【事件の表示】
　特許第２９１２３１８号「真空処理装置用搬送システム」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９１２３１８号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
【
１
　本件特許第２９１２３１８号は、昭和６１年３月７日に出願された特願昭６１−４８３４１号の一部を新たな特許出願としたものとして出願された特願平６−２９２６３３号の一部を更に新たな特許出願としたものとして出願された特願平８−３４７３６５号の一部を、更に新たな特許出願として、平成１０年１月１９日に願書が提出され、平成１１年４月９日に設定登録されたものであり、その後、平井貞雄及び高橋学よりそれぞれ特許異議の申立てがなされ、平成１２年９月８日付けで取消理由の通知がなされたところ、その指定期間内の平成１２年１１月２４日付けで特許異議意見書及び訂正請求書が提出され、当該訂正請求に対して平成１３年１月４日付けで訂正拒絶理由の通知がなされ、その指定期間内の平成１３年３月２６日付けで特許異議意見書が提出され、その後、更に平成１３年６月５日付けで取消理由の通知がなされ、その指定期間内の平成１３年８月８日付けで特許異議意見書が提出されたものである。
【
２
　上記平成１２年１１月２４日付け訂正請求は、願書に添付した明細書を訂正請求書に添付した訂正明細書のとおり訂正することを求めるものであるが、その要旨は、次のとおりのものと認める。
１
　特許請求の範囲の請求項１の「該ローダ部に載せたカセットから前記被処理試料を取り出し搬送する第１の試料搬送手段と、」とあるのを、「該ローダ部に載せたカセットから前記被処理試料を一枚毎取り出し搬送する第１の試料搬送手段と、」に訂正する。
２
　特許請求の範囲の請求項１の「前記ローダ部と前記第１の試料搬送手段とをそれぞれ大気雰囲気のクリーンルーム内に設置し、前記真空処理室、前記前処理室、前記ロード室、前記アンロード室及び前記第２の試料搬送手段を前記クリーンルーム外に設置した」とあるのを、「前記ローダ部と前記第１の試料搬送手段とをそれぞれ大気雰囲気のクリーンルーム内に設置し、前記真空処理室、前記前処理室、前記ロード室、前記アンロード室及び前記第２の試料搬送手段を前記クリーンルーム外に設置し、前記ローダ部を前記第１の試料搬送手段を含む真空処理装置本体から取り外し可能に構成した」に訂正する。
３
  明細書の【０００８】を次のように訂正する。
「【０００８】
　【課題を解決するための手段】
 　本発明の特徴は、被処理試料を複数枚収納したカセットを大気下で載せるローダ部と、該ローダ部に載せたカセットから前記被処理試料を一枚毎取り出し搬送する第１の試料搬送手段と、該試料搬送手段からの前記被処理試料を受け入れるロード室と、複数の真空処理室との間で前記被処理試料の受け渡しをする前処理室と、前記試料搬送手段へ処理済みの被処理試料を渡すアンロード室と、前記前処理室内に配置され、前記ロード室またはアンロード室と前記複数の真空処理室との間で前記被処理試料を搬送する第２の試料搬送手段とを具備し、前記ローダ部と前記第１の試料搬送手段とをそれぞれ大気雰囲気のクリーンルーム内に設置し、前記真空処理室、前記前処理室、前記ロード室、前記アンロード室及び前記第２の試料搬送手段を前記クリーンルーム外に設置し、前記ローダ部を前記第１の試料搬送手段を含む真空処理装置本体から取り外し可能に構成した、ことにある。」
４
　明細書の【００１０】の「また、他の設備と連結し自動搬送ライン化する場合でも、装置全体の変更を必要とせず、単にローダ部と第１の試料搬送手段を真空処理装置の本体から取り外し新たに別搬送ラインを取り付けることで容易に対応できる。また、被処理試料を複数枚収納したカセットを大気下でローダ部に載せる構成としているため、カセットの供給、回収が簡単であり、生産ラインの自動化が容易に行なえる。従って、自動搬送化への対応が容易な真空処理装置用搬送システムを提供することができる。」を、
「【００１０】
　また、他の設備と連結し自動搬送ライン化する場合でも、装置全体の変更を必要とせず、単にローダ部を真空処理装置の本体から取り外し新たに別搬送ラインを取り付けることで容易に対応できる。また、被処理試料を複数枚収納したカセットを大気下でローダ部に載せる構成としているため、カセットの供給、回収が簡単であり、生産ラインの自動化が容易に行える。従って、自動搬送化への対応が容易な真空処理装置用搬送システムを提供することができる。」に訂正する。
【
３
１
２
　さらに、願書に添付した明細書の段落【００１０】の「また、他の設備と連結し自動搬送ライン化する場合でも、装置全体の変更を必要とせず、単にローダ部と第１の試料搬送手段を真空処理装置の本体から取り外し新たに別搬送ラインを取り付けることで容易に対応できる。また、被処理試料を複数枚収納したカセットを大気下でローダ部に載せる構成としているため、カセットの供給、回収が簡単であり、生産ラインの自動化が容易に行なえる。従って、自動搬送化への対応が容易な真空処理装置用搬送システムを提供することができる。」との記述を参照すると、「単にローダ部と第１の試料搬送手段を真空処理装置の本体から取り外し」との記載があり、「第１の試料搬送手段」は「ローダ部」とともに、真空処理装置の本体から取り外されるもので、「ローダ部」を取り外した場合に、「第１の試料搬送手段」が「真空処理装置の本体」に含まれて残るものとは認めることはできない。
３
４
【
４
１
　そして、願書に添付した明細書の特許請求の範囲には、以下のとおりのものが記載されている。
「１．被処理試料を複数枚収納したカセットを大気下で載せるローダ部と、
該ローダ部に載せたカセットから前記被処理試料を取り出し搬送する第１の試料搬送手段と、
該試料搬送手段からの前記被処理試料を受け入れるロード室と、
複数の真空処理室との間で前記被処理試料の受け渡しをする前処理室と、
前記試料搬送手段へ処理済みの被処理試料を渡すアンロード室と、
前記前処理室内に配置され、前記ロード室又はアンロード室と前記複数の真空処理室との間で前記被処理試料を搬送する第２の試料搬送手段とを具備し、
前記ローダ部と前記第１の試料搬送手段とをそれぞれ大気雰囲気のクリーンルーム内に設置し、前記真空処理室、前記前処理室、前記ロード室、前記アンロード室及び前記第２の試料搬送手段を前記クリーンルーム外に設置したことを特徴とする真空処理装置用搬送システム。」
２
　特許請求の範囲の記載にこのような不明瞭な点があることを、上記平成１３年６月５日付け取消理由において指摘したが、特許権者は、特許請求の範囲の訂正を行うことなく、前記平成１３年８月８日付け特許異議意見書において、前記「第１の試料搬送手段」について、「第１の試料搬送手段は、前処理室内に配置された第２の試料搬送手段との対比で、大気側に設けられた符号１９０の試料搬送手段と符号１９１の試料搬送手段とを纏めて呼称したものであります。よって、第１の試料搬送手段は、符号１９０と符号１９１との両方の試料搬送手段の機能を有するものであります。」と主張しているから、前記特許請求の範囲における「第１の試料搬送手段」を、発明の詳細な説明及び図面の記載を斟酌して「符号１９０と符号１９１との両方の試料搬送手段の機能を有するもの」と認める。
【
５
　上記取消理由のその２は、
　本件特許発明は、本件特許の出願前に頒布された刊行物である「電子材料　１９８６年３月」（昭和６１年３月１日発行）第８２〜８８頁（以下、「刊行物１」という。）及び「電子材料　１９８４年３月」（昭和５９年３月発行）第８９〜頁９３頁（以下、「刊行物２」という。）、並びに特開昭６０−４０５３２号公報（以下、「刊行物３」という。）又は特開昭５７−４１３７０号公報に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件特許は、特許法第２９条第２項の規定により拒絶されるべき出願に対してなされたものであり、取り消されるべきものである．
というものである。
【
６
１
 (1)刊行物１
　イ）第８３頁左欄第８行〜第８４頁左欄第１２行には「(1)ILC-1013MKII（標準）　ILC-1013MKIIシリーズのベースとなる装置である。図１に示されるように、４つの真空室と１つのオートローダから構成されている。各部の機能は以下のとおりである。
・オートローダ　　作業者が、カセットのローディング及びアンローディングを行う。最大４個のカセットをセットすることができる。
・ロードロック室　　ウエハをカセット単位で真空排気、ベントする。
・バッファ室　　連続処理中のウエハをカセット単位でストックしておく、未処理のウエハを１枚ずつクリーニング室に送りだし、処理済のウエハを１枚ずつクリーニング室から回収する。
・クリーニング室　　膜付けの前処理として、ＲＦエッチングおよびランプ加熱によるウエハ表面のクリーニングを、ウエハ１枚ずつ行う。エッチングおよび加熱の順序は任意に選択できる。
・スパッタリング室　　ウエハ上に金属薄膜の膜付けを行う。カソードは標準で２基であるが、オプションで１基追加することができる。
　以上の各室の間はすべてゲートバルブで仕切られ、単独に排気される。このため各室間の不純物ガスのコンタミネーションを防ぐことができる。また、バッファが設けられているため、長期間の運転でも、プロセスチャンバへの大気ガスのコンタミネーションを防ぐことができ、安定した膜を得ることができる。さらには、クリーニング室とスパッタリング室とで別々にＡｒ圧力を設定できるため、エッチングおよびスパッタリングをおのおのの最適条件で行うことができる。一方、スパッタリングの各カソードの間には厳重なシールドが何重にも設けられカソード間のスパッタリング原子のクロスコンタミネーションを防止している。」と、第８４頁右欄第１３行〜第８５頁左欄第９行には「(3)ILC‐1013MKIIｉ（インディペンデントスパッタ）リピートスパッタが１つのスパッタリング室を用いて多層膜の形成を行うのに対して、この装置の特徴はスパッタリング室を３つ設け、間にセパレーション室を介して各スパッタリング室を完全に独立させていることにある。図４に構成を示す。各スパッタリング室とセパレーション室を仕切るゲートバルブは互いに同時に開くことはない。このためスパッタリング室相互のスパッタリング物質のクロスコンタミネーションはもちろん、ガスのクロスコンタミネーションをも完全に防止できる。多層膜を連続的に形成して行く場合には、この点が重要である。単にスパッタリング室を仕切っただけの構造ではウエハの搬送時にガスのクロスコンタミネーションが必ず起こるからである。さらに、この装置では、セパレーション室があるため、クリーニング室で発生する不純物ガスのスパッタリング室への混入も完全に防止できる。また、膜付けの順序は３つのカソード（スパッタリング室）の任意の組み合わせで自由に選択でき、不要なカソード（スパッタリング室）をパスすることができる。以上の構造により、コンタミネーションフリーな高品質多層膜を、高い生産性で量産していくことができる。」と記載され、図４には、スパッタリング装置「ILC‐1013MKIIｉ（インディペンデントスパッタ）」が示されているものと認められる。
　これらの記載から、“被処理試料としてのウエハを収納したカセットのローディングおよびアンローディングを行うオートローダ、ウエハをカセット単位で真空排気およびベントするロードロック室（ロードロックチャンバ）、連続処理中のウエハをストックしておき、未処理のウエハをクリーニング室に送りだし、処理済のウエハをクリーニング室から回収するバッファ室（バッファチャンバ）、膜付けの前処理として、ＲＦエッチング及びランプ加熱によるウエハ表面のクリーニングを行うクリーニング室（クリーニングチャンバ）、ウエハ上に金属薄膜の膜付けを行う複数のスパッタリング室（スパッタチャンバ）、及びこれらスパッタリング室とクリーニング室との間のウエハの受け渡しを行うセパレーション室（セパレーションチャンバ）を具えている、スパッタリング装置ILC‐1013MKIIｉ（インディペンデントスパッタ）”が記載されているものと認められる。
　ロ）第８５頁右欄第２０行〜第８６頁右欄第６行には、「(6)ロボット対応　　オートローダが標準装備されクリーンルーム内の極く小さなフロア面積を使って作業がすすめられる。処理されたウエハは同一のカセットに回収されるためカセットのロードおよびアンロードが同一の場所で行える。このためロボットとの接続が楽にできる。 
(7)作業性　　カセットのセットは、オートローダの上に載せるだけで良い。処理条件のセット、装置の立上げ、立ち下げも簡単なボタン操作で行える。さらにＣＲＴがカラーで見易く、さまざまな画面を場合に応じて使い分けることができる。
（8）パーティクル対策　　パーティクルを低減するための工夫が随所になされている。装置内部の搬送系はもちろんのこと、オートローダ部でのカセットのセットも完全なダウンフローの流れの中で行われるように配慮されている。
(9)メンテナンス性　　クリーンルーム側にはオートローダ部のみで、装置本体をメンテナンスルームに設置したインザウォール形である。装置のパネル類は、すべてワンタッチで開閉でき作業性を高めている。各チャンバのドアも大きく開放できるため楽に作業が行える。また、排気系をチャンバの上部に、駆動系をチャンバの下部に配置し、明確に分けているためメンテナンス作業がやりやすくなっている。クリーンルームとメンテナンスルームの間にインタホーンが設けられ、迅速なコミュニケーションがはかれるよう配慮されている。」と記載され、
　“オートローダをクリーンルーム側に設置し、他の装置本体すなわちロードロック室、バッファ室、クリーニング室、スパッタリング室およびセパレーション室をメンテナンスルームに設置している点”
が記載されているものと認められる。
(2)刊行物２
　イ）「枚葉式スパッタ装置MCH-7300」について、第８９頁写真１には「６インチウエハ対応の枚葉式スパッタ装置MCH-7300」のほぼ正面側からの写真が示され、
　ロ）第９０頁右欄第１２行から第９１頁左欄第１行には、「Ｃ−to−Ｃの枚葉式のため、４，５，６インチいずれのウエハでも、９０枚/hrの生産性は変らない。」、第９１頁左欄末２行には「ウエハが大気側から入ってくるのみであり、スパッタ室はつねに真空に保たれている。」との記載があり、
　ハ）第９２頁左欄第２５行〜第９３頁左欄第２行には、「１．大気搬送系　仕込み用、取り出し用にそれぞれ２式のカセットを用意し、１ロット２５枚ずつ交互にカセットを使用することにより、ウエハ搬送を連続的に行っている。搬送は、ベルトコンベヤ方式を採用している。また、ロードロック室にウエハが入る寸前に、オリフラ合せを行っている。なお、本搬送系は、本体上部に付属するクリーンユニットからのクリーンエアーのダウンフローにより清浄度が保たれている。
２．ロードロック室　ロードロック室は、約３００ｃｃの小さな室でエッチング/加熱室と大気との間を、Ｓｉウエハが移動する時の出入口となる。プロセスの終ったSiウエハが入ってくるとドライ窒素が導入され大気圧に戻され、ウエハを取り出す。また、新しいSiウエハがセットされると、粗引きを開始し、数秒で本引きに移り、計約１０秒以内に１０−４Torr台まで排気される。こうしてSiウエハをエッチ/加熱室へ送り込む。」と記載されている。
　このように、刊行物２には、「枚葉式スパッタ装置」、「Ｃ−to−Ｃの枚葉式」、「ウエハ搬送を連続的に行っている。搬送は、ベルトコンベヤ方式を採用している。また、ロードロック室にウエハが入る寸前に、オリフラ合せを行っている。」、「Ｓｉウエハが移動する時の出入口となる。プロセスの終ったSiウエハが入ってくるとドライ窒素が導入され大気圧に戻され、ウエハを取り出す。また、新しいSiウエハがセットされると、」等記載されており、
　“カセットからウエハを取り出しロードロック室に搬送し、ロードロック室からウエハをカセットへ搬送するベルトコンベヤ方式の大気搬送系を備える点”、
が記載されているものと認められる。
　ニ）第９２頁左欄第６行には「(8)クリーンルームとの仕切りが前面である（図８）。」と記載され、
　上記ロ）、ハ）、ニ）の記載及び図８を参照すると、
　“本装置の前面と一致してクリーンルームの仕切りが設置され、スパッタリング装置の本体はクリーンルーム外にあり、前記大気搬送系の仕込み用、取り出し用のそれぞれ２式のカセットがクリーンルーム側に開放した空間に設けられて、クリーンルーム側でウエハの搬入および搬出が行われること”が示されているものと認める。
(3)刊行物３
　イ）「本発明は真空コーティング装置の分野にあって、特にマグネトロン・スパッタコーティング源を用いて磁性体及び非磁性体をコーティングすることに関する。」（第１０頁上右欄第１１〜１４行）
　ロ）「第１図に示されているように、コーティング装置は、薄い基板（ディスク又はウエーハ）１３を運搬する入口カセット１０及び出口カセット１１と、入口及び出口ロードロック（ｌｏａｄ　ｌｏｃｋ）１５及び１６と、連合したベンティング（ｖｅｎｔｉｎｇ）及び排気装置１７と、主真空チエンバ１８と、処理ステーション２０−２３と、……有する。」（第１４頁上左欄第６〜１５行）
　ハ）「主真空チエンバ１８から間違いなく孤立させられると、ロードロック１５は装置１７によって排気され、ロードロック１５のドア５０は基板１３を受けれるために（図示されていない手段によって）全開位置へ１８０°回転させられる。空気式シリンダー５２によって作用される別の溝付リフトブレイド５１は、１つの基板１３と嵌合してその基板をカセット１０からロードロック１５のドアー５０に取り付けられた一対の溝付受け入れガイド５３中へ運搬する（第７−９図参照）。レバーアーム５４はドアー５０の内側に置かれ、溝付ガイド５５を持ち、更に基板１３と嵌合してその基板をリフトブレイド５１の上へ持ち上げるように（図示されていない手段によって）作用される。リフトブレイド５１は、次に空気式シリンダー５２によってカセット10を通過してその下方へ引っ込められ、カセット１０は次のロードサイクルのための準備のために （図示されていない手段によって）前に進むように指示される。リフトブレイド５１が引っ込められた後、ドアー５０はその閉じた位置へとヒンジピン５７の部分で回転させられる。ドアー５０はＯ−リング５８を備える。そのＯ−リングは閉じたドアー５０と接合したロードロック１５の表面５９との間の真空シールを果たす。」（第１４頁上右欄第２０行〜同頁下右欄第５行）
　ニ）「基板１３を主真空チエンバ１８から出口ロードロック１６を通して出口カセット１１へ脱却する過程は、入口ロードロック１５を通しての装着過程にかんがみると、この２つの過程において用いられている様々な機構は実質的に同一であるので、容易に理解できる。」（第１４頁下右欄第１４〜１９行）
等の記載があり、刊行物３には、
“入口ロードロック１５と出口ロードロック１６とを別室とし、入口カセット１０からウェーハ等の被処理試料を取り出し搬送するリフトブレイド５１等からなる試料搬送手段と、該試料搬送手段からの前記被処理試料を受け入れる入口ロードロック１５と、出口カセット１１へ処理済みの被処理試料を渡す試料搬送手段と、該試料搬送手段へ処理済みの被処理試料を渡す出口ロードロック１６とを備える処理装置．”
 が記載されているものと認める。
２
(1)本件特許発明と刊行物１に記載された発明とを対比する。
　刊行物１に記載されたものの、バッファ室（バッファチャンバ）、クリーニング室（クリーニングチャンバ）及びセパレーション室（セパレーションチャンバ）が本件特許発明の「前処理室」に相当し、刊行物１に記載されたもののスパッタチャンバ（スパッタリング室）が本件特許発明の「真空処理室」に相当するものと認められる。また、刊行物１に記載されたものの、オートローダ、ロードロック室（ロードロックチャンバ） は、カセット単位でウエハを取り扱う点で試料単位で取り扱う本件特許発明と相違するものの、オートローダはクリーンルーム内の大気下で試料を載せるローダ部、ロードロック室（ロードロックチャンバ）はロード室及びアンロード室を構成するものであり、さらに、刊行物１に記載されたものも、オートローダとロードロック室（ロードロックチャンバ）との間でカセットに収容された試料を搬送するための手段が配置されていることは明らかであるから、
　本件特許発明と刊行物１に記載された発明とは、
被処理試料を複数枚収納したカセットを大気下で載せるローダ部と、前記被処理試料を搬送する第１の試料搬送手段と、該試料搬送手段からの前記被処理試料を受け入れる室と、複数の真空処理室との間で前記被処理試料の受け渡しをする前処理室と、前記試料搬送手段へ処理済みの被処理試料を渡す室と、前記前処理室内に配置され、前記被処理試料を受け入れる室又は処理済みの被処理試料を渡す室と前記複数の真空処理室との間で前記被処理試料を搬送する第２の試料搬送手段とを具備し、前記ローダ部を大気雰囲気のクリーンルーム内に設置し、前記真空処理室、前記前処理室、前記被処理試料を受け入れる室、前記処理済みの被処理試料を渡す室及び前記第２の試料搬送手段を前記クリーンルーム外に設置した真空処理装置用搬送システム．
である点において一致し、次の２点で相違する。
〈相違点Ａ〉
　本件特許発明では、第１の試料搬送手段は、ローダ部に載せたカセットから被処理試料を取り出し搬送するものであり、試料搬送手段からの前記被処理試料を受け入れる室はロード室として、試料搬送手段へ処理済みの被処理試料を渡す室はアンロード室として、別室に構成され、ロード室及びアンロード室の各室は第１の試料搬送手段との間でカセットから取り出された被処理試料を受け渡しするのに対して、刊行物１に記載されたものは、第１の試料搬送手段がカセット単位で被処理試料の搬送を行い、試料搬送手段からの前記被処理試料を受け入れる室と試料搬送手段へ処理済みの被処理試料を渡す室が共通のロードロック室に構成され、単一のロードロック室において前記第１の試料搬送手段との間でカセット単位で被処理試料の受け渡しを行う点、
〈相違点Ｂ〉
　本件特許発明は、前記第１の試料搬送手段を大気雰囲気のクリーンルーム内に設置したものであるのに対して、刊行物１に記載されたものは、第１の試料搬送手段を大気雰囲気のクリーンルーム内に設置したものと明記されたものでない点
(2)上記相違点について検討する。
　ｉ）相違点Ａについて
　上記刊行物３に、ロード室とアンロード室とを別室に構成し、ローダ部に載せたカセットから被処理試料を取り出し搬送する試料搬送手段と、該試料搬送手段からの前記被処理試料を受け入れるロード室と、ローダ部に載せたカセットへ処理済みの被処理試料を渡す試料搬送手段へ処理済みの被処理試料を渡すアンロード室とを備える処理装置が記載されているから、相違点Ａにおける本件特許発明の構成は、上記刊行物３に記載された事項に基づいて当業者が容易に想到し得たものとするのが相当である。
　ii）相違点Ｂについて
　刊行物２に、ロードロック室を含むスパッタリング装置本体をクリーンルーム外に設置し、仕込み用、取り出し用のカセットをクリーンルーム側に開放した空間に設置し、カセットとロードロック室との間でウエハを搬送するベルトコンベヤ方式の大気搬送系を備えるスパッタリング装置が記載されているから、刊行物１に記載された如き、ロード部をクリーンルーム内に設置し、装置本体をクリーンルーム外に設置したものにおいて、ロード部とロード及びアンロード室（ロードロック室）との間で被処理試料を搬送する搬送手段を大気雰囲気のクリーンルーム内に設置することは、刊行物２に記載されたものに基づいて当業者が容易に想到し得ることとするのが相当である。
(3)そして、本件特許発明による作用効果は、上記刊行物１〜３に記載された事項から予測し得る程度のものと認められる。
(4)したがって、本件特許発明は、上記刊行物１〜３に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
【
７
　以上のとおりであるから、本件特許発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本件発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認める。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年８月３０日（２００１．８．３０）