【事件の表示】
　特許第２９８４０１７号「サーマルヘッド用グレーズ基板及びその製造方法」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９８４０１７号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
［１］手続きの経緯
　本件特許第２９８４０１７号発明は、平成２年３月８日に特許出願され、平成１１年９月２４日にその特許の設定登録がなされ、その後、ローム株式会社より請求項１乃至２に係る発明について特許異議の申立てがなされ、最初の取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年１１月２８日に訂正請求（後日取下げ）がなされた後、再度の取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年２月１９日に訂正請求がなされたものである。
　
［２］訂正の適否についての判断
１．訂正の要旨
（１）訂正事項ａ
　本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至２を以下のとおり訂正する。
「【請求項１】セラミックス基板上に凸状に、焼成されて形成された少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層と、
　該第１のグレーズ層より５０°Ｃ以上軟化点が低く該第１のグレーズ層を覆って或は第１のグレーズ層に接して配置されるとともに上記セラミックス基板上に上記第１のグレーズ層より１００°Ｃ以上低い温度で焼成されて失透を防止して形成された少なくとも酸化ホウ素を含む第２のグレーズ層と、
　を備えたことを特徴とするサーマルヘッド用グレーズ基板。
　【請求項２】セラミックス基板上に凸状に少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層を焼成して形成した後に、該第１のグレーズ層を覆って或は第１のグレーズ層に接して、該第１のグレーズ層より５０°Ｃ以上軟化点の低い少なくとも酸化ホウ素を含む第２のグレーズ層となる組成物を上記セラミックス基板上に形成し、次に上記第１のグレーズ層の焼成温度より１００°Ｃ以上低い温度で焼成して失透を防止したことを特徴とするサーマルヘッド用グレーズ基板の製造方法。」
（２）訂正事項ｂ
　本件特許明細書の発明の詳細な説明の［課題を解決するための手段］及び［作用］の欄を以下のとおり訂正する。
「［課題を解決するための手段］
　かかる問題点を解決するための請求項１の発明は、
　セラミックス基板上に凸状に、焼成されて形成された少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層と，
　該第１のグレーズ層より５０°Ｃ以上軟化点が低く該第１のグレーズ層を覆って或は第１のグレーズ層に接して配置されるとともに上記セラミックス基板上に上記第１のグレーズ層より１００°Ｃ以上低い温度で焼成されて失透を防止して形成された少なくとも酸化ホウ素を含む第２のグレーズ層と、
　を備えたことを特徴とするサーマルヘッド用グレーズ基板を要旨とする。
　請求項２の発明は、
　セラミックス基板上に凸状に少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層を焼成して形成した後に、該第１のグレーズ層を覆って或は第１のグレーズ層に接して、該第１のグレーズ層より５０°Ｃ以上軟化点の低い少なくとも酸化ホウ素を含む第２のグレーズ層となる組成物を上記セラミックス基板上に形成し、次に上記第１のグレーズ層の焼成温度より１００°Ｃ以上低い温度で焼成して失透を防止したことを特徴とするサーマルヘッド用グレーズ基板の製造方法を要旨とする。
　ここで、上記第１のグレーズ層と第２のグレーズ層との軟化点の温度差は、１００°Ｃ以上であると、形状のはっきりした凸状部分が形成されるので一層好適である。
　上記セラミックス基板としては、アルミナ，窒化アルミニウム，窒化珪素，炭化珪素，ムライト等を使用することができる。
［作用］
　請求項１の発明では、セラミックス基板上に少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層が凸状に形成され、更に第１のグレーズ層を覆って或は該層に接してセラミックス基板上に、第１のグレーズ層より５０°Ｃ以上低い軟化点の少なくとも酸化ホウ素を含む第２のグレーズ層が形成されているので、第２のグレーズ層の焼成時に、第１のグレーズ層が軟化することなく凸状部分の形状が明瞭に保存される。
　しかも、第２のグレーズ層は第１のグレーズ層より１００°Ｃ以上低い温度で焼成され、両グレーズ層が反応して生ずる失透が防止されている。
　また、請求項２の発明では、セラミックス基板上に高軟化点の少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層を凸状に形成した後に、第１のグレーズ層より５０°Ｃ以上低い軟化点の少なくとも酸化ホウ素を含む第２のグレーズ層を形成し、第１のグレーズ層の焼成温度より１００°Ｃ以上低い温度で焼成することにより、両グレーズ層が反応して生ずる失透を防止する。また、第２のグレーズ層の焼成温度は第１のグレーズ層の焼成温度よりかなり低いので、その焼成によって第１のグレーズ層が軟化することを防止でき、それによって凸状部分の形状が明瞭に保存される。」
２．訂正の目的、新規事項の有無、拡張変更の存否の各要件についての判断
（１）訂正事項ａ
　本訂正は、本件特許明細書の［作用］の欄の請求項２の発明の説明の、「・・第２のグレーズ層を形成し、第１のグレーズ層の焼成温度より１００°Ｃ以上低い温度で焼成することにより、両グレーズ層が反応して生ずる失透を防止する・・」の記載及び第１表の記載に基づいて各グレーズ層と温度と失透防止との関係を限定したものである。
　したがって、本訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
（２）訂正事項ｂ
　本訂正は、訂正事項ａに伴う訂正であり、上記各要件を適法に満たすものである。
３．訂正の適否のまとめ
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号。以下「平成６年改正法」という）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正法による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める（なお、特許異議申立がされていない請求項についての訂正はないので、独立特許要件の判断はしない）。
　
［３］異議申立てについての判断
１．本件請求項１乃至２に係る発明
　本件請求項１乃至２に係る発明は、訂正明細書及び図面の記載からみて、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至２に記載されたとおりのものである（上記訂正事項ａ参照。以下、請求項１，２に係る発明を、それぞれ、「本件発明１」、「本件発明２」という）。
２．再度の取消理由について
　再度の取消理由は、請求項１乃至２の記載では、温度に係る意義を明瞭には把握し難いため、特許法第３６条に係る記載の不備があるというものであるが、上記訂正により、各グレーズ層と温度と失透防止との関係が限定され、温度に係る意義が明瞭となったため、この取消理由は解消されている。
３．異議申立ての理由と証拠
　これに対し、異議申立人は甲第１乃至４号証及び参考資料１を提出し、本件発明１，２は、甲第１号証１に記載された発明であり、あるいは、少なくとも甲第１乃至４号証及び参考資料１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項あるいは第２項の規定により特許を受けることができないとしている（当審が通知した最初の取消理由はこれを採用したものである）。
　甲第１乃至４号証及び参考資料１とそれらの記載事項は次のとおりである。
（１）甲第１号証：特開昭６２−１３８２５７号公報
　ａ．「本発明は超微細配線が可能な感熱ヘッド用グレーズドセラミック基板（以下グレーズド基板とする）の改良に関する。・・・従来、グレーズド基板には全面グレーズド基板及び部分グレーズド基板があり、それぞれ一長一短があった。全面グレーズド基板は表面平滑性が良く、全面に超微細配線が容易であるという利点はあるが感熱ヘッドとして用いる際、基板に少しでも反りがあると紙とのあたりが悪くなり、印字性が落ちるという欠点がある。・・・そこで上記の欠点を解消するため・・・印字が必用な部分だけにグレーズ層を形成し、紙との接触性を改善した部分グレーズド基板が用いられるようになった。しかしながら部分グレーズド基板は、グレーズ層を形成した部分以外はセラミックの研磨面がむき出しのため、表面平滑性が悪く、かつ空隙であった部分が多く露出するため微細な配線の形成が困難であるという欠点がある。本発明はこのような欠点を解消し、印字性能が良く、超微細配線が可能なグレーズド基板を提供するものである。」（１頁左下欄１２行〜右下欄１６行）
　ｂ．「グレーズ層の突起を設け、かつ前記の突起以外の絶緑性セラミック基板の表面にグレーズ層を形成したところ上記の欠点のないグレーズド基板が得られることを見い出した。」（１頁右下欄２０行〜２頁左上欄４行）
　ｃ．「突起と絶緑性セラミック基板の表面に形成するグレーズ層は、同種のグレーズを用いて形成してもよいが、突起を高温グレーズ層、絶緑性セラミック基板の表面は突起に形成するグレーズより低温のグレーズ層を形成すれば低温のグレーズを焼き付けるとき突起部分のグレーズの流出はほとんどなく」（２頁左上欄２０行〜右上欄６行）
　ｄ．「セラミック基板1の片側の表面の一部に軟化点が８５０°Ｃのアルカリ土類珪酸塩ガラスペーストを焼結後の高さが５０μｍ、１００μｍ、１５０μｍおよび４００μｍになるような厚さにスクリーン印刷により帯状（幅１０ｍｍ、長さ２２０ｍｍ）に印刷した。ついで大気中で１１００°Ｃの温度で１時間焼成して突起２を有するセラミック基板を得た。次にセラミック基板１の表面にＰｂＯを主成分とした硼珪酸鉛ガラス（軟化点５９０°Ｃ、日本電気硝子製、商品名ＧＡ−１）の層を形成した。ついで大気中で８５０°Ｃの温度で１時間焼成して第１図に示すようなセラミック基板１の表面に厚さ２０μｍのグレーズ層３を形成した突起２を有するグレーズド基板を得た。この後ＤＣスパッタ装置で各々のグレーズド基板の突起２の表面およびグレーズ層３の表面に厚さ１μｍのＡｕの層を形成し、ついでフォトリソグラフィーにより不必要な部分を除去して１６本／ｍｍの配線を形成した。」（２頁左下欄２〜２０行）
　ｅ．「本発明によれば、部分グレーズド基板の利点と全面グレーズド基板の利点をいずれも保持したグレーズド基板、即ち従来の全面グレーズド基板の欠点であるわずかな基板の反りが印字性の悪さにつながる点また、部分グレーズド基板の欠点である微細配線形成時にショート、断線し易いという問題などを解消したグレーズド基板を得ることができる。」（３頁左上欄８〜１５行）
等が記載されている。
　また、第１図にグレーズド基板の斜視図が示されている。
　これらの記載を対比のためにまとめると、甲第１号証には、セラミック基板１の表面上に、軟化点が８５０°Ｃのアルカリ土類珪酸塩ガラスペーストを帯状に厚く印刷し、次に１１００°Ｃで焼成してグレーズ層である突起２を形成し、その後に、上記セラミック基板１の表面上の突起２以外の部分に、軟化点が５９０°ＣのＰｂＯを主成分とした硼珪酸鉛ガラスの層を薄く形成し、次に８５０°Ｃで焼成してグレーズ層３を形成してなる、感熱ヘッド用グレーズドセラミック基板及びその製造方法が記載されている。
　また、突起２には紙との接触性を良くする意味があり、突起２以外のセラミック基板１の表面上にグレーズ層３を形成することには表面の平滑性を良くして良好な超微細配線を可能とする意味があること、が記載されている。
　さらに、突起２とグレーズ層３の軟化点と焼成温度との関係には、グレーズ層３を焼成するときに、先に焼成形成された突起２の流出をほとんどなくする意味があることが記載されている。
（２）甲第２号証：特開昭６２−２５９８７４号公報
　ｆ．「部分グレーズ層を有するサーマルヘッドの長所としては熱応答特性が良く、発熱抵抗体層と紙との当たりが良くなる等の点が上げられる。反面、部分グレーズ層２の周辺部はセラミック基板１上に直接導体等の薄膜パターを形成する事となるためセラミック基板１に陥没や突起が有ると断線やパターン欠けが生じるという問題点がある。」（１頁右下欄１１〜１８行）
　ｇ．「第１図は本発明の一実施例の断面図である。第１図において、セラミック基板１上には高融点ガラスからなる突起状の部分グレーズ層２が形成されておりこの部分グレーズ層２の端部に接して部分グレーズ層２より薄い、低融点ガラスからなる平面状ガラス層３がセラミック基板１の表面に形成されている。」（２頁左上欄１７行〜右上欄３行）
　ｈ．「部分グレーズ層の端部に接して平面状ガラス層を設けることにより、セラミック基板表面は平滑になるため、パターン欠けや断線がなくなり、製造歩留りの向上したサーマルヘッドが得られるという効果がある。」（２頁右下欄６〜１０行）
等が記載されている。
　また、第１図には一実施例の断面図が示されている。
（３）甲第３号証：特開昭６３−３９７１号公報
　ｉ．「第３図のサーマルヘッドは基板１上に下部グレーズ層２を印刷焼成して形成した後上部グレーズ層３を更に印刷焼成して積層し、これらの上に発熱低抗体層４を形成し、次いで給電体層５、保護層６を順次形成することにより作られている。しかしながら、前述のサーマルヘッドの場合下部グレーズ層２と上部グレーズ層３とをそれぞれ焼成温度の異なるグレーズ層で形成する必要があった。これは上部グレーズ層３形成時における下部グレーズ層２の熱変形を防ぐためであり、このため発熱抵抗体層４の発熱部分（以下、発熱要素と称す）４ａの直下の上部グレーズ層３は下部グレーズ層２より２００〜３００°Ｃ程度軟化点が低いグレーズで形成する必要があった。」（１頁右下欄１７行〜２頁左上欄１１行）
等が記載されている。
　また、第３図に従来構成の断面図が示されている。
（４）甲第４号証：実願昭６０−１９３５４１号（実開昭６２−１０２６４０号）のマイクロフイルム
　ｊ．「第２図のサーマルヘッドは基板１上に下部グレーズ層２を印刷焼成して形成した後上部グレーズ層３を更に印刷焼成して積層し、これらの上に発熱抵抗体層４を形成し、次いで給電体層５、保護層６を順次形成することにより作られている。（考案が解決しようとする問題点）しかしながら、前述のサーマルヘッドの場合下部グレーズ層２と上部グレーズ層３とをそれぞれ焼成温度の異なるグレーズ層で形成する必要があった。これは上部グレーズ層３形成時における下部グレーズ層２の熱変形を防ぐためであり、このため発熱抵抗体層４の発熱部分（以下、発熱要素と称す）４ａの直下の上部グレーズ層３は下部グレーズ層２より２００〜３００°Ｃ程度軟化点が低いグレーズで形成する必要があった。」（３頁２〜１７行）
等が記載されている。
　また、第２図に従来構成の断面図が示されている。
（５）参考資料１：実願昭５８−４９０８６号（実開昭５９−１５５１３９号）のマイクロフイルム
　ｋ．「サーマルプリンタヘッドにおいて、絶縁基板の表面の一部に突条状のグレーズ層を設け、その表面に抵抗体を設けたものも知られている。・・・前記絶縁基板の表面から突条状のグレーズ層にまたがって導体を設け、グレーズ層の表面で抵抗体に接続するようにしていた。ところがこのような導体構成によると、絶縁基板がセラミックであるため、その表面が粗面となっており、・・・導体が途切れてしまうことがある。」（２頁５〜２０行）
　ｌ．「１はアルミナ等のセラミックからなる絶緑基板、２は絶緑基板１の表面に設けられた突条状のグレーズ層、３はグレーズ層２の表面に設けられた印字用の発熱抵抗体である。・・・４，５は抵抗体３への通電のための導体である。・・・絶緑基板１の表面からグレーズ層２まで連続してグレーズ層６を設け、その表面に重なるように導体４，５を設ける。・・・グレーズ層６はグレーズ層２と同じようにガラス質を含むセラミックであり、その表面はアルミナより遙かに平滑である。」（３頁４〜１６行）
等が記載されている。
　また、図面には実施例の断面図が示されている。
３．対比・判断
（１）本件発明１について
　本件発明１（以下、前者）と甲第１号証記載の発明（以下、後者）とを対比すると、後者の、感熱ヘッド用グレーズドセラミック基板、セラミック基板１、突起２，グレーズ層３は、それぞれ、前者の、サーマルヘッド用グレーズ基板、セラミックス基板、凸状に焼成されて形成された第１のグレーズ層、第２のグレーズ層に対応し、後者の、突起２とグレーズ層３の軟化点はそれぞれ８５０°Ｃと５９０°Ｃであって、グレーズ層３は突起２より２６０°Ｃ軟化点が低く、また、後者の、突起２とグレーズ層３の焼成温度はそれぞれ１１００°Ｃと８５０°Ｃであって、グレーズ層３は突起２より２５０°Ｃ焼成温度が低いから、両者の間には、次の一致点と相違点が認められる。
　＜一致点＞セラミックス基板上に凸状に、焼成されて形成された第１のグレーズ層と、該第１のグレーズ層より軟化点が低く上記セラミックス基板上に上記第１のグレーズ層より低い温度で焼成されて形成された第２のグレーズ層と、を備えたことを特徴とするサーマルヘッド用グレーズ基板。
　＜相違点１＞前者の第２グレーズ層が第１のグレーズ層を覆って或は第１のグレーズ層に接して配置されているのに対し、後者のグレーズ層３はセラミック基板１の表面上の突起２以外の部分に形成されている点。
　＜相違点２＞前者が、共に少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層と第２のグレーズ層とにおける、第２のグレーズ層の軟化点及び焼成温度を、第１のグレーズ層よりそれぞれ５０°Ｃ以上低い温度及び１００°Ｃ以上低い温度として、失透を防止するものであるのに対し、後者は、アルカリ土類珪酸塩ガラスペーストからなる突起２とＰｂＯを主成分とした硼珪酸鉛ガラスからなるグレーズ層３とにおける、グレーズ層３の軟化点及び焼成温度を、突起２よりそれぞれ２６０°Ｃ低い温度及び２５０°Ｃ低い温度として、グレーズ層３を焼成するときに、先に焼成形成された突起２の流出をほとんどなくするものである点。
　相違点１について検討する。
　甲第１号証にはグレーズ層３が突起２に接しているか否か明記はないが、グレーズ層３はセラミック基板１の表面上の突起２以外の部分の平滑性を良くして良好な超微細配線を可能とするものであり、かつ、該配線がグレーズ層３から突起２にかけて形成されるものであることからすれば、グレーズ層３と突起２との間にセラミック基板１の表面が露出するように、すなわち、グレーズ層３が突起２に接することがないように形成されるとは考え難く、第１図にグレーズ層３と突起２とが切れ目なく記載されていることからみても、グレーズ層３が突起２に接しているとみるのが自然であるため、相違点１は甲第１号証に実質的に示唆されていたものと認められる。
　また、甲第２号証には、サーマルヘッドのセラミック基板１上に高融点ガラスからなる突起状の部分グレーズ層２と低融点ガラスからなる平面状ガラス層３とを形成したものにおいて、平面状ガラス層３が配線パターンを平滑な表面に形成するためのものであって、部分グレーズ層２に接して形成することが記載されている。
　さらに、参考資料１には、サーマルプリンタヘッドのセラミックからなる絶縁基板１上に突条状のグレーズ層２とグレーズ層６とを形成したものにおいて、グレーズ層６が導体４，５を平滑な表面に形成するためのものであって、グレーズ層２を覆って形成することが記載されている。
　これらの甲第２号証及び参考資料１に記載された事項は、甲第１号証記載の発明に適用する上で阻害要因のないものであるから、相違点１は、少なくとも、甲第２号証及び参考資料１に記載された事項から当業者が容易になし得た設計の変更であるともいえる。
　相違点２について検討する。
　本件発明１における、軟化点と焼成温度に係る５０°Ｃ以上低い温度と１００°Ｃ以上低い温度とには、本件特許明細書の記載からみて、２つのグレーズ層が共に少なくとも酸化ホウ素を含むものからなる特定の組合せの場合について、両グレーズ層の接触部が反応して生ずる失透を防止できる軟化点と焼成温度とに係る温度差範囲を見出したという意義があり、かつ、焼成温度は失透が生じないように適用されなければならないものである。
　これに対して、甲第１号証記載の発明における、軟化点と焼成温度に係る２６０°Ｃ低い温度と２５０°Ｃ低い温度とには、甲第１号証の記載からみて、２つのグレーズ層がアルカリ土類珪酸塩ガラスペーストからなるものとＰｂＯを主成分とした硼珪酸鉛ガラスからなるものとの特定の組合せの場合について、両グレーズ層の焼成時に先に焼成形成されたグレーズ層の流出をほとんどなくすることのできる温度差を設けるという意義があるものである。
　すなわち、甲第１号証記載の発明の該温度差は、アルカリ土類珪酸塩ガラスペーストからなるものとＰｂＯを主成分とした硼珪酸鉛ガラスからなるものとの特定の組合せについてのものであり、該組合せ以外について示唆されることは、せいぜい、如何なる組成物の組合せであっても、先に焼成形成されたグレーズ層の流出がないように後から焼成されるグレーズ層の軟化点と焼成温度とを低くしなければならないということであって、如何なる組成物の組合せにおいても該軟化点と焼成温度とをそれぞれ５０°Ｃ以上低い温度と１００°Ｃ以上低い温度とにすること、及び該１００°Ｃ以上低い焼成温度を失透が生じないように適用することまで示唆するものではない。
　そもそも、甲第１号証には、２つのグレーズ層として共に少なくとも酸化ホウ素を含むもの同士を組合せることや失透の防止については記載も示唆もなく、かつ、その記載からみて容易に想起し得ることとも認められないため、相違点２が甲第１号証に実質的に記載されていることとも甲第１号証の記載から容易に想起し得ることとも認められない。
　また、甲第２乃至４号証及び参考資料１の記載をみても、後から焼成されるグレーズ層を先に焼成されたグレーズ層より低融点や２００〜３００°Ｃ低い軟化点とすること等は記載されているが、２つのグレーズ層として共に少なくとも酸化ホウ素を含むもの同士を組合せることや失透の防止については記載も示唆もないことから、これら甲第２乃至４号証及び参考資料１の記載によっても相違点２を容易に想起し得るとは認められない。
  そして、本件発明１における軟化点と焼成温度に係る温度差範囲には、共に少なくとも酸化ホウ素を含むグレーズ層間の上述した失透防止の意義があることから、本件発明１は、甲第１号証に記載された発明であるとも、甲第１乃至４号証及び参考資料１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとも認めることができない。
（２）本件発明２について
　本件発明２（以下、前者）と甲第１号証記載の発明（以下、後者）とを対比すると、後者の、感熱ヘッド用グレーズドセラミック基板、セラミック基板１、突起２，グレーズ層３は、それぞれ、前者の、サーマルヘッド用グレーズ基板、セラミックス基板、凸状に焼成されて形成された第１のグレーズ層、第２のグレーズ層に対応し、後者の、突起２とグレーズ層３の軟化点はそれぞれ８５０°Ｃと５９０°Ｃであって、グレーズ層３は突起２より２６０°Ｃ軟化点が低く、また、後者の、突起２とグレーズ層３の焼成温度はそれぞれ１１００°Ｃと８５０°Ｃであって、グレーズ層３は突起２より２５０°Ｃ焼成温度が低いから、両者の間には、次の一致点と相違点が認められる。
　＜一致点＞セラミックス基板上に凸状に第１のグレーズ層を焼成して形成した後に、該第１のグレーズ層より軟化点の低い第２のグレーズ層となる組成物を上記セラミックス基板上に形成し、次に上記第１のグレーズ層の焼成温度より低い温度で焼成したことを特徴とするサーマルヘッド用グレーズ基板の製造方法。
　＜相違点１＞前者の第２グレーズ層が第１のグレーズ層を覆って或は第１のグレーズ層に接して配置されているのに対し、後者のグレーズ層３はセラミック基板１の表面上の突起２以外の部分に形成されている点。
　＜相違点２＞前者が、共に少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層と第２のグレーズ層とにおける、第２のグレーズ層の軟化点及び焼成温度を、第１のグレーズ層よりそれぞれ５０°Ｃ以上低い温度及び１００°Ｃ以上低い温度として、失透を防止しているのに対し、後者は、アルカリ土類珪酸塩ガラスペーストからなる突起２とＰｂＯを主成分とした硼珪酸鉛ガラスからなるグレーズ層３とにおける、グレーズ層３の軟化点及び焼成温度を、突起２よりそれぞれ２６０°Ｃ低い温度及び２５０°Ｃ低い温度として、グレーズ層３を焼成するときに、先に焼成形成された突起２の流出をほとんどなくしている点。
　これら相違点１及び相違点２は、上述した本件発明１と甲第１号証記載の発明との対比における相違点１及び相違点２と同内容であるから、その判断も上述した本件発明１についての判断と同じである。
　したがって、本件発明２は、甲第１号証に記載された発明であるとも、甲第１乃至４号証及び参考資料１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとも認めることができない。
　
［４］むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由によっては本件発明１乃至２についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１乃至２についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件発明１乃至２についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年３月１９日（２００１．３．１９）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
（１）訂正事項ａ
　本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至２を以下のとおり訂正する。
「【請求項１】セラミックス基板上に凸状に、焼成されて形成された少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層と、
　該第１のグレーズ層より５０°Ｃ以上軟化点が低く該第１のグレーズ層を覆って或は第１のグレーズ層に接して配置されるとともに上記セラミックス基板上に上記第１のグレーズ層より１００°Ｃ以上低い温度で焼成されて失透を防止して形成された少なくとも酸化ホウ素を含む第２のグレーズ層と、
　を備えたことを特徴とするサーマルヘッド用グレーズ基板。
　【請求項２】セラミックス基板上に凸状に少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層を焼成して形成した後に、該第１のグレーズ層を覆って或は第１のグレーズ層に接して、該第１のグレーズ層より５０°Ｃ以上軟化点の低い少なくとも酸化ホウ素を含む第２のグレーズ層となる組成物を上記セラミックス基板上に形成し、次に上記第１のグレーズ層の焼成温度より１００°Ｃ以上低い温度で焼成して失透を防止したことを特徴とするサーマルヘッド用グレーズ基板の製造方法。」
（２）訂正事項ｂ
　本件特許明細書の発明の詳細な説明の［課題を解決するための手段］及び［作用］の欄を以下のとおり訂正する。
「［課題を解決するための手段］
　かかる問題点を解決するための請求項１の発明は、
　セラミックス基板上に凸状に、焼成されて形成された少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層と，
　該第１のグレーズ層より５０°Ｃ以上軟化点が低く該第１のグレーズ層を覆って或は第１のグレーズ層に接して配置されるとともに上記セラミックス基板上に上記第１のグレーズ層より１００°Ｃ以上低い温度で焼成されて失透を防止して形成された少なくとも酸化ホウ素を含む第２のグレーズ層と、
　を備えたことを特徴とするサーマルヘッド用グレーズ基板を要旨とする。
　請求項２の発明は、
　セラミックス基板上に凸状に少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層を焼成して形成した後に、該第１のグレーズ層を覆って或は第１のグレーズ層に接して、該第１のグレーズ層より５０°Ｃ以上軟化点の低い少なくとも酸化ホウ素を含む第２のグレーズ層となる組成物を上記セラミックス基板上に形成し、次に上記第１のグレーズ層の焼成温度より１００°Ｃ以上低い温度で焼成して失透を防止したことを特徴とするサーマルヘッド用グレーズ基板の製造方法を要旨とする。
　ここで、上記第１のグレーズ層と第２のグレーズ層との軟化点の温度差は、１００°Ｃ以上であると、形状のはっきりした凸状部分が形成されるので一層好適である。
　上記セラミックス基板としては、アルミナ，窒化アルミニウム，窒化珪素，炭化珪素，ムライト等を使用することができる。
［作用］
　請求項１の発明では、セラミックス基板上に少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層が凸状に形成され、更に第１のグレーズ層を覆って或は該層に接してセラミックス基板上に、第１のグレーズ層より５０°Ｃ以上低い軟化点の少なくとも酸化ホウ素を含む第２のグレーズ層が形成されているので、第２のグレーズ層の焼成時に、第１のグレーズ層が軟化することなく凸状部分の形状が明瞭に保存される。
　しかも、第２のグレーズ層は第１のグレーズ層より１００°Ｃ以上低い温度で焼成され、両グレーズ層が反応して生ずる失透が防止されている。
　また、請求項２の発明では、セラミックス基板上に高軟化点の少なくとも酸化ホウ素を含む第１のグレーズ層を凸状に形成した後に、第１のグレーズ層より５０°Ｃ以上低い軟化点の少なくとも酸化ホウ素を含む第２のグレーズ層を形成し、第１のグレーズ層の焼成温度より１００°Ｃ以上低い温度で焼成することにより、両グレーズ層が反応して生ずる失透を防止する。また、第２のグレーズ層の焼成温度は第１のグレーズ層の焼成温度よりかなり低いので、その焼成によって第１のグレーズ層が軟化することを防止でき、それによって凸状部分の形状が明瞭に保存される。」
（５４）【発明の名称】
サーマルヘッド用グレーズ基板及びその製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　セラミックス基板上に凸状に
、焼成されて
少なくとも酸化ホウ素を含む
　該第１のグレーズ層より５０℃以上軟化点が低く該第１のグレーズ層を覆って或は第１のグレーズ層に接して配置されるとともに上記セラミックス基板上に
上記第１のグレーズ層より１００℃以上低い温度で焼成されて失透を防止して
少なくとも酸化ホウ素を含む
　を備えたことを特徴とするサーマルヘッド用グレーズ基板。
　【請求項２】　セラミックス基板上に凸状に
少なくとも酸化ホウ素を含む
少なくとも酸化ホウ素を含む
て失透を防止した
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
　本発明は、ファクシミリやサーマルプリンタ等に用いるサーマルヘッド用グレーズ基板に関するものである。
［従来の技術］
　従来より、ファクシミリやサーマルプリンタ等の印字機構としては、例えばサーマルヘッドが知られており、このサーマルヘッドには、セラミックス基板上にガラス質のグレーズ層が形成されたグレーズ基板が使用されている。
　上記グレーズ基板としては、例えば第４図（ａ）に示すように、平板なセラミックス基板Ｐ１上に、グレーズ層Ｐ２を帯状に配置して突起部Ｐ３を形成したものが知られており、この突起部Ｐ３表面に発熱体Ｐ４が形成され、セラミックス基板Ｐ１上に導電性パターンＰ５が配線されている。
　また、第４図（ｂ）に示す様に、凸部Ｐ６を有するセラミックス基板Ｐ７の表面全体をグレーズ層Ｐ８で覆って、突起部Ｐ９を形成したものが知られており、この突起部Ｐ９の表面に発熱体Ｐ１０が形成され、グレーズ層Ｐ８の平板部分Ｐ１１に導電性パターンＰ１２が配線されている。
［発明が解決しようとする課題］
　しかしながら、上記従来技術では下記のような問題があり未だ十分ではなかった。
　即ち、近年では機器の精密化の要求が高くなっており、上記平板なセラミックス基板Ｐ１上にグレーズ層Ｐ２により突起部Ｐ３を形成するものでは、グレーズ層Ｐ２を焼成する際に、グレーズ層Ｐ２の端部が縮むいわゆる「ひけ」という現象が生じ、それによって突起部Ｐ３の直線性や寸法精度に問題が生じていた。更に、上記配線に関しても高精度が要求されており、従来の表面が粗いセラミックス基板Ｐ１上に、直接導電性パターンＰ５を配線をするものでは、これ以上の高精度化，均質化ができないという問題が生じてきた。
　また、凸部Ｐ６を有するセラミックス基板Ｐ７上にグレーズ層Ｐ８を形成するものでは、セラミックス基板Ｐ１表面全体をグレーズ層Ｐ８で覆うことにより、平滑性は良好になるが、焼成時にグレーズ層Ｐ８の軟化により突起部Ｐ９が広がり易く、必ずしも十分な高さと幅を備えた明瞭な形状の突起部Ｐ９を形成することができないという問題があった。
　本発明は、上記課題を解決し、好適な形状の突起部を有し、精密かつ均質な配線を行うことができるサーマルヘッド用グレーズ基板及びその製造方法を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
　かかる問題点を解決するための請求項１の発明は、
　セラミックス基板上に凸状に
、焼成されて
少なくとも酸化ホウ素を含む
　該第１のグレーズ層より５０℃以上軟化点が低く該第１のグレーズ層を覆って或は第１のグレーズ層に接して配置されるとともに上記セラミックス基板上に
上記第１のグレーズ層より１００℃以上低い温度で焼成されて失透を防止して
少なくとも酸化ホウ素を含む
　を備えたことを特徴とするサーマルヘッド用グレーズ基板を要旨とする。
　請求項２の発明は、
　セラミックス基板上に凸状に
少なくとも酸化ホウ素を含む
少なくとも酸化ホウ素を含む
て失透を防止した
　ここで、上記第１のグレーズ層と第２のグレーズ層との軟化点の温度差は、１００℃以上であると、形状のはっきりした凸状部分が形成されるので一層好適である。
　上記セラミックス基板としては、アルミナ，窒化アルミニウム，窒化珪素，炭化珪素，ムライト等を使用することができる。
［作用］
　請求項１の発明では、セラミックス基板上に
少なくとも酸化ホウ素を含む
少なくとも酸化ホウ素を含む
　しかも、第２のグレーズ層は第１のグレーズ層より１００℃以上低い温度で焼成され、両グレーズ層が反応して生ずる失透が防止されている。
　また、請求項２の発明では、セラミックス基板上に高軟化点の
少なくとも酸化ホウ素を含む
少なくとも酸化ホウ素を含む
［実施例］
　以下本発明の各実施例を説明するが、ここで、第１ないし第３実施例は、セラミックス基板上に、突起部を形成する高軟化点の第１のグレーズ層を設けた後に、均一な厚さに低軟化点の第２のグレーズ層を形成したものである。
（１）第１〜第３実施例
　まず、これらの実施例で使用する材料等について説明する。
　第１及び第２のグレーズ層が形成されるセラミックス基板は、アルミナが９７重量％含まれる基板が使用されるが、それ以外に、窒化アルミニウム，窒化珪素，炭化珪素，ムライト等を使用できる。
　また、第１又は第２のグレーズ層となるペーストは、まず、下記第１表の組成となるようにガラスの原料を調整し、１３００℃〜１５００℃で溶融した後に、水中で急冷してガラスフリットを製造する。次いで、そのガラスフリットを粉砕し、エチルセルロース系バインダを混合してペーストを製造する。
　尚、下記第１表において、試料Ｎｏ．１が第１のグレーズ層に使用される組成であり、試料Ｎｏ．２，３が第２のグレーズ層に使用される組成である。また、試料Ｎｏ，４は第１のグレーズ層に使用可能な参考例であり、試料Ｎｏ．５は後述する比較例に用いるグレーズの組成である。
　（第１実施例）
　第１図に示すように、本実施例のサーマルヘッドに使用されるグレーズ基板３１は、セラミックス基板３２上に、上記第１表の試料Ｎｏ．１の組成の第１のグレーズ層３３が、幅１．０ｍｍ，高さ５０μｍで凸状に形成されており、更に、この第１のグレーズ層３３及びセラミックス基板３２の表面上に、厚さ３０μｍの試料Ｎｏ．２の組成の第２のグレーズ層３４が形成されている。尚、本実施例では、上記凸状部分とその上に形成された第２のグレーズ層３４によって突起部３５が形成される。
　そして、このグレーズ基板３１を製造するには、下記第２表に示すように、まず、セラミックス基板３２上に第１のグレーズ層３３となる試料Ｎｏ１のペーストを凸状に塗布し、１２５０℃で２時間焼成した。次に、その第１のグレーズ層３３及びセラミックス基板３２の表面に、上記試料Ｎｏ２のペーストを均一な厚さで塗布し、１０２０℃で２時間焼成した。
　この様にして製造されたグレーズ基板３１は、突起部３５の幅、高さとも最初の焼成時の形状を保ち、かつ第１のグレーズ層３３と第２のグレーズ層３４との接触部分に失透もなく、表面が平滑で実用に富む好適な基板である。
　（第２実施例）
　第２図に示すように、本実施例のグレーズ基板４１は、セラミックス基板４２上に、試料Ｎｏ．１の組成の第１のグレーズ層４３からなる、高さ５０μｍ，幅１．０ｍｍの突起部４４が形成されている。そして、その突起部４４の両側面に接してセラミックス基板４２上に、均一の厚さ３０μｍで試料Ｎｏ３の組成の第２のグレーズ層４５が形成されている。
　そして、このグレーズ基板４１を製造する際には、下記第２表に示すように、第１のグレーズ層４３を１２５０℃で２時間焼成した後に、第２のグレーズ層４５を９３０℃で２時間焼成した。
　この様にして製造されたグレーズ基板４１は、上記第１実施例と同様な作用効果を奏する。
　（第３実施例）
　第３図に示すように、本実施例のグレーズ基板５１は、セラミックス基板５２上に、試料Ｎｏ．１の組成の第１のグレーズ層５３からなる、高さ５０μｍ，幅１．０ｍｍの突起部５４が形成されている。そして、その突起部５４の一方の側面に接してセラミックス基板５２上に、均一の厚さで試料Ｎｏ．２の組成の第２のグレーズ層５５が形成されている。
　そして、このグレーズ基板５５を製造する際には、下記第２表に示すように、第１のグレーズ層５３を１２５０℃で２時間焼成した後に、第２のグレーズ層５５を１０２０℃で２時間焼成した。
　この様にして製造されたグレーズ基板５１は、上記第１実施例と同様な作用効果を奏する。
　尚、本実施例において、第２のグレーズ層５５を形成する際に、試料Ｎｏ．３のペーストを使用して第２のグレーズ層５５を使用しても同様な効果を奏する。
　次に、比較例について説明する。
　（比較例）
　この比較例のグレーズ基板（図示せず）は、上記第１実施例の構成とほぼ同様であるが、使用する素材の組成が異なる。
　即ち、セラミックス基板上に、試料Ｎｏ．１の組成の第１のグレーズ層により突起部が形成され、更にその第１のグレーズ層上に、試料Ｎｏ．５の組成の第２のグレーズ層が均一な厚さで形成されている。
　そして、このグレーズ基板を製造する際には、下記第２表に示すように、まず、上記第１のグレーズ層を１２５０℃で２時間焼成した後に、第２のグレーズ層を１１５０℃で２時間焼成した。
　この様にして製造されたグレーズ基板は、第１のグレーズ層の軟化点Ｔｓが９７０℃，第２のグレーズ層の軟化点Ｔｓが９４０℃と、温度差が５０℃以下であるので、突起部はなだらかな丘状となり、明瞭な突起が形成されない。
　以上本発明の各実施例について説明したが、本発明はこの様な実施例に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々なる態様で実施できることは勿論である。
［発明の効果］
　上述した請求項１の発明により、第１のグレーズ層の上に、第２のグレーズ層が形成されるので、明瞭な形状の凸状部分が形成される。またその際に、ひけが生ずることがなく高い直線性や精度を有する凸状部分が形成されるという特徴がある。
　また、セラミックス基板表面を請求項１，２の第２のグレーズ層で覆うことにより、セラミックス基板表面の面粗さを飛躍的に向上でき、それによって、セラミックス基板上の表面加工を行う必要がなくなるので、表面が滑らかなサーマルヘッド用グレーズ基板を容易に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
　第１図は本発明の第１実施例のグレーズ基板を示す断面図、第２図は第２実施例のグレーズ基板を示す断面図、第３図は第３実施例のグレーズ基板を示す断面図、第４図は従来のグレーズ基板を示す断面図である。
　　３１，４１，５１…グレーズ基板
　　３２，４２，５２…セラミックス基板
　　３３，４３，５３…第１のグレーズ層
　　３４，４５，５５…第２のグレーズ層