【事件の表示】
　特許第２９２８３４１号「シリコーンラダー系樹脂塗布液組成物」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９２８３４１号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
I　手続きの経緯
　本件特許第２９２８３４１号発明は、平成２年７月３日に特許出願され、平成１１年５月１４日に設定登録がなされ、その後、田中矗人より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その意見書の提出期間内である平成１２年９月２９日に訂正請求がなされたものである。
　　
II　訂正の適否についての判断
１  訂正の内容
（ａ）特許請求の範囲、請求項１記載の「・・・のシランカップリング剤とを含有する・・・」を「・・・の、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランのうちの少なくとも１種のシランカップリング剤とを含有する・・・」と訂正する。
（ｂ）明細書の５頁６行及び１３頁４行（本件特許公報４欄２６行、８欄１６行）記載の「１５０〜３０００ｐｐｍのシランカップリング剤」を「１５０〜３０００ｐｐｍの、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランのうちの少なくとも１種のシランカップリング剤」と訂正する。
（ｃ）明細書の５頁９行（同公報４欄２９行）記載の「おいて、シランカップリング剤」を「おいて、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランのうちの少なくとも１種のシランカップリング剤」と訂正する。
　　
２　訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項について検討する。
（ａ）の訂正は、シランカップリング剤を限定するものであるから特許請求の範囲の減縮を目的とするものと認められる。
（ｂ）、（ｃ）の訂正は特許請求の範囲の減縮に係る（ａ）の訂正によって記載が一致せず不明りょうとなった明細書の発明の詳細な説明中の記載を訂正するものであり、明りょうでない記載の釈明を目的とするものと認められる。
　そして、上記訂正に係る（ａ）の点は、願書に添付した明細書７頁２〜７行（同特許公報５欄１５〜１９行）の「ビニルトリエトキシシラン、・・・のうちの少なくとも１種が用いられる。」の記載に基づくものであり、願書に添付した明細書に記載の事項の範囲内のものであることは明らかである。また上記各訂正は実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでない。
　　
３　訂正の適否についての結論
　上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法改正前の特許法１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
 　　
III　特許異議申立及び取消理由通知の理由についての判断
１　異議申立理由の概要
  異議申立人は、甲第１号証（特開昭５７−１８７２９号公報）、甲第２号証（特開昭５７−１０６４３号公報）、甲第３号証（「シリコーンの市場展望−メーカー戦略と応用展開−」（株）シーエムシー、１９９０年１月３１日、１９９〜２０１頁）、甲第４号証（「シリコーンハンドブック」日刊工業新聞社　１９９０年８月３１日、４６６〜４８９頁）、甲第５号証（「Chemistry　and　Technology　of　Silicones」ACADEMIC　PRESS、１９６８年、２８２〜２８７頁）、甲第６号証（「最新シリコーン技術−開発と応用−」（株）シーエムシー、１９８６年９月２５日、８０〜８３、１３４〜１３８頁）、甲第７号証（米国特許第３３５０３４９号明細書）を提出し、訂正前の請求項１に係る発明は、甲第１〜７号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができず、又本件明細書の記載が不備であるから特許法第３６条第３，４項に規定する要件を満たしていないものであり、本件特許は取り消されるべきである旨主張している。
　　
２　訂正明細書の請求項１に係る発明について
　上記II２、II３で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１に係る発明は、上記訂正請求に係る訂正明細書の特許請求の範囲、請求項１に記載された次のとおりのものである 。
「【請求項１】一般式
　
　（式中、Ｒ１はフェニル基、低級アルキル基またはビニル基であり、Ｒ１は同種でもよく、異種でもよい。Ｒ２は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ２は同種でもよく、異種でもよい。ｎは２０〜１０００の整数を示す。）で示されるシリコーンラダー系樹脂と、固形分が５〜３０ｗｔ％になるように加えた芳香族系の有機溶剤と、樹脂分に対して１５０〜３０００ｐｐｍの、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランのうちの少なくとも１種のシランカップリング剤とを含有するシリコーンラダー系樹脂塗布液組成物。」
　
３　甲各号証の記載事項
　甲第１号証（取消理由通知で引用）には、特定分子量の末端ヒドロキシフェニルラダーポリシロキサン及びその製造方法に関する発明が記載され、「本発明の末端ヒドロキシフェニルラダーポリシロキサンは・・・安定である。・・・これらを成型加熱することにより耐熱性、接着性のすぐれた樹脂を得ることができる。」（２頁右上欄〜左下欄）、「本発明のポリマーは・・・他の架橋剤例えばシランカップリング剤・・・と併用することにより、３次元化が可能であり、接着性、膜強度を自由に調整することが可能となる。」（２頁左下欄）、「本発明で得られた末端ヒドロキシフェニルラダーポリシロキサンは有機溶媒に可溶性であり固体状態で放置しても長期間不溶化せず、貯蔵安定性にすぐれている。」（３頁右上欄）、「また架橋可能であるため、他の架橋剤、カップリング剤と併用することにより、従来の末端カゴ型フェニルラダーポリシロキサンに比べて接着性、膜強度にすぐれた組成物を得ることができる。」（５頁左上欄）と記載されている。
　甲第２号証（取消理由通知で引用）には、ラダー状のシリコーン樹脂を含有するシリコーン樹脂組成物に関する発明が記載され、「本発明はラダー状シリコーン樹脂の・・・製膜性を改善しかつ加熱硬化後のひび割れを防止する目的で、ラダー状シリコーン樹脂と、これと相溶するポリマーあるいはオリゴマーとからなることを特徴とするシリコーン樹脂組成物を提供するものである。」（１頁右下欄）、「ラダー状シリコーン樹脂の重合度ｎは１０〜１，０００が好ましく、また数平均分子量は５，０００〜１００，０００のものが好ましい。（２頁左上欄）、「上述の方法で得られた組成物は適当な溶媒に溶かして基板状に塗布し薄膜を形成させることができる。・・・耐熱性保護膜、耐熱性絶縁膜として特に電子材料分野で応用範囲の広いものである。」（２頁左下欄）と記載されている。実施例１〜４に溶媒としてトルエンを用いた例が示されている。
　甲第３号証では、「（４）半導体コーティング用シリコーンの輸入販売：昭和電工）」という項において「昭和電工は、半導体コーティング向けに・・・超ピュアタイプのシリコーン樹脂「グラスレジン」・・・の輸入販売を開始した。「グラスレジン」は・・・ラダー型シリコーン系樹脂で、・・・コーティング、ラミネート用途などに適している。」（２００頁）、「同社では、当面、多層ＩＣの層開絶縁膜、レジストコーティング、レジスト配合液分野展開などを強化する・・・」（２００頁）と記載されている。
　甲第４号証には、「１２．４　シリコーンレジンの応用」の「12.4.5　その他」の項において、「ラダーポリマー」の化学構造、性質、用途が記載（４８６〜４８８頁）されている。
　甲第５号証には、「ラダー状ポリマー、即ちＴ単位のみからなる一次元の果てしない橋かけが、フェニルシルセスキオキサンポリマー・・・に対し可能である。」（２８４頁）、「低分子量のシリコーンレジンには、それらが通常クロロシラン又はアルコキシシランの加水分解及び縮合により製造されるので、ＳｉＯＨ又はＳｉＯＲ基が一般に存在する。」（２８５頁）と記載されている。
　甲第６号証には、「３　レジン」の「3.2.1　純シリコーンレジン」の項において、シリコーンレジンの製造方法が、又「５　シラン」の「5.1.1　シランカップリング剤について」の項では、シランカップリング剤（有機ケイ素単量体）が接着改良剤として広く用いられていること、接着性、耐水性等の改良を目的として利用されること、使用に際しては有機質材料と化学的に結合可能な有機反応基を持つ化合物が選択されることがそれぞれ記載（１３４頁）されている。「表2.5.1」には、代表的なシランカップリング剤の化学式、物性等が示されている。
　甲第７号証（取消理由通知で引用）は、室温硬化オルガノポリシロキサン樹脂に関して記載されており、クレーム１には「（１）・・・有機ケイ素組成物と、（２）式（Ｒ”Ｏ）３ＳｉＲ'''Ｙｎ・・・で示されるシランを（１）成分１００重量部に対して少なくとも０．０１重量部とを共に混合し、そしてその後この混合物を硬化させることを含む方法。」（１０欄）と記載されている。
　　
４　異議申立の理由についての判断　
（ａ）第２９条第２項違反について、
（ｉ）訂正後の請求項１に係る発明（以下「本件発明」という。）について
　甲第１号証には、「末端ヒドロキシフェニルラダーポリシロキサン」（本件発明の「シリコーンラダー系樹脂」に相当する。以下「特定ラダー系ポリマー」という。）は、シランカップリング剤（架橋剤）と併用されること、架橋剤、カップリング剤と併用することにより接着性、膜強度にすぐれた組成物が得られることが記載（２頁左下欄、５頁左上欄）されているので、シランカップリング剤が添加された「特定ラダー系ポリマー」含有の塗布組成物が開示されていることは認められる。しかし、甲第１号証には「特定ラダー系ポリマー」をシランカップリング剤と併用する際の溶剤については記載がない。
　本件発明と甲第１号証の塗布組成物を対比すると、どちらも「特定ラダー系ポリマー」を含むが、前者では使用溶剤が「芳香族系の有機溶剤」であるのに対し後者では溶剤の使用について全く記載されていない点で相違する。
　本件発明は、液に曝す湿式工程を行っても下地基板から剥離することが防止され、成膜性、湿気に対す安定性、保存安定性にもすぐれた「塗布液組成物」を提供するものであり、その課題を達成するために固形分が５〜３０ｗｔ％となるように「芳香族系の有機溶剤」を含有させ、かつ特定のシランカップリング剤を含有させるという構成を採用したものである。
　一方、甲第１号証に記載のものは従来の末端カゴ型フェニルラダーポリシロキサンに比して接着性、膜強度にすぐれたものを提供するものであるが、湿式工程を行う際の下地基板から剥離防止と同時に成膜性等も満足させるという本件発明の課題については記載がなく、この課題は自明であるとも認められない。又甲第１号証には溶剤の種類が記載されてないだけでなく、使用溶剤と膜特性改善の関係についても何等言及されていない。
　そうすると、甲第１号証には、本件発明におけるような技術課題がなく、溶剤として特に「芳香族系の有機溶剤」を選ぶことを示唆する記載もないのであるから、該甲号証に記載の「特定ラダー系ポリマー」とシランカップリング剤を含む塗布組成物において、固形分が５〜３０ｗｔ％となるように「芳香族系の有機溶剤」を加えることが容易になし得たことであるとは認められない。
　甲第２号証には、「ラダー状のシリコーン系樹脂」に「これと相溶するポリマー又はオリゴマー」（以下、単に「相溶ポリマー等」という。）を加えたシリコーン樹脂組成物を溶媒（トルエン）に溶かした塗布液が記載されているが、該塗布液はシランカップリング剤が加えられず「相溶ポリマー等」が加えられている点で本件発明とは相違する。
　甲第２号証は、製膜性改善、ひび割れ防止を目的としているが、湿式工程を行う際の下地基板からの剥離防止と同時に成膜性等も満足させるという本件発明の課題については記載されておらず、本件発明でその解決のため採用された「芳香族系の有機溶剤」と特定のシランカップリング剤を併用するという構成を示唆する記載もない。
　したがって、甲第２号証のもの（溶媒：トルエン）において、シランカップリング剤を添加することが容易になし得たものであるとは認められない。
　甲第２号証には、甲第１号証に開示がない「トルエン」が記載されているが、該溶媒を甲第１号証の塗布組成物の溶剤として採用する合理的な理由は見出せないので、甲第１、２号証の記載を組み合わせることにより本件発明が容易になし得たものであるとすることはできない。
　甲第３号証には、「ラダー型シリコーン系樹脂」の特性について、又該樹脂が「コーティング」用途に適することが記載され、甲第５号証には「ラダー状ポリマー」及び「シリコーンレジン」について記載され、甲第６号証には純シリコーンレジンの製造方法とシランカップリング剤の特性等に関して記載されている。甲第７号証では、有機ケイ素組成物に対して、硬化前に特定のシラン化合物を添加することが記載されているが、いずれにも「シリコーンラダー系樹脂」を含む塗布液組成物に「芳香族系の有機溶剤」と特定のシランカップリング剤を含有させることは記載されておらず、示唆もない。
　又、甲第１号証における「特定ラダー系ポリマー」とシランカップリング剤を塗布用に用いるという記載に、甲第２、３、５〜７号証の記載を合わせて考慮しても、これらの記載から本件発明が容易になし得たものであるとも認められない。そして、本件発明においては、その構成により成膜性に優れ、液に曝す湿式の工程を行っても下地基板から剥離することが防止され、かつ湿気に対して安定性があるという効果が奏されるものである。
　したがって、本件発明は、甲第１〜３、５〜７号証に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものであるとは認められない。
　なお、甲第４号証は、本件出願後に頒布されたものであるので、特許法第２９条第２項に関する証拠としては採用できない。
　　
（ｂ）第３６条違反について　
　異議申立人は、「本件発明（訂正前）において使用可能なシランカップリング剤は本件明細書では断定して記載されているから、明細書に記載の５種のものが必須である。請求項１はシランカップリング剤が限定されておらず、請求項１は必須の構成要件が記載されていないので不備である。」、「シランカップリング剤としてアミン系又は有機直鎖分の長いものを用いた場合、本件発明の作用効果が不明瞭である。」という趣旨の主張をしている。
　しかし、平成１２年９月２９日付けの訂正請求により、請求項１に係る発明で用いるシランカップリング剤は明細書に記載された５種に限定された。
　したがって、本件明細書の記載が不備であるから特許法第３６条第３，４項に規定する要件を満たしていないとすることはできない。
　　
５　取消理由通知の理由についての判断
（１）取消理由の概要
　当審で通知した取消理由の概要は、本件の訂正前の請求項１に係る発明は、刊行物１（特開昭６３−１２０７７４号公報）、刊行物２（甲第１号証）、刊行物３（甲第２号証）、刊行物４（甲第７号証）、刊行物５（特開平１−９６２６５号公報）、刊行物６（特開昭５５−４８２４５号公報）に記載の発明から当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである、というものである。
（２）刊行物１，５，６等の記載事項
　刊行物１には、シリコーンラダ−ポリマー及び有機溶剤からなる高純度ＳｉＯ２薄膜形成塗布液に関する発明が記載され、「有機溶剤としてはトルエン、キシレン・・・などを用いうるが、・・・芳香族系炭化水素が好ましい。」（３頁左上欄）、「前記シリコーンラダ−ポリマーは・・・塗布液が得られる。」（３頁左上欄）、「上記のようにしてえられた塗布液を・・・回転塗布法により塗布し、・・・５５０〜７００℃で３０〜６０分間熱処理を行ない有機成分を除去し、かつ重合反応を促進させることによって、高純度に均一であり、・・・ＳｉＯ２薄膜が形成される。」（３頁左上欄〜右上欄）、「高純度ＳｉＯ２薄膜は半導体の層間絶縁膜、・・・として有用である。」（３頁右上欄）と記載されている。
　刊行物５には、ラダ−型シリコーンオリゴマーと有機溶媒を主成分とするコーティング剤に関する発明が記載され、「本発明の目的は、・・・ラダ−型シリコーンオリゴマーから形成される硬化塗膜の欠点であるクラック発生を防止し、・・・耐クラック性、耐水性・・・等を向上せしめるコーティング剤を提供するにある。」（２頁左上欄）、「上記一般式（II）で表わされるラダ−型シリコーンオリゴマーは、分子量が３００〜８００のものである。」（２頁右下欄）、「有機溶剤としては・・・代表例としては・・・ベンゼン、トルエン・・・などがあげられる。」（３頁左上欄）、「本発明のコーティング剤には、必要に応じて・・・カップリング剤・・・の添加剤等を配合してもよい。」（３頁右上欄）と記載されている。
　刊行物６には、シリコーン樹脂組成物に関する発明が記載され、「湿気存在下では室温で硬化して、撥水性・・・にすぐれた皮膜を与える」（１頁右下欄）、「密着性をさらに向上させる目的で・・・添加しても良い。・・・。シランカップリング剤の添加量は、本発明組成物に対して０．０１〜１０重量％が望ましい。」（４頁左下欄〜右下欄）と記載されている。
　甲第１，２，７号証の記載事項は上記したとおりである。
　　
（３）判断
（ａ）第２９条第２項違反について
　刊行物１には、「シリコーンラダ−ポリマー」と芳香族系の有機溶剤からなるＳｉＯ２薄膜形成塗布液が記載されているが、本件発明とはシランカップリング剤が含有されていない点で相違する。
　刊行物１のものは、従来の塗布液で生じていたミクロクラックの発生等の問題を特定のシリコーンラダ−ポリマーを含有させることにより解決したものであるが、湿式工程を行う際の下地基板からの剥離防止と同時に成膜性等も満足させるという本件発明の課題について記載はない。又該刊行物には形成される膜（ＳｉＯ２薄膜）の特性に何等かの問題があるという記載もないので、該刊行物のＳｉＯ２薄膜形成塗布液にシランカップリング剤を含有させることが示唆されているとはいえない。
　刊行物２（甲第１号証）には、「末端ヒドロキシフェニルラダーポリシロキサン」とシランカップリング剤を併用すること、塗布用として使用できることが記載されているが、上記したように該刊行物からは「芳香族系の有機溶剤」を固形分が特定濃度になるように含有させることが容易になし得たとすることはできない。  
　刊行物３（甲第２号証）には、上記したように「芳香族系の有機溶剤」と本件発明で用いるシランカップリング剤の併用を示唆する記載はない。
　刊行物５には、ラダ−型シリコーンオリゴマーと有機溶媒を主成分とするコーティング剤が記載されているが、ラダ−型シリコーンオリゴマーは分子量が３００〜８００であり、本件発明の「シリコーンラダ−系樹脂」（請求項１で定義されるもの。）とは異なる。該刊行物には分子量を更に大きくしたオリゴマーの使用を排除する旨の記載がある。
　刊行物４（甲第７号証）及び刊行物６は、「ラダー状のシリコーン系樹脂」にシランカップリング剤を添加することを示唆するものではない。
　又本件発明は、刊行物１記載の発明に加え、刊行物２〜６の記載を勘案して容易に発明をすることができたものであるとも認められない。そして、本件発明ではその構成により上記した効果が奏される。
　したがって、本件発明は、刊行物１〜６に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものであるとは認められない。
　　　
IV　むすび
　以上のとおり、訂正された本件の請求項１の発明に係る発明の特許は異議申立ての理由及び証拠、取消理由通知の理由によっては取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年６月１２日（２００１．６．１２）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
（ａ）特許請求の範囲、請求項１記載の「・・・のシランカップリング剤とを含有する・・・」を「・・・の、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランのうちの少なくとも１種のシランカップリング剤とを含有する・・・」と訂正する。
（ｂ）明細書の５頁６行及び１３頁４行（本件特許公報４欄２６行、８欄１６行）記載の「１５０〜３０００ｐｐｍのシランカップリング剤」を「１５０〜３０００ｐｐｍの、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランのうちの少なくとも１種のシランカップリング剤」と訂正する。
（ｃ）明細書の５頁９行（同公報４欄２９行）記載の「おいて、シランカップリング剤」を「おいて、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランのうちの少なくとも１種のシランカップリング剤」」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
シリコーンラダー系樹脂塗布液組成物
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】一般式
（式中、Ｒ１はフェニル基、低級アルキル基またはビニル基であり、Ｒ１は同種でもよく、異種でもよい。Ｒ２は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ２は同種でもよく、異種でもよい。ｎは２０〜１０００の整数を示す。）で示されるシリコーンラダー系樹脂と、固形分が５〜３０ｗｔ％になるように加えた芳香族系の有機溶剤と、樹脂分に対して１５０〜３０００ｐｐｍの
、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−（３、４エボキシシクロヘキシル）エチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランのうちの少なくとも１種の
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
　この発明は、半導体装置の薄膜として用いられ、リソグラフィー法によりパターン形成されるシリコーンラダー系樹脂塗布液組成物に関するものである。
［従来の技術］
　近年、半導体装置の高集積化に伴い、そのパターンの微細化、高密度化が進行し、固体素子のパッシベーション層、応力緩衝膜または絶縁層を形成する方法として、無機材料と比較して残留応力が小さく、平滑性が良好であり、しかも純度が高いなどの点で優れている高分子材料を０．５μｍ〜３０μｍ回転塗布する方法が検討されている。該高分子材料としてはシリコーンラダー系樹脂やポリイミド系樹脂が用いられている。シリコーンラダー系樹脂を固体素子のパッシベーション層、応力緩衝膜または絶縁層として使用する場合には、種々の技術（Ｓｉ、Ｓｉ−Ｏ、Ｓｉ−Ｎ、Ａｌ等）表面に溶液状のシリコーンラダー系樹脂を回転塗布して乾燥し、この樹脂膜に上下導体層の通風部や外部リード線と接続のためのスルーホール孔等を形成する微細加工を施す工程が必要である。このような方法としてリソグラフィー法の適用が必要である。例えば回転塗布して乾燥したのち、クレゾールノボラック系のポジ型レジストを塗布し、該レジストに所定のパターンを形成し、ついでシリコーンラダー系樹脂をエッチングした後レジストを除去熱硬化して成膜するプロセスが考えられる。このとき該シリコーンラダー系樹脂のエッチング、レジストの除去は、いずれも湿式で行われ、シリコーンラダー系樹脂膜は、レジストの現像液、リンス液、シリコーンラダー系樹脂のエッチング液、レジストの除去液等々に曝される。なお、シリコーンラダー系樹脂塗布液としては、特開昭５５−９４９５５号公報および特公昭６３−１４７４９号公報に開示されているものがある。
［発明が解決しようとする課題］
　上記従来のような樹脂塗布液組成物を用いると、リソグラフィー法によりシリコーンラダー系樹脂に微細加工を施す方法においては、二層の樹脂膜からなるため、それぞれの工程で液に浸漬したとき溶剤ストレージング等により、それぞれの膜に応力がはたらき、該樹脂膜が下地基盤から剥がれ易い等の問題があった。この問題は厚膜のシリコーンラダー系樹脂において生じ易かった。また従来塗布液は溶剤として吸湿性極性溶剤を用いたり、高分子型の界面活性剤を含み、溶液の保存安定性が悪く、成膜後白化しやすかった。
　この発明はかかる課題を解消するためになされたもので、成膜性に優れ、現像液やリンス液に曝す湿式の工程を行っても、下地基板から剥離することが防止され、なおかつ湿気に対して安定性があり保存安定性にすぐれたシリコーン樹脂塗布液組成物を得ることを目的とする。
［課題を解決するための手段］
　この発明のシリコーンラダー系樹塗布液組成物は一般式
（式中、Ｒ１はフェニル基、低級アルキル基またはビニル基であり、Ｒ１は同種でもよく、異種でもよい。Ｒ２は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ２は同種でもよく、異種でもよい。ｎは２０〜１０００の整数を示す。）で示されるシリコーンラダー系樹脂と、固形分が５〜３０ｗｔ％になるように加えた芳香族系の有機溶剤と、樹脂分に対して１５０〜３０００ｐｐｍの
、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランのうちの少なくとも１種の
［作用］
　この発明において、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランのうちの少なくとも１種の
［実施例］
　この発明に関わるシリコーンラダー系樹脂は、一般式
（式中、Ｒ１はフェニル基、低級アルキル基またはビニル基であり、Ｒ１は同種でもよく、異種でもよい。Ｒ２は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ２は同種でもよく、異種でもよい。ｎは２０〜１０００の整数を示す。）で示され、例えばポリフェニルシルセスキオキサン、ポリフェニルビニルシルセスキオキサン、ポリフェニルメチルシルセスキオキサン、ポリメチルビニルシルセスキオキサン、ポリメチルシルセスキオキサン、およびポリビニルシルセスキオキサンのうちの少なくとも１種が用いられる。式中、ｎが２０未満だと成膜性が悪く、また１０００を越えると成膜後のエッチング性に劣る。
　この発明に係わる芳香族系の有機溶剤としては、非極性のベンゼン、トルエン、メトキシベンゼン、エトキシベンゼンおよびオルトジメトキシベンゼンのうちの少なくとも１種が用いられる。濃度は必要とする膜厚に応じて分子量をもとに適宜決められる。
　この発明に関わるシランカップリング剤としては、得られた塗布膜の耐熱性やデバイスへの影響を考慮して、アミン系や有機直鎖分の長いものは避けるのが望ましく、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランのうちの少なくとも１種が用いられる。シランカップリング剤を上記シリコーンラダー系樹脂に対して１５０ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍ添加する。添加量については、１５０ｐｐｍ未満または３０００ｐｐｍを越えるとリソグラフィー中に基板から剥離し、また３０００ｐｐｍを越えると熱硬化成膜後のシリコーンラダー系樹脂の膜質が悪くなる。
　即ち、上記シリコーンラダー系樹脂を芳香族系の有機溶剤の非極性のベンゼン系、アルコキシベンゼン系などの溶剤と混合して、上記シリコーンラダー系樹脂の濃度５〜３０重量％、粘度を１００ｃｐ〜５０００ｃｐに調製する。そしてこのシリコーンラダー系樹脂溶液を、Ｓｉ、Ｓｉ−Ｏ、Ｓｉ−Ｎ、Ａｌ等からなる基板表面に、回転塗布法などにより塗布して乾燥させて、次いで、３００℃以上で熱硬化して成膜する。次いで該シリコーンラダー系樹脂膜上にホトレジスト膜を形成し、ホトマスクのパターンを紫外線照射により転写し、現像液、リンス液（純水）に浸漬することによりレジストパターンが形成される。該ホトレジスト現像液には特に制限はなく、市販品を用いることができる。次いで得られたレジストパターンをマスクとして、有機溶剤を用いて湿式エッチングにより開口部を形成する。この際、エッチングを停止するためにシリコーン樹脂の貧溶剤を用いて、リンスを施すことが望ましい。次いでレジスト剥離剤に浸漬しレジスト膜を剥離してパターンが転写されたシリコーンラダー樹脂膜がえられる。シリコーンラダー樹脂膜にパターン転写する間、レジストパターン形成、エッチング、レジスト剥離という湿式の工程を経過する。このとき、各々の工程で通常の数倍の浸漬時間としても、あるいは工程を反復しても、また工程を多段階にしても、シリコーンラダー樹脂膜と基板とが剥離するような接着性の劣化はみられなかった。また該塗布液は４０℃で１０００時間保存しても透明で粘度の変化がなく安定であった。
　次に、この発明を実施例に基づき、さらに具体的に説明するが、この発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
実施例１
　Ｓｉ、Ｓｉ−Ｏ、Ｓｉ−Ｎ、Ａｌ等からなる基板表面に、平均分子量２００，０００の下式
で示されるシリコーン系樹脂をベンゼンに混合して、シランカップリング剤として、β−（３、４エボキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランを固形分の１５００ｐｐｍ添加し、濃度２５％、粘度５０００ｃｐに調製した。これを乾燥後の膜厚が２０．０μｍになるように回転塗布法により塗布した後、チッ素雰囲気中２５０℃にて１時間ベークしてシリコーン系樹脂膜とした。
　次いでホトレジストとして市販のＯＦＰＲ８００｛商品名：東京応化工業（株）製｝を用い、厚さ２μｍのレジスト膜を形成し、ホトマスクのパターンを紫外線照射により転写し、ＯＦＰＲ用現像液（ＮＭＤ−３）通常６０秒のところ１８０秒、リンス液（純水）に通常２０秒のところ１８０秒浸漬してレジストパターンが形成を行った。その結果、基板とシリコーン系樹脂膜との剥離は生じないことがＳＥＭにより確かめられた。
　次いで得られたレジストパターンをマスクとして、エッチング液としてベンゼンを用いて６０秒間浸漬し、リンス液としてキシレンに３０秒浸漬して開口を形成した。この際、工程を反復しても基板とシリコーン系樹脂膜との剥離は生じないことが、ＳＥＭにより確かめられた。
　次いでレジスト剥離剤に浸漬してレジスト膜を剥離するが浸漬時間を長くしても、また工程を反復しても基板とシリコーン系樹脂膜との剥離は生じないこともＳＥＭにより確かめられた。
　シランカップリング剤を添加しない場合は、上記のいずれの工程を経ても剥離が生じやすくなることから、シランカップリング剤を適量添加することによって、基板から剥離することない接着性の改善されたシリコーンラダー系樹脂膜を形成できることがわかった。また、この溶液は４０℃、１０００時間の保存後も透明で粘度は変わらず安定であった。
実施例２〜２０，比較例１〜６
　表に示すような各添加量のシリコーンラダー系樹脂、溶剤、ポリマー濃度およびシランカップリング剤の塗布液を用い、表に示す基板上に、実施例１の方法に従い、成膜、微細加工を施した。塗膜の特性、塗布液の４０℃、１０００時間保存後の溶液の状態、リソグラフィープロセスでの過剰な湿式工程後の膜状態を表に示した。なお、表中比較例１〜６は良好な塗膜が得られなかった。
　この発明は上記実施例に限定されることなく更に種々変形して実施し得るものである。さらに、この発明の塗布組成物には必要に応じて、染料、顔料などの着色剤の添加剤を添加してもよい。
比較例７
　溶剤として吸湿性のＮ−メチル−２−ピロリドンを用いた以外は実施例１と同一条件の塗布液をＳｉウェハー上に成膜したところ、膜は白化した。
比較例８
　実施例１の塗布液に、界面活性剤としてアクリル酸−メタクリル酸エステルコポリマーを該ポリマーに対して１０重量％添加した。この塗布液からの塗膜の状態は良好であったが、４０℃で保存すると、活性剤が析出して白化し、またリソグラフィー工程で過剰な湿式工程後、基板からの剥離があった。
［発明の効果］
　以上説明した通り、この発明は、一般式
（式中、Ｒ１はフェニレン基、低級アルキル基またはビニル基であり、Ｒ１は同種でもよく、異種でもよい。Ｒ２は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ２は同種でもよく、異種でもよい。ｎは２０〜１０００の整数を示す。）で示されるシリコーンラダー系樹脂と、固形分が５〜３０ｗｔ％になるように加えた芳香族系の有機溶剤と、樹脂分に対して１５０〜３０００ｐｐｍの
、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、β−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランのうちの少なくとも１種の