(57)【要約】本発明は、少なくとも１つの第１の電極（１４）及び少し離れた少なくとも１つの第２の電極（１６）を有し、これらの電極は、電源（１８）へ電気的に接続されており、電極（１４，１６）の間の第１のガス放電（２２）の点火時に電流（Ｉ）を伝送し、その結果として、プラズマ（２４）が作用ガスにおいて生成されて、電極（１４，１６）の外側のチェンバー（３２）に立体角（３０）により入射される放射線（２８）、特に極紫外線及び／又は軟Ｘ線放射線を放射する電気ガス放電装置（１２）を動作させる方法に関する。電極（１４，１６）での浸食を防止するために、チェンバー（３２）における２次プラズマ（３４）の形成が装置（４２）によって抑制されることが提案される。
2008522379.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの第１の電極と、少し離れた少なくとも１つの第２の電極とを有する電気放電装置を動作させる方法であって、
前記第１の電極及び前記第２の電極は、電源へ電気的に接続され、前記第１の電極と前記第２の電極との間での第１のガス放電の点火時に、電流を伝送し、
前記点火の結果として、プラズマが作用ガス中で生成され、
前記プラズマは、前記第１の電極及び前記第２の電極の外側のチェンバーに立体角により入射される放射線、特に、紫外線及び／又は軟Ｘ線放射線を放射し、
前記チェンバーにおける２次プラズマの形成は抑制される、ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第１及び第２の電極のうちの少なくとも１つと前記電源との間電流フローは、電気部品によって制限され、且つ／あるいは、
前記第１及び第２の電極と前記チェンバーにおける光学素子との間は、第２絶縁体によって遮断される、ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記第１及び第２の電極に並列に通る少なくとも１つの電流経路は、スイッチング素子によって作動される、ことを特徴とする請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
前記作用ガス及び／又はバッファガスの少なくとも量は、計量ユニットによって予め定められる、こと特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか一項記載の方法。
【請求項５】
磁界及び／又は電界は、前記放射線に対して横軸方向に偏向素子によって発生する、ことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか一項記載の方法。
【請求項６】
前記第１のガス放電のインピーダンス整合は、前記第１及び第２の電極間の電位制御装置を介して実行される、ことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか一項記載の方法。
【請求項７】
放電ギャップは、前記第１及び第２の電極のうちの少なくとも１つと、前記放射線によって影響を及ぼされうる光学素子との間の距離よりも短くなるよう定められる、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか一項記載の方法。
【請求項８】
前記２次プラズマは、前記第１のガス放電の終了時又は終了後に抑制される、ことを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか一項記載の方法。
【請求項９】
少なくとも１つの第１の電極と、少し離れた少なくとも１つの第２の電極とを有する電気放電装置を動作させる機器であって、
前記第１の電極及び前記第２の電極は、電源へ電気的に接続され、前記第１の電極と前記第２の電極との間での第１のガス放電の点火時に、電流を伝送し、
前記点火の結果として、プラズマが作用ガス中で生成され、
前記プラズマの放射された放射線、特に、紫外線及び／又は軟Ｘ線放射線は、前記第１の電極及び前記第２の電極の外側のチェンバーに立体角により入射され、
前記チェンバーにおける２次プラズマの形成を抑制する少なくとも１つの装置が含まれる、ことを特徴とする機器。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの装置は、前記第１及び第２の電極のうちの少なくとも１つと前記電源との間電流フローを遮断又は制限するために電気部品を有し、且つ／あるいは、
前記第１及び第２の電極と光学素子との間には第２絶縁体が設けられる、ことを特徴とする請求項９記載の機器。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの装置は、前記第１及び第２の電極に並列に接続された電流経路を有し、
前記電流経路は、スイッチング素子によって作動されうる、ことを特徴とする請求項９又は１０記載の機器。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの装置は、計量ユニットを設けられ、
前記計量ユニットによって、前記第１及び第２の電極の間及び／又は前記チェンバー内の前記作用ガス及び／又はバッファガスの少なくとも量は、予め定められる、こと特徴とする請求項９乃至１１のうちいずれか一項記載の機器。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの装置は、偏向素子を有し、
前記偏向素子の磁界及び／又は電界は、前記放射線に対して横軸方向に向けられうる、ことを特徴とする請求項９乃至１２のうちいずれか一項記載の機器。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの装置は、前記第１のガス放電のインピーダンス整合のために、前記第１及び第２の電極間に配置された電位制御装置を有する、ことを特徴とする請求項９乃至１３のうちいずれか一項記載の機器。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの装置によって、放電ギャップは、前記第１及び第２の電極のうちの少なくとも１つと、前記放射線によって影響を及ぼされうる光学素子との間の距離よりも短くなるよう定められる、ことを特徴とする請求項９乃至１４のうちいずれか一項記載の機器。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの装置は、前記第１のガス放電の終了時又は終了後に作動しうる、ことを特徴とする請求項９乃至１５のうちいずれか一項記載の機器。
【請求項１７】
前記電子部品は、少なくとも１つのダイオード、ダイオードアレイ、整流器、抵抗又はそれらの組合せであり、
その結果として、前記電源方向への電流フローは遮断され、且つ／あるいは、電気エネルギーは前記抵抗を介して転換され得る、ことを特徴とする請求項１０乃至１６のうちいずれか一項記載の機器。
【請求項１８】
前記第２絶縁体は、前記第１及び第２の電極と前記チェンバーとの間に、及び／又は、前記チェンバーと前記放射線によって影響を及ぼされる光学素子の一端との間に配置される、ことを特徴とする請求項１０乃至１７のうちいずれか一項記載の機器。
【請求項１９】
前記電流経路は、前記放電装置の外側に有線方式で、あるいは、第２のガス放電として前記第１及び第２の電極間に無線方式で形成される、ことを特徴とする請求項１１乃至１８のうちいずれか一項記載の機器。
【請求項２０】
第２のガス放電は、前記第１及び第２の電極のうちの１つへ向けられたレーザービームによって発生しうる、ことを特徴とする請求項１１乃至１９のうちいずれか一項記載の機器。
【請求項２１】
前記電流経路は、コイル、抵抗及び／又はキャパシタのような少なくとも１つの受動電気素子と、お互いに並列に接続された多数のスイッチング素子とを有する、ことを特徴とする請求項１１乃至２０のうちいずれか一項記載の機器。
【請求項２２】
前記スイッチング素子は、少なくとも１つのダイオード、整流器、トランジスタ、スパークスイッチ及びそのようなものを含む能動電気回路及び／又は機械的スイッチである、ことを特徴とする請求項１１乃至２１のうちいずれか一項記載の機器。
【請求項２３】
前記計量ユニットは、
前記チェンバーと前記第１及び第２の電極との間に配置され、原則的に前記放射線を通すフィルタ、且つ／あるいは、
前記第１及び第２の電極の間及び／又は前記チェンバー内に広がるバッファ及び／又は作用ガスの供給ライン、且つ／あるいは、
前記第１及び第２の電極の間に前記作用ガスを断続的に供給する及び／又はエネルギー源である、ことを特徴とする請求項１２乃至２２のうちいずれか一項記載の機器。
【請求項２４】
前記偏向素子は前記チェンバー内に配置され、
前記磁界及び／又は前記電界は、特に前記作用ガス及び／又はバッファガスの荷電粒子が進行を妨げられ、且つ／あるいは除去されるように、双極子によって発生しうる、ことを特徴とする請求項１３乃至２３のうちいずれか一項記載の機器。
【請求項２５】
前記電位制御装置は、前記第１及び第２の電極に対して空間的に安定した又は可変な方法で配置可能なプレートを有する、こと特徴とする請求項１４乃至２４のうちいずれか一項記載の機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の前提部で請求されるような特徴を有する、電気放電装置を動作させる方法に関する。
【０００２】
本発明は、また、請求項９の前提部で請求されるような、電気放電装置を動作させる機器に関する。
【背景技術】
【０００３】
このような方法及び一般的な機器は、ＤＥＡ１０１３９６７７から知られる。より良い理解のために、最初に図７及び８を参照する。これらの図に使用される参照番号は、また、本発明の記載でも使用される。
【０００４】
既知の放電装置１２は、少なくとも１つの第１の電極１４と、その電極１４から少し離れた少なくとも１つの第２の電極１６とを有する。２つの電極１４、１６は、電源１８へ電気的に接続されている。
【０００５】
前出のＤＥＡ１０１３９６７７に従って、電源１８は、この場合に、キャパシタ・バンクを有しても良い。キャパシタ・バンクの蓄積電気エネルギーは、第１のガス放電２２の点火時に電流Ｉを伝送する。他の電源１８は、ＥＰ０８９４３４９Ｂ１から知られる。この文献で開示されるパルス電源回路は、例えば、逆流するガス放電レーザの如何なるエネルギーも削除する不整合補正回路を有する。結果として、電極浸食は最小限にされ得る。
【０００６】
電極１４、１６の間で電流Ｉを伝送することによって、プラズマ２４が作用ガス２６中で生成される。プラズマ２４は、放射線２８、特に、極紫外線及び／又は軟Ｘ線放射線を放射する。放射線２８は、電極１４、１６の外側のチェンバー３２に立体角３０により入射される。このチェンバー３２は、通常、真空チェンバーと呼ばれる。
【０００７】
ここで、２次プラズマ３４は、特に、プラズマ２４が消された後に、チェンバー３２で生ずる。２次プラズマ３４は、チェンバー３２の方を向く第２の電極１６と、光学素子４０との間の電流フロー３６によって伝送される。光学素子４０は、最も簡単な場合に、チェンバー３２の境界を定める真空チェンバーの壁であり、放射線２８によって影響を及ぼされる。電流フロー３６は、電極から除去された電極材及び作用ガスの両方の粒子でありうる。このような粒子は、チェンバー３２に立体角３０で放射線２８により入射することができる。このような粒子が極紫外線及び／又は軟Ｘ線放射線を吸収する場合に、電流フロー３６を可能にするイオンが生成される。
【０００８】
例えば、電源１８がパルス形式で電気エネルギー、即ち、図８に示されるように、時間とともに変化する電圧強度Ｕ又は電流強度Ｉを伝送する場合に、十分な電気エネルギーが２次プラズマ３４を点火するよう流れる。
【０００９】
図８ａは、時間ｔに対して電極１４、１６の間の電圧Ｕを示す。時間ｔ１まで、電位は、放電装置１２の所定の動作点が到達されるまで、電源１８によって電極１４、１６へ印加される。第１のガス放電２２の開始により、時間ｔ１で、図８ｂに示されるように、電流Ｉが電極１４、１６の間を流れる。電流Ｉは、電荷担体の量がますます多くなるために、最大値まで上昇する。その場合に、第１のガス放電２２の電流Ｉは、時間ｔ２で零交差に達するまで減少する。プラズマ２４は、時間ｔ１からｔ２の間の時間間隔においてのみ生ずる。本発明を特別の理論に限定することを望まない場合に、電極１４、１６の極性の反転は、放電装置１２と、電源１８として働くキャパシタ・バンクとの間のインピーダンス差のために、時間ｔ２後に生ずる。
【００１０】
図８ａ及び８ｂから明らかなように、その場合に、減衰された正弦波発振は電極１４、１６の間で生ずる。
【００１１】
その場合に、２次プラズマ３４は、図７に示されるように光学素子４０の隣で、又は第２の電極１６の隣で、第２の電極１６の極性に依存して生ずる。２次プラズマ３４は、第１の場合には光学素子４０へ相当な損傷を引き起こすことがあり、あるいは、第２場合には第２の電極１６で付加的な浸食を引き起こすことがある。
【００１２】
結果として、マテリアル・デポジット（ｍａｔｅｒｉａｌ  ｄｅｐｏｓｉｔ）、所謂「スパッタリング」、又は電流発生による過熱は、光学素子への対応する損傷が見うけられるように、特に、光学素子４０の敏感な表面で生じうる。これらの現象は、光学素子４０及び電極１４、１６の両方の耐用年数の短縮をもたらす。
【００１３】
更に、上述した電極１４の極性の反転は、約１０％から５０％の電気エネルギーを電源１８へ帰還させる。この逆流するエネルギーは、例えば熱エネルギーに変換されるべきであり、この場合に、相当な熱負荷が起こり得る。更に、時間間隔ｔ１〜ｔ２の倍数が、他の第１のガス放電２２が発生するまで必要とされる。結果として、プラズマ２４を形成するための繰り返し率も最終的に低減される。
【特許文献１】独国特許公開ＤＥＡ１０１３９６７７
【特許文献２】欧州特許明細書ＥＰ０８９４３４９Ｂ１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
従って、本発明は、技術的に簡単な手段を用いて上記欠点を回避可能な、前出の特徴を有する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明に従って、上記目的は、チェンバーにおける２次プラズマの形成が抑制されるところの、前出の形式の方法で達成される。
【００１６】
２次プラズマを形成するための動作点が、放電装置の動作中にはめったに達成され得ないことが、ここでは特に重要である。この目的のために、特に、チェンバーにおける電圧及び圧力状態並びにチェンバーの導電部品の間の距離を、以下で更に詳細に記載される本発明に従う方法の実施例によって適応させることが可能である。
【００１７】
当該方法の１つの有利な実施例に従って、電極の少なくとも１つと電源との間の電流フローが電気部品によって制限され、且つ／あるいは、電極とチェンバー内の光学素子との間は第２絶縁体によって遮断される。ここで、直列に接続された電気部品が使用されても良い。このことは、特に、高電圧エンジニアリングの技術で当業者に知られる。一例として、前記電気部品は、電流フローが反転される場合に電気エネルギーを変換する消費部（ｃｏｎｓｕｍｅｒ）であっても良い。電極間の電圧及び電流発振の減衰が、結果として達成される。従って、チェンバーに面する電極における十分に高い電圧振幅は、２次プラズマが少なくとも比較的速やかに消えるように、より稀にしか生じない。
【００１８】
前記第２絶縁体により、２次プラズマを形成するための電気エネルギーの伝送は、２次プラズマの動作点を上回る高い電圧振幅でさえ抑制され得る。
【００１９】
当該方法の１つの特に有利な実施例は、電極に平行に通る少なくとも１つの電流経路がスイッチング素子によって作動されることを提供する。前記スイッチング素子は、電極の１つの極性が反転されて、且つ、放射線の強度が所定レベルを下回る場合に、そのスイッチング状態を変化させることができる。前記電流経路は、特に、当該電流経路がチェンバー内で起こり得る電流フローよりも低いインピーダンスを有するように、能動部品及び／又は受動部品を設けられる。放電装置における第１のガス放電の終了時に残る電気エネルギーは、極めて速やかに迂回される、又は削除される。この場合にも、２次プラズマを生成及び／又は保持するために必要とされる電気エネルギーは除去される。
【００２０】
当該方法は、有利に、少なくとも作用ガス及び／又はバッファガスの量が計量ユニットによって予め定められるように構成されても良い。プラズマによって発生した放射線は、チェンバー内に開口部を介して出ていく。前記開口部は、電極によって少なくとも部分的に境界を定められるボリュームとチェンバーとの間に配置される。この場合に、プラズマ及び開口部は、立体角の大きさ及び座標を決定する。この開口部を通して、電極浸食によって生成された作用ガス及び物質の粒子がチェンバーに入ることが可能である。通常、同一の圧力状態が前記チェンバー及び前記ボリュームで設定され得る。チェンバーにおける放射線は、通常、比較的大きな距離を移動しているので、比較的この放射線を通すバッファガス、即ち、比較的低い吸収係数を有するバッファガスが使用される。特に、バッファガスの分圧（ｐａｒｔｉａｌ  ｐｒｅｓｓｕｒｅ）が低減される場合に、２次プラズマの動作点は、当然、パッシェンの法則に従って、より高い電位差へとシフトされ得る。
【００２１】
特に、バッファガス分圧が高い場合に、チェンバーの方に動く作用ガスの量は制限され得る。増大した分圧で、生ずる如何なるイオンも、２次プラズマへの有効な電流フローにおいて、より短い自由なセントラル・ディスタンス（ｃｅｎｔｒａｌ  ｄｉｓｔａｎｃｅ）のために妨げられる。当然、前記イオンは、それらの進行方向に対して遅延されるべきである。
【００２２】
従って、当該方法の１つの特に有利な実施例は、磁界及び／又は電界が放射線に対して横軸方向に偏向素子によって発生することを提供する。前記偏向素子は、具体的に、熱イオン、即ち、高いパルスを有するイオンによる光学素子へのスパッタリングを防ぐことができる。イオン及び電子は、異なる空間方向で加速される。このようなイオン用の偏向素子は、特に、粒子物理学及び／又は質量分析の分野で通常の知識を有する者に知られる。当然、磁界に結合可能な電界が使用されも良い。
【００２３】
当該方法の１つの特に有利な実施例は、前記第１のガス放電のインピーダンス整合が、電極間で電子制御装置を介して実行されることである。電流が電極間で伝送される場合に、プラズマは、抵抗加熱及び電磁圧縮のために、数十エレクトロンボルトの温度へ至らされる。処理において、プラズマフィラメントは電極間に形成する。その場合に、放電装置は、ＲＣＬ共振回路と考えられるべきである。ここで、Ｒは電極の抵抗を表し、Ｃは電極によって形成されるキャパシタを表し、Ｌは第１のガス放電又はプラズマフィラメントのインダクタンスを表す。放電装置のインピーダンスは、オーバースイング、即ち、ガス放電の終了時の電流及び電圧発振が防がれるように、電源のインピーダンスに整合されても良い。
【００２４】
この目的を達成するために、特に、プラズマフィラメントの抵抗、インダクタンス及び／又はキャパシタンスに影響を及ぼす手段が使用されても良い。
【００２５】
当該方法の更なる有利な実施例で、放電ギャップは、電極の少なくとも１つと、放射線によって影響を及ぼされうる光学装置との間の距離よりも短くなるよう定められることが提供される。当然、キルヒホッフの法則に従って、並列回路では、比較的大きな部分電流が、より低い抵抗を有する導通ブランチを流れる。結果として、放電装置で伝送される電気エネルギーが高い導電性を有する更なる電流経路を提供されるならば、別な形で２次プラズマに使用可能な電気エネルギーの大部分が、放電ギャップを介して除去され得る。言い換えると、最も簡単な場合の放電ギャップは、実際上、短絡回路である。
【００２６】
２次プラズマが第１のガス放電の終了時又は終了後に抑制されることは、当該方法にとって特に有利である。この場合に、前出の対策は、プラズマを発生させる第１のガス放電が電気エネルギーを適切に供給されるように、組み合わされても良い。その場合に、過剰な電気エネルギーは、速やかに除去可能である。特に、この場合に、電極の熱負荷を低減することが可能である。この場合に、過剰な電気エネルギーは、電流が反転される場合に、第１のガス放電を介して戻されない。この場合に、電極は、プラズマを発生させる周波数がより一層高くなるように、特に急速に零電位に達する。
【００２７】
本発明に従って、電気放電装置を動作させるための機器に関する目的は、更に、チェンバー内で２次プラズマを抑制するための少なくとも１つの装置が設けられることで達成される。
【００２８】
当該装置は、具体的に、２次プラズマを形成するために必要とされる電圧（Ｕ）、チェンバー内の圧力（ｐ）及び／又はイオンの数を適合させることが可能であるような以下で記載される手段により構成される。更に、当該装置は、チェンバーの導通部品の間の距離を変化させることができる。当該装置は、基本的に、２次プラズマの動作点が達成されることを防ぐよう、あるいは、前記動作点をシフトさせるよう働く。
【００２９】
１つの特に有利な機器は、電極の少なくとも１つと電源との間の電流フローを遮断又は制限するための装置が電気部品を有するように、且つ／あるいは、電極と光学素子との間に第２絶縁体が含まれるように構成される。電流が電極間を伝送される場合に、特に、過剰な電気エネルギーは、電源へと環流され得る。結果として、これは、電源の極性の反転と、電源の相当な熱負荷とをもたらしうる。電源に直列に接続された電気部品は、逆電流を遮断し、あるいは迂回させることができる。当然、前記電気部品は、また、多数の電気素子の並列接続を有する。
【００３０】
必然的に、電気エネルギーは、電極から２次プラズマに転換されるべきである。第２絶縁体により、２次プラズマへの電気エネルギーの転換は、実質的に零まで低減されうる。
【００３１】
当該機器の１つの特に有利な実施例に従って、前記装置は電極に並列に接続された電流経路を有することが提供される。その電流経路は、スイッチング素子によって作動され得る。電気放電装置に導入される電気エネルギーは、この場合に、バイパスを介して通される。このバイパスは、具体的に、第１のガス放電よりも低いインピーダンスを有する。ガス放電を介する電気エネルギーの逆転換は、第１のガス放電によって影響を及ぼされる電極の領域における付加的な熱負荷が抑制されるように妨げられる。この目的のために、スイッチング素子は、２次プラズマの点火電圧を下回る閾値を有する。前記閾値は、当然、放電装置の動作中に変更可能である。チェンバー内のフォトダイオードにより、２次プラズマの如何なる発生も検出され得るので、前記スイッチング素子の閾値は、制御システムを介して適応させられ得る。
【００３２】
電気放電装置を動作させるための１つの特に有利な機器は、前記装置が計量ユニットを設けられるように構成される。前記計量ユニットにより、少なくとも電極の間及び／又はチェンバー内の作用ガス及び／又はバッファガスの量は、予め決定され得る。プラズマに転換される電気エネルギーの特に効率的な変換のために、使用される作用ガスは、例えば、キセノン、スズ、又はヨウ素及びそれらの化合物である。電極間に導入されるこのような物質は、立体角を決定する開口部を介して放射線とともにチェンバーに入ることができる。チェンバー内への作用ガスの移動は、原則的にＥＵＶ及び／又は軟Ｘ線放射線を通すバッファガスによって妨げられる。特に、短波放射線と作用ガス及びバッファガスの粒子との間の相互作用のために、電荷担体がチェンバー内で生じることがある。この電荷担体は、２次プラズマにおいて電流フローを生じさせる。前記計量ユニットによって、分圧は、チェンバー内の別な恒常的な状態の下で２次プラズマの動作点がより高い点火電圧へとシフトされるように、作用ガス及びバッファガスの両方に対して設定され得る。更に、前記計量ユニットによって、バッファガスに対する作用ガスの割合が設定され得る。その場合に、一方では最適な放射線強度が、他方では作用ガスの粒子の可能な限り低い濃縮がチェンバー内で生ずる。
【００３３】
本発明の１つの特に有利な実施例は、前記装置が偏向素子を有することを提供する。その磁界及び／又は電界は、放射線に対して横軸方向に向けられる。２次プラズマを生じさせうるチェンバー内に入る電荷担体は、磁界及び／又は電界と相互に作用する。これらの電荷担体は、例えば、放射線の伝播方向に対して横方向に遅延及び／又は加速をなされる。電荷担体によって提供される電流フローは、少なくとも偏向されて、前記距離の延長をももたらす。磁界は、例えば、コイル又は永久磁石によって提供されても良い。電界は、電子管から知られるような偏向板などの手段によって発生することができる。
【００３４】
当該機器の１つの特に有利な実施例に従って、前記装置は、第１のガス放電のインピーダンス整合のために、電極間に配置された電位制御装置を有することが提供されても良い。電流が第１のガス放電を介して伝送される場合に、ＲＣＬ共振回路は、プラズマの形成により励振される。前記電位制御装置によって、特にプラズマフィラメントが電極に対するその長さ及び／又は位置に関して変更されうるように、電極間の電界に影響を及ぼすことが可能である。結果として、放電装置のインピーダンスがプラズマ形成時に電源のインピーダンスに整合され得るように、特にプラズマの電気抵抗（Ｒ）に対して変更を成し遂げることが可能である。結果として、著しく低減された電流及び電圧発振が電極間に生ずる。
【００３５】
本発明に従う機器は、前記装置によって、放電ギャップが、電極の少なくとも１つと、放射線によって影響を及ぼされうる光学素子との間の距離よりも短くなるよう定められるように、有利に設計され得る。この場合に、前記放電ギャップは、放電装置の過剰な電気エネルギーが前記放電ギャップを介して除去され得るように、第１のガス放電よりも低いインピーダンスを有する。更に、前記放電ギャップは、２次プラズマにおける電流フローよりも低い抵抗（Ｒ）を有する。この電流フローは、チェンバー内に配置されて、前記放電ギャップに並列に接続される。実質的に短絡回路として作用する前記放電ギャップは、別な形で通常は２次プラズマに流れる電流のほとんどを搬送する。前記光学素子における電流発生は抑制される。なお、電流発生は、通常、極めて高い温度を伴う。具体的に、熱負荷によって引き起こされる損傷は光学素子でそれ程引き起こされなくなる。
【００３６】
１つの有利な機器は、当該装置が、第１のガス放電の終了時又は終了後に作動させられ得るように構成される。ここで、チェンバーにおける２次プラズマの形成は、プラズマが発生した後に観測されることが、本発明にとって特に重要である。結果として、当該装置は、放電装置が、プラズマが消されるまで、基本的に放射線を最適に発生させるよう設計されるように構成され得る。その場合に、前記装置は、２次プラズマにおける電流フローを低減するよう、チェンバー内の粒子を減少させるよう、且つ／あるいは、２次プラズマ内に電流経路を広げるよう働く。この目的のために、前記装置は、例えば、測定及び制御回路を介して作動されても良い。測定回路は、電気変数及び光学変数を検出することができる。電気変数は、例えば、電極間の電圧Ｕ、又は、電源と放電装置との間の電流Ｉであっても良い。使用される光学変数は、プラズマの放射の強度、又は、生ずる２次プラズマの如何なる放射であっても良い。
【００３７】
本発明に従う機器は、前記電気部品が少なくとも１つのダイオード、ダイオードアレイ、整流器、抵抗又はそれらの組合せであるように、更に有利に構成されても良い。その結果として、電源方向の電流フローは遮断され、且つ／あるいは、電気エネルギーは抵抗を介して変換される。ダイオード、ダイオードアレイ、又は整流器により、電流伝送は専ら電源方向のみ抑制され、一方、放電装置方向の電流フローはほとんど影響を及ぼされない。このような電気部品は、従来の電子管又は半導体部品として設計されても良い。前記抵抗は、この場合に、放電装置の上述した負の電流／電圧特性が補償され得るような大きさにされ、十分な電力が電源を保護するよう前記抵抗を介して除去される。このような電気部品の組合せにより、特に、並列に前記電気部品を接続することによって、技術的により簡単に部分電流を取り扱うことが可能となる。
【００３８】
他の有利な機器は、第２絶縁体が電極とチェンバーとの間、及び／又は、チェンバーと放射線によって影響を及ぼされる光学素子の一端との間に配置される場合に得られる。前記第２絶縁体は、最も簡単な場合に、耐熱性の非導電材から成るチェンバーと電極との間の壁であり、この壁には開口部が設けられている。前記第２絶縁体は、極めて高い抵抗を有するセラミックから作られており、更に、チェンバーの境界を少なくとも部分的に定める電極の一部を覆っても良い。前記第２絶縁体は、また、光学素子と、該光学素子を位置付けるよう作用するホルダとの間に配置されても良い。結果として、特に、放射線によって影響を及ぼされる側は、例えば、極めて滑らかなモリブデン塗布によって、高電流フローによって引き起こされる損傷に対して保護され得る。
【００３９】
更なる機器で、電流経路は、放電装置の外側に有線で、あるいは、電極間に無線で、第２のガス放電として形成されることが有利に可能である。具体的に、電流経路として上述されたバイパスは、例えばケーブルなどの導電材によって放電装置の外側に配置されても良い。この場合に、電流経路は、極めて高い電気エネルギーでさえ扱うことが可能であるように、放電装置から部分的に離されるべきである。第２のガス放電によって、短絡回路とほぼ同様の方法で、極めて短時間に陰極へ電気エネルギーを戻す電流経路を電極間に作ることが可能である。
【００４０】
当該機器の１つの特に有利な実施例は、第２のガス放電が、電極の１つへ向けられたレーザービームによって発生可能であることを提供する。前記レーザービームは、この目的のために、第１のガス放電に面した表面に向けられ得る。前記レーザービームが電極の極性の反転の後に発射する場合に、前記レーザービームは、第２のガス放電のための電荷担体の発生と、残りの電気エネルギーの環流とを生じさせる。前記レーザービームは、特に、第１のガス放電によって影響を及ぼされる領域の外側の電極の１つに向けられても良い。結果として、特に、電極の熱負荷のより良い分布が、無線エネルギー伝送の場合に可能である。
【００４１】
当該機器の１つの有利な実施例は、電流経路が、お互いに並列に接続された多数のスイッチング素子と、例えばコイル、抵抗及び／又はキャパシタなどの、少なくとも１つの受動電気素子とを有することを提供する。結果として、特に、有線電流経路は、その電気特性に関して、放電装置の特性に適合させられ得る。受動電気素子によって、バイパスは、また、放電装置の動作中に該放電装置のインピーダンスに整合されるので、電流及び電圧発振は、少なくとも、第１のガス放電の終了後に相当に減衰される。
【００４２】
有利に、当該機器の１つの実施例は、前記スイッチング素子が、少なくとも１つのダイオード、整流器、トランジスタ、スパークスイッチなどを含む能動電気回路及び／又は機械的スイッチであることを提供する。前記スイッチング素子は、この場合に、時間的に極めて短い第１のガス放電の場合及び、特に高い繰り返し率を伴う放電装置のパルス動作の場合でさえ、電流経路を介する電流フローを確実に可能にするように、設計され得る。このようなスイッチング素子は、半導体の形で効率が良く、キロヘルツ範囲の高い周波数でさえ、電流経路の確実な作動を可能にする。極めて高い電流フローの場合に、このような半導体は、また、並列回路で使用され得る。
【００４３】
本発明に従う機器は、前記計量ユニットが、チェンバーと電極との間に配置され、原則的に放射線を通すフィルタ、且つ／あるいは、電極間に広がるバッファガス及び／又は作用ガスの供給ライン、且つ／あるいは、電極の間に作用ガスを断続的に供給するポンプ及び／又はエネルギー源であるように、更に有利に設計されても良い。前記フィルタは、この目的を達成するために、立体角で配置されるので、作用ガスのほとんどの粒子は、チェンバーに入る前に保持される。このような粒子及びそのイオンは、結果として、その場合に、２次プラズマを形成するために利用可能である。供給ラインを介して、バッファガス及び／又は作用ガスの量が適合され、且つ、このような粒子のフロー方向が設定されることを可能にする。前記ポンプを介して、同様に、放電装置の動作中でさえ、特に放射線の伝播方向に対して横方向にフロー方向を設定することが可能である。２次プラズマの形成を更に抑制するために、電極を介して供給及び除去をなされ、且つ、作用ガスを供給する物質は、例えば熱を与えることによって、消散させられ得る。この場合に、放電装置における作用ガスの粒子の量は、低減されるべきである。
【００４４】
１つの特に有利な機器は、特に、作用ガス及び／又はバッファガスの荷電粒子が遅延及び／又は除去をなされるように、偏向素子がチェンバー内に配置され、且つ／あるいは、電界が双極子、四極子などによって発生することができることを提供する。前記偏向素子は、特に、放射線による作用ガス及びバッファガスの粒子間の相互作用により、発生したイオンを遅延させるために、前記立体角の周りに配置されても良い。この場合に、２次プラズマにおける電流フローによって引き起こされる第２の形式の導体の少なくとも直線的な平行移動は、電極と光学素子との間の距離が広げられるように変更され得る。導電性のプレート、バーなど、電界を発生させるために用いられるものは、イオンが生ずる場合に、それらを中和又は放電させることができる。
【００４５】
放電装置のインピーダンス整合のための１つの特に有利な機器は、前記電位制御装置が電極に対して空間的に安定又は可変な方法で位置付けられるプレートを有する。結果として、特にプラズマの形成の間に、生成されるプラズマフィラメントは、そのインピーダンスを電源及び／又は電流経路のインピーダンスに適応させるために、その電気特性に関して操作され得る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４６】
本発明について図面に示される実施例を参照して更に説明する。しかし、本発明はこれらの実施例に限定されない。
【００４７】
実施例の以下の記載において、同一の参照符号は、少なくとも類似する設計上の特徴を示し、以下で別な方法で示されない限り、常に図１〜６に関する。
【００４８】
図１は、第１の電極１４と、第１の電極１４から少し離れた第２の電極１６とを有する電気放電装置１２を動作させる機器１０を示す。電極１４、１６は、電源１８へ電気的に接続されている。電源１８は、電極１４、１６の間の第１のガス放電２２の点火時に電流Ｉを伝送する電気エネルギーを供給する。電極１４、１６の間に存在する作用ガス２６で、プラズマ２４は電磁圧縮によって発生し、そのプラズマは放射線２８、特に極紫外線（以降、略してＥＵＶと称す。）及び／又は軟Ｘ線放射線を放射する。プラズマ２４によって発生した放射線２８は、電極１４、１６の外側のチェンバー３２に立体角３０により入射される。チェンバー３２は、吸収現象を防止するために、所謂真空チェンバーとして設計される。電源１８と放電装置１２との間のインピーダンスの差のために、電極１４、１６の極性は反転される。２次プラズマ３４の形成に伴う第２の電極１６とチェンバー３２の境界部との間の電流フロー３６を抑制するために、装置４２が第１の電極１４と電源１８との間に設けられる。装置４２は、図７に示されるような２次プラズマ３４における電流フロー（図１には図示せず。）を制限するために、直列に接続された電気部品３８を有する。第１の電極１４と電源１８との間に接続された電気部品３８は、例えば、放電装置１２に蓄えられた電気エネルギーを取り出して、それを熱に変換する冷却高出力抵抗である。結果として、２次プラズマ３４を形成するために必要とされる電気エネルギーは、放電装置１２から少なくとも部分的に除去される。
【００４９】
電源１８と、第１のガス放電２２又はプラズマ２４と、電気部品３８とによって形成される共振回路は、抵抗Ｒ１によって減衰（ダンピング）される。この共振回路は、全体キャパシタンスＣｓ、全体インダクタンスＬｓ、及び抵抗Ｒにより記載可能である。抵抗Ｒ１として電源１８及び電極１６に直列に接続された電気部品３８は、ここでは、電流の反転を伴わずに非同期減衰を実現するために、
【数１】
2008522379.tif 000003
として選択される。抵抗Ｒ１が、電源１８から放電装置１２へ伝送される過剰なエネルギーを極めて短時間に迂回させるために、相当により大きくなるよう必要な大きさにされる場合に、電源１８によって供給されるエネルギーのほとんどは、プラズマ２４に利用されない。電気部品３８は、例えば、断続的に、ダイオードを介して抵抗Ｒ１＝∞を提供する。他方で、抵抗Ｒ１がより小さくなるよう選択される場合には、オーバースイングが図８に示されるように生ずる。
【００５０】
図２に示される本発明に従う機器１０の第２の実施例で、電源１８と第１の電極１４との間の電流フロー３６は、装置４２によって遮られる。電気部品３８は、この場合に直列に接続されており、電流フロー３６を遮断する整流器、ダイオード又はダイオードアレイである。放電装置１２に蓄えられた電気エネルギーが戻されることによる大幅な熱負荷が抑制可能である。チェンバー３２における２次プラズマ３４の形成を防止するために、装置４２は、第２絶縁体４４を設けられる。第２絶縁体４４は、電極１４、１６と、チェンバー３２内の光学素子４０との間に配置される。放電装置１２に残る電気エネルギーは、この場合には、電極１４、１６のうちの１つから光学素子４０へ伝送され得ない。結果として、特に第２の電極１６と、チェンバー３２内で第２電極１６の比較的近くに配置された光学素子４０との間の電流フロー３６は生じ得ないので、２次プラズマ３４の形成は大いに抑制される。第２絶縁体４４は、この場合に、放射線２８によって影響を及ぼされる側４６に設けられる。
【００５１】
光学素子４０は、原則的に放射線２８を通すフィルタ６２として設計される。フィルタ６２は、特に、放電装置１２からチェンバー３２へと流れる作用ガス２６の粒子を制限するよう作用する。フィルタ６２は、実質的に計量ユニット５８として働き、他の匹敵する状態の下で、放電装置１２の動作中に、チェンバー３２内の２次プラズマ３４が抑制されるように、２次プラズマの動作点を決定する要素、この場合にはチェンバー３２内の粒子密度を減らすことを可能にする。
【００５２】
図２ａは、機器１０の第３の実施例を示す。他の第２絶縁体４４′は、この場合に、２次プラズマ３４の形成のために必要とされる電流フロー３６が光学素子４０の方向に、更には、チェンバー３２の境界を定めるチェンバー壁の方向に遮断され得るように、第２の電極１６に対して配置される。この第２絶縁体４４′は、チェンバー壁から立体角３０の境界を定める第２の電極１６の開口部まで広がる。従って、放電装置１２は、チェンバー壁から電気的に絶縁される。更に、この第２絶縁体４４′は、チェンバー３２に直接に隣り合う第２の電極１６の部分を覆う。従って、チェンバー３２内の電流フロー３６は、２次プラズマ３４の形成が妨げられるように抑制される。
【００５３】
図３に示された本発明に従う機器１０の第４の実施例に従って、電源１８から放電装置１２へ伝送される電気エネルギーは、電気部品３８によって比較的ゆっくりと減衰される。従って、装置４２は、電極１４、１６に並列に通る電流経路４８によって拡張される。第１のガス放電２２を介する電極１４、１６の間の電気エネルギーの伝送を確実にするために、電流経路４８は、スイッチング素子５０によって少なくとも断続的に有効とされ得る。特に、電極１４、１６の極性が反転される場合に、スイッチング素子５０は電流経路４８を有効にすることができる。電流経路４８は、ほぼ短絡回路として働く。電流経路４８は、放電装置１２の外側に有線方式で、即ち、導電性のケーブルによって形成される。スイッチング素子５０は、最も簡単な場合には機械的なスイッチであり、あるいは、電極１４、１６の間の電流又は電圧の振幅レベルに依存して、お互いに並列に接続された多数のスイッチング素子５０の結合である。
【００５４】
図３ａに従って、機器１０の第５の実施例は、電極１４、１６の間にスパークスイッチを設けられる。スパークスイッチは、電極１４、１６に対して並列な電気的に導通した無線電流経路４８を与える。この電流経路４８は、特に、電極１４、１６の極性が反転される場合に形成される。この電流経路４８は、この場合に、この電流経路を通る電流フロー３６がプラズマ２４の領域で電極１４、１６の付加的な熱負荷を妨げるように、第１のガス放電２２に対して空間的にシフトされた空洞７０によって定められうる。
【００５５】
このスパークスイッチは、第１のガス放電２２の終了時又は終了後に２次プラズマ２４を抑制するために装置４２により目標とする方法で有効にされ得る。この目的のために、スイッチング素子５０は、図３ａに示されるように、電源１８と放電装置１２との間の電流又は電圧プロフィールを測定するように設計される。当然、スイッチング素子５０は、また、チェンバー３２内の２次プラズマ３４又は放射線２８を検出するよう設計されても良い。スイッチング素子５０は、所与の時点でエネルギー源６８を作動させる。エネルギー源６８のエネルギービームは、電極１４、１６上に、この場合には第１の電極１４の空洞７０の領域に、例えばレーザービーム５４の形で向けられる。エネルギービームは、第２のガス放電５２を生成するよう十分な量の電荷担体を発生させる。このような目標とする方法で発生可能な電流経路４８は、この場合に、チェンバー３２内の２次プラズマ３４において電流フロー３６を発生させるような、起こり得る電流経路よりも低いインピーダンスを有する。第２のガス放電５２によって生成された放電ギャップ７８は、図３ａに示されるように、放射線２８によって影響を及ぼされうるチェンバー３２内の光学素子４０と、電極１４、１６の少なくとも１つとの間の距離８０よりも相当に短い。
【００５６】
図４は、有線電流経路４８を備えた第６の実施例を示す。右側には、放電装置１２がブロック図として示される。電極１４、１６の間に生成されたプラズマ２４は、スイッチＳ、抵抗Ｒ及びインダクタンスＬによって示される。動作点に達すると、プラズマ２４はスイッチＳの閉成によって形成し、これは第１のガス放電２２の点火に対応する。高電流相で、共振回路は、キャパシタンスＣｖを有する電源１８と、電源１８に電気的に接続された電極１４、１６と、プラズマ２４とによって形成される。スイッチング素子５０が開く場合、この共振回路は、全体キャパシタンスＣｓ＝Ｃｖ＋Ｃ、抵抗Ｒ及び全体インダクタンスＬｓ＝Ｌ１＋Ｌによって決定される。
【００５７】
【数２】
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に従って、この共振回路は、固有共振周波数ωｓを有する。なお、Ｔｓは、この共振回路の発振周期である。
【００５８】
電極１４、１６の間の電流方向の反転は、スイッチング素子５０によって切り替えられ得る電流経路４８によって妨げられ得る。スイッチング素子５０は、一方から他方の双安定状態へと、又は、時間ｔ＝ｔＤで前出の式の零点の周囲で、交互にされる。時間ｔ＝０がプラズマ点火時であるならば、ｔＤは、おおよそ、この共振回路の発振周期Ｔｓ×０．２５である。高電流相の終了時、又は少なくとも、電極１４、１６の間を流れる電流の符号が変化する場合に、スイッチング素子５０は、切り替え可能な電流経路４８を閉じられた状態で有効にすること、又はその電流経路４８を開いた状態で無効にすることができる。
【００５９】
当然、スイッチング素子５０は、寄生インダクタンスを有する。例えば、多数のダイオードＤ、サイリスタ、トランジスタ等を含むスイッチング素子５０の並列設計の場合に、寄生インダクタンスは、１０ｎＨ（ナノヘンリー）よりも小さい大きさのオーダーで形成されるべきである。スイッチング素子５０の負荷を軽減するために、例えば、飽和インダクタンスＬ２が設けられる。この飽和インダクタンスＬ２は、切り替え時に電流の上昇を遅延させる。スイッチング素子５０が閉じられる場合に、飽和インダクタンスＬ２及び抵抗Ｒ２は、全体キャパシタンスＣｓとともに、更なる共振回路を形成する。その場合に、切り替え可能な電流経路４８に設けられた抵抗Ｒ２は、両方の結合された共振回路を減衰させる働きをする。
【００６０】
抵抗Ｒ２は、プラズマ２４の抵抗よりも大きくならないよう決定される。抵抗Ｒ２がプラズマ２４の抵抗よりも大きい場合には、切り替え可能な電流経路４８は高い抵抗性を示し、電流の反転が生ずる。具体的に、比較的大きな抵抗Ｒ２の場合に、電極１４、１６の間を流れる電流Ｉは、時間ｔ＝０．５×発振周期Ｔｓで生ずる。他方で、抵抗Ｒ２が小さすぎる場合には、これは、前出の２つの結合された共振回路の重ね合わせをもたらす。この場合に、過剰なエネルギーは、ただ緩やかに減衰するように、共振回路の間を行ったり来たりする拍動（ｂｅａｔ）のように流れる。
【００６１】
抵抗Ｒ２の最適値は、例えば、コンピュータを使ったシミュレーションによって決定可能である。当然、抵抗Ｒ２及び／又は抵抗Ｒ１は、また、放電装置１２の動作中の調整を可能にするために、可変であるように設計されても良い。
【００６２】
従って、受動部品は、電流経路４８のインピーダンスを放電装置１２のインピーダンスに整合させるよう働く。電気部品は、２次プラズマ３４を点火するために必要とされる電流ブランチよりも低いインピーダンスを電流経路４８に与えるように組み合わされる。
【００６３】
図５に表される機器１０の第７の実施例は、２次プラズマ３４を形成するために必要とされる粒子密度、所謂圧力をチェンバー３２内で制限するための計量ユニット５８を備えた装置４２を示す。機器１０の動作中に、計量ユニット５８は、電極１４、１６の間に広がる供給ライン６４を介して、空洞７０内の作用ガス２６の量を制御する。第２の電極１６は、少なくとも供給ライン６４の周囲に海綿状に設計される。結果として、一方で、プラズマ２４を形成するための作用ガス２６の最適な量が提供され、他方で、チェンバー３２内の作用ガスの粒子密度は、２次プラズマ３４の形成を抑制するために可能な限り低く保たれ得る。
【００６４】
バッファガス６０の量は、チェンバー３２内に開口している計量ユニット５８によって決定され得る。チェンバー３２内に入る作用ガス２６の粒子は、ポンプ６３によって除去され得る。言い換えると、計量ユニット５８は、チェンバー３２内の作用ガス２６及び／又はバッファガス６０の粒子圧力を決定することができる。これは、電極１４、１６の間の別の慣習的な電圧振幅で、２次プラズマ３４の形成のための動作点は到達されないためである。
【００６５】
立体角３０によりチェンバー３２内に入った放射線２８は、特に、作用ガス６０の粒子と相互に作用する場合に発生する。これらのイオンは、２次プラズマ３４を形成する電流フロー３６を生成する。電流フロー３６に必要とされるイオンの進行を妨げる、又はそれを除去するために、放射線２８に対して横方向に向けられた磁界Ｂ及び／又はその磁界に対して垂直な電界Ｅが、偏向素子７２によって発生し得る。偏向素子７２は、立体角３０に配置された光学素子がイオン照射及び隣接する２次プラズマ３４の形成に対して保護されるように磁界Ｂが方向を合わせられるよう、チェンバー３２に配置される。ここで示される電気的に動作する偏向素子７２は、特に、放電によっても作用ガス２６及び／又はバッファガス６０の荷電粒子を除去することを可能にする双極子を発生させる。ここで光学素子４０と第１の電極１４との間で発生した電界Ｅは、光学素子４０と第１の電極１４との間の電界を弱める。磁界Ｂのおかげで、電流フロー３６に必要とされるイオンを偏向させることによって、この電流フロー３６は、曲線によって示されるように、少なくとも広げられる。結果として、２次プラズマ３４の形成のための動作点は、より高い電位差へとシフトされ得る。
【００６６】
２次プラズマ３４の形成のために必要な電極１４、１６の間の電圧及び電流発振を防止するために、図６に示される装置４２は、第８の実施例のために使用されても良い。
【００６７】
第１のガス放電２２の点火時、及び、特にプラズマ２４の形成時に、放電装置１２は、ＲＣＬ共振回路として働く。その動作中のインピーダンスは、電源１８のインピーダンスとは異なる。電源１８によって伝送される電気エネルギーは、インピーダンス差のために、図８に示され、先に更に詳細に記載された電流及び電圧発振を必然的に引き起こす。これは、２次プラズマ３４の形成を進展させる。
【００６８】
チェンバー３２内の２次プラズマ３４を抑制するための装置４２は、電位制御装置７４の形で設計される。電位制御装置７４は、電極１４、１６に対して空間的に可変な方法で位置付けられ得るプレート７６によって、第１のガス放電２２のインピーダンスを電源１８のインピーダンスに整合させることを可能にする。これは、ホールによって特に簡単な方法で達成可能である。具体的に、プラズマ２４の形成時に、生成されるプラズマフィラメントは、その抵抗が増大するように前出のホールを通じて広げられ得る。放電装置１２のＲＣＬ共振回路の増大した抵抗Ｒによって、電源１８に対するインピーダンス整合は、結果として達成され得る。ＲＣＬ共振回路のオーバースイングは防がれ、２次プラズマ３４の形成に利用される電気エネルギーは低減される。
【００６９】
本発明は、ＥＵＶ領域で放射線を放射するプラズマを特に生成する電気放電装置を動作させる方法及び機器に関する。この点で、チェンバー内の２次プラズマの形成を抑制するために対策が提案される。その対策は、電流フローを制限するための、チェンバー内の粒子を除去するための、及び、導電部品の間の距離を変更するための手段を提供する。結果として、放電装置の動作中に２次プラズマの動作点に達することが起こり得ることを防止する手段が開示される。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】電気放電装置を動作させる第１の機器の側面図を示す。
【図２】本発明に従う機器の第２の実施例の断面図を示す。
【図２ａ】本発明に従う第３の機器の断面図を示す。
【図３】側面図で機器の第４の実施例を示す。
【図３ａ】第５の実施例の断面図を示す。
【図４】本発明に従う機器の電流経路の配線図を示す。
【図５】２次プラズマを防止するための第６の実施例を示す。
【図６】側面図で本発明に従う機器の第７の実施例を示す。
【図７】従来技術に従う一般的な機器の概要図を示す。
【図８】ａ及びｂは、図７に示された機器に従って電極間の電圧又は電流が時間に対してプロットされた図を示す。
【図１】
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【図２】
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【図２ａ】
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【図３】
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【図３ａ】
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【図４】
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【図５】
2008522379.tif 000011
【図６】
2008522379.tif 000012
【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
2008522379.tif 000015
2008522379.tif 000016
2008522379.tif 000017