【事件の表示】
　特許第２９１３７２５号「露光装置」の請求項１ないし２０に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９１３７２５号の請求項１ないし９に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本件特許第２９１３７２５号は、平成２年１月３１日に特許出願され、平成１１年４月１６日にその特許の設定登録がなされ、その後、異議申立人キャノン株式会社から特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年６月１６日に訂正請求（後日取下げ）がなされ、再度の取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年９月１３日に訂正請求がなされたものである。
１．１　異議申立ての概要
　異議申立人キャノン株式会社は、甲第１号証（特願平１−１８８２３０号の公開公報である特開平３−５０８１８号公報）、甲第２号証（米国特許第４３３４１９９号明細書）、甲第３号証（特開昭６３−２２７０８２号公報）、甲第４号証（米国特許第４２９５１０３号明細書）、甲第５号証（特開昭５８−７８４８１号公報）、甲第６号証（特開昭６２−２６０１１８号公報）、甲第７号証（特開昭６３−６６５５３号公報）、甲第８号証（特開昭６３−１８７２２９号公報）、甲第９号証（特開昭６０−１６８０２６号公報）、甲第１０号証（特開昭６１−６９１３２号公報）、甲第１１号証（特開昭６２−５２９２９号公報）、甲第１２号証（特開昭６１−２０２４３１号公報）、甲第１３号証（特開昭６１−２６７７２２号公報）、甲第１４号証（特開昭６３−７０４１９号公報）及び甲第１５号証（特開平１−２５９５３３号公報）を提出し、本件請求項１〜２０に係る発明は、甲第２〜１５号証を参照すると、甲第１号証に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであり、本件請求項１〜２０に係る発明の特許を取り消すべき旨主張している。
１．２　異議申立人キャノン株式会社が提出した甲第１〜１５号証の記載内容
１．２．１　甲第１号証の記載内容
　甲第１号証の第１頁左下欄第２０行〜同頁右下欄第２行には、「本発明は露光装置に関するものであり、特にエキシマレーザー等のレーザーを露光用光源として用いる露光装置に関する。」と記載されている。
　甲第１号証第３頁左上欄第１２行〜同頁右上欄第８行には、「第１図（Ａ）、（Ｂ）は本露光装置の一実施例を示す概略図である。第１図（Ａ）において、１は波長（λ）２４８．４ｎｍの直線偏光レーザー光を放射するＫｒＦエキシマレーザー、２は直線偏光レーザー光を円偏光に変換するよう設けた１／４波長板、３は石英（Ｓｉ０２）から成る像回転プリズム（イメージローテーター）、４は照明光学系、５はハ−フミラー（ビームスプリッター）、６は積算露光計、７は露光量制御回路（制御手段）、８は全反射ミラー、９はレチクル、１０は投影レンズ、１１はウエハ、１２は像回転プリズム３を支持する支持部材、１３は支持部材１２を光軸ＡＸを回転軸として回転させるドライバー（駆動手段）、１４はドライバー１３による支持部材１２の回転制御、即ち像回転プリズム３の回転制御を行なうためのコントローラーを示す。」と記載されている。
　また、第１図（Ａ）には、その構成が図示されている。
　甲第１号証第３頁右下欄第７行〜４頁左上欄第１２行には、「第１図（Ｂ）はＫｒＦエキシマレーザー１の構造を示す概略図であり、１０１、１０２はレ一ザー１が放射するレーザー光の波長を選び波長軸を０．００５ｎｍ程度に狭帯域化するための素子であり、１０１は反射型グレーテイング、１０２は２個のプリズムを示す。１０３は一対のウインドウ（窓）、１０４はアパーチャー（絞り）、１０５は一対の放電電極、１０６は出力ミラー、１０７はガスチヤンバーを示し、ガスチヤンバー１０７の中に放電管とＫｒＦガスが格納され、ウインドウ１０３によりガスチヤバー内部を、外部より隔離している。一対の放電電極１０５に電圧を印加すると、これらの電極間でグロー放電が生じ、グレーテイング１０１と出力ミラー１０６の間でレーザー光が発振する。一対のプリズム１０２及びグレーテイング１０１には波長選択性があるから、グレーテイング１０１と出力ミラー１０６の間で発振するレーザー光は中心波長２４８．４ｎｍ、波長幅０．００５ｎｍのレーザー光に特定される。また、一対のプリズム１０２は、各々、それらに入射するレーザー光の入射角がブリユースタ一角と一致するように設けられている。従って、グレーテイング１０１と出力ミラー１０６の間で発振するレーザー光はＰ偏光から成る直線偏光光になる。」と記載されている。　第１図（Ｂ）には、その構成が図示されている。
１．２．２　甲第２号証の記載内容
　甲第２号証の図１には、エキシマレーザーにプリュースタ窓を設けた構成が図示されている。
１．２．３　甲第３号証の記載内容
　甲第３号証第２頁右上欄第６行〜左下欄第２行には、エキシマレーザーにブリュースタ窓を設ける旨記載されており、第１図にその構成が図示されている。
１．２．４　甲第４号証の記載内容
　甲第４号証５欄第２６行〜第２７行には、金属蒸気レーザー（ＭＥＴＡＬ　ＶＡＰＯＲ　ＬＡＳＥＲ）にブリュースタ窓を設ける旨記載されており、第４図にその構成が図示されている。
１．２．５　甲第５号証の記載内容
　甲第５号証２頁左下欄第６行〜第１６行には、金属蒸気レーザーにブリュースタ窓を設ける旨記載されており、第１図にその構成が図示されている。
１．２．６　甲第６号証の記載内容
　甲第６号証第２頁左下欄第９行〜同頁右下欄第２行には、「インテグレータ１１は…これによりレチクル１６上での照明エリアは、強度分布が均一で干渉じまの生じない…光線…により…パターンは…ウエハ１７上に投影される。」と記載されている。
１．２．７　甲第７号証の記載内容
　甲第７号証２頁左上欄第１３行〜同頁右上欄第３行には、「本発明は、…均一照明を行うために、…２次光源形成手段１と、…３次光源形成手段４…とを有する照明光学装置を基本としている。」と記載されている。
１．２．８　甲第８号証の記載内容
　甲第８号証２頁右上欄第５行〜第１９行には、「本発明は、第１Ａ図及び第１Ｂ図に示した実施例の如く、…均一照明を行うために、…集光点群形成手段１と、入射面に複数の集光部材要素１１を…有する照明光学装置を基本としている。」と記載されている。
１．２．９　甲第９号証の記載内容
　甲第９号証２頁右上欄第５行〜第１０行には、「１は光源部で、…光源（たとえば、エキシマレーザ）等で構成されており」と記載され、同号証２頁左下欄第２行〜第５行には、「９は演算部で、基準光量検出器４の出力と、転写面光量検出器８の出力とを入力し、演算を行なって照度分布を出力する機能を持っている。」と記載されている。
１．２．１０　甲第１０号証の記載内容
　甲第１０号証３頁右上欄第１６行〜同頁左下欄第６行には、「演算回路１７は受光素子１５からの光電信号と照度分布測定用の光電素子１６からの光電信号とを入力して、照明光の時間的な強度変化による誤差分を相殺（キャンセル）するようなアナログ演算を行い、その演算結果である調光信号Ａを制御装置１０に出力する。制御装置１０は調光信号Ａを入力して、…投影レンズ６で投影された露光面上の照度分布のデータを…処理して…表示させる。」と記載されている。
１．２．１１　甲第１１号証の記載内容
　甲第１１号証３頁右上欄第１５行〜同頁左下欄第８行には、「第１図では複数個の受光素子５′を配置して同時に照度を測定し、…第５図では１つの受光素子５′でウェハ面２２上を線引して照度を測定する。このときにはランプ１のチラツキの影響による照度のむらも計測してしまうので、計測値からそのような影響を排除するため光束の１部を受光素子２４でモニターし、その結果をコンピュータに送り、ランプ１のチラツキの影響を排除するよう受光素子５′からの信号に基づく照度計算の段階で処理する。」と記載されている。
１．２．１２　甲第１２号証の記載内容
　甲第１２号証２頁左下欄第１９行〜同頁右下欄第３行には、「マスキングブレード４はレチクル１２のパターン面１２ａと共役な位置に設けられている。したがって、マスキングブレード４はレチクル１２の露光したくない部分を遮光することができ、その寸法は可変である。」と記載されており、第１図にその具体的構成が示されている。
１．２．１３　甲第１３号証の記載内容
　甲第１３号証２頁左下欄第１行〜第３行には、「絞り面６はマスク面９の照明範囲を決めるもので結像レンズ７ａ，７ｂでマスク面９に絞り面６は結像する。」と記載されており、第１図にその構成が示されている。
１．２．１４　甲第１４号証の記載内容
　甲第１４号証３頁左上欄第１７行〜同頁右上欄第１行には、「マスキング機構はレンズ８，１０によってレチクル保持部材３０に支持されたレチクル１１に結像される。すなわち、このマスキング機構はレチクル１１と光学的に共役関係にあり、そしてレチクル１１の露光範囲外を遮光する。」と記載されており、第１図にその構成が示されている。
１．２．１５　甲第１５号証の記載内容
　甲第１５号証７頁左上欄第１０行〜第１５行には、「そこで第１図に示した走査ミラー１７を揺動させて、…第５図のように干渉縞の平滑化を行なう。」と記載されている。
２．訂正の適否について
  本件訂正請求は、本件特許第２９１３７２５号の明細書（以下、「特許明細書」という。）を、本件訂正請求書に添付した訂正明細書のとおりに、訂正しようとするものである。
２．１　訂正事項
訂正事項ａ
　特許明細書の請求項１中の「該光源から供給される直線偏光の露光光を円偏光または非偏光の露光光に変換する偏光状態変換手段と」を、「該光源から供給される直線偏光の露光光を非偏光の露光光に変換する偏光状態変換手段と」と訂正する。
訂正事項ｂ
　特許明細書の請求項２中の「前記照度均一化手段より前記光源側の光路中に設けられた波長板もしくは偏光解消板を含む」を、「前記照度均一化手段より前記光源側の光路中に設けられた偏光解消板を含む」と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許明細書の請求項４中の「前記マスクに照射される露光光の偏光状態を変換する偏光状態変換手段と」を、「前記マスクに照射される露光光の偏光状態を直線偏光から非偏光に変換する偏光状態変換手段と」と訂正する。
訂正事項ｄ
　特許明細書の請求項１０中の「前記光源と前記視野絞り部材との間に配置され、前記光源から供給され前記視野絞り部材に導かれる露光光の偏光状態を変換する偏光状態変換手段と、を備えたことを特徴とする露光装置。」を、「前記光源と前記視野絞り部材との間に配置され、前記光源から供給され前記視野絞り部材に導かれる露光光の偏光状態を変換する偏光状態変換手段とを備え、該偏光状態変換手段は前記直線偏光の露光光を非偏光の露光光に変換することを特徴とする露光装置。」と訂正する。
訂正事項ｅ
　特許明細書の請求項１〜２０において、請求項５〜７，１１〜１３，１６〜２０を削除し、以下の項数を繰り上げる。
　また、特許明細書の請求項８中の「請求項４乃至請求項７のいずれか一項」を「請求項４」と訂正し、特許明細書の請求項９中の「請求項４乃至請求項８のいずれか一項」を「請求項４または請求項５」と訂正する。
　また、特許明細書の請求項１４中の「請求項１０乃至請求項１３のいずれか一項」を「請求項７」と訂正し、特許明細書の請求項１５中の「請求項１０乃至請求項１４のいずれか一項」を「請求項７または請求項８」と訂正する。
クレーム対応表
特許時のクレーム　　　訂正後のクレーム
　１　　　　　　　　　　１
　２　　　　　　　　　　２
　３　　　　　　　　　　３
　４　　　　　　　　　　４
　５　　　　　　　　　　削除
　６　　　　　　　　　　削除
　７　　　　　　　　　　削除
　８　　　　　　　　　　５
　９　　　　　　　　　　６
　１０　　　　　　　　　７
　１１　　　　　　　　　削除
　１２　　　　　　　　　削除
　１３　　　　　　　　　削除
　１４　　　　　　　　　８
　１５　　　　　　　　　９
　１６　　　　　　　　　削除
　１７　　　　　　　　　削除
　１８　　　　　　　　　削除
　１９　　　　　　　　　削除
　２０　　　　　　　　　削除
訂正事項ｆ
　特許明細書第４頁第１２行〜第１６行の「直線偏光を円偏光、若しくは非偏光に変換するλ／４板、若しくは偏光解消板９を備え、λ／４板、若しくは偏光解消板９を通過した光でマスク１８を照明することとした。また、λ／４板、若しくは偏光解消板９は」を、「直線偏光を非偏光に変換する偏光解消板９を備え、偏光解消板９を通過した光でマスク１８を照明することとした。また、偏光解消板９は」と訂正する。
訂正事項ｇ
　特許明細書第５頁第６行〜第９行の「さらに、λ／４板、若しくは偏光解消板９を設けることにより、レーザ光源４から出力された直線偏光を円偏光、若しくは非偏光に変換することができ」を、「さらに、偏光解消板９を設けることにより、レーザ光源４から出力された直線偏光を非偏光に変換することができ」と訂正する。
訂正事項ｈ
　特許明細書第１３頁第９行の「直線偏光から円偏光、若しくは非偏光に変換」を、「直線偏光から非偏光に変換」と訂正する。
２．２　訂正後の請求項１〜９
２．２．１　請求項１
「所定のパターンが形成されたマスクを照明するための照明手段と、基板上にパターン像を投影するための投影光学系とを備えた露光装置において、前記照明手段は、経時変化なく直線偏光の露光光を供給するためのブリュースタ窓を備えた光源と、該光源から供給される直線偏光の露光光を非偏光の露光光に変換する偏光状態変換手段と、該偏光状態変換手段により偏光状態の変換が行なわれた露光光を前記マスク上でほぼ均一にする照度均一化手段とを備え、前記偏光状態変換手段および前記照度均一化手段とを通過した露光光で前記マスクを照明することを特徴とする露光装置。」
２．２．２　請求項２
「前記偏光状態変換手段は、前記照度均一化手段より前記光源側の光路中に設けられた偏光解消板を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。」
２．２．３　請求項３
「前記光源は、エキシマもしくは金属蒸気のレーザ光源を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。」
２．２．４　請求項４
「マスクのパターンを投影光学系を介して基板上に転写する露光装置において、
直線偏光の露光光を供給する光源と、
該光源システムと前記マスクとの間に配置され、前記光源システムから供給され前記マスクに照射される露光光の偏光状態を直線偏光から非偏光に変換する偏光状態変換手段と、
前記偏光状態変換手段と前記マスクとの間で前記偏光状態が変換された露光光の一部を取り出して検出する第１光電検出器と、
前記偏光状態の変換が行なわれた露光光を前記投影光学系の像面側で計測する第２光電検出器とを備え、
前記第１光電検出器と前記第２光電検出器との出力に基づいて前記偏光状態が変換された露光光の照度ムラを求めることを特徴とする露光装置。」
２．２．５　請求項５
「前記光源は、経時変化なく直線偏光の露光光を供給するためのブリュースタ窓を有することを特徴とする請求項４に記載の装置。」
２．２．６　請求項６
「前記投影光学系の瞳面とほぼ共役な面に２次光源を生成し、前記マスクを均一な照度分布で照明するための照度分布均一化手段を有し、前記偏光状態変換手段で偏光状態が変換された露光光を前記照度均一化手段に入射されることを特徴とする請求項４または請求項５に記載の装置。」
２．２．７　請求項７
「マスクのパターンを投影光学系を介して基板上に転写する露光装置において、
直線偏光の露光光を供給する光源と、
前記マスクと光学的にほぼ共役に配置された視野絞り部材と、
前記光源と前記視野絞り部材との間に配置され、前記光源から供給され前記視野絞り部材に導かれる露光光の偏光状態を変換する偏光状態変換手段とを備え、該偏光状態変換手段は前記直線偏光の露光光を非偏光の露光光に変換することを特徴とする露光装置。」
２．２．８　請求項８
「前記光源は、経時変化なく直線偏光の露光光を供給するためのブリュースタ窓を有することを特徴する請求項７に記載の装置。」
２．２．９　請求項９
「前記投影光学系の瞳面とほぼ共役な面に２次光源を生成し、前記マスクを均一な照度分布で照明するための照度分布均一化手段を有し、前記偏光状態変換手段で偏光状態が変換された露光光を前記照度均一化手段に入射させることを特徴とする請求項７または請求項８に記載の装置。」
３．　訂正の適否
３．１　目的該当性等について
３．１．１　訂正事項ａ
　上記訂正事項ａは、特許明細書の請求項１の「直線偏光の露光光を円偏光または非偏光の露光光に変換する」を、下位概念である「直線偏光の露光光を非偏光の露光光に変換する」に訂正するものであるから、この訂正は、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　また、上記訂正事項aは、出願当初の明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．２　訂正事項ｂ
　上記訂正事項ｂは、特許明細書の請求項２中の「前記照度均一化手段より前記光源側の光路中に設けられた波長板もしくは偏光解消板を含む」を、下位概念である「前記照度均一化手段より前記光源側の光路中に設けられた偏光解消板を含む」と訂正するものであるから、この訂正は、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　また、上記訂正事項ｂは、出願当初の明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．３　訂正事項ｃ
　上記訂正事項ｃは、特許明細書の請求項４中の「前記マスクに照射される露光光の偏光状態を変換する偏光状態変換手段と」を、下位概念である「前記マスクに照射される露光光の偏光状態を直線偏光から非偏光に変換する偏光状態変換手段と」と訂正するものであるから、この訂正は、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　また、上記訂正事項ｃは、出願当初の明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．４　訂正事項ｄ
　上記訂正事項ｄは、特許明細書の請求項１０中の「前記光源と前記視野絞り部材との間に配置され、前記光源から供給され前記視野絞り部材に導かれる露光光の偏光状態を変換する偏光状態変換手段と、を備えたことを特徴とする露光装置。」を、下位概念である「前記光源と前記視野絞り部材との間に配置され、前記光源から供給され前記視野絞り部材に導かれる露光光の偏光状態を変換する偏光状態変換手段とを備え、該偏光状態変換手段は前記直線偏光の露光光を非偏光の露光光に変換することを特徴とする露光装置。」と訂正するものであるから、この訂正は、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　また、上記訂正事項ｄは、出願当初の明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．５　訂正事項ｅ
　上記訂正事項ｅは、請求項の削除、及びその請求項を削除に伴なう項数の繰り上げであるから、この訂正は、明りょうでない記載の釈明にあたる。
　また、上記訂正事項ｅは、出願当初の明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．６　訂正事項ｆ、ｇ、ｈ
　上記訂正事項ｆ、ｇ、ｈは、特許請求の範囲の訂正に伴い、特許明細書詳細な説明と特許請求の範囲の記載を整合させるものであるから、この訂正は、明りょうでない記載の釈明にあたる。
　また、上記訂正事項ｆ、ｇ、ｈは、出願当初の明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．２　独立特許要件について
　異議申立人キャノン株式会社が提出した甲第１号証には、訂正後の本件請求項１〜３に係る発明の特徴である、「所定のパターンが形成されたマスクを照明するための照明手段と、基板上にパターン像を投影するための投影光学系とを備えた露光装置において、前記照明手段は、経時変化なく直線偏光の露光光を供給するためのブリュースタ窓を備えた光源と、該光源から供給される直線偏光の露光光を非偏光の露光光に変換する偏光状態変換手段」を有する構成（以下、「本件請求項１〜３に係る発明の特徴的構成」という。）、訂正後の本件請求項４〜６に係る発明の特徴である、「マスクのパターンを投影光学系を介して基板上に転写する露光装置において、直線偏光の露光光を供給する光源と、該光源システムと前記マスクとの間に配置され、前記光源システムから供給され前記．マスクに照射される露光光の偏光状態を直線偏光から非偏光に変換する偏光状態変換手段」構成（以下、「本件請求項４〜６に係る発明の特徴的構成」という。）及び訂正後の本件請求項７〜９に係る発明の特徴である、「マスクのパターンを投影光学系を介して基板上に転写する露光装置において、直線偏光の露光光を供給する光源と、前記マスクと光学的にほは共役に配置された視野絞り部材と、前記光源と前記視野絞り部材との間に配置され、前記光源から供給され前記視野絞り部材に導かれる露光光の偏光状態を変換する偏光状態変換手段とを備え、該偏光状態変換手段は前記直線偏光の露光光を非偏光の露光光に変換する」構成（以下、「本件請求項７〜９に係る発明の特徴的構成」という。）が記載又は当該構成の示唆がなく、また、甲第２号証〜１５号証を参照しても、訂正後の本件請求項１〜９に係る発明が、甲第１号証に記載された発明と同一であるとすることができない。
　そうすると、訂正後の本件請求項１〜９に係る発明は、特許法第２９条の２の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものとすることができない。
３．３　訂正の適否の判断
　上記訂正事項ａ〜ｈは、上記３．１及び３．２のとおりであるから、平成６年法律第１１６号附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、同条第２項及び同条第３項の規定に適合する。
　従って、当該請求を認める。
４．特許異議申立てについての判断
４．１　本件請求項１〜９に係る発明
　上記２．２．１〜２．２．９に記載のとおり。
４．２　異議申立ての理由の概要
　上記１．１に記載のとおり。
４．２．１　本件請求項１〜９に係る発明と甲各号証との対比、判断
　独立特許要件を判断した上記３．２のとおりであるから、本件請求項１〜９に係る発明は、上記甲第１号証に記載された発明と同一であるとすることができない。
５．むすび
 したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１〜９係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜９係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　従って、本件請求項１〜９係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年９月１８日（２０００．９．１８）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　訂正事項ａ、ｂ、ｃ、ｄは特許請求の範囲の減縮を目的とし、訂正事項ｅ，ｆ，ｇ，ｈは明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
訂正事項ａ
　特許明細書の請求項１中の「該光源から供給される直線偏光の露光光を円偏光または非偏光の露光光に変換する偏光状態変換手段と」を、「該光源から供給される直線偏光の露光光を非偏光の露光光に変換する偏光状態変換手段と」と訂正する。
訂正事項ｂ
　特許明細書の請求項２中の「前記照度均一化手段より前記光源側の光路中に設けられた波長板もしくは偏光解消板を含む」を、「前記照度均一化手段より前記光源側の光路中に設けられた偏光解消板を含む」と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許明細書の請求項４中の「前記マスクに照射される露光光の偏光状態を変換する偏光状態変換手段と」を、「前記マスクに照射される露光光の偏光状態を直線偏光から非偏光に変換する偏光状態変換手段と」と訂正する。
訂正事項ｄ
　特許明細書の請求項１０中の「前記光源と前記視野絞り部材との間に配置され、前記光源から供給され前記視野絞り部材に導かれる露光光の偏光状態を変換する偏光状態変換手段と、を備えたことを特徴とする露光装置。」を、「前記光源と前記視野絞り部材との間に配置され、前記光源から供給され前記視野絞り部材に導かれる露光光の偏光状態を変換する偏光状態変換手段とを備え、該偏光状態変換手段は前記直線偏光の露光光を非偏光の露光光に変換することを特徴とする露光装置。」と訂正する。
訂正事項ｅ
　特許明細書の請求項１〜２０において、請求項５〜７，１１〜１３，１６〜２０を削除し、以下項数の繰り上げる。
　また、特許明細書の請求項８中の「請求項４乃至請求項７のいずれか一項」を「請求項４」と訂正し、特許明細書の請求項９中の「請求項４乃至請求項８のいずれか一項」を「請求項４または請求項５」と訂正する。
　また、特許明細書の請求項１４中の「請求項１０乃至請求項１３のいずれか一項」を「請求項７」と訂正し、特許明細書の請求項１５中の「請求項１０乃至請求項１４のいずれか一項」を「請求項７または請求項８」と訂正する。
訂正事項ｆ
　特許明細書第４頁第１２行〜第１６行の「直線偏光を円偏光、若しくは非偏光に変換するλ／４板、若しくは偏光解消板９を備え、入偽板、若しくは偏光解消板９を通過した光でマスク１８を照明することとした。また、λ／４板、若しくは偏光解消板９は」を、「直線偏光を非偏光に変換する偏光解消板９を備え、偏光解消板９を通過した光でマスク１８を照明することとした。また、偏光解消板９は」と訂正する。
訂正事項ｇ
　特許明細書第５頁第６行〜第９行の「さらに、λ／４板、若しくは偏光解消板９を設けることにより、レーザ光源４から出力された直線偏光を円偏光、若しくは非偏光に変換することができ」を、「さらに、偏光解消板９を設けることにより、レーザ光源４から出力された直線偏光を非偏光に変換することができ」と訂正する。
訂正事項ｈ
　特許明細書第１３頁第９行の「直線偏光から円偏光、若しくは非偏光に変換」を、「直線偏光から非偏光に変換」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
露光装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】所定のパターンが形成されたマスクを照明するための照明手段と、基板上にパターン像を投影するための投影光学系とを備えた露光装置において、前記照明手段は、経時変化なく直線偏光の露光光を供給するためのブリュースタ窓を備えた光源と、該光源から供給される
直線偏光の露光光を非偏光の露光光に変換する
　【請求項２】前記偏光状態変換手段は、前記照度均一化手段より前記光源側の光路中に設けられた偏光解消板を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
　【請求項３】前記光源は、エキシマもしくは金属蒸気のレーザ光源を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
　【請求項４】マスクのパターンを投影光学系を介して基板上に転写する露光装置において、
直線偏光の露光光を供給する光源と、
該光源システムと前記マスクとの間に配置され、前記光源システムから供給され前記マスクに照射される露光光の偏光状態を
直線偏光から非偏光に
前記偏光状態変換手段と前記マスクとの間で前記偏光状態が変換された露光光の一部を取り出して検出する第１光電検出器と、
前記偏光状態の変換が行なわれた露光光を前記投影光学系の像面側で計測する第２光電検出器とを備え、
前記第１光電検出器と前記第２光電検出器との出力に基づいて前記偏光状態が変換された露光光の照度ムラを求めることを特徴とする露光装置。
　【請求項
５
請求項４
　【請求項
６
請求項４または請求項５
　【請求項
７
直線偏光の露光光を供給する光源と、
前記マスクと光学的にほぼ共役に配置された視野絞り部材と、
前記光源と前記視野絞り部材との間に配置され、前記光源から供給され前記視野絞り部材に導かれる露光光の偏光状態を変換する偏光状態変換手段と
を備え、該偏光状態変換手段は前記直線偏光の露光光を非偏光の露光光に変換する
　【請求項
８
請求項７
　【請求項
９
請求項７または請求項８
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
　本発明は、半導体露光装置に関するものである。
〔従来の技術〕
　近年、半導体デバイスは微細化の一途を辿り、回路パターンの最小線幅がサブミクロンの領域に達しようとしている。このため、縮小投影型の露光装置においては開口数の大きな投影レンズを開発するなどしてきたが、半導体デバイスの微細化をより一層進めるためには、露光光の波長を更に短波長化する必要がある。そこで、現在多用されている水銀ランプのｇ線（４３６ｎｍ）及びｉ線（３６５ｎｍ）の照明光は今後、更に単波長の光が得られるエキシマレーザ光に代わるものと有望視されている。このエキシマレーザ光源は発振媒体のガスうを変えることにより異なる波長のレーザ光を発振することができるが、安定した高い出力が得られる媒体は、塩化キセノン（ＸｅＣＩ）（３０８ｎｍ），フッ化クリプトン（ＫｒＦ）（２４８ｎｍ）及びフッ化アルゴン（ＡｒＦ）（１９３ｎｍ）であり、このうち、波長の短いフッ化クリプトン及びフッ化アルゴンが有利である。
〔発明が解決しようとする課題〕
　しかしながら、エキシマレーザの偏光状態には時間変化があることが開発を重ねていく途中で発見された。露光装置の照明系には反射鏡も用いられており、偏光状態が変化するということは反射率の変化、即ちレーザー光源の偏光状態の変化に対した光量の変化をもたらすことになる。このことは、レーザ光の一部をモニターしてレーザ光の出力を一定に制御しようとする際、及びウエハ上での露光両をレーザ光の出力を制御することで制御しようとする場合にレーザ光の出力と露光量との対応付けがいい加減なものになることを意味する。
　また、直線偏光の光束でマスクを照明して感光基板を露光すると、偏光方向（Ｐ偏光とＳ偏光）によって感光剤表面の反射率に差が生じ、投影されるパターンの線幅が違ってくる。
　本発明は、これらの課題を解決するためになされたものである。
〔課題を解決する為の手段〕
　上記課題の解決の為に本発明では、所定のパターンが形成されたマスク１８を照明する光源４と、光源４からの光をマスク１８上でほぼ均一にするフライ・アイ・レンズ１２とを備え、パターンをウェハ２０に露光する露光装置において、光源４は直線偏光を出力するためのブリュースタ窓３，５を備えたエキシマ、若しくは金属蒸気のレーザ光源を含み、エキシマ、若しくは金属蒸気のレーザ光源４からの直線偏光を非偏光に変換する偏光解消板９を備え、偏光解消板９を通過した光でマスク１８を照明することとした。
　また、偏光解消板９は、フライ・アイ・レンズ１２より光源４側の光路中に設けることとする。
〔作　用〕
　本発明によれば、エキシマ、若しくは金属蒸気のレーザ光源４にブリュースタ窓３，５を設けることにより、経時変化なく直線偏光を出力することができ、半透過鏡１０及び反射鏡１１，１６を露光装置の光路中に設けても反射率が常に一定になる。
　さらに、偏光解消板９を設けることにより、レーザ光源４から出力された直線偏光を非偏光に変換することができ、感光剤の屈折率の影響を受けることがない。
〔実　施　例〕
　第１図は、本発明の実施例による露光装置の構成を示す図である。ＫｒＦエキシマレーザ光源４の自然発振の帯域幅は３００ｐｍであり、これを３ｐｍに狭帯化するためにエタロン２を設ける。尚、ここではエタロン２のみを示したが、グレーティング・プリズムで狭帯化することも可能である。その場合、偏光状態の変化が起こりやすいので特に有効である。また、部材３，５はブリュースタ窓であり、特定の角度の偏光に対してほぼ無反射となるのでこの偏光成分の光のみが反射鏡１及び半透過鏡６によって増幅される。その結果としてほぼ直線偏光のレーザビームが半透過鏡６を通過し、レーザ光源４は直線偏光を出力することになる。
　レーザ光源４からのビームは、シリンドリカル・レンズ及びビームエキシパンダ等のレンズ系７，８によって所望の断面形状の平行光束に整形され、λ／４板９によって直線偏光から円偏光に変換される。
　ここで、レーザビームの一部は半透過鏡１０によって分岐され集光レンズ２３を介して光電変換素子２４上に集光する。光電変換素子２４は、エキシマレーザ光源４の出力（パルス発光のピーク）に比例した電圧を発生する。光電変換素子２４の出力電圧はエキシマレーザ光源４の電源２５へ入力し、電源２５は光電変換素子２４の出力電圧が予め定められた値になるようにレーザチャンバ内の放電電極の印加電圧を制御する。
　一方、λ／４板９で円偏光に変換され、半透過鏡１０を透過したレーザビームは、反射鏡１１で反射され、フライ・アイ・レンズ１２に入射する。フライ・アイ・レンズ１２の各エレメントレンズからのレーザ光はコンデンサレンズとしてのレンズ系１３を介して照明視野絞りとしてのレチクル・ブラインド１４上で一様な強度分布に重畳される。ブラインド１４を通ったビームはレンズ系１５を介して反射鏡１６で反射され、コンデンサレンズ１７を介してレチクル１８を均一な照度分布で、照射し、レチクルパターンが両側、又は片側テレセントリックな投影レンズ１９によってウエハ２０上に投影、露光される。以上の構成において、フライ・アイ・レンズ１２の射出面（２次光源）と投影レンズ１９の瞳（入射瞳）面Ｅｐとは共役であり、さらに、レチクル・ブラインド１２はレンズ系１５，コンデンサレンズ１７によってレチクル１８と共役になっている。
　ところで、露光装置の重要なスペックの一つとしてウェハ２０上の照度ムラがある。照度ムラの測定を第２図に基づいて説明する。ウェハステージ２１上に受光素子２２を設け、受光素子２２が露光領域全域をスキャンするようにウェハステージ２１を移動し、干渉計２７で位置座標を読み取る。同時に一定の出力（一定の放電電圧）でエキシマレーザ光源４を発振させるようにして、受光素子２２の出力Ｐ１を出力するとともに、光電検出素子２４でエキシマレーザ光源４の出力０をも検出する。出力Ｐ１，Ｐ０は夫々ピークホールド回路２８，２９においてピーク値をホールドされ、割算器３０に入力される。割算器３０では、Ｐ１／Ｐ０を演算し、その結果を干渉計２７で求めた一座標に対応させてメモリ３１で記憶し、表示部３２に表示する。
　また、パターンをウェハ２０上に露光中は露光量を直接計測することはできないので、光電変換素子２４の出力Ｐ０を利用して計測することにする。光電変換素子２４の出力Ｐ０と受光素子２２の出力Ｐ１とは、その比Ｐ１／Ｐ０が予め決められており、所定の露光量におけるＰ０の値もそれにより決定される。よって、第１図において、露光の際は光電変換素子２４の出力Ｐ０のみを計測し、制御部２６でＰ０が所定の値になるようにレーザ電源２５を制御することで露光量を制御する。ただし、ウェハ２０上の１ショットにつき複数のパルスで露光するときは、そのパルス毎に出力Ｐ０を積分することで１ショットあたりの総露光量を一定のものにする。
　尚、以上の構成において、λ／４板９を半透過鏡１０と反射鏡１１の間に、若しくは反射鏡１１とフライ・アイ・レンズ１２の間に設けても同様の効果が得られる。但し、フライ・アイ・レンズ１２の複数の２次光源がレンズ計１３でレチクル・ブラインド１４上に重畳される際に生じる不要な干渉縞を低減するために、レーザ光の各パルス毎に反射鏡１１を微小角度ずつ回転させてレーザ光の複数パルスでｎ／２周期振動させるようにして露光する構成にした場合は、反射鏡１１とフライ・アイ・レンズ１２の間にλ／４板９を設けることはできない。又、これらの場合、半透過鏡１０に照射されるレーザ光は直線偏光のままである。また、λ／４板９を結晶状水晶等でできた偏光解消板に代えても同様の効果が得られるが、この場合は、偏光解消板を通過したレーザ光は演偏光ではなく非偏光である。
　その他、光源４としては、エキシマレーザの代わりに銅蒸気レーザ等の金属蒸気レーザ、若しくはその高調波を使用した場合にも同様の効果が得られる。
　次に、本発明の実施例による変形例を第３図及び第４図に基づいて説明する。
　第３図は、第１図による構成において、レンズ系７，８で整形されたレーザ光を偏光子３３に照射する。この偏光子３３は、レーザ光の光軸に対して偏光子３３の入射面が垂直に且つ回転可能に配置されている。これにより、偏光面と偏光子３３の偏光面の向きとの角度をθとすると、偏光子を通過したレーザ光の光量透過率は、ｃｏｓθで表せ、又、偏光子を回転させることにより連続的に変化させることができる。
　偏光子３３で光量を制御された直線偏光のレーザ光は、λ／４板９に照射されて円偏光に変換される。この場合、偏光子３３によって偏光面の方向が変化しているので、偏光面の方向に合わせてλ／４板も回転する必要がある。
　また、第４図は、第１図による構成において、レンズ系７，８で整形されたレーザ光をレーザ光の光軸に対して回転可能に配置されたλ／２板３４に照射する。このλ／２板３４を回転されることにより、レーザ光の光量を変化させず偏光面を回転させることができる。又、レーザ光の偏光面とλ／２板３４の光学軸との角度をθとすると、λ／２板３４を通過したレーザ光の偏光面の回転角度は２θで表せる。
　さて、λ／２板３４を通過した直線偏光は、固定された偏光子３３に照射され、ここで光量が制御される。つまり、λ／２板３４によって２θだけ回転した偏光面が偏光子３３を通過する際に、レーザ光の光量はｃｏｓ２θで表せる透過率で通過する。又、λ／２板３４を回転させることにより、レーザ光の透過光量は連続的に変化する。
　偏光子３３を通過した直線偏光のレーザ光は、λ／４板９で円偏光に変換される。この場合、λ／２板３４を回転させることにより偏光面が回転されても、偏光子３３を通過することにより偏光子３３の偏光面の向きにレーザ光の偏光面が特定されるので、λ／４板９を回転させる必要はない。
　以上、第３図及び第４図に示された構成を採れば、偏光子、若しくは偏光子とλ／２板を用いて露光量の制御をすることができる他、半透過鏡１０，反射鏡１１に照射されるレーザ光は円偏光になるのでウェハ上でのパターンの解像には影響はない。又、以上の構成の内、λ／４板９は偏光解消板と置き換えても同様の効果が得られるが、偏光解消板の場合は設定を適当なものにすれば第３図の構成でもλ／４板のように回転させる必要はない。
　以上、本実施例では投影光学系を用いたが、投影光学系を使用しないプロキシミティ方式等の露光装置にも応用できることは言うまでもない。
〔発明の効果〕
　以上の様に本発明によれば、エキシマレーザ光源、若しくは金属蒸気レーザ光源にブリュースタ窓を設けたので、偏光状態の時間変化が解消され露光装置の光路中に反射鏡を設けても常に一定の反射率、即ちレーザ光源の数路に応じた一定の光量を得ることができる。このため、照度ムラの計測、露光量の制御が正確に行えるといった効果が得られる。
　また、直線偏光から非偏光に変換したレーザ光を露光光に用いることにより、ウェハ上の感光剤表面の反射率の影響を受けることなく鮮明な解像が得られる。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明の実施例による露光装置の構成を示す図、第２図は、本発明の実施例による露光装置の照度ムラの測定を表すブロック図、第３図及び第４図は、本発明の実施例による露光装置の構成の変形例を示す図である。
〔主要部分の符号の説明〕
１……反射鏡、２……エタロン、３，５……ブリュースタ窓、４……レーザ光源、６，１０……半透過鏡、９………λ／４板、若しくは偏光解消板、２２……受光素子、２４……光電変換素子、２５……レーザ電源、３３……偏光子、３４……λ／２板。