【事件の表示】
　特許第３０６５１９３号「高純度コバルトスパッタリングターゲット」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３０６５１９３号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第３０６５１９３号（以下「本件特許」という。）は、平成４年１２月２４日に特許出願され、特許権の設定登録の後、特許異議申立人　ソニー株式会社より、請求項１に係る特許について特許異議の申立がなされたものである。
　　
II．本件発明
　本件請求項１に係る発明（以下「本件発明」という。）は、願書に添付した明細書及び図面（以下単に「明細書」という。）の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。
「【請求項１】純度５Ｎ以上で、不純物である鉄及びニッケルが０．５ｐｐｍ以下、銅が０．１ｐｐｍ以下であることを特徴とする半導体デバイス製造用高純度コバルトスパッタリングターゲット。」
　　　　
III．特許異議申立について
（III-1）特許異議申立人の主張
　特許異議申立人　ソニー株式会社は、本件出願前に頒布された刊行物である甲第１号証（「Journal of the Less-Common Metals」Vol.105,No.2（１９８５年２月）第２１１〜２２０頁）、甲第２号証（「日本鉱業会誌」Vol.102,No.1182（昭和６１年８月）第４５１〜４５５頁）、及び甲第３号証（「日本鉱業会誌」Vol.101,No.1167（昭和６０年５月）第３０９〜３１２頁）を提出し、さらに甲第４号証として、「ＣｏＣｌ２・６Ｈ２Ｏを出発原料とした高純度Ｃｏの検討」と題する文書を「実験証明書」として提出して、甲第４号証の記載を参酌すれば、本件発明は甲第１〜３号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明であり（理由１；発明の容易性）、また、本件発明に係る特許は、明細書の記載が特許法第３６条第４、５項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してなされたものであるので（理由２；明細書等の記載要件）、本件発明に係る特許は取り消すべきものであると主張している。
　　
（III-2）証拠の記載事実
甲第１号証
(1-1)「陰イオン交換分離、電解抽出、浮遊帯域精製および乾式水素処理を組み合わせて用いることによりコバルトを精製した。各精製方法の有効性を、残留抵抗比（ＲＲＲ）測定および放射化分析により確認した。プロトン放射化分析は、これらの方法の組み合わせにより鉄以外の主な金属不純物が有効に除去されたことを明らかにした。」（第２１１頁第７〜１２行）
(1-2)出発物質（ＣoＣl２・６Ｈ２Ｏ）→ＣoＣl２溶液（９Ｎ　ＨＣl）→陰イオン交換分離→蒸発乾固→ＣoＣl２溶液（０.１Ｎ　ＨＣl）→電解抽出→脱気→浮遊帯域精製→水素処理、からなる精製プロセス。（第２１３頁　図１）
(1-3)「プロトン及び熱中性子の放射化分析並びにＲＲＲ値の結果」として、「試料７」の不純物含有量（重量ppm）について、Ｆｅが３．３wt.ppm、Ｎｉが＜０．２wt.ppm、及びＣｕが＜０．００６wt.ppmであったこと。（第２１５頁　表１）
　　
甲第２号証
　甲第２号証は「日鉱ニッケルコバルト精錬（株）におけるニッケル・コバルト分離精製技術の確立」と題する報文であって、以下の事項が記載されている。
(2-1)「日本鉱業（株）は、ニッケル、コバルトの分離、精製の研究に着手した。・・・他の一つは、陽イオン交換型溶媒（Ｄ２ＥＨＰＡ）を用いるもので、硫酸塩溶液で処理できるという利点はあるが、ニッケル、コバルトの分離性能に難があると思われた。しかし、抽出およびスクラビングを多段に行なうことにより、効率を高め得ることが判明したので・・・操業を開始した。ニッケルとコバルトの分離工程は、当初、計画どおりの成績が出ず、苦労を重ねたが、コバルト抽出用溶媒の2-Ethyl hexyl phosphonic acid mono-2-ethylhexyl ester（以下、Ｍ２ＥＨＰＡと略称する）への変更、関連設備の増強等によりその改善を図った。」（第４５１頁左欄「１．緒言」の欄）
(2-2)「不純物除去後のニッケル、コバルト硫酸塩混合溶液は、コバルト抽出工程に送られる。ここでは、コバルトの選択抽出方式によりニッケルとコバルトの分離を行なっている。溶媒はＭ２ＥＨＰＡを使用しており、構成は、抽出４段、スクラビング２段、逆抽出２段の８段である。」（第４５２頁「２・３ニッケル、コバルトの分離（コバルト抽出）工程」の欄）
(2-3)「本技術の特徴は、浸出工程から電解採取まで一貫して硫酸塩溶液によっていること、溶媒抽出と電解採取の組み合わせで、両工程間を硫酸塩溶液が循環しているところにある。この特徴を生かしたコバルト電解技術を確立するにあたり、特に問題となった事項について述べる。」（第４５４頁左欄　「４．コバルト電解技術の確立」の欄。）
　　
甲第３号証
　甲第３号証は「アルキルリン酸による硫酸溶液からの金属の溶媒抽出」と題する報文であって、以下の事項が記載されている。
(3-1)「１．緒言　アルキルリン酸による２価金属の溶媒抽出はNi−Ｃo系の分離などの実用面から強い関心が寄せられている。・・・そこで本報告ではさらに金属精錬との関連から硫酸溶液中の２価金属（Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ）の抽出につき検討した結果を述べる。
２．実験　ＤＥＨＰＡ（大八化学製）は精製し、種々の有機溶媒・・・で希釈して原液とした。」（第３５頁左欄［１．緒言］及び「２．実験」の欄）
　　
甲第４号証
　甲第４号証は、特許異議申立人が「実験証明書」として提出したものであって、ソニー株式会社の下向仁が作製したとする、「ＣｏＣｌ２・６Ｈ２Ｏを出発原料とした高純度Ｃｏの検討」と題する文書であり、イオン交換処理前後における塩化コバルト試薬中に含まれるＮｉ、Ｆｅ及びＣｕ含有量が示されている。
　　
（III-3）対比・判断
理由１（発明の進歩性）について
　本件発明と、甲第１号証に記載された発明とを対比すると、甲第１号証にはニッケル・コバルトの分離精製技術が記載されているが、本件発明の構成要件である（Ａ）「半導体デバイス製造用高純度コバルトスパッタリングターゲット」の点の記載はなく、また、（Ｂ）コバルトスパッタリングターゲットについて「純度５Ｎ以上で、不純物である鉄及びニッケルが０．５ｐｐｍ以下、銅が０．１ｐｐｍ以下である」とする点についての記載もない。
　そこで、上記相違点（Ａ）及び（Ｂ）について検討すると、甲第２及び３号証のいずれにも、コバルトスパッタリングターゲット及びその純度に係る記載はなく、したがって、甲第２、３号証には、上記相違点（Ａ）及び（Ｂ）に係る構成の記載があるとはいえない。また、甲第４号証は、塩化コバルトの精製実験について記載したものではあるが、上記相違点（Ａ）及び（Ｂ）に係る本件発明の構成について、本件出願時における想到容易性を説明するものとはいえない。
　してみれば、甲第４号証の記載を参酌しても、本件発明が、甲第１〜３号証に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができた発明とすることはできない。
　　
理由２（明細書等の記載要件）について
　特許異議申立人は、（ａ）本件発明における純度（「５Ｎ以上」）をどのようにして算出し、決定したのか不明であり、（ｂ）実施例において、鉄、ニッケル及び銅以外の不純物濃度が不明であり、純度の記載もない、及び（ｃ）不純物濃度の測定方法の記載がない、として明細書の記載不備を主張しているので、以下、これらの点について検討する。
主張（ａ）について
　「純度５Ｎ以上」が９９．９９９％以上の純度を意味することは自明の事項であり、また、このような純度の算出、決定は、通常の手段により不純物含有量を測定することにより当業者が適宜なし得ることと認められるので、特許異議申立人の主張は採用できない。
　　
主張（ｂ）について
　本件発明は、純度を構成要件として含む上記認定のとおりのものであり、そしてその実施例においては、自ずと本件発明における当該純度の範囲内にあるものと認めることができる。また、本件発明では、不純物として鉄、ニッケル及び銅の含有量を特定しているのであるから、それ以外の不純物濃度の記載がないからといって、実施例として不適当であるとは言うことはできない。よって、特許異議申立人の主張は採用できない。
　　
主張（ｃ）について
  不純物濃度の測定方法は、当業者が適宜採用し得るものと認められ、また、本件発明において、その測定方法を逐一記載する必要性があるということもできないので、特許異議申立人の主張は採用できない。
　　
IV．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立人の主張する理由及び提示した証拠によっては、本件発明に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年５月２５日（２００１．５．２５）