(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電潜像が保持される回転可能な像保持体と、
この像保持体に対して画像信号に基づく静電潜像を形成する潜像形成装置と、
トナー及びキャリア並びにトナーと同極性の外添剤が含まれる現像剤が保持搬送される現像剤保持体を有し、前記像保持体に対し前記現像剤を摺擦させ、前記潜像形成装置にて像保持体上に形成された静電潜像を現像する現像装置と、
この潜像形成装置にて形成される静電潜像に対応する画像信号に基づいて前記像保持体の周回毎に連続して面画像になる領域を積算し、当該積算値が予め決められた閾値を超える特別作像条件であるか否かを判別する作像条件判別装置と、
この作像条件判別装置にて連続する面画像が閾値を超えた特別作像条件であると判別されたときに、少なくとも連続する面画像領域に対しキャリアの転移が生じない条件で前記像保持体に対する前記現像装置の現像剤による摺擦力を低減させるように前記現像装置の現像パラメータを制御する現像制御装置と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
請求項１記載の画像形成装置において、
前記作像条件判別装置は、温度及び湿度が検出可能な環境検出器から検出された環境情報を取り込み、当該環境情報が予め定めた要注意環境条件であるか否かを判別する環境判別部を有し、この環境判別部にて環境情報が予め定められた要注意環境条件に該当すると判別したときに、前記特別作像条件であるか否かを判別することを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の画像形成装置において、
前記現像制御装置は、前記現像装置の現像剤保持体の現像剤搬送量及び像保持体との周速比の少なくともいずれかの現像パラメータを制御するものであることを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
請求項１ないし３いずれかに記載の画像形成装置において、
前記現像制御装置は、像保持体に対する現像剤保持体の周速比を変更するに当たり、像保持体の周速を変更せず、現像剤保持体の周速を変更するものであることを特徴とする画像形成装置。
【請求項５】
請求項１ないし４いずれかに記載の画像形成装置において、
前記現像装置は、前記現像剤保持体に対向して非接触配置される層規制部材を有し、
前記現像制御装置は、現像剤保持体の現像剤搬送量を変更するに当たり、現像剤保持体と層規制部材との間の層規制位置における現像剤搬送条件を変更するものであることを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
請求項５記載の画像形成装置において、
前記現像装置は、少なくとも表面粗さが最大高さで５μm以下の平滑面として形成されて回転する現像回転体を含む現像剤保持体と、この現像剤保持体と予め決められた間隙を介して対向して配置され且つ現像剤保持体との対向部にて当該現像剤保持体と同方向に回転して現像剤層を規制する層規制部材としての層規制回転体と、を有し、
前記現像制御装置は、前記現像剤保持体の予め決められた周速に対し前記層規制回転体の周速を増減させることで現像剤搬送量を変更することを特徴とする画像形成装置。
【請求項７】
請求項１ないし６いずれかに記載の画像形成装置において、
前記現像制御装置は、前記現像剤保持体の現像剤搬送量が検出可能な検出装置を有し、この検出装置の検出結果に基づいて現像パラメータを制御することを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
請求項１ないし７いずれかに記載の画像形成装置において、
前記潜像形成装置は、像保持体を帯電し且つ像保持体に対して非接触配置される帯電装置と、帯電された像保持体に対して静電潜像を書き込む潜像書込装置と、を有することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来における画像形成装置としては例えば特許文献１，２に記載のものが既に知られている。
特許文献１には、ドット再現性の不良、画像先端部での濃度不足を解消するという課題を解決するために、像保持体に対しカウンター方向に回転し、磁性キャリアの重量平均粒径が２０〜４０μｍであり、現像剤担持体と像保持体との距離が０．０２ｃｍ以上であり、現像剤担持体上の単位面積当たりの現像剤担持量が１５ｍｇ／ｃｍ２以上であり、現像剤担持量／距離が３７５〜１１２５ｍｇ／ｃｍ３である現像方法が開示されている。
特許文献２には、帯電不良によるかぶりや、帯電補助ブラシの汚染や接触帯電部材による転写残トナーのかきとり不良によるゴーストがいかなる環境下においても発生しない状態を維持するという課題を解決するために、環境手段からの出力に応じて、画像形成時に対する非画像形成時の帯電補助ブラシへの帯電付加条件を可変制御する制御手段を有する画像形成装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−９８５９３号公報（発明を実施するための最良の形態，図４）
【特許文献２】特開２００１−３４３８６６号公報（発明の実施の形態，図１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の解決しようとする技術的課題は、連続的に面画像を作製することに起因する残像画質不良を有効に解消することが可能な画像形成装置を提供しようとすることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１に係る発明は、静電潜像が保持される回転可能な像保持体と、この像保持体に対して画像信号に基づく静電潜像を形成する潜像形成装置と、トナー及びキャリア並びにトナーと同極性の外添剤が含まれる現像剤が保持搬送される現像剤保持体を有し、前記像保持体に対し前記現像剤を摺擦させ、前記潜像形成装置にて像保持体上に形成された静電潜像を現像する現像装置と、この潜像形成装置にて形成される静電潜像に対応する画像信号に基づいて前記像保持体の周回毎に連続して面画像になる領域を積算し、当該積算値が予め決められた閾値を超える特別作像条件であるか否かを判別する作像条件判別装置と、この作像条件判別装置にて連続する面画像が閾値を超えた特別作像条件であると判別されたときに、少なくとも連続する面画像領域に対しキャリアの転移が生じない条件で前記像保持体に対する前記現像装置の現像剤による摺擦力を低減させるように前記現像装置の現像パラメータを制御する現像制御装置と、を備えたことを特徴とする画像形成装置である。
【０００６】
請求項２に係る発明は、請求項１に係る画像形成装置において、前記作像条件判別装置は、温度及び湿度が検出可能な環境検出器から検出された環境情報を取り込み、当該環境情報が予め定めた要注意環境条件であるか否かを判別する環境判別部を有し、この環境判別部にて環境情報が予め定められた要注意環境条件に該当すると判別したときに、前記特別作像条件であるか否かを判別することを特徴とする画像形成装置である。
請求項３に係る発明は、請求項１又は２に係る画像形成装置において、前記現像制御装置は、前記現像装置の現像剤保持体の現像剤搬送量及び像保持体との周速比の少なくともいずれかの現像パラメータを制御するものであることを特徴とする画像形成装置である。
請求項４に係る発明は、請求項１ないし３いずれかに係る画像形成装置において、前記現像制御装置は、像保持体に対する現像剤保持体の周速比を変更するに当たり、像保持体の周速を変更せず、現像剤保持体の周速を変更するものであることを特徴とする画像形成装置である。
請求項５に係る発明は、請求項１ないし４いずれかに係る画像形成装置において、前記現像装置は、前記現像剤保持体に対向して非接触配置される層規制部材を有し、前記現像制御装置は、現像剤保持体の現像剤搬送量を変更するに当たり、現像剤保持体と層規制部材との間の層規制位置における現像剤搬送条件を変更するものであることを特徴とする画像形成装置である。
【０００７】
請求項６に係る発明は、請求項５に係る画像形成装置において、前記現像装置は、少なくとも表面粗さが最大高さで５μm以下の平滑面として形成されて回転する現像回転体を含む現像剤保持体と、この現像剤保持体と予め決められた間隙を介して対向して配置され且つ現像剤保持体との対向部にて当該現像剤保持体と同方向に回転して現像剤層を規制する層規制部材としての層規制回転体と、を有し、前記現像制御装置は、前記現像剤保持体の予め決められた周速に対し前記層規制回転体の周速を増減させることで現像剤搬送量を変更することを特徴とする画像形成装置である。
請求項７に係る発明は、請求項１ないし６いずれかに係る画像形成装置において、前記現像制御装置は、前記現像剤保持体の現像剤搬送量が検出可能な検出装置を有し、この検出装置の検出結果に基づいて現像パラメータを制御することを特徴とする画像形成装置である。
請求項８に係る発明は、請求項１ないし７いずれかに係る画像形成装置において、前記潜像形成装置は、像保持体を帯電し且つ像保持体に対して非接触配置される帯電装置と、帯電された像保持体に対して静電潜像を書き込む潜像書込装置と、を有することを特徴とする画像形成装置である。
【発明の効果】
【０００８】
請求項１に係る発明によれば、連続的に面画像を作製することに起因する残像画質不良を有効に解消することができる。本構成を有さない態様に比べて、現像パラメータの制御回数を必要最小限に抑えることができる。
請求項２に係る発明によれば、本構成を有さない態様に比べて、現像剤による摺擦力を容易に制御することができる。
請求項３に係る発明によれば、像保持体に対する現像剤保持体の周速比を容易に変更することが可能になり、現像剤による摺擦力を容易に制御することができる。
請求項４に係る発明によれば、像保持体に対する現像剤保持体の周速比を容易に変更することが可能になり、現像剤による摺擦力を容易に制御することができる。
請求項５に係る発明によれば、層規制位置における現像剤搬送条件を変更することで、現像剤保持体の現像剤搬送量を容易に変更することが可能になり、現像剤による摺擦力を容易に制御することができる。
請求項６に係る発明によれば、現像剤保持体及び層規制部材の構成を工夫することで、層規制位置における現像剤搬送量を容易に変更することが可能になり、現像剤による摺擦力を容易に制御することができる。
請求項７に係る発明によれば、現像剤搬送量を検出することで、現像剤による摺擦力をより精度良く制御することができる。
請求項８に係る発明によれば、像保持体に対して非接触配置された帯電装置を使用する態様において、連続的に面画像を作製することに起因する残像画質不良を有効に解消することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明が適用された画像形成装置の実施の形態の概要を示す説明図である。
【図２】（ａ）は図１に示す画像形成装置における現像装置と像保持体との要部を示す説明図、（ｂ）は（ａ）中Ｃで囲む部分における現像剤の挙動を模式的に示す説明図である。
【図３】（ａ）は連続的に面画像（ベタ画像）を作製した後の初期画像の一例を示す説明図、（ｂ）は連続的に面画像（ベタ画像）を作製したことに起因して（ａ）の初期画像に対して起こり得るゴースト発生画像の一例を示す説明図である。
【図４】図３のゴースト発生画像が生ずる要因を模式的に示す説明図である。
【図５】実施の形態１に係る画像形成装置の全体構成を示す説明図である。
【図６】実施の形態で用いられる作像エンジンの一例を示す説明図である。
【図７】（ａ）は実施の形態１で用いられる現像装置の現像ロールと回転トリマとのレイアウトを示す説明図、（ｂ）は現像ロールの磁石ロールの磁極による磁束密度分布例を示す説明図である。
【図８】（ａ）は現像装置の駆動伝達系を示す説明図、（ｂ）はその駆動状態を模式的に示す説明図である。
【図９】現像装置の駆動制御系を示す説明図である。
【図１０】実施の形態１で用いられる現像装置の駆動制御系にて採用される画像情報によるＭＯＳ（Mass on the sleeve）量制御処理の一例を示すフローチャートである。
【図１１】実施の形態１で用いられる現像装置の駆動制御系にて採用される使用履歴情報によるＭＯＳ量制御処理の一例を示すフローチャートである。
【図１２】実施の形態１で用いられる現像装置の駆動制御系にて採用される環境情報によるＭＯＳ量制御処理の一例を示すフローチャートである。
【図１３】（ａ）は実施の形態１で用いられる現像装置の回転トリマの周速変化に伴うＭＯＳ変化を示す説明図、（ｂ）は回転トリマ周速比とＭＯＳとの関係を示すグラフ図である。
【図１４】（ａ）〜（ｃ）は実施の形態１で用いられる現像装置において回転トリマの周速ｖｒを変化させたときのＭＯＳの変化状態を示す説明図であり、（ａ）はｖｒ＝ｖｒ１のとき、（ｂ）はｖｒ＝ｖｒ２≠ｖｒ１のとき、（ｃ）はｖｒ＝０（又は＜０）のときである。
【図１５】図１４（ａ）〜（ｃ）における層規制部材付近の現像剤の挙動を示す説明図である。
【図１６】（ａ）は図９に示す現像装置の駆動制御系のうち、連続べたゴースト制御処理を具現化する機能部を示す説明図、（ｂ）は（ａ）の画像認識部による画像の認識例を示す説明図である。
【図１７】本実施の形態で採用される連続べたゴースト制御処理の一例を示すフローチャートである。
【図１８】図１７に示すフローチャートでの処理を模式的に示す説明図である。
【図１９】（ａ）は通常作像条件のときにおける現像装置による現像剤の挙動を模式的に示す説明図、（ｂ）は特別作像条件を判別した後における現像装置による現像剤の挙動を模式的に示す説明図である。
【図２０】特別作像条件を判別した後における作像処理過程を模式的に示す説明図である。
【図２１】実施の形態１で用いられる画像形成装置の変形の形態１を示す説明図である。
【図２２】実施の形態２に係る画像形成装置の要部を示す説明図である。
【図２３】（ａ）は現像剤搬送量を検出する検出装置の構成例を示す説明図、（ｂ）は現像剤が検出部材に非接触である場合における印加電圧Ｖ０、検出電流ｉ、検出電圧Ｖ１，Ｖ２の出力例を示す説明図である。
【図２４】（ａ）は現像剤搬送量が検出部材に接触し始める程度に増加したときの検出装置付近の状態を示す説明図、（ｂ）はそのときにおける印加電圧Ｖ０、検出電流ｉ、検出電圧Ｖ１，Ｖ２の出力例を示す説明図である。
【図２５】（ａ）は現像剤搬送量が図２４の状態よりも更に増加したときの検出装置付近の状態を示す説明図、（ｂ）はそのときにおける印加電圧Ｖ０、検出電流ｉ、検出電圧Ｖ１，Ｖ２の出力例を示す説明図である。
【図２６】（ａ）は現像剤搬送量が図２５の状態よりも更に増加したときの検出装置付近の状態を示す説明図、（ｂ）はそのときにおける印加電圧Ｖ０、検出電流ｉ、検出電圧Ｖ１，Ｖ２の出力例を示す説明図である。
【図２７】実施の形態２で採用される連続べたゴースト制御処理の一例を示すフローチャートである。
【図２８】図２７の「現像剤搬送量検出処理」の一例を示すフローチャートである。
【図２９】実施の形態３に係る画像形成装置の要部を示す説明図である。
【図３０】実施の形態３で採用される現像剤搬送量の検出装置の一例を示す説明図、（ｂ）は同検出装置の他の例を示す説明図である。
【図３１】（ａ）は図３０（ａ）に係る検出装置の検出出力例を示す説明図、（ｂ）は図３０（ｂ）に係る検出装置の検出出力例を示す説明図である。
【図３２】実施の形態４に係る画像形成装置の要部を示す説明図である。
【図３３】（ａ）は現像剤搬送量検出時における動作例を示す説明図、（ｂ）は現像剤搬送量変更時における動作例を示す説明図である。
【図３４】（ａ）は実施例（実施例１，２）に係る現像装置の態様を示す説明図、（ｂ）は比較例（比較例１，２）に係る現像装置の態様を示す説明図である。
【図３５】（ａ）は実施例で用いられる現像スリーブ（平滑スリーブ）の表面状態を示す説明図、（ｂ）は比較例１で用いられる現像スリーブ（ブラストスリーブ）の表面状態を示す説明図、（ｃ）は比較例２で用いられる現像スリーブ（溝スリーブ）の表面状態を示す説明図である。
【図３６】実施例及び比較例に係る現像装置における現像剤搬送性を評価するに当たって、トリマ、層規制用磁極の磁束密度、現像スリーブ表面を組みあわせたときの夫々のＭＯＳを示す説明図である。
【図３７】実施例１，２と比較例１に係る現像装置について、回転トリマ周速比とＭＯＳとの関係を示すグラフ図である。
【図３８】（ａ）は実施例３に係る画像形成装置を用いて連続べたゴースト制御時における現像パラメータとしての現像剤搬送量の変更に伴う評価例を示す説明図、（ｂ）は（ａ）のΔＬ＊の意義を示す説明図である。
【図３９】実施例３に係る画像形成装置を用いて連続べたゴースト制御時における現像パラメータとしての周速比の変更に伴う評価例を示す説明図である。
【図４０】実施例３に係る画像形成装置を用いて連続べたゴースト制御処理を行い、現像パラメータである現像剤搬送量、周速比を可変させた状態で、キャリア付着／連続べたゴーストの有無を調べた評価例である。
【図４１】環境情報、連続プリント枚数を適宜選定し、現像周速比規定値、現像周速比が規定値の８０％である条件での連続べたゴーストの発生状況を示す評価例である。
【図４２】実施例４に係る画像形成装置の検出装置における検出出力に関し、現像座性搬送量と電流積分値との関係を調べたグラフ図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
◎実施の形態の概要
図１は本発明が適用された画像形成装置の実施の形態の概要を示す説明図である。
同図において、画像形成装置は、静電潜像が保持される回転可能な像保持体１と、この像保持体１に対して画像信号に基づく静電潜像を形成する潜像形成装置９と、トナー及びキャリア並びにトナーと同極性の外添剤が含まれる現像剤Ｇが保持搬送される現像剤保持体２を有し、前記像保持体１に対し前記現像剤Ｇを摺擦させ、前記潜像形成装置９にて像保持体１上に形成された静電潜像を現像する現像装置１０と、この潜像形成装置９にて形成される静電潜像に対応する画像信号に基づいて前記像保持体１の周回毎に連続して面画像になる領域を積算し、当該積算値が予め決められた閾値を超える特別作像条件であるか否かを判別する作像条件判別装置１１と、この作像条件判別装置１１にて連続する面画像が閾値を超えた特別作像条件であると判別されたときに、少なくとも連続する面画像領域に対しキャリアの転移が生じない条件で前記像保持体１に対する前記現像装置１０の現像剤Ｇによる摺擦力を低減させるように前記現像装置１０の現像パラメータを制御する現像制御装置１２と、を備えたものである。
尚、図１において、符号１３は転写媒体１４（記録材又は記録材に転写する前にトナー像を一時的に保持する中間転写体に相当）に対して像保持体１上に形成されたトナー像を転写する転写装置、１５は像保持体１上に残留する残留トナーなどを清掃する清掃装置である。
【００１１】
このような技術的手段において、像保持体１としては、感光体、誘電体のように光やイオンによって静電潜像を形成可能な態様のほか、画素単位毎に静電潜像に対応する潜像電位を与える画像電極を備えた態様などがある。
また、潜像形成装置９としては、像保持体の種類に応じて適宜選定して差し支えない。例えば像保持体１が感光体、誘電体であれば、例えば像保持体１を帯電する帯電装置９ａと、帯電された像保持体１に対して光やイオンにより静電潜像を書き込む潜像書込装置９ｂと、を有するものであればよく、画素電極を用いた態様では静電潜像に対応する潜像電位を供給する信号を生成するものであればよい。
更に、現像装置１０としては、現像容器８内にトナー及びキュリアが含まれる二成分現像剤Ｇを用いるものを広く対象とする。但し、この現像剤Ｇにはトナーと同極性の外添剤（例えば負帯電トナーに対しては負帯電シリカ）が混入されている。
また、現像剤保持体２としては、代表的には回転可能な中空状の現像回転体３と、この現像回転体３内に固定的に内包され且つ周囲に複数の磁極５が配列される磁石部材４と、を有する態様が挙げられる。尚、図１中、符号７は現像容器８内において現像剤Ｇを循環撹拌搬送し、トナーを十分に帯電させた後に現像剤保持体２に現像剤Ｇを保持させる撹拌搬送部材である。
【００１２】
また、作像条件判別装置１１は、連続的な面画像（所謂ベタ画像に相当；但し、本例では画像密度が１００％のものに限定されるものではなく、画像密度が予め決められた高画像密度〔例えば８０％以上〕のものを含むものとする）が像保持体１の周回毎に例えば予め決められた回数（閾値に相当）以上形成されると、その後に前記面画像が形成された領域を含む作像領域にハーフトーン画像を形成した場合に、前記連続した面画像が残像（ゴースト）として現れる現象が比較的高い確率で起こり得る。このような作像条件を特別作像条件として予め定めておけば、前記残像現象（ゴースト現象）が生ずる可能性の高い作像条件を判別することが可能である。
例えば図３（ａ）に示すように、初期画像として、連続的な面画像ＩＭ１の領域の一部が削除され、これに代えてハーフトーン画像ＩＭ２が存在する例を挙げると、連続的な面画像ＩＭ１が閾値を超える回数繰り返されるという特別作像条件に該当した場合には、図３（ｂ）に示すように、ハーフトーン画像ＩＭ２のうち連続的な面画像ＩＭ１と重なった領域には、元の連続的な面画像ＩＭ１の残像画像（ゴースト画像）ＩＭｇが現れる可能性が高い。
【００１３】
このため、本実施の形態では、現像制御装置１２は、特別作像条件であるときに、前述した残像現象が起こらないように現像パラメータを制御するという手法を採用している。
先ず、前述した残像現象が生ずる原因については以下のように推測される。
つまり、図４に示すように、連続的な面画像を作製するときに、仮に、像保持体１上にトナーＴの外添剤Ｗが付着してしまうと、通常像保持体１には清掃装置１５（図１参照）が設けられることが多いが、外添剤Ｗ自体が微小径であることから、清掃装置１５をすり抜けてしまう可能性が高く、像保持体１の周回に伴って再び現像装置の現像領域に到達する。このとき、像保持体１に対しては、潜像形成装置９（例えば帯電装置９ａ＋潜像書込装置９ｂ）により予め決められた帯電電位Ｖｈにて帯電（図中ｅは帯電電荷を模式的に示す）後に静電潜像Ｚが形成され、現像装置１０の現像領域に至るが、現像装置１０の現像剤Ｇによる摺擦力が通常のままであると、像保持体１の外添剤Ｗが現像剤Ｇによって掻き取られてしまい、この掻き取られた部位に関する潜像電位Ｖzが周囲より更に絶対値でΔＶ低下した状態になり易く、現像装置１０にて現像剤保持体２に現像電圧Ｖbias（｜Ｖｈ｜＞｜Ｖbias｜＞｜Ｖｚ｜）を印加することで現像動作が行われると、前記静電潜像Ｚのうち外添剤Ｗが掻き取られた部分に周囲よりも多くのトナーＴが現像され、当該部分の濃度が他の部分と異なる残像画像であるゴースト画像ＩＭｇ（図３（ｂ）参照）になってしまう。
本実施の形態では、このようなゴースト画像の発生を回避するために、特別作像条件であるときに、像保持体１に転移した外添剤Ｗの掻き取りが起こらないように対処することか必要であり、本例では、図２（ａ）（ｂ）に示すように、現像パラメータの制御に当たり、像保持体１に対する現像剤Ｇによる摺擦力Ｆを低減させるという対処を施すようにしたものである。
ここで、「少なくとも連続する面画像領域に対しキャリアの転移が生じない条件」とは、「現像剤による摺擦力」を低減させ過ぎると、現像剤保持体２に保持されているキャリアが像保持体１側に転移し、像抜けする懸念があるため、これを回避するための条件である。
【００１４】
次に、本実施の形態における代表的態様又は好ましい態様について説明する。
先ず、作像条件判別装置１１の好ましい態様としては、温度及び湿度が検出可能な環境検出器から検出された環境情報を取り込み、当該環境情報が予め定めた要注意環境条件であるか否かを判別する環境判別部１１ａを有し、この環境判別部１１ａにて環境情報が予め定められた要注意環境条件に該当すると判別したときに、特別作像条件であるか否かを判別する態様が挙げられる。
作像条件判別装置１１としては、特別作像条件に該当するか否かを常に判別するようにしても差し支えないが、本態様のように、環境判別部１１ａによる環境条件を特別作像条件の判別処理の前処理条件にしても差し支えない。
本態様は、連続的に面画像を作製することに起因する残像画質不良が環境条件（主として低温低湿環境条件）に依存することから、残像画質不良につながり易い特別作像条件であるか否かの判別を行うに当たって環境条件を考慮するようにしたものである。
本例では、温度及び湿度が検出可能な環境検出器にて環境情報を検出し、環境判別部１１ａにて環境検出器の検出結果から要注意環境条件に合致するか否かを判別すればよいが、要注意環境条件であるか否かについては夫々の機種毎に実験的に求めておくのが好ましい。
【００１５】
また、現像制御装置１２による制御対象である現像パラメータとしては、現像装置１０の現像剤保持体の現像剤搬送量及び像保持体１との周速比の少なくともいずれか一方が挙げられる。
つまり、現像剤Ｇによる摺擦力に寄与する現像パラメータの代表的態様としては、以下の態様が挙げられる。
・現像剤搬送量
・現像剤保持体２の像保持体１との周速比
・これら両者の組み合わせ
このような現像パラメータの選定について補足する。
前述した連続べたゴーストは、像保持体１上に堆積した電荷を有する外添剤Ｗを掻き取ることによって像保持体１の潜像電位Ｖｚが変化してしまうことが原因であると推測される。
そこで、連続べたゴーストと相関がある現像パラメータとしては、像保持体１上の外添剤の掻き取りに関わる原因につながるものと考え、これらについて相関の程度（有無及び相関が小）を検討した。尚、相関の程度として、○：相関がある、△：相関が小さい、×：相関が見られないことを示す。
【００１６】
現像・現像剤条件                      相関の程度
・現像剤保持体表面粗さ                      △
・現像電圧交流成分振幅                      ×
・現像電圧交流成分周波数                    ×
・現像電圧交流成分デューティ比              ×
・現像磁極角度                              ×
・現像剤保持体の像保持体との周速比          ○
・現像剤搬送量                              ○
・トナー濃度                                ×
・キャリア種類                              ○
・トナー外添剤種類・量                      ○
（１）「現像剤保持体表面粗さ」：掻き取る現像剤磁気ブラシの搬送力に関わる。
（２）「現像剤保持体の像保持体との周速比」：掻き取る現像剤磁気ブラシの運動量に関わる。
（３）「現像剤搬送量」：掻き取る現像剤磁気ブラシの像保持体に対する圧力と運動量及び密度（どの程度満遍なく接触するか）に関わる。
（４）「キャリア種類」：実際には磁化の異なるキャリアを用いたが、掻き取る現像剤磁気ブラシの穂の硬さと搬送力に関わる。
（５）「トナー外添剤種類・量」：掻き取られる外添剤に関わる。
ここで、（１）〜（４）が画像形成装置側で制御可能な要因で、これらはいずれも掻き取りの強さや密度という掻き取り能力に関わり、これを現像剤による摺擦力という物理量で表すと、連続べたゴーストは現像剤による摺擦力と相関があると言える。
そして、（１）〜（４）の中で初期設定によって決まってしまうものが（１）と（４）、画像形成装置に組み込んだ後に変更可能なものは（２）と（３）である。従って、画像形成装置稼働中に現像剤による摺擦力を制御可能な現像パラメータとしては、（２）と（３）が考えられる。
【００１７】
更に、現像制御装置１２の代表的態様としては、図２（ａ）（ｂ）に示すように、像保持体１に対する現像剤保持体２の周速比を変更するに当たり、像保持体１の周速ｖｐを変更せず、現像剤保持体２の周速ｖｄを変更するものが挙げられる。
また、現像制御装置１２の他の代表的態様としては、現像装置１０が現像剤保持体２に対向して非接触配置される層規制部材６を有する態様を前提とし、図２（ａ）（ｂ）に示すように、現像剤保持体２の現像剤搬送量ＭＯＳを例えばＭＯＳ１からＭＯＳ２（≠ＭＯＳ１）に変更するに当たり、現像剤保持体２と層規制部材６との間の層規制位置Ｂにおける現像剤搬送条件を変更するものが挙げられる。
ここでいう「層規制位置Ｂにおける現像剤搬送条件」とは両者間の位置に依存する条件（両者間の間隙寸法に相当）や、両者間の相対的な動き（相対周速差に相当）に依存する条件などが挙げられる。
【００１８】
また、現像剤搬送量を変更する態様のうち好ましい態様としては、現像装置１０は、少なくとも表面粗さが最大高さで５μm以下の平滑面として形成されて回転する現像回転体３を含む現像剤保持体２と、この現像剤保持体２と予め決められた間隙を介して対向して配置され且つ現像剤保持体２との対向部にて当該現像剤保持体２と同方向に回転して現像剤層を規制する層規制部材としての層規制回転体６と、を有し、現像制御装置１２は、現像剤保持体２の予め決められた周速ｖｄに対し層規制回転体６の周速ｖｒを増減させることで現像剤搬送量ＭＯＳを変更するものが挙げられる。
本態様において、現像回転体３としては剛体の筒状体でもよいし、可撓性薄膜部材でもよい。ここで、平滑面としては表面粗さが最大高さ（ＪｌＳＢＯ６０１２００１の規格に相当）５μｍ以下であることを要件としているが、これは、現像回転体３の表面粗さを最大高さで５μｍより大きくすると、現像回転体３側の現像剤搬送力が大き過ぎて層規制回転体６による現像剤搬送量を調整し難いことによる。
また、層規制部材としての層規制回転体６は、現像剤保持体２との対向部にて現像剤保持体２と少なくとも同方向に回転するものであればよく、現像剤保持体２との間には少なくとも現像剤Ｇの層規制が可能な範囲で予め定めた間隙を確保するようにすればよい。また、磁性、非磁性のいずれでも差し支えなく、表面粗さも特には制限はないが、あまり粗く設定すると、前記表面粗さが現像剤Ｇに対する搬送力に大きく寄与するため、目標とする現像剤層厚を考慮して好ましいものを選定するようにすればよい。
【００１９】
また、現像制御装置１２の別の代表的態様としては、現像剤保持体２の現像剤搬送量が検出可能な検出装置１７を有し、この検出装置１７の検出結果に基づいて現像パラメータを制御するものが挙げられる。
本態様では、検出装置１７によって検出時における現像装置１０の実際の現像剤搬送量を把握することが可能になるため、現時点の現像剤搬送量を考慮して現像パラメータの変更を行うことができる。
更に、本実施の形態では、画像形成装置のうち特に有効な態様としては、潜像形成装置９が、像保持体１を帯電し且つ像保持体１に対して非接触配置される帯電装置９ａと、帯電された像保持体１に対して静電潜像を書き込む潜像書込装置９ｂと、を有する態様が挙げられる。
帯電装置９ａとして、像保持体１に対して非接触な非接触方式を採用する場合には、像保持体１上に付着した外添剤Ｗが現像装置１０の現像領域にそのまま戻り易いことから、本発明を適用することがより有効である。
【００２０】
以下、添付図面に示す実施の形態に基づいて本発明をより詳細に説明する。
◎実施の形態１
−画像形成装置の全体構成−
図５は本発明が適用された画像形成装置の全体構成を示す説明図である。
同図において、画像形成装置２０は、装置筐体２１の上部に配置されて原稿台上の原稿を読み取る画像読取装置２２と、装置筐体２１内に組み込まれて記録材に対して画像を形成する作像装置２５と、を備えている。
尚、画像読取装置２２の上部には、原稿を自動的に読み取り、読み取った原稿を決められた場所に収容する自動原稿読取装置２３が設けられている。
そして、作像装置２５は、例えば複数の色成分画像（本例ではイエロ（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）の有色トナー像）を形成する作像エンジン３０（３０ａ〜３０ｄ）と、この作像エンジン３０にて形成されたトナー像を順次転写（１次転写）して保持する中間転写体１４０と、この中間転写体１４０上に形成された有色トナー像及び透明トナー像を含む重ね画像を記録材９０に一括転写（２次転写）する一括転写装置１５０と、一括転写された重ね画像を記録材９０上に加熱定着させる定着装置１７０と、一括転写部位に記録材９０を搬送する記録材搬送系１８０と、を備えたものである。
【００２１】
＜作像エンジン＞
図５及び図６において、作像エンジン３０（３０ａ〜３０ｄ）は、像保持体としてのドラム状の感光体３１と、この感光体３１を帯電する帯電装置３２と、この帯電装置３２で帯電された感光体３１に静電潜像を光にて書き込む露光装置３３と、感光体３１上に書き込まれた静電潜像を現像剤（トナー）にて可視像化する現像装置３４と、この現像装置３４にて可視像化されたトナー像を転写媒体としての中間転写体１４０に転写する転写装置３５と、この転写装置３５にて転写された後に感光体３１上に残留する残留トナーを清掃する清掃装置３６と、を備えている。
ここで、帯電装置３２は例えば帯電容器３２１を有し、この帯電容器３２１内に帯電部材として放電ワイヤ３２２及びグリッド電極３２３を配設したものであるが、帯電装置３２としてはこれに限られるものではなく、例えばロール状の帯電部材を用いるなど適宜選定して差し支えない。
また、露光装置３３としては、レーザ走査装置やＬＥＤアレイなどが使用される。
更に、現像装置３４としては、トナー及びキャリアが含まれる二成分現像剤を用いた二成分現像方式が採用されたものが用いられる。尚、現像装置３４の詳細については後述する
更にまた、転写装置３５としては、感光体３１上のトナー像を中間転写体１４０側に静電転写させる転写電界を作用させるものであればよく、例えば転写バイアスが印加されるロール状の転写部材３５ａが用いられる。尚、転写装置３５としては、これに限られるものではなく、放電ワイヤを用いた転写コロトロンなど適宜選定して差し支えない。
また、清掃装置３６は、感光体３１側が開口し且つ残留トナーが収容される清掃容器３６０を有し、この清掃容器３６０の開口のうち感光体３１回転方向下流側縁にブレードやスクレーパ等の板状清掃部材３６１を配設すると共に、この板状清掃部材３６１の感光体３１の回転方向上流側にはブラシ状又はロール状の回転清掃部材３６２を配設し、前記清掃容器３６０の開口のうち感光体３１回転方向上流側縁に封止用のシール部材３６３を設け、更に、清掃容器３６０内の回転清掃部材３６２の下方には清掃された残留トナーを廃棄回収するために搬送する搬送部材３６４（例えば回転軸部材の周囲に螺旋羽根を設けた態様）を配設したものである。
【００２２】
＜中間転写体＞
中間転写体１４０は、複数（本例では６つ）の張架ロール１４１〜１４６に掛け渡されており、張架ロール１４１が図示外の駆動モータにて駆動される駆動ロールとして用いられ、張架ロール１４２〜１４６がいずれも従動ロールとして用いられ、更に、張架ロール１４３が中間転写体１４０に張力を付与する張力付与ロールとして用いられると共に張架ロール１４５が一括転写装置１５０の一要素として用いられる。
そしてまた、張架ロール１４１に対向する中間転写体１４０の表面側には、二次転写後の中間転写体１４０上の残留トナーを除去する清掃装置１４７が配設されている。
＜一括転写装置＞
また、一括転写装置１５０は、中間転写体１４０の画像保持面側に圧接廃置される二次転写ロール１５１と、中間転写体１４０の裏面側に配置されて二次転写ロール１５１の対向電極をなす対向電極ロール１５２（本例では張架ロール１４５を兼用）と、を備えている。本例では、対向電極ロール１５２には、トナーの帯電極性と同極性の二次転写電圧が印加されており、この対向電極ロール１５２と二次転写ロール１５１との間に形成される転写電界にて、中間転写体１４０上に保持された重ね画像が二次転写部位にて記録材９０に静電転写されるようになっている。尚、転写装置１５０としては、これに限られるものではなく、放電ワイヤを用いた転写コロトロンなど適宜選定して差し支えない。
＜定着装置＞
また、定着装置１７０は、例えば記録材９０の画像保持面に接触して回転し且つ例えば内部に加熱源を有する加熱定着ロール１７１と、この加熱定着ロール１７１との間に記録材９０を挟持して記録材９０を加圧し且つ加熱定着ロール１７１と共に回転する加圧定着ロール１７２と、備えている。
＜記録材搬送系＞
更に、記録材搬送系１８０は、記録材収容装置１８１に予め記録材９０を収容しておき、この記録材収容装置１８１から記録材供給部材１８２にて記録材９０を供給した後、搬送ロール１８３にて搬送されると共に二次転写部位の手前で位置合わせロール１８４にて記録材９０を一旦位置合わせした後に二次転写部位に導き、搬送ベルト１８５を通じて定着装置１７０へと搬送し、排出ロール１８６を介して記録材排出受け１８７に記録材９０を排出するようにしたものである。
【００２３】
−現像装置−
本実施の形態において、現像装置３４は、図６に示すように、感光体３１側が開口し且つトナー及びキャリアを含む二成分現像剤が収容される現像容器４０を有し、この現像容器４０の感光体３１に面した箇所に現像剤が保持搬送可能な現像ロール４１を配設すると共に、現像容器４０内の現像ロール４１の背面側にはトナーを摩擦帯電するために現像剤が撹拌搬送せしめられる撹拌搬送部材４２，４３を例えば水平方向に並べて配設し、撹拌搬送部材４２，４３にて撹拌搬送された現像剤を現像ロール４１に受け渡し、現像ロール４１上に保持された現像剤を層規制部材４４にて層規制した後に感光体３１に対向する現像位置Ａに現像剤を供給するようにしたものである。
ここで、現像容器４０は、図８（ａ）に示すように、現像ロール４１の軸方向に沿って延びる仕切板４８にて内部空間を仕切り、この仕切板４８の長手方向両端付近に夫々通孔４９，５０を開設し、前記仕切板４８で仕切られた空間には例えば回転軸部材５１の周囲に螺旋羽根５２が設けられる前記撹拌搬送部材４２，４３を配設し、この撹拌搬送部材４２，４３及び通孔４９，５０にて現像剤を循環搬送するようになっている。
尚、現像容器４０の開口上縁には封止用のシール部材４５が設けられている。
【００２４】
＜現像ロール＞
本例では、現像ロール４１は前記現像位置Ａにて感光体３１との間に間隙を介して非接触配置されているが、当該間隙は、前記現像位置Ａに対し現像ロール４１上に現像に必要な現像剤搬送量（ＭＯＳ：Mass on the sleeveの略）を有する場合には感光体３１と現像ロール４１との間に現像剤が充填される程度に選定されている。
そして、現像ロール４１は、図６及び図７に示すように、非磁性材料（例えばＳＵＳ３０４等）にて筒状に形成され且つ回転可能な現像スリーブ６１と、この現像スリーブ６１内に固定的に内包される磁石ロール６２とを備えている。
本実施の形態において、現像スリーブ６１はその表面に平滑面６１ａを有している。この平滑面６１ａは、例えば非磁性材料からなる現像スリーブ６１の素管の表面に対し研磨処理を施すことで形成されており、表面粗さが最大高さＲｚ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１  ２００１）で５μｍ以下の値に選定されている。
また、磁石ロール６２は、図７（ａ）（ｂ）に示すように、非磁性のロール部材６３の周囲に複数の磁極６４（本例では５つの磁極６４ａ〜６４ｅ）を配列したもので、具体的には、前記現像位置Ａに対応して現像剤を現像に供する現像用磁極６４ａ（本例ではＮ極）、前記層形成部材４４による層規制位置Ｂに対応して現像剤層を規制する層規制用磁極６４ｂ（本例ではＳ極）、更には、現像ロール４１に現像剤を吸着保持する吸着用磁極６４ｄ（本例ではＳ極）、そして、層規制用磁極６４ｂと吸着用磁極６４ｄとの間には現像剤を搬送するための搬送用磁極６４ｃ（本例ではＮ極）、また、現像用磁極６４ａと吸着用磁極６４ｄとの間には吸着用磁極６４ｄとの間に反発磁界が生成されて現像ロール４１上の現像剤を剥離する剥離用磁極６４ｅ（本例ではＳ極）を配置したものである。尚、現像用磁極６４ａ、層規制用磁極６４ｂ、吸着用磁極６４ｄ、剥離用磁極６４ｅが隣り合う異なる極性の磁極との間では搬送用磁極として機能するものである。
そして、磁石ロール６２の磁極６４（６４ａ〜６４ｅ）による磁束密度分布Ｍは現像スリーブ６１が回転したときに現像スリーブ６１上の現像剤を前記磁束密度分布Ｍによる磁力で保持搬送できる程度に選定されている。
【００２５】
＜層規制部材＞
層規制部材４４は、図７（ａ）に示すように、回転可能なロール状部材（以下必要に応じて回転トリマと称する）からなり、現像スリーブ６１との対向部位では少なくとも現像スリーブ６１と同方向に回転するようになっている。
そして、この層規制部材（回転トリマ）４４は、現像スリーブ６１の表面との間に予め決められた間隙ＴＧを介して現像スリーブ６１に対し非接触配置されている。この間隙ＴＧは、現像位置Ａに供されるべき現像剤搬送量（ＭＯＳ）を得ることができるように、例えば０．０３５〜１．５ｍｍの範囲で適宜選定される。
この層規制部材（回転トリマ）４４は非磁性材料（例えばＳＵＳ３０４）又は磁性材料（例えばＳＵＳ４１６）にて形成されており、表面に平滑面４４ａを有している。この平滑面４４ａは、層規制部材（回転トリマ）４４の素管の表面に対し研磨処理を施すことで形成されており、表面粗さが最大高さＲｚ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１  ２００１）で５μｍ以下の値に選定されている。
また、層規制部材（回転トリマ）４４は、図７（ｂ）に示すように、現像ロール４１の層規制用磁極６４ｂに対応した位置に設けられていればよい。本例では、層規制部材（回転トリマ）４４と現像ロール４１との層規制位置Ｂの最近接部位は、層規制用磁極６４ｂのピーク磁力位置に対してｋだけ現像剤搬送方向の下流側に偏って配置されており、前記最近接部位には層規制用磁極６４ｂから３０ｍＴ以上６０ｍＴ以下の磁力Ｕが作用するようになっている。
【００２６】
＜駆動伝達系＞
図８（ａ）は本実施の形態で用いられる現像装置の駆動伝達系を示す。
同図において、現像装置３４は、二つの駆動モータ（ＭＯＴ１，ＭＯＴ２）７１、７２によって駆動されるようになっている。
一方の駆動モータ（ＭＯＴ１）７１による駆動伝達系は、モータ駆動軸７３に駆動ギア７４を同軸に取付ける一方、現像ロール４１の現像スリーブ６１の回転軸、撹拌搬送部材４２，４３の回転軸の一端には夫々伝達ギア７５〜７７を同軸に取付けると共に、伝達ギア７６，７７を噛み合わせ、更に、前記駆動ギア７４と伝達ギア７６との間に中間伝達ギア７８を噛み合わせた状態で介在させると共に、前記伝達ギア７６に前記中間伝達ギア７８を噛み合わせるようにしたものである。
他方の駆動モータ（ＭＯＴ２）７２による駆動伝達系は、モータ駆動軸８１に駆動ギア８２を同軸に取り付ける一方、前記層規制部材（回転トリマ）４４の回転軸に伝達ギア８３を同軸に取付け、前記駆動ギア８２と前記伝達ギア８３とを噛み合わせるようにしたものである。
そして、二つの駆動モータ７１，７２は制御装置１００から送出された制御信号に基づいて回転駆動又は停止するようになっている。
本例では、一方の駆動モータ７１は、図８（ａ）（ｂ）に示すように、現像ロール４１の現像スリーブ６１、撹拌搬送部材４２，４３を同時に回転駆動又は停止するようになっている。また、他方の駆動モータ７２は、層規制部材（回転トリマ）４４を回転駆動又は停止するようになっている。
【００２７】
＜駆動制御系＞
本実施の形態では、制御装置１００はＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭ及び入出力ポートを含むコンピュータシステムからなり、図９に示すように、例えば画像形成装置の使用条件Ｊ（例えばＪ１〜Ｊ３）を入力信号として受け取り、ＲＯＭ内に予めインストールされた現像駆動制御プログラム（例えば図１０〜１２参照）又は連続べたゴースト制御プログラム（図１６参照）をＣＰＵにて実行し、二つの駆動モータ（ＭＯＴ１，ＭＯＴ２）７１，７２に制御信号を送出し、各駆動モータ７１，７２を介して現像ロール４１の現像スリーブ６１や層規制部材（回転トリマ）４４を駆動制御するものである。
本例では、現像ロール４１の現像スリーブ６１の周速ｖｄは基本的に予め定めた一定値（const.）に設定されると共に連続べたゴースト制御時に必要に応じて減速制御可能になっており、層規制部材（回転トリマ）４４の周速ｖｒは予め定めた下限値ｖminと上限値ｖmaxとの範囲で可変設定されるようになっている。
【００２８】
−現像制御処理−
次に、本実施の形態で用いられる現像装置の現像制御処理について説明する。
本例の現像制御処理としては以下のものが挙げられる。
＜画像情報によるＭＯＳ量制御＞
これは、図１０に示すように、例えば画像情報Ｊ１として像密度に着目したものであり、像密度が予め定めた低像密度、高像密度、あるいは、両者の中間に位置する通常像密度であるか否かを判別し、通常画像（通常像密度画像）である場合には、‘ＭＯＳ通常値’に設定し、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒを初期設定値とし、プリント動作（現像動作）を実施する。
つまり、図１３（ａ）に示すように、層規制部材（回転トリマ）４４の回転速度（周速）ｖｒを初期設定値とすれば、回転トリマ４４の回転に伴って現像剤Ｇに搬送力が与えられ、搬送力が与えられた現像剤Ｇは、回転トリマ４４の層規制位置Ｂを通過し、設定したＭＯＳ通常値に相当する現像剤搬送量（ＭＯＳ）をもって現像位置Ａ（図６参照）へと到達する。
【００２９】
また、画像情報が低像密度画像である場合には、‘ＭＯＳ減’に設定し、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒを初期設定値よりも減少させ、プリント動作（現像動作）を実施する。
このとき、図１３（ａ）に示すように、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒが減少すると、回転トリマ４４の回転の減少に伴って現像剤Ｇには小さい搬送力が与えられ、小さい搬送力が与えられた現像剤Ｇは、回転トリマ４４の層規制位置Ｂを通過し、設定した‘ＭＯＳ減’に相当する現像剤搬送量（二点鎖線で示すＭＯＳ（減））をもって現像位置Ａ（図６参照）へと到達する。
この場合には、ＭＯＳが減少することから、低像密度画像は細密画像としてプリントされる。
更に、画像情報が高像密度画像である場合には、‘ＭＯＳ増’に設定し、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒを初期設定値よりも増加させ、プリント動作（現像動作）を実施する。
このとき、図１３（ａ）に示すように、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒが増加すると、回転トリマ４４の回転の増加に伴って現像剤Ｇには大きい搬送力が与えられ、大きい搬送力が与えられた現像剤Ｇは、回転トリマ４４の層規制位置Ｂを通過し、設定した‘ＭＯＳ増’に相当する現像剤搬送量（点線で示すＭＯＳ（増））をもって現像位置Ａ（図６参照）へと到達する。
この場合には、ＭＯＳが増加することから、高像密度画像は高濃度画像としてプリントされる。
【００３０】
＜使用履歴情報によるＭＯＳ量制御＞
これは、図１１に示すように、例えば使用履歴情報Ｊ２としてプリント枚数に着目したものであり、プリント枚数が予め定めた閾値Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３（Ｎ１＜Ｎ２＜Ｎ３）以上か否かを判別し、総プリント枚数がＮ１以下である場合には、‘ＭＯＳ通常値’に設定し、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒを初期設定値とし、プリント動作（現像動作）を実施する。
この場合、図１３（ａ）に示すように、回転トリマ４４の回転に伴って現像剤Ｇに搬送力が与えられ、搬送力が与えられた現像剤Ｇは、回転トリマ４４の層規制位置Ｂを通過し、設定したＭＯＳ通常値に相当する現像剤搬送量（ＭＯＳ）をもって現像位置Ａ（図６参照）へと到達する。
また、総プリント枚数がＮ１より多くＮ２以下である場合には、‘ＭＯＳ増’に設定し、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒを初期設定値よりも増加させ、プリント動作（現像動作）を実施する。
このとき、図１３（ａ）に示すように、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒが増加すると、回転トリマ４４の回転の増加に伴って現像剤Ｇには大きな搬送力が与えられ、大きな搬送力が与えられた現像剤Ｇは、回転トリマ４４の層規制位置Ｂを通過し、設定した‘ＭＯＳ減’に相当する現像剤搬送量（点線で示すＭＯＳ（増））をもって現像位置Ａ（図６参照）へと到達する。
更に、総プリント枚数がＮ２より多くＮ３以下である場合には、更に‘ＭＯＳ増’に設定し、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒを初期設定値よりも更に増加させ、プリント動作（現像動作）を実施する。
このとき、図１３（ａ）に示すように、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒが更に増加すると、回転トリマ４４の回転のさらなる増加に伴って現像剤Ｇにはより大きい搬送力が与えられ、より大きい搬送力が与えられた現像剤Ｇは、回転トリマ４４の層規制位置Ｂを通過し、設定した更なる‘ＭＯＳ増’に相当する現像剤搬送量（点線で示すＭＯＳ（増））をもって現像位置Ａ（図６参照）へと到達する。
【００３１】
＜環境情報によるＭＯＳ量制御＞
これは、図１２に示すように、例えば環境情報Ｊ３として温度・湿度に着目したものであり、温度・湿度が予め定めた低温低湿、高温高湿、あるいは、両者の中間に位置する常温常湿であるか否かを判別し、常温常湿である場合には、‘ＭＯＳ通常値’に設定し、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒを初期設定値とし、プリント動作（現像動作）を実施する。
この場合、図１３（ａ）に示すように、回転トリマ４４の回転に伴って現像剤Ｇに搬送力が与えられ、搬送力が与えられた現像剤Ｇは、回転トリマ４４の層規制位置Ｂを通過し、設定したＭＯＳ通常値に相当する現像剤搬送量（ＭＯＳ）をもって現像位置Ａ（図６参照）へと到達する。
また、環境情報が低温低湿である場合には、‘ＭＯＳ増’に設定し、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒを初期設定値よりも増加させ、プリント動作（現像動作）を実施する。
このとき、図１３（ａ）に示すように、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒが増加すると、回転トリマ４４の回転の増加に伴って現像剤Ｇには大きな搬送力が与えられ、大きな搬送力が与えられた現像剤Ｇは、回転トリマ４４の層規制位置Ｂを通過し、設定した‘ＭＯＳ増’に相当する現像剤搬送量（点線で示すＭＯＳ（増））をもって現像位置Ａ（図６参照）へと到達する。
この場合には、ＭＯＳが増加することから、低温低湿であるとしても画像品質を保った状態でプリントされる。
更に、環境情報が高温高湿である場合には、‘ＭＯＳ減’に設定し、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒを初期設定値よりも減少させ、プリント動作（現像動作）を実施する。
このとき、図１３（ａ）に示すように、層規制部材（回転トリマ）の回転速度（周速）ｖｒが減少すると、回転トリマ４４の回転の減少に伴って現像剤Ｇには小さい搬送力が与えられ、小さい搬送力が与えられた現像剤Ｇは、回転トリマ４４の層規制位置Ｂを通過し、設定した‘ＭＯＳ減’に相当する現像剤搬送量（二点鎖線で示すＭＯＳ（減））をもって現像位置Ａ（図６参照）へと到達する。
この場合には、ＭＯＳが減少することから、高温高湿であるとしても画像品質を保った状態でプリントされる。
【００３２】
−層規制部材の周速調整処理−
本実施の形態において、層規制部材（回転トリマ）４４の周速を変化させたときのＭＯＳの変化を測定したところ、図１３（ｂ）に示す傾向が見られた。
同図において、横軸は回転トリマの周速比（対現像ロール周速）であり、図１３（ａ）に示すように、現像ロール４１（具体的には現像スリーブ６１）との対向部位で同方向に回転トリマ４４を回転させる条件で、回転トリマ４４の周速ｖｒを変化させたところ、ＭＯＳが次第に増加していき、本例では、８００ｇ／ｍ２付近を最大として変化していることが理解される。
つまり、図１４（ａ）及び図１５（ａ）に示すように、今、現像ロール４１（具体的には現像スリーブ６１）が一定周速ｖｄで回転している状態で、回転トリマ４４の周速がｖｒ＝ｖｒ１であるときに、現像位置Ａに到達するＭＯＳがＭＯＳ１と仮定する。
このとき、図１４（ｂ）及び図１５（ｂ）に示すように、現像ロール４１（具体的には現像スリーブ６１）が一定周速ｖｄで回転している状態のままで、回転トリマ４４の周速がｖｒ＝ｖｒ２≠ｖｒ１であるとき、現像位置Ａに到達するＭＯＳはＭＯＳ２≠ＭＯＳ１に変化する。
ここで、ｖｒ２＞ｖｒ１の場合には、ＭＯＳ２＞ＭＯＳ１、
ｖｒ２＜ｖｒ１の場合には、ＭＯＳ２＜ＭＯＳ１
になる。
更に、図１４（ｃ）及び図１５（ｃ）に示すように、現像ロール４１（具体的には現像スリーブ６１）が一定周速ｖｄで回転している状態のままで、回転トリマ４４の回転駆動を停止すると、ＭＯＳ＝０になる。このとき、現像位置Ａへの現像剤の供給が遮断される。
尚、本実施の形態では、現像ロール４１（具体的には現像スリーブ６１）が一定周速ｖｄで回転している状態のままで、現像ロール４１（具体的には現像スリーブ６１）との対向部位で逆方向に回転トリマ４４を回転させた場合にも、図１４（ｃ）及び図１５（ｃ）に示すように、ＭＯＳ＝０なる。このため、回転トリマ４４の回転駆動を停止した場合と同様に、現像位置Ａへの現像剤の供給が遮断される。
【００３３】
―連続べたゴースト制御処理―
これは、連続べた画像が残像画像（ゴースト画像）として現れる可能性が高い作像条件であるか否かを判別し、ゴースト画像が現れる可能性が高い作像条件（特別作像条件）に至った判別したときに、ゴースト画像が現れないように現像装置３４の現像パラメータである現像剤搬送量（ＭＯＳ）及び／又は現像ロール４１の周速を変更するものである。
ここで、「連続べた画像」とは、連続して面画像に至る画像を意味するもので、ここでいう「面画像」は画像密度が１００％の面状の画像は勿論含まれるが、本例では予め決められた高画像密度（例えば画像密度が８０％以上）の面状の画像をも含むものとする。また、「連続べた画像」は同じ面画像が連続する場合が代表的であるが、異なる面画像が連続する場合であっても、面画像が連続して重なり合う領域が存在する場合には当該重なり合う領域の面画像も含まれるものである。
【００３４】
＜連続べたゴースト制御処理を具現化する構成例＞
本実施の形態では、図９に示す制御装置１００は、例えば図１６に示すように、連続べたゴースト制御処理を具現化する機能部を備えている。
同図において、符号１０１は例えば図１６（ｂ）に示すような画像に対応する画像信号を取り込み、図１６（ｂ）の画像情報を認識すると共に、その画像情報中からべた画像に相当する面画像（例えばＩＭＲ１〜ＩＭＲ３）が存在する領域を認識する画像認識部、１０２は画像認識部１０１で認識した画像情報及び面画像領域を記録する画像メモリ、１０３は連続べた画像が予め定めた特別作像条件（ゴースト画像が現れる可能性が高い作像条件）に至ったか否かを判別する特別作像条件判別部、１０４は特別作像条件として、ゴースト画像につながり易い環境条件（要注意環境条件）及び連続べた画像の積算した値がゴースト画像につながる目安になる閾値Ｓが予め格納されている判別テーブル、１０５は判別テーブル１０４に特別作像条件としての要注意環境条件及び閾値Ｓをオペレータが設定操作するための条件設定部、１０６は画像形成装置の作像エンジン３０の近傍に設置される温度・湿度を計測するための環境センサ１１０からの環境情報を判別する環境判別部、１０７は特別作像条件判別部１０３が特別作像条件に至ったことを判別したときに、現像パラメータである現像剤搬送量及び／又は現像ロールと感光体との周速比を決定する現像パラメータ決定部である。
【００３５】
＜具体的な処理内容＞
以下、本実施の形態で採用されている連続べたゴースト制御処理を図１７に基づいて説明する。
・環境条件判別
同図において、連続べたゴースト制御処理は、先ず環境センサ１１０にて画像形成装置の作像エンジン３０付近の環境条件として温度・湿度を計測し、環境判別部１０６にて計測された環境情報が判別テーブル１０４内に予め定めた要注意環境条件に合致するか否かを判別し、要注意環境条件に合致しなければ、この段階で、連続べたゴースト制御処理を終了し、要注意環境条件に合致した場合には次のステップに移行する。
これは、ゴースト画像の現れる可能性が低温低湿環境条件に片寄っていることを考慮し、先ず、ゴースト画像が現れる可能性が高い低温低湿環境条件（例えば温度０〜２０℃／湿度２０〜５０％ＲＨ）を要注意環境条件として予め設定しておき、ゴースト画像が現れるかの可能性の高いときに絞って連続べたゴースト制御処理を効率的に実施する趣旨である。尚、本例では、環境条件を先に判別するようにしているが、このような環境条件の判別処理を行わずに連続べたゴースト制御処理を実施するようにしてもよいことは勿論である。
【００３６】
・連続べた画像の積算処理
更に、特別作像条件判別部１０３は、上述した要注意環境条件であることを判別したことを条件として、画像メモリ１０２に記録された連続べた画像の領域を積算し、その積算値が閾値Ｓを超えたか否かを判別する。
例えば「閾値Ｓ」としては、画像密度１００％の面画像でプリント枚数がｎ枚（例えばｎ＝１０枚）とし、画像密度９０％以上１００％未満の面画像でプリント枚数がｎ＋１枚、画像密度８０％以上９０％未満の面画像でプリント枚数がｎ＋２枚とする。また、同時に感光体３１の回転軸方向のどの位置で閾値Ｓを越えたかを記憶する。
このような演算を実施した後、上述した積算値が閾値Ｓを超えない場合には、現像パラメータの変更処理は行わず、連続べたゴースト制御処理はそのまま終了する。
一方、上述した積算値が閾値Ｓを超え、かつ、閾値Ｓを越えた個所に予め定められた低画像密度（例えば５〜６０％の画像密度）の面画像が形成される場合には，現像パラメータの変更処理を実施する。
また、同一の面画像のプリント枚数が閾値Ｓを超えても、感光体３１上の回転軸方向の閾値Ｓを越えた個所において低画像密度（例えば５〜６０％の画像密度）の面画像が形成されない場合には実施する必要はない。
【００３７】
・現像パラメータの変更処理
現像パラメータ決定部１０７は、積算値が閾値Ｓを超えたときに、現像パラメータとして、現像剤搬送量ＭＯＳの減少及び感光体３１と現像ロール４１との周速比を減少することを決定し、層規制部材である回転トリマ４４の回転速度ｖｒに対し速度減少制御信号を送出し、及び／又は、現像ロール４１の回転速度ｖｄに対し速度減少制御信号を送出する。
そして、現像装置３４では、回転トリマ４４の回転速度ｖｄが減少するように変更され、及び／又は、現像ロール４１の回転速度ｖｄが減少するように変更される。
この後、次のプリント作像処理では、新たに変更された現像パラメータにて現像装置３４による現像処理が実施されると共に、上述した積算値がリセットされる。
尚、現像パラメータが変更されたプリント作像処理の次のプリント作像処理では、図１０〜図１２の現像制御処理に基づいて再び現像パラメータは夫々の作像環境に合致したものに変更される。
【００３８】
＜連続べたゴースト制御処理の具体例＞
次に、連続べたゴースト制御処理の具体例を図１９に基づいて説明する。
同図において、今、環境条件が要注意環境条件に合致しており、プリント対象画像が例えば画像密度１００％の面画像ＩＭ（べた画像に相当）が含まれるものをプリント枚数ｎ枚（本例では閾値Ｓに相当）連続して作製したものと仮定する。
このとき、特別作像条件判別部１０３は、プリント枚数が１枚目からｎ−１枚目までは通常作像条件と判別し、プリント枚数がｎ枚目までは現像パラメータの変更処理を実施しないで現像装置３４による現像処理を行う。このため、プリント枚数ｎ枚目までは、現像装置３４は、図１９（ａ）に示すように、図１０〜図１２の現像制御処理に基づいて、例えば現像ロール４１の周速ｖｄをｖｄ１に設定したままで、層規制部材である回転トリマ４４の回転速度ｖｒをｖｒ１に設定することで現像剤搬送量ＭＯＳをＭＯＳ１に設定した状態にて現像処理を実施する。尚、感光体３１の周速はｖｐ＝const.である。
【００３９】
ところが、プリント枚数がｎ枚終了すると、図１８に示すように、特別作像条件判別部１０３は、連続べた画像が閾値Ｓを超えたと判別し、この判別結果に基づいて、現像パラメータ決定部１０７が現像パラメータの変更処理を実施する。
このとき、現像パラメータ決定部１０７は、現像剤搬送量ＭＯＳを減少させ、及び／又は、感光体３１と現像ロール４１との周速比を低減させるように、現像パラメータを変更する。
本例では、現像装置３４は、図１９（ｂ）に示すように、層規制部材である回転トリマ４４の回転速度ｖｒをｖｒ２（ｖｒ２＜ｖｒ１）に設定することで現像剤搬送量ＭＯＳをＭＯＳ２（ＭＯＳ２＜）に設定し、及び／又は、現像ロール４１の周速ｖｄをｖｄ２（ｖｄ２＜ｖｄ１）に変更した後、現像処理を実施する。尚、感光体３１の周速はｖｐ＝const.である。
この状態において、図１９（ａ）に示す現像パラメータにおける現像剤Ｇによる摺擦力をＦ１、図１９（ｂ）における現像パラメータにおける現像剤Ｇによる摺擦力をＦ２とすれば、図１９（ｂ）では、現像剤搬送量ＭＯＳは低減し、及び／又は、現像ロール３１の周速ｖｄは低減することから、現像剤搬送量ＭＯＳ及び現像ロール３１の周速ｖｄの少なくともいずれの変化に伴って、Ｆ２＜Ｆ１の関係を満たすに至ることは明らかである。
【００４０】
＜連続べたゴースト制御処理の作像プロセスへの影響＞
上述したような連続べたゴースト制御処理を実施すると、図２０に示すように、作像プロセスが実施される。
つまり、連続的な面画像（べた画像）を作製するときに、仮に、感光体３１上にトナーＴの外添剤Ｗが付着してしまうと、通常感光体３１には清掃装置３６が設けられることが多いが、外添剤Ｗ自体が微小径であることから、清掃装置３６をすり抜けてしまう可能性が高く、感光体３１の周回に伴って再び現像装置３４の現像領域に到達する。このとき、感光体３１に対しては、帯電装置３２により予め決められた帯電電位Ｖｈにて帯電（図中ｅは帯電電荷を模式的に示す）後に、露光装置３３により静電潜像Ｚが形成され、現像装置３４の現像領域に至る。
このとき、現像装置３４では現像パラメータが変更され、現像剤Ｇによる摺擦力が低減した状値にある。このため、感光体３１上の外添剤Ｗが現像装置３４の現像領域に到達し、現像剤Ｇによる磁気ブラシが感光体３１上の外添剤Ｗに接触したとしても、当該現像剤Ｇによる摺擦力が低減しているため、感光体３１上の外添剤Ｗが掻き取られる懸念は少ない。このため、図４に示すように、外添剤Ｗが掻き取られることに伴う潜像電位Ｖｚの局部的な電位低下現象は生ずることはなく、感光体３１上に形成される潜像電位Ｖｚは略一定に保たれる。
この状態において、現像装置３４にて現像ロール３４に現像電圧Ｖbias（｜Ｖｈ｜＞｜Ｖbias｜＞｜Ｖｚ｜）を印加することで現像動作が行われると、潜像電位Ｖｚは略一定であることから、外添剤Ｗが残存している静電潜像ＺにはトナーＴが略均一に現像され、トナー濃度が局部的に濃くなるゴースト画像の発生はなく、略均一なトナー濃度の画像が形成される。この状態において、感光体３１上に残存していた外添剤Ｗの多くはべた画像（例えば画像密度８０％以上）よりも低い画像密度の面画像が連続することによって当該面画像の残留トナーと共に清掃装置３６にて掻き取られていく。
【００４１】
◎変形の形態１
図２１は実施の形態１で用いられる現像装置の一部構成を変更した変形の形態を示す。
同図において、現像装置３４の基本的構成は、実施の形態１と略同様であるが、層規制部材の構成が実施の形態１と異なるものである。尚、実施の形態１と同様な構成要素については実施の形態１と同様な符号を付してここではその詳細な説明を省略する。
本変形の形態において、層規制部材は、実施の形態１で用いられた回転トリマ４４とは異なり、現像ロール４１との間に所定の間隙ＴＧを介して配置される板状トリマ１２０からなり、この板状トリマ１２０を進退機構１２１にて進退動させ、板状トリマ１２０と現像ロール４１との間隙ＴＧを調整可能としたものである。
そして、制御装置１００は、実施の形態１と略同様に、現像制御処理プログラム及び連続べたゴースト制御処理プログラムを実行するようになっており、板状トリマ１２０と現像ロール４１との間の間隙ＴＧを調整することで現像剤搬送量ＭＯＳを増減するものである。
従って、本変形の形態においても、連続べたゴースト制御処理を実施するに当たり、ゴースト画像が現れる可能性が高い特別作像条件に至った場合には、板状トリマ１２０を現像ロール４１側に接近させることで板状トリマ１２０と現像ロール４１との間の間隙ＴＧを狭め、板状トリマ１２０で層規制される現像剤搬送量ＭＯＳを減少させるようにすればよい。
尚、本変形の形態にあっても、連続べたゴースト制御処理に当たっては、現像パラメータとして、現像剤搬送量ＭＯＳに加えて現像ロール４１の周速を変更しても差し支えない。
【００４２】
◎実施の形態２
図２２は実施の形態２に係る画像形成装置の要部を示す説明図である。
同図において、画像形成装置の基本的構成は、実施の形態１と略同様であるが、実施の形態１と異なり、現像装置３４には、現像ロール４１に保持される現像剤搬送量ＭＯＳを検出する現像剤搬送量検出装置（以下、実施の形態ではＭＯＳ検出装置という）２００が設けられている。尚、実施の形態１と同様な構成要素については実施の形態１と同様な符号を付してここではその詳細な説明を省略する。
―ＭＯＳ検出装置―
本実施の形態において、ＭＯＳ検出装置２００は、図２２及び図２３（ａ）に示すように、現像ロール４１の回転方向に対して現像位置Ａよりも上流側で、かつ、層規制位置Ｂよりも下流側に、現像ロール４１に対向して板状の検出部材２０１を配置し、現像ロール４１には例えば直流成分交流成分が重畳した現像電圧印加用の現像用電源２１１と、現像剤搬送量ＭＯＳを検出するときにステップ状の直流成分からなる検出電圧Ｖ０印加用の検出用電源２１２とを切替器２１３にて切替選択させ、更に、検出部材２０１には当該検出部材２０１を流れる電流ｉが計測可能な電流センサ２１４を接続し、現像剤搬送量ＭＯＳを検出するときに、切替器２１３を介して検出用電源２１２を切替選択し、電流センサ２１４にて検出部材２０１を流れる電流ｉを検出し、この検出結果に基づいて制御装置１００内のＭＯＳ算出部１０８による算出処理を行い、ＭＯＳを検出するようにしたものである。
【００４３】
特に、本実施の形態では、板状の検出部材２０１は、現像ロール４１に対向して非接触配置される導電性の電極部材（導電層）２０２と、この電極部材２０２の現像ロール４１側に形成される絶縁層２０３と、この絶縁層２０３の現像ロール４１側に形成される導電層２０４と、を有し、電極部材２０２と現像ロール４１との間に電位が変化するステップ状の直流電圧を印加したときに、絶縁層２０３を介して導電層２０２，２０４を対向させた三層構成を蓄電要素２０５として一時的に電荷が蓄電可能な機能部としたものである。
また、検出用電源２１２にて印加される直流電圧は、ゼロから予め決められた大きさの電圧にしてもよいし、他の電圧値から予め決められた大きさの電圧に変化させてもよく、要は大きさの異なる電圧にステップ状に変化させるものであればよい。また、電位の大きさを一定とはせずに、例えば環境条件等を加味して、選択する電位を決めるようにしてもよい。
また、ＭＯＳを検出する際には、１回の検出動作を行うようにしても差し支えないが、検出精度を高めるという観点から、繰り返して検出動作を行い、その平均値をＭＯＳとするようにしてもよい。
本例では、電流センサ２１４は、検出部材２０１（蓄電要素２０５）に流れる電流を検出するものであり、ＭＯＳ算出部１０８は、電流センサ２１４にて検出された電流ｉの変化に基づいて、電流の時間的な積算値若しくは電流ピークに相当する電気特性値を割出し、この電気特性値の大きさに応じて現像ロール４１上のＭＯＳを算出するようにすればよい。
また、電流センサ２１４に代えて、蓄電要素２０５の導電層２０２，２０４間に作用する電圧Ｖ２を検出する電圧センサ（図示せず）を設けるようにし、ＭＯＳ算出部１０８として、電圧センサにて検出された電圧の変化に基づいて、電圧の変化開始から予め決められた時間経過後の電圧に相当する電気特性値を割出し、この電気特性値の大きさに応じて現像ロール４１上のＭＯＳを算出するようにしてもよい。
【００４４】
図２３（ａ）は、実施の形態２において、現像剤Ｇが検出部材２０１と現像ロール４１との間の間隙ＴＧより少ない状態で、現像剤Ｇが導電層２０４に接触していない場合を示す。
図２３（ｂ）は、検出用電源２１２による電圧印加よって時刻ｔにて０からＶ０へと電位が変化したときの各部における出力波形を示す。
ここで、印加電圧Ｖ０検出用電源２１２からの印加される電圧を示し、検出電流ｉは電流センサ２１４によって検出された電流であり、検出電圧Ｖ１は検出部材２０１と現像ロール４１との間の電位差であり、検出電圧Ｖ２は検出部材２０１（蓄電要素２０５）の一対の導電層２０２，２０４間の電位差を示す。
図２３（ｂ）によれば、仮に、現像剤Ｇが検出部材２０１（蓄電要素２０５）に接触していない状況であっても、蓄電要素２０５を流れる電流が、初期に立ち上がりその後蓄電要素２０５による時定数の下でゆっくり減衰する検出電流ｉとして検出される。つまり、蓄電要素２０５には充電電流が流れ、検出電流ｉは図のように少し立ち上がり、その後放電によって減衰する。また、検出電圧Ｖ１は、時刻ｔで立ち上がった後、緩やかに減衰する。一方、検出電圧Ｖ２は緩やかに増加する傾向を示す。そして、Ｖ１とＶ２の和が両者の合成電圧になる。このときの検出電圧Ｖ２は、電流を積分したような波形になっている。
【００４５】
図２４（ａ）は、現像剤Ｇが検出部材２０１（蓄電要素２０５）の導電層２０４に少し接触している場合を示す。このとき、図２４（ｂ）によれば、検出電流ｉのピーク値は図２３（ｂ）の場合に比べて大きくなる。このとき、検出電圧Ｖ１、Ｖ２も検出電流ｉに合わせて変化する傾向を示し、図２３（ｂ）に比べて、やや大きい減衰を示す。
更に、図２５（ａ）は、現像剤Ｇが検出部材２０１（蓄電要素２０５）の導電層２０４の略全面に亘って接触している場合を示す。このとき、図２４（ａ）に示す現像剤Ｇが検出部材２０１の導電層２０４に一部にしか接触していない態様に比べて、検出電流ｉのピーク値が大きくなる。そのため、検出電圧Ｖ１は、図２４（ｂ）に比べて、その減衰量が大きく、検出電圧Ｖ２は逆にその増加量が大きくなる傾向を示す。
更にまた、図２６（ａ）は、現像剤Ｇが検出部材２０１（蓄電要素２０５）の導電層２０４の全面に亘って接触する点では図２５（ａ）と略同様であるが、図２５（ａ）に示す態様に比べて、現像剤Ｇの接触面積が広くなっている状態を示す。このため、図２６（ｂ）によれば、図２５（ｂ）に比べて、検出電流ｉのピーク値は大きくなる。一方、検出電圧Ｖ１は、図２５（ｂ）に比べて、その減衰量が大きく、検出電圧Ｖ２は逆にその増加量が大きくなる傾向を示す。
つまり、本実施の形態では、現像剤Ｇが検出部材２０１（蓄電要素２０５）の導電層２０４に接触していない状態であっても、電流センサ２１４による電流が検出され、また、蓄電要素２０５による大きな時定数に伴う変化が計測されるようになるため、現像ロール４１と蓄電要素２０５の導電層２０４との間に存在する現像剤Ｇの量に応じた電気的特性の変化として検出される。また、現像剤Ｇが蓄電要素２０５の導電層２０４に接触することで、より一層大きな変化として検出される。このことから、現像ロール４１上のＭＯＳの検出が容易になされる。
【００４６】
―連続べたゴースト制御処理―
次に、本実施の形態における連続べたゴースト制御処理のフローチャートを図２７に示す。
同図において、連続べたゴースト制御処理は、先ず、現像剤搬送量（ＭＯＳ）検出処理を実施する。
このＭＯＳ検出処理としては、図２８に示すように、検出用電源２１２によってステップ状の直流電圧Ｖ０を印加し、電流センサ２１４にて電流波形を検出する。
次いで、直流電圧Ｖ０の印加開始から予め決められた時間ｔ１までの期間の積分電流値又は電流ピーク値を算出し、これらから検出部材２０１と現像ロール４１との間の現像剤量を求めた後、現像ロール４１の周速ｖｄを考慮してＭＯＳを検出すればよい。
このようなＭＯＳ検出処理が行われると、図２７に示すように、検出した現像剤搬送量（例えばＭＯＳ０）を一旦データとしてメモリ記録しておく。
しかる後、連続べたゴースト発生要件（要注意環境条件，特別作像条件）を満すか否かを判別し、満たすと判別された条件では、現像パラメータの変更を決定する。
このとき、ＭＯＳ検出処理にて検出されたＭＯＳ０及び現在の現像パラメータを考慮し、現像パラメータの変更量を決定し、層規制部材である回転トリマ４４の回転速度を減少、及び／又は現像ロール４１の周速を減少する。
このように現像パラメータが変更されると、次のプリント作像処理が実施され、連続べた画像領域の積算値がリセットされる。
【００４７】
◎実施の形態３
図２９は実施の形態３に係る画像形成装置の要部を示す。
同図において、画像形成装置の基本的構成は、実施の形態２と略同様であるが、ＭＯＳ検出装置２００の構成が実施の形態２と異なっている。尚、実施の形態２と同様な構成要素については実施の形態２と同様な符号を付してここではその詳細な説明を省略する。
ＭＯＳ検出装置２００は、図２９及び図３０に示すように、実施の形態２と略同様に構成されるが、実施の形態２と異なるロール状の検出部材２２１を有している。この検出部材２２１は、ロール状の導電性の電極部材（内側導電層）２２２と、この電極部材２２２の周囲を覆う絶縁層２２３と、この絶縁層２２３の周囲を覆う外側導電層２２４と、を有し、電極部材２２２と現像ロール４１との間に電位が変化するステップ状の直流電圧を印加したときに、絶縁層２２３を介して内側導電層２２２，外側導電層２２４を対向させた略同心円状の三層構成を蓄電要素２２５として一時的に電荷が蓄電可能な機能部としたものである。
ここで、ロール状の検出部材２２１は固定的に設けられていてもよいし、あるいは、現像剤Ｇの動きに合わせて回転するような態様でも差し支えない。
本実施の形態において、ＭＯＳを検出する場合には、実施の形態２と略同様に、切替器２１３を介して検出用電源２１２を切替選択し、予め定めた電位の直量電圧Ｖ０を印加し、電流センサ２１４にて検出される電流波形のうち、電圧の印加開始から予め決められた期間までの積算電流値又はピーク電流から、現像ロール４１と検出部材２２１との間の現像剤量を求め、求められた現像剤量から現像剤搬送量（ＭＯＳ）を検出するようにすればよい。
また、検出部材２２１（蓄電要素２２５）を流れる電流の短時間での電流波形の変化を見ると、ＭＯＳが多い場合と少ない場合とで異なるものになる。図３１（ａ）は、ＭＯＳをＩ〜ＩＩＩ方向へ順次多くした場合の電流波形の一例を示す。
また、検出部材２２１（蓄電要素２２５）に作用する電圧波形、つまり、蓄電要素２２５の導電層２２２，２２４間に作用する電位差の変化を調べたところ、図３１（ｂ）に示す結果が得られた。ここで、図３１（ｂ）は、ＭＯＳをＩ〜ＩＩＩ方向へ順次多くした場合の電圧波形の一例を示す。
従って、本実施の形態にあっても、実施の形態２と略同様にして、現像ロール４１上のＭＯＳを検出することが可能である。
【００４８】
◎実施の形態４
図３２は実施の形態４に係る画像形成装置の要部を示す説明図である。
同図において、画像形成装置の基本的構成は、実施の形態３と略同様であるが、ＭＯＳ検出装置２００の検出部材２２１が実施の形態３と異なる構成になっている。尚、実施の形態３と同様な構成要素については実施の形態３と同様な符号を付してここではその詳細な説明を省略する。
本実施の形態では、ＭＯＳ検出装置２００の検出部材２２１は専用の機能部材としては設置されておらず、層規制部材としての回転トリマ４４が検出部材２２１を兼用する構成になっている。このため、回転トリマ４４は検出部材２２１と同様な三層構成（導電層２２２、絶縁層２２３、導電層２２４からなる蓄電要素２２５を構成）を有している。
従って、本実施の形態では、ＭＯＳ検出時には、図３３（ａ）に示すように、検出部材２２１を兼用した回転トリマ４４を回転速度ｖｒ０（現在の現像パラメータに相当）で回転し、現像剤Ｇを搬送させると共に、検出用電源２１２からの直流電圧を印加し、電流センサ２１４からの検出結果に基づいてＭＯＳ０（回転トリマ４４の回転速度ｖｒ０に対応）を検出する。
一方、連続べたゴースト制御処理時においてＭＯＳを変更する場合には、図３３（ｂ）に示すように、検出されたＭＯＳ０及び現在の現像パラメータを考慮し、回転トリマ４４の周速ｖｒを減少させ、及び／又は、現像ロール４１の周速を減少させ、ＭＯＳを低減させるようにすればよい。
【実施例】
【００４９】
◎実施例１
実施例１は、実施の形態１と略同様な構成を備えているが、図３４（ａ）に示すように、現像装置として、撹拌搬送部材４２，４３を上下に配列し、かつ、現像ロール４１に保持された未使用現像剤を回収するロール５５を付加したものである。尚、現像ロール４１（平滑スリーブを具備）、層規制部材（回転トリマ）４４は実施の形態１と同様である。
比較例は、図３４（ｂ）に示すように、実施例と略同様な構成を備えているが、実施例と異なり、現像ロール４１’として、現像スリーブ６１’がブラストスリーブ又は溝スリーブで構成され、更に、層規制部材４４’として、磁性板を用いた板状規制部材（固定トリマ）を用いたものである。
ここで、実施例１の現像スリーブ６１は、図３５（ａ）に示す平滑スリーブ（平滑面が最大高さＲｚで３μｍ）にて構成されている。
一方、比較例（比較例１，２）の現像スリーブ６１’は図３５（ｂ）に示すブラストスリーブ（実施例の平滑スリーブにブラスト処理を施して構成）にて構成され、あるいは、図３５（ｃ）に示す溝スリーブ（実施例の平滑スリーブに対し溝加工処理を施して構成）にて構成されている。
尚、実施例１、比較例ともに、層規制部材と現像スリーブとの間隙は２４０μｍに設定されている。
【００５０】
実施例１に係る現像装置、比較例に係る現像装置の性能を評価する上で、層規制部材（トリマ）、層規制用磁極の磁束密度、現像スリーブの表面を夫々組み合わせて、現像剤搬送量（ＭＯＳ）を測定したところ、図３６に示す結果が得られた。
図３６によれば、比較例（比較例１，２）では、固定トリマ＋ブラストスリーブ、溝スリーブを用いる場合には、一定のＭＯＳを得るには良好であるが、ＭＯＳ量を調整することは困難である。
これに対し、実施例１では、回転トリマ＋平滑スリーブを使用した場合には、ＭＯＳ量を調整することも極めて良好であることが確認された。
ちなみに、現像スリーブとして平滑スリーブを用いた態様で、固定トリマを使用すると、層形成自体が不可になってしまうことが理解される。
更に、層規制位置における層規制用磁極の磁束密度が５０ｍＴの場合には、ＭＯＳ量は多すぎず適量になるが、例えば８０ｍＴにすると、使用可能ではあるものの、ＭＯＳ量が多くなる傾向が見られる。
ここで、層規制位置における層規制用磁極の磁束密度３０ｍＴ〜６０ｍＴであれば、ＭＯＳ量を適量に調整し易い点で好ましい。
【００５１】
また、実施例１として、層規制部材と現像スリーブとの間隙を２４０μｍにしたものを実施例１−１、前記間隙を７０μｍにしたものを実施例１−２とし、更に、回転トリマとブラストスリーブとを組み合わせた態様のものを比較例３とした。
これらについて、回転トリマの周速比とＭＯＳとの関係を調べたところ、図３７に示す結果が得られた。
ＭＯＳ量としては、３００〜８００ｇ／ｍ２程度が実使用領域であるところ、実施例１（実施例１−１，実施例１−２）は回転トリマの周速比が広範囲に亘ってＭＯＳの実使用領域において可変調整されていることが理解される。
この点、比較例３では、ブラストスリーブを用いていることから、回転トリマの周速比に対するＭＯＳの変化量が大きく、回転トリマの周速比が０．７以上から、ＭＯＳの実使用領域を越えてしまうことが理解される。
尚、本実施例１（実施例１−１，実施例１−２）では、現像スリーブの平滑面は最大高さ３μｍであるが、この平滑面の表面粗さを振って同様な実験を行ったところ、平滑面は最大高さが５μｍ以下では、実施例１と同様な傾向が見られた。
また、層規制部材と現像スリーブとの間隙についても、使用領域（０．０３５ｍｍ〜１．５ｍｍ）で振って同様な実験を行ったところ、実施例１と同様な傾向が見られた。特に、０．０６０〜１．０ｍｍ程度では安定していることが確認された。
【００５２】
◎実施例２
本実施例は、実施の形態１に係る画像形成装置を具現化したもので、以下のような作像パラメータを有している。
・現像ロールと感光体とのギャップ：０．３５ｍｍ
・現像剤搬送量：２５０〜４５０ｇ／ｍ２
・現像電圧：Ｖｐｐ＝１．０ｋＶ、ｆ＝９ｋＨｚ
・キャリア径：平均約３５μｍ
・トナー径：平均約６μｍ
・トナー外添剤：平均約５０ｎｍシリカ、平均約１２０ｎｍシリカ、酸化金属粒子
本実施例において、連続べたゴースト制御処理を実施し、特別作像条件に至ったときに、現像剤搬送量（ＭＯＳ）として通常の設定値（４５０ｇ／ｍ２）のまま、図３８（ｂ）に示す初期画像（連続べた画像ＩＭ１、連続べた画像ＩＭ１の一部を削除し、その削除部分に新たに作製したハーフトーン画像ＩＭ２）を複数（本例では２つ）作製し、ΔＬ＊（図３８（ｂ）中のゴースト画像ＩＭｇが存在するＡ領域とＡ領域以外のハーフトーン画像ＩＭ２のＢ領域との間の明度差に相当）を調べたところ、図３８（ａ）に示すように、ゴースト画像ＩＭｇがはっきりと確認された。
これに対し、連続べたゴースト制御処理の一例として、回転トリマ４４の周速ｖｒを減少させることで、現像剤搬送量（ＭＯＳ）を通常の設定値から２５０ｇ／ｍ２に低減させ、図３８（ｂ）に示す初期画像を複数作製し、ΔＬ＊を調べたところ、図３８（ａ）に示すように、目標範囲内に収まり、ゴースト画像ＩＭｇは見られなかった。
このように、現像パラメータとして、現像剤搬送量を低減させたところ、連続べた画像に起因するゴースト画像の発生は有効に抑えられることが把握される。
【００５３】
◎実施例３
本実施例は、実施の形態１に係る画像形成装置を具現化したもので、実施例１と同様な作像パラメータを有している。
本実施例において、連続べたゴースト制御処理を実施し、特別作像条件に至ったときに、複数の現像剤搬送量（Ａ〜Ｃ）に対し、感光体３１と現像ロール４１との周速比として通常の設定値（例えば１．７５）のまま、図３８（ｂ）に示す初期画像を作製し、ΔＬ＊を調べたところ、図３９に示すように、いずれの態様についてもゴースト画像ＩＭｇがはっきりと確認された。
これに対し、連続べたゴースト制御処理の一例として、複数の現像剤搬送量（Ａ〜Ｃ）に対し、感光体３１と現像ロール４１との周速比を１．６、１．５に減少させ、図３８（ｂ）に示す初期画像を夫々作製し、ΔＬ＊を調べたところ、図３９に示すように、いずれの態様についても目標範囲内に収まり、ゴースト画像ＩＭｇは見られなかった。
このように、現像パラメータとして、現像剤搬送量を低減させたところ、連続べた画像に起因するゴースト画像の発生は有効に抑えられることが把握される。
【００５４】
◎実施例４
本実施例は、連続べたゴースト制御処理を実施するに当たり、現像剤搬送量（ｇ／ｍ２）及び感光体と現像ロールとの間の周速比を変化させ、夫々の現像パラメータにおける連続べたゴースト（連続べた画像に起因するゴースト画像）の有無、及び、感光体へのキャリア付着の有無を調べたところ、図４０に示すような結果が得られた。
同図によれば、現像剤搬送量が多いと、連続べたゴーストが発生しやすくなり、一方、現像剤搬送量が少なすぎると、連続べたゴーストは問題にならないが、キャリア付着という別の問題が生ずる。
図４０においては、「連続べたゴースト」及び「キャリア付着」に関して、いずれも良好な領域（ＯＫ領域）が太線で囲む枠内に存在することが理解される。
よって、現像パラメータとして、現像剤搬送量（ＭＯＳ）及び感光体と現像ロールとの周速比の両方を変更することにより、上述したＯＫ領域を確保し易くなる点で好ましい。
【００５５】
◎実施例５
本実施例は、実施の形態１に係る画像形成装置を具現化したものを用い、実施例１と同様な作像パラメータを有している。
本実施例では、環境条件（温度、湿度）、連続プリント枚数を変化させ、感光体と現像ロールとの周速比（現像周速比）規定値の場合、現像周速比規定値の８０％の場合夫々に対し、初期段階と経時段階（１００，０００枚走行を経た状態）とについて連続べたゴーストの発生の有無を調べたところ、図４１に示す結果が得られた。
同図によれは、低温低湿環境条件（例えば１０℃・２５％ＲＨ／１１℃・４８％ＲＨ／２０℃・２８ＲＨ）のときに、現像周速比規定値のままで連続プリントすると、ゴースト画像が発生し易いことが確認された。
本実施例においては、ゴースト画像の発生は環境依存性とべた画像の連続作成とに起因していることが理解される。よって、連続べたゴースト制御処理を行うに当たり、環境判別を経た手法も効率化を図る上で有効であることが理解される。
【００５６】
◎実施例６
本実施例は、実施の形態２に係る画像形成装置を用い、現像剤搬送量検出装置２００によって現像剤反訴量を検出するに当たって、現像ロール４１を停止した状態で現像ロール４１上の現像剤搬送量と、電流センサ２１４による電流波形との関係を確認したものである。
結果を図４２に示す。
同図において、横軸に現像ロール４１上の単位面積当たりの現像剤搬送量をプロットし、縦軸に現像ロール４１と検出部材２０１との間にステップ状に電位が変化する直流電圧を印加したときの電流波形に基づいて、検出用電源の立ち上がりから一定時間（例えば２００ｍｓ等の予め定めた時間）までの電流積分値（積分電流値に相当）を算出し、プロットした。
同図によれば、現像剤搬送量と電流積分値とが略一直線状に並ぶ良好な線形性を有する関係が確認された。
つまり、本湖実施例のように、ステップ状に電位が変化する直流電圧を印加したときの電流積分値を用いるようにすれば、この電流湖積分値から現像剤搬送量が容易に算出されることが理解される。
尚、本件発明者らは、電流波形のピーク値についても同様の確認を行ったところ、電流積分値と略同様の作用を奏することが確認された。また、得られる電圧波形についても同様に確認したところ、予め決められた時間後の電圧値を用いることで、電流積分値と略同様な作用を奏することが確認された。
【符号の説明】
【００５７】
１…像保持体，２…現像剤保持体，３…現像回転体，４…磁石部材，５…磁極，６…層規制部材，７…撹拌搬送部材，８…現像容器，９…潜像形成装置，９ａ…帯電装置，９ｂ…潜像書込装置，１０…現像装置，１１…作像条件判別装置，１１ａ…環境判別部，１２…現像制御装置，１３…転写装置，１４…転写媒体，１５…清掃装置，１７…検出装置，Ａ…現像位置，Ｂ…層規制位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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