【事件の表示】
　特許第２８６６０７７号「ポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物用ポリマー結合剤の製法」の請求項１、２、３、４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２８６６０７７号の請求項１、２に係る特許を維持する。
【理　由】
［１］　手続きの経緯
　本件特許第２８６６０７７号発明は、１９８８年５月１９日にドイツ国にした出願に基づいて優先権主張して日本国にした特願平１−１１５２５６号の分割出願として出願されたもので（特願平９−６０８１１号）、平成１０年１２月１８日にその特許の設定がなされ、その後、石黒きよし、石井睦子、荒井純子より特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年７月２４日に訂正請求がなされたものである。
［２］　訂正の適否についての判断
１．訂正事項
（１）訂正事項１：本件特許の設定登録時の明細書における特許請求の範囲の「【請求項１】フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとを反応させるか、又はフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応生成物を重合させることを特徴とするポジチブ及びネガチブ処理可能な感放射線混合物用ポリマー結合剤の製法。
【請求項２】フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％とジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルとを反応させることを特徴とする請求項１記載のポリマー結合剤の製法。
【請求項３】フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ｐ−クレゾール／ホルムアルデヒドを主体とするノボラックであることを特徴とする請求項１又は２記載のポリマー結合剤の製法。
【請求項４】フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であることを特徴とする請求項１又は２記載のポリマー結合剤の製法。」を、
「【請求項１】フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとを反応させるか、又は該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応生成物を重合させることを特徴とするポジチブ及びネガチブ処理可能な感放射線混合物用ポリマー結合剤の製法。
【請求項２】前記フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％とジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルとを反応させることを特徴とする請求項１記載のポリマー結合剤の製法。」にする訂正。
（２）訂正事項２：本件特許の設定登録時の明細書における段落【０００５】の「本発明の対象は、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとを反応、又はフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応生成物を重合させることを特徴とするポリマー結合剤の製法である。」を「本発明の対象は、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとを反応させるか、又は該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応生成物を重合させることを特徴とするポリマー結合剤の製法である。」にする訂正。
（３）訂正事項３：本件特許の設定登録時の明細書における段落【０００６】の「本発明の製法により得られるポリマー結合剤中において、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％をジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルと反応させることが好ましく、このポリマー結合剤の製法として、ｐ−クレゾール／ホルムアルデヒドを主体とするノボラックとジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応、又はポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、若しくはｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンの共重合体と、ジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応を行うことが好ましい。」を「本発明の製法により得られるポリマー結合剤中において、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％をジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルと反応させることが好ましく、このポリマー結合剤の製法として、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、若しくはｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンの共重合体と、ジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応を行うことが好ましい。」にする訂正。
（４）訂正事項４：本件特許の設定登録時の明細書における段落【００１１】の『本発明のポリマー結合剤の製法に使用するフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーは、その「フェノール性ヒドロキシル基」が「ベンゼン環に直接結合したヒドロキシル基」であるので、ポリマー結合剤の製法の出発材料としてフェノール樹脂、例えばノボラック、ことにｐ−クレゾール／ホルムアルデヒドを主体とするノボラック、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体が挙げられる。これらは全体的又は部分的にジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルと反応せしめられ、例えばジヒドロピランとの反応で得られる生成物の場合には、一般式（II）』を『本発明のポリマー結合剤の製法に使用するフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーは、その「フェノール性ヒドロキシル基」が「ベンゼン環に直接結合したヒドロキシル基」であるので、ポリマー結合剤の製法の出発材料としてフェノール樹脂、例えばノボラック、ことにｐ−クレゾール／ホルムアルデヒドを主体とするノボラック、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体が挙げられる。これらは全体的又は部分的にジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルと反応せしめられ、例えばジヒドロピランとの反応で得られる生成物の場合には、一般式（II）』にする訂正。
（５）訂正事項５：本件特許の設定登録時の明細書における段落【００１３】の『ノボラック（出発材料）としては、例えば「ソリッド、ステイト、テクノロジー」１９８４年６月号１１５−１２０頁におけるＴ.パンパローン（Ｐａｍｐａｌｏｎｅ）の論稿「ノボラック、レジンス、ユーズド、イン、ポジチブ、レジスト、システムズ」に記載されているものが使用される。特殊な用途、例えば短波長紫外線露光用には、ｐ−クレゾール及びホルムアルデヒドからのノボラックが好ましい。』を『以下の、段落【００１４】を含む、出発材料としてのノボラックの記載にかかわらず、本発明の出発材料としてのフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーは、ノボラックは含まない。参考例としてのノボラック（出発材料）としては、例えば「ソリッド、ステイト、テクノロジー」１９８４年６月号１１５−１２０頁におけるＴ.パンパローン（Ｐａｍｐａｌｏｎｅ）の論稿「ノボラック、レジンス、ユーズド、イン、ポジチブ、レジスト、システムズ」に記載されているものが使用される。特殊な用途、例えば短波長紫外線露光用には、ｐ−クレゾール及びホルムアルデヒドからのノボラックが好ましい。』にする訂正。
（６）訂正事項６：本件特許の設定登録時の明細書における段落【００２９】の「本発明のポリマー結合剤を含む感放射線混合物は、Ｘ線、電子ビーム、紫外線に対して感応する。長波長紫外線から可視光線波長域まで感応するように、場合により微量の増感剤、例えばピレン、ペリレンを添加することができる。特殊な波長範囲、例えば短波長紫外線帯域（＜３００ｎｍ）における露光のため、それぞれの露光波長における高い透明度が要求される。水銀灯を主体とする慣用の露光装置においては２５４ｎｍラインが使用され、また２４８ｎｍ（ＫｒＦ）のエキシマレーザ光が使用される。したがって、感放射線記録材料はこの波長帯域においてなるべく低い光学密度を持たねばならない。このような用途のためにはノボラックを主体とする本発明におけるポリマー結合剤は、ヒドロキシスチレンを主体とするポリマー結合剤がこの特殊な用途のために使用される場合に比し不適当である。」を「本発明のポリマー結合剤を含む感放射線混合物は、Ｘ線、電子ビーム、紫外線に対して感応する。長波長紫外線から可視光線波長域まで感応するように、場合により微量の増感剤、例えばピレン、ペリレンを添加することができる。特殊な波長範囲、例えば短波長紫外線帯域（＜３００ｎｍ）における露光のため、それぞれの露光波長における高い透明度が要求される。水銀灯を主体とする慣用の露光装置においては２５４ｎｍラインが使用され、また２４８ｎｍ（ＫｒＦ）のエキシマレーザ光が使用される。したがって、感放射線記録材料はこの波長帯域においてなるべく低い光学密度を持たねばならない。このような用途のためにはノボラックを主体とするポリマー結合剤は、本発明のヒドロキシスチレンを主体とするポリマー結合剤がこの特殊な用途のために使用される場合に比し不適当である。」にする訂正。
２．訂正の目的の適否、新規事項有無および拡張・変更の存否
　訂正事項１は、特許明細書の特許請求の範囲に記載された（i）「フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー」をより下位概念である「ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体」とし、かつ（ii）「フェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物」をより下位概念である「該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物」と限定しようとするものである。そして、上記の「ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体」は願書に添付した明細書に記載した事項である（請求項４及び段落【００１１】）から、上記訂正事項１は、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当するものであって、新規事項の追加に該当せず、また、特許請求の範囲を拡張または変更するものでもない。
  上記訂正事項２は、上記訂正事項１による特許請求の範囲の訂正に伴って、本件発明の対象の（i）「フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー」をより下位概念である「ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体」とし、かつ（ii）「フェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物」をより下位概念である「該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物」と限定しようとするものであり、上記訂正事項３は、上記訂正事項１による特許請求の範囲の訂正に伴って、ポリマー結合剤の製法から「ｐ−クレゾール／ホルムアルデヒドを主体とするノボラックとジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応」を削除するものであり、上記訂正事項４は、上記訂正事項１による特許請求の範囲の訂正に伴って、ポリマー結合剤の製法の出発材料から「フェノール樹脂、例えばノボラック、ことにｐ−クレゾール／ホルムアルヂヒドを主体とするノボラック」を削除するものであり、上記訂正事項５は、上記訂正事項１による特許請求の範囲の訂正に伴って、本件発明はノボラック系のものを含まないことを明記するとともに本件発明の好ましい態様として記載されていたノボラック系のものについての記載をあくまでも参考例としての記載であることを注意的に追記挿入したものであり、また、上記訂正事項６は、上記訂正事項１による特許請求の範囲の訂正に伴って、本件発明がノボラック系のものを含まないことを明記するものである。それ故、上記訂正事項２〜６は、いずれも、訂正事項１による特許請求の範囲の訂正に伴って特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載とを整合させるものである。そして、上記の「ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体」は願書に添付した明細書に記載した事項である（請求項４及び段落【００１１】）から、上記訂正事項２〜６は、明瞭でない記載の釈明を目的とする訂正に該当するものであって、新規事項の追加に該当せず、また、特許請求の範囲を拡張または変更するものでもない。
３．独立特許要件
　訂正後の本件請求項１及び２に係る発明はいわゆる独立特許要件を満足するものと認められる。理由は実質的に次の［３］で記載するので省略する。
［３］　特許異議申立についての判断
１．特許異議申立理由の概要
（１）特許異議申立人石黒きよしの申立理由
（イ）訂正前の請求項１に係る発明は甲第１号証（刊行物１、後述）に記載された発明ないしそれに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第１項第３号ないし同条第２項に該当するものである。
（ロ）訂正前の請求項２に係る発明は甲第１号証（刊行物１、後述）及び甲第２号証（刊行物２、後述）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項に該当するものである。
（ハ）訂正前の請求項３に係る発明は甲第１号証（刊行物１、後述）及び甲第２号証（刊行物２、後述）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項に該当するものである。
（ニ）訂正前の請求項４に係る発明は甲第１号証（刊行物１、後述）に記載された発明と甲第３〜５号証（刊行物３〜５、後述）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項に該当するものである。
（２）特許異議申立人石井睦子の申立理由
（イ）訂正前の請求項１に係る発明は甲第１号証（刊行物６、後述）に記載された発明ないし甲第１号証（刊行物６、後述）、甲第２号証（刊行物２、後述）及び甲第３号証（刊行物７、後述）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第１項第３号ないし同条第２項に該当するものである。
（ロ）訂正前の請求項２に係る発明は甲第１号証（刊行物６、後述）に記載された発明ないし甲第１号証（刊行物６、後述）、甲第２号証（刊行物２、後述）及び甲第３号証（刊行物７、後述）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第１項第３号ないし同条第２項に該当するものである。
（ハ）訂正前の請求項３に係る発明は甲第１号証（刊行物６、後述）に記載された発明ないし甲第１号証（刊行物６、後述）、甲第２号証（刊行物２、後述）及び甲第３号証（刊行物７、後述）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第１項第３号ないし同条第２項に該当するものである。
（ハ）訂正前の請求項４に係る発明は甲第１号証（刊行物６、後述）、甲第２号証（刊行物２、後述）及び甲第３号証（刊行物７、後述）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項に該当するものである。
（３）特許異議申立人荒井純子の申立理由
（イ）訂正前の請求項１に係る発明は甲第１号証（刊行物８、後述）または甲第２号証（刊行物６、後述）に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号に該当するものである。
（ロ）訂正前の請求項２に係る発明は甲第１号証（刊行物８、後述）に記載されている発明であり、また、甲第２号証（刊行物６、後述）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第１項第３号ないし同条第２項に該当するものである。
（ハ）訂正前の請求項３に係る発明は甲第１号証（刊行物８、後述）または甲第２号証（刊行物６、後述）に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号に該当するものである。
（ニ）訂正前の請求項４に係る発明は甲第１号証（刊行物８、後述）、甲第２号証（刊行物６、後述）及び甲第３号証（刊行物３，後述）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項に該当するものである。
（ホ）本件明細書の記載は、その実施例においてアルキルビニルエーテルを反応させた重合体の例はなく、その効果は不明瞭であり記載上の不備があるから、特許法第３６条第３項及び第４項に規定する要件を満たしていない。
２．本件発明
　訂正後の本件請求項１及び２に係る発明は、訂正明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び請求項２に記載された次の事項によって特定されるとおりのものである。
　「【請求項１】フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシーα−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとを反応させるか、又は該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応生成物を重合させることを特徴とするポジチブ及びネガチブ処理可能な感放射線混合物用ポリマー結合剤の製法。
【請求項２】前記フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％とジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルとを反応させることを特徴とする請求項１記載のポリマー結合剤の製法。」
３．刊行物の記載
（１）刊行物１（特公昭５２−３６４４２号公報、異議申立人石黒きよしの提出した甲第１号証）
・摘示１−１：「化学線照射に露光された区域では像を形成し、非露光区域はそのまま残るように現像液で容易に除去できるようになる光分解性組成物において、（ａ）式 
（但し、刊行物１には上記式における左端のＣの左側に符号「−」が記載されていないが、誤記であると認められる。）
〔ここでＺは−ＯＡｒ・−ＮＲＳ０２Ａｒ
（ここでＡｒは１価又は２価の芳香族基で、Ｒは低級アルキル基である）からなる群から選択される基である〕の１個又は２個以上の酸分解結合を含む水不溶性有機化合物と、
（ｂ）通常は非反応性であるが化学線照射を吸収すると酸性状態を生ずる光分解性酸発生物質を含む光反応開始剤、
を含むことを特徴とする光分解性組成物。」（特許請求の範囲）、
・摘示１−２：「本発明は新規な光分解性組成物とこれから得られる感光材料を提供するもので、この組成物は普通の画像形成に使用される紫外及び可視領域の波長、即ち約３００ないし７００ｍμにわたって感光性があり、又触媒反応性があり、従って従来の光分解性組成物よりも高い量子効率を有する。本発明による光分解性組成物は、化学線照射区域は現像液によって容易に除去でき、該組成物は（ａ）式
〔ここでＺは−ＯＡｒ、−ＮＲＳ０２Ａｒ
（ここでＡｒは１価又は２価の芳香族基で、Ｒは低級アルキル基である）からなる群から選択される基である〕の１個又は２個以上の酸分解結合を含む水不溶性有機化合物と、；
（ｂ）通常は本質的に中性で安定しているが、化学線照射に露光されると酸性状態を生ずる光分解性酸発生物質、
を含んでいる。
１個又は２個以上の上式の酸分解結合を含む水不溶性有機化合物は（１）非重合体、（２）酸分解結合が重合鎖に含まれる重合体、又は（３）酸分解結合が重合鎖に対して対の位置にある重合体でよい。」（第２頁左欄第９行〜第４０行）、
・摘示１−３：「酸分解結合を含む水不溶性化合物は一般に、（１）１個又は２個以上のビニルエーテル基を含む有機化合物と、（２）１個又は２個以上の芳香族水酸基、芳香族モノアルキルスルホンアミド基、即ち−ＲＮＨＳ０２ＡｒここでＲは低級アルキル基でＡｒは１価又は２価の芳香族基である）を含む有機化合物、又は第二芳香族アミンのフエノチアジン又はα−ナフチルフェニルアミン、との求核付加反応によって作られる。」（第２頁右欄第３７行〜第３頁左欄第２行）、
・摘示１−４：「１個のビニルエーテル基を含む適当な化合物はアルキルビニルエーテル（例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル等）及びジヒドロピラン類（例えばジヒドロピラン、２−メチル−２Ｈ−３，４ジヒドロピラン、４−エチル−２Ｈ−３，４ジヒドロピラン、４−フェニル−２Ｈ−３，４ジヒドロピラン等）を包含する。」（第３頁右欄第７行〜第１４行）、
・摘示１−５：「対の位置に酸分解基を含む重合体付加生成物の例は上記のビニルエステル又はジヒドロピランとフェノール−アルデヒド縮合ノボラック樹脂との付加生成物である。この例は：
で、このＲは
又は
で、ｎは１なし、し２５の値を有する。」（第５頁右欄第３４行〜第６頁左欄第４行）、
・摘示１一６：「例３　
　対になっている酸減成基を有する重合体物質を使用して製造される光分解性組成物を示す。
　減光下で下記の成分を溶解するまで混合して光分解性組成物を作る：
２００部　塩化メチレン
３０部　　フェノール−ホルムアルデヒド樹脂のポリ−２−テトラヒドロピ　ラニルエーテル（フェノール−ホルムアルデヒド樹脂：ダウケミカル社製　Ｎｏｖｏｌａｋ ＥＴ３４５／１３００と触媒としてのｐ−トルエンスルホン酸の存在下でジヒドロピランとの反応で生成される）
２部　　　へキサブロモエタン
１部　　　トリフェニルアミン
この感光性組成物を浸漬法により、珪酸アルミニウム板上に被覆し、乾燥被覆重量約ｌ０ｍｇ／ｄｍ２の増感板を作る。この増感板は暗所で長期間安定で、１８ｃｍの距離で５００ワット紫外線ランプ（ＧＥ社製　Ｈ３Ｔ７）の照射に１分間透明陽画を通して露光する。この感光板を、３５部のｎ一プロピルアルコール、１部の水酸化カリウム及び６４部の水からなる溶液で現像し露光区域を除去する。得られた陽画印刷板は良好なインク／水平衡特性を示し、非露光区域は良好な石版インク受容性を示す。同様な増感板を普通のルート２（刊行物１ではルート記号で表示されているがルート記号が審判ペーパーレスシステムにおいて使用できない文字の一つになっているために「ルート２」と表示する。）写真用階段くさびを通して露光して上記のように現像すると、このくさびの最初の３段階で十分に溶解して現像中に除去される。」（第８頁右欄第４１行〜第９頁左欄第２６行）
が記載されている。
（２）刊行物２（特開昭６０−３７５４９号公報、特許異議申立人石黒きよし提出した甲第２号証、特許異議申立人石井睦子が提出した甲第２号証）には、
・摘示２−１：「（ａ）活性光線の照射により、酸を発生し得る化合物、及び（ｂ）下記一般式（Ｉ）で示される、酸により分解し得るシリルエーテル基を少なくとも１個有し、現像液中でのその溶解度が酸の作用により増大する化合物、を含有する光可溶化組成物。
」（特許請求の範囲）、
・摘示２−２：「Ｎｏ.６
」（第３頁右下欄）、
・摘示２−３：「合成例２．（化合物例Ｎｏ．６の合成）　
　ｍ一クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂１２．１ｇ（０．１０１ｍｏｌｅ）をピリジン７０ｍｌに溶解し、撹拌しながらこれにへキサメチルジシラザン７．８ｇ（０．０４８ｍｏｌｅ）、引き続きトリメチルクロロシラン２．６ｇ（０．０２４ｍｏｌｅ）を室温下、滴下ロートより１５分間かけて添加した。添加後、室温にて５時間撹拌を続けた。生成した白色の塩（塩化アンモニウム塩及び／又はピリジンの塩酸塩）を濾別し、ピリジン溶液を減圧下濃縮した。得られた褐色粘稠液体をメチルエチルケトン２０ｍｌに溶解し、ヘキサン７００ｍｌ中へ撹拌しながら投入した。濾過、乾燥により、灰褐色粉末１８ｇを得た。」（第６頁右上欄第１８行〜同頁左下欄第１１行）、
・摘示２−４：「本発明の化合物Ｎｏ．６を用いた感光性平版印刷板〔Ａ〕−１の３分間現像と６０秒間現像のクリアー部のグレースケール段数差が１．０段であること」（第１０頁右上欄の第４表）、
摘示２一５：「（５）第３４頁１３行目の「とおりとなった。」の後に「なお第４表における本発明の化合物Ｎｏ．６，１０，１２の分子量はいずれも数平均分子量でＭｎ＝１１００〜１８００のものであった。また化合物Ｎｏ．６のＸ、ＹはＸ／Ｙ＝６０／４０（モル比）であった。」を挿入する。」（第１３頁左上欄第５行〜第１３行）
が記載されている。
（３）上記刊行物３（特開昭５９−４５４３９号公報、特許異議申立人石黒きよしが提出した甲第３号証）には、
・摘示３−１：「酸に対して不安定な反復的に存在する枝分れした基を有する重合体と、放射に対してさらされたときに酸を生じる光重合開始剤とを含むレジスト組成物。」（特許請求の範囲）、
・摘示３−２：「ジアリールヨードニウム又はトリアリールスルホニウム金属ハロゲン化物を含む本発明による組成物は、遠紫外線に対して著しく感応して、２μよりも厚い被膜に於いても垂直に近い壁の角度を有する極めて高解像力の像を生じるので、遠紫外線（２００〜３００ｎｍ）による露光とともに用いられたときに特に有用且つ有利である。」（第２頁左下欄第１４行〜第２０行）、
・摘示３−３：「最も好ましい重合体は、ポリ（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ−α−メチルスチレン）、ポリ（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン）、ポリ（ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−ビニルベンゾアート）、ポリ（ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−イソプロペニルフェニルオキシアセタート）、及びポリ（ｔｅｒｔ−ブチル・メタクリラート）である。」（第３頁左上欄第１５行〜同頁右上欄第１行）、
・摘示３−４：「Ｃ．ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレンの形成：
　ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシーα−メチルスチレン（３．０００ｇ）が高真空状態の下で乾燥され、重合アンプル中に真空蒸留された１０ｍｌの乾燥した液状の二酸化硫黄中に溶解されて、黄色の溶液が得られた。液体窒素温度で凍結されたその単量体溶液とともに、三弗化硼素エーテル錯化合物（０．０２ｍｌ、単量体に対して１．２モル％）が真空蒸留により導入された。−６５℃で溶けたとき、その混合物は混濁し、更に−６５℃に於て１時間後に相分離が観察された。それから、殆ど全質量が固体化した。２６時間後に、アンプルが切られて開かれ、冷たいメタノールが−６５℃で加えられて、重合体が白色の沈殿物として得られた。その重合体がジクロルメタン中に溶解され、メタノール中に沈殿され、メタノール中で再沈殿されることにより精製され、３８℃で真空乾燥されて、数平均分子量４６９００（膜オスモメトリ）を有する２．６１４ｇ（８７．１％）の生成物が得られた。」（第４頁右上欄第１３行〜同頁左下欄第１３行）、
・摘示３−５：「Ｄ．ポリ（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン）の形成：
Ｄ−１．
　市販のポリ（ｐ−ｔｅｒｔ−ビニルフェノール）が、相転移条件の下で、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル・ジカルボナート及び炭酸ナトリウムと反応された。得られた重合体が沈殿により有機物の相から分離されて、アリール・アルキル・カルボナートのカルボニル吸収特性を示す、収率９０％以上の生成物が得られた。
Ｄ−２．
　ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレンの遊離基重合：
０．０３ｇのアゾビスイソブチロニトリルを含む５ｍｌのトルエン中に溶解された５ｇのｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレンより成る溶液が窒素の下で６５乃至７５℃に加熱された。その混合物は一晩の後に極めて粘性になり、ジクロルメタンで希釈された後、重合体が石油エーテル中に沈殿された。白色の固形物が石油エーテルで洗浄され、更にメタノールで洗浄された。その重合体は、４．１ｇ（収率８２％）の重量及び４３０００の数平均分子量（オスモメトリ）を有した。
Ｄ−３．
　ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレンの陽イオン重合：
　ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン（１．０００ｇ）が高真空状態の下で乾燥され、重合アンプル中に真空蒸留された３．０ｍｌの乾燥した液状の二酸化硫黄中に溶解されて、黄色の溶液が得られた。液体窒素温度で凍結されたその単量体溶液とともに、三弗化硼素エーテル錯化合物（５μｌ、単量体に対して０．８モル％）が真空蒸留により導入された。重合が−６５℃で２７時間の間行われた。アンプルが切られて開かれ、冷たいメタノールが−６５℃で加えられて、重合体が白色の沈殿物として得られた。その重合体がクロロホルム中で溶解され、メタノール中に沈殿され、メタノール中で再沈殿されることにより精製され、４０℃で乾燥されて、数平均分子量２８９００（ＧＰＣ）を有する０．９０１ｇ（９０．１％）の生成物が得られた。」（第４頁左下欄第１４行〜第５頁左上欄第１２行）、
・摘示３−６：「Ｅ．レジスト溶液の形成、露光及び現像：
……その露光及び加熱された被膜が塩基の水溶液又はアルコール中で現像されて、未露光領域に於ける被膜の厚さを減じることなく高解像力を有するポジ型の像が得られる。上記系は、露光及びベークされた後に、ジクロルメタンの如き無極性溶媒、又はヘキサンとジクロルメタンとの混合物中で現像されることによって、容易にネガ型にされ得る。」（第５頁左上欄第１３行〜同頁右上欄第１７行）
が記載されている。
（４）刊行物４（Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｎｇ　６（１９８７）　Ｐ.３９３〜３９８、特許異議申立人石黒石きよしが提出した甲第４号証）には、
・摘示４−１：「遠紫外エキシマレーザーリソグラフィに用いる有機珪素レジストの検討を行った。このレジストはポリ（ビニルフェノール）樹脂をベースとしており、２４８ｎｍにおいて従来のノボラックレジストのｇ−線の透過率と同等の透過率を示すことが判明した。」（要約の第１行〜第４行）、
・摘示４−２：「殆んどのＩＣ生産における標準品である現在のノボラックをベースとするポジ型レジストは、ノボラツク樹脂の大きな吸収の故に遠紫外では使用できない。」（序論の第６行〜第９行）、
・摘示４−３「この有機珪素レジストのベース樹脂は、第２図に示されるように、Ｏ−トリメチルシリルポリ（ビニルフェノール）ＰＶＰＴＭＳである。このＰＶＰＴＭＳレジストはポジ型であり、水性の金属イオンを含まない現像液を使用する。前回の検討［３］では、従来のｇ−線やｉ−線での露光に適切な光活性化合物（ＰＡＣ）と一緒に用いて、ＰＶＰＴＭＳの予備的な性能調査を行った。今回の検討では、遠紫外光に活性なＰＡＣと組合せ、かつ珪素含量を１０％に増加させた。このレジストの化学は、第３図に示されるように、光で発生した酸の存在下において酸素−珪素結合が加水分解に不安定であることに依る。露光された領域は、水性現像剤に溶解する水酸基の多い物質に触媒的に転換される。」（第２頁の第１行〜第１０行）
が記載されている。
（５）刊行物５（ＳＰＩＥ　Ｖｏｌ．７７１　Ａｄｖａｎｃｅｓ　ｉｎ　Ｒｅｓｉｓｔ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　ａｎｄ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　ＩＶ（１９８７）Ｐ.３２〜３８、特許異議申立人石黒きよしが提出した甲第５号証）には、
・摘示５−１：「ベース樹脂としてフェノール性ポリマーの１種を用い、その水酸基部分を少なくとも９重量％珪素まで変化させるのが適当と思われた。このアイデアは他のグループにより検討されており、このグループはクレゾール又はレゾルシノールとホルムアルデヒドとの縮合ポリマーのＯ−トリメチルシリル又Ｏ−メチルトリメチルシリル誘導体を調製した。彼らはこれらのポリマーにこのような形でシリコンを付加すると、水性アルカリ中でのポリマーの溶解速度が著しく低下すると述べている。ポリ（ビニルフェノール）、すなわち第３図のＰＶＰ（１）は、塩基中では対応する分子量のノボラックよりも溶解し易い。このものはノボラックよりも分布が狭く、広い範囲で分子量を選択することができる。最後に、我々が測定したように、このものは２５４ｎｍにおいて対応するノボラックよりも約２０％ほど透過率が大きく、遠紫外用レジストとして有望である。」（第１頁第１５行〜第２３行）、
・摘示５−２：「シリル化したＰＶＰ誘導体について、最後にシリコンの割合の関数としてのアルカリ中におけるこのポリマーの溶解速度を集中的に検討した。分子量７０００のＰＶＰ樹脂をトリメチルシリル化したものは第４図を与えた。第２図と比較すると、曲線の形状が同じである。これはプラズマエッチング速度を小さくするのに必要なシリコンの負荷は、同時にアルカリへの溶解を阻止することを意味している。分子量を低下させると、同じ溶解速度でシリコンの割合のより大きいものをつくることができる。しかし、光活性成分（ＰＡＣ）との親和性のために、このやり方には限界がある。」（「結果と検討」の第１行〜第７行）
が記裁されている。
（６）刊行物６（特開昭４８−８９００３号公報、異議申立人石井睦子の提出した甲第１号証、同荒井純子の提出した甲第２号証）
　・摘示６−１：「１.化学線照射に露光された区域では像を形成し、非露光区域はそのまま残るように現像液で容易に除去できるようになる光分解性組成物において、（ａ）一般式 
ここでＺは、−ＯＡｒ，−ＮＲＳ０２Ａｒ
（ここでＡｒは１価又は２価の芳香族基で、Ｒは低級アルキル基である）からなる群から選択される基である、の１個又は２個以上の酸減成結合を含む水不溶性有機化合物と；　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（ｂ）通常は非反応性であるが化学線照射を吸収すると酸性状態を生ずる光分解性酸発生物質（ａｃｉｄ　ｐｒｏｇｅｎｉｔｏｒ）を含む光反応促進剤（ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ）、
を含むことを特徴とする光分解性組成物。」（特許請求の範囲第１項
）、
・摘示６−２：「本発明は新規な光分解性組成物とこれから得られる感光材料を提供するもので、この組成物は普通の画像形成に使用される紫外及び可視領域の波長、即ち約３００ないし７００ｍμにわたって感光性があり、又触媒反応性があり、従って従来の光分解性組成物よりも高い量子効率を有する。本発明による光分解性組成物は、化学線照射区域は現像液によって容易に除去でき、該組成物は：（ａ）一般式
ここでＺは−ＯＡｒ，−ＮＲＳ０２Ａｒ
（ここでＡｒは１価又は２価の芳香族基で、Ｒは低級アルキル基である）からなる群から選択された基である、の１個又は２個以上の酸減成結合を含む水不溶性有機化合物と；　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（ｂ）通常は本質的に中性で安定しているが、化学線照射に露光されると酸性状態を生ずる分解可能の酸発生物質、
を含んでいる。
１個又は２個以上の上式の酸減成結合を含む水不溶性有機化合物は（１）非重合体、（２）酸減成結合が重合鎖に含まれる重合体、又は（３）酸減成結合が重合鎖に対して対の位置にある重合体でよい。」（第２頁左下欄第１７行〜第３頁左上欄第１１行）、
・摘示６−３：「上記の光分解性組成物の露光区域の可溶化は２種の化学的過程によって起こる。第１は約３００ないし７００ｍμの波長の化学線照射にこの組成物が露光されると、光分解性酸発生物質の直接の光分解、又は染料感光分解が起こり、このため照射区域に酸性状態を生ずることである。第２は酸触媒作用で酸減成結合を分解して生成物を生じ、該生成物は非露光物質よりも選択的分解性又は分散性が高くなることである。」（第３頁右上欄第５行〜第１３行）、
・摘示６−４：「酸減成結合を含む水不溶性化合物は一般に、（１）１個又は２個以上のビニルエーテル基を含む有機化合物と、（２）１個又は２個以上の芳香族水酸基、芳香族モノアルキルスルホンアミド基、即ち−ＲＮＨＳ０２Ａｒ（ここでＲは低級アルキル基でＡｒは１価又は２価の芳香族基である）を含む有機化合物、又は第二芳香族アミンのフエノチアジン又はα−ナフチルフェニルアミン、との求核付加反応によって作られる。」（第３頁左下欄下から第１０行〜下から第１行）、
・摘示６−５：「１個のビニルエーテル基を含む適当な化合物はアルキルビニルエーテル（例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル等）及びジヒドロピラン類（例えばジヒドロピラン、２−メチル−２Ｈ−３，４ジヒドロピラン、４−エチル−２Ｈ−３，４ジヒドロピラン、４−フェニル−２Ｈ−３，４ジヒドロピラン等）を包含する。」（第４頁右上欄第１１行〜第１８行）、
・摘示６−６：「本発明の組成物に使用する酸減成物質の製造に有用な、１個又は２個以上の芳香族水酸基を含む化合物はフェノール類及び多価フェノール類で、これらの例はフェノール、クレゾール、キシレノール、ピロカテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン、グアヤコール、オルシノール、ピロガロール、フロログルシノール、１，２，４，５−テトラヒドロキシベンゼン、２，２−ジヒドロキシビフェニル、２，２’４，４’−テトラヒドロキシビフェニル、２，３−ジヒドロキシナフタリン、４，４’−イソプロピリデンジフェノール、４，４’−オキシジフェノール、４，４’−スルホニルジフェノール等である。」（第５頁右上欄第５行〜第１７行）、
・摘示６−７：「ビニルエーテル含有化合物と芳香族水酸基−又はモノアルキルスルホンアミド−含有化合物又は第二芳香族アミンのフェノチアジン及びα−ナフチルフェニルアミンの付加反応は通常、触媒量の強酸、例えば塩化水素、三フッ化ホウ素又はトルエンスルホン酸を使用して無水状態で行われる。これは通常１：１の付加反応で、例えばＪｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｓｏｃｉｅｔｙ，７０，４１８７−４１８９（１９４８）に記載されている。」（第５頁左下欄第１５行〜同頁右下欄第３行）、
・摘示６−８：「対の位置に酸分解基を含む重合体付加生成物の例は上記のビニルエステル又はジヒドロピランとフェノール−アルデヒド縮合ノボラック樹脂との付加生成物である。この例は：
で、このＲは
又は
で、ｎは１なし、し２５の値を有する。」（第６頁左下欄第２行〜下から第８行）、
・摘示６−９：「特定波長範囲の化学線照射に対する上記の光分解性組成物の感度は公知の紫外線及び可視光線用増感剤を配合することによって増加でき、この増感剤はシアニン、カルボキシアニン、メロシアニン、スチリル、アクリジン、多環式芳香族炭化水素、ポリアリールアミン、及びアミノ置換カルコンを包含する（米国特許第３，４９５，９８７号参照）。適当なスチリル染料とポリアリールアミンは文献：“Ｌｉｇｈｔ　Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ　Ｓｙｓｔｅｍｓ”，Ｊ.Ｋｏｓａｒ，Ｊ.Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎａ発行（Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ），３６１−３６９ページに記載されている。増感剤として有用な多環式芳香族炭化水素は米国特許第３，６４０，７１８号に記載されているがその１例は２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセンである。増感剤として有用なアミノ置換カルコンは米国特許第３，６１７，２８８号に記載されている。」（第８頁右下欄第４行〜第１９行）、
・摘示６一１０：「例３　
　対になっている酸減成基を有する重合体物質を使用して製造される光分解性組成物を示す。
　減光下で下記の成分を溶解するまで混合して光分解性組成物を作る：
２００部　塩化メチレン
３０部　　フェノール−ホルムアルデヒド樹脂のポリ−２−テトラヒドロピ　ラニルエーテル（フェノール−ホルムアルデヒド樹脂：ダウケミカル社製　Ｎｏｖｏｌａｋ ＥＴ３４５／１３００、と触媒としてのｐ−トルエンスルホン酸の存在下でジヒドロピランとの反応で生成される）
２部　　　へキサブロモエタン
１部　　　トリフェニルアミン
この感光性組成物を浸漬法により、珪酸アルミニウム板上に被覆し、乾燥被覆重量約ｌ０ｍｇ／ｄｍ２の増感板を作る。この増感板は暗所で長期間安定で、１８ｃｍの距離で５００ワット紫外線ランプ（ＧＥ社製　Ｈ３Ｔ７）の照射に１分間透明陽画を通して露光する。この感光板を、３５部のｎ一プロピルアルコール、１部の水酸化ナトリウム及び６４部の水からなる溶液で現像し露光区域を除去する。得られた陽画印刷板は良好なインク／水平衡特性を示し、非露光区域は良好な石版インク受容性を示す。同様な増感板を普通のルート２（刊行物６ではルート記号で表示されているがルート記号が審判ペーパーレスシステムにおいて使用できない文字の一つになっているために「ルート２」と表示する。）写真用階段くさびを通して露光して上記のように現像すると、このくさびの最初の３段階で十分に溶解して現像中に除去される。」（第９頁右下欄第５行〜第１０頁左上欄第１０行）
が記載されている。〔刊行物６の公開公報は刊行物１の公告公報と同じ特許出願（特願昭４８−１５２１８号）に係るものである。〕
（７）刊行物７（特開昭６０−１２１４４６号公報、異議申立人石井睦子の提出した甲第３号証）には、
・摘示７−１：「（ａ）活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、及び（ｂ）分子中に下記一般式（I）で示される、酸により分解し得るシリルエーテル基を少なくとも１個有し、なお且つ親水性基を少なくとも１個有する化合物、を含有することを特徴とする光可溶性組成物。
」（特許請求の範囲）、
・摘示７−２：「Ｎｏ.２
」（第４頁における上から２番目の式）
・摘示７−３：「具体例中のｘ、ｙ、ｚはモル比を示し、化合物例Ｎｏ.１、２では、ｘ＝０〜９０モル％、ｙ＝５〜９５モル％、ｚ＝５〜９５モル％である。」（第９頁左上欄下から１３行〜下から第１１行）
が記載されている。
（８）刊行物８（特開昭６２−２１５９４７号公報、異議申立人荒井純子の提出した甲第１号証）には、
・摘示８−１：「（１）露光により酸を発生する化合物および分子内に該酸により分解するアセタール結合部分を少なくとも３個有する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
（２）酸により分解する化合物が、分子内にアセタール結合部分を少なくとも３個有するノボラック系樹脂である特許請求の範囲第１項記載の感光性組成物。
（３）該ノボラック系樹脂が、下記一般式（I）で示される構成単位を有するものである特許請求の範囲第２項記載の感光性組成物。
（式中、Ａｒは芳香族基を表わし、Ｒ１は２−環状エーテル基を表わし、Ｒ２およびＲ３は水素原子、アルキル基またはフェニル基を表わし、ｎは３以上の数を表わす。）」（特許請求の範囲第１項）
・摘示８−２：「しかし、これらオルトカルボン酸エステル基、シリルエーテル基、シリルエステル基を含有する化合物の組み合せは、高感度ではあるが保存安定性に劣り、又、１価、２価の芳香族、あるいは脂肪族基を含有するアセタールあるいはケタール基を持つ化合物は保存安定性には優れているが、感度が低く、共に実用的に不十分な性能であった。」（第２頁左下欄第１３行〜第１９行）
・摘示８−３：「かかる化合物の例としては、分子内にアセタール結合部分を少なくとも３個有するノボラック系樹脂、例えば、下記一般式（I）で示される構成単位を有するようなノボラック系樹脂等が挙げられる。
一般式（Ｉ）において、Ａｒは芳香族基、例えば、フェニル基、ナフチル基等のアリール基を表わし、Ｒ１は２一環状エーテル基、例えば
等を表わし、Ｒ２およびＲ３は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基またはフェニル基を表わし、ｎは３以上の数を表わす。」（第３頁左下欄第５行〜同頁右下欄第１行）、
・摘示８−４：「かかる構成単位の内、好ましいものとしては下記の様なものが挙げられる。
」、
・摘示８−５：「上記アセタール結合部分を有するノボラック系樹脂は、例えば、ピロガロール、１，３，６−トリヒドロキシベンゼン、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン等の多価フェノール類とアルデヒド、ホルムアルデヒド、ベンゾフェノン等のアルデヒド類とを常法に従い縮重合してノボラック系樹脂を得て、次いで、３，４−ジヒドロピラン、２，３−ジヒドロフラン等と触媒量の塩化水素、三フッ化ホウ素、又はトルエンスルホン酸を使用して無水状態で反応させることによって製造することができる。」（第４頁左下欄第１行〜第１１行）、
・摘示８−６：「本発明の感光性組成物を塗設した感光性平版印刷材料は、透明陽画フィルムを通してカーボンアーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、タングステンランプ等の光源により露光し、次いでアルカリ性水溶液で現像することにより未露光部分のみが支持体表面に残り、ポジ−ポジ型のレリーフ像ができる。」（第６頁左上欄第１６行〜同頁右上欄第２行）
・摘示８−７：「（合成例　１）
メチルエチルケトン３０ｍｌ中にピロガロール・アセトン樹脂（Ｍｗ１，３００，Ｍｗ／Ｍｎ２.６）４.１ｇ、３，４−ジハイドロピラン７.５７ｇ、及びｐ−トルエンスルホン酸５０ｍｇを溶解し、攪拌しながら１時間かけて１２０℃まで徐々に上昇し、３.５時間還流する。還流後溶液を減圧下濃縮、さらに真空乾燥し、かっ色の固体９.４ｇを得た。ＧＰＣ測定よりＭｗは１５００、Ｍｗ／Ｍｎは２.６であった。この生成物の収量、赤外吸収及びＮＭＲ分析よりこの化合物は、下記構造式で表わされる構成単位を２０ｗｔ％含有していることを確認した。
」（第６頁左下欄第３行〜末行）
が記載されている。
４．申立理由についての判断
　〔新規性について〕
（１）訂正後の本件請求項１に係る発明と刊行物１に記載された発明を対比すると、両者は「フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとを反応させることを特徴とするポジチブ処理可能な感放射線混合物用ポリマー結合剤の製法。」で一致するものの、（イ）訂正後の本件請求項１に係る発明における フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシーα−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であるのに対し、刊行物１に記載された発明におけるものはフェノールアルデヒド縮合ノボラック樹脂である点、及び、（ロ）訂正後の本件請求項１に係る発明におけるポリマー結合剤はポジチブ及びネガチブ処理が可能であるのに対し、刊行物１に記載された発明におけるものは露光部分が現像液で除去できる（即ち、本件明細書で言うところのポジチブ処理が可能である）ことしか記載がされていない点でも相違している。
（２）訂正後の本件請求項１に係る発明と刊行物６に記載された発明を対比すると、刊行物６に記載された発明は、その内容が刊行物１に記載された発明と実質的に同じであるから、訂正後の本件請求項１に係る発明と対比した場合の一致点及び相違点も同じである。
（３）訂正後の本件請求項１に係る発明と刊行物８に記載された発明を対比すると、両者は「フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピランとを反応させることを特徴とするポジチブ処理可能な感放射線混合物用ポリマー結合剤の製法。」で一致するものの、（イ）訂正後の本件請求項１に係る発明におけるフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシーα−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であるのに対し、刊行物８に記載された発明におけるものはノボラック系樹脂である点、及び、（ロ）訂正後の本件請求項１に係る発明におけるポリマー結合剤はポジチブ及びネガチブ処理が可能であるのに対し、刊行物８に記載された発明におけるものは露光部分をアルカリ性水溶液で現像除去するポジチブ処理が可能であることしか記載がされていない点でも相違している。
  したがって、訂正後の本件請求項１に係る発明は刊行物１、刊行物６又は刊行物８に記載された発明ではない。
  〔進歩性について〕
（１）訂正後の本件請求項１に係る発明について
　刊行物３には、酸に対して不安定な反復して枝分れした基を有する重合体としてポリ（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ−α−メチルスチレン）やポリ（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン）が記載され、また、
そのレジストの露光、現像としては、露光部分の塩基による現像（訂正後の本件請求項１に係る発明で言うところのポジ型）と非露光部分の無極性溶媒による現像（同ネガ型）の両方を行いことができることが記載されてはいる。
　このように、刊行物３の重合体は重合体の繰り返し構造がｐ−オキシスチレンが重合した構造となっている点では訂正後の本件請求項１に係る発明と一致しているが、オキシ基に結合する基が、訂正後の本件発明ではエーテル結合を内部に含む脂肪族あるいは脂環族基（即ち、Ｒ０Ｒ−基、
基、尚、該オキシ基とはエーテル結合で結合した構造となっている。）であるのに対し、刊行物３ではオキシ基に結合する基が脂肪族オキシカルボニル基である点で相違している。
  また、現像方法については、訂正後の本件請求項１に係る発明がポジチブ及びネガチブ処理可能であるのに対して、刊行物３では現像液を塩基溶液または無極性溶媒から選択すればネガ型もポジ型も可能なのであるから、この点では両者に（発明の構成上の）差異はないが、訂正後の本件請求項１に係る発明ではアルカリ溶媒による現像前に熱処理を行いその温度を６０〜９０℃とするか１２０〜２００℃とするかでポジ又はネガ画像を得ることが可能であり、したがって、このような効果を奏する点では刊行物３記載の発明と相違している。
　刊行物４には、レジストとしてＯ−トリメチルシリルポリ（ビニルフェノール）樹脂が記載され、露光により露光部分が水性現像液で溶解することが記載されてはいる。
  オキシ基に結合する基が、訂正後の本件請求項１に係る発明ではエーテル結合を内部に含む脂肪族あるいは脂環族基（即ち、Ｒ０Ｒ−基、
基、尚、オキシ基とはエーテル結合で結合した構造となっている。）であるのに対し、刊行物４ではＯ−Ｓｉ結合で結合した構造となっている点で相違している。
  また、現像方法については、訂正後の本件請求項１に係る発明がポジチブ及びネガチブ処理可能であるのに対して、刊行物４では露光部を水性現像剤で現像することだけが記載されているだけで、相違している。
　刊行物５には、フォトレジストに関する記載がされ、シリル化したＰＶＰ（ポリ（ビニルフェノール））について記載され、ＰＶＰはノボラックよりも溶解しやすく透過率も大きいことが記載されてはいる。
　このシリル化したポリ（ビニルフェノール）は重合体の繰り返し構造がｐ−オキシスチレンが重合した構造となっている点では訂正後の本件請求項１に係る発明と一致しているが、オキシ基に結合する基が、訂正後の本件請求項１に係る発明ではエーテル結合を内部に含む脂肪族あるいは脂環族基（即ち、Ｒ０Ｒ−基、
基、尚、オキシ基とはエーテル結合で結合した構造となっている。）であるのに対し、刊行物５ではＯ−Ｓｉ結合で結合した構造となっている点で相違している。
  また、現像方法については、訂正後の本件請求項１に係る発明がポジチブ及びネガチブ処理可能であるのに対して、刊行物５では露光部を水性アルカリで現像することだけが記載されている点で、相違している。
　このように、刊行物３〜５には、オキシスチレンが重合した構造のレジスト用樹脂が記載されているが、そのオキシ基に結合する基は総て訂正後の本件請求項１に係る発明のものと相違している。
  一方刊行物１、６には、重合体のフェノール性オキシ基に結合する基がエーテル結合を内部に含む脂肪族あるいは脂環族基であるもの、即ち、Ｒ０Ｒ−基、
基が記載されてはいるが、その基が結合する重合体は訂正後の本件請求項１に係る発明の重合体と相違するノボラックである。
　刊行物１、６において、酸分解結合を含む水不溶性有機化合物としては、（１）非重合体、（２）酸分解結合が重合鎖に含まれる重合体、又は（３）酸分解結合が重合鎖に対して対の位置にある重合体、があり、多数の有機化合物が例示される他重合体についても幾つかの重合体が具体的に記載され、その中の一つとしてノボラック樹脂が挙げられているのであり、それ以外にどのような重合体が好適かと言うことについても何の記載もなく、訂正後の本件請求項１に係る発明のポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）の重合体を示唆するような記載もない。
　また、刊行物８には、重合体のフェノール性オキシ基に結合する基がエーテル結合を内部に含む脂環族基であるもの、即ち、
基が記載されてはいるが、その基が結合する重合体は訂正後の本件請求項１に係る発明の重合体と相違するノボラックであり、それ以外にどのような重合体が好適かと言うことについても何の記載もなく、訂正後の本件請求項１に係る発明のポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）の重合体を示唆するような記載もない。
　そして、刊行物３〜５には、オキシスチレンが重合した構造のレジスト用樹脂が記載されているが、そのオキシ基に結合する基は総て訂正後の本件請求項１に係る発明のものと全く相違するシリル基や―ＣＯＯＲ基であるから、それに替えて訂正後の本件請求項１に係る発明のＲ０Ｒ−基や
基とすることが容易に思いつくことであるとも考えられない。
　したがって、刊行物１，６，８に刊行物３〜５を併せて考えても訂正後の本件請求項１に係る発明のポリマーが容易に予想し得るものであるとは考え難い。
　また、刊行物５には、トリメチルシリル基が結合する重合体としてノボラックとポリ（ビニルフェノール）が記載されており、ノボラックでは水性アルカリ中での溶解速度が低下すること、また、ポリ（ビニルフェノール）では２５４ｎｍでの透過率がノボラックより大きいこと、が記載されてはいるが、トリメチルシリル基以外の基の場合についてそのようなことが言えるのか否かについては何も示唆していない。
　特許異議申立人石黒きよし及び荒井純子は、ノボラックもポリ（ビニルフェノール）も共に公知のものであるから、ノボラックに代えてポリ（ビニルフェノール）を用いることは容易である旨主張するが、上記のような理由により容易に考えつくものとは考え難いし、さらに、この種の組成物においては現像液に対する溶解性も考慮しなければならないのであるから、化合物（重合体を含む）を構成する基を交換しても同様な作用効果を奏するとは直ちに考え難いので、その点なおさらのことである。
  そして、訂正後の本件請求項１に係る発明は、アルカリ溶媒による現像前に熱処理を行いその温度を６０〜９０℃とするか１２０〜２００℃とするかでポジ又はネガ画像を得ることが可能であると言う効果を奏するものであり、このようなことはいずれの刊行物にも記載がされていないことである。
　したがって、訂正後の本件請求項１に係る発明は刊行物１，３〜６、８に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとは認められない。
　そのほか刊行物２及び７には、先に３．（２）及び（７）で述べたように、シリルエーテル基を少なくとも１個有する化合物が記載され、その化合物の一つとしてフェノール樹脂系のものが例示されているが、訂正後の本件請求項１に係る発明のものとは、化合物の骨格となる重合体も異なる（訂正後の本件請求項１に係る発明はｐ−ヒドロキシスチレン系重合体）から、進歩性を判断する上で、何ら訂正後の本件請求項１に係る発明を示唆したり予想させるものではない。
　したがって、訂正後の本件請求項１に係る発明は、刊行物１〜８に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとは認められない。
（２）訂正後の本件請求項２に係る発明について
　訂正後の本件請求項２に係る発明は訂正後の本件請求項１に係る発明のフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％がジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルと反応することを更に規定するものであるから、訂正後の本件請求項１に係る発明と同様、訂正後の本件請求項２に係る発明も刊行物１〜８に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとは認められない。　
　〔明細書の記載不備について〕
　特許異議申立人荒井純子は本件明細書の実施例にアルキルビニルエーテルを反応させた重合体の例の記載はなく、その効果は不明瞭であると主張するが、上記特許異議申立人はアルキルビニルエーテルでは何故効果を奏し得ないのかについての具体的な理由を何ら述べていない。それ故、単に本件明細書の実施例にアルキルビニルエーテルを反応させた重合体の例が記載されていないことをもって、本件明細書の記載が特許法第３６条第３項及び第４項に規定する要件を満たしていないとすることはできない。
　なお、付記すれば、特許異議申立人荒井純子は、本件明細書【００３９】の「また、ジヒドロピランの代わりに、それと同じ等量のアルキルビニルエーテルを添加して、エーテル化されたフェノール基を有するポリマーが製造される。」の記載が原出願の当初明細書の特開平２−１９８４７号になく、もともとその実施例はなかった旨主張をするが、該公報にはこの記載を除けば本件特許明細書において記載されたアルキルビニルエーテルに関する記載は総て記載されている。また、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）とアルキルビニルエーテルを反応させて本件発明のポリマー結合剤が得られることは、平成１２年７月２４日付けの特許異議意見書に添付された実験成績証明書によっても明らかにされた。
　以上のとおりであるから本件明細書には特許異議申立人荒井純子の主張する特許法第３６条の記載不備は存在しない。
［５］　むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立人石黒きよし、石井睦子及び荒井純子の特許異議申立の理由及び証拠によっては訂正後の本件請求項１及び本件請求項２に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に訂正後の本件請求項１及び本件請求項２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年１２月１５日（２０００．１２．１５）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　特許第２８６６０７７号発明の明細書を本件訂正請求書に添付された訂正明細書のとおりにすなわち、
ａ．本件特許の設定登録時の明細書における特許請求の範囲の「【請求項１】フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとを反応させるか、又はフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応生成物を重合させることを特徴とするポジチブ及びネガチブ処理可能な感放射線混合物用ポリマー結合剤の製法。
　【請求項２】フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％とジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルとを反応させることを特徴とする請求項１記載のポリマー結合剤の製法。
　【請求項３】フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ｐ−クレゾール／ホルムアルデヒドを主体とするノボラックであることを特徴とする請求項１又は２記載のポリマー結合剤の製法。
　【請求項４】フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であることを特徴とする請求項１又は２記載のポリマー結合剤の製法。」を特許請求の範囲の減縮を目的として、
「【請求項１】フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとを反応させるか、又は該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくアルキルビニルエーテルとの反応生成物を重合させることを特徴とするポジチブ及びネガチブ処理可能な感放射線混合物用ポリマー結合剤の製法。
　【請求項２】前記フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％とジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルとを反応させることを特徴とする請求項１記載のポリマー結合剤の製法。」に訂正する。
ｂ．本件特許の設定登録時の明細書における段落【０００５】の「本発明の対象は、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとを反応、又はフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応生成物を重合させることを特徴とするポリマー結合剤の製法である。」を明りょうでない記載の釈明を目的として、「本発明の対象は、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとを反応させるか、又は該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応生成物を重合させることを特徴とするポリマー結合剤の製法である。」に訂正する。
ｃ．本件特許の設定登録時の明細書における段落【０００６】の「本発明の製法により得られるポリマー結合剤中において、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％をジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルと反応させることが好ましく、このポリマー結合剤の製法として、ｐ−クレゾール／ホルムアルデヒドを主体とするノボラックとジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応、又はポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、若しくはｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンの共重合体と、ジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応を行うことが好ましい。」を明りょうでない記載の釈明を目的として、「本発明の製法により得られるポリマー結合剤中において、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％をジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルと反応させることが好ましく、このポリマー結合剤の製法として、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、若しくはｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンの共重合体と、ジヒドロピラン若しくはアルキルビニルエーテルとの反応を行うことが好ましい。」に訂正する。
ｄ．本件特許の設定登録時の明細書における段落【００１１】の『本発明のポリマー結合剤の製法に使用するフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーは、その「フェノール性ヒドロキシル基」が「ベンゼン環に直接結合したヒドロキシル基」であるので、ポリマー結合剤の製法の出発材料としてフェノール樹脂、例えばノボラック、ことにｐ−クレゾール／ホルムアルデヒドを主体とするノボラック、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体が挙げられる。これらは全体的又は部分的にジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルと反応せしめられ、例えばジヒドロピランとの反応で得られる生成物の場合には、一般式（ＩＩ）』を明りょうでない記載の釈明を目的として、『本発明のポリマー結合剤の製法に使用するフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーは、その「フェノール性ヒドロキシル基」が「ベンゼン環に直接結合したヒドロキシル基」であるので、ポリマー結合剤の製法の出発材料としてポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体が挙げられる。これらは全体的又は部分的にジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルと反応せしめられ、例えばジヒドロピランとの反応で得られる生成物の場合には、一般式（ＩＩ）』に訂正する。
ｅ．本件特許の設定登録時の明細書における段落【００１３】の『ノボラック（出発材料）としては、例えば「ソリッド、ステイト、テクノロジー」１９８４年６月号１１５−１２０頁におけるＴ．パンパローン（Ｐａｍｐａｌｏｎｅ）の論稿「ノボラック、レジンス、ユーズド、イン、ポジチブ、レジスト、システムズ」に記載されているものが使用される。特殊な用途、例えば短波長紫外線露光用には、ｐ−クレゾール及びホルムアルデヒドからのノボラックが好ましい。』を明りょうでない記載の釈明を目的として、『以下の、段落【００１４】を含む、出発材料としてのノボラックの記載にかかわらず、本発明の出発材料としてのフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーは、ノボラックは含まない。参考例としてのノボラック（出発材料）としては、例えば「ソリッド、ステイト、テクノロジー」１９８４年６月号１１５−１２０頁におけるＴ．パンパローン（Ｐａｍｐａｌｏｎｅ）の論稿「ノボラック、レジンス、ユーズド、イン、ポジチブ、レジスト、システムズ」に記載されているものが使用される。特殊な用途、例えば短波長紫外線露光用には、ｐ−クレゾール及びホルムアルデヒドからのノボラックが好ましい。』に訂正する。
ｆ．本件特許の設定登録時の明細書における段落【００２９】の「本発明のポリマー結合剤を含む感放射線混合物は、Ｘ線、電子ビーム、紫外線に対して感応する。長波長紫外線から可視光線波長域まで感応するように、場合により微量の増感剤、例えばピレン、ペリレンを添加することができる。特殊な波長範囲、例えば短波長紫外線帯域（＜３００ｎｍ）における露光のため、それぞれの露光波長における高い透明度が要求される。水銀灯を主体とする慣用の露光装置においては２５４ｎｍラインが使用され、また２４８ｎｍ（ＫｒＦ）のエキシマレーザ光が使用される。したがって、感放射線記録材料はこの波長帯域においてなるべく低い光学密度を持たねばならない。このような用途のためにはノボラックを主体とする本発明におけるポリマー結合剤は、ヒドロキシスチレンを主体とするポリマー結合剤がこの特殊な用途のために使用される場合に比し不適当である。」を明りょうでない記載の釈明を目的として、「本発明のポリマー結合剤を含む感放射線混合物は、Ｘ線、電子ビーム、紫外線に対して感応する。長波長紫外線から可視光線波長域まで感応するように、場合により微量の増感剤、例えばピレン、ペリレンを添加することができる。特殊な波長範囲、例えば短波長紫外線帯域（＜３００ｎｍ）における露光のため、それぞれの露光波長における高い透明度が要求される。水銀灯を主体とする慣用の露光装置においては２５４ｎｍラインが使用され、また２４８ｎｍ（ＫｒＦ）のエキシマレーザ光が使用される。したがって、感放射線記録材料はこの波長帯域においてなるべく低い光学密度を持たねばならない。このような用途のためにはノボラックを主体とするポリマー結合剤は、本発明のヒドロキシスチレンを主体とするポリマー結合剤がこの特殊な用途のために使用される場合に比し不適当である。」に訂正する。
（５４）【発明の名称】
ポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物用ポリマー結合剤の製法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー
が、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー
該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしての
　【請求項２】
前記
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明はポリマー結合剤の製法に関し、特に放射線の作用下で強酸を形成し、同一分子内に酸により分裂可能の基を含有する有機化合物との混合使用で、ポジチブ及びネガチブ処理可能な感放射線混合物を形成するポリマー結合剤の製法に関する。本発明の方法により得られるポリマー結合剤を用いた上記混合物は、紫外線、電子線、及びＸ線に対して感応し、ことにレジスト材料として好適である。
　【０００２】
　【従来の技術】
　ポジチブ処理可能な感放射線混合物に使用されている結合剤として、アルカリ水溶液に可溶性の結合剤、例えばフェノールとホルムアルデヒドとを反応させて得られるノボラック又はｐ−ビニルフェノールを重合させて得られるポリ−（ｐ−ビニルフェノール）が知られている。しかしながら、このような結合剤をｏ−キノンジアジドと共に使用したポジチブ処理可能な感放射線混合物は、ことに短波長放射線に対する感度が部分的に不十分である。
　【０００３】
　【発明が解決しようとする課題】
　本発明の目的乃至課題は、放射線の作用で強酸を形成し、同一分子内に酸により分裂可能の基を含有する有機化合物との混合使用で、アルカリ水溶液で現像され、しかもポジチブ処理もネガチブ処理も可能なレリーフパターン作製用の高活性感放射線組成物に好適なポリマー結合剤の製法を提供することである。
　【０００４】
　【課題を解決するための手段】
　本発明の製法により得られるポリマー結合剤からは、何らの追加的処理工程を必要とすることなくポジチブ処理もネガチブ処理も可能な、高感度のアルカリ現像しうる感放射線混合物が調製されうることが見出された。
　【０００５】
　本発明の対象は、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー
が、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、又はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー
該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしての
　【０００６】
　本発明の製法により得られるポリマー結合剤中において、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％をジヒドロピラン又はアルニエーテルと反応させることが好ましく、このポリマー結合剤の製法として
、ポリ
　【０００７】
　本発明の製法により得られるポリマー結合剤と好適に共使用し、感放射線組成物を調製しうる有機化合物の一例として一般式（Ｉ）：
　【０００８】
　【化１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は互いに同じであっても異なっていてもよく、それぞれ場合によりヘテロ原子を含有する脂肪族及び／又は芳香族基を意味し、又はＲ１乃至Ｒ３の２個が互いに結合して環を形成するが、Ｒ１乃至Ｒ３の少なくとも１個は少なくとも１個の、酸により分裂可能の基を有し、Ｒ１乃至Ｒ３の１個は１個又は複数個のさらに他のスルホニウム塩基と、場合により酸により分裂可能の基を介して、結合されることができ、Ｘ−は非求核性反対イオンを意味する］のスルホニウム塩を使用することが好ましい。
　【０００９】
　本発明の方法により得られたポリマー結合剤を用いた感放射線混合物を露光後、６０乃至９０℃の温度に加熱し、次いでアルカリ現像剤で現像することにより、ポジチブレジストパターンが得られる。又上記と同様にして、但し露光後に１２０乃至２００℃の温度に加熱することによりネガチブレジストパターンが得られる。
　【００１０】
　本発明の方法により得られたポリマー結合剤を用いて調製された感放射線混合物の各組成分を以下に逐一説明する。
　【００１１】
　本発明のポリマー結合剤の製法に使用するフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーは、その「フェノール性ヒドロキシル基」が「ベンゼン環に直接結合したヒドロキシル基」であるので、ポリマー結合剤の製法の出発材料とし
てポ
　【００１２】
　【化２】
［式中、Ｒは水素又は炭素原子１乃至３個を有するアルキルを意味する］の基が導入される。
　【００１３】
　
以下の、段落【００１４】を含む、出発材料としてのノボラックの記載にかかわらず、本発明の出発材料としてのフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーは、ノボラックを含まない。参考例としての
　【００１４】
　次いでノボラックは、例えばエチルアセタート中において、触媒的量の塩酸の存在下に、ジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルと反応せしめられ、フェノール性ＯＨ基が全部又は部分的に代替される。
　【００１５】
　ヒドロキシスチレンを主体とするフェノール樹脂の製法は、慣用の方法により種々の不飽和モノマーをラジカル共重合又はイオン共重合して行われる。共重合せしめられるべき不飽和コモノマーは、置換又は非置換ヒドロキシスチレン、例えばｐ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−（テトラヒドロピラニル−オキシ）−スチレン及びｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンが好ましい。
　【００１６】
　ヒドロキシスチレンを主体とするこれらのポリマーの製法は、重合類似反応により、例えばポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）をそれぞれ化学量論的量の又はこの理論量より少ない量の、例えばジヒドロピラン又はアルキルビニルエーテルと反応せしめられる。
　【００１７】
　アルキルビニルエーテルとしては、１乃至８個の、好ましくは２乃至６個、ことに２乃至４個の炭素原子をアルキル基中に有する、直鎖、分岐又は環式のものが挙げられる。ことに好ましいのはフェノール性ヒドロキシ基を有する縮合物又は重合体をジヒドロピランとにより変換したものである。
　【００１８】
　本発明の方法により得られる結合剤におけるフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％、ことに１５乃至３０％が、アルキルビニルエーテル又はジヒドロピランでエーテル化されるのが好ましい。
　【００１９】
　本発明の方法により得られる共重合体（ポリマー結合剤）の組成はＨ−ＮＭＲスペクトロスコープにより測定される。
　【００２０】
　本発明の方法により得られる結合剤から調製される感放射線混合物中には、本発明の方法により得られるポリマー結合剤が７０乃至９８％、ことに８０乃至９５％含有され得る。
　【００２１】
　感放射線混合物を調製するために、本発明の方法で得られる結合剤と混合される好ましい有機化合物は、少なくとも１個のスルホニウム塩基と、少なくとも１個のｔ−ブチルカルボナート基又は少なくとも１個のシリルエーテル基とを含有するものが好ましい。しかしながら、放射線照射により強酸を形成し、同一分子内に酸により分裂可能の基を含有するものであれば上記以外の化合物も使用されうる。
　【００２２】
　好ましいこのような有機化合物は一般式（Ｉ）：
　【００２３】
　【化３】
で表されるものである。　
　【００２４】
　Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は互いに同じであっても異なっていてもよく、それぞれ場合によりヘテロ原子を有する脂肪族及び／又は芳香族基を意味し、又はＲ１乃至Ｒ３のうちの２個が結合して環を形成するが、Ｒ１乃至Ｒ３の少なくとも１個は少なくとも１個の酸により分裂可能の基を含有し、Ｒ１乃至Ｒ３の１個は１個又は複数個の他のスルホニウム塩基と、場合により酸により分裂可能の基を介して、結合されることができ、Ｘ−は非求核性反対イオンを意味する。具体的には例えば反対イオンとしてヘキサフルオロアルセナート、ヘキサフルオロアンチモナート、ヘキサフルオロホスファート及び／又はヘキサフルオロカルボナートを有するジメチル−４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル−スルホニウム塩、上記反対イオンを有するフェニル−ビス−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル）−スルホニウム塩、上記反対イオンを有するトリス−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル）−スルホニウム塩、上記反対イオンを有する４−ヒドロキシフェニル−ビス−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル）−スルホニウム塩又は上記反対イオンを有する１−ナフチル−４−トリメチルシリルオキシテトラメチレン−スルホニウム塩である。
　【００２５】
　ことに好ましい有機化合物は一般式（ＩＩＩ）：
　【００２６】
　【化４】
で表されるものである。Ｒは水素、ｔ−ブトキシカルボニル及び／又はトリアルキルシリルを意味するが、Ｒのうち少なくとも１個は水素であってはならない。
　【００２７】
　上記スルホニウム塩の製造法は、例えば西独特許出願公開３７２１７４１号及び３７２１７４０号公報に記載されている。
　【００２８】
　本発明の方法により得られる結合剤含有感放射線混合物中、結合剤及び有機化合物の合計量に対し、この有機化合物は好ましくは２乃至３０重量％、ことに５乃至２０重量％含有される。
　【００２９】
　本発明の方法により得られるポリマー結合剤を含む感放射線混合物は、Ｘ線、電子ビーム、紫外線に対して感応する。長波長紫外線から可視光線波長域まで感応するように、場合により微量の増感剤、例えばピレン、ペリレンを添加することができる。特殊な波長範囲、例えば短波長紫外線帯域（＜３００ｎｍ）における露光のため、それぞれの露光波長における高い透明度が要求される。水銀灯を主体とする慣用の露光装置においては２５４ｎｍラインが使用され、また２４８ｎｍ（ＫｒＦ）のエキシマレーザ光が使用される。したがって、感放射線記録材料はこの波長帯域においてなるべく低い光学密度を持たねばならない。このような用途のためにはノボラックを主体とす
るポ
本発明の
　【００３０】
　本発明の方法により得られるポリマー結合剤を含む感放射線混合物からポジチブレリーフパターンの作製において、感放射線混合物からなる感放射線記録層は、６０乃至９０℃の温度に加熱することにより露光領域の水性アルカリ溶媒に対する溶解性が増大せしめられ、この露光領域が水性アルカリ現像剤により選択的に洗除されうる程度に画像形成露光される。
　【００３１】
　ネガチブレリーフパターン作製においては、感放射線記録層は、１２０乃至２００℃の温度に加熱することにより露光領域の水性アルカリ現像剤に対して最早溶解しなくなる程度に画像形成露光される。非露光領域はこの処理により逆に水性アルカリ現像剤により完全に洗除される。
　【００３２】
　フェノール系モノマー組成分の１０乃至１００％がアルキルビニルエーテル又はジヒドロピランと反応せしめられた、本発明の方法により得られるポリマー結合剤、例えばポリ−ｐ−ヒドロキシスチレンと、ポリマー結合剤と放射線の作用で強酸を形成し、同一分子内に酸により分裂可能の基を含有する有機化合物の合計量に対して５乃至２０重量％、ことに５乃至１５重量％の有機化合物とを、適当な不活性溶媒、例えばメチルグリコールアセタート又はメチル−プロピレングリコール−アセタートに溶解させ、固体分含有量を１０乃至３０重量％となるようにする。
　【００３３】
　この溶液を０．２μｍ網目のフィルターで濾過する。このレジスト溶液を１０００乃至１００００ｒｐｍの回転数でウエハ（例えば表面を酸化させた珪素ウエハ）上に遠心力塗布して、レジストフィルム（厚さ約１μｍ）を形成する。このウエハを９０乃至８０℃で１乃至５分間加熱する。形成層をクロム被覆石英マスクを介して水銀灯紫外線、エキシマレーザー光、電子ビーム又はＸ線により露光処理する。露光層を６０乃至８０℃で５秒乃至２分間、又は１２０乃至２００℃で１０秒乃至２分間加熱する。このように熱処理された層をアルカリ現像剤で現像処理し、６０乃至８０℃の低温熱処理をした場合には露光領域が選択的に溶解洗除され、１２０℃以上の高温熱処理した場合には非露光領域が選択的に溶解洗除される。
　【００３４】
　現像剤としては市販の、例えばナトリウムヒドロキシド、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム又はテトラアルキルアンモニウムヒドロキシドを主体とする市販のものが使用される。
　【００３５】
　本発明の方法により得られるポリマー結合剤を含む感放射線混合物は、ことに高感度、良好な解像度、処理の容易性を示し、従って短波長紫外線によるリトグラフィーに特に適する。
　【００３６】
　以下の実施例における部及びパーセントは明示されない限りすべて重量部及び重量％である。
　【００３７】
　【実施例】
　ポリマー結合剤の合成方法
　分子量Ｍｗ（光散乱）６２０００ｇ／モルのポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）２部をエチルアセタート２０部に溶解させる。これにジヒドロピラン１０部及び濃塩酸０．５部を添加する。この混合物を室温において６２時間反応させ、次いでリグロイン中に沈殿させる。生成ポリマーを希釈炭酸水素ナトリウムで洗浄し、５０℃減圧下に乾燥する。そのＩＲスペクトロープ及びＨ−ＮＭＲスペクトロープ分析により、フェノール性ＯＨが完全にエーテル化されており、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）のテトラヒドロピラニルエーテルが形成されていることが認められる。
　【００３８】
　同様にしてそれぞれ理論量のジヒドロピランを添加して、部分的にエーテル化されたフェノール基を有するポリマーが製造される。
　【００３９】
　また、ジヒドロピランの代わりに、それと同じ当量のアルキルビニルエーテルを添加して、エーテル化されたフェノール基を有するポリマーが製造される。
　【００４０】
　本発明の方法により得られるポリマー結合剤の用途例１
　レジスト溶液の調製
　１０部のトリス−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル）−スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、９０部の、ｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−２−テトラヒドロピラニル−オキシスチレン（７５：２５）共重合体（分子量Ｍｎ＝２２０００ｇ／モル（ＧＰＣ））及び４００部のメチルプロピレングリコールアセタートからフォトレジスト溶液を調製する。この溶液を０．２μｍ網目のフィルターで濾過する。
　【００４１】
　リトグラフィー試験
（ａ）ポジチブ法
　レジスト溶液を７９００ｒｐｍの回転数でＳｉＯ２被覆珪素ウエハ上に遠心力塗布し、１．０７μｍ厚さの層を形成する。このウエハを９０℃で１分間乾燥し、次いでテストマスクを通して波長２４８ｎｍのエキシマレーザー光で１５秒間コンタクト法で画像形成露光に付し、次いで７０℃で６０秒間熱処理し、アルカリ現像剤（ｐＨ値１２．３）で６０秒間現像処理する。露光領域は完全に洗除され、マスクに忠実なポジチブ画像を有するレジストパターンが得られる。感度は１００ｍＪ／ｃｍ２である。
（ｂ）ネガチブ法
　上記（ａ）のようにしてレジスト溶液を遠心力塗布し（層厚さ１．００５μｍ）、９０℃で１分間加熱する。次いでテストマスクを介して、波長２４８ｎｍのエキシマレーザー光で２０秒間画像形成露光し、次いで１２０℃で１分間熱処理する。アルカリ性現像剤（ｐＨ１２．３）により９０秒間現像すると、非露光領域は完全に洗除されるが、露光領域は約１μｍの厚さの層が残存する。感度は７０ｍＪ／ｃｍ２で、マスクのネガチブパターンが形成される。
　【００４２】
　本発明の方法により得られるポリマー結合剤の用途例２
　１０部のトリス−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル）−スルホニウムヘキサフルオロホスファート）９０部の、ｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−２−テトラヒドロピラニル−オキシスチレン（９０：１０）共重合体（分子量Ｍｎ＝１６５００ｇ／モル（ＧＰＣ））及び４００部のメチルプロピレングリコールアセタートからフォトレジスト溶液を調製する。次いでこの溶液を０．２μｍ網目のフィルターで濾過する。
　【００４３】
　このレジスト溶液を９８２０ｒｐｍの回転数でＳｉＯ２被覆珪素ウエハ上に遠心力塗布して０．９９μｍ厚さの層を形成する。このウエハを９０℃で１分間乾燥し、次いでテストマスクを介して波長２４８ｎｍのエキシマレーザー光で１５秒間画像形成露光し、次いで８０℃で６０秒間熱処理する。ｐＨ値１２．３の現像液で６０秒間現像処理すると、露光領域は完全に洗除され、マスクのポジチブ再生画像を有するレリーフパターンが得られる。感度は２５０ｍＪ／ｃｍ２である。
　【００４４】
　上記混合物を１２０℃で熱処理すると相当するネガチブパターンが得られる。感度は１００ｍＪ／ｃｍ２である。