(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、第１方向に延びる複数の第１透明導電パターンであって、該第１透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第１感知部と、複数の前記第１感知部の間を電気的に接続する複数の第１接続部とを含み、
前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、前記第１方向と直交する第２方向に延びる複数の第２透明導電パターンであって、該第２透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第２感知部と、複数の前記第２感知部の間を電気的に接続する複数の第２接続部とを含み、
前記透明基板を平面視したとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとは、前記第１感知部と前記第２感知部とが重ならないよう配置され、
前記透明基板を平面視したとき、前記第１感知部の面積が前記第２感知部の面積より大きく、かつ前記第１感知部と前記第２感知部との間にダミーパターンが形成され、
前記第１感知部内に前記第２感知部を画定する前記絶縁ラインと同形状である導電性繊維を含有しないダミー絶縁ラインを有する電極パターン。
【請求項２】
前記ダミー絶縁ラインは、表示領域内の、前記絶縁ラインの面内分布が最も低い領域に配置される請求項１に記載の電極パターン。
【請求項３】
前記ダミー絶縁ラインは、破線状である請求項１又は２に記載の電極パターン。
【請求項４】
前記導電性繊維が銀ナノワイヤーである請求項１から３のいずれか一項に記載の電極パターン。
【請求項５】
前記第１透明導電パターンおよび前記第２透明導電パターンが前記導電性繊維とバインダーとを含む請求項１から４のいずれか一項に記載の電極パターン。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の電極パターンを有するタッチパネル。
【請求項７】
前記透明基板の一方面側に配置された偏光板を、さらに備える請求項６に記載のタッチパネル。
【請求項８】
液晶ディスプレイと、前記液晶ディスプレイの一方面側に配置された請求項６又は７に記載のタッチパネルと、前記液晶ディスプレイの他方面側に配置された偏光板と、を備える液晶表示装置。
【請求項９】
有機ＥＬ素子と、円偏光板と、前記円偏光板と前記有機ＥＬ素子との間に配置された請求項６又は７に記載のタッチパネルと、を備える有機ＥＬディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は導電性繊維を含有する透明導電膜の電極パターン、及びその電極パターンを含むタッチパネル、そのタッチパネルを有する液晶表示装置、有機ＥＬディスプレイに関し、特にパターン見えしにくい電極パターン、その電極パターンを含むタッチパネル、及びそのタッチパネルを有する液晶表示装置、有機ＥＬディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、タッチパネルが、ＰＤＡ（携帯情報端末）や携帯電話等の電子機器の画像表示装置の表面に設置されている。タッチパネルは画面を指で触れることにより指先の位置を検出する。
【０００３】
タッチパネルの方式として静電容量方式が知られている。静電容量方式のタッチパネルは、第１の方向（Ｘ方向）に延びる複数の第１透明電極（Ｘ電極群）群と、第２の方向（Ｙ方向）に延びる複数の第２透明電極群（Ｙ電極群）とから構成され電極パターンを透明基板上に有しており、電極間の静電容量の変化により位置を検出する。
【０００４】
特許文献１は、Ｘ電極とＹ電極の一ライン分の容量を同じにするため、X電極をY電極より小さくし、隙間にダミーパターンを設けることを開示する。
【０００５】
また、特許文献２は、透光性電極パターンの存在を目立たなくするため、Ｘ電極とＹ電極とに挟まれた隙間に、Ｘ電極、及びＹ電極と同等の屈折率を有するダミーパターンを形成することを開示する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−００９４３９号公報
【特許文献２】特開２０１０−００２９５８号公報
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ  ＤＩＳＰＬＡＹ、Ｖｏｌ．２６、Ｎｏ．３、ｐｐ．１６−２１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年、入力デバイスとして液晶パネル、電子ペーパー等の表示デバイスにタッチパネルが搭載されている（特許文献１、特許文献２）。タッチパネルの構成としては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、静電容量方式など様々なものが知られているが、多点タッチが可能で大面積化が行いやすい方式として、静電容量方式が知られており、例えば、透明導電材料としてＩＴＯ（酸化インジウムすず）を使用した静電容量方式タッチパネルが開示されている（非特許文献１参照）。
【０００９】
しかし、ＩＴＯの原料であるインジウムは高価であり安定供給に限界があること、薄膜作製に真空過程を必要とするために製造コストが高くなること、また、ＩＴＯ膜は脆く、曲げ耐性に劣るといった課題があることから、金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、ＰＥＤＯＴ、ポリアニリンといった代替物質が提案されている。
【００１０】
タッチパネルの透明電極として検討されている銀ナノワイヤーを用いた透明導電膜は、微粒子を分散した導電膜であるために、光散乱性を示し、それに伴う偏光解消性の特性を持つことが知られている。
【００１１】
液晶ディスプレイを備えるオンセル型タッチパネルではクロスニコルの偏光板間にタッチパネルが挿入されるため、銀ナノワイヤ層が偏光板間に配置される。タッチパネルでは、Ｘ電極とＹ電極とが絶縁ラインにより電気的に分離される、通常、絶縁ラインは銀ナノワイヤ層を線状に除去することにより形成される。そのため、タッチパネル上に絶縁ラインが疎の領域と密の領域とが形成される。絶縁ラインが疎の領域では、銀ナノワイヤーの残存量が多くなり、そのため光漏れが多くなる。一方、絶縁ラインが密の領域では、銀ナノワイヤの残存量が少なくなり、そのため光漏れが少なくなる。この絶縁ラインの疎密に起因した光漏れの差が、パターン見えの現象を引き起こす。パターン見えとは、タッチパネルを平面視した場合に、透明電極が存在する箇所と存在しない箇所が視認される現象で、パターン見えが生じると、タッチパネルの透明電極のパターンと、液晶表示装置が表示する画像を重ねた画像が視認され、表示品質を悪化させるという問題となる。特に本課題では液晶表示装置が黒を表示している場合、パターン見えが生じやすい。
【００１２】
また、有機ＥＬディスプレイは有機ＥＬ素子の金属部による外光の反射を低減するために、円偏光板を前面に備えることが多い。有機ＥＬ素子と円偏光板の間に導電性繊維を用いたタッチパネルが配置されると、円偏光の偏光状態が乱れ、外光の反射を防ぐことができなくなる。このため例えば有機ＥＬディスプレイが黒を表示している場合、絶縁ラインが密な箇所は外光の反射が少なく、黒く見え、絶縁ラインが疎な箇所は外光の反射が多くなり、白く見え、結果としてパターン見えが生じ、表示品質の低下の問題を起こす。有機ＥＬディスプレイにおける外光の反射によるパターン見えは液晶表示装置における光漏れと同じ問題を起こす。
【００１３】
特に、特許文献１、及び２に記載されたタッチパネルはダミーパターンを有している。タッチパネル上にダミーパターンを画定するためには絶縁ラインが必要となる。特許文献１、及び２の電極パターンにおいては、絶縁ラインの疎密ができやすく、パターン見えの現象が生じやすくなる。
【００１４】
本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、導電性繊維を含有した透明導電膜において、光散乱によるパターン見えを防止する電極パターン、及びその電極パターンを含むタッチパネル、及びそのタッチパネルを有する液晶表示装置、有機ＥＬディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
導電性繊維を含有させた膜を透明導電膜として用いる場合、一般的に用いられるITOなどの無機酸化物電極に比較して、光散乱性が強いことによるパターン見えが問題となることがわかってきた。タッチパネルでは表示部の第１方向に延在する電極と、それと直交する第２方向に延在する電極により接触位置を特定する場合が多い。
【００１６】
導電性繊維を含有させた透明導電膜が存在する領域は導電性繊維による光散乱性のために白っぽく見え、透明導電膜が存在しない領域は散乱が無いために黒っぽく見える。この違いのために、透明導電膜の形状があるパターンとして見えてしまい、表示品質の悪化につながる可能性があった。この現象はITOなどの既存の透明電極では発生しない課題であり、導電性繊維を分散した透明電極ならではの課題であることがわかった。
【００１７】
上記の知見を元に発明者らが鋭意検討した結果、ダミー絶縁ラインを、絶縁ラインの密度が低い場所に配置することで、導電膜としての特性をさほど低下させずに光散乱の面内密度を均一化し、パターン見えを抑制できることを見出した。
【００１８】
本発明の一態様による、電極パターンは、透明基板と、前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、第１方向に延びる複数の第１透明導電パターンと、該第１透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第１感知部と、複数の前記第１感知部の間を電気的に接続する複数の第１接続部とを含み、前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、前記第１方向と直交する第２方向に延びる複数の第２透明導電パターンと、該第２透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第２感知部と、複数の前記第２感知部の間を電気的に接続する複数の第２接続部とを含み、前記透明基板を平面視したとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとは、前記第１感知部と前記第２感知部とが実質的に重ならないよう配置され、前記第１感知部、及び前記第２感知部の少なくとも一方の領域に、導電性繊維を含有しないダミー絶縁ラインを有する。
【００１９】
本発明の他の態様による、電極パターンは、透明基板と、前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、第１方向に延びる複数の第１透明導電パターンと、該第１透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第１感知部と、複数の前記第１感知部の間を電気的に接続する複数の第１接続部とを含み、前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、前記第１方向と直交する第２方向に延びる複数の第２透明導電パターンと、該第２透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第２感知部と、複数の前記第２感知部の間を電気的に接続する複数の第２接続部とを含み、前記透明基板を平面視したとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとは、前記第１感知部と前記第２感知部とが実質的に重ならないよう配置され、前記透明基板を平面視したとき、前記第１感知部と前記第２感知部との間に形成されたダミーパターンと、前記第１感知部内、第２感知内部、及び前記ダミーパターンの少なくとも１つの領域に導電性繊維を含有しないダミー絶縁ラインを有する。
【００２０】
好ましくは、前記ダミー絶縁ラインが形成される前記領域は、面積が最も大きい領域である。
【００２１】
好ましくは、前記ダミー絶縁ラインは、表示領域内の、前記絶縁ラインの面内分布が最も低い領域に配置される。
【００２２】
好ましくは、前記ダミー絶縁ラインは、破線状である。
【００２３】
好ましくは、前記導電性繊維が銀ナノワイヤーである。
【００２４】
好ましくは、前記透明導電パターンが前記導電性繊維とバインダーとを含む。
【００２５】
本発明の他の態様による、タッチパネルは、前記電極パターンを有する。
【００２６】
好ましくは、タッチパネルは前記透明基板の一方面側に配置された偏光板を、さらに備える。
【００２７】
本発明の他の態様による、液晶表示装置は、液晶ディスプレイと、前記液晶ディスプレイの一方面側に配置された前記タッチパネルと、前記液晶ディスプレイの他方面側に配置された偏光板と、を備える。
【００２８】
本発明の他の態様による、有機ＥＬディスプレイは、有機ＥＬ素子と、円偏光板と、前記円偏光板と前記有機ＥＬ素子との間に配置された前記タッチパネルと、を備える。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、導電性繊維を含有する透明導電膜において、光散乱によるパターン見えを防止することができる。また、導電性繊維を電極パターンとして用いた高品質なタッチパネル、液晶表示装置、及び有機ＥＬディスプレイを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】第１の実施形態に係る電極パターンの平面図。
【図２】第２の実施形態に係る電極パターンの平面図。
【図３】第３の実施形態に係る電極パターンの平面図。
【図４】第４の実施形態に係る電極パターンの平面図。
【図５】第５の実施形態に係る電極パターンの平面図。
【図６】タッチパネルを含む液晶表示装置の概略構成図。
【図７】タッチパネルを含む有機ＥＬディスプレイの概略構成図。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について説明する。本発明は以下の好ましい実施の形態により説明されるが、本発明の範囲を逸脱することなく、多くの手法により変更を行うことができ、本実施の形態以外の他の実施の形態を利用することができる。したがって、本発明の範囲内における全ての変更が特許請求の範囲に含まれる。
【００３２】
以下、本実施形態のタッチパネルを、図１〜５を参照しながら説明する。
【００３３】
〔第１実施形態〕
タッチパネル１０は、透明基板２０と、透明基板２０上に形成された電極パターン１２を備え、電極パターン１２は、複数の第１透明導電パターン３０、及び複数の第２透明導電パターン４０とを備える。各第１透明導電パターン３０は第１方向（Ｙ方向）に沿って延び、各第２透明導電パターン４０は第１方向と直交する第２方向（Ｘ方向）に沿って延びる。
【００３４】
第１透明導電パターン３０は、複数の第１感知部３２の間を電気的に接続する第１接続部３４とから構成される。第１感知部３２は菱形形状を有しており、第１接続部３４は幅の狭い短冊形状を有している。第１接続部３４は、第２接続部４４上に形成された絶縁膜５０上に形成される。第１透明導電パターン３０について、第１感知部３２と第１接続部３４とは別体として形成される。なお、絶縁膜５０は透明性が要求される。そのため、絶縁膜５０の材料として、無機材料としては、SiO2, SiOx, ＳiNx, SiOxNy、有機材料としては、アクリル樹脂等が使用される。
【００３５】
第２透明導電パターン４０は、複数の第２感知部４２と、複数の第２感知部４２の間を電気的に接続する第２接続部４４とから構成される。第２感知部４２は菱形形状を有しており、第２接続部４４は幅の狭い短冊形状を有している。第２透明導電パターン４０について、第２感知部４２と第２接続部４４とは一体として形成される。
【００３６】
第１透明導電パターン３０と第２透明導電パターン４０とは、平面視で、第１感知部３２と第２感知部４２とが重なり合わないよう配置される。一方、第１接続部３４と第２接続部４４とは、平面視で、交差する。ただし、第１接続部３４と第２接続部４４とは絶縁膜５０により電気的に分離されている。
【００３７】
上述のように第１透明導電パターン３０と第２透明導電パターン４０とを配置することにより、いわゆる、規則的に配置された変形のダイヤモンドパターンが構成される。第１透明導電パターン３０と第２透明導電パターン４０とは、いずれも、導電性繊維とバインダーとを含む透明導電膜で構成される。
【００３８】
導電性繊維の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、中実構造及び中空構造のいずれかであることが好ましい。ここで、中実構造の繊維をワイヤーと呼ぶことがあり、中空構造の繊維をチューブと呼ぶことがある。
【００３９】
平均短軸長さが５ｎｍ〜１，０００ｎｍであって、平均長軸長さが１μｍ〜１００μｍの導電性繊維を「ナノワイヤー」と呼ぶことがある。
【００４０】
また、平均短軸長さが１ｎｍ〜１，０００ｎｍ、平均長軸長さが０．１μｍ〜１，０００μｍであって、中空構造を持つ導電性繊維を「ナノチューブ」と呼ぶことがある。
【００４１】
前記導電性繊維の材料としては、導電性を有していれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、金属及びカーボンの少なくともいずれかであることが好ましく、これらの中でも、前記導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかであることが好ましい。
【００４２】
透明性、ヘイズの観点から、平均短軸長さは５０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００４３】
バインダーとしては、有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基（例えばカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基など）を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。
【００４４】
透明基板２０の材料として、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス等の透明ガラス基板、またはＰＥＴ，ＰＥＮ，ＰＥＳ等の透明合成樹脂基板等を使用することができる。透明度及び寸法安定性の観点から、無アルカリガラス、ＰＥＴ、ＰＥＮを使用することが好ましい。
【００４５】
第１透明導電パターン３０と第２透明導電パターン４０とを比較すると、第１感知部３２の面積が第２感知部４２の面積より大きく、両者はサイズが異なっている。これは、例えば、位置検出する集積回路側の要求から、第１透明導電パターン３０と第２透明導電パターン４０とに求められる特性が異なるからである。
【００４６】
その結果、第１感知部と第２感知部とが同等サイズの電極パターンと比べると、第１感知部３２と第２感知部４２との隙間が大きくなる。この隙間を埋めるため、バインダーと導電性繊維とを含むダミーパターン６０が形成される。ダミーパターン６０を形成することで、第２感知部４２とダミーパターン６０とを合わせた領域が、第１感知部３２の領域と実質的に同じ大きさとになる。第１感知部３２と第２感知部４２との大きさが異なることに起因するパターン見えの問題を解消することが可能となる。
【００４７】
しかしながら、第１感知部３２と、第２感知部４２と、ダミーパターン６０とを、電気的分離するために、ダミーパターン６０を囲うように絶縁ライン７０が存在する。絶縁ライン７０は導電性繊維の無い領域であるので、絶縁ライン７０の領域は光散乱が無いため黒っぽく見える。第２感知部４２の面積が小さいと、対向する絶縁ライン７０同士の距離が短くなる。第２感知部４２をＸ方向に沿って見れば、対向する絶縁ライン７０により黒いラインが存在するにように見える。一方、第１感知部３２をＸ方向に沿って見れば、第１感知部３２の面積が大きいので白いラインのように見える。このように、導電繊維のない絶縁ライン７０の疎密によりパターン見えが生じやすくなる。
【００４８】
そこで、本実施の形態では、絶縁ライン７０と同形状のダミー絶縁ライン８０が第１感知部３２に形成される。ダミー絶縁ライン８０が第１感知部３２に形成される理由は、第１感知部３２、第２感知部４２、及びダミーパターン６０の中で面積が大きく、導電性繊維を含む量が最も多いからである。ここで、絶縁ライン７０は、ダミーパターン６０と第２感知部４２とにより挟まれた領域を意味する。ダミー絶縁ライン８０は、第１感知部３２を除去することにより形成された領域であり、ダミー絶縁ライン８０は導電性繊維を含んでいない。このように、絶縁ライン７０が疎の領域、つまり第１感知部３２に、絶縁ライン７０とほぼ同形状のＶ字形状のダミー絶縁ライン８０が形成される。したがって、電極パターン１２全体を見たときに、いわゆる導電繊維のない領域である絶縁ラインの疎密が解消され、光散乱の面内密度を均一化でき、パターン見えを抑制できる。
【００４９】
絶縁ライン７０とダミー絶縁ライン８０とは、合計の面積が等しいことが好ましい。
【００５０】
また、ダミー絶縁ライン８０は、表示領域内の、絶縁ライン７０の面内分布が最も低い領域に配置されることが好ましい。
【００５１】
つまり、表示領域内において、第1感知部３２と第２感知部４２とを確定する絶縁ライン７０の面内分布を確認し、絶縁ライン７０の密度が最も疎となっている領域にダミー絶縁ライン８０を配置する。結果として、絶縁ライン７０とダミー絶縁ライン８０を含むトータルの絶縁ライン群の面内分布が、ダミー絶縁ライン８０を配置前と比較して均一になる。
【００５２】
絶縁ライン７０とは、第１透明導電パターン３０と第２透明導電パターン４０と電気的に分離するものであって、各第１感知部３２、各第２感知部４２、各第１接続部３４とを画定する、導電性繊維を含まない線状に配置されたタッチパネル１０に必須の領域を意味する。
【００５３】
ダミー絶縁ライン８０とは、導電性繊維を含まない線状に配置された部分であって、仮にその部分に導電性繊維が存在していたとしても電極としての本質的な効能に影響を及ぼさない領域を意味する。したがって、タッチパネル１０に必須の領域ではない。
【００５４】
パターン見えを抑制するためには、絶縁ライン群を構成する絶縁ライン７０とダミー絶縁ライン８０とは５０μｍ以下の幅を有することが好ましく、３０μｍ以下の幅を有することがより好ましく、２０μｍ以下の幅を有することが最も好ましい。
【００５５】
なお、ダミー絶縁ライン８０は電気的な分離を目的としていないので、第１感知部３２はダミー絶縁ライン８０により電気的に分離されない。
【００５６】
〔第２実施形態〕
図２は、第２の実施形態の平面図を示す。第１実施形態と同様の構成には同様の符号を付して説明を省略する場合がある。
【００５７】
タッチパネル１０は、透明基板２０と、透明基板２０上に形成された電極パターン１２を備え、電極パターン１２は、複数の第１透明導電パターン３０、及び複数の第２透明導電パターン４０とを備える。各第１透明導電パターン３０は第１方向（Ｙ方向）に沿って延び、各第２透明導電パターン４０は第１方向と直交する第２方向（Ｘ方向）に沿って延びる。
【００５８】
第１透明導電パターン３０は、複数の第１感知部３２の間を電気的に接続する第１接続部３４とから構成される。第１感知部３２は菱形形状を有しており、第１接続部３４は幅の狭い短冊形状を有している。第１接続部３４は、第２接続部４４上に形成された絶縁膜５０上に形成される。
【００５９】
第２透明導電パターン４０は、複数の第２感知部４２と、複数の第２感知部４２の間を電気的に接続する第２接続部４４とから構成される。第２感知部４２は菱形形状を有しており、第２接続部４４は幅の狭い短冊形状を有している。第２透明導電パターン４０について、第２感知部４２と第２接続部４４とは一体として形成される。
【００６０】
第１感知部３２と第２感知部４２との間にはダミーパターン６０が形成される。第１感知部３２と、第２感知部４２と、ダミーパターン６０とを、電気的分離するために、ダミーパターン６０を囲うように絶縁ライン７０が存在する。
【００６１】
ダミー絶縁ライン８０が第１感知部３２に形成される。ダミー絶縁ライン８０は絶縁ライン７０と実質的に同じ形状であるが、第１実施形態と異なり、ダミー絶縁ライン８０は絶縁ライン７０と直交する方向に向くように形成される。
【００６２】
絶縁ライン７０が疎の領域である第１感知部３２にダミー絶縁ライン８０が形成されるので、電極パターン１２全体を見たときに、いわゆる導電繊維のない領域である絶縁ラインの疎密が解消され、光散乱の面内密度を均一化でき、パターン見えを抑制できる。
【００６３】
なお、ダミー絶縁ライン８０は電気的な分離を目的としていないので、第１感知部３２はダミー絶縁ライン８０により電気的に分離されない。絶縁ライン７０とダミー絶縁ライン８０とは、合計の面積が等しいことが好ましい。
【００６４】
ダミー絶縁ライン８０を配置することにより、絶縁ライン７０とダミー絶縁ライン８０を含むトータルの絶縁ライン群の面内分布が、ダミー絶縁ライン８０を配置する前と比較して均一化される。
【００６５】
〔第３実施形態〕
図３は、第３の実施形態の平面図を示す。第１、第２の実施形態と同様の構成には同様の符号を付して説明を省略する場合がある。
【００６６】
タッチパネル１０は、透明基板２０と、透明基板２０上に形成された電極パターン１２を備え、電極パターン１２は、複数の第１透明導電パターン３０、及び複数の第２透明導電パターン４０とを備える。各第１透明導電パターン３０は第１方向（Ｙ方向）に沿って延び、各第２透明導電パターン４０は第１方向と直交する第２方向（Ｘ方向）に沿って延びる。
【００６７】
第１透明導電パターン３０は、複数の第１感知部３２の間を電気的に接続する第１接続部３４とから構成される。第１感知部３２は菱形形状を有しており、第１接続部３４は幅の狭い短冊形状を有している。第１接続部３４は、第２接続部４４上に形成された絶縁膜５０上に形成される。
【００６８】
第２透明導電パターン４０は、複数の第２感知部４２と、複数の第２感知部４２の間を電気的に接続する第２接続部４４とから構成される。第２感知部４２は菱形形状を有しており、第２接続部４４は幅の狭い短冊形状を有している。第２透明導電パターン４０について、第２感知部４２と第２接続部４４とは一体として形成される。
【００６９】
第１感知部３２と第２感知部４２との間にはダミーパターン６０が形成される。第１感知部３２と、第２感知部４２と、ダミーパターン６０とを、電気的分離するために、ダミーパターン６０を囲うように絶縁ライン７０が存在する。
【００７０】
ダミー絶縁ライン８０が第１感知部３２に形成される。本実施の形態における、ダミー絶縁ライン８０の形状は、平面視において、Ｘ方向に沿う長辺を有する矩形である。
【００７１】
絶縁ライン７０が疎の領域である第１感知部３２にダミー絶縁ライン８０が形成されるので、電極パターン１２全体を見たときに、いわゆる導電繊維のない領域である絶縁ラインの疎密が解消され、光散乱の面内密度を均一化でき、パターン見えを抑制できる。
【００７２】
なお、ダミー絶縁ライン８０は電気的な分離を目的としていないので、第１感知部３２はダミー絶縁ライン８０により電気的に分離されない。絶縁ライン７０とダミー絶縁ライン８０とは、合計の面積が等しいことが好ましい。
【００７３】
ダミー絶縁ライン８０を配置することにより、絶縁ライン７０とダミー絶縁ライン８０を含むトータルの絶縁ライン群の面内分布が、ダミー絶縁ライン８０を配置する前と比較して均一化される。
【００７４】
〔第４実施形態〕
図４は、第４の実施形態の平面図を示す。第１〜第３の実施形態と同様の構成には同様の符号を付して説明を省略する場合がある。
【００７５】
タッチパネル１０は、透明基板２０と、透明基板２０上に形成された電極パターン１２を備え、電極パターン１２は、複数の第１透明導電パターン３０、及び複数の第２透明導電パターン４０とを備える。各第１透明導電パターン３０は第１方向（Ｙ方向）に沿って延び、各第２透明導電パターン４０は第１方向と直交する第２方向（Ｘ方向）に沿って延びる。
【００７６】
第１透明導電パターン３０は、複数の第１感知部３２の間を電気的に接続する第１接続部３４とから構成される。第１感知部３２は菱形形状を有しており、第１接続部３４は幅の狭い短冊形状を有している。第１接続部３４は、第２接続部４４上に形成された絶縁膜５０上に形成される。
【００７７】
第２透明導電パターン４０は、複数の第２感知部４２と、複数の第２感知部４２の間を電気的に接続する第２接続部４４とから構成される。第２感知部４２は菱形形状を有しており、第２接続部４４は幅の狭い短冊形状を有している。第２透明導電パターン４０について、第２感知部４２と第２接続部４４とは一体として形成される。
【００７８】
第１感知部３２と第２感知部４２との間にはダミーパターン６０が形成される。第１感知部３２と、第２感知部４２と、ダミーパターン６０とを、電気的分離するために、ダミーパターン６０を囲うように絶縁ライン７０が存在する。
【００７９】
ダミー絶縁ライン８０が第１感知部３２に形成される。本実施の形態における、ダミー絶縁ライン８０の形状は、平面視において、Ｙ方向に沿う長辺を有する矩形である。ダミー絶縁ライン８０は、第３の実施形態と実質的に同じ形状であるが、第３実施形態とは長辺の向きが異なる。
【００８０】
絶縁ライン７０が疎の領域である第１感知部３２にダミー絶縁ライン８０が形成されるので、電極パターン１２全体を見たときに、いわゆる導電繊維のない領域である絶縁ラインの疎密が解消され、光散乱の面内密度を均一化でき、パターン見えを抑制できる。
【００８１】
なお、ダミー絶縁ライン８０は電気的な分離を目的としていないので、第１感知部３２はダミー絶縁ライン８０により電気的に分離されない。絶縁ライン７０とダミー絶縁ライン８０とは、合計の面積が等しいことが好ましい。
【００８２】
ダミー絶縁ライン８０を配置することにより、絶縁ライン７０とダミー絶縁ライン８０を含むトータルの絶縁ライン群の面内分布が、ダミー絶縁ライン８０を配置する前と比較して均一化される。
【００８３】
〔第５実施形態〕
図５は、第５の実施形態の平面図を示す。第１〜第４の実施形態と同様の構成には同様の符号を付して説明を省略する場合がある。
【００８４】
タッチパネル１０は、透明基板２０と、透明基板２０上に形成された電極パターン１２を備え、電極パターン１２は、複数の第１透明導電パターン３０、及び複数の第２透明導電パターン４０とを備える。各第１透明導電パターン３０は第１方向（Ｙ方向）に沿って延び、各第２透明導電パターン４０は第１方向と直交する第２方向（Ｘ方向）に沿って延びる。
【００８５】
第１透明導電パターン３０は、複数の第１感知部３２の間を電気的に接続する第１接続部３４とから構成される。第１感知部３２は菱形形状を有しており、第１接続部３４は幅の狭い短冊形状を有している。第１接続部３４は、第２接続部４４上に形成された絶縁膜５０上に形成される。
【００８６】
第２透明導電パターン４０は、複数の第２感知部４２と、複数の第２感知部４２の間を電気的に接続する第２接続部４４とから構成される。第２感知部４２は菱形形状を有しており、第２接続部４４は幅の狭い短冊形状を有している。第２透明導電パターン４０について、第２感知部４２と第２接続部４４とは一体として形成される。
【００８７】
第１感知部３２と第２感知部４２との間にはダミーパターン６０が形成される。第１感知部３２と、第２感知部４２と、ダミーパターン６０とを、電気的分離するために、ダミーパターン６０を囲うように絶縁ライン７０が存在する。
【００８８】
本実施の形態では、第１感知部３２と第２感知部４２とが実質的に同じ大きさを有する。ただし、第１感知部３２、及び第２感知部４２の大きさが小さく、ダミーパターン６０が、第１感知部３２、第２感知部４２、及びダミーパターン６０の中で、最も大きい。
【００８９】
したがって、ダミー絶縁ライン８０がダミーパターン６０に形成される。本実施の形態における、ダミー絶縁ライン８０の形状は、平面視において、絶縁ライン７０と実質的に同じ形状を有する。
【００９０】
なお、本実施の形態では、ダミー絶縁ライン８０は、破線で構成される。絶縁ライン７０が疎の領域であるダミーパターン６０にダミー絶縁ライン８０が形成されるので、電極パターン１２全体を見たときに、いわゆる導電繊維のない領域である絶縁ラインの疎密が解消され、光散乱の面内密度を均一化でき、パターン見えを抑制できる。
【００９１】
なお、ダミー絶縁ライン８０は電気的な分離を目的としていないので、線状である必要はない。したがって、図５のような破線状であっても良い。図５のように、浮遊した電極であるダミーパターン６０の中にダミー絶縁ライン８０を設ける場合には、ダミー絶縁ライン８０を破線とすることによる効果は小さい。
【００９２】
一方、例えば、電極として使用する第１感知部３２の中にダミー絶縁ライン８０を設ける場合には、電極としての導電性の低下を少なくするために、ダミー絶縁ライン８０を破線とすることが好ましい。
【００９３】
ダミー絶縁ライン８０を配置することにより、絶縁ライン７０とダミー絶縁ライン８０を含むトータルの絶縁ライン群の面内分布が、ダミー絶縁ライン８０を配置する前と比較して均一化される。
【００９４】
以下、本実施の形態に使用される材料について説明する。
【００９５】
＜透明導電膜＞
透明導電膜は、少なくともバインダーと導電性繊維を含有している。バインダーは特に限定はないが、感光性化合物、更に必要に応じてその他の成分を含有してなることが好ましい。
【００９６】
〔導電性繊維〕
前記導電性繊維の材料としては、導電性を有していれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。金属及びカーボンの少なくともいずれかであることが好ましく、これらの中でも、前記導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかであることが好ましい。
【００９７】
＜＜金属ナノワイヤー＞＞
−材料−
前記金属ナノワイヤーの材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００９８】
−金属−
前記金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンタル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀、及び銀との合金が好ましい。
【００９９】
前記銀との合金で使用する金属としては、金、白金、オスミウム、パラジウム、イリジウムなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１００】
−形状−
前記金属ナノワイヤーの形状としては、特に制限はない。目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができる。高い透明性が必要とされる用途では、円柱状や断面の多角形の角が丸まっている断面形状であることが好ましい。
【０１０１】
前記金属ナノワイヤーの断面形状は、基材上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより調べることができる。
【０１０２】
−平均短軸長さ及び平均長軸長さ−
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さ（「平均短軸径」、「平均直径」と称することがある）としては、１ｎｍ〜５０ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜４０ｎｍがより好ましく、１５ｎｍ〜３５ｎｍが更に好ましい。
【０１０３】
前記平均短軸長さが、１ｎｍ未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、５０ｎｍを超えると、金属ナノワイヤー起因の散乱が生じ、十分な透明性を得ることができないことがある。
【０１０４】
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとした。
【０１０５】
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さ（「平均長さ」と称することがある）としては、１μｍ〜４０μｍであることが好ましく、３μｍ〜３５μｍがより好ましく、５μｍ〜３０μｍが更に好ましい。
【０１０６】
前記平均長軸長さが、１μｍ未満であると、密なネットワークを形成することが難しく、十分な導電性を得ることができないことがあり、４０μｍを超えると、金属ナノワイヤーが長すぎて製造時に絡まり、製造過程で凝集物が生じてしまうことがある。
【０１０７】
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均長軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径、及び曲率から算出される値を長軸長さとした。
【０１０８】
−製造方法−
前記金属ナノワイヤーの製造方法としては、特に制限はなく、いかなる方法で製造してもよいが、以下のようにハロゲン化合物と分散添加剤とを溶解した溶媒中で加熱しながら金属イオンを還元することによって製造することが好ましい。
【０１０９】
また、金属ナノワイヤーの製造方法としては、特開２００９−２１５５９４号公報、特開２００９−２４２８８０号公報、特開２００９−２９９１６２号公報、特開２０１０−８４１７３号公報、特開２０１０−８６７１４号公報などに記載の方法を用いることができる。
【０１１０】
＜＜金属ナノチューブ＞＞
−材料−
前記金属ナノチューブの材料としては、特に制限はなく、いかなる金属であってもよく、例えば、前記した金属ナノワイヤーの材料などを使用することができる。
【０１１１】
−形状−
前記金属ナノチューブの形状としては、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層が好ましい。
【０１１２】
−平均短軸長さ、平均長軸長さ、厚み−
前記金属ナノチューブの厚み（外径と内径との差）としては、３ｎｍ〜８０ｎｍが好ましく、３ｎｍ〜３０ｎｍがより好ましい。
【０１１３】
前記厚みが、３ｎｍ未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、８０ｎｍを超えると、金属ナノチューブ起因の散乱が生じることがある。
【０１１４】
前記金属ナノチューブの平均長軸長さは、１μｍ〜４０μｍが好ましく、３μｍ〜３５μｍがより好ましく、５μｍ〜３０μｍが更に好ましい。
【０１１５】
＜＜カーボンナノチューブ＞＞
前記カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）は、グラファイト状炭素原子面（グラフェンシート）が、単層あるいは多層の同軸管状になった物質である。前記単層のカーボンナノチューブはシングルウォールナノチューブ（ＳＷＮＴ）、前記多層のカーボンナノチューブはマルチウォールナノチューブ（ＭＷＮＴ）と呼ばれ、特に、２層のカーボンナノチューブはダブルウォールナノチューブ（ＤＷＮＴ）とも呼ばれる。本発明で用いられる導電性繊維において、前記カーボンナノチューブは、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層が好ましい。
【０１１６】
−製造方法−
−アスペクト比−
前記導電性繊維のアスペクト比としては、１０以上であることが好ましい。前記アスペクト比とは、一般的には繊維状の物質の長辺と短辺との比（平均長軸長さ／平均短軸長さの比）を意味する。
【０１１７】
前記アスペクト比の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子顕微鏡等により測定する方法などが挙げられる。
【０１１８】
前記導電性繊維のアスペクト比を電子顕微鏡で測定する場合、前記導電性繊維のアスペクト比が１０以上であるか否かは、電子顕微鏡の１視野で確認できればよい。また、前記導電性繊維の長軸長さと短軸長さとを各々別に測定することによって、前記導電性繊維全体のアスペクト比を見積もることができる。
【０１１９】
なお、前記導電性繊維がチューブ状の場合には、前記アスペクト比を算出するための直径としては、該チューブの外径を用いる。
【０１２０】
前記導電性繊維のアスペクト比としては、１０以上であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５０〜１，０００，０００が好ましく、１００〜１，０００，０００がより好ましい。
【０１２１】
前記アスペクト比が、１０未満であると、前記導電性繊維によるネットワーク形成がなされず導電性が十分取れないことがあり、１，０００，０００を超えると、導電性繊維の形成時やその後の取り扱いにおいて、成膜前に導電性繊維が絡まり凝集するため、安定な液が得られないことがある。
【０１２２】
−アスペクト比が１０以上の導電性繊維の比率−
前記アスペクト比が１０以上の導電性繊維の比率としては、全導電性組成物中に体積比で、５０％以上が好ましく、６０％以上がより好ましく、７５％以上が特に好ましい。これらの導電性繊維の割合を、以下、「導電性繊維の比率」と呼ぶことがある。
【０１２３】
前記導電性繊維の比率が、５０％未満であると、導電性に寄与する導電性物質が減少し導電性が低下してしまうことがあり、同時に密なネットワークを形成できないために電圧集中が生じ、耐久性が低下してしまうことがある。また、導電性繊維以外の形状の粒子は、導電性に大きく寄与しない上に吸収を持つため好ましくない。特に金属の場合で、球形などのプラズモン吸収が強い場合には透明度が悪化してしまうことがある。
【０１２４】
ここで、前記導電性繊維の比率は、例えば、導電性繊維が銀ナノワイヤーである場合には、銀ナノワイヤー水分散液をろ過して、銀ナノワイヤーと、それ以外の粒子とを分離し、ＩＣＰ発光分析装置を用いてろ紙に残っている銀の量と、ろ紙を透過した銀の量とを各々測定することで、導電性繊維の比率を求めることができる。ろ紙に残っている導電性繊維をＴＥＭで観察し、３００個の導電性繊維の短軸長さを観察し、その分布を調べることにより、短軸長さが２００ｎｍ以下であり、かつ長軸長さが１μｍ以上である導電性繊維であることを確認する。なお、ろ紙は、ＴＥＭ像で短軸長さが２００ｎｍ以下であり、かつ長軸長さが１μｍ以上である導電性繊維以外の粒子の最長軸を計測し、その最長軸の２倍以上であり、かつ導電性繊維の長軸の最短長以下の長さのものを用いることが好ましい。
【０１２５】
ここで、前記導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）や光学顕微鏡を用い、ＴＥＭ像や光学顕微鏡像を観察することにより求めることができ、本発明においては、導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により３００個の導電性繊維を観察し、その平均値から求めたものである。
【０１２６】
以下には、導電性繊維とバインダー（感光性樹脂）を一層に含有した導電層について記載したが、感光性樹脂を含有する感光層（パターニング材料）は導電性繊維を含有する導電層と必ずしも一体化していなくてもよく、導電層と感光層（パターニング層）が積層されていたり、導電層を被転写体に転写した後に感光層（パターニング層）を積層転写したり、レジスト材料をスクリーン印刷してパターニング用マスクを形成してもよい。
【０１２７】
＜＜バインダー＞＞
前記バインダーとしては、有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基（例えば
カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基など）を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。
【０１２８】
これらの中でも、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものが好ましく、また、酸解離性基を有し、酸の作用により酸解離性基が解離した時にアルカリ可溶となるものが特に好ましい。
【０１２９】
ここで、前記酸解離性基とは、酸の存在下で解離することが可能な官能基を表す。
【０１３０】
前記バインダーの製造には、例えば公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。前記ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めることができる。
【０１３１】
前記有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー（酸性基を有する感光性樹脂）が好ましい。
【０１３２】
前記側鎖にカルボン酸を有するポリマーとしては、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等であり、更に側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する高分子重合体も好ましいものとして挙げられる。
【０１３３】
これらの中でも、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が特に好ましい。
【０１３４】
更に、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する高分子重合体や（メタ）アクリル酸／グリシジル（メタ）アクリレート／他のモノマーからなる多元共重合体も有用なものとして挙げられる。該ポリマーは任意の量で混合して用いることができる。
【０１３５】
前記以外にも、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、などが挙げられる。
【０１３６】
前記アルカリ可溶性樹脂における具体的な構成単位としては、（メタ）アクリル酸と、該（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体とが好適である。
【０１３７】
前記（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、例えばアルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。これらは、アルキル基及びアリール基の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。
【０１３８】
前記アルキル（メタ）アクリレート又はアリール（メタ）アクリレートとしては、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１３９】
前記ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、ＣＨ2＝ＣＲ1Ｒ2、ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）（ＣＯＯＲ3）〔ただし、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ2は炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環を表し、Ｒ3は炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１２のアラルキル基を表す。〕、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１４０】
前記バインダーの重量平均分子量は、アルカリ溶解速度、膜物性等の点から、１，０００〜５００，０００が好ましく、３，０００〜３００，０００がより好ましく、５，０００〜２００，０００が更に好ましい。
【０１４１】
ここで、前記重量平均分子量は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィ法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて求めることができる。
【０１４２】
前記バインダーの含有量は、前記導電層全体に対し４０質量％〜９５質量％であることが好ましく、５０質量％〜９０質量％がより好ましく、７０質量％〜９０質量％が更に好ましい。前記含有量の範囲にあると、現像性と金属ナノワイヤーの導電性の両立が図れる。
【０１４３】
−感光性化合物−
前記感光性化合物とは、露光により画像を形成する機能を導電層に付与するか、又はそのきっかけを与える化合物を意味する。具体的には、（１）露光による酸を発生する化合物（光酸発生剤）、（２）感光性のキノンジアジド化合物、（３）光ラジカル発生剤等を挙げることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、感度調整のために、増感剤などを併用して用いることもできる。
【０１４４】
−−（１）光酸発生剤−−
前記（１）光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている活性光線又は放射線の照射により酸を発生する公知の化合物及びそれらの混合物を適宜に選択して使用することができる。
【０１４５】
前記（１）光酸発生剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ−ニトロベンジルスルホネートなどが挙げられる。これらの中でも、スルホン酸を発生する化合物であるイミドスルホネート、オキシムスルホネート、ｏ−ニトロベンジルスルホネートが特に好ましい。
【０１４６】
また、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する基、あるいは化合物を樹脂の主鎖又は側鎖に導入した化合物、例えば、米国特許第３，８４９，１３７号明細書、独国特許第３９１４４０７号明細書、特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３８号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号の各公報等に記載の化合物を用いることができる。
【０１４７】
更に、米国特許第３,７７９,７７８号、欧州特許第１２６,７１２号等の各明細書に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。
【０１４８】
−−（２）キノンジアジド化合物−−
前記（２）キノンジアジド化合物としては、例えば、１，２−キノンジアジドスルホニルクロリド類、ヒドロキシ化合物、アミノ化合物などを脱塩酸剤の存在下で縮合反応させることで得られる。
【０１４９】
前記（１）光酸発生剤、及び前記（２）キノンジアジド化合物の配合量は、露光部と未露光部の溶解速度差と、感度の許容幅の点から、前記バインダーの総量１００質量部に対して、１質量部〜１００質量部であることが好ましく、３質量部〜８０質量部がより好ましい。
【０１５０】
なお、前記（１）光酸発生剤と、前記（２）キノンジアジド化合物とを併用してもよい。
【０１５１】
本発明においては、前記（１）光酸発生剤の中でもスルホン酸を発生する化合物が好ましく、下記のようなオキシムスルホネート化合物が高感度である観点から特に好ましい。
【０１５２】
【化１】
0005806066.tif 000002
【０１５３】
前記（２）キノンジアジド化合物として、１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物を用いると高感度で現像性が良好である。
【０１５４】
前記（２）キノンジアジド化合物の中で下記の化合物でＤが独立して水素原子又は１，２−ナフトキノンジアジド基であるものが高感度である観点から好ましい。
【０１５５】
【化２】
0005806066.tif 000003
【０１５６】
−−（３）光ラジカル発生剤−−
前記光ラジカル発生剤は、光を直接吸収し、又は光増感されて分解反応若しくは水素引き抜き反応を起こし、重合活性ラジカルを発生する機能を有する。前記光ラジカル発生剤は波長３００ｎｍ〜５００ｎｍの領域に吸収を有するものであることが好ましい。
【０１５７】
前記光ラジカル発生剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。前記光ラジカル発生剤の含有量は、透明導電膜用の塗布液全固形量に対して、０．１質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜３０質量％がより好ましく、１質量％〜２０質量％が更に好ましい。前記数値範囲において、良好な感度とパターン形成性が得られる。
【０１５８】
前記光ラジカル発生剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば特開２００８−２６８８８４号公報に記載の化合物群が挙げられる。これらの中でも、トリアジン系化合物、アセトフェノン系化合物、アシルホスフィン（オキシド）系化合物、オキシム系化合物、イミダゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物が露光感度の観点から特に好ましい。
【０１５９】
前記光ラジカル発生剤としては、露光感度と透明性の観点から、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンゾフェノン、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］が好適である。
【０１６０】
透明導電膜用の塗布液は、露光感度向上のために、光ラジカル発生剤と連鎖移動剤を併用してもよい。
【０１６１】
前記連鎖移動剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどのＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、Ｎ−フェニルメルカプトベンゾイミダゾール、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオンなどの複素環を有するメルカプト化合物、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタンなどの脂肪族多官能メルカプト化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１６２】
前記連鎖移動剤の含有量は、前記透明導電膜用の塗布液の全固形分に対し、０．０１質量％〜１５質量％が好ましく、０．１質量％〜１０質量％がより好ましく、０．５質量％〜５質量％が更に好ましい。
【０１６３】
−その他の成分−
前記その他の成分としては、例えば架橋剤、分散剤、溶媒、界面活性剤、酸化防止剤、硫化防止剤、金属腐食防止剤、粘度調整剤、防腐剤等の各種の添加剤などが挙げられる。
【０１６４】
−−架橋剤−−
前記架橋剤は、フリーラジカル又は酸及び熱により化学結合を形成し、導電層を硬化させる化合物であり、例えばメチロール基、アルコキシメチル基、アシロキシメチル基から選ばれる少なくとも１つの基で置換されたメラミン系化合物、グアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物、ウレア系化合物、フェノール系化合物もしくはフェノールのエーテル化合物、エポキシ系化合物、オキセタン系化合物、チオエポキシ系化合物、イソシアネート系化合物、又はアジド系化合物；メタクリロイル基又はアクリロイル基などを含むエチレン性不飽和基を有する化合物、などが挙げられる。これらの中でも、膜物性、耐熱性、溶剤耐性の点でエポキシ系化合物、オキセタン系化合物、エチレン性不飽和基を有する化合物が特に好ましい。
【０１６５】
また、前記オキセタン樹脂は、１種単独で又はエポキシ樹脂と混合して使用することができる。特にエポキシ樹脂との併用で用いた場合には反応性が高く、膜物性を向上させる観点から好ましい。
【０１６６】
前記架橋剤の含有量は、前記バインダー総量１００質量部に対して、１質量部〜２５０質量部が好ましく、３質量部〜２００質量部がより好ましい。
【０１６７】
−−分散剤−−
前記分散剤は、前記導電性繊維の凝集を防ぎ、分散させるために用いる。前記分散剤としては、前記導電性繊維を分散させることができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、市販の低分子顔料分散剤、高分子顔料分散剤を利用でき、特に高分子分散剤で導電性繊維に吸着する性質を持つものが好ましく用いられ、例えばポリビニルピロリドン、ＢＹＫシリーズ（ビックケミー社製）、ソルスパースシリーズ（日本ルーブリゾール社製など）、アジスパーシリーズ（味の素株式会社製）などが挙げられる。
【０１６８】
前記分散剤の含有量としては、前記バインダー１００質量部に対し、０．１質量部〜５０質量部が好ましく、０．５質量部〜４０質量部がより好ましく、１質量部〜３０質量部が特に好ましい。
【０１６９】
前記含有量が、０．１質量部未満であると、分散液中で導電性繊維が凝集してしまうことがあり、５０質量部を超えると、塗布工程において安定な液膜が形成できず、塗布ムラが発生することがある。
【０１７０】
−−溶媒−−
前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシブタノール、水、１−メトキシ−２−プロパノール、イソプロピルアセテート、乳酸メチル、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）、プロピレンカーボネート、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１７１】
−−金属腐食防止剤−−
前記金属腐食防止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えばチオール類、アゾール類などが好適である。
【０１７２】
前記金属腐食防止剤を含有することで、一段と優れた防錆効果を発揮することができる。
【０１７３】
前記金属腐食防止剤は透明導電膜用の塗布液に溶解した中に、適した溶媒で溶解した状態、又は粉末で添加するか、後述する透明導電膜用の塗布液による導電膜を作製後に、これを金属腐食防止剤浴に浸すことで付与することができる。
【実施例】
【０１７４】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１７５】
＜試料１＞
ガラス上に図1に記載の電極パターンを形成し、タッチパネルを作製した。タッチパネルの一方の面に光学粘着剤（パナック工業製PDS1）を用いて偏光板（株式会社サンリッツ製HLC2-5618）を貼り付けた。他方の面に前記偏光板とクロスニコルの関係になるように光学粘着剤を用いて偏光板を貼り付けた。
【０１７６】
暗室下で、この偏光板の一方の面から面光源を照射し、他方の面から目視により観察を行ったところ、パターンが視認されなかった。
【０１７７】
＜試料２＞
ガラス上に試料１と同様の電極パターンを形成し、タッチパネルを作製した。タッチパネルに対して、一方の面に光学粘着剤を用いて偏光板を貼り付けた。他方の面にUV硬化樹脂（協立化学産業株式会社製HRJ-21）を用いて、バックライト側と逆の面の偏光板が剥離された液晶ディスプレイに貼り合せた。
【０１７８】
図６は、試料２のタッチパネル付液晶ディスプレイの概略構成を示す。タッチパネル付液晶ディスプレイ１００は、偏光板１０２と、タッチパネル１０と、液晶セル１０８と、偏光板１０２と、バックライト１１０とを備える。タッチパネル付液晶ディスプレイ１００では、タッチパネル１０が２つの偏光板１０２の間に配置されている。偏光板１０２とタッチパネル１０とは光学粘着剤１０４により貼り付けられる。タッチパネル１０と液晶セル１０８とはＵＶ硬化樹脂１０６により貼り付けられる。液晶セル１０８と偏光板１０２とは光学粘着剤１０４に貼り付けられる。
【０１７９】
暗室下で、タッチパネル付液晶ディスプレイを点灯させ目視により観察したところ、パターンが視認されなかった。
【０１８０】
＜試料３＞
ガラス上に、ダミー絶縁ラインを形成しなかったことを除き、図１に記載の電極パターンを形成し、タッチパネルを作製した。試料１と同様な方法で、タッチパネルを偏光板に貼り付けた。暗室下で実施例1と同様に観察したところ、絶縁ラインが疎な箇所は白く、絶縁ラインが密な箇所は黒く視認され、パターン見えが生じた。
【０１８１】
＜試料４＞
ガラス上に試料３と同様の電極パターンを形成し、タッチパネルを作製した。試料２と同様な方法で、タッチパネルを偏光板と液晶ディスプレイに貼り付けた。暗室下で試料２と同様に観察したところ、絶縁ラインが疎な箇所は白く、絶縁ラインが密な箇所は黒く視認され、パターン見えが生じた。
【０１８２】
＜試料５＞
偏光板（株式会社サンリッツ製HLC2-5618）と、１/４波長板（帝人化成製ピュアエース）を、偏光板の吸収軸と１/４波長板の光学軸のなす角が、45度となるように、光学粘着剤（パナック工業製PDS1）を用いて貼り合せ、円偏光板を作成した。
【０１８３】
ガラス上に試料１と同様の電極パターンを形成し、タッチパネルを作製した。タッチパネルに対して、一方の面に光学粘着剤を用いて円偏光板を貼り付けた。他方の面にUV硬化樹脂（協立化学産業株式会社製HRJ-21）を用いて、有機ＥＬ素子に貼り合せた。
【０１８４】
図７は、試料５の有機ＥＬディスプレイの概略構成図を示す。有機ＥＬディスプレイ２００は、円偏光板２０２と、タッチパネル１０と、有機ＥＬ素子２０８とを備える。タッチパネル１０が、円偏光板２０２と有機ＥＬ素子２０８との間に配置される。円偏光板２０２とタッチパネル１０とは光学粘着剤２０４により貼り付けられ、タッチパネル１０と有機ＥＬ素子はＵＶ硬化樹脂により貼り付けられる。
【０１８５】
明室下で、タッチパネル付有機ＥＬディスプレイを点灯させ目視により観察したところ、パターンが視認されなかった。
【０１８６】
＜試料６＞
ガラス上に試料３と同様の電極パターンを形成し、タッチパネルを作製した。試料５と同様な方法で、タッチパネルを円偏光板と有機ＥＬ素子に貼り付けた。明室下で試料５と同様に観察したところ、絶縁ラインが疎な箇所は白く、絶縁ラインが密な箇所は黒く視認され、パターン見えが生じた。
【符号の説明】
【０１８７】
１０  タッチパネル、１２  電極パターン、２０  透明基板、３０  第１透明導電パターン、３２  第１感知部、３４  第１接続部、３６  接続部、４０  第２透明導電パターン、４２  第２感知部、４４  第２接続部、４６  接続部、５０  絶縁膜、６０  ダミーパターン、７０  絶縁ライン、８０  ダミー絶縁ライン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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