【事件の表示】
　特許第２８２２８５４号「合成石英ガラス光学部材およびその製造方法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２８２２８５４号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１、手続の経緯
  本件特許第２８２２８５４号の請求項１〜８に係る発明は、平成５年８月２７日に特許出願され、平成１０年９月４日にその特許の設定登録がなされたものである。
　これに対して、信越石英株式会社、宮崎厚より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内に平成１１年１０月１８日付けで訂正請求書が提出され、その後、取消理由通知兼訂正拒絶理由通知がなされ、その指定期間内に意見書が提出されたものである。
２、訂正の適否
２−１、訂正の内容
  本件訂正請求書における訂正の内容は、本件特許明細書を訂正請求書に添付した訂正明細書のとおりに訂正しようとするものである。
  すなわち、特許請求の範囲の減縮を目的として、
（１）訂正事項ａ
　請求項１の「各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラスからなり、２６０ｎｍ〜７００ｎｍの内部透過率が９９．９％以上、透過限界波長が２５０ｎｍ以下、波長傾斜幅が４０ｎｍ以下であることを特徴とする合成石英ガラス光学部材。」を「各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラスからなり、２６０ｎｍ〜７００ｎｍの内部透過率を日本硝子工業会規格に示された方法により測定したときの値が９９．９％以上、透過限界波長が２５０ｎｍ以下、波長傾斜幅が４０ｎｍ以下であることを特徴とする合成石英ガラス光学部材。」と訂正する。
２−２、訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張変更の存否
　上記訂正事項ａは、内部透過率の測定方法を限定するものであり、この訂正事項は特許明細書に記載されているから（本件特許公報第３頁第５欄第１５〜１７行）、特許請求の範囲の減縮に該当し、実質上特許請求の範囲を拡張し、変更するものではなく、新規事項の追加にも該当しない。
２−３、独立特許要件
（ア）、訂正後の請求項１〜８に係る発明
  本件訂正明細書の請求項１〜８に係る発明は、訂正明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜８に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラスからなり、２６０ｎｍ〜７００ｎｍの内部透過率を日本硝子工業会規格に示された方法により測定したときの値が９９．９％以上、透過限界波長が２５０ｎｍ以下、波長傾斜幅が４０ｎｍ以下であることを特徴とする合成石英ガラス光学部材。
【請求項２】各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラス素材を原料とし、これを水素ガス中またはその他の還元ガス中または真空中で熱処理し、２５０ｎｍ以下に吸収帯を生成することを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項３】各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラス素材を原料とし、これを水素ガス中またはその他の還元ガス中または不活性ガス中または真空中に設けた還元力のある容器内で熱処理し、２５０ｎｍ以下に吸収帯を生成することを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項４】請求項３に記載の合成石英ガラス光学部材の製造方法において、前記還元力のある容器が、カーボンからなることを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項５】請求項２または請求項３に記載の合成石英ガラス光学部材の製造方法において、前記熱処理時の処理条件を調整することにより、透過限界波長を１６０〜２５０ｎｍの任意の値に設定することを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項６】火炎加水分解法により合成した各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラス素材を原料とし合成石英ガラス光学部材を製造する方法において、前記合成石英ガラス素材の合成時の雰囲気を還元性雰囲気に調整することにより、透過限界波長を１６０〜２５０ｎｍの任意の値に設定することを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項７】請求項２または請求項３に記載の合成石英ガラス光学部材の製造方法において、前記熱処理の処理条件を調整することにより、３００ｎｍ以下の波長域の内部透過率を任意の値に設定することを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項８】火炎加水分解法により合成した各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラス素材を原料とし合成石英ガラス光学部材を製造する方法において、前記合成石英ガラス素材の合成時の雰囲気を還元性雰囲気に調整することにより、３００ｎｍ以下の波長域の内部透過率を任意の値に設定することを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。」
（イ）、取消理由通知、取消理由兼訂正拒絶理由通知の内容
　当審で通知した取消理由通知、取消理由兼訂正拒絶理由通知は大要次のとおりである。
「（あ）請求項１に係る発明は、引例１〜３からみて、本件発明の出願前に公然知られているか、または公然実施されて発明であるか、または上記公然知られたものや公然実施されたものから当業者が容易に想到し得るものであるから、請求項１に係る発明の特許は特許法第２９条第１項第１、２号、第２項に違反してされたものである。
（い）請求項１に係る発明は、引例２〜４に記載されたものに基いて当業者が容易に想到し得るものであるから、請求項１に係る発明の特許は特許法第２９条第２項に違反してされたものである。
（う）請求項１に係る発明は、引例５〜７に記載されたものに基いて当業者が容易に想到し得るものであるから、請求項１に係る発明の特許は特許法第２９条第２項に違反してされたものである。
（え）請求項１に係る発明は、引例８に記載されたものに基いて当業者が容易に想到し得るものであるから、請求項１に係る発明の特許は特許法第２９条第２項に違反してされたものである。」
（ウ）引用刊行物の記載内容
（ａ）引例１（本件特許第２８２２８５４号公報）には、図６で通常合成品として酸素／水素比＝０．４〜０．６で合成した石英ガラスのＶＵＶ（真空紫外域）での吸収帯生成が図示されており、この場合、透過限界波長も２５０ｎｍ以下であり、波長傾斜幅も４０ｎｍ以下であることが示され、通常合成品と水素過剰下合成品は２２０ｎｍ以上で透過率は同じ線上にあることが図示されている。
（ｂ）引例２（特開平３−５３３８号公報）には、レーザ用光学部材に関し次の事項が記載されている。
（ｂ−１）「略４００ｎｍ以下の紫外線波長域のレーザ光に使用されるレーザ光用光学部材において、・・・該部材中に含まれる各金属元素濃度を少なくとも５０ｐｐｂ以下に設定したことを特徴とするレーザ光用光学部材。」（請求項１）
（ｃ）引例３（作花済夫編「ガラスの事典」株式会社朝倉書店　第２０４〜２０７頁（１９９１年９月１日））には、次の事項が記載されている。
（ｃ−１）「ＩＶ型の無水合成石英ガラスは、ＯＨ基の含有量低減をねらって作製されたもので、ＯＨ基が１ｐｐｍ以下のものが作られている。陽イオン不純物は１０ｐｐｂオーダー以下である。」（第２０５頁第１５〜１６行）
（ｃ−２）第２０７頁の図１には、（４）無水合成の波長０．１９μｍで８２％程度、０．２２μｍで９２％程度の透過率の特性が図示されている。
（ｄ）引例４（豊田浩一監「エキシマレーザ最先端応用技術」株式会社シーエムシー（１９８６年３月２５日）には、種々の石英ガラスの紫外線透過率を開示している。
（ｄ−１）第１０１頁図９・４には、ＥＳＳ、ＥＳ、＃７９４０という合成石英ガラスの２００〜８００ｎｍの透過特性をＡｔｔｅｎｕａｔｉｏｎとして示している。
Ａｔｔｅｎｕａｔｉｏｎは、図９．２（第１００頁）の光路長１００ｃｍの微弱吸収測定装置によって測定され単位はｄＢ／ｋｍで表される。ＥＳＳでは、２６０〜７００ｎｍの範囲では２６０ｎｍの位置がＡｔｔｅｎｕａｔｉｏｎは最も高く１０２ｄＢ／ｋｍを示している。さらに波長が２６０ｎｍから７００ｎｍになるにつれてＡｔｔｅｎｕａｔｉｏｎは減少する。
（ｄ−２）第１０３頁の図９・５において、ＥＳＳ、ＥＳ、＃７９４０の合成石英ガラスの真空紫外域での透過率を示しており、ＥＳＳでは、１６０ｎｍ〜１８０ｎｍの範囲に吸収端があり、波長傾斜幅も約２０ｎｍであることが図示されている。
（ｄー３）第１０２頁表９・１には、ＥＳの分析値として、Ａｌ１．４０ｐｐｍ、Ｃａ０．１８ｐｐｍ、Ｆｅ０．１４ｐｐｍ等が、＃７９４０の分析値としてＡｌ０．９８ｐｐｍ、Ｆｅ０．９４ｐｐｍ等が記載されている。
（ｅ）引例５（コーニング社カタログ「Ｐｒｅｍｉｕｍ−Ｑｕａｌｉｔｙ　Ｆｕｓｅｄ  Ｓｉｌｉｃａ　Ｌｏｗ  Ｅｘｐａｎｓｉｏｎ　Ｍａｔｅｒｉａｌ　Ｃｏｄｅ　７９４０」には次の事項が記載されている。
（ｅ−１）第６頁の不純物の表には、ナトリウム０．０１〜１．０ｐｐｍ、カリウム０．０１〜０．１、銅０．０１〜０．０５、マグネシウム０．０１〜０．１、カルシウム０．１〜１．０、亜鉛０．０５〜０．５、ホウ素０．０５〜０．５、アルミニウム０．０５〜５．０、チタニウム０．１〜１０．０等が記載されている。
（ｅ−２）第３頁上のＴｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ（透過率）の曲線には、厚みｌｃｍの試料の表面反射損失を含んだ（Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ　Ｌｏｓｓｅｓ　Ｉｎｃｌｕｄｅｄ）透過率が示されている。
（ｆ）引例６（欧州特許出願公開第４０１８４５号明細書）には、次の事項が記載されている。
（ｆ−１）第１１頁Ｔａｂｌｅ．１には、Ｎｏ１と１１は不純物のＬｉ、Ｎａ、Ｋが５０ｐｐｂ以下、Ｍｇ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕが１０ｐｐｂ以下であることが記載されている
（ｆ−２）第１３頁Ｔａｂｌｅ　２Ａには、「火炎加水分解法により合成された３０ｍｍ厚のサンプルにおいて照射前の２１５ｎｍにおける透過率のデータ」が記載されており、Ｎｏ６を除いてサンプルが９９．９％以上であることが記載されている。
（ｇ）引例７（平成１０年７月２９日付コーニングインターナショナル株式会社仲野泰也の証明書）には、引例５が米国コーニング社より１９７８年に発行されたことが証明されている。
（ｈ）引例８（Uｌｌｍａｎｎｓ　Ｅｎｃｙｋｌｏｐａ（変母音）ｄｉｅ　ｄｅｒ　ｔｅｃｈｎｉｃｈｅｎ　Ｃｈｅｍｉｅ」ＵＲＢＡＮ　＆ＳＣＨＷＡＲＺＥＮＢＥＲＧ　)、表紙、裏表紙、目次、第５１１〜５２４頁（１９６３））には、次の事項が記載されている。  
（ｈ−１）第５１８頁、表１には合成石英ガラスの一種であるＳｐｅｃｔｒｏｓｉｌ中の金属元素の分析結果（アルミニウム　＜０．０２、アンチモン＜０．０００１、砒素＜０．０００２、、ホウ素＜０．０１、カルシウム＜０．１、銅＜０．０００２、ガリウム＜０．００４、鉄＜０．１、マグネシウム＜０．００１、燐＜０．００１、カリウム＜０．００１、ナトリウム　０．０４（単位はｐｐｍ））が示されている。
（ｈ−２）第５２２頁の図9には、Ｓｐｅｃｔｒｏｓｉｌの１０ｍｍ光路での反射損失を補正した透過率が波長（図面のμ単位をｎｍ単位に換算した。）２２０ｎｍ〜３２０ｎｍ、１０００ｎｍ〜１２００ｎｍで１００％であることが図示されている。また、透過率７２％、５％の波長はそれぞれ１６５ｎｍ程度、１７２ｎｍ程度であることが図示されている。
（エ）、判断
（エ−１）訂正後の請求項１（以下、訂正発明１という。）に係る発明について
（エ−１−１）上記（あ）の取消理由について
  引例１には確かに通常合成品と記載されているが、この場合の「通常合成」が本件出願前から通常合成されていたことを証明する証拠はない。特許権者は「通常合成」とは「水素過剰下」に対する通常合成である旨主張（平成１１年１０月１８日付特許異議意見書）しており、この主張を覆す証拠もない。
  したがって、引例１から、訂正発明１が本件出願前公然知られた発明であるとも、公然実施された発明であるとも云えない。また、訂正発明１は公然知られたものや公然実施されたものから当業者が容易に想到しえるものであるとすることはできない。
（エ−１−２）上記（い）の取消理由について
　訂正発明１は、合成石英ガラス光学部材に関し、「各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラスからなり、２６０ｎｍ〜７００ｎｍの内部透過率を日本硝子工業会規格に示された方法により測定したときの値が９９．９％以上、透過限界波長が２５０ｎｍ以下、波長傾斜幅が４０ｎｍ以下である」構成を有することにより、明細書記載の「約２００ｎｍ以下のＶＵＶ光を効率良く選択的にカットし、透過限界波長よりも長波長側では透過率の良い光学部材を提供する」（本件訂正明細書段落【０００６】）という効果を奏するものである。
   引例４に記載されたＥＳＳ、ＥＳ、＃７９４０という合成石英ガラスは光路長１００ｃｍの微弱吸収測定装置によりＡｔｔｅｎｕａｔｉｏｎとして測定しており、訂正発明１の日本硝子工業会規格に示された方法による内部透過率の測定とは相違しているので、引例４のＡｔｔｅｎｕａｔｉｏｎの数値から、引例４に訂正発明１の内部透過率の数値が記載されているとは云えない。また、引例４において、ＥＳＳの金属不純物については記載されていないが、ＥＳと＃７９４０の場合には５０ｐｐｂ以上の金属不純物を含んでいることが記載されている。
　したがって、引例４には、２６０ｎｍ〜７００ｎｍの内部透過率を日本硝子工業会規格に示された方法により測定したときの値が９９．９％以上ということや、各金属不純物が５０ｐｐｂ以下ということが示唆されているとは云えない。
  また、引例２、３には金属不純物については記載されているが、２６０ｎｍ〜７００ｎｍの内部透過率を日本硝子工業会規格に示された方法により測定したときの値が９９．９％以上、透過限界波長が２５０ｎｍ以下、波長傾斜幅が４０ｎｍ以下である合成石英ガラスについては記載も示唆もされていない。
　したがって、引例２〜４を組み合わせても訂正発明１は当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
（エ−１−３）上記（う）の取消理由について
  引例５に記載されたものは金属不純物が、訂正発明１の数値範囲である５０ｐｐｂ以上のものをカルシウム、チタン等多く含んでいる。
  また、引例６に示された内部透過率は２１５ｎｍの場合だけであり、２６０ｎｍ〜７００ｎｍの場合の内部透過率は記載も示唆もされていない。
　してみると、引例７から引例５が本件出願前頒布されていることが云えても、訂正発明１は引例５〜７を組み合わせて当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
（エ−１−４）上記（え）の取消理由について
　上記（ｈ−２）の図示から、引例８の合成石英ガラスは、透過限界波長が１６８ｎｍ程度、波長傾斜幅が７ｎｍ程度である。また１０ｍｍ光路での反射損失を補正した透過率が１００％であることは内部透過率が１００％であることから、波長２２０ｎｍ〜３２０ｎｍ、１０００ｎｍ〜１２００ｎｍで内部透過率が１００％であることを示しており、図面上図示されていない３２０ｎｍ〜１０００ｎｍも当然１００％であると推定できる。
  してみると、引例８には、内部透過率、透過限界波長、波長傾斜幅は訂正発明１の数値範囲を満足する合成石英ガラスが記載されていると云える。
　しかしながら、金属不純物については、上記（ｈ−１）の記載ではカルシウムと鉄がｐｐｂに換算すると１００ｐｐｂ以下という限定であり、他の金属不純物がきめ細かく限定されていることからみて、この記載は５０ｐｐｂ以下という特定の数値範囲を示唆したものとは認められない。
　そして、訂正発明１は各金属不純物が５０ｐｐｂ以下と特定することによって、上記（エ−１−２）で述べた効果を奏するのであるから、訂正発明１は引例８に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
　なお、信越石英株式会社が平成１２年３月２１日付上申書で提出した参考資料６、７（日本石英硝子株式会社のカタログ）は本件出願前に頒布されたということは証明されていない。
（オー１）訂正後の請求項２〜８に係る発明について
  上記引例２〜８（引例１は本件特許公報である。）には「各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラス素材を原料とし、これを水素ガス中またはその他の還元ガス中または真空中で熱処理し、２５０ｎｍ以下に吸収帯を生成する」ことや「各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラス素材を原料とし、これを水素ガス中またはその他の還元ガス中または不活性ガス中または真空中に設けた還元力のある容器内で熱処理し、２５０ｎｍ以下に吸収帯を生成する」ことは記載も示唆もされていないので、訂正後の請求項２、３に係る発明は引例２〜８に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
  また、訂正後の請求項４、５、７に係る発明は請求項２、３に係る発明を引用しさらに限定した発明であるから、上記と同じ理由で引例２〜８に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
　また、上記引例２〜８には「火炎加水分解法により合成した各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラス素材を原料とし合成石英ガラス光学部材を製造する方法において、前記合成石英ガラス素材の合成時の雰囲気を還元性雰囲気に調整することにより、透過限界波長を１６０〜２５０ｎｍの任意の値に設定する」ことや「火炎加水分解法により合成した各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラス素材を原料とし合成石英ガラス光学部材を製造する方法において、前記合成石英ガラス素材の合成時の雰囲気を還元性雰囲気に調整することにより、３００ｎｍ以下の波長域の内部透過率を任意の値に設定する」ことは記載も示唆もされていないので、訂正後の請求項６、８に係る発明は引例２〜８に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
２−３、まとめ
　以上のとおり、訂正後の請求項１〜８に係る発明は特許出願の際、独立して特許を受けることができるものである。
　したがって、上記訂正請求は、平成６年改正法附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正法による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３、信越石英株式会社の特許異議申立てについて
３−１、申立ての理由の概要
  特許異議申立人は、証拠方法として甲第１〜４号証を提出し、請求項１に係る発明の特許は、次の理由で、特許法第２９条第１項第１〜３号、第２項、第３６条第５項第２号の規定に違反してされたものであり取り消されるべきものである旨主張している。
（１）請求項１に係る発明は、甲第３、４号証の周知技術を参照すれば、甲第１号証からみて、本件発明の出願前に公然知られているか、または公然実施された発明であるか、または上記公然知られたものや公然実施されたものから当業者が容易に想到し得るものである。
（２）請求項１に係る発明は、甲第２号証に記載された発明であるか、甲第２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到し得るものである。
（３）請求項１に係る発明は、甲第３号証に記載された発明であるか、甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到し得るものである。また、請求項１に係る発明は、甲第１、２号証と相まって甲第３号証から、本件発明の出願前に公然知られているか、または公然実施された発明であるか、または上記公然知られたものや公然実施されたものから当業者が容易に想到し得るものである。
（４）請求項１に係る発明は、甲第４号証に記載された発明であるか、甲第４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到し得るものである。また、請求項１に係る発明は、甲第１、２号証と相まって甲第４号証から、本件発明の出願前に公然知られているか、または公然実施された発明であるか、または上記公然知られたものや公然実施されたものから当業者が容易に想到し得るものである。
（５）請求項１には従来知られていた通常合成品までも包含しているから、請求項１の記載は発明の構成に欠くことができない事項のみを記載したものとは云えない。
３−２、甲号各証の記載内容
  甲第１、２、３、４号証は、それぞれ上記引例１、４、２、３と同じ。　
３−３、本件発明
  本件請求項１に係る発明（以下、本件発明１という。）は、上記（ア）の請求項１において摘記したとおりのものである。
３−４、判断
　上記（１）については、上記（エ−１−１）で述べたとおり。
　上記（２）については、上記（エ−１−２）で述べたように、甲第２号証には、各金属不純物が５０ｐｐｂ以下という限定については記載も示唆もされておらず、また甲第２号証の内部透過率の測定方法が日本硝子工業会規格に示されたものではなく内部透過率が本件発明１のそれと同じとも云えないので、本件発明１は、甲第２号証に記載された発明であるとも云えず、また、甲第２号証に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
　上記（３）については、甲第３号証には、金属不純物には記載されているものの、内部透過率、透過限界波長、波長傾斜幅については何も記載も示唆もされていない。
　したがって、本件発明１は甲第３号証に記載されていないし、甲第３号証に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
　また、甲第１、２号証については上記（１）（２）についてで述べたとおりであるから、甲第１、２号証を参照しても、甲第３号証から、本件発明１は、本件発明の出願前に公然知られているとも云えず、また公然実施された発明であるとも云えず、ましてや公然知られたものや公然実施されたものから当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
  上記（４）については、甲第４号証には、ＩＶ型の無水合成石英ガラスについての陽イオン不純物については記載されているものの、このガラスの内部透過率、透過限界波長、波長傾斜幅については何も記載も示唆もされていない。
　したがって、本件発明１は甲第４号証に記載されていないし、甲第４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
　また、甲第１、２号証については上記（１）（２）についてで述べたとおりであるから、甲第１、２号証を参照しても、甲第４号証から、本件発明１は、本件発明の出願前に公然知られているとも云えず、また公然実施された発明であるとも云えず、ましてや公然知られたものや公然実施されたものから当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
　上記（５）については、上記（エ−１−１）で述べたように本件特許明細書中の「通常合成品」の「通常」が従来行っていたという意味であることの証拠はなく、「通常合成品」も上記（エ−１−２）で述べた効果を奏するのは明らかであるから、請求項１の記載は発明の構成に欠くことができない事項のみを記載したものと云える。
４、宮崎厚の特許異議申し立てについて
４−１、申立ての理由の概要
　特許異議申立人は、証拠方法として甲第１〜３号証を提出し、請求項１に係る発明の特許は、次の理由で、特許法第２９条第２項、第３６条第４項の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきものである旨主張している。
（１）本件発明１は、甲第１、２号証の記載された発明に基いて当業者が容易に想到し得るものである。
（２）本件明細書の発明の詳細な説明の欄に、請求項１の「各金属不純物が５０ｐｐｂ以下」の記載について当業者が実施することができる程度に記載されていない。
４−２、甲号各証の記載内容
　甲第１〜３号証は、それぞれ上記引例５〜７と同じ。
４−３、判断
　上記（１）については、上記（エ−１−３）で述べたとおり。
　上記（２）については、一般に合成石英ガラスの製造において、金属不純物や、該金属不純物の低減方法等は知られているから、本件明細書の記載が当業者が実施することができる程度に記載されていないとまでは云えない。
５、むすび
  以上のとおり、特許異議申立ての理由及び証拠方法によっては、本件請求項１に係る発明の特許を取り消すことはできない。
  また、他に本件請求項１に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件請求項１に係る発明の特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
  よって、平成６年改正法附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年６月３０日（２０００．６．３０）
【訂正の要旨】
　訂正の要旨
　特許第２８２２８５４号発明の明細書を、本件訂正請求書に添付された訂正明細書のとおりに、すなわち、特許請求の範囲の減縮を目的として、
（１）訂正事項ａ
　請求項１の「各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラスからなり、２６０ｎｍ〜７００ｎｍの内部透過率が９９．９％以上、透過限界波長が２５０ｎｍ以下、波長傾斜幅が４０ｎｍ以下であることを特徴とする合成石英ガラス光学部材。」を「各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラスからなり、２６０ｎｍ〜７００ｎｍの内部透過率を日本硝子工業会規格に示された方法により測定したときの値が９９．９％以上、透過限界波長が２５０ｎｍ以下、波長傾斜幅が４０ｎｍ以下であることを特徴とする合成石英ガラス光学部材。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
合成石英ガラス光学部材およびその製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラスからなり、
２６０ｎｍ〜７００ｎｍ
の内部透過率を日本硝子工業会規格に示された方法により測定したときの値
　【請求項２】
　各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラス素材を原料とし、
これを水素ガス中またはその他の還元ガス中または真空中で熱処理し、２５０ｎｍ以下に吸収帯を生成することを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項３】
　各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラス素材を原料とし、
これを水素ガス中またはその他の還元ガス中または不活性ガス中または真空中に設けた還元力のある容器内で熱処理し、２５０ｎｍ以下に吸収帯を生成することを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項４】
　請求項３に記載の合成石英ガラス光学部材の製造方法において、
前記還元力のある容器が、カーボンからなることを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項５】
　請求項２または請求項３に記載の合成石英ガラス光学部材の製造方法において、
前記熱処理時の処理条件を調整することにより、透過限界波長を１６０〜２５０ｎｍの任意の値に設定することを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項６】
　火炎加水分解法により合成した各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラス素材を原料とし合成石英ガラス光学部材を製造する方法において、
前記合成石英ガラス素材の合成時の雰囲気を還元性雰囲気に調整することにより、透過限界波長を１６０〜２５０ｎｍの任意の値に設定することを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項７】
　請求項２または請求項３に記載の合成石英ガラス光学部材の製造方法において、
前記熱処理の処理条件を調整することにより、３００ｎｍ以下の波長域の内部透過率を任意の値に設定することを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項８】
　火炎加水分解法により合成した各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラス素材を原料とし合成石英ガラス光学部材を製造する方法において、
前記合成石英ガラス素材の合成時の雰囲気を還元性雰囲気に調整することにより、３００ｎｍ以下の波長域の内部透過率を任意の値に設定することを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、例えばオゾンフリーＵＶ（紫外）ランプ、ＵＶ・ＶＵＶ（真空紫外）域用光学フィルター等に利用される、合成石英ガラス光学部材及びその製造方法に関するものである。
　更に詳しくは、約２００ｎｍ以下のＶＵＶ光を効率良く選択的にカットし、耐熱性の高い合成石英ガラス光学部材及びその製造方法に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来、光学フィルターは可視域を対象としていた。その光学フィルターには着色ガラスが用いられる。着色ガラスとは、ベースとなるガラス組成に、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏ，等の遷移金属や、Ｎｄ，Ｐｒ，Ｅｒ，Ｈｏ等の希土類元素を着色剤として含有したものであり、溶融条件による酸化還元反応の制御、熱処理条件による光の波長より微小な分散粒子のコロイド化等により、分光透過率を調整したものである。着色ガラスを光学フィルター、特にＪＩＳ　Ｂ７１１３に規定されるシャープカットフィルター（波長傾斜幅３５ｎｍ、平均透過率８５％以上のもの）に用いる場合の性能は波長傾斜幅、透過限界波長、平均透過率で表される。波長傾斜幅とは、図２に示すように、吸収端付近の透過率が７２％となる波長Ａと５％になる波長Ｂの間隔で表示される。透過限界波長は、波長傾斜幅の中央にあたる波長を表す。また、平均透過率は、波長Ａ〜７００ｎｍまでの透過率の平均値である。
　【０００３】
　可視域より短波長の光学フィルターとしては、透過限界波長が４００ｎｍ以下のＴｉ４＋、Ｃｅ４＋等を含有する鉛ガラスや着色ガラスがある。また、紫外用としては、Ｆｅ等の不純物の少ない燐酸塩または珪酸塩ガラスが多く用いられるが、紫外限界透過率は最も短波長なもので、フィルターＮｏ．ＵＶ２２の２２０ｎｍである。従って、それ以下の波長の光を選択的にカットまたは透過する様なフィルター用ガラス材料は実質上存在しなかった。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　上述したようにフィルターガラスの透過限界波長は、最も短いものでフィルターＮｏ．ＵＶ２２の２２０ｎｍ程度である。また、紫外域で使用される着色ガラスのペースとなるガラス組成は燐酸塩あるいは珪酸塩ガラスが多く、Ｃｏｒｅｘ、Ｕｖｉｏｌ、Ｖｉｔａ、あるいはリンデマンガラスのようなホウ酸塩ガラスである。これらのベースガラス組成のフィルターガラスの透過限界波長は、Ｃｏｒｅｘで２１８ｎｍ、Ｕｖｉｏｌで２６８ｎｍ、Ｖｉｔａで２５２ｎｍ程度である。
　【０００５】
　そこで、石英ガラスをベースとして用いて透過限界波長の短いフィルターガラスを構成することが考えられる。
　例えば、溶融石英ガラスであれば、透過限界波長は２１０ｎｍ程度である。
　しかしながら、主に水晶または硅石を原料としたベルヌイ法で合成された溶融石英ガラスでは原料中に例えば、Ａｌ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｎａ等の不純物金属元素を０．１〜数ｐｐｍを必然的に含んでいる。この為、これらの不純物濃度に依存して、約２５０ｎｍ以上の透過率が低くなり、本来の透過限界波長（２１０ｎｍ）よりも長波長側の透過率が低くなる。また、２５０ｎｍ吸収帯のほかにも構造欠陥等に依存する吸収帯が多数存在し、透過限界波長より長波長側の内部透過率が低下し、光学フィルターとしての性能が低下する。さらに、波長傾斜幅が広いので、シャープカットフィルターを得ることは難しい。
　【０００６】
　本発明は、このような問題を解決し、約２００ｎｍ以下のＶＵＶ光を効率良く選択的にカットし、透過限界波長よりも長波長側では透過率の良い光学部材及びその製造方法を提供することを目的とする。
　【０００７】
　【課題を解決するための手段】
　そこで、本発明者らは、ベースガラス組成として各金属不純物が５０ｐｐｂ以下であり、２６０ｎｍ以上の内部透過率が良好な合成石英ガラスを用いることを考えた。上述したように、金属不純物は２５０ｎｍ以上の透過率を低下させるが、合成石英ガラスの金属不純物濃度を５０ｐｐｂ以下にすることにより、透過限界波長より長波長側の内部透過率を９９．９％以上とすることが可能である。合成石英ガラスの本来の透過限界波長は約１６０ｎｍである。
　【０００８】
　そこで、本発明者らは、合成石英ガラスの透過率特性と、合成条件及び熱処理条件との関係を長年に渡り鋭意研究した結果、以下の事が解った。
　２５０ｍｍ以下の吸収帯を生成する石英ガラスの製造方法において、
▲１▼合成石英ガラス素材を水素ガス中またはその他の還元ガス中または真空中で、
８００℃以上で熱処理する事で、１７５ｎｍ（７．１ｅＶ）を中心波長とする半値幅約１．０５ｅＶの比較的ブロードな吸収帯が生成する。この吸収帯は処理温度の上昇や、処理時間が長いと増加する。
▲２▼カーボン容器等を使用して、合成石英ガラス素材を水素ガス中またはその他の還元ガス中または不活性ガス中または真空中１０００〜１８００℃で熱処理すると▲１▼と同一の吸収帯が生成する。
▲３▼火炎加水分解法により合成石英ガラス素材を合成する際に、還元性雰囲気で合成する事で▲１▼と同様な吸収帯が発生する。
　【０００９】
　よって、本発明は上記の製造方法により、各金属不純物が５０ｐｐｂ以下の合成石英ガラスからなり、２６０ｎｍ〜７００ｎｍの内部透過率が９９．９％以上、透過限界波長が２５０ｎｍ以下、波長傾斜幅が４０ｎｍ以下であることを特徴とする合成石英ガラス光学部材を提供するものである。
　ここで、内部透過率とは、光学ガラスの反射損失を含まない分光透過率をいう（日本光学硝子工業会規格　ＪＯＧＩＳ１７より引用）。
　【００１０】
　さらに、従来の光学フィルターの透過限界波長は、ガラスの組成によって決まるものであるのに対し、本発明においては、１６０〜２５０ｎｍの間に形成する吸収帯によるものである。このことから、処理条件を調整することにより、光学フィルターの透過限界波長を１６０〜２５０ｎｍの間の任意の値に制御することが可能となった。
　【００１１】
　よって、本発明は、熱処理時の処理条件および合成時の雰囲気を調整することにより、透過限界波長を１６０〜２５０ｎｍの任意の値に設定すること、また、３００ｎｍ以下のＵＶ、ＶＵＶ域において、内部透過率を０〜１００％の範囲で任意の値に設定することを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法を提供するものである。
　【００１２】
　【作用】
　上記の事実から、水素ガスおよびその他の還元性ガス（例えばＣＨ４）もしくは真空中で合成石英ガラスを熱処理する事で、２００ｎｍ以下の透過率を制御する方法を見いだした。
　これを利用すれば、処理温度、処理時間または合成条件等を最適化する事で、所望の透過限界波長を有する合成石英ガラス光学部材を製造する事が出来る。
　【００１３】
　水素ガス雰囲気で処理する場合、その濃度は９９％以上が吸収帯生成効率あるいは水素が可燃性ガスであるため安全の面からも望ましい。特に酸素濃度は低ければ低いほど良い。
　前述した通り、水素ガスで合成石英ガラスを熱処理する事で１７５ｎｍ（７．１ｅＶ）を中心波長とする半値幅約１．０５ｅＶの比較的ブロードな吸収帯が生成する。この現象はその他の還元性ガス雰囲気中でも起こる事から、ＳｉＯ２ネットワークの還元反応により生成されているものと考えられる。
　【００１４】
　この吸収帯の帰属としては、状況から推測すると、≡Ｓｉ−Ｓｉ−Ｓｉ≡または＝Ｓｉ：（Ｓｉｌｉｃｏｎ　Ｌｏｎｅ　Ｐａｉｒ　Ｃｅｎｔｅｒ：ＳＬＰＣ）の様な状態が考えられる。≡Ｓｉ−Ｓｉ−Ｓｉ≡はＶＡＤ石英ガラスの製造中において、スートの焼結過程を真空中で行う事で生成すると言われており、さらに目視観察でも黒くなっている事から、Ｓｉクラスターも生成している事が提唱されている（＊１粟津　他　第３７回応用物理学関係連合講演会２９Ｐ−ＺＣ−１６（１９９０．３））。また、＝Ｓｉ：（ＳＬＰＣ）は、ＳｉＯ２スートを水素雰囲気下で焼結する事で生成すると考えられている（＊２　Ｍ．Ｋｏｈｋｅｔｓｕ　ｅｔ．Ｊ．Ｊ．　ｏｆ　Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．ｖｏｌ．２８，Ｎｏ．４，Ａｐｒｉｌ，１９８９，ｐｐ．６１５−６２１）。ＳＬＰＣは２５０ｎｍ吸収帯（Ｂ２β）の原因と考えられ、○＝Ｓｉガス分子が１８０、２５０、３２５ｎｍに吸収帯を持つ事から２５０ｎｍ以外の吸収帯も生成する事が予測される。≡Ｓｉ−Ｓｉ−Ｓｉ≡または、＝Ｓｉ：（ＳＬＰＣ）と仮定すると、例えば次の４つのような反応式が考えられる。
　【００１５】
　【化１】
　【００１６】
　しかしながら、≡Ｓｉ−Ｓｉ−Ｓｉ≡は、ＥＳＣＡ等の機器分析装置で未だ検出不能な事、副生成物と推測されるＨ２Ｏの増加がＩＲで検出されていない事、一方、ＳＬＰＣは、２５０ｎｍ帯、３２５ｎｍ帯も同時に生成するはずが、本発明における実験では検出されていない等、不明確な点も多い。しかし、本発明における実験結果から判断すると、いずれにせよ何らかのＳｉＯ２ネットワークの還元物質が原因であると思われる。石英ガラスのＵＶまたはＶＵＶ域吸収帯の代表的なものとしては、１６３ｎｍ（≡Ｓｉ−Ｓｉ≡）、２１５ｎｍ（Ｅ’センター）、２２５ｎｍ（Ｅ’２センター）、２５０ｎｍ（Ｂ２α：≡Ｓｉ−Ｘ−Ｓｉ≡（Ｘ：酸素空孔）、Ｂ２β：Ｏ２＝Ｓｉ：）、２６０ｎｍ（ＮＢＯＨＣまたはＳｉ−Ｏ−他不明）、３２５ｎｍ（酸素過剰欠陥、またはＣｌ関連）、１６５ｎｍ以下（ＯＨ基）等が存在するが、これらを制御する事でも、ＵＶまたはＶＵＶ域の透過率を制御する事が出来るが、制御の簡便さや吸収帯の安定性から考えて、本発明による、１７５ｎｍ吸収帯を利用する事が望ましい。利用したい波長によっては、他の吸収帯を利用する事もできる。
　【００１７】
　次に、実際の実験結果及び実施例について解説する。まず、図１は、水素雰囲気熱処理による透過率の処理温度及び雰囲気依存性を示したグラフである。サンプルは、１０ｍｍ厚の両面研磨品を使用した。水素ガス１００％雰囲気、６気圧下で６０ｈ、５００〜１１００℃で処理した後のサンプル、及び未処理品、１０００℃Ｎ２雰囲気下で処理したサンプルの反射損失含みの透過スペクトルである。処理温度が高くなる事で、１７５ｎｍ吸収帯が大きく生成している事、及びＮ２雰囲気では殆ど吸収が発生しない事が解る。Ｈ２とＮ２の効果の差は拡散速度及び還元力の差によると思われる。１１００℃以上の高温で長時間処理する事でＮ２でも比較的表面付近では吸収が発生する事が解っている。また、カーボン容器中で処理しても同一の吸収が発生する事も確認されている。しかし、吸収量の制御と云う点からは、水素雰囲気が望ましい。実験に用いたサンプルのＯＨ基濃度は約１３００ｐｐｍである為、１６０ｎｍよりやや長波長側で透過率が殆ど０になっている。このため、１６３ｎｍ帯は仮に生成していたとしても、この場合観察されない。
　【００１８】
　次に生成した吸収帯の形状を解析してみる。解析したグラフを図３に示す。横軸は光子エネルギー（ｅＶ）、縦軸は吸収係数（α　ｃｍ−１）である。吸収係数αは、未処理の１０ｍｍサンプルの透過率に対する、各温度（１１００、１０００、９００℃）で処理したサンプルの透過率の比で算出した数値である。厳密に言うと見かけの吸収係数と云う表現になる。各温度について、□（１１００℃）、＋（１０００℃）、◇（９００℃）の各シンボルでプロットした。７．５ｅＶより高エネルギー側では、未処理のサンプルの透過率も低くなるため、誤差成分を多く含む。また、この吸収帯の形状を、ガウシアン型と仮定し、ピーク位置７．１ｅＶ、半値幅１．０５ｅＶで計算した曲線を点線で表示した。高エネルギー側の誤差成分を考慮すると、かなり良くフィットしていると考えられる。これはほぼ単一の吸収帯と判断できる。そのため、処理温度依存性（図４）、処理時間依存性（図５）は、非常に良い直線関係が得られると思われる。これは、吸収量を制御する事が非常に簡便である事を示す。逆に、この吸収さえ抑制されれば、２００ｎｍ付近の高透過率化にも役立つ技術である。高透過率化のためには、この吸収帯が生成しないような条件で製造すれば良い。
　【００１９】
　次に、合成条件による吸収の発生について解説する。合成石英ガラスは、一般的に、酸水素火炎バーナーにＳｉＣｌ４を導入して、ＳｉＯ２微粒子を形成すると同時に、回転しているターゲットに堆積されガラス塊を得るという方法で造られる。合成時の酸水素バーナーに供給されるＯ２／Ｈ２流量比を０．１〜０．２（水素過剰）及び０．４〜０．６（通常の条件）で合成されたサンプル、それぞれの透過スペクトルを図６に示す。図６から、この吸収は水素熱処理時に生成される吸収と同一である事が解る。
　【００２０】
　吸収の生成法に関して、熱処理による方法と合成による方法の長所短所を比較する。透過率の３次元的な均質性に関しては合成の方が優れている。熱処理による場合、還元反応による副生成物の拡散による影響を受けるため表面付近の吸収係数が大きくなる。その為均質性はやや劣る。しかし、コストや透過率の制御精度、簡便さ等は熱処理による方法が優れる。処理温度は表面失透（結晶化）防止の面から、１１００℃以下もしくは１８００℃以上が望ましい。また、１９００℃以上の処理はＳｉＯ２の昇華が顕著になるため避けた方が良い。
　【００２１】
　【実施例１】
　標準的な合成石英ガラスを水素雰囲気中、６気圧、１１００℃、６００ｈ処理する事で、１７５ｎｍ（７．１ｅＶ）での吸収係数α＝２０ｃｍ−１、及びその吸収帯の形状がガウシアン型で半値幅約１．０５ｅＶの石英ガラスを得る事が出来た。
　【００２２】
　【実施例２】
　標準的な合成石英ガラスを水素雰囲気中、６気圧、１８００℃、６ｈ処理する事で、１７５ｎｍ（７．１ｅＶ）での吸収係数α＝２００ｃｍ−１、及びその吸収帯の形状がガウシアン型で半値幅約１．０５ｅＶの石英ガラスを得る事が出来た。
　【００２３】
　【実施例３】
　標準的な合成石英ガラスを水素雰囲気中、６気圧、１１００℃、２４ｈ処理する事で、１７５ｎｍ（７．１ｅＶ）での吸収係数α＝８００ｃｍ−１、及びその吸収帯の形状がガウシアン型で半値幅約１．０５ｅＶの石英ガラスを得る事が出来た。
　【００２４】
　【実施例４】
　標準的な合成石英ガラスをメタン（ＣＨ４）雰囲気中、６気圧、１１００℃、６００ｈ処理する事で、１７５ｎｍ（７．１ｅＶ）での吸収係数α＝５ｃｍ−１、及びその吸収帯の形状がガウシアン型で半値幅約１．０５ｅＶの石英ガラスを得る事が出来た。水素雰囲気より吸収係数が低いのは、拡散性の影響と思われる。
　【００２５】
　【実施例５】
　標準的な合成石英ガラスをカーボン容器中でＡｒ雰囲気中、６気圧、１８００℃、６０ｈ処理する事で、１７５ｎｍ（７．１ｅＶ）での吸収係数α＝５０ｃｍ−１、及びその吸収帯の形状がガウシアン型で半値幅約１．０５ｅＶの石英ガラスを得る事が出来た。この様に、雰囲気に還元性がなくとも表面が容器のカーボンと接しているため、ＳｉＯ２が還元され吸収帯が生成する。
　【００２６】
　実施例１〜５の石英ガラスの透過スペクトルと、理論透過率に近いＯＨ基２０ｐｐｍ、通常合成されるＯＨ基１３００ｐｐｍの石英ガラスの透過スペクトルを比較したグラフを図７に示す。α＝８００ｃｍ−１のものは２２０ｎｍ以下の短波長光を殆ど透過しないため、オゾンフリーＵＶランプやその窓材として十分使用できる。また、条件を最適化する事で所望の透過率特性をもつＵＶ、ＶＵＶ光カットフィルター、窓材を得る事が出来る事が解った。また吸収帯がほぼ単一であり、ガウシアン型であるため、透過曲線がなめらかなカーブとなり、フィルターとして使用し易いと思われる。
　【００２７】
　【発明の効果】
　本発明の石英ガラスの製造方法によれば、水素ガス、カーボン容器等を用いた還元熱処理条件、真空熱処理または水素過剰下で合成する事で生成する吸収帯を利用し、ＵＶ、ＶＵＶ域の透過率を調整した石英ガラスの製造が可能となる。つまり、熱処理、合成の条件を調整することで所望の透過スペクトルをもつ石英ガラスが得られる。また、この方法は、Ｎａ、Ａｌ、Ｆｅ等の不純物金属元素等をドープする方法と異なり純度を下げる事無く、透過率のみを変化させる事が出来る特徴ももつ。この技術を利用することで、特に以下に列記した有意性及び特徴を生ずる。
▲１▼使用する光透過域において、吸収端付近以外に吸収帯をもたないため、ＵＶ，ＶＵＶ域のシャープカットフィルターとして、非常によい特性が得られる。
　【００２８】
　例えば、図７に示したα＝８００ｃｍ−１の場合、透過限界波長２２８ｎｍ、波長傾斜幅１３ｎｍ、平均透過率９０％以上の品質が得られている。また、αを減少させることで、波長傾斜幅、平均透過率は同等で、透過限界波長を１６０ｎｍ程度まで任意に選択することだ出来る。また、透過限界波長は、ＯＨ基が１６０ｎｍ付近に吸収をもつことから、ＯＨ基濃度にも依存する。例えば、ＯＨ基１２００ｐｐｍでは、透過限界波長の選択範囲は、約１７０〜２５０ｎｍとなり、ＯＨ基１００ｐｐｍ以下では、透過限界波長は、約１６０〜２５０ｎｍで選択可能となる。この技術は、分光光度計などの光学的計測器、や様々な光学系に使用される光学フィルターや、オゾンの発生を防止するため２２０ｎｍ以下の、ＵＶ・ＶＵＶ光をカットする用途等に利用できる。
▲２▼この技術により、３００ｎｍ以下のＵＶ、ＶＵＶ域において、光源の使用波長の透過率を石英ガラスの理論透過率の範囲内で、内部透過率０〜１００％の範囲で自由に調整可能となる。この技術は、光学レンズ等の用途により、特定の波長の透過率を任意に調整し、選択することが出来る。例えば不要な短波長側の光を、レンズ自体でカットする事が出来る。このＶＵＶ域の吸収帯生成原因が解っているため、この吸収帯の生成を抑えることで、９９％以上の高透過率の要求にも対応できる。
　【００２９】
　更に、この方法は溶融石英ガラスなどその他の製法で製造された石英ガラスにも適用する事が出来る。
　また、この事実を応用し、合成条件や熱処理条件時の、酸化還元反応を制御する事で、材料のＶＵＶ域の高透過率化にも役立てる事が出来る。
　また、高純度対応であるべき合成装置の汚染防止や、設備投資などのコストの面からも、あえて、ＴｉやＮａ等の不純物をドープして、透過率を調整する様な事は通常は行われない。
　【００３０】
　この方法により品質を改質または調整する事で、合成石英ガラスの用途拡大につながるため、結果的にコストダウンにもつながる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】　水素雰囲気熱処理による透過率の処理温度及び雰囲気依存性を示したグラフである。
　【図２】　光学フィルターの特性を示す用語の説明をするためのグラフである。
　【図３】　横軸を光子エネルギー、縦軸に吸収係数をとり各処理温度における実測値をプロットし、ガウシアンモデルと比較したグラフである。
　【図４】　水素雰囲気熱処理による吸収係数αの処理温度による挙動をプロットしたグラフである。
　【図５】　水素雰囲気熱処理による吸収係数αの時間依存性ををプロットしたグラフである。
　【図６】　合成条件による透過率の挙動を示したグラフである。
　【図７】　本発明の石英ガラスの製造方法により得られた各吸収係数αに調整した石英ガラスと通常の石英ガラスの透過率を比較した透過スペクトルのグラフである。