(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
先端から近接場光が発生されるコアを有し、記録媒体に前記近接場光を照射する近接場光利用ヘッドの製造方法において、
基部と、前記基部から延びる第１枝部と、前記基部を基点として前記第１枝部に対して斜め方向に延びる第２枝部とを有するクラッド母材膜を形成する第１エッチング工程と、
前記第１枝部、前記第２枝部および前記基部をエッチングすることで、前記第１枝部に第１面を形成し、前記第２枝部に前記第１面に対して傾斜する第２面を形成し、前記基部に前記第１面と前記第２面とが交わる交辺を形成する第２エッチング工程と、
前記第１面、前記第２面、および前記交辺に囲まれた空間にコア母材を成膜し、前記第１面、前記第２面、および前記交辺のそれぞれに対向する第１コア面、第２コア面、およびコア交辺と、前記先端に向かうにつれて前記コア交辺との距離が縮まるように形成されるコア底面と有する前記コアを形成するコア形成工程と、
前記コア底面に面する磁極を形成する磁極形成工程とを有する近接場光利用ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記コア形成工程は、前記第１面および前記第２面に遮光膜を形成し、前記コア母材を成膜することで、前記コアの前記第１コア面および前記第２コア面に遮光膜を形成する遮光膜形成工程を有する請求項１に記載の近接場光利用ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記コア形成工程は、前記コアの前記コア交辺と反対側の面を研磨することにより前記コア底面を形成する研磨工程を有する請求項２に記載の近接場光利用ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記コア形成工程は、前記コアの前記第１コア面と前記第２コア面とをそれぞれ分断するようにエッチングして前記コアの外形を形成する第３エッチング工程を有する請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の近接場光利用ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記コア底面に金属膜を形成する金属膜形成工程を有し、
前記磁極形成工程は、前記金属膜の上に前記磁極を形成することで前記コア底面に面する磁極が形成される請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の近接場光利用ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記第２エッチング工程は、Ａｒガスを用いたスパッタエッチングによりエッチングする請求項１に記載の近接場光利用ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接場光を利用して記録媒体に各種の情報を記録再生するヘッドの製造方法およびそのヘッドに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータ機器におけるハードディスクドライブ等の情報記録再生装置は、より大量かつ高密度情報の記録再生を行いたい等のニーズを受けて、さらなる高密度化が求められている。そのため、隣り合う磁区同士の影響や、熱揺らぎを最小限に抑えるために、保磁力の強いものを記録媒体として採用することが考えられている。そのため、記録媒体に情報を記録することが困難になっていた。
【０００３】
そこで、上述した不具合を解消するために、近接場光を利用して磁区を局所的に加熱して一時的に保磁力を低下させ、その間に記録媒体への書き込みを行う熱アシスト磁気記録方式の情報記録再生装置が考案され開発が進められている。
【０００４】
近接場光を利用した記録再生ヘッド（以下、近接場光利用ヘッドという。）は、主磁極および補助磁極を有する記録磁界発生部と、光ファイバからレーザ光を受けることにより近接場光を発生させる近接場光発生素子と、を備えている（例えば、特許文献１参照）。これら各構成品は、被覆層によって覆われた状態で、ビームの先端に固定されたスライダの側面上に、補助磁極、近接場光発生素子、主磁極の順で積層配置されている。
【０００５】
このように構成された近接場光利用ヘッドを利用する場合には、近接場光を発生させると同時に記録磁界を印加することで、記録媒体に各種の情報を記録している。すなわち、光ファイバからレーザ光を照射すると、このレーザ光が被覆層の光導波路を伝播した後、近場光発生層に達する。すると近接場光発生層は、内部の自由電子がレーザ光の電場によって一様に振動させられるため、プラズモンが励起されて先端部分に近接場光を発生させる。その結果、記録媒体の磁気記録層は、近接場光によって局所的に加熱され、一時的に保磁力が低下する。また、レーザ光の照射と同時に、記録磁界発生部に駆動電流を供給することで、主磁極に近接する記録媒体の磁気記録層に対して記録磁界を局所的に印加する。これにより、保磁力が一時的に低下した磁気記録層に各種の情報を記録することができる。つまり、近接場光と磁場との協働により、記録媒体への記録を行うことができる。なお、近接場光利用ヘッドを備えたスライダは、記録媒体が回転することにより生じる風圧を受けて記録媒体に対して浮上しつつ、記録媒体との距離を適正な距離に保つように構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−１０８５８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、特許文献１に挙げたような従来の近接場光利用ヘッドの構造においては、近接場光を発生させる端面上における近接場光の発光位置が、主磁極端に十分近い位置となるように設置可能な近接場光発生素子を提供しているが、ここで示されている近接場光発生素子（プラズモン・アンテナ）のエッジがスライダの流出端側に配置された主磁極に近づくように伸長している構造についてはその製造方法が十分に開示されていない。
【０００８】
そこで本発明は、このような事情に考慮してなされたもので、その目的は、近接場光を発生させる端面上における近接場光の発光位置が、主磁極端に十分近い位置となるように設置可能な近接場光発生素子を有する近接場光利用ヘッドの製造方法および近接場光利用ヘッドを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記目的を達成するために、以下の手段を提供する。
本発明に係る近接場光利用ヘッドの製造方法は、先端から近接場光が発生されるコアを有し、記録媒体に近接場光を照射する近接場光利用ヘッドの近接場光利用ヘッドの製造方法であって、基部と、基部から延びる第１枝部と、基部を基点として第１枝部に対して斜め方向に延びる第２枝部とを有するクラッド母材膜を形成する第１エッチング工程と、第１枝部、第２枝部および基部をエッチングすることで、第１枝部に第１面を形成し、第２枝部に第１面に対して傾斜する第２面を形成し、基部に第１面と第２面とが交わる交辺を形成する第２エッチング工程と、第１面、第２面および交辺に囲まれた空間にコア母材を成膜し、第１面、第２面および交辺のそれぞれに対向する第１コア面、第２コア面およびコア交辺と、コアの先端に向かうにつれてコア交辺との距離が縮まるように形成されるコア底面と有するコアを形成するコア形成工程と、コア底面に面する磁極を形成する磁極形成工程とを有するものである。
【００１０】
本発明に係る近接場光利用ヘッドの製造方法においては、コアの先端側は、近接場光が発生されるコアの先端に近づくにしたがって、コアのコア交辺がコアと隣り合う磁極に近づくように形成されているので、近接場光の発生位置が磁極に十分近い位置となるように設置することができる。よって、近接場光による記録媒体の一時的な保磁力低下のタイミングを、磁極による記録媒体への磁界印加が効率良くとらえることが可能となる。
【００１１】
また、本発明に係る近接場光利用ヘッドの製造方法は、コア形成工程が、第１面および第２面に遮光膜を形成し、コア母材を成膜することで、コアの第１コア面および第２コア面に遮光膜を形成する遮光膜形成工程を有するものである。
【００１２】
本発明に係る近接場光利用ヘッドの製造方法においては、遮光膜が光の反射を促進させて光束をコア先端に導くため、性能の良い近接場光利用ヘッドを容易に低コストに製造することができる。
【００１３】
また、本発明に係る近接場光利用ヘッドの製造方法は、コア形成工程が、コアのコア交辺と反対側の面を研磨することによりコア底面を形成する研磨工程を有するものである。  本発明に係る近接場光利用ヘッドの製造方法においては、コアと磁極との接合面を精度よく形成できるようになり、近接場光の発生位置と磁極とを精度良く近接させることができる。
また、本発明に係る近接場光利用ヘッドの製造方法は、コア形成工程が、コアの第１コア面と第２コア面とをそれぞれ分断するようにエッチングしてコアの外形を形成する第３エッチング工程を有するものである。
【００１４】
本発明に係る近接場光利用ヘッドの製造方法においては、容易にコアの外形を形成することができる。
また、本発明に係る近接場光利用ヘッドの製造方法は、コア底面に金属膜を形成する金属膜形成工程を有し、磁極形成工程は、金属膜の上に磁極を形成することで前記コア底面に面する磁極を形成するものである。
本発明に係る近接場光利用ヘッドの製造方法においては、遮光膜が光を反射させて金属膜へ照射させるため、性能の良い近接場光利用ヘッドを容易に低コストに製造することができる。
【００１５】
また、本発明に係る近接場光利用ヘッドの製造方法は、第２エッチング工程が、Ａｒガスを用いたスパッタエッチングによりエッチングすることを有するものである。
【００１６】
本発明に係る近接場光利用ヘッドの製造方法においては、容易に三角断面のパターンを形成することができる。
【００１７】
また、本発明に係る近接場光利用ヘッドは、先端から近接場光が発生されるコアが形成されるクラッド母材膜を有し、記録媒体に前記近接場光を照射するものであって、クラッド母材膜は、第１面と、第１面に対して傾斜する第２面と、第１面と第２面とが交わる交辺と、第１面、第２面及び交辺と交わる基面とを有し、第１面、第２面、および基面は、コアに面するように形成され、交辺は、コアの前記先端に近づくに伴い、基面が存在する面から遠ざかるように形成されることを特徴とするものである。
本発明に係る近接場光利用ヘッドにおいては、クラッド母材膜が、近接場光の発生位置が磁極に十分近い位置となるように設置されるようにコアを支持することができる。よって、近接場光による記録媒体の一時的な保磁力低下のタイミングを、磁極による記録媒体への磁界印加が効率良くとらえることが可能となる。
【発明の効果】
【００１８】
近接場光による記録媒体の一時的な保磁力低下のタイミングを、磁極による記録媒体への磁界印加が効率良くとらえることが可能となる近接場光利用ヘッドの製造方法および近接場光利用ヘッドを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る近接場光利用ヘッドを搭載する情報記録再生装置を示す構成図である。
【図２】図１に示すヘッドジンバルアセンブリの斜視図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る近接場光利用ヘッドの断面図であり、図２のＡＡ’線に沿う断面図である。
【図４】図３のうち主磁極と記録媒体Ｄ近傍の一部を拡大した図である。
【図５】図４をスライダ２のＡＢＳから見た下面図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係る製造方法を示す図である。
【図７】本発明の第１実施形態に係る製造方法を示す図である。
【図８】本発明の第１実施形態に係る製造方法により形成されたコアの斜視図である。
【図９】本発明の第２実施形態に係る近接場光利用ヘッドの断面図である。
【図１０】本発明の第２実施形態に係る製造方法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
（第１実施形態）
以下、本発明に係る第１実施形態を、図１から図８を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る情報記録再生装置１を示す構成図である。なお、本実施形態の情報記録再生装置１は、磁気記録層を有する記録媒体Ｄに対して、熱アシスト磁気記録方式で書き込みを行う装置である。
【００２１】
図１に示すように本実施形態の情報記録再生装置１において、スライダ２が固定されたサスペンション３が、キャリッジ１１に固定されている。スライダ２とサスペンション３を合わせて、ヘッドジンバルアセンブリ１２と呼ぶ。円盤状の記録媒体Ｄはスピンドルモータ７によって所定の方向に回転する。キャリッジ１１はピボット１０を中心に回転可能になっており、制御部５からの制御信号によって制御されるアクチュエータ６によって回転し、スライダ２を記録媒体Ｄ表面の所定の位置に配置することができる。ハウジング９はアルミニウムなどから成る箱状（図１では説明を分かりやすくするため、ハウジング９の周囲を取り囲む周壁を省略している）ものであり、上記の部品をその内部に格納している。スピンドルモータ７はハウジング９の下部に固定されている。スライダ２は記録媒体Ｄに向けて磁場を発生させる記録素子（図示略）と、近接場光を発生する導光部（図示略）と、記録媒体Ｄに記録された情報を再生する再生素子（図示略）を有している。記録素子と再生素子は、サスペンション３およびキャリッジ１１に沿って敷設されたフレキシブル配線１３、キャリッジ１１側面に設けられたターミナル１４およびフラットケーブル４を介して制御部５に接続されている。
【００２２】
記録媒体Ｄは１枚でも良いが、図１に示すように複数枚設けても良い。記録媒体Ｄの枚数が増えれば、ヘッドジンバルアセンブリ１２の個数も増加する。図１では記録媒体Ｄの片面側のみにヘッドジンバルアセンブリ１２が設けられている構成を示しているが、両面に設けても良い。よって、ヘッドジンバルアセンブリ１２の個数は、最大で記録媒体Ｄの枚数の倍になる。これにより、情報記録再生装置１台当たりの記録容量の増加を図ることができる。
【００２３】
図２は第１実施形態に係るヘッドジンバルアセンブリ１２の拡大図である。サスペンション３は、ステンレス薄板を材料とするベースプレート２０１、ヒンジ２０２、ロードビーム２０３、フレクシャ２０４からなる。ベースプレート２０１は、その一部に設けられた取り付け穴２０１ａにより、キャリッジ１１に固定されている。ヒンジ２０２はベースプレート２０１とロードビーム２０３を接続している。ヒンジ２０２はベースプレート２０１とロードビーム２０３よりも薄くなっており、ヒンジ２０２を中心としてサスペンション３がたわむようになっている。フレクシャ２０４はロードビーム２０３、ヒンジ２０２に固定された細長い部材であり、ロードビーム２０３やベースプレート２０１よりも薄くなっており、たわみやすく出来ている。フレクシャ２０４の先端には略直方体形状のスライダ２が固定されている。
【００２４】
スライダ２の表面のうちフレクシャ２０４に固定された面の反対面は、記録媒体Ｄに対向する面である。この面は回転する記録媒体Ｄによって生じた空気流の粘性から、スライダ２が浮上するための圧力を発生させる面であり、ＡＢＳ（Ａｉｒ  Ｂｅａｒｉｎｇ  Ｓｕｒｆａｃｅ）と呼ばれている。ＡＢＳ上には図示を略した凹凸形状が設けられており、スライダ２と記録媒体Ｄ間に所望の圧力分布を発生させている。スライダ２を記録媒体Ｄから離そうとする正圧とスライダ２を記録媒体Ｄに引き付けようとする負圧と、サスペンション３による押しつけ力の釣り合いで、スライダ２は所望の状態で浮上している。記録媒体Ｄとスライダ２のすきまの最低値は１０ｎｍ以下となっている。サスペンション３による押しつけ力は主にヒンジ２０２の弾性により発生している。また、記録媒体Ｄ表面のうねりに対して、ヒンジ２０２およびフレクシャ２０４がたわむことで、所望の浮上状態を維持することが出来る。
【００２５】
フレクシャ２０４上にはフレキシブル配線１３が設けられている。フレクシャ２０４は略コ字状の開口部を有しており、この開口部に囲まれて舌状となったパッド部２０４ａ上にスライダ２が固定されている。スライダ２の端部のうち、サスペンション３の根本側（キャリッジ１１側）は流入端と呼ばれている。その反対のサスペンション３の先端側は、スライダ２の流出端と呼ばれている。これらは、前述の記録媒体Ｄによる空気流の方向に基づいて名付けられている。サスペンション３の根本側から延設されたフレキシブル配線１３は途中から２本に分岐し、前述の開口部およびスライダ２の両側を回り込むように、スライダ２の流出端側に接続されている。
【００２６】
図３は図２のＡ−Ａ’断面を示す図である。スライダ２はスライダ基部３０１、記録素子、導光部、再生素子３０４、レーザユニット５０１から構成される。スライダ基部３０１の流出端側の側面に、再生素子３０４、記録素子および導光部、が積層されている。また、スライダ基部３０１とパッド部２０４ａの間にはレーザユニット５０１が設けられている。レーザユニット５０１はレーザ基板５０２とレーザ５０３から構成されている。レーザ５０３は端面発光型レーザであり、レーザ光が出射する端面はＡＢＳと略平行をなし、レーザ５０３と導光部が光学的に接続されている。レーザ５０３はレーザ基板５０２およびフレキシブル配線１３等を介して制御部５に接続されている。制御部５の電気信号に基づいてレーザ５０３が発光動作するようになっている。スライダ基部３０１は略直方体状の部材であり、ＡｌＴｉＣ材等からなる。
【００２７】
記録素子は、再生素子３０４の流出端側の側面に固定された副磁極３０６と、ヨーク３０７を介して副磁極３０６に接続され記録媒体Ｄに対して垂直な記録磁界を印加する主磁極３１０と、ヨーク３０７を中心としてヨーク３０７の周囲を螺旋状に巻回するコイル３０８とを備えている。主磁極３１０、副磁極３０６及びヨーク３０７は、磁束密度が高い高飽和磁束密度（Ｂｓ）材料（例えば、ＣｏＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金等）により形成されている。また、コイル３０８は、ショートしないように、隣り合うコイル線間、ヨーク３０７、主磁極３１０、副磁極３０６との間に隙間が空くように配置されており、この状態で絶縁性を有するクラッド３１２（後述）によってモールドされている。そして、コイル３０８は、フレキシブル配線１３を介して制御部５に接続されており、情報に応じて変調された電流が制御部５から供給されるようになっている。よって、主磁極３１０、副磁極３０６、ヨーク３０７及びコイル３０８は、全体として電磁石を構成している。なお、主磁極３１０及び副磁極３０６は、記録媒体Ｄに対向する端面がスライダ２のＡＢＳと面一となるように設計されている。
【００２８】
導光部は、多面体のコア３１１と、コア３１１を内部に閉じ込めるクラッド３１２と、後述の金属膜３１５と遮光膜３１４から構成されており、全体として略板状に形成されている。コア３１１は、一端側がフレクシャ２０４側に向くと共に、他端側が記録媒体Ｄ側に向いた状態で、主磁極３１０と副磁極３０６に挟まれるように、かつヨーク３０７を貫通するように配置されている。コア３１１は光学的に透明でクラッド３１２よりも屈折率が大きい材料で構成されている。例えばコア３１１にゲルマニウムをドープしたＳｉＯ２を用い、クラッド３１２に純ＳｉＯ２を用いることができる。また、コア３１１にＴａ２Ｏ５を用い、クラッド３１２にアルミナを用いることもできる。レーザ５０３からのレーザ光が赤外光であればコア３１１にシリコンを用いることもできる。コア３１１の一端側の一部はクラッド３１２から露出しており、レーザ５０３の出射端面と対向しており、前述の導光部とレーザ５０３との光学的接続を実現している。
【００２９】
再生素子３０４は、記録媒体Ｄから漏れ出ている磁界の大きさに応じて電気抵抗が変換する磁気抵抗効果膜である。この再生素子３０４には、図示しないリード膜等およびフレキシブル基板１３を介して制御部５からバイアス電流が供給されている。これにより制御部５は、記録媒体Ｄから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することでき、この電圧の変化から信号の再生を行うことができるようになっている。
【００３０】
コア先端３１１ｄと主磁極３１０近傍の詳細構造について図４および図５を用いて説明する。図４は主磁極３１０の記録媒体Ｄ近傍の一部を拡大した断面図である。図５は図４をスライダ２のＡＢＳ側から見た下面図である。コア３１１は記録媒体Ｄ近傍において絞り込み部３１１ａを有している。絞り込み部３１１ａはコア３１１の本体３１１ｂ側を底部、記録媒体Ｄに対向してクラッド３１２から露出した開口３１１ｃを頂面とした三角錐台状をなしている。絞り込み部３１１ａの３つの側面のうち２つの側面（第１コア面３１１ｄと第２コア面３１１ｅ）は遮光膜３１４で覆われている。絞り込み部３１１ａは第１コア面３１１ｄと第２コア面３１１ｅが交わるコア交辺３１１ｆを有している。絞り込み部３１１ａの３つの側面のうち残る１つの側面は金属膜３１５で覆われている。コア３１１内部を伝搬する光束の方向と、金属膜３１５が略平行に配置されている。また、開口３１１ｃはＡＢＳと面一となって記録媒体Ｄに向けて露出している。金属膜３１５は金、銀、プラチナ等の材料からなっている。遮光膜３１４はアルミニウム、金、銀、プラチナ等の材料からなっている。レーザ５０３から出射した光は、コア３１１内部にて伝搬され、遮光膜３１４にて反射され、金属膜３１５で表面プラズモンに変換され、開口３１１ｃにて近接場光に変換される。主磁極３１０は、記録媒体Ｄ近傍では主磁極先端３１０ａを有している。主磁極先端３１０ａは主磁極３１０の先端側を構成している。主磁極先端３１０ａの記録媒体Ｄに対向する端面がスライダ２のＡＢＳと面一となっている。主磁極先端３１０ａは金属膜３１５に沿うように配置される。主磁極先端３１０ａと開口３１１ｃは接近しているため、主磁極先端３１０ａからの磁束と、開口３１１ｃからの近接場光が、近接した形で発生する。
【００３１】
次に、コア３１１、絞り込み部３１１ａ、遮光膜３１４、金属膜３１５の製造方法について図６から図７を用いて説明する。まず図６（ａ）に示すように、スライダ基部３０１上にクラッド母材膜６０１を形成する。再生素子３０６やコイル３０８も適宜スライダ基部３０１上に形成するが、ここでは説明を省略する。ここでは素子１つの加工を図示するが、スライダ基部３０１が複数個接続された基板を用いることで複数の素子を一括して加工することができる。まず、クラッド母材膜６０１上に平面視Ｙ字状のレジストパターン６０２を形成する。レジストパターン６０２はフォトレジストをクラッド母材膜６０１全面に塗布し、Ｙ字状のマスクパターンにて露光、現像することで形成する。
【００３２】
次に図６（ｂ）に示すように、レジストパターン６０１をクラッド母材膜６０１にエッチングにより転写する。クラッド母材膜６０１の材料がＳｉＯ２であれば、ＣＦ系ガスを用いたＲＩＥ（反応性イオンエッチング）によりエッチングすることができる。その後、残ったレジストパターン６０１を有機溶剤や酸を用いて除去する。これによりクラッド母材膜６０１表面には平面視Ｙ字状かつ矩形断面のパターン６０１ａが形成される。これが第１エッチング工程となる。ここで、平面視Ｙ字状のパターン６０１ａは、基部６０１ｄと、基部６０１ｄの一端から二股に分かれる第１枝部６０１ｅと第２枝部６０１ｆに分けて呼称する。
【００３３】
次に図６（ｃ）に示すように、矩形断面のパターン６０１ａを三角断面のパターン６０１ｂに加工する。これにはＡｒガスを用いたスパッタエッチングを用いる。これによりパターン６０１ａの矩形断面の角が選択的にエッチングされて、三角断面に加工される。これが第２エッチング工程となる。基部６０１ｄ、第１枝部６０１ｅおよび第２枝部６０１ｆはいずれも三角断面を有している。三角断面の第１枝部６０１ｅはスライダ基部３０１面に対して傾斜した第１面６０１ｇを有する。また、同様に第２枝部６０１ｆもスライダ基部３０１面に対して傾斜した第２面６０１ｈを有する。第１面６０１ｇと第２面６０１ｈは互いにある角度を伴って対向している。基部６０１ｄには第１面６０１ｇと第２面６０１ｈが交わる交辺６０１ｉが形成される。よって、平面視Ｙ字状のパターン６０１ｂのうち、Ｙ字の二股部の付け根は第１面６０１ｇ、第２面６０１ｈおよび交辺６０１ｉからなる傾斜Ｖ溝６０１ｃとなる。
【００３４】
次に図６（ｄ）に示すように、パターン６０１ｂ上に遮光膜母材６０３、コア母材６０４を形成し、表面を研磨により平坦化する。この平坦化された面のうち、傾斜Ｖ溝６０１ｃの内部に形成される部分が、コア底面３１１ｇとなる。このとき遮光膜母材６０３がわずかに表面に露出する程度に研磨する。かかる工程を研磨工程と称する。遮光膜母材６０３の形成には真空蒸着装置やスパッタ装置などを用いることができる。また、コア母材６０４の形成にはＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、化学的気相成長）装置などを用いることができる。このとき、傾斜Ｖ溝６０１ｃ上に載る遮光膜母材６０３が遮光膜３１４に形成され、傾斜Ｖ溝６０１ｃ上に遮光膜３１４を挟んで載るコア母材６０４が、コア３１１の絞り込み部３１１ａに形成される。絞り込み部３１１ａの第１コア面３１１ｄは第１面６０１ｇに、第２コア面３１１ｅは第２面６０１ｈに、コア交辺３１１ｆは交辺６０１ｉに対向するように形成される。
【００３５】
次に図７（ａ）に示すように、コア母材６０４を加工することでコア３１１の本体３１１ｂを形成する。本体３１１ｂは先端の絞り込み部３１１ａと異なり矩形断面を有する。コア母材６０４の加工にはフォトレジストを用いたフォトリソグラフィを用いる。コア母材膜６０４の材料がＳｉＯ２であれば、ＣＦ系ガスを用いたＲＩＥ（反応性イオンエッチング）によりエッチングすることができる。このとき、クラッド母材６０１と遮光膜母材６０３のそれぞれ一部もエッチングされ、加工表面は全体として矩形断面状の突起を有する。このエッチング工程を第３エッチング工程と称する。このエッチングは、第１コア面３１１ｄと第２コア面３１１ｅとがそれぞれ分断される位置でエッチングされる。このエッチングによりコア３１１の外形側面が形成される。
【００３６】
次に図７（ｂ）に示すように、絞り込み部３１１ａのコア交辺３１１ｆと反対側の面であるコア底面３１１ｇの上に金属膜３１５を形成する。加工表面全体にスパッタや真空蒸着等によりＡｕ等の金属膜を成膜し、フォトリソグラフィにより絞り込み部３１１ａ近傍の金属膜を残すことで、金属膜３１５を形成することができる。この工程により、コア交辺３１１ｆは、コア底面３１１ｇに対して一定の傾斜を有して形成されるようになる。かかる傾斜は、コアの先端に向かうにつれて、コア交辺３１１ｆとコア底面３１１ｇとの距離が縮むように傾斜している。なお、コア交辺３１１ｆと金属膜３１５との関係も同様で、金属膜３１５は、コア先端に向かうにつれて、コア交辺３１１ｆと金属膜３１５との距離が縮むように形成される。。
【００３７】
次に図７（ｃ）に示すように、上部クラッド３１２ｂを下部クラッド３１２ａ、コア母材６０４、コア３１１の本体３１１ｂ、遮光膜３１４、金属膜３１５を覆うように形成する。図３を併せて参照すると、このとき、磁極としての主磁極先端３１０ａを記録媒体側（ＡＢＳ側）に有する主磁極３１０を形成する。まず、金属膜３１５の上に主磁極３１０となる磁極層を成膜し、フォトリソグラフィで主磁極先端３１０ａの外形を形成する。このとき主磁極先端３１０ａ以外の部分は、上部クラッド３１２ｂとなるクラッド層が形成されている。その後、さらに、主磁極３１０となる磁極層と上部クラッド３１２ｂとなるクラッド層とを成膜、フォトリソグラフィを繰り返し、主磁極３１０の立体形状を形成していく。この工程により、金属層３１５に隣接した主磁極先端３１０ａを有する主磁極３１０と、かかる主磁極３１０を覆う上部クラッド３１２ｂが形成される。この工程により、コア交辺３１１ｆは、主磁極先端３１０ａに対して一定の傾斜を有して形成されるようになる。かかる傾斜は、コアの先端に向かうにつれて、コア交辺３１１ｆと主磁極先端３１０ａとの距離が縮むように傾斜している。上部クラッド３１２ｂは、クラッド母材膜６０１を有する下部クラッド３１２ａとにより、主磁極３１０、金属膜３１５、コア３１１となるコア母材６０４、遮光膜３１４を内包するように形成される。次に、コア３１１の長軸を横切るように切断、および切断面の研磨をおこない、開口３１１ｃを形成する。かかる工程により、主磁極先端３１０ａと開口３１１ｃは近接するように形成される。コア交辺３１１ｆも主磁極先端３１０ａに近接して形成される。コア交辺３１１ｆは、コア先端に向かうにつれて、磁極としての主磁極先端３１０ａに近づくように傾斜して形成されている。よって、コアを伝搬してくる光束が、このコア交辺３１１ｆの傾斜や、第１コア面３１１ｄと第２コア面３１１ｅとにより、近接場光が発生する開口３１１ｃに集光するように誘導される。そして、コア交辺３１１ｆは、主磁極先端３１０ａに向かって傾斜し、傾斜したコア交辺３１１ｆが主磁極先端３１０ａに最も近接した位置に、開口３１１ｃが形成されることになる。よって、コア交辺３１１ｆの傾斜や、第１コア面３１１ｄと第２コア面３１１ｅとにより、集光され主磁極先端３１０ａに隣接する開口３１１ｃから近接場光が発生されるので、近接場光による記録媒体Ｄの一時的な保磁力低下のタイミングを、主磁極先端３１０ａによる記録媒体Ｄへの磁界印加が効率良くとらえることが可能となる。
【００３８】
ここで、図６における平面視Ｙ字状のパターン６０１ｂはクラッド母材膜であり、第１面６０１ｇと、第１面６０１ｇに対して傾斜する第２面６０１ｈと、第１面６０１ｇと第２面６０１ｈとが交わる交辺６０１ｉと、第１面６０１ｇ、第２面６０１ｈ及び交辺６０１ｉと交わる基面６０１ｋとを有し、第１面６０１ｇ、第２面６０１ｈ、および基面６０１ｋは、コア３１１に面するように形成され、交辺６０１ｉは、コア３１１の先端に近づくに伴い、基面６０１ｋが存在する面から遠ざかるように形成されている。クラッド母材膜がかかる形状に形成されていることにより、第１面６０１ｇ、第２面６０１ｈ、および交辺６０１ｉに挟まれた空間にコア３１１の先端を形成でき、交辺６０１ｉのコア３１１先端を挟んだ反対側に主磁極先端３１０ａを形成することができる。よって、交辺６０１ｉに対向するコア３１１の辺であるコア交辺３１１ｆが、コア３１１の先端に近づくにつれて主磁極先端３１０ａに近接するようになる。つまり、コア交辺３１１ｆに誘導されコアの開口３１１ｃから発生する近接場光が、主磁極先端３１０ａに近接することになる。このような構成により、近接場光による記録媒体Ｄの一時的な保磁力低下のタイミングを、主磁極先端３１０ａによる記録媒体Ｄへの磁界印加が効率良くとらえることが可能となるクラッド母材膜が形成される。
【００３９】
このようにして製造されたコア３１１の形状を図８に示す。矩形断面の本体３１１ｂの端部に第１コア面３１１ｄ、第２コア面３１１ｅ、コア交辺３１１ｆを有する絞り込み部３１１ａが設けられ、絞り込み部３１１ａの端部は三角形状の開口３１１ｃとなっている。三角形の開口３１１ｃは、コア交辺３１１ｆを一つの頂点とし、第１コア面３１１ｄと第２コア面３１１ｅの一辺を有している。第１コア面３１１ｄと第２コア面３１１ｅの一辺とは異なる辺である底辺が、主磁極先端３１０ａに最も近い辺となっている。かかる底辺にコア３１１を伝搬されてきた光束が集約され局在化されることで、開口３１１ｃから発生する近接場光の強度を十分に確保することを可能としている。かかる低辺は、金属膜３１５を挟んで主磁極先端３１０ａに隣接している。よって、開口３１１ｃのなかでも、近接光が局在化する底辺が最も主磁極先端３１０ａに近いことから、より記録媒体Ｄの局所加熱箇所と記録媒体Ｄへの磁界印加箇所とを近づけることができるようになる。
【００４０】
本実施の形態によれば、三角断面のパターン６０１ｂを一度形成して、その上に遮光膜３１４、絞り込み部３１１ａ、金属膜３１５を形成するため、性能の良い近接場光利用ヘッドを容易に低コストに製造することができる。ひいては性能の良い情報記録再生装置１を安価に提供することができる。
【００４１】
（第２実施形態）
次に、図９および図１０に基づき本発明の第２実施形態について説明する。
図９は本発明に係る第２実施形態におけるスライダ２の一部断面図である。第１実施形態の図３に相当し、特許文献１に示された構造である。第１実施形態と同一箇所については同一符号を付して詳細な説明を省略する。本実施形態が第１実施形態と異なる点は、導波路のコアが第１のコア９０１と第２のコア９０２から構成されている点である。第１のコア９０１はいわゆる表面プラズモンアンテナであり、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ等の金属材料から成り、第１の実施形態と同様な形状の絞り込み部９０１ａを有する。第１のコア９０１は絞り込み部９０１ａと本体９０１ｂから構成される。本体９０１ｂは四角柱形状を有する。第２のコア９０２は一端側が半導体レーザ５０３に対向し、半導体レーザ５０３と第２のコア９０２との光学的結合を実現している。第２のコア９０２の他端側は、第１のコア９０１の本体９０１ｂと互いの側面同士が接触するように配置されている。第１のコアの先端側の絞り込み部９０１ａと磁極３１０の先端との間には絶縁膜９０３が形成されている。なお、かかる絶縁膜９０３は不要とすることもできる。
【００４２】
図１０に本実施形態におけるスライダ２の製造方法の一部を示す。図１０は第１実施形態における図６および図７に相当する図である。図１０（ａ）に示すように、平面視Ｙ字状のパターン６０１ｂおよび下部クラッド３１２ａをスライダ基部３０１上にクラッド母材膜を加工して形成する。下部クラッド３１２ａには第２のコア９０２が事前に埋め込まれている。再生素子３０６やコイル３０８も適宜スライダ基部３０１上に形成するが、ここでは説明を省略する。
次に図１０（ｂ）に示すように、第２のコア母材膜９０４をパターン６０１ｂ上に形成し、パターン６０１ｂが露出するかその直前まで表面を研磨することで、第２のコア９０１ａを形成する。第２のコア９０１ａは第１実施形態における絞り込み部３１１ａと同様に第１コア面９０１ｃ、第２コア面９０１ｄおよびコア交辺９０１ｅを有する。
次に図１０（ｃ）に示すように、第２のコア９０１ａを矩形断面に加工することで本体９０１ｂを形成する。その後は適宜主磁極等を形成する。
【００４３】
本実施の形態によれば、第１実施形態と同様に、性能の良い近接場光利用ヘッドを容易に低コストに製造することができる。ひいては性能の良い情報記録再生装置１を安価に提供することができる。
【００４４】
なお、本発明の技術範囲は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、上述した実施形態で挙げた構成等はほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。例えば、第１実施形態と第２実施形態とを構成する工程や構造を、適宜組み合わせることができる。
【符号の説明】
【００４５】
Ｄ  記録媒体
１  情報記録再生装置
２  スライダ
３  サスペンション
１１  キャリッジ
１２  ヘッドジンバルアセンブリ
１３  フレキシブル配線
２０４  フレクシャ
２０４ａ  パッド部
３０６  副磁極
３０８  コイル
３１０  主磁極（磁極）
３１１  コア
３１１ｃ  開口
３１１ｄ  絞り込み部
３１２クラッド
３１４  遮光膜
３１５  金属膜
９０１  第１のコア
９０２  第２のコア
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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