(57)【要約】  シランあるいは他のシリコン含有ガスを含有するガス流の処理方法が記載され、前記方法では、ガス流が、液体リングポンプあるいはスクリュー機構ポンプに導かれ、前記ポンプには、ポンプ内でシリコン含有ガスを酸化させるための酸化剤、および、液体リングを形成するための、あるいはポンプ内を間欠的に洗い流すための液体も供給される。前記液体およびシリコン含有ガスの酸化からの副生物を含有する液体流が、ポンプから排出される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス流をポンプに導くステップと、
ポンプ内のシリコン含有ガスを酸化させるための酸化剤および液体をポンプに供給するステップと、
シリコン含有ガスの酸化からの副生物を含有する前記液体をポンプから排出するステップと、を有する、
ことを特徴とするシリコン含有ガスを含有するガス流の処理方法。
【請求項２】
シリコン含有ガスは、半導体デバイスの製造に使用される前駆物質である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
シリコン含有ガスは、シラン、ジシラン、ジクロロシラン、トリクロロシラン、テトラエチルオルソシリケート（ＴＥＯＳ）、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）のようなシロキサン、およびオルガノシランの１つからなる、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
シリコン含有ガスは、自然発火性である、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
ガス流をポンプに導くステップと、
ポンプ内の自然発火性ガスを酸化させるための酸化剤および液体をポンプに供給するステップと、
自然発火性ガスの酸化からの副生物を含有する前記液体をポンプから排出するステップと、を有する、
ことを特徴とする自然発火性ガスを含有するガス流の処理方法。
【請求項６】
自然発火性ガスは、例えば、シラン、ジシラン、ジクロロシラン、トリクロロシラン、ホスフィン、およびジボランの１つなどの、金属水素化物あるいは非金属水素化物である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
液体は、酸化剤と別々にポンプに供給される、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
液体は、ガス流と別々にポンプに供給される、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
液体は、ポンプに間欠的に供給される、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
酸化剤は、酸素、オゾン、過酸化物およびハロゲン化種の１つである、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
酸素は、空気流あるいは他の酸素含有ガス流中でポンプに供給される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
自然発火性ガスは、例えば、シラン、ジシラン、ジクロロシラン、トリクロロシラン、ホスフィン、ジボランの１つなどの、金属水素化物あるいは非金属水素化物である、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
液体は、水あるいは水溶液からなる、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
ガス流は、５０ｍｂａｒ乃至５００ｍｂａｒの範囲の圧力でポンプに導かれる、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
ポンプは、液体リングポンプであり、液体が液体リングポンプ内で液体リングを形成する、請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
液体は、前記副生物を含有する液体がポンプから排出されるレベル以下でポンプに入る、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
ポンプは、互いに噛み合ったロータを有する、請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
ポンプは、スクリュータイプの排気機構を有する、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
ガス流を受け入れるためのポンプと、
ポンプ内でシリコン含有ガスを酸化させるための酸化剤および液体をポンプに供給するための手段と、
ポンプ内のシリコン含有ガスの酸化からの副生物を含有する液体をポンプから導くための手段と、を有する、
ことを特徴とするシリコン含有ガスを含有するガス流の処理装置。
【請求項２０】
ポンプは、ガス流を受け入れるための第１の入口と、酸化剤を受け入れるための第２の入口と、を有する、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
ポンプは、液体を受け入れるための第３の入口を有する、請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
供給手段は、酸化剤を有するガス流をポンプに供給するための手段を有する、請求項１９乃至２１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２３】
ガス流は、空気、オゾン、過酸化物、およびハロゲン化種の少なくとも１つの流れを有する、請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
供給手段は、水流をポンプに供給するための手段を有する、請求項１９乃至２３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２５】
ポンプは液体リングポンプである、請求項１９乃至２４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２６】
ポンプは、互いに噛み合ったロータを有する、請求項１９乃至２４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２７】
ポンプは、スクリュータイプの排気機構を有する、請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
ガス流をチャンバから吸引するための真空ポンプと、
ガス流を真空ポンプから受け入れるための、請求項１９乃至２７のいずれか１項に記載の装置と、を有する、
ことを特徴とするプロセスチャンバを排気するためのシステム。
【請求項２９】
真空ポンプは、ガス流を５０ｍｂａｒ乃至５００ｍｂａｒの範囲の圧力で排出するように構成される、請求項２８に記載のシステム。
【請求項３０】
パージガスを真空ポンプに供給するための手段を有する、請求項２８または２９に記載のシステム。
【請求項３１】
パージガスは、窒素である、請求項３０に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス流の処理方法および装置に関し、特に、シリコン含有ガス、例えば、シランのような自然発火性ガスを含有するガス流の処理に関する。
【背景技術】
【０００２】
プロセス層をシリコンウエハあるいはフラットパネルディスプレイ上に付着させるために自然発火性ガスの使用が良く知られている。そのようなガスは、シラン、ジシラン、ジクロロシランおよびトリクロロシランを含む。自然発火性ガスは、空気との接触で自発的な且つ制御されていない自然発火反応を起こすことがあるという点で、危険を引き起こす。プロセスツールから排出された廃棄流中の自然発火性ガスの存在により、制御されていない自然発火反応の危険を最小にするために、自然発火性ガスを空気と反応させることによって引火限界以下の濃度まで自然発火性ガスを除去する「燃焼ボックス」あるいは「燃焼チューブ」を用いることが知られている。そのような燃焼チューブデバイスは、一般的に、自然発火性ガス含有流およびチャンバ内で制御された且つ収容された自然発火反応を生じるための空気流を受け入れるための入口を有する反応チャンバと、チャンバから廃棄流を導く排出ダクトと、を含む。
【０００３】
例えば、シランが燃焼するとき、大量のシリカ粉末が形成され、それらは反応チャンバ、入口および下流ダクトを急速に塞ぐ。その結果、デバイスの定期的な清掃を必要とし、それはコストを増大させ、且つプロセスツールの停止時間を招く。更に、もし障害が起これば、デバイスの中の温度が急速に上昇し、火災の危険の可能性を与える。更に、シラン含有ガス流を希釈ガス、典型的には窒素で、廃棄流をプロセスチャンバから吸引するための排気機構の中あるいはそのすぐ後ろで引火しないレベル（１％以下のレベルがしばしば推奨される）まで希釈するのが一般的な方法になっている。そのような希釈は、その後の燃焼チューブの使用を非効率にする。
【０００４】
本発明の少なくとも好ましい実施形態の目的は、これらのおよびその他の問題を解決しようとすることである。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
第１の態様では、本発明は、シリコン含有ガスを含有するガス流の処理方法を提供し、前記方法は、ガス流をポンプに導くステップと、ポンプ内でシリコン含有ガスを酸化させるための酸化剤および液体をポンプに供給するステップと、シリコン含有ガスの酸化からの副生物を含有する前記液体をポンプから排出するステップと、を有する。
【０００６】
一実施形態では、ポンプは液体リングポンプからなる。液体リングポンプは、ロータを有し、該ロータは、ロータ軸がハウジングの中心軸に偏心するように、環状ハウジング内で回転可能に取付けられる。ロータは、ロータから半径方向外方に延び、且つロータの周囲に等しく間隔をへだてられたブレードを有する。水のような多量のポンプ液体が、ハウジング内に維持される。ロータが回転すると、ロータブレードが液体と係合し、そして液体をハウジングの内側に環状リングに形成する。これは、ポンプの入口側では、隣接したロータブレード間に配置された圧縮領域に存在するガスが、ロータハブから半径方向外方に移動し、ポンプの出口側では、ロータハブに向って半径方向内方に移動することを意味する。これにより、ポンプの中を通るガスにピストンタイプの排気作用を及ぼす。
【０００７】
本実施形態では、第１のガス入口はポンプの入口側に設けられるので、シリコン含有ガス、例えばシランを含有するガス流は、液体が半径方向外方に移動する、隣接したロータブレード間の空間の中へ引き込まれる。第２のガス入口も、空気あるいは他の酸素含有ガスのような第２のガス流をハウジングに導くために、ポンプの入口側に設けられる。ハウジング内に液体リングを形成するための液体をハウジングに導くための更なる入口が、典型的には、ポンプの入口側と出口側との間でハウジングの底部に備えられる。
【０００８】
ハウジング内ではシランの気相酸化が起こる。例えば、酸化剤が酸素のとき、酸化によりシリカ（ＳｉＯ2）を形成し、それは、液体リング内に同伴される。出口が出口側に設けられるので、液体および反応からのこの固体副生物を含有する液体流を、ポンプに入る第１および第２のガス流のあらゆる他の成分と一緒にポンプから排出することができる。
【０００９】
別の実施形態では、ポンプは、スクリューポンプ機構、好ましくはマルチロータスクリュー機構を有する。マルチロータスクリュー機構ポンプは、ガスおよび液体の混合物をポンプで圧送することができ、かくして、本発明の液体リングポンプの変形例として使用することができる。マルチロータスクリューポンプ機構は、静止ステータ内に２つ以上の回転するスクリューを有し、該静止ステータ内で流体が、スクリューロータの噛み合った歯によって形成されたキャビティの中で軸線方向に移動する。機構の中の流体移動の方向は、スクリューロータの回転の方向に依存する。ポンプ自体の中ではなく、しばしば単に大気圧である出口に対する制限によって、圧縮が行われる。
【００１０】
本実施形態では、第１のガス入口が、ポンプの入口端に設けられるので、シリコン含有ガスを含有するガス流がポンプの中へ吸引される。更に、ロータに沿った第２のガス入口は、酸化剤（例えば酸素、オゾン、過酸化物、空気あるいはハロゲン化種）を含有する第２のガス流の導入を可能にする。第３の入口は、連続的にあるいは間欠的に導入されるのがよい液体流の導入に備える。
【００１１】
第２のガス入口で、およびそれより下流で、２つのガス流がポンプハウジング内で混合し、そして、シリコン含有ガスの気相酸化が起こる。液体リングポンプと同様、固体酸化副生物（例えば、シラン酸化の場合のＳｉＯ2）が、液体流によって同伴される。ポンプ出口は、ポンプからの液体流の排出のためにある。
【００１２】
かくして、液体リングポンプあるいはスクリュー機構ポンプは、シリコン含有ガスのための除害デバイスとして作動し、また第１のガス流のための大気真空排気ステージとして作動する。液体リングポンプあるいはスクリュー機構ポンプの除害の側面に関して、ポンプ内の減圧は、ガスの酸化に安全な環境を提供する。酸化中に発生した熱は、ポンプ内の液体に伝達される。かくして、使用中、比較的熱い液体がポンプから排出され、そしてポンプに入る比較的冷たい液体によって置き換えられる。これは、ポンプ内での過度の温度上昇を防止することができる。加えて、酸化からのいかなる固体副生物も液体とともにポンプから除去されるので、ポンプあるいはポンプの出口の詰まりがなく、これらの固体副生物をポンプから除去するための別の装置を設ける必要がない。その上、ポンプ内の液体が水あるいは他の水溶液の場合、液体からの水蒸気および霧が、ポンプ内に湿り雰囲気を生じさせることができる。これは、シランのようなシリコン含有ガスの酸化を促進する点で有益であることが分かっている。加えて、シラン含有流の希釈を必要とせず、大きなコストを節約する。
【００１３】
液体リングポンプあるいはスクリュー機構ポンプのポンプの側面に関して、大気圧ポンプステージとして使用することができるルーツあるいはノーシータイプのポンプ機構と違い、シリコン含有ガスの除害からのいかなる粒子あるいは粉末副生物も、ポンプの機構に有害な影響を及ぼさない。
【００１４】
好ましい実施形態では、シリコン含有ガスは、半導体デバイスの製造に使用される前駆物質である。そのようなシリコン含有ガスの例は、シラン、ジシラン、ジクロロシラン、トリクロロシラン、テトラエチルオルソシリケート（ＴＥＯＳ）、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）のようなシロキサン、およびオルガノシランである。シリコン含有ガスは自然発火性であるので、本発明の第２の態様では、自然発火性ガスを含有するガス流の処理方法を提供し、前記方法は、ガス流をポンプに導くステップと、ポンプ内で自然発火性ガスを酸化させるための酸化剤および液体をポンプに供給するステップと、自然発火性ガスの酸化からの副生物を含有する前記液体をポンプから排出するステップと、を有する。
【００１５】
シリコン含有ガスに加えて、本方法で処理することができる他の自然発火性ガスは、金属水素化物およびジボランおよびホスフィンのような非金属水素化物を含む。酸素流に加えて、第２のガス流が空気を含むのがよい。他の適当な酸化剤は、塩素および臭素のようなハロゲン、ＮＯ、オゾンおよび過酸化物を含む。
【００１６】
第３の態様では、本発明は、シリコン含有ガスを含有するガス流を処理するための装置を提供し、前記装置は、ガス流を受け入れるためのポンプと、ポンプ内でシリコン含有ガスを酸化させるための酸化剤および液体をポンプに供給する手段と、ポンプ内のシリコン含有ガスの酸化からの副生物を含有する液体をポンプから導くための手段と、を有する。
【００１７】
第４の態様では、本発明は、自然発火性ガスを含有するガス流を処理するための装置を提供し、前記装置は、ガス流を受け入れるためのポンプと、ポンプ内で自然発火性ガスを酸化させるための酸化剤および液体をポンプに供給するための手段と、ポンプ内の自然発火性ガスの酸化からの副生物を含有する液体をポンプから導くための手段と、を有する。
【００１８】
第５の態様では、本発明は、プロセスチャンバを排気するためのシステムを提供し、前記システムは、ガス流をチャンバから吸引するための真空ポンプと、ガス流を真空ポンプから受け入れるための前述したような装置と、を有する。
【００１９】
本発明の方法の態様に関して上述した特徴は、同時に装置およびシステムの態様にも適用することができ、逆もまた同様である。
【００２０】
本発明の好ましい特徴を、今、添付図面を参照して記載する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
図１を参照すると、プロセスチャンバ１０は、図１で全体的に参照番号１４として指示されたガス源からの１つ以上のプロセスガスを受け入れるための少なくとも１つの入口１２を備える。プロセスチャンバ１０は、その中で半導体あるいはフラットパネルディスプレイデバイスの加工が行われるチャンバであるかもしれない。質量流量コントローラ１６が、各それぞれのプロセスガス毎に備えられ、質量流量コントローラは、システムコントローラによって制御され、ガスの要求量がプロセスチャンバ１０に確実に供給されるようにする。
【００２２】
廃棄ガス流は、図１で参照番号２０で指示された排気システムによってプロセスチャンバ１０の出口１８から吸引される。チャンバ１０内で行われる加工中、チャンバに供給されたプロセスガスの一部分のみが消費されるので、プロセスチャンバ１０の出口１８から排出された廃棄ガス流は、チャンバ１０に供給されたプロセスガスとチャンバ１０内で行われた加工からの副生物との混合物を含有する。
【００２３】
排気システム２０は、少なくとも１つの二次ポンプ２２を有する（図１には１つ示されているが、プロセスチャンバ１０の容量に依存していかなる適当な数を提供してもよい。）。各二次ポンプ２２は、多段乾式ポンプからなり、各排気段は、プロセスチャンバ１０の排気要求に依存して、ルーツタイプあるいはノーシータイプの排気機構、ターボ分子ポンプ、および／または分子ドラッグ機構によって提供されるのがよい。プロセスチャンバ１０の排気中、二次ポンプが損傷されるようになるのを防止するために、図１に示すように、窒素あるいはヘリウムのようなパージガスが、パージガス源２６を各二次ポンプ２２のパージポート２８と連結する導管系２４を経て、各二次ポンプ２２に供給されるのがよい。
【００２４】
二次ポンプ２２は、廃棄ガス流をプロセスチャンバ１０の出口１８から吸引し、且つガス流を典型的には５０乃至５００ｍｂａｒ（５乃至５０ＭＰａ）の範囲の大気中より低い圧力で、二次ポンプの排気口３０から排出する。これに照らして、ポンプシステム２０は、補助ポンプ３２を含み、該ポンプ３２は、廃棄流を補助ポンプ３２に導くための導管系３６を経て二次ポンプ２２の排気口３０に接続された第１の入口３４を有する。
【００２５】
プロセスチャンバ１０内で行われる加工に依存して、補助ポンプ３２に入る廃棄流は、半導体デバイスの製造で前駆物質として使用される１つ以上のシリコン含有ガスを含有するかもしれない。そのようなガスの例は、シラン、ジシラン、ジクロロシラン、トリクロロシラン、テトラエチルオルソシリケート（ＴＥＯＳ）、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）のようなシロキサン、およびオルガノシランである。例えば、シランは、典型的には、化学蒸着（ＣＶＤ）法でポリシリコンあるいは二酸化シリコンの付着にプロセスガスとして使用される。このガスは、自然発火性である。
【００２６】
これに照らして、補助ポンプ３２は、廃棄流中に含有されるシリコン含有ガスの制御された酸化を行うように構成される。適当な補助ポンプの２つの実施形態を、今、図２および３を参照して記載する。第１の実施形態では、補助ポンプは、液体リングポンプによって提供され、そして第２の実施形態では、補助ポンプは、スクリュータイプの排気機構を有するポンプによって提供される。
【００２７】
先ず図１を参照すると、液体リングポンプ３２は、図２に示すように液体リングポンプ３２の入口側で、第１の入口３４に隣接して配置された第２の入口３８を含む。廃棄流中のいかなるシリコン含有ガス、この例ではシランを酸化させるための酸化剤の供給源４０が、酸化剤を液体リングポンプ３２に供給する導管系４２によって液体リングポンプ３２の第２の入口３８に連結される。酸化剤の供給源４０は、便利には、シランを酸化させるための酸素を含有する空気供給源からなる。他の代替物は、オゾン、ＮＯ、および過酸化物を含む。液体リングポンプ３２は、第３の入口４４を更に含み、ポンプ３２内に液体リング４８を形成するための液体が、液体供給源５０から導管系５２を経て第３の入口４４を通して導かれる。本実施形態では液体は水であるが、いかなる他の水溶液を使用してもよい。
【００２８】
図２に示すように、液体リングポンプ３２は、ロータ軸５８がハウジング５６の中心軸６０に偏心するように、環状ハウジング５６内で回転可能に取付けられたロータ５４を有する。ロータ５４は、該ロータから半径方向外方に延び、且つロータ５４のまわりに等しく間隔をへだてられたブレード６２を有する。ロータ５４の回転で、ブレード６２は液体に係合し、そして液体をハウジング５６の内側に環状リング４８に形成する。
【００２９】
第１の入口３４を通って液体リングポンプ３２に入る廃棄流および第２の入口３８を通って液体リングポンプ３２に入る空気流は、隣接したブレード６２間の空間６３に引き込まれる。その結果、廃棄流中に含有されたシランの気相酸化が、液体リングポンプ３２内で大気中より低い圧力で起こる。例えば、酸化剤が酸素の場合、液体リングポンプ３２内で起こる反応はシリカ（ＳｉＯ2）を形成し、それが、液体リングポンプ３２内に形成された液体リング４８内に同伴される。液体リングポンプ３２は、液体リング４８からの液体およびシランの酸化からの副生物を含有する液体流をポンプ３２から排出するための排出口６４を、ポンプの出口側に備える。液体は、導管系６６によって液体排出口から導かれるので、液体リング４８は、新しい液体を第３の入口４４を経てハウジング５６に供給することによって再び補充されるのがよい。液体リングポンプ３２から排出された液体流は、引き続いてそこから副生物を除去するように処理されるのがよい。処理に続いて、処理された液体は再利用のために液体供給源５０に戻されるのがよい。
【００３０】
補助ポンプ３２がスクリュータイプの排気機構を備える実施形態を、今、図３を参照して記載する。図３において、液体リングポンプを参照して上述した特徴と等しい特徴には、同一の参照番号が与えられている。
【００３１】
廃棄流がポンプ３２に入る第１の入口３４が、ポンプの入口側に配置される。第２の入口３８が、図３に示すように第１の入口３４に隣接してポンプ３２の入口側に配置される。廃棄流中のいかなるシランをも酸化させるための酸化剤供給源４０が、導管系４２によってポンプ３２の第２の入口に接続され、導管系４２は、酸化剤をポンプ３２に供給する。上記のように、酸化剤供給源４０は、便利には、シランを酸化させるための酸素を含有する空気供給源からなり、あるいはいかなる他の適当な酸化剤を使用してもよい。ポンプ３２は、第３の入口４４を更に含み、ポンプ３２内のポンプハウジング７０を洗い流すための液体が液体供給源５０から導管系５２を経て第３の入口４４を通して導かれる。本実施形態では液体は水であるが、いかなる他の水溶液を使用してもよい。液体は、ポンプ３２に間欠的に供給されるのがよい。
【００３２】
図３に示すように、ポンプ３２は、第１のシャフト７２と、それから間隔をへだてられ且つそれと平行な第２のシャフト７４と、を含む。シャフト７２、７４を支持するためのベアリングが設けられる。シャフト７２、７４は、ハウジング７０内で長手方向軸線を中心に逆回転方向に回転するようになっている。第１のシャフト７２は、駆動モータ７６に連結され、シャフトは、タイミングギア７８によって一緒に連結されるので、使用中、シャフト７２、７４は同じ速度で反対方向に回転する。第１のロータ８０が、チャンバ７０内で回転運動可能に第１のシャフト７２に取付けられ、且つ第２のロータ８２が同様に第２のシャフト７４に取付けられる。２つのロータ８０、８２の各々は、ほぼ円筒形状のものであり、且つその外面にそれぞれ形成された螺旋ベーンあるいは螺旋ネジ山を有し、ネジ山は図示するように互いに噛み合う。
【００３３】
使用中、第１の入口３４を通ってスクリュー機構ポンプ３２に入る廃棄流および第２の入口３８を通ってスクリュー機構ポンプ３２に入る空気流は、互いに噛み合ったロータ８０、８２間のキャビティ８２に引き込まれる。その結果、廃棄流中に含有されたシランの気相酸化が、スクリュー機構ポンプ３２内で大気中より低い圧力で起こる。例えば、酸化剤が酸素の場合、スクリュー機構ポンプ３２内で起こる反応はシリカ（ＳｉＯ2）を形成し、シリカは、第３の入口４４を経て、間欠的にあるいは連続的にスクリュー機構ポンプ３２に入る液体８４内に同伴される。スクリュー機構ポンプ３２は、液体およびシランの酸化からの副生物を含有する液体流をポンプ３２から排出するための排出口６４をポンプの出口側に備える。液体は、導管系６６によって液体排出口から導かれるので、新しい液体を第３の入口４４を経てハウジング７０に供給することによって、洗い流す液体を再び補充するのがよい。スクリュー機構ポンプ３２から排出された液体流は、引き続いて、そこから副生物を除去するように処理されるのがよい。処理に続いて、処理された液体は再利用のために液体供給源５０に戻されるのがよい。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】プロセスチャンバを排気するためのシステムを概略的に示す。
【図２】プロセスチャンバから吸引されたガス流を処理するための装置の一実施形態を概略的に示す。
【図３】プロセスチャンバから吸引されたガス流を処理するための装置の別の実施形態を概略的に示す。
【図１】
2008534251.tif 000003
【図２】
2008534251.tif 000004
【図３】
2008534251.tif 000005
【国際調査報告】
2008534251.tif 000006
2008534251.tif 000007
2008534251.tif 000008