【事件の表示】
　特許第２７２１７３９号「改良されたアノードの製造方法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２７２１７３９号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
〔一〕　本件特許（特許第２７２１７３９号）は、平成２年（１９９０）６月２９日（１９８９年６月３０日に米国でした出願に基づいて、優先権主張）に出願され（特願平２−１７４３３５号）、平成９年１１月２１日に特許権の設定の登録がされ、平成１０年３月４日にその特許掲載公報が発行されたものである。
　これに対して、本件特許の願書に添付した明細書（以下では、本件特許明細書という。）の特許請求の範囲の請求項１の構成の発明（以下では、この発明を本件特許発明という。）は、特許法第２９条第２項の規定に違反して、及び同３６条に規定する要件を満たしていない特許出願に対して特許されたものであるから、同発明の特許を取り消すべきであるとの特許異議の申立てがされた。
　当審は、本件特許発明は、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであるから、本件特許は取り消すべきであるという理由で、特許取消理由を通知した。
　
〔二〕　本件特許発明（請求項１に係る発明）の構成の記載は、下記のとおりである。
「【請求項１】アノードの支持体金属を粒子間エッチングによって粗面化し、プロフィルメーターにより測定して、平均表面あらさ少なくとも6.4μｍ（250マイクロインチ）およびプロフィルメーター下限値7.6μｍ（300マイクロインチ）およびプロフィルメーター上限値10.2μｍ（400マイクロインチ）の範囲内で測定された、平均表面ピーク数少なくとも16/cm（40/インチ）を有するアノードの支持体金属の該粗面化表面に、電気化学的に活性な被膜を施すことからなる、アノードを製造する方法。」
　
〔三〕　本件特許明細書の記載（ただし、以下の摘記は、本件特許掲載公報による。）
（イ）　５欄４〜９行、（発明の背景）の一部
　「　支持体金属の表面に直接に施される被膜の付着性は、被膜金属が過酷な工業的環境下で用いられる場合は特に重要である。被膜前の表面処理および予備処理操作に通常慎重な注意が払われる。特に、清浄な表面の達成はこのような処理または予備処理操作に際して優先的に求められることである。」
（ロ）　５欄４９行〜６欄９行
　「　しかしきわめて厳しい商業的環境、たとえば電気めっき、電気スズめっき、電鋳または電解抽出に採用される今日の商業的用途に用いる酸素発生アノードに有用な寿命の長い被膜金属物品を提供するのは困難であることが分かった。すなわちこれは連続操作である。潜在的な表面損傷を含めた過酷な条件を伴う可能性がある。このような操作に電極として用いることができ、優れた被膜付着性を保持した状態で長期間安定な操作を示す被覆金属系支持体を提供することはきわめて望ましいであろう。この種の電極を新鮮な金属からのみでなく、再被覆金属からも提供することもきわめて望ましいであろう。」
（ハ）　６欄１８〜３２行
　「　一観点においては、本発明は被膜付着性の向上に適合する表面を備えたアノードにおいて、該表面が研磨処理の有害な作用を受けることなく、望ましい表面結晶粒径を保有し、該表面が深部粒界（deep grain boundaries）を伴う三次元結晶粒を含み、該表面がアノードの支持体金属表面の粒界に位置する不純物のエッチングを含めてエッチングされており、この粒子間エッチングによってプロフィルメーターにより測定して、平均表面あらさ少なくとも6.4μｍ（250マイクロインチ）およびプロフィルメーター下限値7.6μｍ（300マイクロインチ）およびプロフィルメーター上限値10.2μｍ（400マイクロインチ）の範囲内で測定された、平均表面ピーク数少なくとも16/cm（40/インチ）を有するアノード支持体金属の該粗面化表面に、電気化学的に活性な金属を施すことからなる、アノードの製造方法を目的とする。」
（ニ）　６欄３３〜４２行
　「　他の観点においては本発明は不純なバルブ金属表面を該表面における被膜付着性向上のために調整する方法において、少なくとも実質的に連続した粒子間純物ネットワーク−金属の表面にある不純物を含む−を与えるに十分な時間、高められた温度での焼なましを表面に施し；得られた焼なまし表面を冷却し；そして該表面を高められた温度で強酸または強苛性アルカリ系エッチング剤により粒子間エッチングし、その際、該表面が表面研磨処理の有害な作用を少なくとも実質的に受けない状態を維持することよりなる方法を目的とする。」
（ホ）　７欄４〜１２行
　「　十分に調製された金属が電気触媒被覆され、酸素発生アノードとして用いられる場合、連続的な電気亜鉛めっき（electrogalvanizing）電気スズめっき、電鋳または電解抽出を含めた過酷な商業的操作においてすら、この種のアノードはきわめて望ましい有効寿命をもつ。またこの種の金属はアノードとして効果的に低い電流密度を与え、これは上記の用途またはたとえば水もしくは海水用のアノードとして用いた場合に、電極の寿命を延長させるのに役立つ。」
（ヘ）　８欄２５〜３３行
　「　清浄化された表面、または好ましくは調製および清浄化された表面が得られると、特に・・・場合には、本発明の実施に際して大部分の場合エッチングによって粗面を得ることが考慮される。本発明のエッチングの概念においては十分に露出した三次元結晶粒を与える深部粒界を提示するために、金属表面を激しくエッチングすることが重要である。この操作によってこれらの粒界に位置する不純物をエッチングすることが好ましい。」
　（ただし、上記中、「・・・」の部分は、転記を省略した部分である。）
（ト）　７欄３５〜４７行
　「チタンの場合、鉄が通常の不純物である。その最大濃度はグレード１および１１についての０．２重量％から、グレード４および６についての０．５％にまで及ぶと予想しうる。・・・。チタン粒界に位置するβ−チタンはエッチングを受けやすいので、このβ−チタンはこの考察の目的に対してはここでは不純物とみなされる。・・・。β−チタンのほかに特定の金属チタンはβ−チタン安定剤を含む場所があり、それらのうち若干はきわめて少量で不純物として存在し、」
　（ただし、上記中、「・・・」の部分は、転記を省略した部分である。）
（チ）　８欄４３〜４８行
　「　粗面性を得るエッチング法を選ぶ場合、本発明の重要な観点は粒界にある金属不純物の増強を伴うことである。これは金属調製の全プロセスの初期の段階で行うことが有利である。考慮されるこの増強の一方法は、金属に対する不純物１種または２種以上を粒界に誘導または導入することである。」
（リ）　１０欄３〜１５行
　「これらは塩酸、硫酸、過塩素酸、硝酸、シュウ酸、酒石酸およびリン酸、ならびにそれらの混合物、たとえば王水により得られる。・・・。操作の効率のため、エッチング液は強い、または濃厚な溶液、たとえば塩酸の１８〜２２重量％溶液であることが有利である。さらにこの溶液はエッチングに際して高められた温度、たとえば８０℃、または水溶液についてはそれ以上、しばしば沸騰状態もしくはその付近、またはそれ以上、たとえば還流状態に保持されることが有利である。」
（ヌ）　１０欄１８〜３０行
　「　目的とする表面あらさを達成するために採用する方法に関係なく、たとえばプラズマ溶射または粒子間エッチングのいずれであっても、金属表面は平均表面あらさ（Ｒａ）少なくとも約6.4μｍ（250マイクロインチ）および平均表面ピーク数（Ｎｒ）少なくとも約16/cm（40/インチ）をもつことが必要である。表面ピーク数は一般にプロフィルメーター下限値約7.6μｍ（300マイクロインチ）およびプロフィルメーター上限値約10.2μｍ（400マイクロインチ）の範囲内において測定される。平均表面あらさ約6.4μｍ（250マイクロインチ）未満の表面は、平均表面ピーク数約16/cm（40/インチ）未満の表面と同様に、要求される実質的に増強された被膜付着性を得るに望ましくないほど平滑であろう。」
（ル）　１１欄２〜８行
　「　エッチングされた金属表面に次いで施される電気化学的活性被膜の代表例は、白金その他の白金族金属によって得られたものであるか、・・・。これらの被膜は一般に電気化学工業においてアノード被膜として用いるために開発された。」
（ヲ）　実施例１（１２欄）の概略
　ａ．　非合金グレード１のチタンプレート（最高０．２０％の鉄不純物を含有している）を脱脂、水洗、風乾後、「９５℃に加熱された２０重量％塩酸水溶液に浸漬することにより約１時間エッチングした。熱塩酸から取出したのち、プレートを再び脱イオン水ですすぎ、風乾した。このエッチングによって、プレートはプレート表面積ｍ２当たり５００〜６００ｇの減量を生じた。」
　ｂ．　そして、得られたプレートの表面を立体顕微鏡観察すると、「プレート表面は明瞭な三次元粒界エッチングを有することが認められた。」
　ｃ．　次に、プロフィルメーター測定の結果は、次のとおりである。
（ｉ）　表面あらさ（Ｒａ）
　　約１０．０μｍ
（ｉｉ）　ピーク数（Ｎｒ）〔プロフィルメー　ター下限値約７．６μｍ（３００マイクロインチ）および上限値約１０．２μｍ（４００マイクロインチ）の範囲内で測定〕
　　約３４／ｃｍ（８６／インチ）
（ワ）　比較例１（１２欄）の概略
　ａ．　「非合金グレード１のチタンのチタンプレート試料−ただし実施例１のプレート試料と異なるバッチからのもの−を実施例１と同じ条件下でエッチングした。」
　ｂ．　プレートのプロフィルメーター測定の結果は、次のとおりである。
（ｉ）　平均値約４．０μｍ（Ｒａ）
（ｉｉ）　約１２／ｃｍ（Ｎｒ）
（カ）　実施例２の概略
　比較例１と同じ非合金チタン材を焼鈍し操作をした後、沸騰１８重量％ＨＣｌ中でエッチングすると、Ｒａが１０．１μｍであり、Ｎｒが約３０／ｃｍの粗面化チタン材が得られた。
　
〔四〕　取消理由通知の引例の記載
（１）　特公昭４４−１９９６６号公報（以下では、引例１という。）
（イ）　特許請求の範囲
「１　チタンまたはチタン基合金の物品の少くとも一部分の上に接着した被覆を沈着させるのに適したつや消し腐食した表面を与えるために該部分を腐食する方法において、前記の部分を少くとも70℃より高い温度のシュウ酸水溶液で腐食することを特徴とするチタンまたはチタン基合金の物品の少くとも一部分を腐食する方法。」
（ロ）　１欄２６〜３０行
「　チタン又はチタン基合金は、以後では簡略を期するために単に“チタン合金”と略称する。この“チタン合金”は、チタンの表面の少くとも一部を貴金属の接着した層で被覆するならば、電気化学的な用途の電極の製造に成功裡に使用できる。」
（ハ）　６欄１〜８行
「　工業的に純粋なチタンの薄板を、80±5℃に保った工業用品位のシュウ酸100g/l水溶液中で16時間腐食する。次にチタン薄板を溶液から取出し、水中で洗い、乾燥する。
　次にチタン薄板の表面の粗さ（ＣＬＡ）を測定し、150ミクロ・インチであることが認められた。腐食前のＣＬＡの値は55ミクロ・インチであった。」
（当審注：１５０ミクロインチ＝３．８１μｍ）
　
（２）　実務　表面技術　２９（６）２４５−２４９（１９８１）（山口甲子男、「白金めっきチタン電極」）（以下では、引例２という。）には、下記の記載がある。
（イ）　２４５頁の要約
「　チタン上にめっきした白金皮膜にピンホールができる原因を明らかにし、白金めっきの欠陥が電極の寿命を短かくすることをのべ、半光沢白金めっきチタン電極がクロムめっき用陽極として採用されている事例を紹介する。」
（ロ）　246頁、５行〜下から８行
「　チタンにめっきするには先ず密着をどうするか、素地をどのように荒したらよいか、その荒さはどの位か、それは全て素地調整にかかっている。素地調整方法は一般にサンドブラスト法または酸エッチング法が採用されている。プレーテング第５０巻１３１頁に両法が解説されているが、白金めっき皮膜の耐久性はこの段階で左右されることがわかった。筆者の実験によればサンドブラスト法による素地調整は密着のよいめっきは得られるが、素地粗化後ふっ酸等のエッチングを併用しても写真１に示す如く、チタンに砂が喰い込み、或いはチタンの酸化皮膜を押込んでピンホールや部分密着不良の原因となる欠陥を生じ好ましい方法ではない。その点酸エッチング法は薬品の選択、エッチング操作を誤らなければ理想的な投錨効果を狙うことができる。エッチング剤に非酸化性のふっ酸、塩酸、硫酸、蓚酸等を用い、チタンの粒界腐食を利用してその表面荒さも15μｍ程度に素地調整した場合欠陥のないめっきが得られる。」
　
〔五〕　取消決定の理由
（１）　引例発明の認定
（イ）　引例２には、「半光沢白金めっきチタン電極がクロムめっき用陽極」｛上記〔四〕（２）（イ）参照｝の支持体を製造するために、「その点酸エッチング法は薬品の選択、エッチング操作を誤らなければ理想的な投錨効果を狙うことができる。エッチング剤に非酸化性のふっ酸、塩酸、硫酸、蓚酸等を用い、チタンの粒界腐食を利用してその表面荒さも15μｍ程度に素地調整した場合欠陥のないめっきが得られる。」｛上記〔四〕（２）（ロ）参照｝と記載されていると認められる。
（ロ）（ｉ）　上記（イ）のチタン材は、エッチング剤に非酸化性の酸を用い、チタンの粒界腐食を利用して、素地調整される。
（ｉｉ）　上記（イ）の素地調整したチタンは、クロムめっき用陽極の製造に使用するものであり、この陽極の支持体となるものと認められるから、クロムめっき用陽極の支持体であると認められる。
（ｉｉｉ）　そして、上記〔四〕（２）（イ）及び同（ロ）の記載からみて、上記クロムめっき用陽極は、上記素地調整した支持体に白金めっきを施して製造されると認められる。
（ハ）　そうすると、引例２には、下記の構成の発明が記載されていると認められる。
　「　クロムめっき用陽極の支持体金属としてのチタンを、塩酸等で粒界腐食して、表面荒さを15μｍ程度に素地調整して、この素地調整した表面に白金をめっきすることからなる、クロムめっき用陽極を製造する方法。」
　以下では、上記構成の発明を本件引例発明という。
　
（２）　特許の要件（特許法第２９条第２項）
Ａ．　相違点の認定
（イ）　本件特許発明にいう「アノード」は、上記〔三〕（ホ）によれば、電解又は電気めっきに供する電極としてのアノードであるから、本件引例発明にいう陽極を指すものと解される。
　本件特許発明の「アノードの支持体金属」は、本件引例発明の「クロムめっき用陽極の支持体金属としてのチタン」を包含している。
（ロ）　本件特許発明で電極支持体表面を被覆する「電気化学的に活性な被膜」は、アノード、特に酸素発生用電極として一般的に用いられるものであって、その代表例は、白金であるとされている｛上記〔三〕（ホ）、及び同（ル）参照｝。
　一方、本件引例発明のクロムめっき用陽極は、クロムめっき用に使用され、その表面は白金でめっきされている。
　そうすると、本件特許発明で「電気化学的に活性な被膜を施す」ことは、本件引例発明にいう白金めっきを施すことを包含していると認められる。
（ハ）（ｉ）　ところで、引例２だけではなく、引例１にも記載されているように、電極支持体表面を粗面化した後に、めっきを施して電極を製造することは、周知であると認められる。
（ｉｉ）　しかるに、本件特許明細書において、「本発明のエッチングの概念においては十分に露出した三次元結晶粒を与える深部粒界を提示するために、金属表面を激しくエッチングすることが重要である。この操作によってこれらの粒界に位置する不純物をエッチングすることが好ましい。」｛上記〔三〕（ヘ）参照｝とされている。
　これに対して、引例２には、「酸エッチング法は薬品の選択、エッチング操作を誤らなければ理想的な投錨効果を狙うことができる」とした上で、「チタンの粒界腐食を利用してその表面荒さも15μｍ程度に素地調整」するとされている。
　引例２では、「粒界腐食」の技術用語を定義していないから、周知の意味に解される。そして、「図解　金属材料技術用語辞典」（日刊工業新聞社、昭和６３年１１月２０日発行）、５７１頁の「粒界腐食」の項には、「金属および合金は、不純物および合金元素の粒界への偏析により、粒界またはその隣接部においては選択溶解が生じやすくなり、粒界腐食が観察される。不純物や合金元素の偏析が粒界を電気的に卑にするか、または貴にするかのいずれかによって粒界領域が選択腐食される。後者の場合には、粒界それ自身が局部カソードとして作用し、粒界に近い領域が選択腐食される。」と記載されている。
　そうすると、本件引例発明にいう素地調整は、投錨効果によって電極支持体上に強固なめっき被膜を作ることを目的としていることが認められ、本件特許発明にいう「粒子間エッチング」の目的と同じであると認められる。
（ｉｉｉ）　本件特許発明で「粒子間エッチングによって粗面化」｛上記〔三〕（ハ）、（ニ）、（ヘ）、（チ）、（リ）参照｝することは、例えば、塩酸や蓚酸でアノード支持体金属を粒子間エッチングすることを包含し｛上記〔三〕（ヲ）、（ワ）参照｝、一方、本件引例発明でも、陽極支持体チタン金属の表面を塩酸等で粒界腐食するものであるから、エッチングの手段の点でも、本件特許発明は本件引例発明とで格別相違しているとは認められない。
（ニ）　本件特許発明の粗面化したアノード支持体金属の平均表面あらさ（以下では、表面あらさをＲａと略記することがある。）は、「少なくとも６．４μｍ（２５０マイクロインチ）」であるのに対して、本件引例発明の素地調整した支持体金属の平均表面荒さは、１５μｍ程度であるとされているから、これらの表面あらさの程度について、本件特許発明は、引例発明を包含している。
（ホ）　しかるに、本件引例発明は、本件特許発明の「プロフィルメーター下限値7.6μｍ（300マイクロインチ）およびプロフィルメーター上限値10.2μｍ（400マイクロインチ）の範囲内で測定された、平均表面ピーク数少なくとも16/cm（40/インチ）を有する」（以下では、本件特許発明の意味での平均ピーク数をＮｒと略記することがある。）との構成を、少なくとも明示的には有していない。
　以下では、この相違点を本件特許発明の相違点という。
（ヘ）　なお、他に、本件特許と本件引例発明とに格別の相違はない。
　
Ｂ．　本件特許発明の相違点に対する判断
（イ）　粗面化した支持体金属の表面あらさ（Ｒａ）とその本件特許の意味での平均表面ピーク数（Ｎｒ）との間には、表面腐食性を異にする多くの種類の被処理材料については、必ずしも、一義的な変換関係があるとも認められない（この場合には、Ｒａが一致していているからといって、Ｎｒまでもが一致しているとはいえない）が、粗面化される被処理材料と粗面化処理方法が同じ場合には、ＲａとＮｒとは、同じ表面の性状を表現しているのであって、ただその表現方法（すなわち、測定方法）がちがっているにすぎない。
　そうすると、粗面化される被処理材料と粗面化処理方法が同じ場合には、Ｒａが同じ値であれば、Ｎｒもまた、同じであることになる。
（ロ）　本件特許発明は、その実施例１で、市販の非合金グレード１のチタン材を用いて、Ｒａが約１０．０μｍ、Ｎｒが約３４／ｃｍの粗面化チタン材を得ている。
　そして、本件特許発明の粗面化した支持体金属について、Ｒａが少なくとも６．４μｍ、Ｎｒが少なくとも１６／ｃｍとされているから、本件特許発明の粗面化したチタン材は、Ｒａが１５μｍとなるように、上記実施例１の非合金グレード１の粗面化される被処理チタン材を粗面化処理した場合をも包含していると認められる（なお、この場合、Ｎｒがどの程度の値となるかは、本件特許明細書の記載からは不明である。）。
（ハ）　一方、引例２には、本件引例発明の粗面化される被処理チタン材がどのようなチタン材であるか具体的に説明されていないが、特殊なチタン材であると解することは妥当ではないから、上記（ロ）に指摘した、市販の非合金グレード１のチタン材を包含していると解するのが妥当である。
　そうすると、本件特許発明と引例特許発明とでは、少なくとも、粗面化される被処理チタン材の点では、一致しているとするのが妥当である。
（ニ）　一方、本件特許発明の上記粒子間エッチング法は、本件引例発明の粒界腐食法と目的及び手段の点でも、一致している〔上記Ａ．（ハ）、（ニ）参照〕。
（ホ）　上記（イ）から（ニ）までの判断理由を総合すると、本件特許発明は、本件引例発明と、粗面化される被処理チタン材及びその粗面化処理法並びに粗面化処理の程度について、同一の場合を包含しているとするのが妥当である。
（ヘ）　ところで、本件特許発明は、Ｒａ及びＮｒを特定しているのに対して、本件引例発明は、その粗面チタン材のＮｒを規定していないこと自体に相違はない。
　しかしながら、本件引例発明の粗面化チタン材のＮｒを測定すること自体は、当業者ならば、容易にできることにすぎない。
（ト）　したがって、本件特許発明は、本件引例発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができた発明であると認められる。
　
Ｃ．　特許権者の特許異議意見書における意見について
　本件特許権者は、その特許異議意見書で、本件特許明細書に記載されている実施例１及び比較例１｛上記〔三〕（ヲ）、（ワ）参照｝を指摘して、塩酸で同様に処理しても、本件特許発明のＲａ及びＮｒを満たさないことがあると主張している。すなわち、本件取消理由が正しくない場合の実例があるとして、同理由が成り立たないことを主張している。
　しかしながら、上記比較例１｛上記〔三〕（ワ）参照｝の場合は、Ｒａ自体が４．０μｍである場合にすぎないから、同比較例は、Ｒａが６．４μｍを超え、１５μｍにも達したときに、そのＮｒが本件特許発明のＮｒの範囲に入らない場合があることまでを証明しているとは認められない。
　本件特許権者は、本件特許明細書の実施例１と比較例１との違いを、チタン材のバッチの違いに帰しているようにみえる｛上記〔三〕（ワ）ａ．参照｝（ただし、バッチの違いによってチタン材の性質が具体的にどのように違っているのか、説明されていない）が、本件特許明細書には、「操作の効率のため、エッチング液は強い、または濃厚な溶液、たとえば塩酸の１８〜２２重量％溶液であることが有利である」｛上記〔三〕（リ）参照｝とされているから、粒子間エッチングの効率を考えなければ、バッチの違いにもかかわらず、上記比較例１のチタン材を粒界腐食によってＲａを１５μｍにした場合に、そのＮｒが本件特許発明で定める範囲にないとする理由にはならない。
　
Ｄ．　以上によれば、本件特許は、特許法第２９条の規定に違反して特許されたものであり、拒絶をしなければならない特許出願に対してされたものと認められるから、平成７年政令第２０５号第４条第２項によって、特許法第１１４条第２項にしたがい、取り消すべきものである。
　よって、結論のとおり、決定する。
【異議決定日】
平成１３年１月１６日（２００１．１．１６）