(57)【要約】  それぞれが個別のマウント又は支持構造に保持された２つ以上の光学部品を取り付けるための装置であって、光学部品は共通マウントに取り付けられる。共通マウントにおける光学部品（１０，１１）の相対的な位置決めは設定可能である。マイクロリソグラフィ用の投影レンズにおける本件発明の使用法が開示される。加えて、例えばマイクロリソグラフィ用の投影レンズ等の撮像装置における光学部品表面の原位置テスト、さらなる処理のための部品の取り外し及び部品の再設置を伴う対話型（インターラクティブ）方法が開示される。
2008525833.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれが個別のマウント又は支持構造に保持される複数の光学部品を取り付けるための装置であって、
マウント又は支持構造に保持される光学部品の少なくとも２つは、それぞれのマウント又は支持構造と共に共通マウントに設置され、該共通マウント（１８）に設置された光学部品（１０，１１）の相対的な位置決めは設定可能であることを特徴とする装置。
【請求項２】
上記共通マウント（１８）は、対物レンズ（１）における対物レンズハウジング（２５）に設置されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
上記対物レンズは、半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィ用の投影レンズ（１）として設計されることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
それぞれの上記光学部品（１０，１１）は、それぞれのマウント又は支持構造（１９，２０）と共に、共通マウント（１８）としての基本構造に設置されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
少なくとも２つの光学部品が備えられ、該光学部品のうち１つはビーム分割部品（１０）であり、うち１つは偏向ミラーであることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
個別のマウントに保持された光学部品（５,１０，１１，１３，１５，１７）には最終処理が施されることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項７】
上記最終処理は、上記光学部品（５,１０，１１，１３，１５，１７）が個別のマウント（１９，２０）に設置された状態で、共通マウント（１ａ、１ｃ、７，１８）に接続される前又は共通マウント（１ａ、１ｃ、７、１８）から取り外された後に施されることを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
上記最終処理として表面コーティングが施されることを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項９】
上記光学部品（１０）は、分離部品（２１）を介して関連する個別のマウント又は支持構造（１９）に接続されることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項１０】
上記光学部品（１０，１１）の少なくとも１つには、該光学部品（１０，１１）を移動及び／又は回転するための操作部品（２０，２２）が備えられることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
上記操作部品（２０，２２）は、上記光学部品（１０，１１）を相対的に位置決めするために備えられることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
上記操作部品（２０，２２）は、上記共通マウント（１８）が対物レンズに設置された後でさえも、共通マウント（１８）に設置された上記光学部品（１０，１１）の少なくとも１つの移動及び／又は傾倒を容易に行えるように設計されることを特徴とする請求項２又は１０に記載の装置。
【請求項１３】
半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィ用の投影レンズであって、対物レンズハウジングにはそれぞれ個別のマウント又は支持構造に保持される複数の光学部品が配置され、そのうち少なくとも２つの光学部品はそれぞれのマウント又は支持構造と共に共通マウントに設置され、上記共通マウント又は基本構造における上記光学部品（１０，１１）の相対的な位置決めは設定可能であることを特徴とする投影レンズ。  
【請求項１４】
上記共通マウント（１８）は対物レンズハウジング（２５）に接続されることを特徴とする請求項１３に記載の投影レンズ。
【請求項１５】
上記共通マウントは、上記光学部品（１０，１１）のそれぞれのマウント又は支持構造（１９，２０）が接続される基本構造（１８）として設計されることを特徴とする請求項１３に記載の投影レンズ。
【請求項１６】
上記基本構造（１８）は上記対物レンズハウジング（２５）の一部を形成することを特徴とする請求項１５に記載の投影レンズ。
【請求項１７】
少なくとも２つの光学部品が備えられ、該光学部品のうち１つはビーム分割部品（１０）であり、うち１つは偏向ミラー（１１）であることを特徴とする請求項１３に記載の投影レンズ。
【請求項１８】
上記共通マウント（１８）は、上記対物レンズハウジング（２５）に着脱可能に接続されることを特徴とする請求項１３に記載の投影レンズ。
【請求項１９】
それぞれ個別のマウントに保持された上記光学部品（５，１０，１１，１３，１５，１７）には、最終処理が施されることを特徴とする請求項１３に記載の投影レンズ。
【請求項２０】
上記最終処理は、上記光学部品（５,１０，１１，１３，１５，１７）が個別のマウント（１９，２０）に設置された状態で、共通マウント（１ａ、１ｃ、７，１８）に接続される前又は共通マウント（１ａ、１ｃ、７、１８）から取り外された後に施されることを特徴とする請求項１９に記載の投影レンズ。
【請求項２１】
上記最終処理として表面コーティングが施されることを特徴とする請求項１９に記載の投影レンズ。
【請求項２２】
上記光学部品（１０）は、分離部品（２１）を介して関連する個別のマウント又は支持構造（１９）に接続されることを特徴とする請求項１３に記載の投影レンズ。
【請求項２３】
上記光学部品（１０，１１）の少なくとも１つには、該光学部品（１０，１１）を移動及び／又は回転するための操作部品（２０，２２）が備えられることを特徴とする請求項１３に記載の投影レンズ。
【請求項２４】
上記操作部品（２０，２２）は、上記光学部品（１０，１１）を相対的に位置決めするために備えられることを特徴とする請求項２３に記載の投影レンズ。
【請求項２５】
上記操作部品（２０，２２）は、上記共通マウント（１８）が対物レンズに設置された後でさえも、共通マウント（１８）に設置された上記光学部品（１０，１１）の少なくとも１つの移動及び／又は傾倒を容易に行えるように設計されることを特徴とする請求項２又は２３に記載の投影レンズ。
【請求項２６】
上記対物レンズは少なくとも２つの光軸（９，１２）を有し、上記共通マウント（１８）に設置された光学部品（１０，１１）のうち少なくとも１つによって第１光軸から第２光軸へ偏向されることを特徴とする請求項１３に記載の投影レンズ。
【請求項２７】
上記２つの光軸（９，１２）は平行でないことを特徴とする請求項２６に記載の投影レンズ。
【請求項２８】
上記共通マウントに設置された光学部品（１０，１１）のうち少なくとも１つは、平面偏向ミラーであることを特徴とする請求項２６又は２７に記載の投影レンズ。
【請求項２９】
撮像装置に挿入される光学部品の表面に処理を施す方法であって、下記のステップを有する方法：
１．１  上記光学部品（１０，１１）は個別の部品として、製造工程においてその表面に
前処理が施され；
１．２  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれ個別のマウント又は支持構造（１９，
２０）に取り付けられ；
１．３  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれのマウント又は支持構造と共に、撮像
装置（１）における後の通常動作の際の特徴である設置位置に設置され；
１．４  上記光学部品（１０，１１）の表面は、光学的方法によって測定され、取得され
た上記表面のデータは蓄積され；
１．５  上記取得されたデータから補正データ記録が割り出され；
１．６  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれのマウント又は支持構造（１９，２
０）と共に再び取り外され、補正データ記録に応じてさらなる処理が施され；
１．７  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれのマウント又は支持構造（１９，２
０）と共に再び撮像装置（１）に設置される。
【請求項３０】
請求項１３に記載の投影レンズに挿入される光学部品の表面に処理を施すための方法であって、下記のステップを有する方法：
１．１  上記光学部品（１０，１１）は個別の部品として、製造工程においてその表面に
前処理が施され；
１．２  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれ個別のマウント又は支持構造（１９，
２０）に取り付けられ；
１．３  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれのマウント又は支持構造と共に、撮像
装置（１）における後の通常動作の際の特徴である設置位置に設置され；
１．４  上記光学部品（１０，１１）の表面は、光学的方法によって測定され、取得され
た上記表面のデータは蓄積され；
１．５  上記取得されたデータから補正データ記録が割り出され；
１．６  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれのマウント又は支持構造（１９，２
０）と共に再び取り外され、補正データ記録に応じてさらなる処理が施され；
１．７  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれのマウント又は支持構造（１９，２
０）と共に再び撮像装置（１）に設置される。
【請求項３１】
上記方法における個々のステップは、必要であれば頻繁に繰り返して行うことが可能であることを特徴とする請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
上記方法における最終処理ステップの後に、それぞれのマウント又は支持構造（１９，２０）において光学部品（１０，１１）に表面コーティングが施されることを特徴とする請求項３０に記載の方法。
【請求項３３】
上記光学部品（１０，１１）におけるフィット（ｆｉｔｓ）に処理が施されることを特徴とする請求項３０に記載の方法。
【請求項３４】
ミラー（１１）の表面は、光学部品となるように処理されることを特徴とする請求項３０に記載の方法。
【請求項３５】
上記方法における最終処理ステップにおいて、個別のマウント又は支持構造に保持されるミラー（１１）に反射面が施されることを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、それぞれが個別のマウント又は支持構造に保持される複数の光学部品が取り付けられ、上記光学部品のうち少なくとも２つはそれぞれのマウント又は支持構造と共に共通マウントに設置される装置に関する。また、本発明は半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィ用の投影レンズに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＵＳ５，６３８，２２３には、共通対物レンズハウジングを形成するように相互に接続された複数のモジュール又は個別のサブアセンブリから組立てられた投影レンズが開示されている。この場合には、各サブアセンブリは複数の光学部品を有することも可能とされる。１つの部品を形成するための個別のサブアセンブリの接続は、ねじ込み接続によって相互に接続された複数のフランジによって行われる。
【０００３】
しかし、個々の部品の相互に対する調整、又は対物レンズハウジングに対する調整、及び光軸（ｚ軸）に対する位置決めが非常に複雑であるということは、このような投影レンズにおいては不利点である。個々のサブアセンブリ又は光学部品を交換又は補修する際には、それ相当の経費を伴い、対物レンズ全体が位置決め及び／又は調整されなければならないという新たな必要性が生じる。
【０００４】
対物レンズ又はレンズシステムにおけるモジュール設計は、「ヴコブラトヴィッチ、モジュール式光学配置、Ｓｐｉｅ会報、Ｓｐｉｅ、ベリンガム、バージニア、アメリカ合衆国、第３７８６巻、１９９９年７月２０日、４２７〜４３８ページ、ＸＰ００９００６６１７、ＩＳＳＮ：０２７７−７８６Ｘ、４２７〜４２８ページ」（Ｖｕｋｏｂｒａｔｏｖｉｃｈ，Ｍｏｄｕｌａｒ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ，Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｓｐｉｅ，Ｓｐｉｅ，Ｂｅｌｌｉｎｇｈａｍ，ＶＡ，ＵＳ，Ｖｏｌ．３７８６，Ｊｕｌｙ  ２０，１９９９，（１９９９−０７−２０），Ｐａｇｅｓ  ４２７−４３８，ＸＰ００９００６６１７，ＩＳＳＮ：０２７７−７８６Ｘ，ｐａｇｅ  ４２７−ｐａｇｅ  ４２８）に記載されている。
【０００５】
さらなる先行技術に関しては、古いドイツ出願であるＤＥ１０２  ４６  ８９８を参照とする。
【０００６】
また、入射直線偏光を対物レンズの垂直部から水平部へ反射するビーム分割部品を備えた、いわゆる反射屈折対物レンズと呼ばれる投影レンズが（例としてＤＥ１０２  ２５  ２６５．３から）知られている。反射部品において光が反射され、偏光方向が９０°変化されると、光はビーム分割部品を通過し、最終的に基板に作用するビームの方向が対物レンズに入射するビームの方向と一致するように、反射ミラーにおいて偏向される。
【０００７】
対物レンズにおいて用いられる光学部品は、通常個別のマウントに保持され、それを介して対物レンズハウジングに接続される。
【０００８】
とりわけ、例えば１９３又は１５７ｎｍ等の非常に短い波長域において操作される場合における投影レンズの問題は、望ましい高い撮像精度を得るには、対物レンズの対物レンズハウジングにおける位置決め及び光学部品同士の相互に対する位置決めを行う上で、非常に高い精度が要求される点にある。高い撮像精度を得るには、一つには、再加工が施されるために例えばビーム分割部品等の光学部品は一旦取り外されてから、例えばその表面を補正する等の処理が施される必要がある。この工程において、再設置された後も狭公差を有する同様の設置条件が得られなければならない。
【０００９】
これと同時に、光学部品、とりわけ直接的に相互作用する光学部品の相互に対する位置決めもまた維持されなければならない。この条件は、とりわけビーム分割部品及びビーム方向に対して下流側に配置される偏向ミラーにおいて適用される。さらに、光学部品は、高い固有周波数を有しつつも該光学部品を変形から分離するマウントに取り付けられなければなりという条件もある。
【００１０】
さらなる先行技術に関しては、ＵＳ６，３６２，９２６を参照とする。
【００１１】
例えば冒頭で説明されたような投影レンズ等の高性能光学撮像装置において、光学部品は、その撮像性能に関して非常に高精度でなければならない。この条件は、とりわけレンズやミラーの表面、例えばそのフィット（ｆｉｔｓ）等に対して適用される。同様の条件は、表面にブルーミング（ｂｌｏｏｍｉｎｇ）を施すためのコーティングを行う際にも適用される。
【００１２】
関連する先行技術に関しては、ＵＳ６，２７６，３９８  Ｂ１、古いＤＥ１０２５９５３６．４、ＵＳ２００２／０１７１９２２  Ａ１及びＵＳ６，２５６，１４７  Ｂ１を参照とする。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
よって、本件発明の目的は、冒頭で述べられたタイプの装置及び上記の問題が解消されるような、とりわけ２つ以上の光学部品の相互に対する位置決めが、個々の光学部品が設置及び取り外されても維持され、この設置及び取り外しが行われても、対物レンズにおける全体的な位置関係において再現可能な状態が得られるような投影レンズを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明によると、この目的は、共通マウントにおける光学部品の相対的な位置決めを設定可能とすることによって達成することができる。
【００１５】
半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィ用の投影レンズは請求項１３において請求されており、個別のマウント又は支持構造に保持された複数の光学部品は対物レンズハウジングに配置され、上記光学部品のうち少なくとも２つは、それぞれのマウント又は支持構造と共に共通マウントに取り付けられる。また、共通マウント又は支持構造における光学部品の相対的な位置は設定可能であることが、本発明における本請求項にて定められる。
【００１６】
本発明によると、２つ以上の光学部品は、例えば個別のマウント又は支持構造において適切に取り付けられることによって、それぞれの光学部品が共通マウントに対して個別的に分離された接続がなされるように、共通マウントに保持される。同様に、個別のマウント又は支持構造が、共通マウントに関連して、ひいては共通マウントに保持されるその他の光学部品にも関連して設定及び調整されることも可能である。
【発明の効果】
【００１７】
このような改良によって、例えば光学部品を対物レンズ外で処理することなどが可能となる。同様に、例えば調整測定及びアラインメント等における測定が、共通マウントにおける設置位置に配置された状態とは関係なく行うことが可能となる。さらに、必要であれば、それぞれのマウント又は支持構造に対して、また共通マウントにおけるその他の光学部品に対して、光学部品を位置決め及び／又は操作するための操作装置を備えることも可能である。
【００１８】
本発明による解決手段の主な利点の１つは、上記手段が個別に、すなわち共通マウントが設置される又はされている対物レンズとは独立的に行われることが可能な点にある。このため、それぞれの光学部品は共通マウントにおいて対物レンズ外で処理されることが可能となり、ひいては対物レンズ外で共通マウントにおいて相互に対して正確に再調整されることが可能となる。後に、光学部品は、共通マウントと共に一つのユニットとして対物レンズに再度挿入され調整されることが可能となる。例えば補修される目的で取り外される場合でも、同様のことが可能となる。
【００１９】
本発明のさらなる目的は、例えば投影レンズ等の非常に高性能の撮像装置において、とりわけレンズやミラー等の光学部品が、必要とされる精度を有することが可能な製造法を提供することである。
【００２０】
本発明によると、この目的は、とりわけ投影レンズ等の撮像装置に挿入される光学部品の表面に処理を施すための、下記の工程からなる方法によって達成できる。
１．１  上記光学部品は個別の部品として、製造工程においてその表面に前処理が施さ
れ；
１．２  上記光学部品は、それぞれ個別のマウント又は支持構造に取り付けられ；
１．３  上記光学部品は、それぞれのマウント又は支持構造と共に、撮像装置における後
の通常動作の際の特徴である設置位置に設置され；
１．４  上記光学部品の表面は、光学的方法によって測定され、取得された上記表面の
データは蓄積され；
１．５  上記取得されたデータから補正データ記録が割り出され；
１．６  上記光学部品は、それぞれのマウント又は支持構造と共に再び取り外され、補正
データ記録に応じてさらなる処理が施され；
１．７  上記光学部品は、それぞれのマウント又は支持構造と共に再び撮像装置に設置さ
れる。
【００２１】
従って本発明によると、例えばミラーなどの光学部品は、光学部品が保持されたマウント又は支持構造と共に、実質的には例えば投影レンズ等の撮像装置に後々設置される際の位置で測定される。その後、再び取り外された状態で、例えばフィット（ｆｉｔｓ）などの表面は測定結果を基にしたデータセットを用いて別々に処理される。そして、光学部品は撮像装置に再び設置され、この工程は好ましくは複数の光学部品が保持された共通マウントにおいて行われる。
【００２２】
本発明による方法から得られる大きな利点は、設置位置、すなわち光学部品の後の操作における位置において測定されたデータを用いて表面が処理されると同時に、再現性が得られる点である。
【００２３】
必要であれば上記の方法ステップは、光学部品の再設置後において測定して得られた及び／又は更新された結果に応じて、所望の高い撮像性能を有するような望ましい補正及び／又は変化を得るために再度繰り返されてもよい。
【００２４】
後にコーティングによって表面に施される層厚さが、処理の間にも維持される点もまた、本件の利点である。光学部品が設置及び配列された状態において、例えばフィット（ｆｉｔｓ）等の表面の十分な結果が得られるまで、光学部品は再び取り外され、最終処理が施されることはない。ミラーが用いられる場合には反射面の処理が施され、レンズの場合には、例としては反射防止層の処理が施される。どちらの場合にも、光学部品はマウント又は支持構造に保持され、これによって測定結果及び後に設置される設置位置の適切な再現が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
さらなる好適な発展案及び改良案は従属請求項から得られ、本発明の原理は図面を参照として以下に説明される。
【００２６】
図１は半導体を製造するためのマイクロリソグラフィ用の撮像装置として投影レンズ１を備えた投影露光機を概念的に示した図である。
【００２７】
照射システム２は光源としてレーザー（図示なし）を備えてなる。投影露光機の対物面にはレチクル３が配置され、レチクルのパターンは適切に縮尺されて投影レンズ１の下方に配置されると共に対物面に位置する基板４に撮像される。
【００２８】
投影レンズ１は、第１垂直ハウジング部１ａと第２水平ハウジング部１ｂとを備える。ハウジング部１ｂには、ハウジング部１ｂの対物レンズハウジング部７に備えられる複数のレンズ５及び１つの凹面鏡６が配置される。ビーム分割キューブは、ビーム分割部品１０として投影ビーム（矢印を参照）を垂直光軸８から水平光軸９に偏向するために水平ハウジング部１ｂに備えられる。
【００２９】
ハウジング部１ａはそこに配置される光学部品のための共通マウントを構成する。複数のレンズ５及び凹面鏡６が取り付けられた対物レンズハウジング７もまた同様である。しかし、必要であれば、凹面鏡は個別のユニットとして備えられてもよい。
【００３０】
ビームが凹面鏡６によって反射され、ビーム分割キューブ１０を通過すると、偏向ミラー１１に当たる。偏向ミラー１１に当たると、光軸９に沿った水平ビーム路は垂直光軸１２へ再び偏向される。
【００３１】
ビーム分割キューブ１０と偏向ミラー１１は共通基本構造１８に取り付けられる。
【００３２】
さらなるレンズ群１３を有する第３垂直対物レンズ部１ｃは、偏向ミラー１１の下方に配置される。これに加え、ビーム路には３つのλ／４板１４，１５，１６が配置される。投影レンズ１には、レチクル３とビーム分割キューブ１０の間において、ハウジング部１ａに配置されたレンズ又はレンズ群１７の下流側にλ／４板１４が備えられる。λ／４板１５は水平ハウジング部１ｂのビーム路に配置され、λ／４板１６は第３対物レンズ部１ｃに配置される。３つのλ／４板は、偏光を完全に回転させるために用いられ、これによってとりわけビーム損失を最小に抑えられる。
【００３３】
本発明による装置は、図２においては基本構造の共通マウント１８として示されている。すでに記載したように、基本構造はビーム方向下流側に配置されるビーム分割部品１０と偏向ミラー１１のための共通マウント１８として形成される。
【００３４】
もちろん、ビーム分割部品１０及び偏向ミラー１１のための共通マウント１８又は基本構造は、ほんの一例として示されたものと理解されたい。必要であれば、共通マウント又は基本構造にさらなる光学部品を配置することも、対物レンズのその他の光学部品を配置することも可能である。これは、とりわけハウジング部１ｂ、対物レンズハウジング部７及び対物レンズ部１ｃにおいて適用される。対物レンズ部１ｃの場合には、それぞれ共通マウントに複数の光学部品が配置されるサブグループにさらに細分化されることも可能である。
【００３５】
図示されるように、ビーム分割キューブとして設計されたビーム分割部品１０は、支持構造としての支持フレーム１９に取り付けられ、偏向ミラー１１は支持構造を構成する回転部品２０を介して取り付けられる。ビーム分割部品１０は、分離部品２１（詳細には図示されない）を介して支持フレーム１９に接続される。偏向ミラー１１の回転部品２０は、複数の操作部品を備えるか、もしくはそれ自体が操作部品として形成され、それによって偏向ミラー１１がｘとｙ方向及び光軸の方向に調整可能となるか、光軸９又は１２に対する傾斜が調整可能となる。それによって同時に、偏向ミラー１１はビーム分割部品１０に関連しても調整される。支持フレーム１９と基本構造としての共通マウント１８の間には回転部品２２が同様に配置され、これによってビーム分割部品１０の位置が共通基本構造に関連して設定可能となり、従って偏向ミラー１１に関連しても設定可能となる。
【００３６】
ビーム分割部品１０及び偏向ミラー１１のための操作部品は一般的に知られているため、ここでは詳細な説明は付さない。また、分離部品２１についても同様である。操作部品及び回転部品２０と２２は、例として、例えば圧電部品や圧電スタック等の電気機械式部品を構成してもよい。このために、例としてＤＥ  １０２  ４８  ８４９．５、ＤＥ  １０２  ２６  ６５５．７（ＵＳ  Ｎｏ．１０／４５８，９６８）、ＤＥ  １０２  ２５  ２６５．３及びＤＥ  １０２  １２  ５４７  Ａ１を参照とする。
【００３７】
ビーム分割部品１０及び偏向ミラー１１を共通マウント１８としての基本構造に取り付ける発明的な方法は、それら２つのユニットにとりわけ有利に働く。２つのユニットは、投影ビーム精度に関する、ひいては撮像性能に関する非常に高い要求を満たすために、相互の部品及び対物レンズハウジングと正確に一直線になるように配置されなければならない。このために必要とされる正確な位置決めは、取り外された状態、すなわち対物レンズとは独立して行うことが可能となる。測定及び調整において必要な作業が済んだら、基本構造１８は、対物レンズ１の対物レンズハウジング２５に、これより詳細には説明されない方法により再び接続される。これによって、ビーム分割部品１０と偏向ミラー１１の相互の位置決め及び調整は維持され、その後すべきことは、対物レンズハウジング２５において全体的な基本構造１８を調整することのみとなる。
【００３８】
もちろん、操作部品の適切な構造及び位置決めが特定されたならば、後に調整の変更及び再調整を行うこともまた可能である。
【００３９】
共通マウントに配置される光学部品を対物レンズ１外において独立的に位置決め及び調整を行うことの上記利点は、その他の共通マウント１ａ、７、１ｃにも適用される。その際は、設置位置において異なる調整及び位置決めがそれぞれに行われてもよい。これは、とりわけ光学部品の重量が考慮されなければならない場合において好適である。それぞれの光学部品に例えば表面コーティング等の最終処理が施されなければならない場合、また対応する共通マウント１８の取り外しを要する機械加工が再び行われなければならない場合にも同様のことが言える。このような加工が済んだら、加工された光学部品は共通マウント１８に再び設置及び調整され、それが終わって初めて共通マウントは対物レンズハウジング２５に再度取り付けられる。上記加工方法の例示的な具体案は以下に説明される。
【００４０】
共通マウント１８は対物レンズハウジング２５に着脱可能に接続されるか、もしくはそれ自体が対物レンズ１又は対物レンズハウジング２５の一部を形成することが可能に形成される。
【００４１】
このような設計のさらなる利点は、これらの作業を平行して行うことができる点にあり、これにより対物レンズ１の全体的な組立をそれ相当に加速できる。
【００４２】
高い固有周波数を考慮して、分離部品と共にそれぞれの光学部品が個々のマウント、支持構造及び／又はそれらの共通マウントに接続される際、このために必要とされる位置決め操作は、同様に対物レンズハウジング２５とは独立して又はその外で簡単な方法で行うことができる。
【００４３】
それぞれの部品には、低い熱膨張係数を持つ素材が用いられることが好ましく、これは相互に隣接する部分がほぼ同等の熱膨張係数を有することが要される共通マウントにおいては、とりわけ好ましい。
【００４４】
本件の発明的な装置は、例えば６３２．８ｎｍ、３６５ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、さらに１３．５ｎｍ等の短い波長の、可視領域及び不可視領域のどちらの領域における波長にも好適に適している。
【００４５】
投影レンズ１の光学部品に要される高精度を達成するために、例えば偏向ミラー等の光学部品としてのミラーの表面を処理する方法は、下記に原理的に説明される。もちろん、下記方法は光学部品としてのレンズにおいても準用される。
【００４６】
偏向ミラーは、偏向ミラー１１の支持構造を構成する回転部品２０に取り付けられ、ビーム分割部品１０と共に共通マウント１８としての基本構造に取り付けられる。ビーム分割部品１０及び偏向ミラー１１は、共に共通マウント１８を介して対物レンズに設置される。偏向ミラー１１は、この設置位置において周知の干渉法で測定される。このような方法で、全体的な表面の欠陥としての変形が特定される。これは、それが何に所以するか、例えば製造前の段階で、設置段階で、又は沈降効果によって生じたものかどうかとは関係なく、全ての変形において同様に行われる。このようにして得られたデータは補正データ記録に変換され、補正工程に用いられる。回転部品２０に配置される偏向ミラー１１又は適切であれば、ビーム分割部品１０を備えた共通マウント１８としての基本構造は、対物レンズから再び取り外され、供される補正データ記録を用いて表面に機械加工を施す補正工程が行われる機械加工ステーションに運ばれる。
【００４７】
そして、そのユニットは再び投影レンズ１に設置され、更新された干渉測定が監視のために行われる。必要であれば、補正工程は、繰り返し行われる取り外しに応じて、望ましい高精度が得られるまで繰り返し行われる。
【００４８】
上記方法で偏向ミラー１１の表面が最終的に補正されると、例えば反射面を製造するためのクリーニング及び気相コーティング（ｖａｐｏｒ  ｃｏａｔｉｎｇ）の処理が施される。この場合も同様に、サブアセンブリは取り外される必要はない。すなわち、それらの機械加工は、偏向ミラー１１が回転部品に取り付けられた状態で投影レンズ１外で施されるのだが、その加工は回転部品２０がすでに基本構造１８に取り付けられた状態である最終状態において行われるのである。
【００４９】
反射面の補正処理は、例えばＩＢＦ（ｉｏｎ  ｂｅａｍ  ｆｉｇｕｒｉｎｇ）を用いて行われてもよい。
【００５０】
発明的な本件方法によると、偶発的事故による影響も、例えばサブアセンブリが補正前に設置される際などに補正することが可能となる。上記の処理法は全てのタイプのレンズ、ミラー、ビーム分割部品又はプリズムに適用可能である。また、光学部品のフィット（ｆｉｔｓ)への再現性のある気相コーティングの影響も、同様に維持される。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】マイクロリソグラフィ用の投影レンズの概念図である。
【図２】２つの光学部品を有する共通マウントとしての基本構造の拡大側面図である。
【符号の説明】
【００５２】
１      投影レンズ
１ａ    垂直ハウジング部
１ｂ    水平ハウジング部
１ｃ    垂直対物レンズ部
２      照射システム
３      レチクル
４      基板
５      レンズ
６      凹面鏡
７      対物レンズハウジング部
８      垂直光軸
９      水平光軸
１０    偏向ミラー
１１    垂直光軸
１２    レンズ群
１３    λ／４板
１４    λ／４板
１５    λ／４板
１６    レンズ群  
１８    共通基本構造
１９    支持フレーム
２０    回転部品／操作部品
２１    分離部品
２２    回転部品／操作部品
２５    対物レンズハウジング
【図１】
2008525833.tif 000003
【図２】
2008525833.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月20日(2007.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィ用の投影レンズであって、対物レンズハウジングにはそれぞれ個別のマウント又は支持構造に保持される複数の光学部品が配置され、そのうち少なくとも２つの光学部品はそれぞれのマウント又は支持構造と共に共通マウントに設置され、上記共通マウント又は基本構造における上記光学部品（１０，１１）の相対的な位置決めは設定可能であり、上記共通マウント又は基本構造（１８）は上記対物レンズハウジング（２５）において調節可能であることを特徴とする投影レンズ。  
【請求項２】
上記共通マウント（１８）は対物レンズハウジング（２５）に接続されることを特徴とする請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項３】
上記共通マウントは、上記光学部品（１０，１１）のそれぞれのマウント又は支持構造（１９，２０）が接続される基本構造（１８）として設計されることを特徴とする請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項４】
上記基本構造（１８）は上記対物レンズハウジング（２５）の一部を形成することを特徴とする請求項３に記載の投影レンズ。
【請求項５】
少なくとも２つの光学部品が備えられ、該光学部品のうち１つはビーム分割部品（１０）であり、うち１つは偏向ミラー（１１）であることを特徴とする請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項６】
上記共通マウント（１８）は、上記対物レンズハウジング（２５）に着脱可能に接続されることを特徴とする請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項７】
それぞれ個別のマウントに保持された上記光学部品（５，１０，１１，１３，１５，１７）には、最終処理が施されることを特徴とする請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項８】
上記最終処理は、上記光学部品（５,１０，１１，１３，１５，１７）が個別のマウント（１９，２０）に設置された状態で、共通マウント（１ａ、１ｃ、７，１８）に接続される前又は共通マウント（１ａ、１ｃ、７、１８）から取り外された後に施されることを特徴とする請求項７に記載の投影レンズ。
【請求項９】
上記最終処理として表面コーティングが施されることを特徴とする請求項７に記載の投影レンズ。
【請求項１０】
上記光学部品（１０）は、分離部品（２１）を介して関連する個別のマウント又は支持構造（１９）に接続されることを特徴とする請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項１１】
上記光学部品（１０，１１）の少なくとも１つには、該光学部品（１０，１１）を移動及び／又は回転するための操作部品（２０，２２）が備えられることを特徴とする請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項１２】
上記操作部品（２０，２２）は、上記光学部品（１０，１１）を相対的に位置決めするために備えられることを特徴とする請求項１１に記載の投影レンズ。
【請求項１３】
上記操作部品（２０，２２）は、上記共通マウント（１８）が対物レンズに設置された後でさえも、共通マウント（１８）に設置された上記光学部品（１０，１１）の少なくとも１つの移動及び／又は傾倒を容易に行えるように設計されることを特徴とする請求項１１に記載の投影レンズ。
【請求項１４】
上記対物レンズは少なくとも２つの光軸（９，１２）を有し、上記共通マウント（１８）に設置された光学部品（１０，１１）のうち少なくとも１つによって第１光軸から第２光軸へ偏向されることを特徴とする請求項１に記載の投影レンズ。
【請求項１５】
上記２つの光軸（９，１２）は平行でないことを特徴とする請求項１４に記載の投影レンズ。
【請求項１６】
上記共通マウントに設置された光学部品（１０，１１）のうち少なくとも１つは、平面偏向ミラーであることを特徴とする請求項１４又は１５に記載の投影レンズ。
【請求項１７】
撮像装置に挿入される光学部品の表面に処理を施す方法であって、下記のステップを有する方法：
１．１  上記光学部品（１０，１１）は個別の部品として、製造工程においてその表面に
前処理が施され；
１．２  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれ個別のマウント又は支持構造（１９，
２０）に取り付けられ；
１．３  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれのマウント又は支持構造と共に、撮像
装置（１）における後の通常動作の際の特徴である設置位置に設置され；
１．４  上記光学部品（１０，１１）の表面は、光学的方法によって測定され、取得され
た上記表面のデータは蓄積され；
１．５  上記取得されたデータから補正データ記録が割り出され；
１．６  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれのマウント又は支持構造（１９，２
０）と共に再び取り外され、補正データ記録に応じてさらなる処理が施され；
１．７  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれのマウント又は支持構造（１９，２
０）と共に再び撮像装置（１）に設置される。
【請求項１８】
請求項１に記載の投影レンズに挿入される光学部品の表面に処理を施すための方法であって、下記のステップを有する方法：
１．１  上記光学部品（１０，１１）は個別の部品として、製造工程においてその表面に
前処理が施され；
１．２  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれ個別のマウント又は支持構造（１９，
２０）に取り付けられ；
１．３  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれのマウント又は支持構造と共に、撮像
装置（１）における後の通常動作の際の特徴である設置位置に設置され；
１．４  上記光学部品（１０，１１）の表面は、光学的方法によって測定され、取得され
た上記表面のデータは蓄積され；
１．５  上記取得されたデータから補正データ記録が割り出され；
１．６  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれのマウント又は支持構造（１９，２
０）と共に再び取り外され、補正データ記録に応じてさらなる処理が施され；
１．７  上記光学部品（１０，１１）は、それぞれのマウント又は支持構造（１９，２
０）と共に再び撮像装置（１）に設置される。
【請求項１９】
上記方法における個々のステップは、必要であれば頻繁に繰り返して行うことが可能であることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
上記方法における最終処理ステップの後に、それぞれのマウント又は支持構造（１９，２０）において光学部品（１０，１１）に表面コーティングが施されることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
上記光学部品（１０，１１）におけるフィット（ｆｉｔｓ）に処理が施されることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
ミラー（１１）の表面は、光学部品となるように処理されることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２３】
上記方法における最終処理ステップにおいて、個別のマウント又は支持構造に保持されるミラー（１１）に反射面が施されることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィ用の投影レンズは請求項１において請求されており、個別のマウント又は支持構造に保持された複数の光学部品は対物レンズハウジングに配置され、上記光学部品のうち少なくとも２つは、それぞれのマウント又は支持構造と共に共通マウントに取り付けられる。また、共通マウント又は支持構造における光学部品の相対的な位置は設定可能であることが、本発明における本請求項にて定められる。
【国際調査報告】
2008525833.tif 000005
2008525833.tif 000006
2008525833.tif 000007