【事件の表示】
　特許第２７１８４３１号「シリカオルガノゾルおよびその製造方法」の請求項１ないし２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２７１８４３１号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理由】
１．手続の経緯
　特許出願　　　　　　平成２年６月１８日
　設定登録　　　　　　平成９年１１月１４日
　　　　　　　　　　（特許第２７１８４３１号）
　特許公報発行　　　　平成１０年２月２５日
　特許異議の申立て１　平成１０年８月２４日
　　　　　　　　（申立人１　株式会社日本触媒）
　特許異議の申立て２　平成１０年８月２５日
　　　　　　　　（申立人２　株式会社ディスク）
　取消理由通知　　　　平成１１年４月２１日
　意見書，訂正請求書　平成１１年７月１９日
２．訂正の要旨
　平成１１年７月１９日付けの訂正請求における訂正の要旨は次のとおりである。
（１）訂正事項Ａ
　特許査定時の特許請求の範囲の請求項１に「１．４５０以下」（本件特許公報第１欄第３行）とあるのを「１．３００〜１．４１６」に訂正する。
（２）訂正事項Ｂ
　特許査定時の特許請求の範囲の請求項２に「１．４５０以下」（同公報第１欄末行〜第２欄第１行）とあるのを「１．３００〜１．４１６」に訂正する。
（３）訂正事項Ｃ
　特許査定時の明細書第４頁第２行及び第１５頁第３行（同公報第３欄第２５行及び第７欄第３４行）に「１．４５０以下」とあるのを「１．３００〜１．４１６」に訂正する。
（４）訂正事項Ｄ
　特許査定時の明細書第４頁第１９行〜第５頁第２行（同公報第４欄第１９〜２０行）に「１．４５０以下、好ましくは１．３００〜１．４５０、さらに好ましくは１．３５０〜１．４３０」とあるのを「１．３００〜１．４１６、好ましくは１．３５〜１．４２」に訂正する。
（５）訂正事項Ｅ
　特許査定時の明細書第１６頁第１行及び第１９行、第１７頁第５行、第１１〜１２行及び第１９行、第１８頁第５〜６行、第１３行及び第１９〜２０行、第１９頁第７行及び第１３〜１４行（同公報第８欄第１行、第１６行、第２２〜２３行、第２８行、第３５行、第４０行及び第４８〜４９行、第９欄第３行、第１０行及び第１６行）に「実施例１」とあるのを「参考例」に訂正する。
（６）訂正事項Ｆ
　特許査定時の明細書第１７頁第２行及び第１３行（同公報第８欄第２０行及び第３０行）に「実施例２」とあるのを「実施例１」と訂正し、同第１７頁第１７行及び第１８頁第７行（同公報第８欄第３３行及び第４２行）に「実施例３」とあるのを「実施例２」と訂正し、同第１８頁第１１行及び第１９頁第１行（同公報第８欄第４５行及び第９欄第５行）に「実施例４」とあるのを「実施例３」に訂正し、第１９頁第５行及び第１５行（同公報第９欄第９行及び第１８行）に「実施例５」とあるのを「実施例４」に訂正し、同第２０頁第１行、第２３頁第１行及び第８行（同公報第９欄第２２〜２３行及び下から第５行、第１０欄下から第３行）に「実施例１、２」とあるのを「参考例と実施例１」に訂正し、同第２０頁第３行（同公報第１０欄第１行）に「実施例１〜５」とあるのを「参考例、実施例１〜４」に訂正し、さらに同第２２頁（同公報第５頁）の表１中、「実施例１」、「実施例２」、「実施例３」、「実施例４」及び「実施例５」とあるのをそれぞれ「比較例」、「実施例１」、「実施例２」、「実施例３」及び「実施例４」と訂正する。
３．訂正の適否に対する判断
３．１　訂正の目的、新規事項、拡張・変更
３．１．１　訂正事項Ａ及びＢについて
　上記訂正事項Ａ及びＢは、特許査定時の特許請求の範囲の請求項１及び２における屈折率を「１．４５０以下」より狭い範囲である「１．３００〜１．４１６」に訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　そして、上記屈折率については、特許査定時の明細書第４頁第１９行〜第５頁第１行（本件特許公報第４欄第１９〜２０行）に「屈折率が１．４５０以下、好ましくは１．３００〜１．４５０」と記載され、さらに同明細書第２２頁（同公報第５頁）の表１中実施例２〜５に屈折率が１．３８３〜１．４１６のものが記載されていたから、上記訂正事項Ａ及びＢは、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
３．１．２　訂正事項Ｃ及びＤについて
　上記訂正事項Ｃ及びＤは、上記訂正事項Ａ及びＢにより特許請求の範囲の請求項１及び２が訂正されたことに伴い、発明の詳細な説明の記載をこれに整合するように訂正するものであるから、明りょうでない記載の釈明に該当し、また、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
３．１．３　訂正事項Ｅ及びＦについて
　上記訂正事項Ｅ及びＦは、上記訂正事項Ａ及びＢにより特許請求の範囲の請求項１及び２が訂正されたことに伴い、特許請求の範囲から外れた特許査定時の実施例１を参考例とすると共に、特許査定時の実施例２〜５の番号を繰り上げて実施例１〜４に訂正するものであるから、明りょうでない記載の釈明に該当し、また、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
３．２　独立特許要件
３．２．１　訂正明細書に記載された発明
　訂正明細書に記載された特許請求の範囲の請求項１及び２の記載は次のとおりである。
　【請求項１】アルコキシシランの加水分解によって得られ、屈折率が１．３００〜１．４１６であるシリカ粒子が有機分散媒中に分散されてなることを特徴とするシリカオルガノゾル。
　【請求項２】一般式ＲｎＳｉ（ＯＲ’）４−ｎ（式中、Ｒ、Ｒ’は同じであっても異なっていてもよく、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基またはビニル基を表わし、ｎは０〜３の整数である）で示されるアルコキシシランを、水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、重縮合してシリカ粒子を生成させ、得られたシリカ粒子が分散しているシリカ粒子分散液を加熱処理し、次いで、前記シリカ粒子分散液中の少なくとも水の一部を有機溶媒で置換することを特徴とする屈折率が１．３００〜１．４１６であるシリカ粒子が有機分散媒中に分散されてなるシリカオルガノゾルの製造方法。
（以下、各請求項に係る発明を「本件訂正発明１」及び「本件訂正発明２」という。）
３．２．２　取消理由の概要
　平成１１年４月２１日付けの取消理由の概要は、次のとおりである。
（１）特許査定時の請求項１に係る発明は、下記引用例２〜４の記載を参照すれば、下記引用例１の実施例１−（３）に記載された発明であると認められるから、特許査定時の請求項１に係る発明の特許は特許法第２９条第１項の規定に違反してなされたものである。
（２）特許査定時の請求項１に係る発明は、下記引用例５及び６に記載された発明であるから、特許査定時の請求項１に係る発明の特許は特許法第２９条第１項の規定に違反してなされたものである。
（３）特許査定時の請求項２に係る発明は、下記引用例１〜４に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許査定時の請求項２に係る発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである。
（４）特許査定時の請求項２に係る発明は、下記引用例１、５〜７に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許査定時の請求項２に係る発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである。
（５）特許査定時の明細書には記載不備があるから、特許査定時の請求項１及び２に係る発明の特許は明細書の記載が特許法第３６条第３項及び４項の規定を満たしていないものに対してなされたものである。
　　　　　　　　　　　記
　引用例１　特開昭６３−１８５４３９号公報
　　　　　　　　　（申立人１の甲第１号証、申立人２の甲第７号証に該当に該当）
　引用例２　株式会社日本触媒の入口治郎が作成したと認められる平成１０年８月１１日付けの「実験成績証明書」
　　　　　　　　　（申立人１の甲第２号証に該当）
　引用例３　日本化学会編「改訂４版　化学便覧基礎編ＩＩ」丸善株式会社、平成５年９月３０日発行、第ＩＩ−５１５頁
　　　　　　　　　（申立人１の甲第３号証に該当）
　引用例４　Ａｌｄｒｉｃｈ社試薬カタログ、１９９６−１９９７版、第６８７頁
　　　　　　　　　（申立人１の甲第４号証に該当）
　引用例５　″Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｏｌｌｏｉｄ　ａｎｄ　Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ　Ｓｃｉｅｎｃｅ″，Ｖｏｌ．１１４，Ｎｏ．２（１９８６），ｐ．４９２−５００
　　　　　　　　　（申立人２の甲第１号証に該当）
引用例６　″Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｏｌｌｏｉｄ　ａｎｄ　Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ　Ｓｃｉｅｎｃｅ″，Ｖｏｌ．７６，Ｎｏ．２（１９８０），ｐ．４１８−４３３
　　　　　　　　　（申立人２の甲第３号証に該当）
引用例７　特開平１−１４５３１７号公報
　　　　　　　　　（申立人２の甲第６号証に該当）
３．２．３　各引用例の記載内容
（引用例１）
　上記引用例１は、「無機酸化物微粒子のグリコール単分散体及びその製法」の発明に関し、
（１−１）「
水和物粒子のアルコール性溶液懸濁体の製造
（１−２）「
水和物微粒子のグリコール懸濁体の製造
（１−３）「
無機酸化物微粒子のグリコール単分散体の製造
との記載があるほか、
（１−４）第１１頁の表−３には、例番号「３−（１）」の熱処理条件及び最終的なグリコール単分散体の性状及び微粒子の分析値が示されている。
（引用例２）
　上記引用例２には、引用例１の実施例３−（１）を追試し、得られたエチレングリコール分散体中のシリカ微粒子（１ｃ）の屈折率（ｎ１）を本件特許明細書の式［Ｉ］（本件特許公報第２頁）に基いて求めた結果は、シリカ微粒子の重量分率（Ｃ１）：２７．３％、エチレングリコールの重量分率（Ｃ２）：７２．７％、エチレングリコール以外の溶媒（水）の重量分率（Ｃ３）：０％、エチレングリコールの屈折率（ｎ２）：１．４３１、オルガノゾルの屈折率（２５℃）（ｎ４）：１．４３３であるので、ｎ１＝（１．４３３−１．４３１×０．７２７）／０．２７３＝１．４３７であったことが示されている。
（引用例３）
　上記引用例３には、エチレングリコールの屈折率はＨｅ（５８７．６ｎｍ）で「１．４２７４３」であることが示されている。
（引用例４）
　上記引用例４には、エチレングリコールの屈折率は「ｎＤ２０１．４３１０」であることが示されている。
（引用例５）
　上記引用例５は、「立体的に安定なシリカ分散における引力」と題する報文であって、これの第４９５頁左欄第３１〜４１行には、Ｈｅｌｄｅｎ等の方法により、テトラエトキシシラン、アンモニア及び水からシリカ粒子を合成し、その粒子をオクタデシルアルコールでアルコールと表面シラノールのエステル反応により被覆し、過剰のアルコールを除去してシリカを純化し、遠心分離により上澄みを除いたこと、同じく第４９６頁右欄本文第９行〜第４９７頁左欄第３行には、コントラスト変化技術により求めた粒子の屈折率は、波長λ０＝５４６ｎｍで１．４３６４であり、波長λ０＝４３６ｎｍで１．４４４２であることが、同じく第４９６頁右欄のＦｉｇ．２には、波長と粒子の屈折率の関係が示され、波長λ０が３５０ｎｍ〜６５０ｎｍの間で屈折率が１．４５２〜１．４３４の間で変化していることが、示されている。
（引用例６）
　上記引用例６は、「光散乱のコントラスト変化法：無極性溶媒混合物に分散されたシリカ球体」と題する報文であって、これの第４２２頁右欄下から第１３行〜第４２３頁左欄第１７行には、シリカ分散物を
シリカ粒子の表面にステアリルアルコールを化学吸着させることによりシリカを疎水性とし、過剰のステアリルアルコールを除去し精製して得られたシリカの乾燥粉末生成物は脂肪族溶媒に容易に分散可能であったことが、同じく第４２７頁右欄のＴＡＢＬＥ　ＩＩに、コントラスト変化法により求められたシリカ粒子の屈折率は、波長λ０＝５４６ｎｍで１．４４０であり、波長λ０＝４３６ｎｍで１．４４７であることが、示されている。
（引用例７）
　上記引用例７には、「真球状シリカ微粒子の製法」の発明に関し、
（７−１）「平均の組成がＲ１ｎＳｉＯ（４−ｎ）／２（但し、Ｒ１は直接ケイ素原子に結合する炭素原子を有する有機基の平均組成を示し、ｎは０．００５〜１の範囲の数をそれぞれ表わす。）で表わされるシリカ微粒子の製造法であって、加水分解、縮合可能な一般式ＳｉＸ４で表わされるシラン化合物（Ａ）、および一般式Ｒ２ｍＳｉＸ４−ｍで表わされるシラン化合物（Ｂ）［但し、一般式中Ｘはアルコキシ基、アシロキシ基、水酸基および水素原子からなる群から選ばれる少なくとも１種の基、Ｒ２は置換基があってもよいアルキル基、アリール基および不飽和脂肪族残基からなる群から選ばれる少なくとも一種の基、ｍは１〜３の範囲の整数をそれぞれ表わす。］またはそれらの誘導体を、シラン化合物（Ｂ）および／またはその誘導体の全シラン化合物に対する比をケイ素原子の当量数の比で表わして０．００１７〜１の範囲に混合して、少なくとも触媒としてのアンモニウムイオンと加水分解当量を超える水を含む有機性溶液中で加水分解、縮合することを特徴とする平均粒子径が０．０５〜２０μｍ、粒子径の標準偏差値が１．０〜１．５の範囲にあって、粒子の真比重が１．２０〜２．１０の範囲で制御された高純度な真球状シリカ微粒子の製法。」（特許請求の範囲）、
（７−２）「加水分解、縮合は、例えば上記した原料シラン化合物またはその有機溶剤溶液を上記有機性溶液に添加し、０〜１００℃の範囲、好ましくは０〜７０℃の範囲で３０分〜１００時間撹拌することによって行なわれる。」（第４頁右下欄第１０〜１４行）、　
（７−３）「実施例１　撹拌機、滴下口、温度計を備えた３０１のガラス製反応器にメタノール１４１及び２８％のアンモニア水溶液１．５Ｋｇを添加した後更にアンモニアガスを吹き込み０．２６Ｋｇを吸収させて混合しアンモニア濃度を調整した。該混合液を１０℃±０．５℃に調整し、撹拌しながらシラン化合物（Ａ）としてテトラメトキシシラン１．２２Ｋｇ及びシラン化合物（Ｂ）としてフェニルトリメトキシシラン０．７９Ｋｇの混合物をメタノール２１に希釈した溶液を滴下口より１時間かけて滴下し、滴下後内温を５０℃まで上げて５時間撹拌を続け熟成して加水分解を行い、シリカ微粒子（ａ）の有機（メタノール）性溶液懸濁体を製造した。・・（中略）・・なお、反応後懸濁体より粒子を分離した清澄な有機性溶液中に残存するケイ素を原子吸光分析により測定した所１０ｐｐｍ以下で、原料シラン化合物はほぼ完全に粒子になっていることを確認した。」（第６頁左上欄第９行〜同頁右上欄第１１行）、
との記載がある。
３．２．４　対比・検討
｛取消理由（１）について｝
　上記引用例１にはシリカ粒子の屈折率については何も示されていないが、引用例１の実施例３−（１）を追試し、エチレングリコールの屈折率（ｎ２）として上記引用例４に記載されている「１．４３１０」を使用し、本件特許明細書の式［Ｉ］（本件特許公報第２頁）に基いてシリカ粒子の屈折率（ｎ１）を求めると上記引用例２に示されているように、ｎ１＝１．４３７となり、同じくｎ２として引用例３に示されている「１．４２７４３」を使用すると、ｎ１＝（１．４３３−１．４２７×０．７２７）／０．２７３＝１．４８６となる。
　したがって、引用例２〜４の記載を参照しても、引用例１の実施例１−（３）で得られたシリカオルガノゾル中のシリカ粒子の屈折率（ｎ１）は本件訂正発明１における「１．３００〜１．４１６」という数値範囲内のものであるとは認められないから、本件訂正発明１は引用例１に記載された発明であるとすることはできない。
｛取消理由（２）について｝
　上記引用例５に記載されているシリカ粒子の屈折率は「１．４５２〜１．４３４」であり、上記引用例６に記載されているシリカ粒子の屈折率は「１．４４０〜１．４４７」であるから、いずれも本件訂正発明１における「１．３００〜１．４１６」という数値範囲内のものではないので、本件訂正発明１は引用例５及び引用例６に記載された発明であるとすることはできない。
｛取消理由（３）について｝
　引用例１には、「アルコキシシランを水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、重縮合してシリカ粒子を生成させ、次いで、前記シリカ粒子分散液中の少なくとも水の一部を有機溶媒で置換することを特徴とするシリカ粒子が有機分散媒中に分散されてなるシリカオルガノゾルの製造方法」の発明が記載されているとは認められるが、「アルコキシシランを水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、重縮合してシリカ粒子を生成させ」た後であって、「前記シリカ粒子分散液中の少なくとも水の一部を有機溶媒で置換する」前に、「得られたシリカ粒子が分散しているシリカ粒子分散液を加熱処理」することを示唆する記載はなく、しかも、シリカ粒子の屈折率については何も記載されていない。
　また、引用例２は引用例１の実施例１−（３）の追試結果であり、また、引用例３及び４にはエチレングリコールの屈折率が記載されているにすぎない。
　そして、本件訂正発明２が「アルコキシシランを水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、重縮合してシリカ粒子を生成させ」た後であって、「前記シリカ粒子分散液中の少なくとも水の一部を有機溶媒で置換する」前に、「得られたシリカ粒子が分散しているシリカ粒子分散液を加熱処理」することによりシリカオルガノゾル中に分散されているシリカ粒子の屈折率を「１．３００〜１．４１６」という特定の数値範囲のものとなし得ることは、本件特許明細書中訂正後の実施例１〜４と比較例１及び２の結果を表した「表１」の記載から確認できることである。
　してみれば、引用例１〜４の記載を総合して勘案したところで本件訂正発明２を想到することが当業者にとり容易であるとすることはできない。
｛取消理由（４）について｝
　引用例１には、「アルコキシシランを水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、重縮合してシリカ粒子を生成させ、次いで、前記シリカ粒子分散液中の少なくとも水の一部を有機溶媒で置換することを特徴とするシリカ粒子が有機分散媒中に分散されてなるシリカオルガノゾルの製造方法」の発明が記載されているとは認められるが、「アルコキシシランを水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、重縮合してシリカ粒子を生成させ」た後であって、「前記シリカ粒子分散液中の少なくとも水の一部を有機溶媒で置換する」前に、「得られたシリカ粒子が分散しているシリカ粒子分散液を加熱処理」することを示唆する記載はなく、しかも、シリカ粒子の屈折率については何も記載されていない。
　一方、上記引用例７の（７−３）には、１０℃±０．５℃のアルコール、アンモニア及び水の混合水溶液中に撹拌しながらアルコキシシランを滴下し、滴下後に５０℃まで温度を上げて撹拌を続け「熟成して」加水分解を行い、シリカ微粒子のアルコール性溶液懸濁液を製造する方法が記載されているとは認められるが、「熟成して」との記載に引続き「加水分解を行い」との記載があるばかりか「反応後懸濁体より粒子を分離した清澄な有機性溶液中に残存するケイ素を原子吸光分析により測定した所１０ｐｐｍ以下で、原料シラン化合物はほぼ完全に粒子になっていることを確認した。」との記載があること、さらには上記（７−２）の記載をも参照すれば、引用例７に記載のものにおける「熟成」とは未反応のアルコキシシランの加水分解反応を行わせることを示しているものであることは明らかである。
　それに対し、本件訂正発明２における「得られたシリカ粒子が分散しているシリカ粒子分散液を加熱処理」する工程は、「水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、重縮合してシリカ粒子を生成」させた後に行われる処理であって、引用例７における「熟成」工程とは明確に相違する。
　加えて、引用例７には、得られたシリカ微粒子のアルコール性溶液懸濁液中のシリカ微粒子の屈折率に関する記載はない。
　なお、引用例５には屈折率が「１．４５２〜１．４３４」のシリカ粒子が、引用例６には屈折率が「１．４４０〜１．４４７」のシリカ粒子が記載されているにすぎない。
　そして、本件訂正発明２が「アルコキシシランを水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、重縮合してシリカ粒子を生成させ」た後であって、「前記シリカ粒子分散液中の少なくとも水の一部を有機溶媒で置換する」前に、「得られたシリカ粒子が分散しているシリカ粒子分散液を加熱処理」することによりシリカオルガノゾル中に分散されているシリカ粒子の屈折率を「１．３００〜１．４１６」という特定の数値範囲のものとなし得ることは、本件特許明細書中訂正後の実施例１〜４と比較例１及び２の結果を表した「表１」の記載から確認できることである。
　してみれば、引用例１，５〜７の記載を総合して勘案したところで本件訂正発明２を想到することが当業者にとり容易であるとすることはできない。
｛取消理由（５）について｝
　取消理由（５）は、「本件特許発明においては、シリカ粒子の屈折率を式［１］にしたがって算出する。しかし、式［１］においては、シリカ粒子の重量分率で除することになっているため、シリカ粒子の重量分率が低いほどオルガノゾルや有機溶媒の屈折率の測定誤差の影響が大きくなる。例えば、シリカ粒子の重量分率が０．１の場合、オルガノゾルや有機溶媒の屈折率の測定誤差は１０倍となってシリカ粒子の屈折率の計算値に大きく影響する。例えば、エチレングリコールの場合、その２０℃の屈折率は１．４２７４３（引用例３）および１．４３１０（引用例４）であって、０．００３５７の差異（測定誤差）がある。つまり、エチレングリコールなどの有機分散媒の屈折率の測定には、０．２５％（＝０．００３５７／１．４３１０）程度の誤差は不可避なものである。したがって、シリカ粒子の重量分率が０．１であり、有機分散媒の重量分率が０．９の場合、シリカ粒子の屈折率の計算値には、０．０３２１３の誤差が生じることになる。なお、上記の甲第３，４号証に記載の屈折率は２０℃のものであるが，２５℃の場合も同様の誤差が生じることは技術常識から明白である。このため、特許査定時の特許請求の範囲の請求項１及び２に係る発明においては、式［１］で算出されるシリカ粒子の屈折率は１．４５０以下とされているが、例えばエチレングリコールの場合、その０．２５％程度の屈折率の測定誤差によって、シリカ粒子の屈折率の上限が１．４５０±０．０３２の範囲で変動することになる。そうしてみると、特許査定時の特許請求の範囲の請求項１及び２に係る発明は、その外延が明瞭に示されているとはいえない。したがって、本件特許は、明細書の記載が特許法第３６条第３項及び第４項の規定を満たしていないものに対してなされたものである。」というものである。
　ところで、引用例３及び４には、エチレングリコールの屈折率をどのような測定方法で測定したか等の測定条件は何も記載されていない。
　それに対し、本件特許明細書には屈折率を「アッベ屈折計」（本件特許公報第１０欄第６行）で測定したことが記載されており、アッベ屈折計の測定精度は、例えば特許権者が参考資料１として提示した「ＡＴＡＧＯ社精密アッベ屈折計３Ｔ取扱説明書Ｃａｔ．Ｎｏ．１２３０」の第９頁右欄に「±０．０００１」と記載されているように、非常に小さいことは明らかであって、他にこれに反する証拠はない。
　しかも、上述の程度の測定誤差範囲であれば、本件訂正発明１及び２における屈折率の範囲「１．３００〜１．４１６」に対比すると無視できることは明らかである。
　したがって、本件特許明細書は、記載不備はなく、特許法第３６条第３項及び４項に規定する要件を満たしている。
３．２．５　独立特許要件に対する結論
　したがって、上記「３．２．４」で述べたように、本件訂正発明は独立特許要件を備えているものと認める。
３．３　訂正請求の認否
　上記「３．１」及び「３．２．５」に述べたとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項第１号及び第３号に掲げる事項を目的とするものであり、また同条第３項で準用する同法第１２６条第２項から第４項までの規定にそれぞれ適合するので、上記訂正請求は認める。
４．　特許異議の申立についての判断
４．１　申立理由の概要
　申立人１（株式会社日本触媒）は、証拠として甲第１号証（特開昭６３−１８５４３９号公報、上記引用例１に該当）、甲第２号証（株式会社日本触媒の入口治郎が作成したと認められる平成１０年８月１１日付けの「実験成績証明書」、上記引用例２に該当）、甲第３号証（日本化学会編「改訂４版　化学便覧基礎編ＩＩ」丸善株式会社、平成５年９月３０日発行、第ＩＩ−５１５頁、上記引用例３に該当）及び甲第４号証（Ａｌｄｒｉｃｈ社試薬カタログ、１９９６−１９９７版、第６８７頁、上記引用例４に該当）を提示し、
（Ａ）特許査定時の特許請求の範囲の請求項１に係る発明は、甲第２〜４号証の記載を参照すると、甲第１号証に記載された発明であると認められるから、該発明の特許は特許法第２９条第１項の規定に違反してなされたものである、
（Ｂ）特許査定時の特許請求の範囲の請求項２に係る発明は、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、該発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである、
（Ｃ）本件特許明細書には記載不備があるから、特許査定時の特許請求の範囲の請求項１及び２に係る発明は、明細書の記載が特許法第３６条第３項及び４項に規定する要件を満たしていないものに対してなされたものである、
ので、特許を取り消すべきものである旨を主張している。
　また、申立人２（株式会社ディスク）は、証拠として甲第１号証（″Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｏｌｌｏｉｄ　ａｎｄ　Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ　Ｓｃｉｅｎｃｅ″，Ｖｏｌ．１１４，Ｎｏ．２（１９８６），ｐ．４９２−５００、上記引用例５に該当）、甲第２号証（″Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｏｌｌｏｉｄ　ａｎｄ　Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ　Ｓｃｉｅｎｃｅ″，Ｖｏｌ．８１，Ｎｏ．２（１９８１），ｐ．３５４−３６８）、甲第３号証（″Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｏｌｌｏｉｄ　ａｎｄ　Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ　Ｓｃｉｅｎｃｅ″，Ｖｏｌ．７６，Ｎｏ．２（１９８０），ｐ．４１８−４３３、上記引用例６に該当）、甲第４号証（″Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｏｌｌｏｉｄ　ａｎｄ　Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ　Ｓｃｉｅｎｃｅ″，Ｖｏｌ．２６（１９６８），Ｐ．６２−６９）、甲第５号証（「ＡＴＡＧＯ社アッベ屈折計２Ｔ取扱説明書Ｃａｔ．Ｎｏ．１２２０」、第８，２３、２４頁）、甲第６号証（特開平１−１４５３１７号公報、上記引用例７に該当）及び甲第７号証（特開昭６３−１８５４３９号公報、上記引用例１に該当）を提示し、
（Ｄ）特許査定時の特許請求の範囲の請求項１に係る発明は、上記甲第１〜４号証に記載された発明であるから、該発明の特許は特許法第２９条第１項の規定に違反してなされたものである、
（Ｅ）特許査定時の特許請求の範囲の請求項２に係る発明は、甲第１〜７号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、該発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである、
ので、特許を取り消すべきものである旨を主張している。
４．２　当審の判断
４．２．１　本件発明
　上記「３．３」で述べたように、上記訂正請求は認めるので、本件特許請求の範囲の請求項１及び２にかかる発明は、上記「３．２．１」に摘記した訂正後の特許請求の範囲の請求項１及び２に記載されたとおりのもの（以下、「本件発明１」、「本件発明２」という。）である。
４．２．２　理由（Ａ）〜（Ｃ）について
　申立人１の申立理由（Ａ）〜（Ｃ）及びその申立理由で引用された甲第１〜４号証は、当審における取消理由通知で通知した理由（１）、（３）（５）及び引用例１〜４と同じであるから、上記「３．２．４」で述べたように、本件発明１は甲第１号証に記載された発明であるとすることはできず、また、本件発明２は甲第１〜４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできず、さらに、本件特許明細書には記載不備あるともすることはできないので、申立人１の申立理由（Ａ）〜（Ｃ）はいずれも理由がない。
４．２．３　理由（Ｄ）及び（Ｅ）について
（甲各号証の記載）
　申立人２の提示した甲第１、３，６及び７号証は、それぞれ上記引用例５、６，７及び１に該当する。
　同じく甲第２号証は甲第１号証の第４９５頁左欄第３２行で引用しているシリカ粒子の製法に関する文献であり、同じく甲第４号証は甲第２号証の第３５５頁右欄下から第１４行及び甲第３号証の第４２２頁右欄下から第１０行で引用しているシリカ粒子の製造方法に関する文献である。
　同じく甲第５号証の第８頁には、一般に屈折率は「ｎｔＤ　ｎ：屈折率であることを表す。ｔ：温度（℃）　Ｄ：ナトリウムのＤ線（５８９ｎｍ）」と表記されることが示されている。
｛理由（Ｄ）について｝
　甲第１号証に記載されているシリカ粒子の屈折率は「１．４５２〜１．４３４」であり　甲第３号証に記載されているシリカ粒子の屈折率は「１．４４０〜１．４４７」であるから、いずれも本件発明１における「１．３００〜１．４１６」という数値範囲内のものではない。
　また、甲第２号証には甲第１号証に記載されているシリカ粒子の製造方法が、甲第４号証には甲第２号証及び甲第３号証に記載されているシリカ粒子の製造方法が、それぞれ示されてはいるものの、そのシリカ粒子の屈折率に関する記載はない。
　してみると　甲第１〜４号証のいずれにも屈折率が「１．３００〜１．４１６」のシリカ粒子は記載も示唆もされていないから、本件発明１は甲第１〜４号証に記載された発明であるとすることはできない。
｛理由（Ｅ）について｝
　甲第１号証は上記引用例５に、甲第３号証は上記引用例６に、甲第６号証は上記引用例７に、甲第７号証は上記引用例１に、それぞれ該当する。
　そして、甲第２号証には甲第１号証に記載されているシリカ粒子の製造方法が、甲第４号証には甲第２号証及び甲第３号証に記載されているシリ力粒子の製造方法が、また、甲第５号証には屈折率の表記方法が、それぞれ記載されているにすぎないから、既に上記「３．２．４」の「｛取消理由（４）について｝」で述べたのと同様の理由により、本件発明２は甲第１〜７号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
５．　むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明１及び２の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１及び２の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年９月８日（１９９９．９．８）
【訂正の要旨】
（１）訂正事項Ａ
　特許請求の範囲の減縮を目的として、特許査定時の特許請求の範囲の請求項１に「１．４５０以下」（本件特許公報第１欄第３行）とあるのを「１．３００〜１．４１６」に訂正する。
（２）訂正事項Ｂ
　特許請求の範囲の減縮を目的として、特許査定時の特許請求の範囲の請求項２に「１．４５０以下」（同公報第１欄末行〜第２欄第１行）とあるのを「１．３００〜１．４１６」に訂正する。
（３）訂正事項Ｃ
　特許請求の範囲の減縮を目的として、特許査定時の明細書第４頁第２行及び第１５頁第３行（同公報第３欄第２５行及び第７欄第３４行）に「１．４５０以下」とあるのを「１．３００〜１．４１６」に訂正する。
（４）訂正事項Ｄ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、特許査定時の明細書第４頁第１９行〜第５頁第２行（同公報第４欄第１９〜２０行）に「１．４５０以下、好ましくは１．３００〜１．４５０、さらに好ましくは１．３５０〜１．４３０」とあるのを「１．３００〜１．４１６、好ましくは１．３５〜１．４２」に訂正する。
（５）訂正事項Ｅ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、特許査定時の明細書第１６頁第１行及び第１９行、第１７頁第５行、第１１〜１２行及び第１９行、第１８頁第５〜６行、第１３行及び第１９〜２０行、第１９頁第７行及び第１３〜１４行（同公報第８欄第１行、第１６行、第２２〜２３行、第２８行、第３５行、第４０行及び第４８〜４９行、第９欄第３行、第１０行及び第１６行）に「実施例１」とあるのを「参考例」に訂正する。
（６）訂正事項Ｆ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、特許査定時の明細書第１７頁第２行及び第１３行（同公報第８欄第２０行及び第３０行）に「実施例２」とあるのを「実施例１」と訂正し、同第１７頁第１７行及び第１８頁第７行（同公報第８欄第３３行及び第４２行）に「実施例３」とあるのを「実施例２」と訂正し、同第１８頁第１１行及び第１９頁第１行（同公報第８欄第４５行及び第９欄第５行）に「実施例４」とあるのを「実施例３」に訂正し、第１９頁第５行及び第１５行（同公報第９欄第９行及び第１８行）に「実施例５」とあるのを「実施例４」に訂正し、同第２０頁第１行、第２３頁第１行及び第８行（同公報第９欄第２２〜２３行及び下から第５行、第１０欄下から第３行）に「実施例１、２」とあるのを「参考例と実施例１」に訂正し、同第２０頁第３行（同公報第１０欄第１行）に「実施例１〜５」とあるのを「参考例、実施例１〜４」に訂正し、さらに同第２２頁（同公報第５頁）の表１中、「実施例１」、「実施例２」、「実施例３」、「実施例４」及び「実施例５」とあるのをそれぞれ「比較例」、「実施例１」、「実施例２」、「実施例３」及び「実施例４」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
シリカオルガノゾルおよびその製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
（１）アルコキシシランの加水分解によって得られ、屈折率が
１．３００〜１．４１６
（２）一般式ＲｎＳｉ（ＯＲ’）４−ｎ　（式中、Ｒ、Ｒ’は、同じであっても異なっていてもよく、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基またはビニル基を表わし、ｎは０〜３の整数である）で示されるアルコキシシランを、水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、重縮合してシリカ粒子を生成させ、
　得られたシリカ粒子が分散しているシリカ粒子分散液を加熱処理し、
　次いで、前記シリカ粒子分散液中の少なくとも水の一部を有機溶媒で置換することを特徴とする　屈折率が
１．３００〜１．４１６
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
　本発明は、シリカオルガノゾルおよびその製造方法に関し、さらに詳しくは低屈折率の透明保護膜などを製造するために好適に使用することができるシリカオルガノゾルおよびその製造方法に関する。
発明の技術的背景
　シリカオルガノゾルは、ガラス等の基体表面に形成される透明保護膜、あるいはプラスチック成形品などの配合剤として使用されている。
　従来、このようなシリカオルガノゾルは、種々の方法で製造されており、例えばアルコキシシランを水とアルコールなどの有機溶媒との混合溶媒中で加水分解・重縮合させてシリカ粒子を生成させ、次いでこのシリカ粒子が分散しているシリカ粒子分散液中の混合溶媒をグリコールなどの有機溶媒で置換することにより製造されてきた。
　ところで、特開昭６３−１８５４３９号公報には、加水分解可能な有機金属酸化物をアルコールと水との混合溶媒中で加水分解して水和物微粒子の分散液を調製し、次いで該分散液の水を含むアルコールをグリコール溶媒に置換した後、加熱処理することを特徴とする無機酸化物微粒子のグリコール単分散液の製造方法が開示されている。
　しかしながら、このような方法で製造したシリカ粒子のグリコール単分散液では、液中に含まれているシリカ粒子の屈折率が高く、このため、このようなシリカ粒子を透明保護膜、プラスチック配合剤などに使用すると、必ずしも低屈折率のものが得られないという問題点があった。
発明の目的
　本発明は、上記のような従来技術に伴う問題点を解決しようとするものであって、屈折率の低い透明保護膜、プラスチック成形品などを製造することができるシリカオルガノゾルおよびその製造方法を提供することを目的としている。
発明の概要
　本発明に係るシリカオルガノゾルは、アルコキシシランの加水分解によって得られ、屈折率が
１．３００〜１．４１６
　このようなシリカオルガノゾルは、
　一般式ＲｎＳｉ（ＯＲ’）４−ｎ　（式中、Ｒ、Ｒ’は、同じであっても異なっていてもよく、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基またはビニル基を表わし、ｎは０〜３の整数である）で示されるアルコキシシランを、水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、重縮合してシリカ粒子を生成させ、
　得られたシリカ粒子が分散しているシリカ粒子分散液を加熱処理し、
　次いで、前記シリカ粒子分散液中の少なくとも水の一部を有機溶媒で置換することによって製造することができる。
発明の具体的説明
　以下、本発明に係るシリカオルガノゾルおよびその製造方法について具体的に説明する。
　本発明に係るシリカオルガノゾルは、アルコキシシランの加水分解によって得られ、屈折率が
１．３００〜１．４１６、好ましくは１．３５０〜１．４１６
　本発明に係るシリカオルガノゾル中のシリカ粒子の屈折率（ｎ１（２５℃））は、下記式［Ｉ］によって算出される値で定義される。
但し、
　ｎ２：有機分散媒の屈折率（２５℃）、
　ｎ３：水の屈折率（２５℃）、
　ｎ４：シリカオルガノゾルの屈折率（２５℃）、
　Ｃ１：シリカ粒子の重量分率、
　Ｃ２：有機分散媒の重量分率、
　Ｃ３：水の重量分率。
　このような屈折率ｎｌは、具体的には下記のようにして計算することができる。
（イ）屈折計を用いて、シリカオルガノゾルの屈折率ｎ４を測定するとともに、有機分散媒の屈折率ｎ２および水の屈折率ｎ３を測定する。
（ロ）シリカオルガノゾル中のシリカ粒子の濃度、および水の濃度を測定し、シリカ粒子の重量分率Ｃ１、有機分散媒の重量分率Ｃ２および水の重量分率Ｃ３を算出する。
ハ）上記のようにして計算された屈折率ｎ２、ｎ３およびｎ４、並びに重量分率Ｃ１、Ｃ２およびＣ３を上記式［Ｉ］に代入して計算する。
　本発明に係るシリカオルガノゾル中に含まれるシリカ粒子は、その平均粒径が約０．０１μｍ程度の小粒径である場合もあり、また１０μｍ以上の大粒径である場合もある。このようなシリカ粒子は、有機分散媒中に単分散しており、粒度分布もシャープであり、下記式［ＩＩ］によって定義されるＣＶ値は０．２以下であることが好ましい。
　ＣＶ＝（Ｄ２−Ｄ１）／（２ＤＰ）・・・［ＩＩ］
式中、
　Ｄ２　：重量累計８４％の時の粒径、
　Ｄ１　：重量累計１６％の時の粒径、
　ＤＰ：平均粒径。
　また、本発明に係るシリカオルガノゾルでは、シリカ粒子は、ＳｉＯ２換算で５０重量％程度の高濃度で存在しても、シリカオルガノゾル中に安定した分散状態で存在することができる。
　本発明に係るシリカオルガノゾルの有機分散媒としては、通常、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングルコール、グリセリンなどの１価または多価アルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類が用いられる。また、シリカオルガノゾルの用途などに応じて上記以外の有機溶媒を用いることもできる。
　次に、本発明に係るシリカオルガノゾルの製造方法を詳述する。
第１工程
　本発明に係るシリカオルガノゾルの製造方法では、まず、一般式ＲｎＳｉ（ＯＲ’）４−ｎ　（式中、Ｒ、Ｒ’は、同じであっても異なっていてもよく、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基またはビニル基を表わし、ｎは０〜３の整数である）で示されるアルコキシシランを、水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解・重縮合してシリカ粒子を生成させる。
　このようなアルコキシシランとしては、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラオクチルシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどが用いられる。
　本発明では、これらのアルコキシシランを単独で用いてもよく、２種以上組合わせて用いてもよい。
　水と混合される有機溶媒としては、アルコール類が好ましく用いられ、特に好ましくは、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノールなどの低級アルコールが用いられる。また、これらの低級アルコールの混合溶媒も好ましく用いることができる。
　また本発明では、水とアルコールとの混合溶媒に、アルコール以外の有機溶媒を混合して用いることもできる。このような場合には、水およびアルコールと相溶性がよく、しかも上記アルコキシシランと相溶性がよい有機溶媒が使用される。
　このような有機溶媒として、エチレングリコールなどのグリコール類、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、酢酸エチルなどのエステル類、メチルエチルケ卜ンなどのケトン類などが用いられる。
　また、アルコキシシランを水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、重縮合するに際して、アルカリ触媒を反応系に共存させることにより、上記アルコキシシランの加水分解反応および重縮合反応を促進することができる　　
　このようなアルカリ触媒としては、アンモニア、アミン、アルカリ金属水酸化物、第４級アンモニウム化合物、アミン系カップリング剤など、水溶液中でアルカリ性を示す化合物が用いられ、反応混合物のｐＨが８〜１３となるような量で用いられる。
　アルコキシシランを水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、重縮合してシリカ粒子を生成させるには、具体的には、例えば水−アルコール混合溶媒を攪拌しながら、この混合溶媒にアルコキシシランを添加し、例えばアンモニア水のようなアルカリ触媒の存在下または不存在下で反応させればよい。
　この際、水は、アルコキシシランを構成するＳｉ−ＯＲ基１モル当り２〜５０モル、好ましくは５〜２５モルとなるような量で用いられる。
　アルコキシシランの加水分解・重縮合反応は、用いられる溶媒の沸点以下の温度で、好ましくは沸点より５〜１０℃程度低い温度で行なわれるが、オートクレーブ等の耐熱耐圧容器を用いる場合には、この温度よりもさらに高い温度で行なうこともできる。
　上記のような条件でアルコキシシランを加水分解すると、アルコキシシランの重縮合が三次元的に進行し、シリカ粒子が生成し、成長する。
　さらにシリカなどの金属酸化物をシード粒子として、このシード粒子をあらかじめ水と有機溶媒との混合溶媒中に分散させ、この分散液中でアルコキシシランの加水分解・重縮合反応を行なわせるとシード粒子を核としてシリカが成長し、比較的大きな粒径を有するシリカ粒子を製造することができる。また、このようなシリカ粒子の製造方法は、例えば、本出願人が本発明よりも先に出願した特開昭６２−２７５００５号および特願平１−３１００２３号などに記載されている。
　以上のようにすることにより、通常、シリカ粒子の濃度がＳｉＯ２換算で２〜２０重量％であるシリカ粒子の分散液が得られる。
第２工程
　次いで、このようにして得られたシリカ粒子が分散しているシリカ粒子分散液を加熱処理することにより、分散液中のシリカ粒子を熟成する。この熟成操作によりシリカ粒子を核としてシリカ粒子分散液中に残存するアルコキシシランの加水分解、重縮合反応を進行させ、同時にシリカ粒子中に残存するアルコキシド残基を加水分解、重縮合して、ほとんどアルコキシド残基が残存していないほぼ一定の大きさの球状シリカ粒子に成長させる。
　この熟成は、通常、５０〜２００℃で行なわれ、分散液に含まれている低沸点溶媒の沸点±１０℃の温度で行なうことが好ましい。
　この工程は、減圧から加圧の任意の圧力下で行なうことができる。
　また、シリカ粒子分散液の適当な加熱保持時間は、加熱温度によって大きく変化するが、通常、０．５〜２時間、好ましくは１〜１０時間である。一般的に加熱温度が高い程、加熱保持時間を短くできる。
　上記のようなシリカ粒子の熟成工程を、エチレングリコール、プロピレングリコールなどの多価アルコール類の共存下で行なうことにより、より一層シリカ粒子の熟成が促進される。このため、有機溶媒として多価アルコール類を用いていない場合には、多価アルコール類をシリカ粒子の熟成工程前にアルコキシシランおよび水と有機溶媒との混合溶媒からなる反応系に添加することが好ましい。
　このような多価アルコール類は、前記アルコキシシラン１モルに対して１０モル以下の量で、特に１．０〜１０モルの量で前記反応系に存在していることが好ましい。
第３工程
　このようにして水と有機溶媒との混合溶媒中でシリカ粒子を熟成した後、シリカ粒子分散液中のすくなくとも水の一部を有機溶媒で置換することにより、本発明に係るシリカオルガノゾルが得られる。
　置換される有機溶媒としては、シリカオルガノゾルの用途によって上述したような有機溶媒が使用される。
　例えば、水−エタノールを分散媒とするシリカ粒子分散液からエタノールを分散媒とするシリカオルガノゾルを得る場合は、該分散液にエタノールを加えたのちに加熱し、水を留去する。また、この分散液をエチレングリコールと置換する場合は、エチレングリコールを加えて加熱し、水とエタノールを留去する。
　また、限外濾過法による置換も採用できる。
　このようにして製造されたシリカオルガノゾル中に残留する溶媒置換前の水を含む分散媒の濃度は、前記溶媒置換の方法、およびシリカオルガノゾルの用途に応じて種々の値をとり得るが、約１重量％以下とすることも可能である。
発明の効果
　本発明に係るシリカオルガノゾルの製造方法によれば、従来のシリカオルガノゾルに比較して低屈折率のシリカ粒子が分散されたシリカオルガノゾルが製造される。
　そしてこのような製造方法などにより得られる本発明に係るシリカオルガノゾルは、有機分散媒中に分散されているシリカ粒子の屈折率が
１．３００〜１．４１６
　このように本発明によれば、低屈折率のシリカ粒子が分散されたシリカオルガノゾルが製造できるが、この理由は、以下のように推定される。
　すなわち、本発明によれば、水と有機溶媒との混合溶媒中にシリカ粒子が分散しているシリカ粒子分散液を加熱処理しているので、シリカ粒子中に残存するアルコキシド残基が水により加水分解、重縮合され、このため低屈折率のシリカ粒子が分散されたシリカオルガノゾルが得られると考えられる。
　次に実施例を挙げて、本発明につき、さらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらの実施例に何ら制限されるものではない。
［実施例］
参考例
　エタノール３９３０ｇ、２８％アンモニア水７１０ｇおよび純水５１９０ｇの混合溶液を３５℃に保持し、この混合溶液を攪拌しながら、この混合溶液中にテトラエトキシシラン１８０ｇを加えた。添加終了後、さらに２時間攪拌を続け、次いでこの混合溶液中に５００ｇの２８％アンモニア水を加えてｐＨを１２．５に調整することにより、水−エタノール混合溶液中にシリカ粒子が分散した状態のシリカ粒子分散液を得た。
　次いで、得られたシリカ粒子分散液を還流器付ガラス製容器に入れ、所定温度に設定した後、その温度で分散媒が沸騰する圧力になるまで減圧し、表１に示す条件で加熱保持してシリカ粒子を熟成した。
　しかる後　このようにしてシリカ粒子を熟成したシリカ粒子分散液を、表１に示す有機溶媒と温度条件で、ロータリーエバポレーターを用いて溶媒置換し、
参考例
実施例１
　テトラエトキシシラン１８０ｇの代りにメチルトリエトキシシラン７４ｇとテトラエトキシシラン９０ｇを用いた他は
参考例
　次いで、得られたシリカ粒子分散液をオートクレーブに入れて表１に示す温度に設定した後、この温度における溶媒の蒸気圧をそのまま保持し、表１に示す条件で加熱保持した。
　しかる後、表１に示す有機溶媒と温度以外は
参考例
実施例１
実施例２
　エタノール１００ｇ分をエチレングリコールに代えた他は
参考例
　次いで、得られたシリカ粒子分散液をオートクレーブに入れて表１に示す温度に設定した後、この温度における溶媒の蒸気圧をそのまま保持し、表１に示す条件で加熱保持した。
　しかる後、表１に示す有機溶媒と温度以外は
参考例
実施例２
実施例３
　
参考例
参考例
　次いで、得られたシリカ粒子分散液を還流器付ガラス製容器に入れ、所定温度に設定した後、その温度で分散媒が沸騰する圧力になるまで減圧し、表１に示す条件で加熱保持した。
　しかる後、表１に示す有機溶媒と温度以外は
参考例
実施例３
実施例４
　エタノール３９３０ｇのうちのエタノール１００ｇをメチルセルソルブに代えた他は
参考例
　次いで、得られたシリカ粒子分散液をオートクレーブに入れて表１に示す温度に設定した後、この温度における溶媒の蒸気圧をそのまま保持し、表１に示す条件で加熱保持した。
　しかる後、表１に示す有機溶媒と温度以外は
参考例
実施例４
比較例１、２
　シリカ粒子の熟成を行なわなかった以外はそれぞれ
参考例、実施例１
　以上のようにして得られた
参考例、実施例１〜４
　それぞれの物性値の測定法は以下の通りである。
Ａ．屈折率
　アツベ屈折計でそれぞれのシリカオルガノゾルの２５℃における屈折率を測定し、上記［Ｉ］式（５頁参照）に従ってシリカ粒子の屈折率を算出した。
Ｂ．平均粒径
　光透過式粒度測定装置（堀場製作所製ＣＡＰＡ−７００）によりそれぞれのシリカオルガノゾル中のシリカ粒子の平均粒径を測定した。
Ｃ．ＣＶ値
　同上の測定装置によって重量累計８４％の時の粒径Ｄ２、および重量累計１６％の時の粒径Ｄ１を求め、上記平均粒径Ｄｐとから、上記［ＩＩ］式（６頁参照）に従ってシリカ粒子のＣＶ値を算出した。
Ｄ．表面積
　それぞれのシリカオルガノゾルを乾燥することによりシリカオルガノゾル中の有機溶媒を除去し、次いで４００℃で２時間焼成することにより得られたシリカ粒子をＢＥＴ法によりその表面積を求めた。
　以上の測定結果を表１に示す。
　表１の結果から、
参考例、実施例１
参考例、実施例１