【事件の表示】
　特許第２７８３５７５号「回路製造のための露光方法及び露光装置」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２７８３５７５号の請求項１ないし６に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．手続きの経緯
　 本件特許第２７８３５７５号に係る発明は、平成１年２月１０日に特許出願され、平成１０年５月２２日にその特許の設定登録がされ、その後、異議申立人株式会社ニコンより特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年９月２８日に訂正請求がなされ、その後、訂正拒絶理由通知がなされ、その指定期間内に応答がなされなかったものである。
１．１　異議申立ての概要  
１．２　甲第１号証の記載内容
　甲第1号証の第1頁右欄第27行から第3頁左欄第13行には、
「II.光学系
A.一般的な考察
　本稿で述べるUV露光は、研究室の実験に適した簡便な投影システムを使って行なわれた。その配置を図1に示す。投影リソグラフィのために、エキシマレーザは他の光源に対して幾つかの利点を有している。典型的に8〜20nSパルスの小さなエキシマレーザの出力は、193nm(ArFレーザ)において1パルス当たり0.1〜1J、157nm(F2レーザ)において1パルス当たり数mJのエネルギーを持つ。最大のパルス繰り返し周波数は、一般に10〜103パルス/sである。1Jの強力な出力は集積回路ダイの1J/cm2以下の領域への結像で、1J/cm2以上の単一パルスドーズを可能にする。例え複数パルスが必要だとしても、露光時間は遠紫外ランプに対する大きな要因により、潜在的に低減されるだろう。
　加えて、高い出力発散度(ほとんど平坦なキャビティに関してlmrad以上)と広いスペクトルバンド幅(自然発振状態で概して100〜200cm-1)とは、時間的にも空間的にも低いコヒーレンシイであることを意味する。今までの実験で経験的に見出されたように、これは複数パルス露光のためには重要にならないであろうレーザスペックルを生じさせる。後段において、我々は単一パルス露光であってもスペックルが重要でないことを提示する。
B.対物レンズ
　この研究のための光学系は、反射式で開口数0.5のSchwartzchildの顕微鏡対物レンズを使って作られる。屈折素子は無く、このレンズの作成が光学ガラスのUVの伝播遮断よりもさらに短い波長(例えば157nm)を利用可能とする。…(中略)…
C.コンデンサ光学系
　コンデンサ光学系への必要条件は、像の解像とフィールドの深度との間の未解決なトレードオフを提示する。…(中略)…
　第2のアプローチは、以下の実験で使われたが、拡散波面ガイドとして動作する中空チューブの使用でなされた。固体のガラスロッド、複数のプリズム、又はミラーに基づくのと同様の方法が、エキシマ出力の強度一様性を増大するために提案された。157nmに対して良好な透過性を持つ中空の6mm i.d.のquartz 波面ガイドが、図2の幾何学配置における単純な単一レンズ素子を使うことで一杯に満たされている。入射光は、それがガイドの長手に沿って鋭角投射で反射されるように、特別なモードの間で散乱される。強度一様性の増大と同様に、空間的なインコヒーレンシイと発散度も増大される。140mm長で6mm i.d.のガイドからの出力に関して、結果として得られるnear‐fieldとfar‐fieldの強度パターンを図2に示す。」と記載されている。
　甲第1号証には、マスクを照明するためのコンデンサーレンズとして、中空チューブを使って、ビーム系を拡大している様子が示されている。さらに甲第1号証には、エキシマレーザ光を中空チューブに入射させるレンズL１が示されている。
１．２．１　甲第１号証記載の発明
　甲第1号証には、エキシマレーザからのエキシマレーザ光をレンズ L１によって、中空チューブに入射させ、中空チューブによりエキシマレーザ光でマスクを照明することによってマスクの回路パターンを投影光学系によりウエハ上に投影する露光方法において、中空チューブを含む光路全体をArガス、すなわち不活性ガスでパージする発明が開示されている。
１．３　甲第２号証の記載内容
　甲第2号証の第1頁右欄第11行から第17行に、「このため、半導体工業における紫外線照射による回路パターンの焼付け、あるいは紫外分光分析あるいは紫外線利用光化学業において、紫外光源、試料および検出器等を真空あるいは不活性ガスを満した密閉容器に入れる必要があり装置が大型となり、繁雑となる欠点があった。」と記載されている。
　また、甲第2号証の第2頁左上欄第14行から同頁左下欄第10行には「本発明の紫外導光路は第1図に示すように中空パイプ1および該パイプ1の紫外光の入力部2および出力部3に溶解石英、…(中略)…等の結晶材料を用いたレンズ、ミラーあるいは窓を設けてなるものである。入力する、あるいは出射する紫外光をそのまま通すか、集光させるか、出力光の伝送方向を変更するかのいずれかによって、窓、レンズ、ミラーのいずれかを設けるかを決定する。…第2図に示すようにアルミニウムミラー3と窓あるいはレンズ4を装着する。2は入力部窓、Uが紫外光伝送方向を示す。
パイプ内部は真空状態あるいは He、Ne、Ar、Kr、Xe 等の不活性ガスを充満された状態にする。…(中略)…本発明の紫外導光路を複数個、第3図に示すように途中にミラーMを介してつなぐことにより低損失で可動性のある紫外導光路を実現することができ、真空引き、不活性ガス注入の必要なく簡便な光学系が得られる。これに対し従来は第4図に示すように破線で示す系内部全体を真空引きしたり、不活性ガス充満状態にする必要があり、コストが高くなる上、装置自体も大きくなってしまうものであった。」と記載されている。
１．４　甲第３号証の記載内容
　甲第３号証には、遠紫外線投影露光装置に関し、遠紫外線の光路を窒素ガスまたはアルゴンガスで満たし、光源からの紫外光をマスクに導く反射鏡の周囲を不活性ガスで満たすことが開示されている。
１．５　甲第４号証の記載内容
　甲第４号証には、第2頁右上欄第10行〜同頁左下欄第4行に、「そこで、本発明は高精度に微細なパターンが形成された小型化したトランジスタやIC等の半導体を構成し得るように、露光感度の良好な2,000Å以下の波長を有する紫外線光を用いてフォトエッチングを行い得るような露光装置を提供しようとするものであり、その要旨とするところは近真空紫外線を発光するランプと、該ランプを収納する容器と、該容器に連設し上記ランプからの光が通過する筒体部より成り、当該筒体部の下端部を露光用マスクに近接せしめて露光する装置において、上記容器内及び筒体部内に窒素 N2ガス等の不活性ガスを充填せしめ、上記筒体部の下端部より該不活性ガスを排出し、上記ランプから上記筒体部を通じ上記露光用マスクに至る光路を不活性ガスで充満するようにしたことにある。」と記載されている。
２．訂正の適否について
２．１　本件訂正請求の概要
　平成１２年１月６日付訂正請求の概要は、願書に添付された明細書の請求項１「伝送光学系の光学部品の周囲を不活性ガスで満たす」を、「伝送光学系の光学部品の周囲を不活性ガスで満たすと共に該不活性ガスの温度、湿度を一定に維持する」と訂正するものである。
２．２　訂正拒絶理由の概要
『請求項１の訂正において、「不活性ガスの温度、湿度を一定に維持すること」については、訂正前の請求項１に係る発明の「伝送光学系の光学部品の周囲を不活性ガスで満たすこと」をさらに減縮したものであるが、当該「伝送光学系の光学部品の周囲を不活性ガスで満たすこと」（以下、「構成１」という。）は、「特に劣化し易い伝送光学系の光学部品が劣化することがない・・・ことを目的とする。・・・また本発明は、上記目的を達成するために、・・・伝送光学系の光学部品の周囲を不活性ガスで満たす」（特許明細書［発明の概要」）という技術的意義を有するのに対し、「不活性ガスの温度、湿度を一定に維持すること」（以下、「構成２」という。）については、「これらの装置により、定温、定湿、定圧のＮ２ガスを伝送系Ｂ内の空間に送り込んでいる。従って、伝送系Ｂの内部の伝送光学系は常に一定の環境下に置かれることになり、伝送系Ｂ周囲の大気圧変動や温湿度の変動に関係なく、伝送光学系の光学特性が一定に維持される。」（特許明細書第９頁第２行〜同頁第８行）という構成１とは異なる目的、効果を有する技術的意義を有する。　
　また、構成２は、実施例としては、「装置３８には、Ｎ２ガスの温度・湿度・圧力を調整するための調整装置が設けられており、これらの装置により、定温、定湿、定圧のＮ２ガスを伝送系Ｂ内の空間に送り込んでいる」（特許明細書第８頁第２０行〜第９頁第４行）ものである。
　そうすると、構成２には、構成１では必要としない、「ガスの温度・湿度・圧力を調整するための調整装置」を必然的に伴うことになる。
　従って、構成１に対し構成２を付加することは、請求項１に目的、効果の異なる構成を付加したことになるから、請求項１に関する訂正は、実質的に特許請求の範囲の変更にあたる。
　従って、訂正は認められない。』
旨の訂正拒絶理由を通知した。
２．３　訂正の適否についての判断
２．３．１　訂正後の請求項１に係る発明（以下、「訂正発明１」という。）
「光源からの紫外線を伝送光学系により照明光学系に入射させ、該照明光学系により前記紫外線でレチクルを照明することによって前記レチクルの回路パターンを投影光学系によりウエハ上に投影する段階を有する回路製造のための露光方法であって、前記伝送光学系の光学部品の周囲を不活性ガスで満たすと共に該不活性ガスの温度、湿度を一定に維持することを特徴とする回路製造のための露光方法。」
２．３．２　訂正発明１の特許請求の範囲の変更有無の検討
　請求項１の訂正において、「不活性ガスの温度、湿度を一定に維持すること」については、訂正前の請求項１に係る発明の「伝送光学系の光学部品の周囲を不活性ガスで満たすこと」をさらに減縮したものであるが、当該「伝送光学系の光学部品の周囲を不活性ガスで満たすこと」（以下、「構成１」という。）は、「特に劣化し易い伝送光学系の光学部品が劣化することがない・・・ことを目的とする。・・・また本発明は、上記目的を達成するために、・・・伝送光学系の光学部品の周囲を不活性ガスで満たす」（特許明細書［発明の概要」）という技術的意義を有するのに対し、「不活性ガスの温度、湿度を一定に維持すること」（以下、「構成２」という。）については、「これらの装置により、定温、定湿、定圧のＮ２ガスを伝送系Ｂ内の空間に送り込んでいる。従って、伝送系Ｂの内部の伝送光学系は常に一定の環境下に置かれることになり、伝送系Ｂ周囲の大気圧変動や温湿度の変動に関係なく、伝送光学系の光学特性が一定に維持される。」（特許明細書第９頁第２行〜同頁第８行）という構成１とは異なる目的、効果を有する技術的意義を有する。　
　また、構成２は、実施例としては、「装置３８には、Ｎ２ガスの温度・湿度・圧力を調整するための調整装置が設けられており、これらの装置により、定温、定湿、定圧のＮ２ガスを伝送系Ｂ内の空間に送り込んでいる」（特許明細書第８頁第２０行〜第９頁第４行）ものである。
　そうすると、構成２には、構成１では必要としない、「ガスの温度・湿度・圧力を調整するための調整装置」を必然的に伴うことになる。
　従って、構成１に対し構成２を付加することは、請求項１に目的、効果の異なる構成を付加したことになるから、請求項１に関する訂正は、実質的に特許請求の範囲の変更にあたる。
　従って、訂正発明１は、平成６年法律第１１６号附則第６条第１項の規定により、特許法第１２０条の４第３項で準用する訂正についてなお従前の例によるとされる、改正前の特許法第１２６条第２項の規定に適合しないので、本件訂正請求は認められない。  
３．異議申立に対する判断
３．１　本件特許の請求項に係る発明
請求項１
「光源からの紫外線を伝送光学系により照明光学系に入射させ、該照明光学系により前記紫外線でレチクルを照明することによって前記レチクルの回路パターンを投影光学系によりウエハ上に投影する段階を有する回路製造のための露光方法であって、前記伝送光学系の光学部品の周囲を不活性ガスで満たすことを特徴とする回路製造のための露光方法。」
請求項２
「前記照明光学系の光学部品の周囲も不活性ガスで満たすことを特徴とする請求項1の回路製造のための露光方法。」
請求項３
「前記光源はエキシマレーザーを備えることを特徴とする請求項1の回路製造のための露光方法。」
請求項４
「光源からの紫外線を伝送光学系により照明光学系に入射させ、該照明光学系により前記紫外線でレチクルを照明することによって前記レチクルのパターンを投影光学系によりウエハ上に投影する露光装置であって.前記伝送光学系の光学部品の周囲を不活性ガスで満たすことを特徴とする露光装置。」
請求項５
「前記照明光学系の光学部品の周囲も不活性ガスで満たすことを特徴とする請求項4の露光装置。」
請求項６
「前記光源はエキシマレーザーを備えることを特徴とする請求項4の露光装置。」
３．２　取消理由通知の概容
『第２９条第２項違反について
  刊行物１：Jouurnal　of　Vacuum　Science　＆　Technology　Ｂ，Jan/Feb　第1〜第８頁
　刊行物２：特開昭５９−２０２４０５号公報
　刊行物３：特開昭６０−１３３７２８号公報
　刊行物４：特開昭５３−７１５７０号公報
　刊行物５：特開昭６２−１６５９１６号公報
　請求項１〜６に係る発明は、特許異議申立人株式会社ニコンが提出した特許異議申立書に記載された理由により、上記刊行物１〜５に基づいて当業者が容易に発明できたものと認める。
　したがって、本件請求項１〜６に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである。』
３．３　引用例の内容
　刊行物１は前記甲第１号証に同じ、刊行物２は前記甲第２号証に同じ、刊行物３：前記甲第３号証に同じ、刊行物４は前記甲第４号証に同じであって、甲第１号証〜甲第５号証の内容は、上記１．２〜１．５に記載のとおりである。
３．４　本件請求項１〜６に係る発明と取消理由に引用した引用例との対比
３．４．１　本件請求項１に係る発明と取消理由に引用した引用例との対比
　本件請求項１に係る発明と甲第１号証に記載された発明とを対比すると、甲第１号証に記載された「エキシマレーザ光」は、訂正発明１の「紫外線」に相当し、また、甲第１号証に記載された「中空チューブ」は、エキシマレーザ光のビーム径を拡大してマスクを照明するものであり、本件請求項１に係る発明の「照明光学系」に相当し、中空チューブより光源側に配置された「レンズ L１」は、中空チューブにエキシマレーザー光を入射させるものであり、本件請求項１に係る発明の「伝送光学系」に相当する。
　また、甲第1号証の第1図、第2図の露光装置の構成から、紫外線の光路全体を不活性ガスでパージする（当該「不活性ガスでパージする」ことは、「不活性ガスで満たす」ことに等しい。）となると、その光路中の光学部品自体もパージの対象になることは明らかである。
　そうすると、本件請求項１に係る発明と甲第１号証に記載された発明は、「光源からの紫外線を伝送光学系により照明光学系に入射させ、該照明光学系により前記紫外線でレチクルを照明することによって前記レチクルの回路パターンを投影光学系によりウエハ上に投影する段階を有する回路製造のための露光方法であって、前記伝送光学系を不活性ガスで満たすことを特徴とする回路製造のための露光方法。」において両者は一致し、本件請求項１に係る発明が、「伝送光学系の光学部品の周囲を不活性ガスで満たす」点については文言上明記されておらず、この点で両者は一応相違する。
　上記相違について検討すると、紫外線による回路パターンの焼き付けにおいて、紫外線の光路を不活性ガスで満たす際に、光学部品の周囲をも不活性ガスで満たすことは、甲第2号証〜甲第4号証に開示されているように慣用技術である。
　特に甲第2号証には、系内部全体を一まとめとして、その両端に窓2を設け、系内部全体を不活性ガス充満状態にすること、すなわち紫外導光路内の光学部品の周囲をも不活性ガスで満たすことが開示されている。
　そうすると、「伝送光学系の光学部品の周囲を不活性ガスで満たす」ことは、当業者が容易になし得たことである。
　また、本件請求項１に係る発明が有する効果についても、甲第1号証記載の発明が有するものにすぎない。
　してみると本件請求項１に係る発明は、甲第1号証及び上記周知の技術に基づいて容易に発明できたものである。
３．４．２　本件請求項２に係る発明と取消理由に引用した引用例との対比
　本件請求項２に係る発明の付加構成である「前記照明光学系の光学部品の周囲も不活性ガスで満たす」について検討すると、甲第1号証には、紫外線の光路全体を不活性ガスでパージする（当該「不活性ガスでパージする」ことは、「不活性ガスで満たす」ことに等しい。）が開示されているから、その光路中に設けられている中空チューブ(本件請求項２に係る発明の「照明光学系の光学部品」に相当する。)自体もパージの対象になることは明らかである。また甲第2号証〜甲第4号証には紫外線の光路を不活性ガスで満たすときに、光学部品の周囲をも不活性ガスで満たすことが開示されている。
　また、本件請求項２に係る発明が有する効果についても、甲第1号証記載の発明が有するものにすぎない。
　してみると本件請求項２に係る発明は、甲第1号証及び上記周知の技術に基づいて容易に発明できたものである。
３．４．３　本件請求項３に係る発明と取消理由に引用した引用例との対比
　本件請求項３に係る発明の付加構成である「光源はエキシマレーザー」については、甲第1号証も同じであるから、上記付加構成において格別の異議は認められない。
　してみると本件請求項３に係る発明は、上記甲第1号証及び上記周知の技術に基づいて容易に発明できたものである。
３．４．４　本件請求項４に係る発明と取消理由に引用した引用例との対比
　本件請求項４に係る発明は、本件請求項１に係る発明の「方法」を単に「装置」としたものにすぎないから、本件請求項１に係る発明の進歩性を判断した上記３．４．１と同様に、本件請求項４に係る発明は、甲第1号証及び上記周知の技術に基づいて容易に発明できたものである。
３．４．５　本件請求項５に係る発明と取消理由に引用した引用例との対比
　本件請求項５に係る発明は、本件請求項２に係る発明の「方法」を単に「装置」としたものにすぎないから、本件請求項２に係る発明の進歩性を判断した上記３．４．２と同様に、本件請求項５に係る発明は、甲第1号証及び上記周知の技術に基づいて容易に発明できたものである。
３．４．６　本件請求項６に係る発明と取消理由に引用した引用例との対比
　本件請求項６に係る発明は、本件請求項３に係る発明の「方法」を単に「装置」としたものにすぎないから、本件請求項３に係る発明の進歩性を判断した上記３．４．３と同様に、本件請求項６に係る発明は、甲第1号証及び上記周知の技術に基づいて容易に発明できたものである。
３．５　
　従って、本件請求項１〜６に係る発明の特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。
４．むすび
  以上のとおりであるから、本件特許１〜６に係る発明の特許は、取り消すべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年５月１６日（２０００．５．１６）