【事件の表示】
　特許第２９７７１５３号「ウェハ移し替え装置」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９７７１５３号の請求項１ないし６に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第２９７７１５３号（以下、「本件特許」という。）は、平成９年６月４日付けの特許出願に係り、平成１１年９月１０日にその請求項１ないし６に係る発明について特許権の設定登録がなされたものであり、その後、全請求項に係る発明の特許に対して、平成１２年５月１０日に特許異議申立人・高橋友之輔より特許異議の申立てがあったので、当審において当該申立ての理由を検討の上、平成１２年９月２６日付けで特許取消理由を通知したところ、その通知書で指定した期間内である平成１２年１１月２８日に特許異議意見書と共に訂正請求書が提出され、この訂正請求があったものに対して、当審より平成１３年１月３０日付けで訂正拒絶理由を通知したところ、その通知書で指定した期間内である平成１３年２月１４日に手続補正書が提出されたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
２−１．訂正請求に対する補正の適否について
　上記手続補正書による上記訂正請求書の補正は、当該訂正請求書の訂正事項ｂ及びｃを削除する補正であるから、訂正請求書の要旨を変更するものではなく、特許法第１２０条の４第３項において準用する同法第１３１条第２項の規定に適合する。
２−２．訂正の内容
　上記２−１．のとおり、適法な補正によって、上記訂正請求書の訂正事項ｂ及びｃは削除されたから、特許権者が求めている訂正の内容は、次の訂正事項ａのとおりである。
《訂正事項ａ》
　願書に添付した明細書（以下、「特許明細書」という。）の特許請求の範囲の請求項１に記載の「この部材の外周面に昇降するウェハの下部両端縁部を把持する把持溝とウェハを通過させる通過溝とを複数形成し」を、「この部材の外周面に昇降するウェハの下部両端縁部を把持する把持溝を形成した第一面と、ウェハを通過させる通過溝を形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とを交互に形成した第三面とを形成し」と訂正する。
２−３．訂正の目的の適否、新規事項の有無、及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａは、把持溝及び通過溝についての構成要件を、特許明細書に記載した事項の範囲内において、明確にして限定するものであるので、上記訂正事項ａは、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当する。
　また、上記訂正事項ａは、特許明細書に記載した事項の範囲内においてしたものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張、又は変更するものではない。
２−４．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項の規定及び同条第３項において準用する第１２６条第２項、第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについて
３−１．申立ての理由の概要
　特許異議申立人・高橋友之輔は、甲第１号証ないし甲第５号証を証拠として提出して、本件特許第２９７７１５３号の請求項１ないし６に係る発明は、甲第１号証ないし甲第５号証に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、当該請求項１ないし６に係る発明の特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから、取り消すべき旨主張している。
３−２．請求項１ないし６に係る発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件特許第２９７７１５３号の請求項１ないし６に係る発明は、上記平成１３年２月１４日付け手続補正書により補正された訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし６に記載された事項によって特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】  ウェハカセット内に通常配列ピッチで配列させ複数枚収納したウェハを移し替えるウェハ移し替え装置において、
　前記ウェハカセット内を介し上下に昇降するとともに、前記ウェハカセット内に収納した複数枚のウェハを把持する把持溝を備え、この把持溝に複数枚のウェハを把持し昇降するリフト部材と、
　前記ウェハカセットを載置し前後および左右に摺動するとともに、前記ウェハカセット内を上下に昇降する前記リフト部材が通過可能な開口部を前記ウェハカセットの載置部に穿設した設置台と、
　前記リフト部材が昇降する前記ウェハカセットの上部近傍に、昇降するウェハの配列方向と平行し左右両側に対向する一対の部材を設け、この部材の外周面に昇降するウェハの下部両端縁部を把持する把持溝を形成した第一面と、ウェハを通過させる通過溝を形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とを交互に形成した第三面とを形成し、前記左右一対の部材がウェハ配列方向を中心軸とし外周を回動可能に枢支され前記部材が回動により外周溝を切り替え前記複数のウェハを把持および通過させ移し替えを行う把持部材とを設けたことを特徴とするウェハ移し替え装置。
　【請求項２】  請求項１に記載のウェハ移し替え装置において、
　前記把持部材は、前記左右一対の部材を六角柱形状に形成し、この部材の外周面に前記把持溝を通常配列ピッチの１／２の配列ピッチで形成した第一面と、前記通過溝を複数枚のウェハが通過可能に形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とが交互に通常配列ピッチの１／２の配列ピッチで形成した第三面とが形成されていることを特徴とするウェハ移し替え装置。
　【請求項３】  請求項１に記載のウェハ移し替え装置において、
　前記把持部材は、前記左右一対の部材を六角柱形状に形成し、この部材の外周面に前記把持溝を通常配列ピッチで形成した第一面と、前記通過溝を複数枚のウェハが通過可能に形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とが交互に通常配列ピッチで形成した第三面とが形成されていることを特徴とするウェハ移し替え装置。
　【請求項４】  請求項１に記載のウェハ移し替え装置において、
　前記リフト部材の把持溝は、通常配列ピッチ、または通常配列ピッチの１／２の配列ピッチで形成されていることを特徴とするウェハ移し替え装置。
　【請求項５】  請求項１に記載のウェハ移し替え装置において、
　前記リフト部材および前記設置台は、両方またはいずれか一方が前記リフト部材の昇降方向を中心軸とし３６０°回動可能に枢支されていることを特徴とするウェハ移し替え装置。
　【請求項６】  請求項１に記載のウェハ移し替え装置において、
　前記設置台は、前後の摺動が通常配列ピッチの１／２の配列ピッチで摺動することを特徴とするウェハ移し替え装置。」
３−３．引用刊行物とその記載事項の概要
　特許異議申立人が証拠として提出した、また、当審が上記特許取消理由において引用した、刊行物とその記載事項の概要は、次のとおりである。
　
　刊行物１：特開平２−１０３９４９号公報（甲第１号証）
　刊行物２：特開平１−２９５４３５号公報（甲第２号証）
　刊行物３：特開平１−３１９９６８号公報（甲第３号証）
　刊行物４：特開平５−１７５１７９号公報（甲第４号証）
　刊行物５：特開昭６２−１３２３４０号公報（甲第５号証）
　
３−３−１．刊行物１記載事項の概要
　刊行物１には、移載中の異物の発生が少なく、またバッチ式で短時間に確実に移載できる様なピッチ変換（ハーフピッチ）機構を有した半導体基板移載装置に関して、図面第１図ないし第６図と共に、次の事項が記載されている。
（１−１）「上記課題を解決するため、本発明の半導体基板移載装置は、一方のキャリヤの溝ピッチが他方のキャリヤの溝ピッチの半分（ハーフピッチ）であるような、それぞれ溝ピッチが異なるキャリヤ間でのウエハ移載装置において、ピッチ変換（ハーフピッチの合成と分離）をして移載するために、ウエハホルダに交互に２段の深さのウエハガイド溝を設けたことを特徴とする。」（第１頁右下欄第２０行〜第２頁左上欄第７行）
（１−２）「ウエハホルダ１には第２図の様に交互に２段の深さのウエハガイド溝６，７が切られており、溝ピッチはキャリヤ４の溝ピッチの半分（ハーフピッチ）であり、対向するウエハホルダ１が多段階に開閉する機構を有する。」（第２頁左上欄第１０行〜第１４行）
（１−３）「第１図において、ウエハホルダ１が全開の状態でキャリヤ４に入ったウエハ３をプッシャー５により第３図の位置まで押し上げる。この時対向したウエハホルダ１の浅い方のウエハガイド溝６の間隔はウエハ３の直径より広いため、ウエハガイド溝６を通過する。
　次に第４図の様にウエハホルダ１は１段階閉じて、プッシャー５は下がる。この時対向したウエハホルダ１の浅い方のウエハガイド溝６の間隔はウエハ３の直径より狭いため、ウエハ３はウエハガイド溝６の上部で支持される。
　さらに次のウエハ３が収納されたキャリヤ４をウエハ３と直角方向にハーフピッチ分移動させ、第５図の様にウエハ３をプッシャー５により押し上げる。この時深い方のウエハガイド溝７の間隔はウエハ３の直径より広いため、ウエハガイド溝６を通過する。
　次に第６図の様にウエハホルダ１はさらに１段階閉じて、プッシャー５は下がる。この時深い方のウエハガイド溝７の間隔はウエハ３の直径より狭いため、ウエハ３はウエハガイド溝７の上部で支持される。」（第２頁左上欄第１７行〜右上欄第１８行）
３−３−２．刊行物２記載事項の概要
　刊行物２には、ウエハのハンドリングの際に隣合うウエハの整列方向の変更を自動的に行い、ウエハの背面に付着された不純物のオートドーピングが原因となる回路形成面の汚染を防止して、製品信頼性の高いウエハ製造技術を提供するウエハトランスファ装置に関して、図面第１図ないし第６図と共に、次の事項が記載されている。
（２−１）「本実施例のウエハトランスファ装置１は、第２図に示すように、長手方向にスライド移動可能なステージ２を有しており、該ステージ２上には３箇所の治具載置部３ａ、３ｂ、３ｃを有している。」（第２頁左下欄第１３行〜第１６行）
（２−２）「上記ウエハガイド５ａ，５ｂの下方には一対のウエハホルダ８ａ，８ｂが突出形成されており、該ウエハホルダ８ａ，８ｂの円筒周面の一部には軸方向に対して垂直に直線状の支持溝１０ａ，１０ｂが形成されている。このウエハホルダ８ａ，８ｂは、軸中心に回転可能な構造とされており、通常の状態においては（第６図（ａ））、上記支持溝１０ａ，１０ｂがウエハガイド５ａ，５ｂのガイド溝６ａ，６ｂと連続された直線状になる位置関係となっており、ウエハ７がウエハホルダ８ａ，８ｂを上下方向に通過可能となっている。一方、ウエハホルダ８ａ，８ｂによってウエハ７を保持する場合には、該ウエハホルダ８ａ，８ｂが所定角度だけ回転され、支持溝１０ａ，１０ｂもこれにともなって所定角度の傾斜状態となる（第６図（ｂ））。この場合には、ウエハ７が支持溝１０ａ，１０ｂに保持され、下方への降下が抑止された状態となっている。」（第２頁右下欄第５行〜第３頁左上欄第２行）
（２−３）「ステージ２の両端の治具載置部３ａ，３ｃにそれぞれウエハ７の収容された第１および第２のハンドリング元治具１３ａ，１３ｂがそれぞれセットされ、この中央に空状態のハンドリング先治具１４がセットされると（第４図（ａ））、ステージ２が図中において左方向に移動し、ウエハガイド５ａ，５ｂが第２のハンドリング元治具１３ｂの直上に位置される（同図（ｂ））。
　この状態でステージ２の下方よりプッシャ１１が上昇し、第２のハンドリング元治具１３ｂ内のウエハ７をリフトアップさせる。このとき、ウエハ７はウエハホルダ８ａ，８ｂの支持溝１０ａ，１０ｂを通過し、ウエハガイド５ａ，５ｂのガイド溝６ａ，６ｂによりその側端を支持される（第６図（ａ）参照）。このようにしてウエハ７が所定位置まで上昇されると、ウエハホルダ８ａ，８ｂが回転し、該ウエハホルダ８ａ，８ｂの支持溝１０ａ，１０ｂが所定の傾斜角度とされる（第６図（ｂ）参照）。この状態でプッシャ１１が下降されると（第４図（ｃ））、ウエハ７は上記支持溝１０ａ，１０ｂにより降下が抑止され、ウエハホルダ８ａ，８ｂ内に留まる。
　このような作業と同時に、第１のハンドリング元治具１３ａは回転テーブル１２ａにより１８０度回転され、当該治具１３ａ内のウエハ７も回路形成面Ｃと背面Ｒとが反転された状態となる（同図（ｃ）（ｄ））。
　続いて、ステージ２が図中右方向に移動され、ウエハガイド５ａ，５ｂの直下に再度中央のハンドリング先治具１４が位置された状態となる（同図（ｅ））。ここで、ステージ２面よりプッシャ１１が上昇し、ウエハホルダ８ａ，８ｂにより保持されたウエハ７を僅かに上昇させる。続いて、該ウエハホルダ８ａ，８ｂが回転され、支持溝１０ａ，１０ｂ内をウエハ７が通過可能な状態とされると、プッシャ１１とともにこれに支持されたウエハ７が徐々に降下し、該ウエハ７はハンドリング先治具１４内に収容される（同図（ｆ））。このとき第３図でも説明したように、ウエハ７は１枚おきに収容された状態となっている。
　同図（ｇ）に示された状態から、再度ステージ２が同図中右方向に移動され、ウエハガイド５ａ，５ｂの直下に第１のハンドリング先治具１３ａが位置される。ここで、ステージ２面よりプッシャ１１が上昇し（同図（ｈ））、第１のハンドリング元治具１３ａ内のウエハ７をリフトアップし、上記と同様にウエハホルダ８ａ，８ｂに保持させる（同図（ｉ））。
　次に、ステージ２が図中の左方向に移動し、再度ウエハガイド５ａ，５ｂの直下に中央のハンドリング先治具１４が位置されると（同図（ｊ））、再度プッシャ１１によりウエハホルダ８ａ，８ｂに保持されたウエハ７が降下され（同図（ｋ））、ハンドリング先治具１４内にウエハ７が収容される（同図（ｌ））。このとき、ハンドリング先治具１４内には上記に説明した第２のハンドリング元治具１３ｂからのウエハ７が既に１枚おきに収容されており、この間に上記第１のハンドリング元治具１３ａからのウエハ７が挿入されるようにして収容される。ここで、このとき下降収容される第１のハンドリング元治具１３ａからのウエハ７は１８０度反転された状態となっているため、ハンドリング先治具１４内に収容された全てのウエハ７は、それぞれ隣合うウエハ７が回路形成面Ｃ同士、背面Ｒ同士を対面させた状態（背面対面整列）となる。」（第３頁左下欄第１０行〜第４頁右上欄第１５行）
３−３−３．刊行物３記載事項の概要
　刊行物３には、基板をあるカセット治具から別のカセット治具へ移し替える際に用いる基板保持装置に関して、図面第１図ないし第３図と共に、次の事項が記載されている。
（３−１）「第１図は、本発明の一実施例における基板保持装置の斜視図であり、第２図、第３図は同断面図である。第１図において、５は基板（シリコンウエハ）である。６は基板チャック板（ウエハチャック板）で、基板５を保持した時隣り合うシリコンウエハどうしが接触しないための溝部が設けられている。８は基板チャック板６の開口部７に挿入される基板支持棒で、回転軸と平行の凹凸部の列が６０°ごとに３列設けられている。また基板支持棒８は基板チャック板６の開口部７に挿入された状態で外力により回転可能である。」（第２頁右上欄第８行〜第１８行）
（３−２）「以下、その動作について、第２図、第３図に基づき説明する。まず、基板チャック板６のある箇所の溝部における基板５と基板支持棒８の凹凸部の関係が、第２図のような場合、すなわち、基板支持棒８のそれぞれの凸部と凸部との間隔より基板５の直径の方が大きい場合は基板５を保持する。一方、チャックロッドをそれぞれ６０°回転させた場合（第３図）、すなわち、基板支持棒８のそれぞれの凹部と凹部との間隔を基板の直径より大きくした場合基板５は保持解除を行うものである。基板チャック板６の全ての溝に対して、基板支持棒８がこの凹凸部を有することにより、ピッチとばし用の基板チャックとなる。」（第２頁右上欄第１９行〜左下欄第１１行）
３−３−４．刊行物４記載事項の概要
　刊行物４には、半導体基板や液晶用又はフォトマスク用ガラス基板等の薄板状基板（ウエハ）を各種薬液に浸漬させて表面処理を行なう方法およびその装置に関して、図１ないし図９と共に次の事項が記載されている。
（４−１）「【００１５】ウエハ２はウエハ搬送用のキャリア３に収納されたまま図示しないロボットにより搬送されて、ウエハ処理装置１のロード部４上に載置される。このキャリア３は、たとえば、図２に示すような形状になっており、その内面にはｎ本のガイド溝３ａが一定のピッチＰで平行に刻設されており、ウエハ２の外縁がこのガイド溝３ａに挿入されて、一定の間隔をおいて垂直に整列したまま収納されるようになっている。」（第３頁第３欄第４７行〜第４欄第４行）
（４−２）「【００１６】ロード部４上に載置されたキャリア３は後述するキャリア搬送装置１２０（図４参照）によってウエハ挿出入部５の移し変え位置５１および５２上に順次移送され載置される。」（第３頁第４欄第１１行〜第１４行）
（４−３）「【００１７】この移し変え位置５１および５２の下方には、挿出入装置５３および５４が配設されている。
【００１８】挿出入装置５３、５４は、それぞれ上面にピッチＰでｎ本のガイド溝が平行に刻設された保持板５３１、５４１と、これらを支持するアーム５３２、５４２、及びこのアーム５３２、５４２を上下駆動させるためのアクチュエータ５３３，５４３から構成されている。上記保持板５３１、５４１は、アクチュエータ５３３、５４３の駆動によりキャリア３の開口部３ｃを通過して上方に押し上げられるようになっており、ウエハ２の下部外縁を保持板５３１、５４１のガイド溝に挿入させてそのままの状態でウエハ２を上方に押し上げ、キャリア３からウエハ２を抜き出して第１のウエハ群２１を形成する。」（第３頁第４欄第１５行〜第２８行）
（４−４）「【００５０】この第１の回転板１３１、第２の回転板１３２の中央には上面にｎ本のガイド溝１３３ａ，１３４ａがピッチＰで刻設された保持部材１３３、１３４が位置しており、ステージ下方に設置された挿出入装置（図１の５３、５４参照）によってこの保持部材１３３、１３４を上方に押し上げることによってウエハ２をキャリア３から抜き出すことができるようになっている。」（第５頁第８欄第２３行〜第２９行）
（４−５）「【００５３】第１搬送装置１５０は、保持部材１５１とこれを支持する一対のアーム１５２と、アーム１５２を回動自在に支持するヘッド１５３を備え、ヘッド１５３はｘ方向に移動可能な支柱１５４に支持されている。保持部材１５１の内面にはｎ本のガイド溝１５１ａが、ピッチＰで刻設されている。
【００５４】同様に、第２搬送装置１６０は、保持部材１６１とこれを支持する一対のアーム１６２と、アーム１６２を回動自在に支持するヘッド１６３を備え、ヘッド１６３はｘ方向に移動可能な支柱１６４に支持されている。」（第５頁第８欄第３７行〜第４７行）
（４−６）「【００５５】ただし、アーム１６２は回動可能になっており、保持部材１６１を１８０度回転させ、その両主面のガイド溝を使用できるようになっている。保持部材１６１の両主面に形成された溝形状は、図５に示すように、内面には、ウエハを通過させるための通過溝１６１ａとウエハをしっかり保持するためのガイド溝１６１ｂが交互にｎ本ずつピッチＰ／２で刻設されており、外側の面には、ガイド溝１６１ｃが２ｎ本ピッチＰ／２で刻設されている。」（第５頁第８欄第４８行〜第６頁第９欄第６行）
（４−７）「【００５８】次に、第２搬送装置１６０を−ｘ方向に移動し、回転板１３２の前で停止させ、保持部材１６１のガイド溝部が垂直になるようにして待機する。図示しない挿出入装置で回転板１３２に載置されたキャリア３からウエハ２を押上げて、アーム１６２を回動させて保持部材１６１の下端を閉じてガイド溝１６１ｂでウエハ２（第２のウエハ群）を保持し、＋ｘ方向に移動する。」（第６頁第９欄第２２行〜第２８行）
３−３−５．刊行物５記載事項の概要
　刊行物５には、ウエハを熱処理、化学処理する炉に挿入する際に用いられるウエハ移載装置であって、ウエハをボートに移載する場合、１度に多くのウエハを背合わせに自動的かつ迅速に移載でき、かつ、ウエハの後工程数を削減できるウエハ移載装置に関して、図面第１図ないし第１１図と共に次の事項が記載されている。
（５−１）「上記構成のウエハ移載装置において、ウエハカセット１１，１１…に収納したウエハ１２，１２…をＣＶＤ処理を行うため、ウエハ１２，１２…をウエハカセット１１，１１…からボート１５に移載するとする。第１，２図に示すように、ウエハ１２，１２…を順方向、つまり表面１２ａ，１２ａ…を一方向に向けて配列して収納した４台のキャリアカセット１１，１１…を本体１０の段部１６の下面１６ａの所定位置に配置する。一方、空の状態の予備用キャリアカセット１１Ａを上記下面１６ａの所定位置に配置する。さらに、ダミーウエハ１２Ａ，１２Ａを両端に配置したボート１５を上記下面１６ａの所定位置に配置する。そして、第１図中右側から１番目と３番目の固定用駆動モータ１９，１９を駆動して、ウエハサポート２６，２６をキャリアカセット１１，１１の底面の開口を通過させる。上記キャリアカセット１１，１１内のウエハ１２，１２…をウエハサポート２６，２６…に垂直に載置させてウエハカセット１１、１１より上方へウエハサポート２６，２６を上昇させる。固定用駆動モータ１９，１９を停止して回転用駆動モータ２４，２４を駆動し、ウエハサポート２６，２６を１８０度回転させる。再度、固定用駆動モータ１９，１９を駆動してウエハサポート２６，２６を下降させ、ウエハ１２，１２…を逆方向、つまり裏面１２ｂ，１２ｂ…を一方向に向けて配列してウエハカセット１１，１１内に収納する。」（第４頁左上欄第１０行〜右上欄第１７行）
（５−２）「ウエハサポート２６が固定用駆動モータ１９によりキャリアカセット１１内に順方向に配置されたウエハ１２，１２…を載せてウエハカセット１１より上方へ上昇される。ウエハ支持部４４のアーム４５が第３図中揺動機構によりＡ方向に揺動されて上記ウエハサポート２５上にウエハ１２，１２…を１枚おきにＶ溝４８，４８…に嵌合してウエハ１２，１２…を保持する。ウエハサポート２６が固定用駆動モータ１９により下降される。第１図に示すＸ軸直線移動部３２およびＹ軸直線移動部３８はウエハ１２，１２…を保持した状態で中間サポート１４上に移動される。中間サポート１４は、固定用移動モータ２８の駆動により上昇される。中間サポート１４の１枚分の溝にウエハ支持部４４が保持したウエハ１２，１２…を嵌入する。ウエハ保持部４４のアーム４５が揺動機構によりウエハ１２，１２…から離れる。中間サポート１４は、固定用駆動モータ２８によりウエハ１２，１２…を順方向に配置した状態で下降される。次に、Ｘ軸直線移動部３２およびＹ軸直線移動部３８が右から３番目のキャリアカセット１１上に移動される。ウエハサポート２６がキャリアカセット１１内に逆方向に配置されたウエハ１２，１２…をキャリアカセット１１より上方へ持ち上げる。ウエハ保持部４４のアーム４５が１枚おきにウエハ１２，１２…を保持する。上記ウエハサポート２６が下降される。Ｘ軸直線移動部３２およびＹ軸直線移動部３８は逆方向に配列したウエハ１２，１２…を保持した状態で中間サポート１４上に移動される。中間サポート１４は上昇される。このとき、中間サポート１４には既に順方向のウエハ１２，１２…が配置されている。このウエハ１２，１２…の間の１枚分の溝に上記逆方向のウエハ１２，１２…を嵌合させる。ウエハ保持部４４のアーム４５はウエハ１２，１２…から離れる。こうして、中間サポート１４の１枚分の溝には、順方向のウエハ１２と逆方向のウエハ１２とが交互に配置させる。すなわち、中間サポート１４上のウエハには互いに背面１２ｂどうしを対向させて配置される。」（第４頁右下欄第３行〜第５頁右上欄第２行）
　
３−４．対比・判断
３−４−１．請求項１に係る発明について
　請求項１に係る発明と刊行物１ないし５に記載のものとを対比すると、以下のとおりである。
　
　刊行物１には、キャリヤ４内に通常配列ピッチで配列させ複数枚収納したウエハ３を移し替えるウエハ移載装置が記載されており、この「キャリヤ４」、「ウエハ３」、「ウエハ移載装置」は、それぞれ、請求項１に係る発明の「ウェハカッセト」、「ウェハ」、「ウェハ移し替え装置」に相当する。
　また、刊行物１には、キャリヤ４内を介し上下に昇降するプッシャー５が記載されており、このプッシャー５は、上記（１−３）の記載事項及び図面第１図の記載からみて、複数枚のウエハ３を把持する把持溝を備え、当該把持溝に複数枚のウエハ３を把持し昇降するものと認められるから、請求項１に係る発明のリフト部材に相当する。
　また、刊行物１の上記記載事項（１−３）の「さらに次のウエハ３が収納されたキャリヤ４をウエハ３と直角方向にハーフピッチ分移動させ、第５図の様にウエハ３をプッシャー５により押し上げる。」からみて、刊行物１に記載のものは、明示はないものの、請求項１に係る発明の、ウェハカセットを載置し前後および左右に摺動する「設置台」に相当する部材を備えているものと認められる。
　そして、刊行物１に記載のものにおいては、対向するウエハホルダ１が設けられており、当該ウエハホルダ１には、交互に２段の深さのウエハガイド溝６，７が切られており、溝ピッチはキャリヤ４の溝ピッチの半分（ハーフピッチ）であり、対向するウエハホルダ１が多段階に開閉することにより、ウエハ３を支持及び通過させ移載を行うようになっており、ウエハ３を支持及び通過させることによりピッチ変換をする点では、刊行物１に記載のウエハホルダ１は、請求項１に係る発明の把持部材に一応相当するといえる。
　しかしながら、把持部材の具体的な構成に関して、請求項１に係る発明では、「部材の外周面に昇降するウェハの下部両端縁部を把持する把持溝を形成した第一面と、ウェハを通過させる通過溝を形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とを交互に形成した第三面とを形成し、左右一対の部材がウェハ配列方向を中心軸とし外周を回動可能に枢支され前記部材が回動により外周溝を切り替え前記複数のウェハを把持および通過させ移し替えを行う把持部材」であるのに対して、刊行物１に記載のものでは、「１つの面に交互に２段の深さのウエハガイド溝６，７が切られており、対向するウエハホルダ１が多段階に開閉することにより、ウエハ３を支持及び通過させ移載を行うウエハホルダ１」である点で相違している。また、刊行物１には、請求項１の上記相違点に係る構成を示唆する記載もない。
　刊行物２には、一対のウエハホルダ８ａ，８ｂを突出形成し、当該ウエハホルダ８ａ，８ｂに支持溝１０ａ，１０ｂを形成することが記載されているが、当該支持溝１０ａ，１０ｂは、単に、上記ウエハホルダ８ａ，８ｂの円筒周面の一部に軸方向に対して垂直に直線状に形成したものであって、ウエハホルダ８ａ，８ｂを所定角度だけ回転することにより、同じ支持溝１０ａ，１０ｂをウエハ７の通過及び保持に用いるものであるから、刊行物２に記載のウエハホルダ８ａ，８ｂは、請求項１に係る発明の「部材の外周面に昇降するウェハの下部両端縁部を把持する把持溝を形成した第一面と、ウェハを通過させる通過溝を形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とを交互に形成した第三面とを形成し、左右一対の部材がウェハ配列方向を中心軸とし外周を回動可能に枢支され前記部材が回動により外周溝を切り替え前記複数のウェハを把持および通過させ移し替えを行う把持部材」とは相違しており、また、上記把持部材の具体的な構成を示唆するものでもない。
　刊行物３には、基板支持棒８に回転軸と平行の凹凸部の列を６０°ごとに設けて、ピッチとばし用の基板チャックとすることが記載されており、当該基板支持棒８に設けた凹部は、基板５の保持解除を行うものであるので、請求項１に係る発明の把持部材に形成した通過溝に相当するといえるが、基板５の保持は、基板支持棒８に設けた凸部と基板チャック板６とにより行うものであるから、刊行物３に記載の基板支持棒８は、請求項１に係る発明の把持溝に相当するものを形成したものではない。よって、刊行物３に記載の基板保持棒８は、請求項１に係る発明の「部材の外周面に昇降するウェハの下部両端縁部を把持する把持溝を形成した第一面と、ウェハを通過させる通過溝を形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とを交互に形成した第三面とを形成し、左右一対の部材がウェハ配列方向を中心軸とし外周を回動可能に枢支され前記部材が回動により外周溝を切り替え前記複数のウェハを把持および通過させ移し替えを行う把持部材」とは相違しており、また、上記把持部材の具体的な構成を示唆するものでもない。
　刊行物４には、保持部材１６１とこれを支持する一対のアーム１６２と、アーム１６２を回動自在に支持するヘッド１６３を備えた第２搬送装置１６０が記載されている（上記摘記事項（４−５）、（４−６）、（４−７）及び【図４】、【図５】、参照）。この第２搬送装置１６０の保持部材１６１の内面には、ウエハを通過させるための通過溝１６１ａとウエハを保持するためのガイド溝１６１ｂが交互にｎ本ずつピッチＰ／２で刻設されており、外側の面には、ガイド溝１６１ｃが２ｎ本ピッチＰ／２で刻設されており、この保持部材１６１を１８０度回転させて、その両主面のガイド溝を使用できるものである。刊行物４に記載の保持部材１６１の上記「内面」及び「外側の面」は、請求項１に係る発明の「把持溝と通過溝とを交互に形成した第三面」及び「ウェハの下部両端縁部を把持する把持溝を形成した第一面」に一応相当するといえる。しかし、刊行物４に記載の保持部材１６１は、アーム１６２の回動により保持部材１６１の下端を開閉させてウエハ２の通過及び保持を行うものであるので（上記摘記事項（４−７）、参照）、請求項１に係る発明の「ウェハを通過させる通過溝を形成した第二面」に相当する面は形成されておらず、また、保持部材１６１の下端が閉じていないときは、ガイド溝１６１ｂ，ｃは、ウエハ２を通過させるものであり、当該ガイド溝１６１ｂ，ｃは、請求項１に係る発明の、把持部材の回動により外周溝を切り替えたときに複数のウェハを把持する把持溝とは相違している。よって、刊行物４に記載の保持部材１６１は、請求項１に係る発明の「部材の外周面に昇降するウェハの下部両端縁部を把持する把持溝を形成した第一面と、ウェハを通過させる通過溝を形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とを交互に形成した第三面とを形成し、左右一対の部材がウェハ配列方向を中心軸とし外周を回動可能に枢支され前記部材が回動により外周溝を切り替え前記複数のウェハを把持および通過させ移し替えを行う把持部材」とは相違しており、また、上記把持部材の具体的な構成を示唆するものでもない。
　刊行物５は、ウエハサポート２６を１８０度回転させることに関して引用したものであり、刊行物５には、請求項１に係る発明の「部材の外周面に昇降するウェハの下部両端縁部を把持する把持溝を形成した第一面と、ウェハを通過させる通過溝を形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とを交互に形成した第三面とを形成し、左右一対の部材がウェハ配列方向を中心軸とし外周を回動可能に枢支され前記部材が回動により外周溝を切り替え前記複数のウェハを把持および通過させ移し替えを行う把持部材」が記載されていないことは、明らかである。
　
　次に、刊行物１ないし５に記載のものの組み合わせについて検討すると、ウェハの通過に関しては、刊行物１に記載の、対向するウエハホルダ１が多段階に開閉して、ウエハ３がウエハガイド溝６，７を通過するようにした点に替えて、刊行物３に記載の基板支持棒８の凹部及び刊行物４に記載の保持部材１６１の通過溝１６１ａのように、把持部材の回動により、ウェハを通過させる通過溝を形成した面に切り替えて、複数のウェハを通過させるようにすることが、当業者が容易に想到することができたとしても、ウェハの把持に関しては、刊行物１に記載のウエハホルダ１は、多段階に開閉することにより、ウエハ３がウエハガイド溝６，７に支持されるものであり、また、刊行物２及び４に記載のものは、把持部材に相当する部材が回転して、その下部の間隔が狭くなることにより、把持溝に相当する溝にウエハを把持するものであり、更に、刊行物３に記載の基板支持棒８には、把持溝に相当する溝が形成されておらず、基板５の保持は、基板支持棒８に設けた凸部と基板チャック板６とにより行うものである。
　してみると、刊行物１ないし５のいずれにも、把持部材の回動によりウェハを把持する把持溝を形成した面に切り替えて、複数のウェハを把持するようにすることについて記載されておらず、刊行物１ないし５に記載のものを組み合わせてみても、請求項１に係る発明の「部材の外周面に昇降するウェハの下部両端縁部を把持する把持溝を形成した第一面と、ウェハを通過させる通過溝を形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とを交互に形成した第三面とを形成し、左右一対の部材がウェハ配列方向を中心軸とし外周を回動可能に枢支され前記部材が回動により外周溝を切り替え前記複数のウェハを把持および通過させ移し替えを行う把持部材」を、当業者が容易に想到することができたとは、いえない。
　
　そして、請求項１に係る発明は、上記把持部材を設けたことによって、特許明細書に記載の、「ウェハの移し替え装置の構造が簡略化され装置全体が小型化するとともに、同一装置により移し替えを実行することが可能なため所定の場所に１度の動作で搬送でき製造効率の向上を期待することができる。また、ウェハを移し替える動作を同一装置により１度で搬送できるとともに、このウェハが他の部材と接触することが減少されるため汚染率が低下し微細化および高集積化された信頼性の高い製品を製造することができる。さらに、ウェハチャックに形成した外周溝を回転させることにより、オーバーフロー槽に応じた効果的なウェハ移し替えが行えるため、ウェハに付着したダストによる再汚染も減少させることができる。」という顕著な効果を奏するものである。
　
　したがって、請求項１に係る発明は、刊行物１ないし５に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとすることができない。
３−４−２．請求項２ないし６に係る発明について
　請求項２ないし６に係る発明は、請求項１に係る発明の構成要件をすべて含み、さらに他の構成要件を付加したものであるから、上記３−４−１．で説示したのと同様な理由により、刊行物１ないし５に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとすることができない。
　
３−５．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、請求項１ないし６に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に請求項１ないし６に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年３月７日（２００１．３．７）
【訂正の要旨】
（訂正の要旨）
《訂正事項ａ》
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載の「この部材の外周面に昇降するウェハの下部両端縁部を把持する把持溝とウェハを通過させる通過溝とを複数形成し」を、特許請求の範囲の減縮を目的として、「この部材の外周面に昇降するウェハの下部両端縁部を把持する把持溝を形成した第一面と、ウェハを通過させる通過溝を形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とを交互に形成した第三面とを形成し」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
ウェハ移し替え装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　ウェハカセット内に通常配列ピッチで配列させ複数枚収納したウェハを移し替えるウェハ移し替え装置において、
　前記ウェハカセット内を介し上下に昇降するとともに、前記ウェハカセット内に収納した複数枚のウェハを把持する把持溝を備え、この把持溝に複数枚のウェハを把持し昇降するリフト部材と、
　前記ウェハカセットを載置し前後および左右に摺動するとともに、前記ウェハカセット内を上下に昇降する前記リフト部材が通過可能な開口部を前記ウェハカセットの載置部に穿設した設置台と、
　前記リフト部材が昇降する前記ウェハカセットの上部近傍に、昇降するウェハの配列方向と平行し左右両側に対向する一対の部材を設け、この部材の外周面に昇降するウェハの下部両端縁部を把持する把持溝
を形成した第一面
を形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とを交互に形成した第三面とを形成し
　【請求項２】　請求項１に記載のウェハ移し替え装置において、
　前記把持部材は、前記左右一対の部材を六角柱形状に形成し、この部材の外周面に前記把持溝を通常配列ピッチの１／２の配列ピッチで形成した第一面と、前記通過溝を複数枚のウェハが通過可能に形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とが交互に通常配列ピッチの１／２の配列ピッチで形成した第三面とが形成されていることを特徴とするウェハ移し替え装置。
　【請求項３】　請求項１に記載のウェハ移し替え装置において、
　前記把持部材は、前記左右一対の部材を六角柱形状に形成し、この部材の外周面に前記把持溝を通常配列ピッチで形成した第一面と、前記通過溝を複数枚のウェハが通過可能に形成した第二面と、前記把持溝と前記通過溝とが交互に通常配列ピッチで形成した第三面とが形成されていることを特徴とするウェハ移し替え装置。
　【請求項４】　請求項１に記載のウェハ移し替え装置において、
　前記リフト部材の把持溝は、通常配列ピッチ、または通常配列ピッチの１／２の配列ピッチで形成されていることを特徴とするウェハ移し替え装置。
　【請求項５】　請求項１に記載のウェハ移し替え装置において、
　前記リフト部材および前記設置台は、両方またはいずれか一方が前記リフト部材の昇降方向を中心軸とし３６０°回動可能に枢支されていることを特徴とするウェハ移し替え装置。
　【請求項６】　請求項１に記載のウェハ移し替え装置において、
　前記設置台は、前後の摺動が通常配列ピッチの１／２の配列ピッチで摺動することを特徴とするウェハ移し替え装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、ウェハ移し替え装置に係り、より詳細には、半導体製造工程において各工程間で搬送するウェハカセット内のウェハを所定枚数に移し替えるウェハ移し替え装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来、半導体集積回路の製造工程においては、成膜工程や洗浄工程などの工程間でウェハを移動するためウェハカセットが使用されている。この各工程では、処理装置の小型化、または薬液の使用量削減などの処理条件により、ウェハカセット内に収納するウェハの枚数を変えて処理を行なっている。特に、近時において半導体装置はサブミクロン時代を迎えウェハの集積度が高くなることにより、装置構造の微細化、高集積化が要求され処理条件も多様化されている。このため、所定の工程から他の工程にウェハを移動する際、各工程の条件に沿ってウェハカセット内のウェハを移し替えるウェハ移し替え装置がよく使用されている。このような装置としては、例えば、特開平６−１６３５０号公報などに記載されている。
　【０００３】
　図９は、従来のウェハ移し替え装置の外観を示す斜視図である。また、図１０は従来のウェハ移し替え装置の主要部を示す断面図である。
　図９に示すように、従来のウェハ移し替え装置は、複数枚のウェハ１４０を収納したウェハカセット１３０が載置される設置台１３６と、この設置台１３６に載置したウェハカセット１３０内からウェハ１４０を把持し上下に昇降するリフト部材１２０と、このリフト部材１２０により上昇したウェハ１４０を把持し搬送するウェハチャック１１０とを具備している。
　【０００４】
　ウェハカセット１３０は、内側に通常ピッチ（例えば６．３５ｍｍ）Ｐの収納溝１３０ａが形成されている。この収納溝１３０ａには、ウェハ１４０を通常枚数（図示例においては２５枚）収納できるように形成されている。また、ウェハカセット１３０の底部には開口部（図示せず）が穿設されている。このウェハカセット１３０は、底部を設置台１３６に固定し載置できるようになっている。
　設置台１３６は、略中央部に矩形状の開口部１３６ａが形成されており、この開口部１３６ａの上部にウェハカセット１３０が載置される。この設置台１３６には、底部にリフト部材１２０が設けてあり、設置台１３６の開口部１３６ａと、ウェハカセット１３０の開口部（図示せず）とを介しウェハカセット１３０内を昇降するように設置されている。
　【０００５】
　リフト部材１２０は、板状に形成された支持台１２２と、これを支持する支持軸１２４とにより形成されている。支持台１２２は、上面に通常ピッチ（例えば６．３５ｍｍ）Ｐの配列で把持溝１２２ａを形成している。また、支持台１２２は、底部中央を支持軸１２４により支持され矢印Ｚに示す上下方向に昇降するように設けられている。
　リフト部材１２０およびウェハカセット１３０の上部には、ウェハチャック１１０が設けられている。このウェハチャック１１０は、上面に板状の上壁１１６を設け、この上壁１１６の両側面に左右一対のアーム１１２ａ、１１２ｂが装着されている。このアーム１１２ａ、１１２ｂは、駆動源（図示せず）により支点１１１ａ、１１１ｂを中心に矢印Ｓの方向に開閉可能に枢支されている。
　【０００６】
　また、アーム１１２ａ、１１２ｂの下端内側には、ウェハ１４０の下部両側縁部を把持する把持溝１１３と、ウェハ１４０の両端縁がアーム１１２ａ、１１２ｂに接触せず通過可能な通過溝１１４とが通常ピッチＰの１／２ピッチつまり、ハーフピッチＰ／２で交互に複数形成されている。
　上壁１１６の上面中央部には、ウェハチャック１１０を支持する支軸１１８が装着されている。ウェハチャック１１０は、支軸１１８により矢印Ｘ、Ｚ方向に移動可能であるとともに、この支軸１１８を中心に矢印θ方向に回動可能に枢支されている。
　【０００７】
　図１０に示すように、例えばウェハをオーバーフロー槽などで湿式洗浄する際、ウェハカセット１３０内に通常枚数（図示においては２５枚）収納したウェハを洗浄液の使用量削減などにより、複数枚まとめて処理枚数（図示例においては５０枚）に移し替え一括して洗浄処理を実行している。
　ウェハチャック１１０により移し替えを実行する際には、通常ピッチＰの１／２ピッチつまり、ハーフピッチＰ／２のウェハ把持溝（図示せず）を有する置台１５０を設け、この置台１５０にウェハ１４０が処理枚数（図示例においては５０枚）になるように移し替えられる。この移し替えられたウェハ１４０は、処理枚数把持可能なウェハチャック１６０により所定の位置に搬送される。
　処理枚数のウェハ１４０は、ウェハチャック１６０によりハーフピッチの溝を有するウェハカセット１７０、または処理槽（図示せず）などに搬送される。この際、ウェハカセット１７０に搬送する場合、ハーフピッチＰ／２の支持溝を有するリフト部材１８０を設け、これに支持させ移し替えるとともにウェハカセット１７０内に収納される。
　【０００８】
　次に、図９、図１０および図１１を参照し従来のウェハ移し替え装置の動作を説明する。図１１は、図１０に示す従来の装置がウェハを移し替える側面を示す断面図であり、図１１（ａ）は図１０に示すウェハチャックが置台にウェハを移し替える側面を、図１１（ｂ）は移し替えるウェハの側面を各々示している。
　【０００９】
　図９および図１０に示すように、ウエハ１４０を通常枚数（図示例においては２５枚）収納したウェハカセット１３０を設置台１３６の上部に設置する。
　ウェハカセット１３０を設置台１３６に設置すると、リフト部材１２０を駆動させ上部方向に突出させる。このとき、ウェハカセット１３０内に通常枚数収納されたウェハ１４０は、リフト部材１２０の支持台１２２に形成された支持溝１２２ａに把持され矢印Ｚ方向の上部に上昇する。
　リフト部材１２０に支持され上昇した通常枚数のウェハ１４０は、リフト部材１２０の上部に設置したウェハチャック１１０により把持され置台１５０まで搬送し収納される。この際、ウェハチャック１１０の側壁１１２ａ、１１２ｂが支点１１１ａ、１１１ｂを中心に矢印Ｓの方向に開くとともに、下部方向に降下しリフト部材１２０近傍で再び側壁１１２ａ、１１２ｂを閉塞することでウェハ１４０が把持される。このウェハ１４０は、閉塞した側壁１１２ａ、１１２ｂの下端内側に通常ピッチＰで形成した把持溝１１３に下部両側縁部が把持され搬送される。このようにウェハ１４０は、ウェハチャック１１０により把持され置台１５０まで搬送され処理枚数（図示例においては５０枚）になるように移し替えが実行される。
　【００１０】
　図１０に示すように、ウェハチャック１１０により置台１５０に収納されたウェハ１４０は通常ピッチＰで収納される。置台１５０は、把持溝（図示せず）がハーフピッチＰ／２で形成されており、従って、ハーフピッチの把持溝に対し通常ピッチＰ（一つ置きの間隔）でウェハ１４０が収納される。このハーフピッチの残り把持溝に再びウェハチャック１１０により、新たなウェハを搬送し収納させることで通常枚数（図示例においては２５枚）から処理枚数（図示例においては５０枚）に移し替えられる。
　【００１１】
　図１１（ａ）に示すように、ウェハチャック１１０は、置台１５０に１回目のウェハ１４０−１を収納し終えると、再び２回目のウェハ１４０−２を搬送し置台１５０に収納する。ウェハチャック１１０が２回目のウェハ１４０−２を置台１５０まで搬送すると、置台１５０を設置した摺動台１５２がハーフピッチＰ／２だけ矢印Ｙ方向に摺動する。
　図１１（ｂ）に示すように、摺動台１５２がハーフピッチＰ／２だけ摺動することにより、１回目のウェハ１４０−１の間、即ちハーフピッチＰ／２の位置に２回目のウェハ１４０−２が挿入され置台１５０に収納される。
　【００１２】
　また、オーバーフロー槽によりウェハの洗浄を複数枚まとめて行う場合、図１１（ａ）に示すように、２回目のウェハ１４０−２を収納するときウェハチャック１１０を矢印θ方向に１８０°回転させる。これにより図１１（ｂ）に示すように、ウェハ１４０−１の表面Ｗａと，ウェハ１４０−２の表面Ｗａとがお互いに対向する。またウェハ１４０−１の裏面Ｗｂと，ウェハ１４０−２の裏面Ｗｂともお互いに対向する。従って、ウェハ１４０の裏面Ｗｂに付着したダストは、この裏面Ｗｂと裏面Ｗｂとが対向する間を水流により上部に流れオーバーフローするため表面に付着することがなく洗浄される。
　【００１３】
　図１０に示すように、置台１５０に収納された処理枚数（図示例においては５０枚）のウェハ１４０は、この処理枚数のウェハを把持可能なウェハチャック１６０により把持され搬送される。これにより搬送されたウェハは、処理枚数のウェハを収納可能なウェハカセット１７０、または所定の位置に収納される。
　この際、ウェハカセット１７０内にウェハを収納する場合、ウェハチャック１６０により搬送されたウェハ１４０をリフト部材１８０に移し替えウェハカセット１７０内に収納される。
　【００１４】
　このように従来、半導体集積回路の製造工程において、様々な処理条件に対応するため処理前にウェハカセット内からウェハを取り出し所定の処理枚数に移し替えることにより、より効果的な処理条件を実現していた。
　【００１５】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、従来のウェハ移し替え装置では、ウェハカセット内のウェハをウェハチャックにより一旦、置台に載置させ、さらに他のウェハチャックにより所定の位置に搬送する２工程を必要としていた。このため、移し替え動作の所要時間が多くかかるとともに、ウェハを搬送するウェハチャックも２種類必要になり装置が大型化してしまう不具合があった。
　さらに、外部で一旦置台に載置し移し替えを行うと、ウェハが他の支持部材などに接触する回数が多くなり、ウェハが汚染する確率も必然的に高くなってしまう不具合があった。
　本発明は、このような従来技術の問題点を解決し、ウェハの移し替えを簡単な構造を有する同一装置により容易に移し替えでき、所定の場所に効果的に搬送できるウェハ移し替え装置を提供することを目的とする。
　【００１６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は上述の課題を解決するために、ウェハを把持する把持溝を備えウェハカセット内を介し収納した複数枚のウェハを把持溝に支持させ上下に昇降するリフト部材を設け、ウェハカセットを載置し前後および左右に摺動しウェハカセット内を上下に昇降するリフト部材が通過可能な開口部をウェハカセットの載置部に穿設した設置台を備え、リフト部材が昇降するウェハカセットの上部近傍に昇降するウェハの配列方向と平行し左右両側に対向する一対の部材を備え、外周面に昇降するウェハの下部両端縁部を把持する把持溝とウェハを通過させる通過溝とを複数形成し、ウェハ配列方向を中心軸とし外周を回動可能に枢支され、この回動により外周溝を切り替え複数のウェハを把持および通過させ移し替えを行う把持部材を設ける。
　【００１７】
　ここで、把持部材は、左右一対の部材を六角柱形状に形成し外周面に把持溝を通常配列ピッチの１／２の配列ピッチで形成した第一面と、複数枚のウェハが通過可能な通過溝を形成した第二面と、把持溝と通過溝とが交互に通常配列ピッチの１／２の配列ピッチで形成した第三面とを形成する。また、把持部材は、左右一対の部材を六角柱形状に形成し外周面に把持溝を通常配列ピッチで形成した第一面と、通過溝を複数枚のウェハが通過可能に形成した第二面と、把持溝と通過溝とが交互に通常配列ピッチで形成した第三面とを形成する。
　また、リフト部材の把持溝は通常配列ピッチ、または通常配列ピッチの１／２の配列ピッチで形成し、リフト部材および前記設置台は両方またはいずれか一方がリフト部材の昇降方向を中心軸とし３６０°回動可能に枢支し、設置台は前後の摺動が通常配列ピッチの１／２の配列ピッチで摺動するウェハ移し替え装置を設ける。
　【００１８】
　【発明の実施の形態】
　次に、添付図面を参照して本発明によるウェハ移し替え装置の実施の形態を詳細に説明する。図１は、本発明によるウェハ移し替え装置の第１の実施の形態を示す一部切り欠いた斜視図である。また図２は、図１に示す装置のウェハチャックの外周溝を示す斜視図であり、図２（ａ）はウェハチャックの第一面を、図２（ｂ）はウェハチャックの第二面を、図２（ｃ）はウェハチャックの第三面を各々示している。
　【００１９】
　図１に示すように、本発明によるウェハ移し替え装置の第１の実施の形態は、複数枚のウェハ４０を収納したウェハカセット３０を載置する設置台３６と、この設置台３６に載置したウェハカセット３０内からウェハ４０を把持し上下に昇降するリフト部材２０と、このリフト部材２０により上昇したウェハを把持し移し替えを行うウェハチャック１０とを具備している。
　【００２０】
　ウェハカセット３０は、内側に通常ピッチ（例えば６．３５ｍｍ）Ｐの収納溝３０ａが形成されている。この収納溝３０ａには、ウェハ４０を通常枚数（図示においては２５枚）収納できるように形成されている。また、ウェハカセット３０の底部には開口部（図示せず）が穿設されている。このウェハカセット３０は、底部を設置台３６に固定し載置できるようになっている。
　【００２１】
　設置台３６は、略中央部に矩形状の開口部３６ａが形成されており、この開口部３６ａの上部にウェハカセット３０が載置される。設置台３６は、ウェハカセットを載置し図１に示す矢印Ｙ方向の前後および矢印Ｘ方向の左右に摺動できるように設けてある。この設置台３６は、矢印Ｘ方向に配列しており、矢印Ｘ方向に摺動することで新たなウェハカセット３０を自動的に入れ替えることができるようになっている。設置台３６の底部には、リフト部材２０が設置されており、設置台３６の開口部３６ａと、ウェハカセット３０の開口部（図示せず）とを介しウェハカセット３０内を昇降するように設置されている。
　【００２２】
　リフト部材２０は、板状に形成された支持台２２と、これを支持する支持軸２４とにより形成されている。支持台２２は、上面に通常ピッチ（例えば６．３５ｍｍ）Ｐの１／２配列ピッチつまり、ハーフピッチＰ／２に形成した支持溝２２ａが形成されている。また、支持台２２は、底部中央を支持軸２４により支持され矢印Ｚに示す上下方向に昇降するように設けられている。
　また、リフト部材２０および設置台３６は、両方またはどちらか一方がリフト部材の昇降方向を中心軸とし３６０°回転可能に枢支されている。リフト部材２０は、図１に示す矢印θ１　方向に回転し、設置台３６は、図１に示す矢印θ２方向に回転するように設けられている。
　【００２３】
　ウェハチャック１０は、六角柱形状に形成され、リフト部材２０が昇降するウェハカセット３０の上部近傍にウェハ４０が配列する方向と平行し左右一対に設けられている。このウェハチャック１０ａ、１０ｂは、図示しない駆動源により支点１１ａ、１１ｂを中心に矢印Ｒの方向に回転可能に枢支されている。
　図２に示すように、六角柱形状を有するウェハチャック１０の外周面には、この六角部を３等分した角部を中心に３種類の面が形成されている。
　図２（ａ）に示すように、六角部を３等分した一面には、左右一対に設けたウェハチャック１０の間でウェハ４０の外周縁部が接触せず通過するように、凹状に切り欠いた通過溝１２ａを形成した第一面１２を備えている。
　【００２４】
　図２（ａ）に示すウェハチャック１０を支点１１を中心に矢印Ｒの方向に１２０°回転すると、図２（ｂ）に示すように第二面１４が設置される。図２（ｂ）に示すように、第二面１４は、図２（ａ）に示す通過溝１４と、ウェハ４０の下部両側縁部を把持できる把持溝１４ｂとが交互に支点１１の回転軸方向にハーフピッチＰ／２で形成されている。
　図２（ｂ）に示すウェハチャック１０を支点１１を中心に矢印Ｒの方向に１２０°回転すると、図２（ｃ）に示すように第三面１６が設置される。図２（ｂ）に示すように、第三面１６は、把持溝１４ｂと同様の把持溝１６ｂが支点１１の回転軸方向にハーフピッチＰ／２に形成され配列している。
　このように、ウェハチャック１０は支点１１を中心に回転することで第一面、第二面および第三面とを自由に切り替えることが可能になっている。
　【００２５】
　次に、図１、図３および図４を参照し本発明によるウェハ移し替え装置の第１の実施の形態を使用しウェハを移し替える動作を詳細に説明する。
　図３は、図１に示す装置の動作を示す断面図であり、図３（ａ）はウェハカセットからウェハを取り出す状態を、図３（ｂ）はウェハをウェハチャックに載置する状態を、図３（ｃ）はウェハチャックにウェハを載置した状態を各々示している。
　【００２６】
　図３（ａ）に示すように、ウェハ４０を通常枚数（図示例においては２５枚）収納したウェハカセット３０を設置台３６の上部に設置する。
　ウェハカセット３０を設置台３６に設置すると、リフト部材２０を駆動し上部方向に突出させる。このとき、図１に示すように、通常ピッチ（例えば６．３５ｍｍ）Ｐで配列したウェハ４０は、リフト部材２０の支持台２２に形成したハーフピッチＰ／２の支持溝２２ａに通常ピッチＰ（支持溝２２ａが一つ置きの間隔）で配列し上下に昇降する。
　また、ウェハ４０がリフト部材２０に支持され上昇する際、図３（ａ）に示すように平行に対向するウェハチャック１０の内側に第一面１２を設置し通常枚数のウェハ４０を上部に通過できるように設置する。
　ウェハ４０は、ウェハチャック１０の第一面１２を介し上部に上昇すると、図３（ｂ）に示すように、ウェハチャック１０が矢印Ｒの方向に回転しウェハチャック１０が対向する内側に第二面１４を設置させる。
　【００２７】
　図３（ｃ）に示すように、第二面１４が設置されると、リフト部材２０が下部に降下するとともに、第二面１４に形成した把持溝１４ｂにウェハ４０が把持される。このように、ウェハ４０の１回目の搬入を完了すると、図１に示すようにウェハチャック１０の上部にウェハ４０が載置される。
　図３（ｃ）に示すように、ウェハ４０がウェハチャック１０に載置されると、リフト部材２０が設置台３６の下部まで降下するとともに、ウェハが取り出されたウェハカセット３０は設置台３６の摺動により、新たなウェハを収納したウェハカセットがリフト部材２０の上部に設置される。
　【００２８】
　また、オーバーフロー槽などでウェハを湿式洗浄する際には、洗浄液の使用量削減などの条件により、ウェハカセット３０内に通常枚数（図示例においては２５枚）収納したウェハを更に処理枚数（図示例においては５０枚）に移し替え一括して洗浄が実行される。
　図４は、図３に示す装置に２回目のウェハを載置する動作を示す断面図であり、図４（ａ）はウェハカセットから２回目のウェハを取り出す状態を、図４（ｂ）は２回目のウェハをウェハチャックに載置する状態を、図４（ｃ）はウェハの移し替え動作が完了した状態を各々示している。
　【００２９】
　図４（ａ）に示すように、１回目のウェハ４０−１がウェハチャック１０の第二面１４により載置されると、再び新たなウェハカセット３０がリフト部材２０の上部に設置される。
　新たなウェハカセット３０がリフト部材２０の上部に設置されると、リフト部材２０を駆動させ上部方向に突出させ２回目のウェハ４０−２を１回目のウェハ４０−１の方向に上昇させる。
　このとき、図１に示すようにリフト部材２０を上部に上昇させる際、設置台３６を後方の矢印Ｙ方向にハーフピッチＰ／２分だけ摺動させる。これによりリフト部材２０の支持台２２に形成した支持溝２２ａには、通常ピッチＰでウェハカセット３０内に収納されたウェハがハーフピッチＰ／２後退し配列される。これにより新たなウェハ４０−２は、１回目のウェハとウェハとの間、即ちハーフピッチＰ／２の位置に挿入されるとともに、ウェハチャック１０の第二面１４に形成した通過溝１２ａ（図２参照）を通過し上部に上昇できるようになる。
　【００３０】
　また、２回目のウェハ４０−２をウェハチャック１０に載置する際、リフト部材２０を矢印θ１　方向に１８０°回転するか、または設置台３６を矢印θ２方向に１８０°回転させる。このように、１回目のウェハ４０−１と、２回目のウェハ４０−２とがお互いに表面と表面および裏面と裏面とが対向するように載置することが望ましい。これはオーバーフロー洗浄の際に、ウェハ４０の裏面に付着したダストが裏面と裏面とが対向する間を水流により上部に流れ洗浄槽の外部にオーバーフローするため表面に再付着することを防止するためである。
　【００３１】
　図１および図４（ｂ）に示すように、リフト部材２０を上昇させると、ウェハ４０−２がウェハチャック１０の第二面１４に形成した通過溝１４ａを通過し上昇する。さらに、リフト部材２０の支持溝２２ａは、上昇とともに１回目のウェハ４０−１をウェハ４０−２と一緒に載置し上部方向に上降する。従って、リフト部材２０に載置されるウェハ４０の枚数は、処理枚数（図示例においては５０枚）に移し替えられる。
　リフト部材２０がウェハ４０を処理枚数載置しウェハチャック１０の上部に上昇すると、ウェハチャック１０を矢印Ｒの方向に１２０°回転させる。
　【００３２】
　図４（ｃ）に示すように、ウェハチャック１０が矢印Ｒの方向に１２０°回転すると、平行する左右一対のウェハチャック１０は、内側に第三面１６が設置される。第三面１６が設置されると、リフト部材２０が降下しウェハチャック１０の把持溝１６ｂ（図２参照）に処理枚数のウェハ４０が把持される。また、リフト部材２０は、設置台３６の下部まで降下し停止する。
　リフト部材２０が降下し停止すると、設置台３６が摺動しウェハを取り出したウェハカセットを移動させ、新たに処理枚数（図示例においては５０枚）のウェハを収納可能なウェハカセット７０が設置される。
　【００３３】
　ウェハカセット７０が設置されると、リフト部材２０を上部に上降させるとともに、ウェハチャック１０を１２０°回転させ第一面１２に戻される。これにより再びリフト部材２０を降下させることで処理枚数（図示においては５０枚）のウェハがウェハチャック１０を通過しウェハカセット７０内に収納される。このようにウェハカセット内に通常枚数収納されたウェハは、ハーフピッチＰ／２で配列した処理枚数のウェハに移し替えられ動作が完了する。
　【００３４】
　次に、図５および図６を参照して本発明によるウェハ移し替え装置の第２の実施の形態を詳細に説明する。図５は、本発明によるウェハ移し替え装置の第２の実施の形態を示す一部切り欠いた斜視図である。また図６は、図５に示す装置のウェハチャックの外周溝を示す斜視図であり、図６（ａ）はウェハチャックの第一面を、図６（ｂ）はウェハチャックの第二面を、図６（ｃ）はウェハチャックの第三面を各々示している。
　本発明によるウェハ移し替え装置の第２の実施の形態は、第１の実施の形態のウェハチャックおよびリフト部材以外は全て同一構成要素であり重複する説明は省略する。
　【００３５】
　図５に示すように、本発明によるウェハ移し替え装置の第２の実施の形態は、複数枚のウェハ４０を収納したウェハカセット３０を載置する設置台３６と、この設置台３６に載置したウェハカセット３０内からウェハ４０を把持し上下に昇降させるリフト部材８０と、このリフト部材８０により上昇したウェハを把持し移し替えを行うウェハチャック９０とを具備している。
　【００３６】
　リフト部材８０は、板状に形成された支持台８２と、これを支持する支持軸８４とにより形成されている。支持台８２は、上面に通常ピッチ（例えば６．３５ｍｍ）Ｐに形成した支持溝８２ａが形成されている。また、支持台８２は、底部中央を支持軸８４により支持され矢印Ｚに示す上下方向に昇降するように設けられている。
　また、リフト部材８０および設置台３６は、両方またはどちらか一方がリフト部材の昇降方向を中心軸とし３６０°回転可能に枢支されている。リフト部材８０は、矢印θ１　方向に回転し、設置台３６は、示す矢印θ２　方向に回転するようになっている。
　【００３７】
　ウェハチャック９０は、六角柱形状に形成され、リフト部材８０が昇降するウェハカセット３０の上部近傍にウェハ４０が配列する方向と平行し左右一対に設けられている。このウェハチャック９０ａ、９０ｂは、図示しない駆動源により支点９１ａ、９１ｂを中心に矢印Ｒの方向に回転可能に枢支されている。
　図６に示すように、六角柱形状を有するウェハチャック９０の外周面には、この六角部を３等分した角部を中心に３種類の面が形成されている。
　【００３８】
　図６（ａ）に示すように、六角部を３等分した一面には、左右一対に設けたウェハチャック９０の間でウェハ４０の外周縁部が接触せず通過するように凹状に切り欠いた通過溝９２ａを形成した第一面９２を備えている。
　図６（ａ）に示すウェハチャック９０の支点９１を中心に矢印Ｒの方向に１２０°回転すると、図６（ｂ）に示すように第二面９４が設置される。図６（ｂ）に示すように、第二面１４は、図６（ａ）に示す通過溝９４と、ウェハ４０の下部両側縁部を把持できる把持溝９４ｂとが交互に支点９１の回転軸方向に通常配列ピッチＰで形成されている。
　【００３９】
　図６（ｂ）に示すウェハチャック９０の支点９１を中心に矢印Ｒの方向に１２０°回転すると、図６（ｃ）に示すように第三面９６が設置される。第三面９６は、把持溝９４ｂと同様の把持溝９６ｂが支点９１の回転軸方向に通常配列ピッチＰに形成され配列している。
　このように、ウェハチャック９０は支点９１を中心に回転することで第一面、第二面および第三面とを自由に切り替えることが可能になっている。
　【００４０】
　次に、図５、図７および図８を参照し本発明によるウェハ移し替え装置の第２の実施の形態を使用しウェハを移し替える動作を詳細に説明する。
　図７は、図５に示す装置の動作を示す断面図であり、図７（ａ）はウェハカセットからウェハを取り出す状態を、図７（ｂ）はウェハをウェハチャックの上部に上昇させた状態を、図７（ｃ）はウェハチャックにウェハを半分載置した状態を各々示している。
　【００４１】
　図７（ａ）に示すように、ウェハ４０を通常枚数（図示例においては２５枚）収納したウェハカセット３０を設置台３６の上部に設置する。
　ウェハカセット３０を設置台３６に設置すると、リフト部材８０を駆動し上部方向に突出させる。このとき、図５に示すように、通常ピッチ（例えば６．３５ｍｍ）Ｐで配列したウェハ４０は、リフト部材８０の支持台２２に形成した通常ピッチＰの支持溝２２ａに載置され昇降する。
　また、ウェハ４０がリフト部材８０に支持され上昇する際、図７（ａ）に示すように平行に対向するウェハチャック９０の内側に第一面９２を設置し通常枚数のウェハ４０を上部に通過できるように設置する。
　ウェハ４０は、ウェハチャック９０の第一面９２を介し上部に上昇すると、図７（ｂ）に示すように、ウェハチャック９０が矢印Ｒの方向に回転しウェハチャック９０が対向する内側に第二面９４を設置させる。
　【００４２】
　図７（ｃ）に示すように、第二面９４が設置されると、リフト部材８０が下部に降下するとともに、第二面９４に形成した把持溝９４ｂにウェハ４０の半分が把持される。また、第二面９４に形成した通過溝９４ａを通過する残り半分のウェハ４０は、リフト部材８０に設置され下部に降下する。
　リフト部材８０に設置され降下したウェハ４０は、リフト部材２０がウェハチャック９０とウェハカセット３０との中間近傍で矢印θ１　方向に１８０°回転するか、または、リフト部材８０が降下しウェハカセット３０内にウェハ４０を収納させ設置台３６を矢印θ２　方向に１８０°回転し反転させる。
　【００４３】
　このように、リフト部材８０に設置されたウェハ４０と、ウェハチャック９０に設置されたウェハ４０との表面と表面および裏面と裏面とがお互いに対向するように反転することが望ましい。これはオーバーフロー洗浄の際に、ウェハ４０の裏面に付着したダストが水流により対向する裏面と裏面との間を流れ洗浄槽の上部でオーバーフローするため、表面に再付着することを防止でき効果的な洗浄を行えるためである。
　リフト部材８０に設置され降下し反転したウェハ４０は、ウェハチャック９０に設置されたウェハ４０の間に挿入される。
　【００４４】
　図８は、図７に示す装置に反転したウェハを載置する動作を示す断面図であり、図８（ａ）は反転したウェハを上昇させる状態を、図８（ｂ）は反転したウェハをウェハチャックに載置する状態を、図８（ｃ）はウェハの移し替え動作が完了した状態を各々示している。
　【００４５】
　図８（ａ）に示すように、リフト部材８０に設置され降下したウェハ４０が反転すると、この反転したウェハ４０をウェハチャック９０に設置されたウェハ４０の方向に上昇させる。
　図５および図８（ｂ）に示すように、リフト部材８０を上昇させると、反転したウェハ４０がウェハチャック９０の第二面９４に形成した通過溝９４ａを通過し上昇する。また、リフト部材８０の上昇とともに、ウェハチャック９０に設置されたウェハ４０と、反転したウェハ４０とが一緒にリフト部材８０に載置され上部方向に上降する。従って、リフト部材８０に設置されたウェハ４０と、ウェハチャック９０に設置されたウェハ４０とが、表面と表面および裏面と裏面とをお互いに対向させ通常枚数配列される。
　【００４６】
　リフト部材８０がウェハ４０を通常枚数載置しウェハチャック９０の上部に上昇すると、ウェハチャック９０を矢印Ｒの方向に１２０°回転させる。
　図８（ｃ）に示すように、ウェハチャック９０が矢印Ｒの方向に１２０°回転すると、平行する左右一対のウェハチャック９０は、内側に第三面９６を設置する。第三面９６が設置されると、リフト部材９０が降下しウェハチャック９０の把持溝９６ｂ（図２参照）に通常枚数のウェハ４０が把持される。また、リフト部材８０は、設置台３６の下部まで降下し停止する。
　リフト部材８０が降下し停止すると、設置台３６が摺動しウェハを取り出したウェハカセットを、新たなウェハカセットと入れ替えられる。
　【００４７】
　新たなウェハカセットが設置されると、リフト部材８０を上部に上降させるとともにウェハチャック９０を１２０°回転させ第一面９２に戻される。これとともに、リフト部材８０を再び降下させ、お互いに表面と表面および裏面と裏面とが対向する通常枚数のウェハをウェハチャック９０の第一面９２に通過させウェハカセット内に収納する。
　このようにウェハ移し替え装置は、ウェハカセット内に通常枚数収納されたウェハをお互いに表面と表面および裏面と裏面とが対向し通常ピッチＰで配列するように移し替えられウェハカセット内に収納することで動作を完了する。
　【００４８】
　以上、本発明によってなされたウェハ移し替え装置の実施の形態を詳細に説明したが、本発明は前述の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で変更可能である。
　例えば、ウェハチャックは、六角柱形状に限定されるものではなく、十字形状または円柱形状でも良い。
　また、ウェハチャックの外周面に把持溝または通過溝を第一面、第二面、また第三面と３種類形成したが、この３種類の面に限定されるものではなく、用途に応じてこれ以上またはこれ以下の面でも良い。
　【００４９】
　【発明の効果】
　以上、詳細に説明したように本発明によれば、ウェハの移し替え装置の構造が簡略化され装置全体が小型化するとともに、同一装置により移し替えを実行することが可能なため所定の場所に１度の動作で搬送でき製造効率の向上を期待することができる。
　また、ウェハを移し替える動作を同一装置により１度で搬送できるとともに、このウェハが他の部材と接触することが減少されるため汚染率が低下し微細化および高集積化された信頼性の高い製品を製造することができる。
　さらに、ウェハチャックに形成した外周溝を回転させることにより、オーバーフロー槽に応じた効果的なウェハ移し替えが行えるため、ウェハに付着したダストによる再汚染も減少させることができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明によるウェハ移し替え装置の第１の実施の形態を示す一部切り欠いた斜視図。
　【図２】
　図１に示す装置のウェハチャックの外周溝を示す斜視図。
　【図３】
　図１に示す装置の動作を示す断面図。
　【図４】
　図３に示す装置に２回目のウェハを載置する動作を示す断面図。
　【図５】
　本発明によるウェハ移し替え装置の第２の実施の形態を示す一部切り欠いた斜視図。
　【図６】
　図５に示す装置のウェハチャックの外周溝を示す斜視図。
　【図７】
　図５に示す装置の動作を示す断面図。
　【図８】
　図７に示す装置に反転したウェハを載置する動作を示す断面図。
　【図９】
　従来のウェハ移し替え装置の外観を示す斜視図。
　【図１０】
　従来のウェハ移し替え装置の主要部を示す断面図。
　【図１１】
　図１０に示す従来の装置がウェハを移し替える側面を示す断面図。
　【符号の説明】
　１０　　ウエハチャック
　１１ａ、１１ｂ　　支点
　２０　　リフト部材
　２２　　支持台
　２２ａ　支持溝
　２４　　支持軸
　３０　　ウェハカセット
　３０ａ　収納溝
　３６　　設置台
　３６ａ　開口部