(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に、青色の第１有機ＥＬ素子およびその他の色の第２有機ＥＬ素子の各々ごとに設けられた下部電極と、
前記下部電極の上に前記第１有機ＥＬ素子および第２有機ＥＬ素子の各々ごとに設けられた正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する第１正孔注入・輸送層と、
前記第２有機ＥＬ素子用の第１正孔注入・輸送層上に設けられた高分子材料よりなるその他の色の第２有機発光層と、
前記第２有機発光層および前記第１有機ＥＬ素子用の第１正孔注入・輸送層の全面に設けられた低分子材料よりなる青色の第１有機発光層と、
前記第１有機発光層の全面に順に設けられた電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入・輸送層および上部電極と
を備え、
前記第１有機ＥＬ素子と前記第２有機ＥＬ素子とを同一の配列で含む複数の画素を有し、前記第２有機ＥＬ素子のうち少なくとも２色は、少なくとも対向する２辺で同一画素内または隣接画素内の前記第１有機ＥＬ素子と隣接し、
前記第１有機ＥＬ素子の前記第１正孔注入・輸送層は、高分子材料よりなる正孔注入層および前記正孔注入層上の低分子材料よりなる正孔輸送層を有し、前記第２有機ＥＬ素子の前記第１正孔注入・輸送層は、高分子材料よりなる正孔注入層および前記正孔注入層上の高分子材料よりなる正孔輸送層を有する
有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記第２有機ＥＬ素子は、赤色有機ＥＬ素子、緑色有機ＥＬ素子、黄色有機ＥＬ素子または白色有機ＥＬ素子のうちの少なくとも１色である
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記第２有機ＥＬ素子は、前記複数の画素の各々の対角線上の二つの角に配置されている
請求項２記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記第１有機ＥＬ素子および前記第２有機ＥＬ素子は細長い矩形であり、
前記第２有機ＥＬ素子は、前記矩形の短辺に平行な方向に等間隔で配列され、前記第１有機ＥＬ素子は、前記第２有機ＥＬ素子の間に配置されている
請求項２記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記第２有機ＥＬ素子は、一方向に配列されている
請求項２記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記第２有機ＥＬ素子の面積は、前記第１有機ＥＬ素子の面積とは異なる
請求項４または５記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
前記第２有機発光層および前記第１有機ＥＬ素子用の前記第１正孔注入・輸送層の全面と、前記青色の第１有機発光層との間に、低分子材料からなる第２正孔注入・輸送層を備えた
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
前記第２有機ＥＬ素子の第２有機発光層は、前記高分子材料に低分子材料が添加された混合材料により構成され、前記高分子材料と前記低分子材料との混合比は、高分子材料：低分子材料が１０：１以上１：２以下である
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
基板に下部電極を青色の第１有機ＥＬ素子およびその他の色の第２有機ＥＬ素子の各々ごとに形成する工程と、
前記下部電極の上に正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する第１正孔注入・輸送層を第１有機ＥＬ素子および第２有機ＥＬ素子の各々ごとに塗布法により形成する工程と、
前記第２有機ＥＬ素子用の前記第１正孔注入・輸送層の上に、高分子材料よりなるその他の色の第２有機発光層を塗布法により形成する工程と、
前記第２有機発光層および前記第１有機ＥＬ素子用の第１正孔注入・輸送層の全面に、低分子材料からなる青色の第１有機発光層を蒸着法により形成する工程と、
前記第１発光層の全面に電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入・輸送層および上部電極を順に形成する工程と
を含み、
前記第１有機ＥＬ素子と前記第２有機ＥＬ素子とを同一の配列で含む複数の画素を設け、前記第２有機ＥＬ素子のうち少なくとも２色を、少なくとも対向する２辺で同一画素内または隣接画素内の前記第１有機ＥＬ素子と隣接させ、
前記第１正孔注入・輸送層を形成する工程は、
前記下部電極の上に正孔注入層を前記第１有機ＥＬ素子および前記第２有機ＥＬ素子の各々ごとに塗布法により形成する工程と、
前記第２有機ＥＬ素子用の前記正孔注入層の上に高分子材料よりなる正孔輸送層を前記第２有機ＥＬ素子の各々ごとに塗布法により形成する工程と、
前記第１有機ＥＬ素子用の前記正孔注入層の上に低分子材料よりなる正孔輸送層を前記第１有機ＥＬ素子の各々ごとに塗布法により形成する工程と
を含む
有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記塗布法として、インクジェット，ノズルプリンティング，凸版印刷，グラビア印刷または反転オフセット印刷を用いる
請求項９記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第２有機ＥＬ素子は、赤色有機ＥＬ素子、緑色有機ＥＬ素子、黄色有機ＥＬ素子または白色有機ＥＬ素子のうちの少なくとも１色である
請求項１０記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第２有機ＥＬ素子を、前記複数の画素の各々の対角線上の二つの角に配置する
請求項１１記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記第１有機ＥＬ素子および前記第２有機ＥＬ素子を細長い矩形とし、
前記第２有機ＥＬ素子を、前記矩形の短辺に平行な方向に等間隔で配列し、前記第１有機ＥＬ素子を、前記第２有機ＥＬ素子の間に配置する
請求項１１記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第２有機ＥＬ素子を、一方向に配列する
請求項１１記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第２有機ＥＬ素子の面積を、前記第１有機ＥＬ素子の面積とは異ならせる
請求項１３または１４記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ；Electro Luminescence）現象を利用して発光する有機ＥＬ表示装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報通信産業の発達が加速するにつれて、高度な性能を有する表示素子が要求されている。その中で、次世代表示素子として注目されている有機ＥＬ素子は自発発光型表示素子として視野角が広くコントラストが優秀なだけでなく応答時間が速いという長所がある。
【０００３】
有機ＥＬ素子を形成する発光層等は、低分子材料と高分子材料に大別される。一般に、低分子材料の方がより高い発光効率、長寿命を示すことが知られており、特に青色の性能は高いとされる。
【０００４】
また、その有機膜の形成方法として、低分子材料は真空蒸着法等の乾式法（蒸着法）、高分子材料は、スピンコーティング、インクジェット、ノズルプリンティング等の湿式法（塗布法または印刷法）により成膜されている。
【０００５】
真空蒸着法は、有機薄膜の形成材料を溶媒に溶解させる必要がなく、成膜後に溶媒を除去する工程が不要という利点がある。しかし、メタルマスクによる塗り分けが難しく、特に大型のパネルの作製における設備製造コストが高いため、大画面基板への適用が難しく、量産にも難があるなどの欠点を有していた。そこで表示画面の大面積化が比較的容易なインクジェットやノズルプリンティングなどの湿式法が注目されている。
【０００６】
しかしながら、インクジェットやノズルプリンティングにおいて用いられる高分子材料の中で、特に青色の発光材料は発光輝度および寿命特性が低いため、湿式法による実用的なディスプレイの製品化が困難であった。
【０００７】
そこで、例えば特許文献１では、赤，緑の発光層をインクジェット方式により画素毎にパターニングし、その上に青色の発光層を真空蒸着法により形成する製造方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−７３５３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１のように赤，緑の有機層を印刷法、青の有機層を蒸着法で形成する製造方法では、成膜材料の溶液が赤，緑の画素にのみ塗布され、青の画素には塗布されない工程が含まれる。この場合、塗布液の乾燥速度が青の画素に隣接する部分で速くなり、未乾燥の塗布液が乾燥済みの部分に引き寄せられる。その結果、乾燥後の有機層の膜厚が均一または対称にならず、青の画素に隣接する部分の膜厚が厚くなってしまうという問題が生じていた。
【００１０】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、低分子材料よりなる青色の発光層および高分子材料よりなるその他の色の発光層を用いる場合に、青の画素に隣接する高分子材料よりなる有機層の膜厚の均一性または対称性を向上させることが可能な有機ＥＬ表示装置およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明による有機ＥＬ表示装置は、基板に、青色の第１有機ＥＬ素子およびその他の色の第２有機ＥＬ素子の各々ごとに設けられた下部電極と、下部電極の上に第１有機ＥＬ素子および第２有機ＥＬ素子の各々ごとに設けられた正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する第１正孔注入・輸送層と、第２有機ＥＬ素子用の第１正孔注入・輸送層上に設けられた高分子材料よりなるその他の色の第２有機発光層と、第２有機発光層および第１有機ＥＬ素子用の第１正孔注入・輸送層の全面に設けられた低分子材料よりなる青色の第１有機発光層と、第１有機発光層の全面に順に設けられた電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入・輸送層および上部電極とを備え、第１有機ＥＬ素子と第２有機ＥＬ素子とが同一位置関係で配列された複数の画素を有し、第２有機ＥＬ素子の各々は、少なくとも対向する２辺で同一画素内または隣接画素内の第１有機ＥＬ素子と隣接しているものである。第１有機ＥＬ素子の第１正孔注入・輸送層は、高分子材料よりなる正孔注入層および正孔注入層上の低分子材料よりなる正孔輸送層を有し、第２有機ＥＬ素子の第１正孔注入・輸送層は、高分子材料よりなる正孔注入層および前記正孔注入層上の高分子材料よりなる正孔輸送層を有する。
【００１２】
本発明による有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板に下部電極を青色の第１有機ＥＬ素子およびその他の色の第２有機ＥＬ素子の各々ごとに形成する工程と、下部電極の上に正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する第１正孔注入・輸送層を第１有機ＥＬ素子および第２有機ＥＬ素子の各々ごとに塗布法により形成する工程と、第２有機ＥＬ素子用の第１正孔注入・輸送層の上に、高分子材料よりなるその他の色の第２有機発光層を塗布法により形成する工程と、第２有機発光層および第１有機ＥＬ素子用の第１正孔注入・輸送層の全面に、低分子材料からなる青色の第１有機発光層を蒸着法により形成する工程と、第１発光層の全面に電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入・輸送層および上部電極を順に形成する工程とを含み、第１有機ＥＬ素子と第２有機ＥＬ素子とを同一位置関係で配列した複数の画素を設け、第２有機ＥＬ素子の各々を、少なくとも対向する２辺で同一画素内または隣接画素内の第１有機ＥＬ素子と隣接させるようにしたものである。第１正孔注入・輸送層を形成する工程は、下部電極の上に正孔注入層を第１有機ＥＬ素子および第２有機ＥＬ素子の各々ごとに塗布法により形成する工程と、第２有機ＥＬ素子用の正孔注入層の上に高分子材料よりなる正孔輸送層を第２有機ＥＬ素子の各々ごとに塗布法により形成する工程と、第１有機ＥＬ素子用の正孔注入層の上に低分子材料よりなる正孔輸送層を第１有機ＥＬ素子の各々ごとに塗布法により形成する工程とを含む。
【００１３】
本発明の有機ＥＬ表示装置、または本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法では、第２有機ＥＬ素子の各々が、少なくとも対向する２辺で同一画素内または隣接画素内の第１有機ＥＬ素子と隣接しているので、第１有機ＥＬ素子に隣接している辺では、製造工程における塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の有機層の膜厚の片寄りが低減されている。よって、第２有機ＥＬ素子の有機層の膜厚の均一性または対称性が向上する。また、第１有機ＥＬ素子の第１正孔注入・輸送層は、高分子材料よりなる正孔注入層上に、低分子材料よりなる正孔輸送層を有し、第２有機ＥＬ素子の第１正孔注入・輸送層は、高分子材料よりなる正孔注入層上に、高分子材料よりなる正孔輸送層を有しているので、第１有機ＥＬ素子において低分子材料よりなる青色の第１有機発光層との界面状態が改善され、青色の発光効率および寿命が向上する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の有機ＥＬ表示装置、または本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、第２有機ＥＬ素子の各々を、少なくとも対向する２辺で同一画素内または隣接画素内の第１有機ＥＬ素子と隣接させるようにしたので、第２有機ＥＬ素子の有機層の膜厚の均一性または対称性を向上させることが可能となる。また、第１有機ＥＬ素子の第１正孔注入・輸送層は、高分子材料よりなる正孔注入層上に、低分子材料よりなる正孔輸送層を有し、第２有機ＥＬ素子の第１正孔注入・輸送層は、高分子材料よりなる正孔注入層上に、高分子材料よりなる正孔輸送層を有するようにしたので、第１有機ＥＬ素子において低分子材料よりなる青色の第１有機発光層との界面状態を改善し、青色の発光効率および寿命を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す図である。
【図２】図１に示した画素駆動回路の一例を表す図である。
【図３】図１に示した表示領域の構成を表す断面図である。
【図４】有機ＥＬ素子の平面的な配列の第１例を表す図である。
【図５】有機ＥＬ素子の平面的な配列の第２例を表す図である。
【図６】有機ＥＬ素子の平面的な配列の第３例を表す図である。
【図７】有機ＥＬ素子の平面的な配列の第４例を表す図である。
【図８】有機ＥＬ素子の平面的な配列の第５例を表す図である。
【図９】有機ＥＬ素子の平面的な配列の第６例を表す図である。
【図１０】図１に示した有機ＥＬ表示装置の製造方法の流れを表す図である。
【図１１】図１０に示した製造方法を工程順に表す断面図である。
【図１２】図１１に続く工程を表す断面図である。
【図１３】従来の製造方法の問題点を説明するための図である。
【図１４】図１２に続く工程を表す断面図である。
【図１５】本発明の第２の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法の流れを表す図である。
【図１６】図１５に示した製造方法を工程順に表す断面図である。
【図１７】図１６に続く工程を表す断面図である。
【図１８】図１７に続く工程を表す断面図である。
【図１９】本発明の第４の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。
【図２０】図１９に示した有機ＥＬ表示装置の製造方法の流れを表す図である。
【図２１】図２０に示した製造方法を工程順に表す断面図である。
【図２２】図２１に続く工程を表す断面図である。
【図２３】図２２に続く工程を表す断面図である。
【図２４】本発明の第５の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。
【図２５】上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図２６】上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図２７】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図２８】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図２９】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図３０】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【図３１】４色の場合の問題点を説明するための図である。
【図３２】４色の場合の有機ＥＬ素子の平面的な配列の第１例を表す図である。
【図３３】４色の場合の有機ＥＬ素子の平面的な配列の第２例を表す図である。
【図３４】４色の場合の有機ＥＬ素子の平面的な配列の第３例を表す図である。
【図３５】４色の場合の有機ＥＬ素子の平面的な配列の第４例を表す図である。
【図３６】４色の場合の有機ＥＬ素子の平面的な配列の第５例を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（赤色・緑色発光層を塗布法により形成し、青色発光層を共通層として蒸着法により形成した例）
２．第２の実施の形態（青色正孔輸送層を低分子材料により構成した例）
３．第３の実施の形態（赤色・緑色発光層に低分子材料を含む例）
４．第４の実施の形態（赤色・緑色発光層および青色正孔輸送層の上に第２の正孔注入・輸送層を設けた例）
５．第５の実施の形態（青色正孔輸送層を設けず、青色正孔注入層上に第２の正孔注入・輸送層を設けた例）
６．適用例
７．変形例（４色の場合）
【００１７】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表すものである。この有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬテレビジョン装置などとして用いられるものであり、例えば、基板１１の上に、表示領域１１０として、後述する複数の赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂがマトリクス状に配置されたものである。表示領域１１０の周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。
【００１８】
表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が設けられている。図２は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。画素駆動回路１４０は、後述する下部電極１４の下層に形成されたアクティブ型の駆動回路である。すなわち、この画素駆動回路１４０は、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、これらトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ（または緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂ）とを有する。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））により構成され、その構成は例えば逆スタガ構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガ構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。
【００１９】
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂのいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００２０】
また、表示領域１１０には、赤色の光を発生する赤色有機ＥＬ素子１０Ｒと、緑色の光を発生する緑色有機ＥＬ素子１０Ｇと、青色の光を発生する青色有機ＥＬ素子１０Ｂとが、順に全体としてマトリクス状に配置されている。なお、隣り合う赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの組み合わせが一つの画素（ピクセル）を構成している。ここで、青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、本発明における「第１有機ＥＬ素子」の一具体例に対応する。赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子は、本発明における「第２有機ＥＬ素子」の一具体例に対応する。
【００２１】
図３は図１に示した表示領域１１０の断面構成を表したものである。赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、それぞれ、基板１１の側から、上述した画素駆動回路１４０の駆動トランジスタＴｒ１および平坦化絶縁膜（図示せず）を間にして、陽極としての下部電極１４、隔壁１５、後述する発光層１６Ｃを含む有機層１６および陰極としての上部電極１７がこの順に積層された構成を有している。
【００２２】
このような赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、保護層２０により被覆され、更にこの保護層２０上に熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂などの接着層（図示せず）を間にしてガラスなどよりなる封止用基板４０が全面にわたって貼り合わされることにより封止されている。
【００２３】
基板１１は、その一主面側に赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂが配列形成される支持体であって、公知のものであって良く、例えば、石英、ガラス、金属箔、もしくは樹脂製のフィルムやシートなどが用いられる。この中でも石英やガラスが好ましく、樹脂製の場合には、その材質としてポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）に代表されるメタクリル樹脂類、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンナフタレート（ＰＢＮ) などのポ
リエステル類、もしくはポリカーボネート樹脂などが挙げられるが、透水性や透ガス性を抑える積層構造、表面処理を行うことが必要である。
【００２４】
下部電極１４は、基板１１に、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに設けられている。下部電極１４は、例えば、積層方向の厚み（以下、単に厚みと言う）が１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、クロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金が挙げられる。また、下部電極１４は、これらの金属元素の単体または合金よりなる金属膜と、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、ＩｎＺｎＯ（インジウ亜鉛オキシド）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）とアルミニウム（Ａｌ）との合金などの透明導電膜との積層構造を有していてもよい。なお、下部電極１４が陽極として使われる場合には、下部電極１４は正孔注入性の高い材料により構成されていることが望ましい。ただし、アルミニウム（Ａｌ）合金のように、表面の酸化皮膜の存在や、仕事関数が大きくないことによる正孔注入障壁が問題となる材料においても、適切な正孔注入層を設けることによって下部電極１４として使用することが可能である。
【００２５】
隔壁１５は、下部電極１４と上部電極１７との絶縁性を確保すると共に発光領域を所望の形状にするためのものであると共に、後述する製造工程においてインクジェットまたはノズルプリンティング方式による塗布を行う際の隔壁としての機能も有している。隔壁１５は、例えば、ＳｉＯ２ 等の無機絶縁材料よりなる下部隔壁１５Ａの上に、ポジ型感光性ポリベン  ゾオキサゾール，ポジ型感光性ポリイミドなどの感光性樹脂よりなる上部隔壁１５Ｂを有している。隔壁１５には、発光領域に対応して開口が設けられている。なお、有機層１６ないし上部電極１７は、開口だけでなく隔壁１５の上にも設けられていてもよいが、発光が生じるのは隔壁１５の開口だけである。
【００２６】
赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの有機層１６は、例えば、下部電極１４の側から順に、正孔注入層１６ＡＲ，正孔輸送層１６ＢＲ，赤色発光層１６ＣＲ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸
送層１６Ｅおよび電子注入層１６Ｆを積層した構成を有する。緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの有機層１６は、例えば、下部電極１４の側から順に、正孔注入層１６ＡＧ，正孔輸送層１６ＢＧ，緑色発光層１６ＣＧ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅおよび電子注入層１６Ｆを積層した構成を有する。青色有機ＥＬ素子１０Ｂの有機層１６は、例えば、下部電極１４の側から順に、正孔注入層１６ＡＢ，正孔輸送層１６ＢＢ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅおよび電子注入層１６Ｆを積層した構成を有する。これらのうち青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅおよび電子注入層１６Ｆは、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの共通層として設けられている。
【００２７】
正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢは、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層であり、下部電極１４の上に赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに設けられている。
【００２８】
正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの厚みは例えば５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは８ｎｍ〜５０ｎｍである。正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの構成材料は、電極や隣接する層の材料との関係で適宜選択すればよく、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリピロール及びその誘導体、ポリフェニレンビニレン及びその誘導体、ポリチエニレンビニレン及びその誘導体、ポリキノリン及びその誘導体、ポリキノキサリン及びその誘導体、芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体等の導電性高分子、金属フタロシアニン（銅フタロシアニン等）、カーボン等が例示される。
正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢに用いられる材料が、高分子材料である場合、その高分子の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００〜１万程度のオリゴマーや１万〜３０万の範囲であることが好ましい。特に、５０００〜２０万程度が好ましい。Ｍｗが５０００未満では、正孔輸送層以降を形成する際に、正孔注入層が溶解してしまう恐れがある。また３０万を超えると、材料がゲル化し、成膜が困難になる恐れがある。
【００２９】
正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの構成材料として使用される典型的な導電性高分子としては、ポリアニリンおよび／またはオリゴアニリン、及びポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）などのポリジオキシチオフェンが挙げられる。例えば、エイチ・シー・スタルク製 Nafion(商標) で市販されているポリマー、または溶
解形態で商品名 Liquion( 商標) で市販されているポリマーや、日産化学製エルソース（商標）や、綜研化学製導電性ポリマーベラゾール（商標）などがある。
【００３０】
正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢは、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢへの正孔輸送効率を高めるためのものである。正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢは、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの上に赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに設けられている。
【００３１】
正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１５ｎｍ〜１５０ｎｍである。正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧを構成する高分子材料としては、有機溶媒に可溶な発光材料、例えば、ポリビニルカルバゾール及びその誘導体、ポリフルオレン及びその誘導体、ポリアニリン及びその誘導体、ポリシラン及びその誘導体、側鎖又は主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリピロール等が使用できる。
【００３２】
高分子材料の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５万〜３０万であることが好ましく、特に、１０万〜２０万であることが好ましい。Ｍｗが５万未満では、発光層を形成するときに、
高分子材料中の低分子成分が脱落し、正孔注入・輸送層にドットが生じるため、有機ＥＬ素子の初期性能が低下したり、素子の劣化を引き起こすおそれがある。一方、３０万を越えると、材料がゲル化するため、成膜が困難になるおそれがある。
尚、重量平均分子量（Ｍｗ）は、テトラヒドロフランを溶媒として、ゲルパーエミーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、ポリスチレン換算の重量平均分子量を求めた値である。
【００３３】
赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１５ｎｍ〜１５０ｎｍである。赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧを構成する高分子発光材料としては、ポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機ＥＬ材料をドープして用いることができる。例えば、ルブレン、ペリレン、９，１０ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６等をドープすることにより用いることができる。
【００３４】
青色発光層１６ＣＢは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢの全面に共通層として設けられている。青色発光層１６ＣＢは、アントラセン化合物をホスト材料として青色もしくは緑色の低分子蛍光性色素，りん光色素、金属錯体等の有機発光材料よりなるゲスト材料がドーピングされており、青色もしくは緑色の発光光を発生する。
【００３５】
電子輸送層１６Ｅは、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧ，青色発光層１６ＣＢへの電子輸送効率を高めるためのものであり、青色発光層１６ＣＢの全面に共通層として設けられている。電子輸送層１６Ｅの材料としては、例えば、キノリン、ペリレン、フェナントロリン、ビススチリル、ピラジン、トリアゾール、オキサゾール、フラーレン、オキサジアゾール、フルオレノン、またはこれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。具体的には、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（略称Ａｌｑ3 ）、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、アントラセン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、Ｃ６０、アクリジン、スチルベン、１，１０−フェナントロリンまたはこれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。
【００３６】
電子注入層１６Ｆは、電子注入効率を高めるためのものであり、電子輸送層１６Ｅの全面に共通層として設けられている。電子注入層１６Ｆの材料としては、例えばリチウム（Ｌｉ）の酸化物である酸化リチウム（Ｌｉ2 Ｏ）や、セシウム（Ｃｓ）の複合酸化物である炭酸セシウム（Ｃｓ2 ＣＯ3 ）、さらにはこれらの酸化物及び複合酸化物の混合物を用いることができる。また、電子注入層１６Ｆは、このような材料に限定されることはなく、例えば、カルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）等のアルカリ土類金属、リチウム、セシウム等のアルカリ金属、さらにはインジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）等の仕事関数の小さい金属、さらにはこれらの金属の酸化物及び複合酸化物、フッ化物等を、単体でまたはこれらの金属および酸化物及び複合酸化物、フッ化の混合物や合金として安定性を高めて使用しても良い。
【００３７】
上部電極１７は、例えば、厚みが３ｎｍ以上８ｎｍ以下であり、金属導電膜により構成されている。具体的には、アルミニウム（Ａｌ），マグネシウム（Ｍｇ），カルシウム（Ｃａ）またはナトリウム（Ｎａ）の合金が挙げられる。中でも、マグネシウムと銀との合金（Ｍｇ−Ａｇ合金）は、薄膜での導電性と吸収の小ささとを兼ね備えているので好ましい。Ｍｇ−Ａｇ合金におけるマグネシウムと銀との比率は特に限定されないが、膜厚比でＭｇ：Ａｇ＝２０：１〜１：１の範囲であることが望ましい。また、上部電極１７の材料は、アルミニウム（Ａｌ）とリチウム（Ｌｉ）との合金（Ａｌ−Ｌｉ合金）でもよい。
【００３８】
更に、上部電極１７は、アルミキノリン錯体、スチリルアミン誘導体、フタロシアニン誘導体等の有機発光材料を含有した混合層でもよい。この場合には、さらに第３層としてＭｇＡｇのような光透過性を有する層を別途有していてもよい。なお、上部電極１７は、アクティブマトリックス駆動方式の場合、有機層１６と隔壁１５とによって、下部電極１４と絶縁された状態で基板１１上にベタ膜状に形成され、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの共通電極として用いられる。
【００３９】
保護層２０は、例えば厚みが２〜３μｍであり、絶縁性材料または導電性材料のいずれにより構成されていてもよい。絶縁性材料としては、無機アモルファス性の絶縁性材料、例えばアモルファスシリコン（α−Ｓｉ）, アモルファス炭化シリコン（α−ＳｉＣ）, アモルファス窒化シリコン（α−Ｓｉ1-x Ｎx ）、アモルファスカーボン（α−Ｃ）などが好ましい。このような無機アモルファス性の絶縁性材料は、グレインを構成しないため透水性が低く、良好な保護膜となる。
【００４０】
封止用基板４０は、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの上部電極１７の側に位置しており、接着層（図示せず）と共に赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂを封止するものである。封止用基板４０は、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂで発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止用基板４０には、例えば、カラーフィルタおよびブラックマトリクスとしての遮光膜（いずれ
も図示せず）が設けられており、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂで発生した光を取り出すと共に、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂ並びにその間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。
【００４１】
カラーフィルタは、赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタ（いずれも図示せず）を有しており、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに対応して順に配置されている。赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタは、それぞれ例えば矩形形状で隙間なく形成されている。これら赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタは、顔料を混入した樹脂によりそれぞれ構成されており、顔料を選択することにより、目的とする赤，緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。
【００４２】
遮光膜は、例えば黒色の着色剤を混入した光学濃度が１以上の黒色の樹脂膜、または薄膜の干渉を利用した薄膜フィルタにより構成されている。このうち黒色の樹脂膜により構成するようにすれば、安価で容易に形成することができるので好ましい。薄膜フィルタは、例えば、金属，金属窒化物あるいは金属酸化物よりなる薄膜を１層以上積層し、薄膜の干渉を利用して光を減衰させるものである。薄膜フィルタとしては、具体的には、クロムと酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ2 Ｏ3  ）とを交互に積層したものが挙げられる。
【００４３】
図４ないし図９は、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの配列の第１例ないし第６例をそれぞれ表したものである。有機ＥＬ表示装置１は、行列状（マトリクス状）に配置された複数の画素１０を有している。各画素１０は、例えば正方形の平面形状を有し、少なくとも一つの青色有機ＥＬ素子１０Ｂを含むと共に、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇを一つずつ含んでいる。
【００４４】
赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、すべての画素１０に同一の配列で含まれている。赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々は、少なくとも対向する２辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接している。これにより、この有機ＥＬ表示装置１では、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの有機層１６の膜厚の均一性または対称性を向上させることが可能となっている。
【００４５】
例えば図４に示した第１例および図５に示した第２例では、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂは細長い矩形（短冊状）の平面形状を有している。赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇは、矩形の短辺に平行な方向に等間隔で配列されている。青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの間に配置されている。この場合、赤色有機ＥＬ素子１０および緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々は、二本の長辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接している。
【００４６】
図６に示した第３例では、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇは、各画素１０の対角線上の二つの角に配置（いわゆる千鳥配置）されている。すなわち、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇは、矩形（例えば正方形）の平面形状を有し、対角線を同一線上にして斜めに（例えば図６では赤色有機ＥＬ素子１０Ｒが画素１０の左上、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇが画素１０の右下）に配列されている。青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、矩形（例えば正方形）の平面形状を有し、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ以外の領域に（画素１０の右上および左下）配置されている。この場合、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々は、四辺のすべてで同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接している。
【００４７】
図７に示した第４例、図８に示した第５例および図９に示した第６例では、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇは、一方向に（直線状に）配列されている。すなわち、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇは、矩形（例えば正方形）の平面形状を有し、横並びに（赤色有機ＥＬ素子１０Ｒが画素１０の左上、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇが画素１０の右上）配列されている。青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ以外の領域に（画素１０の左下および右下）配置されている。この場合、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々は、上下の二辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接している。
【００４８】
青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、図７に示した第４例のように、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇと同じ形状（例えば正方形）の平面形状を有していてもよいし、図８に示した第５例または図９に示した第６例のように、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇをつなげた細長い矩形でもよい。
【００４９】
第１例ないし第６例のいずれも、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの面積は同一であることが望ましい。面積および印刷するインク量を同一にすることで乾燥時間を同等にすることができ、これにより赤と緑の膜厚分布をより均一化することができるからである。
【００５０】
一方、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの面積は、必ずしも赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの面積と同一である必要はない。例えば、青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇに比べて発光寿命が短いので、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの面積を赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの面積よりも広い面積となるよう設計する場合がある。従って、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの面積は、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの面積とは異なっていてもよい。図６に示した第３例以外は、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの面積を任意に設計することが可能である。
【００５１】
例えば、図４に示した第１例では、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの短辺の長さが等しいのに対して、図５に示した第２例では、各青色有機ＥＬ素子１０Ｂの短辺の長さが赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの短辺よりも短く、各青色有機ＥＬ素子１０Ｂの面積が赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの面積よりも小さくなっている。これにより、各画素１０内での赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの面積と、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの面積と、二つの青色有機ＥＬ素子１０Ｂの合計面積とがほぼ等しくされている。
【００５２】
また、例えば図８に示した第５例では、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの短辺の長さが赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの一辺の長さに等しいのに対して、図９に示した第６例では、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの短辺の長さが赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの一辺の長さよりも短くされている。これにより、第２例と同様に、各画素１０内での赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの面積がほぼ等しくされている。
【００５３】
なお、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの配列は、第１例ないし第６例以外にも可能であることは言うまでもない。
【００５４】
この有機ＥＬ表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。
【００５５】
図１０は、この有機ＥＬ表示装置の製造方法の流れを表したものであり、図１１，図１２および図１４は図１０に示した製造方法を工程順に表したものである。まず、上述した材料よりなる基板１１の上に駆動トランジスタＴｒ１を含む画素駆動回路１４０を形成し、例えば感光性樹脂よりなる平坦化絶縁膜（図示せず）を設ける。
【００５６】
（下部電極１４を形成する工程）
次いで、基板１１の全面に例えばＩＴＯよりなる透明導電膜を形成し、この透明導電膜をパターニングすることにより、図１１（Ａ）に示したように、下部電極１４を赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに形成する（ステップＳ１０１）。その際、下部電極１４を、平坦化絶縁膜（図示せず）のコンタクトホール（図示せず）を介して駆動トランジスタＴｒ１のドレイン電極と導通させる。
【００５７】
（隔壁１５を形成する工程）
続いて、同じく図１１（Ａ）に示したように、下部電極１４上および平坦化絶縁膜（図示せず）上に、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition ；化学気相成長）法により、ＳｉＯ２ 等の無機絶縁材料を成膜し、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いてパターニングすることにより、下部隔壁１５Ａを形成する。
【００５８】
そののち、同じく図１１（Ａ）に示したように、下部隔壁１５Ａの所定位置、詳しくは画素の発光領域を囲む位置に、上述した感光性樹脂よりなる上部隔壁１５Ｂを形成する。これにより、上部隔壁１５Ａおよび下部隔壁１５Ｂよりなる隔壁１５が形成される（ステップＳ１０２）。
【００５９】
隔壁１５を形成したのち、基板１１の下部電極１４および隔壁１５を形成した側の表面を酸素プラズマ処理し、その表面に付着した有機物等の汚染物を除去して濡れ性を向上させる。具体的には、基板１１を所定温度、例えば７０〜８０℃程度に加熱し、続いて大気圧下で酸素を反応ガスとするプラズマ処理（Ｏ2 プラズマ処理）を行う。
【００６０】
（撥水化処理を行う工程）
プラズマ処理を行ったのち、撥水化処理（撥液化処理）を行う（ステップＳ１０３）ことにより、特に上部隔壁１５Ｂの上面及び側面の濡れ性を低下させる。具体的には、大気圧下で４フッ化メタンを反応ガスとするプラズマ処理（ＣＦ4 プラズマ処理）を行い、
その後、プラズマ処理のために加熱された基板１１を室温まで冷却することで、上部隔壁１５Ｂの上面及び側面を撥液化し、その濡れ性を低下させる。
【００６１】
なお、このＣＦ4 プラズマ処理においては、下部電極１４の露出面および下部隔壁１５Ａについても多少の影響を受けるが、下部電極１４の材料であるＩＴＯおよび下部隔壁１５Ａの構成材料であるＳｉＯ２ などはフッ素に対する親和性に乏しいため、酸素プラズマ処理で濡れ性が向上した面は濡れ性がそのままに保持される。
【００６２】
（正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成する工程）
撥水化処理を行ったのち、図１１（Ｂ）に示したように、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域内に、上述した材料よりなる正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成する（ステップＳ１０４）。この正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢは、インクジェット，ノズルプリンティング，凸版印刷，グラビア印刷または反転オフセット印刷などの塗布法により形成する。特に、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域に正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの形成材料を選択的に配する必要上、液滴吐出法であるインクジェット法や、ノズルプリンティング法を用いることが好ましい。
【００６３】
具体的には、例えばインクジェット法により、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの形成材料であるポリアニリンやポリチオフェン等の溶液または分散液を下部電極１４の露出面上に配する。その後、熱処理（乾燥処理）を行うことにより、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成する。
【００６４】
熱処理においては、溶媒または分散媒を乾燥後、高温で加熱する。ポリアニリンやポリチオフェン等の導電性高分子を用いる場合、大気雰囲気、もしくは酸素雰囲気が好ましい。酸素による導電性高分子の酸化により、導電性が発現しやすくなるためである。
【００６５】
加熱温度は、１５０℃〜３００℃が好ましく、さらに好ましくは１８０℃〜２５０℃である。時間は、温度、雰囲気にもよるが、５分〜３００分程度が好ましく、さらに好ましくは、１０分〜２４０分である。この乾燥後の膜厚みは、５ｎｍ〜１００ｎｍが好ましい。さらに好ましくは、８ｎｍ〜５０ｎｍが好ましい。
【００６６】
（正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢを形成する工程）
正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成したのち、図１１（Ｃ）に示したように、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの上に、上述した高分子材料よりなる正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢを赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに形成する（ステップＳ１０５）。この正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢは、インクジェット，ノズルプリンティング，凸版印刷，グラビア印刷または反転オフセット印刷などの塗布法により形成する。特に、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域に正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢの形成材料を選択的に配する必要上、液滴吐出法であるインクジェット法や、ノズルプリンティング法を用いることが好ましい。
【００６７】
具体的には、例えばインクジェット法により、正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢの形成材料である高分子ポリマーの溶液または分散液を正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの露出面上に配する。その後、熱処理（乾燥処理）を行うことにより、正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢを形成する。
【００６８】
熱処理においては、溶媒または分散媒を乾燥後、高温で加熱する。塗布する雰囲気や溶媒を乾燥、加熱する雰囲気としては、窒素（Ｎ2 ）を主成分とする雰囲気中が好ましい。酸素や水分があると、作成された有機ＥＬ表示装置の発光効率や寿命が低下する恐れがある。特に、加熱工程においては、酸素や水分の影響が大きいため、注意が必要である。好ましい酸素濃度は、０．１ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下が好ましく、５０ｐｐｍ以下であればより好ましい。１００ｐｐｍより多い酸素があると、形成した薄膜の界面が汚染され、得られた有機ＥＬ表示装置の発行効率や寿命が低下する恐れがある。また、０．１ｐｐｍ未満の酸素濃度の場合、素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気を０．１ｐｐｍ未満に保持するための装置コストが多大になる可能性がある。
また、水分については、露点が例えば−８０℃以上−４０℃以下であることが好ましい。更に、−５０℃以下であればより好ましく、−６０℃以下であれば更に好ましい。−４０℃より高い水分があると、形成した薄膜の界面が汚染され、得られた有機ＥＬ表示装置の発光効率や寿命が低下する恐れがある。また、−８０℃未満の水分の場合、素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気を−８０℃未満に保持するための装置コストが多大になる可能性がある。
【００６９】
加熱温度は、１００℃〜２３０℃が好ましく、さらに好ましくは１００℃〜２００℃である。少なくとも、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢ形成時の温度よりも低いことが好ましい。時間は、温度、雰囲気にもよるが、５分〜３００分程度が好ましく、さらに好ましくは、１０分〜２４０分である。乾燥後の膜厚みは、素子の全体構成にもよるが、１０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましい。さらに、１５ｎｍ〜１５０ｎｍであればより好ましい。
【００７０】
（赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを形成する工程）
正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢを形成したのち、図１２（Ａ）に示したように、赤色有機ＥＬ素子の正孔輸送層１６ＢＲの上に上述した高分子材料よりなる赤色発光層１６ＣＲを形成する。また、緑色有機ＥＬ素子の正孔輸送層１６ＢＧの上に上述した高分子材料よりなる緑色発光層１６ＣＧを形成する（ステップＳ１０６）。赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧは、インクジェット，ノズルプリンティング，凸版印刷，グラビア印刷または反転オフセット印刷などの塗布法により形成する。特に、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域に赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの形成材料を選択的に配する必要上、液滴吐出法であるインクジェット法や、ノズルプリンティング法を用いることが好ましい。
【００７１】
具体的には、例えばインクジェット法により、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの形成材料である高分子ポリマーの溶液または分散液を正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧの露出面上に配する。その後、熱処理（乾燥処理）を行うことにより、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを形成する。
【００７２】
熱処理においては、溶媒または分散媒を乾燥後、高温で加熱する。塗布する雰囲気や溶媒を乾燥、加熱する雰囲気としては、窒素（Ｎ2 ）を主成分とする雰囲気中が好ましい。酸素や水分があると、作成された有機ＥＬ表示装置の発光効率や寿命が低下する恐れがある。特に、加熱工程においては、酸素や水分の影響が大きいため、注意が必要である。好ましい酸素濃度は、０．１ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下が好ましく、５０ｐｐｍ以下であればより好ましい。１００ｐｐｍより多い酸素があると、形成した薄膜の界面が汚染され、得られた有機ＥＬ表示装置の発光効率や寿命が低下する恐れがある。また、０．１ｐｐ
ｍ未満の酸素濃度の場合、素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気を０．１ｐｐｍ未満に保持するための装置コストが多大になる可能性がある。
また、水分については、露点が例えば−８０℃以上−４０℃以下であることが好ましい。更に、−５０℃以下であればより好ましく、−６０℃以下であれば更に好ましい。−４０℃より高い水分があると、形成した薄膜の界面が汚染され、得られた有機ＥＬ表示装置の発光効率や寿命が低下する恐れがある。また、−８０℃未満の水分の場合、素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気をー８０℃未満に保持するための装置コストが多大になる可能性がある。
【００７３】
加熱温度は、１００℃〜２３０℃が好ましく、さらに好ましくは１００℃〜２００℃である。少なくとも、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢ形成時の温度よりも低いことが好ましい。時間は、温度、雰囲気にもよるが、５分〜３００分程度が好ましく、さらに好ましくは、１０分〜２４０分である。乾燥後の膜厚みは、素子の全体構成にもよるが、１０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましい。さらに、１５ｎｍ〜１５０ｎｍであればより好ましい。
【００７４】
ここでは、赤色有機ＥＬ素子１０および緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々が、少なくとも対向する２辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接しているので、青色有機ＥＬ素子１０Ｂに隣接している辺では、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚の片寄りが低減されている。よって、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚の均一性または対称性が向上する。
【００７５】
例えば図４に示した第１例および図５に示した第２例では、短冊状の赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび短冊状の緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの間に短冊状の青色有機ＥＬ素子１０Ｂが配置されている。赤色有機ＥＬ素子１０および緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々は、二本の長辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接している。この場合、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの長辺では、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚の片寄りが低減される。よって、図４または図５において左右方向（短辺に平行な方向）での膜厚分布の均一性または対称性が良くなる。
【００７６】
図６に示した第３例では、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇは、千鳥配置されている。赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々は、四辺のすべてで同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接している。この場合、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの四辺のすべてで、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚の片寄りが低減される。よって、図６において左右方向だけでなく上下方向でも膜厚分布の均一性または対称性が良くなり、最も高い効果が得られる。
【００７７】
図７に示した第４例、図８に示した第５例および図９に示した第６例では、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇは、一方向に配列されている。赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々は、上下の二辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接している。この場合、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの上下の二辺では、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚の片寄りが低減される。よって、図７または図８において上下方向での膜厚分布の均一性または対称性が良くなる。
【００７８】
これに対して従来では、図１３（Ａ）に示したように、赤色有機ＥＬ素子８１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子８１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子８１０Ｂが順に配列されていた。そのため、赤色発光層８１６ＣＲおよび緑色発光層８１６ＣＧの青色有機ＥＬ素子８１０Ｂと隣接している辺では、塗布液の乾燥速度が速くなり、いわゆるコーヒーステイン現象により未乾燥のインクが乾燥済のインクに引き寄せられ、結果として、図１３（Ｂ）に示したように、青色有機ＥＬ素子８１０Ｂと隣接している辺の膜厚が厚くなり、膜厚分布の均一性または対称性が悪くなっていた。ここにいうコーヒーステイン現象とは、基板に広がった液膜の外縁部つまり周縁部の蒸発量が他の部分よりも多いため、それを補うように液が周縁部に向かって流れ、その結果、乾燥後、周縁部が盛り上がった膜が形成される現象である。なお、図１３では、図１２と同一の構成要素には８００番台の符号を付して表している。
【００７９】
これを回避するため、青色有機ＥＬ素子８１０Ｂ上に溶剤のみ塗布し、乾燥速度を均等化することも考えられるが、塗布装置のヘッド数を増やす必要があるのでコスト増加の原因となる。
【００８０】
また、青色有機ＥＬ素子８１０Ｂは、材料の問題から、赤色有機ＥＬ素子８１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子８１０Ｇに比べて発光寿命が短いので、青色有機ＥＬ素子８１０Ｂの面積を赤色有機ＥＬ素子８１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子８１０Ｇの面積よりも広い面積として長寿命化を図る場合がある。しかし、その場合には、より乾燥ムラが発生しやすくなり、図１３（Ｂ）を参照して説明したコーヒーステイン現象による膜厚の不均一の問題が更に顕著なものとなっていた。
【００８１】
（青色発光層１６ＣＢを形成する工程）
青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢおよび赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまで形成したのち、図１２（Ｂ）に示したように、蒸着法により、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢの全面に、上述した低分子材料よりなる青色発光層１６ＣＢを共通層として形成する（ステップＳ１０９）。
【００８２】
（電子輸送層１６Ｅ，電子注入層１６Ｆおよび上部電極１７を形成する工程）
青色発光層１６ＣＢを形成したのち、図１４（Ａ），図１４（Ｂ）および図１４（Ｃ）に示したように、この青色発光層１６ＣＢの全面に、蒸着法により、上述した材料よりなる電子輸送層１６Ｅ，電子注入層１６Ｆおよび上部電極１７を形成する（ステップＳ１１０，Ｓ１１１，Ｓ１１２）。
【００８３】
上部電極１７を形成したのち、図３に示したように、下地に対して影響を及ぼすことのない程度に、成膜粒子のエネルギーが小さい成膜方法、例えば蒸着法やＣＶＤ法により、保護層２０を形成する。例えば、アモルファス窒化シリコンからなる保護層２０を形成する場合には、ＣＶＤ法によって２〜３μｍの膜厚に形成する。この際、有機層１６の劣化による輝度の低下を防止するため、成膜温度を常温に設定すると共に、保護層２０の剥がれを防止するために膜のストレスが最小になる条件で成膜することが望ましい。
【００８４】
青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅ，電子注入層１６Ｆ，上部電極１７および保護層２０は、マスクを用いることなく全面にベタ膜として形成される。また、青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅ，電子注入層１６Ｆ，上部電極１７および保護層２０の形成は、望ましくは、大気に暴露されることなく同一の成膜装置内において連続して行われる。これにより大気中の水分による有機層１６の劣化が防止される。
【００８５】
なお、下部電極１４と同一工程で補助電極（図示せず）を形成した場合、補助電極の上部にベタ膜で形成された有機層１６を、上部電極１７を形成する前にレーザアブレーショ
ンなどの手法によって除去してもよい。これにより、上部電極１７を補助電極に直接接続させることが可能となり、コンタクトが向上する。
【００８６】
保護層２０を形成したのち、例えば、上述した材料よりなる封止用基板４０に、上述した材料よりなる遮光膜を形成する。続いて、封止用基板４０に赤色フィルタ（図示せず）の材料をスピンコートなどにより塗布し、フォトリソグラフィ技術によりパターニングして焼成することにより赤色フィルタを形成する。続いて、赤色フィルタ（図示せず）と同様にして、青色フィルタ（図示せず）および緑色フィルタ（図示せず）を順次形成する。
【００８７】
そののち、保護層２０の上に、接着層（図示せず）を形成し、この接着層を間にして封止用基板４０を貼り合わせる。以上により、図１ないし図３に示した表示装置が完成する。
【００８８】
この有機ＥＬ表示装置では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、下面発光（ボトムエミッション）の場合には下部電極１４および基板１１を透過して、上面発光（トップエミッション）の場合には上部電極１７，カラーフィルタ（図示せず）および封止用基板４０を透過して取り出される。
【００８９】
その際、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒでは、赤色発光層１６ＣＲと青色発光層１６ＣＢとが設けられているが、最もエネルギー準位の低い赤色にエネルギー移動が起こり、赤色発光が支配的となる。緑色有機ＥＬ素子１０Ｇでは、緑色発光層１６ＣＧと青色発光層１６ＣＢとが設けられているが、よりエネルギー準位の低い緑色にエネルギー移動が起こり、緑色発光が支配的となる。青色有機ＥＬ素子１０Ｂでは、青色発光層１６ＣＢのみを有するので、青色発光が生じる。ここでは、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々が、少なくとも対向する２辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接しているので、青色有機ＥＬ素子１０Ｂに隣接している辺では、製造工程における塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚の片寄りが低減されている。よって、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚の均一性または対称性が向上し、実効的な発光面積を広くとることが可能となり、発光寿命が改善される。
【００９０】
このように本実施の形態では、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々を、少なくとも対向する２辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接させるようにしたので、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚の均一性または対称性を向上させることが可能となる。よって、実効的な発光面積を広くとることが可能となり、発光寿命の改善が可能となる。
【００９１】
また、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの面積を赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの面積よりも広くした場合にも、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚の不均一が抑えられる。よって、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの面積を広くして、赤色有機ＥＬ素子１０および緑色有機ＥＬ素子１０Ｇとの発光寿命のバランスをとることが可能となる。
【００９２】
（第２ないし第５の実施の形態）
以下、第２ないし第５の実施の形態について説明する。これらの実施の形態はいずれも、上記第１の実施の形態において図４ないし図９を参照して説明した画素配列の効果を特に高めることが可能な素子構造に関するものである。また、以下の実施の形態において、第１の実施の形態と同一の構成要素については同一符号を付してその説明は省略する。        
【００９３】
（第２の実施の形態）
第２の実施の形態は、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１６ＢＢに低分子材料を含ませることにより、青色の発光効率および寿命を向上させるようにしたことを除いては、上記第１の実施の形態と同様の構成を有している。ここで、低分子材料とは、低分子化合物が同じ反応又は類似の反応を連鎖的に繰り返すことにより、生じた高分子量の重合体又は縮合体の分子からなる物質以外のものであって、分子量が実質的に単一である化合物を指す。また加熱により、実質的に分子間の新たな化学結合は生まれず、単分子で存在する。
【００９４】
正孔輸送層１６ＢＢの具体的な材料としては、例えば、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキサゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマー、オリゴマーあるいはポリマーを用いることができる。
【００９５】
さらに具体的な材料としては、α−ナフチルフェニルフェニレンジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、ヘキサシアノアザトリフェニレン、７, ７, ８, ８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）、７, ７, ８, ８−- テトラシアノ -２，３，５，６- テトラフルオロキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）、テトラシアノ４、４、４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラフェニル−４、４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２、２’−チエニルピロール）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００９６】
この表示装置は、例えば、次のようにして製造することができる。
【００９７】
図１５は、本実施の形態の有機ＥＬ表示装置の製造方法の流れを表したものであり、図１６ないし図１８は、図１５に示した製造方法を工程順に表したものである。
【００９８】
（下部電極１４を形成する工程）
まず、第１の実施の形態と同様にして、図１６（Ａ）に示したように、画素駆動回路１４０および平坦化絶縁膜を形成した基板１１の上に下部電極１４を形成する（ステップＳ２０１）。
【００９９】
（隔壁１５を形成する工程）
次いで、第１の実施の形態と同様にして、同じく図１６（Ａ）に示したように、下部隔壁１５Ａおよび上部隔壁１５Ｂよりなる隔壁１５を形成する（ステップＳ２０２）。
【０１００】
（撥水化処理を行う工程）
続いて、第１の実施の形態と同様にして、基板１１の下部電極１４および隔壁１５を形成した側の表面に対して酸素プラズマ処理を行ったのち、撥水化処理（撥液化処理）を行う（ステップＳ２０３）ことにより、特に上部隔壁１５Ｂの上面及び側面の濡れ性を低下させる。
【０１０１】
（正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成する工程）
そののち、第１の実施の形態と同様にして、図１６（Ｂ）に示したように、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域内に、上述した材料よりなる正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成する（ステップＳ２０４）。
【０１０２】
（正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧを形成する工程）
正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、図１６（Ｃ）に示したように、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧの上に、上述した高分子材料よりなる正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧを赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々ごとに形成する（ステップＳ２０５）。
【０１０３】
ここでは、赤色有機ＥＬ素子１０および緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々が、少なくとも対向する２辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接しているので、第１の実施の形態と同様に、青色有機ＥＬ素子１０Ｂに隣接している辺では、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧの膜厚の片寄りが低減されている。よって、正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧの膜厚の均一性または対称性が向上する。
【０１０４】
（赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを形成する工程）
正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧを形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、図１７（Ａ）に示したように、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの正孔輸送層１６ＢＲの上に上述した高分子材料よりなる赤色発光層１６ＣＲを形成する。また、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの正孔輸送層１６ＢＧの上に上述した高分子よりなる緑色発光層１６ＣＧを形成する（ステップＳ２０６）。
【０１０５】
ここでもまた、赤色有機ＥＬ素子１０および緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々が、少なくとも対向する２辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接しているので、第１の実施の形態と同様に、青色有機ＥＬ素子１０Ｂに隣接している辺では、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚の片寄りが低減されている。よって、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚の均一性または対称性が向上する。
【０１０６】
（青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１６ＢＢを形成する工程）
赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを形成したのち、図１７（Ｂ）に示したように、青色有機発光素子１０Ｂ用の正孔注入層１６ＡＢの上に、上述した低分子材料よりなる正孔輸送層１６ＢＢを形成する（ステップＳ２０７）。正孔輸送層１６ＢＢは、インクジェット，ノズルプリンティング，凸版印刷，グラビア印刷または反転オフセット印刷などの塗布法により形成する。特に、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域に正孔輸送層１６ＢＢの形成材料を選択的に配する必要上、液滴吐出法であるインクジェット法や、ノズルプリンティング法を用いることが好ましい。
【０１０７】
具体的には、例えばインクジェット法により、正孔輸送層１６ＢＢの形成材料である低分子の溶液または分散液を正孔注入層１６ＡＢの露出面上に配する。その後、熱処理（乾燥処理）を行うことにより、正孔輸送層１６ＢＢを形成する。
【０１０８】
熱処理においては、溶媒または分散媒を乾燥後、高温で加熱する。塗布する雰囲気や溶媒を乾燥、加熱する雰囲気としては、窒素（Ｎ2 ）を主成分とする雰囲気中が好ましい。酸素や水分があると、作成された有機ＥＬ表示装置の発光効率や寿命が低下する恐れがある。特に、加熱工程においては、酸素や水分の影響が大きいため、注意が必要である。好ましい酸素濃度は、０．１ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下が好ましく、５０ｐｐｍ以下であればより好ましい。１００ｐｐｍより多い酸素があると、形成した薄膜の界面が汚染され、得られた有機ＥＬ表示装置の発光効率や寿命が低下する恐れがある。また、０．１ｐｐｍ未満の酸素濃度の場合、素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気を０．１ｐｐｍ未満に保持するための装置コストが多大になる可能性がある。
また、水分については、露点が例えば−８０℃以上−４０℃以下であることが好ましい。更に、−５０℃以下であればより好ましく、−６０℃以下であれば更に好ましい。−４０℃より高い水分があると、形成した薄膜の界面が汚染され、得られた有機ＥＬ表示装置の発光効率や寿命が低下する恐れがある。また、−８０℃未満の水分の場合、素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気を−８０℃未満に保持するための装置コストが多大になる可能性がある。
【０１０９】
加熱温度は、材料の特性にもよるが、１００℃〜２３０℃が好ましく、さらに好ましくは１００℃〜２００℃である。少なくとも、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢ形成時の温度よりも低いことが好ましい。また低分子材料のＴｇを超えすぎた温度で加熱しつづけると、特性が大きく低下する恐れがある。時間は、温度、雰囲気にもよるが、５分〜３００分程度が好ましく、さらに好ましくは、１０分〜２４０分である。乾燥後の膜厚みは、素子の全体構成にもよるが、１０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましい。さらに、１５ｎｍ
〜１５０ｎｍであればより好ましい。
【０１１０】
（工程の順序について）
赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧを形成する工程と、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１６ＢＢを形成する工程と、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを形成する工程とは、いずれの順番で行ってもよいが、少なくとも、形成する層を展開する下地が先に形成されており、加熱乾燥各工程の加熱工程を経ていることが必要である。また、加熱工程時の温度が、前工程よりも少なくとも同等もしくは低い温度で行うように、塗布する必要がある。例えば、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの加熱温度が、１３０℃であり、青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢの加熱温度が同じ１３０℃である場合、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの塗布を行い、乾燥せずに、続けて、青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢの塗布をした後、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢの乾燥、加熱工程を行ってもよい。
また、上記各工程において、乾燥と加熱とは別個の工程として分けて行うことが好ましい。理由として、乾燥工程では、塗布したウエット膜が、非常に流動しやすいために、膜ムラが起きやすいからである。好ましい乾燥工程は、常圧で均一に真空乾燥する方法であり、さらに、乾燥中に風などをあてずに乾燥させることが望ましい。加熱工程では、ある程度、溶媒が飛んで流動性が低下し、硬化した膜になっており、そこからゆっくりと、熱をかけることにより、微量に残存している溶媒を取り除いたり、発光材料や正孔輸送層の材料を分子レベルで再配列を起こさせることが可能となる。
【０１１１】
（青色発光層１６ＣＢを形成する工程）
青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢおよび赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまで形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、図１７（Ｃ）に示したように、蒸着法により、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢの全面に、上述した低分子材料よりなる青色発光層１６ＣＢを共通層として形成する（ステップＳ２０９）。
【０１１２】
（電子輸送層１６Ｅ，電子注入層１６Ｆおよび上部電極１７を形成する工程）
青色発光層１６ＣＢを形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、図１８（Ａ），図１８（Ｂ）および図１８（Ｃ）に示したように、この青色発光層１６ＣＢの全面に、蒸着法により、上述した材料よりなる電子輸送層１６Ｅ，電子注入層１６Ｆおよび上部電極１７を形成する（ステップＳ２１０，Ｓ２１１，Ｓ２１２）。
【０１１３】
上部電極１７を形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、図３に示したように、保護層２０を形成する。また、第１の実施の形態と同様にして、上述した材料よりなる封止用基板４０に、遮光膜，赤色フィルタ（図示せず），青色フィルタ（図示せず）および緑色フィルタ（図示せず）を順次形成する。
【０１１４】
そののち、保護層２０の上に、接着層（図示せず）を形成し、この接着層を間にして、封止用基板４０を貼り合わせる。以上により、図１ないし図３に示した表示装置が完成する。
【０１１５】
この有機ＥＬ表示装置では、各画素に対して第１の実施の形態と同様にして駆動制御がなされることにより、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、下面発光（ボトムエミッション）の場合には下部電極１４および基板１１を透過して、上面発光（トップエミッション）の場合には上部電極１７，カラーフィルタ（図示せず）および封止用基板４０を透過して取り出される。
【０１１６】
その際、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒでは、赤色発光層１６ＣＲと青色発光層１６ＣＢとが設けられているが、最もエネルギー準位の低い赤色にエネルギー移動が起こり、赤色発光が支配的となる。緑色有機ＥＬ素子１０Ｇでは、緑色発光層１６ＣＧと青色発光層１６ＣＢとが設けられているが、よりエネルギー準位の低い緑色にエネルギー移動が起こり、緑色発光が支配的となる。青色有機ＥＬ素子１０Ｂでは、青色発光層１６ＣＢのみを有するので、青色発光が生じる。ここでは、青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢが低分子材料により構成されているので、低分子材料よりなる青色発光層１６ＣＢとの界面状態が改善され、青色の発光効率および寿命が向上する。
【０１１７】
このように本実施の形態では、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔注入層１６ＡＢの上に低分子材料よりなる正孔輸送層１６ＢＢを塗布法により形成するようにしたので、第１の実施の形態の効果に加えて、低分子材料よりなる青色発光層１６ＣＢとの界面状態を改善し、青色の発光効率および寿命を向上させることが可能になる。よって、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂを配列形成してなるカラー有機ＥＬ表示装置のさらなる高発光効率化、長寿命化が可能になる。また、蒸着時のパターニングの困難さを解消し、かつ印刷プロセスによる低コスト化を実現することが可能となる。
【０１１８】
（第３の実施の形態）
第３の実施の形態は、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧが低分子材料を含むようにしたことを除いては、上記第２の実施の形態と同様の構成を有している。
【０１１９】
赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧは高分子（発光）材料に低分子材料が添加された混合材料により構成されている。これにより本実施の形態では、共通層である青色発光層１６ＣＢから赤色発光層１６ＣＲまたは緑色発光層１６ＣＧへの正孔および電子の注入効率を向上させることが可能となっている。ここで低分子材料とは、モノマーまたはこのモノマーを２〜１０個結合したオリゴマーとし、５万以下の重量平均分子量を有するものが好ましい。なお、重量平均分子量が上記範囲を超えた低分子材料を必ずしも除外するものではない。
【０１２０】
赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧは、例えばインクジェット等の塗付法により形成する。その際、高分子材料および低分子材料を例えばトルエン、キシレン、アニソール、シクロヘキサノン、メシチレン（１，３，５−トリメチルベンゼン）、ブサイドクメン( １，２，４−トリメチルベンゼン) 、ジハイドロベンゾフラン、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、１−メチルナフタレン、ｐ−アニシルアルコール、ジメチルナフタレン、3-メチルビフェニル、４−メチルビフェニル、３−イソプロピルビフェニル、モノイソプロピルナフタレンなどの有機溶媒に少なくとも１種類以上使って溶解し、この混合溶液を用いて形成する。
【０１２１】
赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧを構成する高分子材料としては、例えばポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機ＥＬ材料をドープしたものが挙げられる。ドープ材料としては、例えばルブレン、ペリレン、９，１０ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６等を用いることができる。
【０１２２】
以下、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧを構成する高分子材料に低分子材料を添加することにより、共通層である青色発光層１６ＣＢから赤色発光層１６ＣＲまたは緑色発光層１６ＣＧへの正孔および電子の注入効率が向上する原理について説明する。
【０１２３】
第１および第２の実施の形態では、高分子材料のみから構成される赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧの上部に共通層として低分子材料からなる青色発光層１６ＣＢを形成しており、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧのエネルギー準位と、青色発光層１６ＣＢのエネルギー準位との差は大きい。このため、青色発光層１６ＣＢと赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧ各々との間の正孔または電子の注入効率は非常に低く、本来の高分子材料からなる発光層が有する特性を十分に得ることができないおそれがあった。本実施の形態では、この正孔または電子の注入特性を向上させるために、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧが有するエネルギー準位と、青色発光層１６ＣＢが有するエネルギー準位との差を小さくする低分子材料（モノマーまたはオリゴマー）を赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧに添加するものである。ここでは、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＲの最高占有分子軌道（ＨＯＭＯ）準位および最低非占有分子軌道（ＬＵＭＯ）準位と、青色発光層１６ＣＢのＨＯＭＯ（最高占有分子軌道）準位および最低非占有分子軌道（ＬＵＭＯ）準位と赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧに添加する低分子材料のＨＯＭＯ（最高占有分子軌道）準位および最低非占有分子軌道（ＬＵＭＯ）準位との関係を考慮する。具体的な添加する低分子材料としては、赤色発光層１６ＣＲまたは緑色発光層１６ＣＧのそれぞれのＬＵＭＯより低い値を有すると共に、青色発光層のＬＵＭＯより高い値を有し、かつ、赤色発光層１６ＣＲまたは緑色発光層１６ＣＧのそれぞれのＨＯＭＯより高い値を有すると共に、青色発光層のＨＯＭＯより低い値を有する化合物を選択する。
【０１２４】
また、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧに添加する低分子材料は、低分子化合物が同じ反応または類似の反応を連鎖的に繰り返すことにより生じた高分子量の重合体または縮合体の分子からなる化合物以外のものであって、分子量が実質的に単一であるものを指す。また加熱による分子間の新たな化学結合は生じず、単分子で存在する。このような低分子材料の重量平均分子量（Ｍｗ）は５万以下であることが好ましい。これは分子量の大きい、例えば５万以上の材料に比べてある程度小さい分子量の材料のほうが多様な特性を有し、正孔または電子の移動度やバンドギャップあるいは溶媒への溶解度などを調整しやすいためである。また、低分子材料の添加量は、赤色発光層１６ＣＲまたは緑色発光層１６ＣＧに用いられる高分子材料：低分子材料の混合比率が、その重量比で１０：１以上１：２以下になるようにすることが好ましい。高分子材料：低分子材料の混合比率
が１０：１未満では、低分子材料の添加による効果が低くなるためである。また、この混合比率が１：２を超える場合には、発光材料としての高分子材料が有する特性が得られにくくなるためである。
【０１２５】
このような低分子材料としては、例えば、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキザゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマーあるいはオリゴマーを用いることができる。
【０１２６】
さらに具体的な材料としては、α−ナフチルフェニルフェニレンジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、ヘキサシアノアザトリフェニレン、７, ７, ８, ８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）、７, ７, ８, ８−テトラシアノ−２，３，５，６- テトラフルオロキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）、テトラシアノ４、４、４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラフェニル−４、４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２、２’−チエニルピロール）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２７】
なお、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧに添加する低分子材料は１種類だけでなく、複数種類を混合して用いてもよい。
【０１２８】
この有機ＥＬ表示装置は、例えば、第２の実施の形態と同様にして製造することができる。
【０１２９】
この有機ＥＬ表示装置では、各画素に対して第１の実施の形態と同様にして駆動制御が行われることにより、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、下面発光（ボトムエミッション）の場合には下部電極１４および基板１１を透過して、上面発光（トップエミッション）の場合には上部電極１７，カラーフィルタ（図示せず）および封止用基板４０を透過して取り出される。
【０１３０】
その際、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒでは、赤色発光層１６ＣＲと青色発光層１６ＣＢとが設けられているが、最もエネルギー準位の低い赤色にエネルギー移動が起こり、赤色発光が支配的となる。緑色有機ＥＬ素子１０Ｇでは、緑色発光層１６ＣＧと青色発光層１６ＣＢとが設けられているが、よりエネルギー準位の低い緑色にエネルギー移動が起こり、緑色発光が支配的となる。青色有機ＥＬ素子１０Ｂでは、青色発光層１６ＣＢのみを有するので、青色発光が生じる。前述のように第１および第２の実施の形態では、青色発光層１６ＣＢから赤色発光層１６ＣＲまたは緑色発光層１６ＣＧへの正孔または電子の注入効率が低く、高分子材料からなる赤色発光層１６ＣＲまたは緑色発光層１６ＣＧが有する本来の特性が発揮されていなかった。
【０１３１】
ここでは、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを、高分子材料に低分子材料を添加した構成としているので、低分子材料からなる青色発光層１６ＣＢとのエネルギー準位の差が小さくなる。これにより青色発光層１６ＣＢから赤色発光層１６ＣＲまたは緑色発光層１６ＣＧへの正孔または電子の注入効率が改善され、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧが有する素子特性に近い値を実際に得ることが可能となる。
【０１３２】
このように本実施の形態では、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを、高分子材料および低分子材料の混合材料を用いて塗布法により形成するようにしたので、第１の実施の形態の効果に加えて、青色発光層１６ＣＢから赤色発光層１６ＣＲまたは緑色発光層１６ＣＧへの正孔または電子の移動効率が改善され、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧが有する素子特性に近い値が得られる。すなわち、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂを配列形成してなるカラー有機ＥＬ表示装置のさらなる高発光効率化、長寿命化が可能になる。
【０１３３】
（第４の実施の形態）
図１９は、本発明の第４の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１Ａの表示領域１１０の断面構成を表したものである。この有機ＥＬ表示装置１Ａは、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢの全面と、青色発光層１６ＣＢとの間に、低分子材料からなる共通正孔輸送層１６Ｄを有している。このことを除いては、この有機ＥＬ表示装置１Ａは上記第３の実施の形態と同様の構成を有している。
【０１３４】
赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの有機層１６は、例えば、下部電極１４の側から順に、正孔注入層１６ＡＲ，正孔輸送層１６ＢＲ，赤色発光層１６ＣＲ，共通正孔輸送層（第２正孔注入・輸送層）１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅおよび電子注入層１６Ｆを積層した構成を有する。緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの有機層１６は、例えば、下部電極１４の側から順に、正孔注入層１６ＡＧ，正孔輸送層１６ＢＧ，緑色発光層１６ＣＧ，共通正孔輸送層１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅおよび電子注入層１６Ｆを積層した構成を有する。青色有機ＥＬ素子１０Ｂの有機層１６は、例えば、下部電極１４の側から順に、正孔注入層１６ＡＢ，正孔輸送層１６ＢＢ，共通正孔輸送層１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅおよび電子注入層１６Ｆを積層した構成を有する。これらのうち共通正孔輸送層１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅおよび電子注入層１６Ｆは、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの共通層として設けられている。
【０１３５】
赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧは、第３の実施の形態と同様に、高分子（発光）材料に低分子材料が添加された混合材料により構成されている。
【０１３６】
青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１６ＢＢは、低分子材料（モノマーおよびオリゴマー）または高分子材料のいずれでもよい。ここで用いる低分子材料のうちモノマーは赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧに添加する低分子材料と同様の低分子化合物の重合体または縮合体等の化合物以外のものであって、分子量が単一であるものであり、単分子で存在するものである。また、オリゴマーはモノマーが複数個結合したものであり、重量平均分子量（Ｍｗ）は５万以下のものを指す。更に高分子材料は正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧに用いられる高分子材料と同様に、重量平均分子量が５万〜３０万の範囲であればよく、と特に１０万〜２０万程度が好ましい。なお、正孔輸送層１６ＢＢに用いる低分子材料および高分子材料は分子量および重量平均分子量の異なる２種以上の材料を混合して用いてもよい。
【０１３７】
共通正孔輸送層１６Ｄは、青色発光層１６ＣＢへの正孔の注入効率を向上させるものであり、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢの全面に共通層として設けられている。共通正孔輸送層１６Ｄの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１ｎｍ〜２０ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１ｎｍ〜１０ｎｍである。
【０１３８】
共通正孔輸送層１６Ｄは蒸着法を用いて形成するため、低分子材料、特にモノマーを用いることが好ましい。オリゴマーまたは高分子材料のような重合された分子は蒸着中分解が起こる虞があるためである。なお、共通正孔輸送層１６Ｄに用いる低分子材料は分子量の異なる２種以上の材料を混合して用いてもよい。
【０１３９】
共通正孔輸送層１６Ｄに用いられる低分子材料としては、第３の実施の形態の赤色発光層１６ＣＲ、緑色発光層１６ＣＧおよび青色正孔輸送層１６ＣＢにおいて説明した低分子材料と同様に、例えば、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキザゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマー、オリゴマーまたはポリマーを用いることができる。
【０１４０】
さらに具体的な材料としては、α−ナフチルフェニルフェニレンジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、ヘキサシアノアザトリフェニレン、７, ７, ８, ８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）、７, ７, ８, ８−テトラシアノ−２，３，５，６−テトラフルオロキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）、テトラシアノ４、４、４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラフェニル−４、４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２、２’−チエニルピロール）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１４１】
この有機ＥＬ表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。
【０１４２】
図２０は、この有機ＥＬ表示装置の製造方法の流れを表したものであり、図２１ないし図２３は図２０に示した製造方法を工程順に表したものである。
【０１４３】
（下部電極１４を形成する工程）
まず、第１の実施の形態と同様にして、図２１（Ａ）に示したように、画素駆動回路１４０および平坦化絶縁膜を形成した基板１１の上に下部電極１４を形成する（ステップＳ３０１）。
【０１４４】
（隔壁１５を形成する工程）
次いで、第１の実施の形態と同様にして、同じく図２１（Ａ）に示したように、下部隔壁１５Ａおよび上部隔壁１５Ｂよりなる隔壁１５を形成する（ステップＳ３０２）。
【０１４５】
（撥水化処理を行う工程）
続いて、第１の実施の形態と同様にして、基板１１の下部電極１４および隔壁１５を形成した側の表面に対して、酸素プラズマ処理を行ったのち、撥水化処理（撥液化処理）を行う（ステップＳ３０３）ことにより、特に上部隔壁１５Ｂの上面及び側面の濡れ性を低下させる。
【０１４６】
（正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成する工程）
そののち、第１の実施の形態と同様にして、図２１（Ｂ）に示したように、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域内に、上述した材料よりなる正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成する（ステップＳ３０４）。
【０１４７】
（正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧを形成する工程）
正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、図２１（Ｃ）に示したように、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧの上に、上述した高分子材料よりなる正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧを赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々ごとに形成する（ステップＳ３０５）。
【０１４８】
ここでは、赤色有機ＥＬ素子１０および緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々が、少なくとも対向する２辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接しているので、第１の実施の形態と同様に、青色有機ＥＬ素子１０Ｂに隣接している辺では、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧの膜厚の片寄りが低減されている。よって、正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧの膜厚の均一性または対称性が向上する。
【０１４９】
（赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを形成する工程）
正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧを形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、図２２（Ａ）に示したように、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの正孔輸送層１６ＢＲの上に上述した高分子材料よりなる赤色発光層１６ＣＲを形成する。また、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの正孔輸送層１６ＢＧの上に上述した高分子よりなる緑色発光層１６ＣＧを形成する（ステップＳ３０６）。
【０１５０】
ここでもまた、赤色有機ＥＬ素子１０および緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々が、少なくとも対向する２辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接しているので、第１の実施の形態と同様に、青色有機ＥＬ素子１０Ｂに隣接している辺では、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚の片寄りが低減されている。よって、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚の均一性または対称性が向上する。
【０１５１】
（青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１６ＢＢを形成する工程）
赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを形成したのち、第３の実施の形態と同様に、図２２（Ｂ）に示したように、青色有機発光素子１０Ｂ用の正孔注入層１６ＡＢの上に、上述した材料よりなる正孔輸送層１６ＢＢを形成する（ステップＳ３０７）。
【０１５２】
（工程の順序について）
赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧを形成する工程と、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１６ＢＢを形成する工程と、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを形成する工程との順序については、第２の実施の形態と同様である。
【０１５３】
（共通正孔輸送層１６Ｄを形成する工程）
青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢおよび赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまで形成したのち、図２２（Ｃ）に示したように、蒸着法により、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢの全面に、上述した低分子材料よりなる共通正孔輸送層１６Ｄを共通層として形成する（ステップＳ３０８）。
【０１５４】
（青色発光層１６ＣＢを形成する工程）
共通正孔輸送層１６Ｄを形成したのち、図２２（Ｄ）に示したように、蒸着法により、共通正孔輸送層１６Ｄの全面に、上述した低分子材料よりなる青色発光層１６ＣＢを共通層として形成する（ステップＳ３０９）。
【０１５５】
（電子輸送層１６Ｅ，電子注入層１６Ｆおよび上部電極１７を形成する工程）
青色発光層１６ＣＢを形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、図２３（Ａ），図２３（Ｂ）および図２３（Ｃ）に示したように、この青色発光層１６ＣＢの全面に、蒸着法により、上述した材料よりなる電子輸送層１６Ｅ，電子注入層１６Ｆおよび上部電極１７を形成する（ステップＳ３１０，Ｓ３１１，Ｓ３１２）。
【０１５６】
上部電極１７を形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、図３に示したように、保護層２０を形成する。このとき、共通正孔輸送層１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅ，電子注入層１６Ｆ，上部電極１７および保護層２０は、マスクを用いることなく全面にベタ膜として形成される。また、共通正孔輸送層１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅ，電子注入層１６Ｆ，上部電極１７および保護層２０の形成は、望ましくは、大気に暴露されることなく同一の成膜装置内において連続して行われる。これにより大気中の水分による有機層１６の劣化が防止される。
【０１５７】
保護層２０を形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、上述した材料よりなる封止用基板４０に、遮光膜，赤色フィルタ（図示せず），青色フィルタ（図示せず）および緑色フィルタ（図示せず）を順次形成する。
【０１５８】
そののち、保護層２０の上に、接着層（図示せず）を形成し、この接着層を間にして、封止用基板４０を貼り合わせる。以上により、図１ないし図３に示した表示装置が完成する。
【０１５９】
この有機ＥＬ表示装置１Ａでは、各画素に対して第１の実施の形態と同様の駆動制御がなされることにより、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、下面発光（ボトムエミッション）の場合には下部電極１４および基板１１を透過して、上面発光（トップエミッション）の場合には上部電極１７，カラーフィルタ（図示せず）および封止用基板４０を透過して取り出される。
【０１６０】
その際、第２または第３の実施の形態のように塗布法によって形成された青色正孔輸送層１６ＢＢ上に直接青色発光層１６ＣＢを設けた場合には、以下の理由により青色発光層１６ＣＢの本来の特性が発揮されないおそれがあった。まず、第１の理由としては塗付法による青色正孔輸送層１６ＢＢの形成時に混入する水分や残存溶媒等による正孔注入性の低下が挙げられる。第２の理由としては、青色正孔輸送層１６ＢＢは大気環境下で形成されるため界面汚染等による劣化が挙げられる。
【０１６１】
本実施の形態の有機ＥＬ表示装置では、青色正孔輸送層１６ＢＢ上に低分子材料からなる共通正孔輸送層１６Ｄを蒸着法により形成するようにしたので、大気中の水分などの混入が抑制され、青色発光層１６ＣＢとの界面が改善される。これにより、青色発光層１６ＣＢへの正孔注入効率が改善され、青色発光層１６ＣＢの本体の特性に近い値を得ることが可能となる。
【０１６２】
なお、共通正孔輸送層１６Ｄは蒸着法によって形成するため、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧ上にも共通正孔輸送層１６Ｄが形成される。これにより赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧと、青色発光層１６ＣＢとは共通正孔輸送層１６Ｄを介して積層されることとなる。共通正孔輸送層１６Ｄは、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧ上では通常は電子ブロック性を示すため、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧへの電子注入性は悪化する。また、第１または第２の実施の形態のように、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧが高分子材料のみから構成されている場合には、低分子材料からなる共通正孔輸送層１６Ｄとのエネルギーレベルの差が大きいため正孔輸送性能が低下するおそれがあった。そのため、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧへ注入される電子および正孔が不足し、駆動電圧が増大したり、発光効率が低下したりする可能性があった。また、正孔および電子の注入が適切に行われないため、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒまたは緑色有機ＥＬ素子１０Ｇを発光させた際に、４３０〜５００ｎｍにピークを持つ青色の発光を伴うおそれがあった。即ち、赤色光または緑色光に青色光が混色することによって赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの色度が変化してしまう。これは、ディスプレイを構成する表示素子としては大きな問題となる可能性があった。
【０１６３】
これに対して、本実施の形態では、第３の実施の形態と同様に、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを、高分子材料に低分子材料を添加した混合材料により形成しているので、エネルギーレベルの差が小さくなり、正孔輸送性能が改善されると共に適宜調整することが可能となる。また、共通正孔輸送層１６Ｄは、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧに添加した低分子材料と同系統の材料により形成されているため、各層のエネルギーレベル等の差を小さくする。更に、共通正孔輸送層１６Ｄは、青色発光層１６ＣＢを形成する材料とも同系統の材料で形成されているため、青色発光層１６ＣＢを介して赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧへ注入される電子の輸送性能も優れている。従って、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧと共通正孔輸送層１６Ｄとの間の正孔輸送性および電子輸送性の障壁が軽減され、上述した駆動電圧および発光効率の問題が解決される。また、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒまたは緑色有機ＥＬ素子１０Ｇを発光させた際の青色の発光が抑えられるため、赤色発光素子１０Ｒおよび緑色発光素子１０Ｇの色度変化が抑制される。即ち、表示素子として用いることが可能な赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇを提供することが可能となる。
【０１６４】
このように本実施の形態では、青色正孔輸送層１６ＢＢおよび赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＢ上の全面に低分子材料からなる共通正孔輸送層１６Ｄを蒸着法により形成するようにしたので、第１ないし第３の実施の形態の効果に加えて、青色発光層１６ＣＢの界面が改善される。これにより、青色発光層１６ＣＢへの正孔の注入効率が改善され、青色発光層１６ＣＢの本体の特性に近い値を得ることが可能となる。すなわち、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの発光効率および寿命特性が向上するため、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂを配列形成してなるカラー有機ＥＬ表示装置のさらなる高発光効率化、長寿命化が可能になる。
【０１６５】
また、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧへ低分子材料を添加することにより、正孔および電子のキャリアバランスを調整することがより簡易になる。これにより、共通正孔輸送層１６Ｄと青色発光層１６ＣＢおよび電子輸送層１６Ｅを形成することによって起こる、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧへの電子注入性の低下および正孔輸送性の低下を抑制することが可能となる。即ち、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの発光効率および寿命の低下、駆動電圧の上昇および発光色度の変化を抑えることが可能となる。
【０１６６】
（第５の実施の形態）
図２４は本発明の第５の実施の形態における有機ＥＬ表示装置１Ｂの表示領域の断面構成を表したものである。この有機ＥＬ表示装置１Ｂは、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１６ＢＢを設けず、正孔注入層１６ＡＢ上に共通正孔輸送層１６Ｄを直接設けたことを除いては、第４の実施の形態と同様の構成を有している。
【０１６７】
赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの有機層１６は、例えば、第４の実施の形態における赤色有機ＥＬ素子１０Ｒと同様に下部電極１４の側から順に、正孔注入層１６ＡＲ，正孔輸送層１６ＢＲ，赤色発光層１６ＣＲ，共通正孔輸送層（第２正孔注入・輸送層）１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅおよび電子注入層１６Ｆを積層した構成を有する。緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの有機層１６は、例えば、第４の実施の形態における緑色有機ＥＬ素子１０Ｇと同様に下部電極１４の側から順に、正孔注入層１６ＡＧ，正孔輸送層１６ＢＧ，緑色発光層１６ＣＧ，共通正孔輸送層１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅおよび電子注入層１６Ｆを積層した構成を有する。青色有機ＥＬ素子１０Ｂの有機層１６は、例えば、下部電極１４の側から順に、正孔注入層１６ＡＢ，共通正孔輸送層１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅおよび電子注入層１６Ｆを積層した構成を有し、青色の正孔輸送層がない点が第４の実施の形態と異なる。これらのうち共通正孔輸送層１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅおよび電子注入層１６Ｆは、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの共通層として設けられている。
【０１６８】
本実施の形態の有機ＥＬ装置では第４の実施の形態の効果に加えて、更に青色有機ＥＬ素子１０Ｂの寿命特性を向上させることができる。また、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔注入層１６ＡＢ上に直接共通正孔輸送層１６Ｄを設けることにより、製造工程数が削減されると共に、コストを抑えることも可能となる。
【０１６９】
（モジュールおよび適用例）
以下、上記実施の形態で説明した有機ＥＬ表示装置の適用例について説明する。上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【０１７０】
（モジュール）
上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置は、例えば、図２５に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、保護層３０および封止用基板４０から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。
【０１７１】
（適用例１）
図２６は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置により構成されている。
【０１７２】
（適用例２）
図２７は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置により構成されている。
【０１７３】
（適用例３）
図２８は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置により構成されている。
【０１７４】
（適用例４）
図２９は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置により構成されている。
【０１７５】
（適用例５）
図３０は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置により構成されている。
【０１７６】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。
【０１７７】
例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。
【０１７８】
また、上記実施の形態では、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。
【０１７９】
更に、上記実施の形態では、青色以外の有機ＥＬ素子（第２有機ＥＬ素子）として赤色および緑色の有機ＥＬ素子を備えた３原色表示の表示装置について説明したが、第２有機ＥＬ素子は、赤色有機ＥＬ素子、緑色有機ＥＬ素子、黄色有機ＥＬ素子または白色有機ＥＬ素子のうちの少なくとも１色、好ましくは少なくとも２色である。例えば、本発明は青色有機ＥＬ素子と黄色有機ＥＬ素子からなる２原色表示の表示装置への適用も可能である。
【０１８０】
加えて、本発明は、第２有機ＥＬ素子として、赤色有機ＥＬ素子および緑色有機ＥＬ素子と共に、黄色または白色の有機ＥＬ素子を備えた４原色表示の場合にも適用可能である。この場合、図３１に示したように、赤色有機ＥＬ素子８１０Ｒ，青色有機ＥＬ素子８１０Ｂ，緑色有機ＥＬ素子８１０Ｇおよび黄色有機ＥＬ素子８１０Ｙを順に配列した場合には、緑色有機ＥＬ素子８１０Ｇの左側と、赤色有機ＥＬ素子８１０Ｒの右側とにおいて乾燥速度が速くなり膜厚が厚めになる。
【０１８１】
そこで、例えば図３２ないし図３４に示したように、矩形（例えば正方形）の赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび黄色有機ＥＬ素子１０Ｙを各画素１０の三つの角に配置し、青色有機ＥＬ素子１０Ｂを残りの一つの角に配置する。このようにすれば、例えば図３２に示した第１例では、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々は、左右の二辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接している。よって、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの左右辺では、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の緑色発光層１６ＣＧの膜厚の片寄りが低減され、左右方向での膜厚分布の均一性または対称性が良くなる。また、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの各々は、上下の二辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接している。よって、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの上下辺では、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の赤色発光層１６ＣＲの膜厚の片寄りが低減され、上下方向での膜厚分布の均一性または対称性が良くなる。
【０１８２】
図３３に示した第２例では、黄色有機ＥＬ素子１０Ｙの各々は、左右の二辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接している。よって、黄色有機ＥＬ素子１０Ｙの左右辺では、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の黄色発光層の膜厚の片寄りが低減され、左右方向での膜厚分布の均一性または対称性が良くなる。赤色有機ＥＬ素子１０Ｒについては第１例と同様である。
【０１８３】
図３４に示した第３例では、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの各々は、左右の二辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接している。よって、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの左右辺では、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の赤色発光層１６ＣＧの膜厚の片寄りが低減され、左右方向での膜厚分布の均一性または対称性が良くなる。また、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの各々は、上下の二辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接している。よって、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの上下辺では、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の緑色発光層１６ＣＧの膜厚の片寄りが低減され、上下方向での膜厚分布の均一性または対称性が良くなる。
【０１８４】
あるいは、図３５に第４例として示したように、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび黄色有機ＥＬ素子１０Ｙは、一方向に配列されていてもよい。赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび黄色有機ＥＬ素子１０Ｙの各々は、上下の二辺で同一画素１０内または隣接画素１０内の青色有機ＥＬ素子１０Ｂと隣接している。この場合、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび黄色有機ＥＬ素子１０Ｙの上下の二辺では、塗布液の乾燥速度の不均一が抑えられ、乾燥後の赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび黄色発光層の膜厚の片寄りが低減され、上下方向での膜厚分布の均一性または対称性が良くなる。この第４例は、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび黄色有機ＥＬ素子１０Ｙが同一形状（同一面積）になるので、より好ましい。更に、図３６に示した第５例のように、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの短辺を短くする一方、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび黄色有機ＥＬ素子１０Ｙの長辺を長くして、開口率を調整することも可能である。
【０１８５】
なお、図３２ないし図３６は、黄色有機ＥＬ素子１０Ｙを白色有機ＥＬ素子に代えた場合にも同様にあてはまる。
【０１８６】
更にまた、上記実施の形態では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本発明はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。更にまた、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路１２０や走査線駆動回路１３０のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。
【符号の説明】
【０１８７】
１０Ｒ…赤色有機ＥＬ素子、１０Ｇ…緑色有機ＥＬ素子、１０Ｂ…青色有機ＥＬ素子、１０Ｙ…黄色有機ＥＬ素子、１１…基板、１４…下部電極、１５…隔壁、１６…有機層、１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢ…正孔注入層、１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢ…正孔輸送層、１６ＣＲ…赤色発光層、１６ＣＧ…緑色発光層、１６ＣＢ…青色発光層、１６Ｄ…共通正孔輸送層、１６Ｅ…電子輸送層、１６Ｆ…電子注入層、１７…上部電極、２０…保護層、４０…封止用基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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