【事件の表示】
　特許第２６５０１０５号「ガス制御装置」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２６５０１０５号の特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第２６５０１０５号発明は、昭和５７年１０月２９日に出願された特願昭５７−１８９０５３号の一部を特許法第４４条第１項の規定により、平成６年８月３日に、特願平６−１８２１４９号として新たに特許出願したものであって、平成９年５月１６日に特許の設定の登録がなされたところ、その特許に対し、東谷　満（以下、「申立人」という。）より特許異議の申立てがなされた。
　その後、平成１０年５月１４日付けで取消理由の通知がなされ、その指定期間内である平成１０年７月２７日に訂正請求書が提出されたところ、それに対し訂正拒絶理由の通知がなされ、その指定期間内に手続補正書（訂正請求書）が提出された。
　その後、平成１２年６月９日付けで再度の取消理由の通知がなされ、その指定期間内である平成１２年６月２６日に訂正請求書及び取下書（平成１０年７月２７日付けの訂正請求書及び手続補正書（訂正請求書））が提出されたものである。
　
II．訂正の要旨
　平成１２年６月２６日付けの訂正請求における訂正の要旨は次のとおりである。
１．訂正事項ａ
　願書に添付した明細書（以下、「特許明細書」という。）の
（１）特許請求の範囲第１項の記載中の「ガス供給手段」（特許公報１欄２〜３行、５行、６行及び１４行）とあるのを「ガス供給管」に訂正し、
（２）同「系外へ強制的に排出させるためのガス排出手段が接続され、」（同公報１欄１５行〜２欄１行）とあるのを「系外へ強制的に排出させるための前記容器内を減圧にする前記ガス排出手段とは別のガス供給の経路用のガス排出手段が接続され、」に訂正し、
（３）同「前記ガス排出手段の前記ガスの排出経路の途中には」（同公報２欄２行）とあるのを「前記ガス供給経路用のガス排出手段の前記ガスの排出経路の途中には」に訂正し、
（４）同「前記ガス供給源と前記ガス排出手段の間には、」（同公報２欄６行）とあるのを「前記ガス供給源と前記ガス供給の経路用の排出手段の間には、」に訂正し、
（５）同「前記ガス排出手段へ導くための」（同公報２欄８〜９行）とあるのを「前記ガス供給の経路用のガス排出手段へ導くための、」に訂正し、
（６）同「バイパス経路」（同公報２欄９行）とあるのを「前記可変バルブから上流側の前記ガス供給管内の不要ガスを排気清浄化するときに開かれる第三のバルブをその途中に有するバイパス経路」に訂正する。
２．訂正事項ｂ
　特許明細書の
（１）段落【０００５】の記載中の「ガス供給手段」（特許公報３欄４８行、５０行、４欄１行及び９行）とあるのを「ガス供給管」に訂正し、
（２）同「系外へ強制的に排出させるためのガス排出手段が接続され、」（特許公報４欄１０〜１１行）とあるのを「系外へ強制的に排出させるための前記容器内を減圧にするガス排出手段とは別のガス供給の経路用のガス排出手段が接続され、」に訂正し、
（３）同「前記ガス排出手段の前記ガスの排出経路の途中には」（同公報４欄１１〜１２行）とあるのを「前記ガス供給の経路用のガス排出手段の前記ガスの排出経路の途中には」に訂正し、
（４）同「前記ガス供給源と前記ガス排出手段の間には、」（同公報４欄１４〜１５行）とあるのを「前記ガス供給源と前記ガス供給の経路用の排出手段の間には、」に訂正し、
（５）同「前記ガス排出手段へ導くための」（同公報４欄１７行）とあるのを「前記ガス供給の経路用のガス排出手段へ導くための、」に訂正し、
（６）同「バイパス経路」（同公報４欄１７〜１８行）とあるのを「前記可変バルブから上流側の前記ガス供給管内の不要ガスを排気清浄化するときに開かれる第三のバルブをその途中に有するバイパス経路」に訂正する。
３．訂正事項ｃ
　特許明細書の段落【０００８】の記載中、「図２に示したのガス配管」（同公報５欄１３行）とあるのを「図２に示したガス配管」に訂正する。
　
III．訂正の適否に対する判断
１．訂正の目的、新規事項、拡張・変更
１．１　訂正事項ａについて
　上記訂正事項ａの（１）は、特許明細書の段落【００１０】には参考例である図２に関し「ガス源８から配管部４を介して排気ポンプ系５の方向へ定常状態のガスを流しておく。次に、バルブ１０を閉とし、ストップバルブ３を開くことにより、ガスは真空槽１へ供給されることになる。」（特許公報５欄３０〜３４行）と記載され、同じく段落【００１３】には実施例である図４に関し「同図はガス配管を清浄にするための可変バルブ２のバイパスバルブ１１を設けた構成であり、ガス源から可変バルブ２までの配管部分の不要ガスを排気清浄化するときに、処理時間を短縮できる。」（同６欄５〜８行）と記載されており、また、図２、図４及び図５の記載からしても、ガス源８，１３ないし１５からのガスはガス配管４により真空槽１へ供給されていたことが一義的に読みとれるから、明りょうでない記載の釈明に相当し、また、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　上記訂正事項ａの（２）は、特許明細書の特許請求の範囲第１項では「系外へ強制的に排出させるためのガス排出手段」と「容器内を減圧にするためのガス排出手段」との関係は何も限定されていなかったものを両者は別のものであると限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。また、特許明細書の段落【０００７】には参考例である図２に関し「真空装置にガスを供給する場合に、中間排気配管系５を設けた構成を示す。真空槽１は予め排気ポンプ系６によってバルブ７を経て排気されている。」（同公報４欄３０〜３３行）と記載され、同じく実施例である図４及び図５の記載からしても、真空槽１を排気する排気ポンプ系６と配管系４に接続されている中間排気管系５は別個の手段として記載されていることが一義的に読みとれるから、上記訂正事項ａの（２）は、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　上記訂正事項ａの（３）及び（４）は、上記訂正事項ａの（２）により「系外へ強制的に排出させるためのガス排出手段」と「容器内を減圧にするためのガス排出手段」とが明確に区別されたことに伴い、どちらのガス排出手段であるかを明示したものであるから、明りょうでない記載の釈明に相当し、また、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　上記訂正事項ａの（５）は、特許明細書の特許請求の範囲第１項ではバイパス経路の具体的構成は何も記載されていなかったものを具体的に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。そして、特許明細書の段落【００１３】には実施例である図４に関し「同図はガス配管を清浄にするための可変バルブ２のバイパスバルブ１１を設けた構成であり、ガス源から可変バルブ２までの配管部分の不要ガスを排気清浄化するときに、処理時間を短縮できる。」（同６欄４〜８行）と記載されていたから、上記「バイパスバルブ１１」が「第３のバルブ」に相当することは明らかであるので、上記訂正事項ａの（５）は、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
１．２　訂正事項ｂについて
　上記訂正事項ｂは、上記訂正事項ａで特許明細書の特許請求の範囲が訂正されたことに伴い、発明の詳細な説明をこれに整合するように訂正するものであるから、明りょうでない記載の釈明に相当し、また、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
１．３　訂正事項ｃについて
　上記訂正事項は、誤記の訂正に相当し、また、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
２．独立特許要件について
２．１　取消理由の概要
（１）平成１０年５月１４日付けで当審が通知した取消理由の概要は次のとおりである。
　本件特許の特許請求の範囲第１項に記載された発明は、その出願前に国内において頒布された下記１ないし２の刊行物に記載された発明であるか、あるいは下記１〜３に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、該発明の特許は特許法第２９条第１項ないしは同条第２項の規定に違反してなされたものである。
　　刊行物１：「電子材料」１９７６年１２月号、９５〜１０１頁
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（甲第１号証に該当）
　　刊行物２：桜井良文、浜川圭弘監修「アモルファス電子材料利用技
　　　　　　術集成」株式会社サイエンスフォーラム、昭和５６年２月
　　　　　　１０日発行、３６４〜３７５頁　　（甲第２号証に該当）
　　刊行物３：「応用物理」第４８巻第５号（１９７９）、４６０〜
　　　　　　４６５頁　　　　　　　　　　　　（甲第３号証に該当）
（２）また、平成１２年６月９日付けで当審が通知した取消理由の概要は次のとおりである。
　特許明細書の特許請求の範囲第１項の記載では、バイパス経路の具体的構成が明確でない。
　したがって、本件特許は、明細書の記載が特許法第３６条第５項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してなされたものである。
２．２　取消理由の（２）についての判断
　そこで、先ず、上記取消理由の（２）について判断する。
　上記取消理由の（２）は、上記訂正請求書の「訂正事項ａ」の「（６）」により、「バイパス経路」が「前記可変バルブから上流側の前記ガス供給管内の不要ガスを排気清浄化するときに開かれる第三のバルブをその途中に有するバイパス経路」と訂正されたことにより、解消した。
２．３　訂正明細書に記載された発明
　本件特許の訂正明細書に記載された発明の要旨は、訂正明細書及び図面の記載から見て、その特許請求の範囲第１項に記載された次のとおりのものである。
「減圧可能な容器内に前記容器外からガス供給管を介してガスを供給するためのガス制御装置において、
　前記ガスの供給源から前記容器に至るガス供給管の経路の途中には前記ガス供給管を通過するガスの流量を所定値に保持するための可変バルブと、前記ガスを前記容器内へ供給可能とするモードとその供給を停止するモードとの切り換えを可能とするための第一のバルブとが設けられ、かつ、前記第一のバルブは前記可変バルブに対して前記ガスの流れの方向の下流側に配置され、
　前記可変バルブが設けられた部位と前記第一のバルブが設けられた部位との間の区間には前記可変バルブの側から供給される前記ガスを前記ガス供給管の前記ガスの通過経路の途中から分岐させて系外へ強制的に排出させるための前記容器内を減圧にするガス排出手段とは別の前記ガス供給の経路用のガス排出手段が接続され、
　前記ガス供給の経路用のガス排出手段の前記ガスの排出経路の途中には前記ガスを前記系外へ排出可能とするモードとその排出を停止するモードとの切り換えを可能とするための第二のバルブが設けられ、
　前記ガス供給源と前記ガス供給の経路用のガス排出手段との間には、前記ガス供給源から供給されるガスを前記ガスの通過経路の前記可変バルブの上流側から分岐させて前記ガス供給の経路用のガス排出手段へ導くための、前記可変バルブから上流側の前記ガス供給管内の不要ガスを排気清浄化するときに開かれる第三のバルブをその途中に有するバイパス経路が設けられていることを特徴とするガス制御装置。」
（以下、「本件訂正発明」という。）
２．４　各引用刊行物の記載事項
２．４．１　引用刊行物１
　上記引用刊行物１には、ポリＳｉ膜を生成するための減圧ＣＶＤ装置に関して、
(1-1)「ガスシステムは図２に示すようにマスフローコントローラ、流量計、エアバルブ、微少調整ニードルバルブ、フィルタ、レギュレータなどの部品をＳＵＳ材チューブで配管したものからできている。ポリＳｉ膜生成のシーケンスはスタートボタンを押すことにより、後は自動的に動作が行えるよう省力化している。」（９６頁右欄下から４行〜９７頁左欄４行）
(1-2)「上記主要構成部以外で装置として重要なことは高濃度のＳｉＨ４ガスを使用するための排気処理である。ＳｉＨ４ガスは空気と広い混合比で爆発的に燃焼するので特に大気と接触する反応路出口の処理を安全に行う必要がある。…（中略）…筆者らは排出ＳｉＨ４ガスを不活性Ｎ２ガスで希釈させる簡便な方法により高濃度ＳｉＨ４ガス（１０〜１００％）を安全に処理する排気処理装置を開発し、５年前から使用している。したがって減圧下のＣＶＤ膜生成での生成速度の小さい欠点は高濃度ＳｉＨ４ガスを用いることにより改善されるといえる。」（９７頁左欄２１〜３６行）、
との記載があるほか、９７頁の図２には「ポリＳｉ膜生成用ガスシステム」が記載されており、この図２の記載からは、
(1-3)パージ用Ｎ２の供給源及びＳｉＨ４／Ｈｅガスの供給源からの各ガス経路を合流させ、この合流点と各ガス供給源の間に「エア駆動バルブ」が設けられていること、
(1-4)前記各ガス経路が合流してから反応炉に至るガス供給経路の途中に「マスフローコントローラ（ＭＦＣ１）」が設けられ、その下流側に「三方ハンドバルブ」、「ＳｉＨ４／Ｈｅの流量計（ＦＬ３）」、「ニードルバルブ（ＦＣ２）」、「エア駆動バルブ」、「混合ガスの流量計（ＦＬ４）」及び「エア駆動バルブ」がこの順に設けられていること、
(1-5)前記ガス供給経路の途中に「マスフローコントロ一ラ（ＭＦＣ１）」の上流側で分岐しその下流側で「三方ハンドバルブ」に接続されるバイパス経路が設けられていること、
(1-6)前記「三方ハンドバルブ」は、ガス供給経路を「マスフロ一コントーラ（ＭＦＣ１）」を設けた経路と前記バイパス経路との二つの経路に切り換えるものであること、
(1-7)前記「混合ガスの流量計（ＦＬ４）」から反応炉に向かうガス供給経路の途中から分岐して排気へと向かう分岐経路が設けられ、この分岐経路の途中に「エア駆動バルブ」が設けられていること、
が、それぞれ見てとれる。
２．４．２　引用刊行物２
　上記引用刊行物２には、アモルファスシリコン製造用のグロー放電ＣＶＤ装置に関し、３６８頁の図−８には反応炉（ＲＥＡＣＴＯＲ）へ供給する「ガスシステム例」が記載されており、この図−８の記載からは、
(2-1)原料ガスとしてＳｉＨ４（またはＳｉＦ４）が用いられ、このガス供給源から反応炉までの供給経路中には、通過するガスの流量を所定量に保持する「マスフローコントローラ（ＭＦＣ２）」、「三方ハンドバルブ（ＨＶ３）」、「ＳｉＨ４流量計（ＦＬ３）」、「エア弁」及び「ハンドバルブ（ＨＶ８）」が設けられていること、
(2-2)前記ガス供給経路の途中に「マスフローコントロ一ラ（ＭＦＣ２）」の上流側で分岐しその下流側で「三方ハンドバルブ（ＨＶ３）」に接続されるバイパス経路が設けられていること、
(2-3)前記「三方ハンドバルブ（ＨＶ３）」は、ガス供給経路を「マスフロ一コントーラ（ＭＦＣ２）」を設けた経路と前記バイパス経路との二つの経路に切り換えるものであること、
(2-4)「ＳｉＨ４流量計（ＦＬ３）」の下流かつ上記「エア弁」の上流側では、ガスの供給経路は反応炉へ向かう経路とガス排出手段（ＶＥＮＴ）へ向かう経路とに分岐されており、そのガス排出手段へ向かう経路には「エア弁」及び「逆止弁（ＣＶ２）」が設けられていること、
がそれぞれ見てとれ、また、反応炉の圧力に関しては、
(2-5)「反応炉を７６０Ｔｏｒｒ（１０５Ｐａ）以下の圧力（減圧）状態に維持する。」（３６７頁右欄下から１０〜９行）、
との記載がある。
２．４．３　引用刊行物３
　上記引用刊行物３には、４６１頁のFig.１に有機金属材料を用いた気相成長（ＭＯ−ＣＶＤ）の構成図が記載されており、このFig.１の記載からは、
(3-1)Vertical reactorにはガス供給経路を介して原料ガスが供給されること、
(3-2)Vertical reactorの図示下端部に繋がる経路はVacuumへ接続されること、
(3-3)Vertical reactorヘガスを供給する経路はVertical reactorの上流側で分岐して、一方はVertical reactorに接続されるが、他方はもう一つのVacuumに接続されていること、
が、それぞれ見てとれる。
２．５　対比・判断
２．５．１　本件訂正発明の構成及び効果について
　本件訂正発明は、「ガス供給源から供給されるガスを前記ガスの通過経路の前記可変バルブの上流側から分岐させて前記ガス供給の経路用のガス排出手段へ導くための、前記可変バルブから上流側の前記ガス供給管内の不要ガスを排気清浄化するときに開かれる第三のバルブをその途中に有するバイパス経路」を設ける点を構成要件として備えることにより、「ガス源から可変バルブ２までの配管部分の不要ガスを排気清浄化するときに、処理時間が短縮できる。」（特許明細書段落【００１３】参照）という効果を奏するものである。
２．５．２　引用刊行物１との対比
　上記引用刊行物１記載のものは、上記「(1-4)」で摘記したように、「マスフローコントローラ（ＭＦＣ１）」と反応炉との間に、「三方ハンドバルブ」、「ＳｉＨ４／Ｈｅの流量計（ＦＬ３）」、「ニードルバルブ（ＦＣ２）」、「エア駆動バルブ」、「混合ガスの流量計（ＦＬ４）」及び「エア駆動バルブ」をこの順に設けている。
　これに対して、本件訂正発明においては、引用刊行物１記載のものにおける「マスフローコントローラ（ＭＦＣ１）」に相当する「可変バルブ」と引用刊行物１記載のものにおける「反応炉」に相当する「減圧可能な容器」との間には、バイパス経路の合流部、「可変バルブ」の下流側に設けられる第一のガス排出手段に接続される分岐路を経てその下流側に「第一のバルブ」がそれぞれ設けられるのであり、引用刊行物１記載のものにおける、「三方ハンドバルブ」、「ＳｉＨ４／Ｈｅの流量計（ＦＬ３）」、「ニードルバルブ（ＦＣ２）」、「エア駆動バルブ」、「混合ガスの流量計（ＦＬ４）」は設けられていない。
　また、引用刊行物１記載のものにおいては、バイパス経路は「マスフローコントローラ（ＭＦＣ１）」の下流側に配置される「三方ハンドバルブ」に直接に接続されており、バイパス経路の途中にはバルブが設けられていないが、本件訂正発明においては、「バイパス経路」は「ガス供給の経路用のガス排出手段へ導くための」のものであって、その「バイパス経路」の途中に「第三のバルブ」が設けられている。
　上記のとおりであるから、引用刊行物１には、本件訂正発明の「ガス供給源から供給されるガスを前記ガスの通過経路の前記可変バルブの上流側から分岐させて前記ガス供給の経路用のガス排出手段へ導くための、前記可変バルブから上流側の前記ガス供給管内の不要ガスを排気清浄化するときに開かれる第三のバルブをその途中に有するバイパス経路」を設ける点について記載及び示唆がないとせざるを得ない。
　そして、本件訂正発明は、上記のような構成を備えることにより、「ガス源から可変バルブ２までの配管部分の不要ガスを排気清浄化するときに、処理時間が短縮できる。」という効果を奏するものであると認められるところ、引用刊行物１記載のものは、本件訂正発明の「可変バルブ２」に相当する「マスフローコントローラ（ＭＦＣ１）」の出口から本件訂正発明の「第一のガス排出手段」に相当する排出手段が接続される分岐路に至るまでには、「三方ハンドバルブ」、「ＳｉＨ４／Ｈｅの流量計（ＦＬ３）」、「ニードルバルブ（ＦＣ２）」、「エア駆動バルブ」、「混合ガスの流量計（ＦＬ４）」が設けられているため、その排気抵抗は大きくなるものと認められ、本件訂正発明の上記のような効果は奏することができるとは認められない。
２．５．３　引用刊行物２との対比
　上記引用刊行物２に記載のものは、上記「(2-1)」に示したように、「マスフローコントローラ（ＭＦＣ２）」と反応炉との間に、「三方ハンドバルブ（ＨＶ３）」、「ＳｉＨ４の流量計（ＦＬ３）」、「エア弁」及び「ハンドバルブ（ＨＶ８）」をこの順に設けている。
　これに対して、本件訂正発明においては、引用刊行物２記載のものにおける「マスフローコントローラ（ＭＦＣ２）」に相当する「可変バルブ」と引用刊行物２記載のものにおける「反応炉」に相当する「減圧可能な容器」との間には、バイパス経路の合流部、「可変バルブ」の下流側に設けられる第一のガス排出手段に接続される分岐路を経てその下流側に「第一のバルブ」がそれぞれ設けられるのであり、引用刊行物２記載のものにおける、「三方ハンドバルブ（ＨＶ３）」、「ＳｉＨ４の流量計（ＦＬ３）」、「エア弁」は設けられていない。
　また、引用刊行物２記載のものにおいては、バイパス経路は「マスフローコントローラ（ＭＦＣ２）」の下流側に配置される「三方ハンドバルブ（ＨＶ３）」に直接に接続されており、バイパス経路の途中にはバルブが設けられていないが、本件訂正発明においては、「バイパス経路」は「ガス供給経路用のガス排出手段へ導くための」のものであって、その「バイパス経路」の途中に「第三のバルブ」が設けられている。
　上記のとおりであるから、引用刊行物２には、本件訂正発明の「ガス供給源から供給されるガスを前記ガスの通過経路の前記可変バルブの上流側から分岐させて前記ガス供給の経路用のガス排出手段へ導くための、前記可変バルブから上流側の前記ガス供給管内の不要ガスを排気清浄化するときに開かれる第三のバルブをその途中に有するバイパス経路」を設ける点について記載及び示唆がないとせざるを得ない。
　そして、本件訂正発明は、上記のような構成を備えることにより、「ガス源から可変バルブ２までの配管部分の不要ガスを排気清浄化するときに、処理時間が短縮できる。」という効果を奏するものであると認められるところ、引用刊行物２記載のものは、本件訂正発明の「可変バルブ２」に相当する「マスフローコントローラ（ＭＦＣ２）」の出口から本件訂正発明の「第一のガス排出手段」に相当する排出手段が接続される分岐路に至るまでには、「三方ハンドバルブ（ＨＶ３）」、「ＳｉＨ４の流量計（ＦＬ３）」、「エア弁」、「逆止弁（ＣＶ２）」が設けられているため、その排気抵抗は大きくなるものと認められ、本件訂正発明の上記のような効果は奏することができるとは認められない。
２．５．４　引用刊行物３との対比
　上記引用刊行物３には、反応容器（Vertical reactor）の下流側に前記反応容器を減圧するためのガス排気手段（Vacuum）が接続され、前記反応容器へガスを供給する経路は、反応容器の上流側で分岐して、一方は前記反応容器に接続されるが、他方はもう一つのガス排気手段（Vacuum）に接続されていることが示されてはいるが、本件訂正発明の構成要件である「ガス供給源から供給されるガスを前記ガスの通過経路の可変バルブの上流側から分岐させて前記ガス供給の経路用のガス排出手段へ導くための、前記可変バルブから上流側の前記ガス供給管内の不要ガスを排気清浄化するときに開かれる第三のバルブをその途中に有するバイパス経路」を備えていないことは明らかである。
２．５．５　引用刊行物１〜３に記載の発明を組合わせる点について
　上記引用刊行物１〜３のいずれにも本件訂正発明の構成要件である「ガス供給源から供給されるガスを前記ガスの通過経路の可変バルブの上流側から分岐させて前記ガス供給の経路用のガス排出手段へ導くための、前記可変バルブから上流側の前記ガス供給管内の不要ガスを排気清浄化するときに開かれる第三のバルブをその途中に有するバイパス経路」を備えることについて記載がないのであるから、引用刊行物１〜３に記載のものを相互に勘案しても本件訂正発明の上記構成については当業者が容易に想到し得たものとすることはできない。
２．６　まとめ
　上記のとおり、本件訂正発明は引用刊行物１又は２に記載された発明であるとも、引用刊行物１〜３に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものともすることはできないから、本件訂正発明の特許が、特許法第２９条第１項又は２項の規定に違反してされたものとすることはできない。
　したがって、本件訂正発明は特許出願の際に独立して特許を受けることができるものである。
３．訂正の認否
　以上のとおりであるから、上記訂正は平成６年改正法附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、平成１１年改正前の特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正法による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
IV．特許異議の申立についての判断
１．特許異議の申立ての理由の概要
　申立人は、証拠方法として下記の甲第１〜３号証を提出し、本件特許発明は、甲第１号証又は甲第２号証に記載された発明であるか、甲第１〜３号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第２９条第１項又は同条第２項の規定に違反してなされたものである旨を主張している。
　甲第１号証：「電子材料」１９７６年１２月号、９５〜１０１頁
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（引用刊行物１に該当）
　甲第２号証：桜井良文、浜川圭弘監修「アモルファス電子材料利用技
　　　　　　術集成」株式会社サイエンスフォーラム、昭和５６年２月
　　　　　　１０日発行、３６４〜３７５頁　（引用刊行物２に該当）
　甲第３号証：「応用物理」第４８巻第５号（１９７９）、４６０〜
　　　　　　４６５頁　　　　　　　　　　　（引用刊行物３に該当）
２．当審の判断
２．１　本件発明
　前述のように、本件訂正は適法なものであるので、本件特許に係る発明の要旨は、前記「III．２．３」において摘記したとおりのもの（以下、「本件発明」という。）である。
２．２　特許異議の申立ての理由についての判断
　申立ての理由及びその申立ての理由で引用された甲第１〜３号証は、当審における平成１０年５月１４日付けの取消理由で通知した理由及び証拠として引用した引用刊行物１〜３と同じであるから、上記「III．２．６」で述べたのと同様の理由により、本件発明は甲第１号証又は項第２号証に記載された発明であるとも、甲第１〜３に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものともすることはできないから、本件発明の特許が、特許法第２９条第１項又は２項の規定に違反してされたものとすることはできない。
Ｖ．むすび
　上記のとおりであるから、本件発明の特許は、特許異議申立ての理由及び証拠方法によっては取り消すことはできない。
　また、他に本件発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、平成６年改正法附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年６月２９日（２０００．６．２９）
【訂正の要旨】
　平成１２年６月２６日付けの訂正請求における訂正の要旨は次のとおりである。
１．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的として、願書に添付した明細書（以下、「特許明細書」という。）の
（１）特許請求の範囲第１項の記載中の「ガス供給手段」（特許公報１欄２〜３行、５行、６行及び１４行）とあるのを「ガス供給管」に訂正し、
（２）同「系外へ強制的に排出させるためのガス排出手段が接続され、」（同公報１欄１５行〜２欄１行）とあるのを「系外へ強制的に排出させるための前記容器内を減圧にする前記ガス排出手段とは別のガス供給の経路用のガス排出手段が接続され、」に訂正し、
（３）同「前記ガス排出手段の前記ガスの排出経路の途中には」（同公報２欄２行）とあるのを「前記ガス供給経路用のガス排出手段の前記ガスの排出経路の途中には」に訂正し、
（４）同「前記ガス供給源と前記ガス排出手段の間には、」（同公報２欄６行）とあるのを「前記ガス供給源と前記ガス供給の経路用の排出手段の間には、」に訂正し、
（５）同「前記ガス排出手段へ導くための」（同公報２欄８〜９行）とあるのを「前記ガス供給の経路用のガス排出手段へ導くための、」に訂正し、
（６）同「バイパス経路」（同公報２欄９行）とあるのを「前記可変バルブから上流側の前記ガス供給管内の不要ガスを排気清浄化するときに開かれる第三のバルブをその途中に有するバイパス経路」に訂正する。
２．訂正事項ｂ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、特許明細書の
（１）段落【０００５】の記載中の「ガス供給手段」（特許公報３欄４８行、５０行、４欄１行及び９行）とあるのを「ガス供給管」に訂正し、
（２）同「系外へ強制的に排出させるためのガス排出手段が接続され、」（特許公報４欄１０〜１１行）とあるのを「系外へ強制的に排出させるための前記容器内を減圧にするガス排出手段とは別のガス供給の経路用のガス排出手段が接続され、」に訂正し、
（３）同「前記ガス排出手段の前記ガスの排出経路の途中には」（同公報４欄１１〜１２行）とあるのを「前記ガス供給の経路用のガス排出手段の前記ガスの排出経路の途中には」に訂正し、
（４）同「前記ガス供給源と前記ガス排出手段の間には、」（同公報４欄１４〜１５行）とあるのを「前記ガス供給源と前記ガス供給の経路用の排出手段の間には、」に訂正し、
（５）同「前記ガス排出手段へ導くための」（同公報４欄１７行）とあるのを「前記ガス供給の経路用のガス排出手段へ導くための、」に訂正し、
（６）同「バイパス経路」（同公報４欄１７〜１８行）とあるのを「前記可変バルブから上流側の前記ガス供給管内の不要ガスを排気清浄化するときに開かれる第三のバルブをその途中に有するバイパス経路」に訂正する。
３．訂正事項ｃ
　誤記の訂正を目的として、特許明細書の段落【０００８】の記載中、「図２に示したのガス配管」（同公報５欄１３行）とあるのを「図２に示したガス配管」に訂正する。
（５４）【発明の名称】
ガス制御装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　減圧可能な容器内に前記容器外からガス供給管を介してガスを供給するためのガス制御装置において、
　前記ガスの供給源から前記容器に至るガス供給管の経路の途中には前記ガス供給管を通過するガスの流量を所定値に保持するための可変バルブと、前記ガスを前記容器内へ供給可能とするモードとその供給を停止するモードとの切り換えを可能とするための第一のバルブとが設けられ、かつ、前記第一のバルブは前記可変バルブに対して前記ガスの流れの方向の下流側に配置され、
　前記可変バルブが設けられた部位と前記第一のバルブが設けられた部位との問の区間には前記可変バルブの側から供給される前記ガスを前記ガス供給管の前記ガスの通過経路の途中から分岐させて系外へ強制的に排出させるための
前記容器内を減圧にするガス排出手段とは別の前記ガス供給の経路用の
　前記
ガス供給の経路用の
　前記ガス供給源と前記
ガス供給の経路用の
ガス供給の経路用の
、前記可変バルブから上流側の前記ガス供給管内の不要ガスを排気清浄化するときに開かれる第三のバルブをその途中に有する
【発明の詳細な説明】
　　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は真空装置にガスを導入する場合の制御方法に関し、特にガス導入の自動制御およびガス導入量を安定にさせるための装置構成に関する。
　　【０００２】
　【従来の技術】
　従来の真空装置にガスを導入する方法は、ガス流量を制御するためのガス流量コントローラ（マスフローコントローラ）あるいは可変ニードルバルブを直接、あるいはストップバルブを介在させて真空槽に接続させる方法であったので、ガスを流入させる時点においては真空槽内のガス圧力が必ず連続的に変化し、ガス圧力が変動する時間が長いという欠点があった。
　　【０００３】
　さらに実例を挙げて説明すると図１ａの従来の装置構成においては真空槽１に直接マスフローコントローラあるいは可変ニードルバルブなどで構成される可変バルブ２が接続されており、真空槽１にガスを流入させない場合には可変バルブは零点に設定しておく。真空槽１にガスを流入させる場合には可変バルブ２を手動あるいは自動操作によって所定のガス流量（あるいは所定のガス圧力）に達するまで、開かなければならない。この操作中に真空槽１のガス圧力は連続的に上昇し、安定なガス圧力に達するのに時間がかかる。自動操作の場合には特に所定のガス流量（あるいはガス圧力）より一度オーバな値に達し、再び可変バルブを閉じる操作の繰返しを行うことが多いので、安定なガス流量（あるいはガス圧力）に達するまでの時間が長くなる。前記図１ｂは可変バルブ２が零点にあっても完全にガスの流れを停止できない場合とか、急激にガス流を停止させる場合に、真空漕１と可変バルブ２の間にストップバルブ３を介在させた装置構成であるが、ガスを流入し始める場合にはａの場合と同じく、ガス流量（あるいはガス圧力）が安定するまで時間がかかる。また可変バルブ２が完全に閉状態にできず、長時間放置されている場合には、ストップバルブ３と可変バルプ２の配管部分４にガスが溜まるため、ストップバルブ３を閉状態から開状態に切り替えた瞬間に、上記配管部４に溜まっていた圧力の高いガスが真空槽１に流入する不都合な現象が起こる。また、特開昭５７−２９５７７号公報にはガス自動流量調節器とガス導入バルブ（ストップバルブ）との間にガスを供給経路から分岐させて系外に排出する手段を設けることにつき開示されている。しかし、同公報には、ガス供給源から供給されるガスをガスの通過経路の可変バルブの上流側から分岐させてガス排出手段へ導くためのバイパス経路を設けることについては開示されていない。
　　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　本発明の目的は、真空槽にガスを供給する装置において、ガス供給経路の配管部分のガス排気処理を短時間で行うことができる装置構成を提供することにある。
　　【０００５】
　【課題を解決するための手段】
　本発明の要旨は、減圧可能な容器内に前記容器外からガス供給管を介してガスを供給するためのガス制御装置において、
　前記ガスの供給源から前記容器に至るガス供給管の経路の途中には前記ガス供給管を通過するガスの流量を所定値に保持するための可変バルブと、前記ガスを前記容器内へ供給可能とするモードとその供給を停止するモードとの切り換えを可能とするための第一のバルブとが設けられ、かつ、前記第一のバルブは前記可変バルブに対して前記ガスの流れの方向の下流側に配置され、
　前記可変バルブが設けられた部位と前記第一のバルブが設けられた部位との間の区間には前記可変バルブの側から供給される前記ガスを前記ガス供給管の前記ガスの通過経路の途中から分岐させて系外へ強制的に排出させるための
前記容器内を減圧にするガス排出手段とは別の前記ガス供給の経路用の
　前記
ガス供給の経路用の
　前記ガス供給源と前記
ガス供給の経路用の
ガス供給の経路用の
、前記可変バルブから上流側の前記ガス供給管内の不要ガスを排気清浄化するときに開かれる第三のバルブをその途中に有する
　　【０００６】
　【作用】
　本発明は上記構成になるので、例えばドライエッチング装置の自動化において、排気操作およびエッチング操作の自動化は比較的に安易に達成された。ガス流量あるいはガス圧力制御において自動化が困難であったことに基づいて、従来より優れたガス供給方式が容易となった。また、自動化とともにガス流量あるいはガス圧力の調整時間の短縮、およびガス流量およびガス圧力の安定性や、再現性に極めて効を奏するようになった。
　　【０００７】
　【実施例】
　図２は本発明の参考例を示す図である。真空装置にガスを供給する場合に、中間排気配管系５を設けた本発明の基本構成を示す。真空槽１はあらかじめ排気ポンプ系６によってバルブ７を経て排気されている。供給ガスはボンベまたは液体源などを用いたガス源８から源圧弁９を経てマスフローコントローラあるいはニードルバルブなどの可変バルブ２に接続している。ただしガス源の圧力が低い場合には減圧弁９を必ずしも必要としない。可変バルブ２から真空槽１の間には少なくとも１つのバルブ３があり、並列して他の排気ポンプ系５との間にも少なくとも１つのバルブ１０がある。排気ポンプ系５と６はいずれも可変バルブ２によって、流れるガス流量を十分排気できるだけの能力をもつ必要がある。実際にガスを真空槽に供給する場合には一度所定のガス流量あるいはガス圧力を測定するために、バルブ１０を閉じバルブ３を開として排気ポンプ系６にガスを流し流量調整を行っておくのがよい。可変バルブは所定のガス流量に適した調整位置に固定しておく。真空槽１にガスを供給する必要のない場合にはバルブ３を閉じバルブ１０を開とし、可変バルブ２とバルブ３および１０の間の配管部４にガスが溜らないように排気ポンプ系５を流しておき、真空槽にガス供給する場合にバルブ１０を閉、バルブ３を開とする。バルブ１０とバルブ３の開閉のタイミングはバルブの動作機構によって差があるのであらかじめ時定数の調整をしておくのがよい。
　　【０００８】
　図２に示したガス供給の装置構成と前記図１に示した従来装置構成によるガス圧力の時間変化曲線を図３に示す。図３ａは通常用いられているスパッタ装置あるいは反応性スパッタエッチング装置で、真空槽が約６０１の容積の装置にＡｒ，Ｏ２，Ｈ２，ＣＦ４，ＳＦ６などのガス種をマスフローコントローラを用いて流した場合のガス圧力の時間変化を示す。ほぼ安定なガス圧力に達するまでの時間はガス種に限らず約２分であった。図２に示し
たガ
　　【０００９】
　図３ｂの場合に比べて図３ａの場合の方がガス圧力が定常値に到達するまでにより多くの時間を有する理由は次の通りである。即ち、例えば、図１ｂの構成の場合、可変バルブ２を所定のガス流量を流せるようにその弁を所定の状態に保持するように制御しても、その弁を閉状態から所定の開状態へ移行させることとなるので、ガスが定常流になるまでには所定の時間を必要とする。また、配管部分４に溜っていた圧力の高いガスが真空槽１内へ急激に流入するので、真空槽１内のガス圧力が一時的に定常値に比べて高い圧力となり、同様にガス圧力が定常値で安定するまでの時間を長引かせる原因となる。
　　【００１０】
　これに対して、図２の構成の場合には、所定の流量を保持できるように可変バルブ２を所定の状態に保持し、ストップバルブ３を閉じ、かつ、バルブ１０を開の状態に保持することによりガス源８から配管部４を介して排気ポンプ系５の方向へ定常状態のガスを流しておく。次に、バルブ１０を閉とし、ストップバルブ３を開くことにより、ガスは真空槽１へ供給されることになる。この切り換え動作前にガスは配管部４を定常状態で流れているので、この切り換えに伴う真空槽１内の圧力の安定に要する時間は図１ｂの構成の場合に比べて短くてすむ。可変バルブ２を閉から開の状態に変化させることに伴うガス圧力の安定に要する時間は実質的に考慮する必要がないからである。同様に、この構成の場合には配管部分４にガスが溜ることは実質的に無いということができるので、ガスが溜ることに伴うガス圧力の安定に要する時間も実質的に必要でないということができるからである。この点からも、真空槽１内の圧力が定常値に到達する時間を短縮することができる。
　　【００１１】
　また従来方式では各ガス導入時毎に調整が必要であり、再現性の良い値に設定するための熟練を要すが、本発明ではストップバルブの開閉だけであるので、再現性に優れていた。
　　【００１２】
　本実験で得られた特性は他の容積値を有する各種真空装置に応用できるのはもちろんであるが、真空槽の容積および本排気ポンプ系の排気速度に応じて、中間排気ポンプ系の排気速度もできるだけ同一にするのが望ましい。
　　【００１３】
　図４は本発明の実施例を示す図である。同図はガス配管を清浄にするための可変バルブ２のバイパスバルブ１１を設けた装置構成であり、ガス源から可変バルブ２までの配管部分の不要ガスを排気清浄化するときに、処理時間が短縮できる。この場合には可変バルブ２の調整位置は固定のままでよい。バルブ１２はガス源のガスを供給するときに閉状態にしておき、直接可変バルブ２に圧力がかからないために有効であるのと同時に、長時間真空槽１にガス供給をしないときに、バルブ１２を閉にしてガスを止めるために有効である。
　　【００１４】
　図５は本発明の他の実施例を示す図である。同図はガスが高価であるとか、ポンプを劣化させる種類の場合に有効なガス配管の装置構成である。ガス源１３が高価なガスあるいは塩素系ガスや酸化」性ガスのようにポンプを劣化させるガス源の場合には、排気ポンプ系５に流すガスは、できるだけ不活性で低価なガスに切り替えるのがよい。ガス源１４は上記目的の切り替えガス源で、通常Ｎ２、Ａｒガスを用いるのがよい。排気ポンプ系５に流す時間が短かい場合には、ガスを切り替えないでもよいが、排気ポンプ系５には、ポンプ保護のため活性ガスのトラップ１５，１６を設けるのがよい。トラップ１５，１６は１つでもよいが、ガスが多量の場合には両者を交互に使用し、一方が使われている間に、他方をＮ２ガスなどのパージラインを設けて清浄化しておくのが効率的である。
　　【００１５】
　【発明の効果】
　本発明によれば、真空装置内にガスを供給する装置において、ガス供給経路の配管部分のガス排気処理を短時間で行うことができる。
【図面の簡単な説明】
　　【図１】
　従来のガスの供給系の装置構成図。
　　【図２】
　本発明の参考例であるガス供給系の装置構成図。
　　【図３】
　本発明の参考例によるガス圧力の時間変動特性図。
　　【図４】
　本発明の参考例であるガス供給系の装置構成図。
　　【図５】
　本発明の参考例であるガス供給系の装置構成図。
　　【符号の説明】
　１…真空槽、２…可変バルレブ（ニードルバルブ、マスフローコントローラなど）、３…ストップバルブ、４…ガス配管の一部、５…中間排気ポンプ系、６…真空槽用主排気ポンプ系、７…ストップバルブ、８…ガス源、９〜１２…ストップバルブ、１３〜１４…ガス源、１５〜１６…トラップ。
【図面】