(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を準備する工程と、
ブラックマトリクス層用塗工液を、前記基板上の必要な領域に選択的に塗布し、その後、前記基板を露光し、その後、前記基板を現像し、第１着色層形成領域、第２着色層形成領域および第３着色層形成領域を残してブラックマトリクス層を形成する、ブラックマトリクス層形成工程と、
前記基板上の前記第１着色層形成領域、並びに、前記第２及び第３着色層形成領域の一部に、当該第１着色層形成領域に対応する第１の感光性着色層用塗工液を塗布する第１塗布工程と、
前記第１塗布工程の後、前記基板を露光する第１露光工程と、
前記第１露光工程の後、前記基板を現像する第１現像工程と、
前記第１現像工程の後、前記基板上の前記第２着色層形成領域、並びに、前記第１及び第３着色層形成領域の一部に、当該第２着色層形成領域に対応する第２の感光性着色層用塗工液を塗布する第２塗布工程と、
前記第２塗布工程の後、前記基板を露光する第２露光工程と、
前記第２露光工程の後、前記基板を現像する第２現像工程と、
前記第２現像工程の後、前記基板上の前記第３着色層形成領域、並びに、前記第１及び第２着色層形成領域の一部に、当該第３着色層形成領域に対応する第３の感光性着色層用塗工液を塗布する第３塗布工程と、
前記第３塗布工程の後、前記基板を露光する第３露光工程と、
前記第３露光工程の後、前記基板を現像する第３現像工程と、を備える
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記第１、第２及び第３塗布工程において、インクジェット法により対応する着色層用塗工液を塗布する
ことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記第１、第２及び第３塗布工程において、対応する着色層用塗工液をストライプ状に塗布する
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置等に用いられるカラーフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面ディスプレイとして液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置などが実用化されている。これらの表示装置においては、一般に、光源からの光のうち所望の波長の光のみを取り出すため、または、光源からの光の色純度を向上させるため、カラーフィルタが設けられている。カラーフィルタは、一般に、基板上に所定のパターンで設けられ、光源からの光を遮蔽するブラックマトリクス層と、ブラックマトリクス層の間の開口部（着色層形成領域）に設けられ、光源からの光のうち所望の波長を有する光のみを透過させる着色層と、を備えている。
【０００３】
カラーフィルタを製造する方法として、基板上にブラックマトリクス層を形成する工程と、ブラックマトリクス層の間の開口部に複数色の着色層を形成する工程と、を備えたカラーフィルタの製造方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。各着色層は、感光性を有する着色層用材料を、露光処理および現像処理を含むフォトリソグラフィー法によりパターニングすることによって形成される層である。フォトリソグラフィー法を用いることで、各着色層を高精度に加工できるため、高精細なカラーフィルタを製造できる。
【０００４】
図１１（ａ）〜（ｄ）は、従来のカラーフィルタの着色層を形成する工程を示す平面図である。同図は、例えば赤色の着色層を形成する工程を示す。最初に、図１１（ａ）に示す複数の着色層形成領域２０ａ，３０ａ，４０ａを有するブラックマトリクス層５０が形成された基板１１上の全面に、着色層用材料を含む着色層用塗工液２１０を塗布する（塗布工程、図１１（ｂ）参照）。次に、着色層用塗工液２１０を加熱して得られた着色層用材料２２０を、開口部２６および遮光部２７を有する露光マスク２５を用いて、露光する（図１１（ｃ）参照）。次に、着色層用材料２２０を現像して、着色層２００を形成する（図１１（ｄ）参照）。このような一連の工程を複数回繰り返して、複数色の着色層を形成する。
【０００５】
また、複数色の着色層を形成した後、フォトリソグラフィー法によりフォトスペーサーを形成する工程をさらに備えたカラーフィルタの製造方法も提案されている。フォトリソグラフィー法を用いることで、フォトスペーサーを高精度に加工できる。そのため、小型のフォトスペーサーが必要な、モバイル用途などに適した小型のカラーフィルタを製造できる。
【０００６】
図１２（ａ）〜（ｄ）は、従来のカラーフィルタのフォトスペーサーを形成する工程を示す平面図である。最初に、図１２（ａ）に示すブラックマトリックス層５０及び着色層２００，３００，４００が形成された基板１１上の全面に、スペーサー用材料を含むスペーサー用塗工液１３１０を塗布する（塗布工程、図１２（ｂ）参照）。次に、スペーサー用塗工液１３１０を加熱して得られたスペーサー用材料１３２０を、開口部１３６および遮光部１３７を有する露光マスク１３５を用いて、露光する（図１２（ｃ）参照）。次に、スペーサー用材料１３２０を現像して、フォトスペーサー１３００を形成する（図１２（ｄ）参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−２７１５７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、例えば、３色の着色層を有するカラーフィルタにおいては、赤色の着色層２００の面積は、カラーフィルタの面積の１／３以下である。従って、基板１１の全面に塗布された着色層用塗工液２１０の大部分は、着色層２００を構成することなく無駄になっている。他の色の着色層に関しても同様である。
【０００９】
また、フォトスペーサー１３００の面積は、着色層の面積よりさらに小さい。従って、基板１１の全面に塗布されたスペーサー用塗工液１３１０の大部分は、フォトスペーサー１３００を構成することなく無駄になっている。
【００１０】
このような無駄な着色層用塗工液２１０及びスペーサー用塗工液１３１０の使用は、カラーフィルタの製造コストを低減できない一因となっている。
【００１１】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、低コストでカラーフィルタを製造できるカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明による第１のカラーフィルタの製造方法は、
基板を準備する工程と、
前記基板上の第１着色層用の第１着色層形成領域、第２着色層用の第２着色層形成領域および第３着色層用の第３着色層形成領域の何れかの領域に、当該領域に対応する感光性着色層用塗工液を、他の着色層形成領域に当該着色層用塗工液が塗布されない部分を残して、塗布する塗布工程と、
前記塗布工程の後、前記基板を露光する露光工程と、
前記露光工程の後、前記基板を現像する現像工程と、を備える
ことを特徴とする。
【００１３】
本発明による第１のカラーフィルタの製造方法において、
前記塗布工程において、インクジェット法により前記着色層用塗工液を塗布してもよい。
【００１４】
本発明による第１のカラーフィルタの製造方法において、
前記塗布工程において、前記着色層用塗工液をストライプ状に塗布してもよい。
【００１５】
本発明による第２のカラーフィルタの製造方法は、
基板を準備する工程と、
前記基板上に第１着色層用の第１着色層形成領域、第２着色層用の第２着色層形成領域、第３着色層用の第３着色層形成領域および第４着色層用の第４着色層形成領域がこの順に配置され、前記第１着色層形成領域、前記第２着色層形成領域、前記第３着色層形成領域および前記第４着色層形成領域の何れかの領域に、当該領域に対応する感光性着色層用塗工液を塗布すると共に、当該領域から１つ離れた領域に、この１つ離れた領域に対応する感光性着色層用塗工液を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程の後、前記基板を露光する露光工程と、
前記露光工程の後、前記基板を現像する現像工程と、を備える
ことを特徴とする。
【００１６】
本発明による第２のカラーフィルタの製造方法において、
前記塗布工程において、インクジェット法により前記着色層用塗工液を塗布してもよい。
【００１７】
本発明による第２のカラーフィルタの製造方法において、
前記塗布工程において、前記着色層用塗工液をストライプ状に塗布してもよい。
【００１８】
本発明による第３のカラーフィルタの製造方法は、
複数の着色層とブラックマトリクス層を有する基板を準備する工程と、
前記基板上のスペーサー形成領域およびその周辺に、感光性スペーサー用塗工液を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程の後、前記基板を露光する露光工程と、
前記露光工程の後、前記基板を現像する現像工程と、を備える
ことを特徴とする。
【００１９】
本発明による第３のカラーフィルタの製造方法において、
前記塗布工程において、インクジェット法により前記スペーサー用塗工液を塗布してもよい。
【００２０】
本発明による第３のカラーフィルタの製造方法において、
前記塗布工程において、前記スペーサー用塗工液をストライプ状に塗布してもよい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、基板上の第１着色層形成領域、第２着色層形成領域および第３着色層形成領域の何れかの領域に、当該領域に対応する感光性着色層用塗工液を、他の着色層形成領域に当該着色層用塗工液が塗布されない部分を残して、塗布するようにしている。即ち、着色層が形成されない不必要な領域に塗布する着色層用塗工液の量を減らしている。これにより、着色層用塗工液の使用量を少なくできる。さらには現像液が少量でよい、あるいは、現像液の寿命が長くなる。従って、低コストでカラーフィルタを製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１は、本発明の第１の実施形態における表示装置を示す縦断面図。
【図２】図２は、本発明の第１の実施形態におけるカラーフィルタを示す平面図。
【図３】図３（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第１の実施形態におけるカラーフィルタの製造方法を示す図。
【図４】図４（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第１の実施形態における基板上に複数の着色層を形成する着色層形成工程を示す平面図。
【図５】図５（ａ）〜（ｆ）は、図４に続く、着色層形成工程を示す平面図。
【図６】図６（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第２の実施形態におけるカラーフィルタの製造方法を示す図。
【図７】図７（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第２の実施形態における基板上に複数の着色層を形成する着色層形成工程を示す平面図。
【図８】図８（ａ）〜（ｃ）は、図７に続く、着色層形成工程を示す平面図。
【図９】図９（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第３の実施形態におけるカラーフィルタの製造方法を示す図。
【図１０】図１０（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第３の実施形態における基板上に複数のスペーサーを形成するスペーサー形成工程を示す平面図。
【図１１】図１１（ａ）〜（ｄ）は、従来のカラーフィルタの着色層を形成する工程を示す平面図。
【図１２】図１２（ａ）〜（ｄ）は、従来のカラーフィルタのフォトスペーサーを形成する工程を示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００２４】
（第１の実施形態）
まず図１により、本実施の形態における表示装置６０全体について説明する。
【００２５】
表示装置
図１に示すように、表示装置６０は、カラーフィルタ１０と、カラーフィルタ１０に対向するよう配置され、カラーフィルタ１０へ向けて光を出射する表示部１８と、を備えている。
【００２６】
このうちカラーフィルタ１０は、基板１１と、基板１１上に設けられたブラックマトリクス層（ＢＭ層）５０と、ＢＭ層５０間に設けられた複数の第１着色層２０，第２着色層３０及び第３着色層４０と、を有している。また表示部１８は、ＴＦＴ基板１５と、ＴＦＴ基板１５とカラーフィルタ１０との間に介在され、ＴＦＴ基板１５からの電圧により制御される液晶１７と、を有している。また表示部１８は、図示はしないが、バックライトユニットや偏光板をさらに有している。このような表示部１８を用いることにより、カラーフィルタ１０へ向けて選択的に光を出射することができる。なお「選択的に光を出射する」とは、表示装置６０の単位画素に応じて光の強度が調整されていることを意味する。
【００２７】
図１に示すように、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０は、オーバーコート膜１２によって覆われていてもよい。これによって、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０を外部環境から保護するとともに、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０に含まれる不純物などが外部に流出することを防ぐことができる。また図１に示すように、オーバーコート膜１２上に柱状のフォトスペーサー１３が形成されていてもよい。これによって、液晶１７が充填される空間の厚み、いわゆるセルギャップを一定に保持することができる。
【００２８】
カラーフィルタ
次に図２を参照して、カラーフィルタ１０について詳細に説明する。図２は、カラーフィルタ１０を図１の矢印II方向から見た場合を示す平面図である。なお説明の都合上、図２およびそれ以降の図において、カラーフィルタ１０のオーバーコート膜１２は省略されている。
【００２９】
（基板）
はじめに、カラーフィルタ１０の基板１１について説明する。基板１１としては、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０を適切に支持することができ、かつ透明性を有する様々な材料が用いられ、例えばガラスやポリマーなどが用いられる。
【００３０】
（ＢＭ層）
次に、カラーフィルタ１０のＢＭ層５０について説明する。ＢＭ層５０は、表示部１８からの光を遮蔽するよう構成されている。本実施形態では、ＢＭ層５０はマトリックス状のパターンを有している。ＢＭ層５０によって画定される複数の領域は、それぞれ、第１着色層２０用の第１着色層形成領域２０ａ、第２着色層３０用の第２着色層形成領域３０ａおよび第３着色層４０用の第３着色層形成領域４０ａの何れかになっている。第１着色層形成領域２０ａ、第２着色層形成領域３０ａおよび第３着色層形成領域４０ａは、ｘ方向に、この順に繰り返し配置されている。このように繰り返し配置された第１着色層形成領域２０ａ、第２着色層形成領域３０ａおよび第３着色層形成領域４０ａの組は、ｙ方向に、複数配置されている。
【００３１】
なお、各着色層形成領域２０ａ，３０ａ，４０ａの具体的なパターンは特には限定されない。
【００３２】
ＢＭ層５０の材料としては、所望の遮光性を有するものであれば特に限定されない。例えば、カーボンブラック、チタンブラック等の黒色着色材を含有する樹脂組成物等が挙げられる。この樹脂組成物に用いられる樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が使用される。
【００３３】
（着色層）
次に、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０について説明する。複数の着色層２０，３０，４０は、ＢＭ層５０間に設けられている。具体的には、第１着色層２０は、第１着色層形成領域２０ａに形成されている。第２着色層３０は、第２着色層形成領域３０ａに形成されている。第３着色層４０は、第３着色層形成領域４０ａに形成されている。
【００３４】
第１着色層２０は、例えば赤色光を透過させる赤色着色層からなっており、第２着色層３０は、緑色光を透過させる緑色着色層からなっており、第３着色層４０は、青色光を透過させる青色着色層からなっている。各着色層２０，３０，４０は、後述するように、感光性を有する着色層用材料を、露光工程および現像工程を含むフォトリソグラフィー法によりパターニングすることによって形成される層である。フォトリソグラフィー法によりパターニングされる着色層用材料としては、ネガ型およびポジ型のいずれの着色層用材料も使用され得るが、好ましくはネガ型の着色層用材料が使用される。
【００３５】
〔着色層用材料〕
次に、各着色層２０，３０，４０を構成する第１着色層用材料（以下、第１材料）、第２着色層用材料（以下、第２材料）、第３着色層用材料（以下、第３材料）について説明する。各第１〜第３材料は、各色の顔料や染料および分散剤を含む顔料分散体、光開始剤、ポリマーやモノマーを含むクリア剤、および界面活性剤などを含んでいる。このうち光開始剤は、光を照射されることによりラジカル成分を発生するものである。またクリア剤には、光開始剤によって発生されたラジカルにより重合反応を起こして硬化する成分と、その後の現像により未露光部が溶解可能となる成分とが少なくとも含まれている。
【００３６】
上述のように、各着色層２０，３０，４０は、対応する色の光を透過させるよう構成されており、一方、ＢＭ層５０は、光を遮蔽するよう構成されている。すなわち、各各着色層２０，３０，４０を構成する着色層用材料における光の透過率は、ＢＭ層５０を構成するＢＭ層用材料における光の透過率よりも大きくなっている。
【００３７】
カラーフィルタの製造方法
次に、図３乃至図５を参照して、カラーフィルタ１０の製造方法について説明する。
【００３８】
はじめに図３（ａ）〜（ｄ）を参照して、カラーフィルタ１０の製造方法全体について説明する。図３（ａ）〜（ｄ）は、図２のＡ−Ａ断面に対応する。カラーフィルタ１０の製造方法は、基板１１上に、ＢＭ層５０を形成するＢＭ層形成工程（図３（ａ）参照）と、ＢＭ層５０間に各着色層２０，３０，４０を形成する着色層形成工程（図３（ｂ）〜（ｄ）参照）と、を備えている。このうち着色層形成工程は、基板１１上に複数の第１着色層２０を形成する第１着色層形成工程（図３（ｂ）参照）と、第１着色層形成工程の後、基板１１上に複数の第２着色層３０を形成する第２着色層形成工程（図３（ｃ）参照）と、第２着色層形成工程の後、基板１１上に複数の第３着色層４０を形成する第３着色層形成工程（図３（ｄ）参照）と、を含んでいる。なお図３（ｂ）〜（ｄ）においては、右側に、各工程において実施される具体的な処理が示されており、左側に、各工程による処理が実施された後の、基板１１に形成された各層の断面図が示されている。
【００３９】
以下、ＢＭ層形成工程および各着色層形成工程について詳細に説明する。
【００４０】
（ＢＭ層形成工程）
まず、図３（ａ）及び図４（ａ）に示すように、基板１１上に、第１着色層２０用の第１着色層形成領域２０ａ、第２着色層３０用の第２着色層形成領域３０ａおよび第３着色層４０用の第３着色層形成領域４０ａを残して、ＢＭ層５０を形成する。ＢＭ層５０を形成する方法が特に限られることはなく、例えば、フォトリソグラフィー法などを用いることができる。
【００４１】
（第１着色層形成工程）
次に、図４（ｂ）〜（ｄ）を参照して、第１着色層形成工程について詳細に説明する。
【００４２】
〔塗布工程〕
まず、図４（ｂ）に示すように、上述の第１材料と溶剤とを混合することにより得られる第１の感光性着色層用塗工液（以下、第１塗工液）２１を、基板１１上の所定領域に選択的に塗布する。
【００４３】
具体的には、図４（ｂ）に示すように、ＢＭ層５０が形成された基板１１上の第１着色層形成領域２０ａに、当該領域２０ａに対応する第１塗工液２１を、他の第２及び第３着色層形成領域３０ａ，４０ａに当該第１塗工液２１が塗布されない部分３０ｘ，４０ｘを残して、塗布する。つまり、第１着色層形成領域２０ａに加え、第２及び第３着色層形成領域３０ａ，４０ａの一部にも、第１塗工液２１を塗布してもよい。よって塗布精度が低減できる。但し、複数の第２及び第３着色層形成領域３０ａ，４０ａのうちの少なくとも何れかに、第１塗工液２１を塗布しないようにしてもよい。また、ここでは、図示するように、第１塗工液２１を、ｙ方向に沿ってストライプ状に塗布している。
【００４４】
第１塗工液２１を基板１１上に塗布する方法が特に限られることはなく、インクジェット法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法などを適宜用いることができる。但し、マスクが不要であり、且つ、高精度に塗布可能なインクジェット法が好ましい。本実施形態では、インクジェット法を用いるものとして説明する。インクジェット法を用いる場合、適宜、第１塗工液２１の各材料の割合を調整することなどにより、インクジェット法に適した第１塗工液２１とする。
【００４５】
〔プリベイク工程〕
次に基板１１上に塗布された第１塗工液２１を加熱（プリベイク）し、これによって、第１塗工液２１中の溶剤を除去する。この結果、基板１１上に第１材料２２が得られる。このようなプリベイク処理における加熱条件が特に限られることはなく、第１塗工液２１中に含まれる溶剤の種類や重量％などに応じて、プリベイク処理における温度や加熱時間が適宜設定される。このようなプリベイク処理は、一般に、クリーンオーブンを用いることにより実施される。なお、プリベイク処理の前に、第１塗工液２１中の溶剤を部分的に除去するための乾燥処理、例えば減圧乾燥処理が実施されてもよい。
【００４６】
〔露光工程〕
次に、図４（ｃ）に示すように、開口部２６および遮光部２７を有する第１着色層用露光マスク（以下、第１露光マスク）２５を介して、第１材料２２に対して露光光を照射して露光する。即ち、第１材料２２が形成された基板１１を露光する。第１露光マスク２５の開口部２６は、第１着色層形成領域２０ａのパターンに対応するよう、ｘ方向及びｙ方向に沿って並んで配置されている。露光の結果、第１材料２２のうち露光光が照射された部分が硬化する。なお、露光光として用いられる光が特に限られることはなく、第１材料２２の感光特性に応じて様々な光が適宜用いられ得る。
【００４７】
〔現像工程〕
その後、露光された第１材料２２を現像液により現像し、これによって、第１材料２２のうち露光光が照射されなかった部分を現像液中に溶解させる。即ち、第１材料２２が形成された基板１１を現像する。
【００４８】
〔焼成工程〕
最後に、基板１１上に残っている第１材料２２、即ち現像された第１材料２２を焼成する。これによって、図４（ｄ）に示すように、複数の第１着色層２０が基板１１の複数の第１着色層形成領域２０ａに形成される。
【００４９】
（第２着色層形成工程）
次に、図５（ａ）〜（ｃ）を参照して、第２着色層形成工程について、第１着色層形成工程と異なる点を中心に説明する。第１着色層形成工程と同様の点については、説明を省略する。
【００５０】
〔塗布工程〕
まず、図５（ａ）に示すように、上述の第２材料と溶剤とを混合することにより得られる第２の感光性着色層用塗工液（以下、第２塗工液）３１を、基板１１上の所定領域に選択的に塗布する。
【００５１】
即ち、ＢＭ層５０が形成された基板１１上の第２着色層形成領域３０ａに、当該領域３０ａに対応する第２塗工液３１を、他の第１及び第３着色層形成領域２０ａ，４０ａに当該第２塗工液３１が塗布されない部分２０ｘ，４０ｘを残して、塗布する。
【００５２】
〔プリベイク工程〕
次に基板１１上に塗布された第２塗工液３１を加熱する。この結果、基板１１上に第２材料３２が得られる。
【００５３】
〔露光工程〕
次に、図５（ｂ）に示すように、開口部３６および遮光部３７を有する第２着色層用露光マスク（以下、第２露光マスク）３５を介して、第２材料３２に対して露光光を照射して露光する。即ち、第２材料３２が形成された基板１１を露光する。第２露光マスク３５の開口部３６は、第２着色層形成領域３０ａのパターンに対応して配置されている。露光の結果、第２材料３２のうち露光光が照射された部分が硬化する。
【００５４】
現像工程及び焼成工程は、第１着色層形成工程における工程と同様であるため、説明を省略する。
【００５５】
これによって、図５（ｃ）に示すように、複数の第２着色層３０が基板１１の複数の第２着色層形成領域３０ａに形成される。
【００５６】
（第３着色層形成工程）
次に、図５（ｄ）〜（ｆ）を参照して、第３着色層形成工程について、第１着色層形成工程と異なる点を中心に説明する。第１着色層形成工程と同様の点については、説明を省略する。
【００５７】
〔塗布工程〕
まず、図５（ｄ）に示すように、上述の第３材料と溶剤とを混合することにより得られる第３の感光性着色層用塗工液（以下、第３塗工液）４１を、基板１１上の所定領域に選択的に塗布する。
【００５８】
即ち、ＢＭ層５０が形成された基板１１上の第３着色層形成領域４０ａに、当該領域４０ａに対応する第３塗工液４１を、他の第１及び第２着色層形成領域２０ａ，３０ａに当該第３塗工液４１が塗布されない部分２０ｘ，３０ｘを残して、塗布する。
【００５９】
〔プリベイク工程〕
次に基板１１上に塗布された第３塗工液４１を加熱する。この結果、基板１１上に第３材料４２が得られる。
【００６０】
〔露光工程〕
次に、図５（ｅ）に示すように、開口部４６および遮光部４７を有する第３着色層用露光マスク（以下、第３露光マスク）４５を介して、第３材料４２に対して露光光を照射して露光する。即ち、第３材料４２が形成された基板１１を露光する。第３露光マスク４５の開口部４６は、第３着色層形成領域４０ａのパターンに対応して配置されている。露光の結果、第３材料４２のうち露光光が照射された部分が硬化する。
【００６１】
現像工程及び焼成工程は、第１着色層形成工程における工程と同様であるため、説明を省略する。
【００６２】
これによって、図５（ｆ）に示すように、複数の第３着色層４０が基板１１の複数の第３着色層形成領域４０ａに形成される。
【００６３】
以上の製造方法により、第１から第３着色層２０，３０，４０を有するカラーフィルタ１０が得られる。
【００６４】
以上で説明したように、本実施形態によれば、第１着色層形成領域２０ａに、当該領域２０ａに対応する第１塗工液２１を、他の第２及び第３着色層形成領域３０ａ，４０ａに当該第１塗工液２１が塗布されない部分３０ｘ，４０ｘを残して、塗布するようにしている。第２及び第３塗工液３１，４１についても同様に、選択的に塗布するようにしている。このように、塗工液を必要な領域に選択的に塗布して、着色層が形成されない不必要な領域に塗布する量を、図１１の従来の製造方法より大幅に減らしている。これにより、各塗工液２１，３１，４１の使用量を、従来の製造方法における使用量の例えば約１／３に削減できる。
【００６５】
また、このように塗工液を選択的に塗布することで、露光光が照射されなかった第１から第３材料２２，３２，４２の未露光部分の面積が、従来の製造方法より減少する。従って、現像工程により未露光部分が除去された後、当該除去された領域に発生する残渣の量も減少する。さらに、現像液中に溶解する第１から第３材料２２，３２，４２の量が減るので、現像タクトを短縮できると共に、現像液の寿命が長くなる。これにより、現像装置の現像液用フィルタの詰まりも発生し難くできる。あるいは、現像液が少量でもよい。
【００６６】
さらに、１枚の基板上に複数のカラーフィルタを多面付けして製造する際、本実施形態によれば、塗工液を必要な領域に選択的に塗布して、各カラーフィルタの間に塗布しないので、より効果的に塗工液の使用量を少なくできる。
【００６７】
以上により、低コストでカラーフィルタを製造できる。
【００６８】
（第１の実施形態の変形例）
なお、以上の説明では、第１着色層２０、第２着色層３０および第３着色層４０の順に形成する一例について説明したが、各着色層２０，３０，４０の形成順序は任意の順序でよい。
また、上記製造方法を４色以上のカラーフィルタの製造に適用しても良い。
【００６９】
また、ＢＭ層５０を、以上で説明した各着色層の形成方法と同様な方法で形成してもよい。即ち、ＢＭ層５０の材料と適切な溶剤とを混合することにより得られるＢＭ層用塗工液を、インクジェット法等を用いて必要な領域に選択的に塗布して、その後、露光及び現像等を行うことにより、ＢＭ層５０を形成してもよい。これにより、ＢＭ層用塗工液の使用量を少なくできる。また、現像液が少量でよく、あるいは、現像液の寿命が長くなる。
【００７０】
さらに、以上の説明では、ＢＭ層５０を予め形成しておく一例について説明したが、これに限られない。即ち、ＢＭ層５０は、何れかの着色層を形成した後に形成してもよく、２種類の着色層を形成した後に形成してもよく、全ての着色層２０，３０，４０を形成した後に形成してもよい。
また、ＢＭ層５０を形成しなくてもよい。
【００７１】
（第２の実施形態）
第２の実施形態は、着色層として、第１着色層２０、第２着色層３０、第３着色層４０および第４着色層７０を有する４色のカラーフィルタ１００（図６（ｃ），図８（ｃ）参照）の製造方法について説明する。
【００７２】
本実施形態でも、第１の実施形態と同様に、第１着色層２０は赤色着色層からなっており、第２着色層３０は緑色着色層からなっており、第３着色層４０は青色着色層からなっている。また、第４着色層７０は、黄色光を透過させる黄色着色層からなっている。
【００７３】
第４着色層７０を構成する第４着色層用材料（以下、第４材料）も、第１の実施形態と同様の成分で構成されている。
【００７４】
カラーフィルタの製造方法
図６乃至図８を参照して、カラーフィルタ１００の製造方法について説明する。
【００７５】
はじめに図６（ａ）〜（ｃ）を参照して、カラーフィルタ１００の製造方法全体について説明する。カラーフィルタ１００の製造方法は、基板１１上に、ＢＭ層５０を形成するＢＭ層形成工程（図６（ａ）参照）と、ＢＭ層５０間に各着色層２０，３０，４０，７０を形成する着色層形成工程（図６（ｂ），（ｃ）参照）と、を備えている。このうち着色層形成工程は、基板１１上に複数の第１着色層２０及び第３着色層４０を形成する第１着色層形成工程（図６（ｂ）参照）と、第１着色層形成工程の後、基板１１上に複数の第２着色層３０及び第４着色層７０を形成する第２着色層形成工程（図６（ｃ）参照）と、を含んでいる。なお図６（ｂ），（ｃ）においては、右側に、各工程において実施される具体的な処理が示されており、左側に、各工程による処理が実施された後の、基板１１に形成された各層の断面図が示されている。
【００７６】
以下、ＢＭ層形成工程および各着色層形成工程について詳細に説明する。
【００７７】
（ＢＭ層形成工程）
まず、図６（ａ）及び図７（ａ）に示すように、基板１１上に、第１着色層２０用の第１着色層形成領域２０ａ、第２着色層３０用の第２着色層形成領域３０ａ、第３着色層４０用の第３着色層形成領域４０ａおよび第４着色層７０用の第３着色層形成領域７０ａを残して、ＢＭ層５０を形成する。第１着色層形成領域２０ａ、第２着色層形成領域３０ａ、第３着色層形成領域４０ａおよび第４着色層形成領域７０ａは、ｘ方向に、この順に配置される。このように配置された第１着色層形成領域２０ａ、第２着色層形成領域３０ａ、第３着色層形成領域４０ａおよび第４着色層形成領域７０ａの組は、ｙ方向に、複数配置される。
【００７８】
（第１着色層形成工程）
次に、図７（ｂ）〜（ｄ）を参照して、第１着色層形成工程について、第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。第１の実施形態と同様の点については、説明を省略する。
【００７９】
〔塗布工程〕
まず、図７（ｂ）に示すように、第１の実施形態と同様の第１塗工液２１及び第３塗工液４１を、基板１１上の所定領域に選択的に塗布する。
【００８０】
具体的には、図７（ｂ）に示すように、ＢＭ層５０が形成された基板１１上の第１着色層形成領域２０ａに、当該領域２０ａに対応する第１塗工液２１を塗布すると共に、当該領域２０ａから１つ離れた領域、即ち第３着色層形成領域４０ａに、この１つ離れた領域４０ａに対応する第３塗工液４１を塗布する。即ち、この塗布工程では、隣り合わない第１及び第３着色層形成領域２０ａ，４０ａに塗工液を塗布するようにしている。
【００８１】
ここでは、図示するように、第１塗工液２１及び第３塗工液４１を、ｙ方向に沿ってストライプ状に塗布している。この時、他の第２及び第４着色層形成領域３０ａ，７０ａに、第１塗工液２１及び第３塗工液４１が塗布されない部分３０ｘ，７０ｘを残している。即ち、第１及び第３着色層形成領域２０ａ，４０ａに加え、第２及び第４着色層形成領域３０ａ，７０ａの一部にも、第１塗工液２１及び第３塗工液４１を塗布している。但し、複数の第２及び第４着色層形成領域３０ａ，７０ａのうちの少なくとも何れかに、第１塗工液２１及び第３塗工液４１を塗布しないようにしてもよい。
【００８２】
第１塗工液２１及び第３塗工液４１を基板１１上に塗布する方法は、第１の実施形態と同様である。本実施形態では、インクジェット法を用いるものとして説明する。インクジェット法を用いる際、第１塗工液２１及び第３塗工液４１を、ほぼ同時に塗布することが好ましい。ほぼ同時に塗布することで、第１着色層形成領域２０ａに第３塗工液４１が流入すること、及び、第３着色層形成領域４０ａに第１塗工液２１が流入することを防止し得るためである。
【００８３】
〔プリベイク工程〕
次に基板１１上の当該領域２０ａおよび当該領域から１つ離れた領域７０ａに塗布された第１塗工液２１及び第３塗工液４１を加熱する。この結果、基板１１上に第１材料２２及び第３材料４２が得られる。
【００８４】
〔露光工程〕
次に、図７（ｃ）に示すように、開口部８６および遮光部８７を有する第１及び第３着色層用露光マスク８５を介して、第１材料２２及び第３材料４２に対して露光光を照射して露光する。即ち、第１材料２２及び第３材料４２が形成された基板１１を露光する。第１及び第３着色層用露光マスク８５の開口部８６は、第１着色層形成領域２０ａ及び第３着色層形成領域４０ａのパターンに対応するよう、ｘ方向及びｙ方向に沿って並んで配置されている。露光の結果、第１材料２２及び第３材料４２のうち露光光が照射された部分が硬化する。
【００８５】
〔現像工程〕
その後、露光された第１材料２２及び第３材料４２を現像液により現像し、これによって、第１材料２２及び第３材料４２のうち露光光が照射されなかった部分を現像液中に溶解させる。即ち、第１材料２２及び第３材料４２が形成された基板１１を現像する。
【００８６】
〔焼成工程〕
最後に、基板１１上に残っている第１材料２２及び第３材料４２、即ち現像された第１材料２２及び第３材料４２を焼成する。これによって、図７（ｄ）に示すように、複数の第１着色層２０が複数の第１着色層形成領域２０ａに形成されると共に、複数の第３着色層４０が複数の第３着色層形成領域４０ａに形成される。
【００８７】
（第２着色層形成工程）
次に、図８（ａ）〜（ｃ）を参照して、第２着色層形成工程について、第１着色層形成工程と異なる点を中心に説明する。第１着色層形成工程と同様の点については、説明を省略する。
【００８８】
〔塗布工程〕
図８（ａ）に示すように、第１の実施形態と同様の第２塗工液３１と、上述の第４材料及び溶剤を混合することにより得られる第４の感光性着色層用塗工液（以下、第４塗工液）７１とを、基板１１上の所定領域に選択的に塗布する。
【００８９】
具体的には、図８（ａ）に示すように、ＢＭ層５０が形成された基板１１上の第２着色層形成領域３０ａに、当該領域３０ａに対応する第２塗工液３１を塗布すると共に、当該領域３０ａから１つ離れた領域、即ち第４着色層形成領域７０ａに、この１つ離れた領域７０ａに対応する第４塗工液７１を塗布する。即ち、この塗布工程では、隣り合わない第２及び第４着色層形成領域３０ａ，７０ａに塗布するようにしている。
【００９０】
図示するように、他の第１及び第３着色層形成領域２０ａ，４０ａに、当該第２塗工液３１及び第４塗工液７１が塗布されない部分２０ｘ，４０ｘを残している。
【００９１】
〔プリベイク工程〕
次に基板１１上に塗布された第２塗工液３１及び第４塗工液７１を加熱する。この結果、基板１１上に第２材料３２及び第４材料７２が得られる。
【００９２】
〔露光工程〕
次に、図８（ｂ）に示すように、開口部９６および遮光部９７を有する第２及び第４着色層用露光マスク９５を介して、第２材料３２及び第４材料７２に対して露光光を照射して露光する。即ち、第２材料３２及び第４材料７２が形成された基板１１を露光する。第２及び第４着色層用露光マスク９５の開口部９６は、第２着色層形成領域３０ａ及び第４着色層形成領域７０ａのパターンに対応するよう、ｘ方向及びｙ方向に沿って並んで配置されている。露光の結果、第２材料３２及び第４材料７２のうち露光光が照射された部分が硬化する。
【００９３】
現像工程及び焼成工程は、第１着色層形成工程における工程と同様であるため、説明を省略する。
【００９４】
これによって、図８（ｃ）に示すように、複数の第２着色層３０が基板１１の複数の第２着色層形成領域３０ａに形成されると共に、複数の第４着色層７０が基板１１の複数の第４着色層形成領域７０ａに形成され、カラーフィルタ１００が得られる。
【００９５】
以上で説明したように、本実施形態によれば、第１着色層形成領域２０ａに、当該領域２０ａに対応する第１塗工液２１を塗布すると共に、当該領域２０ａから１つ離れた領域、即ち第３着色層形成領域４０ａに、この１つ離れた領域４０ａに対応する第３塗工液４１を塗布するようにしている。第２及び第４塗工液３１，７１についても同様に、選択的に塗布するようにしている。このように、塗工液を必要な領域に選択的に塗布して、着色層が形成されない不必要な領域に塗布する量を、図１１の従来の製造方法より大幅に減らしている。これにより、各塗工液２１，３１，４１，７１の使用量を、従来の製造方法における使用量の例えば約１／４に削減できる。同様に、第１の実施形態の他の効果も得られる。
【００９６】
これらの効果に加え、本実施形態によれば、１回の塗布工程で２つの着色層形成領域に塗工液を塗布するようにしているので、塗布工程、プリベイク工程、露光工程、現像工程および焼成工程の一連の着色層形成工程を２回繰り返すだけで、第１から第４着色層２０，３０，４０，７０を形成できる。従来の製造方法では着色層形成工程を４回繰り返す必要があるため、本実施形態によれば製造工程を大幅に削減できる。
【００９７】
また、露光工程を２回だけ行うので、露光マスクは第１及び第３着色層用露光マスク８５と、第２及び第４着色層用露光マスク９５のみを用いればよい。従来の製造方法では４回の露光工程に対応した４種類の露光マスクが必要であるため、本実施形態によれば露光マスクの種類を半減できる。
【００９８】
以上により、低コストでカラーフィルタを製造できる。
【００９９】
（第２の実施形態の変形例）
以上の説明では、最初に第１及び第３着色層２０，４０を形成し、次に第２及び第４着色層３０，７０を形成する一例について説明した。しかし、最初に第２及び第４着色層３０，７０を形成し、次に第１及び第３着色層２０，４０を形成してもよい。
【０１００】
さらに、以上の説明では、第４着色層７０は黄色着色層からなっている一例について説明したが、第４着色層７０は白色光を透過させる白色着色層（透過率調整層）からなっていてもよい。即ち、第４着色層７０は可視光域の光を波長域に依らず略均一に透過させるように構成されていてもよい。このような特性を有する第４着色層７０をＢＭ層５０間に設けることにより、カラーフィルタ１００に第１から第３の着色層２０，３０，４０のみが設けられている場合に比べて、カラーフィルタ１００全体としての透過率を向上させることができる。これによって、表示部１８の発光強度を過度に高めることなく表示装置６０の輝度を増加させることができる。
【０１０１】
さらにまた、上記製造方法を５色以上のカラーフィルタの製造に適用しても良い。５色以上のカラーフィルタにおいても、１回の塗布工程において、隣り合わない２つの着色層形成領域に塗工液を塗布するようにして、同様の効果を得ることができる。
【０１０２】
また、前述した第１の実施形態の変形例と同様に、ＢＭ層用塗工液を、インクジェット法等を用いて必要な領域に選択的に塗布して、その後、露光及び現像等を行うことにより、ＢＭ層５０を形成してもよい。
【０１０３】
さらに、以上の説明では、ＢＭ層５０を予め形成しておく一例について説明したが、これに限られない。即ち、ＢＭ層５０は、２種類の着色層を形成した後に形成してもよく、全ての着色層を形成した後に形成してもよい。
また、ＢＭ層５０を形成しなくてもよい。
【０１０４】
（第３の実施形態）
本実施形態は、第１の実施形態と同様に、塗工液を選択的に塗布してカラーフィルタ１０のフォトスペーサー１３を形成するものである。ここでは、図２のカラーフィルタ１０のフォトスペーサー１３を形成する一例について説明する。
【０１０５】
カラーフィルタの製造方法
図９，１０を参照して、カラーフィルタ１０の製造方法について説明する。
【０１０６】
はじめに図９（ａ）〜（ｃ）を参照して、カラーフィルタ１０の製造方法全体について説明する。図９（ａ），（ｂ）は、図２のＡ−Ａ断面に対応し、図９（ｃ）は、図２のＢ−Ｂ断面に対応する。カラーフィルタ１０の製造方法は、基板１１上に、ＢＭ層５０を形成するＢＭ層形成工程（図９（ａ）参照）と、ＢＭ層５０間に各着色層２０，３０，４０を形成する着色層形成工程（図９（ｂ）参照）と、フォトスペーサー１３を形成するフォトスペーサー形成工程（図９（ｃ）参照）と、を備えている。なお図９（ｃ）においては、右側に、フォトスペーサー形成工程において実施される具体的な処理が示されており、左側に、フォトスペーサー形成工程による処理が実施された後の、基板１１に形成された各層の断面図が示されている。
【０１０７】
図９（ｃ）に示すように、フォトスペーサー１３は、例えば、ｚ方向の高さｈが２〜４μｍであり、基板１１側におけるｘ方向の幅ｗが１０〜１５μｍであるとする。
【０１０８】
ＢＭ層形成工程及び着色層形成工程において実施される具体的な処理が特に限られることはない。ここでは、第１の実施形態と同様の処理が実施されるものとして、説明を省略する。ただし、着色層形成工程の後、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０を覆うように、オーバーコート膜１２を形成しているものとする。
ＢＭ層形成工程及び着色層形成工程をまとめて、複数の着色層２０，３０，４０とＢＭ層５０を有する基板１１を準備する工程と称する。
【０１０９】
以下、フォトスペーサー形成工程について、図１０を参照して詳細に説明する。
【０１１０】
（フォトスペーサー形成工程）
〔塗布工程〕
まず、図１０（ｂ）に示すように、スペーサー用材料と溶剤とを混合することにより得られる感光性スペーサー用塗工液１３１を、図１０（ａ）に示すＢＭ層５０及び着色層２０，３０，４０が形成された基板１１上の所定領域に選択的に塗布する。フォトスペーサー１３を構成するスペーサー用材料は、例えば、光開始剤、ポリマーやモノマーを含むクリア剤、および界面活性剤などを含んでいる。即ち、スペーサー用材料は、例えば、前述の第１材料から顔料分散体を除いた成分を有している。
【０１１１】
具体的には、図１０（ｂ）に示すように、オーバーコート膜１２上であって、ＢＭ層５０上のスペーサー形成領域１３０ａおよびその周辺に、スペーサー用塗工液１３１を塗布する。ここでは、図示するように、スペーサー用塗工液１３１を、ｘ方向に沿ってストライプ状に塗布している。この時、スペーサー用塗工液１３１を、第１から第３着色層形成領域２０ａ，３０ａ，４０ａの一部にも塗布している。
【０１１２】
但し、複数の第１から第３着色層形成領域２０ａ，３０ａ，４０ａのうちの少なくとも何れかに、スペーサー用塗工液１３１を塗布しないようにしてもよい。また、スペーサー用塗工液１３１を、ｙ方向に沿ってストライプ状に塗布してもよい。また、スペーサー用塗工液１３１を塗布する領域は、ストライプ状の領域に限らず、各スペーサー形成領域１３０ａを覆う円形の領域や正方形の領域等でもよい。
【０１１３】
スペーサー用塗工液１３１を基板１１上に塗布する方法は、第１の実施形態と同様である。本実施形態では、インクジェット法を用いるものとして説明する。インクジェット法では、同図に示すように、複数のノズル１４１を有するｙ方向に延びたインクジェットヘッド１４０をｘ方向に走査しながら、スペーサー用塗工液１３１を吐出するようにすれば、同図に示すようにスペーサー用塗工液１３１を塗布できる。あるいは、複数のノズルを有するｘ方向に延びたインクジェットヘッド（図示せず）をｙ方向に走査しながら、間欠的にスペーサー用塗工液１３１を吐出するようにしても、同図に示すように塗布できる。
【０１１４】
〔プリベイク工程〕
次に基板１１上に塗布されたスペーサー用塗工液１３１を加熱し、これによって、スペーサー用塗工液１３１中の溶剤を除去する。この結果、基板１１上にスペーサー用材料１３２が得られる。
【０１１５】
〔露光工程〕
次に、図１０（ｃ）に示すように、開口部１３６および遮光部１３７を有するスペーサー用露光マスク１３５を介して、スペーサー用材料１３２に対して露光光を照射して露光する。即ち、スペーサー用材料１３２が形成された基板１１を露光する。スペーサー用露光マスク１３５の開口部１３６は、スペーサー形成領域１３０ａのパターンに対応するよう、配置されている。露光の結果、スペーサー用材料１３２のうち露光光が照射された部分が硬化する。
【０１１６】
〔現像工程〕
その後、露光されたスペーサー用材料１３２を現像液により現像し、これによって、スペーサー用材料１３２のうち露光光が照射されなかった部分を現像液中に溶解させる。即ち、スペーサー用材料１３２が形成された基板１１を現像する。
【０１１７】
〔焼成工程〕
最後に、基板１１上に残っているスペーサー用材料１３２、即ち現像されたスペーサー用材料１３２を焼成する。これによって、図１０（ｄ）に示すように、複数のフォトスペーサー１３が基板１１のＢＭ層５０上に形成される。
【０１１８】
以上で説明したように、本実施形態によれば、ＢＭ層５０上のスペーサー形成領域１３０ａおよびその周辺に、スペーサー用塗工液１３１を塗布するようにしている。このように、スペーサー用塗工液１３１を必要な領域に選択的に塗布して、フォトスペーサー１３が形成されない不必要な領域に塗布する量を、図１２の従来の製造方法より大幅に減らしている。これにより、スペーサー用塗工液１３１の使用量を、従来の製造方法における使用量より大幅に削減できる。
【０１１９】
同様に、第１の実施形態の他の効果も得られる。従って、低コストでカラーフィルタを製造できる。
【０１２０】
なお、第３の実施形態を、第２の実施形態に組み合わせても良い。
また、フォトスペーサー形成工程の処理は、複数の着色層とＢＭ層を有する基板を備えたカラーフィルタであれば、どのような製造方法で形成されたカラーフィルタに対しても実行できる。つまり、複数の着色層とＢＭ層を有する基板を準備する工程の後、フォトスペーサー形成工程を実行できる。
【０１２１】
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【０１２２】
１０，１００  カラーフィルタ
１１  基板
１２  オーバーコート膜
１３  フォトスペーサー
１５  ＴＦＴ基板
１７  液晶
１８  表示部
２０  第１着色層
２０ａ  第１着色層形成領域
２１  第１着色層用塗工液（第１塗工液）
２２  第１着色層用材料（第１材料）
２５  第１着色層用露光マスク（第１露光マスク）
２６  開口部
２７  遮光部
３０  第２着色層
３０ａ  第２着色層形成領域
３１  第２着色層用塗工液（第２塗工液）
３２  第２着色層用材料（第２材料）
３５  第２着色層用露光マスク（第２露光マスク）
３６  開口部
３７  遮光部
４０  第３着色層
４０ａ  第３着色層形成領域
４１  第３着色層用塗工液（第３塗工液）
４２  第３着色層用材料（第３材料）
４５  第３着色層用露光マスク（第３露光マスク）
４６  開口部
４７  遮光部
５０  ブラックマトリクス層（ＢＭ層）
６０  表示装置
７０  第４着色層
７０ａ  第４着色層形成領域
７１  第４着色層用塗工液（第４塗工液）
７２  第４着色層用材料（第４材料）
８５  第１及び第３着色層用露光マスク
８６  開口部
８７  遮光部
９５  第２及び第４着色層用露光マスク
９６  開口部
９７  遮光部
１３０ａ  スペーサー形成領域
１３１  スペーサー用塗工液
１３２  スペーサー用材料
１３５  スペーサー用露光マスク
１３６  開口部
１３７  遮光部
１４０  インクジェットヘッド
１４１  ノズル
【図１】
0005835651.tif 000002
【図２】
0005835651.tif 000003
【図３】
0005835651.tif 000004
【図４】
0005835651.tif 000005
【図５】
0005835651.tif 000006
【図６】
0005835651.tif 000007
【図７】
0005835651.tif 000008
【図８】
0005835651.tif 000009
【図９】
0005835651.tif 000010
【図１０】
0005835651.tif 000011
【図１１】
0005835651.tif 000012
【図１２】
0005835651.tif 000013