(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
π共役系導電性高分子および分子中にスルホ基を有するポリアニオンからなる導電性高分子複合体と、前記スルホ基に配位または結合するアミン化合物と、該アミン化合物を触媒として反応を生じるグリシジル基を分子中に２個以上有するグリシジル基含有化合物と溶媒とを含み、２５℃におけるｐＨが３．５〜７．５であることを特徴とする導電性高分子溶液。
【請求項２】
請求項１に記載の導電性高分子溶液が塗布されて形成されたことを特徴とする導電性塗膜。
【請求項３】
請求項２に記載の導電性塗膜を具備することを特徴とする入力デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、π共役系導電性高分子を含有する導電性高分子溶液、該導電性高分子溶液から形成された導電性塗膜および該導電性塗膜を備える入力デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリアニリンなどのπ共役系導電性高分子に電子供与性化合物や電子受容性化合物（ドーパント）を添加（ドーピング）した導電性材料が開発され、その用途は広がっている。
特に、π共役系導電性高分子の透明性に着目され、透明導電体として広く利用されているＩＴＯ膜（錫ドープ酸化インジウム膜）の代替が検討されている。
しかしながら、π共役系導電性高分子自体は、いかなる溶媒にも溶解しないため、加工性が低い上に、膜の形成やパターニングが困難であった。
特許文献１には、π共役系導電性高分子を溶解させる手法として、質量平均分子量が２，０００〜５００，０００のポリスチレンスルホン酸（ポリアニオン）をドーパントとして、３，４−ジアルコキシチオフェンを化学酸化重合して、ポリスチレンスルホン酸−ポリ（３，４−ジアルコキシチオフェン）溶液（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ溶液）を製造する方法が提案されている。
しかしながら、ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ溶液はスルホ基によって水溶性を持たせているため、その塗膜は耐久性（耐水性、耐アルコール性、耐傷付き性）が低いという問題を有していた。
【０００３】
そこで、特許文献２には、π共役系導電性高分子と水溶性エポキシモノマーを含む溶液から形成した導電性塗膜を透明基材上に有するものが開示されている。特許文献２に記載の導電性塗膜は、ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ塗膜の耐久性の低さを、水溶性エポキシモノマーの硬化物によって改良している。
しかしながら、特許文献２に記載のπ共役系導電性高分子と水溶性エポキシモノマーを含む溶液は保存安定性が不充分であり、保存中に水溶性エポキシモノマーが硬化することがあった。そのため、この溶液を透明基材上に塗布することは困難であった。
また、スルホン酸由来の強酸性によって、前記溶液が接触する塗工機の金属部分が腐食し、腐食により溶出した金属イオンが溶液に含まれることがあった。金属イオンは不純物になるだけでなく、沈殿を生じさせる原因になった。
また、特許文献２に記載の塗膜を抵抗膜式タッチパネルに適用した場合には、高湿度雰囲気下で塗膜から酸成分が溶出するため、対向電極であるＩＴＯ膜との接触により、対向電極を侵すことがあった。そのため、ＩＴＯ膜に対する電気的接触の耐久性が不充分であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１４６２５９号公報
【特許文献２】特開２００７−１７２９８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、透明性、導電性、耐久性に優れた導電性塗膜を容易に形成でき、しかも保存安定性に優れた導電性高分子溶液を提供することを目的とする。また、透明性、導電性、耐久性に優れた導電性塗膜、該導電性塗膜を用いた入力デバイスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下の態様を有する。
［１］π共役系導電性高分子および分子中にスルホ基を有するポリアニオンからなる導電性高分子複合体と、前記スルホ基に配位または結合するアミン化合物と、該アミン化合物を触媒として反応を生じるグリシジル基を分子中に２個以上有するグリシジル基含有化合物と溶媒とを含み、２５℃におけるｐＨが３．５〜７．５であることを特徴とする導電性高分子溶液。
［２］［１］に記載の導電性高分子溶液が塗布されて形成されたことを特徴とする導電性塗膜。
［３］［２］に記載の導電性塗膜を具備することを特徴とする入力デバイス。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の導電性高分子溶液は、透明性、導電性、耐久性に優れた導電性塗膜を容易に形成でき、しかも保存安定性に優れている。
本発明の導電性塗膜は、透明性、導電性、耐久性に優れている。
本発明の入力デバイスは、透明性、導電性、耐久性に優れた導電性塗膜を備える。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の入力デバイスの一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
＜導電性高分子溶液＞
本発明の導電性高分子溶液は、導電性高分子複合体とアミン化合物とグリシジル基含有化合物と溶媒とを含む。
【００１０】
（導電性高分子複合体）
導電性高分子複合体（以下、「複合体」と略す。）は、π共役系導電性高分子とポリアニオンからなる。ポリアニオンはπ共役系導電性高分子に配位しているため、π共役系導電性高分子とポリアニオンとは複合体を形成している。
【００１１】
［π共役系導電性高分子］
π共役系導電性高分子は、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であり、例えば、ポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアニリン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体等が挙げられる。なかでも、重合の容易さ、空気中での安定性の点からは、ポリピロール類、ポリチオフェン類及びポリアニリン類が好ましい。さらに、極性溶剤との相溶性及び透明性の点から、ポリオフェン類が好ましい。
【００１２】
π共役系導電性高分子は無置換のままでもよいが、充分な導電性、バインダ樹脂との相溶性を得るためには、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基をπ共役系導電性高分子に導入することが好ましい。
【００１３】
このようなπ共役系導電性高分子の具体例としては、ポリピロール、ポリ（Ｎ−メチルピロール）、ポリ（３−メチルピロール）、ポリ（３−エチルピロール）、ポリ（３−ｎ−プロピルピロール）、ポリ（３−ブチルピロール）、ポリ（３−オクチルピロール）、ポリ（３−デシルピロール）、ポリ（３−ドデシルピロール）、ポリ（３，４−ジメチルピロール）、ポリ（３，４−ジブチルピロール）、ポリ（３−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルピロール）、ポリ（３−ヒドロキシピロール）、ポリ（３−メトキシピロール）、ポリ（３−エトキシピロール）、ポリ（３−ブトキシピロール）、ポリ（３−ヘキシルオキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−ヘキシルオキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−ヘキシルオキシピロール）、ポリチオフェン、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ（３−エチルチオフェン）、ポリ（３−プロピルチオフェン）、ポリ（３−ブチルチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルチオフェン）、ポリ（３−オクチルチオフェン）、ポリ（３−デシルチオフェン）、ポリ（３−ドデシルチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルチオフェン）、ポリ（３−ブロモチオフェン）、ポリ（３−クロロチオフェン）、ポリ（３−ヨードチオフェン）、ポリ（３−シアノチオフェン）、ポリ（３−フェニルチオフェン）、ポリ（３，４−ジメチルチオフェン）、ポリ（３，４−ジブチルチオフェン）、ポリ（３−ヒドロキシチオフェン）、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３−エトキシチオフェン）、ポリ（３−ブトキシチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクチルオキシチオフェン）、ポリ（３−デシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヒドロキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジメトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジエトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジプロポキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジブトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヘプチルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジオクチルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−プロピレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ブテンジオキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−メトキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−エトキシチオフェン）、ポリ（３−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルチオフェン）、ポリアニリン、ポリ（２−メチルアニリン）、ポリ（３−イソブチルアニリン）、ポリ（２−アニリンスルホン酸）、ポリ（３−アニリンスルホン酸）等が挙げられる。
上記π共役系導電性高分子の中でも、導電性、透明性、耐熱性の点から、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）が好ましい。
【００１４】
［ポリアニオン］
本発明で用いるポリアニオンは、一分子中に複数のアニオン基を有する高分子であり、アニオン基を有する単量体のみを重合、またはアニオン基を有する単量体とアニオン基を有さない単量体を共重合する方法により得ることができる。これらの単量体は単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。また、アニオン基を有さない高分子を得た後、硫酸、発煙硫酸、スルファミン酸等のスルホン化剤によりスルホン化することにより得ることもできる。さらに、アニオン基を有する高分子を一旦得た後に、さらにスルホン化することにより、アニオン基含有量のより多いポリアニオンを得ることもできる。
本発明に用いるポリアニオンを構成する単量体としては、−Ｏ−ＳＯ３−Ｘ＋、−ＳＯ３−Ｘ＋、−ＣＯＯ−Ｘ＋、−Ｏ−ＰＯ４−Ｘ＋、−ＰＯ４−Ｘ＋（各式においてＸ＋は水素イオン、アルカリ金属イオンを表す。）等の強酸基を有する単量体が挙げられる。これらの中でも、π共役系導電性高分子へのドーピング効果の点から、−ＳＯ３−Ｘ＋、−ＣＯＯ−Ｘ＋が好ましい。また、このアニオン基は、隣接してまたは一定間隔をあけてポリアニオンの主鎖に配置されていることが好ましい。
【００１５】
スルホン酸基を含有する単量体としては、例えば、スチレンスルホン酸、アリルオキシベンゼンスルホン酸、メタリルオキシベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酪、アリルスルホン酸、メタリルスルホン酸、２−（メタクリロキシ）エタンスルホン酸、４−（メタクリロキシ）ブタンスルホン酸、イソプレンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロバンスルホン酸などが挙げられる。これらの単量体は、単独で、または２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化ナトリウムなどの塩基で中和した塩の状態で使用してもよい。
【００１６】
リン酸基を含有する単量体としては、例えば、２−クロロ−２−アシッドホスホキシプロピル（メタ）アクリレート、アシッドホスホキシポリオキシエチレングリコールモノ（メタ）アタリレート、モノ（２−ヒドロキシエチルアクリレート）アシッドホスフェート、モノ（２−ヒドロキシエチルメタクリレート〉アシッドホスフェート、モノ（２−ヒドロキシプロピルアクリレート）アシッドホスフェート、モノ（２−ヒドロキシプロピルメタクリレート）アシッドホスフェート、モノ（３−ヒドロキシプロピルアクリレート）アシッドホスフェート、モノ（３−ヒドロキシプロピルメタクリレート）アシッドホスフェート、ジフェニル−２−アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジフェニル−２−メタクリロイルオキシエチルホスフェートなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で、または２種以上を組み合わせていてもよく、また、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化ナトリウムなどの塩基で中和した塩の状態で使用してもよい。
【００１７】
カルボキシ基を含有する単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のエチレン性不飽和モノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等のエチレン性不飽和多価カルボン酸およびそれらの酸無水物；マレイン酸メチル、イタコン酸メチル等のエチレン性不飽和多価カルボン酸の部分エステル化物；等が挙げられる。これらの単量体は、単独で、または２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化ナトリウムなどの塩基で中和した塩の状態で使用してもよい。
【００１８】
アニオン基を有する単量体と共重合可能な、アニオン基を有さない他の単量体は、公知の化合物を何ら制限なく使用することができる。例えば、１，３−ブタジエン、イソプレン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン等の共役ジエン単量体；スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン等の芳香族ビニル単量体；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルへキシル等のエチレン性不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド等のエチレン性不飽和カルボン酸アミド単量体；（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル、グリセリンジ（メタ）アクリレート等のエチレン性不飽和カルボン酸ヒドロキシアルキルエステル単量体；酢酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル単量体；（メタ）アクリロニトリル、Ｎ−ビニルピロリドン、（メタ）アクリロイルモルホリン、シクロへキシルマレイミド、イソプロピルマレイミド、（メタ）アクリル酸グリシジル等が挙げられる。
上記単量体は、開始剤を用いて重合することで本発明に用いるポリアニオンを得ることができる。
【００１９】
また、スルホン化ジカルボン酸とジオールによるスルホン化ポリエステルの製造（特開２００７−１０２２２４号公報）、スルホン化ジアミノ化合物とテトラカルボン酸二無水物によるスルホン化ポリイミドの製造（特開２００６−１５００９号公報、特開２００７−３０２７４３号公報）、スルホン化ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの重合によるスルホン化ポリウレタンの製造（特表２００２−５１４２３３号公報）等、公知の方法で本発明に用いるポリアニオンを得ることもできる。
あるいは、ポリスチレン、ポリメチルスチレン等を重合により得た後、硫酸、発煙硫酸、スルファミン酸等のスルホン化剤によりスルホン化することにより本発明に用いるポリアニオンを得ることもできる。
さらに、ポリエーテルケトンのスルホン化（欧州特許出願公開第４１７８０号明細書）、ポリエーテルエーテルケトンのスルホン化（特開２００８−１０８５８５号公報）、ポリエーテルスルホンのスルホン化（特開平１０−３０９４４９号公報）、ポリフェニレン、ポリフルオレン、ポリビニルカルバゾールのスルホン化（特表２０１０−５１４１６１号公報）、ポリフェニレンオキシドのスルホン化、ポリフェニレンスルフィドのスルホン化等により本発明に用いるポリアニオンを得ることもできる。
【００２０】
上記ポリアニオンの中でも、溶媒溶解性及び導電性の点から、ポリイソプレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸を含む共重合体、ポリスルホエチルメタクリレート、ポリスルホエチルメタクリレートを含む共重合体、ポリ（４−スルホブチルメタクリレート）、ポリ（４−スルホブチルメタクリレート）を含む共重合体、ポリメタリルオキシベンゼンスルホン酸、ポリメタリルオキシベンゼンスルホン酸を含む共重合体、ポリスチレンスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸を含む共重合体が好ましい。これらの中でも、ポリスチレンスルホン酸がより好ましい。
【００２１】
ポリアニオンの重合度は、モノマー単位が１０〜１００，０００個の範囲であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の点からは、５０〜１０，０００個の範囲がより好ましい。ポリアニオンの質量平均分子量は２万〜１００万が好ましい。ポリアニオンの質量平均分子量が前記下限値以上であれば、π共役系導電性高分子をより均一な溶液にでき、前記上限値以下であれば、充分に高い導電性が得られる。
【００２２】
ポリアニオンは、π共役系導電性高分子に配位している。そのため、π共役系導電性高分子とポリアニオンとは複合体を形成している。導電性高分子溶液中のπ共役系導電性高分子とポリアニオンの合計の含有量は０．０５〜５．０質量％であることが好ましい。π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計含有量が０．０５質量％以上であれば、充分に高い導電性が得られ、５．０質量％以下であれば、均一な導電性塗膜を容易に得ることができる。
【００２３】
ポリアニオンの含有量は、π共役系導電性高分子１モルに対して０．１〜１０モルの範囲であることが好ましく、１〜７モルの範囲であることがより好ましい。ポリアニオンの含有量が０．１モルより少なくなると、π共役系導電性高分子へのドーピング効果が弱くなる傾向にあり、導電性が不足することがある。その上、溶媒への分散性および溶解性が低くなり、均一な溶液を得ることが困難になる。また、ポリアニオンの含有量が１０モルより多くなると、π共役系導電性高分子の含有量が少なくなり、やはり充分な導電性が得られにくい。
【００２４】
（アミン化合物）
アミン化合物は、ポリアニオンのスルホ基に配位あるいは結合する。ここで、配位あるいは結合とは、ポリアニオンとアミン化合物とが電子を互いに供与／受容することにより、それらの分子間距離が短くなる結合形態のことである。
アミン化合物としては、１級アミン、２級アミン、３級アミン、芳香族アミン等が挙げられる。
【００２５】
１級アミンとしては、例えば、モノメチルアミン、モノエチルアミン、モノプロピルアミン、モノブチルアミン、モノペンチルアミン、モノヘキシルアミン、モノヘプチルアミン、モノオクチルアミン、モノデシルアミン、モノウンデシルアミン、モノドデシルアミン、モノステアリルアミン、シクロヘキシルアミン等が挙げられる。
２級アミンとしては、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジデシルアミン、ジウンデシルアミン、ジドデシルアミン、ジシクロヘキシルアミン等が挙げられる。
３級アミンとしては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリデシルアミン、トリウンデシルアミン、トリドデシルアミン、トリフェニルアミン、トリベンジルアミン、ジメチルヘキシルアミン、ジメチルデシルアミン、ジメチルヘキサデシルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、ジエチルアミノエタノール等が挙げられる。
複素環式アミンとしては、例えば、イミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−プロピルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、１−（２−ヒドロキシエチル）イミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、１−アセチルイミダゾール、４，５−イミダゾールジカルボン酸、４，５−イミダゾールジカルボン酸ジメチル、ベンズイミダゾール、２−アミノベンズイミダゾール、２−アミノベンズイミダゾール−２−スルホン酸、２−アミノ−１−メチルベンズイミダゾール、２−ヒドロキシベンズイミダゾール、２−（２−ピリジル）ベンズイミダゾール、ピリジン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種類以上を混合して用いてもよい。
上記アミン化合物の中でも、溶解性および触媒の点から、３級アミン、複素環式アミンが好ましく、複素環式アミンの中でも、置換もしくは未置換のイミダゾールが好ましい。
【００２６】
アミン化合物の含有量は、複合体の中和当量に対して０．７〜２．５倍であることが好ましく、３級アミンと複素環式アミンではその塩基性に違いがあることから、３級アミンの場合は０．７０〜０．８０倍、複素環式アミンの場合は１．００〜１．０７倍であることがより好ましい。アミン化合物の含有量が前記範囲であれば、保存安定性がより高くなる。
【００２７】
（グリシジル基含有化合物）
グリシジル基含有化合物は、グリシジル基を分子中に２個以上有する化合物である。グリシジル基は、アミン化合物を触媒として働いて活性化し、他のグリシジル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基等と反応しやすくなる。
グリシジル基含有化合物の具体例としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ソルビトール系ポリグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ダイマー酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジル、トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、ジグリシジルテトラフタレート等が挙げられ１種類または２種類以上の混合として用いることができる。
【００２８】
グリシジル基含有化合物の含有量は、複合体１００質量部に対して１〜２００質量部であることが好ましく、２０〜３０質量部であることがより好ましい。グリシジル基含有化合物が前記下限値以上であれば、得られる導電性塗膜の耐久性を充分に向上させることができ、前記上限値以下であれば、充分な導電性を確保できる。
【００２９】
（溶剤）
溶剤としては特に制限されないが、前記のポリアニオンを溶解しやすいことから水系溶剤が好ましい。
水系溶剤としては、溶解度パラメータが１０以上の溶剤が挙げられ、例えば、水の他、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、Ｎ−メチル−２ピロリドン、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチレンホスホルトリアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド等の極性溶媒、クレゾール、フェノール、キシレノール等のフェノール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、Ｄ−グルコース、Ｄ−グルシトール、イソプレングリコール、ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール等の多価脂肪族アルコール類、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート化合物、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル化合物、ジアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールジアルキルエーテル等の鎖状エーテル類、３−メチル−２−オキサゾリジノン等の複素環化合物、アセトニトリル、グルタロニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル化合物等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上の混合物としてもよい。
【００３０】
（カチオン発生化合物）
また、グリシジル基含有化合物を迅速にかつ充分に硬化させることから、導電性高分子溶液は、カチオン発生化合物を含有することが好ましい。
カチオン発生化合物は、ルイス酸を発生させる化合物である。ここで、カチオン発生化合物の具体例としては、光カチオン開始剤、熱カチオン開始剤等が挙げられる。光カチオン開始剤と熱カチオン開始剤は併用しても構わない。
【００３１】
光カチオン開始剤としては、例えば、ルイス酸のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨードニウム塩、ルイス酸のスルホニウム塩等が挙げられる。これらは、カチオン部分が、芳香族ジアゾニウム、芳香族ヨードニウム、芳香族スルホニウム等であり、アニオン部分が、（四フッ化ホウ素（ＢＦ４−）、六フッ化リン（ＰＦ６−）、六フッ化アンチモン（ＳｂＦ６−）、［ＢＸ４］−（ただし、Ｘは少なくとも２つ以上のフッ素またはトリフルオロメチル基で置換されたフェニル基である。）等に構成されたオニウム塩である。
具体例としては、例えば、四フッ化ホウ素のフェニルジアゾニウム塩、六フッ化リンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化アンチモンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化ヒ素のトリ−４−メチルフェニルスルホニウム塩、四フッ化アンチモンのトリ−４−メチルフェニルスルホニウム塩、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素のジフェニルヨードニウム塩、アセチルアセトンアルミニウム塩とオルトニトロベンジルシリルエーテル混合体、フェニルチオピリジニウム塩、六フッ化リンアレン−鉄錯体が挙げられる。
光カチオン開始剤の市販品としては、ＣＤ−１０１２（サートマー社製）。ＰＣＩ−０１９、ＰＣＩ−０２１（日本化薬社製）、オプトマーＳＰ−１５０、オプトマーＳＰ−１７０（ＡＤＥＫＡ社製）、ＵＶＩ−６９９０（ダウケミカル社製）、ＣＰＩ−１００Ｐ、ＣＰＩ１００Ａ（サンアプロ社製）、ＴＥＰＢＩ−Ｓ（日本触媒社製）、ＷＰＩ０３１、ＷＰＩ−０５４、ＷＰＩ−１１３、ＷＰＩ−１１６、ＷＰＩ−１７０（和光純薬工業社製）、イルガキュア２５０（チバ・スペシャルティ・ケミカル社製）等が挙げられる。
【００３２】
熱カチオン開始剤としては、芳香族オニウム塩、トリフル酸塩、三フッ化ホウ素エーテル錯体化合物および三フッ化ホウ素等のようなカチオン系またはプロトン酸触媒が挙げられる。そのなかでも、芳香族オニウム塩が好ましい。芳香族オニウム塩は熱によりカチオン種を発生するものがあり、熱カチオン重合開始剤として用いることもできる。例えば、三新化学社から入手できるサンエイドＳＩ−６０Ｌ、ＳＩ−８０Ｌ、ＳＩ−１００Ｌ、ＳＩ−１１０Ｌ、ＳＩ−１８０Ｌなどの芳香族スルホニウム塩が挙げられる。
三新化学社製以外の熱カチオン開始剤としては、例えば、アデカオプトンＣＰ−６６、ＣＰ−７７（ＡＤＥＫＡ社製）、ＣＩ−２９２０、ＣＩ２９２１、ＣＩ２９４６、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２０６４（日本曹達社製）、ＦＣ−５２０（スリーエム社製）等が挙げられる。
上記カチオン発生化合物は１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３３】
カチオン発生剤の含有量は、グリシジル基含有化合物を１００質量％とした際の０．１〜１００質量％であることが好ましく、１〜８０質量％であることがより好ましい。カチオン発生剤の含有量が０．１質量％以上であれば、グリシジル基含有化合物を充分に硬化でき、１００質量％以下であれば、導電性高分子溶液から形成される導電性塗膜においてバインダの特性を充分に発揮できる。
【００３４】
（添加剤）
導電性高分子溶液には、必要に応じて、バインダ樹脂や添加剤が含まれてもよい。
バインダ樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテル樹脂、メラミン樹脂などが用いられる。バインダ樹脂は、混合しやすいため、水溶性もしくは水分散性エマルジョンの形態で添加することが好ましい。
添加剤としてはπ共役系導電性高分子及びポリアニオンと混合しうるものであれば特に制限されず、例えば、無機導電剤、消泡剤、カップリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などを使用できる。
無機導電剤としては、金属イオン（金属塩を水に溶解させて形成する）類、導電性カーボン等が挙げられる。
消泡剤としては、シリコーン樹脂、ポリジメチルシロキサン、シリコーンレジン等が挙げられる。
カップリング剤としては、ビニル基、アミノ基、エポキシ基等を有するシランカップリング剤等が挙げられる。
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、糖類、ビタミン類等が挙げられる。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オギザニリド系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤等が挙げられる。
【００３５】
（ｐＨ）
導電性高分子溶液においては、２５℃におけるｐＨが３．５〜７．５であり、４．０〜６．５であることが好ましい。ｐＨが前記範囲外になると、グリシジル基の安定性が低下し、溶液がゲル化するなど、保存安定性が損なわれる。
【００３６】
＜導電性塗膜＞
本発明の導電性塗膜は、上記導電性高分子溶液が塗布されて形成された塗膜である。
導電性塗膜は、通常、透明基材上に塗布される。ここで、透明基材を構成する材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートなどが挙げられる。また、ガラスなども使用できる。
【００３７】
導電性高分子溶液の塗布方法として、例えば、バーコーティング、コンマコーティング、リバースコーティング、リップコーティング、スプレーコーティング、フレキソ印刷、グラビア印刷などが適用される。導電性高分子溶液塗布後には、硬化処理を施すことが好ましい。
硬化方法としては、加熱または光照射が適用される。加熱方法としては、例えば、熱風加熱や赤外線加熱などの通常の方法を採用できる。また、光照射により硬化する場合には、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプなどの光源から紫外線を照射する方法を採用できる。
紫外線照射における照度は１００ｍＷ／ｃｍ２以上が好ましい。還元剤がアクリル化合物の重合を阻害することがあるため、照度が１００ｍＷ／ｃｍ２未満であると、充分に架橋せず、導電性塗膜の耐摺動性（耐久性）が低くなる傾向にある。なお、本発明における照度は、トプコン社製ＵＶＲ−Ｔ１（工業用ＵＶチェッカー、受光器；ＵＤ−Ｔ３６、測定波長範囲；３００〜３９０ｎｍ、ピーク感度波長；約３５５ｎｍ）を用いて測定した値である。
【００３８】
（導電性塗膜の厚さ）
導電性塗膜の厚さは０．００１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがより好ましい。導電性塗膜の厚みが０．００１μｍ以上であれば、充分な導電性を確保でき、１０μｍ以下であれば、充分な可撓性を確保できる。
【００３９】
（導電性塗膜の表面抵抗値）
導電性塗膜の表面抵抗値としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５，０００Ω以下であるが、２，５００Ω以下であることが好ましく、５００Ω以下であることがより好ましい。
【００４０】
（導電性塗膜の用途）
本発明の導電性塗膜は、後述する入力デバイスに好適に用いられるが、表示デバイスの電極シートとして用いてもよい。表示デバイスとしては、例えば、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、液晶ディスプレイ等が挙げられる。
【００４１】
＜入力デバイス＞
本発明の入力デバイスは、上記導電性塗膜を透明電極として備えるものである。入力デバイスの中でも、本発明の効果がとりわけ発揮されることから、抵抗膜式タッチパネルが好適である。
以下、上記導電性塗膜を透明電極として備えた抵抗膜式タッチパネルの例について説明する。
本例の抵抗膜式タッチパネルは、図１に示すように、透明基材１１表面に導電性塗膜１２が形成され、入力者側に配置された可動電極シート１０と、透明基材２１表面にＩＴＯ膜２２が形成され、画像表示装置側に配置された固定電極シート２０とが、導電性塗膜１２とＩＴＯ膜２２が対向するように設けられたものである。また、可動電極シート１０と固定電極シート２０との間には、透明なドットスペーサ２４が配置されて、隙間が形成されている。
【００４２】
可動電極シート１０または固定電極シート２０の透明基材１１，２１としては、例えば、単層または２層以上のプラスチックフィルム、ガラス板、フィルムとガラス板との積層体が挙げられる。ただし、可動電極シート１０の透明基材１１としては、可撓性を有することから、プラスチックフィルムが好ましく、固定電極シート２０の透明基材２１としては、固定しやすいことから、ガラス板を用いたものが好ましい。
【００４３】
可動電極シート１０の透明基材１１の厚さは２０〜２５０μｍであることが好ましい。透明基材１１の厚さが２０μｍ以上であれば、充分な強度を確保でき、２５０μｍ以下であれば、充分な可撓性を確保できる。
可動電極シート１０の導電性塗膜１２の厚さは１０〜７００μｍであることが好ましい。導電性塗膜１２の厚さが１０μｍ以上であれば、充分な導電性を確保でき、７００μｍ以下であれば、充分な可撓性及び透明性を確保できる。
固定電極シート２０の透明基材２１の厚さは０．１〜２．５ｍｍであることが好ましい。透明基材２１の厚さが０．１ｍｍ以上であれば、充分な強度を確保でき、２．５ｍｍ以下であれば、薄くすることができ、省スペース化を実現できる。
固定電極シート２０のＩＴＯ膜２２の厚さは１０〜１０００ｎｍであることが好ましい。ＩＴＯ膜２２の厚さが１０ｎｍ以上であれば、充分な導電性を確保でき、１０００ｎｍ以下であれば、薄くすることができ、省スペース化を実現できる。
可動電極シート１０と固定電極シート２０の非押圧時の間隔は２０〜１００μｍであることが好ましい。可動電極シート１０と固定電極シート２０の非押圧時の間隔は２０μｍ以上であれば、非押圧時に可動電極シート１０と固定電極シート２０とを確実に接触させないようにすることができ、１００μｍ以下であれば、押圧時に可動電極シート１０と固定電極シート２０とを確実に接触させることができる。前記間隔になるようにするためには、ドットスペーサ２４の大きさを適宜選択すればよい。
【００４４】
この抵抗膜式タッチパネルでは、指またはスタイラスにより可動電極シート１０を押した際に、可動電極シート１０の導電性塗膜１２と、固定電極シート２０のＩＴＯ膜２２とを接触させて導通させ、その際の電圧を取り込んで、位置を検出するようになっている。
【００４５】
また、入力デバイスは静電容量式タッチパネルであってもよい。前記導電性塗膜を用いた静電容量式タッチパネルとしては、例えば、前記導電性塗膜からなる一対の透明電極が透明基材の両面に設けられ、透明電極全体に低圧の電界を形成し、指で触れることで表面電荷の変化を捉え、位置を検出するものが挙げられる。
【００４６】
このような入力デバイスは、例えば、電子手帳、携帯情報端末（ＰＤＡ）、携帯電話、ＰＨＳ、現金自動預け払い機（ＡＴＭ）、自動販売機、販売時点情報管理（ＰＯＳ）用レジスタなどに備え付けられる。
【実施例】
【００４７】
以下の例において、ｐＨは２５℃で測定した値である。また、分子量の中和当量は以下のようにして求めた。
［分子量］
ポリスチレンスルホン酸ナトリウム（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２）を標準物質とし、下記測定条件のゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定した分子量である。
検出器：ＵＶ検出器（２３５ｎｍ）、溶離液：０．１Ｍ硫酸ナトリウム水溶液／アセトニトリル（７／３容積比）、溶離液流速：１ｍｌ／分
【００４８】
（製造例１）ポリスチレンスルホン酸の調製
１０００ｍｌのイオン交換水に２０６ｇのスチレンスルホン酸ナトリウムを溶解し、８０℃で攪拌しながら、予め１０ｍｌの水に溶解した１．１４ｇの過硫酸アンモニウム酸化剤溶液を２０分間滴下し、この溶液を２時間攪拌した。
これにより得られたスチレンスルホン酸ナトリウム含有溶液に１０質量％に希釈した硫酸を１０００ｍｌと１００００ｍｌのイオン交換水を添加し、限外ろ過法を用いてポリスチレンスルホン酸含有溶液の約１００００ｍｌ溶液を除去し、残液に１００００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約１００００ｍｌ溶液を除去した。上記の限外ろ過操作を３回繰り返した。
さらに、得られたろ液に約１００００ｍｌのイオン交換水を添加し、限外ろ過法を用いて約１００００ｍｌ溶液を除去した。この限外ろ過操作を３回繰り返した。
限外ろ過条件は下記の通りとした（他の例でも同様）。
限外ろ過膜の分画分子量：３０Ｋ
クロスフロー式
供給液流量：３０００ｍｌ／分
膜分圧：０．１２Ｐａ
得られた溶液中の水を減圧除去して、無色の固形状のポリスチレンスルホン酸を得た。このポリスチレンスルホン酸の質量平均分子量は約２５００００であった。
【００４９】
（製造例２）ポリスチレンスルホン酸ドープポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）水溶液の調製
１４．２ｇの３，４−エチレンジオキシチオフェンと、３６．７ｇの製造例１で得たポリスチレンスルホン酸を２０００ｍｌのイオン交換水に溶かした溶液とを２０℃で混合した。
これにより得られた混合溶液を２０℃に保ち、掻き混ぜながら、２００ｍｌのイオン交換水に溶かした２９．６４ｇの過硫酸アンモニウムと８．０ｇの硫酸第二鉄の酸化触媒溶液とをゆっくり添加し、３時間攪拌して反応させた。
得られた反応液に２０００ｍｌのイオン交換水を添加し、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌ溶液を除去した。この操作を３回繰り返した。
そして、上記ろ過処理が行われた処理液に２００ｍｌの１０質量％に希釈した硫酸と２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの処理液を除去し、これに２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの液を除去した。この操作を３回繰り返した。
さらに、得られた処理液に２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの処理液を除去した。この操作を５回繰り返し、約１．５質量％の青色のポリスチレンスルホン酸ドープポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）水溶液を得た。
【００５０】
（実施例１）
製造例２より得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇに、イミダゾール０．２４３ｇ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量に対して０．９６８倍）を添加して、ｐＨ３．５９のＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を調製した。
これとは別に、ソルビトール系ポリグリシジルエーテル（阪本薬品工業社製ＳＲ−ＳＥＰ）０．２９２ｇ（複合体１００質量部に対して２０．２質量部）、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド３．３３ｇ、エタノール１３３ｇを混合し、撹拌した。これにより得た溶液に、前記ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を添加し、攪拌して、導電性高分子溶液Ａを得た。
また、導電性高分子溶液Ａをポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績製Ａ４３００、厚さ：１８８μｍ）にバーコーターで塗布し、１５０℃、２分間、熱風により乾燥して、導電性塗膜を形成した。
得られた導電性塗膜の表面抵抗、全光線透過率およびヘイズ、耐水性、耐エタノール性、耐傷付き性を以下の方法により評価した。それらの評価結果を表１に示す。
また、得られた溶液の保存安定性を以下の方法により評価した。その評価結果を表２に示す。
【００５１】
［表面抵抗］
三菱化学社製ロレスタＭＣＰ−Ｔ６００を用い、ＪＩＳ  Ｋ  ７１９４に準じて測定した。
【００５２】
［全光線透過率およびヘイズ］
日本電色工業社製ヘイズメータ測定器（ＮＤＨ５０００）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準じて全光線透過率およびヘイズを測定した。
【００５３】
［摺動試験（耐水性、耐エタノール性の評価）］
導電性塗膜の塗膜強度を測定するため、水もしくはエタノールで湿らせたキムワイプ（日本製紙クレシア社製）を、５００ｇｆ／ｃｍ２の荷重をかけて５０往復擦った後、導電性塗膜の剥がれを目視により以下の評価基準に基づいて評価した。
◎ ：剥離なし、○：わずかに剥離、△：一部剥離、×：完全剥離
【００５４】
［耐傷付き性の評価］
導電性塗膜の塗膜強度を測定するため、キムワイプ（日本製紙クレシア社製）に、５００ｇｆ／ｃｍ２の荷重をかけて５０往復擦って傷付け試験を行った後、導電性塗膜の傷を目視により以下の評価基準に基づいて評価した。この結果は導電性塗膜の膜強度の指標になる。
◎ ：傷なし、○：数本傷があり、△：数１０本の傷があり、×：無数の傷があり
【００５５】
［導電性高分子溶液の保存安定性］
導電性高分子溶液を１００ｍｌのガラス製の試料瓶に８０ｍｌの溶液を入れ、室温環境にて、１週間または２週間または３週間または４週間保存した。１週間経過したもの、２週間経過した溶液、３週間経過した溶液、４週間経過した溶液を、各々、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製、厚さ１８８μｍ）にバーコーターにより塗布し、１５０℃、２分間、熱風により乾燥して、導電性塗膜を形成した。
得られた導電性塗膜について、上記のように、耐水性、耐エタノール性、耐傷付き性を評価した。上記３項目の評価が「◎」であったものを３点、「○」であったものを２点、「△」であったものを１点、「×」であったものを０点とし、３項目の合計点数が９点であったものを「○」、８〜５点であったものを「△」、４〜０点であったものを「×」とした。
なお、表２においては、上段に保存安定性の評価結果、下段左に耐水性、下段中に耐エタノール性、下段右に耐傷性の評価結果を示す。
【００５６】
［ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量］
なお、各実施例において、ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量は、各実施例で使用したアミン化合物により中和滴定し、その変曲点を中和点とし、そのときのアミン化合物添加量から求めた。
【００５７】
【表１】
0005674522.tif 000002
【００５８】
【表２】
0005674522.tif 000003
【００５９】
（実施例２）
製造例２により得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇに、イミダゾール０．２５１ｇ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量に対して１．０００倍）を添加して、ｐＨ４．２０のＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を調製した。該ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｂを得た。導電性高分子溶液Ｂを用いたこと以外は実施例１と同様にして導電性塗膜を形成し、評価した。評価結果を表１，２に示す。
【００６０】
（実施例３）
製造例２により得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇに、イミダゾール０．２５３ｇ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量に対して１．００８倍）を添加して、ｐＨ５．１９のＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を調製した。該ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｃを得た。導電性高分子溶液Ｃを用いたこと以外は実施例１と同様にして導電性塗膜を形成し、評価した。評価結果を表１，２に示す。
【００６１】
（実施例４）
製造例２により得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇに、イミダゾール０．２６６ｇ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量に対して１．０６０倍）を添加して、ｐＨ６．１０のＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を調製した。該ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｄを得た。導電性高分子溶液Ｄを用いたこと以外は実施例１と同様にして導電性塗膜を形成し、評価した。評価結果を表１，２に示す。
【００６２】
（実施例５）
製造例２により得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇに、イミダゾール０．５００ｇ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量に対して１．９９２倍）を添加して、ｐＨ７．４０のＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を調製した。該ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｅを得た。また、導電性高分子溶液Ｅを用いたこと以外は実施例１と同様にして導電性塗膜を形成し、評価した。評価結果を表１，２に示す。
【００６３】
（実施例６）
製造例２により得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇに、２−メチルイミダゾール０．３００２ｇ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量に対して１．００５倍）を添加して、ｐＨ４．３３のＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を調製した。該ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｆを得た。導電性高分子溶液Ｆを用いたこと以外は実施例１と同様にして導電性塗膜を形成し、評価した。評価結果を表１，２に示す。
【００６４】
（実施例７）
製造例２により得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇに、１，２−ジメチルイミダゾール０．３５６７ｇ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量に対して１．００６倍）を添加して、ｐＨ４．７３のＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を調製した。該ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｇを得た。導電性高分子溶液Ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にして導電性塗膜を形成し、評価した。評価結果を表１，２に示す。
【００６５】
（実施例８）
製造例２により得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇに、Ｎ−メチルイミダゾール０．３１９４ｇ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量に対して１．０６８倍）を添加して、ｐＨ５．４７のＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を調製した。該ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｈを得た。導電性高分子溶液Ｈを用いたこと以外は実施例１と同様にして導電性塗膜を形成し、評価した。評価結果を表１，２に示す。
【００６６】
（実施例９）
製造例２により得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇに、エタノール１３３ｇを添加し、さらにトリプロピルアミン０．３８３３ｇ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量に対して０．７２５倍）を添加して、ｐＨ４．３７のＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのアミン塩水溶液を調製した。該ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのアミン塩水溶液にソルビトール系ポリグリシジルエーテル（阪本薬品工業社製ＳＲ−ＳＥＰ）０．２９２ｇ（複合体１００質量部に対して２０．２質量部）、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド３．３３ｇを添加し、攪拌して、導電性高分子溶液Ｉを得た。導電性高分子溶液Ｉを用いたこと以外は実施例１と同様にして導電性塗膜を形成し、評価した。評価結果を表１，２に示す。
【００６７】
（実施例１０）
製造例２により得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇに、エタノール１３３ｇを添加し、さらにトリオクチルアミン１．００２１ｇ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量に対して０．７６９倍）を添加して、ｐＨ５．９２のＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのアミン塩水溶液を調製した。該ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのアミン塩水溶液を用いたこと以外は実施例９と同様にして、導電性高分子溶液Ｊを得た。導電性高分子溶液Ｊを用いたこと以外は実施例１と同様にして導電性塗膜を形成し、評価した。評価結果を表１，２に示す。
【００６８】
（比較例１）
ソルビトール系ポリグリシジルエーテル（阪本薬品工業社製ＳＲ−ＳＥＰ）０．２９２ｇ（複合体１００質量部に対して２０．２質量部）、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド３．３３ｇ、ネオエタノール１３３ｇに、製造例２より得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇを添加し、撹拌して、導電性高分子溶液Ｋ（ｐＨ１．９８）を得た。導電性高分子溶液Ｋを用いたこと以外は実施例１と同様にして導電性塗膜を形成し、評価した。評価結果を表１，２に示す。
【００６９】
（比較例２）
製造例２より得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇに、イミダゾール０．２３３ｇ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量に対して０．９２８倍）を添加し、ｐＨ３．４０のＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を調製した。該ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｌを得た。導電性高分子溶液Ｌを用いたこと以外は実施例１と同様にして導電性塗膜を形成し、評価した。評価結果を表１、２に示す。
【００７０】
（比較例３）
製造例２より得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇに、イミダゾール０．６２０ｇ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量に対して２．４７倍）を添加し、ｐＨ７．６０のＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を調製した。該ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｍを得た。導電性高分子溶液Ｍを用いたこと以外は実施例１と同様にして導電性塗膜を形成し、評価した。評価結果を表１、２に示す。
【００７１】
（比較例４）
製造例２より得られたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液１００ｇに、イミダゾール３．３０ｇ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液の中和当量に対して１３．０倍）を添加し、ｐＨ８．４２のＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を調製した。該ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳのイミダゾール塩水溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｎを得た。導電性高分子溶液Ｎを用いたこと以外は実施例１と同様にして導電性塗膜を形成し、評価した。評価結果を表１、２に示す。
【００７２】
実施例１〜１０では、溶液の保存安定性、塗膜の導電性、透明性、耐水性、耐エタノール性、耐傷付き性に優れていた。
比較例１では、溶液の保存安定性が不充分で、塗膜の耐エタノール性が不充分であった。比較例２〜４では、溶液の保存安定性が不充分であった。
【符号の説明】
【００７３】
１０  可動電極シート
１１  透明基材
１２  導電性塗膜
２０  固定電極シート
２１  透明基材
２２  ＩＴＯ膜
２４  ドットスペーサ
【図１】
0005674522.tif 000004