【事件の表示】
　特許第３０３６５３５号「高周波加熱装置」の請求項１、２、６ないし８に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０３６５３５号の請求項１、２、６ないし８に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３０３６５３５号の請求項１〜８に係る発明についての出願は、平成１１年２月２２日に特許出願され、平成１２年２月２５日にその発明について特許の設定登録がなされ、その後、その特許について、特許異議申立人株式会社東芝より特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年４月１６日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は以下のａ〜ｅのとおりである。
　ａ．特許明細書中の「【請求項１】……制御手段とを備えた高周波加熱装置。」を、
「【請求項１】被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　
　ｂ．特許明細書中の「【請求項２】……検出手段とを備えた高周波加熱装置。」を、
「【請求項２】被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　
　ｃ．特許明細書の発明の詳細な説明の段落【０００８】（特許第３０３６５３５号公報第２頁第４欄第１０行〜同第２０行）の「上記の課題を〜ものである。」を、
「上記の課題を解決するために本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　
　ｄ．特許明細書の発明の詳細な説明の段落【００１１】（特許第３０３６５３５号公報第２頁第４欄第２７行〜同第３７行）の「請求項１記載の発明は、〜備えるものである。」を、
「請求項１記載の発明は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　
　ｅ．特許明細書の発明の詳細な説明の段落【００１３】（特許第３０３６５３５号公報第２頁第４欄第４３行〜同第３頁第５欄第４行）の「請求項２記載の発明は〜備えるものである。」を、
「請求項２記載の発明は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部ないに設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａ、ｂは、「インピーダンス可変手段を回転駆動する駆動手段」をより下位概念である「加熱室壁面との傾斜角度が変化するように前記インピーダンス可変手段を回転駆動する駆動手段」に限定するものであって、特許請求の範囲の減縮を目的としたものである。
　また、上記訂正事項ｃ〜ｅは上記訂正事項ａ、ｂの訂正に伴って明瞭でなくなった明細書の発明の詳細な説明の欄を明瞭にした訂正であって、明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。
　当該訂正に係わる「加熱室壁面との傾斜角度が変化するように」については、特許明細書の発明の詳細な説明の段落【００３７】（特許第３０３６５３５号公報の第４頁第７欄第８行〜同第１１行）の「本実施例において、回転板２０ａの回転角度の表現方法は、回転板２０ａの上半分が加熱室側に傾斜していく方向に回転させたときの、加熱室壁面と回転板２０ａの上半分の間の角度とした。」に記載されていたものであるから、上記訂正事項ａ〜ｅは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
（３）独立特許要件について
　特許異議申立がされていない本件請求項３〜５に係る発明は、請求項１及び請求項２に係る発明を引用しているところ、請求項３〜５に係る発明は、請求項１及び請求項２に係る発明についての３．（４）対比・判断において後述する理由により、特許出願の際独立して特許を受けることができるものと認められる。
　
（４）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する特許法１２６条第２項から第４項までの規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立についての判断
（１）本件発明
　本件の請求項１、２、６〜８に係る発明は上記２．で認定したとおり平成１３年４月１６日付けで提出された訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１、２、６〜８に記載されたとおりの次のものである。
　
「【請求項１】　被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように前記インピーダンス可変手段を回転駆動する駆動手段と、前記被加熱物の加熱情報に基づいて前記高周波発生手段と前記駆動手段の少なくとも一方を制御する制御手段とを備えた高周波加熱装置。
　【請求項２】 被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように前記インピーダンス可変手段を回転駆動する駆動手段と、前記被加熱物の加熱情報に基づいて前記高周波発生手段と前記駆動手段の少なくとも一方を制御する制御手段と、前記インピーダンス可変手段の回転角度を判定する検出手段とを備えた高周波加熱装置。
　【請求項６】 前記制御手段への加熱情報は、被加熱物の加熱方法として選択入力される加熱情報とした請求項１または２記載の高周波加熱装置。
　【請求項７】 前記制御手段への加熱情報は、被加熱物の加熱前に被加熱物から得られる物理情報とした請求項１または２記載の高周波加熱装置。
　【請求項８】 前記制御手段への加熱情報は、被加熱物を加熱中に高周波加熱装置または被加熱物から得られる物理情報とした請求項１または２記載の高周波加熱装置。」
　
（２）申立の理由の概要
　特許異議申立人株式会社東芝は、証拠として、
甲第１号証（特開平８−３３００６６号公報）を提出し、
本件請求項１、２、６〜８に係る発明は、上記甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により取り消すべきものである旨主張している。   
　
（３）特許異議申立人が提出した甲第１号証記載の発明
　特許異議申立人が提出した甲第１号証には、
「マイクロ波を加熱室に放射し、該加熱室に収容した被調理物を加熱調理する電子レンジにおいて、前記加熱室の壁面に、前記マイクロ波で当該壁面に誘導される電流の方向を可変にすることにより所要の励振モードを選択して前記被調理物を加熱させる励振モード切換え手段を設けてなることを特徴とする電子レンジ。」（第２頁第１欄２〜７行）、
　
「電子レンジは、加熱室１の前面に扉２が開閉自在に設けられ、前面右側に操作部３が設けられている。操作部３の部分には調理の内容等を選択するための入力スイッチ（後述）等を含む操作パネル４と調理をスタートするためのスタートスイッチ５が設けられている。調理の際には後述するマグネトロンで発振したマイクロ波が図示省略の導波管を介して加熱室１に伝搬され、マイクロ波が加熱室１内に放射されて被調理物が加熱調理されるようになっている。加熱室１の底部には被調理物を載置するためのターンテーブル６が設けられ、加熱室１の後部側の壁面には、加熱調理の際に所要の励振モードを選択するための励振モード切換え手段としての励振モード切換え器７が配設されている。」（第３頁第４欄１０〜２２行）、
　
「加熱室１の後部側壁面１ａの一部が円筒状に約（１／４）・λ（λは遮断波長）の深さに凹んで励振モード切換え器キャビティ９が形成されている。そしてこの励振モード切換え器キャビティ９内に、円板１０が回動可能に配設されている。」（第３頁第４欄３２〜３６行）、
　
「【００２５】円板１０の中心にはシャフト１４がビス１５によって止められ、励振モード切換え器キャビティ９の中心部に圧入された軸受け１６にそのシャフト１４が回転可能に挿入されている。シャフト１４の他端には歯車１８がビス１７によって取り付けられ、その歯車１８が、駆動モータ２０の出力軸に固定された歯車１９に噛み合わされている。また歯車１８には円板１０の回動初期位置を決定するため位置決め板２１がスポット溶接され、この位置決め板２１に対して壁面１ａの背面側に取り付けられた取り付け板２３にフォトインタラプタ２２が固定されてその位置決め板２１を検出するようになっている。この位置決め板２１及びフォトインタラプタ２２により励振モード切換え器７の切換え初期位置を検出するための位置検出手段が構成されている。
【００２６】図５は、励振モード切換え器７の制御系をブロックで示している。マイクロコンピュータシステムを用いた制御回路２５の制御信号が駆動回路２４を介して駆動モータ２０に与えられている。制御回路２５にはフォトインタラプタ２２からの出力、入力スイッチ２８からの操作信号及び調理センサ２９からのセンサ信号が入力されている。また制御回路２５の制御信号はマグネトロン２７を駆動するための昇圧回路２６にも与えられている。」（第４頁第５欄１４〜３６行）、及び、
　
「【００３４】次いで、本実施例の励振モード切換え器７の作用の説明に戻る。図３、図４において、加熱室１内の複数の励振モードの内、Ａ方向に電界が立つときの励振モードの場合、円板１０の上に電流Ｂが流れる。この電流は円板１０内にマイクロ波が入るのを防ぐこととなる。即ち、共振器としての電気的な加熱室の大きさは円板１０のＣ面とこれと対向する扉２となる。次に、円板１０を９０度回転させた図７、図８の場合について、上記と同じ励振モードについて説明を行う。Ａ方向に電界が立つ励振モードの場合円板１０上には電流は流れない。開口１１ａ〜１１ｄは導波管の遮断波長λ／２以上の長さとなっている。そのためマイクロ波は開口１１ａ〜１１ｄを通り、励振モード切換え器キャビティ９の後部壁Ｄまで達する。そしてＤ面にＥ方向の電流が流れることにより、マイクロ波はこのＤ面で反射する。即ち、このときの電気的な加熱室の大きさは、Ｄ面とこれに対向する扉２となり、この大きさで共振する。そしてこの大きさで共振状態を維持できる励振モードが定在波となって加熱室１内に存在することになる。このように長孔状の開口１１ａ〜１１ｄの回動角度を切換えることによって加熱室１の電気的な大きさが可変されるので、加熱室１内にそれぞれの電気的な大きさに共振する励振モードを選択的に存在させることが可能となる。
【００３５】図９は、励振モード切換え器７の切換え角度をθ1 からθ8 まで適宜角度量づつ切換えたときのターンテーブル６上で中心からｄ1 ，ｄ2 離れた点の平均温度、即ち平均温度分布特性を示したものである。このように切換え角度を可変することで温度分布特性が変わることから、調理品目に適合した加熱分布を容易に得ることができる。
【００３６】次に、図１０のフローチャートを用いて、制御回路２５の制御による加熱調理動作を説明する。電子レンジに電源を入れたタイミングあるいはスタートスイッチ５をオン操作したタイミングでまず駆動モータ２０を始動させ、１回転する時間（同期モータ使用の場合）又は所定ステップ数回転させる間（ステッピングモータ使用の場合）のフォトインタラプタ２２からの出力を読み込んで励振モード切換え器７の初期位置を検出する（ステップ１００〜１０２）。また入力スイッチ２８の操作等によるメニュー（調理品目）を読み込み（ステップ１０３）、そのメニューに対応した励振モード切換え器７の切換え位置を読み込む（ステップ１０４）。そして、この切換え位置に応じて駆動モータ２０を所定時間等だけ回転させて停止させ（ステップ１０５〜１０６）、励振モード切換え器７を所定の切換え位置に設定する。マグネトロン２７を駆動して加熱調理を開始すると（ステップ１０８）、加熱室１内に上記メニューに適応した励振モードが選択的に得られて加熱むらの少ない加熱調理が実現される。所要時間の加熱後、調理を終了する（ステップ１０９）。なお調理メニューによっては、例えば解凍調理等では解凍初期とその後では被調理物の状態が変わるので加熱調理の間、適宜のタイミングで励振モード切換え器７の切換え位置を変える場合もある。
【００３７】また、調理に関して調理メニュー以外の要素を考慮して励振モード切換え器７の切換え位置を決定してもよい。具体的には、例えば調理品の重量を検出する重量センサ、調理品から発生するガスを検出するガスセンサおよび調理品の形状を検出する形状センサを設け、図１１に示すように、これらのセンサからの検出情報を踏まえて励振モード切換え器７の切換え位置を決めるのである（ステップ１０３，１０３ａ，１０４）。これにより、より的確な調理の実現に寄与することができる。なお、この場合にも、加熱調理中に前記センサからの検出情報を踏まえて適宜のタイミングで励振モード切換え器７の切換え位置を変えてもよい。」（第５頁第７欄１５行〜同頁第８欄３０行）ことが図面とともに記載されている。
　
（４）対比・判断
〈請求項１に係る発明について〉
　本件請求項１に係る発明（以下「請求項１、２、６〜８に係る発明」をそれぞれ「本件発明１、２、６〜８」という。）と甲第１号証に記載された発明とを対比すると、甲第１号証に記載された「マグネトロン２７」、「制御回路２５」、「電子レンジ」はそれぞれ本件発明の「高周波発生手段」、「制御手段」、「高周波加熱装置」に相当し、また、甲第１号証に記載の「導波管」は加熱室壁面に本件発明の「給電口」に相当する部分を当然に備えており、さらに甲第１号証に記載の「円板１０」は本件発明１のインピーダンス可変手段と同様に、加熱室内のマイクロ波分布を変化させる機能を有するものであり、また、甲第１号証に記載された発明は、入力スイッチ２８の操作により、制御回路２５を介してマグネトロン２７、駆動モータ２０を作動させて、本件発明１と同様に被加熱物の加熱情報に基づいてマグネトロン２７と駆動モータ２０の少なくとも一方を制御回路２５により制御しているから（図５参照）、甲第１号証には、「被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、マイクロ波分布の可変手段と、前記マイクロ波分布の可変手段を回転駆動する駆動手段と、前記被加熱物の加熱情報に基づいて前記高周波発生手段と前記駆動手段の少なくとも一方を制御する制御手段とを備えた高周波加熱装置」について記載されているものの、
マイクロ波分布の可変手段として、甲第１号証に記載の発明では、加熱室壁面に設けたキャビティ内に所定の形状の長孔状開口を有する円板を回動可能に設け、マイクロ波で壁面に誘導される電流の方向を可変することにより所要の励振モードを選択して加熱室内のマイクロ波分布を変更する手段が記載されており、本件発明１の、「前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように前記インピーダンス可変手段を回転駆動する駆動手段」を備える点については記載されておらず、かかる事項を示唆する記載もない。
　そして、本件発明１は、かかる事項を構成要件としたことにより、本件明細書に記載された、開孔部のインピーダンスを可変して、開孔部を有する壁面の高周波電流の流れを変化させることによって、加熱室内のマイクロ波分布を変化させることができ、被加熱物の加熱むらをなくすことができるという作用効果を奏するものである。
　よって、本件発明１は、特許異議申立人が提出した甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
　
〈請求項２、６〜８に係る発明について〉
  本件発明２は、本件発明１の構成に「前記インピーダンス可変手段の回転角度を判定する検出手段」を付加したものであり、また、本件発明６〜８は、本件発明１または２の構成をさらに限定したものであるから、上記〈請求項１に係る発明について〉で述べたのと同じ理由により、異議申立人の主張は採用できない。
　
（５）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠によっては、本件請求項１、２、６〜８に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１、２、６〜８に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年５月８日（２００１．５．８）
【訂正の要旨】
　訂正事項（訂正の要旨）
　特許権者が求めている訂正の内容は以下のａ〜ｅのとおりである。
　ａ．特許明細書中の「【請求項１】……制御手段とを備えた高周波加熱装置。」を、
「【請求項１】被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　ｂ．特許明細書中の「【請求項２】……検出手段とを備えた高周波加熱装置。」を、
「【請求項２】被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　ｃ．特許明細書の発明の詳細な説明の段落【０００８】（特許第３０３６５３５号公報第２頁第４欄第１０行〜同第２０行）の「上記の課題を〜ものである。」を、
「上記の課題を解決するために本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　ｄ．特許明細書の発明の詳細な説明の段落【００１１】（特許第３０３６５３５号公報第２頁第４欄第２７行〜同第３７行）の請求項１記載の発明は、〜備えるものである。」を、
「請求項１記載の発明は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　ｅ．特許明細書の発明の詳細な説明の段落【００１３】（特許第３０３６５３５号公報第２頁第４欄第４３行〜同第３頁第５欄第４行）の「請求項２記載の発明は〜備えるものである。」を、
「請求項２記載の発明は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部ないに設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
（５４）【発明の名称】
高周波加熱装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　【請求項２】　被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　【請求項３】　前記制御手段は、前記駆動手段の回転速度を制御することを特徴とした請求項１または２記載の高周波加熱装置。
　【請求項４】　前記制御手段は、前記駆動手段の回転方向を制御することを特徴とした請求項１または２記載の高周波加熱装置。
　【請求項５】　前記制御手段は、前記駆動手段の回転速度に応じて前記高周波発生手段の出力を可変制御することを特徴とした請求項１または２記載の高周波加熱装置。
　【請求項６】　前記制御手段への加熱情報は、被加熱物の加熱方法として選択入力される加熱情報とした請求項１または２記載の高周波加熱装置。
　【請求項７】　前記制御手段への加熱情報は、被加熱物の加熱前に被加熱物から得られる物理情報とした請求項１または２記載の高周波加熱装置。
　【請求項８】　前記制御手段への加熱情報は、被加熱物を加熱中に高周波加熱装置または被加熱物から得られる物理情報とした請求項１または２記載の高周波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、食品等の被加熱物を加熱する高周波加熱装置に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来の高周波加熱装置を図を用いて説明する。図１４は高周波加熱装置の概略構成図である。１は高周波加熱装置本体、２はマイクロ波を発生するマグネトロン（高周波発生手段）、３はマグネトロンから発生したマイクロ波を導く導波管、４は食品等被加熱物を収容する加熱室、５は被加熱物を載置するターンテーブル、６はターンテーブルを回転させるモータ、７はマグネトロン２とモータ６を制御する制御手段である。
　【０００３】
　加熱する場合は、ターンテーブルに食品等の被加熱物を載置し、被加熱物に含まれる水分がマイクロ波を吸収して自己発熱する現象を利用する。
　【０００４】
　従来の高周波加熱装置の加熱室内では、高周波発生手段から加熱室内へ放射されたマイクロ波は定在波を発生し、マイクロ波の分布はほとんど変化しない。そこで、加熱室内のマイクロ波の分布を均一にしたり、被加熱物に照射されるマイクロ波の状態を変化させるために、マイクロ波を反射する材料で構成されたスターラーファンを回転させる方法や、ターンテーブルを回転させる方法、加熱室内に凹凸をつける方法などが採用されている。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかし、従来の技術において、スターラーファンを回転させる方法は、マイクロ波を乱反射することによって被加熱物へのマイクロ波の入射角を変化させ、被加熱物の加熱の均一化を図っているが効果は十分ではない。また、ターンテーブルを回転させる方法は、加熱室内のマイクロ波の分布を変化させることはできず、被加熱物は一定のマイクロ波分布の中を繰り返し通過しながら加熱されるので、被加熱物に加熱むらが生じてしまうという問題点もある。
　【０００６】
　また、加熱室内に凹凸をつける方法は、マイクロ波を乱反射し、マイクロ波の分布を変化させることはできるが、故意に加熱室内の分布を変化させることができないため、被加熱物を選択的に加熱することは非常に困難である。
　【０００７】
　本発明はこのような課題を解決するものであり、加熱室内に生じるマイクロ波の分布を変化させて食品等の被加熱物に応じたマイクロ波の分布を発生させ、被加熱物の加熱むらをなくす高周波加熱装置を提供することを目的とする。
　【０００８】
　【課題を解決するための手段】
　上記の課題を解決するために本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　【０００９】
　そして、インピーダンス可変手段により壁面の高周波電流の流れを変化させることによって加熱室内のマイクロ波の分布を変化させることができる。
　【００１０】
　これにより、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【００１１】
　【発明の実施の形態】
　請求項１記載の発明は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　【００１２】
　そして、インピーダンス可変手段により開孔部を有する壁面の高周波電流の流れを変化させることによって加熱室内のマイクロ波の分布を変化させることができ、これにより、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【００１３】
　請求項２記載の発明は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部ないに設けた前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段と、
前記加熱室壁面との傾斜角度が変化するように
　【００１４】
　そして、前記インピーダンス可変手段の回転角度を判定することによって加熱室内のマイクロ波分布を制御することができる。
　【００１５】
　これにより、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【００１６】
　請求項３記載の発明は、前記制御手段は前記駆動手段の回転速度を制御することを特徴とする。
　【００１７】
　そして、インピーダンス可変手段の回転速度を制御することによって加熱室内に生じさせるマイクロ波分布の発生時間を制御することができる。
　【００１８】
　これにより、被加熱物の均一加熱を促進できる。
　【００１９】
　請求項４記載の発明は、前記制御手段は前記駆動手段の回転方向を制御することを特徴とする。
　【００２０】
　そして、インピーダンス可変手段の回転方向を制御することによって加熱室内のマイクロ波分布を速やかに変化させることができる。
　【００２１】
　これにより、被加熱物の加熱分布を変化させ、加熱むらをなくすことができる。
　【００２２】
　請求項５記載の発明は、前記制御手段は前記駆動手段の回転速度に応じて前記高周波発生手段の出力を可変制御することを特徴とする。
　【００２３】
　そして、加熱室内に生じさせるマイクロ波分布に応じて、高周波発生手段の出力を可変制御することによって被加熱物へのマイクロ波の強度を時間的に可変制御することができる。
　【００２４】
　これにより、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【００２５】
　請求項６記載の発明は、前記制御手段への加熱情報を、被加熱物の加熱方法として選択入力される加熱情報とするものである。
　【００２６】
　そして、選択入力された加熱情報（例えば再加熱調理、解凍調理など）によって前記駆動手段を加熱前に制御し、被加熱物に適した加熱を行い、加熱むらをなくすことができる。
　【００２７】
　請求項７記載の発明は、前記制御手段への加熱情報を、被加熱物の加熱前に被加熱物から得られる物理情報とするものである。
　【００２８】
　そして、被加熱物の加熱前に得られる物理情報（例えば重量、被加熱物の温度など）によって前記駆動手段を可変制御し、被加熱物の状態により適した加熱を行い、加熱むらをなくすことができる。
　【００２９】
　請求項８記載の発明は、前記制御手段への加熱情報を、被加熱物を加熱中に高周波加熱装置または被加熱物から得られる物理情報とするものである。
　【００３０】
　そして、この物理情報（例えば加熱室内の電磁波分布情報、被加熱物の温度など）によって前記駆動手段を可変制御し、加熱中に被加熱物の加熱状態に応じてマイクロ波の分布強度を変化させることができる。
　【００３１】
　これにより、被加熱物の加熱むらをよりなくすことができる。
　【００３２】
　【実施例】
　以下、本発明の実施例について添付図面を用いて説明する。
　【００３３】
　（実施例１）図１は、本発明の第１の実施例を示す高周波加熱装置の概略構成図、図２は図１の高周波加熱装置の外観図である。
　【００３４】
　図１および図２において１０は高周波加熱装置本体、１１はマイクロ波を発生するマグネトロン（高周波発生手段）、１２はマグネトロン１１からのマイクロ波を導く導波管、１３は被加熱物を収容する加熱室で、壁面は金属で構成されている。１４は被加熱物を載置するターンテーブル、１５はターンテーブル１４を回転駆動するモータ（駆動手段）である。１６はマグネトロン１１から発生したマイクロ波を加熱室１３内に放射する給電口である。１７は加熱室１３内の壁面１８に設けた開孔部で、１９は開孔部１７を一端とする溝部である。２０は壁面１８のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段であり、回転板２０ａにて構成されている。回転板２０ａは比誘電率が５以上の低誘電損失材料（例えばアルミナ、ムライトなど）で構成され、両端に突起を設け、溝部１９の孔に突起をはめ込んで回転支持されている。２１は回転板２０ａを回転駆動するモータであり、制御手段２２により制御される。モータ２１が回転板２０ａを回転駆動させる方法は、一定の角度分づつステップ状に動くようにしてもよいし、連続的に動くようにしても構わない。
　【００３５】
　次に、上記構成において動作を説明する。加熱する場合は、ターンテーブル１４上に食品等の被加熱物を置く。加熱するときは加熱スイッチ等の信号から、制御手段２２に加熱情報が送られる。加熱情報により制御手段２２はマグネトロン１１からマイクロ波を発生させる。発生したマイクロ波は導波管１２を伝搬し、給電口１６から加熱室１３内に放射される。また、制御手段２２は回転板２０ａの回転、停止の制御を行う。
　【００３６】
　加熱中の回転板２０ａの動作は常に回転していてもよいし、ある特定の回転角度で一定時間停止させてもよいし、回転・停止を繰り返すようにしてもかまわない。溝部１９の溝深さは回転板２０ａが加熱室１３底面に対して垂直（この時の回転角度を０°とする。）のときに、開孔部１７に生じるインピーダンスを極めて小さい値（理想的にはゼロ）になるように決めている。従って、回転板２０ａの回転角度が０°のときは壁面１８に高周波電流が流れ、壁面１８に開孔部１７を設けていない場合に生じるマイクロ波と同じ分布が生じる。一方、回転板２０ａの向きが加熱室１３底面に対して水平（この時の回転角度を９０°とする。）のときは、開孔部１７のインピーダンスが大きな値となり壁面１８に流れる高周波電流が乱れる。よって壁面１８に開孔部１７を設けていない場合に生じるマイクロ波分布とは異なった分布を発生する。つまり、回転角度を変化させると開孔部１７のインピーダンスが変化し、加熱室１３内のマイクロ波の分布が変化する。
　【００３７】
　本実施例において、回転板２０ａの回転角度の表現方法は、回転板２０ａの上半分が加熱室側に傾斜していく方向に回転させたときの、加熱室壁面と回転板２０ａの上半分の間の角度とした。
　【００３８】
　この実施例の図１および図２は回転板２０ａの回転角度は０°を示している。また、開孔部１７は加熱室１３内に横長になる方向に配設されているが、開孔部１７が縦長になる方向に配設しても構わない。また開孔部１７は、加熱室１３の壁面であればどこに配設してもよいし、複数個配設しても構わない。
　【００３９】
　食品等の被加熱物は、マイクロ波の強度が強い部分に位置するほど加熱されやすいため、被加熱物の加熱むらをなくすには、マイクロ波分布を均一にする、あるいはマイクロ波の強度の強弱を同じ位置で交互に発生させる等の制御を行う必要がある。また、加熱室１３内のマイクロ波分布が変化するに伴い、被加熱物への入力パワーが変化する。被加熱物への入力パワーが小さくなる回転角度の場合は、マグネトロン１１から発生するマイクロ波の出力を上げ、被加熱物への入力パワーが大きくなる回転角度の場合は、マグネトロン１１から発生するマイクロ波の出力を下げるような制御をすることで入力パワーを一定にすることができる。このとき制御手段２２は、マグネトロン１１と駆動手段２１を同時に制御してもよいし、どちらか一方のみを制御するようにしても構わない。
　【００４０】
　本実施例において、アドヘアのり２００ｇを底面が１００×１００ｍｍ２の容器にいれて被加熱物としたときに、回転板２０ａの回転角度を０°、９０°として高周波加熱装置で加熱したときの温度分布の結果を（図３）に示す。
　【００４１】
　図３の回転板２０ａの回転角度の模式図において、加熱室は回転板２０ａの右側に位置している。また温度分布は、色が薄くなるに従って、高温部分であることを示している。
　【００４２】
　以上のように、回転板２０ａの回転角度を変化させることにより、被加熱物の温度分布は変化した。
　【００４３】
　これにより、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【００４４】
　（実施例２）次に、本発明の第２の実施例について説明する。
　【００４５】
　図４は本発明の第２の実施例を示す高周波加熱装置の概略構成図である。
　【００４６】
　図４において３０は高周波加熱装置本体、３１はマイクロ波を発生するマグネトロン（高周波発生手段）、３２はマグネトロン３１からのマイクロ波を導く導波管、３３は被加熱物を収容する加熱室で、壁面は金属で構成されている。３４は被加熱物を載置するターンテーブル、３５はターンテーブル３４を回転駆動するモータである。３６はマグネトロン３１から発生したマイクロ波を加熱室３３内に放射する給電口である。３７は加熱室３３内の壁面３８に設けた開孔部で、３９は開口部３７を一端とする溝部である。４０は壁面３８のインピーダンスを可変するインピーダンス可変手段であり、回転板４０ａにて構成されている。回転板４０ａは比誘電率が５以上の低誘電損失材料（例えばアルミナ、ムライトなど）で構成され、両端に突起を設け、溝部３９の孔に突起をはめ込んで回転支持されている。４１は回転板４０ａを回転駆動するモータ（駆動手段）であり、制御手段４２により制御される。４３は回転板４０ａの回転角度を検出する検出手段である。モータ４１は回転板４０ａを一定角度づつステップ状に移動させて回転させる。検出手段４３は、回転板４０ａが回転角度０°のときからのステップ数によって、回転板４０ａの回転角度を検出する。制御手段４２は検出手段４３の信号により、マグネトロン３１から発生するマイクロ波出力を制御する。このとき、制御手段４２はマグネトロン３１とモータ４１を同時に制御してもよいし、どちらか一方のみを制御しても構わない。
　【００４７】
　マイクロ波加熱において、被加熱物は周囲から加熱される傾向があるため、マイクロ波で被加熱物を加熱する際には、被加熱部物の中心にマイクロ波が集中するような制御をする必要がある。また、回転板４０ａの回転角度が０°のとき被加熱物への入力パワーが最大になるようにマグネトロン３１の調整をしたとき、回転角度が変化すると被加熱物への入力パワーが小さくなる場合がある。被加熱物を加熱する際には、検出手段４３は回転板４０ａの回転角度とマグネトロン３１の出力を検出し、被加熱物への入力パワーが小さくなる角度のときはマグネトロン３１の出力を大きくし、入力パワーが大きくなる角度のときはマグネトロン３１の出力を小さくするような制御をする。
　【００４８】
　本実施例において、回転板４０ａの回転角度を０°４５°、９０°としたときの被加熱物の温度分布とマイクロ波強度の実験結果を図５に示す。
　【００４９】
　以上のように、回転板４０ａの回転角度を判定することにより、加熱室内のマイクロ波分布とマイクロ波強度を制御することができる。
　【００５０】
　（実施例３）
　次に、本発明の第３の実施例について説明する。
　【００５１】
　図４において、本発明の実施例３と実施例１、実施例２との相違点を説明する。制御手段４２はモータ４１の回転速度を制御することができる。
　【００５２】
　被加熱物の加熱中に加熱情報が制御手段４２に送られると、制御手段４２はモータ４１に信号を送り、モータ４１は回転板４０ａの回転速度を変化させる。
　【００５３】
　制御手段２２への加熱情報は、加熱スイッチ等による信号でもよいし、回転板４０ａの回転角度でもよいし、マグネトロン３１の出力でもよいし、被加熱物自体の情報でも構わない。
　【００５４】
　被加熱物を加熱する際に、ある特定の回転角度のみを保持して加熱すると、一部分だけ加熱されすぎてしまうことがある。この場合に、回転板４０ａを連続回転させながら加熱し、かつ被加熱物への入力パワーが大きくなりすぎたり、小さくなりすぎたりする回転角度付近は速やかに移動させるような制御をする必要がある。
　【００５５】
　本実施例において、図６に示すように、回転板４０ａが回転角度３６〜６３°の範囲を通過する時間の制御について説明する。インピーダンス可変手段４０の回転板４０ａの回転速度が１°／秒では所要時間は２７秒、回転速度が３６°／秒では所要時間は０．７５秒である。
　【００５６】
　以上のように、回転板４０ａの回転速度を制御することにより、ある特定のマイクロ波分布の発生時間を制御することができる。
　【００５７】
　これにより、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【００５８】
　（実施例４）
　次に、本発明の第４の実施例について説明する。
　【００５９】
　図４において、本発明の実施例４と実施例３との相違点を説明する。被加熱物の加熱中に、加熱情報が制御手段４２に送られると制御手段４２はモータ４１に信号を送り、制御手段４２はモータ４１の回転方向を変化させる。制御手段４２への加熱情報は、加熱スイッチ等による信号でもよいし、回転板４０ａの回転角度でもよいし、マグネトロン３１の出力でもよいし、被加熱物自体の情報でも構わない。
　【００６０】
　被加熱物を加熱する際に、加熱時間が短いときは回転板４０ａを設定角度に素早く移動させるような制御をする必要がある。
　【００６１】
　本実施例において、図７に示すように回転板４０ａを初期位置０°から加熱室１３方向に４５°傾斜するまで回転して停止させる制御について説明する。回転板４０ａの回転速度を９°／秒とした場合、回転方向が反時計方向一定のときは３５秒を要するが、逆回転（時計回り）した場合に要する時間は５秒である。
　【００６２】
　このように、回転板４０ａの回転方向を制御することにより、加熱室のマイクロ波の分布を速やかに変化させることができる。
　【００６３】
　（実施例５）
　次に、本発明の第５の実施例について説明する。
　【００６４】
　図４において、本発明の実施例５と実施例４との相違点を説明する。検出手段４３は回転板４０ａの回転角度を検出することに加え、モータ４１の回転速度も検出することができる。制御手段４２へ送るモータ４１の回転速度は、加熱する際に加熱スイッチ等から入力してもよいし、検出手段４３が検出して制御手段４２に信号を送る方法にしても構わない。
　【００６５】
　本実施例において、回転速度を１°／秒、１８°／秒、３６°／秒、４５°／秒、９０°／秒の５段階とし、被加熱物をアドヘアのりとして加熱実験を行った。回転速度が３６°／秒のときに被加熱物の温度上昇が最大となり、回転速度が１°／秒のときに被加熱物の温度上昇は最小となった。また、回転速度が１°／秒のときには周囲が加熱されやすく、３６°／秒のときには中心部に高温部分が発生した。
　【００６６】
　ハンバーグのように周囲に厚みがあり、中心部がやや薄い食品を加熱するときには図８のように、回転速度１°／秒でまず周囲を加熱したのち、マグネトロン３１の出力をやや弱くして回転速度３６°／秒で周囲を加熱するようにすると加熱不足なく調理することができる。このとき、マグネトロン３１から発生するマクロ波の出力は、回転角度や回転速度に応じて制御させてもよい。また、マイクロ波加熱とヒータ加熱を併用しても構わない。
　【００６７】
　本実施例では、モータ４１の回転速度に応じてマグネトロン３１を制御したが、マグネトロン３１の出力に応じてモータ４１の回転速度を制御しても構わない。
　【００６８】
　以上のように、モータの回転速度に応じてマグネトロンの出力を制御することによって被加熱物へのマイクロ波の強度を制御することができる。
　【００６９】
　（実施例６）
　次に、本発明の第６の実施例について説明する。図９は本発明の第６の実施例を示す高周波加熱装置の外観図である。
　【００７０】
　図９において、本発明の実施例６と実施例５との相違点を説明する。４４は加熱スイッチである。加熱スイッチ４４は被加熱物の加熱方法として選択入力されるメニュースイッチであり、解凍、加熱、再加熱等の被加熱物の加熱方法を選択入力することができる。加熱スイッチ４４を押すと、加熱スイッチ４４は制御手段４２に被加熱物の加熱方法に関する信号を送る。制御手段４２は加熱スイッチ４４の信号により、マグネトロン３１、モータ４１および検出手段４３を制御する。
　【００７１】
　被加熱物温度とマイクロ波の浸透深さの関係において、被加熱物の温度が０℃以下の場合は、マイクロ波の浸透深さは長く、マイクロ波はほとんど被加熱物を透過する。被加熱物の温度が０℃以上になるとマイクロ波の浸透深さは短くなり、１００℃に近づくに従い、０℃以下のときの約１００分の１以下ではあるが、マイクロ波の浸透深さは再び長くなる。そのため、被加熱物の温度が０℃以下のときは被加熱物の中心部にマイクロ波を集中させ、０℃以上になると被加熱物が均一に昇温するような制御をする必要がある。
　【００７２】
　本実施例において、室温の被加熱物を回転角度４５°で加熱すると被加熱物の中心部に高温部分が発生し、回転速度９０°／秒で加熱すると被加熱物はほぼ均一に加熱された。
　【００７３】
　解凍再加熱調理のように、被加熱物の温度が０℃以下のときは図１０のように、回転角度４５°で加熱し、被加熱物が昇温したり常温に近い温度のときはマイクロ波の出力をやや弱くして回転速度９０°／秒で被加熱物を加熱する。このとき、マグネトロン３１から発生するマイクロ波の出力は回転角度や回転速度に応じて制御させてもよい。
　【００７４】
　このように、被加熱物の加熱方法を選択入力し、加熱情報として制御手段に送り、インピーダンス可変手段を制御することにより、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【００７５】
　（実施例７）
　次に、本発明の第７の実施例について説明する。図１１は本発明の第７の実施例を示す高周波加熱装置の概略構成図である。
　【００７６】
　図１１において、実施例７と実施例６との相違点を説明する。加熱室３３壁面には、被加熱物の加熱前の状態を検出する検出手段４５が設けられている。検出手段４５は制御手段４２とつながっており、食品等被加熱物をターンテーブル３４上に載置すると、検出手段４５が被加熱物の加熱前の状態を検出し、制御手段４２へ信号を送る。検出手段４５は加熱前の被加熱物の重量、形状、温度、蒸気量などを１項目以上検出する。制御手段４２は検出手段４５の信号に基づいてマグネトロン３１とモータ４１を制御する。
　【００７７】
　検出手段４５は加熱前の被加熱物の状態が検出できるのであれば、加熱室３３壁面だけでなく、加熱室３３内のいずれに設けても構わない。
　【００７８】
　被加熱物の形状とマイクロ波加熱の関係において、マイクロ波加熱では被加熱物の形状が四角のときは四隅から、円盤状で径大のときは周囲、径小のときは中心部から加熱される。そのため、被加熱物の形状が四角、あるいは径大の円盤状のときは中心にマイクロ波を集中させ、径小の円盤状のときは周囲にマイクロ波を集中させるような制御をする必要がある。
　【００７９】
　本実施例において、回転角度４５°では被加熱物の中心部に高温部分が発生し、回転速度１°／秒のときには被加熱物の周囲が加熱された。
　【００８０】
　よって、お好み焼きのように被加熱物に厚みがなく、形状が四角あるいは径大の円盤状のときは、回転角度４５°で加熱し、径小の円盤状のときは回転角度を１°／秒で加熱することによって、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【００８１】
　（実施例８）
　次に、本発明の第８の実施例について説明する。図１２は本発明の第８の実施例を示す高周波加熱装置の概略構成図である。
　【００８２】
　図１２において、実施例８と実施例７との相違点を説明する。加熱室３３内にはマグネトロン３１の出力や加熱時間、加熱室３３内の温度や蒸気量、被加熱物の温度等を検出する検出手段４６が設けられている。検出手段４６は制御手段４２とつながっている。
　【００８３】
　高周波加熱装置本体３０が動作すると検出手段４６も同時に作動し、マグネトロン３１の出力や加熱時間、加熱室３３内の温度や蒸気量、被加熱物の温度等を検出する。被加熱物の温度や加熱時間等を検出すると、検出手段４６は制御手段４２に信号を送る。制御手段４２は検出手段４３と検出手段４６の信号からモータ４１を制御し、回転板４０ａの回転角度や回転速度を変化させる。この実施例の場合、検出手段４６は加熱室３３の天井部に配設されているが、加熱室３３内であればどこに配設しても構わない。
　【００８４】
　加熱初期の被加熱物の温度が低いときは食品のような被加熱物から蒸発する水分は少ないが、加熱が進み、被加熱物の温度が上昇すると被加熱物からの蒸発水分量が増加するので加熱室内の蒸気量も増加する。
　【００８５】
　この実施例の場合、被加熱物を加熱する際に検出手段４６が加熱室３３内の蒸気量を検出し、蒸気量が少ないときはマグネトロン３１から発生するマイクロ波の出力を強くするが、加熱が進み加熱室３３内の蒸気量が多くなるとマイクロ波の出力を弱くする。検出手段４３の信号によって制御手段４２はモータ４１の動作を制御する。
　【００８６】
　また、検出手段４６は給電口３６から放射されたマイクロ波が加熱室３３から反射して再びマグネトロン３１へ戻る強さを検出して制御手段４２へ信号を送る方法でもかまわない。この場合、被加熱物が低温であるほどマイクロ波の吸収量は多いのでマグネトロン３１への反射は小さく、被加熱物の温度が上昇するに従って被加熱物のマイクロ波の吸収量が減少し、マグネトロン３１への反射は大きくなる。つまり、マグネトロン３１への反射が少ない場合は、被加熱物の温度が低いと判断し、被加熱物への入力パワーが大きくなる回転角度０°で加熱し、マグネトロン３１への反射が多くなると、被加熱物の温度が高くなったと判断して回転角度を４５°／秒にして加熱する。この時の制御図を図１３に示す。
　【００８７】
　このように、高周波加熱装置の動作状態または加熱中の被加熱物から得られる物理情報を加熱情報として制御手段に送り、インピーダンス可変手段を制御することにより、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【００８８】
　【発明の効果】
　以上のように、請求項１記載の高周波加熱装置によれば、インピーダンス可変手段を回転駆動することにより開孔部のインピーダンスを可変して、開孔部を有する壁面の高周波電流の流れを変化させることによって、加熱室内のマイクロ波分布を変化させることができる。
　【００８９】
　これにより、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【００９０】
　また、請求項２記載の高周波加熱装置によれば、インピーダンス可変手段の回転角度を判定することによって、加熱室内のマイクロ波分布を制御することができる。
　【００９１】
　これにより、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【００９２】
　また、請求項３記載の高周波加熱装置によれば、インピーダンス可変手段の回転速度を制御することによって、加熱室内に生じさせるマイクロ波分布の発生時間を制御することができる。
　【００９３】
　これにより、被加熱物の加熱分布を変化させることができる。
　【００９４】
　また、請求項４記載の高周波加熱装置によれば、回転板の回転方向を制御することによって、加熱室内のマイクロ波分布を速やかに所望のマイクロ波分布に変化させることができる。
　【００９５】
　これにより、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【００９６】
　また、請求項５記載の高周波加熱装置によれば、回転板の回転速度に応じて高周波発生手段の出力を可変制御することができる。
　【００９７】
　そして、加熱室内に生じさせるマイクロ波分布に応じて高周波発生手段の出力を可変制御することにより、被加熱物へのマイクロ波の強度を時間内に可変させることができる。
　【００９８】
　これにより、被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【００９９】
　また、請求項６記載の高周波加熱装置によれば、選択入力された加熱情報（例えば再加熱調理、解凍調理など）によって駆動手段を制御することにより、被加熱物に適した加熱を行い、加熱むらをなくすことができる。
　【０１００】
　また、請求項７記載の高周波加熱装置によれば、被加熱物の加熱前に得られる物理情報（例えば重量、被加熱物の温度など）によって駆動手段を制御することにより、被加熱物の状態により適した加熱を行い、加熱むらをなくすことができる。
　【０１０１】
　また、請求項８記載の高周波加熱装置によれば、被加熱物を加熱中の高周波加熱装置または被加熱物から得られる物理情報（例えば加熱室内の電磁波分布情報、被加熱物の温度など）によって駆動手段を制御し、加熱中に被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
　【０１０２】
　これにより、被加熱物の加熱むらをよりなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の第１の実施例を示す高周波加熱装置の概略構成図
　【図２】
　同、高周波加熱装置の外観図
　【図３】
　同、高周波加熱装置のインピーダンス可変手段の回転角度と加熱分布を示す図
　【図４】
　本発明の第２〜５の実施例を示す高周波加熱装置の概略構成図
　【図５】
　本発明の第２の実施例を示すインピーダンス可変手段の回転角度と加熱分布と被加熱物への入力パワーを示すための図
　【図６】
　本発明の第３の実施例を示すインピーダンス可変手段の回転速度と所定角度まで動かしたときの所要時間を示す図
　【図７】
　本発明の第４の実施例を示すインピーダンス可変手段の回転方向と所定角度まで動かしたときの所要時間を示す図
　【図８】
　本発明の第５の実施例を示すマイクロ波の出力とインピーダンス可変手段の回転速度を切り換える加熱制御例を示す図
　【図９】
　本発明の第６の実施例を示す高周波加熱装置の概略構成図
　【図１０】
　本発明の第６の実施例を示すマイクロ波の出力とインピーダンス可変手段の制御内容を示す図
　【図１１】
　本発明の第７の実施例を示す高周波加熱装置の概略構成図
　【図１２】
　本発明の第８の実施例を示す高周波加熱装置の概略構成図
　【図１３】
　同、高周波加熱装置のマイクロ波の出力と蒸気量およびマイクロ波の反射量による加熱制御例を示す図
　【図１４】
　従来の高周波加熱装置の概略構成図
　【符号の説明】
　１１、３１　マグネトロン（高周波発生手段）
　１３、３３　加熱室
　１６、３６　給電口
　１７、３７　開孔部
　１９、３９　溝部
　２０、４０　インピーダンス可変手段
　２０ａ、４０ａ　回転板
　２１、４１　モータ（駆動手段）
　２２、４２　制御手段
　２３、４３　回転角度の検出手段
　４４　加熱スイッチ（被加熱物の加熱方法選択手段）
　４５　加熱前に得られる被加熱物の物理情報の検出手段
　４６　加熱中に得られる物理情報の検出手段