(57)【要約】図１を参照して、該発明の実施形態はセメント質材料、例えばコンクリート本体での亀裂化を制御し、伸張底部２、底部から伸び互いに近づく方向に曲がった伸張側壁部分３と４及び側壁部分に一個の開口部か複数の開口部を有する手段１を含む。亀裂化制御手段は使用時に底部を下に位置して、セメント質物質内で形成する亀裂が亀裂化制御手段位置かその近辺で起こるように、亀裂し易いセメント質物質をその周りと少なくとも一部で中まで注ぐ。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
セメント質物質本体での亀裂化制御手段、伸張底部、底部から伸び互いに近づくように曲がった伸張側壁部分及び側壁部分に一個の開口部か複数の開口部を有する亀裂化制御手段、使用時にその底部を下に位置して、亀裂し易いセメント質物質をその周りと少なくともその一部で中に注ぎ、次いでセメント質物質内で形成する亀裂が亀裂化制御手段位置かその近辺で起こるように形成する亀裂化制御手段。
【請求項２】
セメント質物質がコンクリートで構成する請求項１によるセメント質物質本体での亀裂化制御手段。
【請求項３】
横断面図で見た場合、側壁部分が側壁部分間の底部の一部と共に三角形を形成する請求項１又は２によるセメント質物質本体での亀裂化制御手段。
【請求項４】
三角形頂点から上向きに伸びる伸張部のある請求項３によるセメント質物質本体での亀裂化制御手段。
【請求項５】
多数の該亀裂化制御手段を連結する継ぎ手と組み合わした前請求項のいずれか一つによるセメント質物質本体での亀裂化制御手段。
【請求項６】
セメント質物質本体での亀裂化制御手段、伸張底部、底部と壁部分が実質的に逆“T”型である底部から上に伸びる伸張側壁部分及び側壁部分に一個の開口部か複数の開口部を有する手段、使用時にその底部を下に位置して、亀裂し易いセメント質物質をその周りと少なくともその一部で中に注ぎ、次いでセメント質物質内で形成する亀裂が亀裂化制御手段位置かその近辺で起こるように形成する亀裂化制御手段。
【請求項７】
セメント質物質がコンクリートで構成する請求項６によるセメント質物質本体での亀裂化制御手段。
【請求項８】
一個の開口部か複数の開口部が場合によっては壁か壁部分の約５０％かそれ以上を占める前請求項のいずれか一つによるセメント質物質本体での亀裂化制御手段。
【請求項９】
図１、２及び３に関するか或いは図４及び５に関してここに記載のような実質的にコンクリート本体での亀裂化制御手段。
【請求項１０】
セメント質物質本体での亀裂化制御手段、二個の実質的にV型伸張部分、V型部分の一頂点内部から伸び出し且つ他V型部分の頂点に伸びた伸張側壁部分及び側壁部分に一個の開口部か複数の開口部を有する手段、使用時にその底部を下に位置して、亀裂し易いセメント質物質をその周りと少なくともその一部で中に注ぎ、次いでセメント質物質内で形成する亀裂が亀裂化制御手段位置かその近辺で起こるように形成する亀裂化制御手段。
【請求項１１】
二個のV型部分が実質的に同一方向に向いた頂点を有する請求項１０による亀裂化制御手段。
【請求項１２】
V型部分の頂点が実質的に反対方向に向いた請求項１０による亀裂化制御手段。
【請求項１３】
V型部分の一つが実質的に他V型部分より大きい請求項１０、１１、１２又は１３による亀裂化制御手段。
【請求項１４】
一個の開口部か複数の開口部が壁部分表面積の少なくとも実質的に約５０％を占める請求項１０、１１又は１３による亀裂化制御手段。
【請求項１５】
セメント質物質本体での亀裂化制御手段、伸張底部分と底部と壁部分が実質的に直角を形成する底部から伸びた伸張側壁部分及び壁部分の少なくとも実質的に５０％を占める壁部分の一個の開口部か複数の開口部を有する手段、使用時にその底部を下に位置して、亀裂し易いセメント質物質をその周りと少なくともその一部で中に注ぎ、次いでセメント質物質内で形成する亀裂が亀裂化制御手段位置かその近辺で起こるように形成する亀裂化制御手段。
【請求項１６】
図１５、１６、１７及び１８のいずれか一つに関してここに記載の実質的なに亀裂化制御手段。
【請求項１７】
以下の手順を含む亀裂化し易いセメント質物質内での亀裂制御法で、
i）前請求項のいずれか一つに記載のような亀裂化制御手段を得、亀裂がセメント質物質内で形成するのが望ましい場所かそれに隣接の位置に配置し、
ii）場合によってはセメント質物質が壁か壁部分周りと少なくとも一部がその中に広がるように大量のセメント質物質を配置し、且つ
iii）亀裂化制御手段位置かその近辺でセメント質物質内で亀裂が形成できる手順を含む亀裂制御法。
【請求項１８】
セメント質物質がコンクリートで構成する請求項１０による方法。
【請求項１９】
以下の手順を含む亀裂化し易いセメント質物質内での亀裂制御法で、
i）亀裂制御要素が底部、底部から伸びた一個の壁か複数の壁及び一個の壁か複数の壁内の一個の開口部か複数の開口部を有する亀裂制御要素を得、亀裂がセメント質物質内で形成するのが望ましい場所に亀裂制御要素を配置し、
ii）セメント質物質が一つの壁か複数の壁周りと少なくとも一部がその中に広がるように大量のセメント質物質を配置し、且つ
iii）亀裂制御要素位置かその近辺でセメント質物質内で亀裂が形成できる手順を含む亀裂制御法。
【請求項２０】
一個の開口部か複数の開口部が一つの壁又は複数の壁表面積の少なくとも５０％を占める請求項１９による方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はセメント質材料、例えばコンクリートでの亀裂制御手段に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンクリート施工状態でコンクリート本体は固まると亀裂するのが普通である。このような亀裂は大量のコンクリートでの作業では通常避けられないが、構造的見地からは亀裂位置を制御することが好ましい。従って本発明の少なくとも一実施形態の目的は、コンクリートでの亀裂制御に少なくともある方法を使うか、公衆に有益な選択を少なくとも提供することである。
方向性関連の用語、例えば“上向き”などをここでもし用いた場合、別に云わない限り方向性に付いての標準的使用事項に関するものと考える必要があることが分からねばならない。
用語“構成している”や“構成する”などその派生語は“成るや含む”を意味する、即ち限定を意図しないと解釈する必要があることが分からねばならない。
【発明の開示】
【０００３】
該発明の一様態によると、セメント質物質本体での亀裂化制御手段、伸張底部、その底部から伸び互いに近づくように曲がった伸張側壁部分及び側壁部分の一つの開口部や複数の開口部を有する亀裂化制御手段、使用時に底部を下に位置して亀裂し易いセメント質物質をその周りと少なくとも一部がその中を通り、次いでセメント質物質内に形成した亀裂が亀裂化制御手段位置かその近辺で起こるように注ぐことができるように形成した亀裂化制御手段を提供する。
好ましくはセメント質物質はコンクリートで構成される。
好ましくは横断面図で見ると側壁部分はその側壁部分間の底部の一部と共に三角形を形成する。
好ましくは三角形頂点から上向きに伸びる伸張部がある。
好ましくはセメント質物質本体での亀裂化制御手段は多数の該亀裂化制御手段の組み合わせ用の継ぎ手と組み合わす。
該発明の更なる様態によるとセメント質物質本体での亀裂化制御手段、伸張底部、その底部と壁部分が実質的に逆“T”型である底部から上向きに伸びる伸張壁部分及び壁部分に一つの開口部又は複数の開口部を有する手段、使用時に底部を下に位置し亀裂し易いセメント質物質をその周りと少なくとも一部がその中を通り、次いでセメント質物質内に形成した亀裂が亀裂化制御手段位置かその近くで起こるように注ぐことができるようにした形成亀裂化制御手段を提供する。
好ましくはセメント質物質はコンクリートで構成される。
好ましくは一つの開口部又は複数の開口部は、場合によっては壁又は壁部分の約５０％かそれ以上を占める。
該発明の更なる様態によると、セメント質物質本体での亀裂化制御手段、二個の実質的にV型部分、V型部分の一つの頂点内側から広がり他のV型部分頂点に伸びる伸張壁部分と壁部分に一つの開口部又は複数の開口部を有する手段、使用時に底部が下に位置して亀裂し易いセメント質材料をその周りと少なくとも一部がその中を通り、次いでセメント質物質内に形成した亀裂が亀裂制御手段位置かその近辺で起こるように注ぐことができるように形成した亀裂化制御手段を提供する。
好ましくはこの二つのV型部分は実質的に同一方向に向いた頂点を有する。
任意にV型部分の頂点は実質的に反対方向に向く。
任意にV型部の一つが他V型部より実質的に大きい。
好ましくは一つの開口部又は複数の開口部は壁部分表面積の少なくとも実質的に５０％を占める。
該発明の更なる様態によると、セメント質物質本体での亀裂化制御手段、底部と壁部分が実質的に直角を形成するように伸張底部と底部から伸びた伸張壁部分と壁部分の少なくとも実質的に５０％を占める一つの開口部か複数の開口部を有する手段、使用時に底部が下に位置し亀裂し易いセメント質物質をその周りと少なくとも一部がその中を通り、次いでセメント質物質内に形成した亀裂が亀裂化制御手段位置かその近辺で起こるように注ぐことができるように形成した亀裂化制御手段を提供する。
該発明の更なる様態によると、以下の手順を含む亀裂し易いセメント質物質での亀裂制御法を提供する。
i）前記様態のいずれか一つに記載のような亀裂化制御手段を得、亀裂がセメント質物質内で形成されるのが望ましい場所かそれに隣接の位置に配置し、
ii）場合によってはセメント質物質が壁か壁部分周りと少なくとも一部がその中に広がるように大量のセメント質物質を配置し、且つ
iii）亀裂化制御手段位置かその近辺でセメント質物質内に亀裂が形成できる。
好ましくはセメント質物質はコンクリートで構成される。
該発明の更なる様態によると、以下の手順を含む亀裂し易いセメント質物質内での亀裂化制御手段を提供する。
i）亀裂制御要素が底部、底部から伸びた一つの壁か複数の壁及び一つの壁か複数の壁に一つの開口部又は複数の開口部を有する亀裂制御要素を得、亀裂がセメント質物質内に形成するのが望ましい位置に亀裂化制御要素を配置し、
ii）セメント質物質が一つの壁か複数の壁周りと少なくとも一部がその中に広がるように大量のセメント質物質を配置し、且つ
iii）亀裂制御要素位置かその近辺でセメント質物質内で亀裂が形成できる。
好ましくは一つの開口部又は複数の開口部は一つの壁か複数の壁表面積の少なくとも５０％を占める。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００４】
図１、図２及び図３を参照して、コンクリート亀裂制御要素１は底部から互いに上方に曲がって交わる二個の伸張側壁部３と４付き底部２を有する伸張部分である。従って該制御要素１は通常横断面図では中空で三角形である。側壁部３と４は図２と３に示すように連続した間隔付き伸張開口部５を有する。見て分かるように底部２は壁部３と４のいずれかの側からわずかに伸び、壁部頂点は垂直伸張部６を有する。
制御要素１は使用時には底部２を下にして配置し、大量のコンクリートをその周りに注ぐ。コンクリートは少なくとも制御要素１を実質的に覆い、開口部５経由でその中を通る。鉄筋（図示していない）を必要であれば開口部５を通すことができる。コンクリートが固まると、制御要素１位置又はその近辺で亀裂し易い。この制御した亀裂化は制御要素のいずれかの側のコンクリート本体が、制御要素及び／又は制御要素を通るコンクリートの一部より実質的により大きな質量を有するという事実により促進される。
図４と５に底部８と上向き伸張壁部９をもつ代替えコンクリート亀裂制御要素７を示す。底部と壁部は実質的に逆T型である。図示のごとく制御要素７は連続した間隔付き伸張開口部１０を有する。代替え亀裂制御要素７を用いて前述と大半同じ方法で、即ち底部８を下に配置してコンクリートをその周りと中に注いで、コンクリート亀裂を制御する。鉄筋を開口部１０に通しても良い。コンクリート内に形成の亀裂によりコンクリート内に一本か複数線の脆弱部を生ずると考えると、亀裂は制御要素７の位置かその近辺に起こりやすい。
好ましくは制御要素１と７のそれぞれはその底部２か８に小さい開口部を有し、必要があれば下にある表面に固定できる。好ましくはこれら底部２と８は、必要な場合に制御要素１と７がより容易に水平にできるよう実質的に平らである。
最初に記載の制御要素１の場合、壁部３と４及び底部２の下部分で形成した三角形により強度と安定性、例えば壁部の好ましくない側方運動に抵抗する手段が得られる。
制御要素１と７は任意の適材、例えば一般に鋼鉄、プラスチックや樹脂性物質で形成できる。
使用時の制御要素１と７は、ある場合には他のそのような制御要素１と７にそれぞれ連結するのが好ましい。これを得るために、制御要素を必要に応じて適切な直線継ぎ手、角継ぎ手や“T”型継ぎ手と共に使用しても良い。図６に最初に記載の制御要素１二つを連結するのに使用できる直線コネクター１１を示す。より具体的には二個の亀裂制御要素１はコネクター１１の各反対端でスリーブとしてコネクター１１にはめ込む。コネクター１１は亀裂制御要素１内部とかみ合う程度に制限した縁１２を各端に有する。
図７と８、図９と１０、図１１と１２及び図１３と１４に、図１、２と３に関した記載のように亀裂制御要素１と共に使用できる種々の他コネクターを示す。それぞれの場合で亀裂制御要素１はスリーブとしてコネクターとかみ合う。好ましくはこれらコネクターのそれぞれはコンクリート又は類似物がその内部及び／又は経由して入れる一個の開口部か複数の開口部を有する。
任意に亀裂制御要素１と７及び上記の種々のコネクターは２．０乃至３．５mm（又は好ましくは２．５乃至３．０mm）ゲージ鋼鉄かプラスチックから形成する。使用材料の規格は所望の伸縮継ぎ手サイズに合致するように選んでも良い。
好ましくは亀裂制御要素の開口部５と１０は側壁部の約５０％かそれ以上、より好ましくは側壁部の５２％を占める。
該発明のある実施形態では少なくともコンクリート本体か類似体に制御した伸縮継ぎ手を作ることができることが分かる。その継ぎ手はコンクリート表面下の亀裂制御要素の位置付けに対応しても良い
図１５、１６、１７及び１８に該発明の代替え実施形態に従う亀裂制御要素１３、１４、１５及び１６を示す。各図は端面図と透視図両者での各亀裂制御要素１３、１４、１５又は１６を示す。亀裂制御要素１３乃至１６のそれぞれは種々な応用、例えばコンクリート壁板角での亀裂を制御するか、或いは床レベルでの亀裂を制御するように利用する。コンクリートは噴霧法や任意の他の適切手段のより制御要素１３乃至１６に注ぐことができる。
図１５、１６と１８に示すように、制御要素１３、１４及び１６のそれぞれは二個のV型端部分と中間連結壁部分を有する。壁部分はコンクリート又はある他のセメント質材料がその中を通れる開口部を有する。制御要素１３と１４の場合には、二個のV型端部頂点は同方向に向き、場合によっては頂点の内側部分か外側部分のいずれかで、その頂点の壁部分と連結する。制御要素１６の場合には、二個のV型部分の頂点は互いに遠ざかるように向き、この頂点内側部分でその壁部分により相互に連結する。図１７に示すように、制御要素１５は直角形状であり、角度の一辺は底部にあり、他はその中に開口部を有する壁部分にある。好ましくは制御要素１３乃至１６の全てで、その開口部は各事例で壁部分表面積の少なくとも実質的に５０％を占める。
実施例により該発明の好ましい形のいくつかを記載したが、修正と改良が添付の請求項範囲を逸脱することなしにできることを分かる必要がある。
【図面の簡単な説明】
【０００５】
該発明の好ましい形のいくつかを実施例と付随図面について説明する。
【図１】図１はコンクリート亀裂制御要素の横断面図である。
【図２】図２は図１の亀裂制御要素の側面図である。
【図３】図３は図１と２の亀裂制御要素の平面図である。
【図４】図４は代替えコンクリート亀裂制御要素の透視図である。
【図５】図５は図４の亀裂制御要素の端面図である。
【図６】図６は直線コネクターの横断面図である。
【図７．８】図７と８はそれぞれ四方コネクターの側面図と平面図である。
【図９．１０】図９と１０はそれぞれ三方コネクターの側面図と平面図である。
【図１１．１２】図１１と１２はそれぞれ角度付き二方コネクターの側面図と平面図である。
【図１３．１４】図１３と１４はそれぞれ三方コネクターの側面図と平面図である。
【図１５．１８】図１５乃至１８は代替えコンクリート亀裂制御要素の透視図と端面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【国際調査報告】
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