【事件の表示】
　特許第２９８０６６７号「反応処理装置」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９８０６６７号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
一．手続の経緯　
　特許第２９８０６６７号については、平成２年１０月２６日にその発明の特許出願がなされ、平成１１年９月１７日にその特許の設定登録がなされ、その後特許異議申立人村松恒幸、加瀬敬子及び泉和武により特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年１１月１７日に訂正請求がなされたものである。　　　
　　　
二．訂正の適否についての判断　
１．訂正の内容　
　訂正請求は、願書に添付した明細書（以下、「特許明細書」という。）を、訂正請求書に添付した訂正明細書（以下、「訂正明細書」という。）のとおり訂正することを求めたものであって、訂正の内容は以下のとおりである。
［訂正事項ａ］　請求項１における「複数のガスを導入する反応室と，
該反応室を排気する複数の排気系と，
該反応室に導入するガスの種類により異なった排気系を選ぶ選択手段とを有し，
前記排気系は少なくとも酸化性ガスに対する排気系と還元性ガスに対する排気系とからなり，それぞれの排気系が独立して除害装置を備え，前記酸化性ガスがフッ素化合物を含む洗浄用ガスであることを特徴とする反応処理装置。」を
　「複数のガスを導入する第１の反応室と，
　前記第１の反応室に接続され，前記第１の反応室を排気する第１の酸化性ガス排気系及び第１の還元性ガス排気系と，
　前記第１の反応室に導入するガスの種類により，前記第１の酸化性ガス排気系または第１の還元性ガス排気系を選ぶ第１の選択手段と，
　複数のガスを導入する第２の反応室と，
　前記第２の反応室に接続され，前記第２の反応室を排気する第２の酸化性ガス排気系及び第２の還元性ガス排気系と，
　前記第２の反応室に導入するガスの種類により，前記第２の酸化性ガス排気系または第２の還元性ガス排気系を選ぶ第２の選択手段とを有し，
　前記第１の酸化性ガス排気系及び前記第２の酸化性ガス排気系は共通に接続され，前記第１の還元性ガス排気系及び前記第２の還元性ガス排気系は共通に接続され，
　前記酸化性ガス排気系と還元性ガス排気系は，それぞれ独立してポンプ及び除害装置を備え，
　前記酸化性ガスがフッ素化合物を含む洗浄用ガスであることを特徴とする反応処理装置。」
と訂正する。
［訂正事項ｂ］　特許明細書における「上記課題の解決は，・・・・により達成される」の記載（特許掲載公報第２頁第３欄第２０〜２６行）を
「上記課題の解決は、複数のガスを導入する第１の反応室と，第１の反応室に接続され，第１の反応室を排気する第１の酸化性ガス排気系及び第１の還元性ガス排気系と，第１の反応室に導入するガスの種類により，第１の酸化性ガス排気系または第１の還元性ガス排気系を選ぶ第１の選択手段と，複数のガスを導入する第２の反応室と，第２の反応室に接続され，第２の反応室を排気する第２の酸化性ガス排気系及び第２の還元性ガス排気系と，第２の反応室に導入するガスの種類により，第２の酸化性ガス排気系または第２の還元性ガス排気系を選ぶ第２の選択手段とを有し，第１の酸化性ガス排気系及び第２の酸化性ガス排気系は共通に接続され，第１の還元性ガス排気系及び第２の還元性ガス排気系は共通に接続され，酸化性ガス排気系と還元性ガス排気系は，それぞれ独立してポンプ及び除害装置を備え，酸化性ガスがフッ素化合物を含む洗浄用ガスであることを特徴とする反応処理装置により達成される。」
と訂正する。
　　　　
２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　［訂正事項ａ］のうち、
　「複数のガスを導入する反応室と，該反応室を排気する複数の排気系と，該反応室に導入するガスの種類により異なった排気系を選ぶ選択手段とを有し，前記排気系は少なくとも酸化性ガスに対する排気系と還元性ガスに対する排気系とからなり」を「複数のガスを導入する第１の反応室と，第１の反応室に接続され，第１の反応室を排気する第１の酸化性ガス排気系及び第１の還元性ガス排気系と，第１の反応室に導入するガスの種類により，第１の酸化性ガス排気系または第１の還元性ガス排気系を選ぶ第１の選択手段と，複数のガスを導入する第２の反応室と，第２の反応室に接続され，第２の反応室を排気する第２の酸化性ガス排気系及び第２の還元性ガス排気系と，第２の反応室に導入するガスの種類により，第２の酸化性ガス排気系または第２の還元性ガス排気系を選ぶ第２の選択手段とを有し」とする訂正は、「反応室」をより下位概念の「第１の反応室及び第２の反応室」に限定するとともに、「第１の反応室及び第２の反応室のそれぞれについて、酸化性ガス排気系及び還元性ガス排気系を接続するとともにいずれかの排気系を選ぶ選択手段を設ける」構成要件を直列的に付加ものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当し、
　「第１の酸化性ガス排気系及び第２の酸化性ガス排気系は共通に接続され，第１の還元性ガス排気系及び第２の還元性ガス排気系は共通に接続され」を加入する訂正は、排気系の接続状態を規定する構成要件を直列的に付加するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当し、
　「それぞれの排気系が独立して除害装置を備え」を「酸化性ガス排気系と還元性ガス排気系は，それぞれ独立してポンプ及び除害装置を備え」とする訂正は、排気系に関連する構成要件として「ポンプ」を直列的に付加するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　また、この訂正事項ａに係る訂正は、特許明細書における「図において、・・・・第２図は２つの反応室を並列使用したときの実施例を示す。この場合は，Ａ排気系どうし，およびＢ排気系どうし一括して接続してそれぞれ別の中和塔に導かれる。」の記載（特許掲載公報第２頁第４欄第１４行〜第３欄第４２行）、ならびに第１図及び第２図の記載を根拠としたものである。
　［訂正事項ｂ］は、発明の詳細な説明の記載を請求項の記載と整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明に該当する。　
　そして、上記訂正は、明細書又は図面に記載された事項の範囲内のものであって、新規事項の追加に該当せず、かつ、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。　
　　
３．まとめ　
　よって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項ただし書き第１〜第３号に該当するものであり、また、同条第３項で準用する同法第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。　
　　　
三．特許異議申立てについての検討・判断　　　　
１．本件発明
　本件の請求項１に係る発明は、訂正明細書の請求項１に記載された次のとおりのものである。
　「【請求項１】　複数のガスを導入する第１の反応室と，
　前記第１の反応室に接続され，前記第１の反応室を排気する第１の酸化性ガス排気系及び第１の還元性ガス排気系と，
　前記第１の反応室に導入するガスの種類により，前記第１の酸化性ガス排気系または第１の還元性ガス排気系を選ぶ第１の選択手段と，
　複数のガスを導入する第２の反応室と，
　前記第２の反応室に接続され，前記第２の反応室を排気する第２の酸化性ガス排気系及び第２の還元性ガス排気系と，
　前記第２の反応室に導入するガスの種類により，前記第２の酸化性ガス排気系または第２の還元性ガス排気系を選ぶ第２の選択手段とを有し，
　前記第１の酸化性ガス排気系及び前記第２の酸化性ガス排気系は共通に接続され，前記第１の還元性ガス排気系及び前記第２の還元性ガス排気系は共通に接続され，
　前記酸化性ガス排気系と還元性ガス排気系は，それぞれ独立してポンプ及び除害装置を備え，
　前記酸化性ガスがフッ素化合物を含む洗浄用ガスであることを特徴とする反応処理装置。」（以下、「訂正発明」という。）
　　　　
２．申立ての理由の概要　
２−１．　特許異議申立人村松恒幸（以下、「申立人村松」という。）は、証拠として下記の甲第１〜４号証を提出し、
　「本件の請求項１に係る発明は、甲第１〜４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない発明である。」として、請求項１に係る発明の特許は取り消されるべきである旨を主張している。
［甲第１号証］　特開昭５９−４３５１９号公報（以下、「引用例１」という。）
［甲第２号証］　特開昭６３−２１５０３７号公報（以下、「引用例２」という。）
［甲第３号証］　特開平１−１２２９１０号公報（以下、「引用例３」という。）
［甲第４号証］　特開平２−１９０４７２号公報（以下、「引用例４」という。）
　　　　　　
２−２．　特許異議申立人加瀬敬子（以下、「申立人加瀬」という。）は、証拠として下記の甲第１号証を提出し、
　「本件の請求項１に係る発明は、本件出願前に出願され、本件出願後に出願公開された甲第１号証に記載された発明であるから、本件特許は、特許法第２９条の２の規定に違反してされたものである。」として、請求項１に係る発明の特許は取り消されるべきである旨を主張している。
［甲第１号証］　特願平１−３１７６７５号（特開平３−１８３６９３号公報参照）の願書に最初に添付した明細書及び図面（以下、「引用例５」という。）
　　　　　　
２−３．　特許異議申立人泉和武（以下、「申立人泉」という。）は、証拠として下記の甲第１号証を提出し、
　「本件の請求項１に係る発明は、甲第１号証に記載された発明であるか、ないしはかかる発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第１項ないしは同条第２項の規定により特許を受けることができない発明である。」として、請求項１に係る発明の特許は取り消されるべきである旨を主張している。
［甲第１号証］　特開平２−１７６３９２号公報（以下、「引用例６」という。）
　　　　　　
３．各引用例に記載された事項
［引用例１］
　引用例１には、「プラズマＣＶＤ装置における排気系装置」に関して、「本発明は主としてＳｉＨ４，ＮＨ３等の可燃性ガスを反応ガスとして使用する式のプラズマＣＶＤ装置における排気系装置に関する。」（第１頁左下欄第１２〜１４行）、「第３図はバッチ式の場合の１例を示すもので、（１）はプラズマＣＶＤ処理用の反応室を示し、該室（１）は反応ガスの導入口（２）と、大気の導入口（３）とを備えると共に該室（１）内を排気すべくこれに連る排気系（４）を備える。」（第２頁左上欄第７〜１１行）、「本発明によれば、該反応室（１）に、該室（１）内を排気すべく、該排気系（４）とは分離される別個の第２の排気系（５）を用意するもので、かくて該排気系（４）をガス排気専用とすると共に該第２の排気系（５）を荒引排気専用とするようにした。」（第２頁左上欄第１５〜１９行）、「反応処理後該反応室（１）内を一旦大気圧に戻し、次で再びこれを真空排気する場合を考えるに、先づ該第２の排気系（５）を作動させて該室（１）内を大気圧から例えば数トール或は数１０トールに減圧し、次で該排気系（４）を作動させるもので」（第２頁右上欄第４〜９行）が記載されており、第３図（第３頁）には、その１実施例が図示されている。
［引用例２］
　引用例２には、プラズマ処理による「ケイ素系薄膜の製造方法」に関して、「三フッ化窒素（ＮＦ３）ガスを反応室（３１）内に導入する。・・・・このことにより、反応室（３１）内部はクリーニングされ清浄になる。」（第３頁右上欄第３〜１５行）、「そして・・・・シラン３０ｓｃｃｍ、水素２７０ｓｃｃｍを流す。」（第４頁左上欄第６〜９行）が記載されており、第２図（第５頁）には、かかる方法に用いるための排気系（３５）を有する成膜装置が図示されている。
［引用例３］
　引用例３には、「三弗化窒素の製造方法」に関して、「このＮＦ３ガスとＨ２ガスは混合すると爆発を引き起こすので、この混合を避けるため、電解槽には陽極１４と陰極１５を隔離する隔板１３が第３図に示すように電解槽の底板より適当な距離を置いた高さの位置より蓋板１６に固着する形で設けられていて」（第２頁左下欄第１１〜１５行）が記載されている。
［引用例４］
　引用例４には、「膜形成操作系におけるフッ化物系ガスによるクリーニング後の汚染除去方法」に関して、「ガス排出ライン３の一端は反応室１の下方に、また、その他端はブースターポンプ８、ロータリーポンプ１０及びＣｌＦ３除去用のアルカリ水溶液充填式除害装置１２を介して大気に夫々接続される。」（第４頁右上欄第５〜９行）が記載されている。
［引用例５］
　引用例５には、「気相成長装置のクリーニング方法及び装置」に関して、「以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する。図において、１はサセプタ（図示せず）を内蔵するリアクタ、２は該リアクタ１内に原料ガスを供給する原料ガス供給配管・・・・４はリアクタ１に接続されている排気管、・・・・６は排気管４の末端側に接続されている油回転ポンプ等よりなる原料ガス用吸引機、７は原料ガス用吸引機６の後に接続されていて原料ガスを無害化処理する原料ガス用廃ガス処理部である。・・・・
　また、９はリアクタ１又は排気管４に反応性クリーニングガスを供給する反応性クリーニングガス供給配管、１０は反応性クリーニングガス供給配管９から分岐されてリアクタ１内に反応性クリーニングガスを供給する分岐反応性クリーニングガス供給配管・・・・１４は原料ガス用吸引機６の入口側で排気管４に分岐接続された反応性クリーニングガス排気管、１５は反応性クリーニングガス排気管１４の途中にバイパス反応性クリーニングガス排気管１６を介してバイパス接続されている油回転ポンプ等よりなる反応性クリーニングガス用吸引機、・・・・２０は反応性クリーニングガス排気管１４の末端側に接続されていて反応性クリーニングガスを無害化処理する反応性クリーニングガス用廃ガス処理部である。２１，２２は原料ガス用廃ガス処理部７を使うか反応性クリーニングガス用廃ガス処理部２０を使うかの切替えを行うために排気管４と反応性クリーニングガス排気管１４とに接続された切替えバルブである。・・・・
　減圧ＭＯＣＶＤ法の場合、エピタキシャルウエハーの製造中は、・・・・原料ガス用吸引機６を作動し、リアクタ１から排出される原料ガスの廃ガスを原料ガス用廃ガス処理部７に導いて無害化処理する。即ち、この原料ガス用廃ガス処理部７では、例えばＰＨ３、ＡｓＨ３、ＴＭＧ、ＴＭＩｎ等の無害化処理を行う。・・・・
　次いで、バルブ１１，２２，１９を開、バルブ２１を閉として反応性クリーニングガス供給配管９及び分岐反応性クリーニングガス供給配管１０を経てリアクタ１及び排気管４内にイオン活性化されていない反応性クリーニングガスを数時間流し、リアクタ１内及び排気管４内のクリーニングを行う。イオン活性化されていない反応性クリーニングガスとしては、例えばＮＦ３、ＣｌＦ３、Ｃｌ２等を用いる。・・・・使用済の反応性クリーニングガスは反応性クリーニングガス用廃ガス処理部２０で逐次無害化処理してから大気中に放出する。・・・・」（第２頁右下欄第１４行〜第３頁右下欄第１４行）が記載されているとともに、クリーニング装置を取付けた気相成長装置の１実施例を示す系統図（第５頁）が図示されている。
［引用例６］
　引用例６には、「反応炉本体内に所定の処理ガスを供給して被処理物を処理し、この処理済みの処理ガスを排気ポンプにより排気するようにした熱処理装置において、前記排気ポンプをオイルレスポンプのみにより構成し、この排気ポンプの排気下流側に前記処理済みの処理ガス中に含まれる有害物質を除去するための排ガス処理機構を設けたことを特徴とする処理装置」（特許請求の範囲）に関して、「制御部６および真空機構７によって反応炉本体４内に所定のガスを流通させるとともに、制御部６から電力を供給して反応炉本体４内を所定温度に加熱し、半導体ウエハの処理、例えばＣＶＤによる成膜を行う。」（第２頁右下欄第１４〜１８行）、「本実施例の排ガス処理機構１６の構成は、第４図に示すように、排ガス中の有害成分であるエッチングガス例えばＮＦ３ガスを除去するためのＮＦ３ガス除去カラム２１、反応生成物例えばＳｉ３Ｎ４を除去するためのＳｉ３Ｎ４除去カラム２２、そしてこれら除去カラム２１、２２に排ガスを導くための配管系２３、この配管系２３に設けられた複数の制御弁類２４〜２６等から構成されている。
　以下にＳｉ３Ｎ４膜の成膜処理を行う場合・・・・成膜開始指令が出されると同時にＳバルブ２６が開、Ｂバルブ２４およびＮバルブ２５が閉となる。即ち成膜動作中の排ガスは、Ｓｉ３Ｎ４除去用カラム２２内に導入され、ここでＳｉ３Ｎ４が除去された後排気される。
　一方、制御部６から被処理物のクリーニング処理指令が出されると、所定のタイムラグをおいてＮＦ３ガスによるクリーニング運転が開始される。・・・・この状態では、Ｂバルブ２４およびＳバルブ２６は閉となっており、排ガスはＮＦ３除去用カラム２１内に導入されて浄化された後排気される。」（第３頁左下欄第１行〜右下欄第１０行）が記載されているとともに、排気系の構成の実施例を示す第３図（第４頁）及び排ガス処理機構の構成の実施例を示す第４図（第６頁）が図示されている。
　　　
４．申立てについての判断
４−１．本件訂正発明の特徴点について
　本件訂正発明は、以下の特徴点（ａ）〜（ｅ）の全てを具備するものである。
　（ａ）第１及び第２の反応室（複数の反応室）を有する点。
　（ｂ）複数の反応室のそれぞれに排気系が接続される点。
　（ｃ）反応室に接続される排気系は、酸化性ガス排気系及び還元性ガス排気系の２系列からなると共にいずれかの排気系を選ぶ選択手段を有する点。
　（ｄ）酸化性ガス排気系どうし及び還元性ガス排気系どうしが、それぞれ共通に接続される点。
　（ｅ）酸化性ガス排気系及び還元性ガス排気系が、それぞれ独立してポンプ及び除害装置を備える点。
　　
４−２．申立人村松による申立てについて
　訂正発明と引用例１記載の発明とを比較すると、引用例１記載の発明は、反応室に接続される２系列の排気系（４）、（５）を有するものの、これらの排気系は「ガス排気専用排気系及び荒引排気専用排気系」であって、訂正発明における「酸化性ガス排気系及び還元性ガス排気系」に相当するものではないから、特徴点（ｃ）を具備しておらず、その他、特徴点（ａ）、（ｂ）、（ｄ）及び（ｅ）をも具備していないことは明らかである。
　訂正発明と引用例２記載の発明とを比較すると、引用例２には、三フッ化窒素ガス（酸化性ガス）とシラン、水素（還元性ガス）とを用いる成膜装置（反応処理装置）であって、排気系を具備するものが記載されているものの、上記排気系は「酸化性ガス排気系及び還元性ガス排気系の２系列からなる」ものではないから、引用例２記載の発明は、特徴点（ｃ）を具備しておらず、その他、特徴点（ａ）、（ｂ）、（ｄ）及び（ｅ）をも具備していないことは明らかである。
　引用例３には、「ＮＦ３ガス（酸化性ガス）とＨ２ガス（還元性ガス）とを混合すると爆発を起こすので、混合を避けるようにした電解槽」について記載されているにすぎず、特徴点（ａ）〜（ｅ）について全く記載するところがない。
　訂正発明と引用例４記載の発明とを比較すると、引用例４には、「ポンプ及び除害装置を備えた排気系」が記載されているものの、「２系列の排気系が、それぞれ独立して」ポンプ及び除害装置を備えることは記載されていないから、引用例４記載の発明は、特徴点（ｅ）を具備しておらず、その他、特徴点（ａ）ないし（ｄ）をも具備していないことは明らかである。
　以上のとおり、引用例１〜４のいずれにも、特徴点（ａ）ないし（ｅ）について全く記載するところがないから、引用例１〜４記載の各発明を組み合わせても、特徴点（ａ）ないし（ｅ）を具備する訂正発明が想起できるものではない。
　してみると、訂正発明が、引用例１〜４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるとは認められないから、申立人村松の主張を採用することはできない。
　　
４−３．申立人加瀬による申立てについて
　第５頁の系統図及びこの図についての説明を中心に引用例５の記載内容をまとめると、引用例５には「原料ガスとしてＰＨ３、ＡｓＨ３、ＴＭＧ、ＴＭＩｎ等（還元性ガス）を用い、クリーニングガスとしてＮＦ３、ＣｌＦ３等（フッ素化合物を含む酸化性ガス）を用いる気相成長装置（反応処理装置）であって、原料ガス供給配管２及び反応性クリーニングガス配管９，１０を接続したリアクタ１（反応室）と、排気管４及びこれに分岐接続された反応性クリーニングガス排気管１４（複数の排気系）と、切替えバルブ２１，２２（異なった排気系を選ぶ選択手段）とを有し、反応性クリーニングガス排気管１４側には反応性クリーニングガス用吸引機１５（酸化性ガス排気ポンプ）及び反応性クリーニングガス用廃ガス処理部２０（酸化性ガス除害装置）が、また、排気管４側には原料ガス用吸引機６（還元性ガス排気ポンプ）及び原料ガス用廃ガス処理部７（還元性ガス除害装置）がそれぞれ接続されている装置」（以下、「２系列の排気系を有する反応処理装置」という。）が、実質的に記載されているものと認められる。
　上記排気系は、酸化性ガス排気系及び還元性ガス排気系の２系列からなると共にいずれかの排気系を選ぶ選択手段を有しており、かつ、酸化性ガス排気系及び還元性ガス排気系が、それぞれ独立してポンプ及び除害装置を備えているから、引用例５記載の発明は、特徴点（ｃ）及び（ｅ）を具備していることになる。
　しかしながら、引用例５には、「第１及び第２の反応室（複数の反応室）を有する点」及び「複数の反応室のそれぞれに排気系が接続される点」についての記載がなく、「酸化性ガス排気系どうし、及び還元性ガス排気系どうしを、それぞれ共通に接続する点」についての記載もないから、引用例５記載の２系列の排気系を有する反応処理装置は、特徴点（ａ）、（ｂ）及び（ｄ）を具備するものではない。
　また、２系列の排気系を有する反応処理装置において、特徴点（ａ）、（ｂ）及び（ｄ）を具備することが単なる慣用手段の付加であるとする根拠もない。
　してみると、訂正発明が、引用例５に記載された発明であるとは認められないから、申立人加瀬の主張を採用することはできない。
　　　　
４−３．申立人泉による申立てについて
　第３頁第３図、第６頁第４図及びかかる図についての説明を中心に引用例６の記載内容をまとめると、引用例６には「反応炉本体４（反応室）と、配管系２３（排気系）と、制御弁類２５，２６（異なった排気系を選ぶ選択手段）とを有し、配管系２３はＮＦ３ガス（酸化性ガス）流路とＳｉ３Ｎ４ガス（還元性ガス）流路とからなり、それぞれの流路にＮＦ３除去カラム２１（酸化性ガス除害装置）及びＳｉ３Ｎ４除去カラム２２（還元性ガス除害装置）を備え、ＮＦ３ガスがクリーニングガスである（酸化性ガスがフッ素化合物を含む洗浄用ガスである）熱処理装置（反応処理装置）」が実質的に記載されているものと認められる。
　かかる記載から、引用例６記載の排気系は、酸化性ガス排気系及び還元性ガス排気系の２系列からなると共にいずれかの排気系を選ぶ選択手段を有している、即ち、引用例６記載の発明は特徴点（ｃ）を具備しているものと認められる。
　しかしながら、引用例６には、「第１及び第２の反応室（複数の反応室）を有する点」、「複数の反応室のそれぞれに排気系が接続される点」及び「酸化性ガス排気系どうし及び還元性ガス排気系どうしが、それぞれ共通に接続される点」の記載がないから、引用例６記載の発明は、特徴点（ａ）、（ｂ）及び（ｄ）を具備するものではない。
　また、引用例６記載の排気系は、２系列の排ガス系に「共通の１個のポンプ（メカニカルブースタポンプ１５）」を備えているにすぎないから、引用例６記載の発明は、酸化性ガス排気系及び還元性ガス排気系が「それぞれ独立してポンプを備える」構成を有しておらず、結局、特徴点（ｅ）も具備していない。
　そして、上記特徴点（ａ）、（ｂ）、（ｄ）及び（ｅ）が、引用例６の記載から想起できるとする根拠もない。
　してみると、訂正発明は、引用例６に記載された発明であるかないしはかかる発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるとは認められないから、申立人泉の主張を採用することはできない。
　　　
四．むすび　
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件の訂正発明の特許を取り消すことはできない。　
　また、他に本件の訂正発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。　
【異議決定日】
平成１２年１２月２５日（２０００．１２．２５）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　特許第２９８０６６７号の明細書を以下のとおり訂正する。
［訂正事項ａ］　特許請求の範囲の減縮を目的として、請求項１における
　「複数のガスを導入する反応室と，
該反応室を排気する複数の排気系と，
該反応室に導入するガスの種類により異なった排気系を選ぶ選択手段とを有し，
前記排気系は少なくとも酸化性ガスに対する排気系と還元性ガスに対する排気系とからなり，それぞれの排気系が独立して除害装置を備え，前記酸化性ガスがフッ素化合物を含む洗浄用ガスであることを特徴とする反応処理装置。」を
　「複数のガスを導入する第１の反応室と，
　前記第１の反応室に接続され，前記第１の反応室を排気する第１の酸化性ガス排気系及び第１の還元性ガス排気系と，
　前記第１の反応室に導入するガスの種類により，前記第１の酸化性ガス排気系または第１の還元性ガス排気系を選ぶ第１の選択手段と，
　複数のガスを導入する第２の反応室と，
　前記第２の反応室に接続され，前記第２の反応室を排気する第２の酸化性ガス排気系及び第２の還元性ガス排気系と，
　前記第２の反応室に導入するガスの種類により，前記第２の酸化性ガス排気系または第２の還元性ガス排気系を選ぶ第２の選択手段とを有し，
　前記第１の酸化性ガス排気系及び前記第２の酸化性ガス排気系は共通に接続され，前記第１の還元性ガス排気系及び前記第２の還元性ガス排気系は共通に接続され，
　前記酸化性ガス排気系と還元性ガス排気系は，それぞれ独立してポンプ及び除害装置を備え，
　前記酸化性ガスがフッ素化合物を含む洗浄用ガスであることを特徴とする反応処理装置。」
と訂正する。
［訂正事項ｂ］　明りょうでない記載の釈明を目的として、特許明細書における
　「上記課題の解決は，・・・・により達成される」の記載（特許掲載公報第２頁第３欄第２０〜２６行）を
　「上記課題の解決は、複数のガスを導入する第１の反応室と，第１の反応室に接続され，第１の反応室を排気する第１の酸化性ガス排気系及び第１の還元性ガス排気系と，第１の反応室に導入するガスの種類により，第１の酸化性ガス排気系または第１の還元性ガス排気系を選ぶ第１の選択手段と，複数のガスを導入する第２の反応室と，第２の反応室に接続され，第２の反応室を排気する第２の酸化性ガス排気系及び第２の還元性ガス排気系と，第２の反応室に導入するガスの種類により，第２の酸化性ガス排気系または第２の還元性ガス排気系を選ぶ第２の選択手段とを有し，第１の酸化性ガス排気系及び第２の酸化性ガス排気系は共通に接続され，第１の還元性ガス排気系及び第２の還元性ガス排気系は共通に接続され，酸化性ガス排気系と還元性ガス排気系は，それぞれ独立してポンプ及び除害装置を備え，酸化性ガスがフッ素化合物を含む洗浄用ガスであることを特徴とする反応処理装置により達成される。」
と訂正する。
（５４）【発明の名称】
反応処理装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　複数のガスを導入する第１の反応室と，
　前記第１の反応室に接続され，前記第１の反応室を排気する第１の酸化性ガス排気系及び第１の還元性ガス排気系と，
　前記第１の反応室に導入するガスの種類により，前記第１の酸化性ガス排気系または第１の還元性ガス排気系を選ぶ第１の選択手段と，
　複数のガスを導入する第２の反応室と，
　前記第２の反応室に接続され，前記第２の反応室を排気する第２の酸化性ガス排気系及び第２の還元性ガス排気系と，
　前記第２の反応室に導入するガスの種類により，前記第２の酸化性ガス排気系または第２の還元性ガス排気系を選ぶ第２の選択手段とを有し，
　前記第１の酸化性ガス排気系及び前記第２の酸化性ガス排気系は共通に接続され，前記第１の還元性ガス排気系及び前記第２の還元性ガス排気系は共通に接続され，
　前記酸化性ガス排気系と還元性ガス排気系は，それぞれ独立してポンプ及び除害装置を備え，
　前記酸化性ガスがフッ素化合物を含む洗浄用ガスであることを特徴とする反応処理装置。
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
　成膜装置等の反応処理装置に関し，
　爆発・燃焼性のあるガスの混合を防止して安全な反応処理装置の提供を目的とし，
１）複数のガスを導入する反応室と，該反応室を排気する複数の排気系と，該反応室に導入するガスの種類により異なった排気系を選ぶ選択手段とを有するように構成する。
２）前記複数のガスが酸化性ガスを含むガスおよび還元性ガス含むガスであるように構成する。
〔産業上の利用分野〕
　本発明は成膜装置等の反応処理装置に関する。
　近年，成膜装置はＮＦ３やＣｌＦ３等の酸化性ガスを用いて反応室を洗浄するようになった。
　しかし，成膜用の還元性ガスや反応生成物とこれらの洗浄ガスとが１つの排気系内で出会うと爆発・燃焼反応を起こす危険がある。
　本発明はこのような危険性を回避した反応処理装置として利用することができる。
〔従来の技術〕
　爆発・燃焼反応防止のための従来技術はつぎの２通りが主なものであった。
▲１▼　還元性ガス（ＳｉＨ４，Ｈ２等）や酸化性ガス（ＮＦ３，ＣｌＦ３，Ｏ２等）をＮ２で希釈し，両方のガスがたとえ出会っても燃焼しない濃度以下にする。
　この場合の問題点は，
（ａ）　高価な高純度Ｎ２を多量に使用し，経費高となる。
（ｂ）　他の装置の排気系と合流していると，ガスどうしのインターロックのため安全管理が複雑になる。
〔発明が解決しようとする課題〕
　従来例のように１つの排気系しかない同一反応室で還元性ガスと酸化性ガスを時分割で使用する場合，残留ガス等により両方のガスが混合して爆発・燃焼を起こす危険がある。
　本発明は爆発・燃焼性のあるガスの混合を防止した安全な反応処理装置の提供を目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
　上記課題の解決は，複数のガスを導入する第１の反応室と，第１の反応室に接続され，第１の反応室を排気する第１の酸化性ガス排気系及び第１の還元性ガス排気系と，第１の反応室に導入するガスの種類により，第１の酸化性ガス排気系または第１の還元性ガス排気系を選ぶ第１の選択手段と，複数のガスを導入する第２の反応室と，第２の反応室に接続され，第２の反応室を排気する第２の酸化性ガス排気系及び第２の還元性ガス排気系と，第２の反応室に導入するガスの種類により，第２の酸化性ガス排気系または第２の還元性ガス排気系を選ぶ第２の選択手段とを有し，第１の酸化性ガス排気系及び第２の酸化性ガス排気系は共通に接続され，第１の還元性ガス排気系及び第２の還元性ガス排気系は共通に接続され，酸化性ガス排気系と還元性ガス排気系は，それぞれ独立してポンプ及び除害装置を備え，酸化性ガスがフッ素化合物を含む洗浄用ガスであることを特徴とする反応処理装置により達成される。
〔作用〕
　本発明は反応室に還元性ガスと酸化性ガスの排気系を別々に設け，反応室に導入するガスの種類により排気系を切り換えるようにしているため，すなわち，両方のガスの分離が従来例のように時間的に行われるのではなく，空間的に行われるため，両方のガスがどのような濃度であっても混合することはなく，安全性が保たれるようにしたものである。
〔実施例〕
　第１図は本発明の一実施例を説明する装置の構成図である。
　この例では，プラズマ気相成長（ＣＶＤ）装置について説明する。
　図において，１は反応室，２Ａは成膜用の還元性ガスＡの導入口，２Ｂは洗浄用の酸化性ガスＢの導入口，３は排気口，３Ａは還元性ガスＡの排気系，３Ｂ酸化性ガスＢの排気系，４は希釈用窒素導入口，５はドライポンプ，６は吸着式除害装置である。
　また，２ＡＶ，２ＢＶはそれぞれ還元性ガスＡ，酸化性ガスＢの導入バルブ，３ＡＶ，３ＢＶはそれぞれ還元性ガスＡ，酸化性ガスＢの排気バルブ（選択手段）である。
　両方のガスの排気系３Ａ，３Ｂはそれぞれ別の中和塔に導かれる。
　つぎに，成膜種別の成膜ガスと洗浄ガスの分離例を示す。
　成膜種　　　Ａ排気系　　　　　　Ｂ排気系
　　　　　　　（成膜）　　　　　　（洗浄）
　ＳｉＯ２　　ＳｉＨ４＋Ｏ２　　　ＮＦ３（ＳＦ６，ＣｌＦ３，Ｃ２Ｆ６等）
　選択　Ｗ　　ＳｉＨ４＋ＷＦ６　　　同上
　全面　Ｗ　　ＳｉＨ４＋Ｈ２　　　　同上
　ポリＳｉ　　ＳｉＨ４，Ｓｉ２Ｈ６　同上
　ａ−Ｓｉ　　ＳｉＨ４，Ｓｉ２Ｈ６　同上
　第２図は２つの反応室を並列使用したときの実施例を示す。
　この場合は，Ａ排気系どうし，およびＢ排気系どうし一括して接続してそれぞれ別の中和塔に導かれる。
実施例の装置において，安全のためにガス導入バルブ２ＡＶ，２ＢＶと排気バルブ３ＡＶ，３ＢＶを同期信号で切り換えるようにする。
　また，Ａ，Ｂは開／閉の逆相の信号で駆動するようにする。
〔発明の効果〕
　以上説明したように本発明によれば，爆発・燃焼性のあるガスの混合を防止して安全な反応処理装置が得られた。
　また，空間的に排気系を分離することで，安全確保のための制御論理が簡単になる（従来の時間分割では他の装置，設備，事故，故障を組み合わせて考えなければならない）。
　さらに，除害対象となるガスの性質を系ごとに揃えられるので，除害効率が向上する。この結果，除害装置の吸着剤の種類を減らすことができ，簡便な安全管理が可能である。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例を説明する装置の構成図，
第２図は２つの反応室を並列使用したときの実施例の構成図である。
図において，
１は反応室，
２Ａは成膜用の還元性ガスＡの導入口，
２Ｂは洗浄用の酸化性ガスＢの導入口，
２ＡＶ，２ＢＶはそれぞれ還元性ガスＡ，酸化性ガスＢの導入バルブ，
３ＡＶ，３ＢＶはそれぞれ還元性ガスＡ，酸化性ガスＢの排気バルブ，
３は排気口，
３Ａは還元性ガスＡの排気系，
３Ｂは酸化性ガスＢの排気系，
４は希釈用窒素導入口，
５はドライポンプ，
６は吸着式除害装置
である。