【事件の表示】
　特許第２６９５７６７号「縮小投影露光装置」の請求項１ないし８に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２６９５７６７号の請求項１ないし８に係る特許を維持する。
【理由】
［１］手続の経緯
　本件特許第２６９５７６７号（昭和６３年３月７日出願（特願昭６３−５３８９９の分割）、平成９年９月１２日設定登録）は、キャノン株式会社により特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年４月２７日に訂正請求がなされた後、平成１１年６月２９日に訂正拒絶理由通知の手交がなされ、同日付けで手続補正書が提出されたものである。
［２］訂正の適否についての判断
（１）訂正請求に対する補正の適否について
　訂正請求書に対する補正は、訂正請求書の▲２▼訂正内容（１）において、特許請求の範囲の請求項１の（ｃ）項における連続スペクトル参照光の経路の内の、「上記連続スペクトル参照光が上記アライメントマークに入射する」際の経路を減縮して、経路の内の、アライメントマーク及びその周辺から反射された後の経路の減縮に加えて、「上記連続スペクトル参照光が、上記マスクを介さずに、上記アライメントマークに入射するように」としたものである。
　また、上記訂正請求書に対する補正は、▲２▼訂正内容（３）において、上記▲２▼訂正内容（１）における補正内容と同様の補正を、特許請求の範囲と整合させるために、発明の詳細な説明における〔課題を解決するための手段〕の項の対応箇所においてしたものである。
　そして、上記補正は、いずれも訂正請求書の要旨を変更するものではなく、特許法第１２０条の４第３項において準用する同法第１３１条第２項の規定に適合するから、以下、補正された訂正請求書に基づいて検討する。
（２）訂正の内容
１．訂正内容（１）及び（２）について
　特許請求の範囲のうち、請求項１の（ｃ）項に、「上記連続スペクトル参照光が上記アライメントマークに入射するように」とあるのを、特許請求の範囲の減縮を目的として、「上記連続スペクトル参照光が、上記マスクを介さずに、上記アライメントマークに入射するように」と訂正し、また、同請求項１の（ｃ）項に、「上記アライメントマークおよびその周辺から反射された後、上記連続スペクトル参照光」とあるのを、特許請求の範囲の減縮を目的として、「上記アライメントマークおよびその周辺から反射された後、上記マスクを介さずに、上記連続スペクトル参照光」と訂正する。
２．訂正内容（３）について
　特許明細書（特許掲載公報の段落番号【００１６】）に、「上記連続スペクトル参照光が上記アライメントマークに入射するように」とあるのを、明りょうでない記載の釈明と目的として、「上記連続スペクトル参照光が、上記マスクを介さずに、上記アライメントマークに入射するように」と訂正し、同明細書（特許掲載公報の段落番号【００１６】）に、「上記アライメントマークおよびその周辺から反射された後、上記連続スペクトル参照光」とあるのを、明りょうでない記載の釈明を目的として、「上記アライメントマークおよびその周辺から反射された後、上記マスクを介さずに、上記連続スペクトル参照光」と訂正する。
３．訂正内容（４）について
　特許明細書（特許掲載公報の段落番号【００３９】）の式（６）の内、分母の（ｎ−１）の部分の右にずれた位置を、明りょうでない記載の釈明を目的として、正しい位置に訂正する。
（２）訂正の目的の適否・新規事項の有無及び拡張・変更の存否
１．訂正内容（１）及び（２）について
　上記訂正内容（１）及び（２）は、訂正前の事項をさらに下位に限定するものであり、特許明細書（特許掲載公報の段落番号【００４９】）の、「照明光源８である光ファイバ１３の先端の円筒鏡１４より照明光が放射されると、バンドパスフィルタ１０、コンデンサレンズ１１を経た後、ビームスプリッタ１２で屈折されて、該照明光は、中継レンズ１５、色収差補正レンズ１６および非点収差補正レンズ１７、反射鏡１８、縮小投影レンズ３を経てウエハ５の所定領域を照射する。このウエハ５からの反射光は上記経路を逆進し、縮小投影レンズ３、反射鏡１８、色収差補正レンズ１６および非点収差補正レンズ１７を経てビームスプリッタ１２に達する。」の記載、及び図面（第１，２図）の記載からみて、それぞれ特許請求の範囲の減縮に該当し、新規事項の追加に該当せず、さらに実質上特許請求の範囲を拡張し、変更するものではない。
２．訂正内容（３）について
　上記訂正内容（３）は、上記訂正内容（１）及び（２）において、特許請求の範囲を訂正したことに伴って行う、整合を保つための訂正であり、明りょうでない記載の釈明に該当し、実質上特許請求の範囲を拡張せず、変更するものではない。
（３）独立特許要件
１．本件発明
　訂正明細書の請求項１〜８に係る各発明（以下、「本件発明１〜８」という。）は、その特許請求の範囲の請求項１〜８に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】　第１の主面に少なくとも１つのアライメントマークを有するウエハを露光光源からの単色露光光に対して良好な光学特性を得られるように収差が補正された縮小投影レンズ系によりマスク上の回路パターンの実像を上記第１の主面上に形成された感光性レジスト膜上に投影することにより上記回路パターンを所定の縮小率で上記ウエハの上記第１の主面上に転写する縮小投影露光装置であって、
（ａ）上記ウエハを上記ＸＹテーブル；
（ｂ）線スペクトル光源と比較して所定のバンド幅内において均一なスペクトル分布を有する連続スペクトル光源である参照光源から上記レジスト膜を実質的に感光させないように上記露光光よりも波長が長い連続スペクトル参照光を選び出すための光フィルタ機構；
（ｃ）上記縮小投影レンズ系の光軸外の所定の位置に上記アライメントマークがある状態で、選び出された上記連続スペクトル参照先により上記縮小投影レンズ系の所定の入射光路に沿って上記連続スペクトル参照光が、上記マスクを介さずに、上記アライメントマークに入射するように上記アライメントマークを照明し、上記連続スペクトル参照光が少なくとも上記縮小投影レンズ系内においては上記入射光路と同一またはその近傍の光路を逆進するように上記アライメントマークおよびその周辺から反射された後、上記マスクを介さずに、上記連続スペクトル参照光を上記縮小投影レンズ系の外部に取り出すために上記縮小投影レンズ系の上記光軸中心から離れた位置であって上記縮小投影レンズ系が上記実像を上記レジスト膜上に投影する際に上記実像の投影を実質的に邪魔しないような位置に配置された反射手段；
（ｄ）上記反射手段により上記縮小投影レンズ系の外部に取り出された上記連続スペクトル参照光の上記所定のバンド幅内の波長の差による所定の色収差を補正するための色収差補正光学系；
（ｅ）上記色収差補正光学系により色収差が補正された部分の上記連続スペクトル参照光に含まれるアライメントマークの像を検出し、上記ウエハと上記マスクとの位置関係を直接光学的に検出することなく上記縮小投影レンズ系と上記アライメントマークとのＸＹ平面内における位置関係を求めるための位置検出機構；
（ｆ）検出された上記アライメントマークの上記ＸＹ平面内における位置関係に基づいて、上記ウエハの所望の部分が上記縮小投影レンズ系の上記光軸またはその近傍に位置合わせされるように上記ウエハを搭載した上記ＸＹテーブルを上記ＸＹ平面内において移動させることにより上記マスクと上記ウエハとの位置合わせを行うためのウエハ位置決定機構；
（ｇ）上記ウエハの上記所望の部分を上記縮小投影レンズ系の上記光軸またはその近傍に位置合わせされた状態で上記露光光により上記マスク上の上記回路パターンを照明し、上記縮小投影レンズ系を介して上記マスク上の上記回路パターンの縮小された実像を上記ウエハ上の上記レジスト膜上に投影することにより、上記マスク上の上記回路パターンを上記レジスト膜上に転写するための露光光学系を含む縮小投影露光装置。
　【請求項２】　請求項１記載の縮小投影露光装置において、
上記連続スペクトル参照光の上記所定のバンド幅は上記レジスト膜の厚さの不均一に起因する不所望な干渉を防止できる程度に広く、また、上記アライメントマークの検出を所定の精度で行えるように上記連続スペクトル参照光の上記色収差を補正できる程度に狭くされている縮小投影露光装置。
　【請求項３】　請求項２記載の縮小投影露光装置において、
　上記連続スペクトル参照先は可視光の領域に含まれる縮小投影露光装置。
　【請求項４】　請求項３記載の縮小投影露光装置において、
　上記連続スペクトル参照先は上記所定のバンド幅内において比較的均一な強度分布を有する縮小投影露光装置。
　【請求項５】　請求項４記載の縮小投影露光装置において、
　上記露光光源は線スペクトル光源である縮小投影露光装置。
　【請求項６】　請求項５記載の縮小投影露光装置において、
　上記連続スペクトル参照先は上記ウエハと光検出手段の間において上記マスクに入射することもなく、上記マスクにより反射されることもない縮小投影露光装置。
　【請求項７】　請求項６記載の縮小投影露光装置において、
　上記色収差補正光学系における色収差補正レンズの相互間の間隔が調整可能である縮小投影露光装置。
　【請求項８】　請求項７記載の縮小投影露光装置において、
　非点収差補正レンズを備えている縮小投影露光装置。」
２．引用刊行物
　本件発明１〜８に対し、当審が通知した取消理由で引用した刊行物（特開昭６０−１７７６２５号公報）には、単色光を用いた投影露光光学系内にビームスプリッタを配設すると共に、このビームスプリッタに対向して連続スペクトルのパターン検出用光源と、色収差補正レンズ系と、パターン検出ユニットからなるパターン検出部を設け、このパターン検出部によってウエーハ上に形成されたアライメントマークを検出してマスクとの位置合せを行うことにより、光の干渉を防止する一方でチップ中央部における位置合せを可能とし、これにより位置合せの安定化および精度の向上を達成できる縮小投影露光装置に関する発明が、第１〜３図とともに開示され、さらに
　「半導体装置の製造工程の一つであるホトリソグラフィ技術ではマスクに形成したマスクパターンを等倍或いは縮小して半導体ウエーハ上に投影露光し、ウエーハ上の薄膜のパターニングを行う工程が必要とされる。そして、この投影露光に際しては同一ウエーハ上に順次投影するマスクのパターンは全てウエーハに対して同一位置に投影露光されなければならず、このため各マスクの投影露光時にはマスクとウエーハとの相対位置決めが必ず行なわれる。」（第１頁右欄第１０〜１９行）、
　また、第１図の従来の投影露光装置について、「一方、マスク３の側上方にはｇ線光源６，ハーフミラー７，レンズ８，ミラー９およびパターン検出ユニット１０からなるアライナ部を設けており、ｇ線光源６の光をマスクを通してウエーハ１上に投影しかつこの反射光をパターン検出ユニット１０で検出する。ｇ線はマスク３の隅部を通した上でウエーハ１のアライメントマーク形成部上に投射されており、これによりこのアライメントマークを検出して相対位置つまりマスク３とウエーハ１との相対位置合せを行なうことができる。
　しかしながら、この従来構成ではパターン検出に単色光のｇ線を使用しているため、ウエーハ１表面の薄膜において干渉が生じ、この干渉が膜厚の変動により変化するためにパターン検出ユニットにおける信号波形の変動を発生させ、位置合せ精度が不安定なものとなる。また、アライメントマークの検出に露光用の光と同じｇ線を使用しているため、ウエーハの露光の影響のないウエーハ上のチップ周辺部において位置合せを行わなければならず、」（第２頁左上欄第１３行〜右上欄第１３行）、
　「第２図は本発明の投影露光装置の一実施例の構成図であり、
　　・・・
　そして、前記マスク１１の上方位置には単色光（ｇ線等）を射出する露光光源１５を設置してマスク１１を照射する構成とする一方、マスク１１の下方位置には複数枚のレンズからなる投影レンズ系１６を設け、・・・投影結像する。この投影レンズ系１６は、好ましくは前記露光光源光に対して高ＮＡ（開口数）、低光学歪、広域露光面積の特性となるように設計される。これら、露光光源１５と投影レンズ系１６とで投影露光光学系を構成している。」（第２頁左下欄末行〜第３頁左上欄第４行）、
　「前記パターン検出用光源２０は白色光のような連続スペクトル光を射出でき、かつこの光はウエーハ１２上に設けたホトレジスト（図示せず）を感光させないものとされる。一方、前記色収差補正レンズ系１８は、白色光を使用することにより前記投影レンズ系１６において生ずる色収差を補正解消させる構成とされる。」（第３頁左上欄第１３〜末行）、
　「パターン検出用光源２０の白色光をビームスプリッタ１７を通してウエーハ１２のアライメントマーク上に投影させ、・・・これにより、パターン検出ユニット２１では電気信号処理によりアライメントマークやその像のパターンをパターン認識した上でウエーハ１２の絶対位置を検出し、これを制御部２２においてマスク位置と比較する。この結果マスク１１とウエーハ１２との相対位置ずれが検出でき、このずれに基づいてステージ移動機構１４を制御すれば、ウエーハ１２を移動ステージ１３により移動させ、マスク１１との位置合せを行うことができる。そしてこのとき、パターン検出には連続スペクトル光を使用しているので、ウエーハ１２表面上のホトレジスト薄膜における光干渉が生じることはなく、したがって従来のようにホトレジスト薄膜の膜厚の変動に伴なう反射光の変動等の減少が生じることはなく、安定したパターン検出（電気）信号を得て安定したパターン検出ないし位置合せを行うことができる。白色光を使用することにより投影レンズ系１６において生ずる色収差は色収差補正レンズ系１８で補正でき、検出誤差の発生を防止する。また、白色光を使用することにより、位置合せ時におけるホトレジストへの感光を防止できるので、」（第３頁右上欄第１０行〜左下欄第１６行）、
　「なお、位置合せの後に露光光源１５の単色光（ｇ線）を用いて投影光学系１６でマスク１１のパターンをウエーハ１２上に投影結像し得ることはいうまでもない。」（第３頁右下欄第２〜５行）、
　「また、ダイクロイックミラー１７Ａはｇ線のみを反射できるように構成され、マスク１１を通した露光光源１５のｇ線光をウエーハ１２に向けて反射することができる。
　以上の構成によれば、パターン検出用光源２０の白色光はハーフミラー１９，グイクロイックミラー１７Ａ，投影レンズ系１６等を通してウエーハ１２表面に投射され、逆の行程を経ながら色収差補正レンズ系１８にて色収差が補正されてパターン検出用ユニット２１に入射され、ここでウエーハ１２上のパターンが認識される。」（第４頁左上欄第２〜１２行）
が、それぞれ記載されている。
３．対比・判断
▲１▼本件発明１について
　本件発明１と上記刊行物に記載の発明とを対比すると、刊行物には、本件発明１における、「（ｃ）上記縮小投影レンズ系の光軸外の所定の位置に上記アライメントマークがある状態で、選び出された上記連続スペクトル参照先により上記縮小投影レンズ系の所定の入射光路に沿って上記連続スペクトル参照光が、上記マスクを介さずに、上記アライメントマークに入射するように上記アライメントマークを照明し、上記連続スペクトル参照光が・・・上記アライメントマークおよびその周辺から反射された後、上記マスクを介さずに、上記連続スペクトル参照光を上記縮小投影露光レンズ系の外部に取り出すために上記縮小投影露光レンズ系の上記光軸中心から離れた位置であって上記縮小投影レンズ系が上記実像を上記レジスト膜上に投影する際に上記実像の投影を実質的に邪魔しないような位置に配置された反射手段」の構成については記載されていない。
　そして、本件発明１は、上記の構成により、縮小投影レンズ系の光軸外の所定の位置にアライメントマークがある状態で、連続スペクトル参照光を、マスクを介さずにアライメントマークに入射させるとともに、マスクを介さずに、縮小投影露光レンズ系の光軸中心から離れた位置であって縮小投影レンズ系が実像をレジスト膜上に投影する際に実像の投影を実質的に邪魔しないような位置に配置された反射手段により、縮小投影レンズ系の外部に取り出して、良好な結像性能を得ることができ、フォトレジスト膜を被着したウエハにおけるパターン検出を確実に行い、高精度なアライメントを実現できるという、特許明細書に記載の顕著な効果を奏するものである。
　したがって、本件発明１は、上記刊行物に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
▲２▼本件発明２〜８について
　本件発明２〜８は、上記本件発明１を引用して、さらに構成を付加、限定したものであるから、本件発明１と同じ理由により、刊行物に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　したがって、本件発明１〜８は、特許出願の際独立して特許を受けることができるものである。
（４）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び第３項で準用する同法第１２６条第２〜４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
［３］特許異議の申立について
（１）申立の理由の概要
　特許異議申立人キャノン株式会社は、▲１▼本件発明１〜６は、甲第１号証に記載の発明と同一であり、又は甲第１号証に記載の発明から容易に発明されたものであり、特許法第２９条第１項第３号又は同法第２９条第２項の規定に該当し、また、▲２▼本件発明１〜６は、甲第２号証に記載の発明から容易に発明されたものであり、同法第２９条第２項の規定に該当し、また、▲３▼本件発明１〜８は、甲第１，２号証に記載の発明から容易に発明されたものであり、同法第２９条第２項の規定に該当し、さらに、▲４▼本件発明１〜８は、同法第３６条第４項又は第６項の規定を満足していないから、本件発明１〜８は、同法第１１３条第１項第２，３号の規定により取り消されるべき旨主張している。
（２）甲第１，２号証に記載の発明
１．甲第１号証（特開昭６０−１７７６２５号公報）には、上記［２］（３）の２で示した縮小投影露光装置に関する発明が記載されている。
２．甲第２号証（特開昭６０−６６２５１号公報）には、調整マーク８を有する基板６を座標テーブル１０上に搭載し、照射装置１からの水銀放電ランプに対して良好な光学特性が得られるように収差補正された投影レンズ５により、マスク上の回路パターンの実像をホトレジスト上に投影する投影露光装置に関する発明が、第１，４図とともに記載され、さらに、
　「集積回路製造用のプロジェクション複写装置の基本的構成部品を第１図に示す。・・・各投影に先立って投影レンズ系５との相対的位置関係において基板６とマスク２との間の精密なアライメントを行うことができるように、アライメントパターン３と該マスクとの座標位置を合わせ、かつ調整マーク８と基板上の領域７との座標位置を合わせる。この場合、アライメント誤差によって、例えばマスクステージ４を物体平面の座標ＸＹ及びφ内で移動させることが出来るし更に基板をこの光学系の光学軸にそって移動させることができる。」（第４頁右下欄第１１行〜第５頁左上欄第１１行）、
　「本発明では調整光波長域内でそれ自体公知の１種の色収差補正を行う。・・・第４図に示すように、・・・光源１９から出る調整光は、レンズ系２０と鏡２３とを通りマスク２中のアライメントマーク３を通過して、凹レンズ２６（「２３」は誤記）と凹形鏡２７とからなる色収差補正装置を通って、鏡１４を通り、該色収差補正装置を通り、斜めに位置する銀蒸着半透明鏡１５から、レンズ系２２を通って分析ユニット２１へと戻る。」（第６頁左下欄第１４行〜右下欄第７行）、
　「調整光を発生するには例えばハロゲンランプ又はキセノン高圧ランプを用いてよい。」（第６頁左上欄第１４〜１５行）
が、それぞれ記載されている。
（３）対比・判断
１．本件発明１について
　本件発明１は、上記［２］（３）の３で示したように、取消理由通知で示した刊行物に記載の発明と同一であるとすることはできないし、また、上記刊行物に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることもできない。
　また、上記甲第２号証に記載の調整光（本件発明１における「連続スペクトル参照光」に相当する。）として、ハロゲンランプ又はキセノン高圧ランプを用いた連続スペクトル光を用いることができ、第４図からも明らかなように、光源１９から出るこの調整光は、マスク２中のアライメントマーク３を通過して、色収差補正装置（凹レンズ２６，凹形鏡２７）を通って、投影レンズ５を通り、基板６上の調整マーク８（本件発明１〜８における、「アライメントマーク」に相当する。）に入射し、反射された後、逆進して再び色収差補正装置（凹レンズ２６，凹形鏡２７）を通り、分析ユニット２１へと戻るものである。
　しかしながら、この調整光は、マスク２中のアライメントパターン３を通過してから、基板６上の調整マーク８に入射しており、本件発明１において、連続スペクトル参照光が、マスクを介さずに、ウエハ上のアライメントマークに入射する構成とは明らかに相違する。
　そして、甲第２号証に記載の投影露光装置においては、各投影に先立って、投影レンズ５との相対的位置関係において基板６とマスク２との間の精密なアライメントを行うことができるように、アライメントパターン３とマスク２との座標位置を合わせ、かつ調整マーク８と基板６上の領域７との座標位置を合わせる手段として、調整光がマスク２中のアライメントパターン３を通過するようにしたものであるから、調整光を、マスク２中のアライメントパターン３を通過させずに、基板６上の調整マーク８に入射させるようなことは容易に想到することができるものではない。
　そして、本件発明１は、縮小投影レンズ系の光軸外の所定の位置にアライメントマークがある状態で、連続スペクトル参照光を、マスクを介さずにアライメントマークに入射させるとともに、マスクを介さずに、縮小投影露光レンズ系の光軸中心から離れた位置であって縮小投影レンズ系が実像をレジスト膜上に投影する際に実像の投影を実質的に邪魔しないような位置に配置された反射手段により、連続スペクトル参照光を縮小投影レンズ系の外部に取り出して、その結果、良好な結像性能を得ることができ、フォトレジスト膜を被着したウエハにおけるパターン検出を確実に行い、高精度なアライメントを実現できるという、特許明細書に記載の顕著な効果を奏するものである。
　さらに、甲第１，２号証には、本件発明１の構成の一部がそれぞれ開示されているものの、本件発明１は、甲第１，２号証に記載のものを組み合わせて容易に想到することができるものでもない。
　したがって、本件発明１は、甲第２号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができないものであり、また、甲第１，２号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができるものでもない。
２．本件発明２〜８について
　本件発明２〜６は、いずれも本件発明１を引用して、さらに構成を付加、限定したものであるから、本件発明１と同じ理由により、甲第１号証に記載の発明と同一とすることはできないし、また、同号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもないし、また、甲第２号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもない。さらに、本件発明２〜８は、甲第１，２号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもない。
（４）明りょうでない記載について
　申立人は、本件特許明細書の詳細な説明における実施例の説明において、参照光として用いられるのは、Ｄ線、Ｅ線等の輝線スペクトルが存在する連続スペクトル（「輝線スペクトル」は誤記）光源の代表例である水銀ランプであり、また、バンドパスフィルタ１０は、Ｅ線とＤ線のみを透過させると表記しているが、これは明らかに２本の輝線スペクトルを選択したものであって、連続スペクトル光を選び出しているのではないから、本件発明１〜８の構成は不明りょうである旨主張している。
　しかしながら、本件発明１〜８は、いずれも照明光の光路に色収差補正光学系を設け、各波長に対応して焦点距離を調整することによって、パターン照明光として２以上の波長あるいはそれ以上の連続スペクトル光を用いることを可能にしたものである（〔作用〕の項参照）。
　そして、発明の詳細な説明には、「上記バンドパスフィルタ１０は、たとえば露光光源１である水源ランプの放射光（「放光」は誤記）波長のうち、Ｅ線（５４６ｎｍ）とＤ線（５８９ｎｍ）のみを透過させるものであり、該バンドパスフィルタ１０を通過した照明光は、可視光範囲における連続スペクトル光としてビームスプリツタ１２に入射される。」（第４頁右欄第１６〜２１行）と記載されている。
　しかしながら、「Ｅ線（５４６ｎｍ）とＤ線（５８９ｎｍ）のみを通過させる」との記載は、バンドパスフィルタ１０により、他の輝線スペクトルを除いて，Ｄ線とＥ線及びその間の波長の光を透過させるものであると解され、その結果、バンドパスフィルター１０を通過した照明光が連続スペクトル光としてビームスプリッタ１２に入射するものであることは明らかである。
　したがって、Ｅ線（５４６ｎｍ）とＤ線（５８９ｎｍ）のみを通過させる」との記載は、明りょうであり、申立人の上記主張は採用できない。
（５）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、本件発明１〜８の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１〜８の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年８月１７日（１９９９．８．１７）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
▲１▼特許請求の範囲の請求項１の（ｃ）項における、「上記連続スペクトル参照光が上記アライメントマークに入射するように」を、特許請求の範囲の減縮を目的として、「上記連続スペクトル参照光が、上記マスクを介さずに、上記アライメントマークに入射するように」と訂正する。
▲２▼特許請求の範囲の請求項１の（ｃ）項における、「上記アライメントマークおよびその周辺から反射された後、上記縮小投影レンズ系の」を、特許請求の範囲の減縮を目的として、「上記アライメントマークおよびその周辺から反射された後、上記マスクを介さずに、上記縮小投影レンズ系の」と訂正する。
▲３▼特許明細書（特許掲載公報の段落番号【００１６】）に記載の、「上記連続スペクトル参照光が上記アライメントマークに入射するように」を、明りょうでない記載の釈明を目的として、「上記連続スペクトル参照光が、上記マスクを介さずに、上記アライメントマークに入射するように」と訂正する。
▲４▼特許明細書（特許掲載公報の段落番号【００１６】）に記載の、「上記アライメントマークおよびその周辺から反射された後、上記縮小投影レンズ系の」を、明りょうでない記載の釈明を目的として、「上記アライメントマークおよびその周辺から反射された後、上記マスクを介さずに、上記縮小投影レンズ系の」と訂正する。
▲５▼特許明細書（特許掲載公報の段落番号【００３９】）に記載の式（６）の内、分母の（ｎ−１）の部分の右にずれた位置を、明りょうでない記載の釈明を目的として、正しい位置に訂正する。
（５４）【発明の名称】
縮小投影露光装置
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】　第１の主面に少なくとも１つのアライメントマークを有するウエハを露光光源からの単色露光光に対して良好な光学特性を得られるように収差が補正された縮小投影レンズ系によりマスク上の回路パターンの実像を上記第１の主面上に形成された感光性レジスト膜上に投影することにより上記回路パターンを所定の縮小率で上記ウエハの上記第１の主面上に転写する縮小投影露光装置であって、
（ａ）上記ウエハを搭載するためのＸＹテーブル；
（ｂ）線スペクトル光源と比較して所定のバンド幅内において均一なスペクトル分布を有する連続スペクトル光源である参照光源から上記レジスト膜を実質的に感光させないように上記露光光よりも波長が長い連続スペクトル参照光を選び出すめの光フィルタ機構；
（ｃ）上記縮小投影レンズ系の光軸外の所定の位置に上記アライメントマークがある状態で、選び出された上記連続スペクトル参照光により上記縮小投影レンズ系の所定の入射光路に沿って上記連続スペクトル参照光が
、上記マスクを介さずに、
上記マスクを介さずに、
（ｄ）上記反射手段により上記縮小投影レンズ系の外部に取り出された上記連続スペクトル参照光の上記所定のバンド幅内の波長の差による所定の色収差を補正するための色収差補正光学系；
（ｅ）上記色収差補正光学系により色収差が補正された部分の上記連続スペクトル参照光に含まれるアライメントマークの像を検出し、上記ウエハと上記マスクとの位置関係を直接光学的に検出することなく上記縮小投影レンズ系と上記アライメントマークとのＸＹ平面内における位置関係を求めるための位置検出機構；
（ｆ）検出された上記アライメントマークの上記ＸＹ平面内における位置関係に基づいて、上記ウエハの所望の部分が上記縮小投影レンズ系の上記光軸またはその近傍に位置合わせされるように上記ウエハを搭載した上記ＸＹテーブルを上記ＸＹ平面内において移動させることにより上記マスクと上記ウエハとの位置合わせを行うためのウエハ位置決定機構；
（ｇ）上記ウエハの上記所望の部分を上記縮小投影レンズ系の上記光軸またはその近傍に位置合わせされた状態で上記露光光により上記マスク上の上記回路パターンを照明し、上記縮小投影レンズ系を介して上記マスク上の上記回路パターンの縮小された実像を上記ウエハ上の上記レジスト膜上に投影することにより、上記マスク上の上記回路パターンを上記レジスト膜上に転写するための露光光学系を含む縮小投影露光装置。
　　【請求項２】　請求項１記載の縮小投影露光装置において、
　上記連続スペクトル参照光の上記所定のバンド幅は、上記レジスト膜の厚さの不均一に起因する不所望な干渉を防止できる程度に広く、また、上記アライメントマークの検出を所定の精度で行えるように上記連続スペクトル参照光の上記色収差を補正できる程度に狭くされている縮小投影露光装置。
　　【請求項３】　請求項２記載の縮小投影露光装置において、
　上記連続スペクトル参照光は可視光の領域に含まれる縮小投影露光装置。
　　【請求項４】　請求項３記載の縮小投影露光装置において、
　上記連続スペクトル参照光は上記所定のバンド幅内において比較的均一な強度分布を有する縮小投影露光装置。
　　【請求項５】　請求項４記載の縮小投影露光装置において、
　上記露光光源は線スペクトル光源である縮小投影露光装置。
　　【請求項６】　請求項５記載の縮小投影露光装置において、
　上記連続スペクトル参照光は上記ウエハと光検出手段の間において上記マスクに入射することもなく、上記マスクにより反射されることもない縮小投影露光装置。
　　【請求項７】　請求項６記載の縮小投影露光装置において、
　上記色収差補正光学系における色収差補正レンズの相互間の間隔が調整可能である縮小投影露光装置。
　　【請求項８】　請求項７記載の縮小投影露光装置において、
　非点収差補正レンズを備えている縮小投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
　　　　【０００１】
　　【発明の属する技術分野】
　本発明は、縮小投影露光装置に関し、特に半導体装置の製造における縮小投影露光工程におけるマスクに対する半導体ウエハ（以下単に、「ウエハ」と略称する）のアライメントに適用して有効な技術に関する。
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
　レチクル等のマスク上に遮光膜で形成された回路パターンをウエハ上に転写する技術としては、縮小投影露光装置を用いた技術が一般的であるが、このときのウエハとマスクとの位置合わせは、たとえば以下のようにして行なわれる。
　　　【０００３】
　すなわち、ウエハの表面に凹凸の段差形状によって形成されたアライメントマークに対して、縮小投影レンズを通じて照明光を照射し、上記アライメントマークからの反射光をビームスプリッタなどを介してＴＶカメラに入射させ、この反射光の光量に基づいて電気信号を検出することにより上記アライメントマークの位置を把握し、マスクに対するウエハの目的露光領域の位置決めを行なうものである。このような位置決め技術は、一般にスルー・ザ・レンズ（ＴＴＬ）方式と呼ばれている。
　　　【０００４】
　ところで上記ＴＴＬ方式による今後の課題点を指摘した文献としては、日経マグロウヒル社、昭和６２年１２月１日発行、「日経マイクロデバイセス」Ｐ８０〜Ｐ８１がある。
　　　【０００５】
　ここで、一般的なＴＴＬ方式のアライメント技術を第７図の系統図によって説明する。
　　　【０００６】
　すなわち、第７図において７１は非露光対象物であるウエハ、その直上に位置される７２は露光用の縮小投影レンズ、７３は原版としてのレチクル、７４は認識部としてのＴＶカメラ、７５は露光光源と照明光源とを兼ねた水銀ランプである。上記縮小投影レンズ７２とＴＶカメラ７４との光路上には反射鏡７６、中継レンズ７７およびビームスプリッタ７８がそれぞれ配置されており、当該ビームスプリッタ７８によって透過された光はＴＶカメラ７４に入射される構造となっている。一方、水銀ランプ７５とビームスプリッタ７８との間には水銀ランプ７５からの波長中、Ｅ線（５４６ｎｍ）のみを通過させるバンドパスフィルタ８０およびコンデンサレンズ８１がそれぞれ配置されている。
　　　【０００７】
　以上のように、パターン検出のために照明光として、単色光であるＥ線が用いられており、露光時は露光光であるＧ線（４３６ｎｍ）が用いられる構造とされていた。
　　　【０００８】
　照明光はビームスプリッタ７８より中継レンズ７７、反射鏡７６、縮小投影レンズ７２を経てウエハ７１上に照射され、この反射光が上記経路を逆進してＴＶカメラ７４に入射し、当該ＴＶカメラ７４の認識画像に基づいて波形検出を行い、図６（ａ）に示すようなウエハ７１上のアライメントマーク６の中心位置を算出する構造となっていた。
　　　【０００９】
　　【発明が解決しようとする課題】
　ところが上記構造における縮小投影露光装置では以下のような問題のあることが本発明者によって見い出された。
　　　【００１０】
　すなわち、露光対象物であるウエハは、フォトレジスト膜８２が塗布された状態で上記縮小投影露光装置に提供されるが、フォトレジスト膜８２の塗布はウエハ７１を回転状態としてレジスト液を滴下し、該レジスト液の遠心力による広がりを利用して行なっている。
　　　【００１１】
　このため、上記回転時の遠心力によりアライメントマークの段差周辺でフォトレジスト膜８２の塗布厚が不均衡となり、特に段差パターンの中心に対してフォトレジスト膜８２の堆積形状が非対称となる。ここで、上記アライメントのための照明光としては露光に用いられるＧ線（４３６ｎｍ）を単一波長（単色光）で用いることが一般的であるため、本来の段差パターン上からの反射光とフォトレジスト膜８２上からの反射光とによって生じる干渉縞が非対称となり、ＴＶカメラの認識画像である該干渉縞から得られる信号電圧波形も非対称かつ複雑となり、この結果、アライメントマークの段差パターンの検出が困難となる場合もあった。
　　　【００１２】
　この点に関して、上記文献ではいくつかの解決手段が紹介されているが、いずれも十分な解決手段を提供するものとはいえなかった。
　　　【００１３】
　本発明は、上記課題に着目してなされたものであり、その目的はフォトレジスト膜を被着したウエハにおけるパターン検出を確実に行い、高精度なアライメントを実現できる縮小投影露光装置を提供することにある。
　　　【００１４】
　本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
　　　【００１５】
　　【課題を解決するための手段】
　本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次の通りである。
　　　【００１６】
　すなわち、本発明の縮小投影露光装置は、第１の主面に少なくとも１つのアライメントマークを有するウエハを露光光源からの単色露光光に対して良好な光学特性を得られるように収差が補正された縮小投影レンズ系によりマスク上の回路パターンの実像を上記第１の主面上に形成された感光性レジスト膜上に投影することにより上記回路パターンを所定の縮小率で上記ウエハの上記第１の主面上に転写する縮小投影露光装置であって、
（ａ）上記ウエハを搭載するためのＸＹテーブル；
（ｂ）線スペクトル光源と比較して所定のバンド幅内において均一なスペクトル分布を有する連続スペクトル光源である参照光源から上記レジスト膜を実質的に感光させないように上記露光光よりも波長が長い連続スペクトル参照光を選び出すための光フィルタ機構；
（ｃ）上記縮小投影レンズ系の光軸外の所定の位置に上記アライメントマークがある状態で、選び出された上記連続スペクトル参照光により上記縮小投影レンズ系の所定の入射光路に沿って上記連続スペクトル参照光が
、上記マスクを介さずに、
上記マスクを介さずに、
（ｄ）上記反射手段により上記縮小投影レンズ系の外部に取り出された上記連続スペクトル参照光の上記所定のバンド幅内の波長の差による所定の色収差を補正するための色収差補正光学系；
（ｅ）上記色収差補正光学系により色収差が補正された部分の上記連続スペクトル参照光に含まれるアライメントマークの像を検出し、上記ウエハと上記マスクとの位置関係を直接光学的に検出することなく上記縮小投影レンズ系と上記アライメントマークとのＸＹ平面内における位置関係を求めるための位置検出機構；
（ｆ）検出された上記アライメントマークの上記ＸＹ平面内における位置関係に基づいて、上記ウエハの所望の部分が上記縮小投影レンズ系の上記光軸またはその近傍に位置合わせされるように上記ウエハを搭載した上記ＸＹテーブルを上記ＸＹ平面内において移動させることにより上記マスクと上記ウエハとの位置合わせを行うためのウエハ位置決定機構；
（ｇ）上記ウエハの上記所望の部分を上記縮小投影レンズ系の上記光軸またはその近傍に位置合わせされた状態で上記露光光により上記マスク上の上記回路パターンを照明し、上記縮小投影レンズ系を介して上記マスク上の上記回路パターンの縮小された実像を上記ウエハ上の上記レジスト膜上に投影することにより、上記マスク上の上記回路パターンを上記レジスト膜上に転写するための露光光学系を含むものである。
　　　【００１７】
　上記した手段によれば、照明光の光路に色収差補正光学系を設け、各波長に対応して焦点距離を調整することによって、パターン照明光として２以上の波長あるいはそれ以上の連続スペクトル光を用いることが可能となる。このため、たとえば検出部分のアライメントパターンに対してフォトレジスト膜厚が不均一かつ非対称である場合にも、単一波長光のような干渉縞の非対称にともなう検出不能を防止でき、アライメント時の位置決め精度を高めることができる。
　　　【００１８】
　　【発明の実施の形態】
　図１は本発明の一実施の形態である縮小投影露光装置を示す要部斜視図、図２は本実施の形態の光学系を示す系統図、図３（ａ）および（ｂ）は、それぞれ色収差補正レンズを示す説明図、図４は本実施の形態に用いられる非点収差補正レンズを示す斜視図、図５（ａ）〜（ｃ）は、実施の形態における色収差補正レンズによる補正原理を概念的に示した説明図、図６（ａ）および（ｂ）はウエハ上に形成されたアライメントマークと検出波形との関係を示す説明図である。
　　　【００１９】
　本実施の形態の縮小投影露光装置は、水銀ランプからなる露光光源１と、この露光光源１から照射される図示されない露光光を集束する集光レンズ２と、縮小投影レンズ３とからなる露光光学系を有している。
　　　【００２０】
　上記集光レンズ２と縮小投影レンズ３との間には、透明な石英ガラス基板等にクロム（Ｃｒ）等の遮光膜で集積回路パターンを形成したレチクル（原版）４が着脱可能に配置されている。
　　　【００２１】
　一方、上記縮小投影レンズ３の下方には、図示されないＸＹステージ上において水平面内において移動自在とされたウエハ（露光対象物）５が載置されている。当該ウエハ５は、所定のアライメントマーク６等が図６（ａ）に示されるように段差状に形成されており、さらにその上面にフォトレジスト膜７が回転塗布技術によって被着された状態となっている。すなわち図１において、露光光源１から照射されレチクル４を透過した露光光が縮小投影レンズ３によって所定の倍率（たとえば１／５）に縮小されてウエハ５に投影されることにより、当該ウェハ５の表面に塗布されたフォトレジスト膜７が所定パターンに露光されるものである。
　　　【００２２】
　上記露光光学系の近傍には、照明光源８が設けられており、この照明光源８からの照明光がその光路上に設けられたバンドパスフィルタ１０およびコンデンサレンズ１１を介してハーフミラー構造のビームスプリッタ１２に入射される構造となっている。
　　　【００２３】
　本実施の形態においては、上記照明光源８は、露光光源１から光ファイバ１３等の導光手段によって導かれ、その先端に装着された円筒鏡１４で構成されている。
　　　【００２４】
　上記バンドパスフィルタ１０は、たとえば露光光源１である水銀ランプの放光波長のうち、Ｅ線（５４６ｎｍ）とＤ線（５８９ｎｍ）のみを透過させるものであり、該バンドパスフィルタ１０を通過した照明光は、可視光範囲における連続スペクトル光としてビームスプリッタ１２に入射される。ビームスプリッタ１２の光軸上には、中継レンズ１５、色収差補正レンズ１６および非点収差補正レンズ１７がそれぞれ設けられており、上記縮小投影レンズ３の側上に設けられた反射鏡１８に達する構造となっている。
　　　【００２５】
　一方、ビームスプリッタ１２の光軸上において、上記中継レンズ１５と対称位置には、中継レンズ１５を経て認識部としてのＴＶカメラ２０が配置されている。
　　　【００２６】
　次に、本実施の形態の特徴的な構成要素である色収差補正レンズ１６について詳説する。
　　　【００２７】
　説明に先だって、色収差について第８図（ａ）および（ｂ）に基づいて説明すると、同図中ａおよびｂはそれぞれレンズ２１から結像位置までの距離を示している。ここで、当該レンズ２１の焦点距離をｆとすると、ａ，ｂ，ｆの関係式は
　　　【００２８】
　【数１】
　　　【００２９】
となる。ここで、焦点距離がΔｆだけ変化したときの結像位置の変化Δｂは上記（１）式より、
　　　【００３０】
　【数２】
となる。一方、第８図（ｂ）に示すように、レンズ２１の焦点距離ｆと屈折率ｎの関係式は、下記のようになる。
　　　【００３２】
　【数３】
　　　【００３３】
　上記（３）式において、Ｒはレンズ２１の球面における半径長を示している。
　　　【００３４】
　この（３）式より、屈折率の変化Δｎにともなう焦点距離の変化Δｆは、
　　　【００３５】
　【数４】
　　　【００３６】
となり、これを（２）式に代入すると、
　　　【００３７】
　【数５】
　　　【００３８】
となる。ここで結像倍率ｍはｍ＝ｂ／ａであるから、
　　　【００３９】
　【数６】
　　　【００４０】
となる。
　　　【００４１】
　この（６）式より、屈折率の変化Δｎにより結像位置もΔｂだけ変化することが理解できる。ここで、光の波長と屈折率ｎとは反比例するため、波長が長くなると、結像位置はΔｂだけレンズ２１の方向にシフトする。これが色収差である。一般に縮小投影露光装置で用いられる縮小投影レンズ３は、露光光であるＧ線に対して最適な光学特性となるよう設計されているため、照明光としてＥ線あるいはＤ線を用いた場合の焦点距離のずれについてまでは考慮されていない。
　　　【００４２】
　したがって、干渉縞による検出不能を防止するためＥ線とＤ線とによる連続スペクトル光を用いた場合、波長の短いＥ線は比較的レンズの近傍で結像し、波長の長いＤ線はレンズの遠方で結像する結果となり、本発明者の算出によればアライメント光学系を通過した両波長のＴＶカメラ２０における結像位置の差は数十ｍｍ程度にまでなってしまっている。
　　　【００４３】
　本実施の形態では、この点を色収差補正レンズ１６によって解決している。
　　　【００４４】
　すなわち、色収差補正レンズ１６は、入射波長の大小にかかわらず結像位置を一定に維持する機能を有するものであり、入射波長が大、すなわち屈折率の小さな光に対しては結像距離を小とし、一方、入射波長が小、すなわち屈折率の大きな光に対しては結像距離を大とするよう調整されている。
　　　【００４５】
　この色収差補正レンズ１６は、たとえば図３（ａ），（ｂ）に示されるように、フリントガラスからなる凹レンズ１６ａとクラウンガラスからなる凸レンズ１６ｂとを組み合わせて構成されているものであり、本実施の形態では上記構成の一対の色収差補正レンズ１６，１６が用いられている。なお、同図（ｂ）に示される組み合わせとしてもよい。当該色収差補正レンズ１６は、本実施の形態では色収差補正範囲として波長λ＝５００ｎｍ〜５９０ｎｍ程度のＥ線とＤ線を包含する波長帯域での色収差を補正できるものであればよく、該色収差補正可能範囲については一対の色収差補正レンズ１６間の間隔を変更することにより調整可能である。
　　　【００４６】
　以上の色収差補正レンズ１６の原理を概念的に示したのが図５（ａ）〜（ｃ）であり、同図（ａ）は色収差補正前のＥ線の単色光が入射された場合における結像距離ｆｅ、（ｂ）は同じくＤ線における結像距離ｆｄ、（ｃ）は光路上に色収差補正レンズ１６を配置して色収差補正を行なった場合のＥ線とＤ線の結像距離ｆｓをそれぞれ示している。同図では結像距離ｆｓは、（ａ）と（ｂ）との結像距離の中間点、すなわちほぼｆｓ＝（ｆｅ＋ｆｄ）／２となるように調整されている。したがって、照明光としてＥ線とＤ線との連続スペクトル光を用いた場合において、色収差を抑制して、結像位置を一定に保つことができる。このため、Ｅ線あるいはＤ線のみの単色光を用いた場合に生じる干渉縞の非対称に起因した位置検出不能が防止でき、ＴＶカメラ２０による高精度なアライメントパターンの検出が可能となる。
　　　【００４７】
　なお、本実施の形態では光路上において、一対の色収差補正レンズ１６の間に図４に示すような非点収差補正レンズ１７が設けられている。該非点収差補正レンズ１７は、非点光線束に起因するウエハ５上の検出画像のＸＹ方向のずれ、すなわち非点収差を補正するためのものであり、シリンドカルレンズからなる凸レンズ１７ａと凹レンズ１７ｂとの組合せで構成されている。したがって、本実施の形態によれば色収差とともに非点収差も補正された状態の照明光がＴＶカメラ２０に入射されるため、高精度な画像認識による位置検出が可能となる。
　　　【００４８】
　次に、本実施の形態によるアライメント方法について説明する。
　　　【００４９】
　まず、図示されないＸＹステージを移動させることによって、照明光源８である光ファイバ１３の先端の円筒鏡１４より照明光が放射されると、バンドパスフィルタ１０、コンデンサレンズ１１を経た後、ビームスプリッタ１２で屈折されて、該照明光は、中継レンズ１５、色収差補正レンズ１６および非点収差補正レンズ１７、反射鏡１８、縮小投影レンズ３を経てウエハ５の所定領域を照射する。このウエハ５からの反射光は上記経路を逆進し、縮小投影レンズ３、反射鏡１８、色収差補正レンズ１６および非点収差補正レンズ１７を経てビームスプリッタ１２に達する。ここで、反射光はビームスプリッタ１２を通過して中継レンズ１５を経てＴＶカメラ２０に達する。当該ＴＶカメラ２０には図示されない信号処理部が接続されており、ＴＶカメラ２０による認識画像から信号波形が検出されるようになっている。
　　　【００５０】
　この信号検出波形を示したものが図６（ｂ）である。本実施の形態によれば照明光の光路上に色収差補正レンズ１６が設けられているため、Ｅ線とＤ線との連続スペクトル光を照明光として使用した場合にも色収差、すなわち結像位置のずれが修正される。この結果、照明光源８に単色光を用いた場合にフォトレジスト膜厚の不均一に起因して生じる干渉波形によるアライメントマーク６の検出困難が回避され、図６（ｂ）に示されるようにアライメントマーク６の段差部に対応する検出信号の把握を確実に行なうことができ、当該アライメントマーク６の位置が正確に検出される。このようにして得られたアライメントマーク６の位置に基づいてウエハ５の目的の部位が、露光光学系上に正確に位置決めされ、その後、露光光源１から放射され、集光レンズ２、レチクル４、縮小投影レンズ３を経た図示されない露光光により、レチクル４上の集積回路パターンがウエハ５のフォトレジスト膜７上に転写される。
　　　【００５１】
　以上の説明では、照明光源として露光光源である水銀ランプを用いた場合について説明したが、検出光源として独立したキセノンランプを用いてもよい。
　　　【００５２】
　この場合には、各波長において比較的均一な光エネルギーを有するキセノンランプを用いることにより、連続スペクトル光を選択的に採用することが可能となり、色収差補正レンズ１６の補正率を調整して最適補正値を設定することにより反射光の干渉によるパターン検出不能を防止でき、高精度な位置検出が可能となる。
　　　【００５３】
　以上本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
　　　【００５４】
　たとえば、照明光源としては光ファイバの先端に装着された円筒鏡を一例として図示したが、これに限らず多角形柱筒体、多角錘筒体等、如何なる形状のものであってもよい。
　　　【００５５】
　以上の説明では主として本発明者によってなされた発明をその利用分野である、いわゆるウエハの縮小投影露光におけるアライメント技術に適用した場合について説明したが、これに限定されるものではなく、一般の縮小投影露光におけるアライメント技術に広く適用できる。
　　　【００５６】
　　【発明の効果】
　本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである。
　　　【００５７】
　すなわち本発明によれば、照明光の光路に色収差補正光学系を設け、各波長に対応して焦点距離を調整することによって、パターン照明光として２以上の波長あるいはそれ以上の連続スペクトル光を用いることが可能となる。このため、たとえば検出部分のアライメントパターンに対してフォトレジスト膜厚が不均一かつ非対称である場合にも、単一波長光のような干渉による検出不能を防止でき、パターン検出を確実に行うことが可能となり、アライメント時の位置決め精度を高め、高精度のアライメントを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
　　【図１】
　本発明の一実施の形態である縮小投影露光装置を示す要部斜視図である。
　　【図２】
　本実施の形態のパターン検出における光学系を示す系統図である。
　　【図３】
　（ａ）および（ｂ）はそれぞれ本実施の形態に用いられる色収差補正レンズを示す説明図である。
　　【図４】
　本実施の形態に用いられる非点収差補正レンズを示す斜視図である。
　　【図５】
　（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は実施の形態における色収差補正レンズによる補正原理を概念的に示した説明図である。
　　【図６】
　（ａ）および（ｂ）は実施の形態におけるウエハ上に形成されたアライメントマークと検出波形との関係を示す説明図である。
　　【図７】
　従来技術のパターン検出における光学系を示す系統図である。
　　【図８】
　（ａ）および（ｂ）は色収差の説明のための図である。
　　【符号の説明】
　１・・・露光光源、２・・・集光レンズ、３・・・縮小投影レンズ、４・・・レチクル（原版）、５・・・ウエハ（露光対称物）、６・・・アライメントマーク、７・・・フォトレジスト膜、８・・・照明光源、１０・・・バンドパスフィルタ、１１・・・コンデンサレンズ、１２・・・ビームスプリツタ、１３・・・光ファイバ、１４・・・円筒鏡、１５・・・中継レンズ、１６・・・色収差補正レンズ、１６ａ・・・凹レンズ、１６ｂ・・・凸レンズ、１７・・・非点収差補正レンズ、１７ａ・・・凸レンズ、１７ｂ・・・凹レンズ、１８・・・反射鏡、２０・・・ＴＶカメラ、２１・・・レンズ、２２・・・照明光源（キセンランプ）、７１・・・ウエハ、７２・・・縮小投影レンズ、７３・・・レチクル（原版）、７４・・・ＴＶカメラ（認識部）、７５・・・水銀ランプ（露光光源、照明光源）、７６・・・反射鏡、７７・・・中継レンズ、７８・・・ビームスプリツタ、８０・・・バンドパスフィルタ、８１・・・コンデンサレンズ、８２・・・フォトレジスト膜。