【事件の表示】
　特許第２９５０８４９号「塗布方法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９５０８４９号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
（１）手続の経緯
　特許第２９５０８４９号の請求項１に係る発明は、平成１年６月２日に特許出願され、平成１１年７月９日にその特許の設定登録がなされ、その後異議申立人井上博史により特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年８月７日に訂正請求がなされたものである。　
（２）訂正の適否についての判断
　（ア）訂正明細書の請求項１に係る発明
　訂正明細書の請求項１に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
「【請求項１】　回転駆動機構に接続される支持台に支持される被塗布体上に滴下される塗布液を前記被塗布体に塗布する際、前記回転駆動機構の回転速度の変化を緩衝して伝達する伝動手段を介して、前記回転駆動機構に前記支持台を接続し、前記被塗布体に前記塗布液を滴下し前記支持台を所定の回転速度まで少なくとも複数回に亘り段階的に加速して前記塗布液を塗布し、前記支持台を前記所定の回転速度から停止状態まで少なくとも複数回に亘り段階的に減速することを特徴とするレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法。」
　
　（イ）訂正の内容
　（訂正事項ａ）
　特許請求の範囲の請求項１の「回転駆動機構に接続される支持台に支持される被塗布体上に滴下される塗布液を前記被塗布体に塗布する際、前記被塗布体に前記塗布液を滴下し前記支持台を所定の回転速度まで少なくとも複数回に亘り段階的に加速して前記塗布液を塗布し、前記支持台を前記所定の回転速度から停止状態まで少なくとも複数回に亘り段階的に減速することを特徴とするレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法。」の記載を、
「回転駆動機構に接続される支持台に支持される被塗布体上に滴下される塗布液を前記被塗布体に塗布する際、前記回転駆動機構の回転速度の変化を緩衝して伝達する伝動手段を介して、前記回転駆動機構に前記支持台を接続し、前記被塗布体に前記塗布液を滴下し前記支持台を所定の回転速度まで少なくとも複数回に亘り段階的に加速して前記塗布液を塗布し、前記支持台を前記所定の回転速度から停止状態まで少なくとも複数回に亘り段階的に減速することを特徴とするレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法。」と訂正する。
　
　（訂正事項ｂ）
　平成１１年４月１３日付で補正された明細書の第２頁第１４〜１９行（特許公報第２頁第３欄第２７〜３４行）「上記の目的・・・ものである。」の記載を、
「上記の目的を達成するため本発明のレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法は、回転駆動機構に接続される支持台に支持される被塗布体上に滴下される塗布液を被塗布体に塗布する際、前記回転駆動機構の回転速度の変化を緩衝して伝達する伝動手段を介して、前記回転駆動機構に前記支持台を接続し、被塗布体に塗布液を滴下し支持台を所定の回転速度まで少なくとも複数回に亘り段階的に加速して塗布液を塗布し、支持台を所定の回転速度から停止状態まで少なくとも複数回に亘り段階的に減速するものである。」と訂正する。
　
　（ウ）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項ａに係る訂正は、特許請求の範囲の減縮に該当し、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではないし、新規事項の追加にも該当しない。
　訂正事項ｂに係る訂正は、明瞭でない記載の釈明に該当し、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではないし、新規事項の追加にも該当しない。　 
　
　（エ）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）（以下「平成６年改正法」という。）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、平成１１年改正前の特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正法による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。　
　
（３）特許異議の申立について
　（ア）申立の理由の概要
　申立人井上博史は、証拠として甲第１号証（特開昭５２−２６２１４号公報）、甲第２号証（特開昭６２−２２９９４３号公報）を提出し、本件請求項１に係る発明の特許は、甲第１及び２号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるので特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、また、本件明細書の記載には不備があり特許法第３６条第３項または第４項の要件を満たしていないので、本件請求項１に係る発明の特許を取り消すべき旨主張している。　
　
　（イ）特許法第２９条第２項について
　　（引用刊行物）
　訂正明細書の請求項１に係る発明（以下、「本件請求項１に係る発明」という。）に対して、当審が平成１２年５月２６日付で通知した取消理由で引用した刊行物１〔甲第１号証（特開昭５２−２６２１４号公報）〕には、
「まずウエーハ１にレジスト液を１．５ｃｃ〜２．０ｃｃ供給し第１の工程において、ウエーハ１を４００ｒｐｍで回転し、レジストをウエーハ全面に広げる。引き続いて第２の工程において、ウエーハ１を２０００ｒｐｍで高速回転し、約１０ｓｅｃ〜１５ｓｅｃ続行し、レジストの膜厚を一定にする。さらに引き続いて第３の工程において、ウエーハ１を０．２ｓｅｃ〜０．４ｓｅｃの短時間４０００ｒｐｍで超高速回転し、上記クラウンをウエーハ側面にまわり込ませる。（このとき上述のバリが生じないようにその時間を調整する。）そして、このあと第４の工程において、ウエーハ１の回転を２０００ｒｐｍの高速回転に落して、５ｓｅｃないしは５ｓｅｃ以上続行して上記側面にまわり込んだレジスト層を乾燥し、ウエーハの回転を停止する。これでレジスト液の塗布シーケンスは完了する。」（第２頁右上欄第１〜１６行）が記載されている。
　
　同刊行物２〔甲第２号証（特開昭６２−２２９９４３号公報）〕には、
「受皿４の中央部は貫通孔５が開口され、この貫通孔５よりマスクチャック６の軸部分が挿着されている。このマスクチャック６の上部には、被処理体としての例えばマスクブランク７がセットされている。前記塗布釜本体１の上部には、取り外し自在な密閉蓋８が設けられている。この密閉蓋８の中央部にはレジストノズル９が前記マスクブランクス７の中心部上に位置するように設けられ」（第２頁右下欄第７〜１５行）
「〈３〉次いで、レジストノズル９よりマスクブランクス７の中央にレジストを滴下する。そして、この滴下が終了したと同時に低速回転にてレジストの塗布を行なう。ここで、低速回転としては、例えば立上がり０．５秒にて０〜２００ｒｐｍとし、２００ｒｐｍで３秒間回転を行なった後、０．５秒の立上がりにて４００ｒｐｍの通常塗布回転まで上げ、２０秒間この回転数にて塗布を行なうことが挙げられる。
　〈４〉２０秒間の回転が終了した時点でスピンコートされた膜厚は略５０００Åの膜厚であり、レジスト表面は全く乾燥していない。
　〈５〉ひきつづき、密閉蓋８又は塗布釜本体１を相対的に離して大気のエアーを導入するとともに、排気口２より強制的に排気を行いレジストの表面を自然乾燥する。なお、更に、この後マスクチャック６を１００ｒｐｍ以下で回転させる事により相対的に乾燥スピードを上げてもよい。ここで、回転数が１００ｒｐｍを越えると、マスクブランク７のコーナー部におけるレジスト膜厚の変動領域が広くなる傾向にあり、好ましくない。」（第３頁左上欄第１１行〜同頁右上欄第１１行）
「マスクチャック６を回転させる駆動源として安価なスピンモータの使用が可能となる。」（第３頁左下欄第４〜５行）が記載されている。
　
　　（対比・判断）
　本件請求項１に係る発明と上記刊行物１及び２（甲第１及び２号証）に記載の発明とを対比すると、刊行物１及び２に記載の発明は、本件請求項１に係る発明を特定する事項である「回転駆動機構の回転速度の変化を緩衝して伝達する伝動手段を介して、回転駆動機構に支持台を接続」する点を備えておらず、この点により本件請求項１に係る発明は、明細書記載の「被塗布体と支持台間に回転速度の急激な変化に伴う回転のずれが生じない。このため、被塗布体と支持台との摩擦に伴うパーティクル発生による被塗布体の裏面汚染はなく、均一な処理をすることができる。」という効果を奏するものであり、本件請求項１に係る発明が上記刊行物１あるいは２に記載された発明であるとも、刊行物１及び２に記載の発明から容易に推考することができたものともいえない。
　
　（ウ）特許法第３６条第３項または第４項について
　平成１２年８月７日付の訂正で、明細書の記載不備については解消した。
　
　（エ）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立の理由及び証拠によっては、本件請求項１に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件請求項１に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年１１月１３日（２０００．１１．１３）
【訂正の要旨】
　（訂正の要旨）
　訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の「回転駆動機構に接続される支持台に支持される被塗布体上に滴下される塗布液を前記被塗布体に塗布する際、前記被塗布体に前記塗布液を滴下し前記支持台を所定の回転速度まで少なくとも複数回に亘り段階的に加速して前記塗布液を塗布し、前記支持台を前記所定の回転速度から停止状態まで少なくとも複数回に亘り段階的に減速することを特徴とするレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法。」の記載を、
「回転駆動機構に接続される支持台に支持される被塗布体上に滴下される塗布液を前記被塗布体に塗布する際、前記回転駆動機構の回転速度の変化を緩衝して伝達する伝動手段を介して、前記回転駆動機構に前記支持台を接続し、前記被塗布体に前記塗布液を滴下し前記支持台を所定の回転速度まで少なくとも複数回に亘り段階的に加速して前記塗布液を塗布し、前記支持台を前記所定の回転速度から停止状態まで少なくとも複数回に亘り段階的に減速することを特徴とするレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法。」と訂正する。
　訂正事項ｂ
　平成１１年４月１３日付で補正された明細書の第２頁第１４〜１９行（特許公報第３欄第２７〜３４行）「上記の目的・・・ものである。」の記載を、
「上記の目的を達成するため本発明のレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法は、回転駆動機構に接続される支持台に支持される被塗布体上に滴下される塗布液を被塗布体に塗布する際、前記回転駆動機構の回転速度の変化を緩衝して伝達する伝動手段を介して、前記回転駆動機構に前記支持台を接続し、被塗布体に塗布液を滴下し支持台を所定の回転速度まで少なくとも複数回に亘り段階的に加速して塗布液を塗布し、支持台を所定の回転速度から停止状態まで少なくとも複数回に亘り段階的に減速するものである。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
塗布方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】回転駆動機構に接続される支持台に支持される被塗布体上に滴下される塗布液を前記被塗布体に塗布する際、
前記回転駆動機構の回転速度の変化を緩衝して伝達する伝動手段を介して、前記回転駆動機構に前記支持台を接続し、
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
　本発明はレジスト及び現像液など塗布液の塗布方法に関する。
［従来の技術及び発明が解決すべき課題］
　従来から、半導体ウェハ製造工程のうちレジスト塗布工程では高速回転するウェハ上に一定量のレジストをウェハ上に設けたノズルより滴下させ、均一な膜厚のレジスト膜を塗布するスピンコータが使用されている。また、レジスト塗布後所望のパターンを露光して現像する工程でも一定量の現像液を高速回転させたウェハ上に滴下して現像、洗浄を行うスピンデベロッパが用いられている。
　ここで、スピンコータやスピンデベロッパはモータ等の回転駆動機構に接続されウェハを吸着する真空ポンプの吸着口を備えたチャックによりウェハを支持し、モータの回転に伴いウェハを高速回転させて高粘度のレジストや現像液を滴下して均一な塗布を行うものである。
　ここで、モータの回転速度を停止状態から急激に高速回転へ変化させると、ウェハは急激に加速され、ウェハは回転方向と反対方向に抵抗を生じてチャックの回転と同時に回転せずに、チャックが僅かなある期間ウェハより速く回転して両者の回転数にずれが生じてしまう。また急激に減速する場合は逆にチャックよりウェハが速く回転してウェハの回転数とチャックの回転数にずれを生じる。その結果いずれの場合にも、ウェハとチャックとの界面ではウェハとチャックが摩擦しスクラッチによるパーテイクルが発生する。ここで通常チャックの材料としてデルリン、テフロン（商品名）などのように、チャッキングの際ウェハとの密着が良好で、ウェハの裏面を損傷することのないように比較的軟らかい樹脂が使用されている。例えばデルリンなどの樹脂をチャックの材料とする場合、デルリンはシリコンよりはるかに軟らかいため、チャックとウェハ間において主にデルリンのパーティクルがウェハ裏面に圧着されたりウェハ裏面の凹部に入り込むなどウェハ裏面の汚染の起因となってしまう。
　本発明は上記の欠点を解消するためになされたもので、支持台の回転速度を停止状態から高速回転へ加速する際、また高速回転から停止状態へ減速する際、段階的に加速あるいは減速することにより、塗布液を被塗布体に効率よく均一に塗布し、支持台と被塗布体間に回転速度の違いを生じることがなく、支持台と被塗布体との摩擦に伴うパーテイクル発生によるウェハの裏面汚染が生じないレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
　上記の目的を達成するため本発明のレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法は、回転駆動機構に接続される支持台に支持される被塗布体上に滴下される塗布液を被塗布体に塗布する際、
前記回転駆動機構の回転速度の変化を緩衝して伝達する伝動手段を介して、前記回転駆動機構に前記支持台を接続し、
［作用］
　本発明のレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法によれば被塗布体を支持する支持台の回転速度を所定の回転速度まで段階的に加速し、その後段階的に減速して被塗布体上に滴下される塗布液を塗布することにより、塗布液を効率よく均一に塗布することができる。また、被塗布体と支持台問に回転速度の急激な変化に伴う回転のずれを生じさせないため、支持台と被塗布体が同じ回転運動をするため支持台は被塗布体を固定して回転し、支持台と被塗布体間に回転数のずれを生じることがない。従って、支持台と被塗布体との摩擦に伴うパーテイクル発生による被塗布体の裏面汚染はなく、塗布液を被塗布体に効率よく均一に塗布することができる。
　更に、回転駆動機構の回転速度の急激な変化を緩衝して支持台に伝達することにより、支持台が被塗布体を吸着支持する力の方を被塗布体が受ける加速度より大きくすることにより支持台に被塗布体を確実に支持させ、被塗布体と支持台間に回転速度の急激な変化に伴う回転のずれを生じさせない。このため、支持台と被塗布体が同じ回転運動をするため支持台は被塗布体を固定して回転し、支持台と被塗布体間に回転数のずれを生じることがなく、支持台と被塗布体との摩擦に伴うパーテイクル発生による被塗布体の裏面汚染はなく、塗布液を被塗布体に効率よく均一に塗布することができる。
［実施例］
　以下、本発明のレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法を半導体ウェハヘのレジスト塗布装置に適用した一実施例を図面を参照して説明する。
　第１図の構成図に図示のレジスト塗布装置は、真空吸着等によって被塗布体である半導体ウェハＷを載置固定し、回転駆動機構であるモータ１の回転軸２に回転数の変化を緩衝して伝達する伝動手段３を介して固定される上面円板状の支持台であるチャック４が設けられる。チャック４の中央部上方にはレジストを滴下するノズル５が設けられる。このノズル５は例えばロットの切れ目等でノズルからのディスペンスが所定時間実行されない場合にはノズル５をチャック４上方より外側位置まで退避させる必要があるため、スキャナー（図示せず）等により移動自在となっている。ノズル５にはレジストの供給装置である液体供給系６が接続される。
　液体供給系６には、レジスト収納容器に収納された塗布液であるレジストを所望の一定量供給するベローズポンプ等のポンプ、フィルタ容器、ポンプを連動して開閉されるバルブ、レジストをノズル５から吐出後レジストをノズル５内に引き戻し、レジストの液だれあるいは固化を防止するためのサックバックバルブ等が設けられる。また、レジスト塗布時にレジストが装置外部へ飛散することを防止するため処理容器としてのカップ７がウェハＷの周囲に設けられる。尚、カップ７は上下動可能であってウェハＷの搬入出時には図示の位置より下降し、チャック４が露出し搬入出を容易にするように構成され、カップ７の下部にはドレイン管、排気管等（図示せず）が接続される。
　更に、モータ１の回転速度の変化を緩衝してチャックに伝達する伝動手段３について説明する。
　伝動手段３は、第２図に示すような流体継手であってもよい。流体継手はモータ１の回転軸２の中間に一定面積を有する１対の円盤８、９が粘性のあるオイル１０等を介して配設され、モータ１に接続された円盤８の回転によりオイル１０にうず流が生じ、オイル１０のうず流に連動されてチャック４に接続される円盤９に回転が生じる。従ってモータ１の回転速度の急激な変化は円盤８から時間差を持って除々に円盤９に伝達され、所定時間経過後、チャック４の回転速度はモータ１の回転速度と同一となる。
　また、他の回転数の変化を緩衝してチャックに伝達する伝動手段としてスプリング継手も好適に使用できる。第３図及び第４図に示すように、円盤８、９間をスプリング１１、１２を介して接続し、モータ１の回転速度の急激な変化がチャック４に緩衝して除々に伝達され、所定時間経過後、チャック４の回転速度はモータ１の回転速度と同一とすることができる。
　また、他の継手としてモータ１の回転軸２とチャック４の回転軸をベルトで連結するようにしてもよい。
　以上のような構成の塗布装置を用いた本発明のレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法を説明する。
　レジスト供給系６より一定量のレジストが送られ、ノズル５からウェハＷの中心部にレジストが滴下されると、第５図の回転数と時間の関係のグラフの実線で示すようにモータ１の回転をａ秒間で０から２０００回転／分になるまで加速した後、（ｂ−ａ）秒間は加速せず２０００回転／分で回転させる。この間にウェハの中心部に滴下されたレジストはウェハの中央部分に拡散される。ｂ秒後、再びモータ１は（ｃ−ｂ）秒間に所定の回転数、例えば４０００回転／分になるまで加速した後、（ｄ−ｃ）秒間は加速せず４０００回転／分で回転させる。（ｄ−ｂ）秒間に、レジストはウェハの中央部分から周辺部に拡散される。周辺部に拡散後、（ｅ−ｄ）秒間に２０００回転／分まで回転数を降下させ、その後（ｆ−ｅ）秒間は減速せず２０００回転／分で回転させる。ｆ秒後、さらに（９−ｆ）秒間で０まで回転数を下げる。このような工程を経ることにより、レジストはウェハ全面に均一に効率よく塗布され得る。
　更に、モータ１の回転数の変化は、伝動手段によりチャック４に緩衝して伝達される。実線で示すａ、ｂ、ｃ、‥‥ｇ秒におけるモータ１の急激な回転数の変化は、チャック４には点線で示すように、曲線の変化として伝達され、チャック４に支持されるウェハＷが急激な回転数の変化から受けるショックは緩衝される。そのため、チャック４とウェハＷ間に回転数のずれを生じることなく、チャックとウェハとの摩擦に伴うパーテイクル発生によるウェハの裏面の汚染はない。
　以上の説明のレジスト塗布装置は一実施例であって、本発明はこれに限定されることはなく、現像装置のスピンデベロッパ、スプレエッチング等にも好適に用いることができるのは言うまでもないことである。
［発明の効果］
　以上の説明から明らかなように本発明のレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法は、被塗布体を支持する支持台の回転数を段階的に変化させるため、塗布液を均一に効率よく塗布することができ、支持台の回転駆動機構の回転の変化を緩衝して支持台に伝達させるため、被塗布体と支持台間に回転速度の急激な変化に伴う回転のずれが生じない。このため、被塗布体と支持台との摩擦に伴うパーテイクル発生による被塗布体の裏面汚染はなく、均一な処理をすることができる。
【図面の簡単な説明】
　第１図は本発明のレジスト及び現像液などの塗布液の塗布方法を適用した一実施例の塗布装置の構成図、第２図は同部分断面図、第３図及び第４図は同部分斜視図、第５図は一実施例の説明図である。
１……モータ（回転駆動機構）
４……チャック（支持台）
ｗ……ウェハ（被塗布体）