(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理対象のウェハを複数枚収容したカセットを洗浄槽に浸漬させて前記ウェハを洗浄するウェハ洗浄装置であって、
表面に複数設けられた洗浄用バブリング穴と、裏面に前記洗浄用バブリング穴よりも大径で複数設けられた攪拌用バブリング穴と、表面側と裏面側とを隔てて別々の部屋を形成する隔壁とを有し、前記裏面を前記洗浄槽の底面側に向けて該洗浄槽内に設置されたバブラー板と、
前記バブラー板の表面側及び裏面側の各部屋に対応して設けられ、対応する部屋に不活性ガスを供給するか否かを切り替えるガス供給・停止手段と、
前記カセットが前記洗浄槽内に配置されているか否かを検出するカセット検出センサと、
前記カセットが前記洗浄槽内に配置されていることを前記カセット検出センサが検出した場合には、前記バブラー板の表面側の部屋に対応する前記ガス供給・停止手段に前記不活性ガスを供給させ、前記カセットが前記洗浄槽内に配置されていることを前記カセット検出センサが検出していない場合には、前記バブラー板の裏面側の部屋に対応する前記ガス供給・停止手段に前記不活性ガスを供給させるコントローラとを備えることを特徴とするウェハ洗浄装置。
【請求項２】
前記バブラー板を、該バブラー板の裏面が前記洗浄槽の底面の周縁部側を向くように傾けた状態で前記洗浄槽内に設置したことを特徴とする請求項１に記載のウェハ洗浄装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のウェハ洗浄装置を用いた洗浄槽の洗浄方法であって、
前記カセットが前記洗浄槽内に配置されている状態で、前記バブラー板の表面側の部屋に前記不活性ガスを供給し、前記洗浄用バブリング穴から前記洗浄槽に送り込んだ前記不活性ガスによるバブリングで前記ウェハを洗浄する工程と、
前記カセットが前記洗浄槽内に配置されていない状態で、前記バブラー板の裏面側の部屋に前記不活性ガスを供給し、前記洗浄槽の底面に滞留する洗浄液を、前記攪拌用バブリング穴から前記洗浄槽に送り込んだ前記不活性ガスによるバブリングで前記洗浄槽の上部へ押し上げる工程と、を有することを特徴とする洗浄槽の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理対象のウェハを複数枚収容したカセットを、一列に配列された複数の処理槽に移送手段により順次浸漬させて自動的に洗浄するウェハエッチング装置のウェハ洗浄装置およびこれを用いた洗浄槽の洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
処理対象のウェハを複数枚収容したカセットを、一列に配列された複数の処理槽に移送手段により順次浸漬させて自動的に洗浄するウェハエッチング装置では、薬液で表面処理を行った後、純水による洗浄を行う。この洗浄が不十分であると、ウェハ表面に薬液等の不純物が残ってしまい、製品性能の低下や外観的な不具合の要因となる。
【０００３】
しかしながら、ウェハエッチング装置の洗浄槽の底に設置された純水供給配管から純水を噴射し、洗浄槽の外へオーバフローさせるだけでは、純水の置換量が足らずに洗浄不足を発生させることがある。純水による洗浄を強化するためにただ単に洗浄時間を延長させると、生産タクトに影響を与えてしまい生産性に欠けるとともに、純水の使用量も増加してしまう。
【０００４】
この問題の改善策として、純水を供給する純水供給配管とカセットの下から洗浄槽内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給配管とを備え、洗浄槽内に純水を供給するとともに純水中に不活性ガスをバブリングさせながらウェハを洗浄する洗浄装置が特許文献１に開示されている。不活性ガスのバブリングによる強制的な洗浄作用が加わるために、純水のオーバフローのみの場合と比較して、ウェハ表面から薬液などの付着物をより効果的に除去することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開昭６１−００７６３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記特許文献１のように、ウェハを収容したカセットの下から不活性ガスをバブリングすることでウェハ表面を効果的に洗浄することが可能である。しかしながら、カセットの下から上に向けてのバブリングでは洗浄槽の底に溜まった汚染水は洗浄槽の外へ掻き出されることはなく、洗浄槽の下部に滞留し、洗浄槽内に汚染された液が徐々に堆積するという問題があった。
【０００７】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、洗浄槽の下部に滞留する汚染された洗浄液を洗浄槽の外にオーバフローさせることのできるウェハ洗浄装置及び洗浄槽の洗浄方法を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、処理対象のウェハを複数枚収容したカセットを洗浄槽に浸漬させてウェハを洗浄するウェハ洗浄装置であって、表面に複数設けられた洗浄用バブリング穴と、裏面に洗浄用バブリング穴よりも大径で複数設けられた攪拌用バブリング穴と、表面側と裏面側とを隔てて別々の部屋を形成する隔壁とを有し、裏面を洗浄槽の底面側に向けて洗浄槽内に設置されたバブラー板と、バブラー板の表面側及び裏面側の各部屋に対応して設けられ、対応する部屋に不活性ガスを供給するか否かを切り替えるガス供給・停止手段と、カセットが洗浄槽内に配置されているか否かを検出するカセット検出センサと、カセットが洗浄槽内に配置されていることをカセット検出センサが検出した場合には、バブラー板の表面側の部屋に対応するガス供給・停止手段に不活性ガスを供給させ、カセットが洗浄槽内に配置されていることをカセット検出センサが検出していない場合には、バブラー板の裏面側の部屋に対応するガス供給・停止手段に不活性ガスを供給させるコントローラとを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、洗浄槽の底に滞留している洗浄液を洗浄槽の上部に押し上げてオーバフローさせ、洗浄液の汚染を低減させることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本発明にかかるウェハ洗浄装置の実施の形態の構成を示す図である。
【図２】図２は、バブラー板の構成を示す断面図である。
【図３】図３は、ウェハが収容されたカセットを洗浄槽内に配置していない状態でのバブリングの仕方を示す図である。
【図４】図４は、ウェハが収容されたカセットを洗浄槽内に配置した状態でのバブリングの仕方を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に、本発明にかかるウェハ洗浄装置及び洗浄槽の洗浄方法の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。
【００１２】
実施の形態．
図１は、本発明にかかるウェハ洗浄装置の実施の形態の構成を示す図である。実施の形態にかかるウェハ洗浄装置は、洗浄槽３、純水供給配管４、バブラー板５、カセット検出センサ６及びコントローラ７を備える。純水供給配管４は洗浄槽３内に純水を供給しており、洗浄液を洗浄槽３から溢れさせる（オーバフローさせる）ことによって洗浄液の一部を純水に置換する。カセット検出センサ６は、後述するウェハを収容したカセットが洗浄槽３内に配置されたことを検出するセンサである。バブラー板５は、洗浄槽３内の洗浄液の置換及びカセットに収容されたウェハの洗浄のために洗浄槽３内に泡を発生させる装置である。コントローラ７は、洗浄液の置換用の泡及びウェハの洗浄用の泡をバブラー板５から発生させるか否かを切り替える制御装置である。
【００１３】
図２は、バブラー板の構成を示す断面図である。バブラー板５は、隔壁５５によって表面側と裏面側とが隔てられて、表面側の部屋５１及び裏面側の部屋５２を有する２層構造となっている。バブラー板５の表面には、ウェハ洗浄用の目の細かい洗浄用バブリング穴５ｂが開いている。一方、バブラー板５の裏面には洗浄液置換用の目の粗い（洗浄用バブリング穴５ｂよりも大径の）攪拌用バブリング穴５ａが開いている。バブラー板５の部屋５１、５２は、それぞれに不活性ガスを供給するガス供給配管５３、５４が接続されており、コントローラ７がガス供給・停止手段としてのエアバルブ５ｃ、５ｄを開閉することによってどちらの部屋からバブリングを行うかが切り替えられる。
【００１４】
図３は、ウェハが収容されたカセットを洗浄槽内に配置していない状態でのバブリングの仕方を示す図である。ウェハが収容されたカセットが洗浄槽３内に無い場合（カセット検出センサ６がカセットを検出していない場合）、コントローラ７は、エアバルブ５ｄを開いてガス供給配管５４から部屋５２にガスを供給し、攪拌用バブリング穴５ａからガスを噴射させてバブリングを行い、洗浄槽３の底に滞留している洗浄液を洗浄槽３の上部側に押し上げてオーバフローさせる。この際、バブラー板５の裏面が洗浄槽３の底面３１の周縁部側を向くように傾けた状態でバブラー板５を設置し、洗浄槽３の底面３１及び側壁面３２に沿って洗浄液の流れ３３を形成することにより、洗浄槽３の底に滞留している洗浄液を効率的に洗浄槽３の上部側に押し上げることができる。
【００１５】
図４は、ウェハが収容されたカセットを洗浄槽内に配置した状態でのバブリングの仕方を示す図である。ウェハ２が収容されたカセット１が洗浄槽３内にある場合（カセット検出センサ６がカセット１を検出した場合）、コントローラ７はエアバルブ５ｃを開いてガス供給配管５３から部屋５１にガスを供給し、洗浄用バブリング穴５ｂからガスを噴射させてオーバフローを行い、ウェハ２の表面を通過する洗浄液流れ３４の流速を上げて洗浄効率を高くする。
【００１６】
なお、洗浄槽３やバブラー板５のメンテナンス時（洗浄時）には、コントローラ７は、カセット検出センサ６の検出結果によらず、エアバルブ５ｃ、５ｄを同時に開放させてもよい。このようにすれば、バブラー板５内部の汚れを空気圧で外部に排出しやすくなる。
【００１７】
本実施の形態にかかるウェハ洗浄装置は、洗浄槽の底に滞留している洗浄液を洗浄槽の上部に押し上げてオーバフローさせることができ、洗浄液の汚染を低減できる。これにより、洗浄不足の発生による歩留まりの低下を抑制し、ウェハ洗浄装置の長期使用が可能となる。また、洗浄時間を短縮し、生産性を落とすことなくウェハを強く洗浄できる。さらに、洗浄槽への純水の供給量を増やす必要がないため、純水を供給するためのポンプ等でのエネルギー消費を低減できる。
【産業上の利用可能性】
【００１８】
以上のように、本発明にかかるウェハ洗浄装置及び洗浄槽の洗浄方法は、洗浄槽の底に滞留している洗浄液を洗浄槽の上部に押し上げてオーバフローさせることができる点で有用であり、特に、処理対象のウェハを複数枚収容したカセットを、一列に配列された複数の処理槽に移送手段により順次浸漬させて自動的に洗浄するウェハエッチング装置への適用に適している。
【符号の説明】
【００１９】
１  カセット
２  ウェハ
３  洗浄槽
４  純水供給配管
５  バブラー板
５ａ  攪拌用バブリング穴
５ｂ  洗浄用バブリング穴
５ｃ、５ｄ  エアバルブ
６  カセット検出センサ
７  コントローラ
３１  底面
３２  側壁面
５１、５２  部屋
５３、５４  ガス供給配管
５５  隔壁
【図１】
0005781015.tif 000002
【図２】
0005781015.tif 000003
【図３】
0005781015.tif 000004
【図４】
0005781015.tif 000005