【事件の表示】
　特許第２９１８５８９号「露光装置」の請求項１および２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９１８５８９号の請求項１に係る特許を取り消す。
　同請求項２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本件特許第２９１８５８９号に係る発明は、平成１年１２月１５日に特許出願され、平成１１年４月２３日にその特許の設定登録がされ、その後、異議申立人株式会社ニコンより特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年６月２０日に意見書が提出されたものである。
１．１　異議申立ての概要
　異議申立人株式会社ニコンは、甲第１号証（特開平１−１７００２２号公報）、甲第２号証（特開昭６１−２８７２２９号公報）、甲第３号証（特開昭６１−４８９２３号公報）及び甲第４号証（特開昭５８−１０３１３６号公報）を提出し、本件請求項１及び２に係る発明は、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、本件請求項１及び２に係る特許を取り消すべき旨主張している。
１．２　異議申立人株式会社ニコンが提出した甲第１号証の内容
　甲第１号証の第２頁右上欄第１６行〜第１８行には「第１図は本発明の実施例による姿勢制御装置が適用されるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置の構成を示す。」と記載されている。
　甲第１号証の第３頁右下欄第９行〜第４頁右下欄第１５行には「次に本実施例の動作について説明するが、本実施例では従来と同様に予め測定しておいたウェハ表面を所定の平面（ここでは最良像面）と平行（もしくは一致）にするために、…第３図は上記オープン制御とモニタリング制御のいずれか一方を実行して、ウェハＷの表面全体と最良結像面とを平行に一致させるグローバルレベリングの基本的なシーケンスを表わすフローチャート図である。…次に制御部３６は、ｘｙステージ８を移動させて、ウェハＷのほぼ中心が投影レンズＰＬの光軸位置にくるように位置決めし、その位置でフオーカスセンサーから得られるフォーカス信号（Ｓカーブ信号）がＯＶになるようにＺステージを上下動させる。Ｚステージの上下動が停止したら、その高さ位置を保って次のステップ１０２を実行する。…次に、予め指定しておいたウェハＷ上の複数の測定点Ｐｉ（ｉ＝１、２、３…）の１つに、フォーカスセンサーのスリット像が投影されるように ｘｙステージ８を位置決めする。…以上の動作を複数の測定点Ｐｉの全てに対して同様に繰り返し、各測定点Ｐｉのウェハ中心点に対する高さ位置を測定する。…次に制御部３６は、複数の測定点Ｐｉの高さ位置と、各測定点Ｐｉのｘｙ座標系上の位置、すなわち測定点Ｐｉの３次元座標値に基づいて、ウェハ表面のｎ次平面方程式（現在の平面式）を算出する。…次に、投影レンズＰＬの最良結像面に相当した目標とする平面方程式（予め記憶されているものとする）と、先に求めた現在の１次平面方程式とを比較し、目標平面に対してウェハ表面がどれぐらい傾いているかを算出する。…次に算出された相対的な傾き（ズレ量）が許容範囲か否かを判定する。この許容範囲の設定は、投影レンズＰＬの焦点深度、ショット領域の大きさ、ウェハＷの大きさ等を考慮して行なわれる。ここで許容範囲に納まっていると判定されると、制御部３６はステップ１２０にジャンプし、ハービング駆動部３８を高さ測定モードから追従モードに切替えてレべリング動作を終了する。許容範囲外のときはステップ１１０を実行する。」と記載されている。
　甲第１号証の第５頁左上欄第３行〜右上欄第６行には「まず、ステップ１０４で求められたウェハ表面の現在の平面方程式に基づいて、レベリング駆動軸であるＡ軸とＢ軸との夫々の現在の平面との交点の高さ位置Ｔａ、Ｔｂを算出する。…さらに制御部３６は、ウェハ表面を目標平面と合致させたときのＡ軸とＢ軸の各高さ位置Ｔａ′、Ｔｂ′を同様に算出し、現在の高さ位置との差Ｓａ、Ｓｂを求める。…次に制御部３６は駆動系１１に設けられているポテンショメータが現在値からＳａだけ変化するようにＡ軸をサーボ制御により上下動させる。…以上のステップ１１６によって、ウェハＷのオープン制御によるグローバルレベリングが終了する」と記載されている。
　甲第１号証の第７頁左上欄第９行〜第１７行には「尚、ステップ１２０でハービング駆動部３８を追従モードに戻すまでは、レベリング後のウェハ表面と投影レンズＰＬの最良結像面とは正確に平行にはなるものの、かならずしも合致しているとは限らない。従ってステップ１２０で追従モードに戻すことによって、それ以後はフォーカスセンサーで検出されたフォーカス信号に基づいてＺステージをサーボ制御することで最良結像自体の変動によらず常に合焦状態が維持できる。」と記載されている。
　甲第１号証の第７頁左下欄第５行〜第８頁右下欄第１５行には「…第６図中の測定点（ショット）Ｐ１はウェハＷのほぼ中心に位置し、点（ショット）Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５は点Ｐ１からほぼ等距離で４方向に位置するように定められ、点（ショット）Ｐ６〜Ｐ１５はウェハ表面の周辺付近に位置するように定められる。…またウェハによっては第８図に示すように全体的に中央部がふくらんでそっている場合もある。第８図は第６図中の点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ４、Ｐ６、Ｐ１１を含む線でウェハを切った断面を表わす。このようなウェハの場合、最小二乗法により１次平面方程式で近似されるウェハ表面は平面Ａ１、Ｂ１、Ｃ１のように部分的にはウェハ表面と平行となるものの、多くの部分ではかならずしも平行となってはいない。そこで、このような状況に対応するため、グローバルレベリングの他にブロックレベリングを行なうシーケンスも設けておくとよい。ブロックレべリングとは、ウェハ表面をいくつかのブロックに分け、各ブロック毎に近似された１次平面方程式に基づいてレべリングをかけていくものである。…尚、ブロックレベリングを行なう場合、分割するブロック数を増やしていけば、ウェハ上のショット領域毎のレべリング、所謂イーチレベリング（又はＤｉｅ ｂｙ Ｄｉｅレベリング）に相当する動作も可能である。」と記載されている。
　甲第１号証の第８頁右下欄第１６行〜第９頁左上欄第８行には「また本実施例では、ウェハ表面の近似平面方程式は２次以上の式でも扱えるため、例えば第１０図に示したウェハＷのように、ウェハ表面が波打っていた場合は、多数（４点以上）の測定点Ｐｉの高さ値に基づいて、高次平面Ａ１Ｂ１Ｃ１′を決定してもよい。この場合、面Ａ１Ｂ１Ｃ１′を特定する演算処理に多少時間はかかるものの、面Ａ１Ｂ１Ｃ１′が特定された後はウェハ表面の任意のショット領域ＳＡについて最も近似された傾斜量がただちに求まるため、ショット毎にレべリングを行なうことが可能である。このことは第７図、第８図に示したウェハの場合にも同様にあてはまる。」と記載されている。
１．３　異議申立人株式会社ニコンが提出した甲第２号証の内容
　甲第２号証の第８頁右上欄第６行〜第９頁左下欄第１４行には、ステップアンドリピート方式の露光装置において、ウエハのフラットネスを求め、露光しようとしたショット位置でフラットネスが悪化している場合、警報を発生し、露光動作を停止させる旨記載されている。
１．４　異議申立人株式会社ニコンが提出した甲第３号証の内容
　甲第３号証には、第２頁左上欄第１４行〜左下欄第２０行において、１ショット毎に自動焦点合わせを行うオートフォーカス機能を有する露光装置において、前回の露光時の焦点位置と今回の焦点位置とを比較してそのずれ量が規格範囲を超えるとき警報を発し、警報が発せられた場合にその部分の露光を取り止めて次の部分での露光を行うなどして処理を進める旨記載されている。
１．５　異議申立人株式会社ニコンが提出した甲第４号証の内容
　甲第４号証には、第６頁左上欄第１行〜第７頁左上欄第１９行において、ステップアンドリピート方式の露光装置において、ウエハの近似平面をショット毎に求め、近似面とウエハ面とが所定の間隔で平行になるように、ウエハを駆動する駆動手段を備える旨記載されている。
２．異議申立に対する判断
２．１　異議申立に係る、本件請求項に係る発明
請求項1
「ステップアンドリピート方式の露光装置において、露光に先立って複数のショットにおける被露光基板表面の光軸方向への位置を検出するＡＦ検出手段と、このＡＦ検出手段の検出値に基づいて前記被露光基板表面全体の曲面形状を算出する演算手段と、この算出された曲面形状に基づいて各ショットの最適露光平面を決定する手段と、各ショットごとにそのショットの露光前にそのショットの最適露光平面を所定の露光基準面に一致させるべく前記被露光基板を駆動するＡＦ駆動手段と、を具備することを特徴とする露光装置。」
請求項２
「さらに、前記算出された曲面形状に基づいて各ショット内の曲率をチェックする手段と、この曲率が所定値を超えるショットは露光を禁止する手段とを具備する請求項１記載の露光装置。」
２．２　取消理由通知の概容
（１）．本件特許第２９１８５８９号の請求項１及び２に係る発明は、その請求項１及び２に記載されたとおりのものである。
（２）．第２９条第２項違反について
　甲第１号証：特開平１−１７００２２号公報
　甲第２号証：特開昭６１−２８７２２９号公報
　甲第３号証：特開昭６１−４８９２３号公報
　甲第４号証：特開昭５８−１０３１３６号公報
　本件請求項１及び２に係る発明は、特許異議申立人株式会社ニコンが提出した特許異議申立書に記載された理由により、上記甲第１〜４号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものである。
  よって、本件請求項１及び２に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである。
２．３　引用例の内容
　１．２〜１．５に記載のとおり。
２．４　本件請求項１及び２に係る発明（以下、それぞれ、「本件第１及び第２発明」という。）と取消理由に引用した引用例との対比
２．４．１　本件第１発明と取消理由に引用した引用例との対比
　甲第１号証記載の「第１図は本発明の実施例による姿勢制御装置が適用されるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置」、「本実施例の動作について説明するが、本実施例では従来と同様に予め測定しておいたウェハ表面を所定の平面（ここでは最良像面）と平行（もしくは一致）にする」及び「制御部３６は、ｘｙステージ８を移動させて、ウェハＷのほぼ中心が投影レンズＰＬの光軸位置にくるように位置決めし、その位置でフオーカスセンサーから得られるフォーカス信号（Ｓカーブ信号）がＯＶになるようにＺステージを上下動させる。Ｚステージの上下動が停止したら、その高さ位置を保って次のステップ１０２を実行する。…次に、予め指定しておいたウェハＷ上の複数の測定点Ｐｉ（ｉ＝１、２、３…）の１つに、フォーカスセンサーのスリット像が投影されるように ｘｙステージ８を位置決めする。…以上の動作を複数の測定点Ｐｉの全てに対して同様に繰り返し、各測定点Ｐｉのウェハ中心点に対する高さ位置を測定する。次に制御部３６は、複数の測定点Ｐｉの高さ位置と、各測定点Ｐｉのｘｙ座標系上の位置、すなわち測定点Ｐｉの３次元座標値に基づいて、ウェハ表面のｎ次平面方程式（現在の平面式）を算出する」ものであることを考慮すると、甲第１号証記載の発明は、「ステップアンドリピート方式の露光装置において、露光に先立って複数のショットにおける被露光基板表面の光軸方向への位置を検出するＡＦ検出手段と、このＡＦ検出手段の検出値に基づいて前記被露光基板表面全体の面形状を算出する演算手段」を有しており、また、甲第１号証記載の「尚、ステップ１２０でハービング駆動部３８を追従モードに戻すまでは、レベリング後のウェハ表面と投影レンズＰＬの最良結像面とは正確に平行にはなるものの、かならずしも合致しているとは限らない。従ってステップ１２０で追従モードに戻すことによって、それ以後はフォーカスセンサーで検出されたフォーカス信号に基づいてＺステージをサーボ制御することで最良結像自体の変動によらず常に合焦状態が維持できる」こと及び「最小二乗法により１次平面方程式で近似されるウェハ表面は平面Ａ１、Ｂ１、Ｃ１のように部分的にはウェハ表面と平行となるものの、多くの部分ではかならずしも平行となってはいない。そこで、このような状況に対応するため、グローバルレベリングの他にブロックレベリングを行なうシーケンスも設けておくとよい。ブロックレべリングとは、ウェハ表面をいくつかのブロックに分け、各ブロック毎に近似された１次平面方程式に基づいてレべリングをかけていくものである。…尚、ブロックレベリングを行なう場合、分割するブロック数を増やしていけば、ウェハ上のショット領域毎のレべリング、所謂イーチレベリング（又はＤｉｅ ｂｙ Ｄｉｅレベリング）に相当する動作も可能である」ことを考慮すると、甲第１号証記載の発明は、「算出された面形状に基づいて各ショットの最適露光平面を決定する手段と、各ショットごとにそのショットの露光前にそのショットの最適露光平面を所定の露光基準面に一致させる」構成を示唆している。
　そうすると、本件第１発明と甲第１号証記載の発明は、「ステップアンドリピート方式の露光装置において、露光に先立って複数のショットにおける被露光基板表面の光軸方向への位置を検出するＡＦ検出手段と、このＡＦ検出手段の検出値に基づいて前記被露光基板表面全体の面形状を算出する演算手段と、この算出された面形状に基づいて各ショットの最適露光平面を決定する手段と、各ショットごとにそのショットの露光前にそのショットの最適露光平面を所定の露光基準面に一致させるべく前記被露光基板を駆動するＡＦ駆動手段と、を具備する露光装置。」において一致し、本件第１発明が、「被露光基板表面全体の曲面形状を算出する」ものである（以下、本件第１発明の構成」という。）のに対し、甲第１号証記載の発明は、「最小二乗法により１次平面方程式で近似されるウェハ表面」を算出するか、「本実施例では、ウェハ表面の近似平面方程式は２次以上の式でも扱える」ものであることに留まり、被露光基板表面全体の曲面形状を算出するものではないこと（以下、「相違点」という。）において両者は相違する。
　上記相違点について検討すると、甲第１号証記載の発明は、「本実施例では、ウェハ表面の近似平面方程式は２次以上の式でも扱える」ものであるから、曲面を平面で近似することを示唆し、また、ウェハ表面は、一般的には曲面であることは明らかであることを考慮すると、曲面を平面で近似することに換え、曲面形状のままで算出することに何ら困難性は認められないから、本件第１発明の構成の「被露光基板表面全体の曲面形状を算出する」については、格別の意義は認められない。
　従って、本件第１発明は、甲第１号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明できたものである。
２．４．２　本件第２発明と取消理由に引用した引用例との対比
　本件第２発明の付加構成である「算出された曲面形状に基づいて各ショット内の曲率をチェックする手段と、この曲率が所定値を超えるショットは露光を禁止する手段とを具備する」点については、甲第１〜第４号証いずれにも記載及びその示唆もなく、この点において特許明細書記載の効果を有するので、本件第２発明は、甲第１〜４号証から容易に発明できたものとすることができない。
　従って、本件第２発明は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるとすることができない。
３．むすび
　以上のとおりであるから、本件第１発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本件第１発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認める。
　また、本件第２発明に係る特許については、他に取消理由を発見しない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第１及び２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年９月１日（２０００．９．１）