【事件の表示】
　特許第２７８５１５７号「光量制御装置および露光装置」の請求項１ないし１５に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２７８５１５７号の請求項１ないし１５に係る特許を維持する。
【理由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第２７８５１５７号の特許請求の範囲の請求項１〜１５に係る発明は、平成２年１０月５日に特許出願され、平成１０年５月２９日にその特許の設定登録がなされ、その後、特許異議申立人株式会社ニコン（以下「申立人」という。）より特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年７月２９日に訂正請求がなされたものであるが、さらに当該訂正請求について訂正拒絶理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年８月１９日に当該訂正請求書に係る手続補正書が提出されたものである。
ＩＩ．訂正の適否についての判断
１．訂正請求書の補正の適否
　上記訂正請求書の補正では、訂正請求書の７．の訂正の要旨における（ｉ）の請求項１、請求項４および請求項１０に係る記載内容をさらに限定しようとするものであるから、特許請求の範囲の減縮を意図するものであり、また、訂正の要旨における（ｉｉ）を上記（ｉ）と適合させたもので、明りょうでない記載の釈明に該当するものであるから、訂正の要旨を変更するものではない。
２．訂正の内容
　上記補正された訂正請求は、以下の点について訂正を求めるものである。
▲１▼訂正事項（ｉ）
　特許請求の範囲の請求項１、請求項４および請求項１０の「前記制御パラメータを順次変化させながら」を「露光中に前記制御パラメータを順次変化させながら」に変更している。
▲２▼訂正事項（ｉｉ）
　明細書第５頁第１６行〜第６頁第２行を、
「上記目的を達成するため、本発明は、露光中にパルス光源の光量を制御するパラメータを順次変化させながらパルス光を発生させ、その時の制御パラメータの設定値とパルス光量の関係を求め、その関係に基づいて以降のパルス発光に対する制御パラメータの設定値を決定することとしている。これにより、高精度なパルス毎の光量制御を行うことができる。なお、この光量制御は露光装置に好適に適用されるが、その場合、制御パラメータの設定値とパルス光量の関係は露光中に求める。」
と変更している。
３．訂正の目的の適否、新規事項の有無および拡張・変更の存否
　上記訂正事項（ｉ）は、請求項１、請求項４および請求項１０に係り、「露光中に」なる時期的な技術事項を、旧各請求項に直列的に付加するものであり、特許請求の範囲の減縮に該当するものである。
　訂正事項（ｉｉ）は、明細書の課題を解決するための手段および作用の項を、特許請求の範囲の減縮に整合させるものであり、明りょうでない記載の釈明に該当するものである。
　そして、上記各訂正事項は本件の訂正前の特許明細書に実質上記載されている事項のみであるから、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
４．独立特許要件に係る判断
（上記取消理由に係る各引用例に記載の発明）
　訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本件第１発明」という。）に対して、当審が通知した取消理由で引用した特願平２−１０９２９１号の願書に最初に添付された明細書および図面（以下「先願明細書」という。）には、以下の事項が記載されている。
（なお、摘示にあたっては、上記先願に係る公開公報（特開平４−７８８３号公報）の頁行番等により行う。）
▲１▼「（１）発振のたびに所定の範囲内でエネルギー変動を伴うパルスエネルギーを射出するエネルギー発生源を備え、該エネルギー発生源に対する印加電圧を調整することによって、前記パルスエネルギーのエネルギー量を制御する装置において、前記エネルギー発生源に対する印加電圧と、該印加電圧のもとで前記エネルギー発生源から射出されるパルスエネルギーのエネルギー量との関係に関する情報を格納する記憶手段と；
　前記エネルギー発生源から実際に射出されたパルスエネルギーのエネルギー量を検出するエネルギー量計測手段と；
　所定の単位パルス数毎、若しくは単位時間毎に、前記エネルギー発生源に与えられた印加電圧と、前記エネルギー量計測手段にて検出されたエネルギー量とに基づいて、前記記憶手段に格納された前記情報を更新する演算手段と；
　該演算手段により更新された情報に基づいて、次に射出すべきパルスエネルギーのエネルギー量に対応する前記エネルギー発生源への印加電圧を決定する決定手段とを備えたことを特徴とするエネルギー量制御装置。」
（特許請求の範囲第１項）
▲２▼「本発明は、感応物体に対する照射エネルギー量の制御、特にパルス発振型のエネルギー発生源からのエネルギー量が経時的な変化を有する場合の総照射エネルギー量の制御に係るものであり、例えば露光光としてエキシマなどのパルスレーザを使用する露光装置の露光量制御に好適なエネルギー量制御装置に関するものである。」
（公報第２頁左上欄第１６行〜右上欄第２行）
▲３▼「発振のたびに所定の範囲内でエネルギー変動を伴うパルスエネルギーを射出するエネルギー発生源１を備え、エネルギー発生源１に対する印加電圧を調整することによって、パルスエネルギーのエネルギー量を制御する装置において、エネルギー発生源１に対する印加電圧と、この印加電圧のもとでエネルギー発生源１から射出されるパルスエネルギーのエネルギー量との関係に関する情報を格納する記憶手段［メモリ７］と；エネルギー発生源１から実際に射出されたパルスエネルギーのエネルギー量を検出するエネルギー量計測手段［エネルギーモニタ素子４及びエネルギー量モニタ部５、又は受光素子４’及び光量モニタ部５’］と；所定の単位パルス数毎、若しくは単位時間毎に、エネルギー発生源１に与えられた印加電圧と、エネルギー量計測手段にて検出されたエネルギー量に基づいて、前記記憶手段に格納された前記情報を更新する演算手段［演算器６］と；演算手段により更新された情報に基づいて、次に射出すべきパルスエネルギーのエネルギー量に対応するエネルギー発生源１への印加電圧を決定する決定手段［演算器６］とを設ける。」
（公報第３頁右上欄第６行〜左下欄第８行）
▲４▼「第１図において、印加電圧制御部１１はパルス発振型エネルギー発生源１の高圧放電電圧（印加電圧に対応）を制御するものであって、次に照射すべきパルスエネルギーのエネルギー量に対応する印加電圧をエネルギー発生源１へ与えることでパルス毎にそのエネルギー量の調整を行うものである。」
（公報第３頁右下欄第９行〜第１５行）
▲５▼「単位パルス数毎、若しくは一定時間毎に、適宜・・（中略）・・更新されたパラメータＣ１〜Ｃ５、Ｄ１〜Ｄ３から・・（中略）・・印加電圧Ｖと発振エネルギー量Ｐとの関係式（（１）式）が更新され、さらには式（７）式により・・（中略）・・決定された次パルスの発振エネルギー量Ｐに対応する印加電圧Ｖを求めることが可能となるわけである。」
（公報第６頁左下欄第４行〜第１１行）
▲６▼「第３図を参照して本実施例の動作について説明する。・・（中略）・・ステップ１００において、メモリ７に格納された印加電圧Ｖと発振エネルギー量Ｐとの関係に関する情報であるパラメータＣ１〜Ｃ５、Ｄ１〜Ｄ３をイニシャライズするか否かを判断する。・・（中略）・・イニシャライズが必要な場合、例えばエネルギー発生源１の立ち上げ時・・（中略）・・ステップ１０１に進み、ここで印加電圧Ｖを順次変化させながら、各電圧値のもとで発振されたパルス毎にパルスエネルギー量Ｐをエネルギーモニタ部５から取り込み、例えば第２図に示した関係を得る。・・（中略・・ステップ１０２で演算器６は、ステップ１０１で得られたデータ（Ｖ１、Ｐ１）に基づき、パラメータＣ１〜Ｃ５、Ｄ１〜Ｄ３・・（中略）・・を算出し、メモリ７に格納する。
　次のステップ１０３において、演算器６は入出力装置８から与えられる目標エネルギー量Ｓ０と、メモリ７に格納されたエネルギー量制御精度Ａ０・・（中略）・・を取り込む。・・（中略）・・そして演算器６は・・（中略）・・第１発目のパルスエネルギー量Ｐ１に対応する印加電圧Ｖ１を算出する（ステップ１０４）。・・（中略）・・
　次に、エネルギー量モニタ部５はモニタ素子４により発振エネルギー量を計測し、演算器６はパルス毎にエネルギー量を順次積算していき、積算エネルギー量Ｉ０を算出する（ステップ１０６）。そしてステップ１０７において演算器６は、積算エネルギー量Ｉ０（実測値）がエネルギー量制御精度Ａ０を満足するか否かを判断する。・・（中略）・・
満足しない場合には、ステップ１０８へ進み、・・（中略）・・パラメータＣ１〜Ｃ５、Ｄ１〜Ｄ３を更新する。尚、本実施例では１パルス毎にパラメータを更新するシーケンスを採用している。そして、次のステップ１０９において演算器６は、・・（中略）・・第２発目のパルスエネルギー量Ｐ２を決定し・・（中略）・・印加電圧Ｖ２を算出した後、ステップ１０５へ戻る。
・・（中略）・・
　従って、以上の動作を繰り返し行うことにより、エネルギー照射中に印加電圧Ｖと発振エネルギー量Ｐとの関係が経時変化を起こしても、それを表現する関係式（上記（３）式）は経時変化に応じて適宜更新されるので、常に良好なエネルギー量制御精度を達成することが可能となる。」
（公報第７頁左上欄第７行〜第８頁左上欄第１７行）
▲７▼第３図
　第３図には、実施例に係る操作のフローチャートが記載され、必要に応じて、発振エネルギー量Ｐを検出した上でパラメータを算出するイニシャライズ操作を行った後、当該パラメータに基づきパルス露光を開始する点が記載され、露光開始後パルス毎にパルスエネルギー量を検出し、その検出したエネルギー量に基づいてパラメータを更新している点も記載されている。
　ここで、先願明細書における「エネルギー」には、本件発明でいう「光」も包含されることは、当業者に自明な事項である。
　以上の記載事項からみて、甲第１号証には、「パルス光を発生する光源、該光源のパルス毎の光量を検出する検出手段、および該光源のパルス光発生を設定された制御パラメータに応じて制御する光源制御手段を有する光量制御装置において、当該制御パラメータが有効でない場合はイニシャライズ操作を行い、該パラメータが有効である場合はイニシャライズ操作を行わずに、露光を開始し、パルス毎に検出した光量に応じて制御パラメータを更新する制御パラメータの制御手段を有することを特徴とする光量制御装置。」に係る発明（以下「先願明細書記載の発明」という。）が記載されている。
（対比・判断）
（１）まず、本件第１発明について検討する。
　本件第１発明と先願明細書記載の発明とを対比すると、次の点で相違し、その余の点で一致している。
　本件第１発明では、露光中に制御パラメータを順次変化させながら光源制御手段により複数のパルス光を発生させ、検出手段により検出した各パルス毎の検出値を用いて、制御パラメータ設定値と露光量との関係を求め、該関係に基づき以降のパルス光の制御パラメータの設定値を決定する制御パラメータ決定手段を有するのに対して、先願明細書記載の発明では、事前に設定されている制御パラメータが有効であるならばイニシャライズ操作を行わず、有効でないならばイニシャライズ操作を行った上で露光を開始し、それ以降は、単にパルス毎の光量に基づき制御パラメータを更新するパラメータ制御手段を有しており、当該先願明細書には、露光を開始した後に制御パラメータを決定する点に係る記載がない点。
　そこで、上記相違点について検討すると、本件第１発明は、当該相違点に係る構成事項を有することにより、先願明細書記載の発明におけるイニシャライズ操作を必要とせず、さらに適正な制御パラメータ設定値を、すぐに露光に反映させることができるという先願明細書記載の発明にない特有の効果を奏するものであるから、当該相違点は、実質的なものと認められる。
　してみると、本件第１発明は、上記先願明細書記載の発明と同一ではない。
（２）次に、本件異議申立に係る特許の明細書の特許請求の範囲の請求項２ないし請求項１５に係る各発明について検討すると、当該各発明は、それぞれ、本件第１発明を引用し、さらに構成に欠くことができない事項を付加したもの、あるいは、本件第１発明の構成に欠くことができない事項を全てその構成事項として含む露光装置あるいは半導体装置の製造方法に係るものであるから、本件第１発明と同様に、上記先願明細書記載の発明と同一ではない。
（３）したがって、本件特許に係る明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし請求項１５の各項に記載の発明は、それぞれ、特許出願の際独立して特許を受けることができるものである。
５．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項および同条第３項で準用する同法第１２６条第２項ないし第４項の訂正についての規定に関して、平成６年法律第１１６号附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる改正前の特許法第１２６条第１項ただし書きおよび同条第２項および第３項の規定に適合するものであるから、当該訂正を認める。
ＩＩＩ．特許異議の申立についての判断
１．申立の理由の概要
　申立人は、証拠として上記ＩＩ．４で示した先願明細書を提示し、本件特許に係る明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし請求項１５の各項に記載の発明が、特許法第２９条の２の規定により、特許を受けることができない旨主張し、特許を取り消すべきものである旨主張している。
２．判断
　本件特許に係る明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし請求項１５の各項に記載の発明は、上記ＩＩ．４で示した理由により、申立人が提示した特許異議申立の理由および証拠方法によって、特許法第２９条の２の規定により、特許を受けることができないものとすることができず、当該各発明に係る本件特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件の各発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年９月１０日（１９９９．９．１０）
【訂正の要旨】
（３）訂正の要旨
　（ｉ）特許請求の範囲請求項１、請求項４および請求項１０の「前記制御パラメータを順次変化させながら」を「
露光中に
　（ｉｉ）明細書第５頁第１６行〜第６頁第２行を、
「上記目的を達成するため、本発明は、
露光中に
求める
と訂正する。
（５４）【発明の名称】
光量制御装置および露光装置
（５７）【特許請求の範囲】
　（１）パルス光を発生する光源と、
　該光源のパルス発光毎の光量に応じた値を検出する検出手段と、
　該光源のパルス発光を設定された制御パラメータに応じて制御する光源制御手段と、
　
露光中
　（２）前記制御パラメータは、光源の放電電圧であることを特徴とする請求項１に記載の光量制御装置。
　（３）前記光源は、エキシマレーザであることを特徴とする請求項１または２に記載の光量制御装置。
　（４）１ショットにつき複数のパルス光でパターンを照明し、該パターンを基板上の露光領域に転写する露光装置において、
　前記パルス光を発生する光源と、
　該光源のパルス発光毎の露光量に応じた値を検出する検出手段と、
　該光源のパルス発光を設定された制御パラメータに応じて制御する光源制御手段と、
　
露光中
　（５）前記関係は、基板を実際に露光する際に求めることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
　（６）前記制御パラメータ決定手段は、前記基板のショット領域の総露光量が所定量となるように前記制御パラメータの設定値を決定することを特徴とする請求項４または５に記載の露光装置。
　（７）前記制御パラメータ決定手段は、前記基板のショット領域に対する最終の少なくとも１つのパルス発光の前記制御パラメータの設定値を決定することを特徴とする請求項４〜６のいずれかに記載の露光装置。
　（８）前記制御パラメータは、光源の放電電圧であることを特徴とする請求項４〜７のいずれかに記載の露光装置。
　（９）前記光源は、エキシマレーザであることを特徴とする請求項４〜８のいずれかに記載の露光装置。
　（１０）１ショットにつき複数のパルス光でパターンを照明し、該パターンを基板上の露光領域に転写し、回路パターンを形成する半導体素子の製造方法において、
　パルス発光毎の露光量に応じた値を検出する工程と、
　パルス発光を設定された制御パラメータに応じて制御する工程と、
　
露光中
　（１１）前記関係は、基板を実際に露光する際に求めることを特徴とする請求項１０に記載の半導体素子の製造方法。
　（１２）前記基板のショット領域の総露光量が所定量となるように前記制御パラメータの設定値を決定することを特徴とする請求項１０または１１に記載の半導体素子の製造方法。
　（１３）前記基板のショット領域に対する最終の少なくとも１つのパルス発光の前記制御パラメータの設定値を決定することを特徴とする請求項１０〜１２のいずれかに記載の半導体素子の製造方法。
　（１４）前記制御パラメータは、光源の放電電圧であることを特徴とする請求項１０〜１３のいずれかに記載の半導体素子の製造方法。
　（１５）前記パルス光は、エキシマレーザ光であることを特徴とする請求項１０〜１４のいずれかに記載の半導体素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
　本発明は、パルスレーザ等のパルス光源の光量制御装置およびそれを用いた露光装置に関し、特に高出力パルスレーザ光の露光制御の改良に関するものである。
［従来技術］
　半導体素子製造技術は高集積化、微細化の一途をたどり、近年エキシマレーザのようなパルスレーザが遠紫外領域の光源として露光装置に使用されはじめている。
　しかしながら、エキシマレーザのパルスエネルギは設定エネルギに対してショット毎にその大きさが５％前後変動する。そのために、各チップへの露光エネルギもその変動の影響を受けることになる。したがって、解像力や線幅の再現性を得るために、数百パルス以上のパルス光を用いて露光し相対的なバラツキ量を縮少させ、露光エネルギのバラツキを抑えていた。
　一方、近年ウエハに塗付するレジストの感度が向上し、１チップに対して露光に要するパルス数は数十から数百パルスで十分となってきている。
　しかし、このような１チップ当たりのパルス数が減少した場合、レーザのパルス毎にウエハに照射するエネルギをコントロールしないと、１チップに対する露光量が所定の許容範囲に入らないという問題が起こってくる。パルス毎にパルスエネルギをコントロールする方法としては、レーザの出力エネルギをコントロールしたり、干渉フィルタや減光フィルタを用いたりなどさまざまな方法が提案されている。
［発明が解決しようとする課題］
　パルス毎にパルスエネルギをコントロールする方法にはさまざまな方法があるが、装置の構成上、レーザ装置のパルスエネルギをパルス毎にコントロールする方法が一番簡便でかつ応答性が優れていると考えられる。
　しかし、現状のレーザ装置は技術的に発展途上にあるものが多く、設定した出力がどのような条件においても設定通りに出力されるとは言えないのが現状である。例えば、エキシマレーザのようなガスレーザの場合には、使用するレーザガスの経時的な劣化や、レーザに使用されている光学部品の劣化あるいは汚れなどにより、同じ設定パラメータでもレーザの状態により出力されるエネルギが変化する。
　第４図はパルスレーザ装置に設定した制御パラメータとレーザ出力（発光強度）との関係を示すグラフである。同図に示すように、制御パラメータとレーザ出力との関係は図中の矢印４１，４２のように経時的に変化する。
　そのため、露光量を制御するためパルスエネルギをパルス毎にコントロールしても、必ずしも設定エネルギにならず、所定の露光量を得るため単純な設定パラメータの変更を行なうだけでは露光量を正確にコントロールすることが困難である。
　本発明は、上述の従来例における問題点に鑑み、パルスレーザーを複数回パルス発光させることにより原板上のパターンを基板上に投影露光する露光装置において、適正な露光量で常に安定した露光を行なうことができるようにすることを目的とする。
［課題を解決するための手段および作用］
　上記目的を達成するため、本発明は、
露光中
露光中
［実施例］
　以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する。
　第１図は本発明の一実施例に係る縮小投影型の露光装置であるステッパの概略構成図を示す。
　同図において、レーザ光源（パルスレーザ）１は例えばｋｒＦが封入されたエネルギレーザで、パルス化されたレーザ光を発光する光源である。この光源は２４８ｎｍの遠紫外領域の波長の光を発光する。照明光学系２はビーム整形光学系、オプティカル・インテグレータ、コリメータおよびミラー（いずれも図示していない）で構成される。これらの部材は、遠紫外領域の光を効率的に透過あるいは反射する材料で形成されている。
　ビーム整形光学系はビームを所望の形に整形するためのものであり、オプティカル・インテグレータは光束の配向特性を均一にするためのものである。照明光学系２の光路に沿って集積回路パターンが形成されたレチクルＲ（またはマスク）が配置され、更に投影光学系３およびウエハＷが配置されている。
　照明光学系の光路にはミラー４が配置され、ミラー４より反射される光路には紫外光用のフォトセンサ５が配置されている。このフォトセンサ５の出力は積分回路６をへて１パルス当たりの露光量に変換され、積算露光量を演算するコントローラ７に入力される。レーザ出力制御部８はコントローラ７の演算結果に基づいてエキシマレーザ光源１を駆動し、パルス毎に必要に応じて制御された出力の光により、レチクルＲのパターンがウエハＷに露光される。
　さて、エキシマレーザは出力が大きいため、レジスト感度によっては数パルスの露光で十分な場合も考えられる。しかし、エキシマレーザの各パルス毎の出力のバラツキは通常±５％あるいはそれ以上に達する。そのため、ステッパ等で最も微細な加工を行う工程においては、１ショット当たり数パルスだけの露光ではこのバラツキ量も問題となってくる。そこで、バラツキの影響が無視できる程度の数十パルスまで増やして露光を行う。
　このとき、本実施例の露光装置では、第３図に示すように、露光初期の数パルスから１０パルス程度の間に制御パラメータ例えばレーザの放電電圧を変化させるようにしている。そして、その制御パラメータと実際のレーザ出力（露光量）との関係を示すテーブルを作成する。
　第１表は、このような制御パラメータである電圧とレーザ出力の関係を示す。
　このテーブルに基づいて、電圧とレーザ出力の関係式を導出する。設定した電圧間の値は例えば直線補間することにより求めればよい。そして、露光最後の１パルスあるいは数パルスの電圧の設定値を新しい電圧とレーザ出力の関係式から決定し、露光を行うものである（第２図）。
　第３図に、上記実施例の露光装置の露光シーケンスを詳細に示す。
　まず、ステップＳ１で最初に露光したい総露光量Ｙｔｏｔａｌを設定する。また、ステップＳ２で積算露光量ＳＵＭ、回数（パルス発光の回数）Ｎおよび電圧設定値ＸＮの初期値を設定する。積算露光量ＳＵＭと回数Ｎは“０”とし、電圧設定値ＸＮは電圧設定値の最大値ＸＭＡＸとする。
　ステップＳ３で回数Ｎをインクリメントし、ステップＳ４で電圧設定値ＸＮを制御パラメータとして露光を行なう。さらに、ステップＳ５で電圧設定値ＸＮの値を変化量Ａだけ減少させ、積算露光量ＳＵＭに電圧設定値ＸＮで行なった露光において実際に検出されたレーザエネルギＹＮを加える。次に、ステップＳ６でレーザエネルギの最小値ＹＭＩＮと検出したレーザエネルギＹＮに所定のオフセット値Ｂを加えた値ＹＮ＋Ｂとを比較する。値ＹＮ＋Ｂのほうが大きい場合は再びステップＳ３に戻って次の電圧設定値ＸＮにて露光およびレーザエネルギＹＮの検出を繰り返す。ステップＳ６で値ＹＮ＋Ｂのほうが大きくない場合は、ステップＳ７に進む。
　以上のステップＳ３〜Ｓ６の処理は、電圧設定値の範囲内で段階的に最大設定値ＸＭＡＸから順番に設定値を下げていき、それぞれの設定値ＸＮに対応したパルスエネルギＹＮを露光中に検出し、第１表のような電圧設定値ＸＮとパルスエネルギＹＮの測定データテーブルを作成する処理である。
　次に、ステップＳ７でパルスエネルギと電圧との関係式Ｘ＝ｆ（Ｙ）を決定する。なお、測定点以外の範囲は直線補間する。この関係式が決定された段階で、以後の露光電圧は測定した設定範囲において測定されたパルスエネルギＹＮの平均値ＹＡＶＥとなるように、設定値を平均エネルギを出す電圧設定値ＸＡＶＥとし露光を続行する。
　具体的には、ステップＳ８で平均エネルギＹＡＶＥを算出し、ステップＳ９で平均エネルギを出す電圧設定値ＸＡＶＥ＝ｆ（ＹＡＶＥ）を設定する。そして、ステップＳ１０で回数Ｎをインクリメントし、ステップＳ１１で電圧設定値ＸＡＶＥにて露光を行ない、ステップＳ１２で積算露光量ＳＵＭに電圧設定値ＸＮで行なった露光において実際に検出されたレーザエネルギＹＮを加える。
　ステップ１３で、積算露光量ＳＵＭとバラツキの最大値を加味した露光エネルギＹＡＶＥ＊Ｃの和が総露光量Ｙｔｏｔａｌを越えるか否かを判別する。越えない場合は再びステップＳ１０に戻り、電圧設定値ＸＡＶＥでの露光を繰り返す。越える場合は次のパルスが最終パルスであるからステップＳ１４へと進む。
　ステップＳ１４で、総露光量Ｙｔｏｔａｌから積算露光量ＳＵＭを引いた残露光量ＹＲを計算する。そして、ステップＳ１５で最終パルスを露光するため残露光量ＹＲの得られる設定電圧ＸＲを関係式Ｙ＝ｆ（Ｘ）より求める。そして、ステップＳ１６で設定電圧ＸＲにて露光を１回行い露光を終了する。
　以上の第３図に示すようなシーケンスを用いれば、レーザのパルス間バラツキによる変動も極力除外できる。また、露光ごとに制御パラメータとレーザ出力の関係を較正するため、レーザ固有のレーザガスや光学部品の劣化のみならず、ステッパ内部の光伝送光学系による時間的変動も除外して安定した露光量を制御できる。
　なお、設定値とパルスエネルギとの関係を求める方法はさまざまな方法を用いることができる。通常のエネルギレーザの設定できる電圧範囲においては、ほぼリニアな関係がある。そこで、上記の実施例では最小値２乗法を用いて関係式ｆを決定し、露光量制御精度１％以内という良好な結果を得た。
［他の実施例］
　上記実施例においては、ウエハの１露光（１ショット）ごとに毎回出力−電圧テーブルを作成して露光条件を較正する例を示したが、レーザおよびその他の光学系の安定度に応じて２回以上に１回すなわち１ウエハごとに１回あるいは一定時間ごとに１回関係式を較正して露光するようにしてもよい。
［発明の効果］
　以上説明したように、本発明によればエキシマレーザ等のパルスレーザを用いた露光装置において、レーザのパルス間のバラツキ、レーザガスの劣化、光学部品の劣化および変動に対しても安定して適正な露光量を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
　第１図は、本発明の一実施例に係る露光装置の概略構成図、
　第２図は、この実施例の露光装置における各パルスの露光量の変化を示すグラフ、
　第３図は、この実施例の露光装置における露光シーケンスを示すフローチャート、
　第４図は、制御パラメータとレーザ出力の関係を説明する図である。
　１：エキシマレーザ、
　２：照明光学系、
　３：縮小光学系、
　４：ミラー、
　５：フォトセンサ、
　６：積分回路、
　７：コントローラ、
　８：レーザ出力制御部、
　Ｒ：レチクル、
　Ｗ：ウエハ。