(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光部と該発光部から発生された光に指向性をもたせて射出する反射光学系をそれぞれ含む複数の光源部と、
所定数の前記光源部をそれぞれ取り付け可能なカセットと、
を備え、
前記カセットには、その前面側外周縁に沿って複数の放熱フィンが設けられ、且つ、前記光源部と重ならない位置において前記カセットの内部と外部とを連通する複数の冷却孔が設けられ、
前記カセットには、前記冷却孔と連通するように、冷却媒体を導入するための冷却管が密封部材を介して接続されている
ことを特徴とする露光装置用光照射装置。
【請求項２】
複数の前記カセットを取り付け可能な支持体を備え、
該支持体には、その前面側外周縁に沿って複数の他の放熱フィンがさらに設けられる
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置用光照射装置。
【請求項３】
前記各冷却孔の断面積は、２００ｍｍ２〜５００ｍｍ２である
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置用光照射装置。
【請求項４】
前記冷却媒体は水である
ことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の露光装置用光照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置用光照射装置に関し、より詳細には、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを露光転写する露光装置に適用可能な露光装置用光照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、フラットパネルディスプレイ装置のカラーフィルタ等のパネルを製造する装置として、近接露光装置、スキャン露光装置、投影露光装置、ミラープロジェクション、密着式露光装置などの種々の露光装置が考案されている。例えば、分割逐次近接露光装置では、基板より小さいマスクをマスクステージで保持すると共に、基板をワークステージで保持して両者を近接して対向配置した後、ワークステージをマスクに対してステップ移動させて各ステップ毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射することにより、マスクに描かれた複数のパターンを基板上に露光転写して、一枚の基板に複数のパネルを製作する。また、スキャン露光装置では、一定速度で搬送されている基板に対して、露光用の光をマスクを介して照射し、基板上にマスクのパターンを露光転写する。
【０００３】
近年、ディスプレイ装置は次第に大型化されつつあるため、露光装置においても露光領域の拡大が求められ、使用される光源部の出力も高める必要がある。このため、照明光学系として、複数の光源部を用いて（所謂、マルチランプ）、光源全体の出力を高めるようにしたものが知られている。
【０００４】
しかしながら、露光装置用の光源部として一般的に用いられる超高圧水銀ランプは、点灯時に熱源ともなる。したがって、多数の光源部を一斉に点灯した場合、光源部や、光源部が取り付けられるカセット及び支持体などが熱せられ、光照射装置の冷却が不十分となる虞がある。
【０００５】
そこで、マルチランプ式の光照射装置の冷却を行うために、例えば、特許文献１〜３に記載された技術を適用することが考えられる。
【０００６】
特許文献１の光照射装置には、光源ユニットを冷却する冷却手段として、冷却風取り入れ口が設けられ、冷却ファンにより、ランプ等を冷却する風が光源ユニット内に引き込まれることが記載されている。
特許文献２の光照射装置には、光源が、光出射口を有する支持体に互いに離間して固定され、離間する各光源間に隣接する光源への光を遮断する隔離壁を設け、冷却媒体を流通させるための流路を備えた冷却ブロックを隔離壁に当接させることが記載されている。
特許文献３の光照射器には、シャッタミラー全体の冷却効率を上げるために、ミラー保持枠のミラーに複数の放熱用の冷却フィンが設けられることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−２７８９０７号公報
【特許文献２】特開２００６−３２４４３５号公報
【特許文献３】特開２００６−４３６４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１の光照射装置によれば、冷却手段としての部品が多いため、ランプの交換に時間がかかるという問題があった。
また、特許文献２の光照射装置によれば、それぞれの光源を冷却する効果を十分に得ることができない。
また、特許文献３の光照射器によれば、ミラーに冷却フィンが設けられている構造のため、ランプの交換に時間がかかる虞があった。
【０００９】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、光源部の交換が簡易であり、且つ冷却効率を高めることができる露光装置用光照射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  発光部と該発光部から発生された光に指向性をもたせて射出する反射光学系をそれぞれ含む複数の光源部と、
所定数の前記光源部をそれぞれ取り付け可能なカセットと、
を備え、
前記カセットには、その前面側外周縁に沿って複数の放熱フィンが設けられ、且つ、前記光源部と重ならない位置において前記カセットの内部と外部とを連通する複数の冷却孔が設けられ、
前記カセットには、前記冷却孔と連通するように、冷却媒体を導入するための冷却管が密封部材を介して接続されている
ことを特徴とする露光装置用光照射装置。
（２）  複数の前記カセットを取り付け可能な支持体を備え、
該支持体には、その前面側外周縁に沿って複数の他の放熱フィンがさらに設けられる
ことを特徴とする（１）に記載の露光装置用光照射装置。
（３）  前記各冷却孔の断面積は、２００ｍｍ２〜５００ｍｍ２である
ことを特徴とする（１）又は（２）に記載の露光装置用光照射装置。
（４）  前記冷却媒体は水である
ことを特徴とする（１）〜（３）の何れか１項に記載の露光装置用光照射装置。
【発明の効果】
【００１１】
上記（１）の露光装置用光照射装置によれば、所定数の光源部がそれぞれ取り付け可能なカセットに、その前面側外周縁に沿って複数の放熱フィンが設けられるため、光源部の熱をカセットの放熱フィンを介して放熱することができ、冷却効率を高めることが可能となる。また、従来の特許文献３とは異なり、光源部の反射鏡に放熱フィンを設ける構造ではないので、光源部の交換が簡易となる。
【００１２】
上記（２）の露光装置用光照射装置によれば、複数のカセットを取り付け可能な支持体を備え、支持体には、その前面側外周縁に沿って複数の他の放熱フィンがさらに設けられるため、支持体の放熱フィンを介して放熱することができる。したがって、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。
【００１３】
上記（１）の露光装置用光照射装置によれば、カセットの内部と外部とを連通する複数の冷却孔が設けられるため、この冷却孔を介してエアの吸排気が行われ、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。
【００１４】
上記（３）の露光装置用光照射装置によれば、各冷却孔の断面積は２００ｍｍ２〜５００ｍｍ２であるため、エアの吸排気が効率良く行われ、光照射装置の冷却効率をさらに高
めることが可能となる。
【００１６】
上記（１）の露光装置用光照射装置によれば、カセットには、冷却孔と連通するように、冷却媒体を導入するための冷却管が密封部材を介して接続されているので、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。さらに、冷却管は、密封部材を介してカセットに密封接続されるので、冷却媒体が外部に漏洩することがなく、クリーンルームが汚染されることを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の第１実施形態に係る分割逐次近接露光装置を説明するための一部分解視図である。
【図２】図１に示す分割逐次近接露光装置の正面図である。
【図３】マスクステージの断面図である。
【図４】（ａ）は、照明光学系の光照射装置を示す正面図であり、（ｂ）は（ａ）のＩＶ−ＩＶ線に沿った断面図であり、（ｃ）は、（ａ）のＩＶ´−ＩＶ´線に沿った断面図である。
【図５】（ａ）は、カセットを示す正面図であり、（ｂ）は（ａ）のＶ方向から見た断面図であり、（ｃ）は、（ａ）のＶ´方向から見たカセットの断面図をインテグレータレンズとともに示す図である。
【図６】カセットに取り付けられた光源部近傍の拡大断面図である。
【図７】カセットの斜視図である。
【図８】カセットが支持体に取り付けられた状態を示す要部拡大図である。
【図９】各光源部の出射面からインテグレータレンズの入射面までの距離を示す概略図である。
【図１０】エアにより各光源部を冷却する構造の一例を示す図である。
【図１１】（ａ）〜（ｃ）は、カセット押さえカバーに形成された排気孔の例を示す図である。
【図１２】（ａ）、（ｂ）は、冷媒により各光源部を冷却する冷却路の設計例を示す図である
【図１３】各光源部の制御構成を示すための図である。
【図１４】寿命時間検出手段を説明するための図である。
【図１５】他のカセットの斜視図である。
【図１６】第２実施形態の照明光学系の光照射装置を示す要部拡大図である。
【図１７】冷却管と冷却孔とが連通している状態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明に係る露光装置用光照射装置の各実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１９】
（第１実施形態）
先ず、本実施形態の露光装置用光照射装置が適用される分割逐次近接露光装置について説明する。図１及び図２に示すように、第１実施形態の分割逐次近接露光装置ＰＥは、マスクＭを保持するマスクステージ１０と、ガラス基板（被露光材）Ｗを保持する基板ステージ２０と、パターン露光用の光を照射する照明光学系７０と、を備えている。
【００２０】
なお、ガラス基板Ｗ（以下、単に「基板Ｗ」と称する。）は、マスクＭに対向配置されており、このマスクＭに描かれたパターンを露光転写すべく表面（マスクＭの対向面側）に感光剤が塗布されている。
【００２１】
マスクステージ１０は、中央部に矩形形状の開口１１ａが形成されるマスクステージベース１１と、マスクステージベース１１の開口１１ａにＸ軸，Ｙ軸，θ方向に移動可能に装着されるマスク保持部であるマスク保持枠１２と、マスクステージベース１１の上面に設けられ、マスク保持枠１２をＸ軸，Ｙ軸，θ方向に移動させて、マスクＭの位置を調整するマスク駆動機構１６と、を備える。
【００２２】
マスクステージベース１１は、装置ベース５０上に立設される支柱５１、及び支柱５１の上端部に設けられるＺ軸移動装置５２によりＺ軸方向に移動可能に支持され（図２参照。）、基板ステージ２０の上方に配置される。
【００２３】
図３に示すように、マスクステージベース１１の開口１１ａの周縁部の上面には、平面ベアリング１３が複数箇所配置されており、マスク保持枠１２は、その上端外周縁部に設けられるフランジ１２ａを平面ベアリング１３に載置している。これにより、マスク保持枠１２は、マスクステージベース１１の開口１１ａに所定のすき間を介して挿入されるので、このすき間分だけＸ軸，Ｙ軸，θ方向に移動可能となる。
【００２４】
また、マスク保持枠１２の下面には、マスクＭを保持するチャック部１４が間座１５を介して固定されている。このチャック部１４には、マスクＭのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数の吸引ノズル１４ａが開設されており、マスクＭは、吸引ノズル１４ａを介して図示しない真空式吸着装置によりチャック部１４に着脱自在に保持される。また、チャック部１４は、マスク保持枠１２と共にマスクステージベース１１に対してＸ軸，Ｙ軸，θ方向に移動可能である。
【００２５】
マスク駆動機構１６は、マスク保持枠１２のＸ軸方向に沿う一辺に取り付けられる２台のＹ軸方向駆動装置１６ｙと、マスク保持枠１２のＹ軸方向に沿う一辺に取り付けられる１台のＸ軸方向駆動装置１６ｘと、を備える。
【００２６】
Ｙ軸方向駆動装置１６ｙは、マスクステージベース１１上に設置され、Ｙ軸方向に伸縮するロッド１６ｂを有する駆動用アクチュエータ（例えば、電動アクチュエータ等）１６ａと、ロッド１６ｂの先端にピン支持機構１６ｃを介して連結されるスライダ１６ｄと、マスク保持枠１２のＸ軸方向に沿う辺部に取り付けられ、スライダ１６ｄを移動可能に取り付ける案内レール１６ｅと、を備える。なお、Ｘ軸方向駆動装置１６ｘも、Ｙ軸方向駆動装置１６ｙと同様の構成を有する。
【００２７】
そして、マスク駆動機構１６では、１台のＸ軸方向駆動装置１６ｘを駆動させることによりマスク保持枠１２をＸ軸方向に移動させ、２台のＹ軸方向駆動装置１６ｙを同等に駆動させることによりマスク保持枠１２をＹ軸方向に移動させる。また、２台のＹ軸方向駆動装置１６ｙのどちらか一方を駆動することによりマスク保持枠１２をθ方向に移動（Ｚ軸回りの回転）させる。
【００２８】
さらに、マスクステージベース１１の上面には、図１に示すように、マスクＭと基板Ｗとの対向面間のギャップを測定するギャップセンサ１７と、チャック部１４に保持されるマスクＭの取り付け位置を確認するためのアライメントカメラ１８と、が設けられる。これらギャップセンサ１７及びアライメントカメラ１８は、移動機構１９を介してＸ軸，Ｙ軸方向に移動可能に保持され、マスク保持枠１２内に配置される。
【００２９】
また、マスク保持枠１２上には、図１に示すように、マスクステージベース１１の開口１１ａのＸ軸方向の両端部に、マスクＭの両端部を必要に応じて遮蔽するアパーチャブレード３８が設けられる。このアパーチャブレード３８は、モータ、ボールねじ、及びリニアガイド等からなるアパーチャブレード駆動機構３９によりＸ軸方向に移動可能とされて、マスクＭの両端部の遮蔽面積を調整する。なお、アパーチャブレード３８は、開口１１ａのＸ軸方向の両端部だけでなく、開口１１ａのＹ軸方向の両端部に同様に設けられている。
【００３０】
基板ステージ２０は、図１及び図２に示すように、基板Ｗを保持する基板保持部２１と、基板保持部２１を装置ベース５０に対してＸ軸，Ｙ軸，Ｚ軸方向に移動する基板駆動機構２２と、を備える。基板保持部２１は、図示しない真空吸着機構によって基板Ｗを着脱自在に保持する。基板駆動機構２２は、基板保持部２１の下方に、Ｙ軸テーブル２３、Ｙ軸送り機構２４、Ｘ軸テーブル２５、Ｘ軸送り機構２６、及びＺ−チルト調整機構２７と、を備える。
【００３１】
Ｙ軸送り機構２４は、図２に示すように、リニアガイド２８と送り駆動機構２９とを備えて構成され、Ｙ軸テーブル２３の裏面に取り付けられたスライダ３０が、装置ベース５０上に延びる２本の案内レール３１に転動体（図示せず）を介して跨架されると共に、モータ３２とボールねじ装置３３とによってＹ軸テーブル２３を案内レール３１に沿って駆動する。
【００３２】
なお、Ｘ軸送り機構２６もＹ軸送り機構２４と同様の構成を有し、Ｘ軸テーブル２５をＹ軸テーブル２３に対してＸ方向に駆動する。また、Ｚ−チルト調整機構２７は、くさび状の移動体３４，３５と送り駆動機構３６とを組み合わせてなる可動くさび機構をＸ方向の一端側に１台、他端側に２台配置することで構成される。なお、送り駆動機構２９，３６は、モータとボールねじ装置とを組み合わせた構成であってもよく、固定子と可動子とを有するリニアモータであってもよい。また、Ｚ−チルト調整機構２７の設置数は任意である。
【００３３】
これにより、基板駆動機構２２は、基板保持部２１をＸ方向及びＹ方向に送り駆動するとともに、マスクＭと基板Ｗとの対向面間のギャップを微調整するように、基板保持部２１をＺ軸方向に微動且つチルト調整する。
【００３４】
基板保持部２１のＸ方向側部とＹ方向側部にはそれぞれバーミラー６１，６２が取り付けられ、また、装置ベース５０のＹ方向端部とＸ方向端部には、計３台のレーザー干渉計６３，６４，６５が設けられている。これにより、レーザー干渉計６３，６４，６５からレーザー光をバーミラー６１，６２に照射し、バーミラー６１、６２により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー６１，６２により反射されたレーザー光との干渉を測定して基板ステージ２０の位置を検出する。
【００３５】
図２、及び図４〜図６に示すように、照明光学系７０は、発光部としての超高圧水銀ランプ７１と、このランプ７１から発生された光に指向性をもたせて射出する反射光学系としての反射鏡７２と、をそれぞれ含む複数の光源部７３と、複数の光源部７３のうち、所定数の光源部７３をそれぞれ取り付け可能な複数のカセット８１と、複数のカセット８１を取り付け可能な支持体８２と、を備える光照射装置８０を有する。また、光照射装置８０は、複数の光源部７３から射出された光束が入射されるインテグレータレンズ７４と、各光源部７３のランプ７１の点灯と消灯の切り替えを含む電圧制御可能な光学制御部７６と、インテグレータレンズ７４の出射面から出射された光を反射して、略平行光（より詳細には、所定の照射角度であるコリメーション角を有する光）に変換するコリメーションミラー７７と、複数の光源部７３とインテグレータレンズ７４との間に配置されて照射された光を透過・遮断するように開閉制御する露光制御用シャッター７８と、を備える。なお、インテグレータレンズ７４と露光面との間には、ＤＵＶカットフィルタ、偏光フィルタ、バンドパスフィルタが配置されてもよく、また、コリメーションミラー７７には、ミラーの曲率を手動または自動で変更可能なデクリネーション角補正手段が設けられてもよい。また、インテグレータレンズ７４は、同じ光学機構を持って縦横に配列された複数のレンズエレメントを構成するフライアイインテグレータであってもよいが、ロッドインテグレータであってもよい。また、ランプ７１の発光部としては、超高圧水銀ランプ７１の代わりに、ＬＥＤが適用されてもよい。
【００３６】
なお、照明光学系７０において、１６０Ｗの超高圧水銀ランプ７１を使用した場合、第６世代のフラットパネルを製造する露光装置では３７４個の光源部、第７世代のフラットパネルを製造する露光装置では５７２個の光源部、第８世代のフラットパネルを製造する露光装置では、７７４個の光源部が必要とされる。但し、本実施形態では、説明を簡略化するため、図４に示すように、α方向に３段、β方向に２列の計６個の光源部７３が取り付けられたカセット８１を３段×３列の計９個配した、５４個の光源部７３を有するものとして説明する。なお、本実施形態の光源部７３では、反射鏡７２の開口部７２ａが略正方形形状に形成されており、四辺がα、β方向に沿うように配置されている。
【００３７】
各カセット８１は、所定数の光源部７３を支持する光源支持部８３と、光源支持部８３に支持された光源部７３を押さえて、該光源支持部８３に取り付けられる凹状のランプ押さえカバー８４と、を備えた略直方体形状に形成されており、それぞれ同一構成を有する。
【００３８】
光源支持部８３には、光源部７３の数に対応して設けられ、光源部７３からの光を発光する複数の窓部８３ａと、該窓部８３ａのカバー側に設けられ、反射鏡７２の開口部７２ａ（又は、反射鏡７２が取り付けられる反射鏡取り付け部の開口部）を囲うランプ用凹部８３ｂと、隣接する窓部８３ａの間や窓部８３ａの周囲に設けられ、光源支持部８３の板厚方向に貫通し、カセット８１の内部と外部とを連通する複数の冷却孔８３ｃと、が形成される。また、該窓部８３ａの反カバー側には、複数のカバーガラス８５がそれぞれ取り付けられている。カバーガラス８５は、それぞれのカバーガラス８５の対角線上に設けられた座金状のカバーガラス押え１００によって押えられている（図５（ａ）及び図７参照）。なお、カバーガラス８５の取り付けは任意であり、設けられなくてもよい。
【００３９】
図７に示すように、カセット８１の光源支持部８３には、その前面側外周縁８３ｄに沿って、冷却孔８３ｃ及びカバーガラス押え１００を避けるように、複数の放熱フィン１０１が設けられている。各放熱フィン１０１は、光源支持部８３の前面から前側に突出するように略直方体形状に形成されている。
【００４０】
各ランプ用凹部８３ｂの底面は、光源部７３の光を照射する照射面（ここでは、反射鏡７２の開口面７２ｂ）と、光源部７３の光軸Ｌとの交点ｐが、各α、β方向において単一の曲面、例えば、球面ｒ上に位置するように、平面又は曲面（本実施形態では、平面）に形成される。
【００４１】
ランプ押さえカバー８４の底面には、光源部７３の後部に当接する当接部８６が設けられており、各当接部８６には、モータやシリンダのようなアクチュエータ、ばね押さえ、ねじ止め等によって構成されるランプ押さえ機構８７が設けられている。これにより、各光源部７３は、反射鏡７２の開口部７２ａを光源支持部８３のランプ用凹部８３ｂに嵌合させ、ランプ押さえカバー８４を光源支持部８３に取り付け、ランプ押さえ機構８７によって光源部７３の後部を押さえつけることで、カセット８１に位置決めされる。
【００４２】
従って、図５（ｃ）に示すように、カセット８１に位置決めされた所定数の光源部７３の光が照射する各照射面と、全ての光源部７３から照射される光のうち、略８０％〜１００％の光が入射されるインテグレータレンズ７４の入射面までの各主光軸Ｌの距離が略一定となる。また、光源支持部８３とランプ押さえカバー８４との間の収納空間内では、隣接する光源部７３の反射鏡７２の背面７２ｃは直接対向しており、光源部７３、ランプ押さえ機構８７等以外には該収納空間内の空気の流れを遮るものがなく、良好な空気の流動性が与えられる。
【００４３】
また、支持体８２は、図４に示すように、複数のカセット８１を取り付ける複数のカセット取り付け部９０を有する支持体本体９１と、該支持体本体９１に取り付けられ、各カセット８１の後部を覆う支持体カバー９２と、を有する。
【００４４】
図８に示すように、各カセット取り付け部９０には、光源支持部８３が臨む開口部９０ａが形成され、該開口部９０ａの周囲には、光源支持部８３の周囲の矩形平面が対向する平面９０ｂを底面としたカセット用凹部（断面Ｌ字状の切り欠き）９０ｃが形成される。また、支持体本体９１のカセット用凹部９０ｃの周囲には、カセット８１を固定するためのカセット固定手段９３が設けられており、本実施形態では、カセット８１に形成された凹部８１ａに係合されて、カセット８１を固定する。
【００４５】
α方向或いはβ方向に並ぶカセット用凹部９０ｃの各平面９０ｂは、各カセット８１の全ての光源部７３の光を照射する照射面と、光源部７３の光軸Ｌとの交点ｐが、各α、β方向において単一の曲面、例えば、球面ｒ上に位置するように（図９参照。）、所定の角度γで交差するように形成される。
【００４６】
従って、各カセット８１は、これら光源支持部８３を各カセット取り付け部９０のカセット用凹部９０ｃに嵌合させて位置決めした状態で、カセット固定手段９３をカセット８１の凹部８１ａに係合させることで、支持体８２にそれぞれ固定される。そして、これら各カセット８１が支持体本体９１に取り付けられた状態で、該支持体本体９１に支持体カバー９２が取り付けられる。従って、図９に示すように、各カセット８１に位置決めされた全ての光源部７３の光が照射する各照射面と、全ての光源部７３から照射される光のうち、略８０％〜１００％の光が入射されるインテグレータレンズ７４の入射面までの各主光軸Ｌの距離が略一定となる。
【００４７】
図４、図８及び図９に示すように、支持体本体９１には、その前面側外周縁９１ｂに沿って複数の放熱フィン１０２が設けられており、各放熱フィン１０２は、支持体本体９１の前面から前側に突出するように略直方体形状に形成されている。
【００４８】
また、光照射装置８０の各光源部７３、各カセット８１、及び支持体８２には、各ランプ７１を冷却するための冷却構造が設けられている。具体的に、図５（ａ）及び図７に示すように、光源支持部８３には、各カバーガラス８５間に、複数の冷却孔８３ｃが設けられており、光源支持部８３の内部と外部とを連通させる。
【００４９】
更に、図６に示すように、各光源部７３のランプ７１と反射鏡７２が取り付けられるベース部材７５には、冷却路７５ａが形成されており、カセット８１の各カバーガラス８５には、一つ又は複数の空気流通孔である貫通孔８５ａが形成されている。また、カセット８１のランプ押さえカバー８４の底面には、複数の排気孔（連通孔）８４ａが形成され（図８参照。）、支持体８２の支持体カバー９２にも、複数の排気孔９２ａが形成されている（図４（ｃ）参照。）。また、各排気孔９２ａには、支持体８２の外部に形成されたブロアユニット（吸引手段）７９が排気管７９ａを介して接続されている。
【００５０】
従って、ブロアユニット７９によって支持体８２内のエアを引いて排気することで、カバーガラス８５の貫通孔８５ａから吸引された外部のエアが、矢印で示した方向へランプ７１と反射鏡７２との間の隙間ｓを通過し、光源部７３のベース部材７５に形成された冷却路７５ａへ導かれる。また、光源支持部８３の複数の冷却孔８３ｃを介して、支持体８２の外部から内部に吸引されたエアが、反射鏡７２間の空間を通過し、このエアにより各光源部７３及びカセット８１の冷却を行っている。
【００５１】
なお、エアの吸引を効率良く行うために、各冷却孔８３ｃの断面積は、好ましくは２００ｍｍ２〜５００ｍｍ２、より好ましくは３００ｍｍ２〜４００ｍｍ２、さらに好ましくは３５０ｍｍ２〜３６０ｍｍ２となるように設定される。
【００５２】
また、吸引手段は、ブロアユニット７９に限定されるものでなく、ファン、インバータ、真空ポンプ、吸引バルブ等、支持体８２の外部から内部にエアを吸引するものであればよい。また、ブロアユニット７９によるエアの排気は、後方からに限らず、上方、下方、左方、右方のいずれの側方からでもよい。例えば、図１０に示すように、支持体の側方に接続された複数の排気管７９ａをダンパー７９ｂを介してブロアユニット７９にそれぞれ接続するようにしてもよい。
【００５３】
また、ランプ押さえカバー８４に形成される排気孔８４ａは、図５（ｃ）に示すように底面に複数形成されてもよいし、図１１（ａ）に示すように底面の中央に形成されてもよく、図１１（ｂ）、（ｃ）に示すように長手方向、短手方向の側面に形成されてもよい。また、排気孔８４ａの他、ランプ押さえカバー８４の開口縁から切欠いた連通溝を形成することで、光源支持部８３とランプ押さえカバー８４との間の収納空間と外部とを連通してもよい。
なお、ランプ押さえカバー８４は、複数の支持体により構成される骨組構造とし、該支持体に連通孔や連通溝が形成されたカバー板を別途取り付けることで、連通孔や連通溝を構成するようにしてもよい。
【００５４】
さらに、図４に示すように、支持体本体９１の周縁に、水冷管（冷却用配管）９１ａを設け、水ポンプ６９によって水冷管９１ａ内に冷却水を循環させることでも、各光源部７３を冷却している。なお、水冷管９１ａは、支持体本体９１内に形成されてもよいし、支持体本体９１の表面に取り付けられても良い。また、水冷管９１ａは、図４に示すような配置に限定されるものでなく図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示すように水冷管９１ａを全てのカセット８１の周囲を通るように配置、又は、全てのカセット８１の周囲の一部を通るようにジグザグに配置して、冷却水を循環させてもよい。
【００５５】
また、図１３に示すように、各カセット８１の光源部７３には、ランプ７１に電力を供給する点灯電源９５及び制御回路９６が個々に接続されており、各光源部７３から後方に延びる各配線９７は、各カセット８１に設けられた少なくとも一つのコネクタ９８に接続されてまとめられている。そして、各カセット８１のコネクタ９８と、支持体８２の外側に設けられた光学制御部７６との間は、他の配線９９によってそれぞれ接続される。これにより、光学制御部７６は、各ランプ７１の制御回路９６に制御信号を送信し、各ランプ７１に対して点灯と消灯を含め、電圧を調整する電圧制御を行う。
【００５６】
なお、各光源部７３の点灯電源９５及び制御回路９６は、カセット８１に集約して設けられてもよいし、カセットの外部に設けられてもよい。また、ランプ押さえカバー８４の当接部８６は、各光源部７３からの各配線９７と干渉しないように形成されている。
【００５７】
さらに、図１４に示すように、ランプ７１毎にヒューズ９４ａを含む寿命時間検出手段９４を設けて、タイマ９６ａによって点灯時間をカウントし、定格の寿命時間が来た段階でヒューズ９４ａに電流を流してヒューズ９４ａを切断する。従って、ヒューズ９４ａの切断の有無を確認することで、ランプ７１を定格の寿命時間使用しているかどうかを検出することができる。なお、寿命時間検出手段９４は、ヒューズ９４ａを含むものに限定されるものでなく、ランプ交換のメンテナンス時にランプ７１の定格の寿命時間が一目でわかるようなものであればよい。例えば、ランプ７１毎にＩＣタグを配置して、ＩＣタグに
よってランプ７１を定格の寿命時間使用したかどうか確認できるもの、或いは、ランプ７１の使用時間が確認できるようにしてもよい。
【００５８】
また、図１４では、点灯電源９５及び制御回路９６は、光源部７３毎に設けているが、複数の光源部７３毎に１つ設けるようにし、カセット８１内の光源部７３を所定数ずつ纏めて管理するようにしてもよい。
【００５９】
なお、上記実施形態では、説明を簡略化するため、α方向に３段、β方向に２列の計６個の光源部７３が取り付けられたカセット８１を例に挙げたが、実際にはカセット８１に配置される光源部７３は８個以上であり、図１５に示されるような配置で点対称又は線対称でカセット８１に取り付けられる。即ち、光源部７３をα方向、β方向で異なる数として配置しており、カセット８１の光源支持部８３に取り付けられた最外周に位置する光源部７３の中心を四辺で結んだ線が長方形形状をなす。また、各カセット８１が取り付けられる支持体８２のカセット取り付け部９０は、互いに直交するα、β方向に配置される各個数ｎ（ｎ：２以上の正の整数）を一致させて長方形形状に形成されている。ここで、この長方形形状は後述するインテグレータエレメントの各レンズエレメントの縦横毎の入射開口角比に対応させ、カセットの行数、列数を同数とした場合が最も効率が良いが異数でも良い。
【００６０】
ここで、インテグレータレンズ７４の各レンズエレメントのアスペクト比（縦／横比）は、露光領域のエリアのアスペクト比に対応して決定されている。また、インテグレータレンズの各々のレンズエレメントは、その入射開口角以上の角度から入射される光を取り込むことができない構造となっている。つまり、レンズエレメントは長辺側に対して短辺側の入射開口角が小さくなる。このため、支持体８２に配置された光源部７３全体のアスペクト比（縦／横比）を、インテグレータレンズ７４の入射面のアスペクト比に対応した長方形形状の配置とすることで、光の使用効率が良好となる。
【００６１】
このように構成された露光装置ＰＥでは、照明光学系７０において、露光時に露光制御用シャッター７８が開制御されると、超高圧水銀ランプ７１から照射された光が、インテグレータレンズ７４の入射面に入射される。そして、インテグレータレンズ７４の出射面から発せられた光は、コリメーションミラー７７によってその進行方向が変えられるとともに平行光に変換される。そして、この平行光は、マスクステージ１０に保持されるマスクＭ、さらには基板ステージ２０に保持される基板Ｗの表面に対して略垂直にパターン露光用の光として照射され、マスクＭのパターンＰが基板Ｗ上に露光転写される。
【００６２】
ここで、光源部７３を交換する際には、カセット８１毎に交換される。各カセット８１では、所定数の光源部７３が予め位置決めされ、且つ、各光源部７３からの配線９７がコネクタ９８に接続されている。このため、交換が必要なカセット８１を支持体８２の光が出射される方向とは逆方向から取り外し、新しいカセット８１を支持体８２のカセット用凹部９０ｃに嵌合させて支持体８２に取り付けることで、カセット８１内の光源部７３のアライメントを完了する。また、コネクタ９８に他の配線９９を接続することで、配線作業も完了するので、光源部７３の交換作業を容易に行うことができる。また、カセット交換の際には装置を止める必要がある。理由としては、カセット８１には複数のランプ（９個以上）が配置されており、カセット一つ一つが露光面での照度分布に大きく寄与するためである。しかしながら、前述したように複数のカセット８１を交換する場合であっても作業が容易で且つ交換時間自体も短くすることができるため、有用な方法である。
【００６３】
以上、説明したように、本実施形態の露光装置用光照射装置８０によれば、所定数の光源部７３がそれぞれ取り付け可能なカセット８１に、その前面側外周縁８３ｄに沿って複数の放熱フィン１０１が設けられるため、光源部７３の熱をカセット８１の放熱フィン１０１を介して放熱することができ、冷却効率を高めることが可能となる。また、従来の特許文献３とは異なり、光源部７３の反射鏡７２に放熱フィンを設ける構造ではないので、光源部７３の交換が簡易となる。
【００６４】
また、複数のカセット８１を取り付け可能な支持体８２を備え、支持体８２には、その前面側外周縁９１ｂに沿って複数の放熱フィン１０２がさらに設けられるため、この放熱フィン１０２を介して放熱することができる。したがって、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。
【００６５】
また、カセット８１の内部と外部とを連通する複数の冷却孔８３ｃが設けられるため、この冷却孔８３ｃを介してエアの吸排気が行われ、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。
【００６６】
また、各冷却孔８３ｃの断面積は２００ｍｍ２〜５００ｍｍ２であるため、エアの吸排気が効率良く行われ、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。
【００６７】
また、支持体８２には、カセット８１の冷却孔８３ｃを介して、支持体８２の外部から内部にエアを吸引するブロアユニット７９が接続されるので、光照射装置の冷却効率をさらに高めることが可能となる。
【００６８】
（第２実施形態）
次に、露光装置用光照射装置の第２実施形態について図１６及び図１７を参照して説明する。なお、第１実施形態と同一または同等部分については同一符号又は相当符号を付して、説明を簡略化又は省略する。
【００６９】
図１６は、本実施形態の光照射装置８０を正面から見た要部拡大図である。本実施形態の光照射装置８０は、支持体本体９１の前面側外周縁９１ｂに冷却管１１０が設けられている。この冷却管１１０には、複数のカセット８１に設けられた冷却孔８３ｃのうち、支持体８２の周囲に近接配置された冷却孔８３ｃと連通するように、略円環状の密封部材１１２を介して接続される（図１７参照。）。密封部材としては、公知のものが適用され、例えば、Ｏリング、パッキン、シールなどが用いられる。
【００７０】
そして、冷却管１１０には、上述の水ポンプ６９が接続され、この水ポンプ６９によって冷却媒体としての水が供給され、カセット８１の冷却孔８３ｃに導入されることで、各光源部７３が冷却される。なお、冷却孔８３に供給された水は、カセット８１の内部で水ポンプ６９に循環されるように設計されている。
【００７１】
なお、冷却管１１０は、支持体本体９１内に形成されてもよいし、支持体本体９１の表面に取り付けられてもよい。また、水ポンプ６９とは別に、冷却管１１０に冷却媒体を供給する冷却媒体供給手段を設けてもよい。また、冷却媒体は水以外の液体や、気体であってもよい。
【００７２】
以上述べたように、本実施形態の露光装置用光照射装置８０によれば、カセット８１には、冷却孔８３ｃと連通するように、冷却媒体を導入するための冷却管１１０が密封部材１１２を介して接続されているので、光照射装置８０の冷却効率をさらに高めることが可能となる。さらに、冷却管１１０は、カセット８１に密封部材１１２を介して密封接続されるので、冷却媒体が外部に漏洩することがなく、クリーンルームが汚染されることを防ぐことができる。
【００７３】
尚、本発明は、前述した実施形態及び実施例に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
【００７４】
例えば、各放熱フィン１０１、１０２は、略直方体形状に形成されるとしたが、これに限定されず、放熱効果を有するものであれば、略立方体形状や略円柱形状など、任意の形状が適用される。
【００７５】
また、例えば、上記実施形態では、露光装置として分割逐次近接露光装置を説明したが、これに限定されず、本発明は、走査式近接露光装置、ミラープロジェクション式露光装置、レンズ投影式露光装置、密着式露光装置にも適用することができる。また、本発明は、一括式、逐次式、走査式等のいずれの露光装置にも適用することができる。
【符号の説明】
【００７６】
７１    超高圧水銀ランプ（発光部）
７２    反射鏡（反射光学系）
７３    光源部
７９    ブロアユニット（吸引手段）
８０    露光装置用光照射装置
８１    カセット
８２    支持体
８３    光源支持部
８３ｃ  冷却孔
８３ｄ  前面側外周縁
９１ｂ  前面側外周縁
１０１  放熱フィン
１０２  放熱フィン
１１０  冷却管
１１２  密封部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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