(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面上の座標位置を表す位置情報パターンを光学的に読み取る撮像素子を備えた位置情報読取手段と、
表示領域に前記位置情報パターンが記録され、該位置情報パターンから読み取った符号に基づいて表示を行う表示手段と、を備え、
前記表示手段は、透明基板上に前記位置情報パターンが付与された導電性パターンを有する透明導電性膜と、前記導電性パターンを共通電極として表示を行う表示部と、を有し、
前記導電性パターンが、互いの配置間隔が異なる３本以上の線を一組とする第１線パターンと、前記第１線パターンに交差するとともに互いの配置間隔が異なる３本以上の線を一組とする第２線パターンと、を有して構成されている
ことを特徴とする入力機能付表示装置。
【請求項２】
前記位置情報パターンがＭ平面と呼ばれる２次元系列のパターンである
ことを特徴とする請求項１に記載の入力機能付表示装置。
【請求項３】
前記導電性パターンが、前記第１線パターンとこれに直交する前記第２線パターンのマトリクス交点における任意の位置に設けられたドットパターンによって構成され、
前記線が直線あるいは曲線である
ことを特徴とする請求項１または２に記載の入力機能付表示装置。
【請求項４】
前記導電性パターンが、可視光を透過するとともに赤外光を吸収する
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の入力機能付表示装置。
【請求項５】
前記導電性パターンが、可撓性を有するものである
ことを特徴とする請求項１または２に記載の入力機能付表示装置。
【請求項６】
前記表示部が電気泳動表示素子である
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の入力機能付表示装置。
【請求項７】
前記表示部が不揮発性表示素子である
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の入力機能付表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入力機能付表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイの磁気シールドや、抵抗膜方式のタッチパネル用透明電極として、金属や導電材料の細線パターン（導電性パターン）を樹脂フィルム上にプリントした透明導電膜が開発されている。これらは、地球資源の枯渇が懸念されるＩＴＯ導電膜に代わる新たな技術として期待されている。
【０００３】
タッチパネルやペン入力の一般的な従来技術として、透明電極を用いた抵抗膜式と容量検出式がある。しかし、その透明電極の透過率や反射率によって表示コントラストが１０％前後悪化する。特に、携帯機器においては、電池寿命を延す目的から低消費電力の反射型表示体を使用することが多く、数％の透過率減少が表示品位を大きく低下させてしまう。
【０００４】
表示性能の低下を防止する従来技術として、複数のＬＥＤ光源とフォトセンサーを用いてペン入力位置を検出する光学式がある。しかし、この光学式は表示体の周辺部にＬＥＤやフォトセンサーを実装して光路を確保する必要があるため、表示領域が狭くなるとともに装置の厚みが増加してしまう。その他にも、超音波の戻り時間を計測して位置検出を行う超音波式もあるが、光学式と同様に、表示領域の狭小化と装置の厚みが増加する点に課題がある。
【０００５】
特許文献１には、透明導電膜と金属又は合金の細線構造部からなる導電性面を有する透明導電性シートが示されている。特許文献２には、表示体駆動用ＴＦＴで光の強度を検出して座標入力する技術が開示されている。また、特許文献３には、座標板と表示体とが一部共有する光学的入力技術が示されている。さらに、特許文献４には、電磁式の位置検出装置の基本技術が開示されている。この技術は電子ペンから発生する磁界を複数のループアンテナで検出するもので、表示体の下部にアンテナ基板が設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−３０２５０８号公報
【特許文献２】特開２００６−３３０６４９号公報
【特許文献３】特開２００２−１９６８７５号公報
【特許文献４】特開昭６３−７０３２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１の技術は、抵抗膜方式のタッチパネル用の透明導電性シートとして提案されており、少なくとも対向する２枚のシートが必要になるとともに、ノイズの影響から表示体の共通電極には兼用できないという欠点がある。
特許文献２の技術は、特定の表示体や駆動回路に限られる他、表示体の周辺に多くの発光照明が必要であることから、表示領域の狭小化や装置の厚み増加が懸念される。
特許文献３の技術は従来のタッチパネル同様、座標板と表示体とで電極層を共有するには至らず、透過率の低下が懸念される。また、特許文献４においても表示体の下部にアンテナ基板が設けられる構造のため、装置の小型化が難しい。
【０００８】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、表示品位の低下や表示領域の狭小化を阻止し、装置の薄型化を可能にする入力機能付表示装置を提供することを目的の一つとしている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の入力機能付表示装置は、平面上の座標位置を表す位置情報パターンを光学的に読み取る撮像素子を備えた位置情報読取手段と、表示領域に前記位置情報パターンが記録され、該位置情報パターンから読み取った符号に基づいて表示を行う表示手段と、を備え、  前記表示手段は、透明基板上に前記位置情報パターンが付与された導電性パターンを有する透明導電性膜と、前記導電性パターンを共通電極として表示を行う表示部と、を有し、 前記導電性パターンが、互いの配置間隔が異なる３本以上の線を一組とする第１線パターンと、前記第１線パターンに交差するとともに互いの配置間隔が異なる３本以上の線を一組とする第２線パターンと、を有して構成されていることを特徴とする。
【００１０】
これによれば、座標系が定義される表示領域（入力面）において位置情報読取手段を移動させながらその位置を指定する箇所で表示を行うことにより、表示手段の表示部（表示領域）に手書き入力が可能となる。本発明では、位置情報パターンが付与された導電性パターンを表示部の共通電極として機能（兼用）させているので、共通電極とは別に導電性パターンを備える必要がなくなるので、装置の薄型化を実現できる。また、共通電極と導電性パターンとを兼用させることにより、透過率の低下も防止することができる。さらに、本発明では、位置情報読取手段を用いて位置情報パターンを撮像しながら光学的に読み取る方法を用いているので、電気的なノイズが発生する虞がなく、従来のように、表示領域の周辺部にＬＥＤやフォトセンサーを実装する必要もない。したがって、表示領域の狭小化を阻止するとともに表示品位を低下させることなく、装置の薄型化が可能である。
【００１１】
また、前記位置情報パターンがＭ平面と呼ばれる２次元系列のパターンである構成としてもよい。
これによれば、Ｍ平面の特性（一意な値）を利用して表示領域の位置を正確に把握することができる。
【００１２】
また、前記導電性パターンが、前記第１線パターンとこれに直交する前記第２線パターンのマトリクス交点における任意の位置に設けられたドットパターンによって構成され、 前記線が直線あるいは曲線である構成としてもよい。
これによれば、ドットパターンの特定パターンを含むＭ平面を利用して所定の演算式に基づいて、入力座標位置を検出することができる。
【００１３】
また、前記導電性パターンが、可視光を透過するとともに赤外光を吸収する構成としてもよい。
これによれば、表示部の背景光を除いて位置情報パターンのみを検出することができるので、正確な位置情報を得ることができる。また、周囲の環境光（可視光など）によるＳＮ比の低下を回避して位置情報パターンを読み取ることができる。
【００１４】
また、前記導電性パターンが、可撓性を有するものである構成としてもよい。
これによれば、フレキシブルな表示装置に対応することが可能である。
【００１５】
また、前記表示部が電気泳動表示素子である構成としてもよい。
これによれば、外部からの給電を停止しても表示内容を維持することができるので、消費電力化が可能な入力機能付表示装置が得られる。
【００１６】
また、前記表示部が不揮発性表示素子である構成としてもよい。
これによれば、外部からの給電を停止しても表示内容を維持することができるので、消費電力化が可能な入力機能付表示装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の入力機能付表示装置の全体構成を示す平面図。
【図２】入力機能付表示における表示本体の概略構成を示す断面図。
【図３】位置情報パターンの概略構成を示す平面図。
【図４】本発明に係る電子ペンの概略構成を示す図。
【図５】（ａ）は、実施例１における位置情報パターンを示す図、（ｂ）は、基準位置における各象限と符号との関係を示す図。
【図６】実施例２における位置情報パターンを示す図。
【図７】導電パターンの変形例を示す図。
【図８】導電パターンの変形例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各画面では、各部材を認識可能な大きさとするため、核部材の縮尺を適宜変更している。
【００１９】
［第１実施形態］
図１は、本発明の入力機能付表示装置の全体構成を示す平面図である。図２は、入力機能付表示における表示本体の概略構成を示す断面図である。
図１および図２に示すように、入力機能付表示装置１００は、電子ペン（位置情報読取手段）１１０と、表示本体（表示手段）１２０とを備え、表示本体１２０の表示面に対して電子ペン１１０を用いた手書き入力が可能な表示装置である。ここでは、表示本体１２０に電子ペン１１０の位置情報（時間変動における座標値）を検出する手段として位置情報パターン１６を用いて、表示本体１２０の表示面に対する電子ペン１１０の接点の時系列データにより手書き情報を取得して表示する。
【００２０】
表示本体１２０は、視認側に座標体（透明導電性膜）１１を有する表示体（表示部）１０と、これを保持するハウジング９とにより構成されている。表示体１０は、その表示面上に設けられた座標体１１を露出させた状態でハウジング９内にはめ込まれており、表示面に対して電子ペン１１０により手書き入力が行えるように構成されている。
【００２１】
表示体１０としては、記憶性表示素子である電気泳動素子３２（図２）を有する電気泳動ディスプレイ（Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃ  Ｄｉｓｐｌａｙ、以下「ＥＰＤ」という）を用いており、表示面に複数の画素４０をマトリクス状に配列してなる表示領域５を有している。電気泳動素子３２は素子基板３００の最表面に複数のマイクロカプセル２０が配列されてなる。
なお、表示体１０としては電気泳動素子以外の表示デバイスを用いてもよく、例えば、液晶装置や、ＯＬＥＤ等から適宜選択される。
上記した各種表示体は、そのシール構造や駆動ＩＣの実装等から、額縁と呼ばれる外周スペースが必要となる。図示は省略しているが、ハウジング９内には、表示体１０の無線通信部、制御部、駆動制御部等が実装されている。
【００２２】
表示領域５にはｍ本の走査線６６およびｎ本のデータ線６８が形成され、各々の走査線６６およびデータ線６８の交点位置に対応して画素４０が設けられている。各画素４０には、選択トランジスタ（図示略）、画素電極３５および電気泳動素子３２が設けられている。
【００２３】
選択トランジスタは、例えばＮＭＯＳ（Ｎｅｇａｔｉｖｅ  Ｍｅｔａｌ  Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）−ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）からなる画素スイッチング素子である。選択トランジスタのゲート端子は走査線６６に接続され、ソース端子はデータ線６８に接続され、ドレイン端子は画素電極３５に接続されている。
【００２４】
表示領域５の周辺領域には、表示領域５から延出された複数の走査線６６がシフトレジスタ６１のパラレル出力に繋がっており、シフトレジスタ６１のシリアル入力となる接続配線６６ａと、接続端子６，７，８とが形成されている。接続端子６は、接続配線６６ａを入力として表示領域５の全ての走査線６６にシリアルパラレル変換接続されている。接続端子８は、接続配線６６ｂをシリアル入力とするシフトレジスタ６２を介して表示領域５の全てのデータ線６８と接続されている。接続端子７は、複数の画素４０に共通の電極として形成された座標体１１の導電性パターン１３と接続されている。これら接続端子６，７，８はコントローラーに接続されている。コントローラーは、電子ペン１１０からの入力信号に基づいて、表示領域５への画像表示動作を制御する。具体的には、各接続端子６〜８を介して走査線６６およびデータ線６８に所定の電位を入力し、表示領域５に所定の画像を表示する。
【００２５】
また、表示領域５において第１基板３０の電気泳動素子３２側には、走査線６６、データ線６８、選択トランジスタなどが形成された回路層３４が設けられており、回路層３４上に複数の画素電極３５が配列形成されている。
素子基板３００は、ガラスやプラスチック等からなる第１基板３０を有しており、画像表示面とは反対側に配置されるため透明なものでなくてもよい。画素電極３５は、Ｃｕ（銅）箔上にニッケルメッキと金メッキとをこの順番で積層したものや、Ａｌ（アルミニウム）、ＩＴＯ（インジウム・スズ酸化物）などにより形成された電気泳動素子３２に電圧を印加する電極である。
【００２６】
そして、素子基板３００上に導電性接着剤３３を介して貼り合わされた複数のマイクロカプセル２０は、例えば５０μｍ程度の粒径をそれぞれ有しており、内部に分散媒２１と、複数の白色粒子（電気泳動粒子）２７と、複数の黒色粒子（電気泳動粒子）２６とが封入されてなる。
【００２７】
座標体１１は、表示領域５に対応する大きさを有して形成されているとともに素子基板３００上に電気泳動素子３２を介して配置され、ＰＥＴ等の材料を用いて形成された透明な樹脂フィルム１２と、樹脂フィルム１２の一面側に形成された導電性パターン１３とを有する透明導電性膜からなる。
【００２８】
導電性パターン１３は、表示体１０側の複数の画素電極３５に共通し、これら複数の共通電極とともに電気泳動素子３２に電圧を印加する電極であって、Ａｌ（アルミ）、Ａｇ（銀）、Ａｕ（金）、Ｃｕ（銅）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｃｒ（クロム）、Ｍｏ（モリブデン）などの金属やそれら合金及び導電性塗料等から形成される。
【００２９】
導電性パターン１３は、１次元の細線パターン（第１細線パターン）１４と、これに交差する１次元の細線パターン（第２細線パターン）１５とを組み合わせて作成された２次元パターンであって、印刷およびメッキ等の工程を経て格子状（メッシュ状）に形成されている。細線パターン１４，１５の線幅は１０〜３０μｍ、ピッチは１００〜２００μｍ程度で形成される。このように、狭い線幅で所定間隔のピッチを保つことで、細線パターン自体は光を透過しないが、シート全体としては、高い光透過率と低いシート抵抗値を示す。
【００３０】
金属薄膜からなる透明導電膜のシート抵抗の値（表面抵抗率）は、５０（Ω／□、Ω／ｓｑ）である。
【００３１】
図３は、位置情報パターンの概略構成を示す平面図である。
図３に示すように、導電性パターン１３には、位置情報パターン１６が付与されている。この位置情報パターン１６は、各細線パターン１４，１５のマトリクス交点に任意に設けられたドット１７によって座標値を示すことによって表示領域５上での位置情報を得るためのものである。
【００３２】
位置情報パターン１６は、図３に示すごとく、Ｍ平面と呼ばれる２次元系列のパターンであり、導電性パターン１３における所定の交点位置に配置された複数のドット１７を有する。上記交点位置におけるドット１７の有無によって得られる２次元コードからその２次元位置を一意的に定義するもので、ドット１７が付された交点ｑは符号［１］を示し、ドット１７のない交点ｑ’は符号［０］を示す。ここで、符号［１］、符号［０］の並びはＭ平面のコード平面である。例えば、４ビットのＭ平面の場合は、微小単位領域における部分パターン、つまりドット１７の有無、数、配置位置等によって取得される４桁のコードによって、その指定位置が位置情報パターン１６上のどの位置であるかが一意的に決定される。
【００３３】
具体的に、位置情報パターン１６は、１５×１７ビットからなるＭ平面を表示領域５に対応して構成しており、各交点ｑの位置が表示体１０の座標（各画素４０）と一致する。Ｍ平面では、電子ペン１１０における撮像領域に対応するウィンドウＷ（微小単位領域）ごとに、４×２ビットの部分パターン１６ａが付与されている。この部分パターン１６ａは位置情報パターン１６の位置に応じてドットパターン（ドット１７の数、配置位置等）が異なるので、所定のウィンドウＷの部分パターン１６ａを電子ペン１１０によって読み取ると、Ｍ平面全体において１つしかない値（座標位置）が得られる。
【００３４】
ここで、Ｍ平面の平面サイズ（１５×１７ビット）について述べる。
有限体ＧＦ（ｑ）で、最大周期長：ｎ、平面サイズ：ｎ１×ｎ２、ウィンドウサイズ：ｋ１×ｋ２のＭ平面とすると、
【００３５】
【数１】
0005793958.tif 000002
である。
【００３６】
したがって、本実施形態の位置情報パターン１６では、ＧＦ（２）（符号［０］、［１］）なので、
【００３７】
【数２】
0005793958.tif 000003
となり、平面サイズｎは１５×１７となる。
したがって、１５×１７ビットのＭ平面となる。
【００３８】
本実施形態では、位置情報パターン１６を設けることで、表示領域５内での座標ごとにその座標のみに対応した一意な座標情報が割り当てられている。座標情報は、表示領域５内での微小単位領域内に散在させた複数のドット１７に符号化して割り当てられており、これら複数のドット１７からなる位置情報パターン１６を電子ペン１１０（図４）で光学的に読み取ることで、任意の座標位置情報が得られるようになっている。
【００３９】
電子ペン１１０を用いて座標体１１の位置情報パターン１６の所定の微小単位領域を撮像し、当該領域における交点位置に、ドット１７が存在すれば符号［１］、ドット１７が存在しなければ符号［２］として、所定のビット数をとってデジタルコードを取得する。これは、Ｍ平面上の位置を表す部分コードであるので、これをテーブル変換によって対応する座標に変換する。図３では、３箇所のウィンドウＷの位置を点線で囲って示してある。したがって、この値を逆算あるいは参照テーブルを対比することで、一意的に指定位置の座標が決定する。そして、電子ペン１１０で読み取ったデータを無線あるいは光通信等で、電子ペン１１０から表示体１０側の制御部に送信して、表示体１０における対応画素を点灯すれば、手書き入力が可能である。
【００４０】
なお、本実施形態では、ドット１７の有無によって符号［１］，［０］を表すドットパターンによって位置情報パターン１６を構成しているが、このドットパターンのパターン構成は任意である。また、ドット１７の数においても任意である。実際の表示領域５では、２５６×２５６以上の画素数、６×６以上のウィンドウが必要である。また、１つの位置情報パターン１６により多くのビット情報を付与することができれば、ウィンドウを小さくすることができる。これにより、電子ペン１１０の小型化が図れる。
【００４１】
次に、電子ペンの概略構成について述べる。
図４は、本発明に係る電子ペンの概略構成を示す図である。
図４に示すように、本実施例における電子ペン１１０は、細棒状のペン型ケース４１の内部にコリメータレンズ４２、発光素子４３、撮像素子４４、電子回路部品４５、電池４６等を含んで構成されている。発光素子４３としては、発光ダイオード（ＬＥＤ）あるいはレーザーダイオード（半導体レーザー）が適する。撮像素子４４としては、位置情報パターンの微小単位領域の部分パターンを撮像して記録することのできるＣＣＤカメラあるいはＣＭＯＳセンサーが用いられる。これら半導体センサーの光感度は６００ｎｍ付近にピークがあり、表示画像の影響を抑えるために赤外領域の発光素子を使用してもよい。この場合は、赤外光線を透過して可視光線を遮光する赤外線透過フィルタをコリメータレンズ４２とともに配置する。つまり、発光素子として赤外光を発光するものを使用し、フィルタは赤外光透過フィルタを使用することにより、位置情報パターン１６以外の背景光（表示画像）を除去することができる。その結果、表示体１０における表示領域５上での電子ペン１１０による正確な位置情報を得ることができる。
また、焦電効果によって赤外線を含む光を検出する焦電素子を使用しても良い。
【００４２】
電子回路部品４５は、発光、撮像および検出演算処理を実行するＣＰＵなどの画像処理手段、検出データを本体に送信する無線回路等を備える。
電子ペン１１０の電源は、ペン型ケース４１内に取り付けられる電池４６から供給されるようになっている。
発光素子４３は、常に点灯させておく必要はなく、電子ペンの走査スピードや撮像素子による撮像タイミングなどから、表示体１０の表示領域５に向けてパルス的に照明し、表示体１０の照明（背景輝度）に応じて発光時間や消費電力を制御する。
ここで、前回の照明時における撮像素子４４によって得た情報を次回の照明時にフィードバックすれば、さらにＳＮ比が改善する。
【００４３】
本実施形態では、電子ペン１１０のペン先に設けられた撮像手段にて検出された部分パターンから表示領域５上の位置が特定され、ペン先の軌跡を筆跡として表示領域５に入力する。つまり、電子ペン１１０の時系列座標データ（ストロークデータ）が筆跡データとなる。本実施形態では、表示領域５に対応する位置情報パターン１６を光学的に読み取る方法のため、電子ペン１１０を表示本体１２０から離した場合であっても、表示領域５の位置がユニークに決定される。
【００４４】
さらに、位置情報パターン１６は可視光を透過するとともに赤外光を吸収することから、表示部の背景光を除いて位置情報パターン１６のみを電子ペン１１０によって検出することができるので、ノイズの影響がなく、正確な位置情報を得ることができる。また、周囲の環境光（可視光など）によるＳＮ比の低下を回避して位置情報パターン１６を読み取ることができる。
【実施例１】
【００４５】
図５（ａ）は、実施例１における位置情報パターンを示す図であり、（ｂ），（ｃ）は、基準位置における各象限と符号との関係を示す図である。
図５（ａ）に示すように、位置情報パターン１９は、細線パターン１４，１５の複数の交点部分に割り当てられたドット１８によって構成されており、ドット１８が設けられていない交点では数値［０］を表し、ドット１８が設けられた交点では、それぞれの交点領域におけるドット１８の数や配置箇所に応じて数値［０］〜［３］を表すようになっている。
【００４６】
位置情報パターン１９は、導電性パターン１３の交点に対応する基準位置を有しており、ドット１８の有無やその基準位置に対するドット１８の配置箇所によって任意の数値（座標値）が決定される。ドット１８の形状は特に限定されないが、検出容易な単純な形状であることが好ましい。また、座標値はドット１８の数や配置位置に基づいているため、ドット１８の平面形状は統一されていてよい。なお、ドット１８は基準位置を覆うことのない位置に配置される。
【００４７】
図５（ｂ）に、第１象限Ａ１（ｘ＞０、ｙ＞０）、第２象限Ａ２（ｘ＜０、ｙ＞０）、第３象限Ａ３（ｘ＜０、ｙ＜０）、第４象限Ａ４（ｘ＞０、ｙ＜０）を示す。図５（ｂ）を参照して、本実施例において交点領域Ｒに割り当てられたドット１８の数および配置箇所によって異なる数値を表す具体的な例としては、第１象限Ａ１（ｘ＞０、ｙ＞０）に存在する１個のドット１８で符合［１］を表し、細線パターン１４に沿って第１象限Ａ１及び第４象限Ａ４（ｘ＞０、ｙ＜０）に配置された２個のドット１８によって符合［２］を表す。さらに、交点領域Ｒの第１象限Ａ１及び第３象限Ａ３（ｘ＜０、ｙ＜０）に斜めに配置された２個のドット１８によって符合［３］を表す。
【００４８】
また、導電性パターン１３が回転対象でないように上下左右に識別手段あるいは事前設定を施しておくことにより、図５（ｃ）に示すように、符号［２’］、［３’］、［４’］、［５’］、［６’］を示すパターンも利用可能である。導電性パターン１３の回転状態を識別する手段として、パターンの非対称性を考えても良い。
【００４９】
本実施例のように、表示領域５に設けられた導電性パターン１３の交点位置に、ドット１８の有無や数による０〜４個のデータを埋め込むことにより、位置情報パターン１９上における微小単位領域に対応する２×２のウィンドウを読み取るだけで任意の座標の位置情報が得られる。
【実施例２】
【００５０】
図６は、実施例２における位置情報パターンを示す図である。
図６に示すように、本実施例における位置情報パターン２３は、３本の細線１４ａ，１４ｂ，１４ｃを一組とする細線パターン（第１細線パターン）１４０と、３本の細線１５ａ，１５ｂ，１５ｃ（第２細線パターン）を一組とする細線パターン１５０とが格子状に配列されてなる導電性パターン１３０を有し、各細線１４ａ，１４ｂ，１４ｃ間のピッチ幅、１５ａ，１５ｂ，１５ｃのピッチ幅の非対称性により、導電性パターン１３０の回転状態を識別することができる。
【００５１】
位置情報パターン２３の基準位置は、互いに交差する細線パターン１４０，１５０の各細線１４ｂ，１５ｂ同士の交点によって規定され、これら各基準位置に対するドット１８の配置位置によって座標値が表される。
座標値は、基準位置ごとに配置されたドット１８の有無、配置位置、数等により符号化され、図６に示すように、［０］〜［１５］までの符号を作り込むことが可能である。
【００５２】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
例えば、導電性パターン１３を構成する細線パターン１４、１５はそれぞれ曲線であっても良い（図７）。また、細線パターン１４、１５が交差する角度は直角でなくても良く（図８（ａ））、更に、３本以上の細線パターン１４，１５，１５が交差しても良い（図８（ｂ）。このような場合においても、前述した法則に従い、位置情報パターンを形成、認識することができる。
【００５３】
例えば、導電性パターンが可撓性を有するものであっても良い。これにより、フレキシブルな表示装置に対応することが可能である。
【００５４】
また、先の実施形態では、電気泳動素子を用いた電気泳動表示装置を表示体１０として採用していたが、これに限定されることはなく、不揮発性表示装置を用いることが可能である。これにより、外部からの給電を停止しても表示内容を維持することができるので、消費電力化が可能な入力機能付表示装置が得られる。
【符号の説明】
【００５５】
２，１６，１９，２３…位置情報パターン、５…表示領域、ｑ…交点、１０…表示体（表示部）、１１…座標体（透明導電性膜）、１３，１３０…導電性パターン、１４，１４０…細線パターン（第１細線パターン）、１５，１５０…細線パターン（第２細線パターン）、１７，１８…ドット、４４…撮像素子、１００…入力機能付表示装置、１１０…電子ペン（位置情報読取手段）、１２０…表示本体（表示手段）
【図１】
0005793958.tif 000004
【図２】
0005793958.tif 000005
【図３】
0005793958.tif 000006
【図４】
0005793958.tif 000007
【図５】
0005793958.tif 000008
【図６】
0005793958.tif 000009
【図７】
0005793958.tif 000010
【図８】
0005793958.tif 000011