(57)【要約】  レーザビーム（７，９）を吸収するための装置であって、レーザビーム（７，９）が入射し、少なくとも部分的に吸収することが可能である吸収面（１４）と、吸収面（１４）を冷却するための冷却剤と、吸収面（１４）に入射する前にレーザビーム（７，９）の幅を広げるための、特にシリンドリカルレンズの形における、光学手段（１８）とを有する、レーザビーム（７，９）を吸収するための装置。さらにまた、本発明は、レーザビーム（７，９）を吸収するためのこのような装置を有するレーザビーム（５）を減衰させるための装置に関する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザビーム（７，９）を吸収するための装置であって、
吸収面（１４）であって、レーザビーム（７，９）が入射し、少なくとも部分的に吸収することが可能である吸収面（１４）と、
吸収面（１４）を冷却するための冷却剤と、
を有する装置において、
吸収面（１４）に入射する前にレーザビーム（７，９）の幅を広げるための光学手段（１８）をさらに有することを特徴とする装置。
【請求項２】
光学手段（１８）は、少なくとも１つのレンズを有することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
少なくとも１つのレンズは、シリンドリカルレンズであることを特徴とする、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
冷却剤は、吸収面の液体による冷却を可能にすることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
吸収面（１４）は、複数の溝を有し、溝において、レーザ光が吸収されることが可能であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
ケーシング（１０）を有し、該ケーシングに吸収面（１４）が設けられることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
ケーシング（１０）には、長孔（１７）が設けられ、該孔を通過して、レーザビーム（７，９）がケーシング（１０）に入射し、吸収面（１４）上に達することが可能であることを特徴とする、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
シリンドリカルレンズのシリンダ軸は、長孔（１７）の長手方向に延びていることを特徴とする、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
レーザビーム（５）を減衰させるための装置であって、
少なくとも１つのビームスプリッタ手段（３，４）であって、減衰されるべきレーザビーム（５）の一部（７，９）を、吸収装置内に回折させることが可能であるビームスプリッタ手段（３，４）
を有する装置において、
吸収装置は、請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置として形成されることを特徴とする装置。
【請求項１０】
少なくとも１つのビームスプリッタ手段（３，４）は、少なくとも１つのビームスプリッタ手段（３，４）の動きによって、ケーシング（１０）に入射するレーザビーム（７，９）が、長孔（１７）の長手方向に移動するように、移動可能であることを特徴とする、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
２つのビームスプリッタ手段（３，４）を有し、該ビームスプリッタ手段（３，４）は、好適には、同期して移動可能であること、特に、同期して歪ませることが可能であることを特徴とする、請求項９または１０に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、請求項１の上位概念に従ったレーザビームを吸収するための装置、および請求項９の上位概念に従ったレーザビームを減衰させるための装置に関する。
【０００２】
レーザビーム、またはいわゆる放射ビームを吸収するための公知の装置の欠点は、回転対称なビーム横断面に制限があり、比較的小さいビーム強度に制限される点にある。特に、レーザダイオードバーは、線形状の断面を有し、従来技術のようなビーム強度の高いものの場合には大きな問題となる。
【０００３】
本発明が基礎とする課題は、ビーム強度が高いレーザビームに適した初めに述べたタイプの装置を提供することである。
【０００４】
これは、本発明に従い、請求項１と９の特徴を有する、最初に述べたタイプの装置によって達成される。
【０００５】
請求項１に従えば、かかる装置は、レーザビームが、吸収面上に到達する前にレーザビームの幅を広げるための光学手段をさらに有してなる。レーザビームを拡幅することによって、吸収面を、レーザビームの吸収のために有効に利用することができ、したがって、より高い強度のレーザビームを吸収することが可能となる。
【０００６】
かかる装置は、ケーシングを有し、そのケーシングに吸収面が設けられている。その場合、ケーシングには、レーザビームが貫通して、ケーシングに入射し、吸収面に到達することが可能な長孔を設けてもよい。この長孔は、線形横断面を有するレーザビームが、吸収のための装置に有効に入射することができ、ケーシングにレーザビームが入射する場合に、線形横断面の線が、長孔の長手方向に延びることができるという可能性を提供する。
【０００７】
本発明のさらなる特徴と利点は、添付の図を参照した、好適な実施の形態についての以下の説明によって明らかになるであろう。
【０００８】
図１に示される、本発明に従った、レーザビームを減衰するための装置の実施の形態は、ケーシング１を有し、その外側には、２つの、本発明に従った、レーザビームを吸収するための装置２が設けられている。さらにまた、ケーシング１内には、２つのビームスプリッタ手段３，４が設けられている。
【０００９】
ビームスプリッタ３，４は、図示された実施の形態においては、面平行な、誘電性の層が設けられたプレートとして実施されている。この誘電性の層は、たとえば、減衰されるべきレーザビーム５のビーム方向に対するプレートの角が４５°の場合（図１の実施の形態参照）、レーザビームのすべてが反射され、反射ビーム７として、図１における上方に回折されるようなものとして選択される。この反射ビーム７は、本発明に従った、レーザビームを吸収するための装置２の第１の装置に到達し、そこで吸収される。
【００１０】
４５°でない場合には、部分ビーム６は、第１のビームスプリッタ手段３を通過し、第２のビームスプリッタ手段４上に到達する。これは、好ましくは、減衰されるべきレーザビーム５に対する、第１のビームスプリッタ手段３に対応する角度位置を示し、したがって、面平行なプレートを通過して生じるビームの曲がりが補償される。第２のビームスプリッタ手段４は、特に第１のビームスプリッタ手段３と同期して歪ませることが可能であり、したがって、どちらも、通常は、同じパーセンテージで反射または伝達される。第２のビームスプリッタ手段４によって反射された部分ビーム９は、本発明に従ったレーザビームを吸収するための装置２の第２の装置内に到達し、そこで吸収される。第２のビームスプリッタ手段４を通過したビーム８は、減衰されたビーム８として、本発明に従った、レーザビームを減衰させるための装置から出射する。
【００１１】
図２〜図４から、本発明に従ったレーザビームを吸収するための装置２が明らかとなる。装置２は、冷却剤入口１１と冷却剤出口１２が設けられたケーシング１０を有する。冷却剤入口１１と冷却剤出口１２との間には、複数の冷却剤路１３が延びている。たとえば、冷却剤としては、水を利用することができる。
【００１２】
ケーシング１０は、長手方向に延び、その上部（図２および図３）はプレート１６によって閉じられ、プレート１６には、ケーシング１０の長手方向に延びる、レーザビームを通過させるための長孔１７が設けられている。長孔１７の下方には空間があり、その空間は下の方で、レーザビームを吸収することができる吸収面１４によって規定されている。そのために、吸収面は黒く、レーザビームが入射可能な、多数のとがった溝１５を有している。溝１５は、ケーシング１０の長手方向に延びている。溝１５はケーシング１０の短手方向に延びてもよい。
【００１３】
長孔１７は、幅よりも長い。特に、長孔１７は、幅の２倍以上の長さであってもよい。長孔１７の長さは、その幅の３〜５倍、または５倍以上であってもよい。たとえば、長孔１７は、幅の５〜１０倍の長さであってもよく、特に、７〜８倍の長さであってもよい。長孔１７の長さは、その幅の１０倍以上であってもよい。
【００１４】
吸収面１４の下方には、冷却剤路１３が通っており、したがって、このようにして、吸収されるべきレーザビームによって生じる熱を、吸収面１４によって運び去ることが可能となる。
【００１５】
長孔の領域に、光学手段１８を設けてもよい。図に示す実施の形態においては、光学手段１８は、平凹シリンドリカルレンズとして形成されており、そのシリンダ軸は、ケーシング１０の長手方向、または長孔１７の長手方向に延びる。このようなシリンドリカルレンズによって、そこに入射されるべきレーザビームは、ケーシング１０の短手方向に拡幅され、したがって、レーザビームは、吸収面１４のより大きな領域にわたって広がる。したがって、本発明に従った装置２によって、より高い強度のレーザビームを吸収することが可能となる。
【００１６】
図示された実施の形態において、シリンドリカルレンズは、図２および図３においてのみ、長孔１７の前方領域に配設されている。これは、図１に従った構成の場合、減衰されるべきレーザビーム５の放射方向に対して、プレートが４５°の角度をなす場合にのみ、レーザビームがすべて反射されるからである。約４５°の角度の場合、反射されたレーザビーム７が、シリンドリカルレンズ上に入射し、その幅が広がる。角度がもっと小さい場合には、レーザビーム５のより少ない部分だけが反射し、したがって、反射されたレーザビーム７は、より低い、場合によっては、著しく低い強度を示す。したがって、４５°よりも著しく小さい角度の場合には、レーザビーム７は、もはや幅を広げる必要はない。シリンドリカルレンズは、ケーシング方向に規定される広がりを有する。他の光学手段１８を設けること、または、装置２が他の構成をとる場合、シリンドリカルレンズを、もっと長く形成する、または他の場所に配設するなども可能である。
【００１７】
ケーシング１０の図２〜図４における上側には、環状のパッキン１９が設けられ、たとえば、溝にあるＯリングとして形成される。このパッキン１９によって、装置２は、レーザビームを減衰するための装置に密に取り付けることが可能となる（図１参照）。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明に従った、レーザビームを減衰するための装置の略断面図を示す。
【図２】本発明に従った、レーザビームを吸収するための装置の斜視図を示す。
【図３】図２に従った装置の部分的に切断された斜視図を示す。
【図４】図２に従った装置の断面図を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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