(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
吐出面に形成された吐出孔から液を吐出する塗布ヘッドと、
前記吐出面に付着した液を空気と共に吸入する吸入口及びその吸入口に連通する内部流路を有する吸入ヘッドと、
前記吸入ヘッドの内部流路に連通する気液流路管と、
前記内部流路及び前記気液流路管を介して前記吸入口に吸引力を作用させる吸引装置と、
前記内部流路及び前記気液流路管に洗浄液を流す洗浄装置と、
前記吸引装置及び前記洗浄装置を制御する制御部とを備え、
前記洗浄装置は、洗浄液を貯留する貯留部と、前記吸入ヘッドを前記貯留部内の前記洗浄液に浸漬させる浸漬位置とその浸漬位置から引き上げた引き上げ位置とに移動させるヘッド移動機構とを具備しており、
前記制御部は、前記ヘッド移動機構により前記吸入ヘッドを前記浸漬位置に移動させ、前記浸漬位置から前記引き上げ位置に移動させ、前記吸入ヘッドが前記引き上げ位置にある状態で、前記吸入ヘッドの前記吸入口に前記吸引装置により吸引力を作用させ、前記内部流路及び前記気液流路管に前記貯留部内の前記洗浄液を流すよう、前記ヘッド移動機構及び前記吸引装置を制御することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記ヘッド移動機構により前記吸入ヘッドを前記浸漬位置に移動させ、前記浸漬位置から前記引き上げ位置に移動させ、前記吸入ヘッドが前記引き上げ位置にある状態で、前記吸入ヘッドの前記吸入口に前記吸引装置により吸引力を作用させ、前記内部流路及び前記気液流路管に前記貯留部内の前記洗浄液を流す動作を設定回数繰返すよう、前記ヘッド移動機構及び前記吸引装置を制御することを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
【請求項３】
吐出面に形成された吐出孔から液を吐出する塗布ヘッドと、
前記吐出面に付着した液を空気と共に吸入する吸入口及びその吸入口に連通する内部流路を有する吸入ヘッドと、
前記吸入ヘッドの内部流路に連通する気液流路管と、
前記内部流路及び前記気液流路管を介して前記吸入口に吸引力を作用させる吸引装置と、
前記内部流路及び前記気液流路管に洗浄液を流す洗浄装置と、
前記吸引装置及び前記洗浄装置を制御する制御部を備え、
前記洗浄装置は、洗浄液を貯留する貯留部と、前記吸入ヘッドを前記貯留部内の前記洗浄液に浸漬させる浸漬位置とその浸漬位置から引き上げた引き上げ位置とに移動させるヘッド移動機構とを具備しており、
前記制御部は、前記ヘッド移動機構により前記吸入ヘッドを前記浸漬位置に移動させ、前記吸入ヘッドが前記浸漬位置にある状態で、前記吸入ヘッドの前記吸入口に前記吸引装置により吸引力を作用させ、前記内部流路及び前記気液流路管に前記貯留部内の前記洗浄液を流すよう、前記ヘッド移動機構及び前記吸引装置を制御することを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
吐出面に形成された吐出孔から液を吐出する塗布ヘッドと、
前記吐出面に付着した液を空気と共に吸入する吸入口及びその吸入口に連通する内部流路を有する吸入ヘッドと、
前記吸入ヘッドの内部流路に連通する気液流路管と、
前記内部流路及び前記気液流路管を介して前記吸入口に吸引力を作用させる吸引装置と、
前記内部流路及び前記気液流路管に洗浄液を流す洗浄装置と、
前記気液流路管の端部が接続されて前記気液流路管と前記吸引装置との間に配置され、前記気液流路管から流入した液と空気とを分離する気液分離装置と、
前記洗浄装置を制御する制御部と、
を備え、
前記洗浄装置は、前記気液分離装置に洗浄液を供給する液供給部と、前記気液分離装置に気体を供給する気体供給部とを具備しており、
前記制御部は、前記液供給部により前記気液分離装置に前記洗浄液を充填し、前記気液分離装置に前記洗浄液を充填した状態で、前記気体供給部により前記気液分離装置に前記気体を供給し、前記気液分離装置内の前記洗浄液を前記内部流路及び前記気液流路管を介して前記吸入ヘッドの前記吸入口から流出させるよう、前記液供給部及び前記気体供給部を制御することを特徴とする塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布対象物に液を吐出して塗布する塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
塗布装置は、表示装置や半導体装置等を製造する際に用いられている。例えば、表示装置の製造では、ガラス基板上に配向膜等の機能性薄膜を形成する場合に塗布装置が用いられている。また、半導体装置の製造では、半導体ウェハ上にレジスト等の機能性薄膜を形成する場合に塗布装置が用いられている。
【０００３】
前述の塗布装置は、基板等の塗布対象物に向けて液を複数の吐出孔（ノズル）からそれぞれ液滴として吐出（噴射）する塗布ヘッドを備えている。各吐出孔は塗布ヘッドの吐出面（ノズル面）に直線状に並んでいる。この塗布装置は、ステージ上の塗布対象物と塗布ヘッドとを相対移動させながら、塗布ヘッドにより塗布対象物の被塗布面に複数の液滴を順次着弾させて塗布を行う。
【０００４】
このような塗布装置では、塗布ヘッドの吐出孔周辺に液が付着することがあり、その付着液が原因となり、吐出曲がりや不吐出等の吐出異常が発生してしまう。そこで、塗布ヘッドの吐出面に付着した付着液を除去するため、その付着液を吸入キャップ（吸入ヘッド）により吸入して取り除く技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３０６５４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、前述の付着液を吸入する技術では、吐出面上の付着液が吸入ヘッドにより吸入されると、その液が流路内（例えば、吸入ヘッドの内部流路内やその吸入ヘッドに接続された配管内）で固化することがある。この固化物により流路が狭くなると、吸入ヘッドの吸入力が低下してしまう。また、その固化物により流路が詰まることもあり、この場合には、吸入ヘッドの吸入力が著しく低下する。このような吸入力低下が原因となり、付着液が吐出面に残留すると、塗布ヘッドの吐出異常が発生してしまう。
【０００７】
本発明は上記を鑑みてなされたものであり、その目的は、塗布ヘッドを清掃する吸入ヘッドの吸入力低下に起因し、塗布ヘッドの吐出異常が発生することを防止することができる塗布装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の実施形態に係る特徴は、塗布装置において、吐出面に形成された吐出孔から液を吐出する塗布ヘッドと、吐出面に付着した液を空気と共に吸入する吸入口及びその吸入口に連通する内部流路を有する吸入ヘッドと、吸入ヘッドの内部流路に連通する気液流路管と、内部流路及び気液流路管を介して吸入口に吸引力を作用させる吸引装置と、内部流路及び気液流路管に洗浄液を流す洗浄装置とを備えることである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、塗布ヘッドを清掃する吸入ヘッドの吸入力低下に起因し、塗布ヘッドの吐出異常が発生することを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る塗布装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１に示す塗布装置が備える清掃装置の概略構成を示す図である。
【図３】図２に示す清掃装置が備える洗浄装置が行う吸入ヘッド洗浄動作の流れを説明するためのフローチャートである。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る塗布装置が備える清掃装置の概略構成を示す図である。
【図５】図４に示す清掃装置が備える洗浄装置が行う吸入ヘッド洗浄動作の流れを説明するためのフローチャートである。
【図６】本発明の第３の実施形態に係る塗布装置が備える清掃装置の概略構成を示す図である。
【図７】図６に示す清掃装置が備える洗浄装置が行う吸入ヘッド洗浄動作の流れを説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態について図１ないし図３を参照して説明する。
【００１２】
図１に示すように、本発明の第１の実施形態に係る塗布装置１は、塗布対象物である基板Ｋが水平状態（基板Ｋの被塗布面が図１に示すＸ軸方向とそれに直交するＹ軸方向に沿う状態）で載置されるステージ２と、そのステージ２上の基板Ｋに向けて液滴を吐出する塗布ヘッド３と、その塗布ヘッド３をＸ軸方向に移動させるＸ軸移動機構４と、塗布ヘッド３をＸ軸移動機構４と共に支持する支持部５と、塗布ヘッド３の吐出面Ｍ１を清掃する清掃装置６と、ステージ２をＹ軸方向に移動させるＹ軸移動機構７と、支持部５及びＹ軸移動機構７を支持する架台８と、各部を制御する制御部９とを備えている。
【００１３】
ステージ２は、ガラス基板等の基板Ｋが載置される移動テーブルであり、Ｙ軸移動機構７上にＹ軸方向に移動可能に設けられている。このステージ２には、基板Ｋが自重により載置されるが、これに限るものではなく、例えば、その基板Ｋを保持するため、静電チャックや吸着チャック等の機構が設けられても良い。
【００１４】
塗布ヘッド３は、Ｘ軸移動機構４にＸ軸方向に移動可能に設けられており、ステージ２上の基板Ｋに対してインク等の塗布液を液滴として吐出する吐出ヘッドである。塗布液は、その塗布液を貯留するタンクからチューブ等の配管を介して塗布ヘッド３に供給される。この塗布液としては、例えば、配向膜材料や接着剤などの基板Ｋ上に残留物として残留する溶質及びその溶質を溶解（分散）させる溶媒を含む溶液が用いられる。
【００１５】
また、塗布ヘッド３は、液滴を吐出するための複数の吐出孔（ノズル）３ａを有し、それらの吐出孔３ａにそれぞれ対応する複数の圧電素子を内蔵している。各吐出孔３ａは、所定間隔で直線状に一列あるいは二列に並べられ、塗布ヘッド３の吐出面（ノズル面）Ｍ１に形成されている。なお、図１では、各吐出孔３ａはＸ軸方向に並んでいる。この塗布ヘッド３は制御部９に電気的に接続されており、その駆動が制御部９により制御され、各圧電素子に対する駆動電圧の印加に応じて各吐出孔３ａから液滴を吐出する。
【００１６】
Ｘ軸移動機構４は、コラム等の支持部５に設けられており、塗布ヘッド３をステージ２上の基板Ｋの被塗布面に沿うＸ軸方向に移動させる移動機構である。このＸ軸移動機構４は制御部９に電気的に接続されており、その駆動が制御部９により制御される。Ｘ軸移動機構４としては、例えば、サーボモータを駆動源とする送りねじ式の移動機構やリニアモータを駆動源とするリニアモータ式の移動機構等が用いられる。
【００１７】
支持部５は、Ｘ軸方向に長尺な門型の形状に形成されており、架台８上のＹ軸移動機構７を跨ぐように架台８の上面に設けられている。この支持部５の梁部はＸ軸方向に平行にステージ２の被載置面に対して水平にされ、支持部５の脚部は架台８の上面に固定されている。
【００１８】
清掃装置６は、吸入ヘッド６ａを備えており、塗布ヘッド３の吐出面Ｍ１に付着した液（付着液）を空気と共に吸入ヘッド６ａにより吸い込み、その吸入ヘッド６ａの内部に取り込んで除去する（詳しくは、後述する）。
【００１９】
Ｙ軸移動機構７は、ステージ２をＹ軸方向に案内して移動させる移動機構であり、架台８の上面に固定されて設けられている。このＹ軸移動機構７は制御部９に電気的に接続されており、その駆動が制御部９により制御される。Ｙ軸移動機構７としては、例えば、サーボモータを駆動源とする送りねじ式の移動機構やリニアモータを駆動源とするリニアモータ式の移動機構等が用いられる。
【００２０】
架台８は、床面上に設置され、支持部５やＹ軸移動機構７等を床面から所定の高さ位置に支持する支持台である。架台８の上面は平面に形成されており、この架台８の上面に支持部５やＹ軸移動機構７等が載置されている。また、架台８の内部には、制御部９が設けられている。
【００２１】
制御部９は、各部を集中的に制御するマイクロコンピュータと、各種情報や各種プログラム等を記憶する記憶部と、操作者からの操作を受け付ける操作部とを備えている。各種情報としては、塗布パターンや塗布速度等の塗布情報や清掃装置６に必要な清掃情報等があり、それらの情報はあらかじめ記憶部に記憶されている。なお、記憶部としては、メモリやハードディスクドライブ（ＨＤＤ）等が用いられる。
【００２２】
次いで、清掃装置６について詳しく説明する。
【００２３】
図２に示すように、清掃装置６は、空気や液等を吸入する吸入ヘッド６ａと、その吸入ヘッド６ａに接続された気液流路管６ｂと、その気液流路管６ｂから流入した空気及び液を分離する気液分離装置６ｃと、その気液分離装置６ｃに接続された気体流路管６ｄと、気液分離装置６ｃ内の空気を吸引する吸引ポンプ６ｅと、洗浄液を用いて吸入ヘッド６ａ及び気液流路管６ｂの内部を洗浄する洗浄装置６ｆとを備えている。
【００２４】
吸入ヘッド６ａは、空気や液等を吸入するための吸入口Ｈ１を有している。この吸入ヘッド６ａの内部には、吸入口Ｈ１に連通する内部流路６ａ１が形成されており、この内部流路６ａ１に気液流路管６ｂが連通している。吸入口Ｈ１は、例えば、長方形のスリット状に形成されている。また、吸入ヘッド６ａは昇降可能に形成されている（詳しくは、後述する）。
【００２５】
気液流路管６ｂは、吸入ヘッド６ａと気液分離装置６ｃとを接続する管であって、吸入ヘッド６ａから流入した空気及び液が流れる管である。この気液流路管６ｂは吸入ヘッド６ａの昇降に対応可能に形成されており、気液流路管６ｂとしては、例えば、可撓性を有するチューブ等が用いられる。
【００２６】
気液分離装置６ｃは、吸入ヘッド６ａから気液流路管６ｂを介して流入する液体を貯留し、その液体上の空間に空気を留め、空気と液体とを分離する装置である。気液分離装置６ｃとしては、例えば、箱形状の密閉式の容器等が用いられる。この気液分離装置６ｃは架台８の内部あるいはその隣等に設置されている。なお、気液流路管６ｂは、気液分離装
置６ｃの上面を貫通して気液分離装置６ｃ内に垂下しており、その端部は気液分離装置６ｃの上面と底面との中間よりも底面に近い位置に位置している。
【００２７】
また、気液分離装置６ｃの底面には、排液流路管６ｃ１が接続されており、その排液流路管６ｃ１の途中には、開閉弁となるバルブ６ｃ２が設けられている。排液流路管６ｃ１としては、例えば、チューブやパイプ等が用いられ、バルブ６ｃ２としては、例えば、電磁弁等が用いられる。バルブ６ｃ２は制御部９に電気的に接続されており、その開閉が制御部９により制御される。
【００２８】
気体流路管６ｄは、気液分離装置６ｃと吸引ポンプ６ｅとを接続する管であって、気液分離装置６ｃから流入した空気が流れる管である。この気体流路管６ｄは気液分離装置６ｃの上面に、すなわち、吸引ポンプ６ｅが液貯留状態の気液分離装置６ｃ内の空気だけを吸引可能に接続されている。なお、気体流路管６ｄの気液分離装置６ｃ側の端部は、気液流路管６ｂの端部よりも高い位置に位置している。気体流路管６ｄとしては、例えば、チューブやパイプ等が用いられる。
【００２９】
吸引ポンプ６ｅは、気液分離装置６ｃに気体流路管６ｄを介して接続されており、架台８の内部あるいはその隣等に設置されている。この吸引ポンプ６ｅは気液分離装置６ｃ内の空気を吸引し、吸入ヘッド６ａに気液流路管６ｂを介して吸入力を与える。吸引ポンプ６ｅは制御部９に電気的に接続されており、その駆動が制御部９により制御される。この吸引ポンプ６ｅが、気液流路管６ｂを介して吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に吸引力を作用させる吸引装置として機能する。
【００３０】
洗浄装置６ｆは、洗浄液を貯留する貯留部としての槽１１と、その槽１１に洗浄液を供給する液供給部１２と、吸入ヘッド６ａを槽１１内の洗浄液に浸漬可能に昇降させるヘッド移動機構１３とを具備している。
【００３１】
槽１１は、上部が開口して洗浄液を貯留する貯留部であり、貯留した洗浄液に対して吸入ヘッド６ａを浸漬可能に形成されている。槽１１としては、上側が開口した箱形状の容器等が用いられる。この槽１１はステージ２の端部に固定されて設けられており（図１参照）、ステージ２と共にＹ軸方向に移動する。
【００３２】
また、槽１１の底面には、排液流路管１１ａが接続されており、その排液流路管１１ａの途中には、開閉弁となるバルブ１１ｂが設けられている。排液流路管１１ａは槽１１のＹ軸方向移動に対応可能に形成されており、排液流路管１１ａとしては、例えば、可撓性を有するチューブ等が用いられる。また、バルブ１１ｂとしては、例えば、電磁弁等が用いられる。バルブ１１ｂは制御部９に電気的に接続されており、その開閉が制御部９により制御される。
【００３３】
液供給部１２は、液供給流路管１２ａにより槽１１に接続されており、その液供給流路管１２ａを介して槽１１内に洗浄液を供給する。例えば、液供給部１２は、その内部に対する窒素等の気体供給により、貯留している洗浄液を気体圧力によって液供給流路管１２ａに流出させる。この液供給部１２は架台８の内部あるいはその隣等に設置されている。
【００３４】
液供給流路管１２ａは槽１１の上部開口から内部に入れられており、この液供給流路管１２ａの途中には、開閉弁となるバルブ１２ｂが設けられている。液供給流路管１２ａは槽１１のＹ軸方向移動に対応可能に形成されており、液供給流路管１２ａとしては、例えば、可撓性を有するチューブ等が用いられる。また、バルブ１２ｂとしては、例えば、電磁弁等が用いられる。バルブ１２ｂは制御部９に電気的に接続されており、その開閉が制御部９により制御される。
【００３５】
ヘッド移動機構１３は、吸入ヘッド６ａを支持する支持体であるアーム部１３ａと、そのアーム部１３ａをＺ軸方向に移動させるＺ軸移動機構１３ｂとを備えている。Ｚ軸移動機構１３ｂとしては、例えば、サーボモータを駆動源とする送りねじ式の移動機構やリニアモータを駆動源とするリニアモータ式の移動機構等が用いられる。このヘッド移動機構１３は槽１１と共にステージ２の端部に固定されて設けられており（図１参照）、ステージ２と一緒にＹ軸方向に移動する。
【００３６】
このようなヘッド移動機構１３は、吸入ヘッド６ａを浸漬位置、待機位置及び塗布ヘッド清掃位置に昇降させる。浸漬位置は吸入ヘッド６ａが槽１１内の洗浄液に浸漬する位置であり、塗布ヘッド清掃位置は吸入ヘッド６ａが塗布ヘッド３の吐出面Ｍ１を吸入して清掃する位置であり、待機位置は吸入ヘッド６ａが浸漬後や塗布ヘッド清掃後に待機する位置である。待機位置は、浸漬位置と塗布ヘッド清掃位置の間の高さ位置に位置する。なお、本発明の実施形態において、待機位置は吸入ヘッド６ａを槽１１内の洗浄液に浸漬させて引き上げた引き上げ位置となる。
【００３７】
ここで、塗布ヘッド３を清掃する清掃動作について説明する。なお、清掃開始の指示は、あらかじめ決められたタイミングで、例えば、所定時間毎や塗布が実行された基板Ｋの所定枚数毎に出される。一枚の基板Ｋに対する塗布が完了する毎に清掃を行っても良い。
【００３８】
清掃開始の指示が出されると、その指示に応じて吸入ヘッド６ａがステージ２と共に塗布ヘッド３に対向する位置までＹ軸移動機構７により移動する。吸入ヘッド６ａは塗布ヘッド３に対向する位置まで移動すると、ヘッド移動機構１３により待機位置から塗布ヘッド清掃位置まで上昇する。吸入ヘッド６ａが塗布ヘッド清掃位置まで移動すると、吸引ポンプ６ｅが駆動され、吸入ヘッド６ａが塗布ヘッド３の吐出面Ｍ１に対して吸入を行う。このとき、吸入ヘッド６ａは、塗布ヘッド３の吐出面Ｍ１に沿って相対移動しながら、その吐出面Ｍ１に付着した液を空気と共に吸入口Ｈ１から内部に吸引ポンプ６ｅの吸引力により吸い込む。
【００３９】
これにより、塗布ヘッド３の吐出面Ｍ１に付着した液は吸入ヘッド６ａにより空気と共にその吸入口Ｈ１から内部に吸い込まれ、吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂを流れ、気液分離装置６ｃに流入し、流入した液は気液分離装置６ｃにより回収される。このようにして、塗布ヘッド３の吐出面Ｍ１に付着した液が除去される。
【００４０】
なお、塗布ヘッド３の吐出面Ｍ１に対する吸入ヘッド６ａの相対移動方向としては、塗布ヘッド３の吐出面Ｍ１に沿う方向であって吐出孔３ａが並ぶ方向に直交する方向（この場合には、吸入ヘッド６ａがステージ２と共にＹ軸移動機構７によりＹ軸方向に移動する）、あるいは、塗布ヘッド３の吐出面Ｍ１に沿う方向であって吐出孔３ａが並ぶ方向（この場合には、塗布ヘッド３がＸ軸移動機構４によりＸ軸方向に移動する）等が挙げられる。
【００４１】
ただし、吸入ヘッド６ａと塗布ヘッド３とは相対的に移動すれば良く、どちらが移動しても良い。また、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１の大きさが塗布ヘッド３の全吐出孔３ａを覆うことが可能な大きさ以上であれば、どちらも移動させないようにしても良い。
【００４２】
また、塗布ヘッド３が吐出孔３ａの並び方向に沿って複数個設けられている場合には、吸入ヘッド６ａの相対移動方向は塗布ヘッド３の吐出面Ｍ１に沿う方向であって吐出孔３ａが並ぶ方向とされることが望ましい。この場合には、１つの吸入ヘッド６ａを各塗布ヘッド３に共通して用いることが可能になるので、吸入ヘッド６ａの設置数を抑えることができる。
【００４３】
次いで、吸入ヘッド６ａを洗浄する洗浄動作について説明する。なお、塗布装置１の制御部９が各種プログラムに基づいて吸入ヘッド６ａに対する洗浄処理を実行する。
【００４４】
図３に示すように、制御部９は、吸入ヘッド６ａの洗浄開始が指示されたか否かを判断する（ステップＳ１）。洗浄開始の指示は、あらかじめ決められたタイミングで、例えば、所定時間毎や塗布が実行された基板Ｋの所定枚数毎に出される。塗布ヘッド３の清掃を行う毎に行っても良い。
【００４５】
吸入ヘッド６ａの洗浄開始が指示されたと判断した場合には（ステップＳ１のＹＥＳ）、ヘッド移動機構１３により吸入ヘッド６ａを待機位置から浸漬位置（図２に示す位置）に移動させ（ステップＳ２）、その浸漬後に吸入ヘッド６ａを浸漬位置から待機位置に移動させる（ステップＳ３）。これにより、浸漬位置において吸入口Ｈ１内に侵入した洗浄液が、浸漬位置から待機位置に移動するときにもそのまま残り、また、吸入ヘッド６ａの先端面である吸入口Ｈ１の周辺にも洗浄液が付着して残ることとなる。
【００４６】
次いで、吸引ポンプ６ｅを所定時間駆動し（ステップＳ４）、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に侵入して溜った洗浄液及び吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１周囲に付着した洗浄液を吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂに吸引した後、バルブ６ｃ２を開き、気液分離装置６ｃから排液流路管６ｃ１を介して洗浄液を排液する（ステップＳ５）。
【００４７】
その後、洗浄回数が限度回数となったか否かを判断し（ステップＳ６）、洗浄回数が限度回数となっていないと判断した場合には（ステップＳ６のＮＯ）、まだ槽１１内の洗浄液を洗浄に使用可能と判定し、処理をステップＳ１に戻す。
【００４８】
一方、洗浄回数が限度回数になったと判断した場合には（ステップＳ６のＹＥＳ）、槽１１内の洗浄液を洗浄に使用不可と判定し、槽１１内の洗浄液を入れ替える（ステップＳ７）。このとき、制御部９は、まず、バルブ１１ｂを開き、槽１１から排液流路管１１ａを介して洗浄液を排液し、その後、バルブ１１ｂを閉め、液供給部１２のバルブ１２ｂを開き、液供給部１２から液供給流路管１２ａを介して槽１１内に洗浄液を供給する。
【００４９】
このような洗浄動作では、吸入ヘッド６ａが槽１１内の洗浄液に浸漬され、その後、その洗浄液から引き上げられる。このとき、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に洗浄液が供給され、吸入ヘッド６ａはその吸入口Ｈ１に洗浄液が溜っている状態となる。この状態で、吸引ポンプ６ｅが所定時間駆動されると、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に溜った洗浄液は、吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１を流れ、次いで、その内部流路６ａ１に連通する気液流路管６ｂを流れ、気液分離装置６ｃにより回収される。これにより、吸入ヘッド６ａ及び気液流路管６ｂの内部が洗浄液により洗浄されて清潔にされる。また、吸入ヘッド６ａの全体が洗浄液に対して浸漬されるので、吸入ヘッド６ａの外周面も洗浄され、その全体が清潔に維持される。
【００５０】
なお、上述した洗浄動作は、塗布ヘッド３による塗布液の吐出及びステージ２の移動と独立して実行することが可能であるので、基板Ｋに対する塗布液の塗布動作中に並行して行うようにすることができる。
【００５１】
以上説明したように、本発明の第１の実施形態によれば、吸入ヘッド６ａ及び気液流路管６ｂの内部に洗浄液を流すことによって、吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂの内部が洗浄液により洗浄されて清潔にされる。これにより、塗布ヘッド３の吐出面Ｍ１から吸入した液が吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂの流路内で固化することが抑止され、その流路が固化物により狭くなったり、詰まったりすること
が防止されるので、吸入ヘッド６ａの吸入力低下を抑えることが可能となる。したがって、その吸入ヘッド６ａの吸入力低下に起因し、塗布ヘッド３の吐出異常が発生することを防止することができる。その結果、塗布ヘッド３による溶液の安定した吐出を維持することができるので、塗布ヘッド３から吐出されて基板Ｋ上に形成される配向膜などの塗布膜の品質を向上させることが可能となる。
【００５２】
また、洗浄装置６ｆは槽１１を用いて吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に洗浄液を供給する。したがって、槽１１に洗浄液を溜めておけば良いので、洗浄液の供給機構を簡略化することができる。さらに、必要に応じて吸入ヘッド６ａを多数設けた場合でも、槽１１の大きさを変更すれば良く、洗浄液の供給機構を多数設置する必要がないため、装置の簡略化及び低コスト化を実現することができる。
【００５３】
また、洗浄装置６ｆは、洗浄液を貯留する槽１１と、吸入ヘッド６ａを槽１１内の洗浄液に浸漬させる浸漬位置とその浸漬位置から引き上げた引き上げ位置（待機位置）とに移動させるヘッド移動機構１３とを具備しており、ヘッド移動機構１３により吸入ヘッド６ａを浸漬位置に移動させ、その浸漬位置から引き上げ位置に移動させて、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に洗浄液を供給し、吸入ヘッド６ａが引き上げ位置にある状態で、供給した洗浄液を吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１から吸引ポンプ６ｅの吸引により吸い込み、吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂの内部に流す。これにより、簡略な構造で、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に洗浄液を供給することができ、加えて、供給した洗浄液を吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂの内部に流すことができる。
【００５４】
なお、前述の実施形態では、吸入ヘッド６ａを槽１１内の洗浄液に浸漬させ、その後、その洗浄液から引き上げてから吸引ポンプ６ｅを駆動させているが、これに限るものではなく、例えば、吸入ヘッド６ａを槽１１内の洗浄液に浸漬させた状態で、吸引ポンプ６ｅを駆動させるようにしても良い。
【００５５】
すなわち、洗浄装置６ｆは、ヘッド移動機構１３により吸入ヘッド６ａを浸漬位置に移動させて吸入ヘッド６ａを洗浄液に浸漬させて吸入口Ｈ１に洗浄液を供給し、吸入ヘッド６ａが浸漬位置にある状態で、洗浄液を吸入口Ｈ１から吸引ポンプ６ｅの吸引により吸い込み、吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂの内部に流す。これにより、吸入ヘッド６ａが浸漬状態で吸入を行うため、槽１１内の洗浄液が吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１から流れ込むので、大量の洗浄液を吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂの内部に流すことが可能となる。これにより、吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂの内部をより確実にまた綺麗に洗浄することができる。
【００５６】
また、ステップＳ２〜ステップＳ４の動作（吸入ヘッド６ａの浸漬→待機位置へ上昇→吸引）を複数回繰返して行うようにしても良い。この繰り返し回数は、例えば、制御部９に付随する記憶部等に作業者が予め任意に設定することが可能である。このようにすることで、吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂの内部をより確実に洗浄することができる。また、吸入ヘッド６ａは、その吸入ヘッド６ａを洗浄液内に浸漬させたことによって吸入口Ｈ１内に侵入した洗浄液や、浸漬位置から待機位置に移動させたときに吸入ヘッド６ａの先端面である吸入口Ｈ１の周辺に付着して残った洗浄液を吸引するので、洗浄液の浪費を防止することができる。
【００５７】
（第２の実施形態）
本発明の第２の実施形態について図４及び図５を参照して説明する。
【００５８】
本発明の第２の実施形態は基本的に第１の実施形態と同様である。第２の実施形態では、第１の実施形態との相違点について説明し、第１の実施形態で説明した部分と同一部分
は同一符号で示し、その説明も省略する。
【００５９】
図４に示すように、本発明の第２の実施形態に係る洗浄装置６ｆは、第１の実施形態に係る槽１１及びヘッド移動機構１３に加え、槽１１に洗浄液を供給する液供給部１２に替えて、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に直接洗浄液を供給する液供給部２１を具備している。
【００６０】
液供給部２１は、液供給流路管２１ａを備える。この液供給流路管２１ａの先端の液流出口Ｈ２は、吸引ヘッド６ａの吸入口Ｈ１の直上に対向可能とされている。液供給流路管２１ａの液流出口Ｈが液供給位置に位置した状態で、その液供給流路管２１ａの液流出口Ｈ２から吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に洗浄液を滴下して供給する。例えば、液供給部２１は、その内部に対する窒素等の気体供給により、貯留している洗浄液を液供給流路管２１ａに流出させる。
【００６１】
液供給流路管２１ａは槽１１の上部開口から液を滴下可能に設けられており、この液供給流路管２１ａの途中には、開度を調整可能な流量調整弁となるバルブ２１ｂが設けられている。液供給流路管２１ａとしては、例えば、チューブやパイプ等が用いられ、バルブ２１ｂとしては、例えば、電磁弁等が用いられる。バルブ２１ｂは制御部９に電気的に接続されており、その開度が制御部９により制御される。
【００６２】
ここで、バルブ２１ｂの開度は洗浄液が液供給流路管２１ａから液滴となって落下する程度に設定されている。液滴を滴下する滴下時間は、滴下量が所定量となる時間に設定されている。例えば、所定量は、洗浄液が吸入ヘッド６ａの長方形状の吸入口Ｈ１の全体に行き渡る量である。なお、液供給流路管２１ａの液流出側の端部には、洗浄液を拡散噴射するノズル等が設けられても良い。この場合には、滴下による供給に比べ、短時間で洗浄液を吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１の全体に行き渡らすことができる。
【００６３】
このような液供給部２１は架台８の上面に固定されて設けられており、例えばステージ２が図１に示す位置で停止した状態で、液供給流路管２１ａの液流出口Ｈ２が吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に対向する位置に配置されている。このとき、吸入ヘッド６ａは洗浄位置（図４に示す位置）に停止している状態である。なお、液供給流路管２１ａは、ステージ２が図１に示す位置から右方向へ移動したときに、ヘッド移動機構１３と干渉することを防止するために昇降装置によって昇降自在に支持するようにしても良い。
【００６４】
次に、吸入ヘッド６ａを洗浄する洗浄動作について説明する。なお、塗布装置１の制御部９が各種プログラムに基づいて吸入ヘッド６ａに対する洗浄処理を実行する。
【００６５】
図５に示すように、制御部９は、吸入ヘッド６ａの洗浄開始が指示されたか否かを判断する（ステップＳ１１）。洗浄開始の指示は、あらかじめ決められたタイミングで、例えば、所定時間毎や塗布が実行された基板Ｋの所定枚数毎に出される。
【００６６】
吸入ヘッド６ａの洗浄開始が指示されたと判断した場合には（ステップＳ１１のＹＥＳ）、ヘッド移動機構１３により吸入ヘッド６ａを待機位置から洗浄位置（図４に示す位置）に移動させ（ステップＳ１２）、さらに、液供給部２１の液供給流路２１ａの液流出口Ｈ２が吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に対向する位置（例えば図１に示す位置）までステージ２をＹ軸方向に移動させた後、液供給部２１により吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に対して洗浄液を供給する（ステップＳ１３）。
【００６７】
次いで、吸引ポンプ６ｅを所定時間駆動し（ステップＳ１４）、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に溜った洗浄液を吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂに吸引した
後、バルブ６ｃ２を開き、気液分離装置６ｃから排液流路管６ｃ１を介して洗浄液を排液する（ステップＳ１５）。
【００６８】
その後、洗浄回数が所定回数となったか否かを判断し（ステップＳ１６）、洗浄回数が所定回数となっていないと判断した場合には（ステップＳ１６のＮＯ）、まだ槽１１内に所定量以上の洗浄液が溜っていないと判定し、処理をステップＳ１１に戻す。なお、洗浄液の滴下により洗浄液が飛散したり、あえて洗浄液を多量に供給したりする場合もあるため、槽１１内に洗浄液が溜ることになる。
【００６９】
一方、洗浄回数が所定回数になったと判断した場合には（ステップＳ１６のＹＥＳ）、槽１１内に所定量以上の洗浄液が溜っていると判定し、槽１１内の洗浄液を排液する（ステップＳ１７）。このとき、制御部９は、バルブ１１ｂを開き、槽１１から排液流路管１１ａを介して洗浄液を排液する。なお、ステップ１６の判定を行うことなく、ステップ１５による洗浄液の吸引の後、槽１１内の洗浄液を毎回排液するようにしても良い。
【００７０】
このような洗浄動作では、液供給部２１により洗浄液が吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に滴下されて供給される。これにより、吸入ヘッド６ａはその吸入口Ｈ１に洗浄液が溜っている状態となる。この状態で、吸引ポンプ６ｅが所定時間駆動されると、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に溜った洗浄液は、吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１を流れ、次いで、その内部流路６ａ１に連通する気液流路管６ｂを流れ、気液分離装置６ｃにより回収される。これにより、吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂの内部が洗浄液により洗浄されて清潔にされる。また、洗浄液を多量に滴下すると、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１から溢れてその外周面にも流れるので、吸入ヘッド６ａの外周面も洗浄され、その全体が清潔に維持される。
【００７１】
以上説明したように、本発明の第２の実施形態によれば、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、洗浄装置６ｆは、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に洗浄液をかける液供給部２１を具備しており、その液供給部２１により吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に洗浄液をかけて供給し、供給した洗浄液を吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１から吸引ポンプ６ｅの吸引により吸い込み、吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂの内部に流す。これにより、簡略な構造で、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１に洗浄液を供給することができ、加えて、供給した洗浄液を吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂの内部に流すことができる。
【００７２】
（第３の実施形態）
本発明の第３の実施形態について図６及び図７を参照して説明する。
【００７３】
本発明の第３の実施形態は基本的に第１の実施形態と同様である。第３の実施形態では、第１の実施形態との相違点について説明し、第１の実施形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する。
【００７４】
図６に示すように、本発明の第３の実施形態に係る洗浄装置６ｆは、第１の実施形態に係る槽１１及びヘッド移動機構１３に加え、槽１１に洗浄液を供給する液供給部１２に替えて、気液分離装置６ｃに洗浄液を供給する液供給部３１及び気液分離装置６ｃに気体を供給する気体供給部３２を具備している。
【００７５】
液供給部３１は、気体流路管６ｄの途中に連通する液供給流路管３１ａにより気液分離装置６ｃに接続されており、その液供給流路管３１ａを介して気液分離装置６ｃ内に洗浄液を供給する。例えば、液供給部３１は、その内部に対する窒素等の気体供給により、貯留している洗浄液を液供給流路管３１ａに流出させる。この液供給部３１は架台８の内部
あるいはその隣等に設置されている。
【００７６】
また、液供給流路管３１ａの途中には、開閉弁となるバルブ３１ｂが設けられている。液供給流路管３１ａとしては、例えば、チューブやパイプ等が用いられ、バルブ３１ｂとしては、例えば、電磁弁等が用いられる。バルブ３１ｂは制御部９に電気的に接続されており、その開閉が制御部９により制御される。ここで、洗浄液の充填量は、気液分離装置６ｃに対する気体供給により洗浄液が気液流路管６ｂを流れる量であって少なくとも１回の洗浄に必要な量に設定されている。
【００７７】
気体供給部３２は、気体流路管６ｄの途中に連通する気体供給流路管３２ａにより気液分離装置６ｃに接続されており、その気体供給流路管３２ａを介して気液分離装置６ｃ内に窒素等の気体を供給する。この気体供給部３２は架台８の内部あるいはその隣等に設置されている。
【００７８】
また、気体供給流路管３２ａの途中には、開度を調整可能な流量調整弁となるバルブ３２ｂが設けられている。気体供給流路管３２ａとしては、例えば、チューブやパイプ等が用いられ、バルブ３２ｂとしては、例えば、電磁弁等が用いられる。バルブ３２ｂは制御部９に電気的に接続されており、その開度が制御部９により制御される。ここで、バルブ３２ｂの開度は洗浄液が吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１から溢れ出てくる程度に設定されている。
【００７９】
なお、気体流路管６ｄは、その途中で液供給流路管３１ａ及び気体供給流路管３２ａに連通しており、その分岐点より吸引ポンプ６ｅ側には、開閉弁となるバルブ６ｄ１が設けられている。バルブ６ｄ１としては、例えば、電磁弁等が用いられる。バルブ６ｄ１は制御部９に電気的に接続されており、その開閉が制御部９により制御される。
【００８０】
次に、吸入ヘッド６ａを洗浄する洗浄動作について説明する。なお、塗布装置１の制御部９が各種プログラムに基づいて吸入ヘッド６ａに対する洗浄処理を実行する。
【００８１】
図７に示すように、制御部９は、吸入ヘッド６ａの洗浄開始が指示されたか否かを判断する（ステップＳ２１）。洗浄開始の指示は、あらかじめ決められたタイミングで、例えば、所定時間毎や塗布が実行された基板Ｋの所定枚数毎に出される。
【００８２】
吸入ヘッド６ａの洗浄開始が指示されたと判断した場合には（ステップＳ２１のＹＥＳ）、ヘッド移動機構１３により吸入ヘッド６ａを待機位置から洗浄位置（図６に示す位置）に移動させ（ステップＳ２２）、次いで、気液分離装置６ｃに洗浄液を充填するため、バルブ３１ｂを開き、液供給部３１により気液分離装置６ｃに洗浄液を所定時間供給する（ステップＳ２３）。ここで、洗浄液を供給する時間は、気液分離装置６ｃ内における洗浄液の液面高さが気液流路管６ｂの気液分離装置６ｃ側の端部位置よりも高い位置となるまで供給可能な時間である。なお、バルブ３２ｂ及びバルブ６ｄ１は閉じた状態である。
【００８３】
気液分離装置６ｃに洗浄液を充填した後、バルブ３１ｂを閉じてバルブ３２ｂを開き、気体供給部３２により気液分離装置６ｃに気体を所定時間供給し（ステップＳ２４）、気液分離装置６ｃ内の洗浄液を気液流路管６ｂ及び吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１に流し、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１から予め設定された時間（量）だけ溢れ出させた後、バルブ３２ｂを閉じてバルブ６ｃ２を開き、気液分離装置６ｃから排液流路管６ｃ１を介して洗浄液を排液する（ステップＳ２５）。
【００８４】
その後、洗浄回数が所定回数となったか否かを判断し（ステップＳ２６）、洗浄回数が所定回数となっていないと判断した場合には（ステップＳ２６のＮＯ）、まだ槽１１内に
所定量以上の洗浄液が溜っていないと判定し、処理をステップＳ２１に戻す。なお、洗浄液が吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１から溢れ出すため、その洗浄液が槽１１内に溜ることになる。
【００８５】
一方、洗浄回数が所定回数になったと判断した場合には（ステップＳ２６のＹＥＳ）、槽１１内に所定量以上の洗浄液が溜っていると判定し、槽１１内の洗浄液を排液する（ステップＳ２７）。このとき、制御部９は、バルブ１１ｂを開き、槽１１から排液流路管１１ａを介して洗浄液を排液する。ここで、ステップＳ２６の判定を行うことなく、ステップ２５による気液分離装置６ｃ内の洗浄液の排出の後、槽１１内の洗浄液を毎回排液するようにしても良い。
【００８６】
このような洗浄動作では、吸入ヘッド６ａが槽１１内の洗浄位置に移動すると、液供給部３１により洗浄液が気液分離装置６ｃ内に所定時間供給され、その後、気体供給部３２により気体が気液分離装置６ｃ内に所定時間供給される。気液分離装置６ｃ内の洗浄液は気液流路管６ｂを通り、次いで、吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１を通り、その吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１から溢れ出し、槽１１により回収される。これにより、吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂの内部が洗浄液により洗浄されて清潔にされる。また、洗浄液が吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１から溢れ出してその外周面にも流れるので、吸入ヘッド６ａの外周面も洗浄され、その全体が清潔に維持される。
【００８７】
以上説明したように、本発明の第３の実施形態によれば、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、洗浄装置６ｆは、吸入ヘッド６ａに気液流路管６ｂを介して洗浄液を供給し、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１から流出させる。したがって、洗浄液を気液分離装置６ｃに供給しておけば良いので、洗浄液の供給機構を簡略化することができる。さらに、必要に応じて吸入ヘッド６ａを多数設けた場合でも、気液分離装置６ｃに洗浄液及び気体を供給すれば良く、洗浄液の供給機構を多数設置する必要がないため、装置の簡略化及び低コスト化を実現することができる。
【００８８】
また、洗浄装置６ｆは、気液分離装置６ｃに洗浄液を供給する液供給部３１と、気液分離装置６ｃに気体を供給する気体供給部３２とを具備しており、液供給部３１により気液分離装置６ｃに洗浄液を充填し、気液分離装置６ｃに洗浄液を充填した状態で、気体供給部３２により気液分離装置６ｃに気体を供給し、気液分離装置６ｃ内の洗浄液を吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１に気液流路管６ｂを介して供給し、吸入ヘッド６ａの吸入口Ｈ１から流出させる。これにより、簡略な構造で、洗浄液を吸入ヘッド６ａの内部流路６ａ１及び気液流路管６ｂの内部に流すことができる。
【００８９】
（他の実施形態）
なお、本発明に係る前述の実施形態は例示であり、発明の範囲はそれらに限定されない。前述の実施形態は種々変更可能であり、例えば、前述の実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素が削除されても良く、さらに、異なる実施形態に係る構成要素が適宜組み合わされても良い。
【００９０】
例えば、第１の実施形態と第３の実施形態が組み合わされたり、あるいは、第２の実施形態と第３の実施形態とが組み合わされたりしても良い。この場合には、洗浄液が吸入ヘッド６ａ及び気液流路管６ｂの内部を異なる方向に二度も流れることになるので、吸入ヘッド６ａ及び気液流路管６ｂの内部をより確実にまた綺麗に洗浄することができる。
【００９１】
また、清掃装置６がステージ２と共にＹ軸方向に移動するものとして説明したが、これに限られるものではなく、他の構成を採用することも可能である。例えば、清掃装置６を架台８上に固定配置し、塗布ヘッド３を清掃するときには、塗布ヘッド３が清掃装置６上
に移動するようにしても良い。また、清掃装置６をステージ８とは独立してＹ方向に移動可能に設け、ステージ８を塗布ヘッド３の下から退避させた状態で、清掃装置６を塗布ヘッド３の下側に移動させて塗布ヘッド３の清掃を行うようにしても良い。
【００９２】
また、吸引装置として、吸引ポンプ６ｅを用いるものとしたが、これに限られるものではなく、例えば、ベンチュリ効果を利用して減圧状態を作り出すエジェクタ（コンバム）などを用いても良い。
【符号の説明】
【００９３】
１    塗布装置
３    塗布ヘッド
３ａ  吐出孔
６ａ  吸入ヘッド
６ｂ  気液流路管
６ｃ  気液分離装置
６ｄ  気体流路管
６ｅ  吸引ポンプ（吸引装置）
６ｆ  洗浄装置
９    制御部
１１  槽（貯留部）
１３  ヘッド移動機構
２１  液供給部
３１  液供給部
３２  気体供給部
Ｈ１  吸入口
Ｍ１  吐出面
【図１】
0005690542.tif 000002
【図２】
0005690542.tif 000003
【図３】
0005690542.tif 000004
【図４】
0005690542.tif 000005
【図５】
0005690542.tif 000006
【図６】
0005690542.tif 000007
【図７】
0005690542.tif 000008