(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
先端側が一定方向に回転する磁気記録媒体側に向けて配設され、基端側から入射された光束を前記先端側に向けて伝播させる光束伝播素子と、
前記光束伝播素子の先端面上に配置され、前記光束から前記磁気記録媒体側に近接場光を発生させる散乱体と、を有し、
前記磁気記録媒体を前記近接場光によって加熱するとともに、前記磁気記録媒体に対して記録磁界を与えて磁化反転を生じさせ情報を記録させる記録ヘッドの製造方法であって、
前記光束伝播素子は、前記光束を反射させながら前記先端側へ導くコアと、前記コアを挟み込むように封止する第１クラッド及び第２クラッドと、を有し、
前記第１クラッドを形成する第１クラッド形成工程と、
前記第１クラッド上に前記コアの母材を形成するコア形成工程と、
前記コアの母材における前記先端面上に、前記コアの母材よりもエッチングレートが大きい前記散乱体の母材を形成する散乱体形成工程と、
前記コアの母材、及び前記散乱体の母材をパターニングして、前記コア及び前記散乱体を形成するパターニング工程と、
前記コアと前記散乱体とのエッチングレートの差を利用して、少なくとも前記散乱体をエッチングして、前記散乱体の外形形状を調整する調整工程と、
前記第１クラッドとの間で前記コアを挟み込むように、前記第２クラッドを形成する第２クラッド形成工程と、を有していることを特徴とする記録ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記パターニング工程では、前記コアの母材、及び前記散乱体の母材を同一工程で一括してパターニングを行うことを特徴とする請求項１記載の記録ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記調整工程では、前記散乱体のみをエッチングすることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の記録ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記パターニング工程に先立って、前記散乱体の前記先端面上を覆うように犠牲層を形成する犠牲層形成工程を有していることを特徴とする請求項１ないし請求項３の何れか１項に記載の記録ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記犠牲層は、前記コアの母材と同一材料により構成されていることを特徴とする請求項４記載の記録ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記散乱体形成工程に先立って、前記コアの母材における前記先端側に、前記コアよりも屈折率の低い低屈折率部を形成する低屈折率部形成工程を有していることを特徴とする請求項１ないし請求項５の何れか１項に記載の記録ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記パターニング工程では、第１パターニング工程及び第２パターニング工程を有し、
前記第１パターニング工程では、前記コア及び前記散乱体の母材を、前記第１クラッドに向けてエッチングし、
前記第２パターニング工程では、前記コア及び前記散乱体の母材の角部をエッチングすることを特徴とする請求項１ないし請求項６の何れか１項に記載の記録ヘッドの製造方法。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７の何れか１項に記載の記録ヘッドの製造方法を用いて製造されたことを特徴とする記録ヘッド。
【請求項９】
請求項８記載の記録ヘッドと、
前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記記録ヘッドを先端側で支持するサスペンションと、
前記サスペンションの基端側を支持するとともに、前記サスペンションを前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に向けて移動させるアクチュエータと、
前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と、
前記磁気記録媒体に対して記録磁界を与える記録素子、及び前記光束を出射する光源の作動を制御する制御部と、を備えていることを特徴とする情報記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接場光を利用して磁気記録媒体に各種の情報を記録する記録ヘッドの製造方法、記録ヘッド及び情報記録再生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータ機器におけるハードディスク等の磁気記録媒体（以下、ディスクという）は、より大量且つ高密度情報の記録再生を行いたい等のニーズを受けて、さらなる高密度化が求められている。そのため、隣り合う磁区同士の影響や、熱揺らぎを最小限に抑えるために、保磁力の強いものがディスクとして採用され始めている。そのため、ディスクに情報を記録することが困難になっていた。
【０００３】
そこで、上述した不具合を解消するために、光を集光したスポット光、若しくは、光を集光した近接場光を利用して磁区を局所的に加熱して一時的に保磁力を低下させ、その間にディスクへの書き込みを行うハイブリッド磁気記録方式の情報記録再生装置が提供されている。
特に、近接場光を利用する場合には、従来の光学系において限界とされていた光の波長以下となる領域における光学情報を扱うことが可能となる。よって、従来の光情報記録再生装置等を超える記録ビットの高密度化を図ることができる。
【０００４】
ハイブリッド磁気記録方式による記録ヘッドとしては、各種のものが提供されているが、その１つとして近接場光を利用して加熱を行う記録ヘッドが知られている（特許文献１参照）。
特許文献１に記載の記録ヘッドは、主磁極及び補助磁極を有する記録素子と、照射されたレーザ光から近接場光を発生させる近接場光発生素子と、を主に備えている。
また、近接場光発生素子は、レーザ光を反射させながら伝播させるコア、及びコアに密着してコアを封止するクラッドを有する光束伝播素子と、コアにおけるレーザ光の出射側端面に配置されコアよりも屈折率が低い低屈折率部と、低屈折率部における出射側端面に配置されレーザ光から近接場光を発生させる散乱体と、を備えている。
【０００５】
このように構成された記録ヘッドを利用する場合には、近接場光を発生させると同時に記録磁界を印加することで、ディスクに各種の情報を記録している。具体的に、近接場光発生素子では、コアに入射したレーザ光は、出射側に向かって集光しながら伝播し、その後低屈折率部を伝播して散乱体に入射する。そして、レーザ光は散乱体で近接場光に変換され、その近接場光によってディスクが加熱される。その結果、ディスクの磁気記録層は、近接場光によって局所的に加熱され、一時的に保磁力が低下する。また、レーザ光の照射と同時に、記録素子に駆動電流を供給することで、主磁極に近接するディスクの磁気記録層に対して記録磁界を局所的に印加する。
これにより、保磁力が一時的に低下した磁気記録層に各種の情報を記録することができる。つまり、近接場光の熱アシストと磁場との協働により、ディスクへの記録を行うことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４２３６６７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、上述した特許文献１では、コアの出射側端面上に散乱体を配置することで、近接場光強度の向上を図っているが、この記録ヘッドの具体的な製造方法が開示されていない。
ここで、コアや散乱体は非常に微細なパターンであるため、それぞれの位置合わせが難しいという問題がある。この場合、特に、レーザ光の伝播方向に直交する方向（コアの出射側端面上）におけるコアと散乱体との相対位置の位置合わせが難しい。そして、散乱体とコアとが位置ずれした場合には、コアを伝播してきたレーザ光が散乱体に入射せずにコアから漏れてしまい、近接場光の発生効率が低下するという問題がある。
【０００８】
そこで、本発明は、このような事情に考慮してなされたもので、その目的は、散乱体とコアとを精度良く位置決めして近接場光の発生効率を向上できる記録ヘッドの製造方法、記録ヘッド、及び情報記録再生装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上述した課題を解決するために以下の手段を提供する。
本発明に係る記録ヘッドの製造方法は、先端側が一定方向に回転する磁気記録媒体側に向けて配設され、基端側から入射された光束を前記先端側に向けて伝播させる光束伝播素子と、前記光束伝播素子の先端面上に配置され、前記光束から前記磁気記録媒体側に近接場光を発生させる散乱体と、を有し、前記磁気記録媒体を前記近接場光によって加熱するとともに、前記磁気記録媒体に対して記録磁界を与えて磁化反転を生じさせ情報を記録させる記録ヘッドの製造方法であって、前記光束伝播素子は、前記光束を反射させながら前記先端側へ導くコアと、前記コアを挟み込むように封止する第１クラッド及び第２クラッドと、を有し、前記第１クラッドを形成する第１クラッド形成工程と、前記第１クラッド上に前記コアの母材を形成するコア形成工程と、前記コアの母材における前記先端面上に、前記コアの母材よりもエッチングレートが大きい前記散乱体の母材を形成する散乱体形成工程と、前記コアの母材、及び前記散乱体の母材をパターニングして、前記コア及び前記散乱体を形成するパターニング工程と、前記コアと前記散乱体とのエッチングレートの差を利用して、少なくとも前記散乱体をエッチングして、前記散乱体の外形形状を調整する調整工程と、前記第１クラッドとの間で前記コアを挟み込むように、前記第２クラッドを形成する第２クラッド形成工程と、を有していることを特徴としている。
【００１０】
この構成によれば、パターニング工程において、コアの母材と散乱体の母材とをパターニングした後、少なくとも散乱体をエッチングすることで、基端側から先端側に向かう光束の伝播方向に直交する方向でのコアと散乱体との相対位置を精度良く位置決めできる。すなわち、伝播方向から見てコアの出射側端面上に散乱体が確実に配置されることになる。
これにより、コアの先端側まで伝播した光束を散乱体に向けて効果的に入射させることができるので、近接場光の発生効率を向上させることができる。
【００１１】
また、前記パターニング工程では、前記コアの母材、及び前記散乱体の母材を同一工程で一括してパターニングを行うことを特徴としている。
この構成によれば、パターニング工程において、コアの母材と散乱体の母材とを一括してパターニングすることで、光束の伝播方向に直交する方向でのコアと散乱体との相対位置をより精度良く位置決めできる。
【００１２】
また、前記調整工程では、前記散乱体のみをエッチングすることを特徴としている。
この構成によれば、コアと散乱体との光束の伝播方向に直交する方向での相対位置を保持した状態で、散乱体を所望の外形状に形成することができる。これにより、散乱体に向けてより効率的に光束を入射させることができる。
【００１３】
また、前記パターニング工程に先立って、前記散乱体の前記先端面上を覆うように犠牲層を形成する犠牲層形成工程を有していることを特徴としている。
この構成によれば、散乱体を覆うように犠牲層を形成することで、後のパターニング工程において散乱体を保護することができる。そのため、散乱体が基端側から先端側に沿う光束の伝播方向に沿ってパターニングされるのを防止できる。これにより、散乱体の前記伝播方向における長さ（厚さ）を確保できる。
【００１４】
また、前記犠牲層は、前記コアの母材と同一材料により構成されていることを特徴としている。
この構成によれば、犠牲層とコアの母材とを同一材料で形成することで、パターニング工程において犠牲層とコアの母材とを同じ速度でパターニングすることができる。
【００１５】
また、前記散乱体形成工程に先立って、前記コアの母材における前記先端側に、前記コアよりも屈折率の低い低屈折率部を形成する低屈折率部形成工程を有していることを特徴としている。
この構成によれば、散乱体近傍の材料中に発生する分極の大きさを小さくすることができ、その結果、散乱体中に発生する近接場光強度を大きくすることができる。
【００１６】
また、前記パターニング工程では、第１パターニング工程及び第２パターニング工程を有し、前記第１パターニング工程では、前記コア及び前記散乱体の母材を、前記第１クラッドに向けてエッチングし、前記第２パターニング工程では、前記コア及び前記散乱体の母材の角部をエッチングすることを特徴としている。
この構成によれば、第１パターニング工程でパターニングしたコア及び散乱体の母材に対して第２パターニングを施すことで、コア及び散乱体の母材の角部が選択的にエッチングされて斜面が形成される。そして、この状態でさらにエッチングを続けると、斜面が底面に対して一定の角度を保ちながらエッチングされる。これにより、伝播方向から見て任意の幅や高さにコア及び散乱体を形成することができる。
【００１７】
また、本発明に係る記録ヘッドは、上記本発明の記録ヘッドの製造方法を用いて製造されたことを特徴としている。
この構成によれば、上記本発明の記録ヘッドの製造方法を用いることで、コアと散乱体との伝播方向に直交する方向での相対位置を所望の位置関係に設定できる。これにより、コアを伝播してきた光束を効果的に散乱体に入射させることができ、近接場光の発生効率を向上できる。
【００１８】
また、本発明に係る情報記録再生装置は、上記本発明の記録ヘッドと、前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記記録ヘッドを先端側で支持するサスペンションと、前記サスペンションの基端側を支持するとともに、前記サスペンションを前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に向けて移動させるアクチュエータと、前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と、前記磁気記録媒体に対して記録磁界を与える記録素子、及び前記光束を出射する光源の作動を制御する制御部と、を備えていることを特徴としている。
この構成によれば、上記本発明の記録ヘッドを備えているので、上述した熱揺らぎ現象等の影響を抑制して、安定した記録を行うことができる。よって、記録ヘッド自体の書き込みの信頼性を高めることができ、高品質化を図ることができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係る記録ヘッド、及びその製造方法によれば、散乱体とコアとを精度良く位置決めして近接場光の発生効率を向上できる。
本発明に係る情報記録再生装置によれば、上述した熱揺らぎ現象等の影響を抑制して、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応することができ、高品質化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施形態における情報記録再生装置の構成図である。
【図２】図１に示すヘッドジンバルアセンブリの斜視図である。
【図３】図２に示すジンバルの平面図である。
【図４】図３に示すＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図５】記録再生ヘッドの拡大断面図である。
【図６】記録再生ヘッドの流出端側（前側）の側面を拡大した断面図である。
【図７】近接場光発生素子の底面図である。
【図８】情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図６に相当する拡大断面図である。
【図９】近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、（ａ）は図６に相当する断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図１０】近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、（ａ）は図６に相当する断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図１１】近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、（ａ）は図６に相当する断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図１２】近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、（ａ）は図６に相当する断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図１３】近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、（ａ）は図６に相当する断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図１４】近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、（ａ）は図６に相当する断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図１５】近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、（ａ）は図６に相当する断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図１６】近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、（ａ）は図６に相当する断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図１７】近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、（ａ）は図６に相当する断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図１８】第２実施形態における近接場光発生素子の底面図である。
【図１９】第２実施形態における近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
次に、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、本実施形態の情報記録再生装置１は、垂直記録層ｄ２を有するディスク（磁気記録媒体）Ｄに対して、近接場光Ｒと記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式によりディスクＤに記録再生を行う装置である（図５参照）。
【００２２】
（第１参考形態）
（情報記録再生装置）
図１は情報記録再生装置の構成図である。
情報記録再生装置１は、図１に示すように、キャリッジ１１と、キャリッジ１１の先端側に支持されたヘッドジンバルアセンブリ（ＨＧＡ）１２と、ヘッドジンバルアセンブリ１２をディスク面Ｄ１（ディスクＤの表面）に平行なＸＹ方向に向けてスキャン移動させるアクチュエータ５と、ディスクＤを所定の方向に向けて回転させるスピンドルモータ６と、情報に応じて変調した電流をヘッドジンバルアセンブリ１２の記録再生ヘッド（記録ヘッド）２に対して供給する制御部８と、これら各構成品を内部に収容するハウジング９と、を備えている。
【００２３】
ハウジング９は、アルミニウム等の金属材料により、上面視四角形状に形成されているとともに、内側に各構成品を収容する凹部９ａが形成されている。また、このハウジング９には、凹部９ａの開口を塞ぐように図示しない蓋が着脱可能に固定されるようになっている。凹部９ａの略中心には、スピンドルモータ６が取り付けられ、スピンドルモータ６に中心孔を嵌め込むことでディスクＤが着脱自在に固定される。
【００２４】
凹部９ａの隅角部には、アクチュエータ５が取り付けられている。このアクチュエータ５には、ピボット軸１０を介してキャリッジ１１が取り付けられている。キャリッジ１１は、基端部から先端部に向けてディスク面Ｄ１に沿って延設されたアーム部１４と、基端部を介してアーム部１４を片持ち状に支持する基部１５とが、削り出し加工等により一体形成されたものである。
基部１５は、直方体形状に形成されたものであり、ピボット軸１０まわりを回動可能に支持されている。つまり、基部１５はピボット軸１０を介してアクチュエータ５に連結されており、このピボット軸１０がキャリッジ１１の回転中心となっている。
【００２５】
アーム部１４は、基部１５におけるアクチュエータ５が取り付けられた側面１５ａと反対側の側面（隅角部の反対側の側面）１５ｂにおいて、基部１５の上面の面方向（ＸＹ方向）と平行に延出する平板状のものであり、基部１５の高さ方向（Ｚ方向）に沿って３枚延出している。具体的には、アーム部１４は、基端部から先端部に向かうにつれ先細るテーパ形状に形成され、各アーム部１４間に、ディスクＤが挟み込まれるように配置されている。つまり、アーム部１４とディスクＤとが、互い違いになるように配されており、アクチュエータ５の駆動によってアーム部１４がディスクＤの表面に平行な方向（ＸＹ方向）に移動可能とされている。なお、キャリッジ１１及びヘッドジンバルアセンブリ１２は、ディスクＤの回転停止時にアクチュエータ５の駆動によって、ディスクＤ上から退避するようになっている。
【００２６】
（ヘッドジンバルアセンブリ）
ヘッドジンバルアセンブリ１２は、後述する近接場光発生素子（光束伝播素子）２６を有する近接場光ヘッドである記録再生ヘッド２を支持するものである。
【００２７】
図２は、記録再生ヘッドを上向きにした状態でサスペンションを記録再生ヘッド側から見た斜視図である。図３は、記録再生ヘッドを上向きにした状態でジンバルを見た平面図である。図４は図３のＡ−Ａ’線に沿う断面図であり、図５は記録再生ヘッドの拡大断面図である。
図２〜図５に示すように、ヘッドジンバルアセンブリ１２は、上述した記録再生ヘッド２をディスクＤから浮上させる機能を有しており、記録再生ヘッド２と、金属性材料により薄い板状に形成され、ディスク面Ｄ１に平行なＸＹ方向に移動可能なサスペンション３と、記録再生ヘッド２を、ディスク面Ｄ１に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在な状態、すなわち２軸を中心として捻れることができるようにサスペンション３の下面に固定させるジンバル手段１６と、を備えている。
【００２８】
（サスペンション）
図２〜図４に示すように、上述したサスペンション３は、上面視略四角状に形成されたベースプレート５１と、ベースプレート５１の先端側にヒンジ板５２を介して連結された平面視略三角状のロードビーム５３と、で構成されている。
【００２９】
ベースプレート５１は、ステンレス等の厚みの薄い金属材料によって構成されており、基端側には厚さ方向に貫通する開口５１ａが形成されている。そして、この開口５１ａを介してベースプレート５１がアーム部１４の先端に固定されている。
ベースプレート５１の下面には、ステンレス等の金属材料により構成されたシート状のヒンジ板５２が配置されている。このヒンジ板５２は、ベースプレート５１の下面の全面に亘って形成された平板状の板材であり、その先端部分はベースプレート５１の先端からベースプレート５１の長手方向に沿って延出する延出部５２ａとして形成されている。この延出部５２ａは、ヒンジ板５２の幅方向両端部から２本延出しており、その先端部分にロードビーム５３が連結されている。
【００３０】
ロードビーム５３は、ベースプレート５１と同様にステンレス等の厚みの薄い金属材料によって形成されており、その基端がベースプレート５１の先端との間に間隙を有した状態でヒンジ板５２に連結されている。
これにより、サスペンション３は、ベースプレート５１とロードビーム５３との間を中心に屈曲して、ディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向に向けて撓み易くなっている。
【００３１】
また、サスペンション３上には、フレクシャ５４が設けられている。
このフレクシャ５４は、ステンレス等の金属材料により形成されたシート状のものであり、シート状に形成されることで厚さ方向に撓み変形可能に構成されている。また、このフレクシャ５４は、ロードビーム５３の先端側に固定され、外形が上面視略五角形状に形成されたジンバル１７と、ジンバル１７より幅狭に形成され、ジンバル１７の基端からサスペンション３上に沿って延在する支持体１８とで構成されている。
【００３２】
ジンバル１７は、中間付近から先端にかけてディスク面Ｄ１に向けて厚さ方向に僅かながら反るように形成されている。そして、この反りが加わった先端側がロードビーム５３に接触しないように、基端側から略中間付近にかけてロードビーム５３に固定されている。また、この浮いた状態のジンバル１７の先端側には、周囲がコ形状に刳り貫かれた切欠部５９が形成され、この切欠部５９に囲まれた部分には連結部１７ａによって片持ち状に支持されたパッド部１７ｂが形成されている。
つまり、このパッド部１７ｂは、連結部１７ａによってジンバル１７の先端側から基端側に向けて張出し形成されており、その周囲に切欠部５９を備えている。
【００３３】
これにより、パッド部１７ｂはジンバル１７の厚さ方向に撓みやすくなっており、このパッド部１７ｂのみがサスペンション３の下面と平行になるように角度調整されている。そして、このパッド部１７ｂ上に上述した記録再生ヘッド２が載置固定されている。つまり、記録再生ヘッド２は、パッド部１７ｂを介してロードビーム５３にぶら下がった状態となっている。
【００３４】
また、図３，図４に示すように、ロードビーム５３の先端には、パッド部１７ｂ及び記録再生ヘッド２の略中心に向かって突出する突起部１９が形成されている。この突起部１９の先端は、丸みを帯びた状態となっている。そして突起部１９は、記録再生ヘッド２がディスクＤから受ける風圧によりロードビーム５３側に浮上したときに、パッド部１７ｂの表面（上面）に点接触するようになっている。
つまり、突起部１９は、ジンバル１７のパッド部１７ｂを介して、記録再生ヘッド２を支持するとともに、ディスク面Ｄ１に向けて（Ｚ方向に向けて）記録再生ヘッド２に荷重を付与するようになっている。
なお、これら突起部１９とパッド部１７ｂを有するジンバル１７とが、ジンバル手段１６を構成している。
【００３５】
図２に示す支持体１８は、ジンバル１７に一体形成されたシート状のものであり、サスペンション３上をアーム部１４に向かって延設されている。つまり、支持体１８は、サスペンション３が変形した際にサスペンション３の変形に追従するように構成されている。また、この支持体１８は、アーム部１４上から側面に回りこんで、キャリッジ１１の基部１５に至るまで引き回されている。
【００３６】
（記録再生ヘッド）
図６は記録再生ヘッドの流出端側の側面を拡大した断面図である。
記録再生ヘッド２は、ディスクＤとサスペンション３との間に配置された状態で、サスペンション３の下面に後述するジンバル１７を挟んで支持されている。
具体的に、記録再生ヘッド２は、図５，図６に示すように、レーザ光Ｌから生成した近接場光Ｒを利用して回転するディスクＤに各種の情報を記録再生するヘッドである。記録再生ヘッド２は、ディスク面Ｄ１から所定距離Ｈだけ浮上した状態でディスクＤに対向配置されたスライダ２０と、ディスクＤに情報を記録する記録素子２１と、ディスクＤに記録されている情報を再生する再生素子２２と、レーザ光Ｌを集光しながら伝播するとともに、近接場光Ｒに生成した後に外部に発する近接場光発生素子２６と、近接場光発生素子２６に向けてレーザ光Ｌを出射するレーザ光源２９と、を備えている。
【００３７】
スライダ２０は、石英ガラス等の光透過性材料や、ＡｌＴｉＣ（アルチック）等のセラミック等によって直方体状に形成されている。このスライダ２０は、ディスクＤに対向する対向面２０ａを有しており、後述するレーザマウント４３を介して上述したパッド部１７ｂに支持されている。
【００３８】
また対向面２０ａには、回転するディスクＤによって生じた空気流の粘性から、浮上するための圧力を発生させる凸条部２０ｂが形成されている。この凸条部２０ｂは、長手方向（Ｘ方向）に沿って延びるように形成されており、レール状に並ぶように間隔を空けて左右（Ｙ方向）に２つ形成されている。但し、凸条部２０ｂはこの場合に限定されるものではなく、スライダ２０をディスク面Ｄ１から離そうとする正圧と、スライダ２０をディスク面Ｄ１に引き付けようとする負圧と、を調整して、スライダ２０を最適な状態で浮上させるように設計されていれば、どのような凹凸形状でも構わない。なお、この凸条部２０ｂの表面はＡＢＳ（ＡＩＲ  ＢＥＡＲＩＮＧ  ＳＵＲＦＡＣＥ）２０ｃと呼ばれている。
【００３９】
そしてスライダ２０は、この２つの凸条部２０ｂによってディスク面Ｄ１から浮上する力を受けている。一方、サスペンション３はディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向に撓むようになっており、スライダ２０の浮上力を吸収している。つまり、スライダ２０は、浮上した際にサスペンション３によってディスク面Ｄ１側に押さえ付けられる力を受けている。よってスライダ２０は、この両者の力のバランスによって、上述したようにディスク面Ｄ１から所定距離Ｈ離間した状態で浮上するようになっている。しかもスライダ２０は、ジンバル手段１６によってＸ軸回り及びＹ軸回りに回動するようになっているので、常に姿勢が安定した状態で浮上するようになっている。
なお、ディスクＤの回転に伴って生じる空気流は、スライダ２０の流入端側（サスペンション３のＸ方向基端側）から流入した後、ＡＢＳ２０ｃに沿って流れ、スライダ２０の流出端側（サスペンション３のＸ方向先端側）から抜けている。
以下、スライダ２０の流入端側（リーディングエッジ側）、つまり図５におけるＸ方向右側を「後方」とし、スライダ２０の流出端側（トレイリングエッジ側）、つまり図５におけるＸ方向左側を「前方」とする。また、記録再生ヘッド２に対してディスク面Ｄ１側、つまり図５におけるＺ方向下側を「下方」とし、その反対側、つまり図５におけるＺ方向上側を「上方」とする。
【００４０】
再生素子２２は、ディスクＤの垂直記録層ｄ２（図５参照）から漏れ出ている磁界の大きさに応じて電気抵抗が変換する磁気抵抗効果膜であり、スライダ２０の前端面２０ｄに固定されている。この再生素子２２には、後述する電気配線５６を介して制御部８からバイアス電流が供給されている。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することでき、この電圧の変化から信号の再生を行うことができるようになっている。
【００４１】
近接場光発生素子２６は、ディスク面Ｄ１に対向する対向面２６ａから近接場光Ｒを発生させる素子であり、再生素子２２の前方に配設されている。この近接場光発生素子２６は、先端をディスク面Ｄ１に向けて上下に延設されたコア２３と、コア２３の下端面２３ｂに配置された低屈折率部２５と、低屈折率部２５の下端面に配置された散乱体２７と、コア２３の側面に密着してコア２３を封止するクラッド２４と、を備えている。
【００４２】
コア２３は、上端側（基端側）から入射されたレーザ光Ｌを下端側（先端側）に向けて集光しながら伝播させる光束伝播部材であり、上下方向を長手方向とする直方体形状に形成されている。コア２３の上端面２３ａは、スライダ２０の上面と面一とされ、外部に向けて露出している。
【００４３】
クラッド２４は、コア２３よりも屈折率が低い材料で形成され、コア２３の側面全周に密着する一方、コア２３の上端面２３ａを外部に露出させた状態でコア２３を封止するモールド部材である。具体的に、クラッド２４は、コア２３と再生素子２２との間でコア２３を後側から覆うように形成された第１クラッド２４ａと、コア２３と記録素子２１との間でコア２３を前側から覆うように形成された第２クラッド２４ｂと、を備えている。このように、第１クラッド２４ａ及び第２クラッド２４ｂがコア２３の側面に密着しているので、コア２３とクラッド２４との間に隙間が生じないようになっている。
【００４４】
なお、クラッド２４及びコア２３として使用される材料の組み合わせの一例を記載すると、例えば、石英（ＳｉＯ2）でコア２３を形成し、フッ素をドープした石英でクラッド２４を形成する組み合わせが考えられる。この場合には、レーザ光Ｌの波長が４００ｎｍのときに、コア２３の屈折率が１．４７となり、クラッド２４の屈折率が１．４７未満となるので好ましい組み合わせである。
また、ゲルマニウムをドープした石英でコア２３を形成し、石英（ＳｉＯ2）でクラッド２４を形成する組み合わせも考えられる。この場合には、レーザ光Ｌの波長が４００ｎｍのときに、コア２３の屈折率が１．４７より大きくなり、クラッド２４の屈折率が１．４７となるのでやはり好ましい組み合わせである。
特に、コア２３とクラッド２４との屈折率差が大きいほど、コア２３内にレーザ光Ｌを閉じ込める力が大きくなるので、コア２３に酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5：波長が５５０ｎｍのときに屈折率が２．１６）を用い、クラッド２４に石英やアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）等を用いて、両者の屈折率差を大きくすることがより好ましい。また、赤外領域のレーザ光Ｌを利用する場合には、赤外光に対して透明な材料であるシリコン（Ｓｉ：屈折率が約４）でコア２３を形成することも有効である。
【００４５】
図７は近接場光発生素子の底面図である。
図６，図７に示すように、低屈折率部２５は、コア２３の下端面２３ｂに密着して設けられている。低屈折率部２５は、コア２３よりも屈折率の低い材料からなり、クラッド２４と同一材料により構成されている。なお、低屈折率部２５の厚さ（Ｚ方向における厚さ）は、コア２３が散乱体２７に接しないように、散乱体２７の厚さよりも厚く形成するのが好ましい。一方で、低屈折率部２５が厚過ぎると、コア２３から伝播したレーザ光Ｌが散乱体２７に到達する前に拡散してしまうので、低屈折率部２５の厚さは低屈折率部２５を伝播するレーザ光Ｌの波長よりも小さくするのが好ましい。
【００４６】
また、低屈折率部２５の厚さは、コア２３中に戻るレーザ光Ｌの反射光強度が最小になるように設定することが好ましい。具体的に、記録再生ヘッド２をディスク面Ｄ１に近づけた際、コア２３と低屈折率部２５との界面、後述する散乱体２７の下面、ディスク面Ｄ１で反射される光が互いに干渉する。このとき、コア２３へ戻る方向に進むレーザ光Ｌが互いに打ち消しあうように低屈折率部２５の厚さを設定すると、コア２３中へ戻る反射光を小さくすることができる。このように、反射光強度が最小となるとき、レーザ光Ｌは低屈折率部２５の内部を往復することになる（低屈折率部２５に閉じ込められる）。これは、散乱体２７に入射するレーザ光Ｌの量が多くなることに相当し、散乱体２７近傍に発生する近接場光強度を増加させることが出来る。
【００４７】
散乱体２７は、コア２３内を伝播してきたレーザ光Ｌから近接場光Ｒを発生させ、近接場光Ｒを近接場光発生素子２６の対向面２６ａと図５に示すディスク面Ｄ１との間に局在化させるものであり、例えば金（Ａｕ）や白金（Ｐｔ）、銀（Ａｇ）等により構成されている。散乱体２７は、再生素子２２側（後側）を底辺、記録素子２１側（前側）を頂点とするＺ方向から見て三角形状に形成され、前方に向かって漸次縮幅されている。散乱体２７は、Ｚ方向から見た外形形状がコア２３の下端面２３ｂよりも小さく形成されており、コア２３の外周縁よりも内側に収まるように配置されている。また、散乱体２７は、低屈折率部２５の下端面に埋設され、その下面がスライダ２０のＡＢＳ２０ｃ、記録素子２１、及び再生素子２２におけるディスク面Ｄ１に対向する対向面２１ａ，２２ａと面一とされている。なお、散乱体２７では、記録素子２１側の角部（頂点）において近接場光Ｒが発生するようになっており、ディスクＤのうちの主磁極３３に近い部分を加熱することができる。
【００４８】
記録素子２１は、図５に示す対向面２１ａから記録磁界を発生させ、その記録磁界をディスクＤに作用させて情報を記録する素子であり、図６に示すように、近接場光発生素子２６の第２クラッド２４ｂの前端面に配置されている。この記録素子２１には、第２クラッド２４ｂの前端面に固定された主磁極３３と、主磁極３３の前方に配設されて磁気回路３２を介して主磁極３３に接続された補助磁極３１と、磁気回路３２を中心として磁気回路３２の周囲を螺旋状に巻回するコイル３４と、が備えられている。
つまり、スライダ２０の前端面２０ｄから前方に向かって、主磁極３３、磁気回路３２及びコイル３４、補助磁極３１の順で並べて配置されている。
【００４９】
両磁極３１，３３及び磁気回路３２は、磁束密度が高い高飽和磁束密度（Ｂｓ）材料（例えば、ＣｏＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金等）により形成されている。また、コイル３４は、ショートしないように、隣り合うコイル線間、磁気回路３２との間、両磁極３１，３３との間に隙間が空くように配置されており、この状態で絶縁体３５によってモールドされている。そして、コイル３４は、情報に応じて変調された電流が制御部８（図１参照）から供給されるようになっている。すなわち、磁気回路３２及びコイル３４は、全体として電磁石を構成している。また、上述した主磁極３３、補助磁極３１及び絶縁体３５のディスク面Ｄ１に対向する各対向面３３ａ，３１ａ，３５ａ（Ｚ方向端面）は、スライダ２０のＡＢＳ２０ｃとそれぞれ面一に形成されている。上述した構成の記録素子２１では、コイル３４に電流が供給されることで、磁力線が主磁極３３の対向面３３ａから出て補助磁極３１の対向面３１ａに入る記録磁界が発生する。
【００５０】
上述した記録再生ヘッド２のスライダ２０には、レーザ光源２９が搭載されている。レーザ光源２９は、スライダ２０の上面に固定されたレーザマウント４３と、レーザマウント４３の前端面４３ａに固定された半導体レーザチップ４４と、を有している。
【００５１】
レーザマウント４３は、例えばスライダ２０と同一材料により構成され、ＸＹ方向における外形がスライダ２０と同等に形成された板状の部材であり、上面側がジンバル１７の後述するパッド部１７ｂに固定されている。すなわち、スライダ２０は、パッド部１７ｂとの間にレーザマウント４３を挟持した状態でパッド部１７ｂに固定されている。なお、図示しないがレーザマウント４３には、後述する電気配線５６が固定されており、レーザマウント４３の前端面４３ａに形成された図示しない電極パッドに電気的に接続されている。
【００５２】
半導体レーザチップ４４は、レーザマウント４３の前端面４３ａに形成された図示しない電極パッド上に実装されている。この場合、半導体レーザチップ４４は、レーザ光Ｌの出射側端面４４ａを下方に向けた状態で、かつコア２３の上端面２３ａに対向するように配置されている。また、半導体レーザチップ４４の出射側端面４４ａと、上端面２３ａとの間に間隔Ｋを有しているが、この間隔Ｋ内にコア２３と同等の屈折率を有するオイル等を介在させても構わない。
【００５３】
なお、ディスクＤは、図５に示すように、ディスク面Ｄ１に垂直な方向に磁化容易軸を有する垂直記録層ｄ２と、高透磁率材料からなる軟磁性層ｄ３との少なくとも２層で構成される垂直２層膜ディスクＤを使用する。このようなディスクＤとしては、例えば、基板ｄ１上に、軟磁性層ｄ３と、中間層ｄ４と、垂直記録層ｄ２と、保護層ｄ５と、潤滑層ｄ６とを順に成膜したものを使用する。
基板ｄ１としては、例えば、アルミ基板やガラス基板等である。軟磁性層ｄ３は、高透磁率層である。中間層ｄ４は、垂直記録層ｄ２の結晶制御層である。垂直記録層ｄ２は、垂直異方性磁性層となっており、例えばＣｏＣｒＰｔ系合金が使用される。保護層ｄ５は、垂直記録層ｄ２を保護するためのもので、例えばＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜が使用される。潤滑層ｄ６は、例えば、フッ素系の液体潤滑材が使用される。
【００５４】
ところで、図１に示すように、キャリッジ１１の基部１５における側面１５ｃには、ターミナル基板５５が配置されている。このターミナル基板５５は、ハウジング９に設けられた制御部８と記録再生ヘッド２とを電気的に接続する際の中継点となるものであり、その表面には、各種制御回路（不図示）が形成されている。
制御部８とターミナル基板５５とは、可撓性を有するフラットケーブル４により電気的に接続されている一方、ターミナル基板５５と記録再生ヘッド２とは、電気配線５６により接続されている。この電気配線５６は、各キャリッジ１１毎に設けられた記録再生ヘッド２に対応して３組設けられており、フラットケーブル４を介して制御部８から出力された信号に情報に応じて変調した電流が、電気配線５６を介して記録再生ヘッド２に供給されるようになっている。
【００５５】
電気配線５６は、ターミナル基板５５の表面からアーム部１４の側面を通って、アーム部１４上に引き回されている。具体的には、電気配線５６は、アーム部１４及びサスペンション３上において、フレクシャ５４の支持体１８上に配置されており、支持体１８を間に挟んだ状態でサスペンション３の先端まで引き回されている。
【００５６】
そして、電気配線５６は、サスペンション３の先端（ジンバル１７の中間位置）において再生素子２２及び記録素子２１に電流を供給するための第１電気配線５７と、レーザ光源２９に電流を供給するための第２電気配線５８と、に分岐している。
具体的に、第１電気配線５７は、電気配線５６の先端側における分岐地点において、ジンバル１７の外周部分に向けて屈曲されており、ジンバル１７の外周部分（切欠部５９の外側）から引き回されている。そして、切欠部５９の外側から引き回された第１電気配線５７は、連結部１７ａ上を通って記録再生ヘッド２の前端面側に接続されている。すなわち、第１電気配線５７は、スライダ２０の前端面２０ｄ側に設けられた再生素子２２と記録素子２１とのそれぞれに対して、記録再生ヘッド２の外部から接続されている。
【００５７】
一方、第２電気配線５８は、上述した分岐地点からジンバル１７の長手方向（Ｘ方向）に沿って延在しており、ジンバル１７の切欠部５９を跨いで記録再生ヘッド２の後端面側から、レーザマウント４３に接続されている。そして、第２電気配線５８は、レーザマウント４３の前端面４３ａに形成された電極パッドに接続され、この電極パッドを介して半導体レーザチップ４４に電流を供給するようになっている。また、第２電気配線５８は、分岐地点においてジンバル１７の下面から離間されており、分岐地点から記録再生ヘッド２の前端面側に向かうにつれ、パッド部１７ｂとジンバル１７との間を架け渡すように僅かながら浮いた状態で延在している。つまり、ジンバル１７の下面において、第２電気配線５８は略直線的（曲率半径が略無限大）に延在した状態で、記録再生ヘッド２の幅方向（Ｙ方向）中央部から記録再生ヘッド２の後側に引き回されている。
【００５８】
（情報記録再生方法）
次に、このように構成された情報記録再生装置１により、ディスクＤに各種の情報を記録再生する場合について以下に説明する。
まず、図１に示すように、スピンドルモータ６を駆動させてディスクＤを一定方向に回転させる。次いで、アクチュエータ５を作動させて、キャリッジ１１を介してサスペンション３をＸＹ方向にスキャンさせる。これにより、ディスクＤ上の所望する位置に記録再生ヘッド２を位置させることができる。この際、記録再生ヘッド２は、スライダ２０の対向面２０ａに形成された２つの凸条部２０ｂによって浮上する力を受けるとともに、サスペンション３等によってディスクＤ側に所定の力で押さえ付けられる。記録再生ヘッド２は、この両者の力のバランスによって、図２に示すようにディスクＤ上から所定距離Ｈ離間した位置に浮上する。
【００５９】
また、記録再生ヘッド２は、ディスクＤのうねりに起因して発生する風圧を受けたとしても、サスペンション３によってＺ方向の変位が吸収されるとともに、ジンバル１７によってＸＹ軸回りに変位することができるようになっているので、うねりに起因する風圧を吸収することができる。そのため、記録再生ヘッド２を安定した状態で浮上させることができる。
【００６０】
図８は情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図６に相当する拡大断面図である。
ここで、情報の記録を行う場合、図８に示すように、制御部８はレーザ光源２９を作動させてレーザ光Ｌを出射させるとともに、情報に応じて変調した電流をコイル３４に供給して記録素子２１を作動させる。
まず、レーザ光源２９からレーザ光Ｌを出射し、このレーザ光Ｌをコア２３の上端面２３ａからコア２３内に入射させる。コア２３内を伝播するレーザ光Ｌは、ディスクＤ側に位置する下端側に向かってコア２３とクラッド２４との間で全反射を繰り返しながら伝播する。特に、コア２３の側面にはクラッド２４が密着しているので、コア２３の外部に光が漏れることはない。よって、導入されたレーザ光Ｌを無駄にすることなく絞りながら下端側に伝播させることができる。
【００６１】
コア２３の下端側まで伝播したレーザ光Ｌは、低屈折率部２５を伝播して散乱体２７に入射する。すると、散乱体２７には表面プラズモンが励起される。励起された表面プラズモンは、散乱体２７の頂点（記録素子２１側の頂点）において、光強度の強い近接場光Ｒとなって外部に漏れ出す。つまり、近接場光発生素子２６の下端側とディスクＤとの間に近接場光Ｒを局在化させることができる。するとディスクＤは、この近接場光Ｒによって局所的に加熱されて一時的に保磁力が低下する。なお、コア２３と散乱体２７との間にコア２３よりも屈折率が低い低屈折率部２５を形成することで、散乱体２７近傍の材料中に発生する分極の大きさを小さくすることができ、その結果、散乱体２７中に発生する近接場光強度を大きくすることができる。
【００６２】
一方、制御部８によってコイル３４に電流が供給されると、電磁石の原理により電流磁界が磁気回路３２内に磁界を発生させるので、主磁極３３と補助磁極３１との間にディスクＤに対して垂直方向の記録磁界を発生させることができる。すると、主磁極３３側から発生した磁束が、ディスクＤの垂直記録層ｄ２を真直ぐ通り抜けて軟磁性層ｄ３に達する。これによって、垂直記録層ｄ２の磁化をディスク面Ｄ１に対して垂直に向けた状態で記録を行うことができる。また、軟磁性層ｄ３に達した磁束は、軟磁性層ｄ３を経由して補助磁極３１に戻る。この際、補助磁極３１に戻るときには磁化の方向に影響を与えることはない。これは、ディスク面Ｄ１に対向する補助磁極３１の面積が、主磁極３３よりも大きいので磁束密度が大きく磁化を反転させるほどの力が生じないためである。つまり、主磁極３３側でのみ記録を行うことができる。
【００６３】
その結果、近接場光Ｒと両磁極３１，３３で発生した記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。しかも垂直記録方式で記録を行うので、熱揺らぎ現象等の影響を受け難く、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性を高めることができる。
【００６４】
また、ディスクＤに記録された情報を再生する場合には、ディスクＤの保磁力が一時的に低下している時に、再生素子２２がディスクＤの垂直記録層ｄ２から漏れ出ている磁界を受けて、その大きさに応じて電気抵抗が変化する。よって、再生素子２２の電圧が変化する。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができる。そして制御部８は、この電圧の変化から信号の再生を行うことで、ディスクＤに記録されている情報の再生を行うことができる。
【００６５】
（記録再生ヘッドの製造方法）
次に、上述した近接場光発生素子２６を有する記録再生ヘッド２の製造方法について説明する。図９〜図１７は近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、（ａ）は図６に相当する断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。また、以下の説明では、記録再生ヘッド２の製造工程のうち、主として近接場光発生素子の製造工程について具体的に説明する。
まず図９に示すように、スライダ（基板）２０の前端面２０ｄ（図９中上面）上に再生素子２２（図６参照）を形成し、その後、再生素子２２上に近接場光発生素子２６を形成する。具体的には、まず再生素子２２上にクラッド２４のうち、第１クラッド２４ａを形成する（第１クラッド形成工程）。
次に、第１クラッド２４ａ上にコア２３を形成する（コア形成工程）。具体的に、第１クラッド２４ａ上の全域にコア２３の母材を形成した後、パターニングしてコア２３における下端面２３ｂ（Ｚ方向における出射側端面）の位置出しを行う。
【００６６】
次に、図１０に示すように、コア２３を覆うように、低屈折率部２５の母材を形成し（低屈折率部形成工程）、さらに図１１に示すように、低屈折率部２５を覆うように散乱体２７の母材を形成する（散乱体形成工程）。なお、コア２３及び第１クラッド２４ａの全域を覆うように低屈折率部２５及び散乱体２７の母材を成膜しているが、低屈折率部２５及び散乱体２７の母材は少なくともコア２３の下端面２３ｂのみに成膜すれば構わない。
【００６７】
次に、図１２に示すように、散乱体２７を覆うように犠牲層６０を形成する（犠牲層形成工程）。この際、コア２３の下方において、犠牲層６０のＸ方向における端面位置（前端面）が、コア２３の前端面と面一またはコア２３の前端面よりも前方に配置されるような厚さに犠牲層６０を形成することが好ましい。なお、犠牲層６０はコア２３と同一材料からなるが、これに限らず種々の材料を用いることが可能である。
【００６８】
次に、図１３に示すように、ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ)等により、スライダ２０の前端面２０ｄと平行に研磨を行う。この際、コア２３の前端面上の犠牲層６０、散乱体２７、及び低屈折率部２５を除去して、コア２３を露出させる。これにより、コア２３の下端面２３ｂから下方に向けて低屈折率部２５、散乱体２７及び犠牲層６０が積層されるとともに、これらコア２３、低屈折率部２５、散乱体２７及び犠牲層６０の前端面が面一とされてなる積層体６１が再生素子２２上に形成される。
【００６９】
続いて、図１４に示すように、フォトリソグラフィ技術を用いて積層体６１を除去すべき領域が開口したマスクパターン（不図示）を積層体６１の前端面６１ａ上に形成し、このマスクパターンを介して反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を行う（第１パターニング工程）。これにより、マスクパターンが開口した領域の積層体６１がＸ方向に沿って垂直にエッチングされ、Ｚ方向から見て矩形状の積層体６１が形成される。この際、上述したように犠牲層６０とコア２３とを同一材料で形成することで、第１パターニング工程において犠牲層６０とコア２３とを同じエッチングレートでエッチングすることができる。
【００７０】
次に、図１５に示すように、積層体６１のうち、散乱体２７のみをエッチングする（調整工程）。具体的には、低屈折率部２５と犠牲層６０との間から露出する散乱体２７をエッチングして、散乱体２７の外形形状を三角形状に形成する。この際、散乱体２７の上下方向（Ｚ方向）における端面は、それぞれ低屈折率部２５及び犠牲層６０が密着している。そのため、散乱体２７の上下方向における端面を保護できるので、散乱体２７の上下方向における端面がエッチングされるのを防止した上で、散乱体２７の外周面のみをエッチングできる。すなわち、散乱体２７のＺ方向における厚さを変化させずに、外形形状のみを変化させることができる。なお、本工程でのエッチング方法は、散乱体２７と他の積層体６１との間でエッチングレートに差が生じれば（散乱体２７のエッチングレートの方が大きい）、適宜変更が可能である。
【００７１】
そして、図１６に示すように、積層体６１を覆うように第２クラッド２４ｂを形成し、その後、ＣＭＰ等により第２クラッド２４ｂの前端面を研磨する。
【００７２】
さらに、図１７に示すように、ＣＭＰ等によりコア２３の下端面２３ｂと平行に積層体６１を研磨する。そして、犠牲層６０を除去して散乱体２７を露出させる。なお、この際の研磨量によって散乱体２７のＺ方向における厚さを調整しておく。
以上により、近接場光発生素子２６が完成する。その後、近接場光発生素子２６上に記録素子２１を形成することで、近接場光発生素子２６を有する記録再生ヘッド２が完成する。
【００７３】
このように、第１パターニング工程において、コア２３、低屈折率部２５及び散乱体２７を同一工程で一括してパターニングし、その後散乱体２７のみをエッチングする構成とした。
この構成によれば、特にコア２３と散乱体２７とのＸＹ方向における相対位置を精度良く位置決めできる。すなわち、Ｚ方向から見てコア２３の下端面２３ｂ上に散乱体２７が配置されることになる。
これにより、例えば、コア２３と散乱体２７とをそれぞれ別工程でパターニングする場合と異なり、散乱体２７とコア２３とを精度良く位置決めすることができる。よって、コア２３の下端側まで伝播したレーザ光Ｌを散乱体２７に向けて効果的に入射させることができるので、近接場光Ｒの発生効率を向上させることができる。
【００７４】
また、第１パターニング工程の後、散乱体２７のみをエッチングすることで、コア２３と散乱体２７とのＸＹ方向における相対位置を保持した状態で、散乱体２７を所望の外形状に形成することができる。これにより、散乱体２７に向けてより効率的にレーザ光Ｌを入射させることができる。
【００７５】
そして、このように製造された記録再生ヘッド２では、コア２３と散乱体２７とのＸＹ方向での相対位置を所望の位置関係に設定できる。これにより、コア２３を伝播してきたレーザ光Ｌを効果的に散乱体２７に入射させることができ、近接場光Ｒの発生効率を向上できる。
また、本発明の情報記録再生装置１は、上述した記録再生ヘッド２を備えているので、上述した熱揺らぎ現象等の影響を抑制して、安定した記録を行うことができる。よって、情報の記録再生を正確且つ高密度に行うことができ、高品質化を図ることができる。
【００７６】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について説明する。図１８は第２実施形態における近接場光発生素子の底面図である。
図１８に示すように、本実施形態の近接場光発生素子２６は、コア２３が三角柱形状に形成されている点で上述した第１実施形態と相違している。具体的に、本実施形態のコア２３は、Ｚ方向から見た外形形状が散乱体２７よりも大きい三角形状に形成されている。そして、コア２３の下端面２３ｂにはＺ方向から見てコア２３と同形状に形成された低屈折率部２５が形成され、その下端面に散乱体２７が配置されている。
【００７７】
次に、本実施形態の近接場光発生素子２６の製造方法について説明する。図１９は、近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図である。なお、以下の説明では、上述した第１実施形態と同様の工程については、説明を省略する。
本実施形態では、図１９に示すように、第１パターニング工程を経た積層体６１の角部をエッチングする（第２パターニング工程）。具体的に、例えばアルゴン（Ａｒ）等のプラズマ中で積層体６１をスパッタエッチングする。第２パターニング工程において、断面矩形状の積層体６１をスパッタエッチングすると、積層体６１の各角部が選択的にエッチングされて斜面が形成される。そして、この状態でエッチングを続けると、斜面が底面に対して一定の角度を保ちながらエッチングされる。
【００７８】
その後、さらにエッチングを続けると、積層体６１は相似形を保ちながら縮小する。その結果、積層体６１（コア２３、低屈折率部２５、散乱体２７及び犠牲層６０）の全体がＺ方向から見て三角形状に形成される。
その後、第１実施形態と同様の工程を経ることで、上述した本実施形態の近接場光発生素子２６を形成できる。
【００７９】
この構成によれば、第１パターニング工程でパターニングした積層体６１に対してスパッタエッチングを行うことで、積層体６１の角部が選択的にエッチングされて斜面が形成される。そして、この状態でさらにエッチングを続けると、斜面が底面に対して一定の角度を保ちながらエッチングされる。これにより、Ｚ方向から見て任意の幅や高さにコア２３を形成することができる。
また、散乱体２７を覆うように犠牲層６０を形成することで、第２パターニング工程において散乱体２７を保護することができる。そのため、散乱体２７のＺ方向における角部がエッチングされるのを防止できる。なお、本実施形態では、第１パターニング工程において積層体６１に対して垂直エッチングを行い、第２パターニング工程において積層体６１の角部を除去する傾斜エッチングを行うことで、三角柱形状の近接場光発生素子２６を形成した。しかしながら、これに限らず積層体６１に対して一回のエッチングで三角柱形状の近接場光発生素子２６を形成しても構わない。
【００８０】
なお、本発明の技術範囲は、上述した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、上述した実施形態で挙げた構成等はほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
例えば、上述の実施形態では、記録再生ヘッド２を浮上させた空気浮上タイプの情報記録再生装置１を例に挙げて説明したが、この場合に限られず、ディスク面Ｄ１に対向配置されていればディスクＤと記録再生ヘッド２とが接触していても構わない。つまり、本発明の記録再生ヘッド２は、コンタクトスライダタイプの記録再生ヘッドであっても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏することができる。
【００８１】
また、上述した実施形態では、本発明の記録再生ヘッド２をディスクＤに対して垂直な記録磁界を与える垂直磁気記録方式に採用する場合について説明したが、これに限らず、ディスクＤに対して水平な記録磁界を与える面内記録方式に採用しても構わない。
【００８２】
また、上述した実施形態では、犠牲層６０を形成することで、散乱体２７のＺ方向におけるエッチングを防止する方法について説明したが、エッチング量を考慮して散乱体２７を厚くすれば、犠牲層６０を形成しなくても構わない。
【００８３】
また、散乱体２７やコア２３の形状は適宜設計変更が可能である。
さらに、散乱体２７とコア２３とのＸＹ方向における相対位置は、適宜設計変更が可能である。このような場合には、低屈折率部形成工程で第１クラッド２４ａ上に形成された低屈折率部２５のＹ方向における厚さを調整したり、調整工程におけるエッチング量を調整したりすることで、コア２３に対する散乱体２７のＸＹ方向における相対位置を調整できる。この場合、上述した実施形態では、Ｚ方向から見てコア２３よりも内側に散乱体２７を形成した場合について説明したが、コア２３よりも外側に散乱体２７の一部が突出するように形成しても構わない。
【００８４】
また、上述した実施形態では、コア２３の下端面２３ｂと散乱体２７との間に低屈折率部２５を設ける構成について説明したが、これに限らず、低屈折率部２５を設けずにコア２３の下端面に直接散乱体２７を形成しても構わない。
【００８５】
さらに、散乱体２７の外形形状は、三角形状に限らず、適宜変更可能である。また、上述した実施形態では、散乱体２７のＺ方向における厚さが、全体で均一になるように形成したが、これに限られない。例えば、記録素子２１側の角部に向けてＺ方向における厚さが薄くなるように形成しても構わない。
また、スライダ２０の上面側にレーザ光源２９を直接搭載せずに、レーザ光源２９から出射されるレーザ光Ｌを、光導波路を介して近接場光発生素子２６（コア２３）に入射させる構成にしても構わない。
【符号の説明】
【００８６】
１…情報記録再生装置  ２…記録再生ヘッド（記録ヘッド）  ３…サスペンション  ５…アクチュエータ  ６…スピンドルモータ（回転駆動部）  ８…制御部  ２０…スライダ  ２１…記録素子  ２３…コア  ２４ａ…第１クラッド  ２４ｂ…第２クラッド  ２５…低屈折率部  ２６…近接場光発生素子（光束伝播素子）  ２７…散乱体  ６０…犠牲層  Ｄ…ディスク（磁気記録媒体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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