(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁場空間を生成する磁場発生源と、前記磁場空間の外側に複数の磁性材を配置し前記磁場空間内の第１磁場強度分布を均一にする磁場均一度調整手段と、を備えた磁石装置に対し、前記第１磁場強度分布に基づき、前記第１磁場強度分布を均一にするために、前記磁場均一度調整手段に配置すべき前記磁性材の位置及び体積を表す第１体積分布を算出して表示する磁場均一度調整方法において、
コンピュータが、
前記磁場均一度調整手段を複数の領域に区切り、前記第１体積分布により前記領域毎に内部に位置する前記磁性材の体積を足し合わせた領域内体積と前記領域の位置を表す第１集積分布を取得するステップと、
前記第１集積分布のように配置されたと仮定した前記磁性材が、前記磁場空間に作る仮想磁場強度分布を算出するステップと、
前記第１磁場強度分布と前記仮想磁場強度分布とを足し合わせた第２磁場強度分布を算出するステップと、
前記第２磁場強度分布に基づき、前記第２磁場強度分布を均一にするために、前記磁場均一度調整手段に配置すべき前記磁性材の位置及び体積を表す第２体積分布を算出するステップと、
前記第２体積分布により前記領域毎に内部に位置する前記磁性材の体積を足し合わせた領域内体積と前記領域の位置を表す第２集積分布を取得するステップと、
前記第１集積分布と前記第２集積分布の前記領域の位置と前記領域内体積を表示するステップと、を実行することを特徴とする磁場均一度調整方法。
【請求項２】
前記領域の位置と前記領域内体積は、前記第１集積分布と前記第２集積分布のどちらか識別可能なように表示されることを特徴とする請求項１に記載の磁場均一度調整方法。
【請求項３】
前記領域の位置と前記領域内体積は、前記第１集積分布と前記第２集積分布とで異なるフォントを用いて表示されることを特徴とする請求項１に記載の磁場均一度調整方法。
【請求項４】
前記領域の位置と前記領域内体積は、前記第１集積分布と前記第２集積分布とで異なる色を用いて表示されることを特徴とする請求項１に記載の磁場均一度調整方法。
【請求項５】
前記領域の位置と前記領域内体積は、前記第１集積分布と前記第２集積分布とでそれぞれ別の図表を用いて表示されることを特徴とする請求項１に記載の磁場均一度調整方法。
【請求項６】
前記領域の位置と前記領域内体積は、マルチウィンドウに表示され、前記第１集積分布と前記第２集積分布とでそれぞれ別のウィンドウに表示されることを特徴とする請求項１に記載の磁場均一度調整方法。
【請求項７】
前記磁石装置は上下に対向する磁極面を有し、前記磁極面の間に磁場の方向が垂直方向の前記磁場空間を生成することを特徴とする請求項１に記載の磁場均一度調整方法。
【請求項８】
前記磁場均一度調整手段は、磁極面に配置された非磁性材からなる円盤状のシムトレイを有し、
前記シムトレイに前記磁性材が配置されることを特徴とする請求項７に記載の磁場均一度調整方法。
【請求項９】
前記磁場均一度調整手段を複数の領域に区切る際には、
前記第１体積分布又は前記第２体積分布の極大値又は極小値となる位置を前記領域が含むように区切るか、又は、
前記磁場均一度調整手段を所定の格子で分割した前記領域に区切るかすることを特徴とする請求項１に記載の磁場均一度調整方法。
【請求項１０】
前記領域の位置は、
前記極大値又は前記極小値となる位置とするか、又は、
前記所定の格子で分割した前記領域内の所定の位置とすることを特徴とする請求項９に記載の磁場均一度調整方法。
【請求項１１】
前記第１体積分布又は前記第２体積分布の算出では、計算格子の節点の位置が、前記磁性材の位置となり、前記節点毎に前記体積が算出され、
前記磁場均一度調整手段を複数の領域に区切る際には、
前記第１体積分布又は前記第２体積分布の極大値又は極小値となる前記節点の位置を始点として、順次、隣接する前記節点間で前記体積の所定の関係が満たされる範囲を、前記領域とすることを特徴とする請求項１に記載の磁場均一度調整方法。
【請求項１２】
前記第１集積分布と前記第２集積分布の前記領域の位置と前記領域内体積を表示するステップでは、
前記磁場均一度調整手段を表す画像中の前記領域の位置に対応する位置に、前記領域内体積を表示することを特徴とする請求項１に記載の磁場均一度調整方法。
【請求項１３】
前記領域内体積は、正の値であれば前記磁場均一度調整手段に配置すべき前記磁性材を増やし、負の値であれば減らすことを意味し、
前記第１集積分布と前記第２集積分布の前記領域の位置と前記領域内体積を表示するステップでは、
前記磁場均一度調整手段を表す画像中の前記領域の位置に対応する位置に、前記領域内体積の正負で異なる記号を表示することを特徴とする請求項１２に記載の磁場均一度調整方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の磁場均一度調整方法にて取得された前記第１集積分布と前記第２集積分布の前記領域の位置と前記領域内体積に基づいて、前記第１集積分布と前記第２集積分布の前記領域の位置に対応する前記磁場均一度調整手段上の位置に、前記第１集積分布と前記第２集積分布の前記領域内体積を配置したことを特徴とする磁石装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の磁石装置を搭載していることを特徴とする磁気共鳴撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁場発生源が発生させた磁場の磁場均一度を調整するための磁場均一度調整方法、磁石装置及び磁気共鳴撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気共鳴撮像(MRI：Magnetic Resonance Imaging)装置は、均一な静磁場空間に置かれた被検体(検査体)に高周波パルスを照射したときに生じる核磁気共鳴現象を利用して、被検体の物理的、化学的性質を表す画像を得ることができ、特に、医療用として用いられている。磁気共鳴撮像装置は、主に、被検体が搬入される撮像領域（磁場空間）内に均一な静磁場を発生させるための磁石装置と、撮像領域に向けて高周波パルスを照射するＲＦコイルと、撮像領域からの応答を受信する受信コイルと、撮像領域内に共鳴現象の位置情報を与えるための勾配磁場を発生させる傾斜磁場コイルとを備えて構成されている。
【０００３】
磁気共鳴撮像装置において、画質向上のための要件のひとつに、撮像領域内の静磁場均一度の向上が挙げられる。そこで、静磁場を発生させる磁石装置については、設計、製造（組立）、据付の各段階において、磁場均一度調整が行われている。このうち、据付段階における磁場均一度調整は、例えば、製作誤差や周囲の環境などによって生じる磁場不均一成分を、磁石装置に磁性材(磁性材シム)を追加したり、取り除いたりすることで行っている。どの位置にどれだけの磁性体シムを配置すればいいか、という問題は、撮像空間における磁場均一性を目的関数とする最適化問題として一般化できる。すなわち、撮像空間における与えられた磁場分布を用い、線形最適法やその改良手法等によって磁性体シムの配置を決定できる。
【０００４】
これらの方法で決定された磁性体シムの配置の作業効率を上げるため、配置する磁性体シムの体積分布の極大あるいは極小となる位置毎に、その位置を中心とする領域内の体積分布を積算した体積の磁性材シムを配置することにより、配置すべき磁性材シムの個数を大幅に減らす方法が特許文献１に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２６８７９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載されているように、磁性体シムの体積分布の極大あるいは極小となる位置毎に、その位置を中心とする領域内の体積分布を積算した体積の磁性材シムを配置すれば、決定した磁性材シムの体積分布をシムトレイ上に厳密に実現させるべく磁性材シムを配置する必要がなく、配置すべき磁性材シムの個数を大幅に減らせるため、シムトレイ上の磁性材シムを追加したり取り除いたりする磁場均一度調整に要する時間を短縮することが可能である。
【０００７】
しかし、磁性体シムの体積分布の極大あるいは極小となる位置を中心とする領域に属さない磁性体シムの体積分布に対応する磁性材シムを配置しないため、シムトレイ上の磁性材シムを追加したり取り除いたりする磁場均一度調整が、一回で終わらない場合があると考えられる。そこで、磁場均一度調整におけるシムトレイ上に追加したり取り除いたりする磁性材シムの個数を減らせ、その磁場均一度調整の回数も減らせれば、有用である。
【０００８】
すなわち、本発明が解決しようとする課題は、磁場均一度調整における追加したり取り除いたりする磁性材シムの個数を減らせ、その磁場均一度調整の回数も減らせる磁場均一度調整方法、磁石装置及び磁気共鳴撮像装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するために、本発明では、
磁場空間の第１磁場強度分布に基づきシムトレイ上の磁性材の第１体積分布を算出し（Ｓ３）、シムトレイの領域毎にその位置と第１体積分布の磁性材の体積を足した体積を表す第１集積分布を取得し（Ｓ５）、第１集積分布のように配置したと仮定した磁性材が磁場空間に作る仮想磁場強度分布を算出し（Ｓ８）、第１磁場強度分布と仮想磁場強度分布を足した第２磁場強度分布を算出し（Ｓ９）、第２磁場強度分布に基づきシムトレイ上の磁性材の第２体積分布を算出し（Ｓ３）、領域毎にその位置と第２体積分布の磁性材の体積を足した体積を表す第２集積分布を取得し（Ｓ５）、第１集積分布と第２集積分布の領域の位置と体積を表示する（Ｓ１０）。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、磁場均一度調整における追加したり取り除いたりする磁性材シムの個数を減らせ、その磁場均一度調整の回数も減らせる磁場均一度調整方法、磁石装置及び磁気共鳴撮像装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る磁気共鳴撮像装置の斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る磁気共鳴撮像装置の縦断面図である。
【図３Ａ】シムトレイ（磁場均一度調整手段)の斜視図である。
【図３Ｂ】シムトレイ（磁場均一度調整手段)の縦断面図の一部である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る磁場均一度調整方法を実施する磁場均一度調整装置とその周辺装置の結線図である。
【図５】本発明の第１の実施形態に係る磁場均一度調整方法のフローチャートである。
【図６】本発明の第１の実施形態に係る磁石装置に対応する、シムボルト（磁性材）の第１体積分布を算出するための計算格子の例の斜視図である。
【図７Ａ】第１（第ｎ）体積分布を表示するウィンドウである。
【図７Ｂ】シムトレイの半径上の第１（第ｎ）体積分布である。
【図８Ａ】第１（第ｎ）集積分布を表示するウィンドウである。
【図８Ｂ】第１（第ｎ）体積分布と第１（第ｎ）集積分布を重ねて表示するウィンドウである。
【図９Ａ】シムトレイの半径上の第１（第ｎ）体積分布であり、ピーク位置と体積を積算する領域の概念を理解するための模式図である。
【図９Ｂ】シムトレイの半径上の一部分の第１（第ｎ）体積分布であり、ピーク位置を始点とする体積を積算する領域を決定するアルゴリズムの概念を理解するための模式図である。
【図１０Ａ】第１（第ｎ）集積分布を表示するウィンドウである。
【図１０Ｂ】第１（第ｎ）集積分布と第２（第ｎ＋１）集積分布を重ねて表示するウィンドウである。
【図１１】本発明の第２の実施形態に係る磁場均一度調整方法において、複数の第１〜第２（第ｎ＋１）集積分布を表示する複数のウィンドウを、いっしょに表示する表示装置の画面である。
【図１２】本発明の第３の実施形態に係る磁気共鳴撮像装置の縦断面図である。
【図１３】本発明の第３の実施形態に係る磁石装置に対応する、シムボルト（磁性材）の第１体積分布を算出するための計算格子の例の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し重複した説明を省略する。
【００１３】
（第１の実施形態）
図１に、本発明の第１の実施形態に係る磁気共鳴撮像装置１００の斜視図を示す。磁気共鳴撮像装置１００は、磁場空間３を生成する磁石装置５０を有している。磁石装置５０は、上下一対のコイル容器１、２と、上下一対のコイル容器１、２が対向するように支持する連結柱４、５を有している。上下一対のコイル容器１、２の間に、磁場の方向が垂直方向であり、磁場の強度が均一である静磁場が生成される磁場空間３が形成される。磁気共鳴撮像装置１００では、この磁場空間３に被検体(検査体)がおかれる。磁気共鳴撮像装置１００は、この磁場空間３（被検体）に高周波パルスを照射するＲＦ送受信コイル２２を有している。このＲＦ送受信コイル２２は、被検体(検査体)に高周波パルスを照射したときに生じる核磁気共鳴現象に起因する信号を受信する。磁気共鳴撮像装置１００は、この信号に基づいて、被検体の物理的、化学的性質を表す画像を得ることができる。
【００１４】
図２に、本発明の第１の実施形態に係る磁気共鳴撮像装置１００の縦断面図を示す。磁気共鳴撮像装置１００は、前記した磁石装置５０とＲＦ送受信コイル２１、２２と、その他に、磁場空間３内の核磁気共鳴現象の起こっている位置情報を与えるために勾配磁場を発生させる傾斜磁場コイル１９、２０と、磁場均一度調整手段として磁場空間３における磁場均一度を向上させるために用いられるシムトレイ１７、１８を有している。
【００１５】
磁石装置５０の上側コイル容器１には、円環状に形成され超電導コイルである主コイル８とシールドコイル１１が収納されている。磁石装置５０の下側コイル容器２には、円環状に形成され超電導コイルである主コイル９とシールドコイル１０が収納されている。これら主コイル８、９とシールドコイル１０、１１が、磁場空間３を生成する磁場発生源となっている。主コイル８、９とシールドコイル１０、１１が磁場空間３に生成する磁場の強度は略均一となり、磁場空間３は磁気共鳴撮像装置１００の撮像空間となる。主コイル８、９は、主に、磁場空間３に磁場の強度が均一で磁場の方向が垂直方向な静磁場を形成する。これは、主コイル８、９それぞれの内側に、磁極（面）Ｓが形成されていると考えることができる。シールドコイル１０、１１は、主コイル８、９が形成する磁場が外部に漏洩するのを抑制している。
【００１６】
上側コイル容器１は、ほぼ円筒状に形成された真空容器１２と、この真空容器１２内に収納された輻射シールド１３と、この輻射シールド１３内に収納されたヘリウム容器１４とを有している。このように断熱されたヘリウム容器１４内に、主コイル８とシールドコイル１１が、超電導コイル用冷媒としての液体ヘリウムと共に収納され、冷却されている。下側コイル容器２の構成も、上側コイル容器１の構成と同様である。
【００１７】
主コイル８、９とシールドコイル１０、１１は、前記のように、磁場空間３の磁場を均一にするように構成されているが、その均一性を高めるために、例えば、真空容器１２の内部や外部、あるいは、輻射シールド１３の内部、あるいは、ヘリウム容器１４の内部などに鉄や永久磁石などの強磁性材（図示省略）を配置してもよい。また、図２の例では、主コイル８、９とシールドコイル１０、１１を、２つずつ示したが、これに限らず、いくつであっても構わないことは自明である。このように、磁石装置５０は、磁場空間３の磁場強度が均一になるように設計・製造されるが、現実には組み立て誤差や設置環境の影響により、磁場空間３には、均一な磁場成分に対して、誤差磁場成分が生じる。磁場均一度調整手段として、シムトレイ１７、１８は、この誤差磁場成分を除去し、磁場空間３における磁場均一度を向上させるために設けられている。
【００１８】
各コイル容器１、２の磁場空間３を挟んだ対向面には、凹部１５、１６が形成されている。凹部１５、１６内には、非磁性材からなるシムトレイ１７、１８と、傾斜磁場コイル１９、２０と、ＲＦ送受信コイル２１、２２が収納されている。凹部１５、１６の最も奥に、シムトレイ１７、１８が配置され、シムトレイ１７、１８の磁場空間３側に傾斜磁場コイル１９、２０が配置され、傾斜磁場コイル１９、２０の磁場空間３側にＲＦ送受信コイル２１、２２が配置されている。傾斜磁場コイル１９、２０とＲＦ送受信コイル２１、２２は、着脱可能に設置され、シムトレイ１７、１８を露出させることができ、シムトレイ１７、１８に対して磁性材シムを追加したり取り除いたりする磁場均一度調整を行うことができる。なお、シムトレイ１７、１８は、着脱可能であってもなくてもよい。
【００１９】
図３Ａに、シムトレイ（磁場均一度調整手段)１７（１８）の斜視図を示し、図３Ｂに、シムトレイ１７（１８）の縦断面図の一部を示す。図３Ａに示すように、シムトレイ１７（１８）は円盤状であり、図３Ｂは、その中心軸ｚを含む切断面で切った断面図のうちの、中心軸ｚの片側を示している。図３Ａと図３Ｂに示すように、シムトレイ１７（１８）には、多数のねじ穴２６があけられている。磁場均一度調整の際には、ねじ穴２６に、ねじ状の磁性材シムであるシムボルト２７（磁場均一度調整手段)をねじ込んで固定するようになっている。シムボルト２７は、その長さや加工方法によって、磁性材の正味の体積を様々に違えたものが用意されており、磁場均一度調整の作業者（オペレータ）は、ねじ穴２６毎に、適宜必要な体積のシムボルト２７を選んでねじ込む。なお、図３Ａに示すように、シムトレイ１７、１８の表面には、（直交）格子２８が形成されている。格子２８は、シムトレイ１７、１８の表面を複数の領域に区切っている。このそれぞれの領域内には、複数のねじ穴２６が含まれている。なお、図３Ｂの例では、磁性材（シム）を、ねじ状のシムボルト２７であるとしたが、これに限らず、シムトレイ１７、１８に磁性材を追加して固定したり、固定してある磁性材を取り除いたりできればよく、柱状、錐状、板状、リベット形状など、どのような形状であろうとも本発明の効果を失うものではない。
【００２０】
磁場均一度調整では、均一磁場を得るために必要な体積のシムボルト２７を、均一磁場を得るために必要とされる位置に設けられたねじ穴２６に配置する作業である。均一磁場を得るために、シムボルト２７をシムトレイ１７、１８上のどの位置にどの程度の体積配置するかについては、磁場空間３における磁場強度分布の測定値をもとに、磁場均一度調整用ソフトウェアがインストールされたコンピュータ６２（図４参照）によって算出することができる。なお、シムボルト２７の体積は、その重量（質量）と読み替えてもよい。また、シムボルト２７の体積を、磁性材の体積、磁性材の重量と読み替えてもよい。すなわち、後記する体積分布等は、重量分布等と読み替えることができる。
【００２１】
図４に、本発明の第１の実施形態に係る磁場均一度調整方法を実施するコンピュータ（磁場均一度調整装置）６２とその周辺装置６４等の結線図を示す。磁気プローブ６３は、磁石装置５０（磁気共鳴撮像装置１００）の磁場空間（撮像空間）３に配置され、磁場空間３の第１磁場強度分布を検出する。磁気プローブ６３は、データ取得用計算機６１に接続されており、データ取得用計算機６１は、検出された第１磁場強度分布を取得する。データ取得用計算機６１は、データ取得用プログラムがインストールされたコンピュータであり、所定の形式で、第１磁場強度分布を入力し、記憶することができる。また、データ取得用計算機６１は、表示装置６６に、所定の形式で、第１磁場強度分布を表示することができる。データ取得用計算機６１は、コンピュータ（磁場均一度調整装置）６２に、第１磁場強度分布（磁場分析データ）を送信する等して、第１磁場強度分布をコンピュータ（磁場均一度調整装置）６２に記憶させる。コンピュータ（磁場均一度調整装置）６２には、磁場均一度調整用ソフトウェアがインストールされている。コンピュータ（磁場均一度調整装置）６２が、磁場均一度調整用ソフトウェアのアルゴリズムを実行することにより、シムボルト２７をシムトレイ１７、１８上のどの位置にどの程度の体積だけ配置すべきかを算出でき、この算出結果を表示装置６５に表示したり、出力装置６４に出力したりすることができる。なお、図４の例では、データ取得用計算機６１とコンピュータ（磁場均一度調整装置）６２とは、別のコンピュータであるように図示してあるが、データ取得用のソフトウェアと磁場均一度調整用のソフトウェアとがそれぞれ動作すれば足りるのであるから、１つのコンピュータ６２で兼用してもよい。
【００２２】
図５に、本発明の第１の実施形態に係る磁場均一度調整方法のフローチャートを示す。
【００２３】
まず、ステップＳ１で、データ取得用計算機６１又はオペレータは、磁気プローブ６３を用いて、磁場空間３内の複数の位置で磁場強度を測定する。すなわち、磁場空間３の磁場強度分布（第１磁場強度分布）を測定する。その測定結果をコンピュータ（磁場均一度調整装置）６２に入力する。コンピュータ（磁場均一度調整装置）６２は、第１磁場強度分布を取得でき、これを記憶する。
【００２４】
次に、ステップＳ２で、コンピュータ６２は、第１磁場強度分布が、均一磁場仕様を満足しているか否か判定する。具体的には、第１磁場強度分布から、磁場空間３の均一度を算出し、その均一度が所定の均一度（仕様）より均一であるか否か判定する。満足している場合は（ステップＳ２、Ｙｅｓ）、このフローチャートを終了する。満足していない場合は（ステップＳ２、Ｎｏ）、ステップＳ３へ進む。
【００２５】
ステップＳ３で、コンピュータ６２は、磁場調整計算を実施する。具体的には、入力値となる第１（第ｎ）磁場強度分布に基づき、その第１磁場強度分布を均一にするために、シムトレイ１７、１８に配置すべきシムボルト（磁性材）２７の位置及び体積を表す第１（第ｎ）体積分布を、出力値として算出する。
【００２６】
この磁場調整計算は、ソフトウェアとして、コンピュータ６２にインストールされている。この磁場調整計算のアルゴリズムは、例えば、特許文献２〜４で例示したような線形計画法などの数理計画法や、その他の最適化手法であってもよいし、逆問題を解くような逆問題解法であってもよく、その手法は問わない。本第１の実施形態では、逆問題解法によるアルゴリズムを一例として示す。
【００２７】
まず、図６に示すように、シムトレイ１７、１８と磁場空間３を、計算格子２９により表現する。シムトレイ１７、１８の計算格子２９の節点２９ａは、シムトレイ１７、１８に開けられたねじ穴２６の位置に一致させてもよいし、一致させなくともよい。一方、磁場空間３の計算格子２９の節点２９ａは、ステップＳ１で実際に磁場強度を測定する磁場空間３内の位置（測定位置）に一致させる。
【００２８】
シムトレイ１７、１８の計算格子２９上のある節点ｉ（２９ａ、ねじ穴２６）に、体積Ｖｉ、磁化Ｍのシムボルト２７を配置するとき、このシムボルト２７が磁場空間３の計算格子２９上のある節点ｊ（２９ａ、測定位置）につくる磁場強度Ｂ（ｉ，ｊ）は、式１に示すように、体積Ｖｉ、及び、磁化Ｍに比例する。ただし、ｍｉはシムボルト２７の磁気双極子モーメントである。
【数１】
0005802163.tif 000002
【００２９】
ここで、磁化Ｍは一定としている。ゆえに、シムトレイ１７、１８の計算格子２９上の各節点２９ａに配置されたシムボルト２７の磁気モーメントｍｉの分布（磁気モーメント分布）は、式２のように表現できる。
【数２】
0005802163.tif 000003
【００３０】
また、この磁気モーメントｍｉの分布によって、磁場空間３の計算格子２９上の各節点ｊ（２９ａ）に作られる磁場強度Ｂ（ｉ，ｊ）の分布（磁場分布）は、式３のように表現できる。
【数３】
0005802163.tif 000004
【００３１】
そして、磁場分布（式３）と磁気モーメント分布（式２）との関係は、係数行列をＡと置いて、式４のように表現できる。
【数４】
0005802163.tif 000005
【００３２】
この係数行列Ａに特異値分解法を適用すると、係数行列Ａの一般化逆行列Ａ'を求めることができる。これにより、式４を式５のように書き換えることができる。なお、特異値分解法については、例えば、柳井春夫ほか著、「射影行列  一般行列  特異値分解」、ＵＰ応用数学選書１０、１９８３年に、詳述されている。
【数５】
0005802163.tif 000006
【００３３】
これより、目標とする(生成すべき)磁場分布（式３）が決まれば、式５により一般化逆行列Ａ'との行列積を取ることで、必要な磁気モーメント分布（式２）が計算できる。これを、磁場均一度調整に当てはめると、主コイル８、９等により既に発生している磁場分布(第１磁場強度分布)に対して、この目標とする(生成すべき)磁場分布（式３）が足し合わされることで、磁場空間３の磁場を均一にできればよいことになる。すなわち、磁場空間３の目標とする均一磁場分布を式６とし、調整前の磁場空間３の磁場分布の測定値(第１磁場強度分布)を式７とすると、目標とする(生成すべき)磁場分布（式３）は式８のように算出できる。
【数６】
0005802163.tif 000007
【数７】
0005802163.tif 000008
【数８】
0005802163.tif 000009
【００３４】
式８を式５に代入して、磁気モーメント分布（式２）が求まれば、各々の磁気モーメントｍｉに対応するシムボルト２７の体積Ｖｉは、式１を変形した式９を用いて算出できる。
【数９】
0005802163.tif 000010
【００３５】
以上でステップＳ３が終了し、シムトレイ１７、１８のねじ穴２６の位置に配置すべきシムボルト（磁性材）２７の体積が算出できたことになる。シムボルト（磁性材）２７の位置と体積を表す第１（第ｎ）体積分布が、出力値として算出されたことになる。
【００３６】
次に、図５のステップＳ４で、コンピュータ６２は、図７Ａに示すような、第１（第ｎ）体積分布を、表示装置６５に表示したり、出力装置６４に出力したりする。表示装置６５に表示する場合は、表示装置６５の画面上にマルチウィンドウが設けられ、その中の１つのウィンドウＷ１に、第１（第ｎ）体積分布が表示される。第１（第ｎ）体積分布は、等高線を用いて表示される。第１（第ｎ）体積分布は、シムトレイ１７（１８）の輪郭線とシムトレイ１７（１８）の表面上に形成された（直交）格子２８の表示に重ねて、表示される。
【００３７】
図７Ｂに、シムトレイ１７（１８）の半径上（１次元）の第１（第ｎ）体積分布を示す。シムボルト（磁性材）２７の体積（磁気モーメントｍｉ）は、各節点２９ａ毎に算出され表示される。ここで、縦軸のシムボルト（磁性材）２７の体積（磁気モーメントｍｉ）の正の値は、磁石装置５０の磁場の向きと同じ向きの磁気モーメントを指し、シムトレイ１７（１８）上にシムボルト（磁性材）２７を追加することを意味する。負の値は、磁石装置５０の磁場の向きと逆向きの磁気モーメントを指し、シムトレイ１７（１８）上からシムボルト（磁性材）２７を取り除くことを意味する。
【００３８】
次に、図５のステップＳ５で、コンピュータ６２は、物量（体積）集積計算を実施する。シムトレイ１７（１８）上の各節点２９ａすなわち各ねじ穴２６のすべてに、対応する体積のシムボルト２７を配置するのは、作業量が多いため、これを軽減するために物量（体積）集積計算を実施する。この物量（体積）集積計算では、まず、（１）集積範囲となる領域を決定し、次に、（２）その領域毎に存在する節点２９ａ（ねじ穴２６）に対応するシムボルト２７の体積を足し合わせ（加算し）領域内体積を取得する。そして、領域毎の位置と領域内体積を表す第１（第ｎ）集積分布を取得する。
【００３９】
具体的に、（１）の集積範囲となる領域の決定では、図７Ａに示す（直交）格子２８で区切られた領域Ａを、集積範囲となる領域として決定することができる。
【００４０】
（２）の第１（第ｎ）集積分布の取得では、領域Ａ毎に磁気モーメントｍｉを足し合わせた加算値ｍＡを算出する。加算値ｍＡは式１０で表される。
【数１０】
0005802163.tif 000011
【００４１】
領域Ａ毎にその領域Ａに配置するシムボルト２７の領域内体積ＶＡは、式１１を用いて算出できる。
【数１１】
0005802163.tif 000012
【００４２】
以上でステップＳ５が終了し、シムトレイ１７、１８の領域Ａ毎の位置に配置すべきシムボルト（磁性材）２７の領域内体積ＶＡが算出できたことになる。領域Ａ毎の位置と領域内体積ＶＡを表す第１（第ｎ）体積分布が算出されたことになる。
【００４３】
次に、ステップＳ６で、コンピュータ６２は、図８Ａに示すような、第１（第ｎ）集積分布を、表示装置６５に表示したり、出力装置６４に出力したりする。表示装置６５に表示する場合は、表示装置６５の画面上にマルチウィンドウが設けられ、その中の１つのウィンドウＷ２に、第１（第ｎ）集積分布が表示される。第１（第ｎ）集積分布は、（直交）格子２８で区切られた領域Ａの表示に、対応する領域Ａの領域内体積ＶＡを重ねて表示することで表現されている。また、第１（第ｎ）集積分布と（直交）格子２８で区切られた領域Ａの表示は、シムトレイ１７（１８）の輪郭線の表示に重ねて表示されている。さらに、図８Ｂに示すように、図７Ａに示した第１（第ｎ）体積分布を重ねて表示してもよい。図８Ｂに示すような第１（第ｎ）集積分布と第１（第ｎ）体積分布を重ねた表示は、表示装置６５の画面上のマルチウィンドウの中の１つのウィンドウＷ３に表示される。ウィンドウＷ１〜Ｗ３は、表示装置６５の画面上に、択一的に表示したり、並べて表示したりできる。
【００４４】
図８Ａの領域Ａ内に記載された領域内体積ＶＡの数字の単位は、例えば、立方センチメートルなど、体積を表すものである。この直交格子２８の大きさは、磁場均一度調整に十分な性能を持つようにあらかじめ適切に決定され、例えば、５０ｍｍ四方の寸法を持たせている。ステップＳ５とＳ６によれば、領域Ａのすべてに対して領域内体積ＶＡのシムボルト２７を配置するので、ねじ穴２６の数より領域Ａの数の方が少ないので、ねじ穴２６のすべてに対してシムボルト２７を配置するのに比べ、作業量を軽減できる。
【００４５】
さらに、ステップＳ５を、次のように変更することで、作業量を一層軽減できる。
【００４６】
ステップＳ５の物量（体積）集積計算では、まず、（１）集積範囲となる領域Ａを決定し、次に、（２）その領域Ａ毎に存在する節点２９ａ（ねじ穴２６）に対応するシムボルト２７の体積Ｖｉを足し合わせた領域内体積ＶＡと、領域Ａ毎の位置を表す第１（第ｎ）集積分布を取得する。今回の変更では、（１）の集積範囲となる領域Ａの決定方法を変更する。
【００４７】
図９Ａに、図７Ｂと同様のシムトレイ１７、１８の半径上の第１（第ｎ）体積分布を示し、図９Ｂにその一部分の拡大図を示す。図９Ａに示すように、第１（第ｎ）体積分布は、いずれかの節点２９ａにおいて、ピーク（極大値又は極小値）Ｐ１〜Ｐ７（Ｐｎ）を示す。そこで、まず、ピーク（極大値又は極小値）Ｐ１〜Ｐ７（Ｐｎ）を示す節点２９ａを抽出する。次に、図９Ｂに示すように、ピークＰ１（Ｐｎ）を示す節点２９ａを始点として、順次、隣接する節点２９ａ間（第０（ｎ）層−第１（ｎ＋１）層間）で、磁気モーメント（磁性材の体積）の所定の関係が満たされる範囲を、領域Ａ１（Ａｎ、Ａ）と決定する。その所定の関係を満たさない隣接する節点２９ａが、領域Ａ１（Ａｎ、Ａ）の領域境界となる。これによれば、ピークＰ１（Ｐｎ）を示す節点２９ａの位置が、領域Ａ１（Ａｎ、Ａ）の略中心（中央）に配置される。図９Ａと図９Ｂでは、一次元的な模式図で領域Ａの決定方法を概観したが、これを現実の二次元的な計算格子２９の節点２９ａに拡張すれば、以下のようになる。
【００４８】
まず、磁気モーメントの分布（第１（第ｎ）体積分布）から、ピークＰｎをすべて抽出する。ある節点ｉにおける磁気モーメントをｍｉとし、その節点ｉに対するすべての隣接節点ｊにおける磁気モーメントをｍｊとすれば、全ての隣接節点ｊに対して式１２の関係が成り立てば、節点ｉはピークＰｎである。
【数１２】
0005802163.tif 000013
【００４９】
次に、各ピークＰｎに対応する節点を始点として、隣接節点の磁気モーメントの値を調べながら、領域Ａｎの境界を決定する。領域Ａｎの境界は、次の所定の関係が満たされるように決める。
（１）ピークＰｎに対応する節点を第０層と定義する。
（２）第ｎ層に属するある節点ｋの全ての隣接節点のうち、すでに第ｎ層またはその他の層に定義された節点を除く残りの節点の集合をＣとする。
（３）節点の集合Ｃに属する全ての節点ｏに対し、ピークＰｎに対応する節点が正の磁気モーメントを持ち、式１３の関係を有するのであれば、節点ｏを第ｎ＋１層と定義する。また、ピークＰｎに対応する節点が負の磁気モーメントを持ち、式１４の関係を有するのであれば、節点ｏを第ｎ＋１層と定義する。これらを満たさない節点ｏがひとつでもあれば、節点ｏでなく、節点ｋを第ｎ＋１層と定義しなおす。
【数１３】
0005802163.tif 000014
【数１４】
0005802163.tif 000015
【００５０】
（４）第ｎ層に属する全ての節点が第ｎ＋１層に定義されなおすような条件となるまで（２）及び（３）を繰り返す。
（５）最終的にもっとも外側の層をなす節点群が、領域Ａｎの境界（領域境界）である。
以上により、ピークＰｎに対応した領域Ａｎ（Ａ）が決定される。
【００５１】
以上が、ステップＳ５の物量（体積）集積計算で、変更された（１）の集積範囲となる領域Ａ（Ａｎ）の決定方法である。（１）に続く、（２）のその領域Ａ（Ａｎ）毎に存在する節点２９ａ（ねじ穴２６）に対応するシムボルト２７の体積Ｖｉを足し合わせた領域内体積ＶＡと、領域Ａ（Ａｎ）毎の位置を表す第１（第ｎ）集積分布の取得では、そのアルゴリズムをそのまま用いることができる。なお、領域Ａ（Ａｎ）の位置としては、ピークＰｎに対応する節点２９ａの位置とすることができる。
【００５２】
また、ステップＳ５の物量（体積）集積計算で、（１）の集積範囲となる領域Ａ（Ａｎ）の決定方法が変更されたことで、ステップＳ６で表示される第１（第ｎ）集積分布が、図１０Ａに示すように変わる。図１０Ａに示すように、第１（第ｎ）集積分布を、表示装置６５に表示したり、出力装置６４に出力したりする。表示装置６５に表示する場合は、表示装置６５の画面上にマルチウィンドウが設けられ、その中の１つのウィンドウＷ４に、第１（第ｎ）集積分布が表示される。第１（第ｎ）集積分布は、領域境界で区切られた領域Ａの表示と、対応する領域Ａの位置（ピークＰｎに対応する節点２９ａの位置）と領域内体積ＶＡの表示とを、（直交）格子２８とシムトレイ１７（１８）の輪郭線の表示に重ねて表示されている。なお、領域Ａの位置（ピークＰｎに対応する節点２９ａの位置）に、領域内体積ＶＡ又は記号▲と▼を表示している。記号▲は、領域内体積ＶＡが正の場合に表示され、記号▼は、領域内体積ＶＡが負の場合に表示される。領域内体積ＶＡが正と負の場合で、記号が異なることで、シムボルト２７を追加するのか取り除くのかを容易に識別することができる。また、（直交）格子２８には、各格子が特定可能な座標（Ａ，０）〜（Ｓ，１８）が表示されていることが好ましい。これによれば、作業者は、領域Ａの位置（ピークＰｎに対応する節点２９ａの位置）を容易に特定することができる。また、ウィンドウＷ１〜Ｗ４は、表示装置６５の画面上に、択一的に表示したり、並べて表示したりできる。
【００５３】
次に、図５に示すステップＳ７で、コンピュータ６２は、ステップＳ１の磁場調整計算が、所定回数実施されたか否か判定する。所定回数としては、２回以上が設定される。後記では、２回の場合を例に説明する。これまでの説明では、ステップＳ１の磁場調整計算は、１回しか実施されていないので所定回数の２回は実施されておらず（ステップＳ７、Ｎｏ）、ステップＳ８へ進む。
【００５４】
次に、ステップＳ８で、コンピュータ６２は、第１（第ｎ）集積分布が、磁場空間３に作る仮想磁場強度分布を算出する。第１（第ｎ）集積分布は、座標（ピークＰｎに対応する節点２９ａの位置）と、そこに配置すべきシムボルト２７の領域内体積ＶＡとの組み合わせからなるから、第１（第ｎ）集積分布が磁場空間３につくる磁場強度分布(仮想磁場強度分布)は簡単に算出できる。
【００５５】
次に、ステップＳ９で、コンピュータ６２は、第１（第ｎ）磁場強度分布と仮想磁場強度分布とを足し合わせ、第２（第ｎ＋１）磁場強度分布を算出する。仮想磁場強度分布を式１５のように表す。式１６に示すように、この仮想磁場強度分布を第１（第ｎ）磁場強度分布（式７）と足し合わせることで、第１（第ｎ）集積分布をシムトレイ１７、１８に配置したと仮定して、磁場空間３の磁場強度を測定した場合に、計測されるであろう磁場強度分布(第２（第ｎ＋１）磁場強度分布)が計算上求められる。
【数１５】
0005802163.tif 000016
【数１６】
0005802163.tif 000017
【００５６】
次に、ステップＳ３に戻り、コンピュータ６２は、再度、磁場調整計算を実施する。具体的には、入力値が、前回は第１磁場強度分布であったが、今回はステップＳ９で算出した第２磁場強度分布にしている。これにより、第２磁場強度分布をもとに、式８と同様に、式１７に示すように、目標とする均一磁場分布との差から、新たに生成すべき磁場分布を算出する。
【数１７】
0005802163.tif 000018
【００５７】
この新たに生成すべき磁場分布に対して式５を用い、出力値として、その第２磁場強度分布を均一にするために、シムトレイ１７、１８に配置すべきシムボルト（磁性材）２７の位置及び体積を表す第２（第ｎ）体積分布（磁気モーメントの分布）を算出する。
【００５８】
ステップＳ３で算出した第２（第ｎ）体積分布に対して、ステップＳ４でこれを表示し、ステップＳ５で第２（第ｎ）集積分布を取得し、ステップＳ６でこれを表示する。すなわち、第２（第ｎ）集積分布として、領域Ａの位置（ピークＰｎに対応する節点２９ａの位置）と領域内体積ＶＡの組み合わせが求まる。
【００５９】
次に、ステップＳ７で、コンピュータ６２は、ステップＳ１の磁場調整計算が、所定回数実施されたか否か判定する。前記したように所定回数を２回として説明しているところ、今回の実施によって、ステップＳ１の磁場調整計算は、所定回数の２回実施されたことになるので（ステップＳ７、Ｙｅｓ）、ステップＳ１０へ進む。
【００６０】
ステップＳ１０で、コンピュータ６２は、図１０Ｂに示すように、複数の第１〜第２（第ｎ＋１）集積分布を、互いに識別可能に表示する。複数の第１〜第２（第ｎ＋１）集積分布を、表示装置６５に表示したり、出力装置６４に出力したりする。表示装置６５に表示する場合は、表示装置６５の画面上にマルチウィンドウが設けられ、その中の１つのウィンドウＷ５に、複数の第１〜第２（第ｎ＋１）集積分布が表示される。複数の第１〜第２（第ｎ＋１）集積分布は、領域境界で区切られた領域Ａの表示と、対応する領域Ａの位置（ピークＰｎに対応する節点２９ａの位置；記号▲と▼の表示位置に対応）と領域内体積ＶＡの表示とによって表現されている。複数の第１〜第２（第ｎ＋１）集積分布の表示は、（直交）格子２８とシムトレイ１７（１８）の輪郭線の表示に重ねて表示されている。計算の手順から、第１（第ｎ）集積分布は第２（第ｎ＋１）集積分布に対し、算出される領域内体積ＶＡｎが相対的に大きくなり、磁場均一度の調整作業に対する重要度が高い。ゆえに、第１（第ｎ）集積分布の領域内体積ＶＡｎは、第２（第ｎ＋１）集積分布に対して、表示する色やフォントを変更したり、領域Ａの領域境界の線種を変更したりして、区別できることが望ましい。さらに、図１０Ａで例示したような第１（第ｎ）集積分布を表示するウィンドウＷ４に対して、第２（第ｎ＋１）集積分布を表示するウィンドウを設けてもよく、ウィンドウＷ４、Ｗ５と共に、表示装置６５の画面上に、択一的に表示したり、並べて表示したりできる。また、ウィンドウＷ１〜Ｗ３と共に表示してもよい。
【００６１】
ステップＳ１１で、オペレータは、表示にしたがいシムボルト２７をシムトレイ１７、１８に配置する。具体的には、複数の第１〜第２（第ｎ＋１）集積分布の領域Ａの位置（ピークＰｎに対応する節点２９ａの位置）と領域内体積ＶＡｎに基づいて、対応するシムトレイ１７、１８上の位置に、複数の第１〜第２（第ｎ＋１）集積分布の領域内体積ＶＡｎ分のシムボルト２７を配置する。第２（第ｎ＋１）集積分布は、第１（第ｎ）集積分布をシムトレイ１７、１８にシムボルト２７を配置したと仮定した場合に、次に必要になる集積分布を算出したものに相当するから、作業者（オペレータ）は、第１（第ｎ）集積分布と第２（第ｎ＋１）集積分布とを同時にシムトレイ１７、１８に配置することができ、実質的に、二回分のシムボルト２７配置作業を、一回で行える。
【００６２】
作業者は、例えば、図１０Ｂに示す例であれば、１２箇所(この数はあくまで図１０Ｂにおける例であり、実際の磁場均一度調整作業においては状況によって様々に異なることは自明である)に、シムボルト２７を配置すれば実質的に二度の磁場均一度調整作業をした効果を得ることができ、一回のみの計算結果(すなわち、第１（第ｎ）集積分布のみ)に基づいて配置するよりも作業効率は改善される。また、このような方法を用いる磁石装置やこれを用いた磁気共鳴撮像装置は、据付調整にかかる時間を短縮することが出来るから、結果として安価な装置を提供することができる。
【００６３】
前記の例では、第１〜第２集積分布を求める、実質的に二回の計算をくりかえす手法について例示したが、集積分布を算出する手順は二回に限る必要はなく、三回（第１〜第３集積分布）以上であってもよいことは明らかである。
【００６４】
なお、前記の手法は、作業回数の低減に効果があるが、領域Ａｎおよびその領域境界をあくまで近似的に決定しているので、磁場均一度調整の精度を上げるには、この磁場均一度調整作業を複数回繰り返し行うことになる。また、この繰り返し過程において、図８Ａ、８Ｂの表示と図１０Ａ、１０Ｂの表示との間を任意に切り替えることができれば、作業者は、図８Ａ、８Ｂで示されるような詳細なシムボルト配置と、図１０Ａ、１０Ｂで示されるようないわば大雑把なシムボルト配置とを適宜変更しながら作業を進めることができる。なお、図８Ａ、８Ｂの表示では、領域Ａ内に、複数の第１〜第２（第ｎ＋１）集積分布の領域内体積ＶＡｎを表示することになるが、煩雑になる場合は、領域Ａ毎に足し合わせた領域内体積ＶＡｎを表示してもよい。
【００６５】
次に、ステップＳ１に戻り、データ取得用計算機６１又はオペレータは、磁気プローブ６３を用いて、再度、磁場空間３内の磁場強度分布（第１磁場強度分布）を測定する。
【００６６】
次に、ステップＳ２で、コンピュータ６２は、第１磁場強度分布が、均一磁場仕様を満足しているか否か判定する。満足している場合は（ステップＳ２、Ｙｅｓ）、この磁場均一度調整方法のフローチャートを終了する。満足していない場合は（ステップＳ２、Ｎｏ）、ステップＳ３へ進む。例えば、ステップＳ１１のシムボルト２７の配置により、第１磁場強度分布が、均一磁場仕様を満足すれば、この磁場均一度調整方法は終了する。
【００６７】
（第２の実施形態）
図１１に、本発明の第２の実施形態に係る磁場均一度調整方法において、複数の第１〜第３集積分布を表示する複数のウィンドウＷ６〜Ｗ８を、いっしょに表示する表示装置６５の画面を示す。第２の実施形態が、第１の実施形態と異なっている点は、複数の第１〜第３集積分布を、表で表示している点である。複数の第１〜第３集積分布の配置位置（領域Ａ）の座標と体積（領域内体積）ＶＡｎを一覧表形式で表示している。第２の実施形態においても、表示される体積が、第１〜第３集積分布のどちらに対応するか区別できることが望ましい。第２の実施形態では、第１〜第３集積分布を互いに別の表として表示している。表で分ける以外にも、たとえば、複数の第１〜第３集積分布の配置位置（領域Ａ）の座標と体積（領域内体積）ＶＡｎを表示する色やフォントを互いに違えるなどの方法であっても良い。このように、画像によらずとも、シムボルト２７を配置する位置(座標)とその体積（領域内体積）ＶＡｎが明瞭になってさえいれば、シムトレイ１７、１８上の体積分布を加算（積算）するという本質は変わらないから、配置するシムボルト２７に個数を減らせ、その配置（磁場均一度調整）の回数も減らせるので、作業性を大幅に向上させることができる。
【００６８】
（第３の実施形態）
図１２に、本発明の第３の実施形態に係る磁気共鳴撮像装置１００の縦断面図を示す。第１の実施形態で対象とした磁石装置５０（図１参照）が、上下に対向して配置された磁極により磁場空間３に鉛直方向の磁場を生成するのに対し、第３の実施形態の磁石装置５１では、ｚ軸を中心軸とする二重円筒状の真空容器１２、輻射シールド１３、ヘリウム容器１４の内部に内蔵された超電導コイル８、１１群により、磁場空間３に水平方向の磁場を生成する点が異なっている。図１２に示すように、磁石装置５１の場合、傾斜磁場コイル１９(２０)は二重円筒状の真空容器１２の内周に配置され、シムトレイ１７(１８)は、傾斜磁場コイル１９(２０)に内蔵される構成になっている。この構成は一例であり、シムトレイ１７(１８)は、傾斜磁場コイル１９(２０)の内周側に配置されていても、外周側に配置されていてもよい。
【００６９】
図１３に、本発明の第３の実施形態に係る磁石装置５１に対応する、シムボルト（磁性材）の第１体積分布を算出するための計算格子２９の例の斜視図を示す。この計算格子２９は、図１２に示すように、傾斜磁場コイル１９（２０）に内蔵される円筒状のシムトレイ１７（１８）が、球面状の均一磁場空間３を囲うようにして配置されている。この計算格子２９によれば、第１の実施形態と同様に計算を行うことができ、磁石装置５１に対しても、第１の実施形態と全く同じように磁場均一度調整の作業を実施可能であるし、作業効率の向上も可能である。なお、図１３では、シムトレイ１７（１８）の形状が円筒状である場合を例示しているが、傾斜磁場コイル１９（２０）の形状によっては、シムトレイ１７（１８）の断面形状は円形でなくとも、たとえば、楕円形などの非円形であってもかまわない。
【符号の説明】
【００７０】
１      上側コイル容器
２      下側コイル容器
３      磁場空間(均一磁場空間、撮像空間)
４、５  連結柱
８、９  主コイル（磁場発生源）
１０、１１  シールドコイル（磁場発生源）
１２    真空容器
１３    輻射シールド
１４    ヘリウム容器
１５、１６  真空容器の凹部
１７、１８  シムトレイ（磁場均一度調整手段）
１９、２０  傾斜磁場コイル
２１、２２  ＲＦ送受信コイル
２６    ねじ穴
２７    磁性材（シムボルト、磁性材シム、磁場均一度調整手段)
２８    格子(直交格子)
２９    計算格子
２９ａ  計算格子の節点
５０、５１  磁石装置
６２    磁場均一度調整装置（コンピュータ）
１００  磁気共鳴撮像装置
Ａ      領域
Ｗ０    マルチウィンドウ
Ｗ１    ウィンドウ
Ｓ      磁極面
【図１】
0005802163.tif 000019
【図２】
0005802163.tif 000020
【図３Ａ】
0005802163.tif 000021
【図３Ｂ】
0005802163.tif 000022
【図４】
0005802163.tif 000023
【図５】
0005802163.tif 000024
【図６】
0005802163.tif 000025
【図７Ａ】
0005802163.tif 000026
【図７Ｂ】
0005802163.tif 000027
【図８Ａ】
0005802163.tif 000028
【図８Ｂ】
0005802163.tif 000029
【図９Ａ】
0005802163.tif 000030
【図９Ｂ】
0005802163.tif 000031
【図１０Ａ】
0005802163.tif 000032
【図１０Ｂ】
0005802163.tif 000033
【図１１】
0005802163.tif 000034
【図１２】
0005802163.tif 000035
【図１３】
0005802163.tif 000036