【事件の表示】
　特許第２６６２０４９号「光学式ディスク基板及び光学式情報記録媒体」の請求項１〜３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２６６２０４９号の請求項１〜３に係る特許を維持する。
【理　由】
１　手続きの経緯                                          
　本件特許第２６６２０４９号は、平成１年９月１４日に出願された特願平１−２３６８８２号の出願に係り、平成９年６月１３日に設定登録された後、三菱瓦斯化学株式会社及びキヤノン株式会社から特許異議の申立てがなされたものである。     
２　本件発明
　本件発明は、設定登録時の明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により構成される次のとおりのものと認める。
「【請求項１】ポリカーボネート樹脂中の末端水酸基の含有量が、重合体鎖の繰り返し単位当り０.３モル％以下であり、かつ残留ナトリウム量が１ppm以下であるポリカーボネート樹脂で構成されてなることを特徴とする光学式ディスク基板。
　【請求項２】前記ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量が12,000〜20,000であることを特徴とする請求項１記載の光学式ディスク基板。
　【請求項３】請求項１または２記載の光学式ディスク基板の表面に、光学的記録層が形成されてなることを特徴とする光学式情報記録媒体。」
３　特許異議申立人の主張の概要
（１）特許異議申立人三菱瓦斯化学株式会社は、下記甲第１〜第８号証を提示し、本件請求項１〜３に係る発明は、甲第１号証に記載された発明であり、甲第１号証〜甲第７号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、さらに、本件明細書には記載の不備があるから、本件は、特許法第２９条第１項第３号若しくは同条第２項の規定に違反して特許されたものであり、同法第３６条第４項又は第５項の規定を満足しない出願に対して特許されたものであるから、その特許は取り消されるべきである旨、主張している。
    　　                 記
甲第１号証：特開昭１−１４６９２６号公報
甲第２号証：三菱瓦斯化学株式会社大阪工場研究技術部長高田聡明による実験報告書
甲第３号証：日本分析化学会・高分子分析研究懇談会編「高分子分析ハンドブック」朝倉書店、1985年９月１日発行、第３４４〜３４５頁
甲第４号証：特開昭６３−１０５０２８号公報
甲第５号証：特開昭５８−８４８２２号公報
甲第６号証：特開昭６１−２８７９２３号公報
甲第７号証：今村修武監修「光磁気ディスク」株式会社トリケップス、昭和６１年２月２０日発行、第３０６〜３０８頁、第４１１〜４１５頁
甲第８号証：特開平２−１７５７２３号公報
　
（２）特許異議申立人キヤノン株式会社は、下記甲第１〜第４号証を提示し、本件請求項１〜３に係る発明は、甲第１号証〜甲第４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件は特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであり、その特許は取り消されるべきである旨、主張している。
　      　　               記
甲第１号証：特開昭１−１４６９２６号公報
甲第２号証：特開昭６２−２３５３５７号公報
甲第３号証：特開昭５８−８４８２２号公報
甲第４号証：特開昭６０−１１３２０１号公報
４　対比・検討
（１）三菱瓦斯化学株式会社の特許異議申立てについて
　(1-1)　本件発明の新規性、進歩性の有無に関して
　甲第１号証には、「界面重合法でビスフェノールとホスゲンとの反応によって製造されるポリカーボネート樹脂であって、下記一般式（１）で表される重合鎖の繰り返し単位数ｎが１〜３の低分子量体の含有率が０．２重量％以下であり、未反応ビスフェノールが１０ppm以下である光ディスク用ポリカーボネート成形材料、
　一般式（１）；
 
  （式中のＸは、炭素数１〜３のアルキレン基、炭素数２〜３のアルキリデン基、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルフィニル基、又はスルホン基を示す。）」（特許請求の範囲）の発明について記載され、「本発明者らは、未反応ビスフェノールと低分子量体を除去したポリカーボネート樹脂を工業的に効率良く製造する方法について鋭意検討した結果、重合後の樹脂溶液を１〜１０重量％の苛性ソーダ水溶液と乳化状態を形成しながら攪拌し、クロロホーメート、その他の反応中間体や副生物である末端基を分解すると共に未反応ビスフェノールと低分子量体の一部を抽出した後、水洗及びリン酸等の鉱酸の水溶液での洗浄を繰り返して精製した樹脂溶液を得、これから精密濾過等により「ダスト」を除き、これをポリカーボネートの非溶媒或いは貧溶媒中に滴下するか、又は該樹脂溶液に非溶媒或いは貧溶媒中に滴下することによって樹脂を沈殿化させると低分子量体が効率よく分離され、このようにして得られたポリカーボネート樹脂を用いた光ディスクは、高温多湿下に放置しても白点を生じにくく、極めて信頼性に優れたものであることを見出し、本発明を完成させた。」（２頁右下欄〜３頁左上欄）として、この発明は、特定の精製法によりポリカーボネート樹脂中の未反応ビスフェノールと低分子量体を除去し、これにより高温多湿下での白点の生成を抑制をしたものであることが記載され、その実施例では、ＢＰＡ（ビスフェノールＡ）の量とｎ＝１〜５の低分子量体の量と白点発生数との関係が示されている。
　甲第１号証には、上記のとおり、未反応のビスフェノール量と特定オリゴマーの存在量を一定値以下とすることによりポリカーボネート樹脂成形材料による光ディスクの高温多湿下での白点発生の抑制を図った発明が記載されているが、該ポリカーボネート樹脂材料中の末端水酸基の含有量と残留ナトリウム量については全く記載されていない。
　特許異議申立人は、甲第２号証として、同社大阪工場研究技術部長高田聡明による実験報告書を提出し、甲第１号証の実施例１を追試したところ、得られたポリカーボネート樹脂は、粘度平均分子量１５０００（２０℃、溶媒として塩化メチレン使用）、末端水酸基０．２２モル％（ＮＭＲによる）、残留ナトリウム０．０５ppm（原子吸光法による）であったから、本件請求項１記載の発明（以下「本件第１発明」という。）のポリカーボネート樹脂は既に甲第１号証に記載されていたものと主張する。
　これに対し、特許権者は、特許異議申立人の追試においてはベヘニルベヘネートが２５０ppmしか添加されておらず、他方甲第１号証の実施例１においては、０．１％（1000ppm)が添加されているのであるから、甲第２号証の追試は甲第１号証の実施例１の正確な追試とはいえないこと、水相分離後のポリカーボネート樹脂溶液の洗浄に使用したアルカリは濃度が高く、これでは容易に加水分解されて末端水酸基の量が０．２２モル％に納まるはずはないことを根拠に、甲第２号証の追試結果には疑義があると主張すると共に、出光石油化学株式会社研究開発部樹脂研究所重合第一研究室、室長中川隆、同室員石川康弘による同実施例についての実験報告書を提出し、これによれば、末端水酸基量は３回の平均で０．７９％（ＮＭＲによる）、残留ナトリウム量は３．４ppm（原子吸光法による）であって、両値とも本件の発明外であったことを主張している。
　両実験報告書の結果が大きく相違することから、当審は口頭審理を実施したが、特許異議申立人は出頭せず、その陳述を得るに至らなかった。
　そして両実験報告書を仔細に検討しても、特許異議申立人のそれを一方的に正当として採用する根拠を見出すことはできない。
　したがって、甲第２号証の実験報告書をもって本件第１発明が甲第１号証に記載されていたとすることはできない。
　甲第３号証には、ＯＨ末端の測定法が記載され、その一つとして１Ｈ−ＮＭＲで測定する方法があることが記載されているが、それ以上に格別本件第１発明を示唆する記載は見出せない。
　甲第４号証には、ポリカーボネートの有機溶剤液の洗浄方法について記載され、ポリカーボネートは合成反応の結果として副生する不純物あるいはその他の原因で生ずる不純物、特にハロゲン化アルカリ、苛性アルカリ、炭酸アルカリ等の無機塩がポリカーボネート中に残留するとポリカーボネートの着色、熱安定性の低下、耐スチーム特性の低下等の問題を引き起こし、これらは一般的には水洗により除去されるが、有機溶剤中のポリカーボネートが高濃度になると、単なる水洗だけでは除去は困難になるところ、粗製ポリカーボネート有機溶剤液と水性洗浄液との混合液を水相比で５〜３０容量％に調製し、毎時０．１Ｋｗ／ｍ３以上の、単位液量当りの攪拌所要動力で、前記混合液を攪拌して油中水型分散相を形成させ、次いでこの混合液を遠心分離することにより精製ポリカーボネート有機溶剤液と水性洗浄液とを分液することを特徴とする洗浄法、によりかかる課題の解決を図ったことが記載され（１頁右下欄〜２頁左下欄）、実施例においては、ナトリウムイオンと塩素イオンについての残留量と抽出率が記載され（第１表、第２表）、それによれば、ナトリウムイオンの残留量は最高でも０．０６ｐｐｍ（実施例５）であったことになるが、その値はジクロロメタン溶液中の数値であって、同号証には、ポリカーボネート中の残留ナトリウム量についての記載はなく、ましてポリカーボネート中の末端水酸基の量については何も記載されていない。
　甲第５号証には、先行技術と比較して実質的に低いフェノール系ＯＨ含有量を有する芳香族ポリカーボネートの製造法として、二相境界法により製造したポリカーボネートの有機溶剤溶液をアルカリ水相を分離した後、酸洗浄の前にＡｒ−ＯＣＯＣｌのアリールクロロカーボネートと反応させることを特徴とする方法が記載され、その結果得られたフェノール系ＯＨの含有量の２０〜１１０ｐｐｍ（表１）の数値からは、水酸基末端基量は０．０３〜０．１６モル％であったと計算されるが、残留ナトリウム量については記載されていない。
　甲第６号証には、「酸化防止剤を含有していない平均分子量が１３０００〜２２０００のビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系ポリカーボネート樹脂を射出成形し、この上に記録膜を施して得られる光ディスク。」（特許請求の範囲）の発明について記載され、該発明は、従来のポリカーボネート樹脂は成型時の安定性を確保するために酸化防止剤が添加されていたところ、ポリカーボネートの純度が良好になると例え酸化防止剤を添加しなくとも光ディスクとして使用可能になることを見出したことに基づくものであることが記載され、その純度は抽出液の導電率を測定することによって知ることができることが記載されているが、純度の高いとするポリカーボネートの具体的製造法ないし精製法、あるいは樹脂中の残留ナトリウム量等の測定値等は一切記載されておらず、純度が高いとして使用されたポリカーボネートが実際にはどの程度の不純物を含んでいたかについては不明といわざるを得ない。
　甲第７号証には、光磁気ディスクの信号評価において、ビット誤り率とＣ／Ｎには相関関係があること、確率的には、Ｃ／Ｎが大きくなる程、誤り率は単調に低くなるはずであるが、途中から誤り率が飽和してしまうこと、その原因は、ディスク基板作成時に生じる欠陥や記録膜に生じるピンホールなどによるものと考えられていること、等が記載されているにすぎず、ポリカーボネート樹脂中に存在する残留ナトリウム量等についての記載は全くなされていない。
　以上検討したとおり、甲第１号証、甲第４号証〜甲第６号証には、ポリカーボネートについて種々記載されているが、ＯＨ末端基量と残留ナトリウム量とを一定値以下にしたポリカーボネートについての記載はなく、この量に注目してこれをどの程度にすべきといったことに関しての記載も存在しない。　また、甲第３号証及び甲第７号証には、単に高分子の分析法としてのＯＨ末端測定法、そしてビットエラー率とＣ／Ｎ比とに相関関係があること等が記載されているにすぎない。
　他方、本件第１発明は、ポリカーボネート樹脂中における末端水酸基量と残留ナトリウム量に着目し、これを所定値以下とすることにより高温多湿下での白化防止を図ったものであり、これらは前記刊行物の記載からは予測することは困難といわざるを得ない。
　なお、甲第８号証は、本件の出願後に頒布された刊行物であり、しかも末端水酸基の量、残留ナトリウム量の測定法が記載されているにすぎない。
　したがつて、甲第２号証を参酌しても、本件第１発明は甲第１号証に記載されたものとすることはできず、また、甲第１号証、甲第３号証〜甲第７号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることもできない。
　本件請求項２及び３に記載される発明（以下「本件第２発明」及び「本件第３発明」という。）は、本件第１発明の構成に新たな要件が付加されたものであるから、本件第１発明と同様、甲第１号証に記載された発明とすることはできず、また、甲第１号証、甲第３号証〜甲第７号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることもできない。
　(1-2)本件明細書に関して
　特許異議申立人は、本件明細書に関し、（ｉ）本件特許請求の範囲には、発明の構成が記載されていない、（ii）本件明細書には、本件発明で使用されるポリカーボネート樹脂の入手法が記載されていない、ことをもって、その記載不備を主張する。
　よって検討すると、本件発明の構成はその特許請求の範囲に記載されているとおり、光学式ディスク基板において、それを構成するポリカーボネート樹脂中の末端水酸基量と残留ナトリウム量とを一定値以下に規定したものであり、それにより高温高湿下での白化防止を図ったものである。
　そして、その要件が本件明細書の特許請求の範囲に記載されているのであるから、本件発明の構成が特許請求の範囲に記載されていないというのは当を得ない。
　また、確かに本件実施例の記載は、十分とはいえないが、要するに、重合、洗浄、粒状化までは既に公知の方法に準じてなされるものであり（特開昭１−５６７２８号公報、及び特開昭１−７４２３１号公報）、その特徴とするところは、粒状体の混合溶媒による処理において、良溶媒たる塩化メチレンと貧溶媒たるアセトンとの混合比率と処理温度にあると認められ、かかる処理法については明細書に明確に記載されているのであるから、本件明細書には特に特許法第３６条に規定する程の不備が存するとすることはできない。　
　したがつて、本件明細書の記載に関する特許異議申立人の主張は採用しない。
（２）キヤノン株式会社の特許異議申立てについて
　甲第１号証には、既に三菱瓦斯化学株式会社の特許異議申立て（甲第１号証）において検討したとおり、界面重合法でビスフェノールとホスゲンとの反応によって製造されるポリカーボネート樹脂であって、一般式（１）で表される重合鎖の繰り返し単位数ｎが１〜３の低分子量体の含有率が０．２重量％以下であり、未反応ビスフェノールが１０ppm以下である光ディスク用ポリカーボネート成形材料についての発明が記載され、その構成により高温多湿下において信号読み取りエラーとなるディスク基板中の白点の生成を大幅に改善したことが記載されているが、残留ナトリウム量と末端水酸基量についてそれがいかほどの数値を有しているか、あるいは有するべきかといったことについては、格別の記載はなく、甲第１号証に記載されているポリカーボネート樹脂が本件第１発明で規定する要件を満足していると認めるに足りる根拠を見出すこともできない。
　甲第２号証には、熱安定剤である３価のリン化合物が添加されたポリカーボネート成形品中に含有される酸性および塩基性の不純物の量を規制することによって得られる耐加水分解性に優れたポリカーボネート成形品に関する発明が記載され、含有されるナトリウム含有量は、実施例１では１２ppm、実施例２では１３ppm、実施例３では８ppm、実施例４では４ppmであったことが記載されているが、これら数値は本件第１発明で規定する値よりもかなり高く、しかも該ナトリウム量が白化防止に関連して記載されているわけではない。
　甲第３号証には、既に検討したとおり（三菱瓦斯化学株式会社の特許異議申立てにおける甲第５号証）、先行技術と比較して実質的に低いフェノール系ＯＨ含有量を有する芳香族ポリカーボネートの製造法として、二相境界法により製造したポリカーボネートの有機溶剤溶液をアルカリ水相を分離した後、酸洗浄の前にＡｒ−ＯＣＯＣｌのアリールクロロカーボネートと反応させることを特徴とする方法が記載され、フェノール系ＯＨの含有量が表にまとめられていて、フェノール性ＯＨ基の量は、２０〜１１０ｐｐｍとの数値からは、０．０３〜０．１６モル％であったと計算されるが、残留ナトリウム量については記載されていない。
　甲第４号証には、粘度平均分子量が約１２０００〜１９０００のポリカーボネート１００重量部当り、炭素数１６〜２２の飽和一価脂肪酸のモノグリセリド０.０１〜０.２重量部を含有するポリカーボネート樹脂組成物から成形された光学用成形品についての発明が記載され、かかる構成により表面が無傷で、かつ、高精度に型を転写したポリカーボネートの光学的成形品が提供されることが記載されているが、この発明は成型時の問題を回避するべくなされたもので、ナトリウム量とか、末端水酸基量については全く記載がない。
　以上、甲第１号証〜甲第４号証には末端水酸基量と残留ナトリウム量に関して、本件第１発明で規定する要件については記載されていない。
　他方、本件第１発明は、ポリカーボネート樹脂中における末端水酸基量と残留ナトリウム量に着目し、これを所定値以下とすることにより高温多湿下での白化防止を図ったものであり、これらは前記刊行物の記載からは予測することは困難といわざるを得ない。
　したがって、本件第１発明が甲第１号証〜甲第４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　本件第２、３発明は、本件第１発明の構成にさらに新たな要件を付加したものであるから、本件第１発明と同様、甲第１号証〜甲第４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
５　むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立人の提示する証拠及び主張する理由によっては、本件特許を取り消すことはできない。
  また、他に本件特許を取り消すべき理由を発見しない。
  よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年８月２４日（２０００．８．２４）