(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ボーリング孔を削孔して該ボーリング孔に噴射装置（１０）を所定深度まで挿入し、地盤改良材や固化材を噴射装置（１０）のノズル（１０ｎ）から噴射して、噴射装置（１０）を地上側に引き上げ、造成しようとする地中壁（Ｗ）の長さ方向に沿って地中固結体を造成する地盤改良工法において、前記ノズル（１０ｎ）から一対の噴流（Ｊ１、Ｊ１Ａ）を噴射装置（１０）に対して点対称に噴射し、前記噴射装置（１０）のノズル（１０ｎ）を前記地中壁（Ｗ）の長さ方向に向けて前記噴射装置（１０）を第１の角速度（ｖ１）で回転して、第１の半径（ｒ１）と第１の中心角度（θ１）を有する扇状の第１の領域（１、１Ａ）における地盤を切削し、固化材と混合して改良する第１工程（１ａ）と、
前記第１工程の後、前記噴射装置（１０）のノズル（１０ｎ）を前記第１の領域（１、１Ａ）に隣接する方向を向けて角速度を第２の角速度（ｖ２）に変更して前記噴射装置（１０）を回転して、第２の半径（ｒ２）と第２の中心角度（θ２）を有する扇状の第２の領域（２、２Ａ）における地盤を切削し、固化材と混合して改良する第２工程（１ｂ）と、
前記第２工程の後、噴射装置（１０）のノズル（１０ｎ）を前記第２の領域（２、２Ａ）に隣接する方向に向けて角速度を第３の角速度（ｖ３）に変更して前記噴射装置（１０）を回転して、第３の半径（ｒ３）と第３の中心角度（θ３）を有する扇状の第３の領域（３、３Ａ）を前記地中壁（Ｗ）の長さ方向と直角な方向を含む領域に向けて地盤を切削し、固化材と混合して改良する第３工程（１ｃ）と、
前記第３工程（１ｃ）の後、前記噴射装置（１０）のノズル（１０ｎ）を前記第３の領域に隣接する方向に向けて角速度を前記第２の角速度（ｖ２）に変更して前記噴射装置（１０）を回転して、前記第２の半径（ｒ２）と前記第２の中心角度（θ２）を有し且つ前記第１の領域（１、１Ａ）と前記第３の領域（３、３Ａ）との間で前記第２の領域と同一形状の扇状の第４の領域（４、４Ａ）における地盤を切削し、固化材と混合して改良する第４工程（１ｄ）とを有し、
前記第１工程〜第４工程では、角速度（ｖ１、ｖ２、ｖ３）を３度変更しており、第１の角速度（ｖ１）よりも第２の角速度（ｖ２）が速く、第２の角速度（ｖ２）よりも第３の角速度（ｖ３）が速く、噴射装置（１０）に対して点対象な一対の第１の領域（１、１Ａ）と第２の領域（２、２Ａ）と第３の領域（３、３Ａ）と第４の領域（４、４Ａ）とを組み合わせた概略長方形状の平面形状の領域を改良し、
前記噴射装置（１０）を所定深度分だけ引き上げ、上述した所定深度分だけ引き上げた後、前記第１、第２、第３および第４の各工程を繰り返して、深度方向の所定の領域について概略長方形状の平面形状（Ｋ１）の柱状固結体を造成することを特徴とする地盤改良工法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば地中に固結体を造成して、地盤を改良する技術に関する。より詳細には、本発明は、施工するべき地中の領域に地盤改良材や固化材を包含する噴流を噴射して、原位置土を切削すると共に、原位置土と地盤改良材や固化材とを混合、攪拌して、固結体を造成する地盤改良工法に関する。
【背景技術】
【０００２】
係る従来の地盤改良工法では、例えば、所定の深度までボーリング孔を削孔し、ボーリング孔に噴射装置を挿入し、地盤改良材や固化材を包含する噴流を噴射しつつ噴射装置を回転する。これにより、噴流によって原位置土を切削すると共に、原位置土と地盤改良材や固化材とを混合、攪拌する。そして、噴射装置を地上側に引き上げれば、原位置土と地盤改良材や固化材とが混合した後に固結して、断面円形の円柱形状の地中固結体が造成される。
連続した壁状の地中固結体を造成する場合には、図１９で示す様に、造成しようとする地中壁Ｗ（図１９では点線で示す）の長さ方向に沿って、上述した様な態様で造成される円柱状地中固結体を複数造成して、その一部を重複させれば良い。
隣接する円柱状地中固結体が重複する範囲については、地中壁Ｗにおいて必要とされる幅寸法ｔを確保する様に決定される。
【０００３】
ここで、図１９において、地中壁Ｗに要求される幅寸法ｔを確保するために、造成される円柱状地中固結体においては、点線Ｄ１、Ｄ２よりも（地中壁Ｗの）外側の領域ＬＡが存在している。
係る領域ＬＡが存在しなければ、特に重複している部分において、必要な幅寸法ｔが確保できなくなってしまうからである。
しかし、その様な領域ＬＡは、地中壁Ｗに要求される幅寸法ｔ或いは強度に対して、過剰に改良されている部分である。
換言すれば、図１９における領域ＬＡは、地中壁Ｗの造成に当たって、切削、改良することが無駄になってしまう領域である。
【０００４】
切削、改良することが無駄になってしまう領域ＬＡにおける原位置土の切削と改良を行なわないようにするため、切削、改良される断面形状を非円形にする技術も提案されている。
しかし、係る技術は非常に複雑な構成を具備する機器及び高度な制御技術を必要とする場合が多い。
そのため、図１９における領域ＬＡの様な切削、改良が不要な領域に相当する地盤については、出来る限り切削、改良を行なわない技術が求められている。
しかしながら、現時点では、その様な要請に応えることが出来る技術は提案されていない。
【０００５】
その他の従来技術として、削孔工程で高圧ジェットを噴射して、先行する削孔工程で地盤が緩んだ領域を包含する範囲を切削して、連続地中壁を造成する技術が提案されている（特許文献１参照）。
係る技術（特許文献１）は有用な技術ではあるが、上述した様な問題を解決するものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−１４４７２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上述した従来技術の問題点に鑑みて提案されたものであり、地中固結体を造成する際に、切削、改良が不要な領域を出来る限り切削、改良しないで済む様な地盤改良工法の提供を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、ボーリング孔を削孔して該ボーリング孔に噴射装置（１０）を所定深度まで挿入し、地盤改良材や固化材を噴射装置（１０）のノズル（１０ｎ）から噴射して、噴射装置（１０）を地上側に引き上げ、造成しようとする地中壁（Ｗ）の長さ方向に沿って地中固結体を造成する地盤改良工法において、前記ノズル（１０ｎ）から一対の噴流（Ｊ１、Ｊ１Ａ）を噴射装置（１０）に対して点対称に噴射し、前記噴射装置（１０）のノズル（１０ｎ）を前記地中壁（Ｗ）の長さ方向に向けて前記噴射装置（１０）を第１の角速度（ｖ１）で回転して、第１の半径（ｒ１）と第１の中心角度（θ１）を有する扇状の第１の領域（１、１Ａ）における地盤を切削し、固化材と混合して改良する第１工程（１ａ）と、
前記第１工程の後、前記噴射装置（１０）のノズル（１０ｎ）を前記第１の領域（１、１Ａ）に隣接する方向を向けて角速度を第２の角速度（ｖ２）に変更して前記噴射装置（１０）を回転して、第２の半径（ｒ２）と第２の中心角度（θ２）を有する扇状の第２の領域（２、２Ａ）における地盤を切削し、固化材と混合して改良する第２工程（１ｂ）と、
前記第２工程の後、噴射装置（１０）のノズル（１０ｎ）を前記第２の領域（２、２Ａ）に隣接する方向に向けて角速度を第３の角速度（ｖ３）に変更して前記噴射装置（１０）を回転して、第３の半径（ｒ３）と第３の中心角度（θ３）を有する扇状の第３の領域（３、３Ａ）を前記地中壁（Ｗ）の長さ方向と直角な方向を含む領域に向けて地盤を切削し、固化材と混合して改良する第３工程（１ｃ）と、
前記第３工程（１ｃ）の後、前記噴射装置（１０）のノズル（１０ｎ）を前記第３の領域に隣接する方向に向けて角速度を前記第２の角速度（ｖ２）に変更して前記噴射装置（１０）を回転して、前記第２の半径（ｒ２）と前記第２の中心角度（θ２）を有し且つ前記第１の領域（１、１Ａ）と前記第３の領域（３、３Ａ）との間で前記第２の領域と同一形状の扇状の第４の領域（４、４Ａ）における地盤を切削し、固化材と混合して改良する第４工程（１ｄ）とを有し、
前記第１工程〜第４工程では、角速度（ｖ１、ｖ２、ｖ３）を３度変更しており、第１の角速度（ｖ１）よりも第２の角速度（ｖ２）が速く、第２の角速度（ｖ２）よりも第３の角速度（ｖ３）が速く、噴射装置（１０）に対して点対象な一対の第１の領域（１、１Ａ）と第２の領域（２、２Ａ）と第３の領域（３、３Ａ）と第４の領域（４、４Ａ）とを組み合わせた概略長方形状の平面形状の領域を改良し、
前記噴射装置（１０）を所定深度分だけ引き上げ、上述した所定深度分だけ引き上げた後、前記第１、第２、第３および第４の各工程を繰り返して、深度方向の所定の領域について概略長方形状の平面形状（Ｋ１）の柱状固結体を造成することを特徴としている。
ここで、噴流（Ｊ１、Ｊ１Ａ）とは、固化材のみを包含する噴流や、固化材の噴流と高圧エアの噴流とを組み合わせている場合等を含む趣旨の文言である。
【発明の効果】
【００１５】
上述する構成を具備する本発明によれば、造成するべき地中固結体（Ｋ）の長手方向については、改良材を包含する噴流（Ｊ１、Ｊ１Ａ）の切削距離（到達距離）を長くして、造成するべき地中固結体（Ｋ）の長手方向と直交する方向については、前記噴流（Ｊ１、Ｊ１Ａ）の切削距離を短くしている。
そのため、改良された領域の断面形状は円形から長方形状に近い形状となり、切削、改良が不要な領域について、原位置土を切削して改良してしまう面積が減少する。その結果、改良材（固化材）の使用量が減少し、無駄な作業（不要な領域の改良）が省略されるので、作業効率が向上して、施工コストを節約することが出来る。
ここで、本発明では噴射装置（１０）の回転方向は同一であり、切削距離（到達距離）は増減しても、噴射装置（１０）の回転方向を途中で変更する必要が無い。従って、既存の地盤改良用の機器を可能な限り適用して実施することが可能であり、噴射装置（１０）の回転方向を逆転するための機構を別途設ける必要が無い。そのため、導入コストの高騰化を防止出来る。
【００１６】
さらに、造成するべき地中固結体（Ｋ）の長手方向と直交する方向との間の領域を改良する際には、噴流（Ｊ１、Ｊ１Ａ）の到達距離を、長手方向における到達距離と、長手方向に直交する方向における到達距離の間の到達距離にすれば、改良された領域の断面形状は、さらに長方形状に近くなり、不要な領域であるにも拘らず切削して改良してしまう面積が、さらに減少する。
そのため、改良材（固化材）の使用量がさらに節約され、無駄な作業（不要な領域の改良）がより一層省略される。
【００１７】
また、本発明によれば、噴射装置（１０）から２本の噴流（Ｊ１、Ｊ１Ａ）が噴射する場合には、当該噴射装置（１０）が半回転すれば上述した形状（例えば、図１の１ｄで示す形状）に切削され、改良される。
そのため、改良に時間が掛かり過ぎてしまうことは無く、従来の円柱状地中固結体を造成する場合と同様に、効率的な地盤改良が可能である。
ここで、地盤が硬く、噴流による切削が困難な場合であっても、噴流による切削を繰り返すことにより、地盤を上述した形状に切削し、改良することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１実施形態の施工手順を平面的に示す工程図である。
【図２】第１実施形態で用いられる噴射装置を示す図である。
【図３】第１実施形態で用いられる噴射装置の回転速度を変化させる圧油供給機構を示すブロック図である。
【図４】第１実施形態で用いられる噴射装置の回転速度を切り換える制御を示すフローチャートである。
【図５】図４の制御の一例を示すフローチャートである。
【図６】第１実施形態の作用効果を示す説明図である。
【図７】第１実施形態において、図１とは異なる施工例を平面的に示す工程図である。
【図８】本発明の第２実施形態を平面的に示す工程図である。
【図９】本発明の第３実施形態を示す平面図である。
【図１０】本発明の第４実施形態を示す平面図である。
【図１１】本発明の第５実施形態を示す平面図である。
【図１２】本発明の第６実施形態を示す説明図である。
【図１３】本発明の第７実施形態を垂直断面で示す説明図である。
【図１４】本発明の第７実施形態を示す平面図である。
【図１５】本発明の第８実施形態を平面的に示す工程図である。
【図１６】本発明の第９実施形態を平面的に示す工程図である。
【図１７】本発明の第１０実施形態を平面的に示す工程図である。
【図１８】本発明の第１１実施形態の施工手順を示すフローチャートである。
【図１９】従来技術の問題点を説明するための平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
図１〜図５は、本発明の第１実施形態を示している。
第１実施形態では、地中固結体として連続壁を造成している。
【００２０】
第１実施形態においては、図１で示す工程を施工する以前の段階で、図示しないボーリング孔を削孔し、当該ボーリング孔から図２で示す様な噴射装置１０を挿入する。そして、噴射装置１０を所定深度まで挿入したならば、噴射装置１０のノズル１０ｎから一対の噴流Ｊ１、Ｊ１Ａを噴射している。ここで、噴流Ｊ１、Ｊ１Ａの噴射速度、噴射圧力、噴射流量は、一定の値に保たれている。
一対の噴流Ｊ１、Ｊ１Ａは、水平面について（図１における工程（１ａ）〜（１ｅ）参照）、噴射装置１０に対して点対称となる様に噴射される。換言すれば、一対の噴流Ｊ１、Ｊ１Ａと噴射装置１０は、常に一直線になっている。
【００２１】
図１とその他の図面を参照して説明される実施形態において、噴射装置１０から噴射される噴流Ｊ１、Ｊ１Ａは、固化材（例えば、セメントミルク）の噴流と高圧エアの噴流とを組み合わせている。例えば噴流Ｊ１、Ｊ１Ａは、固化材の噴流を高圧エアの噴流で包囲する態様で、地盤中に噴射される。
ただし、固化材のみで噴流を構成しても良い。
【００２２】
図１において、噴流Ｊ１、Ｊ１Ａを噴射する工程は、図１の工程（１ａ）、（１ｂ）、（１ｃ）、（１ｄ）、（１ｅ）の順序で行われる。
図１により平面で示されている工程（１ａ）〜（１ｄ）では、噴流Ｊ１Ａで切削された領域１Ａ、２Ａ、３Ａ、４Ａには添え字「Ａ」が付されており、噴流Ｊ１で切削された領域１、２、３、４には、添え字「Ａ」は付されていない。
また、図１で示す工程（１ａ）〜（１ｄ）において、符号ｖ１、ｖ２、ｖ３は、噴射装置１０（図２参照）が回転する角速度を示しており、
ｖ１＜ｖ２＜ｖ３
となっている。
なお、工程（１ａ）〜（１ｄ）において、改良が行なわれている領域（ハッチングを付している領域）の中央に噴射装置１０が位置している。ただし、図１では、噴射装置１０の図示は省略している。
図１において、改良が行なわれている領域については、ハッチングを施して示している。
【００２３】
図１の工程（１ａ）では、噴射装置１０から噴射される噴流Ｊ１、Ｊ１Ａにより、第１の領域１、１Ａ、すなわち、点１１〜点１２までの半径ｒ１の扇状の領域と、点１Ａ１〜点１Ａ２までの半径ｒ１の扇状の領域における地盤を切削し、固化材と混合して、改良する。
領域１、１Ａの中心角度は符号θ１で示されている。ここで、領域１、１Ａは、「造成するべき地中固結体の長手方向」における領域に相当する。
第１の領域１、１Ａを改良する工程（１ａ）では、噴射装置１０の回転角速度はｖ１である。
図１の工程（１ａ）において、符号ｔは、築造するべき連続壁で必要とされる厚さを示している。
【００２４】
領域１、１Ａの改良を行った後（工程１ａの後）、図１の工程（１ｂ）において、噴射装置１０の回転を角速度ｖ２として、噴流Ｊ１、Ｊ１Ａにより、領域２、２Ａを改良する。
工程（１ｂ）において、領域２の中心角度は、符号θ２で示されている。
噴射装置１０の回転角速度ｖ１、ｖ２は、ｖ１＜ｖ２である。そのため、工程（１ｂ）においては、円周方向（矢印Ｒ方向）の円周方向の単位面積（単位領域）当たり、噴流Ｊ１、Ｊ１Ａによる改良が行なわれる時間は、工程（１ａ）に比較して短くなる。そのため、領域２、２Ａにおいて、噴流Ｊ１、Ｊ１Ａによる切削距離は、領域１、１Ａに比較して短くなる。そして、領域２、２Ａでは、半径方向の長さ（噴流Ｊ１、Ｊ１Ａの到達距離）ｒ２は、領域１、１Ａの半径方向の長さｒ１よりも短い（ｒ２＜ｒ１）。
【００２５】
領域２、２Ａの改良を行なった後、図１の工程（１ｃ）では、噴射装置１０を角速度ｖ３で回転して、領域３、３Ａを改良する。ここで、領域３、３Ａは、「造成するべき地中固結体の長手方向と直交する方向」における領域に相当する。
図１の工程（１ｃ）における領域３の中心角度は、符号θ３で示されている。
噴射装置１０の角速度ｖ２、ｖ３は、ｖ２＜ｖ３となっている。
【００２６】
工程（１ｂ）で述べた通り、円周方向の単位面積（単位領域）当たりについて、噴流Ｊ１、Ｊ１Ａによって地盤が切削される時間は、角速度が速いほど短くなり、切削距離は短縮される。
したがって、領域３、３Ａの半径方向の長さ（噴流Ｊ１、Ｊ１Ａの到達距離）ｒ３は、領域２、２Ａの半径方向の長さｒ２よりも短くなっている。
【００２７】
領域３、３Ａの改良を行った後、工程（１ｄ）では、工程（１ｃ）で改良された領域３、３Ａと、工程（１ａ）で改良された領域１、１Ａとの間の領域４、４Ａの改良を行なう。領域４の中心角度は符号θ４で示されている。
工程（１ｄ）では、噴射装置１０の回転は角速度ｖ２であり、工程（１ｂ）の場合と等しい角速度である。ここで、前述したとおり、噴射装置１０の回転角速度ｖ１〜ｖ３の大小関係は、ｖ１＜ｖ２＜ｖ３である。
領域４、４Ａの半径方向の長さ（ｒ２：噴流Ｊ１、Ｊ１Ａの到達距離）は、領域２、２Ａの半径方向長さｒ２と等しく、領域３、３Ａの半径方向の長さｒ３よりも長く、領域１、１Ａの半径方向長さｒ１よりも短い。
【００２８】
図１、図２で説明した第１実施形態によれば、噴射装置１０は同一方向（図１では符号Ｒの方向）にのみ回転すれば良く、噴射装置１０の正転、逆転を変更する必要がない。
噴射装置１０の回転方向が常に同一方向であり、逆転はさせないので、噴射装置１０の回転方向を逆転するための機構を別途設ける必要が無く、既存の地盤改良用の機器（噴射装置その他）を使用することが可能である。そのため、導入コストの高騰化を防止出来る。
図２で示すように、噴射装置１０からは一対の噴流Ｊ１、Ｊ１Ａが（２方向へ）噴射される。そして噴射装置１０が半回転すれば、図１の工程（１ａ）〜工程（１ｄ）で示す改良が行なわれて、領域１、１Ａ、２、２Ａ、３、３Ａ、４、４Ａの改良が行なわれる。
ここで、固い地盤であれば、噴射装置１０が半回転しても、一対の噴流Ｊ１、Ｊ１Ａが図１（１ａ）〜（１ｄ）で示す半径方向距離ｒ１、ｒ２、ｒ３まで到達せず、領域１、１Ａ、２、２Ａ、３、３Ａ、４、４Ａの改良が完了しない恐れがある。係る場合には、上述した態様にて、噴射装置１０をさらに回転すれば良い。換言すれば、噴射装置１０を１回点以上回転することにより噴流による切削を繰り返し、以って、地盤を上述した形状に切削し、改良することが出来る。
【００２９】
図１の（１ａ）〜（１ｄ）で示す工程により、領域１、１Ａ、２、２Ａ、３、３Ａ、４、４Ａの改良が完了したならば、噴射装置１０を所定深度分だけ引き上げる。
所定深度分だけ引き上げたならば、図１の（１ａ）〜（１ｄ）で説明した工程を繰り返して、深度方向の所定の領域について、図１の（１ｄ）で示す様な平面形状の柱状固結体として、地盤を改良する。
ここで、噴射装置１０の引き上げ量は、改良するべき地盤の性質や施工条件により、ケース・バイ・ケースで決定される。
【００３０】
深度方向の所定の領域について図１の工程（１ｄ）で示す様な平面形状の柱状固結体として地盤を改良したならば（図１の１ｅで示す領域Ｋ１）、造成するべき連続壁の他の部分（例えば、図１の１ｅにおける領域Ｋ２）について、図１の（１ａ）〜（１ｄ）で示す工程を順次繰り返して、改良された領域を鉛直方向に延伸する。
図１の（１ｅ）で示すように、改良された部分の間の領域（図１の１ｅにおける領域Ｋ３）についても、図１の（１ａ）〜（１ｄ）で示す工程を順次繰り返して、改良された領域を横方向（水平方向）に延長する。
これにより、連続壁Ｗを造成する。
【００３１】
図１の（１ａ）〜（１ｄ）を参照して説明した様に、噴流Ｊ１、Ｊ１Ａを噴射しつつ回転する噴射装置１０（図２参照）について、同一方向へ回転し、所定の回転角度だけ回転した時に回転速度（角速度）を変化させるための構成が、図３、図４で例示されている。
図３は、噴射装置１０を回転するモータ２０の回転速度を制御する構成を示している。
【００３２】
図３、図４において、図１の（１ａ）〜（１ｄ）における角速度ｖ１、ｖ２、ｖ３は、改良するべき地盤の性質や施工条件により、ケース・バイ・ケースである。
例えば、噴射装置１０の角速度が「ｖ１」の場合（図１において中心角θ１の範囲）に対応するモータ２０の回転数が３ｒｐｍ、噴射装置１０の角速度が「ｖ２」の場合（図１において中心角θ２、θ４の範囲）に対応するモータ２０の回転数が６ｒｐｍ、噴射装置１０の角速度が「ｖ３」の場合（図１において中心角θ３の範囲）に対応するモータ２０の回転数が１０ｒｐｍとして、以下に説明する。
【００３３】
図３において、機構全体を符号１０１で示す噴射装置回転制御機構は、モータ２０、回転数センサ（例えば、ロータリエンコーダ）２２、回転伝達機構２４、制御手段（コントロールユニット）３０を備えている。
モータ２０は、インバータで制御される電動モータ、精密な制御が可能なステッピングモータ、油圧モータ、その他が適用可能である。
モータ２０の図示を省略した回転軸は、回転伝達機構２４を介して、噴射装置１０の回転軸１０Ｒに接続し、噴射装置１０を回転する様に構成されている。なお、回転伝達機構２４については、公知・既存の回転伝達機構を適宜使用出来る。
なお、回転数センサ２２は、ロータリエンコーダに限定されるものではなく、その他の回転センサを使用することも可能である。
【００３４】
コントロールユニット３０は、インターフェース３０Ｉ−１、３０Ｉ−２、回転角決定ブロック３２、比較ブロック３４、回転速度決定ブロック、回転速度制御信号発生ブロック３８を備えている。
回転角決定ブロック３２には、信号伝達ラインＳＬ−１及びインターフェース３０Ｉ−１を介して回転数センサ２２の検出結果が伝達される。それと共に、計時手段（例えばタイマー）４０からの計時信号が入力される。
回転角決定ブロック３２は、入力された検出結果と計時信号に基づいて、噴射装置１０の回転角（回転量）を演算して、噴射装置１０から噴射される噴流Ｊ１、Ｊ１Ａの位置（図１の矢印Ｒ方向位置：噴射装置１０の回転量：図１の１ａにおいて、点１１と点１Ａ２とを結ぶ直線に対する噴流Ｊ１、Ｊ１Ａが形成する角度）を決定する機能を有している。
【００３５】
比較ブロック３４には、回転角決定ブロック３２で決定された噴射装置１０の回転角と、記憶ブロック４２に記憶された噴射装置１０の角度（回転速度を変更するべき位置の角度：例えば、図１の１ａにおいて、点１１と点１Ａ２とを結ぶ直線に対する噴流Ｊ１、Ｊ１Ａが形成する角度θ１〜θ４）が入力されて、両者が比較される。
比較ブロック３４で比較することにより、噴射装置１０の回転角が、回転速度を変更するべき位置に対応する角度に到達したか否かを判断する。換言すれば、比較ブロック３４は、噴射装置１０が回転速度を変更するべき位置に到達したか否かを判断する。
【００３６】
比較ブロック３４の比較結果は、回転速度決定ブロック３６に入力される。すなわち、回転速度決定ブロック３６では、図１の１ａにおいて、点１１と点１Ａ２とを結ぶ直線に対する噴流Ｊ１、Ｊ１Ａが形成する角度が、θ１の範囲内であれば、噴射装置１０の角速度が「ｖ１」となるように、モータ２０の回転数を例えば３ｒｐｍに決定する。
そして、当該角度がθ１〜θ１＋θ２の範囲及びθ１＋θ２＋θ３〜θ１＋θ２＋θ３＋θ４であれば、噴射装置１０の角速度が「ｖ２」となるように、モータ２０の回転数を例えば６ｒｐｍに決定する。
さらに、当該角度がθ１＋θ２〜θ１＋θ２＋θ３の範囲であれば、噴射装置１０の角速度が「ｖ３」となるように、モータ２０の回転数を例えば１０ｒｐｍに決定する。
【００３７】
回転速度制御信号発生ブロック３８には回転速度決定ブロック３６の決定結果が入力され、当該決定結果に対応した制御信号（回転速度制御信号）が出力される。出力された制御信号は、インターフェース３０Ｉ−２及び信号伝達ラインＳＬ−２を介して、モータ２０に送出される。
これにより、モータ２０は決定された回転速度となり、噴射装置１０の角速度がｖ１、ｖ２、ｖ３に制御される。
【００３８】
図３で示す噴射装置回転制御機構１０１を用いて噴射装置１０の回転速度を切り替える制御について、図４のフローチャートをも参照して説明する。
図４において、ステップＳ１では、回転数センサ２２によって噴射装置１０の回転角度（例えば、図１の１ａにおいて、点１１と点１Ａ２とを結ぶ直線に対する噴流Ｊ１、Ｊ１Ａが形成する角度）を検出する。検出された回転角度の情報は、コントロールユニット３０に伝送される。
コントロールユニット３０は、前記回転角度の情報から、モータ２０の回転速度を決定する。より詳細には、コントロールユニット３０の比較ブロック３４において、ステップＳ１で検出された回転角度が、回転速度を変更するべき位置の角度（図１の１ａにおいて、点１１と点１Ａ２とを結ぶ直線に対する噴流Ｊ１、Ｊ１Ａが形成する角度が、θ１、θ２、θ３、θ４）であるか否かを判断する（ステップＳ２）。
【００３９】
回転速度を変更するべき位置の角度でない場合（ステップＳ２がＮＯ）には、ステップＳ１に戻る。
一方、回転速度を変更するべき位置の角度に到達している場合（ステップＳ２がＹＥＳ）には、ステップＳ３に進み、噴射装置１０の回転速度を所定の角速度に変更する。例えば、図１の１ａにおいて、点１１と点１Ａ２とを結ぶ直線に対する噴流Ｊ１、Ｊ１Ａが形成する角度が、θ１に到達すれば、噴射装置１０の回転速度をｖ１からｖ２に変更する。そして、θ１＋θ２に到達すれば噴射装置１０の回転速度をｖ３に変更し、θ１＋θ２＋θ３に到達すれば回転速度をｖ２に変更する。
【００４０】
回転速度を変更したならばステップＳ４に進み、コントロールユニット３０は、噴射中の深度における施工が完了したか否かを判断する。
噴射中の深度における施工が未だ完了していないならば（ステップＳ４がＮＯ）、ステップＳ１まで戻り、ステップＳ１以降を繰り返す。
噴射中の深度における施工が完了したならば（ステップＳ４がＹＥＳ）、噴射装置１０の回転速度を切り替える制御も終了する。
【００４１】
図５は、図４で示す制御の一例を示している。
図５では、モータ２０として油圧モータを用い、噴射装置１０の回転速度を変更するには、油圧モータに圧油を供給する図示しない油圧ポンプの吐出流量を増減することにより行なう場合の制御を示している。より詳細には、図示しない油圧ポンプに圧油を供給する油圧系統に介装されている開閉弁を適宜開閉することにより、油圧ポンプに供給される圧油流量を増減することにより、油圧ポンプの吐出流量を調整し、以って、油圧モータの回転速度を制御する。
【００４２】
図５において、ステップＳ１１では、回転数センサ２２によって噴射装置１０の回転角度を検出する。コントロールユニット３０は、油圧系統に介装されている開閉弁の開閉を切り替えるタイミングであるか否かを判断する（ステップＳ１２）。
開閉弁Ｖ１〜Ｖ３の開閉を切り替えないのであれば（ステップＳ１２がＮＯ）、ステップＳ１１に戻り、開閉弁の開閉を切り替えるのであれば（ステップＳ１２がＹＥＳ）、ステップＳ１３に進み、開閉弁Ｖ１〜Ｖ３の切替を行う。
開閉弁Ｖ１〜Ｖ３の開閉切替が完了したならばステップＳ１４に進み、コントロールユニット３０は、噴射中の深度における施工が完了したか否かを判断する。ステップＳ１４については、図４のステップＳ４と同様である。
【００４３】
次に、図６を参照して、図１〜図５の第１実施形態における作用効果を説明する。
図６の（６ａ）は、築造するべき連続壁で必要とされる厚さｔが１ｍ（１０００ｍｍ）である場合に、図１〜図５の第１実施形態を実施した状態を示している。
図６の（６ａ）において、領域１、１Ａの施工の際、噴流が到達する距離を１．２５ｍ（１２５０ｍｍ）、中心角θ１を６０°とすれば、領域１、１Ａの合計面積の合計は１．６３ｍ２となる。
そして、図６の（６ａ）の例では、領域２、２Ａと領域４、４Ａの合計面積は０．１３ｍ２、領域３、３Ａの合計面積は０．８８ｍ２であり、改良した部分の合計面積は２．６４ｍ２である。
【００４４】
これに対して、図６の（６ｂ）は、従来技術に係る地盤改良を行なった場合を示している。
図６の（６ｂ）では、領域１、１Ａにおける噴流到達距離（１．２５ｍ）と等しい半径ｒｃを有する円形の領域ｃ１が改良されている。そして、改良面積（ｒｃ＝１．２５ｍの円ｃ１の面積）は４．９１ｍ２である。
【００４５】
連続壁で必要とされる厚さｔは１ｍで共通しており、当該連続壁の長手方向については、図６の（６ａ）の領域１、１Ａにおける噴流到達距離（１．２５ｍ）と、図６の（６ｂ）の半径ｒｃ（１．２５ｍ）は同一であるため、連続壁の造成範囲については、改良面積は（６ａ）の場合も（６ｂ）の場合も同じである。
ただし、図６の（６ａ）において、改良した全ての領域の合計面積（Ｅ１）は２．６４ｍ２であり、図６の（６ｂ）においては改良面積（Ｅ２）は４．９１ｍ２である。
（Ｅ１）の改良面積＜（Ｅ２）の改良面積  であることは明らかであり、図６（６ａ）、（６ｂ）を比較すれば明らかなように、図１〜図５の第１実施形態では、連続壁の造成に必要な改良面積が同等であっても、地中を改良した面積が小さくなるので、固化材等の材料使用量が少なくて済み、施工コストを低減することができる。
【００４６】
また、明確には図示されてはいないが、いわゆる複合地盤で施工するに際しては、地盤の種類により、噴射装置１０の角速度ｖ１、ｖ２、ｖ３を変動させる必要がある。
この場合、角速度ｖ１、ｖ２、ｖ３の具体的な数値については、地盤の種類、深度方向寸法、その他の条件により、ケース・バイ・ケースに定められる。
また、角速度を無段階に変動させることにより、地盤改良された領域の平面形状を任意の形状（四角形、楕円形、星型、その他）にすることが可能である。
【００４７】
上述した第１実施形態において、連続壁に必要な幅ｔを変更することが可能である。
図７を参照して、図１で示す幅ｔ（例えば、ｔ＝１０００ｍｍ）よりも、幅ｔ寸法が小さい（例えば、ｔ９＝５００ｍｍ）場合について、説明する。
【００４８】
先ず、図７で示す以前の段階で、図示しないボーリング孔を切削し、当該ボーリング孔に図２で示す様な噴射装置１０を挿入する。そして、噴射装置１０を所定深度まで挿入したならば、噴射装置１０のノズル１０ｎから一対の噴流Ｊ１、Ｊ１１（図２参照）を噴射する。
【００４９】
図７において、噴流Ｊ１、Ｊ１Ａを噴射する工程は、図７の（７ａ）、（７ｂ）、（７ｃ）、（７ｄ）の順に行なわれる。
図７において平面で示す工程（７ａ）〜（７ｄ）では、噴流Ｊ１１で切削された領域（１Ａ、２Ａ、３Ａ、４Ａ）を示す記号には、添え字「Ａ」が付されている。一方、噴流Ｊ１で切削された領域（１、２、３、４）を示す記号には、その様な添え字は付されていない。
【００５０】
図７の工程（７ａ）では、噴射装置１０から噴射される噴流Ｊ１、Ｊ１Ａにより、第１の領域１、１Ａ（ハッチングで示す領域）の地盤を切削して、固化材と混合し、改良している。領域１、１Ａの中心角度は符号θ７１で示されている。
以下、図７で示す工程（７ａ）〜（７ｄ）において、施工中（噴射中）の領域にはハッチングを施している。
第１の領域１、１Ａを改良する場合には、噴射装置１０の回転角速度は符号「ｖ１」で示されている。
図７の工程（７ａ）において、図示右方の符号ｔ７は、築造するべき連続壁で必要とされる厚さ（５００ｍｍ）を示している。
【００５１】
図７の工程（７ｂ）では、噴射装置１０の回転を角速度ｖ２として、領域２、２Ａを改良する。領域２、２Ａの中心角度は符号θ７２で示されている。
上述したとおり、噴射装置１０の回転角速度ｖ１、ｖ２の大小関係はｖ１＜ｖ２である。
領域２、２Ａの半径方向の長さ（領域２、２Ａにおける噴流Ｊ１、Ｊ１Ａの到達距離）は、領域１、１Ａの半径方向の長さ（領域１、１Ａにおける噴流Ｊ１、Ｊ１Ａの到達距離）よりも短い。
【００５２】
図７の工程（７ｃ）では、噴射装置１０の回転を角速度ｖ３として、領域３、３Ａを改良する。領域３、３Ａの中心角度は符号θ７３で示されている。
上述したとおり、噴射装置１０の回転角速度ｖ２、ｖ３の大小関係はｖ２＜ｖ３である。
領域３、３Ａの半径方向の長さ（領域３、３Ａにおける噴流Ｊ１、Ｊ１Ａの到達距離）は、領域２、２Ａの半径方向の長さ（領域２、２Ａにおける噴流Ｊ１、Ｊ１Ａの到達距離）よりも短い。
【００５３】
図７の工程（７ｄ）では、工程（７ｃ）で改良された領域３、３Ａと、工程（７ａ）で改良された領域１、１Ａとの間の領域４、４Ａの改良を行なう。その際に、噴射装置１０の回転を前記角速度ｖ２である。
領域４、４Ａの中心角度は符号θ７４（＝θ７２）で示されている。
領域４、４Ａの半径方向の長さ（領域４、４Ａにおける噴流Ｊ１、Ｊ１Ａの到達距離）は、領域２、２Ａの半径方向の長さ（領域２、２Ａにおける噴流Ｊ１、Ｊ１Ａの到達距離）と等しい。
【００５４】
図７の工程（７ｅ）では、同一深度の所定の領域について、柱状固結体Ｋ７１として地盤を改良した領域が、ハッチングを施して平面的に示されている。
図示では明示しないが、柱状固結体Ｋ７１の長手方向寸法（図７の７ｅにおける左右方向）だけ隔てた位置に、図７の（７ａ）〜（７ｄ）で説明したのと同様な手順で、柱状固結体Ｋ７１と同様な固結体を造成する。すなわち、図７の（７ｅ）で示す柱状固結体Ｋ７１の隣接する領域に、柱状固結体Ｋ７１を改良するのと同様な手順により、柱状固結体Ｋ７１と同様な固結体を造成する。
長手方向（図７における左右方向）に柱状固結体Ｋ７１を連続して築造して、所定の長さの連続壁を築造する。
図７で示す変形例のその他の構成及び作用効果は、図１〜図６で説明したのと同様である。
【００５５】
図８は、本発明の第２実施形態を平面的に示している。
図１〜図７の第１実施形態においては、領域１、１Ａ、領域２、２Ａ、領域３、３Ａ、領域４、４Ａの改良については、同一の改良材（固化材）を使用している。
それに対して、第２実施形態では、改良する領域毎に、異なる材料を噴射して改良している。
より詳細には、第２実施形態では、図８における領域１−１、１Ａ−１、１−２、１Ａ−２、１−３、１Ａ−３については第１の材料（例えば、止水材料）を噴射する（図８の工程８ａ）。
そして、領域２−４、２Ａ−４、２−５、２Ａ−５、２−６、２Ａ−６、４−１０（図８の工程８ｂ）、４Ａ−１０、４−１１、４Ａ−１１、４−１２、４Ａ−１２（図８の工程８ｄ）については、第２の材料（例えば、強度材料）を噴射する。
さらに、領域３−７、３Ａ−７、３−８、３Ａ−８、３−９、３Ａ−９については第３の材料（例えば、浄化材）を噴射している（図８の工程８ｃ）。
換言すれば、第２実施形態では、領域毎に、噴射装置１０の角速度のみならず、噴射する材料をも変更している。
【００５６】
図８において、工程（８ａ）では、先ず符号（１）で示す施工領域において、噴射装置１０を回転速度ｖ１１によって回転させつつ、領域１−１、１Ａ−１を改良する。
そして、符号（２）で示す施工領域において、回転速度ｖ１１で噴射装置１０を回転させつつ、領域１−２、１Ａ−２を改良する。さらに、符号（３）で示す施工領域において、回転速度ｖ１１で噴射装置１０を回転させつつ、領域１−３、１Ａ−３を改良する。
図８において、噴射装置１０によって噴射中（改良中）の領域には、ハッチングを施して表現している。
【００５７】
図８の工程（８ｂ）では、符号（４）で示す施工領域において、噴射装置１０を回転速度ｖ１２で回転させて、領域２−４、２Ａ−４を改良する。
そして、符号（５）で示す施工領域において、噴射装置１０を回転速度ｖ１２で回転させて、領域２−５、２Ａ−５を改良する。
さらに、符号（６）で示す施工領域において、噴射装置１０を回転速度ｖ１２で回転させて、領域２−６、２Ａ−６を改良する。
【００５８】
図８の工程（８ｃ）では、符号（７）で示す施工領域において、噴射装置１０を回転速度ｖ１３で回転させて、領域３−７、３Ａ−７を改良する。
そして、符号（８）で示す施工領域において、噴射装置１０を回転速度ｖ１３で回転させて、領域３−８、３Ａ−８を改良する。
さらに、符号（９）で示す施工領域において、噴射装置１０を回転速度ｖ１３で回転させて、領域３−９、３Ａ−９を改良する。
【００５９】
図８の工程（８ｄ）では、符号（１０）で示す施工領域において、噴射装置１０を回転速度ｖ１２で回転させて、領域４−１０、４Ａ−１０を改良する。
そして、符号（１１）で示す施工領域において、噴射装置１０を回転速度ｖ１２で回転させて、領域４−１１、４Ａ−１１を改良する。
さらに、符号（１２）で示す施工領域において、噴射装置１０を回転速度ｖ１２で回転させて、領域４−１２、４Ａ−１２を改良する。
【００６０】
図８の（８ａ）で示す工程では、領域１−１、１Ａ−１、１−２、１Ａ−２、１−３、１Ａ−３の改良に際して、第１の材料として、例えば止水材料を噴射している。
図８の工程（８ｂ）では、領域２−４、２Ａ−４、２−５、２Ａ−５、２−６、２Ａ−６の改良に際して、第２の材料として、例えば強度材料を噴射している。そして、図８の工程（８ｄ）においても、領域４−１０、４Ａ−１０、４−１１、４Ａ−１１、４−１２、４Ａ−１２の改良に際して、第２の材料として、例えば強度材料を使用する。
図８の符号（８ｃ）で示す工程では、領域３−７、３Ａ−７、３−８、３Ａ−８、３−９、３Ａ−９の改良に際して、第３の材料として、例えば、浄化材を噴射している。
【００６１】
図８において、改良する領域によって噴射される改良材を変更することにより、施工現場の特性、改良により造成される地中固結体の目的等に対応して、改良材の最適な組み合わせを選択して、実現することが出来る。
換言すれば、改良材と改良される領域との組み合わせを、施工現場の特性、地中固結体の目的に最も合致した組み合わせにすることが可能になる。
【００６２】
図８では、３箇所の改良を行っている。
しかし、図１の第１実施形態の様に、１箇所のみ改良して、領域毎に噴射材料（改良材）を変更しても良い。
図８で示す第２実施形態におけるその他の構成及び作用効果については、図１〜図７の第１実施形態と同様である。
【００６３】
次に、図９を参照して、本発明の第３実施形態を説明する。
図１の工程（１ｅ）や図８で示す様な地中固結体（Ｋ１〜Ｋ３）を連続して、地中連続壁Ｗを造成する場合であって、当該地中壁Ｗが直角に折れ曲がったコーナー部を有する場合においては、当該コーナー部に相当する領域は、必ずしも図１〜図８で示す様な地中固結体（Ｋ１〜Ｋ３）と同一形状に改良する必要はない。
図９で示すように、当該コーナー部９Ｃについては、断面円形の円筒形状に改良すれば良い。
ここで、断面円形の円筒形状に改良するに際しては、従来・公知の地盤改良技術をそのまま適用することが可能である。
【００６４】
図９において、コーナー部９Ｃ以外については、図１〜図８で説明した様な態様で、図１〜図８で示す様な形状の地中固結体（Ｋ１〜Ｋ３）を造成して、地盤を改良している。
上述した様に、地中壁Ｗに必要な厚さｔの範囲を超える部分については、不必要な改良となってしまう。そのため、図１〜図８で示す様に改良を行い、地中壁に必要な厚さｔを超える改良部分を出来る限り小さくしている。そして、図１〜図８で示す様な形状の地中固結体（Ｋ１〜Ｋ３）によれば、地中壁に必要な厚さｔを確保しつつ、固化材等の節約を図るためである。
しかしながら、地中壁Ｗが直角に折れ曲がったコーナー部９ｃについては、断面円形に改良したとしても、改良部分において、「地中壁Ｗに必要な厚さｔの範囲を超える部分」は、図６（６ｂ）に比較して少ない。コーナー部９Ｃから地中壁Ｗが２方向に延在するからである。
【００６５】
図９で示す第３実施形態において、コーナー部９Ｃを断面円形に改良しても、「地中壁Ｗに必要な厚さｔの範囲を超える部分」が少ないので、改良材の浪費とはならず、且つ、容易に施工することが出来る。
第３実施形態におけるその他の構成及び作用効果については、第１実施形態、第２実施形態と同様である。
【００６６】
図１０は、本発明の第４実施形態を示している。より詳細には、本発明の第４実施形態は、図１０の（１０ａ）、（１０ｂ）で示されている。
第４実施形態では、図１０の（１１ａ）で示すように、断面形状が正方形状の領域の全面を改良している。
図１０の（１１ａ）において、改良するべき正方形状の領域における１辺の長さは、符号Ａで示されている（例えば、１辺Ａ＝８０００ｍｍ）。
そして、係る正方形状の領域の改良に際して、円形断面の改良領域Ｍと、図１０の（１０ｂ）で示す形状の改良領域Ｅとが混在している。
改良される領域Ｅは、図１０の（１０ｂ）における左右方向の寸法が符号「ｈ１（例えば２２００ｍｍ）」で示されており、図１０の（１０ｂ）における上下方向の寸法が符号「ｔ１（例えば１０００ｍｍ）」で示されている。
【００６７】
図１０の（１０ａ）、（１０ｃ）において、改良するべき正方形の領域（１辺が長さ寸法Ａの領域）において、その４辺（符号Ｄ１〜Ｄ４で示す点線）よりも外側の領域を改良することは、無駄な作業であり、改良材の浪費である。
図１０（１０ｃ）では、改良するべき地盤を断面円形の円筒形状に改良するための従来・公知の地盤改良技術を適用して、改良するべき正方形の領域を、全て、断面円形に改良した場合を示している。
図１０（１０ｃ）において、断面円形の改良領域における断面の半径寸法は、符号ｒ１（例えば、１２５０ｍｍ）で示されている。
【００６８】
図１０の（１０ａ）では、図１０（１０ｂ）で示す形状に改良された領域Ｅは、上辺Ｄ１全体に沿って４箇所配置している。そして、左右の辺Ｄ２及び辺Ｄ４において、上辺Ｄ１近傍に１箇所、下辺Ｄ３に近い側に１箇所配置されている。そして、図１０の（１０ａ）では、図１０（１０ｂ）で示す形状に改良された領域Ｅは、合計８箇所である。
そして図１０の（１０ａ）では、円形の改良領域Ｍは、合計１４箇所である。
一方、図１０の（１０ｃ）においては、合計２２箇所の円形改良領域Ｍが存在する。
【００６９】
図１０の（１０ａ）と（１０ｃ）とを比較すれば明らかな様に、円形改良領域Ｍと図１０の（１０ｂ）で示す形状に改良された領域Ｅを組み合わせた（１０ａ）の方が、円形改良領域Ｍのみが存在する場合（１０ｃ）に比較して、４辺Ｄ１〜Ｄ４の外側における無駄な改良を行なった範囲が少なくなっている。
さらに、図１０の（１０ａ）、（１０ｃ）は、共に、改良箇所が合計２２箇所であり、地盤改良作業の総工程数は同一である。
【００７０】
このことから、図１０（１０ａ）で示す第４実施形態では、従来技術（改良範囲の断面が全て円形）に比較して、地盤改良作業の総工程数が増加してしまうことはない。そして、第４実施形態では、従来技術（改良範囲の断面が全て円形）に比較して、地盤改良とは無関係な領域を改良してしまうと言う無駄を省略して、改良材の使用量、施工のコスト及び労力を大幅に節約することが可能である。
【００７１】
第４実施形態におけるその他の構成及び作用効果については、第１実施形態〜第３実施形態と同様である。
【００７２】
図１１は、本発明の第５実施形態を示している。より詳細には、第５実施形態は、図１１（１１ｂ）で示されている。
図１１の第５実施形態は、例えば、シールド掘削機の発進立坑９０を防護するため、周辺地盤を改良する作業に適用される。
図１１の第５実施形態においても、図１１の実施形態と同様に、円形改良領域と、図１０（１０ｂ）で示す様な形状の改良領域Ｅとを組み合わせることにより、地盤改良の必要がない領域を地盤改良するという無駄を、出来る限り行なわない様に工夫されている。
【００７３】
図１１（１１ａ）は、従来技術を用いて、断面円形の円筒形状の地中固結体９５のみを造成し、以って、シールド掘削機の発進立坑９０の坑口部分を防護するため周辺地盤を改良した状態を示している。
図１１の（１１ａ）において、符号ＤＭ１〜ＤＭ３で示す点線よりも外側の領域は、シールド掘削機の発進立坑９０の坑口部分を防護するのには不必要である。すなわち、点線ＤＭ１〜ＤＭ３よりも外側の領域は、地盤改良が不必要（シールド掘削機の発進立坑９０の坑口部分における防護については、地盤改良が不必要）な領域である。
なお、図１１（１１ｂ）において、発進立坑９０の坑口部分近傍の円形断面地中固結体（改良領域）９５の径寸法は、図１１（１１ａ）の円形断面地中固結体（改良領域）９５の径寸法と等しい。
【００７４】
図１１（１１ｂ）は、本発明の第５実施形態を適用して、シールド掘削機の発進立坑９０の坑口部分を防護するため周辺地盤を改良した状態を示している。
図１１（１１ｂ）において、点線ＤＭ１に沿った範囲中、発進立坑９０の坑口部分から最も離隔した範囲（図１１の１１ｂでは右方の範囲）は、断面形状が非円形の改良領域Ｅとなっている。上述の様に、改良領域Ｅについては、図１０（１０ｂ）で示すのと同様である。
点線ＤＭ３に沿った範囲中、発進立坑９０の坑口部分から最も離隔した範囲（図１１の１１ｂでは右方の範囲）も、図１０（１０ｂ）で示す様な形状の改良領域Ｅである。
点線ＤＭ１、ＤＭ３に沿った領域おいて、発進立坑９０の坑口部分に近接した範囲（図１１の１１ｂでは左方の範囲）には円形改良領域９７が造成されている。ここで、図１１（１１ａ）における円形改良領域９５の径寸法に比較して、円形改良領域９７の径寸法は小さく設定されている。
【００７５】
図１１（１１ａ）と図１１（１１ｂ）とを比較すれば明らかな様に、径寸法の異なる２種類の円形改良領域９５、９７と、図１０（１０ｂ）で示す形状の改良領域Ｅを組み合わせた図１１（１１ｂ）の方が、同一径の円形改良領域９５のみを造成した図１１（１１ａ）の場合に比較して、点線ＤＭ１〜ＤＭ３の外側における改良範囲が減少する。
さらに、図１１（１１ａ）と図１１（１１ｂ）は、改良箇所は共に合計９箇所であるため、シールド掘削機の発進立坑９０の坑口部分における防護のための地盤改良作業における総工程数は増加しない。
従って、図１１（１１ｂ）の第５実施形態によれば、シールド掘削機の発進立坑９０の坑口部分における防護に寄与しない領域を改良するという無駄が抑制され、改良材の使用量や、労力、コストが節約される。
【００７６】
第５実施形態におけるその他の構成及び作用効果については、第１実施形態〜第４実施形態と同様である。
【００７７】
図１２は、本発明の第６実施形態を示している。
図１〜図１１の各実施形態では、噴射装置１０から固化材（或いは、改良材）の噴流が、２本一対で噴射されている。
これに対して、図１２の第６実施形態では、噴射装置１０Ａから、固化材（或いは、改良材）の噴流が、２本ずつ２対、合計４本噴射されている。
図１２（１２ａ）で示す様に、２本一対の噴流Ｊ１、Ｊ１Ａと、２本一対の噴流Ｊ１１、Ｊ１１Ａは、噴射装置１０Ａの垂直方向（１２ａの矢印Ｖ方向）について離隔した位置から、それぞれ噴射されている。
そして、一対の噴流Ｊ１、Ｊ１Ａと、一対の噴流Ｊ１１、Ｊ１１Ａは、平面から見ると相互に直交している。すなわち、４本の噴流は、平面から見ると、噴射方向が９０°異なっており、４方向に噴射している。
【００７８】
図１２（１２ｂ）において、中心角θ１で示す領域において、噴射装置１０Ａの回転速度（角速度）ω１は遅く、４本の噴流Ｊ１、Ｊ１Ａ、Ｊ１１、Ｊ１１Ａの到達距離は長い。
一方、中心角θ２で示す領域において、噴射装置１０Ａの回転速度（角速度）ω２は速く、４本の噴流Ｊ１、Ｊ１Ａ、Ｊ１１、Ｊ１１Ａの到達距離は短い。
ここで、  ω１＜ω２  である。
【００７９】
その結果、噴射装置１０Ａが９０°回転すると、４本の噴流Ｊ１、Ｊ１Ａ、Ｊ１１、Ｊ１１Ａによって、図１２の（１２ｃ）で示すように、正方形に近い断面形状Ｋｂに切削、改良される。
図１２（１２ｃ）において、改良するべき正方形領域の４辺が符号Ｄ１〜Ｄ４で示されており、従来技術で正方形領域を改良した場合の断面円形の改良部の周縁が点線ＣＲ１３で示されている。図１２（１２ｃ）から明らかなように、図１２の第６実施形態による改良部の断面形状Ｋｂであれば、辺Ｄ１〜Ｄ４外側の領域（地盤改良が無駄になる領域）における改良部面積は、従来の円形断面の改良体における無駄な領域（点線ＣＲ１３と辺Ｄ１〜Ｄ４で挟まれた領域の面積）に比較して極めて小さくなる。
そのため、改良材の使用量や、労力、コストを節約することが出来る。
【００８０】
第４実施形態、第５実施形態において、図１０の（１０ｂ）で示す形状（Ｅ）に改良することに代えて、第６実施形態で示す様な形状（Ｋｂ）に改良することも可能である。
第６実施形態におけるその他の構成及び作用効果は、図１〜図１１の各実施形態と同様である。
【００８１】
図１３及び図１４は、本発明の第７実施形態を示している。
第７実施形態では、図１４の紙面に垂直な方向に立坑を掘削しており、地中の領域を底盤状（断面円形で、鉛直方向に所定の厚みを有している改良領域）に改良しても（符号２００で示す円盤状改良体）、その上方（図１３では上方の立坑部分、図１４では紙面に垂直な方向で手前側）の領域には、受動土圧Ｐが作用している。
係る受動土圧Ｐを支持するため、従来技術では、図１４における底盤状改良領域２００のみならず、その上方の地盤を地上近くまで改良しなければならない。
【００８２】
これに対して第７実施形態では、図１３で示すように、同一立坑において、円形の領域２００と、長方形の領域３００とが造成されている。すなわち、底盤状に改良された領域２００の上方に地中梁３００を造成し、地中梁３００によって受動土圧Ｐを支持している。
その結果、受動土圧Ｐを確実に支持すると共に、底盤状領域２００から地上近くまでの全領域を改良する必要が無くなり、改良体の容積を減少して、施工期間を短縮し、施工のための労力、材料費、その他のコストを節約することが出来る。
【００８３】
図１３で示すように、改良された底盤２００は平面形状が円形であるが、地中梁３００の平面形状は長方形である。
そして図１４で示すように、地中梁３００は、地盤を、図１０の（１０ｂ）における形状（Ｅ）に改良し、当該改良された領域（Ｅ）を受動土圧Ｐが作用する方向（図１３では横方向）に連続させることにより、造成することが出来る。
そして、図１０の（１０ｂ）で示す形状（Ｅ）に改良された領域を連続させて地中梁３００を造成すれば、円形に改良した領域を連続させて地中梁を造成することに比較して、地中梁３００の造成に必要がない領域を切削し改良してしまうことが抑制され、施工コストをさらに節約することが出来る。
【００８４】
なお、地中梁３００の造成に当たっては、図１０の（１０ｂ）で示す形状に改良された領域（Ｅ）を連続させることに代えて、図１２で示す第６実施形態で示す改良体（断面Ｋｂの改良体）を造成して、連続させることも可能である。
図１３、図１４の第７実施形態におけるその他の構成と作用効果は、図１〜図１２の各実施形態と同様である。
【００８５】
図１５は本発明の第８実施形態を示している。
図１〜図５の第１実施形態では、一箇所を改良するに際して、領域１、１Ａ、領域２、２Ａ、領域３、３Ａ、領域４、４Ａの４区画に分割して、噴射装置１０の角速度を変化させて施工しているが、区画数については、４つに限定されるものではない。６区画以上に分割して、噴射装置１０の角速度を４種類以上に変化させて施工することも可能である。
図１５の第８実施形態では、１箇所当たりの工程数を６工程（６区画）にて施工している。
【００８６】
図１５において、工程（１５ａ）は、図１の工程（１ａ）と同じであり、領域１及び領域１Ａを改良する。この時の噴射装置１０の回転速度はｖ１である。
また、図１５の工程（１５ｂ）は、図１の工程（１ｂ）と同じであり、領域２及び領域２Ａを改良する。この時の噴射装置１０の回転速度はｖ２である。
【００８７】
図１５の工程（１５ｃ）では、領域３Ｑと３ＱＡを改良する。この時の噴射装置１０の回転速度はｖ３である。
図１５の工程（１５ｄ）では、領域４Ｑと４ＱＡを改良する。この時の噴射装置１０の回転速度はｖ４である。
【００８８】
図１５の工程（１５ｅ）では、領域５Ｑと５ＱＡを改良する。この時の噴射装置１０の回転速度はｖ３であり、領域３Ｑと３ＱＡを改良する際の回転速度と同一である。
図１５の工程（１５ｆ）では、領域６Ｑと６ＱＡを改良する。この時の噴射装置１０の回転速度はｖ２であり、領域２及び領域２Ａを改良する際の回転速度と同一である。
領域６Ｑと６ＱＡを改良すれば、改良は完了となる。
噴射装置１０は半回転で改良が完了する。ただし、地盤が固い場合には、１回転以上回転して、噴流による切削を繰り返せば良い。
ここで、噴射装置１０の回転速度ｖ１〜ｖ４の間には以下の関係がある。
ｖ１＜ｖ２＜ｖ３＜ｖ４
【００８９】
図１５の第８実施形態によれば、連続壁（必要な厚さ寸法が符号ｔで示されている）の外側の領域、すなわち、連続壁築造に無関係な部分における改良面積が、第１実施形態に比較して、さらに減少する。そのため、材料使用量、労力、コストがさらに節約される。
図１５の第８実施形態におけるその他の構成及び作用効果については、図１〜図１４で示す実施形態と同様である。
【００９０】
図１６は、本発明の第９実施形態を示している。
図１５の第８実施形態では、１箇所当たりの工程数を６工程にしており、第１実施形態〜第７実施形態（１箇所当たり４工程）に比較して増加している。これに対して、図１６の第９実施形態では、１箇所当たりの工程数を２工程に減少している。
図１６において、工程（１６ａ）は、図１の工程（１ａ）と同じであり、領域１及び領域１Ａを改良する。この時の噴射装置１０の回転速度はｖ１である。
図１６の工程（１６ｂ）は、図１の工程（１ｂ）と同じであり、領域２及び領域２Ａを改良する。この時の噴射装置１０の回転速度はｖ２である。
【００９１】
噴射装置１０は半回転して、領域２、２Ａを改良すれば、その深度における改良が完了する。
ただし、地盤が固い場合には、噴射装置１０を１回転以上回転して、噴流による切削を繰り返せば良い。
噴射装置１０の回転速度ｖ１、ｖ２は、  ｖ１＜ｖ２  となっている。
図１６の第９実施形態におけるその他の構成及び作用効果については、図１〜図１５の実施形態と同様である。
【００９２】
図１７は本発明の第１０実施形態を示している。
第１実施形態〜第９実施形態では、例えば図１の（１ｅ）で示す断面形状を有する改良体Ｋ１〜Ｋ３が、垂直方向に延伸して造成される。
しかし、例えば、図１の工程（１ｅ）で示す断面形状を有する改良体Ｋ１〜Ｋ３は、水平方向に延長するように造成することも可能である。
図１７の第１０実施形態は、改良体が水平方向に延長して造成される実施形態である。
ここで、「水平方向に延長して造成する」という文言は、水平面に対して傾斜している方向に延長して延在する様に、改良体を造成する場合も包含している。
【００９３】
図１７の工程（１７ａ）では、可撓性を有する中空ロッド５０を具備する自在ボーリングマシンを用いて、削孔を行う（いわゆる「曲がりボーリング」）。
係る自在ボーリングマシンとして、公知、既存のものを適用することが出来る。
【００９４】
図１７の工程（１７ｂ）において、所定位置まで削孔したならば、可撓性を有する中空ロッド５０の先端に噴射装置１０を配置して、噴射装置１０から一対の噴流Ｊ１、Ｊ１Ａを噴射して、地盤を切削して地盤改良を行う。
【００９５】
図１７の工程（１７ｃ）において、噴射装置１０をロッド５０の中心軸を回転軸として回転し、中心角θ１で示す領域を地盤改良する。
中心角θ１で示す領域を地盤改良する際に、噴射装置１０の回転速度は符号「ｖ１」で示されている。
なお、図１７の工程（１７ｃ）は、図１で示す工程（１ａ）に対応している。
【００９６】
図１７の工程（１７ｄ）において、噴射装置１０を回転軸として、中心角θ２で示す領域を地盤改良する。
中心角θ２で示す領域を地盤改良している際に、噴射装置１０は回転速度「ｖ２」で回転する。
ここで、回転速度ｖ１、ｖ２は、  ｖ１＜ｖ２  である。
図１７の工程（１７ｄ）は、図１で示す工程（１ｂ）に対応している。
【００９７】
図１７の工程（１７ｅ）において、噴射装置１０をロッド５０の中心軸を回転軸として回転し、中心角θ３で示す領域を地盤改良する。図１７（１７ｅ）において、噴射装置１０の回転速度は、符号「ｖ３」で示されている。
ここで、回転速度ｖ１、ｖ２、ｖ３は  ｖ１＜ｖ２＜ｖ３  である。
図１７の工程（１７ｅ）は、図１で示す工程（１ｃ）に対応している。
【００９８】
図１７の工程（１７ｆ）において、噴射装置１０をロッド５０の中心軸を回転軸として回転し、中心角θ４（θ４＝θ２）で示す領域を地盤改良する。この場合、噴射装置１０は回転速度ｖ２で回転する。
図１７の工程（１７ｆ）は、図１で示す工程（１ｄ）に対応している。
【００９９】
図１７の工程（１７ｇ）において、図１７の工程（１７ｃ）〜（１７ｆ）により改良された領域ＳＬから、可撓性中空ロッド５０の軸線方向ＡＸについて、所定距離ＤＲだけ、当該ロッド５０及び噴射装置６０を地上側（図示しないボーリングマシン側）に引き出す。
図１７の工程（１７ｇ）では、ロッド５０及び噴射装置６０の引き出し方向は、矢印Ｐｕで示されている。
そして、図１７の工程（１７ｃ）〜（１７ｇ）を繰り返す。
【０１００】
図１７では明確には図示されていないが、原位置土と改良材（固化材）との混合物が重力により下方へ移動して、掘削された領域の上方に空隙部（いわゆる「巣」）が出来ないようにするため、いわゆる「水平方向地盤改良」の分野における公知技術を用いて、「巣」の形成を防止している。
【０１０１】
図１７の第１０実施形態におけるその他の構成及び作用効果については、図１〜図１６の各実施形態と同様である。
【０１０２】
次に、図１及び図１８を参照して、本発明の第１１実施形態を説明する。
図１〜図１７の実施形態では、領域毎に噴流の到達距離を変化させるに際して、噴射装置１０の回転速度（角速度）を変化させている。しかしながら、噴射装置１０の回転速度（角速度）を変化させることに代えて、噴射速度、噴射圧力、噴射流量を変化させても良い。第１１実施形態では、噴射装置１０の回転速度（角速度）を変化させることに代えて、噴射速度、噴射圧力、噴射流量を変化させている。
噴流の到達距離を増加するのであれば、噴射装置１０の回転速度（角速度）を遅くすることに代えて、噴射速度、噴射圧力、噴射流量を増加している。一方、噴流の到達距離を減少するのであれば、噴射装置１０の回転速度（角速度）を速くすることに代えて、噴射速度、噴射圧力、噴射流量を減少している。
【０１０３】
第１１実施形態では、図１において、噴射装置１０から噴射される噴流の噴射速度、噴射圧力、噴射流量は、改良された範囲における中心角がθ１の範囲内にある場合（図１の工程１ａ）に最大とする。そして、図１の工程（１ｂ）では若干減少せしめ、図１の工程（１ｃ）では最小となる様に設定する。
図１の工程（１ｄ）では、図１の工程（１ｂ）における噴射速度、噴射圧力、噴射流量と等しくなる様に設定する。
【０１０４】
第１１実施形態において、噴射装置の噴射速度、噴射圧力、噴射流量を変化させる制御について、主に図１８を参照して説明する。
図１８のステップＳ１１において、コントロールユニット３０は、施工領域が、図１において中心角θ１の範囲（図１の工程１ａを行なう範囲：図１の１ａにおいて、点１１と、点１Ａ２を結んだ直線から、角度θ１の範囲）であるか否かを判断する。
施工領域が、中心角θ１の範囲であれば（ステップＳ１１がＹＥＳ）、ステップＳ１２でコントロールユニット３０は、噴射速度及び／又は噴射圧力及び／又は噴射流量が最大となるように制御する。係る制御の具体的態様については、噴射装置１０の構成により、従来技術を適宜適用することにより行なわれる。
そして、ステップＳ１１まで戻る。
【０１０５】
一方、施工領域が、中心角θ１の範囲でなければ（ステップＳ１１がＮＯ）、ステップＳ１３に進む。
ステップＳ１３では、コントロールユニット３０は、施工領域が、中心角θ２の範囲（図１の工程１ｂ、１ｄを行なう範囲：図１の１ｂ、１ｄにおいて、角度θ２の範囲）であるか否かを判断する。
施工領域が、中心角θ２の範囲であれば（ステップＳ１３がＹＥＳ）、ステップＳ１４でコントロールユニット３０は、噴射速度及び／又は噴射圧力及び／又は噴射流量を、ステップＳ１２における数値よりも少ない値となる様に制御する。
そして、ステップＳ１３まで戻る。
【０１０６】
施工領域が、中心角θ２の範囲でなければ（ステップＳ１３がＮＯ）、ステップＳ１５に進む。
ステップＳ１５では、コントロールユニット３０は、施工領域が、中心角θ３の範囲（図１の工程１ｃを行なう範囲：図１の１ｃにおいて、角度θ３の範囲）であるか否かを判断する。
施工領域が、中心角θ３の範囲であれば（ステップＳ１５がＹＥＳ）、ステップＳ１６でコントロールユニット３０は、噴射速度及び／又は噴射圧力及び／又は噴射流量を、ステップＳ１４で決定した値よりも更に減少した数値となる様に制御する。
そして、ステップＳ１５まで戻る。
【０１０７】
施工領域が、中心角θ３の範囲でなければ（ステップＳ１５がＮＯ）、ステップＳ１７に進む。
ステップＳ１７では、コントロールユニット３０は、所定の深度における改良工事が完了したか否かを判断する。
所定の深度における改良工事が完了していないのなら（ステップＳ１７がＮＯ）、ステップＳ１１まで戻り、再びステップＳ１１以降を繰り返す。
一方、所定の深度における改良工事が完了したのであれば（ステップＳ１７がＹＥＳ）、ステップＳ１８に進み、噴射装置１０を所定量だけ引き上げる。そして、ステップＳ１１以降を繰り返す。
【０１０８】
噴射速度、噴射圧力、噴射流量を変化させた場合においても、図１〜図１７と同様に、無駄な切削、改良をすること無く、必要な改良を行なうことが出来る。
ここで、噴射速度、噴射圧力、噴射流量を無段階に変動させることにより、地盤改良された領域の平面形状を任意の形状（四角形、楕円形、星型、その他）にすることが可能である。
図１８の第１１実施形態におけるその他の構成及び作用効果は、図１〜図１７の実施形態（噴射装置１０の角速度を変化させる場合）と同様である。
【０１０９】
図示の実施形態はあくまでも例示であり、本発明の技術的範囲を限定する趣旨の記述ではない。
例えば、図示の実施形態では、１箇所の地盤を改良するのに４工程（第１実施形態）、６工程（第８実施形態）、２工程（第９実施形態）で行なっているが、この工程数を変化することが可能である。
また、図示の実施形態では、本発明が地中連続壁の造成に適用されている場合について多く記載されているが、本発明の適用範囲は地中連続壁の造成には限定されない。
さらに、図示の実施形態では、噴射装置１０は時計方向に回転して改良材等を噴射しているが、反時計方向に回転させても良い。
【符号の説明】
【０１１０】
１０・・・噴射装置
２０・・・油圧モータ
２２・・・回転数センサ／ロータリエンコーダ
３０・・・コントロールユニット
１０１・・・噴射装置回転制御機構
Ｖ１・・・第１の方向制御弁／第１の開閉弁
Ｖ１１・・・第１の流量調整弁
Ｖ２０・・・電磁比例流量制御弁
Ｖ３０・・・方向制御弁
【図１】
0005649052.tif 000002
【図２】
0005649052.tif 000003
【図３】
0005649052.tif 000004
【図４】
0005649052.tif 000005
【図５】
0005649052.tif 000006
【図６】
0005649052.tif 000007
【図７】
0005649052.tif 000008
【図８】
0005649052.tif 000009
【図９】
0005649052.tif 000010
【図１０】
0005649052.tif 000011
【図１１】
0005649052.tif 000012
【図１２】
0005649052.tif 000013
【図１３】
0005649052.tif 000014
【図１４】
0005649052.tif 000015
【図１５】
0005649052.tif 000016
【図１６】
0005649052.tif 000017
【図１７】
0005649052.tif 000018
【図１８】
0005649052.tif 000019
【図１９】
0005649052.tif 000020