(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
極端紫外線リソグラフィ（ＥＵＶＬ）マスクをチャックに結合するための結合モジュールであって、
相互に絶縁された複数の結合モジュール導電部分であって、それぞれが、
開口部分を定める上側部分と、
前記上側部分と接続された少なくとも１つのマスク接触要素と、
少なくとも１つのチャック接触要素と、
前記少なくとも１つのチャック接触要素と前記上側部分の間に接続した中間要素と、
を含む複数の結合モジュール導電部分を備え、
前記開口の形状及びサイズが、ＥＵＶＬマスクのパターン転写区域の形状及びサイズに対応し、
前記複数の結合モジュール導電部分のそれぞれが、前記少なくとも１つのマスク接触要素が前記ＥＵＶＬマスクの上側部分に接触した状態で、前記少なくとも１つのチャック接触要素が該ＥＵＶＬマスクを支持するチャックに接触するような形状及びサイズであり、
前記複数の結合モジュール導電部分のそれぞれが、前記ＥＵＶＬマスクが結合モジュールと整列して前記チャック上に位置決めされた時に、該ＥＵＶＬマスクの前記上側部分と該チャックの間に少なくとも１つの導電経路をもたらす、
ことを特徴とする結合モジュール。
【請求項２】
前記ＥＵＶＬマスクが前記チャック上に位置決めされた時に該ＥＵＶＬマスクのエッジを遮蔽することを特徴とする請求項１に記載の結合モジュール。
【請求項３】
少なくとも１つのチャック接触要素が、バネを含むことを特徴とする請求項１に記載の結合モジュール。
【請求項４】
前記複数の結合モジュール導電部分のそれぞれについて、前記少なくとも１つのマスク接触要素は、前記パターン転写区域の外側である位置で前記ＥＵＶＬマスクに接触するように位置決めされることを特徴とする請求項１に記載の結合モジュール。
【請求項５】
前記開口は、結合モジュールが前記ＥＵＶＬマスク上に置かれた状態で前記パターン転写区域を露出することを特徴とする請求項１に記載の結合モジュール。
【請求項６】
前記複数の結合モジュール導電部分のそれぞれについて、前記中間要素は、前記ＥＵＶＬマスクの一部を取り囲むような形状であることを特徴とする請求項１に記載の結合モジュール。
【請求項７】
前記複数の結合モジュール導電部分のそれぞれについて、前記中間要素は、結合モジュールがＥＵＶＬマスク上に置かれた時に該ＥＵＶＬマスクの少なくとも１つの側壁に接触するような形状であることを特徴とする請求項１に記載の結合モジュール。
【請求項８】
前記ＥＵＶＬマスクの中心の周りに対称であることを特徴とする請求項１に記載の結合モジュール。
【請求項９】
ステンレス鋼で製造されることを特徴とする請求項１に記載の結合モジュール。
【請求項１０】
前記複数の結合モジュール導電部分のそれぞれについて、前記少なくとも１つの導電経路は、非導電性結合モジュールの導電性コーティングによって形成されることを特徴とする請求項１に記載の結合モジュール。
【請求項１１】
前記複数の結合モジュール導電部分のそれぞれについて、前記少なくとも１つの導電経路は、複数の導電経路を含むことを特徴とする請求項１に記載の結合モジュール。
【請求項１２】
前記複数の結合モジュール導電部分のそれぞれについて、前記少なくとも１つのマスク接触要素は、結合モジュールが前記ＥＵＶＬマスク上に置かれた時に前記ＥＵＶＬマスクに緩く接触するように配列されることを特徴とする請求項１に記載の結合モジュール。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の結合モジュールを用いて極端紫外線リソグラフィ（ＥＵＶＬ）マスクを検査する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
〔関連出願〕
本出願は、本明細書において引用により組み込まれる２０１１年９月２７日出願の米国特許仮出願第６１／５３９，９７１号の非仮出願であり、かつそれに対する優先権を請求するものである。
【０００２】
本発明は、電子ビーム又はイオンビーム撮像機器による極端紫外線リソグラフィ（ＥＵＶＬ）マスク検査に関する。
【背景技術】
【０００３】
ＥＵＶＬマスクは、ナノメートルスケール半導体を製造するための次世代リソグラフィ処理に使用されることになる。１３．５ｎｍの短いＥＵＶ波長は、５１３ｎｍリソグラフィを用いる現在可能なものよりも小型のデバイスの作成を可能にする。
【０００４】
リソグラフィ処理は、フォトレジストによって被覆されたシリコンウェーハをＥＵＶＬマスクのパターン転写区域から反射された１３．５ｎｍ波長放射線に露光する段階を含むことができる。マスクのパターン形成区域の上面に位置するパターンは、縮小されてシリコンウェーハの上に重なるフォトレジスト上に転写される。そのような露光のち、リソグラフィ処理が継続される。現像されたフォトレジストが除去され、エッチング又は堆積によってシリコン上にパターンが形成される。ＥＵＶＬマスクは、パターン転写区域を取り囲むことができる周囲区域も含む。
【０００５】
図１は、非導電層１２（ガラス層のような）及び（ａ）基板の方向にＥＵＶ光を反射する反射層１４と（ｂ）吸光層１６との組合せを含むことができる上側部分から形成されるＥＵＶＬマスクを示している。この上側部分は、導電性であり、かつマスク全体に、とりわけマスクのパターン転写区域にわたって延びている。
【０００６】
図１は、マスク上に向けられマスクから反射されるＥＵＶＬ放射線を表す矢印８も含む。
【０００７】
ＥＵＶＬマスクは、チャック５０上に配置される。チャック５０は、既知電位（接地のような）の所定の場所に電気的に結合することができる（ケーブル５９により）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ＥＵＶＬマスクは、その製造工程及び利用処理中に検査すべきである。マスクの表面の欠陥、又は多層スタック（吸光部によって被覆されていない区域上）内に埋もれた欠陥は、露光されたシリコンウェーハ上に反復的欠陥を引き起こすことになる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
極端超紫外線（ＥＵＶＬ）マスクをチャックに結合するための結合モジュールを提供することができ、結合モジュールは、開口を定める上側部分と、少なくとも１つのマスク接触要素と、チャック接触要素と、マスク接触要素とこの上側部分の間に接続することができる中間要素とを含むことができる。開口の形状及びサイズは、ＥＵＶＬマスクのパターン転写区域の形状及びサイズに対応することができる。結合モジュールは、少なくとも１つのマスク接触要素がＥＵＶＬマスクの上側部分に接触した状態で、チャック接触要素がＥＵＶＬマスクを支持するチャックに接触するような形状及びサイズとすることができる。ＥＵＶＬマスクが、結合モジュールと整列してチャック上に配置できれば、結合モジュールは、ＥＵＶＬマスクの上側部分とチャックの間に少なくとも１つの導電経路を提供する。
【００１０】
ＥＵＶＬマスクがチャック上に配置することができる時に、結合モジュールは、ＥＵＶＬマスクのエッジを遮蔽することができる。
【００１１】
少なくとも１つのマスク接触要素は、バネを含むことができる。
【００１２】
中間要素の上側部分と底端部の間の高低差は、ＥＵＶＬマスクの高さよりも小さいものとすることができる。
【００１３】
マスク接触要素は、ＥＵＶＬマスクが、パターン転写区域の外側の位置でＥＵＶＬマスクに接触することができるように配置される。
【００１４】
結合モジュールをＥＵＶＬマスク上に置くことができたら、開口はパターン転写区域を露出する。
【００１５】
中間要素は、ＥＵＶＬマスクを取り囲むような形状とすることができる。
【００１６】
中間要素は、結合モジュールがＥＵＶＬマスク上に置かれた時に、ＥＵＶＬマスクの少なくとも１つの側壁に接触するような形状とすることができる。
【００１７】
結合モジュールは、ＥＵＶＬマスクの中心の周りに対称とすることができる。
【００１８】
結合モジュールは、ステンレス鋼で製造することができる。代替的に、結合モジュールの導電性要素をステンレス鋼で製造することができる。
【００１９】
少なくとも１つの導電経路を非導電性結合モジュールの導電性コーティングによって形成することができる。
【００２０】
少なくとも１つの導電経路は、複数の導電経路を含むことができる。
【００２１】
少なくとも１つのマスク接触要素は、結合モジュールがＥＵＶＬマスク上に置かれる時にチャックに緩く接触するように配列することができる。
【００２２】
結合モジュールは、互いに分離した複数の結合モジュール導電部分を含み、異なる結合モジュール導電部分は、異なるマスク接触要素に結合され、各マスク接触要素は、ＥＵＶＬマスクに結合モジュール導電部分を電気的に結合する。
【００２３】
極端紫外線（ＥＵＶＬ）マスクを検査する方法を提供することができる。本方法は、ＥＵＶＬマスクと結合モジュールとをチャック上に置き、結合モジュールがＥＵＶＬマスクの上側部分とチャックとを電気的に結合する段階と、ＥＵＶＬマスクのパターン転写区域の少なくとも一部分を結合モジュールの上側部分によって定められる開口を通過する荷電粒子ビームによって走査し、その間にチャックと、結合モジュールと、荷電粒子ビームとは、真空チャンバ内に位置する段階とを含むことができる。
【００２４】
本発明の更なる詳細事項、態様及び実施形態を添付図面を参照して例証として説明する。添付図面において、同様の参照番号の指定は、同様又は機能的に類似した要素を特定するのに使用される。諸図における諸要素は、簡素性と明確性を目的として示されており、必ずしも一定の尺度で描かれてはいない。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】従来技術のＥＵＶＬマスク及びチャックの側面図である。
【図２】本発明の実施形態によるチャック、ＥＵＶＬマスク及び結合モジュールを示す図である。
【図３】本発明の別の実施形態によるチャック、ＥＵＶＬマスク及び結合モジュールを示す図である。
【図４】本発明の更に別の実施形態によるチャック、ＥＵＶＬマスク及び結合モジュールを示す図である。
【図５】本発明の更に別の実施形態によるチャック、ＥＵＶＬマスク、及び結合モジュールを示す図である。
【図６】本発明の更に別の実施形態によるチャック、ＥＵＶＬマスク、及び結合モジュールを示す図である。
【図７】本発明の更に別の実施形態による結合モジュールの平面図である。
【図８】本発明の実施形態による結合モジュールをＥＵＶＬマスク上に置き、ＥＵＶＬマスク及び結合モジュールをチャック上に置く処理の２つのステージを示す図である。
【図９】本発明の実施形態による結合モジュールをＥＵＶＬマスク上に置き、ＥＵＶＬマスク及び結合モジュールをチャック上に置く処理の２つのステージを示す図である。
【図１０】本発明の実施形態によるチャック、ＥＵＶＬマスク、及び結合モジュールを示す図である。
【図１１】本発明の実施形態によるチャック、ＥＵＶＬマスク、及び結合モジュールを示す図である。
【図１２】本発明の実施形態によるチャック、ＥＵＶＬマスク、及び結合モジュールを示す図である。
【図１３】本発明の実施形態によるＥＵＶＬマスク及び結合モジュールを示す図である。
【図１４】本発明の実施形態によるＥＵＶＬマスク及び結合モジュールの平面図を含み、かつ結合モジュールの側面図も含む図である。
【図１５】本発明の実施形態によるＥＵＶＬマスク、測定デバイス、電圧供給部、及び結合モジュールの平面図である。
【図１６】本発明の実施形態による、ＥＵＶＬマスク、チャック、及び結合モジュールの平面図である。
【図１７】本発明の実施形態によるＥＵＶＬマスク及び結合モジュールの平面図である。
【図１８】本発明の実施形態による方法の流れ図である。
【図１９】本発明の実施形態による方法の流れ図である。
【図２０】本発明の様々な実施形態によるＥＵＶＬマスク及び結合モジュールを示す図である。
【図２１】本発明の様々な実施形態によるＥＵＶＬマスク及び結合モジュールを示す図である。
【図２２】本発明の様々な実施形態によるＥＵＶＬマスク及び結合モジュールを示す図である。
【図２３】本発明の様々な実施形態によるＥＵＶＬマスク及び結合モジュールを示す図である。
【図２４】本発明の様々な実施形態によるＥＵＶＬマスク及び結合モジュールを示す図である。
【図２５】本発明の様々な実施形態によるＥＵＶＬマスク及び結合モジュールを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本明細書の結末部分で本発明と見なされる主題が詳細に指し示されており、明確に特許請求される。しかし、本発明は、その目的、特徴、及び利点と共に、構成及び作動の方法の両方に関して、以下の詳細説明を添付図面と共に閲覧して参照することにより最も良好に理解することができる。
【００２７】
以下の詳細説明において、多くの特定の詳細事項が、本発明の十分な理解を提供するために示されている。しかし、本発明は、これらの特定の詳細事項を伴わずに実施することができることは、当業者によって理解されるであろう。他の例では、本発明を不明瞭にしないために、公知の方法、手順、及び構成要素は、詳細には説明されていない。
【００２８】
様々な図は、結合モジュールの上側部分を平坦な表面として示している。この上側部分は上面とすることができ、又はあらゆる他の形状を有することができることに注意されたい。
【００２９】
結合モジュールは、ＥＵＶＬマスクがチャック上に位置決めされて結合モジュールと整列した時に、ＥＵＶＬマスクとチャックの間の導電経路の一部であることが要求される導電性部品を有するモジュールである。導電性モジュールは、導電性フレームとすることができるが但し他の形態又は形状を有することができる。
【００３０】
ＥＵＶＬマスク１０の上側部分（層１４及び層１６を含む最上層）は、電子ビーム（電子ビーム）又はイオンビーム撮像によるＥＵＶＬマスク検査を含むことができる様々な撮像技術を用いて検査することができる。電子ビーム又はイオンビームによる検査は、真空チャンバ内で行われる。
【００３１】
ＥＵＶＬマスク１０が、真空チャンバ（図示せず）内部に挿入され、これに制限されないがＸＹステージのようなステージの上に位置することができるチャック５０上に配置される。検査中に、ＥＵＶＬマスク１０は、電子ビーム又はイオンビームの下で平行移動される（Ｘ方向及び／又はＹ方向に移動される）。
【００３２】
上述のように、ＥＵＶＬマスク１０の上側部分は、導電性層（１４及び１６）で製造され、それらの層は非導電性層１２の上に位置する。後者は、比較的厚い（約６ｍｍ）ものとすることができ、石英プレートで製造することができる。
【００３３】
荷電粒子を用いたＥＵＶＬマスク１０の走査は、電荷の蓄積を引き起こす場合がある。検査中での電荷の蓄積（これは、損傷を引き起こす場合がある）を除去するために、ＥＵＶＬマスクの上側部分は、チャック５０は導電性であるのでチャック５０に電気的に結合すべきである。チャック５０（かつとりわけチャックベース）は、所要の電位に接続することができる。例えば、チャック５０を接地することができる。
【００３４】
検査中でのチャックに対するＥＵＶＬマスクの上側部分の電気的接続を可能にする結合モジュールを提供することができる。
【００３５】
結合モジュールは、ＥＵＶＬマスクハンドリング処理中にＥＵＶＬマスクの上に置くことができる。結合モジュールは、上方から開いていることができ（これは、ＥＵＶＬマスク１０のパターン転写区域１１を露出する開口を定めることができる）、但しＥＵＶＬマスクの周囲区域のようなパターン転写区域の外側に位置することができる様々の（例えば、２つ、３つ、４つ、又はそれよりも多く）ポイントでＥＵＶＬマスク１０に接する。
【００３６】
結合モジュールは、ＥＵＶＬマスクアセンブリの一部として、検査ツールの上に平行移動することができる。ロボット（又は他の転写ユニット）が、ＥＵＶＬマスクと結合モジュールとを（一緒に又は個別に）搬送することができ、ＥＵＶＬマスクを真空チャンバ内部に位置決めすることができ、ＥＵＶＬをチャック上に置くことができ、かつ結合モジュールマスクをＥＵＶＬマスク及びチャックの上に置くことができる。
【００３７】
結合モジュールは、導電材料で製造することができ、導電材料及び絶縁材料を含むことができ、又は導電性コーティングによって被覆することができる。
【００３８】
ＥＵＶＬマスク及びフレームのハンドリング
ロボットアームは、ＥＵＶＬマスクを検査ツールへのその方向に搬送することができる。
【００３９】
ＥＵＶＬマスクのローディング又はアンローディングにおける様々な段階は、公知であって更なる説明を必要としないことに注意されたい。これらの段階は、ロボットアームにより、ＥＵＶＬマスクボックス（検査処理及び／又はリソグラフィ処理中、その中にＥＵＶＬマスクが配置される）を開く段階と、ＥＵＶＬマスクを取り出す段階と、かつ更に（必要に応じ）マスクの表面が上下逆などになるようにマスクを反転させる段階とを含むことができる。
【００４０】
ロボットアームは、ＥＵＶＬマスクを結合モジュール内に上方に移動する垂直運動により、結合モジュールの自己整列位置決めを行うことができる。
【００４１】
最初に、結合モジュールを、ベース（真空チャンバの外側）の上に置くことができる。
【００４２】
次に、ロボットアームは、このアーム及びＥＵＶＬマスクの垂直運動により、結合モジュールを持ち上げることができる。
【００４３】
結合モジュールは、ＥＵＶＬマスクに対して自己整列することができる（例えば、ＥＵＶＬマスクの側壁との軽度の接触により）。
【００４４】
垂直運動は、摩擦と分子汚染の発生を低減するために緩慢に行うことができる。
【００４５】
垂直運動の終わりに、結合モジュールはＥＵＶＬマスクの上に様々なポイントで接して配置される。
【００４６】
ロボットアームは、取り付けられた結合モジュールと共にＥＵＶＬマスクをＥＵＶＬマスク検査ツールチャック上に最後に置くことができる。
【００４７】
チャックは、開口部（図示せず）を有することができる真空チャンバ内に配置することができる。これは、ＥＵＶＬマスクがチャックに接触するまで、その開口内部をロボットアームが移動することを可能にすることができる。次に、ＥＵＶＬマスクは、更に下に移動し（ロボットアームにより）、かつ取り出される。
【００４８】
ローディング処理は、図８及び図９に示されている。
【００４９】
検査ジョブが完了すると、ロボットアームが復帰してＥＵＶＬマスクと結合モジュールとを持ち上げる。
【００５０】
結合モジュールは、一連の逆の段階でＥＵＶＬマスクからアンロードされる。結合モジュールは、そのベースから離れることができ、ロボットアームは、ＥＵＶＬマスクをそのボックスに復帰させることを継続する。
【００５１】
結合モジュールは可搬とすることができ、標準ＥＵＶＬマスクハンドリングロボットアームによってロードすることができる。
【００５２】
結合モジュール及びＥＵＶＬマスク
本発明の実施形態により、結合モジュールはチャックに緩く接触し、結合モジュールは、結合モジュールに取り付けられたバネ（又は他の伸縮性要素）を通じて接続することができる。バネは僅かに接触し、これは、電気的接触が生じることを可能にするが、結合モジュールがバネによって持ち上げられてそのためにＥＵＶＬマスク表面と結合モジュールとの接触を損なうのを防止する。
【００５３】
バネは、ＥＵＶＬマスクの近くに（かつ更にＥＵＶＬマスクに接触して）位置することができ、又はＥＵＶＬマスクから僅かに離間する（かつ更に遠く離れる）ことができる。後者（遠隔位置）である時に、バネは、潜在的電気アーク放電（もしあれば）をＥＵＶＬマスクから遠く離れて生成させることができ、それによって汚染が低減される。
【００５４】
結合モジュールは、導電性コーティング又は導電性ワイヤリングを伴った非導電材料で製造することができ、結合モジュール上の特定のポイントの間でのみの接触の形成が可能とされる。こうした特徴部は、結合モジュールのレッグとＥＵＶＬマスクの上面の間の接触の品質のモニタリングを可能にする。
【００５５】
本発明の実施形態により、結合モジュールを提供することができ、結合モジュールは、開口を定める上側部分と、マスク接触要素と、チャック接触要素と、マスク接触要素と上側部分の間に接続することができる中間要素とを含むことができる。開口の形状及びサイズは、極端紫外線（ＥＵＶＬ）マスクのパターン転写区域の形状及びサイズに対応する。結合モジュールは、少なくとも１つのマスク接触要素がＥＵＶＬマスクの上側部分に接触した状態で、チャック接触要素がＥＵＶＬマスクを支持するチャックに接触するような形状及びサイズとすることができる。ＥＵＶＬマスクがチャック上に配置することができる時に、結合モジュールは、ＥＵＶＬマスクの上側部分とチャックの間に少なくとも１つの導電経路を提供することができる。
【００５６】
図２−図６は、ＥＵＶＬマスク１０、チャック５０及び結合モジュール２０の様々な要素（１２、１４及び１６）を示している。結合モジュール２０は、この上側部分（とりわけ層１４及び追加的に又は代替的に層１６）をチャック５０に電気的に結合する。
【００５７】
図２−図６は、結合モジュール２０の上側部分２１に形成された開口２２を示している。開口２２のエッジは、この断面図では、２つの離間した破線２５によって示されている。
【００５８】
図２、図５、及び図６は、バネ２４を含むマスク接触要素を示している。バネ２４は、ハウジング２９内に組み込むことができ、又は様々な他の方法で中間要素２３に接続することができる。
【００５９】
図２及び図５は、中間要素２３の下に、かつＥＵＶＬマスク１０の外部側壁１７に極めて接近して位置するバネ２４を示し、一方で図６は、ＥＵＶＬマスク１０から中間要素２３よりも離れて位置するバネ２４を示している。図５は、ＥＵＶＬマスク１０の外部側壁１７と中間要素２３の壁の間のスペーサ２７を示している。
【００６０】
図６は、チャック５０に緩く接触するバネ２４を部分的に取り囲むハウジング２９の組合せを示している。
【００６１】
図３は、中間要素２３の２つの部分２３（１）及び２３（２）の間に接続されているバネ２４を示し、中間要素２３の下側部分２３（１）（バネ２４ではなく）がチャック５０に接触するようになっている。
【００６２】
図２−図４及び図６は、２つのスパイク形状マスク接触要素２６を示し、一方で図５は、３つ以上のスパイク形状マスク接触要素２６を示している。図１３−図１５は、３つのマスク接触要素２６（１）、２６（２）及び２６（３）を示している。
【００６３】
図４は、上側部分２１と中間要素２３の底端２３（４）の間の高低差が、ＥＵＶＬマスク１０の高さよりも小さいものとすることができる本発明の実施形態を示している。
【００６４】
図７は、ＥＵＶＬマスクのパターン転写区域１１よりも僅かに大きい開口２２を示す、結合モジュール２０の平面図である。
【００６５】
マスク接触要素２６（１）−２６（３）は、パターン転写区域に含まれない箇所でＥＵＶＬマスクに接触することができるように配置される。
【００６６】
図１０−図１２は、本発明の実施形態による、チャック５０と、ＥＵＶＬマスク１０と、結合モジュール２０とを示している。
【００６７】
図１０を参照すると、チャック５０は円形の形状を有し、そのサイズは、支持することになるウェーハのサイズに適合すべきである。例えば、３００ｍｍウェーハ（すなわち、３００ミリメートルの直径を有する円形ウェーハ）は、少なくとも３００ｍｍの直径を有することができる円形チャックによって支持することができる。
【００６８】
ＥＵＶＬマスク１０は、チャック５０よりも非常に小さく、かつ矩形の形状（他の形状のチャック及びマスクを使用することもできるが）を有することができる。ＥＵＶＬマスク１０は、ウェーハ上にパターンを転写するのに使用されない周囲区域１２によって取り囲まれたパターン転写区域１１を含むことができる。
【００６９】
図１０は、結合モジュール２０の開口２２の（内側）エッジ２５と、ＥＵＶＬマスク１０の外側エッジ１５と、結合モジュール２０の外側エッジ２８とを示している。
【００７０】
チャック５０は、典型的に完全に平坦ではない。チャックは、チャックの様々な箇所に位置する場合がある、様々なチャック要素（例えば、真空開口、パイプ、保持要素、又は他の空間又は隆起）を典型的に含む。これらの様々なチャック要素は、図１０に５８と表示されており、チャック５０の右上部に位置するとして（説明の都合のみのため）示されている。
【００７１】
チャック５０が、高電圧（例えば、数千ボルト）に帯電すると、これらのチャック要素５８（並びにＥＵＶＬマスク１０のエッジ）は、アーク、スパークのような原因になる場合がある。本発明の実施形態により、結合モジュール２０はこれらの要素（又はこれらの要素の少なくとも一部を覆うことができ、不要な電気又は静電気イベントの発生の機会を低減することができる。
【００７２】
図１１−図１５は、チャック５０全体又はチャック５０の大部分のいずれかを遮蔽する結合モジュール２０を示している。この遮蔽は、不要な電気又は静電気イベントの生成を助ける可能性がある不規則性又は他のチャック要素５８を低減する。
【００７３】
図１１では、結合モジュール２０はチャック５０と殆ど同じ大きさであり、円形の形状を有する。
【００７４】
図１２では、結合モジュール２０は、チャック５０と同じサイズを有する。
【００７５】
図１３は、本発明の実施形態による、ＥＵＶＬマスク１０及び結合モジュール２０を示している。
【００７６】
図１３は、チャック２０全体と同じ大きさとすることができ、かつ３つのマスク接触要素２６（１）、２６（２）、及び２６（３）を有する結合モジュール２０を示している。
【００７７】
第１のマスク接触要素２６（１）は、ＥＵＶＬマスク１０の周囲区域１２の右上エッジに接触する。第２のマスク接触要素２６（２）は、ＥＵＶＬマスク１０の周囲区域１２の右下エッジに接触する。第３のマスク接触要素２６（３）は、ＥＵＶＬマスク１０の周囲区域１２の左下エッジに接触する。マスク接触要素２６（１）−２６（３）の各々は、結合モジュール２０とマスク１０の間の導電経路を提供する。
【００７８】
電気試験及び酸化層破壊
図１４は、本発明の実施形態による（ａ）ＥＵＶＬマスク１０及び結合モジュール２０の平面図と（ｂ）結合モジュール２０の断面図（想像線７０に沿った）とを含む。
【００７９】
図１４は、互いに絶縁された２つの結合モジュール導電部分２０（１）及び２０（２）を含む結合モジュール２０を示している。
【００８０】
図１７は、互いに絶縁された３つの結合モジュール導電部分２０（１）、２０（２）及び２０（３）を含む結合モジュール２０を示している。これらの３つの結合モジュール導電部分の各々は、マスク接触要素２６（１）−２６（３）によって異なるマスク接触要素に電気的に結合されている。
【００８１】
異なる結合モジュール導電部分の間の絶縁は、これらの結合モジュール導電部分の間に絶縁材料を取り付けることにより又は結合モジュール導電部分の間に間隙（間隙２０（０）のような）を形成することによって達成することができる。図１４の断面図は、絶縁材料で製造された下側層２２（１）を含む、結合モジュール２０の上側部分２２を示している。下側層２２（１）は、結合モジュール導電部分２０（１）及び２０（２）を支持し一方で結合モジュール導電部分２０（１）と２０（２）の間の間隙２０（０）を維持する。
【００８２】
第１の結合モジュール導電部分２０（１）は、第１のマスク接触要素２６（１）に接触し一方で第２の結合モジュール２０（２）は、第２及び第３のマスク接触要素２６（２）及び２６（３）に接触する。
【００８３】
第１及び第２の結合モジュール導電部分２０（１）及び２０（２）は、ＥＵＶＬマスク１０により、第１、第２、及び第３のマスク接触要素２６（１）、２６（２）及び２６（３）を通じて互いに短絡することができる。
【００８４】
換言すれば、第１から第３のマスク接触要素２６（１）−２６（３）が、ＥＵＶＬマスク１０に電気的に結合されると、その時にそれらは、第１及び第２の結合モジュール導電部分２０（１）と２０（２）の間の導電経路の一部を形成することができる。
【００８５】
例えば、第１のマスク接触要素２６（１）がＥＵＶＬマスク１０に接触しないか又は他の理由でＥＵＶＬマスク１０に電気的に結合していない場合、その時に第１及び第２の結合モジュール導電部分２０（１）と２０（２）とが互いに絶縁されたままとすることができる。
【００８６】
その結果、第１及び第２の結合モジュール導電部分２０（１）と２０（２）の間の結合の評価は、第１から第３のマスク接触要素２６（１）−２６（３）が適切にＥＵＶＬマスク１０に接触しているか否かを示すことができる。従って、第１及び第２の結合モジュール導電部分２０（１）及び２０（２）は、抵抗計、電圧計、電流計などのような測定デバイス（図１５の測定デバイス７１のような）の異なるターミナルに電気的に結合することができる。
【００８７】
そのような測定は、第１及び第２の結合モジュール導電部分２０（１）及び２０（２）がチャック５０によって短絡されていないという仮定に基づくことに注意すべきであり、これは、チャック５０の電気的絶縁要素にそれらを結合することによって達成することができる。図１６は、第１及び第２の結合モジュール導電部分２０（１）及び２０（２）に電気的に結合された（導体８１及び８２をそれぞれ通じて）、チャック５０の２つの相互に絶縁された要素５１及び５２を示している。
【００８８】
ＥＵＶＬマスク１０の導電部分は酸化される可能性があり、それによって不要な酸化層がＥＵＶＬマスク１０の上側部分に形成する場合がある。この酸化層は非導電性であり、マスク接触要素２６（１）−２６（３）がＥＵＶＬマスク１０に接触する時に、酸化層は、それらの間の導電経路の形成を妨げる場合がある。
【００８９】
これは、第１及び第２の結合モジュール導電部分２０（１）及び２０（２）が、ＥＵＶＬマスク１０を通じて互いに電気的に結合することを妨げる。
【００９０】
測定デバイス７１が、そのような問題を感知することができる一方、電圧供給部０は、酸化層を除去するために又はマスク接触要素２６（１）−２６（３）によって接触された箇所での酸化層を少なくとも除去するのに十分高い可能な電圧パルス（又は他の電気信号）を発生させることにより、この問題の解決を助けることができる。
【００９１】
測定デバイス７０及び電圧供給部８０は、（ａ）第１及び第２の結合モジュール導電部分２０（１）及び２０（２）が互いに電気的に結合しているか否か（酸化層が存在しているか否かを判断することと同等とすることができる）を評価する段階と、（ｂ）そのような酸化層が存在していると判断されたら−酸化層を破壊するために電圧供給部８０によって電気信号を印加する段階との１回又はそれよりも多くの反復を含む処理に加わることができる。
【００９２】
１回の反復が失敗した場合、次の反復は、次の反復中に供給される信号の変更（例えば、電圧を高める）によって優先的に行うことができる。制限されない値は、例えば、３Ｖから４００Ｖである数ボルトから数百ボルトの範囲とすることができる。
【００９３】
図１８は、本発明の実施形態による方法１００を示している。
【００９４】
方法１００は、極端紫外線（ＥＵＶＬ）マスクを検査するのに適用される。
【００９５】
方法１００は、チャック上にＥＵＶＬマスク及び結合モジュールを置くステージ１００によって開始することができる。結合モジュールは、上述の結合モジュールのうちのいずれかとすることができる。結合モジュールは、ＥＵＶＬマスクの上側部分とチャックとを電気的に結合する。
【００９６】
ステージ１１０の後に、結合モジュールの上側部分によって定められる開口を通過する荷電粒子ビームによってＥＵＶＬマスクのパターン転写区域の少なくとも一部分を走査するステージ１２０が続くことができ、その間に、チャック、結合モジュール及び荷電粒子ビームは、真空チャンバ内に位置する。
【００９７】
結合モジュールは、上述の結合モジュールのうちのいずれかとすることができる。本方法は、ローディング及び加えて真空チャンバから結合モジュール及びＥＵＶＬマスクをアンローディングするあらゆるステージを含むことができる。
【００９８】
説明を簡略にするために、図１８は、ＥＵＶＬマスク及び結合モジュールを真空チャンバ内に置くステージと、結合モジュール及びマスクを真空チャンバから取り出すステージとは示していない。
【００９９】
図１９は、本発明による、マスク接触要素とＥＵＶＬマスクの間に形成される電気経路の導電性を改善する方法２００を示している。
【０１００】
方法２００は、ＥＵＶＬマスクをチャック上に置き、結合モジュールの複数のマスク接触要素が、複数の位置でＥＵＶＬマスクに接触することを可能にする方法で結合モジュールを位置決めするステージ２１０によって開始することができる。結合モジュールは、相互に絶縁され複数のマスク接触要素に電気的に結合する、複数の結合モジュール導電部分を含む。複数の結合モジュール導電部分は、相互に絶縁された、チャックの異なる要素に電気的に結合する。
【０１０１】
ステージ２１０の後に、ＥＵＶＬマスクを通じて互いに短絡すべき１対の（複数の結合モジュール導電部分のうちの）結合モジュール導電部分が、互いに短絡していないかを評価するステージ２２０が続くことができる。これは、酸化層が、結合モジュール導電部分のこの対を絶縁する時に生じる場合がある。代替的に、結合モジュール導電部分が、酸化層の部分的生成によって形成する場合がある高抵抗経路によって互いに結合されている場合がある。
【０１０２】
互いに短絡すべき結合モジュールの全ての導電部分が、互いに短絡していると判断されると、方法２００は終了することができる（ＥＮＤステージ２６０に示すように）。
【０１０３】
ＥＵＶＬマスクを通じて互いに短絡すべき結合モジュールの１対の導電部分が互いに短絡していないと判断されると、ステージ２２０の後に、結合モジュール導電部分のこの対の間に電圧供給部によって電気信号が印加されるステージ２３０が続くことができる。
【０１０４】
ステージ２３０の後、ＥＵＶＬマスクを通じて互いに短絡すべき結合モジュール導電部分のこの対が互いに短絡していないかを評価するステージ２４０が続くことができる。
【０１０５】
互いに短絡すべき結合モジュール導電部分のこの対が互いに短絡していると判断されると、方法２００は終了することができる（ＥＮＤステージ２６０に示すように）。
【０１０６】
図２０−図２５は、本発明の様々な実施形態による、ＥＵＶＬマスクと結合モジュールとを示している。
【０１０７】
本発明の実施形態により、ＥＵＶＬマスクは、マスクカバー１０３とマスク支持要素１０１とを有するマスクホルダによって支持することができる。マスク支持モジュール１０１は、チャックの一部である又は結合モジュール２０の一部であると見なすことができる。
【０１０８】
図２０は、本発明の実施形態によるＥＵＶＬマスク１０２と、マスクカバー１０３及びマスク支持モジュール１０１とを含む結合モジュールとの等角投影図を提供する。図２１は、本発明の実施形態によるマスク支持モジュール１０１とＥＵＶＬマスク１０２とを示している。図２２及び図２３は、本発明の様々な実施形態によるマスク支持モジュール１０１を示している。図２４及び図２５は、本発明の様々な実施形態によるマスクカバー１０３の上面図及び下面図である。
【０１０９】
図２１を参照すると、マスク支持モジュール１０１は、バネホルダ１０５を有する整列バネ１０４と、３つのマスクボーダー１０６と、整列バネハンドルカム１０７と、２つの電気的接触バネ１０８及び１０９と、４つのマスクカバーサポート１１２とを含む。
【０１１０】
マスク支持モジュール１０１は、例えば、硬質クロムである導電性コーティングを有する例えばアルミナである絶縁セラミックで製造することができる。フロントマスク表面は、絶縁空間によって分離された２つのコーティング区域１１０及び１１１を有する。これは、接触バネ１０８と１０９とを、導電性試験及び電気的ザッピングプロシージャのために異なる電位に接触させることを可能にする。整列バネ１０４は、ＥＵＶＬマスクのコーナ楔に作用することができ、マスクを３つのマスクボーダー１０６に係合するように押圧し、そのようにマスク整列が行われる。
【０１１１】
ハンドカム１０７は、整列バネ１０４からのＥＵＶＬマスク１０２の手動リリースのように設計されている。自動リリースは、専用デバイス（図示せず）によって行われる。４つのマスクコーナサポート１１２は、マスクカバー１０３にマスクカバーの固有振動数を高める更に別のサポートを提供するのに必要である。
【０１１２】
図２２は、マスク支持モジュール１０１の等角投影図である。ＥＵＶＬマスク１０２は、ベースホルダ１０１の３つのバルジ１１３、１１４及び１１５の上に位置することができる。それらのバルジは、例えば、硬質クロムである導電性コーティングによって被覆され、マスク接触が可能であるマスク区域を通じてＥＵＶＬマスク１０２と接触する。
【０１１３】
ホルダベース１０１の裏側は、図２３に示されており、そこでは全体の表面が３つの区域に分割されている。第１の区域は大きい導電性コーティング区域１１７であり、第２の区域は小さい導電性コーティング区域１１６であり、かつ第３の区域は２つの導電性区域１１６及び１１７を分離する誘電体区域である。導電性区域１１６は接触バネ１０８に接続され、導電性バネ１０９は導電性区域１１７に接続される。これは、導電性試験及びザッピングプロシージャの達成を可能にする。
【０１１４】
図２４は、本発明の実施形態によるマスクカバー１０３の前側の等角投影図であり、図２５は、マスクカバー１０３の裏側の等角投影図を提供する。
【０１１５】
４つの孔１１８、１１９、１２０、及び１２１は、ＥＵＶＬマスク１０２の前側へのマスクカバー１０の取り付け及び取り外しを意図している。これは、専用機構（図示せず）によって行われる。カバー１０３は、例えば、アルミナセラミックである絶縁材料で製造され、前側の表面１２２及び裏側の表面１３１を除いた表面全体が、例えば、硬質クロムである導電性コーティングを有する。
【０１１６】
図２５を参照すると、導電性表面と絶縁性表面とのこの構成は、導電性試験とマスクザッピングプロシージャの達成を可能にする。マスクカバー１０３の裏側表面の上には、４つのスロットポケット１２７、１２８、１２９、及び１３０があり、それらは、マスクカバー１０３固有振動数をマスクカバーがＥＵＶＬマスク１０２に取り付けられた時に高める４つのマスクカバーサポート１１２との相互作用を意図している。マスクカバー１０３の中央部の方形ポケット１２６は、ＥＵＶＬマスク１０２へのカバー取り付けを意図している。マスクカバー１０３は、３つの突出した小さい表面１２３、１２４、及び１２５を通じてＥＵＶＬマスク１０２と接触する。電気的接触の観点からは、突出表面１２５は、表面１３２との一体部分であり、２つの突出表面１２３及び１２４は、マスクカバー１０３の裏側の残りのコーティング部１３３との一体部分である。マスクカバー１０３がＥＵＶＬマスク１０２に取り付けられ、かつＥＵＶＬマスク１０２をマスクベース１１１上に装着した時（図２０を参照されたい）、接触バネ１０８は、表面１３２との電気的接触を有し、接触バネ１０９は表面１３３との電気的接触を有する。このような構成は、導電性試験及びマスクザッピングプロシージャの実施を可能にする。３つの突出表面１２３、１２４、及び１２５の向きは、ＥＵＶＬマスク１０２の前面の機械的接触の許された区域の向きによって定まる。
【０１１７】
ＥＵＶＬマスクを通じて互いに短絡すべき結合モジュール導電部分のこの対が（ステージ２３０にも関わらず）互いに短絡していないと判断されると、ステージ２３０の後にステージ２４０が続くことができ又はステージ２３０の間に印加された信号を変化させるステージ２５０が続くことができる。ステージ２５０の後にステージ２３０が続くことができる。ステージ２５０は、次の反復中に印加される信号の変化（例えば、電圧を高める）を含むことができる。制限されない値は、例えば、３Ｖから４００Ｖである数ボルトから数百ボルトの範囲とすることができる。
【０１１８】
本発明の特定の特徴を本明細書で図示して説明したが、多くの修正、置換、変更、及び均等物を当業者はここで想起するであろう。従って、特許請求の範囲は、全てのそのような修正及び変形を本発明の真の意図の範囲に含めるように意図されることは理解されるものとする。
【符号の説明】
【０１１９】
１０  ＥＵＶＬマスク
２０  結合モジュール
２２  開口
５０  チャック
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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