(57)【要約】レーザライタを用いた反復性の高いマイクロパターン作製方法は、１つ以上の回折光学素子を備えている。少なくとも１つの回折光学素子は、レーザライタのビームを、レーザで書き込み可能な基板に形成しようとする反復性のある構造の周期と一致する分離距離に基づいてサブビームに分割するようになっている。１つ以上のＦシータレンズも備えている。少なくとも１つのＦシータレンズは、前記サブビームを遮断するとともにレーザライタ出力ビームが周期的に分布されるように配置されている。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザライタを用いて反復性の高いマイクロパターンを作製する装置であって、
１つ以上の回折光学素子と、１つ以上のＦシータレンズとを備え、
少なくとも１つの回折光学素子は、レーザで書き込み可能な基板に形成しようとしている反復性のある構造の周期と一致する分離距離に基づいてレーザライタのビームをサブビームに分割するようになっているとともに、
少なくとも１つのＦシータレンズは、前記サブビームを遮断するとともにレーザライタ出力ビームが周期的に分布されるように配置されている装置。
【請求項２】
高出力レーザ源を有するレーザライタをさらに備え、前記回折光学素子および前記Ｆシータレンズが前記レーザライタのレーザビームの光学経路内に配置されている請求項１に記載の装置。
【請求項３】
超高速レーザ源を有するレーザライタをさらに備え、前記回折光学素子および前記Ｆシータレンズが前記レーザライタのレーザビームの光学経路内に配置されている請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記１つ以上の回折光学素子には、前記レーザで書き込み可能な基板に処理されようとしている光学素子の分離距離に基づいてレーザライタのビームを分割するようになっている第１の回折光学素子が含まれているとともに、レーザで書き込み可能な基板に形成しようとしている反復性のある構造の周期と一致する分離距離に基づいてレーザライタのビームをサブビームに分割するようになっている前記回折光学素子は、共通の仕様で製造された複数の第２の回折光学素子のうちの１つである請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記第１の回折光学素子によって生成されたサブビームを遮断するように配置されている１つ以上の視準レンズをさらに備えている請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記第２の回折光学素子が前記第１の回折光学素子によって生成されたサブビームを遮断するように配置されていることによって、レーザライタ出力ビームを間隔をあけて複数周期分布させる請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記第１の回折光学素子によって生成されたサブビームを遮断するために前記第１の回折光学素子と前記第２の回折光学素子との間に配置されている他のＦシータレンズをさらに備えている請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記第１の回折光学素子によって生成されたサブビームを遮断するために前記他のＦシータスキャンレンズと前記第２の回折光学素子との間に配置されている複数の視準レンズをさらに備えている請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記レーザライタ出力ビームを遮断するために配置されているレーザで書き込み可能な基板をさらに備えている請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記レーザライタ出力ビームが当たるレーザで書き込み可能な基板の現像およびエッチングのうちどちらか、または、両方を行うことによって、反復性のある構造が少なくとも１回形成されたウェハを製造するようになっているステージをさらに備えている請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
レーザライタを用いて反復性の高いマイクロパターンを作製する方法であって、
１つ以上の回折光学素子を入手し、これら回折光学素子のうち少なくとも１つの回折光学素子は、反復性のある構造の周期と一致する分離距離に基づいてビームを分割するようになっていることと、
前記回折光学素子のうち少なくとも１つを用いてレーザライタの少なくとも１本のビームを分割し、この分割には、反復性のある構造の周期と一致する分離距離に基づいてビームを分割するようになっている前記回折光学素子を用いることを少なくとも含んでおり、こうして、レーザライタ出力ビームを少なくとも１周期分布させることと、
前記レーザライタ出力ビームを用いてレーザで書き込み可能な基板を処理することによって、前記反復性のある構造に基づいて反復性の高いマイクロパターンを少なくとも１回製造することとを備えている方法。
【請求項１２】
高出力レーザ源を有するレーザライタを設けることをさらに備えている請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
超高速レーザ源を有するレーザライタを設けることをさらに備えている請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
１つ以上の回折光学素子を入手することには、
処理対象の光学素子の分離距離に基づいてビームを分割するようになっている少なくとも１つの第１の回折光学素子を入手することと、
反復性のある構造の周期と一致する分離距離に基づいてビームを分割するようになっている複数の第２の回折光学素子を入手することとが含まれている請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
レーザライタの少なくとも１本のビームを分割することには、
前記第１の回折光学素子を用いて前記レーザライタのレーザビームを分割することによって、サブビームを生成することと、
第２の回折光学素子を用いて前記サブビームを分割することによって、レーザライタ出力ビームを間隔をあけて複数周期分布させることとが含まれている請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記レーザライタ出力ビームを用いてレーザで書き込み可能な基板を処理することには、
前記レーザで書き込み可能な基板に前記反復性のある構造を作製するようになっているマイクロパターンが複数パターンできるよう前記レーザで書き込み可能な基板の表面を同時に露光させることと、
前記レーザで書き込み可能な基板の現像およびエッチングのうちどちらか、または、両方を行うことによって、複数の光学素子が間隔をあけて設けられるよう処理したウェハを作製することと、
ウェハをダイシングすることによって、単体の光学素子ができることとが含まれている請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記単体の光学素子を用いて、最終製品である光学素子を製造することと、
前記最終製品である光学素子のうち１つ以上を組み合わせて１つの装置にすることとをさらに備えている請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
回折光学素子を入手することには、前記回折光学素子を設計することが含まれている請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
回折光学素子を入手することには、前記回折光学素子を製造することが含まれている請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
前記回折光学素子によって生成された１本以上のサブビームをＦシータレンズおよび視準レンズのうち一方あるいは両方に当てることによって、前記レーザライタ出力ビームを生成することをさらに備えている請求項１１に記載の方法。
【請求項２１】
回折光学部品を用いるレーザライタのちょうど１回の動作の間に他の同一の光学素子と同時に作製され、前記ライタのビームを、前記レーザライタの正確に１回の動作の間に同時に作製された前記光学素子の数以上の数のサブビームに分割する回折格子を備えている光ピックアップ。
【請求項２２】
分極ビームスプリッタと、
前記分極ビームスプリッタによって分極した出射ビームを生成するレーザダイオードとをさらに備えている請求項２１に記載の光ピックアップ。
【請求項２３】
フォトセンサをさらに備え、
前記回折格子と、前記分極ビームスプリッタと、前記レーザダイオードと、前記フォトセンサは、前記分極した出射ビームの光学経路に沿って戻る入射レーザビームが前記分極ビームスプリッタの表面に反射して前記回折格子に向かうとともに、前記回折格子によって前記入射ビームの方向が変わって前記入射ビームが前記フォトセンサの方向に方向転換できる角度で前記分極ビームスプリッタの表面に戻ることができるように配置・配向されている請求項２２に記載の光ピックアップ。
【請求項２４】
回折光学部品を用いるレーザライタのちょうど１回の動作の間に他の同一の光学素子と同時に作製され、前記ライタのビームを、前記レーザライタのちょうど１回の動作の間に同時に作製された前記光学素子の数以上の数のサブビームに分割する回折格子と、
出射レーザビームを前記光ピックアップから所定位置に向きを変え、さらに、前記所定位置から反射した入射レーザビームを、前記出射レーザビームのビーム経路に沿って前記光ピックアップに戻すよう配置・配向されている光学素子とを備えている光ディスク装置。
【請求項２５】
分極ビームスプリッタと、
前記分極ビームスプリッタによって分極した出射ビームとして前記出射レーザビームを生成するレーザダイオードと、
フォトセンサとをさらに備え、
前記回折格子と、前記分極ビームスプリッタと、前記レーザダイオードと、前記フォトセンサは、前記入射レーザビームが前記分極ビームスプリッタの表面に反射して前記回折格子に向かうとともに、前記回折格子によって前記入射ビームの方向が変わって前記入射ビームが前記フォトセンサの方向に方向転換できる角度で前記分極ビームスプリッタの表面に戻ることができるように配置・配向されている請求項２４に記載の光ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概して、レーザライタを用いてレーザで書き込み可能な基板をマイクロパターニングする方法および装置に関し、特に、レーザライタによる並行処理を実現するための１つ以上の回折光学素子の設計および使用法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在の回折格子、回折光学素子（ＤＯＥ）および/またはマイクロデバイス用の振幅マスクは、レーザライタを用いてできるものであり、レーザで書き込み可能な基板を画素毎に処理できる。これに応じて、１本のレーザ光線を用いて、反復パターン毎にウェハ全体にパターンを書き込む。この処理が非常に緩慢なため、処理速度を改良する必要が残されている。
【０００３】
格子（またはＤＯＥ）の性能（効率）は多数の周期性のある構造に対するビームの到達範囲に左右されるので、周期毎のばらつきによって性能が低下する。その結果、現在のレーザ書き込みプロセスは、レーザビームの強度や、ビームポインティングや、スキャナの反応や、スキャンの非線形性や、熱膨張などのパラメータの長期のドリフトに影響されやすい。したがって、周期毎のばらつきを抑える必要が残されている。
【０００４】
格子（またはＤＯＥ）が多数製造される場合、素子毎のばらつきによって製造歩留まりおよび耐性が低下する。その結果、現在のレーザ書き込みプロセスは、レーザビームの強度や、ビームポインティングや、スキャナの反応や、スキャンの非線形性や、熱膨張などのパラメータの長期間のドリフトに影響されやすい。したがって、素子毎のばらつきを抑える必要が残されている。
【０００５】
（マイクロ）光学素子の大量生産時に発生するレーザ書き込みプロセスのパラメータの長期のドリフトが起因の部品毎のばらつきを回避することがさらに望ましい。同じ光学素子を多数作製するためには、通常、ステップアンドリピートプロセスにおいてマスクアライナまたはステッパを用いる。しかしながら、このプロセスには高価な装置が必要であるため、最終製品である光学素子のコストが高くなる。この光学素子がもはやバイナリ格子のようなバイナリ構造体ではない場合、マスクアライナまたはステッパに特別なグレースケールフォトマスクを取り付ける必要があり、このグレースケールフォトマスクを作るのもコストがかかる。一方、レーザライタまたは電子ビームを用いるライタによってグレースケール構造を作製するための直接的な書き込み方法がある。しかしながら、この方法においては、個々の素子が事実上１つずつ製造されるため、素子の大量生産時にもこの素子の製造コストが大幅に高くなる。よって、同じ（マイクロおよびノンバイナリ）光学素子を大量に作製するためのより安価な方法が必要である。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によって、上述の必要性が満たされる。
【０００７】
本発明によれば、レーザライタを用いて反復性の高いマイクロパターンを作製する装置は、１つ以上の回折光学素子を備えている。少なくとも１つの回折光学素子は、レーザで書き込み可能な基板に形成しようとしている反復性のある構造の周期と一致する分離距離に基づいてレーザライタのビームをサブビームに分割するようになっている。１つ以上のＦシータレンズも備えている。少なくとも１つのＦシータレンズは、前記サブビームを遮断するとともにレーザライタ出力ビームが周期的に分布されるように配置されている。
【０００８】
本発明のさらなる応用分野は、以下の詳細な記述から明らかになるであろう。詳細な記述および具体例は、本発明の好適な実施形態を示すものであるが、例示目的に過ぎず、本発明の範囲を制限するものではないことを理解されたい。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
詳細な説明および添付の図面から本発明についての理解が深まる。
【００１０】
以下に記載する好適な実施形態は実際に例示に過ぎず、発明、その応用、または使用を制限するものでは決してない。
【００１１】
図１において、一般的なレーザライタ１１は、ビーム変調器／減衰器モジュール１４を介してスキャナミラー１６に向けてレーザビームを発射するレーザ源１２を備えている。スキャナミラー１６によって、前記レーザビームの方向を変えてフォーカスレンズ１８を通過させるとともに、さらにＸ−Ｙ−Ｚ移動ステージ２０も用いて、レーザで書き込み可能な基板２２に対する該レーザビームのスポット径が決められる。さらに、スキャナミラー１６の向きを決めるとともに、Ｘ−Ｙ−Ｚ移動ステージ２０を移動させることによって、レーザで書き込み可能な基板２２の表面上における前記レーザビームの位置が決められる。コンピュータプロセッサ２４は、フォーカストラッキングカメラ／レーザ２６からのフィードバックに応じて、スキャナミラー１６およびＸ−Ｙ−Ｚ移動ステージ２０を制御して、レーザで書き込み可能な基板２２に焦点を当てながら該基板２２上に所定のマイクロパターンをトレースする。こうして露光した基板２２を現像するか、または、エッチングすることによって、あるいは、その両方を行うことによって、基板に前記マイクロパターンに対応する所定の構造ができる。
【００１２】
本発明では、レーザ源１２は、高出力レーザ源および／または超高速レーザ源に交換される。さらに、本発明では、フォーカスレンズ１８は、図２に示すようにＦシータレンズを有する少なくとも１つのＤＯＥを備えた本発明の第１の実施形態に係る装置に交換される。ＤＯＥ３０は、レーザで書き込み可能な基板２２に形成されようとしている反復性のある構造の周期と一致する分離距離に基づいてレーザライタのビームをサブビームに分割するようになっている。Ｆシータレンズ３２は、前記サブビームを遮断するとともに、レーザライタの出力ビームを周期的に分布するように配置されている。こうして、１つの構造に対応するマイクロパターンによって、該マイクロパターンが複数回反復するよう同時に非常に正確に基板を露光できる。２本のサブビームを図示しているが、１つのＤＯＥから約４００本のサブビームを生成することができる。よって、反復性の高い構造を有する光学素子または他のマイクロ素子を迅速かつ高精度に形成できる。
【００１３】
次に、図３を見ると、第２の実施形態では、第１のＤＯＥ３４は、ダイシング／分離を考慮に入れて前記ビームを各素子の間隔よりわずかに大きくなるように分割するよう設計できる。この段階的な方法によって、１つのウェハ／基板２２で複数の素子を並列処理できるようになる。このような応用をする場合、ビームパターンを所望の配置と一致させるが、素子の配置は規則的である必要はない。同様に、１つのＤＯＥでは使用可能なウェハ領域全体に十分に対応できない場合、このＤＯＥは、まず、必要に応じて基本レーザビームを複数の別々のビームに分割するとともに、さらにビームを分割するために各ビームを別の全く同じＤＯＥの方向に向けることによって、対応可能な範囲を大きくする。
【００１４】
実施形態には、第１のＤＯＥ３４によって、他のＦシータレンズ３６に遮断されるサブビームが複数生成されるものがいくつかある。その後、複数の視準レンズ３８Ａないし３８Ｄによって、第１の実施形態における多数の例で使用するためにサブビームが作り直される。したがって、第２のＤＯＥ３０Ａないし３０Ｄが動作して素子に形成されようとしている構造の周期に応じてサブビームが分割されるとともに、Ｆシータレンズ３２Ａないし３２Ｄによって、分割されたサブビームが、周期的に間隔をあけて多数分布するレーザライタ出力ビームになる。しかしながら、基本ビームを第１の実施形態における多数の例の使用に適切なサブビームに分割するために光学素子の別の配置パターンを用いることができることが想定される。さらに、第１の実施形態および第２の実施形態には、何らかの目的のため参照としてすべてここに援用するＬｉｕ他に付与された米国特許第６，７２０，５１９号のレーザドリル装置および方法に開示されたように、走査レンズと、像伝達レンズと、マイクロフィルタとを含むことができることが想定される。
【００１５】
好適な実施形態では、本発明を用いて、光学ディスクドライブ（ＤＶＤおよびＢＤ）における光ピックアップユニット内の格子を製造する際に用いられるマスクを製造する。図４において、光学ドライブ５０には、発光するとともに光学ディスク５４から反射したレーザ光を受けるための光ピックアップ５２が含まれている。光ピックアップ５２の一体型格子ユニット５６を図５により詳細に示す。図５を見ると、分極ビームスプリッタ６０によって分極した出射ビームがレーザダイオード５８によって生成される。図４に戻ると、前述の分極した出射ビームは、ビームシェーパ６２によって形を決められ、ミラー３２Ａによって方向が変えられ、ビーム拡大器６６Ａおよび６６Ｂによって拡大されるとともに、４分の１波長板６８を介して伝播する。前記出射ビームは、ミラー７０によって対物レンズ７２を介して光ディスク５４の方向に向かうようさらに方向を変えられ、一体型格子ユニット５６の方に同じ経路に沿って反射して入射ビームとして戻る。図５に戻ると、該入射ビームは、分極ビームスプリッタ６０の表面に反射して本発明に応じて製造された回折格子７４の表面に向かう。格子７４によって、回折した入射ビームが分極ビームスプリッタ６０の表面の方向に戻され、フォトセンサ７６の方向に向かうよう方向を変えられる。本発明に係る光学ドライブおよびピックアップに関するさらなる詳細は、何らかの目的のため参照としてすべてここに援用するＦｕｋａｋｕｓａ他に付与された米国特許第６，７５７，２２４号の一体型光学素子および光ピックアップ装置に記載されている。
【００１６】
次に、図６においては、レーザライタを用いた反復性の高いマイクロパターンを作製する方法には３つの概略的な工程がある。工程１００では、１つ以上の回折光学素子を入手する。工程１００で入手した少なくとも１つの回折光学素子は、反復性のある構造の周期と一致する分離距離に基づいてビームを分割するようになっている。ＤＯＥを入手することには、所望の光学素子の反復性のある構造の周期に基づいてＤＯＥを設計することが含まれている。さらに、または、その代わりに、このＤＯＥを入手することには、ＤＯＥを製造することが含まれていてもよい。あるいは、このＤＯＥを入手することには、適切なＤＯＥを特定して購入すること、適切なＤＯＥの設計および製造を請け負うことなどが含まれている。実施形態には、工程１００にサブ工程１００Ａおよび１００Ｂが含まれるものもいくつかある。サブ工程１００Ａでは、処理対象の光学素子の分離距離に基づいてビームを分割できるようになっている少なくとも１つの第１の回折光学素子を入手する。サブ工程１００Ｂでは、反復性のある構造の周期と一致する分離距離に基づいてビームを分割するようになっている複数の第２の回折光学素子を入手する。
【００１７】
工程１０２では、レーザライタの少なくとも１本のビームが、前記回折光学素子のうち少なくとも１つによって分割される。反復性のある構造の周期と一致する分離距離に基づいてビームを分割するようになっている前記少なくとも１つの回折光学素子を用いて、工程１０２でビームを分割する。工程１０２でビームを分割することによって、レーザライタ出力ビームのうち周期的に分布された少なくとも１本のビームが少なくとも部分的に生成される。実施形態には、工程１０２にサブ工程１０２Ａおよびサブ工程１０２Ｂが含まれるものもいくつかある。サブ工程１０２Ａでは、サブ工程１００Ａで入手した第１の回折光学素子によって前記レーザライタのレーザビームが分割される。サブ工程１０２Ａによってサブビームが生成される。サブ工程１０２Ｂでは、サブ工程１０２Ａで生成されたサブビームは、サブ工程１００Ｂで入手した第２の回折光学素子によって分割される。サブ工程１０２Ｂでは、レーザライタ出力ビームが間隔を空けて周期的に複数分布している。
【００１８】
工程１０４では、レーザで書き込み可能な基板が前記レーザライタ出力ビームによって処理される。前記反復性の高いマイクロパターンが工程１０４で反復性のある構造に基づいて１回以上作製される。実施形態には、工程１０４にサブ工程１０４Ａないし１０４Ｃが含まれるものもいくつかある。サブ工程１０４Ａでは、レーザで書き込み可能な基板の表面を、該レーザで書き込み可能な基板に反復性のある構造を作製するようになっているマイクロパターンが複数パターンできるよう露光させる。サブ工程１０４Ｂでは、露光した基板を適宜現像またはエッチングすることによって、反復性のある構造になっている光学素子を複数有するウェハを作製するとともに、該ウェハをダイシングして本発明に応じて回折格子を作製するためのマスクのような個々の素子ができる。個々の光学素子をさらに用いて、サブ工程１０４Ｂで、回折格子のような最終製品となる光学素子ができる。サブ工程１０４Ｃでは、１つ以上の最終製品となる素子が、光学ドライブの光ピックアップのような装置に組み込まれる。よって、本発明に係る方法の実施形態には、マスクまたは回折格子、および／または光ピックアップおよび／または光学ドライブのような装置などの光学素子を製造する方法もいくつかある。
【００１９】
本発明に係る方法の実施形態には、工程１０６も含むものがいくつかあってもよい。工程１０６では、本発明に応じて並列処理をサポートできるだけのレーザパワーを有するレーザライタが設けられる。例えば、工程１０６には、高出力レーザ源および／または超高速レーザ源を有するレーザライタを設けることが含まれていてもよい。実施形態には、比較的低出力のレーザ源を他のレーザ源と取り替えできるものもいくつかある。したがって、本発明に係る方法の実施形態には、本発明に応じてレーザライタを製造する方法であってもよいものがいくつかある。
【００２０】
ＤＯＥを用いるという並列処理の性質によって、ウェハ全体の均一性が向上する。長時間のドリフトによるエラーやばらつきが解消される。上述の方法は、回折格子の反復性が高いので、ＤＯＥおよび金型を含む回折格子を作製するために特に有用である。前述のビームパターンは非常に規則的なので、製造したＤＯＥは、非常に高品質に、かつ、スキャナの運動精度を最小限に維持するだけで設計できる。また、複数のＤＯＥを配置することによって、製造する物品の自由度が大きくなる。
【００２１】
レーザライタに用いるビーム径は、一般的には１ミクロンまたは２ミクロンのいずれかである。しかしながら、レンズの強度を高くするか、または、波長を短くすることによって、あるいは、この両方を行うことによって、ビーム径が０．６ミクロンになる。適切に設計されているＤＯＥは、メムズオプティカルのような製造業者から購入できる。一般的に、製造業者は、最終製品の仕様およびレーザライタの特徴に応じてＤＯＥを設計する。しかしながら、好適なＤＯＥの設計図を製造業者に提供してもよい。
【００２２】
光ピックアップや光ディスク装置のような本発明に応じて製造された様々な物品について図７ないし図９を参照しながら説明する。図７では、光学部品として使用できる、ＢＫ７、ソーダ石灰や、石英ガラスなどのガラス基板が用意される。次に、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）またはＳＩＰＬＥＹ  ＳＣ−１８２７，Ｓ−１８１３などの適切なフォトレジスト２０２が基板２００上に形成される。そして、本発明では、フォトレジスト２０２がＦシータレンズ２０４の後に設置される。ミラー２０６およびステージ２０８のうちいずれか一方あるいは両方（製造の高速化のためにはミラーが好ましい）が、レーザライタ２１０のビーム拡大器２１６からのレーザビームをラスタスキャンまたはランダムスキャンするために、プロセッサ２１２によって移動させることができる。ステージ２０８は、ｘ，ｙ，ｚ方向に移動するとともに、シータおよび／またはファイ方向に回転するようにもすることができる。ミラー２０６は、ＰＺＴ制御のモータに取り付けられていてもよく、あるいは、共振ミラーであってもよい。ＤＯＥ２１４は、ビームを、同時に製造しようとする光学素子の数と等しい数に分割するとともに、それぞれのビームによって、フォトレジスト２０２における各素子に対応する部分が露光される。
【００２３】
次に、図８では、上述の露光の後、露光したフォトレジスト２０２が設けられている基板２００を、例えば、（ａ）反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）またはイオンミリングを用いるドライエッチングや、（ｂ）エッチング液を用いるウェットエッチングなどのエッチング法によって現像するか、または、エッチングすることによって、あるいは、その両方を行うことによって、フォトレジスト２０２における構造を基板２００に転写する。その後、エッチングされた基板を洗浄するとともに、ダイシングソーを用いて素子毎にダイシングすることによって、複数の全く同一の光学素子２２２が作製される。前記素子２２２は、１回のレーザライタの動作で同時に作製しているので、全く同じグレースケール特性を持つことができる。図９では、前記素子を反射性の材料が塗布された後に組み立てて、２３４に示すように、光ピックアップ２３２の一体型格子ユニット２３０のような格子ユニットにしてもよい。本発明は、反射型だけでなく、屈折型の回折格子にも応用できる。本発明はまた、一体型格子ユニットだけでなく、単体の格子ユニットを作製するためにも用いることができる。このように作製された光ピックアップは、さらに、ＤＶＤ、ＢＤプレーヤーおよび／またはレコーダーのような光ディスク装置に組み込むことができる。
【００２４】
本発明によって、レーザライタの基本ビームから分割されたサブビームの数に従属する係数分だけ一体型格子ユニットのコストが低下する。また、本発明によって、短時間で同時に露光できるためレーザライタのレーザパワーが低下したり変動したりしないことが理由で歩留まりが増加し、この増加量に従属する係数分だけ格子ユニットのコストが低下する。
【００２５】
発明の説明は事実上例示に過ぎず、したがって、発明の要旨から逸脱していない変形例は、発明の範囲内とされる。このような変形例は、発明の精神および範囲からの逸脱であるとみなすべきではない。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】従来技術に係るレーザライタのブロック図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る反復性の高いマイクロパターンを作製する装置のブロック図である。
【図３】本発明の第２の実施形態に係る反復性の高いマイクロパターンを作製する装置のブロック図である。
【図４】本発明に応じて作製された光学素子が組み込まれた光ピックアップシステムのブロック図である。
【図５】本発明に応じて作製された一体型格子ユニットのブロック図である。
【図６】本発明に係る反復性の高いマイクロパターンを作製する方法を示すフローダイアグラムである。
【図７】全く同一のグレースケール光学素子を同時に製造したり光ディスク装置に用いるための光ピックアップに該光学素子を組み込んだりすることを示すブロック図である。
【図８】全く同一のグレースケール光学素子を同時に製造したり光ディスク装置に用いるための光ピックアップに該光学素子を組み込んだりすることを示すブロック図である。
【図９】全く同一のグレースケール光学素子を同時に製造したり光ディスク装置に用いるための光ピックアップに該光学素子を組み込んだりすることを示すブロック図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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