【事件の表示】
　特許第２８６２００１号「石英ガラス光学部材の製造方法」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２８６２００１号の請求項１ないし１０に係る特許を取り消す。
【理　由】
〔一〕　本件特許は、平成３年（１９９１）７月２４日に出願され（特願平１０−９１８７５号。特願平３−２０７４８６号の分割出願）、平成１０年１２月１１日に特許権の設定の登録がされ（特許第２８６２００１号）、平成１１年２月２４日に特許掲載公報が発行されたものである。
　平成１１年８月２４日付けで、本件特許の願書に添付した明細書（以下では、本件特許明細書という。）の特許請求の範囲の全請求項（請求項１から請求項１０まで）の構成の発明は、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであるから、本件特許は取り消すべきである旨の特許異議の申立てがされた。
　当審は、本件特許は、上記全請求項の構成の発明について、取り消すべきであるとの取消理由を通知したところ、本件特許権者は、平成１２年３月７日付けで、訂正請求書及び特許異議意見書を提出した。
　当審は、上記訂正請求に対して、平成１２年８月２４日付けの書面で訂正拒絶理由を通知した（発送日　平成１２年９月１２日）が、本件特許権者は、この通知の指定期間内になんらの意見も述べなかった。
　
〔二〕　本件特許発明
（１）　上記訂正請求は、上記訂正拒絶理由書に記載した理由によって、認めることができない。
（２）　本件特許明細書の特許請求の範囲の記載は、下記のとおりである。
　以下では、下記請求項１から同１０までの各請求項の構成の発明を、その請求項番号に対応して、本件特許発明１から同１０という。
　
　「【請求項１】酸水素火炎分解法によって成長軸に沿って合成される石英ガラス体よりなる、紫外レーザを照射して用いる石英ガラス光学部材の製造方法であって、
　該製造工程中の加熱処理は非塩素雰囲気中で行うとともに、
　合成された石英ガラス体を軟化点以上の温度に加熱し、酸水素炎加水分解法における石英ガラス体の成長軸方向と同一方向に重力による変形を行わせて、成形石英ガラス体を得る工程を備えることを特徴とする石英ガラス光学部材の製造方法。」
【請求項２】（１）ガラス形成原料を火炎加水分解して形成される石英ガラス微粒子を基材に堆積・成長させて多孔質石英ガラス体を形成する工程、
（２）前記多孔質石英ガラス体を非塩素低水蒸気分圧雰囲気下において、透明ガラス化温度以下の温度域で一定時間保持し加熱処理してOH基含有量を低減する工程、
（３）前記加熱処理された多孔質石英ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温・透明ガラス化して石英ガラス体を得る工程、及び
（４）前記石英ガラス体を軟化点以上の温度に加熱して多孔質石英ガラス体の成長方向と同一方向に変形を行わせて、石英ガラス体を得る工程、
を備えることを特徴とする請求項１記載の石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項３】前記透明ガラス化温度以下の温度域で一定時間保持し加熱処理する工程において、雰囲気の露点温度が−70℃以下である請求項２記載の石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項４】前記透明ガラス化温度以下の温度域が800〜1250℃である請求項２または請求項３記載の石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項５】前記透明ガラス化温度以下の温度域で保持する時間が1〜30時間である請求項２、３または４記載の石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項６】前記成形ガラス体を、徐冷点近傍の温度域を40℃/時間以下の冷却速度で徐冷する請求項２、３、４又は５記載の石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項７】製造される石英ガラス光学部材のCl含有量が10ppm以下、OH基含有量の内面分布が±5ppm以下である請求項１、２、３、４、５又は６記載の石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項８】酸水素火炎分解法によって成長軸に沿って合成される石英ガラス体よりなる、紫外レーザを照射して用いる石英ガラス光学部材の製造方法であって、該製造工程中の加熱処理は非塩素雰囲気中で行うとともに、
合成された石英ガラス体を軟化点以上の温度に加熱し、酸水素炎加水分解法における石英ガラス体の成長軸方向と同一方向に重力による変形を行わせて、成形石英ガラス体を得る工程を備え、
製造された石英ガラス光学ガラス部材のＣｌ含有量を１０ｐｐｍ以下、ＯＨ基含有量の面内分布を±５ｐｐｍ以下とすることを特徴とする石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項９】製造された石英ガラス光学部材のOH基含有量が100ppm以下である請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項１０】製造された石英ガラス光学部材は、少なくとも１方向について直径220mmの円形で囲まれる領域にわたって屈折率の変動幅が1×10−６以下である請求項１、２、３、４、５、６、７、８又は９記載の石英ガラス光学部材の製造方法。」
　
〔三〕　引例の記載
（１）　住友金属Ｖｏｌ．４２−３（１９９０）（特許異議の申立人が提示した甲第１号証。以下では、引例１という。）
（イ）　２８頁、「３．１　製造プロセスの概要」の項
　「ＳｉＣｌ４などのケイ素塩化物を水素／酸素火炎中に供給し、・・・、シリカ微粒子を生成させるとともに、回転、上昇している出発材（または母材表面）を火炎で覆うことにより、微粒子をたい積させて多孔質な石英ガラス母材（・・・）を得る」（この工程は、ＶＡＤ法といわれる。）。
　ただし、「・・・」の部分は転記を省略した部分である。以下でも、引用文中では同様とする。
（ロ）　３３頁、左欄、「３．３．２　無欠陥合成石英ガラスの製造技術の項」
　「フォトマスク基板のように、合成石英ガラスの光透過性を利用してＬＳＩの微細な回路を転写する用途においては、いかなるインクルージョンや気泡欠陥も許され」ない。
（ハ）　３４頁、右欄、「４．１　無欠陥合成石英ガラスの製造技術」の項
　ＶＡＤ法から出発して製造した石英ガラスについては、透明化（ガラス化）条件を工夫することによって、「OH基濃度を数ppm−数100ppmの範囲」で、また、Cl濃度を1ppm以下にすることができる。
（ニ）　３６頁、左欄、「４．４　耐熱性」の項
　「OH基濃度の低い石英ガラスほど高い耐熱性を示すことが報告されている。・・・ＶＡＤ法合成石英ガラスは直接法合成石英ガラスよりも低ＯＨ基濃度であるためにひずみ点が高く、溶融石英ガラスに近い値となっている」
　
（２）　加賀美敏郎ら編、「高純度シリカの応用技術」（１９９１．３．１、株式会社　シーエムシー発行）（特許異議申立人が提示した甲第２号証。以下では、引例２という。）、１７４頁、下から３〜１行
　ＶＡＤ法は、「他の製造方法と大きく異なり、製造工程中で一度多孔質の状態を経るため、焼結法や母材改質工程の有無などにより、種々の品質の制御が可能である」。
　
（３）　特開平２−８０３４３号公報（特許異議申立人が提示した甲第６号証。以下では、引例６という。）
　２頁、右上欄５〜１２行、同、下から５〜４行及び同、下から３〜２行
　「本発明者らは150〜160nmの短波長でも透過性が高く、エキシマレーザーのような高エネルギー線の照射を受けたときでもソーラリゼーションを起こさない耐紫外線用の合成石英ガラスとしては構造欠陥のできるだけ少ないものとすることが必要とされるのであるが、この構造欠陥を少なくとするためには」、「酸水素炎によるＶＡＤ法とすることがよ」く、また、「ハロゲン、S、Nなどの不純物が含有されていると構造欠陥が起こり易い」。
　
（４）　特開平３−１０９２２４号公報（特許異議の申立人が提示した甲第３号証。以下では、引例３という。）
（イ）　２頁、左上欄、下から３行〜同右上欄、１行
　「四塩化珪素等の珪素化合物を酸水素火炎中で加水分解させ、生成したシリカ粒子を基材上に付着・堆積させて」形成した多孔質石英ガラス体
（ロ）　２頁、右上欄７〜９行
　「徐冷点（粘度が１０１３．０となる温度）が１１００〜１１７０℃」と低い。
（ハ）　２頁、右上欄１３〜１８行
　「このような合成石英ガラスの低粘性の原因としては、水分含量が１００〜１５００ｐｐｍと溶融塩に比べて多いためと考えられるが、光ファイバー製造に際してＶＡＤ法等で行なわれている塩素ガス等の脱水剤による脱水法を用いた場合でも、水分量は１ppm以下となるにもかかわらず粘性の改善は得られなかった」。
（ニ）　３頁、左上欄６〜９行及び同、右上欄５〜７行
　多孔質体を所定温度で乾燥ガス雰囲気中に保った後にガラス化する際、「水蒸気分圧は０．００５気圧以下の」「乾燥ガス」〔この「乾燥ガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴン等を通常用いることが出来る」〕が好ましく、また、水蒸気分圧が「これを越える場合には最終的に得られる石英ガラスの粘度が低く耐熱性の向上を達成することが出来ず好ましくな」い。
（ホ）　３頁、左上欄、１０〜１５行
　「加熱保持する温度域としては、８００〜１２５０℃の範囲内が好ましく、・・・またこの温度域を超えると多孔質体の表面のガラス化が進行するため、多孔質体内部を所望の低水蒸気圧雰囲気に置換することが出来ずこのましくない」。
　
（５）　特開昭５６−１２９６２１号公報（特許異議申立人が提示した甲第４号証。以下では、引例４という。）
（イ）　２頁、右下欄、下から３〜１行
　本発明の方法は、「ガラスインゴット中に存在する脈理、不純物の局在による組成的な不均一性を除去する方法」である。
（ロ）　３頁、左上欄、４〜１０行
　天然又は合成石英ガラスについて、
「　また、脈理及び組成不均一性を除去できるという効果を有するために精密光学器械の部品、たとえばレンズ、プリズム等に応用しうると同時に、リソグラフィー用マスク基板として使用することができる。特に後者の場合、正方形状のガラス板が使用されるため、本発明の応用は必要不可欠である。」
（ハ）　３頁、左下欄６〜９行
　「重錘１１は成型を確実に行うためのものであるが、これは１〜１００ｇ／ｃｍ２好ましくは５〜２０ｇ／ｃｍ２程度の圧力が加わる重量のものであることが望ましい。」
（ニ）　４頁右上欄、下から４行
　「本発明においては1700℃以上なかんずく1730〜1800℃の温度領域において操作される。この理由は該温度領域よりも低い場合、変形が緩慢であること、したがって目的とする形状に正確に変形を行わせるためには長い時間をかけるか、またはホットプレスのように外部から大きな力を加える必要があるからである」
（ホ）　４頁、右下欄、５〜９行
　本発明の方法（成形を確実に行うために重錘をガラスインゴット上にのせ、るつぼ内の分割された鋳型を用いて成形するものと認められる）は、「応力の合成ベクトルの方向に自然に移動して応力を逃がすために成形後のインゴットに応力が作用せずクラックが入ったり、残留応力による歪みがほとんどない」。
　
（６）　特開昭６４−２８２４０号公報（以下では、引例８という。）
（イ）　１頁、左下欄「産業上の利用分野」の項
　「例えばレーザステッパ装置に用いる石英ガラス製レンズ、大出力レーザ発振装置に用いるミラーやレンズ等の、略４００nm以下の好ましくは略３００nm以下の特定光波長領域で使用される光学用石英ガラス部材」を製造する。
（ロ）　３頁、右上欄８〜１５行
　「金属元素等の不純物を含まない高純度四塩化珪素を酸水素火炎中で、直接火炎法により加水分解、溶融して石英ガラスインゴット１を製造した後、該インゴット１を軟化点以上に加熱し冷却する操作を繰り返し行ない、且つ加熱毎に自重による軟化の方向を変えて内部の脈理を除去する。すなわちこの操作の繰返しによって石英ガラスの三座標方向の脈理が除去される」。
　
〔四〕　対比、判断
（１）　本件特許発明１から同１０までの各特許発明は、先の取消理由通知書（平成１１年１２月１０日付け）に記載した理由によって、引例１から引例８までの各引例に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができた発明であるから、本件特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであり、取り消すべきものである。
　
（２）　なお、以下に、本件特許発明１について、上記の先の取消理由通知書の理由を要約しておく。
　（２−１）　上記〔三〕（１）から同（４）に指摘した事項によれば、
（α）　ＶＡＤ法、すなわち酸水素炎加水分解法によって、光学部材として利用する石英ガラスを製造すること、また、
（β）　酸水素炎加水分解法によって石英ガラス製造すると、光学部材として利用する石英ガラス体（多孔質体）の品質を制御でき、結局、石英ガラスの品質を制御できること、さらに、
（γ）　「紫外レーザを照射して用いる石英ガラス光学部材」を製造するために、「酸水素火炎分解法によって成長軸に沿って合成される石英ガラス体」（本件特許明細書）を用いることが公知であったと認められ、また、
（δ）　「紫外レーザを照射して用いる石英ガラス光学部材」は、紫外レーザの照射によってその強い作用を受けるのであるから、なるべくハロゲンなどの不純物が少なく、かつ、光学的に均一（歪み、密度及び成分分布の均一性）でなければならないことが知られていると認められる。
　そして、「紫外レーザを照射して用いる石英ガラス光学部材」製造上、水分含量及びハロゲン（当審注：塩素は典型的なハロゲンである。）含量を低下させる必要があることが一般的に知られている｛引例１及び引例６。上記〔三〕（１）及び同（３）参照。｝から、そのために引例３｛上記〔三〕（４）参照。｝に記載されている、多孔質石英ガラス体の水分含量を低下させる処理を採用することは、引例３の記載の発明が直接には石英ガラスの耐熱性を改良することを目的としているにもかかわらず、石英ガラスの耐熱性は石英ガラス内の構造欠陥やその構造欠陥をひきおこす不純物の存在を示唆するものであることを考慮すれば、当業者ならば、必要に応じてできることであると認められる。
　
　（２−２）　本件特許発明１の「合成された石英ガラス体を軟化点以上の温度に加熱」することは、多孔質ガラス体を均一ガラス化する処理であるところ（光学部材を製造するのに、均一ガラス化することは、通常、必須であると認められる。）、水分を除去するために、均一ガラス化前の多孔質石英ガラス体のときがよいことは技術常識であり、かつ、引例３には、熱処理を非塩素雰囲気中で行うことによって多孔質石英ガラス体の水分含量を低下させることが記載されていると認められるから、当業者ならば、容易に、「非塩素雰囲気中で行うとともに、」「合成された石英ガラス体を軟化点以上の温度に軟化させる」という加熱操作を採用できると認められる。
　
　（２−３）　「紫外用レーザを照射して用いる石英ガラス光学部材」｛引例８。上記〔三〕（６）参照。当審注。紫外線の波長は、通常３９０〜１ｍμとされている。）を製造するに当たって、引例４｛上記〔三〕（５）｝及び引例８石英ガラスの脈理を除去するために、酸水素火炎分解法によって成長軸に沿って合成された石英ガラス体を軟化点以上の温度に加熱した後、若干の荷重をかけ又は自重だけによって、酸水素炎加水分解法における石英ガラス体を変形させることは、当業者が容易にできることであり、その際に不均一性も除去されることは、容易に予想できることであると認められる。
　なお、引例４の発明で、一定温度条件下で重錘を使用することは、すなわち実際操業において特定の時間内に確実に成型するためであると認められるから、例えば温度条件や操業時間を選択することによって、自重変形作用だけを利用することまでができないことを意味しているのではなく、例えば長い時間をかけるならば、自重変形作用だけでも利用できることが示唆されていると認められる。
　そして、ＶＡＤ法では、石英ガラス体の成長軸方向は重力方向である｛必要ならば、引例１の２９頁第１図参照｝から、自重による変形は「石英ガラス体の成長軸方向と同一方向に」起こると認められ、「石英ガラス体の成長軸方向と同一方向に自重による変形を行わせて、成形石英ガラス体を得る」のも、当業者ならば、容易にできることであると認められる。
　
〔五〕　本件特許発明１から同１０までの各発明は、当業者が容易に発明をすることができた発明であり、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであるから、本件特許は、これらの各特許発明について、取り消すべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１月３０日（２００１．１．３０）