【事件の表示】
　特許第２７６９８９７号「露光装置」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２７６９８９７号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
【1】手続の経緯
　特許第2769897号の請求項1〜4に係る発明は、平成2年1月19日の出願であって、平成10年4月17日にその設定登録がなされ、その後、申立人 磯部法子及び申立人 菅原益夫より特許異議申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成11年8月16日に訂正請求がなされた後、訂正拒絶理由が通知され、訂正拒絶理由通知に対して平成11年12月7日付けで手続補正書が提出されたものである。
　
【2】訂正の適否についての判断
《2-1》訂正請求に対する補正
　特許権者は、訂正請求書に添付された訂正明細書について、以下の(1)及び(2)の補正を求めるものである。
　(1)訂正明細書第1頁5~10行の『(1)投影光学系を…露光装置。』(特許請求の範囲請求項1)を、特許請求の範囲の減縮を目的として、
　『(1)投影光学系を支持する鏡筒定盤と、露光すべき基板を搭載して移動するステージと、該ステージを支持するステージ定盤と、該鏡筒定盤を設置床上に支持するマウント手段とを備え、前記鏡筒定盤と一体化された吊り下げ部材を介して前記ステージ定盤を前記鏡筒定盤と一体化するように構成し、前記マウント手段と前記鏡筒定盤との結合部が、前記ステージ定盤よりも高い位置にあることを特徴とする露光装置。』
と補正する。
(2)訂正明細書第3頁16~18行の『前記目的を…を特徴とする』を、明りょうでない記載の釈明を目的として、
　『前記目的を達成するため、本発明の露光装置は、鏡筒定盤と一体化された吊り下げ部材を介してステージ定盤を一体化するように構成し、マウント手段と鏡筒定盤との結合部が、ステージ定盤よりも高い位置にあることを特徴とする。』
と補正する。
　
　上記(1)の補正は、補正前の訂正明細書の請求項1の記載「ステージ定盤を前記鏡筒定盤から動剛性が上がるように吊り下げて支持する」構成を、明細書に記載された事項の範囲内で「鏡筒定盤と一体化された吊り下げ部材を介して前記ステージ定盤を前記鏡筒定盤と一体化する」構成として減縮したものである。そして上記(2)の補正は、補正1に伴って生じる明細書の不明りょうとなる記載を釈明である。すなわち、上記(1)及び(2)の補正は、それぞれ特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当し、訂正明細書に記載した事項の範囲内での補正であり、補正前の訂正請求書により訂正を求める要旨の範囲内のものである。よって、上記補正は、請求書の補正について規定する特許法第131条第2項の規定に適合する。
　
《2-2》訂正の適否についての判断
《2-2-1》訂正後の発明
　訂正後の請求項1〜2に係る発明は、補正された訂正明細書の特許請求の範囲の請求項1〜2に記載された次のとおりのものである。
　「(1)投影光学系を支持する鏡筒定盤と、露光すべき基板を搭載して移動するステージと、該ステージを支持するステージ定盤と、該鏡筒定盤を設置床上に支持するマウント手段とを備え、前記鏡筒定盤と一体化された吊り下げ部材を介して前記ステージ定盤を前記鏡筒定盤と一体化するように構成し、前記マウント手段と前記鏡筒定盤との結合部が、前記ステージ定盤よりも高い位置にあることを特徴とする露光装置。」(以下、「本件発明1」という。)
　「(2)前記ステージ定盤の重量を前記鏡筒定盤で支え、該鏡筒定盤を介して前記ステージ定盤を間接的に前記マウント手段に支持させたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の露光装置。」(以下、「本件発明2」という。)
　
《2-2-2》訂正の要旨
　特許権者が求めている訂正の内容は以下の(i)〜(vi)のとおりである。
訂正事項(i):
　特許請求の範囲請求項1の「前記ステージ定盤を前記鏡筒定盤から吊り下げて支持するように構成した」を、特許請求の範囲の減縮を目的として
　「前記鏡筒定盤と一体化された吊り下げ部材を介して前記ステージ定盤を前記鏡筒定盤と一体化するように構成し、前記マウント手段と前記鏡筒定盤との結合部が、前記ステージ定盤よりも高い位置にある」と訂正する。
訂正事項(ii):
　特許請求の範囲請求項3および請求項4を、特許請求の範囲の減縮を目的として削除する。
訂正事項(iii):
　明細書第6頁第12~15行の「本発明に…特徴とする。」を、明りょうでない記載の釈明を目的として「本発明の露光装置は、鏡筒定盤と一体化された吊り下げ部材を介してステージ定盤を鏡筒定盤と一体化するように構成し、マウント手段と鏡筒定盤との結合部が、ステージ定盤よりも高い位置にあることを特徴とする。」と訂正する。
訂正事項(iv):
　明細書第9頁第8行の「他の実施例」を、明りょうでない記載の釈明を目的として「参考例」と訂正する。
訂正事項(v):
　明細書第10頁第7~12行の「動作…できる。」を、明りょうでない記載の釈明を目的として削除する。
訂正事項(vi):
　明細書第11頁第8行の「本発明の他の実施例」を、明りょうでない記載の釈明を目的として「参考例」と訂正する。
　
《2-2-3》訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項(i)、(ii)は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、上記訂正事項(iii)〜(vi)は、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。 また、これらは、願書に添付した明細書及び図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　
《2-2-4》独立特許要件の判断
《2-2-4-1》刊行物
　当審が発した取消理由通知書、訂正拒絶理由通知において引用した刊行物は以下のとおりである。
刊行物1:  特開昭63-153819号公報 (磯部法子及び菅原益夫の甲第1号証)
刊行物2:  特開昭62-39012号公報 (菅原益夫の甲第2号証)
刊行物2:  O plus E, No.49, 1983年12月, 第95〜100頁 (菅原益夫の甲第3号証)
　
[刊行物1] (特開昭63-153819号公報)
[1-1](特許請求の範囲第1項)
　「原板上に形成されているパターンを投影レンズを介してステージ上に載置された基板上に露光する露光装置の、該基板を載置するステージを、上記投影レンズの光軸に対して垂直な方向に移動可能であってさらに上記投影レンズ像面と上記基板とが平行となるように、上記投影レンズを保持する投影レンズ取付台から吊り下げ、かつ該投影レンズ取付台を固定するマウント間を上記ステージの下部で連結するベースプレートと上記ステージの下面との微小隙間には、高粘性流体を満たすことを特徴とする露光装置のステージ搭載機構。」
[1-2](第3頁右上欄第4行~同頁左下欄第10行)
　「第1図は、本発明の一実施例に係る半導体素子露光装置に搭載されたウエハステージとその近傍の概略構成を示す。同図において、1-1はレチクル上のパターンを縮小投影する投影レンズ、1-2は投影レンズ取付台である。この投影レンズ取付台1-2は、投影レンズ1-1を保持し、かつワイヤ1-3、1-3'を介してウエハステージを搭載するステージ定盤1-7を吊り下げている。・・(中略)・・1-15、1-15'は外部からの振動の伝達を遮断しかつ装置全体の姿勢を維持するためのサーボマウント、1-16はサーボマウントを連結するベースプレートである。」
[1-3](第4頁左下欄第19行~右下欄第7行)
　「以上説明したように、本発明によれば、・・(中略)・・装置全体の振動を抑制することができ、装置全体のコンパクト化、コストの軽減が可能となる。また、ステージの微動機構をステージ本体より構造部材(ベースプレート)側に設置することにより、ステージの軽量化およびコンパクト化にも効果がある。」
[1-4]第1図
　第1図には、半導体露光装置において、投影レンズ取付台1-2がベースプレート1-16にサーボマウント1-15、1-15'で支持され、当該レンズ取付台1-2の上部からワイヤ1-3、1-3'を介してステージ定盤1-7が吊り下げられている点が記載されている。
　「投影レンズ取付台」は、レンズを含む投影光学系を取り付ける部材であるから、本件発明1、2でいう「鏡筒定盤」に相当する。
　
　以上の記載事項からみて、刊行物1には、「投影光学系を支持する鏡筒定盤と、基板を搭載する移動するステージと、該ステージを支持するステージ定盤と、該鏡筒定盤を設置床上に支持するマウント手段とを備え、前記ステージ定盤をワイヤを介して前記鏡筒定盤から吊り下げて支持するように構成してなる露光装置。」の発明が記載されている。
　
[刊行物2] (特開昭62-39012号公報)
[2-1] (特許請求の範囲) 
　「X線源と、マスクおよびウエハ間の位置合せを行う位置合せ装置と、これらX線源および位置合せ装置間に発生する振動を防止する空気ばねとを具備し、該空気ばねの設置位置をX線源のX線発生点の高さ位置と略同一に構成したことを特徴とするX線露光装置。」
[2-2] (第2頁右上欄第18行~左下欄第4行)
　「本発明は前記の目的を達成するため、空気ばねの取付位置を X線源のX線発生点の高さ位置と略同一にし、これにより空気ばねの高さ方向の位置決め誤差によって発生するマスクとウエハとの傾斜の回転中心を上記X線発生点に一致させてマスクへのX線の入射方向に変化を発生させないようにしたことを特徴とするものである。」
[2-3] (第2頁左下欄第6行~第17行)  
　「以下、本発明の一実施例を示す第1図について説明する。・・(中略)・・またマスク8とウエハ9とを位置合せする位置合せ装置10を支持する定盤6を固定する底壁14aとこの底壁14aの両端部より上方に平行に延びる側壁14bと、これら側壁14bの上端部より外方直角方向に折り曲げられた上壁14cとからなる定盤支持用架台14は空気ばね7および空気ばね用架台15により床5上に支持され床5に発生する振動が伝わらないように形成されている。」
[2-4]第1図
　第1図には、X線露光装置において、ウエハ9等を支持する定盤6を固定する定盤支持用架台14が、定盤6より高い位置で空気ばね7および空気ばね用架台15により支持されている点が記載されている。
　なお、「空気ばね」および「空気ばね用架台」は、定盤6を固定する架台14を支持するものであるから、本件発明1,2でいう「マウント手段」に相当する。
　以上の記載事項からみて、甲第2号証には、「露光装置において、ステージに連接する定盤を、床からの振動が伝わらないように、ステージ位置より上方でマウント手段により支持してなる露光装置。」に係る発明が記載されている。
　
[刊行物3] (O plus E, No.49, 1983年12月, 第95〜100頁)
[3-1] (第100頁左欄第22行~右欄第6行)
　「3.3振動の非連成化
　機器を防振支持する場合、その支持点を機器の底面など、重心より離した位置にすると水平振動により機器の回転運動が発生され、これが防振効果に大きな悪影響を与えることはすでに記した通りである。この対策として水平重心線上において機器の支持を行い、水平振動による回転振動発生の防止を行う方法が採用されることがある。この方法は図12に示す懸垂支持方式かビット型支持方式である。この方式の採用によっても、床の上下振動変位による機器の回転振動は残るので、完全な非連成化の達成は得られないが、水平振動を非連成化することにより、防振効果の向上を得ることができる。」
[3-2]図12(第100頁上段)
　図12には、水平重心線支持方式が図示されており、懸垂型方式の場合、機器およびそれを支持する架台が、機器の重心の高さで防振装置を介して、床に連接する支持部材で支持されている点が記載されている。
　ここで、「防振装置」および床に連接する支持部材は、併せて本件発明1、2でいう「マウント手段」に相当する。
　以上の記載事項からみて、甲第3号証には、精密機器の設置にあたり、床等からのものを含めた振動を防止するために、機器の水平重心線の高さで、マウント手段により支持する点が記載されている。
　
《2-2-4-2》対比・判断
[本件発明1]
　本件発明1と刊行物1に記載された発明とを対比すると、
　「投影光学系を支持する鏡筒定盤と、露光すべき基板を搭載して移動するステージと、該ステージを支持するステージ定盤と、該鏡筒定盤を設置床上に支持するマウント手段とを備え、吊り下げ部材を介して前記ステージ定盤を前記鏡筒定盤と連結するように構成した露光装置。」
の点で、両者は一致し、以下の点で相違する。
相違点1:
　本件発明1は、鏡筒定盤と一体化された吊り下げ部材を介して前記ステージ定盤を前記鏡筒定盤と一体化するように構成したのに対して、刊行物1に記載された発明では、ステージ定盤をワイヤを介して前記鏡筒定盤から吊り下げて支持した点。
相違点2:
　本件発明1は、前記マウント手段と前記鏡筒定盤との結合部が、前記ステージ定盤よりも高い位置にあるのに対して、刊行物1に記載された発明では、サーボマウントと鏡筒定盤との結合部がステージ定盤より低い位置ある点。
　
　そこで、上記相違点1を検討するに、刊行物2,3をみても鏡筒定盤と一体化された吊り下げ部材を介してステージ定盤を前記鏡筒定盤と一体化する点は記載されていない。ところで、周知技術(特開昭50-159677号公報、特開昭61-73327号公報参照)によれば、鏡筒定盤とステージ定盤とを部材を介して一体化した具体例が存在することは周知であった。しかしながら、2つの定盤連結部の剛性(動剛性)を高めて相対振動の減衰性能を向上させるために鏡筒定盤と一体化された吊り下げ部材を介してステージ定盤を鏡筒定盤と一体化するという知見は刊行物1〜3の記載からは見いだせない。
　次に相違点2を検討するに、刊行物3には、振動を防止するために、機器の水平重心線の高さで、マウント手段により支持する点が記載されているが、2つの定盤が結合されたものにおいて上方に位置する鏡筒定盤とマウント手段との結合部をステージ定盤よりも高い位置とする点は刊行物1〜3には記載されておらず、その示唆もない。
　そして本件発明1は、上記相違点1、2における本件発明1の構成により明細書記載の効果を奏するものである。
　従って、本件発明1は刊行物1〜3に記載された発明と認められないばかりでなく、刊行物1〜3に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものとも認められない。
　
[本件発明2]
　本件発明2は、「鏡筒定盤を介して前記ステージ定盤を間接的に前記マウントに支持させた」構成を本件発明1の構成にさらに付加したものである。よって、本件発明2と刊行物1に記載された発明とを比較すると、[本件発明1]で述べた相違点1、2が存在し、[本件発明1]で述べた理由と同じ理由によって、本件発明2は刊行物1〜3に記載された発明と認められないばかりでなく、刊行物1〜3に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものとも認められない。
　
《2-3》むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第120条の4第2項及び同条第3項で規定する訂正について、平成6年法律第116号附則第6条第1項の規定によりなお従前の例によるとされる改正前の特許法第126条第1項ただし書き、同条第2項及び同条第3項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
【3】特許異議の申立てについての判断
《3-1》申立ての理由の概要
　特許異議申立人 磯部法子は、特許第2769897号の請求項1,2に係る発明は、刊行物1に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第29条第2項の規定違反して特許されたものであり、取り消されるべきものである旨主張している。
　特許異議申立人 菅原益夫は、特許第2769897号の請求項1,2,3に係る発明は、刊行物1に記載された発明であるから、特許法第29条第1項の規定違反して特許されたものであり、取り消されるべきものである旨、また、請求項4に係る発明は、刊行物1,2,3に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第29条第2項の規定違反して特許されたものであり、取り消されるべきものである旨主張している。
　なお、訂正請求により、訂正前の請求項3,4は削除された。
　
《3-2》判断
　本件発明1,2は、上記《2-2-4》独立特許要件の判断で示したように、異議申立人の提示した刊行物1〜3に記載された発明と認められないばかりでなく、刊行物1〜3に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものとも認められない。
　
【4】むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠方法によっては、本件発明1,2の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明1,2の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年４月１９日（２０００．４．１９）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　特許第２７６９８９７号（平成２年１月１９日出願、平成１０年４月１７日設定登録）の願書に添付した明細書を、特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的として、訂正請求書（平成１１年８月１６日請求、平成１１年１２月７日補正）に添付した訂正明細書のとおり、すなわち、次の（ｉ）〜（ｖｉ）のとおり訂正する。
訂正事項（ｉ）：
　特許請求の範囲請求項１の「前記ステージ定盤を前記鏡筒定盤から吊り下げて支持するように構成した」を、特許請求の範囲の減縮を目的として
　「前記鏡筒定盤と一体化された吊り下げ部材を介して前記ステージ定盤を前記鏡筒定盤と一体化するように構成し、前記マウント手段と前記鏡筒定盤との結合部が、前記ステージ定盤よりも高い位置にある」と訂正する。
訂正事項（ｉｉ）：
　特許請求の範囲請求項３および請求項４を、特許請求の範囲の減縮を目的として削除する。
訂正事項（ｉｉｉ）：
　明細書第６頁第１２〜１５行の「本発明に…特徴とする。」を、明りょうでない記載の釈明を目的として「本発明の露光装置は、鏡筒定盤と一体化された吊り下げ部材を介してステージ定盤を鏡筒定盤と一体化するように構成し、マウント手段と鏡筒定盤との結合部が、ステージ定盤よりも高い位置にあることを特徴とする。」と訂正する。
訂正事項（ｉｖ）：
　明細書第９頁第８行の「他の実施例」を、明りょうでない記載の釈明を目的として「参考例」と訂正する。
訂正事項（ｖ）：
　明細書第１０頁第７〜１２行の「動作…できる。」を、明りょうでない記載の釈明を目的として削除する。
訂正事項（ｖｉ）：
　明細書第１１頁第８行の「本発明の他の実施例」を、明りょうでない記載の釈明を目的として「参考例」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
露光装置
（５７）【特許請求の範囲】
　（１）投影光学系を支持する鏡筒定盤と、露光すべき基板を搭載して移動するステージと、該ステージを支持するステージ定盤と、該鏡筒定盤を設置床上に支持するマウント手段とを備え、前記鏡筒定盤と一体化された吊り下げ部材を介して前記ステージ定盤を前記鏡筒定盤と一体化するように構成し、前記マウント手段と前記鏡筒定盤との結合部が、前記ステージ定盤よりも高い位置にあることを特徴とする露光装置。
　（２）前記ステージ定盤の重量を前記鏡筒定盤で支え、該鏡筒定盤を介して前記ステージ定盤を間接的に前記マウント手段に支持させたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
　本発明は、半導体素子製造等に用いられる露光装置に関し、詳しくは投影レンズ搭載台を床から支持し、基板を載置するステージの取付け台を投影レンズ搭載台より吊り下げる構造を有する露光装置に関するものである。
［従来の技術］
　従来、半導体素子製造に用いられる露光装置として、いわゆるステッパと呼ばれる装置が知られている。このステッパは、基板、例えば半導体ウエハを投影レンズ下でステップ移動させながら、原板、例えばレチクル（またはマスク）上に形成されているパターン像を投影レンズで縮小し、１枚のウエハ上の複数箇所に順次露光して行くものである。
　ステッパは、解像度および重ね合せ精度の性能面からこれからのアライナ（露光装置）の主流と見られている。
　第３図は、従来のアライナにおける構造体およびＸＹステージの搭載例を示す。
　同図において、１はレチクルパターンを照明する照明部、２は転写すべきパターンを有するレチクル、３はレチクルパターンをウエハ上に投影する投影レンズ、４は投影レンズ３を支持する鏡筒支持定盤、１６ａは投影レンズ３の焦点とウエハ間の距離を計測するフォーカス検出部の発光部、１６ｂは同じくフォーカス検出部の受光部、６はステージの位置を制御するための干渉計、９はトップステージ、１０はＸステージ、１１はＹステージ、１７はＸステージ駆動用ＤＣモータ、１８はＹステージ駆動用ＤＣモータ、６１は投影レンズ３やＸＹステージ１０、１１などの全体を搭載する支持定盤、６２はフレーム、６３はサーボマウントである。
　このような構成のアライナで処理される半導体ウエハについては、半導体素子の大面積化およびコスト低減を図るために、大口径・大サイズの半導体ウエハを用いる傾向にある。現在、ウエハサイズはφ６′（φ１５０ｍｍ）が主流であるが、１９９０年以降にはφ８′（φ２００ｍｍ）が主流となるものと見込まれる。
　一方、半導体素子（特にＤＲＡＭ）は４Ｍ（メガ）ビット時代から１６Ｍ（メガ）ビット時代へと高集積化が進み、線巾も微細化している。したがって、より高精度の位置合せ、高精度のＸＹステージ、高スループット等が切望されている。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、従来のφ３′〜φ６′用露光装置を単にφ８′用にサイズアップしＸＹステージを第３図の支持定盤６１に直接固定する従来のステッパの構造によれば以下のような問題点が生じる。
　ａ）ＸＹステージ９、１０、１１のストロークアップのため、ステージの精度としてストロークアップ前のものと同じ精度またはそれ以上の精度を保証するためには、ガイド剛性を上げる必要がある。また、前記した高精度ステージの要求を満たすために、ステージ重量は単にストロークアップによる重量増加分よりさらに増大せざるを得ない。そのため、ステージ移動の加速度による加振力の増大と、投影レンズの重量の増加によるレンズ支持の構造体の相対剛性ダウンによる振動問題が生じ、そのために以下のような問題点が発生する。
　▲１▼構造体強化による装置の大型化およびコストアップが生じる。
　▲２▼構造体制振まで露光およびアライメント動作を行なえないため、生産性がダウンする。
　ｂ）一方、ステージの重量増は静的には移動荷重の増大となり、ＸＹステージのポジションにより装置の姿勢が変化するという問題が生じる。そのため、以下のような問題点が発生する。
　▲１▼アライメント精度が劣化する。
　▲２▼生産性のダウンを防止するため、装置姿勢を瞬時に一定姿勢にする必要がある。そのために第３図の従来構成においてサーボマウント能力を向上する必要があり、コストアップにつながる。
　▲３▼重量増大した装置全体を一定姿勢にするため制御機構が大型化・複雑化するとともに高精度な姿勢制御が困難になる。
等の問題が発生する。
　本発明は、上述の従来技術の問題点に鑑み、コンパクトな構成で装置の振動防止を実現し、安価かつ高精度で高スループットの露光装置を構成することを目的とする。
［課題を解決するための手段及び作用］
　前記目的を達成するため、本発明の露光装置は、鏡筒定盤と一体化された吊り下げ部材を介してステージ定盤を鏡筒定盤と一体化するように構成し、マウント手段と鏡筒定盤との結合部が、ステージ定盤よりも高い位置にあることを特徴とする。
　本構成により、第１にマウント位置を本体重心点付近に配置でき、ステージ移動による本体振動に対する減衰性能の向上が図られる。また床等外部からの振動に対する除振性能も向上する。さらに、本体振動における回転中心が本体重心点付近に来ることから別置の露光用光源（例：エキシマレーザ）にとって、その入射位置を本体回転中心に配置しやすくなるため、露光光学系に有利となる。また、第二の作用効果としてステージ定盤と鏡筒定盤の相対振動に関して、被振動物が鏡筒定盤からステージ定盤に代わったことで重量が軽減し、２つの定盤連結部材の動剛性が上がることによって相対振動の減衰性能が向上する。
　以上のことから、スループットを犠牲にすることなくアライメント精度、焼き付け精度の向上が図られる。
［実施例］
　以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
　第１図は本発明の第１の実施例の側面図（一部は透視して表わしている）である。同図において、１はレチクルを照明する照明部、２は転写すべきパターンを有するレチクル、３はレチクル上に形成されたパターンをウエハ上に投影する投影レンズ、４は投影レンズを支持する鏡筒定盤、５は鏡筒定盤４を支持するマウント、６はＹ方向に移動可能なＹステージ、７はＸ方向に移動可能なＸステージ、８はＸステージ７上に取り付けられたＺ方向、θ方向、αおよびβ方向に移動および回転する機能を有するトップステージである。９は各ステージ６〜８を支持するステージベース、１０はステージベース９を支持するステージ定盤である。なお、マウント５としては、通常のエアーマウントまたはアクティブマウントを用いることができる。１１はＸＹステージの位置を検出するレーザ干渉計、１２はＹステージ６を駆動するＤＣサーボモータ、１３はＸステージ７を駆動するＤＣサーボモータである。なお、ここでは、吊り下げ部材を鏡筒定盤と一体物として、高剛性化を図っている。
　次に動作を説明する。
　本体の振動の中で最も減衰が悪いものは、一般的にα、βの回転運動を主に、Ｘ、Ｙ、Ｚの平行運動を含む連成振動である（ロッキングと呼ばれている）。ステージがステップ移動した場合、このロッキングが顕著に現われる。例えば、ステージがＸステップした場合の投影レンズのＸ方向加速度を見ると、従来技術では、第２図（ａ）の実線グラフのようになる。しかしながら、本発明により本体重心点付近を支持することで、本体振動の減衰性能は向上し、第２図（ｂ）のようになる。
　第４図は本発明の参考例を示す図で、１はレチクル２を照明する照明部、２は転写すべきパターンを有するレチクル、３はレチクル上に形成されたパターンをウエハ上に投影するための投影レンズ、４は投影レンズを支持する鏡筒定盤、５は装置全体を支持するエアーマウントまたはアクティブダンパー、６はＹ方向に移動可能なＹステージ、７はＹステージ６に支持され、かっＸ方向に移動可能なＸステージ、８はＸステージ７上に取り付けられたＺ方向、θ方向、αおよびβ方向に移動および回転する機能を有するトップステージ、９は各ステージ６〜８を支持するステージベース、１０はマウント５により支持され、ステージベース９を支持するステージ定盤、１１はＸＹステージの位置を検出するレーザー干渉計、１２、１３はＹステージ６、Ｘステージ７を駆動するＤＣサーボモーターである。なおここでは鏡筒定盤４、ステージ定盤１０ともマウント５により支持される構造を有している。
［発明の効果］
　以上説明したように、本発明によれば、ステージ定盤を鏡筒定盤から吊り下げ、鏡筒定盤をマウントするという簡単な構造転換により、本体振動の減衰性能を向上させることができる。また、構造上ステージ定盤と鏡筒定盤の距離を短かくできるため、吊り下げ部材を鏡筒定盤と一体化した場合、高剛性化が可能となり、焼付け精度が向上する。
【図面の簡単な説明】
　第１図は本発明の実施例の全体構成図、
　第２図（ａ）、（ｂ）は各々従来構造および本発明構造における振動減衰特性を示す変位応答図、
　第３図は従来の露光装置の全体構成図、
　第４図は参考例の全体構成図である。
　１：照明部、
　２：レチクル、
　３：投影レンズ、
　４：鏡筒定盤、
　５：マウント、
　６：Ｙステージ、
　７：Ｘステージ、
　８：トップステージ、
１０：ステージ定盤。