(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性の薄膜が形成された円形の基板の表面の周縁部に対して露光処理を行う周縁露光装置において、
前記基板の周縁部よりも中央部側を水平に保持して鉛直軸周りに回転させる回転台を含む回転部と、
前記回転台に保持された基板の表面の周縁部に向けて露光用の光を照射する露光部と、
前記回転台を回転駆動する駆動機構と、
平面的に見て前記回転台から基板の周縁側に離間した位置にて前記回転部とは別個に設けられ、前記回転台に保持された基板の周縁部を水平に維持するために当該基板を非接触で吸引する非接触吸引機構と、を備え、
前記非接触吸引機構は、基板の面と空間を介して対向するガイド面部と、前記空間にガイド面部に沿った渦気流を形成して当該ガイド面部と基板との間に真空吸引力を発生させるためのガス吐出部と、を備え、
前記露光部は、前記非接触吸引機構により基板が吸引された状態にて露光を行うことを特徴とする周縁露光装置。
【請求項２】
前記回転台に保持された基板の周縁を光学的に検出する周縁検出部と、この周縁検出部の検出結果に基づいて前記回転台の水平方向の位置を調整する位置調整機構と、を備えたことを特徴とする請求項１記載の周縁露光装置。
【請求項３】
前記非接触吸引機構を、基板の周縁部を水平に維持させるための処理位置と、この処理位置よりも基板から離れた待機位置と、の間で昇降させるための昇降機構を備えたことを特徴とする請求項１または２記載の周縁露光装置。
【請求項４】
前記非接触吸引機構は、前記露光部に組み合わせて設けられると共に、当該露光部の光が前記ガイド面部を透過するように構成され、
前記回転台に保持された基板の外側における前記ガイド面部と対向する位置には、その内周面が前記基板の周縁に近接して対向し、当該ガイド面部との間に渦気流の一部が形成されるように補助面部を設けたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の周縁露光装置。
【請求項５】
感光性の薄膜が形成された円形の基板の表面の周縁部に対して露光処理を行う周縁露光方法において、
請求項１に記載の周縁露光装置を用い、
基板を回転台に水平に保持させる工程と、
次いで前記基板の面とガイド面部との間の空間に、ガイド面部に沿った渦気流を形成して当該ガイド面部と基板との間に真空吸引力を発生させ、これにより基板の周縁部を水平に維持する工程と、
前記基板の周縁部を水平に維持した状態で、露光部から基板の周縁部に光を照射して露光する工程と、
前記回転台を回転させて前記基板の周縁部を順次前記光の照射領域に移動させる工程と、を含むことを特徴とする周縁露光方法。
【請求項６】
前記基板の周縁部を水平に維持する工程は、前記ガイド面部を待機位置から上下方向に移動させて当該待機位置よりも基板に接近させた状態で行われることを特徴とする請求項５記載の周縁露光方法。
【請求項７】
感光性の薄膜が形成された円形の基板の表面の周縁部に対して露光処理を行う周縁露光装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項５または６に記載された周縁露光方法を実行するようにステップ群が組み込まれていることを特徴とする記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性の薄膜が形成された円形の基板の周縁を露光する技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハ（以下ウエハという）にレジストパターンを形成するフォトリソグラフィの技術において、ウエハの表面に形成された感光性の薄膜であるレジスト膜を形成した後、ウエハの周縁部のレジスト膜を露光することが行われている。このような周縁露光を行う理由は、レジストをウエハ上にスピンコーティングをしたときにウエハの周縁部でレジスト液が盛り上がって膜厚が大きくなり、こうした不均一な膜が形成されると、現像時に周縁部のレジスト膜が完全に除去されずに残存し、パーティクル発生の原因となるからである。
【０００３】
このような周縁露光処理はウエハを回転台に水平に保持し、ウエハの周縁部を露光装置により露光することにより行われる。周縁露光処理の照射光は、マスク部を通過させることにより直線的な帯状の光となるように設定されているが、散乱光も含んでいるため照射口から僅かに広がるように照射される。一方ウエハを回転させながら周縁露光処理を行った場合に、回転軸のぶれによって、予定している光照射領域よりもウエハの中心部寄りの領域まで露光され、そのため現像時にレジスト膜の周縁部が盛り上がる現象が起こり膜剥れの要因となり、また要求される露光幅の仕様から外れる要因ともなる。
【０００４】
このような現象が起こる理由としては、ウエハの回転軸がぶれることにより光照射領域の中心位置において照射口とウエハの表面との距離が変化し、更に光軸とウエハの表面との直交性が悪くなり、これにより照射口からの散乱光が予定しない領域まで到達することに起因していると考えられる。またこのような問題は、ウエハの回転軸のぶれに加えてウエハに反りがある場合にも起こる。そして今後ウエハの直径が例えば４５０ｍｍと大きくなると、ウエハの周縁部の上下の変化量及び傾きの程度が大きくなることから、このような問題が顕著化してくることは避けられず、歩留まりの低下の要因の一つになる懸念がある。
【０００５】
特許文献１には、周縁露光処理の際に単位面積あたりの露光量を揃える技術が記載されているが、本発明の課題のような高低差による光照射領域の誤差を抑制する技術を提供するものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−２３８７９８
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はこのような事情の下になされたものであって、その目的は、円形の基板の周縁露光処理を行うにあたって、回転軸に軸ぶれが発生していても、基板の周縁部において予定している領域から外れて露光されることを抑えることのできる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の周縁露光装置は、感光性の薄膜が形成された円形の基板の表面の周縁部に対して露光処理を行う周縁露光装置において、
前記基板の周縁部よりも中央部側を水平に保持して鉛直軸周りに回転させる回転台を含む回転部と、
前記回転台に保持された基板の表面の周縁部に向けて露光用の光を照射する露光部と、
前記回転台を回転駆動する駆動機構と、
平面的に見て前記回転台から基板の周縁側に離間した位置にて前記回転部とは別個に設けられ、前記回転台に保持された基板の周縁部を水平に維持するために当該基板を非接触で吸引する非接触吸引機構と、を備え、
前記非接触吸引機構は、基板の面と空間を介して対向するガイド面部と、前記空間にガイド面部に沿った渦気流を形成して当該ガイド面部と基板との間に真空吸引力を発生させるためのガス吐出部と、を備え、
前記露光部は、前記非接触吸引機構により基板が吸引された状態にて露光を行うことを特徴とする。
【０００９】
本発明の周縁露光方法は、感光性の薄膜が形成された円形の基板の表面の周縁部に対して露光処理を行う周縁露光方法において、
上述の周縁露光装置を用い、
基板を回転台に水平に保持させる工程と、
次いで前記基板の面とガイド面部との間の空間に、ガイド面部に沿った渦気流を形成して当該ガイド面部と基板との間に真空吸引力を発生させ、これにより基板の周縁部を水平に維持する工程と、
前記基板の周縁部を水平に維持した状態で、露光部から基板の周縁部に光を照射して露光する工程と、
前記回転台を回転させて前記基板の周縁部を順次前記光の照射領域に移動させる工程と、を含むことを特徴とする。
【００１０】
本発明の記憶媒体は、感光性の薄膜が形成された円形の基板の表面の周縁部に対して露光処理を行う周縁露光装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、上述の周縁露光方法を実行するようにステップ群が組み込まれていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、円形の基板を回転台に保持し、基板の周縁の露光を行うに当たって、基板の面と空間を介して対向するガイド面部を設け、前記空間にガイド面部に沿った渦気流を形成して当該ガイド面部と基板との間に真空吸引力を発生させるベルヌーイ効果を利用して、基板の周縁部（表面）と露光装置の照射口との位置関係を安定させるようにしている。このため、回転台の回転軸の軸ぶれや基板の反りがあっても、予定としている光照射領域から外れて露光させることを抑え、薄膜の周縁における盛り上がりなどの不具合を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施の形態に係る周縁露光装置の外観を示す斜視図である。
【図２】前記周縁露光装置の平面図である。
【図３】前記周縁露光装置の縦断側面図である。
【図４】露光部により形成される光路を示す説明図である。
【図５】本発明の実施の形態に係るベルヌーイチャックの外観を示す斜視図である。
【図６】前記ベルヌーイチャックの構成を示す断面図である。
【図７】前記ベルヌーイチャックの作用を示す断面図である。
【図８】前記ベルヌーイチャックの作用を示す平面図である。
【図９】前記周縁露光装置の制御部を示す説明図である。
【図１０】ベルヌーイチャックにより基板の周縁部の高さ調整する工程を示す工程図である。
【図１１】ベルヌーイチャックにより基板の周縁部の高さ調整する工程を示す工程図である。
【図１２】ベルヌーイチャックにより基板の周縁部の高さ調整する工程を示す工程図である。
【図１３】ベルヌーイチャックにより基板の周縁部の高さを調整する工程を示す工程図である。
【図１４】ベルヌーイチャックにより基板の周縁部の高さを調整する工程を示す工程図である。
【図１５】ベルヌーイチャックにより基板の周縁部の高さを調整する工程を示す工程図である。
【図１６】第２の実施の形態に係る周縁露光装置のベルヌーイチャックの構成を示す縦断側面図である。
【図１７】第２の実施の形態に係る周縁露光装置において、基板が処理位置に移動された状態を示す斜視図である。
【図１８】第２の実施の形態に係る周縁露光装置の高さ調整の工程を示す工程図である。
【図１９】第２の実施の形態に係る周縁露光装置の高さ調整の工程を示す工程図である。
【図２０】第２の実施の形態に係る周縁露光装置の高さ調整の工程を示す工程図である。
【図２１】第３の実施の形態に係る周縁露光装置の構成を示す説明図である。
【図２２】実施例に係る周縁露光装置の特性を示す特性図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
［第１の実施の形態］
本発明の実施の形態に係る周縁露光装置は、図１〜３に示すように直方体の基台１を備えており、基台１の上面には、左右の縁に沿って突壁が形成されていると共に、左右方向の中央部位に基台１の長さ方向（Ｘ方向）に沿って伸びるガイド機構１５が設けられ、このガイド機構１５に沿って移動するようにステージユニット１０が設けられている。このステージユニット１０は、ガイド機構１５に沿って移動する移動部１４と、この移動部１４に設けられたモータを含む回転機構１３と、この回転機構１３により鉛直軸周りに回転する回転軸１２（図３参照）と、この回転軸１２の上部に設けられ、バキュームチャックを有する回転ステージ１１（回転台）と、を備えている。
【００１４】
前記ガイド機構１５は、例えばボールネジ及び、このボールネジに沿って延びるガイドレールとして構成され、移動部１４はボールネジに螺合する螺合部及びガイドレールにガイドされる被ガイド部として構成される。この場合、ボールネジを回動するモータが基台１に取り付けられる。またボールネジを用いる代わりに、ボールネジが配置される領域に沿ってタイミングベルトを掛け渡し、このタイミングベルトに移動部１４を固定する機構であってもよい。これら移動部１４及びガイド機構１５は、回転ステージ１１をＸ方向に移動させるＸ移動機構に相当する。
【００１５】
回転ステージ１１は、ウエハＷを吸着保持する基板保持部に相当し、図１及び、図２に示すように基台１の手前側部位である鎖線位置に相当するウエハＷの受け渡し位置と、基台１の奥側部位である点線位置に相当する処理位置との間で移動部１４及びガイド機構１５により移動することとなる。  
基台１の奥側における左右方向の中央部の上方には、露光部２の光学系部材５が設けられると共に、基台１の奥側において手前側から見て右側には、ウエハＷの周縁を光学的に検出する、発光部及び受光部からなる周縁検出部３が配置されている。そして光学系部材５の光照射領域９と周縁検出部３の光軸とは、回転ステージ１１が処理位置に置かれたときに当該回転ステージ１１に保持されているウエハＷの周縁部の通過領域を上下に横切るように設定されている。受光部３１は例えばウエハＷの径方向に配列された受光素子群により構成され、受光素子群からの信号によりウエハＷの周縁の位置が判る。
【００１６】
露光部２は基台１の下方側に配置され、光源となるランプハウス１８と、このランプハウス１８からの光を案内する光路部材２１（例えば光ファイバー）と、光路部材２１から出光した光をウエハＷに向けて照射する光学系部材５で構成される。図４に示すようにランプハウス１８には、例えばキセノンランプや水銀ランプが光源２０として設置されており、光源２０より発せられた光、例えば紫外線を、光源２０の周囲を覆うように設けられたリフレクタ２２により反射して集光して、ランプハウス１８に接続された光路部材２１の基端へと入射する。光路部材２１は基台１の奥方へと引き回された後、ライトガイド１６により基台１の側方に固定されて、動きが規制されるように構成されており、さらに台部１７の上方へと引き回されて、水平に延ばされて光学系部材５へと接続されている。
【００１７】
光学系部材５は台部１７に固定されており、台部１７を通して下方向に向けて開口部が設けられており、内部に下向き４５°の角度で設けられたミラー５４によって、水平方向から入射された光を下方へと反射する。開口部には集光レンズ５５が設けられ、開口部を通過する光が集光される。集光レンズ５５の下方にはマスク部５２が設けられる。マスク部５２は逆円錐台形状に構成されており、中央には矩形状のスリット５６が設けられている。集光レンズ５５により集光された光はスリット５６上に照射されるように構成されており、マスク部５２を通過することにより矩形で直線状に伸びる光となり、露光スポットが矩形に整えられ、光照射領域９が形成される。
【００１８】
前記光学系部材５の光照射領域９よりも回転ステージ１１側であって、ウエハＷの下方側には、ウエハＷの周縁部を水平に維持するために当該ウエハＷを非接触で吸引する非接触吸引機構をなすベルヌーイチャック４が昇降機構４７により昇降自在に設けられている。このベルヌーイチャック４は、この例では基台１の幅方向（Ｙ方向）に３個直線状に配列されているが、１個であってもよい。
【００１９】
ベルヌーイチャック４は、図５に示すように概観が概略扁平な円柱状の本体を備え、本体の上面はガイド面部４６をなす平坦面をなしていると共に本体の周縁部は当該ベルヌーイチャック４の周方向に沿って環状に形成された環状凸部４９として構成されている。ガイド面部４６の周縁部位には、周方向に沿って等間隔に４個のガス吐出口４１が形成されており、各ガス吐出口４１は、図５及び図６に示すように例えば反時計方向にガスが吐出するように、反時計方向に向かって登る
傾斜面３３を備えると共に、傾斜面３３に臨む環状凸部４９の内周面にガスが噴出する開口部６１が形成されている。
【００２０】
ガイド面部４６の下方側には扁平な空洞部が形成されて通気室６０を構成しており、図７に示すようにこの通気室６０と前記開口部６１とは、環状凸部４９の下方に形成された連通路６４を介して連通している。本体の底部中央には、通気室６０に開口するガス供給路４２が貫通して形成され、このガス供給路４２は、例えば外部のガス供給管６２に接続され、このガス供給管６２の上流側にはガス供給機構４８が設けられている。従ってガス供給管６２からガス供給路４２及び通気室６０に送られたガスを開口部６１を介して各ガス吐出口４１から吐出すると、ガスは傾斜面３３にガイドされて反時計方向に旋回しようとし、これによりガイド面部４６上に図７及び図８に示すように渦気流が形成される。この渦気流は、後述のようにウエハＷを非接触で吸引する役割を果たすことになる。
【００２１】
図９を用いて制御系の説明を行う。周縁露光装置には、例えばコンピュータからなる制御部１００が設けられている。制御部１００は、プログラム格納部を有しており、プログラム格納部には、ウエハＷの移動、受け渡しや回転、更にはベルヌーイチャック４の上昇下降やガスの吐出、あるいは周縁検出部３による検出結果に応じたウエハＷの偏芯補正が実施されるように命令が組まれた、プログラムが格納される。そして当該プログラムが制御部１００に読みだされることにより後述の動作が実施される。プログラムは、例えばフレキシブルディスク、コンパクトディスク、ハードディスク、ＭＯ（光磁気ディスク）、メモリーカードなどの記憶媒体により格納されて制御部１００にインストールされる。
【００２２】
続いて本発明の実施の形態に係る周縁露光装置の作用について説明する。まず図示しない外部の搬送装置によって、例えばレジスト膜が塗布されたウエハＷが、受け渡し位置において回転ステージ１１の上に受け渡されて、水平になるように吸着保持される。次いで移動部１４がガイド機構１５にガイドされながらウエハＷを処理位置に移動させる。この後ベルヌーイチャック４によるウエハＷの周縁部の姿勢の矯正及びウエハＷの周縁の位置検出が行われるが、この様子を、周縁部が下向きに傾いたウエハＷを例にとって、図１０〜図１２を参照しながら説明する。ウエハＷがこのような姿勢をとる場合の要因としては、ウエハＷに反りがある場合、あるいは回転軸１２のぶれにより当該回転軸１２の静止位置においてウエハＷの光照射領域９の周縁部が回転台１１の表面よりも低くなる場合が考えられる。
【００２３】
先ず、ウエハＷは受け渡し位置から見て、処理位置に置かれる少し手前側の位置（図１０）にて静止する。このときベルヌーイチャック４は下降位置に設定されている。下降位置はウエハＷの反りの最大量を見込んでウエハＷと衝突しない程度にウエハＷの移動領域から下方側に離れた位置に設定されている。そしてベルヌーイチャック４を上昇させながら既述のようにガイド面部４６の周囲に形成されたガス吐出口４１からガスを吐出させて当該ガイド面部４６に渦気流を形成する（図７、図８参照）このときガイド面部４６はウエハＷの周縁部に接近しているので、渦気流はウエハＷの周縁部とガイド面部４６上下に挟まれた状態となり、このため渦気流の遠心力により当該渦気流の内部が負圧となる。これによりウエハＷの周縁部はガイド面部４６側に引き寄せられると共に、渦気流の存在によりガイド面部４６に沿った姿勢で吸引された状態、つまり非接触吸引状態となる。従って図１１に示すように、ベルヌーイチャック４を上昇させることにより、下向きに反っているウエハＷの周縁部が押し上げられて下向きの姿勢が矯正され、水平性が高い姿勢となる。
【００２４】
続いて図１２に示す処理位置まで移動部１４を介してウエハＷを移動させる。図１２は図面の煩雑化を避けるために模式的に示されているが、ベルヌーイチャック４と光照射領域９との水平方向の距離をウエハＷの傾きや反りの最大量などを見込んで適切に設定すること、及びベルヌーイチャック４の大きさや個数を適切に設定することにより、光照射領域９におけるウエハＷの周縁部の姿勢は水平性の高い状態となる。周縁露光処理を行う前に、ウエハＷを１回転させて周縁検出部３によりウエハＷの周縁位置を検出しておき、検出結果に応じて、周縁露光時に偏芯補正を行うことにより、ウエハＷの周縁露光処理の際の水平方向の位置ずれを補正する。位置ずれの補正手段としては、例えば検出結果に基いて、回転機構１３の回転及び移動部１４による前後への移動の協働作用を制御部１００により制御して、ウエハＷの周縁部と光照射領域９との平面方向の位置ずれを補正する。ウエハＷを回転あるいは静止した状態で露光を行うが、ベルヌーイチャック４によって非接触吸着が行われているため、水平性の高い姿勢を保ったままウエハＷの周縁部の露光処理が行われる。
【００２５】
一方、周縁部が上向きに傾いたウエハＷを例にとって、図１３〜図１５を参照しながら説明する。同様にウエハＷを処理位置に置かれる少し手前側の位置（図１３）にて静止させる。次いで図１４に示すように、ベルヌーイチャック４を上昇させながらガイド面部４６に渦気流を形成する。このときガイド面部４６がウエハＷの周縁部に接近していくにつれて、渦気流の内部が負圧部分が徐々に形成されていく。これによりウエハＷの周縁部にはガイド面部４６側に引き寄せられ、上向きに反っているウエハＷの周縁部が引き寄せられて水平性が高い姿勢となる。
【００２６】
続いて図１５に示す処理位置まで移動部１４を介してウエハＷを移動させ、同様に周縁露光処理を行う前のウエハＷの周縁位置の検出、検出値に応じてウエハＷの偏芯補正を行いながら、周縁部の露光処理が行われる。
【００２７】
さらに周縁部の水平性が高いウエハＷの例では、同様にウエハＷを処理位置に置かれる少し手前側の位置にて静止させ、ベルヌーイチャック４を上昇させながらガイド面部４６に渦気流を形成して、ウエハＷの周縁部の非接触吸着を行う。その後ウエハＷを処理位置に移動させて、ウエハＷの周縁位置の検出及び、検出値に応じてウエハＷの偏芯補正を行いながら、周縁部の露光処理が行われるが、ベルヌーイチャック４によってウエハＷの周縁部が非接触吸着されているため
ウエハＷの水平性が高い状態で周縁露光処理が行われる。
【００２８】
上述の実施の形態によれば、ウエハＷを回転ステージ１１に保持し、ウエハＷの周縁の露光を行うに当たって、ウエハＷの面と空間を介して対向するガイド面部４６を設け、前記空間にガイド面部４６に沿った渦気流を形成して当該ガイド面部４６とウエハＷとの間に真空吸引力を発生させるベルヌーイ効果を利用して、ウエハＷの周縁部（表面）と露光装置の照射部５との位置関係を安定させるようにしている。このため、回転ステージ１１の回転軸１２の軸ぶれやウエハＷの反りがあっても、予定としている光照射領域９から外れて露光させることを抑え、薄膜の周縁における盛り上がりなどの不具合を抑えることができる。
【００２９】
［第２の実施の形態］
第２の実施の形態として、ベルヌーイチャックをマスク部５２に組み合わせて、処理位置に搬送されたウエハＷの周縁部の高さ、あるいは姿勢を調整するように構成してもよい。図１６は、このような実施形態を示しており、この例では扁平な逆円錐台形状の本体の中央部に上下に（厚さ方向に）延びるように、光照射路（スリット）を形成する孔部４４を形成し、本体の下面側をベルヌーイチャックのガイド面部４６を形成するように構成している。即ちこの例は、既述の図５〜図７に記載したベルヌーイチャック４を逆さまに配置し、ガス供給路４２をマスク４０の光照射路(スリット)として兼用している。そして光学系部材５からの光が孔部４４を透過することができるように、孔部４４の上部に透過性部材例えばガラスからなる上部側透過窓６３を気密に嵌合すると共に、通気室６０とガイド面部４６との間における、ガス供給路４２の延長部位にも同様に下部側透過窓４３を設けた構造としている。下部側透過窓４３は、光照射領域９の形状に応じた矩形に形成されている。更にガス供給路４２における上部側の透過窓６３の直ぐ下方側にその一端側が開口するように、本体内にガス流路６４を形成し、このガス流路６４の他端側にガス供給管６２を接続するようにしている。またウエハＷの非接触吸着を行うに当たり、ガイド面部４６とウエハＷの間に形成した渦気流がウエハＷの端部から漏れることを抑制するために、図１７に示すように、ウエハＷの周縁部の形状に沿うように形成された補助部材４５をその上面である補助面部が、ウエハＷの表面と同等の高さとなるように設置されている。
【００３０】
第２の実施の形態では、図１８に示すように、ウエハＷを処理位置に移動し、第１の実施の形態と同様にして周縁検出部３によってウエハＷの水平方向の位置ずれの検出を行う。その後、図１９に示すようにガス吐出口４１からガスを吐出して、ウエハＷ及び補助部材４５とマスク部４０のガイド面部４６との隙間に渦気流を形成してベルヌーイ効果による吸引力を発生させてウエハＷの周縁部の姿勢を調整して、マスク部４０の光照射面に対して高い平行度となるように、即ち平行性が高くなるように調整する。続いて図２０に示すように貫通孔４４をスリットとして利用して照射を行いウエハＷの周縁露光処理を行う。
【００３１】
この例において、第１の実施の形態におけるベルヌーイチャック４と同様に、図示しない昇降機構によりマスク部４０を昇降できるように構成してもよい。この場合、マスク部４０は、ウエハＷが処理位置に置かれる前は待機位置に設定され、ウエハＷが処理位置に置かれた後に例えばガス吐出口４１からガスを吐出させて当該ウエハＷを非接触で吸着しながら、露光位置まで下降するようにしてもよい。  
このように露光装置に、この例ではマスク部４０にベルヌーイチャックを組み合わせることにより、第１の実施の形態と同様にウエハＷの周縁部とマスク部との位置関係が安定し、良好な周縁露光処理を行うことができる。
【００３２】
［第３の実施の形態］
第３の実施の形態は、第２の実施の形態で用いたマスク部４０がウエハＷの周縁部の高さに追従して、その高さ位置を変更するように構成している。例えば図２１に示すように、マスク部４０を垂直なガイド部材７１により被ガイド部７１ａを介してガイドするように構成する。そしてマスク部４０を吊り下げ部材であるワイヤー７２の一端に吊り下げると共にワイヤー７２の他端側に滑車７３ａ、７３ｂを介してカウンターウェイト７４を設けることにより、マスク部４０を僅かな力で上下動可能に構成する。このように構成した場合には、処理位置にウエハＷを移動させて、ガスを吐出させて渦気流を形成して、非接触吸着を行うと、ウエハＷの周縁部の高さ位置に応じてマスク部４０が追従するため、従来よりはウエハＷの周縁部とマスク部４０との位置関係が安定する。このため光照射領域９から外れて露光されることを抑制することができる。
【００３３】
［他の実施の形態］
また他の実施の形態として、ベルヌーイチャック４を用いずに、光学系部材５の高さを調整できるように構成して、周縁部の光照射領域９の誤差を抑制しても良い。例えば周縁検出部３にレーザー変位計を設置して、ウエハＷの水平方向の位置の検出に加えて、ウエハＷを回転させた際の周縁部の高さを測定して、制御部に設けたメモリに記憶する。光学系部材５に高さ調節機構を設けて、制御部のＣＰＵによりプログラムを読み出して、メモリに記憶したウエハＷの周縁部の高さのデータに合わせて、光学系部材５の高さ位置を変更して、光の照射される高さを変更しながら、ウエハＷを回転させて周縁露光処理を行っても同様の効果が得られる。
【００３４】
尚本発明は、説明の容易さを考慮して、基板を水平に保持して鉛直軸周りに回転させるという記載としているが、技術の本質からすると基板をある平面に沿って保持し、この平面と直交する軸の周りに回転させる構造であれば適用することができる。このため基板を一般常識でいう「水平」に対して傾いた状態で基板保持部に保持した場合には、その傾いた面が本願でいう「水平」に相当するものとし、本発明の技術的範囲に属することとなる。
【実施例】
【００３５】
本発明を評価するために次のような評価試験を行った。ベルヌーイチャック４を作動させた場合と作動させない場合の各々について、ウエハＷを４ｒｐｍで回転させ、回転時間ごとのウエハＷの光照射領域９の相対的な高さを求めた。
【００３６】
図２２はその結果を示し、ウエハＷの回転時間を横軸に、高さ位置を縦軸に示した特性図である。ベルヌーイチャック４を作動させない場合では、ウエハＷの回転によって生ずる周縁露光時のウエハＷの周縁部の高低差が最大６６μｍとなっているが、一方ベルヌーイチャック４を作動させた場合には、ウエハＷの周縁部の高低差は１８μｍとなっており、ベルヌーイチャック４を作動させない場合と比較してウエハＷの周縁部の高低差は７０％程度抑制されている。本発明の実施の形態に係る周縁露光装置を用いた場合には、よりウエハＷを周縁部の高さレベルが一定の状態で周縁露光処理を行うことができるため、予定としている光照射領域から外れて露光させることを抑えることができる。
【符号の説明】
【００３７】
１              基台
２              露光部
３              周縁検出部
４              ベルヌーイチャック
５              光照射部
９              光照射領域
１１            回転ステージ
１３            回転機構
１４            移動部
４０、５２      マスク部
４１            ガス吐出口
４６            ガイド面部
Ｗ              ウエハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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