(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
直線部分を有するアライメントマークの位置を検出するためのアライメントマークの位置検出方法であって、
前記アライメントマークの形状を形状情報として記憶する記憶工程と、
アライメントマークを含む検出エリアを、前記直線部分の方向と直交する方向に微分するとともに、前記直線部分の方向に射影加算することにより、前記アライメントマークの直線部分の両端の位置を検出する両端検出工程と、
前記両端検出工程で検出したアライメントマークの直線部分の両端の間の領域を端縁検出領域として設定し、この端縁検出領域を、前記直線部分の方向に微分するとともに、前記直線部分の方向と直交する方向に射影加算することにより、前記アライメントマークの先端の位置を検出する先端検出工程と、
前記先端検出工程で検出したアライメントマークの先端の位置と、前記記憶工程で記憶したアライメントマークの形状情報と、前記アライメントマークが前記検出工程で検出したアライメントマークの先端の位置に対してどちら側の領域に配置されているかの情報とに基づいて、前記アライメントマークの位置を認定する位置認定工程と、
を備えることを特徴とするアライメントマークの位置検出方法。
【請求項２】
請求項１に記載のアライメントマーク位置検出方法において、
前記アライメントマークが前記検出工程で検出したアライメントマークの先端の位置に対してどちら側の領域に配置されているかの情報は、
前記検出エリアを複数の分割領域に分割し、
前記分割領域の各々に対して微分と射影加算とを実行することにより、前記アライメントマークがいずれの分割領域に配置されているのかを判定することにより得られるアライメントマークの検出方法。
【請求項３】
直線部分を有するアライメントマークの位置を検出するためのアライメントマークの位置検出方法であって、
前記アライメントマークの形状を形状情報として記憶する記憶工程と、
アライメントマークを含む検出エリアを、前記直線部分の方向と直交する方向に微分するとともに、前記直線部分の方向に射影加算することにより、前記アライメントマークの直線部分の両端の位置を検出する両端検出工程と、
前記両端検出工程で検出したアライメントマークの直線部分の両端の間の領域を端縁検出領域として設定し、この端縁検出領域を、前記直線部分の方向に微分するとともに、前記直線部分の方向と直交する方向に射影加算することにより、前記アライメントマークの先端の位置を検出する先端検出工程と、
前記検出エリアを、前記先端検出工程で検出したアライメントマークの先端の位置において、前記直線部分の方向と直交する方向に二つの領域に分割し、これら二つの領域に対して個別に微分と射影加算を実行することにより、前記アライメントマークが前記検出エリアのうちのいずれの領域に配置されているかを判定する判定工程と、
前記先端検出工程で検出したアライメントマークの先端の位置と、前記記憶工程で記憶したアライメントマークの形状情報と、前記判定工程における判定結果とに基づいて、前記アライメントマークの位置を認定する位置認定工程と、
を備えることを特徴とするアライメントマークの位置検出方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載のアライメントマーク位置検出方法において、
前記アライメントマークは、２つの直交する線分から構成される十字状アライメントマークであるアライメントマークの位置検出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、直線部分を有するアライメントマークの位置検出方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶表示パネル用ガラス基板に対してパターンの焼付を行う場合には、ガラス基板（以下「基板）という）とマスク基板（以下「マスク」という）とを位置決めする必要がある。このとき、マスクの表面には、金属膜等からなる、不透明な第１アライメントマークが形成されている。一方、基板の表面には、透明な（透光性を有する）第２アライメントマークが形成されている。この第２アライメントマークは、基板の表面にＩＴＯと称呼される酸化膜からなる透明電極を形成する工程において、この透明電極と同一の材質により形成される。基板の位置決めを行うときには、これら第１、第２のアライメントマークを利用して、基板とマスクとを相対的に移動させ、その位置決めを実行する。
【０００３】
特許文献１には、Ｘ方向を向く一対の線分とＹ方向を向く一対の線分とから構成される矩形状アライメントマークが形成されたマスクと、Ｘ方向を向く線分とＹ方向を向く線分とから構成される十字状アライメントマークが形成された基板とを位置決めするための位置決め装置が開示されている。
【０００４】
また、特許文献２には、マーク画像の画素データをＹ軸方向に総加算して得られる信号波形と、マーク画像の画素データをＸ軸方向に総加算して得られる信号波形とを用いて、マークの特徴的位置を求めるマーク検出方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−３５０１５２号公報
【特許文献２】特開２０００−２１５８３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
基板の位置決めを実行するためには、アライメントマークの位置を正確に検出する必要がある。このような場合に、アライメントマーク全体がアライメントマークの検出エリア内に配置されている場合にはアライメントマークの位置の検出は比較的容易ではあるが、アライメントマークの検出エリア内にアライメントマークの一部のみが配置されているような場合には、アライメントマークの位置を正確に認識することは困難となる。
【０００７】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、アライメントマークの検出エリア内にアライメントマークの一部のみしか配置されていない場合においても、アライメントマークの位置を正確に認識することが可能なアライメントマークの位置検出方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、直線部分を有するアライメントマークの位置を検出するためのアライメントマークの位置検出方法であって、前記アライメントマークの形状を形状情報として記憶する記憶工程と、アライメントマークを含む検出エリアを、前記直線部分の方向と直交する方向に微分するとともに、前記直線部分の方向に射影加算することにより、前記アライメントマークの直線部分の両端の位置を検出する両端検出工程と、前記両端検出工程で検出したアライメントマークの直線部分の両端の間の領域を端縁検出領域として設定し、この端縁検出領域を、前記直線部分の方向に微分するとともに、前記直線部分の方向と直交する方向に射影加算することにより、前記アライメントマークの先端の位置を検出する先端検出工程と、前記先端検出工程で検出したアライメントマークの先端の位置と、前記記憶工程で記憶したアライメントマークの形状情報と、前記アライメントマークが前記検出工程で検出したアライメントマークの先端の位置に対してどちら側の領域に配置されているかの情報とに基づいて、前記アライメントマークの位置を認定する位置認定工程とを備えることを特徴とする。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記アライメントマークが前記検出工程で検出したアライメントマークの先端の位置に対してどちら側の領域に配置されているかの情報は、前記検出エリアを複数の分割領域に分割し、前記分割領域の各々に対して微分と射影加算とを実行することにより、前記アライメントマークがいずれの分割領域に配置されているのかを判定することにより得られる。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、直線部分を有するアライメントマークの位置を検出するためのアライメントマークの位置検出方法であって、前記アライメントマークの形状を形状情報として記憶する記憶工程と、アライメントマークを含む検出エリアを、前記直線部分の方向と直交する方向に微分するとともに、前記直線部分の方向に射影加算することにより、前記アライメントマークの直線部分の両端の位置を検出する両端検出工程と、前記両端検出工程で検出したアライメントマークの直線部分の両端の間の領域を端縁検出領域として設定し、この端縁検出領域を、前記直線部分の方向に微分するとともに、前記直線部分の方向と直交する方向に射影加算することにより、前記アライメントマークの先端の位置を検出する先端検出工程と、前記検出エリアを、前記先端検出工程で検出したアライメントマークの先端の位置において、前記直線部分の方向と直交する方向に二つの領域に分割し、これら二つの領域に対して個別に微分と射影加算を実行することにより、前記アライメントマークが前記検出エリアのうちのいずれの領域に配置されているかを判定する判定工程と、前記先端検出工程で検出したアライメントマークの先端の位置と、前記記憶工程で記憶したアライメントマークの形状情報と、前記判定工程における判定結果とに基づいて、前記アライメントマークの位置を認定する位置認定工程と、を備えることを特徴とする。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項１から請求項３のいずれかに記載の発明において、前記アライメントマークは、２つの直交する線分から構成される十字状アライメントマークである。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１から請求項３に記載の発明によれば、アライメントマークの検出エリア内にアライメントマークの一部のみしか配置されていない場合においても、アライメントマークの位置を認識することが可能となる。このとき、アライメントマークの直線部分の両端の間の領域を端縁検出領域として設定し、この端縁検出領域を微分および射影加算してアライメントマークの先端の位置を検出することから、アライメントマークの先端の位置を正確に検出することができる。これにより、アライメントマークの位置を正確に認識することが可能となる。
【００１３】
また、アライメントマークが検出エリアのうちのいずれの領域に配置されているかを判定して、アライメントマークの位置を認識することが可能となる。
【００１４】
請求項４に記載の発明によれば、２つの直交する線分から構成される十字状アライメントマークの位置を正確に特定することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】この発明を適用する露光装置１００を模式的に示す斜視図である。
【図２】基板２およびマスク３の支持機構を、カメラ１５とともに、模式的に示す概要図である。
【図３】第１アライメントマーク１０１を示す平面図である。
【図４】第２アライメントマーク１０２を示す平面図である。
【図５】通常処理による位置決め動作を示す説明図である。
【図６】第２アライメントマーク１０２と検出エリアＥとの関係を示す説明図である。
【図７】第２アライメントマーク１０２と検出エリアＥとの関係を示す説明図である。
【図８】この発明の第１実施形態に係るアライメントマークの位置検出方法を示すフローチャートである。
【図９】第１、第２アライメントマーク１０１、１０２を利用した位置決め動作を説明するための説明図である。
【図１０】第１、第２アライメントマーク１０１、１０２を利用した位置決め動作を説明するための説明図である。
【図１１】基板の位置決め方法を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。最初に、この発明に係るアライメントマークの位置検出方法を適用する露光装置の構成について説明する。図１は、この発明を適用する露光装置１００を模式的に示す斜視図である。
【００１７】
この露光装置１００は、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネル）用ガラス基板や液晶表示パネル用ガラス基板等のガラス基板２（以下「基板２」という）に対して、マスク基板３（以下「マスク３」という）のパターンを露光するためのものであり、超高圧水銀灯等の光源４と、集光ミラー５と、ダイクロイックミラー６と、フライアイレンズ（複合レンズ）７と、コリメートミラー１とを備える。
【００１８】
この露光装置１００においては、光源４から出射された光は、集光ミラー５により集光されてダイクロイックミラー６に入射する。ダイクロイックミラー６においては、そこに入射した光のうち、露光に必要な波長の光のみがフライアイレンズ７に向けて反射される。そして、フライアイレンズ７を通過した光は、コリメートミラー１によりコリメートされて平行光となり、マスク３を介して基板２に照射される。このとき、マスク３および基板２は、フライアイレンズ７を通過した光が互いに重畳する領域に配置されており、均一な照度分布によりパターン露光を実行することが可能となる。
【００１９】
図２は、基板２およびマスク３の支持機構を、カメラ１５とともに、模式的に示す概要図である。
【００２０】
基板２は、その中央に開口部１６が形成された支持部材１３により支持されている。一方、マスク３は、その中央に開口部１２が形成された支持部材１１により支持されている。そして、基板２を支持する支持部材１３は、移動機構１４の駆動により、基板２の表面と平行な平面内で互いに直交する２方向に移動可能となっている。なお、図２に模式的に示すように、この種の露光装置１００においては、基板２とマスク３とは、プロキシミティーギャップと呼称されるわずかな隙間を介して配置される。
【００２１】
マスク３には、後述するように、Ｘ方向を向く一対の線分とＹ方向を向く一対の線分とから構成される矩形状の第１アライメントマーク１０１が、マスク材料であるクロム等の不透明な金属の薄膜により形成されている。一方、基板２には、Ｘ方向を向く線分とＹ方向を向く線分とから構成される十字状の第２アライメントマーク１０２が形成されている。マスク３と基板２との位置決めを行うときには、これら第１、第２のアライメントマーク１０１、１０２をカメラ１５により撮影することにより、マスク３と基板２との相対位置を測定し、移動機構１４により基板２をマスク３に対して移動させる構成となっている。
【００２２】
図３は、第１アライメントマーク１０１を示す平面図であり、図４は、第２アライメントマーク１０２を示す平面図である。
【００２３】
このような第１、第２アライメントマーク１０１、１０２の位置情報を取得するときには、一般的に、互いに直交するＸ方向およびＹ方向に、微分と射影加算が実行される。ここで、微分とは、画像処理における端縁部分の抽出の手法であり、特定の画像に関し、互いに隣接する画素間、あるいは、一定間隔だけ離れた画素間の輝度の差分をとることである。例えば、図３に示す第１アライメントマーク１０１についてＸ方向に差分をとるとは、Ｙ方向の各位置において、Ｘ方向に隣り合う画素間、あるいは、一定間隔だけ離れた画素間で輝度の差分をとることである。一方、射影加算するとは、特定の画像に対して一方向に値を加算することである。図３に示す第１アライメントマーク１０１についてＹ方向に射影加算するとは、Ｘ方向の値をＹ方向に沿って加算することである。
【００２４】
図３に示す第１アライメントマーク１０１を含む検出エリアＥに対してＸ方向に差分をとり、この結果に対してＹ方向に射影加算した場合には、図３において符号Ｈ１で示す波形を得ることができる。ここで、波形Ｈ１の４個のピークは、第１アライメントマーク１０１におけるＸ方向の端縁の位置を示している。また、図４に示す第２アライメントマーク１０２を含む検出エリアＥに対してＸ方向に差分をとり、この結果に対してＹ方向に射影加算した場合には、図４において符号Ｈ２で示す波形を得ることができる。ここで、波形Ｈ２のより高い２個のピークは、第２アライメントマーク１０２におけるＹ方向を向く直線部分のＸ方向の両側の端縁の位置を示し、より低い２個のピークは、第２アライメントマーク１０２におけるＸ方向を向く直線部分のＸ方向の端縁の位置を示している。
【００２５】
なお、図３に示す波形Ｈ１のピーク値が図４に示す波形Ｈ２のピーク値より高いのは、第１アライメントマーク１０１が不透明な金属の薄膜により構成されているのに対し、第２アライメントマーク１０２は透明電極と同じ材質により構成されているためである。
【００２６】
次に、これら第１、第２アライメントマーク１０１、１０２を利用して基板２およびマスク３の位置決めを行う位置決め動作について説明する。ここでは、図５に示すように、矩形状を成す第１アライメントマーク１０１の内側の領域に十字状の第２アライメントマーク１０２の中心が配置されている場合の、一般的な位置決め方法について説明する。
【００２７】
この場合においては、第１、第２アライメントマーク１０１、１０２を含む検出エリアＥをＸ方向に微分した後、その結果をＹ方向に射影加算する。これにより、図５において符号Ｈ３で示す波形を得ることができる。そして、このときのピークの位置、順番、強度等の情報から、Ｘ方向における第１アライメントマーク１０１の端縁の位置を特定する。また、第１アライメントマーク１０１の内側に配置されたピークにより、Ｘ方向における第２のアライメントマーク１０２の端縁の位置を特定する。そして、第１アライメントマーク１０１の４個の端縁の位置の平均値を第１アライメントマーク１０１のＸ方向の中心位置と認定し、第２アライメントマーク１０２の２個の端縁の位置の平均値を第２アライメントマーク１０２のＸ方向の中心位置と認定する。
【００２８】
第１、第２アライメントマーク１０１、１０２のＸ方向の中心位置が認定されれば、次に、第１、第２アライメントマーク１０１、１０２を含む領域ＥをＹ方向に微分した後、その結果をＸ方向に射影加算することにより、上記と同様の方法で、第１、第２アライメントマーク１０１、１０２のＹ方向の中心位置を認定する。
【００２９】
これにより、第１、第２アライメントマーク１０１、１０２のＸ方向およびＹ方向の中心位置を認定することができる。以下、このような一般的な中心位置の認定方法を通常処理と呼称する。
【００３０】
そして、第１、第２アライメントマーク１０１、１０２のＸ、Ｙ方向の中心位置が一致するように、図２に示す移動機構１４により基板２をＸ、Ｙ方向に移動させる。
【００３１】
以上のように、矩形状を成す第１アライメントマーク１０１の内側の領域に十字状の第２アライメントマーク１０２の中心が配置されている場合には、上述した通常処理による一般的な位置決め方法により、基板２およびマスク３の位置決めを行うことが可能となる。しかしながら、図６および図７に示すように、第２アライメントマーク１０２の一部のみが検出エリアＥ内に配置されており、他の部分が検出エリア外に配置されていた場合には、上述した通常処理では、第２アライメントマーク１０２の位置を正確に認識することができないという問題が生ずる。
【００３２】
このような場合において、図６に示すように、第２アライメントマーク１０２におけるＸ方向を向く線分部分とＹ方向を向く線分部分の両方が検出領域Ｅ内に配置されている場合においては、次のようにして、第２アライメントマーク１０２の位置を認識することができる。すなわち、検出エリアＥ内をＸ方向に微分するとともに、Ｙ方向に射影加算することにより、図６において符号Ｈ１１で示す波形を得ることができる。この波形Ｈ１１における一対の大きなピークの位置は第２アライメントマーク１０２におけるＹ方向を向く直線部分のＸ方向の両端の位置を示しており、小さなピークの位置は第２アライメントマーク１０２におけるＸ方向を向く直線部分の先端の位置を示している。また、検出エリアＥ内をＹ方向に微分するとともに、Ｘ方向に射影加算することにより、図６において符号Ｈ１２で示す波形を得ることができる。この波形Ｈ１２における一対の大きなピークの位置は第２アライメントマーク１０２におけるＸ方向を向く直線部分のＹ方向の両端の位置を示しており、小さなピークの位置は第２アライメントマーク１０２におけるＹ方向を向く直線部分の先端の位置を示している。
【００３３】
そして、波形Ｈ１１における一対のピークの位置の平均値から、第２アライメントマーク１０２のＸ方向の中心位置を認識することができ、波形Ｈ１２における一対のピークの位置の平均値から、第２アライメントマーク１０２のＹ方向の中心位置を認識することができる。
【００３４】
しかしながら、図７に示すように、第２アライメントマーク１０２の一つの線分部分のみが検出エリアに配置されていた場合には、このような手法では、第２アライメントマーク１０２の位置を検出することはできない。このため、この発明に係るアライメントマークの位置検出方法においては、予め記憶した第２アライメントマーク１０２の形状情報と、第２アライメントマーク１０２の先端の位置とに基づいて、第２アライメントマークの位置を認定するようにしている。
【００３５】
以下、この発明に係るアライメントマークの位置検出方法の基本的な考え方をについて説明する。図８は、この発明に係るアライメントマークの位置検出方法を示すフローチャートである。なお、以下の説明においては、図７に示すように、第２アライメントマーク１０２におけるＸ方向を向く線分部分の先端が検出エリアＥに配置された場合について説明する。
【００３６】
この発明に係るアライメントマークの位置検出方法においては、予め、第２アライメントマーク１０２の形状情報を記憶しておく（ステップＳ１１）。この場合には、例えば、第２アライメントマーク１０２を、Ｘ、Ｙ方向に微分および射影加算することにより、第２アライメントマーク１０２を構成する一対の線分部分のＸ、Ｙ方向の端縁の位置に基づいて形状情報を得て、これを記憶しておく。
【００３７】
次に、検出エリアＥを、Ｘ方向に微分するとともにＹ方向に射影加算する（ステップＳ１２）。また、同様に、検出エリアＥを、Ｙ方向に微分するとともにＸ方向に射影加算する（ステップＳ１３）。図６に示すように、第２アライメントマーク１０２におけるＸ方向を向く線分部分の先端が検出エリアＥに配置された場合においては、検出エリアＥをＸ方向に微分するとともにＹ方向に射影加算した場合には、第２アライメントマーク１０２のＸ方向の先端を示す小さなピークを有する波形が検出される。また、検出エリアＥをＹ方向に微分するとともにＸ方向に射影加算した場合には、第２アライメントマーク１０２のＸ方向を向く線分部分のＹ方向の両端の位置を示すピークを有する波形Ｈ１４が検出される。
【００３８】
なお、第２アライメントマーク１０２におけるＹ方向を向く線分部分の先端が検出エリアＥに配置された場合においては、検出エリアＥをＸ方向に微分するとともにＹ方向に射影加算した場合には、第２アライメントマーク１０２のＹ方向を向く線分部分のＸ方向の両端の位置を示すピークを有する波形Ｈ１４が検出される。また、検出エリアＥをＹ方向に微分するとともにＸ方向に射影加算した場合には、第２アライメントマーク１０２のＹ方向の先端を示す小さなピークを有する波形が検出される。
【００３９】
このため、検出エリアＥをＸ方向に微分するとともにＹ方向に射影加算する工程と、検出エリアＥをＹ方向に微分するとともにＸ方向に射影加算する工程とにより、第２アライメントマーク１０２におけるどの部分が検出領域に配置されているかを認識することが可能となる。以下、図７に示すように、第２アライメントマーク１０２におけるＸ方向を向く線分部分の先端が検出エリアＥに配置された場合について説明を続ける。
【００４０】
次に、端縁検出領域を設定する（ステップＳ１４）。すなわち、検出エリアＥをＸ方向を向く第２アライメントマーク１０２の直線部分と直交する方向であるＹ方向に微分するとともに、Ｙ方向を向く第２アライメントマーク１０２の直線部分の方向であるＹ方向に射影加算することにより、第２アライメントマーク１０２のＸ方向を向く線分部分のＹ方向の両端の位置を示すピークを有する波形Ｈ１４が検出されている（ステップＳ１３）。検出エリアＥのうち、この両端検出工程で検出した第２アライメントマーク１０２の直線部分の両端の間の領域を端縁検出領域Ｅ３として設定する（ステップＳ１４）。
【００４１】
そして、この端縁検出領域Ｅ３を、第２アライメントマーク１０２直線部分の方向であるＹ方向に微分するとともに、直線部分の方向と直交する方向であるＸ方向に射影加算することにより、第２アライメントマーク１０２の先端の位置に対応するピークを有する波形Ｈ１３得ることができる（ステップＳ１５)。
【００４２】
以上の工程により、第２アライメントマーク１０２の先端の位置を特定することができるが、第２アライメントマーク１０２が、Ｘ方向に対してその先端の位置のどちら側にあるのかを特定することはできない。このため、検出エリアＥを、先に検出した第２アライメントマーク１０２の先端の位置において、第２アライメントマーク１０２の直線部分の方向と直交するＹ方向に二つの領域Ｅ１、Ｅ２に分割する。そして、これら二つの領域Ｅ１およびＥ２に対して個別に微分と射影加算を実行する。しかる後、これらの領域Ｅ１、Ｅ２のいずれの領域に第２アライメントマーク１０２の端縁が配置されているかを認定することにより、第２アライメントマーク１０２が二つの検出エリアＥ１、Ｅ２のうちのいずれの領域に配置されているかを判定する（ステップＳ１６）。
【００４３】
次に、先の先端検出工程(ステップＳ１５）で検出した第２アライメントマーク１０２の先端の位置と、第２アライメントマーク１０２の形状情報を記憶する記憶工程(ステップＳ１１）で記憶した第２アライメントマーク１０２の形状情報とに基づいて、第２アライメントマーク１０２の中心の位置を認定する(ステップＳ１７)。
【００４４】
以上のように、この発明に係るアライメントマークの位置検出方法によれば、予め記憶した第２アライメントマーク１０２の形状情報と、第２アライメントマーク１０２の先端の位置とに基づいて、第２アライメントマークの位置を認定することから、検出エリアＥ内に第２アライメントマーク１０２の一部のみしか配置されていない場合においても、第２アライメントマーク１０２の位置を認識することが可能となる。このとき、第２アライメントマーク１０２の直線部分の両端の間の領域を端縁検出領域として設定し、この端縁検出領域を微分および射影加算して第２アライメントマーク１０２の先端の位置を検出することから、第２アライメントマーク１０２が透明に近く、コントラストが低い場合等においても、第２アライメントマーク１０２の先端の位置を正確に検出することができる。これにより、第２アライメントマーク１０２の位置を、より正確に認識することが可能となる。
【００４５】
次に、第１、第２アライメントマーク１０１、１０２を利用して基板２およびマスク３の位置決めを行う位置決め動作を実行するときに、この発明に係るアライメントマークの位置検出方法を適用する場合の実施形態について説明する。図９および図１０は、第１、第２アライメントマーク１０１、１０２を利用した位置決め動作を説明するための説明図である。
【００４６】
ここで、図９および図１０に示す実施形態においては、矩形状を成す第１アライメントマーク１０１の外側に十字状をなす第２アライメントマーク１０２が配置されている場合を示している。すなわち、図９は、矩形状を成す第１アライメントマーク１０１の右側および上側に対応する領域Ｅ１１、Ｅ１４に第２アライメントマーク１０２が配置されている場合を示している。また、図１０は、矩形状を成す第１アライメントマーク１０１の右側の領域Ｅ１４のみに十字状の第２アライメントマーク１０２が配置されている場合を示している。
【００４７】
なお、図９および図１０においては、説明の便宜上、各アライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２、Ｅ１３、Ｅ１４の両端の位置をわずかにずらせて表現しているが、これらの各アライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２、Ｅ１３、Ｅ１４の両端の位置は、実際には、互いに一致している。
【００４８】
この実施形態においては、第１アライメントマーク１０１の内側のアライメントマーク検出領域Ｅ２１と、第１アライメントマーク１０１の各辺の外側の４個のアライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２、Ｅ１３、Ｅ１４との５個のアライメントマーク検出領域に対して、Ｘ方向およびＹ方向に微分および射影加算を行うことにより、第２アライメントマーク１０２を検出して第２アライメントマーク１０２の位置情報を取得するようにしている。
【００４９】
図１１は、この実施形態に係る基板の位置決め方法を示すフローチャートである。
【００５０】
この基板の位置決め方法を実行するに当たっても、予め、第２アライメントマーク１０２の形状情報を記憶しておく。この場合には、上述した場合と同様、例えば、第２アライメントマーク１０２のサイズを予め設定して記憶することとする。また、第２アライメントマーク１０２を、Ｘ、Ｙ方向に微分および射影加算することにより、第２アライメントマーク１０２の形状情報を得て、これを記憶するようにしてもよい。
【００５１】
この基板の位置決め方法においては、最初に、第１アライメントマーク１０１の内側のアライメントマーク検出領域２１を含む領域をＸ方向およびＹ方向に微分および射影加算することにより、第１アライメントマーク１０１の内側の領域に第２アライメントマーク１０２の中心が配置されているか否かを判定する第１判定工程を実行する（ステップＳ２１）。このときには、図５に示すように、矩形状を成す第１アライメントマーク１０１におけるＸ、Ｙ方向の端縁の位置を示す二対の波形のピークの内側の領域に、十字状の第２アライメントマーク１０２におけるＸ、Ｙ方向を向く直線部分のＸ方向の両側の端縁の位置を示す一対の波形のピークが配置されているか否かをＸ、Ｙ両方向について判定することにより、第１アライメントマーク１０１の内側の領域に第２アライメントマーク１０２の中心が配置されているか否かを判定する。
【００５２】
そして、第１アライメントマーク１０１の内側の領域に第２アライメントマーク１０２の中心が配置されている場合には、上述した通常処理と同様の処理により第２アライメントマーク１０２の中心位置を演算する（ステップＳ２２）。すなわち、この場合においては、第１アライメントマーク１０１の内側のアライメントマーク検出領域Ｅ２１を含む領域をＸ方向に微分した後、その結果をＹ方向に射影加算するとともに、第１アライメントマーク１０１の内側のアライメントマーク検出領域Ｅ２１を含む領域をＹ方向に微分した後、その結果をＸ方向に射影加算する。そして、第１アライメントマーク１０１の内側の領域Ｅ２１に対応する領域に配置された十字状の第２アライメントマーク１０２におけるＸ、Ｙ方向を向く直線部分のＸ方向の両側の端縁の位置を示す波形のピークに基づいて、第２アライメントマーク１０２の端縁の位置を認定し、Ｘ、Ｙ方向における第２アライメントマーク１０２の２個の端縁の位置の平均値を、第２アライメントマーク１０２のＸ方向およびＹ方向の中心位置と認定する。
【００５３】
第１アライメントマーク１０１の内側の領域に第２アライメントマーク１０２の中心が配置されていないと判定された場合には、第１アライメントマーク１０１の各辺の外側に設定された４個のアライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２、Ｅ１３、Ｅ１４のうち、第１アライメントマーク１０１におけるＸ方向を向く一対の線分と隣接するアライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２に対してはＸ方向の微分とＹ方向の射影加算を実行し、第１アライメントマーク１０１におけるＹ方向を向く一対の線分と隣接するアライメントマーク検出領域Ｅ１３、Ｅ１４に対してはＹ方向の微分とＸ方向の射影加算を実行することにより、第２アライメントマーク１０２の端縁の位置を示すピーク値を検出することで、これら４個のアライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２、Ｅ１３、Ｅ１４のいずれの領域に、第２アライメントマーク１０２が配置されているかを判定する第２判定工程を実行する。
【００５４】
そして、この第２判定工程において、４個のアライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２、Ｅ１３、Ｅ１４のうち、第１アライメントマーク１０１におけるＸ方向を向く線分と隣接するアライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２のうちの少なくとも１箇所の領域と第１アライメントマーク１０１におけるＹ方向を向く線分と隣接するアライメントマーク検出領域Ｅ１３、Ｅ１４のうちの少なくとも１箇所の領域との少なくとも２箇所の領域に第２アライメントマーク１０２が配置されていると判定されたときには（ステップＳ２３）、先に実行した第１アライメントマーク１０１におけるＸ方向を向く線分と隣接するアライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２に対するＸ方向の微分とＹ方向の射影加算との結果と、第１アライメントマーク１０１におけるＹ方向を向く線分と隣接するアライメントマーク検出領域Ｅ１３、Ｅ１４に対するＹ方向の微分とＸ方向の射影加算との結果を利用して、第２アライメントマーク１０２におけるＸ方向を向く線分とＹ方向を向く線分の交点の位置を認定することにより、第２アライメントマーク１０２の中心の位置を特定する（ステップＳ２４）。
【００５５】
すなわち、図９に示すように、第２アライメントマーク１０２が第１アライメントマーク１０１におけるＸ方向を向く線分と隣接するアライメントマーク検出領域Ｅ１１と第１アライメントマーク１０１におけるＹ方向を向く線分と隣接するアライメントマーク検出領域Ｅ１４との２箇所の領域に配置されていた場合には、アライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２に対してＸ方向の微分とＹ方向の射影加算を実行し、アライメントマーク検出領域Ｅ１３、Ｅ１４に対してＹ方向の微分とＸ方向の射影加算を実行した場合には、図９において符号Ｈ２３で示す波形と、符号Ｈ２４で示す波形を得ることができる。ここで、波形Ｈ２３は、第２アライメントマーク１０２におけるＹ方向を向く線分部分の両端の位置を示す一対のピークを有しており、波形Ｈ２４は、第２アライメントマーク１０２におけるＸ方向を向く線分部分の両端の位置を示す一対のピークを有している。このため、これらのピークの位置に基づいて、第２アライメントマーク１０２の中心の位置を特定することができる。
【００５６】
一方、第２判定工程において、４個のアライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２、Ｅ１３、Ｅ１４のうち、第１アライメントマーク１０１におけるＹ方向を向く線分と隣接するアライメントマーク検出領域Ｅ１３またはＥ１４にのみ第２アライメントマーク１０２が配置されていると判定されたときには（ステップＳ２５）、この発明に係るアライメントマークの位置検出方法を適用する。すなわち、この場合には、当該アライメントマークが配置されていると判定されたアライメントマーク検出領域と第１アライメントマーク１０１の内側のアライメントマーク検出領域Ｅ２１とに対して、第２アライメントマーク１０２の端縁を検出するための端縁検出領域Ｅ２２、Ｅ２３を設定する。
【００５７】
この端縁検出領域の設定は、以下のようにして実行される。すなわち、図１０に示すように、第１アライメントマーク１０１におけるＹ方向を向く線分と隣接するアライメントマーク検出領域Ｅ１４にのみ第２アライメントマーク１０２が配置されていると判定されたときには、アライメントマーク検出領域Ｅ１４について、第２アライメントマーク１０２の直線部分の方向と直交する方向であるＹ方向に微分するとともに、直線部分の方向であるＸ方向に射影加算することにより、図１０において符号Ｈ２２で示す波形を得て、第２アライメントマーク１０２の直線部分の両端の位置を検出する。そして、アライメントマーク検出領域Ｅ１４と第１アライメントマーク１０１の内側のアライメントマーク検出領域Ｅ２１とにおける第２アライメントマーク１０２の直線部分の両端の位置の間の領域を、第２アライメントマーク１０２の終端を検出するための端縁検出領域Ｅ２２、Ｅ２３として設定する。
【００５８】
なお、図１０においては、説明の便宜上、端縁検出領域Ｅ２２、Ｅ２３のＸ方向の両端の位置と、アライメントマーク検出領域Ｅ１４、２１のＸ方向の両端の位置とを異ならせて図示しているが、これらは一致しているものとする。なお、これらの境界部分での干渉等による測定ミスを防止するため、端縁検出領域Ｅ２２、Ｅ２３のＸ方向の両端の位置と、アライメントマーク検出領域Ｅ１４、２１のＸ方向の両端の位置とを、わずかな距離だけ異ならせるようにしてもよい。
【００５９】
端縁検出領域Ｅ２２、Ｅ２３が設定されれば、これらの端縁検出領域Ｅ２２、Ｅ２３を利用して、第２アライメントマーク１０２のＸ方向の端縁の位置を特定する（ステップＳ２６）すなわち、これらの端縁検出領域Ｅ２２およびＥ２３をＸ方向に微分するとともに、Ｙ方向に射影加算することにより、図１０において符号Ｈ２１で示す波形を得ることができる。この波形Ｈ２１は、第２アライメントマーク１０２の端縁の位置にピークを有している。このため、この波形から第２アライメントマーク１０２の端縁の位置を特定することが可能となる。
【００６０】
この場合においては、第２アライメントマーク１０２の直線部分の両端の位置の間に設定された端縁検出領域Ｅ２２、Ｅ２３のみを微分および射影加算して第２アライメントマーク１０２の端縁の位置を特定していることから、第２アライメントマーク１０２の端縁の位置をより正確に特定することが可能となる。
【００６１】
そして、第２アライメントマーク１０２のＸ方向の端縁の位置を特定することができれば（ステップＳ２６）、その端縁の位置と予め記憶した第２アライメントマーク１０２の形状情報とに基づいて、第２アライメントマーク１０２の中心の位置を演算する（ステップＳ２７）。このときには、第２アライメントマーク１０２のＸ方向の端縁の位置から、予め記憶した第２アライメントマーク１０２のＸ方向のサイズの半分の距離だけ第２アライメントマークの中心方向に移動した位置が、第２アライメントマークの中心の位置となる。
【００６２】
同様に、第２判定工程において、４個のアライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２、Ｅ１３、Ｅ１４のうち、第１アライメントマーク１０１におけるＸ方向を向く線分と隣接するアライメントマーク検出領域Ｅ１１またはＥ１２にのみ第２アライメントマーク１０２が配置されていると判定されたときには（ステップＳ２８）、当該アライメントマークが配置されていると判定されたアライメントマーク検出領域と第１アライメントマーク１０１の内側のアライメントマーク検出領域Ｅ２１とに対して、第２アライメントマーク１０２の端縁を検出するための端縁検出領域を設定する。
【００６３】
この端縁検出領域の選択は、上記と同様の方法により実行される。すなわち、第１アライメントマーク１０１におけるＸ方向を向く線分と隣接するアライメントマーク検出領域Ｅ１１またはＥ１２にのみ第２アライメントマーク１０２が配置されていると判定されたときには、このアライメントマーク検出領域Ｅ１１またはＥ１２について、第２アライメントマーク１０２の直線部分の方向と直交する方向であるＸ方向に微分するとともに、直線部分の方向であるＹ方向に射影加算することにより、第２アライメントマーク１０２の直線部分の両端の位置を検出する。そして、アライメントマーク検出領域Ｅ１１またはＥ１２と第１アライメントマーク１０１の内側のアライメントマーク検出領域Ｅ２１とにおける第２アライメントマーク１０２の直線部分の両端の位置の間の領域を、第２アライメントマーク１０２の終端を検出するための端縁検出領域として設定する。
【００６４】
端縁検出領域が設定されれば、これらの端縁検出領域を利用して、第２アライメントマーク１０２のＹ方向の端縁の位置を特定する（ステップＳ２９）すなわち、これらの端縁検出領域をＹ方向に微分するとともに、Ｘ方向に射影加算することにより、第２アライメントマーク１０２の端縁の位置にピークを有する波形を得て、第２アライメントマーク１０２の端縁の位置を特定することが可能となる。
【００６５】
そして、第２アライメントマーク１０２のＹ方向の端縁の位置を特定することができれば（ステップＳ２９）、その端縁の位置と予め記憶した第２アライメントマーク１０２の形状情報とに基づいて、第２アライメントマーク１０２の中心の位置を演算して特定する（ステップＳ３０）。
【００６６】
以上の各工程（ステップＳ２２、ステップＳ２４、ステップＳ２７およびステップＳ３０）により第２アライメントマーク１０２の中心の位置を特定することができれば、第２アライメントマーク１０２の中心の位置と第１アライメントマーク１０１の中心の位置とが一致するように、移動機構１４により基板２をマスク３に対して移動させ、基板２とマスク３との位置決めを実行する（ステップＳ３２）。
【００６７】
なお、４個のアライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２、Ｅ１３、Ｅ１４のいずれにも第２アライメントマーク１０２が配置されていない場合には、エラー表示を行い（ステップＳ３１）処理を終了する。
【００６８】
ところで、図１０に示すように、第２判定工程において、４個のアライメントマーク検出領域Ｅ１１、Ｅ１２、Ｅ１３、Ｅ１４のうち、第１アライメントマーク１０１におけるＹ方向を向く線分と隣接するアライメントマーク検出領域Ｅ１３、Ｅ１４にのみ第２アライメントマーク１０２が配置されていると判定された場合において（ステップＳ２５）、第２アライメントマーク１０２の端縁が、第１アライメントマーク１０１におけるＹ方向を向く線分部分と重複していたときには、端縁検出領域Ｅ２２、Ｅ２３を設定して第２アライメントマーク１０２の端縁を検出しようとしても、端縁を示すピーク値を得ることができない。このような場合には、第２アライメントマーク１０２の端縁が、第１アライメントマーク１０１におけるＹ方向を向く線分部分の、Ｘ方向の中央部分に配置されているものと仮定して、第２アライメントマーク１０２の中心位置を演算する。
【００６９】
なお、上述した位置決め動作は、第１アライメントマーク１０１と第２アライメントマーク１０２との中心の位置ずれ量が所定の値以下になるまで繰り返される。
【００７０】
なお、上述した実施形態においては、いずれも、第１、第２アライメントマーク１０１，１０２の端縁部分を抽出するために、微分を実行した後に射影加算を実行しているが、先に射影加算を実行し、その後に微分を実行するようにしてもよい。
【００７１】
また、上述した実施形態においては、液晶表示パネル等のガラス基板に対して焼付を行う露光装置にこの発明を適用した場合について説明したが、この発明を半導体用やＬＥＤ用の露光装置に適用してもよい。
【００７２】
さらに、この発明の適用対象は露光装置に限定されるものではなく、２以上の部材の位置合わせを行う装置であれば、露光装置以外の装置にこの発明を適用してもよい。
【符号の説明】
【００７３】
１ コリメートミラー
２ 基板
３ マスク
４ 光源
５ 集光ミラー
６ ダイクロイックミラー
７ フライアイレンズ
１１ 支持部材
１２ 開口部
１３ 支持部材
１４ 移動機構
１５ カメラ
１６ 開口部
１００ 露光装置
１０１ 第１アライメントマーク
１０２ 第２アライメントマーク
Ｅ３ 終端検出領域
Ｅ２２ 終端検出領域
Ｅ２３ 終端検出領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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