(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂製の容器を０℃以上、１００℃以下の温度に保持した状態で、ヒドロキシ基を介して表面に吸着された有機金属ガスを、水蒸気又は酸素を含むガスをプラズマによって励起したガスで酸化して形成された原子層を積層する原子層堆積法により、前記容器の表面に金属酸化膜を成膜することを特徴とする被膜付き樹脂容器の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の被膜付き樹脂容器の製造方法において、前記有機金属ガスを拡散して前記容器に吸着させる工程と、前記水蒸気又は酸素を含むガスをプラズマによって励起したガスにより前記容器に吸着した有機金属ガスを酸化する工程とを繰り返すことにより、前記金属酸化膜を形成することを特徴とする被膜付き樹脂容器の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の被膜付き樹脂容器の製造方法において、前記励起したガスは、ガラスを含む誘電体からなる管にその周りから高周波磁界を印加して前記管内部にプラズマを発生させながら、前記管から水蒸気又は酸素を含有させたガスを導入することにより供給することを特徴とする被膜付き樹脂容器の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載の被膜付き樹脂容器の製造方法において、前記容器がポリエチレンテレフタレート樹脂製であることを特徴とする被膜付き樹脂容器の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載の被膜付き樹脂容器の製造方法において、前記容器を加熱しない状態で、前記金属酸化膜を成膜することを特徴とする被膜付き樹脂容器の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項に記載の被膜付き樹脂容器の製造方法において、前記金属酸化物膜を構成する金属が、珪素、アルミニウム、ガリウム、ゲルマニウム、チタン、ジルコニウム、及び亜鉛からなる群から選択されることを特徴とする被膜付き樹脂容器の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか一項に記載の被膜付き樹脂容器の製造方法において、前記金属酸化物膜を、前記容器の内面及び外面に形成することを特徴とする被膜付き樹脂容器の製造方法。
【請求項８】
容器を保持する反応容器と、この反応容器に保持された容器の温度を、０℃より高く、１００℃以下に保持する機構と、前記反応容器内に有機金属ガスを供給する供給手段と、前記反応容器に連通するガラスを含む誘電体からなる管及びにその周りから高周波磁界を印加して前記管内部にプラズマを発生させる機構を備え前記管から水蒸気又は酸素を含有させたガスを導入するプラズマガス供給手段とを具備し、前記供給手段から供給した有機金属ガスを拡散して前記容器にヒドロキシ基を介して吸着させる工程と、前記プラズマガス供給手段から供給された、水蒸気又は酸素を含むガスをプラズマによって励起したガスにより前記容器に吸着した有機金属ガスを酸化し且つ表面にヒドロキシ基を形成する工程とを繰り返す制御手段を具備することを特徴とする樹脂容器被覆装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂容器及び樹脂容器被覆装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、樹脂容器が、すなわち、樹脂製の包装容器が種々の分野で使用されている。樹脂容器は、金属容器やガラス容器と比較して軽量で、耐衝撃性に優れる半面、ガスバリア性に劣るという欠点がある。
【０００３】
そこで、従来、種々の被膜が検討されているが、比較的低温で成膜でき且つガスバリア性の高いものとして、プラズマＣＶＤにより形成された所定の珪素酸化物被膜が優れるとされている（特許文献１〜３など参照）。
【０００４】
しかしながら、できるだけ薄い膜で十分なガスバリア性を備えるという要求に対しては十分に答えられるものではなかった。種々の形状、寸法の樹脂容器が存在し、プラズマＣＶＤでは複雑な形状の内面に十分なガスバリア性の膜を形成することが困難であり、仮に形成してもかなり厚い膜を形成する必要があるという問題があった。
【０００５】
一方、従来より、緻密で薄いものでもガスバリア性に優れた被膜として、原子層堆積法により積層した酸化物薄膜が知られている。これは反応容器内に酸化物を堆積しようとする基板を置き、基板を２５０℃から４００℃程度で加熱しながら、反応容器内に有機金属ガスを充満させ、その後反応容器から当該ガスを排気し、次に酸化ガス、たとえばオゾンや水蒸気を導入して、排気する工程を繰り返すことで、基板上に酸化物薄膜を積層する方法である。反応容器内に有機金属ガスを導入することで、基板表面が当該ガスに曝され、有機金属ガス分子が基板表面に飽和吸着する。また基板が酸化ガスにさらされると、基板表面に付着した有機金属ガス分子が酸化され、一分子層に相当する酸化物薄膜が基板表面に形成される。これらの工程はＡＬＤサイクルとよばれるが、これを繰り返すことで、繰り返した回数分の分子層の酸化膜が形成される。基板温度を２５０℃から４００℃にするのは、次の理由からである。これより高い温度にすると、有機金属ガスの吸着時の分解反応が活発になり、一回の充満工程で吸着する分子の厚みが一分子層を越えて飽和しなくなり、最終的に形成される膜は酸化膜ではなく、金属膜になってしまう。また２５０℃より低温にすると、有機金属ガス分子の吸着確率が低下し、酸化膜自体の成膜ができなくなってしまう問題がある。よって、樹脂製の包装容器への適用は不可能であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−２３６９７６号公報
【特許文献２】特開２００２−３３１６０６号公報
【特許文献３】特開２００６−３４２４２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑み、緻密で薄くてガスバリア性に優れた被膜を有する樹脂容器及び樹脂容易被膜装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成する本発明の第１の態様は、樹脂製の容器と、前記容器の内面及び外面の少なくとも一方に設けられた金属酸化物膜とを具備し、前記金属酸化物膜は、当該金属酸化物膜を構成する金属が原子単位で堆積した原子層を複数層積層して５ｎｍ〜１００ｎｍの膜厚を有するものであることを特徴とする樹脂容器にある。
【０００９】
本発明の第２の態様は、第１の態様の樹脂容器において、前記金属酸化物膜は、前記容器を０℃〜１５０℃の温度に保持した状態で成膜されたものであることを特徴とする樹脂容器にある。
【００１０】
本発明の第３の態様は、第１又は２の態様の樹脂容器において、前記金属酸化物膜は、ヒドロキシ基を介して表面に吸着された有機金属ガスを、水蒸気又は酸素を含むガスをプラズマによって励起したガスで酸化して形成された原子層を積層したものであることを特徴とする樹脂容器にある。
【００１１】
本発明の第４の態様は、第１〜３の何れかの態様の樹脂容器において、前記金属酸化物膜を構成する金属が、珪素、アルミニウム、ガリウム、ゲルマニウム、チタン、ジルコニウム、及び亜鉛からなる群から選択されることを特徴とする樹脂容器にある。
【００１２】
本発明の第５の態様は、第１〜４の何れかの態様の樹脂容器において、前記金属酸化物膜は、前記容器の内面及び外面に形成されていることを特徴とする樹脂容器にある。
【００１３】
本発明の第６の態様は、容器を保持する反応容器と、この反応容器に保持された容器の温度を、０℃より高く、１５０℃以下に保持する機構と、前記反応容器内に有機金属ガスを供給する供給手段と、前記反応容器に連通するガラスを含む誘電体からなる管及びにその周りから高周波磁界を印加して前記管内部にプラズマを発生させる機構を備え前記管から水蒸気又は酸素を含有させたガスを導入するプラズマガス供給手段と、前記供給手段から供給した有機金属ガスを拡散して前記容器に吸着させる工程とを具備し、前記プラズマガス供給手段から供給された、水蒸気又は酸素を含むガスをプラズマによって励起したガスにより前記容器に吸着した有機金属ガスを酸化する工程とを繰り返す制御手段を具備することを特徴とする樹脂容器被覆装置にある。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】一実施形態に係る樹脂容器の断面図である。
【図２】他の実施形態に係る樹脂容器の断面図である。
【図３】一実施形態に係る、容器に金属酸化物膜を形成する樹脂容器被膜装置の概略的な説明図である。
【図４】一実施形態に係る水蒸気ガス発生装置と活性化装置の概略図である。
【図５】実施例の結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
【００１６】
図１には、一実施形態に係る樹脂容器の断面図を示す。
本実施形態の樹脂容器１００は、樹脂製の容器１０１と、容器１０１の表面に設けられた金属酸化物膜１０２とを具備する。本実施形態の金属酸化物膜１０２は、当該金属酸化物を構成する金属が原子単位で堆積した原子層を複数層積層して５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは、８ｎｍ〜３０ｎｍの膜厚を有するものである。なお、金属酸化物膜１０２は、容器１０１の少なくとも内面に設ければよいが、本実施形態では、内面及び外面の全ての表面に設けた。
【００１７】
かかる金属酸化物膜１０２は、成膜面上に有機金属ガス分子を吸着させる第１の工程と、有機金属ガス分子が吸着した成膜面上にプラズマにより励起した水蒸気又は酸素を導入して、吸着した有機金属ガス分子を酸化、分解して金属酸化物とすると共にその表面にヒドロキシ基を形成する第２の工程と、その後、前記第１工程及び第２工程を繰り返すことにより成膜したものであり、容器を０℃〜１５０℃の温度に保持した状態で成膜されたものである。
【００１８】
金属酸化物膜１０２の構造自体は、従来から公知の原子層堆積法により形成した膜に類似するが、成膜対象である容器を０℃〜１５０℃、好ましくは１００℃以下に保持した状態で成膜できる点が全く相違する。金属酸化物膜１０２は、このような温度条件にて緻密な膜として成膜されるものであり、また、このような温度条件によれば、容器が熱変形することなく、また、熱応力が発生することがなく、好ましい。
【００１９】
また、かかる金属酸化物膜１０２は、有機金属ガス分子を吸着させる第１の工程と、有機金属ガス分子が吸着した成膜面上にプラズマにより励起した水蒸気又は酸素を導入して、吸着した有機金属ガス分子を酸化、分解して金属酸化物とすると共にその表面にヒドロキシ基を形成する第２の工程とを繰り返すことにより成膜できるが、有機金属ガスの吸着の際には、有機金属ガスを拡散させればよく、プラズマにより励起した水蒸気又は酸素を導入して、吸着した有機金属ガス分子を酸化、分解して金属酸化物とする際には、励起したガスを拡散させればよいので、複雑な形状の容器の内面にも、また、入口が小さな容器の内面や、凹凸が形成された容器の内縁にも容易に成膜できるというメリットがある。
【００２０】
図２には、他の実施形態の樹脂容器の断面図を示す。この樹脂容器１００Ａは、容器１０１Ａの表面に金属酸化物膜１０２Ａが形成されている。容器１０１Ａは、凹凸を具備し、内面も凹凸になっているが、有機金属ガス分子は拡散により容器１０１Ａの内面にも均一に吸着するので、金属酸化物膜１０２Ａは容器１０１Ａの内面にも緻密に且つ均一に形成され、容器との密着性も良好である。
【００２１】
このように、本発明の樹脂容器の表面に形成されている金属酸化物膜は、緻密に且つ均一に形成されるので、例えば、プラズマＣＶＤなどにより形成された金属酸化物膜と比較してガスバリア性に優れたものである。また、上述したとおり、１５０℃以下、好ましくは１００℃以下の温度で成膜されるので、下地の容器を劣化させることがないものである。
【００２２】
因みに、従来技術の原子層堆積法において、積層時の基板の温度が２５０℃より下回ると、有機金属ガス分子の基板表面への吸着速度が低下し、酸化物が積層できなくなる。しかしながら、有機金属ガス分子は、容器表面にヒドロキシ基を構成すれば、それを吸着の座として、１０℃〜３０℃程度の室温でも吸着が可能である。そこで、好ましくは、有機金属ガス分子を吸着させる前に、容器表面にヒドロキシ基を低温で形成する工程を行う。具体的には、活性度が高められた水蒸気を用いて、容器表面をこれらガスに曝すことで、ヒドロキシ基を形成するのが好ましい。なお、成膜対象が、有機金属ガスを吸着し易いもの又は表面にヒドロキシ基を有するものである場合には、最初のヒドロキシ基を形成する工程は実施する必要はない。
【００２３】
プラズマ化されて活性度が高められた水蒸気とは、水が分解してできるＯＨ分子、さらにイオン化した水分子、単原子水素が考えられるが、これらが容器表面に曝されると、表面にヒドロキシ基が付加される。
【００２４】
なお、ヒドロキシ基の形成は、プラズマ化された水蒸気の他に、プラズマ化された酸素を用いても、室温での成膜の効果を期待できるが、成膜対処が可燃物である場合、酸素を用いると発火、火災の危険性がある。これに対し、プラズマ化された水蒸気では発火、火災等を効果的に防止できる利点がある。
【００２５】
本発明では、成膜対象である容器１０１を反応容器内に格納し、その中で容器１０１の温度を０℃より高く、１５０℃以下、好ましくは１００℃以下に保持し、まずは反応容器内に有機金属ガスを充満させる工程と、活性度が高められた酸化ガス、例えば、プラズマ化された水蒸気を導入する工程との、一連の工程を繰り返すことで、固体基板上に酸化物薄膜を形成する。反応容器内に有機金属ガスを充満させることで、基板表面のヒドロキシ基上に有機金属ガスは室温でも飽和吸着が可能である。次に、活性度が高められた酸化ガスを導入することで、有機金属ガスを酸化し、分解せしめ、かつ表面にヒドロキシ基が形成される。
【００２６】
本発明では、容器を反応容器内に格納し、その中で固体基板の温度を１５０℃以下、好ましくは１００℃以下に保持し、まずは反応容器内に有機金属ガスを充満させる工程と、活性度が高められた酸化ガス、例えば、プラズマ化された水蒸気を導入する工程の一連の工程を繰り返すなかで、オゾンを充満する工程をいれることで、有機金属ガスの吸着で発生する、表面炭化水素を効果的に除去することが可能となり、本発明で形成される酸化物薄膜に残留する炭素を効果的に低減することが可能である。
【００２７】
本発明では、容器を反応容器内に格納し、その中で固体基板の温度を１５０℃以下、好ましくは１００℃以下に保持し、まずは反応容器内に有機金属ガスを充満させる工程と、活性度が高められた酸化ガス、例えば、プラズマ化された水蒸気を導入する工程、オゾンを導入する工程の一連の工程を繰り返す酸化物薄膜の形成方法において、最初にオゾンを導入する工程を行い、次に活性度が高められた水蒸気を導入する工程を行い、次に有機金属ガスを充満させる工程を行い、以降上記の順番を繰り返すことが望ましい。最初にオゾンで基板を処理することで、容器表面に汚れとしてつく可能性がある炭化水素、油脂を効果的に酸化除去することが可能となり、酸化物薄膜のガスバリア性の向上につながる。この時点で、容器表面は薄い酸化物でおおわれるが、次に活性度が高められた酸化ガスで処理することで、表面にヒドロキシ基が付加される。次に、有機金属ガスを充満させる工程を経て、有機金属ガス分子は表面のヒドロキシ基を介して吸着する。以上の順番で工程を繰り返すが、酸化物薄膜が目標とする膜厚に達して、工程を終了する場合は、最後の工程はオゾンを導入する工程になるように制御を行う。オゾン処理された直後は、表面に金属原子と酸素との結合をなし、炭化水素などの不純物分子が吸着しにくく不活性であるため、酸化物薄膜のガスバリア性を向上させるのに好適である。もし、有機金属ガスの導入直後で終了すると、表面に炭化水素が残留するために、これらが不純物となり酸化物薄膜のガスバリア性が劣化する。また活性度が高められた酸化ガスを導入する工程を最後にすると、容器表面にヒドロキシ基が形成され、表面が親水化し、大気中から水が吸着する可能性がある。水分子は酸化物薄膜を劣化させる要因であり、この工程を最後にするのは好ましくはない。
【００２８】
ここで、容器を形成する樹脂としては、特に限定されないが、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、アクリロニトリルスチレン、ポリ塩化ビニルなどを挙げることができる。
【００２９】
また、金属酸化物膜を構成する金属としては、珪素、アルミニウム、ガリウム、ゲルマニウム、チタン、ジルコニウム、及び亜鉛からなる群から選択される少なくとも１種を挙げることができる。
【００３０】
よって、成膜の際に用いることができる有機金属ガスは、金属に直接炭素が結合した化合物、酸素を介して炭素が結合した化合物、窒素を介して炭素が結合した化合物など、ガス化する各種有機金属化合物を用いることができ、従来の原子層堆積法で用いることができる化合物は全て適用可能である。有機金属ガスとしては、例えば、トリメチルアミノシラン、ビスジメチルアミノシランなどの有機シリコン化合物；トリメチルアミドジルコニウムなどの有機ジルコニウム化合物；チタンイソポプロポオキシド、チタンジメチルエチルアミノチタンなどの有機チタン化合物；トリメチルガリウムなどの有機ガリウム化合物；有機亜鉛化合物；有機ゲルマニウム化合物；トリメチルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物などを挙げることができる。
【００３１】
金属酸化物膜の厚さは、５ｎｍ〜１００ｎｍが好ましい。この範囲であれば、十分なガスバリア性が得られるからである。例えば、酸化珪素膜の場合、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは、２０ｎｍ〜３０ｎｍが望ましい。また、酸化アルミニウム膜は、酸化珪素膜よりガスバリア性が優れていることがわかっており、酸化アルミニウム膜の場合、５ｎｍ〜３０ｎｍ、好ましくは、８ｎｍ〜２０ｎｍが望ましい。
【００３２】
なお、金属酸化物膜は、容器の内面及び外面に形成されているのが望ましく、上述した製法上、全体に成膜されるが、例えば、マスキング等して内面又は外面のみに設けることも可能である。
【００３３】
図３は、本発明の一実施形態に係る、容器に金属酸化物膜を形成する樹脂容器被膜装置の概略的な説明図を示す。
【００３４】
本発明の樹脂容器被膜装置において、成膜するための反応容器１内には容器の温度を、０℃より高く、１５０℃以下に保持する機構として温度調整台２が設けられ、温度調整台２には、被処理体である容器１０１、１０１Ａが載置されている。反応容器１は、排気ポンプ３につながれ、反応容器１に充満するガスを排気管４により排気するようになっている。また、反応容器１には、有機金属ガスを供給する供給手段として、有機金属ガス容器５が、流量制御器６を通して接続されている。また、オゾンを供給する手段として、オゾン容器７が、流量制御器８を通して接続されている。さらに、水蒸気又は酸素を含むガスをプラズマによって励起したガスを供給するプラズマガス供給手段として、水蒸気又は酸素ガス発生装置９が、活性化装置１０を通して接続されている。
【００３５】
このような装置を用い、上述したように、反応容器１内に有機金属ガスを充満させる工程と、活性度が高められた酸化ガス、例えば、プラズマ化された水蒸気を導入する工程と、オゾンを導入する工程との一連の工程を繰り返すことにより、金属酸化物膜を形成することができる、なお、オゾン供給手段は、必ずしも設ける必要はなく、また、オゾンを導入する工程は必ずしも実施する必要はない。
【００３６】
図４は本発明の実施形態に関わる、水蒸気ガス発生装置と活性化装置の概略図である。この装置において、左側からガスを導入し、加湿器１１において水をくぐらせることで、ガスを加湿させることができる。この場合のガスはアルゴンを用いる。加湿されたガスは、ガラス管１２の中で、誘導性コイル１３によって加えられた高周波磁界により領域１４にプラズマが生成され、ここを通ることで、活性化された水蒸気が生成し、反応容器１に送られる。例えば、誘導性コイル１３によって加えられる電磁エネルギーは２０Ｗで、周波数は１３．５６ＭＨｚである。
【実施例】
【００３７】
（実施例１）
図３の樹脂容器被覆装置を用いて、図１の容器に金属酸化物膜を成膜した。容器１０１は、ポリエチレンテレフタレート樹脂製であり、酸化珪素膜（シリカ膜）を形成した。
【００３８】
本実施例においては、有機金属ガスとしてトリメチルアミノシランを用いた。容器１０１の温度は２３℃とした。
【００３９】
最初に反応容器１に活性化された水蒸気を導入した。このとき、活性化された水蒸気の導入時間は２分とした。活性化された水蒸気の発生方法であるが、図４に示される装置を用い、水バブラーにアルゴンガスを３ｓｃｃｍの流量で流し、このとき水バブラー中の水の温度を５０℃とすることで、加湿されたアルゴンガスを作り、続いてガラス管の中で、誘導コイルでプラズマを発生させて、水蒸気を活性化させた。誘導コイルから導入される高周波電力は２０Ｗとした。活性化された水蒸気を反応容器１に導入した後、トリメチルアミノシランを２．３ｓｃｃｍの流量で２０秒間導入した。そして、反応容器１内を排気ポンプ３で排気した。これらの一連の工程をＡＬＤサイクルと呼ぶことにし、ＡＬＤサイクル数と容器１０１の表面上に形成された酸化珪素膜の関係が図５に示されるものとなった。一つのＡＬＤサイクルで０．０６ｎｍ分の酸化珪素膜が形成され、ＡＬＤサイクル数に比例して、酸化珪素膜が形成されることが明らかになった。
【００４０】
成膜レート０．０６ｎｍ／ｃｙｃｌｅを１００ｃｙｃｌｅ繰り返して６ｎｍの酸化珪素膜を成膜した樹脂容器を作製した。なお、酸化珪素膜は、容器の両面に形成され、全体に亘ってほぼ均一な膜厚となり、プラズマＣＶＤなどではつきまわりのよくない、容器肩部の内面や底部の隅部などでも均一な膜厚であることが確認された。
【００４１】
（実施例２）
実施例１と同様にして、１７ｎｍの酸化珪素膜を有する樹脂容器を得た。
【００４２】
（実施例３）
実施例１と同様にして、３０ｎｍの酸化珪素膜を有する樹脂容器を得た。
【００４３】
（実施例４）
有機金属ガスとして、トリメチルアルミニウムを用い、実施例１と同様にして、８ｎｍの酸化アルミニウム膜（アルミナ膜）を有する樹脂容器を得た。
【００４４】
（比較例）
金属酸化膜を形成しない、実施例１と同様のポリエチレンテレフタレート樹脂製の容器を比較例の樹脂容器とした。
【００４５】
（試験例１）
多検体酸素透過率測定装置ＯＸ−ＴＲＡＮ  ２／６１（ｍｏｃｏｎ社製）を用い、実施例１〜４及び比較例の酸素透過率を測定した。測定は、２３℃、６０％ＲＨ環境下（容器内部は２３℃、０％ＲＨ）で行い、容器の口部に窒素ガスの導入管及び排出管を装備した治具を取り付け、試験ガスとして空気を用い、導入管から窒素を１０ｃｃ／ｍｉｎで導入し、排出管から排出される窒素中に含有する酸素量を測定した。測定結果は、樹脂容器あたりの透過率（cc/pkg・day・atm）であり、結果は下記表１の通りである。なお、透過率は、係数４．８を乗して１００％酸素の透過率に換算して示した。
【００４６】
この結果、金属酸化膜を形成した実施例１〜４では、金属酸化膜を設けていない比較例と比較して酸素透過率が向上していることがわかった。
【００４７】
この結果、６ｎｍの厚さのシリカ膜を設けた実施例１は、ガスバリア性を示しており、均一化な膜が全体に亘って形成されていることが確認された。因みに、例えば、プラズマＣＶＤ膜の６ｎｍ程度の膜厚のシリカ膜ではガスバリア性を示すことはない。
【００４８】
また、アルミナ膜はシリカ膜と比較してガスバリア性が高く、８ｎｍの厚さの実施例４で優れたガスバリア性が発揮されることがわかった。因みに、５ｎｍの厚さでも十分なガスバリア性を示すことが確認されている。
【００４９】
【表１】
0005795427.tif 000002
【符号の説明】
【００５０】
１        反応容器
２        温度調整台
３        排気ポンプ
４        排気管
５        有機金属ガス容器
６        流量制御器
７        オゾン容器
８        流量制御器
９        水蒸気ガス発生装置
１０      活性化装置
１１      加湿器
１２      ガラス管
１３      誘導性コイル
１４      領域
１００，１００Ａ    樹脂容器
１０１，１０１Ａ    容器
１０２，１０２Ａ    金属酸化物膜
【要約】
【課題】  緻密で薄くてガスバリア性に優れた被膜を有する樹脂容器及び樹脂容易被膜装置を提供する。
【解決手段】  樹脂製の容器１０１と、前記容器１０１の内面及び外面の少なくとも一方に設けられた金属酸化物膜１０２とを具備し、前記金属酸化物膜１０２は、当該金属酸化物膜を構成する金属が原子単位で堆積した原子層を複数層積層して５ｎｍ〜１００ｎｍの膜厚を有する。
【選択図】  図１【図１】
0005795427.tif 000003
【図２】
0005795427.tif 000004
【図３】
0005795427.tif 000005
【図４】
0005795427.tif 000006
【図５】
0005795427.tif 000007