【事件の表示】
　特許第２９６３８６９号「真空浸炭方法および装置ならびに浸炭処理製品」の請求項１、２、４、５及び６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９６３８６９号の請求項１、２、４、５及び６に係る特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第２９６３８６９号（以下「本件特許」という。）は、平成８年３月２５日（優先権主張　平成７年３月２９日　日本）に特許出願され、特許権の設定登録の後、特許異議申立人　パーカー熱処理工業株式会社より、請求項１、２、及び４〜６に係る特許について特許異議の申立がなされ、その後審判官合議体より取消理由の通知、及び特許権者より意見書の提出の各手続がなされたものである。
　　
II．本件発明
　本件請求項１、２及び４〜６に係る発明（以下「本件発明１」、「本件発明２」、「本件発明４」〜「本件発明６」という。）は、願書に添付した明細書及び図面（以下単に「明細書」という。）の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１、２及び４〜６に記載された次のとおりのものと認める。
「【請求項１】鋼材よりなるワークを、真空浸炭炉の加熱室内で真空加熱するとともに、該加熱室内に浸炭用ガスを供給して浸炭処理を行なう真空浸炭方法であって、前記浸炭用ガスとしてアセチレン系ガスを使用するとともに、前記加熱室内を１kPa以下の真空状態として浸炭処理を行なうことを特徴とする真空浸炭方法。
【請求項２】前記アセチレン系ガスがアセチレンガスよりなることを特徴とする請求項１記載の真空浸炭方法。
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【請求項４】鋼材よりなるワークを加熱する加熱室を備えた真空浸炭炉と、前記加熱室内にアセチレン系ガスを供給する浸炭用ガス源と、前記加熱室内を真空排気する真空排気源とを備え、１kPa以下の真空状態で真空浸炭を行なうことを特徴とする真空浸炭装置。
【請求項５】内径をＤとする閉端孔を備え、該閉端孔の内壁面における浸炭深さのほぼ等しい領域が、該閉端孔の開口端から深さＬの範囲に亘って形成されている浸炭処理された鋼材製品であって、前記深さＬの値が、Ｌ／Ｄ比で１２乃至５０の範囲内にあることを特徴とする浸炭処理された鋼材製品。
【請求項６】前記閉端孔の内壁面における浸炭深さが、Ｌ／Ｄ比で１２乃至３６の領域に亘ってほぼ等しいことを特徴とする請求項５記載の浸炭処理された鋼材製品。」
　　　　
III．特許異議申立について
（III-1）特許異議申立人の主張
　特許異議申立人　パーカー熱処理工業株式会社は、本件出願の優先権主張日前に頒布された刊行物である甲第１号証（「Harterei-Technische Mitteilungen 1/94,1994年1/2月号」（Carl Hanser Verlag Munchen）第５８〜６３頁）、甲第２号証（「熱処理　１７巻５号」日本熱処理技術協会（昭和５２年１０月２８日発行）第２９８〜３０３頁）、甲第３号証（「METALLURGICAL TRANSACTIONS B」VOLUME　13B（１９８２年６月）第２６７〜２７３頁）、及び甲第４号証（特開昭４８−１４５３８号公報）を提示して、本件発明１、２及び４は、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明であり（理由１；発明の容易性）、また、本件発明１、４、５及び６に係る特許は、明細書の記載が特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してなされたものであり（理由２；明細書等の記載要件）、よって、本件発明１、２、４〜６に係る特許は取り消すべきものであると主張している。
　　
（III-2）証拠の記載事実
甲第１号証
(1-1)「ガス浸炭に対する両プロセスのメリットは浸炭後にガス冷却をすることによって、表面酸化を全くなくすることの他に、・・・・浸炭温度を高めることによって浸炭時間が短縮され、その結果、ガスとエネルギーの消費量が削減され、更には煤の発生も回避される。」（第５８頁右欄本文第６〜１３行）
(1-2)「以下に述べる低圧およびプラズマ浸炭法のプロセス条件は以下のとおりである。
−浸炭温度：　９００〜１０５０℃
−ガス圧：　　１〜１０（３０）mbar
−浸炭ガス：　プロパン（メタン）
−浸炭時間：　１０ｍｉｎ〜２０ｈ
−浸炭深さ：　０．２〜３ｍｍ
　両方法の圧力範囲の差は本質的なものではないが、プラズマ浸炭が通常１〜１０mbarの範囲で一定圧力で行われるのに対して、低圧浸炭はしばしば３０mbarに至る範囲の圧力変動サイクルのもとで行われる。この圧力変動サイクルは未反応ガスの輸送を促進するため、孔や凹部の浸炭を均一にするのに有効である。」（第５８頁右欄第１５〜２９行）
(1-3)「十分なメタン分解が起こるためには、ＣＨ４分圧が３００mbar超に高められなければならないが、その条件では煤発生の危険性がある。」（第５９頁右欄本文第８〜１１行）
(1-4)「トータル反応は安定な生成物であるＣＨ４、Ｃ２Ｈ２ならびにＨ２などを念頭において単純化すると、以下の反応式で示される。
Ｃ３Ｈ８→ＣＨ４十Ｃ２Ｈ４　　　　　（ｌａ）
Ｃ３Ｈ８→ＣＨ４十Ｃ２Ｈ２＋Ｈ２　　　　（ｌｂ）
Ｃ２Ｈ４→２Ｃ＋２Ｈ２　　　　　　 　（２ａ）
Ｃ２Ｈ２→２Ｃ＋Ｈ２　　　　　　　 　（２ｂ）
ＣＨ４→Ｃ＋２Ｈ２　　　　　　　　　（３）　」
（ 第５９頁左欄本文第１９〜２５行）
　　
甲第２号証
(2-1)「メタンによる浸炭は古くから知られており、
Ｆｅ＋ＣＨ４→［Ｆｅ−Ｃ］＋２Ｈ２　　　（１）
なる反応により浸炭は進行する。（第２９８頁「2.1真空浸炭の定義」の欄）
(2-2)「メタンによる浸炭は式（１）に示されるように、メタンの熱分解によって発生する炭素により浸炭する。式（１）によって示される浸炭反応の平衡は、河上、Wagman、その他の研究者によって求められているが実際には式（１）の反応が遅いため、平衡に達するには長時間を必要とするといわれている。これはメタンの熱分解が単に式（１）で示されるような単純な反応ではなく、複雑な連鎖反応によるためで、概略的にはつぎのような反応で熱分解が進行する。
ＣＨ４　＝　ＣＨ３＋Ｈ　　　　　　（２）
ＣＨ３＋ＣＨ４　＝　Ｃ２Ｈ６＋Ｈ　　（３）
Ｃ２Ｈ６　＝　Ｃ２Ｈ４＋Ｈ２　　　　（４）
Ｃ２Ｈ４　＝　Ｃ２Ｈ２＋Ｈ２　　　　（５）
Ｃ２Ｈ２　＝　２Ｃ＋Ｈ２　　　　　（６）
　これらの反応のうち式（２）によるメタン基生成反応が、この連鎖反応の律速段階となっている。これらの反応において、炭素、鉄の存在は触媒として働き、とくに鉄はメタンの完全分解触媒となる。したがって鋼表面では実際には式（６）の反応が起こり、
Ｆｅ＋Ｃ２Ｈ２→２［Ｆｅ−Ｃ］＋Ｈ２　　　（６’）
なる反応により浸炭するものと考えられる。プロパンカスを浸炭性ガスとして用いた場合は１０００℃ぐらいの高温下では熱分解の初期反応は
Ｃ３Ｈ８→Ｃ２Ｈ４十ＣＨ４　　　　　（７）
となり、前記の式（５）〜（６）の反応が引きつづいて起こる。式（７）の反応は式（２）の反応に比べて数千倍の分解速度をもっており、メタンを用いた場合よりも浸炭は速やかに行われるとともに、煤の発生が著しくなる。メタンを用いた浸炭は前述したように、分解速度が遅いために平衡に達しにくいこと、またプロパンを用いたときは逆に分解が速すぎて煤を大量に発生する」（第２９８頁右欄「2.2浸炭の機構」の欄）
(2-3)「1960年、Ipsen Industriesは「浸炭し得る温度に保持した炉において、処理材料を真空中で加熱し，必要な浸炭硬化層深さを得るに必要な時間炉内に浸炭性ガスを２〜２０inHgの圧力に送入し、浸炭する方法」として米国特許を出願しているが，これは米国において不成立となり、カナダにおいて同一内容の出願で1964年、特許が成立している・・・・一方C.I.Hayes Inc.は1971年「浸炭期に浸炭性ガスとしてメタンなどの炭化水素ガスを用い、２０〜８０mmHgの圧力でパルス状に炉内に浸炭性ガスを送入し各パルスごとに浸炭と拡散を同時に行う真空浸炭方法」として米国特許を出願し、1974年成立している。」（第２９９頁左欄「3.1特許にみる浸炭プロセス」の欄）
(2-4)「浸炭時の炉内ガス圧力は、当初２０〜５０mmHg程度の低い圧力で用いられて来たようであるが、圧力が低い場合は装入材料の量、表面積、その他の要因により浸炭が不安定となる点から最近では２５０〜３５０mmHg程度の圧力が採用されており、高い場合には５００mmHgの圧力で行われている。」（第３００頁左欄本文第７〜１２行）
　　
甲第３号証
(3-1)「８５０℃および９２５℃におけるＮ２ガス中のＣＨ４、Ｃ２Ｈ２、Ｃ２Ｈ４、Ｃ２Ｈ６、及びＣ３Ｈ８による低炭素鋼の浸炭率が重量測定により行われ、試験した炭化水素の中でメタンが最も遅い浸炭剤であり、アセチレンが最も速い浸炭剤であることが明らかになった。おそらくは、吸着した酸素を鋼表面から除去することにより、水素は全ての炭化水素の浸炭速度を増加させる。・・・・ＣＨ４を含む全ての炭化水素は、また、気相反応に関与している。これらの反応は浸炭温度において煤の形成を導くであろう。煤は炭化水素−窒素ガス混合物へ水素を添加することにより抑制される。アセチレンは気相中における炭化水素の最終生成物としての煤を形成するための重要な中間体であると考えられる。」（第２６７頁冒頭アブストラクト欄）
(3-2)「これら全ての観察からすると、アセチレンの重合反応による煤化が要点であると考えられる。このことは、表ＩＸに示されるとおり、アセチレンが、試験に用いられた他の炭化水素よりも多くの率で煤を発生していることから支持される。」（第２７２頁左欄本文第２１〜２４頁）
　　
甲第４号証
　浸炭装置を示す第１図、浸炭量とパルス数との関係を示す第３図とともに、以下の記載がなされている。
(4-1)「２．金属物品を受け入れる加熱室、上記加熱室を加熱する手段、上記加熱室を排気する手段、上記加熱室を排気しながら該室内に炭素給源を含む雰囲気を導入し、減圧下の上記加熱室内の上記雰囲気を上記炭素が上記物品中に熱拡散により吸収される所定の時間だけ維持する手段、および上記加熱室の雰囲気の絶対圧を変化させて上記物品に吸収される炭素の量を比例的に変化させる手段を各々有する真空炉からなる金属物品の浸炭用装置。」（特許請求の範囲第２項）
(4-2)「第１図は本発明の方法を実施する装置を示すもので、この装置は全体を１０で示した真空炉を有する。真空炉１０にはハウジング１４があり、その中に加熱室１６が配置される。」（第２頁右下欄第１８行〜第３頁左上欄第１行）
(4-3)「真空ポンプ２４は送風機２６と制御弁２８を通ってハウジング１４の内部と連絡し、ハウジング１４の内部を所要の真空状態まで排気するように動作する。」（第３頁左上欄第１５〜１８行）
(4-4)「本発明の方法は、炉の加熱室１６内の減圧雰囲気中に炭素給源を供給するように設計され、この目的には便宜的なあらゆる炭素給源を使用できる。炭素給源としてはメタン（ＣＨ４）を含む都市ガスを用いるのが有利なことはわかっている」（第３頁左下欄第８〜１３頁）
(4-5)「被処理物品に吸収される炭素の量は加熱室の絶対圧に比例することを上述したが、この原則が第３図および第４図のグラフに示される。・・・炉室の絶対圧を変化させ、各片に浸炭ガスの多数のパルスを適用した。各パルスの拡散時間は約５分に規定した。第３図に示すように、室の絶対圧が増加するにつれて詰め金材料の肌に吸収された炭素の百分率は約２.２％の飽和点まで上昇した。また加工部材に吸収された炭素の百分率は浸炭サイクルに使用したパルスの数にも比例することがわかる。」（第４頁右上欄第１３行〜左下欄第６行）
(4-6)「第１図は本発明の装置を示す図、・・・第３図は多数の物品を異なる室圧で処理した結果を解析したグラフであって物品に吸収された炭素量とパルス数すなわち浸炭ガスを室内に導入し排除した回数との関係を示す図」（第２０１頁左下欄第１０〜１５行）。そして、上記第３図には、室圧５〜５０MMHGの範囲において実施された結果が示されている。
　
　なお、上記証拠の表示において、特許庁における事務処理機械化システム上使用できない文字、記号（ドイツ語ウムラウト文字、一部矢印）については、近似する他の文字、記号で代替した。
　　
（III-3）対比・判断
理由１（発明の進歩性）について
本件発明１について
　本件発明１と、甲第１号証に記載された発明とを対比すると、両者は、鋼材よりなるワークを、真空浸炭炉の加熱室内で真空加熱するとともに、該加熱室内に浸炭用ガスを供給して浸炭処理を行なう真空浸炭方法の点で一致し、そして、（ａ）本件発明１では浸炭用ガスとしてアセチレン系ガスを使用するのに対して、甲第１号証には、プロパンの熱分解過程においてアセチレンが生成し分解する反応式を含む反応機構が記載されているが（摘記1-4）、浸炭用ガスとしてアセチレンそのものを使用することの記載がない点、及び（ｂ）本件発明では、浸炭処理において、浸炭用ガスとしてアセチレンを使用した場合に、加熱室内を１kPa以下の真空状態として浸炭処理を行うのに対して、甲第１号証の記載では、「プロパン（メタン）」を浸炭ガスとする場合について、ガス圧が１〜１０（３０）mbar、即ち、０．１〜１（３）ｋＰａであること、及びプラズマ浸炭では１〜１０mbar、低圧浸炭の場合には３０mbarまでの圧力変動サイクルで行われることの記載があるものの（摘記1-2）、アセチレン系ガスの場合に「１ｋＰａ以下の真空状態として浸炭処理を行なう」ことの記載がない点で、本件発明１は甲第１号証に記載された発明と相違する。
　そこで、これら相違点について検討する。
　浸炭処理においては、浸炭速度等の浸炭性が良好であることと共に、浸炭処理中における煤の発生を防止することが課題とされており（要すれば、甲第１号証の摘記(1-1)及び(1-3)、甲第２号証の摘記（2-2）を参照されたい。）、そして、甲第３号証の記載をみると、窒素ガス中の炭化水素５種について実験を行った結果、アセチレンが最も速い浸炭剤であったことが記載されている一方で、アセチレンが煤の形成における重要な因子であって、他の炭化水素よりも多くの煤を発生することが記載されている（摘記3-1、3-2）。また、甲第２号証の記載をみると、メタンガスによる浸炭処理中に、メタンの熱分解によりアセチレンが生じ、鉄と反応すると考えられることが連鎖反応式とともに示されているが、甲第１号証と同じく、アセチレンそのものを浸炭ガスとして用いることの記載はなく、また、甲第４号証にも、当該アセチレン系浸炭ガスに係る記載は見あたらない。
　そして、本件発明１は、浸炭用ガスとしてアセチレン系ガスを用いると共に、加熱室内を１ｋＰａ以下の真空状態とするという、上記相違点（ａ）及び（ｂ）に係る構成を含む前記認定のとおりの構成を有することにより、煤の発生を抑えて、深い凹部の内壁面をも含めてワークの各部を均一に浸炭でき、さらに使用するガス量や熱量も節減することができるという効果を得ることができ、さらに、加熱室内を１kPa以下の低圧にしており、加熱室自体が加熱室外に対して断熱効果を発揮することから、加熱室自体を水冷したり断熱保護したりする必要が低減されるため、加熱室を含む真空容器の外壁を、低圧に維持する構造のみにして、特別の断熱構造としなくても済み、真空浸炭炉の製造工数、製造コストを低減することにも寄与できる（【0037】〜【0038】）という、明細書に記載された効果を奏したものと認めることができる。
　以上のとおりであるから、本件発明１は、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明ということはできない。
　　　　　
本件発明２について
　本件発明２は、本件発明１におけるアセチレン系ガスを、更に特定のアセチレンガスに限定したものであるから、上記の「本件発明１について」の項に記載したと同様、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明ということはできない。
　　
本件発明４について
　本件発明４と、甲第４号証に記載された発明とを対比すると、甲第４号証の第３図における室圧の５MMHGは０.６６ｋＰａに換算されるので、両者は、鋼材よりなるワークを加熱する加熱室を備えた真空浸炭炉と、前記加熱室内を真空排気する真空排気源とを備え、１kPa以下の真空状態で真空浸炭を行なうことを特徴とする真空浸炭装置の点で一致し、そして、本件発明４では前記加熱室内にアセチレン系ガスを供給する浸炭用ガス源を具備するのに対して、甲第４号証にはその記載がない点で、本件発明４は甲第４号証に記載された発明と相違する。
　そこで、この相違点について検討すると、上記「本件発明１について」の項に記載したとおり、甲第１〜３号証には、加熱室内を１ｋＰａ以下の低圧でアセチレン系浸炭用ガスを用いた真空浸炭についての記載はなく、一方、上記甲第４号証には、メタンないし都市ガスを用いた浸炭用ガスの記載があるものの、アセチレン系浸炭用ガスについての記載は見当たらない。したがって、これら甲第１〜３号証の記載からすると、甲第４号証に５MMHG（＝０.６６ｋＰａ）、即ち１ｋＰａ以下に相当する室圧と浸炭用ガス源が記載されているからといって、これを１ｋＰａ以下という低圧のアセチレン系ガスによる真空浸炭の場合に適用することを、当業者が容易になし得たとすることはできない。
　そして、本件発明４は、当該相違点に係る構成を含む前記認定のとおりの構成を有することにより、上記「本件発明１について」の項に記載した効果が得られる真空浸炭装置が得られるという効果を奏したものと認めることができる。
　したがって、本件発明４は、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明ということはできない。
　　
　なお、本件発明１、２及び４について、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明とすべき他の理由を発見しない。
　　
理由２（明細書等の記載要件）について
　特許異議申立人は、（ａ）本件発明１、４については、特定の内径、深さ、外形及び長さのサンプルに対して、特定の温度、保持時間、浸炭時間、拡散時間の場合について開示されているにすぎず、また（ｂ）本件発明５、６については、特定の内径Ｄと深さＬの場合について開示されているにすぎないので、特許を受けようとする発明が発明の詳細な説明に記載したものでない、として明細書の記載不備を主張している。
　以下、これら主張する点について検討する。
主張（ａ）について
　本件発明１及び４は、上記の「II．本件発明」の欄に記載したとおり、明細書の請求項１及び４に記載されたとおりのものと認められ、そして、それらの発明は、本件明細書の発明の詳細な説明中、特に段落【0019】（問題を解決するための手段）以下の記載において具体的に説明されており、なおかつ、本件発明１及び４について、特定の内径、深さ、外形及び長さのサンプルに対して、特定の温度、保持時間、浸炭時間、拡散時間の場合のものに限定して特定すべき特段の根拠も見あたらない。したがって、特許異議申立人の上記主張は採用できない。
　　
主張（ｂ）について
　本件発明５及び６の特定のＬ／Ｄ比を有する鋼材製品に係る発明は、本件明細書の発明の詳細な説明中、特に段落【0032】以下の記載において、浸炭の均一性の指標としてＬ／Ｄ比を用いることにより説明されており、加えて段落【0047】以降の記載においては、当該Ｌ／Ｄ比を満足する鋼材製品が得られたことが具体的に示されているので、特許異議申立人の上記主張は採用できない。
　　
IV．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立人の主張する理由及び提示した証拠によっては、本件発明１、２及び４〜６に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１、２及び４〜６に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年５月２５日（２００１．５．２５）