(57)【要約】  本発明は、放射線源からの放射線の第１の波長帯域のスペクトルを検知器（４２）上に作成するスペクトロメータ（１４）から構成されるスペクトロメータ配置（１０）に関する。この配置はまた、スペクトロメータ配置（１０）に差し込む放射線の主要分散方向（４６）へのスペクトル分解のためのエシェル格子（３６）と；放射線のスペクトル分解を用いて、エシェル格子（３６）の主要分散方向に対して角度をなす横分散方向（４８）に、複数の分離された程度（５２）を有する二次元スペクトル（５０）が作成されることができるように、程度を分離する分散体（３４）と；入射空隙（２０）を通ってスペクトロメータ配置（１０）に差し込む放射線を結像面（４０）に結像する結像光学素子（２４、３８）と；結像面（４０）内の複数の検知素子の二次元配置から構成される面検知器（４２）とから構成される。発明的配置は、放射線源からの放射線の、第１の波長帯域と異なる第２の波長帯域のスペクトル（６８）を同一の検知器（４２）上に作成するために、少なくとももう１つの分散体（６４）および他の結像光学素子（６０、６６）から構成される他のスペクトロメータ（１２）が備えられることにより特徴づけられる。スペクトルは検知器上で、空間的、もしくは時間的に分離される。
2008501966.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）  スペクトロメータアセンブリ（１０）に入射する放射線を、主要分散方向（４６）にスペクトル的に分散するエシェル格子（３６）と、
（ｂ）  複数の分離したオーダー（５２）を有する二次元スペクトル（５０）を生成するよう構成されたエシェル格子（３６）の主要分散方向に対して角度をなす横分散方向（４８）に、放射線をスペクトル的に分散することにより、オーダーを分離する分散体（３４）と、
（ｃ）  入射スリット（２０）を通って、スペクトロメータアセンブリ（１０）内に入射する放射線を結像面（４０）に結像する結像光学システム（２４、３８）と、
（ｄ）  結像面（４０）に複数の検知素子の二次元配置を有する検知器アレイ（４２）と、から構成され、
（ｅ）  光源からの放射線の第１の波長帯域と異なる第２の波長帯域のスペクトル（６８）を同一の検知器（４２）上に生成するための、さらなる分散体（６４）およびさらなる結像光学システム（６０、６６）を有する、さらなるスペクトロメータ（１２）が備えられることを特徴とする、
光線の第１の波長帯域の放射線スペクトルを検知器（４２）上に生成する、スペクトロメータ（１４）を有するスペクトロメータアセンブリ（１０）。
【請求項２】
前記さらなる分散体（６４）もまたエシェル格子であり、分散体（６２）は、オーダーを分離するために、第２のエシェル格子により横分散方向（４８）に分散され、前記方向は第２のエシェル格子の分散方向に対して角度をなす、放射線のスペクトル分散に利用される第２のエシェル格子に属することを特徴とする、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】
プリズム（３４、６２）が、それぞれのオーダーを分離する分散体として備えられることを特徴とする、先行する請求項のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項４】
前記さらなるスペクトロメータアセンブリ（１２）が、前記第１のスペクトロメータアセンブリ（１４）に対称に位置づけられ、前記検知器（４２）が対称面（１８）に、それに対して垂直に位置づけられることを特徴とする、先行する請求項のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項５】
結像光学システムはそれぞれ、コリメータ（２４、６０）およびカメラ（３８、６６）により形成されることを特徴とする、先行する請求項のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項６】
入射スリット（２０，５６）とコリメータ（２４、６０）と、非点収差などの結像誤差を補償するよう構成された鏡の屈曲に影響する手段との間で光経路を折り返すために、鏡（２２、５８）が備えられることを特徴とする、先行する請求項のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項７】
前記鏡の屈曲に影響する手段が、担体により、および、鏡の高さに沿って延在し、後方から基本的にその中央で、圧力に依存する鏡屈曲が形成されるように鏡に圧力をかける、少なくとも１つの縦方向圧力手段により形成されることを特徴とする、請求項６に記載のアセンブリ。
【請求項８】
圧力手段（１０４）が、調整可能なスクリューの力にさらされることを特徴とする、請求項７に記載のアセンブリ。
【請求項９】
２つの波長帯域のスペクトルが、検知器（４２）上で、空間的に、少なくとも部分的に重なり合うことを特徴とする、先行する請求項のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項１０】
上に結像された第２のスペクトロメータ（１２）のスペクトルを少なくとも部分的に受けるよう構成された検知器上の、第１のスペクトロメータ（１４）の二次元スペクトルのオーダー（５２）間に暗部（５４）が存在するように、横方向分散が設計されることを特徴とする、請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１１】
交互の第１もしくは第２の波長帯域が前記検知器（４２）上に結像されるように、検知器を照射する時間を制御する手段が備えられることを特徴とする、先行する請求項のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項１２】
（ａ）  前記第１のスペクトロメータ（１４）の前記入射スリット（５６）を第１のラインエミッタの放射線により照射するステップと、
（ｂ）  前記第２のスペクトロメータ（１２）の前記入射スリット（２０）を第２のラインエミッタの放射線により照射するステップと、
（ｃ）  前記第１および第２のスペクトロメータにより生成されるラインスペクトルを共通の前記検知器（４２）を用いて同時に検知するステップと、
（ｄ）  一方もしくは両方の結像光学システムを用いて、すべてもしくは選択されたラインの重なりが最小であるように、ラインスペクトルを相互に空間的にずらすステップと、により特徴づけられる、先行する請求項のいずれかに記載のスペクトロメータアセンブリを調整する方法。
【請求項１３】
レーザー励起プラズマ分光（ＬＩＰＳ）のための、請求項１から１１のいずれかに記載のスペクトロメータアセンブリの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
技術分野
本発明は、
（ａ）  スペクトロメータアセンブリに入射する放射線を、主要分散方向にスペクトル的に分散するエシェル格子と、
（ｂ）  複数の分離したオーダーを有する二次元スペクトルを生成するよう構成されたエシェル格子の主要分散方向に対して角度をなす横分散方向に、放射線をスペクトル的に分散することにより、オーダーを分離する分散体と、
（ｃ）  入射スリットを通じてスペクトロメータアセンブリに入射する放射線を、結像面に結像する結像光学システムと、
（ｄ）  結像面に複数の検知素子の二次元配置を有する検知器アレイと、
から構成される、光源の第１の波長帯域の放射線スペクトルを検知器上に生成するスペクトロメータを有するスペクトロメータアセンブリに関する。
【背景技術】
【０００２】
階段状の断面（エシェル（フランス語）＝階段）を有する格子が、このようなエシェルスペクトロメータに用いられている。対応するブレーズ角を有するこのような階段状の構造を有する回折パターンが生成され、回折パターンは、高次、たとえば１５次から１００次に回折された強度を集中する。それにより、高いスペクトル分解能が小さなアセンブリを用いて得られる。オーダーは入射する波長によって重なってもよい。したがって、発生する多様なオーダーを分離するために、オーダーはふたたび分散面に対して横方向に分散される。このように、検知器アレイを用いて検知される二次元スペクトルが得られる。
【０００３】
オーダーを内部分離するこのようなエシェルスペクトロメータは、小さなスペクトル帯域からの放射線のみがスペクトロメータに入射する、オーダーを外部分離するエシェルスペクトロメータと異なる。オーダーを内部分離するスペクトロメータにおいては、検知器上に、スペクトルが二次元構造の形状で生成される。この構造は基本的に、フリースペクトル帯域に対応するサイズを有する、平行に配置されたスペクトル部分から成る。多くの検知素子を有する検知器アレイの使用は、高分解能での大きな波長帯域の同時検知を可能にする。
【０００４】
横方向分散は通常、十分に大きく選択され、すべての位置でオーダーを完全に分離する。スペクトル帯域全体にわたってこのことを保証するために、個々の用いられていないオーダーの間にすき間が生成されるスペクトル帯域がある。横方向分散にプリズムが用いられる場合、長波長のスペクトル帯域のものよりも高い回折指数により、短波長のスペクトル帯域により大きなすき間が生成される。
【０００５】
大きなスペクトル帯域が高分解能および十分な光のスループットで検知される場合に、検知器が通常大変大きくてはならないことは、既知のアセンブリにおいて不利である。さらに、光源が異なるスペクトル強度を放射する場合に問題がある。分光学において大変重要である、たとえば１９３ｎｍから８５２ｎｍの間のスペクトル帯域は、いくつかの光源により完全にカバーされるが、３５０ｎｍを上回る帯域の強度はしばしば、２００ｎｍでの短波長のスペクトル帯域よりも桁違いに大きい。検知器は通常、十分なダイナミックレンジを有さず、したがってスペクトル帯域は、感度損失によってのみ同時に検知されることができ、もしくは異なる露出時間で測定されなければならない。
【０００６】
従来技術
オーダーの間の空隙が用いられるアセンブリが既知である。スペクトロメータには、スペクトロメータに入射する放射線をあらかじめ分散するアセンブリが備えられる。放射線は、大変小さな角度を有するプリズムを用いてあらかじめ分散される。さらに、短波長スペクトル帯域の２つのオーダーの間のすき間の最大幅に対応する入射スリット高さが選択される。入射スリットの適切な照射により、短波長の放射線が全体的にスペクトロメータに入射することができる。長波長のスペクトル帯域の放射線は、前もった分散により、入射スリットに部分的に対応するのみである。したがって、オーダーの分離がそれほど大きくないこのような帯域に関して、小さな入射スリット高さは効果的である。このようにして、光のスループットが、通常弱い強度を有する短波長のスペクトル帯域に関して増加する。
【０００７】
このアセンブリにおいて、検知器面は完全に用いられるが、検知器サイズは同じままである。各検知素子それぞれについての照射の強さもまた事実上、このアセンブリによって変化しない。一方、追加の光学素子において、全体的な損失がある。
【０００８】
スペクトル帯域全体にわたる、より均一な横方向分散により、検知器能力の改良された利用を目的とする、他のアセンブリが既知である。このより均一な横方向分散は、異なる物質を有する２つの逆方向のプリズムによって得られる。分散は、２つの物質の分散の差によって決定される。十分に大きな差を得るには、大きなプリズム角度が用いられる必要がある。得られる同時の小さな分散に相応して高い伝送損失がある。
【０００９】
横方向分散の生成において、プリズムと格子の組み合わせが用いられるアセンブリが、さらに既知である。プリズムは短波長スペクトル帯域において、格子は長波長スペクトル帯域において、より高い分散を有し、組み合わせは、単一の素子よりもより均一な横方向分散を生成する。しかし、横方向分散格子の異なるオーダーにより、オーダーの分離の明白さが失われることは、不利である。同時測定が大きな帯域にわたって行われる場合、検知器のダイナミックレンジにもまた問題がある。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１０】
発明の開示
本発明の目的は、利用可能な検知領域がより良い方法で用いられ、同時に所要の検知領域が削減されることができる、上記の種類のスペクトロメータアセンブリを提供することである。さらに、本発明の目的は、改良されたダイナミックレンジを有するスペクトロメータを提供することである。本発明によると、この目的は、同一の検知器上における光源からの放射線の第１の波長帯域と異なる第２の波長帯域のスペクトル生成のためのさらなる分散体およびさらなる結像光学システムを有する、さらなるスペクトロメータが提供されることにより実現される。
【００１１】
分離光経路でさらなる光学素子を用いることにより、スペクトルは２つのスペクトル帯域に分割されることができる。光学素子、すなわち分散体、鏡、入射スリット幅などは、測定タスクに個々に適応されることができる。このように、強い強度を有する波長帯域について光の小さなスループットが選択されることができ、弱い強度を有する波長帯域について光の高いスループットが選択されることができる。したがって、検知器上の放射線は、そのダイナミックレンジに対してより良く適合される。強いラインが弱いラインと同時に測定されることができる。さらに、異なるスペクトロメータアセンブリによって共通の結像面に生成される２つのスペクトルは、同一の検知器領域によって検知されることができるので、検知器の全体的な外径はより小さくなる。読み出される必要がある検知素子はより少なくなるので、読み出し間隔が削減される。回転鏡もしくはチョッパなどの可動部
品は、スペクトロメータの内部で用いられない。このことは、作成および調整を容易にする。さらに、光の一次分割のための構成要素は別として、光のスループットを削減する、半透鏡、光経路分割器などの光学部品は必要とされない。
【００１２】
両方のスペクトルが検知器上に正確に結像されることは、本スペクトロメータアセンブリの特別な利点である。色の、もしくはその他の結像誤差は最小化される。このことはとりわけ二次元の連続スペクトルについて、それらが検知器を位置づける面を決定するにあたり、重要である。
【００１３】
好適には、さらなる分散体もまたエシェル格子である。分散体は、オーダーを分離するため、第２のエシェル格子によって横分散方向に分散される、放射線のスペクトル分散に用いられる第２のエシェル格子に属することができ、方向は、第２のエシェル格子の分散方向に対して角度をなす。このことは、アセンブリ全体が、同一の検知器を用いる２つの独立したエシェルスペクトロメータから構成されることを意味する。スペクトロメータのそれぞれにおいて、異なるスペクトル帯域を有する二次元のエシェルスペクトルが生成される。スペクトロメータのそれぞれは、このスペクトル帯域に適合されることができる。たとえばスペクトロメータのそれぞれの光のスループットは、検知器のダイナミックレンジに適合されることができる。光学素子の反射力と透過率は、それぞれのスペクトル帯域に対して最適化されることができる。本発明の改良において、それぞれのオーダーを分離する分散体としてプリズムが提供される。
【００１４】
本発明のとりわけ好適な実施形態において、さらなるスペクトロメータアセンブリが、第１のスペクトロメータアセンブリに対して対称に位置づけられ、検知器が対称面に、そしてそれに垂直に位置づけられる。このようなアセンブリにおいて、検知器は、検知器とカメラ鏡との間の接続線上に垂直に位置づけられない。このことはたとえば、エシェル格子の分散方向が結像光学システムにおける偏角に対して垂直に通る、四面体アセンブリとして既知のアセンブリによって実現される。結像光学システムはそれぞれ、コリメータ鏡、およびカメラ鏡によって形成される。このアセンブリにおいて、コリメータ鏡およびカメラ鏡の中心は、エシェル格子の分散面内に配置される。
【００１５】
本発明の改良において、入射スリットとコリメータおよび、非点収差などの結像誤差を補償するよう構成された鏡の屈曲に影響する手段の間の光経路を折り返すための、鏡が備えられる。鏡の屈曲に影響する手段は、鏡枠、もしくは鏡高さに沿って延在し鏡に後ろから基本的にその中心に、圧力に依存する鏡屈曲が形成されるように圧力をかける、少なくとも１つの縦方向圧力手段により形成されることができる。圧力手段は調整可能なスクリューの力にさらされることができる。このような実施形態において、結像誤差はとりわけ単純なやり方で修正されることができる。
【００１６】
本発明の第１の実施形態において、横方向分散は、その上に結像された第２のスペクトロメータのスペクトルを少なくとも部分的に受けるよう構成された検知器上の、第１のスペクトロメータの二次元スペクトルのオーダーの間に暗部が存在するように設計される。そこで、検知器において生成されたスペクトルは、空間的に重ねあわされ、同時に読み出される。
【００１７】
代替実施形態において、交互の第１の波長もしくは第２の波長の帯域が検知器上に結像されるように検知器を照射する時間を制御する手段が備えられる。この実施形態において、生成されたスペクトルは異なる時間に読み出される。それぞれのスペクトルについて、露出時間が検知器のダイナミックレンジに適合されることができる。両方の実施形態を組み合わせることができる。露出時間の設定は、それぞれの入射スリットを開閉することによって行われることができる。共通のチョッパもまたこの目的のため、スペクトロメータ
アセンブリの外側に備えられることができる。
【００１８】
本発明のさらなる改良は、副請求項の対象である。一実施形態は以下に、添付の図面を参照してより詳しく説明される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
実施形態の説明
参照番号１０は通常、図１のスペクトロメータアセンブリを示す。スペクトロメータアセンブリ１０は、共通のハウジング１６内に配置された２つのスペクトロメータ１２と１４から構成される。スペクトロメータ１２と１４の構成要素は、面１８に関してミラー反転している。簡単にするために、スペクトロメータのうちの１つだけが、詳細に説明される。
【００２０】
放射線が、入射スリット２０を通り、スペクトロメータに入る。入射した放射線は平面鏡２２に当たる。放射線は平面鏡２２でコリメータ鏡２４の方向に反射される。コリメータ鏡２４は、発散する放射線を平行にするために用いられる球面鏡である。平行束２６は、プリズム３４を通り抜ける。エシェル格子３６がプリズムの後ろに配置される。
【００２１】
エシェル格子３６の分散方向は、図１の図平面に垂直な面に延在する。エシェル格子の溝は、図１の図平面の基本的に上から下へ位置する。エシェル格子は大変大きなブレーズ角を有し、放射線は、図平面に角度をつけて取り付けられた格子上に、大変平たい角度をなす。平行な、分散した放射線は、格子３６からカメラ鏡３８へ向けて反射される。放射線は再び、プリズム３４を通り抜ける。放射線は、カメラ鏡３８により、結像面４０に集中する。検出器配列４２が面４０に配置される。検出器配列４２は、複数の検知素子を有する配列から成る。このような検出器配列は、たとえばＣＣＤ検出器である。増幅器、変換機、電子装置、データ処理手段などの、通常、検出器と共に用いられるさらなる構成要素が、４４に概略的に示される。
【００２２】
エシェル格子３６は、放射線を、図平面に垂直に分散する。波長に比べて、格子の溝の大きなブレーズ角および大きな距離により、放射線は複数のオーダーに高次数で集中する。それにより、同等の小さなアセンブリで、とりわけ高い分解能が得られる。プリズム３４は、放射線を、エシェル格子３６の分散方向に垂直である図平面（主要分散方向）に分散する。それにより、オーダーは分離する。二次元のスペクトルが検出器上に生成される。
【００２３】
図２は、光源のこのようなスペクトルを、連続的な波長スペクトルと共に示す。参照番号５０は、ここでは上面図として示される、検出器４２上のスペクトル端を示す。主要分散方向は、矢印４６方向に延在する。プリズムアセンブリの横分散方向は、矢印４８方向に延在する。したがって、紫外線スペクトル帯域の短波長は、図２の左手側にあり、近赤外線の長波長は右手側にある。各垂直線５２は、１つのオーダーのフリースペクトル帯域を表す。格子分散によれば、分散は、短波長においてより大きく、フリースペクトル帯域はより小さい。オーダーは横分散により矢印４８の方向に分離する。プリズム分散によれば、すき間５４は長波長帯域におけるよりも短波長帯域においてより大きい。
【００２４】
図１には、第２のスリットを有する第２のスペクトロメータ１２も示される。これは第１のスペクトロメータ１４と同じように設計される。放射線は平面鏡５８、コリメータ鏡６０に達し、プリズム６２を通り抜け、格子６４を過ぎ、カメラ鏡６６に達し、同じく検出器４２に集中する。格子は同じくエシェル格子である。しかし、エシェル格子の代わりに通常の回折格子を用い、オーダーを１つだけ、たとえば大きな走査範囲を有する基準として、検出器に結像することもまた可能である。
【００２５】
スペクトロメータ１２はまた、二次元の像を検出器４２上に生成する。これは図２に破線７０により個別に示され、参照番号６８によって示される。両方の入射スリット５６と２０が照射される場合、両方のスペクトルを組み合わせ、それらを同時に検知器４２上に結像することが可能である。ステップモータ（図示しない）が、カメラ鏡３８および／もしくは６６およびエシェル格子３６および／もしくは６４に備えられ、検知器面の像を動かす。スペクトルはこのように組み合わせられることができるので、一方のスペクトルのオーダー７０は、他方のスペクトルのすき間５４に位置する。それによって、検知器面は最適に用いられる。短波長帯域、たとえば１９０ｎｍから３００ｎｍの間の放射線が一方のスペクトロメータを通じて案内され、長波長帯域、たとえば３００ｎｍから８５２ｎｍの間の放射線が他方のスペクトロメータを通じて案内される時、検知器のサイズは、光のスループットもしくはスペクトル分解能を基本的に変更することなく、小さいままにすることができる。プリズム分散の波長依存により、波長依存がオーダーの好適なパターンを提供する分散をもたらす、プリズム６２と３４の組み合わせが用いられなければならない。
【００２６】
とりわけ、光源としてのラインエミッタを用いて、もしくは、いくつかの小さな、明確に規定されたスペクトル帯域のみが関連する測定タスクを用いて、プリズム分散は、それぞれの異なるスペクトル区分のオーダーの分離に、必ずしも適合される必要はない。このことは図３に概略的に示される。２つのラインスペクトル７２と７４は検知器上に重ね合わされるので、画像７６が得られる。ライン７８と８０はこの画像において重なりあうことになる。スペクトル７２はしたがって、ラインがもはや重ならないようになるまでカメラ鏡を回転することで、面内でわずかにずれる。元の位置７２は破線８２で示される。複雑なラインスペクトルにより、重なりは完全には避けられない。その場合、スペクトルの像は相互に対して、たとえばグリークキーパターンにより、少しずつずれ、重なりの程度が決定される。像の最適な位置は、重なりの程度の最低限度によって規定される。
【００２７】
スペクトルの重なった領域を有する本実施形態の代替実施形態において、スペクトルは検知器上で、時間によりずれる。図４は、ピクセルの強度グラフを概略的に示す。検知器により、弱い強度を有するスペクトルは、短い間隔ｔ１の後に既に読み出されるより強いスペクトルと比べ、より長い間隔ｔ２の後にのみ読み出される。
【００２８】
あるいは、強いスペクトルはチョッパにより遮断されるので、検知器は、弱い強度を有するスペクトルに比べて短い時間照射される。このことは図５に示される。間隔ｔ３の間、スリットを通じて光は入らない。
【００２９】
とりわけ素早い切り替え時間が必要とされる、たとえばＬＩＰＳの適用がある。このような適用において、サンプルはレーザービームを用いてスキャンされる。レーザービームは物質の小部分を表面に放出し、それを励起する。レーザーパルスとの衝突の後の第１のマイクロ秒の間、物質は連続的なスペクトルを放出する。この放射線は検知されないものである。この時間の後にのみ、元素固有の原子発光が検知されるものである。本実施形態では回転するチョッパ８６が用いられ、これらのとりわけ短い切り替え時間を実現する。チョッパ８６は、図１の一方および／もしくは両方の入射スリット２０と５６の直前に配置される。チョッパは、およそ１０ｃｍの直径を有するディスク８４から構成される。直径は入射スリット２０と５６との間の距離よりも大きい。１０ｍｍを下回る幅を有する２つのスリット８８と９０がディスク８４に備えられる。ディスク８４は高速モータのシャフトに取り付けられる。シャフトは、参照番号９２で示されるチョッパ軸と整列され、図１の鏡面１８内に位置する。モータは３０，０００回転／分程度で動作する。空気抵抗および振動を避けるため、ディスクは、放射のための窓を有するハウジングに取り付けられる。水冷式システムがハウジングに備えられ、熱を排出する。およそ２０μｓの検知時間
を有する１μｓ程度の切り替え時間が実現される。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】２つのミラー反転したエシェルスペクトロメータを有するスペクトロメータアセンブリの概略図である。
【図２】いかに２つのスペクトルが検知器上に空間的に重ねられるかを示す。
【図３】いかに２つの空間的に重ねられたラインスペクトルが最小の重なりに調整されるかを示す。
【図４】検知器が２つのスペクトルの照射にさらされ、異なる間隔で交互に読み出される、検知素子の時間に依存した強度グラフを示す。
【図５】検知器が同じ間隔の２つのスペクトルの照射にさらされ、異なる間隔で交互に読み出される、検知素子の時間に依存した強度グラフを示す。
【図６】入射スリットを、間隔を取って照射するチョッパディスクの上面図である。
【図７】屈曲しない位置にある円筒状鏡の詳細図である。
【図８】屈曲位置にある図７の円筒状鏡を示す。
【図１】
2008501966.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2008501966.tif 000009
【図８】
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【手続補正書】
【提出日】平成19年2月9日(2007.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2008501966.tif 000011
【国際調査報告】
2008501966.tif 000012
2008501966.tif 000013
2008501966.tif 000014
2008501966.tif 000015
2008501966.tif 000016
2008501966.tif 000017