【事件の表示】
　特許第２９２６７１１号「ドライエッチング装置」の請求項１〜６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９２６７１１号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第２９２６７１１号（以下「本件特許」という。）は、昭和６３年５月１３日に出願したものであって、特許権設定の登録後、特許異議申立人　平井貞雄より、請求項１〜６に係る特許について特許異議の申立がなされ、その後、当合議体より特許取消理由の通知、及び特許権者より訂正請求書の提出の各手続がなされたものである。
　　
II．訂正について
（II-1）訂正の内容
訂正事項ａ（特許請求の範囲の訂正）
(a)特許請求の範囲を、以下のとおりに訂正する。
「（１）一対の平行平板電極からなるドライエッチング装置において、それぞれに電極を有した反応容器を各電極間の距離方向に分割し、前記分割部に所定の厚さのリングを設け、
このリングの内周部が前記反応室器内壁を覆うよう構成し、前記リング内部に加熱手段を設けたことを特徴とするドライエッチング装置。」
　　
訂正事項ｂ（特許請求の範囲以外の訂正）
(b-1)明細書第３頁第１４〜１６行（特許公報第２頁左欄第１７〜２０行）の「本発明は・・・・提供するものである。」を、「さらに、反応生成物が反応容器内に再付着するという問題点も有していた。本発明は、上記問題点に鑑みエッチングの再現性を改善し、ダストの発生を押え、反応生成物の再付着を防止するドライエッチング装置の反応容器を提供するものである。」と訂正する。
(b-2)明細書第３頁第１８行〜第４頁第２行（特許公報第２頁左欄第２２〜２６行）の「上記問題点・・・・設けたものである。」を、「上記問題点を解決するために本発明は、一対の平行平板電極からなるドライエッチング装置において、それぞれに電極を有した容器を各電極間の距離方向面に分割し、前記分割部に所定の厚さのリングを設け、このリングの内周部が反応容器内壁を覆うよう構成し、前記リング内部に加熱手段を設けたものである。」と訂正する。
(b-3)明細書第４頁第４〜８行（特許公報第２頁左欄第２８〜３１行）の「本発明は・・・・無くすことができた。」を、「本発明は上記した構成によって、特定の厚さを持つリングを用いることによって電極間距離が一定となり、さらには上部電極を固定できることによって可動部からの摩耗によるダストの発生を無くすことができ、反応生成物の再付着を防止することができた。」と訂正する。
(b-4)明細書第９頁第１６〜１８行（特許公報第３頁右欄第５〜８行）の「また上部電極・・・・無くすことができる。」を、「また上部電極を固定することで摩耗によるダストの発生源をなくし、ウ工ハ上へのダスト付着によるパターン不良を無くすことができる。さらに、リングの内周部が反応容器内壁を覆うよう構成し、前記リング内部に加熱手段を設けることにより、反応生成物の再付着を防止することができる。」と訂正する。
　　
（II-2）訂正の目的、範囲、及び実質上の拡張又は変更について
　訂正事項（ａ）は、特許請求の範囲の減縮を目的とするもの、訂正事項（ｂ）は、明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。またそれらは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、かつ、当該訂正が、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものとはいえない。
　したがって、本訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する同法第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　　　
III．本件発明
　上記訂正後の本件発明（以下「本件発明」という。）は、訂正された明細書（以下「明細書」という。）の特許請求の範囲第１項に記載されたとおりの以下のものと認める。
「（１）一対の平行平板電極からなるドライエッチング装置において、それぞれに電極を有した反応容器を各電極間の距離方向に分割し、前記分割部に所定の厚さのリングを設け、
このリングの内周部が前記反応室器内壁を覆うよう構成し、前記リング内部に加熱手段を設けたことを特徴とするドライエッチング装置。」
　　
IV．特許異議申立について
（IV-1）特許異議申立人の主張
　特許異議申立人　平井貞雄は、本件出願前に頒布された刊行物として、甲第１号証（特開昭６１−２５３８２３号公報）、甲第２号証（特開昭６０−２７６９１号公報）、甲第３号証の１（実開昭６２−１０７４３９号公報）、甲第３号証の２（特開昭６３−５５２６号公報）、甲第４号証（特開昭６２−３３７７３号公報）、甲第５号証（特開昭６０−９１１７号公報）、甲第６号証（特公昭５７−４４７４９号公報）、及び甲第７号証（特開昭６１−４６０２９号公報）を提示し、訂正前の請求項１に係る発明は甲第１号証に記載された発明であり（理由Ａ）、また、訂正前の請求項２〜６に係る発明は甲第１〜７号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明であるので（理由Ｂ）、訂正前の請求項１〜６に係る特許は取り消すべきものであると主張している。
　　
（IV-2）証拠の記載事実
甲第１号証
(1a)「平坦な陰極及び陽極として働くプラズマ室を有し、上記陰極と上記陽極間に印加される高周波信号によって、該陰極と陽極間にプラズマを発生するプラズマ反応器において、上記プラズマ室の上方表面から、上記上方表面と上記接地板間にプラズマを確立するに十分大きいが上記陰極の近くの電界を乱す程は大きくない距離離れた所に接地板を設けたことを特徴とするプラズマ反応器。」（特許請求の範囲）
(1b)「側壁１８の下の部分は環１８で形成されている。環１８は室の寸法を調節するだけでなく、室にアクセスしてクリーニング、保守等を調節する手段を与える。」（第２頁右下欄第１６〜１９行）
　　
甲第２号証
(2a)「反応室のガス導入開口の縁部にフランジを設け、このフランジに、複数個のガス導入口を備えたガス導入装置およびガス導入装置の各ガス導入口からのガスを混合して反応室へ導くガス混合装置を超高真空シール機構を介して着脱可能に密封取付けし、さらに上記ガス導入装置を貫通して上記ガス混合装置の出口より僅かに突出してのびるＴＥＩｎ供給官を設けたことを特徴とするＩｎＰ系の気相エピタキシャル成長用化学反応装置。」（特許請求の範囲）
(2b)「図示ガス混合装置７は漏斗形状であるが、必要により他の適当な形に構成することができる。」（第２頁右下欄第１３〜１５行）
甲第３号証の１
(3-1a)「処理室内を減圧排気し該処理室内に処理ガスを導入し、該ガスをプラズマ化し、該プラズマを利用して試料をエッチング処理する装置において、反応生成物を蒸発させる加熱手段を前記処理室内面に対応して設けたことを特徴とするドライエッチング装置。」（実用新案登録請求の範囲）が記載され、併せてその記載に対応する図面（第１，２頁）が示されている。
　　
甲第３号証の２
(3-2a)「真空容器と、この真空容器に連結された真空排気手段と、この真空容器内に設けられ対向する一対の平板電極と、前記平板電極のいずれか一方に電気的に接続された高周波電源と、前記真空容器に内接し、加熱機構を有した着脱可能な防着板を備えたことを特徴とするドライエッチング装置。」（特許請求の範囲）が記載され、併せてその記載に対応する図面（第３頁）が示されている。
(3-2b)「反応生成物を加熱遊離除去させることにより、真空容器１内は常に清浄に保持されることになり、結果的に試料７への汚染を防止できる。」（第２頁左下欄第１３〜１６行）
　　
甲第４号証
(4a)「所定の容積を封入する装置とその容積を２つのチャンバに分割するバッフル装置を有するプラズマ増強化学蒸着装置であって、前記チャンバの内の第１のチャンバに結合され、その中にプラズマを発生するためのＲＦ装置であって、前記チャンバの内の第２のチャンバはその上で被着物がそのプラズマとの接触から形成される物品を含むようになっているもの、およびその物品を放射エネルギによって直接に加熱する加熱装置、を具備し、前記封入装置は前記加熱装置から前記第２のチャンバの内部への伝導路を与える窓装置を含み、前記加熱装置は前記窓装置の外にあることを特徴とする前記プラズマ増強化学蒸着装置。」（特許請求の範囲１）
(4b)「導電性部材１３は後で説明するガス供給、排出管、およびそれ自体は当業者に周知の適当な冷却手段を有している。」（第３頁右上欄第１４〜１６行）
　　
甲第５号証
(5a)「反応ガスの供給口と排出口とを有する真空容器の下部領域に水平に配設されて一方の電極を兼ねるウエーハ台を有し、該ウエーハ台に対向して前記真空容器の上部領域に水平に配設された他方の電極を有するプラズマＣＶＤ装置において、前記反応ガスの供給口は前記電極に挟まれた領域において前記真空容器の側壁にそって設けられた絶縁物よりなるカバーを貫通して設けられた複数の供給口により構成されてなることを特徴とするプラズマＣＶＤ装置。」（特許請求の範囲）
　　
甲第６号証
(6a)「平板状の第１電極とそれに対向して置かれた平板状の第２電極を有する真空槽内に、所定流量の反応ガスを導入し、上記第１電極と第２電極との間に高周波電力を印加して該両電極間で放電させ、発生したガスプラズマにより上記第１または第２電極上に置かれた被加工物を食刻するプラズマエッチング装置において、上記第１電極と第２電極との中間に多数の小孔を有する平板状の第３電極を設けたことを特徴とするプラズマエッチング装置。」（特許請求の範囲１）
　　
甲第７号証
(7a)「チャンバー内に冷却用配水管を有する事を特徴とするプラズマ装置。」（特許請求の範囲）
　　
(IV-3)対比・判断
　本件発明と、甲第１号証に記載された発明とを対比すると、本件発明の構成に係る、”一対の平行平板電極からなるドライエッチング装置において、それぞれに電極を有した反応容器を各電極間の距離方向に分割し、前記分割部に所定の厚さのリングを設けたドライエッチング装置”の点において両者の発明は一致している。しかし甲第１号証には、本件発明の構成である、（ａ）「リングの内周部が前記反応室器内壁を覆うよう構成し、前記リング内部に加熱手段を設けた」点の記載はなく、この点で本件発明は甲第１号証に記載された発明と相違している。
　そこで、この相違点（ａ）について検討する。
　甲第３号証の１には、加熱手段を処理室内面に対応して設けることが記載され（摘記3-1a）、また、甲第３号証の２には、加熱機構を有した着脱可能な防着板の記載がなされており（摘記3-2a）、これら両甲号証には、ドライエッチング装置に加熱手段を設けることの記載がなされていることが認められる。しかし、これら加熱手段に係る記載について更に検討すると、甲第３号証の１に係る「加熱手段」、及び甲第３号証の２に係る「加熱機構を有した着脱可能な防着板」についての具体的な記載をみても、これら両甲号証には、本件発明に係る「リングの内周部が前記反応室器内壁を覆うよう構成し、前記リング内部に加熱手段を設けた」とする点の記載はなく、また他の証拠である甲第２及び４〜７号証にもかかる点の記載はない。
　そして、本件発明は、上記の相違点に係る構成を含む、前記認定のとおりの構成を有することにより、最適な電極間距離が選択でき、以降の電極間距離によるエッチングパラメータが固定され、エッチングの再現性を向上することができるとともに、摩耗によるダストの発生を源をなくし、ウエハ上のダスト付着によるパターン不良を無くすことができ、さらに、反応生成物の再付着を防止することができるとの、明細書（「発明の効果」の欄参照。）に記載された効果を奏したものと認められる。
　したがって、本件発明は、甲第１号証に記載された発明ということはできず、また、甲第１〜７号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明ということもできない。
　　
Ｖ．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立人　平井貞雄の主張する理由及び提示した証拠によっては、本件発明に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１月１７日（２００１．１．１７）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
訂正事項ａ（特許請求の範囲の訂正）
（ａ）特許請求の範囲を、以下のとおりに訂正する。
「（１）一対の平行平板電極からなるドライエッチング装置において、それぞれに電極を有した反応容器を各電極間の距離方向に分割し、前記分割部に所定の厚さのリングを設け、このリングの内周部が前記反応室器内壁を覆うよう構成し、前記リング内部に加熱手段を設けたことを特徴とするドライエッチング装置。」
訂正事項ｂ（特許請求の範囲以外の訂正）
（ｂ−１）明細書第３頁第１４〜１６行（特許公報第２頁左欄第１７〜２０行）の「本発明は・・・・提供するものである。」を、「さらに、反応生成物が反応容器内に再付着するという問題点も有していた。本発明は、上記問題点に鑑みエッチングの再現性を改善し、ダストの発生を押え、反応生成物の再付着を防止するドライエッチング装置の反応容器を提供するものである。」と訂正する。
（ｂ−２）明細書第３頁第１８行〜第４頁第２行（特許公報第２頁左欄第２２〜２６行）の「上記問題点・・・・設けたものである。」を、「上記問題点を解決するために本発明は、一対の平行平板電極からなるドライエッチング装置において、それぞれに電極を有した容器を各電極間の距離方向面に分割し、前記分割部に所定の厚さのリングを設け、このリングの内周部が反応容器内壁を覆うよう構成し、前記リング内部に加熱手段を設けたものである。」と訂正する。
（ｂ−３）明細書第４頁第４〜８行（特許公報第２頁左欄第２８〜３１行）の「本発明は・・・・無くすことができた。」を、「本発明は上記した構成によって、特定の厚さを持つリングを用いることによって電極間距離が一定となり、さらには上部電極を固定できることによって可動部からの摩耗によるダストの発生を無くすことができ、反応生成物の再付着を防止することができた。」と訂正する。
（ｂ−４）明細書第９頁第１６〜１８行（特許公報第３頁右欄第５〜８行）の「また上部電極・・・・無くすことができる。」を、「また上部電極を固定することで摩耗によるダストの発生源をなくし、ウエハ上へのダスト付着によるパターン不良を無くすことができる。さらに、リングの内周部が反応容器内壁を覆うよう構成し、前記リング内部に加熱手段を設けることにより、反応生成物の再付着を防止することができる。」と訂正する。
　なお、訂正事項（ａ）は、特許請求の範囲の減縮を目的とするもの、訂正事項（ｂ）は、明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。
（５４）【発明の名称】
ドライエッチング装置
（５７）【特許請求の範囲】
（１）　一対の平行平板電極からなるドライエッチング装置において、それぞれに電極を有した
反応容器
設け、このリングの内周部が前記反応容器内壁を覆うよう構成し、前記リング内部に加熱手段を設けたことを
【発明の詳細な説明】
　産業上の利用分野
　本発明は、平行平板電極を有するドライエッチング装置に関するものである。
　従来の技術
　近年、半導体ウエハなどに代表されるパターン形成においては、素子の高集積化、微細化に伴って高精度なエッチングを行うために、平行平板電極によるドライエッチング装置が用いられている。
　以下図面を参照しながら、従来のドライエッチング装置の反応容器の構成の一例について説明する。
　第７図は、従来のドライエッチング装置の反応容器の構成を示すものである。第７図において１は反応容器で内部を真空に保っている。２は上部電極で下部電極３との電極間距離を可変にするため上下動可能にとりつけてあり、反応容器１内において一対の平行平板電極を構成し、下部電極３上にウエハ４を置き電極のいずれか一方に１３．５６ＭＨｚの高周波電力を印加しドライエッチングするものである。
　発明が解決しようとする課題
　しかしながら上記のような構成は、電極間距離の変更は容易だが、電極間距離の寸法再現性が悪くエッチングの再現性を悪化させる。また、上部電極可動部から発生したダストがウエハ上に乗り微細パターンの欠陥を生じるという問題点を有していた。
さらに、反応生成物が反応容器内に再付着するという問題点も有していた。本発明は、上記問題点に鑑みエッチングの再現性を改善し、ダストの発生を押え、反応生成物の再付着を防止するドライエッチング装置
　課題を解決するための手段
　上記問題点を解決するために本発明は、一対の平行平板電極からなるドライエッチング装置において、それぞれに電極を有した容器を各電極間の距離方向面に分割し、前記分割部に所定の厚さのリングを
設け、このリングの内周部が反応容器内壁を覆うよう構成し、前記リング内部に加熱手段を設けた
　作用
　本発明は上記した構成によって、特定の厚さを持つリングを用いることによって電極間距離が一定となり、さらには上部電極を固定できることによって可動部からの摩耗によるダストの発生を無くすことが
でき、反応生成物の再付着を防止することができた。
　実施例
　以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説明する。
　第１図は本発明の第１の実施例の構成を示すものであり、特定の厚さを持つリング（電極間隔調整リング）を１個または複数個重ねて反応容器間に挟みこむことで電極間距離を一定とし、さらには上部電極を固定式としたものである。
　第１図において５は分割された反応容器の一方である下部容器でステンレスまたは、アルミニウムで構成したものである、６は下部電極であり、ウエハ７を載置する。８はアルミナなどの絶縁体であり、下部電極６を下部容器５から絶縁するものである。９は反応容器のもう一方である上部容器で、１０は上部電極であり、１１はアルミナなどの絶縁体である。１２は電極間調整リングで５、１０、１５、２０、３０、４０、５０ｍｍなどの所定の厚さを持ったもので、１個または複数個の重ね合わせにより電極間距離を選択するもので、内周部に重ね合わせの位置決め部が設けてある。１３はＯリングであり真空シールとなっている。上記各部品は、各々Ｏリングにより真空シールされ、反応室にはガス供給手段１４と、真空排気口１５と、電極に接続した高周波電力の供給手段１６とが接続されている。
　本発明は上記した構成により、所定の厚さを持つリング１２により電極間距離を決め以降は固定とするため、エッチングパラメータの１つである電極間距離が固定され、エッチングの再現性を向上することができる。また上部電極１０を固定とすることで摩耗によるダストの発生を無くすことができる。
　第２図は本発明の第２の実施例における電極間調整リングの構成を示すものであり、反応容器内壁を加熱することでドライエッチングによる反応生成物の再付着を防止する。
　第２図において１７はヒータであり、１８は電極間調整リングであり、特定の厚さの電極間調整リング１２と組み合わせも可能であり、リングの内周部は真空容器内壁を覆うよう構成したものである。ヒータ１７は電極間調整リング１８内に複数本挿入してあり例えばアルミニウム膜のドライエッチングでは約１００℃に温度調節している。アルミニウム膜を塩素系ガスによりドライエッチングするとＡｌＣｌ３の反応生成物が反応容器内に再付着するため、加熱した電極間調整リング１８により気化させることで反応容器内を清浄な状態に保つことができ、エッチングの再現性を確保できる。ここで加熱手段をヒータとしたが加熱した液体を循環させてもよい。なお、第１の実施例と共通の部分は共通符号を付して、その説明を省略する（以下、第３の実施例　第６の実施例についても同様である。）。
　第３図は本発明の第３の実施例における電極間調整リングの構成を示すものであり、電極間調整リング内周部に複数のガス吹出し穴を設けウエハ面上に均一にガスを供給するものである。
　第３図において１９は電極間調整リングであり内周部に複数のエッチングガス吹出し穴２０が設けてある。１４はエッチングガスの供給手段である。下部電極上のウエハ面上に均一にエッチングガスを供給することで、ドライエッチングの均一性が向上するものである。
　第４図は本発明の第４の実施例における電極間調整リングの構成を示すものであり、一対の平行平板電極間に第３の電極を設けることでエッチングパラメータの自由度を増すものである。
　第４図において２１は第３の電極としての作用をも営む電極間調整リングであり上部電極１０と、下部電極６間を覆い中央部に複数の貫通穴２２を設けたものである。２３は絶縁体で構成された電極間調整リングであり、２４は電位印加部で接地または直流電圧あるいは高周波電力を印加しプラズマ状態を制御するものである。第３の電極を設けることでエッチングパラメータの自由度を増すことができ、任意のエッチング状態を容易に得られる。
　第５図は本発明の第５の実施例における電極間調整リングの構成を示すものであり、電極間調整リングの内周部に設けた複数のエッチングガスの排気穴より、反応容器内のガスをウエハ上から均一に排気するものである。
　第５図において２５は電極間調整リングであり内周部に複数のエッチングガス排気口２６がもうけてある。２７は電極間調整リング２５に接続した真空排気手段であり、真空ポンプや圧力コントローラーから成る。下部電極上のウエハ全周に対し均一にエッチングガスを排気でき、ドライエッチングの均一性が向上する。
　第６図は本発明の第６の実施例における電極間調整リングの構成を示すものであり、反応容器内壁を冷却することでドライエッチングによる反応生成物や水蒸気を吸着するものである。
　第６図において２８は電極間調整リングであり、リングの内周部は反応容器内壁を覆うよう構成したものである。２９は冷却部で液体窒素などの冷却液を供給するものである。真空排気部にながれこむ反応生成物を反応容器内壁部に吸付でき真空ポンプの劣化を防止できる。また水蒸気などの吸着にも有効である。
　発明の効果
　以上のように本発明は真空反応容器において、それぞれに電極を有した容器を各電極間の距離方向に分割し、前記分割部に所定の厚さのリングを設けることによって、最適な電極間距離が選択でき、以降の電極間距離によるエッチングパラメータが固定され、エッチングの再現性を向上することができる。また上部電極を固定することで摩耗によるダストの発生源をなくし、ウエハ上へのダスト付着によるパターン不良を無くすことが
できる。さらに、リングの内周部が反応容器内壁を覆うよう構成し、前記リング内部に加熱手段を設けることにより、反応生成物の再付着を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
　第１図は本発明の第１の実施例の断面図、第２図は本発明の第２の実施例の断面図、第３図は本発明の第３の実施例の断面図、第４図は本発明の第４の実施例の断面図、第５図は本発明の第５の実施例の断面図、第６図は本発明の第６の実施例の断面図、第７図は従来例のドライエッチング装置における反応容器の断面図である。
　５……下部反応容器、９……上部反応容器、１２……電極間調整リング、１７……ヒータ、１８……電極間調整リング、１９……電極間調整リング、２０……ガス吹出し穴、２１，２３……電極間調整リング、２４……電位印加部、２５……電極間調整リング、２６……ガス排気口、２８……電極間調整リング、２９……冷却部。