(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に体積抵抗率が１．０×１０８Ω・ｃｍ以上５．０×１０１２Ω・ｃｍ以下の導電層を形成する工程、および、該導電層上に感光層を形成する工程を有する電子写真感光体の製造方法において、
該導電層を形成する工程が、溶剤、結着材料および下記関係式（ｉ）を満足する金属酸化物粒子を用いて導電層用塗布液を調製し、該導電層用塗布液を用いて該導電層を形成する工程であり、
該金属酸化物粒子が、リンがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子である
ことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
４５≦Ａ×ρ×Ｄ≦６５  ・・・（ｉ）
Ａ：該金属酸化物粒子の単位質量当たりの表面積［ｍ２／ｇ］
Ｄ：該金属酸化物粒子の個数平均粒径［μｍ］
ρ：該金属酸化物粒子の密度［ｇ／ｃｍ３］
【請求項２】
前記金属酸化物粒子が、０．１３≦Ｄ≦０．２５を満足する請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
前記金属酸化物粒子が、４５≦Ａ×ρ×Ｄ≦５５を満足する請求項１または２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項４】
前記酸化スズによる前記酸化チタンの被覆率は、前記ドープされているリンを含まない酸化スズと、前記酸化チタンとの合計の質量に対して、１０〜６０質量％である請求項１〜３のいずれか一項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項５】
前記酸化チタン粒子と前記結着材料の質量比（酸化チタン粒子／結着材料）が、１．５／１．０以上３．５／１．０以下である請求項１〜４のいずれか一項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機光導電性材料を用いた電子写真感光体（有機電子写真感光体）の研究開発が盛んに行われている。
【０００３】
電子写真感光体は、基本的には、支持体と、該支持体上に形成された感光層とから構成される。しかしながら、現状は、支持体の表面の欠陥の隠蔽、感光層の電気的破壊に対する保護、帯電性の向上、支持体から感光層への電荷注入阻止性の改良などのために、支持体と感光層との間には、各種の層が設けられることが多い。
【０００４】
支持体と感光層との間に設けられる層の中でも、支持体の表面の欠陥の隠蔽を目的として設けられる層としては、金属酸化物粒子を含有する層が知られている。金属酸化物粒子を含有する層は、一般的に、金属酸化物粒子を含有しない層に比べて導電性が高く（例えば、体積抵抗率で１．０×１０８〜５．０×１０１２Ω・ｃｍ）、層の膜厚を厚くしても、画像形成時の残留電位の上昇が生じにくい。そのため、支持体の表面の欠陥を被覆することが容易である。このような導電性の高い層（以下「導電層」という。）を支持体と感光層との間に設けて支持体の表面の欠陥を隠蔽することにより、支持体の表面の欠陥の許容範囲は大きくなる。その結果、支持体の使用許容範囲が大幅に広がるため、電子写真感光体の生産性の向上が図れるという利点がある。
【０００５】
特許文献１には、支持体と光導電層との間の中間層にリンがドープされている酸化スズ粒子を用いる技術が開示されている。また、特許文献２には、感光層上の保護層にタングステンがドープされている酸化スズ粒子を用いる技術が開示されている。また、特許文献３には、支持体と感光層との間の導電層に酸素欠損型の酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子を用いる技術が開示されている。また、特許文献４には、支持体と感光層との間の中間層に酸化スズで被覆されている硫酸バリウム粒子を用いる技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平０６−２２２６００号公報
【特許文献２】特開２００３−３１６０５９号公報
【特許文献３】特開２００７−４７７３６号公報
【特許文献４】特開平０６−２０８２３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、本発明者らの検討の結果、上記のような金属酸化物粒子を含有する層を導電層として採用した電子写真感光体を用いて高温高湿環境下で繰り返して画像形成を行うと、支持体から感光層への局所的な電荷注入による出力画像上の黒ポチが発生しやすくなることが判明した。
【０００８】
本発明の目的は、金属酸化物粒子を含有する層を導電層として採用した電子写真感光体であっても、支持体から感光層への局所的な電荷注入による出力画像上の黒ポチが発生しにくい電子写真感光体を製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、支持体上に体積抵抗率が１．０×１０８Ω・ｃｍ以上５．０×１０１２Ω・ｃｍ以下の導電層を形成する工程、および、該導電層上に感光層を形成する工程を有する電子写真感光体の製造方法において、
該導電層を形成する工程が、溶剤、結着材料および下記関係式（ｉ）を満足する金属酸化物粒子を用いて導電層用塗布液を調製し、該導電層用塗布液を用いて該導電層を形成する工程であり、
該金属酸化物粒子が、リンがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子である
ことを特徴とする電子写真感光体の製造方法である。
【００１０】
４５≦Ａ×ρ×Ｄ≦６５  ・・・（ｉ）
Ａ：該金属酸化物粒子の単位質量当たりの表面積［ｍ２／ｇ］
Ｄ：該金属酸化物粒子の個数平均粒径［μｍ］
ρ：該金属酸化物粒子の密度［ｇ／ｃｍ３］
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、金属酸化物粒子を含有する層を導電層として採用した電子写真感光体であっても、上記関係式（ｉ）を満足する特定な金属酸化物粒子を用いることにより、支持体から感光層への局所的な電荷注入による出力画像上の黒ポチが発生しにくい電子写真感光体を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す図である。
【図２】導電層の体積抵抗率の測定方法を説明するための図（上面図）である。
【図３】導電層の体積抵抗率の測定方法を説明するための図（断面図）である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の製造方法により製造される電子写真感光体は、支持体、該支持体上に形成された導電層、該導電層上に形成された感光層を有する電子写真感光体である。感光層は、電荷発生物質および電荷輸送物質を単一の層に含有させた単層型感光層であってもよいし、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とを積層した積層型感光層であってもよい。また、必要に応じて、支持体上に形成される導電層と感光層との間に下引き層を設けてもよい。
【００１４】
支持体としては、導電性を有するもの（導電性支持体）が好ましく、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレスなどの金属で形成されている金属製支持体を用いることができる。アルミニウムやアルミニウム合金を用いる場合は、押し出し工程および引き抜き工程を含む製造方法により製造されるアルミニウム管や、押し出し工程およびしごき工程を含む製造方法により製造されるアルミニウム管を用いることができる。このようなアルミニウム管は、表面を切削することなく良好な寸法精度や表面平滑性が得られるうえ、コスト的にも有利である。しかしながら、無切削のアルミニウム管の表面にはササクレ状の凸状欠陥が生じやすいため、導電層を設けることが特に有効である。
【００１５】
本発明においては、支持体の表面の欠陥の隠蔽を目的として、支持体上には、体積抵抗率が１．０×１０８Ω・ｃｍ以上５．０×１０１２Ω・ｃｍ以下の導電層が設けられる。支持体の表面の欠陥を隠蔽するための層として、体積抵抗率が５．０×１０１２Ω・ｃｍを超える層を支持体上に設けると、画像形成時に電荷の流れが滞りやすくなり、残留電位が上昇しやすくなる。一方、導電層の体積抵抗率が１．０×１０８Ω・ｃｍ未満であると、導電層中を流れる電荷の量が多くなりすぎて、支持体から感光層への局所的な電荷注入による出力画像上の黒ポチが発生しやすくなる。
【００１６】
図２および図３を用いて、電子写真感光体の導電層の体積抵抗率を測定する方法を説明する。図２は、導電層の体積抵抗率の測定方法を説明するための上面図であり、図３は、導電層の体積抵抗率の測定方法を説明するための断面図である。
【００１７】
導電層の体積抵抗率は、常温常湿（２３℃／５０％ＲＨ）環境下において測定する。導電層２０２の表面に銅製テープ２０３（住友スリーエム（株）製、型番Ｎｏ．１１８１）を貼り、これを導電層２０２の表面側の電極とする。また、支持体２０１を導電層２０２の裏面側の電極とする。銅製テープ２０３と支持体２０１との間に電圧を印加するための電源２０６、および、銅製テープ２０３と支持体２０１との間を流れる電流を測定するための電流測定機器２０７をそれぞれ設置する。また、銅製テープ２０３に電圧を印加するため、銅製テープ２０３の上に銅線２０４を載せ、銅線２０４が銅製テープ２０３からはみ出さないように銅線２０４の上から銅製テープ２０３と同様の銅製テープ２０５を貼り、銅製テープ２０３に銅線２０４を固定する。銅製テープ２０３には、銅線２０４を用いて電圧を印加する。
【００１８】
銅製テープ２０３と支持体２０１との間に電圧を印加しないときのバックグラウンド電流値をＩ０［Ａ］とし、直流成分のみの電圧を−１Ｖ印加したときの電流値をＩ［Ａ］とし、導電層２０２の膜厚ｄ［ｃｍ］、導電層２０２の表面側の電極（銅製テープ２０３）の面積をＳ［ｃｍ２］とするとき、下記数式（１）で表される値を導電層２０２の体積抵抗率ρ［Ω・ｃｍ］とする。
ρ＝１／（Ｉ−Ｉ０）×Ｓ／ｄ［Ω・ｃｍ］  ・・・（１）
この測定では、絶対値で１×１０−６Ａ以下という微小な電流量を測定するため、電流測定機器２０７としては、微小電流の測定が可能な機器を用いて行うことが好ましい。そのような機器としては、例えば、横河ヒューレットパッカード社製のｐＡメーター（商品名：４１４０Ｂ）などが挙げられる。
【００１９】
なお、導電層の体積抵抗率は、支持体上に導電層のみを形成した状態で測定しても、電子写真感光体から導電層上の各層（感光層など）を剥離して支持体上に導電層のみを残した状態で測定しても、同様の値を示す。
【００２０】
本発明において、導電層の形成には、溶剤、結着材料および下記関係式（ｉ）を満足する金属酸化物粒子を用いて調製された導電層用塗布液が用いられる。
４５≦Ａ×ρ×Ｄ≦６５  ・・・（ｉ）
Ａ：該金属酸化物粒子の単位質量当たりの表面積［ｍ２／ｇ］
Ｄ：該金属酸化物粒子の個数平均粒径［μｍ］
ρ：該金属酸化物粒子の密度［ｇ／ｃｍ３］
【００２１】
導電層用塗布液は、上記関係式（ｉ）を満足する金属酸化物粒子を結着材料とともに溶剤に分散させることによって調製することができる。分散方法としては、例えば、ペイントシェーカー、サンドミル、ボールミル、液衝突型高速分散機を用いた方法が挙げられる。導電層は、上記のように調製された導電層用塗布液を支持体上に塗布し、これを乾燥および／または硬化させることによって形成することができる。
【００２２】
また、本発明においては、上記金属酸化物粒子として、異元素であるリン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子（リンドープ酸化スズ被覆酸化チタン粒子）が用いられる。この粒子は、酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子を被覆している酸化スズ（ＳｎＯ２）に異元素であるリン（Ｐ）がドープされていることにより、粒子の抵抗が制御されている。一般的には、酸化スズ（ＳｎＯ２）にリン（Ｐ）をドープすることにより、ドープしていないものに比べて、粒子の抵抗（粉体抵抗率など）を低くすることができる。
【００２３】
本発明者らは、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子が、芯材粒子や被覆層が異なる他の金属酸化物粒子（酸素欠損型の酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子や、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）粒子など）と比べて、表面が細かく凸凹していることを見出した。その理由の詳細は不明であるが、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子が製造される際、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）の結晶が芯材粒子である酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子上において成長していく過程が、他のものとは異なるためと推測される。
【００２４】
そして、本発明者らは、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子の表面の凸凹に関して、鋭意検討を行った。その結果、本発明者らは、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子の単位質量当たりの比表面積をＡ［ｍ２／ｇ］とし、密度をρ［ｇ／ｃｍ３］、個数平均粒径をＤ［μｍ］としたとき、それらの積であるＡ×ρ×Ｄが４５以上６５以下の範囲にあるものを用いて導電層用塗布液を調製し、この導電層用塗布液を用いて導電層を形成することで、支持体から感光層への局所的な電荷注入による出力画像上の黒ポチの発生を抑制することができることを見出した。
【００２５】
Ａ×ρ×Ｄが４５以上６５以下の範囲である場合に、支持体から感光層への局所的な電荷注入による出力画像上の黒ポチを抑制することができる理由の詳細は不明であるが、本発明者らは、以下のように推測している。
【００２６】
まず、Ａ×ρ×Ｄの表す意味について説明する。
本発明者らは、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子の表面が、他の金属酸化物粒子の表面と比べて、細かく凸凹していることに着目し、この凸凹具合を意味する指標値としてＡ×ρ×Ｄを導入した。
【００２７】
粒子の密度をρ［ｇ／ｃｍ３］とし、単位質量当たりの比表面積をＡ［ｍ２／ｇ］とし、個数平均粒径をＤ［μｍ］とすると、粒子の単位体積当たりの比表面積は、以下のように求められる。
単位体積当たりの比表面積［ｍ２／ｃｍ３］＝単位質量当たりの比表面積Ａ［ｍ２／ｇ］×密度ρ［ｇ／ｃｍ３］  ・・・（ａ）
【００２８】
粒子の単位体積当たりの比表面積は、その粒径に反比例する。したがって、上記式（ａ）にさらに個数平均粒径Ｄ［μｍ］を乗じたＡ×ρ×Ｄは、粒子の大きさや密度を考慮したうえでの表面の凸凹具合を表す指標値とみることができる。粒子が真球である場合、Ａ×ρ×Ｄを求めると必ず６となる。そして、粒子のＡ×ρ×Ｄが６より大きな数字であるほど、該球状物体（粒子）は真球に比べてその表面が細かく凸凹していることを表すことになる。
【００２９】
金属酸化物粒子を含有する層を導電層として採用した場合、出力画像上の黒ポチの発生メカニズムとしては、画像形成中、導電層中の金属酸化物粒子間を通って電流が流れる際に、局所的な電流の集中が起こり、その部分が出力画像上の黒ポチとなって現れると考えられる。表面の凸凹が細かい金属酸化物粒子を用いて形成された導電層の場合、金属酸化物粒子間を通って電流が流れていく際に、平滑な表面の金属酸化物粒子を用いて形成された導電層の場合に比べて、その凸凹による表面積の増大に応じて導電パスが増大する。その結果、局所的な電流の集中を抑制する効果が発現し、出力画像上の黒ポチの発生が抑制されるものと推測される。
【００３０】
本発明に用いられる、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子は、芯材粒子である酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子上に、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）の結晶が細かく成長して、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）の被覆層をなしている。そのため、表面の凹凸が細かくなっている粒子が得られやすい。それに比べて、酸素欠損型の酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子や、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている硫酸バリウム粒子では、芯材粒子上に酸化スズ（ＳｎＯ２）の結晶が細かく成長しにくいため、それら粒子の表面の凹凸は、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子の表面に比べて粗くなる。
【００３１】
以上のとおり、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子は、他の金属酸化物粒子の表面と比べて表面が細かく凸凹している粒子である。ただし、支持体から感光層への局所的な電荷注入による出力画像上の黒ポチの発生を抑制するためには、そのようなリン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子の中でも、特に表面が細かく凸凹しているものを用いる必要がある。具体的には、凸凹具合を意味するＡ×ρ×Ｄで表したときに、４５以上のもの（４５≦Ａ×ρ×Ｄ）を用いる必要がある。
【００３２】
一方、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子の中でも、Ａ×ρ×Ｄが６５より大きいものを用いた場合、粒子の表面の凹凸が細かすぎて、その表面の凹凸が導電層用塗布液の調製の際において維持されにくくなる。その結果、芯材粒子上のリン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で形成されている被覆層が破壊されたり、導電層用塗布液における粒子の分散状態が不安定になったりするため、黒ポチの発生を抑制する効果が不十分となるため、Ａ×ρ×Ｄが６５以下（Ａ×ρ×Ｄ≦６５）のものを用いる必要がある。特に、Ａ×ρ×Ｄが５５以下（Ａ×ρ×Ｄ≦５５）のものが好ましい。
【００３３】
リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子のＡ×ρ×Ｄを制御するためには、例えば、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子における酸化スズ（ＳｎＯ２）の割合（被覆率、被覆層の厚さ）や、個数平均粒径Ｄや、焼成条件を調整すればよい。被覆率とは、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子における酸化スズ（ＳｎＯ２）の割合である。被覆層の厚さとは、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）の被覆層の厚さである。また、焼成条件としては、焼成温度、焼成時間が挙げられる。被覆率、被覆層の厚さが大きくなるほど、酸化チタン（ＴｉＯ２）（芯材粒子）の表面に形成される被覆層中の酸化スズ（ＳｎＯ２）が重なり合い、粒子の表面の凸凹がより細かくなるため、Ａ×ρ×Ｄが大きくなる。また、焼成温度が低いほど、粒子の表面の凸凹が細かくなりやすいため、Ａ×ρ×Ｄが大きくなり、逆に、焼成温度が高いほど、Ａ×ρ×Ｄが小さくなる。また、焼成時間が短いほど、粒子の表面の凸凹が細かくなりやすいため、Ａ×ρ×Ｄが大きくなり、逆に、焼成時間が長いほど、Ａ×ρ×Ｄが小さくなる。
【００３４】
酸化スズ（ＳｎＯ２）の被覆率、被覆層の厚さを制御するためには、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子を製造するときに、酸化スズ（ＳｎＯ２）を生成するのに必要なスズ原材料を配合する必要がある。例えば、スズ原材料として塩化スズ（ＳｎＣｌ４）を用いる場合、塩化スズ（ＳｎＣｌ４）から生成される酸化スズ（ＳｎＯ２）の量を考慮した仕込みである必要がある。なお、本発明においては、酸化スズ（ＳｎＯ２）にリン（Ｐ）がドープされているが、被覆率は、酸化スズ（ＳｎＯ２）にドープされているリン（Ｐ）の質量を考慮に入れず、酸化スズ（ＳｎＯ２）と酸化チタン（ＴｉＯ２）の合計質量に対する酸化スズ（ＳｎＯ２）の質量により計算した値とする。被覆率は、１０〜６０質量％であることが好ましい。酸化スズ（ＳｎＯ２）の被覆率が１０質量％より小さい場合、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子（芯材粒子）の表面の全体を被覆しにくくなる。被覆率が６０質量％より大きい場合、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）による酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子（芯材粒子）の被覆が不均一になりやすく、また、高コストになりやすい。被覆層の厚さは、５〜４０ｎｍであることが好ましい。
【００３５】
酸化スズ（ＳｎＯ２）にドープされるリン（Ｐ）の量は、酸化スズ（ＳｎＯ２）（リン（Ｐ）を含まない質量）に対して０．１〜１０質量％であることが好ましい。酸化スズ（ＳｎＯ２）にドープされるリン（Ｐ）の量が０．１質量％より少ない場合、粒子の粉体抵抗率を十分に下げることが難しくなり、導電層の体積抵抗率を５．０×１０１２Ω・ｃｍ以下に調整しにくくなる。酸化スズ（ＳｎＯ２）にドープされるリン（Ｐ）の量が１０質量％より多い場合、酸化スズ（ＳｎＯ２）の結晶性が低下する傾向にある。一般的には、酸化スズ（ＳｎＯ２）にリン（Ｐ）をドープすることにより、ドープしていないものに比べて、粒子の粉体抵抗率を低くすることができる。
【００３６】
なお、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子の製造方法は、特開平０６−２０７１１８号公報、特開２００４−３４９１６７号公報、ＷＯ２００５／００８６８５号公報にも開示されている。
【００３７】
リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子の個数平均粒径Ｄ［μｍ］は、０．１０μｍ以上０．３０μｍ以下（０．１０≦Ｄ≦０．３０）であることが好ましく、０．１３μｍ以上０．２５μｍ以下（０．１３≦Ｄ≦０．２５）であることがより好ましい。個数平均粒径Ｄ［μｍ］が小さすぎると、導電層用塗布液においてリン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子の再凝集が起こり、導電層用塗布液の安定性が悪化したり、形成される導電層の表面にクラックが発生したりすることがある。一方、個数平均粒径Ｄ［μｍ］が大きすぎると、形成される導電層の表面が粗くなりやすくなる。
【００３８】
本発明において、金属酸化物粒子（リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子）の個数平均粒径Ｄ［μｍ］は、走査型電子顕微鏡を用いて、以下のようにして求めた。（株）日立製作所製の走査型電子顕微鏡（商品名：Ｓ−４８００）を用いて測定対象の粒子を観察し、観察して得られた画像から、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子１００個の個々の粒径を測定し、それらの算術平均を算出して個数平均粒径Ｄ［μｍ］とした。個々の粒径は、一次粒子の最長辺をａとし、最短辺をｂとしたときの（ａ＋ｂ）／２とした。
【００３９】
本発明において、金属酸化物粒子（リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子）の単位質量当たりの比表面積Ａ［ｍ２／ｇ］は、ＢＥＴ法を用いて、以下のようにして求めた。（株）島津製作所製の比表面積測定装置（商品名：ジェミニ２３７５Ｖｅｒ．５．０）を用いて測定対象の粒子の表面に窒素ガスを吸着させ、ＢＥＴ多点法を用いて、単位質量当たりの比表面積（ＢＥＴ比表面積）Ａ［ｍ２／ｇ］を算出した。
【００４０】
本発明において、金属酸化物粒子（リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子）の密度ρ［ｇ／ｃｍ３］は、乾式自動密度計を用いて、以下のようにして求めた。（株）島津製作所製の乾式自動密度計（商品名：Ａｃｃｕｐｙｃ１３３０）を用い、容積１０ｃｍ３の容器を用い、測定対象の粒子の前処理としてヘリウムガスパージを最高圧１９．５ｐｓｉｇで１０回行った。この後、容器内圧力が平衡に達したか否かの圧力平衡判定値として、試料室内の圧力の振れが０．００５０ｐｓｉｇ／ｍｉｎを目安とし、この値以下であれば平衡状態とみなして測定を開始し、密度ρ［ｇ／ｃｍ３］を自動測定した。
【００４１】
導電層用塗布液の調製に用いられる結着材料としては、例えば、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリビニルアセタール、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリエステルなどの樹脂が挙げられる。これらは１種または２種以上用いることができる。また、これらの樹脂の中でも、他層へのマイグレーション（溶け込み）の抑制、支持体への密着性、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子の分散性・分散安定性、層形成後の耐溶剤性などの観点から、硬化性樹脂が好ましく、さらに、熱硬化性樹脂がより好ましい。また、熱硬化性樹脂の中でも、熱硬化性のフェノール樹脂、熱硬化性のポリウレタンが好ましい。導電層の結着材料として硬化性樹脂を用いる場合、導電層用塗布液に含有させる結着材料は、該硬化性樹脂のモノマーおよび／またはオリゴマーとなる。
【００４２】
導電層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコールや、アセトン、メチルエチルケトン、シクロへキサノンなどのケトンや、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテルや、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステルや、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素が挙げられる。
【００４３】
また、本発明において、導電層用塗布液における金属酸化物粒子（リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子）（Ｐ）と結着材料（Ｂ）の質量比（Ｐ／Ｂ）は、１．５／１．０以上３．５／１．０以下であることが好ましい。金属酸化物粒子（リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子）（Ｐ）と結着材料（Ｂ）の質量比（Ｐ／Ｂ）が１．５／１．０未満である場合、導電層の体積抵抗率を５．０×１０１２Ω・ｃｍ以下に調整しにくくなる。金属酸化物粒子（リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子）（Ｐ）と結着材料（Ｂ）の質量比（Ｐ／Ｂ）が３．５／１．０を超える場合、導電層の体積抵抗率を１．０×１０８Ω・ｃｍ以上に調整しにくくなり、また、金属酸化物粒子（リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子）の結着が難しくなり、導電層にクラックが発生しやすくなる。
【００４４】
導電層の膜厚は、支持体の表面の欠陥を隠蔽するという観点から、１０μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましい。
【００４５】
なお、本発明においては、導電層を含む電子写真感光体の各層の膜厚の測定装置として、（株）フィッシャーインストルメンツ製のＦＩＳＣＨＥＲＳＣＯＰＥ  ＭＭＳを用いた。
【００４６】
また、導電層の表面で反射した光が干渉して出力画像に干渉縞が発生することを抑制するため、導電層用塗布液には、導電層の表面を粗面化するための表面粗し付与材を含有させてもよい。表面粗し付与材としては、平均粒径が１μｍ以上５μｍ以下の樹脂粒子が好ましい。樹脂粒子としては、例えば、硬化性ゴム、ポリウレタン、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル、シリコーン樹脂、アクリル−メラミン樹脂などの硬化性樹脂の粒子が挙げられる。これらの中でも、凝集しにくいシリコーン樹脂の粒子が好ましい。樹脂粒子の比重（０．５〜２）は、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子の比重（４〜７）に比べて小さいため、導電層形成時に効率的に導電層の表面を粗面化することができる。ただし、導電層中の表面粗し付与材の含有量が多いほど、導電層の体積抵抗率が上昇する傾向にあるため、導電層の体積抵抗率を５．０×１０１２Ω・ｃｍ以下に調整するためには、導電層用塗布液における表面粗し付与材の含有量は、導電層用塗布液中の結着材料に対して１〜８０質量％であることが好ましい。
【００４７】
また、導電層用塗布液には、導電層の表面性を高めるためのレベリング剤を含有させてもよい。また、導電層用塗布液には、導電層の隠蔽性を向上させるための顔料粒子を含有させてもよい。
【００４８】
導電層と感光層との間には、導電層から感光層への電荷注入を阻止するために、電気的バリア性を有する下引き層（バリア層）を設けてもよい。
【００４９】
下引き層は、樹脂（結着樹脂）を含有する下引き層用塗布液を導電層上に塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。
【００５０】
下引き層に用いられる樹脂（結着樹脂）としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアクリル酸類、メチルセルロース、エチルセルロース、ポリグルタミン酸、カゼイン、でんぷんなどの水溶性樹脂や、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド酸、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリグルタミン酸エステルなどが挙げられる。これらの中でも、下引き層の電気的バリア性を効果的に発現させるためには、熱可塑性樹脂が好ましい。熱可塑性樹脂の中でも、熱可塑性のポリアミドが好ましい。ポリアミドとしては、共重合ナイロンが好ましい。
【００５１】
下引き層の膜厚は、０．１μｍ以上２μｍ以下であることが好ましい。
【００５２】
また、下引き層において電荷の流れが滞らないようにするために、下引き層には、電子輸送物質（アクセプターなどの電子受容性物質）を含有させてもよい。電子輸送物質としては、例えば、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロフルオレノン、クロラニル、テトラシアノキノジメタンなどの電子吸引性物質や、これらの電子吸引性物質を高分子化したものなども挙げられる。
【００５３】
導電層（下引き層）上には、感光層が設けられる。
【００５４】
感光層に用いられる電荷発生物質としては、例えば、モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾなどのアゾ顔料や、金属フタロシアニン、非金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料や、インジゴ、チオインジゴなどのインジゴ顔料や、ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミドなどのペリレン顔料や、アンスラキノン、ピレンキノンなどの多環キノン顔料や、スクワリリウム色素や、ピリリウム塩およびチアピリリウム塩や、トリフェニルメタン色素や、キナクリドン顔料や、アズレニウム塩顔料や、シアニン染料や、キサンテン色素や、キノンイミン色素や、スチリル色素などが挙げられる。これらの中でも、オキシチタニウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニンなどの金属フタロシアニンが好ましい。
【００５５】
感光層が積層型の感光層である場合、電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂とともに溶剤に分散させることによって得られる電荷発生層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。分散方法としては、例えば、ホモジナイザー、超音波、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミルなどを用いた方法が挙げられる。
【００５６】
電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ブチラール樹脂、ポリスチレン、ポリビニルアセタール、ジアリルフタレート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ポリスルホン、スチレン−ブタジエン共重合体、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体などが挙げられる。これらは、単独、混合または共重合体として１種または２種以上用いることができる。
【００５７】
電荷発生物質と結着樹脂との割合（電荷発生物質：結着樹脂）は、１０：１〜１：１０（質量比）の範囲が好ましく、５：１〜１：１（質量比）の範囲がより好ましい。
【００５８】
電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、アルコール、スルホキシド、ケトン、エーテル、エステル、脂肪族ハロゲン化炭化水素、芳香族化合物などが挙げられる。
【００５９】
電荷発生層の膜厚は、５μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。
【００６０】
また、電荷発生層には、種々の増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを必要に応じて添加することもできる。また、電荷発生層において電荷の流れが滞らないようにするために、電荷発生層には、電子輸送物質（アクセプターなどの電子受容性物質）を含有させてもよい。電子輸送物質としては、例えば、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロフルオレノン、クロラニル、テトラシアノキノジメタンなどの電子吸引性物質や、これらの電子吸引性物質を高分子化したものなども挙げられる。
【００６１】
感光層に用いられる電荷輸送物質としては、例えば、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物、トリアリルメタン化合物などが挙げられる。
【００６２】
感光層が積層型の感光層である場合、電荷輸送層は、電荷輸送物質および結着樹脂を溶剤に溶解させることによって得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。
【００６３】
電荷輸送層に用いられる結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリサルホン、ポリフェニレンオキシド、エポキシ樹脂、ポリウレタン、アルキド樹脂、不飽和樹脂などが挙げられる。これらは、単独、混合物または共重合体として１種または２種以上用いることができる。
【００６４】
電荷輸送物質と結着樹脂との割合（電荷輸送物質：結着樹脂）は、２：１〜１：２（質量比）の範囲が好ましい。
【００６５】
電荷輸送層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトンや、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステルや、ジメトキシメタン、ジメトキシエタンなどのエーテルや、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素や、クロロベンゼン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン原子で置換された炭化水素などが挙げられる。
【００６６】
電荷輸送層の膜厚は、帯電均一性や画像再現性の観点から、３μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、４μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましい。
【００６７】
また、電荷輸送層には、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤を必要に応じて添加することもできる。
【００６８】
感光層が単層型の感光層である場合、単層型の感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質、結着樹脂および溶剤を含有する単層型の感光層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。電荷発生物質、電荷輸送物質、結着樹脂および溶剤は、例えば、上記の各種のものを用いることができる。
【００６９】
また、感光層上には、感光層を保護することを目的として、保護層を設けてもよい。
【００７０】
保護層は、樹脂（結着樹脂）を含有する保護層用塗布液を塗布し、これを乾燥および／または硬化させることによって形成することができる。
【００７１】
保護層の膜厚は、０．５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上８μｍ以下であることがより好ましい。
【００７２】
上記各層用の塗布液を塗布する際には、例えば、浸漬塗布法（浸漬コーティング法）、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ローラーコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法などの塗布方法を用いることができる。
【００７３】
図１に、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す。
【００７４】
図１において、１はドラム状の電子写真感光体であり、軸２を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。
【００７５】
回転駆動される電子写真感光体１の周面は、帯電手段（一次帯電手段、帯電ローラーなど）３により、正または負の所定電位に均一に帯電される。次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段（不図示）から出力される露光光（画像露光光）４を受ける。こうして電子写真感光体１の周面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。帯電手段３に印加する電圧は、直流電圧のみであってもよいし、交流電圧を重畳した直流電圧であってもよい。
【００７６】
電子写真感光体１の周面に形成された静電潜像は、現像手段５のトナーにより現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体１の周面に形成されたトナー像が、転写手段（転写ローラーなど）６からの転写バイアスによって、転写材（紙など）Ｐに転写される。転写材Ｐは、電子写真感光体１の回転と同期して転写材供給手段（不図示）から電子写真感光体１と転写手段６との間（当接部）に給送されてくる。
【００７７】
トナー像の転写を受けた転写材Ｐは、電子写真感光体１の周面から分離されて定着手段８へ導入されて像定着を受けることにより画像形成物（プリント、コピー）として装置外へプリントアウトされる。
【００７８】
トナー像転写後の電子写真感光体１の周面は、クリーニング手段（クリーニングブレードなど）７によって転写残りのトナーの除去を受ける。さらに、電子写真感光体１の周面は、前露光手段（不図示）からの前露光光１１により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、帯電手段が帯電ローラーなどの接触帯電手段である場合には、前露光は必ずしも必要ではない。
【００７９】
上述の電子写真感光体１と、帯電手段３、現像手段５、転写手段６およびクリーニング手段７などから選択される少なくとも１つの構成要素とを容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に支持し、このプロセスカートリッジを電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図１では、電子写真感光体１と、帯電手段３、現像手段５およびクリーニング手段７とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールなどの案内手段１０を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ９としている。また、電子写真装置は、上述の電子写真感光体１、ならびに、帯電手段３、露光手段、現像手段５および転写手段６を有する構成としてもよい。
【実施例】
【００８０】
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。実施例中で使用したリン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子中の酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子（芯材粒子）は、すべて球状のものである。
【００８１】
〈導電層用塗布液の調製例〉
導電層用塗布液１〜８１では、被覆率が１０〜６０質量％の、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子を用いた。
【００８２】
（導電層用塗布液１の調製例）
金属酸化物粒子としてのリン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ２）で被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子（被覆率：３０質量％、単位質量当たりの表面積Ａ：８７．５ｍ２／ｇ、個数平均粒径Ｄ：０．１０μｍ、密度ρ：４．７ｇ／ｃｍ３、Ａ×ρ×Ｄ＝４１）２２０部、結着材料としてのフェノール樹脂（商品名：プライオーフェンＪ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、樹脂固形分：６０質量％）１２２部、溶剤としての１−メトキシ−２−プロパノール９８部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、回転数：２０００ｒｐｍ、分散処理時間：３時間の条件で分散処理を行い、分散液を得た。
【００８３】
この分散液からメッシュでガラスビーズを取り除いた後、分散液に表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール１２０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社（旧・ＧＥ東芝シリコーン（株））製、平均粒径：２μｍ）１３．８部、レベリング剤としてのシリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング（株）（旧・東レ・ダウコーニング・シリコーン（株））製）０．０１４部、メタノール６部、および、１−メトキシ−２−プロパノール６部を添加して攪拌することによって、導電層用塗布液１を調製した。
【００８４】
（導電層用塗布液２〜８１およびＣ１〜Ｃ６０の調製例）
導電層用塗布液の調製の際に用いた金属酸化物粒子の種類および量ならびに結着材料としてのフェノール樹脂の量を、それぞれ表１〜５に示すようにした以外は、導電層用塗布液１の調製例と同様の操作で、導電層用塗布液２〜８１およびＣ１〜Ｃ６０を調製した。
【００８５】
〈電子写真感光体の製造例〉
（電子写真感光体１の製造例）
押し出し工程および引き抜き工程を含む製造方法にて製造された、長さ２４６ｍｍ、直径２４ｍｍのアルミニウムシリンダー（ＪＩＳ−Ａ３００３、アルミニウム合金）を支持体とした。
【００８６】
常温常湿（２３℃／６０％ＲＨ）環境下で、導電層用塗布液１を支持体上に浸漬塗布し、これを３０分間１４０℃で乾燥および熱硬化させることによって、膜厚が３０μｍの導電層１を形成した。導電層１の体積抵抗率を前述の方法で測定したところ、１．０×１０８Ω・ｃｍであった。
【００８７】
次に、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス（株）（旧・帝国化学産業（株））製）４．５部および共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ（株）製）１．５部を、メタノール６５部／ｎ−ブタノール３０部の混合溶剤に溶解させることによって、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、これを６分間７０℃で乾燥させることによって、膜厚が０．８５μｍの下引き層を形成した。
【００８８】
次に、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１６．３°、１８．６°、２５．１°および２８．３°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶（電荷発生物質）１０部、ポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業（株）製）５部およびシクロヘキサノン２５０部を、直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、分散処理時間：３時間の条件で分散処理を行い、次に、酢酸エチル２５０部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、これを１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が０．１２μｍの電荷発生層を形成した。
【００８９】
次に、下記式（ＣＴ−１）で示されるアミン化合物（電荷輸送物質）４．８部および下記式（ＣＴ−２）で示されるアミン化合物（電荷輸送物質）３．２部、
【化１】
0005755162.tif 000002
【化２】
0005755162.tif 000003
ならびに、ポリカーボネート（商品名：Ｚ２００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製）１０部を、ジメトキシメタン３０部／クロロベンゼン７０部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、これを３０分間１１０℃で乾燥させることによって、膜厚が８．０μｍの電荷輸送層を形成した。
このようにして、電子写真感光体１を製造した。
【００９０】
（電子写真感光体２〜８１およびＣ１〜Ｃ６０の製造例）
電子写真感光体の製造の際に用いた導電層用塗布液を、導電層用塗布液１から、それぞれ導電層用塗布液２〜８１、Ｃ１〜Ｃ６０に変更した以外は、電子写真感光体１の製造例と同様の操作で、電子写真感光体２〜８１およびＣ１〜Ｃ６０を製造した。なお、電子写真感光体２〜８１およびＣ１〜Ｃ６０の導電層の体積抵抗率に関しても、電子写真感光体１の導電層と同様、前述の方法で測定した。その結果を表１〜５に示す。表１〜５中、酸化スズは「ＳｎＯ２」であり、酸化チタンは「ＴｉＯ２」である。
【００９１】
【表１】
0005755162.tif 000004
【００９２】
【表２】
0005755162.tif 000005
【００９３】
【表３】
0005755162.tif 000006
【００９４】
【表４】
0005755162.tif 000007
【００９５】
【表５】
0005755162.tif 000008
【００９６】
（実施例１〜６３、参考例１〜１８および比較例１〜６０）
電子写真感光体１〜８１およびＣ１〜Ｃ６０を、それぞれヒューレットパッカード社製のレーザービームプリンター（商品名：Ｌａｓｅｒｊｅｔ  Ｐ１００６）に装着して、高温高湿（３２．５℃／８０％ＲＨ）環境下にて通紙耐久試験を行い、画像の評価を行った。通紙耐久試験では、印字率２％の文字画像をレター紙にて１枚ずつ出力する間欠モードでプリント操作を行い、２２００枚の画像出力を行った。その後、本レーザービームプリンター用のトナーを補給し、さらに１１００枚の画像出力（合計３３００枚）を行った。
【００９７】
そして、通紙耐久試験開始時、ならびに、７００枚画像出力終了時、１４００枚画像出力終了時、２２００枚画像出力終了後および３３００枚画像出力終了後に各１枚の画像評価用のサンプル（１ドット桂馬パターンのハーフトーン画像）を出力した。
【００９８】
出力されたハーフトーン画像から、電子写真感光体１回転分に相当する画像上の欠陥（黒ポチ）の個数および大きさを肉眼およびルーペで確認し、確認された黒ポチの個数および大きさに基づいて、以下のような基準で画像の評価を行った。結果を表６〜１０に示す。
Ａ：黒ポチの数が０個。
Ｂ：直径０．４ｍｍ未満の黒ポチが１〜３個かつ直径０．４ｍｍ以上の黒ポチが０個。
Ｃ：直径０．４ｍｍ未満の黒ポチが４〜７個。または、直径０．４ｍｍ未満の黒ポチが０〜３個かつ直径０．４ｍｍ以上の黒ポチが１個。
Ｄ：直径０．４ｍｍ未満の黒ポチが８個以上。または、直径０．４ｍｍ未満の黒ポチが０〜７個かつ直径０．４ｍｍ以上の黒ポチが２個以上。
【００９９】
また、上記の通紙耐久試験を行った電子写真感光体１〜８１およびＣ１〜Ｃ６０とは別に、もう１つずつ電子写真感光体１〜８１およびＣ１〜Ｃ６０を用意し、低温低湿（１５℃／１０％ＲＨ）環境下にて上記と同様の通紙耐久試験を行い、通紙耐久試験開始時ならびに２２００枚画像出力終了後に、帯電電位（暗部電位）と露光時の電位（明部電位）を測定した。電位測定は、白ベタ画像と黒ベタ画像を各１枚ずつ用いて行った。初期（通紙耐久試験開始時）の暗部電位をＶｄ、初期（通紙耐久試験開始時）の明部電位をＶｌとした。２２００枚画像出力終了後の暗部電位をＶｄ’、２２００枚画像出力終了後の明部電位をＶｌ’とした。２２００枚画像出力終了後の暗部電位をＶｄ’と初期の暗部電位Ｖｄとの差である暗部電位変動量△Ｖｄ（＝｜Ｖｄ’｜−｜Ｖｄ｜）と、２２００枚画像出力終了後の明部電位をＶｌ’と初期の明部電位Ｖｌとの差である明部電位変動量△Ｖｌ（＝｜Ｖｌ’｜−｜Ｖｌ｜）とをそれぞれ求めた。結果を表６〜１０に示す。
【０１００】
【表６】
0005755162.tif 000009
【０１０１】
【表７】
0005755162.tif 000010
【０１０２】
【表８】
0005755162.tif 000011
【０１０３】
【表９】
0005755162.tif 000012
【０１０４】
【表１０】
0005755162.tif 000013
【符号の説明】
【０１０５】
１  電子写真感光体
２  軸
３  帯電手段（一次帯電手段）
４  露光光（画像露光光）
５  現像手段
６  転写手段（転写ローラーなど）
７  クリーニング手段（クリーニングブレードなど）
８  定着手段
９  プロセスカートリッジ
１０  案内手段
１１  前露光光
Ｐ  転写材（紙など）
【図１】
0005755162.tif 000014
【図２】
0005755162.tif 000015
【図３】
0005755162.tif 000016