【事件の表示】
　特許第２７５６８６２号「露光装置」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２７５６８６２号の特許を取り消す。
【理　由】
【1】手続の経緯
　特許第2756862号の請求項1に係る発明は、平成2年9月5日に出願され、平成10年3月13日にその設定登録がなされ、その後、申立人 菅原益夫より特許異議申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成11年8月16日に訂正請求がなされた後、訂正拒絶理由が通知され、訂正拒絶理由通知に対して平成11年11月24日付けで意見書が提出されたものである。
　
【2】訂正の適否についての判断
《2-1》訂正明細書の請求項1に係る発明
　訂正明細書の請求項1に係る発明(以下、「本件の訂正後の発明」という。)は、その特許請求の範囲の請求項1に記載された次の事項によって特定されるとおりのものである。
　「(1)投影光学系を通して原板上のパターンを被露光基板上の感光層に投影露光する露光装置において、前記被露光基板を移動するステージ手段と、前記投影光学系を通して、前記原板上の特定マークの像を前記被露光基板の実素子パターンのない空白部分の位置の感光層に潜像として形成するために、前記原板上の特定マークのみを照明する照明手段と、前記感光層に潜像として形成された前記特定マークの像を検出する検出手段と、前記検出手段の検出出力に基づいて、ベースライン長を算出して、ウエハ露光時の補正された配列座標を決定し、前記ステージ手段の移動を制御する制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。」
　
《2-2》訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
《2-2-1》特許権者が求めている訂正の内容は以下のA.〜D.のとおりである。
A.特許請求の範囲の「前記原板上の特定マークの像を被露光基板の所定の位置」を、特許請求の範囲の減縮を目的として、「前記原板上の特定マークの像を被露光基板の実素子パターンのない空白部分の位置」と訂正する。
B.また、特許請求の範囲の「前記検出手段の検出出力に基づいて、前記ステージ手段の移動を制御する制御手段」を、特許請求の範囲の減縮を目的として、「前記検出手段の検出出力に基づいて、ベースライン長を算出して、ウエハ露光時の補正された配列座標を決定し、前記ステージ手段の移動を制御する制御手段」と訂正する。
C.これに伴い、明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書第8頁15~17行の「前記原板上の特定マークの像を披露光基板の所定の位置」を、「前記原板上の特定マークの像を被露光基板の実素子パターンのない空白部分の位置」と訂正する。
D.同じく、明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書第8頁20行~第9頁2行の「前記検出手段の検出出力に基づいて、前記ステージ手段の移動を制御する制御手段」を、「前記検出手段の検出出力に基づいて、ベースライン長を算出して、ウエハ露光時の補正された配列座標を決定し、前記ステージ手段の移動を制御する制御手段」と訂正する。
　
《2-2-2》上記訂正事項A.〜B.はそれぞれ特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、上記訂正事項C.〜D.はそれぞれ明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
　また、訂正事項A.〜D.は、特許明細書及び図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　
《2-3》独立特許要件の判断
《2-3-1》刊行物に示された事項
[1]
　刊行物1の第2頁右下欄第12行から第3頁左上欄第7行には「第1図は、本発明の一実施例に係る露光装置を示す構成図である。同図に示すように、システム全体は定盤1上に組上げられる(構成図は不図示)。定盤1上にはウエハステージ2があり、ウエハ保持板3およびそこに吸着保持されたウエハ4を投影レンズ5の光軸に垂直な平面に沿って移動可能としている。……投影レンズ5の上方にはレチクル保持台8に保持されたレチクル9があり、さらにその上方の照明光学系Aから照射された時レチクル9に取り込まれたパターンが投影レンズ5を介してウエハ4表面に転写されるように構成保持されている。」と記載されている。
[2]
　第3頁左上欄第13行から第3頁右上欄第1行には「第2、第3のコンデンサレンズ12,13と第2ミラー15はまた、レチクルパターン面17と共役で結像関係を持つ面を図示Bの部分に作り出すように設計しており、この部分にマスキングを置くことにより、レチクル9の特定の部分だけ照明できるようになっている。面Bには枠18に保持されたパターン露光用マスク19と、アライメントマーク露光用マスク20を選択的に光束内に挿入可能なようにシリンダー21により切換駆動する。」と記載されている。
[3]
　第3頁左下欄第5行から第4頁右上欄第13行には「グローバルアライメントが開始されると、まず、ステップ110においては、不図示の制御部によりグローバルアライメントを行うチップが決定される。このとき、計測するショット数(チップ数)が多ければそれだけ精度のよいアライメントが行われるが、その場合、当然スループットは低くなるので両者の兼ね合いから妥当なショット数が選ばれる。次に、このようにして選ばれた最初のショット位置について、レチクルのアライメントマークとウエハのアライメントマークとを略アライメント状態にし(ステップ120)、そしてレチクルのアライメントマークのみを投影レンズを通してウエハ上に露光してレチクルのアライメントマークの潜像を焼き付け(ステップ130)、さらにこの潜像とウエハのレチクルマークとの位置誤差が検出光学系(アライメント光学系)Cを介して不図示の制御部により計測されそのときのステージ2の位置とともに計測結果が記憶される(ステップ140)。…このようにして選ばれた全ショット位置についてステップ120〜140操作が行われ誤差計測が終了したとステップ150において判断されたら、次に、ステップ170において、正常な計測値のみから基準格子(各チップのステージ位置)が計算され記憶される。…このとき、アライメントマーク検出系により得られる情報は、第2図に示したように、1つのチップ33の左右2ヶ所ににウエハおよびレチクルのアライメントマーク31および32があるような場合、ΔXR、ΔYR、ΔXL、ΔYLの4つの誤差量とその時のステージ位置(x、y)である。・・・格子を作成(計算)するためには各チップ毎に1つのX,Yの計測で十分な場合もある。その場合は第5図に示すように潜像の形成を各チップ毎に1ヶ所で済ませることもできる。但し、潜像を検知する光学系が一方向しか検知できない場合には、各チップ毎に2ヶ所潜像を形成させることもあり得る。いずれにしても、このようにして基準格子が決まったら、これに基づき、ステップ180において全ショットを行い、露光を終了する。」と記載されている。
[4]
　また第4頁右上欄第14行から第4頁右下欄第7行には「第6図は本発明の他の実施例に係る露光装置を示す構成図である。ここでは潜像はレチクル9上にあるミラー49以下の対物レンズ系を通して焼き付けられる。すなわち、56はレチクル側の AA(オートアライメント)マークであり、これが対物レンズ50を通過してきた露光光によって照明されてウエハ4上に潜像を形成する。54は対物レンズ5の露光(正規な露光)に用いられるのと同一の波長を出すライトガイドである。この光は露光用の光源から導くようにしても良い。55はシャツタで、潜像を形成させる時開いて光路に光を通す。53は絞りで、レンズ52と50とによりアライメントマーク56と共役の関係にあり、アライメントマーク56周囲の不要な部分に光が当たらないように光を制限する視野絞りの役目をしている。…第7図のフローチャートに示したように、(1)潜像の形成を所定のショットで連続的に行った後(ステップ210~270)、(2)形成された潜像とウエハ上のアライメントマークをオフアクシス系で所定の順番で読み取り(ステップ280~310)、(3)この読取値に基づき基準格子を計算し(ステップ320)、(4)この基準格子に従ってステップと露光を繰り返す(ステップ330~360)という手順でグローバルアライメントおよび露光を行うことにより、スループットの向上が図られる。」と記載されている。
　さらに第4頁右下欄第11行から第20行には「…例えば、スループツトをより高めるために、1つの対物系で隣接チップを同時に観察する方法がある。この場合、マスク側のアライメントマークは、第3図に示すように、隣接チップのマーク(例えばチップAのマークARとチップBのマークBL)が描かれているものを使用する。」と記載されている。
　
　
　第3段落第27行から第5段落第2行には「前述したように、コンピューターによって蓄えられ、そして利用されたパラメーターの1つは、いわゆるベースライン値或いはベクトルである。これは顕微鏡の光軸と投影コラムの光軸の間の距離である。ステージ15を運転することに利用される他のパラメーターとして、ベースライン値をXとY軸の両方についてじっくり考えると、単なるスカラーの値よりもべクトルである。システムの操作において、ベースラインベクトルを含む種々のベクトルとロケーションは、正常な値として規定され、単純な物理測定から始まって、本発明のシステムまで種々の従来のアライメントテクニックを通して、次第に更新されていく。正常なウエハの生産技術において、搬送後のウエハは、前層に対するアライメントのために顕微鏡に送られ、アライメントの後、露光のために、投影コラム内に移動される。その移動はベースラインに基づくものである。
　ところが、本発明の運用に従って較正のための露光を行うとき、ウエハはローディングステーションから投影コラムにダイレクトに移動されるに違いない。それは当業者によって理解されるだろう、とはいえ、この移動は、記憶されたベースラインベクトルに基づくものであり、このベクトルは、おおよそのあるいは正確かはともかく、目標位置に到達するようにステージの実際の移動を達成するための計算に使用される。Fig2に示されたステップで展開された本発明の運用に従って、感光剤が塗布されたウエハは、ステージ15上に載せられ、移動計算内におけるおおよそのベースラインを使って投影コラム内におおよそアライメントするように移動される。投影コラムの主軸に位置されている間、感光剤が塗布されたウエハは、たくさんの基準マークを含む基準照射によって露光される。あらかじめ定められたそのようなマークは、Fig.3に簡単に示されている。Fig.3で見られるように、パターンは一連の類似したマーキングである(45度間隔で配置された)レチクルの中央の1つと周囲のまわりの8個を含む。
　初期のベースライン訂正の目的で、中央のマーキングは形成されている。本発明の運用に従って、感光剤が塗布されたウエハは、実際目に見える潜像を生成するのに十分な強さ、あるいは時間で露光される。本発明の一面は、あるリソグラフィのレジストが目に見える潜像を表すという発見を包含する。言い換えればたとえ、イメージがいつもの製造のプロセスに従って現像させられないとしても、起こされた変化を観察することができる。この変化は、使われた材料の白濁化の為であると思われる。…露光の後にウエハは、顕微鏡17 にXYステージで移動される。最初は、この移動は、おおよそのベースラインで規定されている(すなわち、顕微鏡の有効フィールド範囲内の中央にある基準マークの潜像を持って来るために)。しかしながらステージの更なる移動が、顕微鏡指標でもって正確なレジストレーシヨン内で中央にある基準マークの潜像をもたらすように、与えられる。全ての時間における移動は、レーザー干渉計システムによって探知されている。基準マークの潜像のアライメントを促進する顕微鏡指標のためのパターンの好ましい形状は、Fig.4に示されている。
　顕微鏡における照明は、感光剤のさらなる露光を最小限にする光源によって与えられるのが望ましい。正確なレジストレーションをもたらす移動は、マニュアル制御または電子ウエハアライメントシステムのサーボ制御のどちらかに違いない(例えばAWA II システムによって)。ベースラインベクトルに対する更新や極めて正確な値が得られるように、この追加の運動は、蓄えられたベースラインベクトルへの訂正としてのコンピューターによって適用される。この初期化あるいは較正値は、初期パターンが与えられ現像された実際のウエハの製造に使用される。ウエハはシステムに導入され、アライメントのために最初に顕微鏡17の下に運ばれ、そして更新された正確なベースラインベクトルを使って更なる露光のために、投影コラムの下に位置するように移動される。」と記載されている。
　また、Fig.2には、以下のようなフローチャートが記載されている。
「感光剤が塗布されたウエハをステージ上に搭載すること。
おおよそのベースラインベクトルを使って、投影コラムへウエハを移動すること。
検出可能な潜像を生成するために、基準レチクルでウエハを露光すること。
おおよそのベースラインベクトルを使ってウエハを顕微鏡へ移動すること。
必要なトラキング移動により顕微鏡で基準潜像をアライメントすること。
必要とされた移動に基づいて、ベースラインベクトルを修正すること。」
　すなわち、刊行物2には、感光剤が塗布されたウエハを露光装置のステージに載置し、おおよそのベースラインベクトルを使って投影コラムへ前記ウエハを移動し、基準レチクルを使って基準マークの潜像をウエハに形成し、おおよそのベースラインベクトルを使って顕微鏡へ移動し、基準潜像をトラッキング移動によりアライメントし、必要とされた移動に基づいてベースラインベクトルを修正することが記載されている。
　
《2-3-2》本件の訂正後の発明と刊行物に記載された発明との対比
　本件の訂正後の発明と刊行物1に記載された発明(以下、「引用発明」という。)とを対比すると、刊行物1に記載された発明における
(1)「レチクル9」、
(2)「ステージ2」、
(3)「ウエハ4」、
(4)「レチクル側のアライメントマーク56」、
(5)「露光に用いられるのと同一の波長の光を出すライトガイド54と、対物レンズ5を通して潜像を形成させる時開いて光路に光を通すシャツタ55と、アライメントマーク56の周囲の不要な部分に光が当たらないように光を制限する視野絞りの役目をする絞り53」、
(6)潜像を検出する「検出光学系(アライメント光学系)C」及び
(7)「潜像とウエハのマークとの位置誤差を検出光学系Cを介して制御部により計測し、そのときのステージ2の位置とともに計測結果が記憶され、該計測結果から基準格子(各チップのステージ位置)を計算するとともに、基準格子(ステージ位置)に基づいて全ショットを露光する」ようにウエハステージ2を制御する部分
は本件の訂正後の発明の
(1)「原板」、
(2)「ステージ手段」、
(3)「被露光基板」、
(4)「特定マーク」、
(5)「原板上の特定マークのみを照明する照明手段」、
(6)「前記感光層に潜像として形成された前記特定マークの像を検出する検出手段」及び
(7)「前記検出手段の検出出力」に基づいて、「ウエハ露光時の補正された配列座標を決定し、前記ステージ手段の移動を制御する制御手段」
に相当する。
　してみると、両者は「投影光学系を通して原板上のパターンを被露光基板上の感光層に投影露光する露光装置において、前記被露光基板を移動するステージ手段と、前記投影光学系を通して、前記原板上の特定マークの像を前記被露光基板の感光層に潜像として形成するために、前記原板上の特定マークのみを照明する照明手段と、前記感光層に潜像として形成された前記特定マークの像を検出する検出手段と、前記検出手段の検出出力に基づいて、ウエハ露光時の補正された配列座標を決定し、前記ステージ手段の移動を制御する制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。」の点で一致し、次の[相違1]及び[相違2]の点で相違する。
　[相違1]
　本件の訂正後の発明は、潜像を実素子パターンのない空白部分の位置に形成しているのに対して、引用発明は、潜像を実素子パターンのない空白部分の位置に形成するとは規定していない点。
　[相違2]本件の訂正後の発明では、制御手段が、ベースライン長を算出して、ウエハ露光時の補正された配列座標を決定しているのに対して、引用発明はチップ33の左右2ヶ所ににウエハおよびレチクルのアライメントマーク31および32があるような場合、ΔXR、ΔYR、ΔXL、ΔYLの4つの誤差量とその時のステージ位置(x、y)の検出結果から基準格子(各チップのステージ位置)を計算している点。
　
《2-3-3》判断
[相違1]について:
　まず、前記[相違1]を検討するに、刊行物1の記載によれば、アライメントマーク56の周囲の不要な部分に光が当たらないように光を制限する視野絞りの役目をする絞り53を介して潜像が形成され、アライメントマーク56の潜像形成後、各チップの配列座標を決定し、ステップと露光を繰り返しているから、実素子パターンの存在するウエハをステージに載置して基準格子(本件の訂正後の発明の配列座標に相当する。)を計算しているものと認められる。また、刊行物1の記載事項[3]、[5]及び第2,3図の記載によれば、実素子パターン(チップ)の間の領域にウエハ側のアライメントマークが存在し、レチクル側のアライメントマークの潜像もその近傍に形成されるものと認められる。なお、第2図にはレチクル側のアライメントマークの潜像32の一方がチップ領域に一部重複して描かれているが、同図はアライメントのずれを誇張して図示したものであって、潜像は、基本的には、チップ領域の間に形成されるものと認められる。ちなみに、本件の特許明細書において、実施例の変形例として、「変形例2 本実施例では、実素子パターンを焼付ける部分以外の空スペースということで、ウエハの周辺部を例として挙げたが、周辺部だけでなくショットとショットの間に空スペースがあれば(例えば、テストチップ用のショット部分の余白部やスクライブライン上等)その場所に潜像を形成し、検出してもかまわない。」(本件の特許掲載公報第10欄第26行から第32行)と記載されており、チップの間の領域も実素子パターンの存在しない空白部分の位置として含むことを意図していることが明らかである。さらに刊行物1の記載事項[3]中の「計測するショット数(チップ数)が多ければそれだけ精度のよいアライメントが行われるが、その場合、当然スループットは低くなるので両者の兼ね合いから妥当なショット数が選ばれる」という記載からみて、前記潜像はウエハ上のすべてのチップの両側に形成する必要がないものであること(任意の位置でよいこと)が理解される。
　以上、刊行物1にはアライメントマークの潜像の位置は任意の位置でよいことが示唆され、実素子パターン(チップ)の間の領域にウエハ側のアライメントマークの潜像を形成することが記載されているから、実素子パターンの存在するウエハを利用する場合に、実素子パターンの存在しない空白部分の位置の感光層にアライメントマークの潜像を形成することは当業者が容易に想到できた事項である。
　
[相違2]について:
　次に、前記[相違2]を検討する。本件の訂正後の発明における、特定マークの潜像を用いて「ベースライン長を算出して、ウエハ露光時の補正された配列座標を決定し」の技術事項は、本件の特許掲載公報を参酌すると、「[手順157]においては、レチクル1上の補正用マーク105L,105Rを実素子パターンのない空白部分に露光転写する。この工程を4か所の実素子パターンのない空白部分113,114,115,116のすべてに対して行なうか否かは、ベースライン長のみをチェックするか、ステージの倍率および直交度まで含めてチェックするかの判断に基づき、任意に設定可能である。またこの工程をウエハ1枚ごとに行なうか、あるいは数枚のウエハに1回行なうかは、ベースラインおよびステージの倍率および直交度の経時安定性と要求精度との兼ね合いで任意に設定することができる。[手順158]では、ショットナンバ13,19,35,38,41,57,63,69の各ショットの精密アライメントマークに対し、AGAを実行する。このとき該当ショットの片側だけのマークを検出するか、両側のマークを検出するかは、要求精度に応じて任意に設定可能である。[手順159]では、実素子パターンのない空白部分に形成された補正用マークに対してAGAを実行する。[手順160]においては、[手順158]および[手順159]のAGA各ショットで得られたオフアクシス顕微鏡によるアライメント検出データおよびステージ位置データから、ウエハ露光時の補正された配列座標を決定する。[手順159]で得られたデータからは、ベースライン長、ステージの倍率成分と直交度成分、および投影レンズの倍率成分が算出できる。レンズの倍率成分は本実施例の着目するところではない。[手順158]で得られたデータからは、ウエハ内のショット配列のX軸Y軸成分とX方向Y方向それぞれの倍率成分およびチップローテーション方向が算出できる。以上の結果から、露光時の配列座標を決定する。」(本件の特許掲載公報第9欄第25行から第10欄第4行)と説明されている。してみると、本件の訂正後の発明における、特定マークの潜像を用いて「ベースライン長を算出して、ウエハ露光時の補正された配列座標を決定し」の技術事項は、刊行物1の記載事項[3]における、スループットを考慮して選択された任意のチップの左右に、レチクル側のアライメントマークの潜像を形成して、ウエハ側及びレチクル側のアライメントマークのステージ位置毎の誤差量を検出し、これらの誤差量から基準格子を作成(計算)することに対応し、刊行物2等において知られるベースライン値の技術事項を考慮しても、「ベースライン長を算出して、ウエハ露光時の補正された配列座標を決定し」たことによる技術的意義が、引用発明に比べて格別のものであるとは認められない。
　
　そして、「ウエハの実素子パターンを焼付ける部分以外の空スペースに潜像を形成することで、他の媒体を用いることなく、オフアクシスアライメントシステムの欠点である経時変化誤差成分を補正する具体的な手段が提供できアライメント精度を大幅に改良することができた。」という本件の訂正後の発明の構成によりもたらされる効果は刊行物1に記載された事項から予測される範囲のものである。
　
《2-4》むすび
　以上のとおり、本件の訂正後の発明は、刊行物1に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第29条第2項の規定により、出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　よって、訂正について、特許法等の一部を改正する法律(平成6年12月14日法律第116号)附則第6条第1項の規定により、なお従前の例によるとされる改正前の特許法第126条3項の規定に適合しないので、当該訂正は認められない。
　
【3】特許異議の申立てについての判断
《3-1》申立ての理由の概要
　 異議申立人 菅原益夫は、本件の請求項1に係る発明は刊行物1(《2-3-1》刊行物に示された事項を参照)に記載された発明であり、特許法第29条第1項第3号に該当し同条第1項の規定に違反して特許されたものであること、及び同刊行物に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により、特許を受けることができないものであるから取り消されるべきものである旨主張している。
　
《3-2》判断
　 本件の請求項1に係る発明は、特許明細書の特許請求の範囲、請求項1に記載された事項によって特定される以下のものである。
　「投影光学系を通して原板上のパターンを被露光基板上の感光層に投影露光する露光装置において、前記被露光基板を移動するステージ手段と、前記投影光学系を通して、前記原板上の特定マークの像を前記被露光基板の所定の位置の感光層に潜像として形成するために、前記原板上の特定マークのみを照明する照明手段と、前記感光層に潜像として形成された前記特定マークの像を検出する検出手段と、前記検出手段の検出出力に基づいて、前記ステージ手段の移動を制御する制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。」
　本件請求項1に係る発明と刊行物1に記載された発明とを比較すると刊行物1に記載された発明における
(1)「レチクル9」、
(2)「ステージ2」、
(3)「ウエハ4」、
(4)「レチクル側のアライメントマーク56」、
(5)「露光に用いられるのと同一の波長の光を出すライトガイド54と、対物レンズ5を通して潜像を形成させる時開いて光路に光を通すシャツタ55と、アライメントマーク56の周囲の不要な部分に光が当たらないように光を制限する視野絞りの役目をする絞り53」、
(6)潜像を検出する「検出光学系(アライメント光学系)C」及び
(7)「潜像とウエハのマークとの位置誤差を検出光学系Cを介して制御部により計測し、そのときのステージ2の位置とともに計測結果が記憶され、該計測結果から基準格子(各チップのステージ位置)を計算するとともに、基準格子(ステージ位置)に基づいて全ショットを露光する」ようにステージ2を制御する部分
は本件の訂正後の発明の
(1)「原板」、
(2)「ステージ手段」、
(3)「被露光基板」、
(4)「特定マーク」、
(5)「原板上の特定マークのみを照明する照明手段」、
(6)「前記感光層に潜像として形成された前記特定マークの像を検出する検出手段」及び
(7)「前記検出手段の検出出力に基づいて、前記ステージ手段の移動を制御する制御手段」
に相当する。
　してみると、両者は「投影光学系を通して原板上のパターンを被露光基板上の感光層に投影露光する露光装置において、前記被露光基板を移動するステージ手段と、前記投影光学系を通して、前記原板上の特定マークの像を前記被露光基板の感光層に潜像として形成するために、前記原板上の特定マークのみを照明する照明手段と、前記感光層に潜像として形成された前記特定マークの像を検出する検出手段と、前記検出手段の検出出力に基づいて、前記ステージ手段の移動を制御する制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。」の点で一致し、実質的な相違点は認められない。
　よって、本件の請求項1に係る発明は、異議申立人の提示した刊行物1に記載されたものであるから、特許法第29条第1項第3号に該当するものである。
　
《3-3》むすび
　従って、本件の請求項1に係る発明は特許法第29条第1項の規定に違反して特許されたものであり、本件の請求項1に係る発明の特許は特許法等の一部を改正する法律(平成6年法律第116号)附則第14条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令(平成7年政令第205号)第4条第2項の規定により取り消されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年６月２９日（２０００．６．２９）