(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層を挟持して対向配置された一対の基板が光照射によって硬化されるシール材を介して貼着された液晶セルを備え、
前記一対の基板は、マトリクス状に形成された複数のスイッチング素子と複数の画素電極とを備えた素子基板と、前記素子基板よりも視認側に配置された対向基板とを備え、
前記対向基板の前記液晶層側の内面に、隣接する画素間を遮光する画素間遮光層が形成され、前記対向基板の外面に、前記画素間遮光層と異なる遮光パターンを有する視差バリア層が形成された液晶表示装置であって、
前記画素間遮光層は前記シール材の形成領域の少なくとも一部には形成されておらず、
前記シール材の形成領域に配置される前記画素間遮光層には、前記シール材との前記画素間遮光層の重なり幅を前記対向基板の外面側からの光照射によって前記シール材が十分に硬化できる程度の幅以下とする開口部が形成されており、
前記視差バリア層が、前記シール材の形成領域において前記画素間遮光層が形成されていない領域を全て覆う外部遮光層を兼ねた液晶表示装置。
【請求項２】
液晶層を挟持して対向配置された一対の基板が光照射によって硬化されるシール材を介して貼着された液晶セルを備え、
前記一対の基板は、マトリクス状に形成された複数のスイッチング素子と複数の画素電極とを備えた素子基板と、前記素子基板よりも視認側に配置された対向基板とを備え、
前記素子基板の前記液晶層側の内面に、隣接する画素間を遮光する画素間遮光層が形成され、前記対向基板の外面に、前記画素間遮光層と異なる遮光パターンを有する視差バリア層が形成された液晶表示装置であって、
前記画素間遮光層は前記シール材の形成領域の少なくとも一部には形成されておらず、
前記シール材の形成領域に配置される前記画素間遮光層には、前記シール材との前記画素間遮光層の重なり幅を前記対向基板の外面側からの光照射によって前記シール材が十分に硬化できる程度の幅以下とする開口部が形成されており、
前記視差バリア層が、前記シール材の形成領域において前記画素間遮光層が形成されていない領域を全て覆う外部遮光層を兼ねた液晶表示装置。
【請求項３】
液晶層を挟持して対向配置された一対の基板が光照射によって硬化されるシール材を介して貼着された液晶セルを備え、
前記一対の基板は、マトリクス状に形成された複数のスイッチング素子と複数の画素電極とを備えた素子基板と、前記素子基板よりも視認側に配置された対向基板とを備え、
前記素子基板の前記液晶層側の内面に、隣接する画素間を遮光する画素間遮光層の一部が形成され、前記対向基板の外面に、前記画素間遮光層と異なる遮光パターンを有する視差バリア層が形成された液晶表示装置であって、
前記画素間遮光層は前記シール材の形成領域の少なくとも一部には形成されておらず、
前記シール材の形成領域に配置される前記画素間遮光層には、前記シール材との前記画素間遮光層の重なり幅を前記対向基板の外面側からの光照射によって前記シール材が十分に硬化できる程度の幅以下とする開口部が形成されており、
前記視差バリア層が、前記シール材の形成領域において前記画素間遮光層が形成されていない領域を全て覆う外部遮光層を兼ねており、
前記視差バリア層が前記画素間遮光層の一部を兼ねた液晶表示装置。
【請求項４】
前記スイッチング素子が薄膜トランジスタであり、
前記素子基板に形成された前記画素間遮光層の一部がソース配線側の画素間を遮光し、
前記外部遮光層が兼ねた前記視差バリア層の一部がゲート配線側の画素間を遮光する請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記素子基板に形成された前記画素間遮光層の一部が、ゲート配線と略平行に配置されたコモン配線を分岐して、ソース配線下及び画素電極に一部掛かる領域まで延設したコモン配線枝部である請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記一対の基板の貼合わせの位置合わせのためのアライメントマークが、前記視差バリア層に設けられた開口部、若しくは、前記一対の基板のうち一方の基板に形成されたカラーフィルタにカラー表示用の色材層とは別に設けられた色材部である請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶層を挟持して対向配置された一対の基板がシール材を介して貼着された液晶セルを備えた液晶表示装置とその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）として、画素スイッチング素子として薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリックス型の液晶表示装置が広く用いられている。
ＴＦＴ-ＬＣＤは、マトリックス状に形成された複数の画素電極と複数のＴＦＴ等が形成されたＴＦＴ基板（素子基板）と、カラーフィルタ（色材層、ＣＦ）、遮光層（ＢＭ）、及び共通電極等が形成されたＣＦ基板とが、液晶層を挟持して対向配置された液晶セルを基本構成としている。通常、ＴＦＴ-ＬＣＤでは、ＣＦ基板が視認側に配置される。
【０００３】
近年、１つのＬＣＤにおいて視覚方向の異なる方向に同時に異なる画像を表示することが可能なＬＣＤの開発が進んでいる。
上記ＬＣＤとしては、左方と右方に異なる画像を表示する左右２画面ＬＣＤ、左方と右方に表示する画像をわずかにずらして３次元表示を行う３Ｄ-ＬＣＤなどがある。
視覚方向の異なる方向に同時に異なる画像を表示する方式としては、レンチキュラレンズを用いる方式、及び視差バリア層を用いる方式などが提案されている。
【０００４】
視差バリア方式のＬＣＤは、特許文献１〜３等に開示されている。
左方と右方に異なる表示を行うことが可能な２画面ＬＣＤあるいは３Ｄ-ＬＣＤを例として、視差バリア方式について説明する。
【０００５】
左方と右方に異なる表示を行う視差バリア方式では、マトリックス状に配置された複数の画素は、左視野用のデータを表示する画素と、右視野用のデータを表示する画素とに振り分けられる。また、ＣＦ基板に形成された隣接する画素間を遮光する遮光層（ＣＦ-ＢＭ）から所定間隔離間し、かつ、ＣＦ-ＢＭの遮光部とは平面視位置が異なる遮光部を有する視差バリア層が設けられる。
【０００６】
ＣＦ-ＢＭの開口部を透過した光のうち正面方向に進む光は視差バリア層によって遮光され、斜め方向（左方向及び右方向）に進む光のみが視差バリア層を透過して、視認される。
左視野用のデータを表示する画素からの表示は左方にのみ出射され、右視野用のデータを表示する画素からの表示は右方にのみ出射されるよう、画素電極とＣＦ-ＢＭと視差バリア層のパターンやこれらの離間距離が設計される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開2007-072476号公報
【特許文献２】特開2008-089630号公報
【特許文献３】国際公開第2007/007552号
【特許文献４】特開2002-229008号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
視差バリア方式のＬＣＤでは、視差を確保するために、ＣＦ-ＢＭと視差バリア層とはある程度離間している必要がある。
そのため、視差バリア方式のＬＣＤでは通常、隣接する画素間を遮光するＣＦ-ＢＭはＣＦ基板の内面（液晶層側の面）に形成され、視差バリア層はＣＦ基板の外面（液晶層側と反対側の面）に形成される。
【０００９】
ＣＦ基板の内面に形成されるＣＦ-ＢＭについては、これが液晶を封止するシール材の形成領域に存在すると、液晶注入法の一つであるＯＤＦ（One Drop Filling）法においてシール材の光硬化処理の際の光（通常ＵＶ光）照射の妨げとなる。そのため、ＴＦＴ基板側からシール材硬化のための光照射を行う必要がある。多数の配線等が形成されたＴＦＴ基板側からの光照射では、ＴＦＴ基板に形成された配線等によって、シール材への光照射が妨げられる恐れがある。
また、ＣＦ-ＢＭとして樹脂材料を用いる場合、これが液晶を封止するシール材の形成領域に存在すると、シール材の密着力低下、及びこれによる水分の液晶セル内侵入あるいは液晶漏れなどの信頼性低下の原因となる恐れがある。
【００１０】
以上の理由から、ＣＦ-ＢＭは、シール材の形成領域が部分的に除去されることが好ましい。しかしながら、単にＣＦ-ＢＭのシール材の形成領域を除くだけでは、周辺額縁領域からの光漏れの問題が発生してしまう。
【００１１】
上記ＯＤＦ法の問題を避けて、別の液晶注入法である真空注入法を用いた場合、基板貼合わせ後に液晶注入が実施される。ＬＣＤは低コスト製造のため、通常、大判のマザー基板を用いて多数の液晶セルを一括製造する。そのため、内面に電極等の必要な要素が形成された一対のマザー基板を貼り合わせ、マザーＣＦ基板を研磨あるいはエッチングにより薄板化し、その外面に視差バリア層を形成し、個々の液晶セルに分割切断し、液晶注入を実施している。視差バリア層の形成は、遮光膜の成膜とパターニングが必要であり、これらの工程は個々の液晶セルに分割切断された後では実施が困難であり、効率も悪いことから、大判のマザー基板の状態で実施する必要がある。そのため、視差バリア方式のＬＣＤでは、少なくともマザー基板の分割前、即ち、マザー基板の分割後に行われる液晶注入前にマザーＣＦ基板の薄板化と視差バリア層の形成を実施しなければならない。
【００１２】
上記方法では、液晶注入時のＣＦ基板が薄いため、ＣＦ基板（通常ガラス基板）の割れ防止として、液晶注入時にＣＦ基板に保護ガラス等の保護材を取り付けている。この保護材は液晶注入後に取外しが必要である。そのため、製品には直接使われない保護材の部材コストが余分にかかり、保護材の取付け・取外しによる工程数が増加して、製造コストが高くついてしまう。
視差バリア方式のＬＣＤ（２画面ＬＣＤあるいは３Ｄ-ＬＣＤ）では、ＣＦ基板に視差バリア層を形成する分、一般的な１画面２Ｄ-ＬＣＤに比べて製造工程が多く、製造コストが高いため、それ以上の製造コスト増は好ましくない。
ＯＤＦ法では、液晶注入後にマザーＣＦ基板の薄板化と視差バリア層の形成が可能なため、液晶注入時の保護材は必要なく、低コストである。
【００１３】
視認側の基板がＴＦＴ基板である場合もある。この場合にも、通常ＴＦＴ基板の外面に視差バリア層が設けられる。この場合も事情は上記と同様である。
【００１４】
特許文献３には、視差バリア層のシール材の形成領域における剥離を抑制するために、シール材の形成領域に視差バリア層を形成しないようにした表示装置が開示されている（請求項１、図１等）。しかしながら、特許文献３には、ＣＦ-ＢＭのシール材の形成領域における課題及び解決については記載がない。
【００１５】
特許文献４には、ＣＦ-ＢＭのシール材の形成領域に開口部を設け、その対応する位置に外部遮光膜を設けた構造が記載されている（図９等）。しかしながら、特許文献４では、視差バリア方式のＬＣＤへの適用については記載がなく、一般のＬＣＤにおいて外部遮光膜を設けることはコスト増になると記載されている（段落０００８−０００９）。
【００１６】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、周辺額縁領域からの光漏れが抑制され、シール材の密着性が良好で信頼性が良好であり、低コスト製造が可能な視差バリア方式の液晶表示装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の第１の液晶表示装置は、
液晶層を挟持して対向配置された一対の基板がシール材を介して貼着された液晶セルを備え、
前記一対の基板のうち一方の基板の前記液晶層側の内面に、隣接する画素間を遮光する画素間遮光層が形成され、前記一対の基板のうち視認側の基板の外面に、前記画素間遮光層と異なる遮光パターンを有する視差バリア層が形成された液晶表示装置であって、
前記画素間遮光層は前記シール材の形成領域の少なくとも一部には形成されておらず、
前記視差バリア層が、前記シール材の形成領域において前記画素間遮光層が形成されていない領域を覆う外部遮光層を兼ねたものである。
【００１８】
本発明の第１の液晶表示装置の好ましい態様としては、
前記一対の基板のうち一方がマトリックス状に形成された複数の画素電極と複数の画素スイッチング素子とを備えた素子基板であり、他方が前記画素間遮光層を備えた対向基板である態様が挙げられる。
【００１９】
本発明の第１の液晶表示装置の他の好ましい態様としては、
前記一対の基板のうち一方が、マトリックス状に形成された複数の画素電極と複数の画素スイッチング素子と前記画素間遮光層とを備えた素子基板である態様が挙げられる。
【００２０】
本発明の第１の液晶表示装置の他の好ましい態様としては、
前記一対の基板のうち一方が、マトリックス状に形成された複数の画素電極と複数の画素スイッチング素子とを備えた素子基板であり、
前記素子基板に前記画素間遮光層の一部が形成され、前記視差バリア層が前記画素間遮光層の一部を兼ねた態様が挙げられる。
【００２１】
上記態様としては、
前記画素スイッチング素子が薄膜トランジスタであり、
前記素子基板に形成された前記画素間遮光層の一部がソース配線側の画素間を遮光し、
前記外部遮光層が兼ねた前記画素間遮光層の一部がゲート配線側の画素間を遮光する態様が挙げられる。
【００２２】
上記態様としては、
前記素子基板に形成された前記画素間遮光層の一部が、ゲート配線と略平行に配置されたコモン配線を分岐して、ソース配線下及び画素電極に一部掛かる領域まで延設したコモン配線枝部である態様が挙げられる。
【００２３】
本発明の第２の液晶表示装置は、
液晶層を挟持して対向配置された一対の基板がシール材を介して貼着された液晶セルを備え、
前記一対の基板のうち一方の基板の前記液晶層側の内面に、隣接する画素間を遮光する画素間遮光層が形成され、前記一対の基板のうち一方の基板の内面に、前記画素間遮光層と異なる遮光パターンを有する視差バリア層が形成された液晶表示装置であって、
前記画素間遮光層及び前記視差バリア層は前記シール材の形成領域の少なくとも一部には形成されておらず、
前記液晶セルの視認側の外面に、前記シール材の形成領域において前記画素間遮光層及び前記視差バリア層がいずれも形成されていない領域を覆う外部遮光層が形成されたものである。
【００２４】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記の本発明の液晶表示装置の製造方法であって、
前記外部遮光層を形成する前の前記一対の基板に対して、ＯＤＦ（One Drop Filling）法による液晶注入と基板貼合わせとを実施する工程後に、前記外部遮光層を形成する工程を有するものである。
ここで言う「基板貼合わせ」には、１個の液晶セルが形成される一対の基板だけでなく、複数の液晶セルが一括形成される一対のマザー基板の貼合わせも含まれるものとする。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、周辺額縁領域からの光漏れが抑制され、シール材の密着性が良好で信頼性が良好であり、低コスト製造が可能な視差バリア方式の液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】第１実施形態のＬＣＤの要部分解斜視図である。
【図２】第１実施形態のＬＣＤの全体平面図（透視図）である。
【図３】第１実施形態のＬＣＤの表示領域の要部断面図である。
【図４】第１実施形態のＬＣＤのシール材及びその近傍の要部断面図である。
【図５Ａ】第１実施形態のＬＣＤの製造方法を示す工程図である。
【図５Ｂ】第１実施形態のＬＣＤの製造方法を示す工程図である。
【図６Ａ】第２実施形態のＬＣＤのシール材及びその近傍の要部断面図である。
【図６Ｂ】第２実施形態のＬＣＤの表示領域の要部平面図（透視図）である。
【図６Ｃ】図６Ａの変更例である。
【図７】第３実施形態のＬＣＤのシール材及びその近傍の要部断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
「第１実施形態」
図面を参照して、本発明に係る第１実施形態の視差バリア方式の液晶表示装置（ＬＣＤ）について説明する。
本実施形態は、左方と右方に異なる画像を表示する左右２画面ＬＣＤ、左方と右方に表示する画像をわずかにずらして３次元表示を行う３Ｄ-ＬＣＤとして利用できるものである。
本実施形態では、縦電界駆動方式の透過型ＴＦＴ-ＬＣＤを例として、説明する。
【００２８】
図１は本実施形態のＬＣＤの要部分解斜視図である。図２は本実施形態のＬＣＤの全体平面図（透視図）である。図３は本実施形態のＬＣＤの表示領域の要部断面図である。図４は本実施形態のＬＣＤのシール材及びその近傍の要部断面図（図２のＩＶ-ＩＶ断面図）である。
視認しやすくするため、各構成要素の縮尺や位置等は適宜実際のものとは異ならせてあり、一部の構成要素の図示を省略してある。断面図においては適宜ハッチングを省略してある。
【００２９】
図１に示すように、本実施形態のＬＣＤ１は、光源及び導光板等からなるバックライト（ＢＬ）１０１を備えた透過型ＬＣＤである。図３に示すように、液晶セル１Ａは、マトリックス状に配置された複数の画素ＰＬ、ＰＲを有している。
【００３０】
図１及び図３に示すように、液晶セル１Ａは、ＢＬ１０１側のＴＦＴ基板（素子基板）１０４と、視認側のＣＦ基板（対向基板）１０６と、これら一対の基板間に挟持された液晶層１０５とを備えている。図２に示すように、ＴＦＴ基板１０４とＣＦ基板１０６とは、これら基板間の周縁部に塗布されたシール材１０９を介して貼着されており、シール材１０９の内側に液晶層１０５が封入されている。
【００３１】
ＴＦＴ基板１０４は、ガラス基板等の透光性基板の内面（液晶層側の面）に画素毎に画素電極１１４（図１〜図４では省略）及び画素スイッチング素子としてのＴＦＴ１１５（Thin Film Transistor、図１〜図４では省略）が形成され、さらに画素毎に駆動するために複数のゲート配線（走査信号配線）１１１（図１〜図４では省略）と複数のソース配線（表示信号配線）１１２とからなる複数の信号配線及び複数の信号配線に接続された複数の引出配線（図示略）等が形成され、液晶層１０５側の最表面に配向膜（図示略）が形成された基板である。
ソース配線１１２については、図３及び図６Ｂを参照されたい。画素電極１１４、ＴＦＴ１１５、及びゲート配線１１１については、図６Ｂを参照されたい。
【００３２】
図３に示すように、ＣＦ基板１０６は、ガラス基板等の透光性基板の内面（液晶層側の面）に、共通電極（図示略）と、赤（Ｒ）／緑（Ｇ）／青（Ｂ）のカラーフィルタ（色材層、ＣＦ、図示略）と、隣接する画素間を遮光する画素間遮光層（ＣＦ-ＢＭ）１０７とが形成され、液晶層１０５側の最表面に配向膜（図示略）が形成された基板である。
ＣＦ基板１０６において、ＣＦ-ＢＭ１０７の互いに隣接した遮光部１０７Ａの間が画素開口部１０７Ｂとなっている。
ＣＦ基板１０６の外面（液晶層１０５と反対側の面、視認側の面）には、ＣＦ-ＢＭ１０７と異なる遮光パターンを有する視差バリア層１０８が設けられている。視差バリア層１０８は、遮光部１０８Ａと開口部１０８Ｂとを有している。
【００３３】
図３に示すように、液晶セル１Ａにおいて、マトリックス状に配置された複数の画素は、表示画面に対して左視野用のデータを表示する画素ＰＬと、表示画面に対して右視野用のデータを表示する画素ＰＲとに振り分けられている。
本実施形態において、断面視、左視野用の画素ＰＬと右視野用の画素ＰＲとが交互に配置されている。
左視野用の画素ＰＬと右視野用の画素ＰＲとの平面パターンは特に制限されない。例えば、平面視、ライン状に一列に配置された複数の左視野用の画素ＰＬからなるライン状の左視野用画素群と、ライン状に一列に配置された複数の右視野用の画素ＰＲからなるライン状の右視野用画素群とが、ストライプ状に交互に配置される。
【００３４】
視差バリア層１０８は、ＬＣＤ１をなす個々の画素ＰＬ、ＰＲからの表示データがそれぞれ特定の角度範囲の視野領域に選択的に出射されるよう調整し、異なる角度範囲の複数の視野領域に異なる表示画像を表示するよう調整するものである。
ＬＣＤ１において、ＣＦ-ＢＭ１０７に形成された画素開口部１０７Ｂと、視差バリア層１０８の開口部１０８Ｂとは、開口位置がずれている。具体的には、互いに隣接した左視野用の画素ＰＬの画素開口部１０７Ｂと右視野用の画素ＰＲの画素開口部１０７Ｂとの間に、視差バリア層１０８の開口部１０８Ｂが位置している。
【００３５】
ＬＣＤ１では、左視野用の画素ＰＬからの表示データは、左視野用の画素ＰＬの画素開口部１０７Ｂ及び視差バリア層１０８の開口部１０８Ｂを通って、表示画面に対して左方に選択的に出射される。これによって、表示画面に対して左方にいる観察者に、左視野用の表示画像ＩＬが観察される。例えば正面から左方に２０〜５０°程度視角を振った範囲に表示画像ＩＬが観察される。
同様に、右視野用の画素ＰＲからの表示データは、右視野用の画素ＰＲの画素開口部１０７Ｂ及び視差バリア層１０８の開口部１０８Ｂを通って、表示画面に対して右方に選択的に出射される。これによって、表示画面に対して右方にいる観察者に、右視野用の表示画像ＩＲが観察される。例えば正面から右方に２０〜５０°程度視角を振った範囲に表示画像ＩＲが観察される。
【００３６】
ＬＣＤ１では、上記のように左視野用の画素ＰＬからの表示データと右視野用の画素ＰＲからの表示データとが角度分離されて出射されるよう、画素電極１１４とＣＦ-ＢＭ１０７と視差バリア層１０８のパターンやこれらの離間距離が設計されている。
【００３７】
本実施形態において、図１に示すように、視差バリア層１０８は、ドット市松状に複数の開口部１０８Ｂが形成され、その他の領域が遮光部１０８Ａである平面パターンを有している。
視差バリア層１０８の平面パターンは上記例に限らず、表示画面に対して左方にいる観察者に左視野用の表示画像ＩＬが観察され、表示画面に対して右方にいる観察者に右視野用の表示画像ＩＲが観察されるよう、遮光部１０８Ａと開口部１０８Ｂとのパターンが設計されたものであればよい。
具体的には、互いに隣接した左視野用の画素ＰＬの画素開口部１０７Ｂと右視野用の画素ＰＲの画素開口部１０７Ｂとの間に、視差バリア層１０８の開口部１０８Ｂが位置していればよい。例えば、視差バリア層１０８は、ストライプ状に複数の開口部１０８Ｂが形成され、その他の領域が遮光部１０８Ａであるパターンを有していてもよい。
【００３８】
図１に示すように、本実施形態のＬＣＤ１はさらに、ＢＬ１０１と液晶セル１Ａとの間に、偏光子１０２ａと視野角を広げるように補償する視野角補償フィルム（Wide Viewing(ＷＶ)フィルム）１０３ａとを順次備えている。
本実施形態のＬＣＤ１はまた、液晶セル１Ａの視認側に、液晶セル１Ａ側から、視野角を広げるように補償する視野角補償フィルム（Wide Viewing(ＷＶ)フィルム、位相差補償素子）１０３ｂと偏光子１０２ｂとを順次備えている。
【００３９】
図４に示すように、本実施形態のＬＣＤ１において、ＣＦ-ＢＭ１０７及び視差バリア層１０８はシール材１０９内部のみならず、シール材１０９外部まで形成されている。
ここで、シール材１０９の形成領域とその外部、及びシール材１０９内部のシール材１０９近傍部分は表示が行われない非表示領域（周辺額縁領域）である。
本実施形態において、ＣＦ-ＢＭ１０７はシール材１０９の形成領域の少なくとも一部には形成されておらず、液晶セル１Ａの視認側の外面に形成された視差バリア層１０８の一部が、シール材１０９の形成領域においてＣＦ-ＢＭ１０７が形成されていない領域を覆う外部遮光層となっている。
本実施形態では、視差バリア層１０８が外部遮光層を兼ねているので、特許文献４の図９のように別途外部遮光層を設ける必要がなく、コスト増とならなない。
【００４０】
本実施形態のＬＣＤ１においては、ＣＦ基板１０６の内面に形成された画素間遮光層であるＣＦ-ＢＭ１０７はシール材１０９の形成領域の少なくとも一部には形成されていないので、液晶注入法の一つであるＯＤＦ（One Drop Filling）法においてシール材１０９の光硬化処理の際の光（通常ＵＶ光）照射を妨げない。ＯＤＦ法は、真空注入法に比べて低コストな製造方法である。
従来のＬＣＤでは、周辺額縁領域からの光漏れを防ぐためにシール材の形成領域にＣＦ-ＢＭを設けているため、ＯＤＦ法を用いる場合にはＴＦＴ基板側からシール材硬化のための光照射を行う必要がある。多数の配線等が形成されたＴＦＴ基板側からの光照射では、ＴＦＴ基板に形成された配線等によって、シール材への光照射が妨げられる恐れがあり、シール材の硬化が容易ではない。
本実施形態では、ＣＦ基板１０６側からシール材１０９硬化のための光照射を行うことができるので、ＯＤＦ法においてシール材１０９の硬化を容易に実施できる。
【００４１】
また、従来のＬＣＤにおいてＣＦ-ＢＭとして樹脂材料を用いる場合、これがシール材の形成領域に存在すると、シール材の密着力低下、及びこれによる水分の液晶セル内侵入あるいは液晶漏れなどの信頼性低下の原因となる恐れがある。
本実施形態のＬＣＤ１においては、ＣＦ基板１０６の内面に形成された画素間遮光層であるＣＦ-ＢＭ１０７はシール材１０９の形成領域の少なくとも一部には形成されていないので、ＣＦ-ＢＭとして樹脂材料を用いる場合においても、シール材１０９の密着性が良好となる。
そのため、ＣＦ-ＢＭとして樹脂材料を用いる場合においても、シール材の密着性低下による液晶セル内への水分侵入及び液晶漏れが抑制され、信頼性が良好となる。
【００４２】
従来のＬＣＤにおいて、単にＣＦ-ＢＭのシール材の形成領域を除くだけでは、周辺額縁領域からの光漏れの問題が発生してしまう。
本実施形態では、液晶セル１Ａの視認側の外面に形成された視差バリア層１０８の一部が、シール材１０９の形成領域においてＣＦ-ＢＭ１０７が形成されていない領域を覆う外部遮光層となっているので、周辺額縁領域からの光漏れが抑制される。
【００４３】
上記したように、本実施形態においてＣＦ基板１０６の内面に形成された画素間遮光層であるＣＦ-ＢＭ１０７はシール材１０９の形成領域の少なくとも一部には形成されていない。
ＣＦ-ＢＭ１０７はシール材１０９の形成領域に１つの開口部を有していてもよいし、複数の開口部を有していてもよいし、多数の開口部を有するメッシュ状でもよい。
いずれにせよ、シール材１０９の形成領域におけるＣＦ-ＢＭ１０７の開口幅（複数の開口部を有する場合は合計開口幅）は、ＣＦ基板１０６側からの光照射によってシール材１０９が充分に硬化できる範囲であればよい。未硬化のシール材が残った場合には、未硬化のシール材が液晶層１０５に混入する恐れがあり、好ましくない。
具体的には、シール材１０９の幅が０．７ｍｍの場合、ＣＦ-ＢＭ１０７とシール材１０９との重なり幅（複数の開口部を有する場合は合計の重なり幅）は１５０μｍ以下であることが好ましい。この程度の重なり幅であれば、照射光（通常ＵＶ光）の周り込みも含めてＣＦ-ＢＭ１０７下のシール材１０９に対しても実用的な光照射処理時間でシール材１０９全体を良好に硬化することが可能である。
【００４４】
本実施形態では、シール材１０９外部にＣＦ-ＢＭ１０７が形成されているが、シール材１０９外部にはＣＦ-ＢＭ１０７を形成せず、周辺額縁領域からの光漏れが抑制されるよう、シール材１０９の形成領域及びその外部に視差バリア層１０８が兼ねた外部遮光層を形成する構成としてもよい。
【００４５】
本実施形態では、ＣＦ基板１０６側からシール材１０９硬化のための光照射を行うことができるので、ＴＦＴ基板１０４にシール材１０９硬化のための光照射用の開口領域確保（シール材に重なる配線等の幅を１５０μｍ以下に設計するなど）が必要なくなる。それ故にＴＦＴ基板１０４の配線設計の自由度が向上する。そのため、狭額縁化等の設計がしやすくなる。
【００４６】
上記のように、本実施形態では、画素間遮光層であるＣＦ-ＢＭ層１０７はシール材１０９の形成領域の少なくとも一部には形成されていないため、ＣＦ基板１０６側からのシール材１０９への光照射が妨げられず、ＯＤＦ法による製造が容易である。
したがって、本実施形態のＬＣＤ１は、真空注入法とＯＤＦ法のいずれを用いても製造可能である。
ここで、「発明が解決しようとする課題」の項で説明したように、真空注入法では、ＣＦ基板の薄板化と視差バリア層の形成後に液晶注入を実施する必要があり、液晶注入時に保護ガラス等の保護材が必要である。ＯＤＦ法では、液晶注入後にＣＦ基板の薄板化と視差バリア層の形成を実施するため、液晶注入時の保護ガラス等の保護材が必要なく、低コスト化が可能である。したがって、ＯＤＦ法を用いることが好ましい。
【００４７】
以下に好適な製造方法の一例について説明する。
ＴＦＴ基板１０４及びＣＦ基板１０６の内面（液晶層１０５側となる面）に必要な電極等の要素を形成する。この時点で、視差バリア層１０８は未形成である。
次に、図５Ａに示すように、視差バリア層１０８を形成する前の一対の基板１０４、１０６に対して、ＯＤＦ法による液晶注入と基板貼合わせとを実施する。その後、ＣＦ基板１０６を研磨あるいはエッチング等により薄板化する。
次いで図５Ｂに示すように、ＣＦ基板１０６の外面に視差バリア層１０８を形成する。
図５Ａはシール材１０９の硬化工程を示している。図中、「ＵＶ」はシール材１０９の硬化に用いる光（通常ＵＶ光）を示している。
以上のようにして、液晶セル１Ａが製造される。
【００４８】
上記の説明では、説明を簡略化するため、単に「ＴＦＴ基板１０４」、「ＣＦ基板１０６」と記載しているが、実際の製造では一対のマザー基板を用いて複数の液晶セルを一括製造することがなされる。
具体的には、内面（液晶層側となる面側）に電極等の必要な要素が形成され、視差バリア層１０８が未形成の一対のマザー基板に対して、ＯＤＦ法による液晶注入と基板貼合わせとを実施し、マザーＣＦ基板を薄板化し、マザーＣＦ基板の外面に視差バリア層１０８を形成し、その後、個々の液晶セル１Ａに分割切断することで、複数の液晶セル１Ａが一括製造される。
【００４９】
液晶セル１Ａに対して、視野角補償フィルム１０３ａ、１０３ｂ、及び偏光子１０２ａ、１０２ｂが取り付けられて、ＬＣＤ１が製造される。
【００５０】
以上説明したように、本実施形態によれば、周辺額縁領域からの光漏れが抑制され、シール材１０９の密着性が良好で信頼性が良好であり、低コスト製造が可能な視差バリア方式のＬＣＤ１を提供することができる。
本実施形態では特にＯＤＦ法を用いることで、ＬＣＤ１を低コストに製造することができる。
【００５１】
上記の第１実施形態では、ＣＦ基板１０６が視認側の基板であり、その外面に視差バリア層１０８が設けられた態様について説明した。
ＴＦＴ基板１０４を視認側の基板とし、その外面に視差バリア層１０８を設けてもよい（後記第２実施形態においても同様）。この場合には、視差バリア層１０８を形成する前の一対の基板１０４、１０６に対して、ＯＤＦ法による液晶注入と基板貼合わせとを実施し、ＴＦＴ基板１０４を薄板化し、ＴＦＴ基板１０４の外面に視差バリア層１０８を形成すれば、第１実施形態と同様に製造できる。
【００５２】
「第２実施形態」
本発明に係る第２実施形態の視差バリア方式のＬＣＤについて説明する。
本実施形態の基本構成は第１実施形態と同様であり、同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明は省略する。
図６Ａは第１実施形態の図４に対応した要部断面図、図６Ｂは表示領域内の要部平面図（透視図）である。
【００５３】
本実施形態の液晶セル２Ａ及びＬＣＤ２には、第１実施形態のＣＦ-ＢＭ１０７が設けられていない。
その代わり、本実施形態では、シール材１０９内部は、ＴＦＴ基板１０４に設けられた画素間遮光層１１０とＣＦ基板１０６の視差バリア層１０８とで、隣接する画素間を遮光している。
具体的には、シール材１０９内部は、ＴＦＴ基板１０４にソース配線１１２側の画素間を遮光する画素間遮光層１１０が形成されている。また、シール材１０９内部は、視差バリア層１０８が、ゲート配線１１１側の画素間を遮光する画素間遮光層を兼ねている。
また、ＣＦ-ＢＭ１０７及びＴＦＴ基板１０４の画素間遮光層１１０がないシール材１０９の形成領域及びその近傍部分は、視差バリア層１０８に遮光部１０８Ａを設けて、遮光している。
【００５４】
図６Ｂ中、各符号は以下の構成要素を示している。
符号１１１：ゲート配線、符号１１２：ソース配線、符号１１３：コモン配線、符号１１４：画素電極、符号１１５：ＴＦＴ。
図中、各層の形成領域を視認しやすくするため、視差バリア層１０８のハッチングとその下方の層のハッチングとを重ねて図示してある。
【００５５】
本実施形態において、ＴＦＴ基板１０４に形成された画素間遮光層１１０は、いわゆるシールドＣｓ構造により形成されている。ＴＦＴ基板１０４に形成された画素間遮光層１１０は、ゲート配線１１１と略平行に配置されたコモン配線１１３を分岐して、ソース配線１１２下及び画素電極１１４に一部掛かる領域まで延設したコモン配線枝部である。
かかる構成では、ゲート配線１１１及びコモン配線１１３を形成するゲートレイヤー工程で、画素間遮光層１１０を同時に形成することができ、別途画素間遮光層１１０を形成するよりも工程数を少なくでき、好ましい。
工程数が増えても差し支えなければ、画素間遮光層１１０は、コモン配線１１３とは独立して設けても構わない。
【００５６】
本実施形態の液晶セル２Ａは、第１実施形態と同様、真空注入法とＯＤＦ法のいずれを用いて製造してもよい。
第１実施形態と同様、ＯＤＦ法では、液晶注入後に基板貼合わせを実施するため、液晶注入時の保護ガラス等が必要なく低コスト化が可能なことから、ＯＤＦ法を用いることが好ましい。
本実施形態の液晶セル２Ａは、第１実施形態と同様、視差バリア層１０８を形成する前の一対の基板１０４、１０６に対して、ＯＤＦ法による液晶注入と基板貼合わせとを実施し、ＣＦ基板１０６を薄板化し、その後、ＣＦ基板１０６の外面に視差バリア層１０８を形成することで製造できる。
上記の説明では、説明を簡略化するため第１実施形態と同様に、単に「ＴＦＴ基板１０４」、「ＣＦ基板１０６」と記載しているが、実際の製造では一対のマザー基板を用いて複数の液晶セルを一括製造することがなされる。
【００５７】
通常のＴＦＴ-ＬＣＤでは、基板貼合わせ工程において基板位置合わせのためのアライメントマークを、ＣＦ-ＢＭに設けることが一般的である。
本実施形態では、ＣＦ-ＢＭがないため、別途アライメントマークを形成する必要がある。例えば、図６Ａに示すように、視差バリア層１０８に開口部１０８Ｍを設けてアライメントマークとすることができる。
あるいは図６Ｃに示すように、ＣＦ基板に設けられた赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）の色材層を有するＣＦ（図示略）にカラー表示用の色材層とは別に色材部１１８Ｍ（赤、緑、あるいは青）を設けてアライメントマークとするなどが考えられる。
【００５８】
本実施形態によれば、第１実施形態と同様、周辺額縁領域からの光漏れが抑制され、シール材の密着性が良好で信頼性が良好であり、低コスト製造が可能な視差バリア方式のＬＣＤ２を提供することができる。
本実施形態では、ＣＦ-ＢＭ形成工程を省略できるので、第１実施形態よりも工程数を低減でき、より低コストに製造することができる。
【００５９】
本実施形態では、ＴＦＴ基板１０４側で画素間遮光を行っているので、一対の基板１０４、１０６の重ね位置精度の問題で、本来遮光すべき領域が遮光されない問題が低減される。
より詳しくは、重ね位置精度の問題で、ＣＦ基板１０６側で適切に遮光できない部分が生じることが抑制され、光漏れによる表示品位の低下が防げる。また、基板の位置ずれによる光漏れを抑制するために、必要以上に遮光領域を大きくする必要がないので、画素開口率をより大きく確保できる。
【００６０】
本実施形態では、シール材１０９内部は、ＴＦＴ基板１０４に設けた画素間遮光層１１０でソース配線１１２側の画素間を遮光し、ＣＦ基板１０６の視差バリア層１０８でゲート配線１１１側の画素間を遮光する態様について説明した。
シール材１０９内部は、ＴＦＴ基板１０４に設けた画素間遮光層１１０でゲート配線１１１側の画素間を遮光し、ＣＦ基板１０６の視差バリア層１０８でソース配線１１２側の画素間を遮光するようにしてもよい。
シール材１０９内部は、ＴＦＴ基板１０４に形成する画素間遮光層１１０がゲート配線１１１側の画素間とソース配線１１２側の画素間の双方を遮光し、視差バリア層１０８が画素間遮光層として機能を有さないようにしてもよい。
例えば、反射型あるいは半透過型半反射型であれば、反射板あるいは反射電極等の反射材を利用して、ゲート配線１１１側の画素間及び／又はソース配線１１２側の画素間を遮光する画素間遮光層を形成することができる。
【００６１】
「第３実施形態」
本発明に係る第３実施形態の視差バリア方式のＬＣＤについて説明する。
本実施形態のＬＣＤは基本構成が第１実施形態と同様であり、同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明は省略する。
図７は第１実施形態の図４に対応した要部断面図である。
【００６２】
本実施形態の液晶セル３Ａ及びＬＣＤ３においては、ＣＦ基板１０４の内面に画素間遮光層であるＣＦ-ＢＭ１０７と視差バリア層１０８とが設けられている。視差バリア層１０８はＣＦ-ＢＭ１０７の視認側に設けられ、ＣＦ-ＢＭ１０７と視差バリア層１０８との間には絶縁層１１６が設けられている。
ＣＦ-ＢＭ１０７と視差バリア層１０８とは、シール材１０９の形成領域の少なくとも一部には形成されていない。
本実施形態では、ＣＦ基板１０４の外面に、シール材１０９の形成領域において画素間遮光層であるＣＦ-ＢＭ１０７及び視差バリア層１０８がいずれも形成されていない領域を覆うよう形成された外部遮光層１１７が設けられている。
【００６３】
図示する例では、ＣＦ-ＢＭ１０７と視差バリア層１０８とは、シール材１０９内部にのみ形成され、シール材１０９の形成領域及びその外部には形成されていない。そして、外部遮光層１１７は、シール材１０９の形成領域及びシール材１０９外部に形成されている。
【００６４】
本実施形態の液晶セル３Ａは、第１実施形態と同様、真空注入法とＯＤＦ法のいずれを用いて製造してもよい。
本実施形態では、ＣＦ-ＢＭ１０７と視差バリア層１０８間の距離を絶縁層１１６により形成することから、基板１０６の薄板化は特に不要であり、真空注入法とＯＤＦ法のいずれの液晶注入の際にも保護ガラス等が必要なく、低コスト化が可能である。
本実施形態の液晶セル３Ａは、第１実施形態と同様、外部遮光層１１７を形成する前の一対の基板１０４、１０６に対して、ＯＤＦ法による液晶注入と基板貼合わせとを実施し、その後、ＣＦ基板１０６の外面に外部遮光層１１７を形成することで製造できる。
【００６５】
本発明は、視差バリア層を液晶セルの内側に設ける場合にも適用可能である。
本実施形態では、液晶セル３Ａ内部に設けられたＣＦ-ＢＭ１０７と視差バリア層１０８とは、シール材１０９の形成領域の少なくとも一部には形成されていないので、第１実施形態と同様の効果が得られる。
本実施形態によっても、周辺額縁領域からの光漏れが抑制され、シール材１０９の密着性が良好で信頼性が良好な視差バリア方式のＬＣＤ３を提供することができる。
本実施形態では、視差バリア層１０８が外部遮光層を兼ねていないので、外部遮光層１１７を別途形成する分、コスト増になるが、真空注入法とＯＤＦ法のいずれの液晶注入の際にも保護ガラス等が必要なく、低コスト化が図られる。
【００６６】
「設計変更」
本発明は上記実施形態に限らず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、設計変更可能である。
上記実施形態では、縦電界駆動方式の透過型ＴＦＴ-ＬＣＤを例として説明したが、任意のＬＣＤに適用可能である。
本発明は、横電界駆動方式にも適用可能である。
本発明は、反射型あるいは半透過半反射型にも適用可能である。
本発明は、ＴＦＤ等の他の画素スイッチング素子を用いたアクティブマトリックス型にも適用可能である。
本発明は、画素スイッチング素子を使用しないパッシブマトリックス型にも適用可能である。
【符号の説明】
【００６７】
１〜３  液晶表示装置（ＬＣＤ）
１Ａ〜３Ａ液晶セル
１０２ａ、１０２ｂ  偏光子
１０３ａ、１０３ｂ  視野角補償フィルム
１０４  ＴＦＴ基板（素子基板）
１０５  液晶層
１０６  ＣＦ基板（対向基板）
１０７  ＣＦ-ＢＭ（画素間遮光層）
１０７Ａ  遮光部
１０７Ｂ  画素開口部
１０８  視差バリア層
１０８Ａ  遮光部
１０８Ｂ  開口部
１０８Ｍ  アライメントマーク
１０９  シール材
１１０  画素間遮光層
１１１  ゲート配線
１１２  ソース配線
１１３  コモン配線
１１４  画素電極
１１５  ＴＦＴ
１１６  絶縁層
１１７  外部遮光層
１１８Ｍ  アライメントマーク
【図１】
0005778411.tif 000002
【図２】
0005778411.tif 000003
【図３】
0005778411.tif 000004
【図４】
0005778411.tif 000005
【図５Ａ】
0005778411.tif 000006
【図５Ｂ】
0005778411.tif 000007
【図６Ａ】
0005778411.tif 000008
【図６Ｂ】
0005778411.tif 000009
【図６Ｃ】
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【図７】
0005778411.tif 000011