【事件の表示】
　特許第２８８９２９２号「研磨装置」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２８８９２９２号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
  
 １．手続の経緯
　本件特許第2889292号発明は、平成1年10月27日に出願され、平成11年2月19日にその特許の設定登録がなされ、その後特許異議申立人・不二越機械工業株式会社（以下「異議申立人」という。）より特許異議の申立てがなされ、その結果、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成12年7月5日に訂正請求がなされ、さらに訂正拒絶理由の通知がなされたものである。
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正明細書記載の発明
　平成12年7月5日付けで訂正された明細書に記載された発明（以下、「本件訂正発明」という。）は、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
「鉛直軸回りに回転可能な定盤本体と、定盤本体上に設けた研磨布と、定盤本体の上方に配置され被研磨品を研磨布に押しつけつつ回転させるためのプレッシャヘッドと、プレッシャヘッドの下部に設けたトッププレートとを備えた研磨装置において、
　20〜200℃の平均熱膨張係数が5×l0-６／℃以下の低熱膨張の鋳鉄で定盤本体を構成し、20〜200℃の平均熱膨張係数が8×10-６／℃以下のアルミナセラミックスまたは炭化ケイ素セラミックスの低熱膨張材でトッププレートを構成し、日本ゴム協会規格0101で70〜95の硬度をもつ硬質研磨布で研磨布を構成したことを特徴とする研磨装置。」
（２）引用刊行物記載の発明
　本件訂正発明に対して、当審が通知した訂正拒絶理由通知において引用した刊行物１乃至３にはそれぞれ次のことが記載されている。
（イ）刊行物１（特開平1-159171号公報）：
［３頁左上欄１９行目〜同頁右上欄９行目及び第３図、第４図参照］
　「第３図および第４図に示すように、回転軸５を介して研磨定盤を水平面上で高速回転させる。この研磨定盤のディスク１の表面に例えばポリエステル不織布等から成る研磨布７を添装する。そして、ディスク１の上面に複数、平行に配置されたトッププレート９に、被加工物、例えばシリコンウエハ８をそれぞれ接着剤にて保持する。トッププレート９は回転軸１０を介して回転駆動され、これによりシリコンウエハ８は研磨布７上で摺動回転する。そして、研磨布７の上面に研磨液供給パイプ１１を介して研磨液１２を供給する。」
［特許請求の範囲の請求項１］
「１．被研磨物を搭載して回転するディスクと、このディスクの裏面に一体回転可能に取付けられた液冷却用のジャケットとを有する研磨定盤において、前記ディスクを20〜200℃の平均熱膨張係数が5×10−６／℃以下の低熱膨張材によって構成したことを特徴とする研磨定盤。」
［第３頁左上欄第８〜１２行目］
「このものにおいて、ディスク１の構成材料は0.6Si-36Ni-2Co鋳鉄としている。この鋳鉄の20〜200℃の平均熱膨張係数α１は2.5×10-６／℃、・・（中略）・である。」
［３頁右下欄１２〜１８行目］
「なお、上記実施例ではディスク１の構成材料を0.6Si-36Ni-2Co鋳鉄としたが、本発明はこれに限らず、20〜200℃の平均熱膨張係数が5×10-６／℃以下の低熱膨張材であれば、ASTM A571-57　TypeD-5やニレジストD5で知られるオーステナイト球状黒鉛鋳鉄等種々の材料を適用することができる。」
　刊行物１の上記記載を本件訂正発明の構成に則して把握すると、刊行物１には、次の構成を有する研磨装置が記載されていると言える。
　鉛直軸回りに回転可能なディスク(1)と、ディスク(1)上に設けた研磨布(7)と、ディスク(1)の上方に配置され被研磨物(8)を研磨布(7)に押しつけつつ回転させるためのトッププレート(9)とを備えた研磨装置において、
　20〜200℃の平均熱膨張係数が5×l0−６／℃以下の低熱膨張のオーステナイト球状黒鉛鋳鉄でディスク(1)を構成し、ポリエステル不織布等で研磨布を構成した研磨装置。
（ロ）刊行物２（特開昭58-137555号公報）：
［特許請求の範囲の請求項１］
「定盤と、被研摩物体を固定するポリッシング板とからなる研摩盤において、該ポリッシング板を高周波発熱体で構成したことを特徴とする研摩盤。」
［２頁右下欄２０行目〜３頁左上欄６行目及び第１表］
「この第１表から全ての物理的特性が在来のアルミナセラミック、あるいはガラス製のポリシング板に比べ、高周波発熱体よりなる本発明実施例のポリッシング板はすぐれており、特に炭化珪素製のものは熱膨張係数が4.0×10-６／℃と、他の材料よりも小さく、したがって直径27cmの円板状体におけるソリも小さい。」
　刊行物２の上記記載を本件訂正発明の構成に則して把握すると、刊行物２には、次の構成を有する研磨装置が記載されていると言える。
　回転可能な定盤(T)と、定盤(T)の上方に配置され被研磨物体(W)を押しつけつつ回転させるためのポリッシング板(P)とを備えた研磨装置において、
　熱膨張係数が4.0×10-６／℃の炭化ケイ素セラミックスから成るソリの小さい高周波発熱体でポリッシング板(P)を構成した研磨装置。
（ハ）刊行物３（特開平1-193167号公報）：
［２頁右上欄１３行目〜同頁左下欄２行目及び第１図、第２図］
「第１図および第２図に示すように、回転定盤１１の上に後述する本発明による厚さ0.3〜2.0mmの範囲の研磨パッド１２が接着されている。この研磨パッド１２の上方に４個の回転ホルダ１３が、その回転軸１４により自転可能に配設されている。各回転ホルダ１３の下面に、ガラス円板のような被研磨材１５が４枚づつ貼り付けられている。回転ホルダ１４は、上方から所定の圧力で且つ所定の下降速度で被研磨材１５を研磨パッド１２に押し付けながら、研磨を行なうようになっている。」
［２頁左下欄１４〜１６行］
「またこのポリウレタン製パッドの硬さは、ショア硬度JIS“Ａ”レンジで50〜90の範囲がより望ましい。」
　刊行物３の上記の記載を本件発明の構成に則して把握すると、刊行物３には、次の構成を有する研磨装置が記載されていると言える。
　鉛直軸回りに回転可能な回転定盤(11)と、回転定盤(11)上に設けた研磨パッド(12)と、回転定盤の上方に配置され被研磨材(15)を研磨パッド(12)に押しつけつつ回転させるための回転ホルダ(13)とを備えた研磨装置において、
　ショア硬度JIS“Ａ”レンジで50〜90の範囲の硬度をもつ研磨パッドで研磨パッドを構成した研磨装置。
（３）対比・判断
　そこで、本件訂正発明（以下「前者」という。）と上記刊行物１に記載の研磨装置（以下「後者」という。）とを対比すると、後者における「ディスク１」は前者の「定盤本体」に相当し、以下同じく「研磨布７」は「研磨布」に、「被研磨物８」は「被研磨品」に、「トッププレート９」は「トッププレート」に、それぞれ相当し、後者の「オーステナイト球状黒鉛鋳鉄」も「鋳鉄」と言えるから、両者には次の一致点及び相違点がある。
一致点
「鉛直軸回りに回転可能な定盤本体と、定盤本体上に設けた研磨布と、定盤本体の上方に配置され被研磨品を研磨布に押しつけつつ回転させるためのトッププレートとを備えた研磨装置において、
　20〜200℃の平均熱膨張係数が5×l0-６／℃以下の低熱膨張の鋳鉄で定盤本体を構成したことを特徴とする研磨装置。」
相違点１：
　被研磨品を研磨布に押しつけつつ回転させるための構成が、前者においては、「プレッシャヘッドと、プレッシャヘッドの下部に設けたトッププレートとを備えた」構成を有するのに対して、後者においては、「プレッシャヘッド」を有しない点。
相違点２：
　「トッププレート」が、前者においては、「20〜200℃の平均熱膨張係数が8×10-６／℃以下のアルミナセラミックスまたは炭化ケイ素セラミックスの低熱膨張材で」構成されているのに対して、後者においては、トッププレートを構成する材料につき記載がない点。
相違点３：
　「研磨布」が、前者においては、「日本ゴム協会規格0101で70〜95の硬度をもつ硬質研磨布で」構成されているのに対して、後者においては、「ポリエステル不織布等」で構成された点。
　そこでこれらの相違点につき検討する。
（イ）相違点１について
　シリコンウェハ等の研磨装置において、被研磨品を研磨布に押しつけつつ回転させるための構成として、「プレッシャヘッドと、プレッシャヘッドの下部に設けたトッププレートとを備えた」構成を有せしめることは、本件出願前において周知の技術手段（例、特開平1-135475号公報、特開平1-103261号公報、特開昭63-306875号公報参照）であって、本件訂正発明において、被研磨品を研磨布に押しつけつつ回転させるための構成を相違点１に摘記した構成とした点は、単なる周知技術を採用したにすぎない。
（ロ）相違点２について
　刊行物２には、回転可能な定盤と、定盤の上方に配置され被研磨物体を押しつけつつ回転させるためのポリッシング板とを備えた研磨装置において、熱膨張係数が4.0×10-６／℃の炭化ケイ素セラミックスから成るソリの小さい高周波発熱体でポリッシング板を構成した研磨装置が記載されている。
　そして、同刊行物記載の研磨装置において、ポリッシング板を構成する炭化ケイ素セラミックスの熱膨張係数を4.0×10-６／℃とした理由は、ワックスの溶融する１６０℃付近以下から研磨液により冷却される室温付近の温度範囲におけるソリ（熱変形）が小さいポリッシング板を採用することが目的であるから、同刊行物のポリッシング板も、室温〜160℃の平均熱膨張係数が4.0×10-６／℃以下の炭化ケイ素セラミックスの低熱膨張材で構成されているといえる。
　更に、同刊行物のポリッシング板は、発熱体としての機能を有する一方、使用時の熱変形が極めて小さいポリッシング板を開示しているのだから、熱膨張による研磨面の精度低下を防止する課題の解決手段として、シリコンウェハ等の表面を高精度平面に研磨する研磨装置という共通分野の刊行物１のポリッシング板に代えて、刊行物２に記載のポリッシング板を採用して、相違点２における本件訂正発明の構成とすることは当業者にあっては、容易に想到できたと言える。
　また組み合わせにより当然予測できる範囲を超えた効果を奏するとも言えない。
（ハ）相違点３について
　刊行物３には、鉛直軸回りに回転可能な回転定盤と、回転定盤上に設けた研磨パッドと、回転定盤の上方に配置され被研磨材を研磨パッドに押しつけつつ回転させるための回転ホルダとを備えた研磨装置において、ショア硬度JIS“Ａ”レンジで50〜90の範囲の硬度をもつ研磨パッドで研磨パッドを構成した研磨装置が記載されている。
　そして、刊行物３の研磨パッドもその機能から見て研磨布と称し得るものであり、その硬度が「ショア硬度JIS“Ａ”レンジで50〜90の範囲」とは、ほぼ日本ゴム協会規格0101で68〜91の硬度範囲に相当するから（甲第４号証及び甲第５号証参照）、刊行物１記載のシリコンウェハやガラス等を精密研磨する研磨装置の研磨布に代えてガラス等を鏡面に研磨する刊行物３の研磨装置の研磨パッドを採用して相違点３における本件訂正発明の構成のようにすることは当業者においては、格別困難なことであるとはいえない。
　以上の通りであるから、本件訂正発明は、上記刊行物１〜３に記載された発明及び本件出願前周知の技術に基づき当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　したがって、本件訂正請求は特許法第１２０条の４第３項で準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するので、当該訂正は認められない。
３．特許異議申立についての判断
（１）特許異議申立の概要
異議申立人は、甲第１〜６号証を提出し、本件【請求項１】に係る発明は、甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであるからその特許を取り消すべきであると主張している。
（２）本件発明
　本件特許に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、願書に添付された明細書および図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
「鉛直軸回りに回転可能な定盤本体と、定盤本体上に設けた研磨布と、定盤本体の上方に配置され被研磨品を研磨布に押しつけつつ回転させるためのプレッシャヘッドと、プレッシャヘッドの下部に設けたトッププレートとを備えた研磨装置において、
20〜200℃の平均熱膨張係数が5×10-６／℃以下の低熱膨張材で定盤本体を構成し、
20〜200℃の平均熱膨張係数が8×10−６／℃以下の低熱膨張材でトッププレートを構成し、日本ゴム協会規格0101で70〜95の硬度をもつ硬質研磨布で研磨布を構成したことを特徴とする研磨装置。」
（３）引用刊行物
（イ）当審が通知した取消理由に引用した刊行物１（甲第１号証刊行物、特開平1-159171号公報）、刊行物２（甲第２号証刊行物、特開昭58-137555号公報）、刊行物３（甲第３号証刊行物、特開平1-193167号公報）は、それぞれ訂正拒絶の理由において引用した刊行物１，刊行物２、刊行物３である。
　そして、本件訂正発明は、本件発明における「低熱膨張材で定盤本体を構成」が、「低熱膨張の鋳鉄で定盤本体を構成」と限定され、本件発明の「低熱膨張材でトッププレートを構成」を「アルミナセラミックスまたは炭化ケイ素セラミックスの低熱膨張材でトッププレートを構成」と限定された構成を有するものである。したがって、これらの限定がされていない、本件発明は、上記「２．（３）対比・判断」の項で示した理由と同様の理由により、上記取消理由通知において引用された各刊行物及び本件出願前周知の技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたと認める。
（４）むすび
　以上のとおりであるから、本件特許請求の範囲の請求項１に係る発明は、本件出願前日本国内において頒布された刊行物に記載された発明及び本件出願前周知の技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。
　したがって、本件特許請求の範囲の請求項１に係る特許は、特許法第１１３条第１項第２号に該当するので、取り消すべきである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年１２月７日（２０００．１２．７）