(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
交流電源からの電力供給により、真空チャンバに設けられた処理室内でプラズマを発生させるプラズマ処理装置のアンテナ構造であって、
前記交流電源の給電側に接続され、前記処理室内で軸心を鉛直方向に沿わせて垂下支持される給電側電極棒と、
前記交流電源の接地側に接続され、前記給電側電極棒に対向して前記処理室内で垂下支持される接地側電極棒と、
前記給電側電極棒の先端が進入可能な第１進入部、および、前記接地側電極棒の先端が進入可能な第２進入部が本体に設けられ、前記給電側電極棒の先端を前記第１進入部に進入させ、前記接地側電極棒の先端を前記第２進入部に進入させた状態で、前記両電極棒の先端近傍に懸架される連結部材と、
前記第１進入部の内部に位置し当該第１進入部に進入した前記給電側電極棒に通電可能に接触する第１接触部、前記第２進入部の内部に位置するとともに当該第２進入部に進入した前記接地側電極棒に通電可能に接触する第２接触部、および、前記両接触部を接続する接続部を有する接続部材と、
を備え、
前記給電側電極棒の先端を前記第１進入部に進入させ、前記接地側電極棒の先端を前記第２進入部に進入させた状態で、前記連結部材が懸架されると、前記本体によって、該給電側電極棒と前記第１接触部とが圧接されるとともに、該接地側電極棒と前記第２接触部とが圧接され、
前記第１接触部および前記第２接触部を介して前記接続部によって前記給電側電極棒と前記接地側電極棒とが通電可能に接続されることを特徴とするプラズマ処理装置のアンテナ構造。
【請求項２】
前記第１接触部および第２接触部は、前記第１進入部に進入した前記給電側電極棒および前記第２進入部に進入した前記接地側電極棒の先端に付勢して接触状態を維持する弾性体であることを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置のアンテナ構造。
【請求項３】
前記第１接触部および第２接触部は、
前記第１進入部に進入した前記給電側電極棒および前記第２進入部に進入した前記接地側電極棒の先端に圧縮されるバネ状に構成されていることを特徴とする請求項２記載のプラズマ処理装置のアンテナ構造。
【請求項４】
前記連結部材の本体には、
前記第１進入部に連通する第１連通孔と、
前記第２進入部に連通する第２連通孔と、が設けられ、
前記接続部材の前記接続部は、前記第１連通孔および前記第２連通孔を介して前記連結部材の本体外方に導かれていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプラズマ処理装置のアンテナ構造。
【請求項５】
前記連結部材の前記本体は導電性の部材によって構成され、
前記第１進入部および前記第２進入部には、これら両進入部の内面を被覆して前記接続部材と前記連結部材とを非接触状態に維持する非導電性の被覆部材が設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のプラズマ処理装置のアンテナ構造。
【請求項６】
前記給電側電極棒および前記接地側電極棒はそれぞれ複数本設けられるとともに、前記両電極棒が直線上に整列配置され、
前記連結部材は、前記複数本の電極棒それぞれに対応する第１進入部および第２進入部を備えていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のプラズマ処理装置のアンテナ構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空チャンバ内でプラズマを発生させて処理対象の被処理面に薄膜を生成したり、エッチングを行ったりするプラズマ処理装置のアンテナ構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、特許文献１、２に示されるプラズマ処理装置（プラズマＣＶＤ装置）が知られている。これらのプラズマ処理装置は、真空状態に減圧可能な処理室を有する真空チャンバを備えており、この真空チャンバの天井部に、高周波電源に電気的に接続された複数のコネクタが配設されている。また、処理室内には、複数本の電極棒を有するアレイアンテナユニットが設けられており、このアレイアンテナユニットの電極棒が、複数のコネクタそれぞれに接続された状態で処理室内において垂下支持されている。
【０００３】
そして、真空状態に減圧された処理室内に、処理対象である基板を保持する基板搬送用の台車を搬送するとともに、当該基板をアレイアンテナユニットに対向させた状態で、真空チャンバ内に反応ガスを供給しつつ、電極棒に高周波電力を供給する。これにより、真空雰囲気中にプラズマが発生するとともに、プラズマによって分解された反応ガスの成分が基板の表面に付着し、非結晶シリコン膜または微結晶シリコン膜などの薄膜が基板表面に生成されることとなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２６２５４１号公報
【特許文献２】特開２００３−１０９７９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来のプラズマ処理装置においては、高周波電源の給電側に接続される給電側電極棒と、接地側に接続される接地側電極棒とが、それぞれの先端において接続部材によって通電可能に接続されている。このとき、接続部材は、その一端を給電側電極棒の先端に取り付けるとともに、他端を接地側電極棒の先端に取り付けなければならず、特に、多数の電極棒を有するプラズマ処理装置においては、接続部材の取り付け作業が煩雑となってしまう。
【０００６】
本発明は、給電側電極棒と接地側電極棒とを通電可能に接続する接続部材の取り付け容易性を向上することができるプラズマ処理装置のアンテナ構造を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明のプラズマ処理装置のアンテナ構造は、交流電源からの電力供給により、真空チャンバに設けられた処理室内でプラズマを発生させるプラズマ処理装置のアンテナ構造であって、交流電源の給電側に接続され、処理室内で軸心を鉛直方向に沿わせて垂下支持される給電側電極棒と、交流電源の接地側に接続され、給電側電極棒に対向して処理室内で垂下支持される接地側電極棒と、給電側電極棒の先端が進入可能な第１進入部、および、接地側電極棒の先端が進入可能な第２進入部が本体に設けられ、給電側電極棒の先端を第１進入部に進入させ、接地側電極棒の先端を第２進入部に進入させた状態で、両電極棒の先端近傍に懸架される連結部材と、第１進入部の内部に位置し当該第１進入部に進入した給電側電極棒に通電可能に接触する第１接触部、第２進入部の内部に位置するとともに当該第２進入部に進入した接地側電極棒に通電可能に接触する第２接触部、および、両接触部を接続する接続部を有する接続部材と、を備え、給電側電極棒の先端を第１進入部に進入させ、接地側電極棒の先端を第２進入部に進入させた状態で、連結部材が懸架されると、本体によって、給電側電極棒と第１接触部とが圧接されるとともに、接地側電極棒と第２接触部とが圧接され、第１接触部および第２接触部を介して接続部によって給電側電極棒と接地側電極棒とが通電可能に接続されることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明のプラズマ処理装置のアンテナ構造は、第１接触部および第２接触部は、第１進入部に進入した給電側電極棒および第２進入部に進入した接地側電極棒の先端に付勢して接触状態を維持する弾性体であることを特徴とする。
【０００９】
また、本発明のプラズマ処理装置のアンテナ構造は、第１接触部および第２接触部が、第１進入部に進入した給電側電極棒および第２進入部に進入した接地側電極棒の先端に圧縮されるバネ状に構成されていることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明のプラズマ処理装置のアンテナ構造は、連結部材の本体には、第１進入部に連通する第１連通孔と、第２進入部に連通する第２連通孔と、が設けられ、接続部材の接続部は、第１連通孔および第２連通孔を介して連結部材の本体外方に導かれていることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明のプラズマ処理装置のアンテナ構造は、連結部材の本体は導電性の部材によって構成され、第１進入部および第２進入部には、これら両進入部の内面を被覆して接続部材と連結部材とを非接触状態に維持する非導電性の被覆部材が設けられていることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明のプラズマ処理装置のアンテナ構造は、給電側電極棒および接地側電極棒はそれぞれ複数本設けられるとともに、両電極棒が直線上に整列配置され、連結部材は、複数本の電極棒それぞれに対応する第１進入部および第２進入部を備えていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、給電側電極棒と接地側電極棒とを通電可能に接続する接続部材の取り付け容易性を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】真空チャンバの正面側を示す斜視図である。
【図２】真空チャンバの背面側を示す斜視図である。
【図３】真空チャンバの正面側の断面を模式的に示す図である。
【図４】アレイアンテナユニットの斜視図である。
【図５】アレイアンテナユニットが掛止された状態の真空チャンバの正面側断面図である。
【図６】アレイアンテナユニットが掛止された状態の真空チャンバの右側面図である。
【図７】（ａ）は、図４のＶＩＩ（ａ）−ＶＩＩ（ａ）線断面図、（ｂ）は、図４のＶＩＩ（ｂ）−ＶＩＩ（ｂ）線断面図である。
【図８】連結部材の構成を示す図である。
【図９】連結部材に各種の部品が設けられた状態を示す図である。
【図１０】被覆部材を示す図である。
【図１１】接続部材の斜視図である。
【図１２】リング部材を示す図である。
【図１３】接続部材の取り付け工程を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。
【００１６】
本実施形態のプラズマ処理装置は、処理対象の被処理面に薄膜を生成するプラズマＣＶＤ装置や、処理対象の被処理面をエッチング加工するプラズマエッチング装置として用いることが可能である。
【００１７】
まず、図１〜図３を用いて、本実施形態のプラズマＣＶＤ装置の真空チャンバの構造について説明する。図１は、真空チャンバの正面側を示す斜視図、図２は、真空チャンバの背面側を示す斜視図である。
【００１８】
図１および図２に示すように、真空チャンバ１は、筐体２を備えて構成されている。この筐体２は、図中ｙ方向に対面配置された天井部２ａおよび底面部２ｂと、図中ｘ方向に対面配置された右側面部２ｃおよび左側面部２ｄと、図中ｚ方向に対面配置された正面部２ｅおよび背面部２ｆと、を備えている。以下では、天井部２ａ側を真空チャンバ１の上方または上面とし、右側面部２ｃ側を真空チャンバ１の右方または右側面とし、左側面部２ｄ側を真空チャンバ１の左方または左側面として説明する。
【００１９】
正面部２ｅおよび背面部２ｆには、それぞれフロント開口部３およびリヤ開口部４が形成されており、これらフロント開口部３およびリヤ開口部４を開閉するフロント開閉扉５およびリヤ開閉扉６がそれぞれ設けられている。また、右側面部２ｃにも右開口部７が形成されており、この右開口部７を開閉する開閉扉８が設けられている。さらに、左側面部２ｄにも左開口部９が形成されているが、この左開口部９は、不図示の搬送チャンバに接続可能となっている。この左開口部９には、真空チャンバ１と搬送チャンバとを真空状態を維持したまま連通したり、あるいはその連通を遮断したりする不図示のゲートバルブが設けられている。そして、このゲートバルブを閉じるとともに、フロント開閉扉５、リヤ開閉扉６および開閉扉８を閉じることにより、筐体２の内部に、外部から完全に密閉された処理室１０が形成されることとなる。
【００２０】
また、天井部２ａには、３列のコネクタ群１１ａ、１１ｂ、１１ｃが設けられている。これらコネクタ群１１ａ、１１ｂ、１１ｃは、複数のコネクタが図中ｘ方向に沿って直列配置されたものであり、図中ｚ方向に所定の間隔を維持して設けられている。
【００２１】
図３は、真空チャンバ１の正面側の断面を模式的に示す図である。この図に示すように、コネクタ群１１ａは、高周波電力を供給する高周波電源１２の供給側（非接地側）に電気的に接続された第１天井側コネクタ１３と、高周波電源１２の接地側に電気的に接続された第２天井側コネクタ１４とが、所定の間隔を維持して交互に設けられている。これら第１天井側コネクタ１３および第２天井側コネクタ１４は、その接続部が鉛直方向下方（底面部２ｂ側）に向けられており、後述するアレイアンテナユニットの電極棒が、鉛直方向下方から上方に向かって接続可能なように配置されている。
【００２２】
また、第２天井側コネクタ１４にはガス供給源１５が接続されており、このガス供給源１５から供給される材料ガスが、第２天井側コネクタ１４に接続されたアレイアンテナユニットの電極棒から処理室１０内に噴出可能となっている。なお、ここではコネクタ群１１ａについて説明したが、コネクタ群１１ｂ、１１ｃも上記と同様の構成となっている。さらに、筐体２の天井部２ａには真空ポンプ１６が接続されており、処理室１０を密閉した状態で真空ポンプ１６を駆動することにより、真空チャンバ１内が真空状態に減圧可能となっている。
【００２３】
なお、図中符号１７は、処理対象である基板等が支持された搬送台車を、搬送チャンバから処理室１０内に搬入したり、処理室１０から搬送チャンバに搬出したりする際にガイドとして機能するガイドレールである。このガイドレール１７は、筐体２の底面部２ｂにおいて、右側面部２ｃから左側面部２ｄまで図中ｘ方向に沿って延在している。
【００２４】
図４は、アレイアンテナユニット３０の斜視図である。この図に示すように、アレイアンテナユニット３０は、アンテナ支持部材３１を備えており、このアンテナ支持部材３１に複数本の誘導結合型電極５０が支持されている。この誘導結合型電極５０は、第１電極棒５１（給電側電極棒）と第２電極棒５２（接地側電極棒）とが、その先端において接続部材５３によって電気的に接続されたアンテナ素子であり、アンテナ支持部材３１の長手方向に沿って複数本支持されている。具体的には、両電極棒５１、５２は、その軸心に直交する方向に所定の間隔を維持して交互に直列配置された状態で、その上端部がアンテナ支持部材３１に支持されている。なお、両電極棒５１、５２は、導電性の金属部材によって構成されているが、接続部材５３に接触する先端部を除く全周囲を、絶縁性の材質でコーティングされている。
【００２５】
図５は、アレイアンテナユニット３０が掛止された状態の真空チャンバ１の正面側断面図であり、図６は、アレイアンテナユニット３０が掛止された状態の真空チャンバ１の右側面図である。これらの図に示すように、アンテナ支持部材３１は、ボルト等の不図示の掛止手段によって真空チャンバ１の天井部２ａに掛止される。このようにしてアレイアンテナユニット３０が処理室１０内に掛止された状態では、第１電極棒５１が天井部２ａに設けられた第１天井側コネクタ１３に接続され、第２電極棒５２が第２天井側コネクタ１４に接続されており、両電極棒５１、５２は、それらの軸心を鉛直方向に沿わせた状態で、天井部２ａに垂下支持されることとなる。以下に、アレイアンテナユニット３０の構造について詳細に説明する。
【００２６】
図７（ａ）は、図４のＶＩＩ（ａ）−ＶＩＩ（ａ）線断面図であり、図７（ｂ）は、図４のＶＩＩ（ｂ）−ＶＩＩ（ｂ）線断面図である。これらの図に示すように、アンテナ支持部材３１は、断面Ｕ字形の部材によって構成されており、その開口を鉛直方向下方に臨ませている。このアンテナ支持部材３１は、図７（ｂ）からも明らかなように、その幅方向中央にアンテナ支持孔３２が形成されている。このアンテナ支持孔３２は、アンテナ支持部材３１の長手方向に沿って形成される長孔形状をなしており、このアンテナ支持孔３２に、第１電極棒５１および第２電極棒５２が交互に垂下支持されている。
【００２７】
より詳細に説明すると、第１電極棒５１の上端部には、真空チャンバ１の天井部２ａに設けられた第１天井側コネクタ１３に接続可能な第１アンテナ側コネクタ５４が固定されている。また、第２電極棒５２の上端部には、真空チャンバ１の天井部２ａに設けられた第２天井側コネクタ１４に接続可能な第２アンテナ側コネクタ５５が固定されている。
【００２８】
第１アンテナ側コネクタ５４は、円筒状の本体５４ａを備えており、この本体５４ａの底面部５４ｂに、第１電極棒５１が貫通した状態で固定されている。また、本体５４ａの開口側には、当該本体５４ａよりも大径のフランジ部５４ｃが設けられている。このフランジ部５４ｃは、アンテナ支持部材３１に形成されたアンテナ支持孔３２の幅よりも大径となる寸法関係を維持している。したがって、アンテナ支持孔３２の上方から第１アンテナ側コネクタ５４を挿入すると、本体５４ａがアンテナ支持孔３２を挿通するとともに、フランジ部５４ｃがアンテナ支持部材３１の上面に接触して掛止され、これによって第１電極棒５１がアンテナ支持部材３１に垂下支持されることとなる。
【００２９】
なお、ここでは第１アンテナ側コネクタ５４について説明したが、第２アンテナ側コネクタ５５の構成も上記第１アンテナ側コネクタ５４と同様である。つまり、第２アンテナ側コネクタ５５は、本体５５ａと、底面部５５ｂと、フランジ部５５ｃと、を備えており、底面部５５ｂに第２電極棒５２が貫通した状態で固定されている。そして、フランジ部５５ｃがアンテナ支持部材３１の上面に接触して掛止されることにより、第２電極棒５２がアンテナ支持部材３１に垂下支持されることとなる。
【００３０】
また、図７（ａ）に示すように、各第１電極棒５１は、その外周にセラミックスまたは樹脂などの誘電体からなる外筒５６を備えている。一方、各第２電極棒５２は円筒形状をなしており、その軸心に沿って延在するガス供給路５２ａが内部に形成されている。また、各第２電極棒５２は、ガス供給路５２ａに垂直に連通する噴出孔５２ｂを備えている。この第２電極棒５２は、上述したように、アレイアンテナユニット３０が真空チャンバ１内に掛止されたときに、第２天井側コネクタ１４に接続されて、上記したガス供給源１５とガス供給路５２ａとが連通する関係をなしている。したがって、アレイアンテナユニット３０が真空チャンバ１（処理室１０）内に掛止された状態で、ガス供給源１５から材料ガスが供給されることにより、噴出孔５２ｂから真空チャンバ１の処理室１０に向けて材料ガスが噴出することとなる。
【００３１】
なお、アンテナ支持部材３１の上面には、両アンテナ側コネクタ５４、５５を被覆する断面Ｕ字形のカバー部材３３が固定されている。このカバー部材３３には、両アンテナ側コネクタ５４、５５の本体５４ａ、５５ａに一致する円形の孔３３ａが複数設けられている。これにより、各アンテナ側コネクタ５４、５５の本体５４ａ、５５ａの開口、すなわち、両電極棒５１、５２の上端は、カバー部材３３の孔３３ａを介して上方に臨むこととなる。
【００３２】
図８は、連結部材６０の構成を示す図である。この連結部材６０は、上記した接続部材５３を、両電極棒５１、５２の先端に接触させた状態で保持するためのものであり、ステンレス鋼等を材質とする断面矩形の棒状部材からなる本体６１を備えて構成されている。この連結部材６０には、本体６１の上面６１ａに開口する複数の進入部６２（第１進入部または第２進入部）が、本体６１の長手方向に沿って一直線上に等間隔に設けられている。
【００３３】
進入部６２は、本体６１の上面６１ａに開口する円形の凹部によって構成され、上面６１ａに開口する開口部６２ａと、この開口部６２ａよりも内径が小さく形成された深部６２ｂと、を備えている。なお、開口部６２ａと深部６２ｂとの間には段部６２ｃが形成され、また、深部６２ｂを区画する面のうち、本体６１の下面６１ｂ側に位置する面を底面部６２ｄとしている。そして、本体６１の下面６１ｂには、進入部６２の底面部６２ｄに連通する連通孔６３（第１連通孔、第２連通孔）が設けられており、これによって、進入部６２は、本体６１の上面６１ａ側から下面６１ｂ側へ貫通することとなる。
【００３４】
図９は、連結部材６０に各種の部品が設けられた状態を示す図である。この図に示すように、連結部材６０の進入部６２には、被覆部材７０、リング部材７１および接続部材５３が設けられている。以下では、連結部材６０に設けられる上記の各部品について詳細に説明する。
【００３５】
図１０は、連結部材６０の進入部６２内に設けられる被覆部材７０を示す図である。被覆部材７０は、非導電性の本体７０ａによって構成される。この本体７０ａは、一端が開口され、他端が底部７０ｂによって閉塞された円筒状をなしており、底部７０ｂには挿通孔７０ｃが設けられている。被覆部材７０の本体７０ａは、その直径を、連結部材６０の進入部６２、より詳細には、進入部６２の深部６２ｂの内径よりも僅かに小さくしている。この被覆部材７０は、図９に示すように、底部７０ｂが底面部６２ｄに面接触した状態で、進入部６２内に嵌合されており、このとき、被覆部材７０の挿通孔７０ｃが、連結部材６０の連通孔６３に連続することとなる。
【００３６】
図１１は、接続部材５３の斜視図である。接続部材５３は、導電性の部材（本実施形態においてはアルミニウム）であって、一枚の薄板部材を図示のように屈曲形成して構成される。具体的には、接続部材５３は、一枚の薄板部材の両端をそれぞれバネ状に屈曲させて、圧縮により弾性変形する一対の接触部５３ａ（第１接触部と第２接触部）と、これら一対の接触部５３ａの弾性方向に突出した位置で当該両接触部５３ａを接続する接続部５３ｂと、を有している。
【００３７】
この接続部材５３は、図９に示すように、一対の接触部５３ａがそれぞれ被覆部材７０の本体７０ａ内に収容されている。また、接続部５３ｂは、被覆部材７０の挿通孔７０ｃおよび連結部材６０の連通孔６３を介して、連結部材６０の外方、すなわち、本体６１の下面６１ｂよりも外方に導かれている。このとき、接続部材５３の接触部５３ａは、被覆部材７０内に収容されているため、接触部５３ａと連結部材６０の本体６１とが非接触状態に維持されている。また、接続部５３ｂは、連結部材６０の下面６１ｂから垂直に突出しているため、この接続部５３ｂと連結部材６０の本体６１とが非接触状態に維持されている。したがって、接続部材５３は、連結部材６０に対して完全に非接触状態に維持されることとなる。
【００３８】
図１２は、リング部材７１を示す図である。リング部材７１は、薄板円形状の本体７１ａによって構成される非導電性の部材であり、本体７１ａには、上記した第１電極棒５１および第２電極棒５２の直径よりも僅かに内径を大きくする通孔７１ｂが形成されている。このリング部材７１は、図９に示すように、進入部６２の段部６２ｃに載置された状態で、当該進入部６２の開口を塞ぐ構成となっており、進入部６２内への皮膜等の進入を防止する機能を担っている。
【００３９】
図１３は、接続部材５３の取り付け工程を説明する図である。接続部材５３は、上記の連結部材６０を、各電極棒５１、５２の先端に懸架することによって一括して取り付けられる。連結部材６０を懸架する際には、まず、各電極棒５１、５２が鉛直方向に沿って垂下するように、アレイアンテナユニット３０を掛止しておく。そして、図１３（ａ）に示すように、接続部材５３、被覆部材７０およびリング部材７１が一体的にユニット化された連結部材６０を、各電極棒５１、５２の先端に位置させる。そして、各進入部６２に各電極棒５１、５２の先端を臨ませた状態で、連結部材６０を鉛直上方に移動させる。
【００４０】
すると、各電極棒５１、５２が、リング部材７１の通孔７１ｂを貫通して進入部６２内に進入する。このとき、各電極棒５１、５２は、その先端によって接続部材５３の接触部５３ａを圧縮するとともに、各接触部５３ａが最大に圧縮されたところで、進入部６２内への進入が停止される。このように、連結部材６０が各電極棒５１、５２間に懸架された状態で、不図示の保持手段によって連結部材６０を保持することにより、全ての接続部材５３が両電極棒５１、５２に接続された状態に維持されることとなる。なお、図１３（ｂ）に示す位置に連結部材６０を保持する保持手段としては、アンテナ支持部材３１と連結部材６０とを挟持するとともに、アンテナ支持部材３１と連結部材６０とが互いに近づく方向にボルトを締結したり、あるいは、連結部材６０が脱落しないように、下方から上方に向けて付勢力を付与したりするものが考えられる。
【００４１】
以上のように、本実施形態によれば、ユニット化された連結部材６０を両電極棒５１、５２の先端に保持することにより、全ての接続部材５３が一括して取り付けられるので、当該接続部材５３の取り付け作業を簡素化することができ、作業効率を向上することができる。また、接続部材５３は、付勢力によって両電極棒５３の先端に圧接するため、両電極棒５１、５２を確実に接続状態に維持することができる。
【００４２】
なお、上記実施形態においては、連結部材６０の本体６１を導電性の部材で構成することとしたが、本体６１は非導電性の部材で構成してもよい。この場合には、連結部材６０と接続部材５３とを絶縁するための被覆部材７０を不要とすることができる。また、上記実施形態においては、両電極棒５１、５２が進入する進入部６２を凹状としたが、両電極棒５１、５２が貫通する孔状としてもよい。この場合には、例えば、接続部材５３の接触部５３ａを、両電極棒５１、５２が接触状態で貫通するコイル状に形成したり、あるいは、両電極棒５１、５２の周面に接触する板バネ状に形成したりすればよい。いずれにしても、進入部６２や接続部材５３の形状は上記実施形態に限定されるものではなく、適宜設計変更が可能である。したがって、上記実施形態においては、接続部材５３を一枚の薄板部材によって成形することとしたが、例えば、接触部５３ａと接続部５３ｂとを別部材によって構成してもよい。
【００４３】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明は、真空チャンバ内でプラズマを発生させて処理対象の被処理面に薄膜を生成したり、エッチングを行ったりするプラズマ処理装置に利用することができる。
【符号の説明】
【００４５】
１      真空チャンバ
１０    処理室
１２    高周波電源
５１    第１電極棒
５２    第２電極棒
５３    接続部材
５３ａ  接触部
５３ｂ  接続部
６０    連結部材
６１    本体
６２    進入部
６３    連通孔
７０    被覆部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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