(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
バンド状基層（５）の表面コーティングの為の多重コーティング装置であって、側面（１２）の１８０度より多くを取り囲む部分周囲に沿って、バンド状基層（５）を冷却しつつ案内するためのシリンダー状の側面（１２）を有する冷却ローラー（１）を有し、および、側面（１２）の１８０度より多くを含む部分周囲にわたって分配された隔室（２１）の配置を、少なくとも各一つのその中に配置された処理装置（４）と共に有し、その際、隔室（２１）の配列が、一つの分割平面（３）によって二つの部分配列（２）に分けられ、各部分配列（２）の隔室（２１）が、互いに相対的に位置固定的に配置されており、および各部分配列（２）が、冷却ローラー（１）の側面（１２）の部分周囲を、１８０度より多くは取り囲まない多重コーティング装置において、両方の部分配列（２）が、分割平面（３）に対して垂直な方向へ冷却ローラー（１）から離れるようスライド可能であること、その際、処理装置（４）が、冷却ローラー（１）の放射方向に位置固定的に配置されていることを特徴とする多重コーティング装置。
【請求項２】
処理装置（４）が、これら処理装置（４）を取り囲む隔室（２１）の一部分に対して位置固定的に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の多重コーティング装置。
【請求項３】
両部分配列（２）が、冷却ローラー（１）の軸方向（１１）でスライド可能であることを特徴とする請求項１または２に記載の多重コーティング装置。
【請求項４】
両部分配列（２）が同期してスライド可能であることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の多重コーティング装置。
【請求項５】
両部分配列（２）が、互いに独立してスライド可能であることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の多重コーティング装置。
【請求項６】
分割平面（３）の領域中に、少なくとも一つの処理装置（４）が配置されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の多重コーティング装置。
【請求項７】
処理装置（４）を分割平面（３）の領域において取り囲む隔室（２１）が分離可能に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の多重コーティング装置。
【請求項８】
両部分配列（２）が、互いに対称に形成されていることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の多重コーティング装置。
【請求項９】
両部分配列（２）が、共通の支持および案内装置に配置されており、この支持および案内装置が、部分配列（２）の、分割平面（３）に対して垂直なスライドと、冷却ローラー（１）に対して軸方向（１１）のスライドを可能とすることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の多重コーティング装置。
【請求項１０】
バンド状基層・真空コーティング装置であって、室壁から形成されるプロセス室を有し、およびプロセス室内に請求項１から９のいずれか一項に記載される多重コーティング装置を有することを特徴とするバンド状基層・真空コーティング装置。
【請求項１１】
部分配列（２）の領域の少なくとも一つの室壁が、真空シール可能な開口部を有し、この開口部を通じて部分配列（２）がプロセス室から外に向かっておよび、プロセス室内に向かって移動可能であることを特徴とする請求項１０に記載のバンド状基層・真空コーティング装置。
【請求項１２】
部分配列（２）が、プロセス室の外側でその間隔の拡大の為に、分割平面（３）に対して垂直に更にスライド可能であることを特徴とする請求項１０または１１に記載のバンド状基層・真空コーティング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の上位概念に係るバンド状基層の表面コーティングの為の多重コーティング装置、特に、多重マグネトロンスパッターコーティング装置、および請求項１１の上位概念に係るバンド状基層・真空コーティング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
バンド形状の材料をプロセス室中でコーティングするための公知の真空コーティング装置は、第一の真空引き可能な巻回室内にコーティングすべきバンド形状の材料の挿入された巻戻し部を有する巻戻し装置を含み、および、第二の真空引き可能な巻回室内に、取り出し可能なコーティングされた材料の取り出し可能な巻上げ部を有する巻上げ装置を含む。この巻上げ部は第二のローラーミル内に配置されている。巻回室の間では、コーティングされるべきバンド形状の材料が少なくとも一つの真空引き可能なプロセス室を通り抜け、その際、各プロセス室内には、バンド形状の材料の為のガイド装置を有する一つのプロセスローラーミルと、一つの冷却ローラーが配置されている。この表面上に少なくとも一つのマグネトロンスパッタ源が存在する。
【０００３】
他の公知のバンドコーティング装置では、巻戻し部および巻上げ部が、プロセス室内に配置されている。長所は、別々の巻回室が必要とされないことであるが、短所は、巻回部の交換が全プロセス室の換気無しに不可能であることである。この装置タイプにおいても、ここに記載する発明によって有利に改善が行われることが可能である。
【０００４】
特許文献１から、バンド形状の材料のための一つの真空コーティング装置が公知である。この装置は二つのプロセス室を有している。各プロセス室内には、一つのローラーミルが有る。このローラーミル内に、転向ロール、バンド張力計測ローラー、冷却ローラーが支承されている。お互いの調整を可能とするため、従ってバンド形状の材料の折れ目形成を防止するために、各ローラーミルは、水平方向および垂直方向に調整可能に形成されている。異なるガス、および異なる圧力にて作動可能であるよう、プロセス室、および巻回室は、バンドバルブによって真空に関し互いに分離されている。バンドバルブによって、コーティングされるべきバンド形状の材料は搬送される。
【０００５】
巻戻し部および巻上げ部は、巻回室内に存在する。コーティングされるべき材料は第一の巻回室内で巻戻し部により巻き取られ、コーティングプロセスへと供給され、そして引き続いて第二の巻回室内で巻き上げられる。
【０００６】
バンド形状の材料のコーティングの為に、例えばマグネトロンスパッタ源が使用されることが可能であるが、例えば蒸気分配管を有する熱的蒸化装置やイオン源のような他のコーティング源もまた使用されることが可能である。これらは、各冷却ローラーに対して調整可能に配置されており、その中心長手方向線が、その付随する冷却ローラーの中心軸に対して平行に調整可能である。使用されるコーティング源に応じて、一または複数のコーティング源が、各コーティング源のプロセス室に対するガス分離の為に適している各一つの隔室内に配置されるということが意図されることが可能である。
【０００７】
上述したコーティング源の他に、他の追加的な必要とされるプロセス技術が、冷却ローラーの周辺部に配置されることが可能である。プロセス技術の組立に関して、二つのグループが区別されることが可能である。一つのプロセス室の室壁を閉じる前に、当該プロセス室内に配置されることが可能であるというプロセス技術が公知である。プロセス技術の他のグループは、室壁を閉じる際、または閉じた後にプロセス室内に配置されることが可能である。これは、これらプロセス技術が、室壁中の開口部を通してプロセス室内に運び込むことが可能であり、その際、これらプロセス技術が、一方側で、片持ち梁（カンチレバー）の形式で室壁自体に保持されることによって可能である。
【０００８】
特許文献２から、冒頭に記載した形式の一つの真空コーティング装置が公知である。この装置においては、巻戻し部の為のローラーミルが、第一の巻回室内の第一の固定点に、プロセスローラーミルが、プロセス室内の第二および第三の固定点に、巻上げ部の為のローラーミルが第二の巻回室内の第四の固定点に固定されている。装置の運転状態においては、圧力差が、巻回室とプロセス室の間で、最大５０Ｐａである。
【０００９】
実践で、少ない間隙を有し、冷却ローラーの表面の周辺部に沿って配置された通常複数のマグネトロンスパッタ源及び／又は隔室の装置を、装置と冷却ローラーの間の接触に至ることなく、純粋に軸平行にスライドすることは実現困難であることが示された。
【００１０】
よって過去には、冷却ローラーの周辺部に沿って、一つの冷却ローラー、およびコーティング源の一つの配列、および複数の隔室を有する多重コーティング装置も使用された。これらはこの問題を回避しようとする。このため、これら配列は、隔室の複数の部分配列、多くは三つの部分配列に細分される。これらは、夫々１８０度より多くない冷却ローラーの部分周囲を含み、そして互いに揺動可能に接続されている。
【００１１】
水平方向に向けられた軸を有する一つの冷却ローラーにおいては、例えばコーティング源のような処理装置と、処理装置を境界づける隔室の周りの空間が、２時、４時、６時、８時および１０時の位置に配置され、その際、図面のように、６時位置が、冷却ローラーの周辺部の最も深い位置に相当する。
【００１２】
その際、隔室の冷却ローラーに対する物理的に必要とされる距離は、コーティング運転中は必要な圧力分離のため数ミリメーター、例えば２から３ｍｍである。
【００１３】
多重コーティング装置の例えば週ごとのメンテナンスの際（例えばスパッター環境、ターゲットの交換等）に処理装置と隔室はプロセス環境から、つまり冷却ローラーから切り離される必要がある。
【００１４】
その際、この手順は費用のかかる構造の他にも、手間がかかりそして時間を浪費する。その際、まず、プロセス室の一方の室壁に一方で支承される処理装置、例えばコーティング源のようなものが、隔室の部分配列と関係なくプロセス室から取り出される必要がある。引き続いて、２時および１０時位置に配置された隔室の部分配列が外側に向かって旋回され、そして引き続いて、隔室の全配列が、昇降台や類似の手段でもって垂直方向に下に向かって動かされる。
【００１５】
この手順の後にようやく、隔室の全配列が水平方向にプロセス室から外へ移動されることが可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】独国特許出願第１９７  ３５  ６０３  Ｃ１号明細書
【特許文献２】独国特許出願第１０１  ５７  １８６  Ｃ１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
よって、本発明の課題は、上述した形式の多重コーティング装置のメンテナンス手順と、バンド状基層の真空コーティング装置の構造的構成を、単純化することである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
この課題は、請求項１に記載の特徴を有する多重コーティング装置によって、および請求項１１に記載の特徴を有するバンド状基層の真空コーティング装置によって解決される。有利な形態および発展形は、従属請求項に記載される。
【００１９】
よって、バンド状基層の表面コーティングの為の多重コーティング装置が提案される。この装置は、側面の１８０度より多くを取り囲む部分周囲に沿ってバンド状基層を冷却しつつ案内するためのシリンダー状の側面を有する冷却ローラーを含み、および、側面の１８０度より多く取り囲む部分周囲にわたって分配された隔室の配列が、少なくとも各一つのその中に配置された処理装置と共に含み、その際、隔室の配列が、一つの分割平面によって分割される、隔室の二つの部分配列に分けられ、各部分配列の隔室が、互いに相対的に位置固定的に配置され、および各部分配列が、冷却ローラーの側面の部分周を、１８０度より多くは取り囲まず、その際、両方の部分配列が分割平面に対して垂直な方向で冷却ローラーから離れるようスライド可能である。
【００２０】
換言すると、提案された多重コーティング装置の隔室の配列は、少なくとも二つの部分配列から成り、これらは互いに接続されておらず、よってこれらは、冷却ローラーからの其々の間隔が、スライドによって拡大可能であるようスライド可能であり、その際同時に、両方の部分配列の間隔が、互いに拡大される。
【００２１】
上記にて提案された多重コーティング装置の意味における処理装置は、例えばエッチング装置、基板テンパリング装置等のような予処理装置としても、例えばマグネトロンスパッタ源、蒸気分配管を有する熱的蒸化装置、イオン源等のようなコーティング装置としても形成されていることが可能である。一つの同一なプロセス室内の予処理装置とコーティング装置の配列は、ここで発明に従い意図されることが可能である。
【００２２】
水平方向に向けられた軸を有する冷却ローラーにおいては、例えば処理装置および隔室が、冷却ローラーの周囲にわたって分配されていることが可能である。しかしその際、６時位置は空いたままである。この箇所に、両部分配列の間の分割平面が存在する。これによって、隔室の配列を６時位置において二つの部分配列に分かつことが可能である。これらは部分配列は、其々水平にスライド可能である。有利な形態においては、冷却ローラーの中心軸が分割平面（中心平面）内に配置されることが意図される。
【００２３】
メンテナンス手順は、今や少ないステップで可能である。
【００２４】
プロセス室の換気の後、まず処理装置が冷却ローラーの中心軸に対して軸平行にプロセス室から取り出され、そして引き続いて隔室の部分配列が、各冷却ローラーから例えば夫々の側で２０ｍｍだけ離れるよう移動される。
【００２５】
その際、処理装置を冷却ローラーの放射方向で位置固定的に配置することは目的にかなっている。その際、コーティングプロセスの最適化の為、冷却ローラーに対する処理装置の間隔の変更が、つまり、処理装置の、その各隔室に対する相対スライドが、ほどほどに可能である。この形態において、処理装置は、隔室の部分配列に依存することなく移動可能であり、およびプロセス室から取り出し可能である。これは、一方側で（カンチレバー）プロセス室の室壁に支承されている処理装置にとって有利である。
【００２６】
代替的形態では更に、処理装置を、この処理装置を取り囲む隔室の一部に対して位置固定的に配置する、つまり、処理装置が、それぞれ隔室の各部分配列と共に移動可能であるように配置されているということが意図されることが可能である。メンテナンス手順は、今や、少ない手順で可能である。プロセス室の換気の後、隔室の部分配列は各処理装置と共に、各冷却ローラーから例えば夫々の側で２０ｍｍだけ離れるよう動かされる。
【００２７】
一つの形態では、隔室の両部分配列が冷却ローラーの軸方向でスライド可能であることが意図される。これによって、隔室の部分配列が、水平方向に向けられた軸を有する冷却ローラーの際に、室蓋として形成された室壁によって閉じることが可能であるプロセス室の開口部を通して、プロセス室から外へと動かされることが可能であるので、隔室および処理装置はメンテナンス目的の為に良好にアクセス可能である。その際、隔室の分配配列の軸方向の動作は、同じままである高さで、つまり昇降台等無しで、水平に外に向かって行われる。
【００２８】
隔室の部分配列が、このようにしてプロセス室から外に遠ざけられると、そのようにして部分配列はプロセス室の外側のこの位置で更に開かれることができる。この状態で、多重コーティング装置のプロセスにとって重要な全ての部品に対しアクセスすることが、問題なく行われることができる。
【００２９】
代替として、隔室の部分配列を個々にかつ互いに独立してメンテナンスのためにプロセス室から遠ざけることができるということが意図されることが可能である。この形態は、隔室の各部分配列が、例えばターゲットの交換、遮蔽部等の交換の為にプロセス室の外側で完全にアクセス可能であるという長所を有する。
【００３０】
一つの形態では、隔室の両部分配列が同期してスライド可能であることが意図される。この為、部分配列は、隔室の両部分配列が、電動モーターなどのような一つの同一な駆動装置によって其々同じ程度だけスライドされるよう例えばレバーギア等によって互いに連結されることが可能である。好ましくは、空気圧式の駆動装置である。これは、経路中に障害があるとき、緩やかであり、かつ停止する。
【００３１】
一つの代替的形態においては、隔室の両部分配列が互いに独立してスライド可能であるということが意図される。この場合、各部分配列に対して、一つの独自の駆動装置が必要となるか、またはこれら部分配列はオペレーターによってマニュアルでスライドされる。
【００３２】
処理装置の数量の増加は、奇数（３，５，７等）の処理装置が冷却ローラーの周辺部に沿って配置されるということに通じ得る。ここで、６時位置が処理装置によってふさがれているので、分割平面の領域に少なくとも一つの処理装置が配置されているということは有利である。少なくとも一つの処理装置は、その際、隔室内に配置される。これら、分割平面内に配置された処理装置は、ここで隔室に依存せずプロセス室から取り出し可能であるか、または、隔室の部分配列の一方に配置されているので、これらは共通して隔室のこれら部分配列共に移動可能であり、およびプロセス室から取り出し可能である。
【００３３】
例えば低いＥ（低放射率）のコーティングの為に必要であるような、高いガス分離値を達成するために、分割平面の領域中の処理装置を取り囲む隔室が分離可能に形成されることが意図され得る。６時位置に存在する隔室は、よって、少なくとも二部品式に形成されており、その際、この隔室の其々一つの部分が、隔室の両部分配列の一方に配置されているということが意図され得る。
【００３４】
プロセス室に対するこの隔室の両方の部分のシールは、発明に従い、例えば狭い間隙程度、柔軟な薄板リップ、またはエラストマーシールにより実現されることが可能である。代替として、この隔室の両方の部分が、プロセス室に対して位置固定的に配置されたプロセス技術の部分に対しても移動可能であり、これと共に各一つのシール面を形成することが可能である。
【００３５】
一つの代替的な形態においては、さらに、６時位置に存在する隔室が、一つのユニットとして形成され、および両方の部分配列の一方のみに配置されていることが意図され得る。
【００３６】
別の形態においては、隔室の両部分配列が、互いに対称に形成されていることが意図される。これによって多重コーティング装置は、構造的に特別簡易に保たれ得る。
【００３７】
別の形態においては、隔室の両方の部分配列が、一つの共通な支持および案内装置に配置されていることが意図される。この装置は、部分配列の、分割平面に対して直角な移動および冷却ローラーに対して軸方向の移動を可能とする。この支持および案内装置は、例えばこれが、隔室の両方の部分配列のスライドを、ｘ−ｙテーブル内に類似して、一つの平面内で可能とするよう形成されていることが可能である。
【００３８】
更に、課題解決の為に、一つのバンド状基層真空コーティング装置が提案される。この装置は、複数室壁から形成されるプロセス室と、プロセス室内の上述した形式の多重コーティング装置を有している。
【００３９】
一つの形態では、隔室の部分配列の領域の少なくとも一つの室壁が、真空を密に封鎖可能な一つの開口部を有しており、この開口部を通して部分配列が、プロセス室から外へまたはプロセス室内へ移動可能であるということが意図される。開口部は、一つのドアまたは蓋により閉じることが可能であり、その際、ドアまたは蓋は、一方または両方の部分配列と接続されることが可能であるので、ドアを開くこと、または蓋を引き離すことは、室壁の一または複数の開口部を通って部分配列が移動することに作用し、これによって部分配列はプロセス室から外へと動かされる。
【００４０】
べつの形態では、隔室の部分配列が、プロセス室の外側でその間隔を更に部分平面に対して直角に拡大するために、スライド可能であるということが意図される。これによって、室壁中の一または複数の開口部が小さく保たれることが可能である。この為、室壁の部分配列が、一または複数の支持および案内装置に配置されることが意図され得る。部分配列は、数センチメーターのみ、冷却ローラーから離れるよう動かされ、および引き続いて冷却ローラーの軸方向にプロセス室から外へと移動される。その後ようやく、隔室の部分配列が再び分割平面に対して垂直に更に移動されるので、その互いの間隔は拡大し、これらはメンテナンス目的で良好にアクセス可能とされる。
【００４１】
以下に本発明を実施例に基づきおよび付随する図面に基づき詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】偶数個の処理装置を有する多重コーティング装置の側面図。閉じられた状態。
【図２】図１の多重コーティング装置の開かれた状態。
【図３】図１および２の多重コーティング装置の斜視図。
【図４】奇数個の処理装置を有する多重コーティング装置の側面図。
【発明を実施するための形態】
【００４３】
例えばプラスチックフィルムのような、（図示されていない）バンド状基層の表面コーティングの為の、図１から３に表されている多重コーティング装置は、バンド状基層を、側面１２の、１８０度より多くを囲んでいる部分周囲を巻回しての冷却案内の為のシリンダー状の側面１２および回転軸１１を有する冷却ローラー１を含む。この為、バンド状基層は、バンド状基層・真空コーティング装置の処理室内で左上から来て、冷却ローラー１と処理装置４の配列の間の間隙１３中に挿入される。バンド状基層は、間隙１３を通過し、よって冷却ローラー１の周辺部を介して案内される。
【００４４】
冷却ローラー１の側面１２の１８０度より多くを囲んでいる部分周囲にわたって、側面１２の方に向けられた各一つのコーティング装置を有する、夫々スパッタマグネトロンとして形成される全４つの処理装置４の配列が分配されている。処理装置４は、各一つのコンパートメント２１内に配置されており、その際、処理装置４は一方の側で、図示されていないプロセス室の室壁に保持されている。処理装置４は、互いに相対的に位置固定的に配置されている。隔室２１は、処理装置４に対して相対的に移動可能である。
【００４５】
処理装置４が、間隙１３を通って推移するバンド状基層をコーティング材でもってコーティングする間、バンド状基層は同時に、冷却ローラー１との接触によって冷却される。最後に、コーティングされたバンド状基層は右上で、冷却ローラー１と処理装置４の配列の間の間隙１３を去る。
【００４６】
隔室２１の配列は、分割平面３によって分割された、各二つの隔室２１の二つの部分配列２に分けられる。これらは、互いに対称に構成されている。代替として、隔室２１および処理装置３の他の配列も使用されることが可能である。例えば６つの隔室２１および処理装置４、つまり各３つの隔室２１および処理装置４を其々の側に、又は他の配列も実現されることが可能である。その際、本発明の基本思想から逸脱することは無い。
【００４７】
プロセス中における部分配列２の位置は、機械的に、例えばボルトによって保証されることができる。このプロセス位置において、隔室２１は冷却ローラー１に対して例えば３ｍｍの間隔を有する。必要とされるプロセス圧力に応じて、必要な間隔は異なることがあり、それは例えば２ｍｍから４ｍｍである。
【００４８】
部分配列２の隔室２１は、各一つのフレーム２２によって接続されることにより、互いに相対的に位置固定的に配置されている。このフレームは、水平材２３、つまり冷却ローラー１の回転軸１１に対して平行に推移するロッド状の構造要素と、垂直材２４、つまり冷却ローラー１の回転軸１１に対して垂直に推移する平面状の構造要素とからなる空間的支持部材として形成されており、その上各二つのベースキャリア２５を有している。これらベースキャリアは、水平材２３のように冷却ローラー１の回転軸に対して平行に推移しており、その際、両方の部分配列２のベースキャリア２５は、同一の水平面内に位置している。
【００４９】
両方の部分配列２の其々は、冷却ローラー１の側面１２の部分周囲を、１８０度を超えて取り囲まない。これは、冷却ローラー１からの各間隔と、部分配列２がお互いに有している間隔を拡大するために、各部分配列２を、分割平面３に対して垂直に冷却ローラー１から離れるようスライドさせることができるための前提条件である。
【００５０】
この為、部分配列２は、各二つのベースキャリア２５上に支承されている。これらベースキャリアは、多重コーティング装置を支持および案内装置に組み込む際に、バンド状基層真空コーティング装置のプロセス室の内部に配置されることができる。これは、分割平面３に対して垂直な、つまり図１および２の図面平面内で、および冷却ローラー１に対して軸方向に、つまり、冷却ローラー１の回転軸１１に対して平行に部分配列２のスライドを可能とする。
【００５１】
図４に表された、バンド状基層５、例えばプラスチックフィルムの表面コーティングの為の多重コーティング装置は、側面の１８０度よりも多くを取り囲む部分周囲を巻回したバンド状基層５の冷却案内の為のシリンダー状の側面１２と回転軸１１を有する冷却ローラー１を含んでいる。このため、バンド状基層５は、バンド状基層真空コーティング装置のプロセス室内で左上から来て、ガイドローラー６を介して、夫々スパッタマグネトロンとして形成される処理装置４の配列と冷却ローラー１の間の間隙１３内に挿入される。バンド状基層５は、隔室２１のスパッター薄板７と冷却ローラー１の間の間隙１３を通過して、これによって冷却ローラー１の周辺部を介して案内される。
【００５２】
冷却ローラー１の側面１２の１８０度より多くを取り囲む部分周囲にわたって巻回されて、側面１２の方に向けられた各一つのコーティング装置を有する全５つの処理装置４の配列が分配されている。処理装置４は、２時、４時、８時、および１０時位置に円筒マグネトロンとして実施されている。図１から３の実施例と異なり、この実施例における処理装置４の数量は偶数でないので、第５の処理装置４が、分割平面３内の６時位置に配置され、そして平板マグネトロンとして形成されている。しかし、６時位置に配置されたコーティング源４は、発明に従い円筒マグネトロンとしても、他の処理装置としても形成可能である。
【００５３】
各二つの円筒マグネトロンもこの一つの平板マグネトロンも、夫々一つの隔室２１内に配置され、その際、処理装置４は、一方側で、プロセス室の図示されていない室壁に保持されている。処理装置４は、互いに相対的に位置固定的に配置されている。隔室２１は、冷却ローラー１に対して、および処理装置４に対して相対的に移動可能である。
【００５４】
処理装置４が、間隙１３を通って推移するバンド状基層５をコーティング材でもってコーティングする間、バンド状基層５は、同時に、冷却ローラー１との接触によって冷却される。最後に、コーティングされたバンド状基層４は、右上で、処理装置４の配列と冷却ローラー１の間の間隙を去る。
【００５５】
隔室２１の配列は、分割平面３によって分割された、各一つの隔室２１の二つの部分配列にわけられる。これらは互いに対称に構成されている。６時位置に配置されているさらに別の隔室２１が、その際、二つに分けられるので、この隔室２１の両方の部分はプロセス室に対してシールされなければならない。このため実施例に従い、この隔室２１の両方の部分が、平板マグネトロンの保持の為に設けられる一つのキャリアに対して移動可能であるということが意図される。発明にしたがい、単に一層のシール面を有するのみのシールもまた意図される。つまり、両方の部分が、一つの共通なシール面を形成し、このシール面は例えば狭いクリアランス、柔軟な薄板リップ、またはエラストマーシールによって実現可能である。
【００５６】
プロセス中の部分配列２の位置は、機械的に、例えばボルトによって保証されることが可能である。このプロセス位置において、隔室２１は、冷却ローラー１に対して例えば３ｍｍの間隔を有する。必要なプロセス圧力に応じて、必要な間隔は様々であり、それは例えば２ｍｍから４ｍｍである。
【００５７】
両方の部分配列２の其々は、冷却ローラー１の側面の部分周囲を１８０度を超えて取り囲まない。これは、部分配列２を其々、冷却ローラー１の分割平面３に対して直角に遠ざけるようにスライドさせることができるための前提条件である。これによって、冷却ローラー１からの各間隔および部分配列が互いに対して有する間隔が拡大する。この部分平面３に対して直角である方向は、図４に部分配列２の其々に対する二重矢印として表されている。
【符号の説明】
【００５８】
１  冷却ローラー
１１  回転軸
１２  側面
１３  間隙
２  隔室の部分配列
２１  隔室
２２  フレーム
２３  水平材
２４  垂直材
２５  ベースキャリア
３  分割平面
４  処理装置
５  バンド状基層
６  ガイドローラー
７  スパッター薄板
【図１】
0005768194.tif 000002
【図２】
0005768194.tif 000003
【図３】
0005768194.tif 000004
【図４】
0005768194.tif 000005