【事件の表示】
　特許第２９９９３８８号「基板洗浄システム」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２９９９３８８号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第２９９９３８８号は、平成７年３月３０日の出願であって、平成１１年１１月５日に設定登録がなされ、その後、安井哲也より特許異議の申立てがなされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１２年１１月３０日に訂正請求がなされたものである。
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
　訂正請求は、本件特許に係る願書に添付した明細書（以下「明細書」という。）を訂正請求書に添付した訂正明細書のとおり訂正することを求めるものであり、その訂正の内容は次のとおりのものである。
ａ．訂正事項１
　特許請求の範囲の請求項１を、
「　【請求項１】　洗浄槽内に、基板にこれを水平回転させた状態で洗浄剤を噴射させるようにした基板洗浄装置が配置されており且つ該基板から洗浄槽の底壁に形成せる排気口へと向かうガス流が形成されるように構成された基板洗浄システムにおいて、洗浄槽の周壁における適所であって当該周壁に沿って上昇する上昇ガス流が生じる箇所に、この上昇ガス流を下降流に方向転換させるべくガイドするガイド部材を取付けて、前記洗浄剤の噴射による基板洗浄中において当該下降流が上記排気口へと向かうガス流と共に排気口から排出されるように構成したことを特徴とする基板洗浄システム。」と訂正する。
ｂ．訂正事項２
　明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００７】を、
「【０００７】
　　【課題を解決するための手段】
　本発明は、洗浄槽内に、基板にこれを水平回転させた状態で洗浄剤を噴射させるようにした基板洗浄装置が配置されており且つ該基板から洗浄槽の底壁に形成せる排気口へと向かうガス流が形成されるように構成された基板洗浄システムにおいて、上記の目的を達成すべく、特に、洗浄槽の周壁における適所であって当該周壁に沿って上昇する上昇ガス流が生じる箇所に、この上昇ガス流を下降流に方向転換させるべくガイドするガイド部材を取付けて、前記洗浄剤の噴射による基板洗浄中において当該下降流が上記排気口へと向かうガス流と共に排気口から排出されるように構成しておくことを提案するものである。」と訂正する。
ｃ．訂正事項３
　明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００１８】を、
「【００１８】
　このとき、排気ブロワ１４により、噴射ガン６ａ，６ｂから放出されたドライブガス及び吸気口２ｆから吸気されたクリーンガスは排気口１２に吸引され、洗浄槽２内には基板８を通過して排気口１２に向かうガス流１８が形成される。したがって、氷粒子７ａの衝突による一種のサンドブラスト作用によって基板８に付着している汚染物が除去され、この汚染物を含む洗浄残渣はドライブガスの噴出力並びに基板８に沿って後方に向かうガス流１８の作用によって基板８から飛散され、ガス流１８と共に排気口１２から排気管１３に排出される。この排ガス中に含まれる水分及び固形分は気液分離トラップ１５によりガス分から分離除去される。」と訂正する。
ｄ．訂正事項４
　明細書の【符号の説明】の欄を、
「　【符号の説明】
１…基板洗浄装置、２…洗浄槽、２ｂ…底壁、２ｄ…前壁（周壁に沿って上昇する上昇ガス流が生じる箇所）、２´ｅ…側壁部分（周壁に沿って上昇する上昇ガス流が生じる箇所）、３…架台、４…回転盤、５…保持体、６ａ，６ｂ…噴射ガン、７ａ…氷粒子（洗浄剤）、８…基板、１２…排気口、１３…排気管、１４…排気ブロワ、１５…気液トラップ、１６…第１ガイド部材（ガイド部材）、１７…第２ガイド部材（ガイド部材）、１８…基板から排気口に向かうガス流、１８ａ，１８ｂ…上昇ガス流（周壁に沿って上昇する上昇ガス流）、１８´ａ，１８´ｂ…下降流。」と訂正する。
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
ａ．訂正事項１については、特許請求の範囲の請求項１に記載された「下降流が排気口へと向かうガス流と共に排気口から排出されるように構成した基板洗浄システム。」を、「洗浄剤の噴射による基板洗浄中において下降流が排気口へと向かうガス流と共に排気口から排出されるように構成した基板洗浄システム。」と限定するものであって、これは、基板洗浄システムの用途を基板洗浄中において下降流が排気口へと向かうガス流と共に排気口から排気されるようなものに限定するものであるから特許請求の範囲の減縮を目的に該当するものである。
　また、この限定は、明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００３】〜【０００７】及び【００２３】の記載に基づくものであり、新規事項の追加に該当せず、かつ、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
ｂ．訂正事項２については、訂正事項ａによる特許請求の範囲の訂正に伴い、発明の詳細な説明の【課題を解決するための手段】の欄の記載をこれに整合するように訂正するものであるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当し、新規事項の追加に該当せず、かつ、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
ｃ．訂正事項３については、明細書の詳細な説明の段落番号【００１８】に記載された「一種のサンドブラスト作用に」を、その後段の文脈「基板８に付着している汚染物が除去され」に繋がるように「一種のサンドブラスト作用によって」と訂正するものであるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当し、新規事項の追加に該当せず、かつ、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
ｄ．訂正事項４については、特許請求の範囲の請求項１に記載された「洗浄槽の底壁」の符号「２ｂ」が【符号の説明】の欄に記載されていない点を是正したものであり、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当し、新規事項の追加に該当せず、かつ、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
（３）むすび
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項ただし書及び同条第３項において準用する同法第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．特許異議の申立てについての判断
（１）申立ての理由の概要
　申立人安井哲也は、甲第１号証（特開平４−１００２３１号公報）、甲第２号証（特開平６−８４７７９号公報）、及び甲第３号証（特開昭６３−１８１３２０号公報）を提出し、請求項１に係る発明は、甲第１号証ないし甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものであるから、特許を取り消すべき旨の主張をしている。
（２）本件特許の請求項１に係る発明
　本件特許の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、訂正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される上記２．（１）ａ．に示す「基板洗浄システム」である。
（３）甲各号証記載の事項
　異議申立人が提示した甲第１号証ないし甲第３号証には、それぞれ、次の事項が記載されている。
　甲第１号証（特開平４−１００２３１号公報）：
「ウエハーは回転体上に水平に配置される。また回転体上のウエハー表面には、ノズルから薬液または純水を供給しウエハーを洗浄する。ウエーハは回転してもしなくても良い。」（第２頁左上欄第２〜６行）
「第１図では回転軸１が回転することによりチャック２とウエハー５が回転する。ウエハー中心部に向かってノズル４から純水を供給すると純水は、ウエハー表面を滑り遠心力によりウエハーの外へ排出されウエハー表面を洗浄する。」（第２頁右上欄第３〜７行）
「本発明による洗浄装置においては、第２図に示すように、ウエハーを高速回転で脱水乾燥する場合、チャンバー上部の吸気孔５から均一な層流の空気７が排気孔６に向かって供給され、その過程においてウエハー中央から滑るような空気の流れが発生する。」（第２頁右上欄第７〜１３行）
　甲第２号証（特開平６−８４７７９号公報）：
　カップ１１内に、ガラス基板等の被処理物Ｗを水平回転させた状態で、洗浄液噴射ノズル１４から洗浄液を噴射すること。（特許請求の範囲の請求項１、段落番号【００１４】〜【００１５】、及び図３参照）
　「また、カップ１１の内側には飛散した洗浄液を下方に導くテーパ状のガイド壁１７が設けられ、更に開口部１６の内縁部からは下方にスカート部１８が垂下し、前記ガイド壁１７に沿って上昇してきた一部の洗浄ミストが被処理物Ｗの上方に向かわないようにしている。」（段落番号【００１６】）
　甲第３号証（特開昭６３−１８１３２０号公報）：
　「第５図に示すように、回転吸着板（以下スピンドルチャックと呼ぶ）にウェーハを搬送し、且つ、レジスト等の薬液を滴下するため、ウェーは外形より大きな開口部が上部中央にあり、またカップ下面より排気をとっている。回転塗布により振り切られた余剰レジストは、カップの内壁に当たり、一部ミストとなるが、これをカップ下部より強制排気している。」（第１頁右下欄第２〜９行）
　「カップ下部より強制排気すると、第５図のように、この上部中央開口部より外気がウェーハ面に添って流れカップ内に導かれる。
　しかし、このように強制排気しても、高速回転で一瞬の内に振り切られたレジストがカップ内壁に当って飛び散るミストの一部はウェーハ面まではね返る。」（第１頁右下欄第１２〜１８行）
　「はね返りに対しては、第６図のように中央開口部の縁の下方にはね返りミストを受け止める板を突出し、対処している。」（第２頁左上欄第１〜４行）
　ウェーハは水平回転されること。（第６図参照）
（４）対比・判断
　本件発明と上記甲第１号証ないし甲第３号証に記載の発明とを対比すると、
　甲第１号証に記載のものは、ウエハー（本件発明の「基板」に対応する。）の洗浄後の脱水乾燥装置において排気孔６（同「排気口」に対応する。）へと向かう空気の流れ（同「ガス流」に対応する。）が生ずるものであり、該流れが洗浄中に生ずるか否かについては何らの記載はない。
　甲第２号証に記載のものは、スカート部１８（本件発明の「ガイド部材」に対応する。）が垂下し、前記ガイド壁１７に沿って上昇してきた一部の洗浄ミストが基板の上方に向かわないようにしているが、基板から洗浄槽の底壁に形成せる排気口へと向かうガス流が形成されるように構成されたものでない。
　甲第３号証に記載のものは、ミストはね返り防止突出板７（本件発明の「ガイド部材」に対応する。）を設けているが、該ミストは、レジスト等の薬液を滴下して回転塗布により振り切られた余剰レジストがカップの内壁に当たり生じるものであり、洗浄装置ではなく、これを洗浄中の洗浄槽に適用する必然性もない。
　従って、甲各号証に記載の発明は、本件発明と一部共通する事項が認められるものの、いずれも本件発明を特定する事項である、「洗浄剤の噴射による基板洗浄中において下降流が排気口へと向かうガス流と共に排気口から排出されるように構成したこと」を備えておらず、当該事項により本件発明は、「洗浄槽を必要最小限の大きさとしながらも、洗浄残渣の基板上への浮遊，落下を確実に防止することができ、洗浄残渣による基板の再汚染を回避して、基板の洗浄を良好に行うことができる。」という明細書記載の顕著な効果を奏するものであり、本件発明が上記甲第１号証ないし甲第３号証に記載のものから容易に発明をすることができたものとはいえない。
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては本件発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する
【異議決定日】
平成１２年１２月２８日（２０００．１２．２８）
【訂正の要旨】
　訂正の要旨
　特許第２９９９３８８号発明の明細書（以下「明細書」という。）を、訂正請求書に添付した訂正明細書のとおり、すなわち、次の各訂正事項１〜４のとおり訂正する。
ａ．訂正事項１
　特許請求の範囲第１項の記載を、特許請求の範囲の減縮を目的として、
「　【請求項１】　洗浄槽内に、基板にこれを水平回転させた状態で洗浄剤を噴射させるようにした基板洗浄装置が配置されており且つ該基板から洗浄槽の底壁に形成せる排気口へと向かうガス流が形成されるように構成された基板洗浄システムにおいて、洗浄槽の周壁における適所であって当該周壁に沿って上昇する上昇ガス流が生じる箇所に、この上昇ガス流を下降流に方向転換させるべくガイドするガイド部材を取付けて、前記洗浄剤の噴射による基板洗浄中において当該下降流が上記排気口へと向かうガス流と共に排気口から排出されるように構成したことを特徴とする基板洗浄システム。」と訂正をする。
ｂ．訂正事項２
　明細書の発明の詳細な説明の段落番号【０００７】を、明りょうでない記載の釈明を目的として、
「【０００７】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、洗浄槽内に、基板にこれを水平回転させた状態で洗浄剤を噴射させるようにした基板洗浄装置が配置されており且つ該基板から洗浄槽の底壁に形成せる排気口へと向かうガス流が形成されるように構成された基板洗浄システムにおいて、上記の目的を達成すべく、特に、洗浄槽の周壁における適所であって当該周壁に沿って上昇する上昇ガス流が生じる箇所に、この上昇ガス流を下降流に方向転換させるべくガイドするガイド部材を取付けて、前記洗浄剤の噴射による基板洗浄中において当該下降流が上記排気口へと向かうガス流と共に排気口から排出されるように構成しておくことを提案するものである。」と訂正する。
ｃ．訂正事項３
　明細書の発明の詳細な説明の段落番号【００１８】を、明りょうでない記載の釈明を目的として、
「【００１８】
　このとき、排気ブロワ１４により、噴射ガン６ａ，６ｂから放出されたドライブガス及び吸気口２ｆから吸気されたクリーンガスは排気口１２に吸引され、洗浄槽２内には基板８を通過して排気口１２に向かうガス流１８が形成される。したがって、氷粒子７ａの衝突による一種のサンドブラスト作用によって基板８に付着している汚染物が除去され、この汚染物を含む洗浄残漬はドライブガスの噴出力並びに基板８に沿って後方に向かうガス流１８の作用によって基板８から飛散され、ガス流１８と共に排気口１２から排気管１３に排出される。この排ガス中に含まれる水分及び固形分は気液分離トラップ１５によりガス分から分離除去される。」と訂正する。
ｄ．訂正事項４
　明細書の【符号の説明】の欄を、明りょうでない記載の釈明を目的として、
「　【符号の説明】
１…基板洗浄装置、２…洗浄槽、２ｂ…底壁、２ｄ…前壁（周壁に沿って上昇する上昇ガス流が生じる箇所）、２´ｅ…側壁部分（周壁に沿って上昇する上昇ガス流が生じる箇所）、３…架台、４…回転盤、５…保持体、６ａ，６ｂ…噴射ガン、７ａ…氷粒子（洗浄剤）、８…基板、１２…排気口、１３…排気管、１４…排気ブロワ、１５…気液トラップ、１６…第１ガイド部材（ガイド部材）、１７…第２ガイド部材（ガイド部材）、１８…基板から排気口に向かうガス流、１８ａ，１８ｂ…上昇ガス流（周壁に沿って上昇する上昇ガス流）、１８´ａ，１８´ｂ…下降流。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
基板洗浄システム
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　洗浄槽内に、基板にこれを水平回転させた状態で洗浄剤を噴射させるようにした基板洗浄装置が配置されており且つ該基板から洗浄槽の底壁に形成せる排気口へと向かうガス流が形成されるように構成された基板洗浄システムにおいて、洗浄槽の周壁における適所であって当該周壁に沿って上昇する上昇ガス流が生じる箇所に、この上昇ガス流を下降流に方向転換させるべくガイドするガイド部材を取付けて、
前記洗浄剤の噴射による基板洗浄中において
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
本発明は、半導体ウエハ等の基板を微凍結粒等の洗浄剤を噴射させることにより洗浄する基板洗浄システムに関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　一般に、この種の基板洗浄システムにあっては、洗浄槽内に配設した基板洗浄装置により、基板にこれを水平回転させた状態で洗浄剤を噴射させるようになっており、また洗浄槽に排気口を形成して、洗浄槽内のガス（洗浄剤を噴射させるためのドライブガス等）を排気口から吸引排出させることによって、洗浄槽内に基板から排気口に向かうガス流を形成するようになっている。すなわち、洗浄剤を基板に噴射させると、洗浄剤の衝突により基板に付着した汚染物が除去され、基板が洗浄される。一方、基板から除去された汚染物を含む洗浄残渣は、新たに噴射されてくる洗浄剤及びドライブガスの噴出力並びにガス流の作用によって基板外へと飛散され、ガス流に乗って排気口から洗浄槽外へと排出される。また、基板から飛散して洗浄槽の周壁に衝突した洗浄残渣は、周壁を伝って流下し、洗浄槽の底壁に形成された排気口から排出される。なお、洗浄剤としては、基板の性状や洗浄条件等に応じて種々のものが使用されるが、通常、超純水を主成分として調整した微細な氷粒子を窒素ガス等のドライブガスにより基板に向けて噴射させるか、更にこれに加えて超純水を噴射させるようにするのが最適である。
　【０００３】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかし、上記ガス流は、その全てが直接排気口に向かう訳ではなく、その一部は当該ガス流の流れ方向に対向する洗浄槽の周壁部分に衝突することになる。そして、この周壁部分に衝突したガス流は、衝突後、当該周壁部分に沿って上昇する上昇ガス流と下降する下降ガス流とに分離する。また、上記流れ方向に平行する洗浄槽の周壁部分についても、洗浄剤と共に噴射されたドライブガスの一部が基板に衝突して舞い上がり、上記ガス流に吸収されることなく、当該周壁部分に沿って上昇することになる。
　【０００４】
　而して、このように周壁部分に沿って上昇する上昇ガス流の多くは、排気口から排出されずに、洗浄槽の天井壁に到達したり基板洗浄装置の上方空間に拡散することになる。したがって、上昇ガス流に含まれている洗浄残渣が、基板から排気口に向かうガス流によっては排気口から速やかに排出されずに、基板洗浄装置上に浮遊したり、天井壁に付着したりする虞れがある。その結果、このように洗浄槽内に残存する残渣が、洗浄済の基板上に落下して、当該基板を再汚染する虞れがあり、基板を良好に洗浄できないといった問題が生じる。
　【０００５】
　なお、このような問題は、排気口からの吸引力を強力としておくこと、或いは洗浄槽の周壁と基板洗浄装置との距離を充分にとって、周壁に衝突するガス流の発生を防止するようにしておくことによって解決することができる。しかし、前者のようにすると、基板上におけるガス流が必要以上に強力となって、洗浄剤の噴射による洗浄作用を妨げることになり、当然に良好な洗浄作用を期待できない。また、後者のようにすると、洗浄槽が基板洗浄装置に比して極めて大型化することになり、洗浄槽がクリーンルーム等の限られたスペースに設置されるものであることとも相侯って、設置スペースや設備費等の面からも到底実用できない。
　【０００６】
　本発明は、このような点に鑑みてなされたもので、洗浄槽を可及的に小型化しながらも、洗浄槽の周壁に衝突するガス流による悪影響を排除して、良好な基板洗浄作用を行いうる基板洗浄システムを提供することを目的とするものである。
　【０００７】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、洗浄槽内に、基板にこれを水平回転させた状態で洗浄剤を噴射させるようにした基板洗浄装置が配置されており且つ該基板から洗浄槽の底壁に形成せる排気口へと向かうガス流が形成されるように構成された基板洗浄システムにおいて、上記の目的を達成すべく、特に、洗浄槽の周壁における適所であって当該周壁に沿って上昇する上昇ガス流が生じる箇所に、この上昇ガス流を下降流に方向転換させるべくガイドするガイド部材を取付けて、
前記洗浄剤の噴射による基板洗浄中において
　【０００８】
　【作用】
　洗浄槽の周壁に沿って上昇する上昇ガス流が生じた場合、この上昇ガス流はガイド部材により下向きに方向変換されることから、洗浄槽の天井壁に到達したり基板洗浄装置の上方空間に拡散することなく、基板から排気口に向かうガス流に吸収され、そのまま排気口から排出されることになる。したがって、上昇ガス流に含まれている洗浄残渣が、基板洗浄装置上に浮遊したり、洗浄槽の天井壁に付着したりすることがない。その結果、洗浄槽を必要以上に大型化したり、排気口からの吸引力を必要以上に強力なものとせずとも、洗浄残渣が洗浄済の基板上に落下して当該基板を再汚染させることがなく、基板の洗浄を良好に行うことができる。
　【０００９】
　【実施例】
　以下、本発明の構成を図１〜図４に示す実施例に基づいて具体的に説明する。なお、以下の説明においては、便宜上、前後とは図１上における左右を意味するものとする。
　【００１０】
　この実施例の基板洗浄システムは、図１に示す如く、基板洗浄装置１とこれを内装する洗浄槽２とを具備してなる。
　【００１１】
　基板洗浄装置１は、図１に示す如く、洗浄槽１内を前後方向に移動自在な架台３と、架台３上に水平回転自在に支持された環状の回転盤４と、回転盤４上に設けられており、基板３を回転盤４と同心の水平状態に保持する複数の保持体５…と、架台３と回転盤４との間に介装されており、回転盤４を所定速度で水平回転駆動させる駆動手段（図示せず）と、洗浄槽１内の適所に固定配置されており、洗浄剤７ａを基板３の表面及び裏面に向けて斜め後方に噴射させる上下一対の噴射ガン６ａ，６ｂとを具備する。架台３は、洗浄開始位置（図１実線位置）と洗浄終了位置（同図鎖線位置）との間に亘って前後方向に水平移動されるようになっている。すなわち、架台３を洗浄開始位置に位置させた状態では、図１に実線で示す如く、噴射ガン６ａ，６ｂが相対的に基板８の前方に位置することとなって、基板８を搬入ロボット（図示せず）により噴射ガン６ａ，６ｂに邪魔されることなく回転盤４上に搬入させることができるようになっており、且つ噴射ガン６ａ，６ｂから洗浄剤７ａを噴射させると、洗浄剤７ａが基板８の前端箇所（最前位に位置する基板周縁部箇所）に衝突されるようになうている。また、架台３を洗浄終了位置に位置させた状態では、図１に鎖線で示す如く、噴射ガン６ａ，６ｂが相対的に基板８の後方に位置することとなって、基板８を搬出ロボット（図示せず）により噴射ガン６ａ，６ｂに邪魔されることなく回転盤４上から搬出させることができるようになっている。したがって、架台３を洗浄開始位置から洗浄終了位置へと適当速度で水平移動させることによって、噴射ガン６ａ，６ｂから噴射された洗浄剤７ａの衝突箇所が相対的に基板８の前端箇所から後端箇所（最後位に位置する基板周縁部箇所）へと漸次移行して、基板８が回転されていることとも相侯って、基板８の表裏面全体が洗浄されることになる。各噴射ガン６ａ，６ｂは、微細な氷粒子をドライブガス（窒素ガス）により洗浄剤７ａとして基板８に向けて噴射させるものであり、この洗浄剤たる氷粒子７ａは、クリーンルーム外に設置された各製氷容器９から供給管１０を介して各噴射ガン６ａ，６ｂに供給されるようになっている。すなわち、各製氷容器９は、図１に示す如く、底部に供給管１０を接続した断熱容器であり、上部から超純水７及び液化窒素１１を噴霧して、超純水の噴霧微粒子を液化窒素との熱交換により凍結させることにより、微細な氷粒子７ａを得るようになっている。
　【００１２】
　洗浄槽２は、クリーンルーム内に配置されており、洗浄槽２の上面領域の後半部分を覆う天井壁２ａと、排気口１２を後端部位に形成した底壁２ｂと、上記した架台３の前後移動領域を囲繞するに必要最小限の大きさとされた矩形状の周壁つまり前後壁２ｃ，２ｄ及び左右側壁２ｅ，２ｅとからなる。天井壁２ａは後壁２ｄの上端部から前上方へと傾斜するもので、後壁２ｄの上端部との接合部分２´ａは円弧状をなしている。また、洗浄槽２の上面領域の前半部分は、クリーンルーム内に開口する吸気口２ｆとされており、この吸気口２ｆの後端部と天井壁１ａの前端部との間にはフィルタ２ｇが張設されている。なお、洗浄槽２の周壁の適所には、図示していないが、前記搬入ロボット及び搬出ロボットによる基板８の回転盤４上への搬入及び搬出を行うための開閉自在な搬入口及び搬出口が形成されている。
　【００１３】
　また、排気口１２には、図１に示す如く、排気管１３が接続されている。この排気管１３には排気ブロワ１４が設けられていて、洗浄槽２内のガス（噴射ガン６ａ，６ｂから噴射されたドライブガス及び吸気口２ｆから吸気されるクリーンエア）を排気口１２へと吸引させ、吸気口２ｆから基板８に沿って後方へと流れ更に基板８を通過して排気口１２に向かうガス流１８を形成するようになっている。また、排気管１３における排気ブロワ１４の上流側には、気液分離トラップ１５が設けられていて、排気口１２から排気管１３へと排出されてくる排ガスに含まれる水分（主として噴射ガン６ａ，６ｂから噴射された氷粒子７ａの融解水分）及び固形分（主として汚染物）をガス分から分離除去するようになっている。
　【００１４】
　而して、洗浄槽２の周壁の適所であって当該周壁に沿って上昇する上昇ガス流が生じる箇所には、本発明に従って、この上昇ガス流を下降流に方向転換させるべくガイドするガイド部材１６，１７，１７が取付けられている。
　【００１５】
　すなわち、この実施例では、図１及び図２に示す如く、基板洗浄装置１の上方位に配して、洗浄槽２の後壁２ｄ及び両側壁２ｅの後半部分（以下「側壁部分」という）２´ｅ，２´ｅに夫々第１ガイド部材１６及び同一形状の第２ガイド部材１６及び１７，１７を取付けてある。第１ガイド部材１６は、図２及び図３に示す如く、長尺矩形板を、後壁２ｄから前方に突出する略倒立Ｕ字状の導入ガイド部１６ａとその先端から後壁２ｄに向かって傾斜状に垂下する直線状の導出ガイド部１６ｂとを備えた形状に、折曲してなる断面一様のものであり、後壁２ｄに沿って上昇してくる上昇ガス流１８ａが、導入ガイド部１６ａに沿って導出ガイド部１６ｂへと導かれ、更に導出ガイド部１６ｂに沿って下方へと導かれるように、つまり後壁２ｄに向けて下降する下降流１８´ａに方向転換されるようにガイドしうるようになっている。なお、第１ガイド部材１６の両端部は側壁部分２´ｅ，２´ｅに当接されている（図２参照）。また、各第２ガイド部材１７は、図２及び図４に示す如く、長尺矩形板を、側壁部分２´ｅから前方に突出する略横転Ｃ宇状の導入ガイド部１７ａとその先端から側壁部分２´ｅと平行に垂下する直線状の導出ガイド部１７ｂとを備えた形状に、折曲してなる断面一様のものであり、側壁部分２´ｅに沿って上昇してくる上昇ガス流１８ｂが、導入ガイド部１７ａに沿って導出ガイド部１７ｂへと導かれ、更に導出ガイド部１７ｂに沿って下方へと導かれるように、つまり側壁部分２´ｅと平行に下降する下降流１８´ｂに方向転換されるようにガイドしうるようになっている。なお、各第２ガイド部材１７の後壁側の端部は、第１ガイド部材１６に当接されている（図２参照）。
　【００１６】
　以上のように構成された基板洗浄システムによれば、基板８の表裏面を次のようにして良好に洗浄させることができる。
　【００１７】
　すなわち、洗浄開始に当たっては、架台３を洗浄開始位置に位置させた上、基板８を搬入ロボットにより回転盤４上にセットする。しかる後、回転盤４を回転駆動させると共に、噴射ガン６ａ，６ｂからドライブガスにより基板８に向けて氷粒子７ａを噴射させた状態で、架台３を洗浄終了位置に向けて所定速度で前進させていく。架台３の前進に伴って、噴射ガン６ａ，６ｂから噴射された氷粒子７ａの基板８への衝突箇所が、基板８の前端箇所から後端箇所へと漸次移行していき、基板８が回転されていることとも相侯って、基板８の表裏面が全面的に洗浄される。そして、架台３が洗浄終了位置で停止すると、洗浄済の基板８を搬出ロボットにより回転盤４から洗浄槽２外に搬出して、基板洗浄を終了する。
　【００１８】
　このとき、排気ブロワ１４により、噴射ガン６ａ，６ｂから放出されたドライブガス及び吸気口２ｆから吸気されたクリーンガスは排気口１２に吸引され、洗浄槽２内には基板８を通過して排気口１２に向かうガス流１８が形成される。したがって、氷粒子７ａの衝突による一種のサンドブラスト作用に
よって
　【００１９】
　ところで、上記ガス流１８の一部は、洗浄槽２の後壁２ｄに衝突して上昇ガス流１８ａと下降ガス流とに分流されるが、下降ガス流は後壁２ｄに沿って下降し、基板８から排気口１２に向かうガス流１８と共に、排気口１２から排出される。一方、上昇ガス流１８ａは後壁２ａに沿って上昇するが、図３に示す如く、天井壁２ａに達したり天井壁２ａ下の空間に拡散したりする前に、第１ガイド部材１６により方向転換されて下降流１８´ａとなり、上記ガス流１８と共に排気口１２から排出されることになる。また、噴射ガン６ａ，６ｂから噴射されたドライブガスの一部は、基板２に衝突して舞い上がり、基板２上を通過するガス流１８に吸収されることなく、側壁部分２´ｅに沿って上昇するが、この上昇ガス流１８ｂも、後壁２ｄに沿って上昇する上昇ガス流１８ａと同様に、図４に示す如く、天井壁２ａに達したり天井壁２ａ下の空間に拡散したりする前に、第２ガイド部材１７により方向転換されて下降流１８´ｂとなり、上記ガス流１８と共に排気口１２から排出されることになる。したがって、各上昇ガス流１８ａ，１８ｂに含まれる洗浄残渣が基板８上に浮遊したり落下したりすることがなく、洗浄済の基板８が再汚染したりする虞れはない。なお、万一、天井壁２ａに洗浄残渣が付着した場合にも、天井壁２ａが後壁２ｄに向かって下り傾斜しており且つ両壁２ａ，２ｄの接合部分２´ａが円弧状とされていることから、この洗浄残渣は天井壁２ａを伝って後方に流下して後壁２ｄへと移動せしめられることから、基板８上に落下するような虞れはない。
　【００２０】
　このように、洗浄槽２の周壁に沿って上昇する上昇ガス流１８ａ，１８ｂが生じた場合にも、それが基板８上に浮遊，落下するようなことがないから、洗浄槽２を必要最小限の大きさとしながら基板８の再汚染を確実に防止して、基板洗浄を良好に行うことができる。
　【００２１】
　なお、本発明は上記各実施例に限定されるものではなく、本発明の基本原理を逸脱しない範囲において、適宜に変更，改良することができる。すなわち、各ガイド部材１６，１７の形状，設置場所，設置数は、基板８の再汚染を生じる虞れのある上昇ガス流１８ａ，１８ｂを、かかる虞れを生じない下降流１８´ａ，１８´ｂに方向転換できる限りにおいて、任意である。
　【００２２】
　また、基板洗浄装置１及び洗浄槽２の構成も任意である。例えば、上記実施例では、微細な氷粒子７ａを基板８に噴射させるようにしたが、かかる氷粒子７ａの噴射と同時に超純水等の洗浄液を基板８に噴射させるようにしてもよい。また、上記実施例では、クリーンルーム内のクリーンェアを洗浄槽２内に吸気させるようにしたが、洗浄槽２を吸気口２ｆを有しない完全密閉構造として、ドライブガスのみにより基板８から排気口１２に向かうガス流１８を形成するようにすることも可能である。また、排気口１２の形成位置は任意であり、洗浄作用を効果的に行うガス流１８を形成できる箇所であればよく、例えば後壁２ｄに形成するようにしてもよい。また、上記実施例においては、噴射ガン６ａ，６ｂを固定して、基板８を水平移動させるようにしたが、逆に基板８を一定位置で回転させ、噴射ガン６ａ，６ｂを基板８に沿って移動させるようにすることも可能である。
　【００２３】
　【発明の効果】
以上の説明から容易に理解されるように、本発明の基板洗浄システムによれば、洗浄槽を必要最小限の大きさとしながらも、洗浄残渣の基板上への浮遊，落下を確実に防止することができ、洗浄残渣による基板の再汚染を回避して、基板の洗浄を良好に行うことができる。しかも、かかる効果が、洗浄槽の周壁の一部にガイド部材を取付けておくだけの極めて簡単な手段により奏せられることから、その実用的価値極めて大なるものである。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明に係る基板洗浄システムの一実施例を示す縦断側面図である。
　【図２】
　図１のＩＩ−ＩＩ線に沿う横断平面図である。
　【図３】
　図１の要部を拡大して示す詳細図である。
　【図４】
　図３のＩＶ−ＩＶ線に沿う縦断正面図である。
　【符号の説明】
１…基板洗浄装置、２…洗浄槽、
２ｂ…底壁、