(57)【要約】      （修正有）【課題】長い寿命を有するとともに、平坦かつ一様なアライメントフィルムを得られる転写ローラを提供すること。【解決手段】金属ローラ１０と、金属ローラの表面にコーティングされたセラミック層１１とを有し、セラミック層は複数の六角形のパターンユニットが形成され、各パターンユニットの各辺が別のパターンユニットの対応する辺と隣接するように、パターンユニットは密接に構成され、シャフト２０はローラの両端部から突出する。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
金属ローラと、ローラシャフトとを具備し、
前記金属ローラはその表面にセラミック層が形成されるとともに、該セラミック層には各パターンユニットの各辺が別のパターンユニットの１辺と隣接するように、互いに密接した複数の六角形のパターンユニットが形成され、
前記ローラシャフトは金属ローラの中心軸を通ってローラ軸の両端部から突出する、
ハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項２】
前記複数のパターンユニットは正六角形であり、各パターンユニットが６０°の角度を介して隣接した、請求項１記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項３】
前記複数のパターンユニットは凹み部分で構成した、請求項１記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項４】
前記複数のパターンユニットは凹み部分で構成した、請求項２記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項５】
前記複数のパターンユニットは、幅７６〜８０ミクロン、深さ１８〜３０ミクロンであり、隣接する２つのパターンユニット間の間隔は５〜９ミクロンである、請求項３記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項６】
前記複数のパターンユニットは、幅７６〜８０ミクロン、深さ１８〜３０ミクロンであり、隣接した２つのパターンユニット間の間隔は５〜９ミクロンである、請求項４記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項７】
前記複数のパターンユニットは、幅６４〜６８ミクロン、深さ１８〜２８ミクロンであり、隣接した２つのパターンユニット間の間隔は５〜９ミクロンである、請求項３記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項８】
前記複数のパターンユニットは、幅６４〜６８ミクロン、深さ１８〜２８ミクロンであり、隣接した２つのパターンユニット間の間隔は５〜９ミクロンである、請求項４記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項９】
前記複数のパターンユニットは、幅６０〜６４ミクロン、深さ１７〜２８ミクロンであり、隣接した２つのパターンユニット間の間隔は５〜９ミクロンである、請求項３記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項１０】
前記複数のパターンユニットは、幅６０〜６４ミクロン、深さ１７〜２８ミクロンであり、隣接した２つのパターンユニット間の間隔は５〜９ミクロンである、請求項４記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項１１】
前記複数のパターンユニットは、幅５５〜５９ミクロン、深さ１６〜２５ミクロンであり、隣接した２つのパターンユニット間の間隔は５〜９ミクロンである、請求項３記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項１２】
前記複数のパターンユニットは、幅５５〜５９ミクロン、深さ１６〜２５ミクロンであり、隣接したパターンユニット間の間隔は５〜９ミクロンである、請求項４記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項１３】
前記複数のパターンユニットは、幅４３〜４７ミクロン、深さ１１〜１６ミクロンであり、隣接した２つのパターンユニット間の間隔は４〜８ミクロンである、請求項３記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項１４】
前記複数のパターンユニットは、幅４３〜４７ミクロン、深さ１１〜１６ミクロンであり、隣接した２つのパターンユニット間の間隔は４〜８ミクロンである、請求項４記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項１５】
セラミック層と金属ローラの表面との間に補助結合層を形成した、請求項１記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項１６】
セラミック層と金属ローラの表面との間に補助結合層を形成した、請求項２記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項１７】
セラミック層と金属ローラの表面との間に補助結合層を形成した、請求項３記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項１８】
セラミック層と金属ローラの表面との間に補助結合層を形成した、請求項４記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項１９】
補助結合層材料の７０〜８０％はＮｉであり、残りの２０〜３０％はＷＣ−Ｃｏ、Ｃｒ3Ｃ2、Ｃｒ3Ｃ2−ＮｉＣｒ、およびＣｒの混合物である、請求項１８記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【請求項２０】
セラミック粒子材の９５％はＣｒ2Ｏ3であり、残りの５％はＡｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、およびＹ2Ｏ3の混合物である、請求項１８記載のハニカム状パターンを有する転写ローラ。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は転写ローラに関し、特に、ハニカム状パターンを有する転写ローラに関する。
【背景技術】
【０００２】
パターン化されたローラは、さまざまな技術分野で応用例がある。
たとえば、かかるローラは、レーザホログラムラベル、セキュリティラベルの転写パターン、または液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を製造する際に使用されるアニロックスローラの製造に用いられる。
通常、ローラは、所望のパターンが形成されていて、対象物にそのパターンを転写する。
ＬＣＤ製造プロセスにおいて用いられるアニロックスローラの場合、アライメントフィルムをコーティングする際に、ポリイミド（ＰＩ）溶液が最初アニロックスローラに一様に塗布される。
ＰＩ溶液は、アニロックスローラ上に一様に分散するようにパターンユニット内に流入する。アニロックスローラは、旭化成社製の感光性樹脂（ＡＰＲ（登録商標））プレート上にＰＩ溶液を一様に転写する。
印刷シリンダは、ＡＰＲプレート上のＰＩ溶液をガラス基板に転写させ、分散フィルムを形成する。
【０００３】
パターン化されたローラを製造する際、鋼製ローラの表面が最初研削され、非平滑部分を除去する。
次に、ローラ表面を研磨して鏡面を製造する。その後、モールドを用いて、ローラ表面上に所望のパターンを鋳造する。最後に、ローラ表面を洗浄する。これで、パターン化されたローラの製造が完了する。
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
鋼製ローラは浸食に弱いため、パターンユニットは多数回使用すると変形することが多い。
したがって、かかるローラは寿命がより短い。
この場合、これらのローラは、螺旋形または矩形のパターンユニットが形成されるだけである。
しかし、ＬＣＤ製造プロセスにおいてアライメントフィルムをコーティングするアニロックスローラの場合、螺旋形または矩形のパターンユニットは通常、アニロックスローラ上にＰＩ溶液を一様に分散できない。
その結果、ＰＩ溶液は、ＡＰＲプレート上に一様に転写されない。
このことは、ＡＰＲプレート上のＰＩ溶液がガラス基板上へ印刷される際、平坦かつ一様なアライメントフィルムの製造に悪影響を及ぼす。
平坦かつ一様なアライメントフィルムが得られないだけでなく、転写されたアライメントフィルムの厚さは、わずか４００オングストローム（Å）である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記欠点を克服するため、本考案は、上述した問題を緩和または回避したハニカム状パターンを有する転写ローラを提供するものである。
【０００６】
転写ローラがより長い寿命をもち、ＬＣＤ製造プロセスにより適するようにするため、本考案の目的は、ＬＣＤ製造に理想的であるように、ハニカムパターンと、より優れた浸食耐性を有する転写ローラを提供することにある。
【０００７】
上述の目的により、転写ローラは、金属ローラと、ローラシャフトとを含む。金属ローラは、これの上に形成されたセラミック層を有する。セラミック層の表面は、各パターンユニットの各辺が別のパターンユニットの対応する辺と隣接するように、ともに密接に密集した複数の六角形のパターンユニットが形成され、ハニカムパターンを形成する。ローラシャフトは、ローラ軸を通過して、ローラ軸の両端部から突出する。
【考案の効果】
【０００８】
ローラは、鋼材より優れた浸食耐性を有するセラミック層が形成されるため、より長い寿命をもつ。
ＬＣＤ製造プロセスにおいてローラを用いる際、六角形のパターンユニットは開示されたローラ上にＰＩ溶液を一様に分散できる。
その後、ＰＩ溶液は、ＡＰＲプレート上に一様に転写される。
その結果、所望の厚さの平坦かつ一様なアライメントフィルムは、ガラス基板上へ印刷される。
【考案を実施するための最良の形態】
【０００９】
本考案のその他の目的、利点、および特徴は、添付した図面に関連して以下の詳細な説明からさらに明らかとなる。
【００１０】
図１により、ハニカム状パターンを有する転写ローラは、金属ローラ１０とローラシャフト２０とを含む。
【００１１】
金属ローラ１０の表面は、セラミック層１１が形成される。
図２に示すように、セラミック層１１の表面は、ともに密接に構成された複数の六角形のパターンユニット１１１が形成される。
各パターンユニット１１１の各辺は、隣接した別のパターンユニット１１１の対応する辺と隣接する。
本実施例において、補助結合層（図示せず）は、セラミック層１１と金属ローラ１０との間に設けられる。
セラミック粒子が金属に十分付着しないため、補助結合層はセラミック層１１の結合効果を高める。
【００１２】
補助結合層は、Ｎｉを７０〜８０％含有する。
残りの２０〜３０％は、ＷＣ−Ｃｏ、Ｃｒ3Ｃ2、Ｃｒ3Ｃ2−ＮｉＣｒ、およびＣｒの混合物である。
セラミック粒子材の９５％はＣｒ2Ｏ3である。
これは、Ｃｒ2Ｏ3がレーザによって容易に切断されるためである。
セラミック粒子材の残りの５％は、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、およびＹ2Ｏ3の混合物である。
この混合物により、セラミック層１１の浸食耐性が増加し、レーザがセラミック層１１をはるかに容易に切断できる。
また、各パターンユニット１１１は正六角形であり、隣接した２つのパターンユニット１１１の角度は６０°である。
したがって、パターンユニットは、ハニカム状パターンを示す。
【００１３】
ローラシャフト２０は、金属ローラ１０の中心軸を通って延出していて、ローラ軸の両端部から突出する。
【００１４】
図３により、各パターンユニット１１１は、セラミック層１１にレーザ光線を当てて窪ませて形成した凹み部分である。
一例として、金属ローラ１０は、ガラス基板上へアライメントフィルムを印刷するのに、ＬＣＤ製造プロセスにおいて用いられる。
アライメントフィルムの厚さがＬＣＤディスプレイ品質の重要な要因であるため、ローラに付着したＰＩ溶液は正確に制御される必要がある。
さらに、各凹み部分の幅と深さは、この中に充填されたＰＩ溶液が十分かどうかについて直接的に影響を及ぼす。
これは、ＰＩ溶液がＡＰＲプレートに完全に転写されるかどうかを決定する。
したがって、転写ローラの構造は、アライメントフィルムの印刷に重要である。
【００１５】
図４により、ローラが１インチ当たり３００線（ＬＰＩ）を有する場合、各凹み部分は、幅７６〜８０ミクロン、深さ１８〜３０ミクロンであり、隣接した凹み部分間の間隔は５〜９ミクロンであり、印刷されたアライメントフィルムの厚さは１２００〜１８００オングストローム（Å）である。
ローラが５００ＬＰＩを有する場合、各凹み部分は、幅４３〜４７ミクロン、深さ１１〜１６ミクロンであり、隣接した凹み部分間の間隔は４〜８ミクロンであり、印刷されたアライメントフィルムの厚さは５００〜９００Åである。
異なる密度およびサイズのパターンユニット１１１は、異なるサイズおよび目的のＬＣＤ製造プロセスにおいて用いられる。
【００１６】
以上説明したように、本考案に係るハニカム状パターンを有する転写ローラは、金属ローラの表面上にセラミック層を形成するため、従来の転写ローラと比較してより優れた浸食耐性を有する。
セラミック層上に形成された六角形のパターンユニットは、一様に転写する効果を有する。
パターンユニットの幅と深さとを調整することにより、ＬＣＤ製造プロセス時の印刷されたアライメントフィルムの厚さを効果的に制御することができる。
【００１７】
以上の記載は本考案の例示にすぎず、本考案の技術思想の範囲内における部品の形状、サイズ、および配置を適宜変更してもよいことは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本考案に係るハニカム状パターンを有する転写ローラの斜視図
【図２】本考案に係る転写ローラの一部の平面図で、２４４倍に拡大した平面図
【図３】セラミック層の一部の断面側面図
【図４】パターンユニットの仕様と印刷されたアライメントフィルムの厚さとの対応を示した説明図
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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