(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）光透過性支持層；及び
（Ｂ）光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、屈折率１．６以下を示す組成から屈折率１．７以上を示す組成に連続的に変化するような傾斜組成を有し、かつ
前記光透過性導電層（Ｂ）が、厚さ１０ｎｍ以上であることを特徴とする、
光過性導電性フィルム。
【請求項２】
前記傾斜組成が、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、酸化物半導体量が増加するような傾斜組成である、請求項１に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項３】
前記酸化物半導体が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面１ｃｍ２当たり、１０〜１６μｇ配置されている、請求項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項４】
前記酸化物半導体が、錫ドープ酸化インジウムである、請求項２又は３に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項５】
前記屈折率１．６以下を示す組成が、酸化ケイ素を含む組成である、請求項１〜４のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項６】
前記光透過性支持層（Ａ）が、１．６以上の屈折率を有する、請求項１〜５のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項７】
（Ａ）光透過性支持層；及び
（Ｂ）光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、屈折率１．６以下を示す組成から屈折率１．７以上を示す組成に連続的に変化するような傾斜組成を有し、かつ
前記光透過性導電層（Ｂ）が、厚さ１０ｎｍ以上である光過性導電性フィルムを製造する方法であって：
（Ｘ）組成を連続的に変化させながら前記光透過性導電層（Ｂ）を形成する工程を含む方法；又は
（Ｙ１）光透過性導電層を形成する工程、及び
（Ｙ２）工程（Ｙ１）で得られた光透過性導電層の組成を連続的に変化させることにより前記光透過性導電層（Ｂ）を得る工程
を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネル等に搭載される光透過性導電性フィルムとして、ＰＥＴ等からなる光透過性支持層の上に錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等からなる光透過性導電層を積層して得られるフィルムが数多く使用されている（特許文献１）。
【０００３】
タッチパネル等として使用される場合、これらの光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層をパターン化した上で使用される場合がある。このパターン化とは、光透過性導電層が存在する領域（導電部）と、存在しない領域（非導電部）を設けることを意味する。このように設けられた導電部を配線として利用することができる。このパターン化により、導電部と非導電部との間で透過率、反射率又は色調等の光学特性において差が生じることがあり、この場合にはパターンが視認されることとなり、好ましくない。パターンを視認されにくくする、すなわちインビジブル性を向上するためには、これらの光学特性の差をより小さくすることが必要となる。
【０００４】
従来、このようなインビジブル性の向上を狙いとして、光透過性導電層の下層に、高屈折率層と低屈折率層を順次積層した光透過性導電性フィルムが開発されている（特許文献２）。これは、各層の界面における屈折率差に基づく反射光の干渉効果により、反射率の波長特性を制御しようとするものである。しかしながら、このような光透過性導電性フィルムには、インビジブル性の面でさらに改善の余地があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３２６３０１号公報
【特許文献２】特開２００７−２９９５３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、光透過性導電層をパターン化した場合に、パターンをインビジブル化できる光透過性導電性フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ね、本発明を完成させた。本発明は上記課題を解決するものであり、次に掲げるものである。
項１．
（Ａ）光透過性支持層；及び
（Ｂ）光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、屈折率１．６以下を示す組成から屈折率１．７以上を示す組成に連続的に変化するような傾斜組成を有し、かつ
前記光透過性導電層（Ｂ）が、厚さ１０ｎｍ以上であることを特徴とする、
光過性導電性フィルム。
項２．
前記傾斜組成が、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、酸化物半導体量が増加するような傾斜組成である、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項３．
前記酸化物半導体が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面１ｃｍ２当たり、１０〜１６μｇ配置されている、項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
項４．
前記酸化物半導体が、錫ドープ酸化インジウムである、項２又は３に記載の光透過性導電性フィルム。
項５．
前記屈折率１．６以下を示す組成が、酸化ケイ素を含有する組成である、項１〜４のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項６．
前記光透過性導電層（Ｂ）に隣接する前記光透過性支持層（Ａ）側の層が、１．６以上の屈折率を有する、項１〜５のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項７．
（Ａ）光透過性支持層；及び
（Ｂ）光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、屈折率１．６以下を示す組成から屈折率１．７以上を示す組成に連続的に変化するような傾斜組成を有し、かつ
前記光透過性導電層（Ｂ）が、厚さ１０ｎｍ以上である光過性導電性フィルムを製造する方法であって：
（Ｘ）組成を連続的に変化させながら前記光透過性導電層（Ｂ）を形成する工程を含む方法；又は
（Ｙ１）光透過性導電層を形成する工程、及び
（Ｙ２）工程（Ｙ１）で得られた光透過性導電層の組成を連続的に変化させることにより前記光透過性導電層（Ｂ）を得る工程
を含む方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、光透過性導電層をパターン化した場合に、パターンをインビジブル化できる光透過性導電性フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】光透過性支持層（Ａ）の片面に光透過性導電層（Ｂ）が配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図２】光透過性支持層（Ａ）の両面に光透過性導電層（Ｂ）が配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図３】光透過性支持層（Ａ）の片面に光透過性導電層（Ｂ）及びハードコート層（Ｃ）が配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図４】光透過性支持層（Ａ）の両面に光透過性導電層（Ｂ）及びハードコート層（Ｃ）がそれぞれ配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図５】実施例及び比較例の光透過性導電性フィルムそれぞれについて、厚さ方向における波長５５０ｎｍでの屈折率の変化を示したグラフである。
【図６】実施例及び比較例の光透過性導電性フィルムそれぞれについて、ＩＴＯ付着量と導電部／非導電部の色差ΔＥ＊ａｂとの関係を示したグラフである。
【図７】実施例及び比較例の光透過性導電性フィルムそれぞれについて、ＩＴＯ付着量と導電部／非導電部の波長４００ｎｍでの反射率差との関係を示したグラフである。
【符号の説明】
【００１０】
１        光透過性導電性フィルム
１１      光透過性支持層（Ａ）
１２      光透過性導電層（Ｂ）
１３      ハードコート層（Ｃ）
１．  光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
（Ａ）光透過性支持層；及び
（Ｂ）光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、屈折率１．６以下を示す組成から屈折率１．７以上を示す組成に連続的に変化するような傾斜組成を有し、かつ
前記光透過性導電層（Ｂ）が、厚さ１０ｎｍ以上であることを特徴とする、
光過性導電性フィルムである。
【００１１】
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。
【００１２】
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ）を基準にして、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きい一方の層を「上層」又は「上方に位置する」等といい、光透過性支持層（Ａ）からの距離が小さい他方の層を「下層」又は「下方に位置する」等ということがある。
【００１３】
図１に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に直接、光透過性導電層（Ｂ）が配置されている。このような光透過性導電性フィルムのことを、「光透過性片面導電性フィルム」ということがある。
【００１４】
図２に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両方の面に直接、光透過性導電層（Ｂ）が配置されている。このような光透過性導電性フィルムのことを、「光透過性両面導電性フィルム」ということがある。
【００１５】
１．１  光透過性支持層（Ａ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ａ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
【００１６】
光透過性支持層（Ａ）の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。光透過性支持層（Ａ）の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、中でも特にＰＥＴが好ましい。光透過性支持層（Ａ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００１７】
光透過性支持層（Ａ）の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムが光透過性導電性フィルムとして使用できる限り特に限定されないが、前記光透過性導電層（Ｂ）と隣接して配置されている場合は、１．６以上である。
【００１８】
光透過性支持層（Ａ）の厚さは、特に限定されないが、例えば、２〜３００μｍの範囲が挙げられる。
【００１９】
１．２  光透過性導電層（Ｂ）
光透過性導電層（Ｂ）は、
前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、屈折率１．６以下を示す組成から屈折率１．７以上を示す組成に連続的に変化するような傾斜組成を有し、かつ
厚さ１０ｎｍ以上である
ことを特徴とする。かかる特徴に基づいて、本発明の光透過性導電性フィルムでは界面での反射が抑制され、これにより全波長において反射率を抑制できるという優れた効果が達成される。
【００２０】
傾斜組成においては、光透過性導電性フィルム主面に対して垂直な方向に、前記の通り組成が連続的に変化している。傾斜組成においては、光透過性導電性フィルム主面に対して垂直な方向における組成の変化率が常に一定であってもよいし、同方向における組成の変化率が少なくとも一部において変化していてもよい。
【００２１】
傾斜組成は、屈折率１．６以下を示す組成から屈折率１．７以上を示す組成に連続的に変化するような傾斜組成である。傾斜組成において最小の屈折率を示す組成としては、屈折率１．５５以下を示す組成が好ましく、屈折率１．５以下を示す組成がより好ましい。また、傾斜組成において最大の屈折率を示す組成としては、屈折率１．８以上を示す組成が好ましく、屈折率１．８５以上を示す組成がより好ましい。
【００２２】
光透過性導電層（Ｂ）の厚さの下限は、１０ｎｍであり、好ましくは１５ｎｍであり、より好ましくは２０ｎｍであり、さらに好ましくは２５ｎｍである。光透過性導電層（Ｂ）の厚さの上限は、特に限定されないが、好ましくは７０ｎｍであり、より好ましくは６０ｎｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍである。左記において、下限と上限は任意に組み合わせることができる。
【００２３】
光透過性導電層（Ｂ）は導電性物質を含有する。導電性物質としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて通常用いられる導電性物質を用いることができる。
【００２４】
光透過性導電層（Ｂ）に含有される導電性物質としては、特に限定されないが、例えば、酸化物半導体が挙げられる。酸化物半導体としては、より詳細には、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫等が挙げられる。これらのうちいずれか単独を光透過性導電層（Ｂ）に含有される導電性物質として用いてもよいし、これらから選択される複数種を光透過性導電層（Ｂ）に含有される導電性物質として用いてもよい。光透過性導電層（Ｂ）に含有される導電性物質としては、透明性と導電性を両立する点で錫スズをドープした酸化インジウム（錫ドープ酸化インジウム（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ ｉｎｄｉｕｍ ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ））が好ましい。この場合において、錫ドープ酸化インジウムとしては、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）と酸化錫スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）を用いて得られた無機化合物である錫ドープ酸化インジウムが好ましい。この場合における、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。
【００２５】
特に限定されないが、例えば、光透過性導電層（Ｂ）の傾斜組成において、屈折率１．７以上を示す組成として、上記の導電性物質を９０％以上含有する組成が挙げられる。
【００２６】
光透過性導電層（Ｂ）の傾斜組成において、屈折率１．６以下を示す組成としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサンの及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、若しくはポリシラザン等、又はこれらから選択される少なくとも２種等を９０％以上含有する組成が挙げられる。光透過性導電層（Ｂ）の傾斜組成において、屈折率１．６以下を示す組成としては、酸化ケイ素を９０％以上含有する組成が好ましい。この場合において、より詳細には、酸化ケイ素として、ＳｉＯｘ（ｘ＝１．７〜２）が挙げられ、より好ましくはＳｉＯｘ（ｘ＝１．６〜２）が挙げられる。
【００２７】
特に限定されないが、例えば、光透過性導電層（Ｂ）の傾斜組成が、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、前記導電性物質が増加するような傾斜組成であってもよい。この場合、好ましくは、光透過性導電層（Ｂ）の傾斜組成は、導電性を有する前記酸化物半導体が増加するような傾斜組成である。
【００２８】
光透過性導電層（Ｂ）は、前記導電性物質が、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面１ｃｍ２当たり、好ましくは１０μｇ以上、より好ましくは１３μｇ以上、さらに好ましくは１５μｇ以上配置されている。前記導電性物質が上記範囲内で配置されていると、好ましい抵抗値が得られる。
【００２９】
光透過性導電層（Ｂ）は、前記導電性物質が、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面１ｃｍ２当たり、好ましくは１８μｇ以下、より好ましくは１７μｇ以下、さらに好ましくは１６μｇ以下配置されている。前記導電性物質が上記範囲内で配置されていると、好ましいインビジブル性が得られる。
【００３０】
本発明において導電性物質の配置量は、蛍光Ｘ線元素分析装置（島津製作所社製、商品名：ＥＤＸ−８００ＨＳ、またはその同等品）により次のようにして測定することができる。配置量が既知の標準試料を準備し、分析目的の元素濃度と蛍光Ｘ線強度の関係を求め検量線を作成する。次に未知試料からの蛍光Ｘ線強度を測定し、検量線より配置量を決めるという手順をとる。必ずしも直線関係になるとは限らないので、標準試料は複数用意しておくことが望ましい。
【００３１】
光透過性導電層（Ｂ）を配置する方法としては、
（Ｘ）組成を連続的に変化させながら前記光透過性導電層（Ｂ）を形成する工程を含む方法；又は
（Ｙ１）光透過性導電層を形成する工程、及び
（Ｙ２）工程（Ｙ１）で得られた光透過性導電層の組成を連続的に変化させることにより前記光透過性導電層（Ｂ）を得る工程
を含む方法が挙げられる。
【００３２】
上記方法（Ｘ）又は（Ｙ１）は、湿式及び乾式のいずれであってもよく、特に限定されない。具体例として、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。
【００３３】
工程（Ｘ）としては、特に限定されないが、例えば、スパッタリング法の場合は多元カソードを用いてスパッタ量を漸次変化させながら成膜する方法、ＣＶＤ法においては複数の原料源から供給組成比を変化させながら成膜する方法等が挙げられる。
【００３４】
工程（Ｙ１）及び工程（Ｙ２）を含む方法としては、特に限定されないが、次が挙げられる。まず、工程（Ｙ１）により、光透過性導電層を下地層の上に形成する。さらに工程（Ｙ１）により得られた光透過性導電層及び下地層を、工程（Ｙ２）において高温に保持（アニール）することにより、それぞれの層に含有される成分を互いに混合させて二層を一体化し、最終的に組成が連続的に変化する一体化された層を得る方法が挙げられる。具体的には、例えば、ＩＴＯからなる光透過性導電層をシランカップリング剤からなる下地層の上に形成し（工程Ｙ１）、得られた積層体を８０〜１５０℃に０．１〜３時間保持することによりシランカップリング剤由来のケイ素を前記光透過性導電層内に拡散させ、積層体の組成を連続的に変化させる（工程Ｙ２）を含む方法が挙げられる。
【００３５】
１．３  ハードコート層（Ｃ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに、ハードコート層（Ｃ）を含有し、かつ少なくとも一方の光透過性導電層（Ｂ）が、少なくともハードコート層（Ｃ）を介して光透過性支持層（Ａ）の面に配置されていてもよい。
【００３６】
ハードコート層（Ｃ）は、好ましくは光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に隣接して配置されている。
【００３７】
ハードコート層（Ｃ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。
【００３８】
図３に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に直接、ハードコート層（Ｃ）が配置されており、さらに光透過性導電層（Ｂ）が直接、ハードコート層（Ｃ）の上に配置されている。
【００３９】
図４に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両方の面にそれぞれ、直接、ハードコート層（Ｃ）が配置されており、さらに光透過性導電層（Ｂ）が直接、ハードコート層（Ｃ）の上に配置されている。
【００４０】
本発明においてハードコート層とは、プラスチック表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。ハードコート層（Ｃ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものを用いることができる。
【００４１】
ハードコート層（Ｃ）の素材は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。ハードコート層（Ｃ）の素材としては、さらに、シリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等を上記樹脂中に分散させたものも挙げられる。ハードコート層（Ｃ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。ハードコート層（Ｃ）としては、ジルコニア粒子を分散したアクリル樹脂が好ましい。
【００４２】
ハードコート層（Ｃ）の一層あたりの厚さは、特に限定されないが、例えば０．１〜１０μｍ、１〜７μｍ、及び２〜６μｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのハードコート層（Ｃ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。左記の例示列挙においては後出のものが前出のものよりも好ましい。
【００４３】
ハードコート層（Ｃ）の屈折率は、光透過性支持層（Ａ）との干渉で虹模様を生じないという理由から、可能な限り光透過性支持層（Ａ）の屈折率に近いことが望ましい。
【００４４】
ハードコート層（Ｃ）を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。
【００４５】
１．４  その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、光透過性導電層（Ｂ）に加えて、ハードコート層（Ｃ）及びそれらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ｄ）からなる群より選択される少なくとも１種の層がさらに配置されていてもよい。
【００４６】
その他の層（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。
【００４７】
接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。接着層は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００４８】
その他の層（Ｄ）の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムが光透過性導電性フィルムとして使用できる限り特に限定されないが、透過損失を抑えるために隣接層の屈折率に近いことが望ましい。
【００４９】
１．５  本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、優れたインビジブル性を有しており、特に限定されないが、例えばタッチパネルの製造のため等に好ましく用いられる。タッチパネルについて詳細は、２で説明する通りである。
【００５０】
２．本発明のタッチパネル
本発明のタッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
【００５１】
本発明のタッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（３）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム
（３）ガラス
本発明のタッチパネルは、特に限定されないが、例えば、保護層（１）、本発明の光透過性導電性フィルム（２）及び（３）ガラス、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
【００５２】
３．  本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、
（Ｘ）組成を連続的に変化させながら前記光透過性導電層（Ｂ）を形成する工程を含む方法；又は
（Ｙ１）光透過性導電層を形成する工程、及び
（Ｙ２）工程（Ｙ１）で得られた光透過性導電層の組成を連続的に変化させることにより前記光透過性導電層（Ｂ）を得る工程
を含む方法である。
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、光透過性導電層（Ｂ）に加えて、ハードコート層（Ｃ）及びそれらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ｄ）からなる群より選択される少なくとも１種の層をそれぞれ配置する工程をそれぞれ含んでいてもよい。それぞれの層を配置する工程は、それぞれの層について説明した通りである。光透過性導電層（Ｂ）に加えて、少なくとも１種の他の層を配置する場合は、例えば、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に光透過性支持層（Ａ）側から順次配置させてもよいが、配置の順番は特に限定されない。例えば、最初に光透過性支持層（Ａ）ではない層（例えば、光透過性導電層（Ｂ））の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得て、これらの２種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。
【実施例】
【００５３】
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
［実施例１］
厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材（光透過性支持層）上に、底部がＳｉＯ２（屈折率１．４５９９）、かつ上部が錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）（屈折率１．８９５７）となるように直線的に組成変化した傾斜組成層を形成し、光透過性導電性フィルムを得た。
［実施例２］
ＳｉＯ２の代わりにＳｉＯ１．８（屈折率１．５６２２）を用いた以外は実施例１と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。
［実施例３］
厚さ１２５μｍのＰＥＴ基材（光透過性支持層）上に、底部がＳｉＯ２（屈折率１．４５９９）、上部が錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）（屈折率１．８９５７）となるように直線的に組成変化した厚さ２０ｎｍの傾斜組成層を形成し、その上にさらにＩＴＯ層を形成することにより、光透過性導電性フィルムを得た。
［比較例１］
厚さ１２５μｍのＰＥＴ基材（光透過性支持層）上に、アンダーコート層としてＳｉＯ２層１５ｎｍ、ＳｉＯ１．８層５ｎｍを順次形成した上にさらにＩＴＯ層を形成することにより、光透過性導電性フィルムを得た。
［比較例２］
厚さ１２５μｍのＰＥＴ基材（光透過性支持層）上に、アンダーコート層としてＳｉＯ１．８層５ｎｍを形成した上にさらにＩＴＯ層を形成することにより、光透過性導電性フィルムを得た。
［比較例３］
ＳｉＯ２の代わりにＳｉＯ１．６（屈折率１．６６９２）を用いた以外は実施例１と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。
［比較例４］
傾斜組成層の厚さを６ｎｍとした以外は実施例３と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。
【００５４】
実施例１〜３、及び比較例１〜４で得られた透明導電性フィルムそれぞれについて、波長５５０ｎｍにおける屈折率の厚さ方向の分布を図５に示す。
［光学定数の決定］
樹脂フィルム基材（光透過性支持層）、及び樹脂フィルム基材（光透過性支持層）上にアンダーコート層を積層したもの、並びに上記実施例及び比較例で作製した光透過性導電性フィルムのそれぞれについて、光学特性を次のようにして測定した。透過率及び反射率を分光光度計（島津製作所製  ＵＶ−３１０１ＰＣ）で測定し、この測定結果を分光エリプソメトリー解析ソフト（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ製  ＷＶＡＳＥ３２）で解析することにより、各層についての光学定数（屈折率及び吸収係数）の波長分散を求めた。
［反射率計算］
実施例１〜３、及び比較例１〜４で得られた透明導電性フィルムそれぞれについて、粗面化により裏面反射を防止した場合の波長２００〜８００ｎｍの５度反射率をＷＶＡＳＥ３２により計算した。
［評価項目］
透明導電層（傾斜組成層も含む）がない場合の反射率データを基準として、ΔＥ＊ａｂ（Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における色差）および波長４００ｎｍにおける反射率差を評価した。透明導電層の厚さを変化させた場合のΔＥ＊ａｂを図６に、波長４００ｎｍにおける反射率差を図７に示す。ただし、図６および図７における横軸はＩＴＯの密度を７．１４ｇ／ｃｍ３と仮定して単位面積当たりのＩＴＯ付着量で表している。これは傾斜組成の変化具合によってＩＴＯ付着量は変化するので、ＩＴＯ膜厚で比較することに意義がないと考えられるためである。同じ量のＩＴＯによるパターン部と非パターン化部との相違を評価するために付着量を用いる。なお、ＩＴＯ付着量は蛍光Ｘ線元素分析法で測定した。
【００５５】
ＩＴＯ付着量が１０〜１６μｇ／ｃｍ２の範囲において実施例の透明導電性フィルムはΔＥ＊ａｂおよび波長４００ｎｍにおける反射率差が比較例に比べて低く抑えられ、パターン化された場合においても見栄えが良好であった。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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