(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
単一の繊維からなるか又は繊維が撚り合わされてなる糸が周期的に配置されて構成された基材上に、ホログラム層を設けたホログラム媒体であって、
前記ホログラム層は、回折構造体と、該回折構造体上に形成された金属反射層とを備え、金属反射層が前記糸の伸びる方向に平行となるように周期的に配置され、少なくとも縦糸と横糸の一方に平行な方向において糸の周期ピッチと金属反射層のパターンのピッチが一致していることを特徴とするホログラム媒体。
【請求項２】
前記金属反射層の各パターンの幅は、糸の１周期の凹凸の凹部又は凸部の幅に一致するか、当該幅以下であることを特徴とする請求項１に記載のホログラム媒体。
【請求項３】
前記基材は縦糸と該縦糸に直交する横糸によって構成され、前記縦糸及び横糸のそれぞれのピッチと略同一のピッチで前記金属反射層が周期的に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のホログラム媒体。
【請求項４】
前記金属反射層のパターンの間に、高屈折率層が形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のホログラム媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、衣服等の繊維性素材にホログラムを貼り付けるための転写箔及びホログラム媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
エンボスホログラムの基本構造は、図９に示されているように、樹脂等からなる回折構造体１に金属反射層２を設けたものであり、回折構造体１側から回折された反射光を視認することにより、変化に富んだ画像表現が可能である。このようなエンボスホログラムを例えば転写箔のような形態で物品に貼り付けて用いることで、意匠性、偽造防止性の高い商品にすることができる。
【０００３】
ところで、衣料品のように、綿、麻等の天然繊維、ナイロン、セルロース等の化学繊維からなる布の表面にホログラムを設ける場合、当該の繊維の伸縮性が問題となっていた。
すなわち、プラスチック基材などの基材に設ける場合には、伸縮性が少ないために接着層を介して直接的に貼付してもホログラムは劣化しないが、布の表面に貼付すると、布の伸縮により、金属反射層が、そのストレスにより破壊され、ホログラムが白濁してしまう。特に図１０に示すように、ホログラムを転写箔から、被転写媒体上に転写する際に、繊維の縦糸と横糸の重なりによって生じる凹凸によってホログラムに矢印で示したようなストレスが掛かり、金属反射層が断裂してしまうという問題が生じる。
【０００４】
伸縮性のある素材に対応したホログラムとして、特許文献１は、布、合成皮革などの表面に、伸縮性の樹脂層を介してホログラムを設けることで、素材の変形を緩衝してホログラムの損傷を低減させている。しかしながら、伸縮性の樹脂層の緩衝は膜厚によっては一定程度の変形にしか対応できず、伸縮・変化が大きい場合には、やはり金属反射層が破壊されてしまうため十分ではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平９−３４３４２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで本願発明の課題は、布のように伸縮のある繊維性の基材上でも破壊されることのない転写箔及びこれを用いたホログラム媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために為された本願請求項１に係る発明は、単一の繊維からなるか又は繊維が撚り合わされてなる糸が周期的に配置されて構成された基材上に、ホログラム層を設けたホログラム媒体であって、
前記ホログラム層は、回折構造体と、該回折構造体上に形成された金属反射層とを備え、金属反射層が前記糸の伸びる方向に平行となるように周期的に配置され、少なくとも縦糸と横糸の一方に平行な方向において糸の周期ピッチと金属反射層のパターンのピッチが一致していることを特徴とするホログラム媒体である。
また本願請求項２に係る発明は、前記金属反射層の各パターンの幅は、糸の１周期の凹
凸の凹部又は凸部の幅に一致するか、当該幅以下であることを特徴とする請求項１に記載
のホログラム媒体である。
また本願請求項３に係る発明は、前記基材は縦糸と該縦糸に直交する横糸によって構成
され、前記縦糸及び横糸のそれぞれのピッチと略同一のピッチで前記金属反射層が周期的
に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のホログラム媒体である。
また本願請求項４に係る発明は、前記金属反射層のパターンの間に、高屈折率層が形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のホログラム媒体である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、ホログラム層の回折光を反射させる金属反射層が、布基材を構成する糸の周期に一致するパターンで構成されているので、布基材の変形によっても金属反射層が破断せず、ホログラムの損傷を低減させたホログラム媒体とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明に係る基材の例を示す模式図である。
【図２】本発明に係るホログラム層の構成例を示す断面模式図である。
【図３】本発明に係るホログラム媒体の例を示す模式図である。
【図４】本発明に係るホログラム媒体の例を示す模式図である。
【図５】本発明に係る基材の例を示す模式図である。
【図６】本発明に係るホログラム媒体の例を示す模式図である。
【図７】本発明の転写箔の構成例を示す断面模式図である。
【図８】本発明の転写箔の別の構成例を示す断面模式図である。
【図９】従来のホログラムの構成例を示す断面模式図である。
【図１０】従来のホログラムの構成例を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１（Ａ）、（Ｂ）は、本発明のホログラム媒体の基材を構成する基材の例を示す模式図である。周期的に配置された繊維からなる基材を用いることができる。以下、これを布基材と称する。一般的に布基材は、平織、綾織、朱子織等の織物である。繊維は、羊毛、蚕糸等の動物繊維、木綿、麻等の植物繊維、ポリアミド系、ポリビニルアルコール系、ポリエチレン系、ポリエステル系、セルロース等の合成・化学繊維が挙げられる。
【００１１】
図１（Ａ）は縦糸と横糸が交互に交差させた平織りの例である。各糸は一本の繊維からなっていても良いし、繊維を紡いだ集合体であっても良い。図１（Ｂ）は、図１（Ａ）の縦糸に平行な線での部分的な断面模式図である。このように、縦糸と、横糸の交差によって、凹凸が生じる。
【００１２】
図２は、本発明のホログラム媒体に用いるホログラムの構成例を示す断面模式図である。ホログラム層２００は、視認する側から、入射した光を回折させる回折構造層２０１、入射した光を反射する金属反射層２０２と、基材に貼着するための接着層２０４を備える。さらに、金属反射層パターン同士の間に回折構造層よりも屈折率の大きい高屈折率層２０３を設けることができる。金属反射層のパターンが形成されていない領域においても入射光を反射させてホログラムの輝度を向上させることができる。
【００１３】
図３（Ａ）、（Ｂ）は、布基材上に前述のホログラム層を接着層を介して貼着した本発明のホログラム媒体の構成例を示す。図３（Ａ）、（Ｂ）では、ホログラム層はいずれも金属反射層２０２のみ図示している。図３に示した構成では、布基材の縦糸と横糸の交差を基準としたピッチ（縦糸方向ｄ１、横糸方向ｄ２）と一致するように金属反射層パターンを形成している。図３（Ａ）では縦糸のライン上で横糸が上で交差する領域に金属反射層が来るように配置されている。すなわち、縦糸方向のピッチｄ１と金属反射層の縦糸に平行な方向のピッチを略同一とし、また横糸に平行な方向では、横糸のピッチｄ２と略同一となるように金属反射層が形成されている。図３の構成例では（Ｂ）に示すように、縦糸のラインで横糸上に金属反射層が配置されるようにピッチｄ１を縦糸と横糸の交差点を基準とする周期でとっているが、図４のように、糸の配置の間隔（ｄ３、ｄ４）を金属反射層のピッチに一致させても良い。なお金属反射層のピッチは布基材の寸法変化を考慮し、寸法変化率を超えない範囲で調整しても良い。
【００１４】
図３（ｂ）では、金属反射層２０２の一片が凹部（横糸が縦糸の上で交差している領域）の幅ｂ１と等しいか、それ以下の幅で形成されている。特に平織りのように凸部（横糸が縦糸の下で交差している領域）の幅ａ１と等しい場合には、図１０で示したように複数の凹部あるいは凸部に跨って金属反射層が形成されることがないため、糸の方向と金属反射層のパターンのピッチ方向を一致させれば、正確な位置合わせは要求されない。
【００１５】
また図５は、綾織りの場合の布基材の模式図である。綾織りように、縦糸と横糸の露出比が異なる場合、図６（Ａ）のように、縦糸の幅ａ２又は横糸の幅ｂ２に対応した金属反射層２０２パターンを形成しても良いし、（Ｂ）のように小さい幅（図ではｂ２）に合わせて金属反射層のパターンを形成しても良い。
【００１６】
次に、本発明の転写箔及びホログラム媒体の各構成並びにこれらの製造方法を、図７を参照しつつ説明する。
【００１７】
まず、支持体３０１上に回折構造層２０１を形成する。また、転写時に支持体からホログラム層２００を剥離するための剥離性保護層３０２を支持体層と回折構造層の間に設けることができる。
【００１８】
支持体３０１には樹脂フィルムやシートが使用され、その樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、耐熱ポリ塩化ビニル樹脂等でなるフィルムやシート等が挙げられる。
【００１９】
これらの樹脂の中で、耐熱性が高く厚みが安定していることから、ポリエチレンテレフタレート樹脂のシートやフィルムが多く使われ、１０〜５０μｍ程度の厚みが好ましい。また、これら樹脂シートやフィルムには、帯電防止処理、マット加工、エンボス処理、文字や絵柄の印刷、レーザーマーキング等の加工を施したフィルムも使用することができる。
【００２０】
剥離性保護層３０２は、ホログラム層２００を被転写体である布基材に転写し、支持体から剥離するものである。剥離性保護層としてのインキの主たる材料の例としては、アクリル系の樹脂が挙げられる。そのほか、塩化ゴム系樹脂及びニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、ポリスチレン、塩化ビニル、塩酢ビ系樹脂等が使用できる。さらには、メラミン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の使用も可能であり、シリコーン樹脂、パラフインワツクス、反応型フッ素樹脂等の使用も可能である。その厚さとしては０．５〜５．０μｍが好ましい。これらは剥離性保護層２として、支持体１上にグラビア印刷法やマイクログラビア法等、公知の塗布方法によって形成される。
【００２１】
回折構造層２０１の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂等が使用できる。例えば、熱可塑性樹脂では、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等が挙げられる。また、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加して架橋させたウレタン樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等が使用できる。また、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂としては、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）アクリレート等が使用でき、その厚さとしては０．５〜５．０μｍが好ましい。
【００２２】
支持体層３０１上に回折構造層２０１を形成した後、回折構造層に回折構造を形成する。回折構造を回折構造層にエンボス成形するには、回折構造のマスター版を回折構造層に重ね合わせ、９０〜１５０℃の条件にて加熱、加圧した後、冷却を行う。
【００２３】
次に、回折構造層２０１の回折構造を形成した面に金属反射層２０２を形成する。金属反射層にはアルミニウム、金、銀、銅及びこれらの金属を含む合金を使用することができる。金属反射層のパターンは、全面に形成した後、不要部をエッチングして形成しても良いし、マスクを介して金属層を形成することで金属層の積層とパターン化を同時に行っても良い。
【００２４】
次に金属反射層２０２上と、金属反射層間を含む回折構造２０１上に、高屈折率層２０３を形成する。高屈折率層の材料としては、酸化スズ、酸化チタン、酸化インジウムあるいは硫化亜鉛等を使用することができる。厚みとしては１０〜１００ｎｍが好ましい。
【００２５】
また、金属反射層間のスペースが小さい等の理由で高屈折率層が不要の場合には、ホログラム層の柔軟性を高めるための樹脂層を金属反射層間に形成しても良い。あるいは同様の目的で高屈折率上に樹脂層を設けても良い。樹脂層としては、回折構造層と同様の材料を用いることができる。
【００２６】
また、金属反射層２０２上に、金属反射層の破断を防ぐ補強層４０１を設けても良い。補強層としては、金属反射層と密着性が良い材料で、金属反射層と同程度か、それ以上の剛性を有する材料が好ましい。例えば、クロムめっき等の金属めっきや、酸化アルミニウム等の金属酸化膜が挙げられる。補強層は、図８に示すように、金属反射層と同じパターンに形成することが好ましい。
【００２７】
布基材にホログラム層を貼着するための接着層２０４には、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ゴム系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル酢酸共重合樹脂等の熱可塑性樹脂が使用できる。膜厚は１〜２０μｍが好ましい。
【００２８】
最後に被転写媒体である布基材を接着層２０４に加熱圧着して貼り付けると共に、支持体３０１及び剥離性保護層３０２を分離することで、ホログラム媒体を作製することができる。
【実施例】
【００２９】
＜布基材の準備＞
まずホログラム付き転写箔を転写する、繊維が周期的に配置された布基材を用意した。繊維はポリエステルサテンからなり、ＪＩＳ  Ｌ１０９６による布基材の寸法変化率は縦横いずれも１％である。布基材を光学？顕微鏡で観察し、縦糸と横糸のそれぞれの方向について、周期パターンの周期と凹凸の幅を測定した。測定結果は以下のようになった。
縦方向：０．７ｍｍの縦糸露出部分（凸部）と０．５ｍｍの横糸露出部分（凹部）の繰り返し（縦方向周期  １．２ｍｍ）
横方向：０．１ｍｍの縦糸露出部分（凸部）と０．１ｍｍの横糸露出部分（凹部）の繰り返し（縦方向周期  ０．２ｍｍ）
【００３０】
＜実施例１＞
厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる透明な支持体の片面に、剥離性保護層を下記の配合比からなる組成物をグラビア印刷法により、塗布膜厚１．０μｍ、乾燥温度１１０℃で塗布することで形成した。
（剥離性保護層組成物）
アクリル樹脂                              ２０部
エタノール                                ４０部
水                                        ２０部
【００３１】
次に回折構造層として、下記の配合比からなる組成物をグラビア印刷法により塗布膜厚１μｍ、乾燥温度１１０℃で塗布し、その後、ロールエンボス法により回折構造を形成した。
（回折構造層組成物）
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体とウレタン樹脂との混合物  ２５部
メチルエチルケトン                                      ７０部
トルエン                                                ３０部
【００３２】
次に金属反射層として、膜厚８０ｎｍのアルミニウム薄膜を真空蒸着法により回折構造層上に形成した。その後、蒸着したアルミニウム層をレジストパターンでマスクし、不溶部をエッチングすることにより、以下のような金属反射層のパターンを形成した。
縦方向：０．７ｍｍの金属反射層と０．５ｍｍの除去部分（縦方向周期  １．２ｍｍ）
横方向：０．１ｍｍの金属反射層と０．１ｍｍの除去部分（横方向周期  ０．２ｍｍ）
【００３３】
次に高屈折率層として、金属反射層を形成した回折構造層面上に、膜厚８０ｎｍのＺｎＳ薄膜を真空蒸着法により形成した。
【００３４】
次に接着層として、下記の配合比からなる組成物をグラビア印刷法によって、塗布膜厚４．０μｍで塗布し、乾燥温度１１０℃で乾燥させて形成した。
（接着層組成物）
ポリエステル樹脂                          ３０部
トルエン                                  ５０部
メチルエチルケトン                        ５０部
以上の工程で、ホログラム層付き転写箔を作成した。
【００３５】
最後に上記ホログラム層付き転写箔を、布基材の方向と、金属反射層のパターンの方向が一致するようにして布基材に転写し、ホログラム媒体とした。
【００３６】
（比較例１）
上記工程のうち、金属反射層のパターニングを行わなかったこと以外は同様の工程で、ホログラム媒体を作成した。
【００３７】
（比較結果）
実施例１、比較例１のホログラム媒体を、それぞれ光学？顕微鏡で観察した。比較例１のホログラム媒体では、金属反射層の破断が数ｍｍ２ごとに見られたのに対し、実施例１のホログラム媒体では金属反射層の破断はほとんど確認されなかった。また、ホログラムの視認性も、比較例１ではホログラム層が白濁していたのに対し、実施例１ではホログラム層の絵柄が鮮明に視認できた。
【符号の説明】
【００３８】
１・・・回折構造層
２・・・金属反射層
３・・・被転写媒体（布）
１０１・・布基材
２０１・・回折構造層
２０２・・金属反射層
２０３・・高屈折率層
２０４・・接着層
３０１・・支持体
３０２・・剥離性保護層
４０１・・補強層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
0005648457.tif 000006
【図６】
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【図７】
0005648457.tif 000008
【図８】
0005648457.tif 000009
【図９】
0005648457.tif 000010
【図１０】
0005648457.tif 000011