【事件の表示】
　特許第２９２４３０２号「カラーフィルタおよび液晶表示素子」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９２４３０２号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
（１）手続の経緯
　特許第２９２４３０２号の請求項１ないし３に係る発明についての出願は、平成３年５月２１日に特許出願され、平成１１年５月７日にその発明について特許の設定登録がなされ、その後、その特許について、佐藤正、渡辺忠雄、加藤悦子、中川徹、米田潤三、および大湯佳子より特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年６月２７日に訂正請求がなされたものである。
（２）訂正の適否についての判断
　ア．特許権者は、以下の訂正を求めるものである。
 ａ.特許請求の範囲の請求項1「【請求項1】基体、有機着色層および透明導電層をこの順に積層したカラーフィルタであって、該透明導電層が多結晶体であり、そのグレインサイズが0.1~1μmの範囲であることを特徴とするカラーフィルタ。」を、「【請求頃1】基体、有機着色層および透明導電層をこの順に積層したカラーフィルタであって、透明導電層形成時の温度よりも10~100℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された該透明導電層が多結晶体であり、そのグレインサイズが0.1~1μmの範囲であることを特徴とするカラーフィルタ。」と訂正する。これに伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合性をとるため、平成3年5月21日付けで提出した本件明細書の段落番号(以下、単に段落番号という。)0006の「【0006】(1)基体、有機着色層および透明導電層をこの順に積層したカラーフィルタであって、該透明導電層が多結晶体であり、そのグレインサイズが0.1~1μmの範囲であることを特徴とするカラーフィル夕。」を、明りょうでない記載の釈明を目的として、「【0006】(1)基体、有機着色層および透明導電層をこの順に積層したカラーフィルタであって、透明導電層形成時の温度よりも10~100℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された該透明導電層が多結晶体であり、そのグレインサイズが0.1~1μmの範囲であることを特徴とするカラーフィルタ。」と訂正する。
b.明細書の段落番号0034「【0034】【発明の効果】本発明は、有機着色層や保護層等の有機物層の上に0.1~1μmの範囲の大きさのグレインを持つ透明導電層を形成したので、エッチング特性に優れ、さらに小さな抵抗値が得られたものである。有機物層の上では透明導電層をややオーバーエッチングすると顕著なサイドエッチングや不均一なサイドエッチングが起こりやすいが、本発明の透明導電層では良好なエッチングができたものである。オーバーエッチングしても良好なパターンが得られることは、製造工程を安定させるために効果が大きい。また不均一なサイドエッチングは表示品質を劣化させ好ましくない。液晶表示素子製造時の熱履歴や洗浄によるクラックの発生が抑制される効果もあった。透明導電層の抵抗値が小さいことは、液晶駆動信号の遅延が抑えられ、より大型のディスプレイが可能になったり、液晶駆動信号回路への負担が小さくなるので非常に重要である。」を、
　「【0034】【発明の効果】本発明は、有機着色層や保護層等の有機物層の上に、透明導電層形成時の温度よりも1 0 ~1 00 ℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された0.1~1μmの範囲の大きさのグレインを持つ透明導電層を形成したので、エッチング特性に優れ、さらに小さな抵抗値が得られたものである。有機物層の上では透明導電層をややオーバーエッチングすると顕著なサイドエッチングや不均一なサイドエッチングが起こりやすいが、本発明の透明導電層では良好なエッチングができたものである。オーバーエッチングしても良好なパターンが得られることは、製造工程を安定させるために効果が大きい。また不均一なサイドエッチングは表示品質を劣化させ好ましくない。液晶表示素子製造時の熱履歴や洗浄によるクラックの発生が抑制される効果もあった。透明導電層の抵抗値が小さいことは、液晶駆動信号の遅延が抑えられ、より大型のディスプレイが可能になったり、液晶駆動信号回路への負担が小さくなるので非常に重要である。」と訂正する。
c.明細書の段落番号0013「【0013】本発明の透明導電膜のグレインサイズは0.1~1μmの範囲であることが重要である。グレインサイズが0.1μm未満の場合は抵抗値が増大したり、サイドエッチングが進んだり、不均一なサイドエッチングが発生する。グレインサイズが1μm以上の場合もかえって不均一なサイドエッチングが発生しやすい。図1は透明導電膜表面の結晶構造の1例を示すもので本発明で規定するグレインサイズを満足するものであり、結晶方位の揃った約0.3μmの不定形の領域が一つのグレインである。」を、「【0013】本発明の透明導電膜のグレインサイズは0.1~1μmの範囲であることが重要である。グレインサイズが0.1μm未満の場合は抵抗値が増大したり、サイドエッチングが進んだり、不均一なサイドエッチングが発生する。グレインサイズが1μmを超える場合もかえって不均一なサイドエッチングが発生しやすい。図1は透明導電膜表面の結晶構造の1例を示すもので本発明で規定するグレインサイズを満足するものであり、結晶方位の揃った約0.3μmの不定形の領域が一つのグレインである。」と訂正する。
イ．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａ．は、出願当初明細書の段落１８、２１にある、
　「【００１８】スパッタ法によって酸化クロムからなる遮光層をガラス基体上に形成し、フォトリソグラフィ法によって格子状に加工する。赤、青、緑の顔料とポリマーと溶媒を分散混合した３種類のペーストを用意する。ストライプ状の酸化クロム層が形成されたガラス上へ緑ペーストを塗布しセミキュアした後、フォトリソグラフィ法によって画素に対応したストライプ状の緑有機着色層を形成し、キュアする。同様にして、続けて赤、青の有機着色層を形成する。３色の画素が形成された上へポリイミド前駆体溶液を塗布、キュアし、保護層とする。該保護層を設けた基体を所定の条件で加熱処理またはプラズマ処理する。次いでスパッタ法によってＩＴＯ透明導電層を形成し、フォトリソグラフィ法によってストライプ状に加工する。かくして本発明のカラーフィルタを得る。保護層を設けず、有機着色層上に直接透明導電層を形成する場合には、有機着色層を設けた基体を所定の条件で加熱処理またはプラズマ処理した後、スパッタ法によってＩＴＯ透明導電層を形成する。
　【００２１】　スパッタ法や真空蒸着法では減圧下で透明導電層を形成するが、透明導電層の形成に先立つ真空排気中に透明導電層形成時の温度よりも１０〜１００℃、より好ましくは２０〜５０℃だけ有機物層が形成された基体の温度を上げておいてから、所定の温度まで基体の温度を下げて透明導電層を形成することが、グレインサイズが０．１〜１μｍの大きさで、エッチング特性に優れた透明導電層を得られる点で望ましい。透明導電層の形成に先立つ真空排気時間を例えば３０分以上と十分長くとることもエッチング特性に優れた透明導電層を得られる点で好ましい。」という記載に基づいて、請求項１の「該透明導電層」という記載を「透明導電層形成時の温度よりも10~100℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された該透明導電層」とし、段落【0006】の請求項１を引用している箇所を同様に訂正するもので、特許請求の範囲の範囲の減縮および明りょうでない記載の釈明に該当し、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張または変更するものでもない。
　上記訂正事項ｂ．は、請求項１の「該透明導電層」という記載を「透明導電層形成時の温度よりも10~100℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された該透明導電層」と訂正したことに伴い、段落【0034】【発明の効果】の「本発明は、有機着色層や保護層等の有機物層の上に0.1~1μmの範囲の大きさのグレインを持つ透明導電層を形成したので、エッチング特性に優れ、さらに小さな抵抗値が得られたものである。」という記載を 「本発明は、有機着色層や保護層等の有機物層の上に、透明導電層形成時の温度よりも1 0 ~1 00 ℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された0.1~1μmの範囲の大きさのグレインを持つ透明導電層を形成したので、エッチング特性に優れ、さらに小さな抵抗値が得られたものである。」と訂正するもので、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合性をとるためのものであるので、明りょうでない記載の釈明に該当し、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張または変更するものでもない。
　上記訂正事項ｃ．は、明細書の段落番号【0013】の「本発明の透明導電膜のグレインサイズは0.1~1μmの範囲であることが重要である。グレインサイズが0.1μm未満の場合は抵抗値が増大したり、サイドエッチングが進んだり、不均一なサイドエッチングが発生する。グレインサイズが1μm以上の場合もかえって不均一なサイドエッチングが発生しやすい。」という記載を「本発明の透明導電膜のグレインサイズは0.1~1μmの範囲であることが重要である。グレインサイズが0.1μm未満の場合は抵抗値が増大したり、サイドエッチングが進んだり、不均一なサイドエッチングが発生する。グレインサイズが1μmを超える場合もかえって不均一なサイドエッチングが発生しやすい。」と訂正するものであるが、段落番号１３，１９，２１，３４，３５，にある本発明のグレインサイズが「0.1~1μm」であるという記載は通常0.1μm以上１μm以下の意味に解されるので、上記訂正事項ｃ．は、誤記の訂正に該当し、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張または変更するものでもない。
ウ．独立特許要件の判断
（引用刊行物）
　訂正明細書の請求項１乃至３に係る発明（以下、それぞれ「本件請求項１に係る発明」、「本件請求項２に係る発明」及び「本件請求項３に係る発明」という。）に対して、当審が通知した取消理由で引用した刊行物１（SID Digest of Technical Paper，(1990)p76~79）には以下の事項が記載されている。
　「これらのLCDにおいては、シート抵抗値を小さくするために350~400℃に加熱したガラス基板上に直接蒸着されたITO膜を透明電極として用い、これらのITO膜の抵抗率は2×10‐4Ωcmである。現状は、大面積及び高精細のカラーLCDへの適用が課題となっている。マルチプレックス駆動方式のカラー表示素子においては、カラーフィルター層や有機保護膜上に直接成膜された導電性の高いITO電極が必要となる。即ち、STN型のカラーLCDにおいては、全画面にわたり高い応答性と均一な表示特性を得るために、抵抗値が10Ω/口未満で膜厚が2000Å未満のITO膜が要求されている。しかしながら、ITO膜の抵抗値とエッチング特性は未だ十分ではない。その理由は、カラーフィルターがアクリル樹脂やポリイミド樹脂、メラミン樹脂といった有機化合物から構成され、200~250℃を超える加熱処理を施すことができないからである。」（第76頁左欄25~43行目）、「図3にこれらの膜のX線回折パターンを示す。30℃で成膜した膜は、(222)面の広いピークを示した。150℃で成膜したものは、(222)面の回折ピークに隣接したショルダーを示した。これらの形状と広いピークはアモルファス相の存在を示している。基板温度が高くなると、(222)面のピーク及びその他のピークとが強くなって、上記形状は低減し、成膜温度が200℃においては見られなくなる。さらに、図4に示されるように、基板温度が高くなるに伴って、膜表面の形態が滑らかな構造から粗い構造に変化する。従って、30℃で成膜したITO膜はアモルファスであり、150℃で成膜したものは部分的に結晶化しており、200℃で成膜したものは良好に多結晶が形成されていた。」（第77頁左欄32~47行）、「パターニングした膜のエッジの尖鋭さの観点から見ると、アモルファス相や結晶相などの単相のITO膜が微結晶相とアモルファス相が混在するITO膜よりも優れている。抵抗率、化学的及び物理学的安定性から鑑みれば、カラーフィルター上に積層する電極としては、アモルファスITO膜よりも多結晶ITO膜の方が適していると言える。」（第77頁右欄下から16~8行）、「シート抵抗が10Ω/口、厚さが2000Å、抵抗率が2.0×10‐4ΩcmのITO膜をこのコーターにより有機保護層及びカラーフィルター上に成膜した。」（第７７頁右下欄下から６〜３行）との記載がある。
　同じく引用した刊行物２（特開平２−１９４９４３号公報）には以下の事項が記載されている。「有機高分子成型物上に主として結晶質のインジウム酸化物からなる透明導電層を形成してなる導電性積層体において、該結晶質のインジウム酸化物の結晶粒径が0.3μm以下であることを特徴とする透明導電性積層体。」（第1頁左下欄5~9行目）、「これらのコンピュータ入力装置としての透明タッチパネルや更に、出力装置としての液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ等には、透明電極が用いられるが、該目的には、透明電極の耐久性及び信頼性が要求される。」（第1頁右下欄12~17行目）、「結晶粒径が小さくなりすぎるためITO膜の導電性が悪くなる。」（第3頁左上欄下から4~2行目）。また、「結晶粒径とは、透過型電子顕微鏡下で観察される多角形状または長円形状の各領域における対角線または直径の中で最大のものと定義する。」と、結晶粒径が本願のグレインサイズに相当する旨の記載がある（第3頁右上欄下から4~2行目）。さらに、「本発明における有機高分子成型物を構成する有機高分子化合物としては、耐熱性を有する透明な有機高分子化合物であれば特に限定しないが、通常耐熱性としては、100℃以上、好ましくは130℃以上のものであって、例えば、ボリイミド,ポリエーテルスルホン,ポリスルホン,ポリパラバン酸,ポリヒダントインを始めとし、ポリエチレンテレフタレート,ポリエチレン-2,6-ナフタレンジカルボキシレート,ポリジアリルフタレート,ポリカーボネート等のポリエステル系樹脂及び芳香族ポリアミド,セルローストリアセテート等が挙げられる。」（第4頁右上欄7~18行目）、「これらのフィルム又はシートは単独でもラミネートして用いてもよい。」（第4頁左下欄11~12行目）との記載がある。
　同じく引用した刊行物３（特開昭６１−１５６０２７号公報）には以下の事項が記載されている。「カラーフィルター層が液晶表示装置の透明基板間に配置されてなるカラー液晶表示装置において、(a)カラーフィルター層(10)が、少なくとも一方の透明基板(11)と透明電極(2)との間に形成されていること、(b)カラーフィルター層(10)が、ポリイミド系樹脂を主成分とするカラーインキにて形成されていること、を特徴とするカラー液晶表示装置。」（第1頁左下欄5~14行目）、「カラーフィルター層(10)が、ポリイミド系樹脂を主成分とするオーバーコート層(12)にて覆われたものである」（第1頁右下欄6~8行目）、「前記カラーフィルター層10が形成された基板11上に、スパッタリング法、蒸着法、CVD法により、例えばITOの透明電極を形成する。」（第3頁右下欄下から6~4行目）との記載がある。
　同じく引用した刊行物４（特開平１−２１５８６９号公報）には以下の事項が記載されている。
　「下記(a)~(b)成分を主成分とする硬化性組成物。(a)加水分解性基を有するケイ素原子を含有するアミド酸化合物および/またはイミド化合物。(b)一般式(イ)で表されるジシラザン化合物。
　R1　　　R4
　?　　　/
　R2 -S i-N-S i-R5　　　…・(イ)
　　/　　│　?
R3　　　H　　R6
(式中、RI~R6は、同一または異なり、炭素数1~10のアルキル基または炭素数6~10のアリール基を示す。)」（第1頁左下欄5~12行目）、「液晶表示素子における透明基板やカラーフィルターなどの保護膜を形成するのに好適な硬化性組成物に関する。」（第1頁左下欄下から4~2行目）、「本発明の組成物は、後記する透明基板、カラーフィルターなどの基板に、組成物溶液として、スプレー法、ロールコート法、カーテンコート法、スピンコート法、スクリーン印刷、オフセット印刷による方法により、乾燥後の膜厚が好ましくは0.01~5 0μm、特に好ましくは0.1~10μm程度になるように塗布され、これをホットプレート、ギヤオーブンなどの加熱手段を用いて50~300℃程度、好ましくは100~200℃程度の温度で、例えば10~120分程度加熱することにより、あるいは1~7日程度の常温乾燥により硬化させ、耐熱性、耐薬品性などを有する保護膜とすることができる。本発明の組成物は、特にカラー液晶表示素子の保護膜形成用材料として好適である。」（第10頁左上欄3~17行目）、「まず透明基板上に写真法などにより、赤、緑、青の3原色からなる染色層を形成し、その表面上に本発明の前記組成物を硬化させて保護膜を形成し、この保護膜上にITOを蒸着し、ホトリソグラフィーにより透明電極を形成させる」（第10頁左上欄最下行~右上欄4行目）、「このカラー液晶表示素子に用いられる透明基板としては、フロートガラス、ソーダガラスや可撓性のポリエチレンテレフタレート、ポリプチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルム、さらにはポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、その他のプラスチックフィルムなどからなる透明基板を用いることができる。透明電極(電極)としては、Sn02からなるNESA膜、ln203-Sn02からなるITO膜を用いることができ、これらの電極のパターニングには、ホトリソグラフイー法やあらかじめマスクを用いる方法が用いられる。」（第10頁右上欄15行目~左下欄6行目）、第10頁右下欄6~11行目には、「ここで、染色層の材料としては、特に限定されず、例えばゼラチン、カゼイン、グリュー、アルプミンなどの天然蛋白質からなるもの、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ボリアクリルアミドなどの合成高分子からなるものなどを挙げることができる。」、「かくして得られた組成物を、参考例で製造したカラーフィルター上に、回転数1,000rpmでスピンコートし、180℃で1時間熱処理を行い、乾燥膜厚8μmの保護膜を形成した。」（第12頁右上欄下から5~2行目）との記載がある。
　同じく引用した刊行物５（特開昭62-239125号公報）には以下の事項が記載されている。　
「有機樹脂を色料で着色してなるカラーフィルターを少なくとも有する透明基板のカラーフィルター両側を酸素を含む雰囲気で逆スパッタリング処理し、しかる後に前記逆スパッタリング処理面の上に透明電極を形成することを特徴とするカラー表示装置用電極板の製造法」（特許請求の範囲第1項）、「逆スパッタリング処理面がカラーフィルター上のオーバーコート面である特許請求の範囲第1項記載のカラー表示装置用電極板の製造法」（特許請求の範囲第3項）、そして第3頁左上欄7行~15行目には、実施例2として、透明基板上にゼラチンを用いてRGBのカラーフィルターを設け、その後同じゼラチンでオーバーコートを形成、逆スパッタリング処理後、正スパッタリングにてITO膜を膜付けする記載が第2図と共に示されている。
　同じく引用した刊行物６（日東技報Vol.28、No2、1990 年10月発行，ｐ96~104）には以下の事項が記載されている。　
　第96頁の要旨欄の1行~8行目にはPET基板上にITO膜をDC反応性マグネトロンスパッタ蒸着法により作製した試料について、作製後熱処理を施し、結晶成長を直接TEM観察し、電気的特性変化を調べた主旨と、膜厚20nm(=0.02μm)では結晶成長は、180℃で100分間の熱処理で終結し、抵抗値、透過率とも高品質なものが得られた記載がされている。更に詳しくは第98頁右欄17行~20行目に、熱処理を100分間施し、ITO膜が0.1~0,2μmの全面板状結晶となっていること、回折像からも結晶性の回折リングが明瞭に認められることが記載され、また第100頁上欄の『図3　熱処理時間に対する結晶の数密度および粒径の変化』にも熱処理時間(Annealing time)が100minを越えた辺りで結晶膜の電気抵抗(Sheet.resistance)が低い値に安定化し、その時の粒径が約160nm(=0.16μm)と読みとれるグラフが示されている。
　同じく引用した刊行物７（特開昭61‐233720公報）には以下の事項が記載されている。特許請求の範囲第1項には、「透明基板上に、少なくともカラーフィルター層、イオン防止層、インジウムとスズの酸化物を基物質とする透明電極を、この順に種層したことを特徴とする液晶表示装置用電極板」が記載され第2頁左上欄13行~16行目には、ITOやネサ膜と呼ばれる透明電極は成膜時ないし成膜後に適当な温度の熱処理を行って目的とする導電性や透過率を得ることが一般的であること、第3頁左下欄16行~20行目にはイオン阻止層として高分子にて積層する場合は0.3μm~5μmと厚めに設定することでオーバーコート層としても兼用できることが記載されている。
　同じく引用した刊行物８（特開昭63-231318号公報）には以下の事項が記載されている。特許請求の範囲第１項には「透明電極を有する一対の基板に液晶が挟持され、前記透明電極上に配向膜が形成された液晶表示装置において、少なくとも一方の前記透明電極の結晶粒径が0.1μm以下であり、前記配向膜を、３００Å以上形成したことを特徴とする液晶表示装置」が記載され、スパッタ法により形成されたITO膜には、グレインサイズが0.5~2μmのものも存在することも記載されている（第２頁右上欄最終行〜左下欄１０行）。
　同じく引用した刊行物９（特開昭61-245186号公報）には以下の事項が記載されている。
　液晶表示装置の透明電極には、酸化錫や酸化インジウム錫等の透明導電膜
が使用され、従来、これらの透明導電膜を構成する結晶粒子の表面粒径は平均0.05μm前後であるという従来技術を開示し(第2頁左上欄10~14行)、少なくとも一方が透明電極である1組の電極で液晶を挟み、透明電極側に偏光板が設けられ、透明電極の一方または双方が、平均0.1~1μmの表面粒径を持つ透明導電膜からなる液晶表示装置を開示し(第1頁左欄5~10行)、上記発明をTN電界効果型液晶表示装置に適用した例を第1図に示し、パターン化された透明電極15が、平均0.1~1μmの範囲の表面粒径を持つ表面に凹凸のある透明導電膜で作られていることを開示し(第2頁右上欄8行~左下欄5行、第4頁第1図)、上記の透明電極15は、スパッタリング法等の既知の薄膜作製手段により、硝子基板13の表面に設けられた酸化錫や酸化インジウム錫等の透明導電膜によって作られ、硝子基板13の温度を適当に制御することによって透明電極15の表面粒径を平均0.1~1μmの範囲に設定できることを開示し(第2頁左下欄13~20行)、実施例において、結晶粒径の平均が約0.25μmであるパターン化された透明電極15において、シート抵抗が25Ω/口であり、一方、結晶粒径の平均が約0.05μmである透明電極14のシート抵抗が80Ω/□であること、実施例は電圧印加時と非印加時の輝度比が5以上の良好なコントラストが広い視野角で得られることを開示している(第2頁右下欄9行~第3頁左上欄3行、第3頁右上欄19行~左下欄5行)。　同じく引用した刊行物１０（特開昭61-43726号公報）には以下の事項が記載されている。
　カラーフィルタを液晶層側に形成する内在型のカラーLCDが望まれることを開示し(第2頁右上欄7~12行)、上記の内在型のカラーLCDのうち、ガラス基板上のカラーフィルタの上に透明電極が形成されている「下フィルター構造」が、電圧降下の影響を受けないという見地から好ましいことを開示し(第2頁右上欄19行~左下欄1行、同右下欄10~18行、第6頁第3図(b))、上記の「下フィルター構造」のカラーLCDの製造方法を第6図で説明し、この中で、透明基板21に形成した金属配線61とカラーフィルター23の上に高分子膜からなる保護層62を形成すること(第4頁右上欄8~18行、第7頁第6図(d))、この保護層62上にスパッタリング等によりITOからなる透明導電体層をおおむね200℃以下の温度で形成し、これをエッチングによるパターニングにより透明電極31とすること(第4頁左下欄10~19行、第7頁第6図(e))を開示している。
　同じく引用した刊行物１１（特開昭2-37326号公報）には以下の事項が記載されている。
　2頁右上欄10~14行には、ガラス基板上に着色画素からなるカラーフィルタ、その上に有機保護層、さらにその上に単層の透明導電膜を設けて、カラー液晶表示素子用透明基板を構成することが記載されている。そして、着色画素は着色した有機樹脂から形成されることが記載されている(2頁左上欄12~13行)。また、2頁左下欄7~16行には、前記透明導電層としてITO膜が知られ、スパッタリング法により製造されるが低抵抗膜を得るには高温で成膜する必要があることが記載されている。そして刊行物１１記載の発明は、導電膜の微細パターニングが容易でかつ低抵抗の透明導電膜を有するカラー液晶表示素子用ガラス基板の提供を目的としており(3頁左上欄9~12行)、
抵抗が低く、微細パターン加工ができ、透過率が高いカラー液晶表示用透明基板が得られるという効果を奏するとしている(5頁左下欄9~19行)。
　同じく引用した刊行物１２（Extended Abstract of the 22nd(1990 1nternational)　Conference on Solid State Devices and materials,Sendai p1059‐1062(1990)）には以下の事項が記載されている。
　1062頁右欄7~17行の「This high productivity and the… for　the production of　inexpensive　large area LCD’s　 with high resolution.」の記載のとおり、低抵抗、高透過でエッチング特性に優れる、液晶用として好適なITO膜に関して記載されている。　また、1061頁左欄14~19行の「As shown in Fig.2 the size of grains grows also with increasing substrate temperature.At 300℃ 1μm　long grains with a predominant(400)‐orientation can bedetected.」に記載されるように、基板温度とともにグレインサイズが大きくなること(F i g.2参照)、300℃の成膜条件では、１μmのサイズのグレインが観測されることが記載されている。F ig.5には、成膜時の基板温度ごとにITO膜のX線回折パターンが示されており、高温時には複数のピークが見られる。これは、ITO膜が単一配向ではない、すなわち多結晶体であることを示している。Fig.6には、スパッタリング法で250℃で成膜されたITO膜のSEM写真が掲載されている。Fig.6からはグレインサイズ(最大径)が約0.35~0.40μmであることが読み取れる。250℃で成膜されたITO膜はF i g.4に示されるように、抵抗が低く、透過率が高いという特性を有する。
　同じく引用した刊行物１３（JAPANESE JOURNAL OF　APPLIED PHYSICS　VOL.30,NO.4,APRIL,p814‐819(1991)）には以下の事項が記載されている。
　ＳｉＯ２　　が被覆されたガラス基板に基板温度が275℃で成膜されたITO膜(814頁左欄最終行〜右欄第１行)に関する記載があり、F ig.2(a)には、単一配向ではなく多結晶体であることを示すITO膜のX線回折パターンが示されている。814頁左欄「lntroduction」の5行目にもpolycrystalline(多結晶)の記載がある。そして、Fig.1(a)には、Fig.2(a)に示されるITO膜のSEM写真が示されている。F i g.1(a)からは275℃で成膜されたITO膜のグレインサイズ(最大径)が約0.3~0.8μmであることが読み取れる。
（対比・判断）
　上記刊行物１乃至１３には、基体、有機着色層および透明導電層をこの順に積層したカラーフィルターや、多結晶体の透明導電膜でそのグレインサイズが0.1〜1μmの範囲内にあるものの記載はあるが、上記刊行物１乃至１３のいずれにおいても、本件請求項１に係る発明の構成である「基体、有機着色層および透明導電層をこの順に積層したカラーフィルタであって、透明導電層形成時の温度よりも10~100℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された該透明導電層が多結晶体であり、そのグレインサイズが0.1~1μmの範囲であること」の「透明導電層形成時の温度よりも10~100℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された該透明導電層」についての記載はないし、このことを示唆する記載もない。
　そして、本件請求項１に係る発明は、透明導電層形成時の温度よりも1 0 ~100 ℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に0.1~1μmの範囲の大きさのグレインを持つ透明導電層を有機着色層の上に形成したことにより、エッチング特性に優れ、さらに小さな抵抗値が得られるという顕著な効果を奏するものであるので、本件請求項１に係る発明は上記刊行物１乃至１３記載の発明から容易に発明をすることができたものとはいえない。
　本件請求項２及び３に係る発明は、請求項１を引用するものであり、上記本件請求項１に係る発明と同じ理由により上記刊行物１乃至１３記載の発明から容易に発明をすることができたものとはいえない。
（記載不備について）
　当審が通知した記載不備に関する取消理由は、前記訂正事項ｃ．の訂正により解消された。すなわち、取消理由で、本件請求項1の特許発明において、透明導電膜膜のグレインサイズが0.1~1μmに規定されている、しかしながら、実施例においては、0.31μmと0.33μmのグレインサイズが示されているに過ぎず、グレインサイズが0.33μmを超えて1μmの範囲でも実施例と同様の効果が得られるのか否かは不明であり、上限の1μmの臨界意義が示されていない、さらに、本件特許登録公報の【0013】には上記グレインサイズの上限の根拠として、「グレインサイズが1μm以上の場合もかえって不均一なサイドエッチングが発生しやすい。」と記載されている、即ち、「1μm」に関しては、請求項1の記載では本件特許発明に含まれ、【0013】の記載では本件特許発明外とされ、構成上矛盾している、よって、本件請求項1には、本件特許発明の構成に欠くことができない事項のみが記載されているとは言えず、また、明細書の発明の詳細な説明には、当業者が容易に実施しうる程度に発明の構成及び効果が記載されているとは言えない旨通知した。
　しかしながら、本件出願の明細書の段落【0013】の、「本発明の透明導電膜のグレインサイズは0.1~1μmの範囲であることが重要である。グレインサイズが0.1μm未満の場合は抵抗値が増大したり、サイドエッチングが進んだり、不均一なサイドエッチングが発生する。グレインサイズが1μmを超える場合もかえって不均一なサイドエッチングが発生しやすい。」との記載から、本件発明の上限「1μm」の臨界意義は示されているものと認められるし、本件請求項１と発明の詳細な説明に矛盾もなくなったので、本件請求項１は、特許を受けようとする発明の構成に欠くことができない事項のみを記載したものであり、明細書の発明の詳細な説明には、当業者が容易にその実施をすることができる程度に、その発明の目的、構成及び効果が記載されているものと認められる。
エ．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２〜４項の規定に適合するので当該訂正を認める。
３）特許異議申立てについての判断
ア．本件発明　
　訂正明細書の請求項１乃至３に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」、「本件発明２」及び「本件発明２」という。）は、その特許請求の範囲の請求項１乃至３に記載された以下のとおりのものである。
「【請求項１】基体、有機着色層および透明導電層をこの順に積層したカラーフィルタであって、透明導電層形成時の温度よりも10~100℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された該透明導電層が多結晶体であり、そのグレインサイズが０．１〜１μｍの範囲であることを特徴とするカラーフィルタ。
　【請求項２】有機着色層と透明導電層の間に保護層を有してなる請求項１記載のカラーフィルタ。
　【請求項３】請求項１〜２のいずれかに記載のカラーフィルタを使用したことを特徴とする液晶表示素子。」
イ．申立の理由の概要
　申立人佐藤正は、本件発明１乃至３は甲第１号証（（SID Digest of Technical Paper，(1990)ｐ７６〜７９（上記刊行物１））、甲第２号証（特開平２−１９４９４３号公報（上記刊行物２））、甲第３号証（特開昭６１−１５６０２７号公報（上記刊行物３））、甲第４号証（特開平１−２１５８６９号公報（上記刊行物４））に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができず、また、本件請求項１の１μｍの臨界的意義が不明であり、発明の詳細な説明には１μｍが発明の範囲外であることを示す記載があるので、本件出願は、明細書の記載が特許法第３６条第４項及び第５項に規定する要件を満たしていないものであるから、本件請求項１乃至３に係る特許を取り消すべきと主張している。
　申立人渡辺忠雄は、本件発明１乃至３は甲第１号証（特開昭６２−２３９１２５号公報（上記刊行物５））、甲第２号証（日東技報Vol.28、No2、1990 年10月発行，ｐ96~104（上記刊行物６））、甲第３号証（特開昭６１−２３３７２０号公報（上記刊行物７））に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから本件請求項１乃至３に係る特許を取り消すべきと主張している。
　申立人加藤悦子は、本件発明１乃至３は甲第１号証（特開昭６１−２３３７２０号公報（上記刊行物７））、甲第２号証（日東技報Vol.28、No2、1990 年10月発行，ｐ96~104（上記刊行物６））、甲第３号証（特開昭６３−２３１３１８号公報（上記刊行物８））に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから本件請求項１乃至３に係る特許を取り消すべきと主張している。
　申立人中川徹は、本件発明１乃至３は甲第１号証（特開平２−１９４９４３号公報（上記刊行物２）、甲第２号証（特開昭６１−１７０７７９号公報）、参考資料１（特開昭６３−４４６２７号公報）、参考資料２（特開昭６３−１５２０４号公報）、参考資料３（実願昭５６−０９８１４８号（実開昭５８−５０１５号公報）のマイクロフィルム）、参考資料４（「表面」Vol.18,No8,p440-449(1980)）に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから本件請求項１乃至３に係る特許を取り消すべきと主張している。
　申立人米田潤三は、本件発明１乃至３は甲第１号証（特開昭６１−２４５１８６号公報（上記記刊行物９））、および甲第２号証（特開昭６１−４３７２６号公報（上記刊行物１０））に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから本件請求項１乃至３に係る特許を取り消すべきと主張している。
　申立人大湯佳子は、本件発明１乃至３は甲第１号証（特開平２−３７３２６号公報（上記記刊行物１１））、甲第２号証（Extended Abstract of the 22nd(1990 1nternational)　Conference on Solid State Devices and materials,Sendai p1059‐1062(1990)（上記刊行物１２））、および甲第３号証（JAPANESE JOURNAL OF　APPLIED PHYSICS　VOL.30,NO.4,APRIL,p814‐819(1991)（上記刊行物１３））に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから本件請求項１乃至３に係る特許を取り消すべきと主張している。
ウ．判断
　上記「（２）訂正の適否についての判断」の「ウ．独立特許要件の判断」で述べたとおり、本件発明１乃至３は特許異議申立人佐藤正、渡辺忠雄、加藤悦子、中川徹、米田潤三、および大湯佳子が提出した各甲号証である上記刊行物１乃至１３に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえないし、特許異議申立人佐藤正が主張する明細書の記載不備も存在しない。
　また、申し立てられた特許異議理由で上記「（２）訂正の適否についての判断」の「ウ．独立特許要件の判断」で判断していない、特許異議申立人中川徹の提出した甲第２号証（特開昭６１−１７０７７９号公報）、参考資料１（特開昭６３−４４６２７号公報）、参考資料２（特開昭６３−１５２０４号公報）、参考資料３（実願昭５６−０９８１４８号（実開昭５８−５０１５号公報）のマイクロフィルム）、参考資料４（「表面」Vol.18,No8,p440-449(1980)）については、甲第２号証（特開昭６１−１７０７７９号公報）は、液晶表示装置の一方の基板(ガラス基板)上にカラーフィルタ層、保護層及び透明導電膜(電極層)を順次積層した構成(特許請求の範囲、第4図)が記載されているに過ぎず、参考資料１（特開昭６３−４４６２７号公報）、参考資料２（特開昭６３−１５２０４号公報）、参考資料３（実願昭５６−０９８１４８号（実開昭５８−５０１５号公報）のマイクロフィルム）は液晶表示装置において、ガラス基板上にカラーフィルタ及び透明電極層を順次形成する電極構造を示すものにすぎず、参考資料４（「表面」Vol.18,No8,p440-449(1980)）は透明電極のITO薄膜は多結晶性をとることを示すものに過ぎないので、いずれの文献も本件請求項１に係る発明の構成である「基体、有機着色層および透明導電層をこの順に積層したカラーフィルタであって、透明導電層形成時の温度よりも10~100℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された該透明導電層が多結晶体であり、そのグレインサイズが0.1~1μmの範囲であること」の「透明導電層形成時の温度よりも10~100℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された該透明導電層」について記載も示唆もするものではない。
エ．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠によっては、本件発明１乃至３についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１乃至３についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年７月２５日（２０００．７．２５）
【訂正の要旨】
（３）訂正事項
　ａ．特許請求の範囲の請求項１「【請求項１】基体、有機着色層および透明導電層をこの順に積層したカラーフィルタであって、該透明導電層が多結晶体であり、そのグレインサイズが０・１〜１μｍの範囲であることを特徴とするカラーフィルタ。」を、「【請求項１】基体、有機着色層および透明導電層をこの順に積層したカラーフィルタであって、
透明導電層形成時の温度よりも１０〜１００℃だけ高い温度で加熱した後またはプラズマ処理した後に形成された
透明導電層形成時の温度よりも１０〜１００℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された
　ｂ．明細書の段落番号００３４「【００３４】【発明の効果】本発明は、有機着色層や保護層等の有機物層の上に０．１〜１μｍの範囲の大きさのグレインを持つ透明導電層を形成したので、エッチング特性に優れ、さらに小さな抵抗値が得られたものである。有機物層の上では透明導電層をややオーバーエッチングすると顕著なサイドエッチングや不均一なサイドエッチングが起こりやすいが、本発明の透明導電層では良好なエッチングができたものである。オーバーエッチングしても良好なパターンが得られることは、製造工程を安定させるために効果が大きい。また不均一なサイドエッチングは表示品質を劣化させ好ましくない。液晶表示素子製造時の熱履歴や洗浄によるクラックの発生が抑制される効果もあった。透明導電層の抵抗値が小さいことは、液晶駆動信号の遅延が抑えられ、より大型のディスプレイが可能になったり、液晶駆動信号回路への負担が小さくなるので非常に重要である。」を、
「【００３４】【発明の効果】本発明は、有機着色層や保護層等の有機物層の上に
、透明導電層形成時の温度よりも１０〜１００℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された
　ｃ．明細書の段落番号００１３「【００１３】本発明の透明導電膜のグレインサイズは０．１〜１μｍの範囲であることが重要である。グレインサイズが０．１μｍ未満の場合は抵抗値が増大したり、サイドエッチングが進んだり、不均一なサイドエッチングが発生する。グレインサイズが１μｍ以上の場合もかえって不均一なサイドエッチングが発生しやすい。図１は透明導電膜表面の結晶構造の１例を示すもので本発明で規定するグレインサイズを満足するものであり、結晶方位の揃った約０．３μｍの不定形の領域が一つのグレインである。」を、　「【００１３】本発明の透明導電膜のグレインサイズは０．１〜１μｍの範囲であることが重要である。グレインサイズが０．１μｍ未満の場合は抵抗値が増大したり、サイドエッチングが進んだり、不均一なサイドエッチングが発生する。グレインサイズが１μｍ
を超える
（５４）【発明の名称】
カラーフィルタおよび液晶表示素子
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】　基体、有機着色層および透明導電層をこの順に積層したカラーフィルタであって、
透明導電層形成時の温度よりも１０〜１００℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された
　　【請求項２】　有機着色層と透明導電層の間に保護層を有してなる請求項１記載のカラーフィルタ。
　　【請求項３】　請求項１〜２のいずれかに記載のカラーフィルタを使用したことを特徴とする液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　　【産業上の利用分野】
　本発明は液晶表示素子に使用されるカラーフィルタに関するものであり、さらに詳しくは、エッチング特性や低抵抗の点で優れた透明導電層を有するカラーフィルタに関する。
　【０００２】
　　【従来の技術】
　一般に透明導電層としては酸化インジウムに錫を数％ドープしたＩＴＯなどの酸化物半導体が採用される。液晶表示素子用途には高透明化および低抵抗化の要請が強く、透明導電層の改良が続けられている。また液晶表示素子用途には画素に対応したパターンを作るために透明導電層は良好なエッチング特性を備えていることも要求される。
　【０００３】
　　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、高透明化および低抵抗化の改良やエッチング性の改良は、もっぱらガラス基体上に直接設けられた透明導電層について検討されてきており、有機着色層や保護層等の有機物層の上に透明導電層を設ける場合については研究例は非常に少ない。本発明者らはカラーフィルタの製造にあたって有機物層の上に透明導電層を積層することを試みたところ、透明導電層の製造条件、有機物層の組成や状態を十分制御しないと、ガラス基体上に透明導電層を直接積層した場合に比べて特性が劣った透明導電層ができる問題があることが明らかになった。すなわち、抵抗値が大きくなってしまったり、エッチングにおいてサイドエッチングが大きかったり、不規則なサイドエッチングが起きたりすることが明らかになった。
　【０００４】
　本発明者らは上記のごとき課題を解決せんと鋭意検討した結果、本発明に到達した。その目的とするところは、高透明性、低抵抗性およびエッチング特性に優れた透明導電層を備えたカラーフィルタを提供することにある。
　【０００５】
　　【課題を解決するための手段】
　かかる本発明の目的は、以下の構成により達成される。
　【０００６】
　（１）基体、有機着色層および透明導電層をこの順に積層したカラーフィルタであって、
透明導電層形成時の温度よりも１０〜１００℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された
　【０００７】
　（２）有機着色層と透明導電層の間に保護層を有してなる前項記載のカラーフィルタ。
　【０００８】
　本発明において使用される基体としては、耐熱性や寸法安定性の点でガラスであることが好ましいが、ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネートなどのプラスチックも使用することができる。これらの基体と有機着色層との間に遮光や基体と有機着色層との相互作用の防止を目的として層を挿入することは適宜許される。遮光層としては、クロム膜や部分酸化させたクロム膜が好適である。基体と有機着色層との相互作用を防止するための層としては、酸化シリコン膜が好適である。遮光方法としては遮光層の挿入のほか、有機着色層の重ね合わせにより透過光を減少させる方法も採用できる。
　【０００９】
　本発明において使用される有機着色層は、着色剤とポリマの複合体からなる。着色剤としては顔料や染料が用いられるが、特に耐熱性および耐光性の良好な顔料が好ましい。一方、ポリマとしては２００℃以上の熱処理でも軟化、分解、着色を生じない高分子材料が用いられ、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリイミド樹脂およびこれらの混合物が好ましく用いられる。中でも耐熱姓に優れるポリイミド樹脂が特に好ましい。これらに感光性を付与した樹脂も好ましく用いられる。
　【００１０】
　上記有機着色層の上には直接または保護層を介して所定の透明導電層が形成される。
　【００１１】
　本発明において使用される透明導電層としては、酸化錫、酸化インジウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化カドミウム、錫添加酸化インジウム（ＩＴＯ）、錫添加酸化カドミウムなどが用いられるが、中でもＩＴＯが高透明性および低抵抗性の点で好ましい。ＩＴＯにおける錫の添加量は重量で５〜１５％の範囲が抵抗値を小さくするために好ましく、７〜１３％がさらに好ましい。透明導電層の厚みは、必要とされる表面抵抗値によって変化するが、０．００５〜０．３μｍの範囲が好ましく、０．０１〜０．２μｍの範囲がさらに好ましい。
　【００１２】
　本発明の透明導電層は多結晶体である。多結晶体は単結晶部分の集合体であり、各々の単結晶部分では結晶配向方向が揃うなど単結晶の性質を持つが、膜全体としては、結晶配向などの秩序性を持たないものである。ここでは、各々の単結晶部分をグレインと呼ぶ。該グレインのサイズは例えば走査型電子顕微鏡による透明導電膜表面の結晶構造を観察することにより知ることができる。グレインとグレインの間には粒界があり、一つ一つのグレインを見分けることができる。グレインはさらにその中に配向した粒子群を持つことがある。
　【００１３】
　本発明の透明導電膜のグレインサイズは０．１〜１μｍの範囲であることが重要である。グレインサイズが０．１μｍ未満の場合は抵抗値が増大したり、サイドエッチングが進んだり、不均一なサイドエッチングが発生する。グレインサイズが１μｍ
を超える
　【００１４】
　有機着色上に保護層を介して透明導電層を形成する場合、保護層としては、ポリイミド樹脂、オルガノシランを縮重合して得られるシリコーン樹脂、オルガノシランとイミド基を有する化合物とを縮重合して得られるイミド変性シリコーン樹脂などが採用される。
　【００１５】
　ポリイミド樹脂からなる保護層は、縮合反応タイプのポリイミド前駆体を塗布、キュアすることによって得られる。例えばテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物などとジアミノ化合物を溶媒中で重合させることにより、ポリアミド酸溶液すなわち縮合反応タイプのポリイミド前駆体を得ることができる。テトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の具体例としては、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−オキシジフタル酸二無水物などを挙げることができる。ジアミノ化合物の具体例としては、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｐ−フェニレンジアミンなどを挙げることができる。該ポリイミド樹脂には、耐熱性を損なわない範囲でアミノ基、アミド基、カルボキシル基、スルホンアミド基などの各置換基を有していても良い。
　【００１６】
　本発明の保護層に塗布性、接着性などの改善を目的として、カップリング剤などの接着性付与剤や非イオン性界面活性剤などを加えることは適宜許される。
　【００１７】
　以下、本発明によるカラーフィルタの製造方法の概略を保護層を有する場合を中心に説明するが、これに限定されるものではない。
　【００１８】
　スパッタ法によって酸化クロムからなる遮光層をガラス基体上に形成し、フォトリソグラフィ法によって格子状に加工する。赤、青、緑の顔料とポリマーと溶媒を分散混合した３種類のペーストを用意する。ストライプ状の酸化クロム層が形成されたガラス上へ緑ペーストを塗布しセミキュアした後、フォトリソグラフィ法によって画素に対応したストライプ状の緑有機着色層を形成し、キュァする。同様にして、続けて赤、青の有機着色層を形成する。３色の画素が形成された上ヘポリイミド前駆体溶液を塗布、キュアし、保護層とする。該保護層を設けた基体を所定の条件で加熱処理またはプラズマ処理する。次いでスパッタ法によってＩＴＯ透明導電層を形成し、フォトリソグラフィ法によってストライプ状に加工する。かくして本発明のカラーフィルタを得る。保護層を設けず、有機着色層上に直接透明導電層を形成する場合には、有機着色層を設けた基体を所定の条件で加熱処理またはプラズマ処理した後、スパッタ法によってＩＴＯ透明導電層を形成する。
　【００１９】
　該加熱処理は、透明導電膜形成直前、具体的には透明導電層形成前の１０時間以内に実施することが好ましく、５時間以内に実施することがさらに好ましい。該加熱処理としては１７０℃以上の温度雰囲気に３０分間以上保管することが好ましい。エッチング特性に優れたグレインサイズが０．１〜１μｍの透明導電層を得られる点で、該温度雰囲気は１７０〜３５０℃の範囲であることが好ましく、２００〜３００℃の範囲であることがさらに好ましい。該加熱処理の時間は３０分〜３時間の範囲であることが好ましい。該加熱処理の雰囲気は特に限定されないが、シリコーン樹脂やイミド変性シリコーン樹脂の上に透明導電層を形成する場合には、大気など酸素や水蒸気を含む雰囲気が好適に採用される。
　【００２０】
　該プラズマ処理とは、減圧下で発生させたグロー放電に処理物を晒すことを言う。プラズマ処理装置としては公知のものが利用できるが、グレインサイズが０．１〜１μｍで低抵抗およびエッチング特性に優れた透明導電層を得られる点で、処理時の圧力は、１０−３〜２０Ｔｏｒｒの範囲が好ましく、１０−２〜５Ｔｏｒｒの範囲がさらに好ましい。処理雰囲気としては、空気、ネオン、アルゴン、クリプトン、窒素、酸素などが採用できるが、中でも空気、アルゴン、窒素は抵抗値の減少に効果が大きく好ましい。減圧下で発生させたグロー放電の他に常圧プラズマと呼ばれる大気圧のヘリウムもしくはアルゴンとアセトンなどのケトン類の混合ガス雰囲気でのグロー放電も採用することができる。プラズマ処理は、加熱処理の場合と同様に透明導電膜形成直前、具体的には透明導電層形成前の１０時間以内に実施することが好ましく、５時間以内に実施することがさらに好ましい。
　【００２１】
　スパッタ法や真空蒸着法では減圧下で透明導電層を形成するが、透明導電層の形成に先立つ真空排気中に透明導電層形成時の温度よりも１０〜１００℃、より好ましくは２０〜５０℃だけ有機物層が形成された基体の温度を上げておいてから、所定の温度まで基体の温度を下げて透明導電層を形成することが、グレインサイズが０．１〜１μｍの大きさで、エッチング特性に優れた透明導電層を得られる点で望ましい。透明導電層の形成に先立つ真空排気時間を例えば３０分以上と十分長くとることもエッチング特性に優れた透明導電層を得られる点で好ましい。
［特性の測定方法、評価方法］
（１）グレインサイズの測定方法
電界放出走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）で透明導電層を２万倍に拡大し、観察する。不定形のモザイク状のグレイン構造が見られたら、任意の位置に２μｍ四方の枠を設定し、その枠内で観察される全てのグレインについてそれぞれ最大径を測定する。この測定値の平均をグレインサイズとする。
（２）エッチング特性の評価方法
得られた透明導電層試料をフォトリソグラフィ法によってストライプ状にエッチングし、レジストパターンの幅からの広がりやストライプの直線性からエッチング特性を評価する。エッチングは４０℃の塩酸と塩化第二鉄が２：１の混合液中で行い、ジャストエッチングできる時間の２倍の時間をかけてオーバーエッチングした。レジストパターンの幅からの広がり（サイドエッチング）が小さく、ストライプの直線性が良いものが好ましい。
（３）抵抗値の測定方法
四探針抵抗測定器（共和理研（株）　ｍｏｄｅｌ　Ｋ−７０５ＲＤ）を用いた。
　【００２２】
　　【実施例】
　以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　【００２３】
　実施例１
スパッタ法によって厚さ０．１μｍの酸化クロム遮光層をガラス基体上に形成し、フォトリソグラフィ法によって、一方は１１０μｍピッチ、これと直交する方向には３３０μｍピッチで線幅が３０μｍの格子状に加工した。赤、緑、青の顔料としてそれぞれＣｏｌｏｒ　Ｉｎｄｅｘ　Ｎｏ．７３９０５　Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　２０９で示されるキナクリドン系顔料、Ｃｏｌｏｒ　Ｉｎｄｅｘ　Ｎｏ．７４１６０　Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　３６　で示されるフタロシアニングリーン系顔料、Ｃｏｌｏｒ　Ｉｎｄｅｘ　Ｎｏ．７４１６０　Ｐｉｇｍｅｎｔ　ｂｌｕｅ　１５−４で示されるフタロシアニンブル一系顔料を用意した。透明なポリイミド前駆体溶液（東レ（株）製“セミコファイン”ＳＰ−９１０）と上記顔料とを分散混合した赤、緑、青の３種類のペーストを用意した。格子状の酸化クロム層が形成されたガラス上へ緑ペーストを塗布しセミキュアした後、フォトリソグラフィ法によって、該格子の開口部を埋めるように、画素に対応した幅９０μｍ、ピッチ３３０μｍのストライプ状の緑有機着色層を形成し、キュアした。該緑有機着色層の厚さは１．５μｍとした。同様にして、続けて赤、青の有機着色層を形成した。透明なポリイミド前駆体溶液（東レ（株）製“セミコファイン”ＳＰ−９１０）を該有機着色層上に塗布し、キュアして厚さ２μｍの保護層を得た。
　【００２４】
　プラズマリアクター（ヤマト科学（株）製ｍｏｄｅｌ　ＰＣ−１０１Ａ）にて０．５Ｔｏｒｒの空気雰囲気中で、該保護層を設けた基体に１００Ｗ、１分間のプラズマ処理を施した。プラズマ処理後３時間以内にスパッタ法によって錫が１０％含有されたＩＴＯ層を０．１１μｍの厚さで該保護層上に形成した。ＩＴＯ層形成前の真空排気時間は１５分、ＩＴＯ層形成中の基体の温度は２５０℃とした。該１ＴＯ層をフォトリソグラフィ法によって該格子の開口部を埋めるように有機着色層のストライプとは直交する方向に幅２９０μｍ，ピッチ３３０μｍのストライプ状にエッチングした。ＩＴＯ層のエッチングは塩酸と塩化第二鉄とが２：１の混合液にて行った。かくして本発明のカラーフィルタを得た。
　【００２５】
　ストライプ状に加工する前に測定したＩＴＯ層の表面抵抗値は１９Ω／□と十分小さかった。ＩＴＯ層のストライプの直線性は良好で、またレジストパターンに比べてサイドエッチングは７％と小さかった。図１に示したようなＩＴＯ層の表面結晶構造が観察され、そのグレインサイズは０．３３μｍであった。
　【００２６】
　実施例２
実施例１と同様にして、赤、青、緑の有機着色層および保護層を形成した。
　【００２７】
　該保護層を設けた基体に熱風オーブンにて２５０℃で１時間の加熱処理を施した。３時間以内に実施例１と同様にしてＩＴＯ膜を形成し、エッチングを施して、本発明のカラーフィルタを得た。
　【００２８】
　ストライプ状に加工する前に測定したＩＴＯ層の表面抵抗値は１８．８Ω／□と十分小さかった。ＩＴＯ層のストライプの直線性は特に良好で、またレジストパターンに比べてサイドエッチングは５％と小さかった。ＩＴＯ層のグレインサイズは０．３１μｍであった。
　【００２９】
　実施例３
実施例１と同様にして、赤、青、緑の有機着色層を形成した。該有機着色層上には保護層を形成しなかった。
　【００３０】
　該有機着色層上に設けた基体に熱風オーブンにて２５０℃で１時間の加熱処理を施した。３時間以内に実施例１と同様にしてＩＴＯ膜を形成し、エッチングを施して、本発明のカラーフィルタを得た。
　【００３１】
　ストライプ状に加工する前に測定したＩＴＯ層の表面抵抗値は１９．０Ω／□と十分小さかった。ＩＴＯ層のストライプの直線性は良好で、またレジストパターンに比べてサイドエッチングは７％と小さかった。ＩＴＯ層のグレインサイズは０．３１μｍであった。
　【００３２】
　比較例１
保護層形成後、特に処理を行わなかったこと以外は実施例１および２と同様にしてカラーフィルタを作製した。
　【００３３】
　ストライプ状に加工する前に測定したＩＴＯ層の表面抵抗値は１９．８Ω／□と比較的小さかったが、ＩＴＯ層のストライプの幅方向端部には不規則な剥離が生じ直線性が損なわれたほか、レジストパターンに比べて３０％のサイドエッチングやクラックが観察された。またエッチング後のＩＴＯ層は大気中保管でクラックの進行が見られた。図２に示したようなＩＴＯ層の結晶構造が観察され、そのグレインサイズは約０．０７μｍと小さかった。
比較例２
実施例１と同様にして、赤、青、緑の有機着色層を形成した。該有機着色層上には保護層を形成しなかった。該有機着色層形成後、試料を１週間大気中に放置した。該試料を特に処理を行わなかったこと以外は実施例１と同様にしてＩＴＯ層を形成し、エッチングを施した。ストライプ状に加工する前に測定したＩＴＯ層の表面抵抗は２２．８Ω／□と実施例３に比べて大きかった。また、ＩＴＯ層の結晶構造が観察され、そのグレインサイズは０．０８μｍと小さかった。ＩＴＯ層をストライプ状にエッチング加工したところ、ストライプの幅方向端部には不規則な剥離が生じ直線性が失われたたほか、レジストパターンに比べて２９％のサイドエッチングやクラックが観察された。また、エッチング後のＩＴＯ層は大気中保管でクラックの進行が見られた。未エッチングのＩＴＯ層でも２００℃程度の加熱と冷却を施すとクラックが発生するものがあった。
　【００３４】
　　【発明の効果】
　本発明は、有機着色層や保護層等の有機物層の上に
、透明導電層形成時の温度よりも１０〜１００℃だけ高い温度で加熱処理した後またはプラズマ処理した後に形成された
　【００３５】
　　【発明の作用】
　有機着色層や保護層等の有機物層を形成した基体に適当な前処理を施した後、透明導電層を形成したり、透明導電層を形成する際に適当な条件を選ぶことにより透明導電層形成時の有機物層からの水、有機溶媒、オリゴマなどの脱ガスを抑えたり、透明導電層形成に適した表面化学状態を準備することにより、０．１〜１μｍの大きさのグレインが得られるものと推定される。
【図面の簡単な説明】
　【図１】図１はカラーフィルタの透明導電層表面の結晶構造の１例を示す電子顕微鏡写真であり、本発明で規定するグレインサイズを満足するものである。
　【図２】図２はカラーフィルタの透明導電層表面の結晶構造の他の例を示す電子顕微鏡写真であり、本発明で規定する条件を満足しないものである。