【事件の表示】
　特許第２９６５０９７号「結像装置」の請求項１ないし３、５、２２、２３、２５、２６、３４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９６５０９７号の請求項１ないし３、５、２２、２３、２５、２６、３４に係る特許を維持する。
【理　由】
【1】手続の経緯
　特許第2965097号の請求項1〜3、5、22、23、25、26及び34に係る発明は、平成4年3月7日(オランダ国での出願に基づくパリ条約による優先日:1991年3月7日)に出願され、平成11年8月13日にその設定登録がなされ、その後、桑田勉より特許異議申立がなされたものである。
　
【2】特許異議の申立てについての判断
《2-1》申立ての理由の概要
　申立人 桑田勉は、本件の請求項1に係る発明は、例えば甲第5号証に記載された周知慣用技術と甲1号証及び甲第2号証(又は甲第3号証等)に記載された構成に基づいて、当業者が容易に発明できたものである、請求項項2、3、5に係る発明は、甲第1号証から甲第3号証、甲第5号証に基づいて当業者が容易に発明できたものである、請求項22に係る発明は、甲第1号証から甲第3号証、甲第5号証(又は甲第1号証から甲第3号証、甲第5号証及び甲第7号証)に基づいて、当業者が容易に発明できたものである、請求項23、34に係る発明は、甲第1号証から甲第5号証、甲第8号証に基づいて、当業者が容易に発明できたものである、また請求項25、26、32に係る発明は、甲第1号証から甲第5号証に基づいて、当業者が容易に発明できたものであるから、本件請求項1、2、3、5、22、23、25、26及び34に係る発明は、特許法第29条第2項により取り消されるべきものである旨主張し、さらに、請求項1に記載された発明は、特許法第36条第4項及び第5項の規定を充足しておらず記載不備である旨主張している。
　
《2-2》本件の発明
　本件の請求項1〜3、5、22、23、25、26及び34に係る発明は、特許第2965097号明細書の特許請求の範囲の請求項1〜3、5、22、23、25、26及び34に記載された以下のとおりのものである。
　「【請求項1】 結像系と、その像面および結像を行うべき第2面間の変位を測定する光電子焦点検出系とを具え、この焦点検出系は前記結像系に固定されるとともに、焦点検出ビームを供給する放射線源と、前記第2面の前記放射線源と同一側に配列された放射線感応検出器と、前記第2面に僅かな角度で焦点検出ビームを指向し、このビームの収斂度を変化し、前記第2面により反射されたビームの収斂度を更に変化し、このビームを前記検出器に指向する光学素子とを設けるようにした結像装置において、前記焦点検出ビームが広い波長帯を有するとともに同一の格子周期で細条の方向が同じ第1および第2格子を設け、第1格子を前記放射線源および前記第2面間の放射線経路に配列し、第2格子を前記第2面および前記検出器間に配列し、この検出器によって第2格子からの光強度を測定し、これにより前記結像系の結像面および前記第2面間の変位を直接測定するようにしたことを特徴とする結像装置。
【請求項2】 前記検出器に受光する前記第1格子および第2格子の像を相互に周期的に移動させる手段を設けるようにしたことを特徴とする請求項1に記載の結像装置。
【請求項3】 周期的な電気信号によって制御される光学素子を前記焦点検出ビームの経路に配列し、この光学素子の光学特性が前記電気信号の影響の下で周期的に変化するようにしたことを特徴とする請求項1に記載の結像装置。
【請求項5】 前記第2面により1回反射された焦点検出ビームの経路に逆反射体を配列し、この逆反射体によってこれに沿うビームを反射し、前記ビーム分割素子を前記第2面で2回反射された焦点検出ビームの経路の前記第2面および放射線源間に配列し、前記ビーム分割素子によって前記第2格子およびその背後に配列した前記検出器に向かって前記2回反射されたビームを結合して除去するようにしたことを特徴とする請求項1、2、3または4に記載の結像装置。
【請求項22】 焦点誤差とは無関係に前記第2面に形成される放射線スポットを変位して発生した焦点誤差信号の零値を変化させる可調整光学素子を前記焦点検出ビームの放射線ビーム経路の第2面の前方に配列するようにしたことを特徴とする請求項1または6に記載の結像装置。
【請求項23】 2つの相互に直交するXおよびY軸に対する前記第2面の傾斜を決める第1および第2検出ユニットを具え、各検出ユニットは放射線源、第1および第2格子並びに検出器を具え、第1検出ユニットの光軸をXZ面に位置させ、第2検出ユニットの光軸をYZ面に位置させ、各検出ユニットにおいては、前記格子からのビームを平行ビームに変換する第1レンズ系を前記第1格子および前記第2面間に配列し、前記平行ビームを集束ビームに変換する第2レンズ系を前記第2面および前記第2格子間に配列するようにしたことを特徴とする請求項1,2または3に記載の結像装置。
【請求項25】 焦点検出ビームと同様の2つの余分の焦点検出ビームを供給する手段を設けて像面の互いに直交するXおよびY軸に対する前記第2面の傾斜を検出し、各焦点検出ビームは前記第2面の個別の点に向けて少なくとも2つの点が異なる種々のX位置をとり、少なくとも2つの点が異なる種々のY位置をとるようにし、2つの相互に直交するXおよびY軸にに対する第2面の傾斜を決めることを特徴とする請求項1または6に記載の結像装置。
【請求項26】 各々が2つの焦点検出ビームを有する2つの個別の焦点検出ユニットを具え、2つの焦点検出ユニットの検出信号は総合してX軸およびY軸に対する前記第2面の傾斜に関する情報を具えることを特徴とする請求項25に記載の結像装置。
【請求項34】 請求項1,6,23,25,27または28に記載の結像装置を具える基板にマスクパターンを繰返し結像する投射装置において、結像レンズ系を光学投射レンズ系によって形成し、このレンズ系により前記基板上にマスクパターンを投射し、前記第2面は露出すべき基板層の表面によって形成し、焦点検出系の信号を用いて前記基板と投射レンズ系および/またはこのレンズ系の像面および前記面間の角度と距離を設定することを特徴とする投射装置。」
(以下、請求項順に、本件発明1〜3、5、22、23、25、26及び34という。)
　
《2-3》特許法第36条第4項及び第5項の判断
　申立人は、請求項1に記載された発明の、「前記結像系の結像面および前記第2面間の変位を直接測定する」の記載において、「直接測定する」の意味が不明である旨主張する。その説明として、「本件発明の実施例では、【0100】段落に記載されているように、焦点誤差を間接的に測定する実施例(図2、図3、図7の例)はあるものの、「前記結像系の結像面…を直接測定する」に相当する実施例は見当たらず、【0101】段落から【0104】(図8)に記載された実施例も、基板および投影レンズ系間の実際の距離を測定することが記載されているのみで、「前記結像系の結像面…を直接測定する」ことは記載されていない」ことを挙げている。
　しかし、本件の特許明細書の【0003】【発明が解決しようとする課題】には、「結像すべきディテールの適合性のため、投射レンズ系はその開口数を大きくする必要がある。しかし、かかるレンズ系は焦点深度が小さいため、投射レンズ系の像面および基板表面間の変位を正確に測定し、できれば補正する必要がある。また、他の問題は基板表面を、この基板の全体または厚さ変化としての基板の傾斜のために、傾斜して配列する必要がある点である。さらに基板表面には局部的に凹凸がある。従って各基板視野に対し焦点検出を行う必要がある。」と記載され、【0009】【課題を解決するための手段】には、「この影響を減少するために、本発明の第1観点に従う結像装置の第1クラスにおいて、本発明は、結像系と、その像面および結像を行うべき第2面間の変位を測定する光電子焦点検出系とを具え、この焦点検出系は前記結像系に固定されるとともに、焦点検出ビームを供給する放射線源と、前記第2面の前記放射線源と同一側に配列された放射線感応検出器と、前記第2面に僅かな角度で焦点検出ビームを指向し、このビームの収斂度を変化し、前記第2面により反射されたビームの収斂度を更に変化し、このビームを前記検出器に指向する光学素子とを設けるようにした結像装置において、前記焦点検出ビームが広い波長帯を有するとともに同一の格子周期で細条の方向が同じ第1および第2格子を設け、第1格子を前記放射線源および前記第2面間の放射線経路に配列し、第2格子を前記第2面および前記検出器間に配列し、この検出器によって第2格子からの光強度を測定し、これにより前記結像系の結像面および前記第2面間の変位を直接測定するようにしたことを特徴とする。」と記載されている。そして、上記特許明細書の記載から、「直接測定する」は、結像系の結像面および前記第2面間の変位の測定を、結像を行うべき第2面の、結像系に対する変位を測定することによって行うことを意味することが明らかである。
　してみると、「直接測定する」点は、本件の明細書の発明の詳細な説明に記載されている技術事項であり、また、【0016】以降に記載された実施例において当業者が容易に実施できる程度に技術事項が説明されているものと認められる。
　よって、特許異議申立人の、記載不備に関する主張は採用することができない。
　
《2-4》特許法第29条第2項の判断
《2-4-1》甲第1〜8号証の刊行物における記載事項
[甲第1号証: 特開昭63-36526号公報]
　第3頁右下欄第7行から第4頁左上欄第6行には「46は発光ダイオード等の発光素子であり、この発光素子46を光源としてその光軸上に第1凸レンズ47、複数の切込みが設けられた第1スリット48および第2凸レンズ49が順次設けられている。前記第1スリット48の複数の切込みは、それぞれの像を縮小投影レンズ40に対応したウエハ42上の露光領域50に結ぶように設定されている。…前記結像箇所におけるそれぞれの反射光の進む前方には第3凸レンズ51および反射鏡52が設けられ、この反射鏡52は、それぞれの反射光が第2スリット53の直後に配置されたホトダイオード等の受光素子から成る複数のセンサ54の受光面に結像するように、設定されている。すなわち、センサ54は前記第1スリット48の切込みの位置および個数に対応して設けられている。上記の発光素子46からセンサ54までの構成からなる光学系は、露光領域測定部55を形成している。」と記載されている。
　第4頁左上欄第17行から同頁左下欄第3行には「…先ず圧電駆動ピン44に電圧を印加しない状態において、ウエハチャック41を水平方向に移動して、その上に固定されたウエハ42の露光領域50を縮小投影レンズ40に対応した所定の位置に設定する。このとき、露光領域50の位置情報は、位置設定と同時に演算回路56に与えられる。また、露光領域50の中心の上下位置は、例えば予め演算回路56に入力されている縮小投影レンズ40の焦点に一致した位置に設定されているものとする。…演算回路56は露光領域50の各入射点と縮小投影レンズ40の焦点面とのずれを計算し、その修正量を駆動回路45に出力する。…」と記載されている。
　第4頁左下欄第8行から同欄第12行には「本実施例においては、ウエハ42の各露光領域毎にそれぞれの全面を縮小投影レンズ40の焦点面に合わせて露光させることができるので、縮小投影レンズ40の解像度は常に最良の状態にあり、正確な露光を行うことができるという利点がある。」と記載されている。
　第4頁右下欄第7行から同欄第11行には「発光素子46はレーザダイオードとしてもよく、さらに半導体素子に限定されず光源ランプとしてもよい。センサ54の受光素子についても同様にホトトランジス夕や光電管等としてもよい。」と記載されている。
　以上の記載、及び第1図からすると、甲第1号証には以下のことが記載されている。
『al.縮小投影レンズ40と、縮小投影レンズ40の焦点位置とウエハ42間の変位を測定する露光領域測定部55とを具え、焦点検出光を供給する発光素子46と、前記ウエハ42の発光素子46と同一側に配列されたセンサ54と、ウエハ42に傾いて焦点検出光を指向し、この焦点検出光の収斂度を変化し、ウエハ42により反射された焦点検出光の収斂度を更に変化し、この焦点検出光をセンサ54に指向する光学素子(47、49、51、52)とを設けるようにした結像装置
　b1.焦点検出光は光源ランプ等からの光であるとともに、切込みの位置および個数が同じ第1スリット48および第2スリット53を設け、第1スリットを発光素子46およびウエハ42間の光路中に配置し、第2スリットをウエハ42およびセンサ54間に配置し、このセンサ54によって第2スリットからの光を受光し、これによりウエハ42の露光領域50の点と縮小投影レンズ40の焦点面とのずれを計算する。』
　また第2頁右上欄第8行から左下欄第18行には「…第3図に示されるような自動焦点合わせ装置が用いられる。この自動焦点合わせ装置は、発光ダイオード20、第1凸レンズ21、第1スリット22、第2凸レンズ23、第3凸レンズ24、振動反射鏡25、第2スリット26およびホトダイオード27により構成されている。…ウエハ11上の点29で反射された光は、第3の凸レンズ24を経て振動反射鏡25に入射する。この振動反射鏡25により微小角度の振動を与えられた光は、第2スリット26位置において再び像を結んでホトダイオード27に到達する。上記振動反射鏡25は振動によりその反射角度を微小変化させるもので、ある反射角度とそのときのホトダイオード27の感度との関係によりウエハステージ10の所定の位置が検出される。…」と記載されている。すなわち、光路中に設けられた光学素子(振動反射鏡25)の振動により、光の向きを換えることが記載されている。
　
[甲第2号証: 特開平2-188907号公報]
　第3頁左上欄第11行から同頁左下欄第4行には「…同図において1は縮小型の投影レンズであり不図示のレチクルパターンを被観測面であるウエハ2面上に縮小投影している。3はステージでありウエハ2と基準面27とを載置しており、ステージドライバ25により水平方向(X方向)と上下方向(Z方向)及び傾き方向に駆動制御されている。20は照明装置であり、回折格子より成る格子状パターンGIを角度θ方向から照明している。格子状パターンG1は例えば第5図(A)に示すようなピッチL1の透過型回折格子より成っており、その大きさはLx×Lyであり、…21は第1結像レンズであり格子状パターンG1を基準面27及びウエハ2面上にステージ3の水平駆動に伴い順次θ方向から投影結像している。22は第2結像レンズであり基準面27及びウエハ面2から反射されてくる格子状パターンG1の像を該格子状パターンG1のピッチL1と異なるピッチL2を有する第5図(B)に示すような透過型回折格子より成る格子状パターンG2面上に結像させている。23は第3結像レンズであり、格子状パターンG2面上に形成される。例えば第5図(C)に示すようなモアレ縞をCCD等から成る検出手段24の検出面24a上に結像している。26は演算手段であり、検出手段24からのモアレ縞の基本周期の位相に基づく出力信号を利用して所定の演算即ち基準面27とウエハ面2との位置ずれ量を求め、その演算結果に基づく信号をステージドライバ25に送出している。」と記載されている。
　第4頁右上欄第7行から第11行には「…基準面27を利用し、レチクルパターンの投影結像面と基準面27(被検面)が一致している時の位相をあらかじめ測定しておけば一致していない時の位相を測定することにより位相差が決定できる。」と記載されている。
　第5頁左下欄第15行から第16行には「以上の各実施例において光学系の色収差を補正し、照明光を多色化して使用しても良い。」と記載されている。
　以上、甲第2号証には以下のことが記載されている。
『a2.投影レンズ1、基準面27とウエハ面2との位置ずれを求める面位置検出装置とを具え、焦点検出のための照明光を供給する照明装置20と、ウエハ面2の照明装置20と同一側に配列された検出手段24と、ウエハ面2に斜めから照明光を指向し、照明光の収赦度を変化し、ウエハ面2により反射された照明光の収斂度を更に変化し、照明光を検出手段に指向するレンズ系(21、22、23)とを設けるようにした縮小投影型の露光装置において、
b2.照明光が多色化されているとともに格子ラインの方向が同じ格子状パターンG1および格子状パターンG2を設け、格子状パターンG1を照明装置20及びウエハ面2間の光路中に配列し、格子状パターンG2をウエハ面2および検出手段24間に配列し、検出手段24によって格子状パターンG2からの光強度を測定し、これにより基準面27とウエハ面2との位置ずれを測定する。』
　
　[甲第3号証: 特開平2-6709号公報]
　第3頁左下欄第10行から第4頁左下欄第16行には「以下、実施例に基づいて本発明を詳述する。第1図は本発明による表面変位検出装置の第1実施例の概略構成を示す図であり、(A)は光路の概略平面図、(B)は入射面内での光路を示す概略側面図である。光源11からの照射光束はコンデンサーレンズ12によって集光されてスリット板13を照射する。スリット板13は第1図(C)の平面図に示される如く、互いに直交する直線状パターンとしての2本のスリット13Aと13Bとからなる実質的な十字状スリットを有し、光軸に対して垂直に設けられている。スリット板13上の十宇状スリットの像が照射対物レンズ14によって、入射角αで被検面1上に投射さられる。被検面1からの反射光は集光対物レンズ21によって、第1図(D)の平面図に示す如き矩形開口を有する絞り22を介して集光され、受光スリツト板23上に十字状スリットの像を再結像する。この受光スリット板23は、第1図(E)の平面図に示される如き十字状スリットを有し、受光スリット板23を通過した光束が光電変換素子24からなる検出部に入射する。…このような構成において、照射光学系によって被検面1上に投射される十字状スリットの入射面Sに垂直な直線状パターン13Aの受光スリット板23上における入射面に平行な方向での変位量△yを検出することによって被検面1の上下方向の変位を検出することができる。…まず、スリット板13上の入射面に垂直な直線状パターン13Aによる被検面の変位検出について述べる。受光スリット板23は入射面に平行な方向で所定の振幅で振動可能に構成されており、受光スリット板23上に結像される垂直パターン13Aの結像光束の光強度分布を検出素子24の出力から検出するようになされている。受光スリット板23の入射面に垂直な開口23Aは、その長手方向がスリット板13の直線状パターン13Aと一致するように設定され、矢印aで示すように、この開口23Aと直交する方向に所定の振幅で振動するようになされている。ここで、被検面1が基準位置Z0の高さにあるとき、被検面1からの反射光が受光スリット板23の基準位置P0に入射するような光学系が形成されている。このように基準位置P0に反射光が入射するとき、受光スリット板23が基準位置P0を中心として周期Tで振動することにより、検出部24に到達する光の強さがほぼ周期T/2の正弦波状に変化し、これにより検出部24から周期T/2の正弦波検出出力を得ることができる。そしてこの検出出力を別途周期検波することにより、反射光がその入射方向と直交する方向に位置ずれすれば、その位置ずれ量に相当する検波出力を得ることができ、被検面の位置を、検出部24の検出出力に基づいて検出することができる。なおこの同期検波の手法によって変位量を知る方法は、例えば特開昭56-42205号公報に開示されており、光電顕微鏡の原理とされている。」と記載されている。
　第5頁右下欄第7行から第6頁左上欄第13行には「このような入射面に平行な直線状パターンによりスリット板13と受光スリット板23とのピント合わせによる基準設定を行う場合には、第1図(A)及び(B)に示した如く、集光光学系中に配置された2つの斜設平行平面板25,26を用いるのが好ましい。…第1斜設平行平面板25をその入射面に垂直な軸25aを回転軸として微小角度だけ回転することによって、受光スリット板23上の入射面に垂直なスリット23Aとスリット板13上の入射面に垂直なスリット13Aの像とが一致するように調整する。このように、2つの斜設平行平面板25,26の角度調整によって被検面の基準位置におけるスリット板13と受光スリット板23との基準位置設定が完了する。」と記載されている。
　第8頁右上欄第16行から同頁左下欄第9行には「(a)上記の本発明による実施例においては、表面の変位検出のために被検面に投射される入射面に垂直な直線上パターンの結像光束を、入射面に沿う方向において制限することによって、被検面上に塗布されたレジスト等の薄膜による干渉によるデフォーカス時の誤差を低減することを可能としたが、被検面への照射光束の波長の帯域を広くすることによって薄膜による干渉に起因する誤差を軽減することも可能である。従って、表面変位検出のための光源11として、ある程度の波長幅の光を供給するものを用いることが好ましい。しかしながら、波長幅が広くなるほど対物レンズのその帯域での色収差補正が難しくなるため、入1として600〜800nmの範囲を用いることが望ましい。」と記載されている。
　以上、甲第3号証には以下のことが記載されている。
　『a3.投影対物レンズL、基準位置と被検面1とのずれを測定する焦点検出装置とを具え、被検面1への照明光束を供給する光源11と、被検面の光源11と同一側に配列された検出素子24と、被検面1に斜めから照明光束を指向し、この照明光束の収斂度を変化し、被検面1により反射された照明光束の収斂度を更に変化し、この照明光束を検出素子24に指向する光学素子(12、14、21、28)とを設けるようにした結像装置において、
b3.照明光束が広い波長域を有するとともにスリットの長手方向が同じスリット板(13、33)及び受光スリット板23を設け、スリット板(13、33)を光源11と被検面1との間の光路中に配置し、受光スリット板23を被検面1と検出素子24との間の光路中に配置し、検出素子24によって受光スリット板23からの光強度を測定し、基準面と被検面1とのずれを測定する』
　
[甲第4号証: 特開昭61-74338号公報]
　以上、甲第4号証には以下のことが記載されている。
『a4.縮小レンズ1、ウエハ2の位置を測定する光学的位置合せ装置とを具え、検出用のレーザ光束を供給するレーザ光源3と、ウエハ2のレーザ光源3と同一側に配列されたイメージセンサ17と、ウエハ2に斜めから検出用のレーザ光束を指向し、レーザ光束の収斂度を変化し、ウェハにより反射されたレーザ光束の収斂度を更に変化し、このレーザ光束をイメージセンサ12、17に指向するレンズ系(6、9、13)とを設けるようにした縮小投影露光装置において、
b4.スリット5を複数平行に並べた多重スリット15を設け、多重スリット15をレーザ光源3およびウエハ2の光路に配列し、イメージセンサ17によってウエハ2からのレーザ光を測定し、これによりウエハ2の変位を測定する。』
　
[甲第5号証: 特開昭56-32114号公報]
　第2頁左上欄第10行から右上欄第1行には「本発明は結像系の像面と本来この結像系が像を結像すべき第2の面との間のずれを求めるために、補助ビームを出力する放射線源と、上記第2の面で第1回の反射を受けた補助ビームの通路内に置かれ、この補助ビームを第2の面の方に戻す反射要素と、第2の面で2回目の反射を受けた後の補助ビームの通路内に置かれる2個の放射線感応検出器とを具え、上記放射線感応検出器と反射要素とが前記結像系に連結されており、2個の検出器の出力信号が前記ずれの目安となるように構成された光-電子検出系を具える光学結像素装置に関すものである。」と記載されている。
　第3頁左下欄第16行から右下欄第16行には「…第1図で符号L1は結像系を示す。光-電子検出系は放射線源S(これは補助ビームbを出す)と、第1のレンズL2と、第2のレンズL3と、2個の検出器、例えばフォトダイオードD1及びD2とを具える。この光-電子検出系は支持体Stによりレンズ系(結像系)L1に機械的に剛固に連結されている。…」と記載されている。
　第4頁左上欄第13行から第18行には「補助放射線ビームbの面Pに対する入射角αはできるだけ大きく、例えば80°台に選び、…」と記載されている。
　第5頁左上欄第16行から左下欄第2行には「レーザビームbはレンズL4で平行ビームに変換され、その後ビームスプリッターBSで反射させ、更に反射プリズムP2及びP3で反射させた後基体面Pに入射させる。その途中にレンズL2を設け、これにより基体面P上に放射線スポットVを結ぶ。次に放射ビームbは第2図につき説明した放射線の通路を通る。そして基体面Pで2度反射された放射線ビームbはビームスブリッターBSを通り抜け2個の検出器D1及びD2に送られる。…」と記載されている。
　以上、甲第5号証には以下のことが記載されている。
『a5.結像系L1、結像系の像面と結像系が像を結像すべき面Pとの間のずれを測定する光-電子測定系(S、L2、L3、D1、D2)とを具え、この光-電子測定系は結像系L1に固定されるとともに、放射線ビームbを供給する放射線源Sと、面Pの放射線源Sと同一側に配列された放射線感応検出器(D1、D2)と、面Pに僅かな角度で放射線ビームbを指向し、このビームの収斂度を変化し、面Pにより反射されたビームの収斂度を更に変化し、このビームを検出器に指向するレンズ系(L2、L3)とを設けるようにした光学的結像装置』
　
[甲第6号証: 特開昭63-271927号公報]
　第1図、第2図、第1頁右欄第14行から第2頁左上欄第11行には、投影レンズ5の固定された焦点検出系を具えた投影露光装置が記載されている。
　また、ウエハ8で反射された光を、プリズム4と反射ミラー3を介してウエハ8で集光し、スプリットディテクター2で基本のホトダイオードレーザのシグナルAと、ウエハを反射して戻ってきた信号Bを比較し焦点検出を行う焦点検出系が記載されている。
　
[甲第7号証: 特開昭60-168112号公報]
　第9頁左下欄第14行から第12頁左上欄第2行には「…第17図は、この焦点検出系の具体的な構成図である。投光器50内には、ウエハ7に塗布された感光剤を感光させない波長の光(例えば赤外光)を発する光源60と、光源60によって照明されるスリット板61と、このスリット板61に紙面と垂直な方向に伸長して形成されたスリット開口を通った光を平行光束にするレンズ62と、レンズ62からの平行光束を反射するミラー63と、ミラー63からの平行光束を入射してその光束の光軸をシフトさせて射出する平行平板ガラス(プレーンパラレル)64と、平行平板ガラス64からの平行光束を集光して、投影レンズ5の結像面P0内にスリット板61のスリット像を結像するレンズ65とが設けられている。平行平板ガラス64は図中紙面と垂直な回転軸を有し、駆動部66によって、その回転軸のまわりに一定の角度範囲内で回転する。この回転によって、レンズ65によるスリット像の結像位置が結像面P0と垂直な方向に変位する。尚、第17図ではウエハ7のパターン面7aと結像面P0とが一致した合焦状態を示してある。一方、受光器51には、反射光束l5を入射するレンズ67と、レンズ67からの光束を反射すると共に、その反射の方向を振動により変える振動ミラー68と、レンズ67からの光束の結像位置に設けられたスリット板69と、そのスリット板69に紙面と垂直な方向に延設されたスリット69aを通過してきた光を受光して、光電信号を出力する受光素子70とが設けられている。振動ミラー68は紙面と垂直な回転軸を有し、駆動部71はその回転軸を中心に、振動ミラー68を一定の角周波数及び一定の振幅で単振動させる。…第18図は本装置の制御系のブロック図である。基本的には第2図の回路ブロックと同じであり、同じ動作、作用のものには同一の符号をつけてある。振動ミラー68の駆動部71は発振器80から発生する一定の周波数の交流信号を入力し、その交流信号の周波数に応じて振動ミラー68を単振動させる。受光素子70の光電信号は増幅器81によって増幅され、その光電信号と発振器80からの交流信号とは位相同期検波回路(PSD)82に入力する。PSD82は発振器80の交流信号を基準信号にして光電信号を同期検波する。PSD82によって検波された信号はローパスフィル夕-(LPF)83によって高調波成分が除去されて、制御回路31に入力する。LPF83の出力信号、すなわち検波信号Sdは、スリット像の振動中心がスリット69aと一致したときは零となり、その振動中心が例えばスリット69aに対して第17図中で左側に変位したときは正極性となり、逆に変位したときは負極性となるような、いわゆるSカーブ信号である。…さて、第19図は制御回路31内に設けられた検波信号Sdの処理回路の回路ブロック図である。検波信号Sdは切替信号S1に応答して切替動作を行なうスイッチ90に入力する。差動回路91は検波信号Sdの零レベル(アース電位)からの偏差に応じた差信号をスイッチ90に出力する。スイッチ90は切替信号S1に応じて、検波信号Sdと、その差信号のいずれか一方の信号をアナログ-デジタル変換器(以下、ADCとする)92に出力する。ADC92は、入力した検波信号Sd、又は差信号をデジタルデータD2に変換するとともに、ラッチ回路93にも出力する。ラッチ回路93は信号S2に応じて、データD2のラッチを行なうが否かを切替える。そして、このラッチ回路93を介して出力されたデータD2が前述の駆信号Seになる。このような構成に���いて、スイッチ90は、平行平板ガ凄ラス64の角度を較正(キャリブレーシヨン)する際は差動回路91の差信号を選択し、ウエハ7の上下方向の位置検出(焦点検出)の際は検波信号Sdを選択するように制御回路31によって切替えられる。…」と記載されている。
　すなわち、甲第7号証には、焦点検出系において、被検面に照射される光束を変位させて零点調整を行う平行平板ガラス64を、光源と被検査面との間に光路中に設けることが記載されている。
　
[甲第8号証: 特開平1-253603号公報]
　第2頁右下欄第2行から第3頁左上欄第20行には、スリット1、2、3からの光束を被検出面a'上に照射し、被検出面a'の面位置を検出する装置が記成されており、第3頁左上欄第7行から第20行には「スリット1、2、3を含む光源面aと被検出面a'とは、第2図に示すように、第1投影レンズ4及び第2投影レンズ5に関しシャインプルーフの条件を満足するように配置されている。また、第1投影レンズ4と第2投影レンズは、テレセントリック系を形成している。すなわち。第1投影レンズ4はこのテレセントリック系の入射瞳として機能し、第2投影レンズ5の物体焦点面に位置している。従って、スリット1、2、3から射出された光束はテレセントリック系の入射瞳である第1投影レンズ4を通過後、第2対物レンズ5により光軸に平行な光束となって像空間を進み、被検出面a'上に指標像1'、2'、3'を形成する。」と記載されている。
　第3頁左下欄第3行から第9行には「第3投影レンズ18及び第4投影レンズ20はそれぞれ第2投影レンズ5及び第1投影レンズ4に対応し、逆向きのテレセントリック光学系を形成し、また、被検出面a'と、後述の半導体位置検出器(PSD)等の光検出器25、26、27を含む検出面a''は共役になるように配置される。」と記載されている。
　すなわち、甲第8号証には、複数のスリットからの光束を平行光に変換,する第2対物レンズ5と、その逆に平行光を集光する第3投影レンズ18が記載されている。
　
《2-4-2》対比・判断
　本件発明1と甲第1、2、3号証刊行物に記載された発明とを対比すると、本件第1発明が「焦点検出ビームが広い波長帯を有するとともに同一の格子周期で細条の方向が同じ第1および第2格子を設け、第1格子を前記放射線源および前記第2面間の放射線経路に配列し、第2格子を前記第2面および前記検出器間に配列し、この検出器によって第2格子からの光強度を測定し、これにより前記結像系の結像面および前記第2面間の変位を直接測定する」のに対して甲第1号証刊行物には「同一の格子周期で細条の方向が同じ第1および第2格子を設け、第1格子を前記放射線源および前記第2面間の放射線経路に配列し、第2格子を前記第2面および前記検出器間に配列し、この検出器によって第2格子からの光強度を測定し、これにより前記結像系の結像面および前記第2面間の変位を直接測定する」点が記載され、甲第2号証刊行物には「光学系の色収差を補正し、照明光を多色化して使用しても良い」点が記載され、甲第3号証刊行物には「被検面上に塗布されたレジスト等の薄膜による干渉によるデフォーカス時の誤差を低減することを可能としたが、被検面への照射光束の波長の帯域を広くすることによって薄膜による干渉に起因する誤差を軽減することも可能である」点が記載されている。しかし、本件特許掲載公報、【0010】に記載された「焦点検出ビームの放射線は広いスペクトルを有し、且つ干渉現象は各波長に対し異なるため、および干渉は全ビームに対して平均化されるため、焦点検出ビームは基板層パケットによってはもはや影響を受けなくなる。広いスペクトルを有する放射線を用いて基板上に形成し得る最小放射線スポットの寸法は、単色放射線を用いる場合この寸法よりも大きくなるとともに焦点検出装置の感度または解像度はこの寸法に比例するため、何らかの他の手段を講じない場合には解像度が減少する。本発明によっても、2つの格子を用いてこれを防止しこれら格子のうちの1つの他の格子に基板の反射を経て結像する。これがため格子変位系を用い、その感度を格子の周期に比例させ、これにより極めて精密な測定を実施することができる」という知見に基づいて、干渉を防ぐ広い波長帯による解像度の減少に対処するために、広い波長帯のビームと、形状が特定された第1および第2格子とを組み合わせる点については甲第1〜3号証刊行物には記載も示唆もない。
　そして、この点につては、甲第4〜8号証刊行物にも記載または示唆されていない。
　そして、本件発明1は、広い波長帯のビームと形状が特定された第1および第2格子とを組み合わせる点によって、明細書記載の特有の効果を奏するものと認められる。
　
　従って、本件発明1は、甲第1〜8号証の刊行物に記載された発明でないばかりでなく、甲第1〜8号証の刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものでもない。
　
　次に、本件発明2、3、5、22、23、25、26及び34についてみるに、本件発明2、3、5、22、23、25、26及び34は、発明の欠くことができない事項として、前述のように甲第1〜8号証刊行物に記載された事項から当業者といえども容易に想到できた事項とは認められない事項である広い波長帯のビームと、形状が特定された第1および第2格子とを組み合わせる点を含む本件発明1の構成を含むものである。よって、本件発明1について述べた理由と同じ理由によって、本件発明2、3、5、22、23、25、26及び34は、甲第1〜8号証の刊行物に記載された発明と認められないばかりでなく、甲第1〜8号証の刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものと認めることもできない。
　
【3】むすび
　以上のとおり、本件の請求項1〜3、5、22、23、25、26及び34に係る発明の特許を、異議申立人の提示した理由及び証拠方法によって取り消すことはできない。
　そして、他に本件の請求項1に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律(平成6年法律第116号)附則第14条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令(平成7年政令第205号)第4条第2項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年５月２日（２００１．５．２）