【事件の表示】
　特許第２９１１８６４号「素子製造方法及び露光装置」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９１１８６４号の請求項１ないし４に係る特許を取り消す。
【理　由】
【1】手続の経緯
　特許第2911864号の請求項1〜4に係る発明は、平成1年2月10日に出願された特願平1-31413号の一部を、平成10年2月2日に、特許法第44条第1項の規定に基づいて新たな出願としたものであり、平成11年4月9日にその設定登録がなされ、その後、申立人 株式会社ニコンより特許異議申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成12年5月16日に訂正請求がなされた後、訂正拒絶理由を通知したが、指定期間内に応答がなかったものである。
　
【2】訂正の適否についての判断
《2-1》訂正事項
　特許権者が訂正請求書において求めている訂正は、以下のとおりである。
訂正事項a:
　明細書の特許請求の範囲を、
『【特許請求の範囲】
【請求項1】 紫外線をレチクルのパターンを介して基板上に照射する段階を含む素子製造方法において、前記レチクルに至るまでの前記紫外線の光路に沿って、光学系を密封する密封空間を複数形成し、それぞれの空間を不活性ガスで満たすことを特徴とする素子製造方法。
【請求項2】 前記紫外線はエキシマレーザが放射したレーザ光であることを特徴とする請求項1の素子製造方法。
【請求項3】 紫外線をレチクルのパターンを介して基板に照射する露光装置において、前記レチクルに至るまでの前記紫外線の光路に沿って、光学系を密封する密封空間を複数形成し、それぞれの密封空間を不活性ガスで満たすことを特徴とする露光装置。
【請求項4】 前記紫外線はエキシマレーザが放射したレーザー光であることを特徴とする請求項3の露光装置。』と訂正する。
　
訂正事項b:
　明細書の第2頁第9行目乃至第12行目に記載の段落番号0006を、
『【0006】【課題を解決するための手段】本発明は、レチクルに至るまでの光路に沿って、光学系を密封する密封空間を複数形成し、それぞれの密封空間を不活性ガスで満たすことを特徴としている。』と訂正する。
　
《2-2》訂正の目的の適否、新規事項の有無
　上記訂正事項aは、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、願書に添付した明細書及び図面に記載した事項の範囲内の訂正である。また、上記訂正事項bは、訂正事項aの訂正によって生じる不明りょうな記載の釈明を目的とするものであって、願書に添付した明細書及び図面に記載した事項の範囲内の訂正である。
　
《2-3》独立特許要件の判断
《2-3-1》訂正後の請求項1に係る発明
　訂正明細書の請求項1に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項1に記載された以下のものである。
　「紫外線をレチクルのパターンを介して基板上に照射する段階を含む素子製造方法において、前記レチクルに至るまでの前記紫外線の光路に沿って、光学系を密封する密封空間を複数形成し、それぞれの空間を不活性ガスで満たすことを特徴とする素子製造方法。」
　
《2-3-2》刊行物の記載
　当審が通知した取消理由通知書及び訂正拒絶理由通知書で引用した刊行物は以下のとおりである。
刊行物1:特開昭62-286226号公報 (甲第1号証)
刊行物2:特開昭59-202405号公報 (甲第2号証)
刊行物3:特開昭48-71248号公報 (甲第3号証)
刊行物4:特開昭64-37837号公報 (甲第4号証)
刊行物6:特開昭60-133728号公報 (甲第6号証)
刊行物7:特開昭53-71570号公報 (甲第7号証)
刊行物8:特開昭62-165916号公報 (甲第8号証)
刊行物9:特開昭62-181426号公報 (甲第9号証)
刊行物10:特開昭61-122433号公報 (甲第10号証)
　
刊行物1:特開昭62-286226号公報 (甲第1号証)
　2頁左上欄1行〜下から5行には、「遠紫外線源から被露光体までの遠紫外線光路に、その全長に亘って大気を存在させる構成を有しているのを普通としていた。このため、使用時、遠紫外線源から被露光体までの遠紫外線光路において、大気が遠紫外線によって照射され、その結果、大気中の酸素がオゾン化し、そのオゾンのために、遠紫外線の透過率が大きく低下し、よって、遠紫外線を、効率良く、被露光体上に露光させることができないという欠点を有していた。また、オゾンのために、遠紫外線源から被露光体までの遠紫外線光路における光学系の支持部材などが金属を用いて構成されている場合、それらを酸化変質させ、その結果、遠紫外線露光装置を長期に亘り使用することができなくなるという欠点を有していた。」と記載され、
　3頁右下欄9行〜4頁左上欄1行には「第1図に示す本発明による遠紫外線露光装置は、従来の遠紫外線露光装置の場合と同様に、エキシマレーザ、重水素ランプ、クセノンランプ、水銀ランプなどを用いた遠紫外線源1と、半導体ウエハのような被露光体2を載置するXY移動台3と、遠紫外線源1から被露光体2までの遠紫外線光路4中に配される露光パターン描写体5と、遠紫外線源1及び露光パターン描写体5間に配された、反射鏡6、拡散鏡7、照射レンズ8などでなる照射光学系9と、露光パターン描写体5及び被露光体2間に配された、投影レンズ10などでなる投影光学系11とを有する。」と記載され、
　4頁左上欄2行から左下欄3行には「本発明による遠紫外線露光装置の一例は、…被露光体2を載置する移動台3を設置する基体21と、その基体21と共働して、照射光学系9、露光パターン描写体5及び照射光学系11を配している遠紫外線光路4の大部分を移動台3とともに包囲している筒体22と、その筒体22と遠紫外線源1との間の遠紫外線光路4の残部を、それら筒体22及び遠紫外線源1と連通して、包囲している管体23と、…気体源24と、その気体源24からの…気体の温度を制御する温度制御装置25と、その温度制御装置25から得られる温度制御された…気体を、筒体22内に供給する気体供給管26と、その気体供給管26を介して筒体22に供給される、…気体を、筒体22内で、照射光学系9、露光パターン描写体5及び投影光学系11に対して流動させるための排気管27とを有する。この場合、筒体22は、露光パターン描写体5を、筒体22が照射光学系9側の部30と投影光学系11側の部31とに2分されるように支持しているとともに、投影光学系11を、その筒体32を介して、筒体22の投影光学系11側の部31が露光パターン描写体5側の部33と被露光体2側の部34とに2分されるように支持している。また、これに応じて、気体供給管26が…部30内に延長している管40と、…部33及び34内にそれぞれ延長している管43及び44と、投影光学系11の筒体32内に延長している管45とからなる。さらに排気管27が、筒体22の部30内から外部に延長している管50と、筒体22の部33及び34内からそれぞれ外部に延長している管53及び54と、投影光学系11の筒体32内から外部に延長している管55とからなる。」と記載されており、
　4頁右下欄6〜10行目には、「さらに、温度制御装置25によって、遠紫外線源1から被露光体2までの遠紫外線光路4に存在させられる…気体の温度を制御する手段を構成している。」と記載され、
　5頁右上欄13〜17行には「また、遠紫外線の透過率を大気に比し小さな量しか低下させない気体として、窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン中から選ばれた1つの気体または複数の気体の混合気体を用いる場合…」と記載され、
　6頁左上欄1〜15行目には 「遠紫外線源1から被露光体2までの遠紫外線光路4における、照射光学系9、露光パターン描写体5及び投影光学系11などが、遠紫外線の照射を受けて発熱しても、その熱を…外部に放散させることができるとともに、…気体の温度を、照射光学系9、露光パターン描写体5及び投影光学系11などが一定の温度を保つように制御することができるので、…露光パターンにばらつきを生ぜしめることなしに、被露光体2上に露光させることができる。」と記載されている。。
　
　以上、刊行物1には、
「エキシマレーザ等からの遠紫外線を露光パターン描写体5を介して被露光体2上に照射する露光方法、装置において、遠紫外線により大気中の酸素がオゾン化し、そのオゾンのために、遠紫外線の透過率が大きく低下したり、オゾンによる光路における光学系の支持部材などの酸化変質を防止するために、遠紫外線源1から被露光体2に至るまでの紫外線の光路に沿って、光源と露光パターン描写体5とで仕切られ、照射光学系9を密封する空間を含む、複数の空間を形成し、該空間を窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン中から選ばれた1つの気体または複数の気体の混合気体で満たした、遠紫外線による露光方法及び露光装置」なる発明が記載されている。
　
刊行物2:特開昭59-202405号公報 (甲第2号証)
　1頁右下欄11〜17行には「このため、半導体工業における紫外線照射による回路パターンの焼付け、あるいは紫外分光分析あるいは紫外光利用光化学業において、紫外光源、試料および検出器等を真空あるいは不活性ガスを満した密閉容器に入れる必要があり装置が大型となり、繁雑となる欠点があった。」と記載され、
　2頁左上欄14行〜左下欄第10行には「本発明の紫外導光路は第1図に示すように中空パイプ1および該パイプ1の紫外光の入力部2および出力部3に溶融石英…等の結晶材料を用いたレンズ、ミラーあるいは窓を設けてなるものである。入力する、あるいは出射する紫外光をそのまま通すか、集光させるか、出力光の伝送方向を変更するかのいずれかによって、窓、レンズ、ミラーのいずれを設けるかを決定する。…第2図に示すようにアルミニウムミラー3と窓あるいはレンズ4を装着する。2は入力部窓、U が紫外光伝送方向を示す。パイプ内部は真空状態あるいはHe、Ne、Ar、Kr、Xe等の不活性ガスを充満された状態にする。…(中略)...2(○付き数字の2)本発明の紫外導光路を複数個、第3図に示すように途中にミラーMを介してつなぐことにより低損失で可動性のある紫外導光路を実現することができ、真空引き、不活性ガス注入の必要なく簡便な光学系が得られる。これに対し従来は第4図に示すように破線で示す系内部全体を真空引きしたり、不活性ガス充満状態にする必要があり、コストが高くなる上、装置自体も大きくなってしまうものであった。」と記載されている。
　
　してみると、刊行物2には、「紫外線の光路中に、レンズやミラーを含む、He、Ne、Ar、Kr、Xe等の不活性ガスを満たした気密構造の中空パイプを複数配置し、途中にミラーMを介してつなぐことにより、従来、系内部全体を真空引きしたり、不活性ガス充満状態にする必要があり装置が大型となり、繁雑となるという従来の欠点を克服すること」が開示されている。
　
刊行物3:特開昭48-71248号公報 (甲第3号証)
　2頁左上欄6〜10行には「本発明は紫外…の各種レーザ光を効率よく伝送せしめる…レーザー光の伝送方法ならびにこの方法に使用するコーナ装置を提供することを目的とする。」と記載され、
　2頁右上欄7行〜右下欄12行には「第2図は第1図の伝送系を具体化したレーザー光の伝送装置の1例である。ライトパイプ(1)の両端はフランジ(2)、(3)となり、1方のフランジ(2)にはパッキング溝が形成されている。このようなライトパイプ同志をレーザー光の伝送距離に応じて必要数だけパッキング(4)を介してチャック(5)により気密に連結される。…コーナー装置には、レーザー光が送り込まれてくる第1のライトパイプ(6)、このライトパイプに対してある角度…をなして配置した第2のライトパイプ(7)、第1のライトパイプからのレーザー光を反射して第2のライトパイプへ送り出す反射板(8)およびライトパイプ内を排気するための排気口(9)が設けられている。この排気口はレーザ光の光路を外した位置に設けられ、図示していないがべローバルブ等を介して真空装置によりライトパイプ内部を真空排気しあるいは排気後不活性ガスを充填することができる。…(18)はレーザー源または検出器、エネルギー変換器等との連結…」と記載されている。
　
　以上、刊行物3には、「紫外光路中に、ミラーを含む気密構造のライトパイプ(6、7)を複数配置し、ライトパイプ内を不活性ガスで満たすこと」が開示されている。
　
刊行物4:特開昭64-37837号公報 (甲第4号証)
　2頁左下欄下から3行〜右下欄1行には、「本発明は照明用光源と露光機構部と別個独立に構成したにもかかわらず露光機構部内で生じる振動の影響を簡単な構成で除去した高精度の露光装置の提供を目的とする。」と記載され、
　2頁右下欄17行〜第3頁左上欄20行には「…1は照明光源部であり、2は露光機構部であり、1,2は別個独立に構成されている。即ち両者は物理的に分離状態にある。3は照明光源で、例えばエキシマレーザのような高出力の大型光源である。…照明光源部1はレーザ3からオプテイカルインテグレータ8までで構成されている。9はミラーであり、10はコンデンサレンズでオプテイカルインテグレータ8を発した光束をコリメートする。11は回路パターンが描かれているレチクル、…露光機構部2は照明光学系の一部であるミラー9から定盤15までで構成されている。」と記載されている。
　
　以上、刊行物4には、「レーザ3からオプテイカルインテグレータ8までで構成されている照明光源部1と、照明光学系の一部であるミラー9、コンデンサレンズ10を含む露光機構部2は、物理的に分離されており、このことは、レチクル11に至るまでの露光光の光路に沿って、照明光学系が2つに分離して構成すること、すなわちレチクルに至るまでの光路中の照明光学系に含まれる複数の光学部材を別々の筒体に配置すること」が実質的に記載され、「紫外線をレチクルのパターンを介して基板上に露光すること、レチクルに至るまでの紫外線の光路に沿って、光学系を含む複数の筒体を形成すること」が記載されている。
　
　1頁右欄27行〜第3頁左欄第13行には、
　「II.光学系 
　A.一般的な考察 
我々の実験では、MgF2(フッ化マグネシウム)上のCr(クロム)マスクやLiF(フッ化リチウム)上のCrマスクが使われた。193nmでは、もっと簡単に作成されるquarz(Suprasil)上のCrマスクが使われた。最後に、エキシマ光源の短い波長と部分コヒーレンスとが、以下で議論するように、対物光学とコンデンサ光学に対してさらなる問題を提示している。
　B.対物レンズ 
　この研究のための光学系は、反射式で開口数0.5のSchwartzchildの顕微鏡対物レンズを使って作られる。屈折素子は無く、このレンズの作成が光学ガラスのUVの伝播遮断よりもさらに短い波長(例えば157nm)を利用可能とする。…(中略)...
　C.コンデンサ光学系 
　コンデンサ光学系への必要条件は、像の解像とフィールドの深度との間の未解決なトレードオフを提示する。…(中略)...第2のアプローチは、以下の実験で使われたが、拡散波面ガイドとして動作する中空チューブの使用でなされた。固体のガラスロッド、複数のプリズム、又はミラーに基づくのと同様の方法が、エキシマ出力の強度一様性を増大するために提案された。157nmに対して良好な透過性を持つ中空の6mmi.d.のquartz波面ガイドが、図2の幾何学配置における単純な単一レンズ素子を使うことで一杯に満たされている。入射光は、それがガイドの長手に沿って鋭角投射で反射されるように、特別なモードの間で散乱される。強度一様性の増大と同様に、空間的なインコヒーレンシイと発散度も増大される。140mm長で6mmi.d.のガイドからの出力に関して、結果として得られる near‐fieldと far‐field の強度パターンを図2に示す。」と記載されている。
　
　以上、刊行物5には、「エキシマレーザ光源からの波長193nm又は157nmの紫外光を使った露光装置において、その光路を例えばArガスでパージすること」が開示され、「エキシマレーザからのエキシマレーザ光(紫外線)をレンズによって、中空チューブに入射させ、中空チューブによりエキシマレーザ光(紫外線)でマスクを照明することによってマスクの回路パターンを投影光学系によりウエハ上に投影する露光方法において、エキシマレーザ光(紫外線)の全体光路をArガス、すなわち不活性ガスでパージすること」が示されている。
　
刊行物6:特開昭60-133728号公報 (甲第6号証)
　刊行物6には、遠紫外線投影露光装置に関し、遠紫外線の光路を窒素ガスまたはアルゴンガスで満たし、光源からの紫外光をマスクに導く反射鏡(光学部品)の周囲を不活性ガスで満たすことが開示され、2頁左上欄の効果の欄には「本発明の如く、遠紫外線投影露光装置の遠紫外線光路が不活性ガスで満たされていることにより、酸素ガスによる遠紫外線の吸収もなく充分な光量により投影露光が可能となる効果があると共に、ホト・レジストの露光時酸化による…問題もなくなる効果がある。」と記載されている。
　
刊行物7:特開昭53-71570号公報 (甲第7号証)
　2頁右上欄第5行から同頁左下欄第4行には「2,000Å以下の波長の紫外線光は空気中の酸素の吸収を受けてオゾンO3を発生してしまい利用することができず、従来は上述のように2,000〜2,600Åの紫外線光を利用しているにすぎない。そこで、本発明は高精度に微細なパターンが形成された小型化したトランジスタやIC等の半導体を構成し得るように、露光感度の良好な2,000Å以下の波長を有する紫外線光を用いてフォトエッチングを行い得るような露光装置を提供しようとするものであり、その要旨とするところは近真空紫外線を発光するランプと、該ランプを収納する容器と、該容器に連設し上記ランプからの光が通過する筒体部より成り、該筒体部の下端部を露光用マスクに近接せしめて露光する装置において、上記容器内及び筒体部内に窒素 N2ガス等の不活性ガスを充填せしめ、上記筒体部の下端部より該不活性ガスを排出し、上記ランプから上記筒体部を通じ上記露光用マスクに至る光路を不活性ガスで充満するようにしたことにある。」と記載され、
　4頁右上欄5〜20行には「…重水素ランプ1、レンズ27等を配設したハウジング本体24は、上記ランプ1を収納した容器2の嵌合部、冷却水の供給口15の嵌合部等にはOリング37,26a等を介在させ、その内部を気密に保てるようにされている。そして、このハウジング本体24の上方位置には不活性ガスである窒素N2ガスを供給するバルブ機構である供給口38が設けられ、上記ハウジング本体24内を窒素N2ガスで充満し空気が入り込まないように構成されている。ハウジング本体24に充満した窒素ガスは、ハウジング本体24の内周面21に形成され、窓材31を取付けたホルダ33の外周において露光用マスク9に近接する下端部に開口部23aを有する前記溝23を通ってハウジング本体24外方へ吸出すように構成されている。」と記載されている。
　
　以上、刊行物7には、「ランプ1とマスク9との間に設けられ、レンズ27を含むハウジング本体24内部を不活性ガスによって充満すること」、「紫外線をマスク9に入射させるレンズ27の周囲を不活性ガスで満たすこと」が開示されている。
　
刊行物8:特開昭62-165916号公報 (甲第8号証)
　2頁左下欄12行〜3頁右欄2行には「以下、本発明の実施例を第1図を用いて説明する。すなわち、光源部として、第1防振台1に乗せたKrFエキシマレーザ光源2と光源2より発射される光を垂直方向に折曲げる第1防振台1に直接固定した第1のミラー3を組立る。一方、本体部として、第2防振台4に乗せた半導体基板Wを支持したウエハステージ5,縮小投映石英レンズ6,ビームスプリッター7,マスクM を保持したマスクホルダー8,コンデンサレンズ9,第2のミラー10,インテグレーター11,第3のミラー12よりなる本体部13,さらに本体部13に固定されたアライメントレンズ14,アライメント光源15(例えば超高圧水銀灯の光をカットフィルタまたはモノクロメータで分光したもの)アライメント用ビームスプリッター16,画像パターン信号増幅用IIT17,画像読取り用CCDカメラ18よりなるアライメント光学系19を組み立てる。…(中略)...また、本体部と光源部を別体とすることにより本体を設置すべき超クリーンルームのスペースを大幅に縮小できる効果もある。」と記載されている。
　
　以上、刊行物8には、「エキシマレーザー光源を本体部と別体に設け、エキシマレーザー光源からのエキシマレーザ光を第1ミラー3と第2ミラー10(伝送光学系)により、インテグレーター11、第3のミラー12、コンデンサレンズ9(照明光学系)に入射させ、インテグレーター11、第3のミラー12、コンデンサレンズ9(照明光学系)によりマスクMを照明する露光装置、方法」が開示されている。
　
刊行物9:特開昭62-181426号公報 (甲第9号証)
　2頁左上欄11〜13行には「屈折光学系における結像性能等の光学性能が気圧、温度、湿度等により僅かに変化することは公知である。」と記載され、
　第3図、第5頁左上欄8行から左下欄1行には「…図において第2図と異なる点は、湿度をも検知して気圧の制御を行うようにしたことである。第3図において湿度センサ211を気密室40(第1図参照)内に設置し、当該気密室40内の検出湿度を表わす湿度信号213を制御部110に供給する。また、指定値設定部220によって気圧、温度および湿度を予め設定しておき制御部110に記憶させておく。…制御部110の制御出力は外乱要因制御機構部240に供給されるようになっている。この外乱要因制御機構部240としては、被制御要因が気圧のみならば第1,2図に示した4つのモータ55,57,71および73並びにファンモータ85および送風ファン45で構成され、また被制御要因が気圧および温度であれば温調部80をも含めた構成となっている。このような構成において、気密室40内の気圧、湿度および温度のいずれかが変化すれば、気圧センサ79による気圧信号121、湿度信号213および温度信号131で表わされる検出値に応じて、制御部110に予め設定記憶されている光学性能(ピント位置、倍率、ディストーション)の変化係数に基づいて光学性能が演算される。これら演算された光学性能が、制御部110に予め記憶されている光学性能の目標値と比較される。それらの差が最小となるように気圧変化分のみ、あるいは気圧と温度との両変化分に換算して外乱要因制御機構部240に供給し、気圧のみ、あるいは気圧と温度との両方を可変制御する。これにより、外乱要因の変化にも拘らず光学性能を安定維持することができ、…」と記載され、
　5頁左下欄17行〜右下欄5行には「また、上述した実施例においては、レチクル21、投影レンズ23、ウエハ25(被露光物)といった投影光学系のみを気密室40内に収納して、気圧及び温度の定常化を図る制御をなすものについて説明した。ところがステッパには、その他のアライメント光学系、オートフォーカス光学系等の光学システムがある。これらも同様に気圧、温度および湿度の影響を僅かながら受けるので、これらも必要に応じて気密室40内に収納させるのがよい。」と記載され、
　5頁右下欄19行〜6頁左欄第2行には、「以上のように本発明によれば、気密室内にて光学性能に影響を与える外乱要因たる気圧、温度あるいは湿度の定常化を図ることによって、光学性能を安定に維持することができる。」と記載されている。
　
　以上、刊行物9には、気圧、温度および湿度の影響を受ける、ステッパの光学システムを気密室に収納し、気密室内にて光学性能に影響を与える外乱要因たる気圧、温度あるいは湿度の定常化を図ることによって、光学性能を安定に維持することが記載されている。
　
刊行物10:特開昭61-122433号公報 (甲第10号証)
　1頁右欄4行〜2頁左上欄1行には「クリーンルームは、最近の半導体製造産業を始め、電子機器類、精密機器類、医薬品類等の製造産業や各種の研究実験設備において大きく発展しているが、…また、チャンバーと呼ばれるものは一定の場所に固定されて閉鎖空間を形成し、これに別途に温湿度調節された空気をチャンバー外から別系統で供給するものであると言うことができる。」と記載されている。
　
　以上、刊行物10には、半導体製造産業に用いられるチャンバー(閉鎖空間)に、温湿度調整された空気を供給することが記載されている。
　
《2-3-3》対比・判断
　訂正後の請求項1に係る発明と刊行物1に記載された発明(以下「引用発明」という。)とを対比すると、引用発明における「遠紫外線」、「露光パターン描写体5」、「被露光体2」、「照射光学系9を密封する空間」、「窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン中から選ばれた1つの気体または複数の気体の混合気体」及び「露光方法」は、
　訂正後の請求項1に係る発明の「紫外線」、「レチクルのパターン」、「基板」、「密封空間」、「不活性ガス」及び「素子製造方法」に相当する。
　したがって、両者は、「紫外線をレチクルのパターンを介して基板上に照射する段階を含む素子製造方法において、前記レチクルに至るまでの前記紫外線の光路に沿って、密封空間を形成し、それぞれの空間を不活性ガスで満たすことを特徴とする素子製造方法。」の点で一致し、以下の[相違1]の点で相違する。
　
[相違1]
　訂正後の請求項1に係る発明においては、密封空間が複数形成されているのに対し、引用発明においては、密封空間が照射光学系9を密封しているが、1つの空間で形成されている点。
　
　そこで、上記[相違1]を検討するに、刊行物2には、空間を特定の気体で満たす場合に当該空間を複数に分割する点が開示されている。してみると、メンテナンスを容易にするために当該空間を複数分けることは当業者が容易に想到できた事項である。
　なお、光学部品のコーティングの劣化が防がれるという効果が生じるとしても、刊行物1、6において、紫外線によって酸素から生じるオゾンに強い酸化作用があることは周知であるから、引用発明に接した当業者にとって、引用発明においても光学部品のコーティングの劣化が防がれることは当業者に明らかである。
　
　よって、訂正後の請求項1に係る発明は、特許法第29条第2項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
《2-4》むすび
　よって、上記訂正は、特許法第120条の4第2項及び第3項で規定する訂正について、平成6年12月14日法律第116号附則第6条第1項の規定によりなお従前の例によるとされる改正前の特許法第126条第3項の要件に適合しないので、当該訂正は認められない。
　
【3】特許異議の申立てについての判断
《3-1》申立ての理由の概要
　申立人 株式会社ニコンは、甲第1〜10号証を提示し、本件の請求項1〜請求項4に記載された発明はいずれも、甲第1号証と甲第2号証(あるいは甲第3号証)から容易に成し得る程度の発明に過ぎず、第29条第2項の規定により特許を受けることができないものである旨主張している。
　申立人の提示した甲第1〜10号証は、当審の取消理由通知書及び訂正拒絶理由通知書で引用した刊行物1〜10に対応するものである。
　
《3-2》本件の発明
　本件の請求項1〜4に係る発明は、特許明細書の特許請求の範囲の請求項1〜4に記載された以下のとおりのものである。
「【請求項1】 紫外線をレチクルのパタ-ンを介して基板上に照射する段階を含む素子製造方法において、前記レチクルに至るまでの前記紫外線の光路中にそって沿って複数の密封空間を形成し、それぞれの空間を不活性ガスで満たすことを特徴とする素子製造方法。
【請求項2】 前記紫外線はエキシマレーザが放射したレ-ザ光であることを特徴とする請求項1の素子製造方法。
【請求項3】 紫外線をレチクルのパタ-ンを介して基板に照射する露光装置において、前記レチクルに至るまでの前記紫外線の光路に沿って複数の密封空間を形成し、それぞれの密封空間を不活性ガスで満たすことを特徴とする露光装置。
【請求項4】 前記紫外線はエキシマレ-ザが放射したレ-ザ-光りであることを特徴とする請求項3の露光装置。」
　(以下、請求項順に「本件発明1」〜「本件発明4」という。)
　
《3-3》刊行物に記載された発明
　本件出願前に公知であった刊行物1〜10の記載は、前記「《2-3-2》刊行物の記載」のとおりである。
　
《3-4》対比・判断
《3-4-1》本件発明1、3について
　本件発明1、3と刊行物1に記載された発明(以下「引用発明」という。)とを対比する。
　引用発明における「遠紫外線」、「露光パターン描写体5」、「被露光体2」、「照射光学系9を密封する空間」、「窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン中から選ばれた1つの気体または複数の気体の混合気体」及び「露光方法」は、本件発明1の「紫外線」、「レチクルのパターン」、「基板」、「密封空間」、「不活性ガス」及び「素子製造方法」に相当する。
　また、引用発明における「遠紫外線」、「露光パターン描写体5」、「被露光体2」、「照射光学系9を密封する空間」、「窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン中から選ばれた1つの気体または複数の気体の混合気体」及び「露光装置」は、本件発明3の「紫外線」、「レチクルのパターン」、「基板」、「密封空間」、「不活性ガス」及び「露光装置」に相当する。
　
　してみると、本件発明1と引用発明とは、「紫外線をレチクルのパターンを介して基板上に照射する段階を含む素子製造方法において、前記レチクルに至るまでの前記紫外線の光路に沿って.密封空間を形成し、それぞれの空間を不活性ガスで満たすことを特徴とする素子製造方法。」の点で一致し、以下の[相違1]の点で相違する。
　また、本件発明3と引用発明とは、「 紫外線をレチクルのパタ-ンを介して基板に照射する露光装置において、前記レチクルに至るまでの前記紫外線の光路に沿って密封空間を形成し、それぞれの密封空間を不活性ガスで満たすことを特徴とする露光装置。」の点で一致し、以下の[相違1]の点で相違する。
　
[相違1]
　本件発明1、3においては、密封空間が複数形成されているのに対し、引用発明においては、密封空間が照射光学系9を密封する1つの空間で形成されている点。
　
　そこで、上記[相違1]を検討するに、刊行物2には、空間を特定の気体で満たす場合に当該空間を複数に分割する点が開示されている。してみると、メンテナンスを容易にするために当該空間を複数分けることは当業者が容易に想到できた事項である。
　なお、光学部品のコーティングの劣化が防がれるという効果が生じるとしても、刊行物1、6において、紫外線によって酸素から生じるオゾンに強い酸化作用があることは周知であるから、引用発明に接した当業者にとって、引用発明においても光学部品のコーティングの劣化が防がれることは当業者に明らかである。 
　よって、本件発明1、3は、刊行物1、2に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものと認められ、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものである。
　
《3-4-2》本件発明2、4について
　本件発明2、4は、本件発明1、3の構成である「紫外線」を「エキシマレーザが放射したレ-ザ光」に限定したものであるが、引用発明は、紫外線としてエキシマレーザ等からの遠紫外線を使用するものであるから、当該限定の点について引用発明との相違は認められない。
　したがって、本件発明2、4と引用発明とは、上記 [相違1]の点で相違するが、「《3-4-1》本件発明1、3について」において記載した理由により、本件発明2、4は特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものである。
　
《3-5》むすび
　以上のとおり、本件の請求項1〜4に係る発明は、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものに対して特許されたものである。
　従って、本件の請求項1〜4に係る発明の特許は特許法等の一部を改正する法律(平成6年法律第116号)附則第14条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令(平成7年政令第205号)第4条第2項の規定により取り消されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年６月２７日（２００１．６．２７）