【事件の表示】
　特許第３０２７９０８号「カラーフィルタ製造システム」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０２７９０８号の請求項１、２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３０２７９０８号の請求項１、２に係る発明は、平成６年４月２８日に特許出願され、平成１２年２月４日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、その特許について、特許異議申立人東レ株式会社、高橋豊治、相原光政により特許異議の申立てがなされ、取消の理由が通知され、その指定期間内である平成１３年２月２１日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は以下の（イ）ないし（チ）のとおりである。
訂正事項（イ）
　特許請求の範囲について、
「【請求項１】一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システムにおいて、搬入側の単一搬入処理ラインＬａより分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上に、一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を配備し、各々処理ラインＬｂ を搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流させて製造することを特徴とするカラーフィルタ製造システム。
【請求項２】
　前記搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａを設ける請求項１記載のカラーフィルタ製造システム。
【請求項３】
　前記搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍｂを設ける請求項１記載のカラーフィルタ製造システム。
【請求項４】
　前記搬入側の単一搬入処理ラインＬａにフィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａと、前記搬出側の単一搬出処理ラインＬｃにフィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍｂとを設ける請求項１記載のカラーフィルタ製造システム。」を
「【請求項１】一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システムにおいて、搬入側の単一搬入処理ラインＬａより分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上に、一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を配備し、各々処理ラインＬｂ を搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流させて製造するカラーフィルタ製造システムであって、前記搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａを設け、かつ２以上の複数処理ラインＬｂ上の前記律速処理装置３の前段にバッファ手段Ｔａを設け、前記律速処理装置３の後段にバッファ手段Ｔｂを設けたことを特徴とするカラーフィルタ製造システム。
【請求項２】
　前記搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍｂを設ける請求項１記載のカラーフィルタ製造システム。」と訂正する。
訂正事項（ロ）
　明細書の段落【０００９】の「本発明は、一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システムにおいて、搬入側の単一搬入処理ラインＬａより分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上に、一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を配備し、各々処理ラインＬｂ を搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流させて製造することを特徴とするカラーフィルタ製造システムである。」を「本発明は、一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システムにおいて、搬入側の単一搬入処理ラインＬａより分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上に、一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を配備し、各々処理ラインＬｂ を搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流させて製造するカラーフィルタ製造システムであって、前記搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａを設け、かつ２以上の複数処理ラインＬｂ上の前記律速処理装置３の前段にバッファ手段Ｔａを設け、前記律速処理装置３の後段にバッファ手段Ｔｂを設けたことを特徴とするカラーフィルタ製造システムである。」と訂正する。
訂正事項（ハ）
　明細書の段落【００１０】の「また本発明は、上記発明において、前記搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａを設けるカラーフィルタ製造システムである。」を「また本発明は、上記発明において、前記搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍｂを設けるカラーフィルタ製造システムである。」と訂正する。
訂正事項（ニ）
　明細書の段落【００１１】を削除する。
訂正事項（ホ）
　明細書の段落【００１２】を削除する。
訂正事項（へ）
　明細書の段落【０００５】（願書に添付した明細書第２頁第２５行目）の「として場合は」を「とした場合は」と訂正する。
訂正事項（ト）
　明細書の段落【００１９】（願書に添付した明細書第６頁第４行目）の「Ｌｂ１」を「Ｌｂ２」と訂正する。
訂正事項（チ）
　明細書の段落【００３３】（願書に添付した明細書第１０頁第１３行目）の「各工程ょ」を「各工程を」と訂正する。
　
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無、及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　上記訂正事項（イ）は、訂正前の請求項数が４であったものを２項削除して請求項数を２とするものであり、その請求項１についての訂正は、訂正前の請求項１に請求項２の限定を加えるとともに、さらに願書に添付した明細書の【００２８】から【００３０】に記載されたバッファ手段Ｔａとバッファ手段Ｔｂを付加するもので特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当し、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。また、上記訂正事項（イ）の請求項２についての訂正は、訂正前の請求項４に、バッファ手段Ｔａとバッファ手段Ｔｂを付加するもので特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当し、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　上記訂正事項（ロ）についての訂正は、上記訂正事項（イ）の請求項１の訂正に対応して訂正するもので、明瞭でない記載の釈明を目的とする明細書の訂正に該当し、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　上記訂正事項（ハ）についての訂正は、上記訂正事項（イ）の請求項２の訂正に対応して訂正するもので、明瞭でない記載の釈明を目的とする明細書の訂正に該当し、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　上記訂正事項（ニ）、（ホ）についての訂正は、上記訂正事項（イ）の訂正に対応して訂正するもので、明瞭でない記載の釈明を目的とする明細書の訂正に該当し、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　上記訂正事項（へ）、（ト）、（チ）についての訂正は、誤記を訂正するものであるから明瞭でない記載の釈明を目的とする明細書の訂正に該当し、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
（３）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書き、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議申立ての理由の概要
（１）特許異議申立人東レ株式会社は、下記の甲第１、２号証を提出し、請求項１〜４に係る発明の特許は、甲第１、２号証により、特許法２９条の２の規定に違反してなされたものであるから取り消すべき旨、
　甲第１号証：特願平６−６８８１０号（特開平７−２８１１７０号公報）
　甲第２号証：実願平１−３８２７９号（実開平２−１２９３４２号公報）のマイクロフィルム
（２）特許異議申立人高橋豊治は、下記の甲第１〜４号証を提出し、請求項１〜４に係る発明の特許は、甲第１、２、４号証により、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、また、請求項１に係る発明の特許は、甲第３号証により、同法第２９条の２の規定に違反してなされたものであるから取り消すべき旨、
　甲第１号証：特開平２−１９１３５５号公報
　甲第２号証：特開昭６３−１０６２７１号公報
　甲第３号証：特願平６−６８８１０号（特開平７−２８１１７０号公報）
　甲第４号証：特開昭６３−２８７０１６号公報
（３）特許異議申立人相原光政は、下記の甲第１〜３号証を提出し、請求項１〜４に係る発明の特許は、甲第１〜３号証により、特許法２９条の２の規定に違反してなされたものであるから取り消すべき旨、それぞれ主張している。
　甲第１号証：特願平６−６８８１０号（特開平７−２８１１７０号公報）
　甲第２号証：特開平２−２１８５４０号公報
　甲第３号証：特開平２−２１５６１３号公報
　
４．本件発明
　特許第３０２７９０８号の請求項１、２に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」、「本件発明２」という。）は、平成１３年２月２１日付けの訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１、２に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　請求項１「一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システムにおいて、搬入側の単一搬入処理ラインＬａより分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上に、一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を配備し、各々処理ラインＬｂ を搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流させて製造するカラーフィルタ製造システムであって、前記搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａを設け、かつ２以上の複数処理ラインＬｂ上の前記律速処理装置３の前段にバッファ手段Ｔａを設け、前記律速処理装置３の後段にバッファ手段Ｔｂを設けたことを特徴とするカラーフィルタ製造システム。」
　請求項２「前記搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍｂを設ける請求項１記載のカラーフィルタ製造システム。」
　
５．本件発明１、２の特許について
（５−１）刊行物に記載された発明
　当審が通知した取消理由１において引用した刊行物１（特開平２−１９１３５５号公報）には、次の事項が記載されている。
「第１のウエハ処理部の後段に、複数の第２の処理部を有し、上記第１の処理部での処理の終了したウエハを、いずれか一つの第２のウエハ処理部に分岐搬送するウエハ分岐搬送装置であって、上記第１，第２のウエハ処理部の間の搬送路途中に、ウエハを搬送可能なローラを支持したターンテーブルを設け、ターンテーブルの回転によって分岐搬送方向を切り換えることを特徴とするウエハ分岐搬送装置。」（特許請求の範囲）
「従来のフォトリソグラフィ工程は、上記の一連の各処理を１ラインにて連続して実行しているが、処理部の内容によってはその前後の処理と比較して長い処理時間を要する場合もあり、このような場合には長い処理時間を要する処理部を複数配置し、この複数の同一内容処理部に半導体ウエハを分岐搬送してスループットを向上することが考えられる。」（第１頁右下欄第１１〜１８行）
「本実施例では、第３図に示すように、第１のウエハ処理部であるホットプレートＨＰと、複数例えば２台の第２の処理部である現像装置ＤＥＶとの間に、２台のウエハ分岐装置１を配置している。前記第２のウエハ処理部としては、本実施例では２つの第１，第２の現像装置ＤＥＶを設け、ホットプレートＨＰより第１の現像装置ＤＥＶへはウエハ分岐搬送装置１を介してウエハを直進搬送させ、ホットプレートＨＰより第２の現像装置ＤＥＶには、２台の前記ウエハ分岐搬送装置１にてウエハの搬送方向を２度に亘って９０度ずつ変換するようにして導いている。なお、このウエハ分岐搬送装置１と、上記各処理部であるホットプレートＨＰ、第１の現像装置ＤＥＶ、第２の現像装置ＤＥＶとのそれぞれ間に形成されているウエハ搬送部を、それぞれ第１の搬送部２，第２の搬送部３，第３の搬送部４とする。」（第２頁右下欄第９行〜第３頁左上欄第６行）
「半導体ウエハのフォトリソグラフィ工程は、レジスト塗布、露光、現像およびその間のベーキング処理等の一連の工程を有するが、この各工程の中で現像処理工程は他の工程に比べて比較的長い処理時間を要する。そこで、本実施例では現像装置ＤＥＶを２台並列に配置し、その前処理工程であるベーキング工程が終了した半導体ウエハを、ウエハ分岐搬送装置１によっていずれか一つの現像装置ＤＥＶに分岐搬送するように構成している。」（第３頁右下欄第９〜１７行）
「２台の第１，第２の現像装置ＤＥＶにて、時間をずらしてウエハの現像処理を並列処理することにより、この現像工程の前後の処理スピードを落すことなく一連のリソグラフィ工程を実施できるので、半導体ウエハに対するリソグラフィ工程のスループットを大幅に向上することが可能となる。」（第５頁左上欄第１０〜１６行）
　
　上記記載からみて、刊行物１には「半導体ウエハのフォトリソグラフィ工程において、第１の搬送部２よりウエハ分岐搬送装置１を介して分岐する第２，第３の搬送部３，４上に、他の処理工程に比べて比較的長い処理時間を要する現像装置を２台並列に配置すること」（以下、「引用発明１」という。）が記載されているものと認められる。
　
　当審が通知した取消理由１において引用した刊行物２（特開昭６３−１０６２７１号公報）には、次の事項が記載されている。
「近年、半導体素子を製造するときの種々の装置、例えば、基板の表面にフォトレジストを塗布する装置、基板のフォトレジストに所要のパターンを焼付ける装置、および基板のフォトレジストを現像する装置等の諸装置を連結して、一連の処理を自動化することが要望されている。かかる装置間にて、装置間を連続して基板を搬送するには、各装置ごとに処理時間が異なることから、各処理装置を連結する基板搬送経路内に、複数の基板を一時的に収納して処理時間の差を吸収するバッファ装置を介在させている。」（第２頁左上欄第５〜１５行）
　
　当審が通知した取消理由１において引用した刊行物４（特開昭６３−２８７０１６号公報）には、次の事項が記載されている。
「ベークユニット（３）ではウエハがヒータプレート上に乗せられ、加熱されてレジスト薄膜中に残留する溶剤が追い出される。その後ウエハはバッファユニット（４）へと送られる。このバッファユニット（４）は、前のユニットと後続のユニットとの処理時間の長短に応じてウエハを一時滞留したり、滞留しているウエハを後続のユニットへ所定のタイシングで払い出したりする動作を行う。」（第２頁左上欄第６〜１３行）
　
（５−１−１）対比・判断
　引用発明１に記載された「第１の搬送部２」、「第２，第３の搬送部３，４」及び「他の処理工程に比べて比較的長い処理時間を要する現像装置」は、それぞれ本件発明１の「搬入側の単一搬入処理ラインＬａ」、「２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）」及び「一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）」に相当する。そうすると両者は、
「搬入側の単一搬入処理ラインＬａより分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上に、一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を配備」する点で一致し、
　本件発明１が、「一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システム」であるのに対し、引用発明１は、半導体ウエハのフォトリソグラフィ工程において用いられる装置である点（以下、「相違点１」という。）
　本件発明１が、「各々処理ラインＬｂ を搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流」させるのに対し、引用発明１にはそのような記載がない点（以下、「相違点２」という。）
　本件発明１が、「搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａを設け、かつ２以上の複数処理ラインＬｂ上の前記律速処理装置３の前段にバッファ手段Ｔａを設け、前記律速処理装置３の後段にバッファ手段Ｔｂを設けた」のに対し、引用発明１にはそのような記載がない点（以下、「相違点３」という。）で相違している。
　そこで、上記相違点について検討する。
　相違点１については、本件発明１のカラーフィルタ製造システムも、引用発明１の半導体ウエハのフォトリソグラフィ工程において用いられる装置も、フォトリソグラフィ工程によりパターン形成する点で同じ技術分野に属するものであり、半導体ウエハのフォトリソグラフィ工程において用いられる装置をカラーフィルタ製造システムに適用することに格別困難性はないから、上記相違点１は実質的な差異ではない。
　相違点２については、刊行物１には、現像工程の前後の処理スピードを落すことなく一連のリソグラフィ工程を実施できることが記載されており、現像工程の前後の処理スピードを落さないために現像装置を２台並列に配置しているのであるから、現像工程の前後で分岐・合流を行うことは明らかである。したがって、相違点２については本件発明１と引用発明１との間に実質的な差異はない。
　相違点３については、刊行物２，４に、処理装置間にバッファ装置を設けて各処理装置の処理時間の差を吸収することが記載されているが、刊行物２，４に記載されたバッファ装置は処理装置間に設けられたものであるから、本件発明１の「搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａ」に相当する。しかし、本件発明１は、補助バッファ手段Ｍａを設けた上でさらに「複数処理ラインＬｂ上の前記律速処理装置の前段にバッファ手段Ｔａを設け、前記律速処理装置の後段にバッファ手段Ｔｂを設け」るのであり、このような「複数処理ラインＬｂ上の前記律速処理装置の前段にバッファ手段Ｔａを設け、前記律速処理装置の後段にバッファ手段Ｔｂを設け」ることは刊行物２，４には記載されておらず、周知・慣用の技術であるとも認められない。
　したがって、本件発明１は、刊行物１、２，４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとすることはできない。
　また、本件発明２は本件発明１を引用しているから、本件発明１と同様の理由で刊行物１、２，４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとすることはできない。
　
（５−２）先願１に記載された発明
　当審が通知した取消理由２において引用した先願１（特願平６−６８８１０号）の願書に最初に添付された明細書又は図面（特開平７−２８１１７０号公報参照）には、次の事項が記載されている。
「少なくとも２種類以上の処理装置（２）（３）（４）（５）（６）を直列に配置してなるカラーフィルタ製造装置において、製造装置を構成する処理装置（２）（３）（４）（５）（６）のうち、処理時間が長い方の処理装置（５）（６）を複数台配置するとともに、処理対象物（１）を該当する処理装置（５）（６）に供給する搬送手段（７−１）（７−２）（７−３）（７−４）（７−５）（７−６）を設け、製造装置全体としての処理能力を、製造装置を構成する処理装置（２）（３）（４）（５）（６）のうち、処理時間が短く、スループットが高い処理装置（２）（３）（４）に合せたことを特徴とするカラーフィルタ製造装置。」（【特許請求の範囲】、【請求項１】）
「洗浄装置２、乾燥装置３および冷却装置４によるガラス基板１の処理（前処理）のタクトタイムが３０秒であるから、前処理が施されたガラス基板１は、３０秒毎に冷却装置４から送り出される。そして、例えば基数番目のガラス基板１はバイパスコンベア７−１により塗布装置５に供給され、偶数番目のガラス基板１はバイパスコンベア７−１によりバイパスコンベア７−２に供給される。したがって、ガラス基板１は交互に塗布装置５、バイパスコンベア７−２に供給されることになる。即ち、塗布処理が完了する前に供給されるガラス基板１はバイパスコンベア７−２、７−３、７−４により塗布装置５をバイパスして塗布装置６に供給される。また、塗布装置５による処理が完了したガラス基板１は、バイパスコンベア７−３，７−４によりバイパスコンベア７−５に供給される。さらに、バイパスコンベア７−５により搬送されたガラス基板１または塗布装置６による処理が行なわれたガラス基板１はバイパスコンベア７−６により搬出され、次段の処理装置（例えば、加熱乾燥装置）に供給される。」（【００１６】）
「処理時間が長い方の各処理装置において、それぞれ処理対象物に対する処理を互に並行して行なわせることができ、１つの処理対象物当りに換算した処理時間を処理時間が短い処理装置の処理時間とほぼ等しくすることができるので、処理時間が短い処理装置の処理能力を十分に発揮させることができ、しかもカラーフィルタ製造装置全体としての処理能力を処理時間が短い処理装置の処理能力に近付けることができ、ひいては、各処理装置の処理能力を高めることなく、カラーフィルタの生産性を高めることができるという特有の効果を奏する。」（【００１９】、【発明の効果】）
　
　上記記載からみて、先願１には「カラーフィルタ製造装置において、冷却装置４から送り出されたガラス基板１は、バイパスコンベア７−１、７−２、７−３、７−４、７−５、７−６上に配置した処理時間が長い塗布装置５、６に交互に供給され、塗布装置５による処理が完了したガラス基板１は、バイパスコンベア７−３、７−４、７−５に供給され、さらにバイパスコンベア７−５により搬送されたガラス基板１または塗布装置６による処理が行われたガラス基板１はバイパスコンベア７−６により搬出され次段の処理装置に供給される」ことが記載されているものと認められる。
　
（５−２−１）対比・判断
　先願１に記載された「カラーフィルタ製造装置」、「冷却装置４」、「バイパスコンベア７−１、７−２、７−３、７−４、７−５、７−６」、「処理時間が長い塗布装置」及び「バイパスコンベア７−５により搬送されたガラス基板１または塗布装置６による処理が行われたガラス基板１はバイパスコンベア７−６により搬出され」は、それぞれ本件発明１の「一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システム」、「搬入側の単一搬入処理ラインＬａ」、「分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）」、「一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）」及び「処理ラインＬｂ を搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流」に相当する。そうすると両者は、
「一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システムにおいて、搬入側の単一搬入処理ラインＬａより分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上に、一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を配備し、各々処理ラインＬｂ を搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流させて製造するカラーフィルタ製造システム」で一致するが、
　先願１には「搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａを設け、かつ２以上の複数処理ラインＬｂ上の前記律速処理装置３の前段にバッファ手段Ｔａを設け、前記律速処理装置３の後段にバッファ手段Ｔｂを設けた」ことは何等記載または示唆されていないから、この点で本件発明１と先願１の願書に最初に添付された明細書又は図面に記載された発明と同一であるとすることはできない。
　また、本件発明２は本件発明１を、引用しているから、本件発明１と同じ点で先願１の願書に最初に添付された明細書又は図面に記載された発明と相違している。
　
　なお、特許異議申立人東レ株式会社および相原光政は、バッファ手段を設けることは周知・慣用の手段であると主張しているが、本件発明１は、補助バッファ手段Ｍａを設けた上でさらに「複数処理ラインＬｂ上の前記律速処理装置の前段にバッファ手段Ｔａを設け、前記律速処理装置の後段にバッファ手段Ｔｂを設け」るのであり、このような「複数処理ラインＬｂ上の前記律速処理装置の前段にバッファ手段Ｔａを設け、前記律速処理装置の後段にバッファ手段Ｔｂを設け」ることは、特許異議申立人東レ株式会社および相原光政の提出した証拠からは周知・慣用の技術であるとは認められない。したがって、特許異議申立人東レ株式会社および相原光政の主張は理由がない。
　
（５−３）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明１、２についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１、２についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年６月１５日（２００１．６．１５）
【訂正の要旨】
　【訂正の要旨】
訂正事項（イ）
　特許請求の範囲について、
「【請求項１】一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システムにおいて、搬入側の単一搬入処理ラインＬａより分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上に、一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を配備し、各々処理ラインＬｂを搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流させて製造することを特徴とするカラーフィルタ製造システム。
　【請求項２】
　前記搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａを設ける請求項１記載のカラーフィルタ製造システム。
　【請求項３】
　前記搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍｂを設ける請求項１記載のカラーフィルタ製造システム。
　【請求項４】
　前記搬入側の単一搬入処理ラインＬａにフィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａと、前記搬出側の単一搬出処理ラインＬｃにフィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍｂとを設ける請求項１記載のカラーフィルタ製造システム。」を
「【請求項１】一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システムにおいて、搬入側の単一搬入処理ラインＬａより分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上に、一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を配備し、各々処理ラインＬｂを搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流させて製造するカラーフィルタ製造システムであって、前記搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａを設け、かつ２以上の複数処理ラインＬｂ上の前記律速処理装置３の前段にバッファ手段Ｔａを設け、前記律速処理装置３の後段にバッファ手段Ｔｂを設けたことを特徴とするカラーフィルタ製造システム。
　【請求項２】
　前記搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍｂを設ける請求項１記載のカラーフィルタ製造システム。」と訂正する。
訂正事項（ロ）
　明細書の段落【０００９】の「本発明は、一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システムにおいて、搬入側の単一搬入処理ラインＬａより分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上に、一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を配備し、各々処理ラインＬｂを搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流させて製造することを特徴とするカラーフィルタ製造システムである。」を「本発明は、一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システムにおいて、搬入側の単一搬入処理ラインＬａより分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上に、一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を配備し、各々処理ラインＬｂを搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流させて製造するカラーフィルタ製造システムであって、前記搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａを設け、かつ２以上の複数処理ラインＬｂ上の前記律速処理装置３の前段にバッファ手段Ｔａを設け、前記律速処理装置３の後段にバッファ手段Ｔｂを設けたことを特徴とするカラーフィルタ製造システムである。」と訂正する。
訂正事項（ハ）
　明細書の段落【００１０】の「また本発明は、上記発明において、前記搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａを設けるカラーフィルタ製造システムである。」を「また本発明は、上記発明において、前記搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍｂを設けるカラーフィルタ製造システムである。」と訂正する。
訂正事項（ニ）
　明細書の段落【００１１】を削除する。
訂正事項（ホ）
　明細書の段落【００１２】を削除する。
訂正事項（ヘ）
　明細書の段落【０００５】（願書に添付した明細書第２頁第２５行目）の「として場合は」を「とした場合は」と訂正する。
訂正事項（ト）
　明細書の段落【００１９】（願書に添付した明細書第６頁第４行目）の「Ｌｂ１」を「Ｌｂ２」と訂正する。
訂正事項（チ）
　明細書の段落【００３３】（願書に添付した明細書第１０頁第１３行目）の「各工程ょ」を「各工程を」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
カラーフィルタ製造システム
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システムにおいて、搬入側の単一搬入処理ラインＬａより分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上に、一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を配備し、各々処理ラインＬｂを搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流させて製造
するカラーフィルタ製造システムであって、前記搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａを設け、かつ２以上の複数処理ラインＬｂ上の前記律速処理装置３の前段にバッファ手段Ｔａを設け、前記律速処理装置３の後段にバッファ手段Ｔｂを設けた
　【請求項２】
　
前記搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍｂを設ける請求項１記載のカラーフィルタ製造システム。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、ガラス製、プラスチック製のフィルタ基板上に、カラー表示画素としての四角形ドット、多角形ドット、ストライプ状などの規則的形状パターンのレッドパターン、グリーンパターン、ブルーパターンからなる三色のフィルタ着色パターンをパターン形成して製造するカラーフィルタ製造システムに関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　ガラス等の透明なフィルタ基板上に、レッド（赤）、グリーン（緑）、ブルー（青）の三原色のカラーフィルタ着色パターン層を、モザイク状、ストライプ状などのマトリクス状の規則的パターン形状に設けたカラーフィルタは、カラー表示画素パターンとして用いられている。
　【０００３】
　【発明が解決しようとする課題】
　上記カラーフィルタの製造においては、近年における塵、異物対策、及びミス・ロス防止のため、製造工程での流れ作業として、人為的でなく、自動製造機を用いて、全自動に近いシステムで行われるようになってきている。
　【０００４】
　しかし、カラーフィルタの製造工程で、顔料などの着色剤を含有した感光性樹脂を用いて、フィルタ基板上にパターン形成して製造する場合は、フィルタ基板洗浄工程、フィルタ基板乾燥工程、フィルタ基板への感光性樹脂塗布工程、塗布された感光性樹脂乾燥工程、プリベーク処理工程、パターン露光工程、現像処理工程、洗浄工程、ポストベーク処理工程という一連のパターン形成工程が必要であり、しかも、レッド（赤）、グリーン（緑）、ブルー（青）の三色についてパターン形成するためは、この一連のパターン形成工程を最低３回繰り返すことになる。
　【０００５】
　ところで、上記一連のパターン形成工程における上記各工程に要する所要時間（例えば、乾燥処理に掛かる時間、加熱、処理に掛かる時間など）は、各色とも皆同一というわけではなく、各色毎に異なるため、パターン形成の製造ラインにおけるフィルタ基板の搬送スピードを同一スピードとし
た
　【０００６】
　現状においては、上記一連のパターン形成工程における各工程の所要時間は、形成するパターンの色の相違によって異なり、所要痔間の長いもの（ワーク加工処理スピードの遅いもの）と、短いもの（ワーク加工処理スピードの速いもの）で、２〜３倍程度の差が生じる場合がある。
　【０００７】
　たとえ、一連のパターン形成工程に配備された製造ラインを構成する装置が、いかに製造能率が良好であったとしても、その一連のパターン形成工程内での最も長時間を要する処理装置（処理速度の最も遅い工程）によって、製造ラインにおけるフィルタ基板の搬送速度における律速状態が形成されてしまい、残りの他の工程の処理速度に影響を及ぼし、全体として、製造速度及び製造能率を低下させる要因となる。
　【０００８】
　本発明は、フィルタ基板に対する一連のパターン形成工程内に、製造ラインにおける律速状態を形成するような、加工処理速度の最も遅い処理装置による律速を解消して、他の工程の処理装置の処理速度に影響を及ぼさないように、フィルタ基板上に能率的にパターン形成することにある。
　【０００９】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、一連のカラーフィルタパターン形成処理手段を用いて製造するカラーフィルタ製造システムにおいて、搬入側の単一搬入処理ラインＬａより分岐する２以上の複数ｎの各々処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上に、一連のパターン形成処理工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を配備し、各々処理ラインＬｂを搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに合流させて製造
するカラーフィルタ製造システムであって、前記搬入側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍａを設け、、かつ２以上の複数処理ラインＬｂ上の前記律速処理装置３の前段にバッファ手段Ｔａを設け、前記律速処理装置３の後段にバッファ手段Ｔｂを設けた
　【００１０】
　また本発明は、上記発明において、
前記搬出側の単一搬出処理ラインＬｃに、フィルタ基板を一時的に待機させる補助バッファ手段Ｍｂを設けるカラーフィルタ製造システム
　【００１１】
　【実施例】
　本発明のカラーフィルタ製造システムを、図１のシステムブロック図に示す実施例に従って、以下に詳細に説明する。
　【００１２】
　図１は、本発明の実施例におけるカラーフィルタ製造システムの要部を示すシステムブロック図であり、フィルタ基板１ａに対してフィルタ着色パターンを形成するための個々の加工処理を行なう処理装置を各処理工程順に配備し、各処理工程間を、チェーンコンベア、ロールコンベア、ベルトコンベアなど、フィルタ基板搬送手段にて連結し、該搬送手段の適宜地点に、フィルタ基板を一時的に待機させるバッファ手段を設けて構成される一連のパターン形成工程によるカラーフィルタ製造システムである。
　【００１３】
　図１に示すように、搬入側の単一処理ラインＬａにて処理されたフィルタ基板１ａを、２以上の複数ｎの処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）に分岐する分岐手段Ａを設け、一連のパターン形成工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を、前記複数ｎの各々処理ラインＬｂ１〜Ｌｂｎに配備し、処理ラインＬｂ１〜Ｌｂｎのフィルタ基板１ａを、搬出側の単１処理ラインＬｃに合流する合流手段Ｂを設け、前記複数ｎの処理ラインＬｂ１〜Ｌｂｎの各々前記律速処理装置３１〜３ｎ前後に、フィルタ基１ａを一時的に待機させるバッファ手段Ｔを設けたカラーフィルタ製造システムである。
　【００１４】
　本発明システムは、フィルタ基板１ａを搬入する搬入側の単一搬入処理ラインＬａ（１ラインの処理ライン）を備え、該搬入処理ラインＬａにて所定の処理がされたフィルタ基板１ａを、２以上の複数ｎの処理ラインＬｂ（２ライン以上の処理ライン、Ｌｂ１，Ｌｂ２，Ｌｂ３，・・・Ｌｂｎ、ｎ＞２）、例えば、図１に示すように、２ラインの処理ラインＬｂ１と処理ラインＬｂ２とに分岐する分岐手段Ａが設けられている。
　【００１５】
　２以上の複数ｎの処理ラインＬｂに分岐する分岐手段Ａは、それより搬送上流側の処理ラインＬａ上を順次通過するフィルタ基板１ａ、若しくは処理ラインＬａ上の所定処理工程によって順次処理終了したフィルタ基板１ａ、あるいは分岐手段Ａに搬入するフィルタ基板１ａを、通過検出センサ、若しくは処理工程終了センサ、あるいは搬入検出センサにて検出し、その検出信号に基づいて分岐動作を開始させることができる。
　【００１６】
　分岐手段Ａは、順次検出されて処理ラインＬａより、分岐手段Ａに搬入したフィルタ基板１ａを、それぞれ２以上の複数ｎの処理ラインＬｂ上に、順次振り分け、受け渡すための適宜手段であり、例えば、エンドレス送行するチェーンコンベアに等間隔に設置した突出アタッチメントにより、フィルタ基板１ａ後端部を押送するチェーンコンベア方式、又は、搬送方向に直交する方向に回転軸を設定して、互いに平行に多数本のコンベアロールを水平配列したロールコンベア方式等、適宜手段が採用できる。
　【００１７】
　例えば、図１に示すように、２ラインの処理ラインＬｂ１と処理ラインＬｂ２とにフィルタ基板１ａを振り分ける場合は、分岐手段Ａに１枚のフィルタ基板１ａが搬入すると、チェーンコンベアが送行を開始して、等間隔に設置した突出アタッチメントにより、搬入したフィルタ基板１ａの後端部を押して、一方の処理ラインＬｂ１方向に押送する第１のチェーンコンベアと、分岐手段Ａに、後続の２枚目のフィルタ基板１ａが搬入すると、チェーンコンベアが送行を開始して、等間隔に設置した突出アタッチメントにより、搬入した後続の前言フィルタ基板１ａの後端部を押して、他方の処理ラインＬ
ｂ２
　【００１８】
　上記分岐手段Ａ以後にある、前記２以上の複数ｎの処理ラインＬｂ（Ｌｂ１，Ｌｂ２，Ｌｂ３・・・Ｌｂｎ、ｎ＞２）には、一連のフィルタ着色パターン形成工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち処理速度の最も遅い律速状態を発生させる処理装置３（３−１，３−２，３−３，・・・３−ｎ、ｎ＞２）が、それぞれ配備されている。例えば、図１に示す２ラインの処理ラインに分岐した場合には、それぞれの処理ラインに、処理装置３−１と、処理装置３−２が配備される。
　【００１９】
　前記各々処理装置３−１，３−２，３−３，・・・３−ｎ（図１においては、処理装置３−１，３−２）内には、処理ラインＬｂに設置した適宜搬送手段（チェーンコンベア、ロールコンベアなど）によって、フィルタ基板１ａを搬入して、フィルタ基板１ａに対して所定の処理を施す。
　【００２０】
　処理装置３によって、所定の処理が終了した後は、処理装置３は、フィルタ基板１ａを搬出し、該処理装置３以後にある処理ラインＬｂに受け渡し、設置した適宜搬送手段（チェーンコンベア、ロールコンベアなど）によって、合流手段Ｂに搬入する。
　【００２１】
　合流手段Ｂは、上記２以上の複数の処理ラインＬｂ（図１においては、２ラインの処理ラインＬｂ１，Ｌｂ２）の適宜搬送手段によって順次搬入する（場合によっては、複数の各処理ラインより同時に搬入する）複数枚のフィルタ基板１ａを、１枚ずつ、以後の単一の搬出処理ラインＬｃに搬出するものである。
　【００２２】
　合流手段Ｂは、順次搬入するフィルタ基板１ａを、以後の単一（１ライン）の搬出処理ラインＬｃに搬出するための適宜手段であり、例えば、エンドレス送行するチェーンコンベアに等間隔に設置した突出アタッチメントにより、フィルタ基板１ａ後端部を押送するチェーンコンベア方式、又は、搬送方向に直交する方向に回転軸を設定して、互いに平行に多数本のコンベアロールを水平配列したロールコンベア方式等、適宜手段が採用できる。
　【００２３】
　例えば、図１に示すように、２ラインの処理ラインＬｂ１と処理ラインＬｂ２とによって、上記各々処理装置３−１，３−２によって所定処理の終了したフィルタ基板１ａ、を、単一（１ライン）の搬出処理ラインＬｃに合流する場合は、所定処理の終了したフィルタ基板１ａを、単一（１ライン）の搬出処理ラインＬｃに１枚ずつ合流させる場合は、合流手段Ｂに、１枚目のフィルタ基板１ａが搬入すると、チェーンコンベアが送行を開始して、等間隔に設置した突出アタッチメントにより、搬入したフィルタ基板１ａの後端部を押して、搬出処理ラインＬｃ方向に押送して搬出する第１のチェーンコンベアと、合流手段Ｂに後続の２枚目のフィルタ基板１ａが搬入すると、チェーンコンベアが送行を開始して、等間隔に設置した突出アタッチメントにより、後続の前記フィルタ基板１ａの後端部を押して、搬出処理ラインＬｃ方向に押送して搬出する第２のチェーンコンベアとを配置することによって、搬出処理ラインＬｃにフィルタ基板１ａを１枚ずつ移送するものである。複数ｎの処理ラインＬｂの場合は、第１〜第ｎまでのチェーンコンベア（又はロールコンベア）を設置する。
　【００２４】
　あるいはまた、上記各々処理装置３−１，３−２，３−３，・・・３−ｎによって所定処理の終了したフィルタ基板１ａを、複数の処理ラインＬｂ−１，Ｌｂ−２，Ｌｂ−３・・・Ｌｂ−ｎから、単一（１ライン）の搬出処理ラインＬｃに合流する場合は、合流手段Ｂに、１枚目のフィルタ基板１ａが搬入すると、単一のチェーンコンベアが送行を開始して、チェーンに等間隔に設置した複数個の突出アタッチメントのうちの１個の突出アタッチメントにより、搬入した前記１枚目のフィルタ基板１ａの後端部を押して、搬出処理ラインＬｃ方向に押送して搬出し、続いて、前記単一のチェーンコンベアに等間隔に設置した次の１個の突出アタッチメントにより、後続の２枚目のフィルタ基板１ａの後端部を押して、同処理ラインＬｃ方向に押送して搬出し、このようにして、順次、複数枚のフィルタ基板１ａを、１枚ずつ搬出処理ラインＬｃに搬出するようにしてもよい。
　【００２５】
　単一の搬出処理ラインＬｃには、フィルタ基板１ａに対して、以後の処理を行なう適宜処理装置５が配備されて、フィルタ基板１ａに対して、フィルタ着色パターン２などのパターン形成など、順次所定の処理を行って、カラーフィルタを製造するものである。
　【００２６】
　上記本発明システムにおいては、図１に示すように、複数ｎの処理ラインＬｂ上におけるそれぞれ律速処理装置３の前段に、フィルタ基板１ａを一旦待機させるためのバッファ手段Ｔａを配備し、後段にフィルタ基板１ａを一旦待機させるためのバッファ手段Ｔｂを配備する。
　【００２７】
　それぞれ律速処理装置３の前段に設置したバッファ手段Ｔａは、単一搬入処理ラインＬａにより１枚ずつ搬送された後、分岐手段Ａによって、単一搬入処理ラインＬａ（１処理ライン）から、複数ｎラインの処理ラインＬｂに、順次１枚ずつ振り分けられて、律速処理装置３（律速処理装置に該当する各処理装置３−１，３−２，３−３・・・３−ｎ）内に搬入する後続のフィルタ基板１ａが、既に、先行して前記処理装置３内に搬入している（あるいは搬入して処理牛の）フィルタ基板１ａと互いに衝突することがないように、後続のフィルタ基板１ａの搬送を一旦中止して待機させるための装置であり、フィルタ基板１ａを、１枚ずつ仕切り集積でき且つ集積後のフィルタ基板１ａを１枚ずつ取り出すことができるようにしたスタッカーや、フィルタ基板１ａの搬送速度を下げて蓄積させるアキュームレーターなどが使用できる。前記処理装置３内若しくは外に設置する適宜通過検出センサ、処理終了検出センサ、また、オンディレイタイマーの併用などによって、先行するフィルタ基板１ａを検出し、該検出信号に基づいて、バッファ手段Ｔａは、フィルタ基板１ａの一旦搬送中止動作、搬送再開動作を行なう。
　【００２８】
　また、律速処理装置３の後段に設置したバッファ手段Ｔｂは、複数ｎのそれぞれ処理ラインＬｂにより搬送された後、合流手段Ｂによって、複数ｎの処理ラインＬｂから、単一搬出処理ラインＬｃに、順次１枚ずつ合流させる際に、それぞれ処理ラインＬｂ上を搬送する各々フィルタ基板１ａが、一度に合流手段Ｂに搬入して衝突したり、合流処理に支障が生じないように、複数ｎの処理ラインＬｂのうちいずれか１ライン上のフィルタ基板１ａのみを合流手段Ｂに搬入して、他の処理ライン上のフィルタ基板１ａの搬送を、一旦中止して、待機させるための装置である。前記合流手段Ｂ内若しくは外に設置する適宜通過検出センサ、処理終了検出センサ、またオンディレイタイマーの併用などによって、合流手段Ｂ方向に先行するフィルタ基板１ａを検出し、該検出信号に基づいて、バッファ手段Ｔｂは、すべての他の処理ライン上のフィルタ基板１ａの一旦搬送中止動作、又は他の処理ラインのうちいずれか１ライン上のフィルタ基板１ａのみの搬送再開動作を行なう。
　【００２９】
　また必要に応じて、律速処理装置３による製造ライン上流側の単一搬入処理ラインＬａに、フィルタ基板１ａを一旦待機させるためのバッファ手段Ｍａを設置し、該バッファ手段Ｍａにより、分岐手段Ａ以後にある先行するフィルタ基板１ａの処理進行状態に対応して、単一搬入処理ラインＬａ上の後続のフィルタ基板１ａの搬送を一旦中止動作、再開動作する。また必要に応じて、律速処理装置３による製造ライン下流側の単一搬出処理ラインＬｃに、フィルタ基板１ａを一旦待機させるためのバッファ手段Ｍｂを設置し、該バッファ手段Ｍｂにより、合流手段Ｂ以後にある、先行するフィルタ基板１ａの処理進行状態（処理装置５による処理進行状態など）に対応して、単一搬出処理ラインＬｃ上の後続のフィルタ基板１ａの搬送を一旦中止動作、再開動作する。上記バッファ手段Ｍａ、バッファ手段Ｍｂは、フィルタ基板１ａを、１枚ずつ仕切り集積でき、且つ集積後のフィルタ基板１ａを１枚ずつ取り出すことができるようにしたスタッカーや、フィルタ基板１ａの搬送速度を下げて蓄積させるアキュームレーターなどが使用できる。
　【００３０】
　図２は、本発明のカラーフィルタ製造システムの実施例における全体を示すシステムブロック図である。
　【００３１】
　カラーフィルタの製造工程に配備される処理装置のうち、処理速度がきわめて遅い処理装置を律速処理装置３として設定し、該律速処理装置３を、上記図１に示したカラーフィルタ製造システムの要部のシステムブロック図のように配備するものである。なお、カラーフィルタの製造工程に配備される処理装置の全てが、ほぼ同じ程度の処理速度であれば、本発明システムを採用する必要性は低いものである。各工程を示すシステムブロック図である。
　【００３２】
　本発明のカラーフィルタ製造システムを、図２に示す実施例に従って、以下に詳細に説明すれば、まず、第１の単一搬入処理ラインＬａ１（図１の単一搬入処理ラインＬａに相当）より、フィルタ製造用材として、フィルタ基板１ａを１枚ずつ、バッファ手段Ｍａ１（図１のバッファ手段Ｍａに相当）を介して、第１の分岐手段Ａ１（図１０）分岐手段Ａに相当）に搬入して、例えば処理ラインＬｂ１，Ｌｂ２の２ラインに振り分け搬送する。
　【００３３】
　続いて、フィルタ基板１ａを、それぞれバッファ手段Ｔａ１を介して、それぞれ処理ラインＬｂ１，Ｌｂ２に配備した律速処理装置３−１，３−２に搬入して、所定の処理加工を行なう。それぞれ律速処理装置３−１，３−２は、フィルタ基板１ａを洗浄し乾燥処理する洗浄・乾燥処理手段と、フィルタ基板１ａの一面に、フィルタ着色パターン形成用の１色目の着色フォトレジスト（例えば１色目のレッドの顔料分散フォトレジスト）を塗布する着色フォトレジスト塗布手段（スピンコート手段）と、塗布した着色フォトレジストを乾燥加熱してプリベータ処理する乾燥・プリベーク処理手段の各処理手段を備える。
　【００３４】
　なお、本発明システムにおいては、律速処理装置３に搭載する各処理手段の全部、若しくはそのうちのいずれかの処理手段が律速状態を生じるものであればよい。
　【００３５】
　上記実施例においては、上記着色フォトレジスト塗布手段が、カラーフィルタの製造ライン内で、最も処理速度の遅い（フィルタ基板１枚当たりの塗布処理に要する時間が約６０秒程度の長い）律速状態を形成する手段となっている。
　【００３６】
　続いて上記２ラインの律速処理装置３‐１，３‐２によって処理されたフィルタ基板１ａを、それぞれバッファ手段Ｔｂ１（図１０）バッファ手段Ｔｂに相当）を介して、第１の合流手段Ｂ１（図１の合流手段Ｂに相当）に搬入して、第１の単一搬出処理ラインＬｃ１（図１の単一搬出処理ラインＬｃに相当）に１枚ずつ送り出して、バッファ手段Ｍｂ１を介して、処理装置５−１（図１の処理装置５に相当）に搬入する。
　【００３７】
　上記第１の単一搬出処理ラインＬｃ１上の処理装置５−１は、紫外線露光装置であり、例えば、レッドの着色フォトレジストを塗布したフィルタ基板１ａに対し、フォトマスク（パターン露光用原版）を介して、例えば、四角形ドット状、多角形ドット状、ストライプ状などの形状のレッドパターンＲ（図３は四角形ドット状のパターンを示す）を規則的に多数配列したレッドの画素形状パターンに該当するフィルタ着色パターン形状のパターン露光処理を行なう。
　【００３８】
　続いて、上記処理装置５‐１によりパターン露光処理されたフィルタ基板１ａを第１の単一搬出処理ラインＬｃ１上の処理装置６−１に搬入する。処理装置６‐１は、フィルタ基板１ａに塗布され、パターン露光された着色フォトレジストを、適宜溶剤にて現像処理（現像、及び現像後の洗浄処理）する現像処理手段と、現像処理されたフィルタ基板１ａのフィルタ着色パターン状の着色フォトレジストを加熱乾燥してポストベーク処理（硬膜処理）するポストベーク手段とを搭載しており、現像処理手段によって現像処理し、その後ポストベーク手段によってポストベーク処理して、フィルタ着色パターン２を硬膜処理し、レッドパターンＲのフィルタ着色パターン２を、フィルタ基板１ａ上にパターン形成する。
　【００３９】
　その後、レッドパターンＲのフィルタ着色パターン２をパターン形成したフィルタ基板１ａを、次の第２の単一搬入処理ラインＬａ２に送り出す。
　【００４０】
　続いて、前記第２の単一搬入処理ラインＬａ２（図１の単一搬入処理ラインＬａに相当）より、レッドパターンＲのフィルタ着色パターン２をパターン形成したフィルタ基板１ａを、１枚ずつ、バッファ手段Ｍａ２（図１のバッファ手段Ｍａに相当）を介して、第２の分岐手段Ａ２（図１の分岐手段Ａに相当）に搬入して、例えば、処理ラインＬｂ１，Ｌｂ２の２ラインに振り分け搬送する。
　【００４１】
　続いて、フィルタ基板１ａを、それぞれバッファ手段Ｔａ２を介して、それぞれ処理ラインＬｂ１，Ｌｂ２に配備した律速処理装置３−１，３−２に搬入して、所定の処理加工を行なう。第２の分岐手段Ａ２の後段にあるそれぞれ律速処理装置３−１，３−２は、１色目の例えばレッドパターンＲのフィルタ着色パターン２の形成されたフィルタ基板１ａを洗浄し乾燥処理する洗浄・乾燥処理手段と、該１色目のフィルタ着色パターン２上よりフィルタ基板１ａの一面に、フィルタ着色パターン形成用の２色目の着色フォトレジスト（例えば２色目のグリーンの顔料分散フォトレジスト）を塗布する着色フォトレジスト塗布手段（スピンコート手段；フィルタ基板１枚当たり約６０秒程度の長い塗布処理時間を要する）と、塗布した着色フォトレジストを乾燥加熱してプリベーク処理する乾燥・ブリベーク処理手段の各処理手段を備える。
　【００４２】
　続いて、上記２ラインの律速処理装置３−１，３−２によって、グリーンの着色フォトレジストが塗布され、ブリベーク処理されたフィルタ基板１ａを、バッファ手段Ｔｂ２（図１のバッファ手段Ｔｂに相当）を介して、第２の合流手段Ｂ２（図１）合流手段Ｂに相当）に搬入して、第２の単一搬出処理ラインＬｃ２（図１の単一搬出処理ラインＬｃに相当）に、１枚ずつ送り出し、バッファ手段Ｍｂ２を介して、処理装置５−２（図１の処理装置５に相当）に搬入する。
　【００４３】
　第２の単一搬出処理ラインＬｃ２上の処理装置５−２は、紫外線露光装置であり、例えば、上記グリーンの着色フォトレジストを塗布したフィルタ基板１ａに対して、フォトマスク（パターン露光用原版）を介して、例えば、四角形ドット状、多角形ドット状、ストライプ状などの形状のグリーンパターンＧ（図３は四角形ドット状のパターンを示す）を規則的に多数配列したグリーンの画素形状パターンに該当するフィルタ着色パターン形状のパターン露光処理を行なう。
　【００４４】
　続いて、上記処理装置５−２によりグリーンパターンＧに該当するパターン露光処理されたフィルタ基板１ａを、第２の単一搬出処理ラインＬｃ２上の処理装置６−２に搬入する。処理装置６−２は、フィルタ基板１ａに塗布されてパターン露光されたグリーンの着色フォトレジストを、適宜溶剤にて現像処理（現像、及び現像後の洗浄処理）する現像処理手段と、現像処理されたフィルタ基板１ａのグリーンのフィルタ着色パターン状の着色フォトレジストを加熱乾燥してポストベーク処理（硬膜処理）するポストベーク手段とを搭載しており、現像処理手段によって現像処理して、その後ポストベーク手段によってポストベーク処理して、グリーンパターンＧのフィルタ着色パターン２を硬膜処理し、前述のレッドパターンＲのフィルタ着色パターン２に隣設するグリーンパターンＧのフィルタ着色パターン２を、フィルタ基板１ａ上にパターン形成する。
　【００４５】
　その後、上記レッドパターンＲとグリーンパターンＧの２色のフィルタ着色パターン２をパターン形成したフィルタ基板１ａを、次の第３の単一搬入処理ラインＬａ３に送り出す。
　【００４６】
　続いて、前記第３の単一搬入処理ラインＬａ３（図１の単一搬入処理ラインＬａに相当）より、レッドパターンＲとグリーンパターンＧの２色のフィルタ着色パターン２をパターン形成したフィルタ基板１ａを、１枚ずつ、バッファ手段Ｍａ３（図１のバッファ手段Ｍａに相当）を介して、第３の分岐手段Ａ３（図１の分岐手段Ａに相当）に搬入して、例えば、処理ラインＬｂ１，Ｌｂ２の２ラインに振り分け搬送する。
　【００４７】
　続いて、上記レッドパターンＲとグリーンパターンＧの２色のフィルタ着色パターン２をパターン形成したフィルタ基板１ａを、それぞれバッファ手段Ｔａ３を介して、それぞれ処理ラインＬｂ１，Ｌｂ２に配備した律速処理装置３−１，３−２に搬入して、所定の処理加工を行なう。第３の分岐手段Ａ３の後段にある、それぞれ律速処理装置３−１，３−２は、１色目と２色目の例えばレッドパターンＲとグリーンパターンＧのフィルタ着色パターン２の形成されたフィルタ基板１ａを洗浄し乾燥処理する洗浄・乾燥処理手段と、該１色目（レッド）と２色目（グリーン）のフィルタ着色パターン２上よりフィルタ基板１ａの一面に、フィルタ着色パターン形成用の３色目の着色フォトレジスト（例えば３色目のブルーの顔料分散フォトレジスト）を塗布する着色フォトレジスト塗布手段（スピンコート手段；フィルタ基板１枚当たり約６０秒程度の長い塗布処理時間を要する）と、塗布した着色フォトレジストを乾燥加熱してブリベーク処理する乾燥・プリベーク処理手段の各処理手段を備える。
　【００４８】
　続いて、上記２ラインの律速処理装置３−１，３−２によって、ブルーの着色フォトレジストが塗布され、プリベーク処理されたフィルタ基板１ａを、バッファ手段Ｔｂ３（図１のバッファ手段Ｔｂに相当）を介して、第３の合流手段Ｂ３（図１の合流手段Ｂに相当）に搬入して、第３の単一搬出処理ラインＬｃ３（図１の単一搬出処理ラインＬｃに相当）に、１枚ずつ送り出して、バッファ手段Ｍｂ３を介して、処理装置５−３（図１の処理装置５に相当）に搬入する。
　【００４９】
　第３の単一搬出処理ラインＬｃ３上の処理装置５−３は、紫外線露光装置であり、例えば、上記ブルーの着色フォトレジストを塗布したフィルタ基板１ａに対してフォトマスク（パターン露光用原版）を介して、例えば、四角形ドット状、多角形ドット状、ストライプ状などの形状のブルーパターンＢ（図３は四角形ドット状のパターンを示す）を規則的に多数配列したブルーの画素形状パターンに該当するフィルタ着色パターン形状のパターン露光処理を行なう。
　【００５０】
　続いて、上記処理装置５‐３によりブルーに該当するパターン露光処理されたフィルタ基板１ａを第３の単一搬出処理ラインＬｃ３上の処理装置６−３に搬入する。処理装置６−３は、フィルタ基板１ａに塗布されてパターン露光されたブルーの着色フォトレジストを、適宜溶剤にて現像処理（現像、及び現像後の洗浄処理）する現像処理手段と、現像処理されたフィルタ基板１ａのブルーのフィルタ着色パターン状の着色フォトレジストを加熱乾燥してポストベーク処理（硬膜処理）するホストベーク手段とを搭載しており、現像処理手段によって現像処理して、その後ポストベーク手段によってポストベーク処理して、ブルーパターンＢのフィルタ着色パターン２を硬膜処理し、ブルーパターンＢのフィルタ着色パターン２を、フィルタ基板１ａ上にパターン形成する。
　【００５１】
　以上によって、フィルタ基板１ａ上に、カラー表示画素パターンとしての、レッド、グリーン、ブルーの三色のフィルタ着色パターン２が隣設してパターン形成されて、カラーフィルタが製造される。
　【００５２】
　処理装置６−３は、製造されたカラーフィルタを、次の第４の単一搬入処理ラインＬａ４に送り出し、その後、該第４の単一搬入処理ラインＬａ４にて、カラーフィルタを、フィルタ排出部に集積する。
　【００５３】
　【作用】
　本発明のカラーフィルタ製造システムは、一連のパターン形成工程内の各処理工程に配備される処理装置のうち、処理速度の最も遅い律速処理装置３（３−１〜３−ｎ、ｎ＞２）を、２以上の複数ｎの処理ラインＬｂ（Ｌｂ１〜Ｌｂｎ、ｎ＞２）上にそれぞれ配備し、分岐手段Ａを用いて、それぞれ前記２以上の複数ｎの処理ラインＬｂ上に、単一搬入処理ラインＬａ上を搬送されるフィルタ基板を振り分けて、各々律速処理装置３に搬入して処理するようにしたので、律速処理装置３によって律速状態の生じたカラーフィルタ製造工程全体の律速状態を解消することができ、律速処理装置３によるカラーフィルタ製造工程に対する生産能率の低下を防止することが可能となるものである。
　【００５４】
　【発明の効果】
　本発明のカラーフィルタ製造システムは、律速処理装置によって律速状態の生じたカラーフィルタ製造工程全体の律速状態を解消することができ、律速処理装置によるカラーフィルタ製造工程に対する生産能率の低下を防止することが可能となり、カラーフィルタの製造における一連のパターン形成工程内に、最も長時間を要する処理装置（処理速度の最も遅い工程）を、製造ライン内に配備する必要がある場合に、加工処理速度の最も遅い処理装置による律速を解消して、製造ライン内に配備した他の高能率の処理装置の処理能率を十分発揮させることができ、カラーフィルタの製造能率の向上に顕著な効果がある。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明のカラーフィルタ製造システムのシステム要部を説明するシステムブロック図である。
　【図２】
　本発明のカラーフィルタ製造システムのシステム全体を説明するシステムブロック図である。
　【図３】
　本発明のカラーフィルタ製造システムにより製造されるカラーフィルタの平面図である。
　【符号の説明】
１…カラーフィルタ
１ａ…フィルタ基板
２…フィルタ着色パターン（カラー表示画素パターン）
Ｒ…レッドパターン
Ｇ…グリーンパターン
Ｂ…ブルーパターン
Ａ…分岐手段
Ｂ…合流手段
Ｌａ…単一搬入処理ライン
Ｌｂ…複数の処理ライン
Ｌｃ…単一搬出処理ライン
Ｔａ…搬入側バッファ手段
Ｔｂ…搬出側バッファ手段
Ｍａ…搬入側バッファ手段
Ｍｂ…搬出側バッファ手段
３，３−１，３−２…律速処理装置
５，５−１，５−２，５−３…処理装置
６−１，６−２，６−３…処理装置
Ｌａ１…第１の単一搬入処理ライン
Ｌａ２…第２の単一搬入処理ライン
Ｌａ３…第３の単一搬入処理ライン
Ｌａ４…第４の単一搬入処理ライン
Ｌｂ１，Ｌｂ２…律速処理装置を配備した処理ライン
Ｌｃ１…第１の単一搬入処理ライン
Ｌｃ２…第２の単一搬入処理ライン
Ｌｃ３…第３の単一搬入処理ライン
Ｌｃ４…第４の単一搬入処理ライン
Ａ１…第１の分岐手段
Ａ２…第２の分岐手段
Ａ３…第３の分岐手段
Ｂ１…第１の合流手段
Ｂ２…第２の合流手段
Ｂ３…第３の合流手段