(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートのＸ方向及びＹ方向それぞれに複数並んで形成されている画素部に対して塗布液を吐出するノズルが、Ｙ方向に並んで複数設けられている塗布ヘッドと、
前記シートと前記塗布ヘッドとを相対的にＸ方向及びＹ方向に移動させる駆動装置と、
前記シートと前記塗布ヘッドとを相対的にＸ方向に移動させる間に、Ｙ方向に並ぶ画素部の各列に対して順に、前記ノズルから塗布液を同時に吐出させる単位塗布動作を実行する制御を行う塗布動作制御部と、
前記画素部を撮像する撮像手段を有し前記画素部の座標を取得する座標取得部と、
前記座標取得部が取得した前記座標に基づいて、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部のうち、前記単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる画素部数を算出する演算部と、
を有し、
前記演算部は、前記座標取得部が取得した前記画素部の座標に基づいて、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部のうちの所定数の画素部群におけるＸ方向の変形量を求め、かつ、当該変形量が、単一の画素部において塗布液の滴下が許容される範囲のＸ方向に関する寸法未満となる条件を満たす、前記所定数の最大値を、前記画素部数として算出し、
前記塗布動作制御部は、前記演算部が算出した前記画素部数に相当する数の画素部に対して塗布液を吐出可能とするＹ方向に並ぶ前記ノズルを用いて、前記単位塗布動作を実行させる制御を行うことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記塗布動作制御部は、前記駆動装置が前記塗布ヘッドと前記シートとをＸ方向に相対移動させる間に、前記単位塗布動作をＹ方向に並ぶ画素部の各列に対して順に実行する１ストローク動作を実行すると共に、当該１ストローク動作を終える毎に、前記駆動装置が前記塗布ヘッドと前記シートとを相対的にＹ方向に移行させて、次の前記１ストローク動作を実行する制御を行い、
前記演算部は、前記１ストローク動作毎の前記画素部数を算出し、
前記塗布動作制御部は、前記演算部が算出した前記画素部数を前記１ストローク動作毎に変更して、前記単位塗布動作を実行可能である請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
シートのＸ方向及びＹ方向それぞれに複数並んで形成されている画素部に対して塗布液を吐出するノズルが、Ｙ方向に並んで複数設けられている塗布ヘッドを備えた塗布装置によって実行され、
Ｙ方向に並ぶ画素部に対して前記ノズルから塗布液を同時に吐出させる単位塗布動作を、前記塗布ヘッドと前記シートとを相対的にＸ方向に移動させる間に、Ｙ方向に並ぶ画素部の各列に対して順に実行する塗布方法であって、
前記画素部を撮像して前記画素部の座標を取得する座標取得ステップと、
取得した前記座標に基づいて、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部のうち、前記単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる画素部数を算出する演算ステップと、
を含み、
前記演算ステップでは、前記座標取得ステップで取得した前記画素部の座標に基づいて、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部のうちの所定数の画素部群におけるＸ方向の変形量を求め、かつ、当該変形量が、単一の画素部において塗布液の滴下が許容される範囲のＸ方向に関する寸法未満となる条件を満たす、前記所定数の最大値を、前記画素部数として算出し、
前記演算ステップにおいて算出した前記画素部数に相当する数の画素部に対して塗布液を吐出可能とするＹ方向に並ぶ前記ノズルを用いて、前記単位塗布動作を実行することを特徴とする塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シートに形成されている複数の画素部（凹部）に対して、ノズルから塗布液を吐出して塗布する塗布装置、及びこの塗布装置によって行われる塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば液晶テレビのような画像表示機器にはカラーフィルタが用いられており、このカラーフィルタの製造方法としては、ガラス上に形成された複数の微細な画素部に対してインクの全面薄膜塗布を行い、フォトリソグラフィ技術を用い、必要部分を残して製造する方法が一般的である。さらに生産性を向上させた製造方法として、インクジェット塗布装置によるインクジェット法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
前記画像表示機器では、近年、軽量化、薄型化及び耐衝撃性の向上が要求されており、電子ペーパーやフレキシブル液晶ディスプレイ等においては、カラーフィルタを得るためのシートの材質として、ガラス以外のものが採用されている。例えば、電子ペーパーでは樹脂からなるシートがあり、このシート上にＵＶ硬化樹脂が設けられ、これに画素部となる凹部を形成する処理が施される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２７３８６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
図６（ａ）は、インクジェット塗布装置が備えている塗布ヘッド９０とシートＷとを側方から見た概略説明図であり、図６（ｂ）は、平面で見た概略説明図である。シートＷには、その面上に広がって複数の微小な画素部９２が形成されており、隣り合う画素部９２間でのインクの混色等の不具合を防止するために、塗布ヘッド９０に設けられているノズル９１から画素部９２それぞれに対して、適切な位置に塗布液を滴下させる必要がある。
【０００５】
複数の画素部９２は、設計的には、相互で直交するＸ方向及びＹ方向それぞれの直線上に並んで形成されるが、シートＷが、樹脂のように熱や圧力の影響を受けやすい材質である場合、画素部９２を形成する際の熱や圧力等によって、シートＷが変形することがあり、この結果、図６（ｂ）に示すように、複数の画素部９２が、直線的に配置されずにゆがんで形成されてしまうことがある。
【０００６】
これに対して、塗布ヘッド９０には、ノズル９１がＹ方向に複数並んで設けられており、また、インクジェット塗布装置は、塗布ヘッド９０をＸ方向に１ストローク移動させる間に、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部９２の列それぞれに対して前記複数のノズル９１から塗布液を同時に吐出する動作を行う。
このため、図６（ｂ）に示しているように、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部９２それぞれの位置が、Ｘ方向にずれている場合、これら画素部９２に対して、Ｙ方向に並ぶ複数のノズル９１から塗布液を同時に吐出すると、画素部９２ａ，９２ｂのように、塗布液９３が画素部以外の領域に吐出されてしまうおそれがある。この場合、隣り合う画素部間で混色が発生し、製品にはできない不良品となってしまう。なお、このような不具合は、シートＷが樹脂製である場合に限らず、変形し易い材質の場合も同様に発生する。
【０００７】
そこで、本発明は、不良品の発生を抑制しつつ塗布作業の効率を高めることが可能となる塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の塗布装置は、シートのＸ方向及びＹ方向それぞれに複数並んで形成されている画素部に対して塗布液を吐出するノズルが、Ｙ方向に並んで複数設けられている塗布ヘッドと、前記シートと前記塗布ヘッドとを相対的にＸ方向及びＹ方向に移動させる駆動装置と、前記シートと前記塗布ヘッドとを相対的にＸ方向に移動させる間に、Ｙ方向に並ぶ画素部の各列に対して順に、前記ノズルから塗布液を同時に吐出させる単位塗布動作を実行する制御を行う塗布動作制御部と、前記画素部を撮像する撮像手段を有し前記画素部の座標を取得する座標取得部と、前記座標取得部が取得した前記座標に基づいて、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部のうち、前記単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる画素部数を算出する演算部とを有し、前記演算部は、前記座標取得部が取得した前記画素部の座標に基づいて、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部のうちの所定数の画素部群におけるＸ方向の変形量を求め、かつ、当該変形量が、単一の画素部において塗布液の滴下が許容される範囲のＸ方向に関する寸法未満となる条件を満たす、前記所定数の最大値を、前記画素部数として算出し、前記塗布動作制御部は、前記演算部が算出した前記画素部数に相当する数の画素部に対して塗布液を吐出可能とするＹ方向に並ぶ前記ノズルを用いて、前記単位塗布動作を実行させる制御を行うことを特徴とする。
【０００９】
そして、本発明の塗布方法は、シートのＸ方向及びＹ方向それぞれに複数並んで形成されている画素部に対して塗布液を吐出するノズルが、Ｙ方向に並んで複数設けられている塗布ヘッドを備えた塗布装置によって実行され、Ｙ方向に並ぶ画素部に対して前記ノズルから塗布液を同時に吐出させる単位塗布動作を、前記塗布ヘッドと前記シートとを相対的にＸ方向に移動させる間に、Ｙ方向に並ぶ画素部の各列に対して順に実行する塗布方法であって、前記画素部を撮像して前記画素部の座標を取得する座標取得ステップと、取得した前記座標に基づいて、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部のうち、前記単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる画素部数を算出する演算ステップとを含み、前記演算ステップでは、前記座標取得ステップで取得した前記画素部の座標に基づいて、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部のうちの所定数の画素部群におけるＸ方向の変形量を求め、かつ、当該変形量が、単一の画素部において塗布液の滴下が許容される範囲のＸ方向に関する寸法未満となる条件を満たす、前記所定数の最大値を、前記画素部数として算出し、前記演算ステップにおいて算出した前記画素部数に相当する数の画素部に対して塗布液を吐出可能とするＹ方向に並ぶ前記ノズルを用いて、前記単位塗布動作を実行することを特徴とする。
【００１０】
本発明の塗布装置及び塗布方法によれば、シートに変形が生じており画素部が設計値とおりＹ方向に沿って直線的に並んでいなくても、取得された画素部の座標に基づいて、画素部それぞれに対して正規の位置に塗布液の滴下が可能であり、しかも、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部のうち、このような滴下が可能となる画素部数を算出する。このため、できるだけ多くの画素部数を算出することにより、単位塗布動作によって多くの画素部に対して塗布液を正規の位置に滴下して塗布することができる。すなわち、正規の位置に塗布液の滴下を行って不良品の発生を抑制しつつ塗布作業の効率を高めることが可能となる。
【００１１】
また、前記演算部は、前記座標取得部が取得した前記画素部の座標に基づいて、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部のうちの所定数の画素部群におけるＸ方向の変形量を求め、かつ、当該変形量が、単一の画素部において塗布液の滴下が許容される範囲のＸ方向に関する寸法未満となる条件を満たす、前記所定数の最大値を、前記画素部数として算出する。
このため、例えば、Ｙ方向に並ぶ「Ｎｙ」個の画素部によって画素部群が構成されるとした場合、この「Ｎｙ」を自然数「１」から順に増加させながら、これら画素部群におけるＸ方向の変形量を求め、この変形量が前記寸法未満となる条件を満たすか否かの判定を行い、この条件を満たす「Ｎｙ」の最大値を前記画素部数として算出することができる。
【００１２】
また、前記塗布動作制御部は、前記駆動装置が前記塗布ヘッドと前記シートとをＸ方向に相対移動させる間に、前記単位塗布動作をＹ方向に並ぶ画素部の各列に対して実行する１ストローク動作を実行すると共に、当該１ストローク動作を終える毎に、前記駆動装置が前記塗布ヘッドと前記シートとを相対的にＹ方向に移行させて、次の前記１ストローク動作を実行する制御を行い、前記演算部は、前記１ストローク動作毎の前記画素部数を算出し、前記塗布動作制御部は、前記演算部が算出した前記画素部数を前記１ストローク動作毎に変更して、前記単位塗布動作を実行可能であるのが好ましい。
シートにおけるゆがみはその全体の中で均一ではないため、単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる画素部数は、１ストローク動作毎で（つまり、Ｙ方向の位置が異なる毎に）変化することがある。このため、単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる画素部数の算出を、１ストローク動作毎に行い、前記画素部数を１ストローク動作毎に変更して単位塗布動作を実行するのが好ましく、演算部及び塗布動作制御部の前記構成によれば、このような動作を実現することが可能となる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、単位塗布動作によって多くの画素部に対して塗布液を正規の位置に滴下して塗布することができるので、不良品の発生を抑制しつつ塗布作業の効率を高めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】塗布装置の概略構成を説明する説明図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
【図２】塗布方法を説明するフロー図である。
【図３】代表の画素部の座標を取得する処理を示すフロー図である。
【図４】（ａ）は画素形成領域を取り出して説明する説明図であり、（ｂ）は画素形成領域のゆがみを示した説明図である。
【図５】（ａ）画素部及びその配置を再現したイメージの一部を示す説明図であり、（ｂ）は、単一の画素部について説明する説明図である。
【図６】塗布ヘッドとシートとの説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
〔１．  塗布装置について〕
図１は、本発明の塗布装置の概略構成を説明する説明図である。この塗布装置１は、複数の画素部Ｇが形成されているシートＷに対して塗布液を塗布するインクジェット塗布装置である。本実施形態のシートＷは、帯状であり、送り出し装置２から繰り出され巻き取り装置３によって巻き取られる。そして、この巻き取り装置３により、シートＷを所定のタイミングでＹ方向に所定寸法について移動させることが可能となる。
【００１６】
塗布装置１は、送り出されたシートＷの画素部Ｇの座標を取得するための撮像手段５を有する撮像機構部４と、シートＷに対して塗布液（インク）の吐出を行う塗布ヘッド７を有する塗布機構部６とを備えており、これらはシートＷの搬送方向（Ｙ方向）に並んで設けられている。このため、後に説明するが撮像手段５によって画素部Ｇの撮像を行い画素部Ｇの座標を取得する処理と、実際の塗布作業とを時間的に並行して行うことができる。また、塗布装置１は、コンピュータプログラムを記憶する記憶装置等を有するコンピュータからなる制御装置８を備えている。また、塗布装置１（撮像機構部４及び塗布機構部６）では、水平面上のＸ方向の軸とＹ方向の軸とからなるＸＹ座標系が定義されている。
【００１７】
シートＷ上には、画素形成領域Ｓが所定のピッチで形成されており、各画素形成領域Ｓには、画素部ＧがＸ方向及びＹ方向それぞれに並んで複数形成されている。なお、図１では説明を容易とするために画素部Ｇを大きくして記載している。画素部Ｇは凹部からなり、この凹部に塗布液が塗布される。本実施形態では、シートＷは樹脂製であり、また、帯状のシートＷは画素形成領域Ｓ毎に裁断され、例えばカラーフィルタとなる。
【００１８】
撮像機構部４は、シートＷを固定及び固定解除可能なステージ２５と、カメラガントリ２１に搭載された撮像手段５と、撮像手段５をＸ方向及びＹ方向に移動させる撮像用の駆動装置２３とを有している。撮像手段５は、例えばＣＣＤカメラであり（以下、撮像手段５をカメラ５として説明する）、ステージ２５に固定したシートＷの画素部Ｇを撮像する。駆動装置２３は、カメラガントリ２１をＸ方向に移動させる機能と、カメラ５をカメラガントリ２１に沿ってＹ方向に移動させる機能とを有し、例えばリニアガイド及びモータ等によって構成される。ステージ２５は、エア吸引又は静電気によってシートＷを固定することができる。
【００１９】
撮像機構部４は、駆動装置２３及びカメラ５と関連して機能する座標取得部２４を備えており、この座標取得部２４は、カメラ５が撮像した画像を処理する機能を有する他、駆動装置２３によって移動したカメラ５のＸ方向及びＹ方向の位置（座標）を制御（管理）する。このため、後にも説明するが、カメラ５によって取得された画像に基づいて、座標取得部２４は画素部Ｇの座標を取得することができる。なお、座標取得部２４の機能は、前記制御装置８のコンピュータプログラムが実行されることで発揮される。
また、駆動装置２３は、カメラ５又はカメラガントリ２１をＺ方向（高さ方向）の軸回りに回転させる機能を有している。座標取得部２４は、駆動装置２３によって、ステージ２５に固定状態としたシートＷのＸＹ座標系と、カメラ５の移動のためのＸＹ座標系とを一致させるアライメント作業を行うことができる。
【００２０】
塗布機構部６は、シートＷを固定及び固定解除可能なステージ１３と、塗布ガントリ１１に搭載された塗布ヘッド７と、塗布ヘッド７をＸ方向及びＹ方向に移動させる塗布用の駆動装置１２とを有している。塗布ヘッド７には、複数の画素部Ｇそれぞれに対して塗布液を吐出するノズル９がＹ方向に複数並んで設けられている。駆動装置１２は、塗布ガントリ１１をＸ方向に移動させる機能と、塗布ヘッド７を塗布ガントリ１１に沿ってＹ方向に移動させる機能とを有し、例えばリニアガイド及びモータ等によって構成される。本実施形態の駆動装置１２は、シートＷに対して塗布ヘッド７をＸ方向及びＹ方向に移動させることができる。ステージ１３は、エア吸引又は静電気によってシートＷを固定することができる。
また、駆動装置１２は、塗布ヘッド７又は塗布ガントリ１１をＺ方向（高さ方向）の軸回りに回転させる機能を有し、制御装置８は、この駆動装置１２によって、ステージ１３に固定状態としたシートＷのＸＹ座標系と、塗布ヘッド７の移動のためのＸＹ座標系とを一致させるアライメント作業を行うことができる。
なお、塗布器後部６においても、撮像機構部４と同様にカメラ（図示せず）が設置されていてもよく、この場合、当該カメラを用いてシートＷのアライメント作業が行われる。
【００２１】
塗布機構部６は、ステージ１３に固定したシートＷの画素部Ｇそれぞれに対して、塗布ヘッド７のノズル９から塗布液を吐出させて塗布する各種動作の制御を行う塗布動作制御部１４を備えている。また、塗布動作制御部１４は、各ノズル９のＸ方向及びＹ方向の位置（座標）を制御（管理）することができる。さらに、塗布機構部６は、後に説明するが、所定の条件を満たす画素部Ｇの数を算出する演算部１５を備えている。これら塗布動作制御部１４及び演算部１５の機能は、前記制御装置８のコンピュータプログラムが実行されることで発揮される。
【００２２】
塗布動作制御部１４は、Ｙ方向に並ぶ画素部Ｇに対してノズル９から塗布液を同時に吐出させる「単位塗布動作」を実行する制御を行うことができる。
なお、各画素形成領域Ｓには、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部Ｇの列が、Ｘ方向に複数列並んでいることから、さらに、塗布動作制御部１４は、駆動装置１２によって塗布ヘッド７をシートＷに対してＸ方向に１ストローク移動させることができ、この１ストローク移動させる間に、ノズル９から塗布液を同時に吐出させる前記単位塗布動作を、Ｘ方向に向かって順番に実行する「１ストローク動作」を実行する制御を行うこともできる。
この１ストローク動作では、Ｙ方向について全ての画素部Ｇではなく、一部の画素部Ｇに対して塗布を行う。そこで、塗布動作制御部１４は、前記単位塗布動作をＸ方向に向かって各列に対して行う１ストローク動作を終える毎に、シートＷに対して塗布ヘッド７をＹ方向に移行させて、次の１ストローク動作を実行する機能を有している。この機能により、画素形成領域Ｓのすべての画素部Ｇに塗布液を塗布することが可能となる。
【００２３】
前記演算部１５は、前記座標取得部２４が取得した画素部Ｇの座標に基づいて、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部のうち、一度の前記単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる画素部数（本実施形態では最大値）を算出する機能を有している。この機能の具体例については、後に説明する。
【００２４】
また、塗布ヘッド７にはＹ方向に並ぶ複数のノズル９が形成されているが、塗布動作制御部１４は、これらノズル９のうち、前記単位塗布動作の際に塗布液を同時に吐出させるノズル９と、塗布液を吐出させないノズル９とを設定することができる。これを、以下、ノズル選択処理という。つまり、Ｙ方向に並ぶノズル９からの塗布液の吐出は同時にしかできないが、塗布液を吐出させるノズルの選択が可能となる。例えば後に説明する図５（ａ）では、最も右端にあるノズル９以外のノズル９からは、塗布液を吐出させ、この最も右端にあるノズル９からの塗布液の吐出を停止させることができる。
【００２５】
〔２．  塗布方法について〕
以上の構成を備えた塗布装置１によって実行される塗布方法を、図２に沿って、さらに他図を参照しながら説明する。なお、以下に説明する塗布方法において、特に主体を記載していない処理は、制御装置８が行う処理である。
撮像機構部４において、シートＷ（画素形成部Ｓ１）のゆがみを求める（図２のステップＳ１）。本実施形態では、シートＷのゆがみを画素部Ｇの変形量として求める。なお、この変形量は、カメラ５が画素部Ｇを撮像し、これに基づいて座標取得部２４が画素部Ｇの座標を取得した結果（座標取得ステップ）から得ることができる。
【００２６】
図３は、座標取得ステップの説明図であり、代表となる画素部Ｇの座標（Ｘｎｘ，Ｙｎｙ）を取得する処理を示している。図４（ａ）は、シートＷのうち、撮像機構部４に位置している画素形成領域Ｓ１を取り出して説明する説明図である。
画素形成領域Ｓ１がステージ２５上で固定されると（図３のステップＳ１１）、この画素形成領域Ｓ１の隅部に設けられているアライメントマークＭをカメラ５が撮像し、座標取得部２４は、この画素形成領域Ｓ１のＸＹ座標系とカメラ５のＸＹ座標系とを一致させる前記アライメント作業を行う（ステップＳ１２）。そして、カメラ５により代表となる画素部Ｇの撮像及びその座標の取得を行う前に、その取得回数の初期化を行う（ステップＳ１３）。
【００２７】
駆動装置２３は、最初に撮像の対象とする画素部Ｇへカメラ５を移動させる（ステップＳ１４）。本実施形態では、図４（ａ）に示すように、左上の画素部Ｇ上へカメラ５が移動する。このカメラ５による画像には、対象とする画素部Ｇ以外の他の画素部Ｇも撮像されるが、座標取得部２４は、カメラ５の画像のうち、画像中心に最も近い画素部Ｇの中心点ＣのＸＹ座標（Ｘｎｘ，Ｙｎｙ）を、当該画素部Ｇの座標として取得する（ステップＳ１５，Ｓ１６）。そして、次の対象とする画素部Ｇへカメラ５を移動させるために、座標取得部２４は、Ｙ方向についての取得回数ｎｙをインクリメントする（ステップＳ１７）。このＹ方向についての取得回数ｎｙの上限値ｎｙｍａｘは予め設定されている。この上限値ｎｙｍａｘは、後に説明する「カメラ移動ピッチ」に基づいて決定されている。「カメラ移動ピッチ」の算出方法については後に説明する。
【００２８】
そして、ステップＳ１８では、座標取得部２４によって前記上限値ｎｙｍａｘと、実際の取得回数ｎｙとの比較がされ、上限値に達していない場合（ステップＳ１８でＮｏ）、カメラ５は、前記動作（ステップＳ１６）で座標を取得した画素部Ｇの中心点ＣのＸＹ座標（Ｘｎｘ，Ｙｎｙ）位置からＹ方向に前記「カメラ移動ピッチ」足した座標位置に移動する（ステップＳ１９）。以下、同様にして、Ｙ方向について取得回数ｎｙが、上限値ｎｙｍａｘに達するまで実行される。これにより、Ｙ方向の一列（図４（ａ）では最も上の１列目）について、Ｙ方向の「カメラ移動ピッチ」毎に存在する画素部Ｇそれぞれの座標（Ｘ１，Ｙｎｙ）が取得される（図４（ａ）では黒塗りの画素部Ｇ）。取得された代表の画素部Ｇの座標を、制御装置８の記憶装置に記憶させる。
取得回数ｎｙが上限値ｎｙｍａｘに達すると（ステップＳ１８でＹｅｓ）、Ｘ方向についてカメラ５を移動させるために、座標取得部２４は、Ｘ方向についての取得回数ｎｘをインクリメントする（ステップＳ２１）。このＸ方向についての取得回数ｎｘの上限値ｎｘｍａｘについても予め設定されており、後に説明する「カメラ移動ピッチ」に基づいて決定される。
【００２９】
そして、ステップＳ２２では、座標取得部２４によって前記上限値ｎｘｍａｘと、実際の取得回数ｎｘとの比較がされ、最大値に達していない場合（ステップＳ２２でＮｏ）、カメラ５は、前記動作（ステップＳ１６）で座標を取得した画素部Ｇの中心点ＣのＸＹ座標（Ｘｎｘ，Ｙ１）位置からＸ方向に前記「カメラ移動ピッチ」足した座標位置に移動する（ステップＳ２３）。そして、上記と同様にして、Ｙ方向について取得回数ｎｙが上限値ｎｙｍａｘに達するまで各ステップが実行され、これにより、Ｙ方向の別の一列について、Ｙ方向の「カメラ移動ピッチ」毎に存在する画素部Ｇそれぞれの座標（Ｘ２，Ｙｎｙ）が取得される。取得された代表の画素部Ｇの座標を、制御装置８の記憶装置に記憶させる。
そして、取得回数ｎｘが上限値ｎｘｍａｘに達すると（ステップＳ２２でＹｅｓ）、代表である複数個の画素部Ｇ（図４（ａ）では、黒塗りの１６個の画素部Ｇ）についての座標取得の処理を終える。
【００３０】
図４（ｂ）は、前記座標取得の処理の結果に基づいて、画素形成領域Ｓ１（シートＷ）のゆがみを示した説明図である。すなわち、図４（ｂ）は、代表である１６個の前記画素部Ｇについての座標（Ｘｎｘ，Ｙｎｙ）をＸＹ平面にプロットした図であり、設計値では（理想状態では）○で示すように画素部ＧはＸ方向及びＹ方向それぞれに直線的に並んで配置されるが、実際では、シートＷを製造する際の熱等の影響により、ゆがみが生じており、画素部Ｇは●で示すように直線的に並んでいない。そこで、座標取得部２４は、シートＷのゆがみを考慮して画素部Ｇの並びの再構築を行う（図２のステップＳ２）。
【００３１】
〔画素部Ｇの並びの再構築について〕
本実施形態では、まず、座標取得部２４は、全ての画素部Ｇそれぞれについての座標を求める。図３に示した座標取得の処理では、１６個の代表となる（間欠的な）画素部Ｇについてのみ座標を取得したが、残りの他の画素部Ｇの座標も求める（推定する）。この推定処理は、座標取得部２４が、代表となる画素部Ｇの座標に基づいて、直線補間又は二次曲線補間等することで実現できる。
【００３２】
前記座標取得の処理及び前記補間処理により、全ての画素部Ｇの座標が取得される。また、単一の画素部Ｇの形状は既知である。そこで、これら座標及び形状に基づいて、画素部Ｇ及びその配置を再現したイメージの一部を、図５（ａ）に示す。
塗布機構部６では、同一のタイミングで塗布液を吐出する複数のノズル９は、Ｙ方向に並んで設けられているのに対し、実際の画素部Ｇの配列は上記のとおりゆがんでいる。このため、このゆがみを考慮して、「所定の一列」についてＹ方向に並ぶ複数の画素部Ｇのうち、１度の前記単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる所定数の画素部Ｇを、一つの画素部群として、画素形成領域Ｓを再配置する画素部Ｇの再構築の処理を行う。なお、この再構築の処理では、設計値と比べて、最も大きなＸ方向の変形量を有する画素部Ｇが含まれるＹ方向の一列を、前記「所定の一列」としており、図５（ａ）は、図４（ｂ）の領域Ａの部分に相当している。
【００３３】
図５（ａ）において、１度の単位塗布動作によって、Ｙ方向について例えば「Ｎｙ」個の画素部Ｇが、同一のタイミングで塗布液が吐出され塗布される対象であるとした場合、この「Ｎｙ」個の画素部Ｇが、単位塗布動作の塗布幅となる。そして、前記演算部１５は、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部のうち、この「Ｎｙ」個の画素部群におけるＸ方向の変形量として、この塗布幅のＸ方向についての変形量の最大値Ｄｘｍａｘを、既に取得された各画素部Ｇの座標に基づいて求めることができる。
【００３４】
ここで、単一の画素部Ｇについて着目する。本実施形態では、特に画素部Ｇの底と側壁とが同じ材料で形成されているため塗布液は溢れやすく、隣り合う画素部間に側壁が存在しているが、一方の画素部の塗布液が側壁に引き寄せられると、他方の画素部の塗布液と混色するおそれがある。したがって、図５（ｂ）に示すように、塗布液Ｌの着弾位置が画素部Ｇの一辺（側壁）ｊに近すぎると、隣りの画素部の塗布液と混色するおそれがある。このため、単一の画素部Ｇにおいて塗布液Ｌの着弾位置を制限する必要があり、その限界位置を「塗布液Ｌの着弾を許容する限界位置」とする。
この塗布液Ｌの着弾を許容する限界位置と、画素部Ｇの一辺ｊとの距離をＣｄとし、画素部ＧのＸ方向の寸法をＸｐｓとすると、前記「Ｎｙ」個の画素部群に含まれる画素部Ｇに対して正規の位置に塗布液を着弾させるためには、式（１）を満たす必要がある。
Ｃｄ×２＋Ｈｅ＋Ｄｘｍａｘ  ＜  Ｘｐｓ          ・・・（１）
なお、この式（１）では、ノズル９が有する着弾位置の誤差の最大値Ｈｅも考慮されている。この最大値Ｈｅは、所望の着弾位置に塗布液を着弾させるためにノズル９から設定とおり吐出させても、実際では僅かに着弾位置がずれることがあるため、その着弾位置のずれのＸ方向についての寸法の最大の値である。
【００３５】
そして、この式（１）を変形することにより、式（２）が得られる。
Ｄｘｍａｘ  ＜  Ｘｐｓ−（Ｃｄ×２＋Ｈｅ）      ・・・（２）
すなわち、前記「Ｎｙ」個の画素部Ｇすべてに対して正規の位置に塗布液を着弾させるためには、式（２）が成立する必要があり、最大値Ｄｘｍａｘの値を制限する必要がある。この式（２）の右辺は、図５（ｂ）に示すように「単一の画素部Ｇにおいて塗布液Ｌの滴下が許容される範囲のＸ方向に関する寸法ＸＬ」を意味している。
【００３６】
式（２）の左辺（最大値Ｄｘｍａｘ）は、上記のとおり既に取得されている画素部Ｇの座標から求めることができる値であり、しかも、画素部の数「Ｎｙ」に応じて変化する。例えば、この「Ｎｙ」が多くなれば、図５（ａ）からも明らかなように最大値Ｄｘｍａｘも大きくなる。したがって、最大値Ｄｘｍａｘの値を制限することは、画素部Ｇの数「Ｎｙ」を制限することと等価である。しかし、この「Ｎｙ」を必要以上に小さくすると、単位塗布動作で塗布液が塗布される対象となる画素部Ｇの数が少なくなり、作業効率が低下する。
【００３７】
そこで、演算部１５は、式（２）を満たすための画素部Ｇの数「Ｎｙ」の最大値を求める。つまり、演算部１５は、最大値Ｄｘｍａｘが「単一の画素部Ｇにおいて塗布液の滴下が許容される範囲のＸ方向に関する寸法ＸＬ」未満となる条件を満たす、所定数「Ｎｙ」の最大値Ｋを算出する。この最大値Ｋは、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部Ｇのうち、１度の単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる画素部数の最大の値である。
この演算部１５による処理を具体的に説明すると、例えば、前記「所定の一列」において、Ｙ方向に並ぶ「Ｎｙ」個の画素部Ｇによって画素部群を構成するとした場合、この「Ｎｙ」を自然数「１」から順に増加させながら、これら画素部群におけるＸ方向の変形量、つまり当該画素部群の前記最大値Ｄｘｍａｘを求め、この最大値Ｄｘｍａｘが、前記「単一の画素部Ｇにおいて塗布液Ｌの滴下が許容される範囲のＸ方向に関する寸法ＸＬ」未満となる条件を満たすか否かの判定を行い、そして、この条件を満たす「Ｎｙ」の最大値Ｋを求める。図５（ａ）の場合、「Ｎｙ」の最大値Ｋは４個となる。なお、後のノズル選択処理（図２のステップＳ５）で説明するが、ノズル９側においては、最も右側のノズル９については塗布液の吐出を停止させればよい。
【００３８】
以上のように、画素部Ｇの並びの再構築のために、前記座標取得ステップ（図２のステップＳ１）で取得した座標に基づいて、前記「所定の一列」において、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部Ｇのうち、１度の単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる画素部数の最大値Ｋを算出する（演算ステップ）。この処理を実行することで、単位塗布動作（１ストローク動作）において最も効率の良い塗布幅となる。つまり、少ない回数の１ストローク動作で、画素形成領域Ｓ１の全面に対して塗布液の塗布が可能となる。
【００３９】
ただし、シートＷのゆがみが小さいこともある。この場合、その中でも変形量が大きい所定の一列において、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部Ｇのうち、単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる画素部の全幅が、塗布ヘッド７による塗布可能最大幅（Ｙ方向の全ノズル最大幅）Ｈｗを超えていると、つまり、演算部１５によって式（３）の条件式が満たされていると判定されると、演算部１５は、画素部Ｇの数「Ｎｙ」を式（４）によって求める。ただし、Ｎｙは自然数であるため、小数点以下は切り捨てとする。また、ＹｐｐはＹ方向の画素部ピッチとする。
（算出して得た最大値Ｋとなる「Ｎｙ」）×Ｙｐｐ  ＞  Ｈｗ  ・・・（３）
Ｎｙ  ＝  Ｈｗ／Ｙｐｐ                                    ・・・（４）
【００４０】
そして、図２に戻って、画素形成領域Ｓ１（シートＷ）を塗布機構部６へ移動させる（ステップＳ３）。塗布機構部６では、画素形成領域Ｓ１のＸＹ座標系と塗布ヘッド７のＸＹ座標系とを一致させる前記アライメント作業が行われ（ステップＳ４）、撮像機構部４におけるＸＹ座標系を塗布機構部６で再現させる。
そして、再構築された画素部Ｇの並びに対して前記ノズル選択処理が行われ（ステップＳ５）、図５（ａ）の場合、最も右側のノズル９については塗布液の吐出を停止させる。また、実際のノズル９は、図５（ａ）に示した形態とは異なってさらに多く形成されており、ノズル選択処理では、塗布液を吐出させるノズル９の選択も行われる。
【００４１】
そして、実際の塗布作業が実行される。すなわち、塗布ヘッド７を画素形成領域Ｓ１に対してＸ方向に１ストローク移動させる間に、ノズル９から塗布液を同時に吐出させる単位塗布動作を、Ｙ方向に並ぶ画素部Ｇの各列に対して、Ｘ方向に向かって順番に行う「１ストローク動作」を実行する（ステップＳ６）。この際、各単位塗布動作では、前記演算ステップ（ステップＳ２）において演算部１５が算出した前記「Ｎｙ」の最大値Ｋに相当する複数の画素部Ｇに対して、塗布液を同時に吐出させる。
【００４２】
そして、塗布動作制御部１４は、１ストローク動作を終える毎に、固定状態にあるシートＷに対して塗布ヘッド７をＹ方向に移行させ（ステップＳ８）、次の１ストローク動作を実行する（ステップＳ６）。以上、Ｙ方向の全幅について塗布が完了するまでステップＳ６とＳ８とが繰り返し実行され（ステップＳ７）、シートＳのすべての画素部Ｇに塗布液を滴下して塗布することが可能となる。
【００４３】
また、図４（ｂ）に示すように、画素形成領域Ｓ１におけるゆがみは、その全体の中で均一ではないため、単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる画素部数（最大値Ｋ）は、１ストローク動作毎で、つまり、Ｙ方向の位置が異なる毎に、変化することがある。
そこで、単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる画素部数（最大値Ｋ）の算出を、１ストローク動作毎に行うのが好ましい。すなわち、演算部１５は、後に実行する１ストローク動作毎の前記「Ｎｙ」の最大値Ｋを算出し、そして、図２のステップＳ６、Ｓ７及びＳ８の際に、塗布動作制御部１４は、演算部１５が算出した前記最大値Ｋの画素部数を１ストローク動作毎に変更して、ノズル９から塗布液を同時に吐出させる単位塗布動作を実行する。
具体的には、演算部１５は、次の１ストローク動作のための前記最大値Ｋの画素部数を新たに算出し、１ストローク動作を終える毎に、塗布動作制御部１４は、新たに算出した最大値Ｋに基づいて前記次の１ストローク動作を実行する。
【００４４】
以上のように、本実施形態の塗布装置によって実行される塗布方法によれば、シートＷにゆがみが生じており画素部Ｇが設計値とおりＹ方向に沿って直線的に並んでいなくても、取得された画素部Ｇの座標に基づいて、画素部Ｇそれぞれに対して正規の位置に塗布液の滴下が可能であり、しかも、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部Ｇのうち、このような滴下が可能となる画素部数の最大値Ｋを算出するので、１度の単位塗布動作によって、できるだけ多くの画素部Ｇに対して塗布液を正規の位置に滴下して塗布することができる。すなわち、品質を高めつつ塗布作業の効率を高めることが可能となる。
【００４５】
以上の説明では、画素部ＧがＹ方向に沿って直線的に並んでいない場合の補償のための処理について説明したが、画素部Ｇは、Ｘ方向についても直線的に並んでいない。しかし、画素部Ｇは、図５（ｂ）に示すように、Ｘ方向に比べてＹ方向に広く、また、単一の画素部Ｇに対面することができるノズル９はＹ方向に複数形成されているため、塗布液を吐出させるノズルの選択（前記ノズル選択処理）により、このＸ方向についての画素部Ｇの位置ずれを対処することができる。
【００４６】
〔３．  「カメラ移動ピッチ」の算出方法について〕
図３のステップＳ１２のアライメント作業が完了した後において、シートＷに形成されているアライメントマークＭ（図４（ａ）参照）をカメラ５が撮像することにより、座標取得部２４は、画素形成領域Ｓ１の全体における、Ｘ方向及びＹ方向の１ｍｍあたりのゆがみ量（歪み）Ｘｄ，Ｙｄを取得することができる。
そして、画素部ＧのＸ方向及びＹ方向のピッチ（設計値）をＸｐｐ，Ｙｐｐとし、アライメントマークＭ，Ｍ間のＸ方向及びＹ方向の距離（設計値）をＸＡｄ，ＹＡｄとする。また、カメラ５がＹ方向に画素部Ｇの数「Ｎｇｙ」個ぶん隣りの画素部Ｇへ移動する距離が、Ｙ方向についての「カメラ移動ピッチ」となるので、この画素部Ｇの数「Ｎｇｙ」は、以下の式（５）を満足する必要がある。
Ｙｐｐ／２  ＞  Ｙｐｐ×Ｎｇｙ×Ｙｄ      ・・・（５）
【００４７】
すなわち、図３の前記ステップＳ１６では、座標取得部２４は、カメラ５の画像のうち、画像中心に最も近い画素部Ｇの中心点ＣのＸＹ座標（Ｘｎｘ，Ｙｎｙ）を、当該画素部Ｇの座標として取得することから、Ｙ方向の「カメラ移動ピッチ」に相当する「Ｎｇｙ」個隣りの画素部Ｇへとカメラ５が移動した場合において、その移動前後の画素部Ｇ，Ｇの間で、実際に画素形成領域Ｓに生じているＹ方向のゆがみ量が、画素部ＧのピッチＹｐｐの１／２以上になっていると、カメラ５の移動後の画像において、座標を取得すべき画素部Ｇ以外の画素部Ｇが画像中心に近くなってしまい、間違った認識をしてしまう。そこで、この式（５）は、そのゆがみ量を制限する式である。
【００４８】
そして、この式（５）によって算出される画素部Ｇの数「Ｎｇｙ」は、自然数である必要があるため、この「Ｎｇｙ」の取り得る最大値は、式（６）で表される（ただし、小数点以下は切り捨て）。
Ｎｇｙ  ＝  １／（Ｙｄ×２）                  ・・・（６）
ただし、ゆがみ量がＹ方向（Ｘ方向）に関して平均的に存在している場合は良いが、実際では部位によって異なるため、つまり、ゆがみ量に偏りがあるため、安全率を含めた式（７）によって、「Ｎｇｙ」の取り得る最大値を取得するのが好ましい。
Ｎｇｙ  ＝  （１×安全率）／（Ｙｄ×２）      ・・・（７）
【００４９】
そして、この「Ｎｇｙ」に、Ｙ方向の画素部ＧのピッチＹｐｐを乗算した値が、Ｙ方向についての「カメラ移動ピッチ」となる。また、この「カメラ移動ピッチ」と、画素形成領域Ｓ１に実際に存在しているＹ方向についての画素部Ｇの総数とによって、図３の処理で必要となる、Ｙ方向についての取得回数ｎｙの上限値ｎｙｍａｘを算出することができる。なお、Ｘ方向の「カメラ移動ピッチ」に関しても同様であり、ここでは説明を省略する。
このように「Ｎｇｙ」（「Ｎｇｘ」）の取り得る最大値を取得することで、座標取得のために、代表となる画素部Ｇの数を減らすことができる。この結果、座標取得のためのカメラ５による撮像時間を短縮することができ、作業効率の向上に貢献することができる。
【００５０】
また、本発明は、図示する形態に限らず本発明の範囲内において他の形態のものであってもよい。例えば、シートＷが樹脂製である場合を説明したが、柔軟性のある他の材質であってもよい。また、シートＷは帯状ではなく、枚葉のシート（つまり、基板）であってもよい。さらに、前記実施形態では、駆動装置１２，２３によって、カメラ５及び塗布ヘッド７がシートＷに対してＸ方向及びＹ方向に移動する場合を説明したが、シートＷ側が移動してもよい。
【符号の説明】
【００５１】
１：塗布装置、    ５：カメラ（撮像手段）、    ７：塗布ヘッド、    ９：ノズル、    １２：駆動装置、    １４：塗布動作制御部、    １５：演算部、    ２３：駆動装置、    ２４：座標取得部、    Ｇ：画素部、    Ｗ：シート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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