【事件の表示】
　特許第２９４０６２０号「液処理装置」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９４０６２０号の請求項１ないし４に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　 本件特許第２９４０６２０号は、昭和６３年２月２９日に特許出願され、平成１１年６月１８日にその特許の設定登録がなされ、その後、異議申立人吉成迪夫から特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年７月２７日に訂正請求がなされたものである。
１．１　異議申立ての概要
　異議申立人吉成迪夫は、甲第１号証（特開昭６０−２２９３３７号公報）及び甲第２号証（実願昭５９−１６９２２４号（実開昭６１−８４６６５号公報）のマイクロフィルム）を提出し、本件請求項１〜４に係る発明は、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、本件請求項１〜４に係る特許を取り消すべき旨主張している。
１．２　異議申立人吉成迪夫が提出した甲第１号証及び甲第２号証の記載内容
１．２．１　甲第１号証の記載内容
　甲第１号証に記載の発明は、液処理装置に関する発明であり、その第２頁右上欄第６行〜第７行には、「現像液温度コントローラ１１によって一定温度に…温められ」と記載され、第２頁左上欄第２０行〜右上欄第１行には、「ウェハチャック５は、駆動装置７によって…回転動作される」と記載されている。
　そして、甲第１号証の第２図には、駆動装置７の出力軸を突出可能に構成されたヒータ９が記載されている。第２頁右上欄第２行〜第４行には、上記ヒータ９は、温度コントローラ８によって制御されることにより、ウェハチャック５を一定温度に保つ旨記載されている。
１．２．２　甲第２号証の記載内容
　甲第２号証の第２図および第３頁第１１行〜第１４行には、「４及び５は上記送りモータ１とギヤボックス３間に積層配置され…冷却板４は送りモータ１側に、断熱板５はギヤボックス３側に、各々位置している。」と記載されている。
　そして、甲第２号証の第３頁第２０行〜第４頁第２行には、「管６内には、上記冷却板４と熱交換させるために…冷却液が…流される」と記載されている。
　さらに、第４頁第４行〜第８行には、「送りモータ１により熱が発生する。この熱は…、その殆どは冷却板４に伝達され、さらに管６を経て管６内に流される冷却液に伝達され、外部へ除去される」と記載されている。
　そして、第４頁第８行〜第１５行には、「冷却板４に伝達された熱はギヤボックス３側にも伝達しようとする。しかし、冷却板４とギヤボックス３の間には断熱板５があり、…ギヤボックス３側ヘは伝達されず、…送りモータ１からの発生熱は、殆んどが、…外部に有効に除去される。」と記載されている。
２．１　訂正事項
訂正事項ａ
　特許明細書の請求項１における「モータ側と前記保持体側を熱的に仕切る」を、「モータ側と前記保持体側との間で、前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する」と訂正する。
訂正事項ｂ１
　特許明細書の請求項２における「モータ側の前記保持部材側とを熱的に仕切る」を、「モータ側の前記保持部材側との間で、前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する」と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許明細書第３頁第２０行〜第５頁第２行の「きる液処理装置を提供しようとするものである。
・・・（実施例）」を、「きる液処理装置を提供しようとするものである。
（課題を解決するための手段）
　本発明は，回転する被処理体の処理面にレジスト液を供給して処理する液処理装置において、前記被処理体の処理面に供給されるレジスト液を温度調整する第１の温調手段と、前記被処理体を保持し、モータの出力軸の回転に基づいて回転可能に構成された保持体と、前記モータの出力軸を突出可能に構成され、前記モータと接触する部材と、少なくともこの部材の前記モータと接触する領域を温度調整する第２の温調手段と、を具備し、前記部材は、モータ側と前記保持体側との間で、前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱するように構成されたことを特徴とする。
　また本発明は、回転する被処理体の処理面にレジスト液を供給して処理する液処理装置において、前記被処理体の処理面に供給されるレジスト液を温度調整する第１の温調手段と、前記被処理体を保持し、モータの出力軸の回転に基づいて回転可能に構成された保持体と、この保持体の下方位置に設けられ、前記モータの出力軸を突出可能に構成された第一の部材と、この第一の部材を温度調整する第２の温調手段と、前記第一の部材と接して設けられ、前記第一の部材とともにモータ側と前記保持体側との間で、前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する第二の部材と、を具備したことを特徴とする。
　これら液処理装置において、前記モータを、前記部材もしくは前記第一の部材に取り付けることができる。また、前記第２の温調手段は、前記部材もしくは第一の部材の内部を恒温水を循環させる構成とすることができる。
（作用）
　本発明の液処理装置では、被処理体の処理面に供給されるレジスト液の温度を第１の温調手段によって調節でき、第２の温調手段によりモータの出力軸を伝わる熱やモータの輻射熱を断熱する如くコントロールすることにより、ウエハチャックや半導体ウエハの温度の不均一を防止し、レジスト膜厚均一性を向上することができる。
（実施例）」と訂正する。
２．２．訂正後の請求項
２．２．１　訂正後の請求項１
「回転する被処理体の処理面にレジスト液を供給して処理する液処理装置において、前記被処理体の処理面に供給されるレジスト液を温度調整する第１の温調手段と、前記被処理体を保持し、モータの出力軸を回転に基づいて回転可能に構成された保持体と、前記モータの出力軸を突出可能に構成され、前記モータと接触する部材と、少なくともこの部材の前記モータと接触する領域を温度調整する第２の温調手段と、を具備し、前記部材は、モータ側と前記保持体側との間で、前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱するように構成されたことを特徴とする液処理装置。」
２．２．２　訂正後の請求項２
「回転する被処理体の処理面にレジスト液を供給して処理する液処理装置において、前記被処理体の処理面に供給されるレジスト液を温度調整する第１の温調手段と、前記被処理体を保持し、モータの出力軸の回転に基づいて回転可能に構成された保持体と、この保持体の下方位置に設けられ、前記モータの出力軸を突出可能に構成された第一の部材と、この第一の部材を温度調整する第２の温調手段と、前記第一の部材と接して設けられ、前記第一の部材とともにモータ側と前記保持体側との間で，前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する第二の部材と、を具備したことを特徴とする液処理装置。」
２．２．３　訂正後の請求項３
「前記モータが，前記部材もしくは前記第一の部材に取り付けられている請求項１または２の液処理装置。」
２．２．４　訂正後の請求項４
「前記第２の温調手段は、前記部材もしくは第一の部材の内部を恒温水を循環させる構成を備える請求項１．２または３の何れかに記載の液処理装置。」
３．　訂正の適否
３．１　目的該当性等について
３．１．１　訂正事項ａ
　上記訂正事項ａについては，特許明細書の請求項１における「モータ側と前記保持体側を熱的に仕切る」を、下位概念である「モータ側と前記保持体側との間で、前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、当該「前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する」という事項は，特許明細書第４頁の（作用）に記載されている「モータの出力軸を伝わる熱やモータの輻射熱を断熱する如く」という記載及び特許明細書の第７頁第１１行〜第１６行に記載されている「このモータ取付板（２１）は，…出力軸（３）を伝わる熱及びスピンモータからの輻射熱をコントロールする手段を形成している。」という記載から直接かつ一義的に導き出せるものであるから、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
　なお、「モータ側と前記保持体側との間で、」における「との間で」という訂正は，特許明細書の請求項１に記載された「モータ側と前記保持体側を熱的に仕切る」という事項が，モータ側と前記保持体側「との間で」熱的に仕切るという意味であることを明りょうにしたものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．２　訂正事項ｂ
　上記訂正事項ｂについては，特許明細書の請求項１における「モータ側と前記保持体側とを熱的に仕切る」を、下位概念である「モータ側と前記保持体側との間で，前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、当該「前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する」という事項は、特許明細書第４頁の（作用）に記載されている「モータの出力軸を伝わる熱やモータの輻射熱を断熱する如く」という記載及び特許明細書の第７頁第１１行〜第１６行に記載されている「このモータ取付板（２１）は，…出力軸（３）を伝わる熱及びスピンモータからの輻射熱をコントロールする手段を形成している。」という記載という記載から直接かつ一義的に導き出せるものであるから、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
　なお、「モータ側と前記保持体側との間で、」における「との間で」という事項は、特許明細書の請求項２に記載された「モータ側と前記保持体側とを熱的に仕切る」という事項が，モータ側と前記保持体側「との間で」熱的に仕切るという意味であることを明りょうにしたものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．３　訂正事項ｃ
　上記訂正事項ｃについては，前記訂正事項ａ、ｂの訂正に伴い、特許請求の範囲の記載と、特許明細書の発明の詳細な説明の記載を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．２　訂正の適否の判断
　上記訂正事項ａ〜ｃは、上記３．１．１〜３．１．３のとおりであるから、平成６年法律第１１６号附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び同条第２項の規定に適合する。
　従って、当該請求を認める。
４．特許異議申立てについての判断
４．１　本件請求項１に係る発明
　上記２．２に記載のとおり。
４．２　異議申立ての理由の概要
　上記１．１に記載のとおり。
４．２．１　本件請求項１〜請求項４に係る発明と甲第１号証及び甲第２号証との対比、判断
　本件請求項１に係る発明が、「回転する被処理体の処理面にレジスト液を供給して処理する液処理装置」において、「モータ側と前記保持体側との間で、前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱するように構成」（以下、「本件請求項１に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明は、いずれも本件請求項１に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではない。
　また、本件請求項１に係る発明は、上記本件請求項１に係る発明の特徴的構成を有することにより、「レジスト膜厚均一性等の処理と均一性を向上し、歩留まりを向上することができる」（特許明細書「発明の効果」の項）という、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明いずれにもない効果を有する。
　また、本件請求項２に係る発明が、「回転する被処理体の処理面にレジスト液を供給して処理する液処理装置」において、「第一の部材と接して設けられ、前記第一の部材とともにモータ側と前記保持体側との間で，前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する第二の部材と、を具備した」構成（以下、「本件請求項２に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明は、いずれも本件請求項２に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではない。
　また、本件請求項２に係る発明は、上記本件請求項２に係る発明の特徴的構成を有することにより、「レジスト膜厚均一性等の処理と均一性を向上し、歩留まりを向上することができる」（特許明細書「発明の効果」の項）という、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明いずれにもない効果を有する。
　そうすると、本件請求項１及び請求項２に係る発明は、上記甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものとすることができない。
　さらに、本件請求項１及び２に係る発明に従属する請求項である本件請求項３及び４に係る発明についても、上記本件請求項１及び２に係る発明と同様に、上記甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものとすることができない。
　５．むすび
 したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１〜請求項４に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜請求項４に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　従って、本件請求項１〜請求項４に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年９月２１日（２０００．９．２１）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　訂正事項ａ及びｂは、特許請求の範囲の減縮を目的とし、訂正事項ｃは、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
訂正事項ａ
　特許明細書の請求項１における「モータ側と前記保持体側を熱的に仕切る」を、「モータ側と前記保持体側との間で、前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する」と訂正する。
訂正事項ｂ
　特許明細書の請求項２における「モータ側の前記保持部材側とを熱的に仕切る」を、「モータ側の前記保持部材側との間で、前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する」と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許明細書第３頁第２０行〜第５頁第２行の「きる液処理装置を提供しようとするものである。・・・（実施例）」を、「きる液処理装置を提供しょうとするものである。
（課題を解決するための手段）
　本発明は，回転する被処理体の処理面にレジスト液を供給して処理する液処理装置において、前記被処理体の処理面に供給されるレジスト液を温度調整する第１の温調手段と、前記被処理体を保持し、モータの出力軸の回転に基づいて回転可能に構成された保持体と、前記モータの出力軸を突出可能に構成され、前記モータと接触する部材と、少なくともこの部材の前記モータと接触する領域を温度調整する第２の温調手段と、を具備し、前記部材は、モータ側と前記保持体側との間で、前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱するように構成されたことを特徴とする。
　また本発明は、回転する被処理体の処理面にレジスト液を供給して処理する液処理装置において、前記被処理体の処理面に供給されるレジスト液を温度調整する第１の温調手段と、前記被処理体を保持し、モータの出力軸の回転に基づいて回転可能に構成された保持体と、この保持体の下方位置に設けられ、前記モータ出力軸を突出可能に構成された第一の部材と、この第一の部材を温度調整する第２の温調手段と、前記第一の部材と接して設けられ、前記第一の部材とともにモータ側と前記保持体側との間で、前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する第二の部材と、を具備したことを特徴とする。
　これら液処理装置において、前記モータを、前記部材もしくは前記第一の部材に取り付けることができる。また、前記第２の温調手段は、前記部材もしくは第一の部材の内部を恒温水を循環させる構成とすることができる。
（作用）
　本発明の液処理装置では、被処理体の処理面に供給されるレジスト液の温度を第１の温調手段によって調節でき、第２の温調手段によりモータの出力軸を伝わる熱やモータの輻射熱を断熱する如くコントロールすることにより、ウエハチャックや半導体ウエハの温度の不均一を防止し、レジスト膜厚均一性を向上することができる。
（実施例）」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
液処理装置
（５７）【特許請求の範囲】
（１）回転する被処理体の処理面にレジスト液を供給して処理する液処理装置において，
前記被処理体の処理面に供給されるレジスト液を温度調整する第１の温調手段と，前記被処理体を保持し、モータの出力軸を回転に基づいて回転可能に構成された保持体と，
前記モータの出力軸を突出可能に構成され、前記モータと接触する部材と，
少なくともこの部材の前記モータと接触する領域を温度調整する第２の温調手段と，を具備し、
前記部材は，モータ側と前記保持体側
との間で，前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する
（２）回転する被処理体の処理面にレジスト液を供給して処理する液処理装置において，
前記被処理体の処理面に供給されるレジスト液を温度調整する第１の温調手段と，前記被処理体を保持し，モータの出力軸の回転に基づいて回転可能に構成された保持体と，
この保持体の下方位置に設けられ，前記モータの出力軸を突出可能に構成された第一の部材と，
この第一の部材を温度調整する第２の温調手段と，
前記第一の部材と接して設けられ、前記第一の部材とともにモータ側と前記保持体側と
の間で，前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する
を具備したことを特徴とする液処理装置。
（３）前記モータが，前記部材もしくは前記第一の部材に取り付けられている請求項１または２の液処理装置。
（４）前記第２の温調手段は，前記部材もしくは第一の部材の内部を恒温水を循環させる構成を備える請求項１．２または３の何れかに記載の液処理装置。
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、処理装置に関する。
（従来の技術）
被処理基板例えば半導体ウエハに対してレジストを塗布処理する場合、半導体ウエハの被塗布面を上側に向けてウエハチャックで真空吸着し、被塗布面の中心部にレジストを滴下して上記半導体ウエハをウエハチャックに接続したモータで高速回転させることにより遠心力でレジストを被塗布面に拡げていく方式が行なわれている。例えば特開昭５２−１４４９７１号公報には、塗布材を滴下してウエハ状物体を回転することにより、塗布膜を形成する回転塗布装置が開示されている。
上記のようなレジスト塗布装置により半導体ウエハの塗布を行なうと、レジストの温度変化により上記半導体ウエハ上における膜厚が不均一になるという問題があり、最近では上記レジストの温調を行ない、レジストの温度変化をなくした状態で半導体ウエハ表面に滴下してレジスト塗布を行なうことが実施されている。このようなレジスト温調として例えば特開昭６１−１２５０１７号公報により周知である。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら上記説明の従来の技術の如く、レジスト塗布処理や現像処理等モータにより半導体ウエハを回転して処理する半導体ウエハ処理装置では、塗布するレジスト液を温調しても、ウエハチャックと接続したモータの駆動軸を伝わる熱やモータが発熱することによる輻射熱により半導体ウエハの温度分布が不均一となり、レジスト膜厚の均一性が実現できず歩留りが低下するという課題があった。本発明は上記点に対処してなされたもので、処理の均一性を実現し、歩留りを向上することのできる液処理装置を提供しようとするものである。
（課題を解決するための手段）
本発明は，回転する被処理体の処理面にレジスト液を供給して処理する液処理装置において、前記被処理体の処理面に供給されるレジスト液を温度調整する第１の温調手段と，前記被処理体を保持し，モータの出力軸の回転に基づいて回転可能に構成された保持体と，前記モータの出力軸を突出可能に構成され、前記モータの接触する部材と，少なくともこの部材の前記モータと接触する領域を温度調整する第２の温調手段と，を具備し，前記部材は，モータ側と前記保持体側
との間で　前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射動を断熱する
また本発明は，回転する被処理体の処理面にレジスト液を供給して処理する液処理装置において，前記被処理体の処理面に供給されるレジスト液を温度調整する第１の温調手段と，前記被処理体を保守し，モータの出力側の回転に基づいて回転可能に構成された保持体と、この保持体の下方位置に設けられ、前記モータの出力軸を突出可能に構成された第一の部材と，この第一の部材を温度調整する第２の温調手段と，前記第一の部材と接して設けられ，前記第一の部材とともにモータ側と前記保持体側と
の間で前記モータの出力軸を伝わる熱及び前記モータからの輻射熱を断熱する
これら液処理装置において，前記モータを，前記部材もしくは前記第一の部材に取り付けることができる。また，前記第２の温調手段は，前記部材もしくは第一の部材の内部を恒温水を循環させる構成とすることができる。
（作用）
本発明の液処理装置では，被処理体の処理面に供給されるレジスト液の温度を第１の温調手段によって調節でき、第２の温調手段によりモータの出力軸を伝わる熱やモータの輻射熱を断熱する如くコントロールすることにより、ウエハチャックや半導体ウエハの温度の不均一を防止し，レジスト膜厚均一性を向上することができる。
（実施例）
以下、本発明装置を半導体製造工程における半導体ウエハのレジスト塗布に適用した一実施例につき、図面を参照して説明する。
まず、レジスト塗布装置の構成を説明する。
被処理基板例えば半導体ウエハ（１）を保持例えば吸着保持可能に例えば樹脂製円板状ウエハチャック（２）が設けられている。このウエハチャック（２）は出力軸（３）を介してスピンモータ（４）例えばＡＣサーボモータに連設しており、例えば回転数が０〜８０００ｒｐｍの所望の回転数に回転可能に設けられている。このウエハチャック（２）により保持した半導体ウエハ（１）を囲繞する如く例えば樹脂製又はＳＵＳ製の円筒状カップ（５）が設けられており、このカップ（５）は上記半導体ウエハ（１）表面の延長面と交わる近辺の部分を角度Ａ（Ａ≠９０°）として傾斜させて設けられている。このカップ（５）の底部には例えば円筒状排出管（６ａ）が設けられており、この排出管（６ａ）と接続し上下動可能な円筒状排出管（６ｂ）を介して使用後のレジストを収容する例えば塩化ビニル製立方形状ドレインボックス（７）に連設している。更に、このカップ（５）の底部には、このカップ（５）内の排気を行なうための図示しない排気機構に連設した例えば円筒状排気管（８）が設けられている。
また、上記半導体ウエハ（１）の中心軸上に設定されたレジストを、上記半導体ウエハ（１）表面に滴下可能な如く例えば四弗化エチレン樹脂製又はＳＵＳ製のレジスト滴下ノズル（９）が設けられており、これはレジスト温調自在例えば恒温水により温調を行なう例えば円筒管状熱交換器（１０）にレジスト滴下位置まで接している。この熱交換器（１０）は、例えばウレタン樹脂又はゴム製の管（１１ａ，１１ｂ）により第１の温調器（１２）に接続されていて、第１の温調器（１２）により温調した恒温水を熱交換器（１０）に循環可能となっている。
そして、ノズル（９）は、例えば四弗化エチレン樹脂製又はＳＵＳ製の管（１３ａ，１３ｂ，１３ｃ）と、レジストの逆流を防止する逆止弁（１４）と例えばエアシリンダ等を用いたポンプ駆動機構（１５）を具備した例えばべーロズやダイアフラムを用いたポンプ（１６）と、非接触の液面センサ（１７）例えば静電容量センサ等を２個備えたタンク（１８）とを介してレジストタンク（１９）に接続されていて、半導体ウエハ上にレジストを供給可能となっている。
ここで、カップ（５）は螺着等により例えばＡ１製方形板状の台（２０）に支持されており、同様にスピンモータ（４）も螺着等によりＡ１製円形板状のモータ取付板（２１）を介して台（２０）に固着支持されている。なお、このモータ取付板（２１）が請求項１の「モータと接触する部材」に相当し，請求項２の「第一の部材」に相当する。また，台（２０）が請求項２の「第二の部材」に相当する。
このモータ取付板（２１）は第２の温調器（２２）からの恒温水を例えばウレタン樹脂又はゴム製の管（２３ａ，２３ｂ）を介して循環温調可能となっていて、スピンモータ（４）の駆動軸即ち出力軸（３）を伝わる熱及びスピンモータ（４）から輻射熱をコントロールする手段を形成している。即ち、第２図に示す如く、台（２０）に支持され、スピンモータ（４）を固定したモータ取付板（２１）内部に例えば円環状に設けられた孔（３０）に、管（２３ａ，２３ｂ）を介して恒温水を循環することによりモータ取付板（２１）を所望の温度にコントロール可能となっていて、このことによりスピンモータからの輻射熱をコントロール可能となっている。また、出力軸（３）とモータ取付板（２１）の間には、モータ取付板（２１）の温度コントロールにより出力軸（３）を伝わる熱をコントロール可能な如く、熱伝導性の例えば焼結合金製円柱状軸受（３１）が設けられている。
また、上記構成の半導体ウエハ処理装置は図示しない制御部で動作制御及び設定制御される。
次に、上述した半導体ウエハ処理装置による半導体ウエハのレジスト塗布方法を説明する。
被処理基板例えば半導体ウエハ（１）を図示しない搬送機構例えばベルト搬送によりウエハチャック（２）上に搬送し、上記半導体ウエハ（１）の中心と上記ウエハチャック（２）の中心を合わせてウエハチャック（２）上に載置する。この中心合わせは予めカップ（５）外の図示しない機構で行なってもよい。そして、この載置した半導体ウエハ（１）をウエハチャック（２）により図示しない真空機構により吸着保持する。この時、上記半導体ウエハ（１）の搬送を容易にするために、予めカップ（５）が支持する台（２０）に対して下降しており、保持した後に上昇する如くしてもよい。
この保持された半導体ウエハ（１）の中心部にレジスト滴下ノズル（９）からレジストを滴下する。このレジストはレジストタンク（１９）からポンプ（１６）とポンプ駆動機構（１５）の働きで管（１３ａ）を介してノズル（９）に供給され、この供給されたレジストはポンプ（１６）に設けられた逆止弁（１４）により逆流することはない。ここで、ポンプ（１６）とレジストタンク（１９）間には、管（１３ｂ，２３ｃ）を介して液面センサ（１７）を具備したタンク（１８）が設けられていて、このタンク（１８）内のレジスト量を検出することによりレジスト残量を検出している。この様にレジスト残量を検出するので、レジスト残量が少なくなった時にレジスト中に気泡が混じり、不良品が大量発生し歩留りが大幅に低下するのを防止でき、また、供給するレジスト量が所望の量とならず、所望のレジスト膜厚が得られない場合や膜厚の均一性を得られない場合を防止でき、生産性が向上する。しかも、完全にレジスト残量がなくなって、まったく処理できなかった半導体ウエハ（１）が次工程に誤って流される事も防止できる。また、事前に作業工程の中にレジスタタンク（１９）の交換作業等を組み込めるので、作業の効率化を計れるという効果もある。
そして、レジスト残量を検知する手段は、ポンプ駆動機構（１５）の作動回数とポンプ（１６）容量から算定する如くしてもよく、レジストタンク（１９）の重量を重量センサ例えばひずみセンサで感知してレジスト残量を検知してもよい。
ここで、このレジストをレジスト滴下ノズル（９）に供給する時既に、ノズル（９）内のレジストは熱交換器（１０）へ管（１１ａ，１１ｂ）と第１の温調器（１２）により循環した恒温水で所望の温度例えば２０℃〜３０℃程度となっている。この様に、滴下するレジストを例えば２重管構造の熱交換で温調することにより、レジストの温度変化をなくした状態で半導体ウエハ（１）表面にレジスト塗布を行なうことができ、膜厚の不均一やロット間の不均一を防止でき、歩留りを向上することができる。
また、この時既に、スピンモータ（４）は所望の回転数例えば４０００〜６０００ｒｐｍ程度で所望の加速度例えば１００００〜５００００ｒｐｍ／ｓｅｃで回転している。この回転時にスピンモータ（４）から熱が生じ、この熱が出力軸（３）を伝わったり、直接スピンモータ（４）から輻射熱として放出され、半導体ウエハ（１）やウエハチャック（２）に熱影響を与えるが、スピンモータ（４）上面を固着支持するモータ取付板（２１）内部の孔（３０）に、管（２３ａ，２３ｂ）を介して第２の温調器（２２）より恒温水を循環することにより、モータ取付板（２１）温度をコントロールする。このことにより、スピンモータ（４）の駆動軸即ち出力軸（３）を伝わる熱を軸受（３１）を介してモータ取付板（２１）でコントロールでき、また、スピンモータ（４）からの輻射熱もモータ取付板（２１）でコントロールできる。そこで、スピンモータ（４）の出力軸（３）を伝わる熱及びスピンモータ（４）の輻射熱を断熱する如くコントロールして、ウエハチャック（２）や半導体ウエハ（１）の温度の不均一を防止し、レジスト膜厚均一性を向上し、処理の均一性により歩留りを向上することができる。
次に、レジストを半導体ウエハ（１）上に滴下し、遠心力により半導体ウエハ（１）表面に拡散する。この半導体ウエハ（１）を更に回転させて、上記拡散されたレジストを乾燥させる。このような処理中、図示しない制御部に予め設定されたプログラムによりカップ（５）内の排気を図示しない排気機構により排気管（８）を介して行なう。また上記半導体ウエハ（１）の回転により飛散したレジストは、カップ（５）の内側即ち半導体ウエハ（１）の表面の延長面と交わる近辺の部分を角度Ａ（Ａ≠９０°）として傾斜させて設けられた部分により半導体ウエハ（１）表面へのはね返り防止が行なわれて周縁部に付着し落下する。そして、この飛散したレジスト排出管（６ａ，６ｂ）を介して使用後のレジストを収容するドレインボックス（７）に収容する。ここで、排出管（６ａ）と接続した排出管（６ｂ）が矢印方向に上下動可能となっているので、排出管（６ｂ）を上昇させた状態でドレインボックス（７）が容易に水平方向に移動可能となり、ドレインボックス（７）の交換が短時間で行なうことができ、装置の稼働効率が向上する。このドレインボックス（７）の交換は、ドレインボックス（７）内の使用後のレジスト量を検出したり、ドレインボックス（７）の重量を検出することにより、自動的に排出管（６ｂ）を上昇させて交換する様にしてもよい。
そして、処理済みの半導体ウエハを図示しない搬送機構で搬出することにより処理を終了する。
また、上記実施例ではモータの駆動軸を伝わる熱及びモータからの輻射熱をコントロールする手段を、モータを取付けた板を恒温水で温調することにより説明したが、モータから発生し処理に影響を行じる熱をコントロールできればよく、上記実施例に限定されるものではない。
しかも、上記実施例ではレジストの温調をノズルの恒温水を用いた熱交換で説明したが、滴下する直前のレジストを所望の温度に温調できればよく、ヒートシンクやヒートパイプやペルチェ素子等何れの方法で温調しても良いことは言うまでもない。
以上述べたようにこの実施例によれば、ウエハチャック上の半導体ウエハをスピンモータで回転し、半導体ウエハ上にレジスト等を滴下し処理する場合、スピンモータの駆動軸を伝わる熱及びスピンモータからの輻射熱をコントロールする手段即ちモータ取付板を温調する様な構造とすることにより、レジスト膜厚均一性等処理の均一性を実現するこができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、レジスト膜厚均一性等の処理と均一性を向上し、歩留りを向上することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明装置の一実施例を説明するための構成部、第２図は第１図のスピンモータ及びモータ取付板を説明するための図である。
図において、
１……半導体ウエハ、２……ウエハチャック
３……出力軸、４……スピンモータ
２１……モータ取付板、２２……第２の温調器、
３０……孔、３１……軸受