【事件の表示】
　特許第３０８８１２３号「二重カセット装填ロック装置」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３０８８１２３号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．本件特許発明
　本件特許第３０８８１２３号の請求項１乃至２に係る発明（平成３年４月１７日出願、優先日平成２年４月１９日（１９９０．４．１９）、優先権主張国　米国、平成１２年７月１４日設定登録）は、特許明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至２に記載された次のとおりのものである。
　「【請求項１】中央室に結合した複数の真空室を備える材料処理装置におい　て、材料装填インターフェースが、
　材料を保持したカセットを外部から受け取るための第１の開口部と、カセットに保持された材料を前記中央室へ前進させるための第２の開口部とをそれぞれ有すると共に、前記中央室に結合した２つの材料装填取出室、
　閉状態において、前記材料を保持したカセットを外部から受け取るための第１の開口部を覆って密閉するドア、
　前記ドアを開閉する手段、
　材料を支持したカセットを支持すると共に、前記材料装填取出室外の第１位置と前記材料装填取出室内の第２位置との間を、前記材料を保持したカセットを外部から受け取るための第１の開口部を通って、移動するカセット支持装置、
　前記カセットを前記第２位置と、カセット内の材料が前記材料処理装置の中央室に近づく第３位置との間を揺動させる、前記材料装填取出室内のピボット手段、及び、
　それぞれの前記材料装填取出室を独立に真空にするため、前記材料装填取出室に結合した真空装置、
を備えることを特徴とする装置。
　　　【請求項２】請求項１記載の材料処理装置において、前記ドア開閉手段が、　前記ドアをまず前記外部室の前面に対して垂直方向に移動させて僅かに離し、次に前記ドアを前記外部室の前面に対して平行に下方に移動させる機構を備え、前記カセット支持装置は、前記材料を支持したカセットを前記ドアの開閉に連動して可動橋式動作で上昇下降させることを特徴とする装置。」
２．特許異議申立ての理由の概要
　これに対し、特許異議申立人畠　明より、特許異議の申立てがなされた。その理由の概要は、甲第１号証（特開平１−２５３２３７号公報）、甲第２号証（特開昭６２−２９０６１６号公報）、甲第３号証（特開昭６２−１５４７４９号公報）、及び甲第４号証（特開昭６２−１３９３４０号公報）を提出して、本件請求項１乃至２に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に該当する発明に対してされたものであり、取り消されるべきであるというものである。
３．各甲号証記載の発明
（１）甲第１号証
　甲第１号証には、次の事項が記載されている。
ア．　「真空中で基板表面にエッチング、膜堆積等の薄膜処理を行なう処理室と、該基板を大気中より取り込んで一時的に収納するための収納室と、これら両室に挟まれ両室とはゲートバルブで接続される予備室と、該各室をそれぞれ排気する排気系と、該処理室には処理に用いるガスの導入系および処理用装置とを備え、前記各室間の基板搬送は、該予備室に配置された、所定軸につき半径方向（ｒ）、円周方向（θ）、軸方向（ｚ）の３方向に自由度を有して基板を搬送できる基板搬送ロボットで行なわしめ、該ロボットは単一の導入管を通して大気側に置かれた動力装置で駆動したことを特徴とする真空処理装置。」（特許請求の範囲）
イ．　「本発明は、真空中で基板表面に薄膜のエッチング、膜堆積等の処理を行なう真空処理装置の構成に関するものである。」（第１頁右下欄第１０〜１２行）
ウ．　「収納室１、予備室２および処理室３がゲートバルブ４，５で接続されており、収納室１には大気との間にバルブ６が置かれている。さらに、基板７および基板キャリア８の交換のために、大気中の９０位置に回転可能であるような、基板キャリア交換用テーブル９が設けられている。・・・・・・・図示しないが、収納室１、予備室２、処理室３はそれぞれ排気系、処理室にはさらに処理ガス導入系を備えている。・・・・・・・ゲートバルブ４を閉めてリークバルプ（図示せず）によってガスを導入大気圧にした後バルブ６を開く、基板キャリア交換用テーブル９を９０位置に倒して、基板キャリア交換用テーブル９０上に、複数の基板７を従来同様に収容した基板キャリア８を載せる。次いで、基板キャリア交換テーブル９０を９の位置に起こしてバルブ６を閉め、収納室１の内部を高真空に排気し、所定の真空度まで排気が完了すると、ゲートバルブ４を開き、ｒθｚ基板搬送ロボット１０が動作してそのフィンガー１００の先端に基板の１枚７ａ（基板キャリア８内部の任意の棚から基板を取り出すことができる）を乗せ、これを（ｚ方向に）若干持ち上げて棚から外す。」（第３頁左上欄第１０行〜左下欄第７行）
エ．　「さらに上記のような、複数基板の同時処理が可能になると、本発明の構成の装置では、実施例に示すように、プラズマ発生装置３、３′を１個の予備室２に２個（一般には複数個）取り付けそれぞれで別々の処理を行なわせることも可能であって、その場合も基板搬送機構の増設は必要でない。」（第４頁左下欄第４〜９行）
オ．　基板キャリア交換テーブル９０に関する記載、第１図及び第２図の記載より、収納室１は、基板を保持した基板キャリアを外部から受け取るための第１の開口部と、基板キャリアに保持された基板を前記予備室へ前進させるための第２の開口部とをそれぞれ有すると共に、閉状態において、基板を保持した基板キャリアを外部から受け取るための第１の開口部を覆って密閉するドア、及びドアを開閉する手段、を有するものと認められる。
　上記ア〜オの記載事項より、甲第１号証刊行物には、
　「予備室に結合した複数の処理室を備える真空処理装置において、基板装填インターフェースが、
　基板を保持した基板キャリアを外部から受け取るための第１の開口部と、基板キャリアに保持された基板を前記予備室へ前進させるための第２の開口部とをそれぞれ有すると共に、前記予備室に結合した１つの収納室、
　閉状態において、前記基板を保持した基板キャリアを外部から受け取るための第１の開口部を覆って密閉するドア、
　前記ドアを開閉する手段、
　基板を支持した基板キャリアを支持すると共に、前記収納室外の９０位置と前記収納室内の９の位置との間を、前記基板を保持した基板キャリアを外部から受け取るための第１の開口部を通って、移動する基板キャリア交換テーブル、
　及び、
　前記収納室を独立に真空にするため、前記収納室に結合した高真空に排気する手段、
を備える装置。」
の発明が記載されていると認められる。
（２）甲第２号証
　甲第２号証には、次の事項が記載されている。
ア．　「移送されたウェハを収納する２個以上のウェハキャリアと、該ウェハキャリアに収納された前記ウェハを取り出し移送する搬送手段と、該搬送手段による前記ウェハの取出し前に前記ウェハキャリアの各々を前記搬送手段に対向するよう回転し設置するキャリアロック機構とを具備することを特徴とするウェハ搬送機構。」（特許請求の範囲）
イ．　「まずオペレータはキャリア３ａ，３ｂを平行（図中、端線で示す位置）にセットする。キャリア３ａ，３ｂは自動的に搬入されてもよい。次いでキャリアロック機構によりキャリア載置台６ａ，６ｂを共に回転させ、キャリア３ａ，３ｂの正面３０ａ，３０ｂをピンセットアームアッセンブリ４に向けて移動させる（図中、実線で示す位置）、すなわちピンセットアーム８の回転軸４１に対してほぼ同一円周上に位置する方向にキャリア３ａ，３ｂを回転させる。」（第３頁右上欄第２〜１１行）
（３）甲第３号証
　甲第３号証には、次の事項が記載されている。
ア．　「本発明は、処理技術、特に、半導体装置の製造におけるウエハの電子線露光処理に適用して有効な技術に関する。」（第１頁右下欄第８〜１０行）
イ．　「すなわち、被処理物が位置される処理室を所定の真空度に排気して処理を行う処理装置で、内部を独立に排気することが可能な複数の予備室を処理室に接続し、彼処理物の処理室に対する搬入および搬出などが、複数の予備室を介して並行して行われる構造とすることにより、たとえば、被処理物の処理室に対する搬入および搬出など、所定の処理以外の操作に要する時間を短縮することを可能にして、単位時間当たりに処理される被処理物の数量が増加されるようにしたものである。」（第２頁右上欄第１６行〜左下欄第５行）
ウ．　「この場合、露光室１には、直交する２方向から、ゲートバルフ５およびゲートバルブ６を介して、内部を独立に所定の真空度に排気することが可能な予備室７および予備室８が接続されている。」（第２頁右下欄第６〜９行）
エ．　「被処理物の処理室に対する搬入および搬出や、各予備室における排気および大気圧への復帰操作などを並行して行うことができ、所定の処理以外の操作に要する時間を短縮することが可能となり、単位時間当たりに処理される被処理物の数量を増加させることができる。」（第４頁左上欄第１６行〜右上欄第２行）
（４）甲第４号証
　甲第４号証には、次の事項が記載されている。
ア．　「１１はシールベースで、チャンバ２および３の中間にあって駆動治具１２により上下に移動し、０リング１３、べローズ１４と共に第１図に示すようにチャンバ２および３の大気側と真空側とを遮断する動作を行なう。」（第２頁右上欄第１７行〜左下欄第１行）
イ．　「第１図において駆動治具１２を押し上げると、シールベース１１はハウジング１内の開□部の位置まで上昇するが、ここでストッバ１６により、シールベース１１の角部分にシールベース１１をハウジング１の側壁方向に押しつける力が生じ、０リング１３がハウジング１の内面に圧着されて同図に示す状態となる。この状態でチャンバ３側を排気系１０で真空排気すると、チャンバ２側とチヤンバ３側とは、シールベース１１と０リング１３とべローズ１４とにより遮断分離され、チャンバ２側は大気圧となり、チャンバ３側は高真空となる。
　次に排気系９によりチャンバ２側を真空排気し、駆動治具１２を下げると、シールベース１１が下降し、・・・・・第２図に示す状態となる。・・・・・すなわちウエーハ６は、チャンバ２とチャンバ３側が共に真空のとき搬送されることになる。」（第２頁左下欄第１２行〜右下欄第１１行）
４．対比・判断
（１）本件請求項１に係る発明について
　本件請求項１に係る発明（前者）と甲第１号証に記載の発明（後者）とを対比すると、後者の、予備室、処理室、真空処理装置、基板装填インターフェース、基板、基板キャリア、収納室、９０位置、９の位置、基板キャリア交換テーブル、及び高真空に排気する手段が、前者の、中央室、真空室、材料処理装置、材料装填インターフェース、材料、カセット、材料装填取出室、第１位置、第２位置、カセット支持装置、真空装置にそれぞれ相当しており、両者は、
　「中央室に結合した複数の真空室を備える材料処理装置において、材料装填インターフェースが、
　材料を保持したカセットを外部から受け取るための第１の開口部と、カセットに保持された材料を前記中央室へ前進させるための第２の開口部とをそれぞれ有すると共に、前記中央室に結合した材料装填取出室、
　閉状態において、前記材料を保持したカセットを外部から受け取るための第１の開□部を覆って密閉するドア、
　前記ドアを開閉する手段、
　材料を支持したカセットを支持すると共に、前記材料装填取出室外の第１位置と前記材料装填取出室内の第２位置との間を、前記材料を保持したカセットを外部から受け取るための第１の関口部を通って、移動するカセット支持装置、
及び、
　前記材料装填取出室を独立に真空にするため、前記材料装填取出室に結合した真空装置、
を備える装置。」
の構成で一致している。しかし、両者は、次の２点で相違している。
ア．　中央室に結合した材料装填取出室が、前者は２つであるのに対し、後者は１つである点。（相違点１）
イ．　前者は、カセットを第２位置と、カセット内の材料が材料処理装置の中央室に近づく第３位置との間を揺動させる、材料装填取出室内のピボット手段、を有しているのに対して、後者は、このようなピボット手段を有しない点。（相違点２）
　上記相違点１について検討すると、甲第３号証刊行物には、この種の真空処理装置において、中央室に相当する露光室にウエハを搬入・搬出する予備室を２つ結合する事項が記載されており、この技術事項を甲第１号証に記載の発明に適用して、この相違点１の前者の構成とすることは、甲第３号証の作用・効果も前者と同様な、各室を別個に排気することができて、ウェーハの処理能力を大幅に増大できるというものであるから、当業者であれば容易になし得る程度のものと認める。
　次に、相違点２について検討すると、甲第２号証刊行物には、キャリアの正面をピンセットアームの正面に向けて移動させるために、キャリア載置台を揺動させる事項が記載されている。しかし、甲第３号証のものは、処理室（露光室）と予備室のウエハを搬送するＸＹテーブルの軸線は直交しているので、予備室内の被処理物の向きを甲第２号証のように変更させる必要のないものであり、甲第３号証と甲第２号証のものを組み合わせる必然性はない。また、甲第２号証のものは、キャリアの向きを変えるのみであって、請求項１の発明の如く、カセット内の材料が中央室に近づく位置にもたらすものでもない。そうすると、この相違点における前者の構成は、後者に甲第２号証及び甲第３号証の発明を適用して容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　したがって、本件特許の請求項１に係る発明は、各甲１〜３号証記載の発明に基づいて容易に発明をすることができたものとすることはできない。
（２）本件請求項２に係る発明について
　甲第４号証は、本件請求項２に係る発明に対する証拠として更に提出されたものであるが、本件特許の請求項２に係る発明は、前記請求項１に係る発明を引用しているので、更に検討するまでもなく、各甲号証記載の発明に基づいて容易に発明をすることができたものとすることはできない。
５．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由および証拠によっては、本件請求項１および請求項２に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１および請求項２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年７月９日（２００１．７．９）