(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をする、反射型表示装置であって、
一方の基板が透光性を有しており、
前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、
前記画素電極のパターンは、矩形の単位パターンを規則的に配列したパターンであり、
前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記隔壁の少なくとも一部の分岐点は、正六角形の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっておらず、
前記所定距離の範囲とは、前記基準パターンの各分岐点を起点として、当該分岐点から延出される辺の長さの半分以下の距離の範囲であり、
前記隔壁と前記画素電極とは、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記隔壁の前記基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが前記画素電極の縁部のいずれかに平行に延びる線に対して５°〜２５°回転されて配置された関係にある
ことを特徴とする反射型表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子ペーパー等に応用されている反射型表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射型表示装置として、最近、表示媒体に含まれる電気応答性材料として電気泳動体を用いた電気泳動表示装置が広く用いられている。電気泳動表示装置とは、空気中または溶媒中の電気泳動体（通常は電気泳動する粒子）の電気的な泳動、すなわち粒子移動を利用して情報を表示する装置である。通常、２枚の基板間に電界を与えることで電気的な泳動の状態が制御され、それによって所望の表示が実現されるように構成される。電気泳動体としては、荷電粒子の他、荷電粉体をも利用され得る。その場合、当該荷電粉体は気体中を電気的に泳動する。【０００３】
電気泳動表示装置は、近年では特に、電子ペーパーとしての応用が注目されている。電子ペーパーとして応用する場合には、印刷物レベルの視認性（目にやさしい）、情報書き換えの容易性、低消費電力、軽量といった利点を享受できる。【０００４】
電気泳動表示装置では、しかし、粒子や粉体の沈降や偏在に起因して、表示の不良、特にコントラストの低下が生じることがある。この現象を防止するべく、上下の電極基板間に隔壁を形成して、電気泳動する粒子や粉体の泳動空間、すなわち移動空間を微小な空間に分割することが採用されている。この微小な空間は、セルと呼ばれている。各セルの中に、電気泳動体を含むインキやガス（表示媒体）が封入されている。例えば特開２００５−２４８６８号公報及び特表２０１１−５２４５４８号公報には、そのようなタイプの電気泳動表示装置の従来例が開示されている。
【発明の要旨】
【０００５】
本件発明者は、隔壁の形成方法について鋭意研究を重ねるうち、以下のような知見を得るに至った。
【０００６】
前述のような反射型表示装置において、一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられている。そして、各セル毎に、表示媒体に含まれる電気応答性材料の電気的な泳動の状態を制御することで、所望の表示を実現している。画素電極のパターンは、一般的には全体として長方形を成すような、マトリクス状の周期的な整列パターンである。そして、隔壁も、一般的には周期性を有するパターンで形成されている。
【０００７】
ここで、複数の周期的なパターンが互いに対して回転されて重ね合わされると、図１１に示すように、パターンの重なりが疎である領域と密である領域とが形成され、これによって視覚的に縞模様が発生してしまうことがある。このような複数の周期的なパターンが重ね合わされて発現する縞模様は、モアレあるいは干渉縞と呼ばれている。
【０００８】
本件の発明者は、隔壁越しに画素電極を観察する反射型表示装置において、隔壁のパターンと画素電極のパターンとが重なってモアレが発現することにより、表示装置の表示品質が損なわれることが実用上問題となり得ることを知見した。
【０００９】
本発明は、このような事情に基づいて行われたものであり、その目的は、モアレの発現が抑制された反射型表示装置及びその製造方法を提供することにある。
【００１０】
本発明は、各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をする、反射型表示装置であって、一方の基板が透光性を有しており、前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、周期的なパターンで複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、前記隔壁のパターンは、六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンであり、前記画素電極のパターンは、矩形の単位パターンを規則的に配列したパターンであり、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記隔壁で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが、各画素電極の縁部のいずれかに平行に延びる線に対して１０°〜２０°回転されて配置された関係にあることを特徴とする反射型表示装置である。
【００１１】
好ましくは、前記隔壁のパターンは、正六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンである。
【００１２】
あるいは、本発明は、各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をする、反射型表示装置であって、一方の基板が透光性を有しており、前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、前記画素電極のパターンは、矩形の単位パターンを規則的に配列したパターンであり、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記隔壁の少なくとも一部の分岐点は、六角形の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっておらず、前記隔壁と前記画素電極とは、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記隔壁の前記基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが前記画素電極の縁部のいずれかに平行に延びる線に対して５°〜２５°回転されて配置された関係にあることを特徴とする反射型表示装置である。
【００１３】
好ましくは、前記基準パターンは、正六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンである。
【００１４】
また、本発明は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、一方の基板が透光性を有しており、前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、前記隔壁は、少なくとも一部が非周期的なパターンで形成されていることを特徴とする反射型表示装置である。
【００１５】
本発明は、特に、前記隔壁と前記透光性電極または前記一方の基板上の他の要素または前記一方の基板とは、互いに当接しており、前記隔壁と前記画素電極または前記他方の基板上の他の要素または前記他方の基板とも、互いに当接している場合において、モアレ現象の発現の抑制効果が顕著である。
【００１６】
好ましくは、前記隔壁の各分岐点から延出する隔壁の数は、３または４である。
【００１７】
好ましくは、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、前記隔壁の少なくとも一部の分岐点は、同一形状の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっていない。
【００１８】
好ましくは、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、前記隔壁の少なくとも一部の分岐点は、同一形状の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの各分岐点と、当該基準パターンに対応するピッチを有する格子パターンの各格子点と、を関連づけ、前記格子パターンの各行ないし各列を当該行の方向ないし列の方向に拡大ないし縮小させることにより当該格子パターンの格子点を移動させると共に、当該格子点の移動に対応させて当該格子点に関連づけられた各分岐点をも移動させた位置に存在している。
【００１９】
好ましくは、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、前記隔壁の少なくとも一部の分岐点は、同一形状の単位パターンを規則的に配列して第１基準パターンとした時、当該第１基準パターンの各分岐点と、当該第１基準パターンに対応するピッチを有する格子パターンの各格子点と、を関連づけ、前記格子パターンの各行ないし各列を当該行の方向ないし列の方向に拡大ないし縮小させることにより当該格子パターンの格子点を移動させると共に、当該格子点の移動に対応させて当該格子点に関連づけられた各分岐点をも移動させることにより得られる第２基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、前記第２基準パターンの分岐点とは重なっていない。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１は、本発明の第１の実施の形態による反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。
【図２】図２は、本発明の第１の実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。
【図３】図３は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。
【図４】図４は、図１に示す実施の形態による隔壁の形成方法を説明するための図である。詳しくは、図４（ａ）が、六角形の単位パターンを規則的に配列した隔壁のパターンを示す図であり、図４（ｂ）が、図４（ａ）に示す周期的なパターンで複数のセルを区画するように形成された隔壁を示す図である。
【図５】図５は、隔壁の頂面の幅の定義について説明する図である。
【図６】図６は、接着層形成工程の一例を概略的に示す図である。
【図７】図７は、表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。
【図８】図８は、導電性ペーストの機能を説明するための概略図である。
【図９】図９は、矩形の単位パターンを規則的に配列した画素電極の周期的なパターンを示す図である。
【図１０】図１０は、対向基板配置工程において、一方の基板の隔壁の頂面と他方の基板の画素電極とが対向するように配置されている様子を示す断面図である。
【図１１】図１１は、モアレの発現のメカニズムを説明するための図である。
【図１２】図１２は、画素電極の縁部に平行に延びる線と、隔壁で区画されたセルにおける対向する角部を結ぶ線と、の間の回転の角度の違いによる、画素電極のパターンと隔壁のパターンの重なりの疎密の形成のされ方の違いを説明するための図である。詳しくは、隔壁で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線が画素電極の縁部に平行に延びる線に対して、図１２（ａ）が０°、図１２（ｂ）が５°、図１２（ｃ）が１０°、図１２（ｄ）が１５°、図１２（ｅ）が２０°、図１２（ｆ）が２５°、図１２（ｇ）が３０°回転されて配置された状態を示す図である。
【図１３】図１３は、画素電極の縁部に平行に延びる線と、隔壁で区画されたセルにおける対向する角部を結ぶ線と、の間の回転の角度の違いによる、モアレの発現の様子の違いを説明するための図である。詳しくは、隔壁で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線が画素電極の縁部に平行に延びる線に対して、図１３（ａ）が０°または３０°、図１３（ｂ）が５°、図１３（ｃ）が１０°、図１３（ｄ）が１５°、図１３（ｅ）が２０°、図１３（ｆ）が２５°回転されて配置された状態のモアレの発現の様子を説明するための図である。
【図１４】図１４は、本発明の第２の実施の形態による隔壁の形成方法を説明するための図である。詳しくは、図１４（ａ）が、基準パターンを示す図であり、図１４（ｂ）が、図１４（ａ）に示す基準パターンを基礎として形成された隔壁のパターンを示す図である。
【図１５】図１５は、本発明の実施例及び比較例の表示装置の作成条件と評価結果とについて説明するための図である。
【図１６】図１６は、隔壁形成工程において、基準パターンから最終の隔壁パターンを形成する方法を説明するための図。詳しくは、図１６（ａ）が、正六角形の単位パターンを規則的に整列してなるハニカム状の基準パターンを利用して最終の隔壁パターンを形成する方法を説明するための図であり、図１６（ｂ）が、正方形の単位パターンを規則的に整列してなる正方格子状の基準パターンを利用して最終の隔壁パターンを形成する方法を説明するための図である。
【図１７】図１７は、基準パターンの分岐点をランダムに変位させる場合のランダム度を説明するための図である。
【図１８】図１８は、図１７に示すランダム度の違いによる最終の隔壁パターンの違いを説明するための図。詳しくは、図１８（ａ）が、図１７に示すランダム度Ｒ１の場合の最終の隔壁パターンを示す図であり、図１８（ｂ）が、図１７に示すランダム度Ｒ２の場合の最終の隔壁パターンを示す図であり、図１８（ｃ）が、図１７に示すランダム度Ｒ３の場合の最終の隔壁パターンを示す図であり、図１８（ｄ）が、図１７に示すランダム度Ｒ４の場合の最終の隔壁パターンを示す図である。
【図１９】図１９は、モアレ現象の発現のメカニズムを説明するための図である。
【図２０】図２０は、モアレ現象の発現を効果的に抑制するための隔壁の最低移動距離を説明するための図である。詳しくは、図２０（ａ）が、隔壁の線幅を等分する隔壁中心線が隣り合う画素電極の対向する縁部の間隔を等分する電極間中心線と一致するように隔壁が画素電極側の基板上に配置されている様子を示す図であり、図２０（ｂ）が、図２０（ａ）の隔壁が当該画素電極間の領域と重ならない位置にまで、すなわち隔壁の一方の画素電極側の縁部が他方の画素電極の当該画素電極間の領域側の縁部と一致するように、変位された様子を示す図である。
【図２１】図２１は、ザラツキムラの発生のメカニズムを説明するための図である。
【図２２】図２２は、ザラツキムラの発生したパネルにおける表示の濃淡の違いを示す平面図である。
【図２３】図２３は、セル面積分布率の定義を説明するための図である。
【図２４】図２４は、最終の隔壁パターンに基づいて隔壁を形成する方法を説明するための図である。
【図２５】図２５は、第３−１の実施の形態による隔壁形成工程で形成された隔壁の一例を示す平面図である。
【図２６】図２６は、第３−１の実施の形態による隔壁形成工程で形成された隔壁の他の例を示す平面図である。
【図２７】図２７は、本発明の第３−２の実施の形態による反射型表示装置の製造方法における隔壁の最終パターンの形成方法を説明するための図である。
【図２８】図２８は、本発明の他の実施例の隔壁のパターンを示す図である。
【図２９】図２９は、本発明の比較例の隔壁のパターンを示す図である。
【図３０】図３０は、本発明の他の比較例の隔壁のパターンを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１は、本発明の第１の実施の形態による反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。本実施の形態による反射型表示装置は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極１１１，１６１が形成されている対向する２枚の基板間１１，１６に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体１３が封入されていて、２枚の基板１１，１６間に所定の電界が与えられる際に表示媒体１３が所望の表示をするようになっている。ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲において「透光性」とは、光を透過する性質、という程度の意味である。本実施の形態においては、視認側に配置される基板（一方の基板１１）は、全光透過率が５０％以上、好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上となるような透光性を有している。
【００２２】
図２乃至図７において、一方の基板１１の面上には、電極１１１が設けられているが、電極１１１の図示は省略されている。本実施の形態においては、一方の基板１１が視認側に配置され、他方の基板１６が非視認側に配置される。
【００２３】
一方の基板１１としては、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の透光性フィルムや透光性ガラスに、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等の透光性を有する電極（透光性電極）を一方の基板１１の少なくとも表示領域を覆うように付したものが、典型的に用いられ得る。ここで、「表示領域」とは、反射型表示装置における所望の表示に利用される領域をいう。
【００２４】
透光性電極１１１は、塗工法やスパッタリング、真空蒸着法、ＣＶＤ法等によって形成され得る。透光性電極１１１は、本実施の形態では、アクティブマトリクス駆動用の共通電極として形成されている。
【００２５】
一方の基板１１の厚みは、１０μｍ〜１ｍｍが好適である。１０μｍよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、１ｍｍよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、５０μｍ〜３００μｍ程度である。
【００２６】
一方の基板１１は、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。
【００２７】
他方の基板１６としては、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス（ガラエポ）等の基材が用いられ得る。また他方の基板１６は、透光性を有する基材が用いられてもよい。さらに透光性を有しているが不透明な基材であってもよく、電極面とは異なるもう一方の面を粗面化した不透明なガラス基材、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス（ガラエポ）等が用いられ得る。本実施の形態では、他方の基板１６は、視認側と反対側の位置に配置されるため、透光性を有している必然性はない。しかし、熱膨張特性など一方の基板１１と同じ物性が必要とされる場合は、一方の基板１１と同様の透光性の部材が使用され得る。
【００２８】
他方の基板１６の表示媒体側の面には、後の工程において、複数の画素電極１６１が設けられる。画素電極１６１としては、本実施の形態では、アクティブマトリクス駆動用のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層に対応する画素電極が用いられる。
【００２９】
他方の基板１６の厚みも、一方の基板１１の厚みと同様に、１０μｍ〜１ｍｍが好適である。１０μｍよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、１ｍｍよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、５０μｍ〜３００μｍ程度である。
【００３０】
他方の基板１６も、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。
【００３１】
＜反射型表示装置の製造方法＞
図２は、本発明の第１の実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。
【００３２】
図３は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。図３に示すように、まず、一般には水平方向に載置される一方の基板１１の上面に、例えばフォトリソグラフィ法（紫外線（ＵＶ）照射による露光→現像→焼成）によって、隔壁１２が形成される（隔壁形成工程：図２の工程（１））。隔壁１２は、後述する複数のセルを規定する部材である。
【００３３】
なお、本件の明細書及び特許請求の範囲においては、「セル」とは、粒子や粉体の沈降や偏在に起因して表示の不良、特にコントラストの低下を防止するべく一方の基板１１、他方の基板１６間に形成された隔壁１２によって分割された、電気泳動する粒子や粉体の微小な泳動空間、すなわち移動空間を意味する。隔壁１２は、後述する画素電極形成工程の後に、他方の基板１６の画素電極１６１が形成されている側に形成されてもよい。
【００３４】
隔壁１２は、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂等によって構成可能であり、隔壁１２の形成方法は、フォトリソグラフィ法の他、エンボス加工などの型転写方法も採用され得る。さらに、所望のパターンの構造物を隔壁として製造しておいて、それを一方の基板１１に貼り付けるという方法も採用され得る。開口率は、７０％以上が好ましく、特に９０％以上が好ましい。高開口率であるほど、表示可能エリアが広くなるため、高コントラストを得ることができる。
【００３５】
隔壁１２は、仮想の基準軸１２５に対して周期的なパターンで複数のセルを区画するように形成されており、隔壁１２のパターンは、六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンである。ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲においては、「単位パターン」とは、全体のパターンによって分割された個々の領域を囲む個々のパターンである。また、「仮想の基準軸」とは、隔壁１２や後述する画素電極１６１、あるいは隔壁１２の基準パターンを形成する時に基準とされる軸のことであり、例えば各基板１１，１６の長手方向軸に沿った軸や、当該基板の平面視において当該長手方向軸に対して任意の角度だけ回転された位置関係となるように規定された軸である。隔壁１２や画素電極１６１のパターン、あるいは隔壁１２の基準パターンは、このような仮想の基準軸に対して単位パターンを規則的に配列することにより形成される。
【００３６】
本実施の形態では、隔壁１２のパターンは、図４（ａ）に示すように、正六角形の単位パターンを規則的に配列した周期的なハニカムパターンで形成される。もっとも、単位パターンの形状としては、正六角形以外の六角形も採用可能である。また、隔壁１２のパターンは、正六角形の各単位パターンの対向する２つの角部を結ぶ線が隔壁１２の仮想の基準軸１２５に平行になるように配列されて形成されたパターンである。このため、隔壁１２は、図４（ｂ）に示すように、隔壁１２で区画された各セルの対向する２つの角部を結ぶ線が隔壁１２の仮想の基準軸１２５に平行になるように形成される。
【００３７】
セルのサイズ（ピッチ）は、表示パネルの大きさにもよるが、０．０５ｍｍ〜１ｍｍピッチ、好ましくは０．１ｍｍ〜０．５ｍｍピッチである。ここで、ピッチとは、隣接するセルの中心点の距離を意味している。
【００３８】
隔壁１２の頂面の幅は、９μｍ〜５０μｍ、好ましくは９μｍ〜２０μｍである。９μｍというのは、隔壁１２が倒れることなくパターニングできる線幅の下限である。隔壁１２の頂面の幅が９μｍ未満である場合、隔壁１２の長さが６０μｍ以上に亘るようなパターンでは、少なくとも隔壁１２の一部が倒れたり、剥がれたり、剥がれた隔壁１２が基板上を移動したりする。そうなった場合には、隔壁１２による粒子の移動を防ぐという機能が失われ、表示品質が劣化してしまう。一方、好適な範囲の上限である５０μｍというのは、目視したときに隔壁１２が目立ち過ぎない上限である。
【００３９】
ここで、隔壁１２の頂面の幅の定義を、図５に示す。頂面の角が丸まっていなければ、図５（ａ）や図５（ｂ）に示すように、頂面の幅はそのまま定義される。一方、頂面の角が丸まっている場合には、図５（ｃ）や図５（ｄ）に示すように、頂面の延長面と壁面の延長面との交線間の幅として理解される。評価のための測定方法としては、隔壁１２が形成された一方の基板１１を硬化性樹脂にて包埋し、ミクロートーム（大和光機工業株式会社製：ＦＸ−８０１）により隔壁１２の断面を切り出し、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって撮影した画像に基づいて各幅を測定することができる。
【００４０】
隔壁１２の高さは、５〜５０μｍ、好ましくは１０〜５０μｍである。５μｍ以下では、充填するインキ量が少なく、十分な表示特性、特にコントラストが得られない一方、５０μｍ以上では、パネルの厚みが厚すぎて、駆動電圧が上昇し過ぎてしまう。低駆動電圧で良好な表示特性が得られるという観点から、１０〜５０μｍの範囲の高さが好適である。
【００４１】
次に、隔壁１２上に接着層２２が形成される（接着層形成工程：図２の工程（２））。この接着層形成工程では、例えば転写法や印刷法により、ポリエステル系熱可塑性接着剤のような熱可塑性樹脂が、１μｍ〜１００μｍの厚みで形成される。好ましくは、１μｍ〜５０μｍの厚みで形成され、特に好ましくは、１μｍ〜２０μｍの厚みで形成される。
【００４２】
転写法として典型的な熱転写法の一例について具体的な説明を補足すれば、図６に示すように、例えば基材２１としてのＰＥＴフィルム上に２０μｍの厚みでポリエステル系熱可塑性接着剤のような接着剤２２１を形成した転写シート２０を用意する。次に、この転写シート２０を、接着剤２２１の面が一方の基板１１の隔壁１２の頂面上に配置されるように、一方の基板１１と対向して配置する。この状態で、一方の基板１１と転写シート２０とを、常温で１ｋＰａの圧力でラミネートする。ラミネートの後で、一方の基板１１を、一方の基板１１側の隔壁１２の端部が一方の基板１１とは反対の側の当該隔壁１２の頂面よりも高い位置となるように向けられた状態にして、一方の基板１１と転写シート２０とを接着剤２２１の軟化点または融点より高い温度で一方の基板１１と転写シート２０とを１分間加熱し、その後転写シート２０を剥離する。これにより、隔壁１２上に例えば６μｍ程度の接着層２２が形成される。
【００４３】
接着層２２を形成するための接着剤２２１としては、熱可塑性材料を用いた接着剤が好ましく、加熱により軟化して、冷却すると固化する性質を有し、冷却と加熱を繰り返した場合に、塑性が可逆的に保たれる材料である。
【００４４】
熱可塑性材料からなる接着剤を接着層として用いた場合には、転写シート基材２１上の固化している接着剤２２１をその軟化温度を超える温度にまで加熱することにより軟化させて、隔壁２２頂面のみに確実に接着剤２２１を熱転写することもできる。また、熱転写後の接着剤２２１は常温まで冷却して再び固化することにより、タック、すなわちねばつきが無くなるため、取り扱いの便宜が極めて良い。また、タック、すなわちねばつきが無いことによって、セル内に充填された表示媒体１３が接着剤２２１と接着してしまうことがない。そして、再び隔壁２２頂面の接着剤２２１をその軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることにより、タック、すなわちねばつきを有するようになるため、他方の基板１６に確実に接着される。他方の基板１６との接着後の接着剤２２１は、再び常温においてはタック、すなわちねばつきが無いため、やはり表示媒体１３が接着剤２２１と接着してしまうことがなく、表示品質の低下のおそれもない。
【００４５】
具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリウレタンなどの熱可塑性ベースポリマーや、天然ゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン共重合体などの熱可塑性エラストマーを主成分とし、粘着性付与樹脂や可塑剤を配合した樹脂が主に使用される。
【００４６】
隔壁１２と接着剤２２１との密着性を上げるために、隔壁１２に紫外線照射やプラズマ処理などにより表面処理が施されてもよいし、プライマーが形成されてもよい。あるいは、接着剤２２１の方にシランカップリング剤が添加されてもよい。
【００４７】
次に、一方の基板１１上に表示媒体としてのインキ１３が配置される（表示媒体配置工程：図２の工程（３））。図７は、表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。ここでは、（１）ディスペンサ３１あるいはインクジェット、ダイコートからインキ１３が滴下され（インキ滴下工程）、（２）アプリケータ３２あるいはドクターブレード、ドクターナイフ、中央スキージによって面内均一となるようにインキ１３が塗布される（インキ塗布工程）。なお、インキ１３は、他方の基板１６上に配置されてもよい。
【００４８】
表示媒体１３としては、少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が用いられ得る。電気応答性材料としては、電荷粒子材料、液晶材料があり、電荷粒子材料には白や黒、カラーなどの色づけされた粒子が電場に応答して移動するいわゆる電気泳動材料、または、粒子が二色に色分けされ電場により回転するツイストボールに代表される材料、または、電場により移動するナノ粒子材料等がある。一方、液晶材料は、ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）で知られる透過と散乱を電気的に制御する材料や、液晶に色素を混合した材料、コレステリック液晶材料などがある。これらの電気応答性を有し光学特性を変化させる材料は、種類を問わずセルに隔離する必要があり、本発明の適用対象である。
【００４９】
図２に戻って、表示媒体配置工程の後で、導電性ペースト塗布工程が実施される（導電性ペースト塗布工程：図２の工程（４））。図８は、導電性ペーストの機能を説明するための概略図である。導電性ペースト１４は、例えば銀ペーストのような金属ペーストであり、例えばディスペンサ４１あるいはインクジェット、タンポ印刷、パット印刷、スタッピング印刷によって所定位置に塗布される。導電性ペースト１４は、図８に示すように、他方の基板１６に電圧をかけるための配線として機能する。一方の基板１１の透光性電極１１１と他方の基板１６の画素電極１６１との間に所定の電界（電圧）が与えられる際、表示媒体であるインキ１３中の電気応答性材料が駆動され、文字パターン等の所望の情報が表示される。その後、電界が与えられなくなっても、新たな電界が両基板間に与えられるまで、当該情報表示状態が維持される。
【００５０】
次に、他方の基板１６上に、画素電極１６１の仮想の基準軸１６５に対して周期的なパターンで複数の画素電極１６１が形成される（画素電極形成工程：図２の工程（５））。本実施の形態では、画素電極１６１のパターンは、図９に示すような、矩形の単位パターンをマトリクス状に規則的に配列したパターンである。また、画素電極１６１のパターンは、各単位パターンの対向する２つ辺１６１ａ及び１６１ｂが仮想の基準軸１６５に平行になるように配列されたパターンである。このため、複数の画素電極１６１は、各画素電極１６１の対向する２つの縁部が画素電極１６１の仮想の基準軸１６５に平行になるように形成される。
【００５１】
図２に戻って、一方の基板１１と他方の基板１６とが、一方の基板１１の隔壁１２の頂面と他方の基板１６の画素電極１６１とが対向するように配置される。その後、隔壁１２の頂面上の接着層２２と他方の基板１６とが、隔壁１２内のセル容積を超える余剰のインキを押し出しながら接着される（対向基板配置工程：図２の工程（６））。これにより、表示媒体（インキ１３）が各セル内に封止される。
【００５２】
さらに、本実施の形態の対向基板配置工程では、図１０に示すように、接着層２２として転写された接着剤２２１を加熱させて接着力を得るようになっている。具体的には、ラミネータ９１によって所定の熱圧着圧力（ラミネート圧力）を付与しながら、接着剤２２１を周辺からその軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることによって、隔壁１２と他方の基板１６とを接着する。もっとも、他の熱圧着の態様が採用されてもよい。
【００５３】
ここで、本実施の形態の対向基板配置工程では、一方の基板１１と他方の基板１６とは、隔壁１２の周期的なパターンと画素電極１６１の周期的なパターンとによるモアレの発現が抑制されるように配置される。図１１乃至図１３を参照して、モアレの発現が抑制されるような一方の基板１１と他方の基板１６との配置関係について説明する。
【００５４】
図１１は、モアレの発現のメカニズムを説明するための図である。図１２は、画素電極の縁部に平行に延びる線と、隔壁で区画されたセルにおける対向する角部を結ぶ線と、の間の回転の角度の違いによる、画素電極のパターンと隔壁のパターンの重なりの疎密の形成のされ方の違いを説明するための図である。詳しくは、隔壁で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線が画素電極の縁部に平行に延びる線に対して、図１２（ａ）が０°、図１２（ｂ）が５°、図１２（ｃ）が１０°、図１２（ｄ）が１５°、図１２（ｅ）が２０°、図１２（ｆ）が２５°、図１２（ｇ）が３０°回転されて配置された状態を示す図である。ここで、各セルにおける対向する角部とは、六角形の３つおきの角部同士を意味する。また、図１３は、画素電極の縁部に平行に延びる線と、隔壁で区画されたセルにおける対向する角部を結ぶ線と、の間の回転の角度の違いによる、モアレの発現の様子の違いを説明するための図である。詳しくは、隔壁で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線が画素電極の縁部に平行に延びる線に対して、図１３（ａ）が０°または３０°、図１３（ｂ）が５°、図１３（ｃ）が１０°、図１３（ｄ）が１５°、図１３（ｅ）が２０°、図１３（ｆ）が２５°回転されて配置された状態のモアレの発現の様子を説明するための図である。
【００５５】
まず、モアレまたはモワレは、干渉縞ともいい、規則正しい繰り返し模様が複数重ね合わされた時に、それらの周期のズレにより視覚的に発生する縞模様のことである。図１１に示すように、複数の周期的なパターンが互いに対して回転された状態で重ね合わされると、当該複数のパターンの重なりが疎である領域と密である領域とが形成される。複数のパターンの重なりが疎である領域と密である領域とが存在することにより、視覚的な縞模様、すなわちモアレが発生してしまうことがある。
【００５６】
複数のパターンの重ね合わせによるモアレの発現を抑制するためには、その重なりが疎である領域と密である領域とが十分に細かく形成されるように重ね合わされればよい。したがって、本実施の形態では、一方の基板１１と他方の基板１６とは、隔壁１２のパターンと画素電極１６１のパターンとの重なりが疎である領域と密である領域とが十分に細かく形成されるように配置される。
【００５７】
図１２及び図１３を参照して、隔壁１２のパターンと画素電極１６１のパターンとの重なりが疎である領域と密である領域とが十分に細かく形成されるような、一方の基板１１と他方の基板１６との配置関係について説明する。
【００５８】
図１２（ａ）及び図１２（ｇ）並びに図１３（ａ）に示すように、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２の基準軸１２５が画素電極１６１の基準軸１６５に対して０°または３０°回転されて配置された時、すなわち、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線に対して０°または３０°回転されて配置された関係にある時、隔壁１２のパターンと画素電極１６１のパターンとの重なりによるモアレの発現が最も抑制される。しかし、この場合、隔壁１２のパターンと画素電極１６１のパターンとは、高精度にアライメントされる必要がある。
【００５９】
隔壁１２のパターンと画素電極１６１のパターンとが互いに対して回転されて配置された場合にあっては、図１２（ｂ）乃至図１２（ｆ）並びに図１３（ｂ）乃至図１３（ｆ）に示すように、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２の基準軸１２５の画素電極１６１の基準軸１６５に対する回転が１５°の時、すなわち、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して１５°回転されて配置された関係にある時、当該２つのパターンの重なりが疎である領域と密である領域とが最も細かく形成される。また、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、当該回転が１０°〜２０°の範囲内であれば、すなわち、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して１０°〜２０°回転されて配置された関係にある時、当該２つのパターンの重なりが疎である領域と密である領域とは十分に細かく形成され、モアレの発現が実用上問題のない程度にまで抑制される。
【００６０】
したがって、本実施の形態においては、対向基板配置工程において、一方の基板１１と他方の基板１６とは、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２の基準軸１２５が画素電極１６１の基準軸１６５に対して、すなわち、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して、１０°〜２０°回転されて配置される。
【００６１】
なお、隔壁形成工程が画素電極形成工程の後に実施され、隔壁１２が他方の基板１６の画素電極１６１が形成されている側に形成される場合には、隔壁１２は、隔壁１２の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２の基準軸１２５が画素電極の基準軸１６５に対して、すなわち、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して、１０°〜２０°回転されて形成される。
【００６２】
対向基板配置工程の後、図２に示すように、ギロチン、上刃スライド装置、レーザカット装置、レーザーカッター等の断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され（断裁工程：図２の工程（７））、所望の反射型表示装置の製造が完了する。
【００６３】
以上のように、本実施の形態によれば、隔壁１２も画素電極１６１も周期的なパターンで形成されているが、隔壁１２で区画された各セルにおける角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極１６１の縁部いずれかに平行に延びる線１６５に対して１０°〜２０°回転されて配置された関係にあるため、隔壁１２及び画素電極１６１のパターンの重なりが疎である領域と密である領域とが十分に細かく形成され得る。この結果、隔壁１２及び画素電極１６１のパターンの重なりが疎である領域と密である領域とによって、視覚的な縞模様、すなわちモアレが発現してしまう、ということが抑制され得る。
【００６４】
また、隔壁１２のパターンは、正六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンである。したがって、モアレの発現が、効果的に抑制される。
【００６５】
なお、図１２について、隔壁のピッチと画素電極のピッチとが同じ場合で説明されているが、隔壁のピッチと画素電極のピッチとが異なる場合でも、同様に当てはまる。
【００６６】
次に、図１４を参照して、本発明による第２の実施の形態による反射型表示装置の製造方法について説明する。本実施の形態では、第１の実施の形態に対して、隔壁１２の形成方法が異なる。
【００６７】
図１４を参照して、本実施の形態による隔壁１２の形成方法について説明する。図１４は、本発明の第２の実施の形態による隔壁１２の形成方法を説明するための図である。詳しくは、図１４（ａ）が、基準パターンを示す図であり、図１４（ｂ）が、図１４（ａ）に示す基準パターンを基礎として形成された隔壁１２のパターンを示す図である。
【００６８】
本実施の形態の隔壁形成工程において、まず、隔壁１２の仮想の基準軸１２５に対して六角形の単位パターンが規則的に配列された基準パターンが用意される。ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲において「基準パターン」とは、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見た隔壁１２の形状を決定する際に基準（基礎）とされるパターンであり、あるいは、その分岐点の位置が、隔壁１２の分岐点の位置との比較対象とされるパターンである。
【００６９】
本実施の形態では、基準パターンは、図１４（ａ）に示すように、正六角形の単位パターンを規則的に配列した周期的なハニカムパターンで形成される。もっとも、基準パターンの単位パターンの形状としては、正六角形以外の六角形も採用可能である。また、基準パターンは、正六角形の各単位パターンの対向する２つの角部を結ぶ線が隔壁１２の仮想の基準軸１２５に平行になるように配列されて形成されたパターンである。基準パターンのピッチは、０．０５ｍｍ〜１ｍｍピッチ、好ましくは０．１ｍｍ〜０．５ｍｍピッチである。ここで、基準パターンの「ピッチ」とは、隣接する単位パターンを重ねるべく移動させるのに必要な距離を意味している。
【００７０】
次に、基準パターンの各分岐点Ｋを起点として所定距離の範囲Ｒ内に隔壁１２の分岐点を位置決めする。このように位置決めされた隔壁１２の分岐点の位置に基づいて、隔壁１２が形成される。本実施の形態においては、隔壁１２の分岐点は、前述の所定距離の範囲Ｒ内においてランダムに位置決めされるが、当該所定距離の範囲Ｒ内において規則的に位置決めされてもよい。このようにして、図１４（ｂ）に示すような、隔壁１２のパターンが形成される。なお、本実施の形態では、所定距離の範囲Ｒは、正六角形の単位パターンが配列されて形成された基準パターンの各分岐点Ｋを起点として、当該分岐点から延出される辺の長さの半分以下の距離の範囲である。
【００７１】
本件発明者が得た知見によれば、隔壁１２のパターンが図１４（ｂ）に示すようなパターンである場合、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２と画素電極１６１とが、隔壁１２の基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して５°〜２５°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置されている時、当該２つのパターンの重なりが疎である領域と密である領域とは十分に細かく形成され、モアレの発現が実用上問題のない程度にまで抑制される。
【００７２】
そして、対向基板配置工程において、一方の基板１１と他方の基板１６とは、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２の基準軸１２５が画素電極１６１の基準軸１６５に対して５°〜２５°回転されて配置される。これにより、隔壁１２と画素電極１６１とは、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２の基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して５°〜２５°回転されて配置された関係となるように配置される、というように互いに対して配置される。
【００７３】
なお、隔壁形成工程が画素電極形成工程の後に実施され、隔壁１２が他方の基板１６の画素電極１６１が形成されている側に形成される場合には、隔壁１２の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２の基準軸１２５が画素電極１６１の基準軸１６５に対して５°〜２５°回転されているというように形成されればよい。具体的には、隔壁１２が形成される側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、画素電極１６１の基準軸１６５に対して５°〜２５°回転された仮想の基準軸を隔壁１２の基準軸１２５とし、当該基準軸１２５と、六角形の各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかと、が平行となるように当該単位パターンが規則的に配列されたパターンを基準パターンとし、当該基準パターンに基づいて、他方の基板１６の画素電極１６１が形成される側に隔壁１２を形成すればよい。このようにして、隔壁１２の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２の基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して５°〜２５°回転されて配置された関係となるように、隔壁１２が形成される。
【００７４】
以上のように、本実施の形態によれば、複数の画素電極１６１が周期的なパターンで配列されるのに対し、隔壁１２は、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２の少なくとも一部の分岐点は、六角形の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっていない、というように形成される。これにより、モアレの発現が抑制され得る。
【００７５】
また、本件発明者が得た知見によれば、本実施の形態においては、隔壁１２の基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかと、画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線と、の間の回転の角度の範囲が５°〜２５°の時、隔壁１２及び画素電極１６１のパターンの重なりが疎である領域と密である領域とが細かく形成され、隔壁１２及び画素電極１６１のパターンの重なりが疎である領域と密である領域とによる視覚的な縞模様、すなわちモアレの発現を実用上問題のない程度にまで抑制し得る。この角度の範囲は、隔壁１２のパターンが六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンである場合における、モアレの発現を実用上問題のない程度にまで抑制し得るような、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかと、各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線と、の間の回転の角度の範囲（１０°〜２０°）よりも広い。換言すれば、本実施の形態においては、モアレの発現を実用上問題のない程度にまで抑制し得る隔壁１２の基準軸１２５と画素電極１６１の基準軸１６５との間の回転の角度の範囲が、前述の実施の形態１の場合と比較してより広範囲となり得る。
【００７６】
そして、一方の基板１１と他方の基板１６とが、隔壁１２の基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して５°〜２５°回転されて配置された関係となるように配置されることにより、モアレの発現が、より効果的に抑制され得る。
【００７７】
また、基準パターンは、正六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンであるため、モアレの発現が、効果的に抑制される。
【００７８】
次に、実際に行われた実施例について説明する。
【００７９】
＜反射型表示装置の実施例＞
＜実施例１−１＞
一方の基板１１として、３００ｍｍ×４００ｍｍ×厚さ０．１ｍｍのＰＥＴ基板（東洋紡Ａ４１００）の一方の面に透光性電極１１１として酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）蒸着膜（厚さ０．２μｍ）が設けられた基板が用意された。透光性電極１１１は、スパッタリング、真空蒸着法、ＣＶＤ法などの一般的な成膜方法によって形成され、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の他に、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等によっても形成され得る。
【００８０】
次に、当該一方の基板１１に、ネガ型感光性樹脂材料（デュポンＭＲＣドライフィルムレジスト（株）製のドライフィルムレジスト）を２０μｍの厚さにラミネートして１００℃、１分間の条件で加熱し、次いで露光マスクを使用して露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ２  ）し、その後、１％ＫＯＨ水溶液を用いた現像を３０秒行い、２００℃、６０分間の条件で焼成することで、線幅が２０μｍの隔壁１２が形成された。隔壁１２のパターンは、正六角形の単位パターンを規則的に配列したハニカムパターン（ピッチ３００μｍ）であった。また、隔壁１２は、当該正六角形の単位パターンの対向する角部を結ぶ線が、一方の基板１１の平面視において、一方の基板１１の長手方向軸に対して１５°回転されて配置された関係にある仮想の基準軸１２５に対して平行に配置されるように形成された。
【００８１】
そして、転写フィルム基材２１として厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２１（帝人・デュポン社製）が用いられ、これにヒートシール剤２２１（東洋紡製バイロン６３０）が厚さ２０μｍでダイコータにて塗布され、乾燥された。これにより、１０μｍの接着層を有するロール状の転写シート２０が作製された。なお、ヒートシール剤２２１の軟化温度は約１１０℃であった。
【００８２】
そして、転写シート２０の上に、一方の基板１１が、その隔壁１２が形成されている側の面を下にした状態で載せられ、この状態で、１ｋＰａ程度の押圧力で常温でラミネートされた。その後、ヒートシール剤２２１の周辺がその軟化温度を超える温度、例えば１３０℃程度にまで加熱され、その状態で一方の基板１１が、転写シート２０から剥離された。その結果、ヒートシール剤２２１が隔壁１２の頂面の全面に熱転写された。隔壁１２の頂面に転写されたヒートシール剤２２１の高さ、すなわち、隔壁１２の頂面からヒートシール剤２２１の頭頂部までの高さは、すなわち、接着層２２の厚さは、約７μｍであった。
【００８３】
続いて、表示媒体として、以下の成分を有するインキ１３が用いられ、ディスペンサ３１から滴下されて、中央スキージ３２（ニューロング製のスキージ１：ウレタン樹脂製）にてスキージ処理されて、各セル内に充填された。基板幅方向にはみ出した余剰インキは、別の両端スキージ３３ａ、３３ｂ（ニューロング製のスキージ２：ウレタン樹脂製）にて掻き取られ、さらにロールワイパ３４にて拭き取られた。
＜インキ成分＞
・電気泳動粒子（二酸化チタン）・・・６０重量部
・分散液                     ・・・４０重量部
【００８４】
続いて、隔壁パターン外周の一部（２ｍｍ×２ｍｍの正方形領域）に、銀ペースト（藤倉化成製）がディスペンサ４１によって点塗布された。
【００８５】
次いで、他方の基板１６として、３００ｍｍ×４００ｍｍ×厚さ０．５ｍｍの無アルカリガラス（日本電気硝子製ＯＡ−１０Ｇ）の一方の面に、３００μｍ×３００μｍの正方形の画素電極１６１が６００個×８００個、行列方向に整列されて成るアモルファスＴＦＴアクティブマトリクスが設けられた基板が用意された。アモルファスＴＦＴアクティブマトリクスは、液晶ディスプレイなどで一般的に用いられているものであり、画素電極１６１の材質は、アルミニウム合金であった。複数の画素電極１６１は、他方の基板１６の平面視において、他方の基板１６の長手方向軸に平行な仮想の基準軸１６５に対して各画素電極１６１の対向する２つの縁部が平行になるように形成された。
【００８６】
そして、大気中にて、一方の基板１１の隔壁１２上の接着層２２の上に他方の基板１６を、一方の基板１１及び他方の基板１６の長手方向軸が一致するように、すなわち一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て隔壁１２の基準軸１２５が画素電極１６１の基準軸１６５に対して１５°回転されて配置された。これにより、一方の基板１１と他方の基板１６とは、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して１５°回転されて配置された関係となるように配置された。そして、この状態で、ラミネータ９１で一定の熱圧着圧力をさらに付与しつつ、隔壁１２内のセル容積を超える余剰のインクを押し出しながら、一方の基板１１の隔壁１２と他方の基板１６とが密着された。
【００８７】
熱圧着時の温度は、接着層２２のヒートシール剤２２１の軟化点または融点付近の温度であって、インクの蒸発が促進しない温度が好ましく、８０℃〜１５０℃、好ましくは８０℃〜９０℃であり、本実施例では８０℃であった。また、熱圧着圧力は、０．０１ＭＰａ〜０．７ＭＰａが好ましく、特には０．１ＭＰａ〜０．４ＭＰａが好ましく、本実施例では０．３ＭＰａであった。
【００８８】
その後、断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され、両方の基板１１，１６の周辺にディスペンサ（不図示）を用いて紫外線硬化樹脂（イー・エッチ・シー（株）製：ＬＣＢ−６１０）を塗工して封止し、紫外線を露光（露光量７００ｍＪ／ｃｍ２  ）して硬化させた（外周封止処理）。以上により表示パネルが作製された。
【００８９】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。
【００９０】
＜実施例１−２＞
前記実施例１−１に対して、隔壁１２の仮想の基準軸１２５を、一方の基板１１の平面視において当該一方の基板１１の長手方向軸に対して１０°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁１２の基準軸１２５は、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、画素電極１６１の基準軸１６５に対して１０°回転されて配置されていた。すなわち、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが、各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して１０°回転されて配置されていた。
【００９１】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。
【００９２】
＜実施例１−３＞
前記実施例１−１に対して、隔壁１２の仮想の基準軸１２５を、一方の基板１１の平面視において当該一方の基板１１の長手方向軸に対して２０°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁１２の基準軸１２５は、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、画素電極１６１の基準軸１６５に対して２０°回転されて配置されていた。すなわち、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが、各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して２０°回転されて配置されていた。
【００９３】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。
【００９４】
＜比較例１−１＞
前記実施例１−１に対して、隔壁１２の仮想の基準軸１２５を、一方の基板１１の平面視において当該一方の基板１１の長手方向軸に対して５°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁１２の基準軸１２５は、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、画素電極１６１の基準軸１６５に対して５°回転されて配置されていた。すなわち、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが、各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して５°回転されて配置されていた。
【００９５】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したところ、モアレ現象によるムラが発生した。
【００９６】
＜比較例１−２＞
前記実施例１−１に対して、隔壁１２の仮想の基準軸１２５を、一方の基板１１の平面視において当該一方の基板１１の長手方向軸に対して２５°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁１２の基準軸１２５は、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、画素電極１６１の基準軸１６５に対して２５°回転されて配置されていた。すなわち、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが、各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して２５°回転されて配置されていた。
【００９７】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したところ、モアレ現象によるムラが発生した。
【００９８】
＜実施例２−１＞
前記実施例１−１に対して、隔壁１２を以下のように形成し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。
【００９９】
すなわち、まず、一方の基板１１の平面視において一方の基板１１の長手方向軸に対して１５°回転されて配置された仮想の線を、隔壁１２の仮想の基準軸１２５として規定した。次に、複数の正六角形の単位パターンを、各正六角形の単位パターンにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが当該仮想の基準軸１２５に平行になるように配列し、これにより得られたパターンを隔壁１２の基準パターンとした。そして、隔壁１２を、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２の少なくとも一部の分岐点が当該基準パターンの分岐点を起点として、当該分岐点から延出される辺の長さの４分の１に等しい距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっていない、というように形成した。
【０１００】
当該表示パネルにおいて、隔壁１２の基準軸１２５は、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、画素電極１６１の基準軸１６５に対して１５°回転されて配置されていた。すなわち、隔壁１２と画素電極１６１とは、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して１５°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置されていた。
【０１０１】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。
【０１０２】
＜実施例２−２＞
前記実施例２−１に対して、隔壁１２の仮想の基準軸１２５を、一方の基板１１の平面視において当該一方の基板１１の長手方向軸に対して１０°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁１２の基準軸１２５は、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、画素電極１６１の基準軸１６５に対して１０°回転されて配置されていた。すなわち、隔壁１２と画素電極１６１とは、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して１０°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置されていた。
【０１０３】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。
【０１０４】
＜実施例２−３＞
前記実施例２−１に対して、隔壁１２の仮想の基準軸１２５を、一方の基板１１の平面視において当該一方の基板１１の長手方向軸に対して２０°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁１２の基準軸１２５は、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、画素電極１６１の基準軸１６５に対して２０°回転されて配置されていた。すなわち、隔壁１２と画素電極１６１とは、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して２０°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置されていた。
【０１０５】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。
【０１０６】
＜実施例２−４＞
前記実施例２−１に対して、隔壁１２の仮想の基準軸１２５を、一方の基板１１の平面視において当該一方の基板１１の長手方向軸に対して５°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁１２の基準軸１２５は、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、画素電極１６１の基準軸１６５に対して５°回転されて配置されていた。すなわち、隔壁１２と画素電極１６１とは、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して５°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置されていた。
【０１０７】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。
【０１０８】
＜実施例２−５＞
前記実施例２−１に対して、隔壁１２の仮想の基準軸１２５を、一方の基板１１の平面視において当該一方の基板１１の長手方向軸に対して２５°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁１２の基準軸１２５は、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、画素電極１６１の基準軸１６５に対して２５°回転されて配置されていた。すなわち、隔壁１２と画素電極１６１とは、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線１６５に対して２５°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置されていた。
【０１０９】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。
【０１１０】
各実施例及び各比較例の作成条件と評価結果について、図１５に纏めて示す。
【０１１１】
図１５に示された結果から分かるように、画素電極１６１のパターンが矩形の単位パターンを規則的に配列したマトリクス状のパターンであって、隔壁１２のパターンが正六角形の単位パターンを規則的に配列したハニカムパターンである場合、隔壁１２で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが、各画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線に対して１０°〜２０°回転されて配置される時、モアレの発現は、実用上問題のない程度にまで抑制された。
【０１１２】
また、画素電極１６１のパターンが矩形の単位パターンを規則的に配列したマトリクス状のパターンであって、隔壁１２が、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２の少なくとも一部の分岐点が正六角形の単位パターンを規則的に配列したハニカムパターンを基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっていない、というように形成されている場合、隔壁１２と画素電極１６１とが、隔壁１２の基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが画素電極１６１の縁部のいずれかに平行に延びる線に対して５°〜２５°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置された時、モアレの発現は、実用上問題のない程度にまで抑制された。
【０１１３】
このように、隔壁１２のパターンが正六角形の単位パターンを規則的に配列したハニカムパターンである場合と、隔壁１２が、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、隔壁１２の少なくとも一部の分岐点が正六角形の単位パターンを規則的に配列したハニカムパターンを基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっていない、というように形成されている場合と、を比較すると、後者の場合のほうが、モアレの発現を実用上問題のない程度にまで抑制し得る隔壁１２の仮想の基準軸１２５と画素電極１６１の仮想の基準軸１６５との間の回転の角度の範囲が広範囲となった。
【０１１４】
なお、隔壁１２は、その一部が非周期的なパターン、すなわち画素電極１６１の周期的なパターンに対してモアレ現象を発生させないようなパターン、で形成されてもよい。隔壁１２の非周期的なパターンの具体例としては、例えば、隔壁１２によって区画された複数のセルの互いの形状が異なっている、という隔壁１２のパターンが挙げられる。全てのセルについて互いの形状が異なっていてもよいし、一部のセルについてのみ互いの形状が異なっていてもよい。また、形状の変化の仕方については、周期性があってもよいし、周期性が無くてもよい。
【０１１５】
＜反射型表示装置の製造方法３−１＞
図１６乃至図２３を参照して、本実施の形態による隔壁１２のパターンの形成方法について説明する。本実施の形態においては、隔壁１２のパターンは、一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見て、当該パターンに基づいて形成される隔壁１２の少なくとも一部の分岐点が、同一形状の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重ならないように形成される。
【０１１６】
なお、「単位パターン」とは、全体のパターンによって分割された個々の領域を囲む個々のパターンである。また、「基準パターン」とは、最終のパターンを形成する際に基準（基礎）とされるパターンであり、あるいは、その分岐点の位置が、本発明による反射型表示装置の隔壁のパターンの分岐点の位置との比較対象とされるパターンである。
【０１１７】
本実施の形態では、図１６（ａ）に示すように、単位パターンは正六角形のパターンであり、基準パターンは、当該正六角形の単位パターンを規則的に配列してなるハニカム状のパターンである。
【０１１８】
単位パターン及び基準パターンの形状としては、他の形状も採用可能である。例えば、図１６（ｂ）に示すように、単位パターンは、正方形のパターンであってもよく、この場合、基準パターンは、正方形のパターンを規則的に配列してなる正方格子状のパターンであってよい。また、単位パターンは、正六角形以外の六角形のパターンであってもよいし、正方形以外の矩形のパターンであってもよいし、他の多角形のパターンであってもよい。
【０１１９】
しかし、当該単位パターン及び基準パターンに基づいて形成される隔壁１２の各分岐点から延出される隔壁１２の数が、３または４となるような単位パターン及び基準パターンを採用することが好ましい。なぜなら、１つの分岐点から延出される隔壁１２の数が多いほど、後述する接着層形成工程において当該分岐点の隔壁１２頂面上に接着材２２１が厚く盛られてしまう傾向にあり、厚く盛られた接着材２２１は、後述する対向基板配置工程において他方の基板１６上を隔壁１２の幅を大きく超えて拡がって、セルの開口率を低下させてしまうからである。
【０１２０】
例えば、ハニカムパターンに類似のパターンでは、隔壁１２の各分岐点から延出する隔壁１２の数は３であるし、格子パターンに類似のパターンでは、隔壁１２の各分岐点から延出する隔壁１２の数は４である。もっとも、両者が混合したようなパターンが採用されてもよく、その場合には、隔壁１２の各分岐点から延出する隔壁１２の数は、分岐点毎に異なる。
【０１２１】
本実施の形態では、基準パターンのピッチは、３００μｍである。ここで、「ピッチ」とは、隣接する単位パターンを重ねるべく移動させるのに必要な距離を意味している。
【０１２２】
本実施の形態では、隔壁１２のパターンは、前述の正六角形のハニカム状の基準パターンに一致するように仮形成される。次に、仮形成された隔壁１２のパターン（以下「仮形成パターン」という。）の少なくとも一部の分岐点について、当該分岐点を起点として所定距離の範囲内で変位させて、最終の隔壁のパターンを形成する。本実施の形態では、仮形成パターンの全ての分岐点について、当該分岐点を起点として所定距離の範囲内でランダムに変位させる。
【０１２３】
例えば、図１６（ａ）の仮形成パターンの分岐点Ｋは、図１７に示すように、前述の所定距離がＲ１の場合、中心がＫかつ半径がＲ１の円であって、外縁がＡ１で示される円で囲まれる領域内において変位される。
【０１２４】
分岐点Ｋが変位され得る範囲は、図１７に示すように、前述の所定距離が大きいほど大きい。本実施の形態では、分岐点Ｋは分岐点Ｋを起点として所定距離の範囲内でランダムに変位されるため、当該所定距離が大きいほど、分岐点Ｋのランダムな変位の程度が大きい。したがって、以下では、当該所定距離を、分岐点Ｋのランダムな変位の程度、すなわちランダム度を表す指標として用いる。
【０１２５】
図１８を参照して、前述の所定距離の違いによる、仮形成パターンの変形の程度の違いを説明する。
【０１２６】
図１８（ａ）は、仮形成パターンの分岐点が図１７に示す所定距離Ｒ１の範囲内でランダムに変位されることにより形成された最終の隔壁のパターンを示す図であり、図１８（ｂ）は、仮形成パターンの分岐点が図１７に示すランダム度Ｒ１よりも大きいランダム度Ｒ２の範囲内でランダムに変位されることにより形成された最終の隔壁のパターンを示す図である。また、図１８（ｃ）は、仮形成パターンの分岐点が図１７に示すランダム度Ｒ２よりも大きいランダム度Ｒ３の範囲内でランダムに変位されることにより形成された最終の隔壁のパターンを示す図であり、図１８（ｄ）は、仮形成パターンの分岐点が図１７に示すランダム度Ｒ３よりも大きいランダム度Ｒ４の範囲内でランダムに変位されることにより形成された最終の隔壁のパターンを示す図である。
【０１２７】
図１８（ａ）乃至図１８（ｄ）から分かるように、ランダム度が大きいほど、得られる最終の隔壁のパターンと、図１６（ａ）に示す周期的な基準パターンと、の違いが顕著になる。
【０１２８】
ここで、図１９及び図２０を参照して、モアレ現象の発現を効果的に抑制するための、分岐点Ｋの最低変位範囲について説明する。図１９は、モアレ現象の発現のメカニズムを説明するための図である。本件発明者による知見によれば、モアレ現象は、周期的なパターンで隔壁１２が形成されていることにより一方の基板１１側から他方の基板１６に向かう方向に見て、一方の基板１１上に視認される隔壁１２の周期的なパターン、あるいは、隔壁１２が光透過率の高い材料で形成されている場合には一方の基板１１に隔壁１２が形成する周期的なパターンの高透光率部分、が存在することと、他方の基板１６上に画素電極１６１が周期的なパターンで形成されていることにより、一方の基板１１側から他方の基板１６に向かう方向に見て、他方の基板１６上に画素電極１６１が形成する周期的なパターンの高反射率部分が存在することと、により生じる。すなわち、一方の基板１１の高透光率部分の周期的なパターンと他方の基板１６の高反射率部分の周期的なパターンとが、異なる周期及び回転ズレを伴って重なり合うことにより、一方の基板１１側から見て周期的な濃淡が発生し、これがモアレ現象の発現の原因となっていると考えられる。したがって、モアレ現象の発現を効果的に抑制するためには、このような周期的な濃淡の発生を抑制することができるように、隔壁１２のパターンの周期性が崩されている必要がある。
【０１２９】
図２０は、モアレ現象の発現を効果的に抑制するための隔壁１２の平均的な最低変位範囲を説明するための図である。
【０１３０】
まず、モアレ現象の発現を抑制する隔壁１２の平均的な最低変位範囲を考えるために、隔壁１２が互いに隣り合う画素電極１６１ａ及び１６１ｂの間の領域（画素電極間領域１６５）と重なり合う状態（図２０（ａ）参照）から当該間隙と重なり合わない状態（図２０（ｂ）参照）まで変位させるために必要な、隔壁１２の平均的な最低変位量について考える。具体的には、隔壁１２の線幅を等分する隔壁中心線ｌｗが、互いに隣り合う画素電極１６１ａ及び１６１ｂの間の画素電極間領域１６５の幅を等分する電極間中心線ｌｓと一致するような位置（図２０（ａ）参照）から、隔壁１２の一方の画素電極１６１ｂ側の縁部が他方の画素電極１６１ａの画素電極間領域１６５側の縁部と一致するような位置（図２０（ｂ）参照）まで変位させることができるような、隔壁１２の変位量について考える。
【０１３１】
隔壁１２の線幅がＷであり、画素電極間領域１６５の幅（互いに隣り合う画素電極１６１ａ及び１６１ｂの対向する縁部の距離）がＳであるとすると、隔壁１２の平均的な最低変位距離は、（Ｗ／２）＋（Ｓ／２）である。
【０１３２】
仮形成パターンで形成される隔壁に対して変位量（Ｗ／２）＋（Ｓ／２）で変位される隔壁１２が存在するように最終の隔壁１２のパターンが形成されれば、モアレ現象の発現を効果的に抑制することができる。したがって、少なくとも、仮形成パターンの分岐点のうち最も大きく変位された分岐点Ｋの変位によって当該分岐点Ｋを起点として延出される辺が変位量（Ｗ／２）＋（Ｓ／２）だけ変位されるように、当該分岐点Ｋの変位範囲、すなわちランダム度を、決定すればよい。
【０１３３】
次に、図２１乃至図２３を参照して、ザラツキムラの発生を効果的に抑制するための、分岐点Ｋの最大変位範囲、すなわちランダム度について説明する。
【０１３４】
まず、図２１を参照してザラツキムラの発生のメカニズムについて説明する。ザラツキムラは、表示媒体１３の電気応答性材料の濃度がセルによって大きく異なることに起因して生じる。表示媒体１３に含まれる電気応答性材料の粒径のバラツキが大きいと、表示媒体１３のセルへの封入方法によっては、表示媒体１３の電気応答性材料の濃度がセルによって大きく異なってしまうという現象が生じることがある。
【０１３５】
本実施の形態においては、セル内に気泡を発生させないように表示媒体１３を当該セル内に封入するために、後述の表示媒体配置工程において、セルの容積を超える量の表示媒体１３を一方の基板１１上に配置し、後述の対向基板配置工程において、図２１に示すように、基板１１，１６の一方の縁部から当該縁部に対向する他方の縁部に向けて（図２１のセルＡからセルＢの方向に）セルから余剰の表示媒体１３を追い出しながら、他方の基板１６が、一方の基板１１の隔壁１２の頂面上にラミネートされて貼り合わされる。この時、セルＡの余剰の表示媒体１３がセルＡとセルＢとの間の隔壁１２を乗り越えてセルＢの方向へ流れるが、当該隔壁１２の頂面と他方の基板１６との距離がある程度以下になると、粒径の大きな電気応答性材料は当該隔壁１２の頂面と他方の基板１６との間を通過することができなくなってしまい、セルＡからセルＢに流れる表示媒体１３の電気応答性材料の濃度は、平均的な電気応答性材料の濃度より低くなる。これにより、セルＡ内の表示媒体１３の電気応答性材料の濃度が変化する。
【０１３６】
セルＡにおける表示媒体１３中の電気応答性材料の濃度変化は、セルＡの容積、したがってセル面積が小さいほど大きい。また、セル間の表示媒体１３の電気応答性材料の濃度の違いが大きいほど、セル間の反射率や色変化速度などの違いが大きい。
【０１３７】
以上より、セル面積のバラツキが大きい表示パネルでは、図２２に示すようにセル毎の表示の濃淡のバラツキが大きくなってしまって、ザラツキムラが発生してしまうことがある。
【０１３８】
本件の明細書及び特許請求の範囲においては、セル面積のバラツキの大きさは、図２３を参照して、以下の式で表されるセル面積分布率により表される。
セル面積分布率（％）＝｛（Ｓ２−Ｓ１）／Ｓａ｝×１００
ここで、Ｓａは、セル面積の最頻値であり、Ｓ１は、セル面積Ｓａより小さく、セル面積Ｓａを有するセルの数をＮとした場合に、セル面積Ｓ１を有するセルの数がＮ／２となるようなセル面積であり、Ｓ２は、セル面積Ｓａより大きく、セル面積Ｓ２を有するセルの数がＮ／２となるようなセル面積である。
【０１３９】
そして、セル面積分布率は、本実施の形態においては、仮形成パターンの分岐点Ｋの変位範囲、すなわちランダム度、に依存する。図１８からも分かるように、例えばランダム度がＲ１の場合とランダム度がＲ４の場合とを比較すると、ランダム度がＲ４の場合の方がセル面積のバラツキが大きい。したがって、セル面積分布率は、ランダム度を制御することにより制御され得る。
【０１４０】
ここで、本件発明者が得た知見によれば、セル面積分布率が３８．４％未満であれば、ザラツキムラの発生が十分に抑制される。
【０１４１】
最終の隔壁のパターンを形成した後、最終の隔壁１２のパターンを構成する線を、隔壁１２の線幅を等分する隔壁中心線ｌｗとして、隔壁１２の輪郭線を決定する。すなわち、図２４に示すように、最終の隔壁のパターンの分岐点Ｋ'及びＫ１'を結ぶ隔壁中心線ｌｗ１  に平行な線であって隔壁中心線ｌｗ１  から一方の側にＷ／２（隔壁１２の線幅の半分の距離）だけ離れた線ｌｗ１  ａが、隔壁１２の当該一方の側の輪郭線として決定される。同様に、最終の隔壁のパターンの分岐点Ｋ'及びＫ２'を結ぶ隔壁中心線ｌｗ２  に平行な線であって隔壁中心線ｌｗ２  から当該一方の側にＷ／２だけ離れた線ｌｗ２  ａが、隔壁１２の当該一方の輪郭線として決定される。そして、線ｌｗ１  ａと線ｌｗ２  ａとの交点Ｋ'ａが、当該一方の側のセルの頂点として決定される。このようにして、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、互いの形状が異なる複数のセルを区画する隔壁１２の形状が決定される。図２５及び図２６は、本実施の形態の隔壁形成工程によって実際に形成された隔壁１２を示す平面図である。
【０１４２】
セルの開口率は、７０％以上が好ましく、特に９０％以上が好ましい。高開口率であるほど、表示可能エリアが広くなるため、高コントラストを得ることができる。本実施の形態では、コントラストと隔壁１２の強度の観点から、開口率は、８０％〜９８％の範囲内であることが好ましい。
【０１４３】
本実施の形態によれば、周期的なパターンで配列された複数の画素電極１６１に対して、隔壁１２の少なくとも一部が非周期的なパターンで形成されていることにより、両者の重なり具合、すなわち、両者のアライメント精度に拘わらず、モアレ現象の発現を抑制することができる。
【０１４４】
また、隔壁１２と透光性電極１１または一方の基板１１上の他の要素または一方の基板１１とは、互いに当接しており、隔壁１２と画素電極１６１または他方の基板１６上の他の要素または他方の基板１６とも、互いに当接している場合において、モアレ現象の発現の抑制効果が顕著である。この場合、隔壁１２の基板１１，１６等との当接面上を電気応答性材料が移動できないようになっているため、隔壁１２のパターンの視認性が低減されることが無く、従来、モアレ現象の発現が実用上問題となってしまうことがあった。しかしながら、本実施の形態の反射型表示装置においては、当該隔壁１２の基板１１，１６等と当接面上を電気応答性材料が移動できないようになっているものの、隔壁１２の少なくとも一部が非周期的なパターン、すなわち画素電極１６１の周期的なパターンに対してモアレ現象の発現を抑制するようなパターン、で形成されているため、モアレ現象の発現が顕著に抑制される。
【０１４５】
また、隔壁１２によって区画された複数のセルの開口率が、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て各画素電極１６１に対応する領域において、８０％〜９８％であるため、表示エリアが広くなって高コントラストを得ることができ、且つ、十分に高い隔壁１２強度を確保し得る。
【０１４６】
また、隔壁１２の各分岐点から延出する隔壁１２の数が３である。したがって、１つの分岐点から延出する隔壁１２の数が多過ぎて接着層形成工程において当該分岐点の隔壁頂面上に接着材２２が厚く盛られてしまう虞が低減され、厚く盛られた接着材２２１が対向基板配置工程において他方の基板１６上を隔壁１２の幅を大きく超えて拡がってセルの開口率を低下させる、という虞も低減される。なお、本実施の形態の隔壁１２のパターンのようにハニカムパターンに類似のパターンでは隔壁の各分岐点から延出する隔壁の数は３であるが、格子パターンに類似のパターンでは、隔壁の各分岐点から延出する隔壁の数は４である。この場合も、１つの分岐点から延出する隔壁１２の数が多過ぎて接着層形成工程において当該分岐点の隔壁頂面上に接着材２２が厚く盛られてしまう、という虞が低減されるため、当該厚く盛られた接着材２２１がセルの開口率を低下させる、という虞も低減される。もっとも、隔壁１２のパターンとしては、ハニカムパターンに類似のパターンと格子パターンに類似のパターンとが混合したようなパターンが採用されてもよく、その場合には、隔壁の各分岐点から延出する隔壁の数は、分岐点毎に異なる。
【０１４７】
また、一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見て、隔壁１２の少なくとも一部の分岐点は、同一形状の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっていない。このような隔壁１２のパターンは、少なくとも当該分岐点の近傍の領域において非周期的なパターンとなっている一方で、隔壁によって区画された複数のセルの開口率を所望に調整することが容易である。
【０１４８】
＜反射型表示装置の製造方法３−２＞
図２７は、本発明の第３−２の実施の形態による反射型表示装置の製造方法における、一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見た隔壁１２のパターンの形成方法を説明するための図である。
【０１４９】
本実施の形態における反射型表示装置の製造方法は、第３−１の実施の形態による反射型表示装置の製造方法に対して、隔壁形成工程における一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見た隔壁１２のパターンの形成方法が異なるのみであり、その他の工程は、略同一である。
【０１５０】
図２７を参照して、本実施の形態の隔壁形成工程における一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見た隔壁１２のパターンの形成方法について、説明する。
【０１５１】
まず、図１６に示すような同一形状の単位パターンが規則的に配列されてなる基準パターンが用意される。本実施の形態においては、基準パターンは、図１６（ａ）に示す正六角形のハニカムパターンである。基準パターンのピッチは、３００μｍである。
【０１５２】
次に、基準パターンに対応するピッチ、すなわち３００μｍのピッチを有する格子パターンが用意される。本実施の形態では、当該格子パターンは、正方格子パターンである。次に、当該正方格子パターンの各格子点と、基準パターンの各分岐点Ｋ，Ｋ１，Ｋ２，・・，Ｋ６と、を関連づける。そして、正方格子パターンの各行ないし各列を当該行の方向ないし列の方向に拡大ないし縮小させることにより当該正方格子パターンの格子点を移動させると共に、当該格子点の移動に対応させて当該格子点に関連づけられた各分岐点Ｋ，Ｋ１，Ｋ２，・・，Ｋ６をも移動させる。図２７は、正方格子パターンの各格子点の移動に対応させて移動された基準パターンの分岐点Ｋ，Ｋ１，Ｋ２，・・，Ｋ６の移動後の位置を示す図である。
【０１５３】
本実施の形態では、正方格子パターンの図２７のｘ軸方向（行方向）の拡大ないし縮小は、所定距離の範囲内においてランダムになされる。同様に、正方格子パターンの図２７のｙ軸方向（列方向）の拡大ないし縮小も、所定距離の範囲内においてランダムになされる。本実施の形態では、正方格子パターンの行方向及び列方向の拡大ないし縮小による各格子線の最大変位を５０μｍとする。
【０１５４】
次に、このようにして行方向ないし列方向に拡大ないし縮小された正方格子パターンの格子点の移動に対応させて、基準パターンの各分岐点Ｋ，Ｋ１，Ｋ２，・・，Ｋ６が移動され、各分岐点Ｋ，Ｋ１，Ｋ２，・・，Ｋ６の移動後の位置が、隔壁１２の分岐点Ｋ'，Ｋ１'，Ｋ２'，・・，Ｋ６'の位置として決定される。
【０１５５】
例えば、図２７に示すように、図１６（ａ）の分岐点Ｋ６が格子点ｐ４３及びｐ５３に関連付けられ、格子点ｐ４３及びｐ５３の変位後の位置ベクトルがそれぞれ（ｘ３  ，ｙ４  ）及び（ｘ３  ，ｙ５  ）である場合、当該分岐点Ｋ６は、当該分岐点Ｋ６の変位後の点の位置ベクトル、すなわち図２７の点Ｋ６'の位置ベクトルが（ｘ３，ｙａ  ）となるように変位される。ここで、ｙａ  は、
（ｙ５  −ｙａ  ）：（ｙａ  −ｙ４  ）＝√３：１を満たす値である。
【０１５６】
また、図１６（ａ）の分岐点Ｋ２が格子点ｐ５２及びｐ５３に関連付けられ、格子点ｐ５２の変位後の位置ベクトルがそれぞれ（ｘ２  ，ｙ５  ）及び（ｘ３  ，ｙ５  ）である場合、当該分岐点Ｋ２は、当該分岐点Ｋ２の変位後の点の位置ベクトル、すなわち図２７の点Ｋ２'の位置ベクトルが（（ｘ２  ＋ｘ３  ）／２，ｙｂ  ）となるように変位される。ここで、ｙｂ  は、
（ｙ５  −ｙｂ  ）：（ｙｂ  −ｙ４ ）＝１：２を満たす値である。
【０１５７】
次に、隔壁１２の各分岐点Ｋ'，Ｋ１'，Ｋ２'，・・，Ｋ６'の位置として決定された位置を隔壁１２の分岐点Ｋ'，Ｋ１'，Ｋ２'，・・，Ｋ６'の位置として、隔壁１２の各分岐点Ｋ'，Ｋ１'，Ｋ２'，・・，Ｋ６'から延出する複数の分岐延出部１２２を有する分岐パターン部１２１を位置決めし、分岐パターン部１２１の分岐延出部１２２の端部１２３の間に接続部１２４を位置決めする。
【０１５８】
このようにして形成された隔壁１２のパターンは、画素電極１６１の周期的なパターンに対してモアレ現象を発生させる虞が低い。
【０１５９】
＜反射型表示装置の製造方法３−３＞
本実施の形態における反射型表示装置に製造方法は、第３−１及び第３−２の実施の形態による反射型表示装置の製造方法に対して、隔壁形成工程における一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見た隔壁１２の形状の決定方法が異なるのみであり、その他の工程は、略同一である。
【０１６０】
本実施の形態の隔壁形成工程における一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見た隔壁１２の形状の決定方法について、説明する。
【０１６１】
まず、図１６に示すような同一形状の単位パターンが規則的に配列されてなる基準パターンを用意する。本実施の形態においては、基準パターンは、図１６（ａ）に示す正六角形のハニカムパターンである。基準パターンのピッチは、３００μｍである。
【０１６２】
次に、基準パターンに対応するピッチ、すなわち３００μｍのピッチを有する格子パターンを用意する。本実施の形態では、当該格子パターンは、正方格子パターンである。次に、当該正方格子パターンの各格子点と、基準パターンの各分岐点と、を関連づける。そして、正方格子パターンの各行ないし各列を当該行の方向ないし列の方向に拡大ないし縮小させることにより当該正方格子パターンの格子点を移動させると共に、当該格子点の移動に対応させて当該格子点に関連づけられた各分岐点をも移動させて、図２７に示すような第２基準パターンを形成する。
【０１６３】
次に、当該第２基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲Ｒｍａｘ  内に隔壁１２の分岐点Ｋ'，Ｋ１'，Ｋ２'，・・，Ｋ６'を位置決めする。
【０１６４】
次に、このようにして位置決めされた隔壁１２の分岐点Ｋ'，Ｋ１'，Ｋ２'，・・，Ｋ６'に、当該分岐点Ｋ'，Ｋ１'，Ｋ２'，・・，Ｋ６'から延出する複数の分岐延出部１２２を有する分岐パターン部１２１を位置決めし、分岐パターン部１２１の分岐延出部１２２の端部１２３の間に接続部１２４を位置決めする。
【０１６５】
このようにして形成された隔壁１２のパターンは、画素電極１６１の周期的なパターンに対してモアレ現象を発生させる虞が低い。  
次に、実際に行われた実施例について説明する。
【０１６６】
＜反射型表示装置の実施例＞
＜実施例３−１＞
一方の基板１１として、３００ｍｍ×４００ｍｍ×厚さ０．１ｍｍのＰＥＴ基板（東洋紡Ａ４１００）の一方の面に透光性電極１１１として酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）蒸着膜（厚さ０．２μｍ）が設けられた基板が用意された。透光性電極１１１は、スパッタリング、真空蒸着法、ＣＶＤ法などの一般的な成膜方法によって形成され、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の他に、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等によっても形成され得る。
【０１６７】
次に、当該一方の基板１１に、ネガ型感光性樹脂材料（デュポンＭＲＣドライフィルムレジスト（株）製のドライフィルムレジスト）を２０μｍの厚さにラミネートして１００℃、１分間の条件で加熱し、次いで露光マスクを使用して露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ２  ）し、その後、１％ＫＯＨ水溶液を用いた現像を３０秒行い、２００℃、６０分間の条件で焼成することで、線幅が２０μｍの隔壁１２が形成された。隔壁１２のパターンは、正六角形のハニカムパターン（ピッチ３００μｍ）を基準パターンとして仮形成された仮形成パターンの全ての分岐点についてランダムに変位させることにより、図１８（ｂ）に示すパターンのように形成された。隔壁１２頂面の幅は、２０μｍであった。隔壁１２によって区画されたセルの、平均的なセルの直径は３００μｍであり、セル面積分布率は２６．８％であった。ここで、セルの直径は、隣り合うセル間におけるセル中心間の距離として定義される。また、各セルのセル中心の位置は、当該セルが六角形であれば、当該セルの６つの頂点の座標を平均することにより求められる。
【０１６８】
そして、転写フィルム基材２１として厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２１（帝人・デュポン社製）が用いられ、これにヒートシール剤２２１（東洋紡製バイロン６３０）が厚さ２０μｍでダイコータにて塗布され、乾燥された。これにより、１０μｍの接着層を有するロール状の転写シート２０が作製された。なお、ヒートシール剤２２１の軟化温度は約１１０℃であった。
【０１６９】
そして、転写シート２０の上に、一方の基板１１が、その隔壁１２が形成されている側の面を下にした状態で載せられ、この状態で、１ｋＰａ程度の押圧力で常温でラミネートされた。その後、ヒートシール剤２２１の周辺がその軟化温度を超える温度、例えば１３０℃程度にまで加熱され、その状態で一方の基板１１が、転写フィルム２０から剥離された。その結果、ヒートシール剤２２１が隔壁１２の頂面の全面に熱転写された。隔壁１２の頂面からヒートシール剤２２１の頭頂部までの高さは、約７μｍであった。
【０１７０】
続いて、表示媒体として、以下の成分を有するインキ１３が用いられ、ディスペンサ３１から滴下されて、中央スキージ３２（ニューロング製のスキージ１：ウレタン樹脂製）にてスキージ処理されて、各セル内に充填された。基板幅方向にはみ出した余剰インキは、別の両端スキージ３３ａ、３３ｂ（ニューロング製のスキージ２：ウレタン樹脂製）にて掻き取られ、さらにロールワイパ３４にて拭き取られた。  
＜インキ成分＞
・電気泳動粒子（二酸化チタン）・・・６０重量部
・分散液                     ・・・４０重量部
【０１７１】
続いて、隔壁パターン外周の一部（２ｍｍ×２ｍｍの正方形領域）に、銀ペースト（藤倉化成製）がディスペンサ４１によって点塗布された。
【０１７２】
次いで、他方の基板１６として、３００ｍｍ×４００ｍｍ×厚さ０．５ｍｍの無アルカリガラス（日本電気硝子製ＯＡ−１０Ｇ）の一方の面に、２００μｍ×２００μｍの正方形電極が６００個×８００個、行列方向に整列されて成るアモルファスＴＦＴアクティブマトリックスが設けられた基板が用意された。アモルファスＴＦＴアクティブマトリックスは、液晶ディスプレイなどで一般的に用いられているものであり、正方形電極の材質は、アルミニウム合金であった。
【０１７３】
そして、大気中にて、一方の基板１１の隔壁１２上の接着層２２の上に他方の基板１６を重ね合わせて、ラミネータ９１で一定の熱圧着圧力をさらに付与しつつ、隔壁１２内のセル容積を超える余剰のインクを押し出しながら、一方の基板１１の隔壁１２と他方の基板１６とが密着された。
【０１７４】
熱圧着時の温度は、ヒートシール剤２２１の軟化点または融点付近の温度であって、インクの蒸発が促進しない温度が好ましく、８０℃〜１５０℃、好ましくは８０℃〜９０℃であり、本実施例では８０℃であった。また、熱圧着圧力は、０．０１ＭＰａ〜０．７ＭＰａが好ましく、特には０．１ＭＰａ〜０．４ＭＰａが好ましく、本実施例では０．３ＭＰａであった。
【０１７５】
その後、断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され、両方の基板１１，１６の周辺にディスペンサ（不図示）を用いて紫外線硬化樹脂（イー・エッチ・シー（株）製：ＬＣＢ−６１０）を塗工して封止し、紫外線を露光（露光量７００ｍＪ／ｃｍ２  ）して硬化させた（外周封止処理）。以上により表示パネルが作製された。
【０１７６】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなく、セル間の粒子濃度も一様でありザラツキムラはなかった。
【０１７７】
＜比較例３−１＞
前記実施例３−１に対して、隔壁１２のパターンを正六角形の単位パターンを規則的に配列してなるハニカム状のパターン（ピッチ３００μｍ）とし、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。
【０１７８】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したところ、モアレ現象によるムラが発生した。
【０１７９】
＜実施例３−２＞
前記実施例３−１に対して、隔壁１２のパターンを、正方形の単位パターンを規則的に配列してなる正方格子状の基準パターン（ピッチ３００μｍ）に基づいて仮形成し、当該仮形成されたパターンの全ての分岐点についてランダムに変位させることにより図２８に示すパターンとし、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。
【０１８０】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。
【０１８１】
＜比較例３−２＞
前記実施例３−２に対して、隔壁１２のパターンを、図２９に示す正方形の単位パターンを規則的に配列してなる正方格子状のパターン（ピッチ３００μｍ）とし、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。
【０１８２】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したところ、モアレ現象によるムラが発生した。
【０１８３】
＜比較例３−３＞
前記実施例３−１に対して、隔壁１２のパターンを、図３０に示すペンローズパターン（辺の長さ１００μｍ）とし、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。
【０１８４】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したところ、モアレ現象によるムラが発生した。また、隔壁１２の分岐点から延出される隔壁１２の数が５以上の分岐点付近において、隔壁１２上に形成された接着層２２が他方の基板１６上を当該隔壁１２の幅を大きく超えて拡がっており、セルの開口率を低下させていた。
【符号の説明】
【０１８５】
１１  一方の基板
１１１  透光性電極
１２  隔壁
１２５  隔壁の基準軸
１３  インキ（表示媒体）
１６  他方の基板
１６１  画素電極
１６５  画素電極の基準軸
２２  接着層
２２１  ヒートシール剤
３１  ディスペンサ
３２  アプリケータ
５１  断裁装置
９１  ラミネータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図１３】
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【図２２】
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