【事件の表示】
　特許第２９３７７００号「光源装置」の請求項１ないし６に係る発明の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９３７７００号の請求項１ないし５に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第２９３７７００号の請求項１ないし６に係る発明は、平成５年９月１日に特許出願され、平成１１年６月１１日にその設定の登録がなされ、その後、旭光学工業株式会社により特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年８月１日に訂正請求がなされたものである。
２．訂正の適否に対する判断
　２−１．訂正事項
  （ａ）特許明細書の特許請求の範囲の請求項１「複数個の光源とコリメータレンズと前記光源からの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段とを有し、かつ複数本の光ビームを同時に繰返して走査を行う光走査装置の光源装置において、該複数個の光源と該コリメータレンズと該ビーム合成手段とは、実質一体的に形成してなるとともに、光走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなることを特徴とする光源装置」を「複数個の光源とコリメータレンズと前記光源からの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段とが実質的に一体に形成してなるとともに、光走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなり、かつ複数本の光ビームを同時に繰返して走査を行う光走査装置の光源装置において、前記複数個の光源の向きおよびコリメータレンズの向きをそれぞれ一致させて並置させるとともに、前記ビーム合成手段は、該ビーム合成手段から出射される複数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを基準光ビームとし、該基準光ビームの向きを、対応するコリメータレンズから出射される光ビームの向きと略一致させ、該ビーム合成手段から出射される他の光ビームを、前記基準光ビームに近接させて出射させることを特徴とする光源装置」と訂正する。
　（ｂ）同じく、請求項２〜６において、もとの請求項２を削除し、以下項数を繰り上げ、新たな請求項２〜５に訂正し、それにあわせて引用する請求項を訂正する。
　（ｃ）特許請求の範囲の訂正に伴い、特許請求の範囲と明細書の詳細な説明の記載との整合性をとるため、明細書の発明の詳細な説明を訂正請求書第４頁２行〜第９頁９行に記載のとおりに訂正する。
　２−２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
  上記訂正事項（ａ）は、光源およびコリメータレンズの配置等を、明細書の【００１６】ないし【００２０】、及び図２，図３の記載に基づいて、具体的に限定したものであるから、特許請求の範囲の減縮に該当し、また、上記訂正事項（ｂ）は、特許請求の範囲の減縮および明りょうでない記載の釈明に該当し、実質的に特許請求の範囲を拡張しまたは変更するものではない。
　さらに、上記訂正事項（ｃ）は、特許請求の範囲の訂正に伴い、特許請求の範囲と発明の詳細な説明の記載との整合性をとるため、明細書の発明の詳細な説明を訂正するものであるから、明りょうでない記載の釈明に該当する。
  そして、上記訂正事項（ａ）ないし（ｃ）は、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、新規事項の追加に該当しない。
　２−３．訂正の適否に対するむすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項の規定及び同条第３項で準用する同法第１２６条第２項から第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．特許異議の申立てについて
　特許異議申立人旭光学工業株式会社は、本件の請求項１ないし６に係る発明は、甲第１号証乃至甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから特許を受けることができないものであり、その特許を取り消すべき旨主張している。
　３−１．本件発明
　本件の請求項１ないし５に係る発明は、訂正明細書の特許請求の範囲に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】
　複数個の光源とコリメータレンズと前記光源からの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段とが実質的に一体に形成してなるとともに、光走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなり、かつ複数本の光ビームを同時に繰返して走査を行う光走査装置の光源装置において、前記複数個の光源の向きおよびコリメータレンズの向きをそれぞれ一致させて並置させるとともに、前記ビーム合成手段は、該ビーム合成手段から出射される複数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを基準光ビームとし、該基準光ビームの向きを、対応するコリメータレンズから出射される光ビームの向きと略一致させ、該ビーム合成手段から出射される他の光ビームを、前記基準光ビームに近接させて出射させることを特徴とする光源装置。
【請求項２】
　前記ビーム合成手段は、基準となる光ビームの光軸方向に他の光ビームを導光するプリズム部と各々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッタ部とが一体的に形成してなるものであることを特徴とする請求項１記載の光源装置。
【請求項３】　　
  前記コリメータレンズからの出射ビームを整形するアパーチャを各々設けるとともに、該複数個のアパーチャは、一体的に形成してなることを特徴とする請求項１または２記載の光源装置。
【請求項４】
　前記光源と前記ビーム合成手段との相対位置を変換することにより、各ビームの副走査方向の光軸を一致させる光軸調整手段を一体的に形成してなることを特徴とする請求項１乃至３いずれかに記載の光源装置。
【請求項５】
前記複数個の光源は、前記ビーム合成手段からの出射ビームが主走査方向に所定距離若しくは所定角度隔てて出射される様に配列してなることを特徴とする請求項１乃至４いずれかに記載の光源装置。
　３−２．甲各号証記載の発明
　特許異議申立人が提出した、この出願前頒布された刊行物である甲第１号証：特開昭６０−１８８９２０号公報には、複数のレーザビームを１つの回転多面鏡を介して同時に偏向走査し得る走査光学装置に関し、
「上記レーザビーム発生ユニット３０は第４図に示すような構成となっている。すなわち、３４は丁字状を呈したユニット本体であり、その水平部一端にはフランジ３４ａが形成され偏向ユニット３１のハウジング３５の側壁部にねじ３６・・・を介して一体的に取付けられるようになっている。また、ユニット本体３４内には水平方向および垂直方向の段付孔が形成されており、水平部他端３４ｂに形成された段付孔内には第１の半導体レーザ１Ａおよび第１のコリメータレンズ３７Ａが取付けられており、また、垂直部３４ｃに形成された段付孔内には第２の半導体レーザ
１Ｂおよび第２のコリメータレンズ３７Ｂが装着された状態となっている。そして、第１の半導体レーザ１Ａから発したレーザビーム２Ａは第１のコリメータレンズ２７Ｂを透過して水平方向に直進し、偏向ユニット３１の回転多面鏡３の鏡面に対して直角方向に入射されるようになっている。また、第２の半導体レーザ１Ｂから発したレーザビーム２Ｂは第２のコリメータレンズ３７Ｂを透過した後、ユニット本体３４内に固定されたプリズム３８によって直角に偏向され、上記レーザビーム２Ａと平行状態で回転多面鏡３に入射されるようになっている。」（２頁右下欄８行〜３頁左上欄１３行）と記載されている。
　上記によれば、甲第１号証には、
「第１および第２の半導体レーザとコリメータレンズと第２の半導体レーザから発したレーザビームを直角に偏向するプリズムとがユニット本体として実質的に一体に形成されてなるとともに、偏向ユニットのハウジングの側壁部にねじを介して一体的に取付けられるようになっており、複数のレーザビームを１つの回転多面鏡を介して同時に偏向走査し得る走査光学装置において、前記第１および第２の半導体レーザの向きおよびコリメータレンズの向きを水平および垂直方向に配置させ、第１の半導体レーザから発したレーザビームは第１のコリメータレンズを透過して水平方向に直進し、第２の半導体レーザから発したレーザビームは第２のコリメータレンズを透過した後、前記プリズムによって直角に偏向され、上記水平方向に直進するレーザビームと平行状態で回転多面鏡に入射される走査光学装置。」の発明が記載されている。
　同じく、甲第２号証：特開昭６３−３７３１１号公報には、
「このポリゴンスキャナユニットは、レーザビームを偏向する８面のポリゴンミラー１と、等速走査光を形成するＦθレンズ２と、レーザビームを発生する半導体レーザ３，４と、レーザビームを集光するコリメータレンズ５，６と、半導体レーザ３より照射されたレーザビームを反射するプリズム７と、ポリゴンミラー１を収納するケーシング８とからその要部が構成されている。・・・また半導体レーザ３，４およびコリメータレンズ５，６はレーザユニット１０，１１に包含される。さらにこのレーザユニット１０，１１は、プリズム７が固定された円柱形のプリズムホルダー１２を内蔵したホルダー１３に、第４図および第５図に示すように押付け用ネジ１４，１５により絶縁用プラスチックスペーサ１６を介して固定されている。このレーザユニット１０，１１はそれぞれの光軸がベースに水平となるように、かつ互いの光軸が直角となるよう配置され、回転自在にどの位置でも固定可能となっている。さらにレーザユニット１０のレーザビーム１７はプリズム７によりレーザユニット１１のレーザビーム１８と平行となるよう方向が調整され、ポリゴンミラー１に入射される構造となっている。また、ホルダー１３は、スペーサ１９と嵌合されてネジ止めされケーシング８に取付けられている。・・・まず、レーザユニット１０からでたレーザビーム１７は、第３図および第４図に示すように入射面７ａおよび出射面７ｂに反射防止コーティングが施されたプリズム７により直角に曲げられ、レーザビーム１８と鉛直平面上で平行になるように調整されてポリゴンミラー１の中心軸２０からｈ１下方に入射され、・・・またレーザユニット１１からでたレーザビーム１８は第４図に示すように直接ポリゴンミラー１の中心軸２０からｈ２上方に入射され、走査面上を上記のレーザビーム１７と同じ方向に走査する。」（２頁右上欄４行〜右下欄５行）と記載されている。
　上記によれば、甲第２号証には、
「互いの光軸が直角となるよう配置された半導体レーザ３，４と、該半導体レーザ３，４から発生された各レーザビームを集光するコリメータレンズ５，６と、前記半導体レーザ３より照射されたレーザビームを反射するプリズム７が固定された円柱形のプリズムホルダーとを内蔵したホルダー１３をネジ止めでポリゴンミラーのケーシング８に取付けてなる光走査装置において、前記半導体レーザ３より照射されたレーザビーム１７は、プリズム７により直角に曲げられ、他方の半導体レーザ４より照射されたレーザビーム１８と鉛直平面上で平行になるように調整されてポリゴンミラーに入射され、走査面上を同じ方向に走査する光走査装置。」の発明が記載されている。
　同じく、甲第３号証：特開平２−６１６１１号公報には、
「周知のように、レーザビームを光偏向器により偏向して走査する光走査装置は、例えば各種走査記録装置、走査読取装置等において広く実用に供されており」（１頁右下欄９〜１２行）、
「図示の合波用レーザ光源装置において、保持部材２の上板２Ａには、それぞれ半導体レーザ３Ａ・・・３Ｊと、第１のレンズ部である凸レンズ６Ａ・・・６Ｊをそれぞれ鏡筒内に保持してなる光源ユニット１０Ａ・・・１０Ｊが２列に並んで保持されており、上板２Ａ内の取付け位置において上記半導体レーザ３Ａ〜３Ｊはそのレーザ出射軸が互いに平行になっている。また、上記光源ユニット１０Ａ〜１０Ｊと対向する上記上板２Ａの底面には、第２のレンズ部である凹レンズ４Ａ・・・４Ｊが固着されている。さらに保持部材２の中央部分である支柱２Ｂの前後面には一対のミラー保持板２Ｅが取り付けられており、このミラー保持板２Ｅには、それぞれ上記凹レンズ４Ａ〜４Ｊと対向して反射ミラー５が取り付けられている。」（３頁左下欄８行〜右下欄６行）、
「本装置においては前記凹レンズ４Ａ〜４Ｊとこれらの凸レンズ６Ａ〜６Ｊとによりコリメータ光学系が構成されている。・・・半導体レーザ３Ａから発せられたレーザビーム３ａはこのコリメータ光学系を通過することにより、平行ビームとなり、・・・平行ビームとなったレーザビーム・・・は、下方にそれぞれ配設された前記反射ミラー５に反射されたのち、偏光ビームスプリッタ７に入射する。前記光源ユニット１０Ａ，１０Ｃ，１０Ｅ，１０Ｇ，１０Ｉ内の半導体レーザ３Ａ，３Ｃ，３Ｅ，３Ｇ，３Ｉは、上板２Ａ内においてレーザビーム３ａ，３ｃ，３ｅ，３ｇ，３ｉを同一平面内に射出によるように配設されており、またこれらのレーザビームの光路上にある各反射ミラー５は、図示のように段差のあるミラー保持板２Ｅにより上下方向に徐々にずれて保持されているので、レーザビーム３ａ，３ｃ，３ｅ，３ｇ，３ｉの反射ミラー５による反射位置は上下方向にのみ少しずつずれ、各反射ミラー５により反射されたレーザビーム３ａ，３ｃ，３ｅ，３ｇ，３ｉは互いに上下方向にごく近接した平行な光路をとる。また、前記支柱２Ｂの裏側においては、半導体レーザ３Ｂ，３Ｄ，３Ｆ，３Ｈ，３Ｊから発せられたレーザビーム３ｂ，３ｄ，３ｆ，３ｈ，３ｊが全く同様に、反射ミラー５に反射されて互いに上下方向にごく近接した平行な光路をとる。・・・前記偏光ビームスプリッタ７は、矢印ａ方向に偏向する光を反射する特性を有するものであり、レーザビーム３ａ，３ｃ，３ｅ，３ｇ，３ｉはこの偏光ビームスプリッタにより反射される。一方、レーザビーム３ｂ，３ｄ，３ｆ，３ｈ，３ｊはミラー８により反射されて光路を約９０°変更した後、１／２波長板９を通過することにより偏光方向を９０°変化せしめられ、矢印ｂ方向に偏光する光となる。前記偏光ビームスプリッタ７は矢印ｂ方向に偏光する光に対してはこれを透過させるものであり、従って、レーザビーム３ｂ，３ｄ，３ｆ，３ｈ，３ｊは偏光ビームスプリッタ７を通過して、レーザビーム３ｂはレーザビーム３ａと、・・・レーザビーム３ｊはレーザビーム３ｉとそれぞれ同一光路に射出される。このように互いに近接して平行な光路に射出された１０本のレーザビーム３ａ〜３ｊのビーム断面は第３図に示すようになる。」（４頁左上欄４行〜右下欄２行）、
「コリメータ光学系のうち、第１のレンズ部である前記凸レンズ・・・は、半導体レーザ・・・に対して所定の位置をとるように調整されて、光源ユニット・・・として半導体レーザと一体化されており、・・・凹レンズ・・・を上板２Ａに固定する。」（４頁右下欄６行〜５頁左上欄５行）と記載されている。
　上記によれば、甲第３号証には、
「保持部材の上板に、複数の半導体レーザとコリメータ光学系が２列に並んで保持されており、該コリメータ光学系を通過することにより、平行ビームとなったレーザビームが、下方に配設された、段差のあるミラー保持板により上下方向に徐々にずれて保持された反射ミラーで反射されたのち、偏光ビームスプリッタに入射し、偏光走査される光走査装置において、前記複数の半導体レーザはそのレーザ出射軸が互いに平行になっており、前記２列のうちの１列のレーザビームは前記偏光ビームスプリッタにより反射され、もう一方の列のレーザビームはミラー８により反射されて光路を約９０°変更した後、１／２波長板９を通過することにより偏光方向を９０°変化せしめられ、前記偏光ビームスプリッタ７を通過して、前記２列のレーザビームは互いに近接して平行な光路に射出される光走査装置。」の発明が記載されている。
　３−３．当審の判断                            
［請求項１について］
　本件の請求項１に係る発明（以下、「本件発明１」という）と上記甲各号証記載の発明を対比する。まず、甲第１号証および甲第２号証記載の発明は、２個の半導体レーザ（本件発明１の「光源」に相当する）およびコリメータレンズの向きが互いにその光軸が直交するように配置され、ビーム合成手段を有していない。また、甲第３号証記載の発明は、全てのレーザビームが、下方に配設された反射ミラーで反射されたのち、偏光ビームスプリッタ（本件発明１の「ビーム合成手段」に相当する）に入射するものであり、光走査装置筐体に対して着脱自在に形成されていない。しかも、上記甲各号証には、本件発明１の「ビーム合成手段から出射される複数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを基準光ビームとし、該基準光ビームの向きを、対応するコリメータレンズから出射される光ビームの向きと略一致させ」る構成については記載も示唆もされていない。また、この点が当該技術分野において従来周知の技術とも認められない。
　そして、本件発明によれば、装置の小型化を実現することができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ作業等を不要にして作業性を著しく向上させることができるという明細書記載の効果を奏するものである。
　したがって、本件発明１は、甲第１号証ないし甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとすることはできない。
［請求項２〜５について］
　本件の請求項２〜５に係る発明は、請求項１の構成を全て引用し、さらに、その構成の一部を具体的に限定したものであるから、本件発明１が、甲第１号証ないし甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものでない以上、請求項２〜５に係る発明も同様の理由により、当業者が容易に発明をすることができたということはできない。
３−４．むすび
　以上のとおり、特許異議の申立の理由及び証拠によっては、本件発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年９月５日（２０００．９．５）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　　▲１▼　訂正事項ａ
　特許第２９３７７００号発明の明細書中の請求項１「複数個の光源とコリメータレンズと前記光源からの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段とを有し、かつ複数本の光ビームを同時に繰返して走査を行う光走査装置の光源装置において、該複数個の光源と該コリメータレンズと該ビーム合成手段とは、実質一体的に形成してなるとともに、光走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなることを特徴とする光源装置」を、特許請求の範囲の減縮を目的として、「複数個の光源とコリメータレンズと前記光源からの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段
とが実質的に一体に形成してなるとともに、光走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなり、
前記複数個の光源の向きおよびコリメータレンズの向きをそれぞれ一致させて並置させるとともに、前記ビーム合成手段は、該ビーム合成手段から出射される複数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを基準光ビームとし、該基準光ビームの向きを、対応するコリメータレンズから出射される光ビームの向きと略一致させ、該ビーム合成手段から出射される他の光ビームを、前記基準光ビームに近接させて出射させることを
　　▲２▼　訂正事項ｂ
　同明細書中の特許請求の範囲の請求項２〜６において、もとの請求項２を削除し、以下項数を繰り上げ「請求項２〜５」を記載する特許請求の範囲に訂正する。
　　▲３▼　訂正事項ｃ
　同明細書中の特許請求の範囲の請求項３を、上記訂正事項ｂにより、請求項２に訂正するとともに、同請求項中の「請求項１又は２記載の光源装置」を「請求項１記載の光源装置。」と訂正する。
　　▲４▼　訂正事項ｄ
　同明細書中の特許請求の範囲の請求項４を、上記訂正事項ｂにより、請求項３に訂正するとともに、同請求項中の「請求項１乃至３いずれかに記載の光源装置。」を「請求項１
または２
　　▲５▼　訂正事項ｅ
　同明細書中の特許請求の範囲の請求項５を、上記訂正事項ｂにより、請求項４に訂正するとともに、同請求項中の「請求項１乃至４いずれかに記載の光源装置。」を「請求項１乃至
３
　▲４▼　訂正事項ｆ
　同明細書中の特許請求の範囲の請求項６を、上記訂正事項ｂにより、請求項５に訂正するとともに、同請求項中の「請求項１乃至５いずれかに記載の光源装置。」を「請求項１乃至
４
　▲５▼　訂正事項ｇ
　上記訂正事項ａ〜ｆで示す特許請求の範囲の訂正に伴い、特許請求の範囲と明細書の詳細な説明の記載との整合性をとるため、同明細書を本件訂正請求書に添付の訂正請求書の通りに、すなわち、
ａ）同明細書中の段落番号【０００１】の記載を下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【０００１】）。
「　　
【産業主の利用分野】
　本発明は、光源装置に係り、詳しくは、デジタル複写機及びレーザプリンタ等に用いられる光走査装置の光源装置に適用することができ、特に、装置の小型化を実現することができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ作業等を不用にして作業性を著しく向上させることができる半導体レーザのような光源装置に関する。」
ｂ）同明細書中の段落番号【０００６】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【０００６】）。
「【課題を解決するための手段】
　請求項１記載の発明は、複数個の光源とコリメータレンズと前記光源からの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段と
が実質的に一体に形成してなるとともに、光走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなり、
前記複数個の光源の向きおよびコリメータレンズの向きをそれぞれ一致させて並置させるとともに、前記ビーム合成手段は、該ビーム合成手段から出射される複数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを基準光ビームとし、該基準光ビームの向きを、対応するコリメータレンズから出射される光ビームの向きと略一致させ、該ビーム合成手段から出射される他の光ビームを、前記基準光ビームに近接させて出射させることを
ｃ）同明細書中の段落番号【０００７】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【０００７】）。
「請求項２記載の発明は、上記請求項１記載の発明において、
前記ビーム合成手段は、基準となる光ビームの光軸方向に他の光ビームを導光するプリズム部と各々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッタ部とが一体的に形成してなるものであることを特徴とするものである。２個のコリメータレンズは、同一基体上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向が一致するように配置してなることを
ｄ）同明細書中の段落番号【０００８】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【０００８】【０００９】）。
「請求項
３
または２
　請求項
４
３いずれかに
ｅ）同明細書中の段落番号【０００９】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【００１０】）。
「請求項
５
４
ｆ）同明細書中の段落番号【００１０】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【００１１】）。
「　　【作用】
　請求項１記載の発明では、
複数個の光源とコリメータレンズと前記光源からの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段とを実質的に一体に形成してなるとともに、光走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなるように
ｇ）同明細書中の段落番号【００１１】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【００１２】【００１３】）。
「
また、ビーム合成手段は、該ビーム合成手段から出射される複数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを基準光ビームとし、該基準光ビームの向きを、対応するコリメータレンズから出射される光ビームの向きと略一致させ、該ビーム合成手段から出射される他の光ビームを、前記基準光ビームに近接させて出射させるようにしている。
　
このため、コリメータレンズを同一基体上に出射方向と一致させて支持することができるので、各光源の相対位置を維持し易くすることができるとともに、同一方向での調整固定で済ませることができ、この結果、組立効率が良好で、経時的にも安定した性能を得ることができる。」
ｈ）同明細書中の段落番号【００１２】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【００１４】）。
「請求項
２
１
ｉ）同明細書中の段落番号【００１３】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【００１５】）。
「請求項
３
または２
ｊ）同明細書中の段落番号【００１４】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【００１６】）。
「請求項
４
３いずれかに
ｋ）同明細書中の段落番号【００１５】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【００１７】）。
「請求項
５
４いずれかに
ｌ）同明細書中の段落番号【００１７】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【００２０】【００２１】【００２２】）。
「なお、本実施例では、１／２波長板１８を用いて構成する場合を説明したが、本発明はこれのみに限定されるものではなく、半導体レーザ１１のＰ−ｎ接合面に垂直な方向をＹ１方向として構成してもよく、この場合も同様に９０度ずれた偏光面を得ることができる。
　次に、図１の具体例を説明する。図２は本発明の一実施例に則した半導体レーザからなる光源装置の構成を示す図である。図２に示す如く、半導体レーザ２１，２２は各々支持体２３，２４に固定され、基体２５の裏面に後述するコリメータレンズ２６，２７との光軸を一致させてネジ３２，３３及びネジ３４，３５を用いて接合される。コリメータレンズ２６，２７は、鏡筒に収められ、基体２５の嵌合穴２５ａ，２５ｂに各々半導体レーザ２１，２２との位置を合せて、係合、接着される。アパーチャ２８は、半導体レーザ２１用の整形スリット２８ａと半導体レーザ２２用のスリット２８ｂとが一体的に形成され、１／２波長板がスリット２８ｂ上に保持され、フランジ部２９の裏面よりビーム合成手段３０を挟むように固定される。このように構成した支持体２３，２４、基体２５、フランジ部２９及び半導体レーザの駆動回路が形成される基板３１を一体的に結合することにより、半導体レーザ光源装置は構成され、フランジ部２９の円筒状突起２９ａを光走査装置の後述する図３に示す筐体３６に係合し、ネジを穴２９ｂ，２９ｃ、２５ｃ，２５ｄを貫通して固定される。
　
また、半導体レーザ２１、２２の向きおよびコリメータレンズ２６、２７の向きをそれぞれ一致させて並置させるとともに、ビーム合成手段３０は、ビーム合成手段３０から出射される複数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを基準光ビームとし、この基準光ビームの向きを、対応するコリメータレンズ２７から出射される光ビームの向きと略一致させ、ビーム合成手段３０から出射される他の光ビームを基準光ビームに近接させて出射させるようにしている。
ｍ）同明細書中の段落番号【００２０】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【００２５】【００２６】）。
「
また、２個の半導体レーザの向きおよびコリメータレンズの向きをそれぞれ一致させて並置させるとともに、ビーム合成手段は、該ビーム合成手段から出射される複数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを基準光ビームとし、該基準光ビームの向きを、対応するコリメータレンズから出射される光ビームの向きと略一致させ、該ビーム合成手段から出射される他の光ビームを、前記基準光ビームに近接させて出射させるようにしている。
　このため、コリメータレンズを同一基体上に出射方向と一致させて支持することができるので、各半導体レーザの相対位置を維持し易くすることができるとともに、同一方向での調整固定で済ませることができ、この結果、組立効率が良好で、経時的にも安定した性能を得ることができる。」
ｎ）同明細書中の段落番号【００２１】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【００２７】）。
「また、本実施例（請求項
２
ｏ）同明細書中の段落番号【００２２】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【００２８】）。
「また、本実施例（請求項
３
ｐ）同明細書中の段落番号【００２３】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【００２９】）。
「また、本実施例（請求項
４
ｑ）同明細書中の段落番号【００２４】の記載を、下記のように訂正する（訂正明細書中の段落番号【００３０】）。
「また、本実施例（請求項
５
（５４）【発明の名称】
半導体レーザ光源装置
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】
　複数個の光源とコリメータレンズと前記光源からの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段
とが実質的に一体に形成してなるとともに、光走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなり、
　かつ複数本の光ビームを同時に繰返して走査を行う光走査装置の光源装置において、
　
前記複数個の光源の向きおよびコリメータレンズの向きをそれぞれ一致させて並置させるとともに、
　
前記ビーム合成手段は、
　
該ビーム合成手段から出射される複数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを基準光ビームとし、
　
該基準光ビームの向きを、対応するコリメータレンズから出射される光ビームの向きと略一致させ、
　
該ビーム合成手段から出射される他の光ビームを、前記基準光ビームに近接させて出射させることを
　　【請求項２】
　
前記ビーム合成手段は、基準となる光ビームの光軸方向に他の光ビームを導光するプリズム部と各々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッタ部とが一体的に形成してなるものであることを
　　【請求項３】
　
前記コリメータレンズからの出射ビームを整形するアパーチャを各々設けるとともに、該複数個のアパーチャは、一体的に形成してなることを
または２
　　【請求項４】
　
前記光源と前記ビーム合成手段との相対位置を変換することにより、各ビームの副走査方向の光軸を一致させる光軸調整手段を一体的に形成してなることを
３
　　【請求項５】
　
前記複数個の光源は、前記ビーム合成手段からの出射ビームが主走査方向に所定距離若しくは所定角度隔てて出射される様に配列してなることを
４
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　
【産業上の利用分野
　本発明は、光源装置に係り、詳しくは、デジタル複写機及びレーザプリンタ等に用いられる光走査装置の光源装置に適用することができ、特に、装置の小型化を実現することができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ作業等を不用にして作業性を著しく向上させることができる半導体レーザのような光源装置に関する。
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
　従来の光走査装置では、感光体上を１本の光ビームで走査するのが一般的であるが、一本の光ビームで走査する場合よりも記録速度を速くするために複数の光ビームを同時に走査させるように構成したマルチビーム型の光走査装置が実用化されている。このようなマルチビーム型光走査装置においては、例えば特公昭６０−５３８５７号公報や実開昭６１−１０６９１７号公報に開示されているような、偏光ビームスプリッタを用いた光ビームの合成が行われている。なお、前者の特公昭６０−５３８５７号公報で報告されたものでは、２個の半導体レーザと、これらの半導体レーザからの光を重ね合せて出射する偏光ビームスプリッタと、これらの半導体レーザのうち何れか一方と前記偏光ビームスプリッタとの間に配された偏光面を９０度回転させる手段とからなり、前記２個の半導体レーザを、前記偏光ビームスプリッタで重ね合された夫々の光の断面形状の長手方向が一致するように配置して構成した半導体レーザ光源装置が記載されており、また、後者の実開昭６１−１０６９１７号公報で報告されたものでは、複数の光源からのビームを走査面の副走査方向に間隔をおいて同時に集光させて走査するマルチビーム走査装置において、複数本のビームを入射させて１本の光軸近傍に合成するための回転可能な合成手段と、上記走査方向に走査ビームを所定距離隔てさせるべく上記合成手段を回転させる手段とを有するように構成したマルチビーム走査装置の光学系が記載されている。
　　　【０００３】
　また、例えば実開昭６２−１０９１３４号公報で報告された従来のマルチビーム型光走査装置では、半導体レーザとコリメータレンズとが一体的に支持されるシングルビームの光源装置を複数個用い、光走査装置筐体に配備した偏光ビームスプリッタに各々直行する方向から入射させてビーム合成を行っていた。
　　　【０００４】
　　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、上記した実開昭６２−１０９１３４号公報で報告された従来のマルチビーム型光走査装置では、半導体レーザとコリメータレンズとが一体的に支持されるシングルビームの光源装置を複数個用い、光走査装置筐体に配備した偏光ビームスプリッタに各々直行する方向から入射させてビーム合成を行っていたため、該シングルビームの光源装置を複数個用意しなければならない等装置が大型化するという問題があった。また、半導体レーザ光源装置が各々別の壁面に支持された状態で光軸を一致させる調整を行っていたため、半導体レーザ光源装置の交換時には再度、光軸を一致させる調整作業等を行わなければならず、面倒で作業性が悪いという問題があった。
　　　【０００５】
　そこで、本発明は、装置の小型化を実現することができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ作業等を不用にして作業性を著しく向上させることができる光走査装置を提供することを目的としている。
　　　【０００６】
　　【課題を解決するための手段】
　請求項１記載の発明は、複数個の光源とコリメータレンズと前記光源からの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段
とが実質的に一体に形成してなるとともに、光走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなり、
前記複数個の光源の向きおよびコリメータレンズの向きをそれぞれ一致させて並置させるとともに、前記ビーム合成手段は、該ビーム合成手段から出射される複数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを基準光ビームとし、該基準光ビームの向きを、対応するコリメータレンズから出射される光ビームの向きと略一致させ、該ビーム合成手段から出射される他の光ビームを、前記基準光ビームに近接させて出射させることを
　　　【０００７】
　請求項２記載の発明は、上記請求項１記載の発明において、
前記ビーム合成手段は、基準となる光ビームの光軸方向に他の光ビームを導光するプリズム部と各々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッタ部とが一体的に形成してなるものであることを特徴とするものである。２個のコリメータレンズは、同一基体上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向が一致するように配置してなることを
　　　【０００８】
　請求項
３
または２
　　　【０００９】
　請求項
４
３いずれかに
　　　【００１０】
　請求項
５
４いずれかに
　　　【００１１】
　　【作用】
　請求項１記載の発明では、
複数個の光源とコリメータレンズと前記光源からの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段とが実質的に一体に形成してなるとともに、光走査装置笛体に対して着脱自在に形成してなるように
　　　【００１２】
　
また、複数個の光源の向きおよびコリメータレンズの向きをそれぞれ一致させて並置させるとともに、ビーム合成手段は、該ビーム合成手段から出射される複数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを基準光ビームとし、該基準光ビームの向きを、対応するコリメータレンズから出射される光ビームの向きと略一致させ、該ビーム合成手段から出射される他の光ビームを、前記基準光ビームに近接させて出射させるようにしている。
　　　【００１３】
　
このため、コリメータレンズを同一基体上に出射方向と一致させて支持することができるので、各光源の相対位置を維持し易くすることができるとともに、同一方向での調整固定で済ませることができ、この結果、組立効率が良好で、経時的にも安定した性能を得ることができる。
　　　【００１４】
　請求項
２
１
　　　【００１５】
　請求項
３
または２
　　　【００１６】
　請求項
４
３いずれかに
　　　【００１７】
　請求項
５
４いずれかに
　　　【００１８】
　　【実施例】
　以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
　　　【００１９】
　まず、光走査装置として半導体レーザ光源装置の例を挙げてビーム合成の原理を説明する。図１は本発明の一実施例に則した半導体レーザ光源装置におけるビーム合成の原理を示す図である。図１に示す如く、２個の半導体レーザは、同一平面上に配列されて半導体レーザ１０、半導体レーザ１１共にＰ−ｎ接合面に垂直な方向をＸ０，Ｘ１軸方向に一致させて、コリメータレンズ１２，１３により各々平行光束１４，１５に変換され、アパーチャ１６，１７により所定のビーム径に整形される。これらの光束の内平行光束１５は、１／２波長板１８により偏光面を９０度回転させてビーム合成手段１９に入射され、斜面１９ａで内面反射し、偏光ビームスプリッタ面１９ｂで反射して、基準となる平行光束１４の光軸近傍に合成される。この際、主走査方向に所定距離ａ若しくは所定角度隔てて出射されるように半導体レーザをＹ方向にずらして配置している。
　　　【００２０】
　なお、本実施例では、１／２波長板１８を用いて構成する場合を説明したが、本発明はこれのみに限定されるものではなく、半導体レーザ１１のＰ−ｎ接合面に垂直な方向をＹ１方向として構成してもよく、この場合も同様に９０度ずれた偏光面を得ることができる。
　　　【００２１】
　次に、図１の具体例を説明する。図２は本発明の一実施例に則した半導体レーザからなる光源装置の構成を示す図である。図２に示す如く、半導体レーザ２１，２２は各々支持体２３，２４に固定され、基体２５の裏面に後述するコリメータレンズ２６，２７との光軸を一致させてネジ３２，３３及びネジ３４，３５を用いて接合される。コリメータレンズ２６，２７は、鏡筒に収められ、基体２５の嵌合穴２５ａ，２５ｂに各々半導体レーザ２１，２２との位置を合せて、係合、接着される。アパーチャ２８は、半導体レーザ２１用の整形スリット２８ａと半導体レーザ２２用のスリット２８ｂとが一体的に形成され、１／２波長板がスリット２８ｂ上に保持され、フランジ部２９の裏面よりビーム合成手段３０を挟むように固定される。このように構成した支持体２３，２４、基体２５、フランジ部２９及び半導体レーザの駆動回路が形成される基板３１を一体的に結合することにより、半導体レーザ光源装置は構成され、フランジ部２９の円筒状突起２９ａを光走査装置の後述する図３に示す筐体３６に係合し、ネジを穴２９ｂ，２９ｃ、２５ｃ，２５ｄを貫通して固定される。
　　　【００２２】
　
また、半導体レーザ２１、２２の向きおよびコリメータレンズ２６、２７の向きをそれぞれ一致させて並置させるとともに、ビーム合成手段３０は、ビーム合成手段３０から出射される複数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを基準光ビームとし、この基準光ビームの向きを、対応するコリメータレンズ２７から出射される光ビームの向きと略一致させ、ビーム合成手段３０から出射される他の光ビームを基準光ビームに接近させて出射させるようにしている。
　　　【００２３】
　次に、図２の半導体レーザからなる光源装置を例として、その副走査方向での動作を説明する。図３は図２の半導体レーザ光源装置の副走査方向（矢印３７）での構成を示す断面図である。図３において、図２と同一符号は同一又は相当部分を示す。図３に示す如く、上記ビーム合成手段３０は、ネジ３８（光軸調整手段）により副走査方向での光軸３９を一致させて接着固定しており、半導体レーザ光源装置自体を光軸回りに回転調整して筐体３６に固定することにより、各ビームの走査ビーム間隔の設定を行っている。
　　　【００２４】
　このように本実施例（請求項１）では、２個の半導体レーザとコリメータレンズとビーム合成手段とを、実質的に一体的に形成してなるとともに、光走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなるように構成している。このため、複数の半導体レーザとコリメータレンズと各ビームを合成する合成手段とを一体的に支持することができるとともに、半導体レーザ光源装置として各ビームの配置関係を適宜決定することができるので、装置の小型化を実現することができるとともに、光源装置交換後の光軸合せ作業を不用にして作業性を著しく向上させることができる。
　　　【００２５】
　
また、２個の半導体レーザの向きおよびコリメータレンズの向きをそれぞれ一致させて並置させるとともに、ビーム合成手段は、該ビーム合成手段から出射される複数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを基準光ビームとし、該基準光ビームの向きを、対応するコリメータレンズから出射される光ビームの向きと略一致させ、該ビーム合成手段から出射される他の光ビームを、前記基準光ビームに近接させて出射させるようにしている。
　　　【００２６】
　このため、コリメータレンズを同一基体上に出射方向と一致させて支持することができるので、各半導体レーザの相対位置を維持し易くすることができるとともに、同一方向での調整固定で済ませることができ、この結果、組立効率が良好で、経時的にも安定した性能を得ることができる。
　　　【００２７】
　また、本実施例（請求項
２
　　　【００２８】
　また、本実施例（請求項
３
　　　【００２９】
　また、本実施例（請求項
４
　　　【００３０】
　また、本実施例（請求項
５
　　　【００３１】
　　【発明の効果】
　本発明によれば、装置の小型化を実現することができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ作業等を不用にして作業性を著しく向上させることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
　　【図１】
　本発明の一実施例に則した半導体レーザ光源装置におけるビーム合成の原理を示す図である。
　　【図２】
　本発明の一実施例に則した半導体レーザ光源装置の構成を示す斜視図である。
　　【図３】
　本発明の一実施例に則した半導体レーザ光源装置の構成を示す断面図である。
　　【符号の説明】
　１０，１１，２１，２２　半導体レーザ
　１２，１３，２６，２７　コリメータレンズ
　１４，１５　平行光束
　１６，１７，２８　アパーチャ
　１８　１／２波長板
　１９，３０　ビーム合成手段
　１９ａ　斜面
　１９ｂ　偏光ビームスプリッタ面
　２３，２４　支持体
　２５　基体
　２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄ，２９ｂ，２９ｃ　穴
　２８ａ，２８ｂ　スリット
　２９　フランジ部
　２９ａ　突起
　３１　基板
　３２，３３，３４，３５　ネジ
　３６　筐体
　３７　矢印
　３８　ネジ（光軸調整手段）
　３９　光軸