【事件の表示】
　特許第２６５４３４８号「ポジ型感光性レジスト組成物及びそれを用いた銅含有層のパターン形成方法」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　特許第２６５４３４８号の請求項１ないし４、６に係る特許を取り消す。
　同請求項５に係る特許を維持する。
【理由】
１．本件発明
　本件特許第２６５４３４８号の請求項１乃至請求項６に係る発明（平成６年３月１日出願（パリ条約による優先権主張１９９３年４月２日、米国）、平成９年５月２３日設定登録。）は、その特許請求の範囲の請求項１乃至請求項６に記載された次のとおりのものである。
　「【請求項１】酸触媒作用により反応する基を含むフィルム形成反応性ポリマーと、
　フィルム形成反応性ポリマーの酸触媒作用を生成するための、放射光に露光されることによって酸を発生するヨードニウム開始剤又はトリフル酸を発生する非イオン性フォトアシッド発生剤と、
　多官能基有機カルボン酸と、
を含有することを特徴とするポジ型感光性レジスト組成物。
　【請求項２】前記酸の含有量が、０．１〜５重量％であることを特徴とする請求項１記載のポジ型感光性レジスト組成物。
　【請求項３】前記ポリマーの含有量が、レジストの固形分の９９〜８０重量％であり、前記開始剤又は発生剤の含有量が、１〜２０重量％であることを特徴とする請求項１記載のポジ型感光性レジスト組成物。
　【請求項４】前記開始剤又は発生剤が、ジフェニルヨードニウムトリフレート、ジ（ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフレート、フタルイミドトリフレート及びこれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項１記載のポジ型感光性レジスト組成物。
　【請求項５】前記フィルム形成反応性ポリマーが、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、ポリマー主鎖に酸感受性側鎖として寄与する、重合可能な第一のモノマーと、
アルキルメタクリレート類、アルキルアクリレート類及びこれらの組み合わせからなる群から選択される重合可能な第二のモノマーと、
アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの組み合わせからなる群から選択される重合可能な第三のモノマーとを含んでなることを特徴とする請求項１記載のポジ型感光性レジスト組成物。
　【請求項６】前記酸が、クエン酸または蓚酸であることを特徴とする請求項１記載のポジ型感光性レジスト組成物。」
２．特許異議申立の概要
　特許異議申立人は、甲第１号証（特開平５−１８１２７９号公報）を提出して、以下のように主張している。
（理由１）
　本件請求項１乃至請求項４、及び請求項６に係る発明は、本件特許出願の日前に出願され、その出願後に公開された特願平４−１００３１０号（特開平５−１８１２７９号公報参照）の願書に最初に添付した明細書及び図面に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであり、本件請求項１乃至請求項４、及び請求項６に係る特許は、特許法第１１３条第１項第２号により取り消されるべきものである。
（理由２）
　本件特許発明に係るレジスト組成物は、銅又は銅合金に対して使用することが、発明の構成に欠くことができない事項であると認められるが、本件請求項１乃至請求項６には、この点について記載がなく、本件請求項１乃至請求項６に係る特許は、特許法第３６条第５項に規定する要件を満足していない特許出願に対してなされたものであり、本件請求項１乃至請求項６に係る特許は、特許法第１１３条第１項第４号により取り消されるべきものである。
３．取消理由の趣旨
　当審において通知した取消理由Ｉ及びＩＩは、上記の特許異議申立人の申立の理由１及び理由２とそれぞれ同趣旨のものである。
４．当審の判断
（１）理由ＩＩについて
　特許明細書の記載からみて、本件請求項１乃至請求項６に係るレジスト組成物は、銅又は銅合金に対して使用することができるという効果を奏するものであるが、該レジスト組成物は、銅含有表面にしか適用することができないというものではないから、銅又は銅合金に対して使用することが、請求項１乃至請求項６に係る発明の構成に欠くことができない事項とはいえず、この点が記載されていないことをもって、特許法第３６条第５項に規定する要件を満足していないとすることはできない。
（２）理由Ｉについて
ａ．先願明細書に記載の発明
　先の取消理由通知において引用した、特願平４−１００３１０号（特開平５−１８１２７９号公報参照）の願書に最初に添付した明細書（以下、「先願明細書」という。）には、「【請求項１】（Ａ）下記化１に示す一般式（Ｉ）で表される酸により分解する置換基を有する化合物と、（Ｂ）光照射により酸を発生する化合物と、を含むことを特徴とするパターン形成用レジスト。
　【化１】
ただし、式（Ｉ）中のＲ１は１価の有機基、ｍは０または１以上の正の数、ｎは正の数を示す。
　【請求項２】（ａ）酸により分解する置換基を有する化合物と、
（ｂ）光照射により酸を発生する化合物と、
（ｃ）カルボン酸と
を含むことを特徴とするパターン形成用レジスト。」が記載されており（特許請求の範囲請求項１及び請求項２）、段落【００１１】及び段落【００３４】には、請求項１に係る発明は「パターン形成用レジスト（１）」に、請求項２に係る発明は「パターン形成用レジスト（２）」にそれぞれ相当することが記載されている。そして上記パターン形成用レジスト（２）における（ａ）成分は、上記パターン形成用レジスト（１）の（Ａ）成分が好適であることが記載され（段落【００３５】参照）、同じく（ｂ）成分は、上記パターン形成用レジスト（１）で説明した（Ｂ）成分と同様な化合物を用いることができ、かつその含有量はパターン形成用レジストの全固形成分中に０．１〜３０重量％、より好ましくは０．５〜２０重量％であることが記載され（段落【００３６】及び【００３７】参照）、同じく（ｃ）成分は、パターン形成用レジスト（１）の第３成分として列挙したのと同様なものが用いられ、かつその含有量はパターン形成用レジストの全固形成分中に０．５〜２０重量％、より好ましくは１〜１０重量％であることが記載されている（段落【００３８】参照）。そして、上記（Ｂ）成分について、「前記（Ｂ）成分である光照射により酸（強酸）を発生する化合物は、各種の公知の化合物及び混合物を使用することができる。例えば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩のＣＦ３ＳＯ３−、ｐ−ＣＨ３ＰｈＳＯ３−、ｐ−ＮＯ２ＰｈＳＯ３−（ただし、Ｐｈはフェニル基）等の塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスルホニルクロリド、又はスルホン酸エステル等を挙げることができる。」と記載され（段落【００１６】参照）、その具体例として多数の化合物とともに、ジ（ｐ−ターシャリーブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートが例示されている（段落【００１７】参照）。また、上記第３成分としてのカルボン酸について、「かかるカルボン酸は、アルカリ水溶液に対する溶解速度を高め、パターン表面に生じる庇を低減するために配合される。前記カルボン酸は、パターン形成用レジスト中に均一に混合されるものであれば、特に制限されない。」と記載され（段落【００２５参照】）、その具体例として多数のカルボン酸とともに、シュウ酸、クエン酸が例示されている（段落【００２５】参照）。さらに、実施例には上記「光照射により酸を発生する化合物」としてビス（４−ｔｅｒｔブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート（実施例５５及び【表１６】のＣ−７参照）及びトリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート（実施例５９、実施例６０、実施例６２及び【表１６】のＣ−１参照）を用いた例が記載されている。
ｂ．対比・判断
（請求項１について）
　本件請求項１に係る発明（以下、「本件発明１」という。）と上記先願明細書の請求項２に記載された発明（以下、「先願発明」という。）とを比較すると、先願発明における「（ａ）酸により分解する置換基を有する化合物」が、本件発明１における「酸触媒作用により反応する基を含むフィルム形成反応性ポリマー」に相当することは、先願明細書の請求項１及び実施例の記載より明らかであり、先願発明における「（ｂ）光照射により酸を発生する化合物」が、本件発明１における「フィルム形成反応性ポリマーの酸触媒作用を生成するための、放射光に露光されることによって酸を発生するヨードニウム開始剤又はトリフル酸を発生する非イオン性フォトアシッド発生剤」に相当することは、先願明細書の段落【００１６】及び段落【００１７】並びに実施例の記載より明らかであることから、両者は、レジスト組成物に添加する成分が、先願発明においては単に「カルボン酸」としているのに対し、本件発明１においては「多官能基有機カルボン酸」としている点においてのみ相違し、その余の点では一致している。
　上記相違点について検討するに、先願明細書の実施例５５、５９、６０及び６２において用いられているのはモノカルボン酸である（【表３６】及び【表３７】参照）ものの、先願明細書中には、「カルボン酸」の例として、「多官能基有機カルボン酸」を含む多数のカルボン酸が例示されており、本件発明１の実施例で用いられているクエン酸及びシュウ酸も例示されている（段落【００２５】参照）。そこで、カルボン酸として「多官能基有機カルボン酸」に特定したことにより、別異の発明を構成しているか否かについて検討する。
　多官能基有機カルボン酸を用いることについて、本件明細書には次のように記載されている。
　イ．「さらに詳細には、多官能基有機カルボンは本発明の組成物中に使用され、現像されえないレジストを完全に取り除かないまでも、それを実質的に減少させ、レジストの剥離性を向上させる。」（段落【０００２】）
　ロ．「本発明によって、多官能基有機カルボン酸をポジ型挙動を示すフォトレジスト配合物に添加剤として使用することにより、それらを銅合金上で使用することが可能となり、さらに、これら感光性レジストがヨードニウム開始剤及び／又は非イオン性トリフル酸発生剤を使用できることが見出された。かかるレジストが銅及び銅合金表面上に、残留レジストが出現することなく使用されうる。」（段落【０００７】）
　ハ．「さらに、本発明によって、好ましい酸、クエン酸が現像液中の露光されない領域の強度に悪影響を与えることなく、レジストを剥離溶液中でさらに可溶化させることが見出された。」（段落【０００８】）
　ニ．「該フォトレジスト組成物への、蓚酸及び好ましくはクエン酸の如き多官能基カルボン酸の添加は、銅含有表面上の露光領域における現像されえないレジストの形成を回避し、塩基性現像剤水溶液中でのレジストの水溶性を向上させることが見出された。」（段落【００１１】参照）
　ホ．「本発明に従えば、クエン酸はフォトレジスト組成物中に使用され、現像されえないレジストを完全に取り除かないまでも、それを実質的に減少させ、腐食性の又は塩基性の水溶液中でレジストの剥離性を向上させる。」（段落【００２５】）
　上記イ〜ホの記載を総合すると、本件発明１は、多官能基有機カルボン酸を用いることにより、▲１▼剥離溶液中におけるレジストの剥離性を向上させる、▲２▼塩基性現像剤水溶液中でのレジストの水溶性を向上させる、▲３▼ヨードニウム開始剤及び／又は非イオン性トリフル酸発生剤を使用した感光性レジストを銅合金上で使用することが可能となる、という効果を奏するものであると認められ、特に銅合金表面に適用しない場合においては、上記▲１▼及び▲２▼の効果を奏するにとどまるものである。
　これに対して先願発明において配合されているカルボン酸は、アルカリ水溶液に対する溶解度を高める作用のあることが記載されており（段落【００２５】及び【００６９】参照）、上記▲２▼の効果を奏するものであることは明らかである。また、アルカリ水溶液に対する溶解度を高める効果があれば、同じくアルカリ水溶液である剥離液中での剥離性にも寄与することは当然に推測できるものである。そして本件発明１の実施例をみても、特に多官能基有機カルボン酸に特定することにより、剥離溶液中での剥離性の向上に顕著な効果を奏しているという根拠を見出すことができないことからみて、上記▲１▼の効果が、カルボン酸の中で特に多官能基有機カルボン酸を用いたことにより奏せられる特有の効果であるとは認めることができない。
　したがって、本件発明１が、「多官能基有機カルボン酸」に特定したことにより、先願発明とは異なる発明を構成するとすることはできず、両者は実質的に同一であると認められる。
（請求項２について）
　本件請求項２に係る発明（以下、「本件発明２」という。）は、請求項１に係る発明に「前記酸の含有量が、０．１〜５重量％である」という構成を付加するものである。
　請求項１に係る発明は上記した如く先願発明と同一であり、また、先願発明において用いられているカルボン酸の含有量は、パターン形成用レジストの全固形成分中に０．５〜２０重量％、より好ましくは１〜１０重量％であって（段落【００３８】参照）上記「０．１〜５重量％」という範囲と重複するものであることからみて、本件発明２もまた先願発明と同一である。
（請求項３について）
　本件請求項３に係る発明（以下、「本件発明３」という。）は、請求項１に係る発明に「前記ポリマーの含有量が、レジストの固形分の９９〜８０重量％であり、前記開始剤又は発生剤の含有量が、１〜２０重量％である」という構成を付加するものである。
　請求項１に係る発明は上記した如く先願発明と同一であり、また、先願発明において用いられている光照射により酸を発生する化合物の含有量は、パターン形成用レジストの全固形成分中に０．１〜３０重量％、より好ましくは０．５〜２０重量％であって（段落【００３７】参照）上記「１〜２０重量％」という範囲と重複するものであり、かつ、実施例５９及び実施例６０においては、レジストにおけるポリマーの含有量及び酸を発生する化合物の含有量がともに上記「９９〜８０重量％」及び「１〜２０重量％」の範囲内であることからみて、本件発明３もまた先願発明と同一である。
（請求項４について）
　本件請求項４に係る発明（以下、「本件発明４」という。）は、請求項１に係る発明に「開始剤又は発生剤が、ジフェニルヨードニウムトリフレート、ジ（ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフレート、フタルイミドトリフレート及びこれらの混合物からなる群から選択される」という構成を付加するものである。
　請求項１に係る発明は上記した如く先願発明と同一であり、また、先願発明において光照射により酸を発生する化合物として、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート（【表１７】Ｃ−２参照）及びビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート（【表１７】Ｃ−７参照）例示されており、実施例５５においては上記Ｃ−７が実際に用いられていることからみて、本件発明４もまた先願発明と同一である。
（請求項６について）
　本件請求項６に係る発明（以下、「本件発明６」という。）は、請求項１に係る発明に「前記酸が、クエン酸または蓚酸である」という構成を付加するものである。
　請求項１に係る発明は上記した如く先願発明と同一であり、また、先願発明において用いられているカルボン酸としてクエン酸またはシュウ酸が例示されている（段落【００２５】参照）ことからみて、本件発明２もまた先願発明と同一である。
５．むすび
　以上のとおり、本件請求項１乃至請求項４、及び請求項６に係る発明は、上記先願明細書に記載された発明と同一であり、しかも、本願発明の発明者が上記先願明細書に記載された発明の発明者と同一であるとも、また、本願の出願時に、その出願人が上記先願の出願人と同一であるとも認められないので、特許法第２９条の２第１項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本件請求項１乃至請求項４、及び請求項６に係る特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してなされたものである。
　また、請求項５に係る発明の特許については、取消理由を発見しない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の一部の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第１項及び第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年６月１１日（１９９９．６．１１）