【事件の表示】
　特許第３０１１８０６号「角状被処理体のフォトレジスト除去装置」の請求項１ないし９に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０１１８０６号の請求項１ないし７に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　 本件特許第３０１１８０６号は、平成３年１０月２２日に特許出願され、平成１１年１２月１０日にその特許の設定登録がなされ、その後、異議申立人井上博史から特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年１２月２７日に訂正請求がなされたものである。
１．１　異議申立ての概要
　異議申立人井上博史は、甲第１号証（特開昭63-58831号公報）、甲第２号証（特開平3-206609号公報）、甲第３号証（特開昭64-61917号公報）及び甲第４号証（特開平2-157763号公報）を提出し、本件請求項１〜９に係る発明は、甲第１号証〜甲第４号証に記載された各発明に基いて容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、本件特許を取り消すべき旨主張している。
１．２　異議申立人井上博史が提出した甲第１〜４号証の記載内容
１．２．１　甲第１号証の記載内容
　甲第１号証の第１頁右欄第３行〜第６行には「本発明は、４角形などの非円形の異形基板の周縁に付着したレジストを剥離する方法と、この方法の実施に直接使用する装置とに関するものである。」と記載されている。
　甲第１号証の第２頁左下欄第２行〜第７行には、第１図に関連して、「１４、１４は左右一対の剥離液噴出手段であって、基板１０の下縁とほぼ平行に配設された送液管１６、１６と、各送液管１６、１６に設けた多数のノズル１８とを備える。各ノズル１８は基板１０の下縁付近の両側から斜め下方を指向し、レジスト縁部１２Ａに剥離液を噴射する。」と記載されている。また、第２頁右下欄第１行〜第５行には、「基板１０を対向する噴射手段１４、１４間および２０、２０間で水平方向に移動させれば、レジスト１２の下縁１２Ａは良好に剥離され、第２、３図に示すように基板１０が現われる。」と記載されている。
　甲第１号証の第３頁左上欄第１７行〜第１９行には、第６図〜第９図に関連して、「１１６は容器１００の側壁に設けた排気ダクト、１１８は容器１００の底部に設け排液管である。」と記載され、また、同頁左下欄第１行〜第８行には、「この実施例では容器１００の底に排液管１１８を設け、容器１００の底に剥離液が溜らないようにしたので、剥離液の蒸気発生量が減り、また常時排気ダクト１１６で蒸気を排気するようにしたのでスリット１０２からの蒸気の逆流を確実に防止できる。従って蒸気が基板１０の中央付近のレジスト１２を傷めるおそれは一層少なくなり、室内での使用も可能になる。」と記載されている。
　甲第１号証の第３頁左上欄第１行〜第３行には、第６図〜第９図に関連して、「第６〜９図で符号１００は処理容器であり、その上面には基板挿入用スリット１０２が形成されている。」と記載されている。また、同頁右上欄第７行〜第１１行には、「この状態でスリット１０２から基板１０を挿入し、レジスト縁部１２Ａに剥離液を当てつつスリット１０２と平行にノズル１８のピッチ相当量移動すれば、レジスト縁部１２Ａのみが剥離される。」と記載されている。
１．２．２　甲第２号証の記載内容
　甲第２号証の第３頁右上欄第５行〜第１３行には、第１図に関連して、「１５はリンス液をウエーハ周縁部１Ｂのうちオリフラ部分に注ぐための可動ノズルであり、先端は注射針からなり、ウエーハ１の表面に対して４５ｏ、オリフラに対して９００の角度でリンス液を噴射するように曲げられている。１６は可動ノズル１５を位置決めされたオリフラ１Ａに平行に移動するための移動手段であり、エアシリンダ等のリニアアクチュエータである。そのストロークはオリフラ１Ａの全長をカバーする。」と記載されている。
１．２．３　甲第３号証の記載内容
　甲第３号証の第３頁左上欄第９行〜第１４行には、第１図に関連して、「第１図は本発明にかかる塗布膜除去装置の要部の構成を示した斜視図である。上下に端部が対向するように第１、第２の管２１および２２を間隙２３を持たせて配置し、この間隙２３の一部を塞ぐように第１、第２の管２１、２２に直交して第３の管２４を接続している。」と記載されている。また、同頁右上欄第７行〜第１６行には、第１図および第２図に関連して、「第１、第２の管２１、２２からレジスト溶剤２８を供給し、第３の管２４は排気装置またはダクトに連結する。まず基板２７の周縁部を２ｍｍほど間隙２３内に挿入し、第１、第２の管２１、２２より溶剤２８を供給し、基板２７端部のレジスト２６を溶解させ、第３の管２４より溶剤と溶解物とを排出させるようにする。このようにして基板端部のレジスト膜を除去しながら基板２７を回転移動させていくことにより基板端部全周のレジスト膜を除去した。」と記載されている。
　甲第３号証の第３頁右下欄第８行〜第１０行には、「さらに矩形等の円形以外の基板であっても同様にして全周にわたって端部の塗布膜の除去が可能である。」と記載されている。
　甲第３号証の第３頁左上欄第１９行〜同頁右上欄第５行には、第２図に関連して、「第３の管２４の軸方向から対向するように間隙２３内にレジスト２６が塗布された基板２７の周縁部を挿入し、この基板２７を１０〜２０ｒｐｍの低速で回転させる。挿入深さは移動機構（図示せず）により管２４を水平方向に移動させることにより調整可能となっている。」と記載されている。
１．２．４　甲第４号証の記載内容
　甲第４号証の第２頁右上欄第９行〜第１７行には、第１図および第２図に関連して、「第１図および第２図に示すように、オーバーノズル２には、その長手方向に、レジスト８を溶かす溶剤（例えばシンナー）１０をスペース９内に吐出するための複数個の供給孔４と、溶剤１０の蒸気１１をスペース９外へ排出する複数個の排気孔５とが形成されている。この排気孔５は図示しない排気装置に導かれている。アンダーノズル３には、その長手方向に、溶剤１０の廃液１２をスペース９外に排出する複数の排出孔６が形成されている。」と記載されている。また、同頁左下欄の第９行〜第１２行には、第２図に関連して、「第２図に示すように、レジスト除去装置１００に対向するように、レジスト除去装置１００と同様のレジスト除去装置２００が、ガラス基板１の端縁部分１１に対向する端縁部分にも設けられている。」と記載されている。
　甲第４号証の第３頁左欄第５行〜第１２行には、第１図および第２図に関連して、「次にチャック７を９０ｏ回転させてレジストが除去されていない端縁部分をレジスト除去装置１００と２００のアンダーノズル３上に配置する。そして、レジスト除去装置１００と２００のオーバーノズル２を降下させる。以下、レジスト除去作業の前半と同様の方法によってレジスト除去作業の前半においてレジストが除去されなかった端縁部分のレジストを除去してレジスト除去作業の後半を終える。」と記載されている。
２．訂正の適否について
  本件訂正請求は、本件特許第３０１１８０６号の明細書（以下、「特許明細書」という。）を、本件訂正請求書に添付した訂正明細書のとおりに、訂正しようとするものである。
２．１　訂正事項
訂正事項ａ
　請求項１及び２の「角状」を、「４角形状」と訂正する。
訂正事項ｂ
　請求項１及び２の「被処理体に沿って」を、「被処理体の２辺に沿って」と訂正する。
訂正事項ｃ
　請求項１及び２の「この吸引手段は」を、「この吸引手段と前記溶剤吐出手段は」と訂正する。
訂正事項ｄ
　請求項１の「前記走査手段は、一対の案内レールと、この上を移動自在に設けられた基台よりなること」を、「前記走査手段は、前記被処理体の２辺に沿って配置された一対の案内レールと、これら一対の案内レール上をそれぞれ移動自在に設けられた複数の基台よりなり、前記複数の吸引手段は、それぞれ前記基台へ設けられた吸引管を有し、前記吸引管は、前記被処理体との間の距離調整ができるように前記基台に対して移動可能になされていること」と訂正する。
訂正事項ｅ
　請求項２の「この走査手段は、一対の案内レールと、この上を移動自在に設けられた基台よりなること」を、「この走査手段は、前記被処理体の２辺に沿って配置された一対の案内レールと、これら一対の案内レール上をそれぞれ移動自在に設けられた複数の基台よりなり、前記複数の吸引手段は、それぞれ前記基台へ設けられた吸引管を有し、前記吸引管は前記走査手段によって同時に動くように接続されていること」と訂正する。
訂正事項ｆ
　請求項３の「前記吸引手段は、前記基台へ設けられた吸引管と、これに接続されて前記吸引管内の雰囲気を吸引する可撓性ラインを有すること」を、「前記吸引管は、前記吸引管内の雰囲気を吸引する可撓性ラインに接続されていること」と訂正する。
訂正事項ｇ
　請求項４及び９を削除し、以降の請求項５〜８を１つずつ繰り上げる。
訂正事項ｈ
　請求項５の「請求項３または４」を、「請求項１乃至３」と訂正する。
訂正事項ｉ
　請求項６の「請求項３乃至５」を、「請求項２乃至４」と訂正する。
訂正事項ｊ
　請求項７の「請求項１乃至６」を、「請求項１乃至５」と訂正する。
訂正事項ｋ
　請求項８の「請求項１乃至７」を、「請求項１乃至６」と訂正する。
訂正事項１
　特許明細書の段落番号【００１７】の「円形以外の多角形状」を、「４角形状」と訂正する。
訂正事項ｍ
　図面の図２に参照符号「２８」を２箇所加える。
２．１．１クレーム対応表
特許時の請求項　　　　　　訂正時の請求項
１　　　　　　　　　　　　　　１（減縮）
２　　　　　　　　　　　　　　２（減縮）
３　　　　　　　　　　　　　　３
４　　　　　　　　　　　　　　削除
５　　　　　　　　　　　　　　４
６　　　　　　　　　　　　　　５
７　　　　　　　　　　　　　　６
８　　　　　　　　　　　　　　７
９　　　　　　　　　　　　　　削除
２．２　訂正後の特許請求の範囲
請求項１
「フォトレジストを塗布した４角形状の被処理体の周辺部から不要なフオトレジストを除去するフォトレジスト除去装置において、前記被処理体に対して相対移動しつつ前記被処理体の周辺部に前記フォトレジストに対する溶剤を吐出させる複数の溶剤吐出手段を設け、この前記溶剤吐出手段から吐出されて前記フォトレジストを溶解した溶剤を、前記被処理体から吸引して排除する複数の吸引手段を設け、この吸引手段と前記溶剤吐出手段は、これを前記被処理体の２辺に沿って移動させる走査手段に設けられ、前記走査手段は、前記被処理体の２辺に沿って配置された一対の案内レールと、これら一対の案内レール上をそれぞれ移動自在に設けられた複数の基台よりなり、前記複数の吸引手段は、それぞれ前記基台へ設けられた吸引管を有し、前記吸引管は、前記被処理体との間の距離調整ができるように前記基台に対して移動可能になされていることを特徴とする角状被処理体のフォトレジスト除去装置。」
請求項２
「フォトレジストを塗布した４角形状の被処理体の周辺部から不要なフォトレジストを除去するフォトレジスト除去装置において、前記被処理体に対して相対移動しつつ前記被処理体の周辺部に前記フォトレジストに対する溶剤を吐出させる複数の溶剤吐出手段を設け、この前記溶剤吐出手段から吐出されて前記フォトレジストを溶解した溶剤を、前記被処理体から吸引して排除する複数の吸引手段を設け、この吸引手段と前記溶剤吐出手段は、これを前記被処理体の２辺に沿って移動させる走査手段に設けられると共にこの走査手段は、前記被処理体の２辺に沿って配置された一対の案内レールと、これら一対の案内レール上をそれぞれ移動自在に設けられた複数の基台よりなり、前記複数の吸引手段は、それぞれ前記基台へ設けられた吸引管を有し、前記吸引管は前記走査手段によって同時に動くように接続されていることを特徴とする角状被処理体のフォトレジスト除去装置。」
請求項３
「前記吸引管は、この吸引管内の雰囲気を吸引する可撓性ラインに接続されていることを特徴とする請求項１または２記載の角状被処理体のフォトレジスト除去装置。」
請求項４
「前記吸引管の先端には、前記被処理体の周辺部を収容する基板収容部が設けられていることを特徴とする請求項１乃至３記載の角状被処理体のフォトレジスト除去装置。」
請求項５
「前記吸引管は、前記被処理体との間の距離調整ができるように前記基台に対して移動可能に設けられていることを特徴とする請求項２乃至４記載の角状被処理体のフォトレジスト除去装置。」
請求項６
「前記溶剤吐出手段は、前記溶剤を加圧により吐出するためのニードル管を有しており、このニードル管は前記基板収容部に臨ませて設けられていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の角状被処理体のフォトレジスト除去装置。」
請求項７
「前記被処理体を吸引固定するチャック手段を設けた回転機構を有し、前記被処理体の一対の辺のフォトレジスト除去操作を行なった後に前記回転機構を９０度回転して前記被処理体の他の一対の辺のフォトレジスト除去操作を行なうようにしたことを特徴とする請求項１乃至６記載の角状被処理体のフォトレジスト除去装置。」
３．　訂正の適否
３．１　目的該当性等について
訂正事項ａ
　上記訂正事項ａについては、特許明細書の請求項１及び２に記載された「角状」を下位概念である「４角形状」とするものであって、当該「４角形状」は、特許明細書の段落番号【０００８】に記載されていたものである。
　また、上記訂正事項ａは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
訂正事項ｂ
　上記訂正事項ｂについては、特許明細書の請求項１及び２に記載された「被処理体に沿って」を下位概念である「被処理体の２辺に沿って」とすものであり、この構成は特許明細書の段落番号【０００９】及び図２の記載から導き出せるものである。
　また、上記訂正事項ｂは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
訂正事項ｃ
　上記訂正事項ｃについては、特許明細書の請求項１及び２に記載された「この吸引手段は」を下位概念である「この吸引手段と前記溶剤吐出手段は」とするものであって、当該構成は、特許明細書の段落番号【０００９】及び図１の記載から導き出せるものである。
　また、上記訂正事項ｃは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
訂正事項ｄ
　上記訂正事項ｄについては、特許明細書の請求項１に記載された「前記走査手段は、一対の案内レールと、この上を移動自在に設けられた基台よりなること」を、下位概念である「前記走査手段は、前記被処理体の２辺に沿って配置された一対の案内レールと、これら一対の案内レール上をそれぞれ移動自在に設けられた複数の基台よりなり、前記複数の吸引手段は、それぞれ前記基台へ設けられた吸引管を有し、前記吸引管は、前記被処理体との間の距離調整ができるように前記基台に対して移動可能になされていること」とするものであって、当該構成は、特許明細書の段落番号【０００９】及び【００１３】の記載から導き出せるものである。
　また、上記訂正事項ｄは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
訂正事項ｅ
　上記訂正事項ｅについては、特許明細書の請求項２に記載された「この走査手段は、一対の案内レールと、この上を移動自在に設けられた基台よりなること」を、下位概念である「この走査手段は、前記被処理体の２辺に沿って配置された一対の案内レールと、これら一対の案内レール上をそれぞれ移動自在に設けられた複数の基台よりなり、前記複数の吸引手段は、それぞれ前記基台へ設けられた吸引管を有し、前記吸引管は前記走査手段によって同時に動くように機械的に接続されていること」とするものであって、当該構成は、特許明細書の段落番号【０００９】及び【００１０】の記載から導き出せるものである。
　また、上記訂正事項ｅは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
訂正事項ｆ
　上記訂正事項ｆについては、請求項１及び２に「吸引管」の構成要素を加えた結果、請求項１及び２と、請求項３の記載の整合を図る訂正であり、明りょうでない記載の釈明に当たる。
　また、上記訂正事項ｆは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
訂正事項ｇ
　上記訂正事項ｇについては、請求項の削除に伴い、請求項を繰り上げるものであるから、明りょうでない記載の釈明に当たる。
　また、上記訂正事項ｇは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
訂正事項ｈ〜ｋ
　上記訂正事項ｈ〜ｋは、上記請求項１及び２の訂正並びに請求項の削除に応じて、引用する請求項を整合させる訂正であるから、明りょうでない記載の釈明に当たる。
　また、上記訂正事項ｈ〜ｋは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
訂正事項１
　上記訂正事項１は、明細書記載を、上記訂正事項ａの訂正に対応させたものであるから、明りょうでない記載の釈明に当たる。
　また、上記訂正事項ｌは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
訂正事項ｍ
　上記訂正事項ｍは、明らかに、明りょうでない記載の釈明に当たる。
　また、上記訂正事項ｍは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
３．２　訂正の適否の判断
　上記訂正事項ａ〜ｍは、上記３．１のとおりであるから、平成６年法律第１１６号附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、同条第２項及び同条第３項の規定に適合する。
　従って、当該請求を認める。
４．特許異議申立てについての判断
４．１　本件請求項１〜７に係る発明
　上記２．２に記載のとおり。
４．２　異議申立ての理由の概要
　上記１．１に記載のとおり。
４．２．１　本件請求項１〜７に係る発明と甲各号証との対比、判断
　本件請求項１に係る発明及び請求項１を引用する請求項３〜７に係る発明（以下、「本件第１発明」という。）が、「走査手段は、前記被処理体の２辺に沿って配置された一対の案内レールと、これら一対の案内レール上をそれぞれ移動自在に設けられた複数の基台よりなり、前記複数の吸引手段は、それぞれ前記基台へ設けられた吸引管を有し、前記吸引管は、前記被処理体との間の距離調整ができるように前記基台に対して移動可能になされている」（以下、「本件第１発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１〜甲第４号証記載の発明にはいずれも上記構成の記載及びその記載を示唆する記載がない。
　本件第１発明は、上記本件第１発明の構成を有することにより、「吸引管と基板との間の距離を調整することができる」（特許明細書【発明の効果】の項）という上記甲第１号証〜甲第４号証記載の発明にはない効果を有する。
　従って、本件第１発明は、甲第１号証〜甲第４号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明できたものではない。
　また、本件請求項２に係る発明及び請求項２を引用する請求項３〜７に係る発明（以下、「本件第２発明」という。）が、「走査手段は、前記被処理体の２辺に沿って配置された一対の案内レールと、これら一対の案内レール上をそれぞれ移動自在に設けられた複数の基台よりなり、前記複数の吸引手段は、それぞれ前記基台へ設けられた吸引管を有し、前記吸引管は前記走査手段によって同時に動くように接続されていること」（以下、「本件第２発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１〜甲第４号証記載の発明にはいずれも上記構成の記載及びその記載を示唆する記載がない。
　本件第２発明は、上記本件第２発明の構成を有することにより、「フォトレジストが溶解した溶剤を迅速に排除することができる」（特許明細書【作用】の項）という上記甲第１号証〜甲第４号証記載の発明にはない効果を有する。
　従って、本件第２発明は、甲第１号証〜甲第４号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明できたものではない。
５．むすび
 上記のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１〜７に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜７に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　従って、本件請求項１〜７に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年２月２６日（２００１．２．２６）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　訂正事項ａ〜ｅは、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　訂正事項ｆ〜ｍは、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
　訂正事項ｇは、特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
訂正事項ａ
　請求項１及び２の「角状」を、「４角形状」と訂正する。
訂正事項ｂ
　請求項１及び２の「被処理体に沿って」を、「被処理体の２辺に沿って」と訂正する。
訂正事項ｃ
　請求項１及び２の「この吸引手段は」を、「この吸引手段と前記溶剤吐出手段は」と訂正する。
訂正事項ｄ
　請求項１の「前記走査手段は、一対の案内レールと、この上を移動自在に設けられた基台よりなること」を、「前記走査手段は、前記被処理体の２辺に沿って配置された一対の案内レールと、これら一対の案内レール上をそれぞれ移動自在に設けられた複数の基台よりなり、前記複数の吸引手段は、それぞれ前記基台へ設けられた吸引管を有し、前記吸引管は、前記被処理体との間の距離調整ができるように前記基台に対して移動可能になされていること」と訂正する。
訂正事項ｅ
　請求項２の「この走査手段は、一対の案内レールと、この上を移動自在に設けられた基台よりなること」を、「この走査手段は、前記被処理体の２辺に沿って配置された一対の案内レールと、これら一対の案内レール上をそれぞれ移動自在に設けられた複数の基台よりなり、前記複数の吸引手段は、それぞれ前記基台へ設けられた吸引管を有し、前記吸引管は前記走査手段によって同時に動くように接続されていること」と訂正する。
訂正事項ｆ
　請求項３の「前記吸引手段は、前記基台へ設けられた吸引管と、これに接続されて前記吸引管内の雰囲気を吸引する可撓性ラインを有すること」を、「前記吸引管は、前記吸引管内の雰囲気を吸引する可撓性ラインに接続されていること」と訂正する。
訂正事項ｇ
　請求項４及び９を削除し、以降の請求項５〜８を１つずつ繰り上げる。
訂正事項ｈ
　請求項５の「請求項３または４」を、「請求項１乃至３」と訂正する。
訂正事項ｉ
　請求項６の「請求項３乃至５」を、「請求項２乃至４」と訂正する。
訂正事項ｊ
　請求項７の「請求項１乃至６」を、「請求項１乃至５」と訂正する。
訂正事項ｋ
　請求項８の「請求項１乃至７」を、「請求項１乃至６」と訂正する。
訂正事項ｌ
　特許明細書の段落番号【００１７】の「円形以外の多角形状」を、「４角形状」と訂正する。
訂正事項ｍ
　図面の図２に参照符号「２８」を２箇所加える。
（５４）【発明の名称】
フォトレジスト除去装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　フォトレジストを塗布した
４角形
複数の
複数の
と前記溶剤吐出手段
の２辺
前記被処理体の２辺に沿って配置された
これら一対の案内レール
それぞれ
複数の
り、前記複数の吸引手段は、それぞれ前記基台へ設けられた吸引管を有し、前記吸引管は、前記被処理体との間の距離調整ができるように前記基台に対して移動可能になされている
　【請求項２】　フォトレジストを塗布した
４角形
複数の
複数の
と前記溶剤吐出手段
の２辺
前記被処理体の２辺に沿って配置された
これら一対の案内レール
それぞれ
複数の
り、前記複数の吸引手段は、それぞれ前記基台へ設けられた吸引管を有し、前記吸引管は前記走査手段によって同時に動くように接続されている
　【請求項３】　前記吸引
管は、この
に接続されている
１または
　【請求項
４
１乃至３
　【請求項
５
２
４
　【請求項
６
５
　【請求項
７
６
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、角状被処理体のフォトレジスト除去装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　一般に、半導体デバイスを製造する工程において、パターンの微細加工を行うためのリソグラフィ技術は重要であるが、このリソグラフィ技術のフォトレジスト塗布工程においてスピンコータ等により円形の半導体ウエハ上に塗布されたフォトレジストは、図５に示すように半導体ウエハ２の端部においてフォトレジスト４の盛り上がり部６を発生する傾向にある。
　この半導体ウエハ２には、その後、べーキイング処理、露光処理とが順次施されることになるが、その過程でこのウエハ２はキャリアへ収納されたり、搬送系によってはウエハの周辺部を把持して搬送されたりすることから、上記盛り上がり部６が各操作を行うときに剥離してパーティクルとなって、歩留まり低下の原因となっている。
　【０００３】
　そのため、このフォトレジスト塗布時にウエハ４の周辺部に溶剤を付着してフォトレジスト４の盛り上がり部６を溶解し、遠心力によりこれを除去したり、或いは露光時に不要な周辺部のフォトレジストのみを露光し、この部分を現像液で除去することなどがなされている。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　このようなフォトレジストの盛り上がり部６の発生は半導体ウエハのみならず液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）装置を製造するときのフォトレジスト塗布工程においても見られる。
　このＬＣＤ基板の形状は、円形の半導体ウエハと異なり、通常４角形状乃至矩形状であるのでウエハにおいて採用された方法、すなわちこれを回転させながら溶剤を付着させて遠心力により除去する方法を採用することができない。
　また、露光時に４角形のＬＣＤ基板の不要な周辺フォトレジストのみを露光して現像液で除去することも考えられるが、この場合にはフォトレジストの塗布工程を終了した後、べーキング工程等を行うことからＬＣＤ基板を搬送系によりべーキング装置等へ移動させなければならず、この移動の際に、前記フォトレジストの盛り上がり部６が剥離してパーティクルとなってしまうという改善点を有している。
　【０００５】
　特に、ＬＣＤ基板が大型化している今日の状況において、上記した問題点の解決が強く望まれている。
　本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、円形以外の形状の被処理体の周辺部から迅速に不要なフォトレジストを除去することができる角状被処理体のフォトレジスト除去装置を提供することにある。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、上記問題点を解決するために、フォトレジストを塗布した角状の被処理体の周辺部から不要なフォトレジストを除去するフォトレジスト除去装置において、前記被処理体に対して相対移動しつつ前記被処理体の周辺部に前記フォトレジストに対する溶剤を吐出させる溶剤吐出手段を設け、この溶剤吐出手段は、これを前記被処理体に沿って移動させる走査手段に設けられ、前記走査手段は、一対の案内レールと、この上を移動自在に設けられた基台よりなるように構成したものである。
　【０００７】
　【作用】
　本発明は、以上のように構成したので、溶剤吐出手段は被処理体の周辺部に沿って移動しつつこの部分に溶剤を吐出させてこれを溶解し、溶解した溶剤を被処理体の表面から排除する。特に、吸引手段を設けることにより、フォトレジストが溶解した溶剤を迅速に排除することができる。
　【０００８】
　【実施例】
　以下に、本発明に係る角状被処理体のフォトレジスト除去装置の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明に係るフォトレジスト除去装置を示す斜視図、図２は本発明に係るフォトレジスト除去装置の動作を説明するための動作説明図、図３は図１に示すフォトレジスト除去装置を示す要部拡大図、図４は被処理体を示す平面図、図６はフォトレジスト除去装置などが搭載された処理装置集合ユニットを示す斜視図である。
　本実施例において処理対象となる被処理体としては図４に示すように矩形状、すなわち４角形状に成形されたＬＣＤ基板１０が使用され、この基板１０の表面全体に渡って塗布されたフォトレジスト４のうち基板の周辺部１１に形成された不要なフォトレジスト４ａが本発明の除去装置により除去されることになる。
　【０００９】
　図６に示すようにこのフォトレジスト除去装置８は、処理装置集合ユニット５０に搭載されており、この集合ユニット５０には他の関連装置として、キャリアステーション５１側より被処理体としてのＬＣＤ基板をブラシ洗浄するための一対のブラシスクラバ５２、５２、このブラシ洗浄の後に高圧ジェット水により洗浄を施すための一対の高圧ジェット洗浄機５４、５４、ＬＣＤ基板を加熱するために複数のホットプレート機５６、ＬＣＤ基板にフォトレジストを塗布する前にこれを疎水化処理するアドヒュージョン処理機５８及び疎水化処理後の基板表面にフォトレジストを塗布するコータ６０等が設けられている。上記各装置間にＬＣＤ基板を搬送して受け渡しを行うために、この集合ユニット５０の中央部には、爪を有した一対のメインアーム６２、６２がユニット長手方向に沿って移動可能に設けられている。
　本発明に係る上記フォトレジスト除去装置７は、全体が開閉可能なケースにより被われており、内部にフォトレジスト除去ユニット８を収容している。このフォトレジスト除去ユニット８は、被処理体である例えばＬＣＤ基板１０に対して相対移動しつつ基板１０の周辺部に向けてフォトレジスト４に対する溶剤１２を吐出する溶剤吐出手段１４と、フォトレジストが溶解した溶剤を基板１０の表面から吸引して排除する吸引手段１６とにより主に構成されている。
　具体的には、上記フォトレジスト除去ユニット８の全体は、基板１０の両端辺より適宜離間させてこれに沿って配置された一対の案内レール１８上を移動自在になされた基台２０に取付けられており、また、この案内レール１８自体も基板１０に対して接近離間移動自在になされ、基板１０までの距離を自由に調整し得るようになされている。すなわち、上記一対の案内レール１８とこれに沿って移動する基台２０とにより走査手段が構成されている。
　【００１０】
　上記吸引手段１６は、円筒体状に成形されて上記基台２０へ固定された吸引管２２を有しており、この端部には可撓性ライン２４を介して吸引装置２６が接続されており、この吸引管２２内の雰囲気を吸引し得るように構成されている。そして、この吸引装置２６は、後述するように吸引された溶剤を除去するためのトラップタンク２７を有している。
　上記２個の吸引管２２、２２は、アーム２３等により機械的に接続されており、上記走査手段により同時に動くように構成されている。この場合、走査手段は上記吸引管２２、２２の位置及び走査速度を任意に設定し得るように構成されている。また、この吸引管２２の先端部は、前記基板１０の周辺部１１を収容すべく断面凹部状に切り欠いた基板収容部２８が形成されている。本実施例にあっては、基板１０の厚さＬ１＝１．１ｍｍに対して、上記基板収容部２８の最大幅Ｌ２＝２〜３ｍｍ、この深さＬ３＝１０ｍｍに設定している。
　このように構成された吸引管２２の先端部の近傍には、前記溶剤吐出手段１４のニードル管３０が、上記吸引管２２を貫通して上記基板収容部２８に臨ませて設けられると共に、このニードル管３０には、例えばアセトンやＥＣＡ（エチルセロソルブアセテート）等のフォトレジストに対する溶剤を供給するための溶剤供給管３２が接続されており、上記基板収容部２８に収容された基板周辺部１１に向けて加圧圧送方式により溶剤を噴射乃至吐出するように構成されている。
　【００１１】
　また、前記ＬＣＤ基板１０は、例えば真空チャックなどによるチャック手段３４を有する回転機構３６に吸引固定されており、上記基板１０を所望の角度、例えば９０°だけ回転し得るように構成されている。
　【００１２】
　次に、以上のように構成された本実施例の動作について説明する。
　まず、本実施例においては図４に示すような４角形状のＬＣＤ基板１０が使用され、その大きさは例えば縦横がそれぞれ３００ｍｍ、４００ｍｍに設定されている。
　まず、前段の工程で処理されたＬＣＤ基板１０は、処理装置集合ユニット５０のキャリアステーション５１からメインアーム６２により保持されてブラシスクラバ５２内へ搬入され、この中でブラシ洗浄を行う。更に、この基板は高圧ジェット洗浄機５４にて高圧ジェット水により洗浄され、ホットプレート機５６により乾燥される。その後、基板はアドヒュージョン処理機５６にて疎水化処理が施された後に、コータ６０にてフォトレジストが塗布される。
　このように、フォトレジストが塗布された基板１０は、フォトレジスト除去装置８内へ導入され、その中心部をチャック手段３４により吸引保持する。
　上述のように塗布されたフォトレジスト４は、図５にも示すように基板の周辺部において不都合な盛り上がり部６を形成することになるため、本発明に係るフォトレジスト除去装置によりこの部分を基板周辺部に位置する不必要なフォトレジストと伴に除去することになる。
　【００１３】
　まず、フォトレジスト除去ユニット８が搭載された両側の案内レール１８、１８を基板１０側に移動させてこれに近付け、図３に示すように吸引管２２の先端部の基板収容部２８へ基板周辺部１１の角部を接触しないように収容する。この場合、基台２０に対して吸引管２２が移動可能となるように構成しておけば、案内レール１８を動かすことことなく基板収容部２８へ基板周辺部１１を収容することができ、また、この吸引管２２と基板１０との間の距離も調整することができる。
　また、案内レール１８自体を上下方向に移動可能となるように構成しておけば、例えば基板１０の寸法が大きくてこの周辺部が下方へ撓むような場合にあっても、これに対応させて吸引管２２の下方向への位置調整を行うことが可能となる。
　【００１４】
　以上のようにして、基板周辺部１１の収容が完了したならば、次に、フォトレジスト除去ユニット８を基板周辺部１１に沿って走査しつつ、各溶剤吐出手段１４のニードル管１２から溶剤を噴射乃至吐出すると共に、吸引装置２６を駆動して吸引手段１６の吸引管２２内の雰囲気を吸引する。これにより、ニードル管３０から噴射された溶剤１２は基板周辺部１１に噴き付けられ、ここに位置するフォトレジスト４ａ及び盛り上がり部６を溶解しつつ吸引管２２内へ吸引され、不必要なフォトレジストが除去されることになる。
　このようにして周辺部１１の対向する一対の辺のフォトレジスト除去操作が完了したならば、一旦フォトレジスト除去装置８を基板１０から離間させて、この状態で回転機構３６を９０°回転することにより基板１０を９０°回転し、再度同じような除去操作を繰り返して行って、他の対向する一対の辺のフォトレジスト除去操作を完了し、最終的に基板１０の全周辺部１１に位置する不要なフォトレジストを除去する。このような除去操作は、ＬＣＤ製造工程におけるＩＴ０（インジウムリン　オキサイド）膜の形成や電極形成のためのパターニング等のフォトレジストを使用する各工程で行なわれる。
　【００１５】
　本実施例にあっては、溶剤としてＥＣＡを２０〜３０ｃｃ／ｍｉｎの量で供給し、吸引装置２６を約１００リットル／ｍｉｎの量で駆動して吸引管２２内を吸引し、適当な速度でスキャンした結果、不要なフォトレジストを略完全に除去することができ、また、溶解除去されたフォトレジストの端辺も波打つこともなく直線性の優れたラインに仕上げることができる。
　特に、本実施例においては、フォトレジストの塗布工程終了後、基板を移動することなくその場にて直ちに不要なフォトレジストの除去作業を行うことができるので、フォトレジストの剥離に伴うパーティクルの発生を確実に抑制することができる。
　【００１６】
　尚、本実施例にあっては、相対向させて２個のフォトレジスト除去ユニットを設けた場合について説明したが、これを１個のみ設けるようにしても良いし、また、生産性を向上させるために、１つの案内レール１８上に複数個設けるようにしてもよいし、或は溶剤供給ニードルを複数設けても良いし、更に、上記フォトレジスト除去ユニットの移動方向に直交する方向に移動する別のフォトレジスト除去装置を設けるようにしてもよい。
　また、本実施例にあっては、４角形状のＬＣＤ基板について説明したが、円形以外の三角形、五角形等の多角形についてすべて適用することができ、また、ＬＣＤ基板に限らず他の基板、例えばプリント基板等にも適用することができる。
　【００１７】
　【発明の効果】
　以上説明したように、本実施例によれば、次のような優れた作用効果を発揮することができる。
　溶剤吐出手段から吐出させた溶剤により不要なフォトレジストを溶解させたので、
４角
　従って、不要なフォトレジストの剥離に伴うパーティクルの発生を抑制することができ、製品の歩留まりを向上させることができる。
　また、吸引手段を設けることによりフォトレジストを溶解した溶剤を迅速に除去することができる。
　更に、溶剤吐出手段及び吸引手段を操作手段により移動させることにより、被処理体の周辺部のフォトレジストを効率的に除去することができる。
　また、吸引手段の吸引管の先端に基板収容部を設けることにより、フォトレジストを溶解した溶剤を効率的に排除することができる。
　更に、吸引管を基台に対して移動可能に設けておくことにより、吸引管と基板との間の距離を調整することができる。
　また、被処理体を吸着するチャック手段を回転機構上に設けることにより、被処理体の一対の辺のフォトレジスト除去処理を行なった後、これを９０度回転させれば他の一対の辺のフォトレジスト除去処理を迅速に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明に係るフォトレジスト除去装置を示す斜視図である。
　【図２】
　本発明に係るフォトレジスト除去装置の動作を説明するための動作説明図である。
　【図３】
　図１に示すフォトレジスト除去装置を示す要部拡大図である。
　【図４】
　被処理体を示す平面図である。
　【図５】
　フォトレジストの盛り上がり部を説明するための説明図である。
　【図６】
　フォトレジスト除去装置などが搭載された処理装置集合ユニットを示す斜視図である。
　【符号の説明】
　４　　フォトレジスト
　７　　フォトレジスト除去装置
　８　　フォトレジスト除去ユニット
　１０　ＬＣＤ基板（被処理体）
　１１　周辺部
　１２　溶剤
　１４　溶剤吐出手段
　１６　吸引手段
　２２　吸引管
　２６　吸引装置
　２８　基板収容部
　３０　ニードル管
【図面】