(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性の基材と、
前記基材のうち、基節骨底から中足指節関節に至るまでにほぼ対応する領域に設けられた第１隆起部と、
前記基材のうち第２中足骨頭にほぼ対応する領域が頂きとなるように設けられた第２隆起部と、を備える
ハイヒール靴用インソール。
【請求項２】
前記基材のうち母指球及び小指球にほぼ対応する領域に、前記第１隆起部及び前記第２隆起部に対する窪み部をさらに備える、
請求項１に記載のハイヒール靴用インソール。
【請求項３】
前記第１隆起部から、各末節骨にほぼ対応する領域に向かって形成される斜面の、水平に対する俯角の傾斜角度が３０°以上６０°以下である、
請求項１又は請求項２に記載のハイヒール靴用インソール。
【請求項４】
前記基材のうち第１中足骨頭の後方乃至第５中足骨頭の後方にほぼ対応する領域に設けられた溝をさらに備える、
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のハイヒール靴用インソール。
【請求項５】
前記基材が、各末節骨の先端から第２中足骨底に至るまでにほぼ対応する領域の長さを有する、
請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のハイヒール靴用インソール。
【請求項６】
前記基材が、外側縦アーチにほぼ対応する領域に設けられた外側隆起部と、内側縦アーチにほぼ対応する領域に設けられた内側隆起部とをさらに備え、
前記外側隆起部よりも、前記内側隆起部の方が高い、
請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のハイヒール靴用インソール。
【請求項７】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のインソールを備えた、
ハイヒール靴。
【請求項８】
基節骨底から中足指節関節に至るまでにほぼ対応する領域に設けられた第１隆起部と、
第２中足骨頭にほぼ対応する領域が頂きとなるように設けられた第２隆起部と、を備える、
ハイヒール靴。
【請求項９】
外側アーチ部にほぼ対応する領域に設けられた外側隆起部と、内側アーチ部にほぼ対応する領域に設けられた内側隆起部とをさらに備え、
前記外側隆起部よりも、前記内側隆起部の方が高い、
請求項８に記載のハイヒール靴。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハイヒール靴用インソール及びハイヒール靴に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ハイヒール靴を利用する女性の足に対するケアの重要性が注目されている。ハイヒール靴を履くことによって生じ得る代表的な問題の一つは、外反母趾の発症および増悪である。一般的に、外反母趾は、第一中足骨が内反、母趾が外反することであり、第１中足趾節関節の関節構成体へのストレスで痛みが生じるものである。誤った体の使い方が母趾に負担が生じさせるのが外反母趾の主たる原因であるが、女性の場合は日常的に先細りの靴を履くことにより外反母趾が生じることも多い。ハイヒールにおいては、前足部に荷重がかかる事から、その影響が顕在化しやすい。代表的なもう一つの問題は、ハイヒール靴を履き続けることによる一般的な健康被害が生じることである。単に足への負担が増えるのみならず、膝、腰、又は肩といった足以外の箇所の疲労等の影響が考えられるため、身体への負担を軽減させたハイヒール靴を提供することは喫緊の技術課題といえる。
【０００３】
これまでも、ハイヒール靴を対象として、足等への負担軽減を図るために形状や素材が改変されたインソールやアーチ状支持部を備えた靴が開発されている（例えば、特許文献１および２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−３１２８２２号公報
【特許文献２】特開２００４−１６６８１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、これまでのインソール等は、その凹凸の形成が実際の利用者の履き心地や負担軽減に確度高く沿ったものではなかったため、依然として利用者に違和感を残すとともに、負担の十分な解消を実現するものではなかった。また、例えば、既に足が扁平足の状態となっている女性にとっても、ハイヒール靴は継続的に使用したい重要なアイテムの一つである。足裏が扁平足の場合、本来人間が備えている地面からの衝撃吸収力が著しく低下するため、特に足や身体への負担が大きくなる。従って、そのような女性に対しても負担を少なくしたハイヒール靴用インソールやハイヒール靴の形状の開発が急務であるが、依然として十分な解決方法が見出されていない。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の少なくとも１つの技術課題を解決することにより、利用者にとってハイヒール靴の履き心地を改善するとともに、身体への負担軽減を確度高く実現することに大きく貢献するものである。
【０００７】
本願発明者らは、従来から採用されてきたハイヒール靴用のインソールやハイヒール靴の形状がなぜ利用者を十分に満足させないのかについて鋭意分析と研究を行った。その結果、意外にもこれまで採用されてきた横アーチの形成のための隆起ないし凸部の形成位置を、それとは異なる場所に移動させるとともに、ハイヒール靴特有の体重負荷を和らげるための足の前方部分のケアを適切に行うことが、上述の技術的課題を解決することに大きく寄与することを本願発明者らは見出した。より具体的には、横アーチを形成するために、第２中足骨と楔状骨の可動性の少なさを最大限に活用することが上述の技術的課題を解決することに大きく寄与することを本願発明者らは見出した。
【０００８】
より具体的には、インソールやハイヒール靴の形状が、基本的に２つの隆起を備えていることが上述の技術的課題の解決に大きく寄与することが見出された。その１つは、第２中足骨頭にほぼ対応する領域が頂きとなるような、いわゆる横アーチを形成するための隆起である。ここで、本願発明者らは、第３中足骨や第４中足骨が頂きとなる隆起とは異なり、第２中足骨が頂きとなる隆起が形成されることにより、実際の歩行において適切な横アーチが維持され易いため、人間の足が本来備える足アーチのクッション機能のより適切な発揮を促し、身体の荷重による負担が顕著に軽減されることを見出した。特に、外反母趾や開張足の症状を持つ人が、元来使っていた第２中足骨頭に略対応する領域における体重の支持割合を増やすことにより、外反母趾や開張足に対する効果的な予防又は改善につながるものと考えられる。もう１つは、各足の第１乃至第５中足骨頭に対応する領域が、ハイヒール靴を履いて歩行する又は歩行しようとするときに前方にシフトないし滑ってしまう(以下、総称して「シフト」という。)現象を、抑制又は防止するための隆起である。この隆起が、特にハイヒール靴を履いているときの足の痛みや疲れを含む身体への負担軽減に寄与することが見出された。さらに、その隆起が第２中足骨頭を支えるだけでも、前方へのシフトに対して使われていた力が足の縦アーチの形成に活用されるようになるため、結果として高い縦アーチも形成され得る。本発明はこのような知見に基づいて創出された。
【０００９】
本発明の１つのハイヒール靴用インソールは、可撓性の基材と、その基材のうち、基節骨底から中足指節関節に至るまでにほぼ対応する領域に設けられた第１隆起部と、その基材のうち第２中足骨頭にほぼ対応する領域が頂きとなるように設けられた第２隆起部とを備える。
【００１０】
このハイヒール靴用インソールによれば、まず、第１隆起部の存在及びその可撓性により、ハイヒール靴を履いて歩行する又は歩行しようとするときに前方にシフトしてしまう現象を抑制又は防止することができる。その結果、特にハイヒール靴を履いているときの足の痛みや疲れを含む身体への負担軽減が図られる。また、第２隆起部の存在及びその可撓性により、実際の歩行において適切な横アーチが維持され易いため、身体の荷重による負担が顕著に軽減され得る。
【００１１】
また、本発明の１つのハイヒール靴は、基節骨底から中足指節関節に至るまでにほぼ対応する領域に設けられた第１隆起部と、第２中足骨頭にほぼ対応する領域が頂きとなるように設けられた第２隆起部とを備える。
【００１２】
このハイヒール靴によっても、まず、第１隆起部の存在及びその可撓性により、ハイヒール靴を履いて歩行する又は歩行しようとするときに前方にシフトしてしまう現象を抑制又は防止することができる。その結果、特にハイヒール靴を履いているときの足の痛みや疲れを含む身体への負担軽減が図られる。また、第２隆起部の存在及びその可撓性により、実際の歩行において適切な横アーチが維持され易いため、身体の荷重による負担が顕著に軽減され得る。
【００１３】
ところで、本出願において、「ハイヒール靴」の「ハイ」とは、そのヒールの高さを特に限定するものではないが、代表的には、ヒールの高さが３０ｍｍ以上のものが該当する。また、本出願における「ハイヒール靴」とは、製品名や商品名として「ハイヒール」又は「ハイヒール靴」と表記されているものに限定されず、代表的には、いわゆる「ブーツ」、「パンプ（又はパンプス）」、「サンダル」、「ミュール（又はヒールミュール）」、及び「ローファー（又はヒールローファー）」と呼ばれる靴も含まれる。また、「中足指節関節」は「中足趾節関節」とも表記される場合があるが、本出願では、統一的に「中足指節関節」を採用する。加えて、本出願では「趾」という表記に代わりに「指」という表記を採用する。また、本出願において、「中足指節関節」とは、各中足骨頭と各基節骨底との間の関節を意味する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の１つのハイヒール靴用インソール（以下、簡略的に「インソール」ともいう。）によれば、特にハイヒール靴を履いているときの足の痛みや疲れを含む身体への負担軽減が図られる。
【００１５】
また、本発明の１つのハイヒール靴よれば、特にハイヒール靴を履いているときの足の痛みや疲れを含む身体への負担軽減が図られる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１Ａ】本発明の第１の実施形態におけるインソールの全体的な形状を示す、（ａ）平面図、（ｂ）右側面図、（ｃ）Ｂ−Ｂ端面図、（ｄ）Ａ−Ａ端面図、（ｅ）Ｃ−Ｃ端面図、（ｆ）Ｇ−Ｇ端面図、（ｇ）正面図、（ｈ）Ｄ−Ｄ端面図、（ｉ）Ｅ−Ｅ端面図、（ｊ）Ｆ−Ｆ端面図である。
【図１Ｂ】本発明の第１の実施形態におけるインソールの斜視図である。
【図２Ａ】本発明の第１の実施形態におけるインソールと人間の足又は骨との、平面視における相対的な位置関係を示す模式図である。
【図２Ｂ】人間の足の骨の平面視における模式図（いわゆる「水平面」を示す図）である。
【図３Ａ】図２ＡにおけるＪ−Ｊ断面図（いわゆる「矢状面」を示す図）である。
【図３Ｂ】図２ＡにおけるＫ−Ｋ端面図である。
【図３Ｃ】図２ＡにおけるＬ−Ｌ端面図である。
【図３Ｄ】図２ＡにおけるＭ−Ｍ端面図である。
【図３Ｅ】図２ＡにおけるＮ−Ｎ端面図である。
【図４】人間の足の中足骨頭部における、本実施形態のインソールと人間の足との相対的な位置関係（いわゆる横アーチ）を示す正面断面図（いわゆる「前額面」を示す図）である。
【図５Ａ】本発明の第２の実施形態におけるインソールの全体的な形状を示す平面図である。
【図５Ｂ】本発明の第２の実施形態におけるインソールの全体的な形状を示す斜視図である。
【図６Ａ】図５ＡにおけるインソールのＰ−Ｐ端面図である。
【図６Ｂ】図５ＡにおけるインソールのＱ−Ｑ端面図である。
【図７】本発明の第２の実施形態におけるインソールと人間の足又は骨との、平面視における相対的な位置関係を示す模式図である。
【図８】本発明の第３の実施形態におけるインソールの全体的な形状を示す平面図である。
【図９】本発明の第３の実施形態におけるインソールと人間の足又は骨との、平面視における相対的な位置関係を示す模式図である。
【図１０】図９におけるインソールのＲ−Ｒ端面図である。
【図１１】本発明のその他の実施形態におけるインソールの全体的な形状を示す平面図である。
【図１２Ａ】本発明のその他の実施形態におけるインソールの全体的な形状を示す平面図である。
【図１２Ｂ】本発明のその他の実施形態におけるインソールの全体的な形状を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の実施形態を、添付する図面に基づいて詳細に述べる。なお、この説明に際し、全図にわたり、特に言及がない限り、共通する部分には共通する参照符号が付されている。また、図中、本実施形態の要素は必ずしも互いの縮尺を保って記載されるものではない。さらに、各図面を見やすくするために、一部の符号を省略する。また、以下の各実施形態では、便宜上、右足用か左足用かのいずれか一方のみのインソール又は靴について説明される。従って、他方のインソール又は靴については、左右対称であるそれらの形態の特徴から、説明が省略され得る。
【００１８】
＜第１の実施形態＞
図１Ａは、本実施形態におけるインソール１００（右足用）の全体的な形状を示す平面図、側面図及び端面図である。なお、図１Ａ中の点線は、インソール１００における突出領域９６の説明の便宜上描かれている。また、図１Ｂは、本実施形態におけるインソール１００の斜視図である。また、図２Ａは、本実施形態のインソール１００と人間の足９００又は骨との、平面視における相対的な位置関係を示す模式図である。図２Ａ中の点線は、インソール１００を備えたハイヒール靴の靴底の輪郭を示している。また、図２Ｂは、人間の足の骨の平面視における模式図である。なお、本出願においても、医学的な表記方法と同様に、図２Ｂに示すように、親指から小指に掛けて１から５までの番号が与えられる。加えて、図３Ａは、図２ＡにおけるＪ−Ｊ断面図であり、図３Ｂないし図３Ｅは、それぞれ図２ＡにおけるＫ−Ｋ端面図ないしＮ−Ｎ端面図である。より具体的には、図３Ａないし図３Ｅは、それぞれ、人間がハイヒール靴を履いた際の人間の足の第１指ないし第５指と本実施形態のインソール１００との接触状態を示す模式的断面図又は模式的端面図である。なお、特に図３Ｂ乃至図３Ｅにおいては、図面を見易くするために、図２Ａにおける各端面（Ｋ〜Ｎ）に対応する指の指骨及び中足骨のみを抽出して模式的に示している。また、図４は、人間の足の中足骨頭部における、本実施形態のインソール１００と人間の足との相対的な位置関係を示す正面断面図である。
【００１９】
本実施形態のインソール１００は、ポリウレタンからなるゲル状弾性体によって一体に成形されている。従って、本実施形態のインソール１００は全体的に適度な可撓性を備えている。図１Ａ及び図２Ａに代表的に示すように、本実施形態のインソール１００は、機能面の観点から大きく３つの領域に分類される。なお、本実施形態のインソール１００の表面側（平面側）は足裏に当接し、その裏面側（底面側）は靴底に当接する。また、本実施形態のインソール１００の裏面上には、ハイヒール靴の靴底面上にインソール１００を固定させるための公知の粘着材（本実施形態では、ポリウレタン系接着材）が設けられている。また、通常、ハイヒール靴内に設置されるまでは、その粘着性を失わせるための透明のフィルム（本実施形態では、ポリウレタン系フィルム）がインソール１００の裏面を覆っている。
【００２０】
その１つ目は、人間の足の基節骨底から中足指節関節に至るまでにほぼ対応する領域に設けられた第１隆起部１０が形成された領域である。２つ目は、人間の足の第２中足骨頭にほぼ対応する領域が頂きとなるように設けられた第２隆起部２０が形成された領域である。３つ目は、第１中足骨頭及び母指球にほぼ対応する領域に設けられた第１隆起部１０及び第２隆起部２０に対する第１指用窪み部３２と、第５中足骨頭及び小指球にほぼ対応する領域に設けられた第１隆起部１０及び第２隆起部２０に対する第５指用窪み部３４である。そして、第１隆起部１０、第２隆起部２０、第１指用窪み部３２、及び第５指用窪み部３４が、いずれも基材９０上に一体的に形成されている。
【００２１】
さらに細部について見ると、本実施形態の第１隆起部１０は、図１Ａに示すように、第１指から第５指に至るまで先端９２からの急峻な上りの傾斜によって形成されている。本実施形態のインソール１００では、先端９２の厚みが約０．５ｍｍ〜約０．６５ｍｍである。一方、第１隆起部１０の厚みについては、図１Ａ（ｄ）に示すように、第２指に対応する領域を頂き１２として、その厚み（図１Ａ（ｄ）のｔ）が約３．５ｍｍであり、その他の領域の隆起１４の厚みが約３．３ｍｍないし約３．５ｍｍである。
【００２２】
ここで、上述の急峻な傾斜は、言い換えれば、第１隆起部１０から各末節骨にほぼ対応する領域に向かって形成される下りの傾斜である。この傾斜の水平に対する俯角の傾斜角度は、約４５°である。この第１隆起部１０の存在により、ハイヒール靴を履いて歩行する又は歩行しようとするときに前方にシフトする現象が適切に抑制又は防止され得る。また、前述の第１隆起部１０から各末節骨にほぼ対応する領域に向かって形成される下りの傾斜角度が３０°以上６０°以下であることは好ましい一態様である。というのも、一般的に、ハイヒール靴を常用する人の足は、鷲爪趾変形を引き起こす可能性がある。しかしながら、本実施形態のインソール１００は、前述の下りの傾斜角度の範囲の第１隆起部１０を有しているため、足の筋肉への悪い影響が緩和され、結果として鷲爪趾変形に対する予防効果が得られうる。また、筋肉への影響に加えて、各指の基節骨や中節骨、あるいは末節骨に対応する領域の、特に関節への負担が軽減され得る。
【００２３】
具体的には、図３Ａないし図３Ｅに示すように、ハイヒール靴を履いて歩行する又は歩行しようとするとき、人間の重さが加わることによって第１隆起部１０の後端９４側の領域、より詳細には各中足骨頭のほぼ先端に対応する足に接する領域がより深く押し込まれる。その結果、より際立って、第１隆起部１０が人間の足の基節骨底から中足指節関節に至るまでに形成されることになるため、上述の各効果が奏される。
【００２４】
ところで、可撓性の基材９０の存在により、第１隆起部の頂き１２は、厳密に各指の基節骨底から中足指節関節に至るまでにほぼ対応する領域に形成される必要はない。むしろ、第１隆起部１０が、各指の基節骨底から中足指節関節に至るまでにほぼ対応する領域の幅を持たせることにより、より容易に個人差に対応させることができる。
【００２５】
次に、本実施形態の第２隆起部２０は、上述のとおり、第２中足骨頭にほぼ対応する領域が第２隆起部の頂き２２となるように設けられている。そして、第２隆起部２０は、後述する第１指用窪み部３２、第５指用窪み部３４、及び溝４０を除いて、後端９４に至るまでの緩やかな傾斜面、換言すれば、第２隆起部の頂き２２以外の隆起２４を有している。特に、本実施形態のインソール１００は、第３中足骨や第４中足骨が頂きとなる隆起とは異なり、第２中足骨が頂きとなる隆起が形成されている。図４に示すように、この第２隆起部２０の存在により実際の歩行において適切な横アーチが維持され易いため、人間本来が備える足のクッション機能が適切に発揮され、身体の荷重による負担が顕著に軽減され得る。また、この第２隆起部２０は、いわゆる外反母趾に対する効果的な予防又は改善につながるものと考えられる。
【００２６】
なお、本実施形態のインソール１００では、第１隆起部１０と第２隆起部２０とが連続した隆起部を形成している。しかしながら、図３Ｂに示すように、人間の重さが加わると、インソール１００の可撓性によって特に第２中足骨頭のほぼ先端に対応する足に接する領域が押し込まれるため、第２についても実質的に第１隆起部１０の役割が果たされることになる。
【００２７】
また、本実施形態の第１指用窪み部３２及び第５指用窪み部３４は、それぞれ、第１中足骨頭の足底面の軟部組織である母指球及び第５中足骨頭の足底面の軟部組織である小指球にほぼ対応する領域に形成されている。本実施形態の第１指用窪み部３２及び第５指用窪み部３４の厚みはいずれも１．５ｍｍである。ところで、本実施形態では、例えば開張足の場合は、第２中足骨頭にほぼ対応する領域において体重が支持されるため、第２隆起部２０を厚めに設定することにより、いわゆるクッション機能と前方へのシフトの防止機能を発揮させている。加えて、第１指用窪み部３２及び第５指用窪み部３４が第１隆起部１０及び第２隆起部２０と比較して有意に厚みが薄く形成されているため、例えば外反母趾に苦しむ人にとっては、母指球における過剰な体重支持が防止され、その痛みが軽減され得る。なお、第１指用窪み部３２及び第５指用窪み部３４の厚みは１ｍｍ以上あることが、前述の負担軽減の実効性を高める観点から好ましい。
【００２８】
加えて、本実施形態では、第１指用窪み部３２から第２隆起部２０を経由して第５指用窪み部３４に至るまで、図１Ａに示すように平面視において曲線状に溝４０が形成されている。より具体的には、溝４０は、第１中足骨頭の後方（かかと側）から第５中足骨頭の後方（かかと側）に至るまでにほぼ対応する領域に設けられている。また、本実施形態におけるその深さは約０．５ｍｍである。
【００２９】
通常、ハイヒール靴内にインソール１００を設置する作業は手探りで行われる場合が多い。そのため、ハイヒール靴の靴底面が傾斜し始める部分（いわゆる、「トゥブレイク」の位置）に溝４０を合わせるようにインソール１００を設置することにより、インソール１００が靴底の曲面に沿って曲がり易くなる。すなわち、溝４０は、その凹凸形状による触感的な作用により、ハイヒール靴内におけるインソール１００設置時の位置合わせの容易化に貢献し得る。また、溝４０の存在により、適切な位置にインソール１００を設置することが可能となるため、上述の第１隆起部１０及び第２隆起部２０の効果が適切に奏される。
【００３０】
なお、本実施形態のインソール１００の場合は、溝４０に加えて、比較的大きな凹状である第１指用窪み部３２及び第５指用窪み部３４の存在も相俟って、ハイヒール靴内におけるインソール１００設置時の位置合わせがさらに容易になる。
【００３１】
また、本実施形態では、第１指用窪み部３２及び第５指用窪み部３４内、第２隆起部２０上に、星状（ａｓｔｒｏｉｄ）又はアスタリスク（ａｓｔｅｒｉｓｋ）の形状を持つ凸部５２ａ，５２ｂ，５２ｃが形成されている。これらの凸部５２ａ，５２ｂ，５２ｃは、ハイヒール靴を履いて歩行する又は歩行しようとするときの足の滑り止め機能を発揮する。加えて、上述のとおり、ハイヒール靴内へのインソール１００の設置作業が手探りで行われる場合が多いため、これらの凸部５２ａ，５２ｂ，５２ｃも、その外観的な装飾効果や注意喚起効果のみならず、その触感的な作用により、ハイヒール靴内におけるインソール１００設置時の位置合わせの容易化に貢献し得る。
【００３２】
なお、上述の凸部５２ａ，５２ｂのいずれか一方又は両方が、上述の溝４０と略同じ位置に形成されることにより、ハイヒール靴内におけるインソール１００の位置合わせの容易化に対してさらに積極的に貢献することになる。このような位置に凸部５２ａ，５２ｂのいずれか一方又は両方を配置することによって得られる効果は、第１指用窪み部３２及び第５指用窪み部３４が形成されていない場合に特に有益である。また、上述の星状（ａｓｔｒｏｉｄ）又はアスタリスク（ａｓｔｅｒｉｓｋ）の形状に代えて、公知の幾何学形状（例えば、矩形、正多角形、円形、又は楕円形）や各種のキャラクターを模った図形を適用することができる。
【００３３】
ところで、本実施形態では、インソール１００の材質がポリウレタンからなるゲル状の軟質弾性体であったが、本実施形態はこの材料に限定されない。例えば、公知の軟質のスチレン系エラストマーや、軟質の塩化ビニル系エラストマーに代表される軟質の高分子化合物も本実施形態のインソールに適用され得る。但し、人体の軟部組織の物性への適合性の観点から、ポリウレタンからなるゲル状弾性体を本実施形態のインソールの材料として採用することが好ましい。なお、上述の各材料は、以下の各実施形態においても適用され得る。
【００３４】
また、本実施形態のインソール１００は、基材９０が、人間の足の各末節骨の先端から第２中足骨底に至るまでにほぼ対応する領域の長さを有している。このような小さい又は短いインソール１００であっても、第１隆起部１０、第２隆起部２０、並びに第１指用窪み部３２及び第５指用窪み部３４のそれぞれの効果が奏されることにより、ハイヒール靴を履いているときの足の痛みや疲れを含む身体への負担軽減が図られることは特筆に値する。この小ささ又は短さは、製造コストの低減、量産性の向上という効果も生み出す。
【００３５】
＜第２の実施形態＞
本実施形態のインソール２００の構造及び使用方法は、第１の実施形態のインソール１００の第１指用窪み部３２、第５指用窪み部３４、及び凸部５２ａ，５２ｂ，５２ｃが形成されていない点を除き、第１の実施形態のインソール１００の構造及び使用方法と同様である。従って、第１の実施形態と重複する説明は省略され得る。
【００３６】
図５Ａは、本実施形態におけるインソール２００の全体的な形状を示す平面図であり、図５Ｂは、本実施形態におけるインソール２００の全体的な形状を示す斜視図である。
また、図６Ａは、図５Ａにおけるインソール２００のＰ−Ｐ端面図であり、図６Ｂは、図５Ａにおけるインソール２００のＱ−Ｑ端面図である。また、図７は、本実施形態のインソール２００と人間の足９００又は骨との、平面視における相対的な位置関係を示す模式図である。
【００３７】
図５Ａ乃至図７に示すように、本実施形態のインソール２００は、第１の実施形態のインソール１００における第１指用窪み部３２、第５指用窪み部３４、及び凸部５２ａ，５２ｂ，５２ｃが形成されていない。従って、インソール２００を備えたハイヒール靴を履いているときに、第１中足骨体及び第５中足骨体が第２隆起部２０に接することになる。
【００３８】
このような場合であっても、第２隆起部２０が、第２中足骨頭にほぼ対応する領域が頂きとなるように設けられているため、実際の歩行において適切な横アーチが維持され易くなる。その結果、人間本来が備える足のクッション機能が適切に発揮され、身体の荷重による負担が顕著に軽減される。また、本実施形態のインソール２００も、第１の実施形態のインソール１００と同様に第１隆起部１０を備えているため、ハイヒール靴を履いて歩行する又は歩行しようとするときに足部全体がインソールの前方にシフトする現象を抑制又は防止することができる。その結果、特にハイヒール靴を履いているときの足の痛みや疲れを含む身体への負担軽減が図られる。
【００３９】
加えて、本実施形態のインソール２００は、第１の実施形態のインソール１００と同様に溝４０を備えている。従って、第１指用窪み部３２、第５指用窪み部３４、及び凸部５２ａ，５２ｂ，５２ｃが無くても、ハイヒール靴の靴底面が傾斜し始める部分に溝４０を合わせるようにインソール２００を設置することにより、上述の第１隆起部１０及び第２隆起部２０の効果が適切に奏される。すなわち、溝４０は、その凹凸形状による触感的な作用により、ハイヒール靴内におけるインソール１００設置時の位置合わせの容易化に貢献し得る。
【００４０】
＜第３の実施形態＞
本実施形態のインソール３００の構造及び使用方法は、第１の実施形態のインソール１００に加えて、いわゆる「内側縦アーチ」を形成するための第３隆起部（内側隆起部）６０と、いわゆる「外側縦アーチ」を形成するための第４隆起部（外側隆起部）７０とが形成されている点を除き、第１の実施形態のインソール１００のそれらと同様である。従って、第１の実施形態と重複する説明は省略され得る。
【００４１】
図８は、本実施形態におけるインソールの全体的な形状を示す平面図である。また、図９は、本実施形態のインソール３００と人間の足９００又は骨との、平面視における相対的な位置関係を示す模式図である。また、図１０は、図９におけるインソール３００のＲ−Ｒ端面図である。なお、図を見易くするために、図１０においてはハイヒール靴の前方の形状を点線で示している。
【００４２】
図８乃至図１０に示すように、本実施形態のインソール３００は、足のつま先から踵の近傍に至るまでの長さを有している。また、本実施形態のインソール３００は、基材３９０上に、内側縦アーチ用の第３隆起部６０と、外側縦アーチ用の第４隆起部７０を備えているため、インソール３００を備えたハイヒール靴を履いているときに、縦アーチ扁平足による足部不安定などによる痛みや疲労を予防又は改善できるとともに、ハイヒール靴内の足の前方へのシフトを防止できる。その結果、足部および下腿筋群への疲労軽減効果が得られる。なお、本実施形態の基材３９０は、第１の実施形態のインソール１００の基材９０の後端９２が踵方向に延設されたものであり、第３隆起部６０と第４隆起部７０以外の特段の隆起や窪みを有しないものである。また、特に、本実施形態のインソール３００においては、図１０に示すように、第４隆起部７０の高さ（図１０におけるｈ２）よりも第３隆起部６０の高さ（図１０におけるｈ１）の方が５ｍｍ程度高い。そのため、内側及び外側の各縦アーチを適切に形成するという効果が積極的に奏され得る。なお、第３隆起部６０の高さを第４隆起部７０の高さに対して３ｍｍ以上５ｍｍ以下高くすることにより、前述の効果がより積極的に奏される。なお、扁平足ではない足の場合、図１０における足の断面位置（Ｒ−Ｒ断面）においては、第３隆起部６０と足とが接しない状態となる。
【００４３】
一般に、ハイヒール靴を履いている場合、歩行や走ることによって足裏に過剰な負担が掛かることがあるため、足裏を傷めてしまうことも少なくない。しかしながら、本実施形態のインソール３００を備えるハイヒール靴によれば、第１隆起部１０、第２隆起部２０に加えて、第３隆起部６０及び第４隆起部７０により、適切な縦アーチと横アーチが形成されるとともに、各足の第１乃至第５中足骨頭に対応する領域の前方への不要なシフトが抑制又は防止される。従って、歩行や走ることによって足裏に過剰な負担が掛かることがなく、足裏を傷めてしまうことも有意に少なくなる。
【００４４】
＜第４の実施形態＞
本実施形態は、第１の実施形態のインソール１００が備える第１隆起部１０と第２隆起部２０とを、靴底面自身が備えているハイヒール靴である。すなわち、インソールを用いずに、ハイヒール靴自身が第１隆起部１０と第２隆起部２０を有する靴底を備えることにより、上述の第１隆起部１０と第２隆起部２０の効果が奏され得る。
【００４５】
本実施形態では、ハイヒール靴の製造段階において、第１隆起部１０と第２隆起部２０とが形成されているため、後発的にインソールを備え付ける作業を要しない点で有益である。その結果、第１隆起部１０により、各足の第１乃至第５中足骨頭に対応する領域が、ハイヒール靴を履いて歩行する又は歩行しようとするときに前方にシフトしてしまう現象が抑制又は防止され得る。さらに、第２隆起部２０により、第２中足骨頭にほぼ対応する領域が頂きとなるような、いわゆる横アーチが適切に形成され得る。
【００４６】
上述の第１隆起部１０と第２隆起部２０を備えることにより、特にハイヒール靴を履いているときの足の痛みや疲れを含む身体への負担軽減が図られる。また、たとえその利用者の足裏が扁平足の場合であっても、本実施形態のハイヒール靴を履くことにより、足や身体への負担の軽減を実現することができる。
【００４７】
なお、本実施形態のハイヒール靴においては、上述の構成に加えて、第３の実施形態のインソール３００における内側縦アーチ用の第３隆起部６０と外側縦アーチ用の第４隆起部７０に相当する隆起部を設けることも他の採用し得る一態様である。これにより、適切な縦アーチと横アーチが形成される。
【００４８】
また、本実施形態のハイヒール靴においては、第１の実施形態のインソール１００と同様に、第１隆起部１０から靴の先端にかけての急峻な下りの傾斜が形成されている。ここで、第１隆起部１０から各末節骨にほぼ対応する領域に向かって形成される下りの傾斜角度が３０°以上６０°以下であれば、足の筋肉への悪い影響が緩和され、結果として鷲爪趾変形に対する予防効果が得られうる。また、既に述べたとおり、筋肉への悪い影響に加えて、各指の基節骨や中節骨、あるいは末節骨に対応する領域の、特に関節への負担が軽減され得る。
【００４９】
＜その他の実施形態＞
ところで、上述の各実施形態のインソールや靴では、上述のとおり、第１隆起部１０から靴の先端にかけての急峻な下りの傾斜が形成されているが、このような急峻な傾斜が形成されていない態様も採用し得る。但し、各指の基節骨や中節骨、あるいは末節骨に対応する領域の、特に関節への負担又はその周囲の筋肉への影響を軽減する観点から言えば、前述の傾斜が形成されることが好ましい。
【００５０】
また、上述の各実施形態のインソールでは、本実施形態のインソール１００では、第１隆起部１０と第２隆起部２０とが連続した隆起部を形成しているが、上述の各実施形態のインソールはこの態様に限定されない。例えば、第１隆起部１０のかかと側（後ろ側）に凹部が形成され、その後ろ側に第２隆起部２０が形成される態様も採用し得る一態様である。すなわち、第１隆起部１０と第２隆起部２０とが連続した隆起部を形成することは必ずしも要しない。但し、第２中側骨頭を積極的に支持することが横アーチの形成とクッション性を高める効果があるため、第１隆起部１０と第２隆起部２０とが連続した隆起部を形成されることが好ましい。
【００５１】
加えて、上述の各実施形態のインソールでは、図１Ａ及び図１Ｂに示すような、第１指用窪み部３２から第２隆起部２０を経由して第５指用窪み部３４に至るまでの溝４０が形成されている。しかし、溝４０が、例えば２つ（二重に）形成されているインソールも、その曲がり易さから、特にヒールの高いハイヒール靴に対しては好適に採用し得る一態様である。別の観点で言えば、上述の各実施形態の溝５０の深さは約０．５ｍｍであったが、基材９０の強度が保たれる限り、その深さをさらに深くすれば、インソールの曲がり易さが高まる。また、溝が途切れることなく形成されていなければならない訳ではない。不連続であっても、上述の各実施形態のインソールが靴底の曲面に沿って曲がり易くなれば、その機能は十分に発揮されている。
【００５２】
また、図１１に示すような、上述の溝４０が形成されていないインソール４００も、他の採用し得る一態様である。但し、上述のとおり、ハイヒール靴内におけるインソール設置時の位置合わせの容易性の観点、及び第１隆起部１０及び第２隆起部２０の効果を適切に発揮させる観点から言えば、溝４０が少なくとも１つ形成されていることが好ましい。
【００５３】
さらに、上述の各実施形態のインソールでは、図１Ａに示す主に第１指が接する突出領域９６が形成されているが、この突出領域９６の面積や突出度合いは、設置されるハイヒール靴に合わせて適宜調整され得る。従って、例えば、図１２Ａ及び図１２Ｂ（図１Ａと同様、各図中の点線は説明の便宜上描かれている）に示すような、突出領域５９６及び第１指用窪み部５３２の面積の小さいインソール５００も、第１隆起部１０と第２隆起部２０とが設けられているかぎり、他の採用し得る一態様である。なお、特に言及するまでもなく、図１２Ａ及び図１２Ｂに示すインソール５００は、左足用である。
【００５４】
なお、上述の各実施形態の開示は、それらの実施形態の説明のために記載したものであって、本発明を限定するために記載したものではない。加えて、各実施形態の他の組合せを含む本発明の範囲内に存在する変形例もまた、特許請求の範囲に含まれるものである。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明のインソール及び靴は、靴や医療の業界において極めて有用である。
【符号の説明】
【００５６】
１０      第１隆起部
１２      第１隆起部の頂き
１４      隆起
２０      第２隆起部
２２      第２隆起部の頂き
２４      第２隆起部の隆起
３２，５３２      第１指用窪み部
３４      第５指用窪み部
４０      溝
５２ａ，５２ｂ，５２ｃ    凸部
６０      第３隆起部
７０      第４隆起部
９０      基材
９２      先端
９４      後端
９６，５９６      突出領域
１００，２００，３００，４００，５００    インソール
９００      人間の足
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図３Ｅ】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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