(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、金属銀を含有する導電性細線からなる導電層と、前記導電性細線間に存在するバインダー部とを有する導電シートであって、
前記バインダー部の含水率が１０％以下であり、前記導電層の表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下であって、
前記バインダー部が、ポリマーラテックスと水溶性高分子とを含有し、
前記金属銀と前記ポリマーラテックスとの質量比（金属銀／ポリマーラテックス）が２．３以上である、導電シート。
但し、前記含水率とは、６０℃、９０％ＲＨで２０日間経時させた後の平衡含水率であり、重量法により以下のように算出したものである。
バインダー部の含水率（％）＝（Ｗ２−Ｗ１）／Ｗ１×１００
Ｗ１は１２０℃、４時間経時させた後（絶乾状態）のバインダー部の質量であり、Ｗ２は６０℃、９０％ＲＨで２０日間経時させた後のバインダー部の質量である。
導電層上に保護層を有する場合は、バインダー部は保護層も含む。
【請求項２】
前記ポリマーラテックスと前記水溶性高分子との質量比（ポリマーラテックス／水溶性高分子）が１以上である、請求項１に記載の導電シート。
【請求項３】
前記ポリマーラテックスと前記水溶性高分子との質量比（ポリマーラテックス／水溶性高分子）が１．５〜３．５である、請求項２に記載の導電シート。
【請求項４】
前記金属銀と前記ポリマーラテックスとの質量比（金属銀／ポリマーラテックス）が２．３〜７．５である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電シート。
【請求項５】
支持体上に、金属銀を含有する導電性細線からなる表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下である導電層と、前記導電性細線間に存在する含水率が１０％以下であるバインダー部とを有し、前記金属銀と前記ポリマーラテックスとの質量比（金属銀／ポリマーラテックス）が２．３以上である導電シートの製造方法であって、
支持体上に、ハロゲン化銀と、ポリマーラテックスを含むバインダーとを含有する感光性層を形成し、該感光性層を露光、現像処理した後に更に加熱処理する、導電シートの製造方法。
但し、前記含水率とは、６０℃、９０％ＲＨで２０日間経時させた後の平衡含水率であり、重量法により以下のように算出したものである。
バインダー部の含水率（％）＝（Ｗ２−Ｗ１）／Ｗ１×１００
Ｗ１は１２０℃、４時間経時させた後（絶乾状態）のバインダー部の質量であり、Ｗ２は６０℃、９０％ＲＨで２０日間経時させた後のバインダー部の質量である。
導電層上に保護層を有する場合は、バインダー部は保護層も含む。
【請求項６】
前記加熱処理における温度が４０℃以上である、請求項５に記載の導電シートの製造方法。
【請求項７】
前記バインダーが水溶性高分子であり、前記ポリマーラテックスと前記水溶性高分子との質量比（ポリマーラテックス／水溶性高分子）が１以上である、請求項５又は６に記載の導電シートの製造方法。
【請求項８】
前記水溶性高分子がゼラチンである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の導電シート。
【請求項９】
前記加熱処理が４０℃以上かつ相対湿度５％以上で行われる、請求項５〜７のいずれか１項に記載の導電シートの製造方法。
【請求項１０】
前記金属銀と前記ポリマーラテックスの質量比（金属銀／ポリマーラテックス）が２．３〜７．５である、請求項５〜７、９のいずれか１項に記載の導電シートの製造方法。
【請求項１１】
前記ポリマーラテックスにおけるポリマーが、下記一般式（１）で表される共重合体である、請求項１〜４、８のいずれか１項に記載の導電シート。
一般式（１）： −（Ａ）ｘ−（Ｂ）ｙ−（Ｃ）ｚ−（Ｄ）ｗ−
一般式（１）中、Ａ、Ｂ、Ｃ、及びＤはそれぞれ下記モノマー単位を表す。ｘ、ｙ、ｚ、及びｗは各モノマー単位のモル比率を表し、ｘは３〜６０（モル％）、ｙは３０〜９６（モル％）、ｚは０．５〜２５（モル％）、ｗは０．５〜４０（モル％）を表す。
【化１】
0005827817.tif 000013
上記式中、
Ｒ１はメチル基又はハロゲン原子を表す。ｐは０〜２の整数を表す。
Ｒ２はメチル基又はエチル基を表す。
Ｒ３は水素原子又はメチル基を表す。Ｌは２価の連結基を表す。ｑは０又は１を表す。
Ｒ４は炭素原子数５〜８０のアルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。
Ｒ５は水素原子、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、又は−ＣＨ２ＣＯＯＲ６を表す。
Ｒ６は水素原子又は炭素原子数１〜８０のアルキル基を表す。
【請求項１２】
前記ポリマーラテックスが、更に分散剤を含有し、該ポリマーラテックスにおける該分散剤とポリマーとの質量比（分散剤／ポリマー）が０．０５以下である、請求項１〜４、８、１１のいずれか１項に記載の導電シート。
【請求項１３】
前記バインダー部に更に銀難溶剤を含有する、又は前記バインダー部が銀難溶剤への浸漬処理を施されたものである、請求項１〜４、８、１１、１２のいずれか１項に記載の導電シート。
【請求項１４】
前記導電シートを１００％延伸したときの電気抵抗値をＲｂ、延伸する前の電気抵抗値（初期値）をＲ０とした場合、Ｒｂ≦（２×Ｒ０）を満足する、請求項１〜４、８、１１〜１３のいずれか１項に記載の導電シート。
【請求項１５】
請求項１〜４、８、１１〜１４のいずれか１項に記載の導電シートを用いた静電容量方式のタッチパネル。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持体上に高精細パターンの導電性細線が形成された導電シート、ハロゲン化銀を用いて支持体に高精細パターンの導電性細線が形成された導電シート、これらの導電シートの製造方法に関する。更に、本発明は、例えば、各種電極（例えばタッチパネル用電極、無機ＥＬ素子用電極、有機ＥＬ素子用電極又は太陽電池用電極）、発熱シート、及びプリント配線基板などとしても使用することができる導電シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、低抵抗の導電性細線をハロゲン化銀写真感光材料の現像で得られる銀像から形成する方法が電磁波シールド膜やプリント配線の分野で検討されている。この方式は種々のパターンをマスクを介した露光と引き続く現像処理により形成することができるので、製造工程が安定している。現像方式としては例えば、特許文献１を挙げることができ、細線幅２０μｍで格子間隔２５０μｍの網目パターンで表面抵抗５０〜１００Ω／□の実施例が記載されている。
【０００３】
導電性が高い銀はイオンマイグレーションが発生しやすいという問題がある。イオンマイグレーションとは一種の電極作用であり、電圧印可された電極間に電解液が存在した場合、陽極の金属が溶出し、陰極へ移行、析出する現象である。イオンマイグレーションが配線金属間で起こり、溶出、移行し、析出した金属が短絡してしまうと回路機能を果たさなくなってしまう。  
【０００４】
イオンマイグレーションを抑制する方法としては、電極パターン形成後に樹脂成分を架橋させる方法（特許文献２）が提案されている。
【０００５】
しかしながら、特許文献２に記載の技術では、現像後に架橋剤を作用させる工程が必要であり工程数が増加するため生産性及びコストの面などで問題がある。また、架橋剤を作用させるのみではマイグレーション耐性が不十分であり問題である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−１２９２０５号公報
【特許文献２】特開２０１０−２０５９２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は前記課題を考慮してなされたものであり、マイグレーション耐性に優れる導電シートの提供を目的とする。更に本発明は、前記マイグレーション耐性に優れる導電シートを工程を増やさずに製造する方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
＜１＞
支持体上に、金属銀を含有する導電性細線からなる導電層と、前記導電性細線間に存在するバインダー部とを有する導電シートであって、
前記バインダー部の含水率が１０％以下であり、前記導電層の表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下であって、
前記バインダー部が、ポリマーラテックスと水溶性高分子とを含有し、
前記金属銀と前記ポリマーラテックスとの質量比（金属銀／ポリマーラテックス）が２．３以上である、導電シート。
但し、前記含水率とは、６０℃、９０％ＲＨで２０日間経時させた後の平衡含水率であり、重量法により以下のように算出したものである。
バインダー部の含水率（％）＝（Ｗ２−Ｗ１）／Ｗ１×１００
Ｗ１は１２０℃、４時間経時させた後（絶乾状態）のバインダー部の質量であり、Ｗ２は６０℃、９０％ＲＨで２０日間経時させた後のバインダー部の質量である。
導電層上に保護層を有する場合は、バインダー部は保護層も含む。
＜２＞
前記ポリマーラテックスと前記水溶性高分子との質量比（ポリマーラテックス／水溶性高分子）が１以上である、＜１＞に記載の導電シート。
＜３＞
前記ポリマーラテックスと前記水溶性高分子との質量比（ポリマーラテックス／水溶性高分子）が１．５〜３．５である、＜２＞に記載の導電シート。
＜４＞
前記金属銀と前記ポリマーラテックスとの質量比（金属銀／ポリマーラテックス）が２．３〜７．５である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の導電シート。
＜５＞
支持体上に、金属銀を含有する導電性細線からなる表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下である導電層と、前記導電性細線間に存在する含水率が１０％以下であるバインダー部とを有し、前記金属銀と前記ポリマーラテックスとの質量比（金属銀／ポリマーラテックス）が２．３以上である導電シートの製造方法であって、
支持体上に、ハロゲン化銀と、ポリマーラテックスを含むバインダーとを含有する感光性層を形成し、該感光性層を露光、現像処理した後に更に加熱処理する、導電シートの製造方法。
但し、前記含水率とは、６０℃、９０％ＲＨで２０日間経時させた後の平衡含水率であり、重量法により以下のように算出したものである。
バインダー部の含水率（％）＝（Ｗ２−Ｗ１）／Ｗ１×１００
Ｗ１は１２０℃、４時間経時させた後（絶乾状態）のバインダー部の質量であり、Ｗ２は６０℃、９０％ＲＨで２０日間経時させた後のバインダー部の質量である。
導電層上に保護層を有する場合は、バインダー部は保護層も含む。
＜６＞
前記加熱処理における温度が４０℃以上である、＜５＞に記載の導電シートの製造方法。
＜７＞
前記バインダーが水溶性高分子であり、前記ポリマーラテックスと前記水溶性高分子との質量比（ポリマーラテックス／水溶性高分子）が１以上である、＜５＞又は＜６＞に記載の導電シートの製造方法。
＜８＞
前記水溶性高分子がゼラチンである、＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の導電シート。
＜９＞
前記加熱処理が４０℃以上かつ相対湿度５％以上で行われる、＜５＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の導電シートの製造方法。
＜１０＞
前記金属銀と前記ポリマーラテックスの質量比（金属銀／ポリマーラテックス）が２．３〜７．５である、＜５＞〜＜７＞、＜９＞のいずれか１項に記載の導電シートの製造方法。
＜１１＞
前記ポリマーラテックスにおけるポリマーが、下記一般式（１）で表される共重合体である、＜１＞〜＜４＞、＜８＞のいずれか１項に記載の導電シート。
一般式（１）： −（Ａ）ｘ−（Ｂ）ｙ−（Ｃ）ｚ−（Ｄ）ｗ−
一般式（１）中、Ａ、Ｂ、Ｃ、及びＤはそれぞれ下記モノマー単位を表す。ｘ、ｙ、ｚ、及びｗは各モノマー単位のモル比率を表し、ｘは３〜６０（モル％）、ｙは３０〜９６（モル％）、ｚは０．５〜２５（モル％）、ｗは０．５〜４０（モル％）を表す。
【化１０１】
0005827817.tif 000002
上記式中、
Ｒ１はメチル基又はハロゲン原子を表す。ｐは０〜２の整数を表す。
Ｒ２はメチル基又はエチル基を表す。
Ｒ３は水素原子又はメチル基を表す。Ｌは２価の連結基を表す。ｑは０又は１を表す。
Ｒ４は炭素原子数５〜８０のアルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。
Ｒ５は水素原子、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、又は−ＣＨ２ＣＯＯＲ６を表す。
Ｒ６は水素原子又は炭素原子数１〜８０のアルキル基を表す。
＜１２＞
前記ポリマーラテックスが、更に分散剤を含有し、該ポリマーラテックスにおける該分散剤とポリマーとの質量比（分散剤／ポリマー）が０．０５以下である、＜１＞〜＜４＞、＜８＞、＜１１＞のいずれか１項に記載の導電シート。
＜１３＞
前記バインダー部に更に銀難溶剤を含有する、又は前記バインダー部が銀難溶剤への浸漬処理を施されたものである、＜１＞〜＜４＞、＜８＞、＜１１＞、＜１２＞のいずれか１項に記載の導電シート。
＜１４＞
前記導電シートを１００％延伸したときの電気抵抗値をＲｂ、延伸する前の電気抵抗値（初期値）をＲ０とした場合、Ｒｂ≦（２×Ｒ０）を満足する、＜１＞〜＜４＞、＜８＞、＜１１＞〜＜１３＞のいずれか１項に記載の導電シート。
＜１５＞
＜１＞〜＜４＞、＜８＞、＜１１＞〜＜１４＞のいずれか１項に記載の導電シートを用いた静電容量方式のタッチパネル。 
本発明は、上記＜１＞〜＜１５＞に関するものであるが、その他の事項（たとえば下記［１］〜［２１］に記載した事項など）についても参考のために記載した。
［１］
支持体上に、金属銀を含有する導電性細線からなる導電層と、前記導電性細線間に存在するバインダー部とを有する導電シートであって、
前記バインダー部の含水率が１０％以下であり、前記導電層の表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下である、導電シート。
［２］
前記バインダー部が、ポリマーラテックスと水溶性高分子とを含有し、前記ポリマーラテックスと前記水溶性高分子との質量比（ポリマーラテックス／水溶性高分子）が１以上である、上記［１］に記載の導電シート。
［３］
前記ポリマーラテックスと前記水溶性高分子との質量比（ポリマーラテックス／水溶性高分子）が１．５〜３．５である、上記［２］に記載の導電シート。
［４］
前記金属銀と前記ポリマーラテックスとの質量比（金属銀／ポリマーラテックス）が１〜１０である、上記［２］又は［３］に記載の導電シート。
［５］
支持体上に、ハロゲン化銀と、ポリマーラテックスを含むバインダーとを含有する感光性層を形成し、該感光性層を露光、現像処理した後に更に加熱処理することにより形成された金属銀を含有する導電性細線からなる導電層と、該導電性細線間に存在するバインダー部とを有する導電シートであって、前記バインダー部の含水率が１０％以下であり、前記導電層の表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下である、導電シート。
［６］
前記加熱処理における温度が４０℃以上である、上記［５］に記載の導電シート。
［７］
前記バインダーが水溶性高分子であり、前記ポリマーラテックスと前記水溶性高分子との質量比（ポリマーラテックス／水溶性高分子）が１以上である、上記［５］又は［６］に記載の導電シート。
［８］
前記ポリマーラテックスと前記水溶性高分子との質量比（ポリマーラテックス／水溶性高分子）が１．５〜３．５である、上記［７］に記載の導電シート。
［９］
前記金属銀と前記ポリマーラテックスとの質量比（金属銀／ポリマーラテックス）が１〜１０である、上記［５］〜［８］のいずれか１項に記載の導電シート。
［１０］
前記水溶性高分子がゼラチンである、上記［２］〜［４］及び［７］〜［９］のいずれか１項に記載の導電シート。
［１１］
前記加熱処理が４０℃以上かつ相対湿度５％以上で行われる、上記［５］〜［１０］のいずれか１項に記載の導電シート。
［１２］
前記金属銀と前記ポリマーラテックスの質量比（金属銀／ポリマーラテックス）が２．３〜７．５である、上記［２］〜［１１］のいずれか１項に記載の導電シート。
［１３］
前記ポリマーラテックスにおけるポリマーが、下記一般式（１）で表される共重合体である、上記［２］〜［１２］のいずれか１項に記載の導電シート。
一般式（１）：  −（Ａ）ｘ−（Ｂ）ｙ−（Ｃ）ｚ−（Ｄ）ｗ−
一般式（１）中、Ａ、Ｂ、Ｃ、及びＤはそれぞれ下記モノマー単位を表す。ｘ、ｙ、ｚ、及びｗは各モノマー単位のモル比率を表し、ｘは３〜６０（モル％）、ｙは３０〜９６（モル％）、ｚは０．５〜２５（モル％）、ｗは０．５〜４０（モル％）を表す。
【０００９】
【化１】
0005827817.tif 000003
【００１０】
上記式中、
Ｒ１はメチル基又はハロゲン原子を表す。ｐは０〜２の整数を表す。
Ｒ２はメチル基又はエチル基を表す。
Ｒ３は水素原子又はメチル基を表す。Ｌは２価の連結基を表す。ｑは０又は１を表す。
Ｒ４は炭素原子数５〜８０のアルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。
Ｒ５は水素原子、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、又は−ＣＨ２ＣＯＯＲ６を表す。
Ｒ６は水素原子又は炭素原子数１〜８０のアルキル基を表す。
［１４］
前記ポリマーラテックスが、更に分散剤を含有し、該ポリマーラテックスにおける該分散剤とポリマーとの質量比（分散剤／ポリマー）が０．０５以下である、上記［２］〜［１３］のいずれか１項に記載の導電シート。
［１５］
前記バインダー部に更に銀難溶剤を含有する、又は前記バインダー部が銀難溶剤への浸漬処理を施されたものである、上記［１］〜［１４］のいずれか１項に記載の導電シート。
［１６］
支持体上に、物理現像核とポリマーラテックスとを含有する非感光性層を形成し、前記非感光性層上にハロゲン化銀を含有する剥離可能な感光性層を形成し、前記感光性層を露光し、拡散転写現像処理することにより前記感光性層の未露光部のハロゲン化銀を前記非感光性層の物理現像核に転写して金属銀を含有する導電性細線からなる導電層を形成し、
該感光性層を除去し、該導電層が形成された非感光性層を更に加熱処理することにより前記導電性細線間にバインダー部が形成された導電シートであって、前記バインダー部の含水率が１０％以下であり、前記導電層の表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下である、導電シート。
［１７］
支持体上に、金属銀を含有する導電性細線からなる表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下である導電層と、前記導電性細線間に存在する含水率が１０％以下であるバインダー部とを有する導電シートの製造方法であって、
支持体上に、ハロゲン化銀と、ポリマーラテックスを含むバインダーとを含有する感光性層を形成する工程、
前記感光性層を露光した後、現像処理することにより金属銀を含有する導電性細線からなる導電層を形成する工程、
前記現像処理の後に加熱処理によって前記ポリマーラテックスを造膜させてバインダー部を前記導電性細線間に形成する工程を有する、導電シートの製造方法。
［１８］
支持体上に、金属銀を含有する導電性細線からなる表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下である導電層と、前記導電性細線間に存在する含水率が１０％以下であるバインダー部とを有する導電シートの製造方法であって、
支持体上に、ハロゲン化銀と物理現像核とポリマーラテックスを含むバインダーとを含有する感光性層を形成する工程、
前記感光性層を露光した後、現像処理することにより金属銀を含有する導電性細線からなる導電層を形成する工程、
前記現像処理の後に加熱処理によって前記ポリマーラテックスを造膜させてバインダー部を前記導電性細線間に形成する工程を有する、導電シートの製造方法。
［１９］
支持体上に、金属銀を含有する導電性細線からなる表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下である導電層と、前記導電性細線間に存在する含水率が１０％以下であるバインダー部とを有する導電シートの製造方法であって、
支持体上に、物理現像核とポリマーラテックスとを含有する非感光性層を形成する工程、
前記非感光性層上にハロゲン化銀を含有する感光性層を形成する工程、
前記感光性層を露光した後、拡散転写現像処理により前記感光性層の未露光部のハロゲン化銀を前記非感光性層の物理現像核に転写して金属銀を含有する導電性細線からなる導電層を形成する工程、
該感光性層を除去する工程、
前記現像処理の後に加熱処理によって該導電層が形成された非感光性層における前記ポリマーラテックスを造膜させてバインダー部を前記導電性細線間に形成する工程を有する、導電シートの製造方法。
［２０］
前記導電シートを１００％延伸したときの電気抵抗値をＲｂ、延伸する前の電気抵抗値（初期値）をＲ０とした場合、Ｒｂ≦（２×Ｒ０）を満足する、上記［１］〜［１６］のいずれか１項に記載の導電シート。
［２１］
上記［１］〜［１６］及び上記［２０］のいずれか１項に記載の導電シートを用いた静電容量方式のタッチパネル。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、導電性細線間で金属イオンの移動により発生するマイグレーションが抑制された導電シートを提供することができる。また本発明によれば、該マイグレーション耐性に優れる導電シートを生産性良く製造する方法を提供することができる。
本発明の導電シートはフレキシビリティ（成形性など）に優れることから、各種電極（例えばタッチパネル用電極、無機ＥＬ素子用電極、有機ＥＬ素子用電極又は太陽電池用電極）に応用することができ、導電性パターニング材料としてプリント配線基板などにも広く応用することができ、更に、発熱シートなどにも応用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の導電シートの１態様例を示す断面模式図である。
【図２】ハロゲン化銀乳剤を用いた導電層形成プロセスの概念図である。
【図３】本発明の導電シートを製造するために用いる感光材料の１態様例を示す断面模式図である。
【図４】支持体の両面に電極（導電層）を形成したタッチパネルモデルの断面模式図である。
【図５】上部導電シートと下部導電シートの積層方式の１態様の断面模式図である。
【図６】上部導電シートと下部導電シートの積層方式の１態様の断面模式図である。
【図７】上部導電シートと下部導電シートの積層方式の１態様の断面模式図である。
【図８】マイグレーション試験に用いる、くし型パターン電極を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本明細書において「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味として使用される。
【００１４】
本発明の導電シートは、支持体上に、金属銀を含有する導電性細線からなる導電層と、前記導電性細線間に存在するバインダー部とを有する導電シートであって、前記バインダー部の含水率が１０％以下であり、前記導電層の表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下であることを特徴としている。
また、本発明は、支持体上に、ハロゲン化銀とポリマーラテックスとを含有する感光性層を露光、現像処理した後に更に加熱処理することにより形成された金属銀を含有する導電性細線からなる導電層とバインダー部とを有する導電シートであって、前記バインダー部は前記導電性細線間に存在し、前記バインダー部の含水率が１０％以下であり、前記導電層の表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下である、導電シートにも関する。
更に、本発明は、支持体上に、物理現像核とポリマーラテックスとを含有する非感光性層を形成し、前記非感光性層上にハロゲン化銀を含有する剥離可能な感光性層を形成し、前記感光性層を露光し、拡散転写現像処理することにより前記感光性層の未露光部のハロゲン化銀を前記非感光性層の物理現像核に転写して金属銀を含有する導電性細線からなる導電層を形成し、該感光性層を除去し、該導電層が形成された非感光性層を更に加熱処理することにより前記導電性細線間にバインダー部が形成された導電シートであって、前記バインダー部の含水率が１０％以下であり、前記導電層の表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下である、導電シートにも関する。
また、本発明は前記導電シートの製造方法にも関する。
【００１５】
（バインダー部の含水率）
本発明の導電シートにおける、導電性細線間に存在するバインダー部の含水率は１０％以下である。これにより本発明の導電シートは優れたマイグレーション耐性を発揮することができるものと考えられる。本発明において、バインダー部の含水率は、３．０％〜６．５％が好ましく、４．０％〜６．５％がより好ましく、４．６％〜５．２％が更に好ましい。
本発明におけるバインダー部の含水率は、６０℃、９０％ＲＨで２０日間経時させた後の平衡含水率であり、重量法により以下のように算出する。
バインダー部の含水率（％）＝（Ｗ２−Ｗ１）／Ｗ１×１００
Ｗ１は１２０℃、４時間経時させた後（絶乾状態）のバインダー部の質量であり、Ｗ２は６０℃、９０％ＲＨで２０日間経時させた後のバインダー部の質量である。
【００１６】
図１は本発明の導電シートの一態様例を示した断面模式図であり、支持体３２上に、金属銀を含有する導電性細線からなる導電層１０１と、前記導電性細線間に存在するバインダー部１０２とを有する導電シート１０を表している。前記バインダー部の含水率は１０％以下であり、前記導電層の表面抵抗が１０００オーム／ｓｑ．以下である。
このような本発明の導電シートは、例えば、支持体上にハロゲン化銀を含む感光性層を有する感光材料を形成し、該感光材料に露光、現像処理した後に加熱処理することにより作成することができ、好ましくは以下の３つの態様の製造方法により作成される。
［１］支持体上に、ハロゲン化銀とポリマーラテックスを含むバインダーとを含有する感光性層を形成する工程、前記感光性層を露光した後、現像処理することにより金属銀を含有する導電性細線からなる導電層を形成する工程、前記現像処理の後に加熱処理によって前記ポリマーラテックスを造膜させてバインダー部を前記導電性細線間に形成する工程を有する、導電シートの製造方法。
［２］支持体上に、ハロゲン化銀と物理現像核とポリマーラテックスとを含有する感光性層を形成する工程、前記感光性層を露光した後、現像処理することにより金属銀を含有する導電性細線からなる導電層を形成する工程、前記現像処理の後に加熱処理によって前記ポリマーラテックスを造膜させてバインダー部を前記導電性細線間に形成する工程を有する、導電シートの製造方法。
［３］支持体上に、物理現像核とポリマーラテックスとを含有する非感光性層を形成する工程、前記非感光性層上にハロゲン化銀を含有する感光性層を形成する工程、前記感光性層を露光した後、拡散転写現像処理により金属銀を含有する導電性細線からなる導電層を形成する工程、該感光性層を除去する工程、前記現像処理の後に加熱処理によって前記ポリマーラテックスを造膜させてバインダー部を前記導電性細線間に形成する工程を有する、導電シートの製造方法。
【００１７】
〔支持体〕
本発明に用いられる支持体は透明支持体であることが好ましく、プラスチックフィルム、プラスチック板、及びガラス板などを用いることができるが、プラスチックフィルムが好ましい。透明支持体を用いることで本発明の導電シートは透明導電シートとして好適に用いることができる。
プラスチックフィルムの原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレンなどのポリオレフィン類；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどの塩化ビニル系樹脂；その他、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを用いることができる。
本発明におけるプラスチックフィルムは、単層で用いることもできるが、２層以上を組み合わせた多層フィルムとして用いることも可能である。
支持体としては、ＰＥＴ（２５８℃）、ＰＥＮ（２６９℃）、ＰＥ（１３５℃）、ＰＰ（１６３℃）、ポリスチレン（２３０℃）、ポリ塩化ビニル（１８０℃）、ポリ塩化ビニリデン（２１２℃）やＴＡＣ（２９０℃）等の融点が約２９０℃以下であるプラスチックフィルムが好ましく、特にＰＥＴが好ましい。（  ）内の数値は融点である。フィルムの透過率は８５％〜１００％であることが好ましい。
透明支持体フィルムの厚みは５０μｍ以上、５００μｍ以下の範囲で任意に選択することができる。特に透明導電シートの支持体の機能の他にタッチ面の機能をも兼ねる場合は、５００μｍを超えた厚みで設計することも可能である。透明支持体上にハロゲン化銀を含む感光性層を塗布方式で設ける場合は、フィルムの厚みとしては、５０μｍ以上、２５０μｍ以下とすることが製造上より好ましい。
【００１８】
［感光材料］
本発明の導電シートは、支持体の少なくとも一方の面に、ハロゲン化銀を含む感光性層が形成された導電シート製造用感光材料を露光、現像処理することにより得られる。前記感光材料は、前記感光性層上に保護層を有していてもよい。
前記感光材料は最も単純な構成では、図２（ｂ）に示すように、支持体の一方の面上に感光性層を有するものである。該感光性層上には保護層を有してもよい。また、図３に示す感光材料０５のように、支持体の両面に感光性層を有してもよい。図３は、支持体の両面に感光性層を有する構成であり、支持体３２のおもて面側には上部感光材料層（おもて面感光材料層とも言う）５０が、うら面側には下部感光材料層（うら面感光材料層とも言う）６０が形成されている。上部感光材料層５０は、支持体３２上に下塗り層５６、アンチハレーション層５７、ハロゲン化銀を含む上部感光性層（おもて面感光性層とも言う）５１、保護層５５が形成されている。下塗り層、アンチハレーション層、保護層は、必要に応じて設けられる層である。上部感光性層５１はいくつかのハロゲン化銀を含む感光性層とその感光性層の間にある中間層から形成されていてもよい。下部感光材料層６０も上部感光材料層５０と同様の層構成を有していてもよい。
【００１９】
〔ハロゲン化銀を含む感光性層〕
次にハロゲン化銀を含む感光性層について説明するが、現像銀を導電層材料とするためには、感光材料の種類と、現像処理の種類とを、以下の３通りの方式から選択することができる。
（１）物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を化学現像又は熱現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる方式。
（２）物理現像核をハロゲン化銀乳剤層中に含む感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を溶解物理現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる方式。
（３）物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料と、物理現像核を含む非感光性層を有する受像シートを重ね合わせて拡散転写現像して金属銀部を非感光性受像シート上に形成させる方式。
【００２０】
上記（１）の態様は、黒白現像タイプであり、感光材料上に導電性細線からなる電極などの導電性金属部（導電性膜）が形成される。得られる現像銀は化学現像銀又は熱現像銀であり、高比表面のフィラメントである。更に、メッキ処理、又は物理現像の後続過程を設ける場合は高活性で好ましい方式である。
上記（２）の態様は、露光部では、物理現像核近縁のハロゲン化銀粒子が溶解されて現像核上に沈積することによって感光材料上に導電性細線からなる電極などの導電性金属部（導電性膜）が形成される。これも黒白現像タイプである。現像作用が、物理現像核上への析出であるので高活性であるが、得られる現像銀は比表面が小さい球形である。
上記（３）の態様は、未露光部においてハロゲン化銀粒子が溶解されて拡散して受像シート上の現像核上に沈積することによって受像シート上に導電性細線からなる電極などの導電性金属部（導電性膜）が形成される。いわゆる２シートのセパレートタイプであって、受像シートを感光材料から剥離して用いる態様である。
いずれの態様もネガ型現像処理及び反転現像処理のいずれの現像を選択することもできる（拡散転写方式の場合は、感光材料としてオートポジ型感光材料を用いることによってネガ型現像処理が可能となる）。
【００２１】
ここでいう化学現像、熱現像、溶解物理現像、及び拡散転写現像は、当業界で通常用いられている用語どおりの意味であり、写真化学の一般教科書、例えば菊地真一著「写真化学」（共立出版社刊行）、Ｃ．Ｅ．Ｋ．Ｍｅｅｓ編「Ｔｈｅ  Ｔｈｅｏｒｙ  ｏｆ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ，４ｔｈ  ｅｄ．」（Ｍｃｍｉｌｌａｎ社、１９７７年刊行）に解説されている。また、例えば、特開２００４−１８４６９３号公報、同２００４−３３４０７７号公報、同２００５−０１０７５２号公報等に記載の技術を参照することもできる。
【００２２】
上記の（１）〜（３）の方式の中で、方式（１）が、現像前の感光性層に物理現像核を有さないこと、２シートの拡散転写方式でないことから、方式（１）が最も簡便、安定な処理ができ、本発明の導電シートの製造には好ましい。以下、方式（１）での説明を記載するが、他の方式を用いる場合には上段記載の文献を参照することができる。なお、”溶解物理現像”は、方式（２）にのみ固有な現像法ではなく、方式（１）でも利用できる現像方法である。
【００２３】
（ハロゲン化銀乳剤）
本発明のハロゲン化銀乳剤に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。例えば、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、更に臭化銀や塩化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。塩臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀もまた好ましく用いられる。より好ましくは、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀であり、最も好ましくは、塩化銀５０モル％以上を含有する塩臭化銀、沃塩臭化銀が用いられる。
【００２４】
なお、ここで、「臭化銀を主体としたハロゲン化銀」とは、ハロゲン化銀組成中に占める臭化物イオンのモル分率が５０％以上のハロゲン化銀をいう。この臭化銀を主体としたハロゲン化銀粒子は、臭化物イオンのほかに沃化物イオン、塩化物イオンを含有していてもよい。
【００２５】
なお、ハロゲン化銀乳剤における沃化銀含有率は、ハロゲン化銀乳剤１モルあたり１．５ｍｏｌ％を超えない範囲であることが好ましい。沃化銀含有率を１．５ｍｏｌ％を超えない範囲とすることにより、カブリを防止し、圧力性を改善することができる。より好ましい沃化銀含有率は、ハロゲン化銀乳剤１モルあたり１ｍｏｌ％以下である。
【００２６】
ハロゲン化銀の平均粒子サイズ、ハロゲン化銀粒子の形状及び分散度と変動係数は、特開２００９−１８８３６０号の段落３６及び３７の記載を参照することができる。また、ハロゲン化銀乳剤の安定化や高感化のために用いられるロジウム化合物、イリジウム化合物などのＶＩＩＩ族、ＶＩＩＢ族に属する金属化合物、パラジウム化合物の利用については、特開２００９−１８８３６０号の段落３９〜段落４２の記載を参照することができる。更に化学増感については、特開２００９−１８８３６０号の段落４３の技術記載を参照することができる。
【００２７】
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、塩臭化銀乳剤であることがこのましい。また、現像前、現像中のカブリを抑制するために沃化銀を少量含有させることが好ましく、０．５モル％程度含ませることがより好ましい。以下では沃化銀を左記の程度含んでいても特に表示はしない。
【００２８】
本発明においては、本発明の感光材料０５を現像処理後に形成される現像銀の導電性細線からなる電極の反射色度を調整するため、図３に示すように、感光性層５１及び６１を第一感光性層（ｕ層）、第二感光性層（ｍ層）、第三感光性層（ｏ層）にわけ、３層構成の感光性層として塗布して形成してもよい。
【００２９】
（バインダー）
ハロゲン化銀を含む感光性層には、銀塩粒子を均一に分散させ、かつ乳剤層と支持体との密着を補助する目的でバインダーが用いられる。バインダーとしては水溶性高分子が好ましく、ゼラチンが特に好ましい。ゼラチンは後述するポリマーラテックスとともに本発明の導電シートにおけるバインダー部を形成する。上記バインダーとしては、ゼラチンに替えて、又はゼラチンと共に、例えば、カラギナン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリサッカライド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウム等を用いることもできるが、ゼラチンが好ましい。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、その他アミノ基、カルボキシル基を修飾したゼラチン（フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン）を使用することができる。
【００３０】
本発明の支持体上に形成される感光性層に含まれる銀とゼラチンの体積比は１．０以上であることが好ましく、１．５以上であることが更に好ましい。銀とゼラチンの体積比を１．０以上とすることで、現像処理後の現像銀の導電性を高めることができる。なお、本発明における銀とゼラチンの体積比は、ハロゲン化銀乳剤層に含まれる銀の質量及びバインダーの質量を算出し、銀の密度を１０．５ｇ／ｃｍ３、ゼラチンの密度を１．３４ｇ／ｃｍ３として計算して求めるものとする。
【００３１】
（ポリマーラテックス）
本発明の導電シートにおけるバインダー部は、ポリマーラテックスを加熱処理により造膜させたものを含むことが好ましい。ポリマーラテックスに含まれるポリマー粒子が、加熱処理されて造膜されることで透水性の小さい膜を形成することができ、バインダー部への水分の浸入を防ぐことができる。
【００３２】
前記加熱処理は４０℃以上であることがポリマー粒子の造膜温度の観点から好ましく、５０℃以上がより好ましく、６０℃以上が更に好ましい。また、支持体のカール等の観点から１５０℃以下が好ましく、１００℃以下がより好ましい。
加熱時間は特に限定されないが、ベースがカールしない、生産性の観点から、１〜５分間であることが好ましく、１〜３分間であることがより好ましい。
【００３３】
本発明において前記加熱処理は、通常、露光、現像処理の後に行われる乾燥工程と兼ねることができるため、ポリマー粒子の造膜のために新たな工程を増加させる必要がなく、生産性、コスト等の観点で優れる。
【００３４】
ポリマーラテックスを含有するバインダー部を形成するための具体的な手法としては、例えば以下の（Ｉ）及び（ＩＩ）が挙げられる。
（Ｉ）：支持体上に、ハロゲン化銀とポリマーラテックスとを含有する感光性層を設け、該感光性層を露光、現像処理した後に更に加熱処理することにより金属銀を含有する導電性細線からなる電極とバインダー部とを形成する方法。
（ＩＩ）：支持体上に、物理現像核とポリマーラテックスとを含有する非感光性層を形成し、前記非感光性層上にハロゲン化銀を含有する剥離可能な感光性層を形成し、前記感光性層を露光し、拡散転写現像処理することにより前記感光性層の未露光部のハロゲン化銀を前記非感光性層の物理現像核に転写して金属銀を含有する導電性細線からなる電極を形成し、該感光性層を除去し、該電極が形成された非感光性層を更に加熱処理する方法。
【００３５】
ポリマーラテックスに含まれるポリマーとしては、水透過性の小さい膜を形成することによりバインダー部及び該バインダー部に隣接する層への水分の浸入を防止するという観点から、下記一般式（１）で表される共重合体が好ましい。
一般式（１）：  −（Ａ）ｘ−（Ｂ）ｙ−（Ｃ）ｚ−（Ｄ）ｗ−
一般式（１）中、Ａ、Ｂ、Ｃ、及びＤはそれぞれ下記モノマー単位を表す。ｘ、ｙ、ｚ、及びｗは各モノマー単位のモル比率を表し、ｘは３〜６０（モル％）、ｙは３０〜９６（モル％）、ｚは０．５〜２５（モル％）、ｗは０．５〜４０（モル％）を表す。
【００３６】
【化２】
0005827817.tif 000004
【００３７】
上記式中、
Ｒ１はメチル基又はハロゲン原子を表す。ｐは０〜２の整数を表す。
Ｒ２はメチル基又はエチル基を表す。
Ｒ３は水素原子又はメチル基を表す。Ｌは２価の連結基を表す。ｑは０又は１を表す。
Ｒ４は炭素原子数５〜８０のアルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。
Ｒ５は水素原子、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、又は−ＣＨ２ＣＯＯＲ６を表す。
Ｒ６は水素原子又は炭素原子数１〜８０のアルキル基を表す。
【００３８】
一般式（Ａ）で表されるモノマーユニットにおいて、Ｒ１はメチル基又はハロゲン原子を表し、好ましくはメチル基、塩素原子、臭素原子を表す。
ｐは０〜２の整数を表し、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
【００３９】
一般式（Ｂ）で表されるモノマーユニットにおいて、Ｒ２はメチル基又はエチル基を表し、メチル基が好ましい。
【００４０】
一般式（Ｃ）で表されるモノマーユニットにおいて、Ｒ３は水素原子、又はメチル基を表し、好ましくは水素原子を表す。
Ｌは２価の連結基を表し、好ましくは下記一般式（３０）で表される基である。
一般式（３０）：−（ＣＯ−Ｘ１）ｒ−Ｘ２−
式中Ｘ１は、酸素原子又は−ＮＲ３０−を表す。ここでＲ３０は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアシル基を表し、それぞれ置換基（例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基など）を有してもよい。Ｒ３０は好ましくは水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基など）である。Ｘ１として特に好ましいのは、酸素原子又は−ＮＨ−である。ｒは０又は１を表す。
【００４１】
Ｘ２は、アルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレン基、アリーレンアルキレン基、又はアルキレンアリーレンアルキレン基を表し、これらのアルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレン基、アリーレンアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基には−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨ−、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒ３１）−、−Ｎ（Ｒ３１）ＳＯ２−などが途中に挿入されてもよい。ここでＲ３１は炭素数１〜６の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、メチル基、エチル基、イソプロピル基などがある。Ｘ２の好ましい例として、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ（Ｃ６Ｈ４）−などを挙げることができる。
ｑは０又は１を表し、０が好ましい。
【００４２】
一般式（Ｄ）において、Ｒ４は炭素原子数５〜８０のアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、好ましくは炭素数５〜５０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜３０のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜２０のアルキル基である。
Ｒ５は水素原子、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、又は−ＣＨ２ＣＯＯＲ６を表し、水素原子、メチル基、ハロゲン原子、−ＣＨ２ＣＯＯＲ６が好ましく、水素原子、メチル基、−ＣＨ２ＣＯＯＲ６が更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。Ｒ６は水素原子、炭素原子数１〜８０のアルキル基であり、Ｒ４と同じでも異なってもよく、Ｒ６の炭素原子数は１〜７０が好ましく、１〜６０が更に好ましい。
【００４３】
一般式（１）のポリマーの組成比に関して説明する。
ｘとしては３〜６０モル％、好ましくは３〜５０モル％、より好ましくは３〜４０モル％である。
ｙとしては、３０〜９６モル％、好ましくは３５〜９５モル％、特に好ましくは４０〜９０モル％である。
また、ｚが小さすぎるとゼラチンのような親水性保護コロイドとの親和性が減少するためマット剤の凝集・剥落故障の発生確率が高くなり、ｚが大きすぎると感光材料のアルカリ性の処理液に本発明のマット剤が溶解してしまう。そのため、ｚとしては０．５〜２５モル％、好ましくは０．５〜２０モル％、特に好ましくは１〜２０モル％である。
ｗとしては、０．５〜４０モル％、好ましくは０．５〜３０モル％である。
【００４４】
一般式（１）において、ｘは３〜４０モル％、ｙは４０〜９０モル％、ｚは０．５〜２０モル％、ｗは０．５〜３０モル％の場合が特に好ましい。
一般式（１）で表されるポリマーとしては、下記一般式（２）で表される繰り返し単位を含むポリマーが好ましい。
【００４５】
【化３】
0005827817.tif 000005
【００４６】
上記式中、ａ、ｂ、ｃ、及びｄは各モノマー単位のモル比率を表し、ａは３〜６０（モル％）、ｂは３０〜９６（モル％）、ｃは０．５〜２５（モル％）、ｄは０．５〜４０（モル％）を表す。
ａの好ましい範囲は上記ｘの好ましい範囲と同じであり、ｂの好ましい範囲は上記ｙの好ましい範囲と同じであり、ｃの好ましい範囲は上記ｚの好ましい範囲と同じであり、ｄの好ましい範囲は上記ｗの好ましい範囲と同じである。
【００４７】
本発明におけるラテックスポリマーは、前記一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）以外のモノマーユニットを含んでもよい。該一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）以外のモノマーユニットを形成するためのモノマーとしてはアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル類、オレフィン類、クロトン酸エステル類、イタコン酸ジエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、アクリルアミド類、不飽和カルボン酸類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルケトン類、ビニル異節環化合物、グリシジルエステル類、不飽和ニトリル類などが挙げられる。これらのモノマーとしては特許第３７５４７４５号公報の［００１０］〜［００２２］にも記載されている。
疎水性の観点からアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類が好ましく、ヒドロキシエチルメタクリレートなどのヒドロキシアルキルメタクリレート又はヒドロキシアルキルアクリレートがより好ましい。本発明におけるラテックスポリマーは、前記一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）以外に下記一般式（Ｅ）で表されるモノマーユニットを含むことが好ましい。
【００４８】
【化４】
0005827817.tif 000006
【００４９】
上記式中、ＬEはアルキレン基を表す。
ＬEは炭素数１〜１０のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２〜６のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数２〜４のアルキレン基であることが更に好ましい。
【００５０】
一般式（１）で表されるポリマーとしては、下記一般式（３）で表されるポリマーが特に好ましい。
【００５１】
【化５】
0005827817.tif 000007
【００５２】
上記式中、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、及びｅ１は各モノマー単位のモル比率を表し、ａ１は３〜６０（モル％）、ｂ１は３０〜９５（モル％）、ｃ１は０．５〜２５（モル％）、ｄ１は０．５〜４０（モル％）、ｅ１は１〜１０（モル％）を表す。
ａ１の好ましい範囲は上記ｘの好ましい範囲と同じであり、ｂ１の好ましい範囲は上記ｙの好ましい範囲と同じであり、ｃ１の好ましい範囲は上記ｚの好ましい範囲と同じであり、ｄ１の好ましい範囲は上記ｗの好ましい範囲と同じである。
ｅ１は１〜１０モル％であり、好ましくは２〜９モル％であり、より好ましくは２〜８モル％である。
【００５３】
前記一般式（１）の具体例を以下に示すが、これらに限定されない。
【００５４】
【化６】
0005827817.tif 000008
【００５５】
【化７】
0005827817.tif 000009
【００５６】
一般式（１）で表されるポリマーの質量平均分子量は、１０００〜１００万が好ましく、２０００〜７５万がより好ましく、３０００〜５０万が更に好ましい。
【００５７】
一般式（１）で表されるポリマーは、例えば特許第３３０５４５９号及び特許第３７５４７４５号公報などを参照して合成することができる。
【００５８】
ポリマーラテックスはポリマーと分散剤を含有することが好ましく、分散剤は不純物になってしまうためマイグレーションの観点から、分散剤の含有量はより少ないほうが好ましいが、分散剤を全く含有しないようにすることは分散性の観点から難しい。よって、ポリマーラテックスにおいて、ポリマーに対する分散剤の含有量（分散剤の質量／ポリマーの質量）は分散性及びマイグレーションの観点から５％以下（０．０５以下）であることが好ましく、３％以下（０．０３以下）であることが好ましく、１％以下（０．０１以下）であることが好ましい。また、含水率と不純物の観点からは０．３％以上（０．００３以上）が好ましく、０．５％以上（０．００５以上）がより好ましい。
【００５９】
本発明において、前記ポリマーラテックスと前記水溶性高分子との質量比（ポリマーラテックス／水溶性高分子）は、造膜した際の含水率及び導電性の観点から１以上であることが好ましく、１．１以上であることがより好ましく、１．１以上３．５以下であることが更に好ましく、１．５以上３．５以下であることが更により好ましく、１．５以上３．０以下であることが特に好ましく、２．０以上２．５以下であることが最も好ましい。
【００６０】
本発明における導電層の金属銀と前記ポリマーラテックスの質量比（金属銀／ポリマーラテックス）は含水率と導電性の観点から１〜１０であることが好ましく、２．３〜７．５であることがより好ましく、２．６〜５．２であることが更に好ましく、３．１〜４であることが特に好ましく、３．１〜３．９であることが最も好ましい。
【００６１】
本発明において、前記導電層の金属銀と前記バインダー部（ポリマーラテックスと水溶性高分子の合計）との質量比（金属銀／バインダー部）は、含水率と導電性の観点から、１．８以上３．８以下であることが好ましく、２．０以上３．１以下であることがより好ましく、２．２以上２．６以下であることが更に好ましい。
【００６２】
本発明の感光性層形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。
感光性層に用いられる溶媒の含有量は、感光性層に含まれる銀塩、バインダー等の合計の質量に対して３０〜９０質量％の範囲であり、５０〜８０質量％の範囲であることが好ましい。
【００６３】
本実施の形態に用いられる各種添加剤に関しては、特に制限は無く、公知のものを好ましく用いることができる。例えば、各種マット剤を用いることができ、これにより、表面粗さをコントロールすることができる。なお、マット剤は現像処理後に残存し透明性を阻害しない、処理工程で溶解する素材のものが好ましい。
【００６４】
（その他の層構成）
本発明においては感光性層の上に保護層を設けてもよい。本実施の形態において「保護層」とは、ゼラチンなどの水溶性高分子やポリマーラテックスなどの疎水性高分子からなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために感光性を有する感光性層上に形成される。その厚みは０．０５μｍ以上０．５μｍ以下が好ましい。保護層の塗布方法及び形成方法は特に限定されず、公知の塗布方法及び形成方法を適宜選択することができる。
保護層は水溶性高分子（好ましくはゼラチン）とポリマーラテックスを含有することが好ましく、ポリマーラテックスと水溶性高分子との質量比（ポリマーラテックス／水溶性高分子）が１以上であることが好ましく、１．１以上であることがより好ましく、１．１以上３．５以下であることが更に好ましく、１．５以上３．５以下であることが更により好ましく、１．５以上３．０以下であることが特に好ましく、２．０以上２．５以下であることが最も好ましい。
本発明において、保護層は、露光、現像処理前の感光性層上に設けられていてもよい。また、露光、現像処理前の感光性層上にはなく、導電層やバインダー部を形成した後に保護層を設けてもよい。
本発明における感光性層と透明支持体との間には、アンチハレーション層５７及び６７を設けることができる。アンチハレーション層に用いる材料とその使用方法については、特開２００９−１８８３６０号の段落２９から３２の記載を参照することができる。アンチハレーション層の光学濃度は露光光の強さや波長によっても異なるが、０．５から３．０程度が好ましい。
また、本発明においては感光性層と透明支持体との間には、前記アンチハレーション層以外の下塗り層を設けることができる。
【００６５】
次に、以上に記載した本発明の材料を用いて、本発明の導電シートを作るプロセスについてより詳細に説明する。
図２の（ａ）は透明支持体３２であり、（ｂ）はこの透明支持体上に感光材料層５１を塗布により設けた感光材料を表し、（ｃ）は感光材料に図示しないフォトマスクを通して露光し、露光部１１１と未露光部１１２が形成された模式図を表し、（ｄ）は、露光に引き続く現像定着処理により形成された現像銀電極１０１とバインダー部１０２を表す。以下では露光以降の各工程について説明する。
【００６６】
［露光］
本発明における感光材料は、透明支持体の少なくとも一方の面に感光性層が形成された感光材料である。図２の（ｃ）のように感光材料の感光性層を有する側に光を照射して露光する。光照射は、感光材料にフォトマスクを介して行う。マスクの開口部を透過した光は感光性層のハロゲン化銀乳剤に潜像を形成する。この潜像が形成された部分は、次の現像処理により現像銀のパターンを形成する。マスクの遮光部により露光されなかった、感光材料の未感光部は定着処理により感光しなかったハロゲン化銀乳剤粒子が溶解し層内から流出し、透明な膜となる。
【００６７】
（現像処理）
本実施の形態では、感光性層を露光した後、更に現像処理が行われる。現像処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。現像液については特に限定はしないが、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもでき、市販品では、例えば、富士フイルム社処方のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社処方のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄ−１９、Ｄ−７２等の現像液、又はそのキットに含まれる現像液を用いることができる。また、リス現像液を用いることもできる。
本発明における現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。本発明における定着処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
上記定着工程における定着温度は、約２０℃〜約５０℃が好ましく、更に好ましくは２５〜４５℃である。また、定着時間は５秒〜１分が好ましく、更に好ましくは７秒〜５０秒である。定着液の補充量は、感光材料の処理量に対して６００ｍｌ／ｍ２以下が好ましく、５００ｍｌ／ｍ２以下が更に好ましく、３００ｍｌ／ｍ２以下が特に好ましい。
現像、定着処理を施した感光材料１２２は、水洗処理や安定化処理を施されるのが好ましい。上記水洗処理又は安定化処理においては、水洗水量は通常感光材料１ｍ２当り、２０リットル以下で行われ、３リットル以下の補充量（０も含む、すなわちため水水洗）で行うこともできる。
現像処理後の露光部（導電パターン）に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。
本実施の形態における現像処理後の階調は、特に限定されるものではないが、４．０を超えることが好ましい。現像処理後の階調が４．０を超えると、光透過性部の透光性を高く保ったまま、導電性金属部の導電性を高めることができる。階調を４．０以上にする手段としては、例えば、前述のロジウムイオン、イリジウムイオンのドープ、また、現像処理液中に、ポリエチレンオキサイド誘導体を含有すること等が挙げられる。
【００６８】
（加熱処理）
本発明においては、前記感光材料を現像処理し、該現像処理された感光材料に加熱処理を行うことが好ましい。該加熱処理により、ポリマーラテックスの造膜を行うことができる。加熱処理における温度の好ましい範囲は前述のとおりである。該加熱処理は乾燥工程を兼ねることもできる。
該加熱処理は、前記好ましい温度範囲に加え、バインダーである水溶性高分子（好ましくはゼラチン）を膨潤させる観点から相対湿度５％以上で行うことが好ましく、相対湿度５０％以上がより好ましく、相対湿度８０％以上が更に好ましい。水溶性高分子が膨潤することで、ポリマーラテックスの造膜をしやすくなるため好ましい。
加熱処理は、現像工程の水洗後の乾燥温度を上げるなどにより行うことができる。
【００６９】
（現像処理後の硬膜処理）
感光性層に対して現像処理を行った後に、硬膜剤に浸漬して硬膜処理を行うことが好ましい。硬膜剤としては、例えば、カリ明礬、グルタルアルデヒド、アジポアルデヒド、２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジオキサン等のジアルデヒド類及びほう酸等の特開平２−１４１２７９号に記載のものを挙げることができる。
以上の工程を経て透明導電シートが得られるが、得られた透明導電シートの表面抵抗は０．１〜１００オーム／ｓｑ．の範囲にあることが好ましく、１〜５０オーム／ｓｑ．の範囲にあることが更に好ましく、１〜１０オーム／ｓｑ．の範囲にあることがより好ましい。
また、得られた透明導電シートの体積低効率は１６０μオームｃｍ以下であることが好ましく、１．６〜１６μオームｃｍの範囲にあることが更に好ましく、１．６〜１０μオームｃｍの範囲にあることがより好ましい。
【００７０】
（カレンダー処理）
本実施の形態の製造方法では、現像処理済みの透明導電シートに平滑化処理を施す。これによって透明導電シートの導電性が顕著に増大する。平滑化処理は、例えばカレンダーロールにより行うことができる。カレンダーロールは、通常、一対のロールからなる。以下、カレンダーロールを用いた平滑化処理をカレンダー処理と記す。
カレンダー処理に用いられるロールとしては、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等のプラスチックロール又は金属ロールが用いられる。特に、両面に乳剤層を有する場合は、金属ロール同士で処理することが好ましい。片面に乳剤層を有する場合は、シワ防止の点から金属ロールとプラスチックロールの組み合わせとすることもできる。線圧力の上限値は１９６０Ｎ／ｃｍ（２００ｋｇｆ／ｃｍ）、面圧に換算すると６９９．４ｋｇｆ／ｃｍ２）以上、更に好ましくは２９４０Ｎ／ｃｍ（３００ｋｇｆ／ｃｍ、面圧に換算すると９３５．８ｋｇｆ／ｃｍ２）以上である。線圧力の上限値は、６８８０Ｎ／ｃｍ（７００ｋｇｆ／ｃｍ）以下である。
カレンダーロールで代表される平滑化処理の適用温度は１０℃（温調なし）〜１００℃が好ましく、より好ましい温度は、金属メッシュパターンや金属配線パターンの画線密度や形状、バインダー種によって異なるが、おおよそ１０℃（温調なし）〜５０℃の範囲にある。
【００７１】
（蒸気に接触させる処理）
そして、本実施の形態の製造方法では、平滑化処理された導電パターンを蒸気に接触させるようにしてもよい（蒸気接触工程）。この蒸気接触工程は、平滑化処理された透明導電シートを、過熱蒸気に接触させる方法と、平滑化処理された導電パターン１０８を、加圧蒸気（加圧された飽和蒸気）に接触させる方法とがある。これにより短時間で簡便に導電性及び透明性を向上させることができる。水溶性バインダの一部が除去されて金属（導電性物質）同士の結合部位が増加しているものと考えられる。
【００７２】
（水洗処理）
本実施の形態の製造方法では、透明導電シートを過熱蒸気又は加圧蒸気に接触させた後に水洗処理することが好ましい。蒸気接触処理後に水洗することで、過熱蒸気又は加圧蒸気で溶解又は脆くなったバインダーを洗い流すことができ、これにより、導電性を向上させることができる。
【００７３】
（キセノンフラッシュ）
本実施の形態の製造方法では、透明導電シートにキセノンフラッシュを行うことが好ましい。キセノンフラッシュを行うことで現像銀を融着させ、短時間で簡便に導電性及び透明性を向上させることができる。
【００７４】
（めっき処理）
本実施の形態においては、上述した平滑化処理を行ってもよいし、透明導電シートに対してめっき処理を行ってもよい。めっき処理により、更に表面抵抗を低減でき、導電性を高めることができる。平滑化処理は、めっき処理の前段又は後段のいずれで行ってもよいが、めっき処理の前段で行うことで、めっき処理が効率化され均一なめっき層が形成される。めっき処理としては、電解めっきでも無電解めっきでもよい。まためっき層の構成材料は十分な導電性を有する金属が好ましく、銅が好ましい。
本発明においては導電性細線が銀と銅の合金を含有してなることも好ましい。
【００７５】
（酸化処理）
本実施の形態では、現像処理後の透明導電シート、並びに、めっき処理によって形成された導電性金属部には、酸化処理を施すことが好ましい。酸化処理を行うことにより、例えば、光透過性部に金属が僅かに沈着していた場合に、該金属を除去し、光透過性部の透過性をほぼ１００％にすることができる。
【００７６】
（銀難溶剤）
本発明の透明導電シートは、バインダー部に、更に銀難溶剤を含有するか、又はバインダー部が銀難溶剤に浸漬されたものであることが好ましい。銀難溶剤により金属のイオン化を防止することができ、マイグレーション耐性が向上する。銀難溶剤としては、ｐＫｓｐが９以上であることが好ましく、１０〜２０であることがより好ましい。銀難溶剤としては特に限定されないが、例えばＴＴＨＡ（トリエチレンテトラミン六酢酸）などが挙げられる。
なお、銀の溶解度積Ｋｓｐはこれらの化合物の銀イオンとの相互作用の強さの目安になる。Ｋｓｐの測定方法は「坂口喜堅・菊池真一，日本写真学会誌，１３，１２６，（１９５１）」と「Ａ．Ｐａｉｌｌｉｏｆｅｔ  ａｎｄ  Ｊ．Ｐｏｕｒａｄｉｅｒ，Ｂｕｌｌ．Ｓｏｃ．ｃｈｉｍ．Ｆｒａｎｃｅ，１９８２，Ｉ−４４５（１９８２）」を参照して測定することができる。
銀難溶剤の添加量は、金属配線部に１ｍｇ／ｍ２〜５００ｍｇ／ｍ２吸着されていることが好ましく、１ｍｇ／ｍ２〜３００ｍｇ／ｍ２吸着されていることがより好ましい。
【００７７】
以上のプロセスを経て形成された導電性細線からなる導電シート１０は、複数の導電性細線からなるパターニングされた電極である。
導電性の格子部を形成する導電性細線の線幅は、１μｍ以上、２０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以上、６μｍ以下であることがより好ましい。１μｍ以上、２０μｍ以下の範囲であると、低抵抗の電極を比較的容易に形成できる。
導電性の格子部を形成する導電性細線の厚みは、０．１μｍ以上、１．５μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上、０．８μｍ以下であることがより好ましい。０．１μｍ以上、１．５μｍ以下の範囲であると、低抵抗の電極で、耐久性に優れた電極を比較的容易に形成できる。
本発明の導電性細線からなる導電性パターンは、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形などの（正）ｎ角形、円、楕円、星形などを組み合わせた幾何学図形であることが好ましく、これらの幾何学図形からなるメッシュ状であることが更に好ましい。透明導電シートをタッチパネルの電極として用いる場合などは開口率などの観点から格子状パターンであることが好ましく、導電性格子部の一辺の長さは、３〜１０ｍｍであることが好ましく、４〜６ｍｍであることがより好ましい。一辺の長さが、３〜１０ｍｍであると、感知する静電容量の不足による検出不良になる可能性や、位置検出精度が低下するといった問題を起こしにくい。同様の観点から、導電性格子部を構成する単位格子の一辺の長さは５０〜５００μｍであることが好ましく、１５０〜３００μｍであることが更に好ましい。単位格子の辺の長さが上記範囲である場合には、更に透明性も良好に保つことが可能であり、表示装置の前面にとりつけた際に、違和感なく表示を視認することができる。
【００７８】
本発明の透明導電シートは成形性に優れるため、様々な用途に用いることができる。
本発明の透明導電シートを１００％延伸したときの電気抵抗値をＲｂ、延伸する前の電気抵抗値（初期値）をＲ０とした場合、Ｒｂ≦（２×Ｒ０）を満足することが好ましい。このような透明導電シートを得るためには、真空成型、圧空成型、熱プレス成型などが有効である。
【００７９】
次に、本発明の透明支持体上に形成されたパターニングされた電極について、本発明の透明導電シートが好ましく用いられる静電容量方式のタッチパネルと関連させながら説明する。従来の静電容量方式のタッチパネルでは、電極材料として透明電極材料であるＩＴＯ薄膜をバー電極として使用されてきたが、本発明においてはＩＴＯより低抵抗の材料を用いた導電性細線の組み合わせにより電極を形成しているため、これをパターニングされた電極と呼んでいる。
本発明の透明導電シートを用いる静電容量方式のタッチパネルは、図４に示したように、透明支持体３２の両面に、上部電極（おもて面電極とも言う）１１と下部電極（うら面電極とも言う）１２とが形成されていてもよい。
また、図５〜７のように片面に電極を有する透明導電シートを２枚用いた静電容量方式のタッチパネルであってもよい。
【００８０】
以上のパターニングされた電極から構成される導電シートは、１つの電極を１つのＩＴＯ膜にて形成する構成よりも大幅に電気抵抗を低減することが可能となる。従って、本発明の導電シートを用いて例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに適用した場合に、応答速度を速めることができ、タッチパネルの大サイズ化を促進させることができる。
【００８１】
本発明の上記の透明導電シートは、種々の用途に用いることができ、用途は特に限定されないが、例えば、各種電極（例えばタッチパネル用電極、無機ＥＬ素子用電極、有機ＥＬ素子用電極又は太陽電池用電極）、発熱シート、及びプリント配線基板などとしても使用することができる。本発明の上記の透明導電シートは、タッチパネルに用いられることが好ましく、静電容量方式のタッチパネルに特に好ましく用いられる。また、本発明の導電シートは、パーソナルコンピュータやワークステーション等から発生する電波、マイクロ波（極超短波）等の電磁波を遮断し、かつ静電気を防止する電磁波遮断ネットを用いたパソコンや電子医療機器等のシールド・カバーやビル内の部屋等を電磁波シールドするカーテンに使用できる。また、本発明の導電シートは、柔軟性を有し、静電気防止効果、抗菌効果、防カビ効果も有する。また、パソコン本体の電磁波シー ルド・カバー、映像撮影機器のシールド・カバー、電子医療機器のシールド・カバーとして用いてもよい。
【００８２】
なお、本発明は、下記表１に記載の公開公報及び国際公開パンフレットの技術と適宜組合わせて使用することができる。「特開」、「号公報」、「号パンフレット」等の表記は省略する。但し、日本の公開公報は、２００４−２２１５６４のように年号のあとをハイフンで表示し、国際公開パンフレットは、２００６／００１４６１のように年号のあとをスラッシュで表示した。
【００８３】
【表１】
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【実施例】
【００８４】
以下に本発明の実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００８５】
（ハロゲン化銀乳剤の調製）
３８℃、ｐＨ４．５に保たれた下記１液に、下記の２液及び３液の各々９０％に相当する量を攪拌しながら同時に２０分間にわたって加え、０．１６μｍの核粒子を形成した。続いて下記４液、５液を８分間にわたって加え、更に、下記の２液及び３液の残りの１０％の量を２分間にわたって加え、０．２１μｍまで成長させた。更に、ヨウ化カリウム０．１５ｇを加え５分間熟成し粒子形成を終了した。
【００８６】
１液：
水                                        ７５０ｍｌ
ゼラチン（フタル化処理ゼラチン）                ８ｇ
塩化ナトリウム                                  ３ｇ
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン  ２０ｍｇ
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム            １０ｍｇ
クエン酸                                    ０．７ｇ
２液：
水                                        ３００ｍｌ
硝酸銀                                      １５０ｇ
３液：
水                                        ３００ｍｌ
塩化ナトリウム                                ３８ｇ
臭化カリウム                                  ３２ｇ
ヘキサクロロイリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム
（０．００５％ＫＣｌ  ２０％水溶液）        ５ｍｌ
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
（０．００１％ＮａＣｌ  ２０％水溶液）    ７ｍｌ
４液：
水                                        １００ｍｌ
硝酸銀                                        ５０ｇ
５液：
水                                        １００ｍｌ
塩化ナトリウム                                １３ｇ
臭化カリウム                                  １１ｇ
黄血塩                                        ５ｍｇ
【００８７】
その後、常法にしたがってフロキュレーション法によって水洗した。具体的には、温度を３５℃に下げ、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでｐＨを下げた（ｐＨ３．６±０．２の範囲であった）。次に、上澄み液を約３リットル除去した（第一水洗）。更に３リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を３リットル除去した（第二水洗）。第二水洗と同じ操作を更に１回繰り返して（第三水洗）、水洗・脱塩行程を終了した。水洗・脱塩後の乳剤をｐＨ６．４、ｐＡｇ７．５に調整し、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム１０ｍｇ、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム３ｍｇ、チオ硫酸ナトリウム１５ｍｇと塩化金酸１０ｍｇを加え５５℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１００ｍｇ、防腐剤としてプロキセル（商品名、ＩＣＩ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）１００ｍｇを加えた。最終的に得られた乳剤は、沃化銀を０．０８モル％含み、塩臭化銀の比率を塩化銀７０モル％、臭化銀３０モル％とする、平均粒子径０．２２μｍ、変動係数９％のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤であった。
【００８８】
（感光性層塗布液−１の調製）
上記乳剤に１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１．２×１０−４モル／モルＡｇ、ハイドロキノン１．２×１０−２モル／モルＡｇ、クエン酸３．０×１０−４モル／モルＡｇ、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩０．９０ｇ／モルＡｇ、微量の硬膜剤を添加し、クエン酸を用いて塗布液ｐＨを５．６に調整して、感光性層塗布液を調製した。
（ポリマーラテックスの添加）
上記感光性層塗布液に、含有するゼラチンに対し（Ｐ−１）で表されるポリマーとジアルキルフェニルＰＥＯ硫酸エステルからなる分散剤を含有するポリマーラテックス（分散剤／ポリマーの質量比が２．０／１００＝０．０２）とをラテックス／ゼラチン（質量比）＝０．５／１になるように添加した。
以上のようにして感光性層塗布液−１を調製した。
【００８９】
（感光材料−１の作製）
１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムにコロナ放電処理を施した後、厚み０．１μｍのゼラチン下塗り層を設けて支持体とした。この支持体に、上記で調製、準備した感光性層塗布液−１を塗布した。得られた塗布試料（感光材料−１）の感光性層（乳剤層）は、銀量７．５ｇ／ｍ２、セラチン量０．９５ｇ／ｍ２、乳剤層の銀／ゼラチン体積比率が１／１であった。
【００９０】
（露光・現像処理）
マイグレーション評価用サンプルとして、上記で作成した感光材料−１に、図８に示す試験パターンの現像銀像を与えうるフォトマスクを介して高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光した。試験パターンは、ＩＰＣ−ＴＭ６５０ｏｒＳＭ８４０に準拠したパターンで、ライン幅が５０μｍ、スペース幅が５０μｍで、ライン数は１７本／１８本である（以下くし型パターン電極と呼ぶ）。露光後、下記の現像液で現像し、更に定着液（商品名：ＣＮ１６Ｘ用Ｎ３Ｘ−Ｒ：富士フイルム社製）を用いて現像処理を行った後、純水でリンスし、乾燥してくし型パターン電極を得た。
次に、導電性評価用サンプルとして、上記で作成した感光材料−１に、露光機を用いて露光を施した。光源には高圧水銀ランプを用い、格子状のパターン形成用のマスクを用いて露光した。用いたマスクの光透過用の窓は、格子を形成する単位正方格子の線幅は３μｍ、格子の辺長は３００μｍである。
露光後、下記の現像液で現像し、更に定着液（商品名：ＣＮ１６Ｘ用Ｎ３Ｘ−Ｒ：富士フイルム社製）を用いて現像処理を行った後、純水でリンスし、乾燥した。このようにして、金属銀を含有する導電性細線からなる電極を作製した。
【００９１】
（現像液の組成）
現像液１リットル（Ｌ）中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン                    ０．０３７ｍｏｌ／Ｌ
Ｎ−メチルアミノフェノール        ０．０１６ｍｏｌ／Ｌ
メタホウ酸ナトリウム              ０．１４０ｍｏｌ／Ｌ
水酸化ナトリウム                  ０．３６０ｍｏｌ／Ｌ
臭化ナトリウム                    ０．０３１ｍｏｌ／Ｌ
メタ重亜硫酸カリウム              ０．１８７ｍｏｌ／Ｌ
【００９２】
（加熱処理：ポリマーラテックスの造膜）
上記で得られたくし型パターン電極と導電性細線からなる電極は、現像処理での水洗後の乾燥工程で６０℃／１ｍｉｎで加熱処理した。加熱処理の結果、バインダー部に含有されるポリマーラテックスが造膜される。
このようにしてくし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料１を作製した。
【００９３】
（評価）
（１）バインダー部の６０℃、９０％ＲＨで２０日間経時させた後の平衡含水率
バインダー部の６０℃、９０％ＲＨでの平衡含水率を測定するために、１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に下塗り層を設けた支持体上に、上記で調製したそれぞれの感光性層塗布液を塗布した。得られた感光材料に、露光を行わず上記の現像処理を行い、ハロゲン化銀のみ抜き、上記の加熱処理を行い、電極を有さずバインダー部のみ有する試料をそれぞれ作製した。
バインダー部の６０℃、９０％ＲＨでの平衡含水率は以下のように算出した。
バインダー部の経時含水率（％）＝〔｛（Ｗ２０−ＷＳ）−（Ｗ１０−ＷＳ）｝／（Ｗ１０−ＷＳ）〕×１００
ここで、Ｗ１０は１２０℃、４時間経時させた後（絶乾状態）の試料の質量であり、Ｗ２０は６０℃、９０％ＲＨで２０日間経時させた後の試料の質量であり、ＷＳはＰＥＴフィルムの質量である。
【００９４】
（２）マイグレーション耐性の評価
くし型パターン導電シート試料について以下の評価を行った。
図８に示すように、電子回路におけるライン間は絶縁されている。この電子回路に対して電圧を掛けた状態での経時により、マイグレーションが発生するかどうか試験を行った。マイグレーションが発生した場合、樹状の金属（デンドライド）が成長しライン間を短絡することによって絶縁破壊が起きる。  
作製したくし型パターン電極の両端の電極（図中の黒い部分）に配線を接続し、片側から、６０℃９０％ＲＨの湿熱雰囲気下で、直流５Ｖの電流を連続的に印加した。試験を一時的に中断し、６０℃９０％ＲＨの雰囲気下から取り出し、アドバンテスト社製のＲ８３４０Ａを用い、直流１０Ｖの印加電圧を掛け、絶縁性抵抗値を測定した。
また、マイクロスコープによりデンドライドの発生・成長を観察した。
絶縁抵抗性については、印加時間５００時間後に測定し、以下の様に評価した。
○：絶縁抵抗値が１０１０Ω以上
△：絶縁抵抗値が１０６Ω以上１０１０Ω未満
×：絶縁抵抗値が１０６Ω未満
また、試験を一時的に中断し観察したときにデンドライドが発生しているかどうかを確認し、以下の様に評価した。
○：デンドライドの発生、及び５μｍ以上の成長無し
△：デンドライドの発生有り、５μｍ以上の成長無し
×：デンドライドの発生有り
【００９５】
（３）導電性の評価
透明導電シートの電極の表面抵抗値を直読し以下の基準で評価した。
○：１０2Ω／□未満
△：１０2Ω／□以上、１０3Ω／□未満
×：１０3Ω／□以上、１０６Ω／□未満
××：抵抗値が測定できない。１０６Ω／□以上
【００９６】
（感光材料−２〜感光材料−９の作製）
上記感光性層塗布液−１の調製において、ポリマーラテックス／ゼラチン（質量比）を下記表２に示すように変更した以外は、感光材料−１の作製と同様にして感光材料−２〜感光材料−９を作製した。
（くし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料２〜９の作製）
上記感光材料−２〜感光材料−９を用いて、前記と同様にくし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料２〜９を作製した。
【００９７】
（感光材料−１０〜感光材料−１７の作製）
上記感光性層塗布液−１の調製において、ポリマーラテックスの種類、及びポリマーラテックス／ゼラチン（質量比）を下記表２に示すように変更した以外は、感光材料−１の作製と同様にして感光材料−１０〜感光材料−１７を作製した。
（くし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料１０〜１７の作製）
上記感光材料−１０〜感光材料−１７を用いて、前記と同様にくし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料１０〜１７を作製した。
【００９８】
（くし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料１８〜２４の作製）
上記感光材料−４の感光性層上に下記表２に示すようなゼラチンとポリマーラテックス組成の保護層を膜厚０．１５μｍで設けた以外は同様にして、くし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料１８〜２４を作製した。試料１８の保護層はゼラチンのみを用いた。
また、試料１８〜２４については保護層を設けた後に（保護層の含水も含めて）含水率を上記式で算出した。
【００９９】
（くし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料２５〜２８の作製）
上記感光材料−４を用いて作製されたくし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料４に対して、現像後の加熱処理（ポリマーラテックスの造膜）における加熱温度を下記表２に示すように変更した以外は同様にしてくし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料２５〜２８を作製した。
【０１００】
（くし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料２９〜３２の作製）
上記感光材料−１〜感光材料−４を用いて、前記と同様にくし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料を作製し、その後、ＴＴＨＡ（トリエチレンテトラミン六酢酸）に５分間浸漬し、その後１分間水洗したくし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料２９〜３２を作製した。
【０１０１】
（くし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料３３〜３６の作製）
上記感光材料−１〜感光材料−４を用いて、前記と同様にくし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料を作製し、その後、銅めっきを行い、くし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料３３〜３６を作製した。
【０１０２】
くし型パターン導電シート試料及び透明導電シート試料２〜３６についても、試料１と同様に評価した。結果を表２に示す。
【０１０３】
【表２】
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【０１０４】
【化８】
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【０１０５】
以上の結果から、透明導電シートにおいて、バインダー部の含水率を１０％以下とすることで、マイグレーション耐性を付与することができることがわかる。
【符号の説明】
【０１０６】
１０  導電シート
１０１  導電層
１０２  バインダー部
１１１  露光部
０１  タッチパネル
０５  透明導電シートを製造するための感光材料
１１  上部電極（おもて面電極）
１２  下部電極（うら面電極）
２１  上部電極を構成する導電性細線
２２  下部電極を構成する導電性細線
３０、３１  タッチ面を兼ねる透明支持体
３２  導電シート用の透明支持体
３３  透明支持体
４１、４２  絶縁層を兼ねる粘着層
５０  上部感光材料層（おもて面感光材料層）
５１  上部感光性層（おもて面感光性層）
５２  上部第一感光性層（上部ｕ層）
５３  上部第二感光性層（上部ｍ層）
５４  上部第三感光性層（上部ｏ層）
５５  上部保護層
５６  上部下塗り層
５７  上部アンチハレーション層
６０  下部感光材料層（うら面感光材料層）
６１  下部感光性層（うら面感光性層）
６２  下部第一感光性層（下部ｕ層）
６３  下部第二感光性層（下部ｍ層）
６４  下部第三感光性層（下部ｏ層）
６５  下部保護層
６６  下部下塗り層
６７  下部アンチハレーション層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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