【事件の表示】
　特許第２８６２３１１号「面位置検出装置」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２８６２３１１号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第２８６２３１１号の請求項１に係る発明は、平成２年２月２３日に出願され、平成１０年１２月１１日に設定登録され、その後、特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年１１月２８日に訂正請求がなされたものである。
　
II．訂正の可否
１．訂正発明
　  上記訂正請求の内容は、特許請求の範囲の減縮を目的として請求項１の記載を訂正請求書に添付した訂正明細書のとおり訂正することを含むものである。
　訂正明細書の請求項１に係る発明（以下、「訂正発明」という。）は、その特許請求の範囲の請求項１に記載される次のとおりのものである。
　
「　被検面に対して傾いた方向から、該被検面上の第１測定点に第１ビームを照射せしめ該被検面上の該第１測定点とは異なる第２測定点に第２ビームを照射せしめる照射手段と、該第１、第２測定点で反射して被検面に対して傾いた方向へ向けられた該第１、第２ビームを光電変換手段に投影し、該光電変換手段から該第１測定点の高さに応じた第１信号と該第２測定点の高さに応じた第２信号とを出力せしめる投影手段とを有する装置であって、前記照射手段は単一のスリットの第１、第２のピンホールをそれぞれ前記第１、第２の測定点に結像せしめ、且つ該投影手段が、該光電変換手段上に、該第１、第２測定点の各像を互いにほぼ同じ大きさで形成することを特徴とする面位置検出装置。」
　
２．引用刊行物記載の発明
　　刊行物１：特開平１−２５３６０３号公報
　
　　訂正発明に対し、当審が訂正拒絶理由通知において引用した上記刊行物１には、面位置検出装置について次の記載がある。
（イ）第１図の装置概略（第２頁右下欄第２行〜同欄第１１行、第１図）
「以下、本発明の実施例の面位置検出装置を図に基づいて説明する。第１図に示すように、ウエハの表面等である被検出面ａ′が縮小投影露光レンズ２８に対向して配置される。露光レンズ２８の一方の側には、面検出用の指標像１′、２′、３′を形成するための光源部３０、指標像１′、２′、３′を投影するための第１投影系４０が形成され、また露光レンズ２８の他の側には、検出系５０、及び検出系５０に指標像１′、２′、３′の像を形成するための第２投影系６０が形成されている。」
　
（ロ）被検出面ａ′への指標像の投影（第２頁右下欄第１２行〜第３頁左上欄６行、第１図）
「光源部３０は、３つのＬＥＤ光源８ａ、８ｂ、８ｃ、これらの光源からの光束をそれぞれスリット１、２、３上に導くためのリレーレンズ９、１０、１１からなる。光源８ａ、リレーレンズ９及びスリット１の光軸Ａ、光源８ｂ、リレーレンズ１０及びスリット２の光軸Ｂ、さらに光源８ｃ、リレーレンズ１１及びスリット３光軸Ｃは、後述の走査ミラー１２の回軸中心を通過するように位置決めされている。スリット１、２、３は実質上指標として作用する。
　第１投影系４０は、走査ミラー１２、第１ミラー１６、第１投影レンズ４、第２ミラー１７、第２投影レンズ５を有する。そして、走査ミラー１２と第１ミラー１６との間には補正系４２が設けられている。」
　
（ハ）スリットを含む光源面と被検出面、補正系（第３頁左上欄第７行〜右上欄１８行、第１〜４図）
「　スリット１、２、３を含む光源面ａと被検出面ａ′とは、第２図に示すように、第１投影レンズ４及び第２投影レンズ５に関しシャインプルーフの条件を満足するように配置されている。また、第１投影レンズ４と第２投影レンズ５は、テレセントリック系を形成している。すなわち・・・従って、スリット１、２、３から射出された光束はテレセントリック系の入射瞳である第１投影レンズ４を通過後、第２対物レンズ５により光軸に平行な光束となって像空間を進み、被検出面ａ′上に指標像１′、２′、３′を形成する。
　補正系４２は、第１図に示すように、走査ミラー１２で反射された走査光軸Ａ’、Ｂ’、Ｃ’を考えるとき、光軸Ａ’、Ｂ’上には、単に光軸を折り曲げさせるための第３ミラー１４及び第４ミラー１５がそれぞれ配置される。光軸Ｃ’上には凸レンズ６、平行プリズム１３，凹レンズ７が配置される。凸レンズ６及び凹レンズ７は、逆望遠鏡系を形成する。すなわち、第１投影レンズ４と第２投影レンズ５の光軸Ｏに対し傾斜している光源面ａは、第３図に示すように、凸レンズ６及び凹レンズ７を挿入することによりスリット３が光学的に第１投影レンズ４から離れるようになり、光源面ａを光軸Ｏに対し垂直にする。
　補正系は、第１図及び第４図に示すように、光軸Ｃ’上に平行プリズム１３を有し、これによって光軸Ｃ’を平行移動させて、光軸Ａ’、Ｂ’、Ｃ’のいずれもが走査ミラー１２の回転中心を通過するようにする。」
　
（ニ）指標像の光検出器への投影（第３頁右上欄第１９行〜同頁右下欄第１行、第１図）
「第２投影系６０は、第１図に示すように、実質上光軸０の被検出面ａ′ による反射光軸である光軸０′上に、第３投影レンズ１８、第５ミラー１９、第４投影レンズ２０、第６ミラー２１を設けてなる。第３投影レンズ１８及び第４投影レンズ２０はそれぞれ第２投影レンズ５及び第１投影レンズ４に対応し、逆向きのテレセントリック光学系を形成し、また、被検出面ａ′と、後述の半導体位置検出器（ＰＳＤ）等の光検出器２５、２６、２７を含む検出面ａ″は共役になるように配置される。
　検出系５０は、第１図に示すように、指標像１′、２′からの光束を反射し、指標像３′ からの光束を通過させる孔あきミラー５２、指標像３′からの光束を反射するための第７ミラー５４を有する。検出系５０はさらに、指標像１′、２′、３′からのそれぞれの光束を導いて受光するためのリレーレンズ２２、２３、２４及び光検出器２５、２６、２７が設けられている。
　上記光学系において、スリット１、２、３から出た光束はそれぞれ同一倍率でかつ垂直に光検出器２５、２６、２７に入射するから、それぞれの光束は均等な条件で検出されることになる。」
　
（ホ）光検出器で検出された検出信号（第３頁右下欄第２行〜第４頁右上欄第１０行、第５図、第６図）
「なお、被検出面ａ′上に結像された各指標像１′、２′、３′は、第５図に示すように、正三角形の頂点にあり、指標像１′ 、２′、３′の座標をそれぞれ（Ｘ１，Ｙ１，Ｚ１）、（Ｘ２，Ｙ２，Ｚ２）、（Ｘ３，Ｙ３，Ｚ３）とすると、被検出面ａ′の露光される領域の中心は、上記正三角形の中心と一致する。上記各スリット像の位置を表示するため、第５図に示すように、上記正三角形の中心を原点とし、上記ウエハ面上にＸ、Ｙ軸が横たわり、該中心においてウエハ面に立てた法線方向にＺ軸があるような直交座標系を考える。直交座標系のＸ軸を指標像３′ を通る直線に選べば、Ｙ軸は指標像１′、２′を結ぶ線分に平行になる。
　次に、制御回路７０及び検出系５０で検出された検出信号を処理する検出回路８０を説明する。第６図に示すように・・・・また、被検出面ａ′のＺ方向の変位も指標像１″、２″、３″の変位として現われ、この変位は光検出器２５、２６、２７のアンバランス信号として検出される。
　検出回路８０は、第６図に示すように・・・位置検出回路８５に接続される（１系統のみ図示する）。
　上記回路において、光検出器８５で検出されたアンバランス信号はそれぞれ加算回路８１で加算され、減算回路８２で減算される。これらの出力は除算回路８３で除算されて両者の比が算出され、位置検出回路８５によって演算処理されてＺ方向の高さが求められる。
　同様にして、検出点２′および３′の位置の高さＺ２およびＺ３も夫々に位置検出信号として算出される。各位置検出信号Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は演算回路８６に導かれ、この演算回路はウエハの高さの平均（Ｚ１＋Ｚ２＋Ｚ３）／３及びＸ方向の傾き成分｛(Ｚ１＋Ｚ２）／２−Ｚ３｝、およびＹ方向の傾き成分（Ｚ１−Ｚ２）を演算し、ウエハ面ａ′の高さ及び傾きを算出する。」
　
（ヘ）発明の効果（第４頁右上欄第１７行〜同頁左下欄第２行）
「　本発明は、以上説明したように、複数の指標像が被検出面に同一倍率で同一の角度をもって入射され、また被検出面で反射された夫々の指標像の反射光は光検出器に同一倍率で垂直に入射するから、面位置すなわち面の高さ位置、傾斜等を高精度に検出することが出来る利点を有する。」
　
３．訂正発明と刊行物１記載の発明との対比
　訂正発明と刊行物１記載の発明とを対比すると、後者の「光検出器」は「光電変換手段」に相当する。また、刊行物１には、光電変換手段上に形成される該第１、第２測定点の各像の大きさが「互いにほぼ同じ大きさで形成」されるものであるとは記載されていないものの、スリットのピンホールからの複数の光束が、被検出面に同一倍率で同一の角度をもって入射され、また被検出面で反射されたそれぞれの測定点の各像を光検出器（光電変換手段）に同一倍率で垂直に入射させるように、同一倍率の照射手段および同一倍率の投影手段をわざわざ採用している理由は、「上記光学系において、スリット１、２、３から出た光束はそれぞれ同一倍率でかつ垂直に光検出器２５、２６、２７に入射するから、それぞれの光束は均等な条件で検出されることになる。」と記載されている（前記２（ニ）最終段落参照）ように、各光検出器上に形成される指標像が均等、すなわち大きさについては、互いにほぼ同じ大きさを形成するようにするためのものと認められる。
　そうすると、刊行物１記載の発明においても、測定点像の投影手段は「光電変換手段上に、該第１、第２測定点の各像を互いにほぼ同じ大きさで形成する」ものであり、光電変換手段上に形成される測定点像の大きさについて、訂正発明と刊行物１記載の発明とに実質的な相違は認められないから、両者は次の点で一致し、
＜一致点＞
「　被検面に対して傾いた方向から、該被検面上の第１測定点に第１ビームを照射せしめ該被検面上の該第１測定点とは異なる第２測定点に第２ビームを照射せしめる照射手段と、該第１、第２測定点で反射して被検面に対して傾いた方向へ向けられた該第１、第２ビームを光電変換手段に投影し、該光電変換手段から該第１測定点の高さに応じた第１信号と該第２測定点の高さに応じた第２信号とを出力せしめる投影手段とを有する装置であって、前記照射手段はスリットの第１のピンホール、第２のピンホールをそれぞれ前記第１、第２の測定点に結像せしめ、且つ該投影手段が、該光電変換手段上に、該第１、第２測定点の各像を互いにほぼ同じ大きさで形成することを特徴とする面位置検出装置。」
　
次の点で相違する。
＜相違点＞
    照射手段の測定点の数とスリットとに関し、訂正発明は「単一のスリットの第１、第２のピンホールをそれぞれ前記第１、第２の測定点に結像せしめ」るものであるのに対し、刊行物１記載の発明では、それぞれ異なるスリットの３つのピンホールを測定点に結像させるものである点。
　
４．相違点についての判断
　　訂正発明においては、「第１、第２の測定点に結像せしめ」と２つの測定点についてしか記載されていないものの、面の傾きと高さを検出する際に、２つの測定点を結ぶ線廻りの傾きを特に考慮しないですむ場合には、刊行物１に記載された３つの測定点を２つに減らし、例えば投影レンズに対して補正系を使用しないスリット１および２による２つの測定点を採用するようなことも、当業者が必要に応じて変更できる範囲内の事項である。
　そして、刊行物１におけるピンホールを有する３つのスリットが同一面上にあることは、前記２．（ハ）の「スリット１、２、３を含む光源面ａと被検出面ａ′とは、第２図に示すように、第１投影レンズ４及び第２投影レンズ５に関しシャインプルーフの条件を満足するように配置されている。」という記載からも明らかであり、同一面上にある２以上のピンホールが必要な場合、単一のスリットに２以上のピンホールを設けて使用することも、普通に行われていることであるから、第１、第２の測定点に光ビームを照射する照射手段として、ピンホール毎別体のスリットに変えて、単一のスリットの第１、第２のピンホールをそれぞれ第１、第２の測定点に結像せしめるように設計することは、当業者が適宜設計変更し得る程度の事項である。
　また、それによる、複数の指標となるべきピンホールが別部材に設けられている場合の位置精度のバラツキ防止が避けられるとの効果は、当然予測し得る範囲内のものにすぎない。
　
５．意見書の主張について
　　特許権者は平成１３年５月７日付け意見書において、投影レンズ４，５の光軸Ｏに対して傾斜した光軸をＣ’を補正系によって構成しているため、この補正系を経由して結合されたスリット３の像は、他のスリットの像に対して結像面が傾斜することになり、スリット３の被検面上の像は他の像と異なる倍率で形成されていること、この偏倍を補正するためには３つのスリットを少なくとは１部傾斜して配置せざるを得ず、刊行物１記載のスリットを別体構成にすることは必然で、当業者に同一スリットを想起させる発明ではない旨、主張している。
　しかしながら、刊行物１におけるピンホールを有する３つのスリットが同一面上にあることは、前記２．（ハ）の如く明記されていることである。また、２つの測定点に光ビームを照射する２つのスリットとして、補正系と関係のないスリット１，２を選択することが可能であり、その場合には特許権者の主張するスリット３と他のスリットとの像の間の問題は、そもそも関係がないので、当該意見書における特許権者の主張は妥当なものではない。
　
６．訂正の可否について
　したがって、訂正発明は、刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正前の同法第１２６条第３項の規定に適合しないので、当該訂正は認められない。
　
III．特許異議の申立てについての判断
１．本件発明
　  請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、特許請求の範囲の請求項１に記載される次のとおりのものである。
　
「　被検面に対して傾いた方向から、該被検面上の第１測定点に第１ビームを照射せしめ該被検面上の該第１測定点とは異なる第２測定点に第２ビームを照射せしめる照射手段と、該第１、第２測定点で反射して被検面に対して傾いた方向へ向けられた該第１、第２ビームを光電変換手段に投影し、該光電変換手段から該第１測定点の高さに応じた第１信号と該第２測定点の高さに応じた第２信号とを出力せしめる投影手段とを有する装置であって、該投影手段が、該光電変換手段上に、該第１、第２測定点の各像を互いにほぼ同じ大きさで形成することを特徴とする面位置検出装置。」
　
２．特許法第２９条違反について
　　当審が平成１２年９月１９日に通知した取消理由に引用した刊行物１（特開平１−２５３６０３号公報）には、上記II．２．に記載した発明が記載されている。
　
　そして、本件発明と刊行物１に記載された発明とを対比すると、後者の「光検出器」は「光電変換手段」に相当する。また、刊行物１には、光電変換手段上に形成される該第１、第２測定点の各像の大きさが「互いにほぼ同じ大きさで形成」されるものであるとは記載されていないものの、スリットのピンホールからの複数の光束が、被検出面に同一倍率で同一の角度をもって入射され、また被検出面で反射されたそれぞれの測定点の各像を光検出器（光電変換手段）に同一倍率で垂直に入射させるように、同一倍率の照射手段および同一倍率の投影手段をわざわざ採用している理由は、「上記光学系において、スリット１、２、３から出た光束はそれぞれ同一倍率でかつ垂直に光検出器２５、２６、２７に入射するから、それぞれの光束は均等な条件で検出されることになる。」と記載されている（前記２（ニ））ように、各光検出器上に形成される指標像が均等、すなわち大きさについては、互いにほぼ同じ大きさを形成するようにするためのものと認められる。
　そうすると、刊行物１記載の発明においても、測定点像の投影手段は「光電変換手段上に、該第１、第２測定点の各像を互いにほぼ同じ大きさで形成する」ものであり、光電変換手段上に形成される測定点像の大きさについて、訂正発明と刊行物１記載の発明とに実質的な相違は認められないから、刊行物１には、
「　被検面に対して傾いた方向から、該被検面上の第１測定点に第１ビームを照射せしめ該被検面上の該第１測定点とは異なる第２測定点に第２ビームを照射せしめる照射手段と、該第１、第２測定点で反射して被検面に対して傾いた方向へ向けられた該第１、第２ビームを光電変換手段に投影し、該光電変換手段から該第１測定点の高さに応じた第１信号と該第２測定点の高さに応じた第２信号とを出力せしめる投影手段とを有する装置であって、前記照射手段はスリットの第１のピンホール、第２のピンホールをそれぞれ前記第１、第２の測定点に結像せしめ、且つ該投影手段が、該光電変換手段上に、該第１、第２測定点の各像を互いにほぼ同じ大きさで形成することを特徴とする面位置検出装置。」という発明が記載されているものと認められるので、本件発明は、特許法第２９条第１項第３号に該当する。
　　　　
IV．むすび
　以上のとおりであるから、本件発明は、特許法第２９条第１項第３号に該当し特許を受けることができない。
　したがって、本件発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認める。　　
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２号の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年６月２９日（２００１．６．２９）