【事件の表示】
　特許第２９４８０４３号「回転式基板処理装置」の請求項１及び２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９４８０４３号の請求項１及び２に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許第２９４８０４３号に係る発明についての出願は、平成５年１月２１日に特許出願され、平成１１年７月２日にその特許の設定登録がなされ、その後、特許異議申立人北村二郎より特許異議の申立てがなされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１２年７月２８日に特許異議意見書とともに訂正請求書が提出されたものである。
　
第２　訂正の適否
１　訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は、以下の（１）ないし（５）のとおりである。
（１）　訂正事項ａ
　願書に添付された明細書（以下、「登録明細書」という。）の特許請求の範囲の請求項１を、以下のように訂正する。
　「【請求項１】基板を保持する基板保持台を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に設けるとともに、前記基板保持台に保持された基板の周囲を覆うようにカップを設け、かつ、前記カップの底部に洗浄液を排出する排液手段を設けて、前記基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する回転式基板処理装置において、
　前記基板保持台の上面の所定箇所に分散して設けられた支持ピンと、
　この支持ピンによって支持された基板の裏面洗浄を行うために、その基板の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄用のノズルと、
を備え、
　前記排液手段を、平面視において、前記基板保持台に載置された前記基板の下方で、かつ、前記基板保持台の回転軸芯に近い位置に設けられた第１の排液口と、
　その第１の排液口よりも前記回転軸芯から遠い前記基板の外周縁に近い位置に設けられた第２の排液口と、
　前記第１の排液口に連通する状態で接続された排気手段と、
　から構成したことを特徴とする回転式基板処理装置。」
　
（２）　訂正事項ｂ
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００１】に記載される「その表面に純水などの洗浄処理液を供給して洗浄処理するとともにその遠心力を利用して振り切り乾燥するなどの各種の処理を行うために」を、「その表面に純水などの洗浄処理液を供給して洗浄処理するとともにその遠心力を利用して振り切り乾燥する処理を行うために」に、「処理液を排出する」を「洗浄液を排出する」にそれぞれ訂正する。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００７】に記載される「カップの底部に流下した処理液の滞留を防止して、処理液に起因する」を、「カップの底部に流下した洗浄液の滞留を防止して、洗浄液に起因する」に、「処理液の滞留をより良好に防止できる」を「洗浄液の滞留をより良好に防止できる」とそれぞれ訂正する。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００１０】に記載される「外方に飛び散った処理液」を、「外方に飛び散った洗浄液」に、「カップの底部に流下した処理液」を、「カップの底部に流下した洗浄液」にそれぞれ訂正する。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００１１】に記載される「カップの内周面に処理液が流下しても」を、「カップの内周面に洗浄液が流下しても」に訂正する。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００２４】に記載される「飛び散った処理液」を「飛び散った洗浄液」に、「流下した処理液」を「流下した洗浄液」に、「処理液がカップの底部に滞留」を「洗浄液がカップの底部に滞留」に、「処理液に起因」を「洗浄液に起因」に、それぞれ訂正する。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００２５】に記載される「流下した処理液を」を「流下した洗浄液を」に、「処理液の滞留」を「洗浄液の滞留」に、「処理液に起因」を「洗浄液に起因」に、それぞれ訂正する。
　
（３）　訂正事項ｃ
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００７】に記載される「請求項１に係る発明の回転式基板処理装置は、」の後に「基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する際に、」を加える。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００８】に記載される「排液手段を設けた回転式基板処理装置」を「排液手段を設けて、前記基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥する回転式処理」に訂正する。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００１０】に記載される「請求項１に係る発明の回転式基板処理装置の構成によれば、」の後に、「基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する際に、」を加える。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００２４】に記載される「請求項１に係る発明の回転式基板処理装置によれば、」の後に、「基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する際に、」を加える。
　
（４）　訂正事項ｄ　
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００８】に記載される「回転式基板処理装置において、」の後に、「前記基板保持台の上面の所定箇所に分散して設けられた支持ピンと、この支持ピンによって支持された基板の裏面洗浄を行うために、その基板の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄用のノズルと、を備え、」を加える。
　登録明細書の図面の簡単な説明の【符号の説明】に記載される「３…基板保持台」の後に「５…支持ピン」を、「１７…第２の排液口」の後に「１９…裏面洗浄用のノズル」を加える。
　
（５）　訂正事項ｅ
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００７】に記載される「基板へのミストの付着」を、「基板の裏面へのミストの付着」に訂正する。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００２４】に記載される「基板へのミストの付着」を、「基板の裏面へのミストの付着」に訂正する。
　
２　訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
（１）　訂正事項ａについて
　上記訂正事項ａは、特許請求の範囲の請求項１の記載中、「処理液」を「洗浄液」に限定するとともに、「回転式基板処理装置」を「基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する」ためのものである点と、「前記基板保持台の上面の所定箇所に分散して設けられた支持ピンと、この支持ピンによって支持された基板の裏面洗浄を行うために、その基板の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄用のノズルと、を備え」る点で限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的としたものに該当する。
　また、上記訂正事項ａに関連する記載として、
登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００２０】には、
「以上の構成により、角型基板２の表裏両面に洗浄液を供給して洗浄処理した後に洗浄液の供給を停止し、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理するなどに際し、基板の回転に伴って基板保持台３に載置保持された角型基板２の外周縁から飛び散った洗浄液を第１のカップ１３ａとガイドカバー１６との間に形成される空間を通じて第２の排液口１７に排出し、一方、基板の回転に伴って回転軸芯Ｐに近い側で生じた負圧に起因して発生する回転軸芯Ｐ側に向かう気流により、角型基板２の外周縁から第２および第３のカップ１３ｂ，１３ｃ上に流下した洗浄液を第１の排液口１５から速やかに排出し、洗浄液の滞留を防止して気流によりミストが角型基板２の裏面に運ばれて付着することを防止できるようになっている。」と記載され、
登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００１４】には、
「基板保持台３は、全体として矩形状に、かつ、回転軸芯Ｐから四隅および各辺に沿う三角形の開口４を形成して軽量に構成され、その上面の所定箇所に分散して支持ピン５…が設けられる」と、【００１９】には、「図中１９は、裏面洗浄用のノズルを示し、基板保持台３に載置保持された回転状態の角型基板２の裏面に、基板保持台３の開口４…を通じて洗浄液を噴出供給して裏面洗浄を行うように構成されている。」と記載されていることから、
上記訂正事項ａは、登録明細書に記載された事項であると認められ、上記訂正ａは新規事項の追加に該当しない。
　そして、回転式基板処理装置において、洗浄液の滞留と、洗浄液に起因するミストの基板への付着を防止するという本件特許に係る発明の目的は、この訂正によっても変わらないから、上記訂正事項ａは、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　
（２）　訂正事項ｂについて
　上記訂正事項ｂは、訂正事項ａにおいて、特許請求の範囲の請求項１の記載中、「処理液」を「洗浄液」に限定するのに対応して、発明の詳細な説明の記載を訂正しようとするものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的としたものに該当する。
　また、上記訂正事項ｂに関する記載として、登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００２０】には、上記第２の２（１）で示した記載があるから、上記訂正事項ｂは新規事項の追加に該当しない。
　そして、上記訂正ｂは、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　
（３）　訂正事項ｃについて
　上記訂正事項ｃは、訂正事項ａにおいて、特許請求の範囲の請求項１の記載中、「回転式基板処理装置」を「基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する」ために用いるものであることを限定するのに対応して、発明の詳細な説明の記載を訂正しようとするものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的としたものに該当する。
　また、上記訂正事項ｃに関する記載として、登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００２０】には、上記第２の２（１）で示した記載があるから、上記訂正ｂは新規事項の追加に該当しない。
　そして、上記訂正事項ｃは、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　
（４）　訂正事項ｄについて
　上記訂正事項ｄは、訂正事項ａにおいて、特許請求の範囲の請求項１の記載中、「回転式基板処理装置」を「、基板保持台の上面の所定箇所に分散して設けられた支持ピンと、この支持ピンによって支持された基板の裏面洗浄を行うために、その基板の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄用のノズルと、を備え」る点で限定するのに対応して、発明の詳細な説明の記載を訂正しようとするものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的としたものに該当する。
　また、上記訂正事項ｄに関する記載として、登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００１４】には、上記第２の２（１）で示した記載があるから、上記訂正ｄは新規事項の追加に該当しない。
　そして、上記訂正事項ｄは、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　
（５）　訂正事項ｅについて
　上記訂正事項ｅは、本件特許に係る発明において、付着を防止すべきミストの位置を、訂正前の「基板」から「基板の裏面」へと明確化するように、発明の詳細な説明の記載を訂正しようとするものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的としたものに該当する。
　また、上記訂正事項ｅに関する記載として、登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００２０】には、上記第２の２（１）で示した記載があるから、上記訂正ｄは新規事項の追加に該当しない。
　そして、上記のように、訂正事項ｅは、発明の詳細な説明において、ミストの付着位置を明確化するに過ぎないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　
３　むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する第１２６条第２項及び同条第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
第３　特許異議の申立てについての判断
１　本件発明
　本件については、上記のように訂正が認められ、本件特許の請求項１及び２に係る発明は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
（１）　請求項１
　「【請求項１】基板を保持する基板保持台を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に設けるとともに、前記基板保持台に保持された基板の周囲を覆うようにカップを設け、かつ、前記カップの底部に洗浄液を排出する排液手段を設けて、前記基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する回転式基板処理装置において、
　前記基板保持台の上面の所定箇所に分散して設けられた支持ピンと、
　この支持ピンによって支持された基板の裏面洗浄を行うために、その基板の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄用のノズルと、
を備え、
　前記排液手段を、平面視において、前記基板保持台に載置された前記基板の下方で、かつ、前記基板保持台の回転軸芯に近い位置に設けられた第１の排液口と、
　その第１の排液口よりも前記回転軸芯から遠い前記基板の外周縁に近い位置に設けられた第２の排液口と、
　前記第１の排液口に連通する状態で接続された排気手段と、
　から構成したことを特徴とする回転式基板処理装置。」
　
（２）　請求項２
　「【請求項２】請求項１に記載のカップにおける基板保持台の回転軸の上端側から第１の排液口にわたる内周面を、前記第１の排液口側程下方に位置する急勾配の傾斜面に構成してある回転式基板処理装置。」
　
２　特許異議の申立て理由の概要
　特許異議申立人北村二郎は、甲第１号証として特開平２−１５４４１５号公報を、甲第２号証として特開昭５９−９０９２８号公報を提示し、登録明細書の請求項１に係る発明は甲第１号証に記載された発明であり、登録明細書の請求項２に係る発明は甲第１及び第２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、当該発明に係る特許は取り消されるべきものである旨を主張する。
　
３　当審が通知した取消の理由の通知の概要
　当審が通知した取消の理由は、特許異議申立人北村二郎が提示した上記甲第１及び甲第２号証を引用し、登録明細書の請求項１に係る発明は甲第１号証に記載された発明であり、登録明細書の請求項２に係る発明は甲第１及び第２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、当該発明に係る特許は、特許法第２９条第１項及び同条第２項の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきであるというものである。
　
４．甲号証に記載された内容
　甲第１及び甲第２号証には、それぞれ以下の記載がある。
（１）甲第１号証
　第２頁左上欄第４行から右上欄第３行に
「第３図は従来の薄膜塗布装置の要部概要図を示しており、１はウエハ−（被塗布基板），２は回転支待台，３は外囲器，４は液滴下ノズル，５は排気口，６は廃液排出口である。
　操作法はウエハ−１を真空チャック方式で回転支持台２に吸着保持した後、所要量のレジスト液を液滴下ノズル４からウエハ−１面に滴下し、次いで、回転支持台２を最初はゆっくり回転しながら次第に回転速度を高めて、レジスト液をウエハー１全面に均一な厚さに塗布し、余分のレジスト液をウエハ−１より側方に振り飛ばしてそれを廃液排出口６より排出させる。
　その際、外囲器３の底部に設けた排気口５から強制的に排気しているが、その理由はウ工ハー１周辺の端部にしばしば生じている繊維状のレジスト髭がウエハ−表面に舞い戻って付者するのを防ぐため、また、振り飛ばしたレジスト液が再びウエハ−面に舞い戻らないようにするために、そのように底部から吸引しているわけである。」と記載されている。
　
（２）甲第２号証
　第１頁右下欄第８行から第１５行に
「この発明は半導体基板，ガラス，セラミックなどの基板を回転させながら，その表面にたとえばホトレジスト液，現像液またはエッチング液などを前記基板の上方に設けたノズルから供給することにより，ホトレジスト剤の塗布，現像またはエッチングなどの表面処理を前記基板に対して行う回転式表面処理装置に関するものである。」と、
　第３頁左上欄第１３行から右上欄第８行に
「真空チャック（１１）に同心に吸着されて回転させられる被処理基板（１２）を収容する容器（２０）は，前記基板（１２）より若干大きい抜穴（２１），それに続くゆるやかな傾斜面部および曲面部をもつ上蓋（２２）を，断面形状が逆三角形状をした環状底部（２３）（２３’）にはめあわせて形成されている。環状底部（２３）（２３’）は，その外周部は上方に折り曲げられて上蓋（２２）との係合部をなし，その内周部は同様に折り曲げられて真空チャック（１１）のまわりの案内外筒部（２４）をなしている。案内外筒部（２４）には，真空チャック（１１）の回転軸を同心に内蔵する外套管（２５）と，それに接続され，真空チャック（１１） を囲む案内内筒部（２６）とが収められており，さらにその外周にゆるやかな傾斜面の外縁部（２７’）と前記基板（１２）の外径より若干小さな環状の受皿（２７’’）とからなる整流板（２７）がはめこまれている。」と、
　第４頁左下欄第１５行から右下欄第１行に
「霧状廃液の一部は上蓋（２２），整流板（２７）のそれぞれ傾斜面部や環状ダクト（１５）の内壁面に付着するが，この付着廃液は液滴に成長し，環状ダクト（１５）の一部をなす底部（２３）の環状谷底に流下し，環状底部（２３’）側へ集まるが，排気ダクト（１４）が，若干谷底より突出させてあるので，集まった廃液はすべてドレン管（１８）から外部へ排出される。」と記載されている。
　
５　本件特許の請求項１に係る発明と上記甲号証との対比判断
　本件特許の請求項１に係る発明と、上記甲第１及び第２号証に記載された発明とを対比すると、本件請求項１に係る発明が「基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する回転式基板処理装置」に関するものであるのに対して、甲第１号証に記載された発明はレジスト膜などの薄膜の塗布に用いる薄膜塗布装置に関するものであり、また甲第２号証に記載された発明はホトレジスト剤の塗布，現像またはエッチングなどの表面処理を基板に対して行う回転式表面処理装置に関するものである点で異なる。
　また、本件特許の請求項１に係る発明の必須の構成である回転式基板処理装置に、基板保持台の上面の所定箇所に分散して設けられた支持ピンと、この支持ピンによって支持された基板の裏面洗浄を行うために、その基板の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄用のノズルとを備える点が、甲第１及び甲第２号証には記載されていない。そして、本件特許の請求項１に係る発明は、同構成を備えることによって、基板保持台に保持された基板の洗浄後、乾燥処理する際に、洗浄液のカップ底部への滞留と、洗浄液ミストの基板への付着の防止という明細書記載の効果を奏するものである。
　故に、本件特許の請求項１に係る発明は、甲第１又は甲第２号証に記載された発明ではなく、また甲第１及び甲第２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもない。
　
６　本件特許の請求項２に係る発明と上記甲号証との対比判断
　本件の請求項２は、請求項１を引用して記載されており、本件特許の請求項２に係る発明は、本件特許の請求項１に係る発明の構成を全て備えた上で、さらに限定を加えたものであるから、前記のとおり、本件特許の請求項１に係る発明が甲第１又は第２号証に記載された発明ではなく、また甲第１及び甲第２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない以上、本件特許の請求項２に係る発明も甲第１又は甲第２号証に記載された発明ではなく、また甲第１及び甲第２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　
７　むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、本件特許の請求項１及び２に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件特許の請求項１及び２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年８月２８日（２０００．８．２８）
【訂正の要旨】
　　　　　　　　　　　　　　訂正の要旨
１．訂正事項ａ
　特許第２９４８０４３号発明の明細書の特許請求の範囲の請求項１を、特許請求の範囲の減縮を目的として、以下のように訂正する。
「【請求項１】基板を保持する基板保持台を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に設けるとともに、前記基板保持台に保持された基板の周囲を覆うようにカップを設け、かつ、前記カップの底部に洗浄液を排出する排液手段を設けて、前記基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する回転式基板処理装置において、
　前記基板保持台の上面の所定箇所に分散して設けられた支持ピンと、
　この支持ピンによって支持された基板の裏面洗浄を行うために、その基板の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄用のノズルと、
を備え、
　前記排液手段を、平面視において、前記基板保持台に載置された前記基板の下方で、かつ、前記基板保持台の回転軸芯に近い位置に設けられた第１の排液口と、
　その第１の排液口よりも前記回転軸芯から遠い前記基板の外周縁に近い位置に設けられた第２の排液口と、
　前記第１の排液口に連通する状態で接続された排気手段と、
　から構成したことを特徴とする回転式基板処理装置。」
に記載される「処理液を排出する排液手段」を、特許請求の範囲の減縮を目的として、「洗浄液を排出する排液手段」に訂正する。
２．訂正事項ｂ
　同明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００１】に記載される「その表面に純水などの洗浄処理液を供給して洗浄処理するとともにその遠心力を利用して振り切り乾燥するなどの各種の処理を行うために」を、「その表面に純水などの洗浄処理液を供給して洗浄処理するとともにその遠心力を利用して振り切り乾燥する処理を行うために」に、「処理液を排出する」を、「洗浄液を排出する」に、それぞれ明瞭でない記載の釈明を自的として訂正する。
　同明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００７】に記載される「カップの底部に流下した処理液の滞留を防止して、処理液に起因する」を、「カップの底部に流下した洗浄液の滞留を防止して、洗浄液に起因する」に、「処理液の滞留をより良好に防止できる」を、「洗浄液の滞留をより良好に防止できる」とそれぞれ明瞭でない記載の釈明を目的として訂正する。
　同明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００１０】に記載される「外方に飛び散った処理液」を、「外方に飛び散った洗浄液」に、「カップの底部に流下した処理液」を、「カップの底部に流下した洗浄液」にそれぞれ明瞭でない記載の釈明を目的として訂正する。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００１１】に記載される「カップの内周面に処理液が流下しても」を、明瞭でない記載の釈明を目的として、「カップの内周面に洗浄液が流下しても」に訂正する。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００２４】に記載される「飛び散った処理液」を、「飛び散った洗浄液」に、「流下した処理液」を、「流下した洗浄液」に、「処理液がカップの底部に滞留」を、「洗浄液がカップの底部に滞留」に、「処理液に起因」を、「洗浄液に起因」に、それぞれ明瞭でない記載の釈明を目的として訂正する。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００２５】に記載される「流下した処理液を」を「流下した洗浄液を」に、「処理液の滞留」を「洗浄液の滞留」に、「処理液に起因」を「洗浄液に起因」に、それぞれ明瞭でない記載の釈明を目的として訂正する。
３．訂正事項ｃ
　明瞭でない記載の釈明を目的として、登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００７】に記載される「請求項１に係る発明の回転式基板処理装置は、」の後に「基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する際に、」を加える。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００８】に記載される「排液手段を設けた回転式基板処理装置」を、明瞭でない記載の釈明を目的として、「排液手段を設けて、前記基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥する回転式処理」に訂正する。
　明瞭でない記載の釈明を目的として、登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００１０】に記載される「請求項１に係る発明の回転式基板処理装置の構成によれば、」の後に、「基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する際に、」を加える。
　明瞭でない記載の釈明を目的として、登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００２４】に記載される「請求項１に係る発明の回転式基板処理装置によれば、」の後に、「基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する際に、」を加える。
４．訂正事項ｄ
　明瞭でない記載の釈明を目的として、登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００８】に記載される「回転式基板処理装置において、」の後に、「前記基板保持台の上面の所定箇所に分散して設けられた支持ピンと、この支持ピンによって支持された基板の裏面洗浄を行うために、その基板の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄用のノズルと、を備え、」を加える。
　明瞭でない記載の釈明を目的として、登録明細書の図面の簡単な説明の【符号の説明】に記載される「３…基板保持台」の後に「５…支持ピン」を、「１７…第２の排液口」の後に「１９…裏面洗浄用のノズル」を加える。
５．訂正事項ｅ
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００７】に記載される「基板へのミストの付着」を、明瞭でない記載の釈明を目的として、「基板の裏面へのミストの付着」に訂正する。
　登録明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００２４】に記載される「基板へのミストの付着」を、明瞭でない記載の釈明を目的として、「基板の裏面へのミストの付着」に訂正する。
（５４）【発明の名称】
回転式基板処理装置
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】　基板を保持する基板保持台を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に設けるとともに、前記基板保持台に保持された基板の周囲を覆うようにカップを設け、かつ、前記カップの底部に
洗浄
て、前記基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する
　前記基板保持台の上面の所定箇所に分散して設けられた支持ピンと、
　この支持ピンによって支持された基板の裏面洗浄を行うために、その基板の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄用のノズルと、
を備え、
　前記排液手段を、平面視において、前記基板保持台に載置された前記基板の下方で、かつ、前記基板保持台の回転軸芯に近い位置に設けられた第１の排液口と、
　その第１の排液口よりも前記回転軸芯から遠い前記基板の外周縁に近い位置に設けられた第２の排液口と、
　前記第１の排液口に連通する状態で接続された排気手段と、
　から構成したことを特徴とする回転式基板処理装置。
　　【請求項２】　請求項１に記載のカップにおける基板保持台の回転軸の上端側から第１の排液口にわたる内周面を、前記第１の排液口側程下方に位置する急勾配の傾斜面に構成してある回転式基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　　【産業上の利用分野】
　本発明は、半導体基板や液晶表示パネル用のガラス基板や半導体製造装置用のマスク基板などの基板を回転させながら、その表面に純水などの洗浄処理液を供給して洗浄処理するとともにその遠心力を利用して振り切り乾燥する
処
洗浄
　【０００２】
　　【従来の技術】
　この種の従来の回転式基板処理装置における排液手段としては、次のように構成されているものが知られている。
　【０００３】
Ａ．第１従来例
　特開平４−６１９５５号公報に開示されているように、カップの底部に、基板の外周縁よりもやや回転軸芯側に寄った位置の下方箇所に回転軸芯を中心として環状に樋部を形成するとともに、その樋部の所定箇所に廃液排出口（排液口）を形成し、基板の外周縁から飛び散ったり流下した処理液を樋部で集めるとともに樋部から廃液排出口に流して排出するように構成されている。
　【０００４】
Ｂ．第２従来例
　特開平４−１４４１２１号公報に開示されているように、基板の外周縁よりもやや回転軸芯側に寄った位置の下方において、カップの底部に余剰のフォトレジスト液を排出する排液孔（排液口）を形成するとともに、カップの側面や基板の外周縁よりも外側の下方に排気孔を形成し、処理液としてのフォトレジスト液を基板の表面に供給してフォトレジスト膜を形成する際に、カップ内の排気を効率良く行うとともに基板の外周縁から流下した余剰のフォトレジスト液を排液孔から排出するように構成されている。
　【０００５】
　　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、上述従来例の場合に、次のような欠点があった。
ａ．第１従来例の欠点
　樋部に流下した処理液が廃液排出口に到達して基板の下部空間から排出されるまでに、大半の処理液が樋部に沿って流れることになる。一方、基板を回転するに伴って、その回転軸芯に近い箇所で負圧が生じ、その負圧に起因してカップの底部から上方に向かう気流が発生し、その気流の一部と樋部を流れる処理液とが接触し、気流中に処理液の一部がミストとなって混入するとともに、基板の裏面などまで運ばれ、ミストが基板に付着する欠点があった。
　【０００６】
ｂ．第２従来例の欠点
　排気効率を高めているとはいうものの、基板を回転するに伴って、その回転軸芯に近い箇所で負圧が生じることを防止することはできず、カップの底部を流れる処理液と気流の一部とが接触し、前述第１従来例と同様に、ミストが基板に付着する欠点があった。
　【０００７】
　本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、請求項１に係る発明の回転式基板処理装置は、
基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する際に、
洗浄
洗浄
の裏面
洗浄
　【０００８】
　　【課題を解決するための手段】
　請求項１に係る発明の回転式基板処理装置は、上述のような目的を達成するために、基板を保持する基板保持台を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に設けるとともに、前記基板保持台に保持された基板の周囲を覆うようにカップを設け、かつ、前記カップの底部に
洗浄
て、前記基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する
前記基板保持台の上面の所定箇所に分散して設けられた支持ピンと、この支持ピンによって支持された基板の裏面洗浄を行うために、その基板の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄用のノズルと、を備え、
　【０００９】
　また、請求項２に係る発明の回転式基板処理装置は、上述のような目的を達成するために、請求項１に記載のカップにおける基板保持台の回転軸の上端側から第１の排液口にわたる内周面を、第１の排液口側程下方に位置する急勾配の傾斜面に構成する。
　【００１０】
　　【作用】
　請求項１に係る発明の回転式基板処理装置の構成によれば、
基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する際に、
洗浄
洗浄
　【００１１】
　また、請求項２に係る発明の回転式基板処理装置の構成によれば、基板の回転に伴う負圧に起因して発生する回転軸芯側に向かう気流により、第１の排液口よりも回転軸芯側でカップの内周面に
洗浄
　【００１２】
　　【実施例】
　次に、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。
　【００１３】
　図１は本発明に係る回転式基板処理装置の第１実施例を示す全体概略縦断面図、図２は要部の平面図、図３は要部の断面図であり、ケーシング１内に、角型基板２を載置保持する基板保持台３が鉛直方向の軸心Ｐ周りに水平回転可能に設けられている。
　【００１４】
　基板保持台３は、全体として矩形状に、かつ、回転軸芯Ｐから四隅および各辺に沿う三角形の開口４を形成して軽量に構成され、その上面の所定箇所に分散して支持ピン５…が設けられるとともに、角型基板２の四隅それぞれに一対づつの位置決めピン６，６…が設けられ、かつ、モータ支持台７に取り付けられた電動モータ８と基板保持台３とが、出力軸９および基板取付部材１０を介して連結され、位置決めピン６，６…によって角型基板２が基板保持台３と一体的に水平回転されるようになっている。
　【００１５】
　ケーシング１の下部とモータ支持台７とにわたってドーナツ状の廃液回収ケース１１が設けられ、その底部の周方向に所定間隔を隔てた６箇所に排液筒１２が接続されている。
　【００１６】
　基板保持台３に載置保持された角型基板２の外側方を覆う状態で、ドーナツ状の第１のカップ１３ａがケーシング１に取り付けられ、そして、ケーシング１および廃液回収ケース１１の外周側に、基板保持台３の回転軸芯Ｐ側程下方に向かう第１の傾斜面Ｆ１を有する第２のカップ１３ｂが取り付けられるとともに、出力軸９を回転自在に保持する軸受筒体１４の上端に、基板保持台３の回転軸芯Ｐから離れる側程下方に向かう急勾配の第２の傾斜面Ｆ２を有する第３のカップ１３ｃが取り付けられ、かつ、第３のカップ１３ｃの外周縁を第２のカップ１３ｂの内周縁の下方に潜り込ませ、第２のカップ１３ｂと第３のカップ１３ｃとの間に、環状の第１の排液口１５が形成されている。
　【００１７】
　また、第１のカップ１３ａの下方に、ドーナツ状のガイドカバー１６が設けられ、かつ、第１のカップ１３ａとガイドカバー１６との間に形成される空間に連通する状態で、ケーシング１の底部に第２の排液口１７と排気口１８とが接続されている。
　【００１８】
　前記第１のカップ１３ａと第２および第３のカップ１３ｂ，１３ｃ、ならびに、ケーシング１の底部から成る構成をしてカップと総称する。このカップとしては、ケーシング１の底部を利用せずに、例えば、第１のカップ１３ａと第２のカップ１３ｂとを一体に形成するものでも良い。
　【００１９】
　図中１９は、裏面洗浄用のノズルを示し、基板保持台３に載置保持された回転状態の角型基板２の裏面に、基板保持台３の開口４…を通じて洗浄液を噴出供給して裏面洗浄を行うように構成されている。図示しないが、ケーシング１の上部側において、角型基板２の表面に洗浄液を噴出供給して表面の洗浄を行うノズルが角型基板２上の洗浄位置とそれより外方の非洗浄位置とに出退変位可能に設けられている。
　【００２０】
　以上の構成により、角型基板２の表裏両面に洗浄液を供給して洗浄処理した後に洗浄液の供給を停止し、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理するなどに際し、基板の回転に伴って基板保持台３に載置保持された角型基板２の外周縁から飛び散った洗浄液を第１のカップ１３ａとガイドカバー１６との間に形成される空間を通じて第２の排液口１７に排出し、一方、基板の回転に伴って回転軸芯Ｐに近い側で生じた負圧に起因して発生する回転車由芯Ｐ側に向かう気流により、角型基板２の外周縁から第２および第３のカップ１３ｂ，１３ｃ上に流下した洗浄液を第１の排液口１５から速やかに排出し、洗浄液の滞留を防止して気流によりミストが角型基板２の裏面に運ばれて付着することを防止できるようになっている。
　【００２１】
　前記排気口１８には、図示しないが、気液分離器を備えた排気手段が接続され、更に、排液筒１２…および第２の排液口１７それぞれにも、同様に気液分離器を備えた排気手段が接続され、前述した、基板の回転に伴って回転軸芯Ｐに近い側で生じた負圧に起因して発生する気流が上昇することを排気吸引力によって防止するように構成されている。
　【００２２】
　図４は、本発明に係る回転式基板処理装置の第２実施例を示す全体概略縦断面図であり、第１実施例と異なるところは次の通りである。
　すなわち、第２および第３のカップ１３ｂ，１３ｃの上方を覆う状態で、多数の通気孔２０…が形成されたパンチングメタル２１が設けられ、基板の回転に伴って回転軸芯Ｐに近い側で生じた負圧に起因して発生する気流をパンチングメタル２１に積極的に接触させ、その気流によって回転軸芯Ｐ側に運ばれる洗浄液をパンチングメタル２１に付着分離させるとともに、その付着した洗浄液を通気孔２０…から速やかに流下させ、環状の第１の排液口１５から廃液回収ケース１１ならびに排液筒１２を通じて排出できるように構成されている。他の構成は第１実施例と同じであり、同一番号を付すことによってその説明は省略する。
　【００２３】
　本発明は、角型基板２に限らず、円形基板を処理する回転式基板処理装置にも適用できる。
　【００２４】
　　【発明の効果】
　以上の説明から明らかなように、請求項１に係る発明の回転式基板処理装置によれば、
基板保持台に保持された基板に対して、洗浄液を供給して洗浄処理した後に、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する際に、
洗浄
洗浄
洗浄
洗浄
洗浄
の裏面
　【００２５】
　また、請求項２に係る発明の回転式基板処理装置によれば、第１の排液口よりも回転軸芯側でカップの内周面に流下した
洗浄
洗浄
洗浄
【図面の簡単な説明】
　　【図１】
　本発明に係る回転式基板処理装置の第１実施例を示す全体概略縦断面図である。
　　【図２】
　要部の平面図である。
　　【図３】
　要部の断面図である。
　　【図４】
　本発明に係る回転式基板処理装置の第２実施例を示す全体概略縦断面図である。
　　【符号の説明】
　　　２…角型基板
　　　３…基板保持台
　　　５…支持ピン
　１３ａ…第１のカップ
　１３ｂ…第２のカップ
　１３ｃ…第３のカップ
　　１５…第１の排液口
　　１７…第２の排液口
　　１９…裏面洗浄用のノズル
　　Ｆ２…第２の傾斜面
　　　Ｐ…回転軸芯