(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
接着層、基材、微粒子層、及びバリア層を少なくともこの順に有してなり、
前記バリア層が、無機材料からなる無機層と、有機材料からなる有機層と、無機材料からなる無機層とをこの順に積層した３層構造からなり、かつ前記バリア層の平均厚みが０．１μｍ〜１０μｍであり、前記バリア層の屈折率が１．７以上であり、
前記接着層から前記バリア層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が０．２以下であることを特徴とする光取り出しシート。
【請求項２】
基板と、該基板上に、陽極と、陰極と、該陽極と前記陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置における前記基板の有機電界発光層側の面に光取り出しシートの接着層が接するように配置される請求項１に記載の光取り出しシート。
【請求項３】
バリア層の平均厚みが０．１μｍ〜５μｍである請求項１から２のいずれかに記載の光取り出しシート。
【請求項４】
バリア層の屈折率が１．８〜２．２である請求項１から３のいずれかに記載の光取り出しシート。
【請求項５】
微粒子層のバリア層側の表面が平坦であるか、又は微粒子層とバリア層の間に平坦化層を有する請求項１から４のいずれかに記載の光取り出しシート。
【請求項６】
平坦化層が、平均粒径が１００ｎｍ以下であり、かつ屈折率が１．８以上の微粒子を含有する請求項５に記載の光取り出しシート。
【請求項７】
接着層、基材、微粒子層、平坦化層、及びバリア層をこの順に有し、前記接着層から前記バリア層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が０．２以下である請求項５から６のいずれかに記載の光取り出しシート。
【請求項８】
基材が、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、及びポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）フィルムのいずれかである請求項１から７のいずれかに記載の光取り出しシート。
【請求項９】
基板と、該基板上に、陽極と、陰極と、該陽極と前記陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置であって、
前記陽極及び陰極の少なくともいずれかが透明電極であり、
前記基板と前記透明電極の間に、請求項１から８のいずれかに記載の光取り出しシートを有することを特徴とする有機電界発光装置。
【請求項１０】
基板、接着層、基材、微粒子層、バリア層、及び有機電界発光層をこの順に有し、前記基板から前記有機電界発光層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が０．２以下である請求項９に記載の有機電界発光装置。
【請求項１１】
基板上に、陽極と、陰極と、該陽極と前記陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置の製造方法であって、
前記基板の有機電界発光層側の面に、請求項１から８のいずれかに記載の光取り出しシートにおける接着層を貼り付けることを特徴とする有機電界発光装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光取り出しシート、有機電界発光装置及び有機電界発光装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機電界発光装置は、自発光型の表示装置であり、ディスプレイや照明の用途に期待されている。例えば、有機電界発光ディスプレイは、従来のＣＲＴやＬＣＤと比較して視認性が高く、視野角依存性がない等の表示性能上の利点を有している。また、ディスプレイを軽量化、薄層化できる利点もある。その一方、有機電界発光照明は、軽量化、薄層化が可能であるとの利点に加え、フレキシブルな基板を用いることでこれまで実現できなかった形状の照明を実現できる可能性を有している。
【０００３】
このような有機電界発光装置において、光取り出し効率を向上させるため、種々の検討が試みられている。
例えば特許文献１には、樹脂中に平均粒子径が１桁以上異なる少なくとも２種の微粒子を分散させた拡散層が光取り出し面側の透明電極に隣接して設けられている有機エレクトロルミネッセンス素子が提案されている。
しかし、この提案では、基板に直接拡散層を塗布により形成すると基板の汚染（コンタミ）等の問題が発生し、乾燥工程が必要となり有機電界発光層の積層プロセスとのタクトタイム差の影響が発生し、プロセス上好ましくない。
また、特許文献２では、低屈折率層を基板側に配置し、光取り出し効率を上げることが提案されている。しかし、この提案のように、屈折率段差が大きいと全反射が発生することに変わりはなく、有機電界発光層からの光取り出しが非効率なものとなる。
前記特許文献１及び２では、バリア層が設けられていないため、微粒子層などからのガス、水分の発生を抑えることができないという課題がある。
また、特許文献３では、粒子状の光拡散剤を含む粒子分散系樹脂シートが提案されており、前記樹脂シートのいずれか一方の表面側に、光拡散剤が偏在されており、ガスバリア層を含むことが記載されている。
しかし、この提案では、樹脂シートの各層の屈折率が適正化されておらず、各層間の屈折率段差が生じ、光取り出し効率の向上が不十分である。もともと、この提案では、有機電界発光装置における前記基板と透明基板との間、即ち、有機電界発光装置の基板の内側（内部）に、樹脂シートを配置することを予定していないものである。
【０００４】
したがって、接着層、基材、微粒子層、及びバリア層を少なくともこの順に有し、各層間の屈折率段差を軽減させて光取り出し効率を高めることができる光取り出しシート、有機電界発光装置及び有機電界発光装置を簡易なプロセスで効率よく製造できる有機電界発光装置の製造方法の速やかな提供が望まれているのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１９０９３１号公報
【特許文献２】特許第４１８６６８８号公報
【特許文献３】特開２００４−１０９４９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、接着層、基材、微粒子層、及びバリア層を少なくともこの順に有し、各層間の屈折率段差を軽減させて光取り出し効率を高めることができる光取り出しシート、並びに該光取り出しシートを用いた有機電界発光装置及び有機電界発光装置を簡易なプロセスで効率よく製造できる有機電界発光装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  接着層、基材、微粒子層、及びバリア層を少なくともこの順に有してなり、
前記接着層から前記バリア層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が０．２以下であることを特徴とする光取り出しシートである。
＜２＞  基板と、該基板上に、陽極と、陰極と、該陽極と前記陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置における前記基板の有機電界発光層側の面に光取り出しシートの接着層が接するように配置される前記＜１＞に記載の光取り出しシートである。
＜３＞  バリア層が、有機材料からなる有機層と、無機材料からなる無機層とを積層した多層構造を有する前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光取り出しシートである。
＜４＞  バリア層の屈折率が１．７以上である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光取り出しシートである。
＜５＞  微粒子層のバリア層側の表面が平坦であるか、又は微粒子層とバリア層の間に平坦化層を有する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光取り出しシートである。
＜６＞  平坦化層が、平均粒径が１００ｎｍ以下であり、かつ屈折率が１．８以上の微粒子を含有する前記＜５＞に記載の光取り出しシートである。
＜７＞  接着層、基材、微粒子層、平坦化層、及びバリア層をこの順に有し、前記接着層から前記バリア層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が０．２以下である前記＜５＞から＜６＞のいずれかに記載の光取り出しシートである。
＜８＞  基材が、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、及びポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）フィルムのいずれかである前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光取り出しシートである。
＜９＞  基板と、該基板上に、陽極と、陰極と、該陽極と前記陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置であって、
前記陽極及び陰極の少なくともいずれかが透明電極であり、
前記基板と前記透明電極の間に、前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光取り出しシートを有することを特徴とする有機電界発光装置である。
＜１０＞  基板、接着層、基材、微粒子層、バリア層、及び有機電界発光層をこの順に有し、前記基板から前記有機電界発光層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が０．２以下である前記＜９＞に記載の有機電界発光装置である。
＜１１＞  基板上に、陽極と、陰極と、該陽極と前記陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置の製造方法であって、
前記基板の有機電界発光層側の面に、前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光取り出しシートにおける接着層を貼り付けることを特徴とする有機電界発光装置の製造方法である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によると、従来における問題を解決することができ、接着層、基材、微粒子層、及びバリア層を少なくともこの順に有し、各層間の屈折率段差を軽減させて光取り出し効率を高めることができる光取り出しシート、並びに該光取り出しシートを用いた有機電界発光装置及び有機電界発光装置を簡易なプロセスで効率よく製造できる有機電界発光装置の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、本発明の光取り出しシートの一例を示す概略図である。
【図２】図２は、光取り出しシートにおける微粒子層、平坦化層、及びバリア層を示す図である。
【図３】図３は、光取り出しシートにおける微粒子層、平坦化層、及びバリア層を示す別の図である。
【図４】図４は、光取り出しシートにおける微粒子層、平坦化層、及びバリア層を示す更に別の図である。
【図５】図５は、本発明の有機電界発光装置の一例を示す概略図である。
【図６】図６は、比較の有機電界発光装置の一例を示す概略図である。
【図７】図７は、光取り出しシートの水蒸気透過率の測定方法を示す図である。
【図８】図８は、耐久性の評価における左図に初日の発光面の状態を示し、右図に７日後の発光面の状態を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（光取り出しシート）
本発明の光取り出しシートは、接着層、基材、微粒子層、及びバリア層を少なくともこの順に有してなり、更に必要に応じてその他の層を有してなる。
前記光取り出しシートは、後述するように、前記微粒子層のバリア層側の表面が平坦であるか、又は微粒子層とバリア層の間に平坦化層を有することが好ましい。
【００１１】
前記光取り出しシートは、有機電界発光装置の内部に配置されることが好ましく、基板と、該基板上に、陽極と、陰極と、該陽極と前記陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置における前記基板の有機電界発光層側の面に光取り出しシートの接着層が接するように配置されることがより好ましい。
【００１２】
本発明において、前記光取り出しシートを構成する接着層、基材、微粒子層、及びバリア層をこの順に有し、好ましくは微粒子層とバリア層の間に平坦化層を有し、前記接着層から前記バリア層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が０．２以下であり、０．１８以下であることが好ましい。
前記最大屈折率差が、０．２を超えると、層間でのフレネル反射が強くなり、光取り出し効率が低下することがある。
ここで、前記接着層、前記基材、前記微粒子層、及び前記バリア層の屈折率は、例えばエリプソメーターなどにより測定することができる。
【００１３】
＜バリア層＞
本発明による光取り出しシートにおいて、外部及び前記光取り出しシートのバリア層、基材の間にある微粒子層等内部からの酸素、水分の透過を防止することを目的として、バリア層を有している。
前記バリア層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すればよく、有機材料からなる有機層単独、又は無機材料からなる無機層単独であってもよいが、有機材料からなる有機層と、無機材料からなる無機層とを積層した多層構造であってもよい。
前記無機材料としては、例えばＳｉＮｘ、ＳｉＯＮ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えばシリコーン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマーなどが挙げられる。
【００１４】
前記バリア層の形成方法としては、特に制限はなく、材料に応じて適宜選択することができ、例えば、塗布法、ＣＶＤ法、真空蒸着法、スパッタ法などが挙げられる。
前記バリア層の屈折率（多層構造の場合は、平均屈折率）は、１．７以上であることが好ましく、１．８〜２．２であることがより好ましい。前記バリア層の屈折率が、１．７未満であると、透明電極とバリア層の界面で、有機電界発光層からの光の全反射が多くなり、光取り出し効率が低下することがある。
前記バリア層の屈折率は、前記微粒子層（又は前記平坦化層）の屈折率と同等乃至高いことが好ましく、有機電界発光層の屈折率と同等乃至低いことが好ましい。
ここで、バリア層と隣接する透明電極との屈折率との関係を見ていないのは、透明電極は、非常に薄い（光の波長以下、染み出し効果）ので殆ど通過する光線には、殆ど寄与していないものと推定される。また、透明電極の屈折率は高く、バインダーの屈折率を「２．１」程度まで高くする必要があるが、簡易な方法で高屈折率化することは現実的ではないため、除外（無視）している。
したがって、前記バリア層の屈折率は、透明電極並みの高屈折率であることがより好ましい。
前記バリア層の光学的性質は、光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上がより好ましく、９０％以上が更に好ましい。
前記バリア層の平均厚み（多層構造の場合は、合計平均厚み）は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１μｍ〜１０μｍであることが好ましく、０．１μｍ〜５μｍがより好ましく、０．２μｍ〜３μｍが更に好ましい。前記バリア層の厚みが、０．１μｍ未満であると、大気中の酸素及び水分の透過を防ぐ封止機能が不充分であることがあり、１０μｍを超えると、光線透過率が低下し、透明性を損なうこと、また、無機材料を単層で用いる場合、応力差により割れ、隣接層との剥離等、バリア性が損なわれる可能性がある。
【００１５】
＜微粒子層＞
前記微粒子層は、ポリマーと、微粒子とを少なくとも含有し、高屈折率微粒子、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００１６】
＜＜微粒子＞＞
前記微粒子としては、屈折率が微粒子層のポリマーの屈折率と異なり、光を散乱可能なものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、有機微粒子であっても、無機微粒子であってもよく、２種以上の微粒子を含有することが好ましい。以下、散乱用微粒子と称することもある。
【００１７】
前記有機微粒子としては、例えばポリメチルメタクリレートビーズ、アクリル−スチレン共重合体ビーズ、メラミンビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリスチレンビーズ、架橋ポリスチレンビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ、などが挙げられる。
前記無機微粒子としては、例えばＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、などが挙げられる。これらの中でも、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＳｎＯ２が特に好ましい。
【００１８】
前記微粒子の屈折率は、前記微粒子層のポリマーの屈折率と異なるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１．５５〜２．６が好ましく、１．５８〜２．１がより好ましい。
前記微粒子の屈折率は、例えば自動屈折率測定器（ＫＰＲ−２０００、株式会社島津製作所製）を用い、屈折液の屈折率を測定してから、精密分光計（ＧＭＲ−１ＤＡ、株式会社島津製作所製）で、シュリブスキー法により測定することができる。
【００１９】
前記微粒子の平均粒径は、０．５μｍ〜１０μｍであることが好ましく、０．５μｍ〜６μｍであることがより好ましい。前記微粒子の平均粒径が、１０μｍを超えると、光の殆どが前方散乱になり、散乱用微粒子による光の角度を変換する能力が低下してしまうことがある。一方、前記微粒子の平均粒径が、０．５μｍ未満であると、可視光の波長より小さくなり、ミー散乱がレーリー散乱の領域に変化し、微粒子の散乱効率の波長依存性が大きくなり、発光素子の色度が大きく変わってしまったり、光取り出し効率が低下することが予想される。
前記微粒子の平均粒径は、例えば日機装株式会社製ナノトラックＵＰＡ−ＥＸ１５０等の動的光散乱法を利用した装置や、電子顕微鏡写真の画像処理により測定することができる。
【００２０】
前記微粒子層における微粒子の体積充填率は、３０％〜８０％であることが好ましく、４０％〜７０％であることがより好ましい。前記体積充填率が、３０％未満であると、微粒子層に入射してきた光が微粒子に散乱される確率が小さく、微粒子層の光角度を変換する能力が小さいので、微粒子層の厚みを充分に厚くしないと光取出し効率が低下することがある。また、前記微粒子層の厚みを厚くすることはコストの増加に繋がり、前記微粒子層の厚みのバラツキが大きくなり、発光面内の散乱効果にバラツキが生じるおそれがある。一方、前記体積充填率が、８０％を超えると、前記微粒子層の表面が大きく荒れ、内部にも空洞が生じることで、前記微粒子層の物理的強度が低下することがある。
前記微粒子層における微粒子の体積充填率は、例えば重量測定法により測定することができる。まず、粒子比重測定装置（ＭＡＲＫ３、株式会社ユニオン・エンジニアリング製）で粒子の比重を測定して、電子天秤（ＦＺ−３０００ｉ、エー・アンド・デイ社製）で微粒子の重量を測定する。次に、作製した微粒子層の一部を切り取って、走査型電子顕微鏡（Ｓ−３４００Ｎ、日立ハイテク株式会社製）で微粒子層の厚みを測定し、微粒子層における微粒子の体積充填率を求めることができる。
【００２１】
−高屈折率微粒子−
前記高屈折率微粒子としては、屈折率が２．０以上であることが好ましく、更には２．４〜３．０であることが好ましい。；一次粒子の平均粒径が０．５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、更には１ｎｍ〜８０ｎｍ、特には１ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましい。
前記高屈折率微粒子の屈折率が２．０以上であれば、層の屈折率を効果的に高めることができ、前記屈折率が３．０以下であれば粒子が着色するなどの不都合がないので好ましい。また高屈折率微粒子の一次粒子の平均粒径が１００ｎｍ以下であれば、形成される微粒子層のヘイズ値が高くなって層の透明性を損なうなどの不都合が生じないので好ましく、０．５ｎｍ以上であれば高い屈折率が保持されるので好ましい。
前記高屈折率微粒子の粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真による平均一次粒子径で表す。平均一次粒子径はそれぞれの微粒子の最大径の平均値で表し、長軸径と短軸径を有する場合、各微粒子の長軸径の平均値を平均一次粒子径とする。
【００２２】
前記高屈折率微粒子としては、例えばＴｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ，Ｌａ、Ｗ、Ｃｅ、Ｎｂ、Ｖ、Ｓｍ、Ｙ等の酸化物又は複合酸化物、硫化物を主成分とする粒子が挙げられる。ここで、主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。本発明でより好ましい高屈折率微粒子はＴｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｓｎから選ばれる少なくとも１種の金属元素を含む酸化物もしくは複合酸化物を主成分とする粒子である。
【００２３】
前記高屈折率微粒子には、粒子の中に種々の元素が含有されていても構わない（以下このような元素を含有元素ということがある）。
前記含有元素としては、例えば、Ｌｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｂａ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｂｉ、Ｐ、Ｓなどが挙げられる。酸化錫、酸化インジウムにおいては粒子の導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｐ、Ｂ、Ｉｎ、Ｖ、ハロゲンなどの含有元素を含有させることが好ましく、特に、酸化アンチモンを５質量％〜２０質量％含有させたものが最も好ましい。
【００２４】
前記高屈折率微粒子は、含有元素としてＣｏ、Ｚｒ、及びＡｌから選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子（以下、「特定の酸化物」と称することもある）が挙げられる。これらの中でも、Ｃｏが特に好ましい。
Ｃｏ、Ａｌ、及びＺｒの総含有量は、Ｔｉに対し０．０５質量％〜３０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜１０質量％であることがより好ましく、０．２質量％〜７質量％であることが更に好ましく、０．３質量％〜５質量％であることが特に好ましく、０．５質量％〜３質量％であることが最も好ましい。
前記含有元素Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒは、二酸化チタンを主成分とする高屈折率微粒子の内部又は表面に存在する。二酸化チタンを主成分とする高屈折率微粒子の内部に存在することがより好ましく、内部と表面の両方に存在することが更に好ましい。これらの含有元素のうち金属元素は、酸化物として存在してもよい。
【００２５】
他の好ましい高屈折率微粒子としては、チタン元素と、酸化物が屈折率１．９５以上となる金属元素から選ばれる少なくとも１種の金属元素（以下、「Ｍｅｔ」とも略称する）との複合酸化物の粒子で、かつ該複合酸化物はＣｏイオン、Ｚｒイオン及びＡｌイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも１種がドープされてなる無機微粒子（「特定の複酸化物」と称することもある）が挙げられる。ここで、前記酸化物の屈折率が１．９５以上となる金属元素としては、Ｔａ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｂｉなどが挙げられる。これらの中でも、Ｔａ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｂｉが特に好ましい。
前記特定の複合酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複合酸化物を構成する全金属［Ｔｉ＋Ｍｅｔ］量に対して、２５質量％を超えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましく、０．０５質量％〜１０質量％がより好ましく、０．１質量％〜５質量％が更に好ましく、０．３質量％〜３質量％が特に好ましい。
【００２６】
ドープされた金属イオンは、金属イオンとして、又は金属原子のいずれの形態で存在してもよく、前記複合酸化物の表面から内部まで適宜に存在することができる。複合酸化物の表面と内部との両方に存在することが好ましい。
【００２７】
前記高屈折率微粒子は、結晶構造を有することが好ましい。前記結晶構造は、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼが主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。このことにより、前記特定の酸化物又は特定の複酸化物の高屈折率微粒子は、屈折率が１．９〜２．８を有することになり、好ましい。前記屈折率は、２．１〜２．８がより好ましく、２．２〜２．８が更に好ましい。
【００２８】
上記した特定の金属元素又は金属イオンをドープする方法は、従来公知の方法を用いることができる。例えば、特開平５−３３０８２５号公報、特開平１１−２６３６２０号公報、特表平１１−５１２３３６号公報、ヨーロッパ公開特許第０３３５７７３号公報等に記載の方法；イオン注入法［例えば、権田俊一、石川順三、上条栄治編「イオンビーム応用技術」（株）シ−エムシー、１９８９年刊行、青木康、「表面科学」１８巻（５）、２６２頁、１９９８、安保正一等、「表面科学」２０巻（２）、６０頁、１９９９等記載］等に従って製造できる。
【００２９】
前記高屈折率微粒子は、表面処理してもよい。前記表面処理とは、無機化合物及び／又は有機化合物を用いて該粒子表面の改質を実施するもので、これにより高屈折率微粒子表面の濡れ性が調整され有機溶媒中での微粒子化、微粒子層用組成物中での分散性や分散安定性が向上する。粒子表面に物理化学的に吸着させる無機化合物としては、例えば、ケイ素を含有する無機化合物（ＳｉＯ２等）、アルミニウムを含有する無機化合物［Ａｌ２Ｏ３、Ａｌ（ＯＨ）３等］、コバルトを含有する無機化合物（ＣｏＯ２、Ｃｏ2Ｏ3，Ｃｏ3Ｏ4等）、ジルコニウムを含有する無機化合物［ＺｒＯ2、Ｚｒ（ＯＨ）4等］、鉄を含有する無機化合物（Ｆｅ2Ｏ3等）、などが挙げられる。
【００３０】
前記表面処理に用いる有機化合物としては、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤を用いることができる。例えば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章（技術情報協会、２００１年刊行）等に記載されている。
【００３１】
具体的には、高屈折率微粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物、カップリング化合物が挙げられる。前記高屈折率微粒子表面と親和性を有する極性基としては、例えばカルボキシ基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等が挙げられ、これらを分子中に少なくとも１種を含有する化合物が好ましい。例えば、長鎖脂肪族カルボン酸（例えばステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等）、ポリオール化合物｛例えばペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ＥＣＨ（エピクロルヒドリン）変性グリセロールトリアクリレート等｝、ホスホノ基含有化合物｛例えばＥＯ（エチレンオキシド）変性リン酸トリアクリレート等｝、アルカノールアミン｛エチレンジアミンＥＯ付加体（５モル）等｝が挙げられる。
【００３２】
前記カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物が挙げられ、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。具体的には、例えば特開２００２−９９０８号公報、特開２００１−３１０４２３号公報の段落番号〔００１１〕〜〔００１５〕に記載の化合物等が挙げられる。これらの表面処理に用いる化合物は、２種類以上を併用することもできる。
【００３３】
前記高屈折率微粒子は、これをコアとして他の無機化合物からなるシェルを形成したコア／シェル構造の微粒子であることも好ましい。前記シェルとしては、Ａｌ、Ｓｉ、及びＺｒから選ばれる少なくとも１種の元素からなる酸化物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−１６６１０４号公報記載の内容が挙げられる。このことにより、二酸化チタンが有する光触媒活性を抑えることができ、微粒子層自身並びに微粒子層と接する上／下の両層のそれぞれの耐候性を著しく改良することができる。
【００３４】
前記高屈折率微粒子の形状は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状又は不定形状が好ましい。前記高屈折率微粒子は単独で用いてもよいが、２種類以上を併用して用いることもできる。
前記高屈折率微粒子の含有量は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、ポリマーの屈折率を１．５５〜１．９５とすることができる範囲であることが好ましい。
【００３５】
＜＜ポリマー＞＞
前記ポリマーとしては、（Ａ）有機バインダー、並びに（Ｂ）加水分解性官能基を含有する有機金属化合物及びこの有機金属化合物の部分縮合物、の少なくともいずれかであることが好ましい。
【００３６】
−（Ａ）有機バインダー−
前記（Ａ）の有機バインダーとしては、（１）従来公知の熱可塑性樹脂、
（２）従来公知の反応性硬化性樹脂と硬化剤との組み合わせ、又は
（３）バインダー前駆体（後述する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）と重合開始剤との組み合わせ、から形成されるバインダーが挙げられる。
【００３７】
前記（１）、（２）又は（３）の有機バインダーと、前記微粒子と、前記高屈折微粒子とを含有する微粒子層用組成物が調製されることが好ましい。この微粒子層用組成物は、支持体上に塗布され、塗膜が形成された後、バインダー成分に応じた方法で硬化されて微粒子層が形成される。硬化方法は、バインダー成分の種類に応じて適宜選択され、例えば加熱及び光照射の少なくともいずれかの手段により、硬化性化合物（例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）の架橋反応又は重合反応を生起させる方法が挙げられる。なかでも、前記（３）の組み合わせを用いて光照射することにより硬化性化合物を架橋反応又は重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法が好ましい。
【００３８】
更に、微粒子層用組成物を塗布と同時又は塗布後に、微粒子の分散液に含有される分散剤を架橋反応又は重合反応させることが好ましい。
【００３９】
このようにして作製した硬化膜中のバインダーは、例えば、前記分散剤とバインダーの前駆体である硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。更に、硬化膜中のバインダーは、アニオン性基が高屈折率微粒子の分散状態を維持する機能を有するので、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、高屈折率微粒子を含有する硬化膜中の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良することができる。
【００４０】
｛熱可塑性樹脂（Ａ−１）｝
前記（１）の熱可塑性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ−酸ビ共重合体樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリメタアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、イミド樹脂、などが挙げられる。
【００４１】
｛反応性硬化性樹脂と硬化剤との組み合わせ（Ａ−２）｝
前記（２）の反応性硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂及び／又は電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。
前記熱硬化型樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばフェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂などが挙げられる。
前記電離放射線硬化型樹脂には、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラジカル重合性不飽和基｛（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、スチリル基、ビニル基等｝及び／又はカチオン重合性基（エポキシ基、チオエポキシ基、ビニルオキシ基、オキセタニル基等）の官能基を有する樹脂で、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂などが挙げられる。
【００４２】
これらの反応性硬化性樹脂に必要に応じて、架橋剤（エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリオール化合物、ポリアミン化合物、メラミン化合物等）、重合開始剤（アゾビス化合物、有機過酸化化合物、有機ハロゲン化合物、オニウム塩化合物、ケトン化合物等のＵＶ光開始剤等）等の硬化剤、重合促進剤（有機金属化合物、酸化合物、塩基性化合物等）等の従来公知の化合物を加えて使用する。具体的には、例えば、山下普三、金子東助「架橋剤ハンドブック」（大成社、１９８１年刊行）記載の化合物が挙げられる。
【００４３】
｛バインダー前駆体と重合開始剤との組み合わせ（Ａ−３）｝
以下、硬化したバインダーの好ましい形成方法である前記（３）の組み合わせを用いて、光照射により硬化性化合物を架橋又は重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法について、主に説明する。
【００４４】
前記バインダーの前駆体である光硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、ラジカル重合性官能基、及びカチオン重合性官能基のいずれでもよい。
【００４５】
前記ラジカル重合性官能基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基などが挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリロイル基が特に好ましく、分子内に２個以上のラジカル重合性基を含有する多官能モノマーを含有することが特に好ましい。
【００４６】
前記ラジカル重合性多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも２個有する化合物から選ばれることが好ましい。好ましくは、分子中に２〜６個の末端エチレン性不飽和結合を有する化合物である。このような化合物群はポリマー材料分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー（即ち２量体、３量体及びオリゴマー）又はそれらの混合物、及びそれらの共重合体などの化学的形態をもつことができる。
【００４７】
前記ラジカル重合性モノマーとしては、例えば不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等）や、そのエステル類、アミド類などが挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が特に好ましい。
【００４８】
また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類やアミド類と、単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との反応物も好適である。更に別の例として、前記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【００４９】
脂肪族多価アルコール化合物としては、例えばアルカンジオール、アルカントリオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサントリオール、イノシットール、シクロヘキサンジメタノール、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセリン等が挙げられる。これら脂肪族多価アルコール化合物と、不飽和カルボン酸との重合性エステル化合物（モノエステル又はポリエステル）としては、例えば、特開２００１−１３９６６３号公報の段落番号〔００２６〕〜〔００２７〕に記載の化合物が挙げられる。
【００５０】
その他の重合性エステルとしては、例えば、ビニルメタクリレート、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、特公昭４６−２７９２６号公報、特公昭５１−４７３３４号公報、特開昭５７−１９６２３１号公報等に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開平２−２２６１４９号公報等に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報に記載のアミノ基を有するもの等も好適に用いられる。
【００５１】
更に脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とから形成される重合性アミドの具体例としては、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、特公昭５４−２１７２６号公報記載のシクロヘキシレン構造を有するもの等を挙げることができる。
【００５２】
更にまた、１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物（特公昭４８−４１７０８号公報等）、ウレタンアクリレート類（特公平２−１６７６５号公報等）、エチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物（特公昭６２−３９４１８号公報等）、ポリエステルアクリレート類（特公昭５２−３０４９０号公報等）、更に、日本接着協会誌２０巻７号  ３００〜３０８頁（１９８４年）に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマーも使用することができる。これらラジカル重合性の多官能モノマーは、２種類以上を併用してもよい。
【００５３】
次に、前記微粒子層のバインダーの形成に用いることができるカチオン重合性基含有の化合物（以下、「カチオン重合性化合物」又は「カチオン重合性有機化合物」とも称する）について説明する。
【００５４】
前記カチオン重合性化合物は、活性エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の存在下に活性エネルギー線を照射したときに重合反応及び／又は架橋反応を生ずる化合物のいずれもが使用でき、代表例としては、エポキシ化合物、環状チオエーテル化合物、環状エーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビニル炭化水素化合物、ビニルエーテル化合物などを挙げることができる。前記カチオン重合性有機化合物のうちの１種を用いても２種以上を用いてもよい。
【００５５】
前記カチオン重合性基含有化合物としては、１分子中のカチオン重合性基の数は２〜１０個が好ましく、２〜５個がより好ましい。前記化合物の重量平均分子量は３，０００以下が好ましく、２００〜２，０００がより好ましく、４００〜１，５００が更に好ましい。前記重量平均分子量が、前記下限値以上であれば、皮膜形成過程での揮発が問題となるなどの不都合が生じることがなく、前記上限値以下であれば、微粒子層用組成物との相溶性が悪くなるなどの問題を生じないので好ましい。
【００５６】
前記エポキシ化合物としては、例えば脂肪族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物が挙げられる。
【００５７】
前記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートのホモポリマー、コポリマーなどを挙げることができる。更に、前記のエポキシ化合物以外にも、例えば、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエンなどを挙げることができる。また、脂環式エポキシ化合物としては、少なくとも１個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル、又は不飽和脂環族環（例えば、シクロヘキセン、シクロペンテン、ジシクロオクテン、トリシクロデセン等）含有化合物を過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化して得られるシクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物などを挙げることができる。
【００５８】
前記芳香族エポキシ化合物としては、例えば少なくとも１個の芳香核を有する１価もしくは多価のフェノール、又はそのアルキレンオキサイド付加体のモノもしくはポリグリシジルエーテルを挙げることができる。これらのエポキシ化合物として、例えば、特開平１１−２４２１０１号公報中の段落番号〔００８４〕〜〔００８６〕に記載の化合物、特開平１０−１５８３８５号公報中の段落番号〔００４４〕〜〔００４６〕に記載の化合物等が挙げられる。
【００５９】
これらのエポキシ化合物のうち、速硬化性を考慮すると、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、脂環式エポキシドが更に好ましい。前記エポキシ化合物の１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【００６０】
環状チオエーテル化合物としては、前記エポキシ化合物のエポキシ環の代わりに、チオエポキシ環を有する化合物が挙げられる。
【００６１】
環状エーテル化合物としてのオキセタニル基を含有する化合物としては、具体的には、例えば特開２０００−２３９３０９号公報の段落番号〔００２４〕〜〔００２５〕に記載の化合物等が挙げられる。これらの化合物は、エポキシ基含有化合物と併用することが好ましい。
【００６２】
スピロオルソエステル化合物としては、例えば特表２０００−５０６９０８号公報等に記載の化合物を挙げることができる。
【００６３】
ビニル炭化水素化合物としては、例えばスチレン化合物、ビニル基置換脂環炭化水素化合物（ビニルシクロヘキサン、ビニルビシクロヘプテン等）、前記ラジカル重合性モノマーで記載の化合物、プロペニル化合物｛"Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ｐａｒｔ  Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ"，３２巻２８９５頁（１９９４年）記載等｝、アルコキシアレン化合物｛"Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ｐａｒｔ  Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ"，３３巻２４９３頁（１９９５年）記載等｝、ビニル化合物｛"Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ｐａｒｔ  Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ"，３４巻１０１５頁（１９９６年）、特開２００２−２９１６２号公報等記載｝、イソプロペニル化合物｛"Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ｐａｒｔ  Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ"，３４巻２０５１頁（１９９６年）記載等｝などが挙げられる。これらは２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【００６４】
また、前記多官能性化合物は、前記のラジカル重合性基及びカチオン重合性基から選ばれる少なくとも各１種を少なくとも分子内に含有する化合物を用いることが好ましい。例えば、特開平８−２７７３２０号公報中の段落番号〔００３１〕〜〔００５２〕に記載の化合物、特開２０００−１９１７３７号公報中の段落番号〔００１５〕に記載の化合物等が挙げられる。本発明に供される化合物は、これらに限定されるものではない。
【００６５】
以上述べたラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを、ラジカル重合性化合物：カチオン重合性化合物の質量比率で、９０：１０〜２０：８０の割合で含有していることが好ましく、８０：２０〜３０：７０の割合で含有していることがより好ましい。
【００６６】
次に、前記（３）の組み合わせにおいて、バインダー前駆体と組み合わせて用いられる重合開始剤について詳述する。
【００６７】
前記重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤などが挙げられる。
前記重合開始剤は、光及び／又は熱照射により、ラジカルもしくは酸を発生する化合物であることが好ましい。前記光重合開始剤は、極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、取り扱いを白灯下で実施することができる。また、近赤外線領域に極大吸収波長を持つ化合物を用いることもできる。
【００６８】
前記ラジカルを発生する化合物は、光及び／又は熱照射によりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることができる。また、ラジカルを発生する化合物は、単独で又は２種以上を併用して用いることができる。
【００６９】
前記ラジカルを発生する化合物としては、例えば、従来公知の有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤等の熱ラジカル重合開始剤、有機過酸化化合物（特開２００１−１３９６６３号公報等）、アミン化合物（特公昭４４−２０１８９号公報記載）、メタロセン化合物（特開平５−８３５８８号公報、特開平１−３０４４５３号公報等記載）、ヘキサアリールビイミダゾール化合物（米国特許第３，４７９，１８５号明細書等記載）、ジスルホン化合物（特開平５−２３９０１５号公報、特開昭６１−１６６５４４号公報等）、有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機ホウ酸化合物等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。
【００７０】
前記有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等の"Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ  Ｊａｐａｎ"，４２巻２９２４頁（１９６９年）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特開平５−２７８３０号公報、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ，"Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ"，１巻（３号）、（１９７０年）」等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物：ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。より好適には、少なくとも一つのモノ、ジ又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体が挙げられる。
【００７１】
前記カルボニル化合物としては、例えば、「最新  ＵＶ硬化技術」６０ページ〜６２ページ［株式会社技術情報協会刊、１９９１年］、特開平８−１３４４０４号公報の段落番号〔００１５〕〜〔００１６〕、特開平１１−２１７５１８号公報の段落番号〔００２９〕〜〔００３１〕に記載の化合物などが挙げられる。また、アセトフェノン系、ヒドロキシアセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサン系、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体、ベンジルジメチルケタール、アシルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。
【００７２】
前記有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特許第２７６４７６９号、特開２００２−１１６５３９号等の各公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ，"Ｒａｄ．Ｔｅｃｈ'９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９〜２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ"等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物が挙げられる。例えば、前記特開２００２−１１６５３９号公報の段落番号〔００２２〕〜〔００２７〕に記載の化合物が挙げられる。またその他の有機ホウ素化合物としては、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。
【００７３】
これらのラジカル発生化合物は、１種のみを添加しても、２種以上を併用してもよい。添加量としては、ラジカル重合性モノマー全量に対し、０．１質量％〜３０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜２５質量％であることがより好ましく、１質量％〜２０質量％であることが更に好ましい。前記添加量の範囲において、微粒子層用組成物の経時安定性が問題なく高い重合性となる。
【００７４】
次に、光重合開始剤として用いることができる光酸発生剤について詳述する。
前記光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、又はマイクロレジスト等に使用されている公知の光酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。また、前記光酸発生剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物、オニウム化合物などが挙げられる。これらの中でも、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物が特に好ましい。前記有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物の具体例は、前記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。
【００７５】
前記オニウム化合物としては、例えばジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられ、例えば特開２００２−２９１６２号公報の段落番号〔００５８〕〜〔００５９〕に記載の化合物、などが挙げられる。
【００７６】
前記酸発生剤としては、オニウム塩が特に好適に用いられ、中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。
【００７７】
前記オニウム塩の具体例としては、例えば、特開平９−２６８２０５号公報の段落番号〔００３５〕に記載のアミル化されたスルホニウム塩、特開２０００−７１３６６号公報の段落番号〔００１０〕〜〔００１１〕に記載のジアリールヨードニウム塩又はトリアリールスルホニウム塩、特開２００１−２８８２０５号公報の段落番号〔００１７〕に記載のチオ安息香酸Ｓ−フェニルエステルのスルホニウム塩、特開２００１−１３３６９６号公報の段落番号〔００３０〕〜〔００３３〕に記載のオニウム塩等が挙げられる。
【００７８】
前記光酸発生剤の他の例としては、特開２００２−２９１６２号公報の段落番号〔００５９〕〜〔００６２〕に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、ｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、光分解してスルホン酸を発生する化合物（イミノスルフォネート等）等の化合物が挙げられる。
【００７９】
これらの酸発生剤は、１種のみをそれぞれ単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。前記酸発生剤の添加量は、全カチオン重合性モノマーの全質量に対し０．１質量％〜２０質量％が好ましく、０．５質量％〜１５質量％がより好ましく、１質量％〜１０質量％が更に好ましい。前記添加量が、前記範囲において、微粒子層用組成物の安定性、重合反応性等から好ましい。
【００８０】
前記微粒子層用組成物は、ラジカル重合性化合物又はカチオン重合性化合物の合計質量に対して、ラジカル重合開始剤を０．５質量％〜１０質量％又はカチオン重合開始剤を１質量％〜１０質量％の割合で含有していることが好ましく、ラジカル重合開始剤を１質量％〜５質量％、又はカチオン重合開始剤を２質量％〜６質量％の割合で含有することがより好ましい。
【００８１】
前記微粒子層用組成物には、紫外線照射により重合反応を行う場合、従来公知の紫外線分光増感剤、化学増感剤を併用してもよい。これらの増感剤としては、例えばミヒラーズケトン、アミノ酸（グリシン等）、有機アミン（ブチルアミン、ジブチルアミン等）などが挙げられる。
【００８２】
また、近赤外線照射により重合反応を行う場合には、近赤外線分光増感剤を併用することが好ましい。併用する近赤外線分光増感剤は、７００ｎｍ以上の波長域の少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質であればよく、分子吸光係数が１０，０００以上の値を有する化合物が好ましい。更には、７５０ｎｍ〜１，４００ｎｍの領域に吸収を有し、かつ分子吸光係数が２０，０００以上の値が好ましい。また、４２０ｎｍ〜７００ｎｍの可視光波長域に吸収の谷があり、光学的に透明であることがより好ましい。
【００８３】
前記近赤外線分光増感剤は、近赤外線吸収顔料及び近赤外線吸収染料として知られる種々の顔料及び染料を用いることができる。その中でも、従来公知の近赤外線吸収剤を用いることが好ましい。市販の染料並びに、文献｛例えば、「化学工業」１９８６年５月号４５〜５１頁の「近赤外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開発と市場動向」第２章２．３項（１９９０年）シーエムシー、「特殊機能色素」［池森・柱谷編集、１９８６年、株式会社シーエムシー発行］、Ｊ．ＦＡＢＩＡＮ，"Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．"，９２巻１１９７〜１２２６頁（１９９２年）｝、日本感光色素研究所が１９９５年に発行したカタログ、並びにＥｘｃｉｔｏｎ  Ｉｎｃ．が１９８９年に発行したレーザー色素カタログ及び特許に記載されている公知の染料が利用できる。
【００８４】
（Ｂ）加水分解性官能基を含有する有機金属化合物及びこの有機金属化合物の部分縮合物
前記マトッリクスとして、加水分解可能な官能基を含有する有機金属化合物を用いて、ゾル／ゲル反応により塗布膜形成後に硬化された膜を形成することも好ましい。
【００８５】
前記有機金属化合物としては、例えばＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ等からなる化合物が挙げられる。
前記加水分解可能な官能基な基としては、例えばアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、水酸基などが挙げられる。これらの中でも、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基が特に好ましい。好ましい有機金属化合物は、下記一般式（２）で表される有機ケイ素化合物及びその部分加水分解物（部分縮合物）である。なお、一般式（２）で表される有機ケイ素化合物は、容易に加水分解し、引き続いて脱水縮合反応が生じることはよく知られた事実である。
【００８６】
一般式（２）：（Ｒ２１）β−Ｓｉ（Ｙ２１）４−β
ただし、前記一般式（２）中、Ｒ２１は、置換もしくは無置換の炭素数１〜３０脂肪族基又は炭素数６〜１４のアリール基を表す。Ｙ２１は、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子等）、ＯＨ基、ＯＲ２２基、ＯＣＯＲ２２基を表す。ここで、Ｒ２２は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。βは０〜３の整数を表し、好ましくは０、１又は２、特に好ましくは１である。ただし、βが０の場合は、Ｙ２１はＯＲ２２基又はＯＣＯＲ２２基を表す。
【００８７】
前記一般式（２）において、Ｒ２１の脂肪族基としては、好ましくは炭素数１〜１８（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル、ヘキセニル基、デセニル基、ドデセニル基等）が挙げられる。より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは１〜８のものである。Ｒ２１のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラニル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【００８８】
置換基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アルコキシシリル基（トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等）、アシルオキシ基｛アセトキシ、（メタ）アクリロイル等｝、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）などが好ましい。
【００８９】
これらの置換基のうちで、更に好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基であり、特に好ましくはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基｛（メタ）アクリロイル｝、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノ）である。またこれら置換基は更に置換されていてもよい。
【００９０】
前記のようにＲ２２は置換もしくは無置換のアルキル基を表し、アルキル基は特に限定はないが、例えばＲ２１の脂肪族基と同じものが挙げられ、アルキル基中の置換基の説明はＲ２１と同じである。
【００９１】
前記一般式（２）の化合物の含有量は、前記微粒子層用組成物の全固形分の１０質量％〜８０質量％が好ましく、２０質量％〜７０質量％であることがより好ましく、３０質量％〜５０質量％であることが更に好ましい。
【００９２】
前記一般式（２）の化合物としては、例えば特開２００１−１６６１０４号公報の段落番号〔００５４〕〜〔００５６〕に記載の化合物が挙げられる。
【００９３】
前記微粒子層用組成物において、前記有機バインダーは、シラノール基を有するものであることが好ましい。バインダーがシラノール基を有することで、微粒子層の物理強度、耐薬品性、耐候性が更に改良され、好ましい。前記シラノール基は、例えば、微粒子層用組成物を構成するバインダー形成成分として、バインダー前駆体（硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）や重合開始剤、微粒子の分散液に含有される分散剤と共に、架橋又は重合性官能基を有する一般式（２）で表される有機ケイ素化合物を該微粒子層用組成物に配合し、この微粒子層用組成物を透明支持体上に塗布して、前記の分散剤、多官能モノマーや多官能オリゴマー、一般式（２）で表される有機ケイ素化合物を架橋反応又は重合反応させることによりバインダーに導入することができる。
【００９４】
前記の有機金属化合物を硬化させるための加水分解・縮合反応は、触媒存在下で行われることが好ましい。前記触媒としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブトキシチタネート等の金属アルコキシド類；β−ジケトン類又はβ−ケトエステル類の金属キレート化合物類などが挙げられる。具体的には、例えば特開２０００−２７５４０３号公報中の段落番号〔００７１〕〜〔００８３〕に記載の化合物等が挙げられる。
【００９５】
これらの触媒化合物の組成物中での割合は、有機金属化合物に対し、０．０１質量％〜５０質量％が好ましく、０．１質量％〜５０質量％がより好ましく、０．５質量％〜１０質量％が更に好ましい。なお、反応条件は有機金属化合物の反応性により適宜調節されることが好ましい。
【００９６】
前記微粒子層用組成物において、マトリックスは特定の極性基を有することも好ましい。前記特定の極性基としては、例えばアニオン性基、アミノ基、及び四級アンモニウム基が挙げられる。前記アニオン性基、アミノ基及び四級アンモニウム基の具体例としては、前記分散剤について述べたものと同様のものが挙げられる。
【００９７】
−溶媒−
前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばアルコール類、ケトン類、エステル類、アミド類、エーテル類、エーテルエステル類、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。具体的には、アルコール（例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノアセテート等）、ケトン（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等）、エステル（例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、乳酸エチル等）、脂肪族炭化水素（例えばヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例えばメチルクロロホルム等）、芳香族炭化水素（例えばベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド（例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン等）、エーテル（例えばジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等）、エーテルアルコール（例えば１−メトキシ−２−プロパノール、エチルセルソルブ、メチルカルビノール等）が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノールが特に好ましい。また、ケトン溶媒（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）を主にした塗布溶媒系も好ましく用いられる。
前記ケトン系溶媒の含有量は、前記微粒子層用組成物に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が更に好ましい。
【００９８】
特定の極性基を有するマトリックスは、例えば、微粒子層用組成物に、硬化膜形成成分として、特定の極性基を有するバインダー前駆体（特定の極性基を有する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）と重合開始剤の組み合わせ及び、特定の極性基を有し、かつ架橋又は重合性官能基を有する一般式（２）で表される有機ケイ素化合物の少なくともいずれかを配合し、更に所望により、特定の極性基及び、架橋又は重合性の官能基を有する単官能性モノマーを配合し、該塗布組成物を透明支持体上に塗布して前記の分散剤、単官能性モノマー、多官能モノマーや多官能オリゴマー及び／又は一般式（２）で表される有機ケイ素化合物を架橋又は重合反応させることにより得られる。
【００９９】
前記特定の極性基を有する単官能性モノマーは、微粒子層用組成物の中で微粒子の分散助剤として機能することができ、好ましい。更に、塗布後、分散剤、多官能モノマーや多官能オリオリゴマーと架橋反応、又は、重合反応させてバインダーとすることで微粒子層における微粒子の良好な均一な分散性を維持し、物理強度、耐薬品性、耐候性に優れた微粒子層を作製することができる。
【０１００】
前記微粒子層用組成物を、前記透明基板上に、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、エクストルージョンコート法等の公知の薄膜形成方法で塗布し、乾燥、光及び／又は熱照射することにより作製することができる。好ましくは、光照射による硬化が、迅速硬化から有利である。更には、光硬化処理の後半で加熱処理することも好ましい。
【０１０１】
光照射の光源は、紫外線光域又は近赤外線光のものであればいずれでもよく、紫外線光の光源として、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、メタルハライド灯、キセノン灯、太陽光等が挙げられる。波長３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。また、近赤外光光源としてはハロゲンランプ、キセノンランプ、高圧ナトリウムランプが挙げられ、波長７５０ｎｍ〜１，４００ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。
【０１０２】
光照射による光ラジカル重合の場合は、空気又は不活性気体中で行うことができるが、ラジカル重合性モノマーの重合の誘導期を短くするか、又は重合率を十分に高める等のために、できるだけ酸素濃度を少なくした雰囲気とすることが好ましい。照射する紫外線の照射強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ２〜１００ｍＷ／ｃｍ２程度が好ましく、塗布膜表面上での光照射量は、１００ｍＪ／ｃｍ２〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。また、光照射工程での塗布膜の温度分布は、均一なほど好ましく、±３℃以内が好ましく、更には±１．５℃以内に制御されることが好ましい。この範囲において、塗布膜の面内及び層内深さ方向での重合反応が均一に進行するので好ましい。
【０１０３】
前記微粒子層の平均厚みは、５μｍ〜２００μｍであることが好ましく、５μｍ〜５０μｍであることがより好ましい。前記平均厚みが、５μｍ未満であると、微粒子層による十分な光角度変換がなく、十分な光取出し効率が得られないことがあり、２００μｍを超えると、光が散乱されすぎて、後方散乱の光が増え、有機電界発光層内部に戻る光が多くなり、光取出し効率が低下する、また、前記微粒子層が厚いことは高コストに繋がり、前記微粒子層の厚みのバラツキが大きくなり、発光面内の散乱効果にバラツキが生じるおそれがある。
前記平均厚みは、例えば微粒子層の一部を切り取り、走査型電子顕微鏡（Ｓ−３４００Ｎ、日立ハイテク株式会社製）で測定し、微粒子層の平均厚みを求めることができる。
【０１０４】
前記微粒子層の屈折率は、１．７〜２．２であることが好ましい。
前記微粒子層の屈折率は、隣接する基材の屈折率と同等乃至高いことが好ましく、前記バリア層（又は平坦化層）の屈折率と同等乃至低いことが好ましい。
【０１０５】
前記微粒子層の光出射面が平坦であるか、又は前記微粒子層の光出射面に平坦化層を有すること好ましい。これにより、微粒子の密度を増加させても後方散乱の増加を抑制できる。また、平坦化することで異物付着が防止される。更に、平坦化により、バリア層のバリア性能の低下を抑制できる利点がある。平坦化していない面にバリア層を積層した場合、バリア層に段差による隙間やピンホールができ、バリア性能が著しく低下することがある。
【０１０６】
前記微粒子層の光出射面を平坦にする方法としては、例えば前記微粒子層の形成に使用した材料から前記散乱用微粒子を取り除いたものを硬化後した前記微粒子層上に積層する方法などが挙げられる。
【０１０７】
−平坦化層−
前記平坦化層としては、前記微粒子層において前記散乱用微粒子を含まない組成、又は前記バリア層のうち有機層と同じ組成であることが好ましく、前記微粒子層又は前記バリア層の有機層と同様にして形成することができる。
前記平坦化層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２μｍ〜５０μｍであることが好ましい。前記平坦化層の厚みが、２μｍ未満であると、突出した元の微粒子層の表面を平坦化できず、５０μｍを超えると、前記平坦化層の光の吸収により光取り出し能が低下してしまうことがある。
前記平坦化層の屈折率は、１．７〜２．２であることが好ましい。
前記平坦化層の屈折率は、前記微粒子層の屈折率と同等乃至高いこと、前記バリア層の屈折率と同等乃至低いことが好ましい。
【０１０８】
−基材−
前記基材としては、その形状、構造、大きさ、材料等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば平板状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記光取り出しシートの大きさ等に応じて適宜選択することができる。
【０１０９】
前記基材の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド樹脂（ＰＩ）、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、ポリエステル樹脂が好ましく、ロールでの塗布適性の観点からポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）が特に好ましい。
前記基材の表面には、その上に設けるバリア層及び微粒子層との密着性を向上させるため、表面活性化処理を行うことが好ましい。前記表面活性化処理としては、例えばグロー放電処理、コロナ放電処理などが挙げられる。
【０１１０】
前記基材は、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０μｍ以上が好ましく、５０μｍ以上がより好ましい。
前記基材の屈折率は、１．５〜１．７であることが好ましい。
前記基材の屈折率は、前記接着層の屈折率と同等乃至高いこと、前記微粒子層の屈折率と同等乃至低いことが好ましい。
【０１１１】
−接着層−
前記接着層の材料としては、例えばポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレン、ポリイソブテン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリアクロレイン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ＵＶ硬化エポキシ樹脂、熱硬化エポキシ樹脂、ＵＶ硬化アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、エチルヘキシルアクリレート、ブチルアクリレート、スチレンなどが挙げられる。
前記接着層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ナイフコーティング、ロールコーティング、カーテンコーティング、スピンコーティング、バーコーティング、ディップコーティング、スプレーコーティング等のいずれかの塗布方法によって塗布する方法が挙げられる。なお、熱硬化性又は熱可塑性の接着シートを用いることもできる。
前記接着層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０μｍ〜２００μｍが好ましい。
前記接着層の屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。
前記接着層の屈折率は、前記基板の屈折率と同等乃至高いことが好ましく、前記基材の屈折率と同等乃至低いことが好ましい。
【０１１２】
本発明の光取り出しシートにおけるバリア層は、微粒子層及び平坦化層より発生する水蒸気やガスの残留成分を遮蔽することを目的としているため、有機電界発光装置の外部からの水分、ガス侵入をカバーするためのバリア性能は必要ない。
前記光取り出しシートの水蒸気透過率は、１×１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましく、１×１０−４ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが更に好ましい。
前記水分透過度は、例えばG.NISATO、P.C.P.BOUTEN、P.J.SLIKKERVEERらSID  Conference  Record  of  the  International  Display  ResearchConference  1435-1438頁に記載の方法（カルシウムを用いた測定法）を用いることにより測定することができる。
前記光取り出しシートの酸素透過率は、１０ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましく、１ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがより好ましい。
前記酸素透過率は、例えば酸素透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＭＯＣＯＮ酸素透過率測定装置、ＯＸ−ＴＲＡＮ  1／５０Ａ）により測定することができる。
【０１１３】
図１は、本発明の光取り出しシートの一例を示す概略図である。この図１の光取り出しシート２０は、接着層２と、基材３と、微粒子層４と、平坦化層５と、バリア層６とをこの順に有している。
微粒子層４、平坦化層５、及びバリア層６は、図２に示すように、微粒子層４及び平坦化層５上に、無機バリア層２１を形成した態様、図３に示すように、微粒子層４及び平坦化層５上に、無機バリア層２１と、有機バリア層２２と、無機バリア層２１とを形成した態様、図４に示すように、微粒子層４上に、有機バリア層２２と、無機バリア層２１と、有機バリア層２２と、無機バリア層２１とを形成した態様、などが挙げられる。
【０１１４】
本発明の光取り出しシートは、接着層、基材、微粒子層、及びバリア層を少なくともこの順に有し、各層間の屈折率段差を軽減させて光取り出し効率を高めることができるので、各種有機電界発光装置などに用いることができるが、以下の本発明の有機電界発光装置に用いることが特に好ましい。
【０１１５】
（有機電界発光装置）
本発明の有機電界発光装置は、基板と、該基板上に、陽極と、陰極と、該陽極と前記陰極の間に有機電界発光層とを備え、
前記陽極及び陰極の少なくともいずれかが透明電極であり、
前記基板と前記透明電極の間に、本発明の前記記載の光取り出しシートを有している。  前記基板の有機電界発光層側の面と光取り出しシートにおける接着層とが接することが好ましい。
本発明においては、基板、接着層、基材、微粒子層、バリア層、及び有機電界発光層をこの順に有し、前記基板から前記有機電界発光層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が０．２以下である。これにより、各層間の屈折率段差を軽減させて光取り出し効率を高めることができる。
【０１１６】
−基板−
前記基板の材料、形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、発光素子の用途、目的等に応じて適宜選択することができる。一般的には、基板の形状としては、板状であることが好ましい。基板の構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、また、単一部材で形成されていてもよいし、２以上の部材で形成されていてもよい。基板は透明でも不透明でもよく、透明な場合は無色透明でも有色透明でもよい。
【０１１７】
前記基板の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、ガラス（無アルカリガラス、ソーダライムガラス等）等の無機材料；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ（クロロトリフルオロエチレン）等の有機材料、などが挙げられる。
【０１１８】
前記基板の屈折率は、用いる材質に応じて異なり一概には規定できないが、例えばガラスの場合には、１．５〜１．６であることが好ましい。
【０１１９】
−有機電界発光層−
前記有機電界発光層としては、少なくとも発光層を有する。前記発光層以外の機能層としては、正孔輸送層、電子輸送層、正孔ブロック層、電子ブロック層、正孔注入層、電子注入層等の各層が挙げられる。
【０１２０】
前記有機電界発光層は、陽極と発光層との間に正孔輸送層を有することが好ましく、陰極と発光層との間に電子輸送層を有することが好ましい。更に、正孔輸送層と陽極との間に正孔注入層を設けてもよく、電子輸送層と陰極との間に電子注入層を設けてもよい。
また、前記発光層と正孔輸送層との間に正孔輸送性中間層（電子ブロック層）を設けてもよく、発光層と電子輸送層との間に電子輸送性中間層（正孔ブロック層）を設けてもよい。各機能層は複数の二次層に分かれていてもよい。
【０１２１】
前記発光層を含むこれらの機能層は、蒸着法やスパッタ法等の乾式製膜法、湿式塗布方式、転写法、印刷法、インクジェット方式等のいずれによっても好適に形成することができる。
【０１２２】
−−発光層−−
前記発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、又は正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、又は電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。
前記発光層は、発光材料を含む。前記発光層は発光材料のみで構成されていてもよいし、ホスト材料と発光材料の混合層でもよい（後者の場合、発光材料を「発光性ドーパント」もしくは「ドーパント」と称する場合がある）。前記発光材料は蛍光発光材料でも燐光発光材料であってもよく、２種以上が混合されていてもよい。ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は１種であっても２種以上であってもよい。更に、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。
【０１２３】
前記発光層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２ｎｍ〜５００ｎｍであるのが好ましく、外部量子効率の観点で、３ｎｍ〜２００ｎｍであるのがより好ましく、５ｎｍ〜１００ｎｍであるのが更に好ましい。また、前記発光層は１層であっても２層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。
【０１２４】
−−−発光材料−−−
前記発光材料は、燐光発光材料、蛍光発光材料等のいずれも好適に用いることができる。
前記発光材料は、ホスト化合物との間で、イオン化ポテンシャルの差（ΔＩｐ）と電子親和力の差（ΔＥａ）が、１．２ｅＶ＞△Ｉｐ＞０．２ｅＶ、及び／又は１．２ｅＶ＞△Ｅａ＞０．２ｅＶの関係を満たすドーパントであることが、駆動耐久性の観点で好ましい。
前記発光層中の発光材料は、前記発光層中に一般的に発光層を形成する全化合物質量に対して、０．１質量％〜５０質量％含有されるが、耐久性、外部量子効率の観点から１質量％〜５０質量％含有されることが好ましく、２質量％〜５０質量％含有されることがより好ましい。
【０１２５】
＜燐光発光材料＞
前記燐光発光材料としては、一般に、遷移金属原子又はランタノイド原子を含む錯体を挙げることができる。
前記遷移金属原子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、金、銀、銅、及び白金が挙げられ、より好ましくは、レニウム、イリジウム、及び白金であり、更に好ましくはイリジウム、白金である。
【０１２６】
前記錯体の配位子としては、例えば、Ｇ．Ｗｉｌｋｉｎｓｏｎ等著，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  Ｐｅｒｇａｍｏｎ  Ｐｒｅｓｓ社１９８７年発行、Ｈ．Ｙｅｒｓｉｎ著，「Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｏｔｏｐｈｙｓｉｃｓ  ｏｆ  Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ」  Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ社１９８７年発行、山本明夫著「有機金属化学−基礎と応用−」裳華房社１９８２年発行等に記載の配位子などが挙げられる。
【０１２７】
前記錯体は、化合物中に遷移金属原子を一つ有してもよいし、また、２つ以上有するいわゆる複核錯体であってもよい。異種の金属原子を同時に含有していてもよい。
【０１２８】
これらの中でも、燐光発光材料としては、例えば、ＵＳ６３０３２３８Ｂ１、ＵＳ６０９７１４７、ＷＯ００／５７６７６、ＷＯ００／７０６５５、ＷＯ０１／０８２３０、ＷＯ０１／３９２３４Ａ２、ＷＯ０１／４１５１２Ａ１、ＷＯ０２／０２７１４Ａ２、ＷＯ０２／１５６４５Ａ１、ＷＯ０２／４４１８９Ａ１、ＷＯ０５／１９３７３Ａ２、ＷＯ２００４／１０８８５７Ａ１、ＷＯ２００５／０４２４４４Ａ２、ＷＯ２００５／０４２５５０Ａ１、特開２００１−２４７８５９、特開２００２−３０２６７１、特開２００２−１１７９７８、特開２００３−１３３０７４、特開２００２−２３５０７６、特開２００３−１２３９８２、特開２００２−１７０６８４、ＥＰ１２１１２５７、特開２００２−２２６４９５、特開２００２−２３４８９４、特開２００１−２４７８５９、特開２００１−２９８４７０、特開２００２−１７３６７４、特開２００２−２０３６７８、特開２００２−２０３６７９、特開２００４−３５７７９１、特開２００６−９３５４２、特開２００６−２６１６２３、特開２００６−２５６９９９、特開２００７−１９４６２、特開２００７−８４６３５、特開２００７−９６２５９等の各公報に記載の燐光発光化合物などが挙げられる。これらの中でも、Ｉｒ錯体、Ｐｔ錯体、Ｃｕ錯体、Ｒｅ錯体、Ｗ錯体、Ｒｈ錯体、Ｒｕ錯体、Ｐｄ錯体、Ｏｓ錯体、Ｅｕ錯体、Ｔｂ錯体、Ｇｄ錯体、Ｄｙ錯体、Ｃｅ錯体が好ましく、Ｉｒ錯体、Ｐｔ錯体、又はＲｅ錯体がより好ましく、金属−炭素結合、金属−窒素結合、金属−酸素結合、金属−硫黄結合の少なくとも一つの配位様式を含むＩｒ錯体、Ｐｔ錯体、又はＲｅ錯体が更に好ましく、発光効率、駆動耐久性、色度等の観点で、３座以上の多座配位子を含むＩｒ錯体、Ｐｔ錯体、又はＲｅ錯体が特に好ましい。
【０１２９】
前記燐光発光材料の具体例として、以下の化合物を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１３０】
【化１】
0005754912.tif 000002
【０１３１】
【化２】
0005754912.tif 000003
【０１３２】
【化３】
0005754912.tif 000004
【０１３３】
＜蛍光発光材料＞
前記蛍光発光材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばベンゾオキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、スチリルベンゼン、ポリフェニル、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、ナフタルイミド、クマリン、ピラン、ペリノン、オキサジアゾール、アルダジン、ピリジン、シクロペンタジエン、ビススチリルアントラセン、キナクリドン、ピロロピリジン、チアジアゾロピリジン、シクロペンタジエン、スチリルアミン、芳香族ジメチリディン化合物、縮合多環芳香族化合物（アントラセン、フェナントロリン、ピレン、ペリレン、ルブレン、又はペンタセンなど）、８−キノリノールの金属錯体、ピロメテン錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン、又はこれらの誘導体などを挙げることができる。
【０１３４】
−−−ホスト材料−−−
前記ホスト材料としては、正孔輸送性に優れる正孔輸送性ホスト材料（正孔輸送性ホストと記載する場合がある）及び電子輸送性に優れる電子輸送性ホスト化合物（電子輸送性ホストと記載する場合がある）を用いることができる。
【０１３５】
＜正孔輸送性ホスト材料＞
前記正孔輸送性ホスト材料としては、例えば、以下の材料を挙げることができる。即ち、ピロール、インドール、カルバゾール、アザインドール、アザカルバゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、ピラゾール、イミダゾール、チオフェン、ポリアリールアルカン、ピラゾリン、ピラゾロン、フェニレンジアミン、アリールアミン、アミノ置換カルコン、スチリルアントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベン、シラザン、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、有機シラン、カーボン膜、又はそれらの誘導体などが挙げられる。
これらの中でも、インドール誘導体、カルバゾール誘導体、芳香族第三級アミン化合物、チオフェン誘導体、分子内にカルバゾール基を有するものが好ましく、ｔ−ブチル置換カルバゾール基を有する化合物がより好ましい。
【０１３６】
＜電子輸送性ホスト材料＞
前記電子輸送性ホスト材料としては、例えば、ピリジン、ピリミジン、トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、フルオレノン、アントラキノジメタン、アントロン、ジフェニルキノン、チオピランジオキシド、カルボジイミド、フルオレニリデンメタン、ジスチリルピラジン、フッ素置換芳香族化合物、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン、又はそれらの誘導体（他の環と縮合環を形成してもよい）、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等を挙げることができる。これらの中でも、耐久性の点から金属錯体化合物が好ましく、金属に配位する少なくとも１つの窒素原子又は酸素原子又は硫黄原子を有する配位子をもつ金属錯体がより好ましい。前記金属錯体電子輸送性ホストとしては、例えば特開２００２−２３５０７６号公報、特開２００４−２１４１７９号公報、特開２００４−２２１０６２号公報、特開２００４−２２１０６５号公報、特開２００４−２２１０６８号公報、特開２００４−３２７３１３号公報等に記載の化合物が挙げられる。
【０１３７】
前記正孔輸送性ホスト材料、電子輸送性ホスト材料の具体例として、以下の化合物を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１３８】
【化４】
0005754912.tif 000005
【０１３９】
【化５】
0005754912.tif 000006
【０１４０】
【化６】
0005754912.tif 000007
【０１４１】
−−正孔注入層、正孔輸送層−−
前記正孔注入層、又は前記正孔輸送層は、陽極又は陽極側の層から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。これらの層に用いられる正孔注入材料、正孔輸送材料は、低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。具体的には、ピロール誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、チオフェン誘導体、有機シラン誘導体、カーボン、等を含有する層であることが好ましい。
【０１４２】
前記正孔注入層、又は前記正孔輸送層には、電子受容性ドーパントを含有させることができる。前記正孔注入層、又は正孔輸送層に導入する電子受容性ドーパントとしては、電子受容性で有機化合物を酸化する性質を有すれば、無機化合物でも有機化合物でも使用できる。
具体的には、無機化合物は塩化第二鉄や塩化アルミニウム、塩化ガリウム、塩化インジウム、五塩化アンチモンなどのハロゲン化金属、五酸化バナジウム、及び三酸化モリブデンなどの金属酸化物などが挙げられる。有機化合物の場合は、置換基としてニトロ基、ハロゲン、シアノ基、トリフルオロメチル基などを有する化合物、キノン系化合物、酸無水物系化合物、フラーレンなどを好適に用いることができる。
これらの電子受容性ドーパントは、単独で用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。電子受容性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、正孔輸送層材料に対して０．０１質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．０５質量％〜２０質量％であることが更に好ましく、０．１質量％〜１０質量％であることが特に好ましい。
【０１４３】
前記正孔注入層、又は正孔輸送層は、上述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
【０１４４】
−−電子注入層、電子輸送層−−
前記電子注入層、又は前記電子輸送層は、陰極又は陰極側の層から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。これらの層に用いる電子注入材料、電子輸送材料は低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。
具体的には、ピリジン誘導体、キノリン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、フタラジン誘導体、フェナントロリン誘導体、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、シロールに代表される有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。
【０１４５】
前記電子注入層、又は電子輸送層には、電子供与性ドーパントを含有させることができる。前記電子注入層、又は電子輸送層に導入される電子供与性ドーパントとしては、電子供与性で有機化合物を還元する性質を有していればよく、Ｌｉなどのアルカリ金属、Ｍｇなどのアルカリ土類金属、希土類金属を含む遷移金属や還元性有機化合物などが好適に用いられる。金属としては、特に仕事関数が４．２ｅＶ以下の金属が好適に使用でき、具体的には、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｙ、Ｃｓ、Ｌａ、Ｓｍ、Ｇｄ、及びＹｂなどが挙げられる。また、還元性有機化合物としては、例えば、含窒素化合物、含硫黄化合物、含リン化合物などが挙げられる。
これらの電子供与性ドーパントは、単独で用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。電子供与性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、電子輸送層材料に対して０．１質量％〜９９質量％であることが好ましく、１．０質量％〜８０質量％であることが更に好ましく、２．０質量％〜７０質量％であることが特に好ましい。
【０１４６】
前記電子注入層、又は前記電子輸送層は、上述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
【０１４７】
−−正孔ブロック層、電子ブロック層−−
前記正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が陰極側に通り抜けることを防止する機能を有する層であり、通常、発光層と陰極側で隣接する有機化合物層として設けられる。
一方、前記電子ブロック層は、陰極側から発光層に輸送された電子が陽極側に通り抜けることを防止する機能を有する層であり、通常、発光層と陽極側で隣接する有機化合物層として設けられる。
前記正孔ブロック層を構成する化合物の例としては、ＢＡｌｑ等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、ＢＣＰ等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。電子ブロック層を構成する化合物の例としては、例えば前述の正孔輸送材料として挙げたものが利用できる。
前記正孔ブロック層及び電子ブロック層の厚みは、１ｎｍ〜５００ｎｍであるのが好ましく、５ｎｍ〜２００ｎｍであるのがより好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍであるのが更に好ましい。また、前記正孔ブロック層及び電子ブロック層は、上述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
【０１４８】
−−電極−−
前記有機電界発光素子は、一対の電極、即ち陽極と陰極とを含む。発光素子の性質上、陽極及び陰極のうち少なくとも一方の電極は透明であることが好ましい。
通常、陽極は有機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、陰極は有機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよい。その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。電極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、導電性化合物、又はこれらの混合物等が好適に挙げられる。
【０１４９】
前記電極としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、その陽極、陰極において、前記反射金属、前記半透明部材としての半透明金属を構成することが好ましい。
【０１５０】
前記陽極を構成する材料の具体例としては、例えば、アンチモンやフッ素等をドープした酸化錫（ＡＴＯ、ＦＴＯ）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）等の導電性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、更にこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、及びこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられる。この中で好ましいのは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からはＩＴＯが好ましい。
【０１５１】
前記陰極を構成する材料としては、例えば、アルカリ金属（例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ等）、アルカリ土類金属（例えば、Ｍｇ、Ｃａ等）、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、及びイッテルビウム等の希土類金属などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、２種以上を好適に併用することができる。これらの中でも、電子注入性の点で、アルカリ金属やアルカリ土類金属が好ましく、保存安定性に優れる点で、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと０．０１質量％〜１０質量％のアルカリ金属又はアルカリ土類金属との合金若しくはこれらの混合物（例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など）をいう。
【０１５２】
前記電極の形成方法については、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ法等の化学的方式などの中から、前記電極を構成する材料との適性を考慮し、適宜選択した方法に従って前記基板上に形成することができる。例えば、陽極の材料としてＩＴＯを選択する場合には、直流又は高周波スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等に従って形成することができる。陰極の材料として金属等を選択する場合には、その１種又は２種以上を同時又は順次にスパッタ法等に従って形成することができる。
【０１５３】
なお、前記電極を形成する際にパターニングを行う場合は、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。
【０１５４】
ここで、図５は、本発明の有機電界発光装置の一例を示す概略図である。この図５の有機電界発光装置は、接着層２と、基材３と、微粒子層４と、平坦化層５と、バリア層６とからなる光取り出しシート２０を、基板１と、透明電極（ＩＴＯ）７との間に有するものである。
したがって、基板１上に、光取り出しシート２０と、透明電極７と、有機電界発光層８と、反射電極９とを有し、これらが封止缶１０で封止されたものである。
【０１５５】
前記有機電界発光装置は、フルカラーで表示し得る装置として構成することができる。
前記有機電界発光装置をフルカラータイプのものとする方法としては、例えば「月刊ディスプレイ」、２０００年９月号、３３〜３７ページに記載されているように、色の３原色（青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ））に対応する光をそれぞれ発光する層構造を基板上に配置する３色発光法、白色発光用の層構造による白色発光をカラーフィルタ層を通して３原色に分ける白色法、青色発光用の層構造による青色発光を蛍光色素層を通して赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ）に変換する色変換法、などが知られている。
この場合は、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ）の画素ごとにレーザーパワー、厚みを適宜調整することが好ましい。
また、上記方法により得られる異なる発光色の層構造を複数組み合わせて用いることにより、所望の発光色の平面型光源を得ることができる。例えば、青色及び黄色の発光素子を組み合わせた白色発光光源、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、及び赤色（Ｒ）の有機電界発光素子を組み合わせた白色発光光源、等である。
【０１５６】
前記有機電界発光装置は、例えば、照明機器、コンピュータ、車載用表示器、野外表示器、家庭用機器、業務用機器、家電用機器、交通関係表示器、時計表示器、カレンダ表示器、ルミネッセントスクリーン、音響機器等をはじめとする各種分野において好適に使用することができる。
【実施例】
【０１５７】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１５８】
（製造例１）
−平坦化層材料１の作製−
トルエンに分散した酸化チタン（平均粒径１５ｎｍ、材料名：酸化チタン分散トルエン、商品名：高透明性酸化チタンスラリー７６０Ｔ、テイカ社製）４４質量部と、トルエンを溶媒とした樹脂材料（材料名：フルオレン誘導体、商品名：オグソールＥＡ−０２００、大阪ガスケミカル株式会社製）５５質量部と、重合開始剤（材料名：アゾ系熱重合開始剤、商品名：Ｖ−６５、和光純薬工業株式会社製）の溶液１質量部とを攪拌し、十分に混合させて、平坦化層材料１を作製した。
【０１５９】
（製造例２）
−微粒子層材料１の作製−
製造例１の平坦化層材料１に対し、ポリスチレン系微粒子（材料名：メラミン樹脂粒子、商品名：オプトビーズ２０００Ｍ、日産化学工業株式会社製）を６０質量％添加し、更に撹拌を続け、十分に分散させて、微粒子層材料１を作製した。
【０１６０】
（製造例３）
−平坦化層材料２の作製−
製造例１の平坦化層材料１において、「高透明性酸化チタンスラリー７６０Ｔ」を使用しなかった以外は、製造例１と同様にして、平坦化層材料２を作製した。
【０１６１】
（製造例４）
−微粒子層材料２の作製−
製造例３の平坦化層材料２に対し、ポリスチレン系微粒子（材料名：メラミン樹脂粒子、商品名：オプトビーズ２０００Ｍ、日産化学工業株式会社製）を６０質量％添加し、更に撹拌を続け、十分に分散させて、微粒子層材料２を作製した。
【０１６２】
（比較例１）
−光取り出しシート１の作製−
十分に洗浄したポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム（厚み１００μｍ、屈折率＝１．６７）上に、製造例２の微粒子層材料１を塗布し、加熱して十分に硬化させて、平均厚み２５μｍの微粒子層を形成した。この微粒子層上に、製造例１の平坦化層材料１を塗布し、硬化させて、平均厚み１０μｍの平坦化層を形成した。
次に、微粒子層及び平坦化層を形成したＰＥＮフィルムの面とは反対面に光学用両面テープ（厚み２５μｍ、材料名：透明粘着シート、商品名：ＬＵＣＩＡＣＳ  ＣＳ９６２１Ｔ、日東電工株式会社製）を貼り付けた。光学用両面テープは、アクリル系の接着層（屈折率＝１．５１）を有している。
以上により、比較例１の光取り出しシート１を作製した。
【０１６３】
（比較例２）
−光取り出しシート２の作製−
比較例１において、微粒子層上に平坦化層を形成しなかった以外は、比較例１と同様にして、比較例２の光取り出しシート２を作製した。
【０１６４】
（参考例１）
−光取り出しシート３の作製−
比較例１において、平坦化層表面にＣＶＤ装置（ｓａｍｃｏ社製、ＣＣＰ−ＣＶＤ）により、平均厚みが３００ｎｍの無機バリア層（ＳｉＮ、屈折率１．８０）を形成した以外は、比較例１と同様にして、参考例１のバリア層（１）を有する光取り出しシート３を作製した。
【０１６５】
（実施例２）
−光取り出しシート４の作製−
比較例１において、平坦化層表面にＣＶＤ装置（ｓａｍｃｏ社製、ＣＣＰ−ＣＶＤ）により平均厚みが１００ｎｍの無機バリア層（ＳｉＮ、屈折率１．８０）を形成し、次に、前記無機バリア層上に、以下のようにして、平均厚みが１，０００ｎｍの有機バリア層を形成し、次に、前記ＣＶＤ装置により平均厚みが１００ｎｍの無機バリア層（ＳｉＮ、屈折率１．８０）を形成した以外は、比較例１と同様にして、実施例２のバリア層（２）を有する光取り出しシート４を作製した。
【０１６６】
−有機バリア層組成物及び有機バリア層の形成−
下記表１に示した重合性化合物（合計２０質量部）と、重合開始剤（ランベルティ社製、エザキュアＫＴＯ４６）と、酸化チタン微粒子（テイカ社製、ＭＴ−１００ＨＤ）とからなる組成物を、平均厚みが１，０００ｎｍとなるようにメチルエチルケトンで調製して製膜し、酸素１００ｐｐｍ雰囲気下で紫外線照射量１．２Ｊ／ｃｍ２で照射して硬化させ、微粒子含有の有機バリア層を作製した。
【０１６７】
【表１】
0005754912.tif 000008
【０１６８】
＜重合性化合物Ｆ−１＞
【化７】
0005754912.tif 000009
＜重合性化合物Ｆ−２＞
【化８】
0005754912.tif 000010
＜重合性化合物Ｆ−３＞
【化９】
0005754912.tif 000011
＜重合性化合物Ｆ−４＞
【化１０】
0005754912.tif 000012
【０１６９】
（実施例３）
−光取り出しシート５の作製−
比較例２において、微粒子層上に、実施例２と同様にして、平均厚みが１，０００ｎｍである有機バリア層（平坦化層を兼ねる）を形成し、次に、実施例２と同様にして、平均厚みが１００ｎｍの無機バリア層、平均厚みが１，０００ｎｍの有機バリア層、及び平均厚みが１００ｎｍの無機バリア層を順に形成した以外は、比較例２と同様にして、実施例３のバリア層（３）を有する光取り出しシート５を作製した。
【０１７０】
（比較例３）
−光取り出しシート６の作製−
実施例３において、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム（厚み１００μｍ、屈折率＝１．６７）を、アクリルフィルム(厚み１００μｍ、屈折率＝１．４９)に代えた以外は、実施例３と同様にして、比較例３のバリア層（３）を有する光取り出しシート６を作製した。
【０１７１】
（比較例４）
−光取り出しシート７の作製−
比較例１において、微粒子層材料１を製造例４の微粒子層材料２へ、平坦化層材料１を製造例３の平坦化層材料２に変更し、平坦化層表面にイオンプレーティング装置を用い、平均厚みが３００ｎｍの無機バリア層（ＳｉＯ２、屈折率１．４５）を形成した以外は、比較例１と同様にして、比較例４のバリア層（４）を有する光取り出しシート７を作製した。
【０１７２】
作製した参考例１、実施例２〜３及び比較例１〜４の各光取り出しシートの層構成などについて表２にまとめて示す。
各光取り出しシートについて、以下のようにして、水蒸気透過率を測定した。結果を表２に示す。また、各光取り出しシートを構成する各層の屈折率を以下のようにして測定した。結果を表２中に（    ）で示す。
【０１７３】
＜水蒸気透過率の測定＞
各光取り出しシートの水蒸気透過率は、G.NISATO、P.C.P.BOUTEN、P.J.SLIKKERVEERら、SID  Conference  Record  of  the  International  Display  Research  Conference1435-1438頁に記載の方法（カルシウムを用いた測定法）を用い、図７に示すように、光取り出しシート２０をセットして、温度は６０℃、相対湿度は９０％中で測定した。結果を表２に示す。
【０１７４】
＜各層の屈折率の測定＞
光取り出しシートを構成する各層の屈折率は、エリプソメーター（ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製）を用いて測定した。
【０１７５】
【表２−１】
0005754912.tif 000013
＊表２−１中の（  ）内の値は屈折率を示す。
【表２−２】
0005754912.tif 000014
＊実施例３においては、有機バリア層が平坦化層の機能を兼ねている。
＊表２−２中の（  ）内の値は屈折率を示す。
【０１７６】
表２の結果から、参考例１、実施例２〜３及び比較例３の光取り出しシートは、十分なバリア性能が得られることが分かった。
これに対し、比較例１及び２では、水蒸気透過率が好ましい範囲でなく、バリア性能が劣ることが分かった。
【０１７７】
（参考例４）
−有機電界発光装置の作製−
参考例１で作製した光取り出しシート３〔接着層／ＰＥＮフィルム／微粒子層／平坦化層／バリア層（１）〕を用い、以下のようにして、参考例４の有機電界発光装置を作製した。
【０１７８】
まず、ガラス基板（コーニング社製、Ｅａｇｌｅ  ＸＧ、屈折率１．５１）を洗浄容器に入れ、中性洗剤中で超音波洗浄した後、純水中で超音波洗浄し、１２０℃で１２０分間加熱乾燥を行った。
次に、光取り出しシート３を前記基板の一方の面に接着層側から貼り付けた。
次に、前記ガラス基板に貼り付けた前記光取り出しシートのバリア層上に、スパッタ法によりＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を厚みが１００ｎｍとなるように成膜した。
次に、前記ＩＴＯ上に、下記構造式で表される４，４’，４”−トリス（Ｎ，Ｎ−（２−ナフチル）−フェニルアミノ）トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）に、下記構造式で表されるＦ４−ＴＣＮＱを０．３質量％ドープした正孔注入層を厚みが１５０ｎｍになるように共蒸着した。
【化１１】
0005754912.tif 000015
【化１２】
0005754912.tif 000016
【０１７９】
次に、前記正孔注入層上に、正孔輸送層としてα−ＮＰＤ（Ｂｉｓ[Ｎ−(１−ｎａｐｈｔｈｙｌ)−Ｎ−ｐｈｅｎｙｌ]ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ）を厚みが７ｎｍとなるように真空蒸着法にて形成した。
次に、前記正孔輸送層上に、下記構造式で表される有機材料Ａを真空蒸着して、厚み３ｎｍの第２の正孔輸送層を形成した。
【化１３】
0005754912.tif 000017
【０１８０】
次に、第２の正孔輸送層上に、ホスト材料として下記構造式で表される有機材料Ｂと、該有機材料Ｂに対して４０質量％の燐光発光材料である下記構造式で表される発光材料Ａをドープした発光層を３０ｎｍの厚みに真空蒸着した。
【化１４】
0005754912.tif 000018
【化１５】
0005754912.tif 000019
【０１８１】
次に、白色発光層上に電子輸送層として下記構造式で表されるＢＡｌｑ（Ｂｉｓ−（２−ｍｅｔｈｙｌ−８−ｑｕｉｎｏｌｉｎｏｌａｔｏ）−４−（ｐｈｅｎｙｌ−ｐｈｅｎｏｌａｔｅ）−ａｌｕｍｉｎｉｕｍ（ＩＩＩ））を厚みが３９ｎｍとなるように真空蒸着した。
【化１６】
0005754912.tif 000020
【０１８２】
次に、電子輸送層上に、下記構造式で表されるＢＣＰ（２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン）を電子注入層として、厚みが１ｎｍとなるように蒸着した。
【化１７】
0005754912.tif 000021
次に、電子注入層上にバッファ層としてＬｉＦを厚みが１ｎｍとなるように蒸着し、該バッファ層上にアルミニウムを電極層として厚みが１００ｎｍとなるように蒸着し、積層体を作製した。
作製した積層体を、真空から窒素雰囲気下の部屋に移し、封止缶にて封止した。なお、封止缶の内側には予め吸湿材を貼っておいた。以上により、参考例４の有機電界発光装置を作製した。
【０１８３】
（実施例５）
−有機電界発光装置の作製−
参考例４において、光取り出しシート３を、実施例２で作製した光取り出しシート４〔接着層／ＰＥＮフィルム／微粒子層／平坦化層／バリア層（２）〕に代えた以外は、参考例４と同様にして、実施例５の有機電界発光装置を作製した。
【０１８４】
（実施例６）
−有機電界発光装置の作製−
参考例４において、光取り出しシート３を、実施例３で作製した光取り出しシート５〔接着層／ＰＥＮフィルム／微粒子層／平坦化層／バリア層（３）〕に代えた以外は、参考例４と同様にして、実施例６の有機電界発光装置を作製した。
【０１８５】
（比較例５）
−有機電界発光装置の作製−
参考例４において、光取り出しシート３を用いない以外は、参考例４と同様にして、比較例５の有機電界発光装置を作製した。
【０１８６】
（比較例６）
−有機電界発光装置の作製−
参考例４において、光取り出しシート３を用いず、基板上に製造例２の微粒子層材料１を塗布し、加熱し十分に硬化させて、平均厚み２５μｍの微粒子層を形成した。この微粒子層上に、製造例１の平坦化層材料１を塗布し、硬化させて、平均厚み１０μｍの平坦化層を形成した以外は、参考例４と同様にして、比較例６の有機電界発光装置を作製した。
【０１８７】
（比較例７）
−有機電界発光装置の作製−
参考例４において、光取り出しシート３を用いず、基板上に製造例２の微粒子層材料１を塗布し、加熱し十分に硬化させて、平均厚み２５μｍの微粒子層を形成し、次に、この微粒子層上に、製造例１の平坦化層材料１を塗布し、硬化させて、平均厚み１０μｍの平坦化層を形成し、次に、この平坦化層上に、実施例２と同様にして、平均厚みが１００ｎｍの無機バリア層（ＳｉＮ）を形成し、次に、前記無機バリア層上に平均厚みが１，０００ｎｍの有機バリア層を形成し、次に、平均厚みが１００ｎｍの無機バリア層（ＳｉＮ）を形成した以外は、参考例４と同様にして、比較例７の有機電界発光装置を作製した。
【０１８８】
（比較例８）
−有機電界発光装置の作製−
参考例４において、光取り出しシート３を比較例１の光取り出しシート１に代えた以外は、参考例４と同様にして、比較例８の有機電界発光装置を作製した。
【０１８９】
（比較例９）
−有機電界発光装置の作製−
参考例４において、光取り出しシート３を比較例２の光取り出しシート２に代えた以外は、参考例４と同様にして、比較例９の有機電界発光装置を作製した。
【０１９０】
（比較例１０）
−有機電界発光装置の作製−
参考例４において、光取り出しシート３を、比較例３で作製した光取り出しシート６〔接着層／アクリルフィルム／微粒子層／平坦化層／バリア層（３）〕に代えた以外は、参考例４と同様にして、比較例１０の有機電界発光装置を作製した。
【０１９１】
（比較例１１）
−有機電界発光装置の作製−
参考例４において、光取り出しシート３を比較例４で作製した光取り出しシート７〔接着層／ＰＥＮフィルム／微粒子層／平坦化層／バリア層（４）〕に代えた以外は、参考例４と同様にして、比較例１１の有機電界発光装置を作製した。
【０１９２】
（比較例１２）
−有機電界発光装置の作製−
参考例４において、光取り出しシート３を比較例５で作製した有機電界発光装置の基板の有機電界発光層側とは反対面に貼り付けた以外は、参考例４と同様にして、比較例１２の有機電界発光装置を作製した（図６参照）。
【０１９３】
次に、参考例４、実施例５〜６及び比較例５〜１２の各有機電界発光装置について、以下のようにして、光取り出し効率、及び耐久性を測定した。結果を表３に示す。
【０１９４】
＜輝度の測定及び光取り出し効率の算出＞
輝度の測定は、東陽テクニカ株式会社製ソースメジャーユニット２４００型を用いて、直流定電圧を各有機電界発光装置に印加して発光させた。輝度は、１０ｍＡ／ｃｍ２の電流値で分光輝度計（トプコン社製、ＳＲ−３）を用いて測定した。
光取り出し効率は、下式で定義する。
（各参考例、実施例及び比較例の輝度／比較例５の輝度）×１００＝光取り出し効率
【０１９５】
＜耐久性の評価方法＞
参考例、実施例及び比較例の製造方法にて有機電界発光装置を製作直後、一定量の電流を流し、点灯させ、表面の状態を観察した（デジタルカメラに撮影）。温度６０℃中にて７日間保存した。７日間の保存後、再度、有機電界発光装置を一定量の電流を流し、点灯させ、表面の状態を観察した（デジタルカメラに撮影）。図８の左図に初日の発光面、図８の右図に７日後の発光面を示す。
デジタルカメラに撮影した画像データを、画像解析処理を行い発光面積を計測した。
画像解析処理を行う理由として、発光面は微粒子層で覆われているため、発光面、ダークスポットの輪郭が見えにくく、計測しにくいため、これらを解消するためである。
シュリンク面積を含むダークスポット面積割合の計算方法として下式を用いる
（１−（７日後の発光面積／撮影初日の発光面積））×１００（％）＝ダークスポット面積割合（％）
ダークスポット面積の値が小さいほど有機電界発光素子へのダメージが小さいこととなる。基準としてダークスポット面積割合が２％以下を合格ラインとした。
【０１９６】
＜有機電界発光装置の製造効率＞
有機電界発光装置の製造効率とは基板から封止に至る有機電界発光装置の製造を１つのラインにて作製するにあたり、以下の基準に対してタクトタイムが長くなるか、短くなるかを示したものである。比較例５の光取り出しシート等の光取り出し構造を持たない有機電界発光装置の製造にかかるタクトタイムを基準とする。
〔評価基準〕
○：タクトタイムが比較例５と同等であった場合
×：タクトタイムが比較例５より長くなった場合
【表３−１】
0005754912.tif 000022
＊表３−１中の（  ）内の値は屈折率を示す。
【表３−２】
0005754912.tif 000023
＊    表３−２中の（  ）内の値は屈折率を示す。
【０１９７】
【表３−３】
0005754912.tif 000024
＊表３−３中の（  ）内の値は屈折率を示す。
＊＊表３−３中の比較例１２は、表中の表記順では最大屈折率差は０．１６であるが、実際は有機電界発光層と基板が隣接（ＩＴＯを介して）しているので、比較例５と同じ構成となり、最大屈折率差は０．３１となる。
【産業上の利用可能性】
【０１９８】
本発明の光取り出しシート及び該光取り出しシートを用いた有機電界発光装置は、例えば、各種照明、コンピュータ、車載用表示器、野外表示器、家庭用機器、業務用機器、家電用機器、交通関係表示器、時計表示器、カレンダ表示器、ルミネッセントスクリーン、音響機器等をはじめとする各種分野において好適に使用することができる。
【符号の説明】
【０１９９】
１      基板
２      接着層
３      基材
４      微粒子層
５      平坦化層
６      バリア層
７      透明電極
８      有機電界発光層
９      反射電極
１０      封止缶
１１      封止材料
１２      Ｃａ
２０      光取り出しシート
２１      無機バリア層
２２      有機バリア層
【図８】
0005754912.tif 000025
【図１】
0005754912.tif 000026
【図２】
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【図３】
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【図４】
0005754912.tif 000029
【図５】
0005754912.tif 000030
【図６】
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【図７】
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