(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性高分子を与えるモノマーと、ポリ陰イオンと、窒素含有芳香族化合物と、酸化剤と、水系溶媒とを混合して反応液を得る工程と、
前記反応液中で前記導電性高分子を与えるモノマーを酸化重合して導電性高分子を含有する分散体を得る工程と
を備える、導電性高分子の分散体の製造方法。
【請求項２】
前記導電性高分子を与えるモノマーが３，４−エチレンジオキシチオフェンである、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記ポリ陰イオンがポリスチレンスルホン酸である、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記窒素含有芳香族化合物がイミダゾールまたはピリジンである、請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
前記酸化剤がペルオキソ二硫酸またはその塩である、請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性高分子とポリ陰イオンとの複合体の分散体の製造方法およびその製造方法によって製造される分散体に関する。
【背景技術】
【０００２】
導電性有機材料は、コンデンサの固体電解質、色素増感太陽電池、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの透明電極等に広く用いられている。このような導電性有機材料として、ピロール、チオフェン、アニリン等をモノマーとして重合して得られる導電性高分子が知られおり、またより取り扱いやすい導電性高分子の分散体についても種々の製造方法が提案されている。
【０００３】
特許文献１には、３，４−ジアルコキシチオフェンをポリ陰イオンの存在下で、ペルオキソ二硫酸を酸化剤として用い、水系溶媒中で重合させる工程を含む、ポリ（３，４−ジアルコキシチオフェン）とポリ陰イオンとの複合体の水分散体の製造方法が記載されている。また、重合の際に水溶性の無機酸および有機酸からなる群より選択される酸を添加し、反応溶液のｐＨを低下させてもよいことが記載されている。さらに、前記水分散体と、アミド結合を有する水溶性化合物、水酸基を有する水溶性化合物、水溶性のスルホキシドおよび水溶性のスルホンからなる群より選択される化合物とを含むコーティング用組成物ならびに前記コーティング用組成物を基材表面に塗布および乾燥することによって製造される、透明導電膜を有する被覆基材が記載されている。
【０００４】
特許文献２には、導電性高分子と、ドーパントと、窒素含有芳香族化合物とを含有する導電性組成物、およびこの導電性組成物に加熱処理や紫外線照射処理が施されて形成された導電性架橋体に関する技術が開示されている。例えば３，４−エチレンジオキシチオフェンを、ポリスチレンスルホン酸（ポリ陰イオン）の存在下で、酸化剤を用い、水系溶媒中で重合させる工程から得られるポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体の水分散体にイミダゾールを含む窒素含有芳香族化合物を添加して導電性組成物を得たものである。この発明は、導電性高分子とドーパントとの複合体の水分散液に、窒素含有芳香族化合物を添加して、成膜した導電性薄膜の導電性（電気伝導度）を向上しようとしたものである。しかし、導電性をさらに向上しようとして、導電性高分子の重合度や固形分濃度を増加させると、分散体の粘度が上昇することによって、均質で平滑な導電性薄膜を形成することが困難になる。
【０００５】
特許文献３には、導電性高分子のモノマーと、酸化剤と、ドーパントに塩基性物質が結合した塩である添加剤とを含有した重合液、および前記重合液を基板上に塗布し、該基板上で前記導電性高分子のモノマーを重合することを特徴とした導電性高分子膜の製造方法が記載されている。前記添加剤は、重合反応の抑制効果、ｐＨを一定に保つ緩衝効果およびドーパントのドープ率を高める効果を有すると記載されている。そして、前記導電性高分子のモノマーとして３，４−エチレンジオキシチオフェンが、前記酸化剤としてパラトルエンスルホン酸第二鉄が、前記添加剤としてパラトルエンスルホン酸ピリジニウムが、それぞれ例示されている。この発明は、重合液に添加剤を含有させることにより、導電性高分子の反応速度を抑制し、導電性高分子のドープ率や配向性を改善して、導電性高分子膜の導電率を向上しようとしたものである。しかし、ドーパントがパラトルエンスルホン酸であるため、安定な分散体の形成は困難で、重合の進行とともに沈殿が生じることから、分散体としての安定な取扱いや、均質で平滑な導電性薄膜を形成が難しくなると考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−５９６６６号公報
【特許文献２】特開２００６−９６９７５号公報
【特許文献３】特開２０１１−７１０８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、導電性に優れ、かつ均質で平滑な導電性薄膜を形成することが可能な導電性高分子の分散体およびその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、導電性高分子を与えるモノマーを、ポリ陰イオンおよび窒素含有芳香族化合物の存在下、水系溶媒中で酸化剤を用いて酸化重合すると、得られる導電性高分子分散体を低粘度なものとすることができること、さらに、この導電性高分子分散体を用いて導電性薄膜を成膜すると、得られる導電性薄膜を導電性に優れ、かつ均質で平滑なものとすることができることを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
すなわち、本発明は以下に掲げる（１）〜（５）である。
（１）導電性高分子を与えるモノマーと、ポリ陰イオンと、窒素含有芳香族化合物と、酸化剤と、水系溶媒とを混合して反応液を得る工程と、
前記反応液中で前記導電性高分子を与えるモノマーを酸化重合して導電性高分子を含有する分散体を得る工程と
を備える、導電性高分子の分散体の製造方法。
（２）前記導電性高分子を与えるモノマーが３，４−エチレンジオキシチオフェンである、上記（１）に記載の製造方法。
（３）前記ポリ陰イオンがポリスチレンスルホン酸である、上記（１）または（２）に記載の製造方法。
（４）前記窒素含有芳香族化合物がイミダゾールまたはピリジンである、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の製造方法。
（５）前記酸化剤がペルオキソ二硫酸またはその塩である、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の導電性高分子の分散体を用いると、導電性に優れ、かつ均質で平滑な導電性薄膜を形成することができる。
【００１１】
また、本発明の導電性高分子の分散体は、導電性高分子を与えるモノマーを、ポリ陰イオンおよび窒素含有芳香族化合物の存在下、水系溶媒中で酸化剤を用いて酸化重合することにより得られるので、製造が容易である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の導電性高分子の分散体（以下「本発明の分散体」ともいう。）は、導電性高分子を与えるモノマーを、ポリ陰イオンおよび窒素含有芳香族化合物の存在下、水系溶媒中で酸化剤を用いて酸化重合して得られる導電性高分子の分散体である。
【００１３】
したがって、本発明の分散体の製造方法は、導電性高分子を与えるモノマーと、ポリ陰イオンと、窒素含有芳香族化合物と、酸化剤と、水系溶媒とを混合して反応液を得る工程と、前記反応液中で前記導電性高分子を与えるモノマーを酸化重合して導電性高分子を含有する分散体を得る工程とを備える。
【００１４】
１．反応液を得る工程
以下、「導電性高分子を与えるモノマーと、ポリ陰イオンと、窒素含有芳香族化合物と、酸化剤と、水系溶媒とを混合して反応液を得る工程」について説明する。
【００１５】
（１）導電性高分子を与えるモノマー
上記導電性高分子は、導電性を有する高分子であれば特に限定されないが、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子が好ましい。
上記主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子としては、例えば、ポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアニリン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類およびそれらの共重合体等が挙げられる。
これらの中では、導電性、耐熱性、空気中の安定性等の点からポリピロール類、ポリチオフェン類またはポリアニリン類が好ましく、さらにそれらの中でも、導電性、耐熱性、空気中の安定性、反応性、透明性等に優れるという利点からポリチオフェン類がより好ましい。
ポリチオフェン類の中では、チオフェンにアルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基等の官能基を導入したチオフェン誘導体のポリマーが好ましく、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）が特に好ましい。このような誘導体とすると、得られる分散体の安定性をさらに高くすることができる。
【００１６】
上記導電性高分子は、導電性高分子を与えるモノマーを酸化重合したものである。したがって、上記導電性高分子を与えるモノマーは、上記導電性高分子の種類に依存し、例えば、導電性高分子がポリチオフェンである場合にはチオフェンであり、また、導電性高分子がポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）である場合には、３，４−エチレンジオキシチオフェンである。
【００１７】
（２）ポリ陰イオン
上記ポリ陰イオンとしては、アニオン基を有する水溶性高分子が好ましい。アニオン基を含有する水溶性高分子は、ドーパントとして導電性高分子の導電性を向上させ、さらに導電性高分子を溶媒に安定に分散させる役割をもつ。
上記ポリ陰イオンとしては、例えば、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリマレイン酸等のポリカルボン酸類、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸等のポリスルホン酸類または（メタ）アクリル酸、マレイン酸等のカルボン酸モノマーと、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸等のスルホン酸モノマーとの共重合体等が挙げられ、中でもポリスチレンスルホン酸が特に好ましい。
【００１８】
上記ポリスチレンスルホン酸の平均分子量（重量平均分子量，Ｍｗ）は、特に限定されないが、１００００〜３０００００が好ましく、５００００〜１５００００がより好ましい。この範囲内であると、本発明の分散体をさらに安定で、低粘度とすることができる。
【００１９】
ポリ陰イオンの含有量は、特に限定されないが、モノマー単位で、導電性高分子１モルに対して０．０１〜５０モルの範囲内が好ましく、０．１〜１０モルの範囲内がより好ましい。この範囲内であると、導電性高分子へのドーピング効果が高くなり、導電性が向上し、さらに分散体の安定性も向上する。
【００２０】
（３）窒素含有芳香族化合物
上記窒素含有芳香族化合物は、１個以上の窒素原子を含む芳香環を有する化合物であれば特に限定されないが、１〜３個の窒素原子を含む芳香環を有するものが好ましい。
１個の窒素原子含む芳香環を有する化合物としては、例えば、ピリジンまたはその誘導体が挙げられる。また、２個の窒素原子を含む芳香環を有する化合物としては、例えば、イミダゾールまたはその誘導体、ピリミジンまたはその誘導体、ピラジンまたはその誘導体が挙げられる。また、３個の窒素原子を含む芳香環を有する化合物としては、例えば、トリアジンまたはその誘導体が挙げられる。中でも、ピリジンまたはイミダゾールが好ましく、イミダゾールが特に好ましい。
また、上記窒素含有芳香族化合物は、アルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、フェニル基、フェノール基、エステル基、アルコキシ基、カルボニル基等の置換基が環に導入されたものでもでもよく、環は多環であっても良い。
【００２１】
本発明の分散体を製造する際には、上記窒素含有芳香族化合物の、重合反応を行う混合液中の含有量は、上記導電性高分子を与えるモノマー１モルに対して、０．０１〜１０モルの範囲であることが好ましく、０．１〜５モルの範囲であることがより好ましい。窒素含有芳香族化合物の含有量がこの範囲内であると、本発明の分散液の粘度を低下させる効果がさらに表れるとともに、この分散液を成膜して得られる導電性薄膜の導電性が低下しない。
【００２２】
（４）水系溶媒
上記水系溶媒は、上記導電性高分子を与えるモノマーを溶解または分散し、さらに上記酸化剤および上記酸化触媒の酸化力を維持させることができるという点から、水または水にアルコール類、アセトン、アセトニトリル等の水溶性有機溶媒を添加したものが好適なものとして挙げられる。上記水としては、水溶性有機溶媒を添加する場合を含め、蒸留水、脱イオン水等の不純物が少ないものが好ましい。
【００２３】
本発明者は、導電性高分子を与えるモノマーの酸化重合を窒素含有芳香族化合物の存在下で行うことにより、得られる分散体の粘度を低下させられるメカニズムとして、酸化重合の副反応が窒素含有芳香族化合物によって抑えられることで、導電性高分子の重合度が低下することによって、得られる分散体の粘度が低下するのではないかと考えているが、このメカニズムに限定されるわけではない。
また、窒素含有芳香族化合物は、プロトンが芳香環に含まれる窒素の孤立電子対に配位してカチオン化し、例えば、ピリジンであればピリジニウムイオンの状態で、イミダゾールであればイミダゾリウムイオンの状態で、存在することがあるとしても、実質的な化学変化は起こしておらず、反応液中に存在していた窒素含有芳香族化合物は、そのまま分散体に残留している可能性が考えられる。
【００２４】
（５）酸化剤
上記酸化剤は、導電性高分子を与えるモノマー（以下「前駆体モノマー」という場合がある。）を酸化重合させて導電性高分子を得ることができるものであれば特に限定されない。
上記酸化剤としては、例えば、ペルオキソ二硫酸アンモニウム、ペルオキソ二硫酸ナトリウム、ペルオキソ二硫酸カリウム等のペルオキソ二硫酸塩、塩化第二鉄、硫酸第二鉄、硝酸第二鉄、塩化第二銅等の遷移金属化合物、三フッ化ホウ素等の金属ハロゲン化合物、酸化銀、酸化セシウム等の金属酸化物、過酸化水素、オゾン等の過酸化物、過酸化ベンゾイル等の有機過酸化物、酸素等が挙げられる。これらの酸化剤は１種類を単独で、または２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
また、これらの中では副反応が少なく導電性高分子の重合を十分に進行させる適度な酸化力を有する点で、ペルオキソ二硫酸またはその塩が好ましい。
ペルオキソ二硫酸の塩としては、ペルオキソ二硫酸ナトリウム、ペルオキソ二硫酸カリウムおよびペルオキソ二硫酸アンモニウムが好適な例として挙げられる。ペルオキソ二硫酸またはその塩は、１種類を単独で、または２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
上記酸化剤の使用量は、上記導電性高分子を与えるモノマーの１モル当たり、１から５当量の範囲が好ましく、２から４当量の範囲がより好ましい。
【００２５】
また、上記酸化剤に加えて、さらに酸化触媒を含有してもよい。
上記酸化触媒としては、従来公知のものを使用しうるが、例えば、酸化剤としてペルオキソ二硫酸またはその塩を用いる場合には、塩化第二鉄、硫酸第二鉄、硝酸第二鉄、塩化第二銅等の遷移金属化合物；三フッ化ホウ素等の金属ハロゲン化合物；および／または酸化銀、酸化セシウム等の金属酸化物を使用することが好ましい。
【００２６】
（６）反応液
上記反応液は、上記した各成分を混合することによって得られる。上記各成分の混合の順序は、特に限定されないが、酸化剤を最後に添加することが好ましい。また、酸化剤を添加した直後に、以下に説明する「分散体を得る工程」を行うことが好ましい。
混合する際の温度は特に限定されないが、室温（外部から熱を加えたり冷却したりしない温度をいい、概ね１〜３０℃の範囲内である。以下同じ。）が好ましい。
混合する方法は特に限定されないが、例えば、スターラーを使用して混合することができる。
【００２７】
２．分散体を得る工程
以下、「前記反応液中で前記導電性高分子を与えるモノマーを酸化重合して導電性高分子を含有する分散体を得る工程」について説明する。
上記導電性高分子を与えるモノマーの酸化重合は、当該モノマーと、上記ポリ陰イオンと、上記窒素含有芳香族化合物と、酸化剤と、水系溶媒とを混合して得られる反応液中で行われる。
【００２８】
上記重合反応を行う方法は、従来公知の方法を使用しうるが、反応液を以下に記載する重合温度で、以下に記載する反応時間の間、撹拌することが好ましい。撹拌の方法としては、例えば、スターラーを用いる方法が挙げられる。
【００２９】
上記酸化重合を行う際の反応液の温度（重合温度）は、０〜１００℃が好ましく、副反応を抑制する観点から、０〜５０℃がより好ましく、０〜３０℃がさらに好ましい。例えば、室温は、好ましい重合温度の一例である。
【００３０】
上記酸化重合を行う際の時間（反応時間）は、酸化剤の種類および量、重合温度、反応液のｐＨ等に依存するが、５〜１００時間が好ましく、１０〜４０時間がより好ましい。
【００３１】
３．その他の工程
本発明の分散体は、上記反応液を得る工程と、上記分散体を得る工程とを備える製造方法によって製造することができるが、上記した工程以外の工程をさらに備えてもよい。
このような工程としては、例えば、分散体中の不要イオンを除去する不要イオン除去工程が挙げられる。
不要イオン除去工程は、具体的には、例えば、分散体を得る工程の後に、上記分散体を得る工程によって得られた分散体に、陽イオン交換樹脂および陰イオン交換樹脂を添加し、撹拌後、添加したイオン交換樹脂をろ別する等して分離除去することによって行うことができる。
【００３２】
４．分散体がさらに含有してもよい化合物
本発明の分散体は、これを成膜して得られる導電性薄膜の導電性を向上させることを意図して、さらに、アミド結合を有する水溶性化合物、水酸基を有する水溶性化合物、水溶性のスルホキシドおよび／または水溶性のスルホン等の化合物を含んでもよい。これらの化合物は、１種類を単独で、または２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の分散体にこれらの化合物を添加するタイミングは、特に限定されず、モノマーの重合前であってもよいし、モノマーの重合後であってもよいが、モノマーの重合後が好ましい。本発明の製造方法が不要イオン除去工程を備える場合には、その後添加することが好ましい。
以下に、これらの化合物の具体的な例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
【００３３】
上記アミド結合を有する水溶性化合物としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルホルムアミド、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
【００３４】
上記水酸基を有する水溶性化合物としては、例えば、グリセロール、１，３−ブタンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等が挙げられる。
【００３５】
上記水溶性のスルホキシドとしては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等が挙げられる。
【００３６】
上記水溶性のスルホンとしては、例えば、ジメチルスルホン（メチルスルホニルメタン）、エチルメチルスルホン、ジエチルスルホン、２−ヒドロキシエチルメチルスルホン等が挙げられる。
【００３７】
以下に、実施例および比較例を用いて本発明を具体例に説明する。ただし、本発明は以下の例に限定されるものではない。
【実施例】
【００３８】
［実施例１］
１．導電性高分子の分散体
（１）製造
イオン交換水  １０００ｇに、ポリスチレンスルホン酸（Ｍｗ＝７５０００）の１８質量％水溶液  ６７ｇと、３，４−エチレンジオキシチオフェン  ４．８ｇと、イミダゾール  ３．４ｇとを加え、スターラーを用いて、十分に混合するまで室温で撹拌した。
次に、硫酸第二鉄  ０．３ｇを加え、スターラーを用いて、十分に混合するまで室温で撹拌した。
撹拌後、ペルオキソ二硫酸ナトリウム  ９．５ｇを加えて、反応液を得た。
ペルオキソ二硫酸ナトリウムの添加後、直ちに、室温で、スターラーを用いて撹拌を開始し、２４時間撹拌し続けて、導電性高分子を含有する分散体を得た。
得られた分散体に、陽イオン交換樹脂  ８５ｇと、陰イオン交換樹脂  １２５ｇとを加えて、室温で、スターラーを用いて２時間攪拌した。撹拌後に、イオン交換樹脂をろ別し、ろ液にジメチルスルホキシドを５質量％となるように添加し、撹拌混合して、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体の分散体の試料（実施例１）（以下、単に「試料（実施例１）」という。）を得た。
（２）粘度測定
上記により製造した試料（実施例１）の粘度を、デジタル粘度計（ＤＶ−III  ＵＬＴＲＡ，ブルックフィールド社製）を用いて（スピンドルＮＯ．１８）、温度２０℃の条件でＪＩＳ  Ｚ  ８８０３：１９９１に従い測定した。
測定の結果、粘度は、５０ｍＰａ・ｓであった。
粘度の測定結果を表１の実施例１の欄に示す。
【００３９】
２．導電性薄膜
（１）成膜
上記により製造した試料（実施例１）をガラス基板上に塗布し、１２０℃で２０分加熱乾燥を行い、該ガラス基板上に膜厚約１００ｎｍの導電性薄膜を成膜した。
（２）導電率測定
上記によりガラス基板上に成膜した導電性薄膜の導電率（単位：Ｓ／ｃｍ）を、抵抗率計（ロレスタＧＰ、三菱化学アナリティック製）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ７１９４：１９９４に従い測定した。
測定の結果、導電率は、５０Ｓ／ｃｍであった。
導電率の測定結果を表１の実施例１の欄に示す。
【００４０】
［比較例１］
１．導電性高分子の分散体
（１）製造
イオン交換水  １０００ｇに、ポリスチレンスルホン酸（Ｍｗ＝７５０００）の１８％水溶液  ６７ｇと、３，４−エチレンジオキシチオフェン  ４．８ｇとを加え、スターラーを用いて、十分に混合するまで室温で撹拌した。
次に、硫酸第二鉄  ０．３ｇを加え、スターラーを用いて、十分に混合するまで室温で撹拌した。
撹拌後、ペルオキソ二硫酸ナトリウム  ９．５ｇを加えて、反応液を得た。
ペルオキソ二硫酸ナトリウムの添加後、直ちに、室温で、スターラーを用いて撹拌を開始し、２４時間撹拌し続けて、導電性高分子を含有する分散体を得た。
得られた分散体に、陽イオン交換樹脂  ８５ｇと、陰イオン交換樹脂  １２５ｇとを加えて、室温で、スターラーを用いて２時間攪拌した。撹拌後に、イオン交換樹脂をろ別し、ろ液にジメチルスルホキシドを５重量％となるように添加し、撹拌混合して、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体の分散体の試料（比較例１）（以下、単に「試料（比較例１）」という。）を得た。
（２）粘度測定
上記により製造した試料（比較例１）の粘度を、実施例１と同様にして測定した。
測定の結果、粘度は、３００ｍＰａ・ｓであった。
粘度の測定結果を表１の比較例１の欄に示す。
【００４１】
【表１】
0005764092.tif 000002
【００４２】
２．導電性薄膜
（１）成膜
上記により製造した試料（比較例１）をガラス基板上に塗布し、１２０℃で２０分加熱乾燥を行い、該ガラス基板上に膜厚約１００ｎｍの導電性薄膜を成膜した。
（２）導電率測定
上記によりガラス基板上に成膜した導電性薄膜の導電率（単位：Ｓ／ｃｍ）を、実施例１と同様にして測定した。
測定の結果、導電率は、５０Ｓ／ｃｍであった。
導電率の測定結果を表１の比較例１の欄に示す。
【００４３】
［比較例２］
１．導電性高分子の分散体
（１）製造
比較例１と同様にして、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体の分散体を得た。
次に、この分散体に、実施例１と同量のイミダゾール  ３．４ｇを加え、室温で、スターラーを用いて十分に混合するまで撹拌し、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体の分散体の試料（比較例２）（以下、単に「試料（比較例２）」という。）を得た。
（２）粘度測定
上記により製造した試料（比較例２）の粘度を、実施例１と同様にして測定した。
測定の結果、粘度は試料（比較例１）の粘度と変化がなかった。
【００４４】
［実施例および比較例の説明］
実施例１は、本発明の導電性高分子の分散体に係る実施例である。
比較例１の分散体は、３，４−エチレンジオキシチオフェンを、ポリスチレンスルホン酸の存在下で、ペルオキソ二硫酸を酸化剤として用い、水系溶媒中で重合させて製造しているため、特開２００４−５９６６６号公報（特許文献１）に記載された発明の実施例であると考えられる（特許請求の範囲を参照）。
また、比較例２の分散体は、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）と、ポリスチレンスルホン酸と、イミダゾールとを含有する導電性組成物であるため、特開２００６−９６９７５号公報（特許文献２）に記載された発明の実施例であると考えられる（特許請求の範囲を参照）。
比較例１、２と実施例１との相違点は、比較例１、２では、反応液中にイミダゾールを含有しないで、３，４−エチレンジオキシチオフェンの酸化重合を行った点である。また、比較例２では酸化重合後にイミダゾールを添加しているのに対し、比較例１では分散液にはイミダゾールを添加していない。
導電性高分子の分散体の粘度について、実施例１の結果と比較例１、２の結果とを対比すると、イミダゾール存在下でモノマーの酸化重合を行った場合には、分散体の粘度を低下させることができるが、イミダゾール非存在下でモノマーの酸化重合を行った場合には、重合後にイミダゾールを添加しても、粘度を低下させることができないことがわかる。
導電性薄膜の導電率について、実施例１の結果と比較例１の結果とを対比すると、モノマーの酸化重合をイミダゾール存在下で行っても、イミダゾール非存在下で行った場合と変化が無く、成膜されて得られる導電性薄膜は導電性に優れていることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明の導電性高分子の分散体は、低粘度であるため、均質で平滑な導電性薄膜を形成することが容易であり、しかも、成膜して得られる導電性薄膜は導電性に優れる。そのため、本発明の導電性高分子の分散体は、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、色素増感太陽電池等の透明電極、コンデンサの固体電解質等に好適に用いられ得る。