【事件の表示】
　特許第２６１４１９６号「円板状加工品を液体で処理する方法及び装置」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２６１４１９６号の請求項１、２に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．　手続の経緯
　特許出願　　　　　　平成　６年１０月２５日
　（優先権主張　　　　１９９３年１０月２７日　ドイツ国）
　設定登録（特許第２６１４１９６号）
　　　　　　　　　　　平成　９年　２月２７日
　特許異議申立（安藤純男）
　　　　　　　　　　　平成　９年１１月２８日
　取消理由通知　　　　平成１０年　２月　６日
　特許異議意見書１　　平成１０年　８月２７日
　訂正請求　　　　　　平成１０年　８月２７日
　訂正拒絶理由通知１　平成１１年　５月３１日
　特許異議意見書２　　平成１１年１２月２４日
　手続補正書（訂正請求）
　　　　　　　　　　　平成１１年１２月２４日
　訂正拒絶理由通知２　平成１２年　４月１７日
　特許異議意見書３　　平成１２年１１月１４日
　
２．　訂正の適否についての判断
２．１　訂正の補正について
　訂正請求書を補正するとした手続補正書（訂正発明）は、訂正明細書の特許請求の範囲請求項１「【請求項１】　気密に閉鎖可能な容器内で円板状加工品を液体で処理する方法であって、該処理により有害な蒸気又はガスが発生する方法において、搬送柵台内に積層された加工品を容器内に入れ、この容器を気密に密閉し、該加工品を密閉容器内に供給される液体と接触させ、液体を容器外に排出し、溶剤を前記密封容器内に供給又は噴霧することにより、液体から発生した有害な蒸気又はガスを溶解した状態で容器外に排出することを特徴とする処理方法。」（以下、訂正発明という）を
「【請求項１】　気密に閉鎖可能な容器内で円板状加工品を液体で処理する方法であって、該処理により有害な蒸気又はガスが発生する方法において、搬送柵台内に積層された加工品を容器内に入れ、この容器を気密に密閉し、該加工品を密閉容器内に供給される液体と接触させ、液体を容器外に排出すし、水または水溶液を前記密封容器内に供給又は噴霧することにより、液体から発生した有害な蒸気又はガスを溶解した状態で容器外に排出することを特徴とする処理方法。」と補正するものである。
　即ち、訂正請求書を補正するとした手続補正書は、「溶剤を」を「水または水溶液を」と補正するものであり、訂正請求の訂正事項ａ（請求項１の減縮を目的とした訂正事項）の内容を変更するものである。そしてそのものは、訂正事項の削除であるとも認められず、また軽微な瑕疵の補正であるとも認められない。
　ところで、訂正請求書の補正において、訂正事項の補正は、訂正事項の削除、及び軽微な瑕疵の補正等に限られ、新たに訂正事項を加える、あるいは訂正事項を変更することは、請求書の要旨の変更に該当する。すると、本件における手続補正は、訂正請求書の要旨を変更するものであるので、当該補正は認められない。
　
２．２　訂正の内容
　権利者は、平成１０年８月２７日付け訂正請求書において、特許された特許請求の範囲請求項１を減縮し、同請求項２を削除し、又、詳細な説明において明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正を請求している。
  そして特許請求の範囲請求項１については、
「気密に閉鎖可能な容器内で円板状加工品を液体で処理する方法であって、該処理により有害な蒸気又はガスが発生する方法において、搬送棚台内に積層された加工品を容器内に入れ、この容器を気密に密閉し、該加工品を密閉容器内に供給させる液体と接触され、液体を容器外に排出し、溶剤を前記密閉容器内に供給又は噴霧することにより、液体から発生した有害な蒸気又はガスを洗浄し、有害な蒸気又はガスを溶解した状態で容器外に排出することを特徴とする処理方法。（以下、訂正発明という）」
と訂正しようとするものである。
　
２．３　訂正の目的の適否、新規事項の有無及び変更・拡張の存否
（訂正拒絶理由１の概要）
　訂正拒絶理由１の概要は、（１）訂正に新規事項違反がある、（２）訂正された請求項１に係る発明は甲第１号証記載の発明と同一であるので訂正は認められないというものである。
（訂正請求の新規事項違反ついて）
　上記訂正発明における、「溶剤」、「噴霧」は、願書に添付した明細書又は図面（特許公報）に記載されておらず、かつ、これらから、直接かつ一義的に導き出せる事項でもないので、新規事項である。
　従って、上記訂正拒絶理由１の（１）は解消していない。
　
２．４　本件訂正請求に係る発明の独立特許要件違反について
（本件訂正発明）
　訂正請求に係る発明は訂正明細書の特許請求の範囲請求項１に記載された事項で特定される上記訂正発明のとおりである。
（訂正拒絶理由２の概要）
　訂正拒絶理由２の概要は、訂正された請求項１に係る発明は甲第１号証〜甲第３号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項に違反しているので訂正は認められないというものである。
甲第１号証：特開昭６１−２９５６２２号公報
甲第２号証：特開昭６３−１１９２２１号公報
甲第３号証：特開平４−２６０４８４号公報
（甲第１号証記載の発明）
　甲第１号証には、発明の名称「半導体ウエハを流体で処理するための容器および装置」、
　第６頁左上欄第６行〜第８行に「本発明は、材料処理に関し、特に、半導体ウエハを液状またはガス状流体で処理するための容器および装置および方法に関する。」、
　同右上欄第２０行〜左下欄９行「台の天板に設置された開放タンク浴は、活性薬剤やその煙霧にさらされるおそれのある技術者にとって重大な安全上の問題を提起する。また、空中に浮遊する不純物も、各種薬剤及びリンス用水を汚染する可能性があり、その結果半導体の歩留りを低下させることになる。開放浴の使用を回避するために、回転式乾燥機構を備えた密閉スプレー式洗浄装置が提案されている。」、
　同頁右下欄第５〜１２行「運動部品の数および汚染の可能性を最小限にすべきであり、作業者が攻撃的な薬剤やその煙霧に露呈されることも防止されるようにしなければならない。従って、自動操作で、かつ、完全に密閉された態様で半導体処理を各種流体により安全に処理することができる簡単で能率的な装置があれば、永年切望されている要望が充足されるであろう。」、
　第７頁左上欄第１〜５行「そのような容器は、流体によるウエハ処理行程を完全に密閉された状態で実施することを可能にし、それによって上述した安全上の問題および汚染問題を回避することができる。」、
　第８頁右下欄第３〜５行「ウエハキヤリア１６は、複数の半導体ウエハ（図示せず）を互いに平行に間隔をおいて整列した状態に支持する。」、
　第１１頁左下欄第１４行〜第１３頁左下欄第６行「第６図は、複数のバッチのウエハを処理することができる本発明の別の実施例を示す。この装置３は、基本的には、処理流体供給部５と、流体導入部７と、１対のウエハ収容容器６と、処理流体排出部２とから成っている。
　…処理流体溜めとしては、例えば高温硫酸の溜め１１６および弁１１８、高圧窒素の溜め１２０および弁１２２、弗化水素酸のようなエッチング剤の溜め１２４および弁１２６、および超純粋水の溜め１２８および弁１３０を設けることができる。…また、ウエハキャリア１６、１６’を用いず、例えば第５図に示されるように、ウエハを個々に容器内に装入することもできる。
　図示の処理流体排出部２は、抽出器４８と、導管５０から成り、流体を廃棄するか、あるいは、回収し再使用するための装置（図示せず）へ送る。…
　作動において、例えばウエハを高温硫酸、超純粋水、弗化水素酸エッチ液、超純粋すすぎ水、および乾燥剤に順次に接触させることによって拡散操作のための準備として洗浄し、完全にエッチング処理することができる。これらの薬剤は、慣用の適当な配管および弁機構を通して容器６内へ導入する。まず、溜め１１６から硫酸を弁１１７、導管１１９および抽出器４８を通して容器内に導入し、ウエハに接触させるようにして各容器を通して循環させる。酸（即ち硫酸）排出物内の不純物を酸化させるために該酸流出物内へオゾンまたはその他の酸化剤を注入する。酸（硫酸）は、溜め１２０から導入部７を通して高圧窒素を導入することによって容器から抽出器４８を通して系外へ排出することができる。次に、溜め１２８から超純粋水を容器内を通して循環させ、酸残留物をウエハの表面、容器の内部および各導管から除去する。
　容器６からのすすぎ水流出物が高い抵抗率および低い粒子カウント（粒子濃度）を示し、完全なすすぎが行われたことが示された時点で、溜め１２４から弗化水素酸を超純粋水の流れ内へ注入し、正確な規定濃度のＨＦ溶液を調製する。…
　このエッチング処理は、超純粋水を循環し続けたままでＨＦの注入を突然遮断することによって所定の時点に終了させる。…
　その後、すすぎ（リンス）流出物の抵抗率および粒子カウントがすすぎが完了したことを表示するまで水の循環を続ける。この時点で、溜め１２０から高圧窒素を圧送し、残流水を排出させる。次いで、例えばメタノールのような高温有機蒸気を導入し、その後該蒸気を乾燥窒素または他の適当なガスにより押しのけることによってウエハ、容器の内壁面、および各導管を乾燥させることができる。」とＦＩＧ．１Ａ〜ＦＩＧ．６とともに記載されている。
　すなわち、甲第１号証においては、半導体ウエハを液状またはガス状流体で処理するするのに関し、１対のウエハ収容容器６は、流体密に閉鎖可能であり、ウエハキヤリア１６は複数の半導体ウエハを整列した状態で支持し、ウエハキヤリア１６を、容器６内に入れ、容器６を流体密に密閉しており、容器６内で、ウエハを高温硫酸と接触させ、硫酸排出物内の不純物を酸化させるために該酸流出物内へオゾンまたはその他の酸化剤を注入し、超純粋水を容器内を通して循環させ、酸残留物をウエハの表面、容器の内部および各導管から除去し、弗化水素酸を超純粋水の流れ内へ注入し、エッチング処理し、弗化水素酸の注入を遮断し、溜めから超純粋水を容器内を通して循環させ、すすぎ（リンス）流出物の抵抗率および粒子カウントが、すすぎが完了したことを表示するまで、水の循環を続け、このカウントが表示した時点で、溜め１２０から高圧窒素を圧送し、残流水を排出させ、次いで、例えばメタノールのような高温有機蒸気を導入し、その後該蒸気を乾燥窒素または他の適当なガスにより押しのけることによってウエハ、容器の内壁面、および各導管を乾燥させることを特徴とする完全に密閉された態様で半導体処理を各種流体により安全に処理する方法が示されている。
　また、半導体ウエハを液状またはガス状流体で処理する装置に関し、複数の半導体ウエハを整列した状態で支持するウエハキヤリア１６と、ウエハキヤリア１６を入れ流体密に閉鎖可能である１対のウエハ収容容器６と、処理流体供給部５と、流体導入部７と、抽出器４８と、導管５０から成る処理流体排出部２とを有し、容器６を流体密に密閉しており、容器１６内で、ウエハを高温硫酸と接触させ、硫酸排出物内の不純物を酸化させるために該酸流出物内へオゾンまたはその他の酸化剤を注入し、超純粋水を容器内を通して循環させ、酸残留物をウエハの表面、容器の内部および各導管から除去し、弗化水素酸を超純粋水の流れ内へ注入し、エッチング処理し、弗化水素酸の注入を遮断し、溜めから超純粋水を容器内を通して循環させ、すすぎ（リンス）流出物の抵抗率および粒子カウントが、すすぎが完了したことを表示するまで、水の循環を続け、このカウントが表示した時点で、溜め１２０から高圧窒素を圧送し、残流水を排出させ、次いで、例えばメタノールのような高温有機蒸気を導入し、その後該蒸気を乾燥窒素または他の適当なガスにより押しのけることによってウエハ、容器の内壁面、および各導管を乾燥させることを特徴とする完全に密閉された態様で半導体処理を各種流体により安全に処理する装置も示されている。
（甲第２号証記載の発明）
　甲第２号証はプラズマ成膜加工装置用トラップ装置に関し、その第２頁右上欄第１１行〜第１９行に「本発明では、薬液導入系統を通じてトラップ装置内に、例えばアルカリ溶液・水・有機溶剤など、補集物を溶解する薬液を導入する。トラップ装置に導入された薬液は、トラップ装置内部に付着している未反応ガスや反応生成物などの補集物を溶解する働きを持つ。これによって、この薬液は効率よくかつ迅速に補集物を溶解する。したがって、補集物除去の時間を短縮することができる。」と記載されている。
（甲第３号証記載の発明）
　甲第３号証は廃棄物のデイスポ熱処理装置に関し、その特許請求の範囲請求項１には、「密閉された筐体内で廃棄物を所定の時間及び温度で加熱処理する廃棄物加熱装置と、所定量蓄積された容器内の水に、前記加熱により廃棄物から発生したガスを通過させるガス通過水槽と、を有し、前記ガスを水槽内の水に溶解させ、該ガスを外部への排出を防止することを特徴とするデイスポ熱処理装置」と記載されている。
（訂正発明と甲第１号証記載の発明との対比）
　甲第１号証記載の発明において「半導体ウエハ」は、ＦＩＧ．５からも明らかであるように円板状加工品であるから、訂正発明と甲第１号証記載の発明とは、次の点で一致する。
　「閉鎖可能な容器内で円板状加工品を液体で処理する方法であって、搬送棚台内に積層された加工品を容器内に入れ、該加工品を密閉容器内に供給させる液体と接触され、液体を容器外に排出し、溶剤を前記密閉容器内に供給し、容器外に排出することを特徴とする処理方法。」
　そして、訂正発明と甲第１号証記載の発明とは、次の点で相違する。
（相違点１）
　訂正発明は、「気密に閉鎖可能な容器内で円板状加工品を液体で処理する方法」であるのに対して、甲第１号証記載のものは、流体密に閉鎖可能な容器内で円板状加工品を液体で処理する方法である点、
（相違点２）
　訂正発明は、「該処理により有害な蒸気又はガスが発生する方法」であるのに対して、甲第１号証記載のものは、該処理により有害な蒸気又はガスが発生することは明記されていない点、
（相違点３）
　訂正発明は「溶剤を前記密閉容器内に供給又は噴霧することにより、液体から発生した有害な蒸気又はガスを洗浄し、有害な蒸気又はガスを溶解した状態で容器外に排出する」が、甲第１号証記載の発明は、記載されていない点。
（相違点１について）
　甲第１号証のものは、容器６が流体密状態に保たれているとしている。流体とは気体及び液体の両者を含む概念であり、また、プラグ流とは、２相流であり、気体と液体または気体と固体の流れである。甲第１号証のものでは、プラグ流は気体と液体との２相流であり、液体が管内を栓の如くまとまって流れるものを示すものと認められる。そして、半導体ウエハを液状またはガス状流体で処理することに関するとしている。してみると、甲第１号証の流体密は気体及び液体に対して密閉された状態を示すと認められ、気密を含むものである。
　したがって、甲第１号証の流体密を気密にすることは当業者にとって容易に適応できた事項である。
　してみると相違点１は格別ではない。
（相違点２について）
　甲第１号証のものは、処理により有害な蒸気又はガスが発生することは明記されていないが、作業者が攻撃的な薬剤やその煙霧に露呈されることも防止されるようしなければならないとの目的で、自動操作で、かつ、完全に密閉された態様で半導体処理を各種流体により安全に処理することとしている。さらに、高温硫酸や弗化水素酸を流すのであるから、処理により有害な蒸気又はガスが発生することは明らかであるので、処理により有害な蒸気又はガスが発生するとしたことに格別のことが認められない。
　してみると相違点２は格別ではない。
（相違点３について）
　甲第２号証に、トラップ装置内部に付着している未反応ガスや反応生成物などの補集物を溶解する液体を導入することが示され、刊行物３に、ガスを水槽内の水に溶解させ、該ガスの外部への排出を防止することが示され、有害物を排出する技術の点で同じであるから、本件訂正発明で「溶剤を前記密閉容器内に供給又は噴霧することにより、液体から発生した有害な蒸気又はガスを洗浄し、有害な蒸気又はガスを溶解した状態で容器外に排出する」とすることは当業者が容易に適応することができたものであると認められ、この相違点に格別のことが認められない。
（独立特許要件についてのまとめ）
　したがって、各相違点は格別でなく、上記訂正発明は、甲第１号証〜甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項に該当し、独立して特許を受けることができないものである。
　
２．４　訂正請求についての結び
　したがって、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書に適合しないので、上記訂正拒絶理由１で通知したように当該訂正は認められない。
　また、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第３項の規定に適合しないので、上記訂正拒絶理由２で通知したように当該訂正は認められない。
　
３．　特許異議申立について
３．１　本件特許発明
  特許された発明は、本件特許の特許請求の範囲請求項１、２に記載された事項で特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】　気密に閉鎖可能な容器内で円板状加工品を液体で処理する方法において、搬送柵台内に積層された加工品を密閉容器内に供給される液体と接触させ、液体を容器外に排出するとともに、液体から発生した有害な蒸気又はガスを洗浄して溶解した状態で容器外に排出することを特徴とする処理方法。（以下、特許発明１という）
【請求項２】　円板状加工品を液体で処理する装置において、搬送柵台内に積層された加工品を受容する気密に閉鎖可能な容器と、液体を貯蔵する貯蔵容器と、貯蔵容器から閉鎖可能な容器内に液体を供給する手段と、閉鎖可能な容器中から貯蔵容器中に液体を排出する手段と、閉鎖可能な容器内に供給される液体を温度調節する手段と、液体から発生した有害な蒸気又はガスを洗浄する手段とを備えることを特徴とする処理装置。（以下、特許発明２という）」
　
３．２　異議申立の理由及び取消理由の概要
　異議申立人安藤純男は、甲第１号証として、本件特許出願の優先日前である昭和６１年１２月２６日に公知の特開昭６１−２９５６２２号公報を、甲第２号証として、本件特許出願の優先日前である昭和６３年５月２３日に公知の特開昭６３−１１９２２１号公報を、甲第３号証として、本件特許出願の優先日前である平成４年９月１６日に公知の特開平４−２６０４８４号公報を提出し、本件特許の特許請求の範囲請求項１、２に係る発明は、甲第１号証記載の発明と同一であり、また該請求項１、２に係る発明は、甲第１号証〜甲第３号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第１項第３号に違反して特許されたものである、または特許法第２９条第２項に違反して特許されたものであるので、取り消されるべきであると主張する。
　取消理由の概要は、異議申立人主張と同趣旨である。
３．３　引用刊行物記載の発明
　甲第１号証〜甲第３号証記載された発明として、「２．４　本件訂正請求に係る発明の独立特許要件違反について」で述べたものが示されている。
　
３．４　対比・判断
（特許発明１と甲第１号証記載の発明との対比）
　甲第１号証記載の発明においてＦＩＧ．５を見ても「半導体ウエハ」は円板状加工品であるから、特許発明１と甲第１号証記載の発明とは、次の点で一致する。
　「閉鎖可能な容器内で円板状加工品を液体で処理する方法において、搬送棚台内に積層された加工品を密封容器内に入れ、該加工品を密閉容器内に供給させる液体と接触させ、液体を容器外に排出する処理方法。」
　そして、特許発明１と甲第１号証記載の発明とは、次の点で相違する。
（相違点１）
　特許発明１は、「気密に閉鎖可能な容器内で円板状加工品を液体で処理する方法」であるのに対して、甲第１号証記載のものは、流体密に閉鎖可能な容器内で円板状加工品を液体で処理する方法である点、
（相違点２）
　特許発明１は「液体から発生した有害な蒸気又はガスを洗浄して溶解した状態で容器外に排出する」が、甲第１号証記載の発明は、記載されていない点。
（相違点１について）
　甲第１号証のものは、容器６が流体密状態に保たれているとしている。流体とは気体及び液体の両者を含む概念であり、また、プラグ流とは、２相流であり、気体と液体または気体と固体の流れである。甲第１号証のものでは、プラグ流は気体と液体との２相流であり、液体が管内を栓の如くまとまって流れるものを示すものと認められる。そして、半導体ウエハを液状またはガス状流体で処理することに関するとしている。してみると、甲第１号証の流体密は気体及び液体に対して密閉された状態を示すと認められ、気密を含むものである。
　したがって、気密とすることは当業者が容易になしえたことであって、この相違点は格別のものではない。
（相違点２について）
　そして、甲第１号証のものは、処理により有害な蒸気又はガスが発生することは明記されていないが、作業者が攻撃的な薬剤やその煙霧に露呈されることも防止されるようしなければならないとの目的で、自動操作で、かつ、完全に密閉された態様で半導体処理を各種流体により安全に処理することとしている。さらに、高温硫酸や弗化水素酸を流すのであるから、処理により有害な蒸気又はガスが発生することは明らかである。
　甲第２号証に、トラップ装置内部に付着している未反応ガスや反応生成物などの補集物を溶解する液体を導入することが示され、甲第３号証に、ガスを水槽内の水に溶解させ、該ガスの外部への排出を防止することが示され、有害物を排出する技術の点で同じである。本件特許に係る発明で「液体から発生した有害な蒸気又はガスを洗浄して溶解した状態で容器外に排出する」とすることは当業者が容易に適応することができたものであると認められ、この相違点に格別のことが認められない。
（特許発明１についてのまとめ）
　したがって、上記特許発明１は、甲第１号証〜甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項に該当し、特許を受けることができないものである。
（特許発明２と甲第１号証記載の発明との対比）
　甲第１号証の「半導体ウエハ」、「ウエハキヤリア」、「ウエハ収容容器」、「処理流体供給部」、「処理流体排出部」は、特許発明２の「円板状加工品」、「搬送柵台」、「加工品を受容する閉鎖可能な容器」、「容器内に液体を供給する手段」、「容器中から貯蔵容器中に液体を排出する手段」に相当する。
　すると、特許発明２と甲第１号証記載の発明とは、次の点で一致する。
「円板状加工品を液体で処理する装置において、搬送柵台内に積層された加工品を受容する閉鎖可能な容器と、液体を貯蔵する貯蔵容器と、貯蔵容器から閉鎖可能な容器内に液体を供給する手段と、閉鎖可能な容器中から貯蔵容器中に液体を排出する手段とを備えることを特徴とする処理装置。」
　そして、特許発明２と甲第１号証記載の発明とは、次の点で相違する。
（相違点１）
　特許発明２は、「気密に閉鎖可能な容器」を有する装置であるのに対して、甲第１号証記載のものは、流体密に閉鎖可能な容器を有する装置である点、
（相違点２）
　特許発明２は、「容器内に供給される液体を温度調節する手段」を有するのに対して、甲第１号証のものは明記されていない点
（相違点３）
　特許発明２は、「液体から発生した有害な蒸気又はガスを洗浄する手段とを備える」のに対して、甲第１号証記載の発明は、記載されていない点。
（相違点の検討）
　相違点１および３については、上記した特許発明１での相違点１、および２と同様であり、それぞれ特許発明１で検討したと同趣旨で、相違点１および３は格別のものではない。
　相違点２については、甲第１号証のものも、「高温硫酸」を用いていることから、高温とするためには温度を上昇させる機構が必要であり、それを温度調節する手段とすることは、当業者が容易に適応をすることができたものである。してみると、相違点２は格別のものではない。
（特許発明２についてのまとめ）
　したがって、上記特許発明２は、甲第１号証〜甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項に該当し、特許を受けることができないものである。
３．５　異議申立についての結び
  従って、特許発明１および２はいずれも甲第１号証〜甲第３号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、
特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の一部の施行に伴う経過措置を定める平成７年政令第２０５号第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１月５日（２００１．１．５）