(57)【要約】  垂直方向の急速加熱処理システムは、処理室と、上記処理室内のワークピースの垂直方向の移動を提供するエレベータ構造を含む。上記エレベータ構造は、ワークピースを支持するためのワークピース支持体、ワークピース支持体に結合され、処理室の外部に伸びるエレベータシャフトを含む。処理室の外部にある、エレベータシャフトの端部は、選択された磁極を有する。上記エレベータ構造は、処理室内で上記ワークピースの垂直方向の移動を提供するためにエレベータシャフトに結合される可動キャリッジを含む。上記キャリッジは、選択された磁極を有するシャフト支持体を含む。上記シャフト支持体は、エレベータシャフト支持体の磁極のある端部に隣接して配置され、上記シャフト支持体及びエレベータシャフトが、移動径路に沿って垂直に移動するとき、反発磁力が、エレベータシャフトとシャフト支持体との間のギャップを維持する。
2008509377.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークピースを処理するための急速加熱処理システムであって、
a)   処理室、及び
b)  上記処理室内でワークピースの移動のために支持するエレベータ構造であって、該エレベータ構造は、
1)  ワークピースを支持するためのワークピース支持体、
2)  ワークピース支持体に結合されたエレベータシャフト、処理室の外部で磁石部分を有するエレベータシャフトの部分、及び
3)  処理室内で上記ワークピースの移動を提供するためにエレベータシャフトに結合される可動キャリッジ、上記キャリッジは磁石部分を有するシャフト支持体を含み、上記２個の磁石部分の磁気反発力が、上記シャフト支持体及びエレベータシャフトが移動径路に沿って移動する時、エレベータシャフトと可動キャリッジのシャフト支持体との間の隙間を維持するように、上記シャフト支持体の磁石部分がエレベータシャフトの磁石部分に対して配置されていること、
からなる急速加熱処理システム。
【請求項２】
ワークピースが、上記処理室内で垂直方向に移動する請求項１に記載の急速加熱処理システム。
【請求項３】
上記エレベータシャフトの磁石部分が、上記シャフトの端部領域にある請求項１に記載の急速加熱処理システム。
【請求項４】
上記エレベータシャフトの磁石部分が第１極性を有する第１領域と、第１極性と逆である第２極性を有する第２領域とを含み、上記シャフト支持体の磁石部分は第１及び第２の相隔たる磁石領域を含み、第１磁石領域は第１極性を有するとともに第２磁石領域は第２極性を有し、磁気反発力がシャフト支持体の磁石部分の第１領域とエレベータシャフトの磁石部分の第１領域との間にあり、また、磁気反発力がシャフト支持体の磁石部分の第２領域とエレベータシャフトの磁石部分の第２領域にあるように、シャフト支持体がエレベータシャフトに対し配置されている、請求項１に記載の急速加熱処理システム。
【請求項５】
上記エレベータシャフトの磁石部分の第１及び第２の領域は、エレベータシャフトに付着される磁石のＮ極とＳ極とからなる、請求項４に記載の急速加熱処理システム。
【請求項６】
シャフト支持体の磁石部分の第１領域は、第１磁石のＮ極からなり、シャフト支持体の磁石部分の第２領域は、第２磁石のＳ極からなり、第１及び第２の磁石は相隔たっている、
請求項５に記載の急速加熱処理システム。
【請求項７】
エレベータシャフトに付着された磁石は、上記シャフトから径方向に外側に伸びており、そして、シャフト支持体の隔たっている第１及び第２磁石間の隙間内に配置されている、請求項６に記載の急速加熱処理システム。
【請求項８】
上記エレベータシャフトが、セラミックベース材料からなる請求項１に記載の急速加熱処理システム。
【請求項９】
上記エレベータシャフトが、石英ベース材料からなる請求項８に記載の急速加熱処理システム。
【請求項１０】
上記エレベータシャフトが、アルミナベース材料からなる請求項８に記載の急速加熱処理システム。
【請求項１１】
a)  処理室内でワークピースを支持するためのワークピース支持体、
b)  ワークピース支持体に結合されるエレベータチューブ、処理室の外部で磁石部分を有するエレベータシャフトの部分、及び
c)  処理室内で上記ワークピースの移動を提供するためにエレベータシャフトに結合される可動キャリッジ、上記キャリッジは磁石部分を有するシャフト支持体を含み、上記２個の磁石部分の磁気反発力が、上記シャフト支持体及びエレベータシャフトが移動径路に沿って移動する時、エレベータシャフトと可動キャリッジのシャフト支持体との間の隙間を維持するように、上記シャフト支持体の磁石部分がエレベータシャフトの磁石部分に対して配置されていること、
からなるエレベータチューブポジショニングシステム。
【請求項１２】
ワークピースが、上記処理室内で垂直方向に移動する請求項１１に記載のエレベータチューブポジショニングシステム。
【請求項１３】
上記エレベータシャフトの磁石部分が、上記シャフトの端部領域にある請求項１１に記載のエレベータチューブポジショニングシステム。
【請求項１４】
上記エレベータシャフトの磁石部分が第１極性を有する第１領域と、第１極性と逆である第２極性を有する第２領域とを含み、上記シャフト支持体の磁石部分は第１及び第２の相隔たる磁石領域を含み、第１磁石領域は第１極性を有するとともに第２磁石領域は第２極性を有し、磁気反発力がシャフト支持体の磁石部分の第１領域とエレベータシャフトの磁石部分の第１領域との間にあり、また、磁気反発力がシャフト支持体の磁石部分の第２領域とエレベータシャフトの磁石部分の第２領域にあるように、シャフト支持体がエレベータシャフトに対し配置されている、請求項１１に記載のエレベータチューブポジショニングシステム。
【請求項１５】
上記エレベータシャフトの磁石部分の第１及び第２の領域は、エレベータシャフトに付着される磁石のＮ極とＳ極とからなる、請求項１４に記載のエレベータチューブポジショニングシステム。
【請求項１６】
シャフト支持体の磁石部分の第１領域は、第１磁石のＮ極からなり、シャフト支持体の磁石部分の第２領域は、第２磁石のＳ極からなり、第１及び第２の磁石は相隔たっている、請求項１５に記載のエレベータチューブポジショニングシステム。
【請求項１７】
エレベータシャフトに付着された磁石は、上記シャフトから径方向に外側に伸びており、そして、シャフト支持体の隔たっている第１及び第２磁石間の隙間内に配置されている、請求項１６に記載のエレベータチューブポジショニングシステム。。
【請求項１８】
上記エレベータシャフトが、セラミックベース材料からなる請求項１１に記載のエレベータチューブポジショニングシステム。
【請求項１９】
上記エレベータシャフトが、石英ベース材料からなる請求項１８に記載のエレベータチューブポジショニングシステム。
【請求項２０】
上記エレベータシャフトが、アルミナベース材料からなる請求項１８に記載のエレベータチューブポジショニングシステム。
【請求項２１】
a)  処理室を備え、
b)   上記処理室内でワークピースの移動のために支持するエレベータ構造を備え、該エレベータ構造は、
1)  ワークピースを支持するためのワークピース支持体、
2)  ワークピース支持体に結合されたエレベータシャフト、処理室の外部で磁石部分を有するエレベータシャフトの部分、及び
3)  処理室内で上記ワークピースの移動を規定するためにエレベータシャフトに結合される可動キャリッジ、上記キャリッジは磁石部分を有するシャフト支持体を含み、上記２個の磁石部分の磁気反発力が、上記シャフト支持体及びエレベータシャフトが移動径路に沿って移動する時、エレベータシャフトと可動キャリッジのシャフト支持体との間の隙間を維持するように、上記シャフト支持体の磁石部分がエレベータシャフトの磁石部分に対して配置されていること、
からなり、
c)  処理室内の所望の位置にワークピースを配置するためにキャリッジを移動させる、
上記各ステップからなる急速加熱処理システムにおけるワークピースの配置方法。
【請求項２２】
ワークピースが、処理室内で垂直方向に移動する請求項２１に記載の急速加熱処理システムにおけるワークピースの配置方法。
【請求項２３】
上記エレベータシャフトの磁石部分が、上記シャフトの端部領域にある請求項２１に記載の急速加熱処理システムにおけるワークピースの配置方法。
【請求項２４】
上記エレベータシャフトの磁石部分が第１極性を有する第１領域と、第１極性と逆である第２極性を有する第２領域とを含み、上記シャフト支持体の磁石部分は第１及び第２の相隔たる磁石領域を含み、第１磁石領域は第１極性を有するとともに第２磁石領域は第２極性を有し、磁気反発力がシャフト支持体の磁石部分の第１領域とエレベータシャフトの磁石部分の第１領域との間にあり、また、磁気反発力がシャフト支持体の磁石部分の第２領域とエレベータシャフトの磁石部分の第２領域にあるように、シャフト支持体がエレベータシャフトに対し配置されている、請求項２１に記載の急速加熱処理システムにおけるワークピースの配置方法。
【請求項２５】
上記エレベータシャフトの磁石部分の第１及び第２の領域は、エレベータシャフトに付着される磁石のＮ極とＳ極とからなる、請求項２４に記載の急速加熱処理システムにおけるワークピースの配置方法。
【請求項２６】
シャフト支持体の磁石部分の第１領域は、第１磁石のＮ極からなり、シャフト支持体の磁石部分の第２領域は、第２磁石のＳ極からなり、第１及び第２の磁石は相隔たっている、
請求項２５に記載の急速加熱処理システムにおけるワークピースの配置方法。
【請求項２７】
エレベータシャフトに付着された磁石は、上記シャフトから径方向に外側に伸びており、そして、シャフト支持体の隔たっている第１及び第２磁石間の隙間内に配置されている、請求項２６に記載の急速加熱処理システムにおけるワークピースの配置方法。
【請求項２８】
上記エレベータシャフトが、セラミックベース材料からなる請求項２１に記載の急速加熱処理システムにおけるワークピースの配置方法。
【請求項２９】
上記エレベータシャフトが、石英ベース材料からなる請求項２８に記載の急速加熱処理システムにおけるワークピースの配置方法。
【請求項３０】
上記エレベータシャフトが、アルミナベース材料からなる請求項２８に記載の急速加熱処理システムにおけるワークピースの配置方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概して半導体熱処理システムの分野に関し、特に、処理ユニット内にワークピースを位置づけるためのエレベータアッセンブリを含む垂直方向の急速加熱処理ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
熱処理システムは、半導体製造の種々の段階で広く使用されている。基本的な熱処理の適用は、化学析出、拡散、酸化、焼きなまし、窒化物形成、及びはんだリフロー工程を含む。垂直方向の急速加熱処理（ＲＴＰ）システムは、抵抗加熱要素あるいは列をなす高輝度光源のような熱源によって加熱される、垂直方向に配置された処理室を含む。エレベータ構造は、処理室内で垂直方向のワークピース支持体上のウエハワークピースのような、ワークピースを移動するために制御される。従来のＲＴＰのエレベータ構造は、典型的には、処理室内に伸ばされる垂直方向可動エレベータシャフトに含まれる。ワークピースの支持体は、エレベータシャフトの上端に付着されていた。エレベータシャフトの下端は、処理室に対してエレベータシャフトを垂直に移動可能であり、そのため、処理室内でワークピースを垂直方向に移動することを可能にする垂直可動キャリッジに結合されていた。
【０００３】
あるＲＴＰシステムでは、熱源は処理室内で温度勾配を作り出し、処理されるウエハの温度上昇及び温度下降の割合は、処理室内でワークピースの垂直方向の位置によって制御される。そのため、半導体ワークピースの熱処理を最適化するために、処理室内のワークピースの垂直方向の位置を正確に制御することが重要である。
【０００４】
処理室内でワークピースの垂直方向の位置を正確に制御することに加えて、エレベータ構造によってワークピースに伝えられる振動を最小にすることが望ましい。振動は、上記構造に対して水平方向にワークピースを移動させる可能性があり、それによって、支持構造の同心度を失わせる。同心度の欠如は、ワークピース周辺近くでの温度の非一様性を生じる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来のＲＴＰのエレベータ構造において振動を減らす一つのやり方は、エレベータシャフトの端部に付着された固定基部を備えていた。上記固定基部は、エレベータシャフトを介して伝わり、ワークピースに伝えられる振動を、最小にするために考えられた。しかし、エレベータ構造は、垂直方向に移動しなければならないので、前記固定基部は、必ず垂直方向に可動のキャリッジに付着されなければならない。その結果、エレベータシャフトの部分に付着される固定基部にかかわらず、外部の源からの振動は、垂直方向に移動可能なキャリッジ、基部、エレベータシャフト、ワークピースの支持体、及び最終的には、ワークピースそれ自身を経て、依然として伝わることがあり得る。
【０００６】
必要なことは、ＲＴＰ処理室内でワークピースの正確な移動と位置づけの双方を容易にし、ワークピースに伝わる振動を最小にするシステムである。また、必要なことは、処理室内でワークピース支持体を、処理室の外にある可動キャリッジから分離するシステムである。
【０００７】
さらに必要なことは、ＲＴＰ処理室内でワークピースの正確な移動と位置づけの双方を容易にし、ワークピースに伝わる振動を最小にする方法である。また、必要なことは、処理室内でワークピース支持体を、処理室の外にある可動キャリッジから分離する方法である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
垂直方向の急速加熱処理システムは、処理室と、該処理室の内部領域に伸びるエレベータ構造を含んでいる。本発明は、処理室内のワークピースの垂直方向の移動を提供する処理室の外部で、処理室内部領域に伸び、処理室内のワークピース及びキャリッジを支持するエレベータ構造の部分の機械的分離を提供するものである。
【０００９】
本発明の一実施形態において、垂直方向の急速加熱処理システムは、処理室と、処理室内でワークピースを可動に支持するため処理室内へ伸びるエレベータ構造とを含んでいる。エレベータ構造は、ワークピースを支持するためのワークピース支持体及び処理室内に伸び、前記ワークピース支持体に結合されるエレベータシャフトを含んでいる。処理室外側で、エレベータシャフトの端部は、選択された磁気極性を有している。上記エレベータ構造は、また、処理室内でワークピースの垂直方向の移動を提供するために、シャフトに結合された可動キャリッジを含んでいる。上記キャリッジは、選択された磁気極性を有するシャフト支持体を含んでいる。上記シャフト支持体は、反発磁気力がエレベータシャフトの端部間の間隙を維持するように、エレベータシャフトの極性を持つ端部の近くに位置し、上記シャフトは、上記シャフト支持体及びエレベータシャフトが、移動径路に沿って垂直方向に動くように支持する。
【００１０】
本発明の他の実施形態では、エレベータチューブポジショニングシステムは、処理室内のワークピース及びワークピース支持体に結合するエレベータチューブを支持し、処理室の外部に伸びるワークピース支持体を含んでいる。処理室の外部で、エレベータの端部は、選択された磁気極性を有している。エレベータチューブポジショニングシステムは、また、処理室内でワークピースの垂直移動を与えるために、エレベータシャフトに結合された可動キャリッジを含んでいる。上記キャリッジは、選択された磁気極性を有する支持体を含んでいる。上記シャフト支持体は、エレベータシャフトの磁気極性のある端部に隣接して位置し、その結果、磁気反発力がエレベータシャフトの端部間の間隙を維持し、上記シャフトは、上記シャフト支持体及びエレベータシャフトが、移動径路に沿って垂直方向に動くように支持する。
これら及び他の目的、利点、及び本発明の例となる実施形態は、添付の図面とともに、詳細に記載されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図１は、半導体ウエハのような、半導体ウエハのようなワークピースを熱的に処理する、柱状の高温壁システムを使用する急速加熱処理（RTP）システム１０を説明している。上記システムは、概略１２で示される処理室と、概略１４で示されるエレベータチューブポジショニングシステムを含む。ワークピース１６は、エレベータチューブポジショニングシステム１４のワークピース支持体１８上に配置される。上記ワークピース１６は、室壁２２の後部の発熱体２０を加熱することによって作り出される温度傾斜を有する処理室１２中を、エレベータチューブポジショニング１４によって垂直方向に移動する。図１において、エレベータチューブポジショニングシステム１４の二つの位置、ワークピース支持体１８の垂直方向の底部の位置が実線で、一方、ワークピース支持体１８の垂直方向の高部の位置が破線で示されている。
【００１２】
発熱体２０により、ワークピース１６が加熱される。処理室１２内でワークピース１６の位置づけと加熱は、制御電子回路（図示されない）によって制御される。ワークピース１６の処理中、処理室の内部領域１５は、ポンプ装置（図示されない）によって所望の減圧状態に維持される。
【００１３】
ワークピース支持体１８に加えて、上記エレベータチューブポジショニングシステムは、エレベータチューブアッセンブリ２４（図２によく示されている）を含み、それは処理室１２内で垂直移動のためのワークピース支持体１８を支持している。上記エレベータチューブアッセンブリ２４は、処理室１２の床２８内の開口２７中に突出するエレベータチューブ２６を含んでおり、処理室の床開口に配置されるカップリング２９によって垂直移動を支持している。エレベータチューブ２６は、処理室１２内の金属汚染を防止するために、好ましくはセラミックベース材料から作られ、それは処理室１２内で高温に耐えられる。好ましくは、セラミックベース材料は、石英である。他の可能なセラミックベース材料は、アルミナである。
【００１４】
カップリング（図１）は、空気軸受３０と、周囲に適合する部材３４とを含む。空気軸受３０は、該軸受内にエレベータチューブ２６を集中させ、処理室内部領域１５内への気体の流れを防止する。上記軸受３０は処理室の床開口２７内に取り付けられ、エレベータチューブ２６の周囲に同軸に配置される。内部軸受表面３２は、上記チューブ２６の外表面に密接に近接している。ガスポートは、上記チューブ２６と内部軸受表面３２間のガス流によって決められるガスカーテンへ圧力ガスを供給する。上記ガスカーテンは、処理室内への周囲の空気の侵入を防止する。上記適合部材３４は、空気軸受３０に隣接し、空気軸受３０と、処理室の床２８との間に配置され、もしエレベータチューブ２６が内部軸受表面３２と接触する時は、生じる力を吸収する。適合部材３４は、金属ベローズであってもよい。
【００１５】
もしチューブ２６が、その移動径路に沿って移動中に、カップリング２９の中心CLに対して横方向に動くならば、チューブ２６は上記ガスカーテン内で圧力変化を引き起こして空気軸受３０を押す。周囲の適合部材３４は、それに応じて横方向に偏向し、チューブ２６の力を吸収し、チューブ２６に対してガスカーテンの圧力が積極的に中心に働くようにする。このように、軸受３０に対してチューブ２６の横方向の移動は、チューブ２６と軸受３０との間の接触力を減少するように制限される。適切なカップリングは、２００３年８月２２日にアメリカ合衆国に出願された出願番号１０／６４６，２２８に開示されている。出願番号１０／６４６，２２８は、本発明の出願人に譲り渡されており、参照することにより、完全に組み込まれている。
【００１６】
エレベータチューブポジショニングシステム１４は、また、エレベータチューブ２６に結合され、チューブ２６の移動を提供するキャリッジアッセンブリ４０を含む。外部源からワークピース１６へ伝えられる振動を最小にするために、本発明において、エレベータチューブ２６は、キャリッジアッセンブリ４０から機械的に隔離されている。機械的つながりの代わりに、キャリッジアッセンブリは、下記に説明するように磁気反発力により、移動径路に沿って垂直方向にエレベータチューブ２６を移動する。キャリッジアッセンブリ４０とエレベータチューブ２６は物理的に離れているので、キャリッジアッセンブリが外部源から受ける如何なる振動も、エレベータチューブ２６に伝えられず、それゆえ、ワークピース１６に伝わらない。
【００１７】
キャリッジアッセンブリ４０は、制御電子回路の制御の下で、エレベータチューブ２６及び垂直方向の移動径路に沿ってワークピース１８を移動するために、一組のレール４６（図１）を横断するキャリッジ４２を含む。キャリッジ４２の付着は、エレベータあるいはシャフト支持体４４である。シャフト支持体４４は、図３に断面で示される円筒型あるいは環状の磁石５０を含む。円筒型あるいは環状の磁石５２は、エレベータチューブ２６を端部５５に付着する。磁石５０，５２の極性は、両磁石が互いに向き合う表面に沿って同じ極性を有するように配置される。図３において、例えば５４、５６の両表面は、Ｎ極性を有するものとして示されている。もちろん、両表面５４，５６は、Ｓ極性を有していてもよい。磁石５０，５２の強さは、同様な極性の表面間の磁気反発力が、表面５４，５６間のスペースあるいはギャップを生じるのに十分である。要するに、磁石５０，５２間の磁気反発力のため、エレベータチューブ２６は‘浮かび’、シャフト支持体４４から機械的に隔離される。
【００１８】
磁石５０，５２は、汚染を防止するためにそれぞれのプラスチックシェル６０，６２内に配置される。磁石５０，５２の磁力は、エレベータチューブ２６の最大加速中、表面５４，５６が、決して互いに接触しないように選択される。
【００１９】
シャフト支持体４４の上部表面４８へは、チューブ２６の外表面と空気軸受６６の内表面との間で、ガスクッションあるいはカーテンを形成することによって、エレベータチューブ２６をカップリング２９の中心線ＣＬに対して集中し、垂直方向に一直線に保つように機能する空気軸受６６が付着される。
図４に示されるように、ガスクッションを形成するために、ガス供給源（図示されていない）からのガスは、吸気ポート６８中に導かれ、エレベータチューブ２６の外表面と軸受６６の間の隙間であるガスカーテン領域７２中へ、吸気口７０の同心円状の輪（コンセントリックリング）を介して流れる。供給されたガス流は、各吸気口７０から排気口７４の相応するコンセントリックリングへ、上方へ流れる。排気口７４を経て流れるガスは、出口ポート７６を通って流れる。
【００２０】
（第２の実施形態）
本発明の好ましい第２の実施形態であるエレベータチューブポジショニングシステム１４´が、図５に概略の断面図で示されている。この実施形態において、シャフト支持体４４´は、第１磁石５０´上の垂直方向に位置する第２の円筒状あるいは環状磁石５８´で拡大される。磁石５０´、５２´のような磁石５８´は、プラスチックシェル７８´内に入れられている。シャフト支持体４４´の第２磁石５８´の極性は、エレベータシャフト２６´に付着された磁石５２´の表面８０´の極性と同じである。例えば、図５に概略が見られるように、向かい合う表面５９´と８０´は、双方がＮ極性であり、一方、向かい合う表面５４´と５６´は、双方がＳ極性である。
【００２１】
磁石５０´、５２´、５８´の磁力は、エレベータチューブ２６´の最大加速中、表面５４´，５６´と表面５９´、８０´が、決して互いに接触しないように選択され、すなわち、表面５４´，５６´間に隙間５７´があり、表面５９´、８０´間に隙間８２´がある。各表面は、エレベータチューブ２６´の最大加速中、決して互いに接触しない。基本的に、磁気反発力のため、エレベータチューブ２６´の磁石５２´は、シャフト支持体４４´の磁石５０´と５８´間で‘浮かび’、その結果、エレベータシャフト２６´は、シャフト支持体４４´から機械的に隔離されている。
【００２２】
シャフト支持体４４´に付着された第２磁石５８´の目的は、磁石５０´と５２´及び５２´と５８´間に働く力のため、エレベータチューブ２６´上の先行荷重条件を生み出すためである。このように、エレベータチューブ２６´に先行荷重をかけると、先行荷重が低周波振動を除去する傾向があるので、制御システムの処理能力を増加することが可能である。また、４個の磁石の組合せの結果として、エレベータシャフト２６´への上下方向双方の磁力があるので、先行荷重は、実際の荷重への重力の効果を減少させるのに有利である。最初の実施形態のように、カップリング（カップリングは、第１の実施形態で２９として示される）の中心線ＣＬに対して、エレベータチューブ２６´を中央に維持するように機能する空気軸受６６´が、シャフト支持体４４´の上面４８´へ付着される。
【００２３】
本発明が正確に記載されたけれども、本発明は添付の特許請求の範囲の精神又は範囲内で、開示された構造からのすべての変形及び修正を含む。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】図１は、本発明の実施形態に従う処理室及びエレベータチューブポジショニングシステムを含む急速加熱処理ユニットの概略断面図である。
【図２】図２は、図１のエレベータチューブポジショニングシステムのキャリッジアッセンブリの一部と、エレベータチューブアッセンブリの概略斜視図である。
【図３】図３は、図２のキャリッジアセンブリの一部と、エレベータチューブアッセンブリの下部部分の概略断面図である。
【図４】図４は、図２のキャリッジアッセンブリの気体軸受の概略断面図である。
【図５】図５は、本発明の好ましいエレベータチューブポジショニングシステムの第２の実施形態において、キャリッジアッセンブリの部分とエレベータチューブの下部部分の概略断面図である。
【符号の説明】
【００２５】
１０  急速加熱処理（RTP）システム
１２  処理室
１４  エレベータチューブポジショニングシステム
１６  ワークピース
１８  ワークピース支持体
２４  エレベータチューブアッセンブリ
２６  エレベータチューブ
２９  カップリング
３０  空気軸受
４４  エレベータあるいはシャフト支持体
５０，５２、５４、５６  磁石
５０´，５２´、５４´、５６´  磁石
【図１】
2008509377.tif 000003
【図２】
2008509377.tif 000004
【図３】
2008509377.tif 000005
【図４】
2008509377.tif 000006
【図５】
2008509377.tif 000007
【国際調査報告】
2008509377.tif 000008
2008509377.tif 000009