(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部空間を取り囲む六つの壁パネル（５１０）を備えている真空チャンバー（４００）であり、
前記壁パネルは、複数の接続部材（５０４，５２４，５２８）を使用して組み立てられてチャンバーを形成し、前記接続部材は前記壁パネルを所定の配置で設置し、
前記真空チャンバーは、前記壁パネルの端に設けられた一つ以上のシール部材（５０９と５２２）をさらに備えており、
前記壁パネルは、前記内部空間に真空を形成する結果として真空密接シールが形成されるように配置され、
前記シール部材は、前記壁パネルのまわりにはまるための三次元形状に形成された、一つ以上の壁パネルの複数の端にあるすきまを封止するように適合されたＯリングまたはＣリングで構成されるシール材料（５２２）の単一の可撓部品を備えている、真空チャンバー。
【請求項２】
前記シール材料（５２２）の単一の可撓部品は、前記六つの壁パネル（５１０）の複数の端にあるすきまを封止するように適合されたちょうど十二の辺部を備えている、請求項１の真空チャンバー。
【請求項３】
前記壁パネルの隣接するものは、前記接続部材（５０４，５２４，５２８）を使用して、互いに取り外し可能に付けられている、請求項１〜２のいずれか一つの真空チャンバー。
【請求項４】
フレーム（５００）をさらに備えており、前記一つ以上のシール部材（５０９，５２２）は、前記壁パネルと前記フレームの間に前記真空密接シールを形成するために、前記壁パネルと前記フレームの間に設けられる、請求項１〜３のいずれか一つの真空チャンバー。
【請求項５】
前記接続部材はピンまたはボルトで構成される、請求項１〜４のいずれか一つの真空チャンバー。
【請求項６】
前記接続部材（５２４）はラッチを備えている、請求項１〜５のいずれか一つの真空チャンバー。
【請求項７】
前記壁パネル（５１０）の一つ以上は、前記一つ以上のシール部材（５２２）を部分的に収容するための溝（５７０）を有している、請求項１〜６のいずれか一つの真空チャンバー。
【請求項８】
前記チャンバー（４００）の前記壁パネル（５１０）はアルミニウムで構成される、請求項１〜７のいずれか一つの真空チャンバー。
【請求項９】
前記チャンバー（４００）の前記壁パネル（５１０）の少なくとも一つの面はミューメタルで実質的に覆われている、請求項１〜８のいずれか一つの真空チャンバー。
【請求項１０】
前記チャンバー（４００）の前記壁パネルは、ミューメタルの一つ以上の層（６０３，６０５）を有する複合構造体を備えている、請求項１〜９のいずれか一つの真空チャンバー。
【請求項１１】
真空チャンバー（４００）の中への組み立てのためのコンポーネントのキットセットであり、六つの壁パネル（５１０）と、内部空間を取り囲む所定の配置で前記壁パネルを設置するために前記壁パネルに取り外し可能に付いているように適合された複数の接続部材（５０４，５２４，５２８）と、前記壁パネルの端に真空密接シールを形成するように適合された一つ以上のシール部材（５０９，５２２）を備えており、前記一つ以上のシール部材は、前記六つの壁パネル（５１０）の複数の端にあるすきまを封止するように適合された十二の辺部を備えているシール材料（５２２）の単一の可撓部品で構成される、キットセット。
【請求項１２】
前記接続部材は、前記キットセットが組み立てられるときに、前記壁パネルの端に真空密接シールを提供する位置に向けて前記壁パネル（５１０）を案内するように適合されている、請求項１１のキットセット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、荷電粒子リソグラフィ装置に関する。本発明はさらに、真空チャンバー内の真空を生成する、また、たとえば荷電粒子マルチビームレットリソグラフィまたは検査システムへの適用のための方法に関する。本発明はさらに、そのようなリソグラフィ装置と真空チャンバーを支持するためのフレームの設備に関する。本発明はさらに、そのようなリソグラフィ装置とポンプシステムの設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
荷電粒子および光リソグラフィマシンおよび検査マシンは一般に真空環境中で動作される。これは、リソグラフィマシンまたはマシンの一群を収納するのに十分に真空チャンバーが大きいことを必要とする。真空チャンバーは、電気的、光学的および電力のケーブル接続のための、またチャンバーの中に搬入されるウェーハやターゲットのための、また保守や操作上の必要性のためのマシンへのアクセスを許すための開口を有しながらも、十分に強く、必要な真空を支持するために真空密接でなければならない。荷電粒子マシンが内包されている場合、真空チャンバーはまた、外部電磁場がマシンの動作に障害を与えるのを防止する遮蔽を提供しなければならない。
【０００３】
従来の真空チャンバー設計は、リソグラフィマシンのスループットに関連する過度の重量、床面積の過度の使用、ドアの小さい大きさ、開口の周囲のぜい弱な電磁遮蔽などのさまざまな欠点に苦しんだ。従来の設計は、高価で時間消費する製作工程を必要とし、通常、それが使用される現場へ運送する前のチャンバーの完全な組み立てと、工場からそれらが使用される現場までの高価な輸送費を必要とした。
【発明の概要】
【０００４】
本発明は、従来の設計の欠点に応える改良型真空チャンバーを提供することを目的とする。本発明の一つの様態によれば、真空チャンバーは、内部空間を取り囲む複数の壁パネルを備えている。前記壁パネルは、複数の接続部材を使用して組み立てられてチャンバーを形成し、前記接続部材は前記壁パネルを所定の配置で設置する。前記真空チャンバーは、前記壁パネルの端に設けられた一つ以上のシール部材（５０９と５２２）をさらに備えており、前記壁パネルは、前記内部空間に真空を形成する結果として前記壁パネルの端に真空密接シールが形成されるように配置される。
【０００５】
前記接続部材は、前記壁パネルを取り外し可能に接続するように、また分解を可能にするように適合されてよい。前記接続部材は、好ましくは、前記壁パネルの小さい所定の範囲の移動を提供しながら前記壁パネルを設置するように適合されている。前記接続部材は、前記内部空間内に前記真空が形成されるときに前記壁パネルが前記シール部材に向かって移動してより密接に封止することを許しながら前記壁パネルを設置するように適合されている。前記接続部材は、前記壁パネルの端に前記真空密接シールを提供することなく、前記壁パネルを設置するように設計されてよく、また、前記壁パネルの端にほぼ真空密接シールを提供する位置に前記壁パネルを設置するように、および／または、前記壁パネルの端に前記真空密接シールを提供する位置に向けて前記壁パネルを案内するように設計されてよい。
【０００６】
前記壁パネルの端の前記密接シールは、前記内部空間に接続された吸引デバイスの動作によって実現されてよく、前記吸引デバイスは、前記内部空間内に前記真空を生成する前記ほぼ真空密接シールを通る前記内部空間の中への空気の流量よりも十分に大きい空気排除能力を有している。
【０００７】
前記真空チャンバーは、前記内部空間を取り囲むために前記壁パネルが取り付けられた完全支持フレームで、または、完全支持壁パネルで、フレームを伴わずに、または、初期の組み立ての間の支持のためのフレームを伴って、または、これらの設計のハイブリッド形態で建造されてよい。前記完全支持フレームを備えた前記真空チャンバーは、前記フレームに取り付けられそれによって支持された壁パネルを備えており、前記壁パネルは前記フレームに封止して真空密接シールを提供する。前記完全支持壁パネルを備えた前記真空チャンバーは、それらの端で互いに連結および封止して真空密接構造体を形成する壁パネルを備えている。前記フレームは完全に省略されてよく、または、組み立ての間の壁のための支持を提供するのに十分なフレームが使用されてよい。前記ハイブリッド形態は、いくらかの支持を提供するフレームと、いくらかの支持を提供する壁パネルを備えており、前記壁パネルは前記フレームに封止し、前記壁パネルはまた互いに連結し互いに封止する。
【０００８】
これらの設計はすべて、たとえば四週間未満の短い製造所要時間を可能にする高度なモジュール式設計を使用して得る。前記フレームは、個別のフレーム部材と角部構成物から建造され現場で組み立てられてよく、前記壁パネルは、現場での組み立てのための個別のユニットとして製造されてよい。この設計は、前記個別のコンポーネントが、規格化サイズでより大量に製造されることを可能にし、製造コストを低減する。それはまた、前記真空チャンバーが「フラットパック」キットセットとして分解されて運送されることを可能し、工場から前記チャンバーが使用される現場までの輸送のコストを低減する。前記真空チャンバーは、小さい容積を取り囲むように設計されてよい。いくつかの応用装置たとえば荷電粒子リソグラフィマシンに好適な大きさ、１ｍ×１ｍ×１ｍの内部空間が好適であることがある。前記真空チャンバーは、好ましくは、少なくとも１０−３ｍｂａｒ、好ましくは１０−６ｍｂａｒの圧力を維持することが可能である。
【０００９】
前記真空チャンバーは、接続をふさぐ壁を有していてよい。前記壁パネルは、好ましくは、接続部材を使用して、互いに取り外し可能に取り付けられる。前記壁パネルの一つ以上は、前記内部空間内に形成された前記真空の影響下における前記壁パネルの移動を抑制するための、他の壁パネルの一つ以上と連結するための連結領域を備えていてよい。好ましくは、前記チャンバーの前記内部空間内に前記真空が形成されるときに前記壁パネルに及ぼされる力によって前記壁パネルの間に真空密接シールが形成される。
【００１０】
前記壁パネルは、前記壁パネルの間を連結するための段付き端を有していてよい。前記壁パネルの二つは、連結設備を形成する段付き端を有していてよく、第一の壁パネルの外側表面に対して及ぼされる力は、第二の壁パネルの前記段付き端に前記第一の壁パネルがより密接に封止することをもたらし、また、前記第二の壁パネルの外側表面に対して及ぼされる力は、前記第一の壁パネルの前記段付き端に前記第二の壁パネルがより密接に封止することをもたらす。前記複数の壁パネルの対向する段付き端の間に接着剤が塗布されてよく、前記複数の壁パネルを設置するために複数の接続部材が使用されてよい。前記接続部材は、前記壁パネルの厚さの一部だけを貫通してよく、それらは、ピンまたはボルトで構成されてよい。前記壁パネルの二つの傾斜端の間に一片部材が挿入されてよく、各壁パネルの傾斜端は、前記一片部材の対向表面に対するシールを形成する。各壁パネルの前記傾斜端と前記一片部材の前記対向表面の間にＯリングが配置されてよく、前記壁パネルと前記一片部材を接続するために接続部材が使用されてよい。各壁パネルの傾斜端と前記一片部材の前記対向表面の間に接着剤が使用されてよい。
【００１１】
前記壁パネルは、接続部材を使用して前記フレームに取り外し可能に取り付けられてよく、前記壁パネルと前記フレームの間に前記真空密接シールを形成するために、前記壁パネルと前記フレームの間に一つ以上のシール部材が設けられてよい。前記フレームは、前記内部空間内に形成された前記真空の影響下において前記壁パネルまたは前記フレームの移動を禁じるための、前記壁パネルの一つ以上と連結するための連結領域を有していてよい。前記壁パネル（５１０）と前記フレーム（５００）は、好ましくは、前記内部空間内に前記真空が形成されるときに、前記壁パネルと前記フレーム部材が密接に連結されて前記真空チャンバーの剛性を増大させる、および／または、真空密接シールを作り出すように配置される。
【００１２】
前記真空チャンバーの前記フレームは、複数の相互接続フレーム部材を備えていてよく、前記フレーム部材は接続部材によって接続されている。前記フレーム部材の一つ以上は、他のフレーム部材の端領域と連結するための一つ以上の凹部（５５０）を端領域に備えていてよい。前記フレーム部材の少なくとも一つは、前記壁パネルの一つの端を収容するための切り欠き部を備えた断面輪郭を有していてよい。前記フレーム部材の少なくとも一つは、二つの切り欠き部、第一の壁パネルの端を収容するための第一の切り欠き部と、第二の壁パネルの端を収容するための第二の切り欠き部を備えた断面輪郭を有していてよい。
【００１３】
第一および第二の壁パネルの連結設備をフレーム部材が形成してよく、前記第一の壁パネルの外側表面に対して及ぼされる力が、前記フレーム部材の前記第一の切り欠き部に前記第一の壁パネルがより密接に封止し、また、前記フレーム部材の前記第二の切り欠き部が前記第二の壁パネルの端に押し当たることをもたらす。前記フレーム部材と前記壁パネルは連結設備を形成してよく、前記真空チャンバー内のより低い圧力は、前記フレーム部材の前記複数の切り欠き部（５５２）の第一のそれに向かって前記第一の壁パネルをより密接に押し当てる方向に作用する第一の壁パネルの外側表面に対して及ぼされる第一の力と、前記フレーム部材の前記複数の切り欠き部（５５２）の第二のそれに向かって前記第二の壁パネルをより密接に押し当てる方向に作用する第二の壁パネルの外側表面に対して及ぼされる第二の力をもたらす。
【００１４】
前記フレーム部材は、追加フレーム部材の接続のための固定具を受けるための凹部または穴を備えていてよく、前記フレーム部材中の凹部または穴は、前記真空チャンバーの組み立ての前に、あらかじめ空けられ、前記チャンバーの内側から前記凹部または穴の中へ延びるボルトまたはピンで、ふさがされてよい。前記凹部または穴は、前記フレーム部材の一つ以上に沿って規格化位置にあらかじめ空けられてよい。
【００１５】
前記真空チャンバーは、複数の相互接続フレーム部材と、前記フレームの角部にある複数の角部構成物（５０２）を備えたフレームを有していてよく、前記フレーム部材は前記角部構成物を接続する。前記フレーム部材と前記角部構成物の間の接続を封止するためにシール部材が使用されてよく、前記フレーム部材と前記角部構成物の間の接続を封止するために前記複数の接続部材が使用されてよい。前記接続部材は、前記フレーム部材と前記角部構成物の間の接続のために使用されてよく、ピンまたはボルトで構成されるか、ラッチまたはヒンジを備えている。
【００１６】
前記真空チャンバーに使用される前記シール部材は、前記壁パネルと前記フレームの間のシール部材を有しており、前記壁パネルは、前記真空チャンバーの前記内部空間に真空が形成されるときに前記壁パネルが前記シール部材により密接に押し当てられるように配置される。前記壁パネルの間に一片部材が設けられてよく、前記壁パネルは、前記真空チャンバーの前記内部空間に真空が形成されるときに前記壁パネルが前記一片部材により密接に押し当てられるように配置される。
【００１７】
前記シール部材の一つ以上は、隣接する壁パネルのすきまに配置されてよく、ＯリングまたはＣリング、または銅またはインジウムで構成されてよく、または、それらは、真空グリース、ポリテトラフルオロエチレンまたは接着剤の少なくとも一つで構成されたシール剤で構成されてよい。
【００１８】
前記真空チャンバーは、フレームと、前記フレームに接着された一つ以上の壁パネルを備えていてよい。前記シール部材は、一つ以上の壁パネルの複数の端にあるすきまを封止するように適合されたシール材料の単一の可撓部品で構成されてよく、前記シール材料の単一の可撓部品は、六つの壁パネルの複数の端にあるすきまを封止するように適合された十二の延長部を備えていてよい。前記壁パネルは、前記一つ以上のシール部材を部分的に収容するための溝を有していてよく、前記真空チャンバーがフレームを備えているならば、前記フレームは、前記一つ以上のシール部材を部分的に収容するための溝を有していてよい。
【００１９】
前記真空チャンバーは、ヒンジ設備を介して前記フレームに接続された前記壁パネルの少なくとも一つを有していてよく、前記ヒンジ設備には、前記壁パネルが内側に移動して前記フレームに対して真空密接シールを提供することを可能にするために前記ヒンジに遊びが設けられている。前記壁パネルの少なくとも一つはヒンジ設備を介して前記フレームに接続されてよく、ヒンジ付き壁パネルは、前記チャンバーの一つの壁全体を形成するドアで構成される。前記真空チャンバーはフレームを備えていてよく、前記壁パネルの少なくとも一つは、前記壁パネルのすべての辺にあるヒンジ設備を介して前記フレームに接続されてよく、前記壁パネルの少なくとも一つは、前記フレームと連結する追加補強部材を有していてよい。前記追加補強部材は、前記フレームの前記角部の間に位置する点において前記フレームと連結してよい。
【００２０】
前記真空チャンバーは、好ましくは、アクセスドアとして機能するために取り外されてよい壁パネルを有している。前記壁パネルは、好ましくは、一人または二人の人が重い巻き上げ機を必要とすることなく壁パネルを扱うことができるように十分に軽く、それにより、チャンバーの内側の機器へのアクセスが改善される。前記真空チャンバーの前記壁パネルはアルミニウムで構成されてよく、前記チャンバーの前記壁パネルの少なくとも一つの面はミューメタルで実質的に覆われていてよい。前記壁パネルは、ミューメタルの一つ以上の層を有する複合構造体を備えていてよく、前記複合構造体は、アルミニウムの層とミューメタルの層を有していてよい。前記アルミニウムの層は、複数の層によってミューメタルの層から分離されていてよい。前記壁パネルは、ハニカム層などの開口構造体を備えた層を有する複合構造体を備えていてよい。前記ミューメタル層を絶縁するために一つ以上の電気的絶縁層が使用されてよい。前記チャンバーの中に突出している部分は、ミューメタルの一つ以上の層で構成されるかそれを覆っている蛇腹構造体によって覆われていてよく、前記蛇腹構造体は、前記ミューメタルの一つ以上の層に結合されていてよい。
【００２１】
前記真空チャンバーの輪郭は、前記チャンバー内に設置される機器の輪郭に順応するように変化していてよく、前記真空チャンバーは、単一の真空密閉箱を形成するより狭い上方部とより広い下方部を備えていてよい。電気的、光学的および／または電力のケーブルまたはワイヤーが前記チャンバーの中へ入ることを許す一つ以上のポートが設けられていてよく、前記ポートは前記ケーブルまたはワイヤーの周囲にシールを提供する。前記ポートは、上方部の周囲と下方部の上方に配置された機器からケーブルまたはワイヤーが入ることを許すために前記チャンバーの上方部の一つ以上の側壁に配置されていてよい。
【００２２】
各ポートは、前記真空チャンバー内に配置されたリソグラフィマシンの単一のモジュールのためのケーブルまたはワイヤーが入ることを許してよい。前記ポートの少なくとも一つは、ふたと一つ以上のミューメタルキャップを備えていてよく、前記ポートふたと前記一つ以上のミューメタルキャップは一つのユニットとして配置されてよい。前記ポートふたと、一つ以上のミューメタルキャップと、前記ポートを通る前記電気的、光学的および／または電力のケーブルまたはワイヤーと、前記ケーブルまたはワイヤーを終端するコネクターは、一つのユニットとして取り外され交換されるように配置されてよい。前記ミューメタルキャップは、前記ポートふたが閉じられたときに、対応するミューメタル壁層に向かって押されるように配置されてよい。一つ以上の真空ポンプ開口が前記チャンバーに設けられてよく、前記開口は、ミューメタルで構成されたフラップまたはバルブを有している。
【００２３】
別の様態では、本発明は、真空チャンバーの中への組み立てのためのコンポーネントのキットセットであり、前記キットセットは、複数の壁パネルと、内部空間を取り囲む所定の配置で壁パネルを設置するために前記壁パネルに取り外し可能に付いているように適合された複数の接続部材と、前記壁パネルの端に真空密接シールを形成するように適合された一つ以上のシール部材（５０９，５２２）を備えている。壁パネルと接続部材は、前記キットセットが組み立てられ、前記内部空間に真空が形成されるときに、前記壁パネルの端に真空密接シールを形成するように適合されていてよく、前記接続部材は、前記キットセットが組み立てられるときに、前記壁パネルの小さい所定の範囲の移動を提供しながら前記壁パネルを設置するように適合されてよい。前記接続部材は、前記内部空間に真空が形成されるときに前記壁パネルが前記シール部材に向かって移動してより密接に封止することを許しながら前記キットセットが組み立てられるときに前記壁パネルを設置するように適合されていてよく、前記接続部材は、前記キットセットが組み立てられるときに、前記壁パネルの端に真空密接シールを提供する位置に向けて前記壁パネルを案内するように適合されていてよい。前記接続部材は、前記キットセットが組み立てられるときに、前記壁パネルの端にほぼ真空密接シールを提供する位置に前記壁パネルを設置するように適合されていてよい。
【００２４】
本発明のさらなる様態は、モジュール式真空チャンバー内での使用のため壁パネルであり、前記壁パネルは、別の壁パネルまたはフレーム部材と連結するための段付き端を備えており、前記段付き端は、前記壁パネルと前記別の壁パネルまたは前記フレーム部材の間に真空密接シールを形成するように適合されたシール部材（５０９，５２２）を収容するための溝または凹部の（５７０）を備えており、前記壁パネルは、前記壁パネルに前記別の壁パネルまたはフレーム部材に取り外し可能に取り付けるように適合された複数の接続部材（５０４，５２４，５２８）を収容するための穴または凹部をさらに備えている。前記壁パネルは正方形また長方形であり、四つの他の壁パネルまたはフレーム部材と連結するために前記壁パネルの四つのすべての端に段付き端が形成されており、前記溝または凹部（５７０）と前記シール部材（５０９，５２２）は、前記壁パネルと前記四つの他の壁パネルまたはフレーム部材の間に真空密接シールを形成するために前記壁パネルの四つのすべての端の周囲に延在しており、前記接続部材（５０４，５２４，５２８）を収容するための穴または凹部は、前記壁パネルに前記四つの他の壁パネルまたはフレーム部材に取り外し可能に取り付けるために前記壁パネルの四つのすべての端の上の位置に設置される。
【００２５】
また別の様態では、本発明は、真空チャンバーを建造する方法であり、内部空間を取り囲むように複数の壁パネルを位置決めすることと、前記壁パネルの端の周囲にほぼ真空密接シールを形成するために複数の接続部材を使用して壁パネルを所定の位置に設置することと、前記内部空間の中への気体の漏れ量よりも大きい流量で前記真空チャンバーの前記内部空間から気体を除去することを備えており、前記内部空間の圧力が、前記壁パネルに内向きの力を及ぼすのに十分に下げられて、前記壁パネルの前記端の周囲に真空密接シールを作り出す。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
本発明のさまざまな相は、図面に示される実施形態を参照してさらに説明される。
【図１】図１は、荷電粒子リソグラフィシステムの実施形態の単純化された概略図である。
【図２】図２は、モジュール式リソグラフィシステムの単純化されたブロック図である。
【図３Ａ】図３Ａは、リソグラフィマシンとウェーハ搬入システムの設備の一例である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、リソグラフィマシンとウェーハ搬入システムの設備の一例である。
【図４Ａ】図４Ａは、真空チャンバーのためのフレームの斜視図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、真空チャンバーフレームの角部の詳細図である。
【図５Ａ】図５Ａは、真空チャンバーの角部とフレーム部材の間の接続の断面図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、真空チャンバーの角部とフレーム部材の間の接続の断面図である。
【図５Ｃ】図５Ｃは、真空チャンバーの角部とフレーム部材の間の接続の断面図である。
【図６Ａ】図６Ａは、シール部材またはシール剤を有する真空チャンバーの角部とフレーム部材の間の接続の断面図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、シール部材またはシール剤を有する真空チャンバーの角部とフレーム部材の間の接続の断面図である。
【図６Ｃ】図６Ｃは、シール部材またはシール剤を有する真空チャンバーの角部とフレーム部材の間の接続の断面図である。
【図７Ａ】図７Ａは、真空チャンバーの壁の一部を示す真空チャンバーフレームの角部の斜視図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、真空チャンバーの三つの壁の一部を示す真空チャンバーフレームの角部の斜視図である。
【図８Ａ】図８Ａは、真空チャンバーの壁パネルの間の接続の代替実施形態の断面図である。
【図８Ｂ】図８Ｂは、真空チャンバーの壁パネルの間の接続の代替実施形態の断面図である。
【図９Ａ】図９Ａは、真空チャンバーの壁パネルとフレーム部材の間の接続の実施形態の断面図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは、真空チャンバーの壁パネルとフレーム部材の間の接続の実施形態の断面図である。
【図９Ｃ】図９Ｃは、真空チャンバーの壁パネルとフレーム部材の間の接続の実施形態の断面図である。
【図９Ｄ】図９Ｄは、真空チャンバーの壁パネルとフレーム部材の間の接続の実施形態の断面図である。
【図９Ｅ】図９Ｅは、真空チャンバーの壁パネルとフレーム部材の間の接続の実施形態の断面図である。
【図１０】図１０は、接続部品を備えた真空チャンバーの壁パネルである。
【図１１Ａ】図１１Ａは、ヒンジ設備の代替実施形態の詳細図である。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、ヒンジ設備の代替実施形態の詳細図である。
【図１２】図１２は、真空チャンバーの壁パネルの間の接続の断面図である。
【図１３】図１３は、ドアパネルに分割された真空チャンバーの壁パネルである。
【図１４Ａ】図１４Ａは、真空チャンバーのための増強部材を備えた壁パネルの設備の斜視図である。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、図１４Ａの設備の詳細図である。
【図１４Ｃ】図１４Ｃは、図１４Ａの設備の詳細図である。
【図１４Ｄ】図１４Ｄは、図１４Ａの設備の詳細図である。
【図１４Ｅ】図１４Ｅは、角部構成物の代替実施形態の詳細図である。
【図１４Ｆ】図１４Ｆは、Ｏリング溝を備えたフレーム部材の詳細図である。
【図１４Ｇ】図１４Ｇは、Ｏリング溝を備えたフレーム部材の詳細図である。
【図１４Ｈ】図１４Ｈは、図１４Ａの真空チャンバーにかかる力の斜視図である。
【図１５Ａ】図１５Ａは、主要部と追加部を備えた真空チャンバーの斜視図である。
【図１５Ｂ】図１５Ｂは、図１５Ａの真空チャンバーの壁パネルの斜視図である。
【図１５Ｃ】図１５Ｃは、図１５Ａの真空チャンバーのフレーム部材の分解組立図である。
【図１６Ａ】図１６Ａは、フレーム部材の穴をふさぐためのプラグ設備の詳細図である。
【図１６Ｂ】図１６Ｂは、フレーム部材の穴をふさぐためのプラグ設備の詳細図である。
【図１６Ｃ】図１６Ｃは、フレーム部材の穴をふさぐためのプラグ設備の詳細図である。
【図１７Ａ】図１７Ａは、リソグラフィマシンを収納する真空チャンバーの横断面図である。
【図１７Ｂ】図１７Ｂは、真空チャンバー内の未使用空間を低減するように建造された真空チャンバーの横断面図である。
【図１７Ｃ】図１７Ｃは、図１７Ｂの真空チャンバーの斜視図である。
【図１８Ａ】図１８Ａは、角部構成物なしのフレーム部材の間の接続の透視分解組立図である。
【図１８Ｂ】図１８Ｂは、角部構成物なしのフレーム部材の間の接続のさまざまな設備の側面図である。
【図１９Ａ】図１９Ａは、角部構成物なしのフレーム部材間の代替接続の透視分解組立図である。
【図１９Ｂ】図１９Ｂは、組み立てられたときの図１９Ａの接続の斜視図である。
【図２０Ａ】図２０Ａは、フレームのない壁パネルの間の接続の断面図である。
【図２０Ｂ】図２０Ｂは、シール部材を備えた壁パネルの斜視図である。
【図２１】図２１は、Ｏリング構造物の斜視図である。
【図２２Ａ】図２２Ａは、複合構造体を有している壁パネルの一部の斜視図である。
【図２２Ｂ】図２２Ｂは、複合構造体を有している壁パネルの一部の斜視図である。
【図２２Ｃ】図２２Ｃは、複合構造体を有している二つの壁パネルの間の接続の断面図である。
【図２３Ａ】図２３Ａは、フレーム支持部材との接合の実施形態を示す真空チャンバーの底壁を通る断面図である。
【図２３Ｂ】図２３Ｂは、フレーム支持部材との接合の実施形態を示す真空チャンバーの底壁を通る断面図である。
【図２３Ｃ】図２３Ｃは、フレーム支持部材との接合の実施形態を示す真空チャンバーの底壁を通る断面図である。
【図２４Ａ】図２４Ａは、ポートふたとミュー遮蔽キャップの実施形態を示す真空チャンバーの壁を通る断面図である。
【図２４Ｂ】図２４Ｂは、ポートふたとミュー遮蔽キャップの実施形態を示す真空チャンバーの壁を通る断面図である。
【図２４Ｃ】図２４Ｃは、ポートふたとミュー遮蔽キャップの実施形態を示す真空チャンバーの壁を通る断面図である。
【図２５Ａ】図２５Ａは、真空チャンバーのポートと真空ポンプ開口の代替配置の斜視図である。
【図２５Ｂ】図２５Ｂは、真空チャンバーのポートと真空ポンプ開口の別の代替配置の上面図である。
【図２６】図２６は、ターボ真空ポンプを共有する真空チャンバーの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下は、本発明のさまざまな実施形態の説明であり、単なる例として図面を参照して与えられる。
【００２８】
荷電粒子リソグラフィシステム
図１は、荷電粒子リソグラフィシステム１００の実施形態の単純化した概略図を示している。そのようなリソグラフィシステムは、たとえば米国特許第６，８９７，４５８号と第６，９５８，８０４号と第７，０１９，９０８号と第７，０８４，４１４号と第７，１２９，５０２号、米国特許出願公開２００７／００６４２１３号、同時継続中の米国特許出願６１／０３１，５７３号と６１／０３１，５９４号と６１／０４５，２４３号と６１／０５５，８３９号と６１／０５８，５９６号と６１／１０１，６８２号に説明されており、それらはすべて本発明の所有者に譲渡されており、参照によってそっくりそのまますべてここに組み込まれる。図１に示された実施形態では、リソグラフィシステムは、拡大する電子ビーム１２０を生成するための荷電粒子源たとえば電子源１０１を備えている。拡大する電子ビーム２０は、コリメーターレンズシステム１０２によってコリメートされる。コリメートされた電子ビーム１２１は、開口アレイ１０３に衝突し、それは、ビームの一部を遮断して複数の電子サブビーム１２２を作り出す。
【００２９】
サブビーム１２２は、ビームストップアレイ１０５の平面にサブビームを合焦させる集光レンズアレイ１０４を通過する。合焦されたサブビーム１２２は、第二の開口アレイ１０５に衝突し、それは、サブビームの一部を遮断して、各サブビーム１２２から一群のビームレット１２３を作り出す。システムは、多数のビームレット１２３、好ましくはおよそ１０，０００ないし１，０００，０００のビームレットを生成する。
【００３０】
第二の開口アレイ１０５はまた、ビームレットブランカーアレイ１０５を備えており、それは、一つ以上の電子ビームレットを個々に偏向するための複数のブランカーを備えている。偏向および非偏向電子ビームレット１２３はビームストップアレイ１０８に到着し、それは、複数の開口を有している。ビームレットブランカーアレイ１０５とビームストップアレイ１０８は連携して、ビームレット１２３を遮断または透過するように動作する。ビームレットブランカーアレイ１０５がビームレットを偏向すれば、それは、ビームストップアレイ１０８中の対応する開口を通過せず、その代りに遮断される。しかし、ビームレットブランカーアレイ１０５がビームレットを偏向しないならば、それは、ビームストップアレイ１０８中の対応する開口を通過し、ビーム偏向器アレイ１０９と投影レンズアレイ１１０を通過する。
【００３１】
ビーム偏向器アレイ１０９は、ターゲット１３０の表面を横切ってビームレットを走査するために、非偏向ビームレットに実質的に垂直なＸおよび／またはＹ方向の各ビームレット１２４の偏向を提供する。次に、ビームレット１２４は、投影レンズアレイ１１０を通過し、ターゲット１３０上に投影される。投影レンズ設備は、好ましくはおよそ１００ないし５００倍の縮小率を提供する。ビームレット１２４は、ターゲットを運ぶための移動可能ステージ１３２上に配置されたターゲット１３０の表面に衝突する。リソグラフィ応用装置に関しては、ターゲットは、通常、荷電粒子感応層またはレジスト層が設けられたウェーハで構成される。
【００３２】
荷電粒子リソグラフィ装置は、真空環境中で動作する。真空は、荷電粒子ビームによってイオン化され得る粒子を除去するために望まれる。そのような粒子は、源に引きつけられ得、分離されてマシンコンポーネント上に堆積され得、荷電粒子ビームを分散させ得る。荷電粒子リソグレフィマシンのために少なくとも１０−３ｍＢａｒの真空が一般に必要とされる。真空環境を維持するために、荷電粒子リソグラフィ装置は真空チャンバー１４０内に設置されている。リソグラフィシステムの主要な要素のすべては、荷電粒子源と、ビームレット開口および抹消システムと、ビームレットをウェーハ上に投影するための投影系機システムと、移動可能ウェーハステージを含み、好ましく共通の真空チャンバー内に収納されている。別の実施形態では、荷電粒子源は個別の真空チャンバー内に収納されてよい。
【００３３】
モジュール式リソグラフィシステム
図２は、モジュール式リソグラフィシステムの主要な要素を示している単純化したブロック図を示している。リソグラフィシステムは、好ましくは、保守の容易さを与えるためにモジュール式方式に設計されている。主要なサブシステムは、好ましくは、自己充足的かつ取り外し可能モジュールで建造され、それにより、それらは、他のサブシステムへの可能な限り少ない外乱で、リソグラフィマシンから取り外されることが可能である。これは、真空チャンバー内に閉じ込められたリソグラフィマシンにとって特に有利であり、そこではマシンへのアクセスは限定される。したがって、不必要に他のシステムを分離または妨害することなく、欠陥のあるサブシステムがすばやく除去され交換されることが可能である。
【００３４】
図２に示される実施形態では、これらのモジュール式サブシステムは、荷電粒子ビーム源１０１とビームコリメート系１０２を有する照明光学モジュール２０１と、開口アレイ１０３と集光レンズアレイ１０４を有する開口アレイおよび集光レンズモジュール２０２、ビームレットブランカーアレイ１０５を有するビームスイッチモジュール２０３と、ビームストップアレイ１０８とビーム偏向器アレイ１０９と投影レンズアレイ１１０を有する投影光学モジュール２０４を有している。モジュールは、整列フレームに滑り入るおよびそこから滑り出るように設計されている。図３に示された実施形態では、整列フレームは、整列内側サブフレーム２０５と整列外側サブフレーム２０６を備えている。フレーム２０８は、振動減衰マウント２０７を介して整列サブフレーム２０５と２０６を支持している。ウェーハ１３０はウェーハテーブル２０９上にもたれており、それは、今度はチャック２１０に装着されている。チャック２１０は、ステージショートストローク２１１とロングストローク２１２上に鎮座している。リソグラフィマシンは、真空チャンバー２４０中に閉じ込められており、それは、一つまたは複数のミューメタル遮蔽層２１５を有している。マシンは、フレーム部材２２１によって支持されたベースプレート２２０上にもたれている。
【００３５】
各モジュールは、多数の電気信号および／または光信号と、その動作のための電力を必要とする。真空チャンバーの内側のモジュールは、一般にチャンバーの外側に設置されたコントロールシステムからこれらの信号を受け取る。真空チャンバーは、コントロールシステムから真空ハウジングの中に信号を運ぶケーブルを、ケーブルの周囲の真空シールを維持しながら取り込むための、ポートと呼ばれる開口を有している。各モジュールは、好ましくは、そのモジュールに専用の一つ以上のポートを通って引き回される電気的、光学的、および／または電力のケーブル接続の収集体を有している。これは、特定のモジュールのためのケーブルが、他のどのモジュールのためのケーブルを邪魔することなく、分離、除去、および交換されることを可能にする。
【００３６】
リソグラフィマシンのクラスター
図３Ａは、共通ウェーハ搬入システムと共働するリソグラフィマシン３００の群のレイアウトの一例を示している。この例では、マシンの単一のクラスターを形成するために十個のリソグラフィマシン３０１が五つの二つ列に配置されているけれども、より少ないまたはより多い数のマシンが一つのクラスターに組み込まれてよい。各リソグラフィシステムはそれ自体の真空チャンバー内に包含されており、各チャンバーの前部は中央通路３１０に面し、各チャンバーの後部はアクセス廊下３０６に面している。
【００３７】
中央通路は、各リソグラフィマシン３０１におよびそこからウェーハを搬送するための搬送ロボット３０５と、ウェーハをマシンの中および外に搬入および搬出するための各マシン３０１のためのウェーハハンドリングロボット３０３と、マシンのウェーハステージをその真空チャンバーの内側で移動させるための各マシンのためのステージアクチュエーター３０４を収容している。
【００３８】
共通搬送ロボット３０５は一つよりも多くのロボットユニットを備えていてよく、各ロボットユニット、共通ロボット３０５に割り当てられた機能をおこなうように構成されている。あるロボットユニットが正常に働かないならば、別のロボットユニットがその機能を引き継いでよく、それは、ロボット故障によるクラスターの中断時間を最小限にする。正常に働かないロボットユニットはクラスターから取り除かれてロボット記憶装置３０７に移送されてよく、そこで、クラスターの動作を邪魔することなく保守点検され得る。
【００３９】
各真空チャンバーは、ウェーハを受け入れるためのウェーハ搬入開口をその前部壁に有している。ロードロック（およびロボット）は好ましくは、ほぼリソグラフィマシンのウェーハステージの高さに、すなわち、およそ真空チャンバーの高さの半分に配置されている。ロードロックまたはウェーハ搬入ユニット３０３と、ステージアクチュエーター３０４は、図３Ａに横並びに示されているけれども、これらは、好ましくは、図３Ｂの設備に示されるように、ロードロックまたはウェーハ搬入ユニット３０３をステージアクチュエーター３０４の上方にして配置される。各真空チャンバーはまた、メンテナンスと修理と運用上の調整のためにリソグラフィマシンへのアクセスを許すためのドアをその後部壁に有している。
【００４０】
各リソグラフィマシンは好ましくは、それ自体の真空チャンバー内に配置されている。荷電粒子源［？？］と、ウェーハ上にビームレットを投影するための投影機システムと、移動可能ウェーハステージを含め、荷電粒子リソグラフィシステムの主要要素のすべては、共通の真空チャンバー内に好ましくは収納されている。荷電粒子リソグラフィシステムを収納するための真空チャンバー４００のさまざまな実施形態が以下に詳細に説明される。各マシンのためのウェーハハンドリングロボットとステージアクチュエーターは、リソグラフィマシンを備えた同一真空チャンバー内に配置されてもよく、または、個別の真空チャンバー内に配置されてもよい。ステージアクチュエーターは一般に、リニア電気モーターなどの電気モーターを有しており、それらは、好ましくは磁場遮蔽によってリソグラフィマシンから分離されている。これは、リソグラフィマシンを収納する真空チャンバーの壁に一つ以上のミューメタル層を設け、ステージアクチュエーターを個別のチャンバー内に設置するによって実施されてよい。
【００４１】
ｆａｂの床面積は、ｆａｂを建造し管理する高いコストと、ｆａｂが増大するにつれたコストの増大のために、大切である。したがって、ｆａｂ床面積の効率的な使用は重要であり、リソグラフィマシンは好ましくは、可能な限り少なく床面積を占めるように、また可能な限り効率良く他のマシンに取り付けられるように設計される。
【００４２】
真空チャンバーは好ましくは実質的に正方形の設置面積を有している（すなわち、チャンバーの床は正方形またはほぼ正方形である）。これは、円形ウェーハを露光するために特に設計されたリソグラフィマシンを収納するための効率的な配置を可能にし、たとえば図３Ａに示されるような複数リソグラフィマシンの効率的な配置を作り出す。さらに、チャンバーは箱形状を有していてよく、好ましくは必要なｆａｂ面積のさらなる低減を可能にする高さに制限されている。いくつかの実施形態では、チャンバーは実質的に立方体に形づくられる（すなわち、チャンバーの高さはその幅と深さとほぼ同じである）。
【００４３】
代替配置では、真空チャンバーは、横並びに配置されるほかに、またはそれに加えて、鉛直に積み重ねられる。図３Ｂは、そのような配置の複数の真空チャンバーの一列の斜視図を示している。たとえば、図３Ａに示されるような同一床面積に（二層で）２０チャンバーまたは（三層で）３０チャンバーの配置を作り出すために、二つ、三つまたは可能なより多くの真空チャンバーの層が使用されてよい。複数チャンバーは、共通の真空ポンプシステムと、共通の搬送ロボットシステムを利用してよい。代わりに、共通の真空ポンプシステムと共通の搬送ロボットシステムは、チャンバーの各層に対して、またはチャンバーの各列に対して利用されてよい。
【００４４】
モジュール式真空チャンバー
従来の設計では、チャンバー４００は、壁を合わせてそれらの端を溶接することによって建造される。しかしながら、壁を溶接することは、たとえば、真空チャンバー壁を変形させることなく高精度真空耐密溶接をおこなう困難さのために、遅く高価になることがある。さらに、これは、最終目的地へ運送する前に工場で真空チャンバーが完全に組み立てられることを通常必要とし、運送する物品の大きさを増大させ、運送の費用を増大させる。これは、チャンバーが飛行機で送られることになっている場合（海上輸送によって引き起こされる腐食や他の問題を回避するために好まれ得る）、さらに重要になる。
【００４５】
いくつかの実施形態では、真空チャンバー４００は、壁が固定またはヒンジ連結されたフレームを備えていてよい。このように、真空チャンバーは、取り外されたフラットパック形状で運送され、現場またはその最終地に近い場所で組み立てられることが可能であるキットセットとして建造されることが可能である。真空チャンバーのコンポーネントは溶接することなく組み立てられてよく、チャンバーがポンプ吸引されるときに、チャンバーの内部の真空の力が、壁パネルの間のあらゆるすきまを閉じ、パネルを合わせて密接に保持するように働く力を及ぼすことによって、真空密接構造物を形成することを支援するようにチャンバーが建造されてよい。
【００４６】
この種の構造物は、従来の設計に対して多数の長所を有している。真空チャンバーの一部は、規格化コンポーネントとして設計され、より大きい製造量で製造されてよく、平行して製造されてよく、および／または、製造は、所要時間とコストを低減するために専門家製造業者に外部委託されてよい。コンポーネントの最終組立は、カスタマイズされた工具や重機械なしでおこなわれてよく、必要な溶接の量を低減し、製造工程を単純化し、製造時間を低減する。チャンバーは、運送容積を低減するとともに異なるコンポーネントの個別の船積みを可能にするために分解されて運送されることが可能であるので、モジュール式設計は、チャンバーを運送することに、より大きい柔軟性を提供する。モジュール式設計はまた、工場からのチャンバーの船積みの後においても、真空チャンバーの明細たとえばチャンバーの大きさと形状を変更することに、より大きい柔軟性を提供する。
【００４７】
ここに説明される真空チャンバーは荷電粒子リソグラフィマシンを収納するために好適であるが、真空環境が必要ところならどこでも、他の目的のために使用されてよいことに注意されたい。ここに使用されるように、「真空」は、完全な真空を指すものではなく、チャンバーを取り囲む環境内の圧力よりも低い真空チャンバーの内部空間内の内部圧力を指す。たとえば、少なくとも１０−３ｍｂａｒ、好ましくは１０−６ｍｂａｒの真空は荷電粒子リソグラフィマシンにとって好適であるが、真空チャンバーの他の用途は、チャンバー内に形成されるべき真空に対して異なる要件を有し得る。容積１ｍ×１ｍ×１ｍの真空チャンバーと１ｂａｒの各壁を横切る圧力差に対して、各１ｍ×１ｍ壁パネルに及ぼされる力は１０５Ｎである。この力のもとにおける壁パネルおよびフレーム部材の変形の量は好ましくは、はっきり目に見えるよりも小さく、たとえば１０ｍｍ未満である。
【００４８】
図４Ａは、真空チャンバーのためのフレーム５００を示しており、角部構成物５０２によって接続されたロッドまたは支柱の形態をしているフレーム部材５０１を有している。図４Ｂは、チャンバーの一実施形態中の支柱５０１を接続している角部構成物５０２の詳細を示している。角部構成物５０２は、単一の部品中のフレーム部材５０１の一部として形成されてよい。たとえば、フレーム部材のいくつかは、一端または両端に形成された一体的角部構成物を備えて作られてよく、その一方で、フレーム部材のいくつかは、いかなる角部構成物も備えることなく作られる。別の設備では、フレームは二つの部品から形成されてよく、そのおのおのは、正方形または長方形の形態の一つの一体部品に形成された四つのフレーム部材と四つの角部構成物を備えており、二つの部品はそれから四つの個別のフレームによって接続されて組立フレームを形成する。代わりに、角部構成物は、フレーム部材５０１が互いに直接接続するように、完全に省略されてよく、フレーム部材の端部は、以下により詳しく説明されるような接続に適合されている。
【００４９】
たとえば図７Ａと７Ｂに示されるように、壁パネル５１０は、内部空間を取り囲んで真空チャンバーを形成する。壁パネルは、壁パネルを所定の配置に設置する接続部材を使用してフレーム５００に取り外し可能に付けられてチャンバーを形成し、内部空間に真空を形成する結果として壁パネルの端に真空密接シールが形成されるようにシール部材が壁パネルの端に設けられる。
【００５０】
この種の構造物は、アルミニウム、ステンレススチールまたは他の適切な材料の組立式および規格化コンポーネントから真空チャンバーが建造されることを可能にする。規格角部構成物５０２はフレーム部材５０１と組み合わされることが可能であり、それは、変化する大きさと形状の迅速建造真空チャンバーを可能にするために規格化長さのひとそろいに組立式に製造されることが可能である。壁パネルは、同様に、規格化サイズに組立式に製造されることが可能である。
【００５１】
フレーム部材５０１は、接着剤、ピン、ボルト、連結突出部、および／および／または他の適切な接続方法によって、角部構成物５０２に、または互いに接続されてよい。図４Ｂは、フレーム部材５０１を角部構成物５０２に固定または設置するためのピンまたはボルトの５０４で構成される接続要素を収容するための切り欠き部５０３を有している角部構成物５０２の一例を示している。フレーム部材はまた、フレーム部材と角部構成物の間で塗布された接着剤たとえばアラルダイト２０／２０を使用して角部構成物に好ましくは固定される。
【００５２】
真空チャンバーの表面の清潔は、特に荷電粒子リソグラフィマシンに使用されるとき、しばしば重要である。クリーニングは、ここに説明される実施形態において提供されるような、表面の粗さが低いより大きい平らな構造体に対して最も容易である。清掃をより容易にするために、また気体抜けや脱気などの他の問題を低減するために、真空の内側の総表面積を最小にすることと、真空の内側の角部と空洞を最小にすることも好ましい。したがって単純立方設計は有益である。
【００５３】
真空チャンバーのコンポーネントに使用された材料は、真空下における気体抜けや脱気を制限するように好ましくは選択される。低蒸気圧混合物のない金属は内側表面に好ましく、水または有機化合物からの汚染をもたらすことがある非金属は避けるべきである。（亜鉛なしの）アルミニウムは内側表面に好適である。
【００５４】
図５Ａは、フレーム部材５０１と角部構成物５０２の間の継ぎ目を通る断面図を示しており、フレーム部材５０１を固定または設置するためのピンまたはボルト５０４は所定の位置にある。図５Ｂは、代替実施形態を示しており、突出部５１２が、角部品５０２の対応凹部と連結するためにフレーム部材５０１の端に形成されている。フレーム部材に凹部があり、角部構成物の接続表面に突出部が代替的に形成されてもよい。図５Ｃは、別の実施形態を示しており、合せピン５１３が、フレーム部材５０１と角部構成物５０２の両方の凹部にはまっている。省略されてもよいけれども、好ましくは、接着剤もこれらの実施形態に使用される。ボルトとピンと突出部は、好ましくは、接続される部品（すなわちフレーム部材と角部構成物）を一時的に設置するように、また、好ましくは、接着剤が硬化するあいだ張力を与えるように機能する。これは、組み立てを単純化し、また、接着剤が塗布された後だが硬化する前に、フレームが傍観されるか接触されないままにされなければならい時間を低減する。
【００５５】
図６Ａは、真空チャンバーの真空密接を改善するために接合部間に形成されたシールを改善するためにフレーム部材と角部構成物の間に配置されたシール部材５０９を備えた継ぎ目を通る断面図を示している。接着剤が、シール部材と一緒に、またはシール部材の代わりに使用されてよい。図６Ｂは、二つの部品の間に塗布された接着剤５０６を示している。接着剤型５０７が、継ぎ目の外側表面を（図中に示された方向５０８に）押して、接着剤の表面を平らにして、図６Ｃに示されるような、壁パネルがもたれる滑らかな表面を確実にするために使用されてよい。
【００５６】
シール部材は、シート、ディスク、ホイル、平ワッシャー、Ｏリング、または同様物であってよい。銅やインジウムなどの、好ましくは通常の室温と圧力で弾性的に変形可能な軟金属材料が使用されてよく、または、ポリテトラフルオロエチレンやＰＴＦＥなどの合成材料が使用されてよい。シール部材はまた、低揮発性真空グリースまたは接着剤などのシール剤で構成されてよい。シール部材は接着剤と一緒に使用されてもよく、または、シール部材がまた接着剤として機能してもよい。
【００５７】
壁パネル５１０は図７Ａに示されるようにフレーム上に配置されており、その図は、フレームに固定された一枚の壁パネルを備えた部分的な組立体を示しており、また、図７Ｂは、真空チャンバーの角部にある三つの壁パネル５１０を示している。壁パネルは、後述するさまざまな方法を使用して、それらの端で互いに、および／または、フレームに固定されてよい。
【００５８】
図８Ａは、壁を直接合わせてそれらの端で取り付けることによって作られる構造物を示している。段付き端を備えた二つの壁５１０が、図８Ａ示されるように連結され、接着剤５０６および／またはシール部材５０９が隣接する表面間に適用される。適切な接着剤の一例はアラルダイト２０２０であり、上に説明したようなシール部材は使用されてもよい。一つの壁を貫通して別の壁の凹部まで延在する（ボルトまたは設置ピンなどの）接続部材５０４は、接着工程のあいだ壁を設置するために使用されてよい。
【００５９】
代替建造方法が図８Ｂに示される。壁５１０の端は角度が付けられており、一片部材５１６は壁の端の間に配置されている。たとえばボルトまたはピンの形態の接続部材５１７が壁と一片を設置するために使用されてよく、また、（バイトンＯリングなどの）ＯリングやＣリング５２２などのシール部材または上に説明したような他のシール部材が、壁５１０と一片５１６の間の継ぎ目を封止するために使用されてよい。接続部材５１７は、好ましくは、Ｏリング５２２の外側に組み込まれてよい。代わりに、壁部材５１０の角度付き端が直接接合されるように一片部材５１６が省略されることが可能であってよい。壁パネルが付加的に継ぎ目を封止するものであるならば、シール層５１５が内側表面に適用されてよい。
【００６０】
これらの構造物は、チャンバー内の真空によって作り出された圧力が、壁の継ぎ目を引っぱってより良いシールを作り出すのを助ける自己締め付け設備をもたらす。図８Ａ実施形態の壁パネルの連結段付き端と図８Ｂ実施形態の角度付き端と（追加の一片部材を伴う）角度付き端は、チャンバーをポンプ吸引することに起因する力のもとで、一つの壁パネルが他を支持し、要素間の継ぎ目がより密接に保持されることをもたらす。角部品と合わさって一片を同様の一片に異なる向きで接続する一片５１６は、真空チャンバー壁に組み込まれる自己圧迫フレーム構造を形成し得る。
【００６１】
図９Ａは、壁パネル５１０がフレーム部材５０１に固定される実施形態を示している。ピンやボルトや同様物の形態の接続部材５０４は、壁パネルをフレーム部材に固定または設置するために設けられる。前の実施形態でのように壁パネルをフレーム部材に接続するために接着剤が使用されてもよい。ピン／ボルトは、図９Ａに示されるように、壁パネルを貫通し、フレーム部材中の凹部の中に入ってよい。ＯリングまたはＣリング５２２などのシール部材または上に説明された他のシール部材が、壁パネル５１０とフレーム部材５０１の間に設けられてよい。ＯリングまたはＣリングなどのシール部材を収容する凹部が、図９Ａに示されるようにフレーム部材に、および／または、壁パネルの内側表面に設けられてよい。真空チャンバーがポンプ吸引されるとき、チャンバーの内部の真空の力が、壁５１０をフレーム部材５０１により密に接触させて引き込み、したがって、壁パネルの端の周囲に真空密接シールを形成することを支援する。
【００６２】
図９Ｂは、壁パネル５１０Ａと５１０Ｂをより容易に正しい位置に設置するように設計された断面を備えたフレーム部材５０１を有している別の代替構造物を示している。フレーム部材は、上に説明したような角部構成物を備えたフレームに組み立てられてよい。壁パネルは、フレーム部材５０１の切り欠き部５５２にぴったり入る。壁パネル５１０は、接続部材５０４によって固定および／または設置されてよく、追加のシールが、ＯリングまたはＣリング５２２などのシール部材によって壁パネルとフレーム部材の間に設けられてよい。前の実施形態でのように壁パネルをフレーム部材に接続するために接着剤が使用されてもよい。
【００６３】
フレーム部材５０１の形状は、気密チャンバーを作り出す真空力を利用する頑丈な構造物をもたらす。真空チャンバーがポンプ吸引されるとき、チャンバーの真空は壁パネルを内側に押す力を及ぼす。この力は、図９Ｂの矢印ＡとＢによって概略的に示される。方向Ａの力は、壁５１０Ａをフレーム部材５０１に押し当てるように働き、それらの間のあらゆるすきまを低減し、それらの間のシールを改善する。チャンバー内に十分な高真空がつくり出されるとき、フレーム部材がわずかに曲がることがあることが予期され得る。しかしながら、フレーム部材の形状のおかげで、それは隣接する壁パネル５１０Ｂによって強化される。壁５１０Ａがフレーム部材５０１に十分な力で押し当たるとき、フレーム部材は、壁パネル５１０Ｂの端部に押し当たり（図９Ｂに矢印Ａ’によって概略的に表わされる）、フレーム部材のさらなるゆがみを防止する。方向Ｂの力の結果として同様の効果が起こる。壁５１０Ｂがフレーム部材５０１を十分な力で押し当たるとき、フレーム部材は、壁パネル５１０Ａの端部に押し当たり、フレーム部材のさらなる歪みを防止する。これは、単純なモジュール構造をもたらす。
【００６４】
図９Ｃは、図９Ａに示される構造物の変形例を示している。一つの壁パネルが図９Ａに示されるように配置されており、一方、別のものが迅速解放ラッチ５２４でフレーム部材５０１に固定されている。前の実施形態と同様に壁パネルをフレーム部材とシール部材に接続するために接着剤が使用されてもよい。
【００６５】
図９Ｄは、図９Ａに示される構造物の別の変化例を示しており、一つの壁パネルがヒンジ設備に装着されている。フレーム部材５０１からの突出部５２６は、ヒンジピン５２８を収容するための溝５２７を有している。対応する接続部品または壁パネル５２５の突出部または拡張部もまた、ヒンジピン５２８を収容するための穴を有している。これは、一つ（以上）の壁パネルを、方向５３０にヒンジで動く真空チャンバーのためのドアとして利用する単純な構造物を可能にする。接続部品５２５は、壁パネル５１０Ｂへの取り付けのためのピンまたはボルト５０４で図面に示されているけれども、接着や溶接やその他などの他の取り付けの手段が等しく使用されることが可能であろう。壁パネル５１０Ｂの他の端は、壁パネル５１０Ａと同一方法で対応するフレーム部材に固定されてよく、前の実施形態のようにシール部材が使用されてよい。代わりに、壁パネル５１０Ｂは、他の一つ以上の端にヒンジ設備を有していてもよい。一実施形態では、真空チャンバーの横の壁パネルはすべて、壁パネルの各鉛直端のヒンジ設備を使用して、フレームに装着される。
【００６６】
ポンプ吸引されたチャンバー内の真空によって及ぼされる力のもとで、壁パネル５１０Ｂが内側に移動し、フレーム部材５０１（および存在するならばＯリングまたはＣリング５２２または他のシール部材）に対して封止することを可能にするために、ヒンジ設備は、ヒンジに十分な遊びがあるように好ましくは設計されている。この遊びは、たとえば、図９Ｄの実施形態の溝５２７によって提供される。必要ならば、容易な初期組み立てのために、またチャンバーからの壁パネル５１０Ｂの完全な取り外しのために、現場での容易な組立および分解のためにヒンジピン５２８が設計されてよい。
【００６７】
チャンバーの壁パネルの一つ以上は、壁パネル５１０Ｂと同様にヒンジが付けられてよく、チャンバーのための一つ以上のドアを供給する。図９Ｅは、そのような設計を示しており、ドア５１０Ａと５１０Ｂの両方がヒンジ設備５２５と５２６を使用してフレーム部材５０１に取り付けられている。少なくとも一つのドアは、好ましくは、真空チャンバーの一つの全体の壁として形づくる。この設備は、リソグラフィシステムのコンポーネントをチャンバーの中および外に移動させるために最大の幅および高さを提供し、それは、モジュール式設計を有しているリソグラフィシステムの重要な利点である。それは、モジュールからスライドし、続いてそれを交換することを、たとえば、真空チャンバーに入る必要なくして保守点検されることを可能にする。
【００６８】
壁パネルは、それらのすべての端でヒンジ装置によってフレームに取り付けられてよい。図１０は、上に説明したようなヒンジ設備を使用するフレームへの取り付けのために壁のすべての端に接続部品５２５を有している壁パネル５１０を示している。一つまたは複数のドアが、側方、上方または下方に開くように配置されてよい。いくつかの装置では、ドアは実質的に垂直に開くように配置されてよく、リソグラフィマシンに必要な床面積を最小にする。この配置は、他の機器または壁が真空チャンバーの比較的すぐ近くに配置されることを可能にし、または作業またはアクセス空間を必要とするドアブロック有することを避ける。いくつかの実施形態では、ドアは、ドアが上方に揺動することを可能にするヒンジ付きアームに装着され、他の実施形態では、ドアは、巻き上げシステムによって開かれる。
【００６９】
ドアとして機能するヒンジ付き壁パネルは、好ましくは、チャンバーから手で取り外すのに十分に軽い。前の真空チャンバー設計は、およそ３００ｋｇの重量であるドアを特色としたが、真空チャンバーの好ましい実施形態は、アルミニウムの積層構造物を使用し、およそ２５ｋｇの重量に作られた、より小さい壁パネル／ドアを有している。
【００７０】
図１１Ａと１１Ｂは、ヒンジ設備の追加の詳細を示している。図１１Ａは、フレーム部材５０１に取り付けられた壁パネル５１０Ｂの端面図であり、接続部品５２５と突出部５２６とヒンジピン５２８の配置を示している。ヒンジピンを適所に維持するためにクリップ５２９が使用されてよい。図１１Ｂは、両方の突出部５２６を形成する単一の部品を通る断面図を示しており、また、壁パネル／ドアが開いているのに対応する回転された位置の接続部品５２５を示している。この設計では、ボルト５３１が突出部部品５２６をフレーム部材に取り付け、ボルトは、ヒンジピン５２８が凹部５３２内のボルト５３１を保持するように凹部５３２内に配置されている。
【００７１】
図１２は、壁パネルが互いに直接取り付けられているまた別の配置を示す示している。示された実施形態では、パネル５１０Ａと５１０Ｂは、ヒンジ設備（接続部品５２５とヒンジピン５２８）を使用して互いに取り付けられているけれども、ラッチや締め付けや他の接続デバイスなどの多くの他の手段が使用されてもよい。
【００７２】
図１３は、二つのドアパネル５４０と５４１に分割された真空チャンバーの壁パネル５１０を示している。ドアパネルが出合うところである端５４２は、ドアパネルの間のシールを容易にするために波打ち形状を有している。パネルの硬さと強さを増大させるために壁パネルを強化するための横梁５４５が使用されてもよい。
【００７３】
図１４Ａは、モジュール式真空チャンバーの別の設備を示している。チャンバーは、フレーム部材５０１と角部構成物５０２を備えたフレームを備えている。角部構成物は、フレーム部材の一部として形成されてよく、または省略されてよい。壁パネル５１０は、交差部材５６１を備えて建造され、それは、描かれた実施形態の壁パネルの内側表面に配置されている。図１４Ｂ〜１４Ｄは、真空チャンバーの追加の詳細を示している。交差部材５６１は、それらの端に形成された溝または凹部５６４を有しており、それは、フレーム部材５０１の対応する位置に取り付けられたピンまたは突出部５６５と係合する。描かれた実施形態は、各壁パネルの内側表面に一つの水平および一つの垂直の交差部材を有しているけれども、異なる数の交差部材が、水平、垂直または斜めに配置して使用されてもよい。さらに設備を強くするために隅要素５６２が組み込まれてもよい。
【００７４】
この設備では、壁パネルは適所に置かれ、必要なときに取り外されてよい。壁パネルは、フレーム部材に決まった位置でぴったりはまり、交差部材と、ピン／突出部５６５とつがう溝／凹部５６４は、壁パネルを所定の位置に設置するように機能する。壁パネルは、好ましくは、パネルの重量を支える巻き上げ機やヒンジ設備を必要とすることなく、それらが一人の人または二人の人によって持ち上げられることが可能であるように十分に軽い。壁パネルの手作業による配置と取り外しを支援するためにハンドル５６３が設けられてよい。
【００７５】
図１４Ｅは、真空チャンバーでの使用のための角部構成物５０２のさまざまな形状を、接続部材（たとえばピンまたはボルト５０４）を収容するための切り欠き部５０３と、接続部材を収容するための穴または凹部５０５と共に示している。
【００７６】
図１４Ｆ〜１４Ｇは、ＯリングやＣリングなどのシール部材を収容するための溝または凹部５７０を有している角部構成物５０２とフレーム部材５０１を示している。溝は、フレームと壁パネルの間にシールを形成するようにシール部材を位置決めするように設置されている。図１４Ｇに示されるように、溝５７０は、壁パネルの一つ以上の端の周囲を封止するために設置されてよい。他の実施形態のために説明されたシール部材のいずれもが、角部構成物とフレーム部材の間を、および／または、フレームと壁パネルの間を封止するために、この実施形態に使用されてよい。
【００７７】
真空チャンバーの角部地点は、真空密接を達成するための重要地点である。角部構成物にある溝は、シール部材を案内し、チャンバーの角部の真空密接シールを確実にするように動作する。フレーム部材と角部構成物を接着することによって、またさまざまなコンポーネントが接合されるところである領域を表面処理することによって、角部において、また壁パネルの端の周囲の個所において、シールも改善されることが可能である。壁パネルの端に封止するための平滑表面を確実にするためにフレーム部材と角部構成物の組み立ての後に最終フライス工程段階がおこなわれてもよい。シールが形成される表面の粗さは好ましくはおよそ０．８Ｒａである。
【００７８】
図１４Ｈは、真空チャンバーの内部空間に真空がもし形成されたときに構造体に作用する力を示している１４Ａの真空チャンバーの一部を切り取った図を示している。チャンバーの内部空間に真空が形成されるとき、チャンバーの外側の大気圧が壁パネル上の力を及ぼし、それらを内側に、より密接にフレームに押し当てる。この力は、より良いシールをフレームによりかかる壁パネルの端の周囲に形成するのを支援する。壁パネルに及ぼされる力はフレーム部材に伝達され、それは、チャンバー内に高真空が形成されるときに圧力のもとでわずかに内側に曲がる傾向がある。この実施形態では、交差部材は、フレーム部材の曲がりを低減または防止するとともに構造体の剛性を増大させる反力を及ぼすことによって追加の支持を提供する。
【００７９】
上に説明された実施形態のすべてにおいて、接続部材は、壁パネルの小さい所定の範囲の移動を提供しながら壁パネルを設置するように適合されてよい。壁パネルがわずかに移動することを許すことによって、接続部材は、真空チャンバーの内部空間に真空が形成されるときに、壁パネルが少量だけ内側に移動し、より密接にシール部材に封止することを可能にし、それにより、チャンバー内に真空を形成する動作によって真空密接シールが作り出される。接続部材は、壁パネルの端に真空密接シールを実際に提供することなく、壁パネルを適所に設置するように設計されてよい。代わりに、接続部材が、壁パネルの端にほぼ真空密接シールを提供してもよい。真空がチャンバーの内側に真空が形成されるとき、チャンバーの外側の大気圧の力によって壁パネルが内側に押されるときに密接シールが作り出される。接続部材は、壁パネルの端に真空密接シールが形成される位置に向けて壁パネルを案内するように動作してよい。
【００８０】
壁パネルの端の周囲に真空密接シールが形成されるのを可能にするために、チャンバーの中への空気漏れの流量よりも十分に高いポンプ能力を有している真空ポンプを使用することによって真空チャンバー内に真空が形成される。チャンバーの中への漏れ量は、チャンバーの設計と、使用されるシール部材のタイプに依存する。メタルシールを通る気体漏れは、シールを横切る１０−６ｍｂａｒの圧力で無視できるが、一般的なＯリングシールは気体に対して透過性がある。水に対して５ｍｍ径Ｏリングのおおよその透過度は、Ｏリング長のメートルあたり秒あたりおよそ１．８×１０−６ｍｂａｒ−ｌｉｔｅｒであり、窒素に対しては０．８×１０−６ｍｂａｒ−ｌ／ｓ／ｍ、酸素に対しては０．２×１０−６ｍｂａｒ−ｌ／ｓ／ｍである。各壁パネルの四つの端領域の周囲を封止するための単一シール部材を備えた大きさ１ｍ×１ｍ×１ｍの真空チャンバーは、ほぼ２４ｍの総シール部材長と、およそ４３×１０−６ｍｂａｒｌ／ｓの水に対する透過度を有している。これは一般に単に、真空ポンプ能力の小さいパーセンテージである。
【００８１】
真空ポンプは、たとえば後述するようなポートを介して真空チャンバーの内部空間に接続される。壁は適所に置かれて内部空間を取り囲み、ポンプはチャンバーから空気を取り除くように動作される。真空ポンプがチャンバーの内側の圧力を低下させるとき、真空密接シールがまだ形成されていないところの壁パネルの端の周囲からチャンバーの中へ空気が漏れる。チャンバーの内側の圧力が落ちるにつれて、外部の圧力が壁パネルに力を及ぼし、それらをフレームに、より密接に押し当てて、壁パネルの端の周囲に、より良いシールを形成する。真空ポンプの空気排除能力が内部空間の中へ漏れる空気の流量よりも十分に大きければ、壁パネルに作用する力は、真空密接シールを作り出すのに十分であり、チャンバー内に所望の真空が形成されることが可能である。
【００８２】
真空チャンバー形状
上記の実施形態のいずれかにしたがって建造された真空チャンバー４００は、いろいろな形状と大きさを有しているリソグラフィマシンまたは他のタイプの機器を収容するようにさまざまな方法で構成されてよい。図１５Ａは、正方形または長方形断面をもつ主要部４７０を備えるように、また、横柱の形態の追加部４７１と突出箱の形態の４７２を備えるように構成された真空チャンバー４００を示している。これらの追加部は、上に説明された同一モジュール式タイプ構造物を使用し、フレーム部材と角部構成物と壁パネルを利用して建造されてよい。図１５Ｂは、横柱４７１を収容する切り欠き部５５０を備え、それにより主要部４７０と横柱４７１が一つの単一内部容積を備えた真空チャンバーを形成する横壁パネル５１０Ｃ示している。
【００８３】
図１５Ｃは、主要真空チャンバー部４７０に付いている柱部４７１の分解組立図を示している。柱部４７１はフレーム部材５０１Ａと角部構成物５０２を備えている。柱部４７１のフレーム部材は、主要部の追加フレーム部材５０１Ｂに、フレーム部材５０１Ｂの凹部または穴５４７の中に延びるボルトまたはピンを使用して接続されてよい。これらの凹部または穴は、現場での迅速な組み立てのために、あらかじめ空けられ、またふさがれてよく、真空チャンバーに対するボルトオン拡張の構造物を可能にする。真空チャンバーに対する変化する要求に応じたさまざまな形状へのフレームの迅速な組み立てを可能にするために、フレーム部材５１０Ｂに沿った規格化位置にひとそろいの穴があらかじめ空けられてよい。
【００８４】
これらの拡張部は、正規の立方体または長方形輪郭の外側にマシンの主要部から突出するリソグラフィマシンのさまざまな部品を収容するように配置されることが可能である。壁パネルは、主要部と拡張部のいくつかまたはすべてを含めて単一の真空密閉箱が作り出されるように追加された拡張部を備えてフレームに取り付けられてよい。代わりに、壁パネルは、複数の個別の真空密閉箱を作り出す方法で取り付けられてよい。
【００８５】
図１６Ａ〜１６Ｃは、フレーム部材５０１にあらかじめ空けられた穴または凹部５４７を、ピンまたはボルト５４８またはストッパー５４９でふさぐためのさまざまな設備を示している。ＯリングやＣリング５２２などのシール部材が、これらの設備のいずれか一つと共に使用されてよい。
【００８６】
図１７Ａは、ステージアセンブリ２２０と電気光学鏡筒２２１と源チャンバー２２２を備えているリソグラフィマシンを収納している立方体真空チャンバーを示している。図面で理解されることが可能であるように、真空チャンバーの正方形形状は、特に領域２４０に、チャンバーの内部の大量の未使用空間をもたらす（図面は二次元表現に過ぎず、チャンバーの前部および後部領域に起こり得る同様の結果を示していないことに注意されたい）。この未使用空間は、真空チャンバーの容積を不必要に増大させ、ポンプ吸引するより大きい容積と、より遅いポンプ吸引またはより大きい真空ポンプの必要を招く。未使用空間はまた、追加の機器を収納するために使用されたかもしれないｆａｂ内の空間を消費する。
【００８７】
図１７Ｂに示されるように、真空チャンバーは、真空チャンバー内の未使用空間を低減するように建造されてよい。図１７Ｂでは、真空チャンバー４００が、リソグラフィマシンの輪郭に、より接近して合うように構成され、より狭い上方部とより広い下方部をもたらす。これは、ポンプ吸引するより小さい容積をもたらし、また、ｆａｂ内の追加の床面積を消費することなく、また組立体全体の高さを増大させることなく、真空チャンバーの隣に機器ラックまたはキャビネット４７７と（真空ポンプなどの）他の機器を設置する空間を解放する。この設備は、図３Ｂに示される積み重ね鉛直配置を達成するのを支援し、一般的な組立体の高さをおよそ３ｍからおよそ１ｍ〜１．５ｍに低減し得る。クリーンルームの標準の天井高さは３．５ｍであるので、この設備は、三つの（関連機器を備えた）真空チャンバーが積み重ねられることを、好ましくは他の支持体の棚置きで可能にし得る。
【００８８】
機器ラックまたはキャビネット４７７は、好ましくはリソグラフィマシンのすぐ近くに配置される高圧コントロール回路類とビーム切替およびビーム走査偏向電子回路類を収納するために使用されてよい。そして、この機器から真空チャンバー内のリソグラフィマシンまでの接続は、矢印４７８によって示されるようなラックまたはキャビネットの横において非常に短い接続ケーブルおよびワイヤーを使用してなされることが可能である。
【００８９】
図１７Ｃは、図１７Ｂのように形成された真空チャンバーの斜視図を示しており、それは、より狭い上部４７５とより広い下方部４７６を備えている。メンテナンスアクセスの容易さのために機器ラックまたはキャビネットをスライドさせるためのトラック４７９が設けられてよい。上に説明したように、機器は、上部４７５の周囲と、下方部４７６の上方に配置されてよい。一つの設備では、頻繁なアクセスを必要としない真空ポンプは上部４７５の後ろおよび／または前に設置され、リソグラフィマシンのための電気および電子回路類は、それらがより容易にアクセスされることが可能である上部４７５の横にあるラックまたはキャビネット内に設置される。
【００９０】
角部構成物なしのフレーム
上に説明したように、真空チャンバーフレーム５００は角部構成物の使用なしで建造されてよい。これらの実施形態では、フレーム部材の間に角部において確実な接続がなされることを可能にするために、フレーム部材５０１は連結端部を備えるように作られてよい。これらの接続は好ましくは、チャンバー内に真空が形成されるときに及ぼされる力が、フレーム部材が互いにより密接に封止するようにそれらを合わせてより密接に押すように、また、フレーム部材が連結して強く硬い構造物を形成してこれらの力に対抗するように動作するようになされる。
【００９１】
図１８Ａは、角部構成物なしのフレーム部材の間の接続の分解組立図を示している。フレーム部材５０１Ｃは、フレーム部材５０１Ｄの端部を収容するための切り欠き部５５０を備えた、他のフレーム部材の端領域と連結するための端領域を有している。突出部５５１は、フレーム部材５０１Ｄの端部に重なり、フレーム部材に接続するための接続部材５０４を収容するための穴または凹部を有している。上に説明されたような接着剤および／またはシール部材がフレーム部材の間に使用されてよい。接続されたフレーム部材の端面図を示している、たとえば図１８Ｂに示されるような、さまざまな異なる配置が、角部構成物なしの連結の仕方でフレーム部材を接続するために可能である。
【００９２】
図１９Ａは、角部構成物なしのフレーム部材の間の代替接続の分解組立図であり、図１９Ｂは、組み立てられたときのフレーム部材を示している。この実施形態中のフレーム部材は、図９Ｂに示されるフレーム部材の輪郭に類似した、二つの垂直壁パネルの端を収容するための二つの凹部または切り欠き部５５２を備えた断面輪郭を有している。フレーム部材５０1Ｅは、フレーム部材５０１Ｆの端部を収容するための切り欠き部５５０を備えた、他のフレーム部材の端領域と連結するための端領域を有している。突出部５５１は、フレーム部材５０1Ｆの端部に重なり、フレーム部材を接続するための接続部材５０４を収容するための穴または凹部を有している。上に説明されたような接着剤および／またはシール部材がフレーム部材の間に使用されてよい。この分野の当業者によって認められるように、さまざまな異なる配置が、角部構成物なしの連結の仕方でフレーム部材を接続するために可能である。この実施形態のフレーム部材はまた、図９Ｂの実施形態について説明されるような壁パネルとの連結設備を形成し、それにより、一つの壁パネルの外側表面に対して及ぼされる力は、第一の壁パネルがフレーム部材の切り欠き部に対してより密接に封止し、第二の壁パネルが別のフレーム部材の切り欠き部に対してより密接に封止することをもたらす。
【００９３】
ＯリングまたはＣリングなどのシール部材を収容するために、凹部または溝の５７０が、フレーム部材の凹部または切り欠き部５５２に設けられてよい。壁パネルの端は、壁パネルの内側表面が溝５７０内のシール部材と接合してフレームと壁パネルの間にシールを形成するように、切り欠き部５５２の内部に鎮座するように配置される。他の実施形態のために説明されたシール部材のいずれもがこの実施形態に使用されてもよい。
【００９４】
フレームなしの構造物
フレームを備えたモジュール式真空チャンバーのための上に説明されたのと同じ原理がまた、個別のフレーム構造を有していない構造物において達成されてよい。図８Ａは、壁パネルがそれらの端で直接取り付けられた真空チャンバーを示している。隣接する表面の間に接着剤５０６および／またはシール部材５０９を伴って、段付き端を備えた二つの壁５１０が連結されている。一つの壁を通って別の壁の凹部内に延びている（ボルトまたは設置ピンなどの）接続部材５０４が、壁を設置するために使用されてよい。
【００９５】
図２０Ａは、壁パネル５１０Ｄと壁パネル５１０Ｅの間を封止するために、壁パネルの連結部の溝または凹部内にＯリングまたはＣリング５２２を備えた同じタイプの構造物を示している。図８Ａに示されるように、壁パネルを互いに接続するために接続部材が使用されてよい。図２０Ｂは、段付き端のすべての四辺に沿って配置されたシール部材５２２を備えた三次元図の壁パネル５１０Ｄを示している。シール部材は、溝内この位置に保持されてよく、または壁パネル端にシール部材を加硫することによって、または接着剤を使用することによって壁パネルに付着されてよい。これは、真空チャンバーの現場での組み立てを支援する。
【００９６】
これらの構造物は、壁パネルが互いに連結して所定の位置に支持および設置するのを助ける自己支持と自己締め付け設備をもたらす。チャンバー内に真空が形成されるとき、その結果として生じる力は、壁の継ぎ目を合わせてより密接に押し当て、より良いシールを作り出し、それにより、真空密接シールが形成される。壁パネルの連結段付き端または（図８Ｂ実施形態に示されるような追加の一片部材を備えた）角度付き壁パネル端は、チャンバーをポンプ吸引するに起因する力のもとで、一つの壁パネルが他のものを支持し、要素間の継ぎ目が合わせてより密接に保持されることをもたらす。
【００９７】
真空チャンバーのこれらの実施形態と他の実施形態に三次元シール部材が使用されてよい。図２１は、組み立て中の壁パネルの端の周囲にぴったりはまるための、三次元立方体形態に形成されたＯリングまたはＣリングを示している。シール部材はまた、おのおのが図２０Ｂに示されるように壁パネルたとえば床または天井パネルにぴったりはめられる二つのループと、チャンバーを形成する他の四つの壁パネルの間を封止するための四つの長さとして形成されてよい。
【００９８】
これらの実施形態では、壁パネルは、ここに説明された他の実施形態のいくつかのようにフレームに取り付けられるのではなく、接続部材を使用して、互いに取り外し可能に取り付けられる。壁パネルの連結領域は、チャンバーの内部空間に形成される真空の影響下におけるパネルの移動を妨げる。第一の壁パネルの外側表面に対して及ぼされる力が、第二の壁パネルの前記段付き端に前記第一の壁パネルがより密接に封止することをもたらし、また、前記第二の壁パネルの外側表面に対して及ぼされる力が、前記第一の壁パネルの前記段付き端に前記第二の壁パネルがより密接に封止することをもたらす連結設備を形成する段付き端。壁パネルの対抗する段付き端の間に接着剤が使用されてよく、壁パネルを設置するために接続部材が使用されてよい。
【００９９】
フレーム部材がチャンバーの構造要素として働くフレーム部材を備えた、および、壁パネルがチャンバーの構造要素でありフレームを備えていないチャンバーの実施形態について、１０−６ｍｂａｒの真空を保持するための１ｍ×１ｍ×１ｍチャンバーのための真空チャンバーコンポーネントの適切な構造の詳細が以下に与えられる。チャンバーの構造要素としてフレームが組み込まれる場合、一つのチャンバーにつき１６８ｋｇのフレーム部材の総重量に対して、７０ｍｍ×７０ｍｍの断面と、９．４ｍｍの真空下の変形と、１４ｋｇの重量をもつ中実アルミニウムフレーム部材が使用されてよい。中空アルミフレーム部材が使用されてよく、おのおのが１２０ｍｍ×１２０ｍｍの断面と、５ｍｍの壁厚と、３．７ｍｍの変形と、６．２５ｋｇの重量をもち、一つのチャンバーにつき７５ｋｇのフレーム部材の総重量である。これらの選択はいずれも比較的少量で製造され得、また大量生産に好適である。
【０１００】
真空チャンバーの構造要素として壁パネルが使用される場合、一つのチャンバーにつき２４６ｋｇの壁パネルの総重量に対して、厚さ１５ｍｍの中実アルミニウム壁パネルが使用されてよく、１９ｍｍの真空下の変形、一つのパネルにつき４１ｋｇの重量である。２０ｍｍの厚さよりも厚い中実アルミニウム壁パネルが使用されてもよく、一つのチャンバーにつき３２４ｋｇの壁パネルの総重量に対して、８ｍｍの変形、一つのパネルにつき５４ｋｇの重量である。一つのチャンバーにつき９７ｋｇの壁パネルの総重量に対して、厚さ６０ｍｍ、１．６ｍｍの変形、一つのパネルにつき１６．２ｋｇの重量の、より軽くより強い複合サンドイッチ壁パネルが使用されてよい。中実壁パネルは比較的少量で製造され得、また大量生産に好適であるが、複合壁パネルは大量生産するのがより難しく、少量を作るには比較的高価である。
【０１０１】
ミューメタルと壁構造体
真空チャンバーが荷電粒子リソグラフィマシンを収納するために使用される場合、チャンバーは好ましくは、チャンバーの外部の磁場からの隔離を提供する一つ以上の遮蔽層を有する。そのような磁場は、電子ビームに影響を及ぼし、リソグラフィシステムの正確な動作に障害を与えることがある。一つ以上のミューメタル層が、壁パネルの内側または外側表面と、もし使用されるならば一辺部材またはフレーム部材に組み込まれてよい。多層複合構造体が使用されるとき、ミューメタル層はまた、他の材料の層の間の壁／一片部材構造物の内部に挟まれてよい。このように、チャンバー壁の遮蔽は、真空チャンバーの構造体に全体に組み込まれた（連続的な）遮蔽を備えたキットセットスタイル真空チャンバーをもたらす構造体全体にわたって中断されなく連続されていることが可能である。リソグラフィマシン（ウェーハステージと荷電粒子カラム）の脚または支持体やステージのためのアクチュエータロッドなどのチャンバーから突出している部品も好ましくは、ミューメタル層たとえばミューメタルの蛇腹構造物によって覆われる。
【０１０２】
図２２Ａは、ミューメタルの二つの層を備えた真空チャンバーのための壁パネルの実施形態を示している。壁の外側表面に（追加）強化梁６０２たとえば図１３の強化梁５４５を備えたチャンバー壁６０１の一部が示されている。第一のミューメタル層６０３は、ミューメタル層６０３とチャンバー壁６０１の間に、それらの間の空間を作り出すリブの形態のスペーシング部材６０４を有している。別のミューメタル層６０５は、二つのミューメタル層の間に、それらの間の空間を作り出すスペーシング部材６０６を有している。ミューメタル層は、チャンバーが空にされるときに、真空チャンバー内の圧力差の発生を防ぐためにそれらの中に穴を有している。
【０１０３】
図２２Ｂは、ミューメタルの二つの層６０３と６０５を分離する開口層６１０を備えた壁パネルの代替実施形態の分解組立図を示しており、層６１０は、ハニカムなどの開口構造体を好ましくは有している。層は、明りょうさのために図面では分離されて示されているが、層は、実際には、単一の複合壁に形成されている。層６１０は、サンドイッチ構造体を作り出すために二つのミューメタル層を分離する軽量だが強固な壁を提供し、それにより、図２２Ａの実施形態のスペーシング部材６０４と６０６が省略されることが可能である。この構造物はまた、強化梁が除去されることを可能にし得る。層６０１と６０７は金属層、好ましくはアルミニウム層である。層６１０は好ましくはアルミニウムハニカム層である。結果として生じる複合壁構造体は、製造するのに容易かつ安価であり、組立式に製造されることが可能であり、軽量かつ強固である壁パネルを提供し、ハニカム層が必要な強度を提供し、ミューメタル層が外部電磁場からの保護を提供する。
【０１０４】
ミューメタル層は、炭素繊維および／またはガラス強化プラスティックの合成層などの絶縁層によって好ましくは分離される。複合壁の一実施形態は、第一の絶縁層とアルミニウムハニカム層とミューメタル層と第二の絶縁層と中実アルミニウム層を備えているサンドイッチ構造体を備えている。ミューメタル層と絶縁層の追加のひとそろいが、チャンバー壁の磁場遮蔽を増大させるために付け加えられてよい。中実アルミニウム層は好ましくは真空側にある。ハニカムアルミニウムはサンドイッチの強さを提供する。ハニカム層の厚さは増大されてよく、または、追加のハニカム層が、壁の硬さを増大させるために使用されてよい。層は好ましくは合わせて接着される。開口層６１０が絶縁材料から作られるとき、それ自体が、ミューメタル層を分離する絶縁層を提供することができる。この構造物を使用する複合壁パネルは、組立式に製造され、必要レベルの磁気遮蔽を備えて設計されることが可能である軽量で強固な壁を提供する。この構造体は、真空チャンバーの壁の中にミューメタル遮蔽を組み込み、必要な強度を得るために厚い中実金属層を使用することを回避する。上に説明された複合壁のいずれもが、ここに説明された真空チャンバーの実施形態のいずれに使用されてよいことに注意されたい。
【０１０５】
図２２Ｃは、図８Ｂに示される構造物に類似する、複合壁パネルのための壁パネル継ぎ目の一例を示している。壁５１０の端は角度が付けられており、一片部材５１６は壁の端の間に配置され、接続部材５１７によって設置されている。ＯリングやＣリング５２２などのシール部材が、壁５１０と一片５１６の間の継ぎ目を封止するために使用されてよい。壁および一片部材は、おのおの、複合サンドイッチ構造を有しており、この実施形態では、外側金属層と、中央ハニカム層と、一つの壁パネルから別のそれまでの二つの本質的に連続的な遮蔽層を形成するように配置されたミューメタル層６０３と６０５を備えている。この構造物を使用することによって、ミューメタル層によって提供される遮蔽は、壁パネルの端の接続部においても連続的である。
【０１０６】
図２３Ａは、チャンバー内に収納されたリソグラフィマシンを支持するフレームと接合する真空チャンバー４００の底壁（床）を通る断面図を示している。フレーム部材７０２は、チャンバー壁を通って延び、ベースプレート７０１にもたれて示されている。チャンバー壁７０３は、フレーム部材７０２に接し、フレーム部材に溶接されてよい（溶接部７０５）。二つのミューメタル層７０４も、外部磁場がチャンバーに入ることを許すことができるすきまを避けるためにフレーム部材７０２に接している。
【０１０７】
リソグラフィマシンの安定性に影響する可能性のあるベースプレート７０１と真空チャンバー４００の間の音響および振動結合を低減するために、代替実施形態が図２３Ｂと２３Ｃに示される。これらの実施形態では、チャンバー壁７０３は、フレーム部材７０２に強固に固定されておらず、壁とフレーム部材の間の小さいすきまを有している。壁は、部分的に空気マウントなどの振動減衰要素７１０によって支持されている。ミューメタル層７０４は、遮蔽のいかなるすきまも除去するためにフレーム部材７０２の上に、または代わりに下に、延びている。蛇腹部７１２がまた、ベースプレートとチャンバー壁の間の機械的結合を低減するためにいくらか曲がることを許しながら、フレーム部材の周囲にシールを提供しつつ、チャンバー壁に追加の支持を提供するために、フレーム部材７０２の上に延びて、設けられている。図２３Ｂの実施形態では、蛇腹部７１２は、ミューメタル層７０４に結合されている。図２３Ｃの実施形態では、蛇腹部７１２は、代わりに、チャンバー壁７０３に結合されている。加えて、ミューメタル層７０４は、たとえば締め付けによって、チャンバー壁７０５に結合されている。
【０１０８】
ポート
リソグラフィマシンは、動作するために多数の電気および光信号を必要とし、それらは、一般にチャンバーの外側に設置される電力およびコントロールシステムへの接続のためにチャンバーを出なければならない。真空チャンバーは、これらのシステムから真空ハウジングの中に信号を運ぶケーブルを取り込むための、ここにおいてポートと呼ばれる開口を有している（開口はまた、真空ポンプがチャンバーをポンプ吸引することを可能にするために必要とされる）。ポートは、ケーブルの周囲に真空シールを作るように設計されている。さまざまな重要なサブシステムが、他のサブシステムを邪魔することなく、システムから取り外され交換されることが可能であるように、リソグラフィシステムは好ましくはモジュール式構造を有している。この設計を容易にするために、そのような各モジュール式サブシステムは、好ましくは、そのモジュールに専用の一つ以上のポートを通って引き回される電気的、光学的、および／または電力のケーブル接続の収集体を有している。これは、特定のモジュールのためのケーブルが、他のどのモジュールのためのケーブルを邪魔することなく、分離、除去、および交換されることを可能にする。ポートは、ケーブルとコネクターとポートふたの取り外しと交換を容易にために一つのユニットたとえば電子ユニットとして好ましくは設計されている。真空チャンバーはまた、チャンバーを空にするためにチャンバーから空気をポンプ吸引する一つ以上の真空ポンプのための開口を必要とする。
【０１０９】
いくつかの実施形態では、ポートと真空ポンプは、真空チャンバーのたった一つの壁パネルたとえば上部パネルまたは後部パネルだけに設置される。真空ポンプたとえばターボポンプは、チャンバーの一つの壁に用意されたポートに接続される。ポートからのケーブルは、ケーブルラックに用意された導管を介して連合コントロールシステムに引き回される。図１７Ｂと１７Ｃに示される実施形態では、ポートは、チャンバー４００の上部４７５の側壁で設置され、真空ポンプは、上部４７５に後ろ（または前）に設置される。
【０１１０】
図２４Ａは、ポート４２０を示す真空チャンバー４００の壁パネルを通る断面図を示している。上部壁の一部８０１は、ふた８０２によって開口が閉じられた状態で示されている。二つのミューメタル層８０４と８０５も、対応する開口を有している。上側ミューメタル層８０４は、層８０４の縁にぴったりはまるキャップ８０６を有しており、キャップが適所にあるときに完全な遮蔽層を提供する。ケーブル８１０は、ポートふた８０２とキャップ８０６を通って真空チャンバーに入り、コネクター８１１で終端している。ミューメタル層の穴は、コネクター８１１が通るのに十分に大きくなければならず、それにより、コネクター８１１とケーブル８１０とキャップ８０６とふた８０２の組立体が、必要なときに取り外され交換されることが可能である。
【０１１１】
図２４Ｂは、ポート４２０の代替実施形態を示している。各ミューメタル層８０４，８０５はキャップ８０７，８０８を有している。ミューメタルキャップは、ボルトまたは接続ピン８０９によって、スプリングまたはスプリング状要素と共に、ふた８０２に取り付けられている。ポートが閉じられるとき、ミューメタルキャップ８０７と８０８がそれぞれのミューメタル層８０４と８０５に押し当てられて、ミューメタル層の開口の上にキャップの確実な閉鎖を作り出す。これは、ポートが閉じられるときに、ミューメタル層にすきまがないことを確実にする。構造体はまた、ミューメタルキャップ８０７と８０８をポートふた８０２に固定する。
【０１１２】
図２４Ｃは、ポート４２０のための別の代替設備を示している。単純化のためにポートの片側だけが図面に示されている。この設備では、チャンバー壁は第二の壁層８２０を有しており、第三のミューメタルキャップ８２１がまた組み込まれている。前の実施形態のように、三つのミューメタルキャップが、ボルトまたは接続ピン８０９によって、スプリングまたはスプリング状要素と共に、ふた８０２に取り付けられている。ポートが閉じられるとき、ミューメタルキャップ８０７と８０８がそれぞれのミューメタル層８０４と８０５に押し当てられ、ミューメタルキャップ８２１が壁層８２０に押し当てられる。各ミューメタル層８０４と８０５は、ミューメタル層にすきまがないことをさらに確実にするために縁を有している。代わりにまたは加えて、ミューメタルキャップに縁が設けられてもよい。
【０１１３】
図２５Ａに示されるように、ポート４２０と真空ポンプ開口４３１は、円形、正方形または長方形であってよい。ポートは、チャンバー内のマシンの特定のモジュール式サブシステムに好ましくは専用であり、サブシステムに必要なケーブル接続の数にしたがった大きさにつくられてよい。たとえば、図２５Ｂに示されるように、照明光学サブシステムは大きいポート４２１を必要とし、投影光学サブシステムはわずかに小さいポート４２２を必要とし、他のサブシステムはより小さいポート４２３と４２４を必要とし得る。
【０１１４】
真空ポンプ
真空チャンバー４００は、一つ以上の専用真空ポンプ４３０を有していてよい。また、一つ以上の真空ポンプは、いくつかの真空チャンバー間で共有されてよい。各チャンバーは、小さい真空ポンプを有していてよく、また、より大きい真空ポンプを共有していてよい。真空チャンバー４００内の真空を実現するために一つよりも多くのポンプを使用する能力は、真空動作の信頼度を改善し得る真空ポンプ余剰を作り出す。ある真空ポンプが機能不全ならば、別の真空ポンプがその機能を引き継ぐことが可能である。
【０１１５】
図２６は、五つの真空チャンバー４００が二つのターボ真空ポンプ８００を共有している設備を示している。真空ポンプは、共有ダクトまたはパイプ４３２の各端に用意されている。ある実施形態では、ポンプ４３０とダクトまたはパイプ４３２は、二列のチャンバー４００に中央位置から仕える。共有ポンプの数は、すなわち一つ以上に変更してよい。ダクトまたはパイプ４３２は、フラップまたはバルブ４３３を介して各真空チャンバーに接続されている。フラップまたはバルブ４３３は好ましくは、ミューメタルで作られているか、遮蔽を提供するミューメタル層を有している。
【０１１６】
水蒸気クライオポンプ４６０は、たとえば一つ以上のクライオポンプ遮蔽の形態であり、チャンバー内の水蒸気を捕獲してチャンバー内の真空を形成することを支援するために各真空チャンバーに付加的に組み込まれてよい。これは、適切な真空を生成するために必要とされる真空ポンプのサイズを低減し、ポンプ吸引時間を低減し、低温（＜４Ｋ）システムの他のタイプによって一般に引き起こされる振動を導入しないように可動部を使用していない。水蒸気クライオポンプ４６０は、バルブ４６１と冷媒供給ライン４６２を介してクライオポンプコントロールシステム４６３に接続されている。
【０１１７】
したがって、真空チャンバー内の真空は、ターボ真空ポンプ４３０とクライオポンプシステムの水蒸気クライオポンプ４６０の両方によって生成されることが可能である。好ましくは、ターボポンプ４３０が最初に作動され、それに真空を生成するクライオポンプコントロールシステム４６３によるクライオポンプシステムの作動が続いてもよい。水蒸気クライオポンプ４６０に先立つターボ真空ポンプ４３０の作動は、真空ポンプ作動の他のコントロール計画よりも効率的な真空ポンプ手順をもたらし得る。効率をさらに高めるために、一つまたは複数のターボポンプ４３０は、その作動に続いてある程度の期間の後に真空チャンバーから分離されてよい。そのような期間は、ある所定のしきい値よりも低い圧力値を得るために必要な時間に相当してよい。一つまたは複数のターボポンプ４３０の分離の後、水蒸気クライオポンプ４６０は、真空の生成を完了するために動作し続けてよい。
【０１１８】
図２６に示される設備は、多層の積み重ね真空チャンバーを収容するように変更されてよく、真空チャンバーは、横並びに配置されるほかに、またはそれに加えて、鉛直に積み重ねられる。たとえば、図２６に示された設備では（二層で）１０チャンバーまたは（三層で）１５チャンバーの配置を作り出すために、二つ、三つまたは可能なより多くの真空チャンバーの層が使用されてよい。複数チャンバーは共通真空ポンプシステムを利用してよく、共通真空ポンプシステムはチャンバーの各層に対して利用されてよい。ある実施形態では、ひとそろいの真空チャンバーに属する真空チャンバー内の真空は、共通真空ポンプシステムによって各チャンバーを別々にポンプ吸引することによって実現されてよい。
【０１１９】
本発明は、上に論じられたある実施形態への参照によって説明された。さまざまな構造物や代替案が説明されたが、それらは、この分野の当業者に良く知られるように、ここに記述した構造物や実施形態のいずれかと共に使用されてよいことに注意すべきである。これらの実施形態は、本発明の真意および範囲から逸脱することなく、この分野の当業者に良く知られるさまざまな修正および代替形態が可能であることが認められよう。従って、特定の実施形態が説明されたけれども、これらは単なる例であり、本発明の範囲を限定するものではなく、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲によって定義される。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］内部空間を取り囲む複数の壁パネル（５１０）を備えている真空チャンバー（４００）であり、
前記壁パネルは、複数の接続部材（５０４，５２４，５２８）を使用して組み立てられてチャンバーを形成し、前記接続部材は前記壁パネルを所定の配置で設置し、
前記真空チャンバーは、前記壁パネルの端に設けられた一つ以上のシール部材（５０９と５２２）をさらに備えており、
前記壁パネルは、前記内部空間に真空を形成する結果として前記壁パネルの端に真空密接シールが形成されるように配置され、
前記接続部材は前記壁パネルを設置するように適合されており、特に、前記内部空間内に前記真空が形成されるときに前記壁パネルが前記シール部材に向かって移動してより密接に封止することを許すように適合されてよい、真空チャンバー。
［２］前記接続部材は、前記壁パネルを取り外し可能に接続するように、また分解を可能にするように適合されている、［１］の真空チャンバー。
［３］前記接続部材は、前記壁パネルの小さい所定の範囲の移動を提供しながら前記壁パネルを設置するように適合されている、［１］または［２］の真空チャンバー。
［４］前記接続部材は、前記壁パネルの端に前記真空密接シールを提供することなく、前記壁パネルを設置するように適合されている、［１］〜［３］のいずれか一つの真空チャンバー。
［５］前記接続部材は、前記壁パネルの端に前記真空密接シールを提供する位置に向けて前記壁パネルを案内するように適合されている、［１］〜［４］のいずれか一つの真空チャンバー。
［６］前記接続部材は、前記壁パネルの端にほぼ真空密接シールを提供する位置に前記壁パネルを設置するように適合されている、［１］〜［５］のいずれか一つの真空チャンバー。
［７］前記壁パネルの端の前記密接シールは、前記内部空間に接続された吸引デバイスの動作によって実現され、前記吸引デバイスは、前記内部空間内に前記真空を生成する前記ほぼ真空密接シールを通る前記内部空間の中への空気の流量よりも十分に大きい空気排除能力を有している、［６］の真空チャンバー。
［８］前記壁パネルの隣接するものは、前記接続部材（５０４，５２４，５２８）を使用して、互いに取り外し可能に付けられている、［１］〜［７］のいずれか一つの真空チャンバー。
［９］前記壁パネルの一つ以上は、前記内部空間内に形成された前記真空の影響下における前記壁パネルの移動を抑制するための、他の壁パネルの一つ以上と連結するための連結領域を備えている、［１］〜［８］のいずれか一つの真空チャンバー。
［１０］前記チャンバーの前記内部空間内に前記真空が形成されるときに前記壁パネルに及ぼされる力によって前記壁パネル（５１０）の間に真空密接シールが形成される、［１］〜［９］のいずれか一つの真空チャンバー。
［１１］前記一つ以上のシール部材（５０９，５２２）は、前記壁パネル（５１０）と前記フレーム部材（５０１）の間に一つのシール部材を備えており、前記壁パネルは、前記真空チャンバーの前記内部空間に前記真空が形成されるときに前記壁パネルが前記シール部材に向かってより密接に押し当てられるように配置されている、［１］〜［１０］のいずれか一つの真空チャンバー。
［１２］前記壁パネル（５１０）の間の一片部材（５１６）をさらに備えており、前記壁パネルは、前記真空チャンバーの前記内部空間内に前記真空が形成されるときに前記壁パネルが前記一片部材に向かってより密接に押し当てられるように配置されている、［１］〜［１１］のいずれか一つの真空チャンバー。
［１３］前記壁パネル（５１０）の一つ以上は、段付き端を有している、［１２］の真空チャンバー。
［１４］前記壁パネル（５１０）の少なくとも二つは、連結設備を形成する段付き端を有しており、前記二つの壁パネルの第一のそれの外側表面に対して及ぼされる力が、前記二つの壁パネルの第二のそれの前記段付き端に前記第一の壁パネルがより密接に封止することをもたらし、また、前記第二の壁パネルの外側表面に対して及ぼされる力が、前記第一の壁パネルの前記段付き端に前記第二の壁パネルがより密接に封止することをもたらす、［１］〜［１３］のいずれか一つの真空チャンバー。
［１５］前記複数の壁パネル（５１０）の対向する段付き端の間に接着剤（５０６）が塗布される、［１４］の真空チャンバー。
［１６］前記接続部材（５０４）は、前記壁パネルの厚さの一部だけを貫通する、［１］〜［１５］のいずれか一つの真空チャンバー。
［１７］前記接続部材（５０４）はピンまたはボルトで構成される、［１５］または［１６］の真空チャンバー。
［１８］前記壁パネル（５１０）の二つの傾斜端の間に挿入された一片部材（５１６）を備えており、各壁パネルの傾斜端は、前記一片部材の対向表面に対するシールを形成する、［１］〜［１７］のいずれか一つの真空チャンバー。
［１９］各壁パネル（５１０）の前記傾斜端と前記一片部材（５１６）の前記対向表面の間に配置されたＯリング（５２２）をさらに備えている、［１８］の真空チャンバー。
［２０］前記壁パネル（５１０）と前記一片部材（５１６）を接続するための接続部材（５１７）をさらに備えている、［１８］または［１９］の真空チャンバー。
［２１］各壁パネル（５１０）の前記傾斜端と前記一片部材（５１６）の前記対向表面の間の接着剤（５０６）をさらに備えている、［１８］〜［２０］のいずれか一つの真空チャンバー。
［２２］フレーム（５００）をさらに備えており、前記壁パネルは、前記接続部材（５０４，５２４，５２８）を使用して前記フレームに取り付けられる、［１］〜［２１］のいずれか一つの真空チャンバー。
［２３］フレーム（５００）をさらに備えており、前記一つ以上のシール部材（５０９，５２２）は、前記壁パネルと前記フレームの間に前記真空密接シールを形成するために、前記壁パネルと前記フレームの間に設けられる、［１］〜［２２］のいずれか一つの真空チャンバー。
［２４］前記フレームは、前記内部空間内に形成された前記真空の影響下において前記壁パネルまたは前記フレームの移動を禁じるための、前記壁パネルの一つ以上と連結するための連結領域を備えている、［２２］または［２３］の真空チャンバー。
［２５］前記壁パネル（５１０）と前記フレーム（５００）は、前記内部空間内に前記真空が形成されるときに、前記壁パネルと前記フレーム部材（５０１）が密接に連結されて前記真空チャンバーの剛性を増大させるように配置される、［１］〜［２４］のいずれか一つの真空チャンバー。
［２６］前記フレームは、複数の相互接続フレーム部材（５０１）を備えており、前記フレーム部材は接続部材（５０４）によって接続されている、［２２］〜［２５］のいずれか一つの真空チャンバー。
［２７］前記フレーム部材の一つ以上は、他のフレーム部材の端領域と連結するための一つ以上の凹部（５５０）を端領域に備えている、［２６］の真空チャンバー。
［２８］前記フレーム部材（５０１）の少なくとも一つは、前記壁パネル（５１０）の一つの端を収容するための切り欠き部（５５２）を備えた断面輪郭を有している、［２６］または［２７］の真空チャンバー。
［２９］前記フレーム部材（５０１）の少なくとも一つは、二つの切り欠き部（５５２）、前記壁パネル（５１０）の第一のそれの端を収容するための第一の切り欠き部と、前記壁パネル（５１０）の第二のそれの端を収容するための第二の切り欠き部を備えた断面輪郭を有している、［２６］〜［２８］のいずれか一つの真空チャンバー。
［３０］前記少なくとも一つのフレーム部材は、第一および第二の壁パネル（５１０）の連結設備を形成し、前記第一の壁パネルの外側表面に対して及ぼされる力が、前記フレーム部材の前記第一の切り欠き部（５５２）に前記第一の壁パネルがより密接に封止し、また、前記フレーム部材の前記第二の切り欠き部（５５２）が前記第二の壁パネルの端に押し当たることをもたらす、［２９］の真空チャンバー。
［３１］前記少なくとも一つのフレーム部材（５０１）と前記壁パネル（５１０）は連結設備を形成し、前記真空チャンバー内のより低い圧力は、前記フレーム部材の前記複数の切り欠き部（５５２）の第一のそれに向かって前記第一の壁パネルをより密接に押し当てる方向に作用する前記複数の壁パネルの第一のそれの外側表面に対して及ぼされる第一の力と、前記フレーム部材の前記複数の切り欠き部（５５２）の第二のそれに向かって前記第二の壁パネルをより密接に押し当てる方向に作用する前記複数の壁パネルの第二のそれの外側表面に対して及ぼされる第二の力をもたらす、［２２］の真空チャンバー。
［３２］前記フレーム部材（５０１）の一つ以上は、追加フレーム部材の接続のための固定具を受けるための凹部または穴（５４７）を備えている、［２６］〜［３１］のいずれか一つの真空チャンバー。
［３３］前記フレーム部材（５０１）中の凹部または穴（５４７）は、前記真空チャンバーの組み立ての前に、あらかじめ空けられ、ふさがされる、［３２］の真空チャンバー。
［３４］前記フレーム部材（５０１）中の凹部または穴（５４７）は、前記チャンバーの内側から前記凹部または穴の中へ延びるボルトまたはピンでふさがれる、［３３］の真空チャンバー。
［３５］前記凹部または穴（５４７）は、前記フレーム部材（５０１）の一つ以上に沿って規格化位置にあらかじめ空けられる、［３４］の真空チャンバー。
［３６］前記フレームは、複数の相互接続フレーム部材と、前記フレームの角部にある複数の角部構成物（５０２）を備えており、前記フレーム部材（５０１）は前記角部構成物を接続する、［２２］〜［３５］のいずれか一つの真空チャンバー。
［３７］前記フレーム部材（５０１）と前記角部構成物（５０２）の間の接続を封止するためにシール部材（５０９，５２２）が使用される、［３６］の真空チャンバー。
［３８］前記フレーム部材と前記角部構成物の間の接続を封止するために複数の接続部材（５０４，５１２，５１３）が使用される、［３６］または［３７］の真空チャンバー。
［３９］前記フレーム部材と前記角部構成物の間の接続のために前記接続部材（５０４，５２４，５２８）が使用される、［２２］〜［３８］のいずれか一つの真空チャンバー。
［４０］前記接続部材はピンまたはボルトで構成される、［１］〜［３９］のいずれか一つの真空チャンバー。
［４１］前記接続部材（５２４）はラッチを備えている、［１］〜［４０］のいずれか一つの真空チャンバー。
［４２］前記接続部材（５２５，５２６，５２８）はヒンジを備えている、［１］〜［４１］のいずれか一つの真空チャンバー。
［４３］前記シール部材（５０９，５２２）の一つ以上は、隣接する壁パネル（５１０）の間に配置される、［１］〜［４２］のいずれか一つの真空チャンバー。
［４４］前記真空チャンバーはフレームを備えており、前記シール部材（５０９，５２２）の一つ以上は、前記壁パネル（５１０）と前記フレームの間に配置される、［１］〜［４３］のいずれか一つの真空チャンバー。
［４５］前記シール部材の一つ以上はＯリングまたはＣリング（５２２）で構成される、［４３］または［４４］の真空チャンバー。
［４６］前記シール部材の一つ以上は、銅またはインジウムなどの金属で構成される、［４５］の真空チャンバー。
［４７］前記シール部材の一つ以上は、真空グリース、ポリテトラフルオロエチレンまたは接着剤の少なくとも一つで構成されたシール剤で構成される、［１］〜［４６］のいずれか一つの真空チャンバー。
［４８］前記真空チャンバーはフレーム（５００）を備えており、前記壁パネル（５１０）の一つ以上は前記フレームに接着される、［２２］〜［４７］のいずれか一つの真空チャンバー。
［４９］前記一つ以上のシール部材は、一つ以上の壁パネルの複数の端にあるすきまを封止するように適合されたシール材料の単一の可撓部品（５２２）で構成される、［１］〜［４８］のいずれか一つの真空チャンバー。
［５０］前記シール材料の単一の可撓部品（５２２）は、六つの壁パネルの複数の端にあるすきまを封止するように適合された十二の延長部を備えている、［４９］の真空チャンバー。
［５１］前記一つ以上のシール部材は、一つ以上の壁パネルの複数の端にあるすきまを封止するように適合された一つ以上のＯリングまたはＣリングで構成される、［１］〜［５０］のいずれか一つの真空チャンバー。
［５２］前記壁パネルの一つ以上は、前記一つ以上のシール部材（５２２）を部分的に収容するための溝（５７０）を有している、［１］〜［５１］のいずれか一つの真空チャンバー。
［５３］前記真空チャンバーはフレームを備えており、前記フレームは、前記一つ以上のシール部材（５２２）を部分的に収容するための溝（５７０）を有している、［１］〜［５２］のいずれか一つの真空チャンバー。
［５４］前記壁パネル（５１０）の少なくとも一つはヒンジ設備を介して前記フレームに接続され、前記ヒンジ設備には、前記壁パネル（５１０）が内側に移動して前記フレーム（５００）に対して真空密接シールを提供することを可能にするために前記ヒンジに遊びが設けられている、［１］〜［５３］のいずれか一つの真空チャンバー。
［５５］前記壁パネル（５１０）の少なくとも一つはヒンジ設備を介して前記フレームに接続され、ヒンジ付き壁パネル（５１０）は、前記チャンバーの一つの壁全体を形成するドアで構成される、［１］〜［５４］のいずれか一つの真空チャンバー。
［５６］前記真空チャンバーはフレームを備えており、前記壁パネル（５１０）の少なくとも一つは、前記壁パネルのすべての辺にあるヒンジ設備を介して前記フレームに接続される、［１］〜［５５］のいずれか一つの真空チャンバー。
［５７］前記真空チャンバーはフレームを備えており、前記壁パネル（５１０）の少なくとも一つは、前記フレームと連結する追加補強部材を有している、［１］〜［５６］のいずれか一つの真空チャンバー。
［５８］前記追加補強部材は、前記フレームの前記角部の間に位置する点において前記フレームと連結する、［５７］の真空チャンバー。
［５９］前記チャンバー（４００）の前記壁パネルはアルミニウムで構成される、［１］〜［５８］のいずれか一つの真空チャンバー。
［６０］前記チャンバー（４００）の前記壁パネルの少なくとも一つの面はミューメタルで実質的に覆われている、［１］〜［５９］のいずれか一つの真空チャンバー。
［６１］前記チャンバー（４００）の前記壁パネルは、ミューメタルの一つ以上の層（６０３，６０５）を有する複合構造体を備えている、［１］〜［６０］のいずれか一つの真空チャンバー。
［６２］前記チャンバー（４００）の前記壁パネルは、アルミニウムの層（６０１，６０７）とミューメタルの層（６０３，６０５）を有する複合構造体を備えている、［１］〜［６１］のいずれか一つの真空チャンバー。
［６３］前記アルミニウムの層は、複数の層（６０４，６０６）によってミューメタルの層から分離されている、［６２］の真空チャンバー。
［６４］前記チャンバー（４００）の前記壁パネルは、ハニカム層などの開口構造体を備えた層（６１０）を有する複合構造体を備えている、［１］〜［６３］のいずれか一つの真空チャンバー。
［６５］前記ミューメタル層（６０３，６０５）を絶縁するための一つ以上の電気的絶縁層さらに備えている、［６４］の真空チャンバー。
［６６］前記チャンバー（４００）の中に突出している部分は、ミューメタル（７０４）の一つ以上の層で構成されるかそれを覆っている蛇腹構造体（７１２）によって覆われている、［１］〜［６５］のいずれか一つの真空チャンバー。
［６７］前記蛇腹構造体（７１２）は、前記ミューメタル（７０４）の一つ以上の層に結合されている、［６６］の真空チャンバー。
［６８］前記真空チャンバーの輪郭は、前記チャンバー内に設置される機器の輪郭に順応するように変化している、［１］〜［６７］のいずれか一つの真空チャンバー。
［６９］前記真空チャンバーは、単一の真空密閉箱を形成するより狭い上方部（４７５）とより広い下方部（４７６）を備えている、［１］〜［６８］のいずれか一つの真空チャンバー。
［７０］電気的、光学的および／または電力のケーブルまたはワイヤーが前記チャンバー（４００）の中へ入ることを許すための一つ以上のポート（４２０）をさらに備えており、前記ポートは前記ケーブルまたはワイヤーの周囲にシールを提供する、［６９］の真空チャンバー。
［７１］前記ポート（４２０）は、上方部（４７５）の周囲と下方部（４７６）の上方に配置された機器からケーブルまたはワイヤーが入ることを許すために前記チャンバーの上方部（４７５）の一つ以上の側壁に配置されている、［７０］の真空チャンバー。
［７２］前記チャンバー（４００）には、電気的、光学的および／または電力のケーブルまたはワイヤーが前記チャンバー（４００）の中へ入ることを許す複数のポート（４２０）が設けられており、前記ポートは前記ケーブルまたはワイヤーの周囲のシールを提供する、［１］〜［７１］のいずれか一つの真空チャンバー。
［７３］各ポート（４２０）は、前記真空チャンバー内に配置されたリソグラフィマシンの単一のモジュールのためのケーブルまたはワイヤーが入ることを許す、［７２］の真空チャンバー。
［７４］前記ポート（４２０）の少なくとも一つは、ふた（８０２）と一つ以上のミューメタルキャップ（８０６，８０７，８０８）を備えている、［７２］または［７３］の真空チャンバー。
［７５］前記ポートふた（８０２）と前記一つ以上のミューメタルキャップ（８０６，８０７，８０８）は一つのユニットとして配置される、［７４］の真空チャンバー。
［７６］前記ポートふた（８０２）と、一つ以上のミューメタルキャップ（８０６，８０７，８０８）と、前記ポートを通る前記電気的、光学的および／または電力のケーブルまたはワイヤー（８１０）と、前記ケーブルまたはワイヤーを終端するコネクター（８１１）は、一つのユニットとして取り外され交換されるように配置される、［７５］の真空チャンバー。
［７７］前記一つ以上のミューメタルキャップ（８０６，８０７，８０８）は、前記ポートふた（８０２）が閉じられたときに、対応するミューメタル壁層（８０４，８０５）に向かって押される、［７４］〜［７６］のいずれか一つの真空チャンバー。
［７８］前記チャンバー（４００）には、一つ以上の真空ポンプ開口（４３１と４３３）が設けられており、前記開口は、ミューメタルで構成されたフラップまたはバルブを有している、［１］〜［７７］のいずれか一つの真空チャンバー。
［７９］真空チャンバー（４００）の中への組み立てのためのコンポーネントのキットセットであり、複数の壁パネル（５１０）と、内部空間を取り囲む所定の配置で壁パネルを設置するために前記壁パネルに取り外し可能に付いているように適合された複数の接続部材（５０４，５２４，５２８）と、前記壁パネルの端に真空密接シールを形成するように適合された一つ以上のシール部材（５０９，５２２）を備えている、キットセット。
［８０］前記壁パネルと前記接続部材は、前記キットセットが組み立てられ、前記内部空間に真空が形成されるときに、前記壁パネルの端に真空密接シールを形成するように適合されている、［７９］のキットセット。
［８１］前記接続部材は、前記キットセットが組み立てられるときに、前記壁パネルの小さい所定の範囲の移動を提供しながら前記壁パネルを設置するように適合されている、［７９］または［８０］のキットセット。
［８２］前記接続部材は、前記内部空間に真空が形成されるときに前記壁パネルが前記シール部材に向かって移動してより密接に封止することを許しながら前記キットセットが組み立てられるときに前記壁パネルを設置するように適合されている、［７９］〜［８１］のいずれか一つのキットセット。
［８３］前記接続部材は、前記キットセットが組み立てられるときに、前記壁パネルの端に真空密接シールを提供する位置に向けて前記壁パネルを案内するように適合されている、［７９］〜［８２］のいずれか一つのキットセット。
［８４］前記接続部材は、前記キットセットが組み立てられるときに、前記壁パネルの端にほぼ真空密接シールを提供する位置に前記壁パネルを設置するように適合されている、［７９］〜［８３］のいずれか一つのキットセット。
［８５］モジュール式真空チャンバー（４００）内での使用のため壁パネルであり、前記壁パネルは、別の壁パネルまたはフレーム部材と連結するための段付き端を備えており、前記段付き端は、前記壁パネルと前記別の壁パネルまたは前記フレーム部材の間に真空密接シールを形成するように適合されたシール部材（５０９，５２２）を収容するための溝または凹部の（５７０）を備えており、前記壁パネルは、前記壁パネルに前記別の壁パネルまたはフレーム部材に取り外し可能に取り付けるように適合された複数の接続部材（５０４，５２４，５２８）を収容するための穴または凹部をさらに備えている、壁パネル。
［８６］前記壁パネルは正方形また長方形であり、四つの他の壁パネルまたはフレーム部材と連結するために前記壁パネルの四つのすべての端に段付き端が形成されており、前記溝または凹部（５７０）と前記シール部材（５０９，５２２）は、前記壁パネルと前記四つの他の壁パネルまたはフレーム部材の間に真空密接シールを形成するために前記壁パネルの四つのすべての端の周囲に延在しており、前記接続部材（５０４，５２４，５２８）を収容するための穴または凹部は、前記壁パネルに前記四つの他の壁パネルまたはフレーム部材に取り外し可能に取り付けるために前記壁パネルの四つのすべての端の上の位置に設置される、［８５］の壁パネル。
［８７］真空チャンバーを建造する方法であり、内部空間を取り囲むように複数の壁パネルを位置決めすることと、前記壁パネルの端の周囲にほぼ真空密接シールを形成するために複数の接続部材を使用して壁パネルを所定の位置に設置することと、前記内部空間の中への気体の漏れ量よりも大きい流量で前記真空チャンバーの前記内部空間から気体を除去することを備えており、前記内部空間の圧力が、前記壁パネルに内向きの力を及ぼすのに十分に下げられて、前記壁パネルの前記端の周囲に真空密接シールを作り出す、方法。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図９Ｃ】
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【図９Ｄ】
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【図９Ｅ】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１４Ｃ】
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【図１４Ｄ】
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【図１４Ｅ】
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【図１４Ｆ】
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【図１４Ｇ】
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【図１４Ｈ】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１５Ｃ】
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【図１６Ａ】
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【図１６Ｂ】
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【図１６Ｃ】
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【図１７Ａ】
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【図１７Ｂ】
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【図１７Ｃ】
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【図１８Ａ】
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【図１８Ｂ】
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【図１９Ａ】
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【図１９Ｂ】
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【図２０Ａ】
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【図２０Ｂ】
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【図２１】
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【図２２Ａ】
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【図２２Ｂ】
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【図２２Ｃ】
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【図２３Ａ】
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【図２３Ｂ】
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【図２３Ｃ】
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【図２４Ａ】
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【図２４Ｂ】
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【図２４Ｃ】
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【図２５Ａ】
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【図２５Ｂ】
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【図２６】
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