【事件の表示】
　特許第２８３６０７２号「スパッタリング装置」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２８３６０７２号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　特許出願　　　　　　　　　　昭和６３年　５月３０日
　設定登録　　　　　　　　　　平成１０年１０月　９日
　　　　　　　　　　　　　　　　　（特許第２８３６０７２号）
　特許公報発行　　　　　　　　平成１０年１２月１４日
　特許異議の申立て　　　　　　平成１１年　６月１１日
　　　　　　　　　　　　　　　　　（申立人：大　湯　佳　子）
　取消理由通知　　　　　　　　平成１１年１０月２１日
　意見書，訂正請求書　　　　　平成１１年１２月２８日
　審尋書（申立人宛）　　　　　平成１２年　２月２２日
　回答書　　　　　　　　　　　平成１２年　４月２８日
　上申書（申立人）　　　　　　平成１２年　５月１５日
　訂正拒絶理由通知　　　　　　平成１２年　６月　９日
　
II．訂正の適否
１．本件訂正発明
　平成１１年１２月２８日付け訂正請求書に添付された訂正明細書の請求項１に係る発明は、訂正明細書及び図面の記載よりみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
　【請求項１】真空容器内に対向して設けられた基板とターゲットとの間にグロー放電を起こさせ、前記ターゲットからのスパッタリング粒子を前記基板表面に付着させて成膜を行うスパッタリング装置において、前記ターゲットに電力を印加するオン時間が電力を制限するオフ時間以下となるように、前記ターゲットに供給する電力を間欠的に制限し、その制限期間中に、前記ターゲットと基板との間に生じたアーク放電を停止させ得るようにしたことを特徴とするスパッタリング装置。
（以下、「本件訂正発明」という。）
２．訂正拒絶理由の概要
　当審における訂正拒絶理由の概要は次のとおりである。
　本件訂正発明は、以下に示す理由により、下記刊行物１に記載された発明であると認められるから、特許出願の際独立して特許を受けることができない発明である。
　したがって、上記訂正は、平成６年改正法附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正法による改正前の特許法第１２６条第３項の規定に適合しないので、当該訂正は認められない。
　　　　　　　　　　　　　　　　記
　　刊行物１：独国特許第３７００６３３号公報
備　考
（刊行物１の記載）
　上記刊行物１には、「プラズマにより導電性部材を温和に被覆する方法及び装置」に関し、
(1-1)「１５．プラズマ中のアーク放電を自動的に検知し、１０μｓよりも短い時間内にパルスを自動的に停止することを特徴とす先行クレームの方法。」（１欄５８〜６２行）、
(1-2)「本発明は、グロー放電によって形成されたプラズマのイオン化蒸気によって導電性部材を温和に被覆する方法及び装置に関する。この場合、周期的に反復される直流パルスによって電気エネルギーをプラズマに供給する。」（２欄２７〜３３行）、
(1-3)「本発明の実施例に基づき、パルスの電圧は１００Ｖ以上、特に２００〜８００Ｖの範囲にある。パルスに基づき、一方ではアーク形成の危険性を十分に排除し、他方では部材の有効な被覆を実現できるプラズマを真空チャンバ内に維持できる。」（３欄４８〜５５行）、
(1-4)「本発明の他の実施例の場合、プラズマ内のアーク放電の自動的確認を行い、この場合１０μｓ未満の時間でパルスの自動的オフが起きる。しかもその上、アーク放電が不測に起きても、本発明に基づき、先行して被覆された層が不利に損傷されることはない。」（５欄６〜１３行）、
(1-5)「本発明の他の実施例に基づき、電流源はアークセンサ回路を含む制御部を有し、アークセンサ回路はアーク発生時に電流源をオフするため電流源と作用結合する。かくして、装置の運転の確実性が向上し、不良率を更に好適に抑制できる。」（５欄３８〜４５行）、
(1-6)「図１に、噴霧原理、即ち、概念「スパッタ」として公知の方法に基づき作動する被覆装置を模式的に示した。被覆プロセスは、管路２を介して真空ポンプに結合された１として示した真空チャンバにおいて行われる。噴霧時、被覆材料からなり陰極として接続されたターゲットの表面に高工ネルギーのイオンが照射される。この場合、エネルギ密度は約３Ｗ／ｃｍ２であり、ガス圧は数Ｐａである。プラズマ形成ガスは管路６を介してチャンバ１内に導入される。ターゲット３の後ろのシールドを４で示した。ターゲットへイオンを加速してイオン衝撃によってターゲットから被覆材料を放出させるため、本発明に係るパルス電源９によって形成され導体７，８の間に印加される電圧を使用する。」（６欄５〜２２行）、
(1-7)「図２にイオンプレーティングにおける本発明に係るパルス電圧源９の使用を示した。機能的に同等な装置部分は図１と同様に示した。イオンプレーティングの場合、部品５を陰極として接続する。」（６欄２３〜２７行）、
(1-8)「図１〜３で説明した全ての方法に共通に、これらの方法ではグロー放電が起きる。このようなグロー放電の特性曲線を図４に示した。同図において、横座標１４に電流密度をプロットし、縦座標１５に電圧をプロットした。グラフ１６は、数字１７−２３で示した７つの区別可能な範囲に分割されている。この場合、本発明では２１で示した異常グロー放電の範囲を利用する。この範囲は２０で示した正常なグロー放電の範囲とは区別される。通常のアーク放電は、範囲２３において起きる。範囲２１の高電圧及び高電流密度によって、プラズマのエネルギー流は特に強力である。」（７欄２０〜３５行）、
(1-9)「反応チャンバ内には有利な均一の温度分布が構成される。さらに、アーク発生は本発明に係る方法によって本質的に減少される。」（７欄５５〜５８行）、
(1-10)「本発明に基づき、電力は、プラス電源からプラズマにパルス状に導入される。図５に示した如く、図４の範囲２１の異常なグロー放電の条件に対応する各電圧パルス２４はピーク電圧２５を有する。通常、電圧パルス２４の期間２６は約１０μｓである。図５において、横座標２７に時間軸を示し、一方、縦座標２８に出力を示した。各パルス２４の出力は、最小出力ｐｍｉｎと最大出力ｐｍａｘとの間で変化できる。上記出力値は図４の異常グロー放電の範囲２１の双方の終点に対応する。出力パルス２５の高さはプラズマの所要出力ｐｐｔａに対応する。高さｐｔｅｍｐは反応チャンバの温度維持に必要な出力に対応する。面積２９で表したこの導入工ネルギーは、各パルス２４の全面積に対応する。直流電源に比して、面積２９は本質的に小さい工ネルギーを表す。パルスの間の休止期間を変更することによって、導入エネルギーを驚くべき広い範囲に変化させることができる。最小導入エネルギーは、プラズマ維持には役立ないが、均一な温度の維持に役立つ。装置内に均一温度を達成するため、導入エネルギーｐｔｅｍｐは、少なくとも装置の熱損失量に等しくなければならない。図５に、理想的パルス形状として矩形波パルスを示した。この場合、供給電力は、できる限り短時間で、ゼロから所要値まで上昇し、同じく急激に低下する。パルス期間は、１００μｓよりも短く選択される。驚くべきことには、上記期間内には、アークは本質的に殆ど形成されない。２つのパルスの間の休止期間は典型的に数百μｓよりも短かいように選択されている。それにも拘わらず、次ぎのパルスにおいてグロー放電が生ずる。」（８欄１〜４１行）、
との記載があるほか、
(1-11)第５図には、印加電圧のオン時間がオフ時間とほぼ同じ状態（図上、左から２つ目のパルスまで）及び印加電圧のオン時間がオフ時間よりも短い状態（図上、左から２つ目のパルスより右側）となしたものが示されている。
（対比・判断）
　上記刊行物１の図１の記号「５」の部分は、上記「(1-7)」に「部品」であることが示されているが、その形状からして「基板」を含むものと認められる。
　そうすると、上記刊行物１の上記「(1-2)」、「(1-3)」、「(1-6)」及び（(1-8)」〜「(1-10)」に摘記した記載は、刊行物１に記載されているスパッタリング装置は、真空に保たれたチャンバ１内に対向して設けられた基板５とターゲット３の間にグロー放電を起こさせ、前記ターゲット３からのスパッタリング粒子を前記基板に付着させて成膜を行うスパッタリング装置において、ターゲットに印加する電力をパルス状となして間欠的に印加して供給電力を制御していることを示唆するものである。
　そして、上記「(1-11)」には、刊行物１に記載の発明におけるターゲットに印加するパルス状の電力を、オン時間がオフ時間より短くなるように印加することが示されている。
　してみれば、上記刊行物１には、
『真空容器内に対向して設けられた基板とターゲットとの間にグロー放電を起こさせ、前記ターゲットからのスパッタリング粒子を前記基板に付着させて成膜を行うスパッタリング装置において、前記ターゲットに電力を印加するオン時間が電力を制限するオフ時間以下となるように、前記ターゲットに印加する電力を間欠的に制限したことを特徴としたことを特徴とするスパッタリング装置。』、
の発明が記載されているといえる。
　そこで、本件訂正発明と上記刊行物１に記載の発明とを対比すると、本件訂正発明では「その制限期間中に、前記ターゲットと基板との間に生じたアーク放電を停止させ得るようにした」との限定を加えているのに対し、上記刊行物１にはこのようなことに関する記載がない点では一応相違しているが、その余の点では実質的に一致している。
　しかしながら、本件訂正発明で「その制限期間中に、前記ターゲットと基板との間に生じたアーク放電を停止させ得るようにした」ことは「前記ターゲットに電力を印加するオン時間が電力を制限するオフ時間以下となるように、前記ターゲットに印加する電力を間欠的に制限した」ことにより達成されるものである。
　よって、たとえ上記刊行物１には、他の実施例としてアーク放電が生じた場合にこのことを検出して電流値をオフにすることが記載されている（上記「(1-1)」、「(1-4)」及び「(1-5)」参照）としても、「前記ターゲットに電力を印加するオン時間が電力を制限するオフ時間以下となるように、前記ターゲットに印加する電力を間欠的に制限した」構成を備えており、さらに「アーク発生は本発明に係る方法によって本質的に減少される。」（上記「(1-9)」参照）及び「上記期間内には、アークは本質的に殆ど形成されない。」（上記（「(1-10)」参照）とも明記されている以上、上記刊行物１に記載の発明においても「その制限期間中に、前記ターゲットと基板との間に生じたアーク放電を停止させ得る」状態となっているものと認めざるを得ない。
　してみれば、上記一応の相違点とするところのものは実質的な相違点とはならないから、本件訂正発明は上記刊行物１に記載された発明である。
３．当審の判断
　上記訂正拒絶理由により、特許権者に対し期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、特許権者からは何らの応答もない。そして、上記の訂正拒絶理由は妥当なものと認められる。
　したがって、上記訂正は、平成６年改正法附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正法による改正前の特許法第１２６条第３項の規定に違反するので、当該訂正は認められない。
　
III．特許異議申立てについて
１．本件発明
　上記訂正は認められないから、本件特許の請求項１に係る発明は、特許明細書及び図面の記載よりみて、特許明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
　【請求項１】真空容器内に対向して設けられた基板とターゲットとの間にグロー放電を起こさせ、前記ターゲットからのスパッタリング粒子を前記基板表面に付着させて成膜を行うスパッタリング装置において、前記ターゲットに電力を印加するオン時間が電力を制限するオフ時間以下となるように、前記ターゲットに供給する電力を間欠的に制限し、その制限期間中に、前記ターゲットと基板との間に生じた異常放電を停止させ得るようにしたことを特徴とするスパッタリング装置。
（以下、「本件発明」という。）
２．取消理由の概要
　当審が通知した取消理由の概要は次のとおりである。
　本件発明は、下記刊行物に記載された発明であるかあるいは下記刊行物に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、該発明の特許は特許法第２９条第１項もしくは同条第２項の規定に違反してなされたものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　記
　　刊行物：独国特許第３７００６３３号公報
　　　　　　　　　　　　　　　（申立人の提示した甲第１号証に該当）
３．刊行物に記載の発明
　上記刊行物は、上記訂正拒絶理由で引用した刊行物１と同じであり、これには上記「(1-1)」〜「(1-11)」に示したとおりのことが記載されている。
４．対比・判断
　本件発明は、上記「II．１．本件訂正発明」に示した本件訂正発明における「アーク放電」を「異常放電」に限定した発明に相当する。
　しかしながら、本件特許明細書に「この発明においては、ターゲットに供給する電力を予め設定した周期で間欠的に制限するので、各種の条件に基づいて前記の制限する時間を適宜設定しておくことにより、正規の電力を供給中に仮にアーク放電が発生しても、前記制限時間中にアーク放電は停止し、アーク放電が持続しない。」（特許公報４欄９〜１４行）と記載されているように、本件発明に於ける「異常放電」には「アーク放電」が包含されるものである。
　してみれば、本件発明は、上記「III．訂正の適否」で本件訂正発明について述べたと同様の理由で、上記刊行物に記載された発明であると認められる。
　
IV．むすび
　以上のとおりであるから、本件発明は、特許法第２９条第１項第３号の規定に該当し、特許を受けることができない。
　したがって、本件発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認める。
　よって、平成６年改正法附則第１４条の規定に基く、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年９月２２日（２０００．９．２２）