【事件の表示】
　特許第３１０７３０４号「光フィルター用ガラスセラミックス及び光フィルター」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３１０７３０４号の請求項１ないし６に係る特許を維持する。
【理　由】
１．本件発明
　特許第３１０７３０４号（平成１１年８月１０日出願、平成１２年９月８日設定登録）の請求項１ないし６に係る発明（以下、「本件発明１」ないし「本件発明６」という）は、その特許請求の範囲の請求項１ないし６に記載された事項により特定されるとおりのものである。
２．特許異議申立ての理由の概要
（１）特許異議申立人山田隆生（以下「申立人Ａ」という）は、下記甲第１及び甲第２号証、及び参考資料１〜３を提出し、請求項1ないし６に係る発明は、甲第1号証及び甲第２号証の記載に基いて容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の規定により、特許を受けることができないものであるから、特許を取り消すべきと主張している。
　　甲第１号証：特開平７−１９８９３５号公報
　　甲第２号証：特開平１１−１６１４３号公報
　　参考資料１：「ニューガラス」139頁、日刊工業新聞社（昭62．11．27）
　　参考資料２：「ガラスハンドブック」199頁、朝倉書店（1975年９月30日）
　　参考資料３：後藤直雪「ＮＥＷ　ＧＬＡＳＳ」
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（２）特許異議申立人ミノルタ株式会社（以下「申立人Ｂ」という）は、下記甲第１号証ないし甲第６号証を提出し、請求項１ないし６に係る発明は、甲第1号証ないし甲第５号証の記載に基いて容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の規定により、特許を受けることができず、また、本件明細書の詳細な説明は、甲第６号証からも明らかなように、個々の実施例のガラスセラミックスを製造する為の必要な製造条件が明らかでなく、当業者が実施できる程度に明確且つ充分に記載されていないから、本願は特許法第３６条第４項に規定される要件を満たしておらず、更に、本件明細書の特許請求の範囲は、請求項１ないし３に記載された発明は特許を受けようとする発明が明確でなく、請求項６に記載された発明は発明の詳細な説明に記載されたものとはいえないから、特許法第３６条第６項第１号に規定される要件を満たしておらず、特許を取り消すべきと主張している。
　　甲第１号証：特開平１０−２２６５３２号公報
　　甲第２号証：実験成績証明書（１）
　　甲第３号証：特開平７−１９８９３５号公報
　　甲第４号証：特開平８−１６０２２号公報
　　甲第５号証：特開平１１−１６１４３号公報
　　甲第６号証：実験成績証明書（２）
３．特許異議申立についての判断
【特許法第２９条第２項について】
（１）刊行物の記載
　　ア．刊行物１：特開平７−１９８９３５号公報（申立人Ａが提出した甲第１号証、申立人Ｂが提出した甲第３号証）には、以下のような発明が記載されている。
　　（ア−１）「線膨張係数値が７５乃至１５０（／１０７）の範囲内にある基板上に，ＴｉＯ２とＳｉＯ２皮膜を交互に繰り返し積層してなる，波長シフト温度係数が略ゼロの多層膜フィルタ。」（請求項３）
　　（ア−２）「本発明者は基板の線膨張係数に着目し，基板から多層膜への体積歪みを考慮した波長シフト温度係数選定理論を確立することで，波長シフト温度係数が略ゼロの多層膜フィルタの提供を図る。」（第２頁２欄３８〜４１行）
　　（ア−３）「この多層膜は表1に記載された各基板にそれぞれ蒸着されて各多層膜フィルタが作製される。」（第３頁４欄２３〜２５行）
　　（ア−４）第３頁の表１には、基板として「クリストロン」が提示されている。
　　（ア−５）「線膨張係数が７５乃至１５０（／１０７）の範囲内の基板を採用すれば，波長シフト温度係数が略ゼロの多層膜フィルタを提供できる。」（第４頁６欄２２〜２４行）
　　イ．刊行物２：特開平１１−１６１４３号公報（申立人Ａが提出した甲第２号証、申立人Ｂが提出した甲第５号証）には、以下のような発明が記載されている。
　　（イ−１）「主結晶相が、α?クォーツ（α?ＳｉＯ2），α?クォーツ固溶体（α?ＳｉＯ2固溶体），α?クリストバライト（α?ＳｉＯ2）およびα?クリストバライト固溶体（α?ＳｉＯ2固溶体）の中から選ばれる少なくとも１種以上および二珪酸リチウム（Ｌｉ2Ｏ・２ＳｉＯ2）であり、?５０〜＋７０℃における熱膨張係数が＋６５〜＋１３０×１０-7／℃であり、研磨加工後の表面粗さ（Ｒａ）が３〜９Åであることを特徴とする、磁気情報記憶媒体用ガラスセラミック基板。」（請求項１）
　　（イ−２）「Ｎａ2Ｏ，ＰｂＯを実質的に含まないことを特徴とする、請求項１に記載の磁気情報記憶媒体用ガラスセラミック基板。」（請求項２）
　　（イ−３）「ガラスセラミックは重量百分率で、 
　　　ＳｉＯ2 　　　　　　　　　７０ 　　〜 ８０％ 
　　　Ｌｉ2Ｏ　　　　　　　　　　９ 　　〜 １２％ 
　　　Ｋ2Ｏ　　　　　　　　　　　２ 　　〜   ５％ 
　　　ＭｇＯ　　　　　　　　　　　０．５〜   ４．８％ 
　　　ＺｎＯ　　　　　　　　　　　０．２〜   ３％ 
　　　　但し、ＭｇＯ＋ＺｎＯ　　　１．２〜   ５％ 
　　　Ｐ2Ｏ5 　　　　　　　　　　１．５ 〜   ３％ 
　　　ＺｒＯ2 　　　　　　　　　　０．５ 〜   ５％
　　　Ａｌ2Ｏ3 　　　　　　　　　２ 　　〜   ５％ 
　　　Ｓｂ2Ｏ3＋Ａｓ2Ｏ3 　　　　０ 　 〜   ２％
の範囲の各成分を含有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の磁気情報記憶媒体用ガラスセラミック基板。」（請求項４）
　　（イ−４）「基板材料は結晶異方性，異物，不純物等の欠陥がなく組織が緻密で均質、微細である事や、高速回転やヘッドの接触およびリムーバル記憶装置のような携帯型使用に十分耐え得る機械的強度，高ヤング率，表面硬度を有する事が求められ、本願のガラスセラミックス基板はこれらの条件を全て満足しているものである。」（第６頁右欄３８〜４４行）
　　ウ．刊行物３：特開平１０−２２６５３２号公報（申立人Ｂが提出した甲第１号証）には、以下のような発明が記載されている。
　　（ウ−１）「本発明は、磁気ディスク基板用ガラス組成物及び磁気ディスク基板に関する。」（第２頁右欄３６〜３７行）
　　（ウ−２）「実施例８　ガラス組成が、ＳｉＯ2：７０.０重量％、Ａｌ2Ｏ3：６.０重量％、Ｌｉ2Ｏ：８.０重量％、ＴｉＯ2：２.５重量％、ＺｒＯ2：４.０重量％、Ｐ2Ｏ5：１.８重量％、Ｓｂ2Ｏ3：０.２重量％、Ｂ2Ｏ3：２.０重量％、ＣａＯ：２.０重量％、ＢａＯ：１.５重量％及びＺｎＯ：２.０重量％となるよう各成分原料を秤量、混合した。このガラスの組成をモル％表示すると、・・・となり、このガラス組成物の理論的光学的塩基性度は、０.５３９５である。混合した原料を電気炉中の白金ルツボに投入して１,４５０℃で５時間溶融し、均質になるよう撹拌したのち、５０×５０×５mmの板状に成形し、除歪、冷却してガラス成形体を得た。このガラス成形体を、５７０℃で３時間、続いて６７０℃で２時間熱処理して、ガラス中に結晶を析出させた。さらに、成形体の表面を平均粒径１０μｍの炭化ケイ素砥粒を用いて３０分間ラッピングし、さらに平均粒径１μｍの酸化セリウム砥粒で１５分間ポリッシュして研磨成形体を得た。この研磨成形体は、結晶相１がＬｉ2Ｏ・２ＳｉＯ2であり、結晶相２はα?クオーツであった。結晶化度は、Ｌｉ2Ｏ・２ＳｉＯ2が２０容量％、α?クオーツが１９容量％であった。また、粉末法による結晶化ガラスの水溶出試験における重量減少は３.８×１０-7ｇ／cm2・ｈであり、抗折強度は２３０ＭＰａであり、算術平均粗さＲaは７.０Åであった。実施例９〜１５実施例８と同様にして、組成に応じて１,４００〜１,５３０℃で３〜２４時間溶融して得たガラス組成物を成形し、第３表に示す条件で熱処理して得られた結晶化ガラス成形体を、実施例８と同様に研磨した。得られた研磨成形体について、結晶相、結晶化度、粉末法による結晶化ガラスの水溶出試験における重量減少、抗折強度及び算術平均粗さＲaを測定した。結果を第３表に示す。」（第９頁左欄１９〜右欄１０行）
　　エ．刊行物４：特開平８−１６０２２０号公報（申立人Ｂが提出した甲第４号証）には、以下のような発明が記載されている。
　　（エ−１）「透明基板上に、屈折率の異なる光学膜厚λ／４の光学媒質層を交互に多層に積層してバンドパスフィルタ特性を得る光学多層膜フィルタにおいて、多層構造の所定の複数層位置に光学膜厚λ／２の層を混在させたことを特徴とする光学多層膜フィルタ。」（請求項１）
　　（エ−２）「また光学膜厚のばらつきの影響については、図６で説明した従来方式で透過率０になるばらつきの１０倍のばらつきの場合にも、透過率３０％が確保されることが明らかになった。透過率３０％は通常の用途には十分であり、膜厚のばらつきの影響が格段に低減されることが分かる。したがってまた、バンドパスフィルタの製造歩留まりが大きく向上する。」（第３頁４欄１９〜２５行）
　　オ．刊行物５：「ニューガラス」１３９頁、日刊工業新聞社、（昭62．11．27）（申立人Ａが提出した参考資料１）には、以下のような事項が記載されている。
　　（オ−１）「低膨張結晶化ガラスにはネオセラム（日本電気硝子），クリストロン（ＨＯＹＡ）ガラスセラミックスコード9623（コーニング社），ゼロデュール（Zerodur，ショット）などがある。」（１３９頁１０〜１２行）
　　カ．刊行物６：「ガラスハンドブック」１９９頁、朝倉書店、（1975．9．30）（申立人Ａが提出した参考資料２）には、以下のような事項が記載されている。
　　（カ−１）「結晶化ガラスの性質は析出している結晶の種類、その大きさと量、残存ガラス相の性質などにより定まり、またこれらの要因はガラスの組成と再加熱条件により定まる。結晶化ガラスのおもな特徴は次のとおりである。（１）機械的強度が高い。（２）緻密で内部に気孔をもたず、気体を通さない。（３）熱膨張係数が小さいもの（たとえばゼロ）を得ることができる。（４）結晶化することにより、もとのガラスに比べて軟化温度が上がり、耐熱性が増大する。（５）透明な結晶化物ができる。（６）電気的に絶縁性の高いものから半導性のものまでできる。また、強誘電性の結晶を析出させることにより、高い誘電率をもつものが得られる。」（１９９頁１〜１１行）
　　キ．刊行物７：後藤直雪「ＮＥＷ　ＧＬＡＳＳ」
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　　（キ−１）磁気ディスク用ガラスセラミックス（ＴＳ−１０）のヤング係数が、920，925，923×10８N／m２、曲げ強度が、20，24，24　kg／mm２であること。
（２）対比・判断
　上記各刊行物には、本件発明１の構成要件である、特定の熱膨張係数と光線透過率を有し、特定の主結晶相からなるガラスセラミックスを光フィルター用の基材として使用することについての記載がない。
　即ち、刊行物１に記載の「クリストロン」とは、刊行物５の記載（オ−１）によれば、結晶化ガラス、即ち、ガラスセラミックスであり、特定の熱膨張係数（75〜150×１０−７／℃）を示すガラスセラミックスを基材として誘電体を積層した光フィルターが記載されているが、光線透過率及び主結晶相についての記載がない。また、刊行物４にも、光学多層膜フィルタが記載されているが、通常の用途には透過率30％で十分である旨の記載があるだけである。
　一方、刊行物２には、本件発明１の数値範囲内にある熱膨張係数と本件発明１と同じ主結晶相からなるガラスセラミックスが記載されているが、用途が磁気情報記録媒体用であって、光フィルターに使用することについては記載も示唆もない。そして、一般に、ガラスセラミックスは熱処理条件によって、析出する結晶相が変化することは技術常識であり、磁気情報記録媒体用基材として要求される物性は、光フィルター用基材として求められる物性とは当然異なるから、最適な熱処理条件も同一とはいえず、刊行物２に記載されるガラスセラミックスの組成が本件発明の組成と同じだからといって、直ちに光学的物性も同じとはいえない。
　更に、刊行物３にも、本件発明１と同じ主結晶相からなるガラスセラミックスが記載されているが、このガラスセラミックスの用途も磁気ディスク用であって、光フィルターに使用することについては記載も示唆もない。そして、申立人Ｂが提出した「実験成績証明書（１）」によれば、刊行物３の実施例９に記載される方法で得られたガラスセラミックスは、熱膨張係数が本件発明の数値範囲に含まれるものの、光線透過率は本件発明の数値範囲から外れている。申立人Ｂは、熱処理条件を変えて行った実験２のサンプルでは、光線透過率は本件発明の数値範囲に含まれると主張しているが、実験２は、刊行物３に記載される熱処理条件とはかなり異なり、刊行物３記載の追試実験とは認められない。
　そして、刊行物２又は３により、物性や組成で本件発明と同一又は類似するガラスセラミックスが本件特許出願前知られていたからといって、これらのガラスセラミックスは磁気情報記録媒体用であって、使用の態様が全く異なる光フィルター用に転用することを、当業者が容易に想到することができたとはいえない。
　よって、本件発明１は、上記刊行物1〜７の記載から容易に発明をすることができたものとはいえない。
　本件発明２〜６は、本件発明１のガラスセラミックスの、ヤング率（本件発明２）、曲げ強度（本件発明３）、Ｎａ２Ｏ、ＰｂＯを実質的に含まないこと（本件発明４）、組成（本件発明５）を特定した発明、及びこれらのガラスセラミックス上に誘電体を成膜した光ガラスの発明であるから、本件発明１と同じ理由で、上記刊行物1〜７の記載から容易に発明をすることができたものとはいえない。
【特許法第３６条第４項について】
　申立人Ｂは、実験成績証明書（２）を甲第６号証として提出し、本件発明の実施例を追試したところ、実施例2,4,6,8については、失透が発生してガラス化せず、ガラス化した実施例1,3,5,7を板状に成形し、このガラス成形体を、以下の条件で熱処理し、これらのサンプルにて、光線透過率測定装置により光線透過率を測定したところ、全てのサンプルで、950nm〜1600nmの範囲で光線透過率60％以上を満足する追試結果は存在しなかったと主張している。
　　　条件ＮＯ．　　　　　１　　　２　　　３
　　　核形成温度　　　　500℃　550℃　600℃
　　　核形成熱処理時間  １hr　　１hr  　１hr　
　　　結晶化温度        780℃　780℃　780℃
　　　結晶化熱処理時間　７hr    ７hr  　７hr
　しかしながら、核形成温度や結晶化温度及びそれらの処理時間は、使用する原料組成により、変動するものと考えられ、上記の熱処理条件で得られたサンプルの物性が本件発明の要件を満たさなかったからといって、直ちに、本件発明を実施することができないとはいえない。本件明細書には、処理温度や処理時間が例示され、当業者はこれらの記載に基づいて、容易に本件発明に係るガラスセラミックスを得ることができるのであるから、本件明細書は特許法第３６条第４項の規定を満たす。
【特許法第３６条第６項第１号について】
　申立人Ｂは、本件の請求項１〜３のパラメータの数値範囲の臨界的意義の論拠が不十分で、比較例も本件発明と対比していないので、作用効果の記載が不十分であり、また請求項６についての説明が十分開示されていない旨主張する。
　しかしながら、本件の請求項１〜３のパラメータの数値範囲の臨界的意義については、本件特許明細書段落【0013】ないし【0017】に説明されており、その作用効果が比較例がなくては確認できないものとも認められない。さらに、請求項６に係る光フィルターの作用効果については、基材である請求項１ないし５に記載されたガラスセラミックスの作用効果から類推可能であり、本件明細書に開示がないとはいえない。
　よって、本件明細書の特許請求の範囲に記載される発明は、発明の詳細な説明に記載されており、特許法第３６条第６項第１号の規定をみたす。
５．むすび
　以上のとおりであるから、異議申立人Ａ及びＢの理由及び証拠によっては、本件請求項1ないし６に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項1ないし６に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年９月６日（２００１．９．６）