(57)【要約】  放射線ビームを回転させて治療容積を照射することにより強度変調放射線治療を送達するための装置および方法。システムは、枢動する減衰リーフの２次元配列を備えるコリメーションデバイスを含み、リーフは、ガントリが患者の周りを回転するとき、放射線ビームの経路中に一時的に配置される。リーフは、第１の位置と第２の位置の間を独立して移動することができる。放射線ビームの強度は、各リーフがビームを減衰させるために存在する時間を制御することにより変調される。【選択図】図２
2008531172.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線療法治療システムであって、
複数のリーフアセンブリを含むコリメータを備え、
前記リーフアセンブリは、
支持構造体と、
前記支持構造体により支持され、前記支持構造体から延びる複数の部材と、
前記部材の１つによりそれぞれが支持され、作動したとき第１の位置と第２の位置との間を移動するように適合された複数のリーフと、を有し、
前記リーフアセンブリの配置は２次元配列を提供し、前記コリメータが、独立したビームレットの合計として放射線を送達するように動作可能である、放射線療法治療システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、前記リーフおよび前記部材に結合された作動子をさらに備え、前記作動子は、前記リーフを第１の位置と第２の位置との間で選択的に移動させるように動作可能である、システム。
【請求項３】
請求項２に記載のシステムであって、ガントリおよびコントローラをさらに備え、前記コントローラは、放射線治療計画および前記ガントリの位置に基づき、前記作動子に選択的に命令して、前記リーフを前記第１の位置と前記第２の位置との間で移動させるように動作可能である、システム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムであって、前記第１の位置および前記第２の位置のうちの一方が閉鎖位置であり、前記第１の位置および前記第２の位置のうちの一方が開放位置である、システム。
【請求項５】
請求項１に記載のシステムであって、前記リーフが、前記第１の位置および前記第２の位置のうちの一方にあるとき、前記リーフが放射線を遮断するように動作可能であり、また前記リーフが、前記第１の位置および前記第２の位置のうちの一方にあるとき、前記リーフが放射線を通過させるための経路を生成する、システム。
【請求項６】
請求項１に記載のシステムであって、前記リーフを閉鎖位置に偏倚させるための手段をさらに備える、システム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムであって、前記コリメータがさらに、前記リーフ上に配置された減衰材料をさらに備える、システム。
【請求項８】
請求項１に記載のシステムであって、前記リーフが、前記配列中で垂直に配置される、システム。
【請求項９】
請求項８に記載のシステムであって、前記リーフアセンブリのそれぞれが複数のリーフを含み、前記リーフアセンブリおよび前記リーフの配置が、放射線ビームの時間的および空間的な変調を提供するための２次元配列を提供する、システム。
【請求項１０】
請求項１に記載のシステムであって、前記リーフが、前記リーフから外方向に延びる部材を含み、前記部材が、前記リーフが閉じた位置にあるとき、隣接するリーフアセンブリのスリットに係合する、システム。
【請求項１１】
請求項１に記載のシステムであって、前記リーフが、前記第１の位置と第２の位置との間を枢動するように動作可能である、システム。
【請求項１２】
請求項１に記載のシステムであって、前記リーフアセンブリのそれぞれが、複数の行で方向付けられており、１つの行の前記リーフアセンブリが隣接する行のリーフアセンブリに対してオフセットされている、システム。
【請求項１３】
請求項１２に記載のシステムであって、前記リーフアセンブリの前記オフセット配置が、単一の行における前記リーフアセンブリ相互間の間隙を提供する、システム。
【請求項１４】
放射線療法治療システムであって、
ガントリと、
前記ガントリにより支持され、複数のリーフアセンブリを含むコリメータとを有し、前記リーフアセンブリの各々は、
支持構造体と、
前記支持構造体により支持され、前記支持構造体から延びている複数の部材と、
複数のリーフとを有し、前記複数のリーフは、前記部材の１つによりそれぞれ支持され、作動したとき移動するように適合され、
前記リーフアセンブリはさらに、前記リーフの１つに結合された複数の作動子を有し、前記作動子は、前記部材の１つによりそれぞれ支持され、
前記リーフアセンブリの配置は２次元配列を提供し、
前記システムはさらに、前記作動子に選択的に命令して、前記リーフを移動させ、放射線ビームの時間的かつ空間的な変調を提供するように動作可能なコントローラとを備える、放射線療法治療システム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のシステムであって、前記コントローラが、放射線治療計画および前記ガントリの位置に基づいて、各リーフを移動させるように作動子に命令する、システム。
【請求項１６】
請求項１４に記載のシステムであって、前記作動子が、前記リーフを作動させ、第１の位置と第２の位置との間で前記リーフを移動させるように適合される、システム。
【請求項１７】
請求項１６に記載のシステムであって、前記第１の位置および前記第２の位置のうちの一方が閉鎖位置であり、前記第１の位置および前記第２の位置のうちの一方が開放位置である、システム。
【請求項１８】
請求項１４に記載のシステムであって、前記リーフアセンブリのそれぞれが、複数のリーフを含み、前記リーフアセンブリおよび前記リーフの配置が２次元配列を提供し、前記コリメータが、複数のスライスで患者に放射線を送達するように動作可能である、システム。
【請求項１９】
請求項１４に記載のシステムであって、前記リーフが、前記ガントリにより支持された放射線源に対して前記配列中に分散するように配置される、システム。
【請求項２０】
請求項１４に記載のシステムであって、前記リーフが前記配列中で垂直に配置される、システム。
【請求項２１】
請求項１４に記載のシステムであって、前記リーフが、枢動するように動作可能である、システム。
【請求項２２】
放射線療法治療システムであって、
コリメータと、
前記コリメータにより支持された、患者に複数の放射線スライスを送達するための手段と、を備える放射線療法治療システム。
【請求項２３】
請求項２２に記載のシステムであって、ガントリをさらに備え、前記複数の放射線スライスが、１回のガントリ回転中に前記患者に送達される、システム。
【請求項２４】
請求項２２に記載のシステムであって、前記送達手段が、第１の位置と第２の位置との間で枢動するように動作可能な複数のリーフを含む、システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線ビームを変調する方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
この出願は、２００５年２月２８日に出願の米国特許仮出願第６０／６５７０１３号の優先権を主張し、その内容全体を参照により本明細書に組み込む。
強度変調放射線治療（ＩＭＲＴ）は、患者の腫瘍の寸法、形状、および位置に合わせるために、放射線ビームの寸法、形状、および強度を変化させることを含む。ＩＭＲＴは、周囲の正常な組織を避けながら、正確に腫瘍を目標にする。一般に、ＩＭＲＴは、放射線源および直線加速器（リニアック）を備えた放射線療法システムを用いて送達される。リニアックを出た放射線ビームは、マルチリーフコリメータ（ＭＬＣ）を通って進み、ビームの寸法、形状、および強度を変化させる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
リニアックが開発される前は、放射線療法装置は、放射線源としてコバルト６０（Ｃｏ−６０）を使用した。Ｃｏ−６０放射線療法装置は、簡単で信頼性のある技術を使用しており、１９５０年代以来、利用可能である。Ｃｏ−６０放射線源は放射線療法装置中に設置される。患者に線量を送達するために、Ｃｏ−６０源からの放射線ビームは、リニアックと同様の方法で、顎部によりコリメートされる。ビームをさらに形作るためにフィールド形成ブロックを使用してもよい。Ｃｏ−６０の特性は安定であり、予測可能であるが、概して、リニアックよりも長い治療時間を必要とする。Ｃｏ−６０放射線のエネルギは、リニアックのエネルギよりも概して低いので、Ｃｏ−６０放射線療法装置は、通常、頭部および首の病変など、比較的浅い病変を治療するのに用いられるだけである。Ｃｏ−６０放射線療法装置にはＭＬＣが後付けされておらず、現在、ＭＬＣベースのＩＭＲＴは、Ｃｏ−６０放射線療法装置と共に利用することができない。
【０００４】
ＭＬＣの開発は、放射線療法治療の送達を向上させてきた。ＭＬＣは、患者の腫瘍の寸法、形状、および位置に焦点を合わせるように放射線ビームを画定する。ＭＬＣはまた、腫瘍の周囲の正常な組織および器官に送達される放射線量を最小化するように放射線ビームを変調する。
【０００５】
ＭＬＣは、リーフと呼ばれる複数の放射線遮断物を含む。ＭＬＣにおける個々の各リーフは独立して配置され、ユーザは無数の不規則な形状のフィールドを作ることが可能になる。放射線ビームは、放射遮断リーフの対向する配列の端部間に送られ、それにより、腫瘍またはターゲット部位の形状によくマッチするように放射線ビームが形成されるが、一方、正常な組織および器官を直接の放射線ビームから遮蔽する。
【０００６】
放射線ビームを変調するための他の方法および装置は、複数の放射線ビームのセグメントを使用することを含む。このような方法および装置は、ビームが患者に入る前に、放射線ビームの経路中に配置されたラック中の減衰リーフまたはシャッタを用いる。腫瘍はスライスで放射線に曝され、各スライスは、リーフにより選択的にセグメント化される。しかし、この方法および装置の欠点は、組織容積の２つのスライスだけが、ガントリの１回転で治療されることである。スライスは、任意の厚さとすることができるが、可能な限り薄い治療用スライスを選択することにより、より大きな解像度が達成される。治療スライスの厚さが減少するにつれて、ターゲット容積全体を治療するためにはより多くの治療スライスが必要になるため、患者を治療する時間が増加する。
【０００７】
大部分の最近のリニアックは、元々、ＩＭＲＴ用に設計されていない従来のＭＬＣを含んでいる。従来のＭＬＣ技法は、ＭＬＣの設計に基づいた限定された線量の適合性、ビーム数、および治療時間を提供する。ＩＭＲＴ装置は、現在のコリメータ技術により制限された、厳密な位置および速度許容差を必要とする。したがって、線量適合性および解像度を改善する動的なＩＭＲＴ装置上で使用するための改良されたコリメータシステムおよび方法が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、Ｃｏ−６０またはリニアックベースのＩＭＲＴ装置内のマルチスライスのコリメーション放射線療法を提供する。それは、放射線ビームの１回転で、（複数の患者のＣＴスライスを含む）治療容積を照射することによりＩＭＲＴを送達するシステムおよび方法である。システムは、枢動するリーフの２次元配列を備えるコリメーションデバイスを含み、それは、ガントリが患者の周りを回転すると、放射線ビームの経路中に時間的に配置される。枢動するリーフの２次元配列は、２つの変調スリット開口部の２次元配列内に配置される。このリーフは、第１の状態と第２の状態との間を独立して移動可能である。放射線ビームの強度は、各リーフがビームを減衰させるためにスリット開口部中に存在する時間を制御することによって変調される。本発明では、１回のガントリ回転で複数のスライスが同時に照射される。
【０００９】
一実施形態では、本発明は、複数のリーフアセンブリを含むコリメータを備える放射線療法治療システムを提供する。各リーフアセンブリは、支持構造体と、支持構造体によって支持され、かつそこから延びる複数の部材とを有する。さらにリーフアセンブリは、それぞれが部材の１つにより支持され、作動したとき第１の位置と第２の位置との間を移動するように適合された複数のリーフを含む。リーフアセンブリの配置は２次元配列を提供し、コリメータは、複数のスライスで患者に放射線を送達するように動作可能である。
【００１０】
他の実施形態では、本発明は、ガントリ、コリメータ、およびコントローラを備える放射線療法治療システムを提供する。コリメータはガントリにより支持され、複数のリーフアセンブリを含む。各リーフアセンブリは、支持構造体と、支持構造体により支持され、かつそこから延びる複数の部材とを有する。各リーフアセンブリは、さらにそれぞれが部材の１つにより支持され、作動したとき移動するように適合された複数のリーフと、それぞれが部材の１つにより支持され、リーフの１つに結合された複数の作動子とを含む。リーフアセンブリの配置は２次元配列を提供し、コントローラは、作動子に選択的に命令して、リーフを移動させ、放射線ビームの時間的、空間的変調を提供するように動作可能である。
【００１１】
他の実施形態では、本発明は、患者に放射線療法治療を送達する方法を提供する。本方法は、放射線源、および患者の周りを回転するように動作可能なガントリを含む放射線療法治療システム中に患者を配置する工程と、放射線源により生成された放射線ビームを時間的、空間的に変調する工程と、ガントリの１回転中に、患者に対して複数の放射線スライスを送達する工程とを含む。
【００１２】
さらに他の実施形態では、本発明は、コリメータと、患者に対して複数の放射線スライスを送達するための、コリメータにより支持された手段とを備える放射線療法治療システムを含む。
【００１３】
本発明は、ＩＭＲＴを使用することにより、またはＩＭＲＴをより低価格のＣｏ―６０放射線療法装置に組み込むことにより、臨床的なＣｏ―６０ＩＭＲＴを可能にする。本発明は、既存のＣｏ―６０放射線療法装置またはリニアックベースの放射線療法装置に後付けすることもできる。
【００１４】
本発明の他の諸態様は、詳細な説明および添付の図面を検討することによって明らかになろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の任意の実施形態を詳細に説明する前に、本発明は、その用途が、以下の説明で述べられる、または以下の図面で例示されるコンポーネントの構成および配置の細部に限定されないことを理解されたい。本発明は、他の実施形態も可能であり、様々な方法で実施され、または実行され得る。さらに、本明細書で使用される表現法および用語は説明のためのものであり、限定するものと見なすべきではないことを理解されたい。「含む」、「備える」、または「有する」、およびその類義語を本明細書で使用する場合は、その後に列挙された項目およびその等価物、ならびに追加の項目を包含することを意味する。他の形で指定されまたは限定されない限り、用語「設置される／取り付けられる」、「接続される」、「支持される」、「結合される」、およびその類義語は、広義に用いられ、かつ直接的、間接的に、設置する／取り付ける、接続する、支持する、および結合することを包含する。さらに、「接続される」、および「結合される」は、物理的または機械的な接続もしくは結合に限定されない。
【００１６】
本明細書で図面を説明する場合に、上側、下側、下方向、上方向、後方向、底部、前方、後方などの方向の参照が行われることがあるが、これらの参照は、便宜上、図面（を普通に見たとき）に対して行われる。これらの方向は文字通りに解釈されるべきではなく、または、どんな形であれ、本発明を限定することは意図されていない。さらに、「第１」、「第２」、および「第３」などの用語は、説明のために本明細書で使用されるが、相対的な重要性または意義を指示または意味することを意図していない。
【００１７】
さらに、本発明の諸実施形態は、ハードウェア、ソフトウェア、および電子コンポーネントもしくはモジュールを共に含み、それらは、説明のために、コンポーネントの大部分がハードウェア中に単独で実装されるかのように例示され、述べられ得ることを理解されたい。しかし、当業者であれば、この詳細な説明を読んだことに基づき、少なくとも１つの実施形態において、本発明の電子ベースの態様がソフトウェアで実施され得ることが理解されるはずである。したがって、複数のハードウェアおよびソフトウェアベースのデバイス、ならびに複数の異なる構造的コンポーネントが、本発明を実施するために使用され得ることに留意されたい。さらに、また次の段落で述べるように、図面で示された特有の機械的な構成は、本発明の諸実施形態を例示すること、および他の代替の機械的な構成も可能であることが意図されている。
【００１８】
図１は、患者１４に放射線療法を提供できる放射線療法治療システム１０を示す。多くの場合、放射線は患者１４の特定の部位または部分に送られるが、それはターゲット１８として参照され、かつ示されている。放射線療法治療システム１０はガントリ２２を含む。図面に示されているガントリ２２はリングガントリ、すなわち、完全に３６０°の弧で延びて完全なリングまたは円を作るガントリであるが、他のタイプの取付け構成もまた使用され得る。例えば、Ｃ型または部分的リングガントリを使用することもできる。患者に対して、様々な回転方向の、かつ／または軸方向の位置に放射線源を配置できる他の任意の構造物もまた、使用され得る。
【００１９】
ガントリ２２は放射線源２６を支持する。放射線源２６は、光子照射のビーム３４を生成するために動作可能な直線加速器３０、またはＣｏ−６０源を含むことができる。他の放射線源もまた使用され得る。例えば、コバルト６０放射線源、または患者に対して療法上もしくは診断上で利点のある放射線を送達できる任意の他の源である。放射線源２６はまた、放射線ビーム３４を変更または変調するように動作可能な変調デバイス３８を含むこともできる。変調デバイス３８は、患者１４に送達される光子照射の強度を変える、または変調するために必要な変調を行う。このような変調は、強度変調放射線治療（「ＩＭＲＴ」）と呼ばれる場合がある。
【００２０】
変調デバイス３８は、図２に示すようにコリメーションデバイス４２を含むことができる。コリメーションデバイス４２は、放射線ビーム３４が通過できる開口部４８の寸法を画定し、調整する１組の顎部４６を含む。顎部４６は、上側顎部５０および下側顎部５２を含む。上側顎部５０および下側顎部５２は、開口部４８の寸法を調整するように移動可能である。下側顎部５２はまた、１回のスライスのためのビーム３４の幅を調整することもできる。
【００２１】
コリメーションデバイス４２はまた、強度変調を提供するために、第１と第２の位置の間を移動するように動作可能な複数のリーフアセンブリ５４含む。リーフアセンブリ５４のそれぞれは、第１と第２の位置の間を移動できるリーフ５８を含む。複数のリーフアセンブリ５４および顎部４６は、放射線ビーム３４がターゲット１８に達する前に、放射線ビーム３４の強度、寸法、および形状を変調する。顎部４６は、開口部４８の寸法が、治療パラメータに従って調整できるように、（モータ、エアシリンダ、リレー、液圧シリンダなど）作動子６２によって独立して制御される。作動子６２は、コンピュータ６６、コントローラ、または同様のデバイスにより制御され得る。
【００２２】
概して、放射線ビームスライスの厚さは、隣接するリーフアセンブリ５４間の空間により画定される。スライス厚は、隣接するリーフアセンブリ５４間の空間よりも狭いスライス厚に画定する位置に下側顎部５２を閉じることにより変更することができる。複数のリーフアセンブリ５４は、複数の放射線ビームスライスを画定し、複数の放射線ビームスライスにターゲット１８を貫通させることができる。マルチスライス放射線療法を送達するための一技法は、各リーフアセンブリ５４が、隣接するリーフアセンブリ５４により治療される部位に達するまで治療スライスを提供することである。例えば、ガントリ２２がターゲット１８の周りを回転すると、リーフアセンブリ５４は、順次、活動化されて、その治療スライスを送達する。あるいは、リーフアセンブリ５４のすべて（または処方されたいくつか）が、治療スライスを送達するようにも活動化され得る。マルチスライス放射線療法を送達するための他の技法は、延長されたターゲット１８に対して規定される。各リーフアセンブリ５４は、図９に関して以下で論ずるように、ターゲット１８の容積全体を治療するように放射線スライスを送達する。
【００２３】
放射線療法治療システム１０はまた、放射線ビーム３４を検出するように動作可能な検出装置７０（図１）、患者１４を支持するための治療台７４、およびコンピュータ６６により提供される命令に基づいて、治療台７４の位置を操作するように動作可能な駆動システム７８を含むことができる。直線加速器３０またはＣｏ−６０源および検出装置７０はまた、患者１４のＣＴ画像を生成するためのコンピュータ断層撮影（ＣＴ）システムとして動作することもできる。直線加速器３０は、患者１４中のターゲット１８に向けて放射線ビーム３４を送る。ターゲット１８および周囲組織は放射線の一部を吸収する。
【００２４】
ＣＴ画像は、扇形の幾何形状、マルチスライス幾何形状、または円錐ビーム幾何形状を有する放射線ビーム３４を用いて取得され得る。さらに、ＣＴ画像は、メガボルトまたはキロボルトのエネルギを送達する直線加速器３０またはＣｏ−６０源を用いて取得され得る。取得されたＣＴ画像は、放射線療法治療システム１０から、または他のＣＴスキャナ、ＭＲＩシステム、およびＰＥＴシステムなど、他の画像取得デバイスからも取得され得ることもまた留意されたい。例えば、患者１４のために前に取得されたＣＴ画像は、識別された関心部位および／または危険な部位を含むことができる。患者１４のために新たに取得されたＣＴ画像は、前に取得されたＣＴ画像と共に登録されて、新たなＣＴ画像中で、関心の部位および／または危険な部位を識別するのを助けることができる。
【００２５】
いくつかの実施形態では、放射線療法治療システム１０は、Ｘ線源およびＣＴ画像検出装置を含むことができる。Ｘ線源およびＣＴ画像検出装置は、画像データを取得するために、直線加速器３０またはＣｏ−６０源および検出装置７０と同様な方法で動作する。画像データは、コンピュータ６６に送信され、処理されて、患者の体組織および器官の断面画像または「スライス」を生成する。
【００２６】
図２に示すコンピュータ６６は、様々なソフトウェアプログラム、および／または通信アプリケーションを動作させるためのオペレーティングシステム８２を含む。具体的には、コンピュータ６６は、コンピュータ６６と、放射線療法治療システム１０またはレーザ位置決めシステムもしくは他のコンピュータなど、放射線治療プロセスを助ける他のデバイスとの間の通信を容易にするソフトウェアプログラムもしくはプログラム８６を含むことができる。コンピュータ６６は、医療人員または技術者によりアクセスされるように適合された適切な入力／出力デバイスを含むことができる。コンピュータ６６は、プロセッサ、Ｉ／Ｏインターフェース、および記憶装置またはメモリなどの典型的なハードウェアを含むことができる。コンピュータ６６はまた、キーボードおよびマウスなどの入力デバイスを含むことができる。コンピュータ６６はさらに、モニタなどの出力デバイスを含むことができる。さらに、コンピュータ６６は、プリンタおよびスキャナなどの周辺装置を含むことができる。
【００２７】
本発明の一実施形態によると、コリメーションデバイス４２は、図２に示すように、複数のリーフアセンブリ５４またはリーフバンクを含む。隣接するリーフアセンブリ５４間の空間は、放射線ビーム３４のための経路９０（図３を参照）を画定する。１つのリーフアセンブリ５４だけが本明細書で説明されているが、この説明は複数のリーフアセンブリ５４のそれぞれに適用されることに留意されたい。リーフアセンブリ５４は、複数のリーフ５８を支持するように適合された支持構造体またはフレーム９４を含む。リーフ５８は、概して、互いに隣接して配置されるが、隣接するリーフ５８間に空間を含むこともできる。さらに、リーフ５８の側面は、例えば、さね継ぎ（tongue and groove）構成で、角度を付けるか、先細りにすることができ、隣接するリーフ間の放射線漏れの可能性を低減する。コリメータ４２および／またはリーフアセンブリ５４は、放射線ビーム３４を減衰させるように、かつスライス厚を画定するように適合された放射線減衰材料（図３を参照）を有する一次コリメータ６０を含むことができる。放射線減衰材料は、タングステン、タングステン合金、または他の適切な材料を含むことができる。放射線減衰材料６０は、リーフ５８の上に配置され、図３に示されたものよりも放射線源２６に近接して配置することができる。減衰材料６０は、放射線源２６に対して分散するように配置されることに留意されたい。例えば、減衰材料６０は、概して、図２に示されたリーフアセンブリの分散に従う。
【００２８】
図３でより明確に示すように、リーフアセンブリ５４は、フレーム９４から、概して、下方向に延びる壁、または部材９８を含む。部材９８は第１の端部１０２、および第２の端部１０６を含む。部材９８は、第１の端部１０２の近くに、複数の開口部１１０を含み（図２を参照）、それぞれが、リーフ５８の１つの少なくとも一部分を受け入れるように適合される（以下を参照のこと）。部材９８は、第２の端部１０６の近くに、部材９８に対して実質的に直角をなす方向に延びるように適合されたリップ部１１４を含む。リップ部１１４は部材９８の長さを延長し、複数のスリット１１８を含む。各スリット１１８は、リーフ５８の１つの少なくとも一部分を受け入れるように適合される。フレーム９４、部材９８、およびリップ部１１４は、鋼または他の適切な材料から構成され得る。
【００２９】
リーフアセンブリ５４はまた、フレーム９４および部材９８に結合された複数のリーフガイド１２２を含むことができる。リーフガイド１２２は、隣接するリーフガイド１２２間に空間を有した状態で、部材９８の長さに沿って第１の端部１０６の近くに配置される。各リーフガイド１２２は、リーフ５８の１つの少なくとも一部分を受け入れるように適合された凹部１２６を含む。リーフガイド１２２は、リーフ５８がシャフト１３０の周りを枢動するように、リーフ５８を受け入れるように適合されたシャフト１３０を含む。
【００３０】
各リーフ５８は、第１の位置１３４から第２の位置１３８にその各シャフト１３０の周りを枢動するように適合される。例えば、リーフ５８は、第１の位置１３４（閉鎖位置）から第２の位置１３８（開放位置）に、または第１の位置１３４と第２の位置１３８との間の位置に枢動することができる。リーフ５８は、タングステン、タングステン合金、または他の適切な材料から構成され得る。
【００３１】
リーフ５８は、ばねまたは他の弾性デバイスなどの偏倚デバイス１４２を用いて、第１の位置１３４、例えば、閉鎖位置に向けて偏倚される。偏倚デバイス１４２はフレーム９４に結合され、概して、部材９８と平行な方向に延びる。偏倚デバイス１４２は、リーフ５８に対して、概して下方向の力を加え、それにより、リーフ５８を第１の位置１３４（閉鎖位置）へとシャフト１３０の周りで枢動させる。リーフ５８の位置決めは、独立した作動子１４６（モータ、エアシリンダ、ソレノイド、液圧シリンダなど）によって制御されて、放射線の通過を可能にし、または遮断する。この構成では、作動子１４６は、空気圧により移動されるピストンを有するエアシリンダである。他の構成では、作動子１４６は、リーフ５８を移動するための電気機械式手段または液圧手段を含むことができる。
【００３２】
図２および図３で示すように、作動子１４６はピストン１４８を含み、それは部材９８と概して平行な方向に移動して、上方向に向けた力をリーフ５８に加える。この力は偏倚デバイス１４２を圧縮し、リーフ５８を、第２の位置１３８に向かう方向に、または第１の位置１３４と第２の位置１３８の間の位置に移動させる。リーフ５８に対するピストン１４８の上方向の力は、経路９０を開放させて、放射線ビーム３４が経路９０を通過できるようにする。放射線ビーム３４は、コリメーションデバイス４２中の各リーフ５８の位置に基づいて変調される。
【００３３】
各作動子１４６は、コンピュータ６６により制御される。コンピュータ６６は、放射線量に対する処方を含む患者の治療計画に関する入力を、ソフトウェアプログラム８６を介して受け取る。コンピュータ６６は、治療計画を処理して、ガントリ２２が患者１４の周りを回転するとき、リーフ５８および対応する作動子１４６のそれぞれの位置およびタイミングを決定する。例えば、例示の図２および図３の構成では、対応するリーフ５８が第１の位置１３４から第２の位置１３８に移動し、処方された線量およびガントリ位置に基づき各経路９０を放射線ビーム３４が通過できるように、コンピュータ６６は、作動子１４６の１つに対して、一定の距離を移動し、所定の時間期間の間、特定の位置に留まるように命令する。
【００３４】
図３、図４Ａ、および図４Ｂを参照すると、リーフ５８は第１の部分１５０を含み、それは、リーフ５８が、リーフガイド１２２のシャフト１３０上に配置され、かつ第２の位置１３８に配置されたとき、部材９８に対して概して平行に延びる軸１５８を含む。第１の部分１５０は、第１の端部１６２および第２の端部１６６を含む（図４Ｂを参照のこと）。第１の端部１６２は、リーフガイド１２２のシャフト１３０を受け入れるように適合された開口部１７０と、第１の部分１５０の軸１５８に対して概して直角をなす方向に延びる延長部１７４とを含む。
【００３５】
第１の部分１５０は、概して、軸１５０と平行に方向付けられた上側表面１７８と、概して、軸１５０と平行に方向付けられた下側表面１８２とを含む。下側表面１８２は、リーフ５８が第２の位置１３８にあるとき、部材９８と接触し、または実質的に接触する。下側表面１８２は長さ１８６を含み、部材９８のリップ部１１４を超えて延びる。各リーフ５８の下側表面１８２の長さ１８６は、互いに対して変化することができる。上側表面１７８は、リーフ５８の下側表面１８２の長さ１８６に概して満たない長さ１９４を含む。各リーフ５８の上側表面１７８の長さ１９４は、互いに対して変化することができる。第１の部分１５０はさらに、上側表面１７８と下側表面１８２とを接続する表面１９８を含む。表面１９８は、軸１５８に対して角度２０２で方向付けられている。角度２０２は、約１０度から約７５度の範囲とすることができる。表面１９８は、表面１９８の少なくとも一部分から外方向に延びる部材２０６を含む。部材２０６は、リーフ５８が第１の位置１３４にあるとき、隣接するリーフアセンブリ５４のリップ部１１４のスリット１１８中に受け入れられるように適合される。
【００３６】
リーフ５８の第１の部分１５０はまた、前方表面２１０および後方表面２１４を含む。リーフ５８は、前方表面２１０に結合された前方部材２１８、および後方表面２１４に結合された後方部材２２２を含む。前方部材２１８については、ここで前方表面２１０に関してさらに説明し、後方部材２２２はこれ以上論ずることはないが、後方部材２２２は、後方表面２１４に対して同様に配置されることに留意されたい。
【００３７】
前方部材２１８は、リーフ５８の第１の部分１５０の上側表面１７８に対して、概して、同一平面である上側表面２２６を含む。例えば、前方部材２１８の上側表面２２６は、概して、リーフ５８の軸１５８に対して平行である。前方部材２１８はまた、リーフ５８の第１の部分１５０の下側表面１８２に対して概して同一表面である下側表面２３０を含む。例えば、前方部材２１８の下側表面２３０は、概して、リーフ５８の軸１５８に対して平行である。前方部材２１８はさらに、上側表面２２６と下側表面２３０とを接続し、概して、リーフ５８の第１の部分１５０の表面１９８に対して同一平面である表面２３４を含む。リーフ５８の他の構成では、前方部材２１８の上側表面２２６、下側表面２３０、および表面２３４は、第１の部分１５０の各上側表面１７８、下側表面１８２、および表面１９８を超えて延びることができ、したがって、前方部材２１８の上側表面２２６、下側表面２３０、および表面２３４は、第１の部分１５０の上側表面１７８、下側表面１８２、および表面１９８と、それぞれ、同一平面ではない。
【００３８】
図４Ａおよび図４Ｂで示すように、リーフ５８は、第１の部分１５０、前方部材２１８、および後方部材２２２の３つのコンポーネントを有するように示されているが、いくつかの構成では、リーフ５８は、単一のコンポーネントとして構成される。リーフ５８は、タングステン、タングステン合金、または他の適切な材料から構成される。
【００３９】
複数のリーフアセンブリ５４は、図５Ａ〜図５Ｃに示されるように、放射線経路９０（ビームレット）の配列２５０を作成する。放射線経路９０の配列２５０は、放射線源２６の時間的かつ空間的な変調を行う。経路９０の配列２５０は、複数のスライスで患者１４に放射線治療を送達することができる。単一のスライス２５４は、単一のリーフアセンブリ５４の隣接するリーフ５８の経路９０により画定される。図５Ａ〜図５Ｃは、単一のスライス２５４を垂直の列として、またリーフアセンブリ５４を配列２５０中の列として示している。具体的には、図５Ａは、各リーフ５８が第１の（すなわち、閉鎖された）位置１３４にあるリーフアセンブリ５４の配列を示す。図５Ｂは、各リーフ５８が、第２の（すなわち、開放された）位置１３８にあるリーフアセンブリ５４の配列を示す。図５Ｃは、いくつかのリーフ５８が第１の位置１３４にあり、いくつかのリーフ５８が第２の位置１３８にあるリーフアセンブリ５４の配列を示している。
【００４０】
図６は、コリメーションデバイス４２の他の独立した構成を示す。コリメーションデバイス４２は、複数のリーフアセンブリ２７０またはリーフバンクを含む。隣接するリーフアセンブリ２７０間の空間は、放射線ビーム３４のための経路２７４を画定する。ここでは、１つのリーフアセンブリ２７０だけが説明されるが、複数のリーフアセンブリ２７０のそれぞれにこの説明が適用されることに留意されたい。リーフアセンブリ２７０は、複数のリーフ２８２を支持するように適合された支持構造体またはフレーム２７８を含む。リーフ２８２は、概して、互いに隣接して配置されるが、隣接するリーフ２８２を空間で分離することもできる。
【００４１】
リーフアセンブリ２７０は、フレーム２７８から概して下方向に延びる壁または部材２８６を含む。部材２８６は、第１の端部２９０および第２の端部２９４を含む。部材２８６は、第１の端部２９０の近くに、第１の位置３０２（例えば、開放位置）から第２の位置３０６（例えば、閉鎖位置）に、または第１の位置３０２と第２の位置３０６の間の位置にリーフ２８２を移動させるように適合された作動子２９８を含む。フレーム２７８および部材２８６は、鋼または他の適切な材料から構成され得る。
【００４２】
リーフ２８２は、概して、部材２８６と平行に延びる軸３１０を含む。リーフ２８２は、リーフ２８２が第１の位置３０２にあるとき、概して、軸３１０および部材２８６と平行となるように方向付けられた第１の表面３１４を含む。第１の表面３１４は、リーフ２８２が第１の位置３０２にあるとき、部材２８６と接触し、または実質的に接触する。第１の表面３１４は、部材２８６の第２の端部２９４を超えて延びる長さ３１８を含む。各リーフ２８２の第１の表面３１４の長さ３１８は、互いに対して変化させることができる。リーフ２８２はまた、概して、軸３１０および部材２８６に対して平行であるように方向付けられた、第１の表面３１４の反対側の第２の表面３２２を含む。第２の表面３２２は、概して、リーフ２８２の第１の表面３１４の長さ３１８に満たない長さ３２６を含む。各リーフ２８２の第２の表面３２２の長さ３２６は、互いに対して変化させることができる。第２の表面３２２は、隣接するリーフアセンブリ２７０の部材２８６と接触するように、または実質的に接触するように適合される。リーフ２８２はさらに、第１の表面３１４と第２の表面３２２を接続する第３の表面３３０を含む。第３の表面３３０は、軸３１０に対して角度３３４で方向付けられる。
【００４３】
リーフ２８２は、ばねまたは他の弾性デバイスなどの偏倚デバイス３３８を用いて第２の位置３０６、例えば、閉鎖位置の方向に、あるいは、第２の表面３２２が隣接する部材２８６と実質的に接触する方向に偏倚される。リーフ２８２の位置決めは作動子２９８により制御される。この構成では、作動子２９８は、空気圧により移動されるピストンを有するエアシリンダである。他の構成では、作動子２９８は、リーフ２８２を移動させるための電気機械式手段、または液圧手段を含むことができる。図６で示すように、作動子２９８はピストン４４２を含み、それは、概して、部材２８６と平行な方向に移動して下方向の力をリーフ２８２に加え、その力が、偏倚デバイス３３８を圧縮し、リーフ２８２を、第１の位置３０２の方向に、または第１の位置３０２と第２の位置３０６の間の位置の方向に移動させる。リーフ２８２に対するピストン４４２の下方向力は、経路２７４を開放させ、放射線ビーム３４が経路２７４を通過できるようにする。放射線ビーム３４は、コリメーションデバイス４２のこの構成における各リーフ２８２の位置に基づいて変調される。
【００４４】
各作動子２９８はコンピュータ６６により制御される。コンピュータ６６は、放射線量に対する処方を含む患者の治療計画に関する入力を、ソフトウェアプログラム８６を介して受け取る。コンピュータ６６は、治療計画を処理して、ガントリ２２が患者１４の周りを回転するとき、リーフ２８２および対応する作動子２９８のそれぞれの位置およびタイミングを決定する。例えば、図６に例示された構成では、対応するリーフ２８２が第２の位置３０６から第１の位置３０２に移動して、処方された線量およびガントリ位置に基づき各経路２７４を通過する放射線ビーム３４を減衰させるように、コンピュータ６６は、作動子２９８の１つに対して、一定の距離を軸３１０に沿って移動し、所定の時間期間の間、特定の位置に留まるように命令する。
【００４５】
複数のリーフアセンブリ２７０は、図５Ａ〜図５Ｃに示すように、放射線経路２７４（ビームレット）の配列２５０を作成する。放射線経路２７４の配列２５０は、放射線源２６の時間的かつ空間的変調を行う。経路２７４の配列２５０は、複数のスライスで患者１４に放射線治療を送達することができる。単一のスライス２５４は、各リーフアセンブリ２７０のそれぞれの同じ位置における各リーフ２８２からの経路２７４を含む。例えば、単一のスライス２５４は、各リーフアセンブリ２７０の第１のリーフ２８２の経路２７４によって画定される。図５Ａ〜図５Ｃは、単一のスライス２５４を水平の行として、リーフアセンブリ２７０を配列２５０における列として示している。具体的には、図５Ａは、各リーフ２８２が第２の位置３０６にあるリーフアセンブリ２７０の配列を示す。図５Ｂは、各リーフ２８２が、第１の位置３０２にあるリーフアセンブリ２７０の配列を示す。図５Ｃは、いくつかのリーフ２８２が第１の位置３０２にあり、いくつかのリーフ２８２が第２の位置３０６にあるリーフアセンブリ２７０の配列を示している。
【００４６】
図７および図８は、コリメーションデバイス４２の他の構成を示す。この構成では、コリメーションデバイス４２は、複数のリーフアセンブリ４５０を含む。隣接するリーフアセンブリ４５０間の空間は、放射線ビーム３４のための経路４５４を画定する。各リーフアセンブリ４５０またはリーフバンクは、複数のリーフ４６２を支持するように適合された支持構造体またはフレーム４５８を含む。リーフ４６２は、概して、互いに隣接して配置されるが、隣接するリーフ４６２を空間で分離することもできる。
【００４７】
リーフアセンブリ４５０は、概してフレーム４５８から下方向に延びる壁または部材４６６を含む。部材４６６は、第１の端部４７０および第２の端部４７４を含む。部材４６６は、第２の端部４７４の近くに、部材４６６に対して実質的に直角をなす方向に延びるように適合されたリップ部４７８を含む。図８に示すように、リップ部４７８は部材４６６の長さを延長することができ、いくつかの構成では、複数のスリット４８２を含む。各スリット４８２は、リーフ４６２の１つの少なくとも一部分を受け入れるように適合される。フレーム４５８、部材４６６、およびリップ部４７８は、鋼または他の適切な材料から構成され得る。
【００４８】
リーフアセンブリ４５０は、フレーム４５８に結合されたシャフト４８６を含む。各リーフ４６２は、第１の位置４９０から第２の位置４９４へと、その各シャフト４８６の周りで枢動するように適合される。例えば、リーフ４６２は、第１の位置４９０（閉鎖位置）から、第２の位置４９４（開放位置）に、または第１の位置４９０と第２の位置４９４の間の位置に枢動することができる。リーフ４６２は、タングステン、または他の適切な材料から構成され得る。
【００４９】
いくつかの構成では、リーフアセンブリ４５０は、フレーム４５８および部材４６６に結合された複数のリーフガイド４９８（図８）を含むことができる。リーフガイド４９８は、隣接するリーフガイド４９８間に空間を有した状態で、部材４６６の長さに沿って第１の端部４７０の近くに配置される。各リーフガイド４９８は、リーフ４６２の１つの少なくとも一部分を受け入れるように適合された凹部５０２を含む。リーフガイド４９８は、リーフ４６２が第１の位置４９０から、第２の位置４９４に、または第１の位置４９０と第２の位置４９４の間の任意の位置に移動するとき、リーフ４６２の位置を支持し、かつガイドするように適合される。
【００５０】
リーフ４６２は、リーフが第２の位置４９４に配置されたとき、概して、部材４６６に平行に延びる軸５０６を含む。リーフ４６２は、リーフが第２の位置４９４に配置されたとき、概して、軸５０６および部材４６６に対して平行に方向付けられた第１の表面５１０を含む。第１の表面５１０は、部材４６６と接触し、または実質的に接触する。第１の表面５１０は、部材４６６の第２の端部４７４を超えて延びる。リーフ４６２はまた、概して、第１の表面５１０に平行となるように方向付けられた第２の表面５１４を含む。各リーフ４６２の第１の表面５１０および第２の表面５１４の長さは、互いに対して変化させることができる。リーフ４６２はさらに、第１の表面５１０と第２の表面５１４を接続する第３の表面５１８を含む。第３の表面５１８は、軸５０６に対して角度５２２で方向付けられている。
【００５１】
いくつかの構成では、第３の表面５１８は、表面５１８の少なくとも一部分から外方向に延びる部材５２６または第２のリーフガイドを含むことができる。部材５２６は、リーフ４６２が第１の位置４９０にあるとき、隣接するリーフアセンブリ４５０のリップ部４８２のスリット５０２中に受け入れられるように適合される。部材５２６は、リーフ４６２が、第１の位置４９０から第２の位置４９４に、または第１の位置４９０と第２の位置４９４の間の任意の位置に移動したとき、リーフ４６２の位置を支持し、かつガイドするように適合される。
【００５２】
リーフ４６２は、ばねまたは他の弾性デバイスなどの偏倚デバイス５３０を用いて、第１の位置４９０、例えば、閉鎖位置の方向に偏倚される。リーフ４６２の位置決めは、独立した作動子５３４により制御される。この構成の作動子５３４は、プルタイプのソレノイド５３８を含み、複数のプルタイプソレノイドを含むことができる。ソレノイド５３８は、リーフ４６２に結合されたリンク５４２またはプランジャを含む。リンク５４２は、リーフ４６２の第１の表面５１０の近くでリーフ４６２に結合され得る。プルタイプソレノイド５３８は、磁場が生成されたとき、リンク５４２を用いてリーフ４６２に第２の位置４９４の方向に（例えば、部材４６６の方向に）力を加え、または引くように動作する。磁場の生成は、リーフ４６２に放射線ビーム３４が通過するための経路４５４を開放させる。磁場が非活動化されると、偏倚デバイス５３０がリーフ４６２に力を加え、リーフ４６２を第１の位置４９０の方向に（例えば、隣接するリーフアセンブリ４５０の部材４６６の方向に）押す。放射線ビーム３４は、各リーフ４６２の位置に基づいて変調される。
【００５３】
各作動子５３４はコンピュータ６６により制御される。コンピュータ６６は、放射線量に対する処方を含む患者の治療計画に関する入力を、ソフトウェアプログラム８６を介して受け取る。コンピュータ６６は、治療計画を処理して、ガントリ２２が患者１４の周りを回転するとき、リーフ４６２および対応する作動子５３４のそれぞれの位置およびタイミングを決定する。例えば、図７および図８に例示された構成では、対応するリーフ４６２が第１の位置４９０から第２の位置４９４に移動して、処方された線量およびガントリ位置に基づき各経路４５４を通過する放射線ビーム３４を減衰させるように、コンピュータ６６は、ソレノイド５３８の１つに対して、所定の時間期間の間、磁場を生成し、または磁場を非活動化するように命令する。
【００５４】
複数のリーフアセンブリ４５０は、図５Ａ〜図５Ｃで示す放射線経路４５４（ビームレット）の配列２５０を作成する。リーフアセンブリ４５０の配列２５０は、複数のスライス２５４で患者１４に放射線治療を送達することができる。放射線経路４５４の配列２５０は、放射線源２６の時間的かつ空間的な変調を行う。単一のスライス２５４は、各リーフアセンブリ４５０のそれぞれ同じ位置における各リーフ４６２の経路４５４を含む。例えば、単一のスライス２５４は、各リーフアセンブリ４５０の第１のリーフ４６２の経路４５４によって画定される。図５Ａ〜図５Ｃは、単一のスライス２５４を水平の行として、またリーフアセンブリ４５０を配列２５０の１つの列として示している。具体的には、図５Ａは、各リーフ４６２が第１の位置４９０にあるリーフアセンブリ４５０の配列を示す。図５Ｂは、各リーフ４６２が、第２の位置４９４にあるリーフアセンブリ４５０の配列を示す。図５Ｃは、いくつかのリーフ４６２が第１の位置４９０にあり、いくつかのリーフ４６２が第２の位置４９４にあるリーフアセンブリ４５０の配列を示している。
【００５５】
コリメーションデバイス４２のいくつかの構成では、センサ５５８または複数のセンサが、各リーフアセンブリ５４、２７０、および４５０の各リーフ５８、２８２、および４６２で使用され得る。センサ５５８は、偏倚デバイス１４２、３３８、および５３０の変位量を検出することができ、リーフ５８、２８２、および４６２が、開放、閉鎖、開放動作中、または閉鎖動作中であるかどうかを判定する。センサ５５８はまた、リーフ５８、２８２、および４６２が、開放、閉鎖、開放動作中、または閉鎖動作中であるかどうかを判定するために、ピストンおよび／または作動子の移動を検出するように配置することもできる。
【００５６】
図９は、本発明のコリメーションデバイス４２を用いた放射線送達方法を概略的に示す。コリメーションデバイス４２は、複数のリーフアセンブリ５５０（各リーフアセンブリ５５０は、各行の影付きボックスの１つで表される）を含み、各リーフアセンブリ５５０は複数のリーフ５５４を含む。リーフアセンブリ５５０は、複数の行で方向付けられており、１つの行のリーフアセンブリ５５０は、隣接する行のリーフアセンブリ５５０に対してオフセットされている。リーフアセンブリ５５０は、上記で述べたリーフアセンブリ５４、２７０、または４５０の形態とすることができる。同様に、リーフ５５４は、上記で述べたリーフ５８、２８２、または４６２の形態とすることができる。各リーフアセンブリ５５０は、放射線源からの異なる分散を有する放射線経路を画定する。
【００５７】
ガントリ回転の軸におけるリーフアセンブリ５５０相互間の距離（Ｓ）、放射線スライス幅（ｗ）、およびガントリ回転ごとの治療台の移動距離（Ｄ）は、スライス間の接合効果を最小化し、最適な放射線送達を達成するように調整され得る。ピッチは、回転の軸における軸方向ビーム幅に対する、完全にガントリ回転するための治療台の移動距離である。距離Ｄがｗに等しく設定された場合、スライス（Ｓ）とスライス幅（ｗ）の間で適切な間隔を選択することにより、実ピッチが１、仮想ピッチが１未満で、延長された距離に対して放射線を送達することができる。放射線送達のためのこの方法は、リーフアセンブリ５５０の異なる分散により生成される結合作用を回避するので、線量のリップルを最小化することができる。例えば、３つのスライスコリメータの場合、回転ごとに移動される治療台の距離（Ｄ）が、選択されたスライス幅（ｗ）に等しく設定され、かつスライス間隔（Ｓ）が、数式１により定義されるように選択された場合、
【００５８】
【数１】
2008531172.tif 000003
【００５９】
１／３の仮想ピッチを有する送達が作成されることになる（すなわち、患者の各位置は、３つのコリメートされたスライスのそれぞれで照射される）。これは遠位のリーフアセンブリ５５０を超えるスライスにも適用される。
【００６０】
図９に示す実施形態は、延長されたターゲット距離で使用することができる。各リーフアセンブリ５５０は、ターゲット容積全体を貫通する治療スライスを提供する。この実施形態では、下側顎部５２が移動して、患者１４を照射することのできるリーフアセンブリ５５０を決定し、選択されたリーフアセンブリ５５０は、ガントリ２２が回転すると、ターゲット１８に対して放射線スライスを送達する。
【００６１】
上記で述べた様々な構成の任意の１つにおけるコリメーションデバイス４２は、Ｃｏ−６０放射線療法装置と共に使用され、強度変調放射線治療を提供することができる。さらに、リニアックベースのＩＭＲＴ装置は、より低い線量を使用し、または短い治療時間で使用することもできる。それはさらに、より大きな容積を治療するために、重複フィールド（患者シフト（shift patient））またはオフセットユニットの使用を可能にする。回転平面におけるよりよい解像度のために、１８０度のコリメータ回転を使用することができる。リーフ相互間の漏れを低減するために、リーフ相互間のさね継ぎ接続を組み込むことができる。さらに、マルチスライスコリメーション放射線療法は、放射線部門の作業負荷のかなりの割合を占める特有の部位（例えば、頭部および首）に対する専用ユニットとして、変更可能な選択肢とすることができる。
【００６２】
本発明の様々な特徴および利点は、添付の特許請求の範囲に記載される。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】放射線療法治療システムの斜視図である。
【図２】図１に示す放射線療法治療システムで使用できる本発明の一実施形態によるマルチリーフコリメータの斜視図である。
【図３】図２のマルチリーフコリメータの側面図である。
【図４Ａ】図２のマルチリーフコリメータのリーフの図である。
【図４Ｂ】図２のマルチリーフコリメータのリーフの図である。
【図５Ａ】図２および図６〜図８のマルチリーフコリメータのリーフの配列を概略的に示す図である。
【図５Ｂ】図２および図６〜図８のマルチリーフコリメータのリーフの配列を概略的に示す図である。
【図５Ｃ】図２および図６〜図８のマルチリーフコリメータのリーフの配列を概略的に示す図である。
【図６】図２のマルチリーフコリメータの他の構成の側面図である。
【図７】図２のマルチリーフコリメータの他の構成の側面図である。
【図８】図２のマルチリーフコリメータの他の構成の側面図である。
【図９】図２のマルチリーフコリメータを用いて放射線を送達する方法を概略的に示す図である。
【図１】
2008531172.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図５ｃ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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