【事件の表示】
　特許第２９８１７０５号「プラズマディスプレイパネルの製造方法」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９８１７０５号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
（１）手続きの経緯
　特許第２９８１７０５号の請求項１に係る発明についての出願は、平成４年１０月３０日に特許出願され、平成１１年９月２４日にその発明について特許の設定登録がなされた後、平成１２年５月２２日付けで特許異議申立人イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニーより請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てがなされたものである。
　
（２）異議申立てについて
　ア．本件発明
　特許第２９８１７０５号の請求項１に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
【請求項１】 一定の空間を隔てて互いに平行にかつ対向して配した一対の絶縁板の内側に、相対向して交差する二組の電極群を設け、かつ該両電極群間の直交する部分に放電セルを形成するための障壁をフォトリソグラフィ法により形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、前記障壁を形成するための工程として、感光性ペーストを予めポリエステルフィルムあるいは紙等の可撓性基材に塗布して塗布膜を得る工程と、前記可撓性基材に設けた前記塗布膜を前記何れかの絶縁板に貼着した後、前記可撓性基材を取り除いて該塗布膜を前記絶縁板に転写し、該転写した塗布膜の障壁形成するのに必要な部分を露光する工程と、これらの工程を繰り返して、該塗布膜を積層し、所望高さの形成層を得る工程と、該形成層を現像・乾燥・焼成する工程とを有し、該各工程を経て所望高さの障壁を得ることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
　
　イ．申立ての理由の概要  　
　特許異議申立人は、証拠として甲第１号証（特開平３−１４２１号公報）、甲第２号証（特開平２−２５８４７号公報）、を提出し、請求項１に係る発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであるから、請求項１に係る発明の特許を取り消すべき旨主張している。
　
　ウ．申立人が提出した各甲号証の説明
　申立人が提出した甲第１号証には、次の事項がＦＩＧ．１とともに記載されている。
（１）「本発明はプラズマ表示素子の製造方法に関するものであって、特に写真蝕刻法で電極および隔壁を形成するプラズマ表示素子の製造方法に関する。
　一般にプラズマ表示素子は２枚の硝子基板に形成される上下部のそれぞれ異なる二つの電極、即ち、エノード電極とカソード電極間にガスを封入し、前記電極に電圧を印加することにより発生するガス放電を利用して数字、又は文字等を表現する表示素子である。
　これら放電表示装置の一般的構造は、一方向に延長される複数個の平行電極等からなるエノード電極群と、前記エノード電極群と所定の間隔を置いて対向し、前記エノード電極群の延長方向と交叉しながら延長される複数個の平行電極等からなされるカソード電極群から形成されるマトリックス形態に構成されるが、前記エノード電極群とカソード電極群をなす各電極の対向交叉部は発光表示部、即ち、画素になり、前記画素と画素の間にはカソード電極側から発生するプラズマグローウ（Ｐｌａｓｕｍａ　Ｇｌｏｗ）放電の拡散を防止するための隔壁が形成される。」（第１頁右欄第１３行〜第２頁左上欄第１４行）
（２）「添付図面は本発明によるＰＤＰの製造方法を説明するものである。
　先ず、カソード電極形成方法に関して説明する、即ち、硝子基板１上に水溶性感光樹脂２を…塗布する。（図面イ参照）…
　かくの如く硝子基板１１に塗布された水溶性感光樹脂２を乾燥炉で…乾燥させ、カソード電極を形成させるためのパターンには前記の感光樹脂２が除去されるように…マスクを設けた後に露光現像を行う。
　これにより、カソード電極を形成するための部分の水溶性感光樹脂が除去される。（図面ロ参照）
　続いて…カソード電極用ニッケルペースト（Ｐａｓｔｅ）３を、図面ハに図示された如く、次の不必要な部分、例えば水溶性感光樹脂上のニッケルペースト３を除去する。
　即ち、水溶性感光樹脂２が除去された部分にのみニッケルペーストが固着され、…
従って図面（ニ）に図示する如く硝子基板１上にカソード電極４が形成される。
　次にはエノード電極６と隔壁７に対して説明する。先ず、エノード電極６は前記するカソード電極形成方法と同一に形成した後、又本発明によるＰＤＰの隔壁を形成させる。
　前記のためにエノード電極が形成された硝子基板１’上に水溶性感光樹脂２を…塗布した後隔壁形成用マスクを…設けて、露光、現像とするとエノード電極６を除いた部分の水溶性感光樹脂２が除去されエノード電極８上にのみ前記水溶性感光樹脂２が塗布された状態になる。
　これに隔壁用硝子ペースト５を塗布乾燥すれば図面（ホ）の如くなる。
　前記の隔壁用硝子ペースト５が塗布された状態で過酸化水素溶液に浸澱させると水溶性感光樹脂２が除去されると同時に感光樹脂２上に塗布されている硝子ペーストが除去される。
　従って、図面（へ）に図示された如くエノード電極６間に隔壁７が形成されることになる。
　前記の写真蝕刻法による工程でエノード電極６および隔壁７が形成された前記硝子基板１’とカソード電極４が形成された背面硝子基板１を製作し、この両硝子基板を封止材で封止させてＰＤＰを完成するのである。」（第２頁右下欄第５行〜第３頁左下欄第１６行）
　
　この記載事項によると、甲第１号証には、
「一定の空間を隔てて互いに平行にかつ対向して配した一対の硝子基板１及び硝子基板１’の内側に、相対向して交差する二組のカソード電極群４及びエノード電極群６を設け、かつ該両電極群間の直交する部分に画素を形成するための隔壁７を写真蝕刻法により形成するプラズマ表示素子（ＰＤＰ）の製造方法において、エノード電極６が形成された硝子基板１’上に水溶性感光樹脂２を塗布し、隔壁形成用マスクを設けて、露光、現像し、エノード電極６を除いた部分の水溶性感光樹脂２を除去し、これに隔壁用硝子ペースト５を塗布し、過酸化水素溶液に浸澱させて水溶性感光樹脂２を除去すると同時に感光樹脂２上に塗布されている硝子ペースト５を除去し、隔壁７を得ることを特徴とするプラズマ表示素子（ＰＤＰ）の製造方法。」
が記載されていると認められる。
　
　申立人が提出した甲第２号証には、次の事項が記載されている。
（１）「本発明は、改良されたセラミックコーティング組成物に係り、特に多層厚膜回路の形成に有用な誘電材料として役立ち得る焼成セラミックの前駆体として機能するコーティング組成物に関する。」（第２頁左下欄第８行〜同第１１行）
（２）「この特許に記載されているプロセスは、（１）セラミック基体にコーティング組成物をラミネートすること、（２）化学線をイメージ様に照射してフィルムの照射された領域を硬化させること、（３）溶媒により現像してフィルムの非照射領域を除去すること、及び（４）実質的に非酸化性雰囲気で焼成して有機溶媒を揮発させ、無機バインダーとセラミック固体を焼結することである。」（第２頁右下欄第１６行〜第３頁左上欄第４行）
（３）「この型の厚膜材料は非常に重要であり、そうされ続けるであろう。しかし、スクリーン印刷によると、微細なラインやスペースの解像度を得ることが困難である。スクリーンの質、スキージー硬度、印刷速度、分散特性のようなスクリーン印刷のすべてのパラメータを注意深く制御し、良好な収率が得られるように一定にモニターする事が必要である。もちろん、同様の問題が厚膜導電体および抵抗材料を用いる場合にも存在する。」（第２頁左上欄第１６行〜同右上欄第４行）
（４）「本発明の感光性組成物は、基体フィルムに感光層が被覆されるレジスト素子（ｒｅｓｉｓｔ　ｅｌｅｍｅｎｔ）の感光層としてしばしば用いられる。
… 　　
　光重合可能な組成物は、乾燥被覆での厚さが…以上になる量で、支持フィルム上に被覆される。好ましくは温度変化に対して高度の寸法安定性を有する剥離可能な好適な支持体は、例えば…、ポリエステル類、…からなる広範な種類のフィルムの中から選択すればよい。…言うまでもなく、剥離可能な支持体を除去する前に露光が行われるならば、支持体はその上に照射される化学線の殆どの部分を透過させなければならない。露光の前に剥離可能な支持体が除去されるならば、このような制限は全く適用されない。」（第７頁右下欄第３行〜第８頁左上欄第１１行）
（５）「一方、分散液が厚いフィルムペーストとして塗布されるときは、従来の厚膜有機媒質を適当な流動学的調節剤と共に用いることができ、また揮発性の低い溶媒を用いることができる。」（第８頁左下欄第１２行〜同第１５行）
（６）「本発明の組成物が厚膜組成物として処方されるときは、該組成物はスクリーン印刷によって基体に塗布される。従って、スクリーンを容易に通過できるように適当な粘度をもたなければならない。第一に重要なのは流動学的性質であるが、有機媒質はまた、好ましくは固体及び基体の適当な濡れ性、良好な乾燥速度、荒い取扱いに耐えるに十分な乾燥フィルム強度および良好な焼成性を与えるように処方される。焼成された組成物の満足できる外観も重要である。」（第８頁左下欄第１６行〜同右下欄第５行）
（７）「感光性セラミックコーティング組成物は、基板に適用されたフィルムの形態またはシルクスクリーニングによって適用されたペーストの形態にあるような層の形成において常法により基板に適用される。しかる後、セラミック組成物は、化学放射に画像露光されて、化学放射線に曝された領域と、露光されていない領域を得る。層の非露光領域は、現像として知られているプロセスで除去される。水系現像のためには、層は露光されていない部分において除去されるが露光された部分は…現像時間内で実質的に影響を受けない。…。
　常法であり得る他の加工方法は、特に実質的に非酸化性雰囲気中での焼成操作がおこなわれる前におこなわれ、有機成分を揮発させ、無機バインダーとセラミック固体を焼成させる。」（第１１頁左上欄第１８行〜同右上欄第１６行）　
（８）「ペーストは、３２５メッシュスクリーンを用いたスクリーン印刷によりセラミック部材に適用される。部材は、窒素雰囲気もしくは空気雰囲気オーブン中、７５〜１００℃で乾燥する。乾燥したコーティングは２０ミクロンの厚さを有する。より厚い部材（４０ミクロン）を得るために、通常、第２の印刷および乾燥工程がおこなわれる。
　部材は、光ターゲットとの接触により、バーキー−アスコール真空プリンタまたはコラム化された（ｃｏｌｕｍｎａｔｅｄ）ＨＴＧ　ＵＶ露光源のいずれかで、１５秒の窒素パージおよび真空プリンタにおける１５秒の引き落とし（ｄｒａｗｄｏｗｎ）を用いて、露光される。最適の露光時間は、現像後に誘電体中に正確なサイズのヴァイアもしくは光形成された孔を生じさせる最もよい露光についての情報を与える露光シリーズから決定される。」（第１２頁右下欄第５行〜同第２０行）　
（９）「「実質的に非酸化性雰囲気」という語は、銅金属の有意の酸化をおこなうには不十分の酸素を含有するが、なお有機物質の酸化をおこなうには充分な酸素を含有する雰囲気を意味する。実際、焼成工程の予備焼結相においては、１００〜１０００ｐｐｍのＯ２の窒素雰囲気が適切であることが分かっている。３００〜８００ｐｐｍのＯ２が好ましい。酸素の量は、誘電性層の厚さが増えるにつれ増加される。焼却されて２０ミクロンになる誘電性ペーストの２つの層については、３００〜４００ｐｐｍのＯ２で充分である。他方、焼成工程のガラス焼成工程中に使用される本質的に安全な非酸化性雰囲気とは、わずか残渣量の、例えば約１０ｐｐｍのＯ２しか含有しない窒素雰囲気のことである。焼成層における物理的欠陥を最小限とするために、この発明の組成物を低い加熱速度で焼成することが好ましい。」（第１３頁左上欄第１５行〜同右上欄第１１行）
　そして、上記記載事項（７）は、「基板に適用されたフィルムの形態にあるような層の形成において基板に適用される方法」及び「シルクスクリーニングによって適用されたペーストの形態にあるような層の形成において基板に適用される方法」の二つの方法、上記記載事項（４）は、「基板に適用されたフィルムの形態にあるような層の形成において基板に適用される方法」、上記記載事項（３）、（８）及び（９）は、「シルクスクリーニングによって適用されたペーストの形態にあるような層の形成において基板に適用される方法」、上記記載事項（１）及び（２）は、上記両方法に適用できる事項、に関するものである。また、上記記載事項（５）は、この記載及びその前後の記載を検討しても、前者の方法に関するものであるということができない。
　したがって、「基板に適用されたフィルムの形態にあるような層の形成において基板に適用される方法」に関わる上記記載事項（１）、（２）、（４）及び（７）によると、甲第２号証には、
「特に多層厚膜回路を形成するための工程として、光重合可能な組成物を予めポリエステル類からなる広範な種類のフィルムの剥離可能な支持体に被覆して感光層を得る工程と、前記支持体に設けた前記感光層をセラミック基体（基板）に適用した後、前記支持体を除去し、該感光層の必要な部分を露光する工程と、該感光層を現像・焼成する工程とを有し、該各工程を経て厚膜を形成する方法。」
が記載されていると認められる。
　
（４）対比・判断
（請求項１に係る発明について）
　請求項１に係る発明と申立人が提出した甲第１号証記載の発明とを対比すると、両者は、
「一定の空間を隔てて互いに平行にかつ対向して配した一対の絶縁板の内側に、相対向して交差する二組の電極群を設け、かつ該両電極群間の直交する部分に放電セルを形成するための障壁をフォトリソグラフィ法により形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法」で一致し、
　請求項１に係る発明では、「障壁を形成するための工程として、感光性ペーストを予めポリエステルフィルムあるいは紙等の可撓性基材に塗布して塗布膜を得る工程と、前記可撓性基材に設けた前記塗布膜を前記何れかの絶縁板に貼着した後、前記可撓性基材を取り除いて該塗布膜を前記絶縁板に転写し、該転写した塗布膜の障壁形成するのに必要な部分を露光する工程と、これらの工程を繰り返して、該塗布膜を積層し、所望高さの形成層を得る工程と、該形成層を現像・乾燥・焼成する工程とを有し、該各工程を経て所望高さの障壁を得ることを特徴とする」のに対して、
　甲第１号証記載の発明では、「障壁を形成するための工程として、エノード電極６が形成された硝子基板１’上に水溶性感光樹脂２を塗布する工程、隔壁形成用マスクを設けて、露光、現像し、エノード電極６を除いた部分の水溶性感光樹脂２を除去する工程、これに隔壁用硝子ペースト５を塗布する工程、過酸化水素溶液に浸潤させて水溶性感光樹脂２を除去すると同時に感光樹脂２上に塗布されている硝子ペースト５を除去する工程とを有し、該各工程を経て隔壁７を得ることを特徴とするプラズマ表示装置（ＰＤＰ）の製造方法」は記載されているが、請求項１に係る発明の上記工程については記載がない点、
で相違する。
　
　そこで、上記相違点について検討すると、
甲第１号証に記載の発明は、隔壁を得ることに特徴を有するプラズマ表示装置の製造方法であり、甲第２号証に記載の発明は、特に多層厚膜回路の製造に適用される厚膜の製造方法に関するものであり、プラズマ表示装置の隔壁を製造する方法については何らの記載もない。また、いづれの甲号証にも、甲第２号証に記載の発明を甲第１号証に記載の発明に適用し、請求項１に係る発明を構成できるとの示唆もない。
　なお、甲第２号証に記載の発明は、光重合可能な組成物を支持体に被覆して感光層を得る工程と、前記支持体に設けた前記感光層をセラミック基体（基板）に適用した後、前記支持体を除去し、該感光層の必要な部分を露光する工程を有するものの、これらの工程を繰り返して、該感光層を積層する工程についての記載はなく、甲第１号証に記載の隔壁の製造方法を甲第２号証に記載の厚膜の製造方法に適用したとしても、その結果得られる発明は、請求項１に係る発明ではない。
　
　そして、請求項１に係る発明は、その技術的事項により明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　
　以上のとおり、請求項１に係る発明は、特許異議申立人が提出した各甲号証に記載されたものから当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　
（５）むすび
　したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、請求項１に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に請求項１に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年９月２２日（２０００．９．２２）