(57)【要約】【課題】  スクロースとＤＢＴＯを使用し新規なスクロース‐スズ付加物の生成によるスクロース‐６‐アセテートの位置選択的な合成の方法を提供すること。【解決手段】  新規なスズ付加物は式（６‐Ｏ‐スクロース）−Ｏ−Ｓｎ（ブチル）２−Ｏ−（６−Ｏ−スクロース）、または１，３（ジＯ‐スクロース）ジブチルスタニレンと表わすことができる。付加物はアシル化されて主生成物としてスクロース‐６‐アセテートまたはスクロース‐６‐ベンゾナートを生成する。【選択図】図１
2008531496.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式Ｒ’‐Ｏ‐Ｓｎ（Ｒ）２‐Ｏ‐Ｒ’（式中、Ｒ’はそれぞれ、ヒドロキシカルビル、アルキル、シクロアルキル、アリル、またはアラルキル、Ｒはそれぞれ、ヒドロカルビル基、例えばアルキル、シクロアルキル、アリル、またはアラルキルを表わす）の化合物。
【請求項２】
請求項１に記載の化合物であって、
式（スクロース‐６‐エステル）‐Ｏ‐Ｓｎ（Ｒ）２‐Ｏ‐（スクロース‐６‐エステル）、（スクロース‐６‐エステル）‐Ｏ‐Ｓｎ（Ｒ）２‐Ｏ‐（スクロース‐６‐エステル）、（スクロース‐６‐エステル）‐Ｏ‐Ｓｎ（ブチル）２‐Ｏ‐（スクロース‐６‐エステル）、（スクロース‐６‐アセテート）‐Ｏ‐Ｓｎ（ブチル）２‐Ｏ‐（スクロース‐６‐アセテート）、（スクロース‐６‐ベンゾアート）‐Ｏ‐Ｓｎ（ブチル）２‐Ｏ‐（スクロース‐６‐ベンゾアート）、（スクロース‐６‐グルタラート）‐Ｏ‐Ｓｎ（ブチル）２‐Ｏ‐（スクロース‐６‐グルタラート）、（スクロース‐６‐ラウラート）‐Ｏ‐Ｓｎ（ブチル）２‐Ｏ‐（スクロース‐６‐ラウラート）、（スクロース‐６‐プロピオナート‐Ｏ‐Ｓｎ（ブチル）２‐Ｏ‐（スクロース‐６‐プロピオナート）などからなる化合物。
【請求項３】
化合物が一般式（スクロース‐６‐エステル）‐Ｏ‐Ｓｎ（Ｒ）２‐Ｏ‐（スクロース‐６‐エステル）である場合の請求項１に記載の化合物の生成方法であって、前記方法は順次、
ａ．スクロース、およびジ（ヒドロカルビル）スズ触媒、好ましくはジブチルスズオキシドを、適切なモル比率で、好ましくはスクロースに対して約１：０．５のモル比で、溶媒、好ましくはＮ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）に溶解し、
ｂ．水の連続的な除去を容易にする条件下において、６〜１８時間、好ましくは約１０〜１３時間、反応混合物を高温で、好ましくは約８０〜８５℃で連続的に加熱しながら、反応が起こることを可能にし、
ｃ．共沸蒸留を含む適切な手段によって、前記反応混合物から任意にＤＭＦを除去し、
ｄ．請求項１に記載の前記化合物の析出を引き起こすのに十分な量の、好ましくは高濃度の反応物の各量に対して２倍の量の塩化メチレンでの処理を含む分離の方法を使用して、任意に化合物を分離する
ことを含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
一般式（スクロース‐６‐エステル）‐Ｏ‐Ｓｎ（Ｒ）２‐Ｏ‐（スクロース‐６‐エステル）の化合物を含む反応混合物を含む溶液からのスクロース‐６‐エステルの生成方法であって、
ａ．溶液または反応物を室温まで冷却し、必要があれば、約０℃までさらに冷却し、
ｂ．アシル化試薬、好ましくは請求項１の前記化合物のモル濃度に対して約１モル当量の無水酢酸または安息香酸無水物を撹拌しながら、好ましくは滴下して前記溶液または前記反応物に加えることにより；または、安息香酸および置換安息香酸の酸ハロゲン化物、アルカン酸、長鎖脂肪酸、飽和酸、不飽和酸、飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸などを含む、代替のアシル化試薬を使用することにより、請求項１の前記化合物をアシル化し、
ｃ．請求項４のサブ請求項ｂの前記反応物の温度を周辺温度まで、アシル化が完了するまで約３〜４時間、徐々に上昇させ、
ｄ．水を加えることにより反応を終了させ、
ｅ．生成された前記アセテートからシクロヘキサンへ、好ましくは１：２の体積比で、好ましくは２回、前記ＤＢＴＯを抽出し、
ｆ．請求項４のサブ請求項ｅの反応物から、好ましくは共沸蒸留によって、水を除去する
工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、スクロース‐６‐エステルは、スクロース‐６‐アセテート、スクロース‐６‐ベンゾアート、スクロース‐６‐グルタラート、スクロース‐６‐ラウラート、スクロース‐６‐プロピオナートなどを含むことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スクロース‐６‐エステルの合成のための方法および新規な方針に関する。スクロース‐６‐エステルは塩素殺菌されたスクロース、１’‐６’‐ジクロロ‐１’‐６’‐ジデオキシ‐β‐フルクトフラノシル‐４‐クロロ‐４‐デオキシ-ガラクトピラノシド（ＴＧＳ）の前駆物質である。本発明はさらに、新規なスタニレン中間化合物の生成に関する位置選択的反応によるスクロース‐６‐エステルの合成の新規な方法を含む。
【背景技術】
【０００２】
塩素殺菌されたスクロースの生成は、より反応的な位置と競合するスクロース分子中の選択的なより反応的でない位置における塩素化が必要であるため、困難なプロセスである。一般に、この目的は、アルキル／アリル無水物、酸塩化物、オルト・エステルなど様々な保護剤の使用により、糖分子のピラノース環の６‐ヒドロキシ基を本質的に保護することを含む方法によって達成され、保護されたスクロースは、所望の位置（１’‐６’、４）において塩素殺菌されて生成物のアセチル誘導体となり、その後アシル基を除去されて所望の生成物１’‐６'‐ジクロロ‐１’‐６’‐ジデオキシ‐β‐フルクトフラノシル‐４‐クロロ‐４‐デオキシ-ガラクトピラノシド、すなわち４,１’,６’トリクロロガラクトスクロース（ＴＧＳ）が生成される。
【０００３】
特許文献１〜１５において詳細に述べられている、先行技術のＴＧＳ生成方法の方針は、以下に述べる方法の範囲と類似している。すなわち、スクロース‐６‐アセテートがビルスマイヤー・ハック試薬によって塩素殺菌され、６アセチル４，１’，６’トリクロロガラクトスクロース（ＴＧＳ‐６‐アセテート）を生成する。塩素化の後、６アセチルＴＧＳのＴＧＳへの脱アセチルは反応混合物自体において実行される。そして水非混和性の溶媒への選択的な抽出に基づいた様々な方法で、ＴＧＳから反応混合物が除去される。上記の反応では、アセチル基はまた他のアシル基であってもよい。
【０００４】
アシル基によるスクロース分子中の水酸基の置換は、必ずしも所望の６つの位置に制限されて生じるわけではない。一般に、通常の反応条件では、様々な位置で置換されたスクロース分子の混合物を生成する他の位置でもエステル化は起こる。それにより１つ以上の多置換スクロースエステルが生成される。所望のスクロース‐６‐エステルを他のエステルから分離することは通常厄介な方法である。
【０００５】
スタンノキシル化合物（非特許文献１）の生成は、炭水化物などの化合物を含む水酸基とスズ化合物の反応の結果としてデービッド（Ｄａｖｉｄ）らによって開示される。アルキル化またはアセチル化におけるスタンノキシル化合物はエーテルまたはエステルを生成するであろう。
【０００６】
ヌクレオシドのジブチルスタニレン誘導体はヴァーグナー（Ｗａｇｎｅｒ）らによって開示される（非特許文献２）。
【０００７】
ベンゾイル塩化物との反応の前の６，１’，６’‐トリ‐Ｏ‐トリチルスクロースとのジブチルスズオキシド（ＤＢＴＯ）の反応は、ホルツアップフェル（Ｈｏｌｚａｐｆｅｌ）らによって、３’‐Ｏ‐ベンゾイル‐６，１’，６’‐トリ‐Ｏ‐トリチルスクロースを７２％収率、２‐Ｏ‐ベンゾアート誘導体を９％、および少量の２，３’‐ジベンゾアート誘導体を生成したと報告されている（非特許文献３）。
【０００８】
特許文献１６におけるナビア（Ｎａｖｉａ）ら（１９９０年）は、スクロースと１，３‐ジ（ヒドロカルビルオキシ）‐１，１，３，３‐テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが反応して１，３‐ジ‐（６‐Ｏ‐スクロース）‐１，１，３，３‐テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサン（新しいクラスの化合物）を生成し、その後、アシル化剤と反応させることでスクロース‐６‐エステルを生成することを含む方法を開示している。本発明の好適な態様では、１，３‐ジ（ヒドロカルビルオキシ）‐１，１，３，３‐テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサン反応物が、例えばアルコールまたはフェノールとジ（ヒドロカルビル）スズオキシドまたは等価な反応物とを反応させることにより、原位置で生成される。
【０００９】
ナビア（Ｎａｖｉａ）らの方法（１９９０年）、反応物からの付加物の化学量論的変換において、スクロースとＤＢＴＯはジスタノキサン付加物を生成するためにそれぞれ１：１モルであり、その理論的な元素分析は２０．６３％のスズ含有量を示す。
【００１０】
同じものから生成された有機スズ触媒および付加物を使用する位置選択的置換方法はさらに、特許文献１７においてナイディッチ（Ｎｅｉｄｉｔｃｈ）ら（１９９１）によって、特許文献１８においてヴァーノン（Ｖｅｒｎｏｎ）ら（１９９１）によって、かつ特許文献１９においてウォーカップ（Ｗａｌｋｕｐ）ら（１９９２）によって報告されている。これらのうち、いずれにおいても、本発明の付加物、その生成方法、およびスクロース‐６‐エステルの位置選択的合成におけるその使用は開示されていない。
【特許文献１】米国特許第４，３４３，９３４号
【特許文献２】米国特許第４，３６２，８６９号
【特許文献３】米国特許第４，３８０，４７６号
【特許文献４】米国特許第４，４３５，４４０号
【特許文献５】国際特許ＷＯ／２００５／０９０３７４（インド特許出願５６３／ＭＵＭ／２００４）
【特許文献６】国際特許ＷＯ／２００５／０９０３７６
【特許文献７】インド特許出願１３１６／ＭＵＭ／２００４（ＰＣＴ／ＩＮ０５／００４０８）
【特許文献８】インド特許出願１／ＭＵＭ／２００５（ＰＣＴ／ＩＮ０５／００４３４）
【特許文献９】インド特許出願５４５／ＭＵＭ／２００５
【特許文献１０】インド特許出願１０４７／ＭＵＭ／２００５
【特許文献１１】インド特許出願１０４８／ＭＵＭ／２００５
【特許文献１２】インド特許出願１１２７／ＭＵＭ／２００５
【特許文献１３】インド特許出願１１７３／ＭＵＭ／２００５
【特許文献１４】インド特許出願１１７２／ＭＵＭ／２００５
【特許文献１５】インド特許出願１１７６／ＭＵＭ／２００５
【特許文献１６】米国特許第４，９５０，７４６号
【特許文献１７】米国特許第５，０２３，３２９号
【特許文献１８】米国特許第５，０３４，５５１号
【特許文献１９】米国特許第５，０８９，６０８号
【非特許文献１】総説Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、４１巻、４番、６４３‐６６３頁、１９８５、図３および４
【非特許文献２】Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３９，２４（１９７４）
【非特許文献３】「Ｓｕｃｒｏｓｅ  Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ  ａｎｄ  ｔｈｅ  Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  Ｂｅｎｚｏｙｌａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｈｙｄｒｏｘｙｌ  ｇｒｏｕｐｓ  ｏｆ  ６，１’，６’‐ｔｒｉ‐Ｏ‐ｔｒｉｔｙｌｓｕｃｒｏｓｅ」、Ｓ．Ａｆｒ．Ｔｙｄｓｋｒ．Ｃｈｅｍ、１９８４、３７（３）、５７‐６１頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
反応により所望の位置のみで位置選択的な置換（すなわち置換）が起きる場合のみ、前述の問題を解決することが可能であろう。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、有機スズ触媒およびスクロースの反応の生成物として新規な種類のスタニレン付加物の生成を開示する。本発明はさらに、特に６つの位置のみへの反応方向の起こる機会を改善して単一の主生成物として一置換誘導体が生成されることにより、６‐置換スクロース誘導体などのスクロース化合物を合成する位置選択的な方法を開示する。スクロース‐６‐アセテートの生成は、本発明が適用可能な１つの例にすぎない。それは、より多くのそのような類似した反応への適用を見出してもよい。
【００１３】
本発明の方法は、スクロースと、新しい／新規な付加物である１，３（ジ‐Ｏ‐スクロース）ジブチルスタニレンを直接生成するために使用されるスクロースの量に対して１／２モルのみのＤＢＴＯとを反応させることを含む。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の方法は、スクロースとジブチルスズオキシドとを反応させて、化合物、すなわち、約１３．２〜１３．７％のスズ含有量および図１の１，３（ジ‐Ｏ‐スクロース）ジブチルスタニレンとしての付加物の構造と一致する図２の質量分光分析結果を示す付加物を生成する。この付加物は、これまで報告されていない新規な付加物である。その後この付加物はアシル化試薬で処理されてスクロース‐６‐エステルを生成することができる。
【００１５】
一般に、本発明の方法はＮ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）にスクロースを溶解することを含み、ＤＢＴＯはそれに加えられる。ＤＭＦの代わりにシクロヘキサンが使用されてもよい。スクロースとＤＢＴＯが反応のために使われる好ましい比率は、スクロースの１：０．５モル当量であるが、１：１でも同じ量および同じ構成で本発明のスタニレンが生成される。反応の間に生成された水は継続的に除去される必要がある。これは、混合物が８０〜８５℃に加熱され１０〜１３時間継続されて加熱されるとき、最も好適な方法で実行される。ＤＭＦは好ましくは共沸蒸留によって除去される。好ましくは１：２の体積比で塩化メチレンを加えることにより高粘度の反応物から沈殿物として付加物が分離される。
【００１６】
ジブチルスズオキシドは、本発明の好ましい選択肢の有機スズ触媒であるが、ブチル基は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、ベンジル、フェネチル、フェニル、ナフチル、シクロヘキシル、および置換フェニルを含むが限定されないアリルアルキル、アルキル、シクロアルキル、あるいはアリルであり得る。同様に、オキシドの代わりに、有機スズ触媒は、ジアルコキシド、ジハロゲン、ジアシル、または１，３（ジ‐Ｏ‐スクロース）ジブチルスタニレンと構造において類似した反応混合物中の１，３（ジ‐Ｏ‐スクロース）ジ（ヒドロキシカルビル）スタニレンを生成することができる別の有機スズ化合物であり得る。
【００１７】
反応に好適な溶媒はＤＭＦまたはシクロヘキサンである。基本的に、選ばれた有機スズ触媒（好適な実施形態においてはＤＢＴＯ）とスクロースを溶解することができるどんな代替溶媒も使用されてもよい。加熱に使われた温度およびその加熱の時間は、経済的で好都合と思われる条件である。しかしながら、本発明の付加物（すなわち、好適な実施形態における１，３（ジ‐Ｏ‐スクロース）ジブチルスタニレン）、または他のいかなる１，３（ジ‐Ｏ‐スクロース）ジ（ヒドロカルビル）スタニレンも生成可能な他のいかなる条件も用いられてもよい。本発明の付加物（１，３（ジ‐Ｏ‐スクロース）ジ（ヒドロカルビル）スタニレンも下記式によって表わされる「ジ（ヒドロキシカルビル）スタニレンスクロース」として指定することができる。
Ｒ’‐Ｏ‐Ｓｎ（Ｒ）２‐Ｏ‐Ｒ’
式中、Ｒ’はそれぞれ本発明の好ましい実施形態におけるスクロース‐６‐エステルを表わしているが、Ｒ’は他のヒドロキシカルビルまたはヒドロカルビル基であってもよく、また、Ｒはそれぞれヒドロカルビル基（例えばアルキル、シクロアルキル、アリル、アラルキル）を表わす。本発明の付加物と類似した分子は、さらにＲ’がアルキル、シクロアルキル、アリル、またはアラルキルを表わすものを含んでいてもよく、さらにそれらは本発明の範囲内に含まれる。
【００１８】
１，３（ジ‐Ｏ‐スクロース）ジブチルスタニレン（本発明の新規な付加物）の生成のメカニズムを図３に示す。先行技術の方法では、スクロースの２つの分子がスズオキシドの２つの分子と反応し付加物を生成すると考えられているが、我々はアシル化後にスズオキシドの１つの分子およびスクロースの２つの分子から生成された付加物により、所望の最終生成物の生成が可能であり、その生成を明らかにするのに十分であることを見出した。
【００１９】
沈殿、結晶、再結晶などを含む分離と精製の技術における既知の手順は、塩化メチレンの添加による沈殿の方法に加えて、ジ（ヒドロキシカルビル）スタニレンスクロースを分離するために使用することができる。ジ（ヒドロキシカルビル）スタニレンスクロースは、さらなる精製のないアシル化に、または様々な段階までの精製の後にも使用されてもよい。また、ジ（ヒドロキシカルビル）スタニレンスクロースは、そのままで、つまり、分離していない、または分離後の反応混合物において生成されたように使用されてもよい。
【００２０】
ジ（ヒドロキシカルビル）スタニレンスクロースのアシル化のために使用される試薬は、通常約１モルであり、好ましくは１モルより少し多いがそれ未満にはならない。好ましいアシル化試薬は無水酢酸または安息香酸無水物である。しかし安息香酸および置換安息香酸の酸ハロゲン化物、アルカン酸、長鎖脂肪酸、飽和酸、不飽和酸、飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸などを含むがそれらに限定されない、アシル化が可能な代替物も使用されてもよい。
【００２１】
アシル化反応を起こさせるために本発明において使用される好ましい溶媒はＮジアルキル置換アミドであり、最も好ましくはＤＭＦである。しかしながら、反応物と反応生成物の両方がそれに可溶である限り、代替の不活発な有機溶媒または他の極性の非プロトン性化合物を使用することにより、同じ結果が実現可能である。
【００２２】
反応が起こっている温度範囲は７５℃〜１００℃（ここでの好ましい使用温度は８０〜８５℃）であり、さらに加熱時間は６〜１８時間（好ましい時間は１０〜１３時間）であるとみなされた。
【００２３】
本発明の方法を用いて回収されたスクロース‐６‐エステルは、それが不溶で不純物が可溶の溶剤を使用して洗浄され不純物をなくしてもよい。アセトニトリルまたはアセトンは洗浄に役立つそのような溶剤である。
【００２４】
スクロース‐６‐エステルを生成する上記の付加物生成および処理の利点は、ＤＢＴＯの消費の削減である。それにより、米国特許第４，９５０，７４６号においてクレームされた上記方法と比べて、５０％の有機スズ触媒のみが必要とされるので、大幅にコストが削減される。
【００２５】
本発明の機能は以下に挙げられる様々な例によって説明される。明細書に記載の実施形態および実施例は単にクレームされる発明を示し、クレームされる発明の範囲と一貫している使用可能な技術、反応物、反応条件の範囲を限定しないことは合理的に理解されるべきである。本発明の変更、適合、および変形、および、ここでクレームされる当業者にとって明らかなものと類似した方法、生成物は、この開示の範囲内に含まれる。同様に、前後関係から同じであることが可能ならば、単数形は複数形も含む。したがって、「方法（単数）」は「方法（複数）」をも含む。また、「生成物（単数）」はさらに「生成物（複数）」をも含む。
【００２６】
実施例１
３（ジ‐Ｏ‐スクロース）ジブチルスタニレンの生成
スクロース（２００ｇ）を６００ｍｌのＤＭＦおよび１４５．６ｇのＤＢＴＯに溶解し、８０〜８５℃に加熱した。加熱は１０〜１３時間継続されて、付加物生成中に生成された水が除去された。反応生成物は冷却され、ＤＭＦは完全に共沸蒸留によって除去された。得られた高粘度の生成物は、体積比１:２の塩化メチレンで処理された。
【００２７】
生成された固体はろ過され、過剰な塩化メチレンで洗浄された。得られた黄色粉末はスズ含有量が分析された。
【００２８】
同じ実験は、同じ方法で２００ｇのスクロースおよび７２．８ｇのＤＢＴＯでもう一度行なわれた。また、黄色粉末はスズ含有量が分析された。
【００２９】
生成物が分析された。
【００３０】
分析手法と分析
【００３１】
スズ含有量分析：原子吸光スペクトルによる
他の元素分析：ＣＨＮアナライザーによる
分子量分析：ＧＣ  ＭＳによる
【００３２】
ＤＢＴＯ付加物に対するスクロースの１：０．５モル当量の質量スペクトルは、図２に示される。スペクトルでは、スズは押し出され、２つのスクロース部分はもう１つのスクロース部分と結合する。反応メカニズムの図式的説明は図３に示される。
【００３３】
得られた結果は表１に示される。
【００３４】
【表１】
2008531496.tif 000003
【００３５】
【表２】
2008531496.tif 000004
【００３６】
これらの結果は、スクロースとＤＢＴＯのモル比１：０．５で生成された付加物が図１に示される構造のとおりであることを示す。
【００３７】
両方の反応で生成された付加物のスズ含有量は、スクロースとＤＢＴＯのモル比が１：１であるか１：０．５であるかに関係なく、両方の場合において生成された実際の付加物が同じタイプおよび構造であり、その生成のメカニズムが同じルートを経由していることを示す同様のスズ含有量を示す。その結果は、図１に示されるような付加物の構造を示す。
【００３８】
実施例２
スクロース‐６‐アセテート合成
Ａ）反応経過中の３（ジ‐Ｏ‐スクロース）ジブチル・スタニレンのその場生成からのスクロース‐６‐アセテート
【００３９】
スクロース（２００ｇ）を６００ｍｌのＤＭＦおよび７２．８ｇのＤＢＴＯに溶解し、８０〜８５℃に加熱した。加熱は１０〜１３時間継続され、付加物生成中に生成された水は除去された。その後、反応生成物を室温に冷却されて０℃になるまで冷却した。７５ｍｌの無水酢酸を滴下し撹拌しながら反応生成物に加えた。その後、反応生成物を周辺温度まで徐々に上げ、アセチル化を頻繁にＴＬＣ分析することによりモニタリングした。約３〜４時間後、アセテートの生成は終了した。その後、反応は５０ｍｌの水を加えることにより終了した。生成されたアセテート中のＤＢＴＯを、１：２ｖ／ｖのシクロヘキサンに２度抽出した。その後、層は分離され、反応生成物を水除去のために取り出す。水の共沸除去が終わった後、スクロース‐６‐アセテートをＨＰＬＣによって分析した。その結果、最大のピークとして、スクロース‐６‐アセテートへの転換は７８％であった。
【００４０】
同様の実験を１４５．６ｇまでＤＢＴＯ量を置換して実行した。最終的に得られたスクロース‐６‐アセテートへの転換は８０％であった。
【００４１】
Ｂ）反応経過中に生成された、分離された３（ジ‐Ｏ‐スクロース）ジブチル・スタニレンからのスクロース‐６‐アセテート
【００４２】
３（ジ‐Ｏ‐スクロース）ジブチル・スタニレン付加物５００ｇを５００ｍｌのＤＭＦに溶解し、４０〜４５℃に加熱し、完全に溶解するために３０分間撹拌した。その後、反応生成物を室温に冷却して０℃になるまで冷却した。７５ｍｌの無水酢酸を滴下し撹拌しながら反応生成物に加えた。その後、反応生成物を周辺温度まで徐々に上げ、アセチル化を頻繁にＴＬＣ分析することによりモニタリングした。約３〜４時間後、アセテートの生成は終了した。その後、反応は５０ｍｌの水を加えることにより終了した。生成されたアセテート中のＤＢＴＯを、１：２ｖ／ｖのシクロヘキサンに２度抽出した。その後、層は分離され、反応生成物を水除去のために取り出す。水の共沸除去が終わった後、スクロース‐６‐アセテートをＨＰＬＣによって分析した。その結果、最大のピークとして、スクロース‐６‐アセテートへの転換は７９．５％であった。
【００４３】
実施例３
スクロースのスクロース‐６‐ベンゾアートへの転換のためのジオクチルスズオキシドの使用
スクロース（２０ｇ）を１００ｍｌのＤＭＦおよび１０．６ｇのジオクチルスズオキシドに溶解し、８５〜９０℃に加熱した。加熱は１０〜１５時間継続され、付加物生成中に生成された水は除去された。その後、反応生成物を室温に冷却して１５℃になるまで冷却した。１９．８ｇ（純度９０％）の安息香酸無水物を２０ｍｌのＤＭＦに溶解し、滴下し撹拌しながら反応生成物に加えた。その後、反応生成物を周辺温度まで徐々に上げ、ベンゾイル化を頻繁にＴＬＣ分析することによりモニタリングした。約１０〜１５時間後、ベンゾアートの生成は終了した。その後、反応は５ｍｌの水を加えることにより終了した。生成されたベンゾアート中のＤＢＴＯを、１：２ｖ／ｖのシクロヘキサンに２度抽出した。その後、層は分離され、反応生成物を水除去のために取り出す。水の共沸除去が終わった後、スクロース‐６‐ベンゾアートをＨＰＬＣによって分析した。その結果、最大のピークとして、スクロース‐６‐ベンゾアートへの転換は８５％であった。
【００４４】
実施例４
スクロース‐６‐グルタラートを生成するためのアシル化剤としてのグルタル酸無水物の使用
スクロース（１０ｇ）を５０ｍｌのＤＭＦおよび３．６４ｇのＤＢＴＯに溶解し、８０〜８５℃に加熱した。加熱は５〜６時間継続され、付加物生成中に生成された水は除去された。その後、反応生成物を室温に冷却して１５℃になるまで冷却した。４．３ｇのグルタル酸無水物を１０ｍｌのＤＭＦに溶解し、滴下し撹拌しながら反応生成物に加えた。その後、反応生成物を周辺温度まで徐々に上げ、エステル化を頻繁にＴＬＣ分析することによりモニタリングした。約５〜８時間後、エステルの生成は終了した。その後、反応は３ｍｌの水を加えることにより終了した。生成したグルタラート中のＤＢＴＯを、１：２ｖ／ｖのシクロヘキサンに２度抽出した。その後、層は分離され、反応生成物を水除去のために取り出す。水の共沸除去が終わった後、スクロース‐６‐グルタラートを分析した。その結果、最大のピークとして、スクロース‐６‐グルタラートへの転換は７５％であった。
【００４５】
実施例５
スクロース‐６‐ラウラートを生成するためのアシル化剤としてのラウリン酸無水物の使用
スクロース（５ｇ）を２５ｍｌのＤＭＦおよび１．８２ｇのＤＢＴＯに溶解し、８０〜８５℃に加熱した。加熱は４〜５時間継続され、付加物生成中に生成された水は除去された。その後、反応生成物を室温に冷却して２０℃になるまで冷却した。７．２７ｇのラウリン酸無水物を１５ｍｌのＤＭＦに溶解し、滴下し撹拌しながら反応生成物に加えた。その後、反応生成物を周辺温度まで徐々に上げ、エステル化を頻繁にＴＬＣ分析することによりモニタリングした。約１０〜１５時間後、エステルの生成は終了した。その後、反応は２ｍｌの水を加えることにより終了した。生成されたラウラート中のＤＢＴＯを、１：２ｖ／ｖのシクロヘキサンに２度抽出した。その後、層は分離され、反応生成物を水除去のために取り出す。水の共沸除去が終わった後、スクロース‐６‐ラウラートを分析した。その結果、最大のピークとして、スクロース‐６‐ラウラートへの転換は６５％であった。
【００４６】
実施例６
スクロース‐６‐プロピオナートを生成するアシル化剤としてのプロピオン酸無水物の使用
スクロース（５ｇ）を２５ｍｌのＤＭＦおよび１．８２ｇのＤＢＴＯに溶解し、８０〜８５℃に加熱した。加熱は４〜５時間継続され、付加物生成中に生成された水は除去された。その後、反応生成物を室温に冷却して２０℃になるまで冷却した。２．４９ｇのプロピオン酸無水物を滴下し撹拌しながら反応生成物に加えた。その後、反応生成物を周辺温度まで徐々に上げ、エステル化を頻繁にＴＬＣ分析することによりモニタリングした。約３〜５時間後、エステルの生成は終了した。その後、反応は２ｍｌの水を加えることにより終了した。生成されたプロピオナート中のＤＢＴＯを、１：２ｖ／ｖのシクロヘキサンに２度抽出した。その後、層は分離され、反応生成物を水除去のために取り出す。水の共沸除去が終わった後、スクロース‐６‐プロピオナートを分析した。その結果、最大のピークとしてスクロース‐６‐プロピオナートへの転換は７５％であった。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】スズ含有量分析により確認された、提示された分子間スタニレン誘導体、１，３（ジ‐Ｏ‐スクロース）ジブチルスタニレンを示す図である。
【図２】スクロース対ＤＢＴＯ付加物が１：０．５モル当量の質量分光分析結果を示す図である。
【図３】質量スペクトルの説明図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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