(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の音響エミッタを備える波面変更装置であって、前記音響エミッタは、少なくとも部分的に放射ビーム導管を横断して進む音波を放出するよう構成され、
前記音響エミッタは、気体または液体中において、少なくとも部分的に前記放射ビーム導管を横断して延在する定在音波を確立するよう構成され、
前記音響エミッタは対で設けられており、各対の音響エミッタは互いに向かい合っていることを特徴とする波面変更装置。
【請求項２】
一対の音響エミッタの第１音響エミッタは、前記一対の音響エミッタの第２音響エミッタにより放出された音波と実質的に同じ周波数を有する音波を放出するよう構成されることを特徴とする請求項１に記載の波面変更装置。
【請求項３】
前記音響エミッタは、前記放射ビーム導管の横断面を定在音波で実質的に満たすように構成されることを特徴とする請求項１または２に記載の波面変更装置。
【請求項４】
前記音響エミッタから放出された音波の周波数および位相を制御するよう構成された制御部をさらに備えることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の波面変更装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記放射ビーム導管中の所望の位置に定在音波を提供するために、選択された音響エミッタをスイッチオンまたはスイッチオフするよう構成されることを特徴とする請求項４に記載の波面変更装置。
【請求項６】
前記複数の音響エミッタは、実質的に同じ面に設けられることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の波面変更装置。
【請求項７】
放射ビームの断面にパターンを付与するよう機能するパターニングデバイスを支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板の目標部分にパターン付き放射ビームを投影する投影系と、
請求項１から６のいずれかに記載の波面変更装置と、
を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記波面変更装置の音響エミッタは、リソグラフィ装置の投影系および／または照明系に設けられ、前記照明系は、放射ビームを調整し、該ビームを前記支持構造に運ぶよう構成されることを特徴とする請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記音響エミッタは、リソグラフィ装置の瞳面および／またはフィールド面に位置することを特徴とする請求項７または８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記音響エミッタは、リソグラフィ装置の光軸に対して実質的に垂直な面に位置することを特徴とする請求項７から９のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記音響エミッタは、リソグラフィ装置の放射源またはリソグラフィ装置に使われる放射源により生成される放射パルスの繰り返し率と一致する周波数、またはそれの倍数である周波数を有する音波を放出するよう構成されることを特徴とする請求項７から１０のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記制御部は、放射ビームの波面収差の測定または予測を受けとり、放射ビームの波面収差を低減または除去する定在音波構成を決定するよう構成されることを特徴とする請求項４に従属する請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
パターニングデバイスを用いて放射ビームの断面にパターンを付与するステップと、
投影系を用いてパターン付き放射ビームを基板の目標部分に投影するステップと、
音響エミッタを用いて音波を放出し、基板上に入射する前にパターン付与された又はされていない放射ビームが通過する放射ビーム導管を少なくとも部分的に横断して進む音波を確立するステップと、
を備え、
前記音響エミッタは、気体または液体中において、少なくとも部分的に前記放射ビーム導管を横断して延在する定在音波を確立するよう構成され、
前記音響エミッタは対で設けられており、各対の音響エミッタは互いに向かい合っていることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、および波面変更装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板の目標部分に所望のパターンを付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に用いることができる。この場合、マスク、レチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを用いて、ＩＣの個々の層（レイヤー）に対応する回路パターンを生成することができ、照射感受性材料（レジスト）の層を有する基板（例えば、シリコンウェハ）上の目標部分（例えば、一つまたは複数のダイの部分からなる）にこのパターンを転写することができる。一般に、単一の基板は、連続して露光される隣接する目標部分のネットワークを有する。既知のリソグラフィ装置には、いわゆるステッパといわゆるスキャナとがある。ステッパでは、各目標部分にパターンの全体を一度に露光することによって、各目標部分が照射される。スキャナでは、所与の方向（「走査」方向）にビームを用いてパターンを走査する一方、この方向と平行にまたは逆平行に基板を同期させて走査することによって、各目標部分が照射される。
【０００３】
パターニングデバイスからのパターンを基板上に高い精度で投影することが望ましい。パターンを基板上に投影する精度は、パターンを投影するのに用いられる放射の光学波面に一部依存する。光学波面の理想的形状からの偏差は、一つまたは複数の波面収差により特徴付けられる。波面収差は、リソグラフィ装置によりパターンが投影される精度に大きな影響を及ぼす可能性がある。
【０００４】
リソグラフィ装置には、例えば、非理想的な光学素子（例えばレンズ）の製造、経時的な光学素子特性のドリフト、および光学素子の加熱などの様々な波面収差の原因が存在する。リソグラフィ装置には波面収差が頻繁に存在するので、制御された方法で一つまたは複数の波面収差を低減でき、それによってリソグラフィ装置によりパターンが投影される精度が向上されることが望ましい。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
例えば、本明細書または他の場所で特定されているかに関わらず、本技術分野に関連する問題を克服または軽減する新しい波面変更装置を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様によれば、複数の音響エミッタを備える波面変更装置が提供される。音響エミッタは、少なくとも部分的に放射ビーム導管を横断して進む音波を放出するよう構成される。
【０００７】
音響エミッタは、少なくとも部分的に放射ビーム導管を横断して延在する定在音波を確立するよう構成されてもよい。
【０００８】
音響エミッタは対で設けられており、各対の音響エミッタは互いに向かい合っていてもよい。
【０００９】
音響エミッタは、他方の音響エミッタと向かい合っているのに代えて又は加えて、反射体と向かい合っていてもよい。
【００１０】
一対の音響エミッタの第１音響エミッタは、一対の音響エミッタの第２音響エミッタにより放出された音波と実質的に同じ周波数を有する音波を放出するよう構成されてもよい。
【００１１】
第１および第２音響エミッタは、それらの間で進行波が確立されるように、異なる周波数を有する音波を放出してもよい。
【００１２】
音響エミッタは、放射ビーム導管の横断面を定在音波で実質的に満たすように構成されてもよい。音響エミッタは、放射ビーム導管の断面の一部を定在音波で実質的に満たすよう構成されてもよい。
【００１３】
波面変更装置は、音響エミッタから放出された音波の周波数および位相を制御するよう構成された制御部をさらに備えてもよい。
【００１４】
制御部は、一対の音響エミッタの両方が実質的に同じ周波数を有する音波を放出するように一対の音響エミッタを制御すべく構成されてもよい。
【００１５】
制御部は、放射ビーム導管中の所望の位置に定在音波を提供するために、選択された音響エミッタをスイッチオンまたはスイッチオフするよう構成されてもよい。
【００１６】
一つ又は複数の音響エミッタは、方向を調整可能であってもよい。制御部は、一つ又は複数の音響エミッタの方向を制御するよう構成されてもよい。
【００１７】
一つ又は複数の音響エミッタは、位置を調整可能であってもよい。制御部は、一つ又は複数の音響エミッタの位置を制御するよう構成されてもよい。
【００１８】
複数の音響エミッタは、実質的に同じ面に設けられてもよい。
【００１９】
本発明の一態様によれば、リソグラフィ装置が提供される。このリソグラフィ装置は、放射ビームの断面にパターンを付与するよう機能するパターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、基板の目標部分にパターン付き放射ビームを投影する投影系と、ここに記載した波面変更装置とを備える。
【００２０】
波面変更装置の音響エミッタは、リソグラフィ装置の投影系および／または照明系に設けられてもよい。照明系は、放射ビームを調整し、該ビームを支持構造に運ぶよう構成される。
【００２１】
音響エミッタは、リソグラフィ装置の瞳面および／またはフィールド面に位置してもよい。
【００２２】
音響エミッタは、リソグラフィ装置の光軸に対して実質的に垂直な面に位置してもよい。
【００２３】
音響エミッタは、リソグラフィ装置の放射源により生成される放射パルスの繰り返し率と一致する周波数、またはそれの倍数である周波数を有する音波を放出するよう構成されてもよい。
【００２４】
音響エミッタは、リソグラフィ装置の放射源またはリソグラフィ装置で使われる放射源により生成された放射パルスの繰り返し率と関係する、またはそれによって決まる周波数を有する音波を放出するよう構成されてもよい。例えば、異なる放射パルスに対し異なる所望の位置に音波の腹を提供する周波数が選択されてもよい。
【００２５】
制御部は、放射ビームの波面収差の測定または予測を受けとり、放射ビームの波面収差を低減または除去する定在音波構成を決定するよう構成されてもよい。
【００２６】
音響エミッタは、気体中で定在音波を確立するよう構成されてもよい。
【００２７】
本発明の一態様によれば、デバイス製造方法が提供される。この方法は、パターニングデバイスを用いて放射ビームの断面にパターンを付与するステップと、投影系を用いてパターン付き放射ビームを基板の目標部分に投影するステップと、音響エミッタを用いて音波を放出し、基板上に入射する前にパターン付与された又はされていない放射ビームが通過する放射ビーム導管を少なくとも部分的に横断して進む音波を確立するステップとを備える。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
本発明の実施の形態は、例示のみを目的として、添付の図面を参照して説明される。図面では、対応する参照番号は、対応する部分を示す。
【００２９】
【図１】本発明の実施形態に係るリソグラフィ装置を概略的に示す図である。
【００３０】
【図２】本発明の実施形態に係る波面変更装置を概略的に示す図である。
【００３１】
【図３】本発明のさらなる実施形態に係る波面変更装置を概略的に示す図である。
【００３２】
【図４】本発明のさらなる実施形態に係る波面変更装置を概略的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
ＩＣ製造時におけるリソグラフィ装置の使用について本文で特定した言及がなされるかもしれないが、本明細書で述べるリソグラフィ装置は、集積光学システム、磁気領域メモリ用の誘導および検出パターン（guidance and detection pattern）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造といった他の応用形態も有していることを理解すべきである。当業者は、このような代替的な応用形態の文脈において、「ウェハ」または「ダイ」という用語のあらゆる使用が、より一般的な用語である「基板」または「目標部分」とそれぞれ同義であるとみなしうることを認められよう。本明細書で参照される基板を、例えばトラック（通常、基板にレジスト層を塗布し露光されたレジストを現像する工具）または計測工具または検査工具で、露光の前後に処理することができる。可能であれば、本明細書の開示をこれらのおよび他の基板処理工具に適用することができる。さらに、例えば多層ＩＣを作製するために基板を二回以上処理してもよく、したがって、本明細書で使用される基板という用語は、複数回処理された層を既に有している基板のことも指す場合がある。
【００３４】
本明細書で使用される「放射」および「ビーム」という用語は、あらゆるタイプの電磁放射を包含しており、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７、１２６ｎｍまたは他の波長を有する）を含む。
【００３５】
本明細書で使用される「パターニングデバイス」という用語は、放射ビームの断面にパターンを与え、基板の目標部分にパターンを形成するために使用可能であるデバイスを参照するものとして、広く解釈されるべきである。放射ビームに与えられるパターンが、基板の目標部分における所望のパターンに正確に対応していなくてもよいことに注意する。通常、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などの、目標部分に作成されるデバイス内の特定の機能層と対応している。
【００３６】
パターニングデバイスは、透過型でも反射型でもよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラム可能なミラーアレイ、プログラム可能なＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィ分野では周知であり、バイナリマスク、交互位相シフト（alternating phase-shift）マスク、ハーフトーン型位相シフト（attenuated phase-shift）マスク、および様々なハイブリッド型マスクタイプなどのマスクタイプがある。プログラム可能なミラーアレイの例では、小型ミラーがそれぞれ個別に傾斜して入射する放射ビームを異なる方向に反射させることが可能な、小型ミラーのマトリックス配列を使用する。このようにして、反射されたビームにパターンが付与される。
【００３７】
支持構造は、パターニングデバイスを保持する。支持構造は、パターニングデバイスの配向、リソグラフィ装置の設計、例えばパターニングデバイスが真空環境に保持されているか否かなどの他の条件に応じた態様で、パターニングデバイスを保持する。支持構造は、機械的クランプ、バキューム、または真空条件下での静電気クランプなどの他の固定技術を使用することができる。支持構造は、フレーム状またはテーブル状であってもよく、例えば、必要に応じて固定されていても移動可能でもよい。支持構造ＭＴにより、例えば投影系に対してパターニングデバイスを確実に所望の位置に配置することができる。本明細書における「レチクル」または「マスク」という用語のいかなる使用も、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義であるとみなしてよい。
【００３８】
本明細書で使用される「投影系」という用語は、例えば、使用中の露光照射に適した、あるいは液浸の使用または真空の使用といった他の要因に適した、屈折光学系、反射光学系、反射屈折光学系を含む様々なタイプの投影系を包含するものとして広く解釈されるべきである。本明細書における「投影レンズ」という用語のいかなる使用も、より一般的な用語である「投影系」と同義であるとみなしてよい。
【００３９】
照明系もまた、放射ビームの進行方向を決め、成形し、または制御するための屈折光学部品、反射光学部品、または反射屈折光学部品を含む様々な種類の光学部品を包含してよい。
【００４０】
リソグラフィ装置は、二つの基板テーブルを有するタイプ（デュアルステージ）であっても、より多数の基板テーブル（および／または二つ以上の支持構造）を有するタイプであってもよい。このような「マルチステージ」の装置では、追加のテーブルを並列して使用してもよいし、または、一以上のテーブルに対して準備ステップを実行する一方、一以上の他のテーブルを露光用として使用してもよい。
【００４１】
リソグラフィ装置は、投影系の最終構成要素と基板の間の空間を満たすように、比較的屈折率の高い液体（例えば、水）の中に基板が浸されているタイプの装置であってもよい。液浸技術は、投影系の開口数を増大する技術として周知である。
【００４２】
図１は、本発明の特定の実施形態に係るリソグラフィ装置を概略的に示す。この装置は、以下の要素を備える。
−放射ビームＰＢ（例えば、ＵＶ放射またはＤＵＶ放射）を調整する照明系（照明器）ＩＬ。
−パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを支持し、要素ＰＬに対してパターニングデバイスを正確に位置決めするよう第１位置決め装置ＰＭに接続される支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ。
−基板（例えば、レジストコートされたウェハ）Ｗを保持するための基板テーブル（例えば、ウェハテーブル）ＷＴ。基板テーブルWTは、ＰＬに対して基板を正確に位置決めするために第２位置決め装置ＰＷに接続される。
−基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば、一つまたは複数のダイからなる）に、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＰＢに与えられたパターンをイメージングするように構成された投影系（例えば、屈折投影レンズ）ＰＬ。
【００４３】
図示するように、リソグラフィ装置は透過型（例えば、透過型マスクを使用）である。代替的に、リソグラフィ装置は反射型（例えば、上述したタイプのプログラム可能なミラーアレイまたは反射マスクを使用）であってもよい。
【００４４】
照明器ＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受け取る。放射源がエキシマレーザであるとき、放射源およびリソグラフィ装置は別々の構成要素であってもよい。そのような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を構成するとは見なされず、例えば適切な配向ミラー（directing mirror）および／またはビーム・エキスパンダを備えるビーム伝送系ＢＤを用いて、放射源ＳＯから照明器ＩＬに放射ビームが渡される。その他の場合、例えば放射源が水銀ランプであるとき、放射源は装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯと照明器ＩＬ、必要であればビーム伝送系ＢＤを合わせて、放射系と称してもよい。
【００４５】
照明器ＩＬは、ビームの角度強度分布を調節する調節手段ＡＭを備えてもよい。一般に、照明器の瞳面における強度分布の外径範囲および／または内径範囲（一般に、それぞれσアウターおよびσインナーと呼ばれる）を少なくとも調節することができる。加えて、照明器ＩＬは、インテグレータＩＮおよび集光器ＣＯ等の様々な他の構成要素を通常備えている。照明器は、その断面において所望の均一性および強度分布を有する調節された放射ビームＰＢを提供する。
【００４６】
放射ビームＰＢは、支持構造上に保持されたパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡに入射する。パターニングデバイスＭＡを横切ると、ビームＰＢは投影系ＰＬを通過し、そこでビームが基板Ｗの目標部分Ｃに合焦される。第２位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば、干渉計デバイス）を用いて、基板テーブルＷＴを正確に移動して、例えば異なる目標部分ＣをビームＰＢの経路に配置することができる。同様に、第１位置決め装置ＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示せず）を使用して、例えばマスクライブラリからの機械的復帰の後にまたは走査中に、ビームＰＢの経路に対してパターニングデバイスＭＡを正確に配置することができる。一般に、オブジェクトテーブルＭＴおよびＷＴの移動は、位置決め装置ＰＭおよびＰＷの一部を形成する長ストロークモジュール（粗い位置決め）と短ストロークモジュール（微細な位置決め）を用いて達成することができる。しかしながら、ステッパの場合には、スキャナとは対照的に、支持構造ＭＴが短ストロークのアクチュエータにのみ接続されていてもよいし、または固定されていてもよい。パターニングデバイスアライメントマークＭ１、Ｍ２と基板アライメントマークＰ１、Ｐ２とを用いて、パターニングデバイスＭＡと基板Ｗを位置合わせしてもよい。
【００４７】
図示する装置は、以下の好適なモードで使用することができる。
１．ステップモードでは、支持構造ＭＴと、基板テーブルＷＴとが本質的に静止状態を保つ一方、ビームＰＢに与えられたパターン全体が目標部分Ｃ上に一度に投影される（つまり、単一の静的露光）。続いて、基板テーブルＷＴをＸおよび／またはＹ方向に移動して、異なる目標部分Ｃを露光することができる。ステップモードでは、露光領域の最大サイズにより、単一の静的露光で像が与えられる目標部分Ｃのサイズが制限される。
２．走査モードでは、支持構造ＭＴと基板テーブルＷＴとが同期して走査される一方、ビームＰＢに与えられたパターンが目標部分Ｃ上に投影される（すなわち、単一の動的露光）。支持構造ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影系ＰＬの拡大（縮小）および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光領域の最大サイズが単一の動的露光における目標部分の（非走査方向における）幅を制限するのに対して、走査移動の長さが目標部分の（走査方向における）高さを決定する。
３．別のモードでは、支持構造ＭＴは、プログラム可能なパターニングデバイスを基本的に静止状態で保持し続け、基板テーブルＷＴは移動または走査される一方、ビームＰＢに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影される。このモードでは、通常、パルス放射源が採用され、プログラム可能なパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴの各移動の後に、または走査中の連続放射パルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述したようなプログラム可能なミラーアレイのタイプなどのプログラム可能なパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用可能である。
【００４８】
上述の使用モードの組み合わせおよび／または変形や、または全く異なる使用モードも利用することができる。
【００４９】
投影系ＰＬは、図１において概して円筒形状により概略的に表されている（しかしながら他の形状であってもよい）。投影系ＰＬは、連続して配置された（例えば列状に配置された）複数の光学素子（例えばレンズ）を備えてよい。光学素子は、例えば、石英から形成されてもよい。光学素子は、もっぱらレンズまたは他の透過型光学素子を備えてもよく、もっぱらレンズまたは他の反射型光学素子を備えてもよく、あるいは透過型光学素子および反射型光学素子の組合せを備えてもよい。光学素子は、例えばハウジング中に保持されてもよい。ハウジングは、例えばアルミニウムから形成されてもよい。
【００５０】
放射ビームＰＢは、投影系ＰＬを通過して基板Ｗ上に結像される。リソグラフィ装置の動作中に放射ビームが投影系を通過するので、投影系ＰＬは、放射ビームの導管（conduit）の一実施例と見なされてもよい。照明系ＩＬなどのリソグラフィ装置の他の部分もまた、放射ビームの導管と見なされてもよい。
【００５１】
一実施形態では、波面変更装置２（点線で概略的に図示）が投影系ＰＬ中に設けられている。波面変更装置２は、波面変更装置の動作を制御する制御部ＣＴに接続されている。制御部ＣＴは、放射源ＳＯにも接続されている。これにより、制御部ＣＴは、波面変更装置２の動作と放射源ＳＯの動作とを同期させることができる。
【００５２】
図２には、一実施形態に係る波面変更装置２を上方から見た図が概略的に示されている。波面変更装置２は、複数の音響エミッタ（acoustic emitter）６ａ−ｐを備える。音響エミッタ６ａ−ｐは、放射ビームＰＢの外周を囲むように延在するフレーム４上に取り付けられている。各音響エミッタ６ａ−ｐは、関連するエミッタに向けて音波を放出するよう構成される。例えば、音響エミッタ６ａは、音響エミッタ６ｄに向けて音波を放出するよう構成され、音響エミッタ６ｄは、音響エミッタ６ａに向けて音波を放出するよう構成される。これらの音響エミッタ６ａ，ｄは、互いに向かい合う一対の音響エミッタと見なされてもよい。音響エミッタ６ａ，ｄから放出された音波は、同じ周波数（または実質的に同じ周波数）を有する。音波は互いに干渉し、それにより定在音波が発生する。定在音波の節および腹の位置は、一対の音響エミッタ６ａ，ｄから放出された音波の相対位相に依存する。節および腹の位置は、従って、音波の相対位相を変更することにより調整され得る。一対の音響エミッタ６ａ，ｄから放出された音波の周波数および位相は、制御部ＣＴにより制御されてよい（図１参照）。
【００５３】
音響エミッタ６ａ，ｄにより生成された定在音波は、放射ビームＰＢの一部を横断して延在する圧力プロファイルをもたらす。投影系ＰＬ中の気体（例えば空気）の屈折率は、気体圧力の関数である。従って、圧力プロファイルは、気体中の屈折率プロファイルをもたらす。屈折率プロファイルの最大および最小は、定在音波の腹で生じる。定在音波の節では、屈折率は実質的に変わらない。定在音波により生成された屈折率プロファイルは、放射ビームＰＢの変更をもたらす。
【００５４】
定在音波により放射ビームＰＢのある一部に与えられる効果は、その放射ビームの一部が定在音波を通過するときの定在音波の位相に依存する。例えば、定在波の腹が最大のときに放射ビームの一部が該腹を通過する場合、放射ビームの一部は、高い圧力を受け、従って高屈折率となる。放射ビームの一部が進む光路長は、従って（節を通過する放射ビームの一部が進む光路長と比較して）増加する。逆に、定在波の腹が最小のときに放射ビームの一部が該腹を通過する場合、放射ビームの一部は、低い圧力を受け、従って低屈折率となる。放射ビームの一部が進む光路長は、従って（節を通過する放射ビームの一部が進む光路長と比較して）減少する。定在音波により与えられる効果の大きさは小さくなるが、定在音波の腹と節の間を部分的に通過する放射ビームの一部にも同じ状況が当てはまる。
【００５５】
リソグラフィ装置（図１参照）によりパターニングデバイスＭＡから基板Ｗ上にパターンが投影される精度は、パターンを投影するのに用いられる放射ビームＰＢの光学波面に一部依存する。放射ビームＰＢの光学波面の理想形状からの偏差は、リソグラフィ装置によりパターンが投影される精度に大きな有害な影響を及ぼす可能性がある。波面変更装置２は、放射ビームＰＢの光学波面を変更するために用いられ、それにより放射ビームの光学波面の理想形状からの偏差を低減または除去する。これにより、リソグラフィ装置により基板Ｗ上にパターンが投影される精度の改善が促進される。
【００５６】
一対の音響エミッタ６ａ−ｐにより生成される各定在音波は、有限の直径を有している。これは、例えば、音波を放出するのに用いられる音響エミッタのサイズおよび／または構成により決定される。放射ビームＰＢの断面のかなりの部分、または実にその全てを横断する音波を提供することが望ましい。同じように、放射ビームの導管（例えば、放射ビームＰＢが通過する投影系ＰＬおよび／または照明器ＩＬの一部）におけるかなりの部分、または実にその全てを横断する音波を提供することが望ましい。これは、複数の音響エミッタを放射ビーム導管の外側部の周りに（例えば、フレーム４の周りに）設けることにより達成され得る。
【００５７】
一実施形態では、音響エミッタは、放射ビーム導管の外側部の周りに分配されてもよい（例えばフレーム４上に設けられる）。音響エミッタは、例えば、実質的に等しい間隔で、または異なる間隔で位置付けられてもよい。音響エミッタは、（例えば、音響エミッタ６ａ−ｆにより一部において概略的に表されるように）音波を方向付けて、音波が全て中心点を通過するように構成されてもよい。例えば、中心点は、リソグラフィ装置の光軸と一致していてもよい。あるいは、音響エミッタの一部または全ては、（例えば、音響エミッタ６ｇ−ｐにより概略的に表されるように）音波を方向付けて、音波が完全には中心点を通過しないよう構成されてもよい。音響エミッタは、音波を方向付けて、音波が放射ビーム導管の断面を満たす（またはそのかなりの部分を満たす）グリッドを定めるよう構成されてもよい。図２には、音響エミッタ６ｇ−ｐによりこのようなグリッドの一部が生成される様子が概略的に図示されている。音響エミッタは、任意の所望の方向に音波を方向付けるよう構成されてもよい。音響エミッタは、放射ビーム導管の断面を定在音波で実質的に満たすよう構成されてもよい。任意の適切な数の音響エミッタが設けられてもよい。
【００５８】
各音響エミッタは、一対の音響エミッタの一方であってよい。一対の各音響エミッタは、音波を一対の向かい合った音響エミッタに方向付けるよう構成される。一対の各音響エミッタから放出された音波は、実質的に同じ周波数を有する（複数の実質的に同じ周波数を含む）。定在音波の発生をもたらすのは、実質的に同じ周波数でそれぞれ反対方向に進むこの音波の放出である。音響エミッタの異なる対は、異なる周波数で音波を放出してもよい。
【００５９】
一実施形態では、図３に示すように、波面変更装置２は、一対の音響エミッタに代えて又は加えて、一連の単独の音響エミッタ６ａ−ｃを備えてもよい。波面を反射可能な面が各音響エミッタ６ａ−ｃに向かい合って設けられてもよい。反射面８ａ−ｃは、例えば、単独の音響エミッタから放出された音波の伝搬方向に実質的に垂直である実質的に平坦な面であってよい。単独の音響エミッタが用いられる場合、波面変更装置は、上述した波面変更装置とほとんど同じように動作する。しかしながら、単独の音響エミッタが反射面のみとの組合せで用いられる場合、定在音波の節および腹の位置は、音響エミッタ間の位相制御では制御することができない。このような組合せでは、ただ一つの音響エミッタしか設けられていないからである。図３には３つの音響エミッタ６ａ−ｃおよび３つの反射面８ａ−ｃが図示されているが、任意の適切な数の音響エミッタおよび反射面が設けられてもよい。
【００６０】
制御部ＣＴは、定在音波を放射ビーム導管中の所望の位置に提供するために、選択された音響エミッタをスイッチオンまたはスイッチオフするよう構成されてよい。
【００６１】
一実施形態では、一つまたは複数の音響エミッタ６ａ−ｐは、方向を調整可能であってもよい。例えば、音響エミッタは、回転調整台（図示せず）に固定されてもよい。回転調整台により、例えば、音響エミッタの方向を一つまたは複数の回転軸の周りで変更することが可能となる。音響エミッタの方向は、例えば、制御部ＣＴにより制御されてもよい（図１参照）。定在音波の発生が望まれる放射ビーム導管の一部を横断するよう音波を方向付けるために、音響エミッタの方向が制御部ＣＴにより制御されてもよい。
【００６２】
一実施形態では、一つまたは複数の音響エミッタ６ａ−ｐは、位置を調整可能であってもよい。例えば、音響エミッタは、音響エミッタの位置を調整できる台上に固定されてもよい。調整可能台は、例えば、音響エミッタの位置を一つまたは複数の方向に変化可能であってもよい。音響エミッタの位置は、例えば、制御部ＣＴにより制御されてもよい（図１参照）。音響エミッタの位置は、定在音波を発生させたい放射ビーム導管の一部を横切るよう音波を導くために、制御部ＣＴにより制御されてもよい。
【００６３】
図２には音響エミッタ６ａ−ｐがフレーム４に取り付けられるものとして図示されているが、音響エミッタは任意の適切な方法で固定されてもよい（フレーム４は必須ではない）。例えば、音響エミッタは、投影系ＰＬの壁上に取り付けられてもよい（または、照明器ＩＬの壁上に取り付けられてもよい）。
【００６４】
一実施形態では、（例えば、放射ビーム中の特定の位置において波面を調整するために）ビーム導管中の特定の位置において波面変更を提供することが望ましい。これは、例えば、その位置を通る音波を発生させる音響エミッタのみを動作させ、そして定在音波の腹がその位置でもたらされるように音響エミッタの相対位相を選択することにより、達成され得る。
【００６５】
定在音波は空間において実質的に止まっているが、定在音波に起因する圧力プロファイルは時間とともに変化する。特に、定在音波の腹の圧力は、定在音波の周波数により決まる周期で最大値から最小値に変化する。光の速度は音の速度よりも非常に速いので、放射パルスが定在音波を通過する間において、放射ビームの放射パルスが受ける圧力プロファイルは大きくは変化しない。しかしながら、放射ビームの連続的な放射パルスが実質的に同じ圧力プロファイルを受けるようにするために、定在音波と放射パルスとが同期されてもよい。
【００６６】
放射ビームの放射パルスへの定在音波の同期は、定在音波の最大波長を制限する可能性がある。例えば、リソグラフィ装置が２ｋＨｚの放射パルス繰り返し率を有する場合、放射パルスと同期しながら定在音波がとることのできる最小周波数もまた２ｋＨｚである。音波の波長は、音速を音波の周波数で割ったものに等しい。この場合、放射パルスと同期可能な音波の最大波長は、３５０ｍｓ−１／２ｋＨｚ＝〜１７ｃｍである。典型的なリソグラフィ装置では、放射ビーム（または同等に放射導管）の直径は、約１０ｃｍである。従って、音波の最大波長は放射ビームの直径よりもかなり大きく、その結果、音波は、放射ビーム中において低次収差のための波面変更を提供することができる。
【００６７】
定在音波は、放射パルス繰り返し率と同じ周波数を有する必要はないが、その代わりに例えば放射パルス繰り返し率の倍数となる周波数を有してもよい。この場合、連続的な放射パルスは、定在音波における連続的な最大値には出合わないかもしれないが、その代わりに定在音波における一つおきの、二つおきの、またはｎ個おきの最大値に出合うであろう。これによりさらに、短波長の定在音波の使用を可能としながら、連続的な放射パルスが実質的に同じ圧力プロファイルを受けることができるようになる。定在音波の波長が短くなるほど、より多くの最大値を有する圧力プロファイルがもたらされる（最大値の数は、定在音波の波長により決まる）。
【００６８】
一実施形態では、定在音波は、放射パルス繰り返し率と等しくない周波数、または放射パルス繰り返し率の倍数ではない周波数を有していてもよい。この場合、連続的な放射パルスは、異なる振幅を有する定在音波の腹を受けてもよい。このようにして、時間的に変化する波面変更を放射ビームに適用できる。波面変更の時間変化は、音波の周波数と放射パルスの周波数との間の周波数ミスマッチにより決定される。
【００６９】
定在音波における高圧の腹間の分離距離は、定在音波を発生させるために用いられる音響エミッタにより放出される音波の波長を適切に選択することにより、選択され得る。所定の定在音波における高圧の腹の位置は、定在音波を発生させるために用いられる音響エミッタ間の相対位相を調整することにより、選択され得る。
【００７０】
特定の収差を補償するための放射ビーム波面の変更は、適切に位置付けられ且つ方向付けられた音響エミッタから放出された音波の波長（または周波数）および位相を適切に選択することを通じて達成され得る。
【００７１】
一実施形態では、放射パルスと音波の最大値との間の一対一対応を維持しながら、定在音波の波長を短くすることが望ましい。この場合、定在音波の波長の短縮を可能とするために、放射パルスの繰り返し率が増大されてよい。実際には、放射パルスの繰り返し率は固定されているか、または容易には変更できないリソグラフィ装置のパラメータに依存している可能性がある。このため、パルス繰り返し率を増大するよりも、定在音波の周波数をパルス繰り返し率の倍数に増大させる方が容易である。
【００７２】
波面変更装置の音響エミッタは、投影系ＰＬの瞳面（またはリソグラフィ装置の他の適切な部分の瞳面）に位置付けられてもよい。この場合、波面変更装置は、瞳面における放射ビームに変更を与え、その結果、瞳効果（pupil effect）をもたらす。波面変更装置は、例えば、収差オフセットを与えるために用いられてもよい。「収差オフセット」という用語は、フィールド面の像の至るところに等しく与えられる収差変更を意図している。波面変更は、従って、放射ビームの波面全体にわたって放射ビームの収差を低減または補正するために用いられてよい。例えば、波面変更装置により瞳面にデフォーカスが導入される場合、像の各ポイントからの放射が同じ瞳面を通過するので、像の全てのポイントが実質的に等しくデフォーカスされる。波面変更装置は、フィールド面の変更を放射ビームに導入することなく、瞳面における放射ビームの波面を変更できる。波面変更装置は、投影系ＰＬ（またはリソグラフィ装置の他の部分）により放射ビームに持ち込まれる不要な収差オフセットを低減または除去するために用いられてよい。
【００７３】
波面変更装置の音響エミッタは、投影系ＰＬのフィールド面（またはリソグラフィ装置の他の部分のフィールド面）に位置付けられてもよい。この場合、波面変更装置は、フィールド面の放射ビームに変更を与え、その結果、放射ビームにフィールド効果をもたらす。波面変更装置は、放射ビーム中の特定の空間的位置に存在する収差を低減または補正するために用いられてもよい。放射ビーム中の特定の空間的位置に存在する収差の低減または補正は、（さらに以下で説明されるように）ワイヤグリッドに基づく装置を用いて行うことができない。リソグラフィ装置の動作中にワイヤグリッドのワイヤがどうしても基板上に結像されるからである。
【００７４】
上述したように、瞳面に波面変更装置を位置付けることにより、放射ビーム全体にわたって同じ収差変更を与えることが可能となるのに対し、フィールド面に波面変更装置を位置付けることにより、放射ビーム中の特定の空間的位置で収差変更を与えることが可能となる。瞳面の第１波面変更装置およびフィールド面の第２波面変更装置という、２つの波面変更装置が設けられてもよい。これらにより、放射ビーム全体にわたって収差変更を行うことが可能となり、放射ビーム中の特定の空間的位置で収差変更を行うことが可能となる。
【００７５】
波面変更装置の音響エミッタは、投影系ＰＬ（またはリソグラフィ装置の他の部分）におけるフィールド面と瞳面の間に位置付けられてもよい。この場合、波面変更装置は、放射ビームの混合された瞳−フィールド変更（mixed pupil-field modification）を提供するであろう。
【００７６】
波面変更装置の音響エミッタは、リソグラフィ装置の光軸に実質的に垂直な面に設けられてもよい。この場合、図２に示す波面変更装置は、放射ビーム波面の二次元の変更を提供する。
【００７７】
図４に概略的に示されるように、波面変更装置２は、放射ビーム波面の三次元の変更を提供するよう構成されてもよい。図４に見られるように、波面変更装置の音響エミッタ１６ａ−ｄは、放射ビームの光軸ＯＡに垂直に音波を放出するように構成されていないが、その代わりに、非垂直方向で光軸と交差するよう音波を放出すべく構成されている。図４では、４つの音響エミッタ１６ａ−ｄが図示されているが、任意の適切な数の音響エミッタが設けられてよいことが理解されるであろう。２つの音響エミッタ１６ａ，ｃは、リソグラフィ装置の瞳面ＰＰ中または瞳面ＰＰに設けられており、２つの音響エミッタ１６ｂ，ｄは、リソグラフィ装置のフィールド面ＦＰ中またはフィールド面ＦＰに設けられている。波面変更装置２により発生された定在音波は、瞳面とフィールド面との間に延在しており、従って、混合された瞳−フィールド波面変更を放射ビームに与える。
【００７８】
図４に示す波面変更装置２は、例えば、リソグラフィ装置の投影系、リソグラフィ装置の照明系、および／またはリソグラフィ装置における他の任意の適切な位置に設けられてよい。図４の波面変更装置２は、瞳面ＰＰ中または瞳面ＰＰに音響エミッタ１６ａ，ｃを備え、フィールド面ＰＰ中またはフィールド面ＰＰに音響エミッタ１６ｂ、ｄを備えるが、加えてまたは代えて他の任意の適切な面に音響エミッタが設けられてもよい。
【００７９】
一つより多くの波面変更装置が一つのリソグラフィ装置に設けられてもよい。
【００８０】
波面変更装置は、他の波面変更装置に対して一つまたは複数の利点を提供する。他の波面変更装置の一つは、投影系のレンズ外周の周りに位置付けられたアクチュエータを備える。このアクチュエータは、レンズの形状および／または位置を変更し、それにより波面変更を与えるために用いられる。これらのアクチュエータの欠点は、それらがレンズの形状を変更する速度が比較的低いということである。さらなる欠点は、アクチュエータは、レンズ形状に限られた範囲の変更しか与えることができず、従って放射ビームに限られた範囲の波面変更しか与えることができないということである。
【００８１】
本発明の一実施形態は、アクチュエータで達成されるよりも大きい速度で放射ビームに波面変更を与えることができる。一対の音響エミッタから放出された音波がそれらの間の空間を横断して進むとすぐに、定在音波が確立される。一対の音響エミッタ（例えば図２の音響エミッタ６ａ，ｂ）間の間隔は、例えば、約１０ｃｍであってよい（これは、放射ビームの幅または放射導管の幅であってよい）。音響エミッタから放出された音波が音速、すなわち３５０ｍ／ｓで進むと仮定すると、音響エミッタから放出された音波は、約０．３ｍｓ内で放射導管を横断して進む。従って、所望の定在音波は、約０．３ｍｓ内で放射導管に確立される。放射導管がより大きな幅を有する場合、放射導管を横断するために音波はさらに移動する必要があるので、定在音波を確立するのかかる時間は長くなる。同様に、放射導管がより小さい幅を有する場合、定在音波を確立するのにかかる時間は短くなる。
【００８２】
加えてまたは代えて、波面変更装置は、定在音波を迅速に変更可能である。定在音波が変更される速度は、定在音波が確立される速度と同じである（それは、音速と音波が移動する距離に依存する）。定在音波の変更は、例えば、定在音波の節および腹の位置の調整を含む。この調整は、定在音波の発生に用いられる音響エミッタの相対位相を変更することにより行われる。
【００８３】
さらなる利点は、本発明の一実施形態は、アクチュエータの場合よりも広範囲の変更を放射ビームに与えることができるということである。例えば、本発明の一実施形態は、アクチュエータを用いた場合よりも高い空間分解能で放射ビームに変更を与えることができる。例えば、本発明の一実施形態は、（装置が瞳面中または瞳面に位置するとき）アクチュエータを用いて与えられる最も高い空間周波数よりも高い空間周波数を有する放射ビーム中の収差オフセットを低減または除去することができる。本発明の一実施形態は、（装置が瞳面から離れて位置するとき）放射ビーム中の空間位置の関数として変化する放射ビーム中のフィールド収差効果（field aberration effect）を低減または除去することができる。例えば、本発明の一実施形態は、アクチュエータを用いて与えることのできない速度で空間位置に対して変化する放射ビーム中のフィールド面収差を低減または除去することができる。例えば、本発明の一実施形態は、放射ビーム中の位相リップルを低減または除去することができる。本発明の一実施形態は、放射ビーム中の局所的なフィールド面収差（すなわち、断面視したときに放射ビームの一部分にのみ存在するフィールド面収差）を低減または除去することができる。アクチュエータを用いてこれを効果的に行うことはできないかもしれない。
【００８４】
別の波面変更装置は、ワイヤグリッドおよびガス冷却装置が設けられた透過板を備える。ワイヤグリッドは、透過板上の所望の位置の温度を変更し、それによって透過板により放射ビームに与えられる光学的効果を変更するために用いられる。この透過板およびワイヤグリッド構成により、アクチュエータを用いた場合よりも高い空間分解能で放射ビームに変更を与えることが可能となる。この透過板およびワイヤグリッド構成の欠点は、透過板が所望の温度に到達するのに時間を要するので、比較的遅いということである。さらなる欠点は、ワイヤグリッドのワイヤが放射ビームを遮断し、それ故にリソグラフィ装置のフィールド面またはフィールド面の近くに設けることができないことである（これは、ワイヤにより形成される影の基板上への結像を招く）。これらの欠点の一つまたは複数は、本発明の一実施形態により克服される。上述したように、本発明の一実施形態は、所望の定在音波を約０．３ｍｓで確立することができる。本発明の一実施形態はワイヤまたは他の構造をビーム中で用いないので、放射ビーム中に影を導くことはなく、従ってリソグラフィ装置のフィールド面で用いることができる。加えて、ワイヤまたは他の構造がビーム中で用いられていないので、本発明の一実施形態は、放射ビームの散乱により迷放射を生ずることがない。
【００８５】
本発明の一実施形態のさらなる利点は、ガス冷却を必要としないことであり、それにより、ガス冷却を提供するための比較的複雑な技術を避けられることである。さらなる利点は、リソグラフィ装置の投影系に適合させた透過板を設ける必要がないということである。これは、透過板をリソグラフィ装置の投影系に適合させることは、時間がかかるとともに高価であり、そしてそれらの透過板が他の任意のリソグラフィ装置で用いられることを避けられるので、かなりの利点である。本発明の一実施形態は、リソグラフィ装置にマッチングすることなく、リソグラフィ装置に適合させることができる。これにより、本発明の全く同じ実施形態を異なるリソグラフィ装置または他の装置に適合させることが可能となる。
【００８６】
本発明の一実施形態のさらなる利点は、波面変更装置がスイッチオフされたとき、（ワイヤグリッドおよび透過板の装置と異なり）放射ビームの波面に少しも変形を与えないということである。
【００８７】
本発明の一実施形態に係る波面変更装置は、放射ビームに十分速く波面変更を与えることができるので、基板Ｗ上へのパターンの走査露光の間に波面変更が変化する。例えば、走査露光間のパターニングデバイス加熱の像歪み効果を、この効果を中和する収差を導入することにより補償するように（または他の望ましくない効果を補償するように）、走査露光の間に変化する波面変更が放射ビームＰＢに与えられる。走査露光は、リソグラフィ装置により約４０ｍｓで行われ、走査露光間のパターニングデバイス加熱により生じる像歪みは約２０ｎｍである。これは、１ｍｓにつき約０．５ｎｍの変化に相当する。波面変更装置は、約０．３ｍｓ以内で定在音波を確立および／または変更できる。従って、波面変更装置は、走査露光間のパターニングデバイス加熱により生じる像歪みの補正を促進するのに十分なほど速い。
【００８８】
音響エミッタにより発生された音波は、リソグラフィ装置における投影系または他の部分の壁に伝搬する成分を含んでいる可能性がある。しかしながら、音波は、適度に速く減衰するはずなので、リソグラフィ装置にごく僅かな悪影響しか及ぼさない。かなりの悪影響が見られる場合、音波の伝搬を避けるまたは制限するために、リソグラフィ装置の適切な位置に吸収物質が配置されてもよい。例えば、音響エミッタの後ろに吸収物質が配置されてもよい。吸収物質は、全ての音響エミッタ（または実質的に全ての音響エミッタ）の後方に延在するリング状に設けられてもよい。
【００８９】
音響エミッタから放出された音波は、例えば、約１ｃｍの厚さを有する（本明細書において、「厚さ」という用語は、伝搬方向を横断する方向の音波のサイズを意図している）。約１ｃｍの厚さを有する定在音波を生成するために、約１ｃｍの厚さを有する一対の音波が用いられる。定在音波が１Ｐａの振幅を有する場合、これにより、１０ｎｍの収差補償を与えることが可能となる。言い換えると、定在音波の最大圧力腹を通過する放射ビームの一部が経験する経路長は、定在音波の節を通過する放射ビームの一部が経験する経路長よりも１０ｎｍ長い。振幅が大きくなるほど、より大きな収差効果が放射ビームに与えられることが理解されるであろう。同じように、定在音波が厚くなるほど、より大きな収差効果が放射ビームに与えられるであろう。
【００９０】
波面変更装置により生成される定在音波の厚さは、音響エミッタの構成および／またはサイズ並びに音波の波長に依存する。厚さは、波面変更装置を製造する際に、達成すべき所望の空間分解能に応じて選択されてよい。薄い音波は、それらは互いにオーバーラップしないように、および／またはそれらのオーバーラップが制御されるように、厚い音波よりもより正確に導かれる必要がある。下記において説明するように、厚い音波は、放射ビームに対する面外変更（out of plane modification）を生じさせる可能性がある。
【００９１】
定在音波がリソグラフィ装置の所望の面（例えば瞳面）に提供される一実施形態では、放射ビームに望ましくない面外変更を与えるほど十分大きいその面外の構成要素を定在音波が含まないように、定在音波の厚さを制限することが望ましい。定在音波の厚さを約１ｃｍまたはそれ未満に制限すれば、放射ビームに望ましくない面外変更を与える定在音波を避けるのに十分である。例えば、定在音波の厚さを約１ｃｍに制限した場合、瞳面の外側に大きな変更を与えることなく瞳面の放射ビームの変更を与えることが可能となる。約１ｃｍの厚さの定在音波は、投影系ＰＳの一つまたは複数の位置で与えられてよい（これは、投影系で用いられる光学素子の配置に依存する）。他の定在音波の厚さが適用されてもよい。瞳面ではない面に大きな影響をもたらすことなく瞳面で用いることのできる定在音波の最大厚は、投影系の構造に依存し、特に投影系における瞳面とフィールド面との間の距離に依存する。フィールド面ではない面に大きな影響をもたらすことなくフィールド面で用いることのできる定在音波の最大厚を決定する際にも、同様の考え方を適用できる。
【００９２】
上述したように、波面変更装置の音響エミッタは、制御部ＣＴにより制御されてもよい（図１参照）。制御部ＣＴは、一つまたは複数の測定された放射ビームの波面収差（例えば、基板テーブルＷＴに配置されたセンサを用いて測定された）をモニタするよう構成されてもよい。制御部ＣＴは、測定された放射ビームの波面収差を低減または除去する、波面変更装置により生成されるべき定在音波の構成を決定するよう構成されてもよい。制御部ＣＴは、測定された波面収差を受け取り、収差を補償するために付加的な位相が追加されるべき場所または波面から差し引かれるべき場所を決定する。制御部は、その後、音響エミッタを制御して、適切な追加の位相差を加えまたは差し引く圧力プロファイルを生成する。例えば、基板テーブルＷＴ中のセンサによりデフォーカスが測定される。制御部は、該デフォーカスを除去または低減する、波面変更装置により生成されるべき定在音波の構成を決定し、その後、該定在音波の構成を生成するよう選択された音響エミッタを動作させる。
【００９３】
測定された放射ビームの波面収差をモニタするよう構成されるのに代えてまたは加えて、制御部ＣＴは、一つまたは複数の予測された放射ビームの波面収差を受けるよう、生成するよう、またはメモリから読み出すよう構成されてもよい。波面収差の予測は、リソグラフィ装置のキャリブレーションの間に観測された波面収差に基づいてもよいし、例えば、時間ベースであってもよい（例えば、リソグラフィ装置の光学素子の経時的な加熱に起因して収差が生じる可能性がある）。制御部は、計算された又は予測された放射ビームの波面収差を低減または除去する、波面変更装置により生成されるべき定在音波の構成を決定するよう構成されてもよい。
【００９４】
所定の放射ビームの波面収差を低減または除去するために用いられる定在音波構成の決定は、例えば、記憶データを参照して制御部により行われてもよい。記憶データは、例えば、一つ又は複数の波面収差を低減または除去する定在音波構成を示すルックアップテーブル（または他のフォーマット）を含んでもよい。ルックアップテーブル（または他のデータフォーマット）に記憶された音波構成間の補間が行われてもよい。
【００９５】
本発明の態様は、任意の便利な形により実施され得る。例えば、本明細書に記載された方法を実行するためにコンピュータプログラムが提供されてもよい。このようなコンピュータプログラムは、適切なコンピュータ読み取り可能媒体で運ばれてよい。コンピュータ読み取り可能媒体という用語は、任意の適切な具体的な記憶装置（例えばディスク、ＲＯＭまたはＲＡＭ）を含む。本発明の態様は、適切にプログラムされたコンピュータを手段として実施され得る。コンピュータおよび／またはコンピュータプログラムは、例えば、制御部ＣＴに実装されてもよい。
【００９６】
波面変更装置は、リソグラフィ装置中に存在する空気（または他の気体）中で定在音波を生成するために用いられてもよい。一実施形態では、波面変更装置は、リソグラフィ装置中に存在する水（または他の液体）中で定在音波を発生させるために用いられてもよい。例えば、定在音波は、リソグラフィ装置の動作の間にリソグラフィ装置の投影系と基板との間に位置する浸液（液浸露光で用いられる）中で生成されてもよい。一実施形態では、波面変更装置は、リソグラフィ装置に存在する石英（または他の固体）中で定在音波を発生するために用いられてもよい。例えば、定在音波は、リソグラフィ装置の光学素子（例えばレンズ）中で生成されてもよい。
【００９７】
液体または固体中で生成される定在音波は、気体中で生成される定在音波と同じように放射ビームの波面を変更する。しかしながら、液体又は固体の高い屈折率は、放射ビームパルスの所定の繰り返し率用に生成され得る定在音波の最大波長が低減されることを意味する。液体又は固体は、波長が低減された定在音波が生成されるのを可能とし、（気体中で生成される定在音波と比較して）短波長の定在音波を生成することが望まれるときに用いられる。
【００９８】
一実施形態では、波面変更装置の一対の音響エミッタは、異なる周波数で音波を放出してもよい。この場合、それらが一緒に生成する音波は止まっておらず、その代わりに放出された音波の周波数間の差に依存するさまざまな位相を有する。音波は、従って、音響エミッタの一方に向かって進む。音波は、それ故に、定在音波よりむしろ、進行音波（travelling acoustic wave）として説明される。制御部ＣＴは、進行音波を放射源ＳＯによる放射パルスの生成に同期させ、放射パルスが波面変更装置を通過するときに、放射パルスが実質的に同じ圧力プロファイルを受けるようにしてもよい。進行音波は、このように、定在音波に関して上述したのと同じように放射ビームＰＢの波面を変更するために用いられる。
【００９９】
一実施形態では、進行音波を生成するために一対の音響エミッタを用いることに代えて又は加えて、進行音波を生成するために一つの音響エミッタが用いられてもよい。この場合、音響エミッタの向かい側に吸収体が設けられてよい。吸収体は、音響エミッタの方に戻る音波の反射を低減または除去するよう機能する。例えば、反射体８ａ−ｃを吸収体で置き換えて、図３に示すものと類似する構成を用いることができる。吸収体は、例えば吸収性材料を含むか、または例えば動作しない音響エミッタを含んでもよい。進行音波は、音響エミッタから離れると減衰する振幅を有する。これは、例えば放射ビームを横切って振幅が減衰する放射ビームの変更を与えることが望ましいときには、利点となる。制御部ＣＴは、放射源ＳＯによる放射パルスの精製に進行音波を同期させ、放射パルスが波面変更装置を通過する際に、放射パルスが実質的に同じ圧力プロファイルを受けるようにしてもよい。
【０１００】
本明細書に記載した音響エミッタは、コリメートされたまたは実質的にコリメートされた音波を放出可能な従来の音響エミッタであってもよい（例えば電磁音響トランスデューサが用いられてもよい）。
【０１０１】
本発明の特定の実施形態について説明したが、本発明は、説明した以外の方法でも実施可能であることは理解されるであろう。この説明は、本発明を限定することを意図するものではない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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