【事件の表示】
　特許第３０３８８０５号「熱線反射フイルム」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０３８８０５号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
［１］手続の経緯
　本件特許第３０３８８０５の手続の経緯は、次のとおりである。
　特許出願　　　　平成　２年　６月　８日
　設定登録　　　　平成１２年　３月　３日
　公報発行　　　　平成１２年　５月　８日
　特許異議申立　　平成１２年１１月　６日
　取消理由通知　　平成１３年　１月１１日
　訂正請求　　　　平成１３年　３月２６日
　特許異議意見書　平成１３年　３月２６日
　取消理由通知　　平成１３年　５月　９日
　訂正請求取下　　平成１３年　５月１６日
　訂正請求　　　　平成１３年　５月１６日
［２］訂正の適否についての判断
　ア．訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は、以下のとおりである。
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１における「高分子フイルム上に設けられた酸化インジウム一酸化スズ系薄膜を主たる構成とする熱線反射フィルム」を、「高分子フイルムの直上に酸化インジウム−酸化スズ系を主たる構成とする薄膜を設け、次いで前記薄膜にレーザーを照射して得た熱線反射フイルム」と訂正する。
訂正事項ｂ
　明細書第４頁第１４〜１６行に記載の「高分子フイルム上に設けられた酸化インジウム一酸化スズ系薄膜を主たる構成とする熱線反射フィルム」を、「高分子フイルムの直上に酸化インジウム−酸化スズ系を主たる構成とする薄膜を設け、次いで前記薄膜にレーザーを照射して得た熱線反射フイルム」と訂正する。
訂正事項ｃ
　明細書第３頁第４行、同第５頁第１０〜１１行、同第７頁第８〜９行、同第９頁第５〜６行に記載の「Ω／ロ」を「Ω／口」に訂正する。
訂正事項ｄ
　明細書第９頁第３行、同頁第１９行に記載の「Ａ」を「Å」と訂正する。
　イ．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否　
　上記訂正事項ａは、明細書第７頁第１３〜１６行及び同第８頁第１１〜１６行の記載に基づく限定を加えて明確化したものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、かつ新規事項を追加するものでも実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
　上記訂正事項ｂは、上記訂正事項ａに整合させて、発明の詳細な説明の記載を訂正するものにすぎないから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものであって、且つ上記訂正事項ａの場合と同様に新規事項を追加するものでも実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。　
　上記訂正事項ｃ及びｄは、誤記の訂正を目的とするものであり、かつ新規事項を追加するものでも実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
　ウ．訂正の適否についての結論
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び第３項で準用する第１２６条第２−３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
［３］特許異議申立についての判断
　ア．特許異議申立理由の概要
　特許異議申立人江波戸昌美は、甲第１号証〜甲第４号証（以下、「甲１」〜「甲４」という）を挙示し、本件発明は、甲１、甲２に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定により、かつ甲１〜甲４から当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものであって、特許を取り消すべきと主張している。
　イ．本件発明
　訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に係わる発明（以下、「本件発明」という）は、訂正明細書の請求項１に記載された次のとおりのものである。
　「［請求項１］（Ａ）高分子フイルムの直上に酸化インジウム−酸化スズ系を主たる構成とする薄膜を設け、
（Ｂ）次いで前記薄膜にレーザーを照射して得た熱線反射フイルムであって、
（Ｃ）該熱線反射フイルムの可視光透過率が８０％以上かつ波長１５００ｎｍ〜２５００ｎｍにおける反射率が３０％以上である
（Ｄ）ことを特徴とする熱線反射フイルム。」
（上記の記号Ａ〜Ｄは、便宜上付与したものである。）
　ウ．各甲号証に記載の事項
　当審が通知した取消理由で引用した刊行物１〜４に該当する甲１〜４における甲１：特開平１−２９９０２８号公報には、熱線反射膜について記載され、
（１−１）「透明基体上に、銀とアルミニウムとからなる金属層を形成し、金属層上に透明な反射防止層を形成してなり、・・・特徴とする熱線反射膜。」（特許請求の範囲１）、
（１−２）「太陽光線中に含まれる熱線を効率よく反射し、かつ可視光線の透過率が良好であり、しかも耐久性に優れた熱線反射膜に関する・・」（第１頁左欄１３〜１５行）、
（１−３）「透明基体としては・・プラスチック板、プラスチックフィルム等の透明基体があげられる。」（第２頁左上欄１４〜１６行）、
（１−４）「反射防止層は、・・・酸化インジウムと酸化スズの混合物（以下ＩＴＯという）等が挙げられるが、透明性の点からＩＴＯが好ましい。」（第２頁左下欄６〜１１行）といった記載があり、
（１−５）実施例１では、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、ＩＴＯ層を形成し、その上に銀とアルミニウムとからなる金属層を形成し、該金属層上にＩＴＯ層を形成している。（第３頁左上欄）
　そして、実施例１の熱線反射フィルムは、透過率が５５０ｎｍで８２％、１５００ｎｍで１２％であることが、第１表に記載されている。（第４頁左上欄の第１表）
　甲２：特開昭６２−１６９１９３号公報には、液晶表示装置について記載され、
（２−１）「可視光線を透過し赤外線を反射する放射抑制手段を備えた・・液晶表示装置。」（請求項１）、
（２−２）「・・放射抑制手段であるキャップ（７）の内面に被着した酸化錫インジウム薄膜により、赤外線は殆んど反射され、可視光線は殆んど透過されることになる（第２図参照）。」（第２頁右下欄１１〜１６行）といった記載があり、
（２−３）上記の第２図には、可視光線領域の透過率が８０〜９０％であり、１．５〜２．３ミクロンの赤外線領域では透過率がほぼ０％であることが示されている。（第４頁、第２図参照）
（２−４）「酸化錫インジウム薄膜（８）を被着するキャップ（７）は・・・ポリエステルシートに酸化錫インジウム薄膜をイオン・プレーテイング法で蒸着したものを所定の大きさに裁断し、これを筒状のキャップ（７）の頂部（７１）に当接する・・」（第３頁右上欄５〜１７行）ことが図示（第４〜６図を参照）されるとともに、説明されている。
　甲３：特開昭５５−５３５６２号公報には、積層体について記載され、
（３−１）「フィルム又はシート（Ａ）、透明熱線反射層（Ｂ）及び保護層（Ｃ）が順次積層され・・ている・・積層体。」（特許請求の範囲１）、
（３−２）「積層体を構成する透明フィルム又はシート（Ａ）とは、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、・・・が例示される。」（第１頁右欄１６行〜第２頁左上欄３行）、
（３−３）「透明熱線反射層（Ｂ）は、可視光に於ては透明で、且つ赤外光（熱線）を反射する選択光透過層であり、例えば、（１）酸化インジウム，酸化スズ，…等の化合物半導体膜，又は（２）金，銀，銅，…等の金属薄膜と…酸化錫又は酸化インジウム等の透明高屈折率物質の薄膜との積層体が挙げられる。」（第２頁左上欄１６〜同右上欄３行）といった記載があり、
（３−４）実施例１には、ポリエチレンテレフタレートフィルム（Ａ）上に、酸化チタン薄膜層（Ｂ１層）、銀及び銅の合金よりなる薄膜層（Ｂ２層）、更にその上に酸化チタン薄膜層（Ｂ３層）を順次設けて、選択透過性の積層体を得ており、得られたフィルムの可視光透過率（０．５μ）が８２％であり、４μ，６μ，１１μの赤外反射率がそれぞれ９８％，９７％及び９６％であることが記載されている。（第４頁右上欄５行〜左下欄６行）
　甲４：特開平２−６６１５８号公報には、透明積層体の製造方法について記載されていて、
（４−１）「透明基板上に、銀を主成分とする金属層を形成し、金属層上に透明な金属酸化物層を形成してなる透明積層体・・・の製造方法。」（特許請求の範囲１）、
（４−２）「透明熱線カツト膜・・等として好適な透明積層体の製造方法に関するものである。」（第１頁左欄１４〜１６行）、
（４−３）「透明基体としては・・・プラスチック板、プラスチックフィルムのような透明基体が挙げられる。」（第２頁左上欄９〜１１行）、
（４−４）「透明な金属酸化物としては、インジウム，錫，インジウム−錫混合物・・・等の透明な金属酸化物が挙げられる。」（第２頁左上欄１８行〜同右上欄４行）といった記載があり、
（４−５）実施例１として、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にイオンプレーテイング装置を用いてＩＴＯ膜を形成し、銀膜、さらにＩＴＯ膜を形成して透明積層体を得ている。（第３頁左上欄〜石上欄）また、実施例４として、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にイオンプレーテイング装置を用いて酸化チタン膜を形成し、銀膜、さらに酸化チタン膜を形成して透明積層体を得ている。（第３頁右下欄末行〜第４頁左上欄末行）そして、第１表に実施例１の積層体の透過率が、５５０ｎｍの可視光で７６％、１５００ｎｍで９％であり、又、実施例４の積層体は５５０ｎｍで８１％、１５００ｎｍで１０％であることが記載されている。（第５頁左上欄第１表）
　エ．対比・判断
　本件発明と甲１〜甲４に記載された発明とを対比すると、　
　本件発明は、高分子フイルムの直上に酸化インジウム−酸化スズ系薄膜を設けた熱線反射フイルムにおいて、可視光透過率が８０％以上かつ波長１５００ｎｍ〜２５００ｎｍにおける反射率が３０％以上であるような熱線反射フイルムの提供を目的として、上記Ａ〜Ｄに係る構成を有するものである。
　ところで、上記（１−１）〜（１−２）、（１−５）の記載から明らかなように、甲１には５５０ｎｍの可視光透過率が８２％、１５００ｎｍの透過率が１２％（反射率、透過率、吸収率の和は１００％であり、透過率が１２％であれば、反射率は３０％以上であると判断できる。）である熱線反射膜（＝熱線反射フイルム）が記載されているところから、本件発明における可視光透過率が８０％以上、１５００ｎｍ〜２５００ｎｍの反射率は３０％以上であるような熱線反射フイルム（＝本件発明の上記構成Ｃ、Ｄに相当する）が記載されていると認められるが、甲１の上記（１−１）、（１−３）〜（１−４）の記載から明らかなように、甲１の熱線反射膜は、ポリエチレンテレフタレートフィルム（＝高分子フイルム）上に銀とアルミニウムとからなる金属層を介してＩＴＯといった透明な反射防止層を設けたものであり、しかも該薄膜には何の処理も施していないものであるから、熱線反射膜の構造、レーザー処理の有無の各々において本件発明と相違しているため、結局、本件発明を特定する上記構成Ａ、Ｂについては、甲１に記載も示唆もするところがない。
　また、甲２には、上記（２−１）〜（２−４）を含む全記載から明らかなように、ポリエステルシート（＝高分子フイルム）に酸化錫インジウム薄膜をイオン・プレーテイング法で蒸着した可視光透過率が８０〜９０％、１．５〜２．３ミクロン（＝１５００ｎｍ〜２３００ｎｍ）の赤外線領域では透過率がほぼ０％（反射率、透過率、吸収率の和は１００％であり、透過率が略０％であれば、反射率は３０％以上であると判断できる。）であるような放射抑制手段、即ち高分子フイルムの直上に酸化インジウム−酸化スズ系薄膜を設けた熱線反射フイルムであって、可視光透過率が８０％以上かつ波長１５００ｎｍ〜２５００ｎｍにおける反射率が３０％以上であるような熱線反射フイルム（＝本件発明の上記構成Ａ、Ｃ、Ｄに相当する）が記載されていると認められるが、甲２のイオン・プレーテイング法で得られた放射抑制手段（＝熱線反射フイルム）には、レーザー処理が施されていないので、本件発明を特定する上記構成Ｂについては、甲２に記載も示唆もするところがない。
　したがって、甲１、甲２には本件発明と同一の発明が記載されていると認めることはできない。
　次に、本件発明が甲１〜甲４から、容易に想到しえたか否かについて検討する。
　甲１〜甲２には、上記したとおり本件発明を特定する上記構成Ｂについては、記載も示唆もするところがないから、この点が甲３〜甲４から容易に想到しえたか否かについてみてみると、甲３〜甲４の上記（３−４）や（４−５）の記載から明らかなように、本件発明におけるような光透過特性を持つ熱線反射フイルム（＝本件発明の上記構成Ｃ、Ｄに相当する）が記載されていることは認められるとしても、甲３〜甲４の上記記載を含む全記載をみても、甲３〜甲４で得られた積層体フイルムはいずれも金属薄膜層を有する構造となっていて、本件発明におけるような高分子フイルムの直上にＩＴＯ膜を設けただけの構造とはなっていないし、さらに、得られたＩＴＯ膜にレーザーを照射する点については、記載も示唆もないから、結局、甲３〜甲４には、本件発明を特定する上記構成Ａ、Ｂについては、記載も示唆もするところがない。
　そうすると、甲１〜甲４を合わせ考慮したとしても、甲１〜甲４の記載からは本件発明を特定する上記構成Ａ、Ｃ、Ｄが想到しうるにすぎず、本件発明の上記構成Ｂについては、依然として記載も示唆もない以上、本件発明が、甲１〜甲４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたとすることはできない。
　そして、本件発明では、上記構成Ｂを有することにより、基板温度を殆ど上げずに、ＩＴＯ膜の温度だけをあげて、ガラス等の耐熱性基板上と同等以上の熱線反射特性を持つ高分子フイルム上のＩＴＯ系導電膜によって、フイルムの軽さ、可撓性といったガラス、セラミクスよりも優れた性質が生かされ、熱線反射フイルムの応用範囲が大幅に広げられるという顕著な効果を奏するものである。
　さらに、その後、当審が通知した取消理由で指摘した明細書の記載不備についても、上記訂正により解消している。
　オ．むすび
　以上のとおりであるから、本件特許異議の申立の理由及び証拠方法によっては、本件請求項１に係わる特許を取り消すことはできない。　
　また、他に本件請求項１の発明に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。　
　よって、結論のとおり決定する。　　
【異議決定日】
平成１３年５月２９日（２００１．５．２９）
【訂正の要旨】
　（３）訂正の要旨
　（ａ）訂正事項１
　特許請求の範囲の減縮を目的として、明細書第１頁第６〜８行（特許第３０３８８０５号公報第１頁の特許請求の範囲請求項１第１〜３行）に記載の「高分子フイルム上に設けられた酸化インジウム−酸化スズ系薄膜を主たる構成とする熱線反射フイルム」を「高分子フイルム
の直上に酸化インジウム−酸化スズ系を主たる構成とする薄膜を設け、次いで前記薄膜にレーザーを照射して得た
　（ｂ）訂正事項２
　明りょうでない記載の釈明を目的に、明細書第４頁第１４〜１６行（特許第３０３８８０５号公報第２頁左欄第３３〜３５行）に記載の「高分子フイルム上に設けられた酸化インジウム−酸化スズ系薄膜を主たる構成とする熱線反射フイルム」を「高分子フイルム
の直上に酸化インジウム−酸化スズ系を主たる構成とする薄膜を設け、次いで前記薄膜にレーザーを照射して得た
　（ｃ）訂正事項３
　誤記の訂正を目的として、明細書第３頁第４行、第５頁第第１０〜１１行、第７頁第８〜９行、第９頁第５〜６行（特許第３０３８８０５号公報第２頁左欄第６行、同欄第４７行、同頁右欄３１行、第３頁左欄第１３〜１４行）に記載の「Ω／ロ」を「Ω／□」に訂正する。
　（ｄ）訂正事項４
　誤記の訂正を目的として、明細書第９頁第３行、同頁第１９行（特許第３０３８８０５号公報第３頁左欄第１１行及び１２行、同欄第２５行）に記載の「Ａ」を「Å」に訂正する。
（５４）【発明の名称】
熱線反射フイルム
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　高分子フイルム
の直上に酸化インジウム−酸化スズ系を主たる構成とする薄膜を設け、次いで前記薄膜にレーザーを照射して得た
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
　本発明は、透明かつ赤外反射率の高い高分子フイルムの酸化インジウム酸化スズ系熱線反射膜（熱線反射フイルム）に関するものである。
（従来の技術）
　ガラス或は、プラスチック基材、高分子フイルム上に透明かつ低抵抗な酸化インジウム一酸化スズ（以下ＩＴＯと呼ぶ）を付着させた透明導電膜は、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイといったフラットディスプレイや、太陽電池等の透明電極、ブラウン管の窓の透明静電、或は、電磁シールド板、発熱体等の電気、電子分野の用途に広く利用されている。又は、このようなＩＴＯ系透明導電膜の中で、選択透過性を有するものは、可視光に対して透明であるが、赤外光に対しては反射能を有している。従って、透明熱線反射膜として有用であり、太陽エネルギー集熱器（温水器）、太陽熱発電、グリーンハウス、建築物の窓等に使用される。特に、現在建築においては窓の占める割合が大きく、この窓からの太陽エネルギーの利用、或は、エネルギー放出を防ぐ透明断熱窓としての機能は今後ますます重要性を増すと思われる。更に、野菜、果物等の栽培用いられるグリーンハウス用フイルムとしても重要性が大きい。
　このようなＩＴＯ系透明導電膜は、真空蒸着法、スパッター法、ＣＶＤ法、スプレー法等により作成できることが知られており、材料組成としては酸化インジウムに対しドーパント材料として、通常、酸化すず（ＳｎＯ２）が、０．１〜３０ｗｔ％程度含まれている。このＩＴＯ膜は、適正な作成条件とすることで、表面抵抗数Ω／
□
〜数ＭΩ／
□
（発明が解決しようとする課題）
　しかし、熱線反射特性をもつには、導電性を一段と良くする必要がある。このような材料を得ることは、どの作製法であっても、作製条件の細かいコントロールが必要である。しかしながら、厳密にコントロールした場合でも、通常の温度で成膜すると、充分に高い導電性が得られず、このままでは赤外域での反射特性もえられないのが現状である。そのため、作製時に温度を上げるか、後工程で、熱処理を施す必要がある。この際の温度特性としては、２５０℃以上好ましくは、４００℃以上が必要であり、このような熱処理によって３．０×１０−４Ωｃｍよりも良好な導電特性と赤外域での反射特性を得ることができる。しかしながら、このような方法では、下地基板の温度も上昇させてしまうためガラス、セラミクスといった耐熱性の基板を用いる場合には、有効であるが、ＰＥＴ等のプラスチック基材、高分子フイルムといった材料には適用できない。このため、高分子フイルム上の透明導電膜では、耐熱性基板上で得られる赤外反射特性がほとんど得られず、実用的な高分子フイルム上のＩＴＯ系透明熱線反射膜は、存在しないのが実情である。
　このようなことからも、ガラス等の耐熱性基板上と同等以上の特性を持つ高分子フイルム上のＩＴＯ系熱線反射膜が望まれていた。
（課題を解決するための手段）
　すなわち、本発明は、高分子フイルム
の直上に酸化インジウム−酸化スズ系を主たる構成とする薄膜を設け、次いで前記薄膜にレーザーを照射して得た
　ＩＴＯ系透明導電膜の作成法としては真空蒸着、スパッター、ＣＶＤ、スプレー法等が知られているが、本発明では、その作成法を限定するものではない。また、材料組成としては、酸化インジウムに対し、ドーパント材として酸化スズを０．１〜３０ｗｔ％程度含む。好ましくは、３〜２０ｗｔ％程度であり、また、Ａｌ，Ｓｉ，Ｗ，Ｍｏ等の第３元素の添加を行ってもよい。ＩＴＯ系酸化物膜は、適当な作成、或いは、熱処理条件とすることで実用可能な特性（表面抵抗数Ω／
□
□
　本発明における可視光透過率とは、（ＪＩＳ　Ｒ３１０６）に規定されているように、昼光の光束について透過光束の入射光束に対する比のことをいう。測定では、分光測定器を用い、可視光波長域の分光透過率を測定し、標準光（ＣＩＥ　Ｄ６５）に対し、比視光透過率を求める。
　反射率とは、反射光の光束と入射光の光束の比のことを言い、分光測定器を用い、波長２２００ｎｍにおける分光反射率を測定したものである。
　本発明の高分子フイルムとしては、可撓性を有し、かつ透明であれば特に限定されることはなく、種々の材料のものが利用できる。高分子フイルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナレフタレート等のポリエステル類、ビスフェノールＡ系ポリカーボネイト類のようなポリカーボネイト類、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン類のセルローストイアセテート、セルロースジアセテート等のセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類のフイルムをあげることができる。これらのフイルム厚さは、普通約３〜３００μｍ程度であり、好ましくは、１５〜１５０μｍである。なお、実用上の観点からは二軸延伸されたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用いるのが、好適である。
　このように新規なる特性をもつ高分子フイルム上のＩＴＯ系透明導電膜を作成する方法の例を次に述べる。上記の何らかの方法で、ＩＴＯ系薄膜を付けておく。この時の特性としては、上記の透明導電膜として実用可能な特性（表面抵抗数Ω／
□
□
　ここで用いるレーザーとしては、ＣＯ２レーザー、ＹＡＧレーザー、Ａｒレーザー、ガラスレーザー、エキシマレーザー等があるが、実用上、波長域、出力、価格の点からは、ＹＡＧレーザー等が好ましいといえる。ここで、レーザーの出力の下限値としては、ＩＴＯ系透明導電膜の導電、透光特性を改善、例えば、可視透過率８０％以上、波長１５００ｎｍ〜２５００ｎｍにおける反射率が３０％以上にするのに必要なパワーであり、更に、反射特性をある範囲内に制御することも可能である。また、上限値としては、高分子フイルムが熱的に損傷を受けない範囲が望ましい。
　レーザーの照射による温度上昇により、良好な可視透過率と赤外反射特性とを合わせもつ透明導電膜を作成できる。というのは、レーザー照射の場合、基板の温度をほとんど上げずに、材料のみの温度を上げることが可能である。そのため、高分子フイルムのような熱に弱い基板に対しても、適用可能であり、ガラス基板等と同等以上の赤外反射特性をもつ熱線反射膜の作成が可能となる。
　このような方法により、新規の特性をもつ高分子フイルム上のＩＴＯ系熱線反射膜が作成できる。
（実施例）
＜実施例１＞
　スパッター法によりＰＥＴフイルム上にＩＴＯ膜（−Ｓｎ　５ｗｔ％：２０００
Å
Å
□
　さらに、比較例（レーザーを照射する前のもの）の分光特性を第３図に示す。
＜実施例２＞
　反応性スパッターによって作成したＰＥＴフイルム上のＩＴＯ膜（−Ｓｎ　１０ｗｔ％：４０００
Å
（発明の効果）
　ガラス等の耐熱性基板上と同等以上の熱線反射特性を持つ高分子フイルム上のＩＴＯ系透明導電膜によって、フイルムの軽さ、可ぎょう性といったガラス、セラミクスよりも優れた性質が生かされ、ＩＴＯ系熱線反射膜フイルムの応用範囲が大幅に広げられる。
【図面の簡単な説明】
　第１図は、本発明のＩＴＯ系熱線反射膜フイルムを作成に使用される装置例の概略図。
　第２図は、本発明のＩＴＯ系熱線反射膜フイルムの分光特性である。
　第３図は、比較例のＩＴＯ系熱線反射膜フイルムの分光特性である。
　第４図は、比較例のガラス基板上のＩＴＯ系熱線反射膜フイルムの分光特性である。
　１…レーザー源、２…ガルバスキャン系、３…Ｘ−Ｙステージ、
　４…金属酸化物膜、５…基板、６…透過率、７…反射率