【事件の表示】
　特許第３００１３７４号「ウェーハ熱処理用反応容器及びその製法」の請求項１ないし７に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３００１３７４号の請求項１ないし６に係る特許を維持する。
【理　由】
 １，手続の経緯
　　本件特許の出願日　      平成6年6月10日
　　特許権設定登録　　      平成11年11月12日
　　特許異議の申立て（申立人：中野映子）
　　　　　　　　　　　      平成12年7月24日
　　取消理由通知　　　      平成12年11月17日
　　訂正請求　　　　　      平成13年2月1日
　
２，訂正の適否
（訂正の内容）
訂正事項ａ
　請求項１を削除する。
訂正事項ｂ
　請求項２〜１１を順次繰り上げて請求項１〜１０とする。
（訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否）
　上記訂正事項ａは、請求項を削除するのであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とし、また上記訂正事項ｂは、請求項１が削除されたことにより、請求項２〜１１を順次繰り上げるものであるから明瞭でない記載の釈明を目的とするものであって、実質上特許請求の範囲を拡張し、変更するものでもなく、かつ、上記各訂正事項は、明らかに願書に添付された明細書及び図面に記載された範囲内のものである。
（むすび）
　したがって、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成6年法律第116号）附則第6条第1項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法120条の4第2項及び同条第3項で準用する改正前の同法第126条第1項ただし書き及び同条第2項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３，特許異議の申立てについての判断
（本件発明）
　本件請求項１〜６に係る発明は、訂正明細書の請求項１〜６に記載された事項により特定される次のとおりのものである（以下、訂正明細書の請求項１〜６に係る発明を「本件請求項１〜６に係る発明」という）。
「【請求項１】　円形状の下端開□より上方に向けて延在し、その天井部を受熱部として形成された、略半球状、略ドーム状、若しくは略円筒体状のウェーハ熱処理用反応容器において、
　前記天井側に位置する受熱部が実質的に透明な石英ガラス部位であり、又該受熱部より下端開口に至る延在部位のほとんどの領域が、気泡を含有させることにより形成される非透明(半透明及び不透明)な石英ガラス部位で、かつ前記受熱部と非透明部位のほとんどの領域が、溶接個所が存在しない実質的に一体物であることを特徴とするウェーハ熱処理用反応容器。
【請求項２】　前記受熱部が、熱線(波長２μm)透過率が８５％以上の透明部位であり、又少なくとも受熱部に隣接する加熱領域部を除くその下側が、熱線(波長２μm)透過率が３０％以下の非透明部位であることを特徴とする請求項１記載の反応容器。
【請求項３】　前記受熱部と非透明部位間に包含気泡の明瞭な界面が存在せず、無段階的に包含気泡密度を変化可能に構成した請求項１記載の反応容器。
【請求項４】　前記受熱部の隣接区域を除く、前記気泡密度が安定している非透明部位の気泡含有量が、直径１０〜２５０μmの気泡を２０，０００個/ｃｍ3以上、好ましくは４０，０００個/ｃｍ3以上である事を特徴とする請求項１記載の反応容器
【請求項５】　前記反応容器の接合部が、円形状下端開口外縁に接合したフランジのみである事を特徴とする請求項１記載の反応容器
【請求項６】　前記反応容器が枚葉式熱処理装置に用いられる反応容器である請求項１記載の反応容器
（申立の理由の概要）
　異議申立人は甲第１号証（実願昭56-104992号の明細書及び図面を写したマイクロフィルム、実開昭58-12280号公報を参照）、甲第２号証（特開昭64-44017号公報）、甲第３号証（特開昭61-247022号公報）及び甲第４号証（特開平5-900号公報）を提出して、本件特許の請求項１〜７に係る発明（その内の、請求項２〜７は訂正明細書の請求項１〜６に対応する）は甲第１〜４号証に基づいて容易に想到できた程度のものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであるから特許は取り消されるべき旨主張している。
（引用刊行物記載の発明）
　異議申立人が提出した甲第１号証には、「第１図において１は不透明石英ガラス製ベルジャーで、その下端面にはフランジ部２を有する。３は本考案による透明石英ガラス製フランジ部で不透明石英ガラスのフランジ部２を溶着している」（第２頁下から第２行〜第３頁第３行）という記載がなされており、この記載と第１図とによれば、同号証には、下端にフランジの付いた開口を有し、全ての部分が不透明で溶接個所が存在しない実質的に一体物であるドーム状の石英ガラス製ベルジャー（半導体熱処理容器）が記載されている。
　同じく異議申立人が提出した甲第２号証には、「従来の石英製反応管について、第２図により説明する。同図は、従来の石英製反応管の後端部を示す断面図で、石英製反応管１は鍔を形成した後端開口部を、シール材としてＯリング２を用い、金属製の蓋３で密封される。さらに、高温反応部１ａを形成するために、上記の石英製反応管１の外周に加熱器４が取り付けられている。」（第１頁左欄下から第３行〜同頁右欄第５行）、「本発明による一実施例を第１図により説明する。…同図において、本発明による石英製反応管は、その高温反応部１ａと、Ｏリング２を装着した開口部との間に、環状の不透明石英部１ｂが形成されている。…矢印Ａのように、高温反応部１ａから反射を繰り返しながら管壁内を伝播して来た輻射熱は、大部分が不透明石英部１ｂで反射または吸収され、開口部まで伝播する輻射熱は極くわずかで、Ｏリング２の温度は大幅に低下した。…Ｏリングの寿命は従来に比べ約10倍に伸びた。」（第２頁左上欄第１２行〜同頁右上欄第１１行）というが記載がなされており、これらの記載と第１〜２図によれば、同号証には、鍔を付けた開口部を有する石英製反応管の側部に加熱器を取り付け、反応管の加熱器に面する部分は透明のままとし、開口部に近い部分を不透明として開口部に挿入されたＯリングへの熱伝播を少なくするようにした石英製反応管の構造が記載されている。
　同じく異議申立人が提出した甲第３号証には、「本発明は上記背景に鑑み消エネルギ型の石英管を提供するもので、特にその熱放散性を改良する。　（発明の概要）　この目的を達成するために、石英管の露出部分を不透明とし被加熱部分を透明石英で達成する手法を採用した。」（第２頁右上欄第９行〜第１４行）、「第１図により本発明を説明する。…酸水素炎でなじみ加工すると透明石英に変化するので、被加熱部分（１）のみを透明とし露出させる部分（２）（２）を不透明とした石英管が比較的安価にかつ容易に得られる。」（第２頁左下欄第２〜９行）という記載がなされており、これらの記載と第１図によれば、同号証には、被加熱部分を透明とし、露出部分を溶接によらない方法で不透明とした半導体処理用石英管が記載されている。
　同じく異議申立人が提出した甲第４号証には、「石英ガラス中に包含する気泡を次のようにしたことを特徴とする半導体処理用石英ガラス炉芯管。（１）気泡の個数が１０万個/ｃｍ3未満である。（２）石英ガラスを不透明にする程度に気泡を包含する。（３）直径１５〜１００μmの気泡の全体積が直径１５〜１００μm以外の気泡の全体積より大きい。」という記載がなされており、この記載によれば同号証には、１０万個/ｃｍ3未満の直径１５〜１００μmが大部分を占める気泡によって不透明とされた半導体処理用石英ガラス反応管が示されている。
（対比・判断）
　本件請求項１に係る発明と上記甲第１〜４号証記載の各発明とを比較すると、本件請求項１に係る発明における「その天井部を受熱部として形成され、その受熱部が実質的に透明な石英ガラス部位であり、かつ受熱部より下端開口に至る延在部位のほとんどの領域が、気泡を含有させることにより形成される非透明(半透明及び不透明)な石英ガラス部位である」という点が、甲第１〜４号証のいずれにも示されていない。そして、本件請求項１に係る発明はこの点により、略半球状、略ドーム状、若しくは略円筒体状のウェーハ熱処理用反応容器におけるフランジ封止部への熱伝導による悪影響を防止しつつ、反応容器全体の形状を小型扁平化することができるという明細書記載の格別の作用効果を奏することが認められる。
　以上述べた通り、上記甲第１〜４号証によって、本件請求項１に係る発明についての特許が、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであるとすることはできない。
 次に、本件請求項２〜６に係る各発明は、本件請求項１に係る発明を引用した発明であるから、本件請求項２〜６に係る各発明についての特許もまた本件請求項１に係る発明と同様の理由により、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであるとすることはできない。
　４，むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１〜６に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜６に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年３月１９日（２００１．３．１９）
【訂正の要旨】
（訂正の要旨）
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の減縮を目的として、請求項１を削除する。
訂正事項ｂ
　請求項１が削除されたことにより、明瞭でない記載の釈明を目的として、請求項２〜１１を順次繰り上げて請求項１〜１０とする。
（５４）【発明の名称】
ウェーハ熱処理用反応容器及びその製法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項
１
　前記天井側に位置する受熱部が実質的に透明な石英ガラス部位であり、又該受熱部より下端開口に至る延在部位のほとんどの領域が、気泡を含有させることにより形成される非透明（半透明及び不透明）な石英ガラス部位で
、かつ前記受熱部と非透明部位のほとんどの領域が、溶接個所が存在しない実斤的に一体物で
　【請求項
２
　【請求項
３
　【請求項
４
　【請求項
５
　【請求項
６
　【請求項
７
　上方が開口し内壁面が反応容器外形とほぼ同形か僅かに相似形になる形状を有する回転容器内で石英粉体を成型した後、容器壁部より前記石英粉体成型体の一部域を吸引減圧しながら、該石英粉体成型体を加熱溶融することにより、
　天井側に位置する受熱部を実質的に透明部位とし、受熱部より下端開口に至る延在の領域を気泡含有による半透明若しくは非透明部位の両者を一体的に形成してなるウェーハ熱処理用反応容器の製造方法
　【請求項
８
　【請求項９】　排気能力を２．５ｍ３／分、好ましくは５ｍ３／分以上の吸引減圧用排気装置を用いて、前記吸引減圧を行う事を特徴とする請求項
７
　【請求項
１０
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明はウエーハ熱処理用石英製反応容器とその製造方法に係り、特にウエーハの真空成膜、拡散若しくは化学（ＣＶＤ）処理を１枚づつ実施するいわゆる枚葉式処理装置に好適に使用される石英製反応容器とその製造方法に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来よりウエーハの成膜、拡散若しくは化学処理を行う場合複数枚のウエーハをボート上に積層配置して、該ボートをウエーハとともに、反応容器内に挿設して所定の熱処理を行ういわゆるバッチ式処理方式が採用されているが、かかる処理方式はボートとウエーハの接触部分で気流の乱れが生じ、その部分における処理品質が低下する。
　又ウエーハ口径がく６”（インチ）から８”更には１２”と大口径化するにつれ、前記バッチ処理方式では重量負担の増大に対応するボート及びその支持部の製作か困難であること、又口径の増大にともなう反応容器の大形化、更には該大形化にともなう加熱温度分布やガス分布の不均一化、更には加熱電源の無用の増大につなかる。
　更に次世代の１６Ｍ、６４Ｍ等の高集積密度化の半導体の製造プロセスではサブミクロン単位の加工精度が要求され、この為複数のウエーハを一括処理する方式ではウエーハ積層位置の上側と下側、又ガス流入側と排気側で夫々処理条件にバラツキか生じ、又積層されたウエーハ間で影響を及ぼし合い、更にはボートとの接触部よりパーティクル等が発生し、いずれにしても高品質の加工が困難であった。
　【０００３】
　かかる欠点を解消するために、近年ウエーハ口径の大口径化、更には次世代の半導体の高集積密度化及び高品質化に対応する為に、一枚のウエーハ毎に熱処理を行う枚葉式熱処理装置が注目されている。
　かかる枚葉式熱処理装置としてヒータを反応容器内に配設するものと、ヒータを反応容器外に配設するものの両者に分れる。
　【０００４】
　図９はヒータを反応容器内に配設するもの（出典：１９９４年度版、超ＬＳＩ製造試験装置ガイドブック（工業調査会発行）、５８頁表５、参照）の１例を示し、１０１はステンレス製のチャンバ（反応容器）で、その中央位置にサセプタ１０２を介してウエーハ１０３が載設され、その上方位置に加熱体１０４、下方にガスノズル１０５を配設するとともに、その周囲を水冷シュラウド１０６で覆っている。尚、１０７は真空ポンプである。
　【０００５】
　一方ヒータ外設型装置としては前記ガイドブックの５６頁表３にいくつか開示されているが、特にウエーハ上部より加熱を行うものとして、図１０に示すように、ウエーハ１１０が収納されているステンレス製容器１１１の上部開口を石英ガラス窓１１２で封止するとともに、該石英ガラス窓１１２の上部に発熱ランプ１１３及び該ランプハウジング１１４を配設し、石英ガラス窓１１２を介してウエーハ１１０が受熱／加熱するように構成されている。尚図中１１５はガス導入口、１１６はガスディストリビュータプレート、１１７は真空ポンプと連設する排気通路である。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら図９より理解されるようヒータ挿設型装置においては、ヒータを容器内に挿設する構成を取るために、反応容器が大形化する。容器と加熱域間を遮熱する水冷シュラウドが容器内に配設されているために、均熱分布の面で問題が生じやすい。ヒータとウエーハが直接対面する為に、ヒータよりの汚染物質がウエーハに付着し、汚染しやすい等の問題があった。
　【０００７】
　一方図１０に示すヒータ外設型装置においても、ステンレス製容器１１１の上端の石英ガラス窓部１１２との封止部１１２ａに設けたＯリングの熱劣化を防止するために、その封止部１１２ａ近傍を水冷する必要が有り、均熱分布の面で又構造の複雑化の面で前記欠点の解消につながらない。
　又前記いずれの技術も、反応容器にステンレス製容器１１１を用いている為に金属汚染の問題が生じる。
　【０００８】
　この為、前記反応容器全体を従来の炉心管と同様に透明ガラス製の容器が検討されており、例えば前記ガイドブックの５６頁表３に鏡板部と下側容器からなる反応容器が提案されているが、容器を２つに分割するとそのシール部分のＯリングの劣化がやはり問題になり易い。
　この為、従来の縦型炉心管のように、筒体の一端を平板若しくは半球状の鏡板で溶接してなる略ドーム状若しくは略円筒体状のウエーハ熱処理用反応容器も検討されている。
　【０００９】
　しかしながら、従来はウエーハ形状も殆どが６”までで小さく、溶接による反応容器を形成する事も可能であったか、最近の半導体ウエーハの処理工程では８〜１２”と大型化が進み、これに伴い、反応容器も大型化し、溶接加工では加工上も又強度的にも対応が困難となってきた。
　又、石英ガラス反応容器は外部より受熱を可能にする為に、透明で形成されているが、反応容器を透明で形成することは均熱性を高めるために、ウエーハの加熱に不要な範囲まで加熱する必要があり、結果として不必要な反応や周辺設備まで熱による悪影響が発生してしまう。
　而も透明であることは熱伝播性もよいために加熱域より相当遠ざけた位置に封止部を構成するフランジ等を設けねばならず、結果としてウエーハの大口径化にともなう容器径の増大とともに、併せて封止部を加熱域から退避させるために、背高も増大し、大形化してしまう。
　【００１０】
　【課題を解決する為の手段】
　本第１発明は円形状の下端開口より上方に向けて延在し、その天井部を受熱部として形成された、略半球状、略ドーム状、若しくは略円筒体状の、特にヒータ外設型のウエーハ熱処理装置に用いる反応容器に関するもので、図１、図３及び図５に示すように、前記天井側に位置する受熱部が実質的に透明な石英ガラス部位であり、又該受熱部より下端開口に至る延在部位のほとんどの領域が、気泡を含有させることにより形成される非透明（半透明及び不透明）な石英ガラス部位であることを特徴とするものである。
　【００１１】
　この場合、好ましくは前記容器はフランジ部を除く全体が一体ものである事が好ましいが、前記反応容器の下端開口はそのまま一体化させてもよいが、フランジ等を円形状下端開口外縁に接合することや又非加熱部に他の部材を溶着する必要もあり、従って少なくとも前記受熱部と非透明部位のほとんどの領域が、溶接箇所か存在しない実質的に一体物であることが後記作用を達成する上で必要である。
　【００１２】
　尚、前記透明、非透明の定義は、前記受熱部よりウエーハ面に熱線を透過させる必要がある事から熱線で定義する事が好ましく、この為前記受熱部は熱線（波長２μｍ）透過率が８５％以上の透明部位であり、又少なくとも受熱部に隣接する加熱領域部を除くその下側が、熱線（波長２μｍ）透過率が３０％以下の非透明部位であるように設定するのが、後記作用を達成する上で好ましい。
　又前記非透明部位はサンドブラストのように、表面のみが非透明で構成すると容器内部より下端開口側に熱が伝播し、好ましくない結果が生じるために、気泡を内部に包含させて熱伝播を阻止するのが好ましい。
　即ち具体的には前記受熱部の隣接区域、言換えれば加熱領域を除く、前記気泡密度が安定している非透明部位の気泡含有量が、直径１０〜２５０μｍの気泡を２０，０００個ｃｍ３以上、好ましくは４０，０００個ｃｍ３以上であるのがよい。
　【００１３】
　尚、前記受熱部と非透明部位間に溶接の様に明瞭な界面が存在すると、その界面部分が局部的に加熱されたり、又熱線を不均質に散乱、反射させたりすることで、内填された被加熱体が不均質に加熱される恐れがあるために、本発明は前記受熱部と非透明部位間に包含気泡の明瞭な界面が存在せず、無段階的に包含気泡密度を変化可能に構成する。そして前記気泡密度が変化している部位が実質的には加熱領域に対応するのが好ましい。
　又、気泡密度が安定している非透明部位であっても、窓部等の部分的に透明部位を設ける場合もあり、又、本発明の反応容器は枚葉式熱処理装置に用いられるのが、好ましいが必ずしもそれのみに限定されないのは前記した通りである。
　【００１４】
　第２発明は前記の様に反応容器を好適に製造する方法を示し、
　図２、図４及び図６に示すように、上方が開口し内壁面が反応容器外形とほぼ同形か僅かに相似形に大なる形状を有する回転容器内で石英粉体を成型した後、容器壁部より前記石英粉体成型体の一部域（透明部位を所望する位置）を吸引減圧しながら、該石英粉体成型体を加熱溶融することにより、
　天井側に位置する受熱部を実質的に透明部位とし、受熱部より下端開口に至る延在の領域を気泡含有による半透明若しくは非透明部位の両者を一体的に形成してなる反応容器の製造方法にある。
　【００１５】
　この場合、実質的透明部位を形成するには、即ち具体的には少なくとも前記容器受熱部に対応する部位における吸引減圧量を−６００ｍｍＨｇ以上、好ましくは−７００ｍｍＨｇ以上に設定するのがよい。
　又、前記吸引減圧が、徐々に行うと残存気泡がまきこまれる恐れがあり、この為、前記吸引減圧の為の排気装置の排気能力を２．５ｍ３／分、好ましくは５ｍ３／分以上に設定するのがよい。
　又透明化を図るための吸引減圧は、少なくとも加熱溶解工程の開始直前若しくは開始と同時より終了直後まで全工程に亙って継続するのが好ましい。
　【００１６】
　【作用】
　かかる技術手段によれば、所望する位置、例えば天井側に位置する受熱部（及び必要があればのぞき窓部）が実質的に透明、より具体的には熱線透過率か８５％以上の透明部位である為に、熱線を無駄なくウエーハ上に取込み、効果的な加熱か可能となる。
　又受熱部より下端開口に至る延在部位のほとんどの領域が熱線透過及び熱伝導の悪い非透明ガラス、具体的には熱線透過率が３０％以下の非透明部位である為に、保温性改善、前記不透明部位のいわゆる不要加熱域への不良熱線の侵入が有効に阻止され、容器内の均熱性の向上とともに、バラツキのない高品質な生産性を得る事か出来る。
　又、非透明部は熱線の透過が少なく、言換えれば受熱部を介してウエーハを加熱しても、下端開口に至る延在部位での温度が無用に上昇することなく、そのままＯリングなどを使用してのフランジ封止が可能である。
　【００１７】
　従ってウエーハの加熱に不要な範囲まで加熱する必要がなく、又不必要な反応や周辺設備まで熱による悪影響が発生する事もなく、又前記延在部で加熱域と封止部を熱遮断することが出来るために、水冷ジャケット等を設けずに加熱域と封止部をある程度近づけることが可能であり、結果として小型偏平化と装置の簡素化を図ることが出来る。
　又本発明は前記受熱部と非透明部位のほとんどの領域が溶接箇所を有しない実質的に一体もので形成されている為に、言換えれば溶接界面等が存在しないために、その部分における熱残留歪による破損や破壊を回避し得る。
　【００１８】
　又実質的に一体ものであることは、局所歪や偏荷重等が発生することなく真空下及び１０００℃前後に加熱した場合でも機械的強度が大幅に増大する。
　非透明化はサンドブラスト処理でも行うことが出来るが、サンドブラスト処理は透明な石英ガラスの表面のみにサンドを吹き付けて凹凸処理を行うものであり、従ってかかる方式では、外表面のみの不透明化処理であるために、エッチングや加熱処理が施されると、透明化してしまい、又内部が透明であるために、その部分よりフランジ側に熱伝播してしまう。
　【００１９】
　本発明によれば前記非透明部位はサンドブラストのように、表面のみが非透明で構成したものではなく、気泡により内部まで非透明化を図ったものであるために、前記欠点のいずれをも解消できる。
　更に本発明は前記受熱部と非透明部位間に包含気泡の明瞭な界面が存在せず、無段階的に包含気泡密度を変化させる事により、気泡界面すら存在せず、強度性が一層向上するのみならず、その部分が局部的に加熱されたり、又、熱線を不均質に散乱させたりすることで、均熱性を乱すことなく、受熱部から延在部に進むにつれ徐々に熱降下させる事が出来、熱バランスのよい高品質なウエーハ処理が可能な熱雰囲気を得ることが出来る。
　【００２０】
　又本発明によれば、機械的強度増大により、ウエーハ処理工程に於いて、高速加熱、高速冷却が可能となり、生産性も改善できた。
　更に反応容器に金属ジャケットを用いないために、装置内部の確認が容易であるのみならず、必要であれば、容器内監視用として、非透明な容器周囲部の一部に透明な窓部等を一体的に形成する事も容易である。
　【００２１】
　第２発明によれば、石英粉体を回転成型により直接加熱溶融する際に、石英粉体成型体の一部域を吸引減圧しながら加熱溶融するだけで、部分的に透明部位を有する反応容器か容易に且つ安価に形成出来る。
　又、不透明ガラスより不要部分を切除してそのに透明石英ガラスを溶着して前記反応容器を形成する方法、又は不透明ガラス体を製造する際に透明石英ガラスを予め所望箇所にセットしておき、製造一体化して前記反応容器を製造することも可能であるが、これらではいずれも溶着界面が発生し前記した欠点が生じるのみならず、前者の溶着技術では、製造及び加工工程が複雑化し且つ高度な熟練を必要とする。
　【００２２】
　又後者は熱特性が異なる素材の加熱溶接加工であるために、同様に高度な加工技術や加工後の残留歪除去など特殊技術を必要とする。
　等実用上の問題が多いが、本発明はこのような製造上の問題は全て解消される。
　【００２３】
　【実施例】
　以下、図面に基づいて本発明の実施例を例示的に詳しく説明する。但しこの実施例に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは特に特定的な記載かない限りは、この発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく単なる説明例に過ぎない。
　図２は、図１に示す本発明の略ドーム状の反応容器を製造するための製造装置で、回転自在なモールド１０（回転容器）と、該モールド１０を脱着自在に保持するモールドホルダ１１と、該ホルダ１１とともにモールド１０を回転させる回転手段１２と、前記前記ホルダ１１を冷却する手段１３と、前記ホルダ１１に設けた不図示の吸引室を介して前記モールド底部１０ａと該モールド側壁１０ｂに穿孔した吸引穴１０ｂと連通する吸引管１４、及び該吸引管１４に接続された減圧吸引ポンプ１５と減圧ゲージ１６よりなる。
　【００２４】
　モールド１０は上方が開口し、その内壁面を反応容器外形に成型後の研削代を加えて僅かに相似形に大なる形状に形成するとともに、反応容器１の受熱部１ａに対応する底部１０ａを通気性炭素で、側壁部１０ｂを気密性炭素で夫々構成するとともに側壁部１０ｂの容器窓部１ｃに対応する部位の、具体的には３ｃｍ×３ｃｍの範囲の部位に９ケの直径０．７ｍｍの吸引穴１０ｃを複数設ける。
　又前記モールド１０の上方には上下動自在な加熱源１７が配設されている。
　【００２５】
　尚、前記減圧排気ポンプ１５は、排気能力を２．５ｍ３／分、好ましくは５ｍ３／分以上のものを用いるのがよい。本実施例では４ｍ３／分の排気ポンプ１５を用いている。
　【００２６】
　次に前記装置を用いて反応容器１を製造する方法を説明する。
　先ず、モールド１０をホルダ１１とともに回転させた後、回転するモールド１０内に結晶若しくは非結晶の石英粉体を投入し、遠心力を利用してモールド１０の内周面に沿って厚さ２０ｍｍの石英充填層１８を形成した。
　引続き加熱源１７をモールド１０内側の中央部に設置した後、吸引減圧ポンプ１５を駆動して石英充填層１８を減圧ゲージ１６による吸引減圧量が−６００ｍｍＨｇ以上、好ましくは−７００ｍｍＨｇになるまで減圧を行った後、前記加熱源１７により加熱開始する。
　【００２７】
　前記加熱源１７による加熱で石英充填層１８の内周面に薄い溶融層が形成されると減圧ゲージ１６による吸引減圧量か更に低下し−７００ｍｍＨｇ以上に達するが、この減圧量を維持しながら前記前記モールド１０を回転しつつ加熱溶融を継続すると、前記モールド底部１０ａと窓部１ｃに対応する部分が透明で側壁部１ｂが不透明に形成された所定形状の反応容器１が形成し得る。
　尚、前記減圧を石英充填層１８の内周面に薄い溶融層が形成される以後に開始すると、前記溶融層に微小気泡が残存し、好ましくない。この為減圧は前記薄い溶融層が形成される以前には少なくとも行う必要があり、好ましくは加熱溶融開始直前か少なくとも同時に行うのがよい。
　そして前記の方法で製造された容器１は外表面、内壁面側を研削及び鏡面研磨処理を行い、又開口端側を面一に研削してその部分に必要に応じてフランジ２を接合することにより、図１に示すように天井部（受熱部１ａ）及び窓部１ｃが透明で側壁部１ｂの反応容器１が形成出来る。
　【００２８】
　そして前記反応容器１の側壁部１ｂの不透明部位の気泡含有量を計測してみると、１０〜２５０μｍの気泡が、４０，０００個ｃｍ３以上有していた。
　又、前記の方法では透明部位（受熱部１ａ、窓部１ｃ）と不透明部位（側壁部１ｂ）の間には明瞭な界面が存在していない事が確認された。
　【００２９】
　尚、前記受熱部１ａは、７ｍｍの肉厚を有しており、波長２μｍの熱線を透過させたところ、その透過率は８５％を大幅に越え９０％以上有しており、又、側壁部１ｂの不透明部位も同じく７ｍｍの肉厚で熱線透過率は３０％より大幅に低く、１０％以下であった。
　【００３０】
　図４は前記受熱部１ａの透明部位と側壁部１ｂの不透明部位間に半透明層１ｄを形成するための製造装置を示し、モールド１０の受熱部１ａを形成するための底部に隣接する側壁下端側に通気炭素が充填された吸引穴１０ｄを設けている。
　かかる装置により前記と同様な方法で反応容器１を製造した所、図３に示す様に受熱部１ａの透明部位の周囲に半透明の加熱領域１ｄが形成され前記実施例より一層好ましい無段階的に包含気泡密度を変化させる事が出来た。
　尚、前記不透明部位と半透明部位の隣接する部分の気泡含有量は、１０〜２５０μｍの気泡を２０，０００個ｃｍ３以上有することが確認でき、そしてその熱線透過率も３０％以下と本発明を満足している事が確認出来た。
　【００３１】
　図６は図５に示す半球状の反応容器２０を製造する為の装置を示し、本装置も前記実施例と同様な方法で天井受熱部２０ａが透明でその下方延在部、即ち下端開口のフランジ２に至る部位１ｂが前記した気泡が含有された不透明部位を有する半球状の反応容器２０を製造できる。
　【００３２】
　図７は図１に示す反応容器１を用いて形成された枚葉式ＣＶＤ装置で、石英ガ
ラス製の支持台３上に、前記円筒ドーム状の反応容器１が設置されている。
　前記反応容器１の下端開口外縁にはフランジ２が囲緯接合され、該フランジ２の支持台３と対面する部位にはＯリング４が介装されており、反応容器１と支持台３との間の気密封止を図る。
　又フランジ２は支持台３外周より更に外方に張り出しており、該張り出し部２ａにリフタ５を係止しながら発熱ランプとともに反応容器１を上昇させ、これによりウエーハ６か反応容器１外に開放され、容易に交換することが出来るように構成している。
　【００３３】
　支持台３上には、ウエーハ６を設置するためのグラファイト若しくは石英ガラス製のサセプタ７、ガス導入管８及び排気口９が設けられている。
　サセプタ７にはウエーハ６裏面を加熱させる発熱源７ａが内蔵されている。この結果ウエーハ６は反応容器１の透明受熱部１ａよりのランプ３０加熱とともに、前記発熱源よりウエーハ６裏面よりも加熱され、この結果、ウエーハ６は表裏両面よりも加熱されるため、成膜温度に達するまでの時間が短縮される。
　【００３４】
　又前記発熱源７ａは容器１内にあるもウエーハ６の下方位置であり、而も該発熱源７ａはサセプタ７により包囲されているために、発熱源７ａよりのパーティクルかウエーハ６表面に付着する恐れは全くない。
　又前記ウエーハ６の配設位置は受熱部１ａ下方の不透明部位１ｂ域に位置させるのがよく、これにより保温性及び均熱性の確保が図れる。又好ましくは前記ウエーハ６の成膜状態が窓部１ｃを通して容器１外よりも把握されるように、ウエーハ６の載置高さを窓部１ｃと同等若しくは窓部１ｃより僅かに低い位置に設定するのがよい。
　【００３５】
　ガス導入管８は先端ノズル８ａをウェーハ６上に垂設した後、ノズル８ａを僅かに下向きに設定してウェーハ６上全域にガスが流れるように構成する。
　この場合ノズルの傾斜角度は０から４５°好ましくは１５〜３０°程度に設定するのがよい。
　又反応容器１の透明受熱部１ａ上方には熱源としての発熱ランプ３０が配設されている。
　【００３６】
　かかる装置によりＣＶＤ膜を成膜する場合、先ず図７の状態で発熱ランプ３０と発熱源７ａの両面よりウエーハ６を所定温度に加熱した後、ガス導入管７のノズル７ａより反応ガスを流しながら、ＣＶＤ処理を行うことにより、成膜反応が行われる。
　そして成膜反応終了後、リフタ５を上昇させることにより、反応容器１が上昇し、この結果ウエーハ６が反応容器１外に開放され、容易に交換することが出来る。
　前記処理動作を簡単且つ容易に繰り返し行う事が出来る。
　【００３７】
　図８は図２に示す半球状の反応容器１を用いて形成された枚葉式ＣＶＤ装置である。
　前記実施例との差異を中心に説明するに、支持台３中心には、軸受３ａを介して回転可能に構成された回転軸３ｂが垂設されており、該回転軸３ｂの上端にサセプタ７が固定されている。
　サセプタ７は軸受３ａに悪影響を及ぼさないようにするために、発熱源を内蔵していないが、反応容器１を円筒ドーム状ではなく半球状にし、容器２０上方に配した発熱ランプ３０とウエーハ６間の距離を極力少なくして短時間でウェーハ６か所定温度に加熱されるように構成している。
　【００３８】
　一方このように構成すると、反応容器２０下端の封止部２０ｄと容器天井の受熱部２０ａ間の距離も短縮されるが、封止２０ｄ部と受熱部２０ａ間は不透明域２０ｂで形成されているために、熱伝播が生じる事なく、前記距離短縮による封止部２０ｄの熱劣化等の不具合が生じる事がない。
　【００３９】
　又前記いずれの実施例も配管は全て支持台３下面に取り付けられているために、言い換えれば反応容器１側には流体機器が一切取り付けられていないために、容易に発熱ランプ３０とともに反応容器１を上昇させる事が可能となり、これによりウエーハ６交換やメインテナンスの容易化等作業性が向上するとともに、設備の簡素化が図れる。
　【００４０】
　【効果】
　以上記載のごとく本発明によれば、ウエーハの大口径化に対応させて溶接部を形成する事なく反応容器を容易に大型化し得るとともに、充分なる機械的強度を得る事の出来、これにより、最近の半導体ウエーハの処理工程で８〜１２”と大型化した場合でも前記機械強度の増大により、高速加熱、高速冷却が可能であり、生産性が増大する。
　又、石英ガラス反応容器は外部よりの受熱部（及び透明窓部）のみ透明にし、その周囲を非透明化しているために、ウエーハの加熱に不要な範囲まで加熱する事なく容器内の保温性が向上するとともに、又ウエーハの加熱に不要な範囲まで熱伝播する事なく、結果として不必要な反応や周辺設備や封止部への熱による悪影響を完全に阻止出来る。
　而も受熱部の周囲に非透明域を設ける事は、加熱域と有る程度近づけた位置に封止部を構成しても、封止部の熱劣化が生じる事なく、結果として容器の小形化と偏平化が可能であり、熱効率及び均熱性の向上につながる。
　等の種々の著効を有す。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　図７の装置に用いる本発明の実施例に係る反応容器の断面形状を示す。
　【図２】
　図１の反応容器の製造装置を示す。
　【図３】
　図７の装置に用いる本発明の他の実施例に係る反応容器の断面形状を示す。
　【図４】
　図３の反応容器の製造装置を示す。
　【図５】
　図８の装置に用いる本発明の実施例に係る反応容器の断面形状を示す。
　【図６】
　図５の反応容器の製造装置を示す。
　【図７】
　図１及び図３の反応容器を用いた枚葉式熱処理装置を示す。
　【図８】
　図５の反応容器を用いた枚葉式熱処理装置を示す。
　【図９】
　従来技術に係る枚葉式熱処理装置を示す。
　【図１０】
　従来技術に係る他の枚葉式熱処理装置を示す。
　【符号の説明】
　１、２０　　　熱処理用反応容器
　１ａ、２０ａ　受熱部
　１ｂ、２０ｂ　延在部位（側壁）
　１ｄ　　　　　加熱領域部
　２　　　　　　フランジ
　１０　　　　　回転容器
　１８　　　　　石英粉体充填体
　１０ａ、１０ｃ　吸引減圧部
　８　　　　　　吸引減圧用排気装置