【事件の表示】
　特許第２７６０５２０号「ポリイミド共重合体及びその製造方法」の請求項１ないし２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２７６０５２０号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理由】
Ｉ．手続の経緯
　特許第２７６０５２０号は、昭和６３年９月２９日に出願され、平成１０年３月２０日に設定登録され、その後、宇部興産株式会社及び井上浩からそれぞれ特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年８月２日に訂正請求がなされたものである。
ＩＩ．訂正について
　１．訂正の内容
（１）特許請求の範囲の請求項１中の「常温での粘度が４００ｃｐ以上であり」を「常温でのその前駆体の粘度が４００ｃｐ以上であり」と訂正する。
（２）明細書（平成９年３月１０日付け補正書３頁８〜９行）の記載中「常温での粘度が４００ｃｐ以上であり」を「常温でのその前駆体の粘度が４００ｃｐ以上であり」と訂正する。
　２．訂正の適否についての判断
　（１）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正（１）、（２）は、ポリイミドの粘度としても解釈できる記載を、ポリイミドの前駆体の粘度であることに限定し、これを明りょうにするものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とし、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。そして、前記訂正（１）、（２）は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではない。
　（２）独立特許要件について
　訂正後の請求項１に係る発明は、後記ＩＩＩ．に示したように独立して特許を受けることができることは明らかである。
　３．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項及び第３項で準用する同法第１２６条第２〜４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
ＩＩＩ．特許異議の申立について
　１．特許異議申立人の主張
　異議申立人　宇部興産株式会社は、甲第１号証（特開平２−９１１２４号公報）、甲第２−１号証（リソコートＳＩ−５００のカタログ、宇部興産株式会社、昭和６３年５月発行）、甲第２−２号証（リソコートのカタログ、宇部興産株式会社，昭和６３年４月発行）を提出して、特許第２７６０５２０号の請求項１−２に係る発明は、出願公開後の補正により新規事項を加入したため出願日が繰り下がり、甲第１号証に記載の発明となり、また、その効果が甲第２号証により公知のものであるから、単なる重合形式の変更に過ぎないもので、特許法第２９条第１項第３号の規定または同条第２項の規定に違反して特許されたものであるから取り消されるべき旨、主張している。
　異議申立人　井上　浩は、甲第１号証（特開平２−９１１２４号公報）を提出して、特許第２７６０５２０号の請求項２に係る発明は、出願公開後の補正により新規事項を加入したため出願日が繰り下がり、甲第１号証に記載の発明となり、特許法第２９条第１項第３号の規定に違反して特許されたものであるから、また、特許第２７６０５２０号の請求項２に係る発明の出願は明細書の記載が不備であるから、特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていない出願に対して特許されたものであるから、取り消されるべき旨、主張している。
　２．異議申立てについての判断
　（１）特許法第２９条第１項及び第２項違反について
　（ｉ）まず、平成７年５月８日付け及び平成８年５月１３日付けの手続補正書による補正が明細書の要旨を変更するものであるか否かについて検討する。
　前記補正は、「ジグライム又はＮ−メチル−２−ピロリドンの１５重量％溶液における常温での粘度が４００ｃｐ以上である」との記載事項を加入するものである。
　本件特許の願書に最初に添付された明細書（以下、当初明細書という）２０頁には、
「実施例１
　テトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）３２．２０ｇ（０．１０モル）をジグライム（ＤＩＧ）３６５ｇに分散させ、これにアミン当量６５０のジアミノシロキサン（ＰＳＸ−Ｂ）１３．００ｇ（０．０１モル）をジグライム１００ｇに溶解させた溶液を滴下し反応させた。このようにして、・・・形成させた後、ジアミノ化合物（ＢＡＰＰ）３６．９０ｇ（０．０９モル）を加え、・・・反応させて透明なポリアミック酸溶液を得た。」と記載され、同２１頁には、
「実施例２〜１２
　第１表に示すモノマー及び反応溶媒を用いて、実施例１と同様な方法でポリイミド前駆体を合成し、得られたポリイミド前駆体を使用してポリイミドフイルムを作り、」と記載されている。また、当初明細書２４頁には、「第１表」が示されており、第１表中の「溶液粘度（ｃｐ）」の欄には１５００，１０００，４００，５００，１２００，１１００，１５００，２１００，１０５０，１３００，１２００，１５００，の各数値が記載されている。さらに同表中の「反応溶媒」の欄にはＤＩＧ（ジグライム）、ＤＩＧ＋ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）が記載されている。
　そして、これらの記載から見ると、ポリイミド前駆体の溶液粘度はジグライムを溶媒とし、テトラカルボン酸二無水物類とジアミノシロキサン化合物類及びジアミノ化合物類を反応させて得られた反応生成物溶液（実施例によると、反応生成物はジグライムに対して１５重量％である。）を用いたもので示されているものであるから、結局、当初明細書にはポリイミド前駆体であるポリアミック酸について「ジグライム又はＮ−メチル−２−ピロリドンの１５重量％溶液における常温での粘度が４００ｃｐ以上である」ことについては実質的に記載されていたものといえる。そうすると、前記の補正は、当初明細書に記載された事項の範囲内においてされたものであり、当初明細書の要旨を変更するものではない。
　したがって、本件特許の出願日は本件特許が出願された昭和６３年９月２９日である。
　（ｉｉ）本件発明
　訂正明細書の請求項１に係る発明は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりのものであり、請求項２に係る発明は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項２に記載されたとおりのものである。
　（ｉｉｉ）甲第１号証について
　上記のとおり、本件特許の出願日は昭和６３年９月２９日であるから、本件特許の出願日後に頒布された甲第１号証は証拠方法として採用できない。
　（ｉｖ）甲第２−１、２−２号証について
　前記甲第２−１号証には、リソコート（ＬＩＴＨＯＣＯＡＴ）ＳＩ−５００が、低温処理型ポリイミドコーティング剤であること、イミド化されたポリマーをワニス化しているため低温・短時間で安定した膜が得られることが記載され、それらの特徴、特性、用途についても記載されている。そして、コーティング剤特性（標準品）として、固型分濃度２０％、粘度３００ｃｐｓ／２５℃、溶媒がジグライム等が示されている。また、甲第２−２号証には、リソコート一覧表が示され、グレードＳＩ−５００について、固形分濃度８〜３０％、溶媒がＤＩＧ、粘度（ｃｐ／２５℃）３０〜１００００等が示されている。
　（ｖ）判断
　　前記甲第２−１，２−２号証に記載されている、低温処理型ポリイミドコーティング剤は、その物性のみでは、どのような原料を用いて製造されたものであるのか不明である。そして、ポリイミド化合物が多数の異なった原料から製造されることを考慮すると、前記甲第２−１，２−２号証の記載から、本件特許明細書の請求項１及び請求項２に記載の構成が容易に予測できたとはいえない。
　したがって、本件特許の請求項１及び請求項２に係る発明は、前記甲第２−１，２−２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
（２）特許法第３６条第４項違反について
　（ｉ）特許明細書の記載に不備があるとする理由の概要は、次のとおりである。
　請求項２の記載については、本特許明細書に、ミクロ相分離構造についての確認手段が記載されてなくその製造方法によって規定されているから、製造方法を明確に規定することが重要である。ジアミノシロキサンは反応性が高いため、反応条件（テトラカルボン酸二無水物とジアミノシロキサンとの添加順序、使用する反応溶媒など）によっては連鎖長が長くなったり短くなったりし、連鎖長の長いシロキサンイミドブロックではミクロ相分離構造を有することができるか疑問があるからである。つまり、ポリイミド共重合体に関する請求項１について出願時の共重合体についての記載からミクロ相分離構造を有する共重合体に補正されたのであるから、その製造方法についてもミクロ相分離構造を有するポリイミド共重合体を製造できる方法に補正すべきであり、そのように補正されていない請求項２は発明の必須の要件を記載しているとはいえない。
　（ｉｉ）上記理由について検討する。
　請求項２には、「下記一般式（４）【式省略】（但し、式中・・・を示す）で表されるジアミノシロキサンに対し２倍モル当量以上のテトラカルボン酸二無水物を反応させてシロキサン含有多価カルボン酸を形成せしめ、次いで、このシロキサン含有多価カルボン酸成分と未反応のテトラカルボン酸二無水物及び一般式（５）【式省略】（但し、式中・・・位置する）で表されるジアミン成分とを反応させることを特徴とするミクロ相分離構造を有するポリイミド共重合体の製造方法。」と記載されている。そして、実施例には、請求項２に記載された方法について、具体的に前記原料を用いて、ミクロ相分離構造を有するといえるポリイミド共重合体であるフイルムを製造しており、得られたポリイミド共重合体についての物性が第１表及び第２表に示されている。
　してみると、請求項２には、請求項２に係る発明の構成に欠くことができない事項が記載されていないとはいえない。
　したがって、異議申立人が主張する前記理由は失当であり、特許明細書の記載に不備があるとはいえない。
ＩＶ．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立人の主張及び証拠方法によっては請求項１及び請求項２に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に請求項１及び請求項２に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年８月３０日（１９９９．８．３０）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　特許第２７６０５２０号の明細書を訂正請求書に添付された訂正明細書のとおりに訂正する。
（１）特許請求の範囲の請求項１中の「常温での粘度が４００ｃｐ以上であり」を、特許請求の範囲の減縮を目的に「常温でのその前駆体の粘度が４００ｃｐ以上であり」と訂正する。
（２）明細書（平成９年３月１０日付け補正書３頁８〜９行）の記載中「常温での粘度が４００ｃｐ以上であり」を、明りょうでない記載の釈明を目的に「常温でのその前駆体の粘度が４００ｃｐ以上であり」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
ポリイミド共重合体及びその製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　（１）下記一般式（１）
　〔但し、式中Ａｒ１は下記一般式（３）
　（式中、Ｙは存在しないか又は−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−、−Ｃ（ＣＦ３）２−のいずれかを示す）で表される４価の有機基であり、Ｘは存在しないか又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−若しくは
　のいずれかを示し、Ｒ１〜Ｒ４は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、ｎは０〜４の整数を示し、また、Ｎはベンゼン環のｐ−位又はｍ−位にある〕で表されるポリイミドブロックと、下記一般式（２）
〔但し、式中Ａｒ２は下記一般式（３）
（式中、Ｙは存在しないか又は−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−、−Ｃ（ＣＦ３）２−のいずれかを示す）で表される４価の有機基であり、Ｒ５は炭素数４以下のメチレン基、フェニレン基又はメチルフェニレン基であり、Ｒ６は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、ｍは５〜５０の正の整数を示す〕で表されるシロキサンポリイミドブロックとからなり、一般式（１）で表されるポリイミドブロックと一般式（２）で表されるシロキサンポリイミドブロックとが重量比（１）／（２）＝９９／１〜３０／７０の範囲であり、ジグライム又はＮ−メチル−２−ピロリドンの１５重量％溶液における常温での
その前駆体の
　（２）下記一般式（４）
（但し、式中Ｒ５は炭素数４以下のメチレン基、フェニレン基又はメチルフェニレン基であり、Ｒ６は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、ｍは５〜５０の整数を示す）で表されるジアミノシロキサンに対し２倍モル当量以上のテトラカルボン酸二無水物を反応させてシロキサン含有多価カルボン酸成分を形成せしめ、次いで、このシロキサン含有多価カルボン酸成分と未反応のテトラカルボン酸二無水物及び一般式（５）
（但し、式中Ｘは存在しないか又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−若しくは
のいずれかを示し、Ｒ１〜Ｒ４は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、ｎは０〜４の整数を示し、また、アミノ基はｐ−位又はｍ−位に位置する）で表されるジアミン成分とを反応させることを特徴とするミクロ相分離構造を有するポリイミド共重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
　［産業上の利用分野］
　本発明は、シロキサン変性ポリイミドに係り、より詳しくは、機械的特性、電気的特性、耐熱特性、さらには、基盤密着性に優れたシロキサンブロックを有すると共にミクロ相分離を有するポリイミドに関するものである。
　［従来の技術］
　従来より、半導体装置の表面コーティング剤、ＩＣ回路の層間絶縁膜、パッシベーション膜、あるいは、ダイボンディング接着剤、液晶配向用有機膜等の用途に代表されるように、シリコン含有基材の被接着体とその表面を被覆するポリイミド膜との間における密着性の向上を図る方法として、被接着体表面を予めカップリング剤で処理する方法や、ポリイミドポリマー中にアルコキシシリル基やジシロキサン基を導入する方法等が提案されている（特開昭６０−７６，５３３号公報）。そして、このような方法によって製造されたポリイミド前駆体は、加熱処理によりポリイミドに変化し、被接着体表面に対して優れた密着性を発揮することが知られている。
　しかしながら、このようにして得られたポリイミドは、そのシロキサン含有率を高くすると、ガラス転移温度と熱分解温度が共に低下し、しかも、耐湿特性や機械的特性が低下し、熱膨張係数の増加も避けられない。
　また、ポリイミド膜の弾性率を低下させる目的でジアミノシロキサンを共重合させる方法も提案されている（特開昭６２−２２３，２２８号公報）。
　しかしながら、このような方法によって得られたポリイミドは、シロキサンがマクロ的に相分離を起し、透明なフィルムあるいは塗膜が得られず、その機械的特性や電気的特性の低下を引き起し、実用的価値が低下するほか、熱膨張係数の増大も避けられない。
　さらに、ミクロ相分離構造を持つシロキサン変性ポリイミドも報告されている（Ｊ．Ｅ．ＭｃＧｒａｔｈ，ｅｔ　ａｌ．，Ｊ．Ａｄｈｅｓｉｏｎ，Ｖｏｌ．２３，ｐ６７−８７（１９８７））。
　しかしながら、この文献に示されたものは、重合度が向上せず、芳香族成分とシロキサン成分の相溶性が大きく違い過ぎて透明性が悪くなり、しかも、機械特性が低下するという問題がある。
　また、溶剤可溶なシロキサン含有ポリイミドも報告されている（米国特許第３，３２５，４５０号及び第３，７４０，３０５号明細書）。
　しかしながら、これらはシロキサンの共重合比が高く、耐熱性あるいは機械特性上良好なものが得られ難い。
　［発明が解決しようとする課題］
　本発明の目的は、上記従来のポリイミドにおける種々の問題を解決し、しかも、フィルム特性の優れたミクロ相分離構造を有する透明なポリイミド共重合体及びその製造方法を提供することにある。
　［課題を解決するための手段］
　すなわち、本発明は、下記一般式（１）
〔但し、式中Ａｒ１は下記一般式（３）
（式中、Ｙは存在しないか又は−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−、−Ｃ（ＣＦ３）２−のいずれかを示す）で表される４価の有機基であり、Ｘは存在しないか又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−若しくは
のいずれかを示し、Ｒ１〜Ｒ４は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、ｎは０〜４の整数を示し、また、Ｎはベンゼン環のｐ−位又はｍ−位にある〕で表されるポリイミドブロックと、下記一般式（２）
〔但し、式中Ａｒ２は下記一般式（３）
（式中、Ｙは存在しないか又は−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−、−Ｃ（ＣＦ３）２−のいずれかを示す）で表される４価の有機基であり、Ｒ５は炭素数４以下のメチレン基、フェニレン基又はメチルフェニレン基であり、Ｒ６は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、ｍは５〜５０の正の整数を示す〕で表されるシロキサンポリイミドブロックとからなり、一般式（１）で表されるポリイミドブロックと一般式（２）で表されるシロキサンポリイミドブロックとが重量比（１）／（２）＝９９／１〜３０／７０の範囲であり、ジグライム又はＮ−メチル−２−ピロリドンの１５重量％溶液における常温での
その前駆体の
　また、本発明は、下記一般式（４）
（但し、式中Ｒ５は炭素数４以下のメチレン基、フェニレン基又はメチルフェニレン基であり、Ｒ６は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、ｍは５〜５０の整数を示す）で表されるジアミノシロキサンに対し２倍モル当量以上のテトラカルボン酸二無水物を反応させてシロキサン含有多価カルボン酸成分を形成せしめ、次いで、このシロキサン含有多価カルボン酸成分と未反応のテトラカルボン酸二無水物及び一般式（５）
（但し、式中Ｘは存在しないか又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−若しくは
のいずれかを示し、Ｒ１〜Ｒ４は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、ｎは０〜４の整数を示し、また、アミノ基はｐ−位又はｍ−位に位置する）で表されるジアミン成分とを反応させるミクロ相分離構造を有するポリイミド共重合体の製造方法である。
　本発明において、ポリイミドブロックを形成するテトラカルボン酸残基のＡｒ１及びＡｒ２は少なくとも１個の芳香族環を含む有機基であり、好ましくは下記一般式（３）
（式中、Ｙは存在しないか又は−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−、−Ｃ（ＣＦ３）２−のいずれかを示す）で表される構造を有する４価の有機基である。このテトラカルボン酸二無水物に由来する４価の有機基として、具体的には、
等を挙げることができる。
　また、一般式（２）で示されるシロキサンポリイミドブロックのｍは５〜５０の整数、好ましくは１０〜３０の整数である。このｍの値が５未満であると弾性率を低下させる効果が小さく、また、ｍの値が５０を超えるとテトラカルボン酸二無水物との反応性が低下し、シロキサンブロックが形成され難くなり、生成したポリイミドは基盤密着性に劣るので好ましくない。
　さらに、本発明のポリイミド共重合体において、一般式（２）で示されるシロキサンポリイミドブロックの繰返し単位の割合は、ポリイミドの総量に対して通常１〜７０重量％、好ましくは１０〜５０重量％である。そして、この一般式（２）で示されるシロキサンポリイミドブロックの一部として、ｍ＝１〜４のものを０．５〜５重量％の範囲で存在させてもよい。
　本発明のポリイミド共重合体は、ミクロ相分離構造であることができるものであり、本発明の製造方法によって製造することができ、そして、このようにして製造されたポリイミド共重合体の一部は優れた溶剤可溶性も有している。
　本発明の製造方法で使用する一般式（４）で示されるジアミノシロキサンとしては、重量平均分子量が９００〜５，０００のものが適当であり、好ましくは１，０００〜３，０００のものがよい。また、このような重量平均分子量のものと共に２００〜８００のものを併用することもできる。
　この目的で使用する一般式（４）で示されるジアミノシロキサンとしては、具体的には、
等が挙げられ、これらは単独で使用できることは勿論、２種以上を併用することもできる。
　本発明のポリイミド共重合体を製造するに当っては、公知の方法を使用することができるが、好ましくは、先ず、上記一般式（４）で示されるジアミノシロキサンの総量に対して２倍モル当量以上、好ましくは４倍モル当量以上のテトラカルボン酸二無水物を反応させてシロキサン変性多価カルボン酸成分を形成させる。ここで使用するテトラカルボン酸二無水物としては、上記一般式（２）中のＡｒ２に酸無水物基が結合したもの、具体的には、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）テトラフルオロプロパン二無水物等が好ましく、また、このようなテトラカルボン酸二無水物成分の一部として、例えば、ピロメリット酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−アントラセンテトラカルボン酸二無水物、１，２，７，８−フェナンスレンテトラカルボン酸二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、４，４−ビス（２，３−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルメタンニ無水物等を使用することもできる。
　次に、上記反応終了後、生成したシロキサン含有多価カルボン酸成分と未反応のテトラカルボン酸二無水物に一般式（５）で示されるジアミノ化合物を主体とするジアミン成分とを加え、引き続いて反応を行なう。
　また、この一般式（１）で示されるポリイミドブロックを製造する際に用いられるジアミン成分は一般式（５）で示されるジアミノ化合物を主体とするものであり、具体的には、２，２−ビス−［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス−［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］　プロパン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、２，２−ビス−［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス−［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）］　ビフェニル、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）］ビフェニル、ビス［１−（４−アミノフェノキシ）］ビフェニル、ビス［１−（３−アミノフェノキシ）］ビフェニル、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］メタン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］メタン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］エーテル、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］エーテル、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）］ベンゾフェノン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）］ベンゾフェノン、ビス［４，４’−（４−アミノフェノキシ）］ベンズアニリド、ビス［４，４’−（３−アミノフェノキシ）］ベンズアニリド、９，９−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−３−アミノフェノキシ）フェニル］フルオレン等が挙げられる。これらは、２種以上を併用することもできるし、また、これらのジエーテル系ジアミン以外の芳香族ジアミンも少量であれば併用することができる。
　このように一般式（５）で示されるジアミノ化合物と併用し得る芳香族ジアミンとしては、例えば、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、ベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，６−ジアミノピリジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−［１，４−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスアニリン、４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスアニリン等を挙げることができる。
　本発明方法の反応系で使用する溶媒としては、芳香族ポリアミック酸成分とシロキサンブロックの双方に対して不活性である必要がある。この種の溶媒として代表的なものは、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグライム）、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒や、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−シクロヘキシル−２−ピロリドン等のアミド系溶媒等があり、これらの溶媒はその１種のみを単独で使用できるほか、２種以上を組合わせた混合溶媒としても使用できるが、ジグライム系溶媒を１０重量％以上、好ましくは３０重量％以上含有する溶媒が好適である。
　また、本発明方法の反応は、次の方法により行なうことが好ましい。すなわち、先ず、予め反応溶媒中にテトラカルボン酸二無水物を分散又は溶解させ、これに一般式（４）で示されるジアミノシロキサンを溶解させたジグライム溶液を徐々に加えて反応させ、この反応により一般式（２）で示されるシロキサンポリイミドブロックからなる繰返し単位を形成せしめる。次に、このようにして得られた反応混合物中に一般式（５）で示されるジアミノ化合物を主体とするジアミン成分を加えて反応させることにより一般式（１）で示される繰返し単位を連結し、これによってミクロドメイン構造を有するポリイミド共重合体に変換可能な均一なポリイミド前駆体溶液を得ることができる。また、このようにして得られたポリイミド前駆体溶液からは、良好な特性を持つポリイミドフィルムを得ることができる。
　本発明により得られたポリイミド前駆体は、塗布対象物にスピナー、ディップあるいは印刷又はキャスト等の公知の方法で塗布し、５０〜３５０℃の温度で加熱することにより溶媒を蒸発させ、前駆体を脱水、閉環させてポリイミド被膜あるいはフィルムを形成せしめることができる。
　このようにして得られるポリイミドは、ミクロ相分離構造を有することができ、引張弾性率が小さく、引張伸度が大きく、誘電率や誘電損失が小さく、しかも、ガラス、シリコンウェハ等の基盤に対する接着性が良好である等の優れた性質を備えている。また、このようにして得られたポリイミドの一部は有機溶剤に可溶なポリイミドである。
　［実施例］
　以下、実施例及び比較例に基いて、本発明を具体的に説明する。　
　なお、各実施例及び比較例における略号は以下の通りである。
ＢＴＤＡ：３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
ＢＰＤＡ：３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
ＤＥＤＡ：３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物
ＤＳＤＡ：３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物
６ＦＤＡ：４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物
ＰＭＤＡ：ピロメリット酸二無水物
ＢＡＰＰ：２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン
ｐ−ＢＡＰＳ：ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン
ｍ−ＢＡＰＳ：ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン
ＢＡＰＦ：２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン
ＯＤＡ：４，４’−オキシジアニリン
ＧＡＰＤ：ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン
ＰＳＸ：
　　　ＰＳＸ−Ａ：アミン当量４７２（Ｍｗ：９４４、ｍ＝９．８７）
　　　ＰＳＸ−Ｂ：アミン当量６５０（Ｍｗ：１３００、ｍ＝１４．４）
　　　ＰＳＸ−Ｃ：アミン当量１２８０（Ｍｗ：２５６０、ｍ＝３０．５）
　　　ＰＳＸ−Ｄ：アミン当量２２００（Ｍｗ：４４００、ｍ＝５４．２）
ＤＩＧ：ジグライム
ＮＭＰ　：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
ＤＭＡｃ：ジメチルアセトアミド
　実施例１
　テトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）３２．２０ｇ（０．１０モル）をジグライム（ＤＩＧ）３６５ｇに分散させ、これにアミン当量６５０のジアミノシロキサン（ＰＳＸ−Ｂ）１３．００ｇ（０．０１モル）をジグライム１００ｇに溶解させた溶液を滴下し反応させた。
　このようにして、シロキサンブロックを形成させた後、ジアミノ化合物（ＢＡＰＰ）３６．９０ｇ（０．０９モル）を加え、３０℃以下で５時間反応させて透明なポリアミック酸溶液を得た。
　このポリアミック酸溶液（１５ｗｔ％）の溶液粘度をＥ型粘度計（東京計器製ＶＩＳＣＯＮＩＣ　ＥＨＤ）を用いて測定したところ１５００ｃｐであった。
　このものをガラス板上にキャストした後、６０℃で３０分間、１００゜Ｃで３０分間、１５０℃で３０分間及び２５０℃で６０分間それぞれ加熱処理し、透明で良好な特性のフィルムを得た。
　得られたポリイミドフィルムについて、その引張弾性率、引張強度、伸度、熱分解開始温度、ガラス転移温度、熱膨張係数、誘電率、誘電損失及び透明性を調べた。結果を第２表に示す。
　実施例２〜１２
　第１表に示すモノマー及び反応溶媒を用いて、実施例１と同様な方法でポリイミド前駆体を合成し、得られたポリイミド前駆体を使用してポリイミドフィルムを作り、その引張弾性率、引張強度、伸度、熱分解開始温度、ガラス転移温度、熱膨張係数、誘電率、誘電損失及び透明性を調べた。結果を第２表に示す。
　比較例１
　アミン当量４７２のジアミノシロキサン（ＰＳＸ−Ａ）１８．８８ｇ（０．０２モル）と実施例１で使用したと同じジアミノ化合物（ＢＡＰＰ）３２．８０ｇ（０．０８モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）４７５ｇに溶解し、これにテトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）３２．２０ｇ（０．１０モル）を少量ずつ添加し、反応温度を３０℃以下に保って約５時間反応させ、ポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液は不透明であった。また、この溶液をガラス板上にキャストした後、１００℃で３０分間、１５０℃で３０分間及び２５０゜Ｃで３０分間の加熱処理したが、得られたフィルムは不透明であった。
　得られたフィルムについて、その引張弾性率、引張強度、伸度、熱分解開始温度、ガラス転移温度、熱膨張係数、誘電率、誘電損失及び透明性を調べた。結果を第２表に示す。
　比較例２〜４
　第１表に示したモノマー及び反応溶媒を用いて、比較例１と同様な方法でポリイミド前駆体を合成し、得られたポリイミド前駆体を使用してポリイミドフィルムを作り、その引張弾性率、引張強度、伸度、熱分解開始温度、ガラス転移温度、熱膨張係数、誘電率、誘電損失及び透明性を調べた。結果を第２表に示す。
　［発明の効果］
　本発明によれば、有機溶剤に対する溶解性に優れているほか、優れた電気的特性、機械的特性、熱的特性等を有するポリイミド材料が得られる。このため、種々のコーティング剤、接着剤、成形材料、フィルム、あるいは、分離膜素材等の用途に有用な材料を提供することができる。