(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基材の少なくとも片面に第１層と第２層からなる積層膜を有する積層体であって、
積層体は、第１層、第２層、支持基材の順に積層され、第２層の厚みが５００ｎｍ以上４０００ｎｍ以下であり、
第１層は元素Ａを含む無機粒子Ａを有し、第２層は元素Ｂを含む無機粒子Ｂを有し、第１層に最も多く存在する半金属元素または金属元素が元素Ａであり、第２層に最も多く存在する半金属元素または金属元素が元素Ｂであり、
元素ＡがＳｉであり、
該無機粒子Ａが、シリカ粒子を下記フッ素化合物Ａにより処理した処理無機粒子Ａであり、
元素Ｂが、Ｇａ、Ｚｒ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｚｎ，Ｓｂ，Ｓｎ，およびＣｅよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素であり、
該無機粒子Ｂが元素Ｂの酸化物粒子であり、
該酸化物粒子が下記化合物Ｂによって下記関係式を満たすように処理された処理無機粒子Ｂであり、
さらに以下の条件１及び２を満たすことを特徴とする、反射防止部材またはハードコート部材のいずれかに適用される積層体。
条件１：第１層における元素Ａの第１層の厚み方向における濃度が、下記数式１を満足するように厚み方向に一定である。
（（ｘmax―ｘmin）/（ｘavr）×１００）≦１５     数式１
（ここで、ｘmin、ｘmax、ｘaveは、それぞれｘ１〜ｘ３の最小値（ｘmin）、最大値（ｘmax）平均値（ｘave）を表し、ｘ１〜ｘ３はそれぞれ第１層の大気側から第２層との間の界面に向かって第１層の厚みの２５％、５０％、７５％の位置での元素Ａの濃度を表す。）
条件２：第２層における元素Ｂの濃度が、第１層側から基材側に向かう厚み方向において、連続的に増加する。
フッ素化合物Ａ： Ｒ３−Ｒ４−Ｒｆ一般式（ＩＩ）
（ここで、Ｒｆはフルオロアルキル基、Ｒ３は反応性部位、Ｒ４は炭素数１から６のアルキレン基又はそれらから導出されるエステル構造を示す。それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。）
化合物Ｂ： Ｒ１ｎ１Ｓｉ（ＯＲ２）４−ｎ１
（ここで、Ｒ１、Ｒ２は炭素数１〜４のアルキル基を示す。また、ｎ１は１から３のいずれかの整数を示す。Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。）
関係式：３０≦（（Ｍ１×Ｍ２）／（Ｎ１×Ｎ２））×１００≦１５０
（ここで、Ｍ１は無機粒子Ｂの比表面積（ｍ２／ｇ）、Ｍ２は無機粒子Ｂの質量、Ｎ１は化合物Ｂの最小被覆面積（ｍ２／ｇ）、Ｎ２は化合物Ｂの質量を表す。）
【請求項２】
第２層の厚みを１００％とした際に、第１層側から基材側に向かって２０％の位置の第２層における元素Ｂの濃度を濃度Ｘ１とし、基材側から第１層側に向かって２０％の位置の第２層における元素Ｂの濃度を濃度Ｘ４とした際に、濃度Ｘ１と濃度Ｘ４の比（Ｘ４／Ｘ１）が、１．５以上３．５以下であることを特徴とする、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
無機粒子Ｂの屈折率が無機粒子Ａの屈折率より高く、かつ無機粒子Ｂの屈折率が１．５５〜２．８０である、請求項１または２に記載の積層体。
【請求項４】
積層膜が、金属キレート化合物に由来する金属元素を含むことを特徴とする、請求項１から３のいずれかに記載の積層体。
【請求項５】
以下の（１）から（３）で定義される単位長さａと長さｂの比ｂ／ａが、１．１０＜ｂ／ａ＜１．４５である、請求項１から４のいずれかに記載の積層体。
（１）第１層と第２層とで形成される界面において、直線長さが５００ｎｍ以上離れた任意の界面上の２点をＡ１、Ａ２とする。
（２）Ａ１とＡ２を結ぶ直線の長さを単位長さａとする。
（３）Ａ１とＡ２間の第１層と第２層とで形成される界面に沿った長さを、長さｂとする。
【請求項６】
前記長さｂと、以下の（４）および（５）で定義される長さｃの比ｂ／ｃが、１．０５＜ｂ／ｃ＜１．４０である、請求項５に記載の積層体。
（４）Ａ１を通り単位長さａに垂直でかつ、大気と第１層とで形成される界面との交点をＣ１とする。同様に、Ａ２を通り単位長さａに垂直でかつ、大気と第１層とで形成される界面との交点をＣ２とする。
（５）Ｃ１とＣ２間の大気と第１層とで形成される界面に沿った長さを、長さｃとする。
【請求項７】
積層膜が、金属キレート化合物に由来する金属元素、およびバインダーを含むことを特徴とする、請求項１から６のいずれかに記載の積層体。
【請求項８】
積層膜が下記の塗料組成物を支持基材の少なくとも片面上に１回のみ塗布することによって形成された、請求項１から７のいずれかに記載の積層体。
＜塗料組成物＞
処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂ、バインダー原料、金属キレート、該金属キレートのリガンドを含む塗料組成物。
【請求項９】
前記塗料組成物における金属キレートのリガンドの含有量（モル量）は、該金属キレートのモル量の１．５倍以上３．０倍以下であり、処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数が、２０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下である、請求項８に記載の積層体。
【請求項１０】
前記塗料組成物における処理無機粒子Ｂが、比表面積Ｍ１（ｍ２／ｇ）、質量Ｍ２の無機粒子Ｂを、最小被覆面積Ｎ１（ｍ２／ｇ）、質量Ｎ２の化合物Ｂにより処理した粒子であり、
Ｍ１、Ｍ２、Ｎ１、Ｎ２が以下の関係式を満たすことを特徴とする、請求項８または９に記載の積層体。
３０≦（（Ｍ１×Ｍ２）／（Ｎ１×Ｎ２））×１００≦１５０
【請求項１１】
前記塗料組成物が、さらに膨潤度指数が５％以上６０％以下である化合物（ｃ）を含む、請求項８から１０のいずれかに記載の積層体。
【請求項１２】
第１層と第２層の屈折率が異なり、かつ積層膜が反射防止層である、請求項１から１１のいずれかに記載の積層体からなる反射防止部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体、塗料組成物およびそれを用いた積層体の製造方法に関し、詳しくは反射防止部材やハードコート部材に好適な積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止部材は一般に、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようにディスプレイの最表面に配置される。このような反射防止部材として、より広い波長領域の反射率を低減するために、屈折率の高い物質からなる高屈折率層と屈折率の低い物質からなる低屈折率層との多層の被膜をフィルムなどの支持基材の表面に作製する、いわゆるマルチコーティングが知られている（特許文献１）。
【０００３】
また、このような反射防止部材においては干渉縞、干渉ムラの低減を目的とした発明も提案されている。特許文献２には「複数の透明層が形成されてなる光学フィルムであって、この光学フィルムを構成する第一の透明層とこの第一の透明層と接して形成された第二の透明層とが、屈折率の異なる材料からなり、かつ、この第一の透明層と第二の透明層との接触界面が光散乱性界面であることによって干渉縞の発生が抑制されたものであることを特徴とする光学フィルム」、特許文献３には「透明基材の一方の面に凹凸を形成してなる透明フィルムの当該一方の面に、前記透明基材の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層とをこの順に備えてなり、前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、下記［１］〜［２］を満たす反射防止フィルム。［１］０．０４≦Ｒａ≦０．２５μｍ  ［２］０．００１≦Ｒａ／Ｓｍ≦０．００５  （ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。）」が記載されている。
【０００４】
また、このような反射防止部材の製造方法として１回の塗工によって２つ以上の層を形成する反射防止部材、およびその製造方法が提案されている。
【０００５】
特許文献４には「バインダー樹脂中に低屈折率微粒子と中乃至高屈折率微粒子が分散されているコーティング組成物を用いてワンコートにて形成された塗膜を含む反射防止積層体であって、該低屈折率微粒子としてフッ素系化合物により処理されているシリカ微粒子が用いられることにより、比重の差により塗膜の上部乃至中間部において低屈折率微粒子が偏在し、且つ中間部乃至下部において中乃至高屈折率微粒子が偏在していることを特徴とする反射防止積層体」、が記載されている。特許文献５には「構成元素が異なる２種類以上の無機粒子を含む１液の塗料組成物を１回塗布乾燥硬化する工程のみで反射率の異なる複数の層を構成する反射防止フィルムの製造方法であって、少なくとも一種類の無機粒子にフッ素化合物による表面処理が成されていることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。」、が記載されている。
【０００６】
さらに、塗工層内に成分傾斜構造、または粒子の偏在構造を設けることにより機能付与することに着目した提案もなされている。
【０００７】
特許文献６には、「金属元素の異なる２種以上の金属系化合物を含み、その金属系化合物の含有率が塗膜の表面から深さ方向に連続的に変化する成分傾斜構造を有する複合塗膜であって、前記金属系化合物の少なくとも２種が、金属元素が異なる、平均粒径３〜３００ｎｍの反応終結した微粒子と金属アルコキシドの加水分解・縮合物であることを特徴とする複合傾斜塗膜」が記載されており、特許文献７には、「透明支持体上に、透明支持体よりも低い屈折率の低屈折率層を有し、低屈折率層が、熱または電離放射線により架橋するフッ素化合物と、屈折率が１．３０〜１．４９の範囲にある無機微粒子を含有し、該無機微粒子が低屈折率層内で支持体側もしくは表面側に偏在した構造を有することを特徴とする反射防止フィルム。」が記載されている。
【０００８】
また、このような反射防止フィルムは、塗工面状の欠陥（塗工欠陥）に対する許容が狭く、高い品質が求められる。この塗工欠陥の防止方法として、特許文献８には「透明支持体上に、少なくとも１層のハードコート層と、最外に位置する低屈折率層それぞれの塗布液を塗布し、乾燥することで形成する反射防止フィルムの製造方法において、いずれのハードコート層および低屈折率層も、塗布液を塗布した後、１０℃以上４０℃以下に保たれた第一の乾燥部にて、塗布膜のセットを終了させることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。」が提案されており、また、一般的なコーティングにおける欠陥の対策として非特許文献１に記載がある。
【０００９】
一方、支持基材としてポリエステルフィルムを用いたハードコートフィルムでは、ポリエステルフィルムの屈折率とハードコート層の屈折率とを同等にすることにより、干渉ムラは低減できるが、ハードコート層の屈折率をポリエステルフィルムの屈折率（通常１．６２〜１．６８程度）に近づけるためには、高屈折率材料である金属酸化物微粒子をハードコート層に多量に含有させる必要があり、原材料コスト、透明性、ハードコート性の面で不利益となることがあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平７−５４５２号公報
【特許文献２】特開２００５−１０７００５号公報
【特許文献３】特開２００９―２１１０６１号公報
【特許文献４】特開２００７−２７２１３２号公報
【特許文献５】特開２００８−７０４１４号公報
【特許文献６】特開２００５―３３４７１４号公報
【特許文献７】特許４３２４３４４号公報
【特許文献８】特開２００３−３１５５０５号公報
【非特許文献】
【００１１】
【非特許文献１】コーティングにおける欠陥の発生原因と対策  科学技術総合研究所  １９８８
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明が解決しようとする課題は、耐擦傷性、耐磨耗性に優れ、かつ干渉ムラが少ない積層体を提供することにある。具体的には、低反射率で透明性が高く、耐擦傷性、耐磨耗性に優れ、かつ干渉ムラが少ない反射防止部材、あるいは防汚性、易滑性、耐擦傷性、及び耐磨耗性に優れ、かつ干渉ムラが少ないハードコート部材として好適な積層体を提供すること、および、支持基材上に塗工することにより、前記特性を有する積層体を簡易な方法で製造することができる塗料組成物、積層体の製造方法を提供することにある。上記課題に対し前述の公知技術は次の状況にある。
【００１３】
まず、干渉ムラの低減に対しては、特許文献２と３では反射防止部材を構成する層の層間界面の機能に着目していて、特許文献２は低屈折率層と高屈折率層の界面、特許文献３では透明基材と高屈折率層の間の界面に着目し、その粗さを規定することにより干渉ムラの抑制を行っているがいずれも透明性が低く、課題達成には至らない。
【００１４】
さらに、塗工層内での連続的な傾斜構造については、特許文献６にて塗工層内に深さ方向に連続的に変化する成分傾斜構造を提案しているが、この手法は１層の塗膜にて２種類の金属系化合物が作る傾斜構造で、２つ以上の層が必要な反射防止層は形成することができないため、目的とする低反射率は得られない。特許文献７では低屈折率層内に粒子の偏在構造を導入することを提案しているが、この構造はで支持体側もしくは表面側に偏在のみについて述べ、粒子の連続的な偏在については言及してなく、本発明者らが確認したところ、この方法では、目的とする干渉ムラの低減効果は得られない。また、両特許文献共に本発明の手法についても着想に至らず、またその組み合わせによっても本発明の手法には到達できない。
【００１５】
また、本発明者らが前述の１回の塗工によって２つ以上の層を形成する製造方法として、特許文献４と５の方法について確認したところ、高屈折率層（または最表面から２層目）の膜厚を厚くすると、その塗工面には面状欠陥、特にクラック（割れ）状の欠陥が製造工程、特に乾燥工程にて発生することがあり、製造適性に問題があることを見出した。この面状欠陥に対して、特許文献８、および非特許文献１に記載の方法で解決を試みたが、面状欠陥、特にクラック（割れ）状の欠陥について解決することができなかった。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題を解決するために本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、以下の発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の通りである。
１）  支持基材の少なくとも片面に第１層と第２層からなる積層膜を有する積層体であって、
積層体は、第１層、第２層、支持基材の順に積層され、第１層は元素Ａを含む無機粒子Ａを有し、第２層は元素Ｂを含む無機粒子Ｂを有し、第１層に最も多く存在する半金属元素または金属元素が元素Ａであり、第２層に最も多く存在する半金属元素または金属元素が元素Ｂであり、さらに以下の条件１及び２を満たすことを特徴とする、積層体。
【００１７】
条件１：第１層における元素Ａの濃度が、厚み方向に一定である。
【００１８】
条件２：第２層における元素Ｂの濃度が、第１層側から基材側に向かう厚み方向において、連続的に増加する。
２）  第２層の厚みを１００％とした際に、第１層側から基材側に向かって２０％の位置の第２層における元素Ｂの濃度を濃度Ｘ１とし、基材側から第１層側に向かって２０％の位置の第２層における元素Ｂの濃度を濃度Ｘ４とした際に、濃度Ｘ１と濃度Ｘ４の比（Ｘ４／Ｘ１）が、１．５以上３．５以下であることを特徴とする、１）に記載の積層体。
３）  第２層の厚みが、５００ｎｍ以上４０００ｎｍ以下であることを特徴とする、１）または２）に記載の積層体。
４）  積層膜が、金属キレート化合物に由来する金属元素を含むことを特徴とする、１）から３）のいずれかに記載の積層体。
５）  以下の（１）から（３）で定義される単位長さａと長さｂの比ｂ／ａが、１．１０＜ｂ／ａ＜１．４５である、１）から４）のいずれかに記載の積層体。
【００１９】
（１）第１層と第２層とで形成される界面において、直線長さが５００ｎｍ以上離れた任意の界面上の２点をＡ１、Ａ２とする。
【００２０】
（２）Ａ１とＡ２を結ぶ直線の長さを単位長さａとする。
【００２１】
（３）Ａ１とＡ２間の第１層と第２層とで形成される界面に沿った長さを、長さｂとする。
６）  前記長さｂと、以下の（４）および（５）で定義される長さｃの比ｂ／ｃが、１．０５＜ｂ／ｃ＜１．４０である、５）に記載の積層体。
【００２２】
（４）Ａ１を通り単位長さａに垂直でかつ、大気と第１層とで形成される界面との交点をＣ１とする。同様に、Ａ２を通り単位長さａに垂直でかつ、大気と第１層とで形成される界面との交点をＣ２とする。
【００２３】
（５）Ｃ１とＣ２間の大気と第１層とで形成される界面に沿った長さを、長さｃとする。
７）  第１層と第２層の屈折率が異なり、かつ積層膜が反射防止層である、１）から６）のいずれかに記載の積層体からなる反射防止部材。
８）  処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂ、バインダー原料、金属キレート、該金属キレートのリガンドを含み、
該金属キレートのリガンドの含有量（モル量）は、該金属キレートのモル量の１．５倍以上３．０倍以下であり、
処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数が、２０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であることを特徴とする塗料組成物。
【００２４】
処理無機粒子Ａ：元素Ａを含む無機粒子Ａを、フッ素化合物Ａにより処理した粒子。
【００２５】
処理無機粒子Ｂ：元素Ｂを含む無機粒子Ｂを、化合物により処理した粒子。
９）  前記処理無機粒子Ｂが、元素Ｂを含む無機粒子Ｂを、化合物Ｂにより処理した粒子であることを特徴とする、８）に記載の塗料組成物。
【００２６】
化合物Ｂ：  Ｒ１ｎ１Ｓｉ（ＯＲ２）４−ｎ１
（ここで、Ｒ１、Ｒ２は炭素数１〜４のアルキル基を示す。また、ｎ１は１から３のいずれかの整数を示す。Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。）
１０）  処理無機粒子Ｂが、比表面積Ｍ１（ｍ２／ｇ）、質量Ｍ２の無機粒子Ｂを、最小被覆面積Ｎ１（ｍ２／ｇ）、質量Ｎ２の化合物Ｂにより処理した粒子であり、
Ｍ１、Ｍ２、Ｎ１、Ｎ２が以下の関係式を満たすことを特徴とする、９）に記載の塗料組成物。
【００２７】
３０≦（（Ｍ１×Ｍ２）／（Ｎ１×Ｎ２））×１００≦１５０
１１）  膨潤度指数が５％以上６０％以下である化合物（ｃ）を含む、８）から１０）のいずれかに記載の塗料組成物。
１２）  ８）から１１）のいずれかに記載の塗料組成物を、支持基材の少なくとも片面上に１回のみ塗布することを特徴とする、積層体の製造方法。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、耐擦傷性、耐磨耗性に優れ、かつ、干渉ムラが少ない積層体を提供することができる。本発明の積層体は、反射防止部材（反射防止フィルム）やハードコート部材（ハードコートフィルム）として好適である。本発明は、特に低反射率で透明性が高く、耐擦傷性、耐磨耗性に優れ、かつ、干渉ムラが少ない反射防止フィルムを、簡易な方法でかつ、面状欠陥、特にクラック状の欠陥が少ない状態で提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の積層体（反射防止部材）の好ましい断面
【図２】本発明の比較例であり、積層体（反射防止部材）の好ましくない断面
【図３】本発明の積層体（反射防止部材）の好ましい元素の分布状態
【図４】本発明の比較例であり、積層体（反射防止部材）の好ましくない元素の分布状態
【図５】図１の積層体（反射防止部材）の第１層と第２層との界面の形状、および積層体（反射防止部材）の表面の形状を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
本発明の積層体は、反射防止部材やハードコート部材として好適である。本発明の積層体は、支持基材の少なくとも片面に第１層と第２層からなる積層膜を有する。
【００３１】
第１層と第２層の屈折率を異ならしめることによって積層膜が反射防止層としての機能を有し、積層体は反射防止部材として適用することができる。この場合、後述するように、第１層が低屈折率層、第２層が高屈折率層となる。
【００３２】
積層膜を構成する少なくとも第２層がハードコート層としての機能を有することによって、積層体はハードコート部材として適用することができる。この場合、第１層は、防汚機能あるいは易滑機能を有する層であることが好ましい。
【００３３】
本発明の具体的な形態を説明する前に本発明のメカニズムについて、本発明の積層体が反射防止部材である場合を例として説明する。
【００３４】
まず、干渉ムラと透明性の両立について述べる。干渉ムラは、塗工工程での液膜の揺らぎ、乾燥工程での乾燥速度ムラ、および支持基材の厚みムラに起因する反射防止層の厚み変化が目視可能な周期で現れることにより反射防止層の干渉効果にズレが生じ、特に蛍光灯のような輝線スペクトルを含む光の下で反射色の変化が視認されるものと考えられる。そこで、本発明者らは透明性を維持しつつ干渉ムラを解決する方法として、第１層、第２層が最も大量に含む粒子がそれぞれ異なる元素の粒子であり、第１層は厚み方向に前記粒子が層内で均一に存在した構造を、第２層は厚み方向で第１層と第２層の界面から基材方向に向かって前記粒子の濃度が増加していく構造を作ることによりこれを達成した。
【００３５】
また、この前述の構造の反射防止層、特に第２層に前述の構造を形成するには、特定の塗料組成物を用いて、１回の塗布により形成した１層の液膜から２層以上の層を形成する製造方法によるものが適していることを本発明者らは見出した。この理由は、前記製造方法が乾燥過程の比較的早い段階で粒子間の表面エネルギー差により自発的な層構造を形成することにある。層構造が乾燥過程の速い段階で形成されるため、最表面側から第２層目は溶媒が多い状態で第１層目によって表面に蓋がされた形になり、それ以降の塗膜の乾燥の進行が塗膜内部での溶媒の拡散が律速になり、第２層内の第１層との界面近傍では溶媒濃度が高く、基材近傍では溶媒濃度が低くなった溶媒濃度の膜厚方向の分布が形成される。このとき、特定の塗料組成物、特に第２層の粒子とバインダーとの関係が特定の状態にある場合には、溶媒成分の分布に対応して、第２層に存在する粒子成分が第１層との界面から基材側に向かって増加するが濃度勾配が塗膜中に形成される。
【００３６】
一方で、前述の自発的な層構造の形成により、１回の塗布により形成した１層の液膜から２層以上の層を形成する製造方法にて、耐擦傷性、耐磨耗性を向上させるため、第２層の厚みを厚くすると、製造工程にて塗工面にクラック状の欠陥が発生する問題があることも本発明者らは確認した。このメカニズムは、前述のように乾燥過程において第２層目は溶媒が多い状態で、第１層目によって表面に蓋がされた状態であるため、第２層に残った溶媒が蒸発するとき第２層に応力が発生し、クラック状欠陥が形成されると考えられる。
【００３７】
この課題に対し、本発明者らは乾燥過程にて塗膜全体を緩やかにゲル化させ、乾燥過程において塗膜全体を強化することにより、乾燥過程にて発生する応力を抑制することにより達成した。具体的には、塗料組成物に含まれる処理無機粒子Ａ，処理無機粒子Ｂ間の水素結合を強化する金属キレート化合物を、塗料組成物中の水分にて失活することのないように最適量のリガンドと共存させる形で添加することにより達成した。
【００３８】
以下、本発明の実施の形態について具体的に述べる。
【００３９】
本発明の積層体は、支持基材の少なくとも片面に第１層と第２層からなる積層膜を有する積層体であって、積層体は、第１層、第２層、支持基材の順に積層され、第１層は元素Ａを含む無機粒子Ａを有し、第２層は元素Ｂを含む無機粒子Ｂを有し、第１層に最も多く存在する半金属元素または金属元素が元素Ａであり、第２層に最も多く存在する半金属元素または金属元素が元素Ｂであり、さらに以下の条件１及び２を満たすことを特徴とする。
条件１：第１層における元素Ａの濃度が、厚み方向に一定である。
条件２：第２層における元素Ｂの濃度が、第１層側から基材側に向かう厚み方向において、連続的に増加する。
【００４０】
前述したように、第１層と第２層の屈折率を異ならしめることによって積層膜が反射防止層としての機能を有することになり、本発明の積層体は反射防止部材として適用することができる。
【００４１】
以下、本発明の積層体が反射防止部材として適用される態様について説明する。以下、本発明の積層体を反射防止部材、本発明の積層膜を反射防止層にそれぞれ置き換えて説明する。
【００４２】
本発明の反射防止部材は、支持基材の少なくとも片面に屈折率の異なる２層（屈折率の異なる２層をそれぞれ第１層、第２層とする）からなる反射防止層を有する反射防止部材であって、反射防止部材は第１層、第２層、支持基材の順に積層され、第１層は元素Ａを含む無機粒子Ａを有し、第２層は元素Ｂを含む無機粒子Ｂを有し、第１層に最も多く存在する半金属元素または金属元素が元素Ａであり、第２層に最も多く存在する半金属元素または金属元素が元素Ｂであり、さらに以下の条件１及び２を満たすことを特徴とする。
条件１：第１層における元素Ａの濃度が、厚み方向に一定である。
条件２：第２層における元素Ｂの濃度が、第１層側から基材側に向かう厚み方向において、連続的に増加する。
【００４３】
図１は本発明の反射防止部材の好ましい断面であり、図２は好ましくない断面を示す。本発明の反射防止部材１は、支持基材２の少なくとも片面上に、屈折率の異なる２層からなる反射防止層３が積層されている。なお反射防止層においては、第１層が第２層よりも低い屈折率であることが好ましく、第１層が低屈折率層４であり、第２層が高屈折率層５であることが好ましい。そして第１層、第２層、支持基材がこの順に積層されている。
【００４４】
この第１層は、元素Ａを含む６で示される無機粒子Ａを含み、第２層は、元素Ｂを含む７で示される無機粒子Ｂを含む。
【００４５】
このとき第２層中の無機粒子Ｂの単位面積当たりの数を、第１層との界面近傍と、支持基材との界面近傍とで比較すると、図１では支持基材との界面近傍の方が多くなっているのに対して、図２ではほぼ同等になっている。
【００４６】
ここで元素Ａは、第１層に最も多く存在する半金属元素、または金属元素である。ここで、第１層に最も多く存在するとは、第１層中に存在する全ての半金属元素または金属元素において、存在する元素の数が最多であることを意味し、その測定は後述する方法によりＳＴＥＭ−ＥＤＸ法を用いて行う。
【００４７】
そして元素Ｂは、第２層に最も多く存在する半金属元素、または金属元素である。そして第２層に最も多く存在するとは、第２層中に存在する全ての半金属元素または金属元素において、存在する元素の数が最多であることを意味し、その測定は後述する方法によりＳＴＥＭ−ＥＤＸ法を用いて行う。
【００４８】
ここで半金属元素とは、金属と非金属の中間の物質、すなわち電気抵抗は大きいが電気伝導度の温度依存性の特徴から金属的判断される、いわゆる金属性電気伝導を示す元素を指し、具体的にはホウ素、ケイ素、ゲルマニウム、ヒ素、アンチモン、テルル、ポロニウムを指す。
【００４９】
本発明の反射防止部材は、第１層が元素Ａを含む無機粒子Ａを有することが重要であるが、好ましい無機粒子Ａは、後述する処理無機粒子Ａである。
【００５０】
また本発明の反射防止部材は、第２層が元素Ｂを含む無機粒子Ｂを有することが重要であるが、好ましい無機粒子Ｂは、後述する処理無機粒子Ｂである。
【００５１】
図３では本発明の好ましい元素の分布状態を、図４では好ましくない分布状態の例を示す。図３、図４では縦軸が反射防止層の膜厚に対応しており、上側が大気側、下側が基材側を示し、８が第１層、９が第２層に対応する。横軸は元素の濃度を示し、左から右に行くに従って元素の濃度が増加することを示す。ここで、元素の濃度とは、反射防止層断面のＳＴＥＭ−ＥＤＸ像分析より得られた、測定領域中に含まれる測定された総原子数に対する対象元素の占める割合を求めたものである。
【００５２】
ここで、ＳＴＥＭ−ＥＤＸ法とは、走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）とエネルギー分散形Ｘ線分光器（ＥＤＸ）を組み合わせた分析法で、ＳＴＥＭ像の特定部分に対して元素分析を行う手法である。
【００５３】
本発明の反射防止部材は、前述の通り以下の条件１、２を満たすことが重要である。
条件１：第１層における元素Ａの濃度が、厚み方向に一定である。
条件２：第２層における元素Ｂの濃度が、第１層側から基材側に向かう厚み方向において、連続的に増加する。
【００５４】
ここで図３、４中で、元素Ａの濃度を１０、元素Ｂの濃度を１１が示す。図３では、元素Ａは第１層の厚み方向に一定に存在している。また図３では、第２層における元素Ｂの濃度が、第１層側から基材側に向かう厚み方向において、連続的に増加（元素Ｂは第２層の厚み方向に、第１層との界面から支持基材に向かって連続的に増加）している。一方で図４では、元素Ａ、元素Ｂ共に第１層、第２層の厚さ方向に均一に存在している。つまり図３は、前述の条件１及び２を満たす態様となる。
【００５５】
ここで前述の「厚み方向に一定」とは、当該区間（例えば、条件１では第１層）の厚み方向の測定値の最大値と最小値の差が１５％以内であることを示す。より具体的には、数式１）の条件を満たす。ここで、ｘmaxは第１層での元素Ａの濃度の最大値を、ｘminは最小値を、ｘavrは平均値を表わす。
（（ｘmax―ｘmin）/（ｘavr）×１００）≦１５                        数式１）
また前述の「第２層における元素Ｂの濃度が、第１層側から基材側に向かう厚み方向において、連続的に増加」とは、第２層のｎ個の測定点のｎ＝１〜ｎの範囲で、数式２）が成り立つことを示す。ここでＸｎ、Ｘｎ＋１は、第２層中の第１層との界面側から支持基材側に向かった厚み方向の、ｎ番目、ｎ＋１番目の測定点の元素Ｂの濃度を指す。
（Ｘｎ＋１−Ｘｎ）＞０                                                  数式２）
前記条件１、条件２を満たすことにより、干渉効果による反射防止機能を発現させつつ、干渉ムラを低減することができる。
【００５６】
さらに、本発明のよる干渉ムラを低減する効果を最大限に発揮するには、この条件１及び２を満たす構造において、第１層と第２層の界面近傍の第２層中の元素Ｂの濃度と、第２層と基材の界面近傍の第２層中の元素Ｂの濃度とが、特定の範囲であることが好ましい。具体的には、第２層の厚みを１００％とした際に、第１層側から基材側に向かって２０％の位置の第２層における元素Ｂの濃度を濃度Ｘ１とし、基材側から第１層側に向かって２０％の位置の第２層における元素Ｂの濃度を濃度Ｘ４とした際に、濃度Ｘ４と濃度Ｘ１の比（Ｘ4／Ｘ１）が、１．５以上３．５以下が好ましい。Ｘ４／Ｘ１の下限は、１．７以上がより好ましく、Ｘ４／Ｘ１の上限は３．３以下がより好ましく、Ｘ４／Ｘ１の上限と下限は任意に組み合わせることができる。ここで、Ｘ４／Ｘ１が１．５未満であると、干渉ムラの低減効果が不十分であり、Ｘ４／Ｘ１が３．５より大きいと、反射防止性能が低下する。
【００５７】
また、第２層の厚みには好ましい範囲があり、５００ｎｍ以上４０００ｎｍ以下が好ましい。さらに第２層の厚みの下限は６００ｎｍ以上がより好ましく、上限は３０００ｎｍ以下がより好ましく、第２層の厚みの上限、下限は任意に組み合わせることができる。第２層の厚みが５００ｎｍ未満では、耐擦傷性、耐磨耗性が不十分であり、第２層の厚みが４０００ｎｍよりも大きい場合には、反射防止性能、透明性が不十分になる。
【００５８】
第２層の厚みを好ましい範囲にするには、塗料組成物中に含まれる処理無機粒子Ｂ、バインダー原料の含有量、および反射防止部材の製造方法における塗工膜厚により達成することができる。具体的には、処理無機粒子Ｂとバインダー原料の比率を、透明性、反射防止性能から決定し、第２層を構成する処理無機粒子Ｂとバインダー原料の乾燥状態での密度を求め、この密度と塗工膜厚から第２層の膜厚に合わせて塗料組成物中の添加量を決定する。
【００５９】
本発明の反射防止部材中の反射防止層は、金属キレート化合物に由来する金属元素を含むことが好ましい。ここで金属キレート化合物の詳細については後述するが、反射防止層が金属キレート化合物に由来する金属元素を含まない場合には、クラック状欠陥が発生する場合がある。
【００６０】
反射防止部材中の反射防止層が金属キレート化合物に由来する金属元素を含有するためには、該反射防止層を形成するための塗料組成物が、金属キレート化合物を含有することにより達成することができる。
【００６１】
本発明の反射防止部材を形成するには、特定の塗料組成物を用いることが好ましい。本発明の反射防止部材を製造するために好適な塗料組成物は、処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂ、バインダー原料、金属キレート、該金属キレートのリガンドを含むことが必要である。
【００６２】
ここで処理無機粒子Ａとは、元素Ａを含む無機粒子Ａをフッ素化合物Ａにより処理した粒子を指し、処理無機粒子Ｂとは、元素Ｂを含む無機粒子Ｂを化合物により処理した粒子を指す。これらの処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂを含む塗料組成物を用いることにより、支持基材の少なくとも片面上に１回のみの塗布により形成した１層の液膜から２層（反射防止層）を形成する製造方法を可能にする。なお、無機粒子として無機粒子Ａにフッ素化合物Ａによる処理した粒子（処理無機粒子Ａ）を含むことにより、該塗料組成物を支持基材上に塗工した場合、本発明の反射防止部材の前記条件１、すなわち第１層における元素Ａの濃度を厚み方向に一定にすることができる。
【００６３】
なお、処理無機粒子Ａを製造するために用いるフッ素化合物Ａや処理無機粒子Ｂを製造するために用いる化合物については後述する。
【００６４】
さらに、金属キレートのリガンドとは、金属キレート中の配位子と同一の化合物で、かつ金属キレートに配位していない化合物のことを指し、例えば、金属キレートとしてアルミニウムトリスアセチルアセトナートを用いた場合には、アセチルアセトン、またはアセチルアセトナートを指す。なお、金属キレートとは、金属元素と配位子とから構成される、いわゆる金属錯体である。
【００６５】
塗料組成物中に存在する金属キレートのリガンド（金属に対して配位していないリガンド）の塗料組成物中の含有量（モル量）には好ましい範囲があり、該金属キレートの金属のモル量の１．５倍以上３．０倍以下であり、下限は１．７倍以上がより好ましく、上限は２．７倍以下がより好ましく、上限、下限は任意に設定できる。塗料組成物中の該金属キレートのリガンド含有量が該金属キレートのモル量の１．５倍よりも少ない場合には、異物状欠陥の発生、またはクラック状欠陥が発生し、３．０倍より多い場合には、異物状の欠陥を生じる場合がある。
【００６６】
さらにこの塗料組成物においては、処理無機粒子Ｂとバインダー原料との間に好ましい関係があり、具体的には処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数が、２０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であることが好ましい。この相溶性指数とは、塗料組成物中の処理無機粒子Ｂとバインダー原料間の親和性（相溶性）の程度を表すパラメーターであり、値が小さいほど親和性が高いことを示す。
【００６７】
塗料組成物の処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数をこの２０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の範囲にすることにより、該塗料組成物を支持基材上に塗工した場合、本発明の反射防止部材の前記条件２、すなわち第２層における元素Ｂの濃度が、第１層側から基材側に向かう厚み方向において、連続的に増加する構造を達成することができる。
【００６８】
相溶性指数が２０ｎｍよりも小さい場合には、干渉ムラの改良効果が低下し、１２０ｎｍよりも大きい場合には、塗料組成物の分散安定性が低下することにより、異物状の欠陥が発生する。
【００６９】
相溶性指数は、処理無機粒子Ｂが溶媒に固形分濃度２０質量％で分散した液（処理無機粒子Ｂ分散物１）と、処理無機粒子Ｂとバインダー原料の比率が質量比１：１で、処理無機粒子の固形分濃度が２０質量％になるようにした液（処理無機粒子Ｂ分散物２）を、動的光散乱法によって測定し、処理無機粒子Ｂ分散物１と、処理無機粒子Ｂ分散物２の体積基準分布のメディアン値の差を指す。
【００７０】
この動的光散乱法とは、ブラウン運動中の粒子に、レーザー光を粒子群に当てその散乱光を光電子増倍管で検出することにより、散乱強度のゆらぎなどから拡散係数を測定し、さらに粒子径を求めるものである。体積基準分布とは粒子径分布の表現方法の一つで、各粒子径の粒子の占める体積が、粒子の総体積に占める割合を示すものである。さらに、メディアン値とは、５０％径または中位径ともいい、粒径分布においてある粒子径より大きい粒子径を有する粒子の個数又は質量が，全粒子のそれ（個数、又は質量）の５０％をしめるときの粒子径を指す。即ち、体積基準分布のメディアン値とは、その粒子径より大きい粒子径を有する粒子の体積が、全粒子の体積の５０％を占める粒子径を指す。
【００７１】
動的光散乱法は前述のように粒子のブラウン運動性に依存するため、粒子に対して吸着性、あるいは親和性のある成分が測定液中に存在する場合には、実際の粒子径に対して粒子径が大きく測定されるため、粒子とバインダー原料の相溶性を定量化する方法としても用いることができ、本発明ではこの特性を処理無機粒子Ｂとバインダー原料間の親和性の評価に用いた。
【００７２】
この塗料組成物において、前述したように処理無機粒子Ｂは、元素Ｂを含む無機粒子Ｂを、化合物により処理した粒子を指すが、この化合物としては次の化合物Ｂであることが好ましい。
【００７３】
化合物Ｂ：  Ｒ１ｎ１Ｓｉ（ＯＲ２）４−ｎ１                      一般式（Ｉ）
ここで、Ｒ１、Ｒ２は炭素数１〜４のアルキル基を示す。また、ｎ１は１から３のいずれかの整数を示す。Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。
【００７４】
さらに、処理無機粒子Ｂの処理量については、好ましい範囲が存在する。具体的には比表面積Ｍ１（ｍ２／ｇ）、質量Ｍ２の無機粒子Ｂを、最小被覆面積Ｎ１（ｍ２／ｇ）、質量Ｎ２の化合物Ｂにより処理した粒子であり、  Ｍ１、Ｍ２、Ｎ１、Ｎ２が以下の関係式を満たすことが好ましい。なお、比表面積Ｘ１および最小被覆面積Ｙ１の詳細は後述する。
【００７５】
３０≦（（（Ｍ１×Ｍ２）／（Ｎ１×Ｎ２））×１００）≦１５０
ここで、（（（Ｍ１×Ｍ２）／（Ｎ１×Ｎ２））×１００）の下限は４０、上限は１００であることがより好ましく、（（（Ｍ１×Ｍ２）／（Ｎ１×Ｎ２））×１００）の上限と下限は任意に組み合わせることができる。
【００７６】
塗料組成物の処理無機粒子Ｂの処理量について、上記３０≦（（（Ｍ１×Ｍ２）／（Ｎ１×Ｎ２））×１００）≦１５０の式を満たす範囲にすることにより、該塗料組成物を支持基材上に塗工した場合、本発明の反射防止部材の第２層の構造を好ましい範囲にすることができる。すなわち前記濃度Ｘ１と濃度Ｘ４の比（Ｘ４／Ｘ１）を、１．５以上３．５以下にすることができる。
【００７７】
（（（Ｍ１×Ｍ２）／（Ｎ１×Ｎ２））×１００）が３０未満であると、塗料組成物の分散安定性が低下することにより、異物起因の面状欠陥が発生やすくなり、１５０を超えると、前述の条件２を満たす第２層の構造が形成することができず、さらには前記濃度Ｘ４と濃度Ｘ１の比（Ｘ4／Ｘ１）を好ましい範囲にすることできず、干渉ムラの低減効果が低下する。
以下発明を要素毎に説明する。
【００７８】
［反射防止部材］
本発明の反射防止部材とは、各種支持基材の少なくとも片面に反射防止機能を有する層（屈折率の異なる少なくとも２層以上の層からなる反射防止層）が形成された部材を指し、基材がプラスチックフィルムの場合には一般に反射防止フィルムと呼ばれる。その必要性や要求される性能は特開昭５９−５０４０１号公報に記載されている様に、好ましくは０．０３以上、より好ましくは０．０５以上の屈折率差を有する２層を支持基材上に積層させることで構成された様態である。また支持基材上の２層の屈折率差は５．０以下であることが好ましい（つまり、第１層と第２層の屈折率差は、好ましくは０．０３以上、より好ましくは０．０５以上であり、上限としては５．０以下とした態様である。）。この屈折率差とは、隣接する層間の屈折率を相対的に比較した値であり、相対的に屈折率が低い層を低屈折率層と呼び、相対的に屈折率が高い層を高屈折率層と呼ぶ。そして、第１層が低屈折率層であり、第２層が高屈折率層であることが好ましい。
【００７９】
第２層として好適な高屈折率層が、高屈折率の機能に加えて、耐傷性を付与する場合には、高屈折率ハードコート層とも呼ぶ。高屈折率ハードコート層は、支持基材と低屈折率層との接着を強化する機能も有することが好ましい。高屈折率ハードコート層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。上限については、強度が高い分には問題はないが、現実的には９Ｈ程度が上限である。
【００８０】
なお、本発明の反射防止部材中の反射防止層には、屈折率の異なる２層以上の層である高屈折率層と低屈折率層との間には粒子の配列による明確な界面があることが好ましい。本発明における明確な界面とは、１つの層と他の層とが区別可能な状態をいう。区別可能な界面とは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて断面を観察すると、各層に存在する元素の違いに起因した電子散乱因子の差により、濃度の差として視認し、区別できるものを指す。
【００８１】
反射防止部材として良好な性能を示すには、分光測定に置いて最低反射率が好ましくは０％以上１．０％以下、より好ましくは０％以上０．８％以下、さらに好ましくは０％以上０．６％以下であり、特に好ましくは０％以上０．５％以下であることが望ましい。
【００８２】
また、反射防止部材として良好な性質を示すには更に、透明性が高いことが望ましい。透明性が低いと画像表示装置として用いた場合、画像彩度の低下などによる画質低下が生じるために好ましくない。本発明の製造方法により得られる反射防止部材の透明性の評価にはヘイズ値を用いることができる。ヘイズはＪＩＳ  Ｋ  ７１３６（２０００）に規定された透明性材料の濁りの指標である。ヘイズは小さいほど透明性が高いことを示す。反射防止部材のヘイズ値としては好ましくは３．０％以下であり、より好ましくは２．０％未満、更に好ましくは１．６％未満であり、値が小さいほど透明性の点で良好であるものの、０％とすることは困難であり、現実的な下限値は０．０１％程度と思われる。ヘイズ値が２．０％を超えると、画像劣化が生じる可能性が高くなるため好ましくない。
【００８３】
反射防止部材として良好な性質を示すには、高屈折率層、低屈折率の厚みが特定の厚みであることが望ましく、低屈折率層の厚みが好ましくは５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下、さらに好ましくは７０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、特に好ましくは９０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であることが望ましい。低屈折率層の厚みが５０ｎｍ未満であると光の干渉効果が得られず反射防止効果が得られず画像の映り込みが大きくなるために好ましくない。また２００ｎｍを超える場合も光の干渉効果が得られなくなるため画像の映り込みが大きくなるために好ましくない。
【００８４】
高屈折率層の厚みは、好ましくは５００ｎｍ以上４０００ｎｍ以下、さらに好ましくは６００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下、特に好ましくは６００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であることが望ましい。反射防止層側の最表層から２層目の層（第２層）の厚みを５００ｎｍ以上４０００ｎｍ以下とすることで、耐擦傷性、耐摩耗性と、反射防止部材のカールや反射率、透過率の改善、塗膜表面のクラック発生を抑制することができるために望ましい。
【００８５】
本発明の反射防止部材には、さらに、易接着層、防湿層、帯電防止層、シールド層、下塗り層や保護層などを設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
［塗料組成物］
本発明の塗料組成物は、塗料組成物中に少なくとも処理無機粒子Ａ，処理無機粒子Ｂ，バインダー原料、金属キレート、および前述の所定量の該金属キレートのリガンドを含んでおり、さらに処理無機粒子Ｂとバインダー原料の相溶性指数が特定の範囲であることが必要である。これにより、本発明の塗料組成物を支持基材に１回のみ塗工することによって、支持基材上に本発明の構造を有する屈折率の異なる２層を有する反射防止部材を得ることができる。処理無機粒子Ａ，処理無機粒子Ｂの詳細については後述する。
【００８６】
本発明の塗料組成物は、前述の成分以外の成分を含んでいてもよく、このような成分としては溶媒、硬化剤、界面活性剤、分散剤、反応性部位を有するフッ素化合物Ｂなどを含んでもよい。これら塗料組成物の構成材料の詳細について、以降述べる。
［無機粒子］
本発明の塗料組成物は処理無機粒子Ａと処理無機粒子Ｂを含む。
【００８７】
無機粒子とは、粒子の表面から中心までが同一の元素組成であってもよく、複数の元素組成のものが中心から層状になって形成された粒子でもよい。粒子の種類数としては２種類以上２０種類以下が好ましく、より好ましくは２種類以上１０種類以下、さらに好ましくは２種類以上３種類以下であり、最も好ましくは２種類である。
【００８８】
ここで粒子の種類とは、粒子を構成する元素の種類によって決まり、何らかの表面処理を行う場合には、表面処理される前の粒子を構成する元素の種類によって決まる。例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）と酸化チタンの酸素の一部をアニオンである窒素で置換した窒素ドープ酸化チタン（ＴｉＯ２−ｘＮｘ）とでは、粒子を構成する元素が異なるために、異なる種類の粒子である。また、同一の元素、例えばＺｎ、Ｏのみからなる粒子（ＺｎＯ）であれば、その粒径が異なる粒子が複数存在しても、またＺｎとＯとの組成比が異なっていても、これらは同一種類の粒子である。また酸化数の異なるＺｎ粒子が複数存在しても、粒子を構成する元素が同一である限りは（この例ではＺｎ以外の元素が全て同一である限りは）、これらは同一種類の粒子である。
【００８９】
［無機粒子Ａ、および処理無機粒子Ａ］
本発明の反射防止部材の第１層に含まれる無機粒子Ａ、および本発明の塗料組成物に含まれる処理無機粒子Ａに関して説明する。
【００９０】
元素Ａを含む無機粒子のことを無機粒子Ａという。そして元素Ａとは、半金属元素または金属元素である（さらに反射防止部材においては、第１層に最も多く存在する半金属元素または金属元素が元素Ａである。）。
【００９１】
無機粒子Ａが含む元素Ａとしては、Ｓｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃａ，およびＭｇから選択される半金属元素、または金属元素が好ましい。
【００９２】
元素Ａを含む無機粒子Ａとしては、シリカ粒子（ＳｉＯ２）、アルカリ金属フッ化物類（ＮａＦ，ＫＦ，ＮａＡｌＦ６など）、およびアルカリ土類金属フッ化物（ＣａＦ２、ＭｇＦ２など）が好ましく、耐久性、屈折率、コストなどの点からシリカ粒子が特に好ましい。
【００９３】
このシリカ粒子とは、ケイ素化合物又は有機珪素化合物の重合（縮合）体のいずれかからなる組成物を含む粒子を指し、一般例として、ＳｉＯ２などのケイ素化合物から導出される粒子の総称である。
【００９４】
無機粒子Ａに好適な粒子の形状は特に限定されないが、本発明の塗料組成物により形成される反射防止層の屈折率や光学異方性の観点から球状が好ましい。より好ましくは、無機粒子Ａがシリカ粒子を含有し、該シリカ粒子の一部または全てが、中空及び／又は多孔質の形状であることが好ましい。ここで中空シリカ粒子とは、粒子の内部に空洞を有するシリカ粒子であり、多孔質シリカ粒子とは、粒子の表面及び内部に細孔を有するシリカ粒子である。
【００９５】
元素Ａを含む無機粒子Ａとして、中空及び／又は多孔質を有する粒子を用いることにより、得られる反射防止層の密度が下がるため、その結果屈折率を下げる効果が得られる。なお、中空及び／又は多孔質を有する粒子のことを、以下中空粒子と記載する。
【００９６】
無機粒子Ａの数平均粒子径は、１ｎｍ以上２００ｎｍが好ましい。２００ｎｍよりも大きくなると、光散乱により良好な透明性が得られなくなり好ましくない。また、数平均粒子径が小さい分には特に影響はないが、現実的に安定して得られる粒子の数平均粒子径は１〜５ｎｍ程度が下限である。
【００９７】
なお、粒子の数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡により求めた粒子径をいう。分散物を蒸発、乾固した状態のサンプルについて透過型電子顕微鏡で観察を行い、その際の測定倍率は５０万倍とし、その画面に存在する１００個の粒子の外径を測定しその平均値とした。
【００９８】
ここで外径とは、粒子の最大の径（つまり粒子の長径であり、粒子中の最も長い径を示す）を表し、内部に空洞を有する粒子の場合も同様に、粒子の最大の径を表す。
【００９９】
次に本発明の塗料組成物に含まれる処理無機粒子Ａを得るための表面処理について説明する。前述の粒子、特にシリカなどの無機粒子Ａに対するフッ素化合物Ａによる処理とは、無機粒子Ａを化学的に修飾して、無機粒子Ａにフッ素化合物Ａを導入する工程を指し、一段階で行われても良いし、多段階で行われても良い。また、複数の段階でフッ素化合物Ａを用いても良いし、一つの段階のみでフッ素化合物Ａを用いても良い。ここで導入とは、フッ素化合物Ａが、無機粒子に化学結合（共有結合、水素結合、イオン結合、ファンデルワールス結合、疎水結合等を含む）や吸着（物理吸着、化学吸着を含む）している状態を指す。
【０１００】
このフッ素化合物Ａは、次の一般式（ＩＩ）で表される化合物である。
フッ素化合物Ａ：    Ｒ３−Ｒ４−Ｒｆ                                  一般式（ＩＩ）
ここで、Ｒｆはフルオロアルキル基、Ｒ３は反応性部位、Ｒ４は炭素数１から６のアルキレン基又はそれらから導出されるエステル構造を示す。それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。
【０１０１】
フルオロアルキル基とは、アルキル基が持つ水素の一部、あるいはすべてがフッ素に置き換わった置換基であり、主にフッ素原子と炭素原子から構成される置換基である。
【０１０２】
反応性部位とは、熱または光などの外部エネルギーにより他の成分と反応する部位をさす。このような反応性部位として、反応性の観点からアルコキシシリル基及びアルコキシシリル基が加水分解されたシラノール基や、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる、反応性、ハンドリング性の観点から、アルコキシシリル基、シリルエーテル基あるいはシラノール基や、エポキシ基、アクリロイル（メタクリロイル）基が好ましい。
【０１０３】
このフッ素化合物Ａを導入する処理法の一つは、このフッ素化合物Ａとして、前記一般式（ＩＩ）にて、Ｒ３がアルコキシシリル基、シリルエーテル基、シリルエーテル基になったフルオロアルコキシシラン化合物を少なくとも１種類以上と、無機粒子Ａ、もしくは無機粒子Ａの粒子分散物と溶媒、触媒等とを共に撹拌、場合によっては加熱、または脱アルコール処理をし、無機粒子Ａ表面の水酸基と縮合させることにより成される方法である。
【０１０４】
ここでいう無機粒子Ａの粒子分散物とは、前記無機粒子Ａが溶媒中に分散された状態のものを指し、ゾル、サスペンジョン、スラリー、コロイド溶液ともよばれることもあり、無機粒子、溶媒のほかに、分散剤、界面活性剤、表面処理剤等、安定化剤等を含んでもよい。粒子を微細に分散した状態で扱う観点から、分散物の状態で表面処理を行うことが好ましい。
【０１０５】
フッ素化合物Ａの具体例としては、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリクロロシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリイソシアネートシラン、２−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン、２−パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、２−パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、２−パーフルオロオクチルエチルトリクロロシラン、２−パーフルオロオクチルイソシアネートシラン等が挙げられる。
【０１０６】
フッ素化合物Ａによる無機粒子Ａの処理の別の方法には、無機粒子、もしくは無機粒子Ａの粒子分散物を化合物Ｄにて処理し、次いでフッ素化合物Ａとつなぎ合わせる方法がある。
【０１０７】
この化合物Ｄは、分子内にフッ素は無いが、フッ素化合物Ａと反応可能な反応性部位と、中空シリカ粒子などの無機粒子と反応可能な部位を少なくとも一カ所ずつ持っている化合物を指す。化合物Ｄにおける無機粒子と反応可能な部位としては、反応性の観点からアルコキシシリル基、シリルエーテル基、及びシラノール基であることが好ましい。これら化合物は一般的にシランカップリング剤と呼ばれ、例としては、グリシドキシアルコキシシラン類、アミノアルコキシシラン類、アクリロイルシラン類、メタクリロイルシラン類、ビニルシラン類、メルカプトシラン類、などを用いることができる。
【０１０８】
この方法は具体的には、シリカ粒子（特に中空シリカ粒子）などの無機粒子Ａを、下記一般式（ＩＩＩ）で示される化合物Ｄと前述の一般式（ＩＩ）で示されるフッ素化合物Ａで処理するものであり、より好ましくは、シリカ粒子（特に中空シリカ粒子）などの無機粒子Ａを、下記一般式（ＩＩＩ）で示される化合物Ｄで処理し、次いで前述の一般式（ＩＩ）で示されるフッ素化合物Ａで処理するものである。
【０１０９】
化合物Ｄ：    Ｒ５−Ｒ６−ＳｉＲ７ｎ２（ＯＲ８）３−ｎ２      一般式（ＩＩＩ）
上記一般式（ＩＩＩ）中のＲ５は反応性部位を示し、Ｒ６は炭素数１から６のアルキレン基及びそれらから導出されるエステル構造を示し、Ｒ７、Ｒ８は水素又は炭素数が１から４のアルキル基を示し、ｎ２は０から２の整数を示し、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。
【０１１０】
上記一般式中のより好ましい形態は、一般式（ＩＩ）のＲ３と一般式（ＩＩＩ）のＲ５で表される反応性部位が反応性二重結合基である。
【０１１１】
反応性二重結合基とは、光または熱などのエネルギーをうけて発生したラジカルなどにより化学反応する官能基であり、具体例としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。つまり、反応性二重結合とは、反応性部位の一部である。
【０１１２】
この化合物Ｄの具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基及び水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。
【０１１３】
また、この場合のフッ素化合物Ａの具体例としては、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフロオロプロピルアクリレート、２−パーフルオロブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロデシルエチルアクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−３−メトキシブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、２−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、１−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。
【０１１４】
分子中にフルオロアルキル基Ｒｆを有さない一般式（ＩＩＩ）で表される化合物Ｄを用いることにより、簡便な反応条件で中空シリカなどの無機粒子Ａ表面を修飾することが可能となるばかりではなく、シリカ粒子表面に反応性を制御しやすい官能基を導入することが可能となり、その結果、反応性二重結合基及びフルオロアルキル基Ｒｆを有するフッ素化合物Ａを、シリカ粒子などの無機粒子Ａ表面で反応させることが可能になる。
［無機粒子Ｂ、および処理無機粒子Ｂ］
本発明の反射防止部材の第２層に含まれる無機粒子Ｂ、および本発明の塗料組成物に含まれる処理無機粒子Ｂに関して説明する。
【０１１５】
元素Ｂを含む無機粒子のことを無機粒子Ｂという。そして元素Ｂとは、半金属元素または金属元素である（さらに反射防止部材においては、第２層に最も多く存在する半金属元素または金属元素が元素Bである。）。
【０１１６】
無機粒子Ｂとしては、無機粒子Ａとは異なる種類の無機粒子が好ましい。この無機粒子Ｂは特に限定されないが、金属元素、半金属元素の酸化物、窒化物、ホウ素化物であることが好ましい。無機粒子Ｂは、Ｇａ、Ｚｒ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｚｎ，Ｓｂ，Ｓｎ，およびＣｅよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素Ｂの酸化物粒子であることがさらに好ましい。
【０１１７】
また処理無機粒子Ｂの原料として好適に用いられる無機粒子Ｂは、処理無機粒子Ａの原料に好適な無機粒子Ａよりも屈折率が高いことが好ましい。無機粒子Ｂは、具体的には酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）、およびインジウムスズ酸化物から選ばれる少なくとも一つ、あるいはこれらの間の固溶体、および一部元素を置換、または一部元素が格子間に侵入、一部元素が欠損した固溶体、またはこれら無機化合物粒子が接合した粒子である。無機粒子Ｂは、特に好ましくはリン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）や酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）である。
【０１１８】
無機粒子Ｂの数平均粒子径は、好ましくは１５０ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下であり、現実的に製造可能な数平均粒子径は１ｎｍ程度が下限である。
【０１１９】
なお、ここでいう数平均粒子径も透過型電子顕微鏡により求めた粒子径を指し、該粒子を含む分散物を蒸発、乾固した状態のサンプルについて透過型電子顕微鏡で観察を行い、その際の測定倍率は５０万倍とし、その画面に存在する１００個の粒子の外径を測定しその平均値とした。なお外径とは、前述の通り粒子の最大の径（つまり粒子の長径であり、粒子中の最も長い径を示す）を表す。
【０１２０】
無機粒子Ｂの屈折率は好ましくは１．５５〜２．８０、より好ましくは１．５８〜２．５０である。無機粒子Ｂの屈折率が１．５５よりも小さくなると、得られる反射防止部材に形成された高屈折率層の屈折率が低下して、無機粒子Ａを含む低屈折率層（第１層）と無機粒子Ｂを含む高屈折率層（第２層）との屈折率差が小さくなって、良好な反射防止性能が得られなくなり、無機粒子Ｂの屈折率が２．８０よりも大きくなると、無機粒子Ａを含む低屈折率層と無機粒子Ｂを含む高屈折率層との屈折率差、及び高屈折率層と支持基材との屈折率差が上昇し、良好な反射防止性能が得られなくなり、またわずかな膜厚の変化が干渉色の変化を引き起こし、これに起因する干渉ムラが検知されて発生し外観が悪化することがある。
【０１２１】
さらに本発明の反射防止部材において、無機粒子Ａがシリカ粒子の場合は、無機粒子Ｂが該シリカ粒子よりも屈折率が高いことが特に好ましく、このような屈折率が高い無機粒子としては、数平均粒子径が２０ｎｍ以下で、かつ屈折率が１．６０から２．８０の無機化合物が好ましく用いられる。そのような無機化合物Ｂの具体例としては、アンチモン酸化物、アンチモン含有酸化亜鉛、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、及び／または酸化チタン（ＴｉＯ２）が挙げられ、特に反射防止性の点から屈折率が高い酸化チタン、酸化ジルコニウムがより好ましい。
【０１２２】
次に本発明の塗料組成物に含まれる処理無機粒子Ｂについて説明する。前述の処理無機粒子Ｂの原料となる無機粒子Ｂに対して施す処理とは、無機粒子Ａに対して施されるフッ素化合物Ａによる処理と同様に化学的に修飾し、無機粒子Ｂに化合物を導入する工程を指し、一段階で行われても良いし、多段階で行われても良い。なお、この処理に用いる化合物は、化合物Ｂが好ましい。
【０１２３】
この化合物Ｂは、前記一般式（Ｉ）で示される化合物である。
【０１２４】
化合物Ｂは、粒子表面に化学結合や吸着可能な部位（一般式（Ｉ）における、Ｓｉ−（ＯＲ２）４−ｎ１部分）と、アルキル基部分（Ｒ１ｎ１）を有する化合物である。
【０１２５】
この場合、粒子表面に化学結合や吸着可能な部位しては、アルコキシシリル基及びアルコキシシリル基が加水分解されたシラノール基が挙げられる。これら化合物は一般的にシリル化剤と呼ばれる。化合物Ｂによる無機粒子Ｂの処理の一つの方法には、上記化合物Ｂと無機粒子Ｂ、もしくは無機粒子Ｂの粒子分散物と触媒、水、溶媒等とを共に撹拌、加熱、脱アルコール等し、粒子表面のシラノール基と縮合させることによりなされる方法がある。ここでいう粒子分散物については、前述の通りである。
【０１２６】
化合物Ｂによる無機粒子Ｂの処理には最適な範囲が存在するが、それは前述の通りである。化合物Ｂの具体例としては、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基及び水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。
［有機溶媒］
本発明の塗料組成物は、処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂ、バインダー原料、金属キレート、該金属キレートのリガンドに加えて、有機溶媒を含むことが好ましい。有機溶媒を含むと、処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂの粒子間相互作用を抑制し、また凝集体の形成を抑制しやすくなる。また、塗料組成物の乾燥時の流動性の低下を防止することが可能となるため、屈折率の異なる２層からなる反射防止層の自発的な層形成が容易となり、良好な反射防止性を発現することが可能となるため特に好ましい。
【０１２７】
有機溶媒は、特に限定されるものではないが、通常、常圧での沸点が２００℃以下の溶媒が好ましい。具体的には、水、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、炭化水素類、アミド類、フッ素類等が用いられる。これらは、１種、または２種以上を組み合わせて用いることができる。具体的には、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メタノール、イソプロピルアルコール等が挙げられ、特に無機粒子の安定性の点からイソプロピルアルコール、プロピレングリコールなどが特に好ましい。
【０１２８】
アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブタノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ベンジルアルコール、フェニチルアルコール等を挙げることができる。ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。エーテル類としては、例えば、ジブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等を挙げることができる。芳香族類としては、例えば、トルエン、キシレン等を挙げることができる。アミド類としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。
【０１２９】
また、有機溶媒として下記の溶媒Ｃを使用することが好ましい。かかる溶媒Ｃは、酢酸ｎ−ブチルを基準とした相対蒸発速度（ＡＳＴＭ  Ｄ３５３９−８７（２００４））が０．３以下であり、かつハンセンの溶解度パラメーターの水素結合項δｈ項が、４（ＭＰa）１／２以上、１０．５（ＭＰa）１／２以下である有機溶媒である。
【０１３０】
溶媒Ｃとしては、例えば、ジイソブチルケトン（相対蒸発速度：０．２、δｈ：４．１（ＭＰａ）１／２）、イソホロン（相対蒸発速度：０．０２６、δｈ：７．４（ＭＰａ）１／２）、ジチレングリコールモノブチルエーテル（相対蒸発速度：０．００４、δｈ：１０．０（ＭＰａ）１／２）、ジアセトンアルコール（相対蒸発速度：０．１５、δｈ：９．２（ＭＰａ）１／２）、オレイルアルコール（相対蒸発速度：０．００３、δｈ：８．０（ＭＰａ）１／２）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（相対蒸発速度：０．２、δｈ：５．１（ＭＰａ）１／２）、ノニルフェノキシエタノール（相対蒸発速度：０．２５、δｈ：８．４（ＭＰａ）１／２）が挙げられ、これらの中でもイソホロン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ノニルフェノキシエタノールが好ましい。
〔バインダー原料〕
本発明の塗料組成物は、１種類以上のバインダー原料を含むことが好ましい。つまり、塗料組成物により得られる反射防止部材の反射防止層中の第１層（低屈折率層）および、または第２層（高屈折率層）には、塗料組成物中のバインダー原料に由来するバインダーを含むことが重要である。ここで本発明において、塗料組成物中に含まれるバインダーを「バインダー原料」、反射防止部材の反射防止層中に含まれるバインダーを「バインダー」と表すが、バインダーとしては、バインダー原料がそのままバインダーとして存在する場合もある（つまり、塗料組成物のバインダー原料が、そのままの形で反射防止層中のバインダーとして存在する態様も含む。）。
【０１３１】
バインダー原料としては、前記処理無機粒子Ｂと組み合わせた際、相溶性指数が前記範囲に入る材料であれば、特に限定するものではないが、製造性の観点より、熱及び／または活性エネルギー線などにより、硬化可能なバインダー原料（つまり、反応性部位を有するバインダー原料）であることが好ましく、バインダー原料は一種類であっても良いし、二種類以上を混合して用いても良い。
【０１３２】
また、前記処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂや、前記処理無機粒子以外の無機粒子を膜中に保持する観点より、分子中に反応性部位としてアルコキシシランやアルコキシシランの加水分解物や反応性二重結合を有しているバインダー原料であることが好ましい。またＵＶ線により硬化する場合は、酸素阻害を防ぐことができることから酸素濃度ができるだけ低い方が好ましく、窒素雰囲気下（窒素パージ）で硬化する方がより好ましい。
【０１３３】
このようなバインダー原料として、成分中に多官能アクリレートを用いるのが好ましく、代表的なものを以下に例示する。１分子中に、３（より好ましくは４または５）個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能アクリレートおよびその変性ポリマー、具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサンメチレンジイソシアネートウレタンポリマーなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上を混合して使用することができる。また、市販されている多官能アクリル系組成物としては三菱レーヨン株式会社；（商品名”ダイヤビーム”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名”デナコール”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名”ＮＫエステル”シリーズなど）、大日本インキ化学工業株式会社；（商品名”ＵＮＩＤＩＣ”など）、東亞合成化学工業株式会社；（”アロニックス”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（”ブレンマー”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名”ＫＡＹＡＲＡＤ”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名”ライトエステル”シリーズなど）などを挙げることができ、これらの製品を利用することができる。
〔化合物C〕
本発明の塗料組成物は、更に下記の化合物（ｃ）を使用することが好ましい。かかる化合物（ｃ）は、膨潤度指数が５％以上６０％以下である化合物である。また化合物（ｃ）は、前述の無機粒子Ａ、および処理無機粒子Ａの項で述べた反応性部位を有する化合物であることが好ましい。
【０１３４】
ここで、化合物（ｃ）の膨潤度指数とは、非結晶ポリエチレンテレフタレートフィルム（Ａ−ＰＥＴシート）商品名“ＰＥＴ−ＭＡＸ”Ａ５６５ＧＥ２Ｒ（東洋紡績株式会社製）の帯電防止コートを設けていない側の面上に、バインダー原料をバーコーター（＃１０）を用いた塗布から３分間経過後、ガーゼを用いて荷重５０ｇにて拭取り作業を行い、拭取り後のフィルムのヘイズを測定した値（％）を表す。
【０１３５】
なおヘイズ測定は、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００）に基づき、日本電色工業（株）製のヘイズメーターを用いて、前述のフィルムのバインダー原料を滴下した側から光を透過するように装置に置いて測定する。
【０１３６】
化合物（ｃ）の質量平均分子量Ｍｗは、好ましくは１００以上５００以下、より好ましくは１００以上４００以下、さらに好ましくは１００以上３００以下である。
【０１３７】
化合物（ｃ）の質量平均分子量Ｍｗを１００以上５００以下とすることで、膨潤度指数が５％以上６０％以下と制御しやくすくなり、良好な透明性を保った状態で、耐湿熱接着性が向上し、虹彩模様の低減を図ることができるため好ましい。
【０１３８】
化合物（ｃ）は、１つの反応性部位を有することが好ましい。化合物（ｃ）が１つのみの反応性部位を有することで、膨潤度指数が５％以上６０％以下と制御しやすくなり、少量の添加により耐湿熱接着性の向上を図ることができるため好ましい。
【０１３９】
質量平均分子量Ｍｗが１００以上５００以下であり、１つのみの反応性部位を有する化合物（ｃ）としては、特にアクリレート化合物を用いるのが好ましく、代表的なものを以下に例示する。市販されているアクリレート化合物としては、株式会社興人；（商品名“ＡＣＭＯ”など）、東亜合成株式会社；（商品名“アロニックスＭ−１０２，Ｍ−１１１、Ｍ−１１３”など）を挙げることができ、これらの製品を利用することができる。
【０１４０】
なお、化合物（ｃ）は、膨潤度指数が５％以上６０％以下である化合物を意味するが、この化合物（ｃ）の処理無機粒子Ｂとの相溶性指数は特に限定されるものではない。そのため、化合物（ｃ）の処理無機粒子Ｂとの相溶性指数が２０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の場合には、このような化合物（ｃ）は、バインダー原料に該当することとなる。
【０１４１】
化合物（ｃ）が前述のバインダー原料に属しない場合、即ち、化合物（ｃ）が、処理無機粒子Ｂとの相溶性指数が２０ｎｍ未満の化合物又は１２０ｎｍより大きい化合物である場合、その塗料組成物中の含有量は、前述のバインダー原料１００質量部に対して、１〜３０質量部の範囲が好ましく、２〜２０質量部の範囲がより好ましく、特に５〜１５質量部の範囲が好ましい。
［金属キレート、およびリガンド］
本発明の塗料組成物は、金属キレートと金属キレートのリガンド（金属に配位していないリガンド）を含むことが好ましい。金属キレートとは、多座配位子を分子中に有する化合物が金属イオンを挟むように配位して錯体を形成している化合物の総称である。
【０１４２】
金属キレートのリガンドとは、広義には配位子、すなわち金属に配位する化合物をさすが、本明細書中では、前述のように金属キレート中の配位子と同一の化合物で、かつ金属キレートに配位していない化合物のことを指す。
【０１４３】
金属キレートのリガンドは、例えば、金属キレートとしてアルミニウムトリスアセチルアセトナートを用いた場合には、アセチルアセトン、またはアセチルアセトナートを指す。リガンドは、具体的にはアセチルアセトン、アセト酢酸エチルなどのβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、グリシンなどがあるが、本発明においては有機溶剤への可溶性があるアセチルアセトン、アセト酢酸エチルなどが特に好ましい。
【０１４４】
金属キレートは、シラノール基、またはオキシラン環などを含む化合物間の水素結合の促進、架橋反応の促進により硬化を助成する効果を有するため、処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂおよびバインダー原料間の水素結合、さらには架橋反応を促進する。この効果は加熱することにより促進され、乾燥過程において加熱硬化に適している温度は、好ましくは１００℃以上、より好ましくは１２０℃以上であり、更に好ましくは１３０℃以上である。加熱温度を１００℃以上とすることで、非常に短時間でシラノールなどを含む樹脂の硬化が進むために好ましい。金属キレート中の金属イオン種は、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素及び金属元素などであれば特に限定されない。
【０１４５】
金属キレート化合物の具体例としては、例えば、トリエトキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、ジエトキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、モノエトキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、テトラキス（アセチルアセトナート）チタン、トリエトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、ジエトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、モノエトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、テトラキス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ（アセチルアセトナート）トリス（エチルアセトアセテート）チタン、ビス（アセチルアセトナート）ビス（エチルアセトアセテート）チタン、トリス（アセチルアセトナート）モノ（エチルアセトアセテート）チタンなどのチタンキレート化合物、トリエトキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジエトキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノエトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリエトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジエトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノエトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ（アセチルアセトナート）トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ビス（アセチルアセトナート）ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリス（アセチルアセトナート）モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルミニウムアルキルアセトアセテート・ジイソプロピレート、アルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセチルアセトネート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレートなどのアルミニウムキレート化合物；などを挙げることができ、好ましくはチタンまたはアルミニウムのキレート化合物、特に好ましくはチタンのキレート化合物を挙げることができる。これらの金属キレート化合物は、１種あるいは２種以上を同時に使用しても良い。これらキレート化合物において、塗料組成物の経時安定性（塗料組成物中の固形分の沈降、凝集、白濁）、および塗膜の表面状態（異物、白化、白濁）、膜硬化性寄与等の観点からアルミニウム化合物が特に好ましい。
［その他の添加剤］
本発明の塗料組成物は、更に開始剤や硬化剤や触媒を含むことが好ましい。
【０１４６】
開始剤及び触媒は、処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂ同士、バインダー原料同士、処理無機粒子Ａ，Ｂとバインダー原料間の反応を促進するために用いられる。該開始剤としては、塗料組成物をアニオン、カチオン、ラジカル反応等による重合および／または縮合および／または架橋反応を開始あるいは促進できるものが好ましい。
【０１４７】
該開始剤、該硬化剤、及び触媒は種々のものを使用できる。また、複数の開始剤を同時に用いても良いし、単独で用いても良い。さらに、酸性触媒や、熱重合開始剤や光重合開始剤を併用しても良い。酸性触媒の例としては、塩酸水溶液、蟻酸、酢酸などが挙げられる。熱重合開始剤の例としては、過酸化物、アゾ化合物が挙げられる。また、光重合開始剤の例としては、アルキルフェノン系化合物、含硫黄系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、アミン系化合物などが挙げられるがこれらに限定されるものではないが、硬化性の点から、アルキルフェノン系化合物が好ましく、具体例としては、２．２−ジメトキシ−１．２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−フェニル）−１−ブタン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−（４−フェニル）−１−ブタン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−１−ブタン、１−シクロヒキシル−フェニルケトン、２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−エトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、などが挙げられる。
【０１４８】
なお、該開始剤及び該硬化剤の含有割合は、塗料組成物中のバインダー原料の合計１００質量部に対して０．００１質量部から３０質量部が好ましく、より好ましくは０．０５質量部から２０質量部であり更に好ましくは０．１質量部から１０質量部である。
【０１４９】
その他として、本発明の塗料組成物には更に、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤などの添加剤を必要に応じて適宜含有させても良い。また、本発明の塗料組成物を用いたより好ましい製造方法として、上記添加物のほかに、フルオロアルキル基及び反応性部位を有するフッ素化合物Ｂを含むことが好ましい。
【０１５０】
フッ素化合物Ｂが有するフルオロアルキル基は、炭素数４〜７の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基Ｒｆ３であることが好ましい。フルオロアルキル基Ｒｆ３は、塗料組成物の乾燥時のフッ素処理粒子同士の粒子間相互作用の抑制の点から炭素数４以上１０以下が好ましく、さらに好ましくは炭素数６以上である。また分岐状に比べ直鎖状か立体障害が小さく、処理無機粒子Ａに吸着し易い点から直鎖状が好ましい。フルオロアルキル基を、炭素数４〜８の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基Ｒｆ３とすることにより、塗膜中での処理無機粒子の移動性が向上し、屈折率の異なる２層の自発的な層形成が容易になり、反射防止性能、透明性が良化するため好ましい。このフッ素化合物Ｂは、前述の一般式（ＩＩ）の化合物と同一、またはその重合体でもよい。つまりフッ素化合物Ｂとは、フッ素化合物Ａと同一の化合物であっても構わない。フッ素化合物Ａは、処理無機粒子Ａを得るための原料に相当する化合物であり、一方でフッ素化合物Ｂは、塗料組成物中に含有されるフッ素化合物を意味する。
［塗料組成物中の各成分の含有量］
本発明の塗料組成物は、処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂ、バインダー原料、金属キレート、金属キレートのリガンドを含むことが好ましいが、その相互の比率には好ましい範囲がある。
【０１５１】
まず、処理無機粒子Ｂとバインダー原料の質量比率は、処理無機粒子Ｂ／バインダー原料の質量比率＝９／１〜３／７の範囲が好ましい。この範囲にすることにより、反射防止性能と耐擦傷性、耐磨耗性を両立することができる。より好ましくは、８／２〜３／７、さらに好ましくは８／２〜４／６である。
【０１５２】
ここで述べる処理無機粒子Ａ，処理無機粒子Ｂの量は、フッ素化合物Ａによる処理および化合物Ｂによる処理によって、処理無機粒子Ａ、Ｂ中の無機粒子Ａ、Ｂと結合したフッ素化合物Ａ、化合物Ｂなど有機化合物も含めた質量を指す。
【０１５３】
次いで、処理無機粒子Ａと処理無機粒子Ｂ＋バインダー原料の質量比率は、処理無機粒子Ａ／（処理無機粒子Ｂ＋バインダー原料）＝１／３０〜１／１であることが好ましい。
【０１５４】
処理無機粒子Ａ／（処理無機粒子Ｂ＋バインダー原料）＝１／３０〜１／１とすることで、得られる反射防止部材の第１層（低屈折率層）の厚みと第２層（高屈折率層）の厚みの比を一定にすることができる。このため１回の塗布で第１層の厚みと第２層の厚みを反射防止機能を有する厚みとすることが容易であるため好ましい。また高屈折率層の厚みを厚くし、ハードコート機能を付与しようとする場合にも、反射防止機能を損なうことなく、１回の塗布で必要な厚みとすることができるため、反射防止機能とハードコート機能の両立の点から処理無機粒子Ａと他の無機粒子の割合を上記範囲とすることが可能となるため好ましい。
【０１５５】
処理無機粒子Ａ／（処理無機粒子Ｂ＋バインダー原料）の質量比率として、より好ましくは処理無機粒子Ａ／（処理無機粒子Ｂ＋バインダー原料）＝１／２９〜１／５、さらに好ましくは１／２６〜１／１０、特に好ましくは１／２３〜１／１５である。
【０１５６】
また、金属キレートと処理無機粒子Ａの質量比率は、金属キレート／処理無機粒子Ａ＝０．００１／１〜０．０８／１の範囲が好ましい。この範囲にすることで面状欠陥の抑制と、透明性の両立が可能になる。より好ましくは０．００５／１〜０．０６／１、特に好ましくは０．００７／１〜０．０５／１である。金属キレートと金属キレートのリガンドの比率については前述の通りである。
【０１５７】
また好ましくは、塗料組成物１００質量％において、処理無機粒子Ａや処理無機粒子Ｂを含む全ての無機粒子の合計が０．２質量％以上４０質量％以下、有機溶媒を４０質量％以上９８質量％以下、フッ素化合物Ｂを１質量％以上３０質量％以下、バインダー原料、金属キレート、金属キレートのリガンド、開始剤、硬化剤、及び触媒などのその他の成分を０．１質量％以上２０質量％以下を含む態様である。より好ましくは、全ての無機粒子の合計が１質量％以上３５質量％以下、有機溶媒を５０質量％以上９７質量％以下、フッ素化合物Ｂを２質量％以上２５質量％以下、その他の成分を１質量％以上１５質量％以下含む態様である。
【０１５８】
さらに好ましい態様としては、処理無機粒子Ｂが金属酸化物粒子を化合物Ｂで処理した粒子で、で、処理無機粒子Ａが、フッ素処理シリカ粒子であり、これらの合計（処理無機粒子Ａと処理無機粒子Ｂとの合計）が本発明の塗料組成物１００質量％において２質量％以上３０質量％以下、有機溶媒が６０質量％以上９５質量％以下、フッ素化合物Ｂを３質量％以上２０質量％以下、その他の成分が２質量％以上１０質量％以下の態様である。
［支持基材］
反射防止層をＣＲＴ画像表示面やレンズ表面に直接設ける場合を除き、反射防止部材は支持基材を有することが重要である。支持基材に特に限定はないが、ガラス板よりもプラスチックフィルムの方が好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンなどが含まれるが、これらの中でも得にトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。
【０１５９】
本発明の反射防止部材、本発明の塗料組成物を基材上に塗工して得られた反射防止部材の好ましい態様では、上述のような耐擦傷性が十分でないプラスチックを支持基材に使用しても、高屈折率層の厚みを制御することで反射防止性に加えて耐擦傷性も付与できるため、公知技術のように、支持基材上にハードコート層を設ける必要は必ずしもない。また上述のように、支持基材は接着層、シールド層、滑り層などの各種機能層を有するフィルムとすることもできる。
【０１６０】
支持基材の光透過率は、８０％以上１００％以下であることが好ましく、８６％以上１００％以下であることがさらに好ましい。ここで光透過率とは、光を照射した際に試料を透過する光の割合のことであり、ＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１（１９９７）に従い測定することができる透明材料の透明性の指標である。反射防止部材の光透過率としては値が大きいほど良好であり、値が小さいとヘイズ値が上昇、画像劣化が生じる可能性が高くなるため好ましくない。ヘイズはＪＩＳ  Ｋ  ７１３６（２０００）に規定された透明材料の濁りの指標である。ヘイズは小さいほど透明性が高いことを示す。  また支持基材のヘイズは、０．０１％以上２．０％以下であることが好ましく、０．０５％以上１．０％以下であることがさらに好ましい。
【０１６１】
支持基材の屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。なお、ここでいう屈折率とは、光が空気中からある物質中に進む時、その界面で進行方向の角度を変える割合のことであり、ＪＩＳ  Ｋ  ７１４２（１９９６）に規定されている方法により測定することができる。
【０１６２】
支持基材には、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、支持基材の全成分１００質量％において０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を支持基材に添加してもよい。無機化合物の例には、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＢａＳＯ４、ＣａＣＯ３、タルクおよびカオリンが含まれる。
【０１６３】
支持基材の反射防止層を形成する面の表面粗さには好ましい範囲があり、４０ｎｍ以下であると好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以下、さらに３０ｎｍ以下である。なお。前述の機能層を有するプラスチックフィルムを支持基材として用いた場合、前記支持基材の反射防止層を形成する側の面としてはプラスチックフィルム側の面であっても、機能層側の面であっても特に限定されない。但し、得られる反射防止部材にハードコート性を付与するためハードコート層を有するプラスチックフィルムを用いる場合には、ハードコート層側を反射防止塗料組成物を塗工する側の面とすることが重要であり、また反射防止層と支持基材との接着性を向上させる場合には、易接着層を有するプラスチックフィルムの易接着層側を反射防止塗料組成物を塗工する側の面とすることが必要である。
【０１６４】
支持基材の表面には、各種の表面処理を施すことも可能である。表面処理の例には、薬品等による湿式処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。これらの中でもグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好ましい。
［処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂの製造方法］
処理無機粒子Ａおよび処理無機粒子Ｂの製造方法は、各種顔料、無機化合物取り扱いメーカーから粉体状態、または溶媒（分散媒とも呼ばれる）に分散された粒子分散物（粒子分散液、コロイド溶液、またはゾルとも呼ばれる）の形で入手したいずれの無機粒子に対しても前述の処理を行うことで得ることができるが、粒子分散物の形で入手した無機粒子に対して処理を行う方が、粗大粒子の除去や塗料組成物の分散安定性の面で好ましい。粉体状態で入手された無機粒子を用いる場合には、表面処理を行う前の段階で分散媒、分散剤、表面処理剤等と共にメディア型分散機で解砕、分散処理を行い、一旦、粒子分散物を調製してから表面処理を行うことが好ましい。
【０１６５】
処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂは、前記無機粒子または前記粒子分散物に対して各種化合物（フッ素化合物Ａ，化合物Ｂ、化合物Ｄなど）、溶媒、反応触媒、重合開始剤、反応停止剤、重合禁止剤、凝集防止剤、分散剤等を添加し、混合、攪拌しながら、加熱または冷却状態で反応させることにより得られ、加えてエバポレーターや逆浸透膜による脱アルコール処理、モレキュレーシーブによる脱水処理、イオン交換樹脂、イオン交換膜によるイオン交換処理などをおこなってもよい。
【０１６６】
処理時の固形分濃度は１質量％以上６０質量％以下、より好ましくは５質量％以上５０質量％以下であり、これよりも固形分濃度が低すぎると反応を十分に進めることができず、これよりも高すぎると、無機粒子の凝集による異物の発生、さらにはゲル化、凝集、沈降を起こす場合がある。また、反応終了後は、安定性を付与するため溶媒による希釈や、反応停止剤、重合禁止剤、凝集防止剤を添加してもよい。
【０１６７】
処理の温度は、用いる反応系により異なるが、無機粒子間の架橋を起こす副反応の抑制や、無機粒子表面の分散剤等の脱離を抑制するため反応可能な範囲で低いことが好ましい。たとえばシラノール縮合を伴う表面処理では用いるシランカップリング剤の種類により異なるが、室温から９０℃の間が好ましく、３０℃から７０℃の間がより好ましい。ラジカル重合を伴う表面処理では用いる重合開始剤の種類により反応温度は全く異なるが、例えばアゾイゾブチロニトリルを用いる場合には、６０℃から１００℃の間が好ましく、７０℃から９０℃がより好ましい。
【０１６８】
処理の攪拌条件、攪拌装置は特に限定されないが、液全体が十分混合するのに必要な装置、および回転数であればよく、反応液中での局所的なせん断速度が１０４Ｓ−１よりも小さく、かつ反応槽内のレイノルズ数が１０００以上である範囲であることが、粒子分散物のせん断破壊による凝集と局所的な滞留による凝集、沈降を防ぐために好ましい。
【０１６９】
処理は複数の反応系を組み合わせて行ってもよく、例えば、シラノール縮合による処理とラジカル重合による処理を組み合わせてもよい。この際には、同時、逐次いずれの方法でもよいが、逐次的に行う方がより好ましい。
【０１７０】
処理の終了後、副反応生成物やゲル化物を除去するため、適当なろ過処理を行ってもよい。この適当なろ過とは、溶媒、粒子の表面の極性状態に合わせたフィルター材料、フィルター目開きを選択し、粒子分散物の分散状態を破壊しないせん断速度、フィルター構造に合わせた圧力条件にてろ過することを示唆する。
【０１７１】
処理の終了後、粒子分散物の形で得られた粒子は、スプレードライ法などにより一旦粉体にして取りだしてもよいし、そのままの粒子分散物の形で取り扱ってもよいが、後工程（塗料組成物の製造工程）での取り扱いの容易さや凝集物の抑制から粒子分散物の形で取り扱う方が好ましい。
［塗料組成物の製造方法］
本発明の塗料組成物は、少なくとも処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂ、バインダー原料、金属キレート、該金属キレートのリガンドに加えて、溶媒、フッ素化合物Ｂや他添加物（開始剤、硬化剤、触媒等）を混合して得られる。その製造方法は、前記成分の処方量を重量、または体積で計量し、これらを攪拌により混合することにより得られる。この時、加えて減圧や逆浸透膜による脱溶媒処理、モレキュレーシーブによる脱水処理、イオン交換樹脂によるイオン交換処理などをおこなってもよい。
【０１７２】
無機粒子（処理無機粒子Ａ、処理無機粒子Ｂを含む）は粒子分散物、粉体いずれの形で添加してもよいが、粒子分散物の形で取り扱うことが凝集、異物発生を防止する面で好ましい。粉体を原料としてとり扱う場合には、メディア型分散機などの各種分散機により溶媒（分散媒）に分散する工程を経た方が好ましい。粒子分散物として添加する場合の処方量は、粒子分散物の固形分濃度と粒子分散物の質量の積から求めた粒子の質量を用いることできる。固形分濃度の測定方法は後述する。
【０１７３】
塗料組成物調合時の攪拌条件、攪拌装置は特に限定されないが、液全体が十分混合するのに必要な装置、および回転数であればよく、液中での局所的なせん断速度が１０４Ｓ−１よりも小さく、かつレイノルズ数が１０００以上である範囲であることが、粒子分散物のせん断破壊による凝集と局所的な滞留による凝集や、混合不良を防ぐために好ましい。
【０１７４】
塗料組成物調合時の、粒子、溶媒、バインダー原料、他添加物（開始剤、硬化剤、触媒）の添加順、添加速度については特に限定されないが、好ましくは、粒子分散物に対し、溶媒と混合して希釈したバインダー原料、および他添加物の混合物を攪拌しながら少量ずつ添加していくことが、バインダー成分の粒子表面への吸着による凝集、さらに異物発生を防ぐために好ましい。
【０１７５】
得られた塗料組成物は、塗工する前に適当なろ過処理を行ってもよい。この適当なろ過処理とは、溶媒、粒子の表面の極性状態に合わせたフィルター材料、フィルター目開きを選択し、粒子分散物の分散状態を破壊しないせん断速度、フィルター構造に合わせた圧力条件にてろ過することがより好ましい。
［反射防止部材の製造方法］
本発明の反射防止部材の製造方法としては、支持基材の少なくとも片面に、塗料組成物を１回のみ塗工することにより形成される１層の液膜が、前記２層からなる反射防止層を形成する方法であることが望ましい。この製造方法は、塗工工程で２つの層を形成できるため経済性の面で好ましい。
【０１７６】
ここで、支持基材の少なくとも片面に塗料組成物を１回のみ塗工することにより形成される１層の液膜とは、支持基材に対して１回の塗工工程にて１種類の塗料組成物からなる１層の液膜を形成することを指し、１回の塗工工程にて複数層からなる液膜を同時に１回塗工する多層同時塗工や、１回の塗工時に１層の液膜を複数回の塗工、乾燥工程を有する連続逐次塗工、１回の塗工時に１層の液膜を複数回の塗工し、次いで乾燥する、ウェットオンウェット塗工などを行わないことを指す。
【０１７７】
まず、本発明の塗料組成物を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）などにより支持基材上に塗工する。
【０１７８】
これらの塗工方式のうち、グラビアコート法または、ダイコート法が塗工方法として好ましい。グラビアコート法は反射防止層のような塗工量の少ない塗料組成物を均一な膜厚で塗工することに優れており、グラビアコート法の中でもダイレクトグラビア法で、グラビアロール直径の小さい小径グラビアロールを用いることが、メニスカス部の安定性確保の面からより好ましい。このような塗工方法としては、マイクログラビア法が提案されている。
【０１７９】
また、ダイコート法は、反射防止層のような塗工量の少ない場合には、ビード背圧の印加など工夫を要するが、前計量方式のためコーティングダイへの供給液量にて膜厚の制御が可能であり、また、原理的に塗料組成物の滞留部、蒸発部がないため、塗料組成物の安定性の面からも優れている。
【０１８０】
次いで、支持基材上に塗工された液膜を乾燥する。得られる反射防止部材中から完全に溶媒を除去する事に加え、自発的に層構造を形成させるために液膜中での粒子の運動を促進するという観点からも、乾燥工程では液膜の加熱を伴うことが好ましい。乾燥初期においては０．１ｇ／（ｍ２．ｓ）以上１．４ｇ／（ｍ２．ｓ）以下の範囲の乾燥速度が得られるならば、特に特定の風速、温度に限定されない。
【０１８１】
乾燥方法については、伝熱乾燥（高熱物体への密着）、対流伝熱（熱風）、輻射伝熱（赤外線）、その他（マイクロ波、誘導加熱）などが挙げられる。この中でも、本発明の製造方法では、精密に幅方向で乾燥速度を均一にする必要から、対流伝熱、または輻射伝熱を使用した方式が好ましく、さらに恒率乾燥期間においては、幅方向で均一な乾燥速度を達成するため、対流伝熱による乾燥の場合には、制御可能な風速を維持しつつ、乾燥時の総括物質移動係数を下げることが可能な方法として、支持基材に対して平行で、基材の搬送方向に対して平行、あるいは垂直な方向に熱風を送風する方式が望ましい。
【０１８２】
さらに、乾燥工程後に形成された支持基材上の２層に対して、熱またはエネルギー線を照射する事によるさらなる硬化操作（硬化工程）を行ってもよい。硬化工程において、熱で硬化する場合には、室温から２００℃であることが好ましく、硬化反応の活性化エネルギーの観点から、より好ましくは１００℃以上２００℃以下、さらに好ましくは１３０℃以上２００℃以下である。
【０１８３】
また、エネルギー線により硬化する場合には汎用性の点から電子線（ＥＢ線）及び／又は紫外線（ＵＶ線）であることが好ましい。また紫外線により硬化する場合は、酸素阻害を防ぐことができることから酸素濃度ができるだけ低い方が好ましく、窒素雰囲気下（窒素パージ）で硬化する方がより好ましい。酸素濃度が高い場合には、最表面の硬化が阻害され、硬化が不十分となり、耐擦傷性、耐アルカリ性が不十分となる場合がある。また、紫外線を照射する際に用いる紫外線ランプの種類としては、例えば、放電ランプ方式、フラッシュ方式、レーザー方式、無電極ランプ方式等が挙げられる。放電ランプ方式である高圧水銀灯を用いて紫外線硬化させる場合、紫外線の照度が１００〜３０００ｍＷ／ｃｍ２、好ましくは２００〜２０００ｍＷ／ｃｍ２、さらに好ましくは３００〜１５００ｍＷ／ｃｍ２となる条件で紫外線照射を行うことが好ましく、紫外線の積算光量が１００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましく２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２、さらに好ましくは３００〜１５００ｍＪ／ｃｍ２となる条件で紫外線照射を行うことがより好ましい。ここで、紫外線照度とは、単位面積当たりに受ける照射強度で、ランプ出力、発光スペクトル効率、発光バルブの直径、反射鏡の設計及び被照射物との光源距離によって変化する。しかし、搬送スピードによって照度は変化しない。また、紫外線積算光量とは単位面積当たりに受ける照射エネルギーで、その表面に到達するフォトンの総量である。積算光量は、光源下を通過する照射速度に反比例し、照射回数とランプ灯数に比例する。
【０１８４】
硬化を熱により行う場合、乾燥工程と硬化工程とを同時におこなってもよい。また本発明の反射防止部材は、ＰＤＰなどの各種画像表示装置の視認側表面に設けることで、反射防止性に優れた画像表示装置を提供することができる。なおこの際は、反射防止部材における支持基材側を画像表示装置側として、反射防止部材などを設けることが重要である。
［ハードコート部材］
前述したように、本発明の積層体はハードコート部材に好適である。ハードコート部材を構成する支持基材がプラスチックフィルムの場合には、一般にハードコートフィルムと呼ばれる。
【０１８５】
ハードコート部材の最表面となる第１層側の表面強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。上限については、強度が高い分には問題はないが、現実的には９Ｈ程度が上限である。
【０１８６】
以下、本発明の積層体をハードコート部材に置き換えて説明する。本発明のハードコート部材を構成する、第１層、第２層、支持基材、塗料組成物、及び製造方法等については、前述の反射防止部材と同様のものを用いることができる。従って、ここでの説明は省略する。
【０１８７】
本発明のハードコート部材における第２層は前述の反射防止部材の高屈折率ハードコート層と同様の構成・組成を採用することができる。第１層については前述の反射防止部材の低屈折率層の機能を必ずしも有する必要はない。従って、本発明のハードコート部材における第１層は、反射防止部材の低屈折率層として機能するために必要な屈折率や層厚みは限定されない。しかし、本発明のハードコート部材における第１層は、前述の反射防止部材における第１層と同様の構成・組成とすることは、むしろ好ましい態様である。
【０１８８】
本発明のハードコート部材においても、前述したように第１層と第２層における条件１、条件２を満足することが重要であり、特に第２層の条件２を満足することが重要である。
【０１８９】
つまり、第２層が条件２（第２層における元素Ｂの濃度が、第１層側から基材側に向かう厚み方向において、連続的に増加する。）を満足することによって、第２層における元素Ｂの濃度勾配が、支持基材側が大となり、その結果、第２層の支持基材側の屈折率を高くすることができる。これによって、ポリエステルフィルムのような比較的屈折率の高い支持基材を用いたとき、支持基材と第２層との界面の屈折率差を小さくすることができ、その結果ハードコート部材の干渉ムラを低減することができる。
【０１９０】
従来、支持基材としてポリエステルフィルムを用いたハードコートフィルムでは、ポリエステルフィルムの屈折率とハードコート層の屈折率とを同等にすることにより、干渉ムラは低減できる。しかしながら、ハードコート層の屈折率をポリエステルフィルムの屈折率（通常１．６２〜１．６８程度）に近づけるためには、高屈折率材料である金属酸化物微粒子をハードコート層に多量に含有させる必要があり、原材料コスト、透明性、ハードコート性の面で不利益となることがあるが、本発明のハードコート部材は、従来のハードコート層に比べて金属酸化物微粒子の含有量を低減できるので上記課題を解決することができる。
【０１９１】
本発明のハードコート部材における第１層は、防汚機能あるいは易滑機能を有する層であることが好ましい。
【０１９２】
ハードコート部材の第１層は、前述の反射防止部材の第１層と同様な構成・組成とすることにより、第１層に防汚機能あるいは易滑機能を付与することができる。特に、前述の処理無機粒子Ａ（元素Ａを含む無機粒子Ａを、フッ素化合物Ａにより処理した粒子）を含有させることによって、防汚機能あるいは易滑機能を一段と発現することができる。この場合の無機粒子Ａとしては、シリカ粒子が好ましく、前述の中空シリカや多孔質シリカの他にコロイダルシリカ（例えば、日産化学工業（株）製のアルコールシリカゾル等）も好ましく用いることができる。
【０１９３】
ハードコート部材における第１層の厚みは、防汚機能あるいは易滑機能を付与するという観点から５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましく、特に２０ｎｍ以上が好ましい。厚みの上限は、干渉ムラ抑制の観点から小さい方が好ましく、２００ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、更に８０ｎｍ以下が好ましく、特に６０ｎｍ以下が好ましい。
【０１９４】
図１には、第１層（符号４）の厚み方向に無機粒子Ａ（符号６）が数個存在する態様を示しているが、本発明のハードコート部材における第１層は、その厚み方向に無機粒子Ａが１個のみ存在する態様であってもよい。この態様であっても防汚機能あるいは易滑機能を十分に発現することができる。
【０１９５】
ハードコート部材における第２層の厚みは、良好な耐擦傷性や耐摩耗性を得るという観点から、５００ｎｍ以上が好ましく、６００ｎｍ以上がより好ましい。厚みの上限は、カールやクラックの発生の抑制や透過率の改善という観点から、５０００ｎｍ以下が好ましく、４０００ｎｍ以下がより好ましい。
【０１９６】
ハードコート部材における支持基材としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルムが好ましい。これらの支持基材の屈折率は、１．６０〜１．７０の範囲が好ましく、１．６２〜１．６８の範囲がより好ましく、特に１．６３〜１．６７の範囲が好ましい。
【０１９７】
上記ポリエステルフィルムは、本発明の第２層及び第１層が積層される面に易接着層を有していることが好ましい。易接着層の屈折率とポリエステルフィルムとの屈折率の差は、干渉ムラ低減の観点から０．０３以内であることが好ましく、特に０．０２以内であることが好ましい。易接着層の厚みは、５〜３００ｎｍの範囲が適当であり、１０〜２００ｎｍの範囲が好ましい。
［積層体の界面構造］
本発明の積層体の第１層と第２層の界面構造としては、密着性、耐擦傷性、耐摩耗性、干渉ムラの観点から、以下の構造であることが好ましい。
【０１９８】
即ち、下記（１）〜（３）で定義される長さaと長さｂの比ｂ／ａが、１．１０＜ｂ／ａ＜１．４５であることが好ましく、更に１．１５≦ｂ／ａ≧１．３５であることが好ましい（図１、図５を参照）。
【０１９９】
（１）第１層と第２層とで形成される界面において、直線長さが５００ｎｍ以上離れた任意の界面上の２点をＡ１、Ａ２とする。
【０２００】
（２）Ａ１とＡ２を結ぶ直線の長さを、単位長さａとする。
【０２０１】
（３）Ａ１とＡ２間の第１層と第２層とで形成される界面に沿った長さを、長さｂとする。
【０２０２】
単位長さaと長さｂの比ｂ／ａが１．１０以下になると、第１層と第２層間の界面の物理的な密着力の向上効果が小さくなり、十分な耐擦傷性や耐磨耗性が得られなくなることがあり、逆にｂ／ａが１．４５以上になると光散乱性が出現することにより、透明性の低下や反射率が高くなるなどの不都合が生じることがある。
【０２０３】
上記の界面構造は、例えば、第１層に含まれる無機粒子Ａに対して第２層に含まれる無機粒子Ｂの数平均粒子径を小さくすることによって形成することができる。
【０２０４】
第２層に含まれる無機粒子Ｂの数平均粒子径は２５ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【０２０５】
第１層に含まれる無機粒子Ａの数平均粒子径は、３０ｎｍ以上であることが好ましく、更に４０ｎｍ以上であることが好ましい。上限は２００ｎｍ以下であることが好ましく、更に１５０ｎｍ以下であることが好ましい。
【０２０６】
更に、本発明の積層体は、積層膜の支持基材側とは反対側の面（第１層側の表面）の形状が下記の特徴を有していることが好ましい。即ち、上記長さｂと下記（４）、（５）で定義される長さｃとの比ｂ／ｃが、１．０５＜ｂ／ｃ＜１．４０であることが好ましく、更に１．１０＜ｂ／ｃ＜１．４０であることが好ましい。
【０２０７】
（４）Ａ１を通り単位長さａに垂直でかつ、大気と第１層とで形成される界面との交点をＣ１とする。同様に、Ａ２を通り単位長さａに垂直でかつ、大気と第１層とで形成される界面との交点をＣ２とする。
【０２０８】
（５）Ｃ１とＣ２間の大気と第１層とで形成される界面に沿った長さを、長さｃとする。
上記ｂ／ｃの比を１．０５より大きく１．４０未満にすることにより、界面の物理的な観点での密着力が確保されるため、耐擦傷性、耐摩耗性等を維持しつつ、透明性と反射防止性能を向上できる。
【０２０９】
また、本発明の積層体において、上記ｂ／ｃの比を１．０５より大きく１．４０未満にすることにより、積層膜の支持基材側とは反対側の面（第１層側の表面）は比較的平滑となり、透明性と反射防止性能を向上することができる。第１層側表面の表面粗さＲａ（ＪＩＳ−Ｂ−０６０１：２００１）は、４０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、更に２０ｎｍ以下が好ましく、特に１０ｎｍ以下が好ましい。下限は特に限定されないが、現実的には０．５ｎｍ程度である。
【０２１０】
１．０５＜ｂ／ｃ＜１．４０を満足するための方法としては、例えば、第１層に含まれる無機粒子Ａに対して第２層に含まれる無機粒子Ｂの数平均粒子径を小さくする方法を挙げることができる。
【実施例】
【０２１１】
次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。
【０２１２】
［処理無機粒子Ａの調製］
［処理無機粒子Ａ分散物（ａ）の調製］
無機粒子Ａ分散物として、中空シリカ粒子イソプロピルアルコール分散物（日揮触媒化成株式会社製中空シリカ：固形分濃度２０質量％、数平均粒子径  ６０ｎｍ）１５ｇに、（ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）１．３７ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇ、水０．３０６ｇとを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。次いでフッ素化合物ＡとしてＨ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣＨ２（ＣＦ２）８Ｆ  １．３８ｇ及び２，２−アゾビスイソブチロニトリル０．０５７ｇを加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌した。次いで、イソプロピルアルコールを加えて希釈し、固形分３．５質量％の処理無機粒子Ａ分散物（ａ）とした。
【０２１３】
［処理無機粒子Ａ分散物（ｂ）の調製］
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）に対し、無機粒子Ａ分散物としてフッ化マグネシウム粒子イソプロピルアルコール分散物（ＣＩＫナノテック株式会社製フッ化マグネシウム分散物：固形分濃度２０質量％、数平均粒子径  ４０ｎｍ）に置き換えた以外は同様にして、処理無機粒子Ａ分散物（ｂ）を調製した。
【０２１４】
［処理無機粒子Ａ分散物（ｃ）の調製］
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）に対し、無機粒子Ａ分散物としてシリカ粒子イソプロピルアルコール分散物（日産化学株式会社製シリカ分散物：固形分濃度３０質量％、数平均粒子径３０ｎｍ）に置き換えた以外は同様にして、処理無機粒子Ａ分散物（ｃ）を調製した。
【０２１５】
［処理無機粒子Ａ分散物（d）の調製］
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）に対し、フッ素化合物Ａの代わりにとして、２−エチルヘキシルアクリレートに置き換えた以外は同様にして、処理無機粒子Ａ分散物（ｄ）を調製した。
【０２１６】
［処理無機粒子Ｂの調製］
［処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）の調製］
無機粒子Ｂ分散物として、酸化ジルコニウムメタノール分散物（日産化学株式会社製：固形分濃度３１質量％）１６７ｇ（Ｍ１＝１５０ｍ２／ｇ  Ｍ２＝５１．７７ｇ）を用い、化合物ＢとしてＣ３Ｈ７Ｓｉ（ＯＣＨ３）３１５ｇ（Ｍｗ＝１６４．３  Ｎ１＝４７６．６ｍ２／ｇ、Ｎ２＝１５．０ｇ）を滴下、均一に攪拌した。
【０２１７】
次いで、これに２０％酢酸水溶液２．０ｇ、イオン交換水５．４ｇを滴下し、滴下終了後３５℃で３０分、６０℃で３時間反応させた。
【０２１８】
さらに、置換溶媒としてメチルイソブチルケトン２００ｇを加え、ロータリーエバポレーターにて、５０℃、６８０ｍｍＨｇにて脱メタノール処理を行い、後述の方法で固形分濃度を確認後、最終的にメチルイソブチルケトンで固形分濃度３０％に調製、精密ろ過をして処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）を得た。この処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）の（Ｍ１Ｍ２）／（Ｎ１Ｎ２）×１００の値は９２．０５であった。
【０２１９】
［処理無機粒子Ｂ分散物（ｂ）〜処理無機粒子Ｂ分散物（ｌ）の調製］
処理無機粒子Ｂ分散物（ｂ）〜処理無機粒子Ｂ分散物（ｌ）の調製は、前述の無機粒子Ｂ分散物（ａ）の調製方法に対して、表に記載したように無機粒子Ｂ分散物、化合物Ｂの添加量、種類を変更して得た。また、得られた処理無機粒子Ｂ分散物（ｂ）〜処理無機粒子Ｂ分散物（ｌ）の（Ｍ１Ｍ２）／（Ｎ１Ｎ２）×１００の値も、表に記載した。
［塗料組成物の調製］
［塗料組成物１］
下記材料を混合し、塗料組成物１を得た。
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）                                      ４３      質量部
処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）                                      ２８      質量部
バインダー原料（ＤＰＨＡ  ダイセルサイテック株式会社：固形分１００質量％）      
５．８    質量部
メチルイソブチルケトン                                          ４．１    質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                            １０      質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン    ０．２９  質量部
金属キレート（アルミニウムトリスアセチルアセトナート）          ０．０４５質量部
金属キレートのリガンド  （アセチルアセトン）                    ０．０２８質量部
フッ素化合物Ｂ  （Ｒ１８２０  ダイキン化成品製：固形分１００質量％）                  ８．７    質量部
この塗料組成物に使用した処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数は５０ｎｍであり、塗料組成物への該金属キレートのリガンド添加量は、該金属キレートのモル量の２．０倍であった。
【０２２０】
［塗料組成物２〜１５、２２〜２５］
塗料組成物１に対し、表に記載したように処理無機粒子Ａ分散物、処理無機粒子Ｂ分散物、バインダー原料、金属キレート、金属キレートのリガンドを変更した以外は同様にして、塗料組成物２〜１５、２２〜２５を得た。これらの塗料組成物の各処方における処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数と、塗料組成物への該金属キレートのリガンド添加量も併せて表に記載した。
【０２２１】
［塗料組成物１６］
下記材料を混合し、塗料組成物１６を得た。
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）                                      ４３      質量部
処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）                                      ２８      質量部
バインダー原料（ＤＰＨＡ  ダイセルサイテック株式会社：固形分１００質量％）      
５．８    質量部
メチルイソブチルケトン                                          ４．１    質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                            １０．０  質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン    ０．２９  質量部
金属キレート（アルミニウムトリスアセチルアセトナート）          ０．０４５質量部
金属キレートのリガンド  （アセチルアセトン）                    ０．０２２質量部
フッ素化合物Ｂ  （Ｒ１８２０  ダイキン化成品製：固形分１００質量％）                  ８．７    質量部
この塗料組成物に使用した処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数は５０ｎｍであり、塗料組成物への該金属キレートのリガンド添加量は、該金属キレートのモル量の１．６倍であった。
【０２２２】
［塗料組成物１７］
下記材料を混合し、塗料組成物１７を得た。
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）                                      ４３      質量部
処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）                                      ２８      質量部
バインダー原料（ＤＰＨＡ  ダイセルサイテック株式会社：固形分１００質量％）      
５．８    質量部
メチルイソブチルケトン                                          ４．１    質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                            １０．０  質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン    ０．２９  質量部
金属キレート（アルミニウムトリスアセチルアセトナート）          ０．０４５質量部
金属キレートのリガンド  （アセチルアセトン）                    ０．０３９質量部
フッ素化合物Ｂ  （Ｒ１８２０  ダイキン化成品製：固形分１００質量％）                  ８．７    質量部
この塗料組成物に使用した処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数は５０ｎｍであり、塗料組成物への該金属キレートのリガンド添加量は、該金属キレートのモル量の２．８倍であった。
【０２２３】
［塗料組成物１８］
下記材料を混合し、塗料組成物１８を得た。
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）                                      ４３      質量部
処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）                                      １４      質量部
バインダー原料（ＤＰＨＡ  ダイセルサイテック株式会社：固形分１００質量％）      
２．９    質量部
メチルイソブチルケトン                                          ２１．２  質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                            １０．０  質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン    ０．１５  質量部
金属キレート（アルミニウムトリスアセチルアセトナート）          ０．０４５質量部
金属キレートのリガンド  （アセチルアセトン）                    ０．０２８質量部
フッ素化合物Ｂ  （Ｒ１８２０  ダイキン化成品製：固形分１００質量％）                  ８．７    質量部
この塗料組成物に使用した処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数は５０ｎｍであり、塗料組成物への該金属キレートのリガンド添加量は、該金属キレートのモル量の２．０倍であった。
【０２２４】
［塗料組成物１９］
下記材料を混合し、塗料組成物１９を得た。
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）                                      ４３      質量部
処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）                                      １９．５  質量部
バインダー原料（ＤＰＨＡ  ダイセルサイテック株式会社：固形分１００質量％）      
４．０    質量部
メチルイソブチルケトン                                          １４．５  質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                            １０．０  質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン    ０．２    質量部
金属キレート（アルミニウムトリスアセチルアセトナート）          ０．０４５質量部
金属キレートのリガンド  （アセチルアセトン）                    ０．０２８質量部
フッ素化合物Ｂ  （Ｒ１８２０  ダイキン化成品製：固形分１００質量％）                  ８．７    質量部
この塗料組成物に使用した処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数は５０ｎｍであり、塗料組成物への該金属キレートのリガンド添加量は、該金属キレートのモル量の２．０倍であった。
【０２２５】
［塗料組成物２０］
下記材料を混合し、塗料組成物２０を得た。
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）                                      １４      質量部
処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）                                      ３２      質量部
バインダー原料（ＤＰＨＡ  ダイセルサイテック株式会社：固形分１００質量％）      
８．０    質量部
メチルイソブチルケトン                                          ２４      質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                            １０      質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン    ０．４０  質量部
金属キレート（アルミニウムトリスアセチルアセトナート）          ０．０１５質量部
金属キレートのリガンド  （アセチルアセトン）                    ０．００９質量部
フッ素化合物Ｂ  （Ｒ１８２０  ダイキン化成品製：固形分１００質量％）                          １２      質量部
この塗料組成物に使用した処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数は５０ｎｍであり、塗料組成物への該金属キレートのリガンド添加量は、該金属キレートのモル量の２．０倍であった。
【０２２６】
［塗料組成物２１］
下記材料を混合し、塗料組成物２１を得た。
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）                                      １４      質量部
処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）                                      ４８      質量部
バインダー原料（ＤＰＨＡ  ダイセルサイテック株式会社：固形分１００質量％）      
１２      質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                            １０      質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン    ０．６１  質量部
金属キレート（アルミニウムトリスアセチルアセトナート）          ０．０１５質量部
金属キレートのリガンド  （アセチルアセトン）                    ０．００９質量部
フッ素化合物Ｂ  （Ｒ１８２０  ダイキン化成品製：固形分１００質量％）                      １８．２  質量部
この塗料組成物に使用した処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数は５０ｎｍであり、塗料組成物への該金属キレートのリガンド添加量は、該金属キレートのモル量の２．０倍であった。
【０２２７】
［塗料組成物２６］
下記材料を混合し、塗料組成物２６を得た。
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）                                      ４３      質量部
処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）                                      ２８      質量部
バインダー原料（ＤＰＨＡ  ダイセルサイテック株式会社：固形分１００質量％）      
５．８    質量部
メチルイソブチルケトン                                          ４．１    質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                            １０      質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン    ０．２９  質量部
金属キレート（アルミニウムトリスアセチルアセトナート）          ０．０４５質量部
金属キレートのリガンド  （アセチルアセトン）                    ０．０１８質量部
フッ素化合物Ｂ  （Ｒ１８２０  ダイキン化成品製：固形分１００質量％）                  ８．７    質量部
この塗料組成物に使用した処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数は５０ｎｍであり、塗料組成物への該金属キレートのリガンド添加量は、該金属キレートのモル量の１．３倍であった。
【０２２８】
［塗料組成物２７］
下記材料を混合し、塗料組成物２７を得た。
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）                                      ４３      質量部
処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）                                      ２８      質量部
バインダー原料（ＤＰＨＡ  ダイセルサイテック株式会社：固形分１００質量％）      
５．８    質量部
メチルイソブチルケトン                                          ４．１    質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                            １０      質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン    ０．２９  質量部
金属キレート（アルミニウムトリスアセチルアセトナート）          ０．０４５質量部
金属キレートのリガンド  （アセチルアセトン）                    ０．０４９質量部
フッ素化合物Ｂ  （Ｒ１８２０  ダイキン化成品製：固形分１００質量％）                  ８．７    質量部
この塗料組成物に使用した処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数は５０ｎｍであり、塗料組成物への該金属キレートのリガンド添加量は、該金属キレートのモル量の３．５倍であった。
【０２２９】
［塗料組成物２８］
下記材料を混合し、塗料組成物２８を得た。
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）                                      ４３      質量部
処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）                                      ２８      質量部
バインダー原料（ＤＰＨＡ  ダイセルサイテック株式会社：固形分１００質量％）      
５．８    質量部
メチルイソブチルケトン                                          ４．２    質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                            １０      質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン    ０．２９  質量部
フッ素化合物Ｂ  （Ｒ１８２０  ダイキン化成品製：固形分１００質量％）                  ８．７    質量部
この塗料組成物に使用した処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数は５０ｎｍであった。
【０２３０】
［反射防止部材の作製１］
支持基材としてＰＥＴ樹脂フィルム上に易接着性塗料が塗工されている“ルミラー”Ｕ４６（東レ（株）製）を用いた。この支持基材の易接着塗料が塗工されている面上に、塗料組成物１〜１９、２２〜２８を、バーコーター（＃１０）を用いて塗工後、下記に示す第一段階の乾燥を行い、次いで第二段階の乾燥を行った。
第一段階
熱風温度２５℃
熱風風速０．５ｍ／ｓ  
風向   塗工面に対して平行
乾燥時間２分間
第二段階
熱風温度１３０℃
熱風風速５ｍ／ｓ  
風向   塗工面に対して垂直
乾燥時間２分間  
なお、熱風の風速は動静圧管による測定値を使用した。乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００Ｗ／ｃｍ２、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、酸素濃度０．１体積％の下で照射して硬化させ、実施例１〜１９、比較例１〜７の反射防止部材を作製した。
【０２３１】
［反射防止部材の作製２］
反射防止部材の作製１に対し、塗料組成物２０、２１を用い、バーコーター（＃１４）を用いること以外は同様にして実施例２０、２１の反射防止部材を作製した。
【０２３２】
［反射防止部材の作製３］
反射防止部材の作製１に対し、下記塗料組成物２９を用いること以外は同様にして実施例２２の反射防止部材を作製した。
【０２３３】
［塗料組成物２９］
下記材料を混合し、塗料組成物２９を得た。
処理無機粒子Ａ分散物（ａ）                                      ４３      質量部
処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）                                      ２８      質量部
バインダー原料（ＤＰＨＡ  ダイセルサイテック株式会社：固形分１００質量％）      
５．２    質量部
化合物（ｃ）（アクリロイルモルホリン  ＡＣＭＯ（株式会社興人製：固形分１００質量％）  ０．６質量部
メチルイソブチルケトン                                          ４．１    質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                            １０      質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン    ０．２９  質量部
金属キレート（アルミニウムトリスアセチルアセトナート）          ０．０４５質量部
金属キレートのリガンド  （アセチルアセトン）                    ０．０２８質量部
フッ素化合物Ｂ  （Ｒ１８２０  ダイキン化成品製：固形分１００質量％）                  ８．７    質量部
この塗料組成物に使用した処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数は５０ｎｍであり、塗料組成物への該金属キレートのリガンド添加量は、該金属キレートのモル量の２．０倍であった。また、化合物（ｃ）の膨潤度指数は３０％であった。
【０２３４】
［ハードコート部材の作製］
支持基材としてＰＥＴ樹脂フィルム上に易接着性塗料が塗工されている“ルミラー”Ｕ４６（東レ（株）製）を用いた。この支持基材の易接着塗料が塗工されている面上に、下記の塗料組成物３０を、バーコーター（＃１４）を用いて塗工後、反射防止部材の作製１と同じ条件にて乾燥及び紫外線照射を行って、実施例２３のハードコート部材を作製した。
【０２３５】
［塗料組成物３０］
下記材料を混合し、塗料組成物３０を得た。
処理無機粒子Ａ分散物（ｃ）                                      ３．５    質量部
処理無機粒子Ｂ分散物（ａ）                                      ３２      質量部
バインダー原料（ＤＰＨＡ  ダイセルサイテック株式会社：固形分１００質量％）      
７．２    質量部
化合物（ｃ）（アクリロイルモルホリン  ＡＣＭＯ（株式会社興人製：固形分１００質量％）  ０．８質量部
メチルイソブチルケトン                                          ３４．５  質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                            １０      質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン    ０．４０  質量部
金属キレート（アルミニウムトリスアセチルアセトナート）          ０．０１５質量部
金属キレートのリガンド  （アセチルアセトン）                    ０．００９質量部
フッ素化合物Ｂ  （Ｒ１８２０  ダイキン化成品製：固形分１００質量％）                          １２      質量部
この塗料組成物に使用した処理無機粒子Ｂとバインダー原料との相溶性指数は５０ｎｍであり、塗料組成物への該金属キレートのリガンド添加量は、該金属キレートのモル量の２．０倍であった。また、化合物（ｃ）の膨潤度指数は３０％であった。
【０２３６】
［相溶性指数］
相溶性指数は動的光散乱式粒径分布測定装置（株式会社堀場製作所製  動的光散乱式粒径分布測定装置  ＬＢ５５０）を使用した。
【０２３７】
測定において必要とするパラメーターの溶媒屈折率は、アッベ屈折率計（株式会社アタゴ製  アッベ屈折計  ＮＡＲ−３Ｔ）により、２５℃における測定値を求めた。
【０２３８】
また、測定において必要とするパラメーターである粒子の屈折率は、ＪＩＳ  Ｋ７１４２「プラスチックの屈折率測定方法」のうち、Ｂ法（顕微鏡を用いる液浸法（ベッケ線法））による。但し、ＪＩＳ  Ｋ７１４２で使用される浸液に代えて、島津デバイス製造社製「接触液」を使用し、温度が１５〜２０℃の条件で測定した。
【０２３９】
顕微鏡は、偏光顕微鏡「オプチフォト」（ニコン製）を使用した。これらの値を用いて測定回数１０００回で測定を行った。
【０２４０】
処理無機粒子Ｂを溶媒に固形分濃度２０質量％で分散した液（これを処理無機粒子Ｂ分散物１とする）と、処理無機粒子Ｂとバインダー原料の比率が質量比１：１で、処理無機粒子の固形分濃度が２０％になるようにした液（これを処理無機粒子Ｂ分散物２）を、動的光散乱法によって測定し、処理無機粒子Ｂ分散物１と、処理無機粒子Ｂ分散物２の体積基準分布のメディアン値の差を求め、これを相溶性指数とした。
【０２４１】
［処理無機粒子Ｂ分散物の固形分濃度の算出］
処理無機粒子Ｂ分散物の固形分濃度は、処理無機粒子Ｂ分散物をアルミ皿（この質量をＷ１とする）に約２ｇを秤量後（この質量をＷ２とする）、１２０℃の熱風オーブン内で１時間乾燥、デシケーター中で室温まで冷却後、秤量（この質量をＷ３とする）し、下記の式に従って固形分濃度を求めた。
固形分濃度  ＝（Ｗ３−Ｗ１）／（Ｗ２−Ｗ１）×１００
［処理無機粒子Ｂの比表面積Ｍ１（ｍ２／ｇ）の算出］
処理無機粒子Ｂの比表面積Ｍ１は、前述の方法で作成した処理無機粒子Ｂ分散物を乾燥させたものについて、ＪＩＳ  Ｚ  ８８３０（２００１）に基づく方法で、Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ社製流動式比表面積自動測定装置フローソーブＩＩＩ２３０５を用い窒素吸着法で測定を行った。
【０２４２】
〔化合物Ｂの最小被覆面積Ｎ１〕
化合物Ｂの最小被覆面積Ｎ１とは、化合物Ｂが粒子表面に結合するときの１分子あたりの占有面積（ｍ２／ｍｏｌ）であり、Ｓｔｕａｒｔ−ｂｒｉｅｇｌｅｂの分子モデルから計算されたものを指し、下記式により求める。
【０２４３】
最小被覆面積Ｎ１（ｍ２／ｇ）＝（７８．３×１０００）／化合物Ｂの分子量
［反射防止部材及びハードコート部材の評価］
作製した反射防止部材について次に示す性能評価を実施し、得られた結果を表に記載した。特に断りのない場合を除き、測定は各実施例・比較例において１つのサンプルについて場所を変えて３回測定を行い、その平均値を用いた。
【０２４４】
［２層の界面の有無］
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて断面を観察することにより、積層膜（反射防止層）中の２層の界面（第１層と第２層の界面）の有無を判断した。界面の有無の判断は以下の方法に従い判断した。ＴＥＭにより２０万倍の倍率で撮影した画像を、スキャナーを用いてプレゼンテーションソフトウェア（Ｍｉｃｒｏｓｏｆｔ  Ｐｏｗｅｒ  Ｐｏｉｎｔ２００３）に貼付した。次いで貼付した写真のイメージコントロール処理（コントラストを９０％とする）を行い、コントラストを強調した。この際に、１つの層と他の層との界面に明確な境界を引くことができる場合を、明確な界面があるとみなした（明確な境界を引くことができる場合を界面有りとして「○」で示し、明確な境界を引くことができない場合を界面無しとして「×」で示した。）。
【０２４５】
［第１層と第２層の層厚み］
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて断面を観察することにより、支持基材上の２層の各層の厚みを測定した。各層の厚みは、以下の方法に従い測定した。反射防止層の断面の超薄切片をＴＥＭにより２０万倍の倍率で撮影した画像から、ソフトウェア（画像処理ソフトＥａｓｙＡｃｃｅｓｓ）にて各層の厚みを読み取った。合計で３０点の層厚みを測定して平均値とした。
【０２４６】
[第１層の元素Ａの種類、濃度、第２層の元素Ｂの種類、濃度]
電界放出型電子顕微鏡（ＨＲＴＥＭ  ＪＥＯＬ製  ＪＥＭ２００１Ｆ）とＥＤＸ（ＪＥＯＬ製  ＪＥＤ−２３００Ｔ）を用いて、反射防止部材及びハードコート部材の超薄切片を、加速電圧２００ＫＶ、ビーム直径径１．０ｎｍで、反射防止部材及びハードコート部材の厚み方向２０ｎｍ×幅方向２０ｎｍの範囲について、１箇所あたり６０秒積算測定を行い、得られた各測定点での各元素の質量から、各元素の原子数の割合を求め、これを元素の濃度とした。
【０２４７】
元素Ａ、元素Ｂの決定は、第１層、第２層での各元素の濃度を積算し、濃度の最も高い金属、または半金属元素を元素Ａ、元素Ｂとした。
【０２４８】
測定箇所は、積層膜（反射防止層）の断面において、まず第１層では、大気側から第２層との間の界面に向かって、第１層の厚みの２５％、５０％、７５％の位置で測定をおこない、その点での元素Ａの濃度をｘ１、ｘ２、ｘ３とした。
【０２４９】
同様に第２層では、第１層との界面から支持基材に向かって、第２層の厚みの２０％、４０％、６０％、８０％の４箇所の測定をおこない、元素Ｂの濃度をそれぞれＸ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４とした。この測定結果から、Ｘ4／Ｘ１を求めた。
【０２５０】
[第１層の元素Ａの存在状態]
前述の記載の通り、ｘ１〜ｘ３の最小値ｘmin、最大値ｘmax、平均値ｘaveを求め、これを数式１に代入し、成り立つ場合には○（厚さ方向に均一に存在する）、成り立たない場合には×（均一ではない）とした。
（（ｘmax―ｘmin）/（ｘavr）×１００）≦１５                        数式１
[第２層の元素Ｂの存在状態]
前述の記載の通り、Ｘ１〜Ｘ４を数式２に代入し、全ての区間（すなわちn=1〜３）においてが正の場合には、○（界面から支持基材に向かって連続的に増加している）、１つでも負の場合には×（界面から支持基材に向かって連続的に増加していない）とした。
（（Ｘｎ＋１―Ｘｎ）＞０              数式２
［反射防止性能］
反射防止性能の評価は島津製作所製分光光度計ＵＶ−３１００を用いて４００ｎｍから８００ｎｍの波長範囲にて行い、最低反射率（ボトム反射率）を測定し、０．８％未満を合格とした。
【０２５１】
［透明性］
透明性はヘイズ値を測定することにより判定した。測定はＪＩＳ  Ｋ  ７１３６（２０００）に基づき、日本電色工業（株）製  ヘイズメーターを用いて、反射防止部材及びハードコート部材のサンプルの支持基材とは反対側（積層膜（反射防止層）側）から光を透過するように装置に置いて測定を行い、ヘイズ値が２％未満を合格とした。
【０２５２】
［干渉ムラ］
反射防止部材及びハードコート部材の積層膜（反射防止層）を形成していない面（支持基材側の面）を、つや消し黒のスプレー塗料にて均一に塗布し、この試料について、斜めより三波長蛍光灯（ＦＬ２０ＳＳ・ＥＸ−Ｎ／１８（松下電器産業製）の付いた電気スタンド）で試料面を照射し、その時に見える干渉縞を目視で評価した。下記のクラス分けを行い３点以上を合格とした。
５点：干渉ムラが無く、きれいに見える
４点：干渉ムラが僅かに確認できるが、きれいに見える
３点：干渉ムラが確認出来るが、使用上問題ないレベル
２点：干渉ムラが確認でき、場合によっては使用上問題となるレベル。
１点：干渉ムラが確認出来、使用上問題となるレベル  
［面状欠陥］
Ａ４サイズの反射防止部材及びハードコート部材の各２０枚について目視で確認を行い、欠陥部の外接円の直径が０．５ｍｍ以上の欠陥を面状欠陥としてカウントし、１枚あたりの欠陥の個数を求め、下記のクラス分けを行い、３点以上を合格とした。
５点    面状欠陥の数  １個未満
４点    面状欠陥の数  １個以上３個未満
３点    面状欠陥の数  ３個以上５個未満
２点    面状欠陥の数  ５個以上１０個未満
１点    面状欠陥の数  １０個以上
［耐擦傷性］
反射防止部材及びハードコート部材の積層膜（反射防止層）側に２５０ｇ／ｃｍ２荷重となるスチールウール（＃００００）を垂直にあて、１ｃｍの長さを１０往復した際に目視される傷の概算本数を記載し下記のクラス分けを行い、３点以上を合格とした。
５点：  ０本
４点：  １本以上  ５本未満  
３点：  ５本以上  １０本未満  
２点：  １０本以上  ２０本未満  
１点：  ２０本以上
［耐摩耗性］
本光製作所製消しゴム摩耗試験機の先端（先端部面積  １ｃｍ２）に、白ネル〔興和（株）製〕を取り付け、５００ｇの荷重をかけて反射防止部材の反射防止層上を５ｃｍ、５０００回往復摩擦し下記のクラス分けを行い、３点以上を合格とした。
５点：  傷なし
４点：  １〜１０本の傷  
３点：  １１〜２０本の傷  
２点：  ２１本以上の傷  
１点：  試験部分の反射防止層が全面剥離
［第１層と第２層の界面構造の測定；単位長さａ、長さｂ、長さｃの測定］
積層膜（反射防止層）の超薄切片をＴＥＭにより２０万倍の倍率で撮影した画像を、ソフトウェア（画像処理ソフトＥａｓｙＡｃｃｅｓｓ）にて、ホワイトバランスを最明部と最暗部が８ｂｉｔのトーンカーブに収まるように調整し、さらに２種類の粒子が明確に見分けられるようにコントラストを調節した。次いで、第１層と第２層とで形成される界面上に、直線距離が５００ｎｍ以上になるように２点（Ａ１、Ａ２）を決め、その２点を結ぶ直線長さ（単位長さａ）を求めた。
【０２５３】
次いで、この２点（Ａ１、Ａ２）、の間の第１層と第２層とで形成される界面に沿った長さを、ｏｂｊｅｃｔ検出モードにて、閾値の調節によって界面を検出させ、その境界線の長さを計測することにより、長さｂを求めた。
【０２５４】
さらに、前述のＡ１を通り単位長さａに直交する補助線を引き、さらに大気と第１層とで形成される界面と該補助線との交点を求め、それをＣ１とした。同様に、前述のＡ２を通り単位長さａに直交する補助線を引き、さらに大気と第１層とで形成される界面と該補助線との交点を求め、それをＣ２とした。そして、この２点の（Ｃ１、Ｃ２）の間の第１層と大気とで形成される界面に沿った長さを、同様に計測することにより、長さｃを求めた。
【０２５５】
これらの結果から得られた単位長さａ、長さｂ、及び長さｃから、それらの比（ｂ／ａ）、（ｂ／ｃ）を算出した。
【０２５６】
［第１層側表面の表面粗さＲａ（ｎｍ）の測定］
表面粗さ計（ＳＵＲＦＣＯＲＤＥＲ  ＥＴ４０００Ａ：（株）小坂研究所製）を用い、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１：２００１に基づき、下記測定条件にて測定を行った。Ｒａ（表面粗さ）とは、測定される断面曲線から、カットオフ値λｃの高域フィルタによって長波長成分を遮断して得られた輪郭曲線（粗さ曲線）を求め、その曲線の基準長さにおける高さ（平均線から測定曲線までの距離）の絶対値の平均値のことである。
＜測定条件＞
測定速度：０．１ｍｍ／Ｓ
評価長さ：１０ｍｍ
カットオフ値λｃ：０．１ｍｍ
フィルタ：ガウンシアンフィルタ低域カット
[膨潤度指数]
化合物（ｃ）の膨潤度指数は、非結晶ポリエチレンテレフタレートフィルム（Ａ−ＰＥＴシート）商品名“ＰＥＴ−ＭＡＸ”Ａ５６５ＧＥ２Ｒ（東洋紡績株式会社製）の帯電防止コートを設けていない側の面上に、化合物を、バーコーター（＃１０）を用いた塗布から３分間経過後、ガーゼを用いて荷重５０ｇにて拭取り作業を行い、拭取り後のフィルムのヘイズを測定した値（％）を表す。
【０２５７】
なおヘイズ測定は、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００）に基づき、日本電色工業（株）製 ヘイズメーターを用いて、前述のフィルムのバインダー成分Ａを滴下した側から光を透過するよう、装置に置いて測定する。
【０２５８】
処理無機粒子Ｂ分散物の処方、塗料組成物の構成と相溶性指数、反射防止部材とハードコート部材の物性、反射防止部材とハードコート部材の評価結果を表に記載した。評価項目において１項目でも合格とならないものについて、課題未達成と判断した。本発明の反射防止部材の実施例は表に記載したように、耐擦傷性、耐摩耗性と透明性、反射防止性能、さらに経済性のいずれにおいても合格しており、本発明が解決しようとする課題を達成している。また、同様に本発明のハードコート部材も耐擦傷性、耐摩耗性、透明性、さらに経済性のいずれにおいても合格しており、本発明が解決しようとする課題を達成している。
【０２５９】
濃度Ｘ１と濃度Ｘ４の比（Ｘ４／Ｘ１）が本発明の好ましい範囲よりも小さい実施例６、実施例８は干渉ムラがやや劣っていたが、許容できる範囲であった。
また、濃度Ｘ１と濃度Ｘ４の比（Ｘ４／Ｘ１）が本発明の好ましい範囲よりも大きい実施例１２は、反射率、透明性、面状欠陥がやや劣っていたが、許容できる範囲であった。
【０２６０】
該反射防止部材の第２層の厚みが、本発明の好ましい範囲より薄い実施例１８の反射防止部材では、耐擦傷性と耐摩耗性がやや劣っていたが、許容できる範囲であった。
【０２６１】
該反射防止部材の第２層の厚みが、本発明の好ましい範囲より厚い実施例２１の反射防止部材では、透明性、反射防止性能と経済性がやや劣っていたが、許容できる範囲であった。
【０２６２】
【表１】
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【０２６３】
【表２−１】
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【０２６４】
【表２−２】
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【０２６５】
【表３−１】
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【０２６６】
【表３−２】
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【０２６７】
【表４】
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【符号の説明】
【０２６８】
１      反射防止部材
２      支持基材
３      反射防止層
４、８  第１層
５  ９  第２層
６      無機粒子Ａ
７      無機粒子Ｂ
１０    元素Ａの濃度
１１    元素Ｂの濃度
１２    第１層側から基材側に向かって２０％の位置までの第２層の範囲
１３    基材側から第１層側に向かって２０％の位置までの第２層の範囲
【産業上の利用可能性】
【０２６９】
本発明の反射防止部材、塗料組成物、反射防止部材の製造方法は、例えば、プラスチック光学部品、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスチック容器、建築内装材としての床材、壁材、人工大理石等の傷付き（擦傷）防止や汚染防止のための保護コーティング材；フィルム型液晶素子、タッチパネル、プラスチック光学部品等の反射防止膜；各種基材の接着剤、シーリング材；印刷インクのバインダー材等として好適に用いることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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