【事件の表示】
　特許第２９０６４７２号「透明成形体」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９０６４７２号の請求項１、２に係る特許を維持する。
【理　由】
［１］手続の経緯
　本件特許第２９０６４７２号（平成１年９月１日出願、平成１１年４月２日設定登録）に対して中石幸明から特許異議の申立がなされたので、取消理由を通知したところ、その指定期間内である平成１２年６月６日に特許異議意見書と共に訂正請求書が提出された。
　
［２］訂正の適否についての判断
〔訂正の内容〕
　訂正請求書による訂正事項は次のとおりである。
　１．特許請求の範囲の記載を次のとおりに訂正する。
「（１）透明基材から成形されてなる成形体、および、該成形体の表面から空気側に向かって順に設けられた高屈折率導電層（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）を有する透明成形体であり、高屈折率導電層（Ａ）が平均粒子径１〜３００ｎｍの無機微粒子を含みかつ表面抵抗値１０１０Ω／□以下の層であり、低屈折率層（Ｂ）が下記式（Ｃ）で表される化合物、または、下記（Ｃ）で表される化合物および下記式（Ｄ）で表される化合物、を必須成分として含有する組成物から形成されたフッ素化合物を含む層でありかつ高屈折率導電層（Ａ）よりも屈折率が低い層である透明成形体。
　　
　　Ｒｆ１、Ｒｆ２はパーフルオロアルキル基含有の有機基。
　　Ｒ１、Ｒ２は水素原子または炭素数１〜６の有機基。
　　ａ、ｂは独立に０、１、または２であって０≦ａ＋ｂ≦２を満たす。
　　ｃ、ｄは独立に０、１、または２であって０≦ｃ＋ｄ≦２を満たす。
　　Ｙは２価の有機基。ただし、ａ＋ｃ＝０の場合にはパーフルオロアルキ　　レン基を含有する２価の有機基。
　　Ｘは加水分解可能な有機基。
　　Ｒｆ３はパーフルオロアルキル基含有の有機基。
    Ｒ３は水素原子または炭素数１〜６の有機基。
　　ｅは１または２であって、ｇは０、１、または２であって、１≦ｅ＋ｇ　　≦３を満たす。
    Ｘは加水分解可能な有機基。
（２）透明基材から成形されてなる成形体が、ガラスより成形されてなるディスプレイ表示体である請求項１に記載の透明成形体。」
　２．明細書（平成８年８月３０日付けで提出された全文訂正明細書、以下、同じ。）第３頁第６行の「フッ素化合物を含み」の記載を「下記式（Ｃ）で表される化合物、または、下記式（Ｃ）で表される化合物および下記式（Ｄ）で表される化合物、を必須成分として含有する組成物から形成されたフッ素化合物を含む層であり」と訂正する。
　３．明細書第４頁第１０行〜第１１行の「下記式（Ｃ）で表される化合物（以下、（Ｃ）成分と記す。）および／または下記式（Ｄ）で表される化合物（以下、（Ｄ）成分と記す。）」を「下記式（Ｃ）で表される化合物（以下、（Ｃ）成分と記す。）、または、（Ｃ）成分および下記式（Ｄ）で表される化合物（以下、（Ｄ）成分と記す。）、」と訂正する。
　４．明細書第４頁第１３行の「好ましい。」を「採用される。」と訂正する。
　５．明細書第５頁第４行〜第５行の「（Ｃ）成分および／または（Ｄ）成分を含有する組成物が好ましい。」を「（Ｃ）成分、または、（Ｃ）成分および（Ｄ）成分、を含有する組成物を用いる。」と訂正する。
　６．明細書第１３頁第６行〜第７行の「（Ｃ）成分または（Ｄ）成分のどちらか一方の成分が必須であるが、両成分が含有されていても問題はない。」を「（Ｃ）成分をまたは（Ｃ）成分と（Ｄ）成分とを含有する。」と訂正する。
　７．明細書第１３頁第８行の「（Ｃ）および／または（Ｄ）成分」を「（Ｃ）、（Ｄ）成分」と訂正する。
　８．明細書第１５頁第２６行の「および」を削除する。
　９．明細書第２０頁の第１表において「実施例１１」の行を削除し、さらに第１表における「実施例１２」を「実施例１１」に、「実施例１３」を「実施例１２」に、「実施例１４」を「実施例１３」に、「実施例１５」を「実施例１４」に、「実施例１６」を「実施例１５」にそれぞれ訂正する。
　１０．明細書第２１頁第１行の「実施例５〜１１」を「実施例５〜１０」と訂正し、同頁第６行の「実施例１２〜１６」を「実施例１１〜１５」と訂正し、同頁第１１行の「実施例１７」を「実施例１６」と訂正する。
　１１．明細書第２２頁の第３表において実施例１１の行を削除する。
　１２．明細書第２２頁の第４表において「実施例１２」を「実施例１１」に、「実施例１３」を「実施例１２」に、「実施例１４」を「実施例１３」に、「実施例１５」を「実施例１４」に、「実施例１６」を「実施例１５」にそれぞれ訂正する。
〔訂正の目的の適否〕
　訂正事項１による訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　訂正事項２〜７および訂正事項９〜１２による訂正は、訂正事項１による訂正に伴って明細書及び図面の記載が不明瞭になることの釈明を目的とするものである。
　訂正事項８による訂正は、誤記の訂正を目的とするものである。
　したがって、本件訂正は、特許法第１２０条の４第２項ただし書に規定する要件を満たすものである。
〔訂正の範囲の適否〕
　訂正事項１〜７および９〜１２による訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてするものである。
　訂正事項８による訂正は、願書に最初に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてするものである。
　したがって、本件訂正は、特許法第１２０条の４第３項において準用する同法第１２６条第２項に規定する要件を満たすものである。
〔拡張・変更の存否〕
　訂正事項１〜１２による訂正は、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　したがって、本件訂正は、特許法第１２０条の４第３項において準用する同法第１２６条第第３項に規定する要件を満たすものである。
〔独立特許要件の判断〕
　訂正後の発明：
　訂正後の請求項１〜２に係る発明は、訂正明細書の特許請求の範囲請求項１〜２に記載された事項により特定される前記のとおりのものである。
　刊行物の記載事実：
　特開昭６４−１５２７号公報（昭和６４年１月５日発行、特許異議申立人が提示した甲第１号証、以下、刊行物１という。）には次の記載がなされている。
　１−１「屈折率が１．５２以上のハードコート被膜を有するプラスチック製透明基材の表面に膜厚が１０〜５００ｎｍ、屈折率が該被膜より少なくとも０．０２以上低いフッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜を有することを特徴とする反射防止性物品。」（特許請求の範囲第１項）
　１−２「フッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜が下記一般式（１）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物および／またはその加水分解物の重合体であることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の反射防止性物品。
  （Ｒ１Ｑ）ＳｉＸ３Ｙ３−ａ　　　（１）
 （ここで、Ｒ１は炭素数１〜２ ０個のフッ素含有アルキル基であってエーテル結合あるいはエステル結合を１個以上含んでいてもよい。Ｑは二価の有機基、Ｘは低級アルキル基、Ｙはハロゲン、アルコキシ基、又はＲＣＯＯ−基（ただし、Ｒは水素原子又は低級アルキル基）、ａは０または１の整数を表す。）」（特許請求の範囲第２項）
　１−３「ハードコート被覆が無機酸化物微粒子を含むことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の反射防止性物品。」（特許請求の範囲第４項）
　１−４「薄膜全体のフッ素およびケイ素の元素含有率が、ケイ素に対するフッ素の重量比が、０．０２以上、１０以下であり、かつその最表面層においては、上記重量比が、該薄膜全体のケイ素に対するフッ素の重量比の８０％未満であり、かつ制電性を有することを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の反射防止性物品。」（特許請求の範囲第６項）
　１−５「本発明は、耐摩耗性，可染性、耐衝撃性、耐薬品性、可撓性、耐候性などに優れた反射防止性を有する光学物品を提供するものである。さらには、これらの特性を損なうことなく、帯電防止性に優れ、ゴミやホコリなどの付着を防止する反射防止性を有する光学物品を提供するものである。さらに本発明は、高屈折率のハードコート被膜を有するプラスチック製透明基材の表面に、低屈折率でかつフッ素を含有する有機ポリシロキサン系化合物の薄層を設けることにより、耐摩耗性、可染性、耐衝撃性などに優れた反射防止性物品を提供する。また塗膜表面を活性化ガス処理することにより、帯電防止機能を付与することを目的とする。」
（第３頁左上欄第１１行〜右上欄第５行）
　１−６「さらに本発明に使用されるハードコート被膜は、屈折率が１．５２以上であることが必要であり、これ以下では実質的に反射防止効果の発現を期待することができない。・・・このような屈折率が１．５ ２以上で鉛筆硬度が４Ｈ以上の透明膜であれば、何ら限定されるものではないが、より高い表面硬度やフッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜との接着性向上、さらには容易に高い屈折率を付与できるとの観点から屈折率の高い無機酸化物微粒子を樹脂被膜中に含有せしめてなるものが好ましく適用される。かかる無機酸化物微粒子としては、透明性を低下させないという意味から平均粒子径が約１〜３００ｎｍ、さらに好ましくは約５〜２００ｎｍのものが使用される。粒子径のあまり小さいものは作製が困難であり、コストが高くて実用的でなく、また余り大きなものは一般に透明感が低下するので上記範囲内のものが主として用いられる。これら無機酸化物微粒子としては、酸化タンタル、酸化アルミニウム、酸化チタニウム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化アンチモンの微粒子状物から選ばれる１種以上が好ましく用いられる。すなわち、これらを含む被膜は高い屈折率を与えるという他に透明性と表面硬度に優れているからである。・・・かかる無機酸化物微粒子は該ハードコート被膜中に１０〜７５重量％の範囲内で含まれることが好ましい。」
（第３頁左下欄第１４行〜第４頁左上欄第１５行）
　１−７「これらのフッ素含有有機化合物の具体的代表例としては、３，３，３−トリフロロプロピルトリアルコキシシラン、３，３，３−トリフロロプロピルメチルジアルコキシシラン、３−トリフロロアセトキシプロピルトリアルコキシシランなどがその例である。」
（第４頁左下欄第１３行〜第１７行）
　特開昭６４−４４７４２号公報（昭和６４年２月１７日発行、特許異議申立人が提示した甲第２号証、以下、刊行物２という。）には次の記載がなされている。
　２−１「透明基材上に、導電性微粒子とビヒクルとを主成分としてなる被膜を形成した透明成形品において、該被膜が、二酸化ケイ素を主成分とし、０．０４μｍ〜２０μｍの平均粒子径を有する凝集体を含有し、かつ鉛筆硬度で４Ｈ以上である表面硬度を有することを特徴とする表面被膜を有する透明成形品。」（特許請求の範囲第１項）
　２−２「透明基材が、無機ガラスまたはプラスチックであることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の表面被膜を有する透明成形品。」
（特許請求の範囲第２項）
　２−３「導電性微粒子が、酸化スズおよび酸化インジウムから選ばれる少なくとも１種を主成分とすることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の表面被膜を有する透明成形品。」（特許請求の範囲第３項）
　２−４「導電性微粒子が、０．００１μｍ以上、５μｍ以下の平均粒子径を有することを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の表面被膜。」
（特許請求の範囲第６項）
　２−５「ビヒクルが、Ｓｉ、Ｔｉ、ＡＩ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｗ、Ｔａから選ばれる少なくとも一種のコロイド状金属酸化物を含むことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の表面被膜を有する透明成形品。」
（特許請求の範囲第８項）
　２−６「被膜が、５×１０６　以下の比抵抗値（Ω・ｃｍ）と、８０％以下の曇価とを有することを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の表面被膜を有する透明成形品。」（特許請求の範囲第１０項）
　２−７「本発明は・・ノングレア性を有し、かつ高硬度の表面被膜を有する透明成形品を提供することを目的とする。」
（第２頁左下欄第９行〜第１２行）
　２−８「つぎに本発明における導電性微粒子とは被膜にした時に十分な透明性を与え、かつ導電性を付与するものであれば、特に限定されるものではないが、高い導電性と透明性の両者を満足させやすいという点から酸化スズ（アンチモンドーピング物を含む）、酸化インジウム／酸化スズ混合物などがその例として挙げられる。さらにかかる導電性微粒子の平均粒子径としては上述の目的が達せられるものであればよいが、特に分散状態が安定化し、均一被膜を得ることが容易であるという点からも０．００１μｍから５μｍの一次粒子径を有するものが好ましい。・・・また、かかる導電性微粒子は、目的とする被膜の導電性と透明性によっても異なるが、通常は１５〜９０重量％が被膜中に含まれていることが好ましい。すなわち、これより少ないと十分な導電性が得られず、またこれより多くなると　透明性などの外観、さらには基板との接着性などが著しく低下する傾向にある。」
（第２頁右下欄第１５行〜第３頁左上欄第１４行）
　２−９「本発明によって得られる被膜はその使用目的に応じて被膜の導電性、透明性は最適化されるべきものであるが、通常の透明基材への適用、液晶入力装置への応用などを考慮すると５×１０５　Ω・ｃｍ以下の比抵抗値で、曇価が３０％以下が好ましく用いられる。一方、帯電防止を目的とする場合には５×１０６　Ω・ｃｍ以下の比抵抗値で、曇価が８０％以下、さらに好ましくは１×１０６　Ω・ｃｍ以下の比抵抗値で、曇価が４０％以下が適用される。」 （５頁左上欄第１６行〜右上欄第４行）
　２−１０「本発明により得られる表面被膜を有する透明成形品には次のような効果がある。１．ノングレア性、透明性、導電性、耐久性を併せて有する。２．表面硬度が高く、傷がつきにくい被膜となる。３．静電気除去性に優れている。４．塗料安定性に優れている。」
（第６頁右下欄第１７行〜第７頁左上欄第２行）
　特開昭６３−２２８１０１号公報（昭和６３年９月２２日発行、特許異議申立人が提示した甲第３号証、以下、刊行物３という。）には次の記載がなされている。
　３−１「透明な高屈折率膜と低屈性率膜とを交互に重ね合わせ、最表面層が低屈折率膜となる反射防止膜であって、該高屈折率膜の少なくとも１つの膜に透明導電膜を用いた反射防止膜を透明基板に付着した帯電防止無反射板において、最表面層となる該低屈折率膜上に含フッ素高分子膜を形成するか、該低屈折率膜を含フッ素高分子膜に置換したことを特徴とする防汚性を有する帯電防止無反射板。」（特許請求の範囲第１項）
　３−２「前記透明導電膜が錫をドープした酸化インジウム、酸化第二錫、及び酸化亜鉛の少なくともいずれか１種を主成分とする膜である特許請求の範囲第１項に記載の防汚性を有する帯電防止無反射板。」
（特許請求の範囲第２項）
　３−３「本発明において、含フッ素高分子膜として・・・含フッ素アルキルシラン（（ＣＦ３ ）２ ＣＦＯ（ＣＨ２ ）３ＳｉＣ１３ ））・・・の膜が用いられる。」（第２頁右上欄第１１行〜左下欄第１行）
　３−４「本発明は、反射防止膜の高屈折率膜の少なくとも１つに帯電防止のための透明導電膜を用い、且つ最表面層となる低屈折率膜上に低屈折率で、且つ表面エネルギーの低い含フッ素高分子膜を形成したものであるから、無反射板の表面に帯電による集塵や水、油の吸着が生じにくくなるため、無反射性を維持したまま、表面の汚れを防止することができる。」
（第３頁左下欄下から４行〜右下欄第４行）
　特開昭６０−２４２４０１号公報（昭和６０年１２月２日発行、特許異議申立人が提示した甲第４号証、以下、刊行物４という。）には次の記載がなされている。
　４−１「基材の両面に粒状組成物を２層ずつ塗布し、それぞれを乾燥および／または硬化させることにより２層からなる反射光色を有する反射防止膜を形成する方法において、該反射防止膜の基材側の層（第１層）を膜厚２０〜３０００ｎｍで塗布し、該第１層の上に設けられる層（第２層）を液除去コート法で膜厚２０〜１０００ｎｍに塗布し、かつ第１層の屈折率が基材と第２層のいずれの屈折率よりも高くなるようにしたことを特徴とする反射防止膜の形成方法。」（特許請求の範囲）
　４−２「従来からガラス、およびプラスチック製品の光学的機能、特に反射防止機能は光線の有効利用という観点から、その向上が強く望まれている。たとえば、テレビ・・・等の表示装置におけるブラウン管や前面板においては、反射防止加工を施さない場合、装着時に光線の反射によって、表示物が見えなくなったり、小さな表示物については極めて見にくくなり眼に不快感を与え、さらに進むと目に疲労を感じ、使用能率を低下させるという問題点がある。」（第１頁左下欄末行〜右下欄第１０行）
　４−３「本発明の基材の代表的なものとしては、ガラス、プラスチック材料が挙げられる。」（第７頁右上欄第１行〜第２行）
　訂正後の請求項１に係る発明について：
　訂正後の請求項１に係る発明（前者）と刊行物１記載の発明（後者）とを対比すると、
　両者は、
「（１）透明基材から成形されてなる成形体、および、該成形体の表面から空気側に向かって順に設けられた高屈折率導電層（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）を有する透明成形体であり、高屈折率導電層（Ａ）が平均粒子径１〜３００ｎｍの無機微粒子を含み、低屈折率層（Ｂ）が珪素とフッ素を含む化合物を必須成分として含有する組成物から形成されたフッ素化合物を含む層でありかつ高屈折率導電層（Ａ）よりも屈折率が低い層である透明成形体」に係る点で軌を一にするものであるが、
　前者が、珪素とフッ素を含む化合物として（Ｃ）で表される化合物、または、（Ｃ）で表される化合物および（Ｄ）で表される化合物を用いるのに対して、後者では、珪素とフッ素を含む化合物として（Ｃ）で表される化合物、または、（Ｃ）で表される化合物および（Ｄ）で表される化合物を用いることを明らかにしていない点、
で相違する。
（１−１〜１−７参照）
　以下、上記相違点について検討する。
　刊行物２には、表面被膜を有する透明成形品の発明が、刊行物３には、防汚性を有する帯電防止無反射板の発明が、刊行物４には、反射防止膜の製造方法の発明が、それぞれ記載されているが、いずれの刊行物にも、各発明の目的達成のため、（Ｃ）で表される化合物、または、（Ｃ）で表される化合物および（Ｄ）で表される化合物を用いることは記載されていない。
　そうすると、刊行物２〜４の記載をもってしても、後者において（Ｃ）で表される化合物、または、（Ｃ）で表される化合物および（Ｄ）で表される化合物を用いることは、当業者が容易にできることではない。
　そして、前者は、訂正明細書記載の効果を奏したものと認められる。
　してみれば、前者、すなわち、訂正後の請求項１に係る発明は、刊行物１〜４記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえないから、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものである。
　訂正後の請求項２に係る発明について：
　訂正後の請求項２に係る発明は、訂正後の請求項１に係る発明を技術的に限定した発明である。
　してみれば、訂正後の請求項２に係る発明は、訂正後の請求項１に係る発明と同様、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものである。
　したがって、本件訂正は、特許法第１２０条の４第３項において準用する同法第１２６条第４項に規定する要件を満たすものである。
〔結び〕
　以上のとおりであるから、本件訂正を認める。
　
［３］特許異議の申立についての判断
〔申立の理由の概要〕
　特許異議申立人は、甲第１号証〜甲第４号証（刊行物１〜４）を提出し、訂正前の請求項１〜４（全請求項）に係る発明は、甲第１号証〜甲第４号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされた旨の主張をしている。
〔判断〕
　本件明細書は、前記のとおり訂正請求が認められ、訂正後のものとなった。
　そして、訂正後の請求項１〜２に係る発明は、独立特許要件の判断の項に示したとおり、刊行物１〜４記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認めることができない。
〔結び〕
　以上のとおりであるから、特許異議申立人の主張及び挙証によっては訂正後の請求項１〜２に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に請求項１〜２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１月２４日（２００１．１．２４）
【訂正の要旨】
訂正の要旨　
１．特許請求の範囲の記載を次のとおりに訂正する。
「（１）透明基材から成形されてなる成形体、および、該成形体の表面から空気側に向かって順に設けられた高屈折率導電層（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）を有する透明成形体であり、高屈折率導電層（Ａ）が平均粒子径１〜３００ｎｍの無機微粒子を含みかつ表面抵抗値１０１０Ω／□以下の層であり、低屈折率層（Ｂ）が下記式（Ｃ）で表される化合物、または、下記（Ｃ）で表される化合物および下記式（Ｄ）で表される化合物、を必須成分として含有する組成物から形成されたフッ素化合物を含む層でありかつ高屈折率導電層（Ａ）よりも屈折率が低い装である透明成形体。
　　Ｒｆ１、Ｒｆ２はパーフルオロアルキル基含有の有機基。
　　Ｒ１、Ｒ２は水素原子または炭素数１〜６の有機基。
　　ａ、ｂは独立に０、１、または２であって０≦ａ＋ｂ≦２を満たす。
　　ｃ、ｄは独立に０、１、または２であって０≦ｃ＋ｄ≦２を満たす。
　　Ｙは２価の有機基。ただし、ａ＋ｃ＝０の場合にはパーフルオロアルキレン基を含有する２価の有機基。
　　Ｘは加水分解可能な有機基。
　　Ｒｆ３はパーフルオロアルキル基含有の有機基。
　　Ｒ３は水素原子または炭素数１〜６の有機基。
　　ｅは１亦は２であって、ｇは０、１、又は２であって、１≦ｅ＋ｇ≦３を満たす。
　　Ｘは加水分解可能な有機基。
（２）透明基材から成形されてなる成形体が、ガラスより成形されてなるディスプレイ表示体である請求項１に記載の透明成形体。」
２．明細書（平成８年８月３０日付けで提出された全文訂正明細書、以下、同じ。）３頁６行の「フッ素化合物を含み」の記載を「下記式（Ｃ）で表される化合物、または、下記式（Ｃ）で表される化合物および下記式（Ｄ）で表される化合物、を必須成分として含有する組成物から形成されたフッ素化合物を含む層であり」と訂正する。
３．明細書４頁１０行〜同１１行の「下記式（Ｃ）で表される化合物（以下、（Ｃ）成分と記す。）および／または下記式（Ｄ）で表される化合物（以下、（Ｄ）成分と記す。）」を「下記式（Ｃ）で表される化合物（以下、（Ｃ）成分と記す。）、または、（Ｃ）成分および下記式（Ｄ）で表される化合物（以下、（Ｄ）成分と記す。）、」と訂正する。
４．明細書４頁１３行の「好ましい。」を「採用される。」と訂正する。
５．明細書５頁４行〜同５行の「（Ｃ）成分および／または（Ｄ）成分を含有する組成物が好ましい。」を「（，Ｃ）成分、または、（Ｃ）成分および（Ｄ）成分、を含有する組成物を用いる。」と訂正する。
６．明細書１３頁６行〜同７行の「（Ｃ）成分または（Ｄ）成分のどちらか一方の成分が必須であるが、両成分が含有されていても問題はない。」を「（Ｃ）成分をまたは（Ｃ）成分と（Ｄ）成分とを含有する。」と訂正する。
７．明細書１３頁８行の「（Ｃ）および／または（Ｄ）成分」を「（Ｃ）、（Ｄ）成分」と訂正する。
８．明細書１５頁２６行の「および」を削除する。
９．明細書２０頁の第１表において「実施例１１」の行を削除し、さらに第１表における「実施例１２」を「実施例１１」に、「実施例１３」を「実施例１２」に、「実施例１４」を「実施例１３」に、「実施例１５」を「実施例１４」に、「実施例１６」を「実施例１５」にそれぞれ訂正する。
１０．明細書２１頁１行の「実施例５〜１１」を「実施例５〜１０」と訂正し、同頁６行の「実施例１２〜１６」を「実施例１１〜１５」と訂正し、同頁１１行の「実施例１７」を「実施例１６」と訂正する。
１１．明細書２２頁の第３表において実施例１１の行を削除する。
１２．明細書２２頁の第４表において「実施例１２」を「実施例１１」に、「実施例１３」を「実施例１２」に、「実施例１４」を「実施例１３」に、「実施例１５」を「実施例１４」に、「実施例１６」を「実施例１５」にそれぞれ訂正する。
（５４）【発明の名称】
透明成形体
（５７）【特許請求の範囲】
　（１）　透明基材から成形されてなる成形体、および、該成形体の表面から空気側に向かって順に設けられた高屈折率導電層（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）を有する透明成形体であり、高屈折率導電層（Ａ）が平均粒子径１〜３００ｎｍの無機微粒子を含みかつ表面抵抗値１０１０Ω／□以下の層であり、低屈折率層（Ｂ）が
下記式（Ｃ）で表される化合物、または、下記（Ｃ）で表される化合物および下記式（Ｄ）で表される化合物、を必須成分として含有する組成物から形成された
む層であり
　　　　
Ｒｆ１、Ｒｆ２はパーフルオロアルキル基含有の有機基。
　　　　
Ｒ１、Ｒ２は水素原子または炭素数１〜６の有機基。
　　　　
ａ、ｂは独立に０、１、または２であって０≦ａ＋ｂ≦２を満たす。
　　　　
ｃ、ｄは独立に０、１、または２であって０≦ｃ＋ｄ≦２を満たす。
　　　　
Ｙは２価の有機基。ただし、ａ＋ｃ＝０の場合にはパーフルオロアルキレン基を含有する２価の有機基。
　　　　
Ｘは加水分解可能な有機基。
　　　　
Ｒｆ３はパーフルオロアルキル基含有の有機基。
　　　　
Ｒ３は水素原子または炭素数１〜６の有機基。
　　　　
ｅは１または２であって、ｇは０、１、または２であって、１≦ｅ＋ｇ≦３を満たす。
　　　　
Ｘは加水分解可能な有機基。
　（
２
１
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
　本発明は、低反射性、導電性、防汚性および耐薬品性を有する透明成形体に関する。更に詳しくは、低反射性により反射光による不快感、まぶしさが低減され、かつ導電性を有することにより表面での静電気の蓄積、ほこりの吸着などを防ぐ効果を有し、しかもフッ素化合物による撥水撥油作用で指紋などの汚れが取れやすく、酸やアルカリなどによる腐食を受けにくい透明成形体に関する。
　本発明の透明成形体は、ＣＲＴのパネル部および前面板、タッチパネル、ショーケース、メーターカバーなど各種ディスプレイ表示体として好適に用いうる。
［従来の技術］
　テレビ受像機のＣＲＴ等においては、外部光の反射によって画像が見にくくなったり、動作中の帯電によって人体などとの間で放電が発生したり、ホコリ等のゴミが付着したりするのを防ぐために、導電性反射防止膜が用いられている。
　このような導電性反射防止膜を形成させた透明成形体の例としては、実開昭５９−１６８９５１号公報記載の酸化錫または酸化インジウムの導電膜の上に酸化珪素の膜を形成した陰極線管等が挙げられる。これらは表面のノングレア処理に比べて優れた解像度、反射防止特性を有するが、反射防止特性が優れているがゆえに、指紋などの汚れが目立つ欠点があった。またこれらの膜は、酸、アルカリ等に弱く、耐薬品性に劣る欠点もあった。
［発明が解決しようとする課題］
　本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、したがってその目的は従来技術の有していた問題点を解消し、反射防止性と帯電防止性とを具備し、しかも防汚性、耐薬品性を有する透明成形体を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
　本発明は、透明基材から成形されてなる成形体、および、該成形体の表面から空気側に向かって順に設けられた高屈折率導電層（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）を有する透明成形体であり、高屈折率導電層（Ａ）が平均粒子径１〜３００ｎｍの無機微粒子を含みかつ表面抵抗値１０１０Ω／□以下の層であり、低屈折率層（Ｂ）が
下記式（Ｃ）で表される化合物、または、下記（Ｃ）で表される化合物および下記式（Ｄ）で表される化合物、を必須成分として含有する組成物から形成された
む層であり
　本発明の透明成形体は、低反射性、導電性、防汚性および耐薬品性を有する。
　本発明の透明成形体においては、高屈折率導電層（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）の２層の屈折率および膜厚を調節して光の干渉作用を利用することにより、目的の一つである低反射性が発現され、導電性を有する材料を含有する層を設けることによって、もう一つの目的である導電性が発現され、更に空気側の低屈折率層にフッ素化合物を含有させることにより、他の二つの目的である防汚性と耐薬品性を発現させようとするものである。
　高屈折率導電層（Ａ）を形成するための導電性材料としては、無機微粒子を使用する。特に、高屈折率導電層（Ａ）の表面抵抗値を１０１０Ω／□以下とする点において、金属酸化物の微粒子が導電性材料として良好である。
　かかる導電性材料としては、例えば酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウムなどが挙げられ、これらの少なくとも１種が用いられるのが好ましい。これらは導電性を高める目的で各種の化合物がドープされていても問題ない。高屈折率導電層（Ａ）の表面抵抗値が１０１２Ω／□を超えると十分な帯電防止性能が発現できないため問題がある。
　無機微粒子の大きさは、あまり大きすぎると得られた被膜がヘイズになりやすいため、平均粒子径は３００ｎｍ以下である。また平均粒子径があまり小さすぎると導電性が悪くなるため、１ｎｍ以上である。
　一方の低屈折率層（Ｂ）の低屈折率材料も各種の化合物が知られているが、本発明における低屈折率材料は高屈折率層（Ａ）の屈折率に比して低屈折率を与え、撥水撥油性に優れたフッ素化合物を含む材料から選択する。高屈折率導電層（Ａ）と低屈折率層（Ｂ）の屈折率差は、原理的には（空気側第１層の屈折率）＜（空気側第２層の屈折率）であればよいが、優れた低反射性を発現するには両層の屈折率の差が０．１以上であることが必要である。
　フッ素化合物は低屈折率材料として知られており、この目的にかなう材料である。本発明におけるフッ素化合物としては下記式（Ｃ）で表される化合物（以下、（Ｃ）成分と記す。）
、
、（Ｃ）成分および
、
採用される。
　　　　Ｒｆ１、Ｒｆ２はパーフルオロアルキル基含有の有機基。
　　　　Ｒ１、Ｒ２は水素原子または炭素数１〜６の有機基。
　　　　ａ、ｂは独立に０、１、または２であって０≦ａ＋ｂ≦２を満たす。
　　　　ｃ、ｄは独立に０、１、または２であって０≦ｃ＋ｄ≦２を満たす。
　　　　Ｙは２価の有機基。ただし、ａ＋ｃ＝０の場合にはパーフルオロアルキレン基を含有する２価の有機基。
　　　　Ｘは加水分解可能な有機幕。
　　　　Ｒｆ３はパーフルオロアルキル基含有の有機基。
　　　　Ｒ３は水素原子または炭素数１〜６の有機基。
　　　　ｅは１または２であって、ｇは０、１、または２であって、１≦ｅ＋ｇ　≦３を満たす。
　　　　Ｘは加水分解可能な有機基。
以下、構成要素について詳細に記述する。
　本発明の組成物においては、防汚性、撥水性を発現する成分として（Ｃ）成分
、
、（Ｃ）成分および
、
を用いる
　（Ｃ）成分としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
　ただし、上記の式においてｎは１〜１６の整数、ＸはＣ１、ＯＣＨ３、ＯＣ２Ｈ５等の加水分解可能な基、Ｒは置換または非置換の１価の炭化水素基、ＲｆはＣ２Ｈ４ＣＦ３、Ｃ２Ｈ４（ＣＦ２）ｎＣＦ３（ｎは１〜１５の整数）、Ｃ２Ｈ４ＯＣＯＣＦ３等のパーフルオロアルキル基含有の有機基である。
　（Ｄ）成分としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
　ただし、上記の式においてＲは置換または非置換の１価炭化水素基、Ｒｆ’は炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基、ｍは１以上の整数、ＸはＣ１、ＯＣＨ３、ＯＣ２Ｈ５等の加水分解可能な基である。
　（Ｃ）成分または（Ｄ）成分の添加量は、目的に応じて任意に変更できる。
　フッ素化合物を形成する組成物は（Ｃ）成分
を
（Ｃ）成分と（Ｄ）
とを
する
　（Ｃ）
、
　（Ｃ）、（Ｄ）成分に目的に応じて他の成分、添加剤を加えることは支障なく、他の成分、添加剤を加えることでこの組成物の適用範囲がひろがる。
　本発明の透明成形体を得るには種々の方法を採用しうる。例えば、真空蒸着、スパッタ法、イオンプレーティング法などのＰＶＤ法、ＣＶＤ法、コーティング組成物を塗布する方法などが挙げられる。
　かかる各種の方法において、作業性、コストの点、または複雑な形状の透明成形体に適応しうるという点でコーティング組成物を塗布する方法が有利である。したがって、安価で、形状の複雑な本発明の透明成形体を得るには、高屈折率導電材料、低屈折率材料を含有するコーティング組成物を透明基材から成形された成形体の表面に順次塗布して被膜層を形成する方法が最適である。
　コーティング組成物を塗布する方法で本発明の透明成形体を得るには、単に高屈折率導電材料、または低屈折率材料が溶解または分散したコーティング組成物を透明基材に塗布すればよい。高屈折率導電材料を含むコーティング組成物に含まれる無機微粒子はコロイド状のものであってもよい。
　また組成物は、塗布に好適となすために、溶剤によって溶液状とするのが好ましく、高屈折率導電材料、低屈折率材料を溶解、分散させる溶剤としては各種の溶剤が使用できる。例えば、アルコール系、エステル系、ケトン系、エーテル系、ハロゲン化炭化水素系、芳香族系溶剤などが挙げられるが、これらの単独、または混合系のいずれであっても問題はない。
　組成物において、材料の濃度は任意であってよく、目的とする被膜層の厚さに応じて決定される。ここで、目的とする被膜層の厚さとは本発明においては基本的には基材および２つの層の間で光学干渉が生じる膜厚のことである。
　本発明において、優れた性能を有する高屈折率導電層（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）を形成するには造膜性も重要な要因の一つである。したがって、コーティング組成物の塗布において、造膜性を高めるために他の成分を添加できる。かかる他の成分として０適なものはシリコン化合物（Ｘ）が挙げられ、シリコン化合物（Ｘ）の添加は形成される被膜層の耐擦傷性を損なわないという点で良好な添加成分である。
　シリコン化合物（Ｘ）としては、以下の化合物が例示される。
　メチルシリケート、エチルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、ｉ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、ｓｅｃ−ブチルシリケート、およびｔ−ブチルシリケートなどのテトラアルコキシシラン、およびその加水分解物。
　メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン。
　γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン。
　α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン。
　α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ一グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ一グリシドキシブチルトリエトキシシラン。
　（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリフェノキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシラン、トリアシルオキシシランまたはトリフェノキシシラン類またはその加水分解物。
　
ジ
　（γ−アミノプロピル）メチルジメトキシシラン、（γ−アミノプロピル）メチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、（グリシドキシメチル）メチルジメトキシシラン、（グリシドキシメチル）メチルジエトキシシラン、（α−グリシドキシエチル）メチルジメトキシシラン、（α−グリシドキシエチル）メチルジエトキシシラン、（β−グリシドキシエチル）メチルジメトキシシラン、（β−グリシドキシエチル）メチルジエトキシシラン、（α−グリシドキシプロピル）メチルジメトキシシラン、（α−グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシラン、（β−グリシドキシプロピル）メチルジメトキシシラン、（β−グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシラン。
　（γ−グリシドキシプロピル）メチルジメトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）メチルジプロポキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）メチルジブトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）メチルジフェノキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）エチルジメトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）エチルジエトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）エチルジプロポキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）ビニルジメトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）ビニルジエトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）フェニルジメトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）フェニルジエトキシシラン、などジアルコキシシランまたはジアシルオキシシラン等。
　上記例示のシリコン化合物（Ｘ）は１種または数種の混合物をそのまままたは加水分解して用いる。加水分解に際しては、単に純水の添加でよいが、酸の存在下で水を加えてもよい。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、スルホン酸等が用いられる。さらに形成される被膜層の耐擦傷性を高めるために従来から公知の硬化触媒等を加えることもできる。
　また、樹脂としては目的に応じて、溶解性、相溶性、分子量（分布、重合度）、含有する官能基、高次構造等を考慮して最適なものを選択できる。さらに、レベリング性を高めるために界面活性剤等を加えたり、形成される被膜層を改質し得る他の添加剤、紫外線吸収剤、滑剤等を加えてもよい。
　コーティング組成物から本発明の被膜層を形成する方法において、塗布方法としてはスピンコート、ディップコート、流し塗り、スプレーコート、はけ塗りなど、従来公知の方法を採用できる。優れた性能を有する被膜層を形成するには、塗布後に焼成するのが望ましく、焼成時間、焼成温度は基材の耐熱性、材料の種類等を考慮して、最適条件が決定される。また１層毎に、あるいは２層を同時に焼成できる。
　本発明における成形体は透明基材から成形されてなるが、透明基材としてはガラスおよびプラスチックが好ましい。
　ガラス成形体としては普通板ガラスはもとより、各種加工ガラス、特にディスプレイ表示体としてブラウン管のパネル部などが好適である。
　プラスチック成形体としては、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、不飽和ポリエステル等の基材からなるシートやフィルムが挙げられる。
［実施例］
　以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
　実施例において得られた透明成形体の評価方法については次の通りである。
（１）低反射性の評価方法
　ＧＡＭＭＡ分光反射スペクトル測定機により基材表面の片面の視感反射率を測定した。
（２）導電性の評価方法
　ハイレスタ抵抗測定器（三菱油化製）により基材の表面抵抗値を測定した。
（３）防汚性の評価方法
　（３−１）ヘキサデカンの接触角を測定した。
　（３−２）手の指紋を処理表面に付着後、綿布で２０往復拭き取りその後の外観を検査し、以下の基準で評価した。
　　Ａ：完全にきれいに油汚れが拭き取れる。
　　Ｂ：少し油汚れが残る。
　　Ｃ：かなり油汚れが残る。
（４）撥水性の評価方法
　（４−１）水の接触角を測定した。
　（４−２）サンプルから２０ｃｍの距離に保持したノズルから水道水をスプレーして試験した。適当な時間、水のスプレーをテストサンプルの処理表面に当てた後スプレーを止め、サンプルに残った水滴を肉眼で検査し以下の評価基準で判断した。
　　Ａ：サンプル表面に全く水滴が残らない。
　　Ｂ：サンプル表面に少し水滴が残る。
　　Ｃ：サンプル表面にかなり水滴が残る。
　　Ｄ：サンプル表面に水が濡れ広がる。
（５）耐擦傷性の評価方法
　１ｋｇの荷重下に消しゴムで基材表面を１００往復後、その表面の傷の付き方を調査した。耐擦傷性の評価の基準は以下の通りである。
　　Ａ：傷が全くつかない。
　　Ｂ：傷が少しつく。
　　Ｃ：多くの傷がつく。
　また、上記の耐擦傷性評価後のサンプルについて低反射性、導電性、防汚性、および撥水性を評価した。
実施例１
［高屈折率導電層用コーティング組成物（Ｔ液）の調製］
　テトラエトキシシラン５０ｇをエタノール２００ｇに溶解した。次にこれに１％塩酸水溶液４６ｇを徐々に滴下し、３日間熟成して部分加水分解物を得た。これに２００ｇのエタノール分散アンチモンドープ酸化錫ゾル液（濃度３％、平均粒子径１００ｎｍ）を加えて調製した（以下、Ｔ−１液と略する。）。
［低屈折率層用コーティング組成物（Ｕ液）の調製］
　下記Ｃ成分１９．０ｇ、Ｄ成分５．０ｇ、およびＸ１成分５．６ｇを、攪拌子がセットされた三つ口容器に入れ混合した。更に２−プロパノールを６００ｇ、および２−メチル−２−プロパノールを１４００ｇ加えた。次にアルミニウムアセチルアセトネート２．２ｇを加えよく攪拌した。これに１％ＨＣ１水溶液６．７ｇを徐々に滴下した。滴下終了後２６℃に保温し７日間放置した（以下、Ｕ−１液と略する。）。
　　Ｃ：（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣ２Ｈ４Ｃ８Ｆ１６Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
　　Ｄ：Ｃ９Ｆ１９Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
　　Ｘ１：Ｓｉ（ＯＣＨ３）４
　予め洗浄されたガラス板［１０ｃｍ×１０ｃｍ×厚さ３ｍｍ］をＴ−１液に浸漬した。浸漬後、１０ｃｍ／ｍｉｎの速さで引き上げ、１００℃で１０分焼成した。次に、このガラス板をＵ−１液に浸漬後、６ｃｍ／ｍｉｎの速さで引き上げ、２００℃で６０分焼成した。このようにして、２層の被膜層の形成されたガラス板を得た。このガラス板について前記の評価方法にしたがって評価した結果を第１表に示す。
比較例１
　比較例として、実施例１に用いたガラス板について被膜層を形成することなく評価した結果を第１表に示す。
実施例２
　実施例１におけるガラス板をテレビ用ブラウン管のパネル部に変更した他は同様にして、表面に２層の被膜層を形成した。このようにして得られたパネルについて評価した結果を第１表に示す。
比較例２
　比較例として、実施例２で用いたテレビ用ブラウン管のパネル部について被膜層を形成することなく評価した結果を第１表に示す。
実施例３〜４
　実施例１に用いたＵ−１液のかわりに第２表のＵ液を用いた他は実施例１と同様にして２層の被膜層の形成されたガラス板を得た。このガラス板について評価した結果を第１表に示す。
実施例５〜
１０
　実施例１に用いたＵ−１液のＣ成分、Ｄ成分、Ｘ１成分のかわりに、第３表に示した種類の化合物および量（単位：ｇ）だけ用いて組成物を調合し、他は実施例１と同様にして２層の被膜層の形成されたガラス板を得た。このガラス板について評価した結果を第１表に示す。
実施例
１１
１５
　実施例１におけるＴ−１液のかわりに第４表の丁液（高屈折率導電層用コーティング組成物）を用い、Ｕ−１液塗布後の焼成温度を２００℃から４００℃に変更したほかは実施例１と同様にして、２層の被膜層の形成されたガラス板を得た。このガラス板について評価した結果を第１表に示す。
実施例
１６
　実施例１で得られた２層の被膜層の形成されたガラス板を第５表に示す薬品に２４時間浸漬した。浸漬後洗浄を行い、低反射性、導電性、防汚性、撥水性を評価した結果を第５表に示す。
［発明の効果］
　本発明の透明成形体は以下の特徴を有する。
　▲１▼優れた導電性を有することから、静電作用によるホコリの付着を防ぐ。
　▲２▼優れた低反射性を有することから、反射光による不快感、まぶしさが低減される。
　▲３▼優れた防汚性を有することから、汚れが付着しにくく、たとえ汚れが付着しても布やティッシュペーパーで簡単に拭き取ることができる。
　▲４▼優れた耐薬品性を有することから、酸やアルカリによる腐食を受けにくい。
　▲５▼優れた耐擦傷性を有し、しかも耐久性も良好である。
　▲６▼数多くの材料の選択が可能であり、性能の幅を広く設定できる。