(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の型と第２の型とを用いて成形材料を成形する成形装置において、
前記第１の型が設置される第１の型設置体と；
前記第２の型が設置され、前記第１の型設置体に対して相対的に移動位置決め自在である第２の型設置体と；
前記第１の型設置体に一体的に設けられた被測定体と、前記被測定体の位置を測定するために前記第２の型設置体に一体的に設けられた変位センサとを備え、前記第１の型設置体に対する第２の型設置体の、前記第１の型設置体に対して相対的に移動する前記第２の型設置体の移動方向と直交する面内方向の位置を測定する測定部と；
を有することを特徴とする成形材料の成形装置。
【請求項２】
請求項１に記載の成形材料の成形装置において、
前記第１の型設置体には、前記第１の型を前記第１の型設置体の所定の位置に設置するための第１の突き当て部が設けられており、
前記第２の型設置体には、前記第２の型を前記第２の型設置体の所定の位置に設置するための第２の突き当て部が設けられていることを特徴とする成形材料の成形装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の成形材料の成形装置において、
前記第１の型設置体は、前記第２の型設置体に対して接近・離反する方向で移動位置決め自在であり、
前記第２の型設置体は、前記第１の型設置体に対して、前記第１の型設置体の移動方向と直交する面内方向で移動位置決め自在であり、
前記測定部は、前記面内方向で、前記第１の型設置体に対する前記第２の型設置体の位置ずれ量を測定するように構成されており、
前記第１の型設置体は、フレームに対して移動位置決め自在な移動体に設けられていることで、前記移動位置決めが自在になっており、
前記第２の設置体は、前記フレームに設けられている移動位置決め装置に設けられていることで、前記移動位置決めが自在になっていることを特徴とする成形材料の成形装置。
【請求項４】
請求項３に記載の成形材料の成形装置において、
前記第１の型設置体は、ロードセルとクーラ部とヒータ部とを介して前記移動体に設けられており、前記第２の設置体は、クーラ部とヒータ部とを介して前記移動位置決め装置に設けられていることを特徴とする成形材料の成形装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載の成形材料の成形装置において、
前記測定部で測定された、前記成形材料を試し成形するときにおける前記第１の型設置体と前記第２の型設置との位置関係をメモリに記憶し、
別途測定された、前記試し成形で成形された成形材料における前記第１の型の成形パターンで形成されたパターンと、前記試し成形で成形された成形材料における前記第２の型の成形パターンで形成されたパターンとの位置ずれ量を、入力手段を介して入力し、
前記成形材料を成形するときに、前記第１の型設置体に対する前記第２の型設置体の位置ずれを無くすべく、前記メモリに記憶されている位置関係と前記入力された位置ずれ量とを用いて、前記第２の型設置体を前記第１の型設置体に対して、前記面内方向で移動位置決めする制御部を有することを特徴とする成形材料の成形装置。
【請求項６】
第１の型と第２の型とを用いて成形材料を成形する成形材料の成形方法において、
前記第１の型と前記第２の型とが所定の距離だけ離れている状態で、前記第１の型、前記第２の型の少なくともいずれかに、硬化前の成形材料を供給する第１の成形材料供給工程と；
前記第１の型と前記第２の型との間の距離が所定の距離になるまで、前記第２の型に対して前記第１の型を相対的に近づける方向に移動して位置決めする第１の型移動工程と；
前記第１の型が一体的に設置されている第１の型設置体に一体的に設けられた被測定体と、前記被測定体の位置を測定するために前記第２の型が一体的に設置されている第２の型設置体に一体的に設けられた変位センサとを用いて、前記第２の型に対する前記第１の型の、前記第１の型設置体に対して相対的に移動する前記第２の型設置体の移動方向と直交する面内方向の位置を測定する型位置測定工程と；
前記第１の成形材料供給工程で供給された成形材料を硬化する第１の成形材料硬化工程と；
前記第１の型と前記第２の型とが所定の距離だけ離れるまで、前記第１の型を前記第２の型から相対的に離し、前記硬化した成形材料を前記各型から取り外す第１の離型工程と；
前記第１の離型工程で前記各型から取り外された成形材料における、第１の型の成形パターンで形成されたパターンと第２の型の成形パターンで形成されたパターンとの間の前記面内方向の位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定工程と；
前記第１の型と前記第２の型とが所定の距離だけ離れている状態で、前記第１の型、前記第２の型の少なくともいずれかに、硬化前の成形材料を供給する第２の成形材料供給工程と；
前記第１の型と前記第２の型との間の距離が所定の距離になるまで、前記第２の型に対して前記第１の型を相対的に近づける方向に移動して位置決めする第２の型移動工程と；
前記型位置測定工程で測定した前記第２の型に対する前記第１の型の前記面内方向の位置と、前記位置ずれ量測定工程で測定した第１の型の成形パターンで形成されたパターンと第２の型の成形パターンで形成されたパターンとの間の前記面内方向の位置ずれ量とを用いて、前記第１の型の成形パターンで形成されたパターンと第２の型の成形パターンで形成されたパターンとの間の前記面内方向の位置ずれを無くすべく、前記第２の型を前記第１の型に対して相対的に移動位置決めするパターンずれ量修正工程と；
前記第２の成形材料供給工程で供給された成形材料を硬化する第２の成形材料硬化工程と；
を有することを特徴とする成形材料の成形方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成形材料の成形装置および成形材料の成形方法に係り、たとえば、上型と下型とを用いて、熱硬化性樹脂等の成形材料を成形するものに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、上型設置体に上型を設置し、下型設置体に下型を設置して、下型と上型とで成形材料を成形する成形装置が知られている。
【０００３】
上記従来の成形装置では、上型と下型とで成形材料を成形する場合、上型に形成されている成形パターン（たとえば複数の凹部）によって成形品に形成されたパターン（たとえば複数の凸部）の位置に対して、下型に形成されている成形パターン（たとえば複数の凹部）によって成形品に形成されたパターン（たとえば複数の凸部）の位置がずれてしまう場合がある。
【０００４】
この位置ずれの原因として、たとえば、上型設置体に設置された上型の位置ずれや下型設置体に設置された下型の位置ずれを掲げることができる。
【０００５】
そこで、従来の成形装置では、カメラを用いて、下型設置体に設置された下型に対する上型設置体に設置された上型の位置ずれ量を測定し、この測定した値に応じて、下型設置体に設置された下型に対する上型設置体に設置された上型の位置ずれを修正している。
【０００６】
なお、上記従来の技術に関する特許文献として、たとえば特許文献１を掲げることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−１９４９８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、カメラで撮影した画像を画像処理することで、下型設置体に設置された下型に対する上型設置体に設置された上型の位置ずれを測定している従来の成形装置では、構成が煩雑でしかも上記測定に時間がかかるという問題がある。
【０００９】
すなわち、カメラを用いて上型と下型とを撮影するためには、上型と下型とが離れている状態で、上型と下型との間にカメラを挿入して、上型（たとえば、上型に設けられているアイマーク）と下型（たとえば、下型に設けられているアイマーク）とを撮影し、この撮影後に、カメラを退避させ、下型に上型を近づける必要がある。
【００１０】
このように、カメラを移動する必要があるので、この移動のための装置が必要となり、成形装置の構成が煩雑になる。また、カメラの移動位置決め等に時間を要するので、測定に時間がかかってしまう。
【００１１】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、上型と下型とを用いて成形材料を成形する成形装置および成形方法において、簡素な構成で上型と下型との位置ずれの測定を従来よりも短時間で行うことができる成形装置および成形方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
請求項１に記載の発明は、第１の型と第２の型とを用いて成形材料を成形する成形装置において、前記第１の型が設置される第１の型設置体と；前記第２の型が設置され、前記第１の型設置体に対して相対的に移動位置決め自在である第２の型設置体と；前記第１の型設置体に一体的に設けられた被測定体と、前記被測定体の位置を測定するために前記第２の型設置体に一体的に設けられた変位センサとを備え、前記第１の型設置体に対する第２の型設置体の、前記第１の型設置体に対して相対的に移動する前記第２の型設置体の移動方向と直交する面内方向の位置を測定する測定部とを有する成形材料の成形装置である。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の成形材料の成形装置において、前記第１の型設置体には、前記第１の型を前記第１の型設置体の所定の位置に設置するための第１の突き当て部が設けられており、前記第２の型設置体には、前記第２の型を前記第２の型設置体の所定の位置に設置するための第２の突き当て部が設けられている成形材料の成形装置である。
【００１４】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の成形材料の成形装置において、前記第１の型設置体は、前記第２の型設置体に対して接近・離反する方向で移動位置決め自在であり、前記第２の型設置体は、前記第１の型設置体に対して、前記第１の型設置体の移動方向と直交する面内方向で移動位置決め自在であり、前記測定部は、前記面内方向で、前記第１の型設置体に対する前記第２の型設置体の位置ずれ量を測定するように構成されており、前記第１の型設置体は、フレームに対して移動位置決め自在な移動体に設けられていることで、前記移動位置決めが自在になっており、前記第２の設置体は、前記フレームに設けられている移動位置決め装置に設けられていることで、前記移動位置決めが自在になっている成形材料の成形装置である。
【００１５】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の成形材料の成形装置において、前記第１の型設置体は、ロードセルとクーラ部とヒータ部とを介して前記移動体に設けられており、前記第２の設置体は、クーラ部とヒータ部とを介して前記移動位置決め装置に設けられている成形材料の成形装置である。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、請求項３または請求項４に記載の成形材料の成形装置において、前記測定部で測定された、前記成形材料を試し成形するときにおける前記第１の型設置体と前記第２の型設置との位置関係をメモリに記憶し、別途測定された、前記試し成形で成形された成形材料における前記第１の型の成形パターンで形成されたパターンと、前記試し成形で成形された成形材料における前記第２の型の成形パターンで形成されたパターンとの位置ずれ量を、入力手段を介して入力し、前記成形材料を成形するときに、前記第１の型設置体に対する前記第２の型設置体の位置ずれを無くすべく、前記メモリに記憶されている位置関係と前記入力された位置ずれ量とを用いて、前記第２の型設置体を前記第１の型設置体に対して、前記面内方向で移動位置決めする制御部を有する成形材料の成形装置である。
【００１７】
請求項６に記載の発明は、第１の型と第２の型とを用いて成形材料を成形する成形材料の成形方法において、前記第１の型と前記第２の型とが所定の距離だけ離れている状態で、前記第１の型、前記第２の型の少なくともいずれかに、硬化前の成形材料を供給する第１の成形材料供給工程と；前記第１の型と前記第２の型との間の距離が所定の距離になるまで、前記第２の型に対して前記第１の型を相対的に近づける方向に移動して位置決めする第１の型移動工程と；前記第１の型が一体的に設置されている第１の型設置体に一体的に設けられた被測定体と、前記被測定体の位置を測定するために前記第２の型が一体的に設置されている第２の型設置体に一体的に設けられた変位センサとを用いて、前記第２の型に対する前記第１の型の、前記第１の型設置体に対して相対的に移動する前記第２の型設置体の移動方向と直交する面内方向の位置を測定する型位置測定工程と；前記第１の成形材料供給工程で供給された成形材料を硬化する第１の成形材料硬化工程と；前記第１の型と前記第２の型とが所定の距離だけ離れるまで、前記第１の型を前記第２の型から相対的に離し、前記硬化した成形材料を前記各型から取り外す第１の離型工程と；前記第１の離型工程で前記各型から取り外された成形材料における、第１の型の成形パターンで形成されたパターンと第２の型の成形パターンで形成されたパターンとの間の前記面内方向の位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定工程と；前記第１の型と前記第２の型とが所定の距離だけ離れている状態で、前記第１の型、前記第２の型の少なくともいずれかに、硬化前の成形材料を供給する第２の成形材料供給工程と；前記第１の型と前記第２の型との間の距離が所定の距離になるまで、前記第２の型に対して前記第１の型を相対的に近づける方向に移動して位置決めする第２の型移動工程と；前記型位置測定工程で測定した前記第２の型に対する前記第１の型の前記面内方向の位置と、前記位置ずれ量測定工程で測定した第１の型の成形パターンで形成されたパターンと第２の型の成形パターンで形成されたパターンとの間の前記面内方向の位置ずれ量とを用いて、前記第１の型の成形パターンで形成されたパターンと第２の型の成形パターンで形成されたパターンとの間の前記面内方向の位置ずれを無くすべく、前記第２の型を前記第１の型に対して相対的に移動位置決めするパターンずれ量修正工程と；前記第２の成形材料供給工程で供給された成形材料を硬化する第２の成形材料硬化工程とを有する成形材料の成形方法である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、上型と下型とを用いて成形材料を成形する成形装置および成形方法において、簡素な構成で、上型と下型との位置ずれの測定を従来よりも短時間で行うことができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】レンズ集合体の構成を示す図であり、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は（ａ）におけるＩ−Ｉ断面図である。
【図２】成形装置の概略構成を示す図である。
【図３】図２におけるＩＩＩ−ＩＩＩ矢視図である。
【図４】図３におけるＩＶ−ＩＶ断面図である。
【図５】図２に対応した図であって、上型設置体が下降した状態を示す図である。
【図６】検出部の変形例を示す図であって、図３に対応した図である。
【図７】一方の凸部に対して他方の凸部の位置がずれているレンズ集合体を示す図であって、図１（ａ）に対応した図である。
【図８】レンズ集合体の変形例を示す図であって、図１（ｂ）に対応した図である。
【図９】レンズ集合体を成形するときの熱硬化性樹脂の温度変化を示す図であり、横軸は、時刻の経過を示しており、縦軸は、熱硬化性樹脂の温度を示している。
【図１０】レンズ集合体を成形するときの上型設置体に対する下型設置体の位置ずれ量の変化を示す図であり、横軸は、時刻の経過を示しており、縦軸は、上型設置体に対する下型設置体の位置ずれ量を示している。
【図１１】成形装置の動作を示す図である。
【図１２】成形装置の動作を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
まず、本実施形態に係る成形装置（成形材料の成形装置）１で成形される成形品Ｗ１について説明する。
【００２１】
成形品Ｗ１として、たとえば、図１に示すレンズの集合体を掲げることができる。レンズ集合体Ｗ１は、硬化した熱硬化性樹脂や紫外線硬化樹脂等の透明な樹脂材料等で構成されており、平板状の本体部Ｗ２と球冠状の複数の凸部Ｗ３，Ｗ４とを備えている。本体部Ｗ２は、たとえば、円板状に形成されている。各凸部Ｗ３，Ｗ４（型Ｍ１，Ｍ２で形成されたパターン）は、本体部Ｗ２の厚さ方向の両面で、所定の間隔をあけて設けられている。
【００２２】
レンズ集合体Ｗ１（本体部Ｗ２）をこの厚さ方向から見ると、本体部Ｗ２の厚さ方向の一方の面（図１（ｂ）では上面）に設けられている各凸部Ｗ３それぞれの中心の位置と、本体部Ｗ２の厚さ方向の他方の面（図１（ｂ）では下面）に設けられている各凸部Ｗ４それぞれの中心の位置とは、お互いに一致している。
【００２３】
このように構成されているレンズ集合体Ｗ１は、たとえば、一対の凸部Ｗ３，Ｗ４を備えた（本体部Ｗ２の厚さの方向の一方の面側の１つの凸部Ｗ３と、本体部の厚さの方向の他方の面側の１つの凸部Ｗ４とを備えた）レンズに分割され、ＣＣＤやＣＭＯＳセンサ等の撮像素子を設けることで、携帯電話のカメラ部に使用される。
【００２４】
なお、図１（ａ）等では、凸部Ｗ３，Ｗ４の数を少なく描いている。しかし、実際には、本体部Ｗ２の外径は、６インチから８インチ程度であり、凸部Ｗ３，Ｗ４は、数百個から数千個設けられている。
【００２５】
また、図１に示すレンズ集合体Ｗ１では、本体部Ｗ２に凸部Ｗ３，Ｗ４が形成されているが、図８（ｂ）で示すように、本体部Ｗ２の厚さ方向の一方の面に複数の凸部Ｗ３を設け、本体部Ｗ２の厚さ方向の他方の面に複数の球冠状の凹部Ｗ５を設けた構成であってもよいし、本体部Ｗ２の厚さ方向の両面に複数の凹部を設けた構成であってもよい。
【００２６】
また、図１に示すレンズ集合体Ｗ１は、一種類の成形材料のみで構成されているが（キャスティングされているが）、図８（ａ）で示すように、レンズ集合体Ｗ１ａをハイブリッドで構成してもよい。すなわち、レンズ集合体Ｗ１ａが、平板状の透明な基板（たとえば、ガラス基板）Ｗ６と、硬化した樹脂部Ｗ７，Ｗ８とで構成されていてもよい。硬化した樹脂部Ｗ７，Ｗ８は、基板Ｗ６の厚さ方向の両面に設けられている。図８（ａ）で示すレンズ集合体Ｗ１ａの外形は、図１に示すレンズ集合体Ｗ１の外形と同様になっている。
【００２７】
成形材料として、熱硬化性樹脂の代わりに、紫外線硬化樹脂等の樹脂材料やその他の材料を掲げることができるが、ここでは、熱硬化性樹脂を例に掲げて説明する。
【００２８】
図２〜図５で示す成形装置１は、第１の型（たとえば、上型）Ｍ１と第２の型（たとえば、下型）Ｍ２とを用いて、液体状もしくは流動体状の熱硬化性樹脂を硬化しレンズ集合体Ｗ１を成形する装置であり、第１の型設置体（上型設置体）３と第２の型設置体（下型設置体）５と測定部７とを備えて構成されている。
【００２９】
以下、説明の便宜のために、水平な一方向をＸ軸方向とし、水平な他の一方向であってＸ軸方向に直交する方向をＹ軸方向とし、Ｘ軸方向とＹ軸方向とに直交する鉛直方向（上下方向）をＺ軸方向とする。
【００３０】
上型設置体（上面板；上型保持体）３には、上型Ｍ１が一体的に設置されるようになっている。下型設置体（下面板；下型保持体）５には、下型Ｍ２が一体的に設置されるようになっている。なお、詳細は後述するが、下型設置体５は、上型設置体３に対して相対的に移動位置決め自在になっている。
【００３１】
測定部７は、被測定体（被検出体；ドッグ）９と変位センサ１１とを備えて構成されている。被測定体９は、上型設置体３に一体的に設けられており、変位センサ１１は、ブラケット１０を介して下型設置体５一体的に設けられている。また、変位センサ１１として、静電容量型のセンサが採用されている。そして、静電容量型の変位センサ１１によって、この静電容量型の変位センサ１１と被測定体９との間の距離（間隙の値）を測定するようになっている。これにより、詳しくは後述するが、上型設置体３に対する下型設置体５の位置や姿勢を測定することができるようになっている。
【００３２】
なお、被測定体９を下型設置体５に一体的に設け、静電容量型の変位センサ１１を上型設置体３に一体的に設けた構成であってもよいし、静電容量型のセンサに代えて、磁気を使用したセンサ等の非接触式の変位センサやレーザ変位センサを採用してもよいし、接触式の変位センサを採用してもよい。さらに、被測定体９と静電容量型の変位センサ１１とを、型設置体３，５に設ける代わりに、上型設置体３に設置された上型（設置済み上型）Ｍ１と下型設置体５に設置された下型（設置済み下型）Ｍ２とに設けた構成であってもよい。
【００３３】
上型設置体３には、上型設置体３の所定の位置に上型Ｍ１を設置するための第１の突き当て部（たとえば、円柱状のロケートピン）１３が設けられており、下型設置体５には、下型設置体５の所定の位置に下型Ｍ２を設置するための第２の突き当て部（たとえば、円柱状のロケートピン）１５が設けられている。
【００３４】
ここで、下型設置体５が上型設置体３に対して相対的に移動位置決め自在になっていることや測定部７について、例を掲げて詳しく説明する。
【００３５】
上型設置体３は、下型設置体５に対して接近・離反する方向（Ｚ軸方向）で移動位置決め自在になっている。下型設置体５は、上型設置体３に対して、Ｚ軸方向と直交する面内方向で移動位置決め自在になっている。
【００３６】
面内方向とは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向およびθ軸まわりのことをいう。θ軸は、下型設置体５のほぼ中心を通ってＺ軸方向に延びている。つまり、下型設置体５は、上型設置体３に対して、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向で移動位置決め自在であるとともに、θ軸まわりで回動位置決め自在になっている。
【００３７】
測定部７は、前記面内方向で、上型設置体３に対する下型設置体５の位置ずれ量を測定するように構成されている。すなわち、測定部７を構成している被測定体９Ａ，９Ｂ，９Ｃと変位センサ１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃとを用いて（図２および図３参照）、前記面内方向での、上型設置体３に対する下型設置体５の位置ずれ量を測定するように構成されている。
【００３８】
ところで、上型設置体３は、フレーム１７に対して移動位置決め自在な移動体１９に、ロードセル２１とスペーサ２３とクーラ部２５とヒータ部２７とを介して一体的に設けられていることで、下型設置体５に対してＺ軸方向で移動位置決め自在になっている。
【００３９】
下型設置体５は、フレーム１７に設けられている移動位置決め装置（ＸＹθステージ）２９のＸＹθテーブル３１に、φτステージ（クサビステージ）３３とクーラ部３５とヒータ部３７とを介して一体的に設けられていることで、上型設置体３に対して前記面内方向で移動位置決め自在になっている。
【００４０】
また、成形装置１には、制御部３９と入力部（入力手段）４１とメモリと４３を備えて構成されている制御装置４５が設けられている。
【００４１】
そして、制御部３９の制御の下、熱硬化性樹脂を試し成形するときにおける、測定部７で測定された上型設置体３と下型設置体５との位置関係（面内方向での位置関係；図３に示す「Δｘ１」、「Δｘ２」、「Δｙ１」）をメモリ４３に記憶するようになっている。なお、試し成形で得られたレンズ集合体Ｗ１は、図７で示すように、凸部Ｗ３に対して、凸部Ｗ４の位置がずれていることが多い。したがって、製品や半製品として採用されることはほとんど無い。
【００４２】
続いて、上記試し成形で得られたレンズ集合体Ｗ１における上型Ｍ１の成形パターンＭ３で形成されたパターン（凸部Ｗ３）と、上記試し成形で得られたレンズ集合体Ｗ１における下型Ｍ２の成形パターンＭ４で形成されたパターン（凸部Ｗ４）との位置ずれ量（図７に示す「Δｘ１１」、「Δｙ１１」、「Δｘ１２」、「Δｙ１２」）が、入力手段（キーボード等で構成された入力部）４１を介して入力されるようになっている。
【００４３】
なお、入力部４１から入力される位置ずれ量は、別途測定されたものである。すなわち、上記試し成形で得られたレンズ集合体Ｗ１が成形装置１から取り外されて、この後、成形装置１とは異なる測定装置（図示せず）で測定されてものである。
【００４４】
また、図７では、上型Ｍ１と下型Ｍ２とによって形成されたアイマークＷ９，Ｗ１０の位置ずれ量を測定することにしているが、アイマークを用いることなく、凸部Ｗ３と凸部Ｗ４とを用いて、位置ずれ量を測定するようにしてもよい。すなわち、凸部Ｗ３の外周の位置から凸部Ｗ３の中心位置を求め、凸部Ｗ４の外周の位置から凸部Ｗ４の中心位置を求め、位置ずれ量を測定するようにしてもよい。
【００４５】
続いて、熱硬化性樹脂を成形するときに（本成形するときに；製品としてのレンズ集合体Ｗ１を得るときに）、上型設置体３に対する下型設置体５の位置ずれを無くすべく（レンズ集合体Ｗ１の各凸部Ｗ３のそれぞれとレンズ集合体Ｗ１の各凸部Ｗ４のそれぞれとの位置ずれを無くすべく）、メモリ４３に記憶されている位置関係と入力部４１から入力された位置ずれ量とを用いて、下型設置体５を上型設置体３に対して、前記面内方向で移動位置決めするようになっている。
【００４６】
ここで、成形装置１についてさらに詳しく説明する。
【００４７】
成形装置１は、前述したように、フレーム１７の下側に設けられたＸＹθステージ２９とφτステージ３３とクーラ部３５とヒータ部３７と下型設置体５とを備えて構成されている。
【００４８】
ＸＹθステージ２９は、ＸＹθステージ基台４７とＸＹθテーブル３１とを備えて構成されている。ＸＹθステージ基台４７は、フレーム１７に一体的に設けられており、ＸＹθテーブル３１は、ＸＹθステージ基台４７の上方に設けられており、ＸＹθステージ基台４７に対して、上述した面内方向（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびθ軸まわり）で移動（回動）位置決め自在になっている。ＸＹθテーブル３１の上には、φτステージ３３が設けられており、φτステージ３３の上には、クーラ部３５が設けられており、クーラ部３５の上には、ヒータ部３７が設けられており、ヒータ部３７の上には、下型設置体５が設けられている。
【００４９】
ヒータ部３７は、下型設置体５（下型Ｍ２）を加熱して熱硬化性樹脂を硬化させるためのものであり、クーラ部３５は、下型設置体５（下型Ｍ２）を冷却するとともに、ヒータ部３７が発した熱が、φτステージ３３側に移動することを防ぐようになっている。
【００５０】
これにより、下型設置体５が、フレーム１７に対して上述した面内方向で位置決め自在になっているとともに、下型設置体５の温度が変化するようになっている。
【００５１】
また、下型Ｍ２は、円形な平板状に形成されており、下型設置体５に下型Ｍ２が設置された状態では、下型Ｍ２の下面は、下型設置体５の上面に面接触しており、下型Ｍ２の上面は、水平方向に展開しており、下型Ｍ２の上面に成形パターンＭ４が形成されている。
【００５２】
ロケートピン１５は、少なくとも２本設けられており、下型設置体５の上面から上方に突出している。また、下型Ｍ２の外周には、少なくとも２つの円弧状の切り欠きＭ６が形成されており、下型設置体５に下型Ｍ２が設置された状態では、各ロケートピン１５のそれぞれと、各切り欠きＭ６のそれぞれとがお互いに係合し、下型Ｍ２が下型設置体５の所定の位置に位置決めされて一体的に設置される。なお、下型Ｍ２の下型設置体５への設置は、図示しないボルト等の締結具もしくは真空吸着によってなされている。
【００５３】
また、成形装置１は、前述したように、フレーム１７の上側に設けられた移動体１９とロードセル２１とスペーサ２３とクーラ部２５とヒータ部２７と上型設置体３とを備えて構成されている。
【００５４】
移動体１９は、図示しないリニアガイドベアリングを介してフレーム１７に支持されており、図示しないサーボモータ等のアクチュエータによりＺ軸方向で移動位置決め自在になっている。
【００５５】
ロードセル２１は、移動体１９の下側で移動体１９に一体的に設けられており、スペーサ２３は、ロードセル２１の下側でロードセル２１に一体的に設けられており、クーラ部２５は、スペーサ２３の下側でスペーサ２３に一体的に設けられており、ヒータ部２７は、クーラ部２５の下側でクーラ部２５に一体的に設けられており、上型設置体３は、ヒータ部２７の下側でヒータ部２７に一体的に設けられている。
【００５６】
ヒータ部２７は、上型設置体３（上型Ｍ１）を加熱して熱硬化性樹脂を硬化させるためのものであり、クーラ部２５は、上型設置体３（上型Ｍ１）を冷却するとともに、ヒータ部２７が発した熱が、ロードセル２１側に移動することを防ぐようになっている。
【００５７】
これにより、上型設置体３が、フレーム１７に対してＺ軸方向で位置決め自在になっているとともに、上型設置体３の温度が変化するようになっている。
【００５８】
また、上型Ｍ１は、円形な平板状に形成されており、上型設置体３に上型Ｍ１が設置された状態では、上型Ｍ１の上面は、上型設置体３の下面に面接触しており、上型Ｍ１の下面は、水平方向に展開しており、上型Ｍ１の下面に成形パターンＭ３が形成されている。
【００５９】
なお、ロードセル２１は、図５で示すように、設置済み下型Ｍ２と設置済み上型Ｍ１とで熱硬化性樹脂を挟み込んで硬化させて成形するときに、上型Ｍ１の押圧力を測定するものである。
【００６０】
ロケートピン１３は、少なくとも２本設けられており、上型設置体３の下面から下方に突出している。また、上型Ｍ１の外周には、少なくとも２つの円弧状の切り欠きＭ５が形成されており、上型設置体３に上型Ｍ１が設置された状態では、各ロケートピン１３のそれぞれと、各切り欠きＭ５のそれぞれとがお互いに係合し、上型Ｍ１が上型設置体３の所定の位置に位置決めされて一体的に設置される。なお、上型Ｍ１の上型設置体３への設置は、図示しないボルト等の締結具もしくは真空吸着によってなされている。
【００６１】
また、すでに理解されるように、上型設置体３に設置された上型（設置済み上型）Ｍ１と、下型設置体５に設置された下型（設置済み下型）Ｍ２とは、お互いが対向している。また、設置済み上型Ｍ１の成形パターンＭ３が形成されている面（下面）と、設置済み下型Ｍ２の成形パターンＭ４が形成されている面（上面）とは、お互いが対向している。成形パターンＭ３，Ｍ４は、図１等で示すレンズ集合体Ｗ１の凸部Ｗ３，Ｗ４を形成するためのパターンである。
【００６２】
また、成形装置１には、硬化前の液体状もしくは流動体状の熱硬化樹脂を供給する熱硬化性樹脂供給部（成形材料供給部）４９が設けられている。
【００６３】
熱硬化性樹脂供給部４９は、図示しない移送装置に支持されていることにより、下型Ｍ２に硬化前の熱硬化性樹脂を供給する供給位置Ｐ１と、退避位置Ｐ２との間を移動するようになっている。
【００６４】
そして、熱硬化性樹脂供給部４９が供給位置Ｐ１に位置しているときに、下型Ｍ２に熱硬化性樹脂を供給するようになっている。なお、下型Ｍ２のみに熱硬化性樹脂を供給することに代えてもしくは加えて、上型Ｍ１に熱硬化性樹脂を供給する構成であってもよい。
【００６５】
ところで、上述したように、上型Ｍ１をロケートピン１３に突き当てて上型設置体３の所定の位置に設置し、下型Ｍ２をロケートピン１５に突き当てて下型設置体５の所定の位置に設置した状態で、レンズ集合体Ｗ１を成形すると、レンズ集合体Ｗ１の厚さ方向から見た場合、図７で示すように、レンズ集合体Ｗ１の厚さ方向の一方の面に設けられている各凸部Ｗ３それぞれの中心の位置と、レンズ集合体Ｗ１の厚さ方向の他方の面に設けられている各凸部Ｗ４それぞれの中心の位置とが、ほとんどの場合僅かにずれている。
【００６６】
成形装置１の構成部品の加工誤差、組立誤差、各型Ｍ１，Ｍ２の加工誤差、型設置体３，５への設置誤差等の誤差や熱による変形等が無ければ、各凸部Ｗ３それぞれの中心の位置と、各凸部Ｗ４それぞれの中心の位置とはお互いに一致している。したがって、各凸部Ｗ３それぞれの中心の位置と、各凸部Ｗ４それぞれの中心の位置とがお互いに一致している場合もごく稀に存在する。しかし、ほとんどの場合、各凸部Ｗ３それぞれの中心の位置と、各凸部Ｗ４それぞれの中心の位置とは僅かにずれている。そこで、測定部７等が必要になってくる。
【００６７】
ここで、ＸＹθステージ２９、φτステージ３３についてさらに詳しく説明する。
【００６８】
ＸＹθステージ２９は、前述したようにＸＹθステージ基台４７と、ＸＹθテーブル３１とを備えて構成されている。
【００６９】
図２等で示すＸＹθステージ２９は、簡素化して表示してあるので、ＸＹθステージ基台４７とＸＹθテーブル３１とで構成されている。
【００７０】
しかしながら、実際のＸＹθステージ２９は、たとえば、ＸＹθステージ基台４７とＸ軸テーブルと（図示せず）、Ｙ軸テーブル（図示せず）と、θ軸テーブル（ＸＹθテーブル３１）とを備えて構成されている。
【００７１】
Ｘ軸テーブルは、フレーム１７に一体的に設けられているＸＹθステージ基台４７の上側でリニアガイドベアリングを介してＸＹθステージ基台４７に支持されており、サーボモータやステップモータ等のアクチュエータで、ＸＹθステージ基台４７に対してＸ軸方向で移動位置決め自在になっている。
【００７２】
Ｙ軸テーブルは、Ｘ軸テーブルのたとえば上側でリニアガイドベアリングを介してＸ軸テーブルに支持されており、サーボモータやステップモータ等のアクチュエータで、Ｘ軸テーブルに対してＹ軸方向で移動位置決め自在になっている。
【００７３】
θ軸テーブル（ＸＹθテーブル３１）は、Ｙ軸テーブルのたとえば上側でベアリングを介してＹ軸テーブルに支持されており、サーボモータやステップモータ等のアクチュエータで、Ｙ軸テーブルに対して、θ軸を中心にして回動位置決め自在になっている。
【００７４】
φτステージ３３は、図示しないφτステージ基台と図示しないφτテーブルとを備えて構成されている。φτステージ基台は、ＸＹθテーブル３１に一体的に設けられており、φτテーブルは、φτステージ基台のたとえば上方でφτステージ基台に係合しており、φ軸まわりおよびτ軸まわりで、φτステージ基台に対して回動位置決め自在になっている。
【００７５】
なお、φ軸は、φτテーブルの中心を通ってＸ軸方向に延びている軸であり、τ軸は、φτテーブルの中心を通ってＹ軸方向に延びている軸である。これにより、設置済み下型Ｍ２の姿勢を調整し、設置済み下型Ｍ２の上面と設置済み上型Ｍ１の下面との平行度を正確なものにすることができる。
【００７６】
φτテーブルの回動位置の調整は、オペレータが手動でするように構成されているが、サーボモータ等のアクチュエータを用いて、自動調整するようにしてもよい。
【００７７】
また、φτステージ３３においても、ＸＹθステージ２９の場合と同様のことが言える。すなわち、φτステージ３３も、φτステージ基台と、φテーブルと、φテーブルとは別個のτテーブルとを備えて構成されている。
【００７８】
次に、成形装置１の動作について図１１、図１２を参照しつつ説明する。
【００７９】
まず、初期状態として、図２で示すように、上型設置体３が上昇しており、上型設置体３に上型Ｍ１が設置されており、下型設置体５に下型Ｍ２が設置されているものとする（Ｓ１）。
【００８０】
続いて、制御部３９の制御の下、上型Ｍ１と下型Ｍ２とが所定の距離だけ離れている状態で、熱硬化性樹脂供給部４９により、下型Ｍ２に硬化前の熱硬化性樹脂を供給する（熱硬化性樹脂供給工程；Ｓ３）。なお、この熱硬化性樹脂の供給をオペレータが手動で行ってもよい。
【００８１】
続いて、上型Ｍ１と下型Ｍ２との間の距離が所定の距離（成形品を成形するための距離；図５で示す距離Ｚ１）になるまで、上型Ｍ１を下降位置決めする（型移動工程；Ｓ５）。なお、この状態では、変位センサ１１は、Ｚ軸方向で、設置済み下型Ｍ２の上面よりも僅かに下方に位置しているが、変位センサ１１Ａ〜１１Ｃが、Ｚ軸方向で、設置済み下型Ｍ２の上面と設置済み上型Ｍ１の下面との間に位置していてもよいし、Ｚ軸方向で、設置済み上型Ｍ１の下面よりも僅かに上方に位置していてもよい。
【００８２】
また、図３と図５とで示す状態では、Ｘ軸方向で、θ軸の位置と、変位センサ１１Ａと被測定体９Ａとの間の間隙の位置とが、お互いにほぼ一致しており、Ｙ軸方向で、変位センサ１１Ａと被測定体９Ａとの間の間隙が、下型設置体５よりも僅かに外側に位置している。なお、図３で示す状態において、Ｙ軸方向で、変位センサ１１Ａと被測定体９Ａとを僅かに上方にずらして、変位センサ１１Ａと被測定体９Ａとの間の間隙が、下型設置体５の内側であって、設置済み下型Ｍ２の外側に位置するようにしてもよい。
【００８３】
また、変位センサ１１Ｂと被測定体９Ｂとは、θ軸を含みＸ軸方向とＺ軸方向とに展開している平面に対して対称に設けられており、変位センサ１１Ｃと被測定体９Ｃとは、θ軸を回転中心として、変位センサ１１Ｂと被測定体９Ｂとを一定の方向（たとえば時計まわり）に９０°回動させたところに位置している。
【００８４】
続いて、図５に示す状態で、上型設置体３に一体的に設けられた被測定体９Ａ，９Ｂ，９Ｃと変位センサ１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃとを用いて、上型Ｍ１に対する下型Ｍ２の位置を測定し、この測定値を、メモリ４３に記憶する（型位置測定工程；Ｓ７）。なお、説明の便宜のために、ここでは、図３のＸ軸方向での位置ずれ量Δｘ１として「１．０００ｍｍ」が測定され、図３のＸ軸方向での位置ずれ量Δｘ２として「１．０００ｍｍ」が測定され、図３のＹ軸方向での位置ずれ量Δｙ１として「１．０００ｍｍ」が測定されたものとする。
【００８５】
続いて、成形材料供給工程で供給された熱硬化性樹脂を硬化する（成形材料硬化工程；Ｓ９）。この硬化後に熱硬化性樹脂等を冷却する。この成形材料硬化工程で硬化して得られたものは、試し成形品である。この試し成形品は、前述したように、また、図７で示すように、レンズ集合体Ｗ１の本体部Ｗ２の厚さ方向の一方の面に形成さてれている凸部Ｗ３と、他方の面に形成さてれている凸部Ｗ４との位置が、ほとんどの場合僅かにずれているので、製品や半製品として使用することはできない。もっとも、凸部Ｗ３と凸部Ｗ４との間の位置ずれ量が許容範囲内のごく僅かな量である場合には、製品や半製品として採用してもよい。
【００８６】
続いて、上型Ｍ１と下型Ｍ２とが図２で示すように所定の距離だけ離れるまで、上型Ｍ１を上昇して下型Ｍ２から離し、硬化し成形された試し成形品を各型Ｍ１，Ｍ２から取り外す（離型工程；Ｓ１１）。
【００８７】
続いて、各型Ｍ１，Ｍ２から取り外されたレンズ集合体（試し成形品）Ｗ１における凸部Ｗ３と凸部Ｗ４との間の位置ずれ量を、成形装置１とは異なる装置や器具を使って測定し（位置ずれ量測定工程）、この測定結果を、入力部４１を介して制御装置４５に入力する（Ｓ１３）。なお、説明の便宜のために、ここでは、図７のＸ軸方向での位置ずれ量Δｘ１１として「０．００５ｍｍ」が測定され、図７のＸ軸方向での位置ずれ量Δｘ１２として「０．００５ｍｍ」が測定され、図７のＹ軸方向での位置ずれ量Δｙ１１として「０．００７ｍｍ」が測定され、図７のΔｙ１２として「０．００７ｍｍ」が測定されたものとする。
【００８８】
続いて、上型Ｍ１と下型Ｍ２とが所定の距離だけ離れている状態で、上型Ｍ１に硬化前の熱硬化性樹脂を供給する（成形材料供給工程；Ｓ１５）。
【００８９】
続いて、上型Ｍ１と下型Ｍ２との間の距離が所定の距離（成形品を成形するための距離；図５に示す距離Ｚ１）になるまで、上型Ｍ１を下降位置決めする（型移動工程；Ｓ１７）。
【００９０】
続いて、レンズ集合体Ｗ１の各凸部Ｗ３と各凸部Ｗ４との間の位置ずれを無くすべく（図７でのΔｘ１１、Δｘ１２、Δｙ１１、Δｙ１２の値を「０」にすべく）、ステップＳ７でメモリ４３に記憶した値と、ステップＳ１３で入力した位置ずれ量とを用いて、下型Ｍ２を上型Ｍ１に対して移動位置決めする（パターンずれ量修正工程；Ｓ１９）。ＸＹθステージ２９を稼動して、図７で示すΔｘ１１、Δｘ１２、Δｙ１１、Δｙ１２の値を「０」にするために、図３のΔｘ１とΔｘ２との値を０．０９５ｍｍ（１．０００ｍｍ−０．００５ｍｍ）にし、図３のΔｙ１の値を０．０９３ｍｍ（１．０００ｍｍ−０．００７ｍｍ）にする。
【００９１】
続いて、ステップＳ１５の成形材料供給工程で供給された熱硬化性樹脂を硬化する（成形材料硬化工程；Ｓ２１）。この硬化後に熱硬化性樹脂等を冷却する。この成形材料硬化工程で硬化して得られたものが本成形品（製品もしくは半製品として使用されるレンズ集合体Ｗ１）になる。なお、上記説明では、試し成形品を１回のみしか成形していないが、試し成形品を複数回成形してもよい。そして、試し成形を重ねるごとに、上型Ｍ１（凸部Ｗ３）に対する下型Ｍ２（凸部Ｗ４）の位置ずれを次第に少なくするようにしてもよい。
【００９２】
続いて、上型Ｍ１と下型Ｍ２とが図１に示すように所定の距離だけ離れるまで、上型Ｍ１を上昇させて下型Ｍ２から離し、レンズ集合体Ｗ１を各型Ｍ１，Ｍ２から取り外す（離型工程；Ｓ２３）。
【００９３】
成形装置１によれば、上型設置体３に一体的に設けられた被測定体９と、被測定体９の位置を測定するために下型設置体５に一体的に設けられた変位センサ１１とを備えた測定部７で、設置済み上型Ｍ１と、設置済み下型Ｍ２との位置関係を測定するように構成されているので、従来のようにカメラを用いた場合に比べて、カメラを移動させる等の装置が不要になり、簡素な構成で上型Ｍ１と下型Ｍ２との位置ずれの測定を従来よりも短時間で行うことができる。
【００９４】
また、従来のようにカメラを用いて上型Ｍ１と下型Ｍ２との位置ずれを測定する場合には、上型Ｍ１と下型Ｍ２とが離れているときに、カメラで上型Ｍ１と下型Ｍ２とを撮影するので、下型Ｍ２と上型Ｍ１との位置ずれを正確に測定することができないおそれがある。すなわち、実際に必要なものは、熱硬化性樹脂の成形のために上型Ｍ１が下型Ｍ２に接近したときにおける下型Ｍ２と上型Ｍ１との位置ずれ量であるにもかかわらず、従来の成形装置では、上型Ｍ１が下型Ｍ２から離れているときにおける位置ずれ量を測定する構成になっている。したがって、従来の成形装置では、熱硬化性樹脂を成形するために上型Ｍ１が下型Ｍ２に接近したときに、下型Ｍ２と上型Ｍ１との位置ずれ量が変化してしまうおそれがある。
【００９５】
しかしながら、この実施形態に係る成形装置１では、設置済み上型Ｍ１と設置済み下型Ｍ２とを熱硬化性樹脂の成形のために所定の距離（図５で示す距離Ｚ１）まで近づけたときに、上型設置体３に対する下型設置体５の位置を測定部７で測定しており、しかも、上型設置体３に上型Ｍ１が直接接触して設置されており、下型設置体５に下型Ｍ２が直接接触して設置されているので、下型Ｍ２と上型Ｍ１との位置ずれを正確に測定することができる。
【００９６】
なお、従来の成形装置において、上型設置体の内側に空間を設け、この空間内にカメラを設け、上型を石英ガラス等の透明体で構成し、熱硬化性樹脂の成形のために上型と下型とが所定の距離まで近づけたときに、カメラで上型のアイマークと下型のアイマークと撮影し（特に下型のアイマークは上型を通して撮影し）、下型と上型との位置ずれ量を測定する方式も考えられる。しかし、この方式では、上型を高価な石英ガラスで作成しなければならない等、コストが上昇してしまう。
【００９７】
これに対して、この実施形態に係る成形装置１では、上型Ｍ１と下型Ｍ２とを光を通さない金属等の材料で構成することができるので、コストの上昇を抑えることがきる。
【００９８】
また、成形装置１によれば、ロケートピン１３，１５が設けられているので、設置済み上型Ｍ１と設置済み下型Ｍ２との位置ずれ量を小さくすることができる。そして、変位センサ１１として、測定距離が短い代わりに分解能と精度の高いものを採用することができ、上型Ｍ１と下型Ｍ２との位置ずれ量を正確に測定することができる。
【００９９】
また、成形装置１によれば、型設置体３，５の近くにヒータ部２７，３７とクーラ部２５，３５とが設けられているので、熱硬化性樹脂を効率良く硬化することができるとともに、型Ｍ１，Ｍ２や型設置体３，５を効率よく冷却することができる。
【０１００】
また、成形装置１では、下型設置体５がＸＹθステージ２９からＺ軸方向で離れており、これにより、ＸＹθテーブル３１の位置と下型設置体５の位置との位置（Ｘ軸方向とＹ軸方向とθ軸まわりにおける位置）がごく僅かではあるがずれてしまうかもしれないし、同様にして、移動体１９に対する上型設置体３の位置も僅かではあるがずれてしまうかもしれない。
【０１０１】
しかし、上型設置体３に一体的に設けられた被測定体９と、被測定体９の位置を測定するために下型設置体５に一体的に設けられた変位センサ１１とを備えた測定部７で、設置済み上型Ｍ１と、設置済み下型Ｍ２との位置関係を測定するように構成されているので、設置済み下型Ｍ２に対する設置済み上型Ｍ１のごく僅かな位置ずれを正確に測定し、この測定結果に基づいて位置ずれを無くす補正をすることができる。そして、レンズ集合体Ｗ１の凸部Ｗ３に対する凸部Ｗ４の位置ずれを無くすことができる。
【０１０２】
また、成形装置１によれば、実際に試し成形をしたレンズ集合体Ｗ１での凸部Ｗ３に対する凸部Ｗ４の位置ずれ量を測定し、この測定結果を用いて上型設置体３に対する下型設置体５の位置ずれを補正しているので、正確な形状のレンズ集合体Ｗ１を得ることができる。
【０１０３】
ところで、上述した成形装置１において、１つのレンズ集合体Ｗ１を生成する場合、熱硬化性樹脂が硬化し始める前に、上型Ｍ１に対する下型Ｍ２の位置ずれを、測定部７を用いて複数回測定し、これらの測定値を得る毎に、設置済み上型Ｍ１に対する設置済み下型Ｍ２の位置ずれの修正（補正）を行ってもよい。
【０１０４】
すなわち、ステップＳ１９では、制御部３９が、上型Ｍ１の下降位置決め後、下型設置体５を上型設置体３に対して前記面内方向で１回だけ移動位置決めしているが、この１回の移動位置決めに加えて、この１回の移動位置決め直後から熱硬化性樹脂が硬化し始めるまでの間に、測定部７によって、上型設置体３に対する下型設置体５の位置ずれ量を所定の時間間隔をあけて複数回測定し、これらの測定をする毎に、上型設置体３に対する下型設置体５の位置ずれを無くすべく、下型設置体５を上型設置体３に対して、前記面内方向で移動位置決めするように構成されていてもよい。
【０１０５】
詳しく説明する。図９で示す時刻ｔ０がステップＳ１７で設置済み上型Ｍ１の下降位置決めが終わった時とする。この後の時刻ｔ１で熱硬化性樹脂の加熱が始まり、時刻ｔ３まで各型Ｍ１，Ｍ２の温度が上昇し、時刻ｔ３から時刻ｔ４の間では、各型Ｍ１，Ｍ２の温度が一定値になっており、時刻ｔ４で各型Ｍ１，Ｍ２（熱硬化性樹脂）の冷却が始まり、時刻ｔ５で熱硬化性樹脂の冷却が終わり、時刻ｔ６で上型Ｍ１が上昇する。さらに、時刻ｔ７で次のレンズ集合体Ｗ１の成形のために、ステップＳ１７での設置済み上型Ｍ１の下降位置決めを終えている。
【０１０６】
また、時刻ｔ１と時刻ｔ２との間に存在している時刻ｔ２で熱硬化性樹脂の硬化が始まる。
【０１０７】
図１０の線図Ｌ１は、時刻ｔ０から時刻ｔ２の間における、測定部７で測定した上型設置体３に対する下型設置体５の位置ずれ量の例を示している。図１０の線図Ｌ２は、位置ずれ量が「０」の場合を示している。なお、図１０では、Ｘ軸方向の位置ずれ量のみを示しているが、Ｙ軸方向、θ軸まわりの位置ずれ量も同様に表すことができる。
【０１０８】
そして、制御部３９は、時刻ｔ０と時刻ｔ２との間に存在する複数の時刻ｔ０１，ｔ０２，・・・ｔ０ｎ・・・、ｔ１１，ｔ１２，・・・ｔ１ｎ，・・・において、測定部７によって上型設置体３に対する下型設置体５の位置ずれ量を測定し、下型設置体５を上型設置体３に対して、前記面内方向で移動位置決めするようにしてもよい。
【０１０９】
なお、時刻ｔ１〜時刻ｔ２の間でのみ、位置ずれ量を複数回測定し、下型設置体５を上型設置体３に対して、前記面内方向で移動位置決めするようにしてもよい。さらに、前記面内方向での設置済み上型Ｍ１と設置済み下型Ｍ２との位置ずれ量の測定や設置済み下型Ｍ２の移動位置決め（位置ずれを無くすための移動位置決め）を、時刻ｔ２もしくは時刻ｔ２の直前の時刻でのみ、行うようにしてもよい。
【０１１０】
さらに、上述した成形装置１において、フィードフォワード制御によって、下型設置体５を上型設置体３に対して、前記面内方向で移動位置決めするようにしてもよい。
【０１１１】
すなわち、制御部３９が、測定部７で複数回測定された、成形材料を成形するときにおける上型設置体３に対する下型設置体５の位置ずれ量をメモリ４３に記憶し（図１０の線図Ｌ１を記憶し）、別途成形材料を成形するときに上型設置体３に対する下型設置体５の位置ずれを無くすべく、メモリ４３に記憶されている各位置ずれ量（線図Ｌ１）を用いて、下型設置体５を上型設置体３に対して、前記面内方向で移動位置決めするようにしてもよい。
【０１１２】
さらに、上記フィードフォワード制御に加えて、フィードバック制御を行ってもよい。
【０１１３】
すなわち、制御部３９が、別途成形材料を成形するときに、メモリ４３に記憶されている各位置ずれ量（線図Ｌ１）と測定部７で測定した位置ずれ量（時刻ｔ０１，ｔ１１等における位置ずれ量）とを用いて、下型設置体５を上型設置体３に対して、前記面内方向で移動位置決めするようにしてもよい。
【０１１４】
なお、図３で示す各値「Δｘ１」、「Δｘ２」、「Δｙ１」と、図７で示す各値「Δｘ１１」、「Δｘ１２」、「Δｙ１１」、「Δｙ１２」との関係が既知である場合には、制御部３９の制御の下、成形装置１が、次の動作をするようにしてもよい。
【０１１５】
まず、上型Ｍ１と下型Ｍ２とが所定の距離だけ離れている状態で、上型Ｍ１に硬化前の熱硬化性樹脂を供給する。
【０１１６】
続いて、上型Ｍ１と下型Ｍ２との間の距離が所定の距離（成形品を成形するための距離）になるまで、上型Ｍ１を下降位置決めする。
【０１１７】
続いて、被測定体９Ａ，９Ｂ，９Ｃと、変位センサ１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃとを用いて、下型Ｍ２に対する上型Ｍ１の位置ずれ量を測定する。
【０１１８】
続いて、下型Ｍ２を上型Ｍ１に対して上記面内方向で移動位置決めすることで、上記測定した位置ずれ量を修正する（位置ずれ量が「０」になるように修正する）。
【０１１９】
続いて、熱硬化性樹脂を硬化する。
【０１２０】
続いて、上型Ｍ１を上昇し、成形されたレンズ集合体Ｗ１を各型Ｍ１，Ｍ２から取り外す。これにより、製品もしくは半製品たるレンズ集合体Ｗ１を得る。
【０１２１】
なお、成形装置１において、上型設置体３のＺ軸方向の位置の測定を、図４で示す被測定体９Ｄと変位センサ１１Ｄとを用いて行ってもよい（Δｚ１の測定）。また、図１１に示すステップＳ５での上型設置体３の下降位置決め後における、下型設置体５に対する上型設置体３の位置を、被測定体９Ｄと変位センサ１１Ｄとで求め、ステップＳ７でこの値をメモリ４３に記憶してもよい。また、ステップＳ１３で、レンズ集合体Ｗ１の本体部Ｗ２の厚さの誤差を別途測定し、この測定した誤差を入力し、ステップＳ１９で、凸部Ｗ３と凸部Ｗ４との位置ずれを修正する場合と同様にして、レンズ集合体Ｗ１の本体部Ｗ２の厚さを修正してもよい。
【０１２２】
さらに、図６で示すように、被測定体９Ｄと変位センサ１１Ｄとに加えて、被測定体９Ｅと変位センサ１１Ｅおよび被測定体９Ｆと変位センサ１１Ｆとを設け、φ軸およびτ軸まわりでの、上型設置体３に対する下型設置体５の姿勢を測定するようにしてもよい。
【０１２３】
そして、φτステージ３３で上型設置体３に対する下型設置体５の姿勢を自動もしくは手動で修正するようにしてもよい。
【０１２４】
ところで、熱硬化性樹脂に代えて紫外線硬化樹脂を成形材料とする場合には、ヒータ部２７，３７、クーラ部２５，３５を削除してもよい。代わりに、たとえば、上型Ｍ１を石英ガラス等の紫外線が透過する材料で構成し、上型設置体３とスペーサ２３との内側に設けた空洞部と上型Ｍ１を通して、紫外線硬化樹脂に紫外線を照射するようにすればよい。
【０１２５】
また、図８（ａ）で示すバイブリッドのレンズ集合体Ｗ１ａでは、下型Ｍ２に硬化前の成形材料を供給した後、手動もしくは自動で基板Ｗ６を設置し、基板Ｗ６の設置後に、基板Ｗ６の上に、硬化前の成形材料を供給すればよい。
【符号の説明】
【０１２６】
１  成形装置
３  上型設置体（第１の型設置体）
５  下型設置体（第２の型設置体）
７  測定部
９（９Ａ〜９Ｆ）  被測定体
１１（１１Ａ〜１１Ｆ）  変位センサ
１３  ロケートピン（第１の突き当て部）
１５ ロケートピン  第２の突き当て部）
１７  フレーム
１９  移動体
２１  ロードセル
２５、３５  クーラ部
２７、３７  ヒータ部
２９  ＸＹθステージ（移動位置決め装置）
３９  制御部
４１  入力部
４３  メモリ
Ｍ１  上型（第１の型）
Ｍ２  下型（第２の型）
Ｗ１、Ｗ１ａ  レンズ集合体（成形品）
Ｗ３、Ｗ４  凸部（パターン）
【図１】
0005707150.tif 000002
【図２】
0005707150.tif 000003
【図３】
0005707150.tif 000004
【図４】
0005707150.tif 000005
【図５】
0005707150.tif 000006
【図６】
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【図７】
0005707150.tif 000008
【図８】
0005707150.tif 000009
【図９】
0005707150.tif 000010
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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