【事件の表示】
　特許第２９４８０５５号「基板端縁洗浄装置」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９４８０５５号の請求項１、２に係る特許を維持する。
【理　由】
【1】手続の経緯
　特許第2948055号の請求項1、2に係る発明は、平成5年4月22日に出願され、平成11年7月2日にその設定登録がなされ、その後、申立人 永田 大樹より特許異議申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成12年7月25日に特許異議意見書が提出されたものである。
　
【2】特許異議の申立てについての判断
《2-1》申立ての理由の概要
　申立人 永田 大樹は、本件の請求項1、2に係る発明は甲第1号証の刊行物に記載された発明であり、また、甲第1〜4号証の刊行物に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第1項、同条第2項の規定に違反して特許されたものであり、特許法第113条第2号の規定により取り消されるべきものである旨主張している。
　
《2-2》本件の発明
　本件の請求項1及び請求項2に係る発明は、特許第2948055号明細書の特許請求の範囲の請求項1及び請求項2に記載された以下の事項によって特定されるものである。
　「【請求項1】回転塗布によって表面に薄膜が形成された基板を載置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、その溶剤ノズルから吐出された溶剤および溶解物を吸引排出する排気管とを備えた基板端縁洗浄装置において、前記溶剤ノズルを前記基板の端縁を挟んで上下両方に設け、前記排気管の開口端を前記基板保持手段に保持された前記基板の端縁よりも中央側に突出させるとともに、基板に対して非接触状態で基板の中央側に向けて開放し、前記溶剤ノズルの吐出端を、前記排気管の開口端よりも内奥側に位置する状態で設けたことを特徴とする基板端縁洗浄装置。
【請求項2】 回転塗布によって表面に薄膜が形成された基板を載置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、その溶剤ノズルから吐出された溶剤および溶解物を吸引排出する排気管とを備えた基板端縁洗浄装置において、前記溶剤ノズルを前記基板の端縁を挟んで上下両方に設け、前記排気管の開口端を前記基板保持手段に保持された前記基板の端縁よりも中央側に突出させるとともに、基板に対して非接触状態で基板の中央側に向けて開放し、前記溶剤ノズルの吐出端を、前記排気管の開口端よりも内奥側に位置する状態で設け、かつ前記排気管と溶剤ノズルとを一体に基板の端縁に沿って移動可能に構成したことを特徴とする基板端縁洗浄装置。」(以下、「本件発明1」及び「本件発明2」という。)
　
《2-3》甲第1〜4号証の刊行物における記載事項
　甲第1号証:特開昭64-61917号公報
　甲第2号証:特開平4-206626号公報
　甲第3号証:特開昭63-190679号公報
　甲第4号証:実願平1-26376号(実開平2-116731号)の明細書及び図面の内容を撮影したマイクロフィルム
　
[甲第1号証:特開昭64-61917号公報]
　甲第1号証は、基板端部に形成された過剰な塗布膜を除去する除去装置に関するもので、その第2頁右上欄第2〜17行には、「シリコン1の表面には回転塗布法によりポジ型フォトレジスト2が約1μmの厚さに塗布されているものとする。この時前述したように基板1の表面端部には厚く盛り上がるように塗布され、かつ基板1の裏面にも回り込みが生じている。基板1をはさみ込むように上下から2本の管3,4を約10mmの間隙5を有するように対向させて配置し、この間隙5の間に前述した厚さ0.6mmの塗布済みシリコン基板1を挿入し、管3,4からフォトレジスト2の溶剤6を供給して基板1の端部に形成されたフォトレジスト2を溶解して除去するようにしている。この場合、上下に設けられた管3,4から供給される溶剤6が基板1の内部へ浸透しないように、基板1を回転させ、遠心力によって溶剤6を基板外部へ排除していた。」と記載され、第4図及び5図に上記従来のフォトレジスト除去方法が示されている。
　即ち、甲第1号証に開示された「回転塗布により、シリコン基板1 上にフォトレジスト(薄膜に相当)が塗布される」ことから、図示されていないが、基板を載置するチャックホルダー等の基板保持部が存在することは明らかである。
　また、第3頁右上欄第6〜16行には、「次に基板端部のレジスト除去について説明すると、第1、第2の管21,22からレジスト溶剤28を供給し、第3の管24は排気装置またはダクトに連結する。まず基板27の周縁部を2mmほど間隙23内に挿人し、第1、第2の管21,22より溶剤28を供給し、基板27端部のレジスト26を溶解させ、第3の管24より溶剤と溶解物とを排出させるようにする。このようにして基板端部のレジスト膜を除去しながら基板27を回転移動させていくことにより基板端部全周のレジスト膜を除去した。」と記載され、第1図及び2図に上記第1〜3の管によるフォトレジストの除去方法が開示されている。
　また、第3頁左上欄第10行〜同頁右上欄第5行には、「上下に端部が対向するように第1、第2の管21および22を間隙23を持たせて配置し、この間隙23の一部を塞ぐように第1、第2の管21,22に直交して第3の管24を接続している。第1、第2の管21,22の管径は2mm、間際は10mmとし、第3の管24の管径は接続部25で10mm、その他の部分は20mmとした。第2図は第2図(1図の誤り)に示す装置を用いて基板端部の塗布膜を除去する方法を示した図である。第3の管24の軸方向から対向するように間際23内にレジスト26が塗布された基板27の周縁部を挿入し、この基板27を10〜20rpmの低速で回転させる。挿入深さは移動機構(図示せず)により管24を水平方向に移動させることにより調整可能となっている。」と記載され、第1図に上記第1〜第3の管の構成が、第2図に係る管構成によるフォトレジスト溶剤の供給と排出方法が示されている。
　
[甲第2号証:特開平4-206626号公報]
　甲第2号証は、半導体ウエハ周辺部のレジストを除去する方法に関し、その第1頁右下欄第8〜13行には、「そこで、通常、半導体ウエハ周辺部のレジストをあらかじめ除去する方法が提案されている。この方法には、溶剤を周辺部に噴射して除去する溶剤除去方法、ガスを周辺部に吹き付けて除去する方法あるいは周辺部を露光させて除去する周辺露光方法等が知られている。」と記載されていると共に、第2頁右下欄第3〜11行には、「上記、第4図に示すようなレジスト膜が彼着された状態のウエハ3に対して、周辺露光と現像工程を行う。具体的には、第5図に示す如くチャック8上に仮固定したウエハ3の周辺部に対して周辺露光機9を設け、チャック8を回転させながら周辺部のレジスト5Aを露光した後に同図の矢印10に示すように現像液を供給し、矢印11に示す方向に現像液が流れるように吸引して、周辺部で残りの周辺レジスト5Aを確実に除去する。」と記載され、第5図にウエハの周辺露光を行う要部構成が示されている。
　また、甲第2号証に開示された第5図には、周辺露光機9の装着部材がウエハを挟むように構成され、この装着部材(排気手段を含む)の閉口端がウエハ3の中心方向に伸張している。
　更に、第2頁左下欄第6行〜17行には、「上記のチャンバ1内の上方周辺位置に周辺除去用のノズル6を設け、スピンチャック2を低速回転(例えばlrpm以下)させて上記したレジスト膜の溶剤をこのノズル6より外周側に供給、例えば噴射して第1図に示した矢印7の方向に溶剤を吸引し、第3図に示すようにウエハ3周辺部のレジスト液5膜の表面層を除去して周辺のレジスト膜5の厚さを中央部の厚さより薄く減少させると共に、ウエハ3のオリフラ部3Aの周辺部のレジスト膜も薄くできるように、オリフラ部3Aで上記ノズル6を側縁に沿って移動させるようにしている。」と記載され、第1図に上記レジスト除去構成が開示されている。
　
[甲第3号証:特開昭63-190679号公報]
　甲第3号証は、半導体装置の製造工程において、写真製版に用いられる塗布材料の塗布装置に関し、その第1頁右下欄第7行〜13行には、「次に動作について説明する。チャック3上に、吸着されたウエハ1上にレジスト吐出ノズル6よりレジストを滴下し、チャック3を回転させレジストを基板上に均一に塗布する。次にチャック3を回転させながらレジスト溶剤吐出手段5よりレジスト溶剤を吐出し、ウエハ周辺および裏面のレジストを除去する。」と記載され、第4図に上記従来の塗布装置の構成が開示されている。
　
[甲第4号証: 実願平1-26376号(実開平2-116731号)の明細書及び図面の内容を撮影したマイクロフィル]
　甲第4号証は、基板外周部のレジスト除去装置に関し、その第4頁第19行〜第5頁4行には、「スピン塗布工程が終了して乾燥工程に移る前、そのレジスト3が生乾きのうちに、真空ノズル8を基板1外周部のレジスト3の盛り上がった部分5に押し付け、基板1外周部に沿って精度良く動かし、レジスト3の盛り上がり5を除去する。」と記載され、第1,2図に上記レジスト除去装置の概略構成が開示されている。
　
《2-4》対比・判断
《2-4-1》(本件発明1)
　本件発明1と甲第1号証刊行物に記載された発明とを対比する。甲第1号証刊行物に記載された発明の「第1、第2の管21、22」、「第3の管24」は本件発明1の「溶剤ノズル」、「溶剤ノズルから吐出された溶剤および溶解物を吸引排出する排気管」に相当するから、両者は、「回転塗布によって表面に薄膜が形成された基板を載置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、その溶剤ノズルから吐出された溶剤および溶解物を吸引排出する排気管とを備えた基板端縁洗浄装置において、前記溶剤ノズルを前記基板の端縁を挟んで上下両方に設け、基板に対して非接触状態で基板の中央側に向けて開放したことを特徴とする基板端縁洗浄装置。」の点で一致する。
　
　そして両者は、以下の点で相違する。
　[相違点1]本件発明1は排気管の開口端を基板保持手段に保持された基板の端縁よりも中央側に突出させたのに対して、甲第1号証刊行物に記載された発明は排気管24(25を含む)の開口端は基板27の端縁近傍に位置している点。
　[相違点2]本件発明1は溶剤ノズルの吐出端を、排気管の開口端よりも内奥側に位置する状態で設けたのに対して、甲第1号証刊行物に記載された発明は溶剤ノズル21,22の吐出端は、排気管の外側に位置している点。
　
　そこで、上記相違点1,2における、排気管の開口端と、溶剤ノズルの吐出端と、基板の端縁との相互の位置関係を検討するに、甲第2,3,4号証刊行物を検討しても、排気管の開口端を基板保持手段に保持された基板の端縁よりも中央側に突出させ、溶剤ノズルの吐出端を、排気管の開口端よりも内奥側に位置する状態で設ける点は記載されておらず、そのような配置を示唆する記載もない。なお、甲第2号証第5図及びその説明には、周辺露光機と、基板の端縁と、現像液の流れの方向を示す矢印10,11とが示され、同第5図には基板が入り込むような断面形状の部材が図示されている。しかし、この記載から、排気管の開口端を基板保持手段に保持された基板の端縁よりも中央側に突出させ、溶剤ノズル(甲第2号証の場合は現像液のノズル)の吐出端を、排気管の開口端よりも内奥側に位置する状態で設けることを着想することは当業者といえども容易に行えるものではない。
　そして、本件発明1は、相違点1,2の構成により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　
　従って、本件発明1は、甲第1〜4号証の刊行物に記載された発明でないばかりでなく、甲第1〜4号証の刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものでもない。
　
《2-4-2》(本件発明2)
　本件発明2は、本件発明1の構成に、さらに排気管と溶剤ノズルとを一体に基板の端縁に沿って移動可能にした構成を加えたものである。
　従って、本件発明2と甲第1号証の刊行物に記載された発明とを対比すると、上記《2-4-1》において述べた相違が存在する。よって、《2-4-1》で述べた理由と同じ理由により、本件発明2は、甲第1〜4号証の刊行物に記載された発明でないばかりでなく、甲第1〜4号証の刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものとすることはできない。
　
【3】むすび
　以上のとおり、本件の請求項1及び請求項2に係る発明の特許を、異議申立人の提示した理由及び証拠方法によって取り消すことはできない。
　そして、他に本件の請求項1及び請求項2に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律(平成6年法律第116号)附則第14条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令(平成7年政令第205号)第4条第2項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年８月１７日（２０００．８．１７）