【事件の表示】
　特許第２９１３１４１号「抗菌床タイルの製造方法」の請求項１及び２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９１３１４１号の請求項１及び２に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本件特許第２９１３１４１号発明は、平成６年８月５日に特許出願され、平成１１年４月１６日にその特許の設定登録がなされたものである。
　これに対して、その後特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内の平成１２年６月５日付けで特許異議意見書が提出されたものである。
２．取消理由の概要
　当審が通知した平成１２年３月１６日付け取消理由の概要は、本件請求項１及び２に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１及び２」という）は、引用例１乃至引用例６に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明１及び２に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり取り消されるべきものである、というものである。
３．当審の判断
（１）本件発明
　本件発明１及び２は、特許明細書の特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された事項によりそれぞれ特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】タイル生素地を加圧成形した後、該生素地の表面に抗菌材料と滑り止め用の骨材粒子とを混在してなる釉薬を霧掛けし、その後焼成するようにしたことを特徴とする抗菌床タイルの製造方法。
【請求項２】タイル生素地を加圧成形した後、素焼きし、然る後に該素焼きタイルの表面に下釉を施釉し、更に下釉の上に模様を形成するための模様釉を施釉し、最後に抗菌材料と滑り止め用の骨材粒子とを混在させてなる表面釉を霧掛けし、その後焼成するようにしたことを特徴とする抗菌床タイルの製造方法。」
（２）引用例の記載事項
　取消理由通知において引用した引用例１乃至引用例６には、それぞれ次の事項が記載されている。
引用例１：特開平５−２０１７４７号公報
（イ）「【請求項１】抗菌性金属を担持させたハイドロキシアパタイトを含有してなることを特徴とする釉薬。
【請求項２】請求項１記載の釉薬において、前記抗菌性金属を担持させたハイドロキシアパタイトが、アルミニウムイオン及びフッ素イオンの少なくとも一方を含有していることを特徴とする釉薬。」（第２頁第１欄特許請求の範囲の項）
（ロ）「本発明は、陶磁器およびホーローの表面に施される釉薬に係り、詳しくはバスタブ、容器等のホーロー製品や、タイル、衛生陶器等の陶磁器製品など清潔さを要求される場所の製品に好適に用いられる抗菌防黴性を有した釉薬に関する。」（第２頁第１欄第１０行乃至第１４行）
（ハ）「既成の釉薬に混合できるためあらゆる釉薬に対して抗菌防黴性を付与することができるができるからである。」（第２頁第２欄第４行乃至第６行）
引用例２：「日本防菌防黴学会第１９回年次大会要旨集」日本防菌防黴学会発行、平成４年５月１１日、第６５頁
（イ）「これらの対策の一つとして建築資材としてのタイルに抗菌性をもたせ、これらのタイルを使用すれば無菌化に近い状態も比較的容易に可能と考えられる。」（第６５頁第５行乃至第７行）
（ロ）「ゆう薬は釉薬基剤として唐土・・・を混合し、これに０．５％ＣＭＣ水溶液２ｍｌを加え、これを４枚の調製した素焼にぬりつけた。」（第６５頁第１５行乃至第１７行）
（ハ）「ゆう薬に加用する抗菌性を有する無機化合物はあらかじめ阻止円法で抗菌性を調査した。」（第６５頁第２３行）
引用例３：実願昭６０−５００８５号（実開昭６１−１６６０２５号）のマイクロフィルム
（イ）「１．階段用タイルにおいて、踏面の一部又は全部に金属粒子、鉱物粒子等が窪入分布されてなる粒凸群を有していることを特徴とする階段用滑止めタイル。」（第１頁実用新案登録請求の範囲の項）
（ロ）「本考案は、・・・製造において容易性及びコストの低廉化が得られ、使用において優れた滑止め作用及び清掃のしやすさが得られる新規な階段用滑止めタイル（以下、本案タイルという）を提供することを目的とする。」（第２頁第８行乃至第１３行）
（ハ）「タイル生素地の踏面１ａへ釉薬粒子を吹き付ければ、前記マスク３の開口部３ａに対応する部分面にのみ粒子群２が窪入形成される。・・・そしてこの粒凸群２が窪入されたタイル生素地を焼成する。」（第５頁第５行乃至第１３行）
（ニ）「更に、釉薬、金丸長石、研磨材等の複種類の粒子を適宜に混合して用いるのもよい。」（第６頁第１７行乃至第１９行）
引用例４：実願昭６３−５０８６号（実開平１−１１０２３８号）のマイクロフィルム
「（１）高硬度粒子を均一に混合分散せしめて成る超硬質釉薬中に粗粒状の炭化ケイ素質研削材を混入せしめ、タイル素地表面に施釉焼成せしめたことを特徴とする滑り止めタイル。
（２）超硬質釉薬が、アルミナ、ジルコニア等のセラミックから成る高硬度粒子を通常の釉薬に混合せしめて成ることを特徴とする請求項１記載の滑り止めタイル。
（３）炭化ケイ素質研削材が、炭化ケイ素を主成分として成ることを特徴とする請求項１記載の滑り止めタイル。」（第１頁実用新案登録請求の範囲の項）
引用例５：特開昭５５−４７２８５号公報
「（１）タイル素地の表面に、顔料含有率の大きな水懸濁性の着色釉薬を薄く施し、この上面に透明ないし半透明の水懸濁性の釉薬を全面に比較的厚く施し、焼成工程を経てそれらの釉薬を無吸水非透過層とすることを特徴とするカラータイルの製造方法。
（２）着色釉薬の固形物中の顔料含有率が、５〜５０ｗｔ％である特許請求の範囲第１項に記載のカラータイルの製造方法。
（３）顔料含有率の大きな着色釉薬の施釉方法が噴霧法である特許請求の範囲第１項に記載のカラータイルの製造方法。
（中略）
（７）顔料含有率の大きな着色釉薬をぶち（斑）状に施す特許請求の範囲第１項ないし第６項のいずれかに記載のカラータイルの製造方法。」（第１頁特許請求の範囲の項）
引用例６：特開平４−１１９９８１号公報
（イ）「本発明方法では、まず、衛生陶器類の生素地体１に対して基礎釉薬層２を形成させる。」（第２頁下段右欄第１９行及び第２０行）
（ロ）「次に、上記の如く設けられた基礎釉薬層２に対して粒分散層３を形成させる。・・・該粒分散層３を形成させるための具体的手段は、・・・釉薬をボタボタと滴下させるものである。」（第３頁上段左欄第１５行乃至右欄第２行）
（ハ）「スプレー施釉により、基礎釉薬層２及び粒分散層３の上面からもう一度施釉する。・・・次に、上記三回にわたる施釉を終えた生素地体１を焼成する。」（第３頁上段右欄第１４行乃至下段左欄第２行）
（３）当審の判断
（ｉ）本件発明１について
　引用例３の上記（ハ）には、「階段用滑止めタイルの製造方法」に関し、「タイル生素地の踏面１ａへ釉薬粒子を吹き付ければ、前記マスク３の開口部３ａに対応する部分面にのみ粒子群２が窪入形成される。・・・そしてこの粒凸群２が窪入されたタイル生素地を焼成する。」と記載され、また引用例３の上記（ニ）には、滑り止め用の骨材粒子と釉薬とを混合して用いてもよいと記載されているから、引用例３には、「タイル生素地の表面に滑り止め用の骨材粒子を混在してなる釉薬を吹き付けし、その後焼成するようにしたことを特徴とする階段用滑止めタイルの製造方法。」の発明（以下「引用例発明」という）が記載されていると云える。
　そこで、本件発明１と引用例発明とを対比すると、「タイル生素地」が加圧成形で製造されることや「階段用滑止めタイル」が本件発明１の「床タイル」に相当することは自明の事項であるから、両者は、「タイル生素地を加圧成形した後、該生素地の表面に滑り止め用の骨材粒子を混在してなる釉薬を吹き付けし、その後焼成するようにしたことを特徴とする床タイルの製造方法。」の点で一致し、次の（イ）及び（ロ）の点で相違していると云える。
（イ）本件発明１は抗菌材料を釉薬に混在させた「抗菌床タイルの製造方法」であるのに対し、引用例発明は抗菌材料を釉薬に混在させない「床タイルの製造方法」である点
（ロ）本件発明１は釉薬を「霧掛け」するのに対し、引用例発明は釉薬を「吹き付け」する点
　次に、これら相違点について検討すると、上記（イ）の点は、例えば上記引用例１及び引用例２にみられる如く、タイルに抗菌性を付与する手段として抗菌材料を混在させた釉薬が周知であるから、この周知の釉薬を使用した程度のことである。また、上記（ロ）の点も、例えば上記引用例５にみられる如く、施釉手段として周知・慣用のものである。　
　してみると、本件発明１は、上記引用例３又は引用例４に記載の発明と引用例１及び引用例２にみられる周知事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであると云える。
  そして、本件発明１の効果も当業者であれば容易に予測することができる程度のものである。
　したがって、本件発明１に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから、特許法第１１４条第２項の規定により取り消されるべきものである。
　
（ｉｉ）本件発明２について
　本件発明２は、本件発明１の構成要件に「素焼きし、然る後に該素焼きタイルの表面に下釉を施釉し、更に下釉の上に模様を形成するための模様釉を施釉し、」という構成要件が追加されたものであるが、このような追加された構成要件は、本件明細書に記載された従来技術でも採用されている手段であり、さらには例えば上記引用例５及び引用例６にみられる如く、タイルの製造法における周知・慣用手段でもある。
　してみると、本件発明２も、上記引用例３又は引用例４に記載の発明と引用例１及び引用例２やさらには引用例５及び引用例６にみられる周知事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであると云える。
　そして、本件発明２の効果も当業者であれば容易に予測することができる程度のものである。
　したがって、本件発明２に係る特許も、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから、特許法第１１４条第２項の規定により取り消されるべきものである。
４．むすび
　以上のとおり、本件請求項１及び２に係る発明の特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認める。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年１０月２３日（２０００．１０．２３）