(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
廃棄プリント基板を非焼却、非シアン化処理する方法であって、
廃棄プリント基板を取って、洗浄、乾燥し、硝酸型の錫剥離液に浸漬してはんだ除去処理を行い、はんだ除去処理後の前記廃棄プリント基板を工程（３）に提供して、その使用済み錫剥離液を工程（２）に提供する、はんだ除去処理工程（１）と、
工程（１）における前記使用済み錫剥離液を取って、６０℃〜９５℃の温度で攪拌し始め、酸化剤を添加し、塩基を加えてｐＨを２.５〜３.０に調整し、１時間〜３時間反応させ、Ｆｅ３+、Ｓｎ４+が沈殿して鉛、銅イオンが溶液に残るようにし、ろ過して固液分離させ、錫含有の濾滓及び鉛含有の濾液を得、錫及び鉛をそれぞれ回収する、鉛錫の分離工程（２）と、
工程（１）における前記はんだ除去処理された廃棄プリント基板を取って、乾燥、粗粉砕、渦流選別、細粉砕及び静電選別を行い、ゴム・プラスチック材料を取り除き、金属濃縮物粉末を得る、粉砕及び静電選別工程（３）と、
工程（３）における前記金属濃縮物粉末を取って、Ｐｂイオン、Ｓｂイオン及びＡｌイオンを浸出させ、ろ過し、濾液を蒸発濃縮した後、Ｎａ２ＰｂＯ３、Ｎａ２ＳｂＯ３及びＮａ２ＡｌＯ２の混晶を得、鉛、アンチモン及びアルミニウムが取り除かれた濾滓を工程（５）に提供する、鉛、アンチモン及びアルミニウムの抽出工程（４）と、
工程（４）における前記鉛、アンチモン及びアルミニウムが取り除かれた濾滓を取って、０.５ｍｏｌ/Ｌ〜３.５ｍｏｌ/Ｌの硫酸溶液及び酸化剤を添加し、２０℃〜７０℃の温度で２時間〜８時間浸出させ、浸出した溶液をろ過し、電解液のｐＨが１.０〜５.０、温度が２０℃〜６０℃、電流密度が２００Ａ/ｍ２〜５５０Ａ/ｍ２、電解採取時間が０.５時間〜４時間である電解採取の条件下で、銅を選択的に、電解液を螺旋状に流して行うサイクロン電解採取し、電解採取銅を得、銅が取り除かれた濾滓を工程（７）に提供する、銅の抽出工程（５）と、
工程（５）における電解採取済み液を取って、電解液のｐＨが１.０〜５.０、温度が２０℃〜７０℃、電流密度が２００Ａ/ｍ２〜４５０Ａ/ｍ２、電解採取時間が０.５時間〜４時間である電解採取の条件下で、ニッケルを選択的に、電解液を螺旋状に流して行うサイクロン電解採取し、電解採取ニッケルを得、電解採取済み液が硫酸浸出工程に戻す、ニッケルの抽出工程（６）と、
工程（５）における前記銅が取り除かれた濾滓を取って、硝酸溶液との濃度比１：１〜３に応じて硝酸溶液を添加して銀及びパラジウムを溶解させ、浸出温度を２５℃〜８５℃にコントロールして０.５時間〜３時間浸出させ、ろ過して固液分離させ、銀、パラジウム含有の濾液、及び銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を得、続いて、銀、パラジウム含有の濾液のｐＨを３〜５にコントロールし、常温で攪拌しながらＮａＯＨ溶液を添加し、パラジウムが沈殿して銀イオンが溶液に残るようにし、ろ過して固液分離させ、銀含有の濾液及びパラジウム含有の沈殿物を得、前記銀含有の濾液に塩化ナトリウムを添加して銀を沈殿させ、ろ過して固液分離させ、塩化銀沈殿を得、銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を工程（８）に提供する、銀の抽出工程（７）と、
工程（７）における前記銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を取って、１倍〜５倍質量の王水を添加し、２０℃〜７０℃の温度、１００ｒ/ｍｉｎ〜１０００ｒ/ｍｉｎの回転数で攪拌し、１時間〜２.５時間浸出させ、温度が２０℃〜６０℃、電流密度が５０Ａ/ｍ２〜４００Ａ/ｍ２、電解採取時間が０.５時間〜４時間、電解液のｐＨが１.０〜５.５である電解採取の条件下で、浸出液における金を、電解液を螺旋状に流して行うサイクロン電解採取し、電解採取金を得、電解採取済み液を工程（９）に提供する、金の抽出工程（８）と、
工程（８）における電解採取済み液を取って、飽和ＮＨ４Ｃｌを添加して２時間〜８時間反応させた後でろ過し、濾滓として塩化白金酸アンモニウムを得、精製した後で白金海綿を得、白金が取り除かれた濾液を工程（１０）に提供する、白金の抽出工程（９）と、
工程（９）における前記白金が取り除かれた濾液を取って、パラジウム：ギ酸の質量比が０.５〜３：１である比例に応じてギ酸を添加し、５０℃〜９０℃、激しく攪拌する条件下で０.５時間〜２時間反応させ、ｐＨを６.０〜９.０にコントロールし、パラジウム粗粉を得る、パラジウムの二次抽出工程（１０）と、を含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
工程（１）における前記硝酸型の錫剥離液は、硝酸が１５％〜５０％、硝酸鉄又は塩化鉄が１％〜２０％、スルホン酸が１％〜５％、残りが水である成分及び重量パーセントを含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法において、
前記硝酸型の錫剥離液は、硝酸が３０％〜５０％、硝酸鉄又は塩化鉄が１０％〜１８％、スルホン酸が３％〜５％、残りが水である成分及び重量パーセントを含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法において、
前記硝酸型の錫剥離液は、硝酸が５０％、硝酸鉄又は塩化鉄が１８％、スルホン酸が５％、残りが水である成分及び重量パーセントを含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法において、
前記はんだ除去処理の時間は１０分〜２５分である、
ことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法において、
工程（２）における前記錫の回収は、錫含有の濾滓を精製することであり、すなわち、錫含有の濾滓を取って、水でスラリーにし、亜硫酸ナトリウムを添加してＳｎ（ＯＨ)２沈殿に還元させ、さらに塩基を添加してｐＨを１３〜１４に調整し、５０℃〜９５℃の温度で１時間〜４時間反応させ、Ｓｎ（ＯＨ)２沈殿が可溶性[Ｓｎ（ＯＨ)４]２−になるようにし、ろ過して濾滓として水酸化鉄を得、浸出の工程に戻し、濾液に硫酸を添加してｐＨを３〜７に調整し、[Ｓｎ（ＯＨ)４]２−がＳｎ（ＯＨ)２になるようにし、ろ過し、Ｓｎ（ＯＨ)２を酸でｐＨ０.５〜１に調整して溶解させ、硫酸錫溶液を形成し、再濃縮し結晶化させて硫酸錫結晶になる、
ことを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法において、
工程（２）における前記鉛の回収は、鉛含有の濾液を精製することであり、すなわち、鉛含有の濾液を取って、６０℃〜９５℃の温度で鉛の過剰係数１.１〜１.５に応じて硫酸ナトリウムを添加し、攪拌しながら０.５時間〜５時間反応させ、ろ過し、濾滓として硫酸鉛を得て濾液として銅含有の濾液を得、濾滓とする硫酸鉛をスラリーにした後、６０℃〜９５℃の温度で炭酸ナトリウムを添加し、ｐＨを９〜１０に調整し、２時間〜５時間反応させ、硫酸鉛が三塩基性硫酸鉛に変換するようにする、
ことを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法において、
前記銅含有の濾液は、工程（５）における浸出済み溶液に提供される、
ことを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法において、
工程（４）における前記Ｐｂイオン、Ｓｂイオン及びＡｌイオンの浸出は、金属濃縮物粉末を３００℃〜５００℃の温度で１時間〜５時間焙焼し、その後、塩基によって焙焼された材料を２〜５：１の液固比、６０℃〜９０℃の浸出温度で２時間〜６時間浸出させることである、
ことを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法において、
工程（４）における前記Ｐｂイオン、Ｓｂイオン及びＡｌイオンの浸出は、金属濃縮物粉末をＮａＯＨ：ＮａＮＯ３＝１：０〜１の溶融剤と１：０.１〜１の質量比に応じて均一に混合し、３５０℃〜５５０℃で１時間〜３.５時間低温溶錬し、溶錬された材料を冷却、微粉にした後、１〜５：１の液固比、２０℃〜４０℃の浸出温度で温水によって浸出させることである、
ことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の参照）
本出願は、２０１１年３月１１日に中国特許庁に提出された、出願番号第２０１１１００５９７３９．６号、タイトル「廃棄プリント基板を非焼却、非シアン化処理する方法」という中国特許出願の優先権の利益を主張し、そのすべての内容を引用により本出願に組み込むものとする。
【０００２】
本発明は、産業廃棄物の処理に関し、特に、廃棄プリント基板を非焼却、非シアン化処理する方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
人々の生活水準の進歩につれて、各種の家電製品の更新頻度はますます高まっており、各種の廃棄された家電製品が生み出す廃棄プリント基板（ＰＣＢ）の数量もますます増えてきた。これらの廃棄プリント基板は、直接捨てられると、大量の土地資源を占用するだけでなく、有価金属資源の浪費をもたらすこともある。また、それらに含まれるポリ塩化ビニル及びハロゲン化物の難燃剤などの様々な有毒・有害物質は、周辺の環境に対して大規模な汚染を引き起こす。従って、いかにして廃棄プリント基板を効果的に処理し、廃棄プリント基板の回収、再利用を実現するかという問題は、早急に解決されなければならない。
【０００４】
常用の回収技術は、主に乾式（焼却）冶金、湿式（シアン化）冶金、又はそれらの組み合わせなどの方法がある。しかし、乾式（焼却）冶金及び湿式（シアン化）冶金による環境の汚染は非常に酷く、特に、シアン化物が猛毒物質であるため、湿式冶金プロセスにおける伝統的シアン化冶金プロセスによる環境の汚染は、非常に酷い。
【０００５】
また、従来技術には、通常、廃棄プリント基板における銅及び貴金属（例えば、金、銀、白金、及び／又はパラジウム）を回収することに限られ、例えば、中国特許公開第ＣＮ１０１２７０４１１Ａ号に開示された廃棄回路板から銅金属を回収する方法、及び中国特許公開第ＣＮ１０１２３０４２１Ａ号に開示された廃棄回路板から金を抽出する方法があるが、これらの方法は、はんだにおける錫、鉛、アンチモン、及びアルミニウムの回収を無視している。
【０００６】
中国特許公開第ＣＮ１０１７８７５４７Ａ号には、廃棄したプリント基板から、銅、ニッケル、銀、金、白金、及びパラジウムなどの主製品、並びに鉛、錫、アンチモン、アルミニウム含有の副製品をそれぞれ抽出する方法が開示されており、この方法によって、有価金属の資源が最大限にリサイクリングされることを実現できる。しかし、この方法において、鉛含有の副製品であるＮａ２ＰｂＯ３と錫含有の副製品であるＮａ２ＳｎＯ３とは、同じステップにおいて混合して結晶するので、徹底的に分離して回収されることはできず、鉛製錬又は錫製錬の製錬所に戻して抽出を行うことが必要である。また、この方法において金属銀を回収する方法は、硝酸溶液によって銀含有濾滓を溶解した後、電解採取によって電解採取銀を得る方法であるが、硝酸が銀を溶解すると同時に、金属パラジウムも溶解するので、続いてパラジウム粗粉を回収するときにパラジウムの回収率は高くないという問題を引き起こす。
【発明の概要】
【０００７】
本発明は、上記の問題を解決するために、廃棄プリント基板を非焼却、非シアン化処理する方法を提供することにある。この方法は、有価金属の資源を最大限にリサイクリングすることを実現でき、また、金属鉛及び錫を徹底的に分離して回収することを実現でき、同時に、金属パラジウムの回収率を向上させることができる。
【０００８】
本発明は、廃棄プリント基板を非焼却、非シアン化処理する方法であって、
廃棄プリント基板を取って、洗浄、乾燥し、硝酸型の錫剥離液に浸漬してはんだ除去処理を行い、はんだ除去処理後の上記廃棄プリント基板を工程（３）に提供して、その使用済み錫剥離液を工程（２）に提供する、はんだ除去処理工程（１）と、
工程（１）における上記使用済み錫剥離液を取って、６０℃〜９５℃の温度で攪拌し始め、酸化剤を添加し、塩基を加えてｐＨを２.５〜３.０に調整し、１時間〜３時間反応させ、Ｆｅ３+、Ｓｎ４+が沈殿して鉛、銅イオンが溶液に残るようにし、ろ過して固液分離させ、錫含有の濾滓及び鉛含有の濾液を得、錫及び鉛をそれぞれ回収する、鉛錫の分離工程（２）と、
工程（１）における上記はんだ除去処理された廃棄プリント基板を取って、乾燥、粗粉砕、渦流選別、細粉砕及び静電選別を行い、ゴム・プラスチック材料を取り除き、金属濃縮物粉末を得る、粉砕及び静電選別工程（３）と、
工程（３）における上記金属濃縮物粉末を取って、Ｐｂイオン、Ｓｂイオン及びＡｌイオンを浸出させ、ろ過し、濾液を蒸発濃縮した後、Ｎａ２ＰｂＯ３、Ｎａ２ＳｂＯ３及びＮａ２ＡｌＯ２の混晶を得、母液を蒸発させて水浸漬工程に戻し、鉛、アンチモン及びアルミニウムが取り除かれた濾滓を工程（５）に提供する、鉛、アンチモン及びアルミニウムの抽出工程（４）と、
工程（４）における上記鉛、アンチモン及びアルミニウムが取り除かれた濾滓を取って、０.５ｍｏｌ/Ｌ〜３.５ｍｏｌ/Ｌの硫酸溶液及び酸化剤を添加し、２０℃〜７０℃の温度で２時間〜８時間浸出させ、浸出した溶液をろ過し、電解液のｐＨが１.０〜５.０、温度が２０℃〜６０℃、電流密度が２００Ａ/ｍ２〜５５０Ａ/ｍ２、電解採取時間が０.５時間〜４時間である電解採取の条件下で、銅を選択的にサイクロン電解採取（Ｃｙｃｌｏｎｅｅｌｅｃｔｒｏｗｉｎｎｉｎｇ）し、電解採取銅を得、銅が取り除かれた濾滓を工程（７）に提供する、銅の抽出工程（５）と、
工程（５）における電解採取済み液を取って、電解液のｐＨが１.０〜５.０、温度が２０℃〜７０℃、電流密度が２００Ａ/ｍ２〜４５０Ａ/ｍ２、電解採取時間が０.５時間〜４時間である電解採取の条件下で、ニッケルを選択的にサイクロン電解採取し、電解採取ニッケルを得、電解採取済み液が硫酸浸出工程に戻す、ニッケルの抽出工程（６）と、
工程（５）における上記銅が取り除かれた濾滓を取って、硝酸溶液との濃度比１：１〜３に応じて硝酸溶液を添加して銀及びパラジウムを溶解させ、浸出温度を２５℃〜８５℃にコントロールして０.５時間〜３時間浸出させ、ろ過して固液分離させ、銀、パラジウム含有の濾液、及び銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を得、続いて、銀、パラジウム含有の濾液のｐＨを３〜５にコントロールし、常温で攪拌しながらＮａＯＨ溶液を添加し、パラジウムが沈殿して銀イオンが溶液に残るようにし、ろ過して固液分離させ、銀含有の濾液及びパラジウム含有の沈殿物を得、上記銀含有の濾液に塩化ナトリウムを添加して銀を沈殿させ、ろ過して固液分離させ、塩化銀沈殿を得、銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を工程（８）に提供する、銀の抽出工程（７）と、
工程（７）における上記銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を取って、１倍〜５倍質量の王水を添加し、２０℃〜７０℃の温度、１００ｒ/ｍｉｎ〜１０００ｒ/ｍｉｎの速度で攪拌し、１時間〜２.５時間浸出させ、温度が２０℃〜６０℃、電流密度が５０Ａ/ｍ２〜４００Ａ/ｍ２、電解採取時間が０.５時間〜４時間、電解液のｐＨが１.０〜５.５である電解採取の条件下で、浸出液における金をサイクロン電解採取し、電解採取金を得、電解採取済み液を工程（９）に提供する、金の抽出工程（８）と、
工程（８）における電解採取済み液を取って、飽和ＮＨ４Ｃｌを添加して２時間〜８時間反応させた後でろ過し、濾滓として塩化白金酸アンモニウムを得、精製した後で白金海綿を得、白金が取り除かれた濾液を工程（１０）に提供する、白金の抽出工程（９）と、
工程（９）における上記白金が取り除かれた濾液を取って、パラジウム：ギ酸の質量比が０.５〜３：１である比例に応じてギ酸を添加し、５０℃〜９０℃、激しく攪拌する条件下で０.５時間〜２時間反応させ、ｐＨを６.０〜９.０にコントロールし、パラジウム粗粉を得る、パラジウムの二次抽出工程（１０）と、
を含む方法を提供する。
【０００９】
ここで、工程（１）において、はんだ除去処理によって廃棄プリント基板を分解し、はんだが完全に除去されかつ金属鉛及び錫が効果的に濃縮することを実現する。
【００１０】
一般的に、回路基板にめっきされた錫鉛合金層と銅基底層との間における銅−錫合金の厚度は０.０５μｍ〜０.１μｍでありかつ時間とともに増加するので、廃棄プリント基板ははんだを除去するために強酸化剤が必要である。本発明に係る錫剥離液は硝酸型であり、その酸化系は硝酸及び硝酸鉄／塩化鉄からなる。好ましくは、本発明に係る硝酸型の錫剥離液は、硝酸が１５％〜５０％、硝酸鉄又は塩化鉄が１％〜２０％、スルホン酸が１％〜５％、残りが水である成分及び重量パーセントを含む。
【００１１】
ここで、硝酸ははんだを溶解するための主酸化剤であり、質量百分率が６８％である硝酸は選ばれてもよい。錫が不活性金属であるので、希酸の錫に対する作用は遅い。本発明に係る錫剥離液は、従来の錫剥離液に比べて硝酸の濃度が向上し、はんだに対する腐食速度が効果的に向上した。
【００１２】
硝酸鉄又は塩化鉄におけるＦｅ３+が強酸化性を有するので、硝酸鉄又は塩化鉄を添加することは、錫剥離液の酸化能力を向上でき、さらにはんだの溶解速度を効果的に向上でき、同時に、銅錫合金層に対する腐食を促進する役に立つ。
【００１３】
錫剥離プロセスにおいて、錫は主にＳｎ２+の形で溶液に存在している。Ｓｎ２+が濃硝酸、空気における酸素などによってＳｎ４+に酸化されやすい一方、Ｓｎ４+が加水分解してβ−錫酸沈殿を生じ、結局、β−錫酸をはんだに付着させてはんだの溶解に影響を与えるので、錫剥離液にはスルホン酸を添加することが必要である。スルホン酸の機能は、溶液におけるＳｎ２+とともに安定した複合体を形成し、はんだの溶解を促進することである。また、スルホン酸は強酸であって、錫剥離液における硝酸の分解を効果的に抑制することができる。原料コストの面から考えると、より好ましくは、スルホン酸としては、スルファミン酸が選ばれる。
【００１４】
より好ましくは、本発明に係る錫剥離液は、硝酸が３０％〜５０％、硝酸鉄又は塩化鉄が１０％〜１８％、スルホン酸が３％〜５％、残りが水である成分及び重量パーセントを含む。さらに好ましくは、本発明に係る錫剥離液は、硝酸が５０％、硝酸鉄又は塩化鉄が１８％、スルホン酸が５％、残りが水である成分及び重量パーセントを含む。
【００１５】
本発明に係る錫剥離液は廃棄プリント基板におけるはんだのみに対してはんだ除去処理を行い、このような廃棄プリント基板がすでに再利用できず、回路基板における銅回路に対する保護が必要ないので、本発明に係る錫剥離液には腐食防止剤を添加する必要はない。本発明に係る錫剥離液は、成分が簡単でかつ錫剥離の速度が速い。
【００１６】
本発明に係る錫剥離液の製造方法は、硝酸鉄又は塩化鉄、スルホン酸を取って水に完全に溶解させ、硝酸を添加して均一に攪拌し、本発明に係る錫剥離液を得る工程を含む。
【００１７】
工程（１）において、好ましくは、はんだ除去処理の時間が１０分〜２５分である。上記廃棄プリント基板は、はんだ除去処理された後、工程（３）に提供される。
【００１８】
はんだ除去プロセスで形成された使用済み錫剥離液における錫金属は、含量が６０ｇ/Ｌ〜１００ｇ/Ｌ（現在、錫金属の価格はおよそ１５万ＲＭＢ／トンの高価である）であり、回収再利用価値が極めて高いものである。また、使用済み錫剥離液は、濃度がおよそ２４ｇ/Ｌ〜３６ｇ/Ｌである鉛イオン（はんだ除去プロセスにおいて、金属鉛の一部だけが溶解し、残りの溶解されていない金属鉛は工程（４）で抽出される）をさらに含み、使用済み錫剥離液における鉛及び錫イオンをそれぞれ回収するため、使用済み錫剥離液を回収して工程（２）に提供する。
【００１９】
工程（２）は、鉛錫の分離工程であり、すなわち、工程（１）における上記使用済み錫剥離液を取って、６０℃〜９５℃の温度で攪拌し始め、酸化剤を添加し、塩基を加えてｐＨを２.５〜３.０に調整し、１時間〜３時間反応させ、Ｓｎ４+が沈殿して鉛イオンが溶液に残るようにし、ろ過して固液分離させ、錫含有の濾滓及び鉛含有の濾液を得、錫及び鉛をそれぞれ回収する工程である。ここで、酸化剤は、過酸化水素又は塩化ナトリウムなどの通常の酸化剤であってもよい。
【００２０】
錫含有の濾滓に低濃度の鉄イオンが混入する可能性、及び鉛含有の濾液に低濃度の銅イオンが混入する可能性を考えると、好ましくは、錫含有の濾滓及び／又は鉛含有の濾液をさらに精製することができる。
【００２１】
好ましくは、工程（２）における錫の回収は、錫含有の濾滓を精製することであり、すなわち、錫含有の濾滓を取って、水でスラリーにし、亜硫酸ナトリウムを添加してＳｎ（ＯＨ)２沈殿に還元させ、さらに塩基を添加してｐＨを１３〜１４に調整し、５０℃〜９５℃の温度で１時間〜４時間反応させ、Ｓｎ（ＯＨ)２沈殿が可溶性[Ｓｎ（ＯＨ)４]２−になるようにし、ろ過して濾滓として水酸化鉄を得、浸出の工程に戻し、濾液に硫酸を添加してｐＨを３〜７に調整し、[Ｓｎ（ＯＨ)４]２−がＳｎ（ＯＨ)２になるようにし、ろ過し、Ｓｎ（ＯＨ)２を酸でｐＨ０.５〜１に調整して溶解させ、硫酸錫溶液を形成し、再濃縮し結晶化させて硫酸錫結晶になる。
【００２２】
好ましくは、工程（２）における鉛の回収は、鉛含有の濾液を精製することであり、すなわち、鉛含有の濾液を取って、６０℃〜９５℃の温度で鉛の過剰係数１.１〜１.５に応じて硫酸ナトリウムを添加し、攪拌しながら０.５時間〜５時間反応させ、ろ過し、濾滓として硫酸鉛を得て濾液として銅含有の濾液を得、濾滓とする硫酸鉛をスラリーにした後、６０℃〜９５℃の温度で炭酸ナトリウムを添加し、ｐＨを９〜１０に調整し、２時間〜５時間反応させ、硫酸鉛が三塩基性硫酸鉛産物に変換するようにする。銅含有の濾液は、工程（５）における浸出した溶液に提供されることができる。
【００２３】
工程（３）は、乾燥、粗粉砕、渦流選別、細粉砕及び静電選別を含み、その目的は、工程（１）における上記はんだ除去処理された回路基板を粉碎して初期精製し、その中に混入したゴム・プラスチック材料を取り除いて金属濃縮物粉末を得るためである。
【００２４】
工程（４）は、工程（３）における上記金属濃縮物粉末から、Ｐｂイオン、Ｓｂイオン及びＡｌイオンを浸出させ、浸出液を蒸発濃縮させた後、Ｎａ２ＰｂＯ３、Ｎａ２ＳｂＯ３及びＮａ２ＡｌＯ２混晶を得、母液を蒸発させ、水浸漬工程に戻し、鉛、アンチモン及びアルミニウムが取り除かれた濾滓を工程（５）に提供する工程である。
【００２５】
ここで、浸出プロセスは、両性金属である鉛、アンチモン及びアルミニウムを銅、貴金属及び白金族金属と分離するプロセスであり、その方法に制限がない。
【００２６】
好ましくは、Ｐｂイオン、Ｓｂイオン及びＡｌイオンの浸出は、金属濃縮物粉末を３００℃〜５００℃の温度で１時間〜５時間焙焼し、鉛、アンチモン、アルミニウム、銅及びニッケル等の金属を酸化させる機能を果たし、その後、塩基によって焙焼された材料を２〜５：１の液固比、６０℃〜９０℃の浸出温度で２時間〜６時間浸出させることである。ここで、焙焼された材料において、酸化鉛、酸化アンチモン及び酸化アルミニウムだけは、塩基に溶解できる両性酸化物である。
【００２７】
また、好ましくは、Ｐｂイオン、Ｓｂイオン及びＡｌイオンの浸出は、金属濃縮物粉末をＮａＯＨ：ＮａＮＯ３＝１：０〜１の溶融剤と１：０.１〜１の質量比に応じて均一に混合し、３５０℃〜５５０℃で１時間〜３.５時間低温溶錬し、溶錬された材料を冷却、微粉にした後、１〜５：１の液固比、２０℃〜４０℃の浸出温度で温水によって浸出させることである。これは、金属粉末と塩基性媒体及び酸化剤とが比較的低い溶錬温度で反応するという原理を利用して、塩基性メルトを固体物質と分離することであり、具体的には、両性金属である鉛、アンチモン及びアルミニウムを銅、貴金属及び白金族金属と分離することである。
【００２８】
工程（５）は、銅の抽出工程であり、すなわち、工程（４）における上記鉛、アンチモン及びアルミニウムが取り除かれた濾滓を取って、０.５ｍｏｌ/Ｌ〜３.５ｍｏｌ/Ｌの硫酸溶液及び酸化剤を添加し、２０℃〜７０℃の温度で２時間〜８時間浸出させ、浸出した溶液をろ過し、電解液のｐＨが１.０〜５.０、温度が２０℃〜６０℃、電流密度が２００Ａ/ｍ２〜５５０Ａ/ｍ２、電解採取時間が０.５時間〜４時間である電解採取の条件下で、銅を選択的にサイクロン電解採取し、電解採取銅を得、銅が取り除かれた濾滓を工程（７）に提供する工程である。酸化剤は、過硫酸塩、オゾン又は過酸化水素であってもよい。
【００２９】
工程（６）は、ニッケルの抽出工程であり、すなわち、工程（５）における電解採取済み液を取って、電解液のｐＨが１.０〜５.０、温度が２０℃〜７０℃、電流密度が２００Ａ/ｍ２〜４５０Ａ/ｍ２、電解採取時間が０.５時間〜４時間である電解採取の条件下で、ニッケルを選択的にサイクロン電解採取し、電解採取ニッケルを得、電解採取済み液が硫酸浸出工程に戻す工程である。
【００３０】
工程（７）は、銀の抽出工程であり、すなわち、工程（５）における上記銅が取り除かれた濾滓を取って、硝酸溶液との濃度比１：１に応じて硝酸溶液を添加して銀及びパラジウムを溶解させ、硝酸銀及び硝酸パラジウムをそれぞれ生成し、浸出温度を２５℃〜８５℃にコントロールして０.５時間〜３時間浸出させ、ろ過して固液分離させ、銀、パラジウム含有の濾液、及び銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を得、続いて、銀、パラジウム含有の濾液のｐＨを３〜５にコントロールし、常温で攪拌しながらＮａＯＨ溶液を添加し、パラジウムが沈殿して硝酸パラジウムが水酸化第一パラジウム沈殿に変換し、かつ多数の銀イオンが溶液に残って極少量の銀イオンだけがアルカリ性環境において酸化銀の形で水酸化第一パラジウムとともに沈殿するようにし、ろ過して固液分離させ、銀含有の濾液及びパラジウム含有の沈殿物を得、上記銀含有の濾液に塩化ナトリウムを添加して銀を沈殿させ、ろ過して固液分離させ、塩化銀沈殿を得、銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を工程（８）に提供する工程である。
【００３１】
工程（８）は金の抽出工程であり、すなわち、工程（７）における上記銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を取って、１倍〜５倍質量の王水を添加し、２０℃〜７０℃の温度、１００ｒ/ｍｉｎ〜１０００ｒ/ｍｉｎの速度で攪拌し、１時間〜２.５時間浸出させ、温度が２０℃〜６０℃、電流密度が５０Ａ/ｍ２〜４００Ａ/ｍ２、電解採取時間が０.５時間〜４時間、電解液のｐＨが１.０〜５.５である電解採取の条件下で、浸出液における金をサイクロン電解採取し、電解採取金を得、電解採取済み液を工程（９）に提供する工程である
工程（９）は、白金の抽出工程であり、すなわち、工程（８）における電解採取済み液を取って、飽和ＮＨ４Ｃｌを添加して２時間〜８時間反応させた後でろ過し、濾滓として塩化白金酸アンモニウムを得、精製した後で白金海綿を得、白金が取り除かれた濾液を工程（１０）に提供する工程である。
【００３２】
工程（１０）は、パラジウムの二次抽出工程であり、すなわち、工程（９）における上記白金が取り除かれた濾液を取って、パラジウム：ギ酸の質量比が０.５〜３：１である比例に応じてギ酸を添加し、５０℃〜９０℃、激しく攪拌する条件下で０.５時間〜２時間反応させ、ｐＨを６.０〜９.０にコントロールし、パラジウム粗粉を得る工程である。
【００３３】
本発明に提供した廃棄プリント基板を非焼却、非シアン化処理する方法は、
（１）有価金属資源のリサイクリングの最大化を実現でき、金属鉛及び錫を徹底的に分けて回収すると同時に、金属パラジウムの回収率を向上でき、
（２）廃棄プリント基板がそのまま捨てられて大量の土地資源を占用する問題を解決でき、廃棄プリント基板における有毒・有害材料による環境汚染の問題を解決でき、
（３）本発明にかかる方法が焼却、シアン化工程を含まず、操作が簡単で省エネルギーであり、環境にもやさしい、
という効果を有する。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下の説明は本発明の好適な実施形態であり、本技術分野の当業者にとって、本発明の原理を逸脱しない前提において、いくつかの改良と修飾をさらに行うことができるが、これらの改良及び修飾は、本発明の保護範囲に含まれると見なされるべきである。
【００３５】
（実施例１）
廃棄プリント基板を非焼却、非シアン化処理する方法は、以下の工程を含む。
【００３６】
（１）はんだ除去処理
硝酸鉄又は塩化鉄、スルホン酸を水に完全に溶解させ、硝酸が５０％、硝酸鉄が１８％、スルファミン酸が５％、残りが水である比例に応じて硝酸を添加して均一に攪拌し、本発明に係る硝酸型の錫剥離液を得た。
【００３７】
廃棄プリント基板を、洗浄、乾燥し、硝酸型の錫剥離液に浸漬してはんだ除去処理を行い、はんだ除去処理を１０分行った後、上記廃棄プリント基板を工程（３）に提供して、使用済み錫剥離液を工程（２）に提供した。
【００３８】
（２）鉛錫の分離
工程（１）において上記使用済み錫剥離液における金属の含量を測定して、錫が６０ｇ/Ｌ、鉛イオンが２２ｇ/Ｌ、鉄イオンが１９ｇ/Ｌ、銅イオンが１０ｇ/Ｌである。
【００３９】
６０℃の温度で攪拌し始め、酸化剤とする過酸化水素を添加し、塩基を加えてｐＨを２.７に調整し、３時間反応させ、Ｆｅ３+、Ｓｎ４+が沈殿して鉛、銅イオンが溶液に残るようにし、ろ過して固液分離させ、錫含有の濾滓及び鉛含有の濾液を得た。
【００４０】
錫含有の濾滓を精製した。即ち、錫含有の濾滓を水でスラリーにし、亜硫酸ナトリウムを添加してＳｎ（ＯＨ)２沈殿に還元させ、さらに塩基を添加してｐＨを１３に調整し、６０℃の温度で３時間反応させ、Ｓｎ（ＯＨ)２沈殿が可溶性[Ｓｎ（ＯＨ)４]２−になるようにし、ろ過して濾滓として水酸化鉄を得、浸出の工程に戻し、濾液に硫酸を添加してｐＨを３に調整し、[Ｓｎ（ＯＨ)４]２−がＳｎ（ＯＨ)２になるようにし、ろ過し、Ｓｎ（ＯＨ)を酸でｐＨ０.５に調整して溶解させ、硫酸錫溶液を形成し、再濃縮し結晶化させて硫酸錫結晶になった。
【００４１】
鉛含有の濾液を精製した。即ち、鉛含有の濾液を、６０℃の温度で鉛の過剰係数１.２に応じて硫酸ナトリウムを添加し、攪拌しながら４時間反応させ、ろ過し、濾滓として硫酸鉛を得て濾液として銅含有の濾液を得、濾滓とする硫酸鉛をスラリーにした後、８０℃の温度で炭酸ナトリウムを添加し、ｐＨを９に調整し、４時間反応させ、硫酸鉛が三塩基性硫酸鉛産物に変換するようにした。銅含有の濾液は、工程（５）における浸出した溶液に提供された。
【００４２】
（３）粉砕及び静電選別
工程（１）における上記はんだ除去処理された廃棄プリント基板に対して、乾燥、粗粉砕、渦流選別、細粉砕及び静電選別を行い、ゴム・プラスチック材料を取り除き、金属濃縮物粉末を得た。
【００４３】
（４）鉛、アンチモン及びアルミニウムの抽出
工程（３）における上記金属濃縮物粉末を、５００℃の温度で１時間焙焼し、鉛、アンチモン、アルミニウム、銅及びニッケル等の金属を酸化させる機能を果たした。その後、塩基によって焙焼された材料を２：１の液固比、９０℃の浸出温度で６時間浸出させ、ろ過し、濾液を蒸発濃縮した後、Ｎａ２ＰｂＯ３、Ｎａ２ＳｂＯ３及びＮａ２ＡｌＯ２の混晶を得、母液を蒸発させて水浸漬工程に戻し、鉛、アンチモン及びアルミニウムが取り除かれた濾滓を工程（５）に提供した。
【００４４】
（５）銅の抽出
工程（４）における上記鉛、アンチモン及びアルミニウムが取り除かれた濾滓に、０.５ｍｏｌ/Ｌの硫酸溶液及びＮａ２Ｓ２Ｏ８を添加し、２０℃〜７０℃の温度で２時間浸出させ、浸出した溶液をろ過し、電解液のｐＨが１.０、温度が２０℃、電流密度が２００Ａ/ｍ２、電解採取時間が４時間である電解採取の条件下で、銅を選択的にサイクロン電解採取し、電解採取銅を得、銅が取り除かれた濾滓を工程（７）に提供した。
【００４５】
（６）ニッケルの抽出
工程（５）における電解採取済み液を取って、電解液のｐＨが１.０、温度が２０℃、電流密度が２００Ａ/ｍ２、電解採取時間が４時間である電解採取の条件下で、ニッケルを選択的にサイクロン電解採取し、電解採取ニッケルを得、電解採取済み液が硫酸浸出工程に戻した。
【００４６】
（７）銀の抽出
工程（５）における上記銅が取り除かれた濾滓に、硝酸溶液との濃度比１：１に応じて硝酸溶液を添加して銀及びパラジウムを溶解させ、浸出温度を２５℃にコントロールして３時間浸出させ、ろ過して固液分離させ、銀、パラジウム含有の濾液、及び銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を得、続いて、銀、パラジウム含有の濾液のｐＨを３にコントロールし、常温で攪拌しながらＮａＯＨ溶液を添加し、パラジウムが沈殿して銀イオンが溶液に残るようにし、ろ過して固液分離させ、銀含有の濾液及びパラジウム含有の沈殿物を得、上記銀含有の濾液に塩化ナトリウムを添加して銀を沈殿させ、ろ過して固液分離させ、塩化銀沈殿を得、銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を工程（８）に提供した。
【００４７】
（８）金の抽出
工程（７）における上記銀、パラジウムが取り除かれた濾滓に１倍質量の王水を添加し、２０℃の温度、１００ｒ/ｍｉｎの速度で攪拌し、２.５時間浸出させ、温度が２０℃、電流密度が５０Ａ/ｍ２、電解採取時間が４時間、電解液のｐＨが１.０である電解採取の条件下で、浸出液における金をサイクロン電解採取し、電解採取金を得、電解採取済み液を工程（９）に提供した。
【００４８】
（９）白金の抽出
工程（８）における電解採取済み液に、飽和ＮＨ４Ｃｌを添加して２時間反応させた後でろ過し、濾滓として塩化白金酸アンモニウムを得、精製した後で白金海綿を得、白金が取り除かれた濾液を工程（１０）に提供した。
【００４９】
（１０）パラジウムの二次抽出
工程（９）における上記白金が取り除かれた濾液に、パラジウム：ギ酸の質量比が０.５：１である比例に応じてギ酸を添加し、５０℃、激しく攪拌する条件下で２時間反応させ、ｐＨを６.０にコントロールし、パラジウム粗粉を得た。
【００５０】
各金属の回収率はそれぞれ、錫が９１％、鉛が９０％、アンチモンが９１％、アルミニウムが９１％、銅が９９％、ニッケルが９７％、銀が９７％、金が９９％、白金が９８％、パラジウムが９６％である。
【００５１】
（実施例２）
廃棄プリント基板を非焼却、非シアン化処理する方法は、以下の工程を含む。
【００５２】
（１）はんだ除去処理
硝酸鉄又は塩化鉄、スルホン酸を水に完全に溶解させ、硝酸が１５％、硝酸鉄が２０％、スルファミン酸が５％、残りが水である比例に応じて硝酸を添加して均一に攪拌し、本発明に係る硝酸型の錫剥離液を得た。
【００５３】
廃棄プリント基板を、洗浄、乾燥し、硝酸型の錫剥離液に浸漬してはんだ除去処理を行い、はんだ除去処理を１０分行った後、上記廃棄プリント基板を工程（３）に提供して、使用済み錫剥離液を工程（２）に提供した。
【００５４】
（２）鉛錫の分離
工程（１）において上記使用済み錫剥離液における金属の含量を測定して、錫が６０ｇ/Ｌ、鉛イオンが２４ｇ/Ｌ、鉄イオンが１９ｇ/Ｌ、銅イオンが９ｇ/Ｌである。
【００５５】
６０℃の温度で攪拌し始め、酸化剤とする過酸化水素を添加し、塩基を加えてｐＨを２.５に調整し、３時間反応させ、Ｆｅ３+、Ｓｎ４+が沈殿して鉛、銅イオンが溶液に残るようにし、ろ過して固液分離させ、錫含有の濾滓及び鉛含有の濾液を得た。
【００５６】
錫含有の濾滓を精製した。即ち、錫含有の濾滓を水でスラリーにし、亜硫酸ナトリウムを添加してＳｎ（ＯＨ)２沈殿に還元させ、さらに塩基を添加してｐＨを１３に調整し、５０℃の温度で４時間反応させ、Ｓｎ（ＯＨ)２沈殿が可溶性[Ｓｎ（ＯＨ)４]２−になるようにし、ろ過して濾滓として水酸化鉄を得、浸出の工程に戻し、濾液に硫酸を添加してｐＨを３に調整し、[Ｓｎ（ＯＨ)４]２−がＳｎ（ＯＨ)２になるようにし、ろ過し、Ｓｎ（ＯＨ)を酸でｐＨ０.５に調整して溶解させ、硫酸錫溶液を形成し、再濃縮し結晶化させて硫酸錫結晶になった。
【００５７】
鉛含有の濾液を精製した。即ち、鉛含有の濾液を、６０℃の温度で鉛の過剰係数１.１に応じて硫酸ナトリウムを添加し、攪拌しながら５時間反応させ、ろ過し、濾滓として硫酸鉛を得て濾液として銅含有の濾液を得、濾滓とする硫酸鉛をスラリーにした後、６０℃の温度で炭酸ナトリウムを添加し、ｐＨを９に調整し、５時間反応させ、硫酸鉛が三塩基性硫酸鉛産物に変換するようにした。銅含有の濾液は、工程（５）における浸出した溶液に提供された。
【００５８】
（３）粉砕及び静電選別
工程（１）における上記はんだ除去処理された廃棄プリント基板に対して、乾燥、粗粉砕、渦流選別、細粉砕及び静電選別を行い、ゴム・プラスチック材料を取り除き、金属濃縮物粉末を得た。
【００５９】
（４）鉛、アンチモン及びアルミニウムの抽出
工程（３）における上記金属濃縮物粉末を、ＮａＯＨ溶融剤と１：０.１の質量比で均一に混合し、３５０℃の温度で３.５時間低温溶錬し、ろ過し、濾液を蒸発濃縮した後、Ｎａ２ＰｂＯ３、Ｎａ２ＳｂＯ３及びＮａ２ＡｌＯ２の混晶を得、母液を蒸発させて水浸漬工程に戻し、鉛、アンチモン及びアルミニウムが取り除かれた濾滓を工程（５）に提供した。
【００６０】
（５）銅の抽出
工程（４）における上記鉛、アンチモン及びアルミニウムが取り除かれた濾滓に、０.５ｍｏｌ/Ｌの硫酸溶液及びＮａ２Ｓ２Ｏ８を添加し、２０℃〜７０℃の温度で２時間浸出させ、浸出した溶液をろ過し、電解液のｐＨが１.０、温度が２０℃、電流密度が２００Ａ/ｍ２、電解採取時間が４時間である電解採取の条件下で、銅を選択的にサイクロン電解採取し、電解採取銅を得、銅が取り除かれた濾滓を工程（７）に提供した。
【００６１】
（６）ニッケルの抽出
工程（５）における電解採取済み液を取って、電解液のｐＨが１.０、温度が２０℃、電流密度が２００Ａ/ｍ２、電解採取時間が４時間である電解採取の条件下で、ニッケルを選択的にサイクロン電解採取し、電解採取ニッケルを得、電解採取済み液が硫酸浸出工程に戻した。
【００６２】
（７）銀の抽出
工程（５）における上記銅が取り除かれた濾滓に、硝酸溶液との濃度比１：１に応じて硝酸溶液を添加して銀及びパラジウムを溶解させ、浸出温度を２５℃にコントロールして３時間浸出させ、ろ過して固液分離させ、銀、パラジウム含有の濾液、及び銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を得、続いて、銀、パラジウム含有の濾液のｐＨを３にコントロールし、常温で攪拌しながらＮａＯＨ溶液を添加し、パラジウムが沈殿して銀イオンが溶液に残るようにし、ろ過して固液分離させ、銀含有の濾液及びパラジウム含有の沈殿物を得、上記銀含有の濾液に塩化ナトリウムを添加して銀を沈殿させ、ろ過して固液分離させ、塩化銀沈殿を得、銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を工程（８）に提供した。
【００６３】
（８）金の抽出
工程（７）における上記銀、パラジウムが取り除かれた濾滓に１倍質量の王水を添加し、２０℃の温度、１００ｒ/ｍｉｎの速度で攪拌し、２.５時間浸出させ、温度が２０℃、電流密度が５０Ａ/ｍ２、電解採取時間が４時間、電解液のｐＨが１.０である電解採取の条件下で、浸出液における金をサイクロン電解採取し、電解採取金を得、電解採取済み液を工程（９）に提供した。
【００６４】
（９）白金の抽出
工程（８）における電解採取済み液に、飽和ＮＨ４Ｃｌを添加して２時間反応させた後でろ過し、濾滓として塩化白金酸アンモニウムを得、精製した後で白金海綿を得、白金が取り除かれた濾液を工程（１０）に提供した。
【００６５】
（１０）パラジウムの二次抽出
工程（９）における上記白金が取り除かれた濾液に、パラジウム：ギ酸の質量比が０.５：１である比例に応じてギ酸を添加し、５０℃、激しく攪拌する条件下で２時間反応させ、ｐＨを６.０にコントロールし、パラジウム粗粉を得た。
【００６６】
各金属の回収率はそれぞれ、錫が９２％、鉛が９１％、アンチモンが９０％、アルミニウムが９１.３％、銅が９９.２％、ニッケルが９７％、銀が９６.５％、金が９９.５％、白金が９８.６％、パラジウムが９６.１％である。
【００６７】
（実施例３）
廃棄プリント基板を非焼却、非シアン化処理する方法は、以下の工程を含む。
【００６８】
（１）はんだ除去処理
硝酸鉄又は塩化鉄、スルホン酸を水に完全に溶解させ、硝酸が５０％、塩化鉄が１％、スルファミン酸が１％、残りが水である比例に応じて硝酸を添加して均一に攪拌し、本発明に係る硝酸型の錫剥離液を得た。
【００６９】
廃棄プリント基板を、洗浄、乾燥し、硝酸型の錫剥離液に浸漬してはんだ除去処理を行い、はんだ除去処理を２５分行った後、上記廃棄プリント基板を工程（３）に提供して、使用済み錫剥離液を工程（２）に提供した。
【００７０】
（２）鉛錫の分離
工程（１）において上記使用済み錫剥離液における金属の含量を測定して、錫が６０〜１００ｇ/Ｌ、鉛イオンが３６ｇ/Ｌ、鉄イオンが２４ｇ/Ｌ、銅イオンが１２ｇ/Ｌである。
【００７１】
９５℃の温度で攪拌し始め、酸化剤とする塩化ナトリウムを添加し、塩基を加えてｐＨを３.０に調整し、３時間反応させ、Ｆｅ３+、Ｓｎ４+が沈殿して鉛、銅イオンが溶液に残るようにし、ろ過して固液分離させ、錫含有の濾滓及び鉛含有の濾液を得た。
【００７２】
錫含有の濾滓を精製した。即ち、錫含有の濾滓を水でスラリーにし、亜硫酸ナトリウムを添加してＳｎ（ＯＨ)２沈殿に還元させ、さらに塩基を添加してｐＨを１４に調整し、９５℃の温度で１時間反応させ、Ｓｎ（ＯＨ)２沈殿が可溶性[Ｓｎ（ＯＨ)４]２−になるようにし、ろ過して濾滓として水酸化鉄を得、浸出の工程に戻し、濾液に硫酸を添加してｐＨを７に調整し、[Ｓｎ（ＯＨ)４]２−がＳｎ（ＯＨ)２になるようにし、ろ過し、Ｓｎ（ＯＨ)を酸でｐＨ１に調整して溶解させ、硫酸錫溶液を形成し、再濃縮し結晶化させて硫酸錫結晶になった。
【００７３】
鉛含有の濾液を精製した。即ち、鉛含有の濾液を、９５℃の温度で鉛の過剰係数１.５に応じて硫酸ナトリウムを添加し、攪拌しながら０.５時間反応させ、ろ過し、濾滓として硫酸鉛を得て濾液として銅含有の濾液を得、濾滓とする硫酸鉛をスラリーにした後、９５℃の温度で炭酸ナトリウムを添加し、ｐＨを１０に調整し、２時間反応させ、硫酸鉛が三塩基性硫酸鉛産物に変換するようにした。銅含有の濾液は、工程（５）における浸出した溶液に提供された。
【００７４】
（３）粉砕及び静電選別
工程（１）における上記はんだ除去処理された廃棄プリント基板に対して、乾燥、粗粉砕、渦流選別、細粉砕及び静電選別を行い、ゴム・プラスチック材料を取り除き、金属濃縮物粉末を得た。
【００７５】
（４）鉛、アンチモン、アルミニウムの抽出
工程（３）における上記金属濃縮物粉末を、ＮａＯＨ：ＮａＮＯ３＝１：１の溶融剤と１：１の質量比で均一に混合し、５５０℃の温度で１時間低温溶錬し、ろ過し、濾液を蒸発濃縮した後、Ｎａ２ＰｂＯ３、Ｎａ２ＳｂＯ３及びＮａ２ＡｌＯ２の混晶を得、母液を蒸発させて水浸漬工程に戻し、鉛、アンチモン及びアルミニウムが取り除かれた濾滓を工程（５）に提供した。
【００７６】
（５）銅の抽出
工程（４）における上記鉛、アンチモン及びアルミニウムが取り除かれた濾滓に、３.５ｍｏｌ/Ｌの硫酸溶液及び過酸化水素を添加し、７０℃の温度で２時間浸出させ、浸出した溶液をろ過し、電解液のｐＨが５.０、温度が６０℃、電流密度が５５０Ａ/ｍ２、電解採取時間が０.５時間である電解採取の条件下で、銅を選択的にサイクロン電解採取し、電解採取銅を得、銅が取り除かれた濾滓を工程（７）に提供した。
【００７７】
（６）ニッケルの抽出
工程（５）における電解採取済み液を取って、電解液のｐＨが５.０、温度が７０℃、電流密度が４５０Ａ/ｍ２、電解採取時間が０.５時間である電解採取の条件下で、ニッケルを選択的にサイクロン電解採取し、電解採取ニッケルを得、電解採取済み液が硫酸浸出工程に戻した。
【００７８】
（７）銀の抽出
工程（５）における上記銅が取り除かれた濾滓に、硝酸溶液との濃度比１：１に応じて硝酸溶液を添加して銀及びパラジウムを溶解させ、浸出温度を８５℃にコントロールして０.５時間浸出させ、ろ過して固液分離させ、銀、パラジウム含有の濾液、及び銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を得、続いて、銀、パラジウム含有の濾液のｐＨを５にコントロールし、常温で攪拌しながらＮａＯＨ溶液を添加し、パラジウムが沈殿して銀イオンが溶液に残るようにし、ろ過して固液分離させ、銀含有の濾液及びパラジウム含有の沈殿物を得、上記銀含有の濾液に塩化ナトリウムを添加して銀を沈殿させ、ろ過して固液分離させ、塩化銀沈殿を得、銀、パラジウムが取り除かれた濾滓を工程（８）に提供した。
【００７９】
（８）金の抽出
工程（７）における上記銀、パラジウムが取り除かれた濾滓に５倍質量の王水を添加し、７０℃の温度、１０００ｒ/ｍｉｎの速度で攪拌し、１時間浸出させ、温度が６０℃、電流密度が４００Ａ/ｍ２、電解採取時間が０.５時間、電解液のｐＨが５.５である電解採取の条件下で、浸出液における金をサイクロン電解採取し、電解採取金を得、電解採取済み液を工程（９）に提供した。
【００８０】
（９）白金の抽出
工程（８）における電解採取済み液に、飽和ＮＨ４Ｃｌを添加して８時間反応させた後でろ過し、濾滓として塩化白金酸アンモニウムを得、精製した後で白金海綿を得、白金が取り除かれた濾液を工程（１０）に提供した。
【００８１】
（１０）パラジウムの二次抽出
工程（９）における上記白金が取り除かれた濾液に、パラジウム：ギ酸の質量比が３：１である比例に応じてギ酸を添加し、９０℃、激しく攪拌する条件下で０.５時間反応させ、ｐＨを９.０にコントロールし、パラジウム粗粉を得た。
【００８２】
各金属の回収率はそれぞれ、錫が９２％、鉛が９０％、アンチモンが９１％、アルミニウムが９２％、銅が９９％、ニッケルが９６％、銀が９６％、金が９９％、白金が９８％、パラジウムが９６％である。