【事件の表示】
　特許第２９３５８４４号「レジスト処理方法」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９３５８４４号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　 本件特許第２９３５８４４号は、昭和６３年１２月１２日に特許出願され、平成１１年６月４日にその特許の設定登録がなされ、その後、異議申立人吉成迪夫から特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年７月１４日に訂正請求がなされたものである。
１．１　異議申立ての概要
　異議申立人吉成迪夫は、甲第１号証（実願昭５８−１９９４５５号（実開昭６０−１１２３７９号公報）のマイクロフィルム）、甲第２号証（特開昭６３−６６９３３号公報）、甲第３号証（特開昭５０−１３６３３３号公報）及び甲第４号証（特開昭６２−２５０９６８号公報）を提出し、本件請求項１に係る発明は、甲第１号証に記載された発明であるから、本件請求項１に係る発明は、特許法第２９条第１項第３号に該当し、従って、本件請求項１に係る特許は、特許法第２９条第１項の規定により特許を受けることができないものであり、また、本件請求項２〜４に係る発明は、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであるから、本件請求項２〜４に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、本件請求項１〜４に係る特許を取り消すべき旨主張している。
１．２　異議申立人吉成迪夫が提出した甲第１号証及び甲第２号証の記載内容
１．２．１　甲第１号証の記載内容
　甲第１号証の第３図および第６頁第８行には、「またレジスト滴下時間も同様に入力する」と記載され、第６頁第１９行〜第７頁第７行には、「マイクロコンピュータ３２の指令により…ポンプを一定時間駆動する。このようにして指定レジストを指定時間移送し半導体基板上にレジストを滴下する」と記載されている。
　また、甲第１号証の第７頁第７行〜第９行には、「滴下の後マイクロコンピュータ３２の指令により半導体基板１の回転用モータ３が一定時間回転させられる」と記載され、第２頁第１８行〜第２０行には、「半導体基板１に滴下されたレジスト液は回転する半導体基板１により遠心力により半導体基板１全面に拡がり均一な膜を形成する」と記載されている。
１．２．２　甲第２号証の記載内容
　甲第２号証の第２頁左下欄第３行〜第６行には、「なお、処理の実行に必要な処理ユニットの選択は、予め複数のデータパターンとして登録でき、同様に処理条件についても標準データとして登録することができるようになっている」と記載され、第２頁右下欄第１９行〜第３頁左上欄第４行には「さらに、各処理ユニット１０において、ウエハー処理の際に用いる各種パラメータは標準データとしてメインシステム制御部４０にエントリーされている例えば２０種類の中から任意の一つを選択することができるようになっている」と記載されている。
１．２．３　甲第３号証の記載内容
　甲第３号証の第２頁左上欄第１５行〜第１９行には、「本発明は、半導体ウェハにホトレジストを滴下し、スピンナーを高速回転させてホトレジストを引き伸した後、スピンナーの回転数をより高速回転にしてホトレジスト膜を乾燥することによって、上記問題を解決するものである」と記載されている。
１．２．４　甲第４号証の記載内容
　甲第４号証の第１図および第２頁右上欄第７行〜左下欄第４行には、
「スピナ１…には、塗布ノズル３が設けられ、たとえばベローズなどで構成されるポンプ４を介して…フォトレジストなどの溶液が滴下される…。
　また、ポンプ４には、送りねじ機構６を介してモータ７が接続され、モータ７の所定の方向への回転量に比例したポンプ４の伸縮量に応じて溶液５の滴下ノズル３からの滴下量が変化される構造とされている。
　この場合、送りねじ機構６を介してポンプ４を駆動するモータ７には、滴下液量調整部３が接続されており、送りねじ機構６の近傍に移動方向に沿って配設され、該送りねじ機構６の移動量を検出する複数の位置センサ９からの情報に基づいて、ポンプ４の伸縮量を制御することにより、滴下ノズル３から被塗布物２に滴下される溶液５の量が所望の値に調整可能にされている。」と記載されている。
２．１　訂正事項
訂正事項ａ
　請求項１の記載「【請求項１】予め設定されたデータに基づいてポンプの駆動時間を制御することにより吐出量を制御しつつレジスト液吐出ノズルから被処理体の処理面にレジスト液を吐出する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法。」
を、「【請求項１】予め設定されたべローズからなるポンプによるレジスト吐出時間データに基づいて該ポンプのべローズが延びた状態の基準位置からべローズを収縮させる駆動時間を制御することにより吐出量を制御しつつレジスト液吐出ノズルから被処理体の処理面にレジスト液を吐出する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
　前記ポンプの前記べローズを前記基準位置に戻す工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法。」と訂正する。
訂正事項ｂ
　請求項２の記載「【請求項２】レジスト吐出時間を含むレジスト処理条件を１セットとするレシピを複数セット予め記憶しておく工程と、
　これら複数のレシピから１つのレシピを選択する工程と、
　選択されたレシピに基づいてポンプの駆動時間を制御することによりレジスト液吐出ノズルからの吐出量を制御しつつレジスト液を吐出し、被処理体の処理面に供給する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法。」を、
「【請求項２】べローズからなるポンプによるレジスト吐出時間を含むレジスト処理条件を１セットとするレシピを複数セット予め記憶しておく工程と、
　これら複数のレシピから１つのレシピを選択する工程と、
　選択されたレシピのレジスト吐出時間データに基づいて前記ポンプのべローズが延びた状態の基準位置からべローズを収縮させるポンプの駆動時間を制御することによりレジスト液吐出ノズルからの吐出量を制御しつつレジスト液を吐出し、被処理体の処理面に供給する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法。」と訂正する。
訂正事項ｃ
　請求項４の記載「【請求項４】前記ポンプはべローズからなり、ベローズが伸びた状態の基準位置から予め設定された時間収縮されることにより前記ポンプの吐出量が制御されることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のレジスト処理方法。」を削除する。
訂正事項ｄ
　特許明細書第４頁最下行ないし第５頁第１０行目の記載「本発明は、第１に、…ことを特徴とするレジスト処理方法を提供する。」を、「本発明は、第１に、予め設定されたべローズからなるポンプによるレジスト吐出時間データに基づいて該ポンプのべローズが延びた状態の基準位置からべローズを収縮させる駆動時間を制御することにより吐出量を制御しつつレジスト液吐出ノズルから被処理体の処理面にレジスト液を吐出する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
　前記ポンプの前記べローズを前記基準位置に戻す工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法を提供する。
　第２に、ベローズからなるポンプによるレジスト吐出時間を含むレジスト処理条件を１セットとするレシピを複数セット予め記憶しておく工程と、
　これら複数のレシピから１つのレシピを選択する工程と、
　選択されたレシピのレジスト吐出時間データに基づいて前記ポンプのべローズが延びた状態の基準位置からべローズを収縮させるポンプの駆動時間を制御することによりレジスト液吐出ノズルからの吐出量を制御しつつレジスト液を吐出し、被処理体の処理面に供給する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法を提供する。
　第３に、上記いずれかのレジスト処理方法において、前記レジストを拡散させる工程の後、前記被処理体をさらに高速で回転させ、被処理体の処理面に対して拡散されたレジスト液を乾燥させる工程をさらに具備することを特徴とするレジスト処理方法を提供する。」と訂正する。
２．２．訂正後の請求項
２．２．１　訂正後の請求項１
「予め設定されたべローズからなるポンプによるレジスト吐出時間データに基づいて該ポンプのべローズが延びた状態の基準位置からべローズを収縮させる駆動時間を制御することにより吐出量を制御しつつレジスト液吐出ノズルから被処理体の処理面にレジスト液を吐出する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
　前記ポンプの前記べローズを前記基準位置に戻す工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法。」
２．２．２　訂正後の請求項２
「べローズからなるポンプによるレジスト吐出時間を含むレジスト処理条件を１セットとするレシピを複数セット予め記憶しておく工程と、
　これら複数のレシピから１つのレシピを選択する工程と、
　選択されたレシピのレジスト吐出時間データに基づいて前記ポンプのべローズが延びた状態の基準位置からべローズを収縮させるポンプの駆動時間を制御することによりレジスト液吐出ノズルからの吐出量を制御しつつレジスト液を吐出し、被処理体の処理面に供給する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法。」
２．２．３　訂正後の請求項３
「前記レジストを拡散させる工程の後、前記被処理体をさらに高速で回転させ、被処理体の処理面に対して拡散されたレジスト液を乾燥させる工程をさらに具備することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のレジスト処理方法。」
３．　訂正の適否
３．１　目的該当性等について
３．１．１　訂正事項ａ
　上記訂正事項ａについては，特許明細書の請求項１における「予め設定されたデータに基づいてポンプの駆動時間を制御する」及び「拡散させる工程と」を、それぞれ下位概念である「予め設定されたべローズからなるポンプによるレジスト吐出時間データに基づいて該ポンプのべローズが延びた状態の基準位置からべローズを収縮させる駆動時間を制御する」及び「拡散させる工程と前記ポンプの前記べローズを前記基準位置に戻す工程と」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、当該「予め設定されたべローズからなるポンプによるレジスト吐出時間データに基づいて該ポンプのべローズが延びた状態の基準位置からべローズを収縮させる駆動時間を制御する」という事項は，特許明細書第１０頁第６行目から第１１頁の「このレジストの吐出は、オペレーターが予め設定しメモリ（１８）に記憶させたレシピに基づいてポンプ（１１）を駆動することにより行なわれる。即ち、上記レシピのレジスト吐出時間、上記ポンプ（１１）を駆動する。これは、センサー（１６）からの信号によりポンプ（１１）が伸びた状態即ちホームポジションにあるか認識した後、メモリ（１８）に記憶している上記レジスト吐出時間データを制御部（１７）に伝達し、この吐出時間、エアシリンダー（１３）を駆動させる。すると、ポンプ（１１）が縮み、内部のレジストが所定量流導管（１４ｂ）、開閉バルブ（１０）、サックバックバルブ（９）を介してノズル（８）より吐出される。この吐出されるレジスト量は、上記ポンプ（１１）の駆動時間に対応した量が吐出されるため、上記吐出時間の制御によりレジスト吐出量を設定することができる。」という記載から直接的かつ一義的に導き出せる事項であり、また、「前記ポンプの前記べローズを前記基準位置に戻す工程と」については、特許明細書第１１頁第１０行目から第１４行目の「一方、上記ポンプ（１１）は、ホームポジション即ち初期の長さまで伸び、これによりポンプ（１１）内に、レジスト供給源（１２）内に貯蔵されているレジストを流導させて、上記ポンプ（１１）内にはレジストが供給された状態としておく。」という記載から直接的かつ一義的に導き出せる事項であるから、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．２　訂正事項ｂ
　上記訂正事項ｂについては，特許明細書の請求項１における「レジスト吐出時間」及び「選択されたレシピに基づいてポンプの駆動時間を制御する」を、それぞれ下位概念である「べローズからなるポンプによるレジスト吐出時間」及び「選択されたレシピのレジスト吐出時間データに基づいて前記ポンプのべローズが延びた状態の基準位置からべローズを収縮させるポンプの駆動時間を制御する」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、当該「べローズからなるポンプによるレジスト吐出時間」及び「選択されたレシピのレジスト吐出時間データに基づいて前記ポンプのべローズが延びた状態の基準位置からべローズを収縮させるポンプの駆動時間を制御する」という事項は、特許明細書第１０頁第６行目から第１１頁の「このレジストの吐出は、オペレーターが予め設定しメモリ（１８）に記憶させたレシピに基づいてポンプ（１１）を駆動することにより行なわれる。即ち、上記レシピのレジスト吐出時間、上記ポンプ（１１）を駆動する。これは、センサー（１６）からの信号によりポンプ（１１）が伸びた状態即ちホームポジションにあるか認識した後、メモリ（１８）に記憶している上記レジスト吐出時間データを制御部（１７）に伝達し、この吐出時間、エアシリンダー（１３）を駆動させる。すると、ポンプ（１１）が縮み、内部のレジストが所定量流導管（１４ｂ）、開閉バルブ（１０）、サックバックバルブ（９）を介してノズル（８）より吐出される。この吐出されるレジスト量は、上記ポンプ（１１）の駆動時間に対応した量が吐出されるため、上記吐出時間の制御によりレジスト吐出量を設定することができる。」いう記載から直接的かつ一義的に導き出せる事項であるから、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．３　訂正事項ｃ
　上記訂正事項ｃについては、請求項４を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
３．１．４　訂正事項ｄ
　上記訂正事項ｄについては，前記訂正事項ａ、ｂ及びｃの訂正に伴い、特許請求の範囲の記載と、特許明細書の発明の詳細な説明の記載を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、訂正事項ｄは、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．２　訂正の適否の判断
　上記訂正事項ａ〜ｄは、上記３．１．１〜３．１．４のとおりであるから、平成６年法律第１１６号附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び同条第２項の規定に適合する。
　従って、当該請求を認める。
４．特許異議申立てについての判断
４．１　本件請求項１〜３に係る発明
　上記２．２に記載のとおり。
４．２　異議申立ての理由の概要
　上記１．１に記載のとおり。
４．２．１　本件請求項１〜請求項３に係る発明と甲第１号証〜甲第４号証との対比、判断
　本件請求項１に係る発明が、「予め設定されたべローズからなるポンプによるレジスト吐出時間データに基づいて該ポンプのべローズが延びた状態の基準位置からべローズを収縮させる駆動時間を制御することにより吐出量を制御しつつレジスト液吐出ノズルから被処理体の処理面にレジスト液を吐出する工程」（以下、「本件請求項１に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１号証に記載された発明は、本件請求項１に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではない。
　従って、本件請求項１に係る発明は、甲第１号証に記載された発明とすることができない。
　また、本件請求項２に係る発明が、「選択されたレシピのレジスト吐出時間データに基づいて前記ポンプのべローズが延びた状態の基準位置からべローズを収縮させるポンプの駆動時間を制御することによりレジスト液吐出ノズルからの吐出量を制御しつつレジスト液を吐出し、被処理体の処理面に供給する工程」（以下、「本件請求項２に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１号証〜甲第４号証に記載された発明は、本件請求項２に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではない。
　従って、本件請求項２に係る発明は、甲第１号証〜甲第４号証に記載された発明に基づいて容易に発明できたとすることができない。
　さらに、上記本件請求項１に係る発明の特徴的構成または、本件請求項２に係る発明の特徴的構成を有する本件請求項３に係る発明は、上記本件請求項２に係る発明と同様に、甲第１号証〜甲第４号証に記載された発明に基づいて容易に発明できたとすることができない。
５．むすび
 したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１〜請求項３に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜請求項３に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　従って、本件請求項１〜請求項３に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年１０月２６日（２０００．１０．２６）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　訂正事項ａ〜ｃは、特許請求の範囲の減縮を目的とし、訂正事項ｄは、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
訂正事項ａ
　請求項１の記載「【請求項１】予め設定されたデータに基づいてポンプの駆動時間を制御することにより吐出量を制御しつつレジスト液吐出ノズルから被処理体の処理面にレジスト液を吐出する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法。」
を、「【請求項１】予め設定されたべローズからなるポンプによるレジスト吐出時間データに基づいて該ポンプのベローズが延びた状態の基準位置からベローズを収縮させる駆動時間を制御することにより吐出量を制御しつつレジスト液吐出ノズルから被処理体の処理面にレジスト液を吐出する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
　前記ポンプの前記ベローズを前記基準位置に戻す工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法。」と訂正する。
訂正事項ｂ
　請求項２の記載「【請求項２】レジスト吐出時間を含むレジスト処理条件を１セットとするレシピを複数セット予め記憶しておく工程と、
　これら複数のレシピから１つのレシピを選択する工程と、
　選択されたレシピに基づいてポンプの駆動時間を制御することによりレジスト液吐出ノズルからの吐出量を制御しつつレジスト液を吐出し、被処理体の処理面に供給する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法。」を、「【請求項２】ベローズからなるポンプによるレジスト吐出時間を含むレジスト処理条件を１セットとするレシピを複数セット予め記憶しておく工程と、
　これら複数のレシピから１つのレシピを選択する工程と、
　選択されたレシピのレジスト吐出時間データに基づいて前記ポンプのベローズが延びた状態の基準位置からベローズを収縮させるポンプの駆動時間を制御することによりレジスト液吐出ノズルからの吐出量を制御しつつレジスト液を吐出し、被処理体の処理面に供給する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法。」と訂正する。
訂正事項ｃ
　請求項４の記載「【請求項４】前記ポンプはベローズからなり、ベローズが伸びた状態の基準位置から予め設定された時間収縮されることにより前記ポンプの吐出量が制御されることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のレジスト処理方法。」を削除する。
訂正事項ｄ
　特許明細書第４頁最下行ないし第５頁第１０行目の記載「本発明は、第１に、…ことを特徴とするレジスト処理方法を提供する。」を、「本発明は、第１に、予め設定されたべローズからなるポンプによるレジスト吐出時間データに基づいて該ポンプのベローズが延びた状態の基準位置からベローズを収縮させる駆動時間を制御することにより吐出量を制御しつつレジスト液吐出ノズルから被処理体の処理面にレジスト液を吐出する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
　前記ポンプの前記ベローズを前記基準位置に戻す工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法を提供する。
　第２に、ベローズからなるポンプによるレジスト吐出時間を含むレジスト処理条件を１セットとするレシピを複数セット予め記憶しておく工程と、
　これら複数のレシピから１つのレシピを選択する工程と、
　選択されたレシピのレジスト吐出時間データに基づいて前記ポンプのベローズが延びた状態の基準位置からベローズを収縮させるポンプの駆動時間を制御することによりレジスト液吐出ノズルからの吐出量を制御しつつレジスト液を吐出し、被処理体の処理面に供給する工程と、
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法を提供する。
　第３に、上記いずれかのレジスト処理方法において、前記レジストを拡散させる工程の後、前記被処理体をさらに高速で回転させ、被処理体の処理面に対して拡散されたレジスト液を乾燥させる工程をさらに具備することを特徴とするレジスト処理方法を提供する。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
レジスト処理方法
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】予め設定された
べローズからなるポンプによるレジスト吐出時間
該ポンプのベローズが延びた状態の基準位置からベローズを収縮させる
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
　
前記ポンプの前記ベローズを前記基準位置に戻す工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法。
　　【請求項２】
ベローズからなるポンプによる
　これら複数のレシピから１つのレシピを選択する工程と、
　選択されたレシピ
のレジスト吐出時間データ
前記ポンプのベローズが延びた状態の基準位置からベローズを収縮させる
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法。
　　【請求項３】前記レジストを拡散させる工程の後、前記被処理体をさらに高速で回転させ、被処理体の処理面に対して拡散されたレジスト液を乾燥させる工程をさらに具備することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のレジスト処理方法。
【発明の詳細な説明】
　　〔発明の目的〕
　　（産業上の利用分野）
　本発明は、レジスト処理方法に関する。
　　（従来の技術）
　被塗布体例えば半導体ウエハのフォトリソグラフィー工程では、レジスト塗布、露光、現像等により上記ウエハ表面にレジストパターンが形成される。このレジスト塗布には、上記ウエハを回転処理するレジスト塗布装置が使用される。このレジスト塗布装置は、上記ウエハを裏面から設置台例えばスピンチャックにより吸着保持し、このスピンチャックに連設したモータにより回転制御して上記ウエハ表面にレジストを吐出することにより回転塗布するものである。この時、上記ウエハ表面に吐出するレジストは、例えばエア駆動するポンプの動作により供給される。このポンプには、上記レジストを所定量吐出するために、上記ポンプの駆動範囲即ち伸縮範囲を決定するセンサー例えばアップ／ダウンセンサーが設けられており、このセンサーの間で駆動するようになっている。即ち、上記ポンプは通常状態で上記ダウンセンサーに検知される位置におり、駆動されて一定量上昇し、上記アップセンサーに検知された位置で駆動即ち上昇を停止させ、下降させる。このことにより上記ポンプのストロークを決定し、常時一定量のレジストを上記ウエハ表面に吐出できるようになっている。このようなポンプを使用して上記ウエハ表面にレジストを吐出する技術は、特開昭５５−１１４５号、特開昭５５−７８５２９号公報に開示されている。
　　（発明が解決しようとする課題）
　しかしながら上記従来の技術では、レジスト液吐出ノズルからの液だれがレジスト膜に悪影響を及ぼすおそれがある。また、ポンプの駆動範囲をセンサーで制限することによりウエハ表面へ吐出するレジストの吐出量を決定、即ち、上記レジストの吐出量をセンサーの位置により決定するため、各ウエハ毎或いはウエハの品種毎にレジスト吐出量を変化させることが困難となっていた。また、レジスト吐出量を変化させることができないために、各ウエハの品種総てに対応できるように予めレジスト吐出量を多めにセットする如くセンサーを配置しておかなければならなかった。即ち、表面にパターンが形成されていないベアウエハと、複雑に凹凸のある微細パターンが形成されたウエハでは、塗布するために必要なレジスト量が異なり、微細パターンが形成されたウエハには多量のレジスト例えば５ｃｃが必要であり、また、ベアウエハには少量のレジスト例えば３ｃｃ使用のみで行うことができる。しかし、レジスト吐出量をセンサーの配置する位置で決定し、変化させることが困難であるため、微細パターンが形成されたウエハやベアウエハ等、総ての品種のウエハに対応できるように、上記予め決定するレジスト吐出量は、レジストを多く使用する品種例えば微細パターンが形成されているウエハのレジスト使用量の５ｃｃにセットしている。そのため上記ベアウエハのレジスト塗布時にも必要以上のレジストを使用するため、効率が悪く、ランニングコストが高いという問題があった。
　本発明は上記点に対処してなされたもので、レジスト液吐出ノズルからの液だれがレジスト膜に悪影響を及ぼさないレジスト処理方法、およびさらにランニングコストを低くすることが可能なレジスト処理方法を提供しようとするものである。
　〔発明の構成〕
　（課題を解決するための手段）
　本発明は、第１に、予め設定された
べローズからなるポンプによるレジスト吐出時間
該ポンプのベローズが延びた状態の基準位置からベローズを収縮させる
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
　
前記ポンプの前記ベローズを前記基準位置に戻す工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法を提供する。
　第２に、
ベローズからなるポンプによる
　これら複数のレシピから１つのレシピを選択する工程と、
　選択されたレシピ
のレジスト吐出時間データ
前記ポンプのベローズが延びた状態の基準位置からベローズを収縮させる
　その後、被処理体処理面に供給されたレジスト液を被処理体を回転させた際の遠心力により被処理体の中心部から周縁部にかけて拡散させる工程と
を具備することを特徴とするレジスト処理方法を提供する。
　第３に、上記いずれかのレジスト処理方法において、前記レジストを拡散させる工程の後、前記被処理体をさらに高速で回転させ、被処理体の処理面に対して拡散されたレジスト液を乾燥させる工程をさらに具備することを特徴とするレジスト処理方法を提供する。
（作用効果）
　本発明によれば、ポンプを駆動させることによりノズルからレジスト液を吐出させる際に、ポンプの駆動時間を制御することにより、レジスト液の吐出量を制御することによって、被塗布体の種類に応じて、または必要に応じて、容易にレジスト吐出量を変化させることができる。したがって、レジスト使用量を必要最低限にすることができ、ランニングコストを低くすることが可能となる。
　さらに、レジスト吐出時間を含むレジスト処理条件を１セットとするレシピを複数セット予め記憶しておき、これら複数のレシピから１つのレシピを選択し、選択されたレシピに基づいてポンプの駆動時間を制御することによりレジスト液吐出量を制御しつつレジスト液を被処理体の処理面に吐出し、その後レジスト液を供給した後、レジスト液吐出ノズル内のレジスト液を逆流させ、その後レジストを拡散させるので、被処理体毎にレシピを変更すること、およびポンプの駆動時間を制御することによって一層容易にレジスト吐出量を変化させることができ、しかも余分な液だれ、およびレジスト拡散中の液だれを防止することができる。
　（実施例）
　以下、本発明方法を半導体製造工程におけるレジスト塗布処理に適用した一実施例につき、図面を参照して説明する。
　まず、レジスト塗布装置の構成を説明する。
　被塗布体例えば半導体ウエハ（１）を保持例えば吸着保持可能な支持体例えばチャック（２）が設けられている。このチャック（２）には回転駆動機構例えばモータ（３）が連設しており、このモータ（３）の駆動により、チャック（２）を介して上記ウエハ（１）を回転可能とされている。このチャック（２）により保持したウエハ（１）を囲繞する如く有底円筒形のカップ（４）が上下動可能に設けられている。このカップ（４）は、上記ウエハ（１）表面の延長面と交わる近辺の部分を角度Ａ（Ａ≠９０°）として傾斜させた状態で設けられており、上記ウエハ（１）にレジスト塗布を行う際にレジストが飛散しても上記傾斜させたカップ（４）内壁により、レジストが上記ウエハ（１）表面へはね返らない構造となっている。また、上記カップ（４）の底部には、処理液の排出管（５）及び排気管（６）が接続されている。上記排出管（５）は、使用後のレジストを収容するドレインボックス（７）に連設し、また、上記排気管（６）は、上記カップ（４）内の排気を行うための図示しない排気機構に連設している。
　また、上記ウエハ（１）の中心軸上からレジストをウエハ（１）表面に吐出可能な如くレジスト吐出用ノズル（８）が設けられている。このノズル（８）の一端側は上記チャック（２）に保持されたウエハ（１）の回転中心上方例えば５〜２０ｍｍ程度に位置し、サックバックバルブ（９），開閉バルブ（１０），ポンプ（１１）を介してレジスト供給源（１２）に連設している。上記サックバックバルブ（９）は、内部に弾性体を設けることにより内部の容積を変化可能に構成されており、通常は上記容積を小さくしておき、レジスト塗布処理の際のレジスト吐出を終了すると同時に上記容積を大きくすることにより、サックバックを行ない、上記ノズル（８）先端部からのレジストの液だれを防止する構造となっている。また、上記開閉バルブ（１０）は、上記ノズル（８）先端部からのレジストの液だれを防止する構造となっている。また、上記開閉バルブ（１０）は、上記ノズル（８）を閉鎖可能としており、この閉鎖によりレジストの流れを止めることができる構造となっているい。また、ポンプ（１１）は、例えばベローズより成っており、下端側に連設している駆動機構例えばエアシリンダー（１３）により伸縮が可能とされている。このポンプ（１１）は第２図に示すように、上端部が固定され、この上端部に対して下端部を移動制御することにより、このポンプ（１１）に夫々連設しているレジスト供給源（１２）側の流導管（１４ａ）から、ノズル（８）側の流導管（１４ｂ）にレジストの送流を可能としている。また、上記ポンプ（１１）の下端部周縁位置には、平板状シャッター（１５）が設けられている。このシャッター（１５）は、上記ポンプ（１１）下端部と一体的に移動即ち昇降が可能とされており、上記ポンプ（１１）下端位置即ちポンプ（１１）の伸縮量を検知する検知機構例えばセンサー（１６）を仕切る如く構成されている。上記センサー（１６）は、上記ポンプ（１１）が伸びた状態の上記シャッター（１５）と対応する位置に配置されており、このセンサー（１６）は、第３図に示すように、断面コの字型の溝部に発光センサー（１６ａ）及び受光センサー（１６ｂ）が対向配置され、このセンサー（１６ａ）（１６ｂ）間を仕切る如く上記シャッター（１５）が移動する構造となっている。このセンサー（１６）からの信号は、制御部（１７）に入力されており、上記ポンプ（１１）が伸びた状態即ちホームポジションにあるか監視できるようになっている。上記制御部（１７）は、予め設定しメモリ（１８）内に記憶されたレシピのレジスト吐出時間例えばポンプ（１１）駆動時間データに基づいて上記エアシリンダー（１３）を駆動制御する如く構成されている。このようにしてレジスト塗布装置が構成されている。
　次に、上述したレジスト塗布装置の動作作用及び半導体ウエハのレジスト塗布方法を説明する。
　まず、カップ（４）を下降させておき、図示しない搬送機構例えばベルト搬送やハンドリングアーム等によりウエハ（１）の中心とチャック（２）の中心を合わせてチャック（２）上に載置する。そして、この載置したウエハ（１）をチャック（２）に連設した図示しない真空機構により吸着保持する。この後、上記カップ（４）を上昇させ、上記ウエハ（１）周囲にカップ（４）が位置する如く停止させる。このチャック（２）上に保持されたウエハ（１）の中心部にノズル（８）から所定量のレジストを吐出する。このレジストの吐出は、オペレーターが予め設定しメモリ（１８）に記憶させたレシピに基づいてポンプ（１１）を駆動することにより行なわれる。即ち、上記レシピのレジスト吐出時間、上記ポンプ（１１）を駆動する。これは、センサー（１６）からの信号によりポンプ（１１）が伸びた状態即ちホームポジションにあるか認識した後、メモリ（１８）に記憶している上記レジスト吐出時間データを制御部（１７）に伝達し、この吐出時間、エアシリンダー（１３）を駆動させる。すると、ポンプ（１１）が縮み、内部のレジストが所定量流導管（１４ｂ）、開閉バルブ（１０）、サックバックバルブ（９）を介してノズル（８）より吐出される。この吐出されるレジスト量は、上記ポンプ（１１）の駆動時間に対応した量が吐出されるため、上記吐出時間の制御によりレジスト吐出量を設定することができる。この時、上記開閉バルブ（１０）は開いた状態でレジストの流れを防げず、更に上記サックバックバルブ（９）は動作させない状態としておく。そして上記レジストを吐出後、上記開閉バルブ（１０）を閉じて上記サックバックバルブ（９）を動作させる。これにより、上記サックバックバルブ（９）内部の容積が大きくなり、上記ノズル（８）内部のレジストを逆流させて、このノズル（８）先端部からのレジストの液だれを防止している。一方、上記ポンプ（１１）はホームポジション即ち初期の長さまで伸び、これによりポンプ（１１）内に、レジスト供給源（１２）内に貯蔵されているレジストを流導させて、上記ポンプ（１１）内にはレジストが供給された状態としておく。
　次に、上記所定量のレジストが供給されたウエハ（１）を、モータ（３）によりチャック（２）を介して回転制御する。この回転は、オペレーターにより予め設定されたレシピの加速度及び回転数に基づいて自動的に制御される。この回転により、上記ウエハ（１）表面のレジストは遠心力により中心部から周縁部にかけて拡散される。そして、上記ウエハ（１）を更に高速回転させて上記レジストを乾燥させ、これによりウエハ（１）表面に均一な所定の膜厚のレジスト層を形成する。
　このような回転ににより飛散されたレジストは、上記カップ（４）底部に設けられた排出管（５）から排出され、ドレインボックス（７）に回収される。また、上記レジスト塗布処理中、上記カップ（４）内の雰囲気によりウエハ（１）表面に形成するレジストの膜が左右するため、必要に応じて上記カップ（４）底部に設けられた排気管（６）より排気制御される。
　また、上記処理されたウエハ（１）と異なる品種のウエハを処理する場合、或いは処理条件の異なるウエハを処理する場合でも、上記レジスト吐出時間即ちポンプ（１１）の駆動時間を変えることにより、レジスト吐出量を変化させることができる。これは、例えば予めレシピを作成する際に、ディスペンス，モータ（３）回転数，モータ（３）加速度，レジスト吐出時間等を１セットするレシピセットを複数個作成しておき、品種の異なるウエハ或いは処理条件の異なるウエハ等、レシピ変更の必要のある場合に、その都度上記レシピセットごと変更することにより、必要に応じてレジスト吐出量等、ウエハプロセス条件を変えることができる。このレシピセットの変更は、マニュアルで行なってもよいし、ウエハの処理の順番を予め認識しておくことにより、各ウエハの処理条件に対応したプログラムを作成しておき、これにより自動的に変更させてもよい。また、レジスト塗布処理以前に、ウエハ等に記載されたＩＤコードを読み取り、これに対応するレシピを選択しても自動的に変更することができる。この場合、処理するウエハ１枚１枚でレシピを変更することが容易に行なえる。
　上記実施例では、ポンプの位置を認識するセンサーとして、透過型センサーを用いて説明したが、これに限定するものではなく、例えば反射型センサーを用いても同様な効果が得られる。
　また、上記実施例では、ホームポジション即ちポンプが伸びた位置を検知するセンサーのみ設けた実施例について説明したが、これに限定するものではなく、ノズルからウエハ表面に吐出する一般的に多用するレジスト量を設定するために設けてもよい。即ち、多用するレジスト量例えば５ｃｃのレジストをノズルから吐出する時の、ポンプ下端部に設けられているシャッターと対応する位置センサーを配設し、通常はこのセンサーを用いてレジスト塗布処理を行ない、吐出するレジスト量を変更する場合のみ、上記ポンプ駆動時間でレジスト量を変更するようにしても同様な効果が得られる。
　（他の実施例）
　次に、本発明方法をレジスト塗布装置のダミーディスペンスに適用した実施例につき、第４図を参照して説明する。
　このレジスト塗布装置の主構成は、上記実施例と同一であるため、同一構成のものは同一符号を付し、説明は省略する。
　このレジスト塗布装置には、ノズル内の変質したレジストをウエハ表面に吐出しないように、ウエハ上以外の位置でレジストを吐出廃棄するダミーディスペンス機能を備えている。このダミーディスペンスは、上記ノズル（８）先端部のレジストが空気に接触し乾燥して変質したレジストを、所定時間レジスト塗布処理が行われなかった場合に実行するもので、これは、装置により自動的或いはオペレーターによりマニュアルで実行される。このようなダミーディスペンスの設定等を行うパネル（１９）が、装置正面部に設けられている。このパネル（１９）には、第４図に示すようにダミーディスペンスの切換スイッチ（２０），ダミーディスペンスを行なうまでの待機時間を設定するタイマー（２１），ダミーディスペンスの際に実行する吐出回数を設定するカウンター（２２），上記ノズル（８）内及び流導管（１４）内を洗浄する際に上記ポンプ（１１）を連続動作させるマニュアルスイッチ（２３）が設けられている。
　上記ダミーディスペンスの切換スイッチ（２０）は、ダミーディスペンスモードを選択するスイッチであり、４つのモードを有している。第１のモードは上記切換スイッチ（２０）をＰ１（ポンプ１）或いはＰ２（ポンプ２）に設定し、第２のモードはＰ１＋Ｐ２に設定し、第３のモードはＡＵＴＯ１に設定し、第４のモードはＡＵＴＯ２に設定することで夫々実行できるようになっている。上記第１のモードは、複数系統例えば２系統のレジスト供給系即ちポンプのうちいずれか１系統を指定し、この指定されたポンプ即ちＰ１或いはＰ２に付いてのみ上記タイマー（２１）で設定した時間毎にダミーディスペンスを実行するものである。上記第２のモードは、上記Ｐ１及びＰ２について同時にダミーディスペンスを実行するものである。上記第３のモードは、現在使用しているポンプ以外のポンプのダミーディスペンス例えば現在Ｐ１を使用している場合はＰ２のダミーディスペンスを実行しないように、現在使用中のポンプをメモリ（１８）に記憶されているレシピから認識し、ダミーディスペンスを実行するものである。これにより、レジスト供給系即ちポンプを変更した場合でも、自動的にダミーディスペンスされるレジスト供給系が変更され、ポンプの選択ミスを防止でき、レジストの節約が可能となる。上記第４のモードは、上記第３のモードを更に進めたものであり、例えばロットの切れ目の間に上記タイマー（２１）で設定した時間が経過すれば何回でもダミーディスペンスを実行することになるが、このモードでは、上記設定時間が経過した場合であってもダミーディスペンスのレディ状態を維持し、次の搬送レディ信号が入力された時にのみ１回だけダミーディスペンスを実行するものである。このようにしている理由は、レジストが高価なものであるので、何回も実行するとレジストが無駄となり、次のロットが開始される場合のようにウエハ塗布動作の中断後の次の塗布動作開始の直前に１回のみダミーディスペンスを実行するようにして、レジストの無駄を省き、かつ、劣化したレジストの廃棄を確実に行なうようにしたものである。
　また、上記マニュアルスイッチ（２３）は、レジスト供給源（１２）内のレジストを総て廃棄する場合、或いはレジスト供給系であるポンプ（１１），流導管（１４），ノズル（８）内に溶剤を流すことにより洗浄する場合に使用し、上記ポンプ（１１）を連続動作させることにより行なう。このポンプ（１１）の連続動作は、通常、スタートスイッチ（２３ａ）を押すことで動作し、ストップスイッチ（２３ｂ）を押すまで動作するが、カウンター（２２）により上記ポンプ（１１）の動作回数を設定することもできる。
　このようなパネルを操作して上記ダミーディスペンス或いは洗浄動作を実行する。このダミーディスペンスを実行する場合、上記ノズル（８）内のレジストは、ウエハ塗布動作の中断後の経過した時間に比例して乾燥変質していくため、この経過した時間に比例して上記ノズル（８）から吐出廃棄するレジスト量を増加させる。即ち、ポンプ（１１）の駆動時間を長くすることにより、変質したレジストのみを廃棄することができ、レジストの無駄を省くことができる。
　上記実施例では、ポンプの駆動機構としてエアシリンダーを使用して説明したが、これに限定するものではなく、例えばモーターを使用しても同様な効果が得られ、更により正確にレジストを吐出させることができる。
　また、上記実施例では、被塗布体として半導体ウエハについて説明したが、これに限定するものではなく、例えばプリント基板や、液晶ＴＶなどの画面表示装置等に用いられるＬＣＤ基板でも同様な効果が得られる。
　（発明の効果）
　以上説明したように、本発明によれば、ポンプを駆動させることによりノズルからレジスト液を吐出させる際に、ポンプの駆動時間を制御することにより、レジスト液の吐出量を制御することによって、被塗布体の種類に応じて、または必要に応じて、容易にレジスト吐出量を変化させることができる。したがって、レジスト使用量を必要最低限にすることができ、ランニングコストを低くすることが可能となる。さらに、レジスト吐出時間を含むレジスト処理条件を１セットとするレシピを複数セット予め記憶しておき、これら複数のレシピから１つのレシピを選択し、選択されたレシピに基づいてポンプの駆動時間を制御することによりレジスト液吐出量を制御しつつレジスト液を被処理体の処理面に吐出し、その後レジスト液を供給した後、レジスト液吐出ノズル内のレジスト液を逆流させ、その後レジストを拡散させるので、被処理体毎にレシピを変更することおよびポンプの駆動時間を制御することによって一層容易にレジスト吐出量を変化させることができ、しかも余分な液だれ、およびレジスト拡散中の液だれを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
　第１図は本発明方法の一実施例を説明するためのレジスト塗布装置の構成図、第２図は第１図のポンプ説明図、第３図は第２図のセンサー説明図、第４図は本発明方法の他の実施例を説明するためのダミーディスペンスパネルの構成図である。
１……ウエハ、８……ノズル
１１……ポンプ、１３……エアシリンダー
１６……センサー、１７……制御部