(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に電離放射線硬化性モノマー、平均粒径が異なる少なくとも二種の透光性樹脂粒子、および少なくとも二種の有機溶媒を含む光拡散層用塗布組成物を塗布した後硬化した光拡散層を有する光学フィルムであって、
該透光性樹脂粒子において、平均粒径が最大の粒子種と、該最大の粒子種に対して平均粒径が３０〜９０％である第二の粒子種を有し、該最大の粒子種の平均粒径が光拡散層の硬化後の厚みに対して２０〜９０％の範囲にあり、
前記少なくとも二種の有機溶媒のうち少なくとも一種の有機溶媒の沸点が１７０℃〜２４０℃、かつ、Ｉ／Ｏ値が２．０以上であり、他の少なくとも一種の有機溶媒の沸点が１６０℃未満〜３０℃、かつ、Ｉ／Ｏ値が１．０未満であることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
前記光拡散層が含有する前記透光性樹脂粒子において、前記平均粒径が最大の粒子種の平均粒径が２〜２０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記少なくとも二種の有機溶媒のうちの少なくとも一種が分子構造の中に水酸基を有するもの、イオウ原子または窒素原子を有するもの、又は脂肪酸であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記光拡散層が含有する前記透光性樹脂粒子の総粒子の分散度（Ｖ）を、下記数式Ａで表したときの値が、Ｖ＝０．６〜１．０であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
数式Ａ
Ｖ＝（９０％体積積算粒径−１０％体積積算粒径）／５０％体積積算粒径
【請求項５】
前記電離放射線硬化性モノマーのＩ／Ｏ値の平均値と、前記透光性樹脂粒子のＩ／Ｏ値の平均値との差が０．３〜３．０であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記少なくとも二種の有機溶媒のうちの少なくとも一種がエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、エチレングリコールモノアセテート又は１，２，６−ヘキサントリオールのいずれかであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記電離放射線硬化性モノマーが少なくとも２種類であって、そのうち少なくとも１種類がＩ／Ｏ値が１．２以上のモノマーであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記Ｉ／Ｏ値が１．２以上である電離放射線硬化性モノマーが、エチレンオキシド基を付加したモノマーであることを特徴とする請求項７に記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記光拡散層用塗布組成物を塗布した後硬化した光拡散層が、多分岐ポリマー（ＨＢ）の分岐枝末端に光硬化性及び／又は熱硬化性反応基を有する硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１０】
前記多分岐ポリマー（ＨＢ）が、デンドリマー、ハイパーブランチポリマー及びスターバーストポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項９に記載の光学フィルム。
【請求項１１】
前記硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）が有する光硬化性及び／又は熱硬化性反応基が、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基、並びに加水分解性シリル基から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項９又は１０に記載の光学フィルム。
【請求項１２】
前記光拡散層用塗布組成物を塗布した後硬化した光拡散層中に固形分換算で、１分子中に６個以上の水酸基を有するポリエステルポリオールデンドリマー化合物（ａ）とエチレン性不飽和基含有モノカルボン酸（ｂ）との反応生成物であるエチレン性不飽和基含有ポリエステルデンドリマー（Ａ）を含むことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学フィルムが有する光拡散層の上に低屈折率層を設けることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１４】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学フィルム又は請求項１３に記載の反射防止フィルムが偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
【請求項１５】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学フィルム、請求項１３に記載の反射防止フィルムまたは請求項１４に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１６】
画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ又はＯＣＢモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする請求項１５に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）は大画面化が進み、光学フィルム、例えば反射防止フィルムを配置した液晶表示装置が増大している。
光学フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される。光学フィルムに反射防止能を付与するための１手段として光拡散層が設置されることがある。この層に透光性粒子を含有することで、効果の一つとして防眩性等が発現される。防眩性は光学フィルムの表面形状に大きく依存し、光拡散層に含有する透光性粒子が表面凹凸を大きくすることで、反射光を散乱させ、画像の映り込みを減らしている。さらに光拡散層にはディスプレイの広角での諧調反転を抑制して視野角を広げる機能を担持させることもあり、このような機能を発現しながら解像性や画面の黒しまり感等が減じないように光拡散層の素材や光学特性が調整される。
例えば、防眩層に微粒子と溶剤乾燥型樹脂と紫外線硬化型樹脂を併用したり、微粒子の標準偏差を制御する方法がある。（特許文献１）または、光拡散層に複数の粒子を含有させて層バインダーと粒子間の屈折率や粒径を規定する方法も知られている。（特許文献２）
しかしながら、特に画面の黒しまりの向上に注目した場合には、単に透光性粒子を複数用いてこれらの使用方法を組み合わせても十分ではなく、さらなる使用方法の改良が望まれていた。
【０００３】
一方、液晶表示装置において偏光板は不可欠な光学材料であり、一般に、偏光膜が２枚の保護フィルムによって保護されている構造をしている。
これらの保護フィルムに反射防止機能を付与することができれば、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
よって、これらの保護フィルムにおいても、上記の問題を解決することが望まれている。
偏光板に用いる保護フィルムは、偏光膜と貼り合わせるうえで十分な密着性を有していることが必要である。偏光膜との密着性を改良する手法として、保護フィルムを鹸化処理して保護フィルムの表面を親水化処理することが通常行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−２０１０５号公報
【特許文献２】特開２００３−１１４３０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、防眩性に優れ、ディスプレイに適用したときの画面の黒しまり感が良好な光学フィルム、反射防止フィルムを安定に提供すること、さらに、適切な手段により反射防止処理がされている偏光板、画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、下記構成の光学フィルム、偏光板、画像表示装置により達成された。
＜１＞
透明支持体上に電離放射線硬化性モノマー、平均粒径が異なる少なくとも二種の透光性樹脂粒子、および少なくとも二種の有機溶媒を含む光拡散層用塗布組成物を塗布した後硬化した光拡散層を有する光学フィルムであって、
該透光性樹脂粒子において、平均粒径が最大の粒子種と、該最大の粒子種に対して平均粒径が３０〜９０％である第二の粒子種を有し、該最大の粒子種の平均粒径が光拡散層の硬化後の厚みに対して２０〜９０％の範囲にあり、
前記少なくとも二種の有機溶媒のうち少なくとも一種の有機溶媒の沸点が１７０℃〜２４０℃、かつ、Ｉ／Ｏ値が２．０以上であり、他の少なくとも一種の有機溶媒の沸点が１６０℃未満〜３０℃、かつ、Ｉ／Ｏ値が１．０未満であることを特徴とする光学フィルム。
＜２＞
前記光拡散層が含有する前記透光性樹脂粒子において、前記平均粒径が最大の粒子種の平均粒径が２〜２０μｍであることを特徴とする＜１＞に記載の光学フィルム。
＜３＞
前記少なくとも二種の有機溶媒のうちの少なくとも一種が分子構造の中に水酸基を有するもの、イオウ原子または窒素原子を有するもの、又は脂肪酸であることを特徴とする＜１＞又は＜２＞に記載の光学フィルム。
＜４＞
前記光拡散層が含有する前記透光性樹脂粒子の総粒子の分散度（Ｖ）を、下記数式Ａで表したときの値が、Ｖ＝０．６〜１．０であることを特徴とする＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
数式Ａ
Ｖ＝（９０％体積積算粒径−１０％体積積算粒径）／５０％体積積算粒径
＜５＞
前記電離放射線硬化性モノマーのＩ／Ｏ値の平均値と、前記透光性樹脂粒子のＩ／Ｏ値の平均値との差が０．３〜３．０であることを特徴とする＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜６＞
前記少なくとも二種の有機溶媒のうちの少なくとも一種がエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、エチレングリコールモノアセテート又は１，２，６−ヘキサントリオールのいずれかであることを特徴とする＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜７＞
前記電離放射線硬化性モノマーが少なくとも２種類であって、そのうち少なくとも１種類がＩ／Ｏ値が１．２以上のモノマーであることを特徴とする＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜８＞
前記Ｉ／Ｏ値が１．２以上である電離放射線硬化性モノマーが、エチレンオキシド基を付加したモノマーであることを特徴とする＜７＞に記載の光学フィルム。
＜９＞
前記光拡散層用塗布組成物を塗布した後硬化した光拡散層が、多分岐ポリマー（ＨＢ）の分岐枝末端に光硬化性及び／又は熱硬化性反応基を有する硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜１０＞
前記多分岐ポリマー（ＨＢ）が、デンドリマー、ハイパーブランチポリマー及びスターバーストポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする＜９＞に記載の光学フィルム。
＜１１＞
前記硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）が有する光硬化性及び／又は熱硬化性反応基が、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基、並びに加水分解性シリル基から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする＜９＞又は＜１０＞に記載の光学フィルム。
＜１２＞
前記光拡散層用塗布組成物を塗布した後硬化した光拡散層中に固形分換算で、１分子中に６個以上の水酸基を有するポリエステルポリオールデンドリマー化合物（ａ）とエチレン性不飽和基含有モノカルボン酸（ｂ）との反応生成物であるエチレン性不飽和基含有ポリエステルデンドリマー（Ａ）を含むことを特徴とする＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜１３＞
＜１＞〜＜１２＞のいずれか１項に記載の光学フィルムが有する光拡散層の上に低屈折率層を設けることを特徴とする反射防止フィルム。
＜１４＞
＜１＞〜＜１２＞のいずれか１項に記載の光学フィルム又は＜１３＞に記載の反射防止フィルムが偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
＜１５＞
＜１＞〜＜１２＞のいずれか１項に記載の光学フィルム、＜１３＞に記載の反射防止フィルム又は＜１４＞に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
＜１６＞
画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ又はＯＣＢモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする＜１５＞に記載の画像表示装置。
本発明は、上記＜１＞〜＜１６＞に係る発明であるが、以下、それ以外の事項（例えば、下記（１）〜（２０））についても記載している。
【０００７】
（１）透明支持体上に電離放射線硬化性モノマー、平均粒径が異なる少なくとも二種の透光性樹脂粒子、および少なくとも二種の有機溶媒を含む光拡散層用塗布組成物を塗布した後硬化した光拡散層を有する光学フィルムであって、該透光性樹脂粒子において、平均粒径が最大の粒子種と、該最大の粒子種に対して平均粒径が３０〜９０％である第二の粒子種を有し、該最大の粒子種の平均粒径が光拡散層の硬化後の厚みに対して２０〜９０％の範囲にあることを特徴とする光学フィルム。
（２）前記光拡散層が含有する前記透光性樹脂粒子において、前記平均粒径が最大の粒子種の平均粒径が２〜２０μｍであることを特徴とする（１）に記載の光学フィルム。
（３）前記光拡散層が含有する前記透光性樹脂粒子のうち、前記平均粒径が最大の粒子種の平均粒径が３〜７μｍであることを特徴とする（１）または（２）に記載の光学フィルム。
（４）前記光拡散層が含有する前記透光性樹脂粒子の総粒子の分散度（Ｖ）を、下記数式Ａで表したときの値が、Ｖ＝０．６〜１．０であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の光学フィルム。数式ＡＶ＝（９０％体積積算粒径−１０％体積積算粒径）／５０％体積積算粒径
（５）前記電離放射線硬化性モノマーのＩ／Ｏ値の平均値と、前記透光性樹脂粒子のＩ／Ｏ値の平均値との差が０．３〜３．０であることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の光学フィルム。
【０００８】
（６）前記少なくとも二種の有機溶媒において、Ｉ／Ｏ値の差が０．２５以上である組み合わせを少なくとも一組有することを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の光学フィルム。
（７）前記少なくとも二種の有機溶媒のうちの少なくとも一種の沸点が１６０〜２５０℃であることを特徴とする（１）〜（６）のいずれかに記載の光学フィルム。
（８）前記電離放射線硬化性モノマーが少なくとも２種類であって、そのうち少なくとも１種類がＩ／Ｏ値が１．２以上のモノマーであることを特徴とする（１）〜（７）のいずれかに記載の光学フィルム。
（９）前記Ｉ／Ｏ値が１．２以上である電離放射線硬化性モノマーが、エチレンオキシド基を付加したモノマーであることを特徴とする（８）に記載の光学フィルム。
（１０）前記光拡散層用塗布組成物を塗布した後硬化した光拡散層が、多分岐ポリマー（ＨＢ）の末端に光硬化性及び／又は熱硬化性反応基を有する硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）を含むことを特徴とする（１）〜（９）のいずれかに記載の光学フィルム。
（１１）前記多分岐ポリマー（ＨＢ）が、デンドリマー、ハイパーブランチポリマー及びスターバーストポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする
（１０）に記載の光学フィルム。
（１２）前記硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）が有する光硬化性及び熱硬化性反応基が、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基、並びに加水分解性シリル基から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする（１０）または（１１）に記載の光学フィルム。
（１３）前記光拡散層用塗布組成物を塗布した後硬化した光拡散層中に固形分換算で、１分子中に６個以上の水酸基を有するポリエステルポリオールデンドリマー化合物（ａ）とエチレン性不飽和基含有モノカルボン酸（ｂ）との反応生成物であるエチレン性不飽和基含有ポリエステルデンドリマー（Ａ）を含むことを特徴とする（１）〜（１２）のいずれかに記載の光学フィルム。
【０００９】
（１４）前記透明支持体上のいずれかの層に、下記一般式［Ａ］で表されるオルガノシラン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかを含有することを特徴とする前記（１）〜
（１３）のいずれかに記載の光学フィルム。
【００１０】
一般式［Ａ］  （Ｒ１０）ａ−Ｓｉ（Ｚ）４−ａ
【００１１】
一般式［Ａ］中、Ｒ１０は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｚは水酸基または加水分解可能な基を表す。ａは１〜３の整数を表す。
（１５）下記一般式１で表される含フッ素化合物の架橋または重合反応により形成された低屈折率層を有することを特徴とする前記（１）〜（１４）のいずれかに記載の光学フィルム。
【００１２】
【化１】
0005690868.tif 000002
【００１３】
一般式１中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、ｂは０または１を表す。Ｘ１は水素原子またはメチル基を表す。Ａは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一重合単位であっても複数の重合単位で構成されていてもよい。ｘ１、ｙ、ｚはそれぞれの構成重合単位のモル％を表し、３０≦ｘ１≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。
（１６）低屈折率層に中空シリカ微粒子を含有することを特徴とする前記（１５）に記載の光学フィルム。
（１７）前記（１）〜（１６）のいずれかに記載の光学フィルムが有する光拡散層の上に低屈折率層を設けることを特徴とする反射防止フィルム。
【００１４】
（１８）前記（１）〜（１６）のいずれかに記載の光学フィルムまたは前記（１７）に記載の反射防止フィルムが偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
（１９）前記（１）〜（１６）のいずれかに記載の光学フィルム、前記（１７）に記載の反射防止フィルムまたは前記（１８）に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
（２０）画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ又はＯＣＢモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする前記（１９）に記載の画像表示装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の光学フィルムおよび反射防止フィルムは、防眩性に優れ、ディスプレイに適用したときに画面の黒しまり感が良好である。また、本発明の偏光板、画像表示装置は、前記効果により、視認性に優れた高品質の画像が得られる。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値Ｉ）〜（数値ＩＩ）」という記載は「（数値Ｉ）以上（数値ＩＩ）以下」の意味を表す。また、「（メタ）アクリロイル」との記載は、「アクリロイル及びメタクリロイルの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
以下に、本発明について更に詳細に説明する。
【００１７】
（層構成）
本発明の光学フィルムについては例えば以下のような公知の層構成を使用することができる。
たとえば、代表的な例としては
透明支持体／光拡散層
透明支持体／光拡散層／低屈折率層
透明支持体／ハードコート層／低屈折率層
透明支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層がある。
透明支持体と表面層の間に設けても良い層として、光拡散層、帯電防止層（ディスプレイ側からの表面抵抗値を下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合）、ハードコート層（光拡散層だけで硬度が不足する場合）、低屈折率層、防湿層、密着改良層、虹ムラ（干渉ムラ）防止層等が挙げられる。また、低屈折率層の上にスベリ剤等を含む防汚層を設置しても良い。透明支持体の上に光拡散層を用い光拡散層だけで硬度が不足する場合、透明支持体と光拡散層との間にハードコート層を儲けても良い。
帯電防止層は透明支持体に接することが好ましいが、それ以外の位置に儲けることもできる。
光拡散層の上に低屈折率層を光の波長の１／４前後の膜厚で形成することで、薄膜干渉の原理により表面反射を低減することができる。
また、光拡散層は防眩機能を兼ね備えることもでき、本発明では主として両機能を統合した層として光拡散層と称する。光拡散層は、防眩性、光拡散性以外に、ハードコート性と高屈折率性を有することが好ましい。光拡散層は、１層でもよいが、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。また、透明支持体上に直接設けてもよいが、帯電防止層や防湿層等の他の層を介して設けてもよい。
また、光拡散層は、例えば上記例のハードコート層であってもよい。
本発明では支持体より最も遠い層を最外層と称することがあり、低屈折率層が最外に位置する場合は低屈折率層が最外層であり、防汚層が最外に位置する場合は防汚層が最外層である。
本実施形態の光学フィルムは、主として例えば順に、透明支持体と、透明支持体上に形成された光拡散層と、そして光拡散層上に形成された低屈折率層とからなる。この他、表面への汚れの付着を防止するための防汚層を低屈折率層の外側に設ける場合などがある。光拡散層は、主として透光性樹脂と透光性樹脂中に分散された透光性微粒子とからなる。
上記例において光学フィルムを構成する各層の屈折率は以下の関係を満たすことが好ましい。
（高い）光拡散層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率（低い）
【００１８】
《光拡散層》
光拡散層は、主にモノマー類が電離放射線等で硬化して形成する透光性ポリマーからなる主バインダー、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）、透光性樹脂粒子、および必要により高屈折率化または低屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための微細無機フィラー、後述の高分子化合物（Ｂ）などから形成される。
光拡散層の厚さは、通常０．５μｍ〜３０μｍ程度で、好ましくは１μｍ〜１５μｍ、さらに３μｍ〜１０μｍが好ましい。厚さが上記範囲であると、カール、ヘイズ値、高コスト等の欠点がなく、しかも防眩性や光拡散効果の調整も容易である。
【００１９】
［バインダー］
バインダーの屈折率は、好ましくは１．４０〜２．００であり、より好ましくは１．４５〜１．９０であり、更に好ましくは１．４８〜１．８５であり、特に好ましくは１．５１〜１．８０である。なお、バインダーの屈折率は、光拡散層の成分から透光性粒子を除いて測定した値である。
光拡散層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して２０〜９５質量％の範囲で添加することが好ましい。
【００２０】
［主バインダー］
光拡散層を形成する主バインダーとしては、電離放射線等硬化後に飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有する透光性ポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、硬化後の主バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。
硬化後に飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマー（バインダー前駆体）の重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。
高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むことが好ましい。
【００２１】
光拡散層を形成するための、電離放射線硬化性モノマーの例として二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーが挙げられ、このようなモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。
さらに、二個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマーまたはプレポリマー等もあげられる。これらのモノマー、は２種以上併用してもよく、また、二個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂はバインダー全量に対して１０〜７０％含有することが好ましい。
【００２２】
高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。
【００２３】
また、本発明に係る電離放射線硬化性モノマーは、防眩性を制御しやすくするために総モノマーの平均値として、透光性樹脂粒子の平均値とＩ／Ｏ値の差が０．３〜３．０、より好ましくは、０．５〜２．５離れていることがより好ましい。
透光性樹脂粒子のＩ／Ｏ値の平均値は、各粒子種の含有率にそれぞれのＩ／Ｏ値を乗じた値の和として求めた。
このようにＩ／Ｏ値を制御するためのモノマーとして、Ｉ／Ｏ値が１．２以上、好ましくは１．４〜３．０のモノマーを、粒子凝集性と硬化後膜強度の観点から、全モノマーに対して１０質量％〜６０質量％含有することが好ましく、２０質量％〜５５質量％含有することがより好ましく、３０質量％〜５０質量％含有することがさらに好ましい。使用量がこの範囲より多いと硬化後の膜強度が劣化する。このようなＩ／Ｏ値制御のモノマーの例としては上記多官能モノマーに、例えばエチレンオキシド基を付加したモノマー類が挙げられる。例えばＩ／Ｏ値が１以下のモノマーに対してはエチレンオキシド基の付加量を増やすことによってＩ／Ｏ値を大きくすることができる。
【００２４】
本発明に係るＩ／Ｏ値とは、藤田  穆著「有機性：無機性値による有機概念」、甲田善生著「有機概念図」三共出版（１９８４年）等に記載の方法によって求めた、「無機性（Ｉ）／有機性（Ｏ）」値である。Ｉ／Ｏ値は、有機化合物の色々な物理化学的な性状を予測するための手段の一つとして用いられる。有機性は炭素数の大小の比較で、無機性は炭素同数の炭化水素の沸点の比較で大小が得られる。例えば、（−ＣＨ２−）（実際はＣ）１個は有機性値２０と決め、無機性は水酸基（−ＯＨ）が沸点へ及ぼす影響力から、その無機性値を１００と決めたものである。この（−ＯＨ）の無機性値１００を基準にして他の置換基（無機性基）の値を求めたものが「無機性基表」として示されている。
【００２５】
〔硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）〕
また、本発明ではバインダー成分として光拡散層が、多分岐ポリマー（ＨＢ）を核とし、且つ分岐枝末端に光硬化性及び／又は熱硬化性反応基を有する硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）を含むことが好ましい。また、硬化剤、硬化促進剤及び重合開始剤のうちの少なくとも１種を前記主バインダーと併用して含有することが好ましい。
更には、該硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）に含有される光硬化性及び／又は熱硬化性反応基は、ラジカル重合性基、カチオン重合性基、加水分解性基置換のシリル基から選ばれる硬化性反応基（以下単に硬化性基ということがある）であることが、好ましい。これらの重合性基と共重合可能な重合性化合物及び重合開始剤を更に含有することが好ましい。
【００２６】
（多分岐ポリマー（ＨＢ））
核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）は、多価の基核を中心として２つ以上の規則性樹枝状分岐である分岐鎖延長単位に結合している化合物である。その多価の基核は、連結基を形成する反応性基（ａ）を少なくとも２つ以上有する化合物であり、この基核となる化合物の該反応性基（ａ）と化学結合して連結基を形成する反応性基（ｂ）を１つと、反応性基
（ａ）を少なくとも２つ以上有する化合物（分岐鎖延長化合物）との化学反応を繰り返すことによって延長された構造を有する高分岐ポリマーであることが好ましい。
【００２７】
核（コア）となる多分岐ポリマー（ＨＢ）の多価の基核は、有機残基、窒素原子、ケイ素原子又はリン原子を核とする多官能性化合物であれば、特に限定はない。有機残基としては、炭素原子、芳香族炭化水素環、酸素、窒素、硫黄から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含有する単環式もしくは多環式の環構造を有する複素環構造等が挙げられる。
【００２８】
核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）は、重縮合サイクルによって調製された分子であることが好ましい。各サイクルは、基核の反応性官能基の全てと、分岐鎖延長化合物の１当量とを反応させることを含む。サイクルの数（ｎ）により「第ｎ世代」の多分岐分子と称される。本発明では、第１世代〜第６世代のものが好ましい。特に好ましくは第２世代〜第４世代のものである。
多分岐ポリマー（ＨＢ）は、分岐鎖延長単位中に脂環式環構造及び芳香環構造から選ばれる環状構造を含有することが好ましい。更には環状構造（環構造ともいう。）と炭素数１〜２２のアルキレン基からなるアルキレン鎖構造とを含有することがより好ましい。
【００２９】
多分岐ポリマー（ＨＢ）の分岐枝は、分岐延長化合物と反応性を有する反応性基（ａ）が末端構造となる。分岐枝末端の反応性基（ａ）としては、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、エポキシ基、チオール基等が挙げられる。本発明では、透光性樹脂微粒子の分散性の観点からヒドロキシル基が好ましい。また、本発明に用いられる核となる多分岐ポリマーは、分岐枝の末端の反応性基（ａ）の基数が６〜１２８個を有するものが好ましく、更には８〜６４個を有するものが好ましい。
質量平均分子量は、一般に約１，０００〜約５０，０００であり、好ましくは約１５００〜約２０，０００を有するものが挙げられる。この範囲において、硬化反応が充分に進行し且つ得られた硬化膜の膜強度が保持できる。
【００３０】
より具体的には、核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）は、デンドリマー、ハイパーブランチポリマー及びスターバーストポリマーからなる群から選択される少なくとも１種によって構成されることが好ましい。
【００３１】
多分岐ポリマー（ＨＢ）として具体的には、多分岐ポリ尿素、多分岐ポリウレタン、多分岐ポリアミドアミン、多分岐ポリアミド、多分岐ポリエステル、多分岐ポリカーボネート、多分岐ポリカルボシラン、多分岐ポリカルボシロキサン、多分岐ポリカルボシラゼン、多分岐ポリエーテル、多分岐ポリ（エーテルケトン）、多分岐ポリ（プロピレンイミン）、多分岐ポリアルキルアミン、これらのコポリマー等が挙げられる。
【００３２】
好ましくは、多分岐ポリアミドアミン、多分岐ポリアミド、多分岐ポリエステル、多分岐ポリカルボシラン、多分岐ポリカルボシロキサン、多分岐ポリエーテル、多分岐ポリ（エーテルケトン）、多分岐ポリアルキルアミンが挙げられる。
【００３３】
このような多分岐ポリマーは、例えば、岡田鉦彦編集、「デンドリマーの科学と機能」ｐｐ２９〜３１、（（株）アイピーシ、２０００年刊）、同書、第２章、石津浩二編集、「分岐ポリマーのナノテクノロジー」第６章、（（株）アイピーシ、２０００年刊）、ＣＯＭＰＲＥＨＥＮＳＩＶＥ  ＳＵＰＥＲＭＯＬＥＣＵＬＡＲ、１０、Ｃｈａｐｔｅｒ２６
（ＰｅｒａｍｏｎＰｒｅｓｓ、ＮｅｗＹｏｒｋ、１９９５年刊）等に記載の内容のものを挙げることができる。
【００３４】
更に、Ｄ．Ａ．Ｔｏｍａｌｉａ、ｅｔａｌ．，“Ａｎｇｅｗ．  Ｃｈｅｍ．  Ｉｎｔ．  Ｅｄ．  Ｅｎｇｌ．”，２９巻１３８頁（１９９０年）；Ｒｏｏｖｅｒｓ，Ｊ．，“Ａｄｖａｎｃｅｓ  ｉｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ”，１４３巻１頁（Ｓｐｒｉｎｇｅｒ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ刊）（１９９９年）；Ｊ．Ｃ．Ｓａｌａｍｏｎｅ，Ｅｄ．，“Ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ，”５巻３０４９頁（ＣＲＣ  Ｐｒｅｓｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ刊（１９９６年）；柿本雅明、「高分子」、４７巻８０４頁（１９９８年）、及び前記の成書記載の引用文献等に記載の内容が挙げられる。
【００３５】
核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）としては、例えばポリアミノ系多分岐ポリマーの場合、例えばブチレンジアミンとアクリロニトリルを反応させ、末端のニトリル基をアミンに還元する反応を１ステップとし、この反応を繰り返すことにより得られるプロピレンイミン系多分岐ポリマー（ＷＯ０９３／１４１４７号公報、ＵＳ５，５３０，０９２号明細書、特公平７−３３０６３１号公報）；アミンを求核成分にし、パラジウム触媒を用いた開環重合反応によるアミン系多分岐ポリマー｛Ｍ．Ｓｕｚｕｋｉ，  ｅｔ  ａｌ．，“Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ”，３１巻１７１６頁（１９９８年）｝；アンモニアやエチレンジアミンにメチルアクリレートをマイケル付加し、更にエステルアミド交換反応により末端に２級アミノ基を導入する反応を１ステップとし、必要に応じて、繰り返し反応させることにより得られるアミドアミン系多分岐ポリマー（ＷＯ０８４／０２７０５号公報、特公平６−７０１３２号公報）；ポリアミド系多分岐ポリマー｛Ｓ．Ｃ．Ｅ．Ｂａｃｋｓｏｎ，  ｅｔ  ａｌ．，“Ｍａｃｒｏｍｏｌ．  Ｓｙｍｐ．”，７７巻１頁（１９９４年）、特開２０００−８６７５８号公報、特開２０００−２５６４５９号公報等｝；ポリフェニレンエステル系多分岐ポリマー｛Ｋ．Ｌ．Ｗｏｏｌｅｙ，  ｅｔ  ａｌ．，“Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｊｏｕｒｎａｌ”，２６巻１８７頁（１９９４年）｝；ポリエーテルケトン系多分岐ポリマー｛Ｃ．Ｊ．Ｈａｗｋｅｒ，“Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ”，２９巻４３７０頁（１９９６年）｝；ポリウレタン又はポリウレア系多分岐ポリマー｛Ｒ．Ｓｐｉｎｄｌｅｒ，“Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ”，２６巻４８０９頁（１９９３年）、Ａ．Ｋｕｍａｒ，“Ｃｈｅｍ．  Ｃｏｍｍｕｎ．”，１６２９頁（１９９８年）等｝；ポリエーテル系多分岐ポリマー｛Ｖ．Ｐｅｒｃｅｃ  ｅｔ  ａｌ．“Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ”，２７巻４４４１頁（１９９４年）、Ｃ．Ｊ．Ｈａｗｋｅｒ，  ｅｔ  ａｌ．“Ｊ．Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．”，１１２巻７６３８頁（１９９０年）、特開２００１−２０６８８６号公報、特開２００２−３７８２３号公報等｝；ヒドロキシル基で終結するポリエステル系多分岐ポリマー（ＵＳ５，４１８，３０１号明細書、ＷＯ０９６／１２７５４号公報、特表２００３−５２２２６６号公報等）；カルボキシル基で終結するポリエステル系多分岐ポリマー（Ｓ．Ｒ．Ｔｕｒｎｅｒ，  ｅｔ  ａｌ．“Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ”，２７巻１６１１頁（１９９４年）、特開平１１−６０５４０号公報等）；エポキシ基を含む基で終結するポリエステル系多分岐ポリマー（ＵＳ５，６６３，２４７号明細書、ＷＯ０９６／１３５５８号公報等）などを例示できる。
さらに、脂肪族ポリエステル系多分岐ポリマー類の“ＢＯＬＴＯＲＮ”（商品名、Ｐｅｒｓｔｏｒｐ社製）、ポリプロピルアミノ系多分岐ポリマー類（ＤＳＭ社製）、ポリ（アミドアミン）多分岐ポリマー類の“ＳＴＡＲＢＵＲＳＴ”（ＰＡＭＡＮ社製）、“Ｄｅｎｄｒｉｍｅｒ”（商品名、Ａｌｄｒｉｃｈ社製）等の市販されているものを用いることができる。
【００３６】
（硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ））
本発明に用いられる硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）は、上記の多分岐ポリマー（ＨＢ）の分岐枝末端の少なくとも一部に、光及び／又は熱により架橋反応に関与しうる光硬化性及び熱硬化性反応基（以下、単に硬化性基ということがある）を含有するものであり、多分岐ポリマー（ＨＢ）を核（コア）とし、且つ分岐枝末端に存在するヒドロキシル基の１０モル％〜９０モル％に光硬化性及び／又は熱硬化性反応基を結合させた、高度に『枝分かれした（樹枝状）』巨大分子である。
【００３７】
硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）が有する硬化性基としては、例えば活性水素原子を有する基（例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β−ケトエステル基、ヒドロシリル基、シラノール基等）、ラジカル重合可能な不飽和２重結合を有するラジカル重合性基（例えばアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基等）、カチオン重合可能なカチオン重合性基（例えばエポキシ基、オキセタニル基等）、酸無水物含有基、加水分解性シリル基（例えばアルコキシシリル基、アシルオキシシリル基等）、求核剤によって置換され得る基（活性ハロゲン原子、スルホン酸エステル等）、イソシアナート基（保護されており、加熱によりイソシアナート基を発生するブロックイソシアナート基でもよい）等が挙げられる。
特に、ラジカル重合性基、カチオン重合性基及び加水分解性シリル基から選ばれる少なくとも一種であることが好ましく、ラジカル重合性基から選ばれることが最も好ましい。
【００３８】
核となる多分岐ポリマー（ＨＢ）（以下、単に「コア分子」と称することもある）の全分岐枝数中の１０モル％〜９０モル％の分岐枝が、硬化性基を含有することが好ましい。これにより十分なフィルムの膜の強度が発現され、かつ透光性樹脂微粒子の分散性が確保される。より好ましくは５０モル％〜９０モル％である。
【００３９】
また、分子中の硬化性基は同一でも異なってもよく、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基、加水分解性シリル基から選ばれる、少なくとも１種の重合性基を含有してもよい。
さらに、全分岐枝中の一部に非重合性の炭化水素基が結合した構造、すなわち、他の非重合性の結合基で化学修飾された構造であってもよい。
【００４０】
本発明に用いられる硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）は、従来公知の段階的合成法（Ｄｉｖｅｒｇｅｎｔ法）、ＡＢｘ型化合物の重縮合反応等の合成方法で、核となる多分岐ポリマーを合成し、これの分岐枝末端の極性基を、従来公知の合成方法に従って特定の置換基で修飾することにより得ることができる。また、特許第２５７４２０１号公報の記載に従った合成方法でも硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）を得ることができる。
【００４１】
画像表示用光学フィルムの反射防止膜としては、着色がなく透明性を保持する観点から、上記硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）は、波長４００ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲で吸収のないものであることが好ましい。フィルムとしての、波長４００ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲の光透過率は８５％以上１００％であることが好ましく、より好ましくは９０％以上１００％である。
【００４２】
本発明において光拡散層を構成する光拡散用塗布組成物中に用いる硬化性多分岐ポリマー［ＲＨＢ］のより好ましい例として、エチレン性不飽和基含有ポリエステルデンドリマー（Ａ）を挙げることができる。
エチレン性不飽和基含有ポリエステルデンドリマー（Ａ）は、１分子中に６個以上の水酸基を有するポリエステルポリオールデンドリマー化合物（ａ）とエチレン性不飽和基含有モノカルボン酸（ｂ）とを反応させることにより得られる。
【００４３】
１分子中に６個以上の水酸基を有するポリエステルポリオールデンドリマー化合物とは、エステル結合により高度に枝分かれした分子構造を有し、末端基のほとんどが水酸基であるポリエステルポリオールであれば特に制限されないが、好ましくは下記一般式（１）で表される化合物であり、具体的には例えば、ＢＯＬＴＯＲＮ  Ｈ２０、ＢＯＬＴＯＲＮ  Ｈ３０、ＢＯＬＴＯＲＮ  Ｈ４０、ＢＯＬＴＯＲＮ  Ｈ２００３、ＢＯＬＴＯＲＮ  Ｈ２００４、ＢＯＬＴＯＲＮ  Ｐ１０００（いずれもペルストルプ  アー・ペー社製）等があげられる。
【００４４】
【化２】
0005690868.tif 000003
【００４５】
［式中、Ｘ１はジメチロールプロピオン酸残基又は水素原子を示し、ｃは１〜１０の整数を示す］
【００４６】
エチレン性不飽和基含有モノカルボン酸（ｂ）として例えば、アクリル酸類、クロトン酸、α−シアノ桂皮酸、桂皮酸、飽和又は不飽和二塩基酸と不飽和基含有モノグリシジル化合物との反応生成物等が挙げられる。
【００４７】
該アクリル酸類としては例えば、アクリル酸、アクリル酸の二量体、メタクリル酸、β−スチリルアクリル酸、β−フルフリルアクリル酸、飽和又は不飽和二塩基酸無水物と１分子中に１個の水酸基を有する（メタ）アクリレート誘導体との等モル反応物である半エステル類、飽和又は不飽和二塩基酸とモノグリシジル（メタ）アクリレート誘導体類との等モル反応生成物である半エステル類等が挙げられ、好ましくはアクリル酸が挙げられる。
【００４８】
飽和又は不飽和二塩基酸無水物と１分子中に１個の水酸基を有する（メタ）アクリレート誘導体との等モル反応物である半エステル類とは、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート又は１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート等と、二塩基酸無水物（例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等）との反応物である半エステル等が挙げられる。
飽和又は不飽和二塩基酸とモノグリシジル（メタ）アクリレート誘導体類との等モル反応物である半エステル類には、例えば、メタクリル酸グリシジルと（メタ）アクリル酸との反応物に前記二塩基酸無水物を反応させて得られる生成物等も挙げられる。
飽和又は不飽和二塩基酸と不飽和基含有モノグリシジル化合物との反応生成物には、例えば、フェニルジグリシジルエーテル化合物、ビスフェノール型エポキシ化合物、水素化ビスフェノール型エポキシ化合物、脂環式ジグリシジルエーテル化合物、脂肪族ジグリシジルエーテル化合物、ポリサルファイド型ジグリシジルエーテル化合物、ビフェノール型エポキシ化合物、ビキシレノール型エポキシ化合物、ハロゲン化ビスフェノール骨格を有するエポキシ化合物又はハロゲン化ビフェノール骨格を有するエポキシ化合物と（メタ）アクリル酸との反応物に前記二塩基酸無水物を反応させて得られる生成物等も挙げられる。
これらは、単独又は２種以上を混合して使用してもよい。
【００４９】
本発明に用いられる光拡散層に好ましく含有されるエチレン性不飽和基含有ポリエステルデンドリマー（Ａ）は、上記ポリエステルポリオールデンドリマー化合物（ａ）と上記エチレン性不飽和基含有モノカルボン酸（ｂ）とを反応させて得られるが、好ましくは（ａ）と（ｂ）とを例えば、硫酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の酸触媒の存在下で脱水縮合させる方法により製造される。
【００５０】
エチレン性不飽和基含有ポリエステルデンドリマー（Ａ）の硬化後の光拡散層中の含有率は、カールが小さく、可撓性向上の観点から、該層固形分中の１０質量％〜８０質量％が好ましく、２０質量％〜７０質量％がより好ましく、３０質量％〜６０質量％がさらに好ましい。
【００５１】
（硬化剤、硬化促進剤及び重合開始剤）
本発明に用いられる硬化性多分岐ポリマーを含む光拡散層用塗布組成物には、硬化剤、硬化促進剤及び重合開始剤のうちの少なくとも一種が併用されることが好ましい。これらは、前記硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）中の硬化性反応基（ａ）の硬化反応に応じて、従来公知のものを適宜選択して使用することができる。
【００５２】
このような硬化剤及び硬化促進剤としては、例えば、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊（１９８１年）高分子学会編「高分子データハンドブック  基礎編」培風舘（１９８６年）等に記載されている化合物を用いることができる。また、例えば、有機シラン系化合物、ポリイソシアナート系化合物、ポリオール系化合物、ポリアミン系化合物、酸無水化合物類、ポリエポキシ基含有化合物、エポキシ樹脂｛例えば、堀内弘編著「新エポキシ樹脂」昭晃堂（１９８５年刊）、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社（１９６９年刊）等に記載された化合物類｝、メラミン樹脂｛例えば、三輪一郎、松永英夫編著「ユリア・メラミン樹脂」日刊工業新聞社（１９６９年刊）等に記載された化合物類｝及びポリ（メタ）アクリレート系化合物｛例えば、大河原信、三枝武夫、東村敏延編「オリゴマー」講談社（１９７６年）、大森英三「機能性アクリル系樹脂」テクノシステム（１９８５年刊）等に記載された化合物類｝が挙げられる。
【００５３】
例えば、硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）の硬化性基がヒドロキシル基、アミノ基等の活性水素を有する基である場合に用いる硬化剤としては、例えばポリイソシアネート系、アミノプラスト、多塩基酸又はその無水物などを挙げることができる。
硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ）の硬化性基がエポキシ基、オキセタニル基の場合は、活性水素を有する反応性基（例えばヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基等）又は環状酸無水物含有基を有する化合物との化学反応により硬化させることができる。
【００５４】
これらの硬化剤は、硬化性多分岐高分子（ＲＨＢ）１００質量部当たり、０．５〜３００質量部の添加量が好ましく、特に、硬化性多分岐高分子（ＲＨＢ）１００質量部当たり、５．０〜１００質量部の添加量とすることが好ましい。
【００５５】
硬化を促進する硬化促進剤としては、反応の触媒として公知の酸、塩基触媒又は金属キレート化合物を用いることができる。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、又は酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トリフロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸等のブレンステッド酸、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブトキシチタネート等のルイス酸が挙げられる。
硬化促進剤の使用量は化合物の種類、硬化反応性部位の違いによってまちまちであるが、一般的には硬化性組成物全固形分に対して０．１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％である。
重合開始剤としては、後述のものを用いることができる。
【００５６】
［高分子化合物（Ｂ）］
また、本発明に係る光拡散層は、前記以外の高分子化合物（以後高分子化合物（Ｂ）とも呼ぶ）を含有することが好ましい。高分子化合物（Ｂ）は塗布組成物に添加する時点で既に重合体を形成しており、主として透光性粒子の分散安定性（凝集性、沈降速度）に関わる塗布組成物の粘度調整や、乾燥過程での残留分の極性を制御して透光性粒子の凝集挙動を変えたり、乾燥過程での乾燥ムラを減じたりする目的で含有される。
このための高分子化合物（Ｂ）として、例えば、メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル共重合体、メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル共重合体、メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル共重合体、メタクリル酸メチル／メタアクリル酸ブチル共重合体、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体、メタクリル酸メチル／メタクリル酸共重合体、ポリメタクリル酸メチル等の（メタ）アクリル樹脂。
セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース系樹脂が挙げられる。
【００５７】
高分子化合物（Ｂ）の製品としては、例えばポリメタクリル酸エステル系として、ポリ
（メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル）分子量１０．１万、ポリ（メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチル）分子量７．５万、ポリメタクリル酸メチル分子量１２万、１．５万、３５万、９９．６万（いずれもシグマアルドリッチジャパン（株）製）、ポリメタクリル酸イソブチル（分子量３０万、関東化学（株）製）、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン（株）製）、スミペックスＬＧ２１、ＬＧ、ＥＸ、ＭＨ（住友化学工業（株）製）、パラペットＧＦ、Ｇ、ＧＨ−Ｓ、ＨＲ−Ｌ、ＧＲ（（株）クラレ製）等が挙げられる。
【００５８】
高分子化合物（Ｂ）は、塗布組成物の粘度増加効果の発現及び含有層の膜強度維持観点から、光拡散層に含まれる全バインダーに対して、好ましくは３質量％〜４０質量％、より好ましくは５質量％〜３０質量％、さらに好ましくは８質量％〜２５質量％の範囲で含有することが好ましい。塗布組成物の粘度増加効果の点で３質量％以上が好ましく、含有層の膜強度維持の点で４０質量％以下が好ましい。
また、高分子化合物（Ｂ）の分子量は質量平均で０．３万〜４０万が好ましく、０．５万〜３０万がより好ましく、０．５万〜２０万がさらに好ましい。分子量がこの範囲であると、塗布組成物の粘度増加効果が十分発現し、溶解時間が短時間であり、しかも不溶解物も少ない。
また、高分子化合物（Ｂ）を含有する塗布組成物の粘度は、主として防眩性制御と塗布面状の観点から、４ｍＰａ・ｓ〜３０ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、６ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓがより好ましく、７ｍＰａ・ｓ〜１５ｍＰａ・ｓが最も好ましい。
【００５９】
［重合開始剤］
エチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラー、その他の添加剤を含有する硬化組成物を調製し、該硬化組成物を透明支持体上に塗布後、電離放射線あるいは熱よる重合反応により硬化して光学フィルムを形成する。電離放射線硬化と熱硬化を合わせて行うことも好ましい。
【００６０】
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
アセトフェノン類の例には、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシ−ジメチル−ｐ−イソプロピルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、が含まれる。
ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。
ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、３，３’、４、４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどが含まれる。
【００６１】
ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
活性エステル類の例には１、２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。
オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。
ボレート塩の例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。
活性ハロゲン類の例にはＳ−トリアジンやオキサチアゾール化合物が知られており、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−スチリルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−Ｂｒ−４−ジ（エチル酢酸エステル）アミノ）フェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−トリハロメチル−５−
（ｐ−メトキシフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールが含まれる。
無機錯体の例にはビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムが挙げられる。
クマリン類の例には３−ケトクマリンが挙げられる。
これらの開始剤は単独でも混合して用いても良い。
【００６２】
「最新ＵＶ硬化技術」，（株）技術情報協会，１９９１年，ｐ．１５９にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，８１９、９０７、１８７０（ＣＧＩ−４０３／Ｉｒｇ１８４＝７／３混合開始剤、５００，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３など）、ＯＸＥ等、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＥＴＸ−Ｓ，ＢＰ−１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２−ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡなど）、サートマー社製のＥｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトンおよびチオキサントン、などを挙げることができる。
更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を１種以上組み合わせて用いてもよい。
【００６３】
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）などが挙げられる。
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（プロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
【００６４】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーをバインダーとして使用する場合は、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、透光性粒子および無機フィラーを含有する塗布液を調製し、該塗布液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して光学フィルムを形成することができる。
【００６５】
［有機溶媒］
本発明に用いられる光拡散層用塗布組成物は、少なくとも二種類の有機溶媒を含有する。
少なくとも二種の有機溶媒は、有機溶媒間のＩ／Ｏ値の差が０．２５以上である組み合わせを少なくとも一組有することが好ましい。このＩ／Ｏ値の差がある少なくとも二種の有機溶媒は、それぞれ相対的に親水性、疎水性の性質を有し、一般に親水性有機溶媒は主として防眩性に影響する層の表面凹凸に関わる粒子の凝集性を強調する作用を持ち、疎水性有機溶媒はモノマー類の溶解や樹脂粒子の分散安定性を増す作用を持つ。
少なくとも二種の有機溶媒は、有機溶媒間のＩ／Ｏ値の差が０．２５以上であることが好ましく、０．４以上であることがより好ましく、０．６以上であることがさらに好ましい。この範囲のＩ／Ｏ値差を有する有機溶媒の組み合わせを少なくとも一組有することが好ましい。
例えば、相対的に親水的な有機溶媒はＩ／Ｏ値が１．０以上であることが好ましい。（本発明では区別上、このような有機溶媒を親水性有機溶媒と称する。）
親水性有機溶媒のＩ／Ｏ値は、１．０以上が好ましく１．５以上がより好ましく、２．０以上がさらに好ましい。上限は特に限定できないが、約８が好ましい。
親水性有機溶媒は、凝集化に有効でかつ凝集化を加速しすぎない観点から、塗布組成物中の全有機溶媒に対して３質量％〜３０質量％含有することが好ましく、５質量％〜２０質量％含有することがより好ましく、７質量％〜１５質量％含有することが最も好ましい。
【００６６】
親水性有機溶媒の具体例としては、例えばケトン系では、アセトン、ジアセトンアルコール等、アセトニルアセトン等、
アルコール系ではメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、第二ブタノール、第三ブタノール、１−ペンタノール、イソアミルアルコール等、
エステル系では、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、乳酸ｎブチル、乳酸イソブチル、シュウ酸ジエチル等、
多価アルコールおよびその誘導体系では、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブタンジオール、エチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコール、トリメチレングリコール、ヘキシレングリコール、１，５−ペンタジオール、１，２，６−ヘキサントリオール等、
脂肪酸系では、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、絡酸、イソ絡酸、吉草酸、イソ吉草酸、乳酸等、
窒素化合物系では、ホルムアミド、アセトアミド、アセトニトリル等、
イオウ化合物系では、ジメチルスルホキシド等、が挙げられる。
その他の溶媒としては、炭酸エチレン等が挙げられる。
【００６７】
また、前記親水性有機溶媒の中でも、沸点が比較的高いほうが好ましく、沸点が１６０℃〜２５０℃が好ましく、１７０℃〜２４０℃がより好ましく、１８０℃〜２３０℃がさらに好ましい。
本発明ではこれら特に好ましい親水性溶媒を親水性高沸点溶媒と称する。
特に好ましい親水性溶媒を親水性高沸点溶媒としては、前記親水性有機溶媒具体例の中では、その分子構造の中に水酸基を有するもの（好ましくは２個以上の水酸基を有するもの）、イオウ原子または窒素原子を有するもの、又は、脂肪酸が好ましく、具体的には、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、エチレングリコールモノアセテート、ジメチルスルホキシド、１，２，６−ヘキサントリオール、乳酸が好ましく、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、エチレングリコールモノアセテートがより好ましい。
親水性高沸点有機溶媒は、２種以上併用してもよい。
【００６８】
なお、親水性高沸点有機溶媒は、光拡散層または光学フィルムのいずれかの層中に残留溶媒として微量含有していてもよい。微量の残留溶媒は添加物の析出によるフィルムの白化を遅らせる効果がある。残留溶媒はガスクロマトグラフィーによって定量できる。
【００６９】
また、光拡散層を形成する塗布組成物は、前記の親水性有機溶媒の他に相対的に疎水的な有機溶媒を含有する。このような疎水性有機溶媒はＩ／Ｏ値が１．０未満であることが好ましい。（本発明では区別上、これら相対的に疎水的な有機溶媒を疎水性有機溶媒と称する。）
疎水性有機溶媒のＩ／Ｏ値は、１．０未満〜０が好ましく、０．９〜０がより好ましく、０．８〜０がさらに好ましい。
疎水性有機溶媒の沸点は１６０℃未満〜３０℃が好ましく、１５０℃〜４０℃がより好ましく、１４０℃〜５０℃がさらに好ましい。
疎水性有機溶媒は、モノマー、前述の高分子化合物（Ｂ）、その他の添加剤等の溶解性が良好で、かつ樹脂粒子等の分散安定性を良好に保つことができる。このような有機溶媒は、乾燥工程の初期に気化することが好ましい。
【００７０】
このような疎水性有機溶媒としては、溶剤として当業界で広範に用いられる有機溶媒を用いることができ、その具体例としては、例えばケトン系では、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン等、
アルコール系では、ｎ−ヘキサノール、メチルアミルアルコール等、エーテル、アセタール系では、１，４ジオキサン、テトラヒドロフラン、２−メチルフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルアセタール等、
エステル系では、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソアミル、酢酸ｎ−アミル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル等、
炭化水素系では、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、リグロイン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、スチレン、ジビニルベンゼン等、
ハロゲン炭化水素系では、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、１，１，１−トリクロルエタン、１，１，２−トリクロルエタン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン、１，１，１，２−テトラクロルエタン等が好ましい。
これらの中でメチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、キシレン等が特に好ましい。
疎水性有機溶媒は、２種以上使用してもよい。
【００７１】
疎水性有機溶媒は、塗布組成物中の全有機溶媒に７０質量％〜９７質量％含有することが好ましく、８０質量％〜９５質量％含有することがより好ましく、８５質量％〜９３質量％含有することが最も好ましい。
本発明に係る塗布組成物の有機溶媒は、親水性有機溶媒と疎水性有機溶媒とを適宜混合して、２種以上用いることが好ましい。
【００７２】
［透光性樹脂粒子］
光拡散層には、透光性樹脂粒子が少なくとも二種含有される。前記二種の透光性樹脂粒子は、いずれも後記の微細無機フィラー粒子より平均粒径が大きいことが好ましく、各々の種における平均粒径が０．５μｍ〜２５μｍであることが好ましく、１μｍ〜２０μｍであることがより好ましく、３μｍ〜７μｍであることが特に好ましい。少なくとも二種の粒子のうち最も平均粒径の大きい第一の樹脂粒子種の平均粒径は２μｍ〜２０μｍであることが好ましく、３μｍ〜１５μｍであることがより好ましい。
また、少なくとも二種類の粒子のうち、最も平均粒径の大きい第一の樹脂粒子種に次いで平均粒径粒径の大きい第二の粒子種の平均粒径は、本発明においては、第一の粒子の平均粒径に対して３０％〜９０％であり、４０％〜８５％の間にあることが好ましく、４０％〜８０％の間にあることがさらに好ましい。
第三以降の粒子種を用いる場合、その平均粒径は、好ましくは前記第二の粒子種の好ましい平均粒径の範囲に入っていることが好ましい。
【００７３】
透光性樹脂粒子の粒径と光拡散層の膜厚との関係は、本発明においては、最大の平均粒径を有する粒子種の平均粒径が、光拡散層の硬化後の厚みの２０％〜９０％であり、３０％〜８５％が好ましく、３５％〜８０％が最も好ましい。平均粒径がこの範囲であると画面の黒しまり感に優れ、かつ防眩性にも優れる。
本発明において、第二の粒子種の平均粒径を第一の粒子の平均粒径に対して４０％〜８５％の間に設定する場合は、最も平均粒径の大きい第一の樹脂粒子種の平均粒径が、光拡散層の硬化後の厚みの３０％〜８５％とすることが好ましく、３５％〜８０％が最も好ましい。更に第二の粒子種の平均粒径を第一の粒子の平均粒径に対して４０％〜８０％の間に設定する場合は、最も平均粒径の大きい第一の樹脂粒子種の平均粒径が、光拡散層の硬化後の厚みの３５％〜８０％とすることが好ましい。このように設定することにより、更に画面の黒しまり感に優れ、かつ防眩性にも優れる。
【００７４】
これらの使用は、ディスプレイ表面で反射する外光を散らして弱めたり、液晶表示装置の視野角（特に下方向視野角）を拡大しながら、画面の黒しまり感を増すために有効である。平均粒径が上記範囲であれば、ザラツキ感が起こることもない。
透光性樹脂粒子とバインダー樹脂との間の屈折率差はフィルムの白濁が生じないこと及び十分な光拡散効果を得る観点から、各々の平均の屈折率において、０〜０．３０が好ましく、０．０３〜０．２０であることが特に好ましい。
透光性樹脂粒子の光拡散層に対する添加量も同様な観点から、好ましい範囲が決められる。透光性樹脂粒子の好ましい層内の総含有率は、光拡散層全固形分中３質量％〜４０質量％であり、５質量％〜２５質量％であることが特に好ましい。
透光性粒子の塗布量は、形成された光拡散層中の粒子量において好ましくは１０ｍｇ／ｍ２〜１００００ｍｇ／ｍ２、より好ましくは５０ｍｇ／ｍ２〜４０００ｍｇ／ｍ２、最も好ましくは１００ｍｇ／ｍ２〜１５００ｍｇ／ｍ２となるように光拡散層に含有される。
本発明に係る粒子の粒度分布は光回折法で測定される。平均粒径は体積積算カーブの丁度、５０体積％に相当する粒径を用いた。
【００７５】
本発明に係る透光性樹脂粒子の粒度分布は光拡散層に含有する複数種類の透光性樹脂粒子の総数において、表面凹凸形成に寄与する粒子を効率的に利用する観点などから、分散度（Ｖ）を下記数式Ａで表したときの値が、Ｖ＝０．６〜１．０であることが好ましく、０．７〜０．９であることがより好ましい。
【００７６】
数式Ａ
Ｖ＝（９０％体積積算粒径−１０％体積積算粒径）／５０％体積積算粒径
【００７７】
粒度分布は、粉体粒子を粘着テープに固定して、走査型電子顕微鏡を用いて撮影した粒子５００個の直径から求めた。測定した粒子直径を小さいほうから０．２μｍ毎に分けて各クラスの頻度を求め、積算した体積から前記の体積積算粒径を求めた。
光回折法粒度分布測定装置
黒しまり改良効果の点で０．６以上が好ましく、ザラつきが小さく、黒しまり効果を発揮するための増量が必要ない点で１．０以下が好ましい。
【００７８】
透光性樹脂粒子としては、異なる２種以上の平均粒径を有する透光性樹脂粒子を併用する。二種以上の樹脂粒子間の屈折率は異なっていても同じでも良い。
前記透光性樹脂粒子の具体例としては、ポリメチル（メタ）アクリレート粒子、架橋ポリメチル（メタ）アクリレート粒子、架橋メチル（メタ）アクリレート−スチレン共重合体粒子、架橋メチル（メタ）アクリレート−アクリル酸共重合体粒子、架橋メチルメタアクリレート−アクリレート共重合体粒子、架橋ポリスチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、ポリカーボネート粒子、ポリ塩化ビニル粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋ポリメチル（メタ）アクリレート粒子、架橋メチル（メタ）アクリレート−スチレン共重合体粒子が好ましい。
少なくとも二種用いる透光性樹脂粒子のうち、個別の粒度分布は、ヘイズ値と拡散性の制御性、塗布面状の均質性から単分散粒子が好ましい。例えばある一種の粒子において平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つ粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布の粒子を得ることができる。
【００７９】
透光性樹脂粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社）１３０頁及び１４６頁から１４７頁の記載、「合成高分子」１巻、ｐ．２４６〜２９０、同３巻、ｐ．１〜１０８等に記載の方法、及び特許第２５４３５０３号明細書、同第３５０８３０４号明細書、同第２７４６２７５号明細書、同第３５２１５６０号明細書、同第３５８０３２０号明細書、特開平１０−１５６１号公報、特開平７−２９０８号公報、特開平５−２９７５０６号公報、特開２００２−１４５９１９号公報等に記載の方法を参考にすることができる。
【００８０】
透光性樹脂粒子のＩ／Ｏ値の平均値は０〜１．５が好ましく、より好ましくは０．０５〜１．３が好ましい。透光性樹脂粒子のＩ／Ｏ値の平均値の算出法は前記のとおりである。
また、前述のように、本発明に係る電離放射線硬化性モノマーは、防眩性を制御しやすくするために総モノマーの平均値として、透光性樹脂粒子の平均値とＩ／Ｏ値の差が０．３〜３．０、より好ましくは、０．５〜２．５離れていることがより好ましい。
【００８１】
［フィラー添加材料］
光拡散層には、層の屈折率を高めるため、上記の透光性樹脂粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、一次粒子の平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である極く微細な無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、高屈折率の透光性樹脂粒子を用いた光拡散層では、粒子との屈折率差を大きくするためにバインダーの屈折率を低くしなければならない。このためにシリカ微粒子、中空シリカ微粒子を用いることも好ましい。好ましい粒径は前記の高屈折率化微細無機フィラーと同じである。
光拡散層に用いられる微細無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＩＴＯとＳｉＯ２等が挙げられる。ＴｉＯ２およびＺｒＯ２が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの微細無機フィラーの添加量は、光拡散層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、微細無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分短いために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質の性質を有する。
【００８２】
［フッ素系面状改良剤］
本発明に用いられる光拡散層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れか、あるいはその両者の面状改良剤を光拡散層形成用の塗布組成物中に含有することが好ましい。特にフッ素系の面状改良剤は、より少ない添加量において、本発明の光学フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。
面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。
【００８３】
フッ素系の面状改良剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体（「フッ素系ポリマー」と略記することもある）が挙げられ、該フッ素系ポリマーは、下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とする、あるいは下記（ｉｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。
【００８４】
（ｉ）下記一般式イで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
【００８５】
【化３】
0005690868.tif 000004
【００８６】
一般式イにおいてＲ１１は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ１２）−を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは２〜４の整数を表す。Ｒ１２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｘは酸素原子が好ましい。
【００８７】
（ｉｉ）前記（ｉ）と共重合可能な下記一般式ロで示されるモノマー
【００８８】
【化４】
0005690868.tif 000005
【００８９】
一般式ロにおいて、Ｒ１３は水素原子またはメチル基を表し、Ｙは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ１５）−を表し、Ｒ１５は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｙは酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−、および−Ｎ（ＣＨ３）−が好ましい。
Ｒ１４は置換基を有しても良い炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。Ｒ１４のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。
【００９０】
本発明で用いられるフッ素系ポリマー中に用いられるこれらの一般式イで示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの各単量体に基づいて１０モル％以上であり、好ましくは１５〜７０モル％であり、より好ましくは２０〜６０モル％の範囲である。
フッ素系ポリマーの好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、５，０００〜８０，０００がより好ましい。
更に、フッ素系ポリマーの好ましい添加量は、塗布液に対して０．００１〜５質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。フッ素系ポリマーの添加量が０．００１質量％未満では効果が不十分であり、また５質量％より多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、塗膜としての性能（例えば反射率、耐擦傷性）に悪影響を及ぼす。
【００９１】
以下、一般式イで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーからなるフッ素系ポリマーの具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【００９２】
【化５】
0005690868.tif 000006
【００９３】
【化６】
0005690868.tif 000007
【００９４】
光拡散層の表面エネルギーは、好ましくは２０ｍＮ・ｍ−１〜５０ｍＮ・ｍ−１、より好ましくは３０ｍＮ・ｍ−１〜４０ｍＮ・ｍ−１に制御することが効果的である。前記のような表面エネルギーを実現するためには、Ｘ線光電子分光法で測定したフッ素原子由来のピークと炭素原子由来のピークの比であるＦ／Ｃは通常０．１〜１．５である。
【００９５】
光拡散層の上にさらに上層を塗布する時には上層を形成する溶媒に抽出されるようなフッ素系ポリマーを選択することが好ましく、このような素材の例は下記一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体である。
【００９６】
（ｉｉｉ）下記一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
【００９７】
【化７】
0005690868.tif 000008
【００９８】
一般式ハにおいてＲ２１は水素原子またはハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｘ２は酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ２２）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒ２２）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。ｍは１以上６以下の整数（１〜３がより好ましく、１であることが更に好ましい。）、ｎは１以上１８以下の整数（４〜１２がより好ましく、６〜８が更に好ましい。）を表す。Ｒ２２は水素原子または置換基を有しても良い炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。Ｘは酸素原子が好ましい。
またフッ素系ポリマー中に一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが２種類以上構成成分として含まれていても良い。
【００９９】
（ｉｖ）前記（ｉｉｉ）と共重合可能な下記一般式ニで示されるモノマー
【０１００】
【化８】
0005690868.tif 000009
【０１０１】
一般式ニにおいて、Ｒ２３は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙ２は酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ２５）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒ２５）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ２５は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。
Ｒ２４は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、ポリ（アルキレンオキシ）基を含むアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基（例えば、フェニル基またはナフチル基）を表す。炭素数１〜１２の直鎖、分岐、または環状のアルキル基、または総炭素数６〜１８の芳香族が好ましい。
【０１０２】
以下、一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位を含むフッ素系ポリマーの具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【０１０３】
【化９】
0005690868.tif 000010
【０１０４】
【化１０】
0005690868.tif 000011
【０１０５】
【化１１】
0005690868.tif 000012
【０１０６】
【化１２】
0005690868.tif 000013
【０１０７】
【化１３】
0005690868.tif 000014
【０１０８】
また光拡散層上に低屈折率層をオーバーコートする時点で表面エネルギーの低下を防げば、反射防止性能の悪化が防げる。光拡散層塗布後にコロナ処理、ＵＶ処理、熱処理、鹸化処理、溶剤処理等を用いて表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層塗布前の光拡散層の表面エネルギーを前記範囲に制御することができる。
【０１０９】
また、光拡散層を形成する為の塗布組成物中に、チクソトロピー剤を添加しても良い。チクソトロピー剤としては、０．１μｍ以下のシリカ、マイカ等があげられる。これら添加剤の含有量は、通常、紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜１０質量部程度とするのが好適である。
【０１１０】
《低屈折率層》
［低屈折率層用材料］
低屈折率層には、通常、微粒子と、それを分散・固定するためのバインダーが含有される。バインダーとしては、前記光拡散層で述べたバインダーを用いることが出来るが、バインダー自身の屈折率の低い含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル素材などを用いることが好ましい。含フッ素ポリマーあるいは含フッ素ゾルゲルとしては、熱または電離放射線により架橋し、形成される低屈折率層表面の動摩擦係数０．０３〜０．３０であり、水に対する接触角８５〜１２０°となる素材が好ましい。
【０１１１】
低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４６であることが好ましく、１．２５〜１．４６であることがより好ましく、１．３０〜１．４６であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、７０〜１００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、光学フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０度以上であることが好ましい。更に好ましくは９５度以上であり、特に好ましくは１００度以上である。
【０１１２】
さらに、低屈折率層は下記数式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
【０１１３】
数式（Ｉ）
（ｍ／４）×０．７＜ｎ１×ｄ１＜（ｍ／４）×１．３
【０１１４】
数式（Ｉ）中、ｍは正の奇数であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
なお、前記数式（Ｉ）を満たすとは、前記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
【０１１５】
［低屈折率層用含フッ素ポリマー］
以下に本発明に用いられる低屈性率層に好ましく用いられるポリマーについて説明する。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学製）やＲ−２０２０（商品名、ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明ではポリマーのフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％の場合であり、特に好ましくは３０〜５０質量％の場合である。
【０１１６】
架橋反応性付与のための構成単位の例としては主として以下の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）で示される単位が挙げられる。
（Ａ）：グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、
（Ｂ）：カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、
（Ｃ）：分子内に上記（Ａ）、（Ｂ）の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有する化合物を、上記（Ａ）、（Ｂ）の構成単位と反応させて得られる構成単位、（例えばヒドロキシル基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できる構成単位）が挙げられる。
【０１１７】
上記（Ｃ）の構成単位は、特に本発明においては、該架橋性官能基が光重合性基であることが好ましい。ここに、光重合性基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、スチリルピリジン基、α−フェニルマレイミド基、フェニルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド基、ジアゾ基、ｏ−キノンジアジド基、フリルアクリロイル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベンゾフェノン基、スチルベン基、ジチオカルバメート基、キサンテート基、１，２，３−チアジアゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基などを挙げることができ、これらは１種のみでなく２種以上であってもよい。これらのうち、（メタ）アクリロイル基およびシンナモイル基が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。
【０１１８】
光重合性基含有共重合体を調製するための具体的な方法としては、下記の方法を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
（１）水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸クロリドを反応させてエステル化する方法、
（２）水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、イソシアネート基を含有する（メタ）アクリル酸エステルを反応させてウレタン化する方法、
（３）エポキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸を反応させてエステル化する方法、
（４）カルボキシル基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、エポキシ基を含有する含有（メタ）アクリル酸エステルを反応させてエステル化する方法。
尚、上記光重合性基の導入量は任意に調節することができ、塗膜面状安定性・無機微粒子共存時の面状故障低下・膜強度向上などの点からカルボキシル基やヒドロキシル基等を一定量残すことも好ましい。  
【０１１９】
本発明に有用な共重合体では上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、０〜４０モル％の範囲であることがより好ましく、０〜３０モル％の範囲であることが特に好ましい。
【０１２０】
併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２‐ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等を挙げることができる。
【０１２１】
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％の場合である。好ましいポリマーについては、特開２００２−２４３９０７号、特開２００２−３７２６０１号、特開２００３−２６７３２号、特開２００３−２２２７０２号、特開２００３−２９４９１１号、特開２００３−３２９８０４号、特開２００４−４４４４、特開２００４−４５４６２号に記載のものを挙げることができる。
【０１２２】
また本発明に用いられる含フッ素ポリマーには防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平６−９３１００号、特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号の各公報に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。特に好ましい化合物としては、特開平１１−１８９６２１号の実施例１、２、及び３のポリマー、又は特開平２−２５１５５５号の共重合体Ａ−２及びＡ−３を挙げることができる。これらのポリシロキサン成分はポリマー中の０．５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％である。
【０１２３】
本発明に用いられる低屈折率層用含フッ素ポリマーの好ましい形態として一般式１で表される共重合体が挙げられる。
【０１２４】
【化１４】
0005690868.tif 000015
【０１２５】
一般式１中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ及びＳから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
好ましい例としては、＊−（ＣＨ２）２−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ２）２−ＮＨ−＊＊，＊−（ＣＨ２）４−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ２）６−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−＊＊，＊−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｏ−＊＊，＊−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−＊＊，＊−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−Ｏ−＊＊（＊はポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｂは０または１を表わす。
【０１２６】
一般式１中、Ｘ１は水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
一般式１中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。
【０１２７】
好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。
【０１２８】
ｘ１、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ１≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５が好ましく、更に好ましくは、３５≦ｘ１≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ１≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の場合である。ただし、ｘ１＋ｙ＋ｚ＝１００である。
本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として一般式２が挙げられる。
【０１２９】
【化１５】
0005690868.tif 000016
【０１３０】
一般式２においてＸ１は一般式１と同じ意味を表わし、好ましい範囲も同じである。
ｅは２≦ｅ≦１０の整数を表わし、２≦ｅ≦６であることが好ましく、２≦ｅ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を単位を表わし、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式１におけるＡの例として説明したものが当てはまる。
ｘ１、ｙ、ｚ１およびｚ２はそれぞれの繰返し単位のｍｏｌ％を表わし、ｘ１及びｙは、それぞれ３０≦ｘ１≦６０、５≦ｙ≦７０を満たすのが好ましく、更に好ましくは、３５≦ｘ１≦５５、３０≦ｙ≦６０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ１≦５５、４０≦ｙ≦５５の場合である。ｚ１及びｚ２については、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たすのが好ましく、更に好ましくは０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。ただし、ｘ１＋ｙ＋ｚ１＋ｚ２＝１００である。
一般式１又は２で表わされる共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。この際用いられる再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
一般式１又は２で表わされる共重合体の好ましい具体例としては、特開２００４−４５４６２号公報の［００３５］〜［００４７］に記載されたものを挙げることができ、該公報に記載の方法により合成することができる。
【０１３１】
本発明に好ましく用いることのできるポリマーの好ましい分子量は、質量平均分子量が５０００以上、好ましくは１００００〜５０００００、最も好ましくは１５０００〜２０００００である。平均分子量の異なるポリマーを併用することで塗膜面状の改良や耐傷性の改良を行うこともできる。
【０１３２】
上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号公報および特開２０００−１７０２８号公報に記載のごとく適宜重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開２００２−１４５９５２号に記載のごとく含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、前記ハードコート層で述べた多官能モノマーを挙げることができる。これら化合物は、特にポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。
【０１３３】
ポリマー自身が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。例えばポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。
【０１３４】
メラミン系化合物は、一般にトリアジン環に窒素原子が結合した骨格を有する化合物として知られているものであり、具体的には、メラミン、アルキル化メラミン、メチロールメラミン、アルコキシ化メチルメラミン等を挙げることができるが、１分子中にメチロール基及びアルコキシ化メチル基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上有するものが好ましい。具体的には、メラミンとホルムアルデヒドとを塩基性条件下で反応させて得られるメチロール化メラミン、アルコキシ化メチルメラミン、又はそれらの誘導体が好ましく、特に硬化性樹脂組成物に良好な保存安定性が得られる点、及び良好な反応性が得られる点で、アルコキシ化メチルメラミンが好ましい。架橋性化合物として用いられるメチロール化メラミン及びアルコシ化メチルメラミンには特に制約はなく、例えば、文献「プラスチック材料講座［８］ユリア・メラミン樹脂」（日刊工業新聞社）に記載されている方法で得られる各種の樹脂状物の使用も可能である。
【０１３５】
また、尿素系化合物としては、尿素の他、ポリメチロール化尿素その誘導体であるアルコキシ化メチル尿素、ウロン環を有するメチロール化ウロン及びアルコキシ化メチルウロン等を挙げることができる。そして、尿素誘導体等の化合物についても、上記の文献に記載されている各種樹脂状物の使用が可能である。
【０１３６】
本発明に用いられる低屈折率層には、電離放射線または熱の照射によりラジカルや酸を発生する化合物を使用することができる。
光ラジカル開始剤、熱ラジカル開始剤については、前述の光拡散層の頁で述べた化合物を用いることができる。
【０１３７】
［熱酸発生剤］
熱酸発生剤の具体例としては、例えば、各種脂肪族スルホン酸とその塩、クエン酸、酢酸、マレイン酸等の各種脂肪族カルボン酸とその塩、安息香酸、フタル酸等の各種芳香族カルボン酸とその塩、アルキルベンゼンスルホン酸とそのアンモニウム塩、アミン塩、各種金属塩、リン酸や有機酸のリン酸エステル等を挙げることができる。
市販されている材料としては、キャタリスト４０４０、キャタリスト４０５０、キャタリスト６００、キャタリスト６０２、キャタリスト５００、キャタリスト２９６−９、以上日本サイテックインダストリーズ（株）製、やＮＡＣＵＲＥシリーズ１５５、１０５１、５０７６、４０５４ＪやそのブロックタイプのＮＡＣＵＲＥシリーズ２５００、５２２５、Ｘ４９−１１０、３５２５、４１６７以上キング社製などが挙げられる。
この熱酸発生剤の使用割合は、バインダー１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜１０質量部、さらに好ましくは０．１〜５重量部である。添加量がこの範囲であると、バインダーの保存安定性が良好で塗膜の耐擦傷性も良好なものとなる。
【０１３８】
［感光性酸発生剤］
感光性酸発生剤としては、例えば、（１）ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩等の各種オニウム塩；（２）β−ケトエステル、β−スルホニルスルホンとこれらのα−ジアゾ化合物等のスルホン化合物；（３）アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等のスルホン酸エステル類；（４）スルホンイミド化合物類；（５）ジアゾメタン化合物類；を挙げることができる。この感光性酸発生剤の使用割合は、バインダー１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜１０質量部、さらに好ましくは０．１〜５重量部である。  
【０１３９】
低屈折率層用硬化組成物には、（Ａ）前記含フッ素ポリマー、（Ｂ）無機微粒子、（Ｃ）後述するオルガノシラン化合物を含有してなるのが好ましい。
【０１４０】
［低屈折率層用無機微粒子］
低屈折率層として、無機もしくは有機の微粒子を用い、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして形成した層を用いることも好ましい。微粒子の平均粒径は、０．５〜２００ｍｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであることがより好ましく、３〜７０ｎｍであることがさらに好ましく、５〜４０ｎｍの範囲であることが最も好ましい。微粒子の粒径は、なるべく均一（単分散）であることが好ましい。
【０１４１】
無機微粒子としては、非晶質であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物または金属ハロゲン化物からなることがさらに好ましく、金属酸化物または金属フッ化物からなることが最も好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉがさらに好ましい。二種類の金属を含む無機化合物を用いてもよい。特に好ましい無機化合物は、二酸化ケイ素、すなわちシリカである。
【０１４２】
無機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒子を形成するシリカの分子を架橋させることにより形成することができる。シリカの分子を架橋させると体積が縮小し、粒子が多孔質になる。ミクロボイドを有する（多孔質）無機微粒子は、ゾル−ゲル法（特開昭５３−１１２７３２号、特公昭５７−９０５１号の各公報記載）または析出法（ＡＰＰＬＩＥＤ  ＯＰＴＩＣＳ、２７、３３５６頁（１９８８）記載）により、分散物として直接合成することができる。
また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に粉砕して分散物を得ることもできる。市販の多孔質無機微粒子（例えば、二酸化ケイ素ゾル）を用いてもよい。ミクロボイドを有する無機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール）およびケトン（例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）が好ましい。
粒子間のミクロボイドは、微粒子を少なくとも２個以上積み重ねることにより形成することができる。
【０１４３】
低屈折率層は、５〜５０重量％の量のバインダーを含むことが好ましい。バインダーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。バインダーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように調整する。
【０１４４】
微粒子（特に無機微粒子）には、表面処理を実施して、バインダーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類できる。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理と化学的表面処理の組合せで実施することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。微粒子が二酸化ケイ素からなる場合は、シランカップリング剤による表面処理が特に有効に実施できる。カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から６０℃までの温度で、数時間から１０日間分散物を放置することにより実施できる。表面処理反応を促進するため、無機酸、有機酸、またはこれらの塩（例、金属塩、アンモニウム塩）を、分散物に添加してもよい。
【０１４５】
表面処理を行なった微粒子の表面にさらにポリマーでシェルを形成することも好ましい。
シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子を側鎖に含むポリマーがさらに好ましい。ポリアクリル酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好ましく、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリメタクリル酸とのエステルが最も好ましい。
【０１４６】
無機微粒子の配合量は、１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ２〜８０ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ２〜６０ｍｇ／ｍ２である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどが悪化する場合がある。
無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下が好ましく、より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。
無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
【０１４７】
低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするために、前記無機微粒子は、中空構造であるのが好ましく、また、無機微粒子の屈折率は好ましくは１．１７〜１．４０、より好ましくは１．１７〜１．３５、さらに好ましくは１．１７〜１．３０である。ここでの屈折率はシェルのみではなく中空を有する粒子全体としての屈折率を表す。この時、数式（ＩＩ）中、粒子内の空腔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、下記数式（ＩＩ）で表される空隙率ｘは
【０１４８】
（数式ＩＩ）
ｘ＝（４πａ３／３）／（４πｂ３／３）×１００
【０１４９】
好ましくは１０〜６０％、さらに好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定を行い測定した。
【０１５０】
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満である無機微粒子（以下「小サイズ無機微粒子」と称す）の少なくとも１種を前記の好ましい範囲内の粒径の無機微粒子（以下「大サイズ無機微粒子」と称す）と併用してもよい。
小サイズ無機微粒子は、大サイズ無機微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ無機微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層が１００ｎｍの場合、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が特に好ましい。このような無機微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
上述のように前記無機微粒子としては、平均粒径が上述のように低屈折率層の厚みの３０〜１００％であり、中空構造からなり、屈折率が上述のように１．１７〜１．４０であるものが特に好ましく用いられる。
【０１５１】
無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。中でもカップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
前記カップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
【０１５２】
本発明に係る低屈折率層には、非晶質の有機微粒子が含有されていてもよい。有機微粒子は、モノマーの重合反応（例えば乳化重合法）により合成されるポリマー微粒子であることが好ましい。有機微粒子のポリマーはフッ素原子を含むことが好ましい。ポリマー中のフッ素原子の割合は、３５〜８０重量％であることが好ましく、４５〜７５重量％であることがさらに好ましい。また、有機微粒子内に、例えば、粒子を形成するポリマーを架橋させ、体積を縮小させることによりミクロボイドを形成させることも好ましい。
有機微粒子の合成に用いられるモノマーとしては、含フッ素ポリマーを合成するために用いるフッ素原子を含む。モノマーの例として、フルオロオレフィン類（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、アクリル酸またはメタクリル酸のフッ素化アルキルエステル類およびフッ素化ビニルエーテル類が挙げられる。フッ素原子を含むモノマーとフッ素原子を含まないモノマーとのコポリマーを用いてもよい。
フッ素原子を含まないモノマーの例としては、オレフィン類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類およびアクリルニトリル類が挙げられる。多官能モノマーの例としては、ジエン類、多価アルコールとアクリル酸とのエステル、多価アルコールとメタクリル酸とのエステル、ジビニル化合物、ジビニルスルホン、ビスアクリルアミド類、およびビスメタクリルアミド類が挙げられる。
【０１５３】
［低屈折率層用硬化性組成物に含有するその他の物質］
前記硬化性組成物は、好ましくは、前述の（Ａ）含フッ素ポリマー、（Ｂ）無機微粒子及び後述の（Ｃ）オルガノシラン化合物に、必要に応じて各種添加剤および前述のラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤を添加し、更にこれらを適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には０．０１〜６０質量％程度であり、好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。
【０１５４】
低屈折率層と直接接する下層との界面密着性等の観点からは、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩基酸またはその無水物等の硬化剤を少量添加することもできる。これらを添加する場合には低屈折率層皮膜の全固形分に対して３０質量％以下の範囲とすることが好ましく、２０質量％以下の範囲とすることがより好ましく、１０質量％以下の範囲とすることが特に好ましい。
【０１５５】
また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系化合物あるいはフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。
【０１５６】
シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および／または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７．８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１８２１（以上商品名）やチッソ（株）製、ＦＭ−０７２５、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−５５２１、ＦＭ６６２１、ＦＭ−１１２１やＧｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ−Ｕ２２、ＲＭＳ−０３３、ＲＭＳ−０８３、ＵＭＳ−１８２、ＤＭＳ−Ｈ２１、ＤＭＳ−Ｈ３１、ＨＭＳ−３０１、ＦＭＳ１２１、ＦＭＳ１２３、ＦＭＳ１３１、ＦＭＳ１４１、ＦＭＳ２２１（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１５７】
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖（例えば−ＣＦ２ＣＦ３，−ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ，−ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＦ３，−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ等）であっても、分岐構造（例えば−ＣＨ（ＣＦ３）２，−ＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）２，−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦ３，−ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＦ２）５ＣＦ２Ｈ等）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環または６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等）であっても良く、エーテル結合を有していても良い（例えば−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３，−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｃ８Ｆ１７，−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業（株）製、Ｒ−２０２０、Ｍ−２０２０、Ｒ−３８３３、Ｍ−３８３３（以上商品名）、大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７９Ａ、ディフェンサＭＣＦ−３００（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１５８】
防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１５０（商品名）、東レダウコーニング（株）製、ＳＨ−３７４８（商品名）などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
【０１５９】
［低屈折率層用の溶剤］
本発明に用いられる低屈折率層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。乾燥負荷の観点からは、常圧、室温における沸点が１００℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃以上の溶剤を少量含有することが好ましい。
沸点が１００℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン
（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル  （９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）などのエステル類、アセトン（５６．１℃）、２−ブタノン（メチルエチルケトンと同じ、７９．６℃）などのケトン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパノール（９７．２℃）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２℃）などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。
沸点が１００℃を以上の溶剤としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン
（１１０．６℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫと同じ、１１５．９℃）、１−ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノンである。
【０１６０】
［ゾルゲル法を利用した低屈折率層］
低屈折率層用の素材として、各種ゾルゲル素材を用いることもできる。このようなゾルゲル素材としては、金属アルコレート（シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等のアルコレート）、オルガノアルコキシ金属化合物、およびその加水分解物を用いることができる。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシランおよびその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等）、アルキルトリアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等）、アリールトリアルコキシシラン（フェニルトリメトキシシラン等）、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン（ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−（３，４−エポキジシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等）、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等）を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化および撥水・撥油性付与の点で好ましい。
【０１６１】
《帯電防止層》
本発明の光学フィルムは表面に塵埃（埃など）が付着するのを防止するために帯電防止層を用いることも好ましい。防塵性は、表面の表面抵抗値を下げることで発現される。表面抵抗値は、１×１０１３Ω／□以下であることが好ましく、１×１０１２Ω／□以下であることがより好ましく、１×１０１０Ω／□以下であることが更に好ましい。
帯電防止層は、光拡散層と低屈折率層の間、または透明支持体と光拡散層の間に設けることが好ましい。
【０１６２】
帯電防止層を塗布で形成する場合、導電材（電子伝導型の導電性粒子、イオン伝導型の有機化合物など）を結着剤（バインダーなど）に含有させて、帯電防止層を形成することが好ましい。特に、電子伝導型の導電材が、環境の変化を受け難く導電性能が安定するので低湿環境下でも良好な導電性能を発現する点で好ましい。
【０１６３】
帯電防止層に用いられる好ましい導電材としては、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、などが挙げられる。
【０１６４】
（その他の塗布層について）
本発明の光学フィルムには、物理強度を付与するために透明支持体と最外層の間にハードコート層を設けることも好ましい。
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗料を透明支持体上に塗布し、架橋又は重合反応させることにより形成することができる。
【０１６５】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、光拡散層で例示したものが挙げられ、光重合開始剤、光増感剤を用いて重合することが好ましい。光重合反応は、ハードコート層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
【０１６６】
ハードコート層の膜厚は、１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、特に好ましくは３〜５μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１６７】
ハードコート層には樹脂、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。また、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御するなどの目的で、後述する一次粒子の平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を添加することができる。
さらには、防眩機能、液晶表示装置の視野角拡大機能を付与する目的で前記平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有して、防眩性または散乱性ハードコート層にすることもできる。
【０１６８】
《透明支持体》
透明支持体としては、プラスチックフィルムであることが好ましい。プラスチックフィルムとしてはセルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましく、特に、液晶表示装置に用いる場合、トリアセチルセルロースであることが好ましい。
【０１６９】
透明支持体がトリアセチルセルロースフィルムの場合、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解することで調整したトリアセチルセルロースドープを単層流延、複数層共流延の何れかの流延方法により作製したトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。
【０１７０】
特に、環境保全の観点から、トリアセチルセルロースを低温溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解することで調整したトリアセチルセルロースドープを用いて作製したトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。
本発明に好ましく用いられるトリアセチルセルロースフィルムについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５）に例示されている。
【０１７１】
上記の透明支持体の膜厚は特に限定されるものではないが、膜厚は１〜３００μｍがよく、好ましくは３０〜１５０μｍ、特に好ましくは４０〜１２０μｍ、最も好ましくは４０〜１００μｍである。
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。
透明支持体のヘイズは低い方が好ましい。２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
透明支持体の屈折率は、１．４０〜１．７０であることが好ましい。
【０１７２】
透明支持体には、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、透明支持体の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。
また、透明支持体には、滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＢａＳＯ４、ＣａＣＯ３、タルクおよびカオリンが含まれる。
【０１７３】
透明支持体に、表面処理を実施してもよい。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理とコロナ放電処理が特に好ましい。
【０１７４】
《オルガノシラン化合物》
本発明に係る光学フィルムの各層に特に好ましく用いることができるオルガノシラン化合物について記載する。
皮膜の物理強度（耐擦傷性など）、皮膜と皮膜に隣接する層の密着性を改良する点でオルガノシラン化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種の化合物、例えばオルガノシラン化合物の加水分解物および／またはその部分縮合物等（以下、得られた反応溶液を「ゾル成分」とも称する）を含有させることが、耐擦傷性の点で、特に反射防止能と耐擦傷性とを両立させる点で、好ましい。
このゾル成分は塗布組成物中へ加え、該塗布組成物を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成することにより低屈折率層のバインダーとして機能する。また、本発明においては、前記含フッ素ポリマーを有する場合、活性光線の照射により３次元構造を有するバインダーが形成される。
前記オルガノシラン化合物は、下記一般式［Ａ］で表されるものが好ましい。
【０１７５】
一般式［Ａ］
（Ｒ１０）ａ−Ｓｉ（Ｚ）４−ａ
【０１７６】
前記一般式［Ａ］において、Ｒ１０は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜６のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｚは、水酸基または加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子
（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ２ＣＯＯ（Ｒ２は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ３ＣＯＯ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
ａは１〜３の整数を表し、好ましくは１または２であり、特に好ましくは１である。
【０１７７】
Ｒ１０あるいはＺが複数存在するとき、複数のＲ１０あるいはＺはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ１０に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
【０１７８】
Ｒ１０が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。
前記一般式［Ａ］で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式［Ｂ］で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
【０１７９】
【化１６】
0005690868.tif 000017
【０１８０】
前記一般式［Ｂ］において、Ｒ１は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ｙ１は単結合もしくは  ＊−ＣＯＯ−＊＊，  ＊−ＣＯＮＨ−＊＊又は  ＊−Ｏ−＊＊を表し、単結合、  ＊−ＣＯＯ−＊＊および  ＊−ＣＯＮＨ−＊＊が好ましく、単結合および  ＊−ＣＯＯ−＊＊が更に好ましく、  ＊−ＣＯＯ−＊＊が特に好ましい。＊  は＝Ｃ（Ｒ１）−に結合する位置を、＊＊はＬ１に結合する位置を表す。
【０１８１】
Ｌ１は２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
【０１８２】
ｄは０または１を表す。Ｚが複数存在するとき、複数のＺはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｄとして好ましくは０である。
Ｒ１０は一般式［Ａ］と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Ｚは一般式［Ａ］と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【０１８３】
一般式［Ａ］、一般式［Ｂ］の化合物は２種類以上を併用しても良い。以下に一般式［Ａ］、一般式［Ｂ］で表される化合物の具体例を示すが、限定されるものではない。
【０１８４】
【化１７】
0005690868.tif 000018
【０１８５】
【化１８】
0005690868.tif 000019
【０１８６】
これらのうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、および（Ｍ−５）が特に好ましい。
【０１８７】
そして、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用いるのが好ましい。無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数（ｐＫａ値（２５℃））が４．５以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸が好ましく、特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が好ましく、具体的には、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。
【０１８８】
金属キレート化合物としては、一般式Ｒ６ＯＨ（式中、Ｒ６は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールとＲ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５（式中、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる  金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ６）ｐ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｐ２、Ｔｉ（ＯＲ６）ｑ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｑ２、およびＡｌ（ＯＲ６）ｒ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｒ２で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
金属キレート化合物中のＲ６およびＲ４は、同一または異なってもよく炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ５は、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１、およびｒ２は、それぞれｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。
【０１８９】
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどが挙げられる。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
【０１９０】
また、本発明においては、前記硬化性組成物に、更にβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。
【０１９１】
本発明で好適に使用されるのは、一般式Ｒ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５で表されるβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる硬化性組成物の安定性向上剤として作用するものである。ここで、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。β−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物を構成するＲ４およびＲ５は、前記金属キレート化合物を構成するＲ４およびＲ５と同様である。
【０１９２】
このβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−ｓｅｃ−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。
【０１９３】
前記オルガノシラン化合物の配合量は、含有率層の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が最も好ましい。
前記オルガノシラン化合物は硬化性組成物（防眩層用、低屈折率層用等の塗布液）に直接添加してもよいが、あらかじめ前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物および金属キレート化合物を含有する組成物を調製しておいて、これにβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物を添加した液を防眩層もしくは低屈折率層の少なくとも１層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
【０１９４】
含有層における、バインダーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は、５〜１００質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、８〜３５質量％が更に好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効果が得にくく、多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化するので好ましくない。
【０１９５】
オルガノシラン化合物を添加するのに好ましい層は、帯電防止層、ハードコート層、防眩層、光拡散層、高屈折率層、低屈折率層、及び最外層であり、より好ましくはハードコート層、防眩層、光拡散層、低屈折率層、及び最外層であり、特に好ましくは最外層及び該最外層の隣接層である。
【０１９６】
《光学フィルムの形成法等》
本発明において光学フィルムを構成する各層は、塗布法により作製したものが好ましい。塗布で形成する場合、各層はディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２，６８１，２９４号明細書記載）またはダイコート法（特開２００３−２００９７号、同２００３−２１１０５２号、２００３−２３６４３４号、同２００３−２６０４００号、同２００３−２６０４０２号公報等に記載）により作製することができる。２層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２，７６１，７９１号、同２，９４１，８９８号、同３，５０８，９４７号、同３，５２６，５２８号の各明細書および原崎勇次著、「コーティング工学」、２５３頁、朝倉書店（１９７３年）に記載がある。ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ダイコートが好ましい。特に、マイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
【０１９７】
マイクログラビアコート法とは、通常直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を支持体に転写させて塗工することを特徴とする塗布法である。
マイクログラビアコート法では、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本／インチが好ましく、より好ましくは１００〜３００本／インチである。グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、より好ましくは５〜２００μｍである。グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、より好ましくは５〜２００ｒｐｍである。支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ／分であることが好ましく、より好ましくは１〜５０ｍ／分である。
【０１９８】
また、ダイコート法はバックアップローラに支持されて連続走行するウェブに対して、内部にポケットが形成されているスロットダイから塗布液をビードにして塗布することにより、ウェブ上に塗膜を形成する。スロットダイの先端とウェブとの距離を、ウェブ進行方向に対するスロット部材の上流側と下流側で適度に調節することによって湿潤膜厚が数十μｍ以下の塗布を精度よく行うことができる。
【０１９９】
《光学フィルムの物理性能》
本発明に係る光学フィルムは、物理強度（耐擦傷性など）を改良するために、塗布した最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で最外層を有する側の表面を移動させたときの、最外層を有する側の表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
さらに光学フィルムは、防汚性能を改良するために、最外層を有する側の表面の水に対する接触角が８０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９０゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
さらにフィルムのヘイズは、０．５〜６０％であることが好ましく、１〜５０％であることがさらに好ましく、１〜４０％であることが最も好ましい。
さらにフィルムの反射率は、低いほど好ましく、好ましくは３．０％以下、より好ましくは２．５％以下、更に好ましくは２．０％以下、特に好ましくは１．５％以下である。
【０２００】
《偏光板用保護フィルム》
本発明の光学フィルムを偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いることができる。この場合、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が４０°以下であることが好ましい。さらに好ましくは３０°以下であり、特に好ましくは２５°以下である。接触角を４０°以下にすることは、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに有効である。この接触角は下記の鹸化処理の処理条件により調整することができる。
【０２０１】
偏光板用保護フィルムとして用いる反射防止フィルムの透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。
【０２０２】
本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、例えば下記２つの手法が挙げられる。
（１）鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の各層（例、帯電防止層、ハードコート層、防眩層、低屈折率層、高屈折率層、最外層など）を塗設する手法。
（２）透明支持体の一方の面に上記の各層（例、帯電防止層、ハードコート層、防眩層、低屈折率層、最外層など）を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理する手法。
【０２０３】
上記（１）の手法において、透明支持体の一方の面のみが鹸化処理されている場合、各層は鹸化処理されていない側に塗設する。透明支持体の両方の面が鹸化処理されている場合、各層を塗設する側の鹸化処理した透明支持体の表面をコロナ放電処理、グロー放電処理、火焔処理などの手法により表面処理し、その後、各層を塗設することが好ましい。
上記（２）において、光学フィルム全体を鹸化液に浸漬することが好ましい。この場合、光学フィルムは各層を有する側の表面を保護フィルムで保護して鹸化液に浸せきし、偏光膜と貼り合わせる側の透明支持体の表面を鹸化処理することもできる。
さらにまた、光学フィルムの偏光膜と貼り合わせる側の透明支持体の表面に鹸化処理液を塗布して、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理することもできる。
鹸化処理は、保護フィルムの上に反射防止性能を付与した後に実施することで、よりコストを削減でき、特に（２）の手法が、偏光板用保護フィルムを安価に製造できる点で好ましい。
【０２０４】
偏光板用保護フィルムは、光学性能（低反射性能、防眩性能など）、物理性能（耐擦傷性など）、耐薬品性、防汚性能（耐汚染性など）、耐候性（耐湿熱性、耐光性）、防塵性能において、本発明の光学フィルムとして記載した性能を満足することが好ましい。
従って、最外層を有する側の表面の表面抵抗値が１×１０１３Ω／□以下であることが好ましく、１×１０１２Ω／□以下であることがより好ましく、１×１０１０Ω／□以下であることが更に好ましい。
最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
また、最外層を有する側の表面の水に対する接触角は９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
【０２０５】
（鹸化処理）
上記の鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に透明支持体、又は、光学フィルムを適切な時間浸漬して実施するのが好ましい。
アルカリ液は、水酸化カリウム水溶液、及び／又は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７０℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
【０２０６】
鹸化処理することにより、透明支持体の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、防眩層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、特に好ましくは２５゜以下である。
【０２０７】
《偏光板》
本発明の偏光板は、偏向膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）の少なくとも一方に、本発明の光学フィルムを有する。偏光板用保護フィルムは、上記のように、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が４０°以下であることが好ましい。
【０２０８】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の光学フィルムを２枚の保護フィルムの一方に用い、後述する光学異方性のある光学補償フィルムをもう一方に用いた偏光板は、さらに、液晶表示装置の明室でのコントラストを改良し、上下左右の視野角を非常に広げることができるので、好ましい。
【０２０９】
《光学補償フィルム》  
上記光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されているディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性層を有し、該ディスコティック化合物とフィルム面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向で変化していることを特徴とする光学補償フィルムが好ましい。すなわち、ディスコティック構造単位を有する化合物の配向状態としては、例えば、ハイブリッド配向、ベント配向、ツイスト配向、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向等であることが好ましく、ハイブリッド配向であることが特に好ましい。該角度は、光学異方性層中で光学補償フィルムの支持体面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。
光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。
【０２１０】
また、光学異方性層が更にセルロースエステルを含んでいる態様、光学異方性層と光学補償フィルムの透明支持体との間に配向層が形成されている態様、該光学異方性層を有する光学補償フィルムの透明支持体が、光学的に負の一軸性を有し、且つ該透明支持体面の法線方向に光軸を有する態様、更に下記の数式（ＩＩＩ）を満足する態様も好ましい。
【０２１１】
数式（ＩＩＩ）
２０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦４００
【０２１２】
数式（ＩＩＩ）中、ｎｘは面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率、ｎｚは面に垂直方向の屈折率である。また、ｄは光学異方性層の厚さ（ｎｍ）である。
【０２１３】
《画像表示装置》
光学フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。光学フィルムは、光学フィルムの透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着することが好ましい。
本発明に用いる光学フィルム及び偏光板は、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。特にＴＮモードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開２００１−１０００４３号公報等に記載されているように、上記の光学補償フィルムと光学フィルムを保護フィルムとして有する偏光板を用いることで、視野角特性と反射防止特性を大幅に改良できる。
また、さらに市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、透過型または半透過型の液晶表示装置において、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、λ／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。
【実施例】
【０２１４】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の合成）
【０２１５】
【化１９】
0005690868.tif 000020
【０２１６】
ステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０質量部、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７質量部、及び過酸化ジラウロイル０．５５質量部を仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５質量部をオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４ｋｇ／ｃｍ２（５２９ｋＰａ）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．２ｋｇ／ｃｍ２（３１４ｋＰａ）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。
得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー生成物２８質量部を得た。
次に該ポリマー生成物の２０質量部をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００質量部に溶解、氷冷下で、アクリル酸クロライド１１．４質量部を滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加えて水洗し、有機層を抽出後、濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１を１９質量部得た。得られたパーフルオロオレフィン共重合体の屈折率は１．４２１であった。
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１をメチルエチルケトンに溶解し、固形分濃度３０％の溶液を得た。
【０２１７】
（オルガノシラン化合物Ａ溶液の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加えて混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させた。室温まで冷却し、オルガノシラン化合物Ａの溶液を得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィーによって分析したところ、原料の３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランは殆ど残存していなかった。
【０２１８】
（硬化性多分岐ポリマー［ＲＨＢ−１］）の調製
１，３，５−シクロヘキサントリカルボン酸０．１モルを攪拌、窒素置換しながら１２０℃に加温した。これに５−（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン−１，３−ジカルボン酸０．９モルと、メタンスルホン酸１．２ミリモルを投入し、発生する水を取り除きながら１４０℃で２時間反応させた。この後、減圧度２．５ｋＰａで減圧しながら３０分間反応させて、多分岐ポリマー［ＨＢ−１］を調製した。
次いで、得られた多分岐ポリマー［ＨＢ−１］に、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１．２モル、ｔ−ブチルヒドロキノン１．０質量部を加えて６０℃で３時間反応させた。この反応生成物を冷却し、クロロホルム溶解、アルカリ水洗浄、１％塩酸洗浄、水洗浄した後乾燥して、硬化性多分岐ポリマー［ＲＨＢ−１］を得た。
【０２１９】
（硬化性多分岐ポリマー［ＲＨＢ−２］）の調製
ポリエステル型デンドリマー“ＢＯＬＴＯＲＮ（ＲＴＧ）２Ｇ”（１６個の表面ヒドロキシル基を有する；ｐｅｒｓｔｏｒｐ社製）１０質量部、テトラヒドロフラン２３質量部の混合液に、室温で攪拌しながら水素化ナトリウム３．５質量部を加えた。次いでエピブロモヒドリン１９質量部及びテトラヒドロフラン４５質量部の混合液を１時間で滴下し、５０℃に加温して６時間攪拌した。攪拌後、室温に冷却し、反応物を水１リットルに空けて、トルエン６００ｍｌで抽出し、洗浄した後、乾燥した。抽出液のトルエンを減圧除去して、硬化性多分岐ポリマー［ＲＨＢ−２］を得た。
【０２２０】
（光拡散層塗布組成物Ａ−１の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０、日本化薬（株）製）４７．０質量部に、トルエン２２．５質量部を加えて撹拌した。これに重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）２．０質量部、フッ素系面状改良剤（ＦＰ−１４９）０．０５質量部、オルガノシラン化合物（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１０．０質量部、ポリメタクリル酸メチル（分子量１２万）の３０％トルエン溶液１６．０質量部を添加して撹拌、溶解した。この溶液を塗布したのち、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（屈折率１．５３６）の３０％トルエン分散液２０．０質量部、及び、同条件で分散した平均粒径２．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（屈折率１．５３６）の３０％トルエン分散液１３．３質量部を添加した後に、さらにプロピレングリコール３．８質量部加え、エアーディスパーにて１０分撹拌した。
前記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層塗布組成物Ａ−１を調製した。
【０２２１】
（光拡散層用塗布組成物Ａ−２の調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２５．６質量部をメチルイソブチルケトン４６．３質量部で希釈した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を１．３質量部添加し、混合攪拌した。続いてフッ素系面状改良剤（ＦＰ−１４９）を０．０４質量部、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を５．２質量部、分子量４０，０００のセルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ−５３１−１、イーストマンケミカル（株）製）０．５０質量部を加えてエアーディスパーにて１２０分間攪拌して溶質を完全に溶解した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５２であった。
さらに、この溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（屈折率１．５３６）の３０％メチルイソブチルケトン分散液を１２．６質量部と同条件で分散した平均粒径２．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（屈折率１．５３６）の３０％メチルイソブチルケトン分散液を８．４質量部加えた後に、さらにプロピレングリコール４．８質量部を加え、エアーディスパーにて１０分間攪拌した。
前記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層用塗布組成物Ａ−２を調製した。
【０２２２】
（光拡散層用塗布組成物Ａ−３〜Ａ−２０の調製）
前記の光拡散層用塗布組成物Ａ−２に対して、透光性樹脂粒子の組成、平均粒径、親水性高沸点溶媒種、およびモノマー種を表１に記載のように変更した以外は塗布液Ａ−２と全く同じにして、光拡散層用塗布組成物Ａ−３〜Ａ−２０を調製した。
【０２２３】
（比較用光拡散層用塗布組成物イ〜ニの調製）
前記の光拡散層用塗布組成物Ａ−２に対して、透光性樹脂粒子の組成、粒子の組み合わせ、および親水性高沸点溶媒量を表１に記載のように変更した以外は塗布組成物Ａ−２と全く同じにして、比較用光拡散層用塗布組成物イ〜ニを調製した。
なお、透光性樹脂粒子量を減量した場合は、透光性樹脂粒子の総含有量をＡ−２と同じにするために、減量した分と等量のもう一方の透光性粒子量を増量した。また、親水性高沸点溶媒量を減量した場合は、溶媒の総含有量をＡ−２と同じにするために、減量した分と等量の残りの低沸点溶媒量を増量した。
【０２２４】
（比較用光拡散層用塗布組成物ホの調製）
前記の光拡散層用塗布組成物Ａ−１に対して、親水性高沸点溶媒量を表１に記載のように変更した以外は塗布液Ａ−１と全く同じにして、比較用光拡散層用塗布組成物ホを調製した。
【０２２５】
（比較用光拡散層用塗布組成物ヘの調製）
前記の光拡散層用塗布組成物Ａ−２に対して、プロピレングリコールをゼロにして、総有機溶媒量を変えずに、溶媒の構成をメチルエチルケトンに変更した以外は塗布液Ａ−２と全く同じにして、比較用光拡散層用塗布組成物ヘを調製した。
【０２２６】
【表１】
0005690868.tif 000021
【０２２７】
１）粒子組成  ：Ｐ１＝架橋ポリ（スチレン／メタアクリル酸メチル）＝５０／５０（Ｉ／Ｏ値＝０．４９）
Ｐ２＝架橋ポリスチレン（Ｉ／Ｏ値＝０．０９）
２）親水性有機溶媒  ：ＰＧ＝プロピレングリコール（Ｉ／Ｏ値＝３．３）
ＥＧ＝エチレングリコール（Ｉ／Ｏ値＝５．０）
ＤＭＦ＝Ｎ，Ｎ−ジメチルホルイムアミド（Ｉ／Ｏ値＝２．３）
３）疎水性有機溶媒  ：トルエン（Ｉ／Ｏ＝０．１１）
ＭＩＢＫ＝メチルイソブチルケトン（Ｉ／Ｏ値＝０．５９）
ＭＥＫ＝メチルエチルケトン（Ｉ／Ｏ値＝０．８１）
ＭＩＢＫ／ＭＥＫ＝マチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン（７／３）（Ｉ／Ｏ値＝０．５９／０．８１）  
４）モノマー種類  ：ＰＥＴＡ＝ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０（日本化薬製）（Ｉ／Ｏ値＝１．１６）
ＤＰＨＡ＝ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬製）（Ｉ／Ｏ値＝１．０４）
ＥＯ−ＴＭＰ（１）＝エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリアクリレート（ＥＯ平均３．５基／１分子）（Ｉ／Ｏ値＝１．２２）
ＥＯ−ＴＭＰ（２）＝エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリアクリレート（ＥＯ平均６基／１分子）（Ｉ／Ｏ値＝１．７３）
【０２２８】
（低屈折率層用塗布組成物Ｌ−１の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３．０質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）１．３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．６質量部、メチルエチルケトン５．０質量部およびシクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布組成物Ｌ−１を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４２であった。
【０２２９】
（低屈折率層用塗布組成物Ｌ−２の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１５．０質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）０．６質量部、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）０．８質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．４質量部、およびメチルエチルケトン３．０質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布組成物Ｌ−２を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４２であった。
【０２３０】
（中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液の調製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製  、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じサイズを変更して作成）５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）３０部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート（商品名：ケロープＥＰ−１２、ホープ製薬（株）製）１．５部加え混合した後に、イオン交換水を９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにメチルエチルケトンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をメチルエチルケトンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａ−１のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。
【０２３１】
（低屈折率層用塗布組成物Ｌ−３の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３．０質量部に、上記中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）１．９５質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．６質量部、およびメチルエチルケトン４．３５質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布組成物Ｌ−３を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４０であった。
【０２３２】
（低屈折率層用塗布組成物Ｌ−４の調製）
イソプロピルアルコール／メチルエチルケトン＝１／１（質量比）の混合溶媒に、テトラメトキシシラン１モル、０．１Ｎの塩酸２モルを添加した。室温で２時間撹拌して加水分解反応を行い、テトラメトキシシランの加水分解物の溶液を調製した。
イソプロピルアルコール／メチルエチルケトン＝１／１（質量比）に、テトラメトキシシランの加水分解物９．０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート１．０質量部、重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．５質量部、固形分濃度が４．５質量％になるように添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布組成物Ｌ−４を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４５であった。
【０２３３】
（低屈折率層用塗布組成物Ｌ−５の調製）
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の溶液（固形分濃度３０％）１５．０質量部に、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ、信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、メチルエチルケトン８１．８質量部及びシクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布組成物Ｌ−６を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４３であった。
【０２３４】
（低屈折率層用塗布組成物Ｌ−６の調製）
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の溶液（固形分濃度３０％）１０．５質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）４．５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ，信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液２．０質量部、メチルエチルケトン８１．２質量部及び、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布組成物Ｌ−６を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４４であった。
【０２３５】
（低屈折率層用塗布組成物Ｌ−７の調製）
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の溶液（固形分濃度３０％）１０．５質量部に、中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）６．７５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ，信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液２．０質量部、メチルエチルケトン８１．２質量部及び、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布組成物Ｌ−７を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４１であった。
【０２３６】
（低屈折率層用塗布組成物Ｌ−８の調製）
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の溶液（固形分濃度３０％）１３．５質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．４５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ、信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、メチルエチルケトン８１．２質量部及び、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して、撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布組成物Ｌ−８を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４４であった。
【０２３７】
［実施例１］
膜厚８０μｍ、幅１３４０ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）上に、光拡散層用塗布組成物（Ａ−１〜Ａ−２０、イ〜ホ）をスロットダイ塗布方式で、搬送速度２５ｍ／分の条件で塗布した。
１００℃で２５秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１１０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させて、光拡散層つきフィルムを作製した。
【０２３８】
上記光拡散層の上に、低屈折率層用塗布組成物（Ｌ−１〜Ｌ−８）をスロットダイ塗布方式で、搬送速度２５ｍ／分の条件で塗布した。
その後、Ｌ−１〜Ｌ−３についての乾燥、硬化条件は、以下で行った。
１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量９００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（最外層）を形成した。
Ｌ−４についての乾燥、硬化条件は、以下で行った。
１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で２０分熱処理して塗布層を硬化させ低屈折率層（最外層）を形成した。
また、Ｌ−５〜Ｌ−８についての乾燥、硬化条件は、以下のように行った。
９０℃で３０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ低屈折率層（最外層）を形成した。
【０２３９】
本発明に掛かる光学フィルム試料の前記光拡散層および前記低屈折率層の塗設組み合わせを、表２に記載したとおりに行った。
【０２４０】
【表２】
0005690868.tif 000022
【０２４１】
（光学フィルムの評価）
得られた光学フィルム試料について、以下の項目の評価を行った。結果を表３に示す。
【０２４２】
（１）防眩性の評価
作製した光学フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｃｍ２）を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
防眩性は光源輪郭がぼんやりわかる程度から、画面全体が白っぽくならない範囲で輪郭がわからない程度までボケることが好ましい。
◎  ：蛍光灯の輪郭がほとんどわからない。
○  ：蛍光灯の輪郭がボケて、ぼんやりわかる。
△  ：蛍光灯の輪郭がややボケているが、わかる（許容範囲内）
×（１）：蛍光灯の輪郭がクッキリわかる。
×（２）：蛍光灯の輪郭が全く分からず、かつ全体がかなり白っぽく見える。
（２）平均反射率の評価
分光光度計（日本分光（株）製；Ｖ−５５０）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、積分球を用いて、入射角５°における分光反射率を測定した。分光反射率の評価において、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を用いた。
【０２４３】
（３）黒味の評価
作製した光学フィルムについて、自動変角光度計ＧＰ−５（（株）村上色彩技術研究所製）を用いて、入射角度６０°、反射角度が１０°〜８０°の反射光を測定し、基準板に対する反射率として求めた。得られた反射率値を濃度値に変換し、反射角度４５°の値を採用して黒味値とした。値の大きいほうが黒味が強く黒しまり感があって好ましいことを示す。
【０２４４】
【表３】
0005690868.tif 000023
【０２４５】
表３の結果より、光拡散層の透光性樹脂粒子を本発明の粒径規定内で２種類含有する本発明の塗布試料（試料Ｎｏ．１０１〜１２７）は、透光性粒子を１種類かまたは２種類含有しても粒径範囲が本発明からはずれるか、もしくは有機溶媒を１種類しか使用していない比較用塗布試料（試料Ｎｏ．１２８〜１３３）に比べて黒味が増加していることがわかる。この効果が本発明によるものであることは明らかである。
【０２４６】
［実施例２］
（画像表示装置の評価）
実施例１の試料Ｎｏ．１０１〜１２７の光学フィルムを、画像表示装置（ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、又はＯＣＢのモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置、及び、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ））のディスプレイ面に装着した。本発明の光学フィルムを用いた画像表示装置は、反射防止性と黒しまり性に優れていた。
さらにまた、切断面の面積が１００μｍ２以上の凹は存在せず、画素サイズが１００ｐｐｉ（１００ピクセル／インチ：長さ１インチ当たりに１００画素がある）における画像表示装置におけるギラツキ故障の発生が無かった。
【０２４７】
［実施例３］
（偏光板用保護フィルムの作製）
１．５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を５０℃に保温した鹸化液を調整した。さらに、０．０１Ｎの希硫酸水溶液を調製した。
実施例１の試料Ｎｏ．１０１〜１２７の光学フィルムにおいて、低屈折率層（最外層）を有する側とは反対側の透明支持体の表面を、上記鹸化液を用いて鹸化処理した。
鹸化処理した透明支持体表面の水酸化ナトリウム水溶液を、水で十分に洗浄した後、上記の希硫酸水溶液で洗浄し、さらに希硫酸水溶液を水で十分に洗浄して、１００℃で十分に乾燥させた。
光学フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側とは反対側の、鹸化処理した透明支持体の表面の水に対する接触角を評価したところ、４０°以下であった。このようにして、偏光板用保護フィルムを作製した。
【０２４８】
（偏光板の作製）
特開２００２−８６５５４号公報に記載の偏向膜の一方の面に、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて、本発明の光学フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には上記と同様にして鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルム
（富士写真フィルム（株）製フジタック、レターデーション値３．０ｎｍ）を同じ接着剤を用いて貼り合わせた。このようにして、本発明の偏光板を作製した。
【０２４９】
（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置は、反射防止性と、特に黒しまり感に優れていた。
なお、種々公知化されている偏向膜を用い、上記と同様に作製した偏光板においても同様の結果が得られた。
【０２５０】
［実施例４］
（偏光板の作製）
光学補償フィルム（ワイドビューフィルムＳＡ  １２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）の、光学異方性層を有する側とは反対側の表面を実施例３と同様の条件で鹸化処理した。
実施例３で作製した試料Ｎｏ．１０１〜１２７の光学フィルムを用いた偏光板の、鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルムの代わりに、前記で作製した光学補償フィルム
（ワイドビューフィルムＳＡ  １２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）を、前記と同じ接着剤で貼り合わせた。
この偏光板を透過型ＴＮ液晶セルの視認側の偏光板に用い（視野角拡大フィルムが液晶セル側）、バックライト側の偏光板として、視野角拡大フィルムとトリアセチルセルロースフィルムを保護フィルムとした偏光板を用いた（視野角拡大フィルムが液晶セル側）液晶表示装置を作製して、目視評価したところ、背景の照明の映りこみが少なくてクッキリした画像が得られ、かつ、上下左右の視野角が非常に広くて表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
【０２５１】
なお、種々公知化されている偏向膜を用い、上記と同様に作製した偏光板においても同様の結果が得られた。
【０２５２】
［実施例５］
（画像表示装置の評価）
実施例１の試料Ｎｏ．１０１〜１２７の光学フィルムを、有機ＥＬ表示装置に装着したところ、反射防止性、黒しまり感に優れていた。
また、偏光膜の一方の面に実施例３で作製した偏光板用保護フィルム、もう一方の面にλ／４板を有する偏光板を実施例３と同様にして作製した。上記の偏光板を有機ＥＬ表示装置に装着したところ、偏光板を貼ったガラス表面からの光の反射もカットされ、極めて視認性の高い表示装置が得られた。
【０２５３】
［実施例６］
前記実施例１における試料１０２の光拡散層用塗布組成物Ａ−２に加えるジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタアクリレートヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）の５０ｗｔ％を、特開２００５−７６００５号、合成例１記載のポリエステルアクリレートデンドリマー（Ａ）に置換えた以外は試料１０２と同じにして試料２０１を作製した。評価の結果、低カールでクラックが発生しない樹脂組成物を有する光学フィルムが得られた。
この試料２０１の防眩性は○、反射率は２．７％、黒味は４．３であった。
【０２５４】
［実施例７］
前記実施例１における試料１０２の光拡散層用塗布組成物Ａ−２に加えるジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタアクリレートヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）の４０ｗｔ％を、本実施例で調製した硬化性多分岐ポリマー［ＲＨＢ−１］に置き換えた以外は試料１０２と同じにして試料２０２を作製した。評価の結果、低カールでクラックが発生しない樹脂組成物を有する光学フィルムが得られた。
この試料２０２の防眩性は○、反射率は２．７％、黒味は４．４であった。
【０２５５】
［実施例８］
前記実施例１における試料１０２の光拡散層用塗布組成物Ａ−２に加えるジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタアクリレートヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）の５０ｗｔ％を、本実施例で調製した硬化性多分岐ポリマー［ＲＨＢ−１］に置き換えた。さらに重合開始剤（イルガキュア１８４）を０．６５質量部に減量し、代わりにカチオン重合開始剤としてロードシル  フォトイニシエーター２０７４（ＲＨＯＤＩＡ社製）を、０．６５質量部加えた以外は試料１０２と同じにして試料２０３を作製した。
評価の結果、この試料も、低カールでクラックが発生しない樹脂組成物を有する光学フィルムであった。
この試料２０３の防眩性は○、反射率は２．６％、黒味は４．３であった。
【０２５６】
［実施例９］
前記実施例１における試料１０２の低屈折率層用塗布組成物Ｌ−１の代わりに、以下の塗布組成物Ｌ−１１を調製して用いた以外は試料１０２と同じにして試料３０１を作製した。
（低屈折率層用塗布組成物Ｌ−１１）
特開平１１−１８９６２１の実施例１に記載の含フッ素熱硬化性ポリマー８０質量部、サイメル３０３（日本サイテックインダストリーズ（株）製）２０質量部、およびキャタリスト４０５０（日本サイテックインダストリーズ（株）製）２．０質量部を、メチルエチルケトンに溶解し、固形分濃度を６質量％にした。
前記実施例１と同じ評価を行なった結果、防眩性が○、反射率２．７％、黒味４．４で、良好な光学フィルムが得られた。