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【事件の表示】
　特許第２８０４２００号「湿潤時に潤滑性表面を有する医療用具及びその製造方法」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２８０４２００号の請求項１ないし４に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．経緯
   本件特許第２８０４２００号は、平成４年３月１３日の出願に係り、平成１０年７月１７日に設定登録された後、テルモ株式会社からの異議申立てがあり、取消理由通知に対し訂正請求がなされ、これに対して平成１２年２月１４日付の訂正拒絶理由通知がなされたものである。なお、上記訂正拒絶理由に対して特許権者は何らの応答もしていない。
２．訂正の適否　
　上記訂正請求における訂正事項においては、特許明細書の請求項１において、医療用具の表面の高分子材料を膨潤する極性溶媒について、該高分子材料に対しては、非溶剤であって、同高分子材料を膨潤可能な極性溶媒である旨訂正し、同明細書の段落番号0007の記載を上記訂正後の請求項１の記載と同様に訂正するとともに、段落番号0016において、その効果にする記載を加入し、また、同段落番号0010の記載中、例示された溶媒について、使用する高分子材料に応じて選択する旨及び高分子材料を膨潤しても溶解させるようなものは不適切である等の記載をさらに加えるものである。
　しかし、上記のような医療用具表面の高分子材料に対して非溶剤であって、該材料を膨潤可能な極性溶媒を使用すること、また、該高分子材料を溶解させるものは不適切であること、あるいは高分子材料に対して非溶剤である極性溶媒を使用することによる効果については特許明細書に全く記載がなく、これらの訂正事項は、特許明細書の記載から直接的かつ一義的に導き出せるものではない。したがって、本件訂正は願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものではないから、平成６年法律第１１６号附則第６条の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項により準用する同法第１２６条第１項ただし書きの規定に違反するので、当該訂正は認めることはできない。
３．異議申立てについて　
　上記のとおり、本件訂正請求は認めることができないものであるから、本件請求項１〜４の発明は特許明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜４に記載されたとおりの以下のものである。
「[請求項１]　高分子材料の表面を有するカテーテル、ガイドワイヤ一等の医療用具の製造方法において、下記の工程を含むことにより、高分子材料の表面に物理的に捕捉された親水性高分子化合物のみで湿潤時に潤滑性表面を有する医療用具の製造方法。
　１．　医療用具の表面の高分子材料に対しては、非溶剤であって同高分子材料を膨潤可能な極性溶媒で膨潤する工程　
　２．　前記極性溶媒中に溶解させた親水性高分子化合物を前記膨潤した高分子材料に含浸させることにより、医療用具の表面内部に化学結合を伴わないで物理的に捕捉させる工程。
　３．　前記親水性高分子が捕捉された医療用具の表面を水と接触処理することにより物理的に捕捉された親水性高分子化合物のみで潤滑性を得る工程。
　[請求項２]　高分子材料がポリウレタン、ポリウレタン−ナイロンエラストマー、塩化ビニルーウレタン共重合体のうち少なくともその一つである請求項１記載の湿潤時に潤滑性表面を有する医療用具の製造方法。
　[請求項３]　親水性高分子化合物は、メチルビニルエーテル無水マレイン酸共重合体、及びこのエステル化合物共重合体、ポリビニルピロリドン化合物、ヒドロキシプロピルセルロースのうち少なくとも一つから選ばれているものである請求項１記載の湿潤時に潤滑性表面を有する医療用具の製造方法。
　[請求項４]　高分子材料の表面を有するカテーテル、ガイドワイヤ一等の医療用具において、親水性高分子化合物が、医療用具の高分子材料に含浸されて、医療用具の表面内部に対して前記親水性高分子化合物の化学結合を伴わないで、物理的に捕捉され、水と接触処理されていることにより、高分子材料の表面に物理的に捕捉された親水性高分子化合物のみで湿潤時に潤滑性表面を有する医療用具。」
　これに対して　、上記取消理由通知において引用した刊行物１、３および４においてはポリウレタン等の高分子材料をその表面に有する医療用具において、親水性ないし水溶性高分子物質を該高分子材料表面にコーテイングして湿潤時に易滑性ないし潤滑性を付与せしめたものについて記載され、易滑性ないし潤滑性を付与せしめるコーテイング物質としてポリビニルピロリドン等が記載されている（刊行物１における比較例３及び刊行物４における比較例２も参照）。さらに刊行物１および４においては、親水性ないし水溶性高分子物質を該高分子材料表面にコーテイングした後、水と接触させることも記載されてされている。
　ただ、これら刊行物においては、本件請求項１の発明における、親水性物質を医療用具表面の高分子材料を極性溶媒で膨潤させ、該極性溶媒中に溶解させた親水性高分子物質を上記膨潤した高分子材料に含浸させる点については記載がない。
　しかし、同じく取消理由通知に引用した刊行物２においては、医療用具の血液接触部に抗血栓物質をコーテイングする際、コーテイング物質の溶剤として、該血液接触部を構成する高分子化合物と共通の溶媒もしくは共通する溶剤を含む溶剤を用い、血液接触部の一部が僅かに接触もしくは膨潤する条件でコーテイングすると、きわめて強力にコーテイングできることを示す記載があり、血液接触面構成高分子材料として、ポリウレタン等が挙げられ、また、抗血栓物質としてビニルピロリドン等の重合体（ポリビニルピロリドンと同じ。）等が挙げられている。そして、このコーテイング法は、上記コーテイング物質を血液接触部に含浸しており、化学結合を伴わないものであって、また、ポリウレタン及びポリビニルピロリドンは極性溶媒に溶解することも従来からよく知られていることである。してみると、刊行物１〜４における医療用具表面の高分子材料およびコーテイング物質の共通性からみれば、刊行物１、３及び４のコーテイング手段に代え、この刊行物２のコーテイング手段を採用する程度のことは当業者なら容易にできるものであり、親水性物質を医療用具表面の高分子材料を極性溶媒で膨潤させ、外局性溶媒中に溶解させた親水性高分子物質を上記膨潤した高分子材料に含浸させることは刊行物１〜４の記載から当業者が容易に想到できたものとせざるを得ない。したがって、本件請求項１の発明は刊行物１〜４に記載に基づき当業者が容易に発明できたものである。
　請求項２における高分子材料及び請求項３における親水性高分子化合物もそれぞれ刊行物１〜４に記載されたものと重複するものであるから，これら請求項の発明も刊行物１〜４に記載された発明から当業者が容易に発明できたものである。また、請求項４の発明における医療用具は、請求項１の製造方法により当然得られるものであるから、請求項１の製造方法が刊行物１〜４に基づき当業者が容易に発明できたものである以上、この請求項４の発明も刊行物１〜４に基づき当業者が容易に発明できたものである。　
２．むすび
　以上のとおりであるから、本件請求項１〜４の発明に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであるから、特許法第１１３条第２項に該当し、取消されるべきものである。
  よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年２月２日（２００１．２．２）
【事件の表示】
　特許第２８９４５６１号「軟磁性合金」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２８９４５６１号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第２８９４５６１号の請求項１に係る発明についての出願は、昭和６３年５月２３日になされ、平成１１年３月５日に、その発明について特許権の設定登録がされ、その後、その特許について、日立金属株式会社より特許異議の申立てがなされ、取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１２年５月２６日に訂正請求がなされたものである。
　これに対して、平成１２年８月１１日付けで訂正拒絶理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、権利者からは何らの応答もない。
２．訂正拒絶理由
　訂正拒絶理由は、「訂正明細書の請求項１に係る発明は、特願昭６２−１８３８７６号の願書に最初に添付した明細書又は図面（特開昭６４−２７００９号公報参照）に記載された発明と同一であり、特許法第２９条の２の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない発明であるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第３項で準用する第１２６条第４項の規定に適合しないので、当該訂正は認められない。」というものである。
　そして、上記の訂正拒絶理由は妥当なものと認められるので、当該訂正は認められない。
３．特許異議申立てについての判断
(1)本件発明
　本件請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
M；Cu,Ag,Au,Zn,Sn,Pb,Sb,Biから選ばれる少なくとも１種以上
M'；Zr,Hf,Nbから選ばれる少なくとも１種以上
Y；Si,Ｐ,Ｂ,Ｃから選ばれる少なくとも１種以上
a＋b＋c＋d＋e＝100（原子％）
0.01≦b≦5
3≦c≦18
0≦d≦5
0≦e≦15
ただし、SiとＢの合計量が5at％以上を除く、
で表され、微細結晶粒を有し、該微細結晶粒は合金中に面積比で30％以上存在し、その中で結晶粒径50〜300Åの結晶が80％以上存在する高飽和磁束密度で優れた軟磁気特性を有する軟磁性合金を用いてなることを特徴とする軟磁性合金。」
(2)先願明細書に記載された発明
　当審が平成１２年３月２７日付けで通知した取消しの理由に引用した特願昭６２−１８３８７６号の願書に最初に添付した明細書又は図面（特開昭６４−２７００９号公報参照）（以下、「先願明細書」という。）には、次の発明が記載されている。
　「一般式：
が記載され、また、
　「本発明の目的は飽和磁束密度が高く、軟磁気特性に優れ、５００℃以上のガラスボンディングを行っても磁気特性の劣化の小さい、新規のFe基軟磁性合金膜を提供することを目的とする。」（公報第2頁右下欄最下行〜第3頁左上欄3行）
　「Si及びＢは、合金の微細化に特に有用な元素である。本発明のFe基軟磁性合金膜は好ましくは一旦Si，Ｂの添加効果により非晶質合金膜とした後で熱処理により微細結晶粒を形成させることにより得られる。Si及びＢの含有量y及びzの限定理由は、yが30原子％以下、zが25原子％以下であり・・・」（同第4頁右上欄8〜14行）
　「上記組成の本発明のFe基軟磁性合金膜はまた組織の少なくとも５０％以上が微細な結晶粒からなる。
　この結晶粒はα−Feを主体とするものでSi等が固溶していると考えられる。この結晶粒は５００Å以下と著しく小さな平均粒径を有することを特徴とし、合金組織中に均一に分布している。合金組織のうち微細結晶粒以外の部分は主に非晶質である。なお微細結晶粒の割合が実質的に１００％になっても本発明のFe基軟磁性合金膜は十分に優れた磁気特性を示す。本発明において結晶粒径がその最大寸法で測定した場合５０〜２００Åの平均粒径を有する場合特に高い透磁率が得られる。」（同第4頁右下欄5〜17行）
　「以上説明してきた合金膜で作製した磁気ヘッドは高飽和磁束密度で高透磁率を有するため高密度記録が可能であり、ＶＴＲやコンピュータディスク用の磁気ヘッドに最適である。」（同第5頁右上欄15〜18行）
(3)対比・判断
　本件発明と先願明細書に記載された発明とを対比すると、両者は、
T；Fe＋（Co,Niから選ばれる少なくとも１種以上）
M；Cu,Agから選ばれる少なくとも１種以上
M'；Zr,Hf,Nbから選ばれる少なくとも１種以上
Y；Si,Ｐ,Ｂ,Ｃから選ばれる少なくとも１種以上
(4)むすび
　以上のとおりであるから、本件発明と先願明細書に記載された発明とは同一であり、しかも、本件発明の発明者が上記先願明細書に記載された発明の発明者と同一であるとも、また、本件の出願時に、その出願人が上記先願の出願人と同一であるとも認められないので、本件発明についての特許は、特許法第２９条の２第１項の規定に違反してされたものである。
　したがって、本件発明についての特許は、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１月２３日（２００１．１．２３）
【事件の表示】
　特許第２９９５８３３号「薄膜半導体装置の製造方法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９９５８３３号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第２９９５８３３号の請求項１に係る発明についての出願は、平成２年９月２７日に特許出願され、平成１１年１０月２９日にその発明について特許の設定登録がなされ、その後、その特許について、異議申立人鈴木玉緒より特許異議の申立てがなされたものである。
２．特許異議申立てについて
(1)本件発明
　特許第２９９５８３３号の請求項１に係る発明（以下、本件発明という）は、その特許請求の範囲に記載された下記のとおりのものである。
「請求項１　熱酸化法により形成されたゲート絶縁膜を有する薄膜半導体装置の製造方法において、
シリコン薄膜が形成された基板を酸化炉に挿入し、前記酸化炉を２０℃／分以下の昇温速度で昇温させて、前記シリコン薄膜を酸化させてゲート絶縁膜を形成する工程を有することを特徴とする薄膜半導体装置の製造方法。」
(2)特許異議申立理由の概要
　特許異議申立人は、本件発明は、甲第１号証（特開平２−１２２６３１号公報）、甲第２号証（特開昭５６−１５８４３１号公報）及び甲第３号証（特開昭６３−２２６０２９号公報）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反するので、特許法第１１３条第２項に該当し、取り消されるべきである旨主張している。
（３）甲号各証に記載された発明                                
（Ａ）甲第１号証
「発明が解決しようとする課題
・・・多結晶Ｓｉ薄膜１０２中の結晶粒界や結晶粒１０２ａの内部に微小な結晶欠陥（転位等）が多く存在するため、熱酸化の際にこれらの結晶欠陥の所が他の部分に比べて速く酸化されやすい。この異常酸化のために、第７図に示すように、多結晶Ｓｉ薄膜１０２とゲート酸化膜１０３との界面の平坦性はかなり悪くなってしまう。・・・従って、本発明の目的は、多結晶半導体薄膜とゲート酸化膜との界面を平坦にすることができる薄膜トランジスタの製造方法を提供することにある。
課題を解決するための手段
・・・多結晶半導体薄膜（４）を熱酸化することにより多結晶半導体薄膜（４）上にゲート酸化膜（５）を形成するようにしている。」（第２頁右上欄第１０行から左下欄第１６行）
（Ｂ）甲第２号証
「電力用半導体素子において高濃度（・・・）の不純物を選択的に拡散するためには、少なくとも０．８μｍ以上の酸化膜が必要とされている。・・・厚い酸化膜を有するシリコン（Ｓｉ）ウエハーには第４図に示すように数多くの結晶欠陥が存在することが実験により見いだされた。この結晶欠陥が存在すると電気特性及び歩留まりに悪影響を及ぼす原因となっていた。・・・
シリコンウエハーが炉の均熱帯に到達したら、１００℃〜３００℃／ｈｒの加熱速度で炉自体の温度を１１００℃になるまで加熱する。・・・雰囲気をＮ２からＯ２に切換えることによりウエハー表面に緻密な酸化膜が形成される。」（第１頁右下欄第３行〜第２頁右上欄第１１行）
（Ｃ）甲第３号証
「本発明は、酸化処理によって形成した酸化膜とシリコン表面の間に自然酸化膜が存在するという問題点を除去し、シリコン表面へ直接清浄な酸化膜を形成することを目的とする。・・・シリコン基板を配置した反応炉内へ還元性ガスを導入し、加熱することによってシリコン基板上の自然酸化膜を除去する工程と、前記反応炉内へ酸化性ガスを導入し、加熱することによってシリコン基板上へ酸化膜を形成する工程を有するようにしたものである。」（第２頁左下欄第８行〜第１９行）
「反応炉の温度を徐々に、例えば毎分５℃の割合で昇温し、・・・そして、再び、反応炉の温度を８５０℃〜９５０℃へ前述のように徐々に昇温し、シリコン基板１３の酸化を行う。」（第３頁右上欄第３行〜左下欄第３行）
（４）異議申立人の主張
　甲第２号証には、昇温速度が〜３００℃／ｈｒ（〜５℃／分）で酸化膜を形成し、結晶欠陥を低減する発明が記載されている。甲第３号証には、昇温速度が５℃／分である発明が記載されている。甲第１号証に記載の薄膜トランジスタの発明に、甲第２，３号証に記載の発明を組み合わせて、本願発明をなすことは容易である旨主張している。
（５）判断
　甲第２号証には、シリコンウエハを用いた半導体基板の拡散用酸化膜マスクの形成方法、及び、その昇温速度が〜３００℃／ｈｒ（〜５℃／分）である発明が記載されている。甲第３号証には、シリコンウエハを用いた半導体基板の清浄な酸化膜を形成する発明、及び、その昇温速度が５℃／分である発明が記載されている。　甲第２、３号証には、熱酸化により酸化膜を形成する点、昇温速度が５℃／分である発明が記載されているが、甲第２、３号証とも、シリコンウエハに熱酸化膜を形成しており、甲第１号証のガラス基板等の上に薄膜半導体層を形成し、酸化する薄膜トランジスタの発明とは、技術の属する分野が相違する。
　また、甲第２号証に記載の発明は、拡散用の酸化膜マスクの製造法であって、ゲート酸化膜とは相違し、ウエハに拡散マスク用の厚い酸化膜を形成したときに生じる欠陥を防止する発明と、甲第１号証に記載の薄膜トランジスタのゲート絶縁膜を平坦化する発明とを組み合わせる動機もない。さらに、甲第３号証に記載のシリコンウエハに清浄な酸化膜を形成するＭＯＳトランジスタの発明を、甲第１号証に記載の薄膜トランジスタの発明に適用する動機もない。しかも、甲第１号証に記載の発明と甲第２及び第３号証に記載の発明とを組み合わせたことによる本件発明の効果の予測性も認められない。よって、甲第１号証、甲第２号証及び甲第３号証に記載の発明に基づいて本件発明を当業者が容易に成し得たとは認められない。
　以上のとおりであるから特許異議申立の理由及び証拠によっては、本件発明に係る特許を取り消すことができない。
　また、他に本件発明に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
３．むすび
　したがって、本件発明についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年３月１３日（２００１．３．１３）
【事件の表示】
　特許第３０５２４８８号「薄膜トランジスタ」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３０５２４８８号の請求項に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３０５２４８８号の請求項1ないし３に係る発明についての出願は、平成３年１０月１７日に特許出願され、平成１２年４月７日にその発明について特許の設定登録がなされ、その後、その特許について、異議申立人鈴木玉緒より特許異議の申立てがなされたものである。
２．特許異議申立てについて
(１)本件発明
　特許第３０５２４８８号の請求項1ないし３に係る発明（以下、本件発明１〜３という）は、その特許請求の範囲に記載された下記のとおりのものである。
「請求項１
　ゲート電極と、該ゲート電極上に設けられた絶縁膜と、該絶縁膜上に設けられた半導体膜とからなる薄膜トランジスタにおいて、前記ゲート電極は少なくとも２個のゲート電極よりなり、前記少なくとも２個のゲート電極の上方及び前記少なくとも２個のゲート電極の間に、前記絶縁膜及び前記半導体膜がそれぞれ連続的に形成されてなり、前記少なくとも２個のゲート電極の間隔が、前記半導体膜の膜厚の２倍より広いことを特徴とする薄膜トランジスタ。
請求項２
　ゲート電極と、該ゲート電極上に設けられた絶縁膜と、該絶縁膜上に設けられた半導体膜とからなる薄膜トランジスタにおいて、前記ゲート電極は少なくとも２個のゲート電極よりなり、前記少なくとも２個のゲート電極の上方及び前記少なくとも２個のゲート電極の間に、前記絶縁膜及び前記半導体膜がそれぞれ連続的に形成されてなり、前記少なくとも２個のゲート電極の膜厚が、前記半導体膜の膜厚より厚いことを特徴とする薄膜トランジスタ。
請求項３
　ゲート電極と、該ゲート電極上に設けられた絶縁膜と、該絶縁膜上に設けられた半導体膜とからなる薄膜トランジスタにおいて、前記ゲート電極は少なくとも２個のゲート電極よりなり、前記少なくとも２個のゲート電極の上方及び前記少なくとも２個のゲート電極の間に、前記絶縁膜及び前記半導体膜がそれぞれ連続的に形成されてなり、前記少なくとも２個のゲート電極の膜厚が、前記各ゲート電極幅の長さより厚いことを特徴とする薄膜トランジスタ。」
(２)特許異議申立理由の概要
　特許異議申立人は、本件発明１〜３は、刊行物１（特開昭６３−３４６４号公報）、刊行物２（特開平３−６９１６８号公報）に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反するので、特許法第１１３条第２項に該当し、取り消されるべきである旨主張している。
（３）本件発明１について
（Ａ）特許異議申立人の主張
　特許異議申立人は、本件発明１と刊行物１とを対比して、「特許明細書の図１に示された実施例の構造は、各ゲート電極１０３，１０４の段差に沿って立体的にゲート絶縁膜及び半導体膜が形成されています。しかしながら、請求項１はそのような構造に限定されてはおらず、単に（Ｅ）２個のゲート電極の上方及び少なくとも２個のゲート電極の間に、前記絶縁膜及び前記半導体膜がそれぞれ連続的に形成されている、とのみ規定しております。この文言通りの薄膜トランジスタ構造が刊行物１に開示されています。第１図に示すように、２個のゲート電極６ａ、６ｂの間に、まさしく絶縁膜３及び半導体膜４がそれぞれ連続的に形成されています。」（異議申立書第５頁第２３行〜２９行）と主張している。
　また、特許異議申立人は、本件発明１と刊行物２とを対比して、「更に、刊行物２には、第３Ｂ図に示すように、まさしく特許明細書の図１に示した断面構造と同様のゲート構造が開示されています。・・・中央の開孔によって二分されたゲート電極の上方及び側面に、半導体膜４が連続的に形成されており、縦型のチャンネル領域４ｂを形成しています。縦型のチャンネル領域とすることで薄膜トランジスタの平面サイズを縮小できます。この効果は、特許発明の効果に共通するものであります。よって、刊行物２に記載された薄膜トランジスタの構成を刊行物１に開示された薄膜トランジスタの構成に取り入れることで、請求項１に記載された特許発明をなすことは当業者にとって容易なことであります。」（異議申立書第６頁第１行〜第８行）と主張している。
（Ｂ）判断
　本件発明１の「少なくとも２個のゲート電極の間」の記載は、ゲート電極の間を規定しており、ゲート電極の間とは、２個のゲート電極に挟まれた領域を指しており、その上方を意味しない。刊行物１に記載の発明は、その第１図に記載された構成から明らかなように、２個のゲート電極の間の上方に、平坦に形成された半導体膜が形成されており、２つのゲート電極の間には半導体膜は形成されていないし、また、そのような技術思想もない。
　また、刊行物２の第３Ｂ図は、１つの縦型トランジスタの開孔部を通る部分の断面図であり、孔の底部には、ソース又はドレインとなる半導体膜４ｃと拡散層８が形成されており、コンタクト孔の部分においてゲート絶縁膜及び半導体膜は連続的に形成されていない。
　さらに、刊行物２に記載の発明はその平面図である第３Ａ図 からも明らかなように、１つの縦型薄膜トランジスタに係る発明であり、１つのゲート電極に開孔部を形成するものであるから、２つのゲート電極が存在せず、２個のゲート電極の間に、前記絶縁膜及び前記半導体膜がそれぞれ連続的に形成する構成を示唆する記載もない。さらに、刊行物２に記載の発明を刊行物１に記載の２つのゲート電極を有する薄膜トランジスタに適用する動機も認められないので、刊行物１及び刊行物２に記載の発明に基づいて本件発明１を当業者が容易に成し得たとは認められない。
（４）本件発明２，３について
　本件発明２，３に係る発明の特許についても、請求項２，３のそれぞれに「少なくとも２個のゲート電極の間に、前記絶縁膜及び前記半導体膜がそれぞれ連続的に形成されてな」る構成が記載されているので、本件発明１で検討した理由と同様の理由により刊行物１及び刊行物２に記載の発明に基づいて本件発明２，３を当業者が容易に成し得たとは認められない。
３．むすび
　以上のとおりであるから特許異議申立の理由及び証拠によっては、本件発明１〜３に係る発明についての特許を取り消すことができない。
　また、他に本件発明１〜３に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件発明についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年３月２１日（２００１．３．２１）
【事件の表示】
　特許第２９３０４８８号「代掻同時植付機」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９３０４８８号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．本件発明
　本件特許第２９３０４８８号（平成４年９月３０日特許出願、平成１１年５月２１日設定登録）の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という）は、その特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりの、
　「走行車１の後部に、複数の植付体１４を横方向に所定の植付条間隔をおいて配設し、それらの植付体１４とその直前の車輪との間に強制回転駆動される代掻ローター２１を横方向にして支架し、該代掻ローター２１の両側部を両側の植付位置より植付条間隔の１／２以上外方へ突出させることを特徴とする代掻同時植付機。」
である。
　
２．異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人は、甲第１号証（実願昭４８−１３４８７９号（実開昭５０−７７３２７号）のマイクロフイルム）を提出し、本件発明の特許は、次の理由により、特許法第１１３条第１項第４号、あるいは、同法第１１３条第１項第２号に該当するから、取り消されるべきである旨主張する。
（１）本件特許に係る出願は、本件発明の構成に欠くことができない事項のみを記載したものではないから、特許法第３６条第５項の規定に違反してされたものである。
（２）本件発明は甲第１号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。
　
３．当審の判断
　取消理由に引用した実開平２−１１６９１５号公報（以下、「引用刊行物」という）を当業者が本件出願時における技術水準を考慮してみると、引用刊行物には、走行機体１の後部に、複数の植付体を横方向に所定の植付条間隔をおいて配設した苗植付装置４を昇降自在に連結するとともに、苗植付装置４の前方位置であって車輪の後方位置に強制回転駆動される代掻装置２５を横方向にして支架した田植機が、記載されていると認められる。
　本件発明と上記引用刊行物記載の発明とを対比すると、引用刊行物記載の発明の「代掻装置２５」が本件発明の「代掻ローター２１」に相当しているから、両者は、走行車の後部に、複数の植付体を横方向に所定の植付条間隔をおいて配設し、それらの植付体とその直前の車輪との間に強制回転駆動される代掻ローターを横方向にして支架した代掻同時植付機で一致し、
　本件発明では、「代掻ローター２１の両側部を両側の植付位置より植付条間隔の１／２以上外方へ突出させ」ているのに対し、引用刊行物記載の発明では、その構成が不明である点で構成が相違している。
　上記の相違点について検討すると、田植作業のために、圃場に不整地部分を残さないように整地作業を行うことは当然のことであり、しかも、田植機に設けた整地装置等の両側部を、両側の植付位置より十分外方へ突出させて設けることは周知のことである（例えば、実開昭５３−１５６８１３号公報、実公平１−２０８１５号公報参照）から、引用刊行物記載の発明において、代掻装置２５の外方への突出量を両側の植付位置より植付条間隔の１／２以上とすることは、当業者が容易に想到できることといえる。
　そして、本件発明が、上記引用刊行物に記載された発明及び周知技術から予測できないほど顕著な効果を奏するものとも認められない。
　したがって、本件発明は、上記引用刊行物に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおりであり、本件発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本件発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認める。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年２月８日（２００１．２．８）
【事件の表示】
　特許第２９４３９５１号「複合成形体の射出成形法並びにそれで用いる射出成形用金型」の請求項１、３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９４３９５１号の請求項１、３に係る特許を維持する。
【理　由】
  １．本件特許第２９４３９５１号の発明〔平成３年８月２６日出願、平成１１年６月２５日設定登録（請求項の数４）〕は、特許明細書の記載からみて、特許請求の範囲請求項１〜４に記載されたとおりのものと認める。
　２．特許異議申立人は、請求項１、３に係る発明（以下、本件発明という。）は、甲第１号証（特開昭５９−３９５２８号公報）、甲第２号証（特開昭５０−１３９８５１号公報）、甲第３号証（特開昭６１−８９８１８号公報）及び甲第４号証（特開昭５５−７４５号公報）に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであると主張している。
　３．甲第１号証には、移送板に取付けたネック型と、パリソン首部または首部外層の成形型とを第１成形部にて型閉し、ネック型内に形成されたキャビテイに溶融樹脂を射出して、パリソン首部または首部外層を成形する第一工程と、上記パリソン首部または首部外層をネック型と共に第二成形部に移送し、該成形部にてパリソン首部または首部外層を保持したままネック型とパリソン主部成形型及びコア型とを型閉して、パリソン首部または首部外層に接続したキャビテイを形成し、該キャビテイに上記溶融樹脂とは異なる他の溶融樹脂を射出して、パリソン主部を成形すると同時に、該パリソン主部とパリソン首部またはパリソン首部外層とを一体に溶着して複合化する第二工程とからなることを特徴とする複合パリソンの射出成形方法（特許請求の範囲第１項）及びそのための射出成形装置（同第２項参照）が記載され、
甲第２号証には、一方は合成樹脂材料を射出する射出ノズルと連通状態に設け、他方はプレス成形された板状物を除去するノックアウト機構を具備する複数個の雌金型を設けた固定盤と、前記雌金型に適応する形状に形成した複数個の雄金型を取付けた回転盤を回転可能に支持した可動盤とを対向して開成状態に保ち、前記ノックアウト機構を有する雄金型上に板状物を静置すると共に前記可動盤を固定盤に向って移動して各金型を開成し、同雌金型上の板状物を所定形状にプレス成形し、その後可動盤を後退して各金型を開成すると共に前記雄金型にプレス成形された板状物を取付けたまま回転移動させ、次いで同可動盤を固定盤に向って移動させると共に板状物を取付けた前記雄金型を射出ノズルと連通する雌金型に閉合させ、前記射出ノズルより金型内に合成樹脂材料を射出充填し、同合成樹脂材料の冷却固化後、各金型を解放状態にして最終成形品を取り出すことを特徴とする合成樹脂材料と板状物とから成る複合体の成形方法（特許請求の範囲第１項）及びそのための装置（同第２項参照）が記載され、
甲第３号証には、多色樹脂成形方法およびそれに使用する多色樹脂成形型の発明（特許請求の範囲参照）が記載され、「本発明は親和性の低い樹脂間においても、一体性の高い多色樹脂成形体を製造する多色樹脂成形方法および多色樹脂成形型を提供することを目的とする。」（第２頁左下欄第８〜１１行）との記載及び、第１、２図とともに「コアブロック１３は本体１１の型面側に開口する穴１１ｆに軸方向に摺動可能に保持され、」（第４頁右下欄第９〜１１行）、「常用型１と第１交換型２が当接して形成されるキャビティーａ１内に第１交換型２に形成されたゲート２０１より第１樹脂が射出され、第１樹脂成形体Ｍが成形される。」（第５頁右上欄第４〜７行）、「常用型１と第２交換型３とは型締めされる。そして、両者間に第２キャビティａ２が形成される。次に、第２交換型３のランナ３ａ、ゲート３ｂおよび第２コアピン２０が引き込むことにより生じた貫通孔１１ｃの空間を通って第２樹脂が射出され、第２樹脂成形体Ｎが成形される。」（第５頁左下欄第１２〜１８行）との記載がなされ、
甲第４号証には、難メッキ性の合成樹脂による成形品の本体に、メッキ可能な合成樹脂を部分的に成形して、本体表面に被メッキ部を形成し、その被メッキ部の表面を処理してメッキすることを特徴とする合成樹脂成形品における部分的メッキ方法（特許請求の範囲第１項）が記載され、雌型３と文字２と同様な形状の凸部４を有する雄型５とを型閉じしてなるキャビティ内に難メッキ性の合成樹脂を注入して、抜き孔（貫通部）６を有する板状の本体１を一次成形した後、本体１を雌型３に保持させたまま雄型５を離型させ、二次成形用の雄型７に移し、再度型閉じした後、本体１の抜き孔（貫通部）６にメッキ可能な合成樹脂を注入して二次成形を行うことにより、本体１の面内に文字２を形成する被メッキ部８が接合した表示板を成形することの記載（第２頁左上欄第１０行〜右上欄第１１行、第１〜４図参照）がなされているものと認められる。
　しかしながら、甲第１〜４号証には、本件発明に係る複合成形体の射出成形法または射出成形用金型については記載も示唆もなされていないものと認められる。
　すなわち、甲第１〜４号証記載のものは、その目的、構成、効果において本件発明とは相違しており、本件発明に係る複合成形体の射出成形法または射出成形用金型を記載ないし示唆するものではない。
　特許異議申立人は、甲第４号証記載の成形品の製造において、甲第１号証に記載の射出成形方法及び装置を転用することは当業者が容易に想到し得ることであり、その際に、甲第２、３号証の記載に基いて本件発明の構成を得ることは容易になし得ると主張するが、甲第４号証記載の成形品と甲第１号証記載のパリソンとは、形状が全く異なるものであるから、前記転用が当業者において容易に想到し得ないことは明らかである。
　そして、本件発明は、明細書に記載されたとおりの効果を奏し得たものと認められるから、本件発明は、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　４．また、他に本件発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。　　
【異議決定日】
平成１２年７月４日（２０００．７．４）
【事件の表示】
　特許第２９６４６６３号「積層二軸延伸フィルムおよびその製造方法」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９６４６６３号の請求項１、２に係る特許を維持する。
【理　由】
　１．本件特許第２９６４６６３号の発明〔平成３年２月２６日出願、平成１１年８月１３日設定登録（請求項の数２）〕は、特許明細書の記載からみて、その特許請求の範囲請求項１、２に記載されたとおりのものと認める。
　２．特許異議申立人は、請求項１、２に係る発明（以下、本件発明という。）は、甲第１号証（特公昭６４−９９４３号公報）及び甲第２号証（特開昭５７−５１４２７号公報）に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであると主張している。
　３．甲第１号証には、ジアミン成分の７０モル％以上がｍ−キシリレンジアミン又はメタ体／パラ体混合キシリレンジアミンよりなりジカルボン酸成分の７０モル％以上が炭素原子数６〜１２のα，ω−脂肪族ジカルボン酸であるキシリレン基含有ポリアミドと全脂肪族ポリアミドとの重量比１０：９０ないし３５：６５の混合物よりなる表面層、及び上記キシリレン基含有ポリアミド又は該キシリレン基含有ポリアミドを６５重量％以上含有するポリアミド混合物よりなる中間層を有することを特徴とする積層シート（特許請求の範囲）が記載され、本発明例と比較例の各積層シートの構成及び特性を示す第１表には、キシリレン基含有ポリアミドの層（ａ）とキシリレン基含有ポリアミドとナイロン６との混合物の層（ｃ）とからなるｃ７５μ／ａ１５０μ／ｃ７５μの構成の積層シート（比較例４）、ナイロン６の層（ｂ）とキシリレン基含有ポリアミドとナイロン６との混合物の層（ｃ）とからなるｂ７５μ／ｃ１５０μ／ｂ７５μの構成の積層シート（比較例６）の記載がなされていることが認められる。
　甲第２号証には、（メタおよび／またはパラ）キシリレンジアミンの１種以上のキシリレンジアミン成分と、炭素原子数６ないし１２のα，ω−脂肪族ジカルボン酸の１種以上のジカルボン酸成分とからなるポリアミド構成単位を分子鎖中に少なくとも５０モル％以上含有する重合体と脂肪族ポリアミドとを溶融し、同一サーキュラーダイスより共押出し、得られた未延伸積層フィルムを延伸温度５０〜１４０℃、延伸速度５００００％／分以上にて縦横それぞれ２．５〜５倍の延伸倍率でインフレーション法により２軸延伸することを特徴とするポリアミド積層フィルムの製造法（特許請求の範囲）が記載され、（メタおよび／またはパラ）キシリレンジアミンの１種以上のキシリレンジアミン成分と、炭素原子数６ないし１２のα，ω−脂肪族ジカルボン酸の１種以上のジカルボン酸成分とからなるポリアミド構成単位を分子鎖中に少なくとも５０モル％以上含有する重合体の層（ａ）とナイロン６の層（ｂ）とのｂ／ａ／ｂ（１：２：１）構成でフィルム厚み１５．４μ、２８．４μの各積層シート（実施例２、６）の記載がなされていることが認められる。
　しかしながら、甲第１、２号証には、本件発明の構成要件である「ｍ−または／およびｐ−キシリレンジアミンと炭素原子数６〜１２のα，ω−脂肪族ジカルボン酸とからなるポリアミド構成単位を分子鎖中に７０モル％以上含有する芳香族ポリアミド重合体（Ａ）よりなる（ａ）層、脂肪族ポリアミド重合体（Ｂ）よりなる（ｂ）層、これら重合体（Ａ）と重合体（Ｂ）との混合物（Ｃ）よりなる（ｃ）層の少なくとも３種類の層を含む構造」の積層二軸延伸フイルムまたはその製造方法については、記載も示唆もなされていないものと認められる。
　特許異議申立人は、甲第１号証の比較例４、６記載のものと甲第２号証の実施例２、６記載のものとを組み合わせて本件発明の構成を得ることは当業者が容易に想到し得ると主張するが、前者は比較例であるのに対して、後者は所期の目的を達成すべく構成されたものであり、両者を組み合わせる理由ないし動機はないというべきであるから、特許異議申立人の主張は採用することができない。
　そして、本件発明は、明細書に記載されたとおりの効果を奏し得たものと認められるから、本件発明は、甲第１、２号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　４．また、他に本件発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
  よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年７月１２日（２０００．７．１２）
【事件の表示】
　特許第２９５９６１３号「繊維製品処理装置」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９５９６１３号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
　１．本件特許第２９５９６１３号の発明〔平成６年５月２日出願、平成１１年７月３０日設定登録（請求項の数１）〕は、特許明細書の記載からみて特許請求の範囲請求項１に記載されたとおりのものと認める。
　２．特許異議申立人は、請求項１に係る発明（以下、本件発明という。）は、甲第１号証（特公昭５９−２６６９９号公報）、甲第２号証（特公昭５３−３１９８６号公報）、甲第３号証（特開昭５２−１４０６７５号公報）、甲第４号証（実開平４−１００２８０号公報）、甲第５号証（特開昭６１−７００６５号公報）、甲第６号証〔実願昭５９−５３７００号（実開昭６０−１６５４９３号公報）のマイクロフィルム〕、甲第７号証（「　International　Textile　Bulletin　」、１９９３−２、第８１、８２頁）、甲第８号証（特開平６−７３６５８号公報）及び甲第９号証（特公昭６０−３０３８５号公報）に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであると主張している。
　３．甲第１号証には、繊維（以下処理布帛という）を真直状態で移送させる移送管と蛇行状態で移送させる滞溜槽とを連結して環状の処理布帛移送通路を形成し、該通路内に無端状の処理布帛を架設すると共に処理液を、上記滞溜槽よりポンプを介して移送管の上流端に設けた布帛送り込み用噴射部に圧送して循環させるようにしたものに於て、上記滞溜槽の出口部に、該槽内の滞溜液面を越えて無液部分を斜め上方に延びる処理布帛の引上斜面部７を形成すると共に、該引上げ斜面部７の端部に、前記移送管の上流端に設けた布帛送り込み用噴射部３ｂとは別に布帛引上げ用の処理噴射部３ａを前記噴射部３ｂと近接して共に噴射方向を布帛の移動を付勢するように同一にして設けたことを特徴とする液流式繊維処理装置（特許請求の範囲）とその実施例を示す第１図の記載がなされ、
甲第２号証には、ループ状に形成した繊維質材料を密閉されたタンクの中で循環させる間に、処理液体によって処理するものにおいて、前記繊維質材料を順次処理液体から引上げ、再び処理液体中へ戻すまでに、繊維質材料に向つて前記タンクから導出された一部の処理液体を噴射させ、この処理液体が噴射された場所の近傍において、前記繊維質材料に向かつて空気を吹付けることにより、前記処理液体に含まれる発泡剤が発泡されるようにしたことを特徴とする、液体で繊維質材料を処理する方法（特許請求の範囲第１項）が記載され、
甲第３号証には、ループ状の無端の織物の大部分を一時的に貯蔵するために配置された容器とそれにより該織物ループを引き上げかつそれを容器の貯蔵場所に戻して該織物を循環せしめるために配置され装備された該容器の上部構造とを包含する加工装置を通して該織物ループを循環しながらループ状の無端の該織物を低液比で湿式加工する装置において、引き上げロールおよび該上部構造中に内蔵されかつ・・・手段よりなる改良（特許請求の範囲第１項）が記載され、
甲第４号証には、図１、２とともに「移送管４の上流端に設けた立ち上り管に液噴射部を処理液面７を境にその上下に設けて、気中噴射部５と液中噴射部６とに区分し、且つこれら両噴射部を単独使用可能に構成するとともに、前記滞溜槽１の底部と、処理液面より下方となる部分で気中噴射部５と液中噴射部６との間乃至は移送管の上流側とを開閉弁２４を備えた連通管２３で接続した。」（第１頁左欄第５〜１１行）」との記載がなされ、
甲第５号証には、移送管を上部に滞留槽を下部に配置した布帛の液流処理装置の発明（特許請求の範囲、第１図参照）が記載され、
甲第６号証には、加圧した流体を噴出させてこの流体の循環により被繊維処理製品を移送するようにしたものにおいて、ノズルの流体噴出量が調整可能なノズル体を複数設け、該複数のノズル体に夫々独立的に流体を供給する流体流入管を設け、該各流体流入管に、これらの流路を独立的に開閉するバルブを設けたことを特徴とする繊維製品処理装置における繊維製品の移送装置（実用新案登録請求の範囲）とその実施例を示す第１〜３図の記載がなされ、
甲第７号証には、「・・・。この染色機は従来の浴槽による布帛の移送が気流搬送システムに変えられている。」（第８１頁上左欄第１〜７行）との記載及び図面（第８２頁上欄）の記載がなされ、
甲第８号証には、ロープ状の繊維製品の気流式処理装置及び処理方法の発明（特許請求の範囲参照）が記載され、本発明装置の要部断面図（図１）には、滞溜槽６の下底部に外部に突出した処理液の液溜部８を設けたことの記載がなされ、
甲第９号証には、名称を「液流式繊維処理装置」とする発明（特許請求の範囲参照）が記載され、「上記滞留槽の出口部に、該槽内の滞留液面より上部に延びる処理布帛の引上斜面部を形成し、該部の端部に処理液噴射部を設けたもので、」（第３欄第１９〜２２行）との記載がなされていることが認められる。
　しかしながら、甲第１〜９号証には、本件発明の構成要件である滞溜部（１ａ）の出口部から処理布帛を斜め上方に引き上げる傾斜部「の途中に処理布帛を上方へ移送する液流噴射部（３）と気流噴射部（４）を順次下流側に近接して独立的に設け、前記両噴射部（３）（４）の下流側で傾斜部の上部に位置して移送管（６）への出口を設け」たことの記載又はこれを示唆する記載はなされていないものと認められる。
　特許異議申立人は、本件発明に係る前記構成事項は、甲第１、９号証記載のものに甲第２、３、７号証記載の技術を適用することにより容易に得られる旨主張しているようであるが、甲第１、９号証記載のものは移送管（６）と滞溜部（１ａ）とを連結して環状の処理布帛移送通路を形成してなる装置であるのに対して、甲第２、３、７号証記載のものはタンクと引き上げロールとからなり、処理布帛をタンクの中で循環させて処理する装置であり、両者は著しく相違することが認められるから、前記適用は当業者において容易に想到し得るものであるということはできない。
　そして、本件発明は、前記事項を構成要件とすることにより明細書に記載されたとおりの効果を奏し得たものと認められるから、本件発明は、甲第１〜９号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　４．また、他に本件発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。　　
【異議決定日】
平成１２年７月７日（２０００．７．７）
【事件の表示】
　特許第２８９４５２９号「地盤改良用注入材」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２８９４５２９号の特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第２８９４５２９号発明は、平成４年７月１４日に特許出願され、平成１１年３月５日に特許の設定登録がなされたものである。その後、株式会社　小野田によって特許異議の申立がなされたため、当審において審理のうえ特許権者に対する審尋を行ったところ、平成１２年４月２８日に回答書が提出された。
２．本件特許発明
　本件特許発明は、特許明細書の記載から見て、その特許請求の範囲の請求項１に記載された、次のとおりのものである。
【請求項１】　ポルトランドセメントクリンカーと高炉スラグを混合粉砕して得られるブレーン比表面積が６０００〜１２５００ｃｍ２／ｇの混合物とせっこうとからなる組成物あるいはポルトランドセメントクリンカー、高炉スラグおよびせっこうを混合粉砕して得られるブレーン比表面積が６０００〜１２５００ｃｍ２／ｇの組成物であって、該組成物中の高炉スラグ含有量が６０〜８５重量％であり、且つせっこう含有量がＳＯ３基準で０．５〜１．６重量％である地盤改良用注入材。
３．申立ての理由の概要
　申立人は、甲第１〜４号証を提出して、（１）本件の請求項１の特許発明（以下、「本件発明」という。）は、甲第１〜４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであること（理由１）、また、（２）本件特許明細書には記載不備があること（理由２）、を理由に、本件の請求項１の発明に係る特許は、特許法２９条２項、及び３６条４項及び５項の規定に違反してなされたものであって、取り消されるべきと主張した（なお、申立人は、理由２を３６条４項及び６項違反としたが、各改正法の経過措置に伴い、本件出願に対する３６条の適用は平成２年法に基づき上記のとおりに認定した。）。
４．理由１について
（１）証拠刊行物の記載
　甲第1号証（特開昭５４−１３５４０９号公報）には、岩盤や土粒子の微細間隙に注入して固結させる注入材として、「多価アルコールまたはエタノールアミンの存在下で粒径３０μ以下に粉砕したセメントに粒径３０μ以下の珪酸塩物質を混合したことを特徴とする注入材。」が記載されている（特許請求の範囲）。また、珪酸塩物質を粉砕するには、セメント粒子の粉砕と同様に、必要に応じて多価アルコールまたはエタノールアミンを添加して粉砕するとよく、したがって、珪酸塩物質の粉砕は、セメントと一緒に多価アルコールまたはエタノールアミンの存在下に共砕してもよい、と記載され、実施例２には、「トリエタノールアミンを０．０５重量部添加して粒径１０μ以下に微細化したセメントの４０重量部にジエチレングリコールを０．１重量％添加して粒径１０μ以下に微細化した水滓を６０重量部を混合」した注入材主原料が示されている。
　甲第２号証（「セメントの常識」　２６頁　社団法人セメント協会　１９９１年７月発行）の表４・５には、普通ポルトランドセメント中のＳＯ３含有量が２．０％であることが示されている。
　甲第３号証（草野一人編　「薬液注入工法ハンドブック」７１〜７２頁　吉井書店　昭和５８年７月５日第１版発行）の図４−１０には、超微粒子セメントＭ（粒径１３μ以下）の比表面積が８１５０cm２／ｇであることが示されている。
甲第４号証は、株式会社小野田開発研究所　細田初敏の作成した実験成績証明書であって、同一組成の原料を分離粉砕または混合粉砕して得られる注入材について、微細間隙への浸透量を測定した結果を示すものである。
（２）対比・判断
　甲第１号証の実施例２に記載された注入材（「甲第１号証の注入材」という。）において、「水滓」は高炉スラグに相当し、また、「セメント」は、クリンカーとせっこうとを混合粉砕したものに相当するから、同注入材は、予めクリンカーとせっこうとから調製されたセメントと、高炉スラグをそれぞれ別々に微細化した後に混合したものである。同号証において、「珪酸塩物質の粉砕は、セメントと一緒に多価アルコールまたはエタノールアミンの存在下に共砕してもよい」とした点も、セメントと珪酸塩物質（高炉スラグ）が共砕できることを示したに過ぎず、当該セメントが、クリンカーとせっこうを予め混合粉砕して調製されたものであることに変わりはない。
　これに対し、本件発明における注入材は、「ポルトランドセメントクリンカーと高炉スラグを混合粉砕して得られる・・・混合物とせっこうとからなる組成物」、あるいは、「ポルトランドセメントクリンカー、高炉スラグおよびせっこうを混合粉砕して得られる・・・組成物」であるから、せっこうの添加は、ポルトランドセメントクリンカーと高炉スラグの混合後、あるいは、ポルトランドセメントクリンカー、高炉スラグと同時に添加混合されるものである。
　したがって、本件発明の注入材と甲第１号証の注入材は、組成を構成する成分が共通するものであっても、各構成成分の混合順序において相違する。甲第１号証ないし３号証には、本件発明における混合順序を示唆する記載はない。
　本件発明は、各成分の添加順序をこのように設定するとともに、ブレーン比表面積、高炉スラグの含有量（添加量）、せっこうの含有量（添加量）を特定範囲に設定することによって、浸透性及び硬化体強度に優れた注入材を提供し得たものであるから、結局、本件発明は、甲第１号証ないし３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　なお、申立人は、甲第４号証として、ポルトランドセメントクリンカー、高炉スラグ、及びせっこうを、混合粉砕及び分離粉砕して得た注入材について浸透性を評価した結果、混合粉砕がむしろ劣っていたとする実験成績証明書を提出したが、当該実験は、粉砕後に分級操作を経たものであるから、各構成成分のバランスに影響を来した可能性が否定できず、したがって、本件発明の適正な追試結果として採用することはできない。
５．理由２について
　本件特許明細書を記載不備とする申立人の主張は、発明の詳細な説明中の実施例などの記載によれば、本件発明における注入材組成物は、「ブレーン比表面積が６０００〜１２５００ｃｍ２／ｇとなるように混合粉砕して得られる」ものであるところ、特許請求の範囲には、「・・・を混合粉砕して得られるブレーン比表面積が６０００〜１２５００ｃｍ２／ｇの混合物とせっこうとからなる組成物あるいは・・・を混合粉砕して得られるブレーン比表面積が６０００〜１２５００ｃｍ２／ｇの組成物」として、当該組成物には、「ブレーン比表面積が６０００〜１２５００ｃｍ２／ｇとなるように混合粉砕して得られる」ものと、混合粉砕した後、ブレーン比表面積が６０００〜１２５００ｃｍ２／ｇのものを分別して得られるものの両者が含まれるかのように記載されているのは不適切、というものである。
　しかし、特許請求の範囲における記載自体明瞭であり、その構成を、発明の詳細な説明中に記載された実施例などの内容と整合するものとして把握することに困難はないから、本件明細書には、申立人がいうような記載不備があるものとは認められない。
６．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によって、本件の請求項１の発明に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年６月１３日（２０００．６．１３）