【事件の表示】
　特許第２７９１１７３号「磁心」の請求項１ないし１６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２７９１１７３号の請求項１ないし１６に係る特許を維持する。
【理　由】
【１】手続きの経緯
　本件特許第２７９１１７３号の発明は、平成２年３月２９日に特許出願（特願平２−８２０７５号）としたものであって、平成１０年６月１２日にその特許（請求項の数１６）について設定登録がなされ、平成１０年８月２７日に特許公報が発行され、その後その特許（請求項１、５、１４、１５）について、平成１１年２月２６日に池田英治から、またその特許（全請求項）につて、平成１１年２月２６日に日立金属株式会社から、さらにその特許（全請求項）について、平成１１年３月１日にアライドシグナル・インコーポレーテッドからそれぞれ特許異議の申立がなされ、その全請求項について平成１２年６月８日付で取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年８月１０日に訂正請求がなされ、さらにその全請求項について平成１３年４月１０日付で取消理由通知（訂正拒絶理由を兼ねる）がなされ、その指定期間内である平成１３年６月１４日に訂正請求（先の平成１２年８月１０日付訂正請求は取り下げられた）がなされたものである。
【２】訂正の適否について
（１）訂正の要旨
　訂正請求書により訂正する訂正事項は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、その訂正内容は、以下のとおりである。
(1-1)訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の
「1．合金薄帯を巻回もしくは積層してなる磁心であって、前記合金薄帯表面に形成された凹部の面積占有率が30％以下であるような表面粗さを有する合金薄帯によって形成されてなることを特徴とする磁心。」を特許請求の範囲の減縮を目的として、
「1．合金薄帯を巻回もしくは積層してなる磁心であって、前記合金薄帯表面に形成された
視野長径10μm以上の
、巻線数を10ターン、周波数100kHz、印加磁場16Oeのときの飽和磁気特性が550G以下である
(1-2)訂正事項ｂ
　特許請求の範囲の請求項１４の
「14．冷却ロールと接触する側の合金薄帯表面に形成された凹部の面積占有率が30％以下であるような表面粗さを有することを特徴とする、合金薄帯。」を特許請求の範囲の減縮を目的として、
「14．冷却ロールと接触する側の合金薄帯表面に形成された
視野長径10μm以上の
し、巻線数10ターン、周波数100kHzにおいて16Oeの磁場を印加したときの飽和磁気特性が550G以下である磁心を形成するための薄帯である
（２）訂正の適否についての判断（その１）
＜訂正の目的の適否、新規事項の有無及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否についての判断＞
(2-1)訂正の目的等
　本件訂正の要旨は、上記訂正事項ａ乃至ｂのとおりであって、その訂正事項ａ及びｂの訂正内容は、特許請求の範囲の請求項１及び１４に係る発明について、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
(2-2)検討
　以下、各訂正事項について検討する。
　訂正事項ａ及びｂは、いずれも凹部について「視野長径10μm以上の」、また特性について「巻線数を10ターン、周波数100kHz、印加磁場16Oeのときの飽和磁気特性が550G以下である」とする訂正内容であってその構成を限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたるものである。そして、これらの訂正内容は、いずれも願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内のものであって新規事項を追加するものではなく、また請求項を追加するなど実質的に特許請求の範囲を拡張し又は変更するものとも認められない。
　以上のとおりであって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第３項において準用する第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するものと認められる。
（３）訂正の適否についての判断（その２）
＜独立特許要件についての判断＞
［Ａ］特許法第３６条第３項及び第４項について
　平成１３年４月１０日付取消理由通知（訂正拒絶理由を兼ねる）に係る記載不備について、その記載不備の対象となる訂正明細書が添付された平成１２年８月１０日の訂正請求書は取り下げられ、また新たに平成１３年６月１４日に請求された訂正請求に係る訂正事項ａ、ｂによって、当該記載不備に係る取消理由は解消された。
　したがって、本件特許明細書は特許法第３６条第３項及び第４項に規定する要件を満たしているものと認められる。
［Ｂ］特許法第２９条第２項について
［引用刊行物］
・刊行物１「電子通信学会技術報告Vol.80 No.116」(1980) P1〜6（異議申立人日立金属株式会社が提出した甲第１号証）
・刊行物２　特開昭64-84602号公報（異議申立人日立金属株式会社が提出した甲第２号証）
・刊行物３　特開平2-77105号公報（異議申立人日立金属株式会社が提出した甲第３号証）
(3-1)訂正明細書の請求項１乃至１６に係る発明
　訂正明細書の請求項１乃至１６に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１乃至１６に記載された事項により特定される「磁心」及び「合金薄帯」であって、次のとおりのものである。
「【請求項１】合金薄帯を巻回もしくは積層してなる磁心であって、前記合金薄帯表面に形成された
視野長径10μm以上の
、巻線数を10ターン、周波数100kHz、印加磁場16Oeのときの飽和磁気特性が550G以下である
【請求項２】前記合金薄帯が、Co基アモルファス合金薄帯である、請求項１に記載の磁心。
【請求項３】前記合金薄帯が、キュリー温度160〜300℃のCo基アモルファス合金からなる、請求項２に記載の磁心。
【請求項４】角形比が、周波数50KHzで98％以上である、請求項１に記載の磁心。
【請求項５】合金溶湯をノズルより冷却ロールの表面に射出し、急冷することによって合金薄帯が製造されるものであって、前記冷却ロールと接触しない方の合金薄帯表面の表面粗さが、当該合金薄帯の長手方向において、
Rf≦0.3
（ただし、Rfは、JIS−Ｂ−0601に規定された基準長さ2.5mmにおける十点平均粗さ、および合金薄帯の重量より求めた平均板厚を、それぞれRz、Ｔとしたときに、下記の式
Rf＝Rz／Ｔ
によって求めた粗さを特徴付けるパラメータである。）
なる値を有する合金薄帯によって磁心を形成することを特徴とする、請求項１に記載の磁心。
【請求項６】前記合金薄帯が、Co基アモルファス合金薄帯である、請求項５に記載の磁心。
【請求項７】前記合金薄帯が、キュリー温度160〜300℃のCo基アモルファス合金からなる、請求項５に記載の磁心。　
【請求項８】角形比が、周波数50KHzで98％以上である、請求項５に記載の磁心。
【請求項９】前記合金薄帯が、下記一般式で表わされる合金組成を有するCo基アモルファス合金薄帯からなる、請求項１または５に記載の磁心。
（Co１−ａFeａ）１００−ｘ（Si１−ｌBｌ)ｘ        
（ただし、0.02≦a≦0.08
0.3≦l≦0.8
26≦Ｘ≦32 。）
【請求項10】前記合金薄帯が、下記一般式で表される合金組成を有するCo基アモルファス合金薄帯からなる、請求項１または５に記載の磁心。
（Co１−ｂ−ｃFeｂMｃ）１００−ｙ（Si１−ｍBｍ）ｙ
（ただし、ＭはNi、Nnのうちの少なくとも１種であり、
b≦0.10
0.01≦e≦0.10
0.3≦m≦0.8
26≦y≦32 。）
【請求項11】前記合金薄帯が、下記一般式で表される合金組成を有するCo基アモルファス合金薄帯からなる、請求項１または５に記載の磁心。
（Co１−ｄ−ｅFeｄM′ｅ）１００−ｚ（Si１−ｎBｎ）ｚ
（ただし、Ｍ′はTi、Ｖ、Cr、Cu、Zr、Nb、No、Hf、Ta、Ｗ、からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、
0.03≦d≦0.10
0.01≦e≦0.06
0.3≦n≦0.8
24≦z≦32 。)
【請求項12】前記合金薄帯が、下記一般式で表される合金組成を有するCo基アモルファス合金薄帯からなる、請求項１または５に記載の磁心。
（Co１−ｆ−ｇ−ｈFeｆMｇM′ｈ）１００−ｗ（Si１−ｐBｐ）ｗ
（ただし、ＭはNi、Mnのうち少なくとも１種であり、
f≦0.10
0.01≦g≦0.10
0.01≦h≦0.08
0.3≦p≦0.5
24≦w≦30 。）
【請求項13】前記合金薄帯が、下記一般式で表される合金組成を有するFe基軟磁性合金薄帯からなる、請求項１または５に記載の磁心。
Fe１００−ｅ−ｆ−ｇ−ｈ−ｉ−ｊEｅGｆJｇSiｈBｉZｊ
（式中、ＥはCuおよびAuから選ばれた少なくとも１種の元素を、ＧはIVa族元素、Ｖa族元素、VI′a族元素および希土類元素からなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を、ＪはMn、Al、Ga、Ge、In、Snおよび白金族元素からなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を、ＺはＣ、ＮおよびＰからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を表し、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉおよびｊは、下記の式を満足する数である。ただし、下記式中の全ての数字はat％を示す。
0.1≦e≦8
0.1≦f≦10
0≦g≦10
12≦h≦25
3≦i≦12
0≦j≦10
15≦h＋i＋j≦30。)
【請求項14】冷却ロールと接触する側の合金薄帯表面に形成された
視野長径10μm以上の
し、巻線数10ターン、周波数100kHzにおいて16Oeの磁場を印加したときの飽和磁気特性が550G以下である磁心を形成するための薄帯である
【請求項15】冷却ロールと接触しない方の合金薄帯表面の表面粗さが、当該合金薄帯の長手方向において、
Rf≦0.3
（ただし、Rfは、JIS−Ｂ−0601に規定された基準長さ2.5mmにおける十点平均粗さ、および合金薄帯の重量より求めた平均板厚を、それぞれRz、Ｔとしたときに、下記の式
Rf＝Rz／Ｔ
によって求めた粗さを特徴付けるパラメータである。）
なる値を有することを特徴とする、請求項14に記載の合金薄帯。
【請求項16】角形比が、周波数100KHzで96％以上であることを特徴とする、請求項13に記載の磁心。」
(3-2)引用刊行物
・上記刊行物１（「電子通信学会技術報告Vol.80 No.116」(1980)P1〜6 ）には、
「アモルファス強磁性薄帯を磁心等に用いる場合、多層巻または積層した形状で利用されることが多いので、薄帯そのものが優れた磁気的特性を有することに加えて、平滑な表面状態、良好な表裏の平行度などの形状の均一性を有することが重要である」こと、
「空気中、Arガス中、Heガス中および真空中で作成したFe78Si10B12アモルファス薄帯（片ロール法による）のロール面（作成過程で溶融金属がロール表面と接触する面）の表面状態を観察すると、空気中およびArガス中で作成した薄帯の表面には大小のスクラッチ（長い三角形状のひっかききずに似たくぼみ）が多数随所に観察され、Heガス中および真空中で作成した薄帯の表面には、空気中およびArガス中で作成したものに見られた大きなスクラッチは観察されず、数少ない細かい小さなスクラッチのみが観察され、表面状態が平滑である」こと、
「薄帯の表面あらさ、不規則性の測定結果をみると、ロール面では、Arガス中で作成した薄帯の表面の起状または不規則性の大きさや数がHeガス中および真空中で作成したものに比べ非常に大きく、自由面では、Arガス中で作成した薄帯が、Heガス中や真空中で作成したものがほぼ平滑またはなだらかな形状を示しているのに対して、波打った著しい起状のある不均一な表面状態を示しており、薄帯表面の平滑さにおよぼすガス雰囲気の影響がロール面のみならず自由面にも顕著に現れている」こと、
「空気中、Heガス中および真空中で作成したFe78Si10B12アモルファス薄帯（片ロール法による）の断面を観察すると、空気中で作成された薄帯の場合、ロール面および自由面共に平滑性は良好でなく、ロール面おいてはガスバルブの巻き込みに起因する考えられる厚みの20〜40％に達する大きいくぼみが観察され、Heガス中および真空中で作成した薄帯の場合は、ロール面自由面共に極めて良好な平滑性を示し、両面の平行度もすぐれており均一な断面形状が得られる」こと、
「急冷状態のままの薄帯をトロイダル状の巻鉄心の形にして測定した直流Ｂ−Ｈヒステリシス曲線を観察すると、空気中で作成したものに比べ、真空中およびHeガス中で作成した表面が平滑なものは保磁力Hcが減少し、角形比Br／Bmが向上し、よりソフトな磁性を示し、空気中で作成のものに比べ、Heガス中で作成のものはHcが30％減少し、角形比が0.73から0.88に増加している」こと、
がそれぞれ記載されている。（第１頁左欄第15〜20行、第２頁左欄第４行〜第３頁左欄第１行、第３頁右欄第12〜35行、第３頁右欄第36行〜第４頁左欄第15行、第４頁左欄第24〜37行、第２〜５図、第１表）
・上記刊行物２（特開昭64-84602号公報）には、
「Co基アモルファス合金薄帯の表面粗さが薄帯作製時に冷却ロールと接触しない面につき、その長手方向に対し、Rf≦0.3なる値を持つCo基アモルファス合金薄帯を巻回してなる巻磁心。（ただし、Rfは、JIS B 0601に規定する基準長さ2.5mmにおける十点平均粗さ、および薄帯の重量より求めた平均板厚をそれぞれRz、Ｔとしたとき　Rf＝Rz／Ｔ　により求めた粗さを特徴付けるパラメータ。）」、
「Co基アモルファス合金が、一般式、
○1 （Co１−ａFeａ）１００−ｘ（Si１−ｌBｌ)ｘ
　ただし、0.02≦a≦0.08　0.3≦l≦0.8　26≦Ｘ≦32 
○2 （Co１−ｂ−ｃFebMｃ）１００−ｙ（Si１−ｍBｍ）ｙ
　ただし、ＭはNi,Mnのうち少なくとも１種、b≦0.10　0.01≦e≦0.10　0.3≦m≦0.8　26≦y≦32
○3 （Co１−ｄ−ｅFeｄM′ｅ）１００−ｚ（Si１−ｎBｎ）ｚ
　ただし、Ｍ′はTi、Ｖ、Cr、Cu、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、Ｗ、から選ばれる少なくとも１種、0.03≦d≦0.10　0.01≦e≦0.06　0.3≦n≦0.8　26≦z≦32
○4 （Co１−ｆ−ｇ−ｈFeｆMｇM′ｈ）１００−ｗ（Si１−ｐBｐ）ｗ
　ただし、ＭはNi,Mnのうち少なくとも１種、Ｍ′はTi、V、Cr、Cu、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、Wから選ばれる少なくとも１種、　f≦0.10　0.01≦g≦0.10　0.01≦h≦0.08　0.3≦p≦0.5　25≦w≦30　のいずれかで表される」こと、
「（Co0.94Fe0.05Nb0.01）71（Si0.6B0.4）29にて表されるアモルファス合金について、単ロール法により板厚13μm、幅10mmの薄帯形状で表面性の異なる（Rfが0.15と0.38）長尺リボン試料ａ、ｂを作製し、これを巻回して外径18mm、内径12mmのトロイダルコアを成形し、角形比Br／BIを求めると、50kHzで、Rf＝0.15の磁心では99.4％、Rf＝0.38の磁心では94.8％になる」こと、
「単ロール法により（Co0.90Fe0.05Mn0.02Nb0.03）71Si15B14なる組成のアモルファス合金を種々の表面性を持つように種々作製し、これらの材料を磁心とし、高周波での角形比を調べた結果、Rf＝0.3から角形比が急激に劣化する」こと、
がそれぞれ記載されている。（第１頁左下欄第５〜15行、第２頁右上欄第６行〜左下欄第17行、第３頁右下欄第４行〜第４頁左上欄第５行、第４頁左上欄第12〜20行、第１図）
・上記刊行物３（特開平2-77105号公報）には、「組成がFe74Cu1.5Si13.5B9Nb2（at％）の合金溶湯から単ロール法により幅5mm、厚さ18mmの非晶質リボンを作成し、このリボンを外径19mm、内径15mmに巻回し巻磁心を作成して、角形比を測定すると20kHzで98％になる」こと、が記載されている。（第９頁右上欄第５行〜第10頁左上欄第４行、第３表）
(3-3)対比・判断
(3-3-1)請求項１について
（対比）
　請求項１に係る発明と上記刊行物１に記載された発明とを対比すると、両者は、
「表面粗さを有する合金薄帯を巻回もしくは積層してなる磁心であって、前記合金薄帯表面に形成された凹部の面積占有率を減少させ（角形比等の磁気特性を向上させ）た磁心。」
である点で一致し、以下の(i)(ii)の点で相違するものと認められる。
(i)合金薄帯表面に形成された凹部の面積占有率が、請求項１に係る発明にあっては、視野長径10μm以上の凹部が30％以下であるようにしているのに対して、刊行物１にあっては、この点の構成が明らかではない点。
(ii)磁心の特性が、請求項１に係る発明にあっては、巻線数を10ターン、周波数100kHz、印加磁場16Oeのときの飽和磁気特性が550G以下であるのに対して、刊行物１にあっては、この点の構成が明らかではない点。
（判断）
　以下、相違点(i)(ii)について、併せて検討する。
　相違点(i)について、一般的に、合金薄帯表面に形成される凹部の面積占有率は、少なければ少ないほど磁気的特性が向上することは技術常識であると認められる。しかしながら、請求項１に係る発明において、この視野長径10μm以上の凹部の面積占有率を30％以下に制限する方法として、本件特許明細書に開示されている各方法（本件特許公報第６欄第43行〜第７欄第４行に記載の各方法）を参酌すると、相互の関係、他の条件（合金の組成、ロール表面の速度、ロール表面とノズルの間隔等）との関連構成が特定されてはいないものの、視野長径10μm以上の凹部の面積占有率を30％以下に制限された合金薄帯としてその構成は明確であり、また視野長径10μm以上の凹部の面積占有率を「30％以下であるように」することは、該凹部の面積占有率を定める上で、相違点(ii)に係る所望の特性、すなわち「巻線数を10ターン、周波数100kHz、印加磁場16Oeのときの飽和磁気特性が550G以下」の数値範囲を選定した特性と関連するものであるから、これらの相違点(i)及び相違点(ii)についての組合せにおいて、これを当業者が適宜になし得る設計上の事項にすぎないものとすることはできない。そして、上記刊行物２には、巻磁心を構成する合金薄帯の表面性を30％以下の荒れ状態のもの（表面粗さRf≦0.3）にすることの記載は認められるものの、視野長径10μm以上の凹部であること、及びこの特定の凹部と合金薄帯の特性との関連性に係る技術的事項の記載乃至示唆は認められず、また上記刊行物３においても前記同様記載乃至示唆も認められない。
　したがって、請求項１に係る発明のように構成することは、上記刊行物１乃至３に記載された発明に基づいて、当業者が容易になし得るものとは認められない。
(3-3-2)請求項１４について
（対比）
　請求項１４に係る発明と上記刊行物１に記載された発明とを対比すると、両者は、
「冷却ロールと接触する側の合金薄帯表面に形成された表面粗さを有する合金薄帯であって、前記合金薄帯表面に形成された凹部の面積占有率を減少させ（角形比等の磁気特性を向上させ）た磁心を形成するための、合金薄帯。」
である点で一致し、以下の(i)(ii)の点で相違するものと認められる。
(i)合金薄帯表面に形成された凹部の面積占有率が、請求項１４に係る発明にあっては、視野長径10μm以上の凹部が30％以下であるようにしているのに対して、刊行物１にあっては、この点の構成が明らかではない点。
(ii)磁心の特性が、請求項１４に係る発明にあっては、巻線数を10ターン、周波数100kHz、印加磁場16Oeのときの飽和磁気特性が550G以下であるのに対して、刊行物１にあっては、この点の構成が明らかではない点。
（判断）
　以下、相違点(i)(ii)について検討すると、これら相違点はいずれも前記請求項１に係る発明における相違点(i)(ii)と差異がなく、その判断においても同様であるから、前記請求項１におけると同旨に理由により上記刊行物１乃至３に記載された発明に基づいて、当業者が容易になし得るものとは認められない。
(3-3-3)まとめ
　以上のとおりであって、訂正明細書の請求項１及び請求項１４に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない発明であるとはいえないから、この訂正は、特許法第１２０条の４第３項で準用する同第１２６条第４項の規定に適合するものと認められる。
　なお、その余の請求項についても、請求項２乃至１３及び請求項１６に係る発明は請求項１（さらには請求項５或いは請求項１３）を引用するものであり、また請求項１５に係る発明は請求項１４を引用するものであるから、これらの請求項に係る発明は、いずれも前記請求項１及び１４に係る発明における判断と同旨の理由により、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない発明であるとはいえないものと認められる。
（４）まとめ
＜訂正の適否についての結論＞
　訂正事項ａ、ｂに係る訂正は、特許法第１２０条の４第３項において準用する第１２６条第２項及び第３項の規定に適合し、さらに、訂正明細書の請求項１乃至１６に係る発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであって、特許法第１２０条の４第３項で準用する同第１２６条第４項の規定に適合するものと認められるから、当該訂正を認める。
【３】特許異議申立てについての判断
（１）異議申立の概要
(1-1)異議申立人池田英治は、証拠方法として、甲第1号証（特開昭59−161004号公報）、甲第2号証（特開昭59−158504号公報）、甲第3号証（特開昭59−136444号公報）、甲第4号証（Tokin Technical Review VOL.15 MAR.1989（第22頁〜第27頁）株式会社トーキン発行（1989年3月27日発行））、甲第5号証（physica status solidi VOL.79 No.2 OCTOBER 1983（第389頁〜第394頁）（1983年10月発行））、甲第6号証（特開昭58−44702号公報）及び甲第7号証（昭和62年度石油代替電源用新素材の試験・評価方法の標準化に関する報告書（第10頁、第34頁〜第38頁）（財）大阪科学技術センター付属ニューマテリアルセンター発行（昭和63年3月31日発行））を提出し、本件の特許請求の範囲の請求項1、請求項5、請求項14、および請求項15に記載された発明は、甲第1号証ないし甲第7号証に記載された発明と同一であるか、あるいは少なくとも甲第1号証ないし甲第7号証に記載された発明に基づいて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有するものが容易に発明することができたものであるから、特許法第29条第1項あるいは特許法第29条第2項に該当し、当然取り消されるべきものである、と主張している。
(1-2)同じく異議申立人日立金属株式会社は、証拠方法として、甲第1号証（電子通信学会技術研究報告Vol．80　No．116　1980年8月29日　CPM80−40）、甲第2号証（特開昭64−84602号公報）及び甲第3号証（特開平2−77105号公報）を提出し、本発明の請求項1ないし16は、甲第1号証ないし甲第3号証に記載された発明と同一であるか、あるいはその発明の属する技術の分野における通常の知識を有するものが容易に発明することができたものであるから、特許法第29条第1項第3号もしくは特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない、と主張している。
(1-3)同じく異議申立人アライドシグナル・インコーポレーテッドは、証拠方法として、甲第1号証（F.E.Luborsky「Amorphous Metallic Alloys」360ページ（1983年Butterworths＆Co Ltd（London）発行））、甲第2号証（H.H.Liebermann et al：Dependence of some properties on thickness of smooth amorphous alloy ribbon（J.Appl.phys.55，1787-1789（1984年3月15日American lnstitute of Physics発行））、甲第3号証（J.Horvat et al：The lnfluence of pinning centres on magnetization and loss in Fe-Ni-B-Si Amorphous alloys（Journal of Magnetism and Magnetic Materials）82 5-11（1989年Elsevier Science Publishers B.V.（北オランダ）発行））及び甲第4号証（J.Horvat et al：The lnfluence of pinning centers on the magnetization of a Co70．3Fe4．7Si15B10 amorphous alloy.（Journal of Magnetism and Magnetic Materials 87 339〜344（1990年Elsevicr Science Publishers B.V.(北オランダ）発行））を提出し、本件特許発明は、甲第1〜4号証の記載に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから特許法第29条第2項の規定により、特許を受けることができない、したがって本件特許発明に係る特許は、同法第113条第1項第2号の規定に該当し、取り消すべきものである、と主張している。
（２）検討
　前記のように異議申立人三者の異議申立の理由は、特許法第２９条第１項及び第２項に違反する旨の重複する理由であることから、併せて検討する。
　本件特許請求の範囲の請求項１乃至１６に係る発明は、前記訂正が認められた結果、その訂正明細書の特許請求の範囲に記載されたとおりのものである。しかしながら、異議申立人らが提出した上記各引用刊行物（甲号証）には、当該申立人らの異議申立書に記載のような技術的事項が開示されているとしても、これら各引用刊行物（甲号証）には、いずれも前記「独立特許要件についての判断」の「［Ｂ］特許法第２９条第２項について」の項で検討した相違点に係る構成、すなわち訂正により限定された構成である、視野長径10μm以上の凹部であること、及びこの特定の凹部と合金薄帯の特性との関連性に係る技術的事項の記載乃至示唆があるものとは認められない。
　したがって、本件の各請求項に係る発明は、これら各引用刊行物（甲号証）によっても、特許法第２９条第１項及び同条第２項の規定に違反して特許されたものとすることができない。
【４】むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠によっては、本件特許請求の範囲の請求項１乃至１６に係る発明の特許を取り消すことができない。
　また、他に本件請求項１乃至１６に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年８月１３日（２００１．８．１３）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
（１）訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の
「１．合金薄帯を巻回もしくは積層してなる磁心であって、前記合金薄帯表面に形成された凹部の面積占有率が３０％以下であるような表面粗さを有する合金薄帯によって形成されてなることを特徴とする磁心。」を特許請求の範囲の減縮を目的として、
「１．合金薄帯を巻回もしくは積層してなる磁心であって、前記合金薄帯表面に形成された視野長径１０μｍ以上の凹部の面積占有率が３０％以下であるような表面粗さを有する合金薄帯によって形成され、巻線数を１０ターン、周波数１００ｋＨｚ、印加磁場１６Ｏｅのときの飽和磁気特性が５５０Ｇ以下であることを特徴とする磁心。」と訂正する。
（２）訂正事項ｂ
　特許請求の範囲の請求項１４の
「１４．冷却ロールと接触する側の合金薄帯表面に形成された凹部の面積占有率が３０％以下であるような表面粗さを有することを特徴とする、合金薄帯。」を特許請求の範囲の減縮を目的として
「１４．冷却ロールと接触する側の合金薄帯表面に形成された視野長径１０μｍ以上の凹部の面積占有率が３０％以下であるような表面粗さを有し、巻線数１０ターン、周波数１００ｋＨｚにおいて１６Ｏｅの磁場を印加したときの飽和磁気特性が５５０Ｇ以下である磁心を形成するための薄帯であることを特徴とする、合金薄帯。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
磁心
（５７）【特許請求の範囲】
　１．合金薄帯を巻回もしくは積層してなる磁心であって、前記合金薄帯表面に形成された
視野長径１０μｍ以上の
、巻線数を１０ターン、周波数１００ｋＨｚ、印加磁場１６Ｏｅのときの飽和磁気特性が５５０Ｇ以下である
　２．前記合金薄帯が、Ｃｏ基アモルファス合金薄帯である、請求項１に記載の磁心。
　３．前記合金薄帯が、キュリー温度１６０〜３００℃のＣｏ基アモルファス合金からなる、請求項２に記載の磁心。
　４．角形比が、周波数５０ＫＨｚで９８％以上である、請求項１に記載の磁心。
　５．合金溶湯をノズルより冷却ロールの表面に射出し、急冷することによって合金薄帯が製造されるものであって、前記冷却ロールと接触しない方の合金薄帯表面の表面粗さが、当該合金薄帯の長手方向において、
Ｒｆ≦０．３
（ただし、Ｒｆは、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１に規定された基準長さ２．５ｍｍにおける十点平均粗さ、および合金薄帯の重量より求めた平均板厚を、それぞれＲｚ、Ｔとしたときに、下記の式
Ｒｆ＝Ｒｚ／Ｔ
によって求めた粗さを特徴付けるパラメータである。）なる値を有する合金薄帯によって磁心を形成することを特徴とする、請求項１に記載の磁心。
　６．前記合金薄帯が、Ｃｏ基アモルファス合金薄帯である、請求項５に記載の磁心。
　７．前記合金薄帯が、キュリー温度１６０〜３００℃のＣｏ基アモルファス合金からなる、請求項５に記載の磁心。
　８．角形比が、周波数５０ＫＨｚで９８％以上である、請求項５に記載の磁心。
　９．前記合金薄帯が、下記一般式で表わされる合金組成を有するＣｏ基アモルファス合金薄帯からなる、請求項１または５に記載の磁心。
（Ｃｏ１−ａＦｅａ）１００−Ｘ（Ｓｉ１−ｌＢｌ）ｘ
（ただし、０．０２≦ａ≦０．０８
０．３≦１≦０．８
２６≦Ｘ≦３２。）
　１０．前記合金薄帯が、下記一般式で表される合金組成を有するＣｏ基アモルファス合金薄帯からなる、請求項１または５に記載の磁心。
（Ｃｏ１−ｂ−ｃＦｅｂＭｃ）１００−ｙ（Ｓｉ１−ｍＢｍ）ｙ
（ただし、ＭはＮｉ，Ｎｎのうちの少なくとも１種であり、
ｂ≦０．１０
０．０１≦ｅ≦０．１０
０．３≦ｍ≦０．８
２６≦ｙ≦３２。）
　１１．前記合金薄帯が、下記一般式で表される合金組成を有するＣｏ基アモルファス合金薄帯からなる、請求項１または５に記載の磁心。
（Ｃｏ１−ｄ−ｅＦｅｄＭ′ｅ）１００−ｚ（Ｓｉ１−ｎＢｎ）ｚ
（ただし、Ｍ′はＴｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｎｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、
０．０３≦ｄ≦０．１０
０．０１≦ｅ≦０．０６
０．３≦ｎ≦０．８
２４≦ｚ≦３２。）
　１２．前記合金薄帯が、下記一般式で表される合金組成を有するＣｏ基アモルファス合金薄帯からなる、請求項１または５に記載の磁心。
（Ｃｏ１−ｆ−ｇ−ｈＦｅｆＭｇＭ′ｈ）１００−Ｗ（Ｓｉ１−ｐＢｐ）ｗ
（ただし、ＭはＮｉ、Ｍｎのうちの少なくとも１種であり、
ｆ≦０．１０
０．０１≦ｇ≦０．１０
０．０１≦ｈ≦０．０８
０．３≦ｐ≦０．５
２４≦ｗ≦３０。）
　１３．前記合金薄帯が、下記一般式で表される合金組成を有するＦｅ基軟磁性合金薄帯からなる、請求項１または５に記載の磁心。
Ｆｅ１００−ｅ−ｆ−ｇ−ｈ−ｉ−ｊＥｅＧｆＪｇＳｉｈＢｉＺｊ
（式中、ＥはＣｕおよびＡｕから選ばれた少なくとも１種の元素を、ＧはＩＶａ族元素、Ｖａ族元素、ＶＩ′ａ族元素および希土類元素からなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を、ＪはＭｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎおよび白金族元素からなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を、ＺはＣ、ＮおよびＰからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を表し、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉおよびｊは、下記の式を満足する数である。ただし、下記式中の全ての数字はａｔ％を示す。
０．１≦ｅ≦８
０．１≦≦ｆ≦１０
０≦ｇ≦１０
１２≦ｈ≦２５
３≦ｉ≦１２
０≦ｊ≦１０
１５≦ｈ＋ｉ＋ｊ≦３０。）
　１４．冷却ロールと接触する側の合金薄帯表面に形成された
視野長径１０μｍ以上の
し、巻線数１０ターン、周波数１００ｋＨｚにおいて１６Ｏｅの磁場を印加したときの飽和磁気特性が５５０Ｇ以下である磁心を形成するための薄帯である
　１５．冷却ロールと接触しない方の合金薄帯表面の表面粗さが、当該合金薄帯の長手方向において、
Ｒｆ≦０．３
（ただし、Ｒｆは、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１に規定された基準長さ２．５ｍｍにおける十点平均粗さ、および合金薄帯の重量より求めた平均板厚を、それぞれＲｚ、Ｔとしたときに、下記の式
Ｒｆ＝Ｒｚ／Ｔ
によって求めた粗さを特徴付けるパラメータである。）なる値を有することを特徴とする、請求項１４に記載の合金薄帯。
　１６．角形比が、周波数１００ｋＨｚで９６％以上であることを特徴とする、請求項１３に記載の磁心。
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
　本発明は、特に高周波（具体的には、５０ｋＨｚ以上）における角形特性および磁気飽和特性に優れると同時に低鉄損をも有し、高周波スイッチング電源に用いられる可飽和リアクトル、半導体回路用リアクトルなどの磁性部品に好適な磁心およびこの磁心の製造に用いる合金薄帯に関する。
（従来技術）
　近年、電子機器の小型軽量化、高性能化の要求に伴い、重要な機能部品として用いられている磁性部品にも高性能化が必要となってきている。特にＯＡ機器、通信機器の電源として用いられるスイッチング電源においては、小型軽量化の要請から高周波化が検討されている。したがって、これら磁性部品に用いられる磁性材料にも優れた高周波磁気特性が要求されている。特に、零相変流器等の電流センサ、ノイズフィルター等、多くの磁性部品に対しては、透磁率の高い材料が有効である。
　近年、磁気増幅器を組込んだスイッチング電源が、高信頼性、高効率の観点から広く用いられている。
　この磁気増幅器を構成する主要部は可飽和リアクトルであり、角形磁化特性に優れた磁心材料が必要とされている。従来、このような磁心材料としてはＦｅ−Ｎｉ結晶質合金からなるセンデルタ（商品名）が使用されてきた。
（発明が解決しようとする課題）
　しかしながら、センデルタは角形磁化特性には優れているものの、２０ＫＨｚ以上の高周波においては保磁力が大きくなり、うず電流損が増大して発熱し、使用不能となる。このため、磁気増幅器を組込んだスイッチング電源のスイッチング周波数は２０ＫＨｚ以下に限られていた。
　近年、スイッチング電源の小形化・軽量化に対する要望とあいまって、スイッチング周波数をより高周波化することが求められており、高周波における保磁力が小さく、かつ角形特性及び熱安定性に優れた磁心材料としてアモルファス合金が、検討され（特開昭６１−２２５８０４号）ている。
　しかしながら、スイッチング電源の高効率化の要求に対しては、さらなるアモルファス合金磁心の高性能化が必須であり、特に５０ｋＨｚ以上の周波数で用いられる磁気増幅器における角形比ならいびに磁気飽和特性（たとえば飽和インダクタンスの低減）の一層の改善が望まれていた。
　本発明は、上記問題点を考慮してなされたものであり、特に高周波域における角形比が大きく、飽和インダクタンスの小さい合金薄帯を用いた磁心を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段）
発明の概要
　本発明による磁心は、合金薄帯を巻回もしくは積層することによって形成された高周波領域における角形特性に優れた磁心であって、前記合金薄帯のロール面側の表面の凹部の面積占有率を３０％以下にすることによって、磁心の角形比を向上させたことを特徴とするものである。
　本発明者らは、合金薄帯のロール面側の表面の凹部の面積占有率を３０％以下にすることにより、高周波域における角形比が急激に向上すると共に飽和インダクタンスを低減させることができる見出した。さらに本発明者は、磁心を構成する合金薄帯のロール面側の表面凹部の面積占有率を３０％以下にすると同時にフリー面側の表面粗さ（Ｒｆ）を０．３％以下にすることによって、磁心の特に高周波領域における角形特性を向上させることができることを見出した。本発明は上記知見に基づいてなされたものである。
　本発明によれば、周波数１００ｋＨｚで９８％以上、好ましくは９８．５％以上、さらに好ましくは９９％以上の角形比を有する磁心が提供される。さらに本発明によれば、飽和磁気特性が５５０（Ｇ）以下、さらには、５００（Ｇ）以下の磁心を提供することができる。ここで、飽和磁気特性は、通常、磁心形状、巻線数および測定条件で異なる。本発明においては、評価基準として、▲１▼磁心形状を外径１５ｍｍ、内径１０ｍｍ、高さ４．５ｍｍの磁心において、▲２▼巻線数１０ターン、▲３▼測定条件として、周波数１００ｋＨｚで１６（Ｏｅ）磁場を印加した際の磁束密度と残留磁束の差の値で表したものである。
発明の具体的説明
　最近、高周波で用いる磁心材料に使用される軟磁性合金薄帯は、いわゆる溶湯急冷法によって製造される場合が増えてきている。この方法は、石英などの耐熱容器中で溶融させた所定組成の溶融合金を、ノズルから高速回転する金属製の冷却ロールの回転面に射出して急冷することによってリボン状の薄帯を得るものである。しかしながら、このようにして製造される合金薄帯の表面（ロール面、すなわち冷却ロールが接する面側）には、不可避的に、薄帯の表面に微細な凹凸が形成されている。
　本発明者らの研究によれば、合金薄帯のロール面側表面に存在する凹部の面積占有率を３０％以下に、好ましくは２５％以下に、さらに好ましくは２０％以下に厳格に制限することにより、高周波域における角形比が急激に向上するとともに飽和インダクタンスを低減させることができることを見出した。
　すなわち、第１の態様に係る本発明の磁心は、合金溶湯をノズルより冷却ロールの表面に射出し、急冷することによって合金薄帯が製造合金薄帯が製造されるものであって、前記冷却ロールと接触する側の合金薄帯表面に形成された凹部の面積占有率が３０％以下であるような合金薄帯によって形成されていることを特徴とするものである。
　通常、上記のような溶湯急冷法によって合金薄帯を製造する場合においては、得られる合金薄帯の表面状態は、冷却ロールの表面状態や溶融合金とロールとの間の濡れ性に主として依存する。この場合の濡れ性は、また合金の組成によっても影響を受ける。そして、合金薄帯の表面に形成される凹部は、冷却ロールと溶融金属との間に巻き込まれる気泡によって形成される。
　後述する実施例の結果からも明らかなように、本発明によれば、この冷却ロールと接触する側の合金薄帯表面に形成された凹部の面積占有率を３０％以下に制限することによって、磁心の角形比を著しく向上させることができる。
　上記のような角形比の向上効果は、特に、キュリー温度が３００℃以下のアモルファス合金において顕著である。その理由は熱処理により発生する誘導磁気異方性と表面粗さに起因する形状磁気異方性の大きさの割合によると推定される。すなわち、キュリー温度が３００℃以下の比較的誘導磁気異方性の小さい合金で顕著である。
　上記のように、薄帯表面に形成される凹部の面積占有率を３０％以下に制限する方法としては、冷却ロールと合金溶湯の濡れ性をよくすること、冷却速度の適正孔が挙げられる。そのための具体的な方法としては、鉄基ロール（たとえば、Ｓ４５Ｃ、ハイス鋼）の使用、Ｃｕ基合金（ＣｕＢｅ、ＣｕＴｉなど）の場合においては、冷却ロール内部から冷却する水の温度を３０〜６０℃にコントロールする方法、あるいは合金溶湯の射出温度を１３５０℃以上にする方法がある。
　さらに好ましい方法としては、製造雰囲気を大気圧未満の減圧下にすることによって、凹部発生を低減すること（たとえば１０％以下）が可能である。
　また、本発明における「薄帯表面に形成される凹部の面積占有率」の定義ならびに測定方法は以下の通りである。
　走査型電子顕微鏡を用いて２００倍の倍率でロール面の写真をとる。この写真から視野長径（当該凹部を包みかつ接する最小の円の直径）が１０μｍ以上の凹部を全てピックアップし画像処理装置（たとえば日本レギュレータ　Ｋ．Ｋ製ＬＵＺＥＸ５００）によって、単位面積あたりの凹部が占める面積比を求める。この過程を少なくとも１０回行ない、平均値を求め、この平均値を「面積占有率」とする。
　次に、合金薄帯の表面粗さを制御する第２の態様について説明する。
　すなわち、本発明の第２の態様は、合金溶湯をノズルより冷却ロールの表面に射出し、急冷することによって合金薄帯が製造されるものであって、前記冷却ロールと接触しない方の合金薄帯表面の表面粗さが、当該合金薄帯の長手方向において、
　Ｒｆ≦０．３
　（ただし、Ｒｆは、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１に規定された基準長さ２．５ｍｍにおける十点平均粗さ、および合金薄帯の重量より求めた平均板厚を、それぞれＲｚ、Ｔとしたときに、下記の式
　Ｒｆ＝Ｒｚ／Ｔ
によって求めた粗さを特徴付けるパラメータである。）なる値を有する合金薄帯によって磁心を形成することを特徴とするものである。このＲｆの値は、好ましくは、０．２５以下、さらに好ましくは０．２２以下である。
　通常、溶湯急冷法によって合金薄帯を製造する場合においては、冷却ロールの表面状態、ノズルとロールとの間に生じる溶湯だまり安定性などの条件によって、得られる合金薄帯の表面状態が影響を受ける。本発明者らの研究によれば、特にフリー面（すなわち、冷却ロールと接触しない側の薄帯表面）に生じやすい、薄帯長手方向に周期性をもって現れる凹凸（いわゆるフィッシュスケール）が、合金薄帯の高周波磁気特性、特に角形比に悪影響を与えることを見出している。
　すなわち、合金薄帯の長手方向の表面粗さを、上述した規定にしたがって、Ｒｆ≦０．３、さらに好ましくは、Ｒｆ≦０．２７に制限することによって、高周波領域における角形比を著しく改善することができるとともに、飽和インダクタンスを低減することができるう。
　このような効果は、特にキュリー温度が３００℃以下のアモルファス合金を材料として用いた場合に、顕著である。その理由は薄帯ロール面について述べたのと同様に、表面粗さに起因する形状異方性が関与しているものと推定される。
　上記のように表面粗さを制御するためには、冷却ロールの材質、ロール表面温度、射出時の溶湯の温度などの製造パラメータを適宜コントロールする必要がある。そのためには、たとえば冷却速度やロール周速の調整、適正化が必要である。具体的には、Ｃｕ基合金ロールを使用し、ロール内部の水温を３０〜８０℃に設定する方法、あるいはロール周速を２５ｍ／ｓ以上に設定する方法が有効である。
　次に、本発明の磁心に用いる合金材料について説明する。
　本発明においては、Ｃｏ基アモルファス合金やＦｅ基磁性合金が用いられ得る。
　ここでＣｏ基アモルファス合金の好ましい組成として
は、一般式
▲１▼　（Ｃｏ１−ａＦｅａ）１００−Ｘ（Ｓｉ１−ｌＢｌ）ｘ
　ただし、０．０２≦ａ≦０．０８
　０．３≦１≦０．８
　２６≦Ｘ≦３２
▲２▼　（Ｃｏ１−ｂ−ｃＦｅｂＭｃ）１００−ｙ（Ｓｉ１−ｍＢｍ）ｙ
　ただし、ＭはＮｉ，Ｎｎのうち少なくとも１種
　ｂ≦０．１０
　０．０１≦ｅ≦０．１０
　０．３≦ｍ≦０．８
　２６≦ｙ≦３２
▲３▼　（Ｃｏ１−ｄ−ｅＦｅｄＭ′ｅ）１００−ｚ（Ｓｉ１−ｎＢｎ）ｚ
　ただし、Ｍ′はＴｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｎｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、から選ばれる少なくとも１種
　０．０３≦ｄ≦０．１０
　０．０１≦ｅ≦０．０６
　０．３≦ｎ≦０．８
　２４≦ｚ≦３２
▲４▼　（Ｃｏ１−ｆ−ｇ−ｈＦｅｆＭｇＭ′ｈ）１００−Ｗ（Ｓｉ１−ｐＢｐ）ｗ
　ただし、ＭはＮｉ、Ｍｎのうちの少なくとも１種、
　ｆ≦０．１０
　０．０１≦ｇ≦０．１０
　０．０１≦ｈ≦０．０８
　０．３≦ｐ≦０．５
　２４≦ｗ≦３０
のいずれかで表わされるが、いずれも飽和磁歪定数λｓは−１×１０−６≦λｓ≦１×１０−６の範囲に入るＣｏ基アモルファス合金が好ましい。
　本発明の磁心に用いるＣｏ基アモルファス合金は、上記４つの一般式で表わされるが、ここで最も重要となるのは、キュリー温度を３００℃以下に設定するための組成設定であり、金属元素とメタロイド元素の原子比が主となる。一般式▲１▼〜▲２▼においてｘ、ｙ、ｚを２６〜３２、▲３▼および▲４▼においてｗを２４〜３０としたのはｘ、ｙ、ｚが２６未満あるいはｗが２４未満では保磁力が大きく、鉄損値が大きくなるとともに、熱安定性も悪くなり、一方ｘ、ｙ、ｚが３２をあるいはＷが３０を超えるとキュリー温度が低下して実用的でなくなるためである。
　Ｆｅは磁歪を−１×１０−６〜＋１×１０−６に調整するための元素であり、Ｎｉ、Ｍｎの添加量あるいは非磁性遷移金属元素の添加量、およびＳｉ、Ｂ比の値に応じてＣｏとの配合比を示すａ、ｂ、ｄ、ｆをそれぞれ０．０２〜０．０８、０．１０以下、０．０３〜０．１０、０．１０以下の範囲で規定すれば、これが実現できる。
　Ｍ（ＮｉあるいはＭｎから選ばれる少なくとも１種）およびＭ′（Ｍ′はＴｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗから選ばれる少なくとも１種）は、熱安定性をより改善させるのに有効な元素であるが、その添加量ｃ、ｈはそれぞれ０．１０以下、０．０８以下であり、ｃ、ｈが０．１０以上０．０８以上では、キュリー温度が低下しすぎて好ましくない。
　Ｓｉ及びＢは合金を非晶質化するのに必須の成分であるが、特に低鉄損、高角形比及び高い熱安定性を有する磁心を得るためには、ＳｉとＢとの配合比を示すｌ、ｍ、ｎ又はｐを０．３〜０．５の範囲に規定し、Ｓｉリッチとすることが必要である。これはｌ、ｍ、ｎまたはｐが０．３未満又は０．５を超える場合には、特に高角形比を得るのが困難となり、また磁気特性の熱安定性がやや悪くなるためである。
　上記の▲１▼ないし▲４▼の合金組成の内でも、気泡の巻き込みによる凹部の低減化（本発明の第１の態様）という観点からいえば、▲３▼と▲４▼の合金が最も好ましいものである。さらに好ましくは、Ｍ′として、Ｃｒ、ＮｂまたはＭｏを選択した場合である。これは、濡れ性の改善ならびに活性の低下が寄与しているものと考えられる。
　以上の本発明の第１の態様、第２の態様のいずれも、形状磁気異方性の効果は誘導磁気異方性の大きさの関係であらわれる。従って、特に誘導磁気異方性の大きさが１０４ｅｒｇ／ｃｃ以下の材料について、本発明は特に有効となる。また、先に述べたように、本発明は特にキュリー温度３００℃以下のアモルファス合金において、その効果が顕著であるが、一方、キュリー温度が１６０℃以下のものにおいては、角形比、飽和インダクタンスが十分良好なレベルに達しない。したがって、本発明においては、キュリー温度範囲を１６０〜３００℃の範囲、さらには１８０〜２８０℃の範囲が好ましく、さらに望ましくは１９０〜２７０℃である。
　なお、キュリー温度を３００℃以下にするのは熱安定性向上の意味もある。一般にアモルファス合金は、所定組成比の合金素材を溶融状態から１０４℃／秒以上の冷却速度で急冷すること（液体急冷法）によって得られることが知られている。本発明のアモルファス合金も、上記した常法によって容易に製造できる。このアモルファス合金は、例えば単ロール法によって製造された板状の薄帯として使用される。この場合、厚みが２５μｍを超えると高周波における鉄損が増大するので、薄帯の厚みを５〜２５μｍの範囲に設定するのが好ましい。
　本発明の磁心は、上記製造法により作製したアモルファス合金を所定形状に巻回し、歪取り熱処理を行なうが、その際の冷却速度は０．５〜５０℃／ｍｉｎ．程度で良く、好ましくは１〜２０℃／ｍｉｎ．の範囲である。また、さらにキュリー温度以下での磁場中において熱処理を加えてもよい。
　一方、本発明においては、Ｆｅ基超微細結晶合金を用いることもできる。この合金は、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ系合金等にＣｕとＮｂ、Ｗ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｍｏ等の１種とを添加し、一旦アモルファス合金と同様の薄帯として形成した後、その結晶化温度以上の温度域で熱処理することによって、微細な結晶粒を析出させたものである。
　本発明は、上記の様なＦｅ基超微結晶合金についても同様に適用することができる。
　上記のようなＦｅ基軟磁性合金薄帯を作製する際に用いる合金組成としては、一般式：
　Ｆｅ１００−ｅ−ｆ−ｇ−ｈ−ｉ−ｊＥｅＧｆＪｇＳｉｈＢｉＺｊ　……（Ｉ）
（式中、ＥはＣｕおよびＡｕから選ばれた少なくとも１種の元素を、ＧはＩＶａ族元素、Ｖａ族元素、ＶＩ′ａ族元素および希土類元素からなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を、ＪはＭｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎおよび白金族元素からなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を、ＺはＣ、ＮおよびＰからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を表し、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉおよびｊは、下記の式を満足する数である。ただし、下記式中の全ての数字はａｔ％を示す。
　０．１≦ｅ≦８
　０．１≦ｆ≦１０
　０≦ｇ≦１０
　１２≦ｈ≦２５
　３≦ｉ≦１２
　０≦ｊ≦１０
　１５≦ｈ＋ｉ＋ｊ≦３０。以下同じ。）
で実質的に示されるものが好ましく用いられる。
　ここで、上記（Ｉ）式のＥ（ＣｕまたはＡｕ）は、耐食性を高め、結晶粒の粗大化を防止するとともに、鉄損や透磁率などの軟磁気特性を改善するのに有効な元素である。特にｂｃｃ相の低温での析出に有効である。この量があまり少ないと上記したような効果が得られず、一方、あまりに多いと逆に磁気特性が劣化するので好ましくない。そのため、Ｅの含有量は、０．１〜８原子％の範囲が適している。好ましい範囲は、０．１〜５原子％である。
　Ｇ（ＩＶａ族元素、Ｖａ族元素、ＶＩａ族元素および希土類元素から選ばれた少なくとも１種の元素）は、結晶粒径の均一化に有効であるとともに、磁歪および磁気異方性を低減させ、軟磁気特性の改善および温度変化に対する磁気特性の改善に有効元素であり、Ｅ（例えばＣｕ）との複合添加によってｂｃｃ相をより広い温度範囲で安定化させることができる。この量があまりに少ないと上記効果が得られず、また、あまりに多いと製造過程において非結晶化がなされず、さらに飽和磁束密度が低くなる。そのため、Ｇの含有量は、０．１〜１０原子％の範囲が適している。さらに好ましい範囲は、１〜８原子％である。
　なおＥにおける各元素の効果は、上記効果とともに、それぞれ、ＩＶａ族元素は最適磁気特性を得るための熱処理条件の拡大、Ｖａ族元素は耐脆化性の向上および切断などの加工性の向上、ＶＩａ族元素は耐食性の向上および表面性の向上に有効である。
　この中で特に、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、およびＭｏは軟磁気特性の改善、Ｖは耐脆化性とともに表面性の向上効果が顕著であり、この点で好ましいものである。
　Ｊ（Ｍｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎおよび白金族元素から選ばれた少なとも１種の元素）は、軟磁気特性の改善あるいは耐食性の改善に有効な元素である。しかし、その量があまりに多いと飽和磁束密度が低下するため、１０原子％以下とする。この中で、特にＡｌは結晶粒の微細化、磁気特性の改善およびｂｃｃ相の安定化、Ｇｅはｂｃｃ相の安定化、白金族元素は耐食性の改善に有効な元素である。
　ＳｉおよびＢは、製造時における合金の非結晶化を助成する元素であり、結晶化温度の改善ができ、磁気特性向上のための熱処理に対して有効な元素である。特に、Ｓｉは微細結晶粒の主成分であるＦｅに固溶し、磁歪、磁気異方性の低減化に寄与する。その量が１２原子％未満では軟磁気特性の改善が顕著ではなく、２５原子％を超えると超急冷効果が小さく、μｍレベルの比較的粗大な結晶粒が析出して、良好な軟磁気特性は得られない。さらにＳｉは規則格子の出現のために１２〜２２原子％が特に好ましい。またＢは、３原子％未満では比較的粗大な結晶粒が析出して良好な特性が得られず、１２原子％を超えると熱処理によりＢ化合物が析出しやすくなり、軟磁気特性を劣化させるので好ましくない。
　また、他の非晶質化元素としてＺ（Ｃ、Ｎ、Ｐ）を、１０原子％以下の範囲で含んでいてもよい。
　なお、ＳｉとＢおよび他の非晶質化元素との合計量は、１５〜３０原子％の範囲が好ましく、またＳｉ／Ｂ≧１がすぐれた軟磁気特性を得るのに好ましい。
　特に、Ｓｉ量を１３〜２１原子％にすることにより磁歪λｓ―０が得られ、樹脂モールドによる磁気特性の劣化がなくなり、所期のすぐれた軟磁気特性を有効に発揮させることが可能となる。
　なお、上記Ｆｅ基軟磁性合金において、Ｏ、Ｓなどの通常のＦｅ系合金にも含まれているような不可避的な不純物を微量含んでいても、本発明の効果を損なうものではない。
（実施例）
　以下に本発明の実施例を説明する。
実施例Ａ１及び比較例Ａ１
　（Ｃｏ０．９００Ｆｅ０．０５Ｎｂ０．０５Ｃｒ０．０２）７５（Ｓｉ０．５６Ｂ０．４４）２５
にて表されるアモルファス合金について、単ロール法により板厚１６μｍ、幅１０ｍｍの薄帯形状でロール面の表面性の異なる長尺リボン試料ａ、ｂを作製した。
　試料ａ、ｂについてロール面の気泡の巻き込みを写真により観察したところ、第１図および第２図に示すような差異がみられた。割合は、試料ａは３８％（第１図）であり、試料ｂは２３％（第２図）である。
　凹部の面積占有率の測定は次の様にして行なった。まず、走査型電子顕微鏡を用いて、薄帯のロール面につき、倍率２００倍で写真をとった。この写真において視野０．４５ｍｍ×０．５５ｍｍの範囲内で長径が１０μｍ以上の凹部を抽出し、画像処理を行ない面積を求めた。これを全視野面積との比較で凹部の面積占有率を求めた。
　得られた合金薄帯を巻回して外径１８ｍｍ、内径１２ｍｍのトロイダルコアを成形した。次にこれをキュリー温度以上、結晶化温度以下の適温温度で熱処理した後、４℃／ｍｉｎ．の速度で冷却した。
　得られたコアに１次及び２次巻線を施し、１０ｅの外部磁場を印加して交流磁化測定装置を用いて交流ヒステリシス曲線を測定し、角形比Ｂｒ／Ｂｌ（Ｂｒ：残留磁束密度、Ｂｌ：１０ｅの磁場における磁束密度）を求めた。１００ＫＨｚでの値は、第１図の材料を用いて磁心では９９．４％、第２図の材料では、９４．８％であり約５％の差が生じた。
　これらの磁心をスイッチング周波数１００ＫＨｚの電源における可飽和リアクトルとして適用したところ、第１図の薄帯を用いた本実施例の磁心では第２図の薄帯を用いた比較磁心に比べ、出力制御不能範囲（デッドアングル）も小さく、効率も約２％向上した。
実施例Ａ２
　単ロール法により（Ｃｏ０．９０Ｆｅ０．０５Ｍｎ０．０２Ｎｂ０．０３）７５Ｓｉ１３Ｂ１２なる組成のアモルファス合金を種々の表面性を持つように種々の作製した。
　これらの材料を実施例Ａ１と同様にして磁心とし、高周波での角形比との関係を調べた。結果を第３図にまとめるが、面積占有率３０％を境として角形比が急激に劣化することがわかる。
　なお、以下の実施例、比較例においては、ロール面の凹部の面積占有率は、上記実施例Ａ１と同様にして測定した。
実施例Ｂ１及び比較例Ｂ２
　下記式、
（Ｃｏ０．９４Ｆｅ０．０５Ｎｂ０．０１）７１（Ｓｉ０．６Ｂ０．４）２９
にて表わされるアモルファス合金について、単ロール法により板厚１６μｍ、幅１０ｍｍの薄帯形状で表面性の異なる長尺リボン試料ａ、ｂを作製した。
　試料ａ、ｂについて表面粗さ計を用いて薄帯長手方向に測定した結果をＲｆで表わすとそれぞれ０．１５、０．３８である。これを巻回して外径１８ｍｍ、内径１２ｍｍのトロイダルコアを成形した。次にこれをキュリー温度以上、結晶化温度以下の適温温度で熱処理した後、４℃／ｍｉｎ．の速度で冷却した。
　得られたコアに１次及び２次巻線を施し、１０ｅの外部磁場を印加して交流磁化測定装置を用いて交流ヒステリシス曲線を測定し、角形比Ｂｒ／Ｂｌ（Ｂｒ：残留磁束密度、Ｂｌ：１０ｅの磁場における磁束密度）を求めた。
　５０ＫＨｚでの値は、Ｒｆ＝０．１５の材料を用いた磁心では９９．４％、Ｒｆ＝０．３８では、９４．８％であり約５％の差が生じた。
　これらの磁心をスイッチング周波数１００ＫＨｚの電源における可飽和リアクトルとして適用したところ、
　Ｒｆ＝０．１５の薄帯を用いた本実施例の磁心ではＲｆ：０．３８の薄帯を用いた比較磁心に比べ、出力制御不能範囲（デッドアングル）も小さく、効率も約２％向上した。
実施例Ｂ２
　単ロール法により（Ｃｏ０．９０Ｆｅ０．０５Ｍｎ０．０２Ｎｂ０．０３）７１Ｓｉ１５Ｂ１４なる組成のアモルファス合金を種々の表面性を持つように種々の作製した。
　これらの材料を実施例Ｂ１と同様にして磁心とし、周波数１００ｋＨｚでの角形比との関係を調べた。結果を第４図にまとめるが、Ｒｆ＝０．３から角形比が急激に劣化することが明らかである。
実施例Ｃ１および比較例Ｃ１
　Ｆｅ７４Ｃｕ１Ｎｂ３Ｓｉ１３Ｂ９なる合金組成のアモルファス合金を単ロール法により、ロール面の凹部占有率が２２％と４０％である表面性をもつ薄帯として作製した。これを、１８ｍｍ×１２ｍｍ×４．５ｍｍのトロイダル状コアに成形した後、５６０℃で１時間、Ｎ２雰囲気中で熱処理した。このあと４００℃で２時間、５（Ｏｅ）の条件で磁場熱処理を行った。
　実施例Ａ１と同様にして、１００ＫＨｚにおける角形比を測定した。本発明の磁心は、角形比９８．７％であり、比較例は９４．５％であった。
　これらの磁心をスイッチング周波数１００ＫＨｚの電源における可飽和リアクトルとして適用した結果、実施例の磁心の場合、比較例の磁心に比べ、出力制御不能特性（デッドアングル）が小さく、電源効率も約２％向上した。
実施例Ａ３および比較例Ａ３
　（Ｃｏ０．９０Ｆｅ０．０５Ｍｏ０．０３Ｃｒ０．０２）７５（Ｓｉ０．６Ｂ０．４）２５で表わされるアモルファス合金について、単ロール法により作製条件を変更し、種々の板厚と表面性を持つ薄帯を作製した。これらの薄帯を外径１８ｍｍ、内径１２ｍｍのトロイダル状コアに巻回し、４４０℃、３０分歪取り熱処理した後、２００℃で２時間、５（Ｏｅ）の条件下で磁場熱処理を行った。得られたコアにつき、実施例Ａ１と同様にして１００ＫＨｚでの角形比と、さらに１００ＫＨｚ、２ＫＧでの鉄損を評価した。なお、板厚ｔは、重量法から平均板厚として求めた。この場合の平均板厚ｔは、長さｌ、幅ｗ、重量Ａ、密度ρとした場合において下記式のよって求めることができる。
　ｔ＝Ａ／（ｌ＋Ｗ＋ρ）
　結果を表１に示すが、本発明の表面性をもった材料を用いたコアは角形比にすぐれ、また鉄損も低いことがわかる。
　なお、表面粗さＲｆが０．２のものと０．３８のものを種々の板厚について１００ＫＨｚの鉄損を測定したが、第５図に示すように、鉄損に関しては表面性にかかわらず板厚の増加と共に単調に増加している。
実施例Ａ４および比較例Ａ４
　単ロール法により、（Ｃｏ０．９０Ｆｅ０．０５Ｃｒ０．１Ｎｂ０．０２）７３（Ｓｉ０．５５Ｂ０．４５）２７で表わされるアモルファス合金を２種類作製した。板厚は、１９μｍであり、幅は５ｍｍである。用いたロールの材質およびロール冷却水の水温を変化させて、１種についてはロール面の凹部を２２％と３５％、フリー面側の表面粗さを０．２５および０．３５とした。これらの薄帯をフォトエッチングにより外径８ｍｍ、内径６ｍｍのリング状コアに抜き、４３０℃、４０分歪取り熱処理し、その後、２００℃で１時間、２（Ｏｅ）の条件で磁場熱処理し、高さが５ｍｍになるように積層して評価用磁心とした。
　実施例Ａ１と同様にして、１００ｋＨｚでの角形比を測定したところ、本発明の磁心は、９９．１％であり、比較例の磁心においては９５．２％であった。
　これらの磁心をスイッチング周波数２００ｋＨｚの電源の可飽和リアクトルコアとして使用したところ、本発明の磁心は比較例に比べて、出力制御特性にすぐれ、電源効率も２．５％向上した。
実施例Ａ５ないしＡ２０、Ｃ２ないしＣ１５、比較例Ａ５、Ａ６、Ａ７、Ｃ２およびＣ３
　単ロール法により、表２に記載した組成ならびに作製条件によって、幅５ｍｍの薄帯を作製した。なお、Ｃｏ基アモルファス合金については、キュリー温度も測定した。
　各々の薄帯を外径１５ｍｍ、内径１０ｍｍトロイダル状磁心に巻回した。得られたＣｏ基アモルファス磁心を、夫々最適温度で３０分歪取り熱処理したのち、各々、キュリー温度の３０℃以下の温度で、２時間、１（Ｏｅ）の磁場を薄帯長手方向に印加して、磁場熱処理を行った。また、Ｆｅ基合金については急冷状態でアモルファス状態になっているため、それぞれの結晶化温度（示差走査熱量計を用いて１０℃／分の昇温条件で測定した値）の５０℃上の温度１時間熱処理した後、４５０℃で１時間、５（Ｏｅ）の磁場を薄帯長手方向に印加して磁場熱処理を行った。熱処理はすべて窒素雰囲気中で行った。
　得られた磁心を実施例Ａ１と同様にして、１００ｋＨｚでの角形比と、１００ｋＨｚ、２ｋＨｚでの鉄損を評価した。結果を表２に示すが、本発明の磁心においては、すぐれた角形比が得られていることが分かる。また、これらの例においては、飽和インダクタンスに対応する値として磁束密度を求めた。この磁束密度は、磁心の巻線数を１０ターンとして、周波数１００ｋＨｚにおいて１６（Ｏｅ）の磁場を印加した条件での磁束密度と残留磁束密度の差から求めた。
〔発明の効果〕
　本発明によれば、高角形性を有した出力制御特性に極めて優れた巻磁心を提供することができるので、磁気増幅器、半導体回路用リアクトルなど特にスイッチング電源の磁性部品として広く適用することができる。
【図面の簡単な説明】
　第１図および第２図は本発明における合金薄帯の表面の金属組織を示す走査型電子顕微鏡写真であり、第３図は、合金薄帯表面に形成された凹部の面積占有率と角形比との関係を示すグラフであり、第４図は表面粗さと角形比との関係を示すグラフであり、第５図は、合金薄帯の板厚と鉄損との関係を示すグラフである。