【事件の表示】
　特許第２９８３１１４号「電解用電極およびその製造方法」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９８３１１４号の請求項１ないし７に係る特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第２９８３１１４号（以下「本件特許」という。）は、平成４年１０月７日に特許出願されたものであって、特許権の設定の登録がなされた後、特許異議申立人　ペルメレック電極株式会社より、請求項１〜７に係る特許について特許異議の申立がなされたものである。
　
II．特許異議申立理由
　特許異議申立人は、本件出願前に頒布された刊行物である甲第１号証（特開平３−１９３８８９号公報）、甲第２号証（特公平２−２５９９５号公報）、甲第３号証（「表面技術第４２巻第８号」（社）表面技術協会発行（平成３年８月１日）表紙、目次、第７８３〜７８７頁及び奥付、及び甲第４号証（特開昭６３−２３５４９３号公報）を提示して、本件請求項１〜７に係る発明は、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明であり、その特許は取り消すべきものであると主張している。
　
III．本件発明
　本件請求項１〜７に係る発明（以下「本件発明１」〜「本件発明７」という。）は、願書に添付した明細書（以下「特許明細書」という。）の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜７に記載された次のとおりのものと認める。
「【請求項１】導電性基体上に、金属換算でイリジウム７５〜９５原子％およびタンタル５〜２５原子％を含有する酸化イリジウムと酸化タンタルとの層が設けられており、にかわ成分またはチオ尿素系化合物を含有する金属電解液の電解を行うための電解用電極。
【請求項２】前記金属電解液は銅を含有する請求項１の電解用電極。
【請求項３】導電性基体上に、金属換算でタンタル０.２mg/cm2以上の酸化タンタルの下地層を介して、金属換算でイリジウム７５〜９５原子％およびタンタル５〜２５原子％を含有する酸化イリジウムと酸化タンタルとの上地層が設けられており、にかわ成分またはチオ尿素系化合物を含有する金属電解液の電解を行うための電解用電極。
【請求項４】前記下地層の酸化タンタル担持量が金属換算で１.０〜５.０mg/cm2である請求項３の電解用電極。
【請求項５】前記金属電解液は銅を含有する請求項３または４の電解用電極。
【請求項６】導電性基体上にイリジウム化合物とタンタル化合物とを含有する溶液を塗布後、酸化性雰囲気中で熱処理して、金属換算でイリジウム７５〜９５原子％およびタンタル５〜２５原子％を含有する酸化イリジウムと酸化タンタルとの層を形成して請求項１または２の電解用電極を得る電解用電極の製造方法。
【請求項７】導電性基体上に、まずタンタル化合物を含有する溶液を塗布後、酸化性雰囲気中で熱処理して、金属換算でタンタル０.２mg/cm2以上の酸化タンタルの下地層を形成し、次いで、この上に、イリジウム化合物とタンタル化合物とを含有する溶液を塗布後、酸化性雰囲気中で熱処理して、金属換算でイリジウム７５〜９５原子％およびタンタル５〜２５原子％を含有する酸化イリジウムと酸化タンタルからなる層を形成して請求項３〜５のいずれかの電解用電極を得る電解用電極の製造方法。」
　
IV．証拠の記載事実
甲第１号証
(1-1)「１　導電性基体上に、金属換算でイリジウム４０〜７９.９モル％及びタンタル６０〜２０.１モル％を含有する酸化イリジウム及び酸化タンタルから成る下地層を介して、金属換算でイリジウム８０〜９９.９モル％及びタンタル２０〜０.１モル％を含有する酸化イリジウム及び酸化タンタルから成る上地層を設けたことを特徴とする酸素発生用電極。・・・・
３　導電性基体上に、先ずイリジウム化合物とタンタル化合物とを含有する溶液を塗布したのち、酸化性雰囲気中で熱処理して、金属換算でイリジウム４０〜７９.９モル％及びタンタル６０〜２０.１モル％を含有する酸化イリジウム及び酸化タンタルから成る下地層を形成させ、次いで、この上にイリジウム化合物とタンタル化合物とを含有する溶液を塗布したのち、酸化性雰囲気中で熱処理して、金属換算でイリジウム８０〜９９.９モル％及びタンタル２０〜０.１モル％を含有する酸化イリジウム及び酸化タンタルから成る上地層を形成させることを特徴とする酸素発生用電極の製造方法。」（特許請求の範囲第１、３項）
(1-2)「本発明は、チタン基板上に酸化イリジウム被覆を有する電極において、中間に酸化チタンが生成するのを効果的に抑制し、酸素発生を伴う電解に用いた場合にも、長期間にわたって、なんの支障もなく使用することができ、しかも高電流密度での電解においても低い陽極電位を示す電極を提供することを目的としてなされたものである。」（第３頁左上欄第９〜１５行）
(1-3)下地層のイリジウムとタンタルの割合について、「この範囲内においては、酸化イリジウムの割合が少ない方が良好な結果が得られるが、酸化タンタルが多すぎると過電圧の増加を招き、十分な効果が発揮されない。」、及び、上地層の上記割合について、「この範囲内においては、酸化イリジウムの割合が多い方が良好な結果が得られるが、あまり多すぎると密着強度が低下し十分な効果が発揮されない。」（第３頁右下欄末行〜第４頁左上欄末行）
　
甲第２号証
(2-1)「硫酸酸性銅メッキ液に、トリイソプロパノール・アミンを２〜１０ppmとゼラチン０.０５〜０.２ppmを併用添加した電解液を用いることを特徴とする、高温加熱時の伸び率が優れた印刷回路用電解銅箔の製造方法。」（特許請求の範囲）
(2-2)「従来より、印刷回路基板用に使用する電解銅箔は、硫酸銅及び硫酸を主成分とする酸性銅メッキ液に、にかわ、ゼラチン、チオ尿素などの有機添加剤を添加し、印刷回路基板用としての使用目的に応じた硬さ、伸び率を与えることが行われてきた。」（第３欄第１１〜１６行）
(2-3)「本発明では・・・電流密度５〜６０A／ｄｍ２で電解を行うものである。」（第３欄第３３〜３７行）
　
甲第３号証
(3-1)「酸素発生用電極としてのＤＳＥ」について、「イリジウム−タンタル系の複合酸化物電極も、ＤＳＥの実用化を行っていたデノラ社によって１９７０年代前半に発表されている。」（第２０頁右欄〜第２１頁左欄「３．酸素発生用電極としてのＤＳＥ」の欄）
　
甲第４号証
(4-1)「導電性基体上に、イリジウム５０〜９０モル％及びタンタル５０〜１０モル％を含有する酸化イリジウムと酸化タンタルとから成る下地層を介して、イリジウム換算で０.０５〜３ｍｇ／ｃｍ２の割合の酸化イリジウム層を設けたことを特徴とする酸素発生用電極。（特許請求の範囲第１項）
(4-2)「実施例２」において、上地層が酸化イリジウム層である場合について、下地層のＩr／Ｔa組成比を変化させた実験及びその結果。当該実験結果を示した「第２表」には、Ｉr／Ｔa組成比（Ｉrモル％）が０である電極No.７の場合、即ち、下地層が酸化タンタルのみの場合は、電極寿命が２５０時間であって、甲第４号証に記載された発明の構成を具備する他の電極（No.９〜１１）に比較して、電極寿命が短いことが示されている。（第５頁左欄第４行〜右上欄下から７行）
　
Ｖ．対比・判断
　以下、特許異議申立人の主張する具体的な申立ての理由にしたがって、対比・判断する。
（１）本件発明１について
　本件発明１と甲第１号証に記載された発明とを対比すると、本件発明１は甲第１号証に記載された発明と、導電性基体上に、酸化イリジウムと酸化タンタルとの層が設けられており、金属電解液の電解を行うための電解用電極である点で一致している。
　しかしながら、
(a)本件発明１における酸化イリジウムと酸化タンタルとの層は、金属換算でイリジウム７５〜９５原子％およびタンタル５〜２５原子％を含有する酸化イリジウムと酸化タンタルとの単層構造であるのに対して、甲第１号証に記載された発明では、金属換算でイリジウム４０〜７９.９モル％及びタンタル６０〜２０.１モル％を含有する酸化イリジウム及び酸化タンタルから成る下地層を介して、金属換算でイリジウム８０〜９９.９モル％及びタンタル２０〜０.１モル％を含有する酸化イリジウム及び酸化タンタルから成る上地層を設けたものであって（摘記1-1）、組成の異なる下地層と上地層とから成る複層構造のものである点、及び、
(b)本件発明１における金属電解液は、にかわ成分またはチオ尿素化合物を含有した金属電解液であるのに対して、甲第１号証にはそのような成分を含有した金属電解液の記載が無い点で、本件発明１は甲第１号証に記載された発明と相違している。
　そこでこれらの相違点について検討する。
　甲第２号証には、硫酸酸性銅メッキ液にゼラチンを添加した電解液を用いた電解銅箔の製造方法（摘記2-1）、及び、従来より印刷回路基板用に使用する電解銅箔は、酸性銅メッキ液に、にかわ、ゼラチン、チオ尿素などの有機添加剤を添加することが行われてきたこと（摘記2-2）が記載され、また、甲第３号証には、イリジウム−タンタル系の複合酸化物電極が、酸素発生用電極として発表されたことが記載されている（摘記3-1）。
　しかし、甲第２、３号証のいずれにも、酸化イリジウムと酸化タンタルとの層が、金属換算でイリジウム７５〜９５原子％およびタンタル５〜２５原子％を含有する酸化イリジウムと酸化タンタルとの単層構造である被覆層を有した電極の記載はなく、また、そのような構造の電極を、にかわ成分またはチオ尿素化合物を含有した金属電解液の電解に適用することの記載もない。
　そして本件発明１は、上記の相違点(a)及び(b)を含む前記認定のとおりの構成を有することにより、にかわやチオ尿素を含有する電解液を用いた場合には、電極の耐久性が低下し、陽極電位が高くなり、被覆層が剥離し陽極が不動態化し、電極触媒層の消耗が激しかった等の従来技術の問題点（本件特許明細書【0005】〜【0010】参照。）、及び、酸化タンタルと酸化イリジウムからなる中間層を有する電極の場合には、中間層にイリジウムを用いるのでコスト高になり、中間層自体が活性であって、耐久性が悪く、また、電極寿命や酸素過電圧の経時劣化の点で満足する性能が得られなかった、という従来技術の問題点（本件特許明細書【0013】参照。）を改善し、にかわ成分やチオ尿素系化合物を含有する電解液を電解する場合に、異常消耗を起こさず、長寿命で耐久性に優れた電極（本件特許明細書【0016】参照。）が得られたものと認められる。
　したがって、本件発明１は、甲第１〜３号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明であるという、特許異議申立人の主張は採用できない。
　
（２）本件発明２について
　本件発明２は、金属電解液を銅を含有するものに特定して本件発明１をさらに限定したものであるので、本件発明１について上記（１）項に記載したと同様、本件発明２は、甲第１〜３号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明であるという、特許異議申立人の主張は採用できない。
　
（３）本件発明３について
　本件発明３は、本件発明１に対し、導電性基体と酸化イリジウムと酸化タンタルとの上地層との間に、金属換算でタンタル０.２mg/cm2以上の酸化タンタルの下地層を介する点を追加的構成要件として具備するものである。
　特許異議申立人は、甲第４号証を提示して、同号証に酸化タンタルからなる下地層の記載がある旨主張している。しかし、当該甲第４号証の記載において、特許異議申立人の引用した電極No.７は、同号証に記載の発明に対して、電極寿命が短く不適当な比較例として示されたものであって、しかも、その場合の上地層は、本件発明３とは相違する酸化イリジウムである（摘記4-2）。してみれば、このような電極寿命の短い下地層を、しかも組成の異なる上地層の電極に対して適用することの課題及び動機付けがあるとはいえず、したがって、前記甲第１〜３号証に記載された発明に、当該甲第４号証に記載されたものを併せみたところで、本件発明３は、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明であるという、特許異議申立人の主張は採用できない。
　
（４）本件発明４について
　本件発明４は、下地層の酸化タンタル担持量を特定して本件発明３をさらに限定したものであるので、本件発明３について上記（３）項に記載したと同様、本件発明４は、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明であるという、特許異議申立人の主張は採用できない。
　
（５）本件発明５について
　本件発明５は、金属電解液を銅を含有するものに特定して本件発明３又は４をさらに限定したものであるので、本件発明３及び４について上記（３）、（４）項に記載したと同様、本件発明５は、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明であるという、特許異議申立人の主張は採用できない。
　
（６）本件発明６について
　本件発明６は、特定の製造方法による本件発明１又は２の電解用電極の製造方法の発明であるところ、前記（１）及び（２）項に記載のとおり、それらの電解用電極に係る発明の容易性についての特許異議申立人の主張は採用できないので、上記（１）及び（２）項に記載したと同様、本件発明６は、甲第１〜３号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明であるという、特許異議申立人の主張は採用できない。
　
（７）本件発明７について
　本件発明７は、特定の製造方法による本件発明３〜５のいずれかの電解用電極の製造方法の発明であるところ、前記（３）〜（５）項に記載のとおり、それらの電解用電極に係る発明の容易性についての特許異議申立人の主張は採用できないので、上記（３）〜（５）項に記載したと同様、本件発明７は、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明であるという、特許異議申立人の主張は採用できない。
　なお、他に本件発明１〜７が、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明とする理由はみあたらない。
　
VI．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立人の主張する理由及び提示した証拠によっては、本件発明１〜７に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１〜７に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年１１月２２日（２０００．１１．２２）