【事件の表示】
　特許第２８９２５５８号「ラビング処理装置および液晶表示素子の製造方法」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２８９２５５８号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
１、手続の経緯　
　本件特許第２８９２５５８号の請求項１及び２に係る発明は、平成４年９月１１日に特許出願され、平成１１年２月２６日にその特許の設定登録がなされ、その後、セイコーエプソン株式会社より特許異議の申立てがなされ、平成１２年１月２６日付けで取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年４月１１日付けで訂正請求がなされたものである。
２、訂正の適否についての判断
（2-1）訂正事項
（ａ）特許請求の範囲の請求項１の「・・・演算結果に対応する駆動信号を出力する制御手段とを含むことを特徴とするラビング処理装置。」を「・・・演算結果に対応する駆動信号を出力する制御手段とを含み、前記板状体の厚さにばらつきがあってもラビング圧を一定にすることを特徴とするラビング処理装置。」に訂正する。
（ｂ）特許請求の範囲の請求項２の「・・・距離を一定にしてラビングすることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。」を「・・・距離を一定にしてラビングすることで、前記基板の厚さにばらつきがあってもラビング圧を一定にすることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。」に訂正する。
（ｃ）発明の詳細な説明の【課題を解決するための手段】の「・・・演算結果に対応する駆動信号を出力する制御手段とを含むことを特徴とするラビング処理装置である。・・・距離を一定にしてラビングすることを特徴とする液晶表示素子の製造方法である。」を上記特許請求の範囲の訂正に伴って、「・・・演算結果に対応する駆動信号を出力する制御手段とを含み、前記板状体の厚さにばらつきがあってもラビング圧を一定にすることを特徴とするラビング処理装置である。・・・距離を一定にしてラビングすることで、前記基板の厚さにばらつきがあってもラビング圧を一定にすることを特徴とする液晶表示素子の製造方法である。」に訂正する。
（2-2）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項（ａ）及び（ｂ）は、特許請求の範囲の減縮に該当し、訂正事項（ｃ）は、特許請求の範囲の減縮に伴い、それと整合するための明りょうでない記載の釈明に該当する。そして、上記訂正事項（ａ）ないし（ｃ）は願書に添付した明細書の【０００６】及び【０００９】に記載された事項であり、いずれも新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
（2-3）独立特許要件の判断
（2-3-1）本件訂正発明
　訂正明細書の請求項１及び２に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１及び２により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】  板状体の表面にラビング処理を行うラビング処理装置において、
　前記板状体の表面を一定方向にラビングする手段と、
　前記板状体と前記ラビング手段とを相対的に近接／離反変位駆動する変位駆動手段と、
　ラビング処理前における前記板状体の表面の垂直方向での位置を板状体毎に測定し、その測定値を出力する計測手段と、
　前記ラビング手段と前記板状体との間の予め定められた距離を記憶するメモリと、
　前記計測手段からの出力に応答して、前記計測手段によって測定された前記測定値と前記メモリに記憶された距離とに基づいて演算し、前記変位駆動手段にその演算結果に対応する駆動信号を出力する制御手段とを含み、
　前記板状体の厚さにばらつきがあってもラビング圧を一定にすることを特徴とするラビング処理装置。
　【請求項２】　配向膜材料が塗布された基板をラビングして配向処理する液晶表示素子の製造方法において、
　ラビングする前に、前記基板の厚さを基板毎に測定し、前記測定結果に応じてラビング手段と前記基板との距離を一定にしてラビングすることで、前記基板の厚さにばらつきがあってもラビング圧を一定にすることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。」
（2-3-2）刊行物記載の発明
　当審における取消理由で引用した刊行物１：実願昭６３−７７０５７号（実開平２−１７２９号）のマイクロフィルムには、配向膜をラビングする液晶表示素子の製造装置に関し、
「（１）・・・液晶と接触する基板の表面部をラビングローラによりラビングして、液晶を配向させる配向層を形成する液晶表示素子の製造装置において、前記ラビングローラより下方に位置し、ラビングローラの軸直角方向でラビングローラと相対移動する架台と、架台上に昇降可能に支持され、上面に基板を保持することができる基板保持定盤と、基板保持定盤の上面から出没可能に設けられ、基板に係合して基板を基板保持定盤に位置決めする位置決め部材と、架台と基板保持定盤の間に介装され、基板保持定盤とラビングローラの間の間隙を調整するよう基板保持定盤の上昇位置を調節する調節機構と、を備えたことを特徴とする液晶表示素子の製造装置。」（実用新案登録請求の範囲第１項）、
「従来の液晶表示素子の製造装置にあっては、支持枠８を介してラビングローラ３を下方に付勢するテンションゲージ１４のばね圧を調整することによってラビングローラ３から基板に加わる押圧力を維持する構成となっていたため、キャリッジ７と支持枠８の昇降ガイド部８ａとの摺動抵抗の変化によりラビング毎の押圧力がばらつき、テンションゲージ１４のばね圧調整を度々行わないと、ラビングローラ３に巻付けられた布あるいは弾性多孔質材の疲労度合や汚染状態によってラビング毎の押圧力がばらついていた。・・・そこで本考案は、ラビングローラから基板に加わる押圧力を一定化してラビング条件を安定化させるとともに、基板の確実な位置決めを容易に行えるようにし」（４頁１５行〜６頁１行）、
「調節機構５１は昇降台４５の左右両端部・・・に上向きにねじ結合・・・されたボルト５２と、ボルト５２に対向するよう架台２２の上板２２ｂに固定された上限ストッパー機構５３とからなり、・・・マイクロメータヘッド５４は・・・シンブル５４ｂを回動操作することにより・・・スピンドル５４ａの送り量に応じた上限位置・・・でボルト５２を衝止して基板保持定盤３３の上昇限度の位置である上昇位置を微小調節する。」（１２頁２〜１８行）、
「上限ストッパー機構５３のマイクロメータヘッド５４により基板の厚さあるいはラビングローラ２１のラビング材の硬さ等に応じて予め基板保持定盤３３の上昇位置である上限ストッパー機構５３のストッパー位置が微小調節されているので、ラビングローラ２１と基板保持定盤３３が適正な上下間隙を隔てることとなる。」（１５頁１５行〜１６頁１行）と記載されている。
　同じく、刊行物２：特開昭６４−５４４１８号公報には、液晶表示用配向膜のラビング処理装置に関し、
「抵抗測定部２９によりモニター基板２３の導電膜２５とラビングロール２６の導電性ラビング材２８との接触抵抗値を測定すると共に、その測定抵抗信号をラビング圧力制御回路３０に入力させる。該ラビング圧力制御回路３０では、その測定抵抗信号からあらかじめ実験により対応関係がとられた適正なラビング圧力に対応する接触抵抗値に基づいて、基板支持台２１の適正な高さ位置を算出し、それによって微動調整部２２を制御して該基板支持台２１を上下方向に微動させ、ラビング圧力が適正に調整される。」（３頁左下欄８〜１８行）と記載されている。
　同じく、刊行物３：特開昭６１−３２８１６号公報には、
「本ラビング処理装置は定盤２上に配向膜を上方にして液晶表示素子基板１が取付けられ、且つ超音波探触子４が圧電素子９の表面を上記配向膜表面と同じ高さ位置にして取付けられておりラビングロール３が液晶表示素子基板１の配向膜をラビングすると共に、超音波探触子４上を通過する構成になっている。そしてこの通過時に該ラビングロール３の突出毛が検知窓８より入り圧電素子９の表面を叩く。すると圧電素子９は圧電作用によりその打撃に応じた電圧を発生し、・・・ラビング圧力制御回路６へ入力される。これによりラビング圧力制御回路６はその入力電圧から定盤２の適正高さ位置を算出すると共に駆動源５を制御して定盤２を上下動させラビング圧力を調整する。」（２頁左下欄１０行〜右下欄５行）と記載されている。
　同じく、刊行物４：特開平４−２２３４３７号公報には、
「本発明は、上記構成によってラビング布を巻き付けたローラーを回転させるモータの負荷を検知し、ラビング布と基板の接触面積との比が一定になるように、前記ローラーと基板の距離をコントロールすることにより基板の均一な配向処理が可能となる。」（第４欄２６〜３０行）と記載されている。
　同じく、刊行物５：日本印刷学会誌　第２８巻　第２号抜刷　高精度スクリーン印刷機の動向　菅原隆史　には、印刷条件設定の自動化におけるクリアランスの自動設定に関し、
「テーブルが印刷位置に行く途中に超音波センサを置き、１回ごとに基板高さを検知し、サーボモータにフィードバックして、常にディジタルスイッチでプリセットされたクリアランス量になるように補正する。ギャップ零の設定は、テーブルと版の下面の高さをマニュアルにて零にし、センサ位置まで戻してメモリする（図９）」（１４頁右欄９〜１５行）と記載されている。
（2-3-3）対比・判断
　訂正明細書の請求項１に係る発明（以下「訂正発明１」という。）と刊行物１ないし刊行物５記載のものとを対比する。
　刊行物１ないし刊行物４記載のものは、ラビング圧力を一定にしようとするラビング処理装置である点で共通する。しかし、訂正発明１の構成要件である「ラビング処理前における板状体の表面の垂直方向での位置を板状体毎に測定し、その測定値を出力する計測手段」は、いずれの刊行物にも記載されておらず、しかも、この点が当該技術分野において周知であると認めるべき証拠もない。又、刊行物５記載のものは、スクリーン印刷機に関するものであり、上記訂正発明１の構成要件を備えていない。
　そして、訂正発明１は、上記構成要件を具備することにより明細書に記載の「基板毎に適正にラビング圧が保持され、例えば表示不良の原因となる配向膜の損傷も防ぐことができる」という作用効果を奏する。
　したがって、訂正発明１は、刊行物１ないし５に記載された発明であるとも、これらの発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるともいうことはできない。
　訂正明細書の請求項２に係る発明（以下「訂正発明２」という。）と刊行物１ないし刊行物５記載のものとを対比する。
　刊行物１ないし刊行物４記載のものは、ラビング圧力を一定にしようとするものである点で共通する。しかし、本件発明２の構成要件である「ラビングする前に、前記基板の厚さを基板毎に測定」することは、いずれの刊行物にも記載されておらず、この点が当該技術分野において周知であると認めるべき証拠もない。又、刊行物５記載のものは、スクリーン印刷機に関するものであり、上記訂正発明２の構成要件を備えていない。
　したがって、訂正発明２は、刊行物１ないし５に記載された発明であるとも、これらの発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるともいうことはできない。
（2-4）むすび
　以上のとおり、訂正明細書の請求項１及び２に係る各発明は、刊行物１ないし５に記載された発明であるとも、それらに基いて当業者が容易に発明をすることができたものともいえず、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであり、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する同法第１２６条第２〜４項の規定に適合するから、当該訂正を認める。
３、特許異議の申立てについての判断
　特許異議申立人は、甲第１号証（上記刊行物１）及び甲第２号証（上記刊行物２）並びに参考資料１〜３（上記刊行物３ないし５）を提出し、請求項１及び２に係る各発明は、特許法第２９条第１項第３号又は同条第２項の規定に違反して特許されたものであるから、その特許は取り消されるべきである旨主張している。
  しかし、請求項１及び２に係る発明は、上記（2-3）独立特許要件の判断で述べたとおりであり、特許異議申立人の提出した証拠によっては、本件請求項１及び２に係る特許を取り消すことはできない。
　又、他に本件請求項１及び２に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年５月２５日（２０００．５．２５）
【訂正の要旨】
　　　　訂正の要旨
　特許請求の範囲の減縮を目的として、
　当初明細書【特許請求の範囲】の
「【請求項１】　…演算結果に対応する駆動信号を出力する制御手段とを含むことを特徴とするラビング処理装置。」
という記載を添付の訂正明細書の通り、
『【請求項１】　…演算結果に対応する駆動信号を出力する制御手段とを含
み、前記板状体の厚さにばらつきがあってもうビング圧を一定にする
という記載に訂正し、
「【請求項２】　…距離を一定にしてラビングすることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。」
という記載を添付の訂正明細書の通り、
『【請求項２】　…距離を一定にしてラビングすること
で、前記基板の厚さにばらつきがあってもラビング圧を一定にすること
という記載に訂正する。
　それに伴い、当初明細書段落番号【０００８】の
「【課題を解決するための手段】
　…演算結果に対応する駆動信号を出力する制御手段とを含むことを特徴とするラビング処理装置である。…距離を一定にしてラビングすることを特徴とする液晶表示素子の製造方法である。」
という記載を添付の訂正明細書の通り、
『【課題を解決するための手段】
　…演算結果に対応する駆動信号を出力する制御手段とを含
み、前記板状体の厚さにばらつきがあってもラビング圧を一定にする
でし前記基板の厚さにばらつききがあってもうビング圧を一定にすること
という記載に訂正する。
（５４）【発明の名称】
ラビング処理装置および液晶表示素子の製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】　板状体の表面にラビング処理を行うラビング処理装置において、
　前記板状体の表面を一定方向にラビングする手段と、
　前記板状体と前記ラビング手段とを相対的に近接／離反変位駆動する変位駆動手段と、
　ラビング処理前における前記板状体の表面の垂直方向での位置を板状体毎に測定し、その測定値を出力する計測手段と、
　前記ラビング手段と前記板状体との間の予め定められた距離を記憶するメモリと、
　前記計測手段からの出力に応答して、前記計測手段によって測定された前記測定値と前記メモリに記憶された距離とに基づいて演算し、前記変位駆動手段にその演算結果に対応する駆動信号を出力する制御手段とを含
み、
　
前記板状体の厚さにばらつきがあってもうビング圧を一定にする
　　【請求項２】　配向膜材料が塗布された基板をラビングして配向処理する液晶表示素子の製造方法において、
　ラビングする前に、前記基板の厚さを基板毎に測定し、前記測定結果に応じてラビング手段と前記基板との距離を一定にしてラビングすること
で、前記基板の厚さにばらつきがあってもラビング圧を一定にすること
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　【産業上の利用分野】
　本発明は、液晶表示素子製造の一工程である分子配向膜の形成に使用される装置に関し、さらに詳しくは液晶分子の平行配列の方位を一定化するためのラビング処理装置および液晶表示素子の製造方法に関するものである。
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
　液晶表示素子の製造工程の中で、液晶表示素子の性能や品質を大きく左右するのは、液晶分子配列のための配向膜形成である。配向膜形成のための配向処理の一手法としてラビング法があり、ポリイミドなどの配向膜をこする（ラビングする）ことによってラビング処理が施される。
　　　【０００３】
　従来のラビング処理装置においては、周面に布などのパイルが巻回されたラビングローラを回転駆動させ、このラビングローラと配向膜材料が塗布された基板とを相対的に移動させながら、基板上をラビングすることによって、ラビング処理が施される。
　　　【０００４】
　このとき、ラビングローラと基板との間隙は一定に保たれており、ラビングローラの周面に巻回された布などのパイルが適正なラビング圧を保持して基板上をラビングし、そのうビング処理によって配向膜の高分子が一定方向に並んだ状態となって、液晶分子を整然と配向させるのである。
　　　【０００５】
　　【発明が解決しようとする課題】
　ラビング処理において、ラビングの安定度は、ラビング圧、すなわちラビングローラと基板との間の距離（ギャップ値）に依存する。たとえばラビング処理する際のギャップ値が、適正なラビング圧が得られるギャップ値よりも過大となると、パイルの基板に対する当りが弱く、ラビング圧が低下して、安定した液晶分子の配向が得られなくなる。反対に、ギャップ値が過小であれば、ラビング圧が過大となり、パイルによって配向膜を損傷し表示不良の原因となる。
　　　【０００６】
　従来のラビング処理装置では、ラビング処理前に作業者がギャップ値の調整を行った後に連続してラビング処理が行われ、その都度改めてギャップ値の調整が行われない。したがって、最初に設定したギャップ値は変わらないため、基板の厚さのバラツキによってラビング圧が変動して安定したラビング処理を行うことができない。また、基板上に塗布された配向膜材料の種類に応じて適正なギャップ値が相違する場合があり、そのような場合にはギャップ値の調整を行わなければならず作業の効率が悪くなる。
　　　【０００７】
　本発明は、上記の問題点に着眼して、基板などの板状体毎に適正なギャップ値を調整することができ、常に安定したラビング処理を行うことができるラビング処理装置および適切なラビング処理を行うことができる液晶表示素子の製造方法の提供を目的として成されたものである。
　　　【０００８】
　　【課題を解決するための手段】
　本発明は、板状体の表面にラビング処理を行うラビング処理装置において、
　前記板状体の表面を一定方向にラビングする手段と、
　前記板状体と前記ラビング手段とを相対的に近接／離反変位駆動する変位駆動手段と、
　ラビング処理前における前記板状体の表面の垂直方向での位置を板状体毎に測定し、その測定値を出力する計測手段と、
　前記ラビング手段と前記板状体との間の予め定められた距離を記憶するメモリと、
　前記計測手段からの出力に応答して、前記計測手段によって測定された前記測定値と前記メモリに記憶された距離とに基づいて演算し、前記変位駆動手段にその演算結果に対応する駆動信号を出力する制御手段とを含
み、
　
前記板状体の厚さにばらつきがあってもうビング圧を一定にする
　また本発明は、配向膜材料が塗布された基板をラビングして配向処理する液晶表示素子の製造方法において、
　ラビングする前に、前記基板の厚さを基板毎に測定し、前記測定結果に応じてラビング手段と前記基板との距離を一定にしてラビングすること
で、前記基板の厚さにばらつきがあってもラビング圧を一定にすること
子の製造方法である。
　　　【０００９】
　　【作用】
　本発明に従えば、ラビング処理を施す板状体の表面の垂直方向での位置を計測
手段によって測定し、その測定値をたとえば電気的信号に変換して制御手段へ出力する。制御手段は、前記計測手段からの出力に応答して、前記計測手段によって測定された測定値と、メモリに記憶された予め定める距離とに基づいて演算し、その演算結果に対応する駆動信号を変位駆動手段に出力して、ラビング手段と前記板状体との間の距離（ギャップ値）をフィードバック制御して、ラビング圧を一定に保持する。
　　　【００１０】
　　【実施例】
　図１は、本発明の一実施例であるラビング処理装置１の電気的構成を示すブロック図である。ラビング処理装置１は、制御手段としてたとえばマイクロプロセッサなどを含んで構成される中央演算処理装置（ＣＰＵ）２を備えており、中央演算処理装置２には、ラビング処理装置１の各種動作を制御するプログラムなどが記憶されたリードオンリメモリ（ＲＯＭ）３が接続されている。なお、リードオンリメモリ３の記憶領域には、適正なラビング圧が得られるように予め測定されたギャップ値が記憶されている。また、中央演算処理装置２には、ラビング処理装置１の動作を開始／終了するためのスイッチ４と、垂直方向における基板などの位置を測定し、その測定値を電気的信号に変換して出力する計測手段５と、この計測手段５によって測定された基板の位置、後述のラビングローラ２７と基板との間の距離およびラビングローラ２７と後述のラビングステージ２５との間の距離を記憶するためのランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）６とが接続されている。
　　　【００１１】
　さらに、中央演算処理装置２には、ラビングローラ２７を回転駆動させるためのローラ回転駆動機構７と、後述のステージ台１０を水平に移動させるためのステージ台水平移動機構８と、ラビングステージ２５を前記ラビングローラ２７に対して近接／離反変位駆動させる変位駆動手段たるラビングステージ昇降駆動機構９とが接続され、これら各機構７，８，９は、ＲＯＭ３に記憶されたプログラムに従って中央演算処理装置２によってそれぞれ制御される。
　　　【００１２】
　図２は、ラビングステージ昇降駆動機構９を有するステージ台１０の平面図であり、図３は、その側面図である。直方体のケーシングであるステージ台１０の内部には、サーボモータ１１が設けられており、サーボモータ１１の軸には駆動軸１２が図３において上方向に連結されている。また、ステージ台１０の図３における上方向の上面１０ａには、複数本（本実施例においては３本）の従動軸１３，１４，１５が分散して立設されている。各軸１２〜１５の周面には、係止溝１２ａ，１３ａ，１４ａ，１５ａがそれぞれ形成されており、各係止溝１２ａ〜１５ａには無端ベルト１６が巻架され、各軸１２〜１５の両側には、前記無端ベルト１６を前記溝１２ａ〜１５ａに押圧させるための抑え軸１７，１８，１９，２０，２１，２２，２３，２４がそれぞれ立設されている。したがって、サーボモータ１１の駆動により、駆動軸１２が回動ずると、前記無端ベルト１６を介して各従動軸１３〜１５が駆動軸１２と同方向に回動ずる。
　　　【００１３】
　図３において各軸１２〜１５の上部には雄ねじ１２ｂ，１３ｂ，１４ｂ，１５ｂ（図示せず）が螺刻され、ラビングステージ２５の下方向の下面２５ａには、各軸１２〜１５に対応する位置に、前記雄ねじ１２ｂ〜１５ｂに螺合する雌ねじ２５ｂ，２５ｃ，２５ｄ，２５ｅ（図示せず）が螺刻されている。サーボモータ１１に印加する電圧の極性を変えることによって、サーボモータ１１の回動方向が反転し、ラビングステージ２５が矢符Ａに示されるように、ステージ台１０に対して近接／離反（図３において上下方向）に変位駆動することができる。図３において、ラビングステージ２５の上方向の上面２５ｆには、板状体である基板が載置されるが、ラビングステージ２５に形成された図示しない吸着手段によって基板が固定される。
　　　【００１４】
　図４は、本実施例のラビング処理装置１の全体の構成を示す斜視図である。図４において、ラビングステージ２５の上面２５ｆには、配向膜材料を塗布した基板２６が固定されており、ステージ台１０が図示しないステージ台水平移動機構８であるコンベアによって矢符Ｂ方向（右方向）に移動する。ステージ台１０が移動する方向には、ラビングローラ２７を支える一対のローラ支台２８，２９が固定されている。ラビングローラ２７には、たとえば布などのパイルが巻回され、各ローラ支台２８，２９に穿孔された軸承孔２８ａ，２９ａ（図示せず）にラビングローラ２７の支軸２７ａ，２７ｂ（図示せず）が挿通されて回転自在に枢支される。ラビングローラ２７は、図示しないローラ回転駆動機構７によって、矢符Ｃ方向に回転して、基板２６の露出した表面２６ａを一定方向にラビングする。
　　　【００１５】
　図４において、一方のローラ支台２８の上端部２８ｂには、ステージ台１０側に臨んで突出する支持部材３０が突設され、その支持部材３０の先端部には、計測手段たるプランジャ形の電気マイクロゲージ３１がステージ台１０の搬送路上に垂下して接続されている。電気マイクロゲージ３１は、差動変圧器を用いた電気マイクロメータであり、先端部の測定子３１ａの垂直方向における直線変位量（図４において上下方向）を電圧に変換し、さらにそのアナログ信号をデジタル信号に変換して中央演算処理装置２へ出力する。
　　　【００１６】
　図５は、ラビング処理装置１の動作を示すフローチャートである。まず、ステップａ１にて、スイッチ４をオンにすると、リードオンリメモリ３に記憶されたプログラムに従って、ラビングローラ２７を定速度にて回転させるモータに駆動電流が供給され、ラビングローラ２７は図４の矢符Ｃ方向に回転駆動する。次に、ステップａ２にて、ステージ台水平移動機構８である図示しないコンベアによってステージ台１０をローラ支台２８，２９に近接する方向（図４および図６において矢符Ｂ方向）に移動させる。ステップａ３にて、ステージ台１０がさらに移動し、図６に示すように、電気マイクロゲージ３１の測定子３１ａの先端部を基板２６の表面２６ａの周縁部に当接させ、このときの測定子３１ａの直線変位量、すなわち基板２６の表面２６ａの垂直方向における位置を電気量に変換して中央演算処理装置２へ出力する。この時点では、ラビングステージ２５の垂直方向における位置は、予め定める基準となる位置（たとえば最下位置）にある。
　　　【００１７】
　なお、ＲＡＭ６の記憶領域には、ラビングステージ２５上に基板２６を載置しない場合の測定子３１ａの直線変位量が予め記憶されており、基板２６が載置されている場合の直線変位量から基板２６が載置されていない場合の直線変位量を差し引くことによって、基板２６の厚さを求めることができる。中央演算処理装置２は、この基板２６の厚さをＲＡＭ６の記憶領域に記憶させる。
　　　【００１８】
　ステップａ４にて、ＲＡＭ６に記憶された基板２６の厚さに基づいて、ラビングステージ２５を下降させるか否かが判断される。すなわち、ＲＡＭ６の記憶領域には、予め測定して求められたラビングステージ２５とラビングローラ２７との間の垂直方向における距離（Ｍ）が記憶されており、またＲＯＭ３の記憶領域には、適正なラビング圧が得られるよう予め定められたギャヅプ値（Ｇ）が記憶されており、上または下方向に変位すべきラビングステージ２５の変位量（Ｓ）は、基板２６の厚さをＤとすると次式によって求められる。
　　　【００１９】
　【数１】
　　Ｓ＝Ｍ−Ｇ−Ｄ
　このとき、変位量（Ｓ）が負の値となる場合には、ステップａ５へ移行し、そうでなければステップａ６へ移行する。ステップａ６では、ステップａ４とは逆に、変位量（Ｓ）が正の値となるか否かの判断が行われ、そうであればステヅプａ７へ移行し、そうでなければステップａ８へ移行する。ステップａ５では、ステップａ４で求められた変位量（Ｓ）に対応する駆動電流をサーボモータ１１に供給して、駆動軸１２を回動させることによって、ラビングステージ２５を変位量（Ｓ）の高さ分だけ下降させる。
　　　【００２０】
　またステップａ７では、駆動軸１２をステップａ６とは反対方向に回動させ、ラビングステージ２５をステップａ４で求められた変位量の高さ分だけ上昇させる。ステップａ８にて、ステージ台１０がさらに矢符Ｂ方向に移動することによって、ラビングステージ２５上の基板２６の表面２６ａがラビングローラ２７に巻回されたパイルに当接し、ラビング処理が行われる。ラビング処理後、ステージ台１０はローラ支台２８，２９から離反する方向（図６において右方向）に移動して動作を終了する。
　　　【００２１】
　なお、ラビング処理後に、ラビングステージ２５は、上昇／下降した高さの分だけ移動して、元の位置（たとえば最下位置）に自動的に戻るようにプログラムされている。次の新たな基板に対しても、同様にラビング処理が行われるが、基板上に塗布された配向膜材料の種類が異なるためギャップ値を変更しなければならないなどの場合には、たとえばＲＯＭ３の記憶領域に予め記憶され、配向膜材料の種類に対応した適正なギャヅプ値に変更すべく、スイッチ４を操作する。
　　　【００２２】
　図７は、上記実施例のラビング処理装置１および従来のラビング処理装置について、基板の厚さとうビング処理時のラビングローラの負荷電流値の測定結果との関係をプロットしたグラフである。図７において「●」のプロットは本実施例のラビング処理装置１による結果を、「○」のプロヅトは従来のラビング処理装置による結果をそれぞれ示す。ここで負荷電流値は、ラビング圧に比例するものとして考えられる。なお、図７において、符号Ｐ１が付されたプロットでは、ラビング圧が低すぎるためにラビング不足となり、他方、符号Ｐ２が付されたプロットではうビング圧が高すぎるために配向膜に傷が発生していた。図７から明らかなように、基板毎に適正なギャップ値に調整することによって、常に一定の負荷電流値を、すなわち安定したラビング圧を得ることができる。
　　　【００２３】
　以上のように本実施例によれば、作業者が基板毎に適正なギャップ値に調整する必要がなく、自動的にフィードバック制御されるので作業効率がよい。また、基板毎に適正にラビング圧が保持され、たとえば表示不良の原因となる配向膜の損傷も防ぐことができる。さらに、ラビング処理時の条件として、適正なギャップ値が同一であれば、たとえば配向膜材料やパイルの種類などを変更した場合であっても、これらの変更の度にギャッフ値を調整する必要がない。
　　　【００２４】
　上記実施例において、ラビングステージ２５の変位量（Ｓ）は、基板２６の厚さ（Ｄ）を求めることによって算出されているが、適正なラビング圧となるギャップ値（Ｇ）のみをＲＯＭ３の記憶領域に記憶させておき、ラビング処理前の基板２６の表面２６ａの垂直方向での位置をマイクロゲージ３１にて測定し、その測定値（測定子３１ａの直線変位量）がギャップ値（Ｇ）に相当する変位量となるように、両変位量の差に相当する高さの分だけラビングステージ２５を昇降させるようにしてもよい。この場合、上記実施例のように、ラビングステージ２５とラビングローラ２７との間の垂直方向における距離（Ｍ）およびラビングステージ２５上に基板を載置していない時の測定子３１ａの直線変位量を予め測定し、ＲＡＭ６の記憶領域に記憶させておく必要がなくなる。また、ラビングステージ２５をラビング処理毎に基準位置に戻す必要がなく、任意の位置でマイクロゲージ３１による測定を行うことができる。
　　　【００２５】
　以上の実施例においては、単一の電気マイクロゲージ３１を用いて基板２６毎に厚さを１回測定しているが、たとえば基板２６が大きい場合などでは、複数の電気マイクロゲージ３１を用いて、基板２６の複数箇所における厚さを測定し、その平均値を測定値とするようにしてもよく、また計測手段たる電気マイクロゲージに関しても、基板２６の厚さを測定し、その測定値を電気量に変換するものであれば何ら限定されるものではなく、たとえばダイヤルゲージなども用いることができる。
　　　【００２６】
　また、上記実施例においては、ステージ台１０が移動することとしたが、ローラ支台２８，２９がステージ台１０に向かって移動するようにしてもよく、さらにステージ台１０およびローラ支台２８，２９のいずれもが相互に移動するようにしてもよい。同様に、ラビングローラ２７が昇降駆動するようにしてもよい。
　　　【００２７】
　　【発明の効果】
　以上のように本発明によれば、板状体毎にギャップ値をフィードバック制御し、ラビング圧を一定に保持することができるので、作業者自身がギャップ値を調整する必要がなく、安定したラビング処理を行うことができ、作業効率が良く、また表示品質の良い液晶表示素子を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
　　【図１】
　本発明の一実施例であるラビング処理装置１の電気的構成を示すブロック図である。
　　【図２】
　ステージ昇降駆動機構９を有するステージ台１０の平面図である。
　　【図３】
　図２の側面図である。
　　【図４】
　本実施例のラビング処理装置１の全体の構成を示す斜視図である。
　　【図５】
　ラビング処理装置１の動作を示すフローチャートである。
　　【図６】
　ラビング処理装置１の動作を示す側面図である。
　　【図７】
　基板の厚さとうビングローラの負荷電流値との関係をプロットしたグラフである。
　　【符号の説明】
　１　ラビング処理装置
　２　中央演算処理装置
　３　リードオンリメモリ
　５　計測手段
　６　ランダムアクセスメモリ
　７　ローラ回転駆動機構
　８　ステージ台水平移動機構
　９　ラビングステージ昇降駆動機構
　２６　基板
　２６ａ　表面
　２７　ラビングローラ
　３１　電気マイクロゲージ