(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体ケーシングと、
上記本体ケーシング内に配置された加熱室と、
上記加熱室内の被加熱物を加熱するためのヒータと、
上記本体ケーシング内かつ上記加熱室の上側に配置され、上記加熱室からの熱を利用して水を加熱する熱交換ユニットと、
水タンクと、
上記水タンクから供給された水を蒸気発生ヒータにより加熱して水蒸気を発生する蒸気発生装置と、
上記水タンクの水を上記熱交換ユニットと上記蒸気発生装置に供給するための給水ポンプと、
上記給水ポンプからの水を上記熱交換ユニットに供給するかまたは上記給水ポンプからの水を上記蒸気発生装置に供給するかを切り換える切換弁と
を備え、
上記熱交換ユニットで水を加熱して生成された水蒸気、または、上記熱交換ユニットで加熱された水を利用して生成された水蒸気を、蒸気通路を介して上記加熱室に供給し、
上記給水ポンプからの水を上記熱交換ユニットに供給するように上記切換弁を切り換えて、上記熱交換ユニットからの水蒸気を上記蒸気通路を介して上記加熱室に供給する一方、
上記給水ポンプからの水を上記蒸気発生装置に供給するように上記切換弁を切り換えて、上記蒸気発生装置からの水蒸気を上記蒸気通路を介して上記加熱室に供給することを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
請求項１に記載の加熱調理器において、
上記加熱室の天面と上記熱交換ユニットとの間に設けられ、上記ヒータが収納されたヒータ収納部を備えたことを特徴とする加熱調理器。
【請求項３】
請求項２に記載の加熱調理器において、
上記ヒータ収納部を介して上記加熱室内の熱媒体を循環させる循環ファンを備えたことを特徴とする加熱調理器。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか１つに記載の加熱調理器において、
上記熱交換ユニットで水を加熱して生成された水蒸気を上記蒸気通路を介して上記加熱室に直接供給することを特徴とする加熱調理器。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれか１つに記載の加熱調理器において、
上記熱交換ユニットは、上記加熱室の上面の略全体を覆うように配置されていることを特徴とする加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、加熱調理器としては、加熱室の上方にダクトを設け、送風機からダクト内に供給された空気を、加熱室からの排熱により加熱した後、前面の扉の内部に供給するものがある(例えば、特開２００６−２２６５３７号公報(特許文献１)参照)。上記加熱調理器では、加熱室の天面の上を流れるときに加熱された空気を利用して、扉の結露防止を行っている。
【０００３】
しかしながら、上記従来の加熱調理器は、ダクト内に供給された空気を加熱するものであるため、加熱室の天面の温度低下は十分でなく、本体ケーシングの上面の温度を安全な温度にまで下げるためには十分な量の断熱材を用いる必要がある。また、上記加熱調理器では、加熱室の天面の熱が調理に利用されることなく排熱されてしまい、加熱室の天面からの熱を有効に利用することができず、加熱効率も低下してしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２２６５３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、この発明の課題は、加熱室の天面の熱を蒸気発生に利用することにより加熱効率を向上でき、加熱室の天面の温度上昇を抑えることができる加熱調理器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、この発明の加熱調理器は、
本体ケーシングと、
上記本体ケーシング内に配置された加熱室と、
上記加熱室内の被加熱物を加熱するためのヒータと、
上記本体ケーシング内かつ上記加熱室の上側に配置され、上記加熱室からの熱を利用して水を加熱する熱交換ユニットと、
水タンクと、
上記水タンクから供給された水を蒸気発生ヒータにより加熱して水蒸気を発生する蒸気発生装置と、
上記水タンクの水を上記熱交換ユニットと上記蒸気発生装置に供給するための給水ポンプと、
上記給水ポンプからの水を上記熱交換ユニットに供給するかまたは上記給水ポンプからの水を上記蒸気発生装置に供給するかを切り換える切換弁と
を備え、
上記熱交換ユニットで水を加熱して生成された水蒸気、または、上記熱交換ユニットで加熱された水を利用して生成された水蒸気を、蒸気通路を介して上記加熱室に供給し、
上記給水ポンプからの水を上記熱交換ユニットに供給するように上記切換弁を切り換えて、上記熱交換ユニットからの水蒸気を上記蒸気通路を介して上記加熱室に供給する一方、
上記給水ポンプからの水を上記蒸気発生装置に供給するように上記切換弁を切り換えて、上記蒸気発生装置からの水蒸気を上記蒸気通路を介して上記加熱室に供給することを特徴とする。
【０００７】
上記構成によれば、加熱室の上側に配置された熱交換ユニットによって、ヒータにより被加熱物を加熱する加熱室からの熱を利用して水を加熱して水蒸気を発生させ、熱交換ユニットからの水蒸気を蒸気通路を介して加熱室に供給する。または、熱交換ユニットによって、ヒータにより被加熱物を加熱する加熱室からの熱を利用して加熱された水を利用して水蒸気を生成し、その生成された水蒸気を蒸気通路を介して加熱室に供給する。これにより、加熱室の天面の熱を蒸気発生に利用することにより加熱効率を向上でき、加熱室の天面の温度上昇を抑えることができる。
また、切換弁を切り換えて給水ポンプからの水を熱交換ユニットに供給して、水タンクから供給された水を熱交換ユニットで加熱して水蒸気を発生し、熱交換ユニットからの水蒸気を蒸気通路を介して加熱室に供給する。一方、切換弁を切り換えて給水ポンプからの水を蒸気発生装置に供給して、水タンクから供給された水を蒸気発生装置の蒸気発生ヒータにより加熱して水蒸気を発生し、蒸気発生装置からの水蒸気を加熱室に供給する。このように、この加熱調理器は、加熱室を加熱するヒータの熱の一部を利用した熱交換ユニットにより発生させた水蒸気を加熱室に供給するモードと、蒸気発生装置からの水蒸気を加熱室に供給するモードとを備える。そうして、ヒータで加熱室内の被加熱物を加熱するときに、熱交換ユニットによる水蒸気を加熱室に供給し、その後、加熱室内の温度が目標温度に達した後は、ヒータのオフ期間において、蒸気発生装置による水蒸気を加熱室に供給することで、蒸気発生装置の蒸気発生ヒータをオンする期間が短くなり、蒸気発生ヒータのオフ期間に加熱室内の被加熱物をヒータで加熱する時間を長くでき、加熱調理時間を短縮できる。
【０００８】
また、一実施形態の加熱調理器では、
上記加熱室の天面と上記熱交換ユニットとの間に設けられ、上記ヒータが収納されたヒータ収納部を備えた。
【０００９】
上記実施形態によれば、加熱室の天面と熱交換ユニットとの間に設けられたヒータ収納部内に収納されたヒータによって、加熱室内の被加熱物を加熱するため、ヒータからヒータ収納部の上方に伝わる熱を熱交換ユニットで水蒸気の生成に利用しつつ、ヒータが加熱室に暴露せず熱輻射板などを介して放射された輻射熱で被加熱物を加熱でき、ヒータが汚れるのを防止できると共に、加熱室の天板側の清掃が容易にできる。
【００１０】
また、一実施形態の加熱調理器では、
上記ヒータ収納部を介して上記加熱室内の熱媒体を循環させる循環ファンを備えた。
【００１１】
上記実施形態によれば、循環ファンにより、ヒータ収納部を介して加熱室内の熱媒体が循環するので、熱交換ユニットから蒸気通路を介して加熱室に供給された水蒸気は、加熱室内の熱媒体と一緒になってヒータが配置されたヒータ収納部を介して循環する。そうして、水蒸気は、ヒータ収納部内でヒータによって加熱されて過熱水蒸気となり、加熱室に戻った過熱水蒸気は、被加熱物の表面に付着して凝縮し大量の凝縮潜熱を被加熱物に与えるので、被加熱物に熱を効率よく伝えることができる。
【００１２】
また、一実施形態の加熱調理器では、
上記熱交換ユニットで水を加熱して生成された水蒸気を上記蒸気通路を介して上記加熱室に直接供給する。
【００１３】
上記実施形態によれば、熱交換ユニットからの水蒸気を蒸気通路を介して加熱室に直接供給するので、熱交換ユニットからの熱で加熱された水蒸気の熱量を、加熱室内の被加熱物の加熱に有効利用できる。
【００１４】
【００１５】
【００１６】
【００１７】
【００１８】
【００１９】
【００２０】
また、一実施形態の加熱調理器では、
上記熱交換ユニットは、上記加熱室の上面の略全体を覆うように配置されている。
【００２１】
上記実施形態によれば、加熱室の上面の略全体を覆うように熱交換ユニットを配置することによって、加熱室の天面の熱を蒸気発生に効率よく利用できると共に、加熱室の天面全体の温度上昇を抑えることができる。
【発明の効果】
【００２２】
以上より明らかなように、この発明の加熱調理器によれば、加熱室の天面の熱を蒸気発生に利用することにより加熱効率を向上でき、加熱室の天面の温度上昇を抑えることができる加熱調理器を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１はこの発明の第１実施形態の加熱調理器の正面斜視図である。
【図２】図２は上記加熱調理器の縦断面の模式図である。
【図３】図３は上記加熱調理器の制御ブロック図である。
【図４】図４はこの発明の第２実施形態の加熱調理器の縦断面の模式図である。
【図５】図５はこの発明の第３実施形態の加熱調理器の縦断面の模式図である。
【図６】図６はこの発明の第４実施形態の加熱調理器の縦断面の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、この発明の加熱調理器を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００２５】
〔第１実施形態〕
図１はこの発明の第１実施形態の加熱調理器の正面斜視図を示している。
【００２６】
この第１実施形態の加熱調理器は、図１に示すように、直方体形状の本体ケーシング１の正面に、下端側の辺を略中心に回動する扉２が取り付けられている。この扉２の上部にハンドル３を取り付けると共に、扉２の略中央に耐熱ガラス４を取り付けている。また、扉２の右側に操作パネル５を設けている。この操作パネル５は、カラー液晶表示部６とボタン群７を有している。また、本体ケーシング１の上側かつ右側後方に排気ダクト８を設けている。さらに、本体ケーシング１の扉２の下方に、露受容器９を着脱自在に取り付けている。
【００２７】
図２は上記加熱調理器の縦断面の模式図を示している。
【００２８】
この加熱調理器は、図２に示すように、本体ケーシング１内の加熱室１０の背面側に循環ファン１４を配置し、加熱室１０の背面側に循環ファン１４を収納するファンケーシング１５を設けている。また、加熱室１０の上部に、ヒータ収納部の一例として第１ダクト部３１と、第１ダクト部３１の左側方から下側に屈曲して延び、加熱室１０の左側面に固定された第２ダクト部３２と、第１ダクト部３１の右側方から下側に屈曲して延び、加熱室１０の右側面に固定された第３ダクト部３３とを有している。この第１ダクト部３１と第２ダクト部３２と第３ダクト部３３で循環ダクト３０を構成している。
【００２９】
上記循環ダクト３０の第１ダクト部３１内に上ヒータ２１を収納している。また、加熱室１０の天井側に、加熱室１０と第１ダクト部３１との間を仕切る熱輻射板２０を取り付けている。
【００３０】
そして、循環ダクト３０の第２ダクト部３２は、加熱室１０の左側面に設けられた蒸気吹出口１０aを介して加熱室１０と連通している。また、循環ダクト３０の第３ダクト部３３は、加熱室１０の右側面に設けられた蒸気吹出口１０bを介して加熱室１０と連通している。
【００３１】
上記循環ダクト３０と加熱室１０とそれらを接続する接続部材とによって、加熱室１０内の熱媒体をヒータ収納部(第１ダクト部３１)を介して循環させる循環経路を形成している。
【００３２】
また、上記循環ダクト３０の第１ダクト部３１上に熱交換ユニット１２を配置している。
【００３３】
さらに、加熱室１０の下側に下ヒータ収納部３４を配置し、その下ヒータ収納部３４内に下ヒータ２２を収納している。加熱室１０の下側に、加熱室１０と下ヒータ収納部３４との間を仕切る熱輻射板４０を取り付けている。
【００３４】
また、本体ケーシング１内かつ加熱室１０の右側に前方から着脱可能に取り付けられた水タンク１１を配置している。この水タンク１１を切換弁の一例としての三方弁Ｖ１の一端に給水配管Ｌ１を介して接続している。この給水配管Ｌ１に給水ポンプＰ１を配設している。そして、三方弁Ｖ１の他端と熱交換ユニット１２の一端の給水口１２aとを給水配管Ｌ２を介して接続している。
【００３５】
また、熱交換ユニット１２の他端の出口１２bに蒸気通路Ｌ１１の一端を接続し、蒸気通路Ｌ１１の他端に三方弁Ｖ２を接続している。その三方弁Ｖ２とファンケーシング１５とを蒸気通路Ｌ１３を介して接続している。この三方弁Ｖ２は、蒸気通路Ｌ１１と蒸気通路Ｌ１３が連通して蒸気通路Ｌ１２が閉じた状態にするか、または、蒸気通路Ｌ１２と蒸気通路Ｌ１３が連通して蒸気通路Ｌ１１が閉じた状態にするかを切り換える。
【００３６】
一方、本体ケーシング１内の加熱室１０の左側に蒸気発生装置１３を配置している。この蒸気発生装置１３と三方弁Ｖ１の一端とを給水配管Ｌ３を介して接続している。また、蒸気発生装置１３の蒸気吐出口と三方弁Ｖ２とを蒸気通路Ｌ１２を介して接続している。
【００３７】
上記三方弁Ｖ１は、給水配管Ｌ１と給水配管Ｌ２が連通して給水配管Ｌ３が閉じた状態にするか、または、給水配管Ｌ１と給水配管Ｌ３が連通して給水配管Ｌ２が閉じた状態にするかを切り換える。
【００３８】
図３は上記加熱調理器の制御ブロック図を示している。
【００３９】
この加熱調理器は、図３に示すように、マイクロコンピュータと入出力回路などからなる制御装置１００を備えている。制御装置１００は、上ヒータ２１,下ヒータ２２,循環ファン用モータ１７,冷却ファン用モータ１８,操作パネル５,庫内温度センサ１６,給水ポンプＰ１,蒸気発生ヒータ２３,三方弁Ｖ１,三方弁Ｖ２およびマグネトロン８０が接続されている。操作パネル５からの信号および庫内温度センサ１６からの検出信号に基づいて、制御装置１００は、上ヒータ２１,下ヒータ２２,循環ファン用モータ１７,冷却ファン用モータ１８,操作パネル５,給水ポンプＰ１,蒸気発生ヒータ２３,三方弁Ｖ１,三方弁Ｖ２およびマグネトロン８０などを制御する。
【００４０】
上記構成の加熱調理器において、過熱水蒸気によって加熱調理を行う場合には、上ヒータ２１,下ヒータ２２をオンすると共に、循環ファン１４を回転駆動する。ここで、上ヒータ２１,下ヒータ２２は、制御装置１００によって加熱室１０内の温度に基づいてオンオフ制御され、蒸気発生装置１３により飽和水蒸気を発生させるときは、上ヒータ２１,下ヒータ２２のオフ時に蒸気発生装置１３の蒸気発生ヒータ２３をオンする。
【００４１】
次に、三方弁Ｖ１を給水配管Ｌ２の側に切り換えて給水ポンプＰ１をオンすると、水タンク１１から熱交換ユニット１２に水が供給される。このとき、三方弁Ｖ２は、蒸気通路Ｌ１１と蒸気通路Ｌ１３が連通して蒸気通路Ｌ１２が閉じた状態にする。水タンク１１から供給された水を熱交換ユニット１２で上ヒータ２１からの熱によって加熱して飽和水蒸気を生成する。そして、熱交換ユニット１２で生成された飽和水蒸気は、蒸気通路Ｌ１１,三方弁Ｖ２,蒸気通路１３を介して、加熱室１０の背面側に設けられたファンケーシング１５内に吹き出して、第１ダクト部３１(ヒータ収納部),第２ダクト部３２,第３ダクト部３３を介して加熱室１０側に供給される。
【００４２】
また、三方弁Ｖ１を給水配管Ｌ３の側に切り換えて給水ポンプＰ１をオンすると、水タンク１１から蒸気発生装置１３に水が供給される。このとき、三方弁Ｖ２は、蒸気通路Ｌ１２と蒸気通路Ｌ１３が連通して蒸気通路Ｌ１１が閉じた状態にする。そして、水タンク１１から供給された水を蒸気発生装置１３で加熱して飽和水蒸気を生成する。蒸気発生装置１３で生成された飽和水蒸気は、蒸気通路Ｌ１２,三方弁Ｖ２,蒸気通路１３を介して、加熱室１０の背面側に設けられたファンケーシング１５内に吹き出して、第１ダクト部３１(ヒータ収納部),第２ダクト部３２,第３ダクト部３３を介して加熱室１０側に供給される。
【００４３】
そうして、熱交換ユニット１２および蒸気発生装置１３から加熱室１０内に供給された飽和水蒸気は、循環ファン１４によって加熱室１０の背面に設けられた蒸気吸込口(図示せず)を介して吸い込まれて、循環ダクト３０の第１ダクト部３１内に吹き出される。このとき、第１ダクト部３１内の上ヒータ２１によって加熱されて過熱水蒸気となる。この過熱水蒸気は、循環ダクト３０を介して加熱室１０の蒸気吹出口１０a,１０bから加熱室１０内に吹き出す。そして、加熱室１０内に供給された過熱水蒸気は、図示しないトレイ上に載置された被加熱物を加熱した後、加熱室１０の背面側の蒸気吸込口から吸い込まれる。そうして、再び循環経路を通って加熱室１０内に戻るという循環を繰り返す。このとき、上ヒータ２１により加熱された熱輻射板２０から放射された輻射熱、および、下ヒータ２２により加熱された熱輻射板４０から放射された輻射熱によって、被加熱物を上方と下方から加熱する。
【００４４】
ここで、電源から供給される最大電力の制限により、上ヒータ２１,下ヒータ２２と蒸気発生ヒータ２３を同時に通電できない条件では、加熱室１０内の庫内温度が目標温度に達するまでの立ち上がり時は、上ヒータ２１,下ヒータ２２の通電時間が長くなり、上ヒータ２１,下ヒータ２２のオフ時にしか蒸気発生ヒータ２３をオンできない蒸気発生装置１３では、生成される飽和水蒸気の量が充分に得られない。しかしながら、この加熱調理器によれば、上ヒータ２１,下ヒータ２２の通電時間が長い立ち上がり時において、加熱室１０の天面の熱を利用する熱交換ユニット１２から飽和水蒸気を加熱室１０内に供給することで、過熱水蒸気を用いた加熱調理が行える。そして、加熱室１０内の庫内温度が目標温度に達した後は、上ヒータ２１,下ヒータ２２の通電時間が短くなるので、上ヒータ２１,下ヒータ２２のオフ時に蒸気発生ヒータ２３をオンして蒸気発生装置１３により飽和水蒸気を加熱室１０内に供給することで、過熱水蒸気を用いた加熱調理が行える。
【００４５】
なお、上記加熱調理器において、飽和水蒸気によって蒸し調理を行う場合には、上ヒータ２１,下ヒータ２２をオンしないため、熱交換ユニット１２で水を加熱できないので、蒸気発生装置１３により生成された飽和水蒸気を加熱室１０内に供給する。
【００４６】
上記構成の加熱調理器によれば、加熱室１０の上側に配置された熱交換ユニット１２によって、上ヒータ２１,下ヒータ２２により被加熱物を加熱する加熱室１０からの熱を利用して水を加熱して飽和水蒸気を発生させ、熱交換ユニット１２からの飽和水蒸気を蒸気通路Ｌ１１,三方弁Ｖ２,蒸気通路Ｌ１３を介して加熱室１０に供給する。これにより、加熱室１０の天面の熱を蒸気発生に利用することにより加熱効率を向上でき、加熱室１０の天面の温度上昇を抑えることができる。
【００４７】
上記加熱調理器は、本体ケーシング１の上部空間が小さくても設置することが可能になると共に、加熱調理時に本体ケーシング１の上面にユーザーが触れても火傷を防ぐことができる。
【００４８】
また、上記加熱室１０の天面と熱交換ユニット１２との間に設けられたヒータ収納部(第１ダクト部３１)内の上ヒータ２１によって、加熱室１０内の被加熱物を加熱するため、上ヒータ２１からヒータ収納部(第１ダクト部３１)の上方に伝わる熱を熱交換ユニット１２で飽和水蒸気の生成に利用しつつ、上ヒータ２１が加熱室１０に暴露せず熱輻射板２０を介して放射された輻射熱で被加熱物を加熱でき、上ヒータ２１が汚れるのを防止できると共に、加熱室１０の天板側の清掃が容易にできる。
【００４９】
また、上記循環ファン１４により、ファンケーシング１５とヒータ収納部(第１ダクト部３１)とを介して加熱室１０内の熱媒体が循環するので、熱交換ユニット１２から蒸気通路を介して加熱室１０に供給された飽和水蒸気は、加熱室１０内の熱媒体と一緒になって上ヒータ２１が配置されたヒータ収納部(第１ダクト部３１)を介して循環する。そうして、飽和水蒸気は、ヒータ収納部(第１ダクト部３１)内で上ヒータ２１によって加熱されて過熱水蒸気となり、加熱室１０に戻った過熱水蒸気は、被加熱物の表面に付着して凝縮し大量の凝縮潜熱を被加熱物に与えるので、被加熱物に熱を効率よく伝えることができる。
【００５０】
また、上記加熱調理器は、三方弁Ｖ１を切り換えによって、加熱室１０を加熱する上ヒータ２１の熱の一部を利用した熱交換ユニット１２により発生させた飽和水蒸気を加熱室１０に供給するモードと、蒸気発生装置１３からの飽和水蒸気を加熱室１０に供給するモードとを備える。この加熱調理器では、上ヒータ２１,下ヒータ２２で加熱室１０内の被加熱物を加熱するときに、熱交換ユニット１２による飽和水蒸気を加熱室１０に供給し、その後、加熱室１０内の温度が目標温度に達した後は、上ヒータ２１,下ヒータ２２のオフ期間において、蒸気発生装置１３による飽和水蒸気を加熱室１０に供給することで、蒸気発生装置１３の蒸気発生ヒータ２３をオンする期間が短くなり、蒸気発生ヒータ２３のオフ期間に加熱室１０内の被加熱物を上ヒータ２１,下ヒータ２２で加熱する時間を長くでき、加熱調理時間を短縮することができる。
【００５１】
また、上記加熱室１０の上面の略全体を覆うように熱交換ユニット１２を配置することによって、加熱室１０の天面の熱を蒸気発生に効率よく利用できると共に、加熱室１０の天面全体の温度上昇を抑えることができる。
【００５２】
〔第２実施形態〕
図４はこの発明の第２実施形態の加熱調理器の縦断面の模式図を示している。
【００５３】
この第２実施形態の加熱調理器は、給水配管と蒸気経路を除いて図２に示す第１実施形態の加熱調理器と同一の構成をしている。以下、第１実施形態の加熱調理器と異なる点について説明する。
【００５４】
この加熱調理器は、図４に示すように、本体ケーシング１内の加熱室１０の右側に前方から着脱可能に取り付けられた水タンク１１を配置している。この水タンク１１を熱交換ユニット１２の一端の給水口１２aに給水配管Ｌ２１を介して接続している。この給水配管Ｌ２１に給水ポンプＰ１を配設している。
【００５５】
また、熱交換ユニット１２の他端の出口１２bに蒸気通路Ｌ２２の一端を接続し、蒸気通路Ｌ２２の他端に蒸気発生装置１３を接続している。その蒸気発生装置１３とファンケーシング１５とを蒸気通路Ｌ２３を介して接続している。
【００５６】
上記構成の加熱調理器において、過熱水蒸気によって加熱調理を行う場合には、上ヒータ２１,下ヒータ２２をオンすると共に、循環ファン１４を回転駆動する。ここで、上ヒータ２１,下ヒータ２２は、制御装置１００によって加熱室１０内の温度に基づいてオンオフ制御され、上ヒータ２１,下ヒータ２２のオフ時に蒸気発生装置１３の蒸気発生ヒータ２３をオンする。
【００５７】
次に、給水ポンプＰ１をオンすると、水タンク１１から熱交換ユニット１２に水が給水される。水タンク１１から供給された水を熱交換ユニット１２で上ヒータ２１からの熱によって加熱する。そして、熱交換ユニット１２で加熱された温水は、蒸気通路Ｌ２２を介して蒸気発生装置１３に供給され、蒸気発生装置１３で加熱されて飽和水蒸気が生成される。そして、蒸気発生装置１３で生成された飽和水蒸気は、蒸気通路Ｌ２３を介して、加熱室１０の背面側に設けられたファンケーシング１５内に吹き出して、第１ダクト部３１(ヒータ収納部),第２ダクト部３２,第３ダクト部３３を介して加熱室１０側に供給される。
【００５８】
そうして、蒸気発生装置１３から加熱室１０内に供給された飽和水蒸気は、循環ファン１４によって加熱室１０の背面に設けられた蒸気吸込口(図示せず)を介して吸い込まれて、循環ダクト３０の第１ダクト部３１内に吹き出される。このとき、第１ダクト部３１内の上ヒータ２１によって加熱されて過熱水蒸気となる。この過熱水蒸気は、循環ダクト３０を介して加熱室１０の蒸気吹出口１０a,１０bから加熱室１０内に吹き出す。そして、加熱室１０内に供給された過熱水蒸気は、図示しないトレイ上に載置された被加熱物を加熱した後、加熱室１０の背面側の蒸気吸込口から吸い込まれる。そうして、再び循環経路を通って加熱室１０内に戻るという循環を繰り返す。このとき、上ヒータ２１により加熱された熱輻射板２０から放射された輻射熱、および、下ヒータ２２により加熱された熱輻射板４０から放射された輻射熱によって、被加熱物を上方と下方から加熱する。
【００５９】
上記第２実施形態の加熱調理器は、第１実施形態の加熱調理器と同様の効果を有する。
【００６０】
また、上記熱交換ユニット１２で加熱された温水を蒸気発生装置１３に供給して、蒸気発生装置１３は、熱交換ユニット１２からの温水をさらに加熱することにより飽和水蒸気を生成し、生成された過熱水蒸気を蒸気通路Ｌ２３を介して加熱室１０に供給するので、加熱室１０の天面の熱を水の加温に利用することにより加熱室１０の天面の温度上昇を抑えつつ、蒸気発生装置１３に供給される水の温度が高いため、蒸気発生ヒータ２３により飽和水蒸気の生成が早くなり、蒸気発生装置１３の蒸気発生ヒータ２３の通電時間を短くできる。また、蒸気発生ヒータ２３の通電時間を短くした分の電力を加熱室１０内の被加熱物を加熱する上ヒータ２１,下ヒータ２２で使用することにより、加熱時間を短縮することができる。
【００６１】
〔第３実施形態〕
図５はこの発明の第３実施形態の加熱調理器の縦断面の模式図を示している。
【００６２】
この第３実施形態の加熱調理器は、蒸気発生装置がない点と蒸気通路を除いて図２に示す第１実施形態の加熱調理器と同一の構成をしている。以下、第１実施形態の加熱調理器と異なる点について説明する。
【００６３】
この加熱調理器は、図５に示すように、本体ケーシング１内の加熱室１０の右側に前方から着脱可能に取り付けられた水タンク１１を配置している。この水タンク１１を熱交換ユニット１１２の中央の給水口１１２aに給水配管Ｌ３１を介して接続している。この給水配管Ｌ３１に給水ポンプＰ１を配設している。
【００６４】
また、熱交換ユニット１１２の左側かつ第２ダクト部３２の上部に蒸気出口１１２bを設けている。また、熱交換ユニット１１２の右側かつ第３ダクト部３３の上部に蒸気出口１１２cを設けている。
【００６５】
上記構成の加熱調理器において、過熱水蒸気によって加熱調理を行う場合には、上ヒータ２１,下ヒータ２２をオンすると共に、循環ファン１４を回転駆動する。ここで、上ヒータ２１,下ヒータ２２は、制御装置１００によって加熱室１０内の温度に基づいてオンオフ制御される。
【００６６】
次に、給水ポンプＰ１をオンすると、水タンク１１から熱交換ユニット１１２に水が給水される。水タンク１１から供給された水を熱交換ユニット１１２で上ヒータ２１からの熱によって加熱して飽和水蒸気を生成する。そして、熱交換ユニット１１２で生成された飽和水蒸気は、蒸気出口１１２b,１１２cおよび第２,第３ダクト部３２,３３を介して、加熱室１０の蒸気吹出口１０a,１０bから加熱室１０内に吹き出す。ここで、第２,第３ダクト部３２,３３は、熱交換ユニット１１２からの飽和水蒸気を加熱室１０に供給するための蒸気通路を兼ねる。
【００６７】
そうして、加熱室１０内に供給された飽和水蒸気は、循環ファン１４によって加熱室１０の背面に設けられた蒸気吸込口(図示せず)を介して吸い込まれて、循環ダクト３０の第１ダクト部３１内に吹き出される。このとき、第１ダクト部３１内の上ヒータ２１によって加熱されて過熱水蒸気となる。この過熱水蒸気は、循環ダクト３０を介して加熱室１０の蒸気吹出口１０a,１０bから加熱室１０内に再び吹き出す。そして、加熱室１０内に供給された過熱水蒸気は、図示しないトレイ上に載置された被加熱物を加熱した後、加熱室１０の背面側の蒸気吸込口から吸い込まれる。そうして、再び循環経路を通って加熱室１０内に戻るという循環を繰り返す。このとき、上ヒータ２１により加熱された熱輻射板２０から放射された輻射熱、および、下ヒータ２２により加熱された熱輻射板４０から放射された輻射熱によって、被加熱物を上方と下方から加熱する。
【００６８】
上記第３実施形態の加熱調理器は、第１実施形態の加熱調理器と同様の効果を有する。
【００６９】
また、上記熱交換ユニット１１２から蒸気通路(第２,第３ダクト部３２,３３)を介して加熱室１０に供給された飽和水蒸気は、加熱室１０内の熱媒体と一緒になって上ヒータ２１が配置されたヒータ収納部(第１ダクト部３１)を介して循環し、ヒータ収納部(第１ダクト部３１)内で上ヒータ２１によって加熱されて過熱水蒸気となり、加熱室１０に戻った過熱水蒸気は、被加熱物の表面に付着して凝縮し大量の凝縮潜熱を被加熱物に与えるので、被加熱物に熱を効率よく伝えることができる。
【００７０】
〔第４実施形態〕
図６はこの発明の第４実施形態の加熱調理器の縦断面の模式図を示している。
【００７１】
この第４実施形態の加熱調理器は、蒸気通路を除いて図５に示す第３実施形態の加熱調理器と同一の構成をしている。以下、第３実施形態の加熱調理器と異なる点について説明する。
【００７２】
この加熱調理器は、図６に示すように、熱交換ユニット１１２の左側に蒸気通路Ｌ４１の一端を接続し、蒸気通路Ｌ４１の他端を加熱室１０の背面かつ左上側に設けられた蒸気吹出口１１０aに接続している。また、熱交換ユニット１１２の右側に蒸気通路Ｌ４２の一端を接続し、蒸気通路Ｌ４２の他端を加熱室１０の背面かつ右上側に設けられた蒸気吹出口１１０bに接続している。
【００７３】
上記構成の加熱調理器において、過熱水蒸気によって加熱調理を行う場合には、上ヒータ２１,下ヒータ２２をオンすると共に、循環ファン１４を回転駆動する。ここで、上ヒータ２１,下ヒータ２２は、制御装置１００によって加熱室１０内の温度に基づいてオンオフ制御される。
【００７４】
次に、給水ポンプＰ１をオンすると、水タンク１１から熱交換ユニット１１２に水が給水される。水タンク１１から供給された水を熱交換ユニット１１２で上ヒータ２１からの熱によって加熱して飽和水蒸気を生成する。そして、熱交換ユニット１１２で生成された飽和水蒸気は、蒸気通路Ｌ４１,Ｌ４２を介して、加熱室１０の蒸気吹出口１１０a,１１０bから加熱室１０内に吹き出す。
【００７５】
そうして、加熱室１０内に供給された飽和水蒸気は、循環ファン１４によって加熱室１０の背面に設けられた蒸気吸込口(図示せず)を介して吸い込まれて、循環ダクト３０の第１ダクト部３１内に吹き出される。このとき、第１ダクト部３１内の上ヒータ２１によって加熱されて過熱水蒸気となる。この過熱水蒸気は、循環ダクト３０を介して加熱室１０の蒸気吹出口１０a,１０bから加熱室１０内に再び吹き出す。そして、加熱室１０内に供給された過熱水蒸気は、図示しないトレイ上に載置された被加熱物を加熱した後、加熱室１０の背面側の蒸気吸込口から吸い込まれる。そうして、再び循環経路を通って加熱室１０内に戻るという循環を繰り返す。このとき、上ヒータ２１により加熱された熱輻射板２０から放射された輻射熱、および、下ヒータ２２により加熱された熱輻射板４０から放射された輻射熱によって、被加熱物を上方と下方から加熱する。
【００７６】
上記第４実施形態の加熱調理器は、第３実施形態の加熱調理器と同様の効果を有する。
【００７７】
また、熱交換ユニット１１２からの飽和水蒸気を蒸気通路Ｌ４１,Ｌ４２を介して加熱室１０に直接供給することによって、熱交換ユニット１１２からの熱で加熱された飽和水蒸気の熱量を、加熱室１０内の被加熱物の加熱に有効利用できる。
【００７８】
上記第１〜第４実施形態では、加熱室１０の天面と熱交換ユニット１２,１１２との間に設けられたヒータ収納部(第１ダクト部３１)内に上ヒータ２１が配置された加熱調理器について説明したが、ヒータはこれに限らず、例えば加熱室内の天面近傍に配置されたヒータにより被加熱物を加熱してもよい。
【００７９】
また、上記第１〜第４実施形態では、給水ポンプＰ１により水タンク１１から熱交換ユニット１２,１１２の注水口１２a,１１２aを介して水を供給したが、熱交換ユニットへの給水は、複数の散水部から水を散水させたり、噴霧装置を用いて霧状の水を供給したりしてもよい。
【００８０】
この発明の具体的な実施の形態について説明したが、この発明は上記第１〜第３実施形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内で種々変更して実施することができる。
【符号の説明】
【００８１】
１…本体ケーシング
２…扉
３…ハンドル
４…耐熱ガラス
５…操作パネル
６…カラー液晶表示部
７…ボタン群
８…排気ダクト
９…露受容器
１１…水タンク
１２,１１２…熱交換ユニット
１３…蒸気発生装置
１４…循環ファン
１５…ファンケーシング
１６…庫内温度センサ
１７…循環ファン用モータ
１８…冷却ファン用モータ
２０,４０…熱輻射板
２１…上ヒータ
２２…下ヒータ
２３…蒸気発生ヒータ
３０…循環ダクト
３１…第１ダクト部
３２…第２ダクト部
３３…第３ダクト部
８０…マグネトロン
Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３,Ｌ２１,Ｌ２２,Ｌ３１…給水配管
Ｌ１１,Ｌ１２,Ｌ１３,Ｌ２３,Ｌ４１,Ｌ４２…蒸気通路
１００…制御装置
Ｐ１…給水ポンプ
Ｖ１,Ｖ２…三方弁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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