２の深さ方向の移動について、図１及び図３を用いて説明する。
【００３９】
図３に示すように、懸架部８０が下死点の状態において、アーム部６４のアームプレート６８は、懸架部８０の対向プレート８２，８４と非接触とされ、特に下側の対向プレート８２に対して浮いている。この状態で、はんだ槽１４における底部プレート１６の外面１６ｂは、ワーク１０２に接触している。
【００４０】
通電制御部８８の制御により、懸架部８０が上昇する方向にモータ７０が駆動すると、懸架部８０は、図３に示す下死点から、図１に示す上死点に向けて上昇する。この上昇過程において、懸架部８０が上死点に到達する前に、下側の対向プレート８２がアーム部６４のアームプレート６８の下面に接触する。換言すれば、懸架部８０がはんだ槽１４と機械的に接続される。そして、懸架部８０の上昇にともなって、アーム部６４、ひいてはユニット６２が深さ方向上方に吊り上げられる。このため、懸架部８０が上死点に到達した状態では、図１に示すように、はんだ槽１４を構成する底部プレート１６の外面１６ｂがワーク１０２に対して非接触状態となる。
【００４１】
一方、通電制御部８８の制御により、懸架部８０が下降する方向にモータ７０が駆動すると、懸架部８０は、図１に示す上死点から、図３に示す下死点に向けて下降する。この下降過程において、懸架部８０が下死点に到達する前に、底部プレート１６の外面１６ｂがワーク１０２に接触する。懸架部８０はさらに下降するため、下側の対向プレート８２はアーム部６４のアームプレート６８から離れる。換言すれば、懸架部８０とはんだ槽１４との機械的な接続が解除される。このため、懸架部８０が下死点に到達した時点では、図３に示すように、アーム部６４のアームプレート６８は、下側の対向プレート８２に対して浮いた非接触状態となる。
【００４２】
次に、ワーク１０２への溶融はんだ１２の転写について、図４〜図１３を用いて説明する。図４、図６、図８、図１０、及び図１２は互いに対応関係にあり、はんだ供給装置１０のうち、便宜上、ユニット６２の周辺を拡大している。図５、図７、図９、図１１、及び図１３は、互いに対応関係にあり、ユニット６２のうち、貫通孔１８の周辺を拡大している。
【００４３】
通電制御部８８は、ワーク１０２がステージ１００に搬入され、溶融はんだ１２の供給後にステージ１００から搬出されるまでの間に、はんだ槽１４における底部プレート１６の外面１６ｂが、ワーク１０２に接触しない非接触位置から、ワーク１０２に接触する接触位置となり、次いで非接触位置に戻るように、モータ７０の駆動を制御する。換言すれば、ワーク１０２が搬入され、搬出されるまでの間に、懸架部８０が、上死点→下死点→上死点となるように、モータ７０の駆動を制御する。
【００４４】
図４及び図５は、ステージ１００にワーク１０２が搬入された直後の状態を示している。この状態は上記した図１に対応している。通電制御部８８によりモータ７０の駆動が制御され、はんだ槽１４における底部プレート１６の外面１６ｂが、ワーク１０２に接触しない非接触位置に保持されている。換言すれば、懸架部８０が、上死点に保持されている。また、通電制御部８８によりモータ３８の駆動が制御され、シャッタシャフト２６の底面２７が、底部プレート１６の内面１６ａにおける貫通孔１８の周囲部１６ｃに対して取り得る最も近い位置、すなわち閉位置に保持されている。
【００４５】
このように、ワーク１０２が搬入された直後は、懸架部８０が上死点とされてはんだ槽１４がワーク１０２に非接触とされ、且つ、シャッタシャフト２６が閉位置とされる。なお、閉位置は、シャッタシャフト２６、周囲部１６ｃ、各貫通孔１８の壁面、及びワーク１０２により形成される切出空間の溶融はんだ１２が、切出空間を除くはんだ槽１４の部分の溶融はんだ１２と分離され、はんだ槽１４が接触位置から非接触位置に戻る際に、ワーク１０２に転写されるように設定される。換言すれば、図４及び図５に示すように貫通孔１８が空の状態で、シャッタシャフト２６の遮断機能により、はんだ槽１４の溶融はんだ１２が貫通孔１８内に流れこまないように設定される。本実施形態では、図５に示すように、閉位置において、シャッタシャフト２６が周囲部１６ｃと接触するように、シャッタシャフト２６の深さ方向の位置が調整されている。
【００４６】
次いで、通電制御部８８は、シャッタシャフト２６を閉位置に保持するように、モータ３８の駆動を制御する。この制御とともに、底部プレート１６の外面１６ｂが、ワーク１０２に接触する接触位置となる、すなわち懸架部８０が下死点となるように、モータ７０の駆動を制御する。図６及び図７は、ワーク１０２にはんだ槽１４が接触した直後の状態を示している。この状態は上記した図３に対応している。したがって、ワーク１０２にはんだ槽１４が接触した直後の状態では、貫通孔１８内に溶融はんだ１２が流れこんでいない。
【００４７】
次いで、通電制御部８８は、底部プレート１６の外面１６ｂを接触位置に保持するように、モータ７０の駆動を制御するとともに、各シャッタシャフト２６（底面２７）が開位置となるように、モータ３８の駆動を制御する。図８及び図９は、シャッタシャフト２６が開位置となった状態を示している。なお、開位置とは、シャッタシャフト２６が閉位置よりも深さ方向において周囲部１６ｃから離れ、貫通孔１８内に溶融はんだ１２が流れ込む所定の位置である。このように、シャッタシャフト２６が開位置となることで、全ての貫通孔１８内に溶融はんだ１２が満たされる。
【００４８】
次いで、通電制御部８８は、底部プレート１６の外面１６ｂを接触位置に保持するように、モータ７０の駆動を制御するとともに、シャッタシャフト２６が再度閉位置となるように、モータ３８の駆動を制御する。図１０及び図１１は、シャッタシャフト２６が閉位置となった状態を示している。閉位置となると、シャッタシャフト２６、周囲部１６ｃ、各貫通孔１８の壁面、及びワーク１０２により、はんだが充填された所定容積の空間である切出空間が形成される。本実施形態では、閉位置の状態で、シャッタシャフト２６が底部プレート１６に接触するため、切出空間の容積が貫通孔１８の容積とほぼ一致する。また、この時点で、切出空間の溶融はんだ１２と、切出空間を除くはんだ槽１４の溶融はんだ１２とが分離される。
【００４９】
次いで、通電制御部８８は、シャッタシャフト２６を閉位置に保持するように、モータ３８の駆動を制御するとともに、底部プレート１６の外面１６ｂが、非接触位置となる、すなわち懸架部８０が上死点となるように、モータ７０の駆動を制御する。図１２及び図１３は、はんだ槽１４における底部プレート１６の外面１６ｂが非接触位置とされた状態を示している。上記した切出空間の溶融はんだ１２は、ワーク１０２に対して濡れている。したがって、各切出空間の溶融はんだ１２は、はんだ槽１４が接触位置から非接触位置に戻る際、すなわちワーク１０２から離れる際に、ワーク１０２に転写される。
【００５０】
そして、溶融はんだ１２が転写されたワーク１０２は、ステージ１００から払い出される。すると、次のワーク１０２がステージ１００に搬入され、上記した転写工程が実施される。
【００５１】
次に、本実施形態に係るはんだ供給装置１０の効果について説明する。
【００５２】
本実施形態では、はんだ槽１４の底部プレート１６に複数の貫通孔１８が形成されている。また、深さ方向に移動可能にシャッタシャフト２６が設けられており、シャッタシャフト２６が閉位置の状態で、シャッタシャフト２６、周囲部１６ｃ、各貫通孔１８の壁面、及びワーク１０２により、切出空間が形成される。また、切出空間の溶融はんだ１２は、切出空間を除くはんだ槽１４の部分の溶融はんだ１２と分離されて、はんだ槽１４がワーク１０２から離れる際にワーク１０２に転写される。したがって、はんだ槽１４を複数用いることなく、すなわち従来に較べて簡素な構成で、ワーク１０２に対し多点一括で溶融はんだ１２を供給することができる。また、貫通孔１８の配置によって塗布間隔が決定されるため、複数のルツボを用いる従来の構成に較べて、塗布間隔を狭くすることができる。すなわち、塗布箇所の自由度を向上することができる。
【００５３】
なお、圧力制御方式の場合、一般的に、溶融はんだの液面に印加するガス圧の微妙な変動や溶融はんだの液面高さによる水頭圧変化により、はんだ供給量がばらつくという問題がある。これに対し、本実施形態では、シャッタシャフト２６、周囲部１６ｃ、各貫通孔１８の壁面、及びワーク１０２により形成される切出空間（所定容積の空間）の溶融はんだ１２を、ワーク１０２に供給する。言うなれば、本実施形態に示すはんだ供給装置１０は定寸切出方式（定積切出方式）となっている。このため、従来一般の圧力制御方式に較べて、溶融はんだ１２の供給量のばらつきを低減することもできる。
【００５４】
また、本実施形態では、閉位置において、シャッタシャフト２６が底部プレート１６の周囲部１６ｃに接触する。したがって、シャッタシャフト２６が周囲部１６ｃに接触しない構成に較べて、溶融はんだ１２の供給量の精度を向上することができる。
【００５５】
また、本実施形態では、はんだ槽１４（ユニット６２）を移動させる第２アクチュエータが、深さ方向において上死点と下死点との間を往復移動する懸架部８０を有している。そして、下死点から上死点への移動において懸架部８０が上死点に到達する前に、懸架部８０がはんだ槽１４と機械的に接続されてはんだ槽１４を吊り上げ、上死点において、はんだ槽１４の底部プレート１６の外面１６ｂが非接触位置となる。一方、上死点から下死点への移動において懸架部８０が下死点に到達する前に、底部プレート１６の外面１６ｂがワーク１０２に接触し、下死点において、懸架部８０とはんだ槽１４との機械的な接続状態は解除される。このため、図１０及び図１１において、懸架部８０により吊られていないフリーな状態で、はんだ槽１４がワーク１０２に接触する。このため、ワーク１０２にどのような反りが生じていても、ワーク１０２の反りを低減することができる。これにより、切出空間の容積が安定化するため、溶融はんだ１２の供給量のばらつきを抑制することができる。
【００５６】
また、室温の状態で、はんだ供給装置１０を組んでも、はんだ槽１４に溶融はんだ１２を充填した高温状態では、装置の構成要素が膨張する。これに対し、本実施形態によれば、はんだ槽１４と各シャッタシャフト２６とが、互いに同一の材料を用いて形成されている。したがって、深さ方向及び該深さ方向に直交する方向において、はんだ槽４とシャッタシャフト２６との線膨張係数差による寸法変化をキャンセルさせることができる。すなわち、シャッタシャフト２６が、ワーク１０２に対して、溶融はんだ１２を供給／供給を遮断するシャッタとしての機能を果たすことができる。また、所定容積の切出空間を形成することができる。
【００５７】
また、本実施形態では、複数本のシャッタシャフト２６が、ホルダ２８にねじ３０を用いてそれぞれ固定（締結）されており、各シャッタシャフト２６が独立して深さ方向の位置を調整できるようになっている。このため、上記した高温状態において、はんだ槽１４の底部プレート１６が深さ方向に反っても、この高温状態で、シャッタシャフト２６の位置をそれぞれ調整することができる。したがって、切出空間ごとに、溶融はんだ１２の供給量のばらつきを抑制することができる。
【００５８】
（第２実施形態）
本実施形態において、第１実施形態に示したはんだ供給装置１０と共通する部分についての説明は割愛する。第１実施形態では、閉位置において、シャッタシャフト２６が底部プレート１６の周囲部１６ｃに接触する例を示した。
【００５９】
これに対し、本実施形態の特徴は、図１４及び図１５に示すように、閉位置において、シャッタシャフト２６が底部プレート１６の周囲部１６ｃとの間に所定の間隙を有することにある。なお、この間隙は、はんだ槽１４が接触位置から非接触位置に移動する際に、切出空間の溶融はんだ１２が他の部分の溶融はんだ１２と分離される距離の範囲内で設定される。換言すれば、はんだ槽１４が接触位置から非接触位置に移動し、切出空間の溶融はんだ１２がワーク１０２に転写された状態で、貫通孔１８に溶融はんだ１２が流れこまない距離の範囲内で設定される。
【００６０】
図１４は、各シャッタシャフト２６（底面２７）が開位置とされた後に、再度閉位置とされた状態を示している。この図１４は、第１実施形態の図１０及び図１１に対応している。このように、はんだ槽１４がワーク１０２に接触された状態で、シャッタシャフト２６が開位置の後に閉位置となると、シャッタシャフト２６、周囲部１６ｃ、各貫通孔１８の壁面、及びワーク１０２により、はんだが充填された所定容積の空間である切出空間が形成される。この切出空間には、図１４に示すように溶融はんだ１２が充填されている。本実施形態では、閉位置の状態で、シャッタシャフト２６が底部プレート１６に接触しないため、切出空間の容積は、貫通孔１８の容積と底部プレート１６の内面１６ａにおける貫通孔１８の開口部及び周囲部１６ｃとシャッタシャフト２６との対向領域との和にほぼ等しくなる。この時点で、切出空間の溶融はんだ１２と、切出空間を除くはんだ槽１４の溶融はんだ１２は繋がっている。
【００６１】
図１５は、図１４の状態に次いで、シャッタシャフト２６を閉位置に保持しつつ、底部プレート１６の外面１６ｂを非接触位置とした状態を示している。図１４の時点で、切出空間の溶融はんだ１２は、ワーク１０２に対して濡れている。また、シャッタシャフト２６と周囲部１６ｃとの間隙は、はんだ槽１４が接触位置から非接触位置に移動する際に、切出空間の溶融はんだ１２が他の部分の溶融はんだ１２と分離される距離の範囲内で設定されている。したがって、はんだ槽１４が接触位置から非接触位置に戻る際、すなわちワーク１０２から離れる際に、ワーク１０２に転写される。
【００６２】
このように、閉位置において、シャッタシャフト２６が周囲部１６ｃとの間隙を有していても、第１実施形態に示した構成と同等の効果を奏することができる。
【００６３】
さらに、本実施形態では、開閉にともなってシャッタシャフト２６がはんだ槽１４の底部プレート１６に接触しない。したがって、はんだ槽１４において、溶食を防ぐための保護膜の寿命を向上することができる。すなわち、長期にわたって、溶食を防ぐことができる。
【００６４】
なお、はんだ槽１４の底部プレート１６に接触しない範囲で、シャッタシャフト２６を底部プレート１６にできるかぎり近づけたほうが、溶融はんだ１２を転写でき、且つ、転写量のばらつきを低減する上で好ましい。ハーゲンポアズイユの式によれば、流量は、開口部の周囲長に比例するととともに、上記した間隙の３乗に比例する。したがって、間隙が狭いほど、流量、すなわちシャッタシャフト２６と周囲部１６ｃとの間隙を通過できる溶融はんだ１２の量が減少する。そこで、本発明者は、非接触構造における切出空間の溶融はんだ１２の転写について、実際の測定及びシミュレーションにより鋭意検討を行った。
【００６５】
図１６〜図１９は、流体解析（シミュレーション）により、切出空間の溶融はんだ１２がワーク１０２に転写されるメカニズムを検証した結果を示している。このシミュレーションでは、シャッタシャフト２６と周囲部１６ｃとの間隙を０．０１ｍｍ、溶融はんだ１２としてはＳｎ３．０Ａｇ０．５Ｃｕはんだの物性を用いた。また溶融はんだ１２の温度を２６０℃とした。そして、はんだ槽１４が、１０ｍｍ／ｓの移動速度でワーク１０２から離反するものとした。
【００６６】
図１６（ａ），（ｂ）は、移動開始から５ｍｓ後の状態を示している。この時点で、はんだ槽１４の底部プレート１６は、ワーク１０２に対してわずかに離反している。そして、平面矩形状の貫通孔１８のうち、４隅部に空気９０が入り込み、はんだ切れ部９２が形成されている。このはんだ切れ部９２は、シャッタシャフト２６と周囲部１６ｃとの間隙が狭いため、はんだ槽１４の切出空間を除く部分からの溶融はんだ１２の供給が不足し、生じるものと考えられる。
【００６７】
図１７（ａ），（ｂ）は、移動開始から１０ｍｓ後の状態を示している。底部プレート１６は、図１６よりも、ワーク１０２に対して離れた位置となる。そして、シャッタシャフト２６と周囲部１６ｃとの間隙のほぼ全域に、はんだ切れ部９２が形成されている。
【００６８】
図１８（ａ），（ｂ）は、移動開始から４０ｍｓ後の状態を示している。底部プレート１６は、図１７よりも、ワーク１０２に対して離れた位置となる。そして、シャッタシャフト２６と周囲部１６ｃとの間隙の全域に、はんだ切れ部９２が形成され、切出空間の溶融はんだ１２ａは、はんだ槽１４の他の部分の溶融はんだ１２と完全に分離される。また、溶融はんだ１２ａは、貫通孔１８の直上において、シャッタシャフト２６の底面２７の一部と接触している。
【００６９】
図１９（ａ），（ｂ）は、移動開始から７０ｍｓ後の状態を示している。底部プレート１６は、図１７よりも、ワーク１０２に対して離れた位置となる。そして、切出空間の溶融はんだ１２ａは、シャッタシャフト２６の底面２７からも完全に離れ、ワーク１０２に転写されている。このように、シャッタシャフト２６が周囲部１６ｃとの間隙が狭いと、シャッタシャフト２６が周囲部１６ｃにおいてはんだ切れ部９２が形成され、ひいては切出空間の溶融はんだ１２が、他の部分の溶融はんだ１２と分離され、ワーク１０２に転写されることが明らかとなった。
【００７０】
図２０は、間隙と、溶融はんだ１２ａの転写量との関係を示している。間隙がゼロのとき、切出空間の容積は貫通孔１８の容積とほぼ一致し、実測したところ、溶融はんだ１２ａの転写量は０．００６３ｇ（ｎ＝５、σ０．０００３３）であった。なお、間隙がゼロのとき計算により求められる想定転写量は０．００６５である。図２０に示す破線は、各間隙において、計算により求められる想定転写量を示している。シミュレーションにて本発明者が確認したところ、図２０に一点鎖線で示すように、間隙が０．０５ｍｍ以下であれば、切出空間の溶融はんだ１２ａが他の部分の溶融はんだ１２ａと分離された。また、本発明者が窒素雰囲気（酸素濃度１００ｐｐｍ未満）において実測したところ、図２０に一点鎖線で示すように、間隙が０．０６ｍｍにおいて、切出空間の溶融はんだ１２ａが他の部分の溶融はんだ１２ａと分離された。また、図２０に一点鎖線で示すように、間隙が０．１ｍｍにおいて、切出空間の溶融はんだ１２ａが他の部分の溶融はんだ１２ａと分離されず、はんだ槽１４が非接触位置に上昇した状態で、貫通孔１８を通じたはんだ槽１４外への溶融はんだ１２の漏れが生じた。
【００７１】
このように、実測結果から、シャッタシャフト２６と周囲部１６ｃとの間隙を０．１ｍｍ未満、好ましくは０．０６ｍｍ以下とすると良いことが明らかとなった。
【００７２】
（変形例）
上記実施形態では、底部プレート１６の内面１６ａが平坦とされ、この平坦面に貫通孔１８ａが開口し、シャッタシャフト２６は、平坦な周囲部１６ｃと対向する例を示した。しかしながら、例えば図２１に示すように、はんだ槽１４の底部プレート１６が凹部９４を有し、凹部９４の底に貫通孔１８が形成され、凹部９４の底壁及び側壁が、シャッタシャフト２６と対向する周囲部１６ｃをなすようにしても良い。この場合、シャッタシャフト２６の底面２７及び側面が、周囲部１６ｃと対向する。そして、シャッタシャフト２６の側面と、周囲部１６ｃをなす凹部９４の側壁との間隙も、シャッタシャフト２６の底面２７と、周囲部１６ｃをなす凹部９４の底壁との間隙同様に設定される。
【００７３】
これによれば、深さ方向においてもシャッタシャフト２６と周囲部１６ｃが対向するため、切出空間の溶融はんだ１２が他の部分の溶融はんだ１２と分離される距離を深さ方向において稼ぐことができる。このため、より狭い塗布間隔にも対応することが可能となり、塗布箇所の自由度をさらに向上することができる。
【００７４】
（第３実施形態）
本実施形態において、第１実施形態に示したはんだ供給装置１０と共通する部分についての説明は割愛する。
【００７５】
本実施形態の特徴は、例えば図２２に示すように、複数の貫通孔１８として、容積が互いに異なる貫通孔を含むことにある。図２２には、３つの貫通孔１８を示しており、各貫通孔１８は、平板状の底部プレート１６において、互いに異なる開口面積を有して形成されている。なお、図２２においては、左端から２つの貫通孔１８に対して、共通のシャッタシャフト２６が配置され、このシャッタシャフト２６とは別のシャッタシャフト２６が、右端の貫通孔１８に対して配置されている。
【００７６】
従来周知の圧力制御方式のはんだ供給装置の場合、溶融はんだの液面に印加する圧力を制御することで、適正量の溶融はんだを供給するようにしているため、容積が互いに異なる貫通孔全てにおいて、溶融はんだの供給量のばらつきを低減することはできない。これに対し、上記実施形態に係る定寸切出方式のはんだ供給装置１０によれば、容積が互いに異なる貫通孔１８全てにおいて、溶融はんだ１２ａの供給量のばらつきを低減することができる。すなわち、溶融はんだ１２ａの供給量が互いに異なっても、一括で精度よく供給することができる。
【００７７】
なお、本発明者は、容積が互いに異なる貫通孔を含む複数の貫通孔１８を備えたはんだ槽１４を用いて、溶融はんだ１２ａの転写量の実際に確認した。その際、図２３に示すように、貫通孔１８が１９個形成された底部プレート１６を用いた。１９個の貫通孔１８のうち、貫通孔１８ａ、１８ｄ、１８ｅ、１８ｈ、１８ｉ、１８ｌの６個を２．１ｍｍ×２．１ｍ、貫通孔１８ｂ，１８ｃ、１８ｆ、１８ｇ、１８ｊ、１８ｋの６個を１．６６ｍｍ×１．６６ｍｍとした。また、貫通孔１８ｍ、１８ｏの２個を２．８ｍｍ×２．８ｍｍとし、貫通孔１８ｎ、１８ｐ、１８ｑ、１８ｓの４個を２．２ｍｍ×２．２ｍｍとした。そして、貫通孔１８ａ〜１８ｄを共通のシャッタシャフト２６ａ、貫通孔１８ｅ〜１８ｈを共通のシャッタシャフト２６ｂ、貫通孔１８ｉ〜１８ｌを共通のシャッタシャフト２６ｃとした。また、貫通孔１８ｍ、１８ｎを共通のシャッタシャフト２６ｄ、貫通孔１８ｏ、１８ｐを共通のシャッタシャフト２６ｅ、貫通孔１８ｑ〜１８ｓを共通のシャッタシャフト２６ｆとした。さらに、シャッタシャフト２６と周囲部１６ｃとの間隙を０．０１ｍｍとした。
【００７８】
図２４は、上記底部プレート１６を用いた転写実験の結果（ｎ＝３０）を示している。図２４に示す横軸は孔番号を示しており、この孔番号は貫通孔１８の末尾のアルファベットに対応している。一方、縦軸は、溶融はんだ１２ａの転写量を示している。
【００７９】
孔寸法が１．６６ｍｍ×１．６６ｍｍの場合、計算による切出空間の容積（中心値）は０．００４０７８となり、許容公差を±２０％とすると、上限値は０．００４８９４、下限値は０．００３２６３となる。図２４では、中心値を一点鎖線、上限値及び下限値を破線で示している。図２４に示すように、孔寸法が１．６６ｍｍ×１．６６ｍｍとされた６個の貫通孔１８ｂ，１８ｃ、１８ｆ、１８ｇ、１８ｊ、１８ｋ全てにおいて、転写量が許容範囲内となっている。
【００８０】
孔寸法が２．１ｍｍ×２．１ｍｍの場合、計算による切出空間の容積（中心値）は０．００６５２７となり、許容公差を±２０％とすると、上限値は０．００７８３２、下限値は０．００５２２１となる。図２４では、中心値を一点鎖線、上限値及び下限値を破線で示している。孔寸法が２．１ｍｍ×２．１ｍｍとされた６個の貫通孔１８ａ、１８ｄ、１８ｅ、１８ｈ、１８ｉ、１８ｌ全てにおいて、転写量が許容範囲内となっている。
【００８１】
孔寸法が２．２ｍｍ×２．２ｍｍの場合、計算による切出空間の容積（中心値）は０．００７１６３となり、許容公差を±２０％とすると、上限値は０．００８５９６、下限値は０．００５７３１となる。図２４では、中心値を一点鎖線、上限値及び下限値を破線で示している。孔寸法が２．２ｍｍ×２．２ｍｍとされた４個の貫通孔１８ｎ、１８ｐ、１８ｑ、１８ｓ全てにおいて、転写量が許容範囲内となっている。
【００８２】
孔寸法が２．８ｍｍ×２．８ｍｍの場合、計算による切出空間の容積（中心値）は０．０１１６０３となり、許容公差を±２０％とすると、上限値は０．０１３９２４、下限値は０．００９２８３となる。図２４では、中心値を一点鎖線、上限値及び下限値を破線で示している。孔寸法が２．８ｍｍ×２．８ｍｍとされた２個の貫通孔１８ｍ、１８ｏ全てにおいて、転写量が許容範囲内となっている。
【００８３】
このように、本発明者の実験によっても、定寸切出方式のはんだ供給装置１０によれば、溶融はんだ１２ａの供給量が互いに異なっても、一括で精度よく供給することができることが明らかなっている。
【００８４】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態になんら制限されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々変形して実施することが可能である。
【００８５】
上記実施形態において、モータ７０及び懸架部８０を有する第２アクチュエータが、はんだ槽１４（ユニット６２）を深さ方向に移動させる例を示した。しかしながら、第２アクチュエータは、深さ方向において、はんだ槽１４とワーク１０２とを相対的に移動させるものであれば良い。深さ方向において、はんだ槽１４の位置を固定とし、第２アクチュエータがステージ１００を上下動させる構成としても良い。
【００８６】
上記実施形態において、底部プレート１６における外面１６ｂ側の形状については特に言及しなかった。しかしながら、例えば図２５に示すように、底部プレート１６の外面１６ｂにおける各貫通孔１８の開口部の周囲に、外面１６ｂの他の部分に対して突出する凸部９６が形成された構成としても良い。これによれば、溶融はんだ１２をはんだ槽１４が収容した高温状態で、底部プレート１６ｂに図２５に示すような反りが生じても、はんだ槽１４とワーク１０２との最大隙間を小さくすることができる。これにより、溶融はんだ１２ａの供給量のばらつきを抑制することができる。
【符号の説明】
【００８７】
１０・・・はんだ供給装置
１２・・・溶融はんだ
１２ａ・・・（転写された）溶融はんだ
１４・・・はんだ槽
１６・・・底部プレート（底部）
１６ａ・・・内面（底部内面）
１６ｂ・・・外面（底部外面）
１８，１８ａ〜１８ｓ・・・貫通孔
２６，２６ａ〜２６ｆ・・・シャッタシャフト（シャッタ）
３８・・・モータ
６２・・・ユニット
６４・・・アーム部
７０・・・モータ
８０・・・懸架部
８８・・・通電制御部（制御部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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