【事件の表示】
　特許第２７８２９５５号「電子写真感光体用基体およびその製造方法」に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２７８２９５５号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第２７８２９５５号は、平成２年１２月１日に特許出願され、平成１０年５月２２日にその特許の設定登録がなされ、その後、キャノン株式会社、三菱化学株式会社より各々特許異議の申立がなされ、特許権者に対する審尋がなされ、平成１１年１２月２２日に回答書が提出され、取消理由通知がなされ、平成１２年５月８日に訂正請求書及び意見書が提出され、次いで、訂正拒絶理由通知がなされ、平成１３年１月17日に手続補正書が提出されたものである。
II．訂正の適否についての判断
１．訂正請求書の補正の適否
　当審で通知した訂正拒絶理由の趣旨は、
本件訂正請求事項ｃは、明細書の実施例欄の段落【００２１】の「なお、疲労、暗減衰の評価はバラツキを考慮して各感光体５本の平均値を採った。」との説明文を、明細書の実施例欄の段落【００２０】にも記載するものであるが、該訂正は、特許請求の範囲の減縮、誤記の訂正、明りょうでない記載の釈明のいずれの目的にも合致しないものであるから、適法な訂正とはいえない、及び、
本件訂正請求事項ｄ、ｆ、ｇは、実施例欄の実験方法や結果評価を詳しく説明するものであるが、願書に添付した明細書に記載の範囲内の事項でないから、適法な訂正とはいえない、というものである。
　これに対して、訂正請求書の補正は、訂正事項ｃ、ｄ、ｆ、ｇを削除するものであるから、適法な補正である。
２．訂正の内容
　平成１３年１月１７日付けの手続補正書により補正された平成１２年５月８日付けの訂正請求書の訂正の内容は次のとおりである。
ａ−１．特許請求の範囲の請求項１中の「表面粗さが最大高さＲｍａｘが０．７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内、中心線平均粗さＲａが０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内であり」を「表面粗さにおいて最大高さＲｍａｘの３点測定での平均値が０．７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内、中心線平均粗さＲａの３点測定での平均値が０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内であり」と訂正する。
ａ−２．明細書の段落【０００８】の「表面粗さが最大高さＲｍａｘが０．７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内、」を「表面粗さにおいて最大高さＲｍａｘの３点測定での平均値が０．７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内、」と訂正する。
ａ−３．明細書の段落【０００８】の「中心線平均粗さＲａが０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内であり」を「中心線平均粗さＲａの３点測定での平均値が０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内であり」と訂正する。
ｂ−１．特許請求の範囲の請求項２中の「温純水中に浸漬し」を「温度が９０℃±５℃である純水中に１５０秒以上４００秒以下の時間範囲内で浸漬し」と訂正する。
ｂ−２．特許請求の範囲の請求項３を削除する。
ｂ−３．明細書の段落【０００９】の「温純水中に浸漬し」を「温度が９０℃±５℃である純水中に１５０秒以上４００秒以下の時間範囲内で浸漬し」と訂正する。
ｂ−４．明細書の段落【００１０】「上記製造方法において、純水温度が９０℃±５℃の範囲内、また、浸漬時間は１５０秒以上４００秒以下の範囲内とすると好適である。」を削除する。
ｅ．明細書の段落【００３２】中の「また、Ｒｍａｘは最大高さ，Ｒａは中心線平均粗さ，Ｒｚは十点平均粗さ，Ｒkuは振幅分布曲線の形を表す。このうちＲkuは表面の山の形状の鋭角性を表すものであり数値が小さい程尖った形状となるので基体表面での反射はより乱反射となり反射光が干渉し合うことはより少なくなる。」を「表中のＲｍａｘは最大高さ，Ｒａは中心線平均粗さ，Ｒｚは十点平均粗さ，Ｒkuは表面の山の形状の鋭角性を表す。Ｒkuについては、その数値が小さい程尖った形状となるので基体表面での反射はより乱反射となり反射光が干渉し合うことはより少なくなる。」と訂正する。
ｈ．明細書の段落【００３４】中の「基体の表面粗さはＲｍａｘが０．７μｍ以上１．４μｍ以下，Ｒａが０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下が必要であることが判る。」を「すなわち良好な画質を得るためには、基体の表面粗さについて、３点測定したＲｍａｘの平均値を０．７μｍ以上１．４μｍ以下，かつ３点測定したＲａの平均値を０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下とする必要があることが判る。」と訂正する。
２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正ａ−１は、特許明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された電子写真感光体用基体の表面粗さに係る、最大高さＲｍａｘの値及び中心線平均粗さＲａの値について、訂正前の発明の詳細な説明欄の段落【００３２】の記載及び実施例の記載に基づいて、「３点測定での平均値」であるとの測定・規定条件を明確にしたもので、明瞭でない記載の釈明を目的とするものであり、願書に添付した明細書の範囲内の訂正であり、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
  上記訂正ａ−２は、明瞭でない記載の釈明を目的とする特許請求の範囲の訂正ａ−１に伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合性をとるための訂正であるから、明細書の明りょうでない記載の釈明にあたる。
　上記訂正ａ−３は、中心線平均粗さＲａの「１．２μｍ以下」を、明細書の段落【００３４】や、特許請求の範囲の請求項１に記載の「１．２μｍ以下」に合致させるもので、小数点位置の誤記を訂正するものである。
　上記訂正ｂ−１は、特許請求の範囲の請求項３に示されていた浸漬工程の温純水の温度、浸漬時間に係る限定を　請求項２に導入するものであるから、特許請求の範囲に記載された発明の内容を減縮するものである。
　上記訂正ｂ−２の請求項３の削除は、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　上記訂正ｂ−３及びｂ−４は、上記ｂ−１及びｂ−２の特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合性をとるための訂正であるから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであり、いずれも、願書に添付した明細書の範囲内の訂正であって、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　上記訂正ｅ及びｈは、表３における記号や測定項目の説明を明確にしたもので、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであり、いずれも、願書に添付した明細書の範囲内の訂正であって、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
３．独立特許要件の判断
　当審で通知した取消理由の趣旨は、本件発明は、明細書の記載が下記Ａ〜Ｈの点で不備であり、特許法第３６条第４項第５項の規定に違反して特許されたものである、というものである。
Ａ．特許請求の範囲の請求項１で数値限定される「最大高さＲｍａｘ」、「中心線平均粗さＲａ」の測定条件、計算方法、定義とその根拠が不明。
Ｂ．「Ｒｍａｘ」、「Ｒａ」は、どの製造段階のいかなる感光体用基体を測定対象としたものか不明。
Ｃ．「Ｒｍａｘ」測定の基準長さＬ、「Ｒａ」測定の測定長さｌ及びカットオフ値が不明。
Ｄ．実施例、比較例の「Ｒｍａｘの平均」、「Ｒｍａｘのバラツキ」、「中心線平均粗さＲａの平均」、「中心線平均粗さＲａのバラツキ」のそれぞれの具体的な計算方法が不明。
Ｅ．実施例、比較例の「Ｒｍａｘの平均」、「Ｒａの平均」と特許請求の範囲の「最大高さＲｍａｘ」、「中心線平均粗Ｒａ」との関係が不明。
Ｆ．特許請求の範囲の請求項１における「表面粗さの最大高さＲｍａｘが０．７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内」、「中心線平均粗さＲａが０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内」の具体的な意味が不明。
Ｇ．特許請求の範囲の請求項１の「表面にＸ線光電子分光法（ＥＳＣＡ法）で膜厚５００Å以上１８００Å以下の範囲内の酸化膜が形成」との規定について、具体的な表面酸化膜の膜厚測定方法が不明。
Ｈ．発明の詳細な説明欄には、特許請求の範囲の請求項２で示される「電子写真感光体用基体の製造方法」に則った製造事例が、本件発明の感光体用基体の得られない「比較例」として開示されており、請求項２の発明の構成・目的・作用効果が不明。
　これに対して、訂正請求書により訂正された特許請求の範囲は、下記のとおりである。
「【請求項１】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなり、表面粗さにおいて最大高さＲｍａｘの３点測定での平均値が０．７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内、中心線平均粗さＲａの３点測定での平均値が０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内であり、かつ、表面にＸ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）での評価で膜厚５００Å以上１８００Å以下の範囲内の酸化膜が形成されていることを特徴とする電子写真感光体用基体。
【請求項２】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基体の表面を研削テープで研削加工し、中性洗剤で洗浄後、温度が９０℃±５℃である純水中に１５０秒以上４００秒以下の時間範囲内で浸漬し取り出すことにより表面に酸化膜を形成することを特徴とする電子写真感光体用基体の製造方法。」
　以下、取消理由について検討する。
　明細書の記載不備に係る上記Ａの点については、ＪＩＳ規格「ＪＩＳ−Ｂ０６０１表面粗さの定義と表示（１９８２）」に準拠する旨が意見書で述べられたが、該規格は金属表面処理分野で普遍的に使用されているものであり、ドラム型の金属アルミニウムを表面処理して製造される感光体用基体の分野でも当然に使用されることが、当業者に自明と認められ、該主張は是認できるので、Ａの点は解消された。
  明細書の記載不備に係る上記Ｂの点については、感光体基体の測定段階は、実施例にあるように、酸化膜形成後で感光体層形成前であることが、意見書で明確にされ、Ｂの点は解消された。
  明細書の記載不備に係る上記Ｃの点については、基準長さＬ：０．８ｍｍ、測定長さｌ：２．５ｍｍ、カットオフ値：０．８ｍｍであることが意見書で示され、これらの値は、「ＪＩＳ−Ｂ０６０１」にて「表記を省略し得る標準的な設定値」とされているものであるから、該主張は是認できるので、Ｃの点は解消された。
  明細書の記載不備に係る上記Ｄの点については、実施例・比較例の「平均値」、「バラツキ」が、周知の「算術平均値」、「標準偏差」として算出された値であることが意見書で明らかにされ、該主張は是認できるので、Ｄの点は解消された。
  明細書の記載不備に係る上記Ｅの点については、特許請求の範囲の請求項１の訂正（上記訂正事項ａ−１）により、実施例との対応関係が明確にされたから、解消された。
  明細書の記載不備に係る上記Ｆの点については、特許請求の範囲の請求項１の訂正（上記訂正事項ａ−１）により、数値限定の意味内容が明確にされたから、解消された。
  明細書の記載不備に係る上記Ｇの点については、乙第１号証（特開昭５６−１３８２４２号公報）、乙第２号証（「島津評論」Vol.４２、No.３・４〔１９８５．１０〕、第７９〜８９頁、田辺道穂らの研究報文「ＥＳＣＡによる材料表面層の深さ分析例」）によれば、この出願の数年前に、Ｘ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）の表面分析技術と、材料表面分析で多用される「イオンエッチングによる試料削除」技術とを組み合わせて、試料片に対して、イオンエッチングとＸ線照射分析とを交互に反復して継続することにより、試料の数Åからμｍ（＝10000Å）程度までの深さの表面層を分析・測定する技術が確立されていること、該分析・測定を自動的に行う装置が市販されていること、該分析・測定によりアルミニウム等金属や各種合金の表面酸化膜の膜厚が測定されていること等が明らかであり、膜厚測定方法に係る不明点は解消された。
（該分析・測定方法は、願書に添付した明細書には具体的に示されていないが、出願前に確立されており、この出願の分野で多く用いられている技術であるから、当業者が適宜知り得るものであり、この点をもって、特許法第３６条の記載不備とまではいえない。）
  明細書の記載不備に係る上記Ｈの点については、特許請求の範囲の請求項２の訂正（上記訂正事項ｂ−１）により、比較例との対応関係が整理されたから、解消された。
　してみると、Ａ〜Ｈの点で明細書の記載不備があるとはいえないから、本件発明が、特許法第３６条第４項第５号の規定に違反して特許されたものとはいえない。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号。以下「平成６年改正法」という。）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、平成１１年改正前の特許法第１２０条の４第３項で準用する第１２６条第１項ただし書き、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
III．特許異議の申立てについての判断
１．本件発明
　本件請求項１〜２に係る発明は、上記訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１〜２に記載されたとおりのものである。
２．特許異議申立の概要
　特許異議申立人キャノン株式会社は、甲第１号証（特開平１−３１６７５２号公報）（以下、刊行物２という）、甲第２号証（特開平２−１０３５５６号公報）（以下、刊行物３という）、甲第３号証（特開昭５９−１５７６５２号公報）（以下、刊行物４という）及び甲第４号証（特開昭５９−１０９４９号公報）（以下、刊行物５という）を提示して、
（ａ）訂正前の本件請求項１〜３に係る発明は、甲第１〜４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであるから、
（ｂ）訂正前の本件請求項１に係る発明は、表面粗さの「最大高さＲｍａｘ」に係る数値限定条件「０．７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内」が、表３で示される実施例のＲｍａｘの「平均」と「バラツキ」から推定されるＲｍａｘ値の分布状況（一部、１．４μｍを超えるものもあり得る）と矛盾するから、また、同様に、「中心線平均粗さＲａ」に係る数値限定条件「０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内」が、表３で示される実施例のＲａの「平均」と「バラツキ」から推定されるＲａ値の分布状況と矛盾するから、その意味内容や具体的な範囲が不明確であり、特許法第３６条各項の規定に違反して特許されたものであるから、
特許を取り消すべき旨主張している。
　特許異議申立人三菱化学株式会社は、甲第１号証（P.W.Atkins著、千原秀昭、中村亘男訳、「物理化学（下）」第２版、１９８５年１月１０日株式会社東京化学同人発行、第７０５〜７０６頁、第１１３７頁）（以下、刊行物１という）、及び、参考資料１（P.W.Atkins著、千原秀昭、中村亘男訳、「物理化学（下）」第４版、１９９３年３月１５日株式会社東京化学同人発行、第７０７〜７９８頁、第１３０７〜１３０８頁）を提示して、
（ｃ）訂正前の本件請求項１に係る発明は、表面酸化膜の膜厚に係る数値限定条件「Ｘ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）での評価で膜厚５００Å以上１８００Å以下の範囲内」が、甲第１号証に示される、ＥＣＳＡでは深さ数十Åまでしか測定できないとの技術常識に反するので、発明の内容が不明確であり、特許法第３６条各項の規定に違反して特許されたものであるから、
特許を取り消すべき旨主張している。
３．証拠の検討
  刊行物１には、「Ｘ線光電子分光学においては入射する光子のエネルギーが非常に大きいので、束縛の強い原子芯から電子がたたき出される。・・・Ｘ線光電子スペクトルによってこれらのイオン化エネルギーの一つを検出すれば、それに対応する元素の存在を確認したことになる。・・・しかしながら、この方法は主として表面層の研究に限定されていることに注意しなければならない。たとえＸ線が内部にまで浸透できたとしても、放出された電子が逃げ出せるのは表面から数ナノメートル以内に限られるからである。それでもたいていの制限がそうであるように、この制限がかえって利点になることがある。つまり、Ｘ線光電子分光は触媒の表面構造の研究に特に役立つ。」（第７０５頁第１８行〜第７０６頁下から第１６行）、及び、「表面の組成の決定（および、特に洗浄後も残っている何らかの汚れの検出や、洗浄したあとの実験中に吸着された物質の層の検出）は種々のイオン化技術によって行える。これらの方法に共通な特徴は、電子が脱出できる深さは０．１〜１．０ｎｍの範囲にあることで、このことから、この種の研究には表面の特性だけが関与していることが保証される。・・・図２９・６は金ぱくの上に水銀を少し付着させた試料のＸ線光電子スペクトルで、水銀のあることがはっきりわかる。」（第１１３７頁第１０行〜下から第２行）と記載されている。
　刊行物２には、「１）画像潜像形成のための露光の波長がほぼ７８０ｎｍであり、感光体の導電性基体が（１）最大高さ（Ｒｍａｘ）０．４〜２．０μｍ
（２）表面うねり（Ｗｃ）０．１〜０．６μｍ
（３）平均山間隔（Ｓｍ）５〜３０μｍ
（４）中心線平均粗さ（Ｒａ）０．１〜０．５μｍ
（５）十点平均粗さ（Ｒｚ）０．３〜１．９μｍ
の各条件を満足する表面を有することを特徴とする電子写真装置。」（特許請求の範囲）に関して、「〔作用〕基体表面が平滑になると乱反射が生ぜず、反射光の方向が揃うため入射光との間に干渉が起こる。従って表面粗さの程度をあらわす各特性値に下限を設けてある程度まで粗面化すると干渉の発生が防止できる。しかし、粗面の程度が過大になると画像欠陥の発生の原因となるので各特性値には上限が設けられる。」（第２頁右上欄第１１〜１８行）、「〔発明の効果〕本発明によれば、感光体の導電性基体の表面粗さの程度を限定することにより、露光波長が７８０ｎｍ前後の場合の感光層を透過後の基体表面での反射光を適宜散乱させて干渉光とならぬようにし、画像に干渉縞が生ずることを防止すると共に画像欠陥の発生もない電子写真装置を得ることができた。」（第２頁右下欄第４〜１１行）と記載され、さらに、実施例欄では、特定の表面粗さ特性のアルミニウム円筒基体の表面に、直接、感光体層を蒸着して感光体として、画像形成の試験を行い、アルミニウム円筒基体の表面粗さ特性と画像特性の関係を調べる実施例に関して、「第１図（ａ）は最大高さと干渉縞発生率の関係を示し、０．３５μｍより小さくなると濃淡濃淡の干渉縞発生率が急上昇する。一方、２．０μｍを超えると、斜線を引いて示した画像欠陥発生領域に入る。従って最大高さは０．４〜２．０μｍの範囲に限定される。」（第２頁左下欄第３〜８行）、「第１図（ｃ）は中心線平均粗さＲａと干渉縞発生率の関係を示し、中心線平均粗さＲａが０．１μｍより小さくなり、０．５μｍより大きくなると干渉縞発生率が上がるので、０．１〜０．５μｍの範囲に限定されることがわかる。」（第２頁左下欄第１５〜１９行）と記載されている。
　刊行物３には、「１）テープ状の柔軟性を有する基材表面に研削砥粒を均一に分散して固着した研削テープの砥粒固着面をＡｌを主成分とする電子写真用感光体用基体の表面に加圧接触させ基体表面に常に研削テープの新しい砥粒固着面が接触するように基体に対して研削テープとを相対的に走行移動させながら基体表面を研削して最大高さＲｍａｘが０．３μｍ以上２．５μｍ以下，ろ波最大うねりＷｃｍが０．１μｍ以上０．５μｍ以下，中心線平均粗さＲａが０．０５μｍ以上０．２５μｍ以下，十点平均粗さＲｚが０．２５μｍ以上２．４μｍ以下，粗れの山と山との平均間隔Ｓｍが５μｍ以上３５μｍ以下の粗面に仕上げることを特徴とする電子写真感光体用基体の表面加工方法。」に関して、「それぞれＪＩＳで規定されているＲｍａｘ，Ｗｃｍ，Ｒａ，Ｒｚの各値が上記の下限値未満となると感光層との密着性が悪くなり、上記の上限値を超えると画像欠陥が生じるようになる。また、ＩＳＯで規定されているＳｍの値が下限値未満となると画像に干渉縞が現れ、上限値を超えるとすじ状の画像欠陥が生じるようになる。」（第２頁右下欄第６〜１２行）と記載され、さらに、規定の表面粗さ特性のアルミニウム円筒基体の表面に、直接、感光体層を蒸着して感光体として、画像形成の試験を行い、アルミニウム円筒基体の表面粗さ特性と画像特性の関係を調べる実施例を踏まえて、「この発明の方法によれば、バイト加工のように高度な技能を要せず、化学処理を必要とせず、従ってバリヤ層が形成されず、また、砥石加工のように砥石の目詰まりによるＡｌのバリの発生、砥石くずの基体表面への食い込みがなく、平滑で均一に微細にあれた粗面のＡｌ基体が得られる。このようなＡｌ基体を用いることによりＡｌ基体に強固に密着した感光層を形成することができ、しかも白抜け、黒点、干渉縞などの画像欠陥が発生せず、反転現像方式の電子写真装置に用いても画像濃度が変動しない電子写真感光体を製造することができる。」（第４頁左上欄第１６行〜同頁右上欄第７行）と記載されている。
　刊行物４には、「Ａｌ導電性支持体上にアモルファスシリコンを主成分とする感光層を設けた電子写真用感光体において、該支持体と感光層との間に中間層としてべーマイト（Ａｌ・Ｏ・ＯＨ）層を設けてなることを特徴とする電子写真用感光体。」（特許請求の範囲）に関して、「即ち、本発明によれば、前述のベーマイト層を設けることによって、暗抵抗が大きく、帯電保持能が大のアモルファスシリコン感光体が得られる。また、感光層の膜強度、特に界面における付着強度が大きいことからその耐久性に優れ、且つ得られた感光層もピンホールが少なく高品質の画像を形成し得る。」（第１頁右下欄末行〜第２頁左上欄第６行）、「本発明において、Ａｌ導電性支持体上にベーマイト層を形成するには、Ａｌ支持体を比抵抗が０．１ＭΩ・ｃｍ以上で、水温が６０℃以上の純水中に浸漬すればよい。」（第２頁右上欄第３〜６行）、「実施例　　１００φ×４００ｍｍ、肉厚５．０ｍｍのアルミニウム支持体ドラム上に、以下の手順に従って電子写真用感光体を被着させる。１）アルミニウム支持体表面を研磨した。２）前記支持体表面を、１００〜１２０℃に加熱したパークレンで２分間洗浄した。３）前記支持体表面を、夫々１分間２度に亘って水洗した。４）前記支持体表面を、アルカリエッチングしてアルマイト系自然酸化物被膜を除去した。５）アルマイト系自然酸化物被膜を除去後、直ちに、比抵抗が３．０×１０６Ω・ｃｍであり、且つ、８０℃±３℃に加熱加温したイオン交換水中に前記支持体を５分間浸漬し、ベーマイト層を形成した。６）乾燥後、支持体をプラズマＣＶＤ装置内にセットし、以下の条件でＨ、及びＢ含有のアモルファスシリコン感光層を形成した。」（第２頁左下欄第５行〜同頁右下欄第３行）と記載されている。
  刊行物５には、「１．表面粗さが０．０５〜１．５μｍＳとなるように加工された基体の表面にグロー放電処理によって酸化物被膜が形成され、この酸化物被膜上にグロー放電処理によってアモルファスシリコン系感光層が形成されていることを特徴とする感光体。」（特許請求の範囲第１項）、「５．基体がアルミニウム又はアルミニウム合金からなっている、特許請求の範囲の第１項〜第４項のいずれか１項に記載した感光体。」（特許請求の範囲第５項）に関して、「表面粗さが１．５μｍＳを越え、従来品と同様に粗くなった場合には、画像に白班点が生じると共に、基体からの電荷の注入が多くなって暗減衰が著しく増大してしまう。また、表面粗さが０．０５μｍＳ未満であると、逆に鏡面化し却って、基体に対する膜付きが悪くなる。従って、基体の表面粗さを０．０５μｍＳ〜１．５μｍＳ（望ましくは０．１μｍＳ〜１．２μｍＳ）に特定することは必須不可欠であるが、この粗さ範囲は従来品では想定できないものであって、本発明の重なる検討の結果、はじめて見出されたものである。」（第２頁右下欄末行〜第３頁左上欄第１０行）、「更に第２に、基体の表面粗さが上記範囲に特定されていることに加えて、基体の表面にグロー放電処理により特に厚さ１５Å〜１０００Å（望ましくは５０Å〜５００Å）の酸化物被膜が形成され、これが一定の電荷ブロッキング作用をなすと同時に、上層の基体に対する接着性向上の役割も果たしている。」（第３頁左上欄下から第３行〜同頁右上欄第４行）、「なお、本実施例における基体（又は基板）の表面粗さは、表面粗さ計（例えば株式会社　東京精密製）やサーフコム１Ｃ型連続指示計（通常は、２５ｍｍ幅をスキャンし、最高の山と谷の間隔μｍ、又は次の高さの山と谷の間隔μｍを計るもの）で測定したものである。」（第５頁右上欄第４〜９行）と記載されている。
４．判断
《特許法第３６条各項違反について》　
Ａ．特許異議申立人キャノン株式会社の申立理由（ｂ）について
　特許請求の範囲の請求項１については訂正がなされ、「０．７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内」、「０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内」との数値限定条件は、それぞれ「最大高さＲｍａｘの３点測定での平均値」、「中心線平均粗さＲａの３点測定での平均値」に係るものであることが明確にされ、指摘される実施例欄の記載内容との矛盾は解消されたので、請求項１に係る発明の意味内容が不明確であり、特許法第３６条各項の規定に違反しているとはいえない。
Ｂ．特許異議申立人三菱化学株式会社の申立理由（ｃ）について
　特許異議申立人三菱化学株式会社の提出した刊行物１は、物理化学の学問領域全般を網羅する物理化学の入門書であり、その中の分光法による分析技術の項で、Ｘ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）による物質表面分析の基本的な仕組みが、物理化学の初学者にも理解しやすいように平易に簡潔に２頁程度にまとめて示されており、ＥＳＣＡでは深さ数十Åまでしか測定できない旨が記載されている。
　異議申立人は、該記載のみを根拠に「ＥＳＣＡでは深さ数十Åまでしか測定できない」ことを技術常識ととらえて、請求項１の表面酸化膜の膜厚に係る数値限定条件「Ｘ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）での評価で膜厚５００Å以上１８００Å以下の範囲内」が技術常識に反するので、発明の内容が不明確である旨を主張するが、当業者の認識するＥＳＣＡ分析の手法や適用領域が該記載の範囲にとどまるものでないことは、先のII.３．の「明細書の記載不備に係るＧの点について」の検討結果からも明らかであり、該主張は認められない。
《特許法第２９条第２項違反について》
Ｃ．特許異議申立人キャノン株式会社の申立理由（ａ）について
Ｃ−１．請求項１に係る発明
　訂正された請求項１に係る発明（以下、前者という）と、刊行物２に記載された発明（以下、後者という）とを対比するに、
前者の表面粗さ特性の数値限定条件は、その請求項自体の記載や、実施例１の記載からも明らかなように、アルミニウム導電性基体の表面に絶縁性酸化膜を設けた後のものであるが、後者の表面粗さ特性の数値限定条件は、その請求項自体の記載や、実施例の記載からも明らかなように、絶縁性酸化膜を設けないアルミニウム導電性基体表面のものであるから、
両者は、「アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる電子写真感光体用基体。」で一致するものの、
前者が「表面にＸ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）での評価で膜厚５００Å以上１８００Å以下の範囲内の酸化膜が形成されている」と規定するのに対して、後者が規定しない点【相違点１】、及び、
前者が（酸化膜が形成されているうえに）「表面粗さにおいて最大高さＲｍａｘの３点測定での平均値が０．７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内、中心線平均粗さＲａの３点測定での平均値が０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内である」と規定するのに対して、後者が規定しない点【相違点２】で相違する。
  相違点に付いて検討するに、刊行物４ないし刊行物５には、【相違点１】に係わる、感光体基体の表面に酸化膜を形成して、感光体の帯電保持能を向上させることが記載されるものの、【相違点２】に係る記載や示唆はない。
　また、刊行物２ないし刊行物３に記載された発明では、特定の表面粗さの導電性基体の表面に直接に感光層を設けることにより、感光層が導電性基体に直接強固に一体化して優れた画像形成能が達成されるとしているので、刊行物４ないし刊行物５の酸化膜を介在させる技術を組み合わせる契機がない。
　従って、本件請求項１に係る発明は、刊行物２〜５に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
Ｃ−２．請求項２に係る発明
　訂正された請求項２に係る発明（以下、前者という）と、刊行物４の実施例に示された発明（以下、後者という）とを対比するに、後者の「ベーマイト層」は前者の「酸化膜」に相当するから、
両者は、「アルミニウムからなる基体の表面を研削加工し、洗浄後、温純水中に浸漬し取り出すことにより表面に酸化膜を形成する電子写真感光体用基体の製造方法。」で一致するが、
表面の研削加工について、前者が「研削テープによる」と規定するのに対して、後者が特に規定せず砥石等で行っている点【相違点１】、及び、
洗浄について、前者が「中性洗剤による」と規定するのに対して、後者がパークレン（トリクロロエチレン）で行っている点【相違点２】、
温純水への浸漬条件について、前者が「９０℃±５℃で１５０秒以上４００秒以下」と規定するのに対して、後者が８０℃±３℃で３００秒で行っている点【相違点３】で相違する。
相違点に付いて検討するに、刊行物３には、【相違点１】に係わる、アルミニウム基体表面を研削テープで研削加工することが示されているが、いずれの刊行物にも【相違点２】【相違点３】に係る記載や示唆はない。
　また、刊行物３に記載された発明では、研削テープ加工で得られた特定の表面粗さの導電性基体の表面に直接に感光層を設けることにより、感光層が導電性基体に直接強固に一体化して優れた画像形成能が達成されるとしているので、刊行物４の酸化膜を介在させつつ電子写真感光体用基体を製造する方法とは高画質化の原理が違うので、組み合わせる契機がない。
　従って、本件請求項２に係る発明は、刊行物２〜５に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
５．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠によっては、本件発明の特許を取り消すことはできない。
 また、他に本件発明の特許を取り消すべき理由
を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１月２２日（２００１．１．２２）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　特許第２７８２９５５号発明の特許明細書を下記のとおり訂正する。
訂正事項ａ．
　特許請求の範囲の請求項１中の「表面粗さが最大高さＲｍａｘが０．７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内、中心線平均粗さＲａが０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内であり」を明瞭でない記載の釈明を目的として、「表面粗さにおいて最大高さＲｍａｘの３点測定での平均値が０．７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内、中心線平均粗さＲａの３点測定での平均値が０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内であり」と訂正、明細書の段落【０００８】の「表面粗さが最大高さＲｍａｘが０，７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内、」を明瞭でない記載の釈明を目的として、「表面粗さにおいて最大高さＲｍａｘの３点測定での平均値が０．７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内、」と訂正、また、明細書の段落【０００８】の「中心線平均粗さＲａが０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内であり」を誤記の訂正を目的として「中心線平均粗さＲａの３点測定での平均値が０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内であり」と訂正する。
訂正事項ｂ．
　特許請求の範囲の減縮を目的として、特許請求の範囲の請求項２中の「温純水中に浸漬し」を「温度が９０℃±５℃である純水中に１５０秒以上４００秒以下の時間範囲内で浸漬し」と訂正するとともに、特許請求の範囲の請求項３を削除、あわせて、明瞭でない記載の釈明を目的として、明細書の段落【０００９】の「温純水中に浸漬し」を「温度が９０℃±５℃である純水中に１５０秒以上４００秒以下の時間範囲内で浸漬し」と訂正、また、明細書の段落【００１０】の「上記製造方法において、純水温度が９０℃±５℃の範囲内、また、浸漬時間は１５０秒以上４００秒以下の範囲内とすると好適である。」を削除する。
訂正事項ｅ．
　明細書の段落【００３２】中の「また、Ｒｍａｘは最大高さ，Ｒａは中心線平均粗さ，Ｒｚは十点平均粗さ，Ｒｋｕは振幅分布曲線の形を表す。このうちＲｋｕは表面の山の形状の鋭角性を表すものであり数値が小さい程尖った形状となるので基体表面での反射はより乱反射となり反射光が干渉し合うことはより少なくなる。」を明瞭でない記載の釈明を目的として、「表中のＲｍａｘは最大高さ，Ｒａは中心線平均粗さ，Ｒｚは十点平均粗さ，Ｒｋｕは表面の山の形状の鋭角性を表す。Ｒｋｕについては、その数値が小さい程尖った形状となるので基体表面での反射はより乱反射となり反射光が干渉し合うことはより少なくなる。」と訂正する。
訂正事項ｈ．
　明細書の段落【００３４】中の「基体の表面粗さはＲｍａｘが０．７μｍ以上１．４μｍ以下，Ｒａが０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下が必要であることが判る。」を明瞭でない記載の釈明を目的として、「すなわち良好な画質を得るためには、基体の表面粗さについて、３点測定したＲｍａｘの平均値を０．７μｍ以上１．４μｍ以下，かつ３点測定したＲａの平均値を０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下とする必要があることが判る。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
電子写真感光体用基体およびその製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなり、
表面粗さにおいて最大高さＲｍａｘの３点測定での平均値が０．７μ以上１．４μｍ以下の範囲内、中心線平均粗さＲａの３点測定での平均値が０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下の範囲内であり
　【請求項２】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基体の表面を研削テープで研削加工し、中性洗剤で洗浄後、
温度が９０℃±５℃である純水中に１５０秒以上４００秒以下の時間範囲内で浸漬し
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　【産業上の利用分野】
　この発明は、電子写真方式の複写機，レーザープリンタ，ファクシミリ，ＬＥＤプリンタなどに用いられる電子写真感光体に使用される基体およびその製造方法に関する。
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
　電子写真技術を応用した半導体レーザープリンタ（レーザー光波長７８０ｎｍ程度），ファクシミリ，ＬＥＤプリンタなどにおいて、高速型の装置では帯電位を半分にまで減衰させるに要する光エネルギー，いわゆる半減衰露光量が０．４μＪ／ｃｍ２程度以下の高感度の電子写真感光体（以下、単に感光体とも称する）が要求されるようになってきた。また、高解像度の低速プリンタやカラーデジタル複写機などでは、画像の良好な再現性を得るために暗減衰，疲労の少ない安定した感光体が要求されるようになってきた。
　　　【０００３】
　このような要求に対応するために、半導体レーザー光のような長波長光を露光光とする装置に用いる感光体として、高Ｔｅ濃度のＳｅ−Ｔｅ合金からなるキャリア発生層を有する機能分離型の感光体の開発，実用化が進められてきた。このような感光体においては、キャリア発生層のＴｅ濃度と膜厚が感度，暗減衰，疲労に大きく影響する。Ｔｅ濃度４８％以上のＳｅ−Ｔｅ合金を用いた場合、あるいは膜厚が０．３μｍを超える場合には暗減衰，疲労が大きくなるので、これらを超えない範囲内で層構成などを工夫して高感度化が図られている。例えば特開昭６１−５２６４８号公報ではキャリア発生層をキャリア発生部と正孔注入部との二層構造とすることが開示され、特開昭６１−５２６５０号公報ではキャリア発生層とキャリア輸送層との間にキャリア輸送層に生じる熱励起電子は阻止するがキャリア発生層に生じる正孔の注入は阻止しないトラップ層を設けることが開示されている。
　　　【０００４】
　　【発明が解決しようとする課題】
　近年、プリンタや複写機の多機能化，用途拡大により、より低暗減衰，低疲労の感光体が要求されるようになってきた。
　　　【０００５】
　また、高解像度の装置が要求されるようになり、従来２００ｄｐｉ程度であったプリンタも６００ｄｐｉ〜１２００ｄｐｉという高解像のものが製品化されてきている。このような高解像度の装置に、基体上にキャリア輸送層，キャリア発生層，保護層を積層した機能分離型の多層構造の感光体を用いた場合、感光体に入射した可干渉性の光，例えばレーザー光は各層の境界あるいは基体表面で反射しそれらの反射光が互いに干渉し合う。このとき、各層の膜厚にバラツキがあると干渉光の強度にバラツキが生じ、その結果、出力画像に干渉縞が現れるようになる。干渉縞には、保護層の膜厚バラツキに起因する干渉縞と、キャリア輸送層の膜厚バラツキに起因する干渉縞との二種類があるが、キャリア輸送層は膜が厚く膜厚バラツキを少なくすることが難しく、後者の干渉縞がより大きな問題となる。例えば、露光光として半導体レーザー光（波長７８０ｎｍ程度）を用いた場合、保護層，キャリア輸送層の膜厚に０．２μｍ以上の膜厚偏差があるとそれぞれ干渉縞が現れるようになるから０．２μｍ未満におさえる必要があるがキャリア輸送層の膜厚偏差を０．２μｍ未満とすることは技術的に難しく、キャリア輸送層に起因する干渉縞に対しては別の対策が必要となる。
　　　【０００６】
　また、製造上の問題として、現在、一般的には導電性基体の表面加工後の脱脂・洗浄はトリクロロエチレンを用いて行われているが、トリクロロエチレンが発がん性を有するために、トリクロロエチレンを用いない脱脂・洗浄方法が要望されている。
　　　【０００７】
　この発明は、上述の点に鑑みてなされたものであって、高感度で繰り返し使用時の暗減衰の増大，疲労が少なく、かつ干渉縞，基体表面加工傷の現れない良質の画像が得られる感光体を得ることができる電子写真感光体用基体を提供すること、また、そのような基体をトリクロロエチレンによる脱脂・洗浄を行うことなしに製造する方法を提供することを解決しようとする課題とする。
　　　【０００８】
　　【課題を解決するための手段】
　上記の課題は、この発明によれば、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなり、
表面粗さにおいて最広高さＲｍａｘの３点測定での平均値が０．７μｍ以上１．４μｍ以下の範囲内，中心線平均粗さＲａの３点測定での平均値が０．０６５μｍ以上０．１２ｍ以下の範囲内であり
　　　【０００９】
　このような基体は、アルミニウムまたアルミニウム合金からなる基体の表面を研削テープで研削加工し、中性洗剤で洗浄後、
温度が９０℃±５℃である純水中に１５０秒以上４００秒以下の時間範囲内で浸漬し
　　　【００１０】
　　　【００１１】
　　【作用】
　前述のように表面に適切な膜厚の酸化膜の形成された基体を用い、その上にセレン系のキャリア輸送層，キャリア発生層，保護層を順次形成することにより、キャリア発生層のＴｅ濃度，膜厚を変えることなく、表面に酸化膜を形成してない基体を用いた場合よりも高感度で、かつ、繰り返し使用時の暗減衰，疲労の改善された感光体を得ることができる。基体表面の酸化膜の膜厚が５００Å未満であるとその効果が少なく、１８００Åを超えて厚くなると負帯電が増大してくるので好ましくない。
　　　【００１２】
　また、前述のような適切な表面粗さの基体を用いた感光体においては、入射光は基体表面で乱反射し干渉し合うことはなくなるので、高解像度の装置に用いた場合にも出力画像にキャリア輸送層に起因する干渉縞は発生しなくなる。表面粗さが小さいとその効果は少なく、大きすぎると基体表面粗さに起因する欠陥が出力画像上に現れるようになるので好ましくない。
　　　【００１３】
　基体表面の粗面化は研削テープによる研削加工で行うと好適である。また、研削加工後の基体を中性洗剤で洗浄後温純水中に浸漬し取り出すことにより、洗浄後の乾燥と表面への酸化膜の形成とを同時に行うことができる。純水温度は９０℃±５℃，浸漬時間は１５０秒以上４００秒以下の範囲が好ましい。トリクロロエチレンを用いないので発がん性の心配をしなくてもすむ利点も得られる。
　　　【００１４】
　　【実施例】
　図１は、この発明に係わる基体を用いた感光体の模式的断面図で、Ａｌ基体１１の表面に酸化膜１２の設けられている基体１上にキャリア輸送層２，キャリア発生層３，保護層４が順次形成されている。
　　　【００１５】
　実施例１
　　　【００１６】
　直径８０ｍｍ，長さ３００ｍｍの円筒形Ａｌ素管を円筒軸を中心として５００ｒｐｍで回転させながら、材質Ａｌ２Ｏ３，平均粒径１５μｍの砥粒を有する研削テープ（テープ幅７０ｍｍ）を押付け圧６．０ｋｇでＡｌ素管の外表面に圧接させ、テープ走行スピード６ｃｍ／分，テープユニット送りスピード２ｍｍ／回転で研削加工を行う。続いて中性洗剤を用いて脱脂・洗浄を行った後、温度９０℃の温純水中に浸漬し引き上げる。このときの浸漬時間を変化させ、浸漬時間１８０秒の実施例１−１の基体および浸漬時間３００秒の実施例１−２の基体を作製した。これらの基体外表面の表面粗さはＲｍａｘが約１μｍ，Ｒａが約０．０８μｍであった。
　　　【００１７】
　このようにして得られた基体を真空蒸着炉内の温度調節が可能な回転取付軸に装着し、基体温度を５４℃に保ち、またベルジャー温度を４０℃に保ち、２×１０−５Ｔｏｒｒ〜４×１０−５Ｔｏｒｒの真空中で純Ｓｅからなるキャリア輸送層（膜厚４８μｍ），Ｔｅ含有量４４重量％のＳｅ−Ｔｅ合金からなるキャリア発生層（膜厚０．１５μｍ），Ａｓ含有量，１．５重量％〜４重量％のＳｅ−Ａｓ合金からなる保護層を順次真空蒸着で成膜して、実施例１−１および１−２の感光体を作製した。
　　　【００１８】
　比較例１
　　　【００１９】
　実施例１において、温純水中の浸漬時間を１０秒，３０秒，６０秒，５００秒と変化させたこと以外は実施例１と同様にして、比較例１−１，１−２，１−３および１−４の基体を作製し、これらの基体を用いて実施例１と同様にして比較例１−１，１−２，１−３および１−４の感光体を作製した。
　　　【００２０】
　このようにして作製した感光体について、７８０ｎｍの単色光を用いて半減衰露光量（感度）を測定した。この場合バラツキを見るために各種感光体それぞれ３０本について測定した。また、基体との密着性を粘着テープにより相対比較した（数値の大きいほうが密着性大）。さらに、図２に示したレーザープリンタプロセスで繰り返し使用における疲労（帯電低下）および暗減衰（２５０サイクル後）を評価した。図２において、１０３は感光体１００の表面を帯電させるためのメインチャージャーでスコロトロンを使用、１０１は帯電電位測定点、１０４は露光光で半導体レーザー光（波長７８０ｎｍ）を使用、１０２は現像部電位測定点、１０５は転写チャージャーで電圧は５．２ｋＶ、１０６は紙分離チャージャーでＡＣ４．２ｋＶ，５００Ｈｚ（最大振幅）、１０７は除電光で赤，オレンジのＬＥＤ光を使用、１０８はクリーナーである。
　　　【００２１】
　以上の測定，評価結果を、使用した基体表面の酸化膜の膜厚（蒸着前にＥＳＣＡにより評価）とともに表１に示す。なお、疲労，暗減衰の評価はバラツキを考慮して各感光体５本の平均値を採った。
　　　【００２２】
　さらに、感光体表面に負の電荷を与えて負帯電量を調べた。その結果も１表に示す。プリンタのような反転現像方式の装置では転写に負の帯電を使用する。従って、この方式では負帯電の低い感光体ほど帯電低下が少なく、また、カット紙使用時にも濃度ムラが発生せず良質の出力画像が得られる。負帯電の評価は、感光体を２８．６ｒｐｍで回転させながら放電長２８０ｍｍのコロナチャージャーにより基体への流れ込み電流が−３０μＡとなる条件で感光体表面を帯電し、２秒後の表面電位を測定した。その結果も表１に示す。
　　　【００２３】
　【表１】
　　　【００２４】
　表１より、実施例１−１，１−２の感光体は特性，出力画像ともに優れており、感光体の基体として表面に５００Å以上１８００Å以下の膜厚の酸化膜を有する基体の有効性は明らかである。
　　　【００２５】
　このような酸化膜を有する基体を得るためには、研削テープで表面を粗面化した基体を中性洗剤で洗浄後、温度約９０℃（±５℃程度）の温純水中に１５０秒以上４００秒以下の範囲内で浸漬し引き上げることにより表面に酸化膜を形成すれば好適であることも明らかである。
　　　【００２６】
　実施例２
　　　【００２７】
　実施例１で用いたのと同等のＡｌ素管を用い、同じく同等の研削テープを用いて素管外表面を研削する。研削条件は押付け圧を６．０ｋｇと４．５ｋｇと変化させたこと以外は実施例１と同様にする。続いて、中性洗剤で脱脂・洗浄を行った後、温度９０℃の温純水中に１８０秒浸漬し引き上げ、押付け圧６．０ｋｇで研削した実施例２−１の基体および押付け圧４．５ｋｇで研削した実施例２−２の基体を作製した。このようにして作製した基体を用いて実施例１と同様にして実施例２−１および２−２の感光体を作製した。
　　　【００２８】
　比較例２
　　　【００２９】
　実施例２において、Ａｌ素管外表面の研削に際して、研削テープおよびテープの押付け圧を表２に示すように変え、その他は実施例２と同様にして、比較例２−１，２−２，２−３および２−４の基体を作製した。
　　　【００３０】
　【表２】
　　　【００３１】
　このようにして作製した基体を用いて実施例２と同様にして、比較例２−１，２−２，２−３および２−４の感光体を作製した。
　　　【００３２】
　これらの感光体を高解像度の半導体レーザープリンタに装着して画像出しを行った。その結果を使用した基体の表面状態を表面粗さ計で測定した結果とともに表３に示す。表面粗さは各種類５本ずつの基体について１本の基体中で３点測定した値の平均値およびバラツキを示す。
表中のＲｍａｘは最大高さ，Ｒａは中心線平均粗さ、Ｒｚは十点平均粗さ、ＲＫＵは表面の山の形状の鋭角雌を表す。ＲＫＵについては、その数値が小さい程尖った形状となるので基体表面での反射はより乱反射となり反射光が干渉しあうことはより少なくなる。
　　　【００３３】
　【表３】
　　　【００３４】
　表３より、実施例２−１および２−２，比較例２−１および２−２の感光体は干渉縞の発生しない出力画像を得ることができるが、比較例２−１では表面の加工筋が大きくこれに起因する画像欠点が現れることが判る。
すなわち良好な画質を得るためには、基体の表面粗さについて、３点測定したＲｍａｘの平均値を０．７、μｍ．以上１．４μｍ以下，かつ、３点測定したＲａの平均値を０．０６５μｍ以上０．１２μｍ以下とする必要があることが判る。
　　　【００３５】
　また、基体を温純水に浸漬して引き上げることにより表面に酸化膜を形成すると表面の濡れ性が向上し、比較例２−２の感光体に見られるように外観上削りムラがあっても出力画像上にはそれに起因する画像欠点が現れにくくなるという効果もある。
　　　【００３６】
　次に、これらの感光体に用いた基体表面の２０度鏡面光沢度を評価した（ＪＩＳＺ８７４１の方法５）。その結果を表４に示す。
　　　【００３７】
　【表４】
　　　【００３８】
　表面の光沢度は基体を温純水に浸漬して引き上げることにより表面に酸化膜を形成すると１０％程度低下し、出力画像への干渉縞の発生を抑えることができる。
　　　【００３９】
　　【発明の効果】
　この発明によれば、請求項１に記載したような表面粗さ，表面酸化膜を有するアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基体を用いることにより、高感度で繰り返し使用時の暗減衰の増大，疲労が少なく、かつ、干渉縞，基体表面加工傷の現れない良質の画像が得られる感光体を作製することができる。
　　　【００４０】
　このような基体は、基体表面を研削テープで研削加工し、中性洗剤で洗浄後、温純水中に浸漬し取り出すことにより表面に酸化膜を形成する方法で好適に製造することができる。この製造方法によれば、トリクロロエチレンを用いないので発がん性を心配する必要もなくなる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　この発明に係わる基体を用いた感光体の模式的断面図
　【図２】
　感光体の繰り返し使用時の特性変動を測定するためのレーザープリンタプロセス概念図
　【符号の説明】
　　１　　基体
　　２　　キャリア輸送層
　　３　　キャリア発生層
　　４　　保護層
　　１１　Ａｌ基体
　　１２　酸化膜