【事件の表示】
　特許第２９６５４３９号「処理装置、処理システム、および処理方法」の請求項１ないし１０に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９６５４３９号の請求項１ないし６に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　 本件特許第２９６５４３９号は、平成５年６月１８日に特許出願され、平成１１年８月１３日にその特許の設定登録がなされ、その後、異議申立人高橋哲夫及び加藤清子から特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年８月２８日に訂正請求がなされ、訂正拒絶理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年１１月７日に補正書が提出されたものである。
１．１　異議申立ての概要
　異議申立人高橋哲夫は、甲第１号証（特開平５−１２９２７１号公報）、甲第２号証（実願平２−１４９３２号（実開平３−１０６７２７号公報）のマイクロフィルム）、甲第３号証（特開平３−４９６１号公報）、甲第４号証（特開平４−１７１９１６号公報）、甲第５号証（特開平３−２６４２５３号公報）、甲第６号証（特開平２−２７５６１５号公報）及び甲第７号証（特開昭６３−２４１９４６号公報）を提出し、本件請求項１及び６〜８に係る発明は、甲第１号証に記載された発明と同一であるから、本件請求項１及び６〜８に係る発明は、特許法第２９条第１項第３号に該当し、従って、本件請求項１及び６〜８に係る特許は、特許法第２９条第１項の規定に違反してなされたものであり、また、本件請求項１及び６〜８に係る発明は、甲第１号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであるから、本件請求項１及び６〜８に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、さらに、本件請求項２〜５、９及び１０に係る発明は、甲第１号証〜甲第７号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであるから、本件請求項２〜５、９及び１０に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、本件請求項１〜１０に係る特許を取り消すべき旨主張している。
　また、異議申立人加藤清子は、甲第１号証（特開昭６１−２６２２６号公報）、甲第２号証（特開昭５８−１００４２９号公報）、甲第３号証（特開昭６１−２７０８４２号公報）及び甲第４号証（特開平１−２３９９１４号公報）を提出し、本件請求項１、５、６、８及び１０に係る発明は、甲第１号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであるから、本件請求項１、５、６、８及び１０に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、本件請求項７に係る発明は、甲第１号証及び甲第４号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであるから、本件請求項７に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、本件請求項２〜４及び９に係る発明は、甲第１号証〜甲第４号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであるから、本件請求項２〜４及び９に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、本件請求項１〜１０に係る特許を取り消すべき旨主張している。
１．２　異議申立人高橋哲夫が提出した甲第１号証〜甲第７号証の記載内容
１．２．１　甲第１号証の記載内容
　甲第1号証の【0026】〜【0029】段落には、ウェハを回転させて処理する処理装置の説明として、「【0026】特に図示しないが、スピンチャック2の上方近傍には、必要に応じて、たとえば、レジストの回転塗布処理を行う場合には、当該レジストをスピンチャック2に載置されたウェハ1に滴下供給するノズルなどが配置されている。
【0027】以下、本実施例の回転処理方法およびそれを実施する回転処理装置Aの作用の一例について説明する。
【0028】まず、静止したスピンチャック2の上に未処理のウェハ1を任意の向きに載置して保持させる。
【0029】その後、処理の一例として、たとえば、ウェハ1の中央部に所定量の図示しないレジストを滴下供給した後、スピン用モータ5を起動してウェハ1を回転させ、遠心力によってレジストをウェハ1の全面に分散塗布する。」と記載されている。
　また、甲第1号証証の【0028】、【0032】段落には、スピンチャックへのウェハの供給、払出しに関する説明として、
「【0028】まず、静止したスピンチャック2の上に未処理のウェハ1を任意の向きに載置して保持させる。・・・
【0032】こうして、所定の姿勢でウェハ1の回転を停止させた後、当該ウェハ1の固定状態を解除して外部に払い出す。」と記載され、さらに回転処理装置の構成の他の実施例を示す図2には、ウェハ1がスピンチャック2に搬送され、スピンチャック2からウエハ1が搬出される様子が矢印をもって記載されている。
　また、甲第1号証の【0033】段落には、被処理物の向きを検出する位置検出手段にCCDカメラを使用した実施例の説明として、「【0033】このように、本実施例の場合には、所望の処理が施されたウェハ1がオリエンテーションフラットlaを一定の方向に向けた姿勢で払い出されるので、処理済みのウェハ1を次工程へ搬出する場合などに、当該ウェハ1の姿勢を揃えるなどの特別な作業が不用となり、処理工程が簡略化される。」と記載され、さらに、段落【0036】〜【0037】段落には、被処理物の向きを検出する位置検出手段にモータ位置検出器を使用した実施例の説明として、「【0036】この実施例2の場合には、スピン用モータ5に、ケーブル6cを介してモータ位置検出器7が接続されている。このモータ位置検出器7は、たとえば、スピン用モータ5の任意の停止位置を記憶し、当該スピン用モータ5の停止に際して、起動前と同一の回転位置で停止させる動作を行なうように構成されている。
【0037】すなわち、本実施例の場合には、スピンチャック2には、予め、オリエンテーションフラットlaの向きを一定の方向に向けた状態でウェハ1が供給され、モータ位置検出器7は、所望の回転処理後の停止に際して、処理前の受け入れ時と同じ向きでウェハ1を停止させる動作を行なう。」と記載されている。
１．２．２　甲第２号証の記載内容
　甲第2号証第4頁12行〜16行には、「半導体ウェーハ（６）をウェーハ立替機等を用いてキャリアからキャリアへ移し替える際に、上記オリエンテーションフラット（６）を一方向に揃えることが必要となり、」と記載され、第6頁11行〜13行には、「駆動モータが制御され、オリエンテーションフラットが予め決められた回転停止位置に位置するようにターンテーブルが回転を停止する」と記載され、第10頁13行〜第11頁3行には、「停止信号により上記駆動モータ（１２）が制御され、・・・ターンテーブル（１１）上に吸着保持された各ウェーハ（６）のオリエンテーションフラット（５）が予め決められた所定の回転停止位置に保持される。」と記載され、第11頁12行〜18行には、「ターンテーブル上の半導体ウェーハの回転停止位置を制御することができるので、例えば、フォトレジスト膜の形成後・・・等に、半導体ウェーハのオリエンテーションフラットを一方向に揃えることが可能となり、」と記載され、第8頁15行〜第9頁19行には、「フォトレジストの塗布時はモータ本体（１２）を高速回転させ、フォトレジスト膜の形成完了後は、モータ本体（１２）を低速回転させるようにしてある。そして、半導体ウェーハ（６）にフォトレジスト膜を形成する場合は、・・・ウェーハ（６）を高速回転させ、・・・フォトレジスト膜が形成されると、・・・半導体ウェーハ（６）が低速回転する。」と記載されている。
１．２．３　甲第３号証の記載内容
甲第3号証の第5図とそれに関連する説明をした第3頁右上欄9行〜13行には、「4000回転/分で・・・全面に均一にレジストが塗布される。塗布終了後、・・・2000回転/分まで回転数を降下させ」と記載されている。
また、第5図の回転数と時間の関係のグラフには、縦軸が回転数/分で、横軸が時間秒を示している。4000回転/分で塗布する時間と、1/2に降下させて2000回転/分で低速回転で維持する時間とが、横軸の長さから、ほぼ同じであることが図面に示唆されている。
１．２．４　甲第４号証の記載内容
　甲第4号証第2頁左上欄6行〜11行には、従来、スピン処理停止位置を任意に設定できなかった為に、スピン処理終了後、ウェーハを搬送する際に、ユニットの搬送部の受渡し位置を合せることができないという欠点がある旨記載され、第2頁右上欄16行〜同欄19行には、スピン処理停止位置を原点位置に停止させる説明として、「スピン処理のシーケンスが終了したという信号を受信すると原点位置センサ7が働き遮光板6が原点位置センサ7を遮ぎるとスピンモータ5は停止する。」と記載されている。
１．２．５　甲第５号証の記載内容
　甲第5号証第2頁左上欄3行〜右上欄6行には、「ウェハーをロット毎に管理し、各ロット毎に製造条件を設定する。・・・例えば、それぞれのロットについての処理条件(レシピー)を入力し、管理する」と記載されている。
１．２．６　甲第６号証の記載内容
　甲第6号証第1頁右下欄12行〜14行には、「ロットは・・・最終工程迄同時にかつ同一条件で製造されるのが一般的であった。」と記載され、第2頁右上欄18行〜左下欄11行には、「半導体製造装置の製造ロット管理方法は、・・・トレー番号を読み取る手段、・・・所定の製造工程条件により製造され・・・複数の前記半導体工程品を一ロットとして、製造ロット情報を入力する手段、・・・トレー番号及び前記製造ロット情報を整理して記憶・・・する・・・手段」と記載されている。
１．２．７　甲第７号証の記載内容
　甲第7号証第1頁右下欄17行〜第2頁左上欄13行には、各ウェーハをロット毎に管理し、ロットの異なるウェーハの混入を防止する旨記載されている。
１．３　異議申立人加藤清子が提出した甲第１号証〜甲第４号証の記載内容
１．３．１　甲第１号証の記載内容
　甲第１号証の第２頁左下欄第５〜７行には、
「該給供手段に続いて搬送手段が設けられている。該搬送手段は上記給供ベルトとほぼ同じように並行状態で走行する搬送ベルト（１２）、（１２）を含む」と記載されている。
　また、甲第１号証の第２頁左下欄第１５〜１８行には、「該ベルト間の下方に位置するよう回転チャック手段（１３）が設けられている。該チャック手段は薄板の周縁に係合するよう開閉可能に設けた把持爪（１４）を有する」と記載されている。
　また、甲第１号証の第３頁右上欄第７〜９行には、「薄板を浮揚状態に担持したら、上記モーター（２４）により上記本体（１５）を介して上記把持爪（１４）及び薄板（１）を回転する」と記載されている。
　また、甲第１号証の第３頁右下欄第５〜６行には、「把持爪（１４）を閉じる方向に回動し、薄板（１）を把持爪の係合溝（１７）に係合して担持する」と記載されている。
　また、甲第１号証の第３頁右下欄第１８〜２０行には、「回転チャック手段は、モーター（２４）により回転を始め、爾後、公知のように清浄化が行われる」と記載されている。
　また、甲第１号証の第４頁左上欄第７〜２０行には、「清浄終了後、上記モーター（２４）の軸（２５）の位置が回転を始めたときと同じ位置になったら回転チャック手段の回転を停止させる。軸の回転位置の制御は、図に示すものではモーターの軸（２５）の適宜位置にマークを設け、該マークの位置をセンサー（図示略）で検知し、この検知信号に基づいて上記モーター（２４）の回転を停止するようにしているが、その他の方法で回転制御することもできる。上記モーター軸（２５）の回転の開始と停止位置が同じ位置になることにより、上記４本の把持爪（１４）を常に同じ位置で待機させることができ、位置決めされて送られてくる薄板のオリフラ部分に爪が対応することがなく、確実に薄板の周縁部に係合溝を係合させて担持することができる」と記載されている。
　さらに、甲第１号証の第４頁右上欄第４〜１１行には、「把持爪（１４）を開くと、薄板は搬送ベルト上に降下する。該薄板が搬送ベルトで出口側に搬出され、送出ベルト（４０）に至ると、適宜位置に設けたセンサー（図示略）でそれを検知し、この検知信号により上記給送手段から位置決めされた薄板が搬送ベルトに供給され、以下上記と同様にして清浄化することができる」と記載されている。
１．３．２　甲第２号証の記載内容
　甲第２号証の第１頁右下欄第１０〜第２頁左上欄第３行には、「かかる回転処理機にて基板を自動的に処理し、処理が終った基板を例えばカセットに収納するため搬送する際には、当該基板が例えば角型基板等のように方向性を有するものであれば、少なくとも当該基板を回転処理機から搬出する際には常に一定方向を向くようにする必要がある。従来、そのためには第１図に例示のように、基板（１）を例えば真空吸着手段により保持している回転軸（２）を、該基板（１）の搬入及び搬出特には低速に回転しておいて、フォトセンサー（３）が位置決め用アクチュエータ（４）の切欠部を検知することにより、モータ（５）の駆動を停止させ、回転軸（２）すなわち基板（１）を所定の位置角度で位置決めする機構が用いられている」と記載されている。
１．３．３　甲第３号証の記載内容
　甲第３号証の第１頁右下欄第１２〜１５行には、
「一般に、この種のスピン処理装置においては、スピンドルに搬入載置された薄板状体をスピン処理後において、所望する方位に整合させて次行程に搬出させる為の整合手段を備えている」と記載されている。
　また、甲第３号証の第２頁左下欄第１８〜右下欄１４行には、「整合手段９により、薄板状体５の方位が整位さる。すなわち、このときは、
ＤＣモータ１０が駆動され、第１および第２の歯車１１、１２さらに一方向回転クラッチ１３を介して、スピンドル１が回転される。この回転量はエンコーダ８により制御され、スピンドル１が原点に復帰すると、その回転が停止されることになる。上述したように、この実施例によれば、スピン処理後においては、別の駆動源１０により、スピンドル１を所定量回転させて、方位を整合させるため、駆動源１０として通常のＤＣモータを使用することができ、従来のように、モータ６の回転数を意に反して段階的に下げたり、あるいはパルスモータを用いた場合のように立ち上がり特性を犠牲にするといったことなく、容易に方位を整合することができる」と記載されている。
１．３．４　甲第４号証の記載内容
　甲第４号証の第１頁左下欄第１９〜右上欄第７行には、「半導体の製造工程において、生産効率を向上させるための一手段として、複数の処理機構、例えば半導体ウエハのレジスト塗布、加熱処理、現像機構等を連続して配置して処理する装置を使用し、また複数の半導体ウエハを１単位す
なわち１ロットとして取扱い処理することが行われている。そして、各ロットを構成する半導体ウエハの処理条件を、各ロットおよび各処理機構毎に設定し直すようにしている」と記載されている。
２．訂正の適否について
２．１　訂正請求に対する補正の適否について
　訂正請求書の訂正事項ｉ、ｏ及びｑを削除し、訂正事項ｇ『本件特許明細書の【０００９】に記載された請求項１の発明の構成説明を、不明瞭な記載の釈明を目的として、訂正事項ａに一致させるように訂正する。』を、『本件特許明細書の【０００９】に記載された請求項１の発明の構成説明を、不明瞭な記載の釈明を目的として、「【０００９】【課題を解決するための手段】　この目的を達成するため、請求項１の発明に係る処理装置は、回転可能な載置台と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、該載置台を回転させることにより該載置台上に固定された被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する回転処理部と、前記回転処理部に対して前記被処理体を搬入および搬出する搬送部と、
　を有し、
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段を前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度にて回転を再開させた後に、前記同一の回転位置にて停止制御することを特徴としている。」と訂正する。』と補正し、訂正事項ｈ『本件特許明細書の【００１０】の第５行以下に記載された請求項３〜１０の発明の構成説明を、不明瞭な記載の釈明を目的として、新請求項３〜６るの説明である訂正事項ｂ〜ｅに一致させるように訂正する。』を、『本件特許明細書の【００１０】の第５行目以下に記載された請求項３〜１０の発明の構成説明を、不明瞭な記載の釈明を目的として、「【００１０】　請求項２記載の発明に係る処理装置は、請求項１において、
　前記制御部は、同一ロット内の被処理体が、前記搬送部によって同一の位置状態で搬入および搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御することを特徴としている。
　請求項３記載の発明に係る処理装置は、請求項１または請求項２において、前記制御部は、前記第２の回転速度で少なくとも前記回転駆動手段を１回転させた後、前記回転駆動手段の回転を停止させるように制御することを特徴としている。
　請求項４記載の発明に係る処理装置は、請求項１ないし請求項３のいずれかにおいて、
　前記回転処理部は、前記回転駆動手段の回転位置を検出する回転位置検出手段をさらに有し、前記被処理体が搬入および搬出される、前記回転駆動手段の回転停止位置は、前記回転位置検出手段の原点信号位置に対応していることを特徴としている。
　請求項５記載の発明に係る処理システムは、
　前記被処理体を搬送する搬送部と、
　回転可能な載置台と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、
　該載置台に固定された前記被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する回転処理部と、
　を有し、
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を前記載置台上に搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段を前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度にて回転を再開させた後に、前記同一の回転位置にて停止制御することを特徴としている。
　請求項６記載の発明に係る処理方法は、
　回転処理部の載置台を所定の回転位置に設定する第１工程と、
　搬送部により被処理体を前記回転処理部に搬入し前記載置台上に固定する第２工程と、
　前記載置台上に固定された前記被処理体を、前記載置台を第１の回転速度にて回転させて処理する第３工程と、
　前記第３工程での処理終了後に、前記回転処理部の載置台の回転を停止させる第４工程と、
　前記回転処理部の載置台の回転を再開させ、前記第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する第５工程と、
　その後、前記回転処理部の載置台を、前記所定の回転位置で停止させる第６工程と、
　前記搬送部により前記回転処理部から前記被処理体を搬出する第７工程と、
　を有することを特徴としている。」と訂正する。』と補正するものであり、当該訂正請求に対する補正は、訂正請求の要旨を変更するものではなく、特許法第１２０条の４第第３項において準用する同法第１３１条第２項の規定に適合する。
２．２　訂正事項
訂正事項ａ１
　請求項１の「被処理体を回転させて処理する」を、「被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する」と訂正する。
訂正事項ａ２
　請求項１の「前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有すること」を、「前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を−旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御すること」と訂正する。
訂正事項ｂ
　請求項３、６，９および１０を削除する。
訂正事項ｃ
　請求項４を請求項３に繰り上げ、「請求項１ないし請求項３のいずれかにおいて、」を「請求項１または請求項２において、」と訂正する。
 訂正事項ｄ
　請求項５を請求項４に繰り上げ、「請求項１ないし請求項４のいずれかにおいて、」を「請求項１ないし請求項３のいずれかにおいて、」と訂正する。
訂正事項ｅ１
　請求項７を請求項５に繰り上げる。
訂正事項ｅ２
　請求項７の「被処理体を回転させて処理する」を、「被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する」と訂正する。
訂正事項ｅ３
　請求項７の「制御部を有すること」を、「制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を−旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御すること」と訂正する。
訂正事項ｆ１
　請求項８を請求項６に繰り上げる。
訂正事項ｆ２
　請求項８の「載置台を回転させて処理する」を、「載置台上に固定された前記被処理体を、前記載置台を第１の回転速度にて回転させて処理する」と訂正する。
訂正事項ｆ３
　請求項８の「回転処理部の載置台を回転させた後、を停止させる第４工程と、
前記搬送部により前記回転処理部から前記被処理体を搬出する第５工程」を、「前記第３工程での処理終了後に、前記回転処理部の載置台の回転を停止させる第４工程と、
　前記回転処理部の載置台の回転を再開させ、前記第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する第５工程と、
　その後、前記回転処理部の載置台を、前記所定の回転位置で停止させる第６工程と、
　前記搬送部により前記回転処理部から前記被処理体を搬出する第７工程」と訂正する。
訂正事項ｇ
　特許明細書の【０００９】を、「【０００９】【課題を解決するための手段】　この目的を達成するため、請求項１の発明に係る処理装置は、回転可能な載置台と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、該載置台を回転させることにより該載置台上に固定された被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する回転処理部と、前記回転処理部に対して前記被処理体を搬入および搬出する搬送部と、
　を有し、
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段を前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度にて回転を再開させた後に、前記同一の回転位置にて停止制御することを特徴としている。」と訂正する。
訂正事項ｈ
　特許明細書の【００１０】の第５行目以下を、「【００１０】　請求項２記載の発明に係る処理装置は、請求項１において、
　前記制御部は、同一ロット内の被処理体が、前記搬送部によって同一の位置状態で搬入および搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御することを特徴としている。
　請求項３記載の発明に係る処理装置は、請求項１または請求項２において、
　前記制御部は、前記第２の回転速度で少なくとも前記回転駆動手段を１回転させた後、前記回転駆動手段の回転を停止させるように制御することを特徴としている。
　請求項４記載の発明に係る処理装置は、請求項１ないし請求項３のいずれかにおいて、
前記回転処理部は、前記回転駆動手段の回転位置を検出する回転位置検出手段をさらに有し、
前記被処理体が搬入および搬出される、前記回転駆動手段の回転停止位置は、前記回転位置検出手段の原点信号位置に対応していることを特徴としている。
　請求項５記載の発明に係る処理システムは、
　前記被処理体を搬送する搬送部と、
　回転可能な載置台と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、
該載置台に固定された前記被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する回転処理部と、
　を有し、
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を前記載置台上に搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段を前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度にて回転を再開させた後に、前記同一の回転位置にて停止制御することを特徴としている。
　請求項６記載の発明に係る処理方法は、
　回転処理部の載置台を所定の回転位置に設定する第１工程と、
　搬送部により被処理体を前記回転処理部に搬入し前記載置台上に固定する第２工程と、
　前記載置台上に固定された前記被処理体を、前記載置台を第１の回転速度にて回転させて処理する第３工程と、
　前記第３工程での処理終了後に、前記回転処理部の載置台の回転を停止させる第４工程と、
　前記回転処理部の載置台の回転を再開させ、前記第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する第５工程と、
　その後、前記回転処理部の載置台を、前記所定の回転位置で停止させる第６工程と、
　前記搬送部により前記回転処理部から前記被処理体を搬出する第７工程と、
　を有することを特徴としている。」と訂正する。
訂正事項ｊ
　特許明細書の【００１１】の第２０行目〜第２５行目の「請求項３記載の発明に係る処理装置にあっては、…正確に一致させることができる。」を削除する。
訂正事項ｋ
　特許明細書の【００１１】の「請求項４」を、「請求項３」と訂正する。
訂正事項ｌ
　本件特許明細書の【００１１】の「請求項５」を、「請求項４」と訂正する。
訂正事項ｍ
　特許明細書の【００１１】の「請求項６記載の発明に係る処理装置にあっては、…処理部に受け渡すことが可能となる。」を削除する。
訂正事項ｎ
　特許明細書の【００１１】の「請求項７」を、「請求項５」と訂正する。
訂正事項ｐ
　本件特許明細書の【００１１】の「請求項８に記載の発明に係る被処理体の処理方法にあっては、…第５工程において被処理体を搬出することができる。」を、「請求項６に記載の発明に係る被処理体の処理方法にあっては、第１工程において所定の回転位置に設定された回転処理部の載置台上に、第２工程において搬送部により搬入された被処理体が固定される。次に、第３工程において載置台を第１の回転速度にて回転させて被処理体を処理し、処理後の第４工程にて載置台を−旦停止させる。その後の第５工程にて載置台を再開させ、第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する。この後の第６工程において載置台を前記所定の回転位置で停止させる。そして、第７工程において搬送部によって載置台から被処理体が搬出される。したがって、搬送部は、第２工程において搬入したときの被処理体の回転位置と同一の回転位置で、第７工程において被処理体を搬出することができる。」と訂正する。
訂正事項ｒ
　本件特許明細書の【００１１】の「請求項９に記載の発明に係る被書体の処理方法にあっては、…載置台の回転を停止させることができる。」を削除する。
訂正事項ｓ
　本件特許明細書の【００２６】の「なお、処理終了時に回転を−旦停止せずに、高速→低速回転に速度変更させるように制御してもよい。」を削除する。
２．３　訂正後の請求項
訂正後の請求項１
「回転可能な載置台と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、該載置台を回転させることにより該載置台上に固定された被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する回転処理部と、
　前記回転処理部に対して前記被処理体を搬入および搬出する搬送部と、
　を有し、
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御することを特徴とする処理装置。」
訂正後の請求項２
「請求項１において、
　前記制御部は、同一ロット内の被処理体が、前記搬送部によって同一の位置状態で搬入および搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御することを特徴とする処理装置。」
訂正後の請求項３
「請求項１または請求項２において、
　前記制御部は、前記第２の回転速度で少なくとも前記回転駆動手段を１回転させた後、前記回転駆動手段の回転を停止させるように制御することを特徴とする処理装置。」
訂正後の請求項４
「請求項１ないし請求項３のいずれかにおいて、
　前記回転処理部は、前記回転駆動手段の回転位置を検出する回転位置検出手段をさらに有し、前記被処理体が搬入および搬出される、前記回転駆動手段の回転停止位置は、前記回転位置検出手段の原点信号位置に対応していることを特徴とする処理装置。」
訂正後の請求項５
「被処理体を処理する複数の処理部を有する処理システムであって、
　前記被処理体を搬送する搬送部と、
　回転可能な載置台と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、該載置台に固定された前記被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する回転処理部と、
　を有し．
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を前記載置台上に搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御することを特徴とする処理システム。」
訂正後の請求項６
「回転処理部の載置台を所定の回転位置に設定する第１工程と、搬送部により被処理体を前記回転処理部に搬入し前記載置台上に固定する第２工程と、
　前記載置台上に固定された前記被処理体を、前記載置台を第１の回転速度にて回転させて処理する第３工程と、
　前記第３工程での処理終了後に、前記回転処理部の載置台の回転を停止させる第４工程と、
　前記回転処理部の載置台の回転を再開させ、前記第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する第５工程と、
　その後、前記回転処理部の載置台を、前記所定の回転位置で停止させる第６工程と、
　前記搬送部により前記回転処理部から前記被処理体を搬出する第７工程と、
　を有することを特徴とする被処理体の処理方法。」
３．　訂正の適否
３．１　目的該当性等について
３．１．１　訂正事項ａ１及びａ２
　上記訂正事項ａ１及びａ２は、特許明細書の請求項１における「被処理体を回転させて処理する」及び「前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有すること」を、それぞれ、下位概念である「被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する」及び「前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を−旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御すること」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、当該「被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する」及び「前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を−旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御すること」は、特許明細書の【００２６】段落から直接かつ一義的に導き出せる事項であるから、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．２　訂正事項ｂ
　上記訂正事項ｂは，特許明細書の請求項３、６、９及び１０を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、当該訂正は、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．３　訂正事項ｃ及びｄ
　上記訂正事項ｃ及びｄは、前記訂正事項ｂの訂正に伴い、請求項を繰り上げるものであるから、特許請求の範囲の記載を明りょうにするものであり、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．４　訂正事項ｅ１
　訂正事項ｅ１は、前記訂正事項ｂの訂正に伴い、請求項を繰り上げるものであるから、特許請求の範囲の記載を明りょうにするものであり、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．５　訂正事項ｅ２及びｅ３
　訂正事項ｅ２及びｅ３は、特許明細書の請求項７における「被処理体を回転させて処理する」及び「制御部を有すること」を、それぞれ、下位概念である「被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する」及び
「制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を−旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御すること」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、当該「被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する」及び
「制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を−旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御すること」は、特許明細書の【００２６】段落から直接かつ一義的に導き出せる事項であるから、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．６　訂正事項ｆ１
　訂正事項ｆ１は、前記訂正事項ｂの訂正に伴い、請求項を繰り上げるものであるから、特許請求の範囲の記載を明りょうにするものであり、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．７　訂正事項ｆ２およびｆ３
　訂正事項ｆ２およびｆ３は、特許明細書の請求項８における「載置台を回転させて処理する」及び
「回転処理部の載置台を回転させた後、を停止させる第４工程と、
前記搬送部により前記回転処理部から前記被処理体を搬出する第５工程」を、それぞれ、下位概念である「載置台上に固定された前記被処理体を、前記載置台を第１の回転速度にて回転させて処理する」及び
「前記第３工程での処理終了後に、前記回転処理部の載置台の回転を停止させる第４工程と、
　前記回転処理部の載置台の回転を再開させ、前記第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する第５工程と、
　その後、前記回転処理部の載置台を、前記所定の回転位置で停止させる第６工程と、
　前記搬送部により前記回転処理部から前記被処理体を搬出する第７工程」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、当該「載置台上に固定された前記被処理体を、前記載置台を第１の回転速度にて回転させて処理する」及び
「前記第３工程での処理終了後に、前記回転処理部の載置台の回転を停止させる第４工程と、
　前記回転処理部の載置台の回転を再開させ、前記第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する第５工程と、
　その後、前記回転処理部の載置台を、前記所定の回転位置で停止させる第６工程と、
　前記搬送部により前記回転処理部から前記被処理体を搬出する第７工程」は、特許明細書の【００３１】段落及び【００３２】段落から直接かつ一義的に導き出せる事項であるから、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．８　訂正事項ｇ
　訂正事項ｇは、前記訂正事項ａ１及びａ２の訂正に伴い、特許明細書の請求項の記載と、特許明細書の発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．９　訂正事項ｈ
　訂正事項ｈは、訂正事項ｂ〜ｅの訂正に伴い、特許明細書の請求項の記載と、特許明細書の発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．１０　訂正事項ｊ
　訂正事項ｊは、前記訂正事項ｂの訂正に伴い、特許明細書の請求項の記載と、特許明細書の発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．１１　訂正事項ｋ
　訂正事項ｋは、前記訂正事項ｃの訂正に伴い、特許明細書の請求項の記載と、特許明細書の発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．１２　訂正事項ｌ
　訂正事項ｌは、前記訂正事項ｄの訂正に伴い、特許明細書の請求項の記載と、特許明細書の発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．１３　訂正事項ｍ
　訂正事項ｍは、前記訂正事項ｂの訂正に伴い、特許明細書の請求項の記載と、特許明細書の発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．１４　訂正事項ｎ
　訂正事項ｎは、前記訂正事項ｅの訂正に伴い、特許明細書の請求項の記載と、特許明細書の発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．１５　訂正事項ｐ
　訂正事項ｐは、前記訂正事項ｆの訂正に伴い、特許明細書の請求項の記載と、特許明細書の発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．１６　訂正事項ｒ
　訂正事項ｒは、前記訂正事項ｂの訂正に伴い、特許明細書の請求項の記載と、特許明細書の発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．１７　訂正事項ｓ
　訂正事項ｓは、前記訂正事項ｂの訂正に伴い、特許明細書の請求項の記載と、特許明細書の発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．２　訂正の適否の判断
　上記訂正事項ａ１〜ｓは、上記３．１．１〜３．１．１７のとおりであるから、平成６年法律第１１６号附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び同条第２項の規定に適合する。
　従って、当該請求を認める。
４．特許異議申立てについての判断
４．１　本件請求項１〜６に係る発明
　上記２．３に記載のとおり。
４．２　異議申立ての理由の概要
　上記１．１に記載のとおり。
４．２．１　本件請求項１〜請求項６に係る発明と加藤清子が提出した甲第１号証〜甲第４号証及び高橋哲夫が提出した甲第１号証〜甲第７号証との対比、判断
　本件請求項１〜５に係る発明が、「制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御すること」（以下、「本件請求項１〜５に係る発明の特徴的構成」という。）及び本件請求項６に係る発明が、「載置台上に固定された前記被処理体を、前記載置台を第１の回転速度にて回転させて処理する第３工程と、
　前記第３工程での処理終了後に、前記回転処理部の載置台の回転を停止させる第４工程と、
　前記回転処理部の載置台の回転を再開させ、前記第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する第５工程と、
　その後、前記回転処理部の載置台を、前記所定の回転位置で停止させる第６工程」を有するのに対し、加藤清子が提出した甲第１号証〜甲第４号証及び高橋哲夫が提出した甲第１号証〜甲第７号証に記載された発明は、いずれも本件請求項１〜５に係る発明の特徴的構成及び本件請求項６に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではない。
　また、本件請求項１〜５に係る発明及び本件請求項６に係る発明は、上記本件請求項１〜５に係る発明の特徴的構成及び本件請求項６に係る発明の特徴的構成を有することにより、「第１の回転速度→第２の回転速度に移行する際に、回転駆動手段が一旦停止され、その後に回転が再開されて第２の回転速度に設定される・・・。つまり、被処理体の回転速度は、第１の回転速度→０（一旦停止）→第２の回転速度の経過を辿り、搬入時と同一の回転位置に停止制御されることになります。
　このような制御により、第１の回転速度から一旦停止させる際には、回転停止位置の制御は不要であり、短時間で−旦停止させることができます。その後回転を再開させて第２の回転速度まで上げれば容易に定常回転に設定でき、高い回転速度である第１の回転速度から第２の回転速度に一気に移行させるよりも時間を要しません。なぜなら、高い回転速度である第１の回転速度から停止制御用の低い第２の回転速度に一気に移行させる時には、慣性力の作用により定常回転に落ち着くのに時間を要するからです。従って、本件特許発明では回転停止制御を短時間で行えるという利点があります。
　このような停止制御は、訂正された本件特許の他の独立請求項５及び６にも共通して言える」
（平成１２年８月２８日付意見書）という、加藤清子が提出した甲第１号証〜甲第４号証及び高橋哲夫が提出した甲第１号証〜甲第７号証に記載された発明のいずれにもない効果を有する。
　そうすると、本件請求項１、請求項５及び請求項６に係る各発明は、上記高橋哲夫が提出した甲第１号証に記載された発明であるとすることができない。
　また、本件請求項１〜請求項６に係る各発明は、加藤清子が提出した甲第１号証〜甲第４号証及び高橋哲夫が提出した甲第１号証〜甲第７号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものとすることができない。
５．むすび
 したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１〜請求項６に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜請求項６に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　従って、本件請求項１〜請求項６に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年１１月１３日（２０００．１１．１３）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
訂正事項ａ１
　請求項１の「被処理体を回転させて処理する」を、「被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する」と訂正する。
訂正事項ａ２
　請求項１の「前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有すること」を、「前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御すること」と訂正する。
訂正事項ｂ
　請求項３、６，９および１０を削除する。
訂正事項ｃ
　請求項４を請求項３に繰り上げ、「請求項１ないし請求項３のいずれかにおいて、」を「請求項１または請求項２において、」と訂正する。
訂正事項ｄ
　請求項５を請求項４に繰り上げ、「請求項１ないし請求項４のいずれかにおいて、」を「請求項１ないし請求項３のいずれかにおいて、」と訂正する。
訂正事項ｅ１
　請求項７を請求項５に繰り上げる。
訂正事項ｅ２
　請求項７の「被処理体を回転させて処理する」を、「被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する」と訂正する。
訂正事項ｅ３
　請求項７の「制御部を有すること」を、「制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御すること」と訂正する。
訂正事項ｆ１
　請求項８を請求項６に繰り上げる。
訂正事項ｆ２
　請求項８の「載置台を回転させて処理する」を、「載置台上に固定された前記被処理体を、前記載置台を第１の回転速度にて回転させて処理する」と訂正する。
訂正事項ｆ３
　請求項８の「回転処理部の載置台を回転させた後、を停止させる第４工程と、
前記搬送部により前記回転処理部から前記被処理体を搬出する第５工程」を、「前記第３工程での処理終了後に、前記回転処理部の載置台の回転を停止させる第４工程と、
　前記回転処理部の載置台の回転を再開させ、前記第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する第５工程と、
　その後、前記回転処理部の載置台を、前記所定の回転位置で停止させる第６工程と、
　前記搬送部により前記回転処理部から前記被処理体を搬出する第７工程」と訂正する。
訂正事項ｇ
　特許明細書の【０００９】を、「【０００９】【課題を解決するための手段】　この目的を達成するため、請求項１の発明に係る処理装置は、回転可能な載置台と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、該載置台を回転させることにより該載置台上に固定された被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する回転処理部と、前記回転処理部に対して前記被処理体を搬入および搬出する搬送部と、
　を有し、
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段を前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度にて回転を再開させた後に、前記同一の回転位置にて停止制御することを特徴としている。」と訂正する。
訂正事項ｈ
　特許明細書の【００１０】の第５行目以下を、
「【００１０】　請求項２記載の発明に係る処理装置は、請求項１において、
　前記制御部は、同一ロット内の被処理体が、前記搬送部によって同一の位置状態で搬入および搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御することを特徴としている。
　請求項３記載の発明に係る処理装置は、請求項１または請求項２において、
　前記制御部は、前記第２の回転速度で少なくとも前記回転駆動手段を１回転させた後、前記回転駆動手段の回転を停止させるように制御することを特徴としている。
　請求項４記載の発明に係る処理装置は、請求項１ないし請求項３のいずれかにおいて、
前記回転処理部は、前記回転駆動手段の回転位置を検出する回転位置検出手段をさらに有し、
前記被処理体が搬入および搬出される、前記回転駆動手段の回転停止位置は、前記回転位置検出手段の原点信号位置に対応していることを特徴としている。
　請求項５記載の発明に係る処理システムは、
　前記被処理体を搬送する搬送部と、
　回転可能な載置台と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、
該載置台に固定された前記被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する回転処理部と、
　を有し、
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を前記載置台上に搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段を前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度にて回転を再開させた後に、前記同一の回転位置にて停止制御することを特徴としている。
　請求項６記載の発明に係る処理方法は、
　回転処理部の載置台を所定の回転位置に設定する第１工程と、
　搬送部により被処理体を前記回転処理部に搬入し前記載置台上に固定する第２工程と、
　前記載置台上に固定された前記被処理体を、前記載置台を第１の回転速度にて回転させて処理する第３工程と、
　前記第３工程での処理終了後に、前記回転処理部の載置台の回転を停止させる第４工程と、
　前記回転処理部の載置台の回転を再開させ、前記第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する第５工程と、
　その後、前記回転処理部の載置台を、前記所定の回転位置で停止させる第６工程と、
　前記搬送部により前記回転処理部から前記被処理体を搬出する第７工程と、
　を有することを特徴としている。」と訂正する。
訂正事項ｊ
　特許明細書の【００１１】の第２０行自〜第２５行目の「請求項３記載の発明に係る処理装置にあっては、…正確に一致させることができる。」を削除する。
訂正事項ｋ
　特許明細書の【００１１】の「請求項４」を、「請求項３」と訂正する。
訂正事項ｌ
　本件特許明細書の【００１１】の「請求項５」を、「請求項４」と訂正する。
訂正事項ｍ
　特許明細書の【００１１】の「請求項６記載の発明に係る処理装置にあっては、…処理部に受け渡すことが可能となる。」を削除する。
訂正事項ｎ
　特許明細書の【００１１】の「請求項７」を、「請求項５」と訂正する。
訂正事項ｐ
　本件特許明細書の【００１１】の「請求項８に記載の発明に係る被処理体の処理方法にあっては、…第５工程において被処理体を搬出することができる。」を、「請求項６に記載の発明に係る被処理体の処理方法にあっては、第１工程において所定の回転位置に設定された回転処理部の載置台上に、第２工程において搬送部により搬入された被処理体が固定される。次に、第３工程において載置台を第１の回転速度にて回転させて被処理体を処理し、処理後の第４工程にて載置台を一旦停止させる。その後の第５工程にて載置台を再開させ、第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する。この後の第６工程において載置台を前記所定の回転位置で停止させる。そして、第７工程において搬送部によって載置台から被処理体が搬出される。したがって、搬送部は、第２工程において搬入したときの被処理体の回転位置と同一の回転位置で、第７工程において被処理体を搬出することができる。」と訂正する。
訂正事項ｒ
　本件特許明細書の【００１１】の「請求項９に記載の発明に係る被書体の処理方法にあっては、…載置台の回転を停止させることができる。」を削除する。
訂正事項ｓ
　本件特許明細書の【００２６】の「なお、処理終了時に回転を一旦停止せずに、高速→低速回転に速度変更させるように制御してもよい。」を削除する。
２．３　訂正後の請求項
訂正後の請求項１
「回転可能な載置台と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、該載置台を回転させることにより該載置台上に固定された被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する回転処理部と、
　前記回転処理部に対して前記被処理体を搬入および搬出する搬送部と、
　を有し、
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御することを特徴とする処理装置。」
訂正後の請求項２
「請求項１において、
　前記制御部は、同一ロット内の被処理体が、前記搬送部によって同一の位置状態で搬入および搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御することを特徴とする処理装置。」
訂正後の請求項３
「請求項１または請求項２において、
　前記制御部は、前記第２の回転速度で少なくとも前記回転駆動手段を１回転させた後、前記回転駆動手段の回転を停止させるように制御することを特徴とする処理装置。」
訂正後の請求項４
「請求項１ないし請求項３のいずれかにおいて、
　前記回転処理部は、前記回転駆動手段の回転位置を検出する回転位置検出手段をさらに有し、前記被処理体が搬入および搬出される、前記回転駆動手段の回転停止位置は、前記回転位置検出手段の原点信号位置に対応していることを特徴とする処理装置。」
訂正後の請求項５
「被処理体を処理する複数の処理部を有する処理システムであって、
　前記被処理体を搬送する搬送部と、
　回転可能な載置台と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、該載置台に固定された前記被処理体を第１の回転速度にて回転させて処理する回転処理部と、
　を有し．
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を前記載置台上に搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御することを特徴とする処理システム。」
訂正後の請求項６
「回転処理部の載置台を所定の回転位置に設定する第１工程と、搬送部により被処理体を前記回転処理部に搬入し前記載置台上に固定する第２工程と、
　前記載置台上に固定された前記被処理体を、前記載置台を第１の回転速度にて回転させて処理する第３工程と、
　前記第３工程での処理終了後に、前記回転処理部の載置台の回転を停止させる第４工程と、
　前記回転処理部の載置台の回転を再開させ、前記第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する第５工程と、
　その後、前記回転処理部の載置台を、前記所定の回転位置で停止させる第６工程と、
　前記搬送部により前記回転処理部から前記被処理体を搬出する第７工程と、
　を有することを特徴とする被処理体の処理方法。」
（５４）【発明の名称】
処理装置、処理システム、および処理方法
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】　回転可能な載置合と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、該載置台を回転させることにより該載置台上に固定された被処理体を
第１の回転速度にて
　前記回転処理部に対して前記被処理体を搬入および搬出する搬送部と、
　を有し、
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を
有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御
　　【請求項２】　請求項１において、
　前記制御部は、同一ロット内の被処理体が、前記搬送部によって同一の位置状態で搬入および搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御することを特徴とする処理装置。
　　【請求項３】　請求項１
または請求項２
　前記制御部は、前記第２の回転速度で少なくとも前記回転駆動手段を１回転させた後、前記回転駆動手段の回転を停止させるように制御することを特徴とする処理装置。
　　【請求項４】　請求項１ないし請求項
３
　前記回転処理部は、前記回転駆動手段の回転位置を検出する回転位置検出手段をさらに有し、
　前記被処理体が搬入および搬出される、前記回転駆動手段の回転停止位置は、前記回転位置検出手段の原点信号位置に対応していることを特徴とする処理装置。
　　【請求項５】　被処理体を処理する複数の処理部を有する処理システムであって、
　前記被処理体を搬送する搬送部と、
　回転可能な載置台と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、該載置台に固定された前記被処理体を
第１の回転速度にて
　を有し、
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を前記載置台上に搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を
有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一日停止させ、その後前記回転駆動手段での回転を再開させて、前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度に設定した後に、前記同一の回転位置にて停止制御
　　【請求項６】　回転処理部の載置台を所定の回転位置に設定する第１工程と、
　搬送部により被処理体を前記回転処理部に搬入し前記載置台上に固定する第２工程と、
　前記載置台上に固定された前記被処理体を、前記載置台を
第１の回転速度にて
　
前記第３工程での処理終了後に、
の回転を
　
前記回転処理部の載置台の回転を再開させ、前記第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する第５工程と、
　その後、前記回転処理部の載置台を、
６
７
　を有することを特徴とする被処理体の処理方法。
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　【産業上の利用分野】　本発明は、被処理体を回転させて処理する処理装置、処理システム、および処理方法に関する。
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
　一般に、半導体製造工程においては、一例として、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理基板上にフォトリソグラフィ処理を用いて所定の回路パターンの転写が行なわれており、この場合には、基板上に感光剤であるフォトレジスト液を塗布するための回転処理装置としてレジスト塗布装置が用いられる。
　　　【０００３】
　上記塗布装置では、キャリアステーションに収納されている被処理基板を一枚ずつ載置し真空吸着することにより固定して回転させることができるスピンチャックが設けられている。このスピンチャックは、載置板に連結された回転軸を備え、この回転軸が、一例として、サーボモータの軸で構成されている。従って、被処理基板が載置固定されて塗布工程を実行する際には、スピンチャックは、被処理基板の中央部を係止した状態で回転することができ、回転時に、レジスト液の滴下供給が行なわれるようになっている。
　　　【０００４】
　そして、スピンチャックの回転駆動は、半導体製造処理工程におけるシーケンス制御によって設定されるようになっている。つまり、搬送アームによってキャリアステーションから搬送された被処理基板がスピンチャック上に載置固定されると、塗布工程に相当する時間内で回転駆動される。このため、シーケンス制御部では、スピンチャックの駆動源であるサーボモータに対して、駆動時間内での回転を継続させるための駆動信号を出力し、実際の回転状態をフィードバック制御する。フィードバック制御にあたっては、一例として、モータと連動関係を設定されたエンコーダからの位相信号を基にずれを補正する処理が実施される。
　　　【０００５】
　　【発明が解決しようとする課題】
　ところで、上記スピンチャックの回転制御においては、次のような問題があった。
　　　【０００６】
　すなわちスピンチャックによって載置固定されている被処理基板は、一般に、周縁の一部にオリエンテーションフラットと称される切欠き部が形成され、この切欠きを基準として各工程で要求される向きを整合されるようになっている。しかし、スピンチャックは、上記切欠き部の向き、つまり、この切欠きの位置を基準として回転開始位置が設定されるものではなく、単に、回転を必要とする工程での処理時間を基準として回転するようになっている。このため、スピンチャックにおける任意に設定した位置が回転駆動開始と回転駆動停止とで常に一致しているとは限らない。従って、スピンチャックにおける任意の位置、換言すれば、この位置を基準とした場合のスピンチャックの向きが回転開始時と回転停止時とで異なっていると、載置固定されている被処理基板の向きがスピンチャックに搬入されるときとスピンチャックから搬出されるときとで同じでなくなる。
　　　【０００７】
　この結果、搬入時での被処理基板の向きを基準とした場合には、搬入後に実施される塗布工程とこの塗布工程後に実施される露光工程での位置合せが適正でなくなったり、あるいは、キャリアステーションでカセットへ挿入する際にカセットの格納部との間で干渉が発生する虞れがあった。このため、従来では、スピンチャックの回転が停止されたとき、搬入時での被処理基板の向きにあわせるための調整を行なう場合がある。従って、調整量が大きいと、それだけ調整時間が多く必要になることにより製造工程でのスループットが悪くなることがあった。
　　　【０００８】
　そこで、本発明の目的は、上記従来の塗布装置における問題に鑑み、スピンチャックに載置固定される被処理基板の向きを常に一定にすることにより、製造工程でのスループットを改善することができる処理装置、処理システム、および処理方法を提供することにある。
　　　【０００９】
　　【課題を解決するための手段】
　この目的を達成するため、請求項１の発明に係る処理装置は、
回転可能な載置台と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、該載置台を回転させることにより該載置台上に固定された被処理体を
第１の回転速度にて
　前記回転処理部に対して前記被処理体を搬入および搬出する搬送部と、
　を有し、
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を
有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段を前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度にて回転を再開させた後に、前記同一の回転位置にて停止制御
　　　【００１０】
　請求項２記載の発明に係る処理装置は、請求項１において、
　前記制御部は、同一ロット内の被処理体が、前記搬送部によって同一の位置状態で搬入および搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御することを特徴としている
。
　請求項
３
または請求項２
前記制御部は、前記第２の回転速度で少なくとも前記回転駆動手段を１回転させた後、前記回転駆動手段の回転を停止させるように制御することを特徴としている。
　請求項
４
３
　前記回転処理部は、前記回転駆動手段の回転位置を検出する回転位置検出手段をさらに有し、
　前記被処理体が搬入および搬出される、前記回転駆動手段の回転停止位置は、前記回転位置検出手段の原点信号位置に対応していることを特徴としている。
　請求項
５
　前記被処理体を搬送する搬送部と、
　回転可能な載置台と、該載置台を回転駆動する回転駆動手段とを備え、該載置台に固定された前記被処理体を
第１の回転速度にて
　を有し、
　前記回転処理部は、前記搬送部が前記被処理体を前記載置台上に搬入した回転位置と同一の回転位置で、前記被処理体が前記搬送部によって搬出されるように、前記回転駆動手段の回転停止位置を制御する制御部を
有し、
　前記制御部は、前記回転処理部での処理が終了した際に前記回転駆動手段を一旦停止させ、その後前記回転駆動手段を前記第１の回転速度より低速の第２の回転速度にて回転を再開させた後に、前記同一の回転位置にて停止制御
。
　請求項
６
　回転処理部の載置台を所定の回転位置に設定する第１工程と、
　搬送部により被処理体を前記回転処理部に搬入し前記載置台上に固定する第２工程と、
　前記載置台上に固定された前記被処理体を、前記載置台を
第１の回転速度にて
　
前記第３工程での処理終了後に、
の回転を
　
前記回転処理部の載置台の回転を再開させ、前記第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する第５工程と、
　その後、前記回転処理部の載置台を、
６
７
　を有することを特徴としている
。
　　　【００１１】
　　【作用】
　請求項１記載の発明に係る処理装置にあっては、回転駆動手段によって駆動され回転可能な載置台と、制御部とを備える回転処理部は、搬送部が被処理体を搬入した回転位置と同一の回転位置で被処理体が搬送部によって搬出されるように制御部によって制御される。したがって、搬送部は、搬入したときの被処理体の回転位置と同一の回転位置で被処理体を搬出することができる。そのため、回転駆動手段の停止後に、被処理体の向きを搬入時の向きと合わせる調整を行う必要がなく、スループットを改善することができる。また、搬入時と同一の回転位置で被処理体を搬出するため、回転処理部に搬入された回転位置と同一の回転位置で例えば他の処理部に受け渡すことが可能となる。
　請求項２に記載の発明に係る処理装置にあっては、同一ロット内の被処理体が搬送部によって同一の位置状態で搬入および搬出されるように、回転駆動手段の回転停止位置が制御される。したがって、同一ロット内の被処理体が同一の位置状態で回転処理装置によって処理されるとともに、後続の処理においても同一ロット内の被処理体を同一の位置状態で処理することが可能となる。そのため、同一ロット内の各被処理体の処理状態の位置による分布が同様となり、不具合部などが発生した場合でもそれぞれ同様の位置部分となる。その結果、不具合などの対応において被処理体ごとに異なる対策を講じる必要性が減少し、生産性を向上させることができる
。
　請求項
３
　請求項
４
。
　請求項
５
　請求項
６
第１の回転速度にて
処理後の第４工程にて載置台を一旦停止させる。その後の第５工程にて載置台を再開させ、第１の回転速度より低い第２の回転速度に設定する。この後の
６
７
７
　　　【００１２】
　　【実施例】
　以下、図示実施例により本発明の詳細を説明する。
　　　【００１３】
　本発明による塗布装置、特にレジストを塗布するための塗布装置は、図２に示す基板処理システムを実施するための装置内に組込まれる。
　　　【００１４】
　以下、図２において、基板処理システムを実施するための構成について説明する。
　　　【００１５】
　基板処理システムでは、塗布前処理工程、塗布工程、現像工程およびべーク工程が実施される。このため、図２において、半導体ウエハ等の被処理基板Ｗは、キャリアステーション１００に設置されている複数のカセット１０２に収容されている。そして、キャリアステーション１００には、その中央部に搬入・搬出および基板Ｗの位置決めを行なうと共に基板Ｗをメインアーム１０４に対して受渡しする補助アーム１０６が設けられている。図２に示すシステムでは、後述する各装置の設置方向に沿ってメインアーム１０４が２基設けられ、これらメインアーム１０４は、各装置の設置方向に平行する搬送路に配置されて各装置の設置方向に沿って移動できるようになっている。
　　　【００１６】
　そして、上記工程を実施するための装置は搬送路をはさんで対向してそれぞれ配置されており、各装置としては、キャリアステーション１００の側方にブラシスクラバ１０８および高圧ジェット洗浄機１１０が、また、メインアーム１０４の移送路の反対側には現像装置１１２が、さらに、現像装置１１２に隣接して加熱装置１１４がそれぞれ配置されている。上記ブラシスクラバ１０８および高圧ジェット洗浄機１１０は、レジスト塗布工程前に被処理基板上に付着しているパーティクルを除去するために設けられており、被処理基板をブラシ洗浄によっておよび高圧ジェット水により洗浄するようになっている。また、加熱装置１１４は、被処理基板Ｗ上の余分な水分やレジスト液塗布後に被処理基板Ｗ上に残存している溶媒の除去等に用いられ、図２に示したシステムでは、現像装置１１２の数に対応して２基積み重ねられている。
　　　【００１７】
　さらに、加熱装置１１４に隣接する位置には、接続ユニット１１６を介してアドヒージョン装置１１８が設置され、この下方にはクーリング装置１２０が配置されている。アドヒージョン装置１１８は、被処理基板上でのレジストの密着性を改善するための疎水化処理を実施する装置であり、一例として、蒸気状態のＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）を作用させて被処理基板上の水酸基（−ＯＨ）をメチル基（ＣＨ３）に置換するようになっている。そして、これら装置１１８、１２０の側部には、加熱装置１１４が２列で２個ずつ積み重ねられるように配置されている。
　　　【００１８】
　また、メインアーム１０４の移送路を挟んでこれら加熱装置１１４およびアドヒージョン装置１１８と対向する位置には、レジスト塗布装置１３０が並設されている。なお、このレジスト塗布装置１３０に隣接する位置には、図示しないが、レジスト膜に所定の微細パターンを露光するための露光装置等が設置されている。
　　　【００１９】
　一方、上記レジスト塗布装置１３０は、図３に示す構造からなる。
　　　【００２０】
　すなわち、被処理基板Ｗである半導体ウエハに対してレジスト液を塗布するレジスト塗布ユニット１０を備えている。レジスト塗布ユニット１０は、上方を開口したカップ１２を備え、このカップ１２の内部に、一例として、真空チャックで構成された回転可能かつ上下動可能なスピンチャッタ１４が配置されている。カップ１２は、レジスト塗布時に飛散するレジスト液やサイドリンス時に飛散するリンス液を受け止めるためのものであり、このため、底部は、上記レジスト液やリンス液の廃液を集約させることができるように傾斜させてある。そして、このカップ１２の底部における傾斜端部には、廃液排出管１６および排気管１８が接続され、廃液およびカップ１２内の雰囲気を排出するようになっている。雰囲気に関しては、図示しないミストトラップを介してレジストと気体とを分離された状態で排出される。
　　　【００２１】
　また、カップ１２の側部には、図示しないが、サイドリンス部が配置されており、レジスト塗布後に半導体ウエハＷの周縁部に付着しているレジストを溶解除去するようになっている。さらに、カップ１２の側部で、スピンチャック１４をはさんで上記サイドリンス部と対向する位置には、レジスト液を吐出する液供給ノズル２０を待機させるノズル待機部２２とレジスト液のダミー吐出部２４がそれぞれ配置されている。ノズル待機部２２およびダミー吐出部２４に対する液供給ノズル２０の移動は、その詳細を図示しないが、一例として、上記両部が並列されている方向に移動可能かつ上下動可能な把持部材によって行なわれ、また、この把持部材によって、スピンチャック１４上の半導体ウエハ表面に移動することもできる。上記ノズル待機部２２およびダミー吐出部２４は、従来技術と同様に、塗布用ノズルの不使用時、ソルベントバスを有する待機部にノズルを位置させ、溶媒中あるいは溶媒雰囲気中におくこと、そして、再度、レジスト液を塗布する時には、ソルベントバスからノズルを取り出してノズル中に残留する乾燥気味のレジスト液を廃棄する、所謂、ダミーディスペンスを直前に行なうことを目的として設けられている。
　　　【００２２】
　一方、上記スピンチャック１４は、回転駆動手段をなすサーボモータ３２の出力軸に連結されてサーボモータ３２の回転に連動することができる。
　　　【００２３】
　上記サーボモータ３２は、回転軸に一体化され、信号出力手段をなすロータリーエンコーダ３４からの出力信号によって回転状態を設定されるようになっている。このため、ロータリーエンコーダ３４には、図４に示すように、周方向で等間隔に形成された１回転分に相当する数の位相信号取り出し用のスリット３４Ａと、このスリット３４Ａと異なる径を以ってスリット３４Ａの全数に付き１個の出力パルスが得られる原点位置信号用スリット３４Ｂが形成されている。位相信号取り出し用スリット３４Ａは、この種、サーボ機構において周知の位相差信号（Ｕ、Ｖ、Ｗ相信号）に相当するパルスおよび回転方向の判別用信号（Ａ、Ｂ相信号）に相当するパルスをそれぞれ出力するためのものであり、また、原点位置信号用スリット３４Ｂは、１回転毎にパスルを出力する、所謂、１回転毎の同期信号出力用のスリットであり、この信号をモータ３２を真の停止位置で停止させるための信号（Ｚ相信号）として用いている。このため、原点位置信号用スリット３４Ｂは、例えば、経時的に上記信号取り出し用スリット３４Ａによる全パルスが出力されたときに１個の出力パルスが得られる位置関係を設定されて形成されている。そして、これら各スリットからの出力パルスによる信号は、制御部３６に出力されてモータ３２の回転制御が実施される。
　　　【００２４】
　すなわち、図１において制御部３６は、マイクロコンピュータによって主要部を構成されており、入力側には本実施例と関係するものとして、上記エンコーダ３４が、そして出力側にはサーボモータ３２の駆動回路３８がそれぞれ図示しないＩ／Ｏインターフェースを介して接続されている。
　　　【００２５】
　上記エンコーダ３４は、周方向に沿って形成されている位相信号取り出し用スリット３４Ａおよび原点位置信号用スリット３４Ｂを光学センサ（図示されず）によって検出する構造が用いられ、この光学センサからは、図５に示すように、モータ３２の１回転分に相当する数の信号取り出し用スリット３４Ａからのパルス信号が出力された時点で、原点位置信号用スリット３４Ｂからのパルス信号（Ｓ１）が出力される。本実施例の場合、１回転当たりのパルス数は１０００個とされている。従って、原点位置信号用のパルスは、３６０（°）×１／１０００（個）の割合で出力されることになる。
　　　【００２６】
　一方、制御部３６では、塗布工程時でのモータ３２の回転制御および方向合わせ制御が実行される。回転制御に関しては、この種、サーボ機構での制御と同様に、回転方向判別（Ａ、Ｂ信号）と回転速度（Ｕ、Ｖ、Ｗ信号）との回転指令信号を基にしたフィードバック制御が実施される。そして、回転方向合わせ制御は、被処理基板Ｗの搬入時と搬出時とでスピンチャック１４の任意の位置での向きを整合させる制御である。このため、制御部３６では、処理開始時での同期信号を入力されるとともに、処理終了時にスピンチャック１４の回転を一旦停止、その後、処理時における第１の回転速度である定常時での速度と比して、低速である第２の回転速度での低速回転により再び回転を開始して同期信号、所謂、原点位置信号が入力された時点でスピンチャック１４を停止させるようになってい
る。従
　　　【００２７】
　すなわち、塗布工程全般の処理を終了した時点でロータリーエンコーダ３４のＺ相からのパルス信号が出力された時点でモータ３２を停止させると、仮に、回転開始位置がＺ相に対応した位置から始まるとすれば、搬出のための回転停止時でのスピンチャック１４の方向を回転開始時と一致させることができる。しかし、実際には、塗布工程での回転速度から急激に停止させる場合には、慣性あるいは減速時等の過渡期に発生しやすいパルス位相の遅れによってＺ相からの出力パルスに対応した位置でモータ３２を停止させることができないことがある。特に、パルスモータのように、磁極同士での励磁状態の断続に即応して回転状態が設定される形式をとらないサーボモータの場合には、上記した現象が顕著である。そこで、本実施例では、塗布工程終了時でのＺ相からのパルス信号、換言すれば、原点位置信号の出力状態に拘らず、複数回の回転を継続させて定常状態での低速回転時での原点位置信号による回転停止を行なう。
　　　【００２８】
　このような制御を図示すると、図６に示す通りである。図６において（Ａ）は（Ｃ）に示すように、処理終了時でのＺ相の位置が検知センサに対向した時の状態であり、また、（Ｂ）および（Ｄ）は、処理終了後にＺ相が検知センサに対向するときの状態をそれぞれ示している。そして、（Ｃ）、（Ｄ）は、Ｚ相と検知センサとの位置関係を示している。
　　　【００２９】
　図６において、塗布工程終了時にスピンチャック１４の任意の位置が被処理基板の搬入時と同じ位置にあるとき、換言すれば、符号Ｓ１で示すＺ相が塗布工程終了時と一致して光学センサと対向する場合（図６（Ａ）参照）と、スピンチャック１４の任意の位置が被処理基板の搬入時と異なる位置にあるとき、換言すれば、一例として、符号Ｓ１で示すＺ相がスピンチャック１４の停止時よりも後の位置にずれて光学センサと対向する場合（図６（Ｂ）参照）とでは、処理終了後に低速回転を開始した際に原点位置信号が入力された時の回転状態が異なる。つまり、（Ｃ）で示した場合には、低速回転開始後１回転した時、換言すれば、定常状態の回転が行なわれている時に停止させることができる。これに対して（Ｄ）で示した場合には、回転開始されて定常状態に移行する加速時に原点位置信号が入力されてしまうことになり、停止した場合でも、慣性あるいはパルス位相の違いによって処理開始時と異なる位置に停止することになる。そこで、（Ｄ）を含めたいずれの場合にも、特に、（Ｄ）に示した場合を対象とすると、処理終了時に停止した後、再度低速回転により複数回転させることで定常状態の低速回転を維持させ、この状態で、原点位置信号の入力により停止させるようにしている。従って、複数回の回転により、処理終了時に位置していたＺ相は、図６（Ｄ）に示すように、回転後、回転量が１回転以上の定常状態に相当する回転が得られる位置に配置されることになる。なお、このような定常状態での低速回転を設定することで、停止の際の慣性あるいは位相のずれによる停止位置のずれを防止することに代えて、例えば、原点位置信号用のパルス発生後に、回り過ぎによって発生したパルスおよび回転方向の判別用信号（Ａ，Ｂ相信号）を計数してその計数分だけ逆回転させて真の停止位置で停止させるようにしてもよい。
　　　【００３０】
　次に作用について説明する。
　　　【００３１】
　図７は、制御部３６の動作を説明するためのフローチャートであり、このフローチャートは、塗布工程に係わる処理全般に関するシーケンス制御のためのメインルーチンである。メインルーチンでは、先ず、初期設定処理が実行される（ＳＴ１）。この初期設定処理では、後述するチャック方向合わせ処理が実施され、原点位置信号が出力された位置に停止される。このようなチャックの方向合わせを、被処理基板のオリフラの向きを基準とすることができる。そして、この初期設定が終了すると、被処理基板の搬入処理が実行される（ＳＴ２）。この工程では、方向合わせを実施されたスピンチャック１４に対して搬送アームを用いて被処理基板が搬入され、スピンチャック１４上に載置固定される。従って、スピンチャック１４は、載置固定された被処理基板のオリフラの向きを搬入時の方向とされる。この後、図３において説明した塗布工程等のプロセス処理が実行される（ＳＴ３）。このプロセス処理が終了すると、プロセス処理時間、つまり、塗布工程時間の間、サーボモータ３２に対して継続されていた駆動信号の出力が停止される。
　　　【００３２】
　一方、プロセス処理終了後には、スピンチャックの方向合わせ処理が実行される（ＳＴ４）。この処理では、図８に示すように、プロセス処理終了時、つまり回転停止時において出力された原点位置信号の検出状態が判別される（ＳＴ５）。この判別処理においては、被処理基板の搬入時でのスピンチャック１４の任意の位置、所謂、スピンチャック１４の原点判別が実行される。この場合の原点は、ロータリーエンコーダ３４のＺ相による出力される原点位置信号がプロセス処理終了時に検出されているかどうかによって判別される。そして、原点の検出が行なわれていない場合、つまり、図６（Ｄ）に示したように、一例として、エンコーダ３４のＺ相３４Ｂがスピンチャック１４の駆動時間経過後にＺ相が検知センサの手前に停止している場合には、原点位置信号の取り込みを可能にするためのイネーブル状態を設定するとともに原点位置信号が出力されるまでの間、モータ３２の低速回転を開始する（ＳＴ６、ＳＴ７、ＳＴ８）。この状態は、図６（Ｂ）において、符号Ｓ１ａで示す原点位置信号の出力時まで継続される。
　　　【００３３】
　また、原点判別において、図６（Ａ）に示したように、プロセス処理終了と同時に原点位置信号（Ｓ１）が出力されている場合、あるいは、上記ステップＳＴ６乃至ＳＴ８の処理によって回転継続している過程で原点位置信号（Ｓ１）が出力された場合には、原点位置信号の取り込みを不能にするためのディスエーブル状態を設定するとともに、プロセス処理時よりも低速で所定時間の間、本実施例では０．５秒間、モータ３２を回転させて停止する（ＳＴ９、ＳＴ１０、ＳＴ１１）。そして、所定時間の低速回転によって回転状態が安定する定常状態に低速回転しているスピンチャック１４は、再度、原点判別が行なわれ、原点位置信号が出力されている間この処理を繰り返す（ＳＴ１２）。これにより、スピンチャック１４は、いわゆる、図６（Ｄ）に示したように、Ｚ相の位置を光学センサの後方に位置させて、定常回転あるいはこれに近い状態での回転量に設定されて加速時等の過渡期での停止による慣性による位置ずれや位相違いによる位置ずれを防止される。
　　　【００３４】
　従って、ステップＳＴ１３において、原点判別のための原点位置信号が出力された場合には、この時点からの原点位置信号の取り込み、換言すれば、スピンチャック１４の停止位置設定のための原点位置信号の取り込みを許容し、定常回転でスピンチャック１４を回転させる。そして回転過程で原点位置信号が出力された場合には、モータ３２を停止させて、再度、原点位置信号が出力されるのを待機する状態を設定する（ＳＴ１４、ＳＴ１５、ＳＴ１６）。このような処理を終了すると、搬出処理に移行され（ＳＴ１７）また、メンルーチンでは、方向合わせを実施された被処理基板が塗布工程に搬入された最終分であるかでどうかを判別し（ＳＴ１８）、所謂、ロット毎での最終の塗布工程実施分である場合には、そのロットでのシーケンス制御を終了する。
　　　【００３５】
　このように、プロセス処理終了時、一旦、スピンチャック１４を低速で定常回転させて、原点位置信号の出力誤動作あるいは慣性による位置ずれを防止した状態を設定することができるので、真の停止位置での停止が必要な状態を割り出すことが可能になり、被処理基板搬入時でのスピンチャックの方向と塗布工程終了後の被処理基板搬出時での方向とを容易にかつ正確に一致させることができる。
　　　【００３６】
　なお、上記したイネーブルおよびディスエーブルとは、原点位置信号を有効・無効にすることを表現している。
　　　【００３７】
　原点位置信号は、制御部３６の図示しないパルスジェネレーターに設けられたＥＳ（Ｅｍｅｒｇｅｎｃｙ　Ｓｔｏｐ）端子に電気的に接続されている。モータードライバー（駆動回路３８）に与える移動量情報（パルス列）とは無関係にこのＥＳ入力端子に制御信号（原点位置信号）が入力されると、パルスジェネレーターはパルス列の払い出しを即時、止めてしまう。
　　　【００３８】
　従って、イネーブル状態とは原点位置信号を取り込み可能（有効）な状態を、ディスエーブル状態とは、原点位置信号を取り込み不能（無効）な状態を表しており、図示しないハードポートをＯＮ／ＯＦＦすることで制御可能となる。
　　　【００３９】
　本実施例によれば、通常、位置制御の場合に用いられるパルス数の偏差を係数する処理に比べ、単に緊急停止用信号を出力するために形成されたＺ相信号を監視するだけでよいので、制御が簡単に行なえる。なお、本発明は、上記実施例で説明した塗布装置のみでなく、デベロッパーやスクラバー等に適用することも可能である。
　　　【００４０】
　　【発明の効果】
　以上説明したように本発明によれば、塗布工程終了時でのロータリーエンコーダのＺ相を用いた原点位置信号を監視するだけで被処理基板の搬入時と搬出時での方向合わせを行なうことが可能になる。しかも、方向合わせを行なうための基準を塗布工程終了時でのスピンチャックの向きに関係なく定常回転下で実施することができるので、加速時等の過渡期での停止を行った際の位置ずれをなくすことができる。従って、スピンチャックの方向合わせに要する手間を省くことが可能になることによって、半導体製造工程でのスループットを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
　　【図１】
　本発明による回転処理装置の一例であるレジスト塗布装置の要部構成を説明するためのブロック図である。
　　【図２】
　レジスト処理装置における基板処理システムを実施するための装置の全体構成を説明するための斜視図である。
　　【図３】
　図１に示したレジスト塗布装置の塗布処理部を説明するための模式図である。
　　【図４】　図３に示した塗布処理部に用いられるモータ制御部の構成を示す模式図である。
　　【図５】
　図４に示したモータに付設されているエンコーダの動作を説明するためのタイミングチャートである。
　　【図６】
　図１に示した要部構成による動作を説明するためのタイミングチャートである。
　　【図７】
　図４に示した制御部の動作を説明するためのフローチャートである。
　　【図８】
　図７に示した動作のサブルーチンを説明するためのフローチャートである。
　　【符号の説明】
　３２　モータ
　３４　ロータリーエンコーダ
　３４Ｂ　原点位置信号用スリット（Ｚ相）
　３６　制御部