(57)【要約】  本発明は、熱を供給することによって収縮可能な保護エレメント（１０１）を光導波路（１００）上に焼きばめするための装置及び方法に関する。この方法によれば、熱放射線を放出し、該熱放射線を反射させ、該熱放射線を前記保護エレメント（１０１）が保持されている集束領域上に集束させる。またこの装置は、熱放射線を放出するための加熱エレメント（１０）と、該加熱エレメント（１０）から放出された放射線を反射させて、前記集束領域上に集束させるための反射器（３０）と、保護エレメント（１０１）を前記集束領域内で保持するホルダ（２０）とを有している。
2008516273.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱を供給することによって収縮可能な保護エレメント（１０１）を、長く延在するエレメント殊に光導波路（１００）上に被着するための装置において、
熱放射線を放出するための加熱エレメント（１０）と、
前記保護エレメント（１０１）を保持するためのホルダ（２０）と、
加熱エレメント（１０）から放出された放射線を反射させて、前記保護エレメント（１０１）上に集束させるための反射器（３０）と、
を有していることを特徴とする、光導波路上に保護エレメントを被着するための装置。
【請求項２】
保護エレメント（１０１）が長手方向（Ｌ）に延在し、加熱エレメント（１０）が、前記保護エレメント（１０１）に対して平行に長手方向（Ｌ）に延在し、該加熱エレメント（１０）が熱放射線を、長手方向（Ｌ）に対して垂直なすべての方向に均一に放出するようになっている、請求項１記載の装置。
【請求項３】
反射器（３０）が、長手方向（Ｌ）に沿って延在する反射面（３０１）を有しており、該反射面（３０１）の、前記長手方向（Ｌ）に対して直交する方向に形成された横断面が楕円形の形状を有している、請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記楕円形が、第１の焦点と第２の焦点とを有しており、加熱エレメント（１０）が、前記第１の焦点を通って延在しているか又はこの第１の焦点近傍の領域を通って延在しており、前記保護エレメント（１０１）が、第２の焦点を通って延在しているか又はこの第２の焦点近傍の領域を通って延在している、請求項３記載の装置。
【請求項５】
加熱エレメント（１０）が、電流に基づいて熱放射線を放出する導電性材料より成るワイヤ（１１）を有している、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項６】
加熱エレメント（１０）が、ホルダ（２０）に向き合って位置する長手方向区分を有しており、該長手方向区分が、両外側領域（１０１１，１０１３）と、これらの外側領域間に配置された中間領域（１０１２）とを有しており、ワイヤ（１１）の横断面（Ａ）が中央領域（１０１２）において、両外側領域（１０１１，１０１３）のうちの一方の横断面よりも小さい、請求項５記載の装置。
【請求項７】
ワイヤ（１１）の中央領域（１０１２）が、両外側領域（１０１１，１０１３）のうちの一方におけるよりも小さい横断面（Ａ）を有して構成されている、請求項５又は６記載の装置。
【請求項８】
ワイヤ（１１）が、金属又は金属合金を含有している、請求項５から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項９】
ワイヤが、鉄、ニッケル及びアルミニウムを含有する合金を有している、請求項５から８までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１０】
ワイヤ（１１）がつる巻線（１１２）の形に巻き付けられている、請求項５から９までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１１】
加熱エレメント（１０）が、ホルダ（２０）に向き合って位置する長手方向区分を有しており、該長手方向区分が、両外側領域（１０１１，１０１３）と、これらの外側領域（１０１１，１０１３）間に配置された中央領域（１０１２）とを有しており、この場合、前記つる巻線の形に巻き付けられたワイヤのつる巻線が、所定の長さ範囲内で、中央領域（１０１２）において、両外側領域（１０１１，１０１３）のうちの一方よりも多くの巻条を有している、請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
加熱エレメント（１０）が支持エレメント（１２）を有していて、ワイヤ（１１）がコイルとして支持エレメント（１２）上に巻き付けられている、請求項５から１１までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１３】
前記支持エレメント（１２）がセラミックより形成されている、請求項１２記載の装置。
【請求項１４】
反射器（３０）が、互いに相対的に可動な第１の部分（３１）と第２の部分（３２）とを有している、請求項１から１３までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１５】
第１の部分（３１）がヒンジ（３３）を介して第２の部分（３２）に接続されていて、それによって反射器（３０）の第１の部分（３１）を開くことができるようになっている、請求項１４記載の装置。
【請求項１６】
第１の部分（３１）が第２の部分（３２）から取り外し可能である、請求項１４記載の装置。
【請求項１７】
加熱エレメント（１０）が反射器（３０）の第１の部分（３１）内に配置されていて、第１の部分（３１）から取り出し可能である、請求項１から１６までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１８】
保護エレメント（１０１）の周囲に空気流を生ぜしめるための冷却ファン（７０）が設けられている、請求項１から１７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１９】
前記ホルダ（２０）が載設面（２１，２２）を有していて、前記保護エレメント（１０１）が長く延在するエレメント（１００）の１つの区分を有していて、保護エレメント（１０１）は、熱放射線が該保護エレメント（１０１）上に集束されるように、載設面（２１）上に載設可能である、請求項１から１８までのいずれか１項記載の装置。
【請求項２０】
加熱エレメント（１０）が放射体（１３）を有していて、該放射体（１３）が熱放射線を優先方向に優先的に放出する、請求項１記載の装置。
【請求項２１】
放射体（１３）が、赤外線を放出するダイオード（１３１）のフィールドを有している、請求項２０記載の装置。
【請求項２２】
放射体（１３）が、赤外線を放出するダイオード（１３２）を有している、請求項２０又は２１記載の装置。
【請求項２３】
放射体（１３）が半導体レーザ（１３３）を有している、請求項２０記載の装置。
【請求項２４】
付加的に、放射体（１３）から放出される放射熱を広げるための光学系（１３４）が設けられている、請求項２０から２３までのいずれか１項記載の装置。
【請求項２５】
前記保護エレメント（１０１）が長手方向（Ｌ）に延在していて、反射器（３０）が長手方向（Ｌ）に延在する反射面（３０）を有しており、該反射面（１４）の、長手方向（Ｌ）に対して垂直な横断面が複数の放物線の形状を有していて、各放物線が１つの焦点を有していて、複数の放物線の焦点が、保護エレメント（１０１）が配置されている領域を規定するようになっている、請求項２０から２４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項２６】
放射体（１３）から放出された熱放射線の放射線ビーム（１３１）を偏向させ、かつ長手方向（Ｌ）に延在する保護エレメント（１０１）に亘って分配させるための光学系（１３５）が設けられており、該光学系（１３５）が、長手方向（Ｌ）で摺動可能であるか、又は長手方向（Ｌ）に対して垂直な軸線（Ｘ）を中心にして振動可能である、請求項２５記載の装置。
【請求項２７】
保護エレメントが長手方向（Ｌ）で複数の外側領域（１０１１，１９１３）と、これらの外側領域間に配置された中央領域（１０１２）とを有しており、前記中央領域（１０１２）内の放射線ビーム（１３１）の滞留時間が前記端部領域（１０１１，１９１３）内の滞留時間よりも長い、請求項２６記載の装置。
【請求項２８】
カバーエレメント（１８，１９）が設けられていて、該カバーエレメント（１８，１９）が、加熱エレメント（１０）と、長く延在するエレメント（１００）との間に配置されていて、該カバーエレメントによって、加熱エレメント（１０）から運転中に放出される熱放射線に対して前記長く延在するエレメント（１００）が遮蔽される、請求項２又は３記載の装置。
【請求項２９】
前記カバー装置（１８，１９）が長手方向（Ｌ）で可変な長さ寸法を有している、請求項２８記載の装置。
【請求項３０】
熱を供給することによって収縮可能な保護エレメント（１０１）を、光導波路（１００）の１つの区分上に被着するための方法において、
次のステップを有している、つまり、
光導波路（１００）及び、該光導波路（１００）の１つの区分（１０２）を包囲する保護エレメント（１０１）を準備し、
熱放射線を放出し、
該熱放射線を反射させ、
該熱放射線を前記保護エレメント（１０１）上に集束させ、
加熱し、それによって光導波路（１００）の前記区分（１０２）上に保護エレメントを焼きばめする、
ステップを有していることを特徴とする、熱を供給することによって収縮可能な保護エレメント（１０１）を、光導波路（１００）の１つの区分上に被着するための方法。
【請求項３１】
前記熱放射線を集束させるステップにおいて、長手方向（Ｌ）に延在する領域（３１２，３１３）上に熱放射線を集束させる、請求項３０記載の方法。
【請求項３２】
前記熱放射線を集束させるステップにおいて、熱放射線の集中を外側領域（１０１１，１０１３）内で強くし、かつ保護エレメント（１０１）の中央領域（１０１２）内で弱くし、該中央領域（１０１２）を外側領域（１０１１，１０１３）間に配置する、請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
反射器（３０）によって包囲された、互いに可能な第１の部分（３１）及び第２の部分（３２）を有する中空室を設け、前記第２の部分（３２）を取り外すか又は開き、保護エレメント（１０１）及び光導波路（１００）を挿入し、第１の部分（３１）と第２の部分（３２）とを組み立て、かつ熱放射線を生ぜしめる、請求項３０から３２までのいずれか１項記載の方法。
【請求項３４】
前記中空室が楕円形横断面形状を有するようにし、該楕円の１つの焦点内に前記保護エレメント（１０１）を位置決めし、次いで反射器（３０）の第１の部分（３１）と第２の部分（３２）とを組み立てる、請求項３３記載の方法。
【請求項３５】
中空室内の、保護エレメント（１０１）によってカバーされていない、光導波路（１００）の区分を、熱放射線に対して遮蔽する、請求項３０から３４までのいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱によって収縮可能な保護エレメントを、長く延在するエレメント特に光導波路の１つの区分上に焼きばめするための装置及び方法に関する。
【０００２】
発明の背景
光導波路を例えば融着溶接によって互いに溶接できるようにするために、溶接しようとする箇所の近傍において光導波路は露出される。このために、光導波路を包囲する繊維被覆層（コーティング）が取り除かれる。光導波路が例えば互いに溶接された後で、光導波路は周囲の影響に対して及び機械的な損傷に対して保護される。また別の理由により、露出された光導波路のための保護が必要である。
【０００３】
一般的な形式で、前もって露出された光導波路を保護するために、熱を供給することによって収縮する保護エレメントが使用される。保護エレメントは、熱を供給することによって収縮可能な材料、例えばポリマーより成る管として構成されている。保護エレメントは、露出された部分を包囲する、光導波路の区分に亘って被せ嵌められ、次いで加熱される。加熱によって保護エレメントは熱収縮する。熱収縮後に、光導波路の、露出された部分を包囲する区分は、保護エレメントによって密着して取り囲まれる。さらにまた、保護エレメントは、露出された光導波路の表面に付着される。このような形式で、周囲の影響及び機械的な損傷に対する所望の保護が得られる。
【０００４】
熱を供給することによって収縮可能な保護エレメントを加熱するために、いわゆる収縮炉（Schrumpfofen）が用いられる。一般的な形式で、収縮炉は、保護エレメントを受容するためのｕ字形又はｖ字形の溝を備えた槽（Wanne）と、該槽を加熱するための加熱エレメントとを有している。
【０００５】
従来の収縮炉は、空気を介する熱伝導によって、熱が加熱エレメントから保護エレメントに伝達される。加熱エレメントから保護エレメントへの熱の直接的な伝達によって、少なくとも槽の一部の温度、及び少なくとも空気の一部の温度が保護エレメントの温度を常に上回る。槽及び空気は、それぞれかなり大きい熱容量を有している。従って、加熱エレメントによって生ぜしめられた熱効率は、槽及び空気を加熱するために消費される。しかも接触し合うのは、槽の表面の小さい部分だけ及び保護エレメントの表面の小さい部分だけである。これによって、時間単位毎に、少量の熱だけが熱伝導によって槽から保護エレメントに直接伝達される。
【０００６】
収縮炉及び相応の融着溶接機は、自動車に使用するために製造され、この収縮炉及び融着溶接機への電力供給はバッテリー又はアキュムレータによって行われる。しかしながら従来の収縮炉においては、生ぜしめられたエネルギーのうちのかなりの量が、加熱エレメント、槽及び空気を加熱するために浪費される。このエネルギーはもはや、保護エレメントを収縮するか又は溶接過程を実施するためには用いることができない。
【０００７】
従って、バッテリー又はアキュムレータチャージによって実施可能な収縮過程及び溶接過程の回数は著しく減少される。
【０００８】
熱の必要量を保護エレメントに伝達するために、従来の収縮炉は、相応の時間を必要とする。加熱エレメント、槽、空気及び保護エレメントが、焼きばめを開始するために必要な温度を取る加熱段階のために、約４５秒の時間が必要とされる。保護エレメントが焼きばめのプロセスに必要な熱エネルギーを吸収する焼きばめ段階のためにも、約４５秒の時間が必要とされる。収縮炉の出力は、加熱中は約２０Ｗ、焼きばめ段階中は約１５Ｗである。従って、加熱段階のためのエネルギー消費は９００Ｗｓ、焼きばめ段階のためのエネルギー消費は６７５Ｗｓ、焼きばめ過程に必要な全時間は約９０秒である。
【０００９】
以上のように、従来の収縮炉を使用して、光導波路上に保護エレメントを焼きばめするための消費エネルギー及び消費時間は、不必要に高いということができる。
【００１０】
そこで本発明の課題は、長く延在するエレメント例えば光導波路上に保護エレメントを迅速かつ、エネルギーを節約して焼きばめするための装置及び方法を提供することである。
【００１１】
この課題は、本発明によれば、請求項１に記載した特徴を有する装置、及び請求項３０に記載した特徴を有する方法によって解決された。
【００１２】
熱を供給することによって収縮可能な保護エレメントを、長く延在するエレメント特に光導波路上に焼きばめするための、本発明による装置は、熱放射線を放出するように構成された加熱エレメントと、前記保護エレメントを保持するように構成されたホルダと、加熱エレメントから放出された放射線を反射させて、前記保護エレメント上に集束させるための反射器とを有している。
【００１３】
加熱エレメントから保護エレメントへの熱の伝達は、熱放射線によって行われる。熱放射線は、加熱エレメントによって放出され、反射器によって保護エレメント上に集束され、もっぱら保護エレメントによって吸収される。加熱エレメントによって放出された波長、反射器の反射面のための材料、及び保護エレメントのための材料を適当に選択することによって、装置内の空気及び反射器の加熱による出力損失は減少される。それによって、光導波路上に保護エレメントを焼きばめするために、従来の収縮炉におけるよりもわずかな熱効率、ひいてはわずかな出力が必要なだけである。しかも、保護エレメントは、熱収縮が開始され、収縮プロセスのために必要な熱量が短時間で供給される温度に迅速に達する。従って、エネルギーが限定されている装置によって多数の保護エレメントを短時間で、光導波路に焼きばめすることができる。
【００１４】
保護エレメントは、有利な形式で長手方向に延在している。加熱エレメントは、有利な形式で前記保護エレメントに対して平行に長手方向に延在していて、長手方向に対して垂直なすべての方向に均一に熱放射線を放出する。
【００１５】
反射器は、長手方向に沿って延在する反射面を有しており、該反射面の、前記長手方向に対して直交する方向に形成された横断面が楕円形の形状を有している。
【００１６】
反射器の反射面のための材料は、加熱エレメントから放出された熱放射線が優先的に反射器で反射され、吸収されるのではできるだけ少量である。反射面は、例えばゴールドでコーティングされている。
【００１７】
楕円形はそれぞれ第１の焦点と第２の焦点とを有しているので、楕円形の第１の焦点によって第１の領域が規定され、楕円形の第２の焦点によって第２の領域が規定されている。加熱エレメントは有利な形式で第１の領域に沿って延在していて、保護エレメントは有利な形式で第２の領域に沿って延在している。
【００１８】
加熱エレメントは、導電性材料より成るワイヤを有しており、この導電性材料は電流が流れると放射線を放出する。
【００１９】
加熱エレメントは、ホルダに向き合って位置する長手方向区分を有しており、該長手方向区分が、両外側領域と、これらの外側領域間に配置された中間領域とに分割されており、ワイヤの横断面が中央領域においてテーパ部（細身部）を有している。
【００２０】
保護エレメントのために選択された材料に基づいて、保護エレメントによって熱放射線を吸収し、ひいては保護エレメントの加熱を吸収するために最適な波長が変化する。ワイヤによって優先的に放出される波長は、ワイヤの抵抗、及びワイヤに印加された電圧を介して制御可能である。これによって、種々異なる材料のために、ワイヤの電気抵抗と、ワイヤに印加された電圧との最適な組み合わせが選択される。
【００２１】
ワイヤは、有利な形式で金属又は合金を含有しており、特に有利にはワイヤは、鉄とニッケルとアルミニウムとから成る合金を含有している。さらにワイヤは、有利にはつる巻線の形状に巻き付けられている。
【００２２】
加熱エレメントは、有利な形式で、ホルダに向き合って位置する長手方向区分を有しており、該長手方向区分が、両外側領域と、これらの外側領域間に配置された中央領域とを有しており、この場合、前記つる巻線の形に巻き付けられたワイヤのつる巻線のピッチ（隣り合うつる巻線の軸方向間隔）が、中央の領域内で両外側領域内におけるよりも小さい。またつる巻線の巻条は、中央領域内で両外側領域におけるよりも密接して配置されている。
【００２３】
加熱エレメントは、有利な形式で支持エレメントを有していて、ワイヤは有利な形式でコイルとして支持エレメント上に巻き付けられている。支持エレメントは例えばセラミックを有していてよい。加熱エレメントは、有利な形式で装置から取り出し可能である。
【００２４】
反射器は、互いに相対的に可動な第１の部分と第２の部分とを有している。第１の部分は、ヒンジを介して第２の部分に接続されていて、それによって反射器の第１の部分を開くことができるようになっている。第１の部分は、第２の部分から取り外すこともできるようになっている。
【００２５】
この装置は、有利な形式で、保護エレメントの周囲に空気流を生ぜしめるための冷却ファンを有している。
【００２６】
ホルダは、有利な形式で複数の載設面を有しており、これらの載設面間に、放射線が保護エレメント上に集束されるように、保護エレメントによって包囲された光導波路の区分が載設され得るようになっている。
【００２７】
加熱エレメントは放射体を有していて、この放射体は放射線を優先装置に優先的に放出する。放射体は、例えば赤外線を放出するダイオードを有しているか又は、赤外線を放出するダイオードの全フィールドを有している。放射体は半導体レーザも有している。
【００２８】
本発明による装置は、有利な形式で、放射体によって放出された熱放射線の放射線ビームを広げる光学系を有している。
【００２９】
保護エレメントは、有利な形式で長手方向に延在している。反射器は、長手方向に延在する反射面を有しており、この反射面の、前記長手方向に対して垂直な横断面は放物線の形状を有している。放物線は、それぞれ１つの焦点を有していて、放物線の焦点は、保護エレメントが配置されている第１の領域を規定している。
【００３０】
本発明による装置は、放射体から放出された熱放射線の放射線ビームを時間に基づいて偏向させ、かつ長手方向に延在する保護エレメントに亘って分配させるための光学系が設けられており、該光学系が、長手方向で摺動可能であるか、又は長手方向に対して垂直な軸線を中心にして振動可能である。
【００３１】
有利な形式で、保護エレメントは、長手方向で複数の端部領域と、これらの端部領域間に配置された中間領域とを有しており、前記中間領域内の放射線ビームの滞留時間が前記端部領域内の滞留時間よりも長い。
【００３２】
熱を供給することによって収縮可能な保護エレメントを、光導波路の１つの区分上に焼きばめするための本発明による方法は、次のステップを有している、つまり、光導波路及び、該光導波路の１つの区分を包囲する保護エレメントを準備し、熱放射線を放出し、該熱放射線を反射させ、該熱放射線を前記保護エレメント上に集束させ、加熱し、それによって光導波路の前記区分上に保護エレメントを焼きばめする、ステップを有している。
【００３３】
前記熱放射線を反射させるステップが、熱放射線を集束させるステップを有している。
【００３４】
前記熱放射線を保護エレメント上に集束させるステップが、有利な形式で熱放射線を、長手方区尾に延在する領域上に集束させるステップを有している。
【００３５】
熱放射線を放出するステップにおいて、有利な形式で、放射線を長手方向に延在するすべての方向に放出させる。
【００３６】
熱放射線を集束させるステップにおいて、有利な形式で、両外側領域間に配置された、温度のより低い、保護エレメントの中央領域内でより高い温度を生ぜしめるようにした。
【００３７】
図面の説明
図１は、熱によって収縮（焼きばめ）可能な保護エレメントを被着するための、本発明による装置の１実施例を示す。
【００３８】
図２は、本発明による装置の反射器の有利な構成のための１実施例を示す。
【００３９】
図３は、本発明による装置の有利な加熱エレメントのための１実施例を示す。
【００４０】
図４Ａ乃至図４Ｃは、反射器の有利な構成及び有利な加熱エレメントの別の実施例を示す。
【００４１】
図５Ａ〜図５Ｃは、有利な加熱エレメントの別の実施例を示す。
【００４２】
図６には、装置内で保護エレメントを位置決めするためのホルダの選択的な構成が示されている。
【００４３】
図７は、熱放射線のためのカバーを備えた装置の概略的な側面図を示す。
【００４４】
以下に図面に示した実施例を説明する。
【００４５】
図１には、保護エレメント１０１を光導波路１００上に焼きばめするための本発明による装置の実施例の斜視図が示されている。
【００４６】
この装置は、加熱エレメント１０と、光導波路１００のためのホルダと、反射器３０とを有しており、この反射器３０は、例えば射出成形又はプラスチックより成る共通のケーシング内に収容されている。保護エレメント１０１は、光導波路１００の１区分を包囲している。光導波路１００と、この光導波路１００を包囲する保護エレメント１０１とは、その長手方向Ｌに延在している。
【００４７】
反射器３０は、長手方向Ｌで所定の長さに亘って延在していて、中空体として構成され、ケーシング内に組み込まれている。反射器３０は反射面を有していて、この反射面は、長手方向Ｌに関連して反射器３０の全長に亘って同じ楕円形の横断面を有している。それぞれ１つの楕円形は、第１の焦点と第２の焦点とを有している。楕円形の第１の焦点によって、第１のフォーカス領域が規定され、楕円形の第２の焦点によって第２のフォーカス領域が規定されている。第１のフォーカス領域は楕円形の第１の焦点を有していて、第２のフォーカス領域は楕円形の第２の焦点を有している。反射面３０１はコーティングとして、反射器３０の内周面に被着されている。
【００４８】
ケーシングは、下部と、この下部上に可動なカバーとして配置された上部とを有している。反射器３０は、第１の部分３１と第２の部分３２とを有している。反射器の第１の部分３１は、反射器３０の大きい方の部分を成しており、ケーシングの下部内に組み込まれている。第２の部分３２は、反射器３０の小さい方の部分を成している。第２の部分３２は、反射器３０の小さい方の部分を有していて、ケーシングの、カバーとして設けられた上部内に組み込まれている。図示の実施例では、反射器３０の第２の部分３２を含有するケーシングの上部は、ヒンジ３３を介して、反射器３０の第１の部分３１を有するケーシングの下部に回転可能に固定されている。これによって反射器３０は、ホルダ２０にアクセス（接近）するために開くことができる。第２の部分３２を第１の部分にだけ被せ嵌め、従って第１の部分３１から完全に取り外すようにすることも考えられる。ケーシングの、第１の部分３１と上側の第２の部分３２とを互いに結合して、閉じれば、反射器で被覆された中空室が得られる。反射器は、熱放射線をできるだけ良好に反射する材料より形成されている。この材料は例えば、蒸着又は析出された反射材料であってよい。この材料は、有利には金属であって、特に有利には反射器はゴールドより形成されている。
【００４９】
ホルダ２０は、反射器３０の下部３１のための、複数の開口部を有するカバーとして構成されている。ホルダ２０は、ケーシングの下部の中空室を被覆する、載設面２１を備えたウエブを有していて、ケーシングの下部によって支持されている。これらのウエブは、開放した中空室の一方側から他方側に延在している。ウエブの載設面２１は、ウエブの複数の凹部として構成されていて、これらの凹部内に、焼きばめ可能な保護エレメントが挿入されるようになっており、それによって正しい位置に位置決めされる。ホルダ２０は、例えばねじを介してケーシングの下部に固定されているか、又はケーシングの下部に設けられた凹部内に緩く挿入されている。ホルダ２０はいずれにしても、加熱エレメント１０にアクセス（接近）できるようにするために、ケーシングの下部から取り外すことができる。ホルダはさらに図６にその詳細が示されている。
【００５０】
加熱エレメント１０は反射器３０によって包囲されていて、ケーシングの下部内に配置されていて、この実施例では長手方向Ｌで反射器３０の全長に亘って延在している。加熱エレメント１０は、ケーシングの下部から取り出すことができる。これによって、反射器３０の反射面３０１を簡単に洗浄することができる。図１において、ケーシングの内室及び反射器を見ることができるように、ケーシング３０は下部の左側が破断して示されている。
【００５１】
加熱エレメント１０に、電力源５０例えばバッテリー又は蓄電池によって電気が供給される。この装置は、加熱エレメント１０を電力源に接続するためのスイッチを有しており、このスイッチは、ケーシングのカバーを閉鎖することによって操作されるように構成されている。ケーシングを閉鎖すると、加熱エレメント１０のための電流供給がスイッチオンされる。スイッチオン過程は、閉鎖過程によって直接的に及び自動的に行われる。このためにスイッチはカバーの閉鎖過程によって操作され、ケーシングの閉鎖時に作動接続する。これによって、加熱エレメントのための加熱過程及び、保護エレメントのための収縮の導入が、カバー３２の閉鎖によって自動的に行われる。
【００５２】
この装置はさらに、保護エレメント１０１の周囲に空気流を生ぜしめるための、及び保護エレメント１０１から熱を導出するための冷却ファン７０を有している。この冷却ファン７０によって生ぜしめられた空気流は、長手方向Ｌで反射器３０を貫流する。
【００５３】
冷却ファン７０は、加熱エレメント１０と同様にケーシングの下部に一緒に組み込まれていて、そこで電力源に接続されており、従ってケーシングの下部にだけ電力を供給すればよい。
【００５４】
図２には、反射器３０のための特別な構造が示されている。反射器３０は、図１の長手方向Ｌに延在していて、図２の図平面に対して垂直に位置している。図２は、反射器の第１及び第２の部分３１，３２が閉じられている時の、長手方向Ｌで見た反射器の断面図を示している。反射器の反射面３０１は、長手方向Ｌで反射器３０の全長に亘って同じ横断面を有している。図２に示した特に有利な実施例では、この横断面は、第１の焦点と第２の焦点とを有する楕円形の形状を有している。楕円形の第１及び第２の焦点によって、長手方向Ｌに延在する第１及び第２のフォーカス領域３１１，３１２が規定される。加熱エレメント１０は第１のフォーカス領域３１１内に配置されていて、ホルダによって保持された保護エレメント１０１は、第２のフォーカス領域内に配置されている。加熱エレメント１０は、フォーカス領域３１１上に垂直に位置するそれぞれの半径方向で同じ強さを有する熱放射線を放出する。反射面３０１の横断面の楕円形の形状によって、第１のフォーカス領域３１１に沿って延在する加熱エレメント１０から半径方向で放出された熱放射線が、第２のフォーカス領域３１２に沿って延在する保護エレメント１０１上に確実に集束されるようになっている。反射面３０１の材料は、加熱エレメント１０から放出された熱放射線のできるだけ多くの部分が反射器３０で反射され、できるだけ少ない部分が吸収されるように選定されている。反射器３０は、幾何学的な観点において、その底面が楕円形である、並進左右対称（translationssymmetrisch）に形成された部材である。楕円形の並進移動運動によって形成された反射器の内側は、有利な形式でゴールド（金）でコーティングされている。
【００５５】
図３には、加熱エレメント１０の構成がより正確に図示されている。この構成では、加熱エレメント１０がワイヤ１１を有しており、このワイヤ１１に、電力源５０によって生ぜしめられた電圧がスイッチ６０を介して印加される。ワイヤ１１はオーム抵抗であって、このオーム抵抗は電力を吸収して、これを優先的に熱放射線として再び放出する。ワイヤ１１は、有利な形式で合金を有して構成されているか、又は鉄、ニッケル及びアルミニウム、例えばカンタルＡ（Kanthal A）より成っていて、このカンタルＡは、赤外線範囲内で放出された放射線の高スペクトル部分を発生させるために適している。ワイヤ１１によって放出された熱放射線のスペクトル分布、特に最大のスペクトル強度を有する波長が、ワイヤ１１内を流れる電流の強さを介して、ひいてはワイヤ１１の電気抵抗及びワイヤ１１に印加された電圧を適当に選択することによって制御される。ワイヤ１１の電気抵抗は、ワイヤのために使用された材料、横断面の面及び長さの抵抗率に依存している。所定の抵抗率及び電圧において、赤外範囲における高スペクトル部分を有する熱放射線を得るために、ワイヤ１１の横断面を縮小し、かつワイヤ１の長さを長くすることによって、抵抗を大きくすれば有利である。従って長くて薄いワイヤ１１がコイルとして支持エレメント１２に巻き付けられている。支持エレメント１２は、高い熱抵抗を有するセラミックより構成されている。
【００５６】
スイッチ６０は、タイミング調整（時間制御）されてスイッチオフされる。例えば調節可能で、かつタイミング調整可能なエレメント６１が設けられており、このエレメント６１は、スイッチ６０を調節された所定の時間だけ閉鎖維持する。所定の時間の経過後に、加熱過程が中断される。時間の経過若しくは収縮過程の終了は、音によってスピーカー６２を介してこの装置の使用者に知らせられる。選択的に、発光ダイオードとして構成された光学式の表示器をスピーカーに設けてもよい。電力源５０自体は、調節可能な異なる電力を提供するように構成されている。これによって、放出された熱エネルギーを調節することができる。電力源５０から供給された平均的な電流は、相応に調節することができる。電流の調節は、例えば電流が電流パルスの連続として提供され、この電流パルスのパルス幅ＴＰが、所望の平均的な電流に応じて調節されることによって行われる。所望の平均的な電流及び所望の電力に従って、パルス幅は調節される。
【００５７】
パルス幅ＴＰも、また調節エレメント６０によって調節可能な加熱時間も、例えば接続装置によって準備される。接続装置は、一般的にプロセッサを有しており、このプロセッサは、例えばパーソナルコンピュータのように運転システムを作動させる。ここでは、収縮チューブ（熱収縮チューブ）に伝達しようとする熱エネルギー並びに加熱時間のための相応の設定値が規定され、例えば接続ケーブルによって加熱装置に伝達される。
【００５８】
収縮チューブを、反射器３０の並進的な（translatorisch）楕円形の焦点のうちの１つに整列させるために、ホルダ２０が用いられる。ホルダ２０は、例えば反射器３０を形成する中空室上に位置する、打ち抜き成形によって形成されたウエブ２５を有する金属薄板より形成されている。楕円形焦点の代わりに凹部２２が押し込み成形されていて、この凹部２２内に収縮チューブが位置するようになっている。整列をさらに改善するために、縁部側のウエブ２３，２４が図示のように、加熱エレメントに向けられている凹部２３ｃ、２４ｃを有している。これらの凹部２３ｃ、２４ｃに、外方に向かって突起する隆起部２３ａ，２３ｂ若しくは２４ａ，２４ｂを設けることができる。勿論、他方のウエブ又はすべてのウエブを、図６に示されているように外方に位置するウエブを形成することも可能である。
【００５９】
収縮チューブ若しくは光導波路を整列させるために、図１に示されているように、反射器を形成する中空室の長手方向に配置された終端プレートが、それぞれ突起３４ａ，３４ｂ，３５ａ，３５ｂを備えている。これらの突起は、終端プレート上に間隔を保って配置されているので、これらの終端プレート間に光導波路が挿入される。一方のプレートに１つの突起例えば突起３４ａだけを設ければ、整列するために十分である。それに応じて他方のプレートには、直径方向で互いに向き合う突起３５ｂが設けられ、この場合、突起３５ａは省かれる。しかしながら基本的にすべての突起３４ａ，３４ｂ，３５ａ，３５ｂを省いても良い。この場合は、むしろ保持エレメント２０の外側に位置するウエブ２３，２４に突起２３ａ，２３ｂ，２４ａ，２４ｂを設けられるので、収縮チューブ及び光導波路を楕円形の焦点領域内で確実に整列させることができる。
【００６０】
図７には、収縮チューブ１０１、この収縮チューブによって保護しようとする光導波路１００並びに加熱エレメント１０の概略的な側面図が示されている。収縮チューブ１０１が加熱エレメント１０よりも短い場合は、カバーエレメント１８，１９が設けられており、このカバーエレメント１８，１９は、加熱エレメント１０と光導波路１００の露出している区分との間に配置されている。加熱エレメント１０から放射される熱は、カバーエレメント１８，１９によって、光導波路１００の、収縮チューブ１０１によって被覆されていない露出した区分に対して遮蔽される。カバーエレメント１８，１９の長さは、調節機構によって変えられるようになっている。これは例えば巻き上げ機構によって行われる。他方では、保持エレメント２０は、ねじを取り外すことによって反射器から外すことができ、その長さを、収縮チューブの長さに適合したカバーエレメント１８，１９に合わせることができ、次いで反射器の下部３１内に挿入することができる。
【００６１】
図４Ａ〜図４Ｃには、それぞれ１つの焦点領域３１３を備えた放物面状の反射器３０を有する、本発明による装置の実施例が示されている。反射器３０の反射面３０１は、反射器３０の全長に亘って、長手方向Ｌに対して直交する、放物面形状の横断面を有している。放物面の焦点によって、反射器の焦点領域３１３が規定され、この焦点領域３１３は長手方向Ｌに延在している。
【００６２】
さらに図４Ａには、放射体１３が示されており、この放射体１３は、熱放射線をもっぱら優先方向Ｘで放出する。放射体１３は例えば赤外光線を放出するダイオード１３１である。赤外光線を放出するダイオード１３１の、長手方向Ｌに延在するすべてのフィールドは、半導体レーザ又はハロゲンランプを有していても良い。
【００６３】
図４Ｂには、放射体１３が半導体レーザ１３３を有する構成が示されている。しかも、放射体１３によって生ぜしめられた光線を広げるための光学系１３４が設けられている。半導体レーザ１３３によって生ぜしめられたレーザ光線は、光学系１３４によって、直径Ｄを有する放射線ビームに広げられる。この直径は例えば、長手方向Ｌにおける保護エレメント１０１の寸法に相当するように選定されている。放物面状の反射器３０によって、直径Ｄを有する放射線ビームは、長手方向Ｌに対して垂直な平面で、焦点領域３１３に沿って延在する保護エレメント１０１上に集束される。
【００６４】
図４Ｃには、放射体１３から放出される光線を偏向させるための光学系１３５が設けられている実施例が示されている。熱放射線の強さを長手方向Ｌに延在する焦点領域に分配するために、光学系１３５又は光学系１３５の少なくとも１つの素子は、例えば長手方向Ｌで振動するか、又は長手方向Ｌに対して垂直な方向及び放射体１３によって生ぜしめられた光線の方向に対して垂直な方向を中心にして振動する。
【００６５】
図５Ａには、本発明の有利な実施例による加熱エレメント１０が示されている。長手方向Ｌに延在する光導波路１００を包囲する、長さｌを有する保護エレメント１０１に向き合って、加熱エレメント１０の長手方向区分１０１０が配置されている。加熱エレメント１０は、長手方向Ｌに延在するワイヤ１１を有している。ワイヤ１１のそれぞれの横断面Ａは、加熱エレメント１０の長手方向区分１０１０の両端部間においてテーパ部（細身部）１１１を有している。長手方向区分１０１０のそれぞれ異なる箇所に存在する横断面Ａ１，Ａ２，Ａ３は、長手方向区分１０１０の中央領域１０１２において小さく、この中央領域に隣接する外側の領域１０１１，１０１３に向かって外方に次第に大きくなっている。このテーパ部１１１において、電流の電流密度、この電流密度による加熱、及び中央領域１０１２内の放射線放出が高められる。収縮チューブ及び光導波路の焦点領域内のエネルギー密度は、その中央において高く、外側の両区分において低い。
【００６６】
図５Ｂには、加熱エレメント１０の別の有利な実施態様が示されている。長手方向Ｌに延在する光導波路１００を包囲する、長さｌを有する保護エレメントに向き合って、加熱エレメント１０の長手方向区分１０１０が配置されている。加熱エレメント１０はワイヤ１１を有しており、このワイヤ１１は、長手方向Ｌに延在するセラミック体１２に螺旋状若しくはつる巻線に巻き付けられている。つる巻線１１２のピッチ（隣り合うつる巻線の軸方向間隔）は、加熱エレメント１０の長手方向区分１０１０の中央領域１０１２内において小さい。つる巻線は中央領域において、外側の領域におけるよりも狭い間隔で巻き付けられている。つまり、中央領域１０１２には、この中央領域に隣接する外側の領域１０１１，１０１３におけるよりも、長さ当たりの巻き付け（巻条）数がより多い。中央の領域１０１２においては、加熱エレメント１０の長さ区分毎の放出された熱量は、外側の領域１０１１，１０１３よりも多い。
【００６７】
図４Ｃについて記載された振動運動する光学系１３５に関連して、放射線ビーム１３１の衝突点１３１１は、保護エレメント１０１に沿って時間に基づいて移動する。保護エレメントの１箇所における放射線ビーム１３１の衝突点の平均的な滞留時間は、衝突点の相互速度の大きさに相当する。
【００６８】
図５Ｃには、振動運動の適当な時間経過において生ぜしめられる、保護エレメントに沿った温度の分布が示されている。長手方向Ｌで端部領域１０１１と１０１３との間に配置された、保護エレメント１０１の中央領域１０１２内における放射線ビームの衝突点の滞留時間は長くなっている。これによって、中央領域１０１２内の保護エレメント１０１の平均的な温度も、端部領域１０１１と１０１３との間におけるよりも高い。
【００６９】
図４Ｃ及び図５Ａ乃至図５Ｃを用いて説明された構成は、長手方向Ｌに配置された、保護エレメントの中央領域１０１２が高い放射線出力にさらされるようになっているので、この領域内において温度が、この領域の外におけるよりも迅速に上昇する、という点で共通している。つまり収縮プロセスを実施するために必要な温度は、まずこの領域内で得られ、次いでこの領域の外に位置する領域で得られる、ということである。
【００７０】
このような形式で、保護エレメントは長手方向で中央から外方に向かって焼きばめされ、それによって保護エレメントによって包囲された空気は焼きばめの際に閉じこめられるのではなく、保護エレメントの中央領域１０１２によって外方に搬出される。これによって、保護エレメント内の気泡封入は、保護エレメントが中央から外方に向かって、保護エレメント内に存在する光導波路上に焼きばめされることによって、避けられる。これによって封入された気泡は、収縮する保護エレメントから自動的に内方から外方に取り除かれる。
【００７１】
加熱エレメントの別の構成によれば、つる巻線状に巻き付けられたコイル状のワイヤが適している。この場合、ワイヤは加熱エレメントの中央領域で、外側の領域よりも小さい直径を有している。さらにまた、コイル状に巻き付けられたワイヤを用いることも考えられる。この場合、コイルは中央領域内で小さいコイル直径を有していて、それによって並進的な楕円形の焦点ラインの近傍に位置しており、加熱エレメントの外側の領域内でより大きいコイル直径を有していて、それによって楕円形の焦点のやや外側に位置していて、それによって良好に集束された少ない熱発生を生ぜしめる。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】熱によって収縮（焼きばめ）可能な保護エレメントを被着するための、本発明による装置の１実施例を示す斜視図である。
【図２】本発明による装置の反射器の有利な構成のための１実施例を示す概略図である。
【図３】本発明による装置の有利な加熱エレメントのための１実施例を示す概略図である。
【図４Ａ】反射器及び加熱エレメントの有利な構成を示す概略図である。
【図４Ｂ】反射器及び加熱エレメントの別の有利な構成を示す概略図である。
【図４Ｃ】反射器及び加熱エレメントの別の有利な構成を示す概略図である。
【図５Ａ】加熱エレメントの別の実施例を示す概略図である。
【図５Ｂ】加熱エレメントの別の実施例を示す概略図である。
【図５Ｃ】加熱エレメントの別の実施例を示す概略図である。
【図６】装置内で保護エレメントを位置決めするためのホルダの選択的な構成を示す斜視図である。
【図７】熱放射線のためのカバーを備えた装置の概略的な側面図である。
【図１】
2008516273.tif 000003
【図２】
2008516273.tif 000004
【図３】
2008516273.tif 000005
【図４Ａ】
2008516273.tif 000006
【図４Ｂ】
2008516273.tif 000007
【図４Ｃ】
2008516273.tif 000008
【図５Ａ】
2008516273.tif 000009
【図５Ｂ】
2008516273.tif 000010
【図５Ｃ】
2008516273.tif 000011
【図６】
2008516273.tif 000012
【図７】
2008516273.tif 000013
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月22日(2007.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱を供給することによって収縮可能な保護エレメント（１０１）を、長く延在するエレメント殊に光導波路（１００）上に被着するための装置において、
熱放射線を放出するための加熱エレメント（１０）と、
前記保護エレメント（１０１）を保持するためのホルダ（２０）と、
加熱エレメント（１０）から放出された放射線を反射させて、前記保護エレメント（１０１）上に集束させるための反射器（３０）と、を有しており、該反射器（３０）が、互いに相対的に可動な第１の部分（３１）と第２の部分（３２）とを有している、
ことを特徴とする、光導波路上に保護エレメントを被着するための装置。
【請求項２】
保護エレメント（１０１）が長手方向（Ｌ）に延在し、加熱エレメント（１０）が、前記保護エレメント（１０１）に対して平行に長手方向（Ｌ）に延在し、該加熱エレメント（１０）が熱放射線を、長手方向（Ｌ）に対して垂直なすべての方向に均一に放出するようになっている、請求項１記載の装置。
【請求項３】
反射器（３０）が、長手方向（Ｌ）に沿って延在する反射面（３０１）を有しており、該反射面（３０１）の、前記長手方向（Ｌ）に対して直交する方向に形成された横断面が楕円形の形状を有している、請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記楕円形が、第１の焦点と第２の焦点とを有しており、加熱エレメント（１０）が、前記第１の焦点を通って延在しているか又はこの第１の焦点近傍の領域を通って延在しており、前記保護エレメント（１０１）が、第２の焦点を通って延在しているか又はこの第２の焦点近傍の領域を通って延在している、請求項３記載の装置。
【請求項５】
加熱エレメント（１０）が、電流に基づいて熱放射線を放出する導電性材料より成るワイヤ（１１）を有している、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項６】
加熱エレメント（１０）が、ホルダ（２０）に向き合って位置する長手方向区分を有しており、該長手方向区分が、両外側領域（１０１１，１０１３）と、これらの外側領域間に配置された中間領域（１０１２）とを有しており、ワイヤ（１１）の横断面（Ａ）が中央領域（１０１２）において、両外側領域（１０１１，１０１３）のうちの一方の横断面よりも小さい、請求項５記載の装置。
【請求項７】
ワイヤ（１１）の中央領域（１０１２）が、両外側領域（１０１１，１０１３）のうちの一方におけるよりも小さい横断面（Ａ）を有して構成されている、請求項５又は６記載の装置。
【請求項８】
ワイヤ（１１）がつる巻線（１１２）の形に巻き付けられており、前記加熱エレメント（１０）が、ホルダ（２０）に向き合って位置する長手方向区分を有しており、該長手方向区分が、両外側領域（１０１１，１０１３）と、これらの外側領域（１０１１，１０１３）間に配置された中央領域（１０１２）とを有しており、この場合、前記つる巻線の形に巻き付けられたワイヤのつる巻線が、所定の長さ範囲内で、中央領域（１０１２）において、両外側領域（１０１１，１０１３）のうちの一方よりも多くの巻条を有している、請求項５から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項９】
加熱エレメント（１０）が支持エレメント（１２）を有していて、ワイヤ（１１）がコイルとして支持エレメント（１２）上に巻き付けられている、請求項５から８までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１０】
第１の部分（３１）がヒンジ（３３）を介して第２の部分（３２）に接続されていて、それによって反射器（３０）の第１の部分（３１）を開くことができるようになっている、請求項１記載の装置。
【請求項１１】
第１の部分（３１）が第２の部分（３２）から取り外し可能である、請求項１記載の装置。
【請求項１２】
前記ホルダ（２０）が載設面（２１，２２）を有していて、前記保護エレメント（１０１）が長く延在するエレメント（１００）の１つの区分を有していて、保護エレメント（１０１）は、熱放射線が該保護エレメント（１０１）上に集束されるように、載設面（２１）上に載設可能である、請求項１から１１までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１３】
加熱エレメント（１０）が放射体（１３）を有していて、該放射体（１３）が熱放射線を優先方向に優先的に放出する、請求項１記載の装置。
【請求項１４】
放射体（１３）が、赤外線を放出するダイオード（１３１）のフィールドを有している、請求項１３記載の装置。
【請求項１５】
放射体（１３）が、赤外線を放出するダイオード（１３２）を有している、請求項１３又は１４記載の装置。
【請求項１６】
放射体（１３）が半導体レーザ（１３３）を有している、請求項１３記載の装置。
【請求項１７】
付加的に、放射体（１３）から放出される放射熱を広げるための光学系（１３４）が設けられている、請求項１３から１６までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１８】
前記保護エレメント（１０１）が長手方向（Ｌ）に延在していて、反射体（３０）が長手方向（Ｌ）に延在する反射面（３０）を有しており、該反射面（１４）の、長手方向（Ｌ）に対して垂直な横断面が複数の放物線の形状を有していて、各放物線が１つの焦点を有していて、複数の放物線の焦点が、保護エレメント（１０１）が配置されている領域を規定するようになっている、請求項１３から１７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１９】
放射体（１３）から放出された熱放射線の放射線ビーム（１３１）を偏向させ、かつ長手方向（Ｌ）に延在する保護エレメント（１０１）に亘って分配させるための光学系（１３５）が設けられており、該光学系（１３５）が、長手方向（Ｌ）で摺動可能であるか、又は長手方向（Ｌ）に対して垂直な軸線（Ｘ）を中心にして振動可能である、請求項１８記載の装置。
【請求項２０】
カバーエレメント（１８，１９）が設けられていて、該カバーエレメント（１８，１９）が、加熱エレメント（１０）と、長く延在するエレメント（１００）との間に配置されていて、該カバーエレメントが、加熱エレメント（１０）によって運転中に放出される熱放射線に対して前記長く延在するエレメント（１００）が遮蔽される、請求項２又は３記載の装置。
【請求項２１】
熱を供給することによって収縮可能な保護エレメント（１０１）を、光導波路（１００）の１つの区分上に被着するための方法において、
次のステップを有している、つまり、
光導波路（１００）及び、該光導波路（１００）の１つの区分（１０２）を包囲する保護エレメント（１０１）を準備し、
反射器（３０）によって包囲された、互いに可能な第１の部分（３１）及び第２の部分（３２）を有する中空室を設け、前記第２の部分（３２）を取り外すか又は開き、保護エレメント（１０１）及び光導波路（１００）を挿入し、第１の部分（３１）と第２の部分（３２）とを組み立て、
熱放射線を放出し、
該熱放射線を反射させ、
該熱放射線を前記保護エレメント（１０１）上に集束させ、
加熱し、それによって光導波路（１００）の前記区分（１０２）上に保護エレメントを焼きばめする、
ステップを有していることを特徴とする、熱を供給することによって収縮可能な保護エレメント（１０１）を、光導波路（１００）の１つの区分上に被着するための方法。
【請求項２２】
前記熱放射線を集束させるステップにおいて、長手方向（Ｌ）に延在する領域（３１２，３１３）上に熱放射線を集束させる、請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
前記熱放射線を集束させるステップにおいて、熱放射線の集中を外側領域（１０１１，１０１３）内で強くし、かつ保護エレメント（１０１）の中央領域（１０１２）内で弱くし、該中央領域（１０１２）を外側領域（１０１１，１０１３）間に配置する、請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
前記中空室が楕円形横断面形状を有するようにし、該楕円の１つの焦点内に前記保護エレメント（１０１）を位置決めし、次いで反射器（３０）の第１の部分（３１）と第２の部分（３２）とを組み立てる、請求項２１記載の方法。
【請求項２５】
中空室内の、保護エレメント（１０１）によってカバーされていない、光導波路（１００）の区分を、熱放射線に対して遮蔽する、請求項２１から２４までのいずれか１項記載の方法。
【国際調査報告】
2008516273.tif 000014
2008516273.tif 000015
2008516273.tif 000016
2008516273.tif 000017