【事件の表示】
　特許第２９９６９５８号「半導体光電素子に対して、合焦及びカラーフィルタリングする構造およびその構造の製造方法」の請求項１ないし３３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９９６９５８号の請求項１ないし３３に係る特許を維持する。
【理　由】
（１）手続の経緯
　本件特許第２９９６９５８号の請求項１乃至３３に係る発明についての特許は、平成１０年８月２５日に特許出願（優先権主張　平成１０年５月４日　台湾）がなされ、平成１１年１０月２９日にその特許権の設定登録がなされ、その後、特許異議の申立てがなされたものである。
（２）本件発明
　本件発明は、特許明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至３３に記載されたとおりのものである。
（３）特許異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人日本電気株式会社は、証拠として甲第１乃至甲第５号証を提出し、本件請求項１、１３及び２３に係る発明は、甲第１号証及び第２号証に記載された発明に基いて、また本件請求項２乃至１２、１４乃至２２及び２４乃至３３に係る発明は、甲第１乃至第５号証に記載された発明に基いて容易に発明をすることができたものであるから、本件発明に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反して、特許を受けることができないものであると主張している。
（４）甲各号証記載の発明
　甲第１号証として提出された、特開平９−１３９４８４号公報には、固体撮像素子及びその製造方法が第１乃至４図とともに開示されている。そして同公報１頁の特許請求の範囲の請求項１には、「画素を成す受光素子が表面部に形成された半導体基板表面上に有機材料からなる色フィルタ固定層を介して色フィルタ層が形成され、該色フィルタ層上に有機材料からなるレンズ固定層を介してマイクロレンズが形成された固体撮像素子の製造方法において、上記レンズ固定層の不要部分の選択的エッチングを、レンズ固定層上にレンズ材層を形成し更に該レンズ材層を加工してマイクロレンズを形成した後に行うことを特徴とする固体撮像素子の製造方法」と記載されている。
　甲第２号証として提出された、特開平９−３２５２０６号公報には、カラーフィルターが第１乃至８、１１図とともに開示されている。そして、同公報１頁の特許請求の範囲の請求項１には、「透明基板上に、色材にて順次複数色のカラー画素パターンを形成したカラーフィルターにおいて、前記カラー画素パターンのうちの一色分のカラー画素パターンを形成する際、前記一色分のカラー画素パターンの色材にて、カラー画素パターン領域を囲む額縁状のダミーパターンを同時に形成したことを特徴とするカラーフィルター。」と記載され、同公報２頁の段落０００３及び０００４には、「対向した両基板のギャップが部位によりバラついた場合、カラー液晶表示の品位を大幅に劣化させるものである。
　このため、カラーフィルター電極基板の表面、さらにいえばカラーフィルターの表面は凹凸の無いよう、平滑であることが要求されるものである。この要求を満たすため、カラーフィルター上に、透明樹脂等からなるオーバーコート層を形成し、カラーフィルター表面に平滑性を持たせることがひとつの手段となっている。この場合、オーバーコート層上に透明電極層を成膜し、カラーフィルター電極基板とするものである。」と記載されている。
　甲第３号証として提出された、特開平６−１３２５１５号公報２頁の段落０００４には、「パッシベーション膜は、遮光膜としてのＡｌ膜２２や配線としてのＡｌ膜（図示せず）等の上層に設けられるので、４００℃以下程度の低温で形成する必要がある。このため、一般的には、プラズマＣＶＤ法で堆積させたシリコン窒化膜であるＰ−ＳｉＮ膜２４かまたはプラズマＣＶＤ法で堆積させたシリコン酸化膜であるＰ−ＳｉＯ膜２５（図４）がパッシベーション膜として用いられている。」と記載されている。
　甲第４号証として提出された、特開平７−３１１３１０号公報１頁の特許請求の範囲の請求項１には、「固体撮像素子を形成した半導体基板上に、アクリル系樹脂を用いて染色層を形成する際、染浴液中に染色助剤としてカルボン酸塩を添加することを特徴とする固体撮像装置の製造方法。」と記載されている。
　甲第５号証として提出された、特開平７−６６５５２号公報２頁の段落０００７には、「【課題を解決するための手段】
　本発明は、配線の間にダミーパターンを設置し、配線層表面のパターン密度が一定となるように形成することにより、その後形成する絶縁層の表面を平坦にするものである。」と記載されている。
（５）対比・判断
＜本件請求項１に係る発明について＞
　本件請求項１に係る発明（以下「本件第１発明」という）と甲第１号証記載の発明とを対比すると、甲第１号証には、半導体基板上に形成される光電素子に対して、合焦及びカラーフィルタリングを行う構造の製造方法であって、前記半導体基板上にパシベーション層を形成する工程と、前記パシベーション層上の所定のフィルタ領域に、カラーフィルタ層のアレイを形成する工程と、前記カラーフィルタ層全体を覆う平滑層を形成する工程と、前記平滑層上に、各々が下層の各カラーフィルタに対応するマイクロレンズのアレイを形成する工程とを含む方法について記載されているが、本件第１発明の必須の構成要件である、「前記パシベーション層上で、前記カラーフィルタ層のアレイ以外の所定の非フィルタ領域に、ダミーパターン層を形成する工程」及び「前記カラーフィルタ層およびダミーパターン層全体を覆う平滑層を形成する工程」について記載も示唆もされていない。
　また甲第２号証には、カラー画素パターン領域を囲む額縁状のダミーパターンを同時に形成したカラーフィルターは開示されているが、甲第２号証のカラーフィルターは、単体のカラーフィルターにおいて、その表面の平滑化を技術課題とするするものであって、マイクロレンズとの関係については記載も示唆もされていない。
　更に甲第１号証において、本件第１発明の平滑層に相当するレンズ固定層７の周辺部は平坦であって、本件第１発明が解決課題とするようなスロープについては記載も示唆もされていない。
　以上のとおりであるから、平坦化が必要とされない甲第１号証記載の発明にマイクロレンズとの関係について記載も示唆もされていない甲第２号証記載のカラーフィルターのダミーパターン技術を適用することは、当業者であっても想到実施し得ないものと認められる。
　しかも本件第１発明では、「パシベーション層上で、前記カラーフィルタ層のアレイ以外の所定の非フィルタ領域に、ダミーパターン層を形成する」ことにより、「カラーフィルタ層の周りの非フィルタ領域にダミーパターン層を形成することによって、次工程で形成する平滑層を、傾斜のない、ほぼ均一の高さの平坦層として形成することができる。さらに、引き続いて形成するマイクロレンズをすべて傾きのない正位置に形成することができる。」という、明細書記載（段落００２７参照）の作用効果を奏するものである。
　よって、本件第１発明が甲第１及び第２号証に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
＜本件請求項１３、２３に係る発明について＞
　本件請求項１３に係る発明（以下「本件第１３発明」という）及び本件請求項２３に係る発明（以下「本件第２３発明」という）は、本件第１発明と同様に「パシベーション層上で、前記カラーフィルタ層のアレイ以外の所定の非フィルタ領域に、ダミーパターン層を形成する」工程又は該工程により得られた、半導体基板上に形成される光電素子に対して、合焦及びカラーフィルタリングを行う構造を必須の構成とするものであるから、本件第１発明と同様の理由により、本件第１３発明及び第２３発明が、甲第１及び第２号証に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
＜本件請求項２乃至１２、１４乃至２２及び２４乃至３３に係る発明について＞
　本件請求項２乃至１２、１４乃至２２及び２４乃至３３に係る発明は、それぞれ本件第１、第１３及び第２３発明の構成を前提とするものであるから、本件第１、第１３及び第２３発明と同様の理由により、本件請求項２乃至１２、１４乃至２２及び２４乃至３３に係る発明が甲第１乃至第２号証に記載された発明に基いて、容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。　また甲第３乃至５号証を参酌しても上記の結論を覆す理由は見当たらない。
　よって、本件請求項１乃至３３に係る発明が、甲第１乃至第５号証に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
（６）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１乃至３３に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１乃至３３に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年５月２４日（２００１．５．２４）