【事件の表示】
　特許第３０１０９６３号「レジスト組成物」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０１０９６３号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３０１０９６３号の請求項１に係る発明についての出願は、平成５年２月１７日に特許出願され、平成１１年１２月１０日に設定登録がなされ、その後、特許異議申立人東京応化工業株式会社（以下、「申立人１」という。） 、クラリアント、インターナショナル、リミテッド（以下、「申立人２」という。）により特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年４月２日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
(1)訂正の内容
ａ．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１
「【請求項１】 フェノール類１モルに対してアルデヒド類０．５０〜０．８２モルを重縮合させることで合成される下記式（１）で示される１又は２以上の繰り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が１０００〜１００００であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子を水素一原子当り０．０３〜０．２７モルの割合で１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換したノボラック樹脂をアルカリ可溶性樹脂及び感光剤として単独使用したことを特徴とするレジスト組成物。
【化１】
（但し、ｎは１〜４の整数、ｍは０〜３の整数を示す。）」
を、
「【請求項１】 
ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含む
ポジ型
【化１】
（但し、ｎは１〜４の整数、ｍは０〜３の整数を示す。）」
と訂正する。
ｂ．訂正事項ｂ
　発明の詳細な説明の【０００１】【０００４】【０００９】を下記のとおり訂正する。
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アルカリ可溶性樹脂と感光剤との両方の性能を兼備したノボラック樹脂を主成分とし、均一性に優れ、高感度・高解像度で、耐熱性、残膜性に優れたポジ型レジストとして好適に用いられる
ポジ型
「【０００４】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、かかる従来の問題を解決し、より有利に高感度・高解像度で、耐熱性、残膜性に優れたレジスト組成物を得ることについて鋭意検討を行った結果、
ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含む
「【０００９】以下、本発明につき更に詳述すると、本発明のレジスト組成物は、
ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含む
ポジ型レジスト組成物
(2)訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａは、請求項１を限定するものであるから、特許請求の範囲の滅縮を目的とした明細書の訂正に該当する。上記訂正事項ｂは、上記訂正事項ａと整合を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とした明細書の訂正に該当する。
　そして、これらの訂正は、新規事項の追加に該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
(3)むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．取消理由についての判断
(1)訂正された請求項１に係る発明
　本件の請求項１に係る発明は、上記のように訂正された特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりのものである。（以下、「本件発明１」という。）
(2)引用刊行物
　当審が通知した取消理由通知に引用した刊行物１〜４には、以下の事項が記載されている。
［刊行物１：特開平５−１９４６５号公報（申立人１が提出した甲第１号証）］
「【請求項１】 （１）. ｍ−クレゾールとｐ−クレゾールとを含有する混合クレゾールとホルムアルデヒドとを重縮合して得られ、ポリスチレン換算重量平均分子量が１,０００〜１０,０００でありそしてポリスチレン換算分子量が６００未満の低分子量成分を１３重量％以上含有するノボラック樹脂の１,２−キノンジアジドスルホン酸エステルを含有する感放射線性樹脂組成物を層状に塗布し、（２）. 選ばれた部分のみに放射線を照射し、（３）. シリル化剤蒸気で処理してシリル化剤を選択的に放射線照射部に吸収させて反応させ、そして（４）. 該層を異方性酸素プラズマエッチングによりドライ現像して該層の放射線非照射部分を選択的に除去する、ことを特徴とするレジストパターン形成方法。」（特許請求の範囲）
「ホルムアルデヒドの使用量は、混合クレゾール１モル当り、好ましくは０.６〜２モル、特に好ましくは０.６〜１.２モルである。」（【００１５】）
「前記ノボラック樹脂と１,２−キノンジアジドスルホニルハライドとの縮合割合は、ノボラック樹脂１００重量部当たり、好ましくは１,２−キノンジアジドスルホニル基が１〜６０重量部、より好ましくは５〜５０重量部、特に好ましくは１０〜４０重量部になる割合である。」（【００２２】）
「本発明で用いられる組成物には、放射線照射部分がシリル化剤とより反応し易くする為に有機酸、有機酸塩、有機酸ハロゲニドまたは放射線の照射により酸を発生する物質（以下、「酸発生物質」という）を含有させることもできる。」（【００２６】）
［刊行物２：英国特許第１２２７６０２号明細書（申立人２が提出した甲第１号証）］
「実施例２の樹脂Ａｌｎｏｖｏｌ４２９（Ａｌｎｏｖｏｌは登録商標）の分子量は、１ ０００〜１ ２００であり、これは下記一般式の繰り返し単位でｎが８〜１０に相当する。
　　　　　　　　　　　　　」（１頁36-42行）
「従って、本発明では、…フェノール性水酸基の５〜３５％がナフトあるいはベンゾキノンジアジドスルホン酸でエステル化され、残りは置換されていない水不溶性の樹脂感光層を有する予備感光性リソグラフィ板を提供することができる。フェノール性水酸基の好ましいエステル化率は２０％である。」（１頁66-81行）
「この様に、本件発明に係る印刷板は、ポジ型でフェノール性水酸基を１００％エステル化した縮合物を感光性組成物として有する印刷板に比べて写像学的な意味において早い。
　一般に、僅か５％のフェノール性水酸基がナフトキノン（１：２）ジアジドスルホン酸とエステル化されているときでさえ良画像が得られるので、即ち高価なジアジド化合物が少量で優れた感光層が形成される。」（２頁58-71行）
［刊行物３：米国特許第３０４６１２０号明細書（申立人２が提出した甲第２号証）］
「工業的に製造されているアルカリ可溶性フェノール−ホルムアルデヒド樹脂をドイツ特許２８１，４５４号明細書にしたがって、１，２−ナフトキノンジアジドスルホンクロライドとの結合に用いることができる。例えば、製品名 Ａｌｎｏｖｏｌ４２９（ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｓｃｈｅ Ｗｅｒｋｅ Ａｌｂｅｒｔによって販売されている。）というホルムアルデヒド−フェノール樹脂と、１，２−ジアジド−（２）−５−スルホクロライドとにより淡黄色縮合物が得られ、１３７℃で分解し、感光層の生成のためにジオキサン、メチルエチルケトンに溶解塗布される。」（３欄32-44行）
「請求項６　ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−（２）−５−スルホン酸ハライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂の縮合体からなるコーティングを付した基本材料から構成された予備感光性印刷板。
　請求項７　ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−（２）−４−スルホン酸ハライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂の縮合体からなるコーティングを付した基本材料から構成された予備感光性印刷板。」（４欄49-57行）
［刊行物４：特開平４−２３３５４３号公報（申立人２が提出した甲第３号証）］
「【請求項１】 クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂と下記式で表されるナフトキノンジアジド増感剤：
【化１】
（式中、Ｙはナフトキノンジアジド増感剤とノボラック樹脂のヒドロキシ基との反応の際に脱離される除去可能な基を構成する）との反応生成物を含む感光性樹脂であって、上記クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂がクレゾールとホルムアルデヒドとを酸触媒の存在下で縮合して、上記縮合物をヘキサメチレンテトラミンと反応させることにより生成する上記感光性樹脂。
【請求項２】 上記クレゾールが、メタクレゾール及びパラクレゾールの混合物であって、メタ異性体とパラ異性体のモル比約１００：０〜２０：８０を有する上記混合物を含む請求項１の感光性樹脂。
【請求項３】 上記クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂が、以下のような面積比（１００％になる面積の総和に基づく）を有するゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）パターンを示すような分子量分布を有する請求項１の感光性樹脂：分子量範囲が、ポリスチレンとして計算して、約２００〜約６００未満であり且つＧＰＣパターンの約１５〜約２５面積％を構成する領域Ａ、ポリスチレンとして計算した分子量が約６００〜約４５００未満であり且つＧＰＣパターンの約４０〜約６５面積％を構成する領域Ｂ、ポリスチレンとして計算した分子量が約４５００〜約１４５００未満であり且つＧＰＣパターンの約１０〜約２５の面積％を構成する領域Ｃ及びポリスチレンとして計算した分子量が約１４５００を超え且つ約２〜１０面積％を構成する領域Ｄであって、さらに、領域Ａ及びＢの合計の、領域Ｃ及びＤの合計に対する比が約２．０〜４．０であるパターン。
　…
【請求項７】 （ａ）クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂と下記式で表されるナフトキノンジアジド増感剤：
【化２】
（式中、Ｙはナフトキノンジアジド増感剤とノボラック樹脂のヒドロキシ基との反応の際に脱離される除去可能な基を構成する）との反応生成物を含む感光性樹脂であって、上記クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂がクレゾールとホルムアルデヒドとを酸触媒の存在下で縮合しそして上記縮合物をヘキサメチレンテトラミンと反応させることにより生成する上記感光性樹脂約９５〜８０重量％と、
（ｂ）第１または第２スルホンアミド現像増進剤の約５〜２０重量％との混合物から構成されるポジ型フォトレジスト組成物。
　…」（特許請求の範囲）
「【産業上の利用分野】本発明は、クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂とｏ−キノンジアジド化合物との反応生成物（以下、その代わりに「改質ノボラック樹脂」と呼ぶ）から構成されるキノンジアジドポリマーを含む改良された感光性ポジ型フォトレジスト組成物に関し、特に、キノンジアジドポリマーとスルホンアミド現像増進剤との混合物を含むフォトレジスト組成物に関する。」（【０００１】）
「【課題を解決するための手段】本発明は、本質的な成分としてキノンジアジドポリマーあるいは改質ノボラック樹脂を含む改良された感光性ポジ型フォトレジスト組成物を提供するものである。キノンジアジドポリマーあるいは改質ノボラック樹脂は、(a) クレゾール及びホルムアルデヒドデヒドを縮合した後、ヘキサメチレンテトラアミンにより連鎖成長反応させることを含む２段階操作により調製されたアルカリ可溶性ノボラック樹脂と、(b) 下記(I) 式により示されるｏ−キノンジアジド化合物との反応により形成される：
【化１０】
（式中、Ｙは除去可能な基を構成する）
　本発明のポジ型フォトレジスト組成物に使用するための改質ノボラック樹脂を製造するのに用いるノボラック樹脂は知られた樹脂であり且つ２段階の反応操作により製造される。第１の反応段階は、クレゾールとホルムアルデヒドとの付加縮合反応から構成され、第２段階はヘキサメチレンテトラミンによる連鎖成長／分枝反応から構成される。」（【００１６】〜【００１８】）
「ホルムアルデヒドは、クレゾール、例えば、ｐ−クレゾール、ｏ−クレゾール及びｍ−クレゾール並びにそれらの混合物に対して、約５０〜９０モル％、好ましくは、約６０〜８５モル％、更に好ましく約６５〜８０モル％の量で用いる。」（【００２４】）
「ｏ−キノンジアジド化合物は、樹脂中のヒドロキシル基の理論的なモルレベルを基準にして、約４〜約１５モル％の量で、好ましくは約５〜約１０モル％の量で反応する。」（【００２９】）
(3)対比・判断
　申立人１は、本件特許の請求項１に係る発明は、刊行物１に記載された発明であるから特許法第２９条第１項第３号に該当し、あるいは、刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない旨主張している。
　また、申立人２は、本件特許の請求項１に係る発明は、刊行物２〜４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない旨主張している。
　刊行物１には、ｍ−クレゾールとｐ−クレゾールとを含有する混合クレゾールとホルムアルデヒドとを重縮合して得られ、ポリスチレン換算重量平均分子量が１,０００〜１０,０００であるノボラック樹脂の１,２−キノンジアジドスルホン酸エステルが記載されており、しかも、ホルムアルデヒドの使用量は、混合クレゾール１モル当り、好ましくは０.６〜２モル、特に好ましくは０.６〜１.２モルであることが記載され、また、ノボラック樹脂と１,２−キノンジアジドスルホニルハライドとの縮合割合は、ノボラック樹脂１００重量部当たり、好ましくは１,２−キノンジアジドスルホニル基が１〜６０重量部、より好ましくは５〜５０重量部、特に好ましくは１０〜４０重量部になる割合であることが記載されている（注．ノボラック樹脂の水酸基の水素原子当たりの割合に換算すると、それぞれ０．００５〜０．３１５モル、０．０２４〜０．２５６モル、０．０４８〜０．２０７モル。）から、刊行物１には、本件発明１における「ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含むフェノール類１モルに対してアルデヒド類０．５０〜０．８２モルを重縮合させることで合成される式（１）で示される１又は２以上の繰り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が１０００〜１００００であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子を水素一原子当り０．０３〜０．２７モルの割合で１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換したノボラック樹脂」を含むレジスト組成物が記載されている。そして、「ノボラック樹脂の１,２−キノンジアジドスルホン酸エステルを含有する感放射線性樹脂組成物を層状に塗布し」との記載、及び「本発明で用いられる組成物には、放射線照射部分がシリル化剤とより反応し易くする為に酸発生物質を含有させることもできる」との記載からして、上記ノボラック樹脂はレジスト組成物中で樹脂及び感光剤として単独使用されることもあるものである。
　しかし、上記ノボラック樹脂を含有するレジスト組成物は、「（１）. 層状に塗布し、（２）. 選ばれた部分のみに放射線を照射し、（３）. シリル化剤蒸気で処理してシリル化剤を選択的に放射線照射部に吸収させて反応させ、そして（４）. 該層を異方性酸素プラズマエッチングによりドライ現像して該層の放射線非照射部分を選択的に除去する」ために用いられるものとして記載されているので、上記ノボラック樹脂は「アルカリ可溶性」樹脂として使用されていないし、また、上記レジスト組成物は「ネガ型」の画像形成を行うものである。
　したがって、本件発明と刊行物１に記載された発明とは、
「ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含むフェノール類１モルに対してアルデヒド類０．５０〜０．８２モルを重縮合させることで合成される式（１）で示される１又は２以上の繰り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が１０００〜１００００であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子を水素一原子当り０．０３〜０．２７モルの割合で１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換したノボラック樹脂を樹脂及び感光剤として単独使用したレジスト組成物」である点で一致し、
本件発明のノボラック樹脂は「アルカリ可溶性」樹脂として使用されるものであるのに対し、刊行物１に記載された発明のノボラック樹脂はシリル化処理後異方性酸素プラズマエッチングによりドライ現像して使用されるものである点、及び本件発明のレジスト組成物は「ポジ型」であるのに対し、刊行物１に記載された発明のレジスト組成物はシリル化処理後異方性酸素プラズマエッチングによりドライ現像して使用される場合には「ネガ型」である点で、相違している。
　すなわち、上記相違点で、本件発明は刊行物１に記載された発明とは相違しているので、本件発明は刊行物１に記載された発明ではない。
　ところで、刊行物２ないし３に記載された樹脂Ａｌｎｏｖｏｌ４２９は、フェノール性水酸基がナフトあるいはベンゾキノンジアジドスルホン酸でエステル化されているから、ノボラック樹脂の水酸基の水素原子を１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換したノボラック樹脂である点では本件発明と一致するが、フェノール類としてｏ−クレゾールを用いたものであるから、すでにその点においてｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含むフェノール類を用いた本件発明のノボラック樹脂と異なっている。
　ノボラック樹脂の水酸基の水素原子を１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換したノボラック樹脂を含有するレジスト組成物を、アルカリ現像剤により現像することは、刊行物４により公知の技術ではあるが、刊行物１に記載されたノボラック樹脂をアルカリ現像剤により現像することにより、本件明細書記載の本件発明の効果が奏されること（なお、刊行物２ないし３に記載されたようなｏ−クレゾールノボラック樹脂を用いた場合には、本件明細書記載の本件発明の効果が奏されない〔特許異議意見書添付の実験成績証明書参照〕。）は、刊行物１〜４の記載からは、予測し得るものではない。
　したがって、本件発明は刊行物１〜４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１に係る特許を取り消すことができない。
　また、他に本件の請求項１に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年６月１９日（２００１．６．１９）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
ａ．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１
「【請求項１】　フェノール類１モルに対してアルデヒド類０．５０〜０．８２モルを重縮令させることで合成される下記式（１）で示される１又は２以上の繰り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が１０００〜１００００であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子を水素一原子当り０．０３〜０．２７モルの割合で１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換したノボラック樹脂をアルカリ可溶性樹脂及び感光剤として単独使用したことを特徴とするレジスト組成物。
　【化１】
（但し、ｎは１〜４の整数、ｍは０〜３の整数を示す。）
を、特許請求の範囲の減縮を目的として、
「【請求項１】
ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含む
ポジ型
　【化１】
（但し、ｎは１〜４の整数、ｍは０〜３の整数を示す。）」
と訂正する。
ｂ．訂正事項ｂ
　発明の詳細な説明の【０００１】【０００４】【０００９】を、明りょうでない記載の釈明を目的として、下記のとおり訂正する。
「【０００１】
　【産業上の利用分野】本発明は、アルカリ可溶性樹脂と感光剤との両方の性能を兼備したノボラック樹脂を主成分とし、均一性に優れ、高感度・高解像度で、耐熱性、残膜性に優れたポジ型レジストとして好適に用いられる
ポジ型
「【０００４】
　【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、かかる従来の問題を解決し、より有利に高感度・高解像度で、耐熱性、残膜性に優れたレジスト組成物を得ることについて鋭意検討を行った結果、
ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含む
「【０００９】以下、本発明につき更に詳述すると、本発明のレジスト組成物は、
ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含む
ポジ型レジスト組成物
（５４）【発明の名称】
レジスト組成物
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　
ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含む
ポジ型
　【化１】
（但し、ｎは１〜４の整数、ｍは０〜３の整数を示す。）
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、アルカリ可溶性樹脂と感光剤との両方の性能を兼備したノボラック樹脂を主成分とし、均一性に優れ、高感度・高解像度で、耐熱性、残膜性に優れた
ポジ型レ
　【０００２】
　【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
　従来、ノボラック系レジスト組成物は、ノボラック樹脂と感光剤の二成分を主成分として調製されてきた。しかしながら、より高解像度で耐熱性、残膜性に優れかつ各種露光機の光源の波長に合ったレジストとするためには、ノボラック樹脂及び感光剤の両方の面から数々の工夫がなされてきている。ノボラック樹脂の面から一例を挙げれば、合成するノボラック樹脂の平均分子量を小さくするとレジストとしての解像度は向上する反面、耐熱性、残膜性に劣ったものとなる（ＢＲＥＡＫ　ＴＨＲＯＵＧＨ，１９９２年２月号，１８頁）。そのため、合成したノボラック樹脂を再沈殿法等の処理によって、低分子量ノボラックを除去する等の手法が提案されている。また、感光剤の面から一例を挙げれば、露光機の光源がｇ線からｉ線に変化していく場合には、従来用いられてきたベンゾフェノン系感光剤ではレジスト中を光が透過しづらくなるため、ｉ線での吸収のより少ない非ベンゾフェノン系の感光剤を用いる等の提案がなされてきた（日経マイクロデバイス，１９９２年４月号，４５頁）。
　【０００３】
　しかし、これらの手法を組み合わせ、より高解像度のレジストを実現するためには、レジスト製造工程において多くの追加工程が必要となり、コストアップの原因につながる等の不利があった。
　【０００４】
　【課題を解決するための手段及び作用】
　本発明者は、かかる従来の問題を解決し、より有利に高感度・高解像度で、耐熱性、残膜性に優れたレジスト組成物を得ることについて鋭意検討を行った結果、
ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含む
ポジ型
　【０００５】
　【化２】
（但し、ｎは１〜４の整数、ｍは０〜３の整数を示す。）
　【０００６】
　本発明によれば、ポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷが１０００〜１００００という比較的低分子量のノボラック樹脂を用いるにも拘らず、低分子カット等の追加工程を入れなくても、耐熱性に優れたレジスト皮膜が調製できる。これは、ノボラック樹脂を直接１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸部分エステル化する際に、合成したノボラック樹脂の低分子成分のみが優先的にエステル化され、これが感光剤となるため、成膜成分であるノボラック樹脂を低分子カットしたものと同等以上の効果を有していると考えられる。
　【０００７】
　更に、本発明によるレジスト組成物では、ノボラック樹脂と感光剤が一体となっているため、露光するまでは平均分子量が小さい。従って、高解像度が保たれるにも拘らず、現像時のアゾカップリング反応等により、現像後は架橋反応を起して高分子量化することができる。その結果、形成されたパターンは非常に高い耐熱性を有している。このように本発明では高解像度と耐熱性を同時に実現できる。
　【０００８】
　また、感光剤の母核は、ノボラック樹脂そのものであり、各種光源の波長が変化しても、感光剤を変えなくても良い。このため、高解像度かつ高耐熱性のレジスト組成物を簡便な工程で低コストに製造できるだけでなく、各種露光機の光源の波長に関係なく、ユニバーサルなレジスト組成物を提供できる。更に一成分系レジスト組成物とし得るため、レジスト組成物調製時のノボラック樹脂と感光剤の配合比の振れによる性能差もなく、品質の安定化を計ることができる。
　【０００９】
　以下、本発明につき更に詳述すると、本発明のレジスト組成物は、
ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含む
ポジ型レジスト組成物
　【００１０】
　【化３】
（但し、ｎは１〜４の整数、ｍは０〜３の整数を示す。）
　【００１１】
　上記式（１）のノボラック樹脂は、常法に従い、フェノール類とアルデヒド類とを重縮合することによって得ることができる。
　【００１２】
　ここで用いるフェノール類は、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール及びその混合物が好適であるが、これらに限定されるものではなく、フェノール、各種異性体キシレノール、各種異性体トリメチルフェノール及びこれらの混合物などを用いることもできる。
　【００１３】
　また、これらフェノール類と重縮合させるアルデヒド類としてはホルムアルデヒドが好適であるが、これに限定されることはなく、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ブチルアルデヒド等炭素数４以下のアルデヒド及びそれらの混合物を用いることもできる。これらアルデヒドの使用量は、生成するノボラック樹脂のＭＷを１０００〜１００００とするために、フェノール類１モルに対し０．５０〜０．８２モルとする。
　【００１４】
　本重縮合において用いる触媒は、酸性触媒で、シュウ酸、酢酸、ギ酸が好ましいが、塩酸、硝酸、硫酸なども用いることができる。反応溶媒はメタノール、ジオキサン等の親水性溶媒を用い、５０〜１５０℃の温度で重縮合させることが好適である。重縮合終了後は、未反応原料や触媒を除去するため、１３０〜２５０℃で減圧ストリップするか、水洗後、ＥＣＡ（エチルセロソルブアセテート）等の溶媒に抽出した後、１３０〜２５０℃で減圧ストリップし、原料となるノボラック樹脂を得ることが推奨される。
　【００１５】
　このようにして得られるノボラック樹脂は、ＭＷが１０００〜１００００であることが必要である。ＭＷが１００００を越えるノボラック樹脂を用いると、解像度及び感度が低下し、ＭＷが１０００より小さいものでは、耐熱性が劣る傾向にある。
　【００１６】
　本発明は、かかるノボラック樹脂の水酸基の水素原子の一部を１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換したものをアルカリ可溶性樹脂及び感光剤として使用するものである。
　【００１７】
　この場合、１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基の導入に用いる１，２−キノンジアジド化合物としては、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等が挙げられる。この時にノボラック樹脂の水酸基の水素原子１個当り、０．０３〜０．２７モル％の割合で１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基を置換する。０．２７モル％を越えて置換したものでは、ＥＣＡ等の溶媒に溶けにくく、レジスト組成物としての調合ができない。また、０．０３モル％より少なく置換したものでは、残膜性が劣り、レジスト組成物としては、パターンが切れなくなり、使用し得ない。なお、上記１，２−キノンジアジド化合物による部分エステル化方法としては、部分エステル化の常法を採用し得る。
　【００１８】
　本発明においては、このように１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基を導入したノボラック樹脂を成膜材料レジン兼感光剤として単独で用いるが、本発明の組成物においては、更に染料、顔料、界面活性剤等の各種配合剤を添加することができる。
　【００１９】
　界面活性剤としては、フロラードＦＣ−４３０，ＦＣ−４３１（商品名、住友スリーエム社製）等が挙げられるが、この界面活性剤の配合量は、１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基を導入したノボラック樹脂１００重量部に対して２重量部以下が好ましい。
　【００２０】
　また、本発明の組成物は、１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基を導入したノボラック樹脂を１５〜６０重量％となるように溶剤に溶解させ、必要に応じて、上記各種配合剤を添加させて調製することができる。この際に用いられる溶剤は、ＥＣＡ（エチルセロソルブアセテート）が最も一般的で好ましいが、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、エチルラクテート、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ジヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル等の溶剤も用いることができる。
　【００２１】
　なお、本発明のレジスト組成物は、常法に準じて行うことができ、上記成分を例えばスピン塗布法で所望の膜厚を得るに好適な濃度に溶解させ、孔径０．２〜０．５μｍ程度のフィルターで濾過するなどの方法で調製できる。また、この組成物を例えばオートコーターを用いてヘキサメチルジシラザン蒸気処理したシリコーンウェハーにスピンコートし、プリベークし、このフォトレジストを塗布したウェハーをマスクパターンを介して露光し、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液などで所定の時間現像し、水洗乾燥するなどの方法を採用し得る。
　【００２２】
　【実施例】
　以下、合成例、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
　【００２３】
　〔合成例１〜１２〕ノボラック樹脂の合成
　撹拌機、コンデンサー、温度計を装着した３つ口フラスコにｐ−クレゾール６４．９ｇ（０．６０モル）、ｍ−クレゾール４３．３ｇ（０．４０モル）、３７％重量ホルムアルデヒド水溶液４８．７ｇ（０．６０モル）及び重縮合触媒、シュウ酸２水和物０．３０ｇ（２．４０×１０−３モル）を仕込み、フラスコをオイルバスに浸し、内温を１００℃に保持し、１時間重縮合を行った。反応終了後５００ｍｌのＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）を加え、３０分間撹拌した後、水層を分離し、ＭＩＢＫ層に抽出された生成物を３００ｍｌの純水で５回水洗、分液し、次いでエバポレータにて、４ｍｍＨｇで１５０℃の減圧ストリップを行い、ノボラック樹脂Ａ（８７ｇ）を得た。
　【００２４】
　また、上記と同様にしてノボラック樹脂Ｂ〜Ｊを得た。更に、比較のためノボラック樹脂Ｋ，Ｌを合成した。
　【００２５】
　上記ノボラック樹脂Ａ〜Ｌを合成した際のｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール比、ホルマリン／クレゾール比、及びＭＷを表１に示す。
　【００２６】
　なお、ＭＷの測定は、東ソー社製ＧＰＣカラム（Ｇ−２０００Ｈ６２本，Ｇ−３０００Ｈ６１本，Ｇ−４０００Ｈ６１本）を用い、流量１．５ｍｌ／分、溶出溶媒ＴＨＦ、カラム温度４０℃の条件で行った。
　【００２７】
　【表１】
　【００２８】
　〔合成例１３〜２６〕１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基導入ノボラック樹脂の合成
　遮光下で、撹拌機、滴下ロート、温度計を装着した３つ口フラスコにノボラック樹脂Ａ（ＯＨ当量１２５）１２５ｇ（１モル）、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライド６７ｇ（０．２５モル）、１，４−ジオキサン３００ｇ、メタノール１００ｇを仕込み、１時間撹拌しながら溶解させた。フラスコを２５℃に調製したウォーターバス中に浸し、トリエチルアミン２６．５ｇ（０．２６３モル）を内温が３０℃を越えないように滴下した。その後１時間熟成させ、０．１規定塩酸水１５００ｃｃ中に注ぎ込んで、上澄み液をデカンテーションで取り除き、析出物を８００ｇの酢酸エチルに抽出し、水洗、分液した後、４０℃で減圧ストリップを行い、表２に示す１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基導入ノボラック樹脂Ａ’１９１ｇを得た。
　【００２９】
　また、上記と同様にして表２に示す１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基導入ノボラック樹脂Ｂ’〜Ｊ’を得た。更に、比較のため表２に示す１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基導入ノボラック樹脂Ｋ’〜Ｎ’を合成した。
　【００３０】
　【表２】
　【００３１】
　〔実施例１〜１０、比較例１〜４〕
　生成物Ａ’２５ｇをＥＣＡ７５ｇに溶解させた後、０．２μｍの孔径のメンブレンフィルターで濾過し、本発明の組成物の溶液Ａ”を調製した。
　【００３２】
　次に、これを６インチ−ベアシリコンウェハー上にスピンナーを用いて塗布し、ホットプレート上で９０℃にて９０秒間ソフトベータし、厚さ０．８μｍのレジスト膜を形成し、ｉ線で露光し、現像、リンスした後、該レジスト膜の最適露光量Ｅｏｐを評価した。なお、レジスト評価は、ニコン社製ＮＳＲ−１７５５ｉ７Ａ（ＮＡ＝０．５０のｉ線ステッパー）で露光し、パターンを日立製ＳＥＭで評価し行った。
　【００３３】
　この場合、５μｍＬ／Ｓで、最適焦点位置においてライン＆スペースのボトム位置での１：１の寸法比となるところをＥｏｐとして定めた。
　【００３４】
　また、レジスト膜の耐熱性を評価した。この場合、耐熱性データは、更にホットプレート上で１３０℃にて５分間加熱し、５μｍＬ／Ｓのパターン形状が加熱後も保持されているかどうかで判断した。
　【００３５】
　また、実施例１と同様にして組成物溶液Ｂ”〜Ｊ”を調製し、Ｅｏｐ及び耐熱性を評価した。
　【００３６】
　更に比較のため、実施例１と同様にして組成物溶液Ｋ”〜Ｎ”を調製し、Ｅｏｐ及び耐熱性を評価した。
　【００３７】
　〔比較例５〕
　上記ノボラック樹脂Ａ２０ｇと下記式の感光剤６ｇとを７０ｇのＥＣＡに溶解させ、二成分系レジスト溶液を調製し、実施例１と同様にしてレジストとしてのＥｏｐ及び耐熱性を評価した。
　【００３８】
　以上の結果を表３に示す。
　【００３９】
　【表３】
　【００４０】
　【発明の効果】
　本発明のレジスト組成物は、ノボラック樹脂と感光剤とが均一に混ざり合った状態で組成に均一であり、均一なレジスト膜を形成し得ると共に、高感度・高解像度で、耐熱性、残膜性に優れたポジ型レジストとして好適に使用し得る。