【事件の表示】
　特許第２７８５９０３号「光学素子成形用型」の請求項１ないし５に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２７８５９０３号の請求項１ないし５に係る特許を維持する。
【理由】
１．手続の経緯
　特許第２７８５９０３号は、平成５年６月３０日に特許出願され、平成１０年５月２９日にその特許の設定登録がなされ、その後、古屋雅儀より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年８月４日に訂正請求がなされたものである。
２．訂正の適否についての判断
ア．訂正事項
ａ．特許請求の範囲請求項１において、
「・・・組成の層を有することを特徴とする」とあるのを、「・・・組成の層を各々の蒸発源から電子線蒸着及びイオンプレーティングにより成膜したことを特徴とする」に訂正する。
ｂ．発明の詳細な説明の項の段落番号［００３１］において、
「・・３は型母剤１の成形面に形成した窒化物、炭化物、酸化物のうちの」とあるのを、「・・３は型母剤１の成形面に形成した窒化物、酸化物のうちの」と訂正する。
イ．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａは特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正である。訂正事項ｂは、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図るため、明りようでない記載の釈明を目的とする訂正である。そして、上記訂正ａ、ｂは、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
ウ．訂正明細書の請求項１〜５に係る発明
　訂正明細書の請求項１〜５に係る発明（以下、「本件発明１〜５」という）は、その特許請求の範囲の請求項１〜５に記載された次に記載のとおりのものである。
「【請求項１】所定の形状に加工した型母材の少なくとも成形面上に、窒化物および酸化物のうちの一種類以上と炭素が混合した組成の層を各々の蒸発源から電子線蒸着及びイオンプレーティングにより成膜したことを特徴とする光学素子成形用型。
　【請求項２】前記炭素と室化物および酸化物のうちの一種類以上に含まれる金属元素との組成比がａｔｏｍ％比で炭素／金属＝２〜１０である請求項１記載の光学素子成形用型。
　【請求項３】前記窒化物および酸化物の構成金属元素がＢ，Ａ１，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｈｆ，ＴａおよびＷのうちの１種以上である請求項１記載の光学素子成形用型。
　【請求項４】前記型母材が超硬合金、サーメット、焼結Ｓｉ３Ｎ４、焼結ＳｉＣまたはステンレス鋼である請求項１記載の光学素子成形用型。
　【請求項５】前記型母材と窒化物、酸化物のうちの一種類以上と炭素が混合した組成の層との間に、窒化物および酸化物のうちの一種類以上の組成をもち、かつ該窒化物および酸化物の構成金属元素がＢ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｈｆ，ＴａおよびＷのうちの１種以上である中間層を有する請求項１記載の光学素子成形用型。」
エ．独立特許要件の判断
［本件発明１について］
（先願明細書）
　本件発明１に対して、当審が通知した取消理由で引用した先願である特願平５−７１２２６号出願の願書に最初に添付した明細書及び図面（以下、「先願明細書」という）（特開平６−２６３４５９号公報参照）には、次の発明が記載されている。
（１）請求項１には、「成形面に離型性耐摩耗膜を形成したガラスレンズ成形用型において、前記離型性耐摩耗膜中に炭素を含有せしめたことを特徴とするガラスレンズ成形用型。」と記載される。
（２）発明の詳細な説明の段落番号［０００８］には、「離型性耐摩耗膜１７としては、酸化物、窒化物、炭化物などから形成されるが、特に窒化チタン、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ジルコニウム、窒化ケイ素などの窒化物あるいはこれらの混合物からなるものが好ましい。離型性耐摩耗膜１７は、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の薄膜形成方法によって形成でき、その膜厚は０．２〜３μｍ程度が好適であり、好ましくは０．５〜２μｍである。」と記載される。
（３）発明の詳細な説明の段落番号［０００９］には、［離型性耐摩耗膜１７中に炭素１９を含有せしめることにより、型離れ性が改善され、型の耐久性が向上する。炭素１９は、離型性耐摩耗膜１７中５〜６０原子％含有せしめることが好ましく、より好ましくは１０〜４０原子％である。離型性耐摩耗膜１７中への炭素１９の添加は、耐摩耗膜１７の形成時に行ってもよいが、耐摩耗膜１７の形成後に表面側から炭素１９を含浸せしめ、離型性耐摩耗膜１７の表層部分に炭素濃度の大きい部分を形成することが望ましい。このような含浸処理は、イオン銃による炭素の打込み、あるいは炭素の熱拡散などにより行うことができる。・・・・・・・・・離型性耐摩耗膜１７中への炭素イオンの打込み深さは、加速電圧を調整することにより制御できる。」と記載される。
（対比・判断）
　本件発明１と上記先願明細書に記載の発明とを対比すると、両者は、「所定の形状に加工した型母材の少なくとも成形面上に、窒化物および酸化物のうちの一種類以上の層を蒸発源から電子線蒸着及びイオンプレーティングにより成膜したことを特徴とする光学素子成形用型であり、且つ上記成膜した層中には、炭素が混合された光学素子成形用型。」である点で一致する。
　しかしながら、先願明細書には、本件発明１のように「窒化物および酸化物のうちの一種類以上と炭素が混合した組成の層を各々の蒸発源から電子線蒸着及びイオンプレーティングにより成膜」することの記載はない。
　先願明細書には、「ａ．離型性耐摩耗膜１７は、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の薄膜形成方法によって形成でき、」と記載され、それ後に、「ｂ．離型性耐摩耗膜１７中への炭素１９の添加は、耐摩耗膜１７の形成時に行ってもよいが、・・・」と記載されるが、ｂ．の記載を以て、先願明細書には、本件発明１の上記構成が記載されているとはいえない。また、先願明細書には、具体的にはイオン銃による炭素打込みが記載されているのみである。
　よって、本件発明１は、先願明細書に記載の発明と同一であるとはいえない。
　また、他に本件発明１が特許出願の際独立して特許を受けることができないとする理由を発見しない。
　したがって、本件発明１は特許出願の際独立して特許を受けることができないものとはいえない。
［本件発明２〜５について］
　本件発明２〜５は、本件発明１を更に限定したものであるから、本件発明１についての判断と同様の理由により、先願明細書に記載された発明と同一であるとはいえない。
　また、他に本件発明２〜５が特許出願の際独立して特許を受けることができないとする理由を発見しない。
　したがって、本件発明２〜５は特許出願の際独立して特許を受けることができないものとはいえない。
オ．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２ないし４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．特許異議の申立てについての判断
ア．申立ての理由の概要
　申立人は、本件発明１〜５は、甲第１号証（特開平６−２６３４５９号公報、上記先願明細書に相当）に記載の発明と同一であるから特許法第２９条の２の規定に該当するので、本件発明１〜５の特許を取り消すべきと主張している。
イ．対比・判断
　本件発明１〜５は、上記２項エ．で記載した理由により、甲第１号証に記載の発明と同一であるとはいえない。
ウ．むすび
　したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明１〜５の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１〜５の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年９月３０日（１９９９．９．３０）
【訂正の要旨】
ａ．特許請求の範囲請求項１において、
「・・・組成の層を有することを特徴とする」とあるのを、特許請求の範囲の減縮を目的として、「・・・組成の層を各々の蒸発源から電子線蒸着及びイオンプレーティングにより成膜したことを特徴とする」に訂正する。
ｂ．発明の詳細な説明の項の段落番号［００３１］において、
「・・３は型母剤１の成形面に形成した窒化物、炭化物、酸化物のうちの」とあるのを、
「・・３は型母剤１の成形面に形成した窒化物、酸化物のうちの」と訂正する。
　訂正事項ｂは、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図るため、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正である。
（５４）　【発明の名称】
光学素子成形用型
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】　所定の形状に加工した型母材の少なくとも成形面上に、窒化物および酸化物のうちの一種類以上と炭素が混合した組成の層を各々の蒸発源から電子線蒸着及びイオンプレーティングにより成膜したことを特徴とする光学素子成形用型。
　　【請求項２】　前記炭素と窒化物および酸化物のうちの一種類以上に含まれる金属元素との組成比がａｔｏｍ％比で炭素／金属＝２〜１０である請求項１記載の光学素子成形用型。
　　【請求項３】　前記窒化物および酸化物の構成金属元素がＢ，Ａ１，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｈｆ，ＴａおよびＷのうちの１種以上である請求項１記載の光学素子成形用型。
　　【請求項４】　前記型母材が超硬合金、サーメット、焼結Ｓｉ３Ｎ４、焼結ＳｉＣまたはステンレス鋼である請求項１記載の光学素子成形用型。
　　【請求項５】　前記型母材と窒化物、酸化物のうちの一種類以上と炭素が混合した組成の層との間に、窒化物および酸化物のうちの一種類以上の組成をもち、かつ該窒化物および酸化物の構成金属元素がＢ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｈｆ，ＴａおよびＷのうちの１種以上である中間層を有する請求項１記載の光学素子成形用型。
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　【産業上の利用分野】
　本発明は、レンズ、プリズム等のガラスよりなる光学素子をガラス素材のプレス成形により製造する場合に使用される成形用型に関するものである。
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
　研磨工程を必要としないで、ガラス素材のプレス成形によってレンズを製造する技術は、従来のレンズの製造において必要とされた複雑な工程をなくし、簡単かつ安価にレンズを製造することを可能とし、今日レンズのみならずプリズムその他のガラスよりなる光学素子の製造に使用されるようになった。
　　　【０００３】
　このようなガラスの光学素子のプレス成形に使用される型材に要求される性能として、耐擦傷性、耐熱性、離型性、鏡面加工性および成形に適した熱物性に優れていることがあげられる。
　　　【０００４】
　従来、この種の型材料として、金属、合金、セラミックスおよびそれらをコーティングした材料等、数多くの提案がされている。
　　　【０００５】
　いくつかの例を挙げるならば、特開昭４９−５１１１２号公報には１３Ｃｒマルテンサイト鋼が、特開昭５２−４５６１３号公報にはＳｉＣおよびＳｉ３Ｎ４が、特開昭６０−２４６２３０号公報には超硬合金に貴金属を形成した材料が提案されている。
　　　【０００６】
　特開昭６１−１３６９２８号公報には金属とセラミックスからなる複合材母材に窒化物、炭化物、酸化物および金属の中間層を介して貴金属を形成した材料が提案されている。
　　　【０００７】
　また、特開昭６０−８１０３２号公報にはガラス状カーボン、炭化珪素、窒化珪素、サイアロンの型材が提案されている。
　　　【０００８】
　更に、近年の薄膜技術の進歩に従い、特開昭６１−１８３１３４号公報には超硬合金上にダイヤモンドあるいはダイヤモンド状炭素膜を形成して成形型とした提案がなされている。
　　　【０００９】
　　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、特開昭４９−５１１１２号公報に開示されている１３Ｃｒマルテンサイト鋼は加工性の点で優れているが、耐擦傷性、耐熱性、離型性が不十分なため良好な型材とはいえない。
　　　【００１０】
　特開昭５２−４５６１３号公報に開示されているＳｉＣおよびＳｉ３Ｎ４は耐擦傷性、耐熱性の点で優れているが、加工性、離型性の点で問題がある。
　　　【００１１】
　また、特開昭６０−８１０３２号公報に開示されているガラス状カーボンは、離型性の点で優れているが、鏡面性および素材の強度の点に問題がある。
　　　【００１２】
　以上の様に、型材単一材料では、ガラスの成形型として要求される性能を十分満足することができず、特開昭６０−２４６２３０号公報に開示されているように、型母材の超硬合金に不足している離型性を貴金属の型表面処理により補っているが、耐擦傷性の点で改善が必要である。
　　　【００１３】
　また、特開昭６１−１８３１３４号公報に開示されている超硬合金上にダイヤモンドあるいはダイヤモンド状炭素膜を形成して、離型性を損なわずに耐擦傷性の改善を試みているが、ダイヤモンド膜は表面粗さが大きく、成膜後に鏡面研磨を要することおよびその鏡面研磨が難しいという問題があり、他方のダイヤモンド状炭素膜は、高温下でのプレス成形過程において、膜質変化および応力変化を生じ耐擦傷性低下および型母材との密着性低下を示すという欠点があった。
　　　【００１４】
　　【課題を解決するための手段】
　本発明によれば、型材に要求される性能として、鏡面加工性、成形に適した熱物性は成形プロセスを考慮して選定した型母材にその性能を持たせ、耐擦傷性および離型性については型母材上に窒化物および酸化物のうちの一種類以上と炭素が混合した組成の層（水素を含んでも可）を形成してその性能を持たせることにより、全体として良好な成形型にしたものである。
　　　【００１５】
　つまり、例えばダイヤモンド状炭素膜の高温下での膜質変化および応力変化を、本発明では炭素と安定性の高い酸化物、窒化物とを混合した組成の膜にすることにより、前記欠点を軽減した。
　　　【００１６】
　成形プロセスにより必要とされる離型性能は異なるため、混合組成比は目的に合わせて決定する。
　　　【００１７】
　　【実施例】
　以下、本発明を実施例により説明する
〔実施例１］
　図１は本発明の第一の実施例を示し、同図において１は型母材である超硬合金、６は型母材１の成形表面に形成した窒化物、酸化物のうちの一種類以上と炭素が混合した組成をもつ薄膜である。
　　　【００１８】
　つぎに上記構成の光学素子成形用型の製作方法について述べる。
　　　【００１９】
　型母材である超硬合金を所定の型形状に加工し、成形面を鏡面研磨して表面粗さを０．０２μｍにして型母材１とした。
　　　【００２０】
　この型母材１を清浄化し２元蒸着可能な蒸着装置の基板ホルダーにセットし、１×１０−５Ｔｏｒｒ迄真空排気した後、高純度炭素とＴｉＯ２を各々の蒸発源から電子線蒸着した。膜厚は水晶振動子膜厚計を用い、約８０ｎｍ厚さの膜６を形成して成形用型１０とした。このとき得られた膜の組成は、電子銃のエミッション電流を変えることにより変化し、成形評価および型とガラスの密着力測定結果に基づき、良好な成形を行うための炭素とＴｉの組成比になるようエミッション電流値を選ぶ必要がある。
　　　【００２１】
　表１は炭素とＴｉの組成比と型とガラスの離型性の関係を示す。なお、組成比はａｔｏｍ％比である。
　　　【００２２】
　　　　　　　　　　表１
　　　【００２３】
　組成比Ｃ／Ｔｉ〜約１１．０は型離れは良好だが、膜質変化により耐擦傷性が低くなるため、成形型の表面としては好ましくない。
　　　【００２４】
　次に、本発明による光学素子成形用型によってガラスレンズのプレス成形を行なった例について詳述する。
　　　【００２５】
　使用したレンズの成形装置は図３に示す。
　　　【００２６】
　図３中、２１は真空槽本体、２２はそのフタ、２３は光学素子を成形する為の上型、２４はその下型、２５は上型をおさえるための上型おさえ、２６は胴型、２７は型ホルダー、２８はヒータ、２９は下型をつき上げるつき上げ棒、３０は該つき上げ棒を作動するエアシリンダ、３１は油回転ポンプ、３２，３３，３４はバルブ、３５は不活性ガス流入バルブ、３６はバルブ、３７はリークパイプ、３８はバルブ、３９は温度センサ、４０は水冷パイプ、４１は真空槽を支持する台を示す。
　　　【００２７】
　レンズを製作する工程を次に述べる。フリント系光学ガラスＳＦ１４（オハラ製、転移点Ｔｇ＝４８５℃、軟化点Ｓｐ＝５８６℃）を球状にし所定の量に調整したガラス素材を型のキャビティー内に入れる。
　　　【００２８】
　ガラス素材を投入した型を装置内に設置してから真空槽２１のフタ２２を閉じ、水冷パイプ４０に水を流し、ヒーター２８に電流を通す。この時窒素ガス用バルブ３６及び３８は閉じ、排気系バルブ３２，３３，３４も閉じている。尚、油回転ポンプ３１は常に回転している。
　　　【００２９】
　バルブ３２を開け排気をはじめ１０−２Ｔｏｒｒ以下になったらバルブ３２を閉じ、バルブ３６を開いて窒素ガスをボンベより真空槽内に導入する。所定温度になったらエアシリンダ３０を作動させて１０ｋｇ／ｃｍ２の圧力で５分間加圧する。圧力を除去した後、冷却速度を−５゜Ｃ／ｍｉｎで転位点以下になるまで冷却し、その後は−２０℃／ｍｉｎ以上の速度で冷却を行ない、２００℃以下に下がったらバルブ３６を閉じ、リークバルブ３３を開いて真空槽２１内に空気を導入する。それからフタ２２を開け上型おさえをはずして成形物を取り出す。
　　　【００３０】
　上記のようにして、フリント系光学ガラスＳＦ１４を使用して、レンズを成形した。
　　　【００３１】
〔実施例２〕
　図２は本発明の第二の実施例を示し、同図において１は型母材である超硬合金、３は型母材１の成形面に形成した窒化物、酸化物のうちの一種類以上の組成からなる中間層であり、６は中間層３上に形成した窒化物、酸化物のうちの一種類以上と炭素が混合した組成をもつ薄膜である。
　　　【００３２】
　つぎに上記構成の光学素子成形用型の製作方法について述べる。
　　　【００３３】
　型母材である超硬合金を所定の型形状に加工し、成形面を鏡面研磨して表面粗さを０．０２μｍ以下にして型母材１とした。
　　　【００３４】
　この型母材１を清浄化し、高加速電圧印加可能なイオンガンを備えたイオンプレーティング装置の基板ホルダーにセットし、１×１０−５Ｔｏｒｒ迄真空排気した後、イオンガン内にＡｒガスを導入して放電させ、１ｋＶの加速電圧を印加して型成形面をイオンスパッタクリーニングした。
　　　【００３５】
　その後、Ｎ２ガスを５×１０−４Ｔｏｒｒ迄導入して活性化反応蒸着によりＴｉＮ膜を約２μｍ成膜して中間層３を形成し、引き続きイオンガン内にＣＨ４ガスを導入して放電を行い加速電圧２ｋＶを印加して炭素とＴｉＮの混合した組成の膜６を約８０ｎｍ形成して成形型２０とした。
　　　【００３６】
　本実施例の成形用型の離型性は実施例１と同様であるが、超硬合金母材の表面強度を高める効果および化学的安定性を高める効果がある。
　　　【００３７】
　この効果は、最表面の窒化物、酸化物のうちの一種類以上と炭素が混合した組成をもつ薄膜６を除去して再生することも可能である。
　　　【００３８】
　また、本実施例の膜中には多少の水素を含むが、実成形における弊害は認められなかった。
　　　【００３９】
　　【発明の効果】
　以上説明したように、成形面に窒化物および酸化物のうちの一種類以上と炭素（水素を含んでも可）が混合した組成の層を有する成形用型を用いて光学素子を成形することにより、安定した離型性を保って外観の良好な成形品を得ることができ、成形装置の稼動率向上および良品率の向上によりコスト低減の効果がある。
　　　【００４０】
　炭素と混合する窒化物、酸化物は、その構成金属元素が、Ｂ，Ａ１，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｈｆ，Ｔａの場合、多少の差はあるものの、安定性の高い窒化物、酸化物を形成するため、成形用型として安定性の高い成形表面層となる。
　　　【００４１】
　型母材は、超硬合金、サーメット、焼結Ｓｉ３Ｎ４、焼結ＳｉＣ，（表面ＣＶＤＳｉＣコーティングも含む）、ステンレス鋼など熱物性の異なる材料を成形光学素子形状、成形プロセス対応して最適材を選び精度の高い光学素子を得ることができる。
　　　【００４２】
　成形表面層の組成として、炭素と窒化物、酸化物が混合した組成にすることにより、成形時における膜剥離の問題は無くなった。
【図面の簡単な説明】
　　【図１】
　本発明を実施した成形用型の構成を示す模式図である。
　　【図２】
　本発明を実施した他の成形用型の構成を示す模式図である。
　　【図３】
　本発明の光学素子成形用型を使用するレンズの成形装置を示す断面図である。
　　【符号の説明】
　１　型母材
　３　中間層
　６　成形表面層
　１０　成形表面層を備えた成形用型
　２０　中間層上に成形表面層を備えた成形用型
　２１　真空槽本体
　２２　フタ
　２３　上型
　２４　下型
　２５　上型おさえ
　２６　胴型
　２７　型ホルダー
　２８　ヒーター
　２９　つき上げ棒
　３０　エアシリンダ
　３１　油回転ポンプ
　３２，３３，３４　バルブ
　３５　流入パイプ
　３６　バルブ
　３７　流出パイプ
　３８　バルブ
　３９　温度センサ
　４０　水冷パイプ
　４１　台