【事件の表示】
　特許第２９８３４８０号「スピン処理装置」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９８３４８０号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許第２９８３４８０号の請求項１ないし３に係る発明についての出願は、平成８年１１月２７日に特許出願され、平成１１年９月２４日にその発明について特許権の設定の登録がなされ、その後、平成１２年５月２６日に特許異議申立人安井哲也より、請求項１ないし３に係る特許について特許異議の申立てがなされ、平成１２年８月３１日付けで取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１２年１１月１０日に特許異議意見書とともに訂正請求書が提出されたものである。
　
第２　訂正の適否
１　訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は、以下のａないしｅのとおりである。
ａ　登録時の明細書（以下「登録明細書」という。）の特許請求の範囲の請求項１に記載された「アーム体の所定位置に所定間隔を有して設けられ」を、「アーム体にそれぞれの間隔を調整可能に設けられ、」と訂正する。
ｂ　登録明細書の段落番号【００１０】に記載された「アーム体の所定位置に所定間隔を有して設けられ」を、「アーム体にそれぞれの間隔を調整可能に設けられ、」と訂正する。
ｃ　登録明細書の段落番号【００１２】及び【００３５】に記載された「アーム体の所定位置には所定間隔を有して」を、「アーム体にそれぞれの間隔を調整可能に設けられ、」と訂正する。
ｄ　登録明細書の特許請求の範囲の請求項３に記載された「上記アーム体或いは上記ノズル体を」を「上記アーム体を」と訂正する。
ｅ　登録明細書の段落番号【００１１】、【００１４】及び【００３７】に記載された「上記アーム体或いは上記ノズル体を」を「上記アーム体を」と訂正する。
　
２　訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記ａの訂正事項に関連する記載として、登録明細書の段落番号【００２７】には、「このためそれぞれのノズル体３８，３９から噴射される処理液の量およびノズル体３８，３９間の間隙を調整することにより、基板２２の処理を良好に行うことが可能となっている。」と記載されていることから、訂正事項ａは、登録明細書に記載されているものと認める。そして、上記ａの訂正は、複数のノズル体をアーム体に設けるにあたり、「所定位置に所定間隔を有して」設けるとする記載を、「それぞれの間隔を調整可能に」設けると、設け方を具体化して記載したものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的としたものに該当する。また、上記ａの訂正は、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　一方、上記ｂ及びｃの訂正は、上記ａの訂正に伴って特許請求の範囲と発明の詳細な説明の記載の整合を図るものであって、明りょうでない記載の釈明に相当する。そして、上記ｂ及びｃの訂正も、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　さらに、上記ｄの訂正は、登録明細書の請求項３の記載において、第２の駆動手段の駆動対象として、「上記アーム体或いは上記ノズル体」と選択的に記載されていたものを、「上記アーム体」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的としたものに該当する。また、上記ｄの訂正は、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　そして、上記ｅの訂正は、上記ｄの訂正に伴って特許請求の範囲と発明の詳細な説明の記載の整合を図るものであって、明りょうでない記載の釈明に相当する。また、上記ｅの訂正も、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　
３　むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
第３　特許異議の申立てについて
１　本件特許に係る発明
　上記第２の３で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１ないし３に係る発明は、上記訂正に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
「【請求項１】　基板を回転駆動させて処理を行うスピン処理装置において、
　カップ体と、
　上記カップ体内部に収納され、上記基板を保持して回転駆動する回転体と、
　上記回転体を回転駆動させる第１の駆動手段と、
　上記回転体の上方に設けられたアーム体と、
　上記アーム体にそれぞれの間隔を調整可能に設けられ、処理液を上記基板の径方向の異なる位置に噴射する処理液の噴射量が調整可能な複数のノズル体と、
を具備したことを特徴とするスピン処理装置。
　【請求項２】　上記アーム体を上記基板上で回動させる第２の駆動手段を有することを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置。
　【請求項３】　上記アーム体を上記基板の径方向に沿って直線状に駆動する第２の駆動手段を有することを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置。」
　
２　引用刊行物に記載された発明
　上記取消しの理由で引用した刊行物は、次の刊行物１ないし４である。
　刊行物１：特開昭５９−７８３４２号公報
　刊行物２：特開平８−６４５６８号公報
　刊行物３：特開平４−４４２２７公報
　刊行物４：特開平７−３７７９７
　なお、上記刊行物１ないし４は、それぞれ特許異議申立人安井哲也の提出した甲第１ないし４号証に相当する。
　上記刊行物１ないし４には、それぞれ次のとおりの発明が記載されている。
（１）　刊行物１
　基板を回転させて処理を行う現像装置において、現像装置本体の側壁内に収納され、上記基板を保持して回転駆動する載置台と、上記載置台を回転駆動させる駆動モーターと、上記載置台の上方に設けられたノズルアームと、上記ノズルアームの所定位置に配列され、現像液の滴下量が調整可能な複数のノズルとを具備した現像装置。
　
（２）　刊行物２
　ウェーハ洗浄装置において、カップと、上記カップによって覆われ、ウェーハを載せて回転する載置台と、上記載置台を回転駆動させるモータと、ウェーハの上面に対して洗浄液を滴下する複数個のノズルと、上記ノズルをウェーハの半径方向に直線的に、あるいはウェーハの中心を通る円弧を描くように往復動可能とするモータ、移動機構等からなる移動手段を具備したウェーハ洗浄装置。
　
（３）　刊行物３
　ウェハ洗浄装置において、洗浄水噴出口が多連に設けられ、各噴出口で噴出圧、噴出量を独立に制御可能な多点ノズルを、ウェハの上部で回動自在に設けたウェハ洗浄装置。
　
（４）　刊行物４
　半導体ウェハ等の被処理体の表面に現像液等の処理液を供給する処理装置において、被処理体を吸着保持するスピンチャックと、被処理体の表面に処理液を吐出する複数のノズル穴を列設する処理液供給ノズルと、処理液供給ノズルを移動させるノズル移動機構を具備し、ノズル孔の配列ピッチが中心部から外方に向ってより密に設けられた処理装置。
　
３　対比・判断
　本件の請求項１に係る発明（以下「本件発明１」という。）と上記刊行物１に記載の発明とを対比すると、上記刊行物１に記載の発明は、ノズルアームの所定位置に複数のノズルを配列する構成を有するものの、ノズル間の間隔は調整できるものではないから、アーム体にそれぞれの間隔を調整可能に複数のノズル体を設けるという本件発明１を特定する事項を備えていない点で相違する。
　次に、本件発明１と上記刊行物４に記載の発明とを対比すると、上記刊行物４に記載の発明は、処理液供給ノズルのノズル孔の配列ピッチが中心部から外方に向かってより密に設ける構成を有するものの、ノズル間の間隔は予め設定されており、調整はできないから、やはり、アーム体にそれぞれの間隔を調整可能に複数のノズル体を設けるという本件発明１を特定する事項を備えていない点で相違する。
　また、上記刊行物２及び３に記載の発明も、アーム体にそれぞれの間隔を調整可能に複数のノズル体を設けるとの本件発明１を特定する事項を備えていない。
　そして、本件発明１は、上記事項を備えることにより、処理液の噴射量が調整可能な構成と相まって、それぞれ異なる速度で回転している基板の中心側と外周側とが処理液に接する時間を同等にすることができ、そのため基板の処理をムラなく比較的均一にすることができるという顕著な効果を奏するものである。
　したがって、本件発明１は、上記刊行物１ないし４に記載のものから当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　また、本件の請求項２及び３に係る発明は、本件発明１を更に限定したものであるから、上記本件発明１についての判断と同様の理由により、上記刊行物１ないし４に記載の発明から当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　
４　むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、本件の請求項１ないし３に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件の請求項１ないし３に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年１１月３０日（２０００．１１．３０）
【訂正の要旨】
　訂正の要旨
１．訂正事項ａ
　特許第２９８３４８０号発明の明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された「アーム体の所定位置に所定間隔を有して設けられ」を、特許請求の範囲の減縮を目的として「アーム体にそれぞれの間隔を調整可能に設けられ、」に訂正する。
２．訂正事項ｂ
　同明細書の段落番号【００１０】に記載された「アーム体の所定位置に所定間隔を有して設けられ」を、明瞭でない記載の釈明を目的として「アーム体にそれぞれの間隔を調整可能に設けられ、」に訂正する。
３．訂正事項ｃ
　同明細書の段落番号【００１２】及び【００３５】に記載された「アーム体の所定位置には所定間隔を有して」を、明瞭でない記載の釈明を目的として「アーム体にそれぞれの間隔を調整可能に設けられ、」に訂正する。
４．訂正事項ｄ
　同明細書の特許請求の範囲の請求項３に記載された「上記アーム体或いは上記ノズル体を」を、特許請求の範囲の減縮を目的として「上記アーム体を」に訂正する。
５．訂正事項ｅ
　同明細書の段落番号【００１１】、【００１４】及び【００３７】に記載された「上記アーム体或いは上記ノズル体を」を、明瞭でない記載の釈明を目的として「上記アーム体を」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
スピン処理装置
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】　基板を回転駆動させて処理を行うスピン処理装置において、
　カップ体と、
　上記カップ体内部に収納され、上記基板を保持して回転駆動する回転体と、
　上記回転体を回転駆動させる第１の駆動手段と、
　上記回転体の上方に設けられたアーム体と、
　上記アーム体
にそれぞれの間隔を調整可能に設けられ、
を具備したことを特徴とするスピン処理装置。
　　【請求項２】　上記アーム体を上記基板上で回動させる第２の駆動手段を有することを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置。
　　【請求項３】　上記アーム
体を
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　【発明の属する技術分野】
　本発明は基板を回転処理するスピン処理装置に関する。
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
　例えば半導体製造装置や液晶製造装置においては、基板（半導体ウエハや液晶用ガラス基板）の製造工程でこの基板の洗浄や洗浄された基板を乾燥させるために、一般にスピン処理装置が用いられている。
　　　【０００３】
　このスピン処理装置は上記基板を回転体に保持させ、この基板を回転体とともに高速回転させ、この回転によって生じる遠心力を利用して上記基板の洗浄や乾燥などの処理を行う。
　　　【０００４】
　以下、従来のスピン処理装置の構成について図３、図４に基づいて説明する。上記スピン処理装置１にはチャンバ２が設けられ、このチャンバ２の内部にカップ体３が収納されている。このカップ体３には、底面中央部に通孔４が形成され、この通孔４に回転軸５が挿通されている。この回転軸５の上端には、回転体６がカップ体３内部に収納されるように連結されている。この回転体６の上面外周位置には、支持ピン７および係合ピン８が取り付けられており、基板９を保持可能としている。
　　　【０００５】
　この回転軸５の下端には、第１のモータ１０が連結されており、この回転体６を回転駆動させるようになっている。上記基板９を保持する回転体６の上方には、この基板９に処理液を吐出する処理液供給手段１１が設けられている。この処理液供給手段１１は、上記カップ体３の外方側から上方に向かい突出する支持軸１２を有しており、この支持軸１２の上端から所定の長さを有するアーム体１３が水平方向に突出して形成されている。上記支持軸１２の下端には、この支持軸１２を所定の速度で回転揺動させる第２のモータ１４が取り付けられている。
　　　【０００６】
　このアーム体１３の所定位置には、基板９に対して処理液を供給するノズル体１５が取り付けられている。このノズル体１５には、外方に設けられた図示されない供給手段によりチューブなどを介して処理液が供給されるようになっている。
　　　【０００７】
　　【発明が解決しようとする課題】
　ところで、上記のような構成のスピン処理装置１においては、以下のような問題を有している。すなわち上記のような処理液供給手段１１では、この基板９での処理液による処理が良好に行えない、という問題を有している。これは、回転している基板９では、回転中心から離間するに従い、この回転速度が増加するようになっているが、このような基板９表面に処理液を供給する処理液供給手段１１の揺動では、上記回転駆動している基板９の表面の回転速度に応じて均等に処理液を供給する構成となっていない。
　　　【０００８】
　そのため、この基板９の表面の処理が均等に行うことができず、基板９の処理にムラが生じるという不具合が発生している。また上記のようなスピン処理装置１では、上記のようなアーム体１３の回動による処理液の噴射では、静止している基板９に対してもアーム体１３の円弧運動により均一に噴射できないが、さらに加えて基板９が回転しているため、上記基板９に対する回動によって噴射する処理液の量がさらに均一とならず、そのためにこの基板９の処理にムラが生じるものとなっている。
　　　【０００９】
　本発明は上記の事情にもとづきなされたもので、その目的とするところは、基板表面への処理液の供給が比較的均等に行うことが可能なスピン処理装置を提供しようとするものである。
　　　【００１０】
　　【課題を解決するための手段】
　上記課題を解決するために、請求項１記載の発明は、基板を回転駆動させて処理を行うスピン処理装置において、カップ体と、上記カップ体内部に収納され、上記基板を保持して回転駆動する回転体と、上記回転体を回転駆動させる第１の駆動手段と、上記回転体の上方に設けられたアーム体と、上記アーム体
にそれぞれの間隔を調整可能に設けられ、
　　　【００１１】
　請求項２記載の発明は、上記アーム体を上記基板上で回動させる第２の駆動手段を有することを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置である。請求項３記載の発明は、上記アーム
体を
　　　【００１２】
　請求項１の発明によると、上記アーム体
にそれぞれの間隔を調整可能に設けられ、
　　　【００１３】
　請求項２の発明によると、上記アーム体を上記基板上で回動させる第２の駆動手段を有するため、基板外周付近と基板の回転中心付近とで、基板と処理液とが接する処理時間が比較的同等なものとすることができる。
　　　【００１４】
　請求項３の発明によると、上記アーム
体を
　　　【００１５】
　　【発明の実施の形態】
　以下、本発明の一実施の形態について、図１ないし図２に基づいて説明する。スピン処理装置２０は上面が開放されたチャンバ２１を有しており、このチャンバ２１の上面から、例えば図示しない基板搬送手段によって基板２２を挿入可能としている。このチャンバ２１は形状を円筒状とし、所定高さを有する側壁２１ａが外周を覆うように設けられている。
　　　【００１６】
　このチャンバ２１の下面は大きく開放した開放部２１ｂとなっており、この開放部２１ｂを通過して、後述する排出路２５や回転軸２８がチャンバ２１内部に連通するように設けられている。
　　　【００１７】
　上記チャンバ２１内部には、カップ体２３が設けられている。このカップ体２３は、上面が開放した有底状の下カップ２３ａと、この下カップ２３ａの上端に着脱自在に保持され上方に向かうにつれて内径を小さくするように形成された上カップ２３ｂとから構成されている。なお本実施の形態では、上記上カップ２３ｂは下カップ２３ａに対して上下駆動可能となって設けられているが、これ以外の構成、例えば上記上カップ２３ｂが下カップ２３ａの上端に単に載置された、着脱自在な構成としてもよい。
　　　【００１８】
　このカップ体２３は、上記チャンバ２１の底面に支持体２４を介して取り付けられている。上記下カップ２３ａの外周側底部位置には、基板２２に噴射された処理液を外方側へ排出する排出路２５が形成されており、また上記下カップ２３ａの底面中心部には通孔２６が形成されている。この通孔２６の上面側の外周部には、上方へ向かい突出してフランジ部２７が形成されており、通孔２６より処理液が内部へ侵入し難いものとしている。この通孔２６には回転軸２８が挿通され、この回転軸２８の上端が上記カップ体２３内部に突出し、回転体２９の中心位置下面と連結されている。
　　　【００１９】
　上記カップ体２３内部には、基板２２を載置する回転体２９が収納されている。本実施の形態では、この回転体２９は矩形状に形成された平板であり、この平板の対角中心の下面側に、回転軸２８が取り付けられている。
　　　【００２０】
　上記回転体２９の上面外周側には、基板２２を保持するための保持手段である支持ピン３０および係合ピン３１が取り付けられている。この支持ピン３０は、材質を例えば合成樹脂として、この形状は円柱状でありかっこの上端部が頂上部でわずかな平面を有する尖状部となっている。このため、上記基板２２をこの支持ピン３０の上部に載置しても、この基板２２に損傷を生じさせないようになっている。
　　　【００２１】
　また上記係合ピン３１は、支持ピン３０の外方側の近接した位置に設けられている。係合ピン３１は上記基板２２の外周側に当接して基板２２を保持し、上記回転体２９とともに高速回転されることを可能としている。
　　　【００２２】
　上記通孔２６から下カップ２３ａの下方に突出した上記回転軸２８の下端部は、第１のモータ３２に連結されている。したがって、第１のモータ３２が作動すれば、上記回転体２９が上記基板２２とともに回転駆動されるようになっている。この第１のモータ３２は、図示されない固定手段に取り付けられている。
　　　【００２３】
　上記チャンバ２１の内部でありかつカップ体２３の外部には、支持軸３３が設けられている。この支持軸３３は略鉛直方向に軸線を有し、形状を円柱状としている。またこのチャンバ２１の底面には挿通孔３４が形成されており、この支持軸３３の下端がチャンバ２１から突出するように設けられている。この支持軸３３の下端には、第２のモータ３５がカップリング３６を介して連結される。この第２のモータ３５は、上記支持軸３３の軸線を中心としてこの支持軸３３を回動させるものである。
　　　【００２４】
　上記支持軸３３の上端には、アーム体３７が水平方向に突出するように連結されている。アーム体３７は、上記回転体２９に載置された基板２２の回転中心の上方を、このアーム体３７の回動によって通過するように設けられている。そしてアーム体３７の所定位置には、処理液を基板２２に対して噴射する第１のノズル体３８、およびこの第１のノズル体３８と所定間隔を有して第２のノズル体３８が設けられている。
　　　【００２５】
　上記第１のノズル体３８のアーム体３７への取り付け位置は、本実施の形態ではアーム体３７が回転したときに、このアーム体３７に取り付けられている第１のノズル体３８が上記基板２２の回転中心に位置するように設けられている。このため上記第１のノズル体３８は、上記基板２２の径方向の中心側に処理液を供給するものとなっている。
　　　【００２６】
　上記第１のノズル体３８から所定間隔離間したアーム体３７の回転方向の中心側には、第２のノズル体３９が取り付けられている。この第２のノズル体３９は、上記基板２２の外周側に処理液を噴射するように設けられており、このため上記基板２２は、第１のノズル体３８で基板２２の回転中心側、第２のノズル体３９で基板２２の回転中心から所定径外方側を同時に処理を行うことが可能となっている。
　　　【００２７】
　この場合、第１のノズル体３８と第２のノズル体３９とでは、アーム体３７の回転駆動による基板２２に対する処理液の噴射範囲が定まっており、このためそれぞれのノズル体３８，３９から噴射される処理液の量およびノズル体３８，３９間の間隔を調整することにより、基板２２の処理を良好に行うことが可能となっている。
　　　【００２８】
　これら第１のノズル体３８、第２のノズル体３９は、外方に設けられた図示しない処理液供給源と例えばチューブなどを介して連結されており、上記基板２２に対して処理液を供給可能に設けられている。
　　　【００２９】
　以上のような構成を有するスピン処理装置の作用について、以下に説明する。上記回転体２９上に基板２２を保持させた後、この回転体２９を所定速度で回転駆動させる。そして上記第２のモータ３５を駆動させて上記アーム体３７を所定角度回動させる。ここで、上記アーム体３７に取り付けられた第１のノズル体３８は最初は上記基板２２の回転中心に位置しており、この位置より基板２２に向かって処理液を噴射する。また上記第２のノズル体３９は、上記第１のノズル体３８よりも径方向外方に位置しており、この位置で同時に処理液を噴射する。
　　　【００３０】
　そして、第２のモータ３５を作動させて上記アーム体３７を所定速度で回動させると、上記第１のノズル体３８は基板２２の回転中心から径方向外方に向かい徐々に移動しながら基板２２に対して処理液を噴射し、また上記第２のノズル体３９もさらに径方向外方に向かい徐々に移動しながら処理液を噴射する。
　　　【００３１】
　このような基板２２への処理液の噴射を基板２２の外周端部まで行い、そして外周端部から再び第１のノズル体３８が、基板２２の回転中心に位置するように、アーム体３７を逆回転させる。
　　　【００３２】
　この動作を繰り返し、アーム体３７の揺動を行いながら基板２２の処理を行う。このような構成のスピン処理装置２０によると、上記アーム体３７の所定位置には、第１のノズル体３８および第２のノズル体３９が所定間隔を有して設けられているため、このアーム体３７を第２のモータ３５により回転駆動させれば、上記基板２２の回転中心からそれぞれ異なる径の位置に処理液を噴射させることができる。
　　　【００３３】
　そのため、この第１のノズル体３８と第２のノズル体３９の間隔およびぞれぞれの処理液の噴射量を調整することにより、それぞれ異なる速度で回転している基板２２の中心側と外周側とが処理液に接する時間を同等にすることができ、そのため基板２２の処理をムラなく比較的均一にすることができる。
　　　【００３４】
　以上、本発明の一実施の形態について説明したが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となっている。以下それについて述べる。上記実施の形態では、アーム体３７は第２のモータ３５によって回動されるものとなっているが、これ以外にも、例えばアーム体３７或いはノズル体３８，３９を上記基板２２の径方向に沿って直線的に移動させる構成としてもよい。この場合も、第１のノズル体３８および第２のノズル体３９のアーム体３７への取り付け位置を調整することにより、基板２２を比較的均一にムラなく処理することが可能となる。また、上記アーム体３７へのノズル体の取り付け個数は、上記のものに限られず、基板２２の処理を良好に行えるものであれば、何個であっても構わない。
　　　【００３５】
　　【発明の効果】
　以上説明したように、請求項１記載の発明によると、上記アーム体
にそれぞれの間隔を調整可能に設けられ、
　　　【００３６】
　請求項２記載の発明によると、上記アーム体を上記基板上で回動させる第２の駆動手段を有するため、基板外周付近と基板の回転中心付近とで、基板と処理液とが接する処理時間が比較的同等なものとすることができる。
　　　【００３７】
　請求項３記載の発明によると、上記アーム
体を
【図面の簡単な説明】
　　【図１】
　本発明の一実施の形態に係わるスピン処理装置の構成を示す側断面図。
　　【図２】
　同実施の形態に係わるスピン処理装置の構成を示す平面図。
　　【図３】
　従来のスピン処理装置の構成を示す側断面図。
　　【図４】
　従来のスピン処理装置の構成を示す平面図。
　　【符号の説明】
　２０…スピン処理装置
　２１…チャンバ
　２２…基板
　２３…カップ体
　２９…回転体
　３２…第１のモータ
　３３…支持軸
　３５…第２のモータ
　３７…アーム体
　３８…第１のノズル体
　３９…第２のノズル体