【事件の表示】
　特許第２７１９５０４号「液晶ディスプレイ基板用ガラス」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２７１９５０４号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理由】
Ｉ．手続の経過
　本件特許第２７１９５０４号の請求項１〜３に係る発明は、特願平２−２８６８９５号（出願日：平成２年１０月２４日）の分割出願として平成７年２月２７日に特許出願され、平成９年１１月１４日に特許の設定登録がなされたところ、その特許請求の範囲の請求項１〜３に係る各発明の特許に対し、山崎薫（以下、「申立人１」という。）及び旭硝子株式会社（以下、「申立人２」という。）より特許異議の申立てがなされ、平成１１年２月１６日付けで当審において請求項１〜３に係る発明の特許に対して取消理由の通知がなされ、その指定期間内である平成１１年４月２３日に訂正請求がなされ、この訂正請求書について平成１１年９月１０日付けで手続補正がなされた。
ＩＩ．訂正の適否についての判断
１．訂正明細書の請求項１〜３に係る発明
　訂正明細書の請求項１〜３に係る発明は、訂正明細書の記載からみて、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
「【請求項１】　モル％表示による各成分の含有量が
　ＳｉＯ２　６２％以上６８％以下
　Ｂ２Ｏ３　　８％以上１１．０％以下
　Ａｌ２Ｏ３　９％以上１３％以下
　ＭｇＯ　　　１％以上５％以下
　ＣａＯ　　　３％以上７％以下
であり、液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性を満足するように、失透温度を１１００℃以下にし、且つ、熔融性を維持できる範囲内で、ガラスの平均線膨張係数α１００−３００が３４×１０−７〜３９×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１、歪点が６５０℃以上となるように、ＳｒＯおよびＢａＯを必須成分として含むことを特徴とする液晶ディスプレイ基板用ガラス。
　【請求項２】　平均線膨張係数α１００−３００が３４×１０−７〜３７×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１以下である、請求項１に記載の液晶ディスプレイ基板用ガラス。
　【請求項３】　請求項１または２に記載の液晶ディスプレイ基板を用いて得られた液晶ディスプレイ。」
２．訂正の内容
　訂正請求は、本件特許の明細書を訂正請求書に添付した訂正明細書のとおりに訂正しようとするものであって、その訂正の内容は次のとおりである。
（１）訂正事項Ａ
　明細書の特許請求の範囲の請求項１について次の訂正を行う。
　（Ａ−１）「Ｂ２Ｏ３　８％以上１２％未満」を「Ｂ２Ｏ３　８％以上１１．０％以下」と訂正する。
　（Ａ−２）「液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性と熔融性とを維持できる範囲内で、」を「液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性を満足するように、失透温度を１１００℃以下にし、且つ、熔融性を維持できる範囲内で、」と訂正する。
　（Ａ−３）「歪点が６３０℃以上」を「歪点が６５０℃以上」と訂正する。
（２）訂正事項Ｂ
　（Ｂ−１）【０００８】の「Ｂ２Ｏ３　８％以上１２％未満」を「Ｂ２Ｏ３　８％以上１１．０％以下」と訂正する。
　（Ｂ−２）【０００８】の「液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性と熔融性とを維持できる範囲内で、」を「液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性を満足するように、失透温度を１１００℃以下にし、且つ、熔融性を維持できる範囲内で、」と訂正する。
　（Ｂ−３）【０００８】の「歪点が６３０℃以上」を「歪点が６５０℃以上」と訂正する。
　（Ｂ−４）【００１２】の「Ｂ２Ｏ３の含有量が１２モル％以上では」を「Ｂ２Ｏ３の含有量が１１．０モル％を超えると」と訂正する。
　（Ｂ−５）【００１６】の「本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性と熔融性とを維持できる範囲内で、」を「本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性を満足するように、失透温度を１１００℃以下にし、且つ、熔融性を維持できる範囲内で、」と訂正する。
　（Ｂ−６）【００１６】の「歪点が６３０℃以上」を「歪点が６５０℃以上」と訂正する。
　（Ｂ−７）【００１８】の「歪点が６３０℃以上」を「歪み点が６５０℃以上」と訂正する。
　（Ｂ−８）【００３３】の「実施例２〜４」を「実施例２〜３」と訂正する。
　（Ｂ−９）【００４１】【表１】の表−１中の「実施例２」を削除し、「実施例３」及び「実施例４」をそれぞれ「実施例２」及び「実施例３」に繰り上げる。
　（Ｂ−１０）【００４２】の「実施例１〜４」を「実施例１〜３」と訂正する。
　（Ｂ−１１）【００４２】の「各ガラスの歪点はいずれも６３０℃以上」を「各ガラスの歪点はいずれも６５０℃以上」と訂正する。
　（Ｂ−１２）【００４４】の「４×１０−２〜１２×１０−２ｍｇ／ｃｍ・ｈｒ」を「４×１０−２〜８×１０−２ｍｇ／ｃｍ・ｈｒ」と訂正する。
　（Ｂ−１３）【００４６】の「実施例１〜４」を「実施例１〜３」と訂正する。
３．訂正の目的、新規事項禁止、拡張・変更禁止の各要件についての判断
（１）訂正事項Ａについて
　　（Ａ−１）はＢ２Ｏ３の含有割合の上限が「１２％未満」であったものを「１１．０％以下」とし、（Ａ−２）は失透温度の上限を限定し、（Ａ−３）は歪点の下限が「６３０℃」であったものを「６５０℃」とするものであり、これらはいずれも数値範囲を更に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　そして、特許明細書の【００４１】の表−１中の実施例３には、ガラス組成物のＢ２Ｏ３の含有割合を１１．０モル％とした例が記載され、同じく【００４５】には、「各ガラスの失透温度は１１００℃以下であり、実用的な成形性を有していることがわかる」との記載があり、同じく【００４１】の表−１中の実施例４のガラス組成物は歪点が６５０℃であることが記載されていることから、上記（Ａ−１）〜（Ａ−３）の訂正は新規事項を追加するものではない。
　また、いずれの訂正事項も実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
（２）訂正事項Ｂについて
　　訂正事項Ｂは、いずれも上記訂正事項Ａによって特許請求の範囲を減縮することに伴って生じた明細書中の明りょうでない記載の釈明を目的とするものであって、いずれの訂正事項も実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
４．独立特許要件について
４−１．取消理由の概要
　当審が異議申立人の主張を援用して通知した取消理由の概要は以下のものである。
　本件特許に係る出願は、平成７年２月２７日に、特願平２−２８６８９５号（出願日：平成２年１０月２４日：以下「原出願」という）の分割出願として特許出願されたものであるところ、本件特許に係る発明は原出願の願書に最初に添付した明細書に記載された発明ではないから、本件特許に係る出願は二以上の発明を包含する原出願の一部を新たな特許出願としたものではない。従って、本件特許に係る出願の分割は適法なものではなく、その出願日は平成７年２月２７日である。
　そうすると、本件請求項１〜３に係る発明は次の理由により特許を受けることができないものであり、その特許を取り消すべきものである。
〈理由▲１▼〉
　本件請求項１〜３に係る発明は、下記の引用例１又は引用例２に記載された発明と同一であるから、本件発明は特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
〈理由▲２▼〉
　本件請求項１〜３に係る発明は、下記引用例１又は引用例２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　また、仮に分割が適法であるとしても、本件請求項１〜３に係る発明は次の理由▲３▼により特許を受けることができないものであり、その特許を取り消すべきものである。
〈理由▲３▼〉
　本件請求項１〜３に係る発明は、下記の引用例４に記載された発明と同一であるから、本件発明は特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
記
　引用例１：特開平４−１６００３０号公報（原出願の公開公報）
　引用例２：特開平６−２６３４７３号公報
　引用例３：旭硝子株式会社中央研究所硝子・セラミックス領域研究所加瀬準一郎が平成１０年７月２１日に作成した「試験分析結果報告」
　引用例４：特開平１−２０１０４１号公報（引用例１は、申立人１及び２がそれぞれ特許異議申立の証拠として提出した甲第１号証であり、引用例２、３は申立人２が特許異議申立の証拠として提出した甲第２、３号証であり、引用例４は申立人１が特許異議申立の証拠として提出した甲第２号証である。）
４−２．分割の適法性についての検討
（１）原明細書の記載事項
　本件に関しては、その分割が適法か否かは、訂正発明が原出願の願書に最初に添付した明細書（以下、「当初明細書」という。）に記載されていたか否かを判断することにより行うこととなるので、まずは、当初明細書の記載を検討するに、当初明細書には次の事項についての記載がある。（なお、当初明細書の記載事項の記載箇所の特定は、原出願の公開公報である上記「引用例１」を用いて行う。）
　▲１▼「本発明は上記目的を達成するためになされたものであり、本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスは、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯを合量で９５モル％以上含有し、モル％表示による各成分の含有量が
　　　ＳｉＯ２　　　６２％以上６８％以下
　　　Ｂ２Ｏ３　　　　８％以上１２％未満
　　　Ａｌ２Ｏ３　　　９％以上１３％以下
　　　ＭｇＯ　　　　　１％以上５％以下
　　　ＣａＯ　　　　　３％以上７％以下
　　　ＳｒＯ　　　　　１％以上３％未満
　　　ＢａＯ　　　　　１％以上３％未満
　　　ＳｒＯ＋ＢａＯ　３％以上５％以下
であることを特徴とするものである。」（第２頁左下欄第１９行〜同頁右下欄第１３行）
　▲２▼「ＳｉＯ２の含有量が６８モル％を超えると粘性が高くなって熔融性が低下し、６２モル％未満では得られるガラスの歪点が低下し過ぎる。
　また、Ｂ２Ｏ３の含有量が１２モル％以上では得られるガラスの歪点が低下し過ぎると共に耐硝酸性が低下し、８モル％未満では粘性が高くなって熔融性が低下すると共に、得られるガラスの耐弗酸性が低下する。
　Ａｌ２Ｏ３の含有量が１３モル％を超えると得られるガラスの耐失透性が低下すると共に、このガラスに弗酸を接触させたときに、弗酸によりガラス表面が白濁し易くなる。一方、Ａｌ２Ｏ３の含有量が９モル％未満では得られるガラスの歪点が低下し過ぎる。
　ＭｇＯは、得られるガラスの膨張係数と粘性とを低下させる成分としてアルカリ土類酸化物中で最も効果的な成分であるため、１モル％以上含有させる必要があるが、５モル％を超えて含有させると得られるガラスの耐失透性が低下する。
　また、ＣａＯはＭｇＯとほぼ類似した作用を有するため３モル％以上必要であるが、７モル％を超えて含有させると得られるガラスの耐失透性が低下する。」（第３頁左上欄第１行〜同頁右上欄第３行）
　▲３▼「ＳｒＯおよびＢａＯは共に、得られるガラスの耐失透性を向上させる成分として効果的な成分であるため、それぞれ１モル％以上必要であるが、粘性を高めて熔融性を低下させると共に得られガラスの歪点を低下させ、かつ膨張係数を大きくさせる成分でもあるため、含有量はそれぞれ３モル％未満に限定され、両者の合量も５モル％以下に限定される。…（中略）…ガラスの成分およびその含有量、ならびに各成分の合量を上述のように規定することにより、Ｐ−Ｓｉの線膨張係数と近似する線膨張係数を有し、かつＰ−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板として使用可能な歪点を有するガラス、すなわち、１００〜３００℃における平均線膨張係数が３４×１０−７〜３９×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１で、歪点が６３０℃以上であるガラスを得ることができる。そしてこのガラスは、熔融性および成形性にも優れたガラスである。」（第３頁右上欄第４行〜同頁左下欄第６行）
　▲４▼「表−１から明らかなように、実施例１〜５で得られた本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスのα１００〜３００は３６×１０−７〜３９×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１であり、Ｐ−Ｓｉの線膨張係数と近似している。また、各ガラスの歪点はいずれも６３０℃以上であり、Ｐ−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板として使用可能なものである。…（中略）…
　また、いずれのガラスにおいても、１１００℃で２４時間放置した後に結晶の発生は認められなかった。このことから各ガラスの失透温度は１１００℃以下であり、実用的な成形性を有していることがわかる。」（第６頁左上欄第１行〜同頁右上欄第３行）
　▲５▼表−１中の実施例４として示されているものは、Ｂ２Ｏ３の含有量が１１．０％であること。（第５頁表−１参照）
　▲６▼表−１中の実施例１、４及び５として示されているものが、１１００℃で２４時間放置したときに内部失透がなかったこと。（第５頁表−１参照）
　▲７▼表−１中の実施例１、４及び５として示されているものが、歪点６５０℃以上であったこと。（第５頁表−１参照）
　▲８▼表−１中の実施例１、２として示されているものの「α１００−３００」が３７×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１であったこと。（第５頁表−１参照）
（２）訂正発明１について
（２−１）訂正発明１の構成
　訂正発明１の構成を便宜上次のＡ及びＢに分説する。
　Ａ．モル％表示による各成分の含有量が
　　ＳｉＯ２　６２％以上６８％以下
　　Ｂ２Ｏ３　　８％以上１１．０％以下
　　Ａｌ２Ｏ３　９％以上１３％以下
　　ＭｇＯ　　　１％以上５％以下
　　ＣａＯ　　　３％以上７％以下
であり、
　Ｂ．液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性を満足するように、失透温度を１１００℃以下にし、且つ、熔融性を維持できる範囲内で、ガラスの平均線膨張係数α１００−３００が３４×１０−７〜３９×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１、歪点が６５０℃以上となるように、ＳｒＯ及びＢａＯを必須成分として含むことを特徴とする液晶ディスプレイ基板用ガラス。
（２−２）検討
　▲１▼上記構成Ａについて
　　構成Ａは、ガラスを構成する必須成分であるＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ及びＣａＯの含有量がそれぞれ特定の数値範囲にあることを規定したものであるが、これらの必須成分の含有量を上記特定の数値範囲内のものとすることは上記「ＩＩ．４−２（１）▲１▼、▲２▼」で摘記したように当初明細書に記載されている。
　ただ、Ｂ２Ｏ３の含有量については当初明細書では、「８％以上１２％未満」と記載されており、「８％以上１１．０％以下」とは記載されていないが、「８％以上１２％未満」という数値範囲は「８％以上１１．０％以下」を包含するものであり、しかも、上記「ＩＩ．４−２（１）▲５▼」で摘記したようにＢ２Ｏ３の含有量を１１．０％とすることも当初明細書には記載されているから、結局、上記構成Ａは当初明細書に記載されていたものと認める。
　▲２▼上記構成Ｂについて
　　上記構成Ｂは、ガラスの配合成分としてのＳｒＯ及びＢａＯを、失透温度を１１００℃以下にすると共に熔融性を維持できる範囲内で、ガラスの平均線膨張係数α１００−３００を３４×１０−７〜３９×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１とし、歪点が６５０℃以上となるようにガラスに配合するというものである。
　そこで、当初明細書の記載を検討するに、上記「ＩＩ．４−２（１）▲３▼」の摘記部分には、ＳｒＯおよびＢａＯは共に得られるガラスの耐失透性を向上させる成分として効果的な成分であることが、同じく上記「ＩＩ．４−２（１）▲４▼」の摘記部分には、実施例のものはガラス失透温度が１１００℃以下であり、これは実用的な成形性を有するものであることがそれぞれ記載されている。
　また、同じく上記「ＩＩ．４−２（１）▲３▼」の摘記部分には、ＳｒＯおよびＢａＯは共に、粘性を高めて熔融性を低下させると共に得られるガラスの歪点を低下させ、かつ膨張係数を大きくさせる成分でもあるため、その含有量はそれぞれ３モル％未満に限定され、両者の合量も５モル％以下に限定されることが記載されている。
　更に、同じく上記「ＩＩ．４−２（１）▲３▼」の摘記部分には、１００〜３００℃における平均線膨張係数が３４×１０−７〜３９×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１で、歪点が６３０℃以上であるガラスが熔融性及び成形性に優れたガラスであることが記載されており、このようなガラスを得るためにガラスの成分及びその含有量、ならびに各成分の合量を特定の値とすることが記載されている。
　上記のことを総合すると、当初明細書には、ＳｒＯおよびＢａＯが耐失透性を向上させる成分として効果的な成分ではあるが、これらは他方では粘性を高めて熔融性を低下させると共に得られるガラスの歪点を低下させ、かっ膨張係数を大きくさせる成分でもあるため、これらの含有量は、失透温度を１１００℃以下にしつつも、ガラスの熔融性を低下することなく、しかも１００〜３００℃における平均線膨張係数（＝α１００〜３００）が３４×１０−７〜３９×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１で、歪点が６３０℃以上であるように調整することが記載されているとすることができる。そして、上記の歪点についての数値限定「６３０℃以上」は「６５０℃」を包含するものであり、しかも、上記「ＩＩ．４−２（１）▲７▼」で摘記したように、歪点が「６５０℃」のものが当初明細書において実施例として示されている。
　してみると、上記構成Ｂも当初明細書には記載されていたものと認める。
　▲３▼まとめ
　上記のとおりであるから、上記構成Ａと上記構成Ｂとからなる訂正発明１は当初明細書に記載された発明であるとすることができる。
（３）訂正発明２について
　訂正発明２は、訂正発明１の構成において、ガラスの平均線膨張係数α１００−３００を「３４×１０−７〜３７×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１以下」としたものであるが、訂正発明１が当初明細書に記載されたものであることは前認定のとおりであり、また、上記「ＩＩ．４−２（１）▲３▼」で摘記した部分には、液晶ディスプレイ基板用ガラスの平均線膨張係数α１００−３００を「３４×１０−７〜３９×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１」とすることについての記載があり、この数値範囲は、「３４×１０−７〜３７×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１」の数値範囲を包含するものであるし、しかも、上記「ＩＩ．４−２（１）▲８▼」で摘記したように、平均線膨張係数α１００−３００が「３７×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１」のものが当初明細書において実施例として示されているから、訂正発明２も当初明細書に記載された発明であるとすることができる。
（４）訂正発明３について
　訂正発明３は訂正発明１又は訂正発明２に記載の液晶ディスプレイ基板を用いて得られた「液晶ディスプレイ」に係る発明であるが、訂正発明１及び訂正発明２が当初明細書に記載された発明であることは前認定のとおりであり、また、訂正発明１及び訂正発明２のガラスを「液晶ディスプレイ」用の基板用ガラスとして使用することは、上記「ＩＩ．４−２（１）▲１▼、▲３▼、▲４▼」で摘記した部分に記載されているから、訂正発明３も当初明細書に記載された発明であるとすることができる。
（５）まとめ
　上記のとおりであるから、訂正発明１〜３は当初明細書に記載された発明である。
　また、他に本件分割が適法なものではないとする理由を発見しない。
　従って、本件分割は適法なものであり、本件特許に係る出願の出願日は原出願の出願日である「平成２年１０月２４日」である。
４−３．取消理由▲１▼、▲２▼について
　上述したように、本件特許に係る出願の出願日は原出願の出願日（平成２年１０月２４日）であるから、本件特許に係る出願の出願日が「平成７年２月２７日」であることを前提とする取消理由▲１▼、▲２▼は理由がないものである。
４−４．取消理由▲３▼について
（１）引用例４の記載事項
　▲１▼「モルパーセント表示で実質的に
　　ＳｉＯ２　　　　　　５５〜７０
　　Ａｌ２Ｏ３　　　　　　５〜１５
　　Ｂ２Ｏ３　　　　　　１０〜２５
　　ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３　７２〜８０
　　ＭｇＯ　　　　　　　　１〜　６
　　ＣａＯ　　　　　　　　０〜　６
　　ＳｒＯ　　　　　　　　３〜１２
　　ＢａＯ　　　　　　　　３〜１２
からなり、アルカリ金属酸化物及び亜鉛酸化物を実質的に含有しない無アルカリガラス。」（特許請求の範囲）
　▲２▼「本発明の目的は、上記欠点を解決し
　　・フッ酸により白濁をおこさず
　　・他の化学耐久性もすぐれ
　　・溶解、成形が容易で
　　・高い歪点を有し
　　・フロート法による成形が可能で
　　・低膨張な
　　・無アルカリガラスを提示することにある。」（第２頁右上欄第６〜１３行）
　▲３▼「ＳｒＯはガラスの分相を抑制し、フッ酸による白濁の防止に比較的有用な成分である。ＳｒＯが３％未満ではその効果は少なく、１２％をこえると熱膨張係数が増大し、耐水性等の化学耐久性が劣化するのでいずれも好ましくない。
　ＢａＯもＳｒＯと似た働きをし、３％未満ではその効果は少なく１２％をこえると熱膨張係数が増大し耐水性等の化学耐久性が劣化するのでいずれも好ましくない。」（第２頁右下欄第１９行〜第３頁左上欄第７行）
　▲４▼「表２からも明らかなように、実施例のいずれのガラスも、熱膨張係数は４０〜５０×１０−７／℃で低い値を示し、溶解の容易性の目安となるｌｏｇη＝２．５（但しηはポイズで表わしたガラス粘度、以下同じ）になる温度も低く、溶解が容易であることがわかる。また成形性も目安となるｌｏｇη＝４になる温度と失透温度との差が充分に大きく、成形時に失透が生成するなどのトラブルがないと考えられる。歪点も６００℃以上と高い値を示しており、高温での熱処理に充分耐えられるものであることがわかる。」（第３頁左下欄第１５行〜同頁右下欄第７行）
　▲５▼「［発明の効果］本発明によるガラスは、フロート法による成形が可能である。また、フッ酸による白濁が生じ難く、熔融、成形性に優れ、耐熱性に優れ、かつ低い熱膨張係数を有しているので、ディスプレイ用基板、フォトマスク基板、ＴＦＴタイプのディスプレイ基板等かかる特性を要求する用途に好適である。」（第３頁右下欄第１６行〜第４頁左上欄第５行）
　▲６▼表１には、実施例であるサンプルＮｏ．１〜６について次の配合組成が示されている（第４頁表１参照。但し、組成の一部についてのみ示す）。
　Ｎｏ．１：ＳｉＯ２（５７％）
　Ｎｏ．２：ＳｉＯ２（６０％）
　Ｎｏ．３：Ｂ２Ｏ３（１２％）、ＣａＯ（０％）
　Ｎｏ．４：ＳｉＯ２（６１％）、Ａｌ２Ｏ３（７％）、Ｂ２Ｏ３（１２％）
　Ｎｏ．５：Ｂ２Ｏ３（１４％）、ＣａＯ（２％）
　Ｎｏ．６：Ｂ２Ｏ３（１６％）、ＣａＯ（２％）
　▲７▼表２には、上記サンプルＮｏ．１〜６のものについて、その熱膨張係数が次のとおりであったことが示されている。
　Ｎｏ．１：４２×１０−７／℃
　Ｎｏ．２：４０×１０−７／℃
　Ｎｏ．３：４８×１０−７／℃
　Ｎｏ．４：５０×１０−７／℃
　Ｎｏ．５：４０×１０−７／℃
　Ｎｏ．６：３９×１０−７／℃
（２）対比・判断
　訂正発明１は、従来のバリウム硼珪酸無アルカリガラスは、「歪点が低く、線膨脹係数も大きいため、これをＰ−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板として使用した場合、Ｐ−ＳｉＴＦＴはα−ＳｉＴＦＴより高温下で形成されるために、耐熱性等の面で難点が生じる。」（訂正明細書【０００６】）との技術課題を有することに鑑みて、この「バリウム硼珪酸無アルカリガラスの欠点を解消し、α−ＳｉＴＦＴだけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ形の汎用液晶ディスプレイの基板としても好適な、液晶ディスプレイ基板用ガラスを提供する」（同【０００７】）ことを目的とするものであり、このため、「ＳｒＯおよびＢａＯは共に、得られるガラスの耐失透性を向上させる成分として効果的な成分であり、かつ粘性を低めて熔融性を向上させると共に得られガラスの歪点を低下させ、かつ膨張係数を大きくさせる成分でもあるため、必須成分として用いられる。上述のようにＳｒＯおよびＢａＯはガラスの耐失透性、熔融性、膨張係数および歪点に関与する成分である」（【００１６】）との知見に基づいて、
「ＳｉＯ２　６２％以上６８％以下
　Ｂ２Ｏ３　　８％以上１１．０％以下
　Ａｌ２Ｏ３　９％以上１３％以下
　ＭｇＯ　　　１％以上５％以下
　ＣａＯ　　　３％以上７％以下」
という構成と併せて、「失透温度を１１００℃以下にし、且つ、熔融性を維持できる範囲内で、ガラスの平均線膨張係数α１００−３００が３４×１０−７〜３９×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１、歪点が６５０℃以上となるうに、ＳｒＯ及びＢａＯを必須成分として含む」ことを発明の構成として採用したものであり、これによって、「本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスは、Ｐ−Ｓｉの線膨張係数と近似する線膨張係数を有し、かつ、Ｐ−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板としても使用可能な歪点、Ｐ−ＳｉＴＦＴの成形過程で多用される弗酸および硝酸に対する良好な耐性、実用的な熔融性、および実用的な成形性を有している。」（同【００４７】）という訂正明細書記載の効果を奏し得たものである。
　そこで、引用例４の記載を検討するに、上記「ＩＩ．４−４（１）▲２▼、▲７▼」の摘記事項によると、引用例４記載の発明は、高い歪点を有すると共に、低膨張性であるディスプレイ用基板ガラスという点では訂正発明１と共通するところがあるが、実施例として示されているものの熱膨張係数は３９〜５０×１０−７／℃であり、これは本件発明における線膨張係数３４×１０−７〜３９×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１とは基本的には異なるものである。
　また、引用例４には、ＳｒＯ及びＢａＯについては、「ＳｒＯはガラスの分相を抑制し、フッ酸による白濁の防止に比較的有用な成分である。ＳｒＯが３％未満ではその効果は少なく、１２％をこえると熱膨張係数が増大し、耐水性等の化学耐久性が劣化するのでいずれも好ましくない。」との記載及び「ＢａＯもＳｒＯと似た働きをし、３％未満ではその効果は少なく１２％をこえると熱膨張係数が増大し耐水性等の化学耐久性が劣化するのでいずれも好ましくない。」との記載があることから、引用例４には、ＳｒＯ及びＢａＯの含有量の調整は、ガラスのフッ酸による白濁防止や耐水性の向上等の化学耐久性の向上の観点から行うことが記載されていることは認められるものの、本件発明におけるように、ＳｒＯおよびＢａＯが耐失透性を向上させる成分として効果的な成分ではあるが、これらは他方では粘性を高めて熔融性を低下させると共に得られるガラスの歪点を低下させ、かつ膨張係数を大きくさせる成分でもあるという観点から、ＳｒＯ及びＢａＯの含有量を、失透温度を１１００℃以下にしつつも、ガラスの熔融性を低下することなく、しかも１００〜３００℃における平均線膨張係数（＝α１００〜３００）が３４×１０−７〜３９×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１、歪点が６３０℃以上であるように調整することについては開示がないとせざるを得ない。
　また、引用例４の上記「ＩＩ．４−４（１）▲６▼」の摘記事項によると、引用例において実施例と示されているサンプルＮｏ．１〜６のものは、いずれも訂正発明１において規定されている組成の範囲外のものである。
　上記のことからすると、引用例４には、ＳｒＯ及びＢａＯを、「失透温度を１１００℃以下にし、且つ、熔融性を維持できる範囲内で、ガラスの平均線膨張係数α１００−３００が３４×１０−７〜３９×１０−７ｄｅｇ−１ｃｍ−１、歪点が６５０℃以上となる」ようにガラスに含有させるという構成の点については記載及び示唆がないとするのが相当である。
　上記のとおりであるから、訂正発明１は引用例４に記載された発明であるとすることはできない。
　また、訂正発明２は訂正発明１の構成を更に限定したものであり、また、訂正発明３は訂正発明１の構成をそのまま包含するものであるから、訂正発明２及び訂正発明３も引用例４に記載された発明であるとすることはできない。
（３）まとめ
　従って、訂正発明１〜３は引用例４に記載された発明であるとすることはできず、訂正発明の特許が、特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものとすることはできない。
　したがって、訂正発明１〜３は特許出願の際に独立して特許を受けることができるものである。
５．訂正の認否
　上記のとおりであるから、本件訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項ただし書及び同条第３項において準用する同法第１２６条第２〜４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
ＩＩＩ．特許異議申立について
１．本件発明
　前述のように、本件訂正は適法なものであるので、本件請求項１〜３に係る発明は、前記「ＩＩ．１」において摘記したとおりの訂正発明１〜３である。（以下、「訂正発明１〜３」を「本件発明１〜３」という。）
２．申立人１の特許異議申立てについて
（１）申立人１の主張の概要
　▲１▼本件特許に係る出願は特許法第４４条第１項に規定する分割の要件を満たさないため、その出願日は平成７年２月２７日であり、本件請求項１〜３に係る発明は、特開平４−１６００３０号公報に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
　▲２▼本件請求項１〜３に係る発明は、特開平１−２０１０４１号公報に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
（２）対比・判断
　申立人１の特許異議申立の理由及び証拠方法は、前記の取消理由▲１▼及び取消理由▲３▼と同一のものであるから、上記「ＩＩ．４」で述べたと同様の理由により、申立人１の主張する理由及び証拠方法によっては、本件発明１〜３の特許が、特許法第２９条第１項の規定に違反してなされたものとすることはできない。
３．申立人２の特許異議申立てについて
（１）申立人２の主張の概要
　本件特許に係る出願は特許法第４４条第１項に規定する分割の要件を満たさないため、その出願日は平成７年２月２７日であり、本件請求項１〜３に係る発明は、特開平４−１６００３０号公報に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないか、又は、本件請求項１〜３に係る発明は、上記特開平４−１６００３０号公報及び特開平６−２６３４７３号公報に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件請求項１〜３にかかる発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
（２）対比・判断
　申立人２の特許異議申立の理由及び証拠方法は、前記の取消理由▲１▼及び取消理由▲２▼と同一のものであるから、上記「ＩＩ．４」で述べたと同様の理由により、申立人２の主張する理由及び証拠方法によっては、本件発明１〜３の特許が、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものとすることはできない。
ＩＶ．むすび
　上記のとおりであるから、本件発明１〜３の特許は、特許異議申立ての理由及び証拠方法によっては取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１〜３の特許を取り消すべき理由を発見しない。
【異議決定日】
平成１１年１０月８日（１９９９．１０．８）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　特許第２７１９５０４号発明の明細書を訂正請求書に添付された訂正明細書のとおりに以下のように訂正する。
１．特許請求の範囲の減縮を目的として、請求項１について次の訂正を行う。
（１）「Ｂ２Ｏ３　８％以上１２％未満」を「Ｂ２Ｏ３　８％以上１１．０％以下」と訂正する。
（２）「液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性と熔融性とを維持できる範囲内で、」を「液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性を満足するように、失透温度を１１００℃以下にし、且つ、熔融性を維持できる範囲内で、」と訂正する。
（３）「歪点が６３０℃以上」を「歪点が６５０℃以上」と訂正する。
２．明りょうでない記載の釈明を目的として次の訂正を行う。
（１）【０００８】の「Ｂ２Ｏ３　８％以上１２％未満」を「Ｂ２Ｏ３　８％以上１１．０％以下」と訂正する。
（２）【０００８】の「液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性と熔融性とを維持できる範囲内で、」を「液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性を満足するように、失透温度を１１００℃以下にし、且つ、熔融性を維持できる範囲内で、」と訂正する。
（３）【０００８】の「歪点が６３０℃以上」を「歪点が６５０℃以上」と訂正する。
（４）【００１２】の「Ｂ２Ｏ３の含有量が１２モル％以上では」を「Ｂ２Ｏ３の含有量が１１．０モル％を超えると」と訂正する。
（５）【００１６】の「本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性と熔融性とを維持できる範囲内で、」を「本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性を満足するように、失透温度を１１００℃以下にし、且つ、熔融性を維持できる範囲内で、」と訂正する。
（６）【００１６】の「歪点が６３０℃以上」を「歪点が６５０℃以上」と訂正する。
（７）【００１８】の「歪点が６３０℃以上」を「歪み点が６５０℃以上」と訂正する。
（８）【００３３】の「実施例２〜４」を「実施例２〜３」と訂正する。
（９）【００４１】【表１】の表−１中の「実施例２」を削除し、「実施例３」及び「実施例４」をそれぞれ「実施例２」及び「実施例３」に繰り上げる。
（１０）【００４２】の「実施例１〜４」を「実施例１〜３」と訂正する。
（１１）【００４２】の「各ガラスの歪点はいずれも６３０℃以上」を「各ガラスの歪点はいずれも６５０℃以上」と訂正する。
（１２）【００４４】の「４×１０−２〜１２×１０−２ｍｇ／ｃｍ・ｈｒ」を「４×１０−２〜８×１０−２ｍｇ／ｃｍ・ｈｒ」と訂正する。
（１３）【００４６】の「実施例１〜４」を「実施例１〜３」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
液晶ディスプレイ基板用ガラス
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】　モル％表示による各成分の含有量が
　ＳｉＯ２　６２％以上６８％以下
　Ｂ２Ｏ３　　
８％以上１１．０％以下
　Ａ１２Ｏ３　９％以上１３％以下
　ＭｇＯ　　　１％以上５％以下
　ＣａＯ　　　３％以上７％以下
であり、液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性
を満足するように、失透温度を１１００℃以下にし、且つ、熔融性を
６５０℃
　【請求項２】　平均線膨脹係数α１００−３００が３４×１０−７〜３７×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１以下である、請求項１に記載の液晶ディスプレイ基板用ガラス。
　【請求項３】　請求項１または２に記載の液晶ディスプレイ基板を用いて得られた液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　【産業上の利用分野】
　本発明は液晶ディスプレイ基板用ガラスに係り、特にアクティブマトリクス駆動方式の汎用液晶ディスプレイに用いる基板用ガラスとして好適な、液晶ディスプレイ基板用ガラスに関する。
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
　液晶ディスプレイは、ＣＲＴ（カソードレイチューブ、ブラウン管）に比べて消費電力が低く、低電圧で駆動させることができ、軽量化や薄型化が容易である等の利点を有している。中でも、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）形の電界効果トランジスタを用いたアクティブマトリクス駆動方式の液晶ディスプレイは、非常に多くの走査電極を設けることができるために画素の高密度化や高精細化が容易であり、デューティー比が高く、かつ透過表示が可能なため、ＣＲＴに代わるフルカラーディスプレーとして注目されている。ここにデューテイー比とは液晶ディスプレイにおける解像度を表す指標であり、デューティー比が高いほど解像度が高いことになる。
　　　【０００３】
　このＴＦＴ形の電界効果トランジスタを用いたアクティブマトリクス駆動方式の液晶ディスプレイは、ガラスや石英等の透明基板上に形成する半導体トランジスタの材質により、アモルファスシリコン（α−Ｓｉ）ＴＦＴ形やポリシリコン（Ｐ−Ｓｉ）ＴＦＴ形等に分けることができる。
　　　【０００４】
　α−ＳｉＴＦＴおよびＰ−ＳｉＴＦＴは、いずれも、透明基板上にα−Ｓｉ膜またはＰ−Ｓｉ膜を成膜した後、フォトリソグラフィーに基づくパターニング工程を繰返し行うことにより成形される。このため、ＴＦＴが形成される透明基板には、ＴＦＴの材料の線膨張係数に近似する線膨張係数を有することの他に、耐熱性に優れること、化学的耐久性に優れること等が要求される。
　　　【０００５】
　このような要求を満たす透明基板としては、シリカガラスがあるが、高価であるため、汎用の液晶ディスプレイ用基板としては不適である。このため、α−ＳｉＴＦＴ形の汎用液晶ディスプレイにおいては、シリカガラスに代わるものとして、バリウム硼珪酸無アルカリガラスが多用されている。
　　　【０００６】
　　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、バリウム硼珪酸無アルカリガラスは、歪点が低く、線膨脹係数も大きいため、これをＰ−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板として使用した場合、Ｐ−ＳｉＴＦＴはα−ＳｉＴＦＴより高温下で形成されるために、耐熱性等の面で難点が生じる。
　　　【０００７】
　したがって本発明の目的は、上記バリウム硼珪酸無アルカリガラスの欠点を解消し、α−ＳｉＴＦＴだけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ形の汎用液晶ディスプレイの基板としても好適な、液晶ディスプレイ基板用ガラスを提供することにある。
　　　【０００８】
　　【課題を解決するための手段】
　本発明は上記目的を達成するためになされたものであり、本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスは、モル％表示による各成分の含有量が
　ＳｉＯ２　６２％以上６８％以下
　Ｂ２Ｏ３　　
８％以上１１．０％以下
　Ａ１２Ｏ３　９％以上１３％以下
　ＭｇＯ　　　１％以上５％以下
　ＣａＯ　　　３％以上７％以下
であり、液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性を
満足するように、失透温度を１１００℃以下にし、且つ、溶融性を
６５０℃
　　　【０００９】
　以下、本発明を詳細に説明する。
　　　【００１０】
　本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスは、上述のように、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａ１２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯを含有し、各成分の含有量は、モル％表示でそれぞれ上記の値に限定される。これらの限定理由は、以下の通りである。
　　　【００１１】
　ＳｉＯ２の含有量が６８モル％を超えると粘性が高くなって熔融性が低下し、６２モル％未満では得られるガラスの歪点が低下し過ぎる。
　　　【００１２】
　また、Ｂ２Ｏ３の含有量が
１１．０
超える
　　　【００１３】
　Ａ１２Ｏ３の含有量が１３モル％を超えると得られるガラスの耐失透性が低下すると共に、このガラスに弗酸を接触させたときに、弗酸によりガラス表面が白濁し易くなる。一方、Ａ１２Ｏ３の含有量が９モル％未満では得られるガラスの歪点が低下し過ぎる。
　　　【００１４】
　ＭｇＯは、得られるガラスの膨張係数と粘性とを低下させる成分としてアルカリ土類酸化物中で最も効果的な成分であるため、１モル％以上含有させる必要があるが、５モル％を超えて含有させると得られるガラスの耐失透性が低下する。
　　　【００１５】
　また、ＣａＯはＭｇＯとほぼ類似した作用を有するため３モル％以上必要であるが、７モル％を超えて含有させると得られるガラスの耐失透性が低下する。
　　　【００１６】
　ＳｒＯおよびＢａＯは共に、得られるガラスの耐失透性を向上させる成分として効果的な成分であり、かつ粘性を低めて溶融性を向上させると共に得られガラスの歪点を低下させ、かつ膨張係数を大きくさせる成分でもあるため、必須成分として用いられる。上述のようにＳｒＯおよびＢａＯはガラスの耐失透性、熔融性、膨張係数および歪点に関与する成分であるので、これらの含有量は、本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に要求される耐失透性
を満足するように、失透温度を１１００℃以下にし、且つ、溶融性を
６５０
　　　【００１７】
　そして、これらの成分の合量は、９５モル％以上が好ましい。各成分の含有量が上述の範囲内にあっても、これらの成分の合量が９５モル％未満では所望の特性が得られなくなるため、好ましくない。
　　　【００１８】
　ガラスの成分およびその含有量、ならびに各成分の合量を上述のように規定することにより、Ｐ−Ｓｉの線膨張係数と近似する線膨張係数を有し、かつＰ−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板として使用可能な歪点を有するガラス、より具体的には、平均線膨張係数α１００−３００が３４×１０−７〜３９×１０−７ｄｅｇ−１・ｃｍ−１で、歪点が
６５０
　　　【００１９】
　また、本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスは、前述したＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａ１２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯ以外の成分（以下、副成分という）を、総量で５モル％以下含有することができる。
　　　【００２０】
　副成分としては、ＺｎＯ、ＰｂＯ、Ｌａ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ａｓ２Ｏ３、およびＳｂ２Ｏ３からなる群より選択される少なくとも１種を含有させることが好ましい。そして、モル％表示による各副成分の含有量は
　ＺｎＯ　　　　２％以下
　ＰｂＯ　　　　１％以下
　Ｌａ２Ｏ３　　１％以下
　ＺｒＯ２　　　１％以下
　Ａｓ２Ｏ３　　２％以下
　Ｓｂ２Ｏ３　　２％以下
であることが特に好ましい。なお、これら各副生分の含有量の範囲は、いずれも０％を含む。
　　　【００２１】
　ＺｎＯは得られるガラスの膨張係数を上げずに粘性を低下させ、かつ耐失透性を向上させる成分として効果的であるが、得られるガラスの歪点を低下させると共に耐硝酸性を低下させる成分でもあるため、含有させる場合は２モル％以下が特に好ましい。
　　　【００２２】
　ＰｂＯは得られるガラスの耐失透性を向上させる成分として効果的であるが、得られるガラスの歪点を低下させると共に熔解時の粘性を上げる成分でもあるため、含有させる場合は１モル％以下が特に好ましい。
　　　【００２３】
　Ｌａ２Ｏ３は得られるガラスの歪点を低下させずに耐失透性を向上させる成分として効果的であるが、高価であると共に得られるガラスの耐硝酸性を低下させる成分でもあるため、含有させる場合は１モル％以下が特に好ましい。
　　　【００２４】
　ＺｒＯ２は得られるガラスの歪点を上げ、耐弗酸性および耐硝酸性を向上させる成分として効果的であるが、得られるガラスの耐失透性を低下させる成分でもあるため、含有させる場合は１モル％以下が特に好ましい。
　　　【００２５】
　Ａｓ２Ｏ３およびＳｂ２Ｏ３は、それぞれ脱泡剤として必要な成分であるが、白金るつぼや通電装置等の熔融装置を損傷させるため、含有させる場合は、それぞれ２モル％以下が特に好ましい。本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスは、各成分の原料として、ガラスの原料として一般に使用される酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等を用い、これらの原料を所定の酸化物換算組成となるように秤量、混合した後、通常のガラス熔融装置を用いて１５００〜１６００℃で熔融し、脱泡、均質化を行ってから所定の形状に成形、徐冷することにより得られる。
　　　【００２６】
　　【実施例】
　以下、本発明の実施例について説明する。
　　　【００２７】
実施例１
　原料として珪石粉、硼酸、アルミナ、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、炭酸バリウムおよび亜砒酸を用い、これらを酸化物換算量で表−１に示す組成となるように秤量、混合した後、１６００℃で熔融し、脱泡、均質化を行ってから板状に成形、徐冷して、１２０×１５０×５０ｍｍの板状を呈する本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスを得た。
　　　【００２８】
　得られたガラスの１００〜３００℃における平均線膨張係数（α１００−３００）、歪点、および１５００℃における粘度を表−１に示す。また、得られたガラスの耐弗酸性および耐硝酸性を以下の要領で評価した。
　　　【００２９】
・耐弗酸性
　　得られたガラスを研摩して得た試料を２５℃の５％ＨＦ水溶液に３時間浸漬し、乾燥後、試料の重量減を単位面積、単位時間当りの量に換算して、その耐弗酸性を評価した。
　　　【００３０】
・耐硝酸性
　　耐弗酸性の評価の場合と同様にして得た試料を８０℃の３０％ＨＮＯ３水溶液に３時間浸漬し、乾燥後、試料の重量減を単位面積、単位時間当りの量に換算して、その耐硝酸性を評価した。
　　　【００３１】
　これらの各換算値も表−１に示す。
　　　【００３２】
　さらに、得られたガラス約１００ｇを容量１００ｃｃの白金堵渦に入れ、この白金柑禍に白金製の蓋をして１１００℃で２４時間放置し、放置後のガラス内部における結晶（失透）発生の有無を顕微鏡観察して、その耐失透性を評価した。この顕微鏡観察結果も表−１に示す。
　　　【００３３】
実施例２〜
３
　原料として珪石粉、硼酸、アルミナ、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、炭酸バリウム、亜鉛華、硝酸鉛、酸化ランタン、酸化ジルコニウム、亜砒酸および酸化アンチモンを用い、これらを酸化物換算量で表−１に示す組成となるように秤量、混合した後、１５００〜１６００℃で熔融し、脱泡、均質化を行ってから板状に成形、徐冷して、実施例１と同一形状の液晶ディスプレイ基板用ガラスをそれぞれ得た。
　　　【００３４】
　得られた各ガラスのα１００−３００、歪点、および１５００℃における粘度を表−１に示す。
　　　【００３５】
　また、得られた各ガラスの耐弗酸性および耐硝酸性を実施例１と同様にして評価した。このときの各換算値も表−１に示す。
　　　【００３６】
　さらに、得られた各ガラスの耐失透性を実施例１と同様にして評価した。このときの各顕微鏡観察結果も表−１に示す。
　　　【００３７】
比較例１
　表−１に示すように、従来よりα−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板として多用されているバリウム硼珪酸無アルカリガラスに類似する組成のガラスを得た。
　　　【００３８】
　得られたガラスのα１００−３００、歪点、および１５００℃における粘度を表−１に示す。
　　　【００３９】
　また、得られたガラスの耐弗酸性および耐硝酸性を実施例１と同様にして評価した。このときの各換算値も表−１に示す。
　　　【００４０】
　さらに、得られたガラスの耐失透性を実施例１と同様にして評価した。このときの顕微鏡観察結果も表−１に示す。
　　　【００４１】
　【表１】
　　　【００４２】
　表−１から明らかなように、実施例１〜
３
６５０
　　　【００４３】
　また、１５００℃における粘度はいずれのガラスでも１０３ポイズ未満であり、実用的な熔融性を有していることがわかる。
　　　【００４４】
　さらに、５％ＨＦ水溶液に浸漬した場合の重量減が７〜９ｍｇ／ｃｍ２・ｈｒ、３０％ＨＮＯ３水溶液に浸漬した場合の重量減が４×１０−２〜
８
　　　【００４５】
　また、いずれのガラスにおいても、１１００℃で２４時間放置した後に結晶の発生は認められなかった。このことから各ガラスの失透温度は１１００℃以下であり、実用的な成形性を有していることがわかる。
　　　【００４６】
　一方、比較例１のバリウム硼珪酸無アルカリガラスは、耐弗酸性、耐硝酸性、熔融性および成形性は問題ないが、実施例１〜
３
　　　【００４７】
　　【発明の効果】
　以上説明したように、本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスは、Ｐ−Ｓｉの線膨張係数と近似する線膨張係数を有し、かつ、Ｐ−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板としても使用可能な歪点、Ｐ−ＳｉＴＦＴの成形過程で多用される弗酸および硝酸に対する良好な耐性、実用的な熔融性、および実用的な成形性を有している。
　　　【００４８】
　したがって本発明を実施することにより、α−ＳｉＴＦＴ形だけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ形の汎用液晶ディスプレイの基板としても好適な、液晶ディスプレイ基板用ガラスを提供することが可能となる。