(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
0005754272.tif 000008
［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、Ｒ4はイソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、テキシル基、１−メチルシクロヘキシル基から選ばれる１価の２級又は３級炭化水素基、Ｒ5は炭素数３〜２０の分岐状のアルキル基又は環状のアルキル基、又は下記一般式（２）
【化２】
0005754272.tif 000009
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は上記と同様である。）
で示される基である。］
で示される嵩高い置換基を有するカルボン酸シリルエステル化合物。
【請求項２】
上記一般式（１）中のＲ4が、ｔ−ブチル基である請求項１記載の嵩高い置換基を有するカルボン酸シリルエステル化合物。
【請求項３】
下記一般式（３）
Ｒ4Ｒ6ＳｉＸ2        （３）
（式中、Ｒ4はイソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、テキシル基、１−メチルシクロヘキシル基から選ばれる１価の２級又は３級炭化水素基、Ｒ6は炭素数３〜２０の分岐状のアルキル基又は環状のアルキル基、又はハロゲン原子、Ｘはハロゲン原子である。）
で示される嵩高い置換基を有するハロシラン化合物と、下記一般式（４）
【化３】
0005754272.tif 000010
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基である。）
で示されるカルボン酸化合物を反応させることを特徴とする請求項１又は２記載の嵩高い置換基を有するカルボン酸シリルエステル化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、嵩高い置換基を有するカルボン酸シリルエステル化合物に関する。この化合物は表面コーティング用組成物添加剤、塗料等の添加剤、歯科材料用添加剤として有用である。
【背景技術】
【０００２】
（メタ）アクリロキシ基を２つ以上有する有機ケイ素化合物は、表面コーティング用組成物添加剤、塗料等の添加剤、歯科材料用添加剤として有用であり、例えば特許文献１（特公昭４９−７５６４号公報）には、メチルトリメタクリロキシシランがプラスチック表面の硬度、耐溶剤性の表面特性を改善するためのコーティング用組成物の添加剤として有用であるとの記載がある。また、非特許文献１（歯科材料・器械，ｖｏｌ．２５，Ｎｏ．４，２６７−２７４（２００６））には、ジメチルシリルジメタクリレート等の含ケイ素ジメタクリレート化合物が歯科用コンポジットレジンに撥水性を付与するための添加モノマーとして有用であるとの記載がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特公昭４９−７５６４号公報
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】歯科材料・器械，ｖｏｌ．２５，Ｎｏ．４，２６７−２７４（２００６）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特公昭４９−７５６４号公報（特許文献１）の化合物、歯科材料・器械，ｖｏｌ．２５，Ｎｏ．４，２６７−２７４（２００６）（非特許文献１）の化合物では、コーティング後や硬化後に経時でカルボキシル基とケイ素原子との結合が加水分解反応を受け、徐々に付与した硬度、耐溶剤性、撥水性等が失われてしまい、長期間付与した性能を維持することが困難であった。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、表面コーティング用組成物添加剤、塗料等の添加剤、歯科材料として使用したときに、付与した性能が長期間維持できるカルボン酸シリルエステル化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、特定のカルボン酸シリルエステル化合物が、表面コーティング用組成物添加剤、塗料等の添加剤、歯科材料用添加剤として使用したときに、硬度、耐溶剤性、撥水性を付与でき、且つ付与した性能が長期間維持できることを知見し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
従って、本発明は、下記に示す嵩高い置換基を有するカルボン酸シリルエステル化合物及びその製造方法を提供する。
請求項１：
下記一般式（１）
【化１】
0005754272.tif 000002
［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、Ｒ4はイソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、テキシル基、１−メチルシクロヘキシル基から選ばれる１価の２級又は３級炭化水素基、Ｒ5は炭素数３〜２０の分岐状のアルキル基又は環状のアルキル基、又は下記一般式（２）
【化２】
0005754272.tif 000003
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は上記と同様である。）
で示される基である。］
で示される嵩高い置換基を有するカルボン酸シリルエステル化合物。
請求項２：
上記一般式（１）中のＲ4が、ｔ−ブチル基である請求項１記載の嵩高い置換基を有するカルボン酸シリルエステル化合物。
請求項３：
下記一般式（３）
Ｒ4Ｒ6ＳｉＸ2        （３）
（式中、Ｒ4はイソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、テキシル基、１−メチルシクロヘキシル基から選ばれる１価の２級又は３級炭化水素基、Ｒ6は炭素数３〜２０の分岐状のアルキル基又は環状のアルキル基、又はハロゲン原子、Ｘはハロゲン原子である。）
で示される嵩高い置換基を有するハロシラン化合物と、下記一般式（４）
【化３】
0005754272.tif 000004
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基である。）
で示されるカルボン酸化合物を反応させることを特徴とする請求項１又は２記載の嵩高い置換基を有するカルボン酸シリルエステル化合物の製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により提供される嵩高い置換基を有するカルボン酸シリルエステル化合物は、表面コーティング用組成物添加剤、塗料等の添加剤、歯科材料用添加剤として使用したときに、硬度、耐溶剤性、撥水性を付与でき、且つ付与した性能が長期間維持できるため、表面コーティング用組成物添加剤、塗料等の添加剤、歯科材料用添加剤として有用である。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】参考例１で得られたジアクリロキシｔ−ブチルメチルシランの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図２】参考例１で得られたジアクリロキシｔ−ブチルメチルシランのＩＲスペクトルである。
【図３】実施例１で得られたトリアクリロキシｔ−ブチルシランの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図４】実施例１で得られたトリアクリロキシｔ−ブチルシランのＩＲスペクトルである。
【図５】参考例２で得られたジメタクリロキシｔ−ブチルメチルシランの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図６】参考例２で得られたジメタクリロキシｔ−ブチルメチルシランのＩＲスペクトルである。
【図７】実施例２で得られたジメタクリロキシｔ−ブチルプロピルシランの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図８】実施例２で得られたジメタクリロキシｔ−ブチルプロピルシランのＩＲスペクトルである。
【図９】実施例３で得られたジアクリロキシジイソプロピルシランの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１０】実施例３で得られたジアクリロキシジイソプロピルシランのＩＲスペクトルである。
【図１１】実施例４で得られたジメタクリロキシジイソプロピルシランの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１２】実施例４で得られたジメタクリロキシジイソプロピルシランのＩＲスペクトルである。
【図１３】参考例３で得られたジアクリロキシシクロヘキシルメチルシランの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１４】参考例３で得られたジアクリロキシシクロヘキシルメチルシランのＩＲスペクトルである。
【図１５】実施例５で得られたジアクリロキシジシクロペンチルシランの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１６】実施例５で得られたジアクリロキシジシクロペンチルシランのＩＲスペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の嵩高い置換基を有するカルボン酸シリルエステル化合物は、下記一般式（１）
【化４】
0005754272.tif 000005
［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、Ｒ1とＲ2又はＲ2とＲ3は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよく、Ｒ4は炭素数３〜１０の１価の２級又は３級炭化水素基、Ｒ5は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又は下記一般式（２）
【化５】
0005754272.tif 000006
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は上記と同様である。）
で示される基である。］
で示される化合物である。
【００１１】
ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3が炭素数１〜２０、特に１〜１０の非置換又は置換の１価炭化水素基の場合、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基等の直鎖状のアルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、テキシル基、２−エチルヘキシル基等の分岐状のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基等の環状のアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基；フェニル基、トリル基等のアリール基；ベンジル基等のアラルキル基等が例示され、特にメチル基が好ましい。また、炭化水素基の水素原子の一部又は全部が置換されていてもよく、該置換基としては、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、（イソ）プロポキシ基等のアルコキシ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子からなる基；シアノ基、アミノ基、フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１８のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等の炭素数７〜１８のアラルキル基；エステル基、エーテル基、アシル基、スルフィド基、アルキルシリル基、アルコキシシリル基等が挙げられ、これらを組み合わせて用いることもできる。また、Ｒ1とＲ2及びＲ2とＲ3が互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に炭素数３〜２０の環、特に脂環を形成してもよい。Ｒ1、Ｒ2及びＲ3としては、特に水素原子、メチル基が好ましい。
【００１２】
Ｒ4は炭素数３〜１０、特に３〜７の１価の２級又は３級炭化水素基であり、具体的にはイソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、テキシル基、１−メチルシクロヘキシル基等が例示され、特にｔ−ブチル基、テキシル基が好ましい。
【００１３】
Ｒ5が炭素数１〜２０、特に１〜１０の非置換又は置換の１価炭化水素基の場合、上記Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3と同様の基が挙げられる。Ｒ5としては、特にメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、上記一般式（２）で示される基が好ましい。
【００１４】
上記一般式（１）で示される化合物の具体例としては、ジアクリロキシｔ−ブチルメチルシラン、ジアクリロキシｔ−ブチルエチルシラン、ジアクリロキシｔ−ブチルプロピルシラン、ジアクリロキシｔ−ブチルイソプロピルシラン、ジアクリロキシｔ−ブチルブチルシラン、ジアクリロキシｔ−ブチルイソブチルシラン、ジアクリロキシｔ−ブチルｓｅｃ−ブチルシラン、ジアクリロキシｔ−ブチルシクロペンチルシラン、ジアクリロキシｔ−ブチルシクロヘキシルシラン、ジアクリロキシｔ−ブチルフェニルシラン、ジアクリロキシｔ−ブチルベンジルシラン、ジアクリロキシジｔ−ブチルシラン、ジアクリロキシｔ−アミルメチルシラン、ジアクリロキシｔ−アミルエチルシラン、ジアクリロキシｔ−アミルプロピルシラン、ジアクリロキシｔ−アミルイソプロピルシラン、ジアクリロキシｔ−アミルブチルシラン、ジアクリロキシｔ−アミルイソブチルシラン、ジアクリロキシｔ−アミルｓｅｃ−ブチルシラン、ジアクリロキシｔ−アミルシクロペンチルシラン、ジアクリロキシｔ−アミルシクロヘキシルシラン、ジアクリロキシｔ−アミルフェニルシラン、ジアクリロキシｔ−アミルベンジルシラン、ジアクリロキシｔ−アミルｔ−ブチルシラン、ジアクリロキシジｔ−アミルシラン、ジアクリロキシテキシルメチルシラン、ジアクリロキシテキシルエチルシラン、ジアクリロキシテキシルプロピルシラン、ジアクリロキシテキシルイソプロピルシラン、ジアクリロキシテキシルブチルシラン、ジアクリロキシテキシルイソブチルシラン、ジアクリロキシテキシルｓｅｃ−ブチルシラン、ジアクリロキシテキシルシクロペンチルシラン、ジアクリロキシテキシルシクロヘキシルシラン、ジアクリロキシテキシルフェニルシラン、ジアクリロキシテキシルベンジルシラン、ジアクリロキシテキシルｔ−ブチルシラン、ジアクリロキシテキシルｔ−アミルシラン、ジアクリロキシジテキシルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）メチルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）エチルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）プロピルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）イソプロピルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）ブチルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）イソブチルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）ｓｅｃ−ブチルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）シクロペンチルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）シクロヘキシルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）フェニルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）ベンジルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）ｔ−ブチルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）ｔ−アミルシラン、ジアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）テキシルシラン、ジアクリロキシジ（１−メチルシクロヘキシル）シラン、トリアクリロキシｔ−ブチルシラン、トリアクリロキシｔ−アミルシラン、トリアクリロキシテキシルシラン、トリアクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）シラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルメチルシラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルエチルシラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルプロピルシラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルイソプロピルシラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルブチルシラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルイソブチルシラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルｓｅｃ−ブチルシラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルシクロペンチルシラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルシクロヘキシルシラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルフェニルシラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルベンジルシラン、ジメタクリロキシジｔ−ブチルシラン、ジメタクリロキシｔ−アミルメチルシラン、ジメタクリロキシｔ−アミルエチルシラン、ジメタクリロキシｔ−アミルプロピルシラン、ジメタクリロキシｔ−アミルイソプロピルシラン、ジメタクリロキシｔ−アミルブチルシラン、ジメタクリロキシｔ−アミルイソブチルシラン、ジメタクリロキシｔ−アミルｓｅｃ−ブチルシラン、ジメタクリロキシｔ−アミルシクロペンチルシラン、ジメタクリロキシｔ−アミルシクロヘキシルシラン、ジメタクリロキシｔ−アミルフェニルシラン、ジメタクリロキシｔ−アミルベンジルシラン、ジメタクリロキシｔ−アミルｔ−ブチルシラン、ジメタクリロキシジｔ−アミルシラン、ジメタクリロキシテキシルメチルシラン、ジメタクリロキシテキシルエチルシラン、ジメタクリロキシテキシルプロピルシラン、ジメタクリロキシテキシルイソプロピルシラン、ジメタクリロキシテキシルブチルシラン、ジメタクリロキシテキシルイソブチルシラン、ジメタクリロキシテキシルｓｅｃ−ブチルシラン、ジメタクリロキシテキシルシクロペンチルシラン、ジメタクリロキシテキシルシクロヘキシルシラン、ジメタクリロキシテキシルフェニルシラン、ジメタクリロキシテキシルベンジルシラン、ジメタクリロキシテキシルｔ−ブチルシラン、ジメタクリロキシテキシルｔ−アミルシラン、ジメタクリロキシジテキシルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）メチルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）エチルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）プロピルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）イソプロピルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）ブチルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）イソブチルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）ｓｅｃ−ブチルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）シクロペンチルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）シクロヘキシルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）フェニルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）ベンジルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）ｔ−ブチルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）ｔ−アミルシラン、ジメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）テキシルシラン、ジメタクリロキシジ（１−メチルシクロヘキシル）シラン、トリメタクリロキシｔ−ブチルシラン、トリメタクリロキシｔ−アミルシラン、トリメタクリロキシテキシルシラン、トリメタクリロキシ（１−メチルシクロヘキシル）シラン等が例示される。これらの中でも特に、ジアクリロキシｔ−ブチルメチルシラン、ジアクリロキシｔ−ブチルエチルシラン、ジアクリロキシｔ−ブチルプロピルシラン、トリアクリロキシｔ−ブチルシラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルメチルシラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルエチルシラン、ジメタクリロキシｔ−ブチルプロピルシラン、トリメタクリロキシｔ−ブチルシランが好ましい。
【００１５】
また、上記一般式（１）で示される化合物の製造方法は、例えば、下記一般式（３）
Ｒ4Ｒ6ＳｉＸ2        （３）
（式中、Ｒ4は炭素数３〜１０の１価の２級又は３級炭化水素基、Ｒ6は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はハロゲン原子、Ｘはハロゲン原子である。）
で示される嵩高い置換基を有するハロシラン化合物と、下記一般式（４）
【化６】
0005754272.tif 000007
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、Ｒ1とＲ2又はＲ2とＲ3は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。）
で示されるカルボン酸化合物を反応させる方法が挙げられる。
【００１６】
上記一般式（３）におけるＲ4は上述したものが例示でき、Ｒ6が炭素数１〜２０、特に１〜１０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基の場合は、上記Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3と同様の基が例示できる。Ｒ6及びＸのハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
【００１７】
上記一般式（３）で示される嵩高い置換基を有するハロシラン化合物の具体例としては、イソプロピルメチルジクロロシラン、イソプロピルエチルジクロロシラン、イソプロピルプロピルジクロロシラン、イソプロピルブチルジクロロシラン、イソプロピルイソブチルジクロロシラン、イソプロピルフェニルジクロロシラン、イソプロピルベンジルジクロロシラン、ジイソプロピルジクロロシラン、ｓｅｃ−ブチルメチルジクロロシラン、ｓｅｃ−ブチルエチルジクロロシラン、ｓｅｃ−ブチルプロピルジクロロシラン、ｓｅｃ−ブチルブチルジクロロシラン、ｓｅｃ−ブチルイソブチルジクロロシラン、ｓｅｃ−ブチルフェニルジクロロシラン、ｓｅｃ−ブチルベンジルジクロロシラン、ｓｅｃ−ブチルイソプロピルジクロロシラン、ジｓｅｃ−ブチルジクロロシラン、シクロペンチルメチルジクロロシラン、シクロペンチルエチルジクロロシラン、シクロペンチルプロピルジクロロシラン、シクロペンチルブチルジクロロシラン、シクロペンチルイソブチルジクロロシラン、シクロペンチルフェニルジクロロシラン、シクロペンチルベンジルジクロロシラン、シクロペンチルイソプロピルジクロロシラン、シクロペンチルｓｅｃ−ブチルジクロロシラン、ジシクロペンチルジクロロシラン、シクロヘキシルメチルジクロロシラン、シクロヘキシルエチルジクロロシラン、シクロヘキシルプロピルジクロロシラン、シクロヘキシルブチルジクロロシラン、シクロヘキシルイソブチルジクロロシラン、シクロヘキシルフェニルジクロロシラン、シクロヘキシルベンジルジクロロシラン、シクロヘキシルイソプロピルジクロロシラン、シクロヘキシルｓｅｃ−ブチルジクロロシラン、シクロヘキシルシクロペンチルジクロロシラン、ジシクロヘキシルジクロロシラン、ｔ−ブチルメチルジクロロシラン、ｔ−ブチルエチルジクロロシラン、ｔ−ブチルプロピルジクロロシラン、ｔ−ブチルイソプロピルジクロロシラン、ｔ−ブチルブチルジクロロシラン、ｔ−ブチルイソブチルジクロロシラン、ｔ−ブチルｓｅｃ−ブチルジクロロシラン、ｔ−ブチルシクロペンチルジクロロシラン、ｔ−ブチルシクロヘキシルジクロロシラン、ｔ−ブチルフェニルジクロロシラン、ｔ−ブチルベンジルジクロロシラン、ジｔ−ブチルジクロロシラン、ｔ−アミルメチルジクロロシラン、ｔ−アミルエチルジクロロシラン、ｔ−アミルプロピルジクロロシラン、ｔ−アミルイソプロピルジクロロシラン、ｔ−アミルブチルジクロロシラン、ｔ−アミルイソブチルジクロロシラン、ｔ−アミルｓｅｃ−ブチルジクロロシラン、ｔ−アミルシクロペンチルジクロロシラン、ｔ−アミルシクロヘキシルジクロロシラン、ｔ−アミルフェニルジクロロシラン、ｔ−アミルベンジルジクロロシラン、ｔ−アミルｔ−ブチルジクロロシラン、ジｔ−アミルジクロロシラン、テキシルメチルジクロロシラン、テキシルエチルジクロロシラン、テキシルプロピルジクロロシラン、テキシルイソプロピルジクロロシラン、テキシルブチルジクロロシラン、テキシルイソブチルジクロロシラン、テキシルｓｅｃ−ブチルジクロロシラン、テキシルシクロペンチルジクロロシラン、テキシルシクロヘキシルジクロロシラン、テキシルフェニルジクロロシラン、テキシルベンジルジクロロシラン、テキシルｔ−ブチルジクロロシラン、テキシルｔ−アミルジクロロシラン、ジテキシルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）メチルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）エチルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）プロピルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）イソプロピルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）ブチルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）イソブチルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）ｓｅｃ−ブチルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）シクロペンチルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）シクロヘキシルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）フェニルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）ベンジルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）ｔ−ブチルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）ｔ−アミルジクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）テキシルジクロロシラン、ジ（１−メチルシクロヘキシル）ジクロロシラン、イソプロピルトリクロロシラン、ｓｅｃ−ブチルトリクロロシラン、シクロペンチルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン、ｔ−ブチルトリクロロシラン、ｔ−アミルトリクロロシラン、テキシルトリクロロシラン、（１−メチルシクロヘキシル）トリクロロシラン等が例示される。これらの中でも特に、ｔ−ブチルメチルジクロロシラン、ｔ−ブチルエチルジクロロシラン、ｔ−ブチルプロピルジクロロシラン、ｔ−ブチルトリクロロシランが好ましい。
【００１８】
また、上記一般式（４）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3は上述したものが例示でき、上記一般式（４）で示されるカルボン酸化合物の具体例としてはアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸等が例示される。
【００１９】
上記一般式（３）で示される嵩高い置換基を有するハロシラン化合物と、上記一般式（４）で示されるカルボン酸化合物との配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（３）で示される嵩高い置換基を有するハロシラン化合物のケイ素−ハロゲン原子結合１モルに対し、一般式（４）で示されるカルボン酸化合物を、０．２〜５モル、特に０．５〜２モルの範囲で用いることが好ましい。
【００２０】
上記嵩高い置換基を有するハロシラン化合物とカルボン酸化合物の反応においては、ハロゲン化水素が副生するが、副生したハロゲン化水素は含窒素化合物を添加し捕捉してもよい。含窒素化合物としてはアンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、オクチルアミン、ジオクチルアミン、トリオクチルアミン、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、モルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、エチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ジエチレントリアミン、アニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７等が例示される。
【００２１】
上記一般式（３）で示される嵩高い置換基を有するハロシラン化合物と含窒素化合物の配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、上記一般式（３）で示される嵩高い置換基を有するハロシラン化合物のケイ素−ハロゲン原子結合１モルに対し、含窒素化合物を０．１〜１５モル、特に０．２〜５モルの範囲が好ましい。
【００２２】
上記反応の反応温度は特に限定されないが、０〜２００℃、特に２０〜１５０℃が好ましく、反応時間も特に限定されないが、１〜４０時間、特に１〜２０時間が好ましい。
【００２３】
なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒等が例示される。これらの溶媒は１種を単独で使用してもよく、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。
【００２４】
以上のようにして得られた反応液からは、蒸留等の通常の方法で目的物を回収することができる。
【実施例】
【００２５】
以下、実施例及び実験例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【００２６】
［参考例１］ジアクリロキシｔ−ブチルメチルシラン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ｔ−ブチルメチルジクロロシラン４３．０ｇ（０．２５モル）、トリエチルアミン５５．６ｇ（０．５５モル）、トルエン１５０ｍｌを仕込み、４０℃に加熱した。内温が安定した後、アクリル酸３７．９ｇ（０．５３モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で２時間撹拌した。生成した塩を濾過により除去した後、濾液を蒸留し、沸点７４−７６℃／０．２ｋＰａの留分３８．１ｇを得た。
【００２７】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ２４２，２２７，１８５，１３１，５５
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図１にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図２にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、ジアクリロキシｔ−ブチルメチルシランであることが確認された。
【００２８】
［実施例１］トリアクリロキシｔ−ブチルシラン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ｔ−ブチルトリクロロシラン３８．３ｇ（０．２モル）、トリエチルアミン６６．８ｇ（０．６６モル）、トルエン１８０ｍｌを仕込み、４０℃に加熱した。内温が安定した後、アクリル酸４５．４ｇ（０．６３モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で２時間撹拌した。生成した塩を濾過により除去した後、濾液を蒸留し、沸点９４−９５℃／０．２ｋＰａの留分３７．１ｇを得た。
【００２９】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ２９８，２４１，１８７，１３３，５５
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図３にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図４にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、トリアクリロキシｔ−ブチルシランであることが確認された。
【００３０】
［参考例２］ジメタクリロキシｔ−ブチルメチルシラン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ｔ−ブチルメチルジクロロシラン３４．４ｇ（０．２モル）、トリエチルアミン４４．５ｇ（０．４４モル）、トルエン１２０ｍｌを仕込み、４０℃に加熱した。内温が安定した後、メタクリル酸３６．２ｇ（０．４２モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で２時間撹拌した。生成した塩を濾過により除去した後、濾液を蒸留し、沸点８７−８９℃／０．４ｋＰａの留分３０．６ｇを得た。
【００３１】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ２７０，２５５，２１３，６９，４１
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図５にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図６にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、ジメタクリロキシｔ−ブチルメチルシランであることが確認された。
【００３２】
［実施例２］ジメタクリロキシｔ−ブチルプロピルシラン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ｔ−ブチルプロピルジクロロシラン３９．８ｇ（０．２モル）、トリエチルアミン４４．５ｇ（０．４４モル）、トルエン１２０ｍｌを仕込み、４０℃に加熱した。内温が安定した後、メタクリル酸３６．２ｇ（０．４２モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で２時間撹拌した。生成した塩を濾過により除去した後、濾液を蒸留し、沸点１２９℃／０．６ｋＰａの留分３７．８ｇを得た。
【００３３】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ２９８，２８３，２４１，６９，４１
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図７にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図８にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、ジメタクリロキシｔ−ブチルプロピルシランであることが確認された。
【００３４】
［実施例３］ジアクリロキシジイソプロピルシラン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ジイソプロピルジクロロシラン３７．０ｇ（０．２モル）、トリエチルアミン４４．５ｇ（０．４４モル）、トルエン１２０ｍｌを仕込み、４０℃に加熱した。内温が安定した後、アクリル酸３０．２ｇ（０．４２モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で２時間撹拌した。生成した塩を濾過により除去した後、濾液を蒸留し、沸点１０３℃／０．５ｋＰａの留分３４．２ｇを得た。
【００３５】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ２４１，２１３，１５９，７７，５５
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図９にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図１０にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、ジアクリロキシジイソプロピルシランであることが確認された。
【００３６】
［実施例４］ジメタクリロキシジイソプロピルシラン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ジイソプロピルジクロロシラン３７．０ｇ（０．２モル）、トリエチルアミン４４．５ｇ（０．４４モル）、トルエン１２０ｍｌを仕込み、４０℃に加熱した。内温が安定した後、メタクリル酸３６．２ｇ（０．４２モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で２時間撹拌した。生成した塩を濾過により除去した後、濾液を蒸留し、沸点８５℃／０．４ｋＰａの留分３６．０ｇを得た。
【００３７】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ２８４，２６９，２４１，６９，４１
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図１１にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図１２にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、ジメタクリロキシジイソプロピルシランであることが確認された。
【００３８】
［参考例３］ジアクリロキシシクロヘキシルメチルシラン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、シクロヘキシルメチルジクロロシラン３９．４ｇ（０．２モル）、トリエチルアミン４４．５ｇ（０．４４モル）、トルエン１２０ｍｌを仕込み、４０℃に加熱した。内温が安定した後、アクリル酸３０．２ｇ（０．４２モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で２時間撹拌した。生成した塩を濾過により除去した後、濾液を蒸留し、沸点１１３℃／０．４ｋＰａの留分３１．８ｇを得た。
【００３９】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ２５３，１８５，１３１，７７，５５
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図１３にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図１４にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、ジアクリロキシシクロヘキシルメチルシランであることが確認された。
【００４０】
［実施例５］ジアクリロキシジシクロペンチルシラン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ジシクロペンチルジクロロシラン４７．４ｇ（０．２モル）、トリエチルアミン４４．５ｇ（０．４４モル）、トルエン１２０ｍｌを仕込み、４０℃に加熱した。内温が安定した後、アクリル酸３０．２ｇ（０．４２モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で２時間撹拌した。生成した塩を濾過により除去した後、濾液を蒸留し、沸点１４４℃／０．３ｋＰａの留分３８．１ｇを得た。
【００４１】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ    ３０８，２３９，１８５，１６７，５５
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図１５にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図１６にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、ジアクリロキシジシクロペンチルシランであることが確認された。
【００４２】
［実験例１］ジメタクリロキシｔ−ブチルメチルシランとジメタクリロキシジメチルシランとの加水分解性比較
撹拌機、還流冷却器及び温度計を備えたフラスコに、水５ｇ、ジメタクリロキシｔ−ブチルメチルシラン０．５４ｇ（０．００２モル）、ジメタクリロキシジメチルシラン０．４６ｇ（０．００２モル）、内部標準としてヘプタン５ｇを仕込み、室温で撹拌し、１０分後のカルボン酸シリルエステル化合物の加水分解反応の進行度合いをガスクロマトグラフィー分析により定量した。その結果、ジメタクリロキシｔ−ブチルメチルシランは５％加水分解しているに過ぎなかったが、ジメタクリロキシジメチルシランはすべて加水分解しており、ジメタクリロキシｔ−ブチルメチルシランはジメタクリロキシジメチルシランに比べ加水分解に対し安定であることが明らかとなった。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
0005754272.tif 000019
【図１０】
0005754272.tif 000020
【図１１】
0005754272.tif 000021
【図１２】
0005754272.tif 000022
【図１３】
0005754272.tif 000023
【図１４】
0005754272.tif 000024
【図１５】
0005754272.tif 000025
【図１６】
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