【事件の表示】
　特許第２７２０１８８号「マスク原板と被露光基板の平行調整方式」の請求項１ないし２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　特許第２７２０１８８号の請求項１ないし２に係る特許を取り消す。
【理由】
１．本件特許第２７２０１８８号は、平成１年３月３日の出願であって、平成９年１１月２１日に設定登録され、特許異議申立人株式会社ニコンより特許異議の申立てがされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１１年２月８日に特許異議意見書が提出されたものである。
２．特許異議申立人株式会社ニコンは、甲第１号証として特開昭５８−１０３１３６号公報を提示し、本件特許の請求項１ないし２に係る発明は、甲第１号証に記載され、又は甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、当該請求項に係る発明の特許は取り消すべきであるというものである。
３．前記取消理由通知は、特開昭５８−１０３１３６号公報（以下、「引用例」という。）を引用し、本件特許の請求項１ないし２に係る発明は、本件特許の出願前に国内において頒布された刊行物に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が、容易に発明をすることができたものと認められ、当該発明に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから取り消すべきというものである。
４．本件特許の請求項１ないし２に係る発明は、明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲に記載されたとおりの次のものと認める。
「（１）透明板に回路パターンが設定されたマスク原板に対面して下側に置かれた被露光基板に対して、３箇所に配置されたチルト機構により、該基板を上下方向に移動して上記マスク原板の表面に平行させて上記回路パターンを投影露光する露光装置において、該基板に対してＸＹＺ座標を設定し、上記チルト機構の３箇所とそれぞれ異なる３箇所に設けられた光学測定器により測定された該基板の高さデータを、平面方程式：
　ｚ＝αｘ＋βｙ＋γ　（α，β，γは定数）
により、上記チルト機構の位置における該基板の高さデータに変換し、該変換された高さデータにより上記チルト機構を移動して、上記マスク原板に対して該基板を平行とすることを特徴とする、マスク原板と被露光基板の平行調整方式。
（２）上記において、上記被露光基板の表面に任意の位置を原点とするＸＹ座標と、上記マスク原板と一定のギャップをなす投影位置を原点とするＺ座標を設定し、上記３箇所に設けられた光学測定器のＸＹ座標値（Ｘｒ，Ｙｒ）と、該光学測定器により測定した該基板の高さ座標の測定データｚｒとより、マイクロプロセッサにより、該基板を表す平面方程式：
　ｚｒ＝αｘｒ＋βｙｒ＋γ
（ｒは３箇所の光学測定器に対するパラメータ）
についての演算を行って該定数α，βおよびγを算出し、該α，β，γのデータと上記各チルト機構のＸＹ座標値（ｘｓ，ｙｓ）を次式：
　ｚｓ＝αｘｓ＋βｙｓ＋γ
（ｓは３箇所のチルト機構に対するパラメータ）
に与えて上記各チルト機構における該基板の高さ座標値ｚｓを算出し、上記各チルト機構により、該算出された高さ座標値ｚｓに相当する距離づつ該基板を上下方向に移動する、請求項１記載のマスク原板の平行調整方式。」
５．取消理由に引用した上記引用例には、「対向するマスクとウエハとを近接してマスクのパターンをウエハ上に転写する露光装置において、ウエハの転写面の近似平面と所定の基準平面との傾きに応じた第１の情報を得るための第１測定手段と；前記ウエハの転写面に対向するマスクの対向面の近似平面と所定の基準平面との傾きに応じた第２の情報を得るための第２測定手段と；前記第１と第２の情報に基づいて前記ウエハと前記マスクの両近似平面とが所定の間隔で平行になるようにウエハとマスクを
相対的に移動するための移動手段を有する調整装置とから構成されていることを特徴とするギャップ設定装置。（特許請求の範囲第１項）」、「本発明は、マスクとウエハとの双方の面を近接した状態においてマスクのパターンをウエハ上に転写するいわゆるプロキシミテイ露光装置におけるギャップ設定装置に関する。（第２頁左上欄３−６行目）」、「従来技術の第１図（Ａ）において、ウエハ１は、３個のねじ２Ａ、２Ｂ、２Ｃ（ただし２Ｃは不図示）で支持されたウエハチャック３に真空吸着にて保持され、ウエハチャック３の高さおよび面の傾きは、ねじ２Ａ、２Ｂ、２Ｃに接続された３個のモーター４Ａ、４Ｂ、４Ｃ（ただし４Ｃは不図示）にて調整される。また、支持台５とウエハチャック３とは、引張りばね６によって結合されている。一方、マスク７も、マスクテーブル８に真空吸着で固定されたマスクホルダー９によって真空吸着にて固定され、そのマスク７を囲むように３個のギャップセンサー１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ（１０Ｃは不図示）がマスクホルダー９に設けられ、このギャップセンサー１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃによってマスクとウエハとのギャップを測定し得るように構成されている。従って、この装置においては、ウエハとマスクを接触させることなく、３個のギャップセンサーの値を見ながら３個のモーター４Ａ、４Ｂ、４Ｃを制御することにより、ギャップを任意に調整することができる。（第２頁右上欄２行目−左下欄２行目）」、「軟Ｘ線を使用する露光装置の場合には、マスクとして軟Ｘ線（波長１〜５０Å程度）に対する透過率が小さいガラス材（酸化シリコンＳｉＯ２）が使用できず、ウエハと同材質（シリコンＳｉ）やポリイミドの薄膜等が使用される。（第３頁左上欄７−１１行目）」、「マスクステージ５５には第１ギャップセンサー５９が固定されており、ウエハ６０と第１ギャップセンサー５９との間隔ｇｗがこのギャップセンサー５９によって測定され、その測定値はインターフェース５７を介してコンピュータ５８に入力される。なおこのインターフェース５７、コンピュータ５８、調節ねじ５３、６２、モーター５３、６４等により調節装置が構成される。一方、ウエハ６０を保持するウエハホルダー６１は、３個の調節ねじ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃ（ただし６２Ｃは不図示）と引っ張りばね６３によって保持されており、このウエハホルダー６１の高さおよび傾斜は、３個の調節ねじ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃにそれぞれ接続された３個のモーター６４Ａ、６４Ｂ、６４Ｃ（ただし６４Ｃは不図示）によって、コンピューター５８の指令に応じてインターフェース５７を介して調整されるように構成されている。（第３頁右上欄２０行目−左下欄１９行目）」、「また一方、ウエハホルダー６１の高さおよび面傾斜を調整する３個の調節ねじ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃを一定位置に回転し、ウエハホルダー６１の高さを固定し、次にＸＹステージ６５を移動してウエハ６０を第１ギャップセンサー５９の下で走査し、ウエハ６０の中心に対する各点の座標（ｘ´、ｙ´）に応じて、ウエハの高さ（ｚ）を測定してその値をコンピューター５８の記憶部２０１に記憶する。この記憶部２０１についても、基本的には前述の記憶部１０１の動作と同じである。すなわち、記��部２０１にはあらかじめウエハ６０上の３つ以上の座標値（ｘ´、ｙ´）が記憶されている。そして、コンピュータ５８は、この座標値（ｘ´、ｙ´）に従って、ＸＹステージ６５を移動させ、第１ギャップセンサー５９によって、その座標における間隔ｇｗを測定する。そこで、座標値（ｘ´、ｙ´）に対するウエハ６０の転写面の高さ（ｚ´）は、基準平面としてのベース６７から第１ギャップセンサー５９の先端までの高さ（一定値）から、測定された間隔ｇｗを減じた値とする。もちろん、高さ（ｚ´）は単に間隔ｇｗの値としてもよい。この動作により記憶部２０１には、ウエハ６０の転写面の複数点がそれぞれ３次元の座標（ｘ´、ｙ´、ｚ´）として記憶される。（第４頁右上欄１１行目−左下欄１６行目）」、「以上のようにしてマスク５１の調整が完了したならば、次にＸＹステージ６５をマスク５１の下に移動して、ウエハ６０面上に塗布された感光材にマスク５１のパターンをくり返し転写して行くが、その際、ウエハ面上を第１ギャップセンサー５９によって走査して得られ、既にコンピューター５８に記憶されているウエハ面の高さのデーターにより、以下の計算を各露光領域毎に行う。この場合、第５図に示すように、ウエハ６０上の第１の露光領域６９に対して、記憶部２０１に記憶されたこの露光領域内のウエハ６０の転写面上のデーターを使用して計算を行う。この第１の露光領域６９に含まれる各測定点の座標をウエハ中心に対して（ｘ１´、ｙ１´）、（ｘ２´、ｙ２´）………（ｘｍ´、ｙｍ´）とし、その測定点に対するそれぞれの高さをＺ１´、Ｚ２´………Ｚｍ´とする。ただし、ｍは３以上の整数値である必要がある。ここで第１の露光領域６９に対する近似平面の式を
　ｚ′＝Ａｘ´＋Ｂｙ´＋Ｄ………（１６）
とすると、マスク５１の場合と同様に最小２乗法を使用して、下記の３式の連立方程式を解く。
上記の連立方程式からＡ、Ｂ、Ｄの係数が計算でき、ウエハ６０の第１の露光領域６９の近似平面式（１６）が決定される。これはコンピューター５８の係数演算部２０２によって計算される。調節ねじ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃのウェハ中心に対する座標（具体的には調節ねじ６２とウエハホルダー６１との当接位置）を第５図に示すように（ｘ１Ｄ´、ｙ１Ｄ´、ｚ１Ｄ´）、（ｘ２Ｄ´、ｙ２Ｄ´、ｚ２Ｄ´）、（ｘ３Ｄ´、ｙ３Ｄ´、ｚ３Ｄ´）とし、近似的に、ウエハの転写面の第１の露光領域面の延長上に、その当接位置すなわち駆動点が存在するものとすれば、次の３式の関係が成立する。すなわち、
　ｚ１Ｄ´＝Ａｘ１Ｄ´＋Ｂｙ１Ｄ´＋Ｄ………（２０）
　ｚ２Ｄ´＝Ａｘ２Ｄ´＋Ｂｙ２Ｄ´＋Ｄ………（２１）
　ｚ３Ｄ´＝Ａｘ３Ｄ´＋Ｂｙ３Ｄ´＋Ｄ………（２２）
ただし、この近似式を適用するには、ウエハの半径に対してウエハの中心から各駆動点までの距離が十分に大きく、ウエハホルダー６１が十分に薄いことが望ましい。なお、座標値（ｘ１Ｄ´、ｙ１Ｄ´）、（ｘ２Ｄ´、ｙ２Ｄ´）、（ｘ３Ｄ´、ｙ３Ｄ´）は機械的にあらかじめ決められた定数であり、コンピュータ５８の記憶部２０４に記憶されている。ここで３個の調節ねじ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃを回転させて、各駆動点をそれぞれＺ方向にΔｚ１Ｄ´、Δｚ２Ｄ´、Δｚ３Ｄ´移動したものとすると、（１６）式とは別の平面になるため、そのときの平面式の係数を前式のＡ、Ｂ、Ｄに対してＡ´、Ｂ´、Ｄ´とすると、
　ｚ１Ｄ´＋Δｚ１Ｄ´＝Ａ´ｘ１Ｄ´＋Ｂ´ｙ１Ｄ´＋Ｄ´
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　………（２３）
　ｚ２Ｄ´十Δｚ２Ｄ´＝Ａ´ｘ２Ｄ´＋Ｂ´ｙ２Ｄ´＋Ｄ´
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　………（２４）
　ｚ３Ｄ´十Δｚ３Ｄ´＝Ａ´ｘ３Ｄ´＋Ｂ´ｙ３Ｄ´＋Ｄ´
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　………（２５）
となる。この時、もしウエハ上の第１の露光領域６９をマスクの対向面に平行にし、マスク５１の対向面とウエハ６０の転写面との第１の露光位置におけるギャップ値を所望のギャップ値Ｇ（任意に設定可能）にするためには、第１ギャップセンサー５９と第２ギャップセンサー６８とのＺ方向の間隔をｈとすれば、マスク５１の近似平面は、ＸＹ平面に既に平行に調整されているから、
　Ａ′＝Ｂ′＝０………（２６）
　Ｃ＋Ｄ′−ｈ＝Ｇ………（２７）
とすればよい。そこで式（２６）、（２７）を式（２３）、（２４）、（２５）に代入すると次のようになる。すなわち
　ｚ１Ｄ´＋Δｚ１Ｄ´＝Ｇ＋ｈ−Ｃ………（２８）
　ｚ２Ｄ´＋Δｚ２Ｄ´＝Ｇ＋ｈ−Ｃ………（２９）
　ｚ３Ｄ´＋Δｚ３Ｄ´＝Ｇ＋ｈ−Ｃ………（３０）
ところが、前述の計算により、係数Ａ、Ｂ、ＤおよびＧ、ｈ、Ｃの値はいずれも既知であり、また、駆動点のＸＹ座標（ｘ１Ｄ´、ｙ１Ｄ´）、（ｘ２Ｄ´、ｙ２Ｄ´）、（ｘ３Ｄ´、ｙ３Ｄ´）は機械的に決定されて既知であるから、（２０）、（２１）、（２２）式に代入することによりｚ１Ｄ´、ｚ２Ｄ´、Ｚ３Ｄ´は、コンピュータ５８の駆動点演算部２０５にて計算して求められる。従って（２８）、（２９）、（３０）式の計算を行う駆動量演算部２０３によって、Δｚ１Ｄ´Δｚ２Ｄ´、Δｚ３Ｄ´が算出される。以上の計算をコンピュータ５８で行いΔｚ１Ｄ´、Δｚ２Ｄ´、Δｚ３Ｄ´に相当する量をもって、ウエハの転写面の高さおよび面傾斜を調整するモーター６４Ａ、６４Ｂ、６４Ｃに指令して駆動することにより、ウエハ６０上の第１露光領域６９の近似平面と、マスク５１の近似平面とを平行にすることができ、さらに両平面間のギャップ値を所望の値Ｇに保持することができる。（第６頁左上欄７行目−第７頁左上欄１５行目）」及び「なお第２図においては、第１ギャップセンサー５９および第２ギャップセンサー６８は共に１個のみ設けられているが、これをウエハ面、マスク面共に少なくとも３個のギャップセンサーで同時に計測するように構成することによって、測定のためにＸＹステージ６５の走査を省略することが可能となり、ギャップ設定の時間を短縮できる。以上の如く本発明によれば、ウエハの全面にわたり正しいギャップが設定されるばかりでなくマスク自体のテーパー、ウエハのテーパー、ウエハの反り等を補正してウエハ全面に対して極めて高い精度によりギャップをコントロールすることができる。またマスクとマスクホルダーとの間に微小な異物（塵埃）がはさまって、マスクの対向面が傾いたとしても、本発明によれば、マスクとウエハとを所定の間隔で正確に平行になし得るので、取扱いがすこぶる容易である。（第８頁左上欄１−２０行目）」と記載され、第１図及び第２図には、マスク７、５１に対面して下側にウエハ１、６０を置いた様子が記載されている。そうすると、引用例には、実施例として、「露光光に対して透過率が大きくパターンを有するマスク５１に対面して下側に置かれたウエハ６０に対して、３箇所に配設された調節ねじ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃ及び該調節ねじにそれぞれ接続された３個のモーター６４Ａ、６４Ｂ、６４Ｃにより、ウエハ６０を上下に移動して上記マスク５１の表面に平行させて上記パターンを投影露光する露光装置において、
露光領域に含まれる各測定点の座標をウエハ６０中心に対して（ｘ１´、ｙ１´）、（Ｘ２´、ｙ２´）………（ｘｍ´、ｙｍ´）とし、
第１ギャップセンサー５９により測定された３点以上の測定点の該ウエハの高さデータｚ１´、ｚ２´………ｚｍ´より、コンピュータ５８の係数演算部２０２により、ウエハの平面方程式：
　Ｚ′＝Ａｘ′＋Ｂｙ′＋Ｄ（Ａ、Ｂ、Ｄは係数）
について、連立方程式を解いてＡ、Ｂ、Ｄの係数を計算し、
上記各調節ねじのウエハ中心に対する座標（ｘ１Ｄ´、ｙ１Ｄ´、ｚ１Ｄ´）、（ｘ２Ｄ´、ｙ２Ｄ´、ｚ２Ｄ´）、（ｘ３Ｄ´、ｙ３Ｄ´、ｚ３Ｄ´）が次式：
　ｚ１Ｄ´＝Ａ´ｘ１Ｄ´＋Ｂ′ｙ１Ｄ´＋Ｄ´
　ｚ２Ｄ´＝Ａ´ｘ２Ｄ´＋Ｂ′ｙ２Ｄ´＋Ｄ´
　ｚ３Ｄ´＝Ａ´ｘ３Ｄ´＋Ｂ′ｙ３Ｄ´＋Ｄ´
を成立させることから、上記各調節ねじにおける該基板の高さ座標値、ｚ１Ｄ´、ｚ２Ｄ´、ｚ３Ｄ´を算出し、
上記各調節ねじ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃ及びモーター６４Ａ、６４Ｂ、６４Ｃにより、該算出された高さ座標値に相当する距離づつ該基板を上下方向に移動するもの」の発明（以下、「引用発明１」という。）、及び第１図（Ａ）に示される実施例として、「マスク７に対面して下側に置かれたウエハ１に対して、３箇所に配設されたねじ２Ａ、２Ｂ、２Ｃ及び該ねじにそれぞれ接続された３個のモーター４Ａ、４Ｂ、４Ｃにより、ウエハ１を上下に移動して上記マスク７の表面に平行させて上記パターンを投影露光する露光装置において、３箇所に設けられたギャップセンサー１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃによりウエハの高さを測定するもの」の発明（以下、「引用発明２という。）が記載されていると認める。
６．そこで、請求項１に係る発明と前記引用発明１とを対比すると、引用発明１の「マスク５１」、「ウエハ６０」、「調節ねじ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃ及び該調節ねじにそれぞれ接続された３個のモーター６４Ａ、６４Ｂ、６４Ｃ」及び「第１ギャップセンサー５９」は、それぞれ請求項１に係る発明の「マスク原板」、「基板」、「チルト機構」及び「光学測定器」に相当し、引用発明１のマスクも透過率の大きい材質のものにパターンを形成しているから、「透明板にパターンが形成されたマスク原板」に相当し、「第１ギャップセンサー５９により測定された３点以上の測定点の該ウエハの高さデータｚ１´、ｚ２´………ｚｍ´より、コンピュータ５８の係数演算部２０２により、ウエハの平面方程式：
　Ｚ´＝Ａｘ´＋Ｂｙ´＋Ｄ（Ａ、Ｂ、Ｄは係数）について、連立方程式を解いてＡ、Ｂ、Ｄの係数を計算し、
上記各調節ねじのウエハ中心に対する座標（ｘ１Ｄ´、ｙ１Ｄ´、ｚ１Ｄ´）、（ｘ２Ｄ´、ｙ２Ｄ´、ｚ２Ｄ´）、（ｘ３Ｄ´、ｙ３Ｄ´、ｚ３Ｄ´）が次式：
　ｚ１Ｄ´＝Ａ´ｘ１Ｄ´＋Ｂ´ｙ１Ｄ´＋Ｄ´
　ｚ２Ｄ´＝Ａ´ｘ２Ｄ´＋Ｂ´ｙ２Ｄ´＋Ｄ´
　ｚ３Ｄ´＝Ａ´ｘ３Ｄ´＋Ｂ´ｙ３Ｄ´＋Ｄ´
を成立させることから、上記各調節ねじにおける該基板の高さ座標値、ｚ１Ｄ´、ｚ２Ｄ´、ｚ３Ｄ´を算出」することは、「光学測定器により測定きれた該基板の高さデータを、平面方程式：
　ｚ＝αｘ＋βｙ＋γ　（α，β，γは定数）
により、上記チルト機構の位置における該基板の高さデータに変換」することに相当するから、両者は、「透明板に回路パターンが設定されたマスク原板に対面して下側に置かれた被露光基板に対して、３箇所に配置されたチルト機構により、該基板を上下方向に移動して上記マスク原板の表面に平行させて上記回路パターンを投影露光する露光装置において、該基板に対してＸＹＺ座標を設定し、光学測定器により測定された該基板の高さデータを、平面方程式：
　ｚ＝αｘ＋βｙ＋′γ（α，β，γは定数）
により、上記チルト機構の位置における該基板の高さデータに変換し、該変換された高さデータにより上記チルト機構を移動して、上記マスク原板に対して該基板を平行とする、マスク原板と被露光基板の平行調整方式。」の点で一致し、請求項１に係る発明が「上記チルト機構の３箇所とそれぞれ異なる３箇所に設けられた光学測定器により」基板の高さデータを測定するのに対し、引用発明１においては、第１ギャップセンサー５９により３点以上の測定点の高さデータを測定するが、チルト機構との位置関係は特定されていない点で相違する。
　そこで両者の相違点について検討すると、前記引用発明２の「マスク７」、「ウエハ１」、「ねじ２Ａ、２Ｂ、２Ｃ及び該ねじにそれぞれ接続された３個のモーター４Ａ、４Ｂ、４Ｃ」及び「ギャップセンサー１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ」は、それぞれ請求項１に係る発明の「マスク原板」、「基板」、「チルト機構」及び「光学測定器」に相当することから、前記引用発明２には、「チルト機構に対して所定の３箇所の位置に設けられた光学測定器によりウエハの高さデータを測定するもの」が記載されており、引用発明２も引用発明１と同様ウエハをマスクの表面と平行にすることを目的とするものであるから、引用発明１において、光学測定器を、引用発明２の光学測定器の如くチルト機構に対して所定の３箇所の位置に固定したものとすることに何らの困難性もなく、また、引用発明１はチルト機構に対して任意の位置でウエハの高さを測定するものであるから、３箇所に光学測定器を配置する際に、チルト機構と異なる位置に配置することも適宜選択できるものである。
　そして、請求項１に係る発明の効果も前記引用発明１及び引用発明２から予測できる程度のものであって、格別のものということもできない。
　したがって、請求項１に係る発明は、前記引用例に記載された引用発明１及び引用発明２に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
７．次に、請求項２に係る発明と前記引用発明１とを対比すると、引用発明１の「マスク５１」、「ウエハ６０」、「調節ねじ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃ及び該調節ねじにそれぞれ接続された３個のモーター６４Ａ、６４Ｂ、６４Ｃ」、「第１ギャップセンサー５９」及び「コンピュータ５８の係数演算部２０２」は、それぞれ請求項２に係る発明の「マスク原板」、「基板」、「チルト機構」、「光学測定器」及び「マイクロプロセッサ」に相当し、引用発明１のマスクも透過率の大きい材質のものにパターンを形成しているから、「透明板にパターンが形成されたマスク原板」に相当し、「第１ギャップセンサー５９により測定された３点以上の測定点の該ウエハの高さデータｚ１´、ｚ２´………Ｚｍ´より、コンピュータ５８の係数演算部２０２により、ウエハの平面方程式：
　Ｚ´＝Ａｘ´＋Ｂｙ´＋Ｄ（Ａ、Ｂ、Ｄは係数）
について、連立方程式を解いてＡ、Ｂ、Ｄの係数を計算」することは、「光学測定器のＸＹ座標値（Ｘｒ，Ｙｒ）と、該光学測定器により測定した該基板の高さ座標の測定データｚｒとより、マイクロプロセッサにより、該基板を表す平面方程式：
　ｚｒ＝αｘｒ＋βｙｒ＋γ
（ｒは３箇所の光学測定器に対するパラメータ）についての演算を行って該定数α，βおよびγを算出」することに相当し、「各調節ねじのウエハ中心に対する座標（ｘ１Ｄ´、ｙ１Ｄ´、ｚ１Ｄ´）、（ｘ２Ｄ´、ｙ２Ｄ´、ｚ２Ｄ´）、（ｘ３Ｄ´、ｙ３Ｄ´、ｚ３Ｄ´）が次式：
　ｚ１Ｄ´＝Ａ′ｘ１Ｄ´＋Ｂ´ｙ１Ｄ´＋Ｄ´
　ｚ２Ｄ´＝Ａ′ｘ２Ｄ´＋Ｂ´ｙ２Ｄ´＋Ｄ´
　ｚ３Ｄ´＝Ａ′ｘ３Ｄ´＋Ｂ´ｙ３Ｄ´＋Ｄ´
を成立させることから、上記各調節ねじにおける該基板の高さ座標値、ｚ１Ｄ´、ｚ２Ｄ´、ｚ３Ｄ´を算出」することは、「該α，β，γのデータと上記各チルト機構のＸＹ座標値（ｘｓ，ｙｓ）を次式：
　ｚｓ＝αｘｓ＋βｙｓ＋γ
（ｓは３箇所のチルト機構に対するパラメータ）に与えて上記各チルト機構における該基板の高さ座標値ｚｓを算出」することは、「α，β，γのデータと上記各チルト機構のＸＹ座標値（ｘｓ，ｙｓ）を次式：
　ｚｓ＝αｘｓ＋βｙｓ＋γ
（ｓは３箇所のチルト機構に対するパラメータ）に与えて上記各チルト機構における該基板の高さ座標値ｚｓを算出」することに相当するから、両者は、「透明板に回路パターンが設定されたマスク原板に対面して下側に置かれた被露光基板に対して、３箇所に配置されたチルト機構により、該基板を上下方向に移動して上記マスク原板の表面に平行させて上記回路パターンを投影露光する露光装置において、該基板に対してＸＹＺ座標を設定し、光学測定器により測定された該基板の高さデータを、平面方程式：
　ｚ＝αｘ＋βｙ＋γ　（α，β，γは定数）
により、上記チルト機構の位置における該基板の高さデータに変換し、該変換された高さデータにより上記チルト機構を移動して、上記マスク原板に対して該基板を平行とする、マスク原板と被露光基板の平行調整方式において、上記被露光基板の表面に任意の位置を原点とするＸＹ座標と、Ｚ座標を設定し、上記３箇所に設けられた光学測定器のＸＹ座標値（Ｘｒ，Ｙｒ）と、該光学測定器により測定した該基板の高さ座標の測定データＺｒとより、マイクロプロセッサにより、該基板を表す平面方程式：
　ｚｒ＝αｘｒ＋βｙｒ＋γ
（ｒは３箇所の光学測定器に対するパラメータ）についての演算を行って該定数α，βおよびγを算出し、該α，β，ｙのデータと上記各チルト機構のＸＹ座標値（ｘｓ，ｙｓ）を次式：
　ｚｓ＝αｘｓ＋βｙｓ＋ｙ
（ｓは３箇所のチルト機構に対するパラメータ）に与えて上記各チルト機構における該基板の高さ座標値ｚｓを算出し、上記各チルト機構により、該算出された高さ座標値ｚｓに相当する距離づつ該基板を上下方向に移動する、マスク原板の平行調整方式。」の点で一致し、請求項２に係る発明が「上記チルト機構の３箇所とそれぞれ異なる３箇所に設けられた光学測定器により」基板の高さデータを測定するのに対し、引用発明１においては、第１ギャップセンサー５９により３点以上の測定点の高さデータを測定するが、チルト機構との位置関係は特定されていない点（以下、「相違点１」という。）、及び請求項２に係る発明が、「マスク原板と一定のギャップをなす投影位置を原点とするＺ座標を設定」するのに対し、引用発明１においては、Ｚ座標の原点と、マスク原板との関係を特段定めていない点（以下、「第２の相違点」という。）で相違する。
　そこで両者の相違点について検討すると、第１の相違点については、前記６で判断したとおり、これを置き換えることに、格別の困難性はない。
　また、空間座標の原点をどこに設定するかは、計算の便宜性等を考慮して適宜選択することができるものであり、引用発明１においても、ウエハの高さを決めるためには、マスク面からの距離をもとにしなければならないから、引用発明１において、Ｚ座標の原点をマスクと一定のギャップをなす投影位置に設定することに格別の困難性はない。
　そして、請求項２に係る発明の効果も、前記引用発明１及び引用発明２から予測できる程度のものであって、格別のものということもできない。
　したがって、請求項２に係る発明は、前記引用例に記載された引用発明１及び引用発明２に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
８．以上のとおりであるから、本件特許の請求項１ないし２に係る発明は、いずれも、前記引用例に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、当該発明に係る特許は、いずれも、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであるから、取り消すべきである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年４月２３日（１９９９．４．２３）