【事件の表示】
　特許第２８８８２６０号「低レベルのメチルベンゾフランを含むフェノール」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２８８８２６０号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第２８８８２６０号の請求項１に係る発明は、１９９５年５月３日（パリ条約による優先権主張１９９４年６月６日　米国）を国際出願日として出願され、平成１１年２月１９日にその特許の設定登録がなされ、その後、三菱化学株式会社より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年７月１１日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
ア．訂正明細書の請求項１に係る発明
　訂正明細書の請求項１に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
「１．クメンヒドロペルオキシドの分解生成物から得られるフェノール中のメチルベンゾフラン（ＭＢＦ）不純物を減少させる方法であって、
　該フェノールを処理してアセトールのレベルを２００ｐｐｍを超えない量まで減少させ；
　低レベルのアセトールを含有する該フェノールを芳香族スルホン酸樹脂又は固体過酸触媒化合物と十分な温度及び十分な時間で接触させてＭＢＦをより高い沸点の化合物に転化させることによりそのレベルを減少させ；次いで、
　該フェノールを蒸留してより高い沸点の化合物からフェノールを分離させること；を含む方法。」
（以下、「訂正発明」という。）
　
イ．訂正の内容
　訂正請求は、本件特許の明細書を訂正請求書に添付した訂正明細書のとおりに訂正しようとするものであって、その訂正の内容は次の（ａ）、（ｂ）のとおりである。
（ａ）特許請求の範囲の請求項１に、（ａ−１）「フェノールを処理してアセトールのレベルを２６０ｐｐｍを超えない量まで減少させ」とあるのを、「フェノールを処理してアセトールのレベルを２００ｐｐｍを超えない量まで減少させ」と、また、（ａ−２）「十分な温度及び十分な時間で接触させてより高い沸点の化合物に転化させることによりＭＢＦのレベルを減少させ」とあるのを、「十分な温度及び十分な時間で接触させてＭＢＦをより高い沸点の化合物に転化させることによりそのレベルを減少させ」と訂正する。
（ｂ）明細書第４頁第１４〜１５行（特許公報第６欄第４〜５行）の「ＭＢＦは４ｐｐｍ未満までしか減少させることができなかった」とあるのを、「ＭＢＦは４ｐｐｍまでしか減少させることができなかった」と訂正する。
　
ウ．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正（ａ−１）は、訂正前の請求項１に係る発明において、処理対象であるフェノール中のアセトールのレベルを「２６０ｐｐｍを超えない量」からより少ない「２００ｐｐｍを超えない量」とするもので、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、また、訂正（ａ−２）は、「より高い沸点の化合物に転化させる」ものがＭＢＦであることが明らかとなるようにするもので、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
　訂正（ｂ）において訂正の対象となる明細書の記載は表IIの説明部分であり、表IIによれば、ＭＢＦが４ｐｐｍに減少していることから、「ＭＢＦは４ｐｐｍ未満までしか減少させることができなかった」との記載における「４ｐｐｍ未満」は「４ｐｐｍ」の誤記と認められ、該訂正は、誤記の訂正を目的とするものである。　
　そして、訂正（ａ−１）における「２００ｐｐｍを超えない量」は、明細書中の「例えば２６０ｐｐｍを超えない量で、より好ましくは２００ｐｐｍを超えない量で」［明細書第２頁第２３〜２４行（特許公報第４欄第１〜２行）］との記載に基く訂正であり、他は、明りょうでない記載の釈明、誤記の訂正に係るものであるから、いずれも新規事項を追加するものではなく、また実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　
エ．独立特許要件の判断
（ｉ）当審が通知した取消理由の概要
　訂正前の請求項１に係る発明は、特開昭４７−３０６２８号公報（刊行物１）に記載された発明であるから、また、請求項１に係る発明は、特公昭３７−１１６６４号公報（刊行物２）、特公昭３９−６２２号公報（刊行物３）に記載の発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件の請求項１に係る発明についての特許は、特許法第２９条第１項及び第２項の規定に違反してなされたものであり、取り消されるべきである。
　
（ii）各刊行物の記載事項
（ａ）刊行物１（特開昭４７−３０６２８号公報）
　刊行物１には、「芳香族ヒドロキシ化合物とカルボニル不純物とを含む実質上無水の混合物から芳香族ヒドロキシ化合物を精製回収する方法にして、前記混合物を酸性イオン交換樹脂と接触させてカルボニル不純物を、前記芳香族ヒドロキシ化合物の沸点よりも高い沸点を有する生成物へ転化させ、そしてこの生成物から芳香族ヒドロキシ化合物を分離することよりなる精製回収法」（特許請求の範囲）が記載されている。
　そして、例１として、クメンを酸化しその結果生成したヒドロペルオキシドを開裂することにより製造したフェノール生成物を、酸性イオン交換樹脂であるアンバーリスト１５と共に加熱し、その後バッチ蒸溜した実施例が記載されており、精製前のフェノールと精製後のフェノールの気相クロマトグラフィ分析の結果として、アセトールが２１８から９ｐｐｍ、３−メチルベンゾフランが１７から９ｐｐｍに変化したことが示されている（第４頁左下欄〜第５頁左上欄）。
　
（ｂ）刊行物２（特公昭３７−１１６６４号公報）
　刊行物２は、クメンから得られたフェノールの精製に関するもので、「本発明によるクメンから得られ且脂肪族α−ヒドロキシ・カーボニル化合物を含有する色形成不純物を含有するフェノールの精製法は、不純フェノールを脂肪族α−ヒドロキシ・カーボニル化合物とフェノールとを縮合してベンゾフランを形成せしめる条件に供し、ベンゾフランからフェノールを分離することからなる。本発明はフェノールを塩素化し及び（或は）スルホン化するときに発生する望ましくない色は、少くとも一部は塩素化及び（或は）スルホン化条件の下で強く色がついた誘導体を与える極めて少量の１種又はそれ以上のベンゾフランがフェノール中に存在することによるという発見に基くのである。更にこれらのベンゾフランはフェノールと脂肪族α−ヒドロキシ・カーボニル化合物を包含するいろいろの先駆剤・・・の化合物との縮合によって形成せられることが見出された。かゝる化合物はヒドロキシアセトン（アセトール）及びアセチル・メチル・カルビノール（アセトイン）を包含する。従ってヒドロキシアセトンはフェノールと縮合して２−メチル−ベンゾフランを形成し、一方アセトインはフェノールと縮合して２，３−ジメチルベンゾフランを形成すると信ぜられる。」（第１頁左欄下から１３行〜右欄第１０行）と記載されている。
　また、「本発明に於ては先駆剤はベンゾフラン及び他の縮合生成物に転化せられ、これらのものは次でフェノールからすべて分離せられるのである」（第１頁右欄末行〜第２頁左欄第２行）こと、および、「若干の存在するα−ヒドロキシ・カーボニル化合物をベンゾフランに転化するためのフェノールの処理は、液状又は蒸気相のフェノールを高温、例えば少くとも４０℃、成るべく１００−４００℃に加熱することによって行うことができる。本法は触媒の不存在で行うことができ或は・・・酸性又はアルカリ性イオン交換樹脂；・・・の触媒的に活性の物質の存在に於て行うことができる。」（第２頁左欄第１７〜２８行）ことが記載されている。
　そして、実施例１として、クメンを酸化したクメン・ヒドロパーオキシドを酸分解し、蒸溜したフェノール溜分を精製して得られた、０．０２％のヒドロキシアセトンと７０ｐｐｍの２−メチルベンゾフランとを含有する純フェノールを、加熱条件下蒸気相でアルミナ上に通じることにより、２９０ｐｐｍの２−メチルベンゾフランを含有しヒドロキシアセトンを含有しないフェノールとすることが記載されている（第３頁左欄下から１３行〜右欄第１５行）。
　
（ｃ）刊行物３（特公昭３９−６２２号公報）
　刊行物３は、クメンから得られたフェノールの精製に関するもので、「本発明によるクメンから得られたフェノールの精製法は不純フェノールを分別蒸溜に供してアセトンを除き、実質的にアセトンを含有しないフェノール含有物質を、反応混合物中のベンゾフランが実質的に最小に減少するまで酸性触媒と共に酸性条件下で加熱してかつその反応混合物を分別蒸溜に供して精製されたフェノール含有物質を回収することからなる。」（第１頁右欄第１９〜２６行）と記載されている。
　また、「クメンから得られたフェノールは・・・望ましくない色を発生せしめる不純物を含有し、かような不純物は・・・脂肪族α−ヒドロキシカーボニル化合物を包含する。これらα−ヒドロキシカーボニル化合物はフェノールと縮合してベンゾフランを形成しかつかようなベンゾフランは・・・色の付いた化合物の形成に関して少なくとも一部において負っている。・・・α−ヒドロキシカーボニル化合物は通常の方法によってはフェノールから容易に分離し得ないがベンゾフランは例えば抽出蒸留によって実質的に完全にフェノールから分離し得る。」（第１頁左欄下から１２行〜右欄第８行）こと、「本発明の方法においてベンゾフラン前駆剤はフェノールと縮合させてベンゾフランを製造し、次いでそれをフェノールから通常の分別蒸溜によって分離し得る他の生成物に転化させる。本方法においてベンゾフランは分解してもよくあるいは更に縮合反応をさせてもよく、それによってベンゾフランはフェノールから容易に分離し得る物質に転化する。」（第１頁右欄下から９〜２行）こと、および、「本発明の方法において使用に適する触媒は・・・スルホン化スチレン-ジビニルベンゼン樹脂のような酸性イオン交換樹脂を包含する。」（第１頁右欄末行〜第２頁左欄第６行）ことが記載されている（第２頁右欄第２３行〜下から２行）。
　そして、実施例１として、クメンを酸化したヒドロパーオキシドを酸分解し、３段階の蒸溜により得られた４１ｐｐｍの２−メチルベンゾフランを含有するフェノール溜分を貯蔵すること、貯蔵物質をバッチ蒸留するとフェノールと２−メチルベンゾフラン前駆剤との反応の結果として形成された１３４５ｐｐｍの２−メチルベンゾフランを含有するフェノールを与えること、これに塩化第二鉄を添加、加熱還流すると、２−メチルベンゾフラン含量が、３時間の処理により１１３ｐｐｍとなり、２３時間後には３０ｐｐｍ以下となることが記載されている（第２頁右欄第２３行〜第３頁左欄第１７行）。
　
（iii）対比・判断
（ａ）特許法第２９条第１項違反について
　刊行物１の例１には、クメンヒドロペルオキシドの分解生成物から得られるフェノールの精製において、アセトールの含量が２１８ｐｐｍであるフェノールを芳香族スルホン酸樹脂（アンバーリスト１５）と接触させること、その結果としてメチルベンゾフランの含量が減少することが記載されている。
　しかし、訂正発明において、メチルベンゾフラン不純物を減少させる対象となる被処理フェノールは、「アセトールのレベルを２００ｐｐｍを超えない量まで減少させ」たものであることが必須なのに対し、刊行物１の例１の被処理フェノールでは、アセトール含量が２１８ｐｐｍであるので、この点で両発明は相違する。さらに、刊行物１のその他の記載を検討しても、クメンヒドロペルオキシドの分解生成物から得られるフェノールの精製にあたり、アセトールの含量を「２００ｐｐｍを超えない量」に特定することは記載も示唆もされていない。
　したがって、訂正発明が刊行物１に記載された発明であるとすることはできない。
　
（ｂ）特許法第２９条第２項違反について
　刊行物２に記載の方法は、アセトール等のα−ヒドロキシカルボニル化合物を酸触媒によりベンゾフラン等の縮合生成物とし、それら縮合物を除去することによりフェノールを精製するものであり、処理の途中においてベンゾフラン類を増加させている。このことは、実施例１において、０．０２％（２００ｐｐｍ）のヒドロキシアセトン（アセトール）と７０ｐｐｍの２−メチルベンゾフランとを含有する純フェノールを処理することにより、２９０ｐｐｍの２−メチルベンゾフランを含有しヒドロキシアセトンを含有しないフェノールとすることが記載されていることからも明らかである。
　このように、刊行物２のフェノールの精製方法は、アセトール等をベンゾフラン等に転化することによりベンゾフラン等の含量を増加させ、それを除去するものであるから、このような刊行物２の記載から、アセトールの含量を減少させたフェノールに対し酸触媒と接触させることによりメチルベンゾフランの含量を減少させる訂正発明が、当業者に容易に想到し得たとすることはできない。
　次に、刊行物３に記載の精製方法は、酸触媒の存在下にベンゾフランを他の物質に変化させることにより、その含量を減少させる点で訂正発明と軌を一にする。しかし、刊行物３の方法は、「α−ヒドロキシカーボニル化合物は通常の方法によってはフェノールから容易に分離し得ないがベンゾフランは例えば抽出蒸留によって実質的に完全にフェノールから分離し得る。」（第１頁右欄第４〜８行）との認識に基いて、「ベンゾフラン前駆剤はフェノールと縮合させてベンゾフランを製造し、次いでそれをフェノールから通常の分別蒸溜によって分離し得る他の生成物に転化させる。」（第１頁右欄下から９〜６行）ものであり、対象となる被処理フェノールとしてα−ヒドロキシカルボニル化合物であるアセトールを減少させたものを使用することは、なんら意図されていない。
　結局、刊行物３には、被処理フェノールとしてアセトール含量を減少させたものを使用する点について記載も示唆もされていないので、訂正発明が刊行物３の記載から当業者に容易に想到し得たとすることはできない。
　さらに、刊行物２、３の記載を合わせ勘案しても、被処理フェノールのアセトール含量を特定数値以下に減少させることは当業者が容易に想到し得たとされるものではない。
　そして、訂正発明は、その請求項１に記載の構成を採用することにより、短時間にメチルベンゾフラン不純物を減少させることができるという、刊行物２、３から予測し得ない格別の効果を奏し得るものである。
　したがって、訂正発明は、刊行物２、３の記載の発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　
（ｃ）まとめ
　よって、訂正発明は特許出願の際独立して特許を受けることができるものである。
　
オ．むすび
　以上のとおりであるから、本件訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項、同条第３項で準用する同法第１２６条第２〜４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについての判断
ア．申立ての理由の概要
　特許異議申立人三菱化学株式会社（以下、「申立人」という。）は、訂正前の請求項１に係る発明は、甲第１号証に記載された発明であるか、または、甲第２、３号証に記載される発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、該特許は取り消されるべきである旨を主張する。
　
イ．判断
　前述のように、本件訂正は適法なものであるので、本件請求項１にかかる発明は、訂正明細書の請求項１に記載されたとおりのものである（以下、「本件発明」という。）。
　申立人の提出した甲第１号証は、取消理由で引用した刊行物１と同一のものであるところ、上記「２．エ．（iii）（ａ）」で述べたように、本件発明は甲第１号証に記載される発明とされるものではない。また、申立人の提出した甲第２、３号証は、取消理由で引用した刊行物２、３と同一のものであるところ、上記「２．エ．（iii）（ｂ）」で述べたように、本件発明は甲第２、３号証に記載される発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたとされるものではない。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年１２月２１日（２０００．１２．２１）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　特許第２８８８２６０号発明の明細書を訂正請求書に添付された訂正明細書のとおりに、すなわち、
（１）特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的として、
　特許請求の範囲の請求項１に、「フェノールを処理してアセトールのレベルを２６０ｐｐｍを超えない量まで減少させ」とあるのを、「フェノールを処理してアセトールのレベルを２００ｐｐｍを超えない量まで減少させ」と、また、「十分な温度及び十分な時間で接触させてより高い沸点の化合物に転化させることによりＭＢＦのレベルを減少させ」とあるのを、「十分な温度及び十分な時間で接触させてＭＢＦをより高い沸点の化合物に転化させることによりそのレベルを減少させ」訂正する。
（２）誤記の訂正をを目的として、
　明細書第４頁第１４〜１５行（特許公報第６欄第４〜５行）の「ＭＢＦは４ｐｐｍ未満までしか減少させることができなかった」とあるのを、「ＭＢＦは４ｐｐｍまでしか減少させることができなかった」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
低レベルのメチルベンゾフランを含むフェノール
【発明の詳細な説明】
　　　
発明の背景
　１．
発明の分野
　２．
関連技術の説明
　分別蒸留によって得られるフェノール生成物には、ＡＭＳ、アセトール（ヒドロキシアセトン）、アセトフェノン、クミルフェノール、及び２−及び３−メチルベンゾフラン（合わさって又は個別の状態でのＭＢＦ）を含む多数の不純物が含まれる。ある種の目的のためには、かかる不純物を減少させて、経時変化又はスルホン化又は塩素化による変色を含む問題を回避することが重要である。ＭＢＦとフェノールは同じような揮発性を有するので、分別蒸留によってＭＢＦを効果的に分離することはできない。ＭＢＦの量を減少させるための、水の存在下における蒸留、又は蒸気ストリッピングは、米国特許第５，０６４，５０７号及び第４，８５７，１５１号に開示されている。かかる蒸気ストリッピングでは、必要量の蒸気を製造するためのエネルギーのかなりの消費と、有機蒸気及び添加された蒸気の流れを収容するための大きな蒸留塔を使用することが必要である。したがって、蒸気ストリッピングによるＭＢＦの除去は、運転コスト及び資本投資によって費用が嵩む。米国特許第３，８１０，９４６号は、フェノールを臭化水素酸又はヨウ化水素酸と共に加熱することによってＭＢＦ不純物を減少させることを開示している。しかしながら、ハロゲン化物での処理によって、建設材料に関するコストがかなり高くなるところの腐食を含む問題が生じてしまう。
　フェノール中のＭＢＦレベルを減少させて所望の高純度フェノールを得るための効果的且つ経済的な方法に関する必要性が存在している。
　　　
発明の要旨
　クメンヒドロペルオキシドの分解生成物から得られたフェノール中におけるメチルベンゾフラン（ＭＢＦ）不純物を減少させる方法では、フェノールを処理してアセトールのレベルを減少させ、低レベルのアセトールを含有するそのフェノールを酸性樹脂と十分な温度及び滞留時間で接触させてより高い沸点の化合物に転化させることによってＭＢＦのレベルを減少させ、次いで、フェノールを蒸留してより高い沸点の化合物からフェノールを分離させることが必要である。フェノールをアミンでの処理の如き公知の方法で処理することによってアセトールのレベルを減少させることができる。低レベルのアセトールを含むフェノールを強酸性樹脂と接触させてＭＢＦのレベルを減少させる。
　　　
発明の最良実施態様
　本発明の方法に従って精製することができるフェノール生成物は、クメンヒドロペルオキシドを分解して、主生成物としてフェノール及びアセトンを生成させた後、蒸留してフェノールより低い沸点を有するアセトンを除去することによって得られている。我々は、もう一つのフェノール不純物であるアセトール（ヒドロキシアセトン）が存在していないか又は低レベルで存在していること、例えば２６０ｐｐｍを超えない量で、好ましくは２００ｐｐｍを超えない量で、より好ましくは１００ｐｐｍを超えない量で、最も好ましくは５ｐｐｍを超えない量で存在していることを前提として、適当な温度において芳香族スルホン酸樹脂又は固体過酸触媒（ｓｏｌｉｄ　ｓｕｐｅｒａｃｉｄ　ｃａｔａｌｙｓｔ）化合物で処理することによって、２−及び３−メチルベンゾフラン（合わさって又は個別の状態でのＭＢＦ）を効果的かつ経済的にフェノールから除去することができることを発見した。アセトールがより高濃度になると、樹脂処理の効果は低下し、そして徐々に経済的な魅力も少なくなってくる。
　本発明にとって有用な強酸性樹脂は、芳香族スルホン酸基を含み、典型的には、スルホン化架橋ポリスチレンの粒から成る。かかる芳香族スルホン酸樹脂は市販されており、例えば　Ｒｏｈｍ　ａｎｄ　Ｈａａｓ　から入手できるビーズ形態のスルホン酸カ
いることもできる。これらの系は、石油アシル化運転のために用いられる弗化水素酸のような液状酸系の代用として開発された。いくつかは、現存の強酸成分を酸化物支持体又は塩支持体に付着させて酸活性を固定することによって、現存する系（ＺｒＯ２又はＴｉＯ２の支持基体上のＡｌＣｌ３，ＳｂＦ５，ＳＯ４２−）から得られる。他は、金属酸化物クラスター（タングステン及びモリブデン）から作られた一層新規なヘテロ多価酸である。代表的な触媒は、Ｍａｋｏｔｏ　Ｍｉｓｕｎｏ　と　Ｔｏｓｈｉｏ　Ｏｋｕｈａｒａ，Ｃｈｅｍｔｅｃｈ，Ｎｏｖｅｍｂｅｒ　１９９３に記載されている“Ｓｏｌｉｄ　Ｓｕｐｅｒａｃｉｄ　Ｃａｔａｌｙｓｔｓ”で説明されている。本明細書では、固体過酸触媒化合物を１００％Ｈ２ＳＯ４の酸度に比べて一層大きな酸度を有する酸化合物として定義する。
　樹脂による処理の効果は、樹脂自体の安定性の範囲内で、例えば７０〜１２０℃の範囲内で、より好ましくは８０〜１１０℃の範囲内で温度を上昇させると共に増大する。より長い接触時間も一層有効であるが、処理コストを増加させる。フェノールと酸性樹脂との接触は、フェノールと共に樹脂ビーズを撹拌するか又はフェノールを酸性樹脂床中を通過させるといった公知の方法で達成することができ、その方法は好ましい工業的な別法であってもよい。温度及び接触時間の効果は、以下の実施例で示されている。床容積／ｈｒの単位を規定するための実施例１を参照のこと。本発明にとって床容積／ｈｒは１〜１０であるのが好ましく、より好ましくは２〜６である。これら実施例では、２−ＭＢＦの分析は、１ｐｐｍ又はそれ以上の濃度で存在しているときには、慣用的なガスクロマトグラフィーによった。その濃度未満のときは、非極性オクタデシルシランカラム及び２５４ｎｍの波長に設定されたＵＶ検出器を用いる液体クロマトグラフィーを行った。溶離液としてメタノール／水を、周囲温度で容積を基準として９０／１０の一定組成で用いた。２−ＭＢＦ濃度の計算は、較正基準に対してピーク領域を比較することによった。
実施例１
　１ｐｐｍ未満のアセトールと表１で「入口」のところに示した量のＭＢＦとを含有するフェノールを、表Ｉに示した速度及び温度で、酸性樹脂床（Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ１５）を通過させた。床容積は、用いた樹脂床の容積に相当するフェノールの体積である。単位床容積／ｈｒは接触時間に反比例する。出口サンプルでの分析結果から、処理はより高い温度及びより小さい床容積／ｈｒの値（より長い接触時間）においてより効果的であることが分かる。また、この結果から、ＭＢＦレベルは０．１ｐｐｍ未満まで減少させることができることも分かる。
実施例２
　表ＩＩで「入口」のところに示した量のアセトールとＭＢＦとを含有するフェノールを４．０床容積／ｈｒで酸性樹脂床（Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ１５）を通過させた。樹脂床を通過させた後のサンプルを取り出して分析した。その結果から、この処理によってアセトールは１ｐｐｍ未満のレベルまで除去されたが、ＭＢＦは４ｐｐｍまでしか減少させることができなかったことが分かる。
実施例３
　２０ｐｐｍのＭＢＦとそれぞれ１ｐｐｍ未満、２００ｐｐｍ及び５００ｐｐｍのアセトールを含有するフェノールを表ＩＩＩに示した様々な温度で及び４容積／ｈｒで酸性樹脂床（Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ　１５）を通過させた。樹脂床を通過させた後のサンプルを取り出し分析した。その結果から、アセトールは処理によるＭＢＦの除去を妨害し、より高い温度ではより大きな程度までそうすることが分かる。５００ｐｐｍのアセトールレベル及び温度１１０℃では、ＭＢＦは除去されなかった。
（５７）【特許請求の範囲】
　１．クメンヒドロペルオキシドの分解生成物から得られるフェノール中のメチルベンゾフラン（ＭＢＦ）不純物を減少させる方法であって、
　該フェノールを処理してアセトールのレベルを２００ｐｐｍを超えない量まで減少させ；
　低レベルのアセトールを含有する該フェノールを芳香族スルホン酸樹脂又は固体過酸触媒化合物と十分な温度及び十分な時間で接触させてＭＢＦをより高い沸点の化合物に転化させることによりそのレベルを減少させ；次いで、
　該フェノールを蒸留してより高い沸点の化合物からフェノールを分離させること；を含む方法。