(57)【要約】  本発明は、検査領域での磁気粒子の空間分布を定めるための配置および方法に関する。磁場手段を用いて、少なくとも一つの低磁場強度の領域を有する空間的に不均一な勾配磁場が形成される。この領域では、粒子の磁化が被飽和の状態にあるのに対して、残りの領域では、これらの粒子は、飽和状態にある。変化手段を使用することにより、低磁場強度の領域が検査領域内で移動し、これにより磁気粒子の磁化に変化が生じ、検出手段によって、検査領域内での磁気粒子の空間分布に関する情報を含むこれらの変化が外部から検出される。磁場手段または変化手段または検出手段またはこれらの組み合わせは、医療用機器の少なくとも一部に配置される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査領域での磁気粒子の空間分布を定めるための配置であって、
a）磁場強度の空間方向によって、前記検査領域に、低磁場強度の第1の部分領域および高磁場強度の第2の部分領域が存在するような磁場を発生させる磁場手段と、
b）前記検査領域内での前記2つの部分領域の空間位置を変化させる変化手段であって、これにより前記粒子の磁化が局部的に変化する、変化手段と、
c）前記検査領域内での前記磁化に依存し、空間位置の変化による影響を受ける信号を検出する検出手段と、
d）前記検査領域内の前記磁気粒子の前記空間分布に関する情報を得るため、前記信号を評価する評価手段と、
を有し、
前記磁場手段または前記変化手段または前記検出手段またはこれらの手段の組み合わせは、医療用機器の少なくとも一部に配置されることを特徴とする配置。
【請求項２】
前記医療用機器に配置された前記磁場手段は、コイル配置および／または永久磁石を有することを特徴とする前記請求項に記載の配置。
【請求項３】
前記医療用機器に配置された前記磁場手段は、一方が他方の内側に配置された少なくとも2つのコイルを有し、作動状態では、前記コイルには、反対方向に電流が流れることを特徴とする前記請求項のいずれかに記載の配置。
【請求項４】
前記医療用機器に配置された前記変化手段は、軟磁性コアを有するコイル配置を有することを特徴とする前記請求項のいずれか一つに記載の配置。
【請求項５】
前記医療用機器に配置された前記検出手段は、複数のコイルまたはコイル配置を有し、該複数のコイルまたはコイル配置の作用方向は、相互に対して傾斜していることを特徴とする請求項1に記載の配置。
【請求項６】
侵襲性の医療用機器を有することを特徴とする前記請求項のいずれか一つに記載の配置。
【請求項７】
前記医療用機器は、カテーテルであり、前記医療用機器に配置された前記手段は、前記カテーテルの先端に、または少なくとも前記カテーテルの先端近傍に配置されることを特徴とする前記請求項のいずれか一つに記載の配置。
【請求項８】
前記医療用機器上に、マーカを有することを特徴とする前記請求項のいずれか一つに記載の配置。
【請求項９】
前記変化手段は、周波数によって目標となる方法で前記対象領域が昇温されている間、対象領域内の前記2つの部分領域の前記空間位置が変化し得るように構成されることを特徴とする前記請求項のいずれか一つに記載の配置。
【請求項１０】
前記請求項のいずれか一つに記載の配置での医療用機器の使用であって、
磁場手段または変化手段または検出手段またはこれらの手段の組み合わせは、少なくとも一部が前記医療用機器に配置されることを特徴とする、使用。
【請求項１１】
請求項10に記載のカテーテルの使用。
【請求項１２】
前記請求項のいずれか一つに記載の使用に適した医療用機器であって、
前記検出手段と、前記磁場手段および／または前記変化手段とは、当該医療用機器の少なくとも一部に配置される、医療用機器。
【請求項１３】
請求項12に記載のカテーテル。
【請求項１４】
検査領域での磁気粒子の空間分布を定める方法であって、
a）前記請求項のいずれか一つに記載の医療用機器を、前記検査領域に導入するステップと、
b）磁場強度の空間方向によって、前記検査領域に、低磁場強度の第1の部分領域および高磁場強度の第2の部分領域が存在するような磁場を発生させるステップと、
c）前記検査領域内での前記2つの部分領域の空間位置を変化させ、前記磁気粒子の磁化を局部的に変化させるステップと、
d）前記検査領域内での前記磁化に依存し、この変化による影響を受ける信号を検出するステップと、
e）前記検査領域内の前記磁気粒子の前記空間分布に関する情報を得るため、前記信号を評価するステップと、
を有する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医療用機器を用いて検査領域での磁気粒子の空間分布を定めるための配置、およびその分布を定めるための方法に関する。さらに本発明は、医療用機器、および前述の配置での医療用機器の使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
そのような配置およびそのような方法は、独国特許出願第10151778号で既に知られている。この文献に記載された方法では、低磁場強度の少なくとも一つの領域を有する、空間的に不均一な磁場が生じ、この中では、粒子の磁化が非飽和の状態となる。これに対して、残りの領域では、これらの粒子の磁化は、飽和状態となる。検査領域内で低磁場強度の領域をシフトさせることにより、外部から検出される磁化に変化が生じ、この変化には、検査領域での磁気粒子の空間分布に関する情報が含まれる。前記文献には、この方法を実施するための配置も示されている。検査領域は、いくつかのコイル配置で取り囲まれ、これにより、不均一な磁場が形成され、磁場領域がシフトし、信号が検出される。その後、この信号が評価される。
【特許文献１】独国特許出願第10151778号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の課題は、改良された配置を開発することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
この課題は、請求項１に記載された、検査領域での磁気粒子の空間分布を定めるための配置であって、
a）磁場強度の空間方向によって、前記検査領域に、低磁場強度の第1の部分領域および高磁場強度の第2の部分領域が存在するような磁場を発生させる磁場手段と、
b）前記検査領域内での前記2つの部分領域の空間位置を変化させる変化手段であって、これにより前記粒子の磁化が局部的に変化する、変化手段と、
c）前記検査領域内での前記磁化に依存し、空間位置の変化による影響を受ける信号を検出する検出手段と、
d）前記検査領域内の前記磁気粒子の前記空間分布に関する情報を得るため、前記信号を評価する評価手段と、
を有し、
前記磁場手段または前記変化手段または前記検出手段またはこれらの手段の組み合わせは、医療用機器の少なくとも一部に配置されることを特徴とする配置によって達成される。
【０００５】
本発明の記載に関しては、同時出願の以下の文献が参照される。これらの文献は、本願の参照文献として取り入れられている：
Ax1：独国特許出願第DE10151778A1号公報
Ax2：欧州特許出願第EP03101014.3号公報
Ax3：独国特許出願第DE10238853A1号公報。
【０００６】
磁場手段、変化手段および検出手段ならびにその動作モードは、全般に、文献Ax1とAx2に示されており、ここでは、これらの手段のうち本発明に関する部分のみを説明する。前記手段に関するさらなる細部については、前述の文献が参照される。
【０００７】
前述の文献からわかるように、磁場手段によって、例えば空間干渉領域のような第1の部分領域を有する勾配磁場が形成される。この部分領域では、磁場は極めて弱く、粒子の磁化は、外部磁場とは大きくまたは多少異なっており、すなわち、粒子は飽和していない。第2の部分領域（検査領域の第1の部分の外側の残り部分、または第1の部分領域を取り各務領域）では、磁場は、十分に強く、粒子は、飽和状態に維持される。
【０００８】
文献Ax1によれば、磁場手段は、例えばマクスウェルコイル配置で構成され、コイルと永久磁石、または同一の磁極端が相互に対向された2つの永久磁石で構成される。また、コイル配置は、文献Ax2でも知られており、この文献では、検査領域は、磁場手段の範囲内には存在せず、これらの手段と隣接して配置される。これらの全ての配置では、不均一な磁場または勾配磁場が形成され、ここでは、その周囲に比べて低い磁場強度を有する第1の部分領域、または磁場強度を全く有さない第1の部分領域が形成される。例えば、そのような磁場は、例えば文献Ax1の図2などのように、文献Ax1乃至Ax3に示されている。
【０００９】
本発明では、磁場手段は、医療用機器の少なくとも一部に配置されても良い。その場合、医療用機器の近傍での磁気粒子の分布を定めるため、低磁場強度の領域を、医療用機器の近傍に配置させることが可能となる。その結果、低磁場強度の領域の近傍に、大きな磁場勾配が形成され、これにより解像度が向上する。また、医療用機器が移動した際にも、医療用機器に対する低磁場強度の領域の位置は動かず、あるいはほとんど動かなくなるため、低磁場強度の領域が、実質的に医療用機器の移動に追随するようになる。その結果、常に医療用機器の近傍で、磁気粒子の分布を定めることが可能となる。
【００１０】
文献Ax1乃至Ax3の既知の配置において、低磁場強度の領域の位置は、基本的な状態、すなわち変化手段によるいかなる作用もない状態では、対応する磁場手段によって予め定められている。検査の間に、検査対象（例えば患者）が検査領域に対して移動しまたはずれると、患者の対応する領域に対する低磁場強度の領域の多くの位置において、部分的に歪んだまたは完全に不正確な挙動が生じ得る。その結果、磁気粒子の空間分布を定める際に、例えば核スピン断層撮影技術において知られているような移動偽像が生じる。磁場手段を医療用機器の少なくとも一部に配置することにより、これらの移動偽像を抑制または回避することができるようになる。
【００１１】
磁場手段が、例えばマクスウェルコイル配置で構成される場合、2つのコイルのうちの一つが、医療用機器上に配置されても良い。磁場手段が少なくとも一つの永久磁石を有する場合、請求項2に記載のように、この永久磁石は、医療用機器上に配置されても良い。通常の場合、医療用機器への永久磁石の配置は、簡単に行うことができる。特に、コイルの場合とは異なり、いかなる電源または医療用機器から導出される配線も不要となる。請求項3に記載の実施例は、文献Ax2に記載の配置と同様の配置に相当する。磁場手段がこれに記載された部材のみで構成される場合、磁場手段は、医療用機器の一部ではなく、全体に配置されても良い。この場合、検査領域を覆う部材が抑制される。
【００１２】
一例を示せば、通常の場合、磁場手段は、1または2以上の部材で構成されても良い。すなわち、本願において、医療用機器への磁場手段の一部の配置とは、磁場手段の少なくとも一つの部材が医療用機器上に配置されていることを意味する。
【００１３】
2つの部分領域の空間位置の変化は、例えば文献Ax1またはAx2に記載されているような、各種変化手段によって行われても良い。一方、磁場手段が直流電流に加えて交流電流でも作動する場合、この目的のため、磁場手段のコイル配置を使用しても良い。他方、別の変化手段を使用して、例えば専用のコイル配置を使用することにより、勾配磁場に重畳される一時的な可変磁場を形成させても良い。本発明では、少なくとも一つのそのようなコイル配置が、医療用機器に配置される。その結果、2つの部分領域の位置の周期的な変化の間に、従来の配置よりも大きな周波数を使用することが可能になる。これは、文献Ax1乃至Ax3に記載の変化手段の配置では、一時的に可変な磁場は、検査対象（観者）の比較的広い領域に印加されるためである。検査対象で発生し得る熱は、一時的に可変の磁場の振幅と周波数の積にほぼ依存する。医療用機器に変化手段を配置することにより、一時的に可変の磁場は、医療用機器の近傍にのみ局部的に印加されるようになる。その結果、検査対象の全体的なまたは部分的な加熱が有意に抑制される。
【００１４】
一例を示せば、通常、変化手段は、1または2以上の部材で構成されても良い。従って、本願では、医療用機器上の変化手段の一部の配置とは、変化手段の少なくとも一つの部材が、医療用機器上に配置されていることを意味する。
【００１５】
変化手段の少なくとも一部にコイル配置が使用される場合、これらは、作動モードに応じて、高い周波数で作動される。コイル配置は、電気抵抗により、昇温される可能性がある。そのような特定のレベルを超える昇温は、医療用機器に配置されたコイル配置の場合、好ましくない。高周波数で作動されるコイルの昇温は、請求項4の記載によって、抑制される。これからわかるように、巻線またはコイルの複数の巻線を通って流れる電流は、コアを用いることにより抑制することができ、これにより昇温が抑制される。コアでの磁気反転によって生じる熱損失は、特に、作用する磁場強度の範囲内で、コアができる限り直線的な磁気特性を有する場合、コアの軟磁性特性により最小限に抑制される。
【００１６】
文献Ax1およびAx2によれば、磁気粒子からの信号は、検出手段としての少なくとも一つのコイルまたはコイル配置により検出することができる。本発明では、このコイルまたはコイル配置は、医療用機器上に配置される。その結果、低磁場強度の領域が検出手段の近傍に配置されている場合、または検出手段の近傍にシフトされた場合、有意に改善された信号対ノイズ比で、信号を検出することができる。請求項5に記載のように、異なる作用方向を有する多数のコイルまたはコイル配置を使用しても良い。例えば、よく知られているように、変化する磁場が、平坦な導体ループによって形成される表面に対して垂直に立っている場合、この平坦な導体ループにより、信号をうまく検出することができる。従って、コイルまたはコイル配置の作用の方向とは、変化する磁場が、最大の信号が検出されるように、コイルまたはコイル配置に作用する方向であることを意味することが理解される。
【００１７】
一例を示せば、通常、検出手段は、1または2以上の部材で構成される。従って、本願では、医療用機器上の検出手段の一部の配置とは、検出手段の少なくとも一つの部材が、医療用機器上に配置されていることを意味する。
【００１８】
本願の範囲では、医療用機器とは、医療目的のため、医者、または例えば検査もしくは処置のための他の医療分野のスタッフによって使用され得る、いかなる物品をも意味することを理解する必要がある。一方では、これは、被検査対象を通過する物品であって、例えば走査ヘッドの形で患者の肌の上に配置される物品を意味するものとして理解される。また、この用語は、例えば走査ヘッドを含む。そのような医療用機器を使用し、本発明と、文献Ax1およびAx2に記載された方法とを使用することにより、その後、例えば、肌の内部の血管の画像を形成することが可能となる。物理的法則によれば、被検査対象のある浸透深さ範囲でのみ、評価の対象となり得る信号が形成され検出されることが予想される。磁場手段としてコイルが使用される場合、この浸透深さは、例えばこれらのコイルの中央面積に比例する。
【００１９】
さらに、請求項6に記載の侵襲性の少ない操作用機器のような医療用機器、または請求項7に記載のカテーテルもまた、「医療用機器」という用語の範囲に属する。またこの用語は、食道、胃、腸、耳もしくは人体または動物の体の他の部分に挿入することが可能なプローブをも意味することを理解する必要がある。この列記例は、一例であって、これに限定されるものではない。
【００２０】
その位置をより容易に定めることを可能にするため、請求項8に記載のように、医療用機器上にマーカが配置される。そのようなマーカは、本発明と同様の出願であって、同日に欧州特許庁に出願された「磁気的方法を用いた位置決め用のマーカ」という題目の特許出願文献Ax4に記載されている。前記特許出願は、本願の参照文献として取り入れられている。
【００２１】
変化手段を修正することにより、請求項9に記載の配置を使用して、文献Ax3に記載のような、局部的な昇温処理が実施される。
【００２２】
請求項10乃至13に記載のように、例えば、核スピン断層撮影技術の分野のカテーテルのような、コイルを有する既知の医療用機器を使用しても良い。
【００２３】
請求項14に記載の方法は、文献Ax1、Ax2およびAx3に開示された方法に基づくものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
添付図面に示された一例としての実施例を参照して、本発明をさらに説明する。ただし、本発明は、これに限定されるものではない。本願で示されている医療用機器は、カテーテルであるが、原理的には、代わりに他の医療用機器を使用することも可能である。
【００２５】
図1には、カテーテル8の先端部を概略的に示す。図からわかるように、カテーテルは、薄いホース状の配管を構成しており、この配管の内側には、例えばガイドワイヤが挿通される。あるいは、カテーテル先端には、液体（造影剤）が通り、この液体は、開口10を介して排出される。
【００２６】
カテーテルの近傍に配置された検査対象（ここでは患者）内の磁気粒子の空間分布に関する情報を得るため、カテーテル8上には、コイルおよびコイル対が配置され、この磁場は、カテーテル先端の前方の領域を通過する。ここで、以下に示すコイルは、概略的に単なる円で示されており、例えば供給線は、明確化のため示されていない。第1のコイル対は、2つの巻線13aおよび13bを有し、これらの巻線は、相互に同軸上に配置され、一方が他方を取り囲んでいる。動作の際には、両者には反対方向の電流が通電される。両巻線の共通軸は、ほぼカテーテル8の軸に沿って延伸している。これにより生じる勾配磁場は、文献Ax2の図2aおよび2bに示されている。電場のない位置、または低磁場強度の領域の位置は、それがカテーテル8の開口10の前方に位置するように選定される。磁場の強度は、磁場のない位置から始まり、この磁場のない位置からの距離とともに、3つの全ての空間方向で増大する。磁場のない位置を共通軸上に配置させるため、各種配置パラメータが変更される。巻線13aを流れる電流の電流強度が増加した場合、または巻線13bを流れる電流の電流強度が減少した場合、電場のない位置は、カテーテルの方向に移動する。一方、巻線13aを流れる電流の電流強度が減少した場合、または巻線13bを流れる電流の電流強度が増加した場合、電場のない位置は、反対の方向に移動する。また特に、この磁場のない位置すなわち開始位置は、巻線13および13bの直径の変化による影響を受け得る。さらに、これは、コイル配置の寸法によって、高磁場強度の領域の空間寸法が十分に広くなるようにする必要がある。これは、原理的に、以下に示す検出手段によって検出される磁気粒子の信号が、この領域に存在する必要があることを意味する。ただし実際には、この磁気粒子によっては、いかなる信号も形成されず、このため、磁気飽和状態が維持される。磁気粒子が、検出手段から十分に離れている場合、それらの信号は、検出手段によっては、弱い状態でしか検出されず、あるいは全く検出されなくなり、もはや、これらの磁気粒子をより高い磁場強度の領域に配置させる必要はなくなる。
【００２７】
装置の空間解像度を決める、低磁場強度の領域（文献Ax2の図2bにおいて、参照符号301で示されている）の寸法は、勾配磁場の勾配強度に依存する一方、他方では、飽和に必要な磁場の寸法に依存する。さらなる検討には、文献Ax1およびAx2が参照される。
【００２８】
作動領域において、勾配磁場に1または2以上の他の磁場が重畳された場合、その後、磁場のない位置または低磁場強度の領域は、この重畳された磁場に沿って移動し、移動の寸法は、重畳された磁場の強度とともに増加する。重畳された磁場は、異なる方向を有し、一時的に変化させることが可能となる。
【００２９】
空間のあらゆる方向に、これらの一時的に可変の磁場を発生させるため、変化手段として、3つの更なるコイル配置が提供される。コイル14は、コイル対13a、13bのコイル軸の方向に広がる磁場を発生させる。原理上、このコイル対によって、コイル対13a、13bにおける反対方向の電流に、同じ方向の電流を重畳させることにより、結果的に、一つのコイル対での電流が減少し、他のコイル対での電流が増加するという効果が得られる。ただしこの場合、別のコイル対によって、一時的に一定の勾配の磁場と、一時的に可変の垂直磁場とが形成されることが好ましい。
【００３０】
空間的にコイル13および13bの共通軸に対して垂直に広がる磁場、および／またはカテーテル軸に対して垂直に広がる磁場を形成させるため、巻線15a、15bおよび巻線16a、16bを有する、2つの更なるコイル対が提供される。巻線16bは、これがカテーテルの下側に配置され、視認できないため、図には示されていない。巻線15aおよび15b、ならびに巻線16aおよび16bは、それぞれ、相互に対向するように、カテーテル8の外側の表面に同様の方法で配置される。巻線15aおよび16bを有するコイル対の共通軸は、コイル対16ａおよび16bの共通軸に対して垂直になっており、2つのコイル対のコイル軸は、いずれも、カテーテル8の軸に対して垂直になっている。作動中、コイル対の2つの巻線の間には、磁場が形成され、この磁場の磁場線は、一方では、カテーテル8を通って直線的に延伸する。他方では、これらの磁場線は、カテーテル8の周囲で湾曲した状態で延伸し、これらの磁場線は、さらに、カテーテル軸に対して垂直な部材を有するカテーテル8の先端の前方の磁場のない位置、または低磁場強度の領域を通る。
【００３１】
また、各湾曲磁場を最適化させるため、巻線の寸法は、異なっていても良い。これは、各コイル内に軟磁性コア（図示されていない）を配置させるという前述の理由から推察される。
【００３２】
また、図1には、さらに別のコイル17が示されており、これは、作動領域で生じた信号を検出する役割を果たす。この目的のためには、原理上、いかなる磁場発生コイル対13乃至16を使用しても良い。しかしながら、特別なコイルを使用することにより、より好ましい信号対ノイズ比が得られ、特に、多くの受信コイル（図示されていない）を使用した場合、好ましい信号対ノイズ比が得られる。また、コイルは、これが他のコイルから分離されるように配置され接続されても良い。例えば、3つの受信コイルがカテーテルに取り付けられる場合、これらの作動方向は、相互に対して90゜の角度で配置されても良い。この場合、カテーテル先端の周囲の全ての方向から、信号が検出される。また、これにより、他の外部受信コイル（図示されていない）を検査対象に隣接して設置することが可能となる。
【００３３】
図1に示すカテーテルの構成により、低磁場強度の領域の位置がカテーテルに対応付けられ、もはや文献Ax1およびAx1[原文]に示すような検査領域または外部部材と対応しなくなる。従って基本状態では、カテーテルと検査対象の間の相対移動の際にのみ、低磁場強度の領域の位置が検査対象の範囲内で変化する。信号検出の期間の間、信号が検出される患者の領域に対して、カテーテルが静止している場合、患者が移動しても、移動偽像を生じなくすることができる。例えば、カテーテルによって、動脈または冠状血管の内壁の画像が形成される場合、心臓の複雑な動きによっても、移動偽像が生じず、あるいは移動偽像が僅かにしか生じないようになることが期待できる。
【００３４】
また、用途に応じて、必ずしも図1に示す全てのコイルをカテーテル8に固定する必要がないようにすることも可能である。例えば、文献Ax1およびAx2に示されているように、外部コイルを使用して低磁場強度の領域をシフトさせる場合、コイル14、15a、15b、16aおよび16bを省略しても良い。
【００３５】
低磁場強度の領域の変更、得られる信号の検出および前記信号の評価に関しては、文献Ax1およびAx2が参照される。また、文献Ax3に示されているように、磁気粒子を昇温させることも可能である。昇温は、カテーテル先端の近傍で生じる。昇温の前に、前述の方法により、被昇温領域を移動させ、ユーザが被昇温領域を定めることも可能である。
【００３６】
カテーテル8を異なる構成とし、磁場手段の配置を変えることにより、磁場のない位置または低磁場強度の領域の位置を、カテーテル8の先端の前方ではなく、先端に隣接するように定めることができる。これは、例えば、主にカテーテル8に隣接する位置の領域の画像を形成する必要がある場合、有益である。図1に詳細に示されているコイルまたはコイル配置は、異なる形状または異なる配向としても良く、結果的にカテーテル8上に異なる状態で配置されても良い。ただし、この場合、これらの機能は変化しない。
【００３７】
図2には、実質的に図1のカテーテル8に対応するカテーテル8aを示す。カテーテル8aは、コイル13および13bを除く、カテーテル8の全ての部材を有するが、これらは、明確化のため示されていない。勾配磁場を発生させるため、カテーテル8aには、クリップ26により棒状の永久磁石25が取り付けられ、前記磁石の一つの極は、カテーテル8aの先端に配置される。磁場線がカテーテルの軸とほぼ平行に延伸する外部磁場が、前記カテーテルに作用する場合、概略的に図3に示すような磁場線の方向が得られる。図3では、外部磁場は、コイル30および31を有するコイル対によって発生し、コイル30および31は、例えば、検査対象の周囲に配置される。図には、カテーテル8aの代わりに、永久磁石25のみが示されている。図3において、永久磁石25の左端は、図2からわかるように、カテーテル先端と対面する永久磁石25の端部に相当する。
【００３８】
永久磁石25の磁場による重畳のため、カテーテル8aの先端の前方に、低磁場強度の領域27が得られる。永久磁石25を有するカテーテル8aが、外部磁場の実質的に均一な領域内で移動した場合、領域27は、これに伴いカテーテルとともに移動するため、カテーテルに対する位置は、変化しない。領域27の移動および信号の検出は、カテーテル8の場合と同様の方法で行われる。
【００３９】
カテーテル8に比べて、カテーテル8aは、備える部材が少ない。しかしながら、カテーテル8aまたは永久磁石25が図示された位置に対して回転し、外部磁場の磁場線が、もはや永久磁石25またはカテーテル8aの軸とは平行にならなくなった場合、領域27がカテーテル8aに対して移動する。この位置のシフトは、例えば、対応する他のコイルの活性化によって補償され、あるいは信号評価の際に考慮される。これとは別に、永久磁石25の回転に対応して、外部磁場の方向が同様に変化するようにすることも可能である。このため、例えば、外部磁場に、異なる方向の別の外部磁場が重畳される。カテーテル8aまたは永久磁石25が回転する方向は、例えば、検査対象に隣接して設置された、3つの直交する受信コイルによって定めることができる。
【００４０】
図示された棒状の永久磁石25の代わりに、カテーテル8aの先端を取り囲む、またはカテーテル8aの先端に取り付けられたリング状の永久磁石を使用しても良い。通常の場合、永久磁石の代わりにコイル26を使用しても良く、この場合、図4に示す磁場線の方向が得られる。
【００４１】
さらに図1に示すカテーテル8は、マーカ20を有する。そのようなマーカおよびその機能は、例えば、文献Ax4に詳しく示されているため、ここではこれ以上詳細を説明しない。（例えば、磁気粒子を有するため）自身が磁気特性を有するマーカが使用された場合、これは、カテーテル8上に配置された他の部材と干渉する。この場合、マーカは、勾配磁場を歪ませる一方で、基本周波数の高調波周波数を生じさせるため、これにより、低磁場強度の領域は、その近傍に移動する。従って、マーカ20は、これらの部材から十分な距離だけ離して配置する必要がある。あるいはマーカは、このマーカの磁気特性が、カテーテル8の周囲に配置された磁気粒子の磁気特性とは異なるように構成されても良い。そのような違いは、例えば、磁気曲線の中にあっても良い（勾配、ヒステリシス）。その後、マーカから得られる信号は、磁気粒子から得られる信号とは異なるスペクトル成分を有する。ヒステリシスが極めて広い場合、マーカから得られる信号は、ほぼ消滅する。
【００４２】
図1に示すカテーテル8では、マーカを用いて、コイルを流れる電流に対して、低磁場強度の領域の位置を較正しても良い。これが可能となるのは、コイルに対するマーカの幾何形状が既知であるためである。磁場手段、ここでは2つの巻線13aおよび13bを有するコイル対、がカテーテルに取り付けられていない場合、検査領域内のカテーテルの位置は、マーカによって定められても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明による第1のカテーテルを示す図である。
【図２】本発明による第2のカテーテルを示す図である。
【図３】第1の勾配磁場の方向を示す図である。
【図４】第2の勾配磁場の方向を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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