【事件の表示】
　特許第２７９１８０７号「光記録媒体及びその製造方法」の請求項１ないし２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２７９１８０７号の請求項１に係る特許を維持する。
【理由】
（１）手続の経緯
　本件特許第２７９１８０７号に係る発明は、平成１年９月２１日に特許出願され、平成１０年６月１９日にその特許の設定登録がなされ、その後、田中浩貴、株式会社ネピユー技研より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年８月３０日に訂正請求がなされ、これに対して訂正拒絶理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年１０月４日に訂正請求の補正がなされたものである。
（２）訂正の適否についての判断
ア．訂正請求に対する補正の適否について
　当該訂正請求に対する補正は、訂正請求書第２頁（２）のｂ）、ｄ）、ｎ）について、訂正箇所の特定を明細書から特許公報に変えて明確にすると共に、同第３頁及び全文訂正明細書の第１８頁に記載された実施例１２における酸素濃度「５０ｐｐｍ」という記載（誤記）を「８０００ｐｐｍ」と訂正する補正であって、訂正請求書の要旨を変更するものではないので、特許法第１２０条の４第３項において準用する同法第１３１条第２項の規定に適合する。
イ．訂正明細書の請求項１に係る発明
　訂正明細書の請求項１に係る発明（以下「本件発明」という）は、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
　【請求項１】基板上に記録層を設けた後に、酸素及び不活性ガスの混合気体雰囲気中で紫外線硬化型樹脂を該記録層上及び／または該基板の記録層が形成された面とは反対側の面上に塗布し、次いで酸素濃度が３０乃至９０００ｐｐｍの酸素及び不活性ガスの混合気体雰囲気中で該紫外線硬化型樹脂の硬化処理を行って有機樹脂保護層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
ウ．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　特許権者が求めている訂正の内容は次のＡ〜Ｄのとおりである。
　Ａ、特許請求の範囲の旧請求項１を削除し、旧請求項２を請求項１とする訂正。
　Ｂ、Ａの訂正に伴い、明細書中の対応箇所の記載を整合させるための訂正。
　Ｃ、実施例１１、実施例１２を追加すると共に関係する記載箇所を整合させるための訂正。
　Ｄ、比較例６〜１１の番号を整理すると共に、関係する記載箇所を整合させるための訂正。
　上記Ａの訂正は、特許請求の範囲の減縮に該当し、上記Ｂ、Ｄの訂正は、明りょうでない記載の釈明に該当する。また、上記Ｃの訂正も、請求項１における酸素濃度の数値限定の臨界的意義を明確にするためのものであって、明りょうでない記載の釈明に該当する。そして、上記Ａ〜Ｄのいずれの訂正も新規事項の追加に該当せず、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
エ．独立特許要件の判断
　ａ、特許法第３６条違反について
　当審が通知した取消理由通知の対象となった旧請求項１の光記録媒体に係る発明は、訂正請求により削除されたので、理由Ａのゲル分率に関する記載不備は解消した。
　また、実施例１１、１２として、酸素濃度が５０ｐｐｍ及び８０００ｐｐｍのデータが追加されたので、酸素濃度の数値限定の臨界的意義に関する理由Ｂの記載不備も解消した。
　さらに、比較例の番号が整理されたので理由Ｃの記載不備も解消した。
　ｂ、特許法第２９条第１項第３号違反について
　当審が通知した取消理由通知の対象となった旧請求項１の光記録媒体に係る発明は、訂正請求により削除されたので当該取消理由は解消した。
オ．むすび
　以上のとおりであって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２〜４項の規定に適合するものであるから、当該訂正を認める。
（３）特許異議申立てについて
ア．本件発明
　本件発明は、上記（２）イ．に記載したとおりのものである。
イ．申立ての理由の概要
　特許異議申立人田中浩貴は、旧請求項１の発明は特許法第２９条第２項の規定に該当し、また、旧請求項１の発明に関連して本件特許明細書には酸素濃度とゲル分率の記載について不備があるから特許法第３６条の規定を満たしておらず、取り消されるべきものであると主張している。
　また、特許異議申立人株式会社ネピユー技研は、甲第１〜３号証を提出して、旧請求項１の発明は甲第１号証に記載された発明と同一であり、本件発明及び旧請求項１の発明は、甲第１〜３号証の記載に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから特許法第２９条第１項第３号及び第２項の規定に該当し、取り消されるべきものであると主張している。
ウ．判断
　上記ウ．に示したように旧請求項１は削除されたので、これに関連する異議申立ては理由のないものとなった。
　次に、ネピユー技研の提出した甲第１号証（特開昭６１−１３３０６７号公報）、甲第２号証（株式会社ネピユー技研から大日本インキ化学工業株式会社への実験依頼書）、甲第３号証（大日本インキ化学工業株式会社から株式会社ネピユー技研への実験報告書）には、本件発明の構成要件である「酸素濃度が３０乃至９０００ｐｐｍの酸素及び不活性ガスの混合気体雰囲気中で該紫外線硬化型樹脂の硬化処理を行って有機樹脂保護層を形成する」点について何も記載されていない。
　したがって、本件発明は、甲第１号証に記載された発明ではなく、また、甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもない。
エ．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年１０月１２日（１９９９．１０．１２）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
Ａ、特許請求の範囲の減縮を目的として、旧請求項１を削除し、旧請求項２を請求項１とする訂正。
Ｂ、特許請求の範囲の訂正に伴い、明瞭でない記載の釈明を目的として、明細書中の対応箇所の記載を整合させるための訂正。
Ｃ、明瞭でない記載の釈明を目的として、実施例１１、実施例１２を追加すると共に関係する記載箇所を整合させるための訂正。
Ｄ、明瞭でない記載の釈明を目的として、比較例６〜１１の番号を整理すると共に、関係する記載箇所を整合させるための訂正。
（５４）【発明の名称】
光記録媒体
の
（５７）【特許請求の範囲】
（１）　基板上に記録層を設けた後に、酸素及び不活性ガスの混合気体雰囲気中で紫外線硬化型樹脂を該記録層上及び／または該基板の記録層が形成された面とは反対側の面上に塗布し、次いで酸素濃度が３０乃至９０００ＰＰ皿の酸素及び不活性ガスの混合気体雰囲気中で該紫外線硬化型樹脂の硬化処理を行って有機樹脂保護層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
　本発明は、光記録媒体の製造方法に関し、特に保存安定性の優れた光記録媒体の製造方法に関する。
〔従来技術及びその問題点）
　近年、光記録媒体は、その記録容量が大きいことから、大容量データファイル等に実用化されている。
　光記録媒体は、通常、ガラス、樹脂等の透明基板上に記録層の薄膜がある形態を有しており、記録層の種類により、ＲＯＭ型媒体、ＷＯ型媒体、光磁気記録型媒体がある。
　中でも、光磁気記録型媒体は、レーザー光による書き込み読み出しが可能な媒体として、注目されており活発に改良開発が成されている。
　光磁気記録媒体の使用形態としては、通常スパッタリング等の成膜法で設けた記録層、誘電体保護層、金属反射層の薄膜よりなる光磁気記録層を、透明基板上に設けた媒体を単一で使用する場合と、基板を外側に向けて接着剤層を介して前記単一の媒体を２枚貼り合わせた両面記録型の形態で使用する場合とがある。後者の両面記録型のタイプは記録容量が大きいので広く使用されている。
　例えば、前記光磁気記録媒体の場合その記録層としては、光磁気記録特性が優れていることから希土類金属及び遷移金属等を主体とする薄膜の記録層を設けたものが一般的であるが、希土類遷移金属の薄膜は特に希土類金属が極めて酸化され易いために、光磁気記録媒体の保存安定性に問題があった。この問題を軽減するために例えば、特開昭６２−２９３５３７号公報に開示されているように希土類遷移金属中にＰｔやＣｒ等の金属を添加する方法、あるいは希土類遷移金属薄膜の記録層の上下に誘電体保護層の薄膜を設けて希土類遷移金属薄膜の酸化を防止し光磁気記録媒体の保存安定性を確保する方法等が提案されている。
　光磁気特性との両立という観点から後者の方法が一般的であり例えば、特開昭６２−２８７５３号公報、特開昭５９−１２１３６８号公報、特開昭６０−８０１４４号公報等に開示されているように誘電体保護層に用いる素材として、ＳｉＮ，Ａｌ２Ｏ３，、ＳｉＯ２，ＺｎＳ，ＡｌＮ，ＡｌＳｉＮ等が知られている。しかしながら、以上の方法だけでも充分でない。
　また、ビット形状を改良してＣ／Ｎ向上させるために前記光磁気記録層の最上層にＡｌやＡｌの合金等の薄膜よりなる金属反射層が設けられるが、その金属反射層も外部の酸素や水分の影響を受けて腐食され易いという問題もある。
　特に、両面記録型光磁気記録媒体にあっては、接着剤層を通して大気や水分が侵入したり、接着剤層中に含まれる気泡さらに接着剤層中に残存している腐食性物質等によって前記記録層や前記金属反射層が腐食されることがしばしばあった。
　この問題を解決するために前記接着剤層と前記光磁気記録層との間に有機樹脂よりなる有機樹脂保護層を設ける方法が、例えば、特開昭６１−８０５３２号公報、特閉昭６１−１３３０６７号公報、特開昭６３−７４１４４号公報、特開昭６３−２３９６２８号公報等には、紫外線硬化型樹脂やホットメルト型樹脂を使用することが提案されている。
　また、前記接着剤層にはエポキシ系樹脂やホットメルト型の樹脂を使用することも提案され、一般的に使用されている。
　また、光記録媒体において、前記基板の記録層がある面とは反対側の通常記録再生用光が入射する面にも傷が付かないように有機樹脂保護層が設けられる。
　前記の記録層もしくは基板上に設けられる有機樹脂保護層としては、製造時に加熱が不要であること、硬化が迅速にできること、大気や水分の遮断性が比較的優れていること等の点で紫外線硬化型樹脂が広く使用されている。
　前記紫外線硬化型樹脂には、大きく分けてラジカル重合型とイオン重合型がある。
　イオン重合型紫外線硬化型樹脂は重合を開始するイオン種が空気中の酸素により阻害されにくい利点がある。しかし、重合を開始するイオン種は強酸が多くそのため記録層に腐食等の影響を及ぼすことがあること、また、重合反応が遅く硬化までにかなりの時間を要する等の問題があり、光磁気記録層の前記有機樹脂保護層としては、ラジカル重合型紫外線硬化型樹脂が使用されている。
　しかしながら、ラジカル重合型紫外線硬化型樹脂は、紫外線照射によって生じたラジカルが空気中の酸素に阻害されて重合の効率を低下させる。
　この有機樹脂保護層中に未反応のまま残る残留モノマーが前記記録層もしくは光磁気記録媒体における前記金属反射層の変形や腐食を引き起こして、光磁気記録媒体の動特性や静特性を劣化させる事があった。
　ラジカル重合型紫外線硬化型樹脂を接着剤として使用する場合、真空雰囲気中で硬化処理を行う方法が特開昭６３−２３９６２８号公報に提案されているが、この方法を有機樹脂保護層の形成に利用する場合真空設備が必要なこと、また、硬化処理に多大の時間を要するため、量産性やコストを考えた場合、その実用性に問題があった。
　また、紫外線硬化型樹脂を有機樹脂保護層に利用する場合、硬化が進み過ぎて有機樹脂保護層の内部に硬化部の収縮応力の蓄積により媒体に反りが発生しその機械特性を低下させるという問題もあった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
　本発明は、前記従来技術の問題点に鑑みなされたものであり、特に、有機樹脂保護層の形成方法の改良によって、保存安定性に優れかつ機械特性にも優れた光記録媒体を
製造できる方法を
〔問題点を解決するための手段〕
　前記本発明の目的は、基板上に記録層を設けた後に、酸素及び不活性ガスの混合気体雰囲気中で紫外線硬化型樹脂を該記録層の上及び／または該基板の記録層が形成された面とは反対側の面上に塗布し、次いで酸素濃度が３０乃至９０００ｐｐｍの酸素及び不活性ガスの混合気体雰囲気中で該紫外線硬化型樹脂の硬化処理を行って有機樹脂保護層を形成するようにした本発明の光記録媒体の製造方法によって達成される。
　すなわち、本発明
方法による
　本発明
方法により
　また、前記紫外線硬化型樹脂を前記記録層もしくは記録層を設けた面とは反対側の基板の上面に塗布した後、硬化処理する工程においては、前記混合気体雰囲気中における酸素濃度は、９０００乃至３０ｐｐｍであり、望ましくは５０００乃至５０ｐｐｍである。酸素濃度が、あまり大きくなると有機樹脂保護層として前記光記録層上もしくは基板上に塗布された紫外線硬化型樹脂の硬化が阻害され、またあまり少ないと硬化が進み過ぎて有機樹脂保護層の硬化収縮率が大きくなって光記録媒体に反りが生じるようになるので好ましくない。
　以上のように、本発明
方法による
　特に、この反りの問題は、有機樹脂保護層の膜厚が４〜５μｍ以上の厚さとなると顕著になる。
　本発明において前記混合気体雰囲気における不活性ガスとしては、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン等の希ガスが望ましく、中でも窒素がその汎用性、コストの点で特に望ましい。
　また、本発明
方法による
　また、前記紫外線硬化樹脂中に適宜増感剤、溶剤、レベリング剤、帯電防止剤、防黴剤、フイラー等を添加してその特性を更に高めることもできる。
　また、帯電防止機能を有した紫外線硬化樹脂として、特開昭６１−１１８４１３号公報、特開昭５９−８０４０３号公報、特開昭５７−４７３０２号公報、特開昭５５−８６８４８号公報、特開昭５５−８６４４公報、特開昭６２−２０７３５３号公報に開示されているようなアクリロイルオキシ基（エチレンオキサイド基）を有するアクリル酸エステルにエタノールアミン等のアルキルアミンやアクリル系第４アンモニウム塩を加えた混合物に光開始剤を添加したもの、ハロゲン原子を有するメタアクリル酸を用いたもの、３級アミンをカチオン化処理によりカチオン化した後にビニルモノマー等で変性したものが使用できる。
　前記有機樹脂保護層の塗布は、通常スピンコート法によって行われる。すなわち、例えば光記録媒体が光磁気記録媒体である場合基板上に形成された光磁気記録層の上面に１０００〜５０００ｐｐｍで数秒から数１０秒回転させ２乃至２０μｍの厚さで紫外線硬化樹脂が塗布され、前記記録層の上面及び側面もしくは基板の記録層がある面とは反対側の面が紫外線硬化樹脂の塗膜で被覆される。
　この工程は、酸素と不活性ガスの混合ガス雰囲気下で行い、酸素濃度としては１００００ｐｐｍ以上であることが望ましい。
　次いで、残留酸素濃度９０００〜３０ｐｐｍ、望ましくは、５０００〜５０ｐｐｍの雰囲気下で塗布された前記有機樹脂保護層に紫外線を照射して硬化処理により、紫外線硬化樹脂の塗布膜の内部における樹脂分子の架橋により硬化がなされる。前記光磁気記録層上及び側面に有機樹脂保護層が形成される。
　なお、上記の硬化のための紫外線の照射条件は、照射雰囲気の酸素濃度が５０００乃至５０ｐｐｍにおいては１００ｍＷ／ｃｍ２の強度で１０秒間程度で充分であり紫外線硬化樹脂の前記塗布膜内における紫外線による分子の架橋反応は殆ど終了する。
　前記有機樹脂保護層の厚さは、１乃至１５μｍであることが望ましい。
　本発明
方法による
　前記有機樹脂保護層の前記ゲル分率を前記の範囲にするためにも有機樹脂保護層の塗布、硬化処理時の雰囲気の条件を本発明のようにすることが有効である。
　例えば、酸素濃度５０００乃至５０ｐｐｍにおいて、１００ｍＷ／ｃｍ２の強度の紫外線を約１０秒ほど照射することにより、有機樹脂保護層の前記ゲル分率が望ましい範囲にできる。
　なお、前記ゲル分率は、硬化した紫外線硬化樹脂の被膜を６０乃至７０℃に加熱したメチルエチルケトンに浸せきして、可溶分を抽出したときの抽出前後における被膜の重量変化から算出する。すなわち、
ゲル分率＝〔１−（Ｗｏ−Ｗｉ）／Ｗｏ〕×１００（％）
　　　　＝（Ｗｉ／Ｗｏ）×１００（％）
である。
　ここで、Ｗｏは、抽出前の被膜の重量、Ｗｉは、抽出後の被膜の重量である。
　本発明方法による光記録媒体の光記録層の薄膜の成膜は、通常、マグネトロンスパッタ等のスパッタ法によりなされる。
　ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリオレフィン、エポキシ等の樹脂基板もしくは、ガラス基板上に記録層や誘電体保護層、場合によっては金属反射層の薄膜が順次成膜される。
　本発明
方法による
　本発明
方法による
　しかしながら、上記希土類遷移金属合金は、非常に酸化され易く化学的に不安定であるので通常は、希土類遷移金属合金よりなる記録層の上下に誘電体保護層を設けて、記録層の耐久性や光磁気特性を高めている。前記誘電体保護層に使用される該誘電体としては、ＡｌＮ、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘ、ＳｉＡｌＯＮ等がある。中でもＳｉＮｘ、ＳｉＡｌＯＮが望ましい。
　また、前記記録層の耐腐食性を高めるために希土類遷移金属合金の薄膜の双方もしくはいずれかにＣｒ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ａｌ等の金属を添加することも行われている。
　さらに、記録層を薄層化して記録再生用光ビームを透過し易くし、かつ光磁気記録層の最上層に金属反射層を設けてフアラデー効果とカー効果の双方が利用できるようにして、光磁気記録媒体のＣ／Ｎを高め、記録されたビット形状の対称性が良くなることと、ビットシフトが生じにくくすることもなされる。
　前記金属反射層は、通常反射率の高い金属の薄膜であり、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｎｉ及びＴｉ等の単体もしくは合金が使用され、中でも特にコストが安価であること、反射率さらに熱伝導性が比較的良好であること等の理由からＡｌ、Ｃｕが主に検討されている。
　以上の光磁気記録層を構成する各薄膜の膜厚は、記録層では、２００乃至４００Å、誘電体保護層では、１００乃至１５００Å、また金属反射層としては、２００乃至７００Åの範囲で選択される。
　本発明
方法による
　上記反射層の膜厚は、５００〜１５００Åの範囲である。
　本発明
方法による
　また、記録性能の向上のため金属薄膜、誘電体、有機物等の下引き層や耐食性の向上のためＳｉＯ２等の誘電体膜を用いてオーバーコート層や記録層をはさんでサンドイッチ構造とすることもできる。
　上記記録層の膜厚としては、５００〜１２００Å略程度である。
　本発明方法による光記録媒体に用いられる基板は、ガラス、もしくはポリカーボネート、メチルメタクリレート、エポキシ樹脂等の樹脂基板である。
　また、本発明
方法による
　本発明
方法により
　第１図及び第２図に、要部断面の概略図でその一例を示す反密閉構造の紫外線硬化処理ユニットを用いることにより、本発明
方法によって光記録媒体の有機樹脂保護層用紫外線硬化型樹脂の硬化処理を作業性良く
　すなわち、策１図の装置では、前記光記録層上に紫外線硬化型樹脂の塗膜が設けられた媒体１が、媒体搬送アーム２の上に固定されて、塗布ゾーンから紫外線硬化処理ユニット部のガスパージチャンバー３の下部に送られてくる。ここで前記媒体搬送アーム２は第１図の形状に限定されるものではなく、コンベア式やウォーキングビーム方式などの他の搬送手段であっても差し支えない。
　前記ガスパージチャンバー３は、その底部が開放された箱型であり、その上面には紫外線透過用の石英ガラス窓４があり、その側面には酸素及び不活性ガスの混合気体導入口５が設けられておりそこから流量が調節された酸素及び不活性ガスが前記ガスパージチャンバー３内に送りこまれ、前記媒体１が曝される雰囲気の混合気体中の酸素濃度が９０００乃至３０ｐｐｍに保持されている。紫外線透過用の前記石英ガラス窓４は、石英ガラスに限定されるものではなく、紫外線をある程度透過するものであれば他の材質であってもよい。
　前記ガスパージチャンバー３は、紫外線ランプハウス６の真下に置かれており、紫外線ランプ７及び反射鏡８からなる紫外線ユニットから熱線カットフィルター９及び前記石英ガラス窓４を通って紫外線が前記媒体１の紫外線硬化型樹脂の塗布膜上に照射され、硬化処理が行われる。この際、前記媒体１の表面温度が余り高くならない場合は、前記熱線カットフィルター９を取り除いてもよい。
　ここで熱線カットフィルターは媒体に与える輻射熱を考慮して設置するものであり媒体の温度があまり上らない場合は設置の必要はない。
　また石英板等紫外線透過性のものを使っても良い。
　第１図の紫外線硬化処理ユニットは、密閉式ではないので、媒体の搬入、搬出が迅速に、円滑に行うことができ、かつ硬化処理の際の媒体１の硬化処理が行われる雰囲気の酸素濃度も、発明者の実験の結果では、かなりの精度で調節することができ、本発明の目的を十分に達成することが確認された。
　さらに、硬化処理する雰囲気の酸素濃度の精度を高める為に、第２図に示した紫外線硬化処理ユニットでは、前記搬送アームの下部からもその側壁に混合気体排出口１０を設けたガスパージ補助チャンバー１１を前記媒体１が固定されている搬送アーム２を囲うようにして設置することも本発明の目的を達成する上て効果的である。この時も前記媒体搬送アーム２は第１図の形状に限定されるものではなく、コンベア式やウォーキングビーム方式などの他の搬送手段であっても差し支えない。また、酸素及び不活性ガス混合気体の前記導入口５及び前記排出口１０は、必ずしも第１図第２図の形状に限られるものではなく、各々複数設けたり、前記ガスチャージチャンバー３の外側に設置してもよい。また、第２図の構造のものにあっては敢えて設置しなくてもよい。
　また本発明の目的からは、媒体上に塗布された紫外線硬化樹脂の塗膜表面近傍の酸素濃度をある範囲に設定しても良い。
　この時は図−１のガスパージチャンバーを設置する必要はなく、紫外線を照射する手前に不活性ガス導入口を設け、ここで不活性ガスを媒体上の紫外線硬化樹脂塗膜表面に吹き付けて酸素濃度の制御を行なう。
　この方法を用いても発明者の実験結果からは十分な精度をもって調節可能であり、本発明の目的を達成することができる。
〔発明の効果〕
　紫外線硬化樹脂の塗布及び硬化処理工程の雰囲気を
酸素濃度が３０至９０００ｐｐｍの酸素及び不活性ガスの
また上記硬化の処理を、有機樹脂保護層ゲル分率が８５乃至９８％となるように行うことにより、反り、変形の少ない光記憶媒体を得ることができる。
　前記本発明の効果を以下の実施例及ぴ比較例によって明確にする。
〔実施例−１〕
　連続式スパッタリング装置を用いて、１３０φ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板上に以下のような順で各薄膜を成膜して単板の光磁気記録媒体を２枚得た。まず、第１の誘電体保獲層としてＳｉＮｘ薄膜を１０００Åの厚さで成膜し、次にＴｂＦｅＣｏよりなる記録層を１０００Åの厚さで前記第１の誘電体保護層の上に成膜した。さらに、この記録層の上に第２の誘電体保護層としてＳｉＮｘ薄膜を１０００Åのさで成膜して前記ポリカーボネート基板上に光磁気記録層を形成した。
　次に、前記光磁気記録層をその表面に有した前記基板を紫外線硬化型樹脂塗布用のチャンバー中に入れ、そのチャンバー中に空気を送り込み、雰囲気の酸素濃度が２０９０００ｐｐｍとした。そして、スピンコートにより以下の組成Ａの紫外線硬化樹脂を４μｍの厚さで前記光磁気記録層上に塗布した。
紫外線硬化樹脂−組成Ａ
　ウレタンアタリレート（東亜合成化学工業（株）製アロニツクス＃Ｍ−１１００）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０重量部
　トリメチロールプロパントリアクリレート　　　　　　　　　　　　　　　２０重量部
　Ｎ−ビニルビロリドン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０重量部
　２−ヒドロキシ−２−メチル−１一フェニルブロパン−１−オン（メルク社製Ｄａｒｏｃｕｒ＃１７３）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３重量部
　次に、光磁気記録層の上に紫外線硬化型樹脂の塗膜を設けた媒体を硬化処理用のチャンバーに移して、このチャンバー内に酸素及び窒素を送り込みチャンバー内の雰囲気の酸素濃度を５００ｐｐｍとした。
　しかる後、前記チャンバーの上部に設けた石英板を通して紫外線を前記紫外線硬化樹脂の塗布膜の表面に１０秒間照射した。このときの紫外線の強度は前記紫外線硬化樹脂の塗布膜上で１００ｍＷ／ｃｍ２であった。
　かくして、前記光磁気記録層上に形成された紫外綿硬化樹脂よりなる有機樹脂保護層のゲル分率を前記メチルエチルケトン中での抽出による方法で測定したところ９０％であった。
　以上のように作成した２枚の媒体の前記有機樹脂保護層の上に束亜合成化学（株）製の合成ゴム系ホットメルト接着剤＃ＸＷ−１３をロールコーターによって２０μｍの厚さに塗布し、プレス機を用いて５ｋｇ／ｃｍ２の圧力にて前記有機樹脂保護層を向かい合わせにして、基板の光磁気記録層のない面を外側に向けて貼り合わせ両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
〔実施例−２〕
　組成Ａの代わりに、紫外線硬化樹脂として以下に示す組成Ｂを使用した以外は、実施例−１と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試科を得た。
紫外線硬化樹脂−組成Ｂ
　多官能ポリエステルアクリレート（東亜合成化学工業（株）製アロニツクス＃Ｍ−８０６０）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８０重量部
　Ｎ−ビニルビロリドン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０重量部
　２一ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メルク社製Ｄａｒｏｃｕｒ＃１７３）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３重量部
〔実施例−３〕
　組成Ａの代わりに、以下に示す紫外線硬化樹脂を使用した以外は、実施例−１と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
紫外線硬化樹脂
　大日本インキ化学工業（株）製＃ＳＤ−１７（テトラヒドロフルフリルアクリレート、ネオベンチルグリコールジアクリレート、ベンゾフエノンを成分として含有）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００重量部
〔実施例−４〕
　記録層の薄膜を３００Å、第２誘電体層の薄膜を５００Åとしさらに前記第２誘電体層の上に金属反射層としてＡ１の薄膜を５００Åの厚さで成膜した以外は、実施例−１と同一の条件で光磁気記録層を形成し、かつ、組成Ａの代わりに、紫外線硬化樹脂として以下に示す組成Ｃを使用した以外は、実施例−１と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
紫外線硬化樹脂−組成Ｃ
　テトラヒドロフルフリルアクリレート　　　　　　　　　　　　　　　　　２０重量部
　ネオペンチルグリゴールジアクリレート　　　　　　　　　　　　　　　　２０重量部
　トリメチロールプロパントリアクリレート　　　　　　　　　　　　　　　６０重量部
　ベンゾフエノン（日本火薬（株）製カヤキユアーＢＰ）　　　　　　　　　　３重量部
　得られた試料の有機樹脂保護層のゲル分率は９５％であった。
〔実施例−５〕
　組成Ｃの代わりに、紫外線硬化樹脂として組成Ａを使用した以外は、実施例−４と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
〔実施例−６〕
　組成Ｃの代わりに、紫外線硬化樹脂として組成Ｂを使用した以外は、実施例−４と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
〔実施例−７〕
　組成Ｃの代わりに、紫外線硬化樹脂として前記の大日本インキ化学工業（株）製＃ＳＤ−１７を使用した以外は、実施例−４と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
〔実施例−８〕
　組成Ｃの代わりに、以下に示す紫外線硬化樹脂を使用した以外は、実施例−４と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
紫外線硬化樹脂
　三菱レイヨン（株）製ＵＲ−４５０２（テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、メチルベンゾイルフオメートを成分として含有する。）
１００重量部
〔比較例−１〕
　組成Ａの代わりに、紫外線硬化樹脂として組成Ｃを使用し、かつ紫外線硬化樹脂の塗布及ぴ硬化処理を空気中で行い、さらに硬化処理における紫外線の照射時間を８０秒にした以外は実施例−１と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
　得られた有機樹脂保護層のゲル分率は８１％であった。
〔比較例−２〕
　紫外線硬化樹脂の塗布及び硬化処理を空気中で行い、さらに硬化処理における紫外線の照射時間を８０秒にした以外は実施例−１と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
〔比較例−３〕
　組成Ｃの代わりに、紫外線硬化樹脂として組成Ｂを使用し、かつ紫外線硬化樹脂の塗布及び硬化処理を空気中で行い、さらに硬化処理における紫外線の照射時間を８０秒にした以外は実施倒−４と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
〔比較例−４〕
　組成Ｃの代わりに、紫外線硬化樹脂として前記の大日本インキ化学工業（株）製＃ＳＤ−１７を使用し、かつ紫外線硬化樹脂の塗布及ぴ硬化処理を空気中で行い、さらに硬化処理における紫外線の照射時間を８０秒にした以外は実施例−４と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
〔比較例−５〕
　組成Ｃの代わりに、紫外線硬化樹脂として前記の三菱レイヨン（株）製＃ＵＲ−４５０２を使用し、かつ紫外線硬化樹脂の塗布及び硬化処理を空気中で行い、さらに硬化処理における紫外線の照射時間を８０秒にした以外は実施例−４と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
　以上のようにして得られた両面記録型光磁気記録媒体の試料について、その動特性、磁気特性（Ｈｃ）、ビットエラーレート（ＢＥＲ）の高温高湿度下に保存した前後における変化を測定して、保存安定性を評価した。
　高温高湿度の保存条件は、８０℃、８０％ＲＨで１０００時間である。
　高温高湿度下に保存する前の各特性の測定値を１．０としたときの保存後の値（比）をもって保存安定性の目安とした。
　また、保存後の光磁気記録層表面の状態を光学顕微鏡で観察した。
Ｃ／Ｎの測定：回転数１８００ｒｐｍ、キャリヤー周波数３．７ＭＨｚで記録再生し、キャリヤー出力レベルとノイズレベルとの差をとって、Ｃ／Ｎとした。
Ｈｃの測定：波長８３０ｎｍの半導体レーザー光を用いたカーヒステリシス装置で測定した。
ビットエラーレートの測定：回転数１８００ｒｐｍ、キャリヤー周波数３．７ＭＨｚで記録再生した条件で行った。
　評価結果を第１表に示す。
〔比較例−６〕
紫外線硬化型樹脂の硬化処理用チャンバーの酸素濃度を１００００ｐｐｍとした以外は、実施例−４と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
　得られた試料の有機樹脂保護層のゲル分率は、８３％であり、高温高湿下保存前後のＢＥＲの変化は前記ＢＥＲ比で２．７にもなった。
　そして、保存後の記録層には腐食が観察された。
〔比較例−７〕
　窒素ガスの通気時間を充分にとって、紫外線硬化型樹脂の硬化処理用チャンバーの酸素濃度を１０ｐｐｍとした以外は、実施例−４と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
　得られた試料の有機樹脂保護層のゲル分率は、９９％であった。
　しかし、媒体の反りが大きく実施例−４では、２．０ｍｒａｄであったものが、３．４ｍｒａｄにもなった。
〔実施例−９〕
　連続式スパッタリング装置を用いて、１３０φ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板上に以下のような順で各薄膜を成膜して単板の光磁気記録媒体を２枚得た。まず、第１の誘電体保護層としてＳｉＮｘ薄膜を１０００Åの厚さで成膜し、次にＴｂＦｅＣｏよりなる記録層を３００Åの厚さで前記第１の誘電体保護層の上に成膜した。さらに、この記録層の上に第２の誘電体保護層としてＳｉＮｘ薄膜を５００Åの厚さで成膜し更にその上に金属反射層として、Ａ１の薄膜を５００Åの厚さで成膜して前記ポリカーボネート基板上に光磁気記録層を形成した。
　次に、前記光磁気記録層をその表面に有した前記基板を紫外線硬化型樹脂塗布用のチャンバー中に入れ、そのチャンバー中に空気を送り込み、雰囲気は空気中で、スピンコートにより以下の組成Ｄの紫外線硬化樹脂を５μｍの厚さで前記基板の光磁気記録層を設けた面とは反対の面上に塗布した。
　紫外線硬化樹脂−組成Ｄ
　テトラヒドロフルフリルアクリレート　　　　　　　　　　　　　　　　　２０重量部
　２−エチルヘキシルアクリレート　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０重量部
　トリメチロールプロパントリアクリレート　　　　　　　　　　　　　　　６０重量部
　メチルベンゾイルフオメート　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３重量部
　次に、光磁気記録層の上に紫外線硬化型樹脂の塗膜を設けた媒体を硬化処理用のチャンバーに移して、このチャンバー内に酸素及び窒素を送り込みチャンバー内の雰囲気の酸素濃度を５００ｐｐｍとした。
　しかる後、前記チャンバーの上部に設けた石英板を通して紫外線を前記紫外線硬化樹脂の塗布膜の表面に１０秒間照射した。このときの紫外線の強度は前記紫外線硬化樹脂の塗布膜上で１００ｍＷ／ｃｍ２であった。
　かくして、前記光磁気記録層上に形成された紫外線硬化樹脂よりなる有機樹脂保護層のゲル分率を前記のメチルエチルケトン中での抽出による方法で測定したところ９３％であった。
　以上のようにして作成した２枚の媒体の前記有機樹脂保護層の上に束亜合成化学工業（株）製の合成ゴム系ホットメルト接着剤＃ＸＷ−１３をロールコー夕ーによって２０μｍの厚さに塗布し、プレス機を用いて５ｋｇ／ｃｍ２の圧力にて前記有機樹脂保護層を向かい合わせにして、基板の光磁気記録層のない面を外側に向けて貼り合わせ両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
〔比較例−
８
　紫外線硬化樹脂の硬化処理を空気中で行い、さらに硬化処理における紫外線の照射時間を８０秒にした以外は実施例−９と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
　得られた有機樹脂保護層のゲル分率は８４％であった。
〔実施例−１０〕
　組成Ｄの代わりに、紫外線硬化樹脂として以下に示す組成Ｅを使用した以外は、実施例−９と同一の条件て両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
紫外線硬化樹脂−組成Ｅ
　テトラヒドロフルフリルアクリレート　　　　　　　　　　　　　　　　　２０重量部
　トリメチロールプロパントリアクリレート　　　　　　　　　　　　　　　６０重量部
　２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸　　　　　　　　　　１０重量部
　Ｎ−ラウリルジエタノールアミン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０重量部
　ベンゾインエチルエーテル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３重量部
　記録層のある面とは反対の基板の面上に設けた有機樹脂保護層のゲル分率は、８９％であった。
〔比較例−
９
　紫外線硬化樹脂の硬化処理を空気中で行い、さらに硬化処理における紫外線の照射時間を８０秒にした以外は実施例−９と同一の条件で両面記録型の光磁気記録媒体の試料を得た。
　得られた有機樹脂保護層のゲル分率は７７％であった。
〔比較例−１０〕
　窒素の流量を高めて雰囲気の酸素濃度を１０ｐｐｍとして、紫外線硬化樹脂の硬化処理を行った以外は、実施例−９と同一の条件で光磁気記録媒体の試料を作成した。
　このときの有機樹脂保護層のゲル分率は、９６％であった。
〔比較例−
１１
　窒素の流量を高めて雰囲気の酸素濃度を１０ｐｐｍとして、紫外線硬化樹脂の硬化処理を行った以外は、実施例−１０と同一の条件で光磁気記録媒体の試料を作成した。
　このときの有機樹脂保獲層のゲル分率は、９５％であった。
〔実施例−１１〕
　
雰囲気の酸素濃度を５０ｐｐｍとして、紫外線硬化樹脂の硬化処理を行った以は、実施例−４と同一の条件で光磁気記録媒体の試料を作成した。
　
このときの有機樹脂保護層のゲル分率は、９８％であった。
〔実施例−１２〕
　
雰囲気酸素濃度８０００ｐｐｍとして、紫外線硬化樹脂の硬化処理を行った以外は、実施例−４と同一の条件で光磁気記録媒体の試料を作成した。
　
このときの有機樹脂保護層のゲル分率は、８６％であった。
　以上のようにして得られた実施例−９
〜
１２、
１１
　同時に記録層がある面とは反対側の基板面の表面の硬さを鉛筆硬度て測定した。
　なお、反りの変化は、有機樹脂保護層を設ける前の媒体の反りをＴ０とし、有機樹脂保護層を形成後の反りをＴ１とした時、反り変化＝｜Ｔ０−Ｔ１｜とした。
　また反りの測定は、光ピックアップを被測定基体面に焦点を合わせ、該ピックアップが媒体に追随する時の変位量を求める。
　次に、基板の半径をＬ、基板の垂直方向の変位をＤとしたとき、反り＝Ｄ／Ｌと定義する。
　得られた結果を第２表に示す。
　比較例−
１０
１１
【図面の簡単な説明】
　第１図は、本発明
方法により
　第２図は、本発明
方法により
　　１　　媒体
　　２　　搬送アーム
　　３　　ガスパージチャンバー
　　４　　石英ガラス窓
　　５　　混合気体導入口
　　６　　ランプハウス
　　７　　紫外線ランブ
　　８　　反射境
　　９　　熱線カットフィルター
　１０　　混合気体排出口
　１１　　ガスチャージ補助チヤンバー