(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理対象物が搬送される循環路に沿って案内経路を形成する案内部と、
前記案内部の前記案内経路に沿って案内される可動部と、
前記可動部に一体的に設けられて前記被処理対象物が吊り下げられるハンガー部と、
前記可動部を前記案内部の前記案内経路に沿って移動させる駆動機構と、
前記循環路に対向すると共に前記循環路に沿う方向に間隔を開けて複数配置され、投射材を前記循環路側に向けて投射する投射機と、
前記投射機によって投射材が投射される複数の投射エリア間の流通路を遮断すると共に、前記被処理対象物を通過させる場合に開かれる開閉扉を備えた仕切部と、
を有し、
前記駆動機構は、
前記可動部に取り付けられ、無端状とされて前記案内部の前記案内経路に沿って配置された駆動チェーンと、
前記駆動チェーンを周回移動させるチェーン駆動部と、
で構成され、
前記駆動チェーンは、張力付与機構によって張力が付与されており、
前記張力付与機構は、
錘が取り付けられたワイアと、
前記ワイアが巻き掛けられ、前記ワイアの移動方向を変換することで、前記ワイアに作用する前記錘の自重による荷重の方向を変換するプーリと、
前記駆動チェーンに対して内周側から接すると共に、前記ワイア及び前記プーリにより方向変換された荷重を受けて前記駆動チェーンに張力を付与するテンションローラと、
を備えるショット処理装置。
【請求項２】
前記開閉扉が閉じられている場合にのみ前記投射機による投射材の投射を行うように制御する制御部が設けられている、請求項１記載のショット処理装置。
【請求項３】
前記投射エリアの各々には、前記投射機によって投射された投射材を当該投射機へ循環させる循環装置が設けられている、請求項１又は請求項２に記載のショット処理装置。
【請求項４】
前記案内部の前記案内経路には、装置平面視で前記投射エリア同士の間の最短ルートから外れて迂回された迂回路が形成されている、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のショット処理装置。
【請求項５】
前記投射エリアはキャビネットの内部に形成されると共に、前記迂回路の少なくとも一部は、装置平面視で前記キャビネットの外側に配置されている、請求項４記載のショット処理装置。
【請求項６】
前記迂回路は一部が装置平面視で前記キャビネットと重なる位置に配置されると共に、
前記キャビネットの内部で前記迂回路の下方側に隣接する空間には、前記キャビネット側に取り付けられると共に可撓性を備えた複数の長尺材で構成されて投射材の漏出阻止用とされたシール体が配置されている、請求項５記載のショット処理装置。
【請求項７】
前記迂回路は装置平面視で略Ｕ字形状に形成され、
前記開閉扉は、前記迂回路の一対の対向部の下方側に設けられている、請求項４〜請求項６のいずれか１項に記載のショット処理装置。
【請求項８】
前記循環装置には、投射後に回収された投射材に気流を当てることによって前記気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別する風力選別機構が設けられ、前記投射機へ循環されるべき比重の投射材を前記風力選別機構によって選別している、請求項３記載のショット処理装置。
【請求項９】
前記迂回路のＵターン部分付近には、前記Ｕターン部分の下方側へ向けてかつ前記被処理対象物に対して送風可能な送風機が配置されている、請求項７記載のショット処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
循環路に沿って搬送される被処理対象物に対して投射機で投射するショット処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ショット処理装置においては、被処理対象物である製品をハンガーに掛けてトロリーで循環軌道に沿って搬送すると共にショットブラスト機でショット処理するものがある（例えば、特許文献１参照）。このような装置では、例えば、図１１〜図１３に示されるように、循環軌道１０２（図１３参照）上に、キャビネット１０４内で投射機１０６（図１１参照）によって投射がなされる投射ゾーン１１０、キャビネット１０４外で製品１０８（図１１参照）を載せるための製品載せゾーン１１２（図１３参照）、及びキャビネット１０４外で製品１０８（図１１参照）を降ろすための製品降ろしゾーン１１４（図１３参照）が設けられている。このような装置では、製品１０８（図１１参照）の載せ降ろしを、図１３に示される製品載せゾーン１１２と製品降ろしゾーン１１４とに分けて行うことで製品の載せ降ろし時間を短縮している。
【０００３】
ところで、例えば、鋳物の砂落としや熱処理品のスケール落とし等においては、研掃を効率的に行うために、大きな投射材でショット処理をした後に小さな投射材でショット処理をする場合がある。このような処理では、粒径の異なる投射材が混ざるのを防止するために、複数のショット処理装置でショット処理を行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特公昭５１−３５９１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、複数のショット処理装置でショット処理を行うと製品の載せ換えが必要となるため、その分だけショット処理完了までに要する時間が余計にかかってしまう。
【０００６】
本発明は、上記事実を考慮して、投射する投射材の粒径を変えて複数のショット処理をした場合にショット処理完了までに要する時間を短縮することができるショット処理装置を得ることが目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載する本発明のショット処理装置は、被処理対象物が搬送される循環路に沿って案内経路を形成する案内部と、前記案内部の前記案内経路に沿って案内される可動部と、前記可動部に一体的に設けられて前記被処理対象物が吊り下げられるハンガー部と、前記可動部を前記案内部の前記案内経路に沿って移動させる駆動機構と、前記循環路に対向すると共に前記循環路に沿う方向に間隔を開けて複数配置され、投射材を前記循環路側に向けて投射する投射機と、前記投射機によって投射材が投射される複数の投射エリア間の流通路を遮断すると共に、前記被処理対象物を通過させる場合に開かれる開閉扉を備えた仕切部と、を有し、前記駆動機構は、前記可動部に取り付けられ、無端状とされて前記案内部の前記案内経路に沿って配置された駆動チェーンと、前記駆動チェーンを周回移動させるチェーン駆動部と、で構成され、前記駆動チェーンは、張力付与機構によって張力が付与されており、前記張力付与機構は、錘が取り付けられたワイアと、前記ワイアが巻き掛けられ、前記ワイアの移動方向を変換することで、前記ワイアに作用する前記錘の自重による荷重の方向を変換するプーリと、前記駆動チェーンに対して内周側から接すると共に、前記ワイア及び前記プーリにより方向変換された荷重を受けて前記駆動チェーンに張力を付与するテンションローラと、を備える。
【０００８】
請求項１に記載する本発明のショット処理装置によれば、可動部は駆動機構によって案内部の案内経路に沿って移動させられる。この可動部に一体的に設けられたハンガー部には被処理対象物が吊り下げられているので、被処理対象物は案内経路に沿って搬送される。また、被処理対象物が搬送される循環路に対向して複数の投射機が循環路に沿う方向に間隔を開けて配置されており、複数の投射エリアでそれぞれ投射機が投射材を循環路側に向けて投射する。このため、複数の投射エリア毎に、投射機が投射する投射材の粒径を変えれば、被処理対象物は粒径の異なる投射材で複数回ショット処理される。
【０００９】
ここで、複数の投射エリア間の流通路は、仕切部によって遮断されているので、各投射エリアで投射された投射材が他の投射エリアに混入するという事態が防止又は抑制される。また、仕切部は、被処理対象物を通過させる場合に開閉扉が開かれるので、被処理対象物は載せ換えられずにそのまま搬送されることによって、異なる投射エリアに移されて投射される。
また、このショット処理装置によれば、駆動機構は、可動部に取り付けられた無端状の駆動チェーンが案内部の案内経路に沿って配置されると共に、チェーン駆動部が駆動チェーンを周回移動させる。また、駆動チェーンは、張力付与機構によって張力が付与されている。すなわち、張力付与機構は、錘が取り付けられたワイアがプーリに巻き掛けられ、プーリがワイアの移動方向を変換することで、ワイアに作用する錘の自重による荷重の方向を変換すると共に、駆動チェーンに対して内周側から接するテンションローラが、ワイア及びプーリにより方向変換された荷重を受けて駆動チェーンに張力を付与する。
【００１０】
請求項２に記載する本発明のショット処理装置は、請求項１記載の構成において、前記開閉扉が閉じられている場合にのみ前記投射機による投射材の投射を行うように制御する制御部が設けられている。
【００１１】
請求項２に記載する本発明のショット処理装置によれば、投射機による投射材の投射は、開閉扉が閉じられている場合にのみ行われるように、制御部によって制御されている。このため、開閉扉が開かれている場合には投射機による投射材の投射は行われないので、各投射エリアで投射された投射材は、基本的には、開閉扉を含む仕切部でブロックされて他の投射エリアには漏れ出さない。
【００１２】
請求項３に記載する本発明のショット処理装置は、請求項１又は請求項２に記載の構成において、前記投射エリアの各々には、前記投射機によって投射された投射材を当該投射機へ循環させる循環装置が設けられている。
【００１３】
請求項３に記載する本発明のショット処理装置によれば、投射エリアの各々には、投射機によって投射された投射材を当該投射機へ循環させる循環装置が設けられているので、異なる投射エリアで投射された投射材はそれぞれ別々に循環させられる。このため、異なる投射エリアで投射された投射材が循環時に混ざり合ってしまうことはなく、各投射エリアで投射される投射材の粒径は初期の設定が維持される。
【００１４】
請求項４に記載する本発明のショット処理装置は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の構成において、前記案内部の前記案内経路には、装置平面視で前記投射エリア同士の間の最短ルートから外れて迂回された迂回路が形成されている。
【００１５】
請求項４に記載する本発明のショット処理装置によれば、案内部の案内経路には、装置平面視で投射エリア同士の間の最短ルートから外れて迂回された迂回路が形成されているので、投射エリア間の循環路に沿った長さを長くすること（すなわち、実質的な隔たりを大きくすること）ができる。このため、迂回路が形成されていない場合に比べて異なる投射エリアで投射された投射材が混ざりにくくなる。
【００１６】
請求項５に記載する本発明のショット処理装置は、請求項４記載の構成において、前記投射エリアはキャビネットの内部に形成されると共に、前記迂回路の少なくとも一部は、装置平面視で前記キャビネットの外側に配置されている。
【００１７】
請求項５に記載する本発明のショット処理装置によれば、投射エリアはキャビネットの内部に形成されると共に、迂回路の少なくとも一部は、装置平面視でキャビネットの外側に配置されているので、例えば、上流側の投射エリアで投射された投射材が仮に被処理対象物上に残留していても、そのような投射材は基本的には迂回時にキャビネットの外側に落下させられる。このため、上流側の投射エリアで投射されて迂回中に被処理対象物から落下する投射材があっても、そのような投射材が下流側の投射エリアに入り込んでしまう事態が効果的に防止又は抑制される。
【００１８】
請求項６に記載する本発明のショット処理装置は、請求項５記載の構成において、前記迂回路は一部が装置平面視で前記キャビネットと重なる位置に配置されると共に、前記キャビネットの内部で前記迂回路の下方側に隣接する空間には、前記キャビネット側に取り付けられると共に可撓性を備えた複数の長尺材で構成されて投射材の漏出阻止用とされたシール体が配置されている。
【００１９】
請求項６に記載する本発明のショット処理装置によれば、迂回路は一部が装置平面視でキャビネットと重なる位置に配置されると共に、キャビネットの内部で迂回路の下方側に隣接する空間には、キャビネット側に取り付けられると共に可撓性を備えた複数の長尺材で構成されて投射材の漏出阻止用とされたシール体が配置されているので、投射材の投射エリア間の移動が効果的に抑えられる。
【００２０】
請求項７に記載する本発明のショット処理装置は、請求項４〜請求項６のいずれか１項に記載の構成において、前記迂回路は装置平面視で略Ｕ字形状に形成され、前記開閉扉は、前記迂回路の一対の対向部の下方側に設けられている。
【００２１】
請求項７に記載する本発明のショット処理装置によれば、迂回路は装置平面視で略Ｕ字形状に形成され、開閉扉は、迂回路の一対の対向部の下方側に設けられているので、投射材の投射エリア間の移動は、前記対向部の一方の下方側にのみ開閉扉が配置される場合に比べて、より効果的に抑えられる。また、開閉扉が閉じられた場合には、迂回エリアの中間部は上流側の投射エリア及び下流側の投射エリアのいずれからも隔離される。これにより、上流側の投射エリア及び下流側の投射エリアのいずれか一方で投射された投射材が仮に漏れ出してしまっても、基本的には上流側の投射エリア及び下流側の投射エリアのいずれからも隔離されたエリアで落下するので、上流側の投射エリア及び下流側の投射エリアのいずれか他方へは入り込まない。
【００２２】
請求項８に記載する本発明のショット処理装置は、請求項３記載の構成において、前記循環装置には、投射後に回収された投射材に気流を当てることによって前記気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別する風力選別機構が設けられ、前記投射機へ循環されるべき比重の投射材を前記風力選別機構によって選別している。
【００２３】
請求項８に記載する本発明のショット処理装置によれば、循環装置には風力選別機構が設けられている。風力選別機構は、投射後に回収された投射材に気流を当てることによって気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別する。そして、投射機へ循環されるべき比重の投射材が風力選別機構によって選別されている。このため、仮に他の投射エリアで投射された投射材が、回収された投射材の中に混入してしまっても、投射機へ循環される前に除去される。
【００２４】
請求項９に記載する本発明のショット処理装置は、請求項７記載の構成において、前記迂回路のＵターン部分付近には、前記Ｕターン部分の下方側へ向けてかつ前記被処理対象物に対して送風可能な送風機が配置されている。
【００２５】
請求項９に記載する本発明のショット処理装置によれば、迂回路のＵターン部分付近には、Ｕターン部分の下方側へ向けてかつ被処理対象物に対して送風可能な送風機が配置されているので、例えば、上流側の投射エリアで投射された投射材が仮に被処理対象物上に残留していても、そのような投射材は送風機の送風によって被処理対象物上からキャビネットの外側へ効率的に落下させられる。このため、上流側の投射エリアで投射された投射材が下流側の投射エリアへ混入してしまう事態がより効果的に防止又は抑制される。
【発明の効果】
【００２６】
以上説明したように、本発明に係るショット処理装置によれば、投射する投射材の粒径を変えて複数のショット処理をした場合にショット処理完了までに要する時間を短縮することができるという優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す正面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す背面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係るショットブラスト装置の第一投射室及びその周囲部の構成を示す縦断面図である。図４（Ａ）は図１の４Ａ−４Ａ線に沿った拡大断面図であり、図４（Ｂ）は図１の４Ｂ−４Ｂ線に沿った拡大断面図である。
【図５】図１の５−５線に沿った拡大断面図である。
【図６】図１の６−６線に沿った拡大断面図である。
【図７】本発明の一実施形態に係るショット処理装置の一の開閉扉を示す正面図である。
【図８】本発明の一実施形態に係るショットブラスト装置の他の開閉扉を示す正面図である。
【図９】本発明の一実施形態に係るショットブラスト装置におけるトロリーハンガーを示す図である。図９（Ａ）は搬送方向正面から見た状態で示す正面図であり、図９（Ｂ）は図９（Ａ）の矢印９Ｂ方向から見た状態で示す側面図である。
【図１０】本発明の一実施形態に係るショットブラスト装置の制御等を説明するための装置平面視の概略構成図である。
【図１１】背景技術に係るショット処理装置の正面図である。
【図１２】背景技術に係るショット処理装置の側面図である。
【図１３】背景技術に係るショット処理装置の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
（実施形態の構成）
本発明の一実施形態に係るショット処理装置としてのショットブラスト装置について図１〜図１０を用いて説明する。なお、これらの図において適宜示される矢印ＦＲは図２の装置正面視の手前側を示しており、矢印ＵＰは装置上方側を示しており、矢印ＬＨは図２の装置正面視の左側を示している。また、矢印Ｘは被処理対象物Ｗの搬送方向を示している。
【００２９】
図１には、本発明の一実施形態に係るショット処理装置としてのトロリーハンガーチェーン式のショットブラスト装置１０の全体構成が平面図にて示され、図２には、ショットブラスト装置１０の全体構成が正面図にて示され、図３には、ショットブラスト装置１０の全体構成が背面図にて示されている。
【００３０】
本実施形態に係るショットブラスト装置１０は、例えば、鋳物の砂落としや熱処理品のスケール落とし等に適用される装置であり、被処理対象物Ｗには、鋳物や熱処理品等が適用される。
【００３１】
図１に示されるように、ショットブラスト装置１０は、装置平面視で無端の略Ｌ字形状とされた案内部としてのガイドレール１４を備えている。ガイドレール１４は、被処理対象物Ｗが搬送される循環路１２に沿って案内経路を形成しており、図１の５−５線に沿った拡大断面図である図５、及び図１の６−６線に沿った拡大断面図である図６に示されるように、多数の支持部材１６によって支持されている。また、図９（Ａ）に示されるように、ガイドレール１４は、長手方向に直交する縦断面形状がＩ字形状に形成されている。
【００３２】
図９に示されるように、ガイドレール１４にはトロリーハンガー２０が吊り下げされている。トロリーハンガー２０は、ガイドレール１４の長手方向に所定間隔をおいて複数取り付けられている。トロリーハンガー２０の上端部には、可動部としてのトロリー２２が設けられている。トロリー２２は、左右一対のガイドローラ２２Ａがそれぞれアーム部２２Ｂに略水平軸回りに回転可能に取り付けられている。左右一対のガイドローラ２２Ａは、ガイドレール１４の縦壁部を挟む位置に配置されてガイドレール１４の長手方向に沿って回転しながら移動可能とされている。これにより、トロリー２２は、ガイドレール１４の案内経路に沿って案内されるようになっている。
【００３３】
トロリー２２のアーム部２２Ｂの下部は、駆動チェーン３２のリング部に挿通されている。駆動チェーン３２は、トロリー２２に取り付けられ、無端状とされてガイドレール１４の装置下方側でかつガイドレール１４に沿って配置されている。この駆動チェーン３２は、図１０に示されるチェーン駆動部３４によって間欠的に駆動されて装置平面視で周回移動するようになっている。なお、図１０は、ショットブラスト装置１０の制御等を説明するための装置平面視の概略構成図である。
【００３４】
図１０に示されるように、駆動チェーン３２を周回移動させるチェーン駆動部３４は、駆動チェーン３２と噛み合う無端環状のチェーン３４Ａと、駆動チェーン３２をチェーン３４Ａの側へ押し当てる複数のローラ（図示省略）と、チェーン３４Ａが巻き掛けられてチェーン３４Ａを周回移動させる駆動ローラ３４Ｂと、チェーン３４Ａが巻き掛けられてチェーン３４Ａの周回移動に従動する従動ローラ３４Ｃと、を備えると共に、駆動ローラ３４Ｂを駆動させる駆動モータ３４Ｍと、を備えている。以上の構成により、駆動チェーン３２とチェーン駆動部３４とで構成される駆動機構３０は、駆動チェーン３２を周回移動させることで、図９に示されるトロリー２２をガイドレール１４の案内経路に沿って移動させるようになっている。図１０に示されるように、チェーン駆動部３４の駆動モータ３４Ｍは、制御部６６に接続され、その駆動が制御部６６によって制御されている。
【００３５】
図９に示されるように、トロリーハンガー２０は、トロリー２２の下端部に回転継手機構２４を介してハンガー部としてのハンガー２６の上端部が着脱可能に取り付けられている。これにより、ハンガー２６は、トロリー２２に一体的に設けられている。回転継手機構２４は、ハンガー２６の軸部をその軸回りに回転自在に支持する軸受を内蔵している。また、ハンガー２６は、フック部を備えることで被処理対象物Ｗが吊り下げられるようになっている。
【００３６】
一方、駆動チェーン３２は、ガイドレール１４の所定位置（本実施形態では図１の右下位置）に設けられたオートテンション機構３８（図１参照、張力付与機構）によって常時一定のテンション荷重が掛けられるようになっている。換言すれば、駆動チェーン３２の定期的なテンション調整が不要になる構成が採用されている。
【００３７】
図６に示されるように、オートテンション機構３８は、錘３８Ａ（質量体）を吊り下げる吊下機構３８Ｂを備えている。吊下機構３８Ｂは、荷重入力方向の変換用として複数のプーリ３８Ｂ１を含んで構成されており、錘３８Ａが取り付けられたワイア３８Ｂ２がこれらのプーリ３８Ｂ１に巻き掛けられている。ワイア３８Ｂ２の先端部は台車部３８Ｂ３に取り付けられ、台車部３８Ｂ３は、装置フレームに図中左右方向に移動可能なように軸支されると共に、ガイドレール１４のＵターン部分１４Ａに取り付けられている。ガイドレール１４はＵターン部分１４Ａが一般部分１４Ｂに対して図中左方向に所定量のスライド移動が可能なスライド機構を備えており、台車部３８Ｂ３が図中左方向に移動した場合には図中左方向への移動が許容されるようになっている。また、台車部３８Ｂ３には下方側に延びるブラケット３８Ｂ４が取り付けられ、このブラケット３８Ｂ４には、図中の紙面に垂直な方向を軸方向とするテンションローラ３８Ｃが取り付けられている。テンションローラ３８Ｃは、駆動チェーン３２に対して内周側（図中右側）から接している。
【００３８】
これらにより、オートテンション機構３８は、錘３８Ａの自重を吊下機構３８Ｂのプーリ３８Ｂ１によって方向変換させてテンションローラ３８Ｃにて駆動チェーン３２に張力を付与する構造になっている。
【００３９】
図１に示されるように、被処理対象物Ｗが搬送される循環路１２には、製品載せゾーン４０、第一投射室４２、室間ゾーン４４、第二投射室４６、第三投射室４８、及び製品降ろしゾーン５０が設けられている。製品載せゾーン４０、製品降ろしゾーン５０、及び室間ゾーン４４は、キャビネット５６の外側に配置され、第一投射室４２、第二投射室４６、及び第三投射室４８は、キャビネット５６の内部に形成されている。なお、キャビネット５６の装置平面視の形状は、図１０に概略的に示されるように、装置左右方向に延在する略矩形状をベースとし、左右端が循環路１２に合わせて互いに反対向きとなる方向に若干張り出すと共に、装置左右方向の中央部が装置手前側に張り出したような形状となっている。
【００４０】
図１に示される製品載せゾーン４０は、被処理対象物Ｗを図９に示されるトロリーハンガー２０のハンガー２６に掛けるゾーンである。図１及び図５に示されるように、製品載せゾーン４０にはガイドレール１４に対向して製品搬入装置５２が設けられている。製品搬入装置５２は、被処理対象物Ｗを搬入（供給搬送）するための装置である。図５に示されるように、製品搬入装置５２における上面は、製品載せゾーン４０におけるガイドレール１４の高さ位置よりも低い位置に設定されている。
【００４１】
また、図１に示される製品降ろしゾーン５０は、被処理対象物Ｗを図９に示されるトロリーハンガー２０のハンガー２６から外すゾーンである。図１及び図６に示されるように、製品降ろしゾーン５０には、ガイドレール１４に対向して製品搬出装置５４が設けられている。製品搬出装置５４は、被処理対象物Ｗを搬出するための装置である。図６に示されるように、製品搬出装置５４における上面は、製品降ろしゾーン５０におけるガイドレール１４の高さ位置よりも低い位置に設定されている。
【００４２】
なお、ガイドレール１４は、製品降ろしゾーン５０の直前で搬送方向へ向けて装置下方側に傾斜するように下降した下降部１４Ｃが形成されており、製品降ろしゾーン５０の搬送方向下流側では搬送方向へ向けて装置上方側に傾斜するように上昇した上昇部（図示省略）が形成されている。
【００４３】
一方、図１に示される第一投射室４２、第二投射室４６、及び第三投射室４８は、被処理対象物Ｗへの投射材の投射によって被処理対象物Ｗのブラスト処理（ショット投射研掃処理、広義には表面加工）をなす処理室とされている。被処理対象物Ｗへの投射材の投射は、投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃによってなされる。なお、図中では、第一投射室４２に設けられる投射機を符号５８Ａで示し、第二投射室４６に設けられる投射機を符号５８Ｂで示し、第三投射室４８に設けられる投射機を符号５８Ｃで示している。換言すれば、第一投射室４２は、投射機５８Ａによって投射材が投射される第一投射エリアＡ１を含み、第二投射室４６は、投射機５８Ｂによって投射材が投射される第二投射エリアＡ２を含み、第三投射室４８は、投射機５８Ｃによって投射材が投射される第三投射エリアＡ３を含んでいる。
【００４４】
投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃは、循環路１２に対向すると共に循環路１２に沿う方向に間隔を開けて複数配置されている。また、投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃは、遠心式投射機とされ、羽根車（インペラ）の回転により投射材（ショット）に遠心力を付与することが可能となっており、投射材を遠心力で加速して循環路１２側に向けて投射する。
【００４５】
第一投射室４２で複数の投射機５８Ａによって投射される投射材は、荒落とし用として比較的大きな（本実施形態では粒径が２．０ｍｍの）投射材が適用される。また、第二投射室４６で複数の投射機５８Ｂによって投射される投射材は、中仕上げ用として一般的なサイズの（本実施形態では粒径が１．５ｍｍの）投射材が適用される。さらに、第三投射室４８で複数の投射機５８Ｃによって投射される投射材は、仕上げ用として小さめの（本実施形態では粒径が１．０ｍｍの）投射材が適用される。
【００４６】
図２に示されるように、投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃは、ショット供給装置６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃ（流量調整装置）に接続されている。ショット供給装置６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃは、投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃへ投射材を供給する装置であり、投射材の供給部に開閉可能な開閉弁を備えている。なお、本実施形態では、ショット供給装置６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃは、複数の投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃに接続されている。図１０に示されるように、ショット供給装置６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃには、制御部６６が接続されている。制御部６６は、ショット供給装置６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃの開閉弁の開閉タイミングを制御することで投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃ（図２参照）の投射のタイミングを制御する。
【００４７】
また、第一投射室４２、第二投射室４６、及び第三投射室４８において被処理対象物Ｗが投射エリア（第一投射エリアＡ１、第二投射エリアＡ２、及び第三投射エリアＡ３）を移動する場合には、駆動チェーン３２は、トロリーハンガー２０を（被処理対象物Ｗが非投射エリアを移動する場合よりも）低速で移動させる。これに対して、被処理対象物Ｗが非投射エリアを移動する場合には、駆動チェーン３２は、トロリーハンガー２０を高速で移動させる。これにより、効率的な処理が可能となっている。このような駆動チェーン３２の移動速度の制御は、チェーン駆動部３４の駆動モータ３４Ｍが制御部６６によって制御されることでなされている。なお、詳細説明を省略するが、このような制御を行うために、ガイドレール１４の所定位置には、位置検出手段を構成するリミットスイッチ（図示省略）が設けられている。
【００４８】
また、第一投射室４２、第二投射室４６、及び第三投射室４８において被処理対象物Ｗが投射エリア（第一投射エリアＡ１、第二投射エリアＡ２、及び第三投射エリアＡ３）を移動する場合には、トロリーハンガー２０のハンガー２６（図９参照）をその軸回りに自転させるようになっている。なお、図９に示されるハンガー２６を自転させる構成には公知の構成が適用されており、詳細説明は省略する。
【００４９】
図１０に示されるように、第一投射エリアＡ１と第二投射エリアＡ２との間の流通路は、仕切部６２Ａによって遮断されている。また、第二投射エリアＡ２と第三投射エリアＡ３との間の流通路は、仕切部６２Ｂによって遮断されている。
【００５０】
仕切部６２Ａは、キャビネット５６内の空間を装置左右方向に仕切る仕切壁６３Ａと、装置平面視で仕切壁６３Ａにそれぞれ直交しかつキャビネット５６の装置手前側開口を開閉する開閉扉としての仕切扉６４Ａと、を備えている。これに対して、仕切部６２Ｂは、キャビネット５６内の空間を装置左右方向に仕切り可能な開閉扉としての仕切扉６４Ｂを備えている。
【００５１】
図７に示されるように、仕切扉６４Ａは、ガイドレール１４の下方側に配置された両開きスライド扉とされている。すなわち、仕切扉６４Ａは、その上下に設けられたレールに沿って左右方向に移動可能とされ、仕切扉６４Ａの上端にはレールを移動するための車輪が設けられている。
【００５２】
仕切扉６４Ａは、シリンダ機構部８２に接続されている。シリンダ機構部８２は、公知のエアシリンダとされ、仕切扉６４Ａの開閉方向に伸縮するロッド８２Ａを備えると共に、このロッド８２Ａの先端部が仕切扉６４Ａに連結されている。すなわち、シリンダ機構部８２のロッド８２Ａが伸縮することで仕切扉６４Ａが左右に開閉する構造となっている。
【００５３】
図１０に示されるように、シリンダ機構部８２（図中ではブロック化して図示）は、いずれもブロック化して図示するエア方向制御機器（電磁弁等）９０Ａを介してエア供給源９２Ａと接続されており、エア方向制御機器９０Ａは、制御部６６に接続されている。制御部６６は、被処理対象物Ｗを通過させる場合にのみ仕切扉６４Ａが開かれるようにエア方向制御機器９０Ａを制御することで、シリンダ機構部８２のロッド８２Ａ（図７参照）の伸縮を方向制御している。なお、被処理対象物Ｗの通過タイミング（換言すれば、仕切扉６４Ａを開くタイミング）については、例えば、ガイドレール１４の一部で仕切扉６４Ａに対して搬送上流側近傍の部位にトロリー２２又は被処理対象物Ｗの通過を検出するセンサ（図示省略）を設け、このセンサから制御部６６に出力される検知信号に基づいて判断される。
【００５４】
一方、第二投射室４６と第三投射室４８とを仕切る仕切扉６４Ｂの正面図が図８に示されている。図８に示される仕切扉６４Ｂは、ガイドレール１４（図９等参照）の下方側に配置された両開きスライド扉とされ、基本的には仕切扉６４Ａ（図７参照）と同様の構成となっている。仕切扉６４Ｂは、シリンダ機構部８４に接続されている。シリンダ機構部８４も、先に説明したシリンダ機構部８２（図７参照）と同様の構成となっており、ロッド８４Ａがロッド８２Ａ（図７参照）に相当している。
【００５５】
図１０に示されるように、シリンダ機構部８４（図中ではブロック化して図示）は、いずれもブロック化して図示するエア方向制御機器（電磁弁等）９０Ｂを介してエア供給源９２Ｂと接続されており、エア方向制御機器９０Ｂは、制御部６６に接続されている。エア供給源９２Ｂはエア供給源９２Ａと別々であっても兼用であってもよい。制御部６６は、被処理対象物Ｗを通過させる場合にのみ仕切扉６４Ｂが開かれるようにエア方向制御機器９０Ｂを制御することで、シリンダ機構部８４のロッド８４Ａ（図８参照）の伸縮を方向制御している。なお、被処理対象物Ｗの通過タイミング（換言すれば、仕切扉６４Ｂを開くタイミング）については、例えば、ガイドレール１４の一部で仕切扉６４Ｂに対して搬送上流側近傍の部位にトロリー２２又は被処理対象物Ｗの通過を検出するセンサ（図示省略）を設け、このセンサから制御部６６に出力される検知信号に基づいて判断される。
【００５６】
また、制御部６６は、仕切扉６４Ａ、６４Ｂが閉じられている場合にのみ、ショット供給装置６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃの開閉弁を開いて投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃ（図２参照）による投射材の投射を行うように制御する。換言すれば、制御部６６は、仕切扉６４Ａ、６４Ｂが開いている場合には、ショット供給装置６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃの開閉弁を閉じるように制御している。これにより、投射材が第一投射室４２、第二投射室４６、及び第三投射室４８の間で移動すること（つまり、各々の室内の投射材が混ざり合うこと）が防止又は効果的に抑制されるようになっている。
【００５７】
図２に示されるように、投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃには、ショット供給装置６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃを介して循環装置７０Ａ、７０Ｂ、７０Ｃが連結されている。循環装置７０Ａ、７０Ｂ、７０Ｃは、第一投射室４２（第一投射エリアＡ１）、第二投射室４６（第二投射エリアＡ２）、及び第三投射室４８（第三投射エリアＡ３）の各々に設けられている。なお、図中では、第一投射室４２に設けられた循環装置を符号７０Ａ、第二投射室４６に設けられた循環装置を符号７０Ｂ、第三投射室４８に設けられた循環装置を符号７０Ｃでそれぞれ示している。循環装置７０Ａ、７０Ｂ、７０Ｃは、各々の投射室において投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃによって投射された投射材を当該投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃへ循環させるようになっている。
【００５８】
以下、循環装置７０Ａ、７０Ｂ、７０Ｃについて概説する。なお、三つの循環装置７０Ａ、７０Ｂ、７０Ｃの構成は、ほぼ同様の構成となっているので、これらはまとめて説明をし、符号の末尾のみを区別して示す。符号の末尾は、循環装置７０Ａの構成要素には「Ａ」、循環装置７０Ｂの構成要素には「Ｂ」、循環装置７０Ａの構成要素には「Ｃ」をそれぞれ付している。また、図１の４Ａ−４Ａ線に沿った拡大断面図である図４（Ａ）、及び図１の４Ｂ−４Ｂ線に沿った拡大断面図である図４（Ｂ）には、第一投射室４２に設けられた循環装置７０Ａが示されている。
【００５９】
図２及び図４に示されるように、循環装置７０Ａ、７０Ｂ、７０Ｃは、投射室（第一投射室４２、第二投射室４６、及び第三投射室４８）の下部に投射材を回収するためのホッパ７１Ａ、７１Ｂ、７１Ｃを備えている。ホッパ７１Ａ、７１Ｂ、７１Ｃの下方側には、スクリュウコンベヤ７２Ａ、７２Ｂ、７２Ｃが設けられている。スクリュウコンベヤ７２Ａ、７２Ｂ、７２Ｃは、水平に配置されて装置左右方向（図２の左右方向）を長手方向としており、ホッパ７１Ａ、７１Ｂ、７１Ｃから流れ落ちた投射材をスクリュウコンベヤ７２Ａ、７２Ｂ、７２Ｃの長手方向に沿った方向へ搬送するようになっている。
【００６０】
ショットブラスト装置１０の背面図である図３に示されるように、スクリュウコンベヤ７２Ａ、７２Ｂ、７２Ｃの搬送方向下流側には、装置上下方向に延びるバケットエレベータ７３Ａ、７３Ｂ、７３Ｃの下端部側が配置されている。バケットエレベータ７３Ａ、７３Ｂ、７３Ｃは、公知構造であるため詳細説明を省略するが、ショットブラスト装置１０の上部及び下部に配置されたプーリ（図示省略）に無端ベルト（図示省略）が巻き掛けられると共に、前記無端ベルトに多数のバケット（図示省略）が取り付けられている。また前記プーリは駆動力伝達手段（図示省略）を介して駆動用モータ（図示省略）に接続されて回転駆動可能とされている。これにより、バケットエレベータ７３Ａ、７３Ｂ、７３Ｃは、スクリュウコンベヤ７２Ａ、７２Ｂ、７２Ｃで回収した（一時貯留された）投射材を前記バケットで掬い上げると共に、前記プーリを駆動用モータで回転させることによって、前記バケット内の投射材をキャビネット５６の上方側へ向けて搬送するようになっている。
【００６１】
図２に示されるように、バケットエレベータ７３Ａ、７３Ｂ、７３Ｃの上部は、シュート７４Ａ、７４Ｂ、７４Ｃを介してスクリュウコンベヤ７５Ａ、７５Ｂ、７５Ｃに接続されている。スクリュウコンベヤ７５Ａ、７５Ｂ、７５Ｃは、水平に配置されて装置左右方向（図２の左右方向）を長手方向としており、バケットエレベータ７３Ａ、７３Ｂ、７３Ｃの上部からシュート７４Ａ、７４Ｂ、７４Ｃを介して流れ落ちた投射材をスクリュウコンベヤ７５Ａ、７５Ｂ、７５Ｃの長手方向に沿った方向へ搬送するようになっている。スクリュウコンベヤ７５Ａ、７５Ｂ、７５Ｃの搬送方向下流側には、風力選別機構としての風選式のセパレータ７６Ａ、７６Ｂ、７６Ｃが配置されている。
【００６２】
セパレータ７６Ａ、７６Ｂ、７６Ｃは、投射後に回収されてスクリュウコンベヤ７５Ａ、７５Ｂ、７５Ｃで搬送された投射材を落下させると共に、落下させた投射材に気流を当てることによって前記気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別するようになっている。そして、セパレータ７６Ａ、７６Ｂ、７６Ｃは、各々の投射室において投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃへ循環されるべき比重の投射材を選別しており、循環されるべき比重の投射材を落とし込む下端部の下方側には、投射材貯蔵用のショットタンク７７Ａ、７７Ｂ、７７Ｃが配置されている。なお、セパレータ７６Ａ、７６Ｂ、７６Ｃは、循環されるべき比重の投射材以外の粉粒物を粗受け箱に流すようになっている。
【００６３】
ショットタンク７７Ａ、７７Ｂ、７７Ｃは、投射材の貯留用とされ、底部側がショット供給装置６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃに連通接続されている。これらにより、再利用可能な投射材がセパレータ７６Ａ、７６Ｂ、７６Ｃからショットタンク７７Ａ、７７Ｂ、７７Ｃを介してショット供給装置６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃへ流れる構造になっている。なお、セパレータ７６Ａ、７６Ｂ、７６Ｃは、排出パイプを介して分離除去した異物等を微粉・粗受け箱に流すようになっている。
【００６４】
次に、図１０を参照しながら、室間ゾーン４４及びその周囲部について説明する。
【００６５】
図１０に示されるように、第一投射室４２における図１０の右端のエリア、第二投射室４６における図１０の左端のエリア、及び室間ゾーン４４に対応する範囲では、ガイドレール１４が迂回している。すなわち、ガイドレール１４の案内経路には、装置平面視で第一投射エリアＡ１と第二投射エリアＡ２との間における最短ルートから外れて略Ｕ字形状に迂回された迂回路８０が形成されている。迂回路８０のＵターン部分８０Ａを含む中間部は、装置平面視でキャビネット５６の外側に配置されている。
【００６６】
一方、第一投射室４２、第二投射室４６、及び室間ゾーン４４を仕切る仕切扉６４Ａは、キャビネット５６の装置手前側の開口に配置されて迂回路８０の一対の対向部の下方側に設けられている。これにより、室間ゾーン４４は、被処理対象物Ｗが搬送される循環路１２における第一投射室４２と第二投射室４６との間に設けられている。
【００６７】
また、迂回路８０の一部は、装置平面視でキャビネット５６と重なる位置に配置されている。そして、キャビネット５６の内部で迂回路８０の下方側に隣接する空間には、投射材の漏出阻止用としてシール体８６が配置されている。シール体８６は、キャビネット５６の天井側に取り付けられると共に可撓性を備えた複数の長尺材で構成され（所謂ゴム暖簾とされ）、被処理対象物Ｗの通過時に被処理対象物Ｗの搬送方向に撓むように設定されている。これにより、シール体８６は、投射材がキャビネット５６の装置手前側の開口から漏れ出す（飛散する）のを阻止するようになっている。
【００６８】
なお、キャビネット５６の内部の適宜位置には、シール体８６と同様の構成のシール部材８８が配置されている。
【００６９】
また、迂回路８０のＵターン部分８０Ａ付近には、Ｕターン部分８０Ａの下方側へ向けてかつ被処理対象物Ｗに対して送風可能な送風機９４（図中ではブロック化して二点鎖線で図示）が配置されてもよい。この送風機９４としては、公知の送風機を適用することができ、例えば、ファンを作動させることによって被処理対象物Ｗに空気を吹き付ける構成であってもよいし、圧縮空気供給部から供給された圧縮空気を被処理対象物Ｗに吹き付ける構成であってもよい。送風機９４は制御部６６に接続される。また、制御部６６は、仕切扉６４Ａが閉じられていてかつ被処理対象物ＷがＵターン部分８０Ａの下方側に位置している場合に送風機９４を作動させるように制御する。なお、被処理対象物ＷがＵターン部分８０Ａの下方側に位置しているか否かは、例えば、Ｕターン部分８０Ａにトロリー２２の通過（又は近接）を検出するセンサ（図示省略）を設け、このセンサから制御部６６に出力される検知信号に基づいて判断される。
【００７０】
（実施形態の作用・効果）
次に、上記実施形態の作用及び効果について説明する。
【００７１】
図１０に示されるように、本実施形態に係るショットブラスト装置１０では、トロリー２２は駆動機構３０によってガイドレール１４の案内経路に沿って移動させられる。このトロリー２２に一体的に設けられたハンガー２６（図９参照）には被処理対象物Ｗが吊り下げられているので、被処理対象物Ｗは案内経路に沿って搬送される。また、被処理対象物Ｗが搬送される循環路１２に対向して図２に示される複数の投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃが循環路１２（図１０参照）に沿う方向に間隔を開けて配置されており、複数の投射エリア（第一投射室４２、第二投射室４６、及び第三投射室４８）でそれぞれ投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃが投射材を循環路１２（図１０参照）側に向けて投射する。このため、複数の投射エリア毎に、投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃが投射する投射材の粒径を変えることで、被処理対象物Ｗは粒径の異なる投射材で複数回ショット処理される。
【００７２】
ここで、図１０に示されるように、第一投射エリアＡ１と第二投射エリアＡ２との間の流通路は、仕切部６２Ａによって遮断されている。このため、第一投射室４２及び第二投射室４６のいずれか一方で投射された投射材が第一投射室４２及び第二投射室４６のいずれか他方に混入するという事態が防止又は抑制される。
【００７３】
また、第二投射エリアＡ２と第三投射エリアＡ３との間の流通路は、仕切部６２Ｂによって遮断されている。このため、第二投射室４６及び第三投射室４８のいずれか一方で投射された投射材が第二投射室４６及び第三投射室４８のいずれか他方に混入するという事態が防止又は抑制される。
【００７４】
また、仕切部６２Ａ、６２Ｂは、被処理対象物Ｗを通過させる場合に仕切扉６４Ａ、６４Ｂが開かれる。従って、被処理対象物Ｗは、載せ換えられずにそのまま搬送されることによって、第一投射室４２、第二投射室４６、第三投射室４８の順に移動して投射される。
【００７５】
また、本実施形態では、ショット供給装置６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃの開閉弁は、仕切扉６４Ａ、６４Ｂが閉じられている場合にのみ開かれるように、制御部６６によって制御され、仕切扉６４Ａ、６４Ｂが開かれている場合には投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃ（図２参照）による投射材の投射は行われない。このため、第一投射室４２、第二投射室４６、及び第三投射室４８で投射された投射材は、基本的には、仕切扉６４Ａ、６４Ｂを含む仕切部６２Ａ、６２Ｂでブロックされて他の投射室には漏れ出さない。
【００７６】
また、本実施形態に係るショットブラスト装置１０では、ガイドレール１４の案内経路には、装置平面視で第一投射エリアＡ１と第二投射エリアＡ２との間の最短ルートから外れて迂回された迂回路８０が形成されているので、第一投射エリアＡ１と第二投射エリアＡ２との間の循環路１２に沿った長さを長くすること（すなわち、実質的な隔たりを大きくすること）ができる。このため、迂回路８０が形成されていない場合に比べて、第一投射エリアＡ１及び第二投射エリアＡ２のいずれか一方で投射された投射材が第一投射エリアＡ１及び第二投射エリアＡ２のいずれか他方に混ざるのを防止又は抑制することができる。
【００７７】
また、第一投射室４２（第一投射エリアＡ１）及び第二投射室４６（第二投射エリアＡ２）はキャビネット５６の内部に形成されると共に、迂回路８０の一部は、装置平面視でキャビネット５６の外側に配置されているので、例えば、第一投射室４２で投射された投射材が仮に被処理対象物Ｗ上に残留していても、そのような投射材は基本的には迂回時にキャビネット５６の外側に落下させられる。このため、上流側の第一投射室４２で投射されて迂回中に被処理対象物Ｗから落下する投射材があっても、そのような投射材が第二投射室４６に入り込んでしまう事態が効果的に防止又は抑制される。なお、迂回路８０のＵターン部分８０Ａ付近に送風機９４を設けて、仕切扉６４Ａが閉じられている場合に送風機９４が被処理対象物Ｗに対して送風すれば、第一投射室４２の投射材の第二投射室４６への混入がより効果的に抑えられる。
【００７８】
また、迂回路８０は一部が装置平面視でキャビネット５６と重なる位置に配置されると共に、キャビネット５６の内部で迂回路８０の下方側に隣接する空間には、キャビネット５６の天井側に取り付けられると共に可撓性を備えた複数の長尺材で構成されたシール体８６が配置されているので、第一投射室４２側からの投射材の漏出が阻止される。このため、第一投射室４２と第二投射室４６との間での投射材の移動が効果的に抑えられる。
【００７９】
また、迂回路８０は装置平面視で略Ｕ字形状に形成され、仕切扉６４Ａは、迂回路８０の一対の対向部の下方側に設けられているので、第一投射室４２と第二投射室４６との間での投射材の移動は、前記対向部の一方の下方側にのみ仕切扉６４Ａが配置される場合に比べて、より効果的に抑えられる。また、二対の仕切扉６４Ａが閉じられた場合には、迂回路８０のＵターン部分８０Ａに対応して設けられた室間ゾーン４４は、第一投射室４２及び第二投射室４６のいずれからも隔離される。これにより、第一投射室４２及び第二投射室４６のいずれか一方で投射された投射材が仮に漏れ出してしまっても、基本的には室間ゾーン４４で落下するので、第一投射室４２及び第二投射室４６のいずれか他方へは入り込まない。
【００８０】
また、図２に示されるように、第一投射室４２（第一投射エリアＡ１）、第二投射室４６（第二投射エリアＡ２）、及び第三投射室４８（第三投射エリアＡ３）の各々には、投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃによって投射された投射材を当該投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃへ循環させる循環装置７０Ａ、７０Ｂ、７０Ｃが設けられているので、第一投射室４２、第二投射室４６、及び第三投射室４８の各々で投射された投射材はそれぞれ別々に循環させられる。このため、異なる投射室で投射された投射材が循環時に混ざり合ってしまうことはなく、第一投射室４２、第二投射室４６、及び第三投射室４８の各々で投射される投射材の粒径は初期の設定が維持される。すなわち、第一投射室４２、第二投射室４６、及び第三投射室４８の各々に循環装置７０Ａ、７０Ｂ、７０Ｃを設けることで、投射材の粒径管理が可能となる。これにより、投射材を循環させても、第一投射室４２、第二投射室４６、及び第三投射室４８の各々で独立して異なる粒径の投射材の投射が可能になる。
【００８１】
また、本実施形態に係るショットブラスト装置１０では、循環装置７０Ａ、７０Ｂ、７０Ｃにはセパレータ７６Ａ、７６Ｂ、７６Ｃが設けられている。セパレータ７６Ａ、７６Ｂ、７６Ｃは、投射後に回収された投射材に気流を当てることによって気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別する。そして、投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃへ循環されるべき比重の投射材がセパレータ７６Ａ、７６Ｂ、７６Ｃによって選別されている。このため、仮に他の投射室で投射された投射材が、回収された投射材の中に混入してしまっても、投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃへ循環される前に除去される。
【００８２】
以上説明したように、本実施形態に係るショットブラスト装置１０によれば、投射する投射材の粒径を変えて複数のショット処理をした場合にも被処理対象物Ｗの載せ換えが不要であるので、ショット処理の完了までに要する時間を短縮することができる。
【００８３】
（実施形態の補足説明）
なお、上記実施形態では、図９に示されるように、案内部としてのガイドレール１４は、長手方向に直交する縦断面形状がＩ字形状に形成されているが、案内部は、例えば、長手方向に直交する縦断面形状が装置下方側に開口する略Ｃ字形状（チャンネル状）に形成されたガイド部等のような他の案内部であってもよい。
【００８４】
また、上記実施形態では、可動部としてのトロリー２２がガイドローラ２２Ａを備えているが、可動部は、例えば、案内部を摺動するスライダを備えた構成部等のような他の可動部であってもよい。
【００８５】
また、上記実施形態では、可動部としてのトロリー２２にハンガー部としてのハンガー２６の上端部が着脱可能に取り付けられているが、可動部とハンガー部とが一部材の一部をそれぞれ構成するようなものであってもよい。
【００８６】
また、上記実施形態では、図１０に示されるように、駆動機構３０は、駆動チェーン３２及びチェーン駆動部３４によって構成されているが、本発明の実施形態ではない参考例として、駆動機構は、例えば、可動部に設けられた駆動モータと、前記駆動モータに接続されかつ案内部に接して回転可能な駆動ローラと、を備えた駆動機構等のような他の駆動機構であってもよい。
【００８７】
また、上記実施形態では、開閉扉としての仕切扉６４Ａ、６４Ｂは、一対で構成された両開きスライド扉とされているが、開閉扉は、一枚で構成されて一方向にスライドするスライド扉等のような他の開閉扉であってもよい。
【００８８】
また、上記実施形態では、仕切扉６４Ａ、６４Ｂが閉じられている場合にのみ投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃ（図２参照）による投射材の投射が行われるように制御されており、投射材の投射エリア間の移動を防ぐ観点からはこのような構成がより好ましいが、周辺構造等によっては、例えば、開閉扉が閉止位置方向へ移動している途中を含むタイミングで、投射機による投射材の投射が行われるように制御することも可能である。
【００８９】
また、上記実施形態では、ガイドレール１４には迂回路８０が形成されており、投射材の投射エリア間の移動を防ぐ観点からはこのような構成がより好ましいが、案内部が迂回路を備えない構成としてもよい。
【００９０】
また、上記実施形態では、迂回路８０の一部が装置平面視でキャビネット５６の外側に配置されており、被処理対象物Ｗ上に残留した投射材を次の投射室（第二投射室４６）に搬入させない観点からはこのような構成が好ましいが、迂回路の全部が装置平面視でキャビネットと重なる位置に配置される構成とすることも可能である。
【００９１】
また、上記実施形態では、迂回路８０の一部が装置平面視でキャビネット５６の外側に配置されているが、例えば、迂回路の全部が装置平面視でキャビネットの外側に配置されてもよい。
【００９２】
また、上記実施形態では、キャビネット５６の内部で迂回路８０の下方側に隣接する空間には、投射材の漏出阻止用としてシール体８６が配置されており、投射材の漏出を抑える観点からはこのような構成が好ましいが、このようなシール体を配置しない構成してもよい。
【００９３】
また、上記実施形態では、迂回路８０の一対の対向部の下方側に開閉扉としての仕切扉６４Ａが設けられており、第一投射室４２と第二投射室４６との間での投射材の移動をより効果的に抑える観点からはこのような構成が好ましいが、迂回路の対向部の一方の下方側にのみ開閉扉が配置される構成としてもよい。
【００９４】
また、上記実施形態では、図２に示されるように、投射材を遠心力で加速して投射する遠心式の投射機５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃがショットブラスト装置１０の投射機として用いられているが、投射機は、例えば、圧縮空気とともに投射材を圧送しノズルから噴射するエアノズル式の投射機等のような他の投射機であってもよい。
【００９５】
また、上記実施形態では、サイズが大きな投射材が適用される第一投射エリアＡ１、サイズが中位の投射材が適用される第二投射エリアＡ２、サイズが小さな投射材が適用される第三投射エリアＡ３の三つの投射エリアが設けられているが、複数の投射エリアは、例えば、サイズが大きな投射材が適用される第一投射エリア及びサイズが小さな投射材が適用される第二投射エリアの二つの投射エリアであってもよい。
【００９６】
また、上記実施形態では、ショットブラスト装置１０には循環装置７０Ａ、７０Ｂ、７０Ｃが設けられているが、ショット処理装置は、投射材を循環させない場合には循環装置を備えない装置構成となる。
【００９７】
また、上記実施形態では、循環装置７０Ａ、７０Ｂ、７０Ｃには、風力選別機構としての風選式のセパレータ７６Ａ、７６Ｂ、７６Ｃが設けられており、循環されるべき比重の投射材以外の投射材等を循環前に除去する観点からはこのような構成が好ましいが、循環装置は風力選別機構を備えない構成としてもよい。
【００９８】
さらに、上記実施形態では、ショット処理装置は、ショットブラスト装置１０とされているが、ショット処理装置は、例えば、ショットピーニング装置に適用されてもよい。
【００９９】
なお、上記実施形態及び上述の複数の変形例は、適宜組み合わされて実施可能である。
【符号の説明】
【０１００】
１０    ショットブラスト装置（ショット処理装置）
１２    循環路
１４    ガイドレール（案内部）
２２    トロリー（可動部）
２６    ハンガー（ハンガー部）
３０    駆動機構
３２    駆動チェーン
３４    チェーン駆動部
３８    オートテンション機構（張力付与機構）
３８Ａ  錘
３８Ｂ１  プーリ
３８Ｂ２  ワイア
３８Ｃ  テンションローラ
５６    キャビネット
５８Ａ，５８Ｂ，５８Ｃ    投射機
６２Ａ  仕切部
６２Ｂ  仕切部
６４Ａ  仕切扉
６４Ｂ  仕切扉
６６    制御部
７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃ    循環装置
７６Ａ，７６Ｂ，７６Ｃ    セパレータ（風力選別機構）
８０    迂回路
８０Ａ  Ｕターン部分
８６    シール体
９４    送風機
Ａ１    第一投射エリア（投射エリア）
Ａ２    第二投射エリア（投射エリア）
Ａ３    第三投射エリア（投射エリア）
Ｗ      被処理対象物
【図１】
0005720444.tif 000002
【図２】
0005720444.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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