(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（１）で表される、含フッ素化合物。
Ｄ１−Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ−Ａ・・・（１）
ただし、
Ｄ１はＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｒｆ１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎは１〜２００の整数であり、ｎが２以上のとき、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎは、ｍの異なる２種以上のＣｍＦ２ｍＯからなるものであってもよい。
Ａは−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＲ１＝ＣＨ２（ただし、Ｒ１は水素原子またはメチル基である。）を１つ以上有する１価の有機基である。
【請求項２】
前記（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎが、｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝である（ただし、ｎ１は１以上の整数であり、ｎ２は０以上の整数であり、ｎ１＋ｎ２は１〜２００の整数であり、ｎ１個のＣＦ２Ｏおよびｎ２個のＣＦ２ＣＦ２Ｏの結合順序は限定されない。）、請求項１に記載の含フッ素化合物。
【請求項３】
前記Ｒｆ１が、下式（２−１）で表される基、下式（２−２）で表される基または下式（２−３）で表される基である、請求項１または２に記載の含フッ素化合物。
−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−・・・（２−１）
−ＲＦ−ＣＨＦＣＦ２−・・・（２−２）
−ＲＦ−ＣｚＨ２ｚ−・・・（２−３）
ただし、
ＲＦは、単結合、炭素数１〜１５のペルフルオロアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１５のペルフルオロアルキレン基であり、
ｚは１〜４の整数である。
【請求項４】
前記Ａが、下式（Ａ１）で表される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の含フッ素化合物。
−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−Ｑ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＲ１＝ＣＨ２・・・（Ａ１）
ただし、
Ｑ１は、炭素数が１〜１００で、フッ素原子を有しない２価の有機基であり、
Ｒ１は水素原子またはＣＨ３である。
【請求項５】
前記Ｑ１が、下式（３）で表される基、下式（４）で表される基または下式（５）で表される基の１種以上を有する、請求項４に記載の含フッ素化合物。
−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−・・・（３）
−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｑ−・・・（４）
−｛Ｃ（＝Ｏ）ＣｔＨ２ｔＯ｝ｋ−・・・（５）
ただし、
ｐ、ｑ、ｋおよびｔは、１〜２０の整数である。
【請求項６】
前記Ｑ１が、下式（６）で表される基である、請求項５に記載の含フッ素化合物。
−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−｛Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ｝ｋ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−・・・（６）
ただし、
ｐおよびｋは１〜１０の整数である。
【請求項７】
前記Ａが、下式（Ａ２）で表される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の含フッ素化合物。
【化１】
0005804224.tif 000014
ただし、
Ｑ２は３価の有機基であり、２つのＲ１はそれぞれ独立して水素原子またはＣＨ３である。
【請求項８】
前記Ｑ２が、下式（７−１）〜（７−６）で表される基のいずれかを有する、請求項７に記載の含フッ素化合物。
【化２】
0005804224.tif 000015
【化３】
0005804224.tif 000016
ただし、
ｓ、ｔ、ｕ、ｖおよびｗはそれぞれ独立して２〜１０の整数であり、
＊１、＊２および＊３は、他の基と結合する末端であり、＊１および＊２は、それぞれ、前記式（Ａ２）における−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＲ１＝ＣＨ２と結合し、＊３は−ＣＨ２ＣＦ２−または片末端が−ＣＨ２ＣＦ２−である２価の有機基を介して、前記式（１）における（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎと結合する。
【請求項９】
数平均分子量が、８００〜８０，０００である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の含フッ素化合物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の含フッ素化合物と、
光重合性化合物（ただし、前記含フッ素化合物を除く。）と、
光重合開始剤と
を含むことを特徴とするハードコート層形成用組成物。
【請求項１１】
液状媒体をさらに含む、請求項１０に記載のハードコート層形成用組成物。
【請求項１２】
前記含フッ素化合物の含有量が、固形分（１００質量％）のうち０．０１〜５質量％である、請求項１１に記載のハードコート層形成用組成物。
【請求項１３】
基材と、
請求項１０〜１２のいずれか一項に記載のハードコート層形成用組成物から形成したハードコート層と
を有することを特徴とする物品。
【請求項１４】
前記基材の材料が、金属、樹脂、ガラス、セラミック、またはこれらの複合材料である、請求項１３に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、含フッ素化合物、該含フッ素化合物を含むハードコート層形成用組成物および該組成物から形成したハードコート層を有する物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学物品、ディスプレイ、光記録媒体等は、通常、傷つき等を防止するためのハードコート層を表面に有する。
また、該物品には、汚れ（指紋、皮脂、汗、化粧品、食品、油性インク等）が表面に付着しにくく、汚れが表面に付着しても容易に除去できる特性、すなわち防汚性を有することが望まれる。たとえば、メガネレンズの表面に汚れが付着すると、良好な視界を妨げ、見栄えを悪くする。光記録媒体の表面に汚れが付着すると、信号の記録および再生に障害が発生することがある。ディスプレイの表面に汚れが付着すると、視認性が低下し、タッチパネル付きディスプレイにおいては操作性に悪影響を及ぼす。【０００３】
ハードコート層に防汚性を付与できる物質としては、下記のものが提案されている。
（１）主鎖中に、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素ポリマー（特許文献１）。
（２）分子の末端にペルフルオロメチル基を有し、該ペルフルオロメチル基にオキシペルフルオロアルキレン基が結合した構造を有する撥水撥油性付与剤（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第４５４７６４２号公報
【特許文献２】特許第４９２３５７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、本発明者らの知見によれば、（１）の含フッ素ポリマーを用いたハードコート層は、防汚性が不充分である。また、潤滑性も不充分である。
一方、（２）の撥水撥油性付与剤を用いたハードコート層は、防汚性には優れる。ところが、該ハードコート層は、潤滑性が不充分である。潤滑性が不充分なハードコート層をたとえばタッチパネル付きディスプレイの表面に設けると、タッチパネルのタッチ感が悪く、操作性が低下する。【０００６】
本発明は、対象物（ハードコート層等）に優れた防汚性（油性インクはじき性、指紋汚れ除去性）と潤滑性を付与できる含フッ素化合物、防汚性と潤滑性に優れるハードコート層を形成できるハードコート層形成用組成物、ならびに防汚性と潤滑性に優れるハードコート層を有する物品の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、下記［１］〜［１４］の構成を有する含フッ素化合物、ハードコート層形成用組成物およびハードコート層を有する物品を提供する。【０００８】
［１］下式（１）で表される、含フッ素化合物。
Ｄ１−Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ−Ａ・・・（１）
ただし、
Ｄ１はＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｒｆ１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎは１〜２００の整数であり、ｎが２以上のとき、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎは、ｍの異なる２種以上のＣｍＦ２ｍＯからなるものであってもよい。
Ａは−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＲ１＝ＣＨ２（ただし、Ｒ１は水素原子またはメチル基である。）を１つ以上有する１価の有機基である。
【０００９】
［２］前記（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎが、｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝である（ただし、ｎ１は１以上の整数であり、ｎ２は０以上の整数であり、ｎ１＋ｎ２は１〜２００の整数であり、ｎ１個のＣＦ２Ｏおよびｎ２個のＣＦ２ＣＦ２Ｏの結合順序は限定されない。）、［１］の含フッ素化合物。
［３］前記Ｒｆ１が、下式（２−１）で表される基、下式（２−２）で表される基または下式（２−３）で表される基である、［１］または［２］の含フッ素化合物。
−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−・・・（２−１）
−ＲＦ−ＣＨＦＣＦ２−・・・（２−２）
−ＲＦ−ＣｚＨ２ｚ−・・・（２−３）
ただし、
ＲＦは、単結合、炭素数１〜１５のペルフルオロアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１５のペルフルオロアルキレン基であり、
ｚは１〜４の整数である。【００１０】
［４］前記Ａが、下式（Ａ１）で表される、［１］〜［３］のいずれかの含フッ素化合物。
−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−Ｑ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＲ１＝ＣＨ２・・・（Ａ１）
ただし、
Ｑ１は、炭素数が１〜１００で、フッ素原子を有しない２価の有機基であり、
Ｒ１は水素原子またはＣＨ３である。【００１１】
［５］前記Ｑ１が、下式（３）で表される基、下式（４）で表される基または下式（５）で表される基の１種以上を有する、［４］の含フッ素化合物。
−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−・・・（３）
−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｑ−・・・（４）
−｛Ｃ（＝Ｏ）ＣｔＨ２ｔＯ｝ｋ−・・・（５）
ただし、
ｐ、ｑ、ｋおよびｔは、１〜２０の整数である。
［６］前記Ｑ１が、下式（６）で表される基である、［５］の含フッ素化合物。
−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−｛Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ｝ｋ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−・・・（６）
ただし、
ｐおよびｋは１〜１０の整数である。【００１２】
［７］前記Ａが、下式（Ａ２）で表される、［１］〜［３］のいずれかの含フッ素化合物。
【化１】
0005804224.tif 000002
ただし、
Ｑ２は３価の有機基であり、２つのＲ１はそれぞれ独立して水素原子またはＣＨ３である。【００１３】
［８］前記Ｑ２が、下式（７−１）〜（７−６）で表される基のいずれかを有する、［７］の含フッ素化合物。
【化２】
0005804224.tif 000003
【００１４】
【化３】
0005804224.tif 000004
ただし、
ｓ、ｔ、ｕ、ｖおよびｗはそれぞれ独立して２〜１０の整数であり、
＊１、＊２および＊３は、他の基と結合する末端であり、＊１および＊２は、それぞれ、前記式（Ａ２）における−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＲ１＝ＣＨ２と結合し、＊３は−ＣＨ２ＣＦ２−または片末端が−ＣＨ２ＣＦ２−である２価の有機基を介して、前記式（１）における（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎと結合する。
［９］数平均分子量が、８００〜８０，０００である、［１］〜［８］のいずれかの含フッ素化合物。【００１５】
［１０］前記［１］〜［９］のいずれかの含フッ素化合物と、
光重合性化合物（ただし、前記含フッ素化合物を除く。）と、
光重合開始剤と
を含むことを特徴とするハードコート層形成用組成物。
［１１］液状媒体をさらに含む、［１０］のハードコート層形成用組成物。
［１２］前記含フッ素化合物の含有量が、固形分（１００質量％）のうち０．０１〜５質量％である、［１１］のハードコート層形成用組成物。【００１６】
［１３］基材と、［１０］〜［１２］のいずれかのハードコート層形成用組成物から形成したハードコート層とを有することを特徴とする物品。
［１４］前記基材の材料が、金属、樹脂、ガラス、セラミック、またはこれらの複合材料である、［１３］の物品。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の含フッ素化合物は、対象物に優れた防汚性と潤滑性を付与できる。さらに加えて、本発明の含フッ素化合物は、他の成分との相溶性にも優れる。
本発明のハードコート層形成用組成物は、防汚性と潤滑性に優れるハードコート層を形成できる。さらに加えて、本発明のハードコート層形成用組成物は、貯蔵安定性にも優れる。
本発明の物品は、防汚性と潤滑性に優れるハードコート層を有する。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子を意味する。
「フルオロアルキレン基」とは、アルキレン基の水素原子の一部またはすべてがフッ素原子に置換された基を意味し、「ペルフルオロアルキレン基」とは、アルキレン基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換された基を意味する。
「ペルフルオロアルキル基」とは、アルキル基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換された基を意味する。
「オキシペルフルオロアルキレン基」とは、ペルフルオロアルキレン基の片末端に酸素原子を有する基を意味し、その化学式は、酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。
−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＲ１＝ＣＨ２（ただし、Ｒ１は水素原子またはメチル基である。）で表される基を、以下「（メタ）アクリロイル基」という。（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基およびメタクリロイル基の総称である。
ＨＯ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＲ１＝ＣＨ２で表される化合物を、以下「（メタ）アクリル酸」といい、（メタ）アクリル酸のエステルを（メタ）アクリレートという。（メタ）アクリレートは、アクリレートおよびメタクリレートの総称である。
有機基とは、炭素原子を有する基である。
【００１９】
〔含フッ素化合物〕
本発明の含フッ素化合物は、下式（１）で表される化合物（１）である。
Ｄ１−Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ−Ａ・・・（１）
ただし、
Ｄ１はＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｒｆ１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎは１〜２００の整数であり、ｎが２以上のとき、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎは、ｍの異なる２種以上のＣｍＦ２ｍＯからなるものであってもよい。
Ａは（メタ）アクリロイル基を１つ以上有する１価の有機基である。
【００２０】
（Ｄ１基）
Ｄ１はＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であるため、化合物（１）の一方の末端がＣＦ３−となる。そのため、化合物（１）を用いることにより、低表面エネルギーで防汚性に優れるハードコート層を形成できる。
【００２１】
（（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ）
（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎは、ハードコート層に防汚性および潤滑性を付与する。
ｍは、防汚性、潤滑性を充分に付与する点からは、１〜３の整数が好ましく、ハードコート層に潤滑性を充分に付与する点からは、１または２がより好ましい。
ｍが２以上の場合、ＣｍＦ２ｍは直鎖状でも分岐状でもよい。ハードコート層に防汚性、潤滑性を充分に付与する点からは、直鎖状が好ましい。
【００２２】
ｎは、ハードコート層に防汚性、潤滑性を充分に付与する点からは、２以上の整数が好ましく、４以上の整数がより好ましく、５以上の整数が特に好ましい。化合物（１）の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量当たりに存在する後述のＡ基中の（メタ）アクリロイル基の数が減少し、ハードコート層の耐摩耗性が低下する点、ハードコート層形成用組成物における化合物（１）と他の成分との相溶性に優れる点からは、ｎは、１００以下の整数が好ましく、８０以下の整数がより好ましく、６０以下の整数が特に好ましい。
【００２３】
ｎが２以上のとき、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎは、ｍの異なる２種以上のＣｍＦ２ｍＯからなるものであってもよい。
（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎにおいて、ｍの異なる２種以上のＣｍＦ２ｍＯが存在する場合、各ＣｍＦ２ｍＯの結合順序は限定されない。たとえば、ＣＦ２ＯとＣＦ２ＣＦ２Ｏが存在する場合、ＣＦ２ＯとＣＦ２ＣＦ２Ｏがランダムに配置されてもよく、ＣＦ２ＯとＣＦ２ＣＦ２Ｏが交互に配置されてもよく、複数のＣＦ２Ｏからなるブロックと複数のＣＦ２ＣＦ２Ｏからなるブロックが連結してもよい。
【００２４】
（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎは、ハードコート層に防汚性、潤滑性を充分に付与する点からは、｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝である（ただし、ｎ１は１以上の整数であり、ｎ２は０以上の整数であり、ｎ１＋ｎ２は１〜２００の整数であり、ｎ１個のＣＦ２Ｏおよびｎ２個のＣＦ２ＣＦ２Ｏの結合順序は限定されない。）ことが好ましい。
｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝は運動性に優れ、そのため、ハードコート層の潤滑性が優れる。特に（ＣＦ２Ｏ）ｎ１は、炭素数が１で酸素原子を有する基であるため、運動性により優れる。
【００２５】
｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝は、化合物（１）の製造のしやすさ等の点から、｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝の−ＣＨ２−に結合する側の末端はＣＦ２Ｏであることが好ましい。−ＣＨ２−に結合する側の末端がＣＦ２Ｏである｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝を、以下、ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝と表す。なお、ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝においても、前記のように、（ｎ１−１）個の（ＣＦ２Ｏ）およびｎ２個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）の結合順序は限定されない。
【００２６】
ｎ１は１以上の整数である。ハードコート層に防汚性、潤滑性を充分に付与する点からは、ｎ１は、２以上の整数が好ましく、３以上の整数が特に好ましい。化合物（１）の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量当たりに存在する後述のＡ基中の（メタ）アクリロイル基の数が減少し、ハードコート層の耐摩耗性が低下する点、ハードコート層形成用組成物における化合物（１）と他の成分との相溶性に優れる点からは、ｎ１は、５０以下の整数が好ましく、４０以下の整数がより好ましく、３０以下の整数が特に好ましい。
【００２７】
ｎ２は０以上の整数である。ハードコート層に防汚性、潤滑性を充分に付与する点からは、ｎ２は、１以上の整数が好ましく、２以上の整数が特に好ましい。化合物（１）の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量当たりに存在する後述のＡ基中の（メタ）アクリロイル基の数が減少し、ハードコート層の耐摩耗性が低下する点、ハードコート層形成用組成物における化合物（１）と他の成分との相溶性に優れる点からは、ｎ２は、５０以下の整数が好ましく、４０以下の整数がより好ましく、３０以下の整数が特に好ましい。
【００２８】
ｎ１とｎ２との比率は、ハードコート層に潤滑性を充分に付与する点からは、ｎ２がｎ１の０〜３倍であることが好ましい。
【００２９】
化合物（１）は、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎにおけるｎの数が異なる複数種の化合物の混合物として製造されうる。この場合、混合物としてのｎの平均値は、２〜１００が好ましく、４〜８０が特に好ましい。また、化合物（１）は、｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝におけるｎ１およびｎ２の数が異なる複数種の化合物の混合物として製造されうる。この場合、混合物としてのｎ１の平均値は、１〜５０が好ましく、ｎ２の平均値は１〜５０が好ましい。
【００３０】
（Ｒｆ１基）
Ｒｆ１における水素原子の数は、ハードコート層の潤滑性が充分に優れる点から、１以上が好ましい。Ｒｆ１における水素原子の数は、（Ｒｆ１の炭素数）×２以下であり、ハードコート層の防汚性が充分に優れる点からは、（Ｒｆ１の炭素数）以下が好ましい。
Ｒｆ１が水素原子を有することによって、上述の（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎの運動性がより向上し、ハードコート層の潤滑性が充分に優れ、ハードコート層形成用組成物における化合物（１）と他の成分との相溶性が優れる。一方、Ｒｆ１が水素原子を有しない場合、ハードコート層の潤滑性が不充分であり、ハードコート層形成用組成物における化合物と他の成分との相溶性が不充分であり、ハードコート層形成用組成物の貯蔵安定性が不充分である。
【００３１】
Ｒｆ１は、化合物（１）の製造のしやすさの点からは、下式（２−１）で表される基、下式（２−２）で表される基または下式（２−３）で表される基が好ましい。なお、ＲＦはＤ１に結合する基である。
−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−・・・（２−１）
−ＲＦ−ＣＨＦＣＦ２−・・・（２−２）
−ＲＦ−ＣｚＨ２ｚ−・・・（２−３）
ただし、
ＲＦは、単結合、炭素数１〜１５のペルフルオロアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１５のペルフルオロアルキレン基であり、
ｚは１〜４の整数である。
【００３２】
ＲＦは、ハードコート層に防汚性、潤滑性を充分に付与する点からは、炭素数１〜９のペルフルオロアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１３のペルフルオロアルキレン基が好ましい。ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状でも分岐状でもよい。
ｚは、１〜３の整数が好ましい。ｚが３以上の場合、ＣｚＨ２ｚは直鎖でも分岐でもよく、直鎖が好ましい。
【００３３】
Ｒｆ１が式（２−１）で表される場合、Ｄ１−Ｒｆ１−基の具体例としては、下記基が挙げられる。
ＣＦ３−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−。
【００３４】
Ｒｆ１が式（２−２）で表される場合のＤ１−Ｒｆ１−基の具体例としては、下記基が挙げられる。
ＣＦ３−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨＦＣＦ２−。
【００３５】
Ｒｆ１が式（２−３）で表される場合のＤ１−Ｒｆ１−基の具体例としては、下記基が挙げられる。
ＣＦ３−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−。
【００３６】
Ｒｆ１は、化合物（１）の製造のしやすさの点からは、式（２−１）で表される基が好ましく、Ｄ１−Ｒｆ１−基としては、ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−またはＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−が特に好ましい。
【００３７】
Ｄ１−Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ−にＡ基を導入するための出発化合物としては、下式（８）で表される化合物が好ましい。
Ｄ１−Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ−Ｒ２−Ｙ・・・（８）
この式において、Ｒ２は単結合またはフッ素原子を有していてもよい２価の有機基であり、Ｙは反応性基である。Ｒ２としては、炭素数１０以下の、アルキレン基やＹ側末端がメチレン基であるフルオロアルキレン基が好ましい。Ｙは水酸基、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基等が挙げられ、特に水酸基が好ましい。−Ｒ２−Ｙとしては−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨが好ましい。
上記出発化合物としては、後述の化合物（α２）等の下式（８−１）で表される化合物が好ましい。
Ｄ１−Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ・・・（８−１）
化合物（８−１）はモノオールであり、その水酸基の反応性を利用して（メタ）アクリロイル基を導入し、化合物（１）が製造される。
化合物（８−１）は、たとえば、Ｄ１を有する含フッ素オレフィンと（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎの両末端に水酸基含有有機基を有する含フッ素ジオール１分子とを、含フッ素オレフィンの不飽和基へ含フッ素ジオールの１個の水酸基を付加反応させる方法により得られる。含フッ素ジオールとしては市販の含フッ素ジオールを使用できる。含フッ素ジオールとしては、後述の化合物（α１）等が挙げられる。
【００３８】
（Ａ基）
Ａ基は（メタ）アクリロイル基を１つ以上有する１価の有機基である。Ａ基が（メタ）アクリロイル基を有するため、化合物（１）は、光照射により、ハードコート層形成用組成物に含まれる後述の光重合性化合物と反応し、ハードコート層に優れた耐摩耗性を付与する。光硬化性のハードコート層形成用組成物は、硬化に際して加熱が不要であるため、ガラス等に比較して耐熱性の低い樹脂からなる基材に、ハードコート層を形成する際に好適に使用される。
【００３９】
Ａ基の有する（メタ）アクリロイル基の数は、１〜３が好ましく、１または２が特に好ましい。
Ａ基は、化合物（８）における−Ｒ２−ＹのＹが反応して生じる基を含む。−Ｒ２−Ｙが−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨの場合、Ａ基は−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−をその末端に有し、−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−のＣＦ２が（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎの末端酸素原子に結合する。
Ａ基としては、下式（Ａ１）〜（Ａ３）で表される基が挙げられる。下式（Ａ１）〜（Ａ３）における−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−は、上記−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨの水酸基の水素原子を除いた基である。
【００４０】
【化４】
0005804224.tif 000005
【００４１】
式（Ａ１）〜（Ａ３）中、Ｑ１は２価の有機基、Ｑ２は３価の有機基、Ｑ３は４価の有機基であり、Ｒ１は水素原子またはＣＨ３であり、Ｑ２およびＱ３中の複数のＲ１は異なっていてもよい。
【００４２】
Ｑ１〜Ｑ３の炭素数はそれぞれ１〜１００が好ましく、１０〜６０が特に好ましい。炭素数が上記範囲の下限値以上であれば、ハードコート層形成用組成物における化合物（１）と他の成分との相溶性が優れ、上記範囲の上限値以下であれば、ハードコート層の防汚性がより優れる。Ｑ１〜Ｑ３はフッ素原子を有しないことが好ましい。Ｑ１〜Ｑ３がフッ素原子を有しないことにより、ハードコート層形成用組成物における化合物（１）と他の成分との相溶性が優れる。
Ｑ１〜Ｑ３は、直鎖状でも分岐状でもよい。また、環構造を有していてもよい。環構造を有する場合、環構造は芳香族環でも脂肪族環でもよく、脂肪族環が好ましい。
Ｑ１〜Ｑ３は、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子を有していても、エステル基、エーテル基（エーテル性酸素原子）、ウレタン基、ウレア基、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基等の基を有していてもよい。また、Ｑ１〜Ｑ３は、フッ素原子を有しない有機基であることが好ましい。
【００４３】
上式（Ａ１）で表される基（以下、「Ａ１基」ともいう。）は、Ｑ１が下式（３）で表される基、下式（４）で表される基または下式（５）で表される基の１種以上を有することが好ましい。
−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−・・・（３）
−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｑ−・・・（４）
−｛Ｃ（＝Ｏ）ＣｔＨ２ｔＯ｝ｋ−・・・（５）
【００４４】
ｐ、ｑ、ｋおよびｔは、１〜２０の整数である。
たとえば、ｐは、１〜１０の整数が好ましく、１〜３の整数が特に好ましい。ｔは１〜８の整数が好ましく、化合物（１）の製造容易性の点から、ｔは３〜６がより好ましく、５が特に好ましい。ｋは、１〜１０の整数が好ましく、２〜８の整数が特に好ましい。
【００４５】
Ｑ１は、前記化合物（８−１）の水酸基にアルキレンオキシドやラクトンを１分子以上付加させて上式（３）〜（５）で表される基を形成することが好ましい。また、水酸基の反応性を調整するために、前記化合物（８−１）の−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨにエチレンカーボネートを脱炭酸させながら付加して−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨとした後、アルキレンオキシドやラクトンを反応させることが好ましい。
Ｑ１が上式（３）で表される基を有する場合、Ｑ１は、たとえば、エチレンオキシドを１分子以上付加する方法、ポリエチレングリコールを２官能イソシアネート化合物とともに反応させる方法等で化合物（１）に導入できる。エチレンオキシドを付加する際には、エチレンカーボネートを脱炭酸させながら付加した後、エチレンオキシドを付加してもよい。
Ｑ１が上式（４）で表される基を有する場合、Ｑ１は、たとえば、プロピレンオキシドを１分子以上付加する方法、ポリプロピレングリコールを２官能イソシアネート化合物とともに反応させる方法等で化合物（１）に導入できる。プロピレンオキシドを付加する際には、エチレンカーボネートを脱炭酸させながら付加した後、プロピレンオキシドを付加してもよい。
Ｑ１が上式（５）で表される基を有する場合、Ｑ１は、たとえば、ラクトンを１分子以上付加する方法等で化合物（１）に導入できる。ラクトンを１分子以上付加する際には、エチレンカーボネートを脱炭酸させながら付加した後、ラクトンを付加してもよい。
【００４６】
Ｑ１は、化合物（１）の製造容易性の点から、式（５）で表される基を少なくとも有することが好ましく、下式（６）で表される基がより好ましい。
−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−｛Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ｝ｋ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−・・・（６）
【００４７】
式（６）中のｐおよびｋは、式（３）および式（５）におけるｐおよびｋと同じ意味を示す。
【００４８】
なお、化合物（８−１）と同様に、化合物（８−１）に式（３）〜（５）で表される基を導入して得られる末端に水酸基を有する化合物はいずれもＤ１−Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−で表される基を有するモノオールであり、これらモノオールは、Ｑ１を有する化合物（１）は勿論、Ｑ２を有する化合物（１）やＱ３を有する化合物（１）を製造するための原料化合物として好ましい。
【００４９】
上式（Ａ２）で表される基（以下、「Ａ２基」ともいう。）としては、−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−Ｑ２＜が下式（７−１）〜（７−６）で表される基を有する基が挙げられる。これらの基を有する化合物は、Ｄ１−Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−で表される基を有するモノオールとヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとトリイソシアネート化合物を反応させることにより得ることができる。
【００５０】
【化５】
0005804224.tif 000006
【００５１】
【化６】
0005804224.tif 000007
【００５２】
式（７−１）〜（７−６）中、ｓ、ｔ、ｕ、ｖ、ｗはそれぞれ独立して２〜１０の整数である。＊１、＊２および＊３は、他の基と結合する末端であり、＊１および＊２は、それぞれ、式（Ａ２）における−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＲ１＝ＣＨ２と結合し、＊３は−ＣＨ２ＣＦ２−または片末端が−ＣＨ２ＣＦ２−である２価の有機基を介して、式（１）における（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎと結合することが好ましい。片末端が−ＣＨ２ＣＦ２−である２価の有機基としては、片末端に−ＣＨ２ＣＦ２−が結合した炭素数１〜１０のアルキレン基、片末端に−ＣＨ２ＣＦ２−が結合した前記式（２）〜（６）で表される２価の基が挙げられる。ただし、−ＣＨ２ＣＦ２−のＣＦ２側が（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎと結合する。
【００５３】
上式（Ａ３）で表される基を有する化合物（１）は、上記（Ａ２）基を有する化合物（１）合成におけるトリイソシアネート化合物に代えてテトライソシアネート化合物を使用して得ることができる。
【００５４】
（化合物（１）の好ましい態様）
化合物（１）としては、下式（１１１）、下式（１１２）、下式（１２１）、下式（１２２）、下式（１３１）、下式（１３２）で表される化合物が好ましい。また、下式（１４−１）〜（１４−６）で表される化合物が好ましい。なかでも化合物（１）としては、下式（１１１）、下式（１１２）、下式（１２１）、下式（１２２）、下式（１３１）、下式（１３２）および下式（１４−１）で表される化合物が、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、ハードコート層に防汚性、潤滑性を充分に付与できる点で特に好ましい。
【００５５】
Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−｛Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ｝ｋ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ２・・・（１１１）
Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−｛Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ｝ｋ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２・・・（１１２）
【００５６】
Ｄ１−ＲＦ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−｛Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ｝ｋ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ２・・・（１２１）
Ｄ１−ＲＦ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−｛Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ｝ｋ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２・・・（１２２）
【００５７】
Ｄ１−ＲＦ−ＣｚＨ２ｚ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−｛Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ｝ｋ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ２・・・（１３１）
Ｄ１−ＲＦ−ＣｚＨ２ｚ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝−ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−｛Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ｝ｋ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２・・・（１３２）
【００５８】
【化７】
0005804224.tif 000008
【００５９】
式（１４−１）〜（１４−３）中、Ｇ１０は、Ｄ１−Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨ２ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２−である。ｓ、ｔ、ｕ、ｖ、ｗは、式（７−１）〜（７−３）と同じ意味であり、好ましい範囲も同じである。
【００６０】
【化８】
0005804224.tif 000009
【００６１】
式（１４−４）〜（１４−６）中、Ｇ１０は、Ｄ１−Ｒｆ１−Ｏ−ＣＨ２ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２−である。ｓ、ｔ、ｕ、ｖ、ｗは、式（７−１）〜（７−３）と同じ意味であり、好ましい範囲も同じである。
【００６２】
化合物（１）としては、Ｄ１−Ｒｆ１−基がＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−であり、ｐが１でｋが２である下式（１１１−１）の化合物が特に好ましい。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−｛（Ｃ＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ｝２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ２・・・（１１１−１）
【００６３】
（フッ素原子の割合および数平均分子量）
化合物（１）（１００質量％）中のフッ素原子の割合は、０．１〜８０質量％が好ましく、１〜７０質量％がより好ましく、５〜６５質量％が特に好ましい。
また、ハードコート層の防汚性をより向上させる点からは、化合物（１）中のフッ素原子（１００質量％）のうち、４０〜１００質量％が（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎの有するフッ素原子であることが好ましく、５０〜１００質量％が（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎの有するフッ素原子であることが特に好ましい。
フッ素原子の割合が上記範囲内であれば、ハードコート層に優れた防汚性（油性インクはじき性、指紋汚れ除去性）、潤滑性を付与できるとともに、化合物（１）がハードコート層形成用組成物における他の成分との相溶性に優れる。
フッ素原子の割合は、実施例に記載の方法によって測定される。
【００６４】
化合物（１）の数平均分子量（Ｍｎ）は、８００〜８０，０００が好ましく、１，０００〜４０，０００がより好ましく、１，２００〜３０，０００が特に好ましい。数平均分子量が該範囲内であれば、ハードコート層に優れた防汚性（油性インクはじき性、指紋汚れ除去性）、潤滑性を付与できるとともに、化合物（１）がハードコート層形成用組成物における他の成分との相溶性に優れる。
【００６５】
〔含フッ素化合物の製造方法〕
化合物（１）は、出発化合物である前記化合物（８）を合成し、次いで前記化合物（８）やその誘導体と（メタ）アクリロイル基を有する反応性化合物とを反応させることにより製造することができる。また、化合物（８）やその誘導体と（メタ）アクリロイル基を有する反応性化合物とをその両化合物と反応する多官能性化合物を介して結合することにより製造することもできる。以下、前者の方法を製造方法（ｉ）、後者の方法を製造方法（ｉｉ）という。
化合物（８）としては前記化合物（８−１）が好ましい。化合物（８）の誘導体としては、前記化合物（８−１）に前記式（４）〜（５）で表される基の１種以上を導入して得られるモノオールが好ましい。以下、水酸基を１つ有する、化合物（８）の誘導体と化合物（８）を含フッ素モノオールと総称する。
以下、出発化合物の例として上記含フッ素モノオールを使用した製造方法（ｉ）、製造方法（ｉｉ）を説明する。
【００６６】
製造方法（ｉ）：
（メタ）アクリロイル基と水酸基と反応しうる反応性基とを有する反応性化合物と含フッ素モノオールとを反応させて、化合物（１）を製造することができる。
反応性化合物の反応性基としては、イソシアネート基、ハロカルボニル基、カルボキシ基、エポキシ基等が挙げられる。反応性基としては、イソシアネート基とハロカルボニル基が好ましい。反応性化合物としては、反応性基を１つ有する化合物が好ましい。反応性化合物は１つ以上の（メタ）アクリロイル基を有し、（メタ）アクリロイル基の数は１〜４が好ましく、１がより好ましい。反応性化合物としては、たとえば、（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、（メタ）アクリル酸クロリド等が挙げられる。
具体的には、たとえば、アクリル酸クロリドと含フッ素モノオールとを反応させることにより、含フッ素モノオールの水酸基をアクリロイルオキシ基に変換して化合物（１）を製造することができる。また、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネートと含フッ素モノオールとを反応させることにより、含フッ素モノオールの水酸基を−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ２に変換して化合物（１）を製造することができる。
【００６７】
製造方法（ｉｉ）：
（メタ）アクリロイル基と反応性基とを有する反応性化合物と含フッ素モノオールとを該反応性基に反応しうる官能基と水酸基に反応しうる官能基とを有する多官能性化合物を介して反応させて、化合物（１）を製造することができる。この場合の反応性化合物の反応性基は水酸基であることが好ましく、多官能性化合物としては水酸基と反応しうる官能基を２以上有する化合物が好ましい。多官能性化合物の官能基としては、イソシアネート基、ハロカルボニル基、カルボキシ基、エポキシ基等が挙げられ、特にイソシアネート基が好ましい。
水酸基を有する反応性化合物は、１以上の（メタ）アクリロイル基と１以上の水酸基を有する化合物であり、水酸基の数は１が好ましい。（メタ）アクリロイル基の数は１〜８が好ましく、１〜４がより好ましく、１が特に好ましい。水酸基を有する反応性化合物としては、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、ポリオキシアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。特に、アルキル部分の炭素数が２〜１０のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートが好ましく、そのうちでも末端に水酸基を有する直鎖状のヒドロキシアルキル基を有する炭素数が２〜１０のヒドロキシアルキルアクリレートが好ましい。
多官能性化合物としては、イソシアネート基の数が２〜４のポリイソシアネート化合物が好ましい。ポリイソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等のジイソシアネート、およびジイソシアネートのイソシアヌレート変性体、ビュレット変性体、多価アルコール変性体等の変性体が挙げられる。ポリイソシアネート化合物としては、脂肪族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネート、およびそれらの変性体であるトリイソシアネートまたはテトライソシアネートが好ましい。
【００６８】
（メタ）アクリロイル基と１個の反応性基とを有する反応性化合物と含フッ素モノオールとｇ個の官能基を有する多官能性化合物とを、（反応性化合物）：（含フッ素モノオール）：（多官能性化合物）のモル比で（ｇ−１）：１：１の割合で反応させることにより化合物（１）が製造される。たとえば、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと含フッ素モノオールとｇ個のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物とをモル比（ｇ−１）：１：１：で反応させることにより、（ｇ−１）個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（１）を製造することができる。
反応性化合物と含フッ素モノオールと多官能性化合物は同時に反応させてもよく、含フッ素モノオールと多官能性化合物を反応させた後反応性化合物と反応させる方法や反応性化合物と多官能性化合物を反応させた後含フッ素モノオールと反応させる方法で化合物（１）を製造することもできる。
【００６９】
製造方法（ｉｉ）により、前記化合物（１４−１）〜（１４−６）を製造することができる。前記化合物（１４−１）〜（１４−６）は、含フッ素モノオールであるＧ１０−ＯＨと、ヒドロキシアルキルアクリレートと、トリイソシアネートとを、モル比１：２：１の割合で反応させて得られる。使用されるトリイソシアネートは、化合物（１４−１）〜（１４−６）の順に、イソシアヌレート変性アルキレンジイソシアネート、イソシアヌレート変性トリレンジイソシアネート、イソシアヌレート変性イソホロンジイソシアネート、ビュレット変性アルキレンジイソシアネート、グリセロール変性アルキレンジイソシアネート、グリセロール変性アルキレンジイソシアネートである。
なお、Ｇ１０−ＯＨとヒドロキシアルキルアクリレートとトリイソシアネートとをモル比１：２：１の割合で反応させて得られる反応生成物は、前記化合物（１４−１）〜（１４−６）のみが生成するとは限られず、反応させる３成分のモル比のずれ等が原因で、モル比１：２：１の反応生成物以外の化合物が副生することがある。副生物としては、たとえば、Ｇ１０が２でヒドロキシアルキルアクリレート残基が１の化合物、Ｇ１０が３でヒドロキシアルキルアクリレート残基が０の化合物、Ｇ１０が０でヒドロキシアルキルアクリレート残基が３の化合物が挙げられる。副生物は少ない方が好ましいが、場合によっては反応生成物を精製して副生物量を減少させることもできる。また、副生物のうちヒドロキシアルキルアクリレート残基を有する化合物は、後述の多官能性モノマー（ａ１）や単官能性モノマー（ａ２）として機能することより、特にその副生量が多くならない限り、それら副生物を含む化合物（１）は、それら副生物を除去することなく使用できることもある。
この副生物の生成は、トリイソシアネート化合物を使用する場合以外にも、多官能性化合物を介した化合物（１）の製造方法で生じうる。その場合もまた上記と同様に対応することが好ましい。
【００７０】
化合物（１１１）は下記の方法で製造できる。
塩基性化合物の存在下、両末端にＯＨ基を有する下式（α１）で表される化合物（α１）に、Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２を反応させて、化合物（α２）、化合物（α３）および未反応の化合物（α１）の混合物を得る。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ・・・（α１）
Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ・・・（α２）
Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ−Ｏ−ＲＦ−Ｄ１・・・（α３）
上記混合物から、片末端にＯＨ基が残存する一官能体の化合物（α２）を単離して、以下の化合物の製造に用いる。
【００７１】
炭酸セシウム等の塩基性化合物の存在下、化合物（α２）にエチレンカーボネートを脱炭酸させながら付加させて、化合物（α４）を得る。
Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐＨ・・・（α４）
次いで、チタンテトライソブトキサイド等の金属錯体触媒の存在下、化合物（α４）にε−カプロラクトンをアニオン重合させ、化合物（α５）を得る。
Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ｛Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ｝ｋＨ・・・（α５）
次いで、スズ等の金属触媒の存在下、化合物（α５）にアクリロイルオキシエチルイソシアネートを反応させ、アクリロイル基を導入し、化合物（１１１）を得る。
【００７２】
化合物（１１２）を製造する場合には、化合物（１１１）の製造において用いたアクリロイルオキシエチルイソシアネートに代えて、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを用いればよい。
【００７３】
化合物（１２１）を製造する場合には、化合物（１１１）の製造において用いたＤ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２に代えて、Ｄ１−ＲＦ−ＣＦ＝ＣＦ２を用いればよい。
化合物（１２２）を製造する場合には、化合物（１１１）の製造において用いたＤ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２に代えて、Ｄ１−ＲＦ−ＣＦ＝ＣＦ２を用い、アクリロイルオキシエチルイソシアネートに代えて、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを用いればよい。
【００７４】
化合物（１３１）を製造する場合には、化合物（１１１）の製造において用いたＤ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２に代えて、Ｄ１−ＲＦ−ＣｚＨ２ｚ−Ｘ（ただし、Ｘは脱離基であり、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ等である。）を用いればよい。
化合物（１３２）を製造する場合には、化合物（１１１）の製造において用いたＤ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２に代えて、Ｄ１−ＲＦ−ＣｚＨ２ｚ−Ｘを用い、アクリロイルオキシエチルイソシアネートに代えて、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを用いればよい。
【００７５】
化合物（１４−１）のうち、Ｄ１−Ｒｆ１−がＤ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦ−ＣＦ２−であり、ｓ、ｔ、ｕがいずれも６で、ｖおよびｗがいずれも２である化合物（１４−１１）は、スズ等の金属触媒の存在下、上記化合物（α２）と、ヒドロキシエチルアクリレートと、イソシアヌレート変性ヘキサメチレンジイソシアネート（ヘキサメチレンジイソシアネートの環状３量体とも呼ばれるトリイソシアネート）であるトリイソシアネート化合物とを反応させる方法で製造できる。トリイソシアネート化合物の１モルに対して、化合物（α２）の有する活性水素とヒドロキシエチルアクリレートの有する活性水素の総和が３モルであってよい。
【００７６】
トリイソシアネート化合物には、化合物（α２）およびヒドロキシエチルアクリレートを同時に添加して反応させても、化合物（α２）およびヒドロキシエチルアクリレートを順次添加して反応させてもよく、化合物（α２）、ヒドロキシエチルアクリレートの順で添加して反応させることが好ましい。
【００７７】
化合物（α２）は、トリイソシアネート化合物の１モルに対して、０．０００１モル以上を反応させることが好ましく、０．０１モル以上がより好ましく、０．１モル以上が特に好ましい。化合物（α２）は、トリイソシアネート化合物の１モルに対して、２モル以下を反応させることが好ましく、１．５モル以下がより好ましく、１．０モル以下が特に好ましい。
【００７８】
ヒドロキシエチルアクリレートは、トリイソシアネート化合物の１モルに対して、１モル以上を反応させることが好ましく、１．２モル以上がより好ましく、１．５モル以上が特に好ましい。ヒドロキシエチルアクリレートは、トリイソシアネート化合物の１モルに対して、２．５モル以下を反応させることが好ましく、２．０モル以下がより好ましく、１．８モル以下が特に好ましい。
【００７９】
化合物（α２）、ヒドロキシエチルアクリレートおよびイソシアヌレート変性ヘキサメチレンジイソシアネートは、溶媒中で反応させることができる。
【００８０】
〔ハードコート層形成用組成物〕
本発明のハードコート層形成用組成物（以下、「本組成物」とも記す。）は、化合物（１）と、光重合性化合物（ただし、化合物（１）を除く。）と、光重合開始剤とを含む。本発明のハードコート層形成用組成物は、必要に応じて液状媒体、他の添加剤をさらに含んでいてもよい。
【００８１】
（光重合性化合物）
光重合性化合物は、後述する光重合開始剤の存在下、活性エネルギー線を照射することで重合反応を開始するモノマーである。
光重合性化合物としては、多官能性モノマー（ａ１）（以下、「モノマー（ａ１）」とも記す。）、単官能性モノマー（ａ２）（以下、「モノマー（ａ２）」とも記す。）が挙げられる。ただし、化合物（１）は除く。
光重合性化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。光重合性化合物としては、ハードコート層に優れた耐摩耗性を付与する点から、モノマー（ａ１）を必須成分として含むものが好ましい。
【００８２】
モノマー（ａ１）としては、（メタ）アクリロイル基を１分子中に２つ以上有する化合物が挙げられる。（メタ）アクリロイル基は１分子中に３つ以上有することが好ましく、３〜３０個有することが特に好ましい。
モノマー（ａ１）としては、ハードコート層に優れた耐摩耗性を付与する点から、（メタ）アクリロイル基を１分子中に３つ以上有し、（メタ）アクリロイル基１つあたりの分子量が１２０以下であるモノマー（ａ１１）が好ましい。
【００８３】
モノマー（ａ１１）としては、トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトールまたはそれらの多量体（ポリペンタエリスリトール等）と、（メタ）アクリル酸との反応生成物であり、かつ（メタ）アクリロイル基を３つ以上、より好ましくは４〜２０個有する化合物が挙げられる。具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００８４】
モノマー（ａ１）としては、ウレタン結合が水素結合の作用で擬似架橋点として働き、（メタ）アクリロイル基１つあたりの分子量が小さくなくてもハードコート層に優れた耐摩耗性を付与する点から、ウレタン結合を分子内に有し、かつ（メタ）アクリロイル基を１分子中に３つ以上有するモノマー（ａ１２）も好ましい。
【００８５】
モノマー（ａ１２）としては、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、下記の化合物等が挙げられる。
・ペンタエリスリトールまたはポリペンタエリスリトールと、ポリイソシアネートと、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとの反応生成物であり、かつ（メタ）アクリロイル基を３つ以上、より好ましくは４〜２０個有する化合物。
・水酸基を有するペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートまたは水酸基を有するポリペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートと、ポリイソシアネートとの反応生成物であり、かつ（メタ）アクリロイル基を３つ以上、より好ましくは４〜２０個有する化合物。
【００８６】
モノマー（ａ２）としては、（メタ）アクリロイル基を１分子中に１つ有する化合物が挙げられる。モノマー（ａ２）は反応性希釈剤として機能し、本発明の組成物が液状媒体を含まない場合であっても本発明の組成物の粘度を低下させて基材への塗布を容易にする。また、本発明の組成物が液状媒体を含む場合であっても、組成物の粘度の調整やハードコート膜の物性の調整に有効である。
具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
アルキル基の炭素数１〜１３のアルキル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−シアノエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２，３−ジブロモプロピル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロデカトリエン（メタ）アクリレート、モルホリン（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、フェノキシヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−スルホン酸ナトリウムエトキシ（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、イソボルニルアクリレート等。
【００８７】
（光重合開始剤）
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤が使用できる。たとえば、アリールケトン系光重合開始剤（たとえば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−アシルオキシムエステル類等）、含硫黄系光重合開始剤（たとえば、スルフィド類、チオキサントン類等）、アシルホスフィンオキシド類（たとえば、アシルジアリールホスフィンオキシド等）、その他の光重合開始剤が挙げられる。光重合開始剤は、１種を単独で用いて、２種以上を併用してもよい。光重合開始剤は、アミン類等の光増感剤と併用してもよい。
【００８８】
光重合開始剤の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、１−｛４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル｝−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルホリノプロパン−１−オン。
ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラキス（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、９，１０−フェナントレンキノン、カンファーキノン、ジベンゾスベロン、２−エチルアントラキノン、４’，４”−ジエチルイソフタロフェノン、（１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム）、α−アシルオキシムエステル、メチルフェニルグリオキシレート。
４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド等。
【００８９】
（液状媒体）
本組成物は、必要に応じて液状媒体をさらに含んでいてもよい。液状媒体を含むことによって、本組成物の形態、粘度、表面張力等を調整でき、塗布方法に適した液物性に制御できる。
【００９０】
液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、本組成物の塗布方法に適した沸点を有する有機溶媒が好ましい。
有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であっても、非フッ素系有機溶媒であってもよく、両溶媒を含んでもよい。
【００９１】
フッ素系有機溶媒としては、上述したフルオロアルカン、フルオロ芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フルオロアルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素系有機溶媒としては、化合物（１）が溶解しやすい点で、フルオロアルカン、フルオロ芳香族化合物、フルオロアルコール、フルオロアルキルエーテルが好ましく、フルオロアルコールおよびフルオロアルキルエーテルが特に好ましい。
【００９２】
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、上述した炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、グリコールエーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
非フッ素系有機溶媒としては、化合物（１）が溶解しやすい点で、グリコールエーテル系有機溶媒およびケトン系有機溶媒が特に好ましい。
【００９３】
液状媒体としては、フルオロアルカン、フルオロ芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フルオロアルコール、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、ならびに、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒が好ましい。特に、フルオロアルカン、フルオロ芳香族化合物およびフルオロアルキルエーテルおよびフルオロアルコールから選ばれるフッ素系有機溶媒が好ましい。
液状媒体としては、フッ素系有機溶媒であるフルオロアルカン、フルオロ芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フルオロアルコール、非フッ素系有機溶媒である水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒を、合計で液状媒体全体の９０質量％以上含むことが、化合物（１）の溶解性を高める点で好ましい。
【００９４】
（他の添加剤）
本組成物は、必要に応じて他の添加剤をさらに含んでいてもよい。
他の添加剤としては、コロイダルシリカ、光増感剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱硬化安定剤、酸化防止剤、レベリング剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料、染料、分散剤、帯電防止剤、界面活性剤（防曇剤、レベリング剤等）、金属酸化物粒子、各種樹脂（エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等）等が挙げられる。
また、化合物（１）を使用する際、化合物（１）の製造上不可避の化合物（以下、不純物とも記す。）を同伴してもよい。具体的には、化合物（１）の製造工程で生成した副生成物および化合物（１）の製造工程で混入した成分である。不純物の含有量は、化合物（１）（１００質量％）に対して５質量％以下が好ましく、２質量％以下が特に好ましい。不純物の含有量が前記範囲であれば、ハードコート層に著しく優れた防汚性（油性インクはじき性、指紋汚れ除去性）および潤滑性を付与できる。
化合物（１）中の副生成物の同定および定量は、１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ）および１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ）によって行う。
【００９５】
（組成）
化合物（１）の含有量は、本組成物の固形分（１００質量％）のうち０．０１〜５質量％が好ましく、０．０２〜４質量％がより好ましく、０．０５〜３質量％が特に好ましい。化合物（１）の含有量が上記範囲内であれば、本組成物の貯蔵安定性、ハードコート層の外観、耐摩耗性、防汚性（油性インクはじき性、指紋汚れ除去性）および潤滑性に優れる。
なお、本組成物における固形分とは液状媒体を除いた全成分をいう。したがって、本組成物が液状媒体以外の液状の成分（たとえば、モノマー（ａ１）やモノマー（ａ２））を含んでいても、液状媒体を含まない本組成物の固形分は１００質量％である。
【００９６】
光重合性化合物の含有量は、本組成物の固形分（１００質量％）のうち２０〜９８．９９質量％が好ましく、５０〜９８．９９質量％がより好ましく、６０〜９８．９９質量％がさらに好ましく、８０〜９８．９９質量％が特に好ましい。光重合性化合物の含有量が上記範囲内であれば、本組成物の貯蔵安定性、ハードコート層の外観、耐摩耗性、防汚性（油性インクはじき性、指紋汚れ除去性）および潤滑性に優れる。
【００９７】
光重合開始剤の含有量は、本組成物の固形分（１００質量％）のうち１〜１５質量％が好ましく、３〜１５質量％がより好ましく、３〜１０質量％が特に好ましい。光重合開始剤の含有量が上記範囲内であれば、光重合性化合物との相溶性に優れる。また、本組成物の硬化性に優れ、形成する硬化膜は硬度に優れる。
【００９８】
液状媒体を含ませる場合、液状媒体の含有量は、本組成物（１００質量％）のうち５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％がより好ましく、２０〜６０質量％が特に好ましい。
他の添加剤を含ませる場合、他の添加剤の含有量は、本組成物の固形分（１００質量％）のうち０．５〜２０質量％が好ましく、１〜１５質量％がより好ましく、１〜１０質量％が特に好ましい。
【００９９】
本組成物の固形分濃度は、塗布方法に適した液物性となるように調整すればよい。液状媒体を含ませる場合の本組成物の固形分濃度は、たとえば、３０〜９０質量％が好ましく、４０〜８０質量％が特に好ましい。
【０１００】
〔物品〕
本発明の物品は、基材と、本組成物から形成したハードコート層とを有する。基材とハードコート層との密着性を向上させる点から、基材とハードコート層との間にプライマ層をさらに有していてもよい。すなわち、本発明の物品としては、基材の少なくとも片方の表面に直接、本組成物から形成したハードコート層を積層した物品、または、基材の少なくとも片方の表面に、プライマ層を介して、本組成物から形成したハードコート層を積層した物品、が好ましい。
ハードコート層の厚さは、耐摩耗性および防汚性の点から、０．５〜２０μｍが好ましく、１〜１５μｍが特に好ましい。
【０１０１】
（基材）
基材は、耐摩耗性および防汚性が必要とされる種々の物品（光学レンズ、ディスプレイ、光記録媒体等）の本体部分、または該物品の表面を構成する部材である。
基材の表面の材料としては、金属、樹脂、ガラス、セラミック、石、これらの複合材料等が挙げられる。光学レンズ、ディスプレイ、光記録媒体における基材の表面の材料としては、ガラスまたは透明樹脂基材が好ましい。
ガラスとしては、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学強化したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。透明樹脂基材の材料としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂が好ましい。
本組成物は、光硬化性であって硬化に際して加熱が不要であるため、ガラス等に比較して耐熱性の低い樹脂からなる基材に、ハードコート層を形成する際に好適に使用される。
【０１０２】
本組成物を用いることで、耐摩耗性、防汚性（油性インクはじき性、指紋汚れ除去性）および潤滑性に優れるハードコート層が得られる。該ハードコート層を有する物品は、タッチパネルを構成する部材として好適である。タッチパネルとは、指等による接触によってその接触位置情報を入力する装置と表示装置とを組み合わせた入力／表示装置（タッチパネル装置）の、入力装置である。タッチパネルは、基材と、入力検出方式に応じて、透明導電膜、電極、配線、ＩＣ等とから構成されている。物品のハードコート層を有する面をタッチパネルの入力面とすることによって、優れた防汚性（油性インクはじき性、指紋汚れ除去性）および潤滑性を有するタッチパネルが得られる。潤滑性が優れると、タッチパネルのタッチ感が優れ、操作性が向上する。
タッチパネル用基材の材質は、透光性を有する。具体的には、ＪＩＳ  Ｒ１３０６に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上である。
【０１０３】
（プライマ層）
プライマ層としては、公知のものが挙げられる。プライマ層は、たとえば液状媒体を含むプライマ層形成用組成物を基材の表面に塗布し、液状媒体を蒸発除去することによって形成される。
【０１０４】
（物品の製造方法）
物品は、たとえば、下記の工程（Ｉ）および工程（ＩＩ）を経て製造される。工程（Ｉ）は必要に応じて行う。
工程（Ｉ）：プライマ層形成用組成物を基材の表面に塗布してプライマ層を形成する工程。
工程（ＩＩ）：本組成物を基材またはプライマ層の表面に塗布して塗膜を得て、本組成物が液状媒体を含む場合は液状媒体を除去し、光硬化させてハードコート層を形成する工程。
なお、液状媒体を含む本組成物等の塗膜から液状媒体を蒸発除去する過程を、以下、乾燥ともいう。
【０１０５】
工程（Ｉ）：
塗布方法としては、公知の手法を適宜用いることができる。該塗布方法としては、バーコート法、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法等が挙げられる。
乾燥温度は、５０〜１４０℃が好ましい。
乾燥時間は、０．５分間〜３時間が好ましい。
【０１０６】
工程（ＩＩ）：
塗布方法としては、工程（Ｉ）で例示した公知の塗布方法が挙げられる。
【０１０７】
本組成物が液状媒体を含む場合、光硬化させる前に、塗膜から液状媒体を除去して乾燥膜とする。液状媒体の除去方法としては、公知の方法を適宜用いることができる。乾燥方法としては、加熱、減圧、減圧下で加熱する方法が挙げられる。なお、得られた乾燥膜は、液状媒体を１０質量％未満含むことが好ましく、１質量％未満含むことが特に好ましい。
加熱する場合の温度は、５０〜１２０℃が好ましい。
溶媒の除去時間は、０．５分間〜３時間が好ましい。
【０１０８】
光硬化は、本組成物が液状媒体を含まない場合には塗膜に対して、本組成物が液状媒体を含む場合には乾燥膜に対して行う。
光硬化は、活性エネルギー線を照射することによって行われる。
活性エネルギー線としては、紫外線、電子線、Ｘ線、放射線、高周波線等が挙げられ、波長１８０〜５００ｎｍの紫外線が経済的に好ましい。
活性エネルギー線源としては、紫外線照射装置（キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等）、電子線照射装置、Ｘ線照射装置、高周波発生装置等が使用できる。
活性エネルギー線の照射時間は、化合物（１）の種類、光重合性化合物の種類、光重合開始剤の種類、塗膜の厚さ、活性エネルギー線源等の条件により適宜変え得る。通常は、０．１〜６０秒間照射することにより目的が達成される。
硬化反応を完結させる目的で、活性エネルギー線の照射後に加熱してもよい。加熱温度は、５０〜１２０℃が好ましい。
【実施例】
【０１０９】
以下、実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において「％」は特に断りのない限り「質量％」である。なお、例１〜４および９〜１８は実施例、例５〜８および１９〜２０は比較例である。【０１１０】
各例中の略号は以下を意味する。
ＴＭＳ：テトラメチルシラン、
ＡＣ−２０００：Ｃ６Ｆ１３Ｈ、製品名、旭硝子社製、
ＡＥ−３０００：ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ、製品名、旭硝子社製、
ＡＫ−２２５：ジクロロペンタフルオロプロパン、
ＤＢＴＤＬ：ジブチル錫ジラウレート、
Ｒ−１１３：ＣＣｌ２ＦＣＣｌＦ２、
Ｌ：リットル、
Ｍｎ：数平均分子量。【０１１１】
〔測定・評価〕
（数平均分子量（Ｍｎ））
分子量測定用の標準試料として市販されている重合度の異なる数種の単分散ポリメチルメタクリレートのゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を、市販のＧＰＣ測定装置（東ソー社製、装置名：ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ）にて、溶離液にＡＫ−２２５：ヘキサフルオロイソプロパノール＝９９：１（体積比）の混合溶媒を用いて測定し、ポリメチルメタクリレートの分子量と保持時間（リテンションタイム）との関係をもとに検量線を作成した。
含フッ素化合物を前記混合溶媒で１．０質量％に希釈し、０．５μｍのフィルタに通過させた後、含フッ素化合物についてのＧＰＣを、前記ＧＰＣ測定装置を用いて測定した。
前記検量線を用いて、含フッ素化合物のＧＰＣスペクトルをコンピュータ解析することによって含フッ素化合物の数平均分子量（Ｍｎ）を求めた。【０１１２】
（フッ素原子の割合）
内標準としてヘキサフルオロメタキシレンを使用し、１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ）および１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ）における積分比をもとに、含フッ素化合物中のフッ素原子の割合（質量％）を算出した。【０１１３】
（水接触角）
ＪＩＳ  Ｒ  ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」に準拠して、ハードコート層の３ヶ所に水滴を載せ、各水滴について静滴法によって水接触角を測定した。液滴は約２μＬ／滴であり、測定は２０℃で行った。接触角は、３測定値の平均値（ｎ＝３）で示す。なお、防汚性の点から、水接触角は１００度以上が好ましい。【０１１４】
（オレイン酸接触角）
ＪＩＳ  Ｒ  ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」に準拠して、ハードコート層の３ヶ所にオレイン酸滴を載せ、各オレイン酸滴について静滴法によってオレイン酸接触角を測定した。液滴は約２μＬ／滴であり、測定は２０℃で行った。接触角は、３測定値の平均値（ｎ＝３）で示す。なお、防汚性の点から、オレイン酸接触角は６５度以上が好ましい。【０１１５】
（相溶性）
下記の基準にしたがい、目視によって調整直後のハードコート層形成用組成物の外観を評価した。
○（良好）：溶液が均一で濁りがない。
×（不良）：濁りが確認できる。【０１１６】
（貯蔵安定性）
ハードコート層形成用組成物を室温で３ヶ月静置したのち、目視によってハードコート層形成用組成物の外観を評価した。
○（良好）：溶液が均一で濁りがない。
×（不良）：濁りが確認できる。【０１１７】
（ハードコート層外観）
下記の基準にしたがい、目視によってハードコート層の外観を評価した。
○（良好）：異物が確認できず、膜厚が均一である。
△（可）  ：異物は確認できないが、膜厚にムラがある。
×（不良）：異物が確認され、膜厚にムラがある。【０１１８】
（油性インクはじき性）
ハードコート層の表面にフェルトペン（ゼブラ社製、製品名：マッキー極太黒色）で線を描き、油性インクの付着状態を目視で観察することによって評価した。評価基準は下記の通りである。
◎（優良）：油性インクを玉状にはじく。
○（良好）：油性インクを玉状にはじかず、線状にはじき、線幅がフェルトペンのペン先の幅の５０％未満である。
△（可）  ：油性インクを玉状にはじかず、線状にはじき、線幅がフェルトペンのペン先の幅の５０％以上１００％未満である。
×（不良）：油性インクを玉状にも線状にもはじかず、表面にきれいに線が描ける。【０１１９】
（指紋汚れ除去性）
人工指紋液（オレイン酸とスクアレンとからなる液）を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布（旭化成社製、製品名：ベンコットＭ−３）にて拭き取り、指紋のスタンプを準備した。該指紋スタンプを、ハードコート層を有する物品上に乗せ、１ｋｇの荷重にて１０秒間押しつけた。次に、指紋が付着した箇所について、ティッシュペーパを取り付けた、往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、荷重５００ｇにて拭き取りを行った。拭き取り一往復毎にヘーズを目視で観察し、１０往復後までのヘーズを目視で観察することによって評価した。評価基準は下記の通りである。
○（良好）：ヘーズが目視で確認できない。
△（可）  ：ヘーズが目視でわずかに確認できる。
×（不良）：ヘーズが目視で明らかに確認できる。【０１２０】
（耐摩耗性）
ハードコート層を有する物品について、往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウール（日本スチールウール社製、ボンスター＃００００）を荷重１，０００ｇで１００回往復させた後、水接触角およびオレイン酸接触角を測定した。
スチールウール擦り後の水接触角およびオレイン酸接触角の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩耗性に優れる。【０１２１】
（鉛筆硬度）
ＪＩＳ  Ｋ  ５６００に準じて測定した。【０１２２】
（動摩擦係数）
ハードコート層を有する基材の人工皮膚（ＰＢＺ１３００１、出光テクノファイン社製）に対する動摩擦係数を、荷重変動型摩擦摩耗試験システムＨＨＳ２０００（新東科学社製）を用い、接触面積３ｃｍ×３ｃｍ、荷重１００ｇの条件で測定した。
動摩擦係数が小さいほど潤滑性に優れる。【０１２３】
〔化合物〕
（光重合性化合物）
（ａ−１）：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（モノマー（ａ１１）に該当）。
（ａ−２）：トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート（モノマー（ａ１２）に該当）。
（光重合開始剤）
（ｂ−１）：２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルホリノプロパン−１−オン。
（有機溶媒）
（ｃ−１）：２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール。
（ｃ−２）：１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン。
（ｃ−３）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート。
（ｃ−４）：プロピレングリコールモノメチルエーテル。【０１２４】
〔例１〕化合物（１１１−１）の製造例：
（例１−１）
５００ｍＬの３つ口丸底フラスコに、水酸化カリウムの１．０４ｇを取り入れ、ｔｅｒｔ−ブタノールの８３ｇと１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１２５ｇを加えた。室温で攪拌して水酸化カリウムを溶解させ、これに化合物（α１）（ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ  Ｄ１０／Ｈ：製品名、ソルベイ・ソレクシス社製）の２５０ｇを加えて１時間攪拌した。室温のまま、ペルフルオロ（プロピルビニルエーテル）（ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２）の３８．２ｇを加え、さらに２４時間攪拌した。塩酸水溶液を加えて中和し、さらに水を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、反応粗液の２８８．０ｇを得た。再び、ＡＣ−２０００の１４４ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ−２０００およびＡＥ−３０００）に展開して分取した。これにより、化合物（α２−１）の１３６．２ｇ（収率４７％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ・・・（α２−１）。
（ｎ１−１）の平均値：８。
（ｎ２）の平均値：１０。
化合物（α２−１）のＮＭＲスペクトル； 
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９、４．２、５．９。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．７、−７８．７、−８０．７、−８１．３、−８２．１、−８３．４、−８５．３〜−８８．２、−８９．４〜−９１．１、−１３０．５、−１４５．２。【０１２５】
（例１−２）
撹拌機および冷却管を装着した５０ｍＬの４つ口フラスコに、炭酸セシウムの３９１ｍｇ、化合物（α２−１）の１．５０ｇ、エチレンカーボネートの１０６ｍｇを加え、１６０℃で３６時間加熱撹拌した。得られた溶液にＡＫ−２２５の１５ｇおよび希塩酸の１０ｇを加えた。有機層と水層を分離し、有機層をイオン交換水の３０ｍＬで３回洗浄した後、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で溶媒を留去することで化合物（α４−１）の１．０７ｇを得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）Ｈ・・・（α４−１）。
化合物（α４−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．６９、４．０４、４．６４、６．４０〜６．８３。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５１．７〜−５８．４、−７８．６、−８０．６、−８２．３、−８５．２〜−８７．６、−８９．０〜−９２．１、−１３０．７、−１４６．３。【０１２６】
（例１−３）
撹拌機および冷却管を装着した５０ｍＬの２つ口フラスコに、チタンテトライソブトキサイドの１．３ｍｇと化合物（α４−１）の５００ｍｇおよびε−カプロラクトンの８１ｍｇを加え、１６０℃で７時間加熱することで、化合物（α５−１）の５８０ｍｇを得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−｛（Ｃ＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ｝２Ｈ・・・（α５−１）。
化合物（α５−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．６４、１．７９、２．３０、２．６０、３．６１〜４．７３、６．５５〜６．８５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５１．８〜−５６．３、−７８．８、−８０．８、−８２．３、−８５．２〜−８７．５、−８８．７〜−９１．９、−１３０．６、−１４６．３。【０１２７】
（例１−４）
撹拌機を装着した５０ｍＬの２つ口フラスコに、ＡＫ−２２５の７５０ｍｇ、アセトンの２５０ｍｇ、重合禁止剤である２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐａｒａ−クレゾールの０．８ｍｇ、２−アクリロイルオキシエチルイソシアナートの１５．７ｍｇ、ＤＢＴＤＬの０．０６ｍｇ、および化合物（α５−１）の２００ｍｇを加え４０℃で２４時間撹拌した。その後、減圧下で溶媒を留去することで、化合物（１１１−１）と上記重合禁止剤との混合物を得た。該混合物中の化合物（１１１−１）の含有量は９９．６質量％であった。化合物（１１１−１）の数平均分子量（Ｍｎ）は２，２００で、フッ素原子の割合は、６１質量％であった。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−｛（Ｃ＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ｝２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ２・・・（１１１−１）。
化合物（１１１−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．８０〜２．１１、３．３０〜４．７７、５．５７〜６．５２、６．５２〜６．８７。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．４、−５４．１、−５５．９、−７８．３〜−７８．９、−８０．８、−８５．２〜−８７．４、−８８．９〜−９１．９、−１３０．７、−１４６．５。【０１２８】
〔例２〕ハードコート層の形成例：
３０ｍＬのバイアル管に、例１で得た化合物（１１１−１）を９９．６質量％含む上記混合物の２ｍｇ、光重合性化合物（ａ−１）の９４ｍｇ、光重合性化合物（ａ−２）の９４ｍｇ、光重合開始剤（ｂ−１）の１１．８ｍｇ、有機溶媒（ｃ−２）の１８ｍｇ、有機溶媒（ｃ−４）の１１７ｍｇを入れ、常温および遮光にした状態で、１時間撹拌して、ハードコート層形成用組成物（１）を得た。
次いで、ポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」とも記す。）基材の表面にハードコート層形成用組成物（１）をバーコートにより塗布し、塗膜を形成し、５０℃のホットプレートで１分間乾燥させ、基材の表面に乾燥膜を形成した。次いで、高圧水銀ランプを用いて紫外線（光量：３００ｍＪ／ｃｍ２、波長３６５ｎｍの紫外線積算エネルギー量）を照射し、基材の表面に厚さ５μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層形成用組成物（１）の組成およびハードコート層の評価結果を表１に示す。【０１２９】
〔例３〕化合物（１４−１１ａ）の製造例：
撹拌機を装着した５０ｍＬの２つ口フラスコに、イソシアヌレート変性ヘキサメチレンジイソシアネート（ヘキサメチレンジイソシアネートの環状３量体、旭化成ケミカルズ社製、製品名：ＤＵＲＡＮＡＴＥ  ＴＨＡ−１００）の１．０ｇ、ＡＫ−２２５の６．０ｇを入れ、ＤＢＴＤＬの７．５ｍｇおよび２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐａｒａ−クレゾールの０．３ｍｇを加え、窒素雰囲気中、室温で撹拌しながら１時間かけて、例１−１で得た化合物（α２−１）の０．９８ｇをＡＫ−２２５の１．０ｇに溶かした溶液を滴下し、室温で１２時間撹拌した。４０℃に加温し、２−ヒドロキシエチルアクリレートの０．７６ｇを２分間で滴下し１２時間撹拌した。赤外吸収スペクトルによってイソシアナート基の吸収が完全に消失していることを確認できたため、得られた反応溶液をエバポレータで濃縮し、下式（１３）のＧ１〜Ｇ３の１つが下式（１４ａ）で表される基であり、残りが下式（１５）で表される基である化合物（１４−１１ａ）と；Ｇ１〜Ｇ３の２つが下式（１４ａ）で表される基であり、残りが下式（１５）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて下式（１４ａ）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて下式（１５）で表される基である化合物との混合物の２．８７ｇを得た。混合物としての数平均分子量（Ｍｎ）は１，４００で、フッ素原子の割合は、２３質量％であった。【０１３０】
【化９】
0005804224.tif 000010
【０１３１】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−  ・・・（１４ａ）
ＣＨ２＝ＣＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−  ・・・（１５）
化合物（１４−１１ａ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．１９〜１．７６、３．１９、３．２９、３．７４、３．８８、４．３０、４．８５〜５．２８、５．８４、６．１５、６．４５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３、−５３．９、−５５．６、−７８．５、−８０．６、−８２．２、−８６．８、−８９．４、−９１．０、−１３０．６、−１４５．０。【０１３２】
〔例４〕ハードコート層の形成例：
３０ｍＬのバイアル管に、例３で得た化合物（１４−１１ａ）を含む混合物の１ｍｇ、光重合性化合物（ａ−１）の９４ｍｇ、光重合性化合物（ａ−２）の９４ｍｇ、光重合開始剤（ｂ−１）の１１ｍｇ、有機溶媒（ｃ−１）の１８ｍｇ、有機溶媒（ｃ−４）の１１７ｍｇを入れ、常温および遮光にした状態で、１時間撹拌して、ハードコート層形成用組成物（２）を得た。
次いで、ハードコート層形成用組成物（１）のかわりにハードコート形成用組成物（２）を使用した以外は例２と同様にして基材の表面に厚さ５μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層形成用組成物（２）の組成およびハードコート層の評価結果を表１に示す。【０１３３】
〔例５〕ポリマー（Ａ）の製造例：
（ＣＦ２Ｏ）と（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）との組み合わせからなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の両末端にアクリロイルオキシ基を有する含フッ素化合物と、ヒドロキシエチルメタクリレートを共重合させたのち、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネートを反応させて得られる含フッ素ポリマー（ポリマー（Ａ））を、特許文献１の実施例１に記載の方法にしたがって合成した（数平均分子量（Ｍｎ）：２，４００）。ポリマー（Ａ）中のフッ素原子の割合は、１１質量％であった。【０１３４】
〔例６〕ハードコート層の形成例：
３０ｍＬのバイアル管に、例５で得たポリマー（Ａ）を２ｍｇ、光重合性化合物（ａ−１）の９４ｍｇ、光重合性化合物（ａ−２）の９４ｍｇ、光重合開始剤（ｂ−１）の１１．８ｍｇ、有機溶媒（ｃ−４）の１３４．５ｍｇを入れ、常温および遮光にした状態で、１時間撹拌して、ハードコート層形成用組成物（３）を得た。
次いで、ハードコート層形成用組成物（１）のかわりにハードコート形成用組成物（３）を使用した以外は例２と同様にして基材の表面に厚さ５μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層形成用組成物（３）の組成およびハードコート層の評価結果を表１に示す。【０１３５】
〔例７〕化合物（Ｂ）の製造例：
化合物（Ｂ）として、分子の末端にペルフルオロメチル基を有し、該ペルフルオロメチル基にオキシペルフルオロアルキレン基が結合した構造を有する、特許文献２の実施例に記載された撥水撥油性付与剤（Ｂ−１３）を特許文献２の実施例に記載された方法にしたがって合成し、化合物（Ｂ）とした。化合物（Ｂ）の数平均分子量（Ｍｎ）は１，８００、フッ素原子の割合は、４２質量％であった。【０１３６】
〔例８〕ハードコート層の形成例：
３０ｍＬのバイアル管に、例７で得た化合物（Ｂ）の０．２ｍｇ、光重合性化合物（ａ−１）の９４ｍｇ、光重合性化合物（ａ−２）の９４ｍｇ、光重合開始剤（ｂ−１）の１１．８ｍｇ、有機溶媒（ｃ−３）の１８ｍｇ、有機溶媒（ｃ−４）の１１７ｍｇを入れ、常温および遮光にした状態で、１時間撹拌して、ハードコート層形成用組成物（４）を得た。
次いで、ハードコート層形成用組成物（１）のかわりにハードコート形成用組成物（４）を使用した以外は例２と同様にして基材の表面に厚さ５μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層形成用組成物（４）の組成およびハードコート層の評価結果を表１に示す。【０１３７】
〔例９〕化合物（１４−１１ｂ）の製造例：
（例９−１）
化合物（α１）のかわりに化合物（α６）（ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ  Ｄ４０００：製品名、ソルベイ・ソレクシス社製）を用いた以外は（例１−１）と同様にして、化合物（α６―１）（収率４４．８％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ・・・（α６−１）。
単位数ｎ１−１の平均値：２１。
単位数ｎ２の平均値：２０。【０１３８】
化合物（α６−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９、４．２、５．８〜６．０。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．４〜−５５．８、−７８．８、−８０．８、−８１．４、−８２．２、−８３．５、−８５．３〜−８８．２、−８９．４〜−９１．１、−１３０．５、−１４５．１。【０１３９】
（例９−２）
化合物（α２−１）のかわりに化合物（α６−１）の２．４２ｇを使用した以外は（例３）と同様にして、式（１３）のＧ１〜Ｇ３の１つが下式（１４ｂ）で表される基であり、残りが下式（１５）で表される基である化合物（１４−１１ｂ）と；Ｇ１〜Ｇ３の２つが下式（１４ｂ）で表される基であり、残りが下式（１５）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて下式（１４ｂ）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて下式（１５）で表される基である化合物との混合物を得た。混合物としての数平均分子量（Ｍｎ）は４，８００で、フッ素原子の割合は、３７質量％であった。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−  ・・・（１４ｂ）
単位数ｎ１−１の平均値：２１。
単位数ｎ２の平均値：２０。
ＣＨ２＝ＣＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−  ・・・（１５）【０１４０】
化合物（１４−１１ｂ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．１９〜１．７６、３．１９、３．２９、３．７４、３．８８、４．３０、４．８５〜５．２８、５．８４、６．１５、６．４５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３、−５３．９、−５５．６、−７８．５、−８０．６、−８２．２、−８６．８、−８９．４、−９１．０、−１３０．６、−１４５．０。【０１４１】
〔例１０〕ハードコート層の形成例：
化合物（１４−１１ａ）のかわりに例９で得た化合物（１４−１１ｂ）を使用した以外は例３と同様にして、ハードコート層形成用組成物（５）およびハードコート層を得た。
ハードコート層形成用組成物（５）の組成およびハードコート層の評価結果を表１に示す。【０１４２】
〔例１１〕化合物（１４−１２ｂ）の製造例：
ヒドロキシエチルアクリレートのかわりに、ヒドロキシブチルアクリレートの０．９４ｇを使用した以外は、例９−２と同様にして、式（１３）のＧ１〜Ｇ３の１つが下式（１４ｂ）で表される基であり、残りが下式（１６）で表される基である化合物（１４−１２ｂ）と；Ｇ１〜Ｇ３の２つが下式（１４ｂ）で表される基であり、残りが下式（１６）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて下式（１４ｂ）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて下式（１６）で表される基である化合物との混合物を得た。混合物としての数平均分子量（Ｍｎ）は４，９００で、フッ素原子の割合は、３６質量％であった。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−  ・・・（１４ｂ）
単位数ｎ１−１の平均値：２１。
単位数ｎ２の平均値：２０。
ＣＨ２＝ＣＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−  ・・・（１６）【０１４３】
化合物（１４−１２ｂ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．１９〜１．７６、３．１９、３．２９、３．７４、３．８８、４．３０、４．８５〜５．２８、５．８４、６．１５、６．４５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３、−５３．９、−５５．６、−７８．５、−８０．６、−８２．２、−８６．８、−８９．４、−９１．０、−１３０．６、−１４５．０。【０１４４】
〔例１２〕ハードコート層の形成例：
化合物（１４−１１ａ）のかわりに例１１で得た化合物（１４−１２ｂ）を使用した以外は例３と同様にして、ハードコート層形成用組成物（６）およびハードコート層を得た。
ハードコート層形成用組成物（６）の組成およびハードコート層の評価結果を表２に示す。【０１４５】
〔例１３〕化合物（１４−１１ｃ）の製造例：
（例１３−１）
ペルフルオロ（プロピルビニルエーテル）（ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２）のかわりにＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２の５９．７ｇを用いた以外は（例１−１）と同様にして、化合物（α７―１）（収率３９．１％）を得た。
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＦ２−Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝−ＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（α７−１）
単位数ｎ１−１の平均値：８。
単位数ｎ２の平均値：１０。【０１４６】
化合物（α７−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９、４．２、５．８〜６．０。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．４〜−５５．８、−７８．９、−８０．９、−８１．４、−８２．２、−８３．５、−８４．４〜−８７．２、−８９．１〜−９０．７、−１３０．２、−１４５．５。【０１４７】
（例１３−２）
化合物（α２−１）のかわりに化合物（α７−１）の１．１０ｇを使用した以外は（例３）と同様にして、式（１３）のＧ１〜Ｇ３の１つが下式（１４ｃ）で表される基であり、残りが下式（１５）で表される基である化合物（１４−１１ｃ）と；Ｇ１〜Ｇ３の２つが下式（１４ｃ）で表される基であり、残りが下式（１５）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて下式（１４ｃ）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて下式（１５）で表される基である化合物との混合物を得た。混合物としての数平均分子量（Ｍｎ）は２，４００で、フッ素原子の割合は、２３質量％であった。【０１４８】
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＦ２−Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２｝−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−  ・・・（１４ｃ）
単位数ｎ１−１の平均値：８。
単位数ｎ２の平均値：１０。
ＣＨ２＝ＣＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−  ・・・（１５）【０１４９】
化合物（１４−１１ｃ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．１９〜１．７６、３．１９、３．２９、３．７４、３．８８、４．３０、４．８５〜５．２８、５．８４、６．１５、６．４５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．４〜−５５．８、−７８．５、−８０．６、−８２．２、−８４．４〜−８７．２、−８９．１〜−９０．７、−１３０．２、−１４５．５。【０１５０】
〔例１４〕ハードコート層の形成例：
化合物（１４−１１ａ）のかわりに例１３で得た化合物（１４−１１ｃ）を使用した以外は例３と同様にして、ハードコート層形成用組成物（７）およびハードコート層を得た。
ハードコート層形成用組成物（７）の組成およびハードコート層の評価結果を表２に示す。【０１５１】
〔例１５〕化合物（１４−１１ｄ）の製造例：
（例１５−１）
国際公開第２００４／０３５６５６号に記載の方法に従って、化合物（α８−１）を合成した。
ＨＯ−ＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ３−ＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（α８−１）
単位数ｎ３の平均値：１０。
（例１５−２）
化合物（α１）のかわりに化合物（α８−１）を用いた以外は（例１−１）と同様にして、化合物（α８―２）（収率４０．１％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ・・・（α８−２）。
単位数ｎ３の平均値：１０。【０１５２】
化合物（α６−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９、４．２、５．８〜６．０。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５５．７、−７８．８、−８０．８、−８１．４、−８２．２、−８３．５、−８５．３〜−８８．２、−８９．４〜−９１．１、−１３０．５、−１４５．１。【０１５３】
（例１５−２）
化合物（α２−１）のかわりに化合物（α８−２）の０．６９ｇを使用した以外は（例３）と同様にして、式（１３）のＧ１〜Ｇ３の１つが下式（１４ｄ）で表される基であり、残りが下式（１５）で表される基である化合物（１４−１１ｄ）と；Ｇ１〜Ｇ３の２つが下式（１４ｄ）で表される基であり、残りが下式（１５）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて下式（１４ｄ）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて下式（１５）で表される基である化合物との混合物を得た。混合物としての数平均分子量（Ｍｎ）は１，６００で、フッ素原子の割合は、１７質量％であった。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ３ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−  ・・・（１４ｄ）
単位数ｎ３の平均値：１０。
ＣＨ２＝ＣＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−  ・・・（１５）【０１５４】
化合物（１４−１１ｄ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．１９〜１．７６、３．１９、３．２９、３．７４、３．８８、４．３０、４．８５〜５．２８、５．８４、６．１５、６．４５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５５．７、−７８．５、−８０．６、−８２．２、−８６．８、−８９．４、−９１．０、−１３０．６、−１４５．０。【０１５５】
〔例１６〕ハードコート層の形成例：
化合物（１４−１１ａ）のかわりに例１５で得た化合物（１４−１１ｄ）を使用した以外は例３と同様にして、ハードコート層形成用組成物（８）およびハードコート層を得た。
ハードコート層形成用組成物（８）の組成およびハードコート層の評価結果を表２に示す。【０１５６】
〔例１７〕化合物（１６−１１ａ）の製造例：
イソシアヌレート変性ヘキサメチレンジイソシアネートのかわりにビュレット変性ヘキサメチレンジイソシアネート（ヘキサメチレンジイソシアネートの３量体、旭化成ケミカルズ社製、製品名：ＤＵＲＡＮＡＴＥ  Ｐ３０１−７０）１．２５ｇを使用した以外は（例３）と同様にして、式（１６）のＧ１〜Ｇ３の１つが式（１４ａ）で表される基であり、残りが式（１５）で表される基である化合物（１６−１１ａ）と；Ｇ１〜Ｇ３の２つが式（１４ｄ）で表される基であり、残りが式（１５）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて式（１４ａ）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて式（１５）で表される基である化合物との混合物を得た。混合物としての数平均分子量（Ｍｎ）は２，０００で、フッ素原子の割合は、２４質量％であった。
【化１０】
0005804224.tif 000011
【０１５７】
化合物（１５−１１ａ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．１９〜１．７６、３．１８〜３．８９、４．３０、４．８５〜５．２８、５．８４、６．１５、６．４５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５５．７、−７８．５、−８０．６、−８２．２、−８６．８、−８９．４、−９１．０、−１３０．６、−１４５．０。
３．９、４．２、５．９【０１５８】
〔例１８〕ハードコート層の形成例：
化合物（１４−１１ａ）のかわりに例１７で得た化合物（１６−１１ａ）を使用した以外は例３と同様にして、ハードコート層形成用組成物（９）およびハードコート層を得た。
ハードコート層形成用組成物（９）の組成およびハードコート層の評価結果を表２に示す。【０１５９】
〔例１９〕化合物（Ｃ）の製造例：
例３に記載の方法にしたがって、式（１３）のＧ１〜Ｇ３の１つが下式（１４−２）で表される基であり、残りが式（１５）で表される基である化合物（Ｃ）と；Ｇ１〜Ｇ３の２つが下式（１４−２）で表される基であり、残りが式（１５）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて下式（１４−２）で表される基である化合物と；Ｇ１〜Ｇ３がすべて式（１５）で表される基である化合物との混合物を合成した。混合物としての数平均分子量（Ｍｎ）は１，４００で、フッ素原子の割合は、２９質量％であった。
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−  ・・・（１４−２）【０１６０】
〔例２０〕ハードコート層の形成例：
化合物（１４−１１ａ）のかわりに例１９で得た化合物（Ｃ）を使用した以外は例３と同様にして、ハードコート層形成用組成物（１０）およびハードコート層を得た。
ハードコート層形成用組成物（１０）の組成およびハードコート層の評価結果を表２に示す。【０１６１】
【表１】
0005804224.tif 000012
【０１６２】
【表２】
0005804224.tif 000013
【０１６３】
化合物（１１１−１）を用いて形成した例２のハードコート層、化合物（１４−１１ａ）を用いて形成した例４のハードコート層、化合物（１４−１１ｂ）を用いて形成した例１０のハードコート層、化合物（１４−１２ｂ）を用いて形成した例１２のハードコート層、化合物（１４−１１ｃ）を用いて形成した例１４のハードコート層、化合物（１４−１１ｄ）を用いて形成した例１６のハードコート層、および化合物（１６−１１ａ）を用いて形成した例１８のハードコート層は、防汚性（油性インクはじき性、指紋汚れ除去性）に優れ、防汚性の指標となる水接触角およびオレイン酸接触角が高かった。また、例２、４、１０、１２、１４、１６および１８のハードコート層形成用組成物は相溶性および貯蔵安定性に優れていた。また、例２、４、１０、１２、１４、１６および１８のハードコート層は、動摩擦係数が小さく潤滑性に優れているとともに、外観、耐摩耗汚性にも優れていた。
これに対して、従来の含フッ素ポリマーを用いた例６のハードコート層は、水接触角およびオレイン酸接触角が低く、防汚性が不充分であった。また、動摩擦係数も非常に大きかった。例６のポリマーの相溶性およびハードコート層形成用組成物の貯蔵安定性が不充分であった。また、従来の化合物を用いた例８のハードコート層は、動摩擦係数が大きく、潤滑性が不充分であった。例８のハードコート層形成用組成物の貯蔵安定性が不充分であった。例２０のハードコート層は、水接触角およびオレイン酸接触角は高いものの、耐摩耗性が不充分であった。例２０のハードコート層形成用組成物の貯蔵安定性が不充分であった。
【産業上の利用可能性】
【０１６４】
本発明の含フッ素化合物は、対象物（ハードコート層等）への優れた防汚性（油性インクはじき性、指紋汚れ除去性）および潤滑性の付与に好適に用いることができる。また、樹脂材料に混合して成形品に防汚性（油性インクはじき性、指紋汚れ除去性）および潤滑性を付与する用途、金型等の離型剤、ベアリング等の油漏れ防止、電子部品等を加工する際のプロセス溶液の付着防止、加工品の防湿等に用いることができる。
なお、２０１３年１０月１８日に出願された日本特許出願２０１３−２１７７４２号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。