(57)【要約】      （修正有）【課題】製品不良率を下げ、コストを下げ、全体の競争力を高める押圧金型洗浄機を提供する。【解決手段】押圧金型洗浄機は、一前置洗浄機構１及び前置洗浄機構一側に連接する一プラズマ洗浄機構２を含む。そのうち、前置洗浄機構は一機体、及び機体に可動設置する一回転ブラシを含み、プラズマ洗浄機構は一プラズマ発生ユニット、プラズマ発生ユニット２１に連接する少なくとも一気体進入通路２２、及びプラズマ発生ユニット一面に複数設置するプラズマ出口を含む。【選択図】図２
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
押圧金型洗浄機において、
一機体、及び機体に可動設置する一回転ブラシを含む一前置洗浄機構と、
前置洗浄機構一側に連接し、一プラズマ発生ユニット、プラズマ発生ユニットに連接する少なくとも一気体進入通路、及びプラズマ発生ユニット一面に設置する複数のプラズマ出口を含む一プラズマ洗浄機構を含むことを特徴とする、押圧金型洗浄機。
【請求項２】
前記前置洗浄機構は、機体の側辺に一第一排気孔を設置することを特徴とする、請求項１記載の押圧金型洗浄機。
【請求項３】
前記プラズマ洗浄機構は、プラズマ発生ユニット一側に少なくとも一第二排気孔を設置することを特徴とする、請求項１記載の押圧金型洗浄機。
【請求項４】
前記プラズマ出口はノズルであることを特徴とする、請求項１記載の押圧金型洗浄機。
【請求項５】
前記プラズマ出口は、複数連続して間隔が隣接し、配列することを特徴とする、請求項１記載の押圧金型洗浄機。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、押圧金型洗浄機に関するもので、特にプラズマ洗浄機構に依る高洗浄効率及び前置洗浄の補助機構により、製品不良率を下げ、コストを下げ、全体の競争力を高める目的を達成する。
【背景技術】
【０００２】
一般に半導体のパッケージ過程に於いて、金型上に残った有機汚染物質もしくは沈殿物は製品本体を汚したり、材料の接合に良好な効果をもたらさなかったりする。そのため、現在業界では化合物を使用して吸着、粘着特性を利用し、金型から汚れを取り除いて洗浄する。
【０００３】
大気圧力下的プラズマ表面処理方式は、気体(例として窒素、酸素、二酸化炭素、酸化窒素、全フッ化気体、水素、アンモニア、塩化物気体、オゾンもしくはその混合物等)に電圧(交流電圧もしくは直流電圧)をかけてプラズマ(一部イオン化を受けた気体)を発生させ、そのプラズマを金型表面上に噴霧し、金型表面の汚れを除去し、レジスト剥離、金属酸化物還元、表面修正、薄膜形成及び有機薄膜の粘着力等を行うことを目的とする。
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
解決しようとする問題点は、製品不良率及びコストが高く、全体の競争力が低い点である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本考案は、一前置洗浄機構及び前置洗浄機構一側に連接する一プラズマ洗浄機構を含む。そのうち、前置洗浄機構は一機体、及び機体に可動設置する一回転ブラシを含み、プラズマ洗浄機構は一プラズマ発生ユニット、プラズマ発生ユニットに連接する少なくとも一気体進入通路、及びプラズマ発生ユニット一面に複数設置するプラズマ出口を含むことを最も主要な特徴とする。
【考案の効果】
【０００６】
本考案の押圧金型洗浄機は、製品不良率を下げ、コストを下げ、全体の競争力を高めるという利点がある。
【考案を実施するための最良の形態】
【０００７】
公知技術の欠点を改善するため、製品不良率及びコストを下げ、更に全体の競争力を高める押圧金型洗浄機を提供することを本考案の主な目的とする。
【０００８】
上述の目的を達成するため、本考案の提供する一種の押圧金型洗浄機は、一機体、及び機体に可動設置する一回転ブラシを含む一前置洗浄機構と、
前置洗浄機構一側に連接し、一プラズマ発生ユニット、プラズマ発生ユニットに連接する少なくとも一気体進入通路、及びプラズマ発生ユニット一面に設置する複数のプラズマ出口を含む一プラズマ洗浄機構を含む。
【実施例１】
【０００９】
図１から図３に示すのは、本考案の押圧金型洗浄機の実施例で、洗浄待ち金型９(例として図４参照)表面に対して処理を行い、一前置洗浄機構１及び一前置洗浄機構１後側に連接したプラズマ洗浄機構２を含む。ここで説明しなければならないのは、本考案の実施例は別にその他各式機能ユニットを具え、簡略図式及び説明を行う。ここでのアーキテクチャーは本考案の実施例に関連する部品についてのみで、例としてプラズマ洗浄機構２内に用いる気体を転換してプラズマを発生する電極部、電極部を絶縁する絶縁部、電極部表面温度を下げる放熱部等は図式に示していない。更に前置洗浄機構１及びプラズマ洗浄機構２の数は実施例では一個で示しているが制限するものではなく、二個、三個もしくは三個以上等でもよい。実施例では前置洗浄機構１及びプラズマ洗浄機構２について説明を行う。
【００１０】
図１から図３に示すとおり、上述の前置洗浄機構１は、一機体１１、機体１１に可動設置する一回転ブラシ１２及び機体１１側辺に貫設した第一排気孔１３を含む。この回転ブラシ１２は、洗浄待ち金型９(図４)表面を回転洗浄し、第一排気孔１３は、汚れた気体及び洗浄待ち金型９表面上の汚染物もしくは沈殿物を排出する。
【００１１】
図１から図３に示すとおり、上述のプラズマ洗浄機構２は、前置洗浄機構１一側に連接し、一プラズマ発生ユニット２１、プラズマ発生ユニット２１に連接する少なくとも一気体進入通路２２、プラズマ発生ユニット２１一面に複数穿設するプラズマ出口２３、及びプラズマ発生ユニット２１一側に設置する少なくとも一第二排気孔２４を含む。この気体進入通路２２はプラズマ発生ユニット２１が必要とする気体を入れて供給し、プラズマ発生ユニット２１は気体進入通路２２から進入及び供給された気体を受け取り、転換してプラズマを発生させ、発生したプラズマをプラズマ出口２３に伝える。このプラズマ出口２３がプラズマを洗浄待ち金型９(例として図４参照)表面に排出して処理を行う。その他、上述したプラズマ出口２３はノズルとする。
【００１２】
上述部品を実施した使用状態は、図４に示すとおり、本考案の押圧金型洗浄機の良好な実施例であり、一洗浄待ち金型９を提供し、前置洗浄機構１及びプラズマ洗浄機構２を洗浄待ち金型９の表面に対して処理する。先ず、前置洗浄機構１は回転ブラシ１２を回転し、且つ回転ブラシ１２で洗浄待ち金型９の表面に対して洗浄を行う。続いてプラズマ洗浄機構２ではプラズマを発生させ、プラズマ出口２３から洗浄待ち金型９表面に対してそのプラズマを排出して処理する。洗浄待ち金型９の表面を回転ブラシ１２で洗浄した後、続いてプラズマ洗浄を行うので、使用すると、洗浄待ち金型９表面の有機汚染物もしくは沈殿物の発生機会を減らし、有効に製品不良率を下げ、更にコストを下げ、別に全体の競争力を高める。
【実施例２】
【００１３】
図５に示すのは、本考案の別の一実施例の押圧金型洗浄機は、前の一実施例と組立方式が同じである。本実施例が異なるのは、プラズマ出口２３が複数連続し、間隔が隣接して配列し、且つプラズマ出口２３が洗浄待ち金型９に相対するように設置する。本実施例を動作する時、前置洗浄機構１が先に動き、洗浄待ち金型９に対して補助洗浄動作を行う。次にプラズマ洗浄機構２が洗浄待ち金型９に対してプラズマ表面処理を行う。プラズマ出口２３は洗浄待ち金型に相対して設置するため、プラズマ洗浄機構２が定位すると、一回の動作で済むため効率が高まる。
【００１４】
上述のプラズマ出口２３の形状大きさ及び分布の密度は可視で随意に設置する。本考案は単一の前置洗浄機構１を単一のプラズマ洗浄機構２に結合しているが、当然複数の前置洗浄機構１及びプラズマ洗浄機構２を同時に設置してもよく、同時に複数個の洗浄待ち金型９を洗浄する。ただ置くだけでいいので、本実施例は本考案を制限しない。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本考案の一実施例の平面図である。
【図２】本考案の別の実施例の平面図である。
【図３】本考案の更に別の実施例の正面図である。
【図４】図１の実施例の動作説明図である。
【図５】図２の実施例の動作説明図である。
【符号の説明】
【００１６】
１          前置洗浄機構
１１        機体
１２        回転ブラシ
１３        第一排気孔
２          プラズマ洗浄機構
２１        プラズマ発生ユニット
２２        気体進入通路
２３        プラズマ出口
２４        第二排気孔
９          洗浄待ち金型
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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