(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性構成要素であって：
絶縁層と、前記絶縁層上に配置された金属メッシュとを含み、前記絶縁層は、第１の表面と、前記第１の表面に対向する第２の表面とを有し、前記金属メッシュは２つの層を含み、前記金属メッシュの一方の層は前記絶縁層の前記第１の表面上に配置され、前記金属メッシュの他方の層は前記絶縁層の前記第２の表面上に配置され、前記金属メッシュは、アレイ状に配置された複数の間隙を規定し、前記金属メッシュの前記間隙の開口比Ｋ、前記導電性構成要素の光透過率Ｔ１、および前記絶縁層の光透過率Ｔ２の関係は、式：Ｔ１＝Ｔ２＊Ｋとして記載され、
前記絶縁層の前記第１の表面上に配置された前記金属メッシュの前記第２の表面への正射影は、前記絶縁層の前記第２の表面上に配置される前記金属メッシュに重なる、導電性構成要素。
【請求項２】
前記間隙は正方形または菱形であり、前記金属メッシュは複数の平行な第１の金属線と複数の平行な第２の金属線とを含み、前記第１の金属線と前記第２の金属線とは前記間隙を形成するように互いと交差する、請求項１に記載の導電性構成要素。
【請求項３】
前記第１の金属線および前記第２の金属線の少なくとも一方は、中実の線または格子線である、請求項２に記載の導電性構成要素。
【請求項４】
前記第１の金属線および前記第２の金属線の幅は、４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である、請求項２に記載の導電性構成要素。
【請求項５】
前記第１の金属線および前記第２の金属線の前記幅は、４５ｎｍ以上５０００ｎｍ以下である、請求項４に記載の導電性構成要素。
【請求項６】
前記金属メッシュの前記間隙はハニカム構成における規則的な六角形である、請求項１に記載の導電性構成要素。
【請求項７】
前記金属メッシュの前記間隙は三角形であり、前記金属メッシュは、複数の平行な第１の金属線と、複数の平行な第２の金属線と、複数の平行な第３の金属線とを含み、前記第１の金属線および前記第２の金属線は、互いに対して傾き、互いと交差して、アレイ状に配置された複数の菱形の間隙を形成し、前記第３の金属線は、対応する菱形の間隙の２つの対向する端部を通って、前記菱形の間隙を三角形の間隙に分割する、請求項１に記載の導電性構成要素。
【請求項８】
前記第１の金属線、前記第２の金属線、および前記第３の金属線の少なくとも１つは、中実の線または格子線である、請求項７に記載の導電性構成要素。
【請求項９】
前記第１の金属線、前記第２の金属線、および前記第３の金属線の幅は、４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である、請求項７に記載の導電性構成要素。
【請求項１０】
前記第１の金属線、前記第２の金属線、および前記第３の金属線の前記幅は、４５ｎｍ以上５０００ｎｍ以下である、請求項９に記載の導電性構成要素。
【請求項１１】
前記金属メッシュはその表面に酸化防止層が設けられ、前記酸化防止層は、金、白金、ニッケルおよびニッケル金合金からなる群から選択される材料から形成される、請求項１に記載の導電性構成要素。
【請求項１２】
前記絶縁層はガラス基板またはプラスチック膜である、請求項１に記載の導電性構成要素。
【請求項１３】
前記ガラス基板は、無機ケイ酸塩ガラスおよびポリメタクリル酸メチルからなる群から選択される材料から形成される、請求項１２に記載の導電性構成要素。
【請求項１４】
前記プラスチック膜は、ポリエチレンテレフタレートおよびポリカーボネートからなる群から選択される材料から形成される、請求項１２に記載の導電性構成要素。
【請求項１５】
前記絶縁層は、その表面に、防眩、硬化、反射防止および霧化の機能を有する機能層を設けられ、前記金属メッシュは前記機能層の表面上に形成される、請求項１に記載の導電性構成要素。
【請求項１６】
前記反射防止の機能を有する前記機能層は、二酸化チタンコーティング、フッ化マグネシウムコーティングおよびフッ化カルシウムコーティングからなる群から選択される、請求項１５に記載の導電性構成要素。
【請求項１７】
前記金属メッシュの厚みは、４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である、請求項１に記載の導電性構成要素。
【請求項１８】
導電性構成要素を準備する方法であって：
２つの金属層を、絶縁層の第１の表面上および前記第１の表面に対向する第２の表面上にそれぞれ形成するステップと；
前記金属層を処理して、露光および現像によって２つの層がそれぞれ前記絶縁層の前記第１の表面および前記第２の表面上に配置される金属メッシュを形成するステップとを含み、前記金属メッシュは、アレイ状に配置された複数の間隙を規定し、前記金属メッシュの前記間隙の開口比Ｋと、前記導電性構成要素の光透過率Ｔ１と、前記絶縁層の光透過率Ｔ２との関係は、式：Ｔ１＝Ｔ２＊Ｋとして記載され、
前記絶縁層の前記第１の表面上に配置された前記金属メッシュの前記第２の表面への正射影は、前記絶縁層の前記第２の表面上に配置される前記金属メッシュに重なる、導電性構成要素を準備する方法。
【請求項１９】
前記間隙は正方形または菱形であり、前記金属メッシュは複数の平行な第１の金属線と複数の平行な第２の金属線とを含み、前記第１の金属線と前記第２の金属線とは前記間隙を形成するように互いと交差する、請求項１８に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項２０】
前記第１の金属線および前記第２の金属線の少なくとも一方は、中実の線または格子線である、請求項１９に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項２１】
前記第１の金属線および前記第２の金属線の幅は、４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である、請求項１９に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項２２】
前記第１の金属線および前記第２の金属線の幅は、４５ｎｍ以上５０００ｎｍ以下である、請求項２１に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項２３】
前記金属メッシュの前記間隙は、ハニカム構成にある規則的な六角形である、請求項１８に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項２４】
前記金属メッシュの前記間隙は三角形であり、前記金属メッシュは、複数の平行な第１の金属線と、複数の平行な第２の金属線と、複数の平行な第３の金属線とを含み、前記第１の金属線および前記第２の金属線は、傾き、交差して、アレイ状に配置された複数の菱形の間隙を形成し、前記第３の金属線は、対応する菱形の間隙の２つの対向する端部を通って、前記菱形の間隙を三角形の間隙に分割する、請求項１８に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項２５】
前記第１の金属線、前記第２の金属線、および前記第３の金属線の少なくとも１つは、中実の線または格子線である、請求項２４に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項２６】
前記第１の金属線、前記第２の金属線、および前記第３の金属線の幅は、４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である、請求項２４または２５に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項２７】
前記第１の金属線、前記第２の金属線、および前記第３の金属線の前記幅は、４５ｎｍ以上５０００ｎｍ以下である、請求項２６に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項２８】
前記金属メッシュはその表面に酸化防止層が設けられ、前記酸化防止層は、金、白金、ニッケルおよび金ニッケル合金からなる群から選択される材料から形成される、請求項１８に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項２９】
前記絶縁層はガラス基板またはプラスチック膜である、請求項１８に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項３０】
前記ガラス基板は、無機ケイ酸塩ガラスおよびポリメタクリル酸メチルからなる群から選択される材料から形成される、請求項２９に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項３１】
前記プラスチック膜は、ポリエチレンテレフタレートおよびポリカーボネートからなる群から選択される材料から形成される、請求項２９に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項３２】
前記絶縁層は、その表面に、防眩、硬化、反射防止および霧化の機能を有する機能層を設けられ、前記金属メッシュは前記機能層の表面上に形成される、請求項１８に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項３３】
前記反射防止の機能を有する前記機能層は、二酸化チタンコーティング、フッ化マグネシウムコーティングおよびフッ化カルシウムコーティングからなる群から選択される、請求項３２に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【請求項３４】
前記金属メッシュの厚みは、４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である、請求項１８に記載の導電性構成要素を準備する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
発明の分野
この発明は、導電性構成要素およびその準備方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
発明の背景
最近、容量性タッチスクリーンは、高い透明度、マルチタッチおよび長寿命などのような、多くの利点のために、市場においてますます好まれている。現在、透明な導電性材料（インジウムスズ酸化物、ＩＴＯ）が、ガラス基板の上に真空蒸着またはマグネトロンスパッタリングによってコーティングされて、容量性タッチスクリーンに適用される導電性構成要素が形成される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、インジウムは希土類元素であり、それは自然界において埋蔵量が相対的に少なく、高価であり、したがって導電性構成要素を高コストにする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
発明の概要
この発明の１つの目的は、安価な導電性構成要素およびその準備方法を提供することである。
【０００５】
導電性構成要素は、絶縁層と、絶縁層上に配置された金属メッシュとを含み、絶縁層は、第１の表面と、第１の表面に対向する第２の表面とを有し、金属メッシュは２つの層を含み、金属メッシュの一方の層は絶縁層の第１の表面上に配置され、金属メッシュの他方の層は絶縁層の第２の表面上に配置され、金属メッシュは、アレイ状に配置された複数の間隙を規定し、金属メッシュの間隙の開口比Ｋ、導電性構成要素の光透過率Ｔ１、および絶縁層の光透過率Ｔ２の関係は、式：Ｔ１＝Ｔ２＊Ｋとして記載される。
【０００６】
一実施例においては、間隙は正方形または菱形であり、金属メッシュは複数の平行な第１の金属線と複数の平行な第２の金属線とを含み、第１の金属線と第２の金属線とは間隙を形成するように互いと交差する。
【０００７】
一実施例においては、第１の金属線および第２の金属線の少なくとも一方は、中実の線または格子線である。
【０００８】
一実施例においては、第１の金属線および第２の金属線の幅は、４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である。
【０００９】
一実施例においては、第１の金属線および第２の金属線の幅は、４５ｎｍ以上５０００ｎｍ以下である。
【００１０】
一実施例においては、金属メッシュの間隙はハニカム構成における規則的な六角形である。
【００１１】
一実施例においては、金属メッシュの間隙は三角形であり、金属メッシュは、複数の平行な第１の金属線と、複数の平行な第２の金属線と、複数の平行な第３の金属線とを含み、第１の金属線および第２の金属線は、互いに対して傾き、互いと交差して、アレイ状に配置された複数の菱形の間隙を形成し、第３の金属線は、対応する菱形の間隙の２つの対向する端部を通って、菱形の間隙を三角形の間隙に分割する。
【００１２】
一実施例においては、第１の金属線、第２の金属線、および第３の金属線の少なくとも１つは、中実の線または格子線である。
【００１３】
一実施例においては、第１の金属線、第２の金属線、および第３の金属線の幅は、４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である。
【００１４】
一実施例においては、第１の金属線、第２の金属線、および第３の金属線の幅は、４５ｎｍ以上５０００ｎｍ以下である。
【００１５】
一実施例においては、金属メッシュはその表面に酸化防止層が設けられ、酸化防止層は、金、白金、ニッケルおよびニッケル金合金からなる群から選択される材料から形成される。
【００１６】
一実施例においては、絶縁層の第１の表面上に配置される金属メッシュの第２の表面への正射影は、絶縁層の第２の表面上に配置される金属メッシュに重なる。
【００１７】
一実施例においては、絶縁層はガラス基板またはプラスチック膜である。
一実施例においては、ガラス基板は、無機ケイ酸塩ガラスおよびポリメタクリル酸メチルからなる群から選択される材料から形成される。
【００１８】
一実施例においては、プラスチック膜は、ポリエチレンテレフタレートおよびポリカーボネートからなる群から選択される材料から形成される。
【００１９】
一実施例においては、絶縁層は、その表面に、防眩、硬化、反射防止および霧化の機能を有する機能層を設けられ、金属メッシュは機能層の表面上に形成される。
【００２０】
一実施例においては、反射防止の機能を有する機能層は、二酸化チタンコーティング、フッ化マグネシウムコーティングおよびフッ化カルシウムコーティングからなる群から選択される。
【００２１】
一実施例においては、金属メッシュの厚みは４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である。
導電性構成要素を準備する方法であって：
２つの金属層を、絶縁層の第１の表面上および第１の表面に対向する第２の表面上にそれぞれ形成するステップと；
金属層を処理して、露光および現像によって２つの層がそれぞれ絶縁層の第１の表面および第２の表面上に配置される金属メッシュを形成するステップとを含み、金属メッシュは、アレイ状に配置された複数の間隙を規定し、金属メッシュの間隙の開口比Ｋと、導電性構成要素の光透過率Ｔ１と、絶縁層の光透過率Ｔ２との関係は、式：Ｔ１＝Ｔ２＊Ｋとして記載される。
【００２２】
一実施例においては、間隙は正方形または菱形であり、金属メッシュは複数の平行な第１の金属線と複数の平行な第２の金属線とを含み、第１の金属線と第２の金属線とは間隙を形成するように互いと交差する。
【００２３】
一実施例においては、第１の金属線および第２の金属線の少なくとも一方は、中実の線または格子線である。
【００２４】
一実施例においては、第１の金属線および第２の金属線の幅は、４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である。
【００２５】
一実施例においては、第１の金属線および第２の金属線の幅は、４５ｎｍ以上５０００ｎｍ以下である。
【００２６】
一実施例においては、金属メッシュの間隙はハニカム構成における規則的な六角形である。
【００２７】
一実施例においては、金属メッシュの間隙は三角形であり、金属メッシュは、複数の平行な第１の金属線と、複数の平行な第２の金属線と、複数の平行な第３の金属線とを含み、第１の金属線および第２の金属線は、傾き、交差して、アレイ状に配置された複数の菱形の間隙を形成し、第３の金属線は、対応する菱形の間隙の２つの対向する端部を通って、菱形の間隙を三角形の間隙に分割する。
【００２８】
一実施例においては、第１の金属線、第２の金属線、および第３の金属線の少なくとも１つは、中実の線または格子線である。
【００２９】
一実施例においては、第１の金属線、第２の金属線、および第３の金属線の幅は、４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である。
【００３０】
一実施例においては、第１の金属線、第２の金属線、および第３の金属線の幅は、４５ｎｍ以上５０００ｎｍ以下である。
【００３１】
一実施例においては、金属メッシュはその表面に酸化防止層が設けられ、酸化防止層は、金、白金、ニッケルおよび金ニッケル合金からなる群から選択される材料から形成される。
【００３２】
一実施例においては、絶縁層の第１の表面上に配置される金属メッシュの第２の表面への正射影は、絶縁層の第２の表面上に配置される金属メッシュに重なる。
【００３３】
一実施例においては、絶縁層はガラス基板またはプラスチック膜である。
一実施例においては、ガラス基板は、無機ケイ酸塩ガラスおよびポリメタクリル酸メチルからなる群から選択される材料から形成される。
【００３４】
一実施例においては、プラスチック膜は、ポリエチレンテレフタレートおよびポリカーボネートからなる群から選択される材料から形成される。
【００３５】
一実施例においては、絶縁層は、その表面に、防眩、硬化、反射防止および霧化の機能を有する機能層を設けられ、金属メッシュは機能層の表面上に形成される。
【００３６】
一実施例においては、反射防止の機能を有する機能層は、二酸化チタンコーティング、フッ化マグネシウムコーティングおよびフッ化カルシウムコーティングからなる群から選択される。
【００３７】
一実施例においては、金属メッシュの厚みは４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である。
導電性構成要素およびその準備方法においては、金属メッシュは絶縁層の表面上に配置され、金属メッシュは、使用の際の必要に応じて、露光および現像によって絶縁層上のパターニングされた感知層形成されてもよく、次いで、タッチスクリーンに適用され、インジウムスズ酸化物の使用は導電性構成要素においては回避され、したがって、導電性構成要素のコストは低い。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】導電性構成要素の実施例の概略的な断面図である。
【図２】図１に示される導電性構成要素の金属メッシュの概略図である。
【図３】別の実施例に従う導電性構成要素の金属メッシュの概略図である。
【図４】別の実施例に従う導電性構成要素の金属メッシュの概略図である。
【図５】別の実施例に従う導電性構成要素の金属メッシュの概略図である。
【図６】導電性構成要素の準備方法の実施例のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３９】
実施例の詳細な記載
ここで図面を参照して、この導電性構成要素およびその準備方法の実施例について詳細に記載する。
【００４０】
図１を参照して、導電性構成要素１０の実施例は、絶縁層１１０および金属メッシュ１２０を含む。
【００４１】
絶縁層１１０は実質的にシート状である。絶縁層１１０は、第１の表面１１２と、第１の表面１１２に対向する第２の表面１１４とを有する。
【００４２】
絶縁層１１０はガラス基板またはプラスチック膜である。ガラス基板は無機ケイ酸塩ガラスまたはポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）の材料から形成される。プラスチック膜はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）またはポリカーボネート（ＰＣ）の材料から形成される。一言でいえば、絶縁層１１０は透明な絶縁材料から形成される。
【００４３】
好ましくは、絶縁層１１０の第１の表面１１２および第２の表面１１４の少なくとも一方は、防眩、硬化、反射防止および霧化の機能を有する機能層を設けられる（図示せず）。
【００４４】
防眩または霧化の機能を有する機能層は、防眩または霧化の機能を有する塗料のコーティングによって形成され、その塗料は金属酸化物粒子を含んでおり；硬化の機能を有する機能層は、硬化の機能を有するポリマー塗料のコーティングによって形成され；反射防止の機能を有する機能層は、二酸化チタンコーティング、フッ化マグネシウムコーティングまたはフッ化カルシウムコーティングである。
【００４５】
金属メッシュ１２０は２つの層を含む。金属メッシュ１２０の一方の層は絶縁層１１０の第１の表面１１２上に配置され、金属メッシュ１２０の他方の層は絶縁層１１０の第２の表面１１４上に配置される。絶縁層１１０に機能層が第１の表面１１２および第２の表面１１４上において設けられるとき、金属メッシュ１２０は機能層の表面に形成されることが注目されるべきである。
【００４６】
図２を参照して、金属メッシュ１２０は、アレイ状に配置された複数の間隙１２１を有する。示された実施例においては、複数の間隙１２１の形状およびサイズは同じである。さらに、絶縁層１１０の第１の表面１１２上に配置された金属メッシュ１２０の第２の表面１１４への正射影は、第２の表面１１４上に配置される金属メッシュ１２０に重なる。
【００４７】
示された実施例においては、間隙１２１は正方形であり、複数の間隙１２１はアレイ状に配置される。金属メッシュ１２０は複数の平行な第１の金属線１２３および複数の平行な第２の金属線１２５を含む。第１の金属線１２３および第２の金属線１２５は、複数の十字に交差する金属ワイヤ１２０１によって形成される格子線である。第１の金属線１２３および第２の金属線１２５の各々は、複数の編目１２０２をそれぞれ含む。第１の金属線１２３および第２の金属線１２５はアレイ状に配置された正方形の間隙１２１を形成するように交差し、間隙１２１の領域はメッシュ１２０２のそれより大きい。
【００４８】
示された実施例においては、金属メッシュ１２０は、銅、銀、モリブデンアルミニウムモリブデン合金、または銅ニッケル合金から形成される。金属メッシュ１２０の酸化を回避するために、酸化防止層が金属メッシュ１２０の表面上に形成され、酸化防止層は、金、白金、ニッケル、ニッケル金合金などのような不活性金属から形成される。
【００４９】
金属メッシュ１２０の線（つまり第１の金属線１２３および第２の金属線１２５）の幅（Ｄ）は、４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である。金属メッシュ１２０の線の幅（Ｄ）は、タッチスクリーン１０の解像度に影響を有することが注目されるべきである。金属メッシュ１２０の線の幅（Ｄ）が大きすぎると、線が見えることになり、したがって、タッチスクリーン１０の解像度は影響を受けるかもしれない。好ましくは、金属メッシュ１２０の線の幅（Ｄ）は、４５ｎｍ以上５０００ｎｍ以下である。
【００５０】
信号に対するタッチスクリーン１０の感度を確実にするために、金属メッシュ１２０の開口比（Ｋ）と、導電性構成要素１０の透過率（Ｔ１）と、絶縁層の透過率（Ｔ２）との関係は、以下の式：Ｔ１＝Ｔ２＊Ｋとして記載される。したがって、所望の条件で満たされる金属メッシュ１２０の開口比は、導電性構成要素１０の設計された透過率に従って計算されてもよい。
【００５１】
以下の金属メッシュ１２０を例として、金属メッシュ１２０の間隙１２１は正方形である。金属メッシュ１２０の線の幅はＤであり、金属メッシュ１２０の間隙１２１の開口幅はＬである。金属メッシュ１２０は、辺の長さがＤ＋Ｌである複数の単位セルからなるとして見られてもよく、金属メッシュ１２０の開口比（Ｋ）は、単位セルの面積で除された間隙１２１の面積と等しい。具体的には、示された実施例においては、Ｋ＝Ｌ２／（Ｌ＋Ｄ）２である。
【００５２】
導電性構成要素１０においては、金属メッシュ１２０は絶縁層１１０上に配置される。使用においては、さらに必要なように金属メッシュを露光し現像することにより、パターニングされた感知層が、絶縁層１１０上に形成され、次いで、タッチスクリーンに適用される。インジウムスズ酸化物の使用は導電性構成要素１０においては回避され、したがって、導電性構成要素１０のコストは低い。一方、金属メッシュ１２０の透過率は高い。導電性構成要素１０の表面抵抗率は１Ω／ｓｑと同じくらい低い。導電性構成要素１０の透過率は、金属メッシュ１２０の開口比および絶縁層１１０の透過率の修正によって調整されてもよく、それは非常に柔軟である。
【００５３】
金属メッシュ１２０の間隙１２１は図２において示されるような正方形に限定されず、それは多角形であってもよく、第１の金属線１２３および第２の金属線１２５は、複数の十字に交差する金属ワイヤ１２０１によって形成された格子線に限定されないことが注目されるべきである。
【００５４】
図３を参照して、別の実施例の金属メッシュ３２０の複数の間隙３２１は菱形であり、アレイ状に配置される。金属メッシュ３２０は複数の平行な第１の金属線３２３および複数の平行な第２の金属線３２５を含む。第１の金属線３２３および第２の金属線３２５は、互いと交差し、互いに対して傾いて、アレイ状に配置された複数の菱形の間隙３２１を形成し、第１の金属線３２３および第２の金属線３２５は、中実の線である。
【００５５】
図４を参照して、別の実施例の金属メッシュ４２０の間隙４２１は、アレイ状に配置された三角形の間隙である。金属メッシュ４２０は、複数の平行な第１の金属線４２３、複数の平行な第２の金属線４２５および複数の平行な第３の金属線４２７を含む。第１の金属線４２３および第２の金属線４２５は、互いに対して傾き、互いと交差して、複数の菱形の間隙４２１を形成し、第３の金属線４２７は、菱形の間隙の２つの対向する端部と交差して、菱形の間隙を、アレイ状に配置された三角形の間隙４２１に分割する。
【００５６】
図５を参照して、別の実施例の金属メッシュ５２０の間隙５２１は、ハニカム構成における規則的な六角形である。
【００５７】
図１、図２および図６を参照して、導電性構成要素を準備する方法の実施例は以下のステップを含む。
【００５８】
Ｓ１０１で、２つの金属層が、絶縁層１１０の第１の表面１１２上および第１の表面１１２に対向する第２の表面１１４上に形成される。
【００５９】
絶縁層１１０はガラス基板またはプラスチック膜である。ガラス基板は無機ケイ酸塩またはポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）の材料から形成される。プラスチック膜はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）またはポリカーボネート（ＰＣ）の材料から形成される。一言でいえば、絶縁層１１０は透明な絶縁材料から形成される。
【００６０】
金属層の厚みは４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である。
絶縁層の第１の表面１１２および第２の表面１１４の少なくとも一方は、防眩、硬化、反射防止および霧化の機能を有する機能層を設けられる（図示せず）。
【００６１】
防眩または霧化の機能を有する機能層は、防眩または霧化の機能を有するコーティングをコーティングすることによって形成され、そのコーティングは金属酸化物粒子を含んでおり；硬化の機能を有する機能層は、硬化の機能を有するポリマーコーティングをコーティングすることによって形成され；反射防止の機能を有する機能層は、二酸化チタンコーティング、フッ化マグネシウムコーティングまたはフッ化カルシウムコーティングである。
【００６２】
金属層の数は２つであり、金属層の層の一方は絶縁層１１０の第１の表面１１２上に配置され、金属層の他方の層は絶縁層１１０の第２の表面１１４上に配置される。示された実施例においては、金属層は、真空蒸着、化学蒸着またはゾルゲル法によって形成される。金属層は、銅、銀、モリブデンアルミニウムモリブデン合金、または銅ニッケル合金の材料から形成される。絶縁層１１０に機能層が第１の表面１１２および第２の表面１１４上において設けられるとき、金属メッシュ１２０は機能層の表面に形成されることが注目されるべきである。
【００６３】
金属層の酸化を回避するために、酸化防止層が金属層の表面上に真空蒸着またはマグネトロンスパッタリングによって形成され、酸化防止層は、金、白金、ニッケル、ニッケル金合金などのような不活性金属の材料から形成される。
【００６４】
Ｓ１０２で、金属層を処理して、露光および現像によって絶縁層１１０上に金属メッシュ１２０を形成する。金属メッシュ１２０は、アレイ状に配置された複数の間隙１２１を有する。
【００６５】
示された実施例においては、複数の間隙１２１の形状およびサイズは同じである。間隙１２１は、アレイ状に配置された正方形、菱形、三角形、または六角形の間隙である。金属メッシュ１２０は、複数の互いに平行な第１の金属線１２３および複数の互いに平行な第２の金属線１２５を含む。
【００６６】
金属メッシュ１２０の線（つまり第１の金属線１２３および第２の金属線１２５）の幅（Ｄ）は、４５ｎｍ以上４００００ｎｍ以下である。金属メッシュ１２０の第１の金属線１２３および第２の金属線１２５の幅（Ｄ）は、タッチスクリーン１０の解像度に対して影響を有し、金属メッシュ１２０の線の幅（Ｄ）が大きすぎると、線が見えることになり、したがって、タッチスクリーン１０の解像度は影響を受けるかもしれないことが注目されるべきである。好ましくは、金属メッシュ１２０の線の幅（Ｄ）は、４５ｎｍ以上５０００ｎｍ以下である。
【００６７】
金属メッシュ１２０の開口比（Ｋ）、導電性構成要素１０の透過率（Ｔ１）、および絶縁層の透過率（Ｔ２）の関係は、以下の式：Ｔ１＝Ｔ２＊Ｋとして記載される。
【００６８】
金属メッシュ１２０は導電性構成要素１０において絶縁層１１０上に配置される。使用においては、絶縁層１１０上のパターニングされた感知層が、必要に応じて、金属メッシュを露光し現像することにより達成され、次いで、タッチスクリーンに適用され得る。さらに、第１の金属線１２３および第２の金属線１２５は、必要に応じて、露光および現像によって網目状のワイヤに処理することが可能である。インジウムスズ酸化物の使用は導電性構成要素１０においては回避され、したがって、導電性構成要素１０のコストは低い。同時に、金属メッシュ１２０は露光および現像によって準備され、そのプロセスは単純で高効率である。
【００６９】
例の説明は具体的で詳細であるが、それらの説明はこの開示を制限するようには用いられ得ないことが理解されるべきである。したがって、この発明特許の保護の範囲は特許請求の範囲の対象となるべきである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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