【事件の表示】
　特許第２８８６８７２号「磁気ディスク用基板および磁気ディスク」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２８８６８７２号の請求項１ないし２に係る特許を取り消す。
【理　由】
I．手続の経緯
　特許第２８８６８７２号の請求項１，２に係る発明についての出願は、平成１年１月１３日に特許出願され、平成１１年２月１２日にその発明について特許の設定登録がなされ、その後、その特許について特許異議申立人板倉栄子により特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年５月２９日に訂正請求がなされ、訂正拒絶理由通知がなされ、特許異議意見書が提出されたものである。　　　　　
II．訂正の適否についての判断
（１）訂正明細書の発明
　訂正明細書の請求項１，２に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１，２に記載された次の事項により特定される通りのものである。
【請求項１】
　非晶質であるガラスを連続相とし、該ガラス相中に結晶相を散在する複合体である結晶化ガラスを用いて、研磨により表面に凸起の平均高さが０．００５〜０．２０μｍの範囲に揃えられた微小な結晶相の凸起を形成したことを特徴とする磁気ディスク用基板。
【請求項２】
　非晶質であるガラスを連続相とし、該ガラス相中に結晶相を散在する複合体である結晶化ガラスを用いて、研磨により基板表面に凸起の平均高さが０．００５〜０．２０μｍの範囲に揃えられた微小な結晶相の凸起を形成し、該基板上に、磁性層、保護膜及び潤滑油層を設けたことを特徴とする磁気ディスク。
（２）刊行物に記載の発明
　当審で取消理由及び訂正拒絶理由として引用した特開昭６３−２２５９１９号公報（以後、「刊行物１」という。）には、結晶化ガラスを用いた磁気ディスク用基板および磁気ディスクの記載があり、結晶化ガラスからなる素板をフッ化カリウムとフッ酸を含む水溶液を用いて化学エッチング処理し、該素板表面に凹凸を形成し、かつ、この凹凸は５０〜７００Å（＝０．００５〜０．０７μｍ）、実施例では０．０２５μｍ、０．０３μｍの高さと０．１〜１０μｍのピッチを有していることが記載されている。（特許請求の範囲及び公報第３頁右上欄第１５〜１７行、同頁右下欄第１２〜１９行、同第４頁右上欄第３〜８行、表１の実施例３等参照）
　そして、凹凸は耐ＣＳＳ特性、ヘッドステイック性の改良を目的とし、本件訂正明細書の発明とその目的の一部を共通にすることが記載されている。（公報第２頁右下欄第６〜９行参照）
　同様に当審で取消理由及び訂正拒絶理由として引用した特開昭６０−２２９２３４号公報（以後、「刊行物２」という。）には、結晶化ガラスを用いた磁気ディスク用基板及びその製造方法に関し、公報第２頁右下欄第１９行〜第３頁左上欄第１２行には「従来、結晶化ガラスの精密研磨方法として、フォトマスク、レンズ等に適用されていた溶融型非晶質ガラス研磨法が採用されていた。この研磨方法は酸化セリウムやベンガラを砥粒とし、レンズ等の表面を５０Å以下の粗度に仕上げることができる。ところが、結晶化ガラスに適用しても、材質が実質的に結晶化されているため、研磨面に微小突起や凹部が生成し、２５０Å程度の表面粗度しか得られない問題があった。」
との記載がある。
　さらに当審で取消理由及び訂正拒絶理由として引用した特開昭６２−７２５４７号公報（以後、「刊行物３」という。）には、結晶化ガラスであるガラス・セラミックを用いた表面粗さ５０Å（＝０．００５μｍ）以下の磁気ディスク基板および磁気ディスクの記載があり、ここでも本件特許発明と同様に基板表面を研磨しており、記載された結晶化ガラスの組成と粒径０．２μｍ以下の析出結晶相は、本件訂正明細書の発明のものに近い。
（３）対比・判断　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（ｉ）訂正明細書の請求項１に係る発明について
　訂正明細書の請求項１に係る発明を刊行物１に記載の発明と対比させると、両者は、
「結晶化ガラスを用いて、表面に凸起の平均高さが０．００５〜０．０７μｍの範囲の微小な凸起を形成したことを特徴とする磁気ディスク用基板。」で一致し、以下の３点で相違する。
相違点１
　訂正明細書の請求項１に係る発明では、「結晶化ガラス」が「非晶質であるガラスを連続相とし、該ガラス相中に結晶相を散在する複合体である」と規定されているが、刊行物１に記載の発明ではその点が不明である。
相違点２
　訂正明細書の請求項１に係る発明では、「研磨により」結晶化ガラス中の硬度の低いガラス部分を除去し、残った結晶化部（結晶相）で凸起を形成するとともにその高さを揃えているが、刊行物１に記載の発明では、化学エッチングによりガラス表面にポーラスな反応抑制層を形成してガラスの溶出量の不均一性を生じることにより凹凸を形成している。
相違点３
　訂正明細書の請求項１に係る発明では、凸起の平均高さが０．００５〜０．２０μｍであるのに対し、刊行物１に記載の発明では０．００５〜０．０７μｍである。　
　上記３点について詳細な検討を加えると、相違点１については、取消理由として引用した特開昭６２−２３０６５１号公報、「ファインセラミクスハンドブック」１８４−１８７頁、１９４−１９５頁、１９８４年、朝倉書店発行にも例示されるように「非晶質であるガラスを連続相とし、該ガラス相中に結晶相を散在する複合体である」ことは結晶化ガラスの定義とも言うべきものであり、この点に何らの新規性もない。
　相違点２については、刊行物２に、「従来、結晶化ガラスの精密研磨方法として、フォトマスク、レンズ等に適用されていた溶融型非晶質ガラス研磨法」を「結晶化ガラスに適用しても、材質が実質的に結晶化されているため、研磨面に微小突起や凹部が生成し、２５０Å程度の表面粗度しか得られない問題があった。」と記載されており、この記載から、研磨によって、結晶化ガラスの柔らかい非晶質ガラスが削られて凹部となり、硬い結晶相が研ぎ残されて（訂正明細書の請求項１に係る発明で限定されている）２５０Å程度の微小突起（凸起）を形成することが明らかであり、この研磨法の適用は、訂正明細書の請求項１に係る発明の「研磨により結晶化ガラス中の硬度の低いガラス部分を除去し、残った結晶化部（結晶相）で凸起を形成する 」に相当する。かつ、凹凸の形成にレンズの研磨法を用いれば凸起の高さが揃うのは当然の理であるので、この刊行物２の研磨による凹凸の形成方法を刊行物１に記載の発明に適用して訂正明細書の請求項１に係る発明の如くに構成することは当業者には容易に発想可能である。
　相違点３については、両発明は重複する数値域を有しており、重複域を外れた０．０７〜０．２０μｍの領域で、重複する０．００５〜０．２０μｍの領域以上にヘッド粘着現象（ヘッドステイック性）の改善や耐ＣＳＳ特性の改善が行われることがデータ的に示されている訳でもないので、その差は設計的事項の範囲内のものに過ぎないと認められる。
　以上より、これらの３相違点はいずれも格別のものとは認められない。
（ii）訂正明細書の請求項２に係る発明について
　訂正明細書の請求項２に係る発明を刊行物１に記載の発明と対比させると、両者は、上記一致点、相違点の他に、更に
相違点４
　訂正明細書の請求項２に係る発明では、基板上に、磁性層、保護膜及び潤滑油層を設けているが、刊行物１に記載の発明ではそのような規定は特にされていない。
点で相違する。
　しかるに、取消理由として引用した特開昭６１−９６５１２号公報、特開昭６１−１３７２１９号公報等に示されるように、このような保護膜、潤滑油層は、磁気ディスクでは周知の構成に過ぎず、刊行物１に記載の発明のものにこの保護膜、潤滑油層を設けることに想到するのは当業者なら容易に可能である。
　従って、この相違点も、また、格別のものではない。
　以上より、訂正明細書の請求項１及び２に係る発明はいずれも、取消理由及び訂正拒絶理由として引用した刊行物１〜３及び本件出願時に周知の従来技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許出願の際、特許法第２９条第２項の規定により独立して特許を受けることができない。
　これに対し、特許権者は、平成１２年５月２９日付特許異議意見書において、刊行物２の従来の研磨方法ではガラス表面に凸起も形成されるが同時に凹部も形成され、凹部はエラーの原因ともなり、凹部の発生を抑制することが重要であるので、該従来例より、本件訂正明細書の発明の意図するところの「表面に微小な凸起を形成する」ことを容易に推考することは困難であるとの主張を行っているが、本件の訂正明細書の発明の「研磨により結晶化ガラス中の硬度の低いガラス部分を除去」することは凹部の形成も当然予想され、特許明細書中の関連部「結晶化ガラス中のガラス部分が結晶化部と比較して、硬度が低いため比較的すみやかに研削加工され、結果として表面に微細な凸起を形成できる。」の記載も、凹部が形成される可能性を否定していないので、上記主張は特許請求の範囲の記載に基づかない主張である。
　また、特許権者は、平成１２年８月２５日特許異議意見書において、訂正明細書の発明は、原材料である非晶質体から析出される結晶相の平均粒子の径が０．０１〜３．０μｍの範囲にあり、かつその平均密度が１０２〜１０６個／ｍｍ２の範囲であるように結晶化熱処理条件を制御して得られ結晶化ガラスを用いており、その点が刊行物１〜３等の従来技術にはないと主張するが、この主張も特許請求の範囲に基づいておらず採用できない。
（４）まとめ
　以上のとおり、訂正明細書の請求項１及び２に係る発明は独立特許要件を満たさないため、上記訂正は特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、平成１１年改正前の特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第３項の規定に適合しないので、当該訂正は認められない。
III．特許異議の申立てについて
（１）異議申立ての概要
　異議申立人板倉栄子は、特開昭６３−２２５９１９号公報（甲第１号証：上記刊行物１）、特開昭６２−２３０６５１号公報（甲第２号証）、特開昭６１−９６５１２号公報（甲第３号証）、特開昭６１−１２６６２７号公報（甲第４号証）、特開昭６１−１３７２１９号公報（甲第５号証）、特開昭６０−２２９２３４号公報（甲第６号証；上記刊行物２）、特開昭６２−７２５４７号公報（甲第７号証；上記刊行物３）、Ｊ．ＣｒｅａｍＡｓｓｏ　Ｊａｐａｎ　６８（６）１９６０（甲第６号証）、特開昭６３−４６６２２号公報（甲第９号証）、特開昭６４−３０３２号公報（甲第号１０証）、濱野健也編集「ファインセラミクスハンドブック」１８４−１８７頁、１９４−１９５頁、１９８４年、朝倉書店発行（甲第１１号証）を示し、本件の請求項１及び２に係る発明は甲第号１〜３証、甲第３，６，７号証若しくは甲第１，２、６〜１１号証のいずれかの組の刊行物に記載の発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたもので特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることが出来ないものであるから、これらの発明に対する特許は特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）により改正された特許法第１１３条第２号の規定により取り消すべきである旨の主張を行っている。
（２）本件発明
　本件特許２８８６８７２号の請求項１及び２に係る発明は、特許明細書の特許請求の範囲の請求項１及び２に記載される次のとおりのものである。
「【請求項１】
　非晶質であるガラスを連続相とし、該ガラス相中に結晶相を散在する複合体である結晶化ガラスを用いて、表面に凸起の平均高さが０．００５〜０．２０μｍの範囲の微小な結晶相の凸起を形成したことを特徴とする磁気ディスク用基板。
【請求項２】
　非晶質であるガラスを連続相とし、該ガラス相中に結晶相を散在する複合体である結晶化ガラスを用いて、基板表面に凸起の平均高さが０．００５〜０．２０μｍの範囲の微小な結晶相の凸起を形成し、該基板上に、磁性層、保護膜及び潤滑油層を設けたことを特徴とする磁気ディスク。 」
（３）当審の判断
　本件発明は、訂正明細書の発明の減縮のための限定、すなわち「研磨による」及び「凸起の平均高さを揃える」の２つの限定を除去したものであるから、これらの限定を有する訂正明細書の発明がII．の項ですでに議論されたように、刊行物１〜３に記載の発明及び従来技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとして特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない以上、それより限定の少ない本件発明も当然同じ理由により特許を受けることができない。
（４）結び
　以上のとおり、本件発明は、特許法等の一部を改正する法律（昭和６２年法律第２７号）により改正された特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　従って、本件発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願についてされたもので、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）により改正された特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の一部の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第１項及び第２項の規定に該当するので、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年８月３日（２００１．８．３）