(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の対象物に液体を付与する付与手段と、
前記付与手段が付与する液体を収容する収容部と、
前記収容部に収容された液体を循環させる循環流路と、
を備え、
前記循環流路は、
内部に液体を貯留し、液面の高さが所定の高さに達すると液体がオーバーフローする複数の沈殿槽を有する多段槽であって、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように前記複数の沈殿槽が接続された多段槽と、
前記多段槽を通過した液体をろ過するフィルタと、
前記収容部に収容された液体を前記多段槽に供給する第１の流路と、
前記ろ過された液体を前記収容部に戻す第２の流路と、
を備え、
前記第１の流路は、前記多段槽の初段の沈殿槽に水平方向から液体を供給することを特徴とする液体付与装置。
【請求項２】
前記第１の流路は、前記多段槽の初段の沈殿槽の前記所定の高さから液体を供給することを特徴とする請求項１に記載の液体付与装置。
【請求項３】
所定の対象物に液体を付与する付与手段と、
前記付与手段が付与する液体を収容する収容部と、
前記収容部に収容された液体を循環させる循環流路と、
を備え、
前記循環流路は、
内部に液体を貯留し、液面の高さが所定の高さに達すると液体がオーバーフローする複数の沈殿槽を有する多段槽であって、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように前記複数の沈殿槽が接続された多段槽と、
前記多段槽を通過した液体をろ過するフィルタと、
前記収容部に収容された液体を前記多段槽に供給する第１の流路と、
前記ろ過された液体を前記収容部に戻す第２の流路と、
を備え、
前記第１の流路は、前記多段槽に複数個所から液体を供給することを特徴とする液体付与装置。
【請求項４】
所定の対象物に液体を付与する付与手段と、
前記付与手段が付与する液体を収容する収容部と、
前記収容部に収容された液体を循環させる循環流路と、
を備え、
前記循環流路は、
内部に液体を貯留し、液面の高さが所定の高さに達すると液体がオーバーフローする複数の沈殿槽を有する多段槽であって、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように前記複数の沈殿槽が接続された多段槽と、
前記多段槽を通過した液体をろ過するフィルタと、
前記収容部に収容された液体を前記多段槽に供給する第１の流路と、
前記ろ過された液体を前記収容部に戻す第２の流路と、
を備え、
前記第１の流路の終端に対向する位置に液体の流れを遮る遮蔽手段を備えたことを特徴とする液体付与装置。
【請求項５】
所定の対象物に液体を付与する付与手段と、
前記付与手段が付与する液体を収容する収容部と、
前記収容部に収容された液体を循環させる循環流路と、
を備え、
前記循環流路は、
内部に液体を貯留し、液面の高さが所定の高さに達すると液体がオーバーフローする複数の沈殿槽を有する多段槽であって、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように前記複数の沈殿槽が接続された多段槽と、
前記多段槽を通過した液体をろ過するフィルタと、
前記収容部に収容された液体を前記多段槽に供給する第１の流路と、
前記ろ過された液体を前記収容部に戻す第２の流路と、
を備え、
前記複数の沈殿槽は、後段の沈殿槽ほど体積が大きいこと特徴とする液体付与装置。
【請求項６】
所定の対象物に液体を付与する付与手段と、
前記付与手段が付与する液体を収容する収容部と、
前記収容部に収容された液体を循環させる循環流路と、
を備え、
前記循環流路は、
内部に液体を貯留し、液面の高さが所定の高さに達すると液体がオーバーフローする複数の沈殿槽を有する多段槽であって、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように前記複数の沈殿槽が接続された多段槽と、
前記多段槽を通過した液体をろ過するフィルタと、
前記収容部に収容された液体を前記多段槽に供給する第１の流路と、
前記ろ過された液体を前記収容部に戻す第２の流路と、
を備え、さらに、
前記多段槽を通過した液体に含まれる異物の状態を判定する異物センサと、
前記多段槽を通過した液体を前記多段槽の初段の沈殿槽に戻す第３の流路と、
前記多段槽を通過した液体を前記フィルタ及び前記第３の流路のいずれに供給するかを切り換える流路切り換え手段と、
前記異物センサにより異物の量が所定量未満であることが検出されると、前記多段槽を通過した液体を前記フィルタに供給させ、前記異物センサにより異物の量が所定量以上であることが検出されると、前記多段槽を通過した液体を前記第３の流路に供給させる制御手段と、
を備えたことを特徴とする液体付与装置。
【請求項７】
前記異物センサは、光を投光する投光部と、該投光部の投光した光を、前記多段槽を通過した液体を介して受光する受光部とを有し、該受光部の受光光量に基づいて前記異物を検出することを特徴とする請求項６に記載の液体付与装置。
【請求項８】
前記異物センサの検出結果に基づいて、前記フィルタが捕捉した異物の積算量を算出する積算手段と、
前記算出された積算量が所定量を超えたことを警告する第１の警告手段と、
を備えたことを特徴とする請求項６又は７に記載の液体付与装置。
【請求項９】
前記第３の流路は前記液体を貯蔵する貯蔵槽を備え、
前記制御手段は、前記多段槽から前記貯蔵槽への流量よりも前記貯蔵槽から前記多段槽への流量の方が小さくなるように第３の流路の流量を制御することを特徴とする請求項６から８のいずれか１項に記載の液体付与装置。
【請求項１０】
前記貯蔵槽に貯蔵された液体の量を検出する液量センサと、
前記貯蔵槽に貯蔵された液体の量が所定量を超えたことを警告する第２の警告手段と、
を備えたことを特徴とする請求項９に記載の液体付与装置。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか１項に記載の液体付与装置により記録媒体の記録面に処理液を付与する処理液付与手段と、
前記処理液が付与された記録媒体の記録面にインクを吐出する記録ヘッドと、
を備えたことを特徴とするインクジェット記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、対象物に液体を付与する液体付与装置及びインクジェット記録装置に関し、特に、液体に混入した異物を除去するためのフィルタの詰まりを防止する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録装置では、用紙の記録面にインク中の色材を凝集させる機能を有する処理液を付与することが行われる。例えば、塗布皿から塗布液が付与された塗布ローラを用紙の表面に押圧当接させて、用紙の記録面に処理液を付与する。このような処理液を事前に付与してインクを打滴することにより、汎用の記録媒体を用いた場合であっても、高品位な記録を行うことができる。
【０００３】
また、インクジェット記録装置の排紙部（スタッカー部）で用紙が重ね置きされる際に、乾燥不良により用紙間でのインクの裏写り（スタッカーブロッキング）が発生することがある。このスタッカーブロッキング対策として、用紙と用紙の間にパウダーを均一に噴霧してインクどうしの密着を防止している。
【０００４】
用紙上のゴミ、用紙紙粉、コート層成分等の異物や上記のパウダーは、裏面通紙の際に塗布ローラを介して塗布皿内の塗布液に混入する。塗布液は、液濃度及び液温度を均一にするために循環する構造となっている。この循環流路には、異物やパウダーを除去するためのフィルタが設置されており、異物等による塗布故障を防止している。
【０００５】
塗布故障を防止するためには、φ２０〜３０μｍ以上の異物を循環流路から取り除く必要がある。したがって、開口径が２０μｍ以上のフィルタが用いられるが、このフィルタがすぐに目詰まりするという問題が発生する。
【０００６】
このような課題に対し、フィルタの上流側に沈殿槽を設け、沈殿槽内に異物を沈殿させることで異物を除去することが考えられる。例えば、特許文献１には、循環供給機構に設けられた貯蔵槽の底面全体を覆うように補捉空間を形成し、その開口の形状を、異物を取り込みやすい形状とした技術が記載されている。この技術によれば、異物を捕捉空間に導くことができ、液体中の異物を除去することができる。
【０００７】
また、特許文献２には、循環流路内に設けられた貯蔵部の底部に、リブによって区画された複数の捕捉空間部を形成する技術が記載されている。この技術によれば、塗布液に混入している異物が捕捉空間部内に堆積し、塗布液から異物を除去することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−４４６４９号公報
【特許文献２】特開２０１０−２７４２５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１、２の技術では、大量の異物が循環流路に混入した場合には、異物が沈殿せずに流路内に戻り、画像不良やフィルタの詰まりを引き起こすという問題点があった。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、装置サイズを大きくすることなく、液体内の異物の沈殿を促進し、フィルタの詰まりを抑制することができる液体付与装置及びインクジェット記録装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、液体付与装置の一の態様は、所定の対象物に液体を付与する付与手段と、前記付与手段が付与する液体を収容する収容部と、前記収容部に収容された液体を循環させる循環流路とを備え、前記循環流路は、内部に液体を貯留し、液面の高さが所定の高さに達すると液体がオーバーフローする複数の沈殿槽を有する多段槽であって、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように前記複数の沈殿槽が接続された多段槽と、前記多段槽を通過した液体をろ過するフィルタと、前記収容部に収容された液体を前記多段槽に供給する第１の流路と、前記ろ過された液体を前記収容部に戻す第２の流路とを備え、前記第１の流路は、前記多段槽の初段の沈殿槽に水平方向から液体を供給する。
【００１２】
本態様によれば、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように複数の沈殿槽を接続した多段槽により、液体に混入した異物を除去することができるので、装置サイズを大きくすることなく、液体内の異物の沈殿を促進し、フィルタの詰まりを抑制することで、フィルタ寿命を延ばすことができる。
【００１３】
前記第１の流路は、前記多段槽の初段の沈殿槽の前記所定の高さから液体を供給することが好ましい。これにより、多段槽の初段の沈殿槽の底に堆積した異物を巻き上げることなく、多段槽に液体を供給することができる。 
【００１４】
上記目的を達成するために、液体付与装置の一の態様は、所定の対象物に液体を付与する付与手段と、前記付与手段が付与する液体を収容する収容部と、前記収容部に収容された液体を循環させる循環流路とを備え、前記循環流路は、内部に液体を貯留し、液面の高さが所定の高さに達すると液体がオーバーフローする複数の沈殿槽を有する多段槽であって、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように前記複数の沈殿槽が接続された多段槽と、前記多段槽を通過した液体をろ過するフィルタと、前記収容部に収容された液体を前記多段槽に供給する第１の流路と、前記ろ過された液体を前記収容部に戻す第２の流路とを備え、前記第１の流路は、前記多段槽に複数個所から液体を供給する。これにより、多段槽の初段の沈殿槽の底に堆積した異物を巻き上げることなく、多段槽に液体を供給することができる。
【００１５】
上記目的を達成するために、液体付与装置の一の態様は、所定の対象物に液体を付与する付与手段と、前記付与手段が付与する液体を収容する収容部と、前記収容部に収容された液体を循環させる循環流路とを備え、前記循環流路は、内部に液体を貯留し、液面の高さが所定の高さに達すると液体がオーバーフローする複数の沈殿槽を有する多段槽であって、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように前記複数の沈殿槽が接続された多段槽と、前記多段槽を通過した液体をろ過するフィルタと、前記収容部に収容された液体を前記多段槽に供給する第１の流路と、前記ろ過された液体を前記収容部に戻す第２の流路とを備え、前記第１の流路の終端に対向する位置に液体の流れを遮る遮蔽手段を備えた。これにより、多段槽の初段の沈殿槽の底に堆積した異物を巻き上げることなく、多段槽に液体を供給することができる。
【００１６】
上記目的を達成するために、液体付与装置の一の態様は、所定の対象物に液体を付与する付与手段と、前記付与手段が付与する液体を収容する収容部と、前記収容部に収容された液体を循環させる循環流路とを備え、前記循環流路は、内部に液体を貯留し、液面の高さが所定の高さに達すると液体がオーバーフローする複数の沈殿槽を有する多段槽であって、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように前記複数の沈殿槽が接続された多段槽と、前記多段槽を通過した液体をろ過するフィルタと、前記収容部に収容された液体を前記多段槽に供給する第１の流路と、前記ろ過された液体を前記収容部に戻す第２の流路とを備え、前記複数の沈殿槽は、後段の沈殿槽ほど体積が大きい。これにより、前段の沈殿槽では除去しきれなかった異物を、次段の沈殿槽で除去することができる。また、大きな異物を予め前段の沈殿槽で除去しておくことで、次段の沈殿槽に堆積した異物が大きな異物の移動によって巻き上げられることを防止することができる。
【００１７】
上記目的を達成するために、液体付与装置の一の態様は、所定の対象物に液体を付与する付与手段と、前記付与手段が付与する液体を収容する収容部と、前記収容部に収容された液体を循環させる循環流路とを備え、前記循環流路は、内部に液体を貯留し、液面の高さが所定の高さに達すると液体がオーバーフローする複数の沈殿槽を有する多段槽であって、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように前記複数の沈殿槽が接続された多段槽と、前記多段槽を通過した液体をろ過するフィルタと、前記収容部に収容された液体を前記多段槽に供給する第１の流路と、前記ろ過された液体を前記収容部に戻す第２の流路とを備え、さらに、前記多段槽を通過した液体に含まれる異物の状態を判定する異物センサと、前記多段槽を通過した液体を前記多段槽の初段の沈殿槽に戻す第３の流路と、前記多段槽を通過した液体を前記フィルタ及び前記第３の流路のいずれに供給するかを切り換える流路切り換え手段と、前記異物センサにより異物の量が所定量未満であることが検出されると、前記多段槽を通過した液体を前記フィルタに供給させ、前記異物センサにより異物の量が所定量以上であることが検出されると、前記多段槽を通過した液体を前記第３の流路に供給させる制御手段とを備えた。
【００１８】
これにより、液体に含まれる異物が少ない場合にのみフィルタに供給させるので、フィルタの詰まりを抑制することができる。また、異物が多い場合には多段槽に戻すことで、再度異物の除去を行うことができる。
【００１９】
前記異物センサは、光を投光する投光部と、該投光部の投光した光を、前記多段槽を通過した液体を介して受光する受光部とを有し、該受光部の受光光量に基づいて前記異物を検出することが好ましい。これにより、適切に液体中の異物量を検出することができる。
【００２０】
前記異物センサの検出結果に基づいて、前記フィルタが捕捉した異物の積算量を算出する積算手段と、前記算出された積算量が所定量を超えたことを警告する第１の警告手段とを備えてもよい。このように、フィルタ詰まりの可能性をユーザに知らせることで、フィルタが詰まる前にフィルタ交換又はフィルタ清掃を促すことができる。
【００２１】
前記第３の流路は前記液体を貯蔵する貯蔵槽を備え、前記制御手段は、前記多段槽から前記貯蔵槽への流量よりも前記貯蔵槽から前記多段槽への流量の方が小さくなるように第３の流路の流量を制御することが好ましい。これにより、液体が貯蔵槽に滞留する時間を長くすることができるので、貯蔵槽における異物の沈殿を促進することができる。
【００２２】
前記貯蔵槽に貯蔵された液体の量を検出する液量センサと、前記貯蔵槽に貯蔵された液体の量が所定量を超えたことを警告する第２の警告手段とを備えてもよい。これにより、貯蔵槽が満杯となったことをユーザに報知することができる。
【００２３】
上記目的を達成するために、インクジェット記録装置の一の態様は、上記態様の液体付与装置により記録媒体の記録面に処理液を付与する処理液付与手段と、前記処理液が付与された記録媒体の記録面にインクを吐出する記録ヘッドとを備えた。
【００２４】
本態様によれば、記録媒体の記録面に異物が混入していない処理液を付与することができるため、記録ヘッドによる高品質な記録を行うことができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、装置サイズを大きくすることなく、液体内の異物の沈殿を促進し、フィルタの詰まりを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】第１の実施形態に係る異物除去装置を示す斜視図
【図２】異物除去装置を構成する槽の構造を示す斜視図
【図３】第１の実施形態に係る他の態様の異物除去装置を示す斜視図
【図４】第２の実施形態に係る異物除去装置を示す斜視図
【図５】第２の実施形態に係る他の態様の異物除去装置を示す斜視図
【図６】第２の実施形態に係る他の態様の異物除去装置を示す斜視図
【図７】第３の実施形態に係る異物除去装置を示す斜視図
【図８】第４の実施形態に係る異物除去装置を示す全体構成図
【図９】異物センサの構成を示す図
【図１０】第４の実施形態に係る異物除去装置の動作を示すフローチャート
【図１１】異物センサの検出結果と流路切り替え弁の制御を示す図
【図１２】時間の経過における積算値の変化の一例を示す図
【図１３】異物除去装置が適用された塗布装置の概略構成を示す全体構成図
【図１４】塗布装置の制御系の概略構成を示すブロック図
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について詳説する。
【００２８】
〔第１の実施形態〕
図１は、本実施形態に係る異物除去装置１０を示す斜視図である。異物除去装置１０は、対象物に処理液（液体）を付与する液体付与装置において、処理液の循環流路に設けられるものであり、処理液中の異物を除去するための装置である。
【００２９】
図１に示すように、異物除去装置１０は、第１の沈殿槽２０、第２の沈殿槽２２、第１の流路３０、フィルタ流路３２、第２の流路３４、フィルタ４０を備えて構成される。
【００３０】
第１の沈殿槽２０及び第２の沈殿槽２２は、図２（ａ）に示すように、長さｄ、幅ｗ、高さｈの直方体形状の槽５０及び仕切り板５２により構成されている。仕切り板５２は、槽５０内部の所定の位置に鉛直方向に配置され、槽５０を高さｈａにおいて２つに仕切っている。
【００３１】
なお、仕切り板として、図２（ｂ）に示す仕切り板５６を用いてもよい。この仕切り板５６は、槽５０内部の所定の位置に鉛直方向に配置され、槽５０を２つに仕切っている。仕切り板５６は、スリット５６ａを有しており、スリット５６ａは、最も低い位置の高さが、高さｈａとなるように設けられている。
【００３２】
また、槽５０の一側面には、貫通孔５４が設けられている。貫通孔５４は、最も低い位置の高さが、高さｈｂとなるように設けられている。ここで、高さｈａと高さｈｂは、ｈａ＞ｈｂの関係を満たす。なお、貫通孔５４の形状は円形に限られるものではなく、楕円、矩形、スリット形状等、適宜決めることができる。
【００３３】
図１に戻り、液体付与部（不図示）から送液された処理液は、第１の流路３０を流れ、第１の流路３０の液供口３０ａから第１の沈殿槽２０に供給される。第１の沈殿槽２０は、第１の流路３０から供給された処理液を貯留する。第１の沈殿槽２０に貯留された処理液の液面の高さが高さｈａを超えると、仕切り板５２の上部に該当するオーバーフロー路２０ａから処理液が溢れ出し（オーバーフローし）、このオーバーフローした処理液は第２の沈殿槽２２に流入する。なお、図２（ｂ）に示す仕切り板５６を用いた場合には、スリット５６ａがオーバーフロー路２０ａとなる。
【００３４】
第２の沈殿槽２２は、第１の沈殿槽２０から流入した処理液を貯留する。第２の沈殿槽２２の側面には、貫通孔５４が設けられている。したがって、第２の沈殿槽２２に貯留された処理液の液面の高さが高さｈｂを超えると、貫通孔５４から処理液がオーバーフローする。
【００３５】
貫通孔５４には、フィルタ流路３２の流入口３２ａが接続されており、このオーバーフローした処理液はフィルタ流路３２に流入する。
【００３６】
フィルタ流路３２にはフィルタ４０が接続されており、フィルタ流路３２に流入した処理液はフィルタ４０を通過する。フィルタ４０には第２の流路３４が接続されており、フィルタ４０を通過した処理液は、液体付与部（不図示）に送液される。
【００３７】
このように、第１の沈殿槽２０と第２の沈殿槽２２は、上流側の沈殿槽からオーバーフローした液体が順次下流側の沈殿槽に流入するように、カスケード状に接続された多段槽となっている。
【００３８】
第１の流路３０から第１の沈殿槽２０に処理液が供給されると、処理液に混入している異物は、第１の沈殿槽２０の底に沈殿（堆積）することで除去される。この異物が除去された処理液は、オーバーフロー路２０ａからオーバーフローし、第２の沈殿槽２２に流入する。
【００３９】
第２の沈殿槽２２に流入した処理液のうち、第１の沈殿槽２０では除去しきれなかった異物は、第２の沈殿槽２２の底に沈殿することで除去される。この異物が除去された処理液は、貫通孔５４からオーバーフローし、フィルタ流路３２に流入する。
【００４０】
フィルタ流路３２に流入した処理液は、フィルタ４０を通過する。このとき、第１の沈殿槽２０及び第２の沈殿槽２２では除去しきれなかった異物がフィルタ４０によって捕捉（除去）される。
【００４１】
このように、異物除去装置１０によれば、処理液に混入した異物を沈殿させることで除去し、フィルタ４０の詰まりを抑制することができ、フィルタ寿命を延ばすことができる。
【００４２】
本実施形態では、１つの槽を仕切り板で仕切ることで２つの沈殿槽を構成したが、複数の沈殿槽をカスケード状に接続する形態はこの例に限定されるものではない。
【００４３】
例えば、図３（ａ）に示すように、２つの槽６０及び６２を、液面高さが異なるように接続することで、第１の沈殿槽２０及び第２の沈殿槽２２を構成してもよい。ここでは、槽６０の側面のうち、槽６２との接合面の上部をオーバーフロー路２０ａとする。槽６０のオーバーフロー路２０ａからオーバーフローした処理液は、槽６２へ流入する。
【００４４】
また、図３（ｂ）に示すように、２つの槽６４及び６６のそれぞれの側面を接合し、全体を所定の角度だけ傾けることで、第１の沈殿槽２０及び第２の沈殿槽２２を構成してもよい。ここでは、槽６４の側面のうち、槽６６との接合面の上部をオーバーフロー路２０ａとする。槽６４のオーバーフロー路２０ａからオーバーフローした処理液は、槽６６へ流入する。
【００４５】
本実施形態では、カスケード状に接続された多段槽の例として、第１の沈殿槽２０と第２の沈殿槽２２の２つの沈殿槽から構成される例を説明したが、多段槽は３つ以上の沈殿槽から構成してもよいことは言うまでもない。沈殿槽の数を増やすことで、異物の除去をより促進させることが可能となる。
【００４６】
〔第２の実施形態〕
図４（ａ）は、本実施形態に係る異物除去装置１２を示す斜視図である。なお、図１に示す異物除去装置１０と共通する部分には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００４７】
異物除去装置１２は、第１の流路３６の液供口３６ａから第１の沈殿槽２０へ処理液が供給される。第１の流路３６は、少なくとも液供口３６ａの近傍において水平に設けられており、液供口３６ａは、第１の沈殿槽２０の側面に設けられている。液供口３６ａは、最も低い位置の高さが、高さｈａとなっている。
【００４８】
即ち、第１の沈殿槽２０の液面高さに設けられた液供口３６ａから、処理液が水平方向に流出する。したがって、処理液は第１の沈殿槽２０の液面に対して水平方向から供給される。
【００４９】
このように、複数の沈殿槽がカスケード状に接続された多段槽の最上流（初段）の沈殿槽である第１の沈殿槽２０に、水平に処理液を供給する。これにより、第１の沈殿槽２０の底に堆積した異物を巻き上げることなく、第１の沈殿槽２０に処理液を供給することができる。
【００５０】
なお、図４（ｂ）に示すように、第１の流路３６を少なくとも液供口３６ａの近傍において水平に設けるとともに、液供給口３６ａを第１の沈殿槽２０の液面よりも高い位置に設け、第１の沈殿槽２０に対して水平方向から処理液を供給してもよい。この場合であっても、処理液は第１の沈殿槽２０に対して水平に供給されるため、第１の沈殿槽２０の底に堆積した異物を巻き上げることなく、第１の沈殿槽２０に処理液を供給することができる。
【００５１】
また、第１の流路３６を複数設けてもよい。図５に示す例では、５つの第１の流路３６−１〜３６−５の５つの液供口３６−１ａ〜３６−５ａから、第１の沈殿槽２０へ処理液を供給する。各液供口３６−１ａ〜３６−５ａは、それぞれ最も低い位置の高さがｈａとなるように、第１の沈殿槽２０の側面に設けられている。したがって、５つの第１の流路３６−１〜３６−５の５つの液供口３６−１ａ〜３６−５ａから、第１の沈殿槽２０に水平に処理液を供給することができる。
【００５２】
このように、複数の流路から処理液を供給することで、処理液の流速を下げることができる。これにより、第１の沈殿槽２０の底に堆積した異物を巻き上げることなく、第１の沈殿槽２０に処理液を供給することができる。
【００５３】
さらに、第１の流路３６から供給される処理液の流れを遮ることで処理液の流速を落とす遮蔽板を設けてもよい。例えば、図６に示すように、液供口３６に対向する位置に遮蔽板３８を設けることができる。
【００５４】
液供口３６から所定の流速で流出した処理液は、遮蔽板３８によって流れが遮られ、流速が低下する。これにより、第１の沈殿槽２０の底に堆積した異物を巻き上げることなく、第１の沈殿槽２０に処理液を供給することができる。
【００５５】
〔第３の実施形態〕
図７は、本実施形態に係る異物除去装置１４を示す斜視図である。なお、図４に示す異物除去装置１２と共通する部分には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。異物除去装置１４は、第１の沈殿槽２０、第２の沈殿槽２２、及び第３の沈殿槽２４を備えている。この３つの沈殿槽は、上流側の沈殿槽からオーバーフローした液体が順次下流側の沈殿槽に流入するように、カスケード状に接続されている。
【００５６】
第１の沈殿槽２０は、図７に示すように、幅ｗ、長さｄａ、高さｈａで構成されており、体積Ｖｏｌ１＝ｗ×ｄａ×ｈａの処理液を貯留することができる。
【００５７】
異物除去装置１４は、第１の流路３６の液供口３６ａから第１の沈殿槽２０へ処理液が供給される。第１の沈殿槽２０は、第１の流路３６から供給された処理液を貯留する。処理液に混入している異物は、第１の沈殿槽２０の底に堆積する。第１の沈殿槽２０に供給された処理液のうち体積Ｖｏｌ１を超えた分は、オーバーフロー路２０ａからオーバーフローし、このオーバーフローした処理液は第２の沈殿槽２２に流入する。
【００５８】
第２の沈殿槽２２は、図７に示すように、幅ｗ、長さｄｂ、高さｈｂで構成されており、体積Ｖｏｌ２＝ｗ×ｄｂ×ｈｂの処理液を貯留することができる。
【００５９】
第２の沈殿槽２２は、第１の沈殿槽２０から流入した処理液を貯留する。第１の沈殿槽２０によって除去しきれなかった異物は、第２の沈殿槽２２の底に堆積する。第２の沈殿槽２２に流入した処理液のうち体積Ｖｏｌ２を超えた分は、オーバーフロー路２２ａからオーバーフローし、このオーバーフローした処理液は第３の沈殿槽２４に流入する。
【００６０】
第３の沈殿槽２４は、図７に示すように、幅ｗ、長さｄｃ、高さｈｃで構成されており、体積Ｖｏｌ３＝ｗ×ｄｂｃ×ｈｃの処理液を貯留することができる。
【００６１】
第３の沈殿槽２４は、第２の沈殿槽２２から流入した処理液を貯留する。第１の沈殿槽２０及び第２の沈殿槽２２によって除去しきれなかった異物は、第３の沈殿槽２４の底に堆積する。第３の沈殿槽２４に流入した処理液のうち体積Ｖｏｌ３を超えた分は、フィルタ流路３２の流入口３２ａからオーバーフローし、このオーバーフローした処理液はフィルタ流路３２に流入する。
【００６２】
ここで、第１の沈殿槽２０、第２の沈殿槽２２、及び第３の沈殿槽２４は、その体積がＶｏｌ１＜Ｖｏｌ２＜Ｖｏｌ３となるように構成されている。したがって、第１の沈殿槽２０における処理液の滞留時間よりも第２の沈殿槽２２における処理液の滞留時間が長くなる。これにより、第１の沈殿槽２０では除去しきれなかった異物を、第２の沈殿槽２２において沈殿させることができる。また、大きな異物を予め第１の沈殿槽２０で除去しておくことで、第２の沈殿槽２２に堆積した異物が大きな異物の移動によって巻き上げられることを防止することができる。
【００６３】
さらに、第２の沈殿槽２２における処理液の滞留時間よりも第３の沈殿槽２４における処理液の滞留時間が長くなる。これにより、第２の沈殿槽２２では除去しきれなかった異物を、第３の沈殿槽２４において沈殿させることができる。また、大きな異物を予め第２の沈殿槽２２で除去しておくことで、第３の沈殿槽２４に堆積した異物が大きな異物の移動によって巻き上げられることを防止することができる。
【００６４】
このように、上流側の沈殿槽からオーバーフローした液体が順次下流側の沈殿槽に流入するように、複数の沈殿槽がカスケード状に接続された多段槽において、下流側（後段側）の沈殿槽ほど体積を大きくすることで、下流側の沈殿槽ほど処理液の滞留時間を長くする。これにより、下流側の沈殿槽ほど小さな異物を沈殿させることができ、また上流側の沈殿槽で大きな異物を沈殿させておくことで、下流側の沈殿槽に堆積した異物が大きな異物が移動することで巻き上げられることを防止することができる。
【００６５】
〔第４の実施形態〕
図８は、本実施形態に係る異物除去装置１６を示す全体構成図である。同図に示すように、異物除去装置１６は、多段槽７０、異物センサＳ１、流路切り替え弁Ｖ、貯蔵槽７６、液面検出センサＳ２、各ポンプＰ１、Ｐ２、Ｐ３等を備えて構成される。
【００６６】
多段槽７０は、上流側の沈殿槽からオーバーフローした液体が順次下流側の沈殿槽に流入するように複数の沈殿槽がカスケード状に接続されたものであり、例えば図１に示す第１の沈殿槽２０及び第２の沈殿槽２２と同様の構成を用いることができる。
【００６７】
異物センサＳ１は、多段槽７０の最下流（最後段）の沈殿槽からオーバーフローした処理液中に含まれる異物を検出するためのセンサである。異物センサＳ１の構成を図９に示す。
【００６８】
図９に示すように、異物センサＳ１は、一対の投光部７３ａ及び受光部７３ｂから構成される光学式センサである。多段槽７０から流路切り替え弁Ｖまでの処理液の検出流路７２は、少なくとも異物センサＳ１が配置される位置において、光を透過する素材で形成される。
【００６９】
投光部７３ａの発光素子としては、例えばＬＥＤを用いることができる。また、受光部７３ｂの受光素子としては、例えばフォトダイオードを用いることができる。投光部７３ａの発光素子から発光された光は、検出流路７２及び検出流路７２の内部を流れる処理液を透過し、受光部７３ｂの受光素子によって受光される。
【００７０】
処理液の透過光量は、処理液に混入している異物によって変化する。したがって、受光部７３ｂの受光光量は、検出流路７２の内部を流れる処理液に混入している異物（図９において符号Ｇを付した）によって変化する。例えば処理液内に大きい異物が混入している場合や、多数の異物が混入している場合には、これらの異物により受光部７３ｂの受光光量が低下する。このように、異物センサＳ１は、処理液内の異物の状態を判定することができる。
【００７１】
流路切り替え弁Ｖは、検出流路７２から流れて来た処理液をフィルタ流路３２へ流すか否かを制御する電磁バルブＶ１と、検出流路７２から流れて来た処理液を第３の流路７４へ流すか否かを制御する電磁バルブＶ２とを備えた弁手段である。電磁バルブＶ１、Ｖ２は、制御部（不図示）から印加される電力に応じて開閉する。
【００７２】
電磁バルブＶ１が開弁状態、電磁バルブＶ２が閉弁状態にされると、ポンプＰ１により、処理液はフィルタ流路３２を介してフィルタ４０に送液される。
【００７３】
また、電磁バルブＶ１が閉弁状態、電磁バルブＶ２が開弁状態にされると、ポンプＰ２により、処理液は第３の流路７４を介して貯蔵槽７６に送液され、貯蔵槽７６に貯留される。
【００７４】
液面検出センサＳ２は、貯蔵槽７６に貯留された処理液の液面を検出するためのセンサである。液面検出センサＳ２は、貯蔵槽７６に貯留された処理液の液面の位置が、貯蔵槽７６に貯蔵可能な上限に達したか否かを検出することが可能なように、貯蔵槽７６の開口部又はその近傍に設けられている。液面検出センサＳ２としては、静電容量センサや光学センサを用いることができるが、特に限定されない。
【００７５】
貯蔵槽７６に貯留された処理液は、ポンプＰ３により多段槽７０の初段の沈殿槽に送液される。初段の沈殿槽に送液するのではなく、第１の流路３０に合流するように送液してもよい。
【００７６】
次に、上記のように構成された異物除去装置１６の動作について説明する。図１０は、異物除去装置１６の動作を示すフローチャートである。
【００７７】
液体付与部（不図示）から送液された処理液は、第１の流路３０を流れ、多段槽７０に供給される。多段槽７０の各沈殿槽において異物が除去された処理液は、多段槽７０の最後段の沈殿槽からオーバーフローし、検出流路７２に流入する。
【００７８】
異物センサＳ１は、検出流路７２を流れる処理液内の異物を検出するためのセンサである。制御部（不図示）は、異物センサＳ１の検出結果から、処理液内の異物の有無を判断する。
【００７９】
ここで、処理液内に異物が全く混入していない状態において、投光部７３ａから投光された光を受光部７３ｂが受光した場合の受光光量を基準受光量ｙ０とする。制御部は、受光部７３ｂの受光光量と基準受光量ｙ０との差ｙ（低下光量）を算出し、低下光量ｙがα以上の場合に、処理液内に異物が混入しているものと判断する。
【００８０】
制御部は、受光部７３ｂの低下光量ｙがαより大きいか否かを判定する（ステップＳｔ１）。低下光量ｙの方が小さい場合には、処理液内の異物がない、又は少ないと判断し、流路切り替え弁Ｖの電磁バルブＶ１を開弁状態、電磁バルブＶ２を閉弁状態とする（ステップＳｔ２）。
【００８１】
さらに、ポンプＰ１を駆動状態とし、フィルタ４０を負圧にする（ステップＳｔ３）。これにより、処理液はフィルタ流路３２を介してフィルタ４０に送液される。このとき、ポンプＰ２、Ｐ３は停止状態とする。
【００８２】
また、制御部は、フィルタ４０に捕捉された異物量を積算するために、低下光量ｙの積算値Σｙを算出する（ステップＳｔ４）。そして、この積算値Σｙが、閾値ｙｍａｘを超えたか否かを判定する（ステップＳｔ５）。閾値ｙｍａｘは、フィルタ４０の目詰まりが発生する異物の積算量から算出された低下光量の積算値Σｙの値に設定されている。
【００８３】
積算値Σｙが閾値ｙｍａｘ以下の場合は、処理を終了する。また、積算値Σｙが閾値ｙｍａｘより大きい場合は、フィルタ詰まりの警告を出す（ステップＳｔ６）。警告は、表示部（不図示）に表示してもよいし、警告音による報知を行ってもよい。
【００８４】
このように、フィルタ詰まりの可能性をユーザに知らせることで、フィルタが詰まる前にフィルタ交換又はフィルタ清掃を促すことができる。なお、ユーザがフィルタ４０を交換した場合、又はフィルタ４０を清掃した場合には、積算値Σｙはリセットされる。
【００８５】
積算値Σｙのリセットは、フィルタ４０が取り外されたことを検出して自動的に行ってもよいし、ユーザが入力部（不図示）によって行ってもよい。
【００８６】
図１０のフローチャートに戻り、ステップＳｔ１において、受光部７３ｂの低下光量ｙがαより大きい場合には、制御部は処理液内の異物が多いと判断し、流路切り替え弁Ｖの電磁バルブＶ１を閉弁状態、電磁バルブＶ２を開弁状態とする（ステップＳｔ７）。
【００８７】
さらに、ポンプＰ２を駆動状態とし、ポンプＰ１を停止状態とする（ステップＳｔ８）。これにより、処理液は第３の流路７４を介して貯蔵槽７６に送液される。また、同時にポンプＰ３も駆動状態とされ、貯蔵槽７６に貯留された処理液は、多段槽７０の初段の沈殿槽に送液される。
【００８８】
ここで、ポンプＰ２の送液量とポンプＰ３の送液量とは、（ポンプＰ２の送液量）＞（ポンプＰ３の送液量）の関係を満たしている。即ち、多段槽７０から貯蔵槽７６への流量よりも貯蔵槽７６から多段槽７０への流量の方が小さくなるように制御される。
【００８９】
また、ポンプＰ１の送液量とポンプＰ２の送液量とは、（ポンプＰ１の送液量）＞（ポンプＰ２の送液量）の関係を満たしている。即ち、多段槽７０からフィルタ４０への流量よりも多段槽７０から貯蔵槽７６への流量の方が小さくなるように制御される。
【００９０】
このように、処理液内の異物が多いと判断された場合には、この処理液は貯蔵槽７６を介して多段槽７０に戻される。このとき、ポンプＰ３の送液量をポンプＰ２の送液量よりも小さくすることで流速を落とし、貯蔵槽７６での滞留時間を延ばすことで、貯蔵槽７６での異物の沈殿を促進することができる。このように、貯蔵槽７６は、多段槽７０への戻り流量を下げるための貯留槽として機能するとともに、処理液内の異物を沈殿させる沈殿槽としても機能する。
【００９１】
また、貯蔵槽７６においては、液面検出センサＳ２が処理液の水面を検出している。制御部は、液面検出センサＳ２が、貯蔵槽７６に貯留された処理液の液面の位置が貯蔵槽７６に貯蔵可能な上限に達したことを検出したか否かを判定する（ステップＳｔ９）。
【００９２】
貯蔵可能な上限に達していない場合には、処理を終了する。貯蔵可能な上限に達した場合には、ポンプＰ２、Ｐ３を停止し、警告を発生する（ステップＳｔ１０）。警告は、表示部（不図示）に表示してもよいし、警告音による報知を行ってもよい。
【００９３】
このように、処理液内の異物が多く、多段槽７０における異物の除去能力では処理しきれない場合には、貯蔵槽７６に貯留された処理液が貯蔵可能な上限に達する。この場合には、処理液内に異物が多く、貯蔵槽７６が満杯となったことをユーザに報知する。
【００９４】
上記の処理を、所定時間毎に行う。
【００９５】
図１１は、時間の経過における異物センサＳ１の検出結果と流路切り替え弁Ｖの制御を示す図である。
【００９６】
時間ｔ０において、低下光量の積算値Σｙはリセットされているものとする。
【００９７】
時間ｔ１において、受光部７３ｂの低下光量ｙはｙ１である。ここで、ｙ１＜αであるので、流路切り替え弁Ｖの電磁バルブＶ１は開弁状態、電磁バルブＶ２は閉弁状態とされる。同時にポンプＰ１が駆動され、処理液はフィルタ４０に送液される。また、Σｙにｙ１が加算される。
【００９８】
同様に、時間ｔ２、ｔ３及びｔ４において、受光部７３ｂの低下光量ｙは、それぞれαより小さい。したがって、引き続き流路切り替え弁Ｖの電磁バルブＶ１は開弁状態、電磁バルブＶ２は閉弁状態とされ、ポンプＰ１が駆動される。これにより、処理液はフィルタ４０に送液される。また、Σｙにはｙ２、ｙ３、ｙ４が加算される。
【００９９】
次に、時間ｔ５において、受光部７３ｂの低下光量ｙはｙ５である。ここで、ｙ５＞αであるので、流路切り替え弁Ｖの電磁バルブＶ１は閉弁状態、電磁バルブＶ２は開弁状態とされる。また、ポンプＰ１が停止され、ポンプＰ２、Ｐ３が駆動される。これにより、処理液は貯蔵槽７６に送液される。なお、時間ｔ４からｔ５においてフィルタ４０に処理液が送液されていることから、Σｙにｙ５を加算する。
【０１００】
同様に、時間ｔ６及びｔ７において、受光部７３ｂの低下光量ｙは、それぞれαより大きい。したがって、引き続き流路切り替え弁Ｖの電磁バルブＶ１は閉弁状態、電磁バルブＶ２は開弁状態とされ、ポンプＰ２、Ｐ３が駆動される。これにより、処理液は貯蔵槽７６に送液される。この間は、フィルタ４０には処理液が送液されていないので、ｙ０６、ｙ７はΣｙには積算されない。
【０１０１】
続いて、時間ｔ８において、受光部７３ｂの低下光量ｙは、ｙ８である。ここで、ｙ８＜αであるので、流路切り替え弁Ｖの電磁バルブＶ１は開弁状態、電磁バルブＶ２は閉弁状態とされる。また、ポンプＰ２、Ｐ３が停止され、ポンプＰ１が駆動される。これにより、処理液はフィルタ４０に送液される。また、Σｙにｙ８が加算される。
【０１０２】
このように、流路切り替え弁Ｖ及びポンプＰ１、Ｐ２、Ｐ３が制御される。また、処理液がフィルタ４０に送液されている間、受光部７３ｂの低下光量を積算することで、フィルタ４０に捕捉される異物量を算出することができる。
【０１０３】
図１２に、時間の経過における積算値Σｙの変化の一例を示す。同図に示すように、時間の経過と共に、積算値Σｙが増加していく。時間ｔ１０において積算値Σｙが閾値ｙｍａｘに達すると、警告が発生する。その後、時間ｔ１１においてフィルタ交換又はフィルタ清掃が行われると、積算値Σｙはリセットされ、再び０から積算を開始する。
【０１０４】
〔液体付与装置の全体構成〕
図１３は、上記の異物除去装置が適用された塗布装置１００の概略構成を示す全体構成図である。同図に示す塗布装置１００は、被塗布媒体（不図示）に塗布液（処理液）を塗布する塗布部１１２（付与手段に相当）と、塗布部１１２が塗布する塗布液を収容する塗布皿１２４（収容部に相当）と、塗布皿１２４内の塗布液をサブタンク１３２へ送液する循環流路１６４、及びサブタンク１３２内の塗布液を塗布皿１２４へ供給する液供給路１３６（循環流路に相当）と、循環する塗布液の異物を除去するフィルタ装置１６６と、を含んで構成されている。
【０１０５】
（塗布部の説明）
塗布部１１２は、被塗布媒体を固定保持して搬送する圧胴１２０と、被塗布媒体に接触させて塗布液を塗布する塗布ローラ１２２と、塗布皿１２４に溜められた塗布液を計量して塗布ローラ１２２へ転写（供給）するアニロックスローラ（計量ローラ）１２６と、を備えている。
【０１０６】
圧胴１２０は不図示の駆動機構と連結され、該駆動機構の動作に応じて所定方向（図中符号Ｃを付した反時計回り方向）へ回転動作する。圧胴１２０の外周面に固定保持被塗布媒体は、圧胴１２０の回転動作に応じて圧胴１２０の外周面に沿って搬送される。
【０１０７】
塗布ローラ１２２は、不図示の駆動機構と連結され、該駆動機構の動作に応じて所定方向（図中符号Ｄを付した時計回り方向）へ回転動作する。塗布ローラ１２２の回転速度は、圧胴１２０の接触位置における線速度が圧胴１２０と一致するように決められている。
【０１０８】
また、塗布ローラ１２２は、被塗布媒体に対して塗布液の塗布を行う塗布時には、被塗布媒体（圧胴１２０）を所定の圧力により押圧し、塗布液の塗布を行わない非塗布時には、圧胴１２０から離間させるように圧胴１２０との相対位置が制御される。符号Ｅを付した白抜き矢印線は、圧胴１２０の押圧方向及び離間方向を表している。
【０１０９】
塗布皿１２４は、液供給部１１４から供給された塗布液が溜められる貯留部１２４Ａと、貯留部１２４Ａから溢れた塗布液が収容される収容部１２４Ｂと、貯留部１２４Ａと収容部１２４Ｂとを区画する区画壁１２４Ｃと、区画壁１２４Ｃに設けられた開口部１２４Ｄとを有している。
【０１１０】
液供給部１１４から供給された塗布液の水面が区画壁１２４Ｃの開口部１２４Ｄに達すると、貯留部１２４Ａから収容部１２４Ｂへ塗布液が溢れ出すので、貯留部１２４Ａに貯留される塗布液の水位が一定に保たれる。貯留部１２４Ａの塗布液の水位を一定に保つことで、アニロックスローラ１２６による塗布液の計量のばらつきが防止される。
【０１１１】
収容部１２４Ｂへ溢れ出した塗布液は、不図示の排出口と連通される循環流路１６４を介して液供給部１１４（サブタンク１３２）へ戻される。
【０１１２】
貯留部１２４Ａの底面１２４Ｅは、不図示の排出口が設けられており、該排出口を介して貯留部１２４Ａに貯留される塗布液を外部へ排出することができる。
【０１１３】
アニロックスローラ１２６は、表面に所定の体積を有するセル（不図示）が多数形成された構造を有し、該セルの中に保持された塗布液が塗布ローラ１２２へ供給される。アニロックスローラ１２６を一定速度で回転させることで（符号Ｆを付した矢印線により回転方向を図示）、塗布皿１２４内の塗布液を一定量計量しながらくみ上げることができる。
【０１１４】
（液供給部の説明）
次に、液供給部１１４について詳述する。図１３に示すように、液供給部１１４は、メインタンク１３０と、サブタンク１３２と、液供給路１３６と、循環流路１６４と、廃液タンク１７２と、排出流路１７４と、を備えている。
【０１１５】
メインタンク１３０は塗布液が貯留されており、フィルタ１３０Ａが内蔵されている。メインタンク１３０は、補充流路１３３及び補充流路１３３に設けられた補充ポンプ１３４を介してサブタンク１３２と連通している。
【０１１６】
サブタンク１３２内の塗布液量が所定量未満になると、補充ポンプ１３４を動作させてメインタンク１３０からサブタンク１３２へ塗布液が補充される。
【０１１７】
サブタンク１３２は、液供給路１３６を介して塗布部１１２（塗布皿１２４）と連通されている。サブタンク１３２は、フィルタ１３２Ａが内蔵されるとともに、収容されている塗布液量を検出するための液量センサ（不図示）が設けられている。
【０１１８】
液供給路１３６は、供給バルブ１３８、供給ポンプ１４０が設けられている。供給バルブ１３８が開かれた状態で供給ポンプ１４０を動作させると、サブタンク１３２から塗布部１１２へ塗布液が供給される。
【０１１９】
液供給路１３６は、供給バルブ１３８と供給ポンプ１４０との間において、フィルタ１４２Ａが内蔵される希釈液タンク１４２と連通される希釈液流路１４４が接続されている。希釈液流路１４４には希釈液流路バルブ１４６が設けられており、供給バルブ１３８が閉じられて希釈液流路バルブ１４６が開かれると、塗布液に代わり希釈液が塗布部１１２へ供給される。
【０１２０】
液供給路１３６は、液供給路１３６内の塗布液の濃度を検出するための濃度計１４８と、液供給路１３６内の塗布液の温度を検出する温度センサ１５２と、液供給路１３６内の温度調整を行うヒータ１５６が設けられている。
【０１２１】
液供給路１３６内の塗布液は、濃度計１４８によって濃度が監視され、所定の濃度範囲が維持されるように管理される。また、温度センサ１５２によって温度が監視され、所定の温度範囲が維持されるように、温度が管理される。
【０１２２】
循環流路１６４は、液供給部１１４からサブタンク１３２へ塗布液を循環させるための流路であり、液供給部１１４（塗布皿１２４）と連通している循環流路１６４から分岐されている。
【０１２３】
塗布皿１２４と連通する循環流路１６４は、貯留部１２４Ａの排出口と連通する流路に設けられる第１循環バルブ１６０と、収容部１２４Ｂの底面に設けられる第２循環バルブ１６２が設けられるとともに、フィルタ装置１６６、循環ポンプ１６８が設けられている。
【０１２４】
第２循環バルブ１６２が開かれた状態で循環ポンプ１６８を動作させると、フィルタ装置１６６、循環ポンプ１６８を介して塗布液がサブタンク１３２へ戻される。
【０１２５】
供給ポンプ１４０の送液量と循環ポンプ１６８の送液量とは、（供給ポンプの送液量）＞（循環ポンプの送液量）の関係を満たしている。即ち、アニロックスローラ１２６が浸された貯留部１２４Ａは、塗布液がオーバーフローした状態で使用される。貯留部１２４Ａからオーバーフローした塗布液は、収容部１２４Ｂを介して循環ポンプ１６８により回収され、サブタンク１３２へ戻され、再使用される。
【０１２６】
塗布皿１２４からオーバーフローした塗布液は、一般的な汚れや塗布装置１００の後段の処理工程において、被塗布媒体をスタックする際のブロッキングの発生を抑制するためのパウダーなどが混入している。
【０１２７】
したがって、塗布部１１２から回収された塗布液は、混入している汚れやパウダーなどがフィルタ装置１６６によって除去された後に、サブタンク１３２へ送られる。
【０１２８】
図１３に示すフィルタ装置１６６は、先に説明した異物除去装置１０、１２、１４、又は１６が適用される。ここで、異物除去装置１０、１６の第１の流路３０、異物除去装置１２、１４の第１の流路３６が、循環流路１６４に相当する。また、異物除去装置１０、１２、１４、又は１６の処理液は、塗布装置１００の塗布液に相当する。
【０１２９】
なお、異物除去装置１６が適用される場合には、循環ポンプ１６８は省略することができる。
【０１３０】
また、塗布皿１２４の貯留部１２４Ａ及び収容部１２４Ｂは、排出流路１７４を介して廃液タンク１７２と連通される。排出流路１７４にはドレインバルブ１７０及び排出ポンプ１７６が設けられており、ドレインバルブ１７０が開かれた状態で排出ポンプ１７６を動作させると、貯留部１２４Ａ及び収容部１２４Ｂの塗布液は、廃液タンク１７２へ送られる。
【０１３１】
なお、図１３に図示された構成以外の構成を適宜付加してもよいし、図１３に図示された構成を適宜削除することも可能である。
【０１３２】
図１４は、図１３に示す塗布装置１００の制御系の概略構成を示すブロック図である。
【０１３３】
システム制御部２００は、塗布装置１００を統括的に制御する手段であり、塗布制御部２２０、バルブ制御部２３０、ポンプ制御部２４０、及びヒータ制御部２６０へ制御指令信号を送出する。
【０１３４】
警告部２１０は、フィルタ４０の詰まりの警告や、貯蔵槽７６の処理液の液面が貯蔵可能な上限に達した場合の警告を行う。警告部２１０は、モニタ等の表示手段でもよいし、警告音の発音手段であってもよい。
【０１３５】
塗布制御部２２０は、塗布部１１２（塗布ローラ１２２）の動作を制御する。即ち、塗布ローラ１２２の回転制御、押圧制御、アニロックスローラ１２６の回転制御、圧胴１２０の回転制御は、塗布制御部２２０によって行われる。
【０１３６】
バルブ制御部２３０は、システム制御部２００の制御指令信号に基づいて、供給バルブ１３８、希釈液流路バルブ１４６、第１循環バルブ１６０、第２循環バルブ１６２、及びドレインバルブ１７０等のバルブの開閉を制御する。
【０１３７】
また、バルブ制御部２３０は、異物センサＳ１の検出結果に基づいて、流路切り替え弁Ｖの電磁バルブＶ１、Ｖ２の開閉を制御する。
【０１３８】
ポンプ制御部２４０は、システム制御部２００の制御指令信号に基づいて、補充ポンプ１３４、供給ポンプ１４０、及び循環ポンプ１６８等のポンプの動作（オンオフ、回転数、回転方向等）を制御する。
【０１３９】
また、ポンプ制御部２４０は、液面検出センサＳ２の検出結果に基づいて、ポンプＰ１、Ｐ２、Ｐ３の動作を制御する。
【０１４０】
濃度計１４８により取得された塗布液の濃度情報は、システム制御部２００へ送られる。システム制御部２００は、塗布液の濃度情報に基づいて希釈液の供給を制御する。
【０１４１】
温度センサ１５２により取得された塗布液の温度情報は、システム制御部２００へ送られる。システム制御部２００は、塗布液の温度情報に基づいてヒータ１５６の制御指令信号をヒータ制御部２５０へ送出する。ヒータ制御部２５０は、該制御指令信号に基づいてヒータ１５６の動作を制御する。
【０１４２】
なお、図１４に図示された構成以外の構成を付加することも可能である。例えば、ユーザインターフェイスとして機能する操作部（キーボード、マウス、タッチパネル等）や、各種情報が表示されるモニタ装置を備えることも可能である。
【０１４３】
また、図１３に図示した塗布装置１００から、液供給部１１４の構成を分離させて液供給装置として構成する形態も可能である。
【０１４４】
以上説明した塗布装置１００は、記録媒体上で処理液とインクとを反応させて、インクに含まれる色材を凝集又は不溶化させる二液方式のインクジェット記録装置に適用することができる。
【０１４５】
即ち、二液方式のインクジェット記録装置における、カラーインクが打滴される前工程として、記録媒体の全面に処理液（酸性液）を均一に塗布する処理塗布部として構成することも可能である。
【０１４６】
これによれば、記録媒体の記録面に異物が混入していない処理液を付与することができるため、記録ヘッドによる高品質な記録を行うことができる。
【０１４７】
本発明の技術的範囲は、上記実施形態に記載の範囲には限定されない。各実施形態における構成等は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、各実施形態間で適宜組み合せることができる。
【符号の説明】
【０１４８】
１０，１２，１４，１６…異物除去装置、２０…第１の沈殿槽、２０ａ…オーバーフロー路、２２…第２の沈殿槽、２４…第３の沈殿槽、３０，３６…第１の流路、３４…第２の流路、３８…遮蔽板、４０…フィルタ、７０…多段槽、７３ａ…投光部、７３ｂ…受光部、７４…第３の流路、７６…貯蔵槽、１００…塗布装置、１１２…塗布部、１２４…塗布皿、１３２…サブタンク、１６６…フィルタ装置、Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３…ポンプ、Ｓ１…異物センサ、Ｓ２…液面検出センサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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