(57)【要約】  パターン（１２）をスタンプ（１０）から基板（２０）に転写するための装置（１）は、基板（２０）を支持するためのテーブル（２２）と、可撓なスタンプ（１０）と、該スタンプ（１０）の一部に圧力を加えるための圧力室（２７）を有する可動に配列される本体（２５）とを含むので、その部分は基板（２０）に向かって押し付けられ、基板（２０）と接触する。パターン転写プロセス中、本体（２５）は移動される。結果として、スタンプ（１０）の隣接する部分は、基板（２０）に向かって押し付けられ、基板（２０）と接触し、且つ、再び所定位置に移動して戻ることが許容されるプロセスを連続的に通る。このようにして、振動の導入なしに、スタンプ（１０）のパターン（１２）を基板（２０）に転写することが達成されるので、パターン（１２）の転写は極めて正確に行われる。
2008540164.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スタンプのスタンピング表面から基板の受容表面にパターンを転写する方法であって、前記スタンピング表面及び前記受容表面の少なくとも１つは可撓であり、前記スタンプが前記基板に前記パターンを局所的に転写する連続的な転写地域がある時間周期に亘って創成され、引き続き、前記スタンピング表面及び前記受容表面の可撓な一方を前記スタンピング表面及び前記受容表面の他方に向かう方向に移動するための活性化手段を有する少なくとも１つの活性化ユニットを適用することによって除去され、該活性化ユニット及び前記部分的に活性化される表面は、互いに対して移動される、
方法。
【請求項２】
前記活性化ユニット及び前記部分的に活性化される表面の前記相互運動は、連続的な不断の運動である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記スタンピング表面及び前記受容表面の両者は、実質的に同一速度で、実質的に同一方向に移動され、前記活性化ユニットは、固定位置に配置され、前記スタンプ及び前記基板の一方の背面側は、前記活性化ユニットに沿って移動される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記活性化ユニットは、前記スタンプ及び前記基板の一方の背面側を越えて移動されると同時に、前記スタンプ及び前記基板のこの一方は固定的に維持される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
前記活性化手段は、前記部分的に活性化される表面の一部に対して所定の圧力を加えるよう構成される、請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
スタンプのスタンピング表面から基板の受容表面にパターンを転写するプロセスにおける適用に適した装置であって、前記スタンピング表面及び前記受容表面の少なくとも一方は可撓であり、当該装置は、請求項１乃至５のうちのいずれかに記載の方法を遂行するよう特に構成され、当該装置は、
受容表面を有する基板を懸架するための手段と、
パターンを含むスタンピング表面を有するスタンプを懸架するための手段と、
前記スタンピング表面及び前記受容表面の可撓な一方を前記スタンピング表面及び前記受容表面の他方に向かう方向に移動するための少なくとも１つの活性化ユニットとを含み、
当該装置は、前記活性化ユニット及び前記表面が部分的に活性化され且つ互いに対して移動可能に配置される配置を構築するよう構成される、
装置。
【請求項７】
二対の回転可能なリールを含み、前記回転可能なリールの対の一方は、スタンプを懸架するために配置されるのに対し、前記回転可能なリールの対の他方は、当該装置の動作中に前記スタンプ及び前記基板の一方の背面側が通る位置に固定的に配置される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
ガイドを含み、前記活性化ユニットは、前記ガイド上に取り付けられ、前記活性化ユニットは、前記ガイドに対して移動可能に配置される、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
真空室と、複数の孔を有するスタンプ保持板とを含み、前記真空室は、前記スタンプが位置付けられるべき側とは別の前記スタンプ保持板の他の側に配置され、前記活性化ユニットは、前記真空室の内部に配置される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記活性化ユニットは、部分的に活性化されるべき前記表面の一部を支持するための空気軸受を含む、請求項７又は８に記載の方法。
【請求項１１】
前記活性化手段は、部分的に活性化されるべき表面の一部に圧力を加えるよう構成される、請求項６乃至１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前記活性化ユニットは、前記スタンプが位置付けられるべき側にある圧力室を含み、該圧力室は、過圧で空気を包含するよう意図される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
スタンプのスタンピング表面から基板の受容表面にパターンを転写するための方法であって、前記スタンピング表面及び前記受容表面の少なくとも一方は可撓であり、前記スタンプが前記パターンを前記基板に局所的に転写する連続的な転写地域がある時間周期に亘って創成され、引き続き、前記スタンピング表面及び前記受容表面の可撓な一方の一部を前記スタンピング表面及び前記受容表面の他方に向かう方向に移動するための活性化手段を有する少なくとも１つの活性化ユニットを適用することによって除去され、前記活性化手段は、前記部分的に活性化される表面の一部に対して所定の圧力を加えるよう構成され、前記スタンプ及び前記基板の相互位置が、前記基板の前記受容表面のパターン及び前記スタンプの前記スタンピング表面の前記パターンとを見ることによって、前記パターン転写プロセスを通じて監視され、前記基板の前記受容表面の前記パターン及び前記スタンプの前記スタンピング表面の前記パターンの不整列が発見される場合には、前記基板の前記受容表面の前記パターン及び前記スタンプの前記スタンピング表面の前記パターンの正しい整列が得られるまで前記スタンプ及び前記基板を互いに対して変位することによって、前記スタンプ及び前記基板の相互位置が矯正される、方法。
【請求項１４】
スタンプのスタンピング表面から基板の受容表面にパターンを転写するプロセスにおける適用に適した装置であって、前記スタンピング表面及び前記受容表面の少なくとも一方は可撓であり、当該装置は、請求項１３に記載の方法を遂行するよう特に構成され、当該装置は、
受容表面を有する基板を懸架するための手段と、
パターンを含むスタンピング表面を有するスタンプを懸架するための手段と、
前記スタンピング表面及び前記受容表面の可撓な一方を前記スタンピング表面及び前記受容表面の他方に向かう方向に移動するための少なくとも１つの活性化ユニットと、
前記基板の前記受容表面及び前記スタンプの前記スタンピング表面を同時に見るために配置される、カメラのような画像検出手段と、
前記基板の前記受容表面及び前記スタンプの前記スタンピング表面の正しい整列を得るために、前記画像検出手段によって得られる画像を解釈し、且つ、前記画像の解釈の結果に基づいて前記スタンプ及び前記基板の相互位置を制御するための解釈及び制御手段とを含み、
前記画像検出手段と画像が取られるべき場所との間に延在する経路内の当該装置の構成部品は、透明である、
装置。
【請求項１５】
前記透明な構成部品は、前記活性化ユニットの少なくとも一部を含む、請求項１４に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スタンプのスタンピング表面から基板の受容表面にパターンを転写するための方法であって、スタンピング表面及び受容表面のうちの少なくとも一方が可撓であり、スタンプがパターンを基板に局所的に移転する連続的な転写地域が、ある期間に亘って創成され、その後、除去される方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
そのような方法は、印刷可能な電子機器の実現物の１つと考えられるミクロ接触印刷の分野において適用されるのに特に適している。ミクロ接触印刷において、転写されるべきパターンの特徴は、ミクロン及びサブミクロンの範囲内にある。具体的には、パターンは、隆起部分を有する微細構造を含む。
【０００３】
普通、ミクロ接触印刷では、所謂アルカンチオール分子を含むインクが適用される。初めに、スタンプは、スタンプを溶液中に浸漬することによって、これらの分子で充填され、分子はスタンプによって吸収される。スタンプ内の微細構造の隆起部分が貴金属に接触するとき、チオール分子はスタンプを通じて拡散し、金属表面上に所謂自己構成単分子膜を形成する。この単分子膜の厚さはたった数ナノメートルである。単分子膜は、スタンプの微細構造の隆起部分と接触する金属表面の部分上にのみ存在する。
【０００４】
後続のエッチングプロセスにおいて、単分子膜は、金属を保護するレジストとして働く。単分子膜によって被覆される表面部分は、エッチングに対して保護されるのに対し、保護されない金属は取り除かれる。最終的には、スタンプ内の微細構造の元々のパターンは、単分子膜を介して、金属表面に複製される。様々な膜を含む特定のパターンが金属表面上に得られるよう、ミクロ接触印刷及びエッチングの上記プロセスは、数回繰り返され得る。新しい膜を印刷するプロセスが遂行される前に、スタンプが既に表面上に存在する膜に対して正しく位置付けられることが重要である。
【０００５】
冒頭段落に特定されるような方法は、例えば、ＷＯ  ０３／０９９４６３から既知である。既知の方法によれば、パターンは、パターンがスタンプのスタンピング表面から基板の受容表面に局所的に転写される一定期間中に、パターンの一部を受容表面のそのような範囲内に連続的に導くことによって、スタンピング表面から受容表面に転写される。具体的には、個々の部分を移動するための個々のアクチュエータの適用が開示されている。隣接するアクチュエータを連続的に動作することによって、パターンの転写が起こる転写地域が、スタンピング表面と受容表面との間で波のように動く１つの転写地域のように見えることが達成される。
【０００６】
転写地域を連続的に創成することの重要な利点は、両方の表面が平面的である場合でさえも、パターンの転写中に、気泡がスタンピング表面と受容表面との間に捕捉されないことである。
【０００７】
ＷＯ  ０３／０９９４６３中に開示されるような方法を実施する発明の実用的な実施態様では、３つの膜が区別可能である。第一膜は、スタンピング表面を有する柔らかいエラストマースタンプを含む。好ましくは、スタンプは、例えば、ポリマ板又はガラスの薄板である可撓な背面板に取り付けられる。第二膜は、溝板に配置される複数のノズル又は溝を含む。各ノズルは弁と関連付けられ、弁は第三膜の一部であり、真空と約２ｋＰａの緩やかな過圧との間で切り換え得る。第三膜は、供給チャネル、及び、弁を個々にアドレス付けするための手段も含む。
【０００８】
装置は、スタンプのスタンピング表面から基板の受容表面にパターンを転写するために適用される。基板は、スタンプから所定距離に、例えば、１００μｍの距離に位置付けられる。装置の動作中、スタンプ及び背面板の全体は、真空によって溝に対して保持される。弁は、所望の順序で、開放され、再び閉塞される。弁が開放されるや否や、空気は関連するノズルに流れ込み、結果的に、スタンプのスタンピング表面の関連する部分が、基板の受容表面に向かって押し付けられる。その状況において、基板の受容表面へのスタンピング表面の一部上のパターンの転写が行われる。所定の時間期間の後、弁は再び閉塞され、スタンプのスタンピング表面の一部は、再び真空に晒され、その結果として、その部分はその初期位置に戻り、そこにおいて、それは溝板に対して保持される。隣接する弁を開閉することによって、スタンプのスタンピング表面が基板の受容表面に向かって付勢される地域は、スタンピング表面と受容表面との間で波のように動く１つの地域のように見える。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
装置の適用は、特にマイクロメータ精度を伴う印刷のために、極めて良好な結果をもたらす。しかしながら、より高い精度が求められるとき、装置は余り満足ではない。真空から過圧への弁の切換えが転写パターンの劣化を招く振動を導入するようである。従って、ＷＯ  ０３／０９９４６３から既知の方法を実施する他の実用的な方法の必要がある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、スタンプのスタンピング表面から基板の受容表面にパターンを転写するための新規な方法及び新規な装置を提供することによってこの必要を充足する。本発明に従う新規な方法では、スタンピング表面及び受容表面の可撓な一方の一部をスタンピング表面及び受容表面の他方に向かう方向に移動するための活性化手段を有する少なくとも１つの活性化ユニットが適用され、活性化ユニット及び部分的に活性化される表面は互いに対して移動される。
【００１１】
以下において、本発明に従う方法が説明され、そこでは、簡潔性のために、活性化ユニットがスタンピング表面に作用すると想定される。それは活性化ユニットが受容表面に作用することも可能であるという事実を変更しない。
【００１２】
本発明に従う方法の重要な特徴によれば、スタンピング表面及び活性化ユニットは、互いに対して移動される。相互運動が連続的な不断の運動であるならば、活性化ユニットがスタンピング表面の隣接する部分を受容表面に向かって連続的に移動すること、換言すれば、振動及び変形を導入することなしに、隣接する転写地域を連続的に創成することが可能である。
【００１３】
本発明の範囲内で、活性化ユニット及びスタンピング表面の相互運動は、あらゆる可能な方法で、即ち、活性化ユニット及びスタンピング表面の両方を移動することによって、活性化ユニットのみを移動し、スタンピング表面を固定位置に維持することによって、或いは、スタンピング表面のみを移動し、活性化ユニットを固定位置に維持することによって実現され得る。例えば、活性化ユニットは、スタンプの背面側を越えて移動され得るのに対し、スタンプは固定的に維持される。スタンピング表面及び受容表面の両方が、実質的に同一速度で、実質的に同一方向に移動されることも可能であり、活性化ユニットは固定位置に配置され、スタンプの背面側が活性化ユニットに沿って移動される。運動が連続的な性質であるとき、振動の導入は確実に回避され、スタンプのスタンピング表面から基板の受容表面へのパターンの転写は、パターンの特徴がナノメートル範囲内にある場合においても、十分に正確な方法で行われる。
【００１４】
本発明に従う方法を遂行するための装置は、基板を懸架するための手段と、スタンプを懸架するための手段と、少なくとも１つの活性化ユニットとを含み、活性化ユニット及び部分的に活性化される表面が互いに対して移動可能に配置される構成を構築するよう構成される。
【００１５】
実行可能な実施態様において、装置は、活性化手段のみを移動し、スタンピング表面及び受容表面を所定位置に維持するよう構成される。そのような実施態様では、例えば、装置は、ガイドバーを含み、活性化ユニットはガイドバー上に取り付けられ、活性化ユニットはガイドバーに対して移動可能に配置され得る。
【００１６】
他の実行可能な実施態様において、装置は、スタンプ及び基板の両方を移動するのに対し、活性化ユニットを固定位置に維持するように構成される。そのような実施態様では、例えば、装置は、二対の回転可能なリールを含み、回転可能なリールの対の一方はスタンプを懸架するために配置されるのに対し、回転可能なリールの対の他方は、基板を懸架するために配置され、活性化ユニットは、装置の動作中にスタンプ及び基板の一方の背面側が通る位置に固定的に配置される。
【００１７】
活性化ユニット及び活性化手段は、如何なる適切な方法にも設計され得る。その場合には、スタンピング表面及び受容表面の一方の一部を移動するために、活性化手段がこの部分に作用するよう設計されることが重要である。例えば、活性化ユニットは、圧力室を部分的に取り囲むスライダ本体を含み、圧力室はスタンプに対して開放である。そのような活性化ユニットがスタンプの背面側を越えて移動されるとき、スタンプの部分は、これらの部分が圧力室内で優勢な圧力の影響下になるや否や、活性化ユニットによって基板に向かって押し付けられ、これらの部分が圧力室ともはや連絡しなくなるや否や、それらの初期位置に移動して戻る。
【００１８】
ＵＳ２００４／０１９７７１２が、スタンプが支持材料の周りに形成され、支持材料は両者を緊密に引っ張るバネに取り付けられる、接触印刷システムを開示していることが留意される。基板がスタンプの前に位置付けられる。スタンプを基板と接触させる目的のために、ローラが適用され、それはスタンプの背面側に沿ってロールされる。ローラのローリング作用の故に、空気がスタンプと基板との間の接触線の前に押し付けられるので、スタンプと基板との間の空気の捕捉は阻止される。このようにして、基板が完全なスタンプによって接触されることが最終的に達成される。
【００１９】
本発明に関する重要な相違は、連続的転写地域がある時間周期に亘って創成され、引き続き、除去されるプロセスが起こらないことである。さらに、ローラは、スタンピング表面の一部を基板の受容表面に向かう方向に移動するための活性化手段を有する活性化ユニットとみなし得ない。その代わりに、ローラは、スタンピング表面を基板の受容表面に対して押圧するための一種の加圧手段であり、スタンピング表面と受容表面との間の接触は、一方の側から他方の側に漸進的に増大される。故に、ＵＳ２００４／０１９７７１２に開示されるような接触印刷システムが適用されるとき、パターンの転写がスタンプの異なる部分のために起こる時間を制御することは可能でない。逆に、本発明に従う方法が適用される状況では、スタンピング表面の一部が活性化ユニットの活性化手段の影響下で受容表面に向かって付勢される時間を正確に制御することが可能である。さらに、ＵＳ２００４／０１９７７１２に開示されるような接触印刷システムでは、スタンプがバネによって緊密に引っ張られるという事実の故に、スタンプにおける張力が得られ、それはスタンプの変形並びに接触印刷のプロセス中の不正確性を招く。
【００２０】
本発明は、さらに、スタンプのスタンピング表面から基板の受容表面にパターンを転写するための方法であって、スタンピング表面及び受容表面の少なくとも一方は可撓であり、スタンプがパターンを基板に局所的に転写する連続的な転写地域がある時間周期に亘って創成され、引き続き、スタンピング表面及び受容表面の可撓な一方の一部をスタンピング表面及び受容表面の他方に向かう方向に移動するための活性化手段を有する少なくとも１つの活性化ユニットを適用することによって除去され、活性化手段は、部分的に活性化される表面の一部に対して所定の圧力を加えるよう構成され、スタンプ及び基板の相互位置が、基板の受容表面のパターン及びスタンプのスタンピング表面のパターンとを見ることによって、パターン転写プロセスを通じて監視され、基板の受容表面のパターン及びスタンプのスタンピング表面のパターンの不整列が発見される場合には、基板の受容表面のパターン及びスタンプのスタンピング表面のパターンの正しい整列が得られるまでスタンプ及び基板を互いに対して変位することによって、スタンプ及び基板の相互位置が矯正される方法に関する。
【００２１】
微小構造を含むパターンを印刷するときには、特に特定のパターンが既に基板上に存在する場合には、スタンプ及び基板が互いに対して正確に位置付けられることが極めて重要であり、新しい膜をこのパターンに追加することが望ましい。従来技術によれば、スタンプ及び基板を互いに対して位置付けるプロセスは、新しいパターン膜を転写するプロセスが開始される前に遂行される。周知の整列手順によれば、スタンプのスタンピング表面及び基板の受容表面の両方の上に配置される基準印が使用される。しかしながら、実際には、パターン転写プロセス中、スタンプのスタンピング表面のパターンと基板の受容表面のパターンの不整列が起こり、その結果として、新規に転写されるパターンは、基板の受容表面上に既に存在するパターンに対して変位される。変位は基板がこれ以上使用され得ないようでさえあり得る。
【００２２】
本発明に従う方法が適用されるとき、スタンプ及び基板を互いに対して位置付けるプロセスは、パターン転写プロセスを通じても遂行される。不整列が発見される場合には、スタンプ及び基板の相互位置は、基板の受容表面のパターンとスタンプのスタンピング表面のパターンとの正しい整列が得られるまでスタンプ及び基板を相互に対して変位することによって矯正される。このようにして、スタンプ及び基板の沿うと位置を極めて正確に制御することが可能であるので、極めて正確な結果が得られる。
【００２３】
本発明に従う方法は、活性化手段が部分的に活性化される表面の一部に所定の圧力を加えるよう構成される状況において適用可能である。何故ならば、その状況においては、活性化手段の少なくとも一部が透明であり得るからである。スタンプのスタンピング表面及び基板の受容表面を見るための手段が、活性化手段も存在するスタンプ及び基板の側に位置付けられる場合に関連する。
【００２４】
本発明に従う方法を遂行するのに適する装置は、基板の受容表面及びスタンプのスタンピング表面を同時に見るために配置される、カメラのような画像検出手段と、基板の受容表面及びスタンプのスタンピング表面の正しい整列を得るために、画像検出手段によって得られる画像を解釈し、且つ、画像の解釈の結果に基づいてスタンプ及び基板の相互位置を制御するための解釈及び制御手段とを含む。基板の受容表面及びスタンプのスタンピング表面上の画像検出手段の視野の妨害を回避するために、画像検出手段と画像が取られるべき場所との間に延在する経路内の装置の構成部品は透明である。
【００２５】
今や図面を参照して本発明をより詳細に説明する。図面中、類似の部分は同一の参照符号によって表示されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
図面中、一部の重要な詳細を例証する目的のために、図示の装置の一部は拡大されて描写されている。結果的に、図面は装置の正確な尺度の図面と考えられるべきではない。
【００２７】
図１は、本発明の第一の好適な実施態様に従った装置を概略的に示しており、それは参照符号１を用いて表示されている。以下において、この装置１を第一パターン転写装置１と呼ぶ。
【００２８】
第一パターン転写装置１は、スタンプ１０のスタンピング表面１１から基板２０の受容表面２１にパターン１２を転写する働きをする。基板２０を支持する目的のために、第一パターン転写装置１は、支持表面２３を有するテーブル２２を含む。基板２０は、適切な固定手段（図示せず）を用いてテーブル２２上に固定される。例えば、テーブル２２は、基板２０を真空に基づいて支持表面２３に対して保持し得る真空チャックとして設計され得る。
【００２９】
スタンプ１０を変形するのが極めて容易であるよう、スタンプ１０は可撓な材料で作成される。例えば、スタンプ１０の材料は、スタンプ１０の小さな部分が１ｋＰａのみの極めて緩やかな過圧に晒されるときに既に局所的に変形されるように選択される。具体的には、スタンプ１０は、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）材料のような柔らかいエラストマー材料から作成される。
【００３０】
スタンプ１０は、例えば、ポリマ板又はガラスの薄板である背面板１３に取り付けられる。背面板１３は、スタンプ１０のキャリアとして働き、板から離れる方向に極めて可撓でもある。結果的に、スタンプ１０及び背面板１３の全体が板から離れる方向に可撓である程度は、スタンプのみが可撓である程度と同等である。
【００３１】
スタンプ１０のスタンピング表面１１は、基板２０の受容表面２１に転写されるべきパターン１２を定める転写表面１４を含む。パターン１２の特徴は、ミクロン又はサブミクロンの範囲内にあり得る。図１では、明瞭性のために、パターン１２の一部のみが、拡大されて概略的に描写されている。
【００３２】
第一パターン転写装置１において、スタンプ１０は、スタンピング表面１１がテーブル２２の支持表面２３を面するように位置付けられ、或いは、テーブル２２上に基板２０が配置される場合には、基板２０の受容表面２１上に位置付けられる。スタンプ１０と背面板１３の全体は、微小孔１６を有するスタンプ保持板１５によって保持されている。微小孔は、直線チャネルとして図１中に概略的に描写されている。実用的な実施態様において、スタンプ保持板１５は、複数の微小孔１６が内部に存在する多孔性材料を含む。例えば、スタンプ保持板１５は、多孔性アルミニウムから作成される。しかしながら、スタンプ保持板１５は、必ずしも多孔性材料を含む必要はない。例えば、スタンプ保持板１５が、複数の狭い通路が内部に配置される板を含むことも可能である。
【００３３】
スタンプ保持板１５の背面側に、即ち、スタンプ１０と接触することが意図されないスタンプ保持板１５の側に、真空室１７が配置されている。第一パターン転写装置１の動作中、真空室１７内で優勢な真空の影響下で、スタンプ１０及び背面板１３は、真空室１７が微小孔１６を通じて、吸引力をスタンプ１０に加えるので、スタンプ保持板１５に対して保持される。
【００３４】
真空室１７の内部には、スライダ本体２５が存在し、それは案内バー２６上に摺動可能に配置されている。スライダ本体２５の正面側に、即ち、スタンプ保持板１５に面するスライダ本体２５の側に、陥凹２７が配置され、それは、第一パターン転写装置１の動作中、圧力室２７として適用される。例えば、約２ｋＰａの緩やかな過圧が、圧力室２７内で優勢である。
【００３５】
圧力室２７は、スライダ本体２５によって真空室２５から完全に分離されている。正面側で、スライダ本体２５は、シール２８を通じてスランプ保持板１５と接触するので、圧力室２７から真空室１７への空気の漏れが防止される。
【００３６】
真空室１７及び圧力室２７は、供給チャネルを通じてそ真空及び圧力をそれぞれ供給するための適切な装置に接続されている。明瞭性のために、図１には、そのような装置及び供給チャネルがそれ自体既知の任意の適切な装置及び供給チャネルであり得るという事実を鑑みると、そのような装置及び供給チャネルは図示されていない。
【００３７】
圧力室２７の前に存在するスタンプ１０の一部が、圧力室２７内で優勢な圧力によって引き起こされる圧力に晒され、そこでは、圧力がスタンプ保持板１５内の微小孔１６を通じて伝えられる。結果的に、スタンプ１０のこの部分は、基板２０の受容表面２１に向かって膨張するのに対し、スタンプ１０の残余の部分は、真空室１７内で優勢な真空の影響下で、スタンプ保持板１５に対して保持される。完全性のために、プロセス中、背面板１３の関連部分は、膨張されるスタンプ１０の部分と共に移動する。スタンプ１０の膨張部分の頂部は、基板２０の受容表面２１と接触し、接触が構築される位置で、パターン１２の一部がスタンピング表面１１から受容表面２１に転写される。
【００３８】
スライダ本体２５は、スタンプ保持板１５及びスタンプ１０に対して連続的に移動され、スライダ本体２５は、ガイドバー２６に沿って案内される。結果的に、圧力室２７は、スタンプ保持板１５及びスタンプ１０に対して連続的に移動される。プロセス中、圧力室２７は、シール２８を通じて、真空室１７から分離されたままである。
【００３９】
スライダ本体２５及び圧力室２７の運動の結果として、基板２０の受容表面２１に向かって付勢されるスタンプ１０の部分は、隣接する部分によって連続的に置換される。スタンプ１０の膨張部分は、言わば、スライダ本体２５及び圧力室２７と共に移動する。パターン１２の一部が存在するスタンプ１０の全ての部分は、基板２０の受容表面２１と接触して置かれ、スタンプ１０から基板２０への転写が完了される。
【００４０】
第一パターン転写装置１の重要な利点は、真空と過圧との間でスタンプ１０の背面側での状態を交互することは、装置１内に振動を引き起こし得る如何なる切換え動作をも含まないことである。代わりに、状態は、ガイドバー２６に沿うスライダ本体２５の運動に基づいて交互される。このようにして、特にスライダ本体２５の運動が連続的な特徴を有する場合に、振動発生の回避が達成される。
【００４１】
その上、第一パターン転写装置１において、真空及び過圧は極めて良好に制御可能である。何故ならば、これらの条件は１つ且つ同一の室１７，２７内に維持されるからである。また、真空と過圧との間の移行も極めて良好に制御可能である。もしそのように望まれるならば、少なくとも１つの他の圧力レジームを有することも可能である。例えば、スライダ本体２５は、圧力室２７を取り囲む他の陥凹を含み得る。その場合には、この陥凹内の圧力は、真空と過圧との間のあるレベルに維持される。
【００４２】
第一パターン転写装置１において、スタンプ１０に対する基板２０の位置決めは、正しい相互位置が得られるまでテーブル２２を移動することによって遂行される。テーブル２２を移動する目的のために、テーブル位置決め手段（図示せず）が提供され、それはそれ自体既知の適切な位置決め手段であり得る。特に、少なくとも１つのパターン１２が基板２０に既に転写された場合には、スタンプ１０に対して基板２０を位置決めするプロセスが正確に遂行されることが重要である。何故ならば、スタンプ１０上のパターン１２は基板２０上に既に存在するパターンと整列される必要があるからである。
【００４３】
好ましくは、スタンプ１０に対する基板２０の位置決めは、光学的に、即ち、基板２０の受容表面２１及びスタンプ１０のスタンピング表面１１を見ることによって検査され得る。これらの表面１１，２１は、整列印を備え得るので、これらの印を見て、表面１１，２１上の印の位置が互いに対応するまでテーブルを移動することによって、正しい相互位置が得られる。実用的な実施態様において、整列印は、所謂モアレパターンを含み得る。しかしながら、スタンプ１０上のパターン１２と基板２０上のパターンの両方を直接的に見て、パターンが正しく整列されるまでテーブル２２を移動することも可能である。
【００４４】
本発明の範囲杯において、例えば、カメラ及びレンズを含む画像検出構造を用いて遂行されるスタンプ１０及び基板２０の相互位置の検査を有することも可能である。この可能性は、スタンプ１０が空気圧を用いて活性化されるという事実の結果として、第一パターン転写装置１がかなりの程度まで透明であり得るという洞察から得られる。スタンプ１０及び背面板１３は透明材料から作成され得るし、同様のことが真空及び過圧を供給するために使用される第一パターン転写装置１の素子にも適用され、それらはガラス又は他の適切な透明材料から構成され得る。
【００４５】
スタンプ１０並びにスタンプ１０の背後に配置される構造の全体が透明であり得るという事実をに鑑みれば、スタンプ１０のパターン１２が基板２０に転写されるプロセスを通じてスタンプ１０と基板２０との相互位置を監視することが可能であり、もし必要であるならば、正しい相互位置を回復するための矯正行為を取ることも可能である。このようにして、特に、相互位置の監視がスタンプ１０及び基板２０上のパターンを直接的に見て、これらのパターンの比較を行うことによって遂行され場合には、パターン転写プロセスの精度がさらに一層強化される。
【００４６】
カメラによって得られる画像を解釈し、テーブル２２を適切な方法で制御する目的のために、パターン転写プロセスの開始並びにパターン転写プロセスの間の両方に、任意の適切なコントローラ及びソフトウェアが適用され得る。好ましくは、スタンプ１０及び基板２０のパターンに関するデータが記憶されるメモリが適用される。
【００４７】
スタンプ１０及び基板２０上のパターンを見るために、１つだけのカメラが使用される。有利に、そのような場合には、カメラは、スライダ本体２５に沿って移動可能であるよう配置される。
【００４８】
図２は、本発明の第二の好適な実施態様に従う装置を概略的に示しており、それは参照符号２を用いて表示されている。以下において、この装置２を第二パターン転写装置２と呼ぶ。
【００４９】
第一パターン転写装置１のように、第二パターン転写装置２は、可撓なスタンプ１０のスタンピング表面１１から基板２０の受容表面２１に転写するよう働き、スタンプ１０は、移動可能なテーブル２２の支持表面２３上に位置する背面板１３及び基板２０によって支持されている。図２では、明瞭性のために、パターン１２の一部のみが、拡大されて概略的に描写されている。
【００５０】
第一パターン転写装置１と第二パターン転写装置２との間の重要な相違は、第一パターン転写装置１が、スタンプ保持板１５と、圧力室２７を閉じ込めるスライダ本体２５と、真空室１７とを含むのに対し、第二パターン転写装置２は、スタンプ１０を保持し且つスタンプ１０を活性化するために、他の構成部品を含むことである。
【００５１】
第二パターン転写装置２では、スタンプ１０及び背面板１３は、２つの壁１８の間に応力のない状態に締められ、それは図２中に概略的に示されている。スタンプ１０を基板２０に向かって局所的に押し付ける目的のために、真空予圧空気軸受３０が設けられ、それは背面板１３の背面側に小さな距離で配置されている。例えば、空気軸受３０と背面板１３の背面側との間の間隙の幅は、たった５〜１０μｍである。さらに、空気軸受３０は、ガイドバー３１上に摺動可能に取り付けられている。
【００５２】
一般的に、空気軸受は、物体を無接触に軸受するために使用され、空気の薄膜が空気軸受と物体との間に設けられる。空気軸受は従来技術において周知であるので、これらの軸受並びにそれらの動作はさらにここで説明されない。
【００５３】
図２に示されるような第二パターン転写装置２の空気軸受３０は、過圧状態の空気を背面板１３及びスタンプ１０の全体の背面側に供給するための中央溝３２を含む。第二パターン転写装置２の動作中、中央溝３２の前に存在する背面板１３の一部並びにスタンプの関連部分は、基板２０に向かって押し付けられる。プロセス中、スタンプ１０のスタンピング表面１１の一部が、基板２０の受容表面２１と接触する。スタンピング表面１１及び受容表面２１が互いに接触する地域は、スタンプ１０のパターンが基板２０の受容表面２１に転写される転写地域である。
【００５４】
過圧の影響下で基板２０に向かって押し付けられる部分を取り囲むスタンプ１０の一部を適切な位置に、即ち、空気軸受３０の全く前の位置に維持する目的のために、空気軸受３０は、中央溝３２を取り囲む真空溝３３を含む。この真空溝３３の両側に、予圧空気軸受の分野で周知な方法で、過圧を供給するための過圧溝３３が配置される。明瞭性のために、これらの過圧溝は、図２中に示されていない。過圧溝によって加えられる気圧力と、真空溝３３によって加えられる吸引力との間の平衡に基づいて、スタンプ１０及び背面板１３を適切な位置に維持するために相応しい力が実現され、空気軸受３０と背面板１３との間の接触が回避される。
【００５５】
空気軸受３０は、中央溝３２と真空溝３４との間に配置される中間溝３４も含む。この中間溝３４では、大気圧が優勢である。このようにして、中間溝３４は、過圧と真空との間の移行のより良好な制御のために働く。しかしながら、中間溝３４は第二パターン転写装置２の動作にとって本質的でなく、よって、この溝３４は省略され得ることが分かる。
【００５６】
空気軸受３０の様々な溝３２，３３，３４は、供給チャネルを通じて真空及び圧力を供給するための適切な装置に接続される。明瞭性のために、図２中、そのような装置及び供給チャネルは、それ自体既知の任意の適切な装置及び供給チャネルであり得るという事実に鑑み、そのような装置及び供給チャネルは図示されていない。
【００５７】
第二パターン転写装置２の動作中、空気軸受３０は、好ましくは連続的に、ガイドバー３１に沿って移動される。第二パターン転写装置２内の空気軸受３０の運動は、第一パターン転写装置１中のスライダ本体２５の運動と同一の効果を有する、即ち、基板２０の受容表面２１に向かって付勢されるスタンプ１０の部分は、隣接する部分によって連続的に置換される。また、第二パターン転写装置２において、真空又は大気圧と過圧との間でスタンプ１０の背面側の条件を交替することは如何なる切換動作をも含まないので、第二パターン転写装置２内の振動の発生が回避される。
【００５８】
第二パターン転写装置２では、スタンプ１０及び基板２０の正しい相互位置が、第一パターン転写装置１に関して記載されたのと同一の方法で得られ得る。また、もし必要であるならば、パターン転写プロセス中に、スタンプ１０及び基板２０の相互位置を矯正するための手段が取られ得る。故に、第二パターン転写装置２は、カメラ及びレンズ、コントローラ、及び、カメラによって提供される画像を解釈してテーブル２２の関連動作を決定するためのソフトウェア実施も含み得る。
【００５９】
図３は、本発明の第三の好適な実施態様を従う装置を概略的に示しており、それは参照符号３を用いて表示されている。以下において、この装置３を第三パターン転写装置と呼ぶ。
【００６０】
第三パターン転写装置３は、所謂巻返しプロセス(reel-to-reel  process)として、可撓スタンプ１０のスタンピング表面１１から可撓基板２０の受容表面２１にパターン１２を転写するプロセスを遂行するよう構成されている。図３では、明瞭性のために、パターン１２の一部だけが、拡大されて概略的に描写されている。同一のことが、パターン転写プロセスの結果として基板２０の受容表面２１状に得られるパターン２４にも該当する。
【００６１】
第三パターン転写装置３において、スタンプ１０は、閉塞ループのように成形され、スタンプ１０は、一対の回転可能なリール１９ａ，１９ｂ上に懸架されている。スタンプ１０からのパターン１２を受容するための受容表面２１を有する基板２０も、一対の回転可能なリール２０ａ，２９ｂ上に懸架されている。スタンプ１０が懸架されるリール１９ａ，１９ｂは、リール１９ａ，１９ｂの間に存在するスタンプ１０の一部が実質的に平面的であるよう、特定の相互距離に配置される。同様に、基板２０が懸架されるリール２９ａ，２９ｂは特定の相互距離に配置されるので、リール２９ａ，２９ｂの間に存在する基板２０の部分は、実質的に平面的である。一対のリール１９ａ，１９ｂ，２９ａ，２９ｂの位置は、スタンプ１０のスタンピング表面１１の一部が基板２０の受容表面２１の一部に面するように互いに成形され、これらの表面の間に小さな間隙が存在する。
【００６２】
基板２０から小さな距離に配置されるスタンプ１０の一部の背面側に、スタンプ軸受３６と第三パターン転写装置３の動作中に圧力室３７として働く陥凹３７とを含む圧力ユニット３５が配置されている。圧力ユニット１５内で、圧力室３７はスタンプ軸受３６によって取り囲まれている。スタンプ軸受３６はスタンプ１０を案内する働きをするのに対し、圧力室３７は、スタンプ１０から基板２０へのパターン１２の一部の転写を実現するために、スタンプ１０の一部と基板２０との間の接触を構築するよう、スタンプ１０の一部を基板２０に向かって押し付ける働きをする。
【００６３】
この場合には、スタンプ軸受３６は、内部溝４１と、圧力を加えるための外部溝４２と、真空をもたらすための中間溝４３とを含む真空予圧空気軸受である。図３において、加えられる圧力は、下向きに方向付けられた矢印を用いて表示され、真空は上向きに方向付けられた矢印を用いて表示されている。
【００６４】
第三パターン転写装置３の動作中に基板２０を案内する目的のために、基板軸受４５が配置されている。図示の実施例において、基板軸受４５は、中心溝４６と、圧力を加えるための外側溝４７と、真空をもたらすための中間溝４８とを含む真空予圧空気軸受である。図３において、加えられる圧力は、上向きに方向付けられた矢印を用いて表示され、真空は、下向きに方向付けられた矢印を用いて表示されている。さらに、基板軸受４５と基板２０との間の空気クッションの形成は、一対の湾曲矢印を用いて表示されている。
【００６５】
図１及び２のように、明瞭性のために、図３は、スタンプ軸受３６の溝４１，４２，４３並びに基板軸受４５の溝４６，４７，４８に真空及び圧力を供給するための如何なる装置及び関連供給チャネルをも示しておらず、それらはそれ自体既知の任意の適切な装置及び供給チャネルであり得る。
【００６６】
第三パターン転写装置３の動作中、リール１９ａ，１９ｂは回転される。図３中、回転が生じ得る方向は、リール１９ａ，１９ｂ内に描写された矢印によって表示されている。リール１９ａ，１９ｂの回転の結果として、スタンプ１０は圧力ユニット１５に沿って移動される。プロセス中、スタンプ１０はスタンプ軸受３６によって案内されるのに対し、圧力室３７の前に存在するスタンプ１０の一部は基板２０に向かって移動されるので、スタンプ１０のスタンピング表面１１の一部は基板２０の受容表面２１と接触し、パターン１２の一部はスタンプ１０から基板２０に転写される。パターン１２の適切な転写を得るために、基板２０も、同一方向に、スタンプ１０と実質的に同一速度で、同様に移動されることが重要である。このようにして、連続的プロセスが実現され、そこでは、スタンプ１０の隣接する部分は、圧力室３７内で優勢な圧力の影響下で連続的に膨張され、スタンプ１０の各新規膨張部分は基板２０の受容表面２１の新規部分と接触し、それは接触されたばかりの部分に隣接して配置される。そのようなプロセスを適用することによって、比較的大きな地域上でパターン転写プロセスを遂行することが可能である。
【００６７】
本発明の範囲内で、スタンプ１０及び基板２０が実質的に同一の速度で移動されることを保証するために、様々なプロセスが提供され得る。例えば、基板２０が、基板２０とスタンプ１０との間の接触で生じる摩擦に基づき、スタンプ１０と共に移動されるプロセスを有することが可能である。しかしながら、例えば、両方の対のリール１９ａ，１９ｂ，２９ａ，２９ｂの駆動リールの回転速度が正確に制御されるプロセスを有することも可能である。
【００６８】
基板２０のパターン化された部分は、リール２９ａ，２９ｂのうちのいずれか一方に巻き上げられる。もし必要であるならば、硬化後ステップ又は乾燥ステップのような追加的ステップを遂行するための手段が、関連するリール２９ｂと基板軸受４５との間に位置付けられ得る。
【００６９】
有利に、第三パターン転写装置３は、スタンプ１０にインクを供給するためのステーション４０を含む。図３には、そのようなインク供給ステーション４０が概略的に描写されている。図示の実施態様において、インク供給ステーション４０は、圧力ユニット３５に向かって移動する、即ち、基板２０と接触しようとしているスタンプ１０の部分にインクを供給するよう配置される。
【００７０】
特別な場合には、基板２０上のパターン２４を硬化するために、ＵＶ光を使用することが必要であり得る。ＵＶ光を供給する目的のために、ＵＶ源５０が使用される。基板２０及び基板軸受４５の両方が透明である場合、ＵＶ源５０は、基板軸受４５の背面側に、即ち、基板２０に面することが意図される側と反対側にある基板軸受４５の側に配置され得る。
【００７１】
第三パターン転写装置３の重要な利点は、第一パターン転写装置１及び第二パターン転写装置２における場合のように一度に１つの基板２０を取り扱う代わりに、所望パターン２４を備えるロールから連続的な基板２０を提供することが可能であることである。第三パターン転写装置３において遂行される所謂巻返しプロセスは、可撓な基板２０が使用されるときに特に適用可能であり、壁紙上のディスプレイを印刷し、可撓テープ上にトランジスタを印刷し、テープ上にマイクロ配列を印刷するための実現化技術である。
【００７２】
第三パターン転写装置３の動作中、パターン転写プロセスが、スタンプ１０が実質的に平面的であるスタンプ１０の部分で行われる。結果的に、スタンプ１０のパターン１２は変形されず、スタンプ１０から基板２０へのパターン１２の転写は、正確な方法で行われる。従って、高精度パターン転写プロセスを遂行することが可能であり、その場合には、パターン１２の寸法は、１μｍ以下のオーダにあり得る。
【００７３】
少なくとも１つのパターン２４が既に基板２０上に存在し、後続のパターン２４が適用される必要がある場合には、スタンプ１０のパターン２４が、基板２０のパターン２４に対して正確に位置付けられることが重要である。第三パターン転写装置３において、リール１９ａ，１９ｂ，２９ａ，２９ｂの間のスタンプ１０及び基板２０の部分が実質的に平面的であるならば、スタンプ１０及び基板２０の正確な相互位置を実現する要件を実際に満足することが可能である。
【００７４】
スタンプ１０及び基板２０のパターン１２，２４の相互位置を監視し且つ制御する目的のために、第三パターン転写装置３は、カメラ５１を含み、カメラは、スタンプ１０及び基板２０の相互位置の矯正が必要であるようである場合には、カメラ５１によって得られる画像を解釈し且つスタンプ１０及び基板２０のうちの少なくとも一方の位置を調節するための解釈手段及び制御手段（図示せず）に接続される。スタンプ１０及び基板２０がパターン転写プロセスの開始時に正しい相互位置に置かれるや否や、相互位置の矯正がパターン転写プロセス中に遂行されるのに対し、スタンプ１０及び基板２０の運動は継続される。
【００７５】
第三パターン転写装置３に関し、同様に、他の上記のパターン転写装置１，２に関しても、スタンプ１０及び基板２０を相互に対して整列するための如何なる適切な構成も適用され得ることが留意されるべきである。例えば、基板２０は、赤外光を用いて検出可能な整列印を備え得る。その場合には、パターン転写装置１，２，３は、赤外光を放射し且つ整列印を検出するよう構成される構成を含む。
【００７６】
少なくとも１つのカメラ５１を用いてスタンプ１０及び基板２０のパターン１２，２４を直接的に見る好適な選択肢が適用されるときには、カメラ５１がスタンプ１０の側に位置付けられるか或いは基板２０の側に位置付けられるかは違いがない。いずれの場合においても、カメラ５１とパターン１２，２４との間に配置される構成部品が透明であることが重要である。スタンプ１０の部分を活性化するために空気圧が使用されるときには、透明な構成部品を適用することが極めて良好に可能である。
【００７７】
全ての図示される装置１，２，３は、比較的大きな地域を有する基板２０上にパターン転写プロセスを遂行する目的のために使用されるのに適している。結果的に、これらの装置１，２，３は、例えば、ディスプレイを製造する目的のために適用されるのに適している。他の可能な用途は、プラスチック電子機器、バイオセンサ、遅延素子／ワイヤグリッド、偏光背面光、レンズ配列、及び、マイクロ配列を製造する分野にある。
【００７８】
本発明の脈絡内において、スタンプ１０及び基板２０中の変形が回避されることが重要である。従って、応力のない状態に懸架されたスタンプ１０及び基板２０の両方を有することが重要である。さらに、スタンプ１０と基板２０との間の距離は比較的極めて小さく、マイクロメータのオーダにある。このようにして、パターン転写プロセス中に起こるスタンプ１０及び／又は基板２０の膨張が、実質的な変形を導入しないことが実現されるので、パターン転写プロセスの精度は、それ自体既知の多くの他のパターン転写プロセスに対して高い。
【００７９】
本発明によれば、スタンプ１０と基板２０との間の接触は、所定圧力に基づいて構築される。このようにして、所定の接触圧力が得られ、それは、スタンプ１０から基板２０へのパターン１２の転写が完了されるために接触圧力が低過ぎ得ないと同時に、パターン１２の変形を回避するために接触圧力が高過ぎ得ないという事実に鑑み重要である。スタンプのスタンピング表面から基板の受容表面にパターンを転写するための多くの既知の方法、例えば、ＵＳ２００４／０１９７７１２から既知の方法によれば、スタンプ１０と基板２０との間の接触は、ローラ又は類似物のような剛的な部材の影響下で構築される。そのような方法では、スタンプ１０と基板２０との間の接触圧力は、接触が構築される場所でのスタンプ１０と基板２０の特性によって影響される。例えば、不均一が存在する場所では、接触圧力は、これが該当しない場所におけるよりも高い。極めて正確なパターン転写プロセスを有する望みの見地から、所定圧力に基づいて構築されるスタンプ１０と基板２０との間の接触を有することが最も有利である。
【００８０】
本発明の範囲が前記に議論された実施例に限定されず、添付の請求項に定められる本発明の範囲から逸脱することなしにそれらの幾つかの補正及び修正が可能であることが当業者に明らかであろう。
【００８１】
前記に記載されたような装置１，２，３が適用されるとき、スタンプ１０の一部は、圧力の影響下で基板２０に向かって膨張される。具体的には、過圧が優勢な圧力室１７，２７又は溝３２が、スタンプ１０の一部に圧力を加えるために適用される。本発明の範囲内で、基板２０と接触するスタンプ１０の部分を押し付けるために空気が使用される必要はない。例えば、スタンプ１０が取り付けられる背面膜１３が磁気的に活性であること、並びに、スタンプ１０の一部が磁力の影響下で膨張されることが可能である。圧電アクチュエータ又は他の適切な種類の活性化手段を適用することも可能である。
【００８２】
図示の実施例において、スタンプ１０と基板２０との間の接触は、スタンプ１０の一部を基板２０に向かって移動することによって実現される。具体的には、本発明の範囲内で、基板２０が可撓であることを条件として、基板２０の一部をスタンプ１０に向かって移動することによって、或いは、スタンプ１０及び基板２０の両方の部分を移動することによって接触を構築することも可能である。
【００８３】
第一パターン転写装置１及び第二パターン転写装置２において、基板２０は、可動なテーブル２２上に配置される。これらの装置１，２において、スタンプ１０及び基板２０を互いに対して適切な位置に置くプロセスは、テーブル２２を用いて基板２０をスタンプ１０に対して移動することによって遂行される。本発明の範囲内で、位置決めプロセスを遂行する目的のために、スタンプ１０が移動される間、基板２０が所定位置に維持されること、並びに、基板２０及びスタンプ１０の両方が移動されることも可能である。
【００８４】
スタンプ１０のスタンピング表面１１は、それ自体既知の如何なる適切なインクをも備え得る。例えば、インクは、拡散を用いてスタンピング表面１１に塗布される分子を含み得る。スタンピング表面１１が基板２０の受容表面２１と接触する場所で、分子はスタンピング表面１１から受容表面２１に転写される。表面１１，２１が互いに対して近接した範囲内にあり、表面１１，２１間の物理的な接触が必要でないときにスタンピング表面１１から受容表面２１に転写される、他の種類のインクが使用されることも可能である。この見地から、「接触」という用語は、スタンピング表面１１及び受容表面２１に適用されるとき、物理的接触、並びに、スタンピング表面１１がパターン１２を受容表面２１に転写し得るよう十分に近接した範囲内にあることの両者をカバーすると想定される。
【００８５】
本発明に従った方法並びに図示の装置１，２，３は、様々なソフトリソグラフィ印刷技法、具体的には、マイクロ接触印刷、エンボッシング、及び、インプリンティングとして既知の技法に対して適用されるのに適している。マイクロ接触印刷では、転写されるべきパターン１２の絞り及び歪みを回避するために、スタンプ１０を基板２０に接触させるようスタンプ１０上に加えられる圧力が制限されることが重要である。エンボッシング及びインプリンティングでは、パターンの転写は、基板２０の受容表面２１に供給されるインクの膜にインプリントを形成するステップを含む。従って、これらの技法が適用されるとき、圧力は良いインプリントを作成するために十分高くなければならない。
【００８６】
前記において、パターン１２をスタンプ１０のスタンピング表面１１から基板２０の受容表面２１に転写する方法及び装置１，２，３が開示される。
【００８７】
例えば、ＷＯ  ０３／０９９４６３に開示されるような従来技術によれば、パターン転写プロセスを遂行する目的のために、マトリックス状のアクチュエータが適用され、アクチュエータは、スタンプ１０の関連部分を基板２０と接触させるために、スタンプ１０に作用するよう個別にアドレス付けされる。結果として、振動が生成され、それは、特にパターン１２の特徴がサブミクロン範囲にあるときに、パターン１２の転写に対して否定的な影響を有する。
【００８８】
本発明によれば、パターン転写プロセスは、より連続的に遂行されるので、振動の発生は回避される。この有利な効果を達成する好適な方法は、スタンプ１０、並びに、スタンプの一部を基板２０に向かって移動するためにスタンプ１０の一部に対して圧力を加えるための圧力室２７，３７又は溝３２を有するユニット２５，３０，３５を互いに対して移動するステップを包含する。一般的に、活性化ユニット２５，３０，３５及びスタンプ１０は、互いに対して移動される。プロセス中、スタンプ１０及び基板２０は、互いに対して固定して維持され、スタンプ１０及び基板２０の所定の相互位置からの逸脱が検出される場合に、スタンプ１０と基板２０の互いに対する小さな変位のみが実現される。
【００８９】
とりわけ、第一パターン転写装置１が開示される。この装置１は、可撓な背面板１３状に取り付けられる可撓なスタンプ１０と、多孔性のスタンプ保持板１５と、真空室１７とを含み、スタンプ１０は、真空室１７内で優勢な真空の影響下で、板１５に対して保持される。スタンプ１０の前に、基板２０がテーブル２２上に位置付けられる。
【００９０】
真空室１７内部には、摺動可能に配置される本体２５が配置され、本体はスタンプ１０の一部に対して圧力を加えるための圧力室２７を含むので、その一部は、それが基板２０と接触するまで、基板２０に対して押し付けられる。パターン転写プロセス中、本体２５は移動される。結果として、スタンプ１０の隣接する部分は、基板２０に向かって押し付けられ、基板２０と接触し、且つ、再び所定位置に移動して戻ることが許容されるプロセスを連続的に通る。このようにして、振動の導入なしに、スタンプ１０のパターン１２を基板２０に転写することが達成されるので、パターン１２の転写は極めて正確に行われる。
【００９１】
パターン（１２）をスタンプ（１０）から基板（２０）に転写するための装置（１）は、基板（２０）を支持するためのテーブル（２２）と、可撓なスタンプ（１０）と、該スタンプ（１０）の一部に圧力を加えるための圧力室（２７）を有する可動に配列される本体（２５）とを含むので、その部分は基板（２０）に向かって押し付けられ、基板（２０）と接触する。パターン転写プロセス中、本体（２５）は移動される。結果として、スタンプ（１０）の隣接する部分は、基板（２０）に向かって押し付けられ、基板（２０）と接触し、且つ、再び所定位置に移動して戻ることが許容されるプロセスを連続的に通る。このようにして、振動の導入なしに、スタンプ（１０）のパターン（１２）を基板（２０）に転写することが達成されるので、パターン（１２）の転写は極めて正確に行われる。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本発明の第一好適実施態様に従う装置を示す概略図である。
【図２】本発明の第二好適実施態様に従う装置を示す概略図である。
【図３】本発明の第三好適実施態様に従う装置を示す概略図である。
【図１】
2008540164.tif 000003
【図２】
2008540164.tif 000004
【図３】
2008540164.tif 000005
【国際調査報告】
2008540164.tif 000006
2008540164.tif 000007
2008540164.tif 000008
2008540164.tif 000009
2008540164.tif 000010