(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される含フッ素化合物と、下記一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物とを含有する撥液性処理剤。
【化１】
0005810114.tif 000054
一般式（１）中、ａは３〜８の整数を表し、ｂは０〜３の整数を表し、ｃは０〜１０の整数を表し、ｄ及びｅはそれぞれ独立に０又は１を表し、ｒは０又は１を表し、Ｙは下記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ１は下記一般式（６）又は（７）で表される基を表し、Ｌ２及びＬ３は、それぞれ独立に、下記一般式（８）、（９）、（１０）又は（１１）で表される基を表し、Ｒｆ１は（ａ＋ｂ）価の、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜２０の直鎖状、分枝状又は環状の飽和パーフルオロアルキル基を表し、Ｒｆ２は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のパーフルオロアルキル基又はフッ素原子を表し、Ｒｆ３は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
【化２】
0005810114.tif 000055
一般式（２）中、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又は水酸基を表す。
一般式（３）、（４）、（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のアルキル基を表す。
一般式（５）中、ｋは１又は２を表す。
一般式（６）、（７）中、ｍは０〜１０の整数を表す。
一般式（８）、（９）、（１０）、（１１）中、ｎは０〜１０の整数を表す。
一般式（７）中、Ｙは前記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表す。
【化３】
0005810114.tif 000056
一般式（１２）中、ｆは１〜５の整数を表し、ｇは０又は１を表し、Ｙは前記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ４は前記一般式（６）若しくは（７）、又は下記一般式（１４）若しくは（１５）で表される基を表し、Ｒｆ４は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
一般式（１３）中、ｈ及びｉはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、Ｙは前記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ４はそれぞれ独立に前記一般式（６）若しくは（７）、又は下記一般式（１４）若しくは（１５）で表される基を表し、Ｒｆ５は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の２価のパーフルオロアルキル基を表す。
【化４】
0005810114.tif 000057
一般式（１４）中、ｍは０〜１０の整数を表す。
一般式（１５）中、Ｙは前記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表す。
【請求項２】
前記一般式（１）で表される含フッ素化合物の含有比率が５質量％以上９０質量％以下であり、かつ前記一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物の含有比率が１０質量％以上９５質量％である、請求項１に記載の撥液性処理剤。
【請求項３】
一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物のフッ素原子含率が３０質量％以上７５質量％以下である、請求項１又は２に記載の撥液性処理剤。
【請求項４】
さらに下記一般式（１６）で表される非フッ素化合物を含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の撥液性処理剤。
【化５】
0005810114.tif 000058
一般式（１６）中、ｊは１〜６の整数を表し、Ｙは下記一般式（２１）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ５は下記一般式（６）、（７）、（１４）又は（１５）で表される基を表し、Ｒ７は、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖状、分枝状又は環状のｊ価の有機基を表す。
【化６】
0005810114.tif 000059
一般式（２１）中、Ｘ１は水素原子、塩素原子、メチル基、又は水酸基を表す。
一般式（３）、（４）、（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のアルキル基を表す。
一般式（５）中、ｋは１又は２を表す。
一般式（６）、（７）、（１４）中、ｍは０〜１０の整数を表す。
一般式（７）、（１５）中、Ｙは前記一般式（２１）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表す。
【請求項５】
一般式（１）中の（ａ＋ｂ）が３〜８の整数である請求項１〜４のいずれか１項に記載の撥液性処理剤。
【請求項６】
一般式（１）中のｄ及びｅが１である請求項１〜５のいずれか１項に記載の撥液性処理剤。
【請求項７】
前記一般式（１）で表される含フッ素化合物が下記一般式（１７）で表される含フッ素化合物であり、且つ前記一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物が下記一般式（１８）又は（１９）で表される含フッ素化合物である請求項１〜６のいずれか１項に記載の撥液性処理剤。
【化７】
0005810114.tif 000060
一般式（１７）中、ａは３〜８の整数を表し、ｂは０〜３の整数を表し、ｃは０〜１０の整数を表し、Ｙは下記式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ１は下記式（６）又は（７）で表される基を表し、Ｒｆ１は（ａ＋ｂ）価の、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜２０の直鎖状、分枝状又は環状の飽和パーフルオロアルキル基を表し、Ｒｆ２は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のパーフルオロアルキル基又はフッ素原子を表し、Ｒｆ６は、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
【化８】
0005810114.tif 000061
一般式（２）中、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又は水酸基を表す。
一般式（３）、（４）、（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のアルキル基を表す。
一般式（５）中、ｋは１又は２を表す。
一般式（６）、（７）中、ｍは０〜１０の整数を表す。
一般式（８）、（９）、（１０）、（１１）中、ｎは０〜１０の整数を表す。
一般式（７）中、Ｙは前記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表す。
【化９】
0005810114.tif 000062
一般式（１８）中、ｆは１〜５の整数を表し、Ｙは前記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｒｆ７は、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
一般式（１９）中、ｈ及びｉはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、Ｙは前記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｒｆ８は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状又は分枝状の２価のパーフルオロアルキル基を表す。
【請求項８】
一般式（１）中のＲｆ１が下記ｆ−１〜ｆ−１４から選ばれる基である請求項１〜７のいずれか１項に記載の撥液性処理剤。
【化１０】
0005810114.tif 000063
式中、＊はＹ−Ｌ１−Ｏ−ＣＨ２−（ＣＦ２）ｃ−［ＣＦ（Ｒｆ２）］ｒ−（Ｏ）ｄ−Ｌ２−又はＲｆ３―（Ｏ）ｅ−Ｌ３−と結合する位置を表す。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の撥液性処理剤を硬化させた撥液性膜。
【請求項１０】
基材の表面に撥水性領域と親水性領域とを有する部材であって、前記撥水性領域は請求項１〜８のいずれか１項に記載の撥液性処理剤を硬化させた撥液性膜からなる部材。
【請求項１１】
前記撥水性領域と前記親水性領域がパターンを形成している請求項１０に記載の部材。
【請求項１２】
親水性表面を有する基材の表面に請求項１〜８のいずれか１項に記載の撥液性処理剤を含む塗膜を形成する工程、次いで該塗膜の一部に光を照射して撥液性処理剤を含む塗膜を硬化させる工程、次いで基材表面の未硬化の撥液性処理剤を除去して親水性表面を露出させる工程を含む、請求項１０又は１１に記載の部材の製造方法。
【請求項１３】
請求項１０若しくは１１に記載の部材、又は請求項１２に記載の製造方法により製造された部材の親水性領域に、機能性材料を含む液体を塗布する工程、次いで該液体を塗布した部材を乾燥させる工程を含む、機能性材料のパターンが形成された部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撥液性処理剤、該撥液性処理剤を用いて形成された撥液性膜、撥水性領域と親水性領域とを有する部材及びその製造方法、並びに機能性材料のパターンが形成された部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
撥水処理剤は種々の用途に用いられており、例えば、半導体素子、ディスプレイ、発光素子などの分野において、親水性基材上に、撥水処理剤を塗布して、親水性領域と撥水性領域とからなる所望のパターンを形成し、所望の特性を有する機能性材料を、前記親水性領域と撥水性領域の性質の違いを利用して、所望位置に配置させた（例えば、親水性領域上には機能性材料を有し、撥水性領域上には機能性材料を有さない）パターンを有する機能性部材を形成する方法が知られている。
該機能性部材は、例えば、配線、電極、絶縁層、発光層、および光学薄膜等として利用される。
【０００３】
近年、このような撥水性領域に、硬度や耐摩擦性が必要とされる場合がある。例えば機能性部材の生産性向上を目的とする場合においてであり、より具体的には、例えば、インクジェット法により機能性材料として無機微粒子を分散させた液体を高速で親水性領域に付与する使用形態や、ロールツーロール法（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ法）により機能性材料を親水性領域に転写させる使用形態などが挙げられる。そのため、撥水性領域に硬度や耐摩擦性が必要とされる使用形態に好適に使用できる撥水性処理剤に対して高い需要がある。撥水性領域の硬度や耐摩擦性を向上させるためには、撥水性処理剤組成物に２官能以上の重合性化合物を添加することが有効である。
【０００４】
特許文献１には、多価アルコール誘導体である重合性含フッ素化合物を含む組成物を硬化させて撥水性領域を形成することが記載されている。
特許文献２には、エポキシ基を１個又は２個有する重合性含フッ素化合物を含む組成物を硬化させて撥水性領域を形成することが記載されている。
【０００５】
また、重合性含フッ素化合物に関し、特許文献３には、反射防止膜として好適な重合体薄膜の形成に適した含フッ素多官能モノマーが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第０８／０１８５９９号
【特許文献２】特開２００７−２４８７２６号公報
【特許文献３】特開２００６−０２８２８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の重合性含フッ素化合物を含む組成物を用いて形成した撥水性領域と、親水性領域を有する部材において、前記親水性領域に塩基性の機能性材料を含む液体を塗布して機能性材料のパターンを形成しようとすると、耐摩擦性は優れているものの、該撥水性領域が耐塩基性に乏しいことから、親水性領域と撥水性領域との境界の乱れが生じ、親水性領域と撥水性領域の境界におけるコントラストが低下し、所望のパターンを有する機能性部材が得られないという問題がある。
特許文献２に記載の重合性含フッ素化合物を含む組成物を撥水性膜とした場合、該重合性含フッ素化合物のフッ素含有率が低いことから、膜の撥水性が不十分であり、高いコントラストを有する部材が得られないという問題があり、また重合性基密度が低いために耐摩擦性に劣ることから、硬度や耐摩擦性を必要とされる使用形態には適さない。
また、特許文献３には、該含フッ素多官能モノマーを撥水性膜として用いうるという記載も示唆もない。
【０００８】
したがって、本発明の課題は、撥液性及び耐摩擦性に優れた撥液性膜を形成することができ、かつ耐塩基性に優れることで、塩基性の機能性材料を用いた場合でも高いコントラストを有するパターンを形成することができる撥水処理剤を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は上記した実情に鑑みて鋭意検討した結果、含フッ素コア部を有する特定の化合物と、別種の特定の含フッ素化合物とを有する撥液性処理剤を用いた撥液性膜において、耐塩基性及び耐摩擦性が良好で、非常に撥液性が高くなることを見出した。さらには、非常に撥液性が高いにもかかわらず、撥液性処理剤を親水性表面に塗布した場合でも弾かれない（均質な塗膜を形成できる）という予想外の効果を見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
即ち、本発明は以下のとおりである。
【００１１】
〔１〕
下記一般式（１）で表される含フッ素化合物と、下記一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物とを含有する撥液性処理剤。
【００１２】
【化１】
0005810114.tif 000002
【００１３】
一般式（１）中、ａは３〜８の整数を表し、ｂは０〜３の整数を表し、ｃは０〜１０の整数を表し、ｄ及びｅはそれぞれ独立に０又は１を表し、ｒは０又は１を表し、Ｙは下記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ１は下記一般式（６）又は（７）で表される基を表し、Ｌ２及びＬ３は、それぞれ独立に、下記一般式（８）、（９）、（１０）又は（１１）で表される基を表し、Ｒｆ１は（ａ＋ｂ）価の、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜２０の直鎖状、分枝状又は環状の飽和パーフルオロアルキル基を表し、Ｒｆ２は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のパーフルオロアルキル基又はフッ素原子を表し、Ｒｆ３は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
【００１４】
【化２】
0005810114.tif 000003
【００１５】
一般式（２）中、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又は水酸基を表す。
一般式（３）、（４）、（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のアルキル基を表す。
一般式（５）中、ｋは１又は２を表す。
一般式（６）、（７）中、ｍは０〜１０の整数を表す。
一般式（８）、（９）、（１０）、（１１）中、ｎは０〜１０の整数を表す。
一般式（７）中、Ｙは上記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表す。
【００１６】
【化３】
0005810114.tif 000004
【００１７】
一般式（１２）中、ｆは１〜５の整数を表し、ｇは０又は１を表し、Ｙは上記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ４は上記一般式（６）若しくは（７）、又は下記一般式（１４）若しくは（１５）で表される基を表し、Ｒｆ４は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
一般式（１３）中、ｈ及びｉはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、Ｙは上記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ４はそれぞれ独立に上記一般式（６）若しくは（７）、又は下記一般式（１４）若しくは（１５）で表される基を表し、Ｒｆ５は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の２価のパーフルオロアルキル基を表す。
【００１８】
【化４】
0005810114.tif 000005
【００１９】
一般式（１４）中、ｍは０〜１０の整数を表す。
一般式（１５）中、Ｙは上記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表す。
〔２〕
上記一般式（１）で表される含フッ素化合物の含有比率が５質量％以上９０質量％以下であり、かつ上記一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物の含有比率が１０質量％以上９５質量％である、〔１〕に記載の撥液性処理剤。
〔３〕
一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物のフッ素原子含率が３０質量％以上７５質量％以下である、〔１〕又は〔２〕に記載の撥液性処理剤。
〔４〕
さらに下記一般式（１６）で表される非フッ素化合物を含有する〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の撥液性処理剤。
【００２０】
【化５】
0005810114.tif 000006
【００２１】
一般式（１６）中、ｊは１〜６の整数を表し、Ｙは下記一般式（２１）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ５は下記一般式（６）、（７）、（１４）又は（１５）で表される基を表し、Ｒ７は、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖状、分枝状又は環状のｊ価の有機基を表す。
【００２２】
【化６】
0005810114.tif 000007
【００２３】
一般式（２１）中、Ｘ１は水素原子、塩素原子、メチル基、又は水酸基を表す。
一般式（３）、（４）、（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のアルキル基を表す。
一般式（５）中、ｋは１又は２を表す。
一般式（６）、（７）、（１４）中、ｍは０〜１０の整数を表す。
一般式（７）、（１５）中、Ｙは上記一般式（２１）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表す。
〔５〕
一般式（１）中の（ａ＋ｂ）が３〜８の整数である〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の撥液性処理剤。
〔６〕
一般式（１）中のｄ及びｅが１である〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の撥液性処理剤。
〔７〕
上記一般式（１）で表される含フッ素化合物が下記一般式（１７）で表される含フッ素化合物であり、且つ上記一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物が下記一般式（１８）又は（１９）で表される含フッ素化合物である〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の撥液性処理剤。
【００２４】
【化７】
0005810114.tif 000008
【００２５】
一般式（１７）中、ａは３〜８の整数を表し、ｂは０〜３の整数を表し、ｃは０〜１０の整数を表し、Ｙは下記式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ１は下記式（６）又は（７）で表される基を表し、Ｒｆ１は（ａ＋ｂ）価の、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜２０の直鎖状、分枝状又は環状の飽和パーフルオロアルキル基を表し、Ｒｆ２は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のパーフルオロアルキル基又はフッ素原子を表し、Ｒｆ６は、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
【００２６】
【化８】
0005810114.tif 000009
【００２７】
一般式（２）中、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又は水酸基を表す。
一般式（３）、（４）、（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のアルキル基を表す。
一般式（５）中、ｋは１又は２を表す。
一般式（６）、（７）中、ｍは０〜１０の整数を表す。
一般式（８）、（９）、（１０）、（１１）中、ｎは０〜１０の整数を表す。
一般式（７）中、Ｙは上記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表す。
【００２８】
【化９】
0005810114.tif 000010
【００２９】
一般式（１８）中、ｆは１〜５の整数を表し、Ｙは上記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｒｆ７は、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
一般式（１９）中、ｈ及びｉはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、Ｙは上記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｒｆ８は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状又は分枝状の２価のパーフルオロアルキル基を表す。
〔８〕
一般式（１）中のＲｆ１が下記ｆ−１〜ｆ−１４から選ばれる基である〔１〕〜〔７〕のいずれか１項に記載の撥液性処理剤。
【００３０】
【化１０】
0005810114.tif 000011
【００３１】
式中、＊はＹ−Ｌ１−Ｏ−ＣＨ２−（ＣＦ２）ｃ−［ＣＦ（Ｒｆ２）］ｒ−（Ｏ）ｄ−Ｌ２−又はＲｆ３―（Ｏ）ｅ−Ｌ３−と結合する位置を表す。
〔９〕
〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の撥液性処理剤を硬化させた撥液性膜。
〔１０〕
基材の表面に撥水性領域と親水性領域とを有する部材であって、上記撥水性領域は〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の撥液性処理剤を硬化させた撥液性膜からなる部材。
〔１１〕
上記撥水性領域と上記親水性領域がパターンを形成している〔１０〕に記載の部材。
〔１２〕
親水性表面を有する基材の表面に〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の撥液性処理剤を含む塗膜を形成する工程、次いで上記塗膜の一部に光を照射して撥液性処理剤を含む塗膜を硬化させる工程、次いで基材表面の未硬化の撥液性処理剤を除去して親水性表面を露出させる工程を含む、〔１０〕又は〔１１〕に記載の部材の製造方法。
〔１３〕
〔１０〕若しくは〔１１〕に記載の部材、又は〔１２〕に記載の製造方法により製造された部材の親水性領域に、機能性材料を含む液体を塗布する工程、次いで上記液体を塗布した部材を乾燥させる工程を含む、機能性材料のパターンが形成された部材の製造方法。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によれば、耐塩基性及び耐摩擦性が良好で、非常に高い撥液性を有しながら、同時に親水性表面に塗布した場合でも弾かれない撥液性処理剤、該撥液性処理剤を用いた撥液性膜及び処理基材、処理基材の製造方法、並びに機能性材用を付与した部材の製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の処理基材の製造方法の一態様を示す断面模式図
【図２】本発明の部材の製造方法の一態様を示す断面模式図
【発明を実施するための形態】
【００３４】
本発明の撥液性処理剤は、下記一般式（１）で表される含フッ素化合物と、下記一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物とを含有する。
以下に一般式（１）、一般式（１２）、一般式（１３）で表される化合物について詳細に説明する。
【００３５】
＜一般式（１）で表される化合物＞
本発明に用いられる一般式（１）で表される化合物とは、主に複数のフッ素原子と炭素原子から成る（但し、一部に酸素原子を含んでもよい）、実質的に重合に関与しない原子団（以下、「含フッ素コア部」ともいう）と、エステル結合やエーテル結合などの連結基を介して、ラジカル重合性、カチオン重合性、または縮合重合性などの重合性を有する、３つ以上の重合性基を有する含フッ素化合物である。
【００３６】
【化１１】
0005810114.tif 000012
【００３７】
一般式（１）中、ａは３〜８の整数を表し、ｂは０〜３の整数を表し、ｃは０〜１０の整数を表し、ｄ及びｅはそれぞれ独立に０又は１を表し、ｒは０又は１を表し、Ｙは下記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ１は下記一般式（６）又は（７）で表される基を表し、Ｌ２及びＬ３は、それぞれ独立に、下記一般式（８）、（９）、（１０）又は（１１）で表される基を表し、Ｒｆ１は（ａ＋ｂ）価の、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜２０の直鎖状、分枝状又は環状の飽和パーフルオロアルキル基を表し、Ｒｆ２は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のパーフルオロアルキル基又はフッ素原子を表し、Ｒｆ３は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
【００３８】
【化１２】
0005810114.tif 000013
【００３９】
一般式（２）中、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又は水酸基を表す。
一般式（３）、（４）、（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のアルキル基を表す。
一般式（５）中、ｋは１又は２を表す。
一般式（６）、（７）中、ｍは０〜１０の整数を表す。
一般式（８）、（９）、（１０）、（１１）中、ｎは０〜１０の整数を表す。
一般式（７）中、Ｙは上記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表す。
【００４０】
一般式（１）中、ａは３〜８の整数を表す。ａは原料素材の入手性及び製造の容易さの観点から、３〜６の整数であることが好ましく、３〜５の整数であることがより好ましく、３又は４であることがさらに好ましい。
【００４１】
一般式（１）中、ｂは０〜３の整数を表す。ｂは製造の容易さの観点から、０〜２の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましい。
【００４２】
一般式（１）中、ａ＋ｂは３〜１１の整数を表す。ａ＋ｂは撥液性と耐摩擦性とのバランスの観点から、３〜８の整数であることが好ましく、３〜６の整数であることがより好ましく、３又は４であることがさらに好ましい。
【００４３】
一般式（１）中、ｃは０〜１０の整数を表す。ｃは０〜６の整数であることが好ましく、０〜３の整数であることがより好ましく、０又は１であることがさらに好ましく、１であることがさらにより好ましい。
【００４４】
一般式（１）中、ｄは０又は１を表す。ｄは製造の容易さの観点から、１であることが好ましい。
【００４５】
一般式（１）中、ｅは０又は１を表す。ｅは１であることが好ましい。
【００４６】
一般式（１）中、ｒは０又は１を表す。ｒは１であることが好ましい。
【００４７】
一般式（１）中、Ｙは下記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基（但し、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又は水酸基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のアルキル基を表し、ｋは１又は２を表す。）、アリル基、又はビニル基を表す。
【００４８】
【化１３】
0005810114.tif 000014
【００４９】
一般式（２）中、Ｘは水素原子、フッ素原子又はメチル基であることが好ましく、水素原子であることが好ましい。
【００５０】
一般式（３）〜（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のアルキル基を表す。アルキル基が置換基を有する場合の置換基としては、フッ素原子、アルコキシル基、水酸基が挙げられる。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はエチル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
【００５１】
一般式（５）中、ｋは１又は２を表す。ｋは１であることが好ましい。
【００５２】
一般式（１）中のＹは、すべて同一であっても、互いに異なっていてもよいが、製造適性の観点からすべて同一であることが好ましい。互いに異なる場合は、２種類以上の硬化処理を組み合わせることにより、より強固な硬化物を作製できる点で好ましい。
【００５３】
一般式（１）中のＹとしては、撥液性と耐摩擦性とのバランスの観点から、上記一般式（２）又は一般式（３）で表される基であることが好ましい。
【００５４】
一般式（１）中、Ｌ１は下記一般式（６）又は（７）で表される基（但し、ｍは０〜１０の整数を表す。）を表す。
【００５５】
【化１４】
0005810114.tif 000015
【００５６】
一般式（６）及び（７）中、ｍは０〜４であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることがさらに好ましい。ｍが０の場合は、Ｌ１が単結合であることを表す。
【００５７】
一般式（１）中、Ｌ２及びＬ３は、それぞれ独立に、下記一般式（８）、（９）、（１０）又は（１１）で表される基（但し、ｎは０〜１０の整数を表す。）を表す。
【００５８】
【化１５】
0005810114.tif 000016
【００５９】
一般式（８）、（９）、（１０）及び（１１）中、ｎは０〜４であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることがさらに好ましい。ｎが０の場合は、Ｌ２及びＬ３が単結合であることを表す。
【００６０】
一般式（１）中、Ｒｆ１は「含フッ素コア部」を構成し、（ａ＋ｂ）価の、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜２０の直鎖状、分枝状又は環状の飽和パーフルオロアルキル基を表す。パーフルオロアルキル基とは、実質的に全ての水素原子がフッ素原子に置換されたアルキル基であり、且つ、水酸基、カルボキシル基、或いはニトロ基などの置換基を有さない基である。
Ｒｆ１は好ましくは、（ａ＋ｂ）価の、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜１６の分枝状又は環状の飽和パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは、（ａ＋ｂ）価の、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数４〜１２の分枝状又は環状の飽和パーフルオロアルキル基である。
【００６１】
Ｒｆ１で表される「含フッ素コア部」の好ましい例として、下記の構造が挙げられる。
【００６２】
【化１６】
0005810114.tif 000017
【００６３】
式中、＊はＹ−Ｌ１−Ｏ−ＣＨ２−（ＣＦ２）ｃ−［ＣＦ（Ｒｆ２）］ｒ−（Ｏ）ｄ−Ｌ２−又はＲｆ３―（Ｏ）ｅ−Ｌ３−と結合する位置を表す。
【００６４】
Ｒｆ１は、原料素材の入手性の観点から、上記ｆ−１、ｆ−２、ｆ−４、ｆ−５、ｆ−６、ｆ−８、ｆ−１０、ｆ−１１又はｆ−１２であることが好ましく、撥液性と耐摩擦性とのバランスの観点からｆ−５、ｆ−８、又はｆ−１１であることがより好ましく、ｆ−８であることが最も好ましい。
【００６５】
一般式（１）中、Ｒｆ２は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のパーフルオロアルキル基又はフッ素原子を表す。パーフルオロアルキル基の例としては、ＣＦ３―、ＣＦ３ＣＦ２−、ＣＦ３（ＣＦ２）３−、（ＣＦ３）２ＣＦ−、ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、（ＣＦ３）２ＣＦＯ（ＣＦ２）２−等が挙げられる。
Ｒｆ２は、ＣＦ３−又はフッ素原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
【００６６】
一般式（１）中、Ｒｆ３は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
Ｒｆ３は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜６０のパーフルオロアルキル基であることが好ましく、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数４〜４０のパーフルオロアルキル基であることがより好ましく、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数６〜２０のパーフルオロアルキル基であることが更に好ましい。
以下にＲｆ３の具体例を示す。
なお、下記例中のｘ、ｙは、Ｒｆ３中の炭素数が３〜１００を満たすような整数の組み合わせを表す。ｘは好ましくは、１〜４０であり、より好ましくは３〜２０である。ｙは好ましくは、１〜４０であり、より好ましくは３〜２０である。
【００６７】
ＣＦ３（ＣＦ２）５−、
（ＣＦ３）２ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３（ＯＣＦ２ＣＦ２）４−、
ＣＦ３ＣＦ２（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｘ−、
ＣＦ３（ＯＣＦ２）ｘ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｙ−、
ＣＦ３（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｘ−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）４−、
ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２（ＯＣＦ２ＣＦ２）４−、
ＣＦ３ＣＦ２（ＯＣＦ２ＣＦ２）６−、
ＣＦ３ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
（（ＣＦ３）２ＣＦ）２ＣＦＣＦ（ＣＦ３）−、
（ＣＦ３）３ＣＯＣＦ２ＣＦ２−、
（ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２）２ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
（ＣＦ３）３ＣＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２−、
（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２−、
【００６８】
ＣＦ３（ＣＦ２）３−、
ＣＦ３（ＣＦ２）７−、
ＣＦ３（ＣＦ２）９−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−
【００６９】
一般式（１）で表される化合物は、撥液性の観点から、フッ素原子含有量が該化合物の３２質量％以上であることが好ましく、より好ましくは３５質量％以上、さらに好ましくは４０質量％以上である。
【００７０】
前記一般式（１）で表される含フッ素化合物は、下記一般式（１７）で表される含フッ素化合物であることが好ましい。
【００７１】
【化１７】
0005810114.tif 000018
【００７２】
一般式（１７）中、ａは３〜８の整数を表し、ｂは０〜３の整数を表し、ｃは０〜１０の整数を表し、Ｙは前記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ１は前記一般式（６）又は（７）で表される基を表し、Ｒｆ１は（ａ＋ｂ）価の、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜２０の直鎖状、分枝状又は環状の飽和パーフルオロアルキル基を表し、Ｒｆ２は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のパーフルオロアルキル基又はフッ素原子を表し、Ｒｆ６は、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
【００７３】
一般式（１７）中、ａ、ｂ、ｃ、Ｙ、Ｌ１、Ｒｆ１、Ｒｆ２の具体例及び好ましい範囲は、前記一般式（１）中におけるａ、ｂ、ｃ、Ｙ、Ｌ１、Ｒｆ１、Ｒｆ２と同様である。
【００７４】
一般式（１７）中、Ｒｆ６は、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
Ｒｆ６は、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数３〜６０のパーフルオロアルキル基であることが好ましく、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数４〜４０のパーフルオロアルキル基であることがより好ましく、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数６〜２０のパーフルオロアルキル基であることが更に好ましい。
Ｒｆ６の具体例及び好ましい範囲は、前記一般式（１）中におけるＲｆ３の具体例及び好ましい範囲と同様である。
【００７５】
以下に一般式（１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらによって限定されない。具体例として同一分子中のＹがすべて同一の構造のみを挙げる。しかしながら、前記のようにＹが互いに異なる場合に好ましい効果を得られる場合があり、同一分子中のＹが異なる構造についてなんら排除するものではない。下記具体例化合物中のｘ、ｙは各々独立に１〜４０の整数を表す。ｎ１、ｎ２、ｎ３、ｎ４は、各々独立に０〜１０の整数を表す。
【００７６】
【化１８】
0005810114.tif 000019
【００７７】
【化１９】
0005810114.tif 000020
【００７８】
【化２０】
0005810114.tif 000021
【００７９】
【化２１】
0005810114.tif 000022
【００８０】
【化２２】
0005810114.tif 000023
【００８１】
【化２３】
0005810114.tif 000024
【００８２】
【化２４】
0005810114.tif 000025
【００８３】
【化２５】
0005810114.tif 000026
【００８４】
【化２６】
0005810114.tif 000027
【００８５】
【化２７】
0005810114.tif 000028
【００８６】
【化２８】
0005810114.tif 000029
【００８７】
【化２９】
0005810114.tif 000030
【００８８】
【化３０】
0005810114.tif 000031
【００８９】
上記具体例化合物の中でも、ＭＡ１、ＭＡ２、ＭＡ３、ＭＡ４、ＭＡ５、ＭＡ６、ＭＡ７、ＭＡ９、ＭＡ１２、ＭＡ１３、ＭＡ１４、ＭＡ１７、ＭＡ２３、ＭＡ２４、ＭＡ３０、ＭＡ３１、ＭＡ３２、ＭＡ３３、ＭＡ３５、ＭＡ３７、ＭＡ３８、ＭＥ１、ＭＥ２、ＭＥ３、ＭＥ４、ＭＥ５、ＭＥ６、ＭＥ７、ＭＥ１２、ＭＥ１３、ＭＥ１４、ＭＥ１７、ＭＥ２３、ＭＥ２４、ＭＥ２９、ＭＥ３１、ＭＥ３２、ＭＥ３３、ＭＥ３５、ＭＥ３７、ＭＥ３９、ＭＥ４０が好ましく、ＭＡ１、ＭＡ３、ＭＡ６、ＭＡ１７、ＭＡ３０、ＭＡ３１、ＭＡ３３、ＭＥ１、ＭＥ６、ＭＥ１７、ＭＥ２９、ＭＥ３３、ＭＥ３９がより好ましく、ＭＡ３０、ＭＡ３１、ＭＡ３３、ＭＥ２９、ＭＥ３３、ＭＥ３９がさらに好ましく、ＭＡ３１、ＭＥ２９が最も好ましい。
【００９０】
これらの含フッ素多官能モノマーの製造方法としては、エステル結合、ジアルコキシ基、および／またはハロゲン原子を有する化合物を、好ましくはエステル結合を有する化合物を、液相フッ素化することにより、実質的にすべての水素原子をフッ素原子に置換した後、３つ以上の重合性基を導入する方法が好適である。液相フッ素化については、例えば、米国特許第５０９３４３２号明細書に記載されている。
【００９１】
液相フッ素化に供される化合物としては、液相フッ素化する際に用いるフッ素系の溶媒に溶解するか、または、液体であることが要求されるが、それ以外は特に制限は無い。こうした溶解性や反応性の観点から、予めフッ素を含有する化合物を用いても良い。また、エステル結合、ジアルコキシ基、および／またはハロゲン原子を有する化合物は、液相フッ素化後に重合性基を導入する際の反応点とすることができるため、好適である。
液相フッ素化によってフッ素原子の導入を行うことにより、後から導入する重合性基以外の部分のフッ素含有率を極めて高くすることが可能である。
【００９２】
本発明の撥水処理剤は、一般式（１）で表される含フッ素化合物を１種のみ含有していてもよいし、２種以上含有していてもよい。
【００９３】
＜一般式（１２）又は（１３）で表される化合物＞
本発明の撥液性処理剤に含まれる一般式（１２）又は（１３）で表される化合物につき、説明する。
【００９４】
【化３１】
0005810114.tif 000032
【００９５】
一般式（１２）中、ｆは１〜５の整数を表し、ｇは０又は１を表し、Ｙは下記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ４は下記一般式（６）、（７）、（１４）、又は（１５）で表される基を表し、Ｒｆ４は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
一般式（１３）中、ｈ及びｉはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、Ｙは下記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ４はそれぞれ独立に下記一般式（６）、（７）、（１４）、又は（１５）で表される基を表し、Ｒｆ５は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の２価のパーフルオロアルキルを表す。
【００９６】
【化３２】
0005810114.tif 000033
【００９７】
一般式（２）中、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又は水酸基を表す。
一般式（３）、（４）、（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のアルキル基を表す。
一般式（５）中、ｋは１又は２を表す。
一般式（６）、（７）、（１４）中、ｍは０〜１０の整数を表す。
一般式（７）、（１５）中、Ｙは前記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表す。
【００９８】
一般式（１２）中、ｆは１〜５の整数を表す。ｆは１〜３の整数であることが好ましく、１又は２であることがより好ましい。
【００９９】
一般式（１２）中、ｇは０又は１を表す。ｇは１であることが好ましい。
【０１００】
一般式（１２）中、Ｙは上記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表す。
一般式（１２）中のＹは、一般式（１）におけるＹと同義である。一般式（１２）中のＹとしては、撥液性と耐摩擦性とのバランスの観点から、上記式（２）又は式（３）で表される基であることが好ましい。
【０１０１】
一般式（１２）中、Ｌ４は上記一般式（６）、（７）、（１４）又は（１５）で表される基（但し、ｍは０〜１０の整数を表す。）を表す。一般式（１５）中のＹは、一般式（１２）におけるＹと同義であり、好ましい基も同様である。ｍは０〜４であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることがさらに好ましい。すなわち、Ｌ４が単結合であることが好ましい。
【０１０２】
一般式（１２）中、Ｒｆ４は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
Ｒｆ４は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数２〜７５のパーフルオロアルキル基であることが好ましく、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数４〜６０のパーフルオロアルキル基であることがより好ましく、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数６〜５０のパーフルオロアルキル基であることがさらに好ましい。
Ｒｆ４は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、直鎖状、又は分岐鎖としてトリフルオロメチル基を有する直鎖状のパーフルオロアルキル基であることが好ましい。
以下にＲｆ４の具体例を示す。
なお、下記例中のzは、Ｒｆ４中の炭素数が１〜１００を満たす整数の組み合わせを表す。ｚは好ましくは１〜４０であり、より好ましくは３〜２０である。
【０１０３】
Ｃ４Ｆ９−、
Ｃ６Ｆ１３−、
ＣＦ３（ＣＦ２）７−、
ＣＦ３（ＣＦ２）９−、
ＣＦ３ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
（ＣＦ３）２ＣＦＯＣＦ２−、
（（ＣＦ３）２ＣＦ）２ＣＦＣＦ（ＣＦ３）−、
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｚＣＦ２−、
（ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２）２ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
（ＣＦ３）３ＣＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２−、
（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｚＣＦ２−、
（ＣＦ３）３ＣＯＣＦ２ＣＦ２−、
（ＣＦ３）３ＣＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｚＣＦ２−、
（ＣＦ３）２ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｚＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｚＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｚＣＦ（ＣＦ３）−、
ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−
【０１０４】
一般式（１３）中、ｈ及びｉはそれぞれ独立に１〜５の整数を表す。ｈ及びｉはそれぞれ独立に１〜３の整数であることが好ましく、１又は２であることがより好ましく、１であることがさらに好ましい。
【０１０５】
一般式（１３）中のＹは、一般式（１２）におけるＹと同義であり、好ましい基も同様である。
【０１０６】
一般式（１３）中のＬ４は一般式（１２）におけるＬ４と同義であり、好ましい基も同様である。
【０１０７】
一般式（１３）中、Ｒｆ５は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状、分枝状又は環状の２価のパーフルオロアルキレン基を表す。
Ｒｆ５は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、直鎖状の炭素数２〜９０の２価のパーフルオロアルキレン基であることが好ましく、エーテル性酸素原子を含んでもよい、直鎖状の炭素数６〜８０の２価のパーフルオロアルキレン基であることがより好ましい。
Ｒｆ５は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、直鎖状、又は分岐鎖としてトリフルオロメチル基を有する直鎖状のパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。
以下にＲｆ５の具体例を示す。
なお、下記例中のｐ、ｑは、Ｒｆ５中の炭素数が１〜１００を満たすような整数の組み合わせを表す。ｐは好ましくは、１〜４０であり、より好ましくは３〜２０である。ｑは好ましくは、１〜４０であり、より好ましくは３〜２０である。
【０１０８】
−ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐ−ＣＦ２−、
−ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐ−ＣＦ２−、
−ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐ−ＣＦ２−、
−ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐ（ＣＦ２Ｏ）ｑ−ＣＦ２−、
−（ＣＦ２）２−、
−（ＣＦ２）４−、
−（ＣＦ２）６−、
−（ＣＦ２）８−、
−（ＣＦ２）１０−、
−（ＣＦ３）ＣＦ［ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）］ｐＯＣＦ２（ＣＦ２）４ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｑＣＦ（ＣＦ３）−、
−ＣＦ２［ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）］ｐＯＣＦ２−、
−（ＣＦ２）４ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｐＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−
【０１０９】
前記一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物は下記一般式（１８）又は（１９）で表される含フッ素化合物であることが好ましい。
【０１１０】
【化３３】
0005810114.tif 000034
【０１１１】
一般式（１８）中、ｆは１〜５の整数を表し、Ｙは前記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｒｆ７は、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状又は分枝状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
一般式（１９）中、ｈ及びｉはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、Ｙは前記一般式（２）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表し、Ｒｆ８は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状又は分枝状の２価のパーフルオロアルキル基を表す。
【０１１２】
一般式（１８）及び（１９）中、ｆ、Ｙ、ｈ及びｉの具体例及び好ましい範囲は、前記一般式（１２）又は（１３）中におけるｆ、Ｙ、ｈ及びｉと同様である。
【０１１３】
一般式（１８）中、Ｒｆ７は、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状又は分枝状の１価のパーフルオロアルキル基を表す。
Ｒｆ７は、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数２〜７５の、直鎖状、又は分岐鎖としてトリフルオロメチル基を有する直鎖状のパーフルオロアルキル基であることが好ましく、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数４〜６０の、直鎖状、又は分岐鎖としてトリフルオロメチル基を有する直鎖状のパーフルオロアルキル基であることがより好ましく、少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有する、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数６〜５０のパーフルオロアルキル基であることがさらに好ましい。
Ｒｆ７の具体例及び好ましい範囲は、一般式（１２）中のＲｆ４と同様である。
以下にＲｆ７の具体例を示す。
なお、下記例中のｚ１は、Ｒｆ７中の炭素数が１〜１００を満たす整数の組み合わせを表す。ｚ１は好ましくは０〜２０であり、より好ましくは１〜１０である。
【０１１４】
Ｃ４Ｆ９−、
Ｃ６Ｆ１３−、
ＣＦ３（ＣＦ２）７−、
ＣＦ３（ＣＦ２）９−、
ＣＦ３ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
（ＣＦ３）２ＣＦＯＣＦ２−、
（（ＣＦ３）２ＣＦ）２ＣＦＣＦ（ＣＦ３）−、
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｚＣＦ２−、
（ＣＦ３）３ＣＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２−、
（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｚ１ＣＦ２−、
（ＣＦ３）３ＣＯＣＦ２ＣＦ２−、
（ＣＦ３）３ＣＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｚ１ＣＦ２−、
（ＣＦ３）２ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｚ１ＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｚ１ＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｚ１ＣＦ（ＣＦ３）−、
ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−
【０１１５】
一般式（１９）中、Ｒｆ８は、エーテル性酸素原子を含んでもよい、炭素数１〜１００の直鎖状又は分枝状の２価のパーフルオロアルキル基を表す。
Ｒｆ９の具体例及び好ましい範囲は、一般式（１３）中のＲｆ５と同様である。
【０１１６】
一般式（１２）又は（１３）で表される化合物は、撥液性の観点から、フッ素原子含有率が３０質量％以上７５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは３２質量％以上３７質量％以下であり、さらに好ましくは３３質量％以上６０質量％以下である。
【０１１７】
以下に一般式（１２）又は（１３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらによって限定されない。下記具体例化合物中のｚは１〜４０の整数を表し、ｐ、ｑは各々独立に１〜４０の整数を表す。
【０１１８】
【化３４】
0005810114.tif 000035
【０１１９】
【化３５】
0005810114.tif 000036
【０１２０】
【化３６】
0005810114.tif 000037
【０１２１】
【化３７】
0005810114.tif 000038
【０１２２】
上記具体例化合物の中でも、ＡＡ−２、ＡＡ−３、ＡＡ−９、ＡＡ−１２、ＡＡ−１３、ＡＡ−１４、ＡＡ−１５、ＡＡ−１７、ＡＥ−２、ＡＥ−５、ＡＥ−９、ＡＥ−１２、ＡＥ−１３、ＡＥ−１５、ＡＥ−１７が好ましく、ＡＡ−２、ＡＡ−３、ＡＡ−９、ＡＡ−１３、ＡＡ−１４、ＡＡ−１５、ＡＥ−２、ＡＥ−５、ＡＥ−９、ＡＥ−１３、ＡＥ−１５がより好ましく、ＡＡ−２、ＡＡ−１３、ＡＡ−１５、ＡＥ−２、ＡＥ−１３、ＡＥ−１５が最も好ましい。
【０１２３】
一般式（１２）又は（１３）で表される化合物は、商業的に入手してもよく、合成により製造してもよい。合成する場合はその合成法に特に制限はなく、公知の方法、例えば、商業的に入手できる含フッ素アルコール化合物と、アクリル酸の脱水縮合による方法や、エピクロロヒドリンとの置換反応による方法により合成することができる。
【０１２４】
本発明の撥水処理剤は、一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物を１種のみ含有していてもよいし、２種以上含有していてもよい。
【０１２５】
＜撥液性処理剤＞
本発明の撥液性処理剤は、少なくとも１種類以上の上記一般式（１）で表される含フッ素化合物と、上記一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物とを含有する。
一般式（１）で表される含フッ素化合物、例えば上記化合物ＭＡ３１は、分子の中心部分に高フッ素含率の撥液性部分が存在し、その周囲に撥液性の低い重合性基Ｙが分散している分子構造を有する。そのため、高フッ素含率にもかかわらず、分子表面の自由エネルギーは比較的高く、基材の親水性表面との親和性は比較的高い。
一方、一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物、例えば上記化合物ＡＡ−２やＡＡ−１５は、高フッ素含率部分と重合性基Ｙが偏在する分子構造を有する。そのため、分子表面の自由エネルギーは非常に低く、基材の親水性表面との親和性は非常に低い。このような分子構造を有するため、一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物を、基材の親水性表面に塗布した場合には弾かれてしまい、均質な塗膜を形成できない。
【０１２６】
驚くべきことに、一般式（１）で表される含フッ素化合物と一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物とを含む撥液性処理剤は、高フッ素含率でありながら親水性表面に塗布した場合にも弾かれなく、均質な塗膜を形成できる。これは、以下のような現象によるものと推測する。
即ち、塗布後の塗布内において、非常に低い分子表面自由エネルギーを有する一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物は空気との界面に偏在し、比較的高い分子表面自由エネルギーを有する一般式（１）で表される含フッ素化合物は親水性表面との界面に偏在していると推測する。
このようにして、非常に高い撥液性を有しながら同時に、親水性表面に塗布した場合でも弾かれないという、優れた特徴を有する撥液性処理剤を得ることができる。
また、一般式（１）で表される含フッ素化合物と一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物とは相溶性が高いため、一般式（１）で表される含フッ素化合物と一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物とを含む撥液性処理剤を塗布して形成した塗膜は透明性にも優れる。
【０１２７】
撥液性処理剤中、一般式（１）で表される含フッ素化合物は、耐摩擦性の向上の観点から、撥液性処理剤の全固形分に対して、５〜９０質量％であることが好ましく、７〜７０質量％であることがより好ましく、１０〜５０質量％であることがさらに好ましい。
また、一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物は、撥液性の発現の観点から、撥液性処理剤の全固形分に対して、１０〜９５質量％であることが好ましく、３０〜９３質量％であることがより好ましく、５０〜９０質量％であることがさらに好ましい。
【０１２８】
本発明の撥液処理剤における、一般式（１）で表される含フッ素化合物と一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物との含有比は、質量比で、（一般式（１）で表される含フッ素化合物）／（一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物）が、０．０５〜９であることが好ましく、０．０７〜２．３３であることがより好ましく、０．１〜１であることが更に好ましい。（一般式（１）で表される含フッ素化合物）／（一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物）の比が０．０５以上であると、硬化後に耐摩擦性向上効果を得られるという理由から好ましく、９以下であると硬化後に十分な撥液性効果を得られるという理由から好ましい。
なお、「一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物」の含有量は、撥液処理剤中に、一般式（１２）で表される含フッ素化合物と一般式（１３）で表される含フッ素化合物の両方を含む場合は、一般式（１２）で表される含フッ素化合物と一般式（１３）で表される含フッ素化合物の合計の含有量である。
【０１２９】
本発明の撥水処理剤は、一般式（１）で表される化合物として、上記ＭＡ１、ＭＡ２、ＭＡ３、ＭＡ４、ＭＡ５、ＭＡ６、ＭＡ７、ＭＡ９、ＭＡ１２、ＭＡ１３、ＭＡ１４、ＭＡ１７、ＭＡ２３、ＭＡ２４、ＭＡ３０、ＭＡ３１、ＭＡ３２、ＭＡ３３、ＭＡ３５、ＭＡ３７、ＭＡ３８、ＭＥ１、ＭＥ２、ＭＥ３、ＭＥ４、ＭＥ５、ＭＥ６、ＭＥ７、ＭＥ１２、ＭＥ１３、ＭＥ１４、ＭＥ１７、ＭＥ２３、ＭＥ２４、ＭＥ２９、ＭＥ３１、ＭＥ３２、ＭＥ３３、ＭＥ３５、ＭＥ３７、ＭＥ３９、又はＭＥ４０を有し、一般式（１２）又は（１３）で表される化合物として、上記ＡＡ−２、ＡＡ−３、ＡＡ−９、ＡＡ−１２、ＡＡ−１３、ＡＡ−１４、ＡＡ−１５、ＡＡ−１７、ＡＥ−２、ＡＥ−５、ＡＥ−９、ＡＥ−１２、ＡＥ−１３、ＡＥ−１５、又はＡＥ−１７を有することが好ましい。
【０１３０】
＜非フッ素化合物＞
本発明の撥液性処理剤は、さらに下記一般式（１６）で表される非フッ素化合物を含有することが撥液性処理剤の硬化促進の観点から好ましい。
【０１３１】
【化３８】
0005810114.tif 000039
【０１３２】
一般式（１６）中、ｊは１〜６の整数を表し、Ｙは下記一般式（２１）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基（但し、Ｘ１は水素原子、塩素原子、メチル基、又は水酸基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜５の直鎖状又は分枝状の１価のアルキル基を表し、ｋは１又は２を表す。）、アリル基、又はビニル基を表し、Ｌ５は下記一般式（６）、（７）、（１４）又は（１５）で表される基（但し、ｍは０〜１０の整数を表す。）を表し、Ｒ７は、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖状、分枝状又は環状のｊ価の有機基を表す。一般式（７）、（１５）中、Ｙは一般式（２１）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表す。
【０１３３】
【化３９】
0005810114.tif 000040
【０１３４】
一般式（１６）中、ｊは１〜６の整数を表す。ｊは４〜６の整数であることが好ましい。
【０１３５】
一般式（１６）中、Ｙは上記一般式（２１）、（３）、（４）若しくは（５）で表される基、アリル基、又はビニル基を表す。
【０１３６】
一般式（２１）中、Ｘ１は水素原子であることが好ましい。
【０１３７】
一般式（３）〜（５）は、一般式（１）におけるＹがとりうる式（３）〜（５）と同義である。
【０１３８】
一般式（１６）中のＹとしては、硬化促進効果の観点から、上記式（２１）又は式（３）で表される基であることが好ましい。
【０１３９】
一般式（１６）中、Ｌ５は一般式（１２）におけるＬ４と同義であり、好ましい基も同様である。
【０１４０】
一般式（１６）中、Ｒ７は、水素原子、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖状、分枝状又は環状のｊ価の有機基を表す。有機基は、特に限定されるものではないが、ジペンタエリスリトール、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパンから水酸基を除いた骨格等が挙げられる。有機基が置換基を有する場合の置換基としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等が挙げられる。
【０１４１】
一般式（１６）で表される非フッ素化合物の具体例としては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等が挙げられる。
【０１４２】
上記一般式（１６）で表される非フッ素化合物は、撥液性の発現の観点から、一般式（１）で表される含フッ素化合物に対して、１〜２５質量％含ませることが好ましい。
【０１４３】
＜重合開始剤＞
本発明の撥液性処理剤は、さらに重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤としては、熱により重合を開始させる熱重合開始剤や、光により重合を開始させる光重合開始剤が挙げられる。用いる重合開始剤は特に制限されないが、後述の親水性領域と撥水性領域が所望のパターンを有する部材を得る目的においては、フォトマスクを用いたパターン形成に適するように、光重合開始剤を用いることが好ましい。
【０１４４】
光重合開始剤には、光を吸収してラジカルを発生することにより重合反応を開始させる光ラジカル重合開始剤や、光を吸収してカチオンを発生することにより重合反応を開始させる光カチオン重合開始剤がある。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン（株）社製、ダロキュア１１７３）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦジャパン（株）社製、イルガキュア１８４）、ベンジルジメチルケタール（ＢＡＳＦジャパン（株）社製、イルガキュア６５１）、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン（株）社製、イルガキュア９０７）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（ＢＡＳＦジャパン（株）社製、イルガキュア３６９）、２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製、カヤキュアＤＥＴＸ）を好ましい例として挙げることができる。
光カチオン重合開始剤としては、例えば［ＣＨ３−ｐｈ−Ｉ＋−ｐｈ−ＣＨ−（ＣＨ３）２］［ＰＦ６−］（ただし、ｐｈは１，４−フェニレン基を示す）が好ましく、［ＣＨ３−ｐｈ−Ｉ＋−ｐｈ−ＣＨ−（ＣＨ３）２］［ＰＦ６−］（ただし、ｐｈは１，４−フェニレン基を示す）とプロピレンカーボネートの３：１の混合物（ＢＡＳＦジャパン（株）社製、イルガキュア２５０）が例示される。他の好ましい例としては、ジメチル−４−メチルフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート（和光純薬工業（株）社製、ＷＰＡＧ−３３６）が挙げられる。
光カチオン重合開始剤としては、スルホニウム塩化合物又はヨードニウム塩化合物が好ましい。
これらは単独で用いても、２種類以上を混合して用いてもよい。光重合開始剤の量は、撥液性処理剤中の重合性化合物の総量に対して０．１〜５０質量％が好ましく、１〜１０質量％がより好ましい。
【０１４５】
＜溶媒＞
本発明の撥液性処理剤は、塗布性を向上させるために溶媒を含んでもよい。溶媒としては、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ヘキサン等の炭化水素類、ノナフルオロブチルメチルエーテル（住友スリーエム（株）社製、ノベックＨＦＥ−７１００）、ジクロロペンタフルオロプロパン（旭硝子（株）社製、アサヒクリンＡＫ−２２５；ＣＦ３ＣＦ２ＣＨＣｌ２とＣＣｌＦ２ＣＦ２ＣＨＣｌＦの混合物）等の含フッ素化合物類が好ましい。これらは単独で用いても、２種類以上を混合して用いてもよい。溶液中の固形分濃度は０．０１〜５０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましい。
【０１４６】
その他、撥液性処理剤中には、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、重合禁止剤、蛍光体、樹脂、モノマー、無機粒子、粒子状有機ポリマー、熱安定剤等を含んでもよい。
【０１４７】
＜撥液性膜、及び親水性領域と撥水性領域とを有する部材＞
本発明の撥液性処理剤を用いて撥液性膜を形成することができる。
また、本発明の撥液性処理剤を用いて、基材の表面に親水性領域と撥水性領域とを有する部材（「処理基材」とも呼ぶ）を製造することができる。本発明の処理基材は、親水性の表面を有する基材の該表面に本発明の撥液性処理剤を含む塗膜を形成する工程、ついで該塗膜の表面の一部に光を照射して撥液性処理剤を硬化させ撥液性膜を形成する工程、ついで基材の表面に存在する未硬化の撥液性処理剤を除去して親水性の表面を露出させる工程、によって製造することができる。
【０１４８】
本発明の処理基材は、例えば、図１に示すように下記の工程１〜４によって製造できる。
工程１：基材１の表面を親水化処理して表面を親水性の表面２にする工程（図１（ａ））。
工程２：ついで該表面２に、本発明の撥液性処理剤を含む塗膜３を形成する工程（図１（ｂ））。
工程３：ついで塗膜３の表面の一部に光６を照射して撥液性処理剤を硬化させ、撥液性膜４を形成する工程（図１（ｃ））。
工程４：ついで基材の表面に存在する未硬化の撥液性処理剤を除去して親水性の表面２を露出させる工程（図１（ｄ））。
【０１４９】
工程１：
基材の表面が親水性を示すときは工程１を省略することができるが、基材の表面を親水化処理することが好ましい。
本発明における基材としては、ガラス；シリコンウェハ；Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｗ、またはＰｂ等の金属；ＰｄＯ、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＰｂＯ、またはＳｂ２Ｏ３等の金属酸化物；ＨｆＢ２、ＺｒＢ２、ＬａＢ６、ＣｅＢ６、ＹＢ４、またはＧｄＢ４等の硼化物；ＴｉＣ、ＺｒＣ、ＨｆＣ、ＴａＣ、ＳｉＣ、またはＷＣ等の炭化物；ＴｉＮ、ＺｒＮ、またはＨｆＮ等の窒化物；ＳｉまたはＧｅ等の半導体；カーボン；ポリイミド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、またはポリテトラフルオロエチレン等の樹脂；等の材料からなる基材から選択できる。ガラス、シリコンウェハ、金属酸化物、またはポリイミドが好ましい。
【０１５０】
基材の形状としては、特に限定されず、平面、曲面、または部分的に曲面を有する平面が好ましく、平面がより好ましい。また基材の面積も特に限定されず、従来の塗布方法が適用できる限りの大きさの面を有する基材を採用できる。また、本発明における基材の表面における処理は、平面上の基材の片面で行うのが好ましい。
【０１５１】
処理基材の製造にあたって予め基材の表面を洗浄することが好ましい。また、基材表面を親水化処理することも好ましく、さらに表面に親水性薄膜を有する基材を使用することも好ましい。これらの表面の処理は共通する方法で行うことができ、また、その処理がこれらの処理のいずれかであるかを区別しがたい場合もある。本明細書では、これらを全て基材の親水化処理とみなして、以下説明する。
基材の表面を親水化処理する方法としては、プラスチック、金属、ガラス、セラミックスなどの表面を親水化処理する一般的な方法が適用可能である。該方法としては、基材の表面を湿式洗浄する方法、基材の表面を湿式酸化する方法、基材の表面を光洗浄もしくは光酸化する方法、基材の表面に親水性化合物を塗布する方法、またはこれらを組み合わせた方法が例示できる。基材の材質が親水性である場合にはそのまま用いることもできるが、このような基材は通常汚れやすい。そのため、基材を使用前に湿式洗浄、光洗浄、またはこれらの組合せにより親水化処理することが好ましい。基材の材質が疎水性である場合、基材の表面を湿式酸化、光酸化、または親水性化合物の塗布により親水化処理することが好ましい。
【０１５２】
基材の湿式洗浄には、水、水系洗浄剤、または非水系洗浄剤（有機溶剤、フッ素系溶剤等）を使用できる。特に基材を水または界面活性剤を含んだ水系洗浄剤を用いて洗浄した後に、イソプロピルアルコールやエチルアルコール等の低沸点の有機溶剤を用いて、表面の異物や水分等を除去しつつ乾燥する方法が好ましい。さらに基材の種類や汚れの種類・程度に応じて、工程の追加、または工程の一部の省略ができる。有機系の汚れが付着した基材の湿式洗浄は、まず該汚れを除去するために、ジクロロペンタフルオロプロパン（旭硝子（株）社製ＡＫ−２２５；ＣＦ３ＣＦ２ＣＨＣｌ２とＣＣｌＦ２ＣＦ２ＣＨＣｌＦの混合物）等のフッ素系溶剤であらかじめ洗浄しておき、つぎに水系洗浄剤または有機溶剤で基材を浸漬洗浄するのが好ましい。浸漬洗浄する際には、超音波洗浄を併用してもよい。ガラスについては、浸漬洗浄の代わりに、または浸漬洗浄とともに、酸化セリウム系微粒子を含む研磨剤で研磨洗浄し、純水ですすいで風乾して用いる方法を採用してもよい。
【０１５３】
基材の湿式酸化は、過酸化物等の酸化剤の水溶液を用いて表面を酸化する。酸化剤としては特に限定されず、硫酸、硝酸、過酸化水素、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過マンガン酸カリウム等が挙げられる。基材を湿式酸化する方法は該水溶液を基材の表面に塗布できるものであれば特に限定されず、スピンコート法、ディップコート法、スプレー法、ロールコート法等が採用できる。
【０１５４】
基材を光洗浄または光酸化する方法としては、ＵＶ照射処理、ＵＶ／Ｏ３処理、プラズマ処理、コロナ放電処理、フレーム処理等があり、ＵＶ／Ｏ３処理が好ましい。
また、湿式洗浄のみでは微少な有機物の汚れ（例えば、中性洗剤の界面活性剤の残り滓、クリーンルームの浮遊物など）が残りやすい。これに対して、上述の光洗浄は、そのおそれがない。従って、最初に、湿式洗浄で比較的大きな汚れを除去し、その後、光洗浄により洗浄する方法も好ましい。
【０１５５】
基材の表面の親水化処理に用いうる親水性化合物としては、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（ビニルピロリドン）、ポリ（エチレングリコール）等の親水性ポリマー；グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等の多価アルコール等がある。また、基材表面に反応して表面にシラノール基等の親水性残基を形成する親水化処理化合物としては、Ｓｉ（ＯＣＨ３）４、Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）４、［（ＣＨ３）３Ｓｉ］２ＮＨ、Ｈ−Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、ＮＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３等の加水分解性基を有するシラン化合物または該化合物の一部または全部が加水分解物された化合物、または該化合物の加水分解縮合物が挙げられる。
【０１５６】
親水性化合物は溶媒に溶解させた溶液として塗布することが好ましい。親水性ポリマーや多価アルコールは水に溶解させることが好ましく、シラン化合物はイソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒に溶解させることが好ましい。溶液中の親水性化合物の濃度は０．０１〜１０質量％が好ましく、０．１〜１質量％がより好ましい。
基材への塗布方法は特に限定されず、スピンコート法、ディップコート法、スプレー法、ロールコート法、メニスカスコート法、スクリーン印刷法等が採用できる。
【０１５７】
基材の表面が異なる材料で形成されている場合の親水化処理として、親水性化合物を塗布する方法を採用すると、異なる材料の表面に対して同じ親水性を付与することができるので好ましい。
【０１５８】
工程２：
親水性の表面を有する基材の表面に本発明の撥液性処理剤を含む塗膜を形成するには、撥液性処理剤を基材に塗布後、乾燥するのが好ましい。撥液性処理剤は上述の溶媒を含む溶液として塗布するのが好ましい。
【０１５９】
塗布する方法としては、スピンコート、ディップコート、ワイヤーバーコート、ブレードコート、ロールコートなどの方法が採用できる。塗布は、室温下または加熱下で行うことが好ましい。また塗布後の基材は、大気中または窒素気流中等で乾燥されることが好ましい。該乾燥は室温で行うのが好ましい。乾燥を加熱下で行う場合には、基材の材質の耐熱性によって温度および時間を適宜変更するのが好ましい。
【０１６０】
工程３：
塗膜を形成後、塗膜の表面の一部に光を照射する。光照射に用いる光は、波長２００ｎｍ以上の光が好ましく、波長３００ｎｍ以上の光がより好ましい。また、波長３８０ｎｍ以下の光が好ましく、波長３６５ｎｍ以下の光がより好ましい。波長２００ｎｍ以上の光は、基材を分解するおそれが少ない利点がある。また、波長３８０ｎｍ以下の光照射により重合を開始させる光重合開始剤は入手しやすく、光源も安価である。照射時間は、光の波長、光の強度・光源の種類、組成物の種類等に応じて、適宜変更しうる。超高圧水銀ランプの場合、２〜１００ｍＷ／ｃｍ２で５〜１２０秒照射すればよい。高圧水銀ランプの場合は一般に、超高圧水銀ランプより短時間の照射でよい。
【０１６１】
光源としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ナトリウムランプ、窒素等の気体レーザー、有機色素溶液の液体レーザー、無機単結晶に希土類イオンを含有させた固体レーザー等が挙げられる。また、単色光が得られるレーザー以外の光源としては、広帯域の線スペクトル、連続スペクトルをバンドパスフィルター、カットオフフィルター等の光学フィルターを使用して取出した特定波長の光を使用してもよい。一度に大きな面積を照射することができることから、光源としては高圧水銀ランプまたは超高圧水銀ランプが好ましい。
【０１６２】
光の照射はフォトマスクを介して光を照射することが好ましい。この方法により、膜の表面の所望の領域でのみ硬化反応を起こすことが可能であり、親水性領域と撥水性領域が所望のパターンを形成した処理基材を得ることができる。本発明における所望のパターンとは、用途によりそのパターンは異なるが、例えば、線状、ドット状、リング状、格子状、ハニカム状等の繰返しパターンや、用途に応じた配線、電極、絶縁層、発光層等のパターン等であり、間隔は、例えば０．５μｍ〜１ｃｍである。
【０１６３】
光照射する雰囲気は任意に選択することができる。膜厚１００ｎｍ以下の撥液性処理剤を硬化させた撥液性の膜を形成する場合には、酸素による硬化阻害を受ける場合があるため、窒素ガス雰囲気等の不活性ガス雰囲気下に光照射するのが好ましい。不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、ヘリウム、二酸化炭素等から選ばれるガスが挙げられ、安価に入手できるため窒素ガスが最も好ましい。
【０１６４】
撥液性膜の膜厚は、その利用形態により最適な膜厚が異なるために特に制限はないが、１ｎｍ以上１０ｍｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１ｍｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以上５００μｍ以下がさらに好ましい。
【０１６５】
光照射は、基材が光照射に用いる光を透過する波長の光であれば、基材のどちらの面側から行ってもよく、通常は基材の撥液性処理剤を含む膜の面側から光照射を行うのが好ましい。
【０１６６】
フォトマスクを解した光やレーザー光を用いて光照射を行った場合には、親水性領域と撥水性領域が所望のパターンを形成してなる処理基材が得られる。また、親水性領域と撥水性領域の線幅が１０μｍ以下であるパターンを形成できる。
【０１６７】
工程４：
撥液性処理剤を硬化させた撥液性の膜を形成した後、基材の表面に存在する未硬化の撥液性処理剤を除去する。未硬化の撥液性処理剤を除去することにより、親水性の表面を露出させることとなる。未硬化の撥液性処理剤を除去する方法としては、重合性含フッ素化合物が残存する表面を有機溶媒で洗浄するのが好ましい。洗浄に用いる有機溶媒としては、重合性含フッ素化合物を溶解する溶媒が好ましい。該有機溶媒としては、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ヘキサン等の炭化水素系溶媒、ノナフルオロブチルメチルエーテル（住友スリーエム（株）社製、ノベックＨＦＥ−７１００）、ジクロロペンタフルオロプロパン（旭硝子（株）社製、アサヒクリンＡＫ−２２５；ＣＦ３ＣＦ２ＣＨＣｌ２とＣＣｌＦ２ＣＦ２ＣＨＣｌＦの混合物）等の含フッ素溶媒等が挙げられる。
【０１６８】
上記のようにして、基材の表面に親水性領域と、撥水性領域とを有する処理基材が提供される。親水性領域と撥水性領域は、水に対する接触角で区別できる。
【０１６９】
親水性領域の水に対する接触角は、５０度以下が好ましく、４０度以下がより好ましく、２０度以下が特に好ましい。撥水性領域の水に対する接触角は、８０度以上が好ましく、１００度以上がより好ましく、１１０度以上が特に好ましい。
親水性領域の水に対する接触角と撥水性領域の水に対する接触角の差は５０度以上であるのが好ましく、７０度以上がより好ましく、８０度以上が特に好ましい。
【０１７０】
本発明の処理基材における撥水性領域は、本発明の重合性含フッ素化合物を含む撥液性処理剤を硬化させた撥液性の膜からなるため、水だけでなく有機溶剤に対しても撥液性を奏する。撥水性領域が有機溶剤に対して撥液性を奏するため、相対的に親水性領域は有機溶剤に対して親液性を奏する。
【０１７１】
後述する機能性材料を含む液を塗布した場合、親水性領域と撥水性領域の接触角の差が大きいほど、撥水性領域と親水性領域にまたがった機能性材料を含む液は親水性領域に流れ込みやすくなり、機能性材料を含む液を乾燥させることで得られる機能性材料のパターンは撥水性領域と親水性領域とのパターンをより正確に再現できる。
また、親水性領域の接触角の絶対値が小さいほど、機能性材料を含む液は親水性領域で良く濡れ広がり、機能性材料を含む液を乾燥させることで得られる機能性材料のパターンの膜厚をより均一にすることができる。
【０１７２】
本発明において、基材としてプラスチック基板や超薄板ガラス等のフレキシブル基板を用いた場合には、ロールツーロール法（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ法）が実施できるように設置した複数のロールと、複数のロールの間に露光機を設置して基板への光照射を行うことにより、高スループットで処理基材を得ることができる。
【０１７３】
＜機能性材料のパターンが形成された部材＞
親水性領域と撥水性領域が所望のパターンを形成してなる処理基材を用いて、機能性材料のパターンが形成された部材を製造することができる。本発明の部材は、処理基材の表面に機能性材料を含む液を塗布して、処理基材のパターンを形成した親水性領域に該液を付着させる工程、ついで乾燥させることによって機能性材料のパターンを形成させる工程、必要に応じて、撥液性の膜を除去する工程によって製造できる。
【０１７４】
本発明の機能性材料のパターンが形成された部材は、例えば、図２に示すように下記の工程５、６、必要に応じて工程７によって製造できる。
工程５：処理基材９の表面に機能性材料を含む液１１を塗布して（図２（ｅ））、処理基材のパターンを形成した親水性領域７に該液１１を付着させる工程（図２（ｆ））。
工程６：ついで乾燥させることによって機能性材料１２のパターンを形成させる工程（図２（ｇ））。
工程７：ついで撥液性の膜４からなる撥水性領域８を除去する工程（図２（ｈ））。
【０１７５】
工程５：
機能性材料としては、金属配線を形成する金属粒子分散ペースト、カラーフィルタを形成する色素材料、電子デバイス・有機ディスプレイを形成するセラミック材料、有機半導体材料等が挙げられる。
【０１７６】
機能性材料を含む液とは、機能性材料を水、有機溶剤、またはそれらの混合物に溶解または分散させた液体もしくは液状体をいう。本発明の処理基材の撥水性領域においては前述のとおり撥油性をも示すため、上記有機溶剤としては極性の低い有機溶剤も使用できる。有機溶剤としては、特に限定されず、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン等の炭化水素類；エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系化合物；プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノン等の極性化合物が上げられる。これらのうち、溶解性、分散性、それらの安定性の点で、好適な溶媒を選択することが好ましい。これらの有機溶媒は、単独で使用してもよく、２種以上の混合物として使用してもよい。
【０１７７】
液の塗布方法としては、スピンコート、ディップコート、ワイヤーバーコート、ブレードコート、ロールコート等の塗布方法、スクリーン印刷、インクジェット法等の特定領域への印刷方法が挙げられる。これらのうち、親水性領域と撥水性領域とからなるパターン上の親水性領域に選択的に塗布することが可能という点で、スクリーン印刷、インクジェット法が好ましい。
【０１７８】
工程６：
塗布後の基材を乾燥させ、工程５で用いた溶剤を除去することによって、機能性材料のパターンが形成された部材が得られる。乾燥は大気中または窒素気流中等で行うことが好ましい。また、乾燥は室温または加熱下で行うのが好ましい。乾燥を加熱下で行う場合には、基材の材質の耐熱性によって温度および時間を適宜変更するのが好ましい。
【０１７９】
工程７：
機能性材料のパターンが形成された部材において、さらに撥液性の膜を除去したものは電子素子として有用である。撥液性の膜を除去するのは、該部材を電子素子として使用する場合に、撥液性の膜が素子の動作に影響するおそれがあるからである。
【０１８０】
撥液性の膜の除去には、アルカリ性水溶液を用いて洗浄することが好ましい。アルカリ性水溶液としては、アルカリ金属水酸化物（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）の水溶液もしくはメタノール溶液、テトラメチルアンモニウム水酸化物の水溶液もしくはメタノール溶液が挙げられるが、なかでも、水酸化ナトリウムの水溶液が好ましい。
【実施例】
【０１８１】
以下に本発明を具体的に説明する実施例を挙げるが、本発明はこれらによって限定されるものではない。またここでは、核磁気共鳴法はＮＭＲと、記す。１Ｈ−ＮＭＲスペクトルではテトラメチルシランを内部標準として用い、１９Ｆ−ＮＭＲスペクトルではフルオロトリクロロメタンを外部標準として用いて測定を行った。
【０１８２】
［合成例１］化合物ＭＡ１の合成
【０１８３】
【化４０】
0005810114.tif 000041
【０１８４】
（合成例１−１）  化合物ＭＡ１−Ａの合成
化合物（ＭＡ１−Ａ）は、非特許文献（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．第５５巻、１９９０年、６３６８ページ）に記載の方法を参考に合成した。
蒸留器を取り付けた反応器にペンタエリスリトール（和光純薬工業（株）社製）１３６ｇ（１．００ｍｏｌ）、トルエン１００ｍＬ、オルトギ酸トリエチル（和光純薬工業（株）社製）１８３ｍＬ（１．００ｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．５０ｇを取り、留出するエタノールを除きながら反応器温度を徐々に１００℃まで上昇させてそのまま１２時間反応させ、さらに１２５℃で１時間反応させた。反応終了後、５０℃減圧下で低沸点成分を留去した後、得られた生成物を乾燥させて白色固体を得た。
反応器に水酸化カリウム２６．４ｇ（０．４７０ｍｏｌ）及びジメチルスルホキシド１６０ｍＬを取り、室温で攪拌させながら前記の白色固体１６．０ｇ（０．１００ｍｏｌ）を加え、次いで１−ブロモヘキサン２０．０ｇ（０．１２１ｍｏｌ）を加えて、そのまま３０分間反応させた。反応液を水１．５Ｌに加えて、これを酢酸エチル２００ｍＬで２回抽出し、得られた有機層を水洗し乾燥させた後、低沸点物を留去して白色固体を得た。
この白色固体をメタノール７０ｍＬに溶解させてから０．０１ｍｏｌ／Ｌ塩酸２５０ｍＬを加え、室温で２時間反応させ、次いで炭酸水素ナトリウム９．３ｇを加えて室温で１時間攪拌させた。得られた反応液から減圧下溶媒を留去した後、メタノール１２５ｍＬを加えて１２時間攪拌させ、次いで不溶物をろ別し、得られたろ液から溶媒を留去して、無色油状の化合物ＭＡ１−Ａを得た。収量１８．５ｇ（収率８３％）。
【０１８５】
（合成例１−２）  化合物ＭＡ１−Ｂの合成
化合物ＭＡ１−Ｂは、特許文献（特開２００９−１４９５９５号公報）に記載の方法を参考に合成した。
トルエン４０mＬに、化合物ＭＡ１−Ａ  １７．６ｇ（０．０８０ｍｏｌ）、４０ｗｔ％水酸化カリウム水溶液１３．４ｇ、及びベンジルトリメチルアンモニウムクロライド０．１０ｇを取り、水浴中で攪拌させながら、１５〜２０℃でアクリロニトリル１３．２ｇ（０．２４９mol）を３時間かけて滴下した。薄黄色の反応液にトルエン５０mＬ加え分液し、得られた有機層を、５wt％食塩水、希塩酸、さらに５wt％食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、固体をろ過し、溶媒を減圧留去して、淡黄色油状の化合物ＭＡ１−Ｂを得た。収量２８．５ｇ（収率９４％）。
【０１８６】
（合成例１−３）  化合物ＭＡ１−Ｃの合成
化合物ＭＡ１−Ｃは、非特許文献（Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ  Ｃｈｅｍ．、２００４年、第１２５号、７４９ページ）に記載の方法を参考に合成した。
脱水メタノール１２５ｍＬに化合物ＭＡ１−Ｂ  ２５．０ｇ（０．０６６ｍｏｌ）を加えた。室温で攪拌させながら塩化水素ガスを飽和するまでゆっくりと流し込み、さらに塩素ガスを流通させながら加熱還流条件で６時間反応させた。窒素ガスを流通させてから溶媒を留去した後、残査を酢酸エチル２００ｍＬに溶解させ、飽和重曹水、水、さらに飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、固体をろ過し、溶媒を減圧留去して、淡黄色油状の化合物ＭＡ１−Ｃを得た。さらにカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜１／１）で精製し、無色油状の化合物ＭＡ１−Ｃを得た。収量２４．３ｇ（収率７７％）。
【０１８７】
（合成例１−４）  化合物ＭＡ１−Ｄの合成
シクロペンチルメチルエーテル１５０ｍＬ、エタノール２０ｍＬ、ＭＡ１−Ｃ  ２０．０ｇ（０．０４２ｍｏｌ）を取り、これに水素化ホウ素ナトリウム５．７ｇを加えて氷水浴中で攪拌させながら、塩化カルシウム二水和物１６．５ｇのエタノール７０ｍＬ溶液をゆっくりと滴下し、そのまま１時間攪拌させた。これを５０℃まで昇温させ、次いで濃塩酸１７．７ｍＬを加えて１時間攪拌させた後、さらに水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、生成した固体をろ別した。得られたろ液から溶媒を留去した後、残査にメタノール１００ｍＬを加えてから再び溶媒を留去し、無色油状の化合物ＭＡ１−Ｄを得た。収量１６．３ｇ（収率９９％）。
【０１８８】
（合成例１−５）  化合物ＭＡ１−Ｅの合成
酢酸エチル２００ｍＬにＭＡ１−Ｄ  １６．３ｇ（０．０４１ｍｏｌ）及びピリジン１４．８ｍＬを加え、室温で攪拌させながら、Ｈ（ＣＦ２）６ＣＯＣｌ  ６６．７ｇ（０．１３７ｍｏｌ、ダイキン工業（株）社製）を加えて４時間攪拌させた。これにヘキサン１００ｍＬを加え、希塩酸、食塩水、重曹水、さらに食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、固体をろ過し、溶媒を減圧留去して、無色油状の化合物ＭＡ１−Ｅを得た。収量５１．３ｇ（収率９０％）。
【０１８９】
（合成例１−６）  化合物ＭＡ１−Ｆの合成
化合物ＭＡ１−Ｆ〜化合物ＭＡ１の工程は、特許文献（特開２０１０−５３０８４号公報）に記載の方法を参考に合成した。
原料供給口、フッ素供給口、へリウムガス供給口及びドライアイスで冷却した還流装置を経由してフッ素トラップに接続されている排気口を備えた５００ｍＬフッ素樹脂製容器に、ＦＣ−７２溶媒３００ｍＬ（住友スリーエム（株）社製）及びフッ化ナトリウム７０．６ｇを取り、内温１０℃にてヘリウムガスを流速１００ｍＬ／ｍｉｎで３０分間吹き込んだ。次いで２０％Ｆ２／８０％Ｎ２混合ガス（フッ素ガス）を流速１００ｍＬ／ｍｉｎで３０分間吹き込んだ後、フッ素ガス流速を２５０ｍＬ／ｍｉｎに上げて流通させながら、化合物ＭＡ１−Ｅ  ２７．６ｇ（０．０２０ｍｏｌ）とヘキサフルオロベンゼン４．０ｇ（０．０２１ｍｏｌ）の混合溶液を内温１０〜１５℃で８．５時間かけて添加した。フッ素ガス流量を１００ｍＬ／ｍｉｎに下げ、ヘキサフルオロベンゼン２．０ｇのＦＣ−７  ２５ｍＬ溶液を１時間かけて添加し、さらにフッ素ガスを１００ｍＬ／ｍｉｎで１５分間流通させた。反応容器内をヘリウムガスで置換してから固体をろ別し、得られたろ液をフッ化ナトリウム２０ｇのメタノール１００ｍＬ分散液に加えて室温で１時間攪拌後、減圧下で溶媒を留去した。残渣にＨＦＥ−７１００  １００ｍＬ（住友スリーエム（株）社製）を加えて溶解させ、重曹水で洗浄した。硫酸マグネシウム上で乾燥させた後、固体をろ別し、溶媒を留去した。得られた残査を減圧下蒸留して無色油状の化合物ＭＡ１−Ｆを得た。収量１３．９ｇ（収率６５％）。
【０１９０】
（合成例１−７）  化合物ＭＡ１−Ｇの合成
氷水浴中、窒素雰囲気下で、無水ＴＨＦ１２０ｍＬに水素化ホウ素ナトリウム２．７ｇ（０．０７１ｍｏｌ）を加え攪拌させた。内温１０〜２０℃で調整しながら、化合物ＭＡ１−Ｆ  ２０．４ｇ（０．０１９ｍｏｌ）の無水ＴＨＦ３０ｍＬ溶液を滴下し、そのまま１時間攪拌した後、さらに室温で３時間攪拌した。３ｍｏｌ／Ｌ塩酸２５ｍＬを加えてｐＨを１にした後、１時間攪拌させた。次いで飽和食塩水６０ｍＬ及び酢酸エチル６０ｍＬ加えて分離した有機層を重曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた後、固体をろ別し、溶媒を留去して、無色油状の化合物ＭＡ１−Ｇを得た。収量１８．０ｇ（収率９６％）。
【０１９１】
（合成例１−８）  化合物ＭＡ１の合成
アセトニトリル５００ｍＬに、化合物ＭＡ１−Ｇ  ８８．９ｇ（０．０９０ｍｏｌ）及び炭酸カリウム１８６．３ｇを取り、１０℃以下の温度でアクリル酸クロリド６０．８ｇ（０．６７２ｍｏｌ）を滴下し、次いで室温で５時間攪拌させた。反応液に酢酸エチル１２０ｍＬ及びヘキサン１２０ｍＬを加え、内温１０℃以下で６４ｗｔ％硫酸１３５ｍＬ滴下した後、析出した固体をろ別した。得られたろ液を、食塩水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝６／１〜３／１）で精製し、無色油状の化合物ＭＡ１を得た。収量５６．９ｇ（収率５５％）。
【０１９２】
［合成例２］化合物ＭＡ３の合成
【０１９３】
【化４１】
0005810114.tif 000042
【０１９４】
（合成例２−１）  化合物ＭＡ３−Ａの合成
化合物（ＭＡ３−Ａ）は、非特許文献（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．第５５巻、１９９０年、６３６８ページ）に記載の方法を参考に合成した。
蒸留器を取り付けた反応器にペンタエリスリトール（和光純薬工業（株）社製）１３６ｇ（１．００ｍｏｌ）、トルエン１００ｍＬ、オルトギ酸トリエチル（和光純薬工業（株）社製）１８３ｍＬ（１．００ｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．５０ｇを取り、留出するエタノールを除きながら反応器温度を徐々に１００℃まで上昇させてそのまま１２時間反応させ、さらに１２５℃で１時間反応させた。反応終了後、５０℃減圧下で低沸点成分を留去した後、得られた生成物を乾燥させて白色固体を得た。
反応器に水酸化カリウム２６．４ｇ（０．４７０ｍｏｌ）及びジメチルスルホキシド１６０ｍＬを取り、氷水浴中で攪拌させながら前記の白色固体１６．０ｇ（０．１００ｍｏｌ）を加え、次いでトリフルオロメタンスルホン酸−１−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロ−３，６，９，１２−テトラオキサトリデシル）８４．０ｇ（０．１３０ｍｏｌ、ｘ＝）を加えて、そのまま３０分間反応させた。反応液を水１．５Ｌに加えて、これを酢酸エチル２００ｍＬで２回抽出し、得られた有機層を水洗し乾燥させた後、低沸点物を留去して微黄色油状物を得た。
この油状物をメタノール１００ｍＬに分散させてから０．０１ｍｏｌ／Ｌ塩酸２５０ｍＬを加え、室温で２時間反応させ、次いで炭酸水素ナトリウム９．３ｇを加えて室温で１時間攪拌させた。得られた反応液から減圧下溶媒を留去した後、メタノール１２５ｍＬを加えて１２時間攪拌させ、次いで不溶物をろ別し、得られたろ液から溶媒を留去して、微黄色油状物を得た。さらにこれをカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の化合物ＭＡ３−Ａを得た。収量３６．０ｇ（収率５４％）。
【０１９５】
（合成例２−２）  化合物ＭＡ３の合成
化合物ＭＡ３−Ｂ〜化合物ＭＡ３を合成する工程は合成例１と同様に行い、化合物ＭＡ３を得た。
【０１９６】
［合成例３］化合物ＭＡ１５の合成
【０１９７】
【化４２】
0005810114.tif 000043
【０１９８】
（合成例３−１）化合物ＭＡ１５−Ｃの合成
公知の方法を組み合わせ、前記合成経路で、化合物ＭＡ１５−Ｃを合成した。化合物ＭＡ１５−Ｃは、カラムクロマトグラフィーにより精製し、次工程に使用した。
【０１９９】
（合成例３−２）化合物ＭＡ１５の合成
化合物ＭＡ１５を合成する工程は、合成例１と同様に行い、化合物ＭＡ１５を得た。
【０２００】
［合成例４］化合物ＭＡ１７の合成
【０２０１】
【化４３】
0005810114.tif 000044
【０２０２】
（合成例４−１）  化合物ＭＡ１７−Ａの合成
ディーンスターク型蒸留器を取り付けた反応器にジペンタエリスリトール（和光純薬工業（株）社製）２５４ｇ（１．００ｍｏｌ）、トルエン２００ｍＬ、アセトフェノン２５２ｇ（２．１０ｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物１．０ｇを取り、反応器温度を徐々に上昇させて還流条件にして、規定量の水がディーンスターク型蒸留器内に得られるまで１２時間反応させた。反応終了後、減圧下で低沸点成分を留去し、得られた生成物を乾燥させて白色固体を得た。
反応器に水酸化カリウム２６．４ｇ（０．４７０ｍｏｌ）及びジメチルスルホキシド１６０ｍＬを取り、氷水浴中で攪拌させながら前記の白色固体４５．９ｇ（０．１００ｍｏｌ）を加え、次いでメタンスルホン酸エステル化したポリエチレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業（株）社製、平均分子量３５０、ｘ＝７．６）９０．３ｇ（０．２１０ｍｏｌ）を加えて、そのまま６０分間反応させた。反応液を水１．５Ｌに加えて、これを酢酸エチル１５０ｍＬで２回抽出し、得られた有機層を水洗し乾燥させた後、低沸点物を留去して微黄色油状物を得た。
この油状物をメタノール１００ｍＬに分散させてから０．０１ｍｏｌ／Ｌ塩酸２５０ｍＬを加え、室温で２時間反応させ、次いで炭酸水素ナトリウム９．３ｇを加えて室温で１時間攪拌させた。得られた反応液から減圧下溶媒を留去した後、メタノール１２５ｍＬを加えて１２時間攪拌させ、次いで不溶物をろ別し、得られたろ液から溶媒を留去して、微黄色油状物の化合物ＭＡ１７−Ａを得た。収量６６．８ｇ（収率７０％）。
【０２０３】
（合成例４−２）  化合物ＭＡ１７−Ｃの合成
化合物ＭＡ１７−Ｂ及び化合物ＭＡ１７−Ｃを合成する工程は、合成例１と同様に行い、化合物ＭＡ１７−Ｃを得た。
【０２０４】
（合成例４−３）  化合物ＭＡ１７−Ｄの合成
化合物ＭＡ１７−Ｄの工程は、特許文献（特開２０１０−５３０８４号公報）に記載の方法を参考に合成した。
原料供給口、フッ素供給口、へリウムガス供給口及び２０℃に冷却した還流装置を経由してフッ素トラップに接続されている排気口を備えた３００ｍＬフッ素樹脂製容器に、ハロカーボン１．８オイル２００ｍＬ（ハロカーボン・プロダクツ・コーポレーション社製）を取り、内温３０℃にてヘリウムガスを流速１００ｍＬ／ｍｉｎで３０分間吹き込んだ。次いで２０％Ｆ２／８０％Ｎ２混合ガス（フッ素ガス）を流速１００ｍＬ／ｍｉｎで３０分間吹き込んだ後、フッ素ガス流速を２５０ｍＬ／ｍｉｎに上げて流通させながら、化合物ＭＡ１７−Ｃ  １６．０ｇ（０．０１２４ｍｏｌ）、ヘキサフルオロベンゼン０．８０ｇ（０．０４３ｍｏｌ）、及びハロカーボン１．８オイル３０ｍＬの混合溶液を、内温３０〜４０℃で２０時間かけて添加した。フッ素ガス流量を１００ｍＬ／ｍｉｎに下げ、ヘキサフルオロベンゼン１．０ｇのハロカーボン１．８オイル５ｍＬ溶液を１時間かけて添加し、さらにフッ素ガスを１００ｍＬ／ｍｉｎで１５分間流通させた。反応容器内をヘリウムガスで置換してから、反応液をフッ化ナトリウム２０ｇのメタノール１００ｍＬ分散液に加えて室温で１時間攪拌後、減圧下で溶媒を留去した。残渣にＨＦＥ−７１００  １００ｍＬ（住友スリーエム（株）社製）を加えて溶解させ、重曹水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた後、溶媒を留去した。得られた残査を減圧下蒸留して無色油状の化合物ＭＡ１７−Ｄを得た。収量１３．９ｇ（収率６５％）。
【０２０５】
（合成例４−４）  化合物ＭＡ１７の合成
化合物ＭＡ１７−Ｅ〜化合物ＭＡ１７を合成する工程は、合成例１と同様に行い、化合物ＭＡ１７を得た。
【０２０６】
［合成例５］化合物ＭＡ３１の合成
【０２０７】
【化４４】
0005810114.tif 000045
【０２０８】
（合成例５−１）  化合物ＭＡ３１−Ｅの合成
化合物ＭＡ３１−Ａ〜化合物ＭＡ３１−Ｅを合成する工程は、合成例１と同様に行い、化合物ＭＡ３１−Ｅを得た。
【０２０９】
（合成例５−２）  化合物ＭＡ３１の合成
反応器にＴＨＦ５８０ｍＬを取り、氷水浴中、窒素雰囲気下で、水素化ホウ素ナトリウム２０．７ｇ（０．５４８ｍｏｌ）を加え、さらに水１４０ｍＬを加えて攪拌させた。内温１０〜２０℃で調整しながら、化合物ＭＡ３１−Ｅ  １００ｇ（０．１１０ｍｏｌ）のＴＨＦ２５ｍＬ溶液を滴下して、そのまま３０分間攪拌し、次いで２０℃で３時間攪拌した。内温を１０℃にした後、６ｍｏｌ／Ｌ塩酸１２０ｍＬを加えてｐＨを１にした後、食塩水２５０ｍＬを加えて１時間攪拌させた。次いで酢酸エチル２８０ｍＬを加えて分離した有機層を食塩水で４回洗浄した。この溶液をそのまま次工程に使用した。
反応器に前記有機層、ｎ−ヘキサン５００ｍＬ、ピリジン５０ｇ、水１７０ｍＬ、及び重曹１３３ｇを取り、氷水浴中で攪拌した。これに３−クロロプロピオン酸クロリド１６０ｇ（１．２６ｍｏｌ）を１．５時間かけて滴下し、そのまま３．５時間攪拌した後、内温を２５℃まで昇温させてから１０％炭酸カリウム水溶液６００ｍＬを加えて１時間攪拌した。これから有機層を分離して、１０％炭酸カリウム水溶液、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸、さらに食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。この溶液をそのまま次工程に使用した。
反応器に前記有機層、４−メトキシフェノール０．０５ｇ、トリエチルアミン８１．８ｇ（０．８０８ｍｏｌ）を取り、５０℃で４時間攪拌した。室温まで放冷後、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸４００ｍＬ、重曹水、及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた後、活性アルミナ４０ｇを加えて３０分間攪拌してから固体をろ別した。得られたろ液に４−メトキシフェノール０．０５ｇを加えてた後、溶媒を留去し、微黄色油状の化合物ＭＡ３１を得た。収量９２．５ｇ（収率８３％）。
【０２１０】
［合成例６］化合物ＭＥ１の合成
【０２１１】
【化４５】
0005810114.tif 000046
【０２１２】
（合成例６−１）  化合物ＭＥ１−Ｇの合成
化合物ＭＥ１−Ａ〜化合物ＭＥ１−Ｇを合成する工程は合成例１と同様に行った。
【０２１３】
（合成例６−２）  化合物ＭＥ１の合成
反応器に水酸化ナトリウム２．００ｇ（０．０５ｍｏｌ）、エピクロロヒドリン４．６３ｇ（０．０５ｍｏｌ）を取り、窒素雰囲気下５０℃で攪拌しながら、ＭＥ１−Ｇ  ９．８８ｇ（０．０１ｍｏｌ）をゆっくりと加えて、そのまま３時間攪拌させた。室温まで放冷してから析出した固体をろ別し、減圧下で低沸点物を留去した後、酢酸エチル２００ｍＬと水１００ｍＬを加えて分液し、得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を留去させて、粗生成物を得た。これをカラムクロマトグラフィーにより精製し、無色油状の化合物ＭＥ１を得た。収量４．０５ｇ（収率４１％）。
化合物ＭＥ１：
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δｐｐｍ  ３．９９（ｍ，３Ｈ）、３．４８（ｄｄ，Ｊ＝１２，６Ｈｚ，１Ｈ）、３．２（ｍ，１Ｈ）、２．７７（ｄｄ，Ｊ＝５，４Ｈｚ，１Ｈ）、２．５８（ｄｄ，Ｊ＝５，３Ｈｚ，１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．４ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δｐｐｍ  −６６．１（ｓ，６Ｆ）、−８２．４（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，３Ｆ）、−８３．３（ｍ，２Ｆ）、−８５．８（ｓ，８Ｆ）、−１２３．４（ｍ，１０Ｆ）、−１２６．８（ｍ，２Ｆ）、−１２７．２（ｍ，２Ｆ）。
【０２１４】
［合成例７］化合物ＭＥ６の合成
【０２１５】
【化４６】
0005810114.tif 000047
【０２１６】
（合成例７−１）  化合物ＭＥ６−Ａの合成
【０２１７】
化合物（ＭＥ６−Ａ）は、非特許文献（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．第５５巻、１９９０年、６３６８ページ）に記載の方法を参考に、合成例２−１と同様に合成した。
この油状物をメタノール１００ｍＬに分散させてから０．０１ｍｏｌ／Ｌ塩酸２５０ｍＬを加え、室温で２時間反応させ、次いで炭酸水素ナトリウム９．３ｇを加えて室温で１時間攪拌させた。得られた反応液から減圧下溶媒を留去した後、メタノール１２５ｍＬを加えて１２時間攪拌させ、次いで不溶物をろ別し、得られたろ液から溶媒を留去して、微黄色油状物を得た。さらにこれをカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の化合物ＭＥ６−Ａを得た。収量３６．０ｇ（収率５４％）。
【０２１８】
（合成例７−２）  化合物ＭＥ６−Ｇの合成
化合物ＭＥ６−Ｂ〜化合物ＭＥ６―Ｇを合成する工程は、合成例１と同様に行った。
【０２１９】
（合成例７−３）  化合物ＭＥ６の合成
化合物ＭＥ６を合成する工程は、合成例６−２と同様に行った。
化合物ＭＥ６：
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δｐｐｍ  ３．９９（ｍ，３Ｈ）、３．４８（ｄｄ，Ｊ＝１２，６Ｈｚ，１Ｈ）、３．２２（ｍ，１Ｈ）、２．７７（ｄｄ，Ｊ＝５  ，４Ｈｚ，１Ｈ）、２．５８（ｄｄ，Ｊ＝５，３Ｈｚ，１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．４ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δｐｐｍ  −６６．０（ｓ，６Ｆ）、−７９．１（ｍ，４Ｆ）、−８０．６（ｍ，６Ｆ）、−８２．１（ｓ，３Ｆ）、−８６．１（ｍ，１０Ｆ）、−１２３．２（ｍ，６Ｆ）、−１３０．３（ｓ，２Ｆ）、−１４５．８（ｍ，２Ｆ）。
【０２２０】
［合成例８］化合物ＭＥ２９の合成
【０２２１】
【化４７】
0005810114.tif 000048
【０２２２】
（合成例８−１）  化合物ＭＥ２９−Ｆの合成
化合物ＭＥ２９−Ａ〜化合物ＭＥ２９―Ｆを合成する工程は、合成例４と同様に行った。
【０２２３】
（合成例８−２）  化合物ＭＥ２９の合成
化合物ＭＥ２９を合成する工程は、合成例６−２と同様に行った。
化合物ＭＥ２９：
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δｐｐｍ  ３．９８（ｍ，３Ｈ）、３．４９（ｄｄ，Ｊ＝１２，６Ｈｚ，１Ｈ）、３．２４（ｍ，１Ｈ）、２．７８（ｄｄ，Ｊ＝５，４Ｈｚ，１Ｈ）、２．５９（ｄｄ，Ｊ＝５，３Ｈｚ，１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．４ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δｐｐｍ  −６５．９（ｓ，１Ｆ）、−８５．８（ｓ，１Ｆ）、−１２３．０（ｔ，Ｊ＝１３Ｈｚ，１Ｆ）。
【０２２４】
［合成例９］化合物Ｎ１の合成
【０２２５】
【化４８】
0005810114.tif 000049
【０２２６】
国際公開第０８／０１８５９９号パンフレットの実施例１に記載の方法に従い、化合物Ｎ１を合成した。
【０２２７】
［実施例１］撥液性処理剤の調製
（実施例１−１〜１−１３）
サンプル瓶に、下記表１に記載した種類及び添加量の一般式（１）で表される含フッ素化合物、下記表１に記載した種類及び添加量の一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物、及び光重合開始剤０．０５ｇを取り、必要に応じて一般式（１６）で表される非フッ素化合物を加え、これに２−ブタノン１０．０ｇを加えて、十分に攪拌させ均一な溶液とした。調製した撥液性処理剤の一覧を表１に示す。
光重合開始剤Ａ：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＢＡＳＦジャパン（株）社製。
光重合開始剤Ｂ：ＷＰＡＧ−３３６、和光純薬工業（株）社製。
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトール  ヘキサアクリレート、ダイセル・サイテック（株）社製。
ＰＥＴＧ：ペンタエリスリトール  テトラグリシジルエーテル、ナガセケムテックス（株）社製。
ＡＡ−２：アクリル酸−２−（パーフルオロヘキシル）エチル、ダイキン工業（株）社製。
ＡＡ−１２：上記構造式ＡＡ−１２中のＺが３である化合物として、ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）３ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨを、公知の方法に従いアクリル酸エステル化したものを用いた。
ＡＡ−１３：上記構造式ＡＡ−１３中のＺが３である化合物として、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］３ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２ＯＨ（シンクエストラボラトリーズインコーポレイテッド社製）を、公知の方法に従いアクリル酸エステル化したものを用いた。
ＡＡ−１５：フルオロリンクＤ１０−Ｈ（平均分子量７００、フッ素原子含量６１％、ソルベイソレクシス社製）を、公知の方法に従いアクリル酸エステル化したものを用いた。
ＡＥ−２：２−（パーフルオロヘキシル）エタノール（ダイキン工業（株）社製）を、公知の方法に従いグリシジルエーテル化したものを用いた。
ＡＥ−１３：上記構造式ＡＥ−１３中のＺが３である化合物として、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］３ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２ＯＨ（シンクエストラボラトリーズインコーポレイテッド社製）を、公知の方法に従いグリシジルエーテル化したものを用いた。
ＡＥ−１５：フルオロリンクＤ１０−Ｈ（平均分子量７００、フッ素原子含量６１％、ソルベイソレクシス社製）を、公知の方法に従いグリシジルエーテル化したものを用いた。
【０２２８】
［比較例１］処理剤の調製
（比較例１−１〜１−４）
サンプル瓶に、一般式（１）で表される含フッ素化合物、又は、一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物、光重合開始剤０．０５ｇ、２−ブタノン１０．０ｇを取り、十分に攪拌させ均一な溶液とした。調製した処理剤の一覧を表１に示す。
【０２２９】
［比較例２］化合物Ｎ１を用いた処理剤の調製
（比較例２−１、２−２）
一般式（１）で表される含フッ素化合物に変えて、合成例９で合成した化合物Ｎ１を使用した以外は、実施例１及び比較例１と同様に溶液を調製した。調製した処理剤の一覧を表１に示す。
【０２３０】
【表１】
0005810114.tif 000050
【０２３１】
［実施例２］処理基材及び部材の作製、及び評価
（実施例２−１〜２−９）
５ｃｍ角のガラス基材を水酸化カリウム水溶液に１時間浸漬した後、純水で十分に洗浄してから、９０℃オーブン中で加熱乾燥した。
実施例１−１〜実施例１−９で調製した撥液性処理剤を、前記のガラス基材にスピンコート（３０００ｒｐｍ、２０秒）した後、室温で送風乾燥させ、さらに９０℃オーブン中で加熱乾燥して、塗膜を形成した。
前記のように作成した塗膜表面に、２００ｐｐｍ以下の酸素濃度に調節した窒素雰囲気下、線幅１００μｍ、間隔１００μｍパターンを形成するフォトマスク上から、高圧水銀灯i線（３６５ｎｍ）を３００ｍＪ／ｃｍ２（照度２０ｍＷ／ｃｍ２）露光を行った。
光照射後のガラス基材を２−ブタノンで洗浄した後、送風乾燥したものを処理基材とした。
【０２３２】
［静的接触角測定］
接触角計［“ＣＡ−Ｘ”型接触角計、協和界面科学（株）製］を用い、乾燥状態（２０℃／６５％ＲＨ）で、液体として純水を使用して液量１．０μＬの液滴を針先に作り、これを上記処理基材の撥水性領域の表面に接触させてフイルム上に液滴を作った。フイルムと液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフイルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を接触角とし、測定した。また、水の代わりにヨウ化メチレンを用いての接触角の測定も行った。
【０２３３】
［耐摩擦性評価］
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行うことで、耐摩擦性を評価した。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、グレードＮｏ．００００）
試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。
移動距離（片道）：３ｃｍ、
こすり速度：３ｃｍ／秒、
荷重：２００ｇ／ｃｍ２、
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
こすり回数：１０往復。
こすり終えた反射防止フイルム試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
Ａ  ：注意深く見ても、全く傷が見えない。
Ｂ  ：注意深く見ると、僅かに傷が見える。
Ｃ  ：弱い傷が見える。
Ｄ  ：一目見ただけで分かる傷がある。
【０２３４】
作製した処理基材の一覧と、パターンを形成していない撥水性領域での静的接触角測定結果、耐摩擦性評価を表２に示す。
【０２３５】
前記処理基材に、顔料を分散させたアルカリ性インク水溶液（ｐＨ１０．８）をスプレーコートした後、室温で送風乾燥させ、さらに９０℃オーブン中で加熱硬化させて、部材を作製した。また比較対照用の部材として、前記処理基材にカーボンブラックを分散させた中性インク水溶液（ｐＨ８．０）をスプレーコートした後、室温で送風乾燥させ、さらに９０℃オーブン中で加熱硬化させて、部材を作製した。
【０２３６】
［境界部コントラスト評価］
インクが付着した領域と付着していない領域の境界を光学顕微鏡で目視観察し、境界部コントラストを以下のように評価した。結果を表２に示す。
Ａ：比較対照部材と同レベルの境界直線性を有し、撥水領域へのインク付着は観察されなかった。
Ｂ：比較対照部材と同レベルの境界直線性を有しているが、撥水領域へのインク付着が僅かに観察された。
Ｃ：比較対照部材に対し明らかに境界直線性が乱れており、撥水領域へのインク付着が観察された。
【０２３７】
［比較例３］処理基材及び部材の作製、及び評価
（比較例３−１〜３−４）
比較例１−１〜１−２、及び比較例２−１〜２−２で調製した処理剤を用いた以外は、実施例２と同様に処理基材及び部材を作製し、評価した。結果を表２に示す。
【０２３８】
【表２】
0005810114.tif 000051
【０２３９】
［実施例３］処理基材及び部材の作製、及び評価
（実施例３−１〜３−４）
５ｃｍ角のガラス基材を水酸化カリウム水溶液に１時間浸漬した後、純水で十分に洗浄してから、９０℃オーブン中で加熱乾燥した。
実施例１−１０〜１−１３で調製した撥液性処理剤を、前記のガラス基材にスピンコート（３０００ｒｐｍ、２０秒）した後、室温で送風乾燥させ、さらに８０℃オーブン中で３分間加熱乾燥して、塗膜を作製した。
前記塗膜に、空気雰囲気下、線幅１００μｍ、間隔１００μｍパターンを形成するフォトマスク上から、高圧水銀灯i線（３６５ｎｍ）を３００ｍＪ／ｃｍ２（照度３０ｍＷ／ｃｍ２）露光を行い、次いで８０℃オーブン中で３分間加熱処理した。このガラス基材を２−ブタノン及びエタノールで洗浄した後、送風乾燥したものを処理基材とした。
作製した処理基材について、実施例２と同様に撥水性領域での静的接触角、及び耐摩擦性を評価した。
作製した処理基材の一覧、パターンを形成していない撥水性領域での静的接触角測定結果、及び耐摩擦性の評価結果を表３に示す。
【０２４０】
表３に記載の処理基材に、有機溶剤を含有する液晶ディスプレイ・カラーフィルター用着色インク剤をスプレーコートした後、室温で送風乾燥させ、さらに１２０℃オーブン中で加熱乾燥させて、部材を作製した。
【０２４１】
［境界部コントラスト評価］
部材表面の着色インク剤が付着した領域と付着していない領域の境界を光学顕微鏡で目視観察し、コントラストを以下のように評価した。結果を表３に示す。
Ａ：撥水性領域に着色インク剤硬化物が付着した箇所が観察されなかった。
Ｂ：撥水性領域に着色インク剤硬化物が付着した箇所が多く観察された。
【０２４２】
［比較例４］処理基材及び部材の作製、及び評価
（比較例４−１、４−２）
比較例１−３〜１−４で調製した処理剤を用いた以外は、実施例３と同様に処理基材及び部材を作製し、評価した。結果を表３に示す。
【０２４３】
【表３】
0005810114.tif 000052
【０２４４】
［実施例４］撥液性処理剤の調製
（実施例４−１〜４−３）
サンプル瓶に、一般式（１）で表される含フッ素化合物、一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物、一般式（１６）で表される非フッ素化合物、光カチオン重合開始剤（ＷＰＡＧ−３３６、和光純薬工業（株）社製）の１０％２−ブタノン溶液０．２４ｇ、を取り、十分に攪拌させ均一な溶液とした。
【０２４５】
［比較例５］処理剤の調製
一般式（１２）又は（１３）で表される含フッ素化合物、一般式（１６）で表される非フッ素化合物を用いなかったこと以外は、実施例４と同様に処理液を調製した。
【０２４６】
［比較例６］比較処理剤の調製
サンプル瓶に、両末端にエポキシ基を有するポリジメチルシロキサン（Ｘ−２２−１６３ｃ、信越化学工業（株）社製、分子量５，４００）１０．０ｇ、光カチオン重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０、ＢＡＳＦジャパン（株）社製）０．６０ｇ、光増感剤（ＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）社製）０．３０ｇを取り、十分に攪拌させ均一な溶液とした。
【０２４７】
［実施例５］処理基材及び部材の作製、及び評価
（実施例５−１〜５−３）
５ｃｍ角のガラス基材に、実施例４で調製した撥液性処理剤をバーコーターＮｏ．５（１１．４５μｍ）で塗布した後、８０℃オーブン中で３分間加熱乾燥させて、塗膜を形成した。
前記塗膜表面に、空気雰囲気下、線幅１００μｍ、線長２００μｍ、間隔５０μｍの細孔パターンを縦１．５ｃｍ、横１．５ｃｍの正方形内に形成するフォトマスク上から、高圧水銀灯i線（３６５ｎｍ）を８００ｍＪ／ｃｍ２（照度５０ｍＷ／ｃｍ２）露光を行い、さらに８０℃オーブン中で３分間加熱処理した。このガラス基材を２−ブタノン及びエタノールで洗浄した後、送風乾燥したものを処理基材とした。以下、ここで作成した撥水性領域の無い細孔を、画素と呼称する。ここで形成した画素の容積は、計算上、０．２２９μＬとなる。
前記で作製した処理基材の画素に、有機溶剤を含有する液晶ディスプレイ・カラーフィルター用着色インク剤（緑色及び赤色、蒸発残分濃度７０重量％）０．２０μＬを、インクジェット法により、緑色画素と赤色画素を交互に形成するように付与した。室温で送風乾燥させ、次いで１２０℃オーブン中で加熱乾燥させて、部材を作製した。部材表面を光学顕微鏡で目視観察し、隣接する画素間でインク剤が混ざり画素色が変化する現象（以下、混色と呼称する。）を以下のように評価した。結果を表４に示す。
Ａ：混色した画素の割合が５％未満。
Ｂ：混色した画素の割合が５％以上。
【０２４８】
［比較例７］処理基材の作製
（比較例７−１及び７−２）
比較例５及び比較例６で調製した処理剤を用いた以外は、実施例５と同様に処理基材及び部材を作製し、評価した。結果を表４に示す。
【０２４９】
【表４】
0005810114.tif 000053
【符号の説明】
【０２５０】
１      基材
２      親水性の表面
３      本発明の撥液性処理剤を含む塗膜
４      撥液性の膜
５      フォトマスク
６      光
７      親水性領域
８      撥水性領域
９      処理基材
１０    インクジェット装置
１１    機能性材料を含む液
１２    機能性材料
１３    機能性材料のパターンが形成された部材
【図１】
0005810114.tif 000064
【図２】
0005810114.tif 000065