(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエブの搬送路の両側にそれぞれ配された左右一対の無端状のテンターチェーンと、
前記左右一対のテンターチェーンに所定間隔毎にそれぞれ設けられた左右一対のピン支持台と、
前記各ピン支持台に植設され、前記ウエブを前記ピン支持台に固定する複数のピンと、
前記左右一対のピン支持台の内側に配されたオーバーフィード部と、
を有し、
前記オーバーフィード部は、
前記ウエブの上面において走行方向に沿って移動する上移動部と、
前記上移動部から所定間隔毎に下方へ突出し、前記ウエブを下方に押圧して前記ウエブをオーバーフィードさせる上突起部と、
前記ウエブの下面において前記走行方向に沿って移動する下移動部と、
前記下移動部から所定間隔毎であって、前記上突起部とは千鳥状に突出し、前記ウエブを上方に押圧して前記ウエブをオーバーフィードさせる下突起部と、
を有することを特徴とするピンテンター装置。
【請求項２】
前記オーバーフィード部は、前記ピンによって前記ウエブが固定されるまでの入口区間に設けられ、
前記上移動部と前記下移動部とが前記ウエブを挟んで相対向する位置に配され、
前記上突起部と前記下突起部によって正弦波状にオーバーフィードされた前記ウエブを前記ピンによって前記ピン支持台に固定する、
ことを特徴とする請求項１に記載のピンテンター装置。
【請求項３】
前記ウエブが水平方向に走行され、
前記上移動部の入口側が、前記ウエブの入口側から出口側に向かうほど下方に傾斜している、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のピンテンター装置。
【請求項４】
前記ウエブが水平方向に走行され、
前記下移動部の出口側が、前記ウエブの入口側から出口側に向かうほど下方に傾斜している、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のピンテンター装置。
【請求項５】
前記オーバーフィード部は、
前記左右一対のピン支持台の内側に左右一対配されている、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のピンテンター装置。
【請求項６】
前記ピンに前記ウエブを押えるための押えローラを有する、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のピンテンター装置。
【請求項７】
前記ピンは、前記ピン支持台の前記走行方向において複数本植設されている、
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のピンテンター装置。
【請求項８】
前記ウエブの走行速度、前記上移動部の移動速度、及び、前記下移動部の移動速度が同期している、
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載のピンテンター装置。
【請求項９】
前記上突起部、又は、前記下突起部を上下動させる上下動部を有し、
前記上下動部が、前記上突起部、又は、前記下突起部を上下動させて、前記上突起部と前記下突起部の間隔を大きくして前記ウエブのオーバーフィード量を大きくする、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載のピンテンター装置。
【請求項１０】
前記左右一対のテンターチェーンの前記各ピンに前記ウエブが取り付けられたときのテンションより低いテンションで、前記ウエブは前記オーバーフィード部に供給される、
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載のピンテンター装置。
【請求項１１】
前記上突起部は等間隔に前記上移動部に設けられ、
前記下突起部は等間隔に前記下移動部に設けられ、
前記上突起部と前記下突起部とは、走行方向において所定間隔あけて配されている、
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のピンテンター装置。
【請求項１２】
前記下突起部は、隣接する前記上突起部の間の中央に位置している、
ことを特徴とする請求項１１に記載のピンテンター装置。
【請求項１３】
前記ウエブは、走行方向に収縮するフィルムである、
ことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか一項に記載のピンテンター装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエブを走行させるピンテンター装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等の平面表示装置に用いられる光学フィルム（例えば、位相差フィルム、偏向板フィルム、拡散フィルム等のフィルム）を加熱処理する場合に、ピンテンター装置によって熱処理室内部を走行させ、加熱処理を行なっている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−４８８８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、加熱処理すると縦方向（走行方向）に収縮するフィルムをピンテンター装置で搬送した場合には、ピン同士の間隔が一定であるため、フィルムに対し縦方向（走行方向）に引っ張り応力が作用する。フィルムに応力が作用すると、その分子配列が変化し、好ましくない偏向特性等の光学特性が付与されるという問題点がある。
【０００５】
そこで、本発明は上記問題点に鑑み、フィルム等のウエブをピンテンター装置によって走行させる場合に、縦方向に応力が作用しないピンテンター装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本願発明は、ウエブの搬送路の両側にそれぞれ配された左右一対の無端状のテンターチェーンと、前記左右一対のテンターチェーンに所定間隔毎にそれぞれ設けられた左右一対のピン支持台と、前記各ピン支持台に植設され、前記ウエブを前記ピン支持台に固定する複数のピンと、前記左右一対のピン支持台の内側に配されたオーバーフィード部と、を有し、前記オーバーフィード部は、前記ウエブの上面において走行方向に沿って移動する上移動部と、前記上移動部から所定間隔毎に下方へ突出し、前記ウエブを下方に押圧して前記ウエブをオーバーフィードさせる上突起部と、前記ウエブの下面において前記走行方向に沿って移動する下移動部と、前記下移動部から所定間隔毎であって、前記上突起部とは千鳥状に突出し、前記ウエブを上方に押圧して前記ウエブをオーバーフィードさせる下突起部と、を有することを特徴とするピンテンター装置である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ウエブを縦方向（走行方向）にオーバーフィードさせることにより、ウエブの縦方向に応力がかかることを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の一実施形態を示すピンテンター装置の平面図である。
【図２】上オーバーフィード部と下オーバーフィード部の側面図である。
【図３】上オーバーフィード部と下オーバーフィード部の中央部分の拡大図である。
【図４】上オーバーフィード部と下オーバーフィード部の後部における拡大図である。
【図５】ピンテンター装置の一部拡大縦断面図であって、正面から見た図である。
【図６】ウエブＷのオーバーフィード状態を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の一実施形態のピンテンター装置１０について図１〜図６に基づいて説明する。
【００１０】
本実施形態のピンテンター装置１０は、熱処理室１２内部において、ウエブＷを水平に広げた状態で水平な状態で前後方向に走行させる装置である。ウエブＷとしては、例えばフィルムであって、位相差フィルム、偏向板フィルム、拡散フィルム等の光学フィルムであり、特に縦方向（走行方向）に熱収縮するフィルムを例に挙げて説明する。なお、ガラス板のように硬質なフィルムであると、より好適である。
【００１１】
（１）ピンテンター装置１０の構成
ピンテンター装置１０の構成について図１と図５に基づいて説明する。
【００１２】
ピンテンター装置１０は、図１に示すように、左右一対の無端のテンターチェーン１４が、前後方向（ウエブＷの走行方向）に沿って配されている。これらテンターチェーン１４は、前テンターホイール１６と後テンターホイール１８とに掛け渡されており、前テンターホイール１６を不図示のモータによって駆動することにより、テンターチェーン１４が一定の走行速度で水平方向に移動する。走行速度としては、５〜３５ｍ／分である。
【００１３】
各テンターチェーン１４には、等間隔毎に移動部２０が取り付けられている。これら移動部２０の外端部にはピン支持台２２が取り付けられ、このピン支持台２２から４本のピン２４が走行方向に沿って垂直に植設されている。また、移動部２０は、図５に示すように、テンターレール２６の上を移動する。
【００１４】
ピンテンター装置１０の入口区間であって、ウエブＷの搬送路、すなわち左右一対のテンターチェーン１４，１４の間には、オーバーフィード部２７が設けられている。このオーバーフィード部２７は、左右一対の上オーバーフィード部（以下、「上フィード部」という）２８，２８と、左右一対の下オーバーフィード部（以下、「下フィード部」という）３０，３０から構成されている。
【００１５】
このピンテンター装置１０は、ウエブＷを熱処理するために、上記したように熱処理室１２の入口から出口側に向かって取り付けられている。ウエブＷの幅を例えば、２２００ｍｍとすると、上フィード部２８、下フィード部３０が位置する位置は、両耳部の両端から内側に約３０〜５０ｍｍの位置である。
【００１６】
（２）上フィード部２８と下フィード部３０の構造
次に、上フィード部２８と下フィード部３０の構造について図２〜図４に基づいて説明する。
【００１７】
まず、上フィード部２８について説明する。上フィード部２８は、ウエブＷの上方において左右一対設けられた上移動部である無端の上移動チェーン３２，３２を有している。上移動チェーン３２は、それぞれ移動ホイール３４，３６に掛け渡され、上移動ホイール３６が不図示のモータによって駆動することにより、上移動チェーン３２の下側のチェーン３３がウエブＷの走行方向に沿って移動する。上移動チェーン３２には、等間隔毎に上突起部３８が外方に突出している。また、上移動チェーン３２の下側のチェーン３３の上方には、水平に移動する下側のチェーン３３を支持するための上支持板４０が設けられている（図５参照）。
【００１８】
次に、下フィード部３０について説明する。下フィード部３０は、ウエブＷの下方において左右一対の下移動チェーン４２，４２を有している。左右一対の下移動チェーン４２，４２の位置は、上移動チェーン３２，３２と相対向する位置に設けられている。無端の下移動チェーン４２は、下移動ホイール４４，４６に掛け渡され、下移動ホイール４６が不図示のモータによって駆動することにより、下移動チェーン４２の上側のチェーン４３が、ウエブＷの走行方向に沿って移動する。下移動チェーン４２には、等間隔毎に下突起部４８が外方に突出している。図３に示すように、下突起部４８と上突起部３８とは、千鳥状に位置するように突出し、走行方向において所定間隔あけて配され、互いに接触せず、また、下突起部４８は、隣接する上突起部３８の間の中央に位置している。下移動チェーン４２の移動する上側のチェーン４３を水平に支持するために、下支持板５０が設けられている（図５参照）。下支持板５０は、上下動部５２によって、上下動自在となっている。
【００１９】
上突起部３８と下突起部４８の先端部は、ウエブＷを傷つけないように押圧するため、断面形状が半円弧状に形成されている。
【００２０】
また、上フィード部２８の後部には、ウエブＷをピン２４に押さえて植毛するための押えローラ５４が左右一対設けられている。押えローラ５４は、中心の芯部５６からブラシ５８が設けられ、ブラシ５８によってウエブＷが押さえられピン２４に固定される。
【００２１】
さらに、ウエブＷの走行速度と上移動チェーン３２と下移動チェーン４２の移動速度とは、それぞれ同じ速度で移動するように同期させておく。
【００２２】
（３）オーバーフィードの説明
次に、ウエブＷをオーバーフィードさせながらピン２４に固定する構成について図３及び図４に基づいて説明する。
【００２３】
オーバーフィードを行なわせるために、左右一対のテンターチェーン１４，１４に張設されたウエブＷのテンションよりも低いテンションで、ウエブＷをピンテンター装置１０に供給する。これによって、ピン２４に固定されるまでウエブＷは弛んだ状態で供給されるため、図３に示すような正弦波状にしてもウエブＷが引っ張られることがない。このオーバーフィード量Ｓとしては、０％以上であり、約５％までである。
【００２４】
図２に示すように、上移動チェーン３２の入口側における下側のチェーン３３は水平状態からやや傾斜しており、入口側から出口側に行くほど下方に傾斜している。また、出口側においては、チェーン３３は、逆に入口側から出口側に行くほど上方に傾斜している。
【００２５】
下移動チェーン４２の入口側における上側のチェーン４３は、水平状態からやや傾斜しており、入口側から出口側に向かうほど上方に傾斜している。また、出口側においては、チェーン４３は、入口側から出口側に行くほど下方に傾斜している。上移動チェーン３２の下側のチェーン３３の中央部分と、下移動チェーン４２の上側のチェーン４３の中央部分とは、上支持板４０と下支持板５０によってそれぞれ平行で、かつ、水平に配されている。
【００２６】
ウエブＷがピン２４に固定されていない状態で前後方向に供給されてくると、上移動チェーン３２と下移動チェーン４２の間を通り、傾斜した上移動チェーン３２の下側のチェーン３３と下移動チェーン４２の上側のチェーン４３が次第に接近してくる。
【００２７】
そして、上移動チェーン３２の下側のチェーン３３から下方に突出した上突起部３８によってウエブＷは下方に押圧さ、下移動チェーン４２の上側のチェーン４３から上方に向かって突出した下突起部４８によって上方に押される。そのため、図３に示すように、ウエブＷは最初ほぼ平行に走行していたものが、この上突起部３８と下突起部４８によって上下に交互に押されることにより、次第に正弦波状になる。そしてこの正弦波の振幅がウエブＷのオーバーフィード量に対応する。
【００２８】
その後、上移動チェーン３２の下側のチェーン３３と、下移動チェーン４２の上側のチェーン４３とは、平行で水平な状態となるため、この平行な区間でオーバーフィード量Ｓがほぼ一定となる。このように正弦波状にオーバーフィードしたウエブＷが、上フィード部２８と下フィード部３０より外側にある左右一対のピン支持台２２の４本のピン２４に順番に固定され、最後に押えローラ５４によって完全に固定される。
【００２９】
その後、オーバーフィードを行なった上突起部３８と下突起部４８は、次第に離れていき、オーバーフィードを終了する。一方、オーバーフィードされたウエブＷが固定されたピン２４は、熱処理室１２内部に侵入し加熱されてウエブＷの縦方向（走行方向）に収縮する。この場合に、ウエブＷはオーバーフィードしているため、このオーバーフィード量Ｓの分だけ応力がかかることなく収縮する。
【００３０】
次に、図６に基づいて、上突起部３８と下突起部４８とピン支持台２２の位置関係について説明する。図６は、ウエブＷのオーバーフィード状態を示す模式図である。
【００３１】
ウエブＷをピン支持台２２のピン２４に固定する場合に、正弦波における山部分がピン支持台２２の中央にある２本のピン２４，２４の位置の間に相当するように配し、正弦波における谷部分が隣接するピン支持台２２，２２の隙間の部分に配する。そして、ピン支持台２２は、隙間ｍを開けて配されている。
【００３２】
正弦波状にオーバーフィードされるウエブＷの周期Ｔは、等間隔に配された上突起部３８，３８の間の距離、及び、下突起部４８，４８の間の距離と同一である。また、隣接する上突起部３８，３８の中央部に下突起部４８が位置している。これにより、図６に示すように、オーバーフィードされるウエブＷは正弦波状に形成される。
【００３３】
ピン支持台２２は、隣接する上突起部３８，３８の間に位置し、これにより、正弦波状の谷部分が、ピン支持台２２の側端部の間に固定できる。
【００３４】
このように、正弦波状のウエブＷにオーバーフィードさせることにより、ウエブＷが縦方向に収縮する場合に、均等に収縮することができる。そのため、ウエブＷの光学特性が悪くなることがない。
【００３５】
（４）オーバーフィード量Ｓの調整
次に、オーバーフィード量Ｓの調整方法について説明する。
【００３６】
オーバーフィード量Ｓは、正弦波状のウエブＷの振幅によって決定される。すなわち、上移動チェーン３２の下側のチェーン３３と、下移動チェーン４２の上側のチェーン４３との間隔Ｌによって決定される。そのため、オーバーフィード量Ｓを調整する場合には、下移動チェーン４２の上側のチェーン４３を水平に支持している下支持板５０を、水平状態を維持しつつ垂直に上下動させることによって間隙Ｌを調整する。例えば、下支持板５０を下方に移動させて、間隔Ｌを大きくすればオーバーフィード量Ｓが大きくなり、逆に狭くすればオーバーフィード量が小さくなる。
【００３７】
（５）変更例
次に上記実施形態のピンテンター装置１０の変更例について説明する。
【００３８】
上記実施形態では、ウエブＷとしてフィルムで説明したが、これに代えて布帛、金属箔等でもよい。
【００３９】
上記実施形態では正弦波状のウエブＷの山部分がピン支持台２２の中央に位置し、谷部分は隣接するピン支持台２２の隙間ｍに位置させていたが、逆にピン支持台２２の中央部分に谷部分を配し、隙間ｍの部分に山部分を配してもよい。
【００４０】
また、上記実施形態のピンテンター装置１０では、左右一対のテンターチェーン１４が平行であったが、これに代えて、出口側ほど左右一対のテンターチェーン１４が広がるように配してもよい。これによって、ウエブＷを横方向に延伸させることもできる。
【００４１】
また、上フィード部２８の後部に押えローラ５４を配したが、これに限らず押えローラ５４の後にも上フィード部２８及び下フィード部３０を設けてもよい。
【００４２】
上記では本発明の一実施形態を説明したが、この実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の主旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００４３】
１０・・・ピンテンター装置、１２・・・熱処理室、１４・・・テンターチェーン、２２・・・ピン支持台、２４・・・ピン、２８・・・上オーバーフィード部、３０・・・下オーバーフィード部、３２・・・上移動チェーン、３８・・・上突起部、４０・・・上支持板、４２・・・下移動チェーン、４８・・・下突起部、５０・・・下支持板、
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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