【事件の表示】
　特許第２８５９４３５号「液処理装置」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２８５９４３５号の特許を維持する。
【理　由】
 　【１】　手続きの経緯
　特許出願　　　　　　平成２年１１月３０日
　特許権設定登録　　　平成１０年１２月４日
　特許異議の申立て　　平成１１年８月１３日
　取消理由通知　　　　平成１２年６月６日
　訂正請求　　　　　　平成１２年６月１３日
　【２】　特許異議申立人が掲げている特許異議の申立ての理由
　甲第１号証（特開昭６３−２９９２３３号公報）、甲第２号証（特開昭６２−２４４１３８号公報）及び甲第３号証（特開昭６０−２１６８０８号公報）を本件特許に係る出願の出願前に日本国内において頒布された刊行物として提出して、本件特許に係る発明は、これらに記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件特許は、特許法第２９条第項２項の規定に違反してなされたものである。
　【３】　取消理由
　前記取消理由で通知されたの理由は、一枚の被処理体に純水を供給して処理を行う液処理装置であることが、本件特許に係る発明の構成に欠くことができない事項の一部あるが、この点が特許請求の範囲に記載されていないから特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていないとするものである。
　【４】　訂正された明細書に係る発明
　前記訂正請求によって訂正された明細書に係る発明（以下、訂正発明という）は、その特許請求の範囲に記載された次のとおりのものと認める。
　「所定量の純水をノズルから被処理体に供給する純水供給系と、前記純水を供給した後前記ノズルを待機位置に退出させる移動機構とを備え、一枚の被処理体に純水を供給して液処理を行う液処理装置において、前記待機位置において前記ノズルから前記所定量より少量の前記純水を排出させる手段を備えたことを特徴とする液処理装置。」
　【５】　訂正請求の適否について
　１　訂正事項
　（１）　訂正事項１
　特許請求の範囲に「一枚の彼処理体に純水を供給して液処理を行う」を挿入し、請求項１を「所定量の純水をノズルから被処理体に供給する純水供給系と、前記純水を供給した後前記ノズルを待機位置に退出させる移動機構とを備え、一枚の被処理体に純水を供給して液処理を行う液処理装置において、前記待機位置において前記ノズルから前記所定量より少量の前記純水を排出させる手段を備えたことを特徴とする液処理装置。」と訂正する。
　（２）　訂正事項２
　願書に添付した明細書（平成１０年８月２４日付け手続補正書）の第２頁第１８行ないし同頁第２１行の「上記目的を達成するため、本発明の液処理装置は、所定量の純水をノズルから被処理体に供給する純水供給系と、前記純水を供給した後前記ノズルを待機位置に退出させる移動機構とを備えた液処理装置において、前記待機位置において前記ノズルから前記所定量より少量の前記純水を排出させる手段を備えたものである。」を、「上記目的を達成するため、本発明の液処理装置は、所定量の純水をノズルから被処理体に供給する純水供給系と、前記純水を供給した後前記ノズルを待機位置に退出させる移動機構とを備え、一枚の被処理体に純水を供給して液処理を行う液処理装置において、前記待機位置において前記ノズルから前記所定量より少量の前記純水を排出させる手段を備えたものである。」と訂正する。
　２　訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張、変更の存否
　（１）　訂正事項１による訂正について
　特許請求の範囲に「一枚の被処理体に純水を供給して処理を行う」と挿入する訂正であることからして、液処理装置を１枚ずつ被処理体を処理する枚葉処理をするものに限定したものである。
　したがって、この訂正事項は、特許請求の範囲のを減縮の目的とするものに該当する。
　（２）　訂正事項２による訂正について
　この訂正事項は、訂正事項１でした訂正に伴って生じる明細書の明りょうでない記載の釈明に該当する。
　また、訂正事項１及び訂正事項２による訂正の内容は、願書に添付した明細書の第５頁第９行ないし同頁第１１行の「第１図に示す現像装置１１は真空吸着等によってウエハ３を載置固定し、モータ１２の回転軸に固定される上面円板状のチャック４を備える。」という記載及び第１図の記載に基づくものであって、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内のものである。
　そして、訂正事項１及び訂正事項２による訂正は、明らかに新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　３　　独立特許要件の判断  
　訂正発明について、特許異議申立人が掲げている特許異議の申立ての理由に対して独立特許要件を検討する。
　甲第１号証刊行物には、異議申立人が主張するごとく、第１頁左欄第１５行ないし同頁同欄第１７行に、「本発明は、半導体、フォトマスクの現像、エッチング、洗浄等に用いて好適な処理装置に関するものである。」と記載されている。
　しかし、甲第１号証刊行物には、前記の記載に併せて次の記載がある。
　（１）　第１頁右下欄第１６行ないし第２頁右上欄第２行の記載
　「従来のスプレイプロセス装置１においては、……ノズル８から噴出された霧状の処理液および反応生成物がノズル８に付着すると、次の処理の際、その付着物がノズル８から噴出された処理液内に混入して処理に悪影響を及ぼすという欠点があった。……ノズル先端に付着した処理液が固形化してノズル８に堆積し、同時に前記した反応生成物等もノズル８に堆積するためである。……処理液が配管７内に長く滞在すると、配管内処理液のｐＨ値が変化して塩を形成する現象が起こり、　……このような問題を回避するためには……処理液出し（処理液ランニング）を行う必要があった。しかし、処理液出しは処理液２を処理室６に無駄に廃棄するため、処理液２が高価なもの（例：現像液）のときは、不経済で、生産コストを著しく高めるという欠点を有している。」
　（２）　第３頁左下欄第１５行ないし同頁同欄第１８行の記載
　「さらに、上記実施例ではノズル洗浄槽２６を設けた例を示したが、省略してもよく、定期的もしくは不定期にノズル８をスイングアーム２１から取り外して、洗浄液にて洗浄するようにしてもよい。」
　（３）　第３頁右下欄第8行ないし第１１行の記載
　「処理液の停滞がないため配管、吐出手段等の内部での処理液の乾燥、ｐＨ値の変化、塩等の析出、付着等を効果的に防止でき、」
　そして、前記（１）の従来例に係る記載であるところの「処理液出しは処理液２を処理室６に無駄に廃棄するため、処理液２が高価なもの（例：現像液）のときは、不経済で、生産コストを著しく高めるという欠点を有している」という記載を前提として、甲第１号証刊行物全体を見ると、処理液回収部を必須とするものが甲第１号証刊行物
に記載されている。
　しかし、処理液として純水を使用する場合には、回収して再処理したものを再度処理液として使用できるものとするには、新しい純水を使用するより、かえって処理費用を必要とし不経済であることが技術常識である。
　したがって、前記した技術は処理液として純水を使用するものではないとすることができる。
　また、甲第１号証刊行物には洗浄等に用いる処理装置であるという記載もあるが、いわゆる洗浄装置に使用される洗浄液には、被洗浄物によって種々の洗浄液が使用されており、必ずしも純水が使用されるものでもない。
　したがって、甲第１号証刊行物の異議申立人が主張する箇所に記載された「洗浄」は、純水を洗浄液として使用する洗浄を含まないものと認められる。
　以上のことからして、甲第１号証刊行物には、純水を処理液とする液処理装置は記載されていない。
　したがって、甲第１号証刊行物には、次の発明が記載されているにすぎない。
　所定量の純水ではない処理液をノズルから被処理体に供給する処理液供給系と、前記処理液を供給した後前記ノズルを待機位置に退出させる移動機構とを備え、一枚の被処理体に処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、前記待機位置において前記ノズルから処理液を排出させる手段を備えた液処理装置。
　また、甲第２号証刊行物及び甲第３号証刊行物には、次の発明が記載されている。
　待機中においても少量の純水を流出し続ける液処理装置。        
　そこで、訂正発明と甲第１号証刊行物に記載された発明とを比較すると、両者は、所定量の処理液をノズルから被処理体に供給する処理液供給系と、前記処理液を供給した後前記ノズルを待機位置に退出させる移動機構とを備え、一枚の被処理体に処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、前記待機位置において前記ノズルから処理液を排出させる手段を備えた液処理装置として一致し、次の点において相違する。
　相違点：訂正発明が、処理液を純水とし、待機位置にて排出する純水を所定量より少量としたのに対して、甲第１号証刊行物に記載された発明が、処理液を純水とはせず、待機位置にて排出する処理液の量を所定量より少量とはしていない点。
　そこで、前記相違点について検討する。
　処理液として純水を使用することが示唆されていない甲第１号証刊行物に記載された発明に純水を使用する甲第２号証刊行物又は甲第３号証刊行物に記載された発明を適用することは、当業者が容易に想到することができたものとすることができない。
　よって、訂正発明は、甲第１号証刊行物ないし甲第３号証刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　なお、前記訂正によって前記取消理由において指摘した点は解消している。
　また、他に訂正発明を特許出願の際、独立して特許を受けることができない発明とすべき理由を発見しない。
　４　むすび
　以上のとおりであるから、前記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する同法第１２６条第２項ないし同条第４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　【６】　特許異議申立人よりの特許異議の申立てについての判断
　本件特許に係る発明は、訂正された明細書の特許請求の範囲に記載されたとおりのものであって、前記【４】において認定したとおりのものである。
　そして、本件特許に係る発明は、前記【５】３において示したように、甲第１号証刊行物ないし甲第３号証刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　したがって、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、本件特許特許を取り消すことができない。
  また、他に本件特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年６月２１日（２０００．６．２１）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　【１】　訂正事項
１　訂正事項１
　特許請求の範囲の請求項１を次のとおり訂正する。
　「所定量の純水をノズルから被処理体に供給する純水供給系と、前記純水を供給した後前記ノズルを待機位置に退出させる移動機構とを備え、一枚の被処理体に純水を供給して液処理を行う液処理装置において、前記待機位置において前記ノズルから前記所定量より少量の前記純水を排出させる手段を備えたことを特徴とする液処理装置。」
２　訂正事項２
　願書に添付した明細書（平成１０年８月２４日付け手続補正書）の第２頁第１８行ないし同頁第２１行の「上記目的を達成するため、本発明の液処理装置は、所定量の純水をノズルから被処理体に供給する純水供給系と、前記純水を供給した後前記ノズルを待機位置に退出させる移動機構とを備えた液処理装置において、前記待機位置において前記ノズルから前記所定量より少量の前記純水を排出させる手段を備えたものである。」を「上記目的を達成するため、本発明の液処理装置は、所定量の純水をノズルから被処理体に供給する純水供給系と、前記純水を供給した後前記ノズルを待機位置に退出させる移動機構とを備え、一枚の被処理体に純水を供給して液処理を行う液処理装置において、前記待機位置において前記所定量より少量の純水を前記ノズルから排出させる手段を具備するものである。」と訂正する。
　【２】　訂正の目的
１　訂正事項１による訂正について
特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
２　訂正事項２による訂正について
明細書の明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。
（５４）【発明の名称】
液処理装置
（５７）【特許請求の範囲】
　（請求項１）所定量の純水をノズルから被処理体に供給する純水供給系と、前記純水を供給した後前記ノズルを待機位置に退出させる移動機構とを備え
、一枚の被処理体に純水を供給して液処理を行う
【発明の詳細な説明】
　［産業上の利用分野］
　本発明は、純水で処理を行う液処理装置に関する。
　［従来の技術］
　従来から半導体製造医薬品工業などの分野において、製品の精度を高めるために微粒子、有機物、生菌等の少ない超純水を供給する超純水製造システムが利用されるようになっている。超純水製造システムはそれ自体高価な設備であるため、超純水システムの稼動に際して、できるだけ効率よく純度の高い超純水が得られるようにすることが重要となっている。水中の塩類やコロイド物質の除去については凝集沈殿、濾過、活性炭吸着、逆浸透膜、イオン交換、精密濾過などの技術によりほぼ満足のいく除去が行われている。
　一方、水中に存在する一般のバクテリアもパーティクルの原因となるため、バクテリアの除去についてマイクロフィルタや逆浸透膜装置で濾過を行っている。超純水製造システムを用いた半導体製造の現像装置は、第４図に示すように現像液を供給する現像液供給系１に接続された現像液ノズル２から、高速回転するチャック４上に真空ポンプ等により吸着して保持されたウェハ３に現像液を滴下させる。ウェハ３の周縁から飛散される現像液が周囲に飛散しないようカップ５が設けられる。現像液供給後、超純水供給系６から供給される超純水を超純水ノズル７から供給する。カップ５の下方には排液処理装置８に接続される排水口９が設けられる。現像ノズル２及び超純水ノズル７は作動されない時はウェハ３上から退避するようそれぞれスキャナ１０に取付けられる。
　［発明が解決しようとする課題］
　しかしながら、このような超純水システムでは特に超純水システムを長時間停止させたり、超純水が滞留する場合は、配管の継手、弁などの部分から配管内にバクテリアが侵入し増殖してしまった。さらに半導体製造の現像工程で現像液の洗浄に使用される超純水は加熱されて温純水として供給されているため、配管が短くなっており細菌の増殖が促進されてしまった。
　そのため、超純水を長時間停止させる場合、超純水ノズル７をウェハ３上から退避させ、超純水ノズル７から常時純水を流した状態にして対策していた。つまり、常に超純水の製造システムを稼動させ、また超純水の加熱装置も作動させていたため、非常なロスになり、製品のコストも高いものになってしまった。
　あるいは超純水製造を停止させる場合には、配管に定期的にバクテリアの死滅する温度に加熱した超純水を流していた。これらの装置は機構的に複雑であって、稼動するのにも費用がかかってしまった。
　本発明は上記の欠点を解消するためになされたものであって、純水システムの停止時であっても細菌の発生を防止して、純水の純度の低下をなくし、しかも簡単な装置で製品のコストを低減できる液処理装置を提供することを目的とする。
　［課題を解決するための手段］
　上記の目的を達成するため、本発明の液処理装置は、所定量の純水をノズルから被処理体に供給する純水供給系と、前記純水を供給した後前記ノズルを待機位置に退出させる移動機構とを備え
、一枚の被処理体に純水を供給して被処理を行う
　【作用】
　純水供給系から被供給体への純水の供給停止時においても、流量を少量に設定したノズルから常時純水を吐出させる。そのため、純水の供給の停止時においても純水が滞留することがないため、バクテリアが増殖することなく、純度の高い純水を得ることができる。
　【実施例】
　本発明の液処理装置を適用した一実施例の半導体製造の現像装置を図面を参照して説明する。
　第１図に示す現像装置１１は真空吸着等によってウェハ３を載置固定し、モータ１２の回転軸に固定される上面円板状のチャック４を備える。チャック４の上方には現像液ノズル２が図示しない水平移動機構に接続されて設けられ、チャック４の上方からウェハ３の外側位置に退避できるようになっている。現像液ノズル２はサックバックバルブ２６、ベローズポンプ２５、現像液の温利用ウォータジャケット２７、バルブ２２を介して脱気装置２３に接続されるフィルタ２４，流量計２１及びバルブ２８（弁機構）等を備える現像液供給系１に接続される。チャック４の周囲には現像液塗布時に回転するウェハ３の周縁から余剰の現像液が周囲に飛散しないようにカップ５が設けられる。カップ５は上下動可能であって、ウェハ３の搬入出時に図示の位置より下降してチャック４が露出し、搬入出を容易にする。さらに、カップ５の下部には排液処理装置８に接続された排水口９及び回転するウェハ３の周縁から飛散した現像液がカップ５にはね返って再びウェハ３上に付着しないようカップ５の下部に向かって気体流を生じさせるため、排気装置１３に接続される排気口１４を備える。
　このような現像装置１１のチャック４の上方には純水供給系である純水製造装置１６が接続され、移動機構であるスキャナ等の水平移動機構１５に接続されるノズルである超純水ノズル１７及び１８が備えられる。超純水ノズル１７及び１８は、第２図に示すような流量調節機構を有する空気制御弁１９及び通常の空気制御弁２０を一体化した弁機構３０にそれぞれい接続される。そして、弁機構３０は第３図に示すようにフィルタ３１、流量計３２、圧力調整器３３を介して配管３４によって純水製造装置１６に接続される。さらに、純水製造装置１６には同様にフィルタ３１、流量計３２、圧力調整器３３を介して裏面洗浄ノズル３５に接続される裏面清浄系３６が接続される。配管３４には超純水加熱装置３７が備えられ、適宜超純水の加熱が行われるようになっている。
　このような現像装置の動作を説明する。
　超純水ノズル１７の流量調整機構は空気弁１９の流量を少量に例えば０．１１／分に調整する。水平移動機構１５によりホームポジションに配置される超純水ノズル１７及び１８のうち流量調整機構付空気弁１９を備えた超純水ノズル１７から流量を少量に調整して超純水を排出口９に吐出させておく。カップ５を図の位置より下降させ、チャック４上にウェハを図示しない搬送装置により載置させる。カップ５が図の位置に上昇されると、現像ノズル２がスキャナ１５によりウェハ３の中心部上方まで移動され、フィルタ２４を介してウォータージャケット２７により所望の温度に加熱された現像液がベローズポンプ２５により一定量ウェハ３の中心部に滴下される。そして現像液ノズル２がスキャナ１５によりポジションに移動されるとモータ１２の回転によりウェハ３が高速回転され、現像液がウェハ３の全面に塗布される。その後、流量調整機構付空気制御弁１９を閉成し、超純水の吐出を一旦停止させる。そして水平移動機構１５を作用させて超純水ノズル１７及び１８をウェハ３の中心部上方に移動させる。そして、空気制御弁１９及び２０を開成し、超純水を純水供給系１６から圧力調整器３３、流量計３２、フィルタ３１を介してウェハ３上に吐出させ、ウェハ３上の現像液の洗浄を行う。この時、超純水ノズル１７からは常時少量の超純水を吐出していたため超純水は加熱装置３７により適温の超純水が吐出される。現像液洗浄終了後、超純水ノズル１７及び１８をホームポジションまで移動させる間空気制御弁１９及び２０を閉成して超純水の吐出を停止させる。超純水ノズル１７及び１８がホームポジションに位置されると空気制御弁１９を開成し、超純水ノズルから洗浄時より少量の超純水を吐出させる。この時の超純水の吐出量は０．０５１／分以上が望ましく、０．１〜０．５１／分で完全にバクテリアの発生はなく０．０５〜０．５１／分が望ましい。このようにすることで超純水ノズルの移動時のみ超純水の吐出を停止させ、常時は少量の超純水の吐出を行うため、配管３４に超純水が滞留することなく、従ってバクテリアの発生を防止することができる。常時流すことにより、加熱装置により適温の超純水が供給されるので、実際に使用する時の温度安定性がよくなる。
　本発明は上記の実施例に限定されるものでなく、超純水ノズルを１本にして流量調整機構付弁機構を設け、随時流量調整できるようにしてもよいことは言うまでもないことである。
　［発明の効果］
　上記の説明からも明らかなように、本発明の液処理装置によれば、流量調整機構付の弁を設けたノズルから常時少量の純水を吐出するようにし、純水が滞留しないためバクテリアの発生を防止できる。常時流す純水は少量であって特別の装置も不用であり、コスト面でも経済的である。また、加熱装置により純水は適温に加熱されているため、作動開始後でも即対応でき時間的にもロスがない。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の液処理装置の一実施例を示す構成図、第２図及び第３図は第１図に示す一実施例の要部を示す図、第４図は従来例を示す図である。
１……現像液供給系（被供給体）
６……純水製造装置（純水供給体）
１５……水平移動機構（移動機構）
１７，１８……超純水ノズル（ノズル）
３８……超純水（純水）