【事件の表示】
　特許第２７６８５４４号「Ｘ線光源装置」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２７６８５４４号の請求項１ないし２に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本件特許２７６８５４４号発明は、以下の経緯を有するものである。
平成２年９月２０日：特許出願
平成１０年４月１０日：特許権設定登録
平成１０年１２月２４日：異議の申立
平成１１年７月８日：取消理由通知
平成１１年９月２１日：意見書、訂正請求
平成１２年６月１４日：訂正拒絶理由通知      
　
２．訂正の適否についての判断
　上記平成１１年９月２１日付けの訂正請求に対して、当審は訂正拒絶理由を通知したが、指定した期間内に特許権者から何らの意見も補正もなされていない。そして当該訂正拒絶理由の内容は妥当なものである。
　したがって、上記訂正拒絶理由で通知した理由により当該訂正請求は認めることができない。
　なお、上記訂正拒絶理由の概要は以下のとおりである。
　
［訂正拒絶理由の概要］
　よって、この訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項及び同第３項の規定について、平成６年改正法附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされた改正前の特許法第１２６条第３項の規定に適合しない。
　
３．特許異議申立についての判断
（１）本件発明
  本件特許第２７６８５４４号の請求項１及び請求項２に係る発明は、上記のとおり訂正が認められないので、その特許明細書の特許請求の範囲の請求項１及び請求項２に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
【請求項１】少なくとも一つの透明窓を有する真空容器内にターゲットを配置し、該ターゲットにレーザ光を照射することにより発生するプラズマから発生するＸ線を取り出すようにしたＸ線光源装置において、
前記透明窓の少なくとも一部を覆う大きさの透明な遮蔽部材を前記真空容器内の前記透明窓に近接する位置に着脱自在に設けたことを特徴とするＸ線光源装置。（以下、本件発明１という）
【請求項２】前記遮蔽部材がガラスからなることを特徴とする請求項１に記載のＸ線光源装置。  （以下、本件発明２という）
　
（２）刊行物の記載事項
・刊行物１
（ア）「図１に実験装置を示す。ターゲットは真空容器（１０−５Ｔｏｒｒ）内に配置され、そしてレーザ放射は焦点距離１２５ｃｍの非球面溶融石英レンズによって、ターゲット上に集光される。ターゲットとしてはアルミニウムを選択した時に、１．５ＫｅＶ以上のエネルギーのＸ線が発生する。例えば、１１価と１２価（水素のように）にイオン化されたアルミニウムのライン輻射は１ｎｍ以下の波長となる。レーザパワーからＸ線のパワーへの変換効率は、立体角２πステラジアン内に放射されたＸ線に対して０．２％と計測された。」（３頁中下段落の３５行乃至同頁右下段落の１０行）　
（イ）Ｆｉｇ．１には、「KrF LASER」が「FUSED SILICA LENS」から「VACUUM CHAMBER」内へ導入され「FUSED SILICA DEBRIS SHIELD」を介して「TARGET」に集光し、「X-RAYS」が発生していることがみてとれる。
　
・刊行物２
（ウ）「実験装置略図を図５に示す。波長２４８ｎｍ，エネルギー７００ｍＪ，パルス幅２０ｎｓのＫｒＦエキシマレーザーを使用した。真空容器内に置かれた焦点距離１１０ｃｍの非球面レンズによってターゲット上に入射角２５°で集光し，プラズマを生成した。」（９頁右欄３５行乃至１０頁左欄２行）
（エ）「ターゲットからは大きさ１μｍ以下の粒子が飛散され、」（１０頁左欄２２行乃至２３行）
（オ）「レーザープラズマからはＸ線以外にターゲット微粒子が飛散される。これら微粒子によるマスクの損傷・パターンの欠陥生成はＸ線リングラフィーにとって問題である。」（１１頁右欄２行乃至５行）
（カ）「レーザープラズマをＸ線リングラフィーに用いる際はマスクの損傷，パターン欠陥をなくすために，これら粒子がマスクに到達しない工夫を施すことが必須である。そのためには図７に示すように，ターゲットには薄いものを使用，チェンバ−内に気体を充填，ターゲットとマスクの間に薄膜を置く，更には反射鏡を用いてＸ線のみをマスクに導く方法がある。」（１１頁右欄１３行乃至２０行）　
（キ）「粒子阻止用薄膜はマスク支持膜とは異なり平坦度は重要ではなく，必要に応じて頻繁に交換し得ることが重要である。」（１２頁左欄８行乃至１０行）
　
（３）本件発明１について
［対比］
　上記記載事項（ア）及び（イ）によれば、刊行物１には「FUSED SILICA LENSを有するVACUUM CHAMBER内にTARGETを配置し、該TARGETにKrF LASERを照射することにより発生するプラズマから発生するX-RAYSを取り出すようにした装置において、前記FUSED SILICA LENSとTARGETとの間にFUSED SILICA DEBRIS SHIELDを介在させる実験装置」が記載されている。
　そして、刊行物１記載の「VACUUM CHAMBER」、「TARGET」、「KrF LASER」、「X-RAYS」、「実験装置」は、本件発明１の「真空容器」、「ターゲット」、「レーザ光」、「Ｘ線」、「Ｘ線光源装置」に相当する。
　刊行物１記載の「FUSED SILICA LENS」は「KrF LASER」を透過させ「VACUUM CHAMBER 」内に導入している。そしてレーザーを透過させる際に透明なレンズを用いることは技術常識であるから、刊行物１記載の「FUSED SILICA LENS」は本件発明１の「透明窓」に相当する。
　よって、以上の考察により、本件発明１と刊行物１記載の発明とを対比すると、「少なくとも一つの透明窓を有する真空容器内にターゲットを配置し、該ターゲットに前記透明窓を透過したレーザ光を照射することにより発生するプラズマから発生するＸ線を取り出すようにしたＸ線光源装置において、
　前記透明窓の少なくとも一部を覆う大きさの遮蔽部材を前記真空容器内の前記透明窓に近接する位置に設けたＸ線光源装置」である点で一致し、次の点で相違している。
　
「相違点」
　本件発明１が、遮蔽部材が透明であり、かつ、着脱自在に設ける構成であるのに対して、刊行物１記載のFUSED SILICA DEBRIS SHIELDは、その名称のとおりFUSED SILICA（溶融石英）で成形されていることは明らかであるが、透明である点及び着脱自在に設けられていることが不明である点。　
［判断］
上記相違点について検討する。
　刊行物２には、ターゲットとマスクの間に飛散粒子によるマスクの損傷防止のための薄膜を設け、かつ、該薄膜は必要に応じて交換し得る点が記載されている。ここで損傷とはマスクに飛散粒子が付着して生じるものであるから刊行物２の損傷防止は汚染防止と同様である。　そして、本件発明１の遮蔽部材と刊行物２記載の薄膜とは、汚染防止の対象が透明窓かマスクかの違いによりその配置位置が異なるが、レーザをターゲットに照射してプラズマから発生するＸ線を取り出す技術分野において、レーザがターゲットに照射される際の飛散粒子による汚染を防止する点では一致しているから、刊行物２記載の薄膜を交換し得る構成に基づき、刊行物１記載の「FUSED SILICA DEBRIS SHIELD」を着脱自在に構成することは当業者であれば容易に想到し得る程度のものにすぎない。
　
（４）本件発明２についての対比、判断
　本件発明２は、本件発明１の構成に「遮蔽部材がガラスからなる」構成をさらに付加するものであるが、請求項１を引用した部分の構成についての対比判断は上述したとおりである。そして、上述のように遮蔽部材をガラスプレートにより構成する点は周知であるから、刊行物１記載の「FUSED SILICA DEBRIS SHIELD」をガラスにより形成することは当業者であれば適宜なし得る設計的事項にすぎない。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、請求項１及び請求項２に係る発明の特許は刊行物１及び刊行物２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。したがって請求項１及び請求項２に係る発明の特許は、特許法第２９条２項の規定に違反してされたものであり、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
　
　よって、結論のとおり決定する。
　
【異議決定日】
平成１２年９月２６日（２０００．９．２６）