【事件の表示】
　特許第２９２２７５４号「回転式基板乾燥装置及び回転式基板乾燥方法」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９２２７５４号の請求項１ないし６に係る特許を維持する。
【理　由】
１．本件特許第２９２２７５４号は、平成５年７月９日の出願であって、平成１１年４月３０日に設定登録されたものである。そして、その請求項１ないし６に係る発明は、明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲に記載されたとおりの次のものと認める。
「【請求項１】基板を水平姿勢で上面に載置して保持し鉛直軸回りに回転自在に支持するチャックと、
　このチャックを回転駆動する回転駆動手段とを備えてなる回転式基板乾燥装置において、
　前記チャック上に載置保持された洗浄処理後の基板の上面中心部に向けて真上から気体を吹き付ける上側ブロー手段を配設するとともに、
　前記チャックを乾燥工程の初期に所定時間低速で回転させた後高速で回転させるように前記回転駆動手段を制御する回転制御手段を設けたことを特徴とする回転式基板乾燥装置。
【請求項２】上側ブロー手段をチャックの回転開始前に起動させるように制御する上側ブロー制御手段が設けられた請求項１記載の回転式基板乾燥装置。
【請求項３】チャックの回転中に、チャック上に載置保持された基板の下面に向けて気体を吹き付ける下側ブロー手段が配設された請求項１又は請求項２記載の回転式基板乾燥装置。
【請求項４】チャックが高速で回転させられている期間内に下側ブロー手段を作動させるように制御する下側ブロー制御手段が設けられた請求項３記載の回転式基板乾燥装置。
【請求項５】チャックの回転中に、チャック上に載置保持された基板の下面にリンス液を供給するリンス液供給手段が配設された請求項１又は請求項２記載の回転式基板乾燥装置。
【請求項６】基板を洗浄した後に基板を水平姿勢で鉛直軸回りに回転させて乾燥させる回転式基板乾燥方法において、
　洗浄処理後の基板の上面中心部に向けて真上から気体を吹き付けて、基板の上面中心部に液切れ部を形成させるとともに、
　基板を乾燥工程の初期に所定時間低速で回転させて、基板上の液体の大半を除去した後、基板を高速で回転させて基板上の液体を完全に振り切ることを特徴とする回転式基板乾燥方法。」
　
２．これに対して、特許異議申立人上原克敏は、甲第１号証として特開平２−８３９２７号公報を、及び甲第２号証として特開平３−２４５５３０号公報を提示し、請求項１ないし６に係る発明は、いずれも、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明することができるものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであり、特許を取り消すべき旨主張している。
　
３．異議申立人の提示した甲第１号証及び甲第２号証には、それぞれ次の事項が記載されている。
甲第１号証；液晶表示板などに用いるガラス基板を回転させて乾燥する乾燥装置に関し、「これらの図で符号１０は水平な回転板であり、この回転板１０は伝動モータ１２により回転される。このモータ１２の回転軸１４は中空な筒状であり、回転軸１４内の上端が回転板１０の裏面中心に接続されている。回転軸１４の通路１４ａはこの回転板１０の中心に開口する下噴出ノズル１６に連通している。回転板１０には４個の支持腕１８が略放射状に固定されている。各支持腕１８の先端には横腕２０が固定され、支持腕１８と横腕２０とが略Ｔ字型を形成する。各支持腕１８にはほぼ垂直に起立する支持ピン２２が植設され、また横腕２０の両端には支持ピン２２よりも長いピン２４が植設されている。２６は長方形のガラス基板であり、このガラス基板２６の４隅の直交する２辺を、各横腕２０の２本のピン２４に挟むことによって回転軸１０に保持される。この時ガラス基板２６の下面は４本の支持ピン２２の上端に当接する。従ってこのガラス基板２６は回転板１０と一体となって水平面上で回転する。」（第２頁右上欄２行目−左下欄１行目）、「次にこの実施例の動作を説明する。例えばＬＣＤの製造過程においてガラス基板２６の表面を洗浄するためには、このガラス基板２６を回転板１０上に置き、ピン２４により４辺を挟むと共に下面を支持ピン２２上端に当接させる。この状態でガラス基板２６に純水などの洗浄液をスプレーして洗浄した後、モータ１２を始動する。これと共に各噴出ノズル１６、２８から乾燥用の気体を所定圧力で噴出させれば、気体はガラス基板２６の回転中心に当たる。このためガラス基板２６の表裏両面の中心にある洗浄液はこの気体により周囲に飛散される。ガラス基板２６は高速で回転しているからその表裏両面に付着した洗浄液は遠心力によって速やかに周囲に飛散する。この結果回転中心に洗浄液が残ることなく両面を確実かつ均一に乾燥させることができる。」（第２頁左下欄１６行目−右下欄１１行目）及び「次にこの実施例の実験例を説明する。次表はＬＣＤの製造過程において、配向膜を焼成した後のガラス基板（Ｎｏ．１）と、この基板に薄膜トランジスタを形成した後のガラス基板（Ｎｏ．２）とに対して、それぞれ気体の噴出（ブロー）を行った場合と（ブロー有）とを行わなかった場合（ブロー無）、回転速度（Ｒ．Ｐ．Ｍ．）をを変えた場合、回転時間（ｓｅｃ）を変えた場合の各条件下での表面状態の変化を表すものである。」（第２頁右下欄１２−２０行目）と記載されていることから、甲第１号証には、「支持ピン２２，２４によりガラス基板２６を回転板１０の上面に保持して水平平面上で回転させ、回転板１０を伝動モータ１２により回転させ、回転板１０上に保持されたスプレ洗浄後のガラス基板２６の上面回転中心に向けて真上から乾燥用の気体を噴出させる上噴出ノズル２８を配設し、ガラス基板２６の表裏両面の中心にある洗浄液が、噴出させる気体により周囲に飛散される回転式ガラス基板乾燥装置。」の発明が記載されていると認める。
甲第２号証；磁気ディスク等のディスクを高速スピン乾燥するためのディスクのスピン乾燥方式に関し、「ディスクＤが洗浄されて、その表面には洗浄液が付着した状態のまま、適宜のハンドリング機構、例えば該ディスクＤの外径をチャックするチャック機構を備えたロボットによって乾燥部に搬送される。そこで、まず外径チャック部材５を構成するチャックローラ７によってこのディスクＤをチャックさせて、ロボット側のチャック機構をディスクＤから離間させることによって、該ディスクＤの移載を行う。そこで、この外径チャック部材５によってディスクＤを回転させて、その内縁部に付着している洗浄液を除去する。ここで、該外径チャック５による回転は、ディスクＤを完全に乾燥させるものではなく、あくまでも内縁部に付着している洗浄液が液滴となって滞留するのを防止する程度のもので良いので、該ディスクＤを比較的低速で、しかも短時間回転させるだけでよい。このようにしてディスクＤの内縁部に液滴状態となって滞留するのを防止するための予備処理を行った後においても、該ディスクＤの表面及び内外縁部には薄い液膜が残存している。そこで、外径チャック部材５から内径チャック部材１にディスクＤを持ち替える。即ち、まず内径チャック部材１を作動させて、そのチャック部片３によって内径をチャックさせ、然る後に外径チャック部材５のチャックローラ７を該ディスクＤから離間させる。そして、スピンドル２を高速回転させることによって、このディスクＤの表面に付着している洗浄液を遠心力の作用によってその外周縁部から飛散させることによって、その表裏両面及び内外縁部のスピン乾燥を行う。」（第３頁左上欄２行目−右上欄１４行目）と記載されていることから、甲第２号証には、「洗浄後のディスクＤを外径チャック部材５で比較的低速で回転させて内縁部に付着している洗浄液を除去した後、ディスクＤを内径チャック部材１に持ち替え、高速回転させてスピン乾燥を行うもの」の発明が記載されていると認められる。
　
４．請求項１に係る発明と前記甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明とを対比する。
　請求項１に係る発明と甲第１号証に記載された発明とを対比すると、甲第１号証に記載された発明の「回転板１０及び支持ピン２２，２４からなるガラス基板保持手段」、「伝動モータ１２」及び「上噴出ノズル」は、請求項１に係る発明の「チャック」、「回転駆動手段」及び「上側ブロー手段」に相当することから、両者は、「基板を水平姿勢で上面に載置して保持し鉛直軸回りに回転自在に支持するチャックと、このチャックを回転駆動する回転駆動手段とを備えてなる回転式基板乾燥装置において、前記チャック上に載置保持された洗浄処理後の基板の上面中心部に向けて真上から気体を吹き付ける上側ブロー手段を配設した回転式基板乾燥装置。」の点で一致し、請求項１に係る発明が「チャックを乾燥工程の初期に所定時間低速で回転させた後高速で回転させるように回転駆動手段を制御する回転制御手段を備えた」ものであるのに対し、甲第１号証に記載された発明は、回転板１０を高速で回転させるものであること、回転板の回転速度が変更可能であることは記載されているが、乾燥工程の間に回転速度を変更することについて何らの開示がない点で相違する。
　そして、甲第２号証に記載されたものは、内縁に付着している洗浄液を除去するためにディスクＤを乾燥工程の途中で外径チャック部材５と内径チャック部材１に持ち替えるものであって、内縁を有さず、支持ピン２２，２４による持ち替えも予定されていない甲第１号証に記載された発明に甲第２号証に記載された発明を適用する必然性はない。
　かつ、請求項１に係る発明は、「チャックを乾燥工程の初期に所定時間低速で回転させた後高速で回転させるように回転駆動手段を制御する回転制御手段を備えた」ことにより、「処理過程でのミストの飛散を少なく抑えることができ、ミストによる悪影響が防止される」（明細書の段落【００１８】４−５行目）という、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明から予測し得ない格別の効果を奏するものである。
　なお、異議申立人は、甲第１号証には、ガラス基板の回転速度を変える点についての示唆がある旨主張する。しかしながら、甲第１号証には、「次表はＬＣＤの製造過程において、配向膜を焼成した後のガラス基板（Ｎｏ．１）と、この基板に薄膜トランジスタを形成した後のガラス基板（Ｎｏ．２）とに対して、それぞれ気体の噴出（ブロー）を行った場合と（ブロー有）とを行わなかった場合（ブロー無）、回転速度（Ｒ．Ｐ．Ｍ．）をを変えた場合、回転時間（ｓｅｃ）を変えた場合の各条件下での表面状態の変化を表すものである。」との記載があるが、この記載は、種々の回転速度を選択して乾燥工程を行ったことを意味するものであって、請求項１に係る発明のごとく、乾燥工程の間に回転速度を変更することを示唆するものではない。
　したがって、請求項１に係る発明は、前記甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることは、できない。
　
５．次に、請求項２ないし５に係る発明についてみると、請求項２ないし５に係る発明は、請求項１に係る発明の構成を全て備えた上で、さらに限定を加えたものであるから、この限定した構成が甲第１号証又は甲第２号証に記載されているとしても、前記４．のとおり、請求項１に係る発明が甲第１号証及び甲第２号証に記載されたものに基づき当業者が容易に発明することができない以上、請求項２ないし５に係る発明も、前記甲第１号証及び甲第２号証に記載されたものに基づき当業者が容易に発明することができたものとすることはできない。
　
６．請求項６に係る発明と前記甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明とを対比する。
　請求項６に係る発明と甲第１号証に記載された発明とを対比すると、甲第１号証に記載された発明の「ガラス基板２６の表裏両面の中心にある洗浄液が、噴出させる気体により周囲に飛散される」工程は、請求項６に係る発明の「基板の上面中心部の液切れ部の形成」の工程に相当することから、両者は、「基板を洗浄した後に基板を水平姿勢で鉛直軸回りに回転させて乾燥させる回転式基板乾燥方法において、洗浄処理後の基板の上面中心部に向けて真上から気体を吹き付けて、基板の上面中心部に液切れ部を形成させる回転式基板乾燥方法。」の点で一致し、請求項６に係る発明が「基板を乾燥工程の初期に所定時間低速で回転させて、基板上の液体の大半を除去した後、基板を高速で回転させて基板上の液体を完全に振り切る」ものであるのに対し、甲第１号証に記載された発明は、回転板１０を高速で回転させるものであること、回転板の回転速度が変更可能であることは記載されているが、乾燥工程の間に回転速度を変更することについて何らの開示がない点で相違する。
　そして、甲第２号証に記載されたものは、内縁に付着している洗浄液を除去するためにディスクＤを乾燥工程の途中で外径チャック部材５と内径チャック部材１に持ち替えるものであって、内縁を有さず、支持ピン２２，２４による持ち替えも予定されていない甲第１号証に記載された発明に甲第２号証に記載された発明を適用する必然性はない。
　かつ、請求項６に係る発明は、「基板を乾燥工程の初期に所定時間低速で回転させて、基板上の液体の大半を除去した後、基板を高速で回転させて基板上の液体を完全に振り切る」ことにより、「処理過程でのミストの飛散を少なく抑えることができ、ミストによる悪影響が防止される」（段落【００１８】４−５行目）という、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明にはない格別の効果を奏するものである。
　したがって、請求項６に係る発明は、前記甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることは、できない。
　
７．よって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、請求項１ないし６に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に請求項１ないし６に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年５月１１日（２０００．５．１１）