【事件の表示】
　特許第２９３８９４１号「成形用ハードコートシート及びその製造方法」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９３８９４１号の請求項１ないし４に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第２９３８９４１号の請求項１ないし４に係る発明についての出願は、平成２年８月９日に特許出願され、平成１１年６月１１日にその発明について特許の設定登録がなされ、その後、その特許について、特許異議申立人渡辺忠雄（以下、申立人という）により特許異議の申立がなされたものである。
　　　　
２．特許異議申立について
（１）本件発明
　特許第２９３８９４１号の請求項１ないし４に係る発明（以下、本件発明１ないし４という）は、特許明細書の特許請求の範囲に記載された次のとおりのものと認められる。
【請求項１】成形性を有する基材シートの少なくとも一方の面に、軟質の電離放射線硬化型樹脂からなる層と硬質の電離放射線硬化型樹脂からなるハードコート層とをこの記載の順序に積層してなることを特徴とする成型用ハードコートシート。
【請求項２】硬質ハードコート層の厚みが０．１〜２μｍで軟質層の厚みが１〜５０μｍである請求項１に記載の成型用ハードコートシート。
【請求項３】基材シートと軟質層との間に装飾層を設けた請求項１に記載の成型用ハードコートシート。
【請求項４】成形性を有する基材シートの少なくとも一方の面に、軟質の電離放射線硬化型樹脂からなる層を１〜５０μｍの厚みに形成し、該層の表面に硬質の電離放射線硬化型樹脂からなるハードコート層を０．１〜２μｍの厚みに形成し、上記各層の形成毎に又は両層の形成後電離線を照射することを特徴とする成型用ハードコートシートの製造方法。
  　　　
（２）申立の理由の概要　
　申立人は、甲第１号証（特公昭４８−２０６０７号公報）、甲第２号証（特公昭５０−２９７３４号公報）、甲第３号証（実公平２−４１９１号公報）、甲第４号証（特公昭６２−２５４２９号公報）を提出し、本件発明１ないし４は、甲第１ないし４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない発明であるので、本件発明１ないし４に係る特許は、同法第１１３条第１項第２号の規定により取り消されるべきものである旨を主張している。
　　　
（３）甲第１ないし４号証の記載　
　甲第１号証には、
「１．基材を少なくとも１個のイソシアネート基とビニル重合性基を有する化合物で予め処理した後、１０００分子量当り０．５〜１２個のビニル基を有するビニル重合性化合物を塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化せしめることを特徴とする塗膜の形成方法」（特許請求の範囲）、
「近年、上記活性エネルギー線を塗膜を硬化せしめる方法が、……注目されている。……該塗料に上記活性エネルギー線を照射することによって架橋硬化せしめる際には一般に塗膜が収縮現象を起し、素材に対する付着性の低下、塗膜中に残る内部歪に基く塗装性能の低下をきたしている。……そこで、本発明者等は金属素材と塗膜との付着性を向上し、得られる塗膜の耐蝕性、後加工性を向上する方法について検討し、イソシアネート化合物を用いると極めて優れた効果を付与することを見出し、先に特許出願したが、該手法を塗膜硬化手段として活性エネルギー線を用いる方法への応用について検討した結果本発明を完成した」（第１欄第２７行−第２欄第２１行）、
「これらのイソシアネート基は単独又は複合せしめた型で用いられ、イソシアネート基に対し不活性な有機溶媒或いは樹脂で希釈して用いることができる。該イソシアネート類の素材表面上への塗布量としては膜厚が０．０１〜５μになるようにすることが望しい。膜厚が０．０１μ以下では得られる効果が少なく、又、５μ以上になると逆に形成される硬化塗膜の光沢、硬度等の諸性質を低下せしめるので注意する必要がある。又かくの如くして形成された被膜は自然乾燥或いは５０〜３００℃の加熱処理によって乾燥することがよい。
　本発明に用いる活性エネルギー線の照射により架橋硬化する被膜材組成物としては分子量１０００単位当り０．５〜１２個の重合性不飽和基を有する化合物を主体とする組成物である。重合性不飽和基の含有量が分子量１０００単位当り０．２個以下になると、活性エネルギー線の照射による架橋硬化性が低下するので好ましくなく、１２個以上になると架橋硬化性の点では望ましいが、得られる塗膜の可撓性、耐衝撃性等の性能が低下すること、又架橋塗膜中に歪みが残りやすくなる傾向を示す」（第８欄第３９行−第９欄第１６行）、
「本発明の方法によると、従来の如く活性エネルギー線の照射によって架橋硬化せしめ得られる塗膜の欠点である被覆素材に対する塗膜の付着性の低さ、耐衝撃性不足を大幅に改良することができる。……本発明の如く未処理或いは化成処理された素材上にイソシアネート基を１％以上含む化合物を適用すると素材表面上に存在する吸着水、或いは結晶水として取入れられた水とイソシアネート基とが反応し、素材に対して接着性に優れ、可撓性の優れた処理被膜が形成される。かくの如くして形成された被膜上に本発明のビニル重合性被覆材を適用し活性エネルギー線を照射すると素材表面上に形成されたイソシアネート系被膜の効果によって、接着性、可撓性の優れた被膜を形成することができる。又イソシアネート系被膜の効果によって活性エネルギー線照射による塗膜硬化工程中に起る塗膜の収縮作用を充分緩和することができ内部歪の少ない優れた塗膜を形成することができる。又、金属素材の腐蝕作用を触媒的に助長する素材表面上の吸着水、或いは結晶水はイソシアネート化合物とほぼ全面的に反応してしまうので、その腐蝕触媒効果を大幅に低減することができるので、極めて耐蝕性に優れ、後加工性の優れた被膜を形成することができる」（第１１欄第２７行−第１２欄第２６行）、
「実施例１　前処理剤（Ｅ）をプリントハードボ−ド上に５μの厚さに塗布し１００℃で５分間乾燥したプリントハードボ−ド上にビニル重合性組成物（Ｉ）１００部と、ベンゾインイソプロピルエーテル２部とからなる組成物を厚さ１００μに塗布し、マイラーフイルムで被覆したのち２０Ｗ、発光長４０ｃｍ、主波長３６００Åのケミカルランプを用い１０ｃｍの距離から５分間照射せしめて得た化粧板の性能は表１の如くであり、本発明の前処理効果が著しいことが判る」（第１５欄下から第６行−第１６欄下から第１行）、
「実施例４　実施例２の組成物（II）〜（V）１００部に対しルチル型酸化チタン２０部、フタロシアニンブルー５部を混練し、夫々塗料組成物を得た。前処理剤（Ａ）〜（Ｄ）をリン酸亜鉛処理を施した亜鉛引き鋼板パネル（Ｅ）（材質ＪＩＳ−３３０２，０．２７８ｍ／ｍ厚）上に膜厚３μになるように塗布し１００℃２５分間処理しパネル板（Ａ）〜（Ｅ）を得た。
　前記青色塗料（II）〜（V）を膜厚２０μになるようにパネル板（Ａ）〜（Ｅ）に塗布し、加速電圧３００ＫＶビーム電流２５ｍＡ、操作幅ｍの電子線加速器を用い、窒素気流下線量率３Ｍｒａｄ／ｓｅｃにて電子線を照射した塗装板の性能は表−２の通りであり、本発明の前処理により耐蝕性を含む全ての性能が著しく改善されることが判る」（第１７欄第１５行−第１８欄第１１行）が記載されているとともに、
第１０頁の表−２には、性能評価の項目中に「屈曲性１ｍｍ、セロテープはくり」と記載されていると認められる。
  　　　
　甲第２号証には、
「分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物と数平均分子量が３００以上１０００００以下、水酸価が２０〜５００のヒドロキシル基含有１，２−ポリブタジェンからなる混合物１００部に対し、有機アミン化合物及び／又は有機金属化合物０〜４０部よりなるプライマー組成物を被覆材表面に塗布し、乾燥処理した後、分子量１０００単位当たり重合性不飽和基を０．５〜１２個有する化合物を主体とする硬化性組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射し、架橋硬化することを特徴とする塗膜の形成法」（特許請求の範囲第１項）、
「いわゆるラジカル重合性化合物を主体とする無溶剤型塗料であるが、該塗料により形成された被膜を上記活性エネルギー線の照射により硬化せしめると、一般に重合硬化時に塗膜の急激な収縮が生じ、形成される被膜中に歪が残るため素材に対する被膜の付着性が低下する傾向がみられる。この傾向は素材中への塗料の吹込み現象や、素材へのグラフト反応が期待されない金属素材の場合特に顕著である。そこで従来、上記の如き塗膜の架橋硬化時に起る塗膜の歪を是正する手段として上記無溶剤型組成物に可塑剤例えば熱可塑性重合体を添加し、硬化過程における塗膜の歪を緩和する方法や無溶剤型樹脂組成物に極性基を導入し樹脂を構成する化合物同志の結合力を高める方法、或いは、活性エネルギー線の照射を多段的に行い歪を緩和せしめながら架橋硬化する方法等が検討されているが」（第２欄第１４−３０行）、
「プライマー組成物としてポリイソシアネート化合物のみでヒドロキシル基含有１，２−ポリブタジェンを用いないときは、プライマー皮膜の形成が湿気により進行することになるので、反応速度が遅い上に、プライマー皮膜の架橋密度及びその皮膜性能を適度なものに規制し難く又、飽和架橋密度が大きいので、架橋が進み過ぎた場合上塗り塗膜との層間剥離を招く危険性が大である。そのためポリイソシアネート化合物単独で用いるのは、本発明の塗装方法の工程管理上及び塗膜性能上望ましくない」（第４欄第３４−４４行）、
「３００部以上ではプライマ−皮膜が脆弱となり、金属素材に塗装した際の加工性が不良となるし、他の素材に適用した際には形成される被膜の耐衝撃性等が低下し好ましくない」（第６欄第１６−１９行）、
「上記プライマー組成物は、イソシアネート基に対し一般に不活性な有機溶媒に溶解した状態で素材上に塗布されるが塗布量としては膜厚が０．０１〜１０μになるようにすることが望ましい。膜厚が０．０１μ以下ではプライマーとしての効果が少なく、又１０μ以上になるとプライマー層上層に形成される硬化塗膜の光沢、硬度等の諸性質を低下せしめるので注意する必要がある」（第６欄第２０−２７行）、
「本発明に用いる活性エネルギー線の照射により架橋硬化する被覆材組成物としては分子量１０００単位当り０．５〜１２個の重合性不飽和基を有する重合体を主体とする硬化性組成物であり、重合性不飽和基の含有量が１０００分子量当り０．５個以下では、活性エネルギー線の照射による重合硬化性が低下し、又、１２個以上になると、重合硬化性は高いが、得られる塗膜の可撓性、耐衝撃性等が低下すること及び、架橋塗膜中に歪が残り易くなる傾向を示す」（第７欄第１−１０行）、
「リン酸亜鉛化成処理を施した亜鉛メッキ鋼板（Ａ）（材質ＪＩＳ３３０２，厚さ０．２７８ｍ／ｍ）上に下記組成物を塗布し、本発明のプライマー処理板（Ｂ）〜（Ｊ）を得た」（第１１欄第２−５行）、
「実施例１　上塗り塗料用樹脂（II），（III），（IV），（V）夫々１００部に対しルチル型酸化チタン２０部、フタロシアニンブルー７部を混練しエナメルを調製した。未処理板（Ａ），（Ｍ）およびプライマー処理板（Ｂ），（Ｃ）（Ｄ），（Ｅ），（Ｆ），（Ｇ），（Ｈ），（Ｉ），（Ｊ），（Ｋ），（Ｌ），（Ｍ），（Ｎ），（Ｏ）上にこのエナメルを膜厚２０μになるように塗布し、加速電圧３００ＫＶ、ビーム電流２５ｍＡ、の電子線加速器を用い、窒素雰囲気下で、線量率１．５Ｍｒａｄ／秒なる条件で電子線を照射して得られた塗膜の性能を第１表及び第２表に示す。
　第１表及び第２表の結果より本発明によって得られる塗膜は加工性に優れ、更に耐蝕性が大巾に改良されていることがわかる」（第１２欄第２０−３３行）、
「（Ｑ）：トリレンジイソシアアネート／トリメチロールプロパン＝３／１（モル比）よりなるポリイソシアネート（バイエル社製　商品名「デイスモデュール」ＮＣＯ含量約１３％）５０部、数平均分子量５００ヒドロキシル価２３２の末端ヒドロキシル１，２−ポリブタジエン５０部、酢酸エチル２５０部、アセトン２５０部を混合して得たプライマー処理液を、印刷紙を貼った合板上（Ｐ）にロールコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間熱風を吹き付け塗布量約５ｇ／ｍ２のプライマーを施した。
（Ｒ）；（Ｃ）でプライマー処理液にジブチル錫２−ヘキソエート２部を追加する他は全く同様にしてプライマー処理板を得た。
　プライマー処理板（Ｑ），（Ｒ）及び未処理板（Ｐ）（比較例）に不飽和ポリエステル樹脂（VI）を厚さ１００μに塗布し、加速電圧３００ＫＶ、ビーム電流２５ｍＡの電子線加速器を用い、窒素雰囲気下、線量率０．７５Ｍｒａｄ／秒で電子線を照射して得られた塗膜の性能を第４表に示す」（第１７欄第３２行−第１８欄第１５行）が記載されるとともに、
第７頁の第１表には、性能評価の項目中に「屈曲性」と記載され、また、下部の注意書きには、「屈曲性は、板厚１ｍｍの板を試験板にはさみ１８０°折り曲げた部分の塗膜をセロハンテープにより剥離した。剥離したものを×、異常のないものを○、部分的に剥離を起こしたものを△で示した」と記載されていると認められる。
  　　　　
　甲第３号証には、
「基材に接着したタイル間の目地部分に紫外線硬化型樹脂が充填されていて、この目地部分に充填された紫外線硬化型樹脂の表面側を完全硬化すると共に内部を不完全硬化として成るタイルの目地の構造」（実用新案登録請求の範囲）、
「タイル３間の目地部分にはいわゆるＵＶ硬化型樹脂と称される紫外線硬化型樹脂４が充填されており、この目地部分に充填された紫外線硬化型樹脂４は表面から紫外線を照射して硬化させるものであって、この場合表面側は完全硬化して硬く、内部は不完全硬化状態のままで柔らかくなっている」（第２欄第１５−２１行）、
「本考案にあっては、叙述のように接着したタイル間の目地部分に紫外線硬化型樹脂が充填されていて、この目地部分に充填された紫外線硬化型樹脂の表面側を完全硬化すると共に内部を不完全硬化としてあるので、目地部分の表面は硬くて傷がつきにくくて耐汚染性にすぐれており、しかも目地部分の内部は柔軟性を有していてタイルと基材との伸びの差を吸収し、また衝撃を受けてもこれを吸収できるものであって、目地部分にクラックが生じないという利点がある」（第２欄第２８行−第４欄第２行）が記載されていると認められる。
　　　　
甲第４号証には、
「１　熱可塑性シートに紫外線硬化型樹脂を塗布して連続したシートを製造するに際し、紫外線硬化型樹脂を塗布した後に透明フイルムを被覆し、水冷回転ドラム上に透明フイルムを上面として熱可塑性シートをドラム面に接しながら高圧水銀灯により紫外線を照射した後に、必要に応じて前記透明フイルムを接着あるいは剥離して得ることを特徴とした紫外線硬化型樹脂皮膜を有する化粧シートの製造方法」（特許請求の範囲）、
「第３に硬化後の樹脂塗膜性能、特に耐スクラッチ性、耐汚染性が上昇したこと」（第３欄第４−３５行）、
「次に本発明に使用できる材料に関しては、紫外線硬化樹脂を塗工するフイルムとして、熱可塑性フイルム全般を使用できるが、特に軟化点の低いフイルム、例えばポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチロール、ＡＢＳ、アクリル、ポバール、ポリエステル等のフイルム、あるいは、これらの共重合体積層フイルムが利用でき、また厚さは一般的に１０μ異常が好ましい」（第４欄第２−１０行）、
「基材として可塑剤２３部、厚さ０．１５ｍ／ｍの、木目印刷模様を施したキヤビネツト用塩ビフイルムに、紫外線硬化型樹脂２０ｇ／ｍ２を塗布した後にエンボス加工を施したポリエステルフイルムを被覆して、水冷回転ドラムに通しながら、紫外線照射し硬化させた。次いでポリエステルフイルムを剥離させ、木目模様にエンボスされた化粧シートを得た」（第６欄第７−１４行）が記載されていると認められる。
                             
（４）対比・判断
　［本件発明１について］
　１）甲第１号証には、屈曲加工を含む後加工が可能な基材の一方の面に、少なくとも１個のイソシアネート基とビニル重合性基を有する化合物の塗布層と、１０００分子量当り０．５〜１２個のビニル基を有するビニル重合性化合物の塗布層とをこの記載の順序に積層して成る成型用シートが記載されていると認められる。
　本件発明１と甲第１号証に記載された発明とを対比すると、
両者は、成形性を有する基材シートの少なくとも一方の面に、樹脂からなる層と電離放射線硬化型樹脂からなる層とをこの記載の順序に積層してなることを特徴とする成型用シートである点で共通しているが、
前者では、樹脂からなる層と電離放射線硬化型樹脂からなる層が、軟質の電離放射線硬化型樹脂からなる層と硬質の電離放射線硬化型樹脂からなるハードコート層であるのに対し、
後者では、少なくとも１個のイソシアネート基とビニル重合性基を有する化合物の塗布層（以下、イソシアネート化合物塗布層という）と１０００分子量当り０．５〜１２個のビニル基を有するビニル重合性化合物の塗布層（以下、ビニル重合化合物塗布層という）である点で相違していると認められる。
　相違点について検討する。
　前者において、特許明細書の第２頁第１９行−第５頁第３行（特許公報第３欄第２−４０行）の記載からみて、硬質の電離放射線硬化型樹脂からなるハードコート層は樹脂成形品の表面に傷が付きやすいこと、透明性が低下すること、汚染性が高くなることを防止するためのものであり、軟質の電離放射線硬化型樹脂からなる層はシートの成型時にハードコート層に亀裂が発生しても肉眼で見えにくくして外観上の問題をなくし、また亀裂部と軟質層とを密着させ剥離を防止するためのものであると認められる。
　これに対し、後者において、イソシアネート化合物塗布層とビニル重合性化合物塗布層を設けるのは、電離放射線硬化型樹脂であるビニル重合性化合物塗布層が電離放射線の照射による架橋硬化時の収縮現象による、素材に対する付着性の低下、塗膜性能の低下を防止するためのものであり、このビニル重合性化合物塗布層は、基材に耐蝕性等の通常の塗膜機能を付与するものと認められるから、本件発明１の硬質の電離放射線硬化型樹脂からなるハードコート層に該当するとは認められない。
　また、甲第１号証には、上記ビニル重合性化合物塗布層をハードコート層として形成することについては記載も示唆も認められない。
　２）甲第２号証には、屈曲加工を含む後加工が可能な基材の一方の面に、分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物と数平均分子量が３００以上１０００００以下、水酸価が２０〜５００のヒドロキシル基含有１，２−ポリブタジェンからなる混合物１００部に対し、有機アミン化合物及び／又は有機金属化合物０〜４０部よりなるプライマー組成物を被覆材表面に塗布し、乾燥処理した後、分子量１０００単位当たり重合性不飽和基を０．５〜１２個有する化合物を主体とする硬化性組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射し、架橋硬化した成型用シート及び上記プライマー組成物も活性エネルギー線に活性でその照射により架橋することが記載されていると認められる。
　本件発明１と甲第２号証に記載された発明とを対比すると、
両者は、成形性を有する基材シートの少なくとも一方の面に、電離放射線硬化型樹脂からなる層と電離放射線硬化型樹脂からなる層とをこの記載の順序に積層してなることを特徴とする成型用シートである点で共通しているが、
前者では、電離放射線硬化型樹脂からなる層と電離放射線硬化型樹脂からなる層が、軟質の電離放射線硬化型樹脂からなる層と硬質の電離放射線硬化型樹脂からなるハードコート層であるのに対し、
後者では、
分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物と数平均分子量が３００以上１０００００以下、水酸価が２０〜５００のヒドロキシル基含有１，２−ポリブタジェンからなる混合物１００部に対し、有機アミン化合物及び／又は有機金属化合物０〜４０部よりなるプライマー組成物の被覆層（以下、プライマー組成物層という）、分子量１０００単位当たり重合性不飽和基を０．５〜１２個有する化合物を主体とする硬化性組成物の被覆層（以下、硬化性組成物層という）である点で相違していると認められる。
　相違点について検討する。
　前者において、特許明細書の第２頁第１９行−第５頁第３行（特許公報第３欄第２−４０行）の記載からみて、硬質の電離放射線硬化型樹脂からなるハードコート層は樹脂成形品の表面に傷が付きやすいこと、透明性が低下すること、汚染性が高くなることを防止するためのものであり、軟質の電離放射線硬化型樹脂からなる層はシートの成型時にハードコート層に亀裂が発生しても肉眼で見えにくくして外観上の問題をなくし、また亀裂部と軟質層とを密着させ剥離を防止するためのものであると認められる。
　これに対し、後者において、プライマー組成物層と硬化性組成物層とを設けるのは、電離放射線硬化型樹脂塗布層である硬化性組成物層が電離放射線の照射による架橋硬化時の収縮現象による、素材に対する付着性の低下、塗膜性能の低下を防止するためのものであり、この硬化性組成物層は、基材に耐蝕性等の通常の塗膜機能を付与するものと認められるから、本件発明１の硬質の電離放射線硬化型樹脂からなるハードコート層に該当するとは認められない。
　また、甲第２号証には、上記硬化性組成物層をハードコート層として形成することについては記載も示唆も認められない。
　３）さらに、甲第３ないし４号証にも、甲第１号証記載のビニル重合性化合物塗布層又は甲第２号証記載の硬化性組成物層をハードコート層として形成することについては記載も示唆も認められない。
　そして、本件発明１は、軟質の電離放射線硬化型樹脂からなる層と硬質の電離放射線硬化型樹脂からなるハードコート層をこの記載の順序に基板上に積層することにより、特許明細書に記載された、成形して局面やコーナー部を形成すると、表面の硬質ハードコート層には細かい亀裂が発生することもあるが、表面の硬質ハードコート層が薄いので発生した亀裂は肉眼では認められず外観上の問題はない。更にその亀裂部はその下の軟質層と密着しているので剥離したりすることはないという効果を奏するものと認められる。
　したがって、本件発明１は、甲第１ないし４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとは認められない。
  　　　
［本件発明２ないし４について］
　本件発明２ないし３は、本件発明１をさらに技術的に限定し、特定したものであり、本件発明４は、成形性を有する基材シートの少なくとも一方の面に、軟質の電離放射線硬化型樹脂からなる層を１〜５０μｍの厚みに形成し、該層の表面に硬質の電離放射線硬化型樹脂からなるハードコート層を０．１〜２μｍの厚みに形成し、上記各層の形成毎に又は両層の形成後電離線を照射するものであるから、それぞれ、本件発明１についての判断と同様の理由により、甲第１ないし４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとは認められない。
　　　
　よって、本件発明１ないし４は、特許法第２９条第２項の規定ににより特許を受けることができないものとは認められない。
　　　
（５）むすび
　以上のとおりであるから特許異議申立の理由及び証拠によっては本件発明１ないし４に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１ないし４に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年６月２８日（２０００．６．２８）