【事件の表示】
　特許第２８２８２２６号「投影露光装置及び方法」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２８２８２２６号の請求項１ないし２４に記載された特許を維持する。
【理　由】
（１）手続きの経緯      
　本件特許第２８２８２２６号発明は、昭和６１年１０月３０日（優先権主張昭和６０年１２月２６日）に出願した特願昭６１−２５６９８６号の一部を平成７年１０月３０日に新たな出願としたものであって、平成１０年９月１８日にその発明の特許がなされ、その後、キヤノン　株式会社より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、意見書が提出され、さらに再度の取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年４月２４日に訂正請求がなされたものである。
（２）訂正の適否についての判断
ア．特許請求の範囲の訂正
ａ、訂正明細書の特許請求の範囲第６項に記載された発明は、次のとおりである。
「【請求項６】露光用の照明光でマスクを照明する照明系と、前記マスクのパターンの像を感光基板上に所定の結像特性で投影する投影光学系と、前記照明系からの照明光によって前記投影光学系の瞳面に生成される光源像の分布を前記照明系内で変更する分布変更手段と、前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素を調整して前記投影光学系の結像特性を微調整する結像特性調整手段とを備えた投影露光装置において、前記分布変更手段による前記光源像分布の変更に応答して、前記光源像分布の変更後の状態に適応した前記結像特性調整手段の制御を行う制御手段を備えることを特徴とする投影露光装置。」
ｂ、訂正明細書の特許請求の範囲第７項に記載された発明は、次のとおりである。
「【請求項７】露光用照明系からの照明光によりマスクを照明することで、該マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板上に所定の結像特性で露光する方法において、前記投影光学系の瞳面に生成される光源像分布を前記露光用照明系内で変更する段階と；前記光源像分布の変更に応じて生じる前記投影光学系の結像特性の変化が補正されるように、前記光源像分布の変更に応答して、前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素の調整を前記光源像分布の変更後の状態に適応して行う段階と；該調整の後に前記変更された光源像の分布状態で、マスクパターンを感光基板に投影露光する段階と；を含む投影露光方法。」
ｃ、訂正明細書の特許請求の範囲第８項に記載された発明は、次のとおりである。
「【請求項８】前記照明系はオプティカルインテグレータを有し、前記光源像分布の変更は、前記オプティカルインテグレータの射出側に生成される２次光源像の形状を変化させることを特徴とする請求項７に記載の投影露光方法。」
ｄ、訂正明細書の特許請求の範囲第１５項に記載された発明は、次のとおりである。
「【請求項１５】前記照明系はオプティカルインテグレータを有し、前記光学素子は、前記オプティカルインテグレータに入射する前記照明光の分布を変化させることを特徴とする請求項１３に記載の投影露光装置。」
ｅ、訂正明細書の特許請求の範囲第１８項に記載された発明は、次のとおりである。
「【請求項１８】露光用照明系からの照明光によりマスクを照明し、該マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板上に露光する露光方法において、前記投影光学系の瞳面における前記照明光の光束分布を前記露光用照明系内で変更する段階と；該光束分布の変更に応じて生じる前記投影光学系の結像特性の変化が補正されるように、前記光束分布の変更に応答して、前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素の調整を前記光束分布の変更後の状態に適応して行う段階と；を含む投影露光方法。」
イ.訂正の目的の適否及び拡張・変更の存否等
　上記訂正ア．は、特許請求の範囲の減縮または誤記の訂正に該当し、願書に添付した明細書又は図面に記載された事項の範囲内のものであり、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではなく、新規事項の追加もない。
ウ．独立特許要件の判断
（刊行物）
　特許異議申立人キヤノン　株式会社が提示した甲第１号証（特開昭６０−７８４５４号公報、以下、刊行物１という。）には、「本発明は投影光学系を備えた露光装置において、投影光学系の光学特性に変動が生じても、投影されたマスクのパターン像を所定の投影状態に制御するようにした投影露光装置に関する。」（第１頁左欄第１９行〜右欄第２行）、「本発明は上記欠点を解決すべく、倍率変動や結像面の位置変動に対して常に安定した投影状態を維持し得る投影露光装置を提供することを目的とする。」（第２頁左上欄第１０〜１３行）、「次に本発明の第１の実施例による投影露光装置を第１図、第２図に基づいて説明する。第１図は露光装置の概略的な斜視図であり、第２図は照明光学系を含めた配置図である。第２図において、超高圧水銀放電灯のような高輝度の光を発生する光源１は、楕円形反射ミラー２の第１焦点位置に配置され、光源１からの光は楕円形反射ミラー２の第２焦点位置に集光する。第２焦点位置には、光の透過部と遮光部とが円周に沿って一定角度で設けられたロータリーシャッター３（以下、単にシャッター３と呼ぶ）が配置される。シャッター３が遮光部として例えば４枚のブレードを有する場合、シャッター３を一方向に４５°回転させるたびに光源１からの光の透過と遮断とを切替えることができる。このため、パルスモータ４はシャッター３の開放、閉成のたびに一定角度（４５°）だけ回転する。光学部材５はシャッター３を通った光のうち、露光材を露光するのに適した露光波長の光（以下、露光光という）を、楕円形反射ミラー２による光強度分布のムラを均一に補正して射出する。このため光学部材５は、露光光を透過する干渉フィルターや強度分布を均一にするためのオプチカル・インテグレータ等から構成される。その露光光はミラー６で反射され、コンデンサーレンズ７に入射し、透過部と遮光部による所定のパターンが描かれたレクチル（マスク）Ｒを均一の強度で照明する。これによって、レクチルＲのパターンの光像は縮小投影レンズ（以下、単に投影レンズと呼ぶ）８によってウエハＷ上に投影される。」（第２頁右上欄第１１行〜左下欄第２０行）、「投影レンズ８には、投影倍率や焦点位置（結像面の位置）等の光学特性を微小量変化させるための光学特性制御装置３２が設けられている。この光学特性制御装置３２は投影レンズ８を構成する複数の光学レンズ間の特定の空間に封入された気体（空気等）の圧力を変えて、その空間の屈折率を変えることによって、倍率や焦点位置を変化させるものである。ここでは投影レンズ８内に密閉された２つの空間を設け、その一方の空間の圧力をパイプ３３を介して制御することによって、主に倍率を変化させ、他方の空間の圧力をパイプ３４を介して制御することによって、主に焦点位置を変化させるものとする。」（第３頁右下欄第１２行〜第４頁左上欄第５行）、「第４図は上記のごとき空気室の圧力制御を行なうことによって、倍率補正と結像面の位置補正を行なう光学特性制御装置３２の概略構成図である。投影レンズ８中には、第３図に示した第８空気間隙ｈ及び第１４空気間隙ｎに対応する２つの独立した空気室Ｈ、Ｎが形成されており、各空気室Ｈ、Ｎは第１図に示したパイプ３３，３４を��してそれぞれ圧力制御器４０及び４１に連結されている。」（第６頁左上欄第９〜１６行）、「第６図は本実施例における露光装置全体を制御する制御系の概略的なブロック図である。全体のシーケンスや各動作は、メモリ（ＲＡＭ、ＲＯＭ）を含む中央処理装置６０（以下、ＣＰＵ６０と呼ぶ）によって統括制御される。」（第６頁右下欄第１４〜１８行）、「先にも述べたように、投影レンズ８の倍率は露光光が通ると微小量変動する。これは露光光のエネルギーの一部が投影レンズ８中のレンズエレメント、空気間隙内の気体、あるいは鏡筒の内壁等に熱エネルギーとして吸収されたことにより起こるものと考えられる。すなわち、投影レンズ８内の光学系の屈折率等が温度によって変化することによって、倍率変動を引き起こすのである。そこで、第１図、第２図に示した装置を用いて、投影レンズ８の露光光照射による倍率変動を測定してみると、一例として第７図のような特性が得られた。ただし、このとき大気圧の変動ΔＰは無視し得る程小さいものとする。」（第７頁左下欄第１２行〜右下欄第４行）、「そこで、本発明の第１の実施例においては、光電検出器３０によって検出された投影レンズ８の入射光量に基づいて、露光光の通過により生じる投影倍率の変動を防止し、常に一定の倍率を保つように、ＣＰＵ６０と光学特性制御装置３２によって、投影レンズ８の空気室Ｈの圧力を制御するように構成する。」（第８頁右上欄第２０行〜左下欄第６行）、「またＣＰＵ６０は、第１５図（又は第７図）に示すように、倍率変動が初期倍率Ｍｏから飽和するまでの時間Ｔｏｍを予め記憶しているものとする。この時間Ｔｏｍは例えば飽和点の９９％の値に達するまでの時間に定められる。」（第１１頁左下欄第１６〜２０行）、「ＣＰＵ６０はデータＤｕ、Ｄｄを読み込み、時間ｔｕ、ｔｄに換算して記憶した後、次のステップ３０１でクリア信号Ｓ４を出力する。」（第１２頁左上欄第６〜８行）、「第２の実施例は第１４図のプログラム中の指数演算に代わって、予めメモリ上に作成しておいた関数テーブルを参照するようにして、処理の高速化を計るとともに、変動特性が正確な指数関数で近似できない場合にも同様の制御を可能とするものである。」（第１４頁右上欄第４〜９行）、及び「今、撮影レンズ８に露光光の入射による倍率変動がない状態（Ｅ＝０）から、あるサンプリング期間中に露光光の入射が行なわれ、データＤｕ、Ｄｄの読み込みが行なわれたとき時間ｔｕが零でない場合について説明する。」（第１４頁左下欄第５〜１０行）との記載があり、
　同じく提示した甲第２号証（特開昭５９−１５５８４３号公報、以下、刊行物２という。）には、「第１図に示すように解像度は照明条件によって変わる。ここで、横軸は空間周波数（Ｓｐａｔｉａｌ　Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）、縦軸は空間解像度（ＭＴＦ）を示す。そしてσは照明系の光源像の直径と露光光学系の入射瞳の直径との比であり、」（第１頁左欄第１６〜２０行）、「本発明は、上記の点に着目してなされたものであり、種々の照明条件を変えることができる露光装置を提供することを目的とするものである。」（第１頁右欄第１５〜１７行）、「第２図は、本発明の一実施例を示す概略図である。図において、原画パターン８は縮小レンズ９を介して乾板１０上に縮小投影露光される。この露光に用いる照明光は、光源６からインテグレータ５とコンデンサレンズ７を介して導かれる。照明光の絞り１は、駆動機構２により駆動される。絞りの設定は駆動機構の制御系３により行なわれ、設定値はコンピュータを介して与えられる。なお、図中、４は絞り１の可動方向、１１は乾板（ウエハ等）を載置するＸＹ移動台、および１２は原図パターン８の縮小像である。縮小レンズ９には、レンズ固有の入射瞳１３と出射瞳１４がある。縮小レンズ９を使ってパターンを結像するさい、その解像度は、入射瞳１３に入る照明光の光束の大きさによって決定される。入射瞳１３に入る光束の大きさは、インテグレータ（フライアイレンズ）５の出口側に設けた、絞り１を使って変化させることができる。露光装置において、このような絞りを何種類も設け、パターンの解像度を縮小レンズの性能の範囲で任意に設定できるようにする。また、露光に要する時間も変えることができるので、装置のスループットも解像度と合わせて設定することができる。しかも、上記の絞りを設定するためには、あらかじめプログラムされた回路によって、リモートコントロールで任意に選択することができる。本機能を実現するために、第３図、第４図に示すような機構を用いる。第３図はインテグレータと絞りの変換機構部の一例を示したものである。第４図は、同様に第３図の側面を示したものである。第３図、第４図において、円板１６上に、それぞれ絞り径の違う絞り１８〜２５を設ける。絞りは例えば、コヒーレント係数σが０.３、０.４・・・１.０となるようにする。円板１６はパルスモータ２８により３２のように回転し、これによってインテグレータ５の位置に、所要の絞りを位置決めすることができる。」（第２頁左上欄第５行〜左下欄第２行）、及び「解像度の高いパターンの露光が必要な場合、絞りを絞る側（パーシャルコヒーレント）の設定値にプログラムされているものを指定することによって、自動的に絞りが設定される。反対に、それ程解像度を必要としない場合、絞りを開く側（インコヒーレント）に設定値を指定する。この場合、照明光の強度は、絞りを絞った場合に比べ高くなり、露光に要する時間は短くなるので、装置のスループットを上げることができるという利点がある。」（第２頁右下欄第１０〜１９行）との記載がある。
　同じく提示した甲第３号証（ＳＰＩＥ　ｖｏｌ.
１７４（１９７９）Ｐ.４８〜Ｐ.５３、以下、刊行物３という。）には、「投影レンズの設計における評価方法」と題して、そのＦｉｇ３、Ｆｉｇ４にはσ値が異なると投影光学系の像面湾曲の状態も異なるとの開示がある。
（対比・判断）
〈第２９条第２項について〉
　本件請求項６に記載された発明と上記刊行物１〜３に記載された発明とを対比すると、後者は、前者の構成の一部である「前記分布変更手段による前記光源像分布の変更に応答して、前記光源像分布の変更後の状態に適応した前記結像特性調整手段の制御を行う制御手段」を有さない。
  本件請求項６に記載された発明は、このような構成を有することによって、明細書記載の作用効果を奏するものであるから、各刊行物に記載された発明であるとはいえず、また、各刊行物に記載された発明から容易に推考できたとすることはできない。
　本件請求項７に記載された発明と上記刊行物１〜３に記載された発明とを対比すると、後者は、前者の構成の一部である「前記光源像分布の変更に応じて生じる前記投影光学系の結像特性の変化が補正されるように、前記光源像分布の変更に応答して、前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素の調整を前記光源像分布の変更後の状態に適応して行う段階」を有さない。
　本件請求項７に記載された発明は、このような構成を有することによって、明細書記載の作用効果を奏するものであるから、各刊行物に記載された発明であるとはいえず、また、各刊行物に記載された発明から容易に推考できたとすることはできない。
　本件請求項１８に記載された発明と上記刊行物１〜３に記載された発明とを対比すると、後者は、前者の構成の一部である「該光束分布の変更に応じて生じる前記投影光学系の結像特性の変化が補正されるように、前記光束分布の変更に応答して、前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素の調整を前記光束分布の変更後の状態に適応して行う段階」を有さない。
　本件請求項１８に記載された発明は、このような構成を有することによって、明細書記載の作用効果を奏するものであるから、各刊行物に記載された発明であるとはいえず、また、各刊行物に記載された発明から容易に推考できたとすることはできない。
エ．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項及び第３項で準用する第１２６条第２−４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
（３）特許異議の申立てについての判断
ア．申立ての理由の概要
　申立人キヤノン　株式会社は、証拠として甲第１号証（特開昭６０−７８４５４号公報、上記刊行物１）、甲第２号証（特開昭５９−１５５８４３号公報、上記刊行物２）、甲第３号証（ＳＰＩＥ　ｖｏｌ.１７４（１９７９）Ｐ.４８〜Ｐ.５３、上記刊行物３）を提出し、訂正前請求項１〜２４に記載された発明は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであるから、特許を取り消すべき旨主張し、また、証拠として甲第４号証（特開昭６２−２２９８３８号公報）、甲第５号証（特開昭５８−１６０９１４号公報）を提出し、分割が認められないから、訂正前請求項１〜２４に記載された発明は、特許法第２９条第１項第３号ないし特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであるから、特許を取り消すべき旨主張している。
イ．判断
〔分割の適否について〕
申立人キヤノン　株式会社は、請求項１の「前記分布変更手段によって前記光源像分布が変更されるときは」、請求項６の「前記分布変更手段による前記光源像分布の変更後の状態に適応して」、請求項７の「前記光源像分布の変更に起因して生じる」、及び請求項１８の「光束分布の変更に起因して生じる」が原出願に開示されていないから、分割要件を満たしていないと主張している。
　そこで、検討するに、原出願の出願当初の明細書には、「本発明によれば、照明手段（１０，１２，１４，１６）によってマスク手段（Ｒ）を照明することにより、投影光学系（２４）を介して感光基板上に所定の結像状態でマスク像を形成するに際し、分布変更手段（１８，５０，５２）によって照明光束の投影光学系の瞳上における分布状態が必要に応じて変更される。かかる照明光束の分布状態の変更を入力する入力手段（４０）からの情報に基づいて、投影光学系の光学特性の変化を求めるためのパラメータ（例えば時定数や係数）が修正される。演算手段（２８）は、修正されたパラメータに基づいて投影光学系の光学特性の変化を算出し、これに基づいて補正手段（３２，３４，３６，３８）により感光基板上の結像状態が補正される。この補正により、照明光束の分布状態が変更されても結像状態が所定の状態に良好に維持される。」（発明の概要の欄）及び「他方、照明開口絞り１８の設定開口数に対応して、セレクタ４０により該当する時定数がメモリ４２から選択される。例えば開口数が０.６のときは、時定数τ６が選択される（第７図（Ａ）参照）。選択された時定数はメインコントローラ２８に入力され、かかる時定数に基づいて第４図に示すような倍率の変動量が求められる。そしてこの変動量と、圧力センサ３８によって検知された密封レンズ室２４Ｆ内の圧力とに基づいてメインコントローラ２８から圧力調整器３２に制御信号が出力され、加圧系３４及び排気系３６が利用されて密封レンズ室２４Ｆ内の圧力が制御される。これにより投影レンズ２４の倍率が所定の値となるように制御される。」（実施例の欄）との記載があるから、申立人の主張は、失当である。
〔本件請求項１〜２４に記載された発明〕
　本件請求項１に記載された発明は、特許請求の範囲第１項に記載された次のとおりである。
「【請求項１】露光用の照明光でマスクを照明する照明系と、前記マスクのパターンの像を感光基板上に所定の結像特性で投影する投影光学系と、前記照明系からの照明光によって前記投影光学系の瞳面に生成される光源像の分布を前記照明系内で変更する分布変更手段と、前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素を調整して前記投影光学系の結像特性を微調整する結像特性調整手段とを備えた投影露光装置において、前記分布変更手段による前記光源像分布の変更に応じて生じる前記投影光学系の結像特性の所定状態からの変化を補正するのに必要とされる補正情報を予め記憶する記憶手段と；前記分布変更手段によって前記光源像分布が変更されるときは、前記変更後の光源像の分布状態に対応した補正情報を前記記憶手段から読み出し、該読み出された補正情報に基づいて前記結像特性調整手段の調整動作を制御する制御手段と；を備えたことを特徴とする投影露光装置。」
　本件請求項１に記載された発明と上記刊行物１〜３に記載された発明とを対比すると、上記刊行物１は、メモリ（ＲＡＭ，ＲＯＭ）を含む中央処理装置によって、全体的のシーケンスや各動作が統括制御され、データＤｕ，Ｄｄは、ヂューテイ検出回路において、シャッター３が開いている時間と、閉じている時間とを検出するための、カウンタ１１８、１１９からの計数値に基づくものであって、結局、投影レンズ８の倍率と焦点距離を補正するという思想を開示しているに留まり、上記刊行物２は、照明系の絞りを任意に変え、高解像度または短時間を選択できるとの開示に留まり、上記刊行物３は、σ値が異なると投影光学系の像面湾曲の状態も異なるとの開示に留まるから、後者は、前者の構成の一部である「前記分布変更手段による前記光源像分布の変更に応じて生じる前記投影光学系の結像特性の所定状態からの変化を補正するのに必要とされる補正情報を予め記憶する記憶手段」及び「前記分布変更手段によって前記光源像分布が変更されるときは、前記変更後の光源像の分布状態に対応した補正情報を前記記憶手段から読み出し、該読み出された補正情報に基づいて前記結像特性調整手段の調整動作を制御する制御手段」及び「前記分布変更手段によって前記光源像分布が変更されるときは、前記変更後の光源像の分布状態に対応した補正情報を前記記憶手段から読み出し、該読み出された補正情報に基づいて前記結像特性調整手段の調整動作を制御する制御手段」を有さない。
　それゆえ、各刊行物に記載された発明をどのように組み合わせてみても、本件請求項１に記載された発明を推考することはできない。
  また、特許請求の範囲６、７、１８に記載された発明に関する、申立人キヤノン　株式会社の主張については、上記（２）エ．で示したとおりである。
ウ．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠によっては、本件請求項１〜２４に記載された発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜２４に記載された発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年７月３１日（２０００．７．３１）
【訂正の要旨】
　　訂正の要旨
特許請求の範囲の減縮ないし誤記の訂正を目的として、下記（１）〜（５）のように特許請求の範囲を訂正する。
（１）特許請求の範囲第６項を次のとおり訂正する。
「【請求項６】露光用の照明光でマスクを照明する照明系と、前記マスクのパターンの像を感光基板上に所定の結像特性で投影する投影光学系と、前記照明系からの照明光によって前記投影光学系の瞳面に生成される光源像の分布を前記照明系内で変更する分布変更手段と、前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素を調整して前記投影光学系の結像特性を微調整する結像特性調整手段とを備えた投影露光装置において、前記分布変更手段による前記光源像分布の変更に応答して、前記光源分布の変更後の状態に適応した前記結像特性調整手段の制御を行う制御手段を備えることを特徴とする投影露光装置。」
（２）特許請求の範囲第７項を次のとおり訂正する。
「【請求項７】露光用照明系からの照明光によりマスクを照明することで、該マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板上に所定の結像特性で露光する方法において、前記投影光学系の瞳面に生成される光源像分布を前記露光用照明系内で変更する段階と；前記光源像分布の変更に応じて生じる前記投影光学系の結像特性の変化が補正されるように、前記光源像分布の変更に応答して、前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素の調整を前記光源像分布の変更後の状態に適応して行う段階と；該調整の後に前記変更された光源像の分布状態で、マスクパターンを感光基板に投影露光する段階と；を含む投影露光方法。」
（３）特許請求の範囲第８項を次のとおり訂正する。
「【請求項８】前記照明系はオプティカルインチグレータを有し、前記光源像分布の変更は、前記オプティカルインチグレータの射出側に生成される２次光源像の形状を変化させることを特徴とする請求項７に記載の投影露光方法。」
（４）特許請求の範囲第１５項を次のとおり訂正する。
「【請求項１５】前記照明系はオプティカルインチグレータを有し、前記光学素子は、前記オプティカルインチグレータに入射する前記照明光の分布を変化させることを特徴とする請求項１３に記載の投影露光装置。」
（５）特許請求の範囲第１８項を次のとおり訂正する。
「【請求項１８】露光用照明系からの照明光によりマスクを照明し、該マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板上に露光する露光方法において、前記投影光学系の瞳面における前記照明光の光束分布を前記露光用照明系内で変更する段階と；該光束分布の変更に応じて生じる前記投影光学系の結像特性の変化が補正されるように、前記光束分布の変更に応答して、前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素の調整を前記光束分布の変更後の状態に適応して行う段階と；を含む投影露光方法。」
（５４）【発明の名称】
投影露光装置及び方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】露光用の照明光でマスクを照明する照明系と、前記マスクのパターンの像を感光基板上に所定の結像特性で投影する投影光学系と、前記照明系からの照明光によって前記投影光学系の瞳面に生成される光源像の分布を前記照明系内で変更する分布変更手段と、前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素を調整して前記投影光学系の結像特性を微調整する結像特性調整手段とを備えた投影露光装置において、
　前記分布変更手段による前記光源像分布の変更に応じて生じる前記投影光学系の結像特性の所定状態からの変化を補正するのに必要とされる補正情報を予め記憶する記憶手段と；
　前記分布変更手段によって前記光源像分布が変更されるときは、前記変更後の光源像の分布状態に対応した補正情報を前記記憶手段から読み出し、該読み出された補正情報に基づいて前記結像特性調整手段の調整動作を制御する制御手段と；
　を備えたことを特徴とする投影露光装置。
　【請求項２】
　前記照明系はオプティカルインテグレータを有し、
　前記分布変更手段は前記オプティカルインテグレータの射出側に配置され、前記光源像分布の形状を変更することを特徴とする請求項１に記載の投影露光装置。
　【請求項３】
　前記分布変更手段は、前記オプティカルインテグレータの射出側に配置された照明開口絞り部材で構成されることを特徴とする請求項２に記載の投影露光装置。
　【請求項４】
　前記分布変更手段は、前記オプティカルインテグレータに入射する照明光束の分布を変化させるレンズ群で構成されることを特徴とする請求項２に記載の投影露光装置。
　【請求項５】
　前記結像特性調整手段は、前記投影光学系を構成する一部の空気室内の圧力を調整する機構であることを特徴とする請求項１に記載の投影露光装置。
　【請求項６】
　露光用の照明光でマスクを照明する照明系と、前記マスクのパターンの像を感光基板上に所定の結像特性で投影する投影光学系と、前記照明系からの照明光によって前記投影光学系の瞳面に生成される光源像の分布を前記照明系内で変更する分布変更手段と、前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素を調整して前記投影光学系の結像特性を微調整する結像特性調整手段とを備えた投影露光装置において、
　前記分布変更手段による
前記光源像分布の変更に応答して、
た
の
を行う
　【請求項７】
　露光用照明系からの照明光によりマスクを照明することで、該マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板上に所定の結像特性で露光する方法において、
　前記投影光学系の瞳面に生成される光源像分布を前記露光用照明系内で変更する段階と；
　前記光源像分布の変更に
応じて
、
の
を前記光源像分布の変更後の状態に適応して行う
　該調整の後に前記変更された光源像の分布状態で、マスクパターンを感光基板に投影露光する段階と；
　を含む投影露光方法。
　【請求項８】
　前記照明系はオプティカルインテグレータを有し、
　前記光源像分布の変更は、前記オプティカルインテグレータの射出側に生成される２次光源像の形状を変化させることを特徴とする請求項７に記載の投影露光
方法
　【請求項９】
　前記光源像分布の変更は、前記オプティカルインテグレータの射出側の所定面内に配置された照明開口絞りの変更により行われることを特徴とする請求項８に記載の投影露光方法。
　【請求項１０】
　前記光源像分布の変更後に生じる前記投影光学系の結像特性の変動を補正するために必要な補正情報を予め記憶しておくことを特徴とする請求項７に記載の投影露光方法。
　【請求項１１】
　前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素を調整する段階は、前記投影光学系を構成する複数のレンズ素子間に形成される空気間隔内の気体圧力を調整して実行されることを特徴とする請求項７に記載の投影露光方法。
　【請求項１２】
　前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素を調整する段階は、投影光学系内のレンズ素子の間隔を調整して実行されることを特徴とする請求項７に記載の投影露光方法。
　【請求項１３】
　前記分布変更手段は、前記投影光学系の瞳面と共役な前記照明系内の所定面上での前記照明光の分布を変更する光学素子を有することを特徴とする請求項６に記載の投影露光装置。
　【請求項１４】
　前記照明系は、オプティカルインテグレータを有し、
　前記光学素子は、前記オプティカルインテグレータの射出側における光源像分布を変化させることを特徴とする請求項１３に記載の投影露光装置。
　【請求項１５】
　前記照明系はオプティカルインテグレータを有し、
　前記光学素子は、前記オプティカルインテグレータに入射する前記照明光の分布を変化させることを特徴とする請求項１３に記載の投影露光装置。
　【請求項１６】
　前記結像特性調整手段は、前記投影光学系を構成する複数のレンズ素子間に形成される空気間隔内の気体圧力を調整することによって前記投影光学系の結像特性を調整することを特徴とする請求項６に記載の投影露光装置。
　【請求項１７】
　前記結像特性調整手段は、前記投影光学系内のレンズ素子の間隔を調整して前記投影光学系の結像特性を調整することを特徴とする請求項６に記載の投影露光装置。
　【請求項１８】
　露光用照明系からの照明光によりマスクを照明し、該マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板上に露光する露光方法において、
　前記投影光学系の瞳面における前記照明光の光束分布を前記露光用照明系内で変更する段階と；
　該光束分布の変更に
応じて
、
の
前記光束分布の変更後の状態に適応して行う
　を含む投影露光方法。
　【請求項１９】
　前記投影光学系の瞳面における前記光束分布の変更は、前記投影光学系の瞳面と共役な前記照明系内の所定面上での前記照明光の分布を変更することによって行われることを特徴とする請求項１８に記載の投影露光方法。
　【請求項２０】
　前記照明系は、オプティカルインテグレータを有し、
　前記光束分布の変更は、前記オプティカルインテグレータの射出側における光源像分布を変化させることにより行われることを特徴とする請求項１８に記載の投影露光方法。
　【請求項２１】
　前記照明系はオプティカルインテグレータを有し、
　前記光束分布の変更は、前記オプティカルインテグレータに入射する前記照明光の分布を変化させることにより行われることを特徴とする請求項１８に記載の投影露光方法。
　【請求項２２】
　前記光束分布の変更は、前記投影光学系の瞳面における前記照明光の光束分布の形状が変化することを特徴とする請求項１８に記載の投影露光方法。
　【請求項２３】
　前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素を調整する段階は、前記投影光学系を構成する複数のレンズ素子間に形成される空気間隔内の気体圧力を調整して実行されることを特徴とする請求項１８、１９、２０、２１のいずれか一項に記載の投影露光方法。
　【請求項２４】
　前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素を調整する段階は、前記投影光学系内のレンズ素子の間隔を調整して実行されることを特徴とする請求項１８、１９、２０、２１のいずれか一項に記載の投影露光方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　　【発明の技術分野】
　本発明は、例えば集積回路の製造に使用される投影露光装置および投影露光方法に関するものであり、特に結像特性の変化に対する補正制御の改良に関するものである。
　【０００２】
　　【従来技術】
　投影光学装置例えば縮小投影型露光装置の重要な光学的特性の一つに重ね合わせ精度があるが、これに影響を与える要素のうち重要なものに投影光学系の倍率誤差がある。
　近年においては、集積回路の集積度が向上してパターンも微細化の傾向にあり、これに伴って重ね合わせ精度の向上に対する要望も強まっている。従って、投影倍率を所定の値に保持する必要性が極めて高くなってきている。
　【０００３】
　ところで投影光学装置の倍率は、装置のわずかな温度変化や、装置の配置されたクリーンルーム内大気のわずかな気圧変動、温度変化、あるいは投影光学系に対するエネルギー線の照射等の原因により所定倍率の近傍で変動する。
　このため、最近の縮小投影型露光装置には、かかる投影光学系の倍率を微調整して必要な所定倍率を実現するための倍率補正機構を有するものがある。例えば、レチクルと投影レンズの間隔を変化させたり、投影レンズ中のレンズ間隔を変化させたり、あるいは特開昭６１−７８４５４号公報に開示されているように、投影レンズ中の適当な空気室内の圧力を調整する等の機構がある。
　【０００４】
　更に、上述した倍率に関する変動要因と同様の理由により、フォーカスも移動する。このため、かかるフォーカスの補正機構を有する露光装置もある。
　ところで、以上のような結像特性変動要因のうち、投影光学系へのエネルギー線照射による熱の蓄積は、所定の特定数を持つ熱拡散現象である。従来の露光装置における照明系の開口数は、一般に一定であることが多い。このため、投影光学系に対するエネルギー線の入射の仕方は一定であり、かかる熱拡散の時定数は一定である。従って、結像特性である倍率やフォーカスの変動特性も一定となり、それらの調整制御も単一の方法でよい。
　【０００５】
　　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、最近においては、照明系の開口数を変化させることにより、特定のパターンの投影に対し、より優れた解像力を得ることができるようにした露光装置が提案されている。このような装置においては、開口数の変化に伴って光束の投影光学系の瞳上における分布状態も変化し、その結果、時定数も変化することが実験の結果認められた。従って、上述した一定の時定数に対する制御方法を適用しても良好に結像特性の調整を行うことができず、かかる時定数の変化に対応することができないという不都合がある。
　【０００６】
　また投影光学系へのエネルギー線の入射総量（照度）を投影光学系の像面（被露光基板）側で計測し、その値をパラメータとして結像特性を補正する場合、補正制御上は単純な入射エネルギー量の変化として扱う。一般に照明系の開口数を変化させると、像面での照度がそれに応じて変化することになるが、同時に上述の如く瞳上の光束の分布状態、すなわち瞳面近傍でのエネルギー密度が変化する。このため先に述べた時定数のみならず、光学特性の変動を特定するためのモデル式等の係数項も変化することが予想される。従って、かかる係数の変化を考慮しない場合、補正制御が不正確なものになるといった不都合が生じる。
　【０００７】
　本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、投影光学系に対して入射するエネルギー線の分布が変化しても良好に結像特性、特に倍率や焦点の変動の調整を行うことができる投影露光装置及び方法を提供することを目的とするものである。
　【０００８】
　　【課題を解決するための手段】
　本発明によれば、露光用の照明光で照明されたマスクのパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に所定の結像特性で投影するに際し、分布変更手段によって投影光学系の瞳面に生成される光源像の分布が必要に応じて変更される。
　また、結像特性調整手段で投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素の特性を調整することにより投影光学系の結像特性が調整される。
　【０００９】
　制御手段は、変更後の光源像分布に適応して結像特性調整手段の制御を行うので、光源像の分布が変更されても結像状態が良好に維持される。
　【００１０】
　　【発明の実施形態】
　以下、本発明の実施例を、添付図面を参照しながら説明する。まず、図１ないし図４を参照しながら、本発明の第１実施例について説明する。
　まず本発明の第１実施例の全体的構成について図１を参照しながら説明する。図１において、露光照明用の光源１０から発せられた光は、シャッター１２を介してレンズ１４に入射し、これによって平行光束とされた後、オプティカルインチグレータないしフライアイレンズ１６に入射するように構成されている。
　【００１１】
　フライアイレンズ１６を透過した光は、開口数を自動又は手動にて可変できる照明開口絞り１８を通過した後、ダイクロイックミラー２０に入射して、その光軸が図の下方に曲折され、メインコンデンサレンズ２２に入射して再び光路を曲げられ、必要なパターンを有するレチクルＲを透過した後、更には投影レンズ２４を通過してステージ２６上のウエハＷ上に達し、これによってレチクルＲのパターンがウエハＷ上に投影されるようになっている。尚、照明開口絞り１８は投影レンズ２４の入射瞳と共役に配置されている。
　【００１２】
　次に投影レンズ２４は、代表的なレンズ素子２４Ａ，２４Ｂ，２４Ｃ，２４Ｄを各々有しており、これらの間には、密封レンズ室２４Ｅ，２４Ｆ，２４Ｇが各々形成されている。これらのうち、密封レンズ２４Ｆの圧力が後述する手段によって制御され、投影レンズ２４の結像特性が調整制御されるようになっている。　次に制御系について説明する。結像特性の制御は、メインコントローラ２８を中心として行われる。メインコントローラ２８には、ますシャッタ制御回路３０が接続されている。このシャッタ制御回路３０は、シャッタ１２の開閉制御を行うものである。
　【００１３】
　前述した投影レンズ２４の密封レンズ室２４Ｆは、圧力調節器３２に接続されており、この圧力調節器３２には、加圧空気を供給する加圧系３４と、真空排気を行う排気系３６とが各々接続されており、適宜の電磁弁で密封レンズ室２４Ｆ内の圧力制御が行われるようになっている。また、レンズ密封室２４Ｆには、圧力センサ３８が接続されており、この圧力センサ３８と、前記圧力調節器３２とは、いずれもメインコントローラ２８に各々接続されている。これにより密封レンズ室２４Ｆ内の圧力が検知されるとともに、その圧力が所定値となるようにメインコントローラ２８により圧力調節器３２の駆動が行われるようになっている。
　【００１４】
　次に、前述した照明開口絞り１８には、入力手段としてのセレクタ４０が接続されており、このセレクタ４０は、メモリ４２を介してメインコントローラ２８に接続されている。セレクタ４０は、照明開口絞り１８の後述するσ（シグマ）値に応じて変化する時定数をメモリ４２から選択するためのものである。また、メモリ４２には、各σ値ないし開口数に対応してあらかじめ実験的に求められた結像特性の変化の時定数が格納されている。なお、以上の各構成要素のうち、照明開口絞り１８、セレクタ４０及びメモリ４２を除いた各部分は、特開昭６０−７８４５４号公報に開示されている。また、上述したσ値は、開口の程度を表すもので、照明光学系の開口数と投影光学系の物体（レチクルＲ）側の開口数の比で表現されるものである。
　【００１５】
　次に図２を参照しながら開口数が変化した場合の投影光学系における光分布の変化について説明する。なお第２図（Ａ），（Ｂ）は、図１の装置のうち、照明光学系及び投影光学系の部分を簡略化して示したものである。
　これら図２（Ａ），（Ｂ）において、実線ＬＡ，ＬＢは光束の道筋を示したものであり、またＰＡは入射瞳の位置、ＰＢは主面、ＰＣは結像面を各々示すものである。また、破線は、投影光学系の物体側ないし像側の開口を示している。
　【００１６】
　ここで図３を参照しながら、開口数について説明する。レチクルＲに対する入射光しの角度をθ１とし、レチクルＲから透過した光の角度をθ２とし、さらに結像面ＰＣに対する入射角度をθ３とし、また空気の真空に対する屈折率をｎとすると、照明光学系すなわちレチクルＲに対する入射側の開口数はｎｓｉｎθ１で表され、同様に投影光学系すなわち投影レンズ２４のレチクルＲ側の開口数はｎｓｉｎθ２であり、結像面ＰＣ側の開口数はｎｓｉｎθ３である。なお屈折率ｎは通常ほぼ「１」であるから実質的に開口数は、それぞれｓｉｎθ１，ｓｉｎθ２，ｓｉｎθ３で表される。
　【００１７】
　図２（Ａ）は、照明開口絞り１８が比較的広く開けられている場合であり、開口数も大きい。この図に示すように、レチクルＲ上の３点に集まる照明光束のうち回折せずに直進する０次光束の結像に至るまでの道筋ＬＡは、投影レンズ２４の内部全体に広がることになる。
　次に、図２（Ｂ）は、照明開口絞り１８が比較的閉じられている場合であり、開口数は小さい。この場合は０次光束の道筋ＬＢから明らかなように光束が投影レンズ２４の内部のうち、光軸近傍に集まることとなる。しかし、実際には、レチクルＲ面において回折光があるために、光束は図に示す範囲よりも外側に拡がることになるが、この点を考慮したとしても開口数が大きい場合と比較すれば光束は光軸近傍に集まる傾向にある。
　【００１８】
　以上のように、投影レンズ２４における瞳位置ＰＡ（あるいは主面位置ＰＢ）上の光束分布ないし光像面積は、照明光学系の開口数ないしσ値の変化に伴って変化することとなる。そして、かかる光束分布の変化が生ずると、投影レンズ２４による光束の一部の吸収に基づく温度上昇によって生ずる結像特性の変化の時定数も変化することとなる。
　【００１９】
　次に、セレクタ４０及びメモリ４２について説明する。上述したように、照明開口絞り１８の開口度ないしσ値に対応して結像特性の変化の時定数も変動する。第４図には、かかるσ値をパラメータとして変化させた場合における投影レンズ２４の倍率（あるいは焦点）の変動量の経時変化が示されている。なお、変動量は、その飽和点を１００％として規格化して示されている。この図において、σ値はα１での値＞α２での値＞α３での値＞α４での値の関係になっており、時刻ｔ０ないしｔＣまでシャッタ１２が「開」、時刻ｔＣ以降はシャッタ１２が「閉」の状態である。最もσ値の大きいα１は、時刻ｔ１において飽和しており、同時にα２は時刻ｔ２、α３は時刻ｔ３、α４は時刻ｔ４で各々飽和している。また、時刻ｔＣ以降もβ１ないしβ４で示すように減少の程度が異なっている。このように開口数に対応するσ値の変化に対応して結像特性の変化の時定数が変化する。そこで、図７（Ａ）に示すように、いくつかの照明開口絞り１８のσ値ないし開口数に対し、あらかじめ結像特性変化のデータを取得し、各々の場合の時定数τｉを求めておく。これらの時定数τｉは、メモリ４２に格納されており、必要なものがセレクタ４０により選択されてメインコントローラ２８に入力されるようになっている。
　【００２０】
　次に、上記実施例の全体的動作について説明する。まず、光源１０から発せられた照明光は、シャッタ制御回路３０の制御に基づくシャッタ１２の開閉に対応してレンズ１４に入射し、これによって平行光束化されたのちフライアイレンズ１６に入射し、更には照明開口絞り１８を通過する。このとき、照明開口絞り１８のσ値ないし開口数の程度によりその光束の拡がりが適宜調整される。拡がりが調整された照明光は、ダイクロイックミラー２０、メインコンデンサレンズ２２を各々介してレチクルＲに入射し、更には投影レンズ２４を通過してウエハＷ上に達し、レチクルＲのパターンの投影が行われる。
　【００２１】
　他方、照明開口絞り１８の設定開口数に対して、セレクタ４０により該当する時定数がメモリ４２から選択される。例えば開口数が０．６のときには、時定数τ６が選択される（図７（Ａ）参照）。選択された時定数はメインコントローラ２８に入力され、かかる時定数に基づいて図４に示すような倍率の変動量が求められる。そしてこの変動量と、圧力センサ３８によって検知された密封レンズ室２４Ｆ内の圧力とに基づいてメインコントローラ２８から圧力調整器３２に制御信号が出力され、加圧系３４及び排気系３６が利用されて密封レンズ室２４Ｆ内の圧力が制御される。これにより投影レンズ２４の倍率が所定の値となるように制御される。このように投影レンズ２４の変動特性上の時定数を用いて、圧力制御する方式は、特開昭６０−７８４５４号に開示されている方式でよい。尚、セレクタ４０はオペレータの判断により手動によって入力を受け付けるようにしてもよい。
　【００２２】
　次に、図５及び図６を参照しながら本発明の第２実施例について説明する。なお、上述した実施例と同様の構成部分については、同一の符合を用いることとする。
　この実施例は特開昭５８−１６０９１４号公報に開示されているように、上述した照明開口絞り１８のかわりにガリレオ系のレンズ群を用いることにより光量のケラレのないスループットの向上に有利なものとした例である。図５は、開口数を大きくする場合の例であり、フライアイレンズ１６の入射側に、凹凸レンズ５０、５２によりガリレオ系を配置してレンズ１４（図１参照）によって平行化された照明光束をエクスバンドする。ガリレオ系を配置しない場合には、図の破線で示す如くとなり、２次光源像の大きさはＩＰ０である。この像は、投影レンズ２４の瞳と共役の位置である像面１６Ａに形成される。次に、ガリレオ系を配置した場合には、図の実線で示す如くとなり、２次光源像の大きさはＩＰ１となって開口数が増大する。
　【００２３】
　次に凹凸レンズ５０、５２の配置を入れ換えると、図６に示す如くとなり、同図の実線で示すように２次光源像の大きさはＩＰ２となって開口数が低減されたのと同様の状態となる。
　以上のように、この第２実施例によれば、照明開口絞り１８を用いることなく、照明系のσ値を可変できるので、光量のケラレがなく、スループットの向上を測ることができる。またσ値を連続可変とする場合は、フライアイレンズ１６の前にズームレンズ系を設ければよい。
　【００２４】
　次に図７を参照しながら本発明の第３実施例について説明する。この実施例における装置構成は、上述した第１又は第２実施例と同様であるが、開口数と対応する時定数との求め方が異なる。
　第１実施例では、図７（Ａ）に示すように開口数と時定数との関係をテーブルとしてメモリ４２に格納し、必要なものをセレクタ４０で読み出している。
　【００２５】
　しかし本実施例では、開口数と時定数との関係を同図（Ｂ）に示すように適当な関数例えばｎ次関数で近似し、この関数をメモリ４２内に格納する。そして設定された開口数から演算により対応する時定数を求めるようにする。この場合、セレクタ４０は開口数の変化を入力する手段として働く。
　図７（Ａ）の場合には、開口数は段階的に変化するのみであるが、同図（Ｂ）の本実施例では、開口数が連続的に変化する場合にも対応できる。
　【００２６】
　なお、上記実施例では、結像特性の変化を一つの時定数で表現しているが、場合によっては２つ以上のパラメータで変動特性（減衰特性等）が表されることがある。この場合には、各開口数に対し、２つ以上の必要なパラメータを対応させる。例えば、図７（Ａ）に示す例では各開口数に対してτｉ１，τｉ２，τｉ３…の如く必要数のパラメータ（時定数）を対応させてメモリ４２に格納するようにし、同図（Ｂ）に示す例では必要数のパラメータ分の関数がメモリ４２に用意される。また、開口数とσ値とは対応しており、いずれを用いるようにしてもよい。
　【００２７】
　また変動特性として、瞬間的なエネルギー線照射に対する倍率や焦点の変動量をΔＰとし、時定数をＴ１，Ｔ２，Ｔ３，（Ｔ１＞Ｔ２＞Ｔ３）、係数をａ１，ａ２，ａ３としたとき、
　【００２８】
変動量ΔＰが、図４に示すように時間ｔの指数関数で表されるような場合、係数ａ１についても修正する必要があるときは同様に開口数（又はσ値）に対応して変えるようにすればよい。
　さて、上記実施例では専ら時定数の変化を問題としたが、σ値を変化させても時定数の変化がほとんど生じない場合もある。
　【００２９】
　図８は、投影レンズ２４への照明光の入射総量（像面照度）を一定とした場合に、照明開口絞り１８のσの値をパラメータとして変化させた場合の倍率（又は焦点）の変動特性を表す。図８において横軸は時間ｔを表し、時刻ｔ０からｔＣまではシャッタ１２が開状態であり、時刻ｔＣ以降は閉状態である。そして図８の縦軸は倍率（又は焦点）の変動量を表す。この図において、照明系の値の関係は、特性γ１でのσ値＞特性γ２でのσ値＞特性γ３でのσ値＞特性γ４でのσ値となっている。この特性は投影レンズの構造、レンズ硝材等により異なるが、σ値の変化に対応して時定数の変化はほとんどなく、パラメータとしての係数項が変化したように認められる。このような場合、図１に示したメモリ４２には図９（Ａ）に示すように、いくつかの照明開口絞り１８のσ値（又は開口数）に対して、あらかじめ結像特性変化のデータを取得して、夫々のσ値に対応した係数Ｃｉ（先の式のａｉに対応する）を求めて記憶しておく。そして図１中のセレクタ４０により、所望の係数Ｃｉが選択されてメインコントローラ２８に送られるようにする。また図７（Ｂ）で説明したのと同様に、σ値と係数Ｃｉとの関係を図９（Ｂ）で示すように適当な関数、例えばｎ次関数や双曲線等で近似し、その関数式をメモリ４２に格納し、設定された照明系のσ値に対応した係数を演算により求めるようにしてもよい。もちろん、メモリ４２内に時定数と係数の両方を記憶させて、σ値の変化に応じて適宜両方、又は片方を読み出して制御に用いてもよい。
　【００３０】
　また上記各実施例ではいずれも結像状態の補正手段として投影レンズ２４自体の光学特性を補正する方式を用いたが、その他の方式でもよい。例えば投影レンズ２４のレチクル側が非テレセントリックであれば、レチクルＲを光軸方向に自動的に移動させることによって、ウエハ上での倍率が変えられる。従ってその移動量を算出された変動特性に応じて追従変化させるようにすれば、倍率を常に一定値に保つことができる。さらに投影レンズ２４の焦点変動が問題となる場合は、投影レンズ２４とウエハＷとの間隔を一定に保つための自動焦点合わせ機構に、変動特性に応じたオフセットがのるようにし、投影レンズ２４の結像面の光軸方向への変動に追従して、ウエハＷの合焦とみなされる位置も変動するようにすればよい。すなわち本発明においては、投影像のウエハＷでの結像状態を補正し得るものであれば、どのような方式のものであってもかまわない。
　【００３１】
　また投影レンズの瞳上での光源像（開口絞り等の像）の形状が円形からその他の形状に変わったときも同様に、時定数、係数等のパラメータを変更することが望ましい。
　さらに、投影光学系自体の開口数（瞳の大きさ）を絞り等により変化させた場合も、照明系の開口数を変化させた場合と全く同様に、パラメータ（時定数、係数）を変化させてやれば同様の効果が得られることは言うまでもない。この場合も、セレクタ４０の開口数（σ値）の変化を入力する手段として働く。
　【００３２】
　　【発明の効果】
　以上説明したように本発明によれば、投影光学系における入射光の分布状態が変化してもその結像特性の変化を良好に調整し、精度よく結像特性を維持することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
　【図１】本発明の第１実施例を示すブロック構成図である。
　【図２】開口数が変化したときの投影レンズ内における光分布の変化を説明図するため図である。
　【図３】開口数を説明するための図である。
　【図４】開口数を変化させたときの結像特性の変化例を示す線図である。
　【図５】ガリレオ系を用いて開口数を変化させる第２実施例を説明するための図である。
　【図６】ガリレオ系を用いて開口数を変化させる第２実施例を説明するための図である。
　【図７】開口数に対する時定数の対応例を説明するための図である。
　【図８】開口数を変化させたときの結像特性の変化例を示す線図である。
　【図９】開口数（σ値）に対する係数の対応例を説明するための図である。
　【符合の説明】
１０…光源、１２…シャッタ、１６…フライアイレンズ、１８…照明開口絞り、２２…メインコンデンサレンズ、２４…投影レンズ、２４Ａ，２４Ｂ，２４Ｃ，２４Ｄ…レンズ素子、２４Ｅ，２４Ｆ，２４Ｇ…密封レンズ室、２６…ステージ、２８…メインコントローラ、３０…シャッタ制御回路、３２…圧力調整器、３８…圧力センサ、４０…セレクタ、４２…メモリ、Ｒ…レチクル、Ｗ…ウエハ