【事件の表示】
　特許第２９２０５８４号「基板洗浄装置」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９２０５８４号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
一．［手続の経緯］
　本件特許第２９２０５８４号（請求項の数３、以下、「本件特許」という）は、いずれも平成４年９月２５日（以下、「優先日」という）に出願された特願平４−２８０９４２号及び特願平４−２８０９４６号の各特許出願を先の出願として、特許法第４１条第１項に規定する優先権を主張して平成５年６月２９日付で出願された、特願平５−１８７６７７号の特許出願に係り、平成１１年４月３０日に設定登録されたが、本件特許に対して、表記特許異議申立人より、全請求項に関して特許異議の申立があったので、当審において、当該申立の理由を検討の上、特許取消理由を通知したところ、その通知書で指定した期間内の平成１２年６月２３日に、特許異議意見書の提出と共に訂正請求があったものである。
　
二．［訂正請求について］
　１．訂正の要旨
　上記平成１２年６月２３日付訂正請求における訂正の要旨は、次のイ〜ニのとおりである。
　イ　特許明細書における特許請求の範囲の請求項１について、
　「複数の基板を一括して洗浄する洗浄処理部と、」とある記載を、
　「昇温した酸を使用し、複数の基板を一括して酸洗浄する酸洗浄処理部と、複数種の洗浄処理毎に洗浄液の置換が可能で複数の基板に対して複数種の洗浄処理を行うオーバーフロー型洗浄処理部とを有する洗浄処理部と、」に訂正すると共に、
　「搬入搬出部、基板移載部、基板乾燥部、洗浄処理部を順に配置したことを特徴とする」とある記載を、
　「搬入搬出部、基板移載部、基板乾燥部、洗浄処理部を順に配置し、　
　さらに洗浄処理部は基板乾燥部に続いてオーバーフロー型洗浄処理部と酸洗浄処理部とを順に配置して有することを特徴とする」に訂正する。
　ロ　同請求項２について、
　「上記洗浄処理部は、複数のオーバーフロー型洗浄処理部より構成され」とある記載を、
　「上記洗浄処理部は、複数のオーバーフロー型洗浄処理部を有し」に訂正すると共に、
　「基板を洗浄してから排液管に排出するように構成したことを特徴とする」とある記載を、
　「基板を洗浄してから排液管に排出するように構成されており、　
　さらに上記洗浄処理部が有する酸洗浄処理部は、前記複数のオーバーフロー型洗浄処理部が有するオーバーフロー型洗浄槽に対して共通化された１つの酸洗浄槽を有することを特徴とする」に訂正する。
　ハ　同請求項３について
　「前記搬入搬出部の近傍にカセット洗浄部を配置したことを特徴とする」とある記載を、
前記搬入搬出部の近傍にオーバーフロー型のカセット洗浄槽を有するカセット洗浄部を配置したことを特徴とする」に訂正する。
　ニ　特許明細書における発明の詳細な説明について、上記イ〜ハの訂正事項に対応する箇所（【0004】、【0005】、【0007】、【0008】、【0009】、【0049】、【0050】）について、当該各訂正事項と同趣旨の訂正をする。
　２．訂正請求の適否
　（１）訂正の目的
　上記イ〜ハの訂正は、本件特許に係る発明の必須の構成をより限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮とみることができるし、また、ニの訂正は、イ〜ハの訂正に伴って生じる、明細書の前後における記載内容の齟齬の解消を図るもので、明瞭でない記載の釈明に該当する。
　（２）新規事項の有無
　本件特許に係る、願書に添付した明細書（特に、【0027】、【0028】）及び図面（図１、図２、図７）の記載からみて、上記各訂正の内容は、当該明細書及び図面に記載された事項の範囲内のものといえる。
　（３）拡張、変更の有無
　上記各訂正の内容は、登録時における特許請求の範囲を実質的に拡張したり、変更するものとはいえない。
　３．訂正の認容
　上記２．で検討したところによれば、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項第１号及び第３号に掲げる事項を目的とするものであって、特許法第１２０条の４第３項で準用され、平成６年法律第１１６号附則第６条第１項の規定により適用される、同法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書き及び同条第２項に規定するところに適合しているので、上記訂正の請求は認容される。
　
三．［特許異議申立について］
　１．特許異議申立の理由
　特許異議申立人は、後述する甲第１〜３号証を提出すると共に、本件特許に係る各請求項の発明は、甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件特許は、特許法第２９条第２項の規定に基づいて拒絶査定をするべき出願に対してされたことになり、取り消すべきものである旨を主張している。
　２．当審の判断
　（１）＜特許異議申立に係る本件特許発明＞
　上記二．３．で指摘したとおり、上記訂正請求が認容されることにより、上記平成１２年６月２３日付で提出された訂正明細書を本件特許明細書として、特許異議申立に係る本件特許発明は、当該特許明細書における、特許請求の範囲の請求項１〜３のそれぞれに記載された事項によって特定される次のとおりのものと認める。
　　【請求項１】　「 基板を収容したカセットの搬入搬出部と、
　カセットから．基板を取り出し又はカセット内へ基板を装墳する基板移載部と、
　上記カセットの搬入搬出部と基板移載部との間でカセットを移載するカセット移載ロボットと、　
　昇温した酸を使用し、複数の基板を一括して酸洗浄する酸洗浄処理部と、複数種の洗浄処理毎に洗浄液の置換が可能で複数の基板に対して複数種の洗浄処理を行うオーバーフロー型洗浄処理部とを有する洗浄処理部と、
　複数の基板を一括して乾燥する基板乾燥部と、　
　基板移載部でカセットから取り出した複数の基板を一括保持して上記洗浄処理部及び基板乾燥部に搬送する基板搬送ロボットとを具備するとともに、
　搬入搬出部、基板移載部、基板乾燥部、洗浄処理部を順に配置し、
　さらに洗浄処理部は基板乾燥部に続いてオーバーフロー型洗浄処理部と酸洗浄処理部とを順に配置して有することを特徴とする基板洗浄装置。」（この請求項１に係る発明を、以下、「本件発明」という）
　　【請求項２】　「請求項１に記載の基板洗浄装置において、
　上記洗浄処理部は、複数のオーバーフロー型洗浄処理部を有し、
各オーバーフロー型洗浄処理部は、
オーバーフロー型洗浄糟と、オーバーフロー型洗浄糟の下部より複数種の洗浄液を供給する洗浄液供給部と、オーバーフロー型洗浄糟よりオーバーフローした洗浄液を排液管へ排出する洗浄液排出部とを具備して成り、
当該オーバーフロー型洗浄糟に順次供給される洗浄液により、基板を洗浄してから排液管に排出するように構成されており、
　さらに上記洗浄処理部が有する酸洗浄処理部は、前記複数のオーバーフロー型洗浄処理部が有するオーバーフロー型洗浄槽に対して共通化された１つの酸洗浄槽を有することを特徴とする基板洗浄装置。」
　　【請求項３】　「請求項１に記載の基板洗浄装置において、　
　前記搬入搬出部の近傍にオーバーフロー型のカセット洗浄槽を有するカセット洗浄部を配置したことを特徴とする基板洗浄装置。」
　（２）＜引用例とその記載事項の概要＞
　これに対して、特許異議申立人が甲第１〜３号証として提出したものは次のとおりであって、いずれも本件特許に係る上記優先日より前に頒布された刊行物である。
　甲第１号証：実願平３−９３６３５号（実開平４−９９２６９号）マイクロフィルム
　甲第２号証：特開昭６２−２９１９３９号公報　
　甲第３号証：特開昭６３−２７０２５号公報　
　上記の甲第１号証には、「浸漬型基板処理装置」に関して次のア〜ウの記載がある。
　ア　「図２は本考案の第１の実施例を示す・・・この浸漬型基板処理装置は、処理液２中に基板Ｗを浸漬して基板Ｗの表面処理をなす基板処理槽１と、純水ＤWの主要通路をなす純水給液管３を介して処理液２を基板処理槽１内へ供給する処理液供給部４と、処理液排出部４０とから成る。・・・基板処理槽１は、・・・処理液２を複数種の表面処理毎に、迅速に置換し得るオーバーフロー槽として構成されている。・・・なお、基板処理槽１内の基板Ｗを収容したカセットＣは、仮想線で示すカセット搬送用ロボットＲにより挟持搬送される。」（【0009】、【0010】）
　イ　「本実施例では基板の拡散処理の前段の洗浄処理として、次のようなプログラムに基づいて一連の表面処理を実行することができる。
　ステップ１：純水＋ＱA＋ＱE
　ステップ２：純水
　・・・
　ステップ５：純水５＋ＱC＋ＱE
　ステップ６：純水（終了）
　ここで、薬液貯溜容器６A〜６E内の薬液は・・・、ＱC＝Ｈｃｌ、・・・であり、・・・必要に応じて適宜変更することができる。」（【0022】）
　ウ　「図８は本考案に係る浸漬型基板処理装置を具備してなる基板処理ユニット５０の斜視図、図９はその要部の縦断正面図である。
　この基板処理ユニット５０は、複数種の基板処理槽を併設するのをやめて、単一の基板処理槽１内で複数種の一連の表面処理をなし、装置全体のコンパクト化を意図したものである。
　即ち、この基板処理ユニット５０は、基板収容カセットＣの搬入搬出部５１と、カセットＣの移載ロボット５５と、カセットＣから基板Ｗを取り出し又はカセットＣ内へ基板Ｗを装填するローダ・アンローダ装置６０と、本考案の第３の実施例に係る浸漬型基板処理装置６５と、基板Ｗの液切り乾燥装置７０と、カセットＣから取り出した複数の基板Ｗを保持して搬送する基板搬送ロボット７５と、複数種の薬液貯溜容器６A〜６Eとを具備して成り、単一の基板処理槽１内で複数種の一連の表面処理をなし得るように構成されている。」（【0029】）
　次に、上記甲第２号証には、「半導体浸漬処理装置」に関して、その第１図及び第２図に、処理槽、遠心脱水機、投入部兼払出し部、の順に配置した例が示されると共に、次のとおりの記載がある。
　「第１図、および第２図を参照して投入位置と払出し位置を一致させた場合の実施の一例を説明する。
　被処理物のウェーハを入れたキャリアが投入部兼払出し部に置かれるとキャリア確認センサーによって投入キャリアが確認され、ただちに搬送ロボット２によって清浄な雰囲気のキャリア運搬部７に運ばれる。もちろんこの動作中は払出し部としてのコンベアは停止している。
　空気清浄部６の下に設けられた清浄な雰囲気のキャリア運搬部７を通して投入キャリアは矢印の方向に運ばれ、昇降機８により指定の位置にセットされる。次にキャリアは搬送ロボット１によって処理槽２に運ばれ、浸漬処理される。このようにキャリアは順次浸漬処理され、遠心脱水機で乾燥されて、投入兼払出し部１まで運ばれる。」（第２頁左上欄第１１行〜同右上欄第６行）
　更に、甲第３号証には、「半導体ウェーハの洗浄方法」に関して、「ウエーハ取出しポジションＰ２′ にてウエーハ（１）（１）・・・が取出された空のキャリア（２′）を、キャリア洗浄処理部（５）の洗浄槽に移送し、このキャリア洗浄処理部（５）にて上述したウェーハ洗浄と並行してキャリア（２′）のみを洗浄する。・・・洗浄済みのキャリア（２′）は移送されてウェーハ収納ポジションＰ２′ に配置され・・・ウエーハ洗浄処理部（４）にて洗浄されたウェーハ（１）（１）を・・・取出して上述した洗浄済みのキャリア（２′）内に整列収納する」という記載がある。（第３頁第３〜１６行）
　（３）＜発明の対比＞
　本件発明と、甲第１号証記載のものとを対比すると、甲第１号証にも、上記ア〜ウのとおり、本件発明と同様の、「カセットの搬入搬出部」と、「カセットから．基板を取り出し又はカセット内へ基板を装墳する基板移載部」と、「上記カセットの搬入搬出部と基板移載部との間でカセットを移載するカセット移載ロボット」と、「複数種の洗浄処理毎に洗浄液の置換が可能で複数の基板に対して複数種の洗浄処理を行うオーバーフロー型洗浄処理部とを有する洗浄処理部」と、「複数の基板を一括して乾燥する基板乾燥部」と、「基板移載部でカセットから取り出した複数の基板を一括保持して上記洗浄処理部及び基板乾燥部に搬送する基板搬送ロボット」とを備える「浸漬型基板処理装置」が記載されているといえるから、この点においては、本件発明と甲第１号証記載の発明とは一致している。
　一方、「洗浄処理部」に関して、本件発明では、「昇温した酸を使用し、複数の基板を一括して酸洗浄する酸洗浄処理部」と、「複数種の洗浄処理毎に洗浄液の置換が可能で複数の基板に対して複数種の洗浄処理を行うオーバーフロー型洗浄処理部」とを有するものであって、しかも、「洗浄処理部は基板乾燥部に続いてオーバーフロー型洗浄処理部と酸洗浄処理部とを順に配置」するとされるのに対し、甲第１号証には「オーバーフロー槽として構成されている」「単一の基板処理槽」のみを有する洗浄処理部が開示されているだけで、その他に「酸洗浄処理部」を別途設けることや、その配置構成について全く言及がない点で、本件発明と甲第１号証記載の発明との間に相違するところがある。
　（４）＜相違点の検討＞
　この相違点に関して、他の刊行物の記載をみると、先ず、甲第２号証には、投入部兼払出し部（搬入搬出部）と複数の処理槽（洗浄処理部）との間に遠心脱水機（基板乾燥部）を配置する構成が示されているものの、この甲第２号証に記載されている複数の洗浄処理槽は、本件発明の先行技術である、「洗浄処理数だけ基板洗浄槽」を配置したものに相当しており、したがって、甲第２号証には、「昇温した酸を使用し、複数の基板を一括して酸洗浄する酸洗浄処理部」と「複数種の洗浄処理毎に洗浄液の置換が可能で複数の基板に対して複数種の洗浄処理を行うオーバーフロー型洗浄処理部」とで洗浄処理部を構成することや、それを示唆するような記載は全くないといえる。
　また、甲第３号証には、上記のとおり、基板洗浄装置に関して、基板の搬入搬出部の近傍に、「ウエーハ（１）（１）・・・が取出された空のキャリア（２′）」を洗浄する、「キャリア洗浄処理部（５）」を配置することについての示唆はあるが、基板の洗浄処理部に関する詳細は示されておらず、上記の相違点で指摘した本件発明の構成に関連する言及はない。
　そうすると、上記相違点で指摘した本件発明の構成は、いずれの刊行物にも記載されていないし、また、上記刊行物の記載に基づいて、容易に想到しうるものともいえない。
　そして、本件発明は当該相違点に係る構成を備えることにより、「酸洗処理部と基板移載部及び搬入搬出部との距離を離すことができ」「酸の蒸気やミストが洗浄、乾燥を終えて基板移載部、搬入搬出部に搬送された基板に付着することを抑制することができる」のみならず、高温の酸と純水とが接触して突沸するという問題や、酸の昇温に時間がかかりスループットが低下するという問題も回避できるという、独自の作用効果を奏するものである。
　したがって、本件発明は、上記各刊行物に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　なお、訂正に係る特許請求の範囲の請求項２及び請求項３に記載された発明は、本件発明を引用するものであり、本件発明と同様に、上記相違点で指摘した構成を備えるものであるから、やはり、上記各刊行物に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　
四．［むすび］
　以上のとおりであるから、本件特許は、特許異議申立人の主張する理由およびその提出した証拠によっては、取り消すことはできないし、また、他に取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年９月８日（２０００．９．８）
【訂正の要旨】
　訂正請求における訂正内容の要旨は、次のイ〜ニのとおりである。
　イ　特許明細書における特許請求の範囲の請求項１について、
　「複数の基板を一括して洗浄する洗浄処理部と、」とある記載を、
　「昇温した酸を使用し、複数の基板を一括して酸洗浄する酸洗浄処理部と、複数種の洗浄処理毎に洗浄液の置換が可能で複数の基板に対して複数種の洗浄処理を行うオーバーフロー型洗浄処理部とを有する洗浄処理部と、」に訂正すると共に、
　「搬入搬出部、基板移載部、基板乾燥部、洗浄処理部を順に配置したことを特徴とする」とある記載を、
　「搬入搬出部、基板移載部、基板乾燥部、洗浄処理部を順に配置し、
　さらに洗浄処理部は基板乾燥部に続いてオーバーフロー型洗浄処理部と酸洗浄処理部とを順に配置して有することを特徴とする」に訂正する。
　ロ　同請求項２について、
　「上記洗浄処理部は、複数のオーバーフロー型洗浄処理部より構成され」とある記載を、
　「上記洗浄処理部は、複数のオーバーフロー型洗浄処理部を有し」に訂正すると共に、
　「基板を洗浄してから排液管に排出するように構成したことを特徴とする」とある記載を、
　「基板を洗浄してから排液管に排出するように構成されており、
　さらに上記洗浄処理部が有する酸洗浄処理部は、前記複数のオーバーフロー型洗浄処理部が有するオーバーフロー型洗浄槽に対して共通化された１つの酸洗浄槽を有することを特徴とする」に訂正する。
　ハ　同請求項３について
　「前記搬入搬出部の近傍にカセット洗浄部を配置したことを特徴とする」とある記載を、
前記搬入搬出部の近傍にオーバーフロー型のカセット洗浄槽を有するカセット洗浄部を配置したことを特徴とする」に訂正する。
　ニ　特許明細書における発明の詳細な説明について、上記イ〜ハの訂正事項に対応する箇所（【０００４】、【０００５】、【０００７】、【０００８】、【０００９】、【００４９】、【００５０】）について、当該各訂正事項と同趣旨の訂正をする。
（５４）【発明の名称】
基板処理洗浄装置
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】　基板を収容したカセットの搬入搬出部と、カセットから基板を取り出し又はカセット内へ基板を装填する基板移載部と、
　上記カセットの搬入搬出部と基板移載部との間でカセットを移載するカセット移載ロボットと、
　
昇温した酸を使用し、
酸洗浄する酸洗浄処理部と、複数種の洗浄処理毎に洗浄液の置換が可能で複数の基板に対して複数種の洗浄処理を行うオーバーフロー型洗浄処理部とを有する
　複数の基板を一括して乾燥する基板乾燥部と、
　基板移載部でカセットから取り出した複数の基板を一括保持して上記洗浄処理部及び基板乾燥部に搬送する基板搬送ロボットとを具備
するとともに、
　搬入搬出部、基板移載部、基板乾燥部、洗浄処理部を順に配置し、
　
さらに洗浄処理部は基板乾燥部に続いてオーバーフロー型洗浄処理部と酸洗浄処理部とを順に配置して有する
　　【請求項２】　請求項１に記載の基板洗浄装置において、
　上記洗浄処理部は、複数のオーバーフロー型洗浄処理部
を有し、
各オーバーフロー型洗浄処理部は、
オーバーフロー型洗浄槽と、オーバーフロー型洗浄槽の下部より複数種の洗浄液を供給する洗浄液供給部と、オーバーフロー型洗浄槽よりオーバーフローした洗浄液を排液管へ排出する洗浄液排出部とを具備して成り、
当該オーバーフロー型洗浄槽に順次供給される洗浄液により、基板を洗浄してから排液管に排出するように構成
されており、
　
さらに上記洗浄処理部が有する酸洗浄処理部は、前記複数のオーバーフロー型洗浄処理部が有するオーバーフロー型洗浄槽に対して共通化された１つの酸洗浄槽を有する
　　【請求項３】　請求項１に記載の基板洗浄装置において、
　前記搬入搬出部の近傍に
オーバーフロー型のカセット洗浄槽を有する
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　【産業上の利用分野】
本発明は、半導体基板や液晶用ガラス基板等の薄板状の被洗浄基板（以下単に基板と称する）を表面洗浄するのに用いられる浸漬型の基板洗浄装置に関するものである。
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
一般に、基板製造用クリーンルームは、図８に示すように、中央通路の左右にリソグラフィー工程、洗浄工程、検査工程、拡散工程、ＣＶＤ工程、メタライズ工程などの各工程の保全用作業域３１（図８の斜線部分）がレイアウトされ、中央通路から各保全用作業域３１に向けて基板収容カセットＣの搬送路３３が分岐状にレイアウトされてクリーンルーム作業域３０（図８の白地部分）が形成される。上記基板の洗浄工程を実施する従来の基板洗浄装置５０は、図９に示すように、分岐搬送路３３の前後に分けてアルカリ洗浄、水洗、フッ化水素洗浄、酸洗浄、水洗、最終リンスなどの各種の洗浄処理をするための基板洗浄槽１を多数個直列状に並べ、この基板洗浄槽群に基板を順次浸漬させて、各種洗浄液により複数種の洗浄処理を実施するように構成されている。
　　　【０００３】
　　【発明が解決しようとする課題】
上記従来技術では、各種の洗浄処理数だけの基板洗浄槽１を配置する必要があるため、基板洗浄装置が占有する作業域が広域化して、クリーンルームの全体を有効に使用することができない。本発明は、上記従来技術を改善して、クリーンルームのスペースの利用効率を向上することを技術的課題とする。
　　　【０００４】
　　【課題を解決するための手段】
　本発明は上記課題を解決するものとして以下のように構成される。即ち、請求項１の発明は、基板を収容したカセットの搬入搬出部と、カセットから基板を取り出し又はカセット内へ基板を装填する基板移載部と、上記カセットの搬入搬出部と基板移載部との間でカセットを移載するカセット移載ロボットと、
昇温した酸を使用し、
酸洗浄する酸洗浄処理部と、複数種の洗浄処理毎に洗浄液の置換が可能で複数の基板に対して複数種の洗浄処理を行うオーバーフロー型洗浄処理部とを有する
するとともに、
　
さらに洗浄処理部は基板乾燥部に続いてオーバーフロー型洗浄処理部と酸洗浄処理部とを順に配置して有する
　　　【０００５】
　また、請求項２の発明は、請求項１に記載の基板洗浄装置において、上記洗浄処理部は、複数のオーバーフロー型洗浄処理部
を有し、
されており、さらに上記洗浄処理部が有する酸洗浄処理部は、前記複数のオーバーフロー型洗浄処理部が有するオーバーフロー型洗浄槽に対して共通化された１つの酸洗浄槽を有する
　　　【０００６】
　　　【０００７】
　請求項３の発明は、請求項１に記載の基板洗浄装置において、請求項１に記載の基板洗浄装置において、前記搬入搬出部の近傍に
オーバーフロー型のカセット洗浄槽を有する
　　　【０００８】
　　【作用】
（１）請求項１の発明では、基板を収容したカセットの搬入搬出部、カセットから基板を取り出し又はカセット内へ基板を装填する基板移載部、複数の基板を一括して乾燥する基板乾燥部、複数の基板を一括して洗浄する洗浄処理部を順に配置し
、洗浄処理部は基板乾燥部に続いてオーバーフロー型洗浄処理部と酸洗浄処理部とを順に配置して有する
が有する前記酸洗浄処理部
、
である酸
　　　【０００９】
（２）請求項２の発明では、洗浄処理部は、複数のオーバーフロー型洗浄処理部より構成され、各オーバーフロー型洗浄処理部は、オーバーフロー型洗浄槽と、オーバーフロー型洗浄槽の下部より複数種の洗浄液を供給する洗浄液供給部と、オーバーフロー型洗浄槽よりオーバーフローした洗浄液を排液管へ排出する洗浄液排出部とを具備して成り、当該オーバーフロー型洗浄槽に順次供給される洗浄液により、基板を洗浄してから排液管に排出するように構成したことから、基板の洗浄処理は複数のオーバーフロー型洗浄処理部で並行して行われる。そして各オーバーフロー型洗浄槽内には複数の洗浄液が順次供給されて一連の洗浄処理が行われる。洗浄処理を終えた基板は洗浄処理部に隣接して配置された基板乾燥部に順次搬送され、乾燥処理される。このとき、乾燥処理に要する時間は洗浄処理に要する時間よりも短いため、複数のオーバーフロー型洗浄処理部に対し基板乾燥部の共通化が可能となる。
　
また、洗浄処理部は前記複数のオーバーフロー型洗浄処理部が有するオーバーフロー型洗浄槽に対して共通化された１つの酸洗浄槽を有する。
　　　【００１０】
　　　【００１１】
　　　【００１２】
（３）請求項３の発明では、請求項１に記載の基板洗浄装置において、前記搬入搬出部の近傍にカセット洗浄部を配置したことから、カセット洗浄部では、基板を取り出して空になったカセットを、その基板の洗浄処理の間に洗浄する。つまり、基板の洗浄処理とカセットの洗浄処理とが並行して行われる。
　　　【００１３】
　　【実施例】
以下、本発明の実施例を図面に基づいて述べる。図１は本発明に係る浸漬型基板洗浄装置の概略平面図、図２は同基板洗浄装置の概略縦断面図、図３は同基板洗浄装置の概略斜視図、図４は同基板洗浄装置を複数配置したレイアウト図である。この基板洗浄装置５０は、複数種の基板処理槽を併設するのをやめて、単一の基板処理槽内で複数種の一連の表面処理をなし、装置全体のコンパクト化を意図したものである。
　　　【００１４】
即ち、図１〜図３に示すように、上記基板洗浄装置５０は、基板収容カセットＣの搬入搬出部５１と、カセットＣから基板Ｗを取り出し又はカセットＣ内へ基板Ｗを装填する基板移載部６０と、カセットＣの搬入搬出部５１と基板移載部６０との間でカセットＣを移載するカセット移載ロボット５５と、複数の基板を一括して洗浄する洗浄処理部６５と、基板乾燥部７０と、基板移載部６０でカセットＣから取り出した複数の基板Ｗを一括保持して上記洗浄処理部６５及び基板乾燥部７０に搬送する基板搬送ロボット７５と、基板Ｗを取り出して空になったカセットＣを洗浄するカセット洗浄部８０とから構成される。
　　　【００１５】
上記基板洗浄装置５０のレイアウトは、図１〜図４に示すように、クリーンルーム作業域３０に臨む前方から保全用作業域３１に臨む後方に向かって前記カセットＣの搬入搬出部５１、基板移載部６０及びカセット洗浄部８０、基板乾燥部７０及び洗浄処理部６５を順番に配置するとともに、図１に示すように上記基板移載部６０・基板乾燥部７０・洗浄処理部６５の右側に基板搬送ロボット７５の移動部７７を前後方向に形成し、これらの左側の空間で、上記基板移載部６０よりも後方の空間をメンテナンス・スペース９０として形成する。尚、当該メンテナンス・スペース９０の床部９１には複数の配管やバルブ等が敷設される。
　　　【００１６】
以下、順次各部の説明をする。なお、図５は図１中のＥ−Ｅ線矢視縦断面図、図６は同図中のＦ−Ｆ線矢視縦断面図である。上記搬入搬出部５１は、図１で示すように、カセットＣを搬入するローダ部５１ａと、バッファ部５１ｂと、アンローダ部５１ｃとを有し、未処理基板を収容したカセットＣはローダ部５１ａに搬入され、処理済み基板を収容したカセットＣはアンローダ部５１ｃより搬出されるように構成されている。なお、ローダ部５１ａとアンローダ部５１ｃの下側には、図２で示すように、カセットＣ内の基板Ｗのオリエンテーション・フラットを揃えるための整合用ローラ５２が設けられている。この実施例で用いるカセットＣは、内部に基板整列収容溝を備え、複数の基板Ｗを起立整列状態で収容できるようになっている。
　　　【００１７】
上記搬入搬出部５１とその後方の基板移載部６０及びカセット洗浄部８０との間にカセット移載ロボット５５が設けられている。このカセット移載ロボット５５は、図１〜図３及び図５で示すように、昇降及び回転自在で、矢印Ａ方向に移動可能に構成され、搬入搬出部５１のローダ部５１ａに搬入されてきたカセットＣを基板移載部６０のターンテーブル６１上に移載し、次いで、基板移載部６０で基板Ｗを取り出して空になったカセットＣをカセット洗浄部８０に移載し、洗浄を終えたカセットＣを再びターンテーブル６１上に移載し、洗浄済み基板を収容したカセットＣを当該ターンテーブル６１から搬入搬出部５１へ移載するように構成されている。
　　　【００１８】
上記基板移載部６０は、図２及び図６で示すように、カセットＣを載置する二つのターンテーブル６１・６１と、各ターンテーブル６１を回転する回転駆動モータ６３・６３と、ターンテーブル６１とカセットＣとを貫通して昇降自在に設けられた二つのリフター６４とを備えている。上記ターンテーブル６１は、その上に載置されたカセットＣの方向を９０°回転させて、基板Ｗの方向を後述する洗浄処理の方向と一致させるもので、リングギアー６２を回転駆動モータ６３で回転させるように構成されている。何故なら、カセット移載ロボット５５により上記搬入搬出部５１からターンテーブル６１上に移載されたカセットＣは、その方向が８０°反転するが、当該カセットＣ内の基板Ｗの収容方向は変化せず、後述する洗浄処理部６５での基板Ｗの処理方向に対して平面視で直交する方向になっているため、この基板Ｗの方向を洗浄処理における基板Ｗの方向と一致させる必要があるからである。
　　　【００１９】
上記二つのリフター６４は、これらを上昇させて上記二つのカセットＣ内の複数の基板Ｗを起立整列状態のまま保持し、基板搬送ロボット７５に引き渡すものであり、以下のように構成されている。このリフター６４は、昇降駆動モータ６７ａにより駆動ネジ６７ｂ及び昇降台６９を介して昇降自在に設けられ、また、幅寄せ手段６８により二つのリフター６４を相互に幅寄せするように構成されている。これは、二つのカセットＣから取り出した２群の基板を相互に接近させて各
基板Ｗの配列ピッチを同一にするためである。
　　　【００２０】
また、リフター６４は、未処理基板ＷをカセットＣから取り出す場合と、処理済み基板Ｗを洗浄済みカセットＣへ収容する場合とで、その上端部の基板載置部６４ａを適宜切り換えて使い分けるようにしてある。上記構成によれば、未処理基板Ｗの受け渡しに際しては、常に一方の基板載置部で基板Ｗを保持し、他方の基板載置部に触れないので、他方の基板載置部が未処理基板Ｗに付着している汚染物質で汚染されることがない。
　　　【００２１】
上記基板搬送ロボット７５は、図２、図３及び図６に示すように、矢印Ｂ方向に移動可能に設けられ、上記基板移載部６０のリフター６４から受け取った複数の基板Ｗを基板チャック７６で保持し、移動部７７に沿って洗浄処理部６５内及び基板乾燥部７０内へ順次搬送するように構成されている。
　　　【００２２】
この基板搬送ロボット７５の一対の基板チャック７６は、図２に示すように、一対の対向面同士と、その裏面同士とに、それぞれカセットＣが有する基板整列収容溝と同一ピッチの基板整列保持溝７６ａを有し、アーム回転軸７８の回転により、その一対の対向面同士及びその裏面同士がそれぞれ対向する逆ハの字状の基板保持姿勢に切り替え可能に構成してある。
　　　【００２３】
即ち、未処理基板Ｗを搬送する場合には、基板チャック７６の一対の対向面同士が対向する姿勢にし、処理済み基板Ｗを搬送する場合には、基板チャック７６の裏面同士が対向する姿勢にする。これにより、未処理基板Ｗの搬送に際しては一方の対向面同士で基板Ｗを保持し、処理済み基板Ｗの搬送に際しては、他方の裏面同士で基板Ｗを保持するので、処理済み基板Ｗの汚染が防止される。
　　　【００２４】
上記カセット洗浄部８０は、図５及び図６で示すように、オーバーフロー型のカセット洗浄槽８１と、カセットリフタ８２と、カセット洗浄槽８１の底部に設けられた超音波洗浄器８４と、開閉蓋８５と、この開閉蓋８５内に付設された乾燥用ヒータ８７と、カセット洗浄槽８１に純水ＤＷを供給する給水管８８及び排水管８９とを備える。なお、同図中の符号８３はカセットリフタ８２の昇降駆動手段、８６は開閉蓋８５の開閉駆動手段、８８ａは給水用開閉弁、８９ａは排水用開閉弁である。
　　　【００２５】
上記カセットリフタ８２は、図６の仮想線で示す上昇位置で、前記カセット移載ロボット５５から空のカセットＣを受け取り、カセット洗浄槽８１内に所定時間浸漬するとともに、開閉蓋８５を閉じてカセットＣを洗浄する。当該カセットＣの洗浄時間が終了すると排水し、開閉蓋８５内に付設された乾燥用ヒータ８７を点灯してカセットＣを乾燥する。なお、排水後のカセットＣの液切りを促進するため、カセットリフタ８２のカセット載置台８２ａは、図５中の仮想線で示すように、前傾姿勢となるように構成されている。
　　　【００２６】
カセットＣの洗浄処理が終了すると、開閉蓋８５を開けてカセットリフタ８２を上昇させ、カセットＣをカセット移載ロボット５５に引き渡す。これにより、基板Ｗの洗浄処理とカセットＣの洗浄処理とを並行して行うことができる。カセット移載ロボット５５は、洗浄処理を終えた基板Ｗを収容するため、当該カセットＣを再びターンテーブル６１上に移載する。このとき、洗浄済みカセットＣの方向は、図６の実線で示す姿勢からターンテーブル６１を９０°方向転換して、基板搬送ロボット７５が保持する方向と合致させておく。
　　　【００２７】
上記浸漬型の洗浄処理部６５は、図１〜図３及び図７に示すように、オーバーフロー型洗浄処理部６５ａと、オーバーフローさせないで酸洗浄を行う酸洗浄処理部６５ｂの２つの別系統の処理部から成る。なお、図７は基板洗浄装置５０の洗浄処理部６５の概略系統図である。オーバーフロー型洗浄処理部６５ａの２つのオーバーフロー型洗浄槽１ａ・１ａ及び酸洗浄処理部６５ｂの酸洗浄槽１ｂには、それぞれ昇降自在の基板保持具６６が設けられ、基板搬送ロボット７５から受け取った複数の基板Ｗを基板保持具６６で保持して各洗浄槽１ａ・１ｂ内に浸漬するように構成されている。以下、上記オーバーフロー型洗浄槽１ａと酸洗浄槽１ｂを総称するときは、基板洗浄槽１という。
　　　【００２８】
上記オーバーフロー型洗浄処理部６５ａは、図７（Ａ）に示すように、洗浄液中に複数の基板Ｗを一括して浸漬して基板Ｗの表面洗浄を成す２つのオーバーフロー型洗浄槽１ａ・１ａと、各オーバーフロー型洗浄槽１ａの下部より複数種の洗浄液を供給する洗浄液供給部４と、各オーバーフロー型洗浄槽１ａよりオーバーフローした洗浄液を排出する洗浄液排出部４０とを具備して成る。このオーバーフロー型洗浄槽１ａは、図７（Ａ）に示すように、石英ガラス製で側面視略Ｖ字状・平面視略矩形状に形成され、その下部に純水供給管３を連結して成り、オーバーフロー型洗浄槽１ａ内に洗浄液の均一な上昇流を形成して基板Ｗの表面処理をするとともに、複数種の洗浄処理毎に洗浄液を迅速に置換し得るように構成される。
　　　【００２９】
上記オーバーフロー型洗浄槽１ａは石英ガラス製に限らず、例えば、洗浄液として石英ガラスを腐食させてしまうフッ酸等を用いる場合には、これに耐食性を有する四フッ化エチレン樹脂等の樹脂製材料で形成したものでも良い。また、上記オーバーフロー型洗浄槽１ａには洗浄液排出部４０を構成するオーバーフロー液回収部４１が付設され、オーバーフローした洗浄液は排液管４２を介して排液ドレン４３へ流下するように構成される。
　　　【００３０】
上記酸洗浄処理部６５ｂは、図７（Ｂ）に示すように、複数の基板Ｗを一括して酸洗浄する１つの酸洗浄槽１ｂと、酸洗浄槽１ｂの下部より酸洗浄液を供給する酸洗浄液供給部４ｂと、酸洗浄槽１ｂより酸洗浄液を回収する酸洗浄液回収部４０ｂとを具備して成る。但し、オーバーフロー型洗浄処理部６５ａのオーバーフロー型洗浄槽１ａは２つの洗浄槽を直列状に組み合わせたものに限らず、３つ以上から構成されたものでも良い。酸洗浄処理部６５ｂの酸洗浄槽１ｂも単槽に限らず、複数槽であっても差し支えない。
　　　【００３１】
また、図２及び図３に示すように、当該洗浄処理部６５の３つの基板洗浄槽１の下部に洗浄液の給排用配管室２０を、この給排用配管室２０の下部に洗浄用薬液貯留容器６を上下３段に配置するとともに、図１に示すように上記基板移載部６０・基板乾燥部７０・洗浄処理部６５の右側に基板搬送ロボット７５の移動部７７を前後方向に形成し、これらの左側の空間で、上記基板移載部６０よりも後方の空間をメンテナンス・スペース９０として形成する。
　　　【００３２】
即ち、本実施例は、基板洗浄装置５０のうちの、洗浄処理部６５の基板洗浄槽１と、給排用配管室２０と、洗浄用薬液貯留容器６とを上下３段に積み上げ、縦方向にレイアウトすることにより、これらの３段積み上げ部の左側に臨んだエリアにメンテナンス・スペース９０を確保したものである。換言すると、洗浄処理部６５や基板移載部６０などの各種作業ブロックを平面視でＬ字状にまとめ、基板洗浄装置５０内の余剰空間をメンテナンス・スペース９０にしてある。
　　　【００３３】
このため、洗浄液置換方式を採る本実施例（図７参照）は、基板洗浄槽１を直列状に多数配置して各種洗浄を行う従来の基板洗浄装置（図９参照）に比べて基本的に装置全体をコンパクトに改良でき、さらに、主に洗浄処理部６５を縦向きに積み上げることにより、クリーンルーム全体の省スペース化を一層有効に達成できる。このことは、基板洗浄装置５０の設置数が増えるほど、クリーンルームのスペースの有効利用効率が向上することを意味する。
　　　【００３４】
また、上記基板乾燥部７０は、例えば本出願人の提案に係る特開平１−２５５２２７号公報に開示したように、基板の主平面の中心近傍を回転中心として、回転遠心力で液切り乾燥する乾燥処理槽７１で構成される。基板乾燥部７０では、搬送されてきた基板Ｗを図示しないリフターで受け取り、乾燥処理槽７１内の基板収容ボート（図示せず）に収容して液切り乾燥処理する。尚、この遠心式の基板乾燥部７０に代えて溶剤を用いて乾燥を促進するものや、減圧方式により乾燥を促進するものを採用することもできる。
　　　【００３５】
また、洗浄処理部６５の基板洗浄槽１及び基板乾燥部７０のレイアウトに関しては、図１及び図４に示すように、保全用作業域３１に臨む奥側からクリーンルーム作業域３０に臨む前側に向かって、１つの酸洗浄槽１ｂと、２つのオーバーフロー型洗浄槽１ａ・１ａと、基板乾燥部７０とを順番に配置して、当該基板乾燥部７０を前記基板移載部６０に臨ませる。上記配置構成により、洗浄処理部６５と基板移載部６０及び搬入搬出部５１との距離を離すことができるので、洗浄処理部６５で発生する洗浄液の蒸気やミストが洗浄、乾燥を終えて基板移載部６０、搬入搬出部５１にある基板に付着することを抑制することができる。従って、基板の汚染を防止することができる。また、特に酸洗浄槽１ｂでは昇温した酸を使用するので酸の蒸気やミストが発生し易い。しかしながら、本実施例では基板乾燥部７０に続いてオーバーフロー型洗浄処理部６５ａ、酸洗浄処理部６５ｂを配置しているので、酸の蒸気やミストが洗浄、乾燥を終えて基板移載部６０、搬入搬出部５１にある基板に付着することを抑制することができる。従って、基板の汚染を防止することができる。なお、本実施例では、酸洗浄槽１ｂをクリーンルーム作業域３０から最も遠い奥側に配置するため、クリーンルーム作業域３０への悪影響を防止して作業の安全性を確保できる。
　　　【００３６】
また、基板乾燥部７０が洗浄処理部６５と基板移載部６０との間に位置するので、洗浄処理された基板Ｗを可能な限り速く乾燥させ、カセットＣに戻して搬入搬出部５１から効率良く搬出できる。その反面、当該基板乾燥工程はカセットＣへの戻しに対する時間的制約をそれほど強くは受けず、乾燥処理の完了から基板移載部６０への戻しの間に待機時間を取れるので、隣接して設けられた基板乾燥部７０は基板移載部６０に対して作業工程の上でバッファ的な役目をも果すことができる。
　　　【００３７】
一方、酸洗浄を除く洗浄処理に関しては、処理に比較的長い時間を要することより、２つのオーバーフロー型洗浄槽１ａ・１ａで分担して複数種の洗浄処理を行うので、前記従来技術の直列型の洗浄処理に比べても、処理速度は低下しない。しかも、酸洗浄処理では、１つの酸洗浄槽１ｂを共通化するので、基板乾燥部７０の共通化と合わせて洗浄処理効率と省スペース化が一層向上する。
　　　【００３８】
他方、オーバーフロー型洗浄処理部６５ａでは、洗浄液をオーバーフロー型洗浄槽１ａの上部からオーバーフローさせるように構成するので、オーバーフロー型洗浄槽１ａ内の洗浄液を全部排出せずとも複数種の洗浄処理毎に洗浄液の置換が可能であり、一連の洗浄処理が完了するまで基板Ｗは空気に触れない。このため、基板表面に酸化皮膜が形成されたり、空気中の不純物が付着したりする虞れはない。また、オーバーフロー型洗浄槽１ａ内の洗浄液を全部排出せずとも基板Ｗの装填や取り出しができる。
　　　【００３９】
上記オーバーフロー型洗浄処理部６５ａの洗浄液供給部４は、図７Ａに示すように、各オーバーフロー型洗浄槽１ａの下部に夫々連結した純水供給管３と、各純水供給管３に夫々導入弁連結管１６を介して連結した複数の薬液導入弁８と、各薬液導入弁８に夫々薬液圧送手段２５を介して連結した複数の薬液貯留容器６とを備え、各薬液導入弁８を選択的に開閉制御して所定の薬液を純水供給管３に導入するように構成される。
　　　【００４０】
上記純水供給管３は、オーバーフロー型洗浄槽１ａより上流側に向けて順次、給排液切換弁１３、スタティックミキサー１４、導入弁連結管１６及び開閉弁２７などを付設配置して成り、常温の又は所定温度に加熱した純水ＤＷを供給する純水の主要通路として構成されている。なお、純水ＤＷは基板の表面酸化を防ぐうえで、脱酸素処理を施したものを用いる方がより好ましい。上記給排液切換弁１３は常時純水ＤＷや処理液をオーバーフロー型洗浄槽１ａへ供給し、必要に応じてオーバーフロー型洗浄槽１ａ内の処理液を排液管４２を介して排液ドレン４３へ排出するように構成される。上記スタティックミキサー１４は、ミキサー管路内に孔あきねじり板（図示省略）を固定し、純水ＤＷと薬液ＱＡ〜ＱＥとを均一に混合するように構成される。尚、このスタティックミキサーに代えて他の混合器を用いても良く、管路が十分に長ければかかる混合器を省くことも出来る。
　　　【００４１】
上記薬液導入弁８Ａ〜８Ｅは、図７（Ｃ）に示すように、スタティックミキサー１４の上流側に配置した導入弁連結管１６に固定され、この導入弁連結管１６を介して純水供給管３と連通連結される。この薬液導入弁８は、本出願人が実願平３−９３６３４号で提案したものであり、弁本体８ａ内に薬液導入室８ｂと弁駆動室（図示省略）を区画形成し、薬液導入室８ｂと弁駆動室に亘り弁軸８ｃを貫通し、薬液導入室８ｂに前記薬液圧送手段２５の薬液供給管７を接続するとともに、薬液導入室８ｂ内では弁軸８ｃの先端部に弁体８ｄを固定して、１弁体８ｄを導入弁連結管１６に形成した弁座８ｅで受け止め、弁駆動室内に送られる圧縮エアと圧縮バネとの組み合わせで弁体８ｄを弁座８ｅに対して開閉操作し、薬液Ｑを所定量だけ純水供給管３内へ圧送するように構成される。
　　　【００４２】
本実施例では、弁体８ｄを導入弁連結管１６に形成した弁座８ｅで受け止めて、弁体８ｄと純水供給管３との間の空間がなくなるように構成した（即ち、弁座８ｅから純水通路までの距離を接近させて、実質的に死水域がなくなるようにした）。このため、各薬液導入弁８Ａ〜８Ｅを閉じた場合、薬液Ｑの液切れが良くなり、純水供給管３に不要な薬液が長時間混入することはなくなり、純水ＤＷの供給量に対する各薬液ＱＡ〜ＱＥの供給量を正確に制御して所定の薬液濃度に調合することができる。また、薬液供給後に引き続いて純水を供給する場合に、純水の純度低下の問題がなくなり、基板Ｗの表面洗浄品質が向上する。しかも、純水が停留してバクテリヤが発生することもなくなる。但し、薬液導入弁８Ａ〜８Ｅは圧縮エアで作動するものに限らず、適宜電磁開閉弁等を用いることもできる。
　　　【００４３】
前記オーバーフロー型洗浄処理部６５ａの洗浄液供給部４における各薬液圧送手段２５は、図７（Ａ）に示すように、一種類の薬液貯留容器６Ａから導出した薬液供給管７Ａに薬液の圧送ポンプ１５を１個設け、圧送ポンプ１５の吐出側の薬液供給管７Ａを分岐し、分岐した各薬液供給管７Ａ・７Ａの下流部を夫々前記薬液導入弁８Ａを介して上記複数のオーバーフロー型洗浄槽１ａ・１ａに接続し、上記圧送ポンプ１５の吐出側で薬液供給管７Ａの分岐部１８の上流側に圧力検出器２６（具体的には、圧力計）を設けるとともに、この圧力検出器２６からの検出信号に基づいて圧送ポンプ１５の回転数を増減制御する薬液圧送制御手段１２を設け、所定の設定圧に対する過不足を圧力検出器２６で検出し、当該制御手段１２を介して圧送ポンプ１５の駆動源１９を駆動制御することにより、複数の各オーバーフロー型洗浄槽１ａに所定の設定圧力で薬液を圧送するように構成される。
　　　【００４４】
即ち、圧力検出器２６の検出圧力を受けた制御手段１２が予め設定入力された搬送圧力に対応して圧送ポンプ１５の回転数を増減制御する。これにより、２つのオーバーフロー型洗浄槽１ａ・１ａの両方に薬液を供給する場合と、いずれか一方のみに薬液を供給する場合のいずれの場合であっても、単一の圧送ポンプ１５により、常に一定流量の薬液を所定の設定量供給できる。なお、図７（Ａ）で示した実施例では、薬液導入弁８Ａより導入される一種類の薬液ＱＡに係る薬液圧送手段２５について説明したが、他の種類の薬液ＱＢ、ＱＣ、ＱＤ、ＱＥに係る薬液圧送手段についても同様に構成されている。これにより、複数個のオーバーフロー型洗浄槽１ａ・１ａについて複数種の薬液貯留容器を１セット配置すれば足り、重複配置する必要はない。
　　　【００４５】
以下、本実施例装置の動作を説明する。先ず、複数の未処理基板Ｗを収納した２個のカセットＣを、搬入搬出部５１のローダ部５１ａへ置く。カセット移載ロボット５５が上記２個のカセットＣを基板移載部６０のターンテーブル６１上に移載する。ターンテーブル６１が９０°回転した後、リフター６４が上昇してカセットＣから基板Ｗを取り出す。このとき、前記のようにリフター上端部の基板載置部６４ａを未処理基板と処理済み基板とで使い分け、処理済み基板の汚染を防止する。
　　　【００４６】
基板搬送ロボット７５はカセットＣから取り出された未処理基板Ｗを受け取り洗浄処理部６５に搬送する。このとき、処理済み基板の汚染を防止するため、基板搬送ロボット７５の基板チャック７６を前記のように未処理基板と処理済み基板とで使い分ける。なお、本発明に係る基板洗浄装置は、酸化拡散工程の前処理洗浄装置として適用することも可能であり、その場合には、既に洗浄された基板を洗浄することになるので、基板はある程度きれいで、クロスコンタミネーションもないから、汚染の防止というよりも、洗浄処理の前後、つまり乾いた基板の保持と濡れた基板の保持とで基板チャック７６を使い分けることもできる。
　　　【００４７】
洗浄処理部６５では、基板搬送ロボット７５で搬送されてきた基板Ｗを基板保持具６６で受け取り、所定の基板洗浄槽１に順次浸漬して表面処理をする。即ち、先ず酸洗浄処理部６５ｂで酸洗浄処理が行われ、次いで隣接配置したオーバーフロー型洗浄処理部６５ａで洗浄処理が行われる。なお、酸洗浄処理部６５ｂはクリーンルーム作業域３０より隔離されているため、これがクリーンルーム作業域に悪影響を及ぼすことはない。洗浄処理された基板Ｗは、基板搬送ロボット７５により基板乾燥部７０に搬送される。基板乾燥部７０では、搬送されてきた基板Ｗを図示しないリフターで受け取り、乾燥処理槽７１内の基板収容ボートに収容して乾燥処理する。
　　　【００４８】
一方では基板を洗浄処理する間に、カセット移載ロボット５５は空になった２個のカセットＣをカセット洗浄部８０に搬送する。カセット洗浄部８０では、搬送されてきた２個のカセットＣをカセットリフタ８２で受け取り、カセット洗浄槽８１内に浸漬して洗浄処理をするとともに、洗浄終了後は排水してヒータ８７で乾燥する。つまり、基板Ｗの洗浄処理とカセットＣの洗浄処理とを並行して行うことにより、全体として洗浄効率を高めるのである。カセット移載ロボット５５は、乾燥を終えたカセットＣを再び基板移載部６０のターンテーブル６１上に移載する。乾燥を終えた基板Ｗは搬送ロボット７５により基板移載部６０に搬送されてくる。基板移載部６０ではりフター６４を介して洗浄済み基板Ｗを洗浄済みカセットＣ内に収容する。カセット移載ロボット５５は基板Ｗを収容した２個のカセットＣを搬入搬出部５１のアンローダ部５１ｃに搬送する。以上で一連の動作が終了する。
　　　【００４９】
　　【発明の効果】
（１）請求項１に記載の発明の効果は次の通りである。搬入搬出部、基板移載部、基板乾燥部、洗浄処理部を順に配置し
、洗浄処理部は基板乾燥部に続いてオーバーフロー型洗浄処理部と酸洗浄処理部とを順に配置して有する
が有する前記酸洗浄処理部
、
である酸
　　　【００５０】
（２）請求項２に記載の発明の効果は次の通りである。複数のオーバーフロー型洗浄処理部に対して基板乾燥部を共通して使用でき
、また複数のオーバーフロー型洗浄処理部が有するオーバーフロー型洗浄槽に対して１つの酸洗浄槽を共通して使用でき
　　　【００５１】
　　　【００５２】
　　　【００５３】
（３）請求項３に記載の発明の効果は次の通りである。基板の洗浄処理とカセットの洗浄処理とを並行して行えるので、全体として洗浄効率が高まり、また、洗浄処理後の基板をカセットに再度収納する場合に、カセットから基板への汚染物の再付着を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
　　【図１】
本発明に係る浸漬型基板洗浄装置の概略平面図である。
　　【図２】
同基板洗浄装置の概略縦断面図である。
　　【図３】
同基板洗浄装置の概略斜視図である。
　　【図４】
同基板洗浄装置を複数配置したレイアウト図である。
　　【図５】
図１中のＥ−Ｅ線矢視縦断面図である。
　　【図６】
図１中のＦ−Ｆ線矢視縦断面図である。
　　【図７】
同基板洗浄装置の基板洗浄処理部の概略系統図である。
　　【図８】
クリーンルームのレイアウト図である。
　　【図９】
従来技術を示す図４の相当図である。
　　【符号の説明】
１ａ…オーバーフロー型洗浄槽、１ｂ…酸洗浄槽、４…洗浄液供給部、４ｂ…酸洗浄液供給部、４０…洗浄液排出部、４０ｂ…酸洗浄液回収部、４２…排液管、５１…搬入搬出部、５５…カセット移載ロボット、６０…基板移載部、６５…洗浄処理部、６５ａ…オーバーフロー型洗浄処理部、６５ｂ…酸洗浄処理部、７０…基板乾燥部、７５…基板搬送ロボット、７７…基板搬送ロボットの移動部、８０…カセット洗浄部、Ｗ…基板、Ｃ…カセット。