【事件の表示】
　特許第２９８２７７７号「液晶表示装置」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９８２７７７号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第2982777号の請求項1〜3に係る発明は、平成5年12月28日に出願された特願平5-333997号の一部を分割して特許出願され、平成11年9月24日に設定登録がなされ、特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間である平成12年10月10日に訂正請求がなされたものである。
２．訂正の適否について
　ア．訂正内容
　訂正事項a
　特許請求の範囲の請求項1を「一対の支持基板間に誘電異方性が負の液晶物質を狭持してなり、前記支持基板の一方の支持基板上に形成された画素を形成する電極上に画素内で液晶の配向性が異なる複数の領域を有する液晶表示装置において、前記画素を形成する電極上に、画素端部の一部若しくは全部が薄く画素上の分割境界部が厚い凸構造、若しくは、前記支持基板上の画素端部の一部若しくは全部が厚く画素上の分割境界部が薄い凹構造のどちらか一方を有し、前記液晶の初期配向構造がホメオトロピック型液晶配向であることを特徴とする液晶表示装置。」と訂正する。
　訂正事項b
　特許請求の範囲の請求項2を「一対の支持基板間に誘電異方性が負の液晶物質を狭持してなり、前記支持基板の双方の支持基板上に形成された画素を形成する電極上に画素内で液晶の配向性が異なる複数の領域を有する液晶表示装置において、前記画素を形成する電極上に、画素端部の一部若しくは全部が薄く画素上の分割境界部が厚い凸構造、若しくは、前記支持基板上の画素端部の一部若しくは全部が厚く画素上の分割境界部が薄い凹構造のどちらか一方を有し、前記液晶の初期配向構造がホメオトロピック型液晶配向であることを特徴とする液晶表示装置。」と訂正する。
　イ．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正は、特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明に該当し、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　ウ．むすび
　以上のとおり、上記訂正請求は、特許法第120条の4第2項及び同条第3項で読み替えて準用する第126条第2〜3項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．特許異議申立について
　ア．本件発明
　本件発明1〜3は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項1〜3に記載された次のとおりのものと認める。
「【請求項1】　一対の支持基板間に誘電異方性が負の液晶物質を狭持してなり.前記支持基板の一方の支持基板上に形成された画素を形成する電極上に画素内で液晶の配向性が異なる複数の領域を有する液晶表示装置において、前記画素を形成する電極上に.画素端部の一部若しくは全部が薄く画素上の分割境界部が厚い凸構造、若しくは、前記支持基板上の画素端部の一部若しくは全部が厚く画素上の分割境界部が薄い凹構造のどちらか一方を有し、前記液晶の初期配向構造がホメオトロピック型液晶配向であることを特徴とする液晶表示装置。
　【請求項2】　一対の支持基板間に誘電異方性が負の液晶物質を狭持してなり.前記支持基板の双方の支持基板上に形成された画素を形成する電極上に画素内で液晶の配向性が異なる複数の領域を有する液晶表示装置において、前記画素を形成する電極上に.画素端部の一部若しくは全部が薄く画素上の分割境界部が厚い凸構造、若しくは、前記支持基板上の画素端部の一部若しくは全部が厚く画素上の分割境界部が薄い凹構造のどちらか一方を有し、前記液晶の初期配向構造がホメオトロピック型液晶配向であることを特徴とする液晶表示装置。
　【請求項3】　前記凹構造若しくは凸構造が、電界印加時の液晶配向構造を4方向に分割することを特徴とする請求項1若しくは2に記載の液晶表示装置。」
　イ．異議申立の理由の概要
　異議申立人 金森英彦は、証拠として甲第1号証（特開平5-2161号公報）を提出し、本件発明は、特許法第29条第2項及び同法第36条第4項ないし第5項の規定に違反して特許されたものであるから、その特許は取り消されるべき旨主張している。
　ウ．甲第1号証に記載の発明ついて
　甲第1号証（特開平5-2161号公報）には、下記の事項が記載されている。
「【０００２】
【従来の技術】図６に電圧制御複屈折型液晶表示セルの構造を示す。図６の構成は、液晶分子の長軸方向が電極面にほぼ垂直に配向したいわゆるホメオトロピック配向した液晶セルで構成されている。
　【０００３】図６において、液晶セル２０は、所定間隔をおいて対向配置された２枚の透明ガラス基板２１，２５と、ガラス基板２１，２５の互いの対向面上に形成された透明電極２２，２４と、画素表示部以外での光透過を防止してコントラストを向上させるためのブラックマスクと呼ばれる遮光膜２６と、透明電極間に挟まれた液晶２３とを有する。液晶セル２０の上下には偏光方向が互いに直交する偏光板１０，３０が配置される。」（第2頁左欄段落【0002】〜【0003】）
「【０００８】
　【発明が解決しようとする課題】
　図８には光軸ｚ方向からみた、液晶分子２３の閾値電圧付近（以下）の配向状態を示す。図８における点線と実線はセグメント電極２２とコモン電極２４の位置を示す。図８において液晶分子２３の黒い点は長軸の一方の頭部を示しており分子の傾き方向を表している。
　【０００９】
　すなわち、閾値電圧付近では中央部の液晶分子は光軸方向に配向しているが、電極周辺箇所の液晶分子は光軸にたいしてすでに傾きをもっている。これは閾値電圧に達する以前にすでに光透過がブラックマスクの近傍で生じていることを示すものである。」（第2頁右欄段落【0008】〜【0009】）
「【００２７】
　図２において、７１，７６は透明ガラス基板、７２，７４，７５はＩＴＯによる透明電極、７３は液晶層、７７はブラックマスク、７８はカラーフィルタである。この場合における電界と液晶分子の関係は図１の場合と同様であり、電極エッジ部の画素周辺での光漏れはブラックマスクのオーバッラップ部７７１が阻止する。オーバラップ部の幅はセルギャップ以上とし、かつ開口率を減らさないように、なるべく小さな値とすることが好ましい。もちろん、アライメントのマージンは必要である。」（第3頁右欄段落【0027】）
　エ．対比・判断
　(1)特許法第29条第2項の規定の違反について
　本件発明1〜3の「支持基板上に形成された画素を形成する電極上に画素内で液晶の配向性が異なる複数の領域を有し、前記画素を形成する電極上に、画素端部の一部若しくは全部が薄く画素上の分割境界部が厚い凸構造、若しくは、前記支持基板上の画素端部の一部若しくは全部が厚く画素上の分割境界部が薄い凹構造のどちらか一方を有する」ことは、上記甲第1号証に記載も示唆もされていない。
　そして、本件発明1〜3は、「支持基板上に形成された画素を形成する電極上に画素内で液晶の配向性が異なる複数の領域を有し、前記画素を形成する電極上に、画素端部の一部若しくは全部が薄く画素上の分割境界部が厚い凸構造、若しくは、前記支持基板上の画素端部の一部若しくは全部が厚く画素上の分割境界部が薄い凹構造のどちらか一方を有する」ことにより、視角依存性の少ない光学特性が得られ、階調表示時に視角を変化しても階調反転の現象が見られないという作用効果を呈するものである。
　したがって、本件発明1〜3は、甲第1号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものとすることができないから、特許法第29条第2項に違反して特許されたものとすることができない。
　(2)特許法第36第4項ないし第5項の規定の違反について
　訂正前の請求項1〜3の「支持基板間の一方または双方に液晶の配向性を複数に分割する分割境界部を有する」という明りょうでない記載は、「支持基板の一方または双方の支持基板上に形成された画素を形成する電極上に画素内で液晶の配向性が異なる複数の領域を有する」と訂正された。
　また、本件発明1〜3の実施例3を説明する図11では、分割境界部が厚い凸構造又は薄い凹構造は画素の中央部に図示されているが、作用効果の程度は異なるかもしれないが、分割境界部が厚い凸構造又は薄い凹構造は画素の中央部のみに限られないことは当業者に明らかである。
　したがって、本件発明1〜3は、特許法第36条第4項ないし第5項の規定に違反して特許されたものとすることができない。
　オ．むすび
  以上のとおりであるから、異議申立の理由及び証拠によっては、本件発明1〜3についての特許を取り消すことができない。
　また、他に本件発明1〜3についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年１０月２７日（２０００．１０．２７）
【訂正の要旨】
訂正事項
ａ．特許公報の請求項１の減縮及び明瞭でない記載の釈明のため、「一対の支持基板間に誘電異方性が負の液晶物質を狭持してなり、前記支持基
板の
の支持基板上に形成された画素を形成する電極上に画素内で
配向性が異なる複数の領域を有する
ｂ．特許公報の請求項２の減縮及び明瞭でない記載の釈明のため、「一対の支持基板間に誘電異方性が負の液晶物質を狭持してなり、前記支持基
板の
の支持基板上に形成された画素を形成する電極上に画素内で
配向性が異なる複数の領域を有する
（５４）【発明の名称】
液晶表示装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】一対の支持基板間に誘電異方性が負の液晶物質を狭持してなり、前記支持基
板の
の支持基板上に形成された画素を形成する電極上に画素内で
配向性が異なる複数の領域を有する
　【請求項２】一対の支持基板間に誘電異方性が負の液晶物質を狭持してなり、前記支持基
板の
の支持基板上に形成された画素を形成する電極上に画素内で
配向性が異なる複数の領域を有する
　【請求項３】前記凹構造若しくは凸構造が、電界印加時の液晶配向構造を４方向に分割することを特徴とする請求項１若しくは２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関するものである。特に、広視野でコントラストの良好な表示を得ることの可能な液晶表示装置及びその液晶表示装置用基板の製造方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】従来の広視野でコントラストの良好な表示を得ることが可能な液晶表示装置として、特開昭６３−１０６６２４号公報に示されているものがある。これを例にとって従来の技術を説明する。図１４にこの液晶表示素子の平面図を示す。図１５にこの液晶表示素子の断面図（図１４のＥ−Ｅ’線断面図）を示す。一方のガラス基板２１上には画素単位の表示用電極１９、配向膜９と、この透明電極１９を駆動する薄膜トランジスタ１４とが形成されている。他方のガラス基板２２上には表示用透明電極２０、配向膜１０が形成されている。配向膜９、１０は、ポリイミドで形成されている。対向する透明電極１９，２０間に形成される画素Ｂは、例えば縦横２００μｍの正方形であり、マトリックス上に複数配列されている。この画素Ｂを形成する表示用の透明電極の中央部に、ポリイミドからなる帯状スペーサ２３が設けられている。この結果、各画素Ｂは、帯状スペーサ２３によって、領域ＩとＩＩに分割される。この分割された領域ＩとＩＩは、模式的には図１６に示すように形成される。即ち、一方のガラス基板２１と対向する他方のガラス基板２２にそれぞれ図１４に示す矢印方向にラビング処理する。従来、領域Ｉに配向規制力を与える場合、領域ＩＩをレジストにて覆いラビング処理を施し、領域ＩＩに配向規制力を与える場合も同様に領域Ｉをレジストにて覆いラビング処理を施していた。
　【０００３】この従来例では、分割された各々の領域での液晶配向は螺旋型の捻れの向きは同じであるが基板表面に対する角度が異なっている。基板表面に対する角度の違いにより、電圧印加時には液晶分子の立ち上がる方向が異なるため、光が基板に対する鉛直方向から傾いた斜め方向より入射する場合に各々の領域が光学特性を補償しあう。その結果、電圧印加時における視角依存性は上下基板間の各画素内の配向の異なる領域同士で相殺され、視角依存性の少ない光学特性が得られる。特に、階調表示時に視角を変化しても階調反転の現象が見られなくなっている。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】このような液晶表示装置の広視野な特性を実現するには各画素内に液晶の配向方向が異なる領域が存在することが必須となる。従来の液晶表示装置ではこの複数に分割された領域の作成方法として、上記に示したように配向膜上にレジストを使用した方法を用いている。しかしながら、このレジストを使用した方法では、配向膜上にレジスト・現像液、剥離液等を使用する。そのため、レジスト剥離後にもレジスト、現像液、剥離液等に起因したイオン等が配向膜上に残っていた。この残留したイオンが表示時に移動し、液晶物質の電荷保持特性を劣化させ表示の焼き付きなどの現象を起こし表示特性に悪影響を及ぼしていた。更に、配向膜の種類とレジスト等の種類の組み合わせによっては配向膜がダメージを受けて配向規制力を持たなくなってしまうことがあった。
　【０００５】そこで本発明では、レジストを用いずに、若しくはレジストを用いた場合でもその影響が配向膜表面に及ばないように、構造を工夫することにより分割された配向を実現し、広視野で高コントラストな液晶表示装置を得ることを目的とする。本発明の他の目的は、配向膜等を用いずに基板表面の構造のみで分割された配向を実現し、広視野で高コントラストな液晶表示装置を得ることを目的とする。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】第１の発明は、一対の支持基板間に液晶物質を狭持してなり、前記支持基板間に液晶の配向方向が異なる領域を複数持つ液晶表示装置において、前記支持基板の一方若しくは両方の支持基板上の各画素に、画素端部の一部若しくは全部が薄く画素中央の分割境界部が厚い凸構造、若しくは、前記支持基板の一方の支持基板上の各画素に画素端部の一部若しくは全部が厚く画素中央の分割境界部が薄い凹構造のどちらか一方を有することを特徴とする液晶表示装置である。
　【０００７】第２の発明は、一対の支持基板間に液晶物質を狭持してなり、前記支持基板間に液晶の配向方向が異なる領域を複数持つ液晶表示装置において、前記支持基板の一方若しくは両方の支持基板上の各画素に、鋸歯状の連続した凹凸構造面を有し、その凹凸構造面が画素中央部が高く画素端部に向かって低くなるような構造単位から成るか、若しくは、その凹凸構造面が画素端部が高く画素中央部に向かって低くなるような構造単位から成ることを特徴とする液晶表示装置である。
　【０００８】第３の発明は、電極付き支持基板上に熱可塑性のレジストを塗布する工程と、該レジストの一部領域を遮蔽し露光し、不要部のレジストを溶解・除去する工程と、該レジストを加熱し変形させる工程と、を備えてなることを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法である。
　【０００９】
　【作用】従来の液晶表示素子では、レジストを使用した露光・現像工程と逆向きのラビング処理により電圧印加時に各画素内に液晶の配向方向が異なる領域を発生させる。これに対し、本発明の第１の発明では図１に示すように、一方若しくは両方の支持基板４上の各画素１１に、画素端部の一部若しくは全部が薄く画素中央の分割境界部が厚い凸構造１、若しくは、前記支持基板の一方の支持基板４上の各画素１１に画素端部の一部若しくは全部が厚く画素中央の分割境界部が薄い凹構造１のどちらか一方を有する。第１の発明での配向方向が異なる領域の実現方法を図４から図６を参照して説明する。第１の発明においては、図４に示すように一方の支持基板５上の各画素に画素端部の一部若しくは全部が薄く画素中央の分割境界部が厚い凸構造１若しくは画素端部の一部若しくは全部が厚く画素中央の分割境界部が薄い凹構造１を有するか、若しくは、図５に示すように一方の支持基板上５の各画素に画素端部の一部若しくは全部が薄く画素中央の分割境界部が厚い凸構造１を有し、且つ、他の一方の支持基板５上の各画素に画素端部の一部若しくは全部が厚く画素中央の分割境界部が薄い凹構造１を有するか、更に若しくは、図６に示すように両方の支持基板５上の各画素に画素端部の一部若しくは全部が薄く画素中央の分割境界部が厚い凸構造１若しくは画素端部の一部若しくは全部が厚く画素中央の分割境界部が薄い凹構造１を有する。支持基板間に狭持された液晶物質は、これらの基板表面の構造により配向規制力に変化を受ける。
　【００１０】この変化の様子を、例えば図４の構造で、特に構造面の切断面が二等辺三角形となるようにした場合について説明する。液晶配向規制力を発生させる配向膜等により、構造面の無い支持基板６上で液晶配向がＡ度基板表面から立ち上がるとする。一方、構造面の二等辺三角形状構造をＢ度の角度とする。この構造面を有する支持基板５上に液晶配向がＣ度基板表面から立ち上がるような配向規制力を与えると、基板との界面で液晶配向が有する角度は、図４の領域Ｉで（Ｂ＋Ｃ）度、領域ＩＩでは（Ｂ−Ｃ）度となる。Ａに比べて（Ｂ＋Ｃ）と（Ｂ−Ｃ）の方が大きいと、電圧印加時に液晶配向は（Ｂ＋Ｃ）若しくは（Ｂ−Ｃ）の角度で規定される方向に立ち上がろうとする。この結果、液晶の配向方向が異なる領域が各画素内に発生し、視角を傾けた時の視角特性を画素内の各領域が互いに補い広視野な特性が得られる。このような作用が、本発明の第１の発明の他の図５や図６のような例でも液晶配向の角度関係により容易に行われることは明白であるのでここでは省略する。
　【００１１】また、ここで示したような構造面の最大傾斜線と配向規制力方向の角度が０ーの場合のみならず、０ー以外の一定の角度を成す場合においてもこのような作用が容易に行われることは明白である。
　【００１２】但し、次のことに留意する必要がある。一方の支持基板のみ構造を与える図４の場合、構造面を与えない基板６の配向規制力の角度Ａが低く０度に近い方が作用が容易に行われる。これに対し、図５や図６の場合、両面に構造を与えるため、特に一方の基板の領域Ｉの配向規制力の角度（Ｃ＋Ｂ）と、他方の基板の領域Ｉの配向規制力の角度（Ｄ＋Ａ）が他の２ヶ所の配向規制力（Ｃ−Ｂ）、（Ｄ−Ａ）に比較して高い場合、特に配向膜等の配向規制力の角度に大きくは依存しない。
　【００１３】本発明の第２の発明においては、図２に示すように、一方若しくは両方の支持基板４上の各画素１１に、鋸歯状の連続した凹凸構造面２を有し、その凹凸構造面が画素中央部が高く画素端部に向かって低くなるような構造単位から成るか、若しくは、その凹凸構造面２が画素端部が高く画素中央部に向かって低くなるような構造単位から成る。このような構造を有すると本発明の第１の発明の作用が行われることは明白であるので省略する。ここで留意すべき点は、以下の点である。まず、このような鋸歯状の構造面２は、個々の構造単位の大きさが第１の発明より小さくなるため、傾斜面の作成が容易となる点である。更に特に留意すべき点は、このような鋸歯状の連続した凹凸面２は構造面の設計によってはその構造自身が配向規制力を有するため、配向膜等を使用する必要が無くなる点である。このような構造面については、実施例において述べる。
　【００１４】本発明の第３の発明の製造方法は、図３に示すようなものである。図３において（Ａ）のように電極付き支持基板４上に熱可塑性のレジスト２８を塗布する。前記レジスト２８上の一部領域を遮蔽し露光し、不要部のレジストを溶解・除去する。その結果、（Ｂ）のように一部領域にレジストが残る。このような基板を加熱することにより、熱可塑性レジストは変形し、（Ｃ）に示すように加熱後の熱可塑性レジスト２９が凹凸構造面を作成する。
　【００１５】
　【発明の実施の形態】本発明の実施例を図７から図１３を参照して説明する。図７は第１の発明の第１の実施例を示す斜視図である。図８は本実施例において使用した薄膜トランジスタアレイを示す模式図である。図９は本実施例における液晶表示装置の一単位画素部の組立斜視図である。この実施例においては、能動素子としてアモルファスシリコンによる薄膜トランジスタ１４を用い、一単位画素の大きさを縦１５０μｍ、横１００μｍとした。走査電極線１５、信号電極線１６は、スパッタ法で形成されたクロミウム（Ｃｒ）を用い、線幅を１０μｍとした。ゲート絶縁膜には窒化シリコン（ＳｉＮｘ）を用いた。画素電極１３は透明電極であるＩＴＯ（酸化インジウム錫）を用い、スパッタ法により形成した。このように薄膜トランジスタ１４をアレイ状に形成したガラス基板を第一の基板１７とした。また、対向側の第二の基板１８上には、ＩＴＯを用いた透明電極１９を形成し、更にカラーフィルタ１２を染色法によりアレイ状に形成しその上面にシリカを用いた保護層を設けた。第一の基板１７上の構造面の作製方法としては次のような方法によった。図１０に示すように、第一の基板１７上に凸構造面の材料として第一のポリイミド膜２４を厚さ約２μｍ塗布した。この第一のポリイミド膜２４の上面に第一のポリイミド膜２４と現像時のエッチングによる溶解速度が異なる第二のポリイミド膜２５を塗布した。この第二のポリイミド膜上にレジストを使用して露光・現像・エッチングを行い、図１０に示すような構造を得た。この基板上に更に第三のポリイミド膜を塗布し、同様に露光・現像・エッチングを行った。この時レジスト端部よりエッチングが進み、凸構造面が得られた。
　【００１６】この構造面を有した第一の基板１７上にポリイミドによる配向膜９を塗布した。その配向膜９表面に、凸構造面の境界と４５ーの方向にラビング処理を施した。第二の基板１８も第一の基板と同様に配向処理を施したが、ラビングの方向は９０ー捻じれた方向とした。この両基板をシリカ粒子によるスペーサを介して接着剤で接着し、正の誘電異方性を有するネマティック液晶を注入した。また、この液晶セルの両側にポリカーバネイトを主材料とした偏光板２７を貼り付けた。この実施例においては、電圧を印加すると一画素内部で画素中心部を境界として配向が二分された。その結果、本実施例の液晶表示装置は、従来の配向膜上にレジストを用いた液晶表示装置と同様に広視野で高コントラストな特性が得られた。また、本実施例による液晶表示装置の表示ムラの発生率と従来のレジストを配向膜上に用いた液晶表示装置での表示ムラの発生率を求めた所、表示ムラの発生率が１．２％から０．１３％へと１割程度に減った。この時の表示ムラは液晶表示装置２０パネルの平均によった。このように配向膜上にレジストを用いないことにより、液晶表示装置の信頼性の向上が図られた。
　【００１７】更に、第１の発明の第２の実施例として、液晶表示装置の構造としては第１の実施例と同様のものを用い、構造面の作成法を変えた例を示す。本実施例では、まず始めに第１の実施例と同様にしてガラス基板上に構造面のみを作成した基板を用意した。この基板に対し、その構造を写し取った鋳型を作成した。実際に使用する基板上にはエポキシ系樹脂を用いた膜を塗布し、鋳型を押し付け固まるまで放置することにより構造面を作成した。この構造面上にポリイミドによる配向膜を塗布し、ラビング処理を施した。この方法によっても画素中心部を境界として配向が一画素内で二分された。本実施例の方法は、良好に作成された形状を元の型として使用するため第１の実施例の方法に比べて構造面の形状の再現性に優れていた。
　【００１８】更に、構造面の他の作成方法として、本発明の第３の発明の製造方法を図３を参照して示す。まず始めに第１の発明の第１の実施例と同様にしてガラス基板上に電極等を設けた。この基板４上に熱可塑性レジスト２８を２μｍの厚さで塗布した。次に、画素縦方向を二分する線を中心として１００μｍ幅の横ストライプ状のマスクを用い、画素中心部を遮蔽し露光した。次に、露光部のレジストを現像液により溶解・除去した。その結果、画素中心部に幅１００μｍのレジストが残った。この残ったレジストを加熱して変形させることにより、画素縦幅即ち１５０μｍ幅の凸構造面が画素内に得られた。
　【００１９】第１の発明の第１及び第２の実施例においては、誘電異方性が正のネマティック液晶を用い液晶配向が約９０ー捻じれたＴＮ（ツイステッド・ネマティック）型の液晶配向としたが、このような液晶配向に限るものではなく他の液晶配向に対しても有効である。例えば、誘電異方性が負のネマティック液晶を用い両基板上の配向膜が有する配向規制力の角度が基板表面から約９０ー立ち上がるような角度であるホメオトロピック型の液晶配向に対しても有効である。このホメオトロッピク型の配向を用い一画素内の液晶配向を２分割した液晶表示装置は容易に実現された。しかし、ホメオトロピック配向に本発明を適用する場合、次に示す第３の実施例のような４分割等のより多数の分割が容易に実現されたことを特記しておく。この第１の発明の第３の実施例においては、図１１の一単位画素部の組立斜視図に示すような構造面を用いた。この構造面では、視角方向の上下左右にあたる４方向の電圧印加時の配向が全て分割された液晶表示素子が得られた。その結果、その表示特性の視角依存性は、第１や第２の実施例の上に上下方向のみならず全ての方向に平均化された特性となり、どの方向から観察しても良好な表示が得られた。
　【００２０】また、第１から第３の実施例において構造面の断面は二等辺三角形状のものを用いたが、次のような形状のものでも分割が可能であった。すなわち、円弧の一部を一辺とするような二等辺三角形状のもの、三角形の底辺部の角度が異なり、画素途中で構造がなくなるような形状等でも配向が分割された。
　【００２１】次に図１２を参照して本発明の第２の発明の第１の実施例について説明する。本実施例では、基板の作成方法は第１の発明の第１の実施例と同様に行い、構造面の構造を図に示すような鋸歯状とした。この構造でも電圧印加時に配向が二分され、広視野で高コントラストな特性が得られた。また、本実施例では構造面の個々の構造単位の大きさが第１の発明の構造面より小さくなるために構造面作成のために使用するポリイミドは、第一のポリイミドのみ若しくは第一と第二のポリイミドの組み合わせで十分であった。そのため、構造面が容易に作成された。
　【００２２】また、第２の発明の第２の実施例として、第１の発明の第２の実施例と同様に鋳型により構造面を作成した例を示す。構造面以外の基板の作成方法は、第１の発明の第１の実施例と同様に行った。但し、本実施例においては、鋳型の作成方法を第１の発明の第２の実施例とは異なる方法で作成し、また、構造面の形状を第２の発明の第１の実施例とは異なる構造とした。その結果、配向膜の塗布やラビング処理が不必要となった。具体的には、鋳型の作成方法はレーザーを使用したホログラフィック干渉法とイオンビームによるエッチングによった。また、構造面の形状は図１３に示すような形状とした。図中、Ｆは０．６μｍ、Ｇは２μｍ、各構造単位の最も高い所であるＨの高さを０．１μｍとした。この構造を用いた時、液晶はこの構造に添って配向し、また、液晶が立ち上がる方向も構造面の傾き方向に依存した。このため、液晶を配向させるための配向膜及びラビング処理が不必要となり、工程が大幅に短縮された。ここでは、Ｆ、Ｇ、Ｈの値として上記のものを用いたがこの値に限るものではなく、液晶が配向し立ち上がる方向を規定出来るどのような条件でもかまわない。
　【００２３】
　【発明の効果】本発明を適用すれば、配向膜上にレジストを用いなくても基板上の構造のみで電圧印加時の液晶配向を画素内で分割することが出来、広視野な液晶表示装置を得ることが出来る。また、構造面の工夫により、４分割等の多数の配向の分割や、配向膜や配向処理を用いないで電圧印加時の液晶配向を分割した液晶表示装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】本発明の液晶表示装置の斜視図である。
　【図２】本発明の液晶表示装置の斜視図である。
　【図３】本発明の液晶表示装置用基板の製造方法の工程断面図である。
　【図４】本発明の液晶表示装置の作用を説明するための第１の一単位画素部の断面図である。
　【図５】本発明の液晶表示装置の作用を説明するための第２の一単位画素部の断面図である。
　【図６】本発明の液晶表示装置の作用を説明するための第３の一単位画素部の断面図である。
　【図７】第１の発明の第１の実施例を示す斜視図である。
　【図８】第１の発明の第１の実施例における薄膜トランジスタアレイを示す平面図である。
　【図９】第１の発明の第１の実施例における一単位画素部の組立斜視図である。
　【図１０】第１の発明の第１の実施例における構造面の作成法を示す工程断面図である。
　【図１１】第１の発明の第３の実施例における一単位画素部の組立斜視図である。
　【図１２】第２の発明の第１の実施例における一単位画素部の組立斜視図である。
　【図１３】第２の発明の第２の実施例における構造面を示す斜視図である。
　【図１４】従来の広視野を目的として領域を分割した液晶表示装置の平面図である。
　【図１５】図１４のＥ−Ｅ’線に添って切断した断面図である。
　【図１６】従来の領域を分割した液晶表示装置のラビング方向の模式図である。
　【符号の説明】
１　凸若しくは凹構造面
２　鋸歯状の構造面
３　液晶物質（液晶層）
４　基板
５　構造面を有する基板
６　構造面を有しない基板
７　分割された領域
１８　分割された領域
２９、１０　配向膜
１１　画素
１２　カラーフィルタ
１３　画素電極
１４　薄膜トランジスタ
１５　走査電極線
１６　信号電極線
１７　第１の基板
１８　第２の基板
１９及び２０　透明電極
２１及び２２　ガラス基板
２３　帯状スペーサ
２４　第１のポリイミド膜
２５　第２のポリイミド膜
２６　第３のポリイミド膜
２７　偏光板
２８　熱可塑性レジスト
２９　加熱後の熱可塑性レジスト