(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材、および前記透明基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターンを含む伝導体であって、前記電気伝導性パターンがその上に形成される前記透明基材の少なくとも一面の全体面積の３０％以上において、前記伝導体は、前記電気伝導性パターンと交差する直線を描いた時、前記直線と前記電気伝導性パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）が３０％以上である電気伝導性パターンを有し、
前記伝導体は、開口率が７０％以上であり、
前記電気伝導性パターンは、ボロノイダイアグラムまたはドローネパターンをなす図形の境界線形態のパターンを有し、
前記ボロノイダイアグラムまたはドローネパターンは、規則的な基本単位内の点の分布が不規則性を有するように生成される点を用いて製作されることを特徴とする伝導体。
【請求項２】
前記電気伝導性パターンと交差する直線は、前記電気伝導性パターンとの隣接する交点間の距離の標準偏差が最も小さい線であることを特徴とする、請求項１に記載の伝導体。
【請求項３】
前記電気伝導性パターンと交差する直線は、前記電気伝導性パターンのいずれか１点の接線に対して垂直した方向に延びた直線であることを特徴とする、請求項１または２に記載の伝導体。
【請求項４】
前記電気伝導性パターンと交差する直線は、前記電気伝導性パターンとの交点が８０個以上である、請求項１から３のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項５】
前記電気伝導性パターンは、線幅が１００マイクロメータ以下であり、線間間隔が３０ｍｍ以下であり、透明基材の表面からの線の高さが１〜１００マイクロメータである、請求項１から４のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項６】
直径２０ｃｍの任意の円に対する透過率偏差が５％以下であることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項７】
前記透明基材は、ガラス、プラスチック基板またはプラスチックフィルムである、請求項１から６のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項８】
前記伝導体は、単位面積当たり抵抗値が、常温において、０．０１ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ〜１０００ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅである、請求項１から７のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項９】
前記伝導体は、外部要因によって電流を伝導させるように構成される、請求項１から８のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項１０】
１分を基準に平均電流が１Ａ以下である、請求項１から９のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項１１】
前記電気伝導性パターンは黒化されたものである、請求項１から１０のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項１２】
透明基材上に電気伝導性パターンを形成するステップを含む伝導体の製造方法であって、前記電気伝導性パターンがその上に形成される前記透明基材の少なくとも一面の全体面積の３０％以上において、前記伝導体は、前記電気伝導性パターンと交差する直線を描いた時、前記直線と前記電気伝導性パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）が３０％以上である前記電気伝導性パターンを有し、
前記伝導体は、開口率が７０％以上であり、
前記電気伝導性パターンは、ボロノイダイアグラムまたはドローネパターンをなす図形の境界線形態のパターンを有し、
前記ボロノイダイアグラムまたはドローネパターンは、規則的な基本単位内の点の分布が不規則性を有するように生成される点を用いて製作されることを特徴とする伝導体の製造方法。
【請求項１３】
前記電気伝導性パターンを、印刷法、フォトリソグラフィ法、フォトグラフィ法、マスクを用いた方法、スパッタリング法、またはインクジェット法を利用して形成する、請求項１２に記載の伝導体の製造方法。
【請求項１４】
前記電気伝導性パターンを、線幅１００マイクロメータ以下、線間間隔３０ｍｍ以下、透明基材の表面からの線の高さ１〜１００マイクロメータになるように形成する、請求項１２または１３に記載の伝導体の製造方法。
【請求項１５】
透明基材、および前記透明基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターンを含む伝導体であって、前記電気伝導性パターンがその上に形成される前記透明基材の少なくとも一面の全体面積の３０％以上において、前記電気伝導性パターンは、連続的に配置された閉鎖図形からなり、前記伝導体は、前記閉鎖図形の面積の平均値に対する標準偏差の比率（面積分布比率）が２０％以上である電気伝導性パターンを有し、
前記伝導体は、開口率が７０％以上であり、
前記電気伝導性パターンは、ボロノイダイアグラムまたはドローネパターンをなす図形の境界線形態のパターンを有し、
前記ボロノイダイアグラムまたはドローネパターンは、規則的な基本単位内の点の分布が不規則性を有するように生成される点を用いて製作されることを特徴とする伝導体。
【請求項１６】
前記閉鎖図形は、少なくとも１００個である、請求項１５に記載の伝導体。
【請求項１７】
前記電気伝導性パターンは、線幅が１００マイクロメータ以下であり、線間間隔が３０ｍｍ以下であり、透明基材の表面からの線の高さが１〜１００マイクロメータである、請求項１５または１６に記載の伝導体。
【請求項１８】
直径２０ｃｍの任意の円に対する透過率偏差が５％以下であることを特徴とする、請求項１５から１７のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項１９】
前記透明基材は、ガラス、プラスチック基板またはプラスチックフィルムである請求項１５から１８のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項２０】
前記伝導体は、単位面積当たり抵抗値が、常温において、０．０１ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ〜１０００ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅである、請求項１５から１９のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項２１】
前記伝導体は、外部要因によって電流を伝導させるように構成される、請求項１５から２０のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項２２】
１分を基準に平均電流が１Ａ以下である、請求項１５から２１のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項２３】
前記電気伝導性パターンは黒化されたものである、請求項１５から２２のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項２４】
透明基材上に電気伝導性パターンを形成するステップを含む伝導体の製造方法であって、
前記電気伝導性パターンがその上に形成される前記透明基材の少なくとも一面の全体面積の３０％以上において、前記電気伝導性パターンは、連続的に配置された閉鎖図形から形成され、前記伝導体は、前記閉鎖図形の面積の平均値に対する標準偏差の比率（面積分布比率）が２０％以上である電気伝導性パターンを有し、
前記伝導体は、開口率が７０％以上であり、
前記電気伝導性パターンは、ボロノイダイアグラムまたはドローネパターンをなす図形の境界線形態のパターンを有し、
前記ボロノイダイアグラムまたはドローネパターンは、規則的な基本単位内の点の分布が不規則性を有するように生成される点を用いて製作される、伝導体の製造方法。
【請求項２５】
前記電気伝導性パターンを、印刷法、フォトリソグラフィ法、フォトグラフィ法、マスクを用いた方法、スパッタリング法、またはインクジェット法を利用して形成する、請求項２４に記載の伝導体の製造方法。
【請求項２６】
前記電気伝導性パターンを、線幅１００マイクロメータ以下、線間間隔３０ｍｍ以下、透明基材の表面からの線の高さ１〜１００マイクロメータになるように形成する、請求項２４または２５に記載の伝導体の製造方法。
【請求項２７】
請求項１〜１１および１５〜２３のうちのいずれか一項による伝導体を含む電磁波遮蔽フィルム。
【請求項２８】
前記透明基材の電気伝導性パターンが備えられた面の周縁部に備えられた接地部をさらに含む、請求項２７に記載の電磁波遮蔽フィルム。
【請求項２９】
請求項１〜１１および１５〜２３のうちのいずれか一項による伝導体を含むタッチパネル。
【請求項３０】
下部基材；上部基材；および前記下部基材の上部基材に接する面および前記上部基材の下部基材に接する面のうちの少なくとも一面に備えられた電極層を含み、前記下部基材および前記下部基材の上部基材に接する面に備えられた電極層；および前記上部基材および前記上部基材の下部基材に接する面に備えられた電極層のうちの１つまたは２つともが前記伝導体である、請求項２９に記載のタッチパネル。
【請求項３１】
請求項１〜１１および１５〜２３のうちのいずれか一項による伝導体を補助電極として含む有機発光素子照明。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は伝導体およびその製造方法に関する。本出願は２００９年７月１６日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２００９−００６５１０３号、第１０−２００９−００６５１０６号、および２０１０年７月１６日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２０１０−００６９１５７号の出願日の利益を主張し、その内容の全ては本明細書に含まれる。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、ディスプレイ装置とはＴＶやコンピュータ用モニターなどを通称する言葉であって、画像を形成するディスプレイ素子およびディスプレイ素子を支持するケースを含む。
【０００３】
前記ディスプレイ素子の例としては、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ、ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）、電気泳動ディスプレイ（Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃ  ｄｉｓｐｌａｙ）および陰極線管（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ、ＣＲＴ）が挙げられる。ディスプレイ素子には、画像実現のためのＲＧＢ画素パターンおよび追加的な光学フィルタが備えられることができる。
【０００４】
前記光学フィルタは、外部から入射した外光が再び外部に反射することを防止する反射防止フィルム、リモコンのような電子機器の誤作動を防止するためにディスプレイ素子から発生した近赤外線を遮蔽する近赤外線遮蔽フィルム、色調節染料を含み、色調を調節することによって色純度を高める色補正フィルム、およびディスプレイ装置の駆動時にディスプレイ素子から発生する電磁波の遮蔽のための電磁波遮蔽フィルムのうちの少なくとも１つを含むことができる。ここで、電磁波遮蔽フィルムは透明基材および基材上に備えられた金属メッシュパターンを含む。
【０００５】
一方、ディスプレイ装置と関連し、ＩＰＴＶの普及が加速化することにより、リモコンなどの別途の入力装置なしに、人の手が直接入力装置となるタッチ機能に対する必要性が益々大きくなっている。また、特定のポイント認識だけでなく、筆記が可能な多重認識（ｍｕｌｔｉ−ｔｏｕｃｈ）機能も要求されている。
【０００６】
前記のような機能を行うタッチパネルは信号の検出方式によって次のように分類することができる。
【０００７】
すなわち、直流電圧を印加した状態で圧力によって押された位置を電流または電圧値の変化によって検知する抵抗膜方式（ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  ｔｙｐｅ）と、交流電圧を印加した状態でキャパシタンスカップリング（ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ  ｃｏｕｐｌｉｎｇ）を利用した静電容量方式（ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  ｔｙｐｅ）と、磁界を印加した状態で選択された位置を電圧の変化として検知する電子誘導方式（ｅｌｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ  ｔｙｐｅ）などがある。
【０００８】
この中、最も普遍化した抵抗膜および静電容量方式のタッチパネルは、ＩＴＯフィルムのような透明導電膜を利用して、電気的な接触や静電容量の変化によってタッチ有無を認識する。しかし、前記透明導電膜は、１００ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ以上の高抵抗であるために大型化時に感度が落ち、スクリーンの大きさが大きくなるほどＩＴＯフィルムの価格が急増するという問題があるので商用化が容易ではない。これを克服するために、伝導度の高い金属パターンを用いた方式によって大型化を実現しようとする試みがなされている。
【０００９】
上記のように、ディスプレイ装置において、金属パターンを含む電磁波遮蔽フィルムやタッチパネルを含む場合、これらはディスプレイのピクセルパターン、電極パターンまたは他の光学フィルムのパターン構造と共に干渉を引き起こしてモアレ現象をもたらすという問題がある。ここで、モアレ（ｍｏｉｒｅ）とは、規則的な２以上のパターンが重なる時に発生する干渉縞を称する言葉である。
【００１０】
一例として、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）においては、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の画素パターンと光学フィルタの電磁波遮蔽用金属メッシュパターンが共存するのでモアレ現象が発生し得る。ここで、一般的にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の仕様が決定されれば、光学フィルタの金属メッシュのパターン設計を通じてモアレ現象を解消しようとする試みをするようになる。
【００１１】
このように、モアレをなくすために、電磁波遮蔽用金属メッシュパターンの線幅、ピッチ（Ｐｉｔｃｈ）および角度を調節するが、ディスプレイの大きさおよびピクセルの実現方式に応じて他のパターンで対応しなければならないという煩わしさがある。
【００１２】
特に、最近開発されたプラズマディスプレイパネルは、高解像度を実現するために画素パターンをより細かくしており、これによってモアレの発生可能性がより大きくなった。そこで、既存のパターンの線幅、ピッチ、角度の調節だけではモアレの改善に限界がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、前記のような従来技術の問題点を解決するためのものであり、本発明は、視野を遮られず、伝導性に優れるだけでなく、モアレ（ｍｏｉｒｅ）現象を防止できるパターンを含む伝導体およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の一実施状態は、
透明基材、および前記透明基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターンを含む伝導体であって、前記透明基材の全体面積の３０％以上が、前記電気伝導性パターンと交差する直線を描いた時、前記直線と前記電気伝導性パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）が２％以上である電気伝導性パターンを有することを特徴とする伝導体を提供する。前記電気伝導性パターンと交差する直線は電気伝導性パターンとの交差点の最隣接距離偏差が小さい線であることが好ましい。あるいは、電気伝導性パターンの任意の１点の接線に対して垂直した方向の線であってもよい。
【００１５】
本発明のまた他の一実施状態は、透明基材上に電気伝導性パターンを形成するステップを含む伝導体の製造方法であって、前記電気伝導性パターンを、前記透明基材の全体面積の３０％以上に、前記電気伝導性パターンと交差する直線を描いた時、前記直線と前記電気伝導性パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）が２％以上であるパターンに形成することを特徴とする伝導体の製造方法を提供する。前記電気伝導性パターンは、印刷法、フォトリソグラフィ法、フォトグラフィ法、マスクを用いた方法、スパッタリング法、またはインクジェット法を利用して形成することができる。
【００１６】
本発明のまた他の一実施状態は、
透明基材、および前記透明基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターンを含む伝導体であって、前記透明基材の全体面積の３０％以上が、分布が連続的な閉鎖図形からなり、前記閉鎖図形の面積の平均値に対する標準偏差の比率（面積分布比率）が２％以上である電気伝導性パターンを有することを特徴とする伝導体を提供する。
【００１７】
本発明のまた他の一実施状態は、透明基材上に電気伝導性パターンを形成するステップを含む伝導体の製造方法であって、前記電気伝導性パターンを、前記透明基材の全体面積の３０％以上に、分布が連続的な閉鎖図形からなり、前記閉鎖図形の面積の平均値に対する標準偏差の比率（面積分布比率）が２％以上であるパターンに形成することを特徴とする伝導体の製造方法を提供する。前記電気伝導性パターンは、印刷法、フォトリソグラフィ法、フォトグラフィ法、マスクを用いた方法、スパッタリング法、またはインクジェット法を利用して形成することができる。
【００１８】
本発明のまた他の一実施状態は、前記伝導体を含む電磁波遮蔽フィルム、タッチパネル、ディスプレイ、および有機発光素子（ＯＬＥＤ）照明を提供する。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係る伝導体は、視野を遮られず、伝導性に優れるだけでなく、モアレ（ｍｏｉｒｅ）現象を防止することができる。また、本発明に係る伝導体は、目的とするパターンを予め定めた後、印刷法、フォトリソグラフィ法、フォトグラフィ法、マスクを用いた方法、スパッタリング法、またはインクジェット法などの多様な方法によって形成することができるので、工程が容易で安価である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施状態による伝導体の電気伝導性パターンに任意の直線を描いた状態を示すものである。
【図２】本発明の一実施状態による伝導体の電気伝導性パターンに任意の直線を描いた状態を示すものである。
【図３】本発明の一実施状態による伝導体の電気伝導性パターンを例示したものである。
【図４】オフセット印刷工程を示す模式図である。
【図５】本発明の一実施状態により、ボロノイダイアグラムジェネレータを用いたパターン形成を例示したものである。
【図６】本発明に係る伝導体の電気伝導性パターンを例示したものである。
【図７】本発明に係る伝導体の電気伝導性パターンを例示したものである。
【図８】本発明に係る伝導体の電気伝導性パターンを例示したものである。
【図９】本発明に係る伝導体の電気伝導性パターンを例示したものである。
【図１０】本発明の一実施状態により、ドローネパターンジェネレータを用いたパターン形成を例示したものである。
【図１１】本発明に係る伝導体の電気伝導性パターンを例示したものである。
【図１２】本発明に係る伝導体の電気伝導性パターンを例示したものである。
【図１３】本発明に係る伝導体の電気伝導性パターンを例示したものである。
【図１４】本発明の一実施状態により、ドローネパターンジェネレータの配置を例示したものである。
【図１５】従来技術による伝導体の電気伝導性パターンを示すものである。
【図１６】従来技術による伝導体の電気伝導性パターンを示すものである。
【図１７】本発明の一実施状態による電気伝導性パターンを用いた伝導体の位置別面抵抗値を測定した結果を例示したものである。
【図１８】本発明の一実施状態による電気伝導性パターンを用いた伝導体の位置別面抵抗値を測定した結果を例示したものである。
【図１９】本発明の一実施状態による電気伝導性パターンを含む伝導体と従来のＰＤＰフィルタを、各々、４２インチのＰＤＰ上に５ｃｍの距離を置いておいて重ねた後のモアレの発生有無を角度別に比較した例である。
【図２０】本発明の一実施状態による電気伝導性パターンを含む伝導体と従来のＰＤＰフィルタを、各々、４２インチのＰＤＰ上に５ｃｍの距離を置いておいて重ねた後のモアレの発生有無を角度別に比較した例である。
【図２１】本発明の一実施状態による電気伝導性パターンを含む伝導体をＰＤＰの電磁波遮蔽（ＥＭＩ）フィルタとして用いた時の電磁波遮蔽（ＥＭＩ）機能を３０〜１０００ＭＨｚの周波数領域で測定した結果を例示したものである。
【図２２】本発明の一実施状態による電気伝導性パターンを含むタッチスクリーンの構造を例示したものである。
【図２３】図２２の構造を有する４０インチのタッチスクリーンを製作して、タッチスクリーン（Ｔｏｕｃｈ  ｓｃｒｅｅｎ）の正確性を示す線形性評価を行った結果を従来の透明伝導性基板（ＩＴＯ）を有するタッチスクリーンの結果と比較して例示したものである。
【図２４】実施例で製造された伝導体の黒化処理前後の写真を示すものである。
【図２５】本発明の一実施状態による有機発光素子照明用の補助電極の構造を例示したものである。
【図２６】本発明の一実施状態による有機発光素子照明用の補助電極の構造を例示したものである。
【図２７】線幅およびピッチに応じたモアレ現象を例示したものである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明をより具体的に説明する。
【００２２】
本発明に係る伝導体は、透明基材、および前記透明基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターンを含む伝導体であって、前記透明基材の全体面積の３０％以上が、前記電気伝導性パターンと交差する直線を描いた時、前記直線と前記電気伝導性パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）が２％以上である電気伝導性パターンを有することを特徴とする。
【００２３】
または、本発明に係る伝導体は、透明基材、および前記透明基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターンを含む伝導体であって、前記透明基材の全体面積の３０％以上が、分布が連続的な閉鎖図形からなり、前記閉鎖図形の面積の平均値に対する標準偏差の比率（面積分布比率）が２％以上である電気伝導性パターンを有することを特徴とする。
【００２４】
従来技術のように透明前面伝導層を形成する場合には抵抗が高すぎるという問題がある。また、グリッド（ｇｒｉｄ）方式または線形（ｌｉｎｅａｒ）方式のように１種類形状の規則的なパターンに形成された電気伝導性パターンを規則的な内部構造、例えば、ピクセル構造を有するディスプレイや、規則的なパターン構造を有する光学フィルムまたは電極構造を含むディスプレイに含ませる場合、これらのパターン構造に隣接した光源によってパターン間の相対的な干渉が起こってモアレ現象が発生するという問題がある。このようなモアレ現象が発生すれば、視覚的な認知性（視認性）が落ちる。したがって、これを解決するために、本発明においては、パターンの規則性がこのようなモアレをもたらすということに着眼して、パターンを不規則にしてモアレが発生することを防止する。
【００２５】
本発明においては、上記のように、透明基材の全体面積の３０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは９０％以上が、前記電気伝導性パターンと交差する直線を描いた時、前記直線と前記電気伝導性パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）が２％以上である電気伝導性パターンを有することにより、モアレ現象を防止すると同時に優れた電気伝導度と光学的特性を満足させられる伝導体を提供することができる。
【００２６】
本発明において、前記電気伝導性パターンと交差する直線は、前記電気伝導性パターンとの隣接する交点間の距離の標準偏差が最も小さい線であることが好ましい。あるいは、前記電気伝導性パターンと交差する直線は、前記電気伝導性パターンのある１点の接線に対して垂直した方向に延びた直線であることが好ましい。
【００２７】
本発明に係る伝導体において、前記電気伝導性パターンと交差する直線は、前記電気伝導性パターンとの交点が８０個以上であることが好ましい。
【００２８】
前記電気伝導性パターンと交差する直線と前記電気伝導性パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）が２％以上であることが好ましく、１０％以上であることがより好ましく、２０％以上であることがさらに好ましい。
【００２９】
前記電気伝導性パターンと交差する直線と前記電気伝導性パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）が２％以上であるパターンは、透明基材の全体面積に対して３０％以上であることが好ましい。前記のような電気伝導性パターンが備えられた透明基材の表面の少なくとも一部には他の形態の電気伝導性パターンが備えられることもできる。
【００３０】
本発明に係る伝導体において、前記閉鎖図形は少なくとも１００個存在することが好ましい。
【００３１】
前記閉鎖図形の面積の平均値に対する標準偏差の比率（面積分布比率）が２％以上であることが好ましく、１０％以上であることがより好ましく、２０％以上であることがさらに好ましい。
【００３２】
面積の平均値に対する標準偏差の比率（面積分布比率）が２％以上である閉鎖図形からなるパターンは、透明基材の全体面積に対して３０％以上であることが好ましい。前記のような電気伝導性パターンが備えられた透明基材の表面の少なくとも一部には、他の形態の電気伝導性パターンが備えられることもできる。
【００３３】
本発明に係る伝導体を画素パターンまたはカラーフィルタパターンのような規則的なパターンを有する装置、例えばディスプレイから５ｃｍ以下の距離をおいて配置した後、透明基材に対して垂直な線と０度〜８０度の間の角度で前記装置を観測した時、モアレ（ｍｏｉｒｅ）現象による干渉パターンが観測されない。
【００３４】
また、本発明に係る伝導体を電磁波遮蔽（ＥＭＩ）フィルムとして用いて４２インチのＰＤＰを製造した後、電磁波遮蔽（ＥＭＩ）能力レベルを測定するために、３ｍの離隔距離において３０ＭＨｚ〜１０００ＭＨｚの間の周波数領域帯を測定した結果、Ｃｌａｓｓ  Ｂレベル以上の電磁波遮蔽（ＥＭＩ）能力を示すことを確認した。この時、透明基材に対して垂直な線と０度〜８０度の間の角度でＰＤＰを観測した時、モアレ（ｍｏｉｒｅ）現象による干渉パターンが観測されない。
【００３５】
また、本発明に係る伝導体を用いて４０インチのプロジェクションされたキャパシタンスタイプ（ｐｒｏｊｅｃｔｅｄ  ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ  ｔｙｐｅ）のタッチスクリーン（ｔｏｕｃｈ  ｓｃｒｅｅｎ）を製作した後、タッチスクリーンの正確性を評価するための線形性評価を行った結果、既存のＩＴＯ基盤のタッチスクリーンに比べてより高い精密性を有するタッチスクリーンを実現することができた。この時、タッチスクリーンに対して垂直な線と０度〜８０度の間の角度でタッチスクリーンを観測した時、モアレ（ｍｏｉｒｅ）現象による干渉パターンが観測されない。
【００３６】
一方、パターンが完全に不規則な場合、線の分布において、疎な所と密な所の差が生じ得る。このような線の分布においては、線幅がいくら小さくても目に触れる視覚的な認知性の問題が生じ得るし、伝導体そのものが目的とする用途に必要な要件を満足させられない場合もある。例えば、電磁波遮蔽の用途として用いる場合、パターンが完全に不規則であって、一部パターンの間隔が広すぎると、間隔が広くなったパターンを通じて電磁波の通過が可能であるので不良が発生し得る。また、タッチパネルの用途として用いる場合、パターンの疎密が発生する場合、抵抗または静電容量が不規則に形成され、タッチされる位置が誤って認識される余地がある。このような問題を解決するために、本発明においては、電気伝導性パターンを形成する時、規則性と不規則性を適切に調和させることができる。例えば、電気伝導性パターンが目に触れたり局部伝導性が発生したりしないように基本単位を定め、その基本単位内で電気伝導性パターンを不規則に形成することができる。このような方法を利用すれば、電気伝導性パターンの分布がある一地点に偏らないようにすることができるので視覚性を補完すると同時に製品の用途に合わせたスペックを満足させることができる。
【００３７】
前述したように、伝導体の均一な電気伝導性および視覚性のためにパターンの開口率が単位面積において一定であることが好ましい。前記伝導体は、直径２０ｃｍの任意の円に対する透過率偏差が５％以下であることが好ましい。この場合、前記伝導体は局部的な伝導性を防止することができる。
【００３８】
本発明において、前記電気伝導性パターンは直線からなってもよいが、曲線、波線、ジグザグ線などの多様な変形が可能である。また、前記形態の線のうちの少なくとも２種類が混在した形態であってもよい。
【００３９】
図１および図２は、本発明の一実施状態による電気伝導性パターンに任意の線を描いた時を示すものである。しかし、本発明の範囲がこれらに限定されるものではない。図１は電気伝導性パターンが互いに交差しない１次元の形態であり、図２は電気伝導性パターンが互いに交差して少なくとも一部領域に閉鎖図形の形態が形成された２次元の形態である。また１つの前記電気伝導性パターンの例を図６に示したが、本発明の範囲がこれらだけに限定されるものではない。
【００４０】
図３は、本発明の一実施状態による電気伝導性パターンを例示したものである。このようなパターンの面積分布比率は２０％以上、例えば２０％〜３５％である。
【００４１】
本発明の一実施状態によれば、前記電気伝導性パターンは、ボロノイダイアグラム（Ｖｏｒｏｎｏｉ  ｄｉａｇｒａｍ）をなす図形の境界線形態であってもよい。
【００４２】
本発明において、前記電気伝導性パターンを、ボロノイダイアグラムをなす図形の境界線形態に形成することによってモアレ現象を防止することができる。ボロノイダイアグラム（Ｖｏｒｏｎｏｉ  ｄｉａｇｒａｍ）とは、満たそうとする領域にボロノイダイアグラムジェネレータ（Ｖｏｒｏｎｏｉ  ｄｉａｇｒａｍ  ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）という点を配置すれば、各点が他の点からの距離に比べて該当点との距離が最も近い領域を満たす方式でなされるパターンである。例えば、全国の大型割引店を点で表示し、消費者らは最も近い大型割引店に行くとする時、各割引店の商圏を表示するパターンを例に挙げることができる。すなわち、正六角形で空間を満たし、正六角形の各点をボロノイジェネレータに選定すれば、蜂の巣（ｈｏｎｅｙｃｏｍｂ）構造が前記電気伝導性パターンになり得る。本発明において、ボロノイダイアグラムジェネレータを利用して電気伝導性パターンを形成する場合、他の規則的なパターンとの干渉によって発生するモアレ現象を防止できる複雑なパターン形態を容易に決定できるという長所がある。図３に、ボロノイダイアグラムジェネレータを用いたパターンの形成が示されている。前記導電性パターンの一例を図７〜図９に示すが、本発明の範囲がこれらだけに限定されるものではない。
【００４３】
本発明においては、ボロノイダイアグラムジェネレータの位置を規則または不規則に位置させることによって前記ジェネレータから派生したパターンを利用することができる。
【００４４】
電気伝導性パターンを、ボロノイダイアグラムをなす図形の境界線形態に形成する場合にも、前述したような視覚的な認知性の問題を解決するために、ボロノイダイアグラムジェネレータを生成する時に規則性と不規則性を適切に調和させることができる。例えば、パターンが入る面積に一定大きさの面積を基本単位（ｕｎｉｔ）に指定した後、基本単位の中における点の分布が不規則性を有するように点を生成した後にボロノイパターンを製作することもできる。このような方法を利用すれば、線の分布がある一地点に偏らないようにするので視覚性を補完することができる。
【００４５】
前述したように、伝導体の均一な伝導性および視覚性のために、パターンの開口率を単位面積において一定にする場合、ボロノイダイアグラムジェネレータの単位面積当たりの個数を調節することができる。この時、ボロノイダイアグラムジェネレータの単位面積当たりの個数を均一に調節する時、前記単位面積は５ｃｍ２以下であることが好ましく、１ｃｍ２以下であることがより好ましい。前記ボロノイダイアグラムジェネレータの単位面積当たりの個数は２５〜２，５００個／ｃｍ２が好ましく、１００〜２，０００個／ｃｍ２がより好ましい。
【００４６】
前記単位面積内のパターンを構成する図形のうちの少なくとも１つは残りの図形とは相異なる形態を有することが好ましい。
【００４７】
本発明のまた他の一実施状態によれば、前記電気伝導性パターンは、ドローネパターンをなす少なくとも１つの三角形からなる図形の境界線形態であってもよい。具体的には、前記電気伝導性パターンの形態は、ドローネパターンを構成する三角形の境界線形態であるか、ドローネパターンを構成する少なくとも２個の三角形からなる図形の境界線形態であるか、これらの組み合わせ形態である。
【００４８】
前記電気伝導性パターンを、ドローネパターンをなす少なくとも１つの三角形からなる図形の境界線形態に形成することにより、光の回折および干渉による副作用を最小化することができる。ドローネパターン（Ｄｅｌａｕｎａｙ  ｐａｔｔｅｒｎ）とは、パターンを満たそうとする領域にドローネパターンジェネレータ（ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）という点を配置し、周辺に位置した３個の点を互いに連結して三角形を描くが、三角形の全ての頂点を含む円（ｃｉｒｃｕｍｃｉｒｃｌｅ）を描いた時、前記円内には他の点が存在しないように三角形を描くことによって形成されたパターンである。このようなパターンを形成するために、ドローネパターンジェネレータに基づいてドローネ三角形分割（Ｄｅｌａｕｎａｙ  ｔｒｉａｎｇｕｌａｔｉｏｎ）と円描き（ｃｉｒｃｕｌａｔｉｏｎ）を繰り返すことができる。前記ドローネ三角形分割は、三角形の全ての角の最小角度を最大化して細い体形の三角形を避ける方式でなされる。前記ドローネパターンの概念はＢｏｒｉｓ  Ｄｅｌａｕｎａｙによって１９３４年に提案された。前記ドローネパターンの形成例を図７に示す。また、ドローネパターンの例を図１１〜図１３に示す。しかし、本発明の範囲がこれらだけに限定されるものではない。
【００４９】
前記ドローネパターンをなす少なくとも１つの三角形からなる図形の境界線形態のパターンは、ドローネパターンジェネレータの位置を規則または不規則に位置させることにより、前記ジェネレータから派生したパターンを利用することができる。本発明において、ドローネパターンジェネレータを利用して電気伝導性パターンを形成する場合、モアレ現象を防止できる複雑なパターン形態を容易に決定できるという長所がある。
【００５０】
電気伝導性パターンを、ドローネパターンをなす少なくとも１つの三角形からなる図形の境界線形態に形成する場合にも、前述したような視覚的な認知性の問題および局部伝導性の問題を解決するために、ドローネパターンジェネレータを生成する時に規則性と不規則性を適切に調和させることができる。例えば、先ず、パターンが入る面積に不規則でありつつ均質な基準点を生成する。この時、不規則であるとは各点間の距離が一定ではないことを意味し、均質であるとは単位面積当たりに含まれる点の個数が同一であることを意味する。
【００５１】
上記のように不規則でありつつ均質な基準点を生成する方法を例に挙げれば次の通りである。図１４の１に示すように、全面積に任意の点を生成する。その次、生成された点間の間隔を測定し、点間の間隔が既に設定された値より小さい場合には点を除去する。また、点に基づいてドローネ三角形パターンを形成し、その三角形の面積が既に設定された値より大きい場合には三角形の内部に点を追加する。前記過程を繰り返し行えば、図１４の２に示すように不規則でありつつも均質な基準点が生成されるようになる。次に、生成された基準点を１つずつ含むドローネ三角形を生成する。このステップは、ドローネパターンを利用してなされる。このような方法を利用すれば、線の分布がある一地点に偏らないので視覚性を補完することができる。
【００５２】
前述したように、伝導体の均一な伝導性および視覚性のためにパターンの開口率を単位面積において一定にする場合、ドローネパターンジェネレータの単位面積当たりの個数を調節することが好ましい。この時、ドローネパターンジェネレータの単位面積当たりの個数を均一に調節する時、前記単位面積は５ｃｍ２以下であることが好ましく、１ｃｍ２以下であることがより好ましい。前記ドローネパターンジェネレータの単位面積当たりの個数は２５〜２，５００個／ｃｍ２が好ましく、１００〜２，０００個／ｃｍ２がより好ましい。
【００５３】
前記単位面積内のパターンを構成する図形のうちの少なくとも１つは残りの図形とは相異なる形態を有することが好ましい。
【００５４】
本発明において、前述した電気伝導性パターンは、後述する方法によって透明基材上に形成する場合に線幅および線高さを均一にすることができる。本発明の一実施状態によれば、人為的に前記電気伝導性パターンの少なくとも一部を残りのパターンとは異なるように形成することができる。このような構成により、所望の電気伝導性パターンを得ることができる。例えば、目的により、一部領域が残りの面積に比べて電気伝導性がより高く要求されたり、タッチパネル電極の場合、一部領域においてタッチの認知がよりセンシティブに要求されたりする場合に、該当領域と残りの領域の電気伝導性パターンを異にすることができる。電気伝導性パターンの少なくとも一部を残りの印刷パターンとは異にするために印刷パターンの線幅や線間隔を異にすることができる。一例として、静電容量式タッチスクリーンの場合、側面のパッド（ｐａｄ）と連結される部分は高伝導性の有無が大きいイッシューとなっている。
【００５５】
本発明の一実施状態によれば、前記伝導体は電気伝導性パターンが形成されない領域を含むことができる。
【００５６】
前記モアレ現象の防止効果を極大化するために、前記電気伝導性パターンを非対称構造の図形からなるパターン面積が全体パターン面積に対して１０％以上になるように形成することができる。また、ボロノイダイアグラムをなす、ある１つの図形の中心点を前記図形と境界をなす隣接図形の中心点と連結した線のうちの少なくとも１つが残りの線とは長さが相異なる図形の面積が全体電気伝導性パターン面積に対して１０％以上になるように形成することができる。
【００５７】
前記電気伝導性パターンの製作時、制限された面積にパターンをデザインした後、前記制限された面積を繰り返し連結する方式を利用することによって大面積パターンを製作することもできる。前記パターンを繰り返し連結するためには、各４辺の点の位置を固定することによって反復的なパターンが互いに連結されるようにすることができる。この時、制限された面積は、規則性によるモアレ現象を防止するために１ｃｍ２以上の面積を有することが好ましく、１０ｃｍ２以上の面積を有することがより好ましい。
【００５８】
前記のようなパターンによってモアレ現象を回避することができるが、前記導電性パターンの線幅およびピッチを調節することによってモアレ現象の回避を極大化することができる。具体的には、前記導電性パターンは、１００マイクロメータ以下、好ましくは０．１〜３０マイクロメータ、より好ましくは０．５〜１０マイクロメータ、さらに好ましくは１〜５マイクロメータの微細な線幅を有することによって細かいモアレ現象まで防止することができる。また、前記導電性パターンのピッチをディスプレイのピクセルの大きさ単位と一致させないことによって、例えば長軸方向に２５０マイクロメータのサブピクセル（Ｓｕｂ  Ｐｉｘｅｌ）を有するディスプレイの場合、導電性パターンのピッチ間隔として２５０ピッチを避けることによって、ピクセル干渉によるディスプレイの色の歪曲現象まで防止することができる。線幅およびピッチに応じたモアレ現象を図２７に示す。１０マイクロメータ以下の線幅およびピッチ変化に応じたモアレを評価した結果、１、３マイクロメータの場合、細かいモアレの発生がなくなることを確認することができる。また、２５０ピッチの場合には虹色の光が観察された。これにより、ＬＣＤのようなディスプレイのピクセル（ｐｉｘｅｌ）長軸長さとの関連性を確認することができる。
【００５９】
本発明においては、先ず、目的とするパターン形態を決定した後、印刷法、フォトリソグラフィ法、フォトグラフィ法、マスクを用いた方法、スパッタリング法、またはインクジェット法などを利用することによって、透明基材上に線幅が小さくて精密な電気伝導性パターンを形成することができる。前記パターン形態の決定時、ボロノイダイアグラムジェネレータを利用することができ、これによって複雑なパターン形態を容易に決定することができる。ここで、前記ボロノイダイアグラムジェネレータとは、各々、前述したように、ボロノイダイアグラムを形成できるように配置された点を意味する。しかし、本発明の範囲がそれに限定されるものではなく、目的とするパターン形態の決定時にそれ以外の方法を用いることもできる。
【００６０】
前記印刷法は、電気伝導性パターン材料を含むペーストを目的とするパターン形態で透明基材上に転写した後に焼成する方式で行われる。前記転写方法は特に限定されないが、凹版またはスクリーンなどのパターン転写媒体に前記パターン形態を形成し、これを利用して所望のパターンを透明基材に転写することができる。前記パターン転写媒体にパターン形態を形成する方法としては当技術分野で知られている方法を利用することができる。
【００６１】
前記印刷法は特に限定されず、オフセット印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷などの印刷法を利用することができ、これらのうちの１種以上の複合方法を利用することもできる。前記印刷法は、ロールツーロール（ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｒｏｌｌ）方法、ロールツープレート（ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｐｌａｔｅ）、プレートツーロール（ｐｌａｔｅ  ｔｏ  ｒｏｌｌ）またはプレートツープレート（ｐｌａｔｅ  ｔｏ  ｐｌａｔｅ）方法を利用することができる。
【００６２】
オフセット印刷は、パターンが彫られた凹版にペーストを満たした後、ブランケット（ｂｌａｎｋｅｔ）と呼ばれるシリコンゴムに１次転写をさせた後、ブランケットと透明基材を密着させて２次転写をさせる方式で行うことができる。スクリーン印刷は、パターンがあるスクリーン上にペーストを位置させた後、スクイージを押しながら空間が空いているスクリーンを通じて直接的に基材にペーストを位置させる方式で行うことができる。グラビア印刷は、ロール上にパターンが彫られたブランケットを巻き、ペーストをパターンの中に満たした後、透明基材に転写させる方式で行うことができる。本発明においては、前記方式だけでなく、前記方式を複合的に利用することもできる。また、その他の当業者らに知られた印刷方式を利用することもできる。
【００６３】
オフセット印刷法の場合、ブランケットが有する離型特性によってペーストがガラスのような透明基材にほぼ大部分転写されるため、別途のブランケットの洗浄工程が必要ではない。前記凹版は、目的とする電気伝導性パターンが彫られたガラスを精密エッチングして製造することができ、耐久性のためにガラスの表面に金属またはＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ−ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ）コーティングを施すこともできる。前記凹版は、金属板をエッチングして製造することもできる。
【００６４】
本発明においては、より精密な電気伝導性パターンを実現するためにオフセット印刷法が好ましい。図４は、オフセット印刷方法を例示したものである。図２によれば、第１ステップとして、ドクターブレード（Ｄｏｃｔｏｒ  Ｂｌａｄｅ）を利用して凹版のパターンにペーストを満たした後、ブランケットを回転させて１次転写し、第２ステップとして、ブランケットを回転させて透明基材の表面に２次転写をする。
【００６５】
本発明においては、前述した印刷法に限定されず、フォトリソグラフィ工程を利用することもできる。例えば、フォトリソグラフィ工程は、透明基材の全面に電気伝導性パターン材料層を形成し、その上にフォトレジスト層を形成し、選択的露光および現像工程によってフォトレジスト層をパターン化した後、パターン化されたフォトレジスト層をマスクとして利用して電気伝導性パターンをパターン化し、フォトレジスト層を除去する方式で行うことができる。
【００６６】
また、本発明は、フォトグラフィ方法を利用することもできる。例えば、透明基材上にハロゲン化銀を含む写真感光材料を塗布した後、前記感光材料を選択的露光および現像工程によってパターンを形成することもできる。より詳細な例を挙げれば下記の通りである。先ず、パターンを形成しようとする基材上にネガティブ用感光材料を塗布する。この時、基材としてはＰＥＴ、アセチルセルロイドなどの高分子フィルムを用いることができる。感光材料が塗布された高分子フィルム材をここではフィルムと称することにする。前記ネガティブ用感光材料は、一般的に光に対して非常にセンシティブであり、規則的な反応をするＡｇＢｒに若干のＡｇＩを混合したハロゲン化銀（Ｓｉｌｖｅｒ  Ｈａｌｉｄｅ）から構成することができる。一般的なネガティブ用感光材料を撮影して現像処理された画像は被写体と明暗が反対である陰画であるため、形成しようとするパターン形状、好ましくは、不規則なパターン形状を有するマスク（ｍａｓｋ）を利用して撮影を進行することができる。
【００６７】
フォトリソグラフィとフォトグラフィ工程を利用して形成した前記電気伝導性パターンの伝導度を上げるためにメッキ処理をさらに行うこともできる。前記メッキは無電解メッキ方法を利用することができ、メッキ材料としては銅またはニッケルを用いることができ、銅メッキを施した後、その上にニッケルメッキを施すことができるが、本発明の範囲がこれらの例だけに限定されるものではない。
【００６８】
また、本発明は、マスクを用いた方法を利用することもできる。例えば、目的とする導電性パターンの形状を有するマスクを基材の近くに位置させた後、電気伝導性パターン材料を基材に蒸着する方式を利用してパターン化することもできる。この時、蒸着をする方式は熱または電子ビームによる熱蒸着法およびスパッタ（ｓｐｕｔｔｅｒ）のようなＰＶＤ（ｐｈｙｓｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）方式を利用することもでき、有機金属（ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌ）材料を用いたＣＶＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）方式を利用することもできる。
【００６９】
本発明において、前記透明基材は特に限定されないが、光透過率が５０％以上、好ましくは７５％以上であることが好ましい。具体的には、前記透明基材としてはガラスを用いることもでき、プラスチック基板またはプラスチックフィルムを用いることができる。前記プラスチック基板またはフィルムとしては当技術分野で知られている材料を用いることができ、例えば、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリエポキシ系、ポリオレフィン系、ポリカーボネート系およびセルロース系のうちから選択された１種以上の樹脂で形成されたものを用いることができる。より具体的には、ＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＶＢ（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｂｕｔｙｒａｌ）、ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＥＳ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｆｏｎ）、ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アセチルセルロイドのような可視光透過率が８０％以上であるフィルムが好ましい。前記プラスチックフィルムの厚さは１２．５〜５００マイクロメータであることが好ましく、５０〜４５０マイクロメータであることがより好ましく、５０〜２５０マイクロメータであることがさらに好ましい。前記プラスチック基板は、プラスチックフィルムの一面または両面に水分、ガス遮断のためのガスバリア層、強度補強のためのハードコート層のような多様な機能性層が積層された構造の基板であってもよい。前記プラスチック基板に含まれ得る機能性層は前述したものに限定されず、多様な機能性層が備えられることができる。
【００７０】
前記電気伝導性パターンは、ディスプレイのように本発明の伝導体が適用される素子または装置に含まれる部品、例えば基板上に直接形成することもできる。
【００７１】
本発明において、前記電気伝導性パターンの材料としては、電気伝導度に優れた金属を用いることが好ましい。また、前記電気伝導性パターン材料の比抵抗値は１ｍｉｃｒｏＯｈｍ  ｃｍ以上、２００ｍｉｃｒｏＯｈｍ  ｃｍ以下の値を有することが好ましい。電気伝導性パターン材料の具体的な例としては銅、銀（ｓｉｌｖｅｒ）、金、鉄、ニッケル、アルミニウム、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）などを用いることができ、銀が最も好ましい。前記電気伝導性パターン材料は粒子形態で用いることができる。本発明において、電気伝導性パターン材料として、銀でコーティングされた銅粒子も用いることができる。
【００７２】
本発明において、前記電気伝導性パターン材料を含むペーストを用いる場合、前記ペーストは、印刷工程が容易になるように前述した電気伝導性パターン材料の以外に有機バインダーをさらに含むこともできる。前記有機バインダーは、焼成工程において揮発する性質を有することが好ましい。前記有機バインダーとしてはポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂および変性エポキシなどが挙げられるが、これらだけに限定されるものではない。
【００７３】
ガラスのような透明基材に対するペーストの付着力を向上させるために、前記ペーストはガラスフリット（Ｇｌａｓｓ  Ｆｒｉｔ）をさらに含むことができる。前記ガラスフリットは市販品から選択することができるが、環境に優しい鉛成分のないガラスフリットを用いることが好ましい。この時、用いるガラスフリットの大きさは、平均口径が２マイクロメータ以下であり、最大口径が５０マイクロメータ以下のものが好ましい。
【００７４】
必要により、前記ペーストには溶媒をさらに追加することができる。前記溶媒としてはブチルカルビトールアセテート（Ｂｕｔｙｌ  Ｃａｒｂｉｔｏｌ  Ａｃｅｔａｔｅ）、カルビトールアセテート（Ｃａｒｂｉｔｏｌ  ａｃｅｔａｔｅ）、シクロヘキサノン（Ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｏｎ）、セロソルブアセテート（Ｃｅｌｌｏｓｏｌｖｅ  Ａｃｅｔａｔｅ）およびテルピネオール（Ｔｅｒｐｉｎｅｏｌ）などが挙げられるが、これらの例に本発明の範囲が限定されるものではない。
【００７５】
本発明において、電気伝導性パターン材料、有機バインダー、ガラスフリットおよび溶媒を含むペーストを用いる場合、各成分の重量比は、電気伝導性パターン材料５０〜９０％、有機バインダー１〜２０％、ガラスフリット０．１〜１０％および溶媒１〜２０％にすることが好ましい。
【００７６】
本発明の一実施状態によれば、前記電気伝導性パターンは黒化することができる。高温において金属材料を含むペーストを焼成すれば、金属光沢が発現され、光の反射などによって視認性が悪くなり得る。このような問題は、前記電気伝導性パターンを黒化させることによって防止することができる。前記電気伝導性パターンを黒化させるために、電気伝導性パターン形成のためのペーストに黒化物質を添加するか、前記ペーストを印刷および焼成した後に黒化処理を行うことによって電気伝導性パターンを黒化させることができる。
【００７７】
前記ペーストに添加され得る黒化物質としては、金属酸化物、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、黒色顔料、着色されたガラスフリットなどがある。この時、前記ペーストの組成は、電気伝導性パターン材料は５０〜９０重量％、有機バインダーは１〜２０重量％、黒化物質は１〜１０重量％、ガラスフリットは０．１〜１０重量％、溶媒は１〜２０重量％にすることが好ましい。
【００７８】
前記焼成後黒化処理をする時、ペーストの組成は、電気伝導性パターン材料は５０〜９０重量％、有機バインダーは１〜２０重量％、ガラスフリットは０．１〜１０重量％、溶媒は１〜２０重量％にすることが好ましい。焼成後黒化処理は、酸化溶液、例えば、ＦｅまたはＣｕイオン含有溶液に浸漬、塩素イオンなどのハロゲンイオン含有溶液に浸漬、過酸化水素、硝酸などへの浸漬、ハロゲンガスの処理などがある。
【００７９】
本発明の一実施状態によれば、電気伝導性パターン材料、有機バインダーおよびガラスフリットを溶媒に分散させて製造することができる。具体的には、有機バインダーを溶媒に溶解させて有機バインダー樹脂液を製造し、ここにガラスフリットを添加し、最後に伝導性材料として前述した金属の粉末を添加した後にこね、３段ロールミルを利用して、かたまっていた金属粉末とガラスフリットが均一に分散するように製造することができる。しかし、本発明が前記方法に限定されるものではない。
【００８０】
前述した電気伝導性パターンの線幅が１００マイクロメータ以下、好ましくは３０マイクロメータ以下、より好ましくは２５マイクロメータ以下になるように形成することができる。
【００８１】
本発明において、前述したペーストを用いる場合、ペーストを前述したパターンの通りに印刷した後に焼成過程を経れば、電気伝導性を有するパターンが形成される。この時、焼成温度は特に限定されないが、４００〜８００℃、好ましくは６００〜７００℃にすることができる。前記電気伝導性パターンを形成する透明基材がガラスである場合、必要な場合、前記焼成ステップにおいて、前記ガラスを目的用途に合わせて成形をすることができる。また、前記電気伝導性パターンを形成する透明基材としてプラスチック基板またはフィルムを用いる場合には、比較的に低温で焼成を行うことが好ましい。例えば、５０〜３５０℃で行うことができる。
【００８２】
前記伝導体の電気伝導性パターンの線幅は１００マイクロメータ以下、好ましくは３０マイクロメータ以下、より好ましくは２５マイクロメータ以下であり、５マイクロメータ以上であることが好ましい。前記電気伝導性パターンの線間間隔は３０ｍｍ以下であることが好ましく、１０マイクロメータ〜１０ｍｍであることがより好ましく、５０マイクロメータ〜１０００マイクロメータであることがより好ましく、２００マイクロメータ〜６５０マイクロメータであることがさらに好ましい。前記電気伝導性パターンの高さは１〜１００マイクロメータ、より好ましくは３マイクロメータである。前述した方法によって電気伝導性パターンの線幅および線高さを均一にすることができる。本発明においては、電気伝導性パターンの均一度は、線幅の場合には±３マイクロメータ範囲内にすることができ、線高さの場合には±１マイクロメータ範囲内にすることができる。
【００８３】
本発明に係る伝導体は電源に連結され、この時、開口率を考慮した単位面積当たり抵抗値は、常温において、０．０１ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ〜１０００ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ、好ましくは０．０５ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ〜５００ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅである。
【００８４】
本発明に係る伝導体は、伝導体そのものの構成以外の外部要因によって電流を伝導させる用途に限定されてもよい。この時、流れる電流の量は１分を基準に平均電流は１Ａ以下である。一例として、本発明に係る伝導体が電磁波遮蔽（ＥＭＩ）フィルムとして用いられる場合、ＰＤＰのようなディスプレイにおける電磁波発生によって前記伝導体に電流流れが生じ、生成された電流は接地部を通じて消滅される。また他の一例として、本発明に係る伝導体がタッチパネル（Ｔｏｕｃｈ  ｐａｎｅｌ）の１つの電極層として用いられる場合、本発明に係る伝導体と対向する伝導性基材との電位差および接触によって電流が発生する。また他の一例として、本発明に係る伝導体が有機発光素子（ＯＬＥＤ）照明用の補助電極として用いられる場合、前記伝導体上に形成された対応電極の電位に応じて電流が流れるようになる。
【００８５】
本発明に係る伝導体において、電気伝導性パターンの開口率、すなわちパターンによって覆われない透明基材の面積比率は７０％以上であることが好ましい。
【００８６】
本発明に係る伝導体は、電気伝導性が要求される用途に使われ得る。例えば、電磁波遮蔽フィルムまたはタッチパネル、発光素子の補助電極などに使われ得る。前記発光素子用の補助電極は、具体的には、有機発光素子（ＯＬＥＤ）照明用の補助電極であってもよい。
【００８７】
本発明の一実施状態によれば、前述した本発明の伝導体を含む電磁波遮蔽フィルムおよびそれを含むディスプレイ装置を提供する。前記電磁波遮蔽フィルムは、前述した電気伝導性パターンと連結された接地部をさらに含むことができる。例えば、前記接地部は、前記透明基材の電気伝導性パターンが形成された面の周縁部に形成されることができる。また、前記電磁波遮蔽フィルムの少なくとも一面には、反射防止フィルム、近赤外線遮蔽フィルム、色補正フィルムのうちの少なくとも１つが備えられてもよい。設計仕様により、前述した機能性フィルムの以外に他種類の機能性フィルムをさらに含むこともできる。前記のような電磁波遮蔽フィルムは、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ、ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）、および陰極線管（Ｃａｔｈｏｄｅ〜Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ、ＣＲＴ）のようなディスプレイ装置に適用することができる。
【００８８】
例えば、前記プラズマディスプレイパネルは、２枚のパネル；および前記２枚のパネルの間に備えられた画素パターンを含むことができる。前記電磁波遮蔽フィルタは、前記プラズマディスプレイパネルの一面に付着されることができる。あるいは、前記電磁波遮蔽フィルムの電気伝導性パターンが前記プラズマディスプレイパネルの一面に直接印刷された形態で備えられてもよい。このような場合、前記電磁波遮蔽フィルムの基材がプラズマディスプレイパネルに該当するようになる。
【００８９】
本発明に係る電磁波遮蔽フィルムの基材を支持基板または装置に付着する場合、接合フィルムを利用して付着することができる。ここで、前記接合フィルムの材料としては、接着力があり、接合後に透明であるものであれば、いかなる物質も使用することができる。例えば、ＰＶＢフィルム、ＥＶＡフィルム、ＰＵフィルムなどを使用することができるが、これらの例だけに限定されるものではない。前記接合フィルムは特に限定されないが、その厚さが１００マイクロメータ〜８００マイクロメータであることが好ましい。
【００９０】
本発明のまた他の一実施状態によれば、前述した本発明の伝導体を含むタッチパネルを提供する。本発明に係るタッチパネルは、下部基材；上部基材；および前記下部基材の上部基材に接する面および前記上部基材の下部基材に接する面のうちのいずれか一面または両面に備えられた電極層を含むことができる。前記電極層は、各々、Ｘ軸位置検出およびＹ軸位置検出の機能を行うことができる。
【００９１】
この時、前記下部基材および前記下部基材の上部基材に接する面に備えられた電極層；および前記上部基材および前記上部基材の下部基材に接する面に備えられた電極層のうちの１つまたは２つともが前述した本発明に係る伝導体であってもよい。前記電極層のうちのいずれか１つだけが本発明に係る伝導体である場合、残りの他の１つは当技術分野で知られているパターンを有してもよい。
【００９２】
前記上部基材と前記下部基材の両方の一面に電極層が備えられ、２層の電極層が形成される場合、前記電極層の間隔を一定に維持し、接続が起こらないように、前記下部基材と上部基材との間に絶縁層またはスペーサが備えられてもよい。前記絶縁層は、粘着剤またはホットメルト樹脂であることが好ましい。前記電極は外部回路に連結されてもよい。
【００９３】
本発明のまた他の一実施状態によれば、前述した本発明の伝導体を含む有機発光素子（ＯＬＥＤ）照明用の補助電極およびそれを含む有機発光素子照明を提供する。一例として、本発明に係る有機発光素子照明は、第１電極、第１電極上に配置された補助電極、前記補助電極上に配置された絶縁層、少なくとも１層の有機物層および第２電極を含み、前記補助電極は本発明に係る伝導体であることを特徴とする。前記補助電極は第１電極上に直接形成されてもよく、第１電極上に透明基材および電気伝導性パターンを含む伝導体が位置してもよい。本発明に係る有機発光素子照明の補助電極を図２５および図２６に例示する。
【実施例】
【００９４】
以下、実施例によって本発明を例示する。但し、以下の実施例は本発明を例示するためのものであって、これらによって本発明の範囲が限定されるのではない。
【００９５】
実施例
実施例１
銀ペーストは、粒径が２マイクロメータである銀粒子８０重量％、ポリエステル樹脂５重量％、ガラスフリット（Ｇｒａｓｓ  ｆｒｉｔ）５重量％を１０重量％のＢＣＡ（Ｂｕｔｙｌ  ｃａｒｂｉｔｏｌ  ａｃｅｔａｔｅ）溶媒に溶かして作った。凹版は、２０マイクロメータの幅、７．５マイクロメータの深さ、線間間隔は平均的に６００マイクロメータを有しつつ、図１のようなパターンがあるガラスを使った。この時、形成されたパターンと交差する直線を描いた時、前記直線と前記パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）は約３０％であった。
【００９６】
ガラス基板上に、図４に表示した方式を利用して、オフセットプリンタを利用してシルバーパターンを形成した後、６００℃で３分間焼成して、図１のようなパターンを形成した。
【００９７】
前記ガラス基板の面抵抗は０．６ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅであった。前記ガラス基板上の９個の位置において面抵抗を各１０回ずつ測定した結果、図１７のような分布曲線を示すことを確認し、この時の面抵抗値および分布曲線は図１７に示す通りである。この時の標準偏差は０．０１８であった。
【００９８】
前記ガラス基板を利用して、４０インチのＰＤＰを製作してモアレ（Ｍｏｉｒｅ）現象を観測した結果、ＰＤＰの面に対して垂直な線を基準に０度〜８０度の間において、いかなるモアレパターン（Ｍｏｉｒｅ  ｐａｔｔｅｒｎ）も観測されなかった。また、前記ガラス基板をＰＤＰピクセルに対して０度〜４５度回転させた時もモアレパターンは観測されなかった。
【００９９】
図１９は、図１５のような従来のパターン（線幅３０マイクロメータ、線間間隔３００マイクロメータ）と実施例１で製造した不規則パターンを有する伝導体を各々用いた場合、角度別のモアレ（Ｍｏｉｒｅ）現象の観察有無（Ｏ：観察される、Ｘ：観察されず）に対する結果を示す。
【０１００】
実施例２
銀ペーストは、粒径が２マイクロメータである銀粒子８０重量％、ポリエステル樹脂５重量％、ガラスフリット（Ｇｒａｓｓ  ｆｒｉｔ）５重量％を１０重量％のＢＣＡ（Ｂｕｔｙｌ  ｃａｒｂｉｔｏｌ  ａｃｅｔａｔｅ）溶媒に溶かして作った。凹版は、２０マイクロメータの幅、７．５マイクロメータの深さを有しつつ、図６のようなパターンがあるガラスを使った。
【０１０１】
ガラス基板（１００ｍｍ×１００ｍｍ）上に、図３に表示した方式を利用して、オフセットプリンタを利用してシルバーパターンを形成した後、６００℃で約３分間焼成して、図６のようなパターンを形成した。この時、形成されたパターンと交差する直線を描いた時、前記直線と前記パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）は約５０％であった。
【０１０２】
前記ガラス基板を利用して、４０インチのＰＤＰを製作してモアレ（Ｍｏｉｒｅ）現象を観測した結果、ＰＤＰの面に対して垂直な線を基準に０度〜８０度の間において、いかなるモアレパターン（Ｍｏｉｒｅ  ｐａｔｔｅｒｎ）も観測されなかった。また、前記ガラス基板をＰＤＰピクセルに対して０度〜４５度回転させた時もモアレパターンは観測されなかった。面抵抗およびモアレの観察有無は図１７および図１９に示す通りである。
【０１０３】
比較例１
０．０９ｍｍ２の正方形を基本とするグリッド方式のパターンを製作し、パターンの図は図１５の通りである。この時、形成されたパターンと交差する直線を描いた時、前記直線と前記パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）は約０％であった。
【０１０４】
前記ガラス基板を利用して、４０インチのＰＤＰを製作してモアレ（Ｍｏｉｒｅ）現象を観測した結果を図１９に示す（中間列、Ｏ：観察される、Ｘ：観察されず）。
【０１０５】
比較例２
図１６のようなパターン（ピッチ０．３ｍｍ）を製作した。この時、形成されたパターンと交差する直線を描いた時、前記直線と前記パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）は約０％であった。
前記ガラス基板を利用して、４０インチのＰＤＰを製作してモアレ（Ｍｏｉｒｅ）現象を観測した結果、ＰＤＰの面に対して垂直な線を基準に４５度、９０度および２２５度を除いては、モアレパターン（Ｍｏｉｒｅ  ｐａｔｔｅｒｎ）が観測された。
【０１０６】
実施例３
パターンを形成しようとするＰＥＴフィルム基材上にネガティブ用感光材料を塗布した。ネガティブ用感光材料は、一般的に光に対して非常にセンシティブであり、規則的な反応をするＡｇＢｒに若干のＡｇＩを混合したハロゲン化銀（Ｓｉｌｖｅｒ  Ｈａｌｉｄｅ）から構成した。前記ＰＥＴフィルム基材上に形成された不規則なパターンは実施例１のようなパターンを使った。設計されたパターン領域を光が透過し、パターン以外の領域を光が透過しない構成で、ネガティブマスク（ｎｅｇａｔｉｖｅ  ｍａｓｋ）を利用して、設定された露光時間と光の強さに応じてフィルムに光を照射した。このような過程により、感光乳剤層にある感光銀が感光され、潜像（Ｌａｔｅｎｔ  ｉｍａｇｅ）を形成した。形成された潜像は、現像過程を経つつ、感光銀が黒化銀に変化することによって、マスク（ｍａｓｋ）パターンの逆像パターンが可視像に形成された。前記したフォトグラフィ工程を通じ、ＰＥＴフィルム基材上に形成された黒化銀材質のパターンの特性を下記表１に示す。
【０１０７】
【表１】
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前記フィルムを、粘着フィルムを利用してガラスにラミネーションした。
【０１０８】
前記ガラス基板を利用して、４０インチのＰＤＰを製作してモアレ（Ｍｏｉｒｅ）現象を観測した結果、ＰＤＰの面に対して垂直な線を基準に０度〜８０度の間において、いかなるモアレパターン（Ｍｏｉｒｅ  ｐａｔｔｅｒｎ）も観測されなかった。また、前記ガラス基板をＰＤＰピクセルに対して０度〜４５度回転させた時もモアレパターンは観測されなかった。
【０１０９】
実施例４
銀ペーストは、粒径が２マイクロメータである銀粒子８０重量％、ポリエステル樹脂５重量％、ガラスフリット（Ｇｒａｓｓ  ｆｒｉｔ）５重量％を１０重量％のＢＣＡ（Ｂｕｔｙｌ  ｃａｒｂｉｔｏｌ  ａｃｅｔａｔｅ）溶媒に溶かして作った。凹版は、２０マイクロメータの幅、７．５マイクロメータの深さを有しつつ、ボロノイパターンがあるガラスを使った。前記ボロノイパターンは、０．０９ｍｍ２の正方形を基本単位（ｕｎｉｔ）に指定した後、基本単位内における点の分布を、不規則性を与えて生成した後、図３のようなボロノイパターンを製作した。このパターン中の閉鎖図形の面積分布比率は２３％であった。
【０１１０】
ガラス基板上に、図４に表示した方式を利用して、オフセットプリンタを利用してシルバーパターンを形成した後、６００℃で３分間焼成して、図３のようなシルバー線を形成した。
【０１１１】
前記ガラス基板の面抵抗は０．６ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅであった。前記ガラス基板上の９個の位置において、面抵抗を各１０回ずつ測定した結果、図１８のような分布曲線を示すことを確認し、この時の面抵抗値および分布曲線は図１８に示す通りである。この時の標準偏差は０．０１８であった。
【０１１２】
前記ガラス基板を利用して、４０インチのＰＤＰを製作してモアレ（Ｍｏｉｒｅ）現象を観測した結果、ＰＤＰの面に対して垂直な線を基準に０度〜８０度の間において、いかなるモアレパターン（Ｍｏｉｒｅ  ｐａｔｔｅｒｎ）も観測されなかった。また、前記ガラス基板をＰＤＰピクセルに対して０度〜４５度回転させた時もモアレパターンは観測されなかった。
【０１１３】
図２０は、図１５のような従来のパターン（線幅３０マイクロメータ、線間間隔３００マイクロメータ）と実施例４で製造した不規則パターンを有する伝導体を各々用いた場合、角度別のモアレ（Ｍｏｉｒｅ）現象の観察有無（Ｏ：観察される、Ｘ：観察されず）に対する結果を示す。
【０１１４】
実施例５
実施例４と同じ方式で製造された導電性パターンに接地をした後、これを４０インチＰＤＰの電磁波遮蔽フィルタとして使った時、３ｍを離れた距離から出るＥＭＩレベルを測定した結果を図２１に示す。
【０１１５】
実施例６
実施例４と同じ方法で製造されたパターンを利用して、図２２のようなタッチスクリーン（Ｔｏｕｃｈ  ｓｃｒｅｅｎ）を製作した後、これを利用して線形性評価を行った。その結果は図２３の通りである。この時、既存のＩＴＯ基盤のタッチスクリーンの線形性誤差が２ピクセル（ｐｉｘｅｌ）である反面、実施例４の方法で製造された印刷基板の伝導体を用いたタッチスクリーンの場合には１ピクセル以下の線形性誤差を有することを確認した。
【０１１６】
実施例７
実施例４と同じ方法で製造されたパターンを利用して黒化処理した。具体的に、黒化処理は、製造された導電性パターン基板をＦｅＣｌ３（Ｋａｎｔｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社、１６０１９〜０２）１％水溶液に常温で１分間浸漬することによって行った。
黒化処理によってＡｇの反射度を視認性に問題がないレベルに大幅に向上させることができるということを確認した。黒化前後の反射度を示す写真を図２４に示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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