【事件の表示】
　特許第２９９６５９３号「純水供給装置」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９９６５９３号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
 １．本件特許第２９９６５９３号は、平成６年５月３１日に出願されたものであって、平成１１年１０月２９日にその特許権の設定登録がなされ、その後、安井哲也より特許異議の申立てがなされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１３年１月１６日に訂正請求がなされたものである。
　
２．本件特許に対し、異議申立人安井哲也は、甲第１号証として特開昭６２−１１４２２８号公報を、甲第２号証として実願平３−６６３６６号（実開平５−３６８３２号）のＣＤ−ＲＯＭを、甲第３号証として特開平２−２８８２３０号公報を提示し、本件特許の請求項１ないし２に係る発明は、甲第１号証、甲第１及び２号証、及び甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件特許は取り消されるべきであると主張する。
　
３．上記訂正請求によって訂正された明細書に係る発明（以下、「訂正発明」という。）は、その特許請求の範囲に記載された次のとおりのものである。
　「【請求項１】　基板を鉛直軸まわりで回転させつつ基板の下面に純水を供給する純水供給装置において、
　基板の下面に対して純水を吐出するノズルと、
　上下方向にのびて配設され、その上端部に連通接続された前記ノズルに純水を導く第１の純水通路と、
　前記第１の純水通路の下端に連通接続され、純水供給源から供給される純水を前記第１の純水通路に導く第２の純水通路と、
　前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続される箇所より分岐されたドレン通路と、
　前記第２の純水通路の途中において前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続する箇所よりも前記純水供給源側に介挿された開閉弁と、
　前記第２の純水通路に設けられ、前記ドレン通路から純水をリークさせるリーク弁と、
　を備えたことを特徴とする純水供給装置。」
　
４．上記訂正請求の適否について判断する。
（１）上記訂正は、願書に添付された明細書（以下、「特許明細書」という。）を、以下のａ〜ｅのとおり訂正するものである。
　ａ．特許請求の範囲について、
　請求項１について、「基板に純水を供給する」を「基板の下面に純水を供給する」と訂正（「以下、「訂正事項ａ１」という。）し、「純水供給源に連通して純水を基板に導く純水通路と」を「基板の下面に対して純水を吐出するノズルと、上下方向にのびて配設され、その上端部に連通接続された前記ノズルに純水を導く第１の純水通路と、前記第１の純水通路の下端に連通接続され、純水供給源から供給される純水を前記第１の純水通路に導く第２の純水通路と」と訂正（以下、「訂正事項ａ２」という。）し、「前記純水通路から分岐したドレン通路」を「前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続される箇所より分岐されたドレン通路」と訂正（以下、「訂正事項ａ３」という。）し、「前記純水通路の途中に介挿した開閉弁と」を「前記第２の純水通路の途中において前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続される箇所よりも前記純水供給源側に介挿された開閉弁と」と訂正（以下、「訂正事項ａ４」という。）し、「前記純水通路または前記ドレン通路に設けられ前記ドレン通路から純水をリークさせるリーク弁」を「前記第２の純水通路に設けられ、前記ドレン通路から純水をリークさせるリーク弁」と訂正（以下、「訂正事項ａ５」という。）する。
　ｂ．特許請求の範囲について
　請求項２を削除する。
　ｃ．発明の詳細な説明について
　段落番号【０００５】の「本発明は、基板を鉛直軸まわりで回転させつつ基板に純水を供給する純水供給装置において、純水供給源に連通して純水を基板に導く純水通路と、前記純水通路の途中に介挿した開閉弁と、前記純水通路から分岐したドレン通路と、前記純水通路または前記ドレン通路に設けられ前記ドレン通路へ純水をリークさせるリーク弁とよりなることを特徴とする。本発明は、基板の裏面に純水を供給するものとすることができる。」を「本発明は、基板を鉛直軸まわりで回転させつつ基板の下面に純水を供給する純水供給装置において、基板の下面に対して純水を吐出するノズルと、上下方向にのびて配設され、その上端部に連通接続された前記ノズルに純水を導く第１の純水通路と、前記第１の純水通路の下端に連通接続され、純水供給源から供給される純水を前記第１の純水通路に導く第２の純水通路と、前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続される箇所より分岐されたドレン通路と、前記第２の純水通路の途中において前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続する箇所よりも前記純水供給源側に介挿された開閉弁と、前記第２の純水通路に設けられ、前記ドレン通路から純水をリークさせるリーク弁と、を備えたことを特徴とする。」と訂正する。
　ｄ．発明の詳細な説明について
　段落【００１３】１行目の「図２は本発明の第２の実施例を示す。なお、この第２の実施例において、」を、「図２は本発明の参考例を示す。なお、この参考例において、」と訂正する。
　ｅ．図面の簡単な説明について
　【図２】この発明の第２の実施例の純水供給装置の実施例を示す模式図である。」を「【図２】参考例を示す模式図である。」と訂正する。
　
（２）上記訂正のうち、
　ａの訂正事項についてみると、訂正事項ａ１は、純水の供給される部分を基板の下面と限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当し、訂正事項ａ２は、純水の供給手段がノズルであることを限定したものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当し、訂正事項ａ３、ａ４及びａ５は、それぞれ、第１及び第２の純水通路を定義する訂正事項ａ２と相俟って、ドレン通路、開閉弁及びリーク弁の純水通路中での位置を限定するものであるから、いずれも特許請求の範囲の減縮に相当する。
　ｂの訂正事項についてみると、この訂正は、請求項を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　ｃの訂正事項についてみると、この訂正は、特許請求の範囲の減縮に伴い、発明の詳細な説明の記載の【課題を解決するための手段】の欄の記載をこれに整合させたものであるから、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　ｄ及びｅの訂正についてみると、この訂正は、特許請求の範囲の減縮に伴い、実施例と成り得なくなった例を参考例としたものであるから、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　そして、上記ａの訂正事項は、特許明細書の段落【００１０】に記載された実施例に沿ったものであって、特許明細書又は図面に記載された事項の範囲内のものであることは明らかである。
　なお、第１の純水通路が上下方向に延びて配設されることについては、文言上直接の記載はないが、段落【００１０】には、「第１の純水通路が挿通され、鉛直方向にのびている。」と記載され、また、段落【００１２】には、「第１の純水通路２１内に入っていた超純水は重力により下方に流れて・・・排出される。」と記載されており、第１の純水通路が鉛直方向にのびていることは、重力によって通路内の純水を下方に排出する機能を備えたもの、すなわち、通路が上下方向にのびているものの例としてとして記載されていることは明らかである。
　そして、この訂正によって、発明の目的が変更されるものでもないから、特許請求の範囲を実質的に変更するものでもない。
　したがって、上記訂正事項は、いずれも、願書に添付した明細書又は図面に記載された事項の範囲内のものであり、かつ、特許請求の範囲を実質的に拡張し、又は変更するものではない。
　
（３）以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項並びに同条第３項で準用する第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
５．次に、特許異議の申立てについて判断する。
（１）本件特許に係る発明（以下、「本件特許発明」という。）は、訂正された明細書の特許請求の範囲に記載されたとおりのものであって、上記３で認定したとおりのものである。
　
（２）前記甲第１〜３号証には、以下の事項が記載されている。
　甲第１号証；半導体ウェーハの表面を純水にて洗浄する半導体製造装置に関し、「後者のウエット処理装置の一具体例としてブラシスクラブ装置を、第２図を参照して次に示す。同図に示すように、ブラシスクラブ装置（１）はウェーハ（２）を吸着台（３）に真空吸着して回転させると共に回転する円筒状ブラシ（４）にてウェーハ（２）の表面をスクラブし、同時にブラシ（４）によるスクラブ中やスクラブ後に注水ノズル（５）によりウェーハ（２）の表面に間歇的に純水（６）を吹き付けて洗浄するものである。」（第１頁右下欄５−１４行目）及び「まず、通常のウェーハ洗浄処理の際は純水が給水口（１０）より第１、第２、第３の三方弁（Ｖ１）（Ｖ２）（Ｖ３）、開閉弁（Ｖ５）及びフィルタ（９）まで配管（７）を通り注水口（８）よりウェーハに吹き付けられ、更に第２の三方弁（Ｖ２）よりマニホールド（１４）を経て他の複数の注水口に送られる。そして、注水口（８）により間歇的に純水を吹き付ける際は開閉弁（Ｖ５）を閉じると、純水が供給口（１０）より配管（７）を流れ第３の三方弁（Ｖ３）を経て第４の三方弁（Ｖ４）まで第１のバイパス管（１１）を通り排水口（２０）へ流れて回収される。従って、注水口（８）の開閉に拘わらず第１の三方弁（Ｖ１）から第３の三方弁（Ｖ３）まで常に純水が流れる状態になって、配管（７）内での純水の滞留時間が短くなり、バクテリアがそこで繁殖しにくくなる。この時、流量調整弁（１５）によってバクテリアが繁殖しない程度に流量を調整する。」（第２頁右下欄５行目−第３頁左上欄３行目）と記載されている。
　甲第２号証；半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板等の各種基板の表面に、洗浄やフォトレジストの現像等の各種表面処理をするために、純水を供給する純水供給装置に関し、「この純水供給装置は、図１（Ａ）に示すように、純水供給源１に連通した純水通路２と、純水通路２の途中に設けた開閉弁３と、その開閉弁３に対して並列のバイパス通路４に設けられたリーク弁５と、純水通路２の末端に連通連結され、回転式基板表面処理装置１０のスピンカップ１１の上側の位置に付設された純水吐出ノズル８とを具備して成り、リーク弁５は純水の漏出流量を設定自在に構成されている。即ち、上記開閉弁３の開弁時は純水９をスピンチャック１２で保持した基板１３の表面に供給し、上記開閉弁３の閉弁時はバイパス通路４のリーク弁５を介して純水９を少量づつ漏出する。これにより、純水供給配管系の内部に純水が停留してバクテリアが発生するのを防止する。」（第５頁５−１４行目）と記載されている。
甲第３号証；半導体基板の洗浄装置に関し、「第２図は本発明の第２の実施例の断面図である。ウェハー１はホルダー４のつめの部分で保持されている。ホルダー４の底部は水が通るように開口が設けられており、ベルト５を通してモーター６と接続されウェハー１に回転を伝える。そして、気泡を混在させた高圧水流を噴出させるためのノズル２、２Ａはウェハー１の上下に設置されている。この第２の実施例では２本のノズル２、２Ａがあるため、ウェハー１の表裏面を同時に洗浄できる利点がある。」（第２頁左上欄１５行目−右上欄６行目）と記載されている。
　
（３）本件特許発明と前記甲第１〜３号証に記載されたものとを対比すると、前記甲各号証には、いずれにも、本件特許発明の構成である「上下方向にのびて配設され、その上端部に連通接続された前記ノズルに純水を導く第１の純水通路と、前記第１の純水通路の下端に連通接続され、純水供給源から供給される純水を前記第１の純水通路に導く第２の純水通路と、前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続される箇所より分岐されたドレン通路と、前記第２の純水通路の途中において前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続する箇所よりも前記純水供給源側に介挿された開閉弁と、前記第２の純水通路に設けられ、前記ドレン通路から純水をリークさせるリーク弁と、を備えた」構成（以下、「構成Ａ」という。）が記載されておらず、かつ該構成が示唆されているとすることもできない。
　なお、甲第１号証には、「三方弁Ｖ３と注水口８（本件特許発明の「ノズル」に相当する。以下、（　）内は、本件特許発明の相当する部材名。）とを接続する配管７（第１の純水通路）と、純水供給口１０（純水供給源）と三方弁Ｖ３とを接続する配管７（第２の純水通路）と、三方弁Ｖ３に接続されるバイパス管１１（ドレン通路）と、三方弁Ｖ３と注水口８（ノズル）とを接続する配管７（第１の純水通路）に介挿された開閉弁Ｖ５と、バイパス管１１（ドレン通路）に設けられた流量調節弁を備えたウェーハ洗浄装置」の発明が記載されていると認められる。そして、本件特許発明の前記構成Ａと、甲第１号証に記載された発明とを対比すると、前記構成が、第２の純水通路に開閉弁を、ドレン通路に純水をリークさせるリーク弁とを配置しているのに対し、甲第１号証に記載された発明は、第１の純水通路に開閉弁を配置し、ドレン通路にリーク弁を配置している点で相違する。そして、甲第１号証に記載された発明が、開閉弁を閉じたとき第１純水通路に純水が残留してしまうのに対し、本件特許発明は、前記構成Ａを備えることにより、第１の純水通路を上下方向にのびるように配置したことと相俟って、開閉弁を閉じたときには、第１純水通路内の純水は重力によってドレン通路から排出されるとの効果上の相違を有する（全文訂正明細書の発明の詳細な説明の段落【００１２】５−９行目参照）。そうすると、上下方向に延びる純水通路によって基板の下面を洗浄するものが、甲第３号証に記載されているとしても、前記構成Ａが、前記甲第１〜３号証の記載により示唆されるとすることはできない。
　したがって、本件特許発明は、前記甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
６．したがって、特許異議甲立ての理由及び証拠によっては、本件特許の請求項１に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に、本件特許の請求項１に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年２月１４日（２００１．２．１４）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
ａ．特許請求の範囲について、
　請求項１について、「基板に純水を供給する」を「基板の下面に純水を供給する」と、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正をし、「純水供給源に連通して純水を基板に導く純水通路と」を「基板の下面に対して純水を吐出するノズルと、上下方向にのびて配設され、その上端部に連通接続された前記ノズルに純水を導く第１の純水通路と、前記第１の純水通路の下端に連通接続され、純水供給源から供給される純水を前記第１の純水通路に導く第２の純水通路と」と、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正をし、「前記純水通路から分岐したドレン通路」を「前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続される箇所より分岐されたドレン通路」と、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正をし、「前記純水通路の途中に介挿した開閉弁と」を「前記第２の純水通路の途中において前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続される箇所よりも前記純水供給源側に介挿された開閉弁と」と、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正をし、「前記純水通路または前記ドレン通路に設けられ前記ドレン通路から純水をリークさせるリーク弁」を「前記第２の純水通路に設けられ、前記ドレン通路から純水をリークさせるリーク弁」と、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正をする。
　ｂ．特許請求の範囲について
　請求項２を削除する、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正をする。
　ｃ．発明の詳細な説明について
　段落番号【０００５】の「本発明は、基板を鉛直軸まわりで回転させつつ基板に純水を供給する純水供給装置において、純水供給源に連通して純水を基板に導く純水通路と、前記純水通路の途中に介挿した開閉弁と、前記純水通路から分岐したドレン通路と、前記純水通路または前記ドレン通路に設けられ前記ドレン通路へ純水をリークさせるリーク弁とよりなることを特徴とする。本発明は、基板の裏面に純水を供給するものとすることができる。」を「本発明は、基板を鉛直軸まわりで回転させつつ基板の下面に純水を供給する純水供給装置において、基板の下面に対して純水を吐出するノズルと、上下方向にのびて配設され、その上端部に連通接続された前記ノズルに純水を導く第１の純水通路と、前記第１の純水通路の下端に連通接続され、純水供給源から供給される純水を前記第１の純水通路に導く第２の純水通路と、前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続される箇所より分岐されたドレン通路と、前記第２の純水通路の途中において前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続する箇所よりも前記純水供給源側に介挿された開閉弁と、前記第２の純水通路に設けられ、前記ドレン通路から純水をリークさせるリーク弁と、を備えたことを特徴とする。」と、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正をする。
　ｄ．発明の詳細な説明について
　段落【００１３】の「図２は本発明の第２の実施例を示す。なお、この第２の実施例において、」を、「図２は本発明の参考例を示す。なお、この参考例において、」と、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正をする。
　ｅ．図面の簡単な説明について
　【図２】この発明の第２の実施例の純水供給装置の実施例を示す模式図である。」を「【図２】参考例を示す模式図である。」と、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正をする。
（５４）【発明の名称】
純水供給装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】基板を鉛直軸まわりで回転させつつ基板の下面に純水を供給する純水供給装置において、
　
基板の下面に対して純水を吐出するノズルと、
　
上下方向にのびて配設され、その上端部に連通接続された前記ノズルに純水を導く第１の純水通路と、
　
前記第１の純水通路の下端に連通接続され、純水供給源から供給される純水を前記第１の純水通路に導く第２の純水通路と、
　
前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続される箇所より分岐されたドレン通路と、
　
前記第２の純水通路の途中において前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続する箇所よりも前記純水供給源側に介挿された開閉弁と、
　
前記第２の純水通路に設けられ、前記ドレン通路から純水をリークさせるリーク弁と、
　
を備えたことを特徴とする純水供給装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】この発明は、例えば半導体ウエハ、液晶表示装置製造用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板に対して、処理のための純水を供給する純水供給装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】この種の純水供給装置としては、従来より例えば実開平５−３６８３２号公報に開示されたものが知られている。かかる装置は、純水供給源に連通した純水通路の途中に開閉弁を介挿し、その開閉弁に対して、リーク弁を有するバイパス通路を並列に設けて構成されている。かかる装置においては、開閉弁を閉じて基板に対する純水の供給を行わないときに、バイパス通路のリーク弁を通って少量の純水をノズルから吐出し続け、純水通路に純水が滞留するのを防ぎ、これにより純水中のバクテリアの発生、増殖を防止している。
　【０００３】しかしながら、かかる構成では、基板に対して純水を供給すべきでないとき、例えば洗浄後の半導体ウエハ（基板）を回転させて乾燥させるいわゆるスピン乾燥処理中においても、ノズルから少量の純水が吐出され続けているため、その純水の滴が半導体ウエハに付着してしまうおそれがあった。このように不必要なときに吐出される純水は、基板に付着するなどして基板の処理品質を低下させてしまう。特に、特開平４−６６１５９号公報に記載のもののように、基板の裏面に対して純水を供給するものに適用すると、不必要なときに吐出された純水は基板を支持するスピンチャックの上面に溜まるなどして、基板の裏面に付着して基板の処理品質を低下させるおそれがあった。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の事情に鑑みてなされたものであり、純水通路に純水が滞留するのを防ぎ、これにより純水中のバクテリアの発生、増殖を防止することができ、かつ、基板に純水が付着することがなく、基板の処理品質を低下させることがない純水供給装置を提供することを目的とする。
　【０００５】
　【課題を解決するための手段】本発明は、基板を鉛直軸まわりで回転させつつ基板の
下面に
基板の下面に対して純水を吐出するノズルと上下方向にのびて配設され、その上端部に連通接続された前記ノズルに純水を導く第１の純水通路と、前記第１の純水通路の下端に連通接続され、純水供給源から供給される純水を前記第１の純水通路に導く第２の純水通路と、前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続される箇所より分岐されたドレン通路と、前記第２の純水通路の途中において前記第１の純水通路と前記第２の純水通路とが連通接続する箇所よりも前記純水供給源側に介挿された開閉弁と、前記第２の純水通路に設けられ、前記ドレン通路から純水をリークさせるリーク弁と、を備えたことを
　【０００６】
　【作用】基板への純水の吐出時には、純水が純水通路を通り開閉弁を介して基板へ供給される。基板への純水の供給を行わないときには、純水通路から分岐したドレン通路へ純水がリーク弁によりリークし、ドレン通路から排出される。基板の裏面を洗浄するものであっても、リークした純水がスピンチャックの上面等に溜まることはない。
　【０００７】
　【実施例】図１は本発明の純水供給装置を基板洗浄装置に使用した第１の実施例を示す。スピンチャック４０は、円盤台４２の周縁に沿って等間隔に６個取り付けられた基板支持ピン４４によって半導体ウエハ（以下、基板と称す）Ｗの端縁を支持するものであり、鉛直方向に設けられた中空の回転軸２の上端に取り付けられている。回転軸２はモータ３により回転駆動される。基板支持ピン４４は、基板Ｗが載置される基板載置面４６が上面に形成され、かつその基板載置面４６に位置規制部４８が突設されている。基板Ｗは基板載置面４６に載置されて支持されると共に、その端縁が位置規制部４８の側面によって水平方向の位置が規制されることで、スピンチャック４０から脱落しないよう支持される。
　【０００８】スピンチャック１の周囲を囲うカップ４は、図示しない昇降駆動源によって、スピンチャック１に対して昇降自在に設けられている。カップ４に形成されたドレン開口６は、図示しない排気源に接続されている。カップ４は、基板Ｗの洗浄時には上昇して図１に示す状態で基板Ｗの周囲を囲い、前記排気源によってカップ４内を排気することとあいまって、洗浄液のカップ４外への飛散を防止する。カップ４によって収容された洗浄液はドレン開口６から排出され、気液分離の後、廃棄される。
　【０００９】また、カップ４の外側近傍の基台（図示せず）に立設された支柱１３は、アーム１２を支持している。支柱１３には、図示しない回転駆動源が付設され、アーム１２は支柱１３により、水平方向に旋回可能に支持されている。アーム１２の先端には、洗浄ノズル５０が下向きに設けられており、洗浄液供給管５２により供給された洗浄液としての超純水を下方に向けて吹き出し、基板Ｗの上面に供給する。
　【００１０】中空の回転軸２には、第１の純水通路２１が挿通され、鉛直方向にのびている。スピンチャック４０の上面にはこの第１の純水通路２１の上端に連通接続したノズル２３が臨んでおり、ノズル２３は第１の純水通路２１から供給される超純水を基板Ｗの下面に対して吐出する。第１の純水通路２１の下端には三方継手２４が接続され、三方継手２４の他の一方には第２の純水通路２２が、更に他の一方にはドレン通路２７が接続される。第２の純水通路２２は、一端を図外の純水供給源に接続されている。なお、純水供給源は、純水タンク、フィルタ、ポンプ等から構成される。第２の純水通路２２にはその途中に第１の開閉弁３１が介挿され、かつその第１の開閉弁３１に対して並列にバイパス通路を形成する第３の純水通路２５が形成されている。第３の純水通路２５にはスローリーク弁２６が介挿されている。スローリーク弁２６は、例えば１ｃｃ／ｓｅｃ程度の流量となるように、微少な開度で常に開いた状態とされている。前記三方継手２４は、第１の開閉弁３１と第３の純水通路２５との並列部と、ノズル２３へ連通する第１の純水通路２１との間に設けられている。そして、この三方継手２４により、第２の純水通路２２は、第１の分岐通路２１と、ドレン通路２７とに分岐する。ドレン通路２７には第２の開閉弁３２が介挿されており、このドレン通路２７は、図外の排液処理装置へ接続される。
　【００１１】而して、洗浄動作を行わないときには、アーム１２はカップ４の上方から外れた退避位置にあり、且つカップ４は下降した位置にある。本装置により洗浄動作を行う場合、まず、図示しない基板搬送手段が基板Ｗをスピンチャック４０に搬送する。スピンチャック４０が基板Ｗを保持すると、カップ４が図１に示す位置まで上昇し、一方、スピンチャック４０はモータにより回転駆動される。それとともに、支柱１３の回転駆動源が駆動され、アーム１２がカップ４の基板Ｗ上方位置まで旋回する。そして、基板Ｗを回転させかつアーム１２を水平方向に変位させつつ、洗浄液ノズル５０から基板Ｗ上面に向けて超純水ＤＩＷを吹き付けることにより、基板Ｗの上面の洗浄動作がなされる。
　【００１２】そして、かかる基板Ｗの上面の洗浄動作と同時に、基板Ｗの下面にも超純水を供給して、下面の洗浄動作がなされる。まず、閉じられていた第１の開閉弁３１が開放され、開いていた第２の開閉弁３２が閉じられる。これにより、超純水ＤＩＷが第２、第１の純水通路２２、２１を通って基板Ｗの下面に吹き出され、下面の洗浄動作がなされる。そして、この下面の洗浄動作が終了すると、開いていた第１の開閉弁３１が閉じられ、閉じていた第２の開閉弁３２が開かれる。これにより、基板Ｗ下面への超純水の供給は停止され、第１の純水通路２１内に入っていた超純水は重力により下方に流れて、三方継手２４からドレン通路２７を通って排出される。そして、以後、第３の純水通路２５、スローリーク弁２６を通って、超純水がわずかづつドレン通路２７へ流れる。したがって、第２の純水通路２２に超純水が滞留してしまうことはなく、超純水中にバクテリアが発生、増殖することがない。また、スローリーク弁２６を通った超純水はドレン通路２７を通って排液処理装置へ送られるので、基板Ｗに超純水が不所望に付着してしまうことがなく、基板Ｗの処理品質を低下させることがない。また、下面の洗浄動作を行わないときには、スローリーク弁２６を通る超純水はノズル２３からは吐出されることがないので、リークした純水がスピンチャック４０の上面等に溜まることはなく、基板Ｗの処理品質を低下させることがない。
　【００１３】図２は本発明の
参考例
参考例
　【００１４】そして、基板Ｗの下面の洗浄動作時には、まず、閉じられていた第１の開閉弁３１が開放される。これにより、超純水が第２、第１の純水通路２２、２１を通って超純水が基板Ｗの下面に吹き出され、下面の洗浄動作がなされる。そして、この下面の洗浄動作が終了すると、開いていた第１の開閉弁３１が閉じられる。これにより、基板Ｗ下面への超純水の供給は停止される。そして、以後、第２の純水通路２２から送られる超純水は、三方継手２４からスローリーク弁２６を通って、わずかづつドレン通路２７へ流れ、排出される。したがって、第２の純水通路２２に超純水が滞留してしまうことはない。なお、この第２の実施例においては、基板Ｗの下面への超純水供給時においてもスローリーク弁２６を介して超純水が流れているが、その流量はごくわずかであり、第１の開閉弁３１が開かれると超純水は基板Ｗへ供給される。
　【００１５】なお、以上の実施例において、本発明の純水供給装置は基板Ｗの下面に超純水を供給するものであったが、これに限らず、例えば基板Ｗの上面に超純水を供給するものであってもよい。また、この実施例は洗浄専用の装置であったが、本発明は、例えば基板の現像処理とその現像処理直後に引き続いて行う洗浄処理とを同一のカップにおいて行う現像・洗浄兼用の装置における純水供給装置に対しても適用できる。
　【００１６】
　【発明の効果】本発明によれば、基板への純水の供給を行わないときには、リーク弁を通って純水が流れ、純水通路から分岐したドレン通路を通って排出されるので、純水通路に純水が滞留することがなく、純水中のバクテリアの発生、増殖を防止することができる。また、リーク弁を通った純水が不所望に基板に付着することがなく、基板の処理品質を低下させることがない。
【図面の簡単な説明】
　【図１】この発明の第１の実施例の純水供給装置の実施例を示す模式的断面図である。
　【図２】
参考例を示す模式図である。
　【符号の説明】
Ｗ　基板
２１　第１の純水通路
２２　第２の純水通路
２３　ノズル
２５　第３の純水通路
２６　スローリーク弁
２７　ドレン通路
３１　第１の開閉弁