(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体を連続的に搬送しながら該支持体に塗布液を塗布する塗布装置であって、
前記支持体の搬送方向に隣設されて前記塗布液の吐出口を構成するフロントエッジ及びバックエッジを有し、前記支持体に押し付けられ、前記吐出口より吐出される前記塗布液を前記支持体に塗布する塗布ヘッドと、
前記支持体に対する前記塗布ヘッドの相対位置を変更する相対移動部と、
を備え、
前記吐出口から前記塗布液の吐出を停止する際に、
前記相対移動部は、前記バックエッジと前記支持体との接触を維持しつつ前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とし、その後に前記バックエッジを前記支持体から離間させ、
前記塗布ヘッドは、前記フロントエッジと前記支持体とが非接触となった後、前記バックエッジが前記支持体から離間する前に、前記塗布液の吐出を停止する塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記バックエッジの先端面において前記支持体に接する領域の上流側の縁が、前記フロントエッジの下流側の縁を通って前記バックエッジの先端面に接する接平面と該先端面との接触線よりも下流側に位置するように、前記相対移動部は、前記支持体に対する前記塗布ヘッドの相対位置を変更して、前記バックエッジと前記支持体との接触を維持しつつ前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とする塗布装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の塗布装置であって、
前記塗布ヘッドの上流側において前記支持体を挟んで前記塗布ヘッドとは反対側に配置され、前記支持体の前記塗布ヘッドへの搬入経路を規定するガイドロールを備え、
前記相対移動部は、前記ガイドロールを移動させて、前記バックエッジと前記支持体との接触を維持しつつ前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とする塗布装置。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の塗布装置であって、
前記塗布ヘッドは、前記支持体の幅方向と平行な軸まわりに回転可能に設けられており、
前記相対移動部は、前記塗布ヘッドを回転させて、前記バックエッジと前記支持体との接触を維持しつつ前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とする塗布装置。
【請求項５】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記塗布ヘッドは、前記支持体への押し付け方向に沿って、前記フロントエッジが前記バックエッジに対して後退可能に構成されており、
前記相対移動部は、前記フロントエッジを後退させて、前記バックエッジと前記支持体との接触を維持しつつ前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とする塗布装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の塗布装置であって、
前記塗布ヘッドを複数備え、これらの塗布ヘッドが前記支持体の搬送経路に沿って間隔をおいて設けられている塗布装置。
【請求項７】
連続的に搬送される支持体に塗布ヘッドを押し付け、前記支持体の搬送方向に隣設された前記塗布ヘッドのフロントエッジ及びバックエッジによって構成される吐出口から塗布液を吐出して、前記支持体に前記塗布液を塗布する塗布方法であって、
前記吐出口から前記塗布液の吐出を停止する際に、
前記バックエッジと前記支持体との接触は維持しつつ、前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とし、
その後、前記吐出口からの前記塗布液の吐出を停止し、
さらにその後、前記バックエッジを前記支持体から離間させる塗布方法。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチックフィルム、紙、金属箔、等の帯状の支持体の表面に、磁性液、写真感光液、表面保護液、等の塗布液を塗布する塗布装置及び塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
帯状の支持体を連続的に搬送しながら該支持体に塗布液を塗布する方法として、エクストルージョン塗布方法が知られている。エクストルージョン塗布方法において、塗布ヘッドは支持体に押し付けられる。支持体は、塗布ヘッドから吐出される塗布液によって塗布ヘッドから浮上し、塗布ヘッドとの間に所定のクリアランスを保って搬送される。支持体の表面には、クリアランスに応じた厚みの塗布膜が形成される（例えば、特許文献１、２参照）。
【０００３】
塗布終了の際や塗布中断の際といった塗布液の吐出を停止する際において、塗布ヘッドは支持体から離間されるが、その際に塗布膜の厚みが増大する場合がある。塗布膜は、支持体の搬送経路において搬送されながら乾燥されるが、塗布膜に厚膜部分が生じると、その厚膜部分の乾燥が不十分となる虞がある。そして、未乾燥の塗布膜は、その後の工程において装置の汚染を引き起こす虞がある。
【０００４】
厚膜部分を十分に乾燥させるため、塗布液の吐出を停止する際に支持体の搬送速度を下げることも考えられるが、支持体の搬送経路に複数の塗布ヘッドを設けて支持体の表面に複数層の塗布膜を形成する場合において、生産性の低下が懸念される。支持体の搬送速度は、塗布ヘッドと支持体との間のクリアランスに影響し、搬送速度の低下に起因して塗布膜の厚みが変化する。そのため、上流側の塗布ヘッドから順に塗布液の吐出を停止していったとしても、搬送速度を下げた場合には、その時点において搬送方向に最下流の塗布ヘッドから最上流の塗布ヘッドまでの比較的長い区間において、支持体の表面に所望の厚みの塗布膜が得られない。
【０００５】
塗布液の吐出を停止する際における塗布膜の厚みの増大を抑制するため、特許文献１に記載された塗布方法においては、まず、塗布液の吐出が停止され、その後に、塗布ヘッドが支持体から離間される。しかしながら、この塗布方法によると、塗布液が介在することなく塗布ヘッドと支持体とが摺接するため、塗布ヘッドの損耗が懸念される。
【０００６】
一方、特許文献２に記載された塗布方法においては、塗布ヘッドが支持体から完全に離間した後に塗布液の吐出が停止される。この塗布方法によれば、塗布ヘッドの損耗は抑制されるが、塗布膜の厚みが増大を抑制するには至らない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開昭６２−９５１６９号公報
【特許文献２】特開平７−１８５４４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上述した事情に鑑みなされたものであり、塗布ヘッドを支持体に押し付けて塗布液を支持体に塗布する塗布装置及び塗布方法において、塗布液の吐出を停止する際における塗布ヘッドの損耗及び塗布膜の厚みの増大を抑制することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）  支持体を連続的に搬送しながら該支持体に塗布液を塗布する塗布装置であって、前記支持体の搬送方向に隣設されて前記塗布液の吐出口を構成するフロントエッジ及びバックエッジを有し、前記支持体に押し付けられ、前記吐出口より吐出される前記塗布液を前記支持体に塗布する塗布ヘッドと、前記支持体に対する前記塗布ヘッドの相対位置を変更する相対移動部と、を備え、前記吐出口から前記塗布液の吐出を停止する際に、前記相対移動部は、前記バックエッジと前記支持体との接触を維持しつつ前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とし、その後に前記バックエッジを前記支持体から離間させ、前記塗布ヘッドは、前記フロントエッジと前記支持体とが非接触となった後、前記バックエッジが前記支持体から離間する前に、前記塗布液の吐出を停止する塗布装置。
（２）  連続的に搬送される支持体に塗布ヘッドを押し付け、前記支持体の搬送方向に隣設された前記塗布ヘッドのフロントエッジ及びバックエッジによって構成される吐出口から塗布液を吐出して、前記支持体に前記塗布液を塗布する塗布方法であって、前記吐出口から前記塗布液の吐出を停止する際に、前記バックエッジと前記支持体との接触は維持しつつ、前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とし、その後、前記吐出口からの前記塗布液の吐出し、さらにその後、前記バックエッジを前記支持体から離間させる塗布方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、連続走行する支持体に塗布ヘッドを押し付けて塗布液を支持体に塗布する塗布装置及び塗布方法において、塗布液の吐出を停止する際における塗布ヘッドの損耗及び塗布膜の厚みの増大を抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施の形態を説明するための、塗布装置の構成の一例を示す模式図である。
【図２】図１の塗布装置において、支持体への塗布液の塗布を開始する際の動作を示す模式図である。
【図３】図２に続く塗布装置の動作を示す模式図である。
【図４】図３に続く塗布装置の動作を示す模式図である。
【図５】図４に示す状態における塗布ヘッドの先端部分を拡大して示す模式図である。
【図６】図１の塗布装置において、塗布液の吐出を停止する際の動作を示す模式図である。
【図７】図６に示す状態における塗布ヘッドの先端部分を拡大して示す模式図である。
【図８】図６に続く塗布装置の動作を示す模式図である。
【図９】図８に続く塗布装置の動作を示す模式図である。
【図１０】図１の塗布装置の変形例の構成を示す模式図である。
【図１１】本発明の他の実施の形態を説明するための、塗布装置の他の例の構成を示す模式図である。
【図１２】本発明の他の実施の形態を説明するための、塗布装置の他の例の構成を示す模式図である。
【図１３】図１の塗布装置を用いた実験例において、塗布液の吐出を停止する際の塗布装置の動作タイミングを示すタイミングチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図１は、本発明の実施の形態を説明するための、塗布装置の構成の一例を示す。
【００１３】
図１に示すように、塗布装置１０は、矢印方向に連続的に搬送される支持体１１に塗布液２２を塗布するエクストルージョン型の塗布ヘッド１２と、支持体１１と塗布ヘッド１２とを接近及び離隔方向に相対的に移動させて支持体１１に対する塗布ヘッド１２の相対位置を変更する相対移動部と、支持体１１を挟んで塗布ヘッド１２とは反対側に配置され、支持体１１の搬送経路を規定する一対のガイドロール１４、１５とを備えている。
【００１４】
支持体１１は、例えば、数μｍ〜数１０μｍの厚みを有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のプラスチックフィルムであるが、これに限定されず、紙、金属箔等であってもよい。
【００１５】
また、塗布液２２は、例えば、磁気記録媒体の磁気記録層を形成するための磁性塗布液であるが、これに限定されず、写真感光液、表面保護液等であってもよい。磁気記録層を製造するための磁性塗布液は、例えば、Ｃｏ含有酸化鉄等の磁性粉と、ニトロセルロース、ポリウレタン樹脂、カーボンブラック等のバインダと、メチルエチルケトン、トルエン等の有機溶媒を含んで構成される。
【００１６】
塗布ヘッド１２は、支持体１１の搬送方向に隣設されたフロントエッジ１６及びバックエッジ１７を備えている。フロントエッジ１６は、支持体１１の搬送方向の上流側に配置され、バックエッジ１７は、支持体１１の搬送方向の下流側に配置されており、互いに組み付けられている。
【００１７】
フロントエッジ１６及びバックエッジ１７によって構成される塗布ヘッド１２の先端面には、支持体１１の幅方向に沿って延在するスリット状の吐出口１９が設けられ、また内部には、吐出口１９と同じく支持体１１の幅方向に沿って延在する円筒状のポケット部１８及びポケット部１８と吐出口１９とを繋ぐ流路が設けられている。
【００１８】
なお、フロントエッジ１６及びバックエッジ１７についての「隣設」とは、所望の吐出口１９の幅（支持体１１の搬送方向に沿う寸法）を得られる間隔にフロントエッジ１６及びバックエッジ１７を配置することを言うものとする。
【００１９】
塗布ヘッド１２には、塗布液２２が貯蔵されたタンク２０が給液管２１を介して接続されている。給液管２１を通じてタンク２０から塗布ヘッド１２に送られた塗布液２２は、ポケット部１８に一旦貯留され、そして吐出口１９から所定の圧力で吐出される。
【００２０】
ガイドロール１４、１５は、それぞれ上下方向に独立して移動可能に設けられている。ガイドロール１４、１５の各々が塗布ヘッド１２に向けて降下されると、支持体１１が塗布ヘッド１２の先端面に接触し、そして、ガイドロール１４、１５の各々が上昇されると、支持体１１は塗布ヘッド１２から離間する。
【００２１】
本例において、支持体１１に対する塗布ヘッド１２の相対位置を変更する相対移動部は、昇降可能なガイドロール１４、１５、及びこれらガイドロール１４、１５の昇降を制御する制御部１３によって構成されている。なお、制御部１３は、タンク２０から塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給も制御する。
【００２２】
次に、図２から図４を参照して、支持体１１への塗布液２２の塗布を開始する場合における塗布装置１０の動作を説明する。
【００２３】
まず、図２に示すように、塗布が開始される前の待機時において、一対のガイドロール１４、１５は上昇された待機位置にあり、支持体１１と塗布ヘッド１２とは離間した状態にある。また、このとき、塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給は停止されている。
【００２４】
次に、図３に示すように、制御部１３は、一対のガイドロール１４、１５を塗布位置に降下させる。また、支持体１１が矢印方向に搬送される。これにより、搬送される支持体１１と塗布ヘッド１２の先端面とが接触する。
【００２５】
次に、図４に示すように、制御部１３は、タンク２０から塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給を開始する。塗布ヘッド１２の吐出口１９から塗布液２２が吐出され、吐出された塗布液２２が支持体１１に塗布される。
【００２６】
支持体１１と塗布ヘッド１２の先端面とが接触してから、塗布液２２が吐出されるまでの時間は、支持体１１との摺接による塗布ヘッド１２の損耗を抑制する観点から、できるだけ短いことが望ましい。そこで、待機時において、塗布液２２が、吐出口１９から吐出しない範囲において塗布ヘッド１２に供給され、ポケット部１８に貯留されていることが好ましい。
【００２７】
支持体１１への塗布液２２の塗布が開始されると、塗布ヘッド１２と支持体１１とは、支持体１１の搬送速度や支持体１１の塗布ヘッド１２に対する押し付け圧力や塗布液２２の吐出圧力などによって定まるクリアランスで保持される。塗布液２２は、このクリアランスに対応する厚みで、連続的に搬送される支持体１１の表面に塗布され塗布膜を形成する。
【００２８】
図５は、塗布時における塗布ヘッド１２（フロントエッジ１６及びバックエッジ１７）の先端部分を拡大して示す。なお、図５において、塗布ヘッド１２と支持体１１とのクリアランスは図示を省略している。
【００２９】
支持体１１は、吐出口１９を形成するフロントエッジ１６の先端面の下流側の縁１６ａを通ってバックエッジ１７の先端面に接する接平面Ｓ１よりも下側から塗布ヘッド１２に搬入される。搬入経路を規定する上流側のガイドロール１４（より詳細には、ガイドロール１４の外周において、支持体１１が周回する範囲の終端）は、搬入経路の延長に配置されている。
【００３０】
また、支持体１１は、バックエッジ１７の先端面の下流側の縁１７ａにおける接平面Ｓ２に沿って塗布ヘッド１２から搬出される。搬出経路を規定する下流側のガイドロール１５（より詳細には、ガイドロール１５の外周において、支持体１１が周回する範囲の起端）は、その搬出経路の延長に配置されている。
【００３１】
ガイドロール１４、１５の上記の配置において、搬入経路に沿う支持体１１と、接平面Ｓ２とのなす角度（以下、入射角度という）θは、上記の接平面Ｓ１と接平面Ｓ２とのなす角度θ１以上であり、支持体１１は、フロントエッジ１６の先端面の下流側の縁１６ａに接触する。そして、支持体１１は、バックエッジ１７の先端面と接平面Ｓ１との接触線Ｌ１から先端面の下流側の縁１７ａまでの領域においてバックエッジ１７の先端面に接触する。
【００３２】
なお、フロントエッジ１６の先端面の下流側の縁１６ａ、及びバックエッジ１７の先端面との間には塗布液２２が介在するが、支持体１１と、フロントエッジ１６の先端面の下流側の縁１６ａ及びバックエッジ１７の先端面との接触・非接触は、支持体１１の押し付け圧力が作用しているか否かによるものとする。
【００３３】
支持体１１の表面に形成された塗布液２２の塗布膜は、支持体１１の搬送経路において乾燥される。そして、塗布膜の乾燥後に、支持体１１は、図示しない巻取りロールに巻き取られる。
【００３４】
次に、図６を参照して、塗布液２２の吐出を停止する際における塗布装置１０の動作を説明する。
【００３５】
まず、塗布液２２の吐出を停止する際の一次動作として、バックエッジ１７と支持体１１とは接触を維持しつつフロントエッジ１６と支持体１１とが非接触となるように、制御部１３は、支持体１１の搬送方向の上流側に位置するガイドロール１４を上昇させる。なお、塗布液２２の吐出を停止する場合として、例えば、塗布を終了する場合、あるいは塗布を一時的に中断する場合が例示されるが、これらの場合に限られるものではない。
【００３６】
図７は、上記の一次動作が完了した状態における塗布ヘッド１２（フロントエッジ１６及びバックエッジ１７）の先端部分を拡大して示す。なお、図７において、塗布ヘッド１２と支持体１１とのクリアランスは図示を省略している。
【００３７】
支持体１１は、上記の接平面Ｓ１と接平面Ｓ２との間から塗布ヘッド１２に搬入される。搬入経路を規定する上流側のガイドロール１４（より詳細には、ガイドロール１４の外周において、支持体１１が周回する範囲の終端）は、その搬入経路の延長、即ち接平面Ｓ１と接平面Ｓ２との間に配置されている。
【００３８】
搬出経路を規定する下流側のガイドロール１５は塗布時と同じ位置に置かれており、支持体１１は、バックエッジ１７の先端面の下流側の縁１７ａにおける接平面Ｓ２に略沿って塗布ヘッド１２から搬出される。
【００３９】
ガイドロール１４、１５の上記の配置において、搬入経路に沿う支持体１１の入射角度θは、０度より大きく、接平面Ｓ１と接平面Ｓ２とのなす角度θ１未満となり、支持体１１は、フロントエッジ１６と非接触となる。一方で、支持体１１は、バックエッジ１７の先端面とは接触している。この時のバックエッジ１７の先端面における支持体１１との接触領域の起端Ｌ２は、バックエッジ１７の先端面と接平面Ｓ１との接触線Ｌ１、即ち塗布時における接触領域の起端よりも下流側に後退している。
【００４０】
図８及び図９は、塗布液２２の吐出を停止する際における、上記の一次動作に続く塗布装置１０の動作を順に示す。
【００４１】
支持体１１とフロントエッジ１６とが非接触となった後、図８に示すように、制御部１３は、塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給を停止する。塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給を停止すると同時に、あるいは停止した直後に、図９に示すように、制御部１３は、ガイドロール１４、１５を待機位置まで上昇させ、バックエッジ１７を支持体１１から離間させる。
【００４２】
塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給が停止された時点において、フロントエッジ１６は既に支持体１１に非接触となっている。従って、支持体１１との接触によるフロントエッジ１６の損耗は抑制される。
【００４３】
また、塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給が停止された時点において、バックエッジ１７は支持体１１と接触しているが、塗布液２２の供給停止から少しの間は、吐出口１９及びその近傍に滞留している塗布液２２が支持体１１との間に巻き込まれて支持体１１との間に介在する。その間に、ガイドロール１４、１５の上昇に伴って、バックエッジ１７と支持体１１との接触が次第に弱まる。よって、支持体１１との接触によるバックエッジ１７の損耗も抑制される。
【００４４】
そして、上記の一次動作の期間においては、塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給は継続され、吐出口１９から塗布液２２が継続して吐出されるが、支持体１１とバックエッジ１７の先端面との接触は維持されており、バックエッジ１７が支持体１１から離間する際には、塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給が停止されているので、支持体１１の表面に形成される塗布液２２の塗布膜の末端部の厚みは、塗布時の塗布膜の厚み（規定厚み）と略同じに維持される。
【００４５】
図１０は、上述した塗布装置１０の変形例を示す。
【００４６】
図１０に示す塗布装置１０Ａにおいて、塗布ヘッド１２は、支持体１１の幅方向に平行な軸まわりに回転可能に設けられている。
【００４７】
本例において、支持体１１に対する塗布ヘッド１２の相対位置を変更する相対移動部は、昇降可能なガイドロール１４、１５、及び軸Ｘまわりに回転可能な塗布ヘッド１２、並びにガイドロール１４、１５の昇降及び塗布ヘッド１２の回転を制御する制御部１３によって構成される。
【００４８】
塗布液２２の吐出を停止する際に、その一次動作として、制御部１３は、搬入経路に沿う支持体１１の入射角度θが塗布時に比べて小さくなる方向（図中、矢印Ａ方向）に塗布ヘッド１２を回転させる。それにより、支持体１１とバックエッジ１７との接触は維持しつつフロントエッジ１６と支持体１１とは非接触となる。この時のバックエッジ１７の先端面における支持体１１との接触領域の起端Ｌ２（図７参照）は、バックエッジ１７の先端面と接平面Ｓ１（図７参照）との接触線Ｌ１（図７参照）、即ち塗布時における接触領域の起端よりも下流側に後退している。
【００４９】
上記の一次動作に続く塗布装置１０Ａの動作は上述した塗布装置１０と共通であり、支持体１１とフロントエッジ１６とが非接触となった後、制御部１３は、塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給を停止する。塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給を停止すると同時に、あるいは停止した直後に、制御部１３は、ガイドロール１４、１５を上昇させ、バックエッジ１７を支持体１１から離間させる。
【００５０】
本例の塗布装置１０Ａにおいても、上述した塗布装置１０と同様に、塗布液２２の吐出を停止する際における塗布ヘッド１２の損耗を抑制すると共に、塗布膜の厚みの増大を抑制することができる。
【００５１】
図１１は、本発明の実施形態を説明するための、塗布装置の他の例の構成を示す。
【００５２】
図１１に示す塗布装置１１０において、塗布ヘッド１２は、フロントエッジ１６と、バックエッジ１７とで構成されおり、フロントエッジ１６は、支持体１１への押し付け方向に沿って、バックエッジ１７に対して進退可能に設けられている。
【００５３】
本例において、支持体１１に対する塗布ヘッド１２の相対位置を変更する相対移動部は、昇降可能なガイドロール１４、１５、及びバックエッジ１７に対して進退可能なフロントエッジ１６、並びにガイドロール１４、１５の昇降及びフロントエッジ１６の進退を制御する制御部１３によって構成される。
【００５４】
塗布液２２の吐出を停止する際に、その一次動作として、制御部１３は、フロントエッジ１６を後退させる。それにより、バックエッジ１７と支持体１１とは接触を維持しつつフロントエッジ１６と支持体１１とが非接触となる。
【００５５】
上記の一次動作に続く塗布装置１１０の動作は上述した塗布装置１０と共通であり、支持体１１とフロントエッジ１６とが非接触となった後、制御部１３は、塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給を停止する。塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給を停止すると同時に、あるいは停止した直後に、制御部１３は、ガイドロール１４、１５を上昇させ、バックエッジ１７を支持体１１から離間させる。
【００５６】
本例の塗布装置１１０においても、上述した塗布装置１０と同様に、塗布液２２の吐出を停止する際における塗布ヘッド１２の損耗を抑制すると共に、塗布膜の厚みの増大を抑制することができる。
【００５７】
以上、塗布液２２の吐出を停止する際に、バックエッジ１７と支持体１１との接触を維持しつつ、フロントエッジ１６と支持体１１とを非接触とする方法として、上流側のガイドロール１４の上昇、塗布ヘッド１２の回転、フロントエッジ１６の後退を個別に説明したが、これらの方法を適宜組み合わせてもよい。
【００５８】
図１２は、本発明の実施形態を説明するための、塗布装置の他の例の構成を示す。
【００５９】
上述した塗布装置１０、１０Ａ、１１０は、いずれも一つの塗布ヘッド１２を備え、支持体１１の表面に一層の塗布膜を形成するものとして説明したが、図１２に示す塗布装置２１０は、支持体１１の搬送経路に沿って間隔をおいて二つの塗布ヘッド１２Ａ、１２Ｂを備えている。そして、搬送経路に沿って二つの塗布ヘッド１２Ａ、１２Ｂの間には、上流側の塗布ヘッド１２Ａによって支持体１１の表面に形成される塗布膜を乾燥させる乾燥炉２３が配置されている。
【００６０】
塗布ヘッド１２Ａの上流側及び下流側には、支持体１１を挟んで塗布ヘッド１２Ａとは反対側に一対のガイドロール１４Ａ、１５Ａが配置されて、また、塗布ヘッド１２Ｂの上流側及び下流側にも、支持体１１を挟んで塗布ヘッド１２Ｂとは反対側に一対のガイドロール１４Ｂ、１５Ｂが配置されている。一対のガイドロール１４Ａ、１５Ａは、それぞれ上下方向に独立して移動可能に設けられ、また一対のガイドロール１４Ｂ、１５Ｂについても、それぞれ上下方向に独立して移動可能に設けられている。
【００６１】
本例において、支持体１１に対する塗布ヘッド１２Ａの相対位置を変更する相対移動部は、塗布ヘッド１２Ａに付随する昇降可能なガイドロール１４Ａ、１５Ａ、及びこれらガイドロール１４Ａ、１５Ａの昇降を制御する制御部１３によって構成されている。また、支持体１１に対する塗布ヘッド１２Ｂの相対位置を変更する相対移動部は、塗布ヘッド１２Ｂに付随する昇降可能なガイドロール１４Ｂ、１５Ｂ、及びこれらガイドロール１４Ｂ、１５Ｂの昇降を制御する制御部１３によって構成されている。
【００６２】
以上のように構成された塗布装置２１０において、塗布液２２の吐出を停止する際に、まず、上流側の塗布ヘッド１２Ａにおける塗布液２２の吐出が停止される。その際、塗布ヘッド１２Ａにおける一次動作として、ガイドロール１４Ａが上昇され、バックエッジ１７と支持体１１との接触は維持しつつフロントエッジ１６と支持体１１とが非接触とされる。そして、一次動作が完了した後に、塗布ヘッド１２Ａへの塗布液２２の供給が停止され、それに同期してガイドロール１４Ａ、１５Ａが上昇され、塗布ヘッド１２Ａのバックエッジ１７が支持体１１から離間される。
【００６３】
そして、塗布ヘッド１２Ａによって支持体１１の表面に形成された塗布膜の末端部が下流側の塗布ヘッド１２Ｂに到達した時点で、下流側の塗布ヘッド１２Ｂにおける塗布液２２の吐出が停止される。その際、塗布ヘッド１２Ｂにおける一次動作として、ガイドロール１４Ｂが上昇され、塗布ヘッド１２Ｂのバックエッジ１７と支持体１１との接触は維持しつつフロントエッジ１６と支持体１１とが非接触とされる。そして、一次動作が完了した後に、塗布ヘッド１２Ｂへの塗布液２２の供給が停止され、それに同期してガイドロール１４Ｂ、１５Ｂが上昇され、塗布ヘッド１２Ｂのバックエッジ１７が支持体１１から離間される。
【００６４】
塗布ヘッド１２Ａによって支持体１１の表面に形成された塗布膜の末端部の厚みは、塗布ヘッド１２Ａにおいて上記の一次動作がなされることにより、塗布時に形成される塗布膜の厚み（規定厚み）と略同じに維持される。よって、塗布膜の末端部を乾燥炉２３で十分に乾燥させるにあたって、塗布時と同じ搬送速度で支持体１１を搬送することができる。そこで、塗布ヘッド１２Ａにおいて塗布液２２の吐出を停止した時点において塗布ヘッド１２Ａ、１２Ｂ間の区間にある支持体１１の表面にも、塗布ヘッド１２Ｂによって規定厚みの塗布膜を形成することができる。それにより、生産性を高めることができる。
【００６５】
なお、図１２に示す塗布装置２１０は、塗布ヘッド１２Ａ、１２Ｂが支持体１１に関して同じ側に設けられ、支持体１１の片側の表面に複数層の塗布膜を形成するものであるが、塗布ヘッド１２Ａ、１２Ｂを支持体１１を挟んで反対側に設け、支持体１１の両側の表面に塗布膜を形成する構成とすることもできる。また、図１２に示す塗布装置２１０は、二つの塗布ヘッド１２Ａ、１２Ｂを備えるが、三つ以上の複数の塗布ヘッドを備える構成とすることもできる。
【００６６】
（実験例）
上述した塗布装置１０を用い、塗布ヘッド１２のフロントエッジ１６の損耗の程度について、目視観察、及び２００倍の拡大観察にて評価を行った。また、塗布膜の末端部における厚みの変動に関して、透過光量にて評価を行った。
【００６７】
実験例１〜３においては、塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給を停止する前に、バックエッジ１７と支持体１１との接触は維持しつつフロントエッジ１６と支持体１１とが非接触となるように塗布ヘッド１２の上流側のガイドロール１４を上昇させ、ガイドロール１４の上昇を開始してから時間ｔ２経過後に塗布液２２の供給を停止し、塗布液２２の供給停止に同期して、ガイドロール１４、１５を上昇させ、バックエッジ１７を支持体１１から離間させた。
【００６８】
実験例４〜７においては、まず、塗布ヘッド１２への塗布液２２の供給停止し、塗布液２２の供給停止から所定時間ｔ１経過後に、ガイドロール１４、１５を上昇させ、フロントエッジ１６及びバックエッジ１７を支持体１１から離間させた。
【００６９】
以上の実験例における、塗布ヘッド１２への給液、及びガイドロール１４、１５の移動のタイミングを図１３に（実験例１〜３についてはＦＩＧ．１３Ａに、実験例４〜７についてはＦＩＧ．１３Ｂに）示す。
【００７０】
塗布装置１０の諸元は下記の通りである。
・フロントエッジ１６の縁１６ａの角度（θｆ（図５参照））：７０°
・接平面Ｓ１と接平面Ｓ２とのなす角度θ１：９°
・塗布時における支持体１１の入射角度θ：１４°
・実験例１〜３の塗布液供給停止時における支持体１１の入射角度θ：７°
・支持体１１の搬送速度：２００ｍ／ｍｉｎ
・支持体１１の張力：１５ｋｇｆ／ｍ
・支持体１１の材質：６μｍ厚のＰＥＴフィルムに１μｍ厚の非磁性層を塗布したもの
・塗布液２２の組成：
強磁性金属微粉末                                            １００部
組成：Ｃｏ置換バリウムフェライト
ＢＥＴ法による比表面積  ３５ｍ２／ｇ
平均粒子径  ０．０６μｍ
板状比  ５
塩化ビニル系重合体                                              ９部
日本ゼオン社製  ＭＲ‐１１０
ＣｒＯ２（粒子サイズ  ０．３μｍ）                              ７部
ポリエステルポリウレタン樹脂                                  １０部
ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ
＝０．９／２．６／１
ステアリン酸                                                ０．５部
メチルエチルケトン                                            ７０部
トルエン                                                      ２０部
シクロヘキサノン                                              ６０部
【００７１】
上記の塗布液２２については、各成分を連続ニーダーで混練し、その後、スチールボールを使用したサンドミルを使用して６時間分散処理を行った。得られた分散液にポリイソシアネートを３部加え、更に、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの混合溶媒を適宜添加し、ブルックフィールド粘度計にて１〜５０Ｐ（ポアズ）になるように粘度調整し、粘度調整後の粘度は３．４Ｐ（ポアズ）とした。
【００７２】
実験例１〜７のいずれについても、塗布液２２の吐出を停止する際における上記の動作を複数回繰り返して行い、フロントエッジ１６の損耗評価、及び塗布膜の膜厚変動評価を行った。損耗評価、及び評価の評価基準は下記の通りである。
＜損耗評価＞
×：目視で損耗が認められた。
△：目視では損耗が認められないが、２００倍拡大観察で損耗が認められた。
○：目視、２００倍拡大観察共に損耗が認められなかった。
＜膜厚変動評価＞
×：規定厚みに対して３０％以上の厚みの増大が認められた。
○：規定厚みに対して±５％以内の厚みの変動に収まった。
【００７３】
結果を表１に示す。
【００７４】
【表１】
0005757901.tif 000002
【００７５】
表１に示されるように、実験例４〜７ではフロントエッジの損耗が認められ、また塗布膜の厚みについては規定厚みに対して３０％以上の顕著な増大が認められたが、実験例１〜３では、目視、２００倍拡大観察共にフロントエッジの損耗は認められず、また、塗布膜の厚みの変動についても規定厚みに対して±５％以内に収まった。
【００７６】
以上、説明したように、本明細書には以下の事項が開示されている。
【００７７】
（１）  支持体を連続的に搬送しながら該支持体に塗布液を塗布する塗布装置であって、前記支持体の搬送方向に隣設されて前記塗布液の吐出口を構成するフロントエッジ及びバックエッジを有し、前記支持体に押し付けられ、前記吐出口より吐出される前記塗布液を前記支持体に塗布する塗布ヘッドと、前記支持体に対する前記塗布ヘッドの相対位置を変更する相対移動部と、を備え、前記吐出口から前記塗布液の吐出を停止する際に、前記相対移動部は、前記バックエッジと前記支持体との接触を維持しつつ前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とし、その後に前記バックエッジを前記支持体から離間させ、前記塗布ヘッドは、前記フロントエッジと前記支持体とが非接触となった後、前記バックエッジが前記支持体から離間する前に、前記塗布液の吐出を停止する塗布装置。
（２）  上記（１）の塗布装置であって、前記バックエッジの先端面において前記支持体に接する領域の上流側の縁が、前記フロントエッジの下流側の縁を通って前記バックエッジの先端面に接する接平面と該先端面との接触線よりも下流側に位置するように、前記相対移動部は、前記支持体に対する前記塗布ヘッドの相対位置を変更して、前記バックエッジと前記支持体との接触を維持しつつ前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とする塗布装置。
（３）  上記（１）又は（２）の塗布装置であって、前記塗布ヘッドの上流側において前記支持体を挟んで前記塗布ヘッドとは反対側に配置され、前記支持体の前記塗布ヘッドへの搬入経路を規定するガイドロールを備え、前記相対移動部は、前記ガイドロールを移動させて、前記バックエッジと前記支持体との接触を維持しつつ前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とする塗布装置。
（４）  上記（１）又は（２）の塗布装置であって、前記塗布ヘッドは、前記支持体の幅方向と平行な軸まわりに回転可能に設けられており、前記相対移動部は、前記塗布ヘッドを回転させて、前記バックエッジと前記支持体との接触を維持しつつ前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とする塗布装置。
（５）  上記（１）に記載の塗布装置であって、前記塗布ヘッドは、前記支持体への押し付け方向に沿って、前記フロントエッジが前記バックエッジに対して後退可能に構成されており、前記相対移動部は、前記フロントエッジを後退させて、前記バックエッジと前記支持体との接触を維持しつつ前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とする塗布装置。
（６）  上記（１）から（５）のいずれか一つの塗布装置であって、前記塗布ヘッドを複数備え、これらの塗布ヘッドが前記支持体の搬送経路に沿って間隔をおいて設けられている塗布装置。
（７）  連続的に搬送される支持体に塗布ヘッドを押し付け、前記支持体の搬送方向に隣設された前記塗布ヘッドのフロントエッジ及びバックエッジによって構成される吐出口から塗布液を吐出して、前記支持体に前記塗布液を塗布する塗布方法であって、前記吐出口から前記塗布液の吐出を停止する際に、前記バックエッジと前記支持体との接触は維持しつつ、前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とし、前記フロントエッジと前記支持体とを非接触とした後に、前記吐出口からの前記塗布液の吐出を停止すると共に前記バックエッジを前記支持体から離間させる塗布方法。
【符号の説明】
【００７８】
１０  塗布装置
１１  支持体
１２  塗布ヘッド
１３  制御部
１４  ガイドロール
１５  ガイドロール
１６  フロントエッジ
１７  バックエッジ
１９  吐出口
２２  塗布液
【図１】
0005757901.tif 000003
【図２】
0005757901.tif 000004
【図３】
0005757901.tif 000005
【図４】
0005757901.tif 000006
【図５】
0005757901.tif 000007
【図６】
0005757901.tif 000008
【図７】
0005757901.tif 000009
【図８】
0005757901.tif 000010
【図９】
0005757901.tif 000011
【図１０】
0005757901.tif 000012
【図１１】
0005757901.tif 000013
【図１２】
0005757901.tif 000014
【図１３】
0005757901.tif 000015