【事件の表示】
　特許第２８５６６２６号「縮小投影露光装置」の請求項１、２および４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２８５６６２６号の請求項１、２に係る特許を取り消す。
　同請求項４に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　 本件特許第２８５６６２６号に係る発明は、平成５年３月２２日に特許出願され、平成１０年１１月２７日にその特許の設定登録がされ、その後、異議申立人株式会社ニコンより特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年１２月２０日に訂正請求がなされ、その後、訂正拒絶理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年６月１６日に意見書が提出されたものである。
１．１　異議申立ての概要
　異議申立人株式会社ニコンは、甲第１号証（特開昭６２−２８６２２６号公報）、甲第２号証（特開平２−９８１２０号公報）、甲第３号証（特開昭５９−１８８１２３号公報）、甲第４号証（特開平４−２２１１８号公報）、甲第５号証（特開昭６２−８６７２４号公報）、甲第６号証（実願昭６３−１２９５９０号（実開平２−５２３２６号公報）のマイクロフィルム）及び甲第７号証（特開昭６２−２１２２２号公報）を提出し、本件請求項１、２及び４に係る発明は、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、また、本件請求項１、２及び４に係る発明は、甲第４〜７号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるので、本件請求項１、２及び４に係る特許を取り消すべき旨主張している。
１．２　異議申立人株式会社ニコンが提出した甲第１号証の内容
　甲第1号証の第4頁左上欄第2行目〜右上欄第18行には、「本発明による遠紫外線露光装置の一例は、…被露光体2を載置する移動台3を設置する基体21と、その基体21と共働して、照射光学系9、露光パターン描写体5及び照射光学系11を配している遠紫外線光路4の大部分を移動台3とともに包囲している筒体22と、その筒体22と遠紫外線源1との間の遠紫外線光路4の残部を、それら筒体22及び遠紫外線源1と連通して、包囲している管体23と、…気体源24と、その気体源24からの…気体の温度を制御する温度制御装置25と、その温度制御装置25から得られる温度制御された…気体を、筒体22内に供給する気体供給管26と、その気体供給管26を介して筒体22に供給される、…気体を、筒体22内で、照射光学系9、露光パターン描写体5及び投影光学系11に対して流動させるための排気管27とを有する。　この場合、筒体22は、露光パターン描写体5を、筒体22が照射光学系9側の部30と投影光学系11側の部31とに2分されるように支持しているとともに、投影光学系11を、その筒体32を介して、筒体22の投影光学系11側の部31が露光パターン描写体5側の部33と被露光体2側の部34とに2分されるように支持している。また、…部30内に延長している管40と、…部33及び34内に延長している管43及び44と、…筒体32内に延長している管45とからなる。」と記載されている。
　また、甲第1号証の第4頁右下欄第6〜10行目には、「さらに、温度制御装置25によって、遠紫外線源1から被露光体2までの遠紫外線光路4に存在させられる…気体の温度を制御する手段を構成している。」と記載されている。
　甲第1号証の第6頁左上欄第1〜15行には、「遠紫外線源1から被露光体2までの遠紫外線光路4における、照射光学系9、露光パターン描写体5及び投影光学系11などが、遠紫外線の照射を受けて発熱しても、その熱を…外部に放散させることができるとともに、…気体の温度を、照射光学系9、露光パターン描写体5及び投影光学系11などが一定の温度を保つように制御することができるので、…露光パターンにばらつきを生ぜしめることなしに、被露光体2上に露光させることができる。」と記載されている。
　なお、甲第1号証の第2頁右上欄第13〜16行目には、「気体として、窒素、…ヘリウム…を用い得る。」と記載されている。
１．３　異議申立人株式会社ニコンが提出した甲第２号証の内容
　甲第2号証の第4頁左下欄第16行目〜右下欄第17行目には、「次に第1,2図を参照して、上記構成のX線露光装置の操作順序を説明する。…ステージ収納室5は、低真空ポンプ14により…0.029[Torr]以下まで排気する…。この後、純度99.9999%のヘリウムをステージ収納室5内の圧力が150[Torr]になるまで供給する。これから後は、空気の洩れ込み量に応じた一定量のヘリウムを供給し続け、コントローラ21および可変バルブ22により、圧力のふらつきを抑え150[Torr]に保つ。」と記載されている。
１．４　異議申立人株式会社ニコンが提出した甲第３号証の内容
　甲第3号証の第2頁左下欄第13行目〜右下欄第8行目には、「第2図は、本発明の一実施例の概略断面図で、X線露光装置構成図を示している。管球部1のX線取出し窓4から放射された軟X線3は大気9を通してX線マスク5上に照射される点は第1図と同じである。新規の構成を以下に説明する。X線マスク5にほぼ接近した位置にシャッタ10が設けられる。前記シャッタを真空密閉構造の一部とした露光チャンバ11を、適当な真空排気系を用いて真空排気12する。10−１〜10−２Torrの真空排気が行われた後、ガス導入口13から組成成分を制御した気体14を導入する。最終的に露光チャンバ内の圧力が大気圧よりやや大きな圧力になるように設定される。露光チャンバのリークに相応するように、常に適当の気体がチャンバ内に導入される。」と記載されている。
　甲第3号証の第3頁右上欄第3〜6行目には、「露光チャンバ内に送入される気体としては、例えばHe(ヘリウム)、N2(窒素)等レジストに対して不活性な気体を用いればよい。」と記載されている。
　甲第3号証の第3頁右上欄第18行目〜左下欄第17行には、「本構成では、該シャッタ10、シャッタ保持機構17、ウエハーステージ8 及び寸法変位が容易なシール機構18とによって真空密閉空間19が形成される。…ウエハー上下機構20はウエハー6をウエハー自動送り機構15との間で受渡しを行ない、…。ウエハー6はウエハ一自動送り機構15によってウエハーステージ8の一部に設けられた自動開閉器16の場所から、露光空間19のウエハー受渡し位置15′まで送入される。このときウエハー上下機構20は、あらかじめウエハー受渡し位置20′まで下降しており、ウエハーの受渡しを行なう。」と記載されている。
１．５　異議申立人株式会社ニコンが提出した甲第４号証の内容
　甲第4号証の第3頁左上欄第18行目〜右上欄第16行目には、「微動ステージ54の上にはまたウエハステージ系の位置座標の基準となるミラー57がX,Y方向それぞれに載置されており、レーザ干渉測長器58からのビームを反射することでウエハステージの位置や走行距離を知ることができる。…レチクル1の上側にはレチクル光学系6が配置される。…レチクルの位置ずれ量を検出することを可能にしている。
　ウエハステージ5の上方、投影レンズ4に隣接してオフアクシス顕微鏡7が配置されている。…内部の基準マーク70とウエハ上のアライメントマークとの相対位置検出を行なうのが主たる役割である。」と記載されている。
　甲第4号証の第4頁右下欄第2〜12行目には、「この構成においてチャンバ8の内部空間は分離壁87a,87b,87cにより、レチクル(またはマスク)ステージ11やレチクル光学系6および照明光学系3や露光光源30が配置されている空間Aと、ウエハステージ5やオフアクシス顕微鏡7が配置されている空間B、および投影レンズ4が配置されている空間Cと、レチクルライブラリー100やレチクル搬送系120およびウエハキャリアーエレベータ110やウエハ搬送系130が配置されている空間Ｄにそれぞれ分離されている。」と記載されている。
　甲第4号証の第5頁左上欄第8〜13行目には、「温度センサ85cは空間Cに供給される清浄空気の温度をそれぞれ計測し、それらの空気温度がそれぞれ所定の温度に保たれるよう、温度コントローラ83により供給される清浄空気の温度が制御されている。」と記載されている。
１．６　異議申立人株式会社ニコンが提出した甲第５号証の内容
　甲第5号証の第2頁右下欄第8行目〜最終行には、「この発明の半導体製造装置には、真空チャンバ9と真空チャンバ9内の空気を排気するための真空ポンプl0とが設けられる。真空チャンバ9には、たとえば石英ガラスからなる露光窓11,12が設けられる。露光窓11,12は、光を透過する窓である。光源1からの光は露光窓11を介して、レティクル2上に与えられ、縮小投影レンズ4からの光は露光窓12を介して、ウエハ5上に与えられる。上述のように構成された半導体製造装置において、真空チャンバ9内の空気を真空ポンプ10で排気することにより、真空チャンバ内の異物は気体とともに外部に排出される。」と記載されている。
　甲第5号証の第2頁左下欄第17〜20行目には、「この発明における容器は、…容器内の異物が減少するため、…レティクルへの異物の付着は減少する」と記載されている。
１．７　異議申立人株式会社ニコンが提出した甲第６号証の内容
　甲第6号証の第６頁第１９行〜第７頁第４行に、「この考案においては、縮小レンズと半導体ウェハの周囲は間の光路も含めて半導体ウエハの周囲は密封手段により密封され、その内部は減圧される。密封された内部は、大気圧の変化等の影響を受けず、また、減圧状態であるので温度変化が生じても内部気圧の変化は小さい。」と記載されている。
　また、第７頁６行〜第８頁第２行に、「以下、この考案の実施例を図面とともに説明する.第1図はこの実施例による半導体装置の縮小投影露光装置の構成を示し、符号21〜34で示した部材は第2図と同様である。1はウェハ露光部をおおうチャンバであり、チャンバ1は光路27、半導体ウェハ28、ステージ29〜31、駆動系部分32、センサ33及び位置検出器34の周囲をおおう。2は上記のようなウェハ露光部を載置されたステージ、3はチャンバ1とステージ2の間に設けられたＯリングであり、チャンバ1、ステージ2及びＯリング3はウェハ露光部を密閉する。4はチャンバ1に接続され、その内部を減圧する減圧ポンプである。
　上記構成において、半導体ウェハ28のホトリソグラフィ工程における露光処理は従来同様に行われる。この露光処理中において、チャンバ1内は減圧ポンプ4により減圧されている。」と記載されている。
　甲第6号証の第9頁第1〜7行目には、「半導体ウエハの周囲を減圧状態に保持したので、温度変化や大気圧変化が生じても…回路パターン形成時においても解像力のバラツキ、低下を抑制することができる」と記載されている。
１．８　異議申立人株式会社ニコンが提出した甲第７号証の内容
　甲第7号証の第2頁左上欄第17行目〜右上欄第2行目には、「本発明は、光学露光装置の光路の一部(例えばマスクとウエハーの間、または、レンズとウエハーの間)…およびアライメント光路全てを排気が可能な真空室内に設置する。」と記載されている。
　また、甲第7号証の第2頁右上欄第11行目〜左下欄第3行目には、「図に示すような、エキシマレーザ光源1…、コンデンサーレンズ2、縮小投影レンズ3、ウエハライメント光学系4、XYステージ5、…レチクルアライメント光学系7、レチクル8、ウエハ9等からなる縮小投影光学露光装置において、レーザー光源からウエハー間のすべて…を排気可能な真空室10内に設置する。なお、このときウエハアライメント光学系およびレチクルウエハ間のみを部分的に排気する構成にしてもある程度の効果は得られる。」と記載されている。
　甲第7号証の第2頁右上欄第4〜7行目には、「本発明は室内の気体を排気して気体の流動を防止するとともに密度の不均一を無くすことにより、“ゆらぎ”をなくしパターンひずみやアライメント誤差の発生防止することを特徴とする」と記載されている。
２．訂正の適否について
２．１　本件訂正請求の概要
　平成１１年１２月２０日付訂正請求の概要は、願書に添付された明細書の請求項１「露光光源と、レチクルを保持する支持枠と、縮小レンズ組立体と、ウェハを保持するウェハ搬送X-Yステージとを備えた縮小投影露光装置において、前記レチクルの支持枠及び前記縮小レンズ組立体の入射部を包む第1の減圧室と、前記縮小レンズ組立体の出射部及び前記ウェハ搬送X-Yステージを包む、第1の減圧室とは別個の第2の減圧室とを有することを特徴とする縮小投影露光装置。」を、「露光光源と、レチクルを保持する支持枠と、縮小レンズ組立体と、ウェハを保持するウエハ搬送X-Yステージとを備えた縮小投影露光装置において、前記レチクルの支持枠及び前記縮小レンズ組立体の入射部を包むとともに露光時に減圧を行う第1の減圧室と、前記縮小レンズ組立体の出射部及び前記ウェハ搬送X-Yステージを包むとともに露光時に減圧を行う、第1の減圧室とは別個の第2の減圧室とを有することを特徴とする縮小投影露光装置。」と訂正するものである。
２．２　訂正拒絶理由の概要
「（１）本件訂正請求は、特許請求の範囲の減縮を目的とし、請求項１「露光光源と、レチクルを保持する支持枠と、縮小レンズ組立体と、ウェハを保持するウェハ搬送Ｘ−Ｙステージとを備えた縮小投影露光装置において、前記レチクルの支持枠及び前記縮小レンズ組立体の入射部を包む第1の減圧室と、前記縮小レンズ組立体の出射部及び前記ウェハ搬送Ｘ−Ｙステージを包む、第1の減圧室とは別個の第2の減圧室とを有することを特徴とする縮小投影露光装置。」を、「露光光源と、レチクルを保持する支持枠と、縮小レンズ組立体と、ウェハを保持するウェハ搬送Ｘ−Ｙステージとを備えた縮小投影露光装置において、前記レチクルの支持枠及び前記縮小レンズ組立体の入射部を包むとともに露光時に減圧を行う第1の減圧室と、前記縮小レンズ組立体の出射部及び前記ウェハ搬送Ｘ−Ｙステージを包むとともに露光時に減圧を行う、第1の減圧室とは別個の第2の減圧室とを有することを特徴とする縮小投影露光装置。」と訂正することを含むものである。
（２）第２９条第２項違反について
刊行物１；特開昭６２−２８６２２６号公報
刊行物２；特開平２−９８１２０号公報
刊行物３；特開昭５９−１８８１２３号公報
刊行物４；特開平４−２２１１８号公報
刊行物５；特開昭６２−８６７２４号公報
刊行物６；実開平２−５２３２６号公報
刊行物７：特開昭６２−２１２２２号公報
刊行物Ａ；実願昭６３−１２９５９０号（実開平２−５２３２６号公報）のマイクロフィルム（刊行物Ａは、上記刊行物６の全文明細書である。）
　訂正後の本件請求項１に係る発明は、依然として、上記刊行物に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものである。
（３）結論
　本件訂正請求は、特許法第１２０条の４第３項で準用する第１２６条第４項の規定に適合しない。」
２．３　訂正の適否についての判断
２．３．１　訂正後の請求項１に係る発明（以下、「訂正発明１」という。）
「露光光源と、レチクルを保持する支持枠と、縮小レンズ組立体と、ウェハを保持するウェハ搬送X-Yステージとを備えた縮小投影露光装置において、前記レチクルの支持枠及び前記縮小レンズ組立体の入射部を包むとともに露光時に減圧を行う第1の減圧室と、前記縮小レンズ組立体の出射部及び前記ウェハ搬送X-Yステージを包むとともに露光時に減圧を行う、第1の減圧室とは別個の第2の減圧室とを有することを特徴とする縮小投影露光装置。」
２．３．２　訂正発明１の独立特許要件の検討
　訂正発明１と刊行物Ａに記載された発明との対比
　刊行物Ａ記載の発明と訂正発明1とを対比すると、刊行物Ａ記載の「照明系」、「レチクルホルダ」及び「縮小レンズ」は、訂正発明1の、「露光光源」、「支持枠」及び「縮小レンズ組立体」に相当するから、両者は、「露光光源と、レチクルを保持する支持枠と、縮小レンズ組立体と、ウェハを保持するステージとを備えた縮小投影露光装置において、前記縮小レンズ組立体の出射部及び前記ウェハステージを包むとともに露光時に減圧を行う、減圧室とを有する縮小投影露光装置。」において一致し、訂正発明1が、「ウェハ搬送Ｘ−Ｙステージ」を有する（以下、訂正発明1の構成１」という。）を有するのに対し、刊行物Ａには、この構成がないこと（以下、「相違点１」という。）及び訂正発明1が、「レチクルの支持枠及び前記縮小レンズ組立体の入射部を包むとともに露光時に減圧を行う第1の減圧室」を有する（以下、訂正発明1の構成2」という。）を有するのに対し、刊行物Ａには、この記載がないこと（以下、「相違点2」という。）において両者は相違する。
　相違点１について検討すると、訂正発明1の構成１については、上記刊行物３及び刊行物４に記載されているように周知手段にすぎず、相違点１に格別の意義は認められない。
　相違点２について検討する。
　レチクルの支持枠及び縮小レンズ組立体の入射部を包む室を設け、露光中における大気圧の変動等の影響を抑えることは、上記刊行物４及び７に示されるように周知手段であり、さらに、露光中における大気圧の変動等の影響を抑えるために当該室を露光時に減圧することは、上記刊行物Ａに記載されるように公知手段である。
　上記刊行物４及び７に示される周知手段に、上記刊行物Ａに記載される公知手段を付加することにより、「レチクルの支持枠及び前記縮小レンズ組立体の入射部を包む室」に対し、「露光時に減圧を行う」手段を付加することは当業者が容易になし得たものにすぎないから、「レチクルの支持枠及び前記縮小レンズ組立体の入射部を包むとともに露光時に減圧を行う第1の減圧室」を設けることに何ら困難性は認められない。従って、相違点２に格別の意義は認められない。
　そうすると、訂正後の本件請求項１に係る発明は、依然として、上記刊行物に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものである。
２．３．３　結論
　訂正発明１は、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、平成６年法律第１１６号附則第６条第１項の規定により、特許法第１２０条の４第３項で準用する訂正についてなお従前の例によるとされる、改正前の特許法第１２６条第３項の規定に適合しないので、本件訂正請求は認められない。  
３．異議申立に対する判断
３．１　異議申立に係る、本件請求項に係る発明
請求項1
「露光光源と、レチクルを保持する支持枠と、縮小レンズ組立体と、ウェハを保持するウェハ搬送X-Yステージとを備えた縮小投影露光装置において、前記レチクルの支持枠及び前記縮小レンズ組立体の入射部を包む第1の減圧室と、前記縮小レンズ組立体の出射部及び前記ウェハ搬送X-Yステージを包む、第1の減圧室とは別個の第2の減圧室とを有することを特徴とする縮小投影露光装置。」
請求項2
「請求項1記載の縮小投影露光装置において、装置制御に必要な光学検出手段及び光学計測手段をさらに有し、前記光学検出手段及び光学計測手段を前記第1及び第2の減圧室内に収納したことを特徴とする縮小投影露光装置。」
請求項4
「請求項1記載の縮小投影露光装置において、前記縮小レンズ組立体の外筒部に設けられたレンズ温度調節手段をさらに有し、前記レンズ温度調節手段は前記第1及び第2の減圧室の外側に位置していることを特徴とする縮小投影露光装置。」
３．２　取消理由通知の概容
「（１）本件特許第２８５６６２６号の請求項１、２及び４に係る発明は、その請求項１、２及び４に記載されたとおりのものである。
（２）第２９条第２項違反について
（２．１）　請求項１、２及び４に係る発明は、特許異議申立人が提出した特許異議申立書に記載された理由により、下記刊行物１〜４に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものである。　従って、請求項１、２及び４に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである。　
（２．２）　請求項１、２及び４に係る発明は、特許異議申立人が提出した特許異議申立書に記載された理由により、下記刊行物４〜７に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものである。　従って、請求項１、２及び４に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである。　
　　　　　　　　　記
刊行物１；特開昭６２−２８６２２６号公報
刊行物２；特開平２−９８１２０号公報
刊行物３；特開昭５９−１８８１２３号公報
刊行物４；特開平４−２２１１８号公報
刊行物５；特開昭６２−８６７２４号公報
刊行物６；実願昭６３−１２９５９０号（実開平２−５２３２６号公報）のマイクロフィルム）
刊行物７；特開昭６２−２１２２２号公報」
３．３　引用例の内容
　１．２〜１．８に記載のとおり。
３．４　本件請求項１、２及び４に係る発明（以下、それぞれ、「本件第１、２及び４発明」という。）と取消理由に引用した引用例との対比
３．４．１　本件第１発明と取消理由に引用した引用例との対比
　甲第６号証記載の発明と本件第１発明とを対比すると、甲第６号証記載の「照明系」、「レチクルホルダ」及び「縮小レンズ」は、本件第１発明の、「露光光源」、「支持枠」及び「縮小レンズ組立体」に相当するから、両者は、「露光光源と、レチクルを保持する支持枠と、縮小レンズ組立体と、ウエハを保持するステージとを備えた縮小投影露光装置において、前記縮小レンズ組立体の出射部及び前記ウエハステージを包む減圧室とを有する縮小投影露光装置。」において一致し、本件第１発明が、「ウエハ搬送Ｘ−Ｙステージ」を有する（以下、本件第１発明の構成１」という。）を有するのに対し、甲第６号証には、「ウエハ搬送Ｘ−Ｙステージ」の記載がないこと（以下、「相違点１」という。）及び「レチクルの支持枠及び前記縮小レンズ組立体の入射部を包む第1の減圧室」を有する（以下、本件第１発明の構成２」という。）を有するのに対し、甲第６号証には、この記載がないこと（以下、「相違点２」という。）において両者は相違する。
　相違点１について検討すると、本件第１発明の構成１の「ウエハ搬送Ｘ−Ｙステージ」については、上記甲第３号証及び甲第４号証に記載されているように周知手段にすぎず、相違点１に格別の意義は認められない。
　相違点２について検討する。
　レチクルの支持枠及び縮小レンズ組立体の入射部を包む室を設け、露光中における大気圧の変動等の影響を抑えることは、甲第４号証及び甲第７号証に示されるように周知手段であり、さらに、露光中における大気圧の変動等の影響を抑えるために当該室を減圧することは、上記甲第６号証に記載された公知手段である。
　上記甲第４号証及び甲第７号証に示されるように周知手段に、上記に甲第６号証記載された公知手段を付加することは当業者が容易になし得たものにすぎないから、「レチクルの支持枠及び前記縮小レンズ組立体の入射部を包む第1の減圧室」を設けることに何ら困難性は認められない。従って、相違点２に格別の意義は認められない。
　そうすると、本件発明１は、依然として、上記刊行物に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものである。
３．４．２　本件発明２と取消理由に引用した引用例との対比
　本件発明２の付加構成である「請求項1記載の縮小投影露光装置において、装置制御に必要な光学検出手段及び光学計測手段をさらに有し、前記光学検出手段及び光学計測手段を前記第1及び第2の減圧室内に収納したこと」について検討すると、光学検出手段及び光学計測手段を第2の減圧室内に収納した構成は、上記甲第６号証に記載された手段にすぎず、この手段を第１の減圧室に設けることに何ら困難性は認められない。そうすると、「光学検出手段及び光学計測手段を第1及び第2の減圧室内に収納した」構成は、当業者が容易になし得たものである。
　さらに、本件発明１と、本件発明２の付加事項との相乗効果は特に認められない。
　そうすると、本件発明２は、依然として、上記刊行物に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものである。
３．４．４　本件発明４と取消理由に引用した引用例との対比
　本件発明４の付加構成である「請求項1記載の縮小投影露光装置において、前記縮小レンズ組立体の外筒部に設けられたレンズ温度調節手段をさらに有し、前記レンズ温度調節手段は前記第1及び第2の減圧室の外側に位置していること」点について検討すると、甲第１〜７号証のいずれにも上記付加事項記載されておらず、また、その構成を示唆する記載もなく、本件発明４は、上記構成により、「減圧室を縮小レンズ組立体の入射側と出射側に2つに分割したので、レンズ温度調節手段等の付属装置を大気中に配置することが可能となり、減圧室内での発塵を少なくし製品の精度及び歩留まりを向上できると共に、装置の小型化が可能となる。また、減圧室が小さいので、排気の効率化が可能となる。」（【発明の効果】の項）効果を有する。　そうすると、本件発明４は、甲第１〜７号証から容易に発明できたものとすることができない。
　従って、本件発明４は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるとすることができない。
４．むすび
　以上のとおりであるから、本件発明１及び２は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本件発明１及び２についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認める。
　また、本件発明４に係る特許については、他に取消理由を発見しない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第１及び２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年７月１４日（２０００．７．１４）