(57)【要約】本発明は新規なスルファミド誘導体、またはその薬剤学的に許容される塩、および成分としてこれらを含む脂肪代謝の上方調節のための医薬組成物に関する。
2008506685.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式１のスルファミド誘導体、またはその薬剤学的に許容される塩、水和物または溶媒和物：
【化１】
2008506685.tif 000144
式中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立的に水素またはＣ１−３アルキルであり；
Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立的に水素；Ｃ１−５アルキル；Ｃ３−５アルケニル；Ｃ３−５アルキニル；Ｃ１−３アルキル、Ｃ１−３アルコキシ、Ｃ１−３ハロゲン化アルキルまたはハロゲンで置換されているか置換されていないフェニルであるか；それらが結合している窒素とともに互いに連結して含窒素複素環を形成し；
Ｒ６は水素またはＣ１−３アルキルであり；
Ｒ７はＣ１−３アルキル、Ｃ１−３ハロゲン化アルキルまたはＣ１−３アルコキシで置換されているか置換されていないフェニル；またはチオフェンであり；
Ｘは酸素または窒素であり、Ｙは、Ｘが酸素である場合は窒素、Ｘが窒素である場合は酸素であり；  
ｍは０または１であり；
ｎは１または２である。
【請求項２】
１) [Ｎ−(アミノスルホニル)−Ｎ−[[４−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２) (Ｓ)−３−メチル−２−[Ｎ−(スルファモイル)−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸；
３) [Ｎ−[(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル]−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４) [Ｎ−[(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル]−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６) [Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９) [Ｎ−(Ｎ−アリル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０) [Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１) [Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１２) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−]−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１３) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−５−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１４) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１５) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１６) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１７) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１８) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１９) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２０) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２１) [Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２２) [Ｎ−(Ｎ−ｐ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２３) [Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２４) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(ｐ−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２５) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２６) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−５−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２７) [Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２８) [Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２９) [Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−５−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３０) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３１) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３２) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３３) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３４) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３５) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３６) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３７) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３８) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３９) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４０) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４１) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４２) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４３) [Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４４) [Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４５) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４６) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４７) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４８) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４９) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５０) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５１) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５２) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５３) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５４) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５５) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５６) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５７) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５８) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５９) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６０) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６１) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６２) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６３) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６４) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６５) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６６) [Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６７) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６８) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６９) [Ｎ−(Ｎ−アリル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７０) [Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７１) [Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７２) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７３) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７４) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７５) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７６) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７７) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７８) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７９) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８０) [Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８１) [Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８２) [Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８３) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８４) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８５) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８６) [Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８７) [Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８８) [Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８９) [Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９０) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９１) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９２) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９３) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９４) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９５) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９６) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９７) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９８) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９９) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１００) [Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０１) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０２) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０３) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０４) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０５) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０６) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０７) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０８) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メトキシオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０９) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１０) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１１) [Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１２) [Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１３)Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１４) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１５) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１６) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１７) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１８) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１９) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１２０) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１２１) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１２２) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１２３) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メトキシオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１２４) (Ｓ)−２−[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸；
１２５) (Ｓ)−３−メチル−２−[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸；
１２６) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１２７) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１２８) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１２９) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１３０)３−[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸；
１３１) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１３２) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１３３) [Ｎ−[[Ｎ−(４−クロロフェニル)−Ｎ−メチル]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；及び
１３４) [Ｎ−[(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル]−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−イソプロピルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸で構成された群から選ばれることを特徴とする請求項１記載のスルファミド誘導体。
【請求項３】
Ｒ１が水素であり；
Ｒ２が水素またはメチルであり；
Ｒ３が水素またはＣ１−３アルキルであり；
Ｒ４及びＲ５がそれぞれ独立的に水素、メチル、エチル、イソプロピル、プロパルギル、ピペリジニル、またはメチル、メトキシ、フッ素または塩素で置換されているか置換されていないフェニルであるか；それらが結合している窒素とともに互いに連結してピペリジンまたはキノロン環を形成し；
Ｒ６がメチルであり；
Ｒ７がＣＦ３またはＣＨ３で置換されているか置換されていないフェニルであり；
Ｘが窒素原子であり；
Ｙが酸素原子であり；
ｍが０または１であり；
ｎが１または２であることを特徴とする請求項１記載のスルファミド誘導体。
【請求項４】
２) (Ｓ)−３−メチル−２−[Ｎ−(スルファモイル)−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸；
７) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９) [Ｎ−(Ｎ−アリル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０) [Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１) [Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２１) [Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２２) [Ｎ−(Ｎ−ｐ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２３) [Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５８) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６２) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６３) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６５) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６７) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７０) [Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７１) [Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８０) [Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８１) [Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８２) [Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０１) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０２) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１１) [Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１２) [Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１３) [Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１２４) (Ｓ)−２−[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸；
１２５) (Ｓ)−３−メチル−２−[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸；
１２６) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１２７) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１２９) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１３０)３−[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸；
１３１) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１３２) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；及び
１３３) [Ｎ−[[Ｎ−(４−クロロフェニル)−Ｎ−メチル]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸で構成された群から選ばれることを特徴とする請求項３記載のスルファミド誘導体。
【請求項５】
前記請求項１のスルファミド誘導体、またはその薬剤学的に許容される塩、水和物または溶媒和物を活性成分として含むことを特徴とする脂肪代謝促進用医学組成物。
【請求項６】
肥満(ｏｂｅｓｉｔｙ)、インシュリン非依存性糖尿病(ＮＩＤＤＭ、ｎｏｎ−ｉｎｓｕｌｉｎ  ｄｅｐｅｎｄｅｎｔ  ｄｉａｂｅｔｅｓ  ｍｅｌｌｉｔｕｓ)、高脂血症(ｈｙｐｅｒｌｉｐｉｄｅｍｉａ)、動脈硬化症(ａｒｔｅｒｉｏｓｃｌｅｒｏｓｉｓ)、肝または筋肉の脂肪症(ｓｔｅａｔｏｓｉｓ)及び脂肪肝(ｆａｔｔｙ  ｌｉｖｅｒ)の予防及び治療に用いられることを特徴とする請求項５記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なスルファミド誘導体、その薬剤学的に許容される塩及びそれを活性成分として含む脂肪代謝促進用医学組成物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
体内の各器官が必要とするコレステロール及び脂肪酸のような必須脂肪はリポタンパク質(ｌｉｐｏｐｒｏｔｅｉｎ)、例えばトリグリセリド(ｔｒｉｇｌｙｃｅｒｉｄｅｓ、ＴＧ)、コレステロールエステル(ｃｈｏｌｅｓｔｅｒｏｌ ｅｓｔｅｒ)、リン脂質(ｐｈｏｓｐｈｏｌｉｐｉｄ)及びアポリポタンパク質(ａｐｏｌｉｐｏｐｒｏｔｅｉｎ)の形態で伝達される。
【０００３】
ＴＧを含むＶＬＤＬ(ｖｅｒｙ  ｌｏｗ  ｄｅｎｓｉｔｙ  ｌｉｐｏｐｒｏｔｅｉｎ)は肝から放出され、脂肪酸を各器官に伝達する役目をする。ＶＬＤＬが脂肪細胞(ａｄｉｐｏｃｙｔｅ)に伝達されたらエネルギー貯蔵に用いられ、心筋(ｃａｒｄｉａｃ  ｍｕｓｃｌｅ)や骨格筋(ｓｋｅｌｅｔａｌ  ｍｕｓｃｌｅ)に伝達されたらエネルギー生成に用いられる。脂肪細胞、骨格筋または大食細胞(ｍａｃｒｏｐｈａｇｅ)で生成されたリポタンパク質リパーゼ(ｌｉｐｏｐｒｏｔｅｉｎ  ｌｉｐａｓｅ)によってＶＬＤＬは脂肪酸を放出し、ＬＤＬ(ｌｏｗ  ｄｅｎｓｉｔｙ  ｌｉｐｏｐｒｏｔｅｉｎ)に変わるが、その結果得られるＬＤＬは周辺組職に伝達されてステロイド産生(ｓｔｅｒｏｉｄｏｇｅｎｅｓｉｓ)または細胞膜の維持に利用される。一方、多くの細胞に存在する過量のコレステロールはＨＤＬ(ｈｉｇｈ  ｄｅｎｓｉｔｙ  ｌｉｐｏｐｒｏｔｅｉｎ)の形態で肝に伝達され、毒性のない胆汁酸(ｂｉｌｅ  ａｃｉｄ)に代謝される。
【０００４】
従って、前記のようなエネルギー恒常性が失われると、インシュリン抵抗症候群(ｉｎｓｕｌｉｎ  ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ  ｓｙｎｄｒｏｍｅ)または代謝(ｍｅｔａｂｏｌｉｃ)症候群(Ｘ−ｓｙｎｄｒｏｍｅ)を引き起こして体内で脂肪が蓄積し、肥満、糖尿、心臓病、炎症、インシュリン抵抗性、異常脂質血症(ｄｙｓｌｉｐｉｄｅｍｉａ)及び高血圧(ｈｙｐｅｒｔｅｎｓｉｏｎ)の原因となる(Ｌｅｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｅｎｄｏｃｒｉｎｏｌｏｇｙ，１４４，２２０１−２２０７，２００３)。
【０００５】
体内には食物に含まれた脂肪の生理的な調節を担うホルモンシステムとして働くＰＰＡＲ(ｐｅｒｏｘｉｓｏｍｅ  ｐｒｏｌｉｆｅｒａｔｉｎｇ−ａｃｔｉｖａｔｅｄ  ｒｅｃｅｐｔｏｒｓ)が存在する。ＰＰＡＲは、核収容体(Ｎｕｃｌｅａｒ  ｒｅｃｅｐｔｏｒ)系に属し、第２ジンクフィンガー結合ドメイン(ｚｉｎｃ  ｆｉｎｇｅｒ  ｂｉｎｄｉｎｇ  ｄｏｍａｉｎ)及び疎水性(ｈｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃ)のリガンド結合ポケット(ｌｉｇａｎｄ  ｂｉｎｄｉｎｇ  ｐｏｃｋｅｔ)で構成されており、“ＰＰＡＲα”、“ＰＰＡＲγ”及び“ＰＰＡＲδ”の３種の亜型(ｓｕｂｔｙｐｅ)に分類される(Ｗｉｌｌｓｏｎ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，４３，５２７−５５０，２０００)。ＰＰＡＲαは、筋肉、心臓及び腎臓、特に肝に非常に多く発現されて脂肪酸の分解を制御する。ＰＰＡＲγは、脂肪細胞及び大食細胞で発現されて表皮角化細胞(ｋｅｒａｔｉｎｏｃｙｔｅ)の増殖に関するだけでなく、脂肪細胞の増殖、脂肪貯蔵及びグルコース恒常性を制御する。
【０００６】
ＰＰＡＲα遺伝子のない鼠(ＰＰＡＲα  ｎｕｌｌ  ｍｏｕｓｅ)を用いた研究を通じて、ＰＰＡＲαがミトコンドリア内でのパルミチン酸(ｐａｌｍｉｔｉｃ  ａｃｉｄ)のような長鎖脂肪酸(ｌｏｎｇ  ｃｈａｉｎ  ｆａｔｔｙ  ａｃｉｄ)のベータ酸化(ｂｅｔａ  ｏｘｉｄａｔｉｏｎ)に関与すると報告されている(Ｃｏｓｔｅｔ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｂｉｏ．  Ｃｈｅｍ．，２７３，５６７８−５６８４，１９９８)。例えば、ＰＰＡＲα遺伝子のない鼠の肝及び心臓内の脂肪の蓄積を測定する研究を通じて、過量のトリグリセリド(ｔｒｉｇｌｙｃｅｒｉｄｅ)が蓄積し、その結果、高コレステロール血症(ｈｙｐｅｒｃｈｏｌｅｓｔｅｒｏｌｅｍｉａ)や肥満が起こることが判別し、これにより脂肪恒常性(ｈｏｍｅｏｓｔａｓｉｓ)におけるＰＰＡＲαの重要性が認識されるようになった(Ｃｏｓｔｅｔ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｂｉｏ．Ｃｈｅｍ．，２７３，２９５７７−２９５８５，１９９８)。また、ＰＰＡＲα遺伝子のない鼠の食欲及び体重を調節するＯＥＡ(ｏｌｅｙｌｅｔｈａｎｏｌａｍｉｄｅ)の標的タンパク質がＰＰＡＲαであることが明らかになった(Ｆｕ  ｅｔ  ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ，４２５(６９５３)，９０−９３，２０００)。
【０００７】
さらに、ＰＰＡＲαの活性化は、ＬＤＬによるＴＧの加水分解(ｈｙｄｒｏｌｙｓｉｓ)を抑制すると知られているアポリポタンパク質(ａｐｏｌｉｐｏｐｒｏｔｅｉｎ)Ｃ−IIIの発現の低下をもたらし、ＶＣＡＭ(ｖａｓｃｕｌａｒ ｃｅｌｌ ａｄｈｅｓｉｏｎ ｍｏｌｅｃｕｌｅ)−１の発現を抑制して動脈硬化症(Ｍａｒｘ  ｅｔ  ａｌ．，Ｃｉｒｃｕｌａｔｉｏｎ，９９，３１２５−３１３１，１９９９)、及び血管平滑筋(ｖａｓｃｕｌａｒ ｓｍｏｏｔｈ ｍｕｓｃｌｅ)からＩＬ−１によるＩＬ−６の分泌及びプロスタグランジン(ｐｒｏｓｔａｇｌａｎｄｉｎ)の生成を抑制する(Ｓｔａｅｌｓ  ｅｔ  ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ，３９３，７９０−７９３，１９９８)。
【０００８】
ＰＰＡＲαの三次構造は、アゴニスト（ａｇｏｎｉｓｔ）のＧＷ４０９５４４との錯体の形態であると報告されており(Ｘｕ ｅｔ ａｌ．，ＰＮＡＳ，９８，１３９１９−１３９２４，２００１）、ＰＰＡＲαのＴｙｒ（アミノ酸３１４番）及びＰＰＡＲγのＨｉｓ（アミノ酸３２３番）の差がＰＰＡＲの選択性（ｓｅｌｅｃｔｉｖｉｔｙ）を決定すると報告されている。さらに、ＰＰＡＲα及びＰＰＡＲγの脂肪酸結合ポケット（ｌｉｇａｎｄ  ｂｉｎｄｉｎｇ  ｐｏｃｋｅｔ）はＰＰＡＲδに比べて大きいと知られている（Nolte et al., Nature，３９５，１３７−１４３，１９９８）。従って、ＰＰＡＲαの三次構造はＰＰＡＲαのアゴニストの開発に非常に重要である。
【０００９】
ＰＰＡＲαを活性化させる化合物としてはこれまでＷｙ−１４６４３、クロフィブレート(ｃｌｏｆｉｂｒａｔｅ)、フェノフィブラート(ｆｅｎｏｆｉｂｒａｔｅ)、ベザフィブラート(ｂｅｚａｆｉｂｒａｔｅ)、ＧＷ２３３１、ＳＷ９５７８、ＢＭ１７．０７４４が知られている(Ｗｉｌｌｓｏｎ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ., ４３，５２７−５５０，２０００)。かかるＰＰＡＲαのアゴニスト(ａｇｏｎｉｓｔ)はマウス・モデルにおいてＴＧ、脂肪蓄積(ａｄｉｐｏｓｉｔｙ)及び肝または筋肉の脂肪症(ｓｔｅａｔｏｓｉｓ)を減少させてインシュリン感受性の増加をもたらす(Ｃｈｏｕ  ｅｔ  ａｌ．，ＪＢＣ，２７７，２４４８４−２４４８９，２００２；Ｋｉｍ  ｅｔ  ａｌ．，Ｄｉａｂｅｔｅｓ，  ５２，１７７０−１７７８，２００３；ａｎｄ  Ｐｅｔｅｒｓ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｅｌｌ．Ｂｉｏｌ．，２０，５１１９−５１２８，２０００）。
【００１０】
前記フェノフィブラートまたはゲムフィブロジル(ｇｅｍｆｉｂｒｏｚｉｌ)は高脂質症患者の血液内におけるＴＧを減少させ、ＨＤＬを上昇させるが(Ｌｅｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｅｎｄｏｃｒｉｎｏｌｏｇｙ，１４４，２２０１−２２０７，２００３)、そのようなアゴニストは多量の一日投与量(一日当たり３００〜１２００ｍｇ)を必要とする。従って、ＰＰＡＲαに対して優れた選択性を有し、かつ一層有効なＰＰＡＲαアゴニストの開発が求められている。
【非特許文献１】Ｌｅｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｅｎｄｏｃｒｉｎｏｌｏｇｙ，１４４，２２０１−２２０７，２００３
【非特許文献２】Ｗｉｌｌｓｏｎ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄ．  Ｃｈｅｍ．，４３，５２７−５５０，２０００
【非特許文献３】Ｃｏｓｔｅｔ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｂｉｏ．Ｃｈｅｍ．，２７３，５６７８−５６８４，１９９８
【非特許文献４】Ｃｏｓｔｅｔ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｂｉｏ．Ｃｈｅｍ．，２７３，２９５７７−２９５８５，１９９８
【非特許文献５】Ｆｕ  ｅｔ  ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ，４２５（６９５３），９０−９３，２０００
【非特許文献６】Ｍａｒｘ  ｅｔ  ａｌ．，Ｃｉｒｃｕｌａｔｉｏｎ，９９，３１２５−３１３１，１９９９
【非特許文献７】Ｓｔａｅｌｓ  ｅｔ  ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ，３９３，７９０−７９３，１９９８
【非特許文献８】Ｘｕ  ｅｔ  ａｌ．，ＰＮＡＳ，９８，１３９１９−１３９２４，２００１
【非特許文献９】Ｎｏｌｔｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ，３９５，１３７−１４３，１９９８
【非特許文献１０】Ｃｈｏｕ  ｅｔ  ａｌ．，ＪＢＣ，２７７，２４４８４−２４４８９，２００２
【非特許文献１１】Ｋｉｍ  ｅｔ  ａｌ．，Ｄｉａｂｅｔｅｓ，５２，１７７０−１７７８，２００３
【非特許文献１２】Ｐｅｔｅｒｓ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｅｌｌ．Ｂｉｏｌ．，２０，５１１９−５１２８，２０００
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
従って、本発明の目的は脂肪代謝を促進させる新規なスルファミド誘導体及びその製造方法を提供することである。
【００１２】
本発明の他の目的は前記スルファミド誘導体またはその薬剤学的に許容される塩を含有する脂肪代謝促進用医学組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記目的を達成するために本発明は下記式１のスルファミド誘導体を提供する：
【化１】
2008506685.tif 000003
式中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立的に水素またはＣ１−３アルキルであり；
Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立的に水素；Ｃ１−５アルキル；Ｃ３−５アルケニル；Ｃ３−５アルキニル；Ｃ１−３アルキル、Ｃ１−３アルコキシ、Ｃ１−３ハロゲン化アルキルまたはハロゲンで置換されているか置換されていないフェニルであるか；それらが結合している窒素とともに互いに連結して含窒素複素環を形成し；
Ｒ６は水素またはＣ１−３アルキルであり；
Ｒ７はＣ１−３アルキル、Ｃ１−３ハロゲン化アルキルまたはＣ１−３アルコキシで置換されているか置換されていないフェニル；またはチオフェンであり；
Ｘは酸素または窒素であり、Ｙは、Ｘが酸素である場合は窒素、Ｘが窒素である場合は酸素であり；  
ｍは０または１であり；
ｎは１または２である。
また本発明は前記スルファミド誘導体の製造方法を提供する。
さらに本発明は、前記スルファミド誘導体またはその薬剤学的に許容される塩を活性成分として含有する脂肪代謝促進用医学組成物を提供する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によるスルファミドの誘導体またはその薬剤学的に許容される塩を含有する医学組成物は、脂肪代謝関連酵素と知られたＰＰＡＲαの活性を増大させるのみならず、食欲減退、体脂肪減少及び脂肪代謝関連物質の調節などの效果を提供するので、脂肪代謝促進用の新薬開発に活用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明のスルファミド誘導体は不斉炭素を含むことができるので、立体特異的異性体(ｓｔｅｒｅｏｓｐｅｃｉｆｉｃ  ｉｓｏｍｅｒ)、ラセミ化合物(ｒａｃｅｍａｔｅ)またはこれらの混合物の形態で存在し得る。
【００１６】
また、本発明のスルファミド誘導体はその薬剤学的に許容される塩、水和物または溶媒化物の形態で使用され得る。
薬剤学的に許容される塩としては無機塩基及び有機塩基、例えばアルカリ金属またはアルカリ土類金属の化合物、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、ピリジン、グアニジン及びアルギニンのような有機アミン；または無機酸及び有機酸、例えば塩酸、  臭化水素酸、硫酸、リン酸、クエン酸、酢酸、乳酸、酒石酸、マレイン酸、フマル酸、グルコン酸、メタンスルホン酸、グリコール酸、琥珀酸、４−トルエンスルホン酸、グルトロン酸、エンボン酸、グルタミン酸またはアスパラギン酸などが使用され得る。
【００１７】
本発明による式１の化合物のうち好ましい化合物は、
１) [Ｎ−(アミノスルホニル)−Ｎ−[[４−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２) (Ｓ)−３−メチル−２−[Ｎ−(スルファモイル)−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸；
３) [Ｎ−[(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル]−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４) [Ｎ−[(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル]−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６) [Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９) [Ｎ−(Ｎ−アリル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０) [Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
【００１８】
１１) [Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１２) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−]−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１３) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−５−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１４) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１５) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１６) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１７) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１８) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１９) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２０) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
【００１９】
２１) [Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２２) [Ｎ−(Ｎ−ｐ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２３) [Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２４) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(ｐ−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２５) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２６) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−５−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２７) [Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２８) [Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２９) [Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−５−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３０) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
【００２０】
３１) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３２) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３３) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３４) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３５) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３６) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３７) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３８) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
３９) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４０) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
【００２１】
４１) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４２) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４３) [Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４４) [Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４５) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４６) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４７) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４８) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
４９) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５０) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
【００２２】
５１) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５２) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５３) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５４) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５５) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５６) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５７) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５８) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５９) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６０) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
【００２３】
６１) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６２) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６３) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６４) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６５) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６６) [Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６７) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６８) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６９) [Ｎ−(Ｎ−アリル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７０) [Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
【００２４】
７１) [Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７２) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７３) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７４) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７５) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７６) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７７) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７８) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７９) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８０) [Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
【００２５】
８１) [Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８２) [Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８３) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８４) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８５) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８６) [Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８７) [Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８８) [Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８９) [Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９０) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
【００２６】
９１) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９２) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９３) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９４) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９５) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９６) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９７) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９８) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９９) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１００) [Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
【００２７】
１０１) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０２) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０３) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０４) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０５) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０６) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０７) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０８) [Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メトキシオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０９) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１０) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
【００２８】
１１１) [Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１２) [Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１３)Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１４) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１５) [Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１６) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１７) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１８) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１９) [Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１２０) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
【００２９】
１２１) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１２２) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１２３) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メトキシオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１２４) (Ｓ)−２−[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸；
１２５) (Ｓ)−３−メチル−２−[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸；
１２６) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１２７) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１２８) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１２９) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１３０)３−[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸；
【００３０】
１３１) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１３２) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１３３) [Ｎ−[[Ｎ−(４−クロロフェニル)−Ｎ−メチル]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；及び
１３４) [Ｎ−[(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル]−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−イソプロピルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸である。
【００３１】
本発明の化１の化合物のより好ましい形態は、Ｒ１が水素であり；Ｒ２が水素またはメチルであり；Ｒ３が水素またはＣ１−３アルキルであり；Ｒ４及びＲ５がそれぞれ独立的に水素、メチル、エチル、イソプロピル、プロパルギル、ピペリジニル、またはメチル、メトキシ、フッ素または塩素で置換されているか置換されていないフェニルであるか；それらが結合している窒素とともに互いに連結してピペリジンまたはキノロン環を形成し；Ｒ６がメチルであり；Ｒ７がＣＦ３またはＣＨ３で置換されているか置換されていないフェニルであり；Ｘが窒素原子であり；Ｙが酸素原子であり；ｍが０または１であり；ｎが１または２である。
【００３２】
更に好ましくは、本発明による式（Ｉ）の化合物は、
２) (Ｓ)−３−メチル−２−[Ｎ−(スルファモイル)−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸；
７) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
９) [Ｎ−(Ｎ−アリル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０) [Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１) [Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２１) [Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２２) [Ｎ−(Ｎ−ｐ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
２３) [Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
５８) [Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６２) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６３) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６５) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
６７) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７０) [Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
７１) [Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８０) [Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８１) [Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
８２) [Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０１) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１０２) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１１) [Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１２) [Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１１３) [Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１２４) (Ｓ)−２−[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸；
１２５) (Ｓ)−３−メチル−２−[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸；
１２６) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１２７) [Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１２９) [Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[１−[[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸；
１３０)３−[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸；
１３１) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；
１３２) [Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸；及び
１３３) [Ｎ−[[Ｎ−(４−クロロフェニル)−Ｎ−メチル]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸である。
【００３３】
化１のスルファミド誘導体は下記反応式１に示した工程に従って製造され得る。
【化２】
2008506685.tif 000004
式中、
Ｒ２ないしＲ７、ｍ及びｎは前記で定義した通りであり；ＲａはＣ１−３アルキル；Ｌは塩素、  臭素、メシラート(ＯＭｓ)、トシラート(ＯＴｓ)またはヒドロキシである。
前記反応式１に示したように、本発明の式（Ｉ）の化合物は次の段階を含む工程を用いて製造され得る。
【００３４】
段階１：
式２の化合物及び式３の化合物を還元的アミノ化(ｒｅｄｕｃｔｉｖｅ  ａｍｉｎａｔｉｏｎ)させて式４の二次アミン化合物を得る(収率：８０〜９８％)。この段階で用いられる還元剤はトリアセトキシホウ化水素ナトリウムまたは水素化ホウ素ナトリウムであることができ、前記式３の化合物が酸付加塩であれば、その反応はトリエチルアミンのような有機塩基の存在下で行ってもよく、溶媒はジクロロメタン、クロロホルムまたはジクロロエタンのようなハロゲン化有機溶媒であることができ、該温度は０〜４０℃であり得る。
【００３５】
段階２：
前記式４の化合物を塩基の存在下で式５の化合物と縮合反応させて化６の化合物を得る(収率４０〜９０％)。前記式５の化合物は参考文献 [Ｋｌｏｅｋ，Ｊ．Ａ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４１，４０２８，１９７６；またはＭａｔｉｅｒ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．  Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１５，５３８，１９７２] に従って製造され得る。この段階で使われる塩基としては水素化ナトリウム、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムビストリメチルシリルアミド、リチウムジイソプロピルアミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、トリエチルアミン及びピリジンのような無機塩基または有機塩基を用いることができ；溶媒としてはジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、クロロホルム、アセトニトリルまたはアセトンなどを用いることができ；反応温度は０〜４０℃であり得る。
【００３６】
段階３：
前記式６の化合物をパラジウム触媒／活性炭素の存在下で気体水素と反応させて式７のフェノール誘導体を得る。このとき、溶媒としてはエチルアルコールまたはテトラヒドロフランなどを用いることができ、前記反応は常温で水素気圧１〜５のもとで行うことが好ましい。
【００３７】
段階４：
式８の化合物においてＬがＣｌ、Ｂｒ、メシラート(ｍｅｓｙｌａｔｅ)またはトシラート(ｔｏｓｙｌａｔｅ)などの脱離基である場合、塩基の存在下で式７の化合物とアルキル化(ａｌｋｙｌａｔｉｏｎ)させて本発明の式１ａの化合物を得る。ここで、塩基としては水素化ナトリウム、カリウムｔ−ブトキシド、ブチルリチウム、炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウムなどを用いることができ；溶媒としてはジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフランなどを用いることができ；反応温度は−２０〜１００℃であり得る。
【００３８】
また、前記式８の化合物においてＬがヒドロキシである場合、式８の化合物を式７の化合物とともにミツノブ反応(Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ  ｒｅａｃｔｉｏｎ)（参考文献：Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ，Ｏ．，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１，１９８１)させて本発明の式１ａの化合物を製造する。ここで、ミツノブ反応はトリフェニルホスフィン、ジイソプロピルアゾカルボン酸またはジエチルアゾカルボン酸の存在下でトルエンまたはテトラヒドロフランを用いて行われる。
【００３９】
段階５：
前記式１ａのエステル誘導体を塩基の存在下で加水分解させて本発明の式１ｂの化合物を得る。ここで、塩基としては水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム及び炭酸ナトリウムなどを用いることができ、溶媒としてはメタノール、エタノール、テトラヒドロフランまたはこれらと水の混合物を用いることができる。
【００４０】
本発明の式（Ｉ）の化合物は下記反応式２に記載された他の工程によって製造され得る。
【化３】
2008506685.tif 000005
式中、
Ｒａ、Ｒ２ないしＲ７、Ｌ、ｍまたはｎは前記で定義した通りである。
【００４１】
段階１：
式９の化合物を前記反応式１の段階４と同一な方法で反応させて式１０の化合物を得る。ここで、式８の化合物において、ＬがＣｌ、Ｂｒ、メシラートまたはトシラートなどの脱離基である場合、式８の化合物を塩基の存在下で式９の化合物とアルキル化反応させて式１０の化合物を得る。塩基としては水素化ナトリウム、カリウムｔ−ブトキシド、ブチルリチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの塩基を用いることができ；溶媒としてはジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフランを用いることができ；反応温度は−２０〜１００℃であり得る。
また、Ｌがヒドロキシである場合には、式８の化合物を式９の化合物とミツノブ反応（参考文献：Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ，Ｏ．，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８１，１)させて式１０の化合物を得る。ミツノブ反応はトリフェニルホスフィン、ジイソプロピルアゾカルボン酸またはジエチルアゾカルボン酸の存在下で、溶媒としてはトルエンまたはテトラヒドロフランを用いて行われる。
【００４２】
段階２：
前記式１０の化合物及び式３の化合物を前記反応式１の段階１の方法で還元的アミノ化反応させて式１１の二級アミン化合物を得る。
【００４３】
段階３：
前記式１１の化合物及び式５の化合物を前記反応式１の段階２の方法で塩基の存在下で縮合反応させて本発明の式１ａの化合物を得る。
【００４４】
本発明の式１のスルファミド誘導体またはその薬剤学的に許容される塩は脂肪代謝の促進に有効である。従って、本発明は前記式１のスルファミド誘導体またはその薬剤学的に許容される塩の治療有効量を活性成分として薬剤学的に許容される担体とともに含有する脂肪代謝促進用医学組成物を提供する。
【００４５】
本発明の医学組成物は、肥満、インシュリン非依存性糖尿病(ＮＩＤＤＭ)、高脂質症、動脈硬化症、肝及び筋肉の脂肪症、脂肪代謝症候群Ｘまたは脂肪肝などの脂肪蓄積によって引き起こされる疾病の予防及び治療に用いられることができる。
【００４６】
本発明の医学組成物は、通常の方法によって静脈内、腹腔内、皮下、直腸及び局所的経路を含む経口または非経口投与のために製剤化できる。投与のための組成物は錠剤、粉剤、軟質及び硬質ゼラチンカプセル、溶液剤、懸濁剤、乳剤、シロップ剤、顆粒剤、エアロゾール剤、エリキシル剤、滅菌溶液剤、滅菌粉剤、非溶液剤及び凍結乾燥剤であってもよく、希釈剤、潤滑剤、充填剤、増量剤、湿潤剤、吸収剤、着色剤、着香剤、甘味剤、防腐剤、乳化剤などの通常の添加剤を更に含み得る。さらに、本発明の医学組成物は投与後の活性成分の迅速、持続または遅延放出のために公知の方法で製剤化され得る。
【００４７】
式１の化合物またはその薬剤学的に許容される塩は人を含む哺乳動物の場合、一日当り０．１〜１，０００ｍｇ／ｋｇ(体重)、好ましくは１〜１００ｍｇ／ｋｇ(体重)の有效量で１日１回または数回に分けて経口または非経口投与できる。しかし、前記投与量は患者の体質特異性及び体重、病気の種類及び重症度、製剤の性質及び投与期間並びに投与間隔を考慮して変化させ得る。
【００４８】
以下、本発明を実施例によって詳細に説明する。但し、下記実施例は本発明を例示するためのものに過ぎず、本発明の内容が下記実施例に制限されるわけではない。
【実施例】
【００４９】
実施例１
[Ｎ−(アミノスルホニル)−Ｎ−[[４−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化４】
2008506685.tif 000006
段階１：
[Ｎ−(４−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
４−ベンジルオキシベンズアルデヒド(２１．２ｇ、０．１ｍｏｌ)、グリシンエチルエステル塩酸塩(１５．４ｇ、０．１１ｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１．４ｇ、０．１１ｍｏｌ)を１，２−ジクロロエタン(６００ｍｌ)に溶解した後、トリアセトキシホウ化水素ナトリウム(３１．８ｇ、０．１５ｍｏｌ)を添加して室温で５時間攪拌した。この反応物に飽和重炭酸ナトリウム(５００ｍｌ)を加えてジクロロメタンで抽出した。抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮した後、残渣をシリカゲル(メルク社製、シリカゲル６０、２３０−４００メッシュ)カラムクロマトグラフィー(カラム：直径×長さ＝８ｃｍ×５０ｃｍ、溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１)で精製して標題化合物２５．４５ｇ(収率８５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．４３−７．３０(ｍ，５Ｈ)７．２４(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)６．９３(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)５．０４(ｓ，２Ｈ)４．１７(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．７３(ｓ，２Ｈ)３．３８(ｓ，２Ｈ)１．８３(ｂｒｓ，１Ｈ)１．２６(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【００５０】
段階２：
[Ｎ−(４−ベンジルオキシベンジル)−Ｎ−[(ｔ−ブトキシカルボニルアミノ)スルホニル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
クロロスルホニルイソシアン酸(１６．９８ｇ、０．１２ｍｏｌ)をジクロロメタン(１２０ｍｌ)に溶解した後、０℃以下でｔ−ブタノール(１４．８２ｇ、０．２ｍｏｌ)を徐々に加えて３０分間攪拌した。反応混合物にジクロロメタン(２５０ｍｌ)に溶解させた段階１で得た化合物(２５．４ｇ、０．０８４ｍｏｌ)を添加し、室温で一晩攪拌した後、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１)で精製して標題化合物３８．６ｇ(収率９６％)を得た。
【００５１】
段階３：
[Ｎ−(４−ヒドロキシベンジル)−Ｎ−[(ｔ−ブトキシカルボニルアミノ)スルホニル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(２３．９３ｇ、０．０５ｍｏｌ)をテトラヒドロフラン(２５０ｍｌ)に溶解した後、１０％Ｐｄ／Ｃ触媒を添加して水素６０ｐｓｉ下、室温で１２時間攪拌した。反応混合物をろ過して触媒を除去した後、減圧濃縮して標題化合物１９．２３ｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．１７(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)６．８０(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)４．５４(ｓ，２Ｈ)４．１８(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．９８(ｓ，２Ｈ)１．５１(ｓ，９Ｈ)１．２６(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
段階４：
[Ｎ−[(ｔ−ブトキシカルボニルアミノ)スルホニル]−Ｎ−[[４−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階３で得た化合物(０．３９ｇ、０．００１ｍｏｌ)、２−(５−メチル−２−フェニル−オキサゾール−４−イル)エタノール(０．３１ｇ、０．００１５ｍｏｌ)及びトリフェニルホスフィン(０．４５ｇ、０．００１７ｍｏｌ)をトルエン(５ｍｌ)に溶解した後、ジイソプロピルアゾジカルボン酸(０．３５ｇ、０．０１７ｍｏｌ)を徐々に添加した。この混合物を室温で１２時間攪拌した後、減圧濃縮して溶媒を除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１)で精製して標題化合物０．５ｇ(収率８９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１９(ｂｒｓ，１Ｈ)７．９９−７．９６(ｍ，２Ｈ)７．４５−７．３６(ｍ，３Ｈ)７．１８(ｄｄ，Ｊ＝１．８９Ｈｚ，Ｊ＝４．９９Ｈｚ，２Ｈ)６．８６(ｄｄ，Ｊ＝１．８９Ｈｚ，Ｊ＝４．９９Ｈｚ，２Ｈ)４．５４(ｓ，２Ｈ)４．２３(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)４．１６(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．９６(ｓ，２Ｈ)２．９８(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)２．３７(ｓ，３Ｈ)１．５４(ｓ，９Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
段階５：
[Ｎ−(アミノスルホニル)−Ｎ−[[４−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階４で得た化合物(０．５ｇ、０．９ｍｍｏｌ)をエタノール(３ｍｌ)に溶解した後、室温で塩化アセチル(０．２ｇ，２．６ｍｍｏｌ)を徐々に加えて１日間攪拌した。この反応混合物を減圧濃縮して溶媒を除去した後、氷(３ｇ)及び飽和重炭酸ナトリウム水溶液(３ｍｌ)を加えてジクロロメタンで抽出し、抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１)で精製して標題化合物０．３２ｇ(収率７６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９９−７．９６(ｍ，２Ｈ)７．４５−７．３６(ｍ，３Ｈ)７．２５(ｄｄ，Ｊ＝１．８９Ｈｚ，Ｊ＝４．８９，２Ｈ)６．８６(ｄｄ，Ｊ＝１．８９Ｈｚ，Ｊ＝４．８９Ｈｚ，２Ｈ)５．２９(ｓ，２Ｈ)４．３０(ｓ，２Ｈ)４．２３(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８７(ｓ，３Ｈ)２．９８(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)２．３７(ｓ，３Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
段階６：
[Ｎ−(アミノスルホニル)−Ｎ−[[４−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階５で得た化合物(０．３２ｇ、０．７ｍｍｏｌ)をメタノール／水(３／１、ｖ／ｖ)混合溶液(３ｍｌ)に溶解した後、水酸化リチウム一水和物(０．３４ｇ、０．００８１ｍｏｌ)を添加して３０〜３５℃で３時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮してメタノールを除去し、酢酸エチル(３ｍｌ)で希釈した後、１Ｍ塩酸(２ｍｌ)で処理した後、ジクロロメタンで抽出した。抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１)で精製して標題化合物０．３ｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９７−７．９４(ｍ，２Ｈ)７．４２−７．４０(ｍ，３Ｈ)７．２５(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)６．８５(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)４．３０−４．１６(ｍ，７Ｈ)３．５７(ｓ，２Ｈ)２．９６(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)２．３７(ｓ，３Ｈ)
【００５２】
実施例２
(Ｓ)−３−メチル−２−[Ｎ−(スルファモイル)−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸の製造
【化５】
2008506685.tif 000007
段階１：
３−メチル−２−[Ｎ−(スルファモイル)−Ｎ−３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸メチルエステルの製造
(Ｓ)−３−メチル−[[２−[３−(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸メチルエステル(４４２ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、トリエチルアミン(１１１ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)及びｔ−ブトキシカルボニルアミノ塩化スルホニル(２６０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例１の段階２及び５と同一な方法で反応させ、標題化合物３３５ｍｇ(収率６５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２５−７．２１(ｍ，３Ｈ)７．１２(ｓ，１Ｈ)７．００−６．９１(ｍ，２Ｈ)４．９９(ｓ，２Ｈ)４．７７(ｓ，２Ｈ)４．４２(ｑ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，Ｊ＝１４．１Ｈｚ，２Ｈ)３．９６(ｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１Ｈ)３．６９(ｓ，３Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３)２．３０−２．１５(ｍ，１Ｈ)０．８８−０．８３(ｍ，６Ｈ)
【００５３】
段階２：
(Ｓ)−３−メチル−２−[Ｎ−(スルファモイル)−Ｎ−[３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸の製造
(Ｓ)−３−メチル−２−[Ｎ−(スルファモイル)−Ｎ−３−[(５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸メチルエステル(１００ｍｇ、０．２４５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(１５ｍｇ、０．３６８ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例１の段階６と同一な方法で反応させ、標題化合物３１３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．５２(ｂｒｓ，１Ｈ)７．８９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３０(ｓ，１Ｈ)７．０１−６．９６(ｍ，２Ｈ)５．０２(ｓ，２Ｈ)４．４２(ｓ，２Ｈ)３．８１(ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)２．３８(ｓ，３Ｈ)２．２０−２．０４(ｍ，１Ｈ)１．０２−０．８３(ｍ，６Ｈ)
【００５４】
実施例３
[Ｎ−[(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル]−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化６】
2008506685.tif 000008
段階１：
[Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
３−ベンジルオキシベンズアルデヒド(１０６ｇ、０．５ｍｏｌ)、グリシンエチルエステル塩酸塩(７７ｇ、０．５５ｍｏｌ)及びトリエチルアミン(５７ｇ、０．５５ｍｏｌ)を１，２−ジクロロエタン(３Ｌ)に溶解した後、室温でトリアセトキシホウ化水素ナトリウム(１５９ｇ、０．７５ｍｏｌ)を加えた。この混合物を室温で１０時間攪拌した後、飽和重炭酸ナトリウム水溶液(１．５Ｌ)を添加してジクロロメタン(１Ｌ)で抽出し、抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝１／２)で精製して標題化合物１２０ｇ(収率８０％)を得た。
【００５５】
段階２：
[[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホニル)−Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(１４．９７ｇ、０．０５ｍｏｌ)及びＮ，Ｎ−塩化ジメチルスルファモイル(１０．７７ｇ、０．０７５ｍｏｌ)をジクロロメタン(２５０ｍｌ)に溶解した後、室温でトリエチルアミン(８．１ｇ、０．０８ｍｏｌ)を加えて２日間攪拌した。生成した反応混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１)で精製して標題化合物１８．３ｇ(収率９０％)を得た。
【００５６】
段階３：
[[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホニル)−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(１８．３ｇ、０．０４５ｍｏｌ)をＴＨＦ(２５０ｍｌ)に溶解した後、１０％Ｐｄ／Ｃ触媒(４ｇ)を加えて１２時間水素大気(６０ｐｓｉ)下で攪拌した。セルライト５４５(東洋化学社製、韓国)を用いて反応混合物をろ過した後、減圧濃縮して標題化合物１４．１ｇ(収率９９％)を得た。
【００５７】
段階４：
[Ｎ−[(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル]−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階３で得た化合物(０．３１６ｇ、０．００１ｍｏｌ)及び(４−クロロメチル−５−メチル−２−フェニル)オキサゾール(０．２５ｇ、０．００１２ｍｏｌ)をＤＭＦ(１０ｍｌ)に溶解した後、６０％水酸化ナトリウム(０．０５６ｇ、０．００１４ｍｏｌ)を加えた後、１２時間攪拌した。氷(５ｇ)及び水(３ｍｌ)を加えた後、１Ｍ塩酸２ｍｌを加えてジクロロメタン２０ｍｌで抽出した。抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１)で精製して標題化合物０．３４ｇ(収率７０％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０４−７．９９(ｍ，２Ｈ)７．４５−７．４１(ｍ，３Ｈ)７．２７(ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ)７．０１−６．９１(ｍ，３Ｈ)４．９８(ｓ，２Ｈ)４．５４(ｓ，２Ｈ)４．１６(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)２．８７(ｓ，６Ｈ)２．４４(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【００５８】
段階５：
[Ｎ−[(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル]−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階４で得た化合物(０．３４ｇ、０．７ｍｍｏｌ)をメタノール／水(３／１、ｖ／ｖ)混合液１ｍｌに溶解した後、水酸化リチウム一水和物(４６ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)を加えた。この混合物を室温で３時間攪拌した後、酢酸エチル１ｍｌで希釈して１Ｍ塩酸１ｍｌで酸処理した。反応混合物をジクロロメタン１０ｍｌで抽出した後、無水硫酸マグネシウム１ｇで乾燥して減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：メタノール／ジクロロメタン＝１／２０)で精製して標題化合物０．３２ｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９．６７(ｂｒｓ，１Ｈ)８．０２−７．９８(ｍ，２Ｈ)７．４５−７．４１(ｍ，３Ｈ)７．２５−７．２１(ｍ，１Ｈ)６．９９−６．８８(ｍ，３Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．４７(ｓ，２Ｈ)３．８７(ｓ，２Ｈ)２．８３(ｓ，６Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)
【００５９】
実施例４
[Ｎ−[(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル]−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化７】
2008506685.tif 000009
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル]−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３の段階３で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ) [４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−メチルフェニル)]オキサゾール(２６６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、化合物４１６ｍｇ(収率８３％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３１−７．２２(ｍ，３Ｈ)７．００−６．９１(ｍ，３Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．５３(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)２．８６(ｓ，６Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【００６０】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル]−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４１６ｍｇ、０．８３ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５４ｍｇ、１．３ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３８９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)１０．２１(ｂｒｓ，１Ｈ)７．８７(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２６−７．２０(ｍ，３Ｈ)６．９９−６．８７(ｍ，３Ｈ)４．９９(ｓ，２Ｈ)４．４６(ｓ，２Ｈ)３．８６(ｓ，２Ｈ)２．８２(ｓ，６Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)２．３８(ｓ，３Ｈ)
【００６１】
実施例５
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化８】
2008506685.tif 000010
【００６２】
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３の段階３で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４４４ｍｇ(収率８０％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)７．３２−７．２４(ｍ，１Ｈ)７．０３−６．９１(ｍ，３Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．５５(ｓ，２Ｈ)４．１６(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)２．８７(ｓ，６Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【００６３】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４４４ｍｇ、０．８ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４４４ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９．２９(ｂｒｓ，１Ｈ)８．１２(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２８−７．２４(ｍ，１Ｈ)７．０２−６．９０(ｍ，３Ｈ)５．０１(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)３．８９(ｓ，２Ｈ)２．８４(ｓ，６Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)
【００６４】
実施例６
[Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸
【化９】
2008506685.tif 000011
【００６５】
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４５０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、トリエチルアミン(１１１ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)及びｔ−ブチルアミノ塩化スルホニル(２１０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)を一緒に入れて室温で一晩中攪拌した後、その結果得られた反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝６／１)で精製して標題化合物０．３５ｇ(収率６０％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)７．６８(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)７．３１−７．２３(ｍ，１Ｈ)７．０５−６．９２(ｍ，３Ｈ)５．２６(ｓ，１Ｈ)４．９９(ｓ，２Ｈ)４．３７(ｓ，２Ｈ)４．１８(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．９１(ｓ，２Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)１．４２(ｓ，９Ｈ)１．２６(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【００６６】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(３５０ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４０ｍｇ、０．９ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３３０ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１１(ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ)７．２９−７．２１(ｍ，１Ｈ)７．０３−６．８９(ｍ，３Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．３５(ｓ，２Ｈ)３．９１(ｓ，２Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)１．３７(ｓ，９Ｈ)
【００６７】
実施例７
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１０】
2008506685.tif 000012
【００６８】
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４４７ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、Ｎ，Ｎ−塩化ジエチルスルファモイル(１８９ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４７２ｍｇ(収率８１％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３１−７．２３(ｍ，１Ｈ)７．０５−６．９３(ｍ，３Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．１４(ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ)３．８１(ｓ，２Ｈ)３．３３(ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，４Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)１．２８−１．１７(ｍ，９Ｈ)
【００６９】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４７２ｍｇ、０．８１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５１ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４４５ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９．１９(ｂｒｓ，１Ｈ)８．１１(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６８(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２９−７．２１(ｍ，１Ｈ)７．０３−６．８９(ｍ，３Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．４５(ｓ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．２９(ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，４Ｈ)２．４５(ｓ，３Ｈ)１．１６(ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，６Ｈ)
【００７０】
実施例８
[Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１１】
2008506685.tif 000013
【００７１】
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４４７ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−塩化メチルスルファモイル(１８９ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４６１ｍｇ(収率７９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１４(ｄ，Ｊ＝８．１ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３１−７．２３(ｍ，１Ｈ)７．０５−６．９３(ｍ，３Ｈ)４．９９(ｓ，２Ｈ)４．４８(ｓ，２Ｈ)４．２４−４．０９(ｍ，３Ｈ)３．８１(ｓ，２Ｈ)２．７４(ｓ，３Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)１．２８−１．１７(ｍ，９Ｈ)
【００７２】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４６１ｍｇ、０．７９ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４４ｍｇ、１．０５ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４０３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１２(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)８．０２(ｂｒｓ，１Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３０−７．２２(ｍ，１Ｈ)７．０４−６．９１(ｍ，３Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．４４(ｓ，２Ｈ)４．２１−４．１５(ｍ，１Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)２．７２(ｓ，３Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)１．１９(ｓ，３Ｈ)１．１５(ｓ，３Ｈ)
【００７３】
実施例９
[Ｎ−(Ｎ−アリル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１２】
2008506685.tif 000014
【００７４】
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−アリル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４４７ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、Ｎ−アリル−Ｎ−塩化メチルスルファモイル(１８７ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４４２ｍｇ(収率７６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３２−７２４(ｍ，１Ｈ)７．０３−６．９１(ｍ，３Ｈ)５．８９−５．７３(ｍ，１Ｈ)５．３１−５．２１(ｍ，２Ｈ)４．９９(ｓ，２Ｈ)４．５３(ｓ，２Ｈ)４．１７(ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ)３．８６−３．６６(ｍ，４Ｈ)２．８２(ｓ，３Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ)
【００７５】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−アリル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４４２ｍｇ、０．７６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４８ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４１６ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９．２０(ｂｒｓ，１Ｈ)８．１１(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３０−７．２２(ｍ，１Ｈ)７．０２−６．８９(ｍ，３Ｈ)５．８８−５．７４(ｍ，１Ｈ)５．２９−５．１９(ｍ，２Ｈ)５．０１(ｓ，２Ｈ)４．４８(ｓ，２Ｈ)３．８９(ｓ，２Ｈ)３．７９(ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ)２．７９(ｓ，３Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)
【００７６】
実施例１０
[Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１３】
2008506685.tif 000015
【００７７】
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４４７ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、Ｎ−プロパルギル−Ｎ−塩化メチルスルファモイル(１８４ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４４６ｍｇ(収率７７％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３２−７．２４(ｍ，１Ｈ)７．０３−６．９２(ｍ，３Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．５３(ｓ，２Ｈ)４．１６(ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ)４．０７(ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，２Ｈ)３．８４(ｓ，２Ｈ)２．９７(ｓ，３Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)２．３５(ｔ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ)
【００７８】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４４６ｍｇ、０．７７ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４９ｍｇ、１．１６ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４２０ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９．０９(ｂｒｓ，１Ｈ)８．１１(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３０−７．０４(ｍ，１Ｈ)６．９７−６．９０(ｍ，３Ｈ)５．０１(ｓ，２Ｈ)４．４８(ｓ，２Ｈ)４．０３(ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８８(ｓ，２Ｈ)２．９４(ｓ，３Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)２．３５(ｔ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ)
【００７９】
実施例１１
[Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１４】
2008506685.tif 000016
【００８０】
段階１：
[Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４４７ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、塩化(ピペリジニル)スルファモイル(２０２ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物５１２ｍｇ(収率８６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３２−７．２４(ｍ，１Ｈ)７．０３−６．９２(ｍ，３Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．５４(ｓ，２Ｈ)４．１６(ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ)３．８３(ｓ，２Ｈ)３．２９−３．１７(ｍ，４Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)１．７１−１．４３(ｍ，６Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ)
【００８１】
段階２：
[Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(２０２ｍｇ、０．８６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５４ｍｇ、１．２９ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４８３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９．００(ｂｒｓ，１Ｈ)８．１２(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３０−７．２２(ｍ，１Ｈ)７．０２−６．９０(ｍ，３Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)３．８８(ｓ，２Ｈ)３．２７−３．１７(ｍ，４Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)１．６５−１．４４(ｍ，６Ｈ)
【００８２】
実施例１２
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１５】
2008506685.tif 000017
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３の段階３で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物３７５ｍｇ(収率７６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６５−７．６２(ｍ，１Ｈ)７．４１−７．３９(ｍ，１Ｈ)７．２７(ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ)７．１１−７．０７(ｍ，１Ｈ)６．９８−６．９２(ｍ，３Ｈ)４．９６(ｓ，２Ｈ)４．５３(ｓ，２Ｈ)４．１６(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)２．８７(ｓ，６Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【００８３】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(３７５ｍｇ、０．７６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４８ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３５０ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９．９３(ｂｒｓ，１Ｈ)７．６６−７．６４(ｍ，１Ｈ)７．４２−７．４０(ｍ，１Ｈ)７．２７−７．２１(ｍ，１Ｈ)６．９８−６．８９(ｍ，３Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．４８(ｓ，２Ｈ)３．８８(ｓ，２Ｈ)２．８３(ｓ，６Ｈ)２．４１(Ｓ，３Ｈ)
【００８４】
実施例１３
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−５−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１６】
2008506685.tif 000018
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−５−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホニル)−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステル(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ) [４−メチル−５−クロロメチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４５０ｍｇ(収率８１％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１５(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)７．７１(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)７．３３−７．２５(ｍ，１Ｈ)７．０４(ｓ，１Ｈ)６．９７−６．９３(ｍ，２Ｈ)５．０９(ｓ，２Ｈ)４．５６(ｓ，２Ｈ)４．１７(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８６(ｓ，２Ｈ)２．８８(ｓ，６Ｈ)２．３１(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【００８５】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４５０ｍｇ、０．８１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５１ｍｇ、１．２２ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４２３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１４(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．７１(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．０３−７．２５(ｍ，１Ｈ)７．０３(ｓ，１Ｈ)６．９８−６．９３(ｍ，２Ｈ)５．０８(ｓ，２Ｈ)４．５４(ｓ，２Ｈ)３．９１(ｓ，２Ｈ)２．８７(ｓ，６Ｈ)２．３０(ｓ，３Ｈ)
【００８６】
実施例１４
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１７】
2008506685.tif 000019
段階１：
[[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステル(１４．９７ｇ、０．０５ｍｏｌ)をジクロロメタン(２５０ｍｌ)に溶解し、トリエチルアミン(８．１ｇ、０．０８ｍｏｌ)を加えた後、[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]塩化スルホニル(１５．４２ｇ、０．０７５ｍｏｌ)を加えた。この混合物を室温で３日間攪拌した後、減圧濃縮して溶媒を除去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１)で精製して標題化合物１８．３ｇ(収率８４％)を得た。
【００８７】
段階２：
[[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(１８．３ｇ、０．０４２ｍｏｌ)及び１０％Ｐｄ／Ｃ触媒(４ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物１４．６ｇ(収率９９％)を得た。
【００８８】
段階３：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(３７９ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(４−クロロメチル−５−メチル−２−フェニル)オキサゾール(２５０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４３４ｍｇ(収率７９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０３−７．９９(ｍ，２Ｈ)７．４７−７．３４(ｍ，７Ｈ)７．２８−７．２３(ｍ，２Ｈ)６．９５−６．９３(ｍ，２Ｈ)６．８３−６．８２(ｍ，１Ｈ)４．９５(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．３１(ｓ，３Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【００８９】
段階４：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階３で得た化合物(４３４ｍｇ、０．７９ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４０８ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０１−７．９６(ｍ，２Ｈ)７．４５−７．１４(ｍ，９Ｈ)６．９５−６．７８(ｍ，３Ｈ)６．２２(ｂｒｓ，１Ｈ)４．９６(ｓ，２Ｈ)４．４３(ｓ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．２６(ｓ，３Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)
【００９０】
実施例１５
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１８】
2008506685.tif 000020
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１４の段階２で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ) [４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−メチルフェニル)]オキサゾール(２６６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４２８ｍｇ(収率７６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．４７−７．４４(ｍ，２Ｈ)７．３９−７．３４(ｍ，２Ｈ)７．２８−７．２０(ｍ，４Ｈ)６．９５−６．８３(ｍ，３Ｈ)４．９５(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．３０(ｓ，３Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)１．２６(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【００９１】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４２８ｍｇ、０．７６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４８ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４０３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８７(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．４６−７．１４(ｍ，８Ｈ)６．９５−６．７８(ｍ，３Ｈ)５．９１(ｂｒｓ，１Ｈ)４．９５(ｓ，２Ｈ)４．４２(ｓ，２Ｈ)３．８４(ｓ，２Ｈ)３．２６(ｓ，３Ｈ)２．４１(ｓ，３Ｈ)２．３８(ｓ，３Ｈ)
【００９２】
実施例１６
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１９】
2008506685.tif 000021
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１４の段階２で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ) [４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４７６ｍｇ(収率７７％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)７．４６−７．２１(ｍ，６Ｈ)６．９６−６．８４(ｍ，３Ｈ)４．９８(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．３１(ｓ，３Ｈ)２．４６(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【００９３】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４７６ｍｇ、０．７７ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４９ｍｇ、１．１６ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４４９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．１０(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)７．６８(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)７．４６−７．１７(ｍ，６Ｈ)６．９７−６．８１(ｍ，３Ｈ)５．３４(ｂｒｓ，１Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．４５(ｓ，２Ｈ)３．８６(ｓ，２Ｈ)３．２８(ｓ，３Ｈ)２．４５(ｓ，３Ｈ)
【００９４】
実施例１７
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化２０】
2008506685.tif 000022
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１４の段階２で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ) [４−クロロメチル−５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)]オキサゾール(２５６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４２２ｍｇ(収率７６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６４−７．６２(ｍ，１Ｈ)７．４７−７．３６(ｍ，７Ｈ)７．２５−７．２１(ｍ，２Ｈ)７．０９−７．０７(ｍ，１Ｈ)６．９３−６．８３(ｍ，３Ｈ)４．９２(ｓ，２Ｈ)４．４８(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８４(ｓ，２Ｈ)３．３１(ｓ，３Ｈ)２．４０(ｓ，３Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【００９５】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４２２ｍｇ、０．７６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４８ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３９７ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６７−７．６４(ｍ，１Ｈ)７．４６−７．０６(ｍ，７Ｈ)６．９４−６．７９(ｍ，４Ｈ)５．７９(ｂｒｓ，１Ｈ)４．９３(ｓ，２Ｈ)４．４４(ｓ，２Ｈ)３．８６(ｓ，２Ｈ)３．２７(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)
【００９６】
実施例１８
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化２１】
2008506685.tif 000023
段階１：
[[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３の段階１で得た化合物(１４．９７ｇ、０．０５ｍｏｌ)及び[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]塩化スルファモイル(１８ｇ、０．０７５ｍｏｌ)をジクロロメタン(２５０ｍｌ)に溶解した後、トリエチルアミン(８．１ｇ、０．０８ｍｏｌ)を室温で加えた。この混合物を室温で３日間攪拌した後、減圧濃縮して溶媒を除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１)で精製して標題化合物２１．１ｇ(収率８４％)を得た。
【００９７】
段階２：
[[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(２１．１ｇ、０．０４２ｍｏｌ)及び１０％Ｐｄ／Ｃ触媒(４ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物１７．２ｇ(収率９９％)を得た。
【００９８】
段階３：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(４−クロロメチル−５−メチル−２−フェニル)オキサゾール(２５０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４３８ｍｇ(収率７５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０３−７．９９(ｍ，２Ｈ)７．４４−７．２２(ｍ，８Ｈ)６．９６−６．９４(ｍ，２Ｈ)６．８６−６．８３(ｍ，１Ｈ)４．９６(ｓ，２Ｈ)４．４７(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．２７(ｓ，３Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【００９９】
段階４：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階３で得た化合物(４３８ｍｇ、０．７５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４７ｍｇ、１．１３ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４１３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．００−７．９８(ｍ，２Ｈ)７．４５−７．１６(ｍ，８Ｈ)６．９２−６．８９(ｍ，２Ｈ)６．８１−６．７８(ｍ，１Ｈ)４．９８(ｓ，２Ｈ)４．３９(ｓ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．２３(ｓ，３Ｈ)２．４４(ｓ，３Ｈ)
【０１００】
実施例１９
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化２２】
2008506685.tif 000024
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１８の段階３で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ) [４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−メチルフェニル)]オキサゾール(２６６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４４３ｍｇ(収率７４％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．４１−７．２１(ｍ，７Ｈ)６．９６−６．９３(ｍ，２Ｈ)６．８５−６．８３(ｍ，１Ｈ)４．９４(ｓ，２Ｈ)４．４６(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８４(ｓ，２Ｈ)３．２７(ｓ，３Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１０１】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４４３ｍｇ、０．７４ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４７ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４１８ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８７(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３８−７．１９(ｍ，７Ｈ)６．９２−６．８９(ｍ，２Ｈ)６．８１−６．７８(ｍ，１Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．９５(ｂｒｓ，１Ｈ)４．３８(ｓ，２Ｈ)３．８４(ｓ，２Ｈ)３．２４(ｓ，３Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)
【０１０２】
実施例２０
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化２３】
2008506685.tif 000025
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１８の段階３で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ) [４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４９６ｍｇ(収率７６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．４２−７．２２(ｍ，５Ｈ)６．９６−６．９４(ｍ，２Ｈ)６．８６−６．８４(ｍ，２Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．４７(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．２８(ｓ，３Ｈ)２．４６(ｓ，３Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１０３】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４９６ｍｇ、０．７６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４８ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４７０ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１１(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３８−７．２８(ｍ，５Ｈ)６．９４−６．９０(ｍ，２Ｈ)６．８２−６．７９(ｍ，１Ｈ)５．４５(ｂｒｓ，１Ｈ)４．９８(ｓ，２Ｈ)４．４３(ｓ，２Ｈ)３．８８(ｓ，２Ｈ)３．２６(ｓ，３Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)
【０１０４】
実施例２１
[Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化２４】
2008506685.tif 000026
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４４７ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)塩化スルホニル(２５７ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物３１０ｍｇ(収率４８％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２６−７．２０(ｍ，４Ｈ)７．１１(ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ)６．９５−６．９２(ｍ，２Ｈ)６．８３(ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ)４．９６(ｓ，２Ｈ)４．５０(ｓ，２Ｈ)４．１４(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８３(ｓ，２Ｈ)３．７０(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)２．４６(ｓ，３Ｈ)２．３５(ｓ，３Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)１．０８(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１０５】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(３１０ｍｇ、０．４８ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(３１ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物２９４ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１１(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６８(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．５８(ｂｒｓ，１Ｈ)７．２９−７．０９(ｍ，５Ｈ)６．９６−６．８９(ｍ，２Ｈ)６．７９(ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ)４．９６(ｓ，２Ｈ)４．４５(ｓ，２Ｈ)３．８４(ｓ，２Ｈ)３．６９(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)２．４５(ｓ，３Ｈ)２．３４(ｓ，３Ｈ)１．０８(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１０６】
実施例２２
[Ｎ−(Ｎ−ｐ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化２５】
2008506685.tif 000027
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−ｐ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４４７ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)塩化スルホニル(２５９ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物５５７ｍｇ(収率８６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１２(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３９(ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ)７．２４−７．１６(ｍ，１Ｈ)６．９７−６．８２(ｍ，５Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．４８(ｓ，２Ｈ)４．１６(ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ)３．８６(ｓ，２Ｈ)３．７９(ｓ，３Ｈ)３．２６(ｓ，３Ｈ)２．４６(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１０７】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−ｐ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５５７ｍｇ、０．８６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５４ｍｇ、１．２９ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５２７ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．３５(ｂｒｓ，１Ｈ)８．１８(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６６(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２８(ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ)７．２１−７．１２(ｍ，３Ｈ)６．９３−７８(ｍ，５Ｈ)４．９４(ｓ，２Ｈ)４．４３(ｓ，２Ｈ)３．８４(ｓ，２Ｈ)３．７２(ｓ，３Ｈ)３．１７(ｓ，３Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)
【０１０８】
実施例２３
[Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化２６】
2008506685.tif 000028
段階１：
[Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
[Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４４７ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]塩化スルホニル(２４６ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物５４７ｍｇ(収率８６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１２(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３４−７．１７(ｍ，４Ｈ)７．００−６．８３(ｍ，４Ｈ)４．９６(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．１４(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．３１(ｓ，３Ｈ)２．４６(ｓ，３Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１０９】
段階２：
[Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５４７ｍｇ、０．８６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５４ｍｇ、１．２９ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５１７ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．６５(ｂｒｓ，１Ｈ)８．１０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３１−７．１２(ｍ，４Ｈ)６．９９−６．８０(ｍ，４Ｈ)４．９８(ｓ，２Ｈ)４．４４(ｓ，２Ｈ)３．８８(ｓ，２Ｈ)３．２７(ｓ，３Ｈ)２．４６(ｓ，３Ｈ)
【０１１０】
実施例２４
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(ｐ−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化２７】
2008506685.tif 000029
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１８の段階３で得た化合物(２５６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４２５ｍｇ(収率７２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６４−７．６２(ｍ，１Ｈ)７．４２−７．２４(ｍ，６Ｈ)７．１０−７．０７(ｍ，１Ｈ)６．９４−６．９１(ｍ，２Ｈ)６．８５−６．８２(ｍ，１Ｈ)４．９２(ｓ，２Ｈ)４．４６(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．２７(ｓ，３Ｈ)２．４１(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１１１】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４２５ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４５ｍｇ、１．０８ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４０１ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６７−７．６５(ｍ，１Ｈ)７．４２−７．２８(ｍ，６Ｈ)６．９１−６．８９(ｍ，２Ｈ)６．８４−６．８１(ｍ，１Ｈ)６．１０(ｂｒｓ，１Ｈ)４．９５(ｓ，２Ｈ)４．４１(ｓ，２Ｈ)３．８６(ｓ，２Ｈ)３．２５(ｓ，３Ｈ)２．４１(ｓ，３Ｈ)
【０１１２】
実施例２５
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化２８】
2008506685.tif 000030
段階１：
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステル(３ｇ、１０ｍｍｏｌ)及びＮ−(ピロリジニル)塩化スルホニル(２．５５ｇ、１５ｍｍｏｌ)を塩化ジクロロメタン(５０ｍｌ)に溶解した後、室温でトリエチルアミン(１．６２ｇ、１６ｍｍｏｌ)を加えて２日間攪拌した。その結果得られた反応混合物を減圧濃縮して溶媒を除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１)で精製して標題化合物３．８５ｇ(収率８９％)を得た。
【０１１３】
段階２：
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(３．８５ｇ、８．９ｍｍｏｌ)及びＰｄ／Ｃ触媒(０．８ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物３．０２ｇ(収率９９％)を得た。
【０１１４】
段階３：
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(３４２ｍｇ、１ｍｍｏｌ) [４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４３６ｍｇ(収率７５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３１−７．２３(ｍ，１Ｈ)７．０４(ｓ，１Ｈ)６．９９−６．９３(ｍ，２Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．５６(ｓ，２Ｈ)４．１３(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８７(ｓ，２Ｈ)３．４１−３．２７(ｍ，４Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)１．９８−１．８７(ｍ，４Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１１５】
段階４：
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階３で得た化合物(４３６ｍｇ、０．７５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４７ｍｇ、１．１３ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４１１ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１２(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)７．２９−７．２３(ｍ，２Ｈ)７．０５(ｓ，１Ｈ)６．９６−６．９２(ｍ，２Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．５１(ｓ，２Ｈ)４．５０(ｂｒｓ，１Ｈ)３．９１(ｓ，２Ｈ)３．３８−３．２９(ｍ，４Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)１．２３−１．１８(ｍ，４Ｈ)
【０１１６】
実施例２６
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−５−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化２９】
2008506685.tif 000031
段階１：
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−５−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステル(３４２ｍｇ、１ｍｍｏｌ) [５−クロロメチル−４−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４１３ｍｇ(７１％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．７１(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６９−７．２５(ｍ，１Ｈ)７．０７(ｓ，１Ｈ)６．９８−６．９１(ｍ，３Ｈ)５．０９(ｓ，２Ｈ)４．５７(ｓ，２Ｈ)４．１６(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８７(ｓ，２Ｈ)３．４１−３．３５(ｍ，４Ｈ)２．３１(ｓ，３Ｈ)１．９４−１．８８(ｍ，４Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)
【０１１７】
段階２：
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−５−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４１３ｍｇ、０．７１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４５ｍｇ、１．０７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３８９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１４(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)７．７１(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)７．３０−７．２５(ｍ，１Ｈ)７．０４−６．９５(ｍ，３Ｈ)５．０８(ｓ，２Ｈ)４．５４(ｓ，２Ｈ)３．９２(ｓ，２Ｈ)３．９１−３．７５(ｍ，４Ｈ)２．３０(ｓ，３Ｈ)１．９２−１．８８(ｍ，４Ｈ)
【０１１８】
実施例２７
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化３０】
2008506685.tif 000032
段階１：
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステル(３ｇ、１０ｍｍｏｌ)及び(４−メチル−１−ピペラジニル)塩化スルホニル(２．９８ｇ、１５ｍｍｏｌ)をジクロロメタン(５０ｍｌ)に溶解した後、トリエチルアミン(１．６２ｇ、１６ｍｍｏｌ)を加えて室温で２日間攪拌した。生成した反応混合物を減圧濃縮して溶媒を除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで(溶離液：ジクロロメタン／酢酸エチル＝１／１)で精製して標題化合物４．０６ｇ(収率８８％)を得た。
【０１１９】
段階２：
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステル(４．０６ｇ、８．８ｍｍｏｌ)及びＰｄ／Ｃ触媒(０．８ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物３．２３ｇ(収率９９％)を得た。
【０１２０】
段階３：
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階２で得た化合物(３７１ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４７０ｍｇ(収率７７％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)７．３２−７．２４(ｍ，１Ｈ)７．０２−６．９２(ｍ，３Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．５５(ｓ，２Ｈ)４．１６(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８４(ｓ，２Ｈ)３．３７−３．３２(ｍ，４Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)２．４６−２．４３(ｍ，４Ｈ)２．３０(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１２１】
段階４：
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階３で得た化合物(４７０ｍｇ、０．７７ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４９ｍｇ、１．１６ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４４４ｍｇ(収率９０％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＤＭＳＯ−ｄ６，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０９(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)７．８２(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)７．２８−７．２２(ｍ，１Ｈ)６．９５−６．８５(ｍ，３Ｈ)４．９６(ｓ，２Ｈ)４．３９(ｓ，２Ｈ)３．７０(ｓ，３Ｈ)３．０８−３．０５(ｍ，４Ｈ)２．４５(ｓ，３Ｈ)２．４３−２．４２(ｍ，４Ｈ)
【０１２２】
実施例２８
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化３１】
2008506685.tif 000033
段階１：
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステル(３ｇ、１０ｍｍｏｌ)及びＮ−(モルホリニル)塩化スルホニル(２．７８ｇ、１５ｍｍｏｌ)をジクロロメタン(５０ｍｌ)に溶解した後、トリエチルアミン(１．６２ｇ、１６ｍｍｏｌ)を加えて室温で２日間攪拌した。その結果得られた反応混合物を減圧濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１)で精製して標題化合物３．７７ｇ(収率８４％)を得た。
【０１２３】
段階２：
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(３．７７ｇ、８．４ｍｍｏｌ)及びＰｄ／Ｃ触媒(０．８ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物２．９８ｇ(収率９９％)を得た。
【０１２４】
段階３：
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４６６ｍｇ(収率７８％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３３−７．２５(ｍ，１Ｈ)７．０２−６．９１(ｍ，３Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．５７(ｓ，２Ｈ)４．１７(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８６(ｓ，２Ｈ)３．７４−３．６９(ｍ，４Ｈ)３．３２−３．２７(ｍ，４Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１２５】
段階４：
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階３で得た化合物(４６６ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４９ｍｇ、１．１７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４４０ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１２(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)７．２７−７．２４(ｍ，１Ｈ)７．０２(ｓ，１Ｈ)６．９８−６．８９(ｍ，２Ｈ)５．０１(ｓ，２Ｈ４．５３(ｓ，２Ｈ)３．９０(ｓ，２Ｈ)３．７３−３．７０(ｍ，４Ｈ)３．５１(ｂｒｓ，１Ｈ)３．３０−３．２８(ｍ，４Ｈ)２．４８(ｓ，３Ｈ)
【０１２６】
実施例２９
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−５−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化３２】
2008506685.tif 000034
段階１：
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例２８の段階２で製造した化合物４５４ｍｇ(１．０ｍｍｏｌ) [５−クロロメチル−４−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．７１(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３４−７．２６(ｍ，１Ｈ)７．０２−６．９３(ｍ，３Ｈ)５．０８(ｓ，２Ｈ)４．５７(ｓ，２Ｈ)４．１８(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８７(ｓ，２Ｈ)３．７４−３．７０(ｍ，４Ｈ)３．３２−３．２８(ｍ，４Ｈ)２．３１(ｓ，３Ｈ)１．２６(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１２７】
段階２：
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−５−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４５４ｍｇ、０．７６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４９ｍｇ、１．１７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４２９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１４(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)７．７１(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)７．３１−７．２６(ｍ，１Ｈ)７．０１−６．９５(ｍ，３Ｈ)５．０８(ｓ，２Ｈ)４．５７(ｓ，２Ｈ)３．９２(ｓ，２Ｈ)３．７４−３．７１(ｍ，４Ｈ)３．３１−３．２８(ｍ，４Ｈ)２．３０(ｓ，３Ｈ)
【０１２８】
実施例３０
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化３３】
2008506685.tif 000035
段階１：
[[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステル(１４．９７ｇ、０．０５ｍｏｌ)及び(インドリニル)塩化スルファモイル(１６．３３ｇ、０．０７５ｍｏｌ)をジクロロメタン(２５０ｍｌ)に溶解した後、トリエチルアミン(８．１ｇ、０．０８ｍｏｌ)を添加した。この混合物を３日間室温で攪拌した後、反応混合物を減圧濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１)で精製して標題化合物２０．１８ｇ(収率８４％)を得た。
【０１２９】
段階２：
[[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(２０．１８ｇ、０．０４２ｍｏｌ)及びＰｄ／Ｃ触媒(０．８ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物１６．２３ｇ(収率９９％)を得た。
【０１３０】
段階３：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(４−クロロメチル−５−メチル−２−フェニル)オキサゾール(２５０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４３８ｍｇ(収率７８％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０２−７．９９(ｍ，２Ｈ)７．４３−７．４１(ｍ，４Ｈ)７．２５−７．１２(ｍ，３Ｈ)６．９５−６．８２(ｍ，４Ｈ)４．８８(ｓ，２Ｈ)４．６２(ｓ，２Ｈ)４．１１−３．８９(ｍ，６Ｈ)３．１２(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)１．１２(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１３１】
段階４：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階３で得た化合物(４３８ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４９ｍｇ、１．１７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４１２ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．００−７．９６(ｍ，２Ｈ)７．４５−７．３９(ｍ，４Ｈ)７．１４−７．０８(ｍ，３Ｈ)６．９１−６．８８(ｍ，４Ｈ)５．２９(ｓ，１Ｈ)４．８５(ｓ，２Ｈ)４．４７(ｓ，２Ｈ)３．９６(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)３．９３(ｓ，２Ｈ)３．０５(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)
【０１３２】
実施例３１
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化３４】
2008506685.tif 000036
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３０の段階２で得た化合物(４１２ｍｇ) [４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−メチルフェニル)]オキサゾール(２６６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４０９ｍｇ(収率７１％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．４１(ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ)７．２５−７．１３(ｍ，５Ｈ)６．９５−６．８２(ｍ，４Ｈ)４．８８(ｓ，２Ｈ)４．６２(ｓ，２Ｈ)４．１０−３．９４(ｍ，４Ｈ)３．８８(ｓ，２Ｈ)３．１２(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)１．２３(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４０９ｍｇ、０．７１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４５ｍｇ、１．０７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３８５ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８６(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．４２(ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ)７．２５−７．０８(ｍ，５Ｈ)６．９４−６．７６(ｍ，４Ｈ)５．３７(ｓ，１Ｈ)４．８７(ｓ，２Ｈ)４．５４(ｓ，２Ｈ)４．００(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)３．９２(ｓ，２Ｈ)３．０４(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)２．４１(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)
【０１３３】
実施例３２
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化３５】
2008506685.tif 000037
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３０の段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４４１ｍｇ(収率７０％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．４１(ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，１Ｈ)７．２５−７．１４(ｍ，３Ｈ)６．９７−６．８４(ｍ，４Ｈ)４．９１(ｓ，２Ｈ)４．６３(ｓ，２Ｈ)４．０７(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)３．９３(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８９(ｓ，２Ｈ)３．１３(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)２．４６(ｓ，３Ｈ)１．１２(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１３４】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４４１ｍｇ、０．７０ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４４ｍｇ、１．０５ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４１７ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１０(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)７．７５(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)７．３９(ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，１Ｈ)７．２５−７．０９(ｍ，３Ｈ)６．９５−６．７８(ｍ，４Ｈ)４．８７(ｓ，２Ｈ)４．８３(ｓ，１Ｈ)４．５３(ｓ，２Ｈ)４．０３(ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)３．９５(ｓ，２Ｈ)３．０８(ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)２．４５(ｓ，３Ｈ)
【０１３５】
実施例３３
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化３６】
2008506685.tif 000038
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３０の段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)]オキサゾール(２５６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物３９２ｍｇ(収率６９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６４−７．６２(ｍ，１Ｈ)７．４１−７．３８(ｍ，２Ｈ)７．２２−７．０７(ｍ，４Ｈ)６．９３−６．８６(ｍ，４Ｈ)４．８６(ｓ，２Ｈ)４．６２(ｓ，２Ｈ)４．１２−３．９５(ｍ，４Ｈ)３．８９(ｓ，２Ｈ)３．１２(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)２．４１(ｓ，３Ｈ)１．１３(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１３６】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(３９２ｍｇ、０．６９ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４４ｍｇ、１．０４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３６９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６６−７．６３(ｍ，１Ｈ)７．４４−７．３９(ｍ，２Ｈ)７．１９−７．０７(ｍ，４Ｈ)６．９５−６．７７(ｍ，４Ｈ)５．２９(ｓ，１Ｈ)４．８３(ｓ，２Ｈ)４．５０(ｓ，２Ｈ)４．０２(ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)３．９４(ｓ，２Ｈ)３．０７(ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)２．４０(ｓ，３Ｈ)
実施例３４
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化３７】
2008506685.tif 000039
段階１：
[[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステル(１４．９７ｇ、０．０５ｍｏｌ)及び(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)塩化スルファモイル(１７．３８ｇ、０．０７５ｍｏｌ)をジクロロメタン(２５０ｍｌ)に溶解した後、トリエチルアミン(８．１ｇ、０．０８ｍｏｌ)を添加した。この混合物を３日間室温で攪拌した後、その結果得られた反応混合物を減圧濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１)で精製して標題化合物２０．０３ｇ(収率８１％)を得た。
【０１３７】
段階２：
[[Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(１９．７８ｇ、０．０４ｍｏｌ)及びＰｄ／Ｃ触媒(０．８ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物１６．０２ｇ(収率９９％)を得た。
段階３：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(４−クロロメチル−５−メチル−２−フェニル)オキサゾール(２５０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４３８ｍｇ(収率７６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０４−７．９９(ｍ，２Ｈ)７．６３(ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ)７．４５−７．４２(ｍ，３Ｈ)７．２５−６．９６(ｍ，５Ｈ)６．９４−６．７６(ｍ，２Ｈ)４．８６(ｓ，２Ｈ)４．５５(ｓ，２Ｈ)４．１０(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８６(ｓ，２Ｈ)３．７９(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．７９(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)２．０９−２．０３(ｍ，２Ｈ)１．２０(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１３８】
段階４：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階３で得た化合物(４３８ｍｇ、０．７６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４８ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４１２ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０４−７．９９(ｍ，２Ｈ)７．６１(ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ)７．４５−７．４２(ｍ，３Ｈ)７．１８−６．９８(ｍ，４Ｈ)６．９０−６．７３(ｍ，３Ｈ)４．８６(ｓ，２Ｈ)４．４５(ｓ，２Ｈ)３．８９(ｓ，２Ｈ)３．７５(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．７８(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)２．０８−２．０２(ｍ，２Ｈ)
【０１３９】
実施例３５
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化３８】
2008506685.tif 000040
段階１：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３４の段階２で得た化合物(４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ) [(４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール(２６６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４４２ｍｇ(収率７５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９０(ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ)７．６２(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ)７．２４−６．８４(ｍ，７Ｈ)６．７８−６．７５(ｍ，２Ｈ)４．８４(ｓ，２Ｈ)４．５５(ｓ，２Ｈ)４．１０(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８６(ｓ，２Ｈ)３．７９(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．８１(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)２．０８−２．０３(ｍ，２Ｈ)１．２０(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
段階２：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４４２ｇ、０．７５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４７ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４１７ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８７(ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ)７．６２ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ)７．２５−６．９８(ｍ，６Ｈ)６．８９−６．７３(ｍ，３Ｈ)４．８８(ｂｒｓ，１Ｈ)４．４４(ｓ，２Ｈ)３．８９(ｓ，２Ｈ)３．７６(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．７９(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)２．３８(ｓ，３Ｈ)２．０８−２．０３(ｍ，２Ｈ)
【０１４０】
実施例３６
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化３９】
2008506685.tif 000041
段階１：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３４の段階２で得た化合物(３９８ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４７６ｍｇ(収率７４％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)７．６３(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ)７．２７−６．７７(ｍ，７Ｈ)４．８８(ｓ，２Ｈ)４．５６(ｓ，２Ｈ)４．１０(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８６(ｓ，２Ｈ)３．８０(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．８３(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)２．４６(ｓ，３Ｈ２．０９−２．０４(ｍ，２Ｈ)１．２０(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１４１】
段階２：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４７６ｇ、０．７４ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４７ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４５１ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１１(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)７．６８(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)７．６１(ｄ，Ｊ＝８．３ｈｚ，１Ｈ)７．２１−６．９２(ｍ，４Ｈ)６．８９−６．７５(ｍ，３Ｈ)５．８４(ｂｒｓ，１Ｈ)４．８８(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)３．９０(ｓ，２Ｈ)３．６５(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．８０(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)２．４５(ｓ，３Ｈ)２．０９−２．０３(ｍ，２Ｈ)
【０１４２】
実施例３７
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化４０】
2008506685.tif 000042
段階１：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３４の段階２で得た化合物(４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)]オキサゾール(２５６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４０７ｍｇ(収率７０％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６５−７．６１(ｍ，２Ｈ)７．４０(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ)７．２７−７．０１(ｍ，５Ｈ)６．９３−６．７６(ｍ，３Ｈ)４．８３(ｓ，２Ｈ)４．５４(ｓ，２Ｈ)４．１０(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８６(ｓ，２Ｈ)３．７９(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．８２(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)２．４１(ｓ，３Ｈ)２．０９−２．０３(ｍ，２Ｈ)１．２０(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
段階２：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４０７ｇ、０．７ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４４ｍｇ、１．０５ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３８４ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６５−７．６０(ｍ，２Ｈ)７．３９(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ)７．１９−６．９８(ｍ，５Ｈ)６．８９−６．７４(ｍ，３Ｈ)６．７２(ｂｒｓ，１Ｈ)４．８４(ｓ，２Ｈ)４．４７(ｓ，２Ｈ)３．９０(ｓ，２Ｈ)３．７５(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．７９(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)２．０９−２．０３(ｍ，２Ｈ)
【０１４３】
実施例３８
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化４１】
2008506685.tif 000043
段階１：
[Ｎ−(４−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
４−ベンジルオキシベンズアルデヒド(１０６ｇ、０．５ｍｏｌ)、グリシンエチルエステル塩酸塩(７７ｇ、０．５５ｍｏｌ)、トリエチルアミン(５７ｇ、０．５５ｍｏｌ)及びトリアセトキシホウ化水素ナトリウム(１５９ｇ、０．７５ｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物１２７ｇ(収率８５％)を得た。
【０１４４】
段階２：
[[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル)−Ｎ−(４−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(１４．９７ｇ、０．０５ｍｏｌ)、Ｎ，Ｎ−塩化ジメチルスルファモイル(１０．７７ｇ、０．０７５ｍｏｌ)及びトリエチルアミン(８．１ｇ、０．０８ｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物１８．０９ｇ(収率８９％)を得た。
【０１４５】
段階３：
[[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−(４−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階２の化合物(１７．８９ｇ、０．０４４ｍｏｌ)及びＰｄ／Ｃ触媒(４ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物１３．７８ｇ(収率９９％)を得た。
【０１４６】
段階４：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階３で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(４−クロロメチル−５−メチル−２−フェニル)オキサゾール(２５０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物３７３ｍｇ(収率７８％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０３−８．００(ｍ，２Ｈ)７．４７−７．４３(ｍ，３Ｈ)７．２５(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)７．００(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)４．９８(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．１６(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８２(ｓ，２Ｈ)２．８６(ｓ，６Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１４７】
段階５：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階４で得た化合物(３７３ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５０ｍｇ、１．１７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３５５ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０２−７．９９(ｍ，２Ｈ)７．４６−７．４４(ｍ，３Ｈ)７．２２(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)６．９６(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)５．００(ｓ，２Ｈ)４．４６(ｓ，２Ｈ)３．８２(ｓ，２Ｈ)２．８４(ｓ．６Ｈ)２．４５(ｓ，３Ｈ)
【０１４８】
実施例３９
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化４２】
2008506685.tif 000044
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３８の段階３で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[(４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−メチルフェニル)]オキサゾール(２６６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例４の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物(３８６ｍｇ，７７％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８９(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)７．２８−７．２２(ｍ，４Ｈ)７．０１(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８２(ｓ，２Ｈ)２．８６(ｓ，６Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１４９】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(３８６ｍｇ、０．７７ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４９ｍｇ、１．１６ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３６１ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９．１５(ｂｒｓ，１Ｈ)７．８８(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２４−７．１８(ｍ，４Ｈ)６．９４(ｄ，Ｊ＝８．４ｈｚ，２Ｈ)４．９９(ｓ，２Ｈ)４．４６(ｓ，２Ｈ)３．８１(ｓ，２Ｈ)２．８４(ｓ，６Ｈ)２．４４(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)
【０１５０】
実施例４０
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化４３】
2008506685.tif 000045
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３８の段階３で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４１７ｍｇ(収率７５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２５(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)７．０１(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)４．９９(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．１６(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８２(ｓ，２Ｈ)２．８７(ｓ，６Ｈ)２．４６(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１５１】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４１７ｍｇ、０．７５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５３ｍｇ、１．１３ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３６１ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９．３９(ｂｒｓ，１Ｈ)８．１２(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)７．７１(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)７．２４(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)６．９７(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)５．０１(ｓ，２Ｈ)４．４６(ｓ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)２．８４(ｓ，６Ｈ)２．４７(ｓ，３Ｈ)
【０１５２】
実施例４１
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化４４】
2008506685.tif 000046
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３８の段階３で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)]オキサゾール(２５６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物３６５ｍｇ(収率７４％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６３(ｄｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ)７．３９(ｄｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１Ｈ)７．２５(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)７．１２−７．０９(ｍ，１Ｈ)６．９７(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)４．９６(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．１６(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８２(ｓ，２Ｈ)２．８６(ｓ，６Ｈ)２．４１(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１５３】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(３６５ｍｇ、１．０７ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４７ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３４１ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９．７６(ｂｒｓ，１Ｈ)７．６７(ｄｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ)７．４２(ｄｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１Ｈ)７．２２(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)７．１２−７．０９(ｍ，１Ｈ)６．９５(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)５．０４(ｓ，２Ｈ)４．４６(ｓ，２)３．８３(ｓ，２Ｈ)２．８３(ｓ，６Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)
実施例４２
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化４５】
2008506685.tif 000047
段階１：
[[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−(４−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
４−ベンジルオキシベンズアルデヒド(２１．２ｇ、０．１ｍｏｌ)、グリシンメチルエステル(１３．８１ｇ、０．１１ｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１．１３ｇ、０．１１ｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階１と同一な方法で反応させ、[Ｎ−(４−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸メチルエステル２２．５ｇ(収率７９％)を得た。得た化合物(２．８５ｇ、１０ｍｍｏｌ)、(ピロリジニル)塩化スルホニル(２．０４ｇ、１２ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１．６２ｇ、１６ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物３．６ｇ(収率８６％)を得た。
【０１５４】
段階２：
[[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−(４−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−(４−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステル(３．６ｇ、８．６ｍｍｏｌ))及びＰｄ／Ｃ触媒(０．８ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物２．７９ｇ(収率９９％)を得た。
【０１５５】
段階３：
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(３２８ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[(４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−メチルフェニル)]オキサゾール(２６６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物３９０ｍｇ(収率７６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８９(ｄ，Ｊ８．２Ｈｚ，２Ｈ)７．２８−７．２１(ｍ，４Ｈ)６．９８(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)４．９６(ｓ，２Ｈ)４．４８(ｓ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．６９(ｓ，３Ｈ)３．３８−３．３２(ｍ，４Ｈ)２．４１(ｓ，３Ｈ)２．３８(ｓ，３Ｈ)１．９８−１．８６(ｍ，４Ｈ)
【０１５６】
段階４：
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階３で得た化合物(３９０ｍｇ、０．７６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４８ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３７５ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２６−７．２０(ｍ，４Ｈ)６．９５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)４．９８(ｓ，２Ｈ)４．４７(ｓ，２Ｈ)３．８３(ｓ，２Ｈ)３．３７−３．３２(ｍ，４Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)２．４０(ｓ，３Ｈ)１．８９−１．８５(ｍ，４Ｈ)
【０１５７】
実施例４３
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化４６】
2008506685.tif 000048
段階１：
[[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−(４−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記実施例４２の段階１で得た化合物(２．８５ｇ、１０ｍｍｏｌ)、(４−メチル−１−ピペラジニル)塩化スルホニル(２．３８ｇ、１２ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１．６２ｇ、１６ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物３．６７ｇ(収率８２％)を得た。
【０１５８】
段階２：
[[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−(４−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(３．６７ｇ、８．２ｍｍｏｌ)及びＰｄ／Ｃ触媒(０．８ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物２．９０ｇ(収率９９％)を得た。
【０１５９】
段階３：
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(３５７ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[(４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−メチルフェニル)]オキサゾール(２６６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４０７ｍｇ(収率７５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２５(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)７．２４(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)６．９９(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．４８(ｓ，２Ｈ)３．８２(ｓ，２Ｈ)３．７０(ｓ，３Ｈ)３．３５−３．３２(ｍ，４Ｈ)２．４８−２．４４(ｍ，４Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)２．４０(ｓ，３Ｈ)２．３１(ｓ，３Ｈ)
【０１６０】
段階４：
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４０７ｍｇ、０．７５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４７ｍｇ、１．１３ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３９３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＤＭＳＯ−ｄ６，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．３３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２７(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)７．０５(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)４．９９(ｓ，２Ｈ)４．４０(ｓ，２Ｈ)３．７４(ｓ，２Ｈ)３．５０(ｂｒｓ，１Ｈ)３．４０−３．００(ｍ，４Ｈ)２．６２−２．５８(ｍ，４Ｈ)２．４４(ｓ，３Ｈ)２．３７(ｓ，３Ｈ)
【０１６１】
実施例４４
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化４７】
2008506685.tif 000049
段階１：
[[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−(４−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記実施例４２の段階１で得た化合物(２．８５ｇ、１０ｍｍｏｌ)、(モルホリニル)塩化スルホニル(２．２３ｇ、１２ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１．６２ｇ、１６ｍｍｏｌ)を用いて前記実施例３の段階２の方法で反応させ、標題化合物３．６９ｇ(収率８５％)を得た。
【０１６２】
段階２：
[[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−(４−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(３．６９ｇ、８．５ｍｍｏｌ)及びＰｄ／Ｃ触媒(０．８ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物２．９０ｇ(収率９９％)を得た。
【０１６３】
段階３：
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(３４４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−メチルフェニル)]オキサゾール(２６６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物３９２ｍｇ(収率７４％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２６−７．２２(ｍ，４Ｈ)６．９９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)４．９８(ｓ，２Ｈ)４．５０(ｓ，２Ｈ)３．８５−３．７０(ｍ，４Ｈ)３．７１(ｓ，２Ｈ)３．３１−３．２６(ｍ，４Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)２．４０(ｓ，３Ｈ)
【０１６４】
段階４：
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階３で得た化合物(３９２ｍｇ、０．７４ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４７ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３７８ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２６(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．１７(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)６．９３(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)６．９８(ｓ，２Ｈ)４．４８(ｓ，２Ｈ)３．７９(ｓ，２Ｈ)３．７０−３．６７(ｍ，４Ｈ)３．２９−３．２５(ｍ，４Ｈ)２．４４(ｓ，３Ｈ)２．４０(ｓ，３Ｈ)
【０１６５】
実施例４５
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化４８】
2008506685.tif 000050
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−(４−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３８の段階１で得た化合物(１４．９７ｇ、０．０５ｍｏｌ)、[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]塩化スルホニル(１５．４２ｇ、０．０７５ｍｏｌ)及びトリエチルアミン(８．１ｇ、０．０８ｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物１９．２１ｇ(収率７９％)を得た。
【０１６６】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−(４−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(１８．２７ｇ、０．０３９ｍｏｌ)及びＰｄ／Ｃ触媒(４ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物１４．６１ｇ(収率９９％)を得た。
【０１６７】
段階３：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(３７８ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(４−クロロメチル−５−メチル−２−フェニル)オキサゾール(２５０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４２３ｍｇ(収率７７％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０１(ｍ，２Ｈ)７．４７−７．２９(ｍ，７Ｈ)７．２８−７．２３(ｍ，１Ｈ)７．１６(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)６．９５(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．４４(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８１(ｓ，２Ｈ)３．２９(ｓ，３Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１６８】
段階４：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階３で得た化合物(４２３ｍｇ、０．７７ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４９ｍｇ、１．１６ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３９８ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０１−７．９７(ｍ，２Ｈ)７．４４(ｍ，５Ｈ)７．３６−７．１５(ｍ，３Ｈ)７．１０(ｄ，Ｊ＝８．６ｈｚ，２Ｈ)６．９０(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)４．９８(ｓ，２Ｈ)４．４２(ｓ，２Ｈ)３．９１(ｓ，２Ｈ)３．２７(ｓ，３Ｈ)２．４４(ｓ，３Ｈ)
【０１６９】
実施例４６
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化４９】
2008506685.tif 000051
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記実施例４５の段階２で得た化合物(３７８ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[(４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−メチルフェニル)]オキサゾール(２６６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４０６ｍｇ(収率７２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．４７−７．２３(ｍ，９Ｈ)７．１６(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)６．９５(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)４．９５(ｓ，２Ｈ)４．４４(ｓ，２Ｈ)４．１４(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８１(ｓ，２Ｈ)３．２８(ｓ，３Ｈ)２．４１(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)１．２３(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１７０】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４０６ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４５ｍｇ、１．０８ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３８２ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８４(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．４７−７．２２(ｍ，９Ｈ)７．１８(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)６．８９(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)４．８５(ｓ，２Ｈ)４．３９(ｓ，２Ｈ)３．７６(ｓ，２Ｈ)３．１４(ｓ，３Ｈ)２．３６(ｓ，３Ｈ)２．３４(ｓ，３Ｈ)
【０１７１】
実施例４７
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化５０】
2008506685.tif 000052
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例４５の段階２で得た化合物(３６４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４６３ｍｇ(収率７５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１２(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)７．８６(ｄ，Ｊ＝８．３ｈｚ，２Ｈ)７．７１−７．２３(ｍ，５Ｈ)７．１７(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)６．９５(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)４．９８(ｓ，２Ｈ)４．４４(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８１(ｓ，２Ｈ)３．３０(ｓ，３Ｈ)２．４５(ｓ，３Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１７２】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４６３ｍｇ、０．７５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４７ｍｇ、１．１３ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４３８ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０７(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)７．６５(ｄ，Ｊ＝８．３ｈｚ，２Ｈ)７．３７−７．１８(ｍ，５Ｈ)７．０５(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)６．８２(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)４．８９(ｓ，２Ｈ)４．４１(ｓ，２Ｈ)３．７８(ｓ，２Ｈ)３．１８(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)
【０１７３】
実施例４８
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化５１】
2008506685.tif 000053
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例４５の段階２で得た化合物(３７８ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)]オキサゾール(２５６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４２２ｍｇ(収率７６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６３−７．６２(ｍ，１Ｈ)７．４７−７．２４(ｍ，２Ｈ)７．１６(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)７．１０−７．０７(ｍ，１Ｈ)６．９３(，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)４．９４(ｓ，２Ｈ)４．４３(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８１(ｓ，２Ｈ)３．２９(ｓ，３Ｈ)２．４０(ｓ，３Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１７４】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４２２ｍｇ、０．７６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４８ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４３８ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６３−７．６２(ｍ，１Ｈ)７．４７−７．２４(ｍ，２Ｈ)７．１６(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)７．１０−７．０７(ｍ，１Ｈ)６．８５(，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)４．８７(ｓ，２Ｈ)４．４０(ｓ，２Ｈ)３．７８(ｓ，２Ｈ)３．１９(ｓ，３Ｈ)２．３６(ｓ，３Ｈ)
【０１７５】
実施例４９
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化５２】
2008506685.tif 000054
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−(４−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３８の段階１で得た化合物(１４．９７ｇ、０．０５ｍｏｌ)、[[Ｎ−メチル−Ｎ−(ｐ−クロロフェニル)]アミノ]塩化スルホニル(１８．０１ｇ、０．０７５ｍｏｌ)及びトリエチルアミン(８．１ｇ、０．０８ｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物１８．８６ｇ(収率７５％)を得た。
【０１７６】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−(４−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(１８．６１ｇ、０．０３７ｍｏｌ)及びＰｄ／Ｃ触媒(４ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物１５．１２ｇ(収率９９％)を得た。
【０１７７】
段階３：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(４−クロロメチル−５−メチル−２−フェニル)オキサゾール(２５０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４２１ｍｇ(収率７２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０３−８．００(ｍ，２Ｈ)７．４７−７．３０(ｍ，７Ｈ)７．１７(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)６．９６(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．４２(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８１(ｓ，２Ｈ)３．２７(ｓ，３Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１７８】
段階４：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階３で得た化合物(４２１ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４５ｍｇ、１．０８ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３９７ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０３−７．９７(ｍ，２Ｈ)７．４７−７．１９(ｍ，７Ｈ)７．０６(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)６．８９(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)４．９２(ｓ，２Ｈ)４．３８(ｓ，２Ｈ)３．７８(ｓ，２Ｈ)３．１６(ｓ，３Ｈ)
【０１７９】
実施例５０
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化５３】
2008506685.tif 000055
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例４９の段階２で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[(４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−メチルフェニル)]オキサゾール(２６６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４６１ｍｇ(収率７７％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９０(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)７．４２−７．２３(ｍ，６Ｈ)７．１６(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)６．９５(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)４．９６(ｓ，２Ｈ)４．４２(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８１(ｓ，２Ｈ)３．２７(ｓ，３Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１８０】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４６１ｍｇ、０．７７ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４８ｍｇ、１．１６ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４３５ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８８(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)７．３９−７．２３(ｍ，６Ｈ)７．０８(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)６．８９(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．３９(ｓ，２Ｈ)３．７８(ｓ，２Ｈ)３．２３(ｓ，３Ｈ)２．４４(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)
【０１８１】
実施例５１
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化５４】
2008506685.tif 000056
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例４９の段階２で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４８９ｍｇ(収率７５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１２(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．０７(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．４２−７．３１(ｍ，４Ｈ)７．１８(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)６．９６(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)４．９８(ｓ，２Ｈ)４．４３(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８２(ｓ，２Ｈ)３．２７(ｓ，３Ｈ)２．４６(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１８２】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４８９ｍｇ、０．７５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４７ｍｇ、１．１３ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４６３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０６(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．６５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．２５−７．２１(ｍ，４Ｈ)７．０３(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)６．８５(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)４．８９(ｓ，２Ｈ)４．３６(ｓ，２Ｈ)３．７８(ｓ，２Ｈ)３．１１(ｓ，３Ｈ)２．４０(ｓ，３Ｈ)
【０１８３】
実施例５２
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化５５】
2008506685.tif 000057
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例４９の段階２で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)]オキサゾール(２５６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４２５ｍｇ(収率７２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６２(ｍ，１Ｈ)７．４２−７．３１(ｍ，５Ｈ)７．１５(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)７．１１−７．０８(ｍ，１Ｈ)６．９４(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)４．９５(ｓ，２Ｈ)４．４２(ｓ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８２(ｓ，２Ｈ)３．２７(ｓ，３Ｈ)２．４１(ｓ，３Ｈ)１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１８４】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４２５ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４５ｍｇ、１．０８ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４０１ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６１−７．５９(ｍ，１Ｈ)７．３８−７．３６(ｍ，１Ｈ)７．２７−７．１８(ｍ，４Ｈ)７．０７−７．００(ｍ，３Ｈ)６．８２(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)５．２９(ｂｒｓ，１Ｈ)４．８６(ｓ，２Ｈ)４．３５(ｓ，２Ｈ)３．７７(ｓ，２Ｈ)３．０８(ｓ，３Ｈ)２．３５(ｓ，３Ｈ)
【０１８５】
実施例５３
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化５６】
2008506685.tif 000058
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−(４−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３８の段階１で得た化合物(１４．９７ｇ、０．０５ｍｏｌ)、(インドリニル)塩化スルホニル(１６．３３ｇ、０．０７５ｍｏｌ)及びトリエチルアミン(８．１ｇ、０．０８ｍｏｌ)を前記実施例４の段階２の方法で反応させ、標題化合物１８．５ｇ(収率７７％)を得た。
【０１８６】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−(４−ヒドロキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(１８．２６ｇ、０．０３８ｍｏｌ)及びＰｄ／Ｃ触媒(４ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物１４．６９ｇ(収率９９％)を得た。
【０１８７】
段階３：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)及び(４−クロロメチル−５−メチル−２−フェニル)オキサゾール(２５０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物３９５ｍｇ(収率７２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０３−７．９８(ｍ，２Ｈ)７．４７−７．４２(ｍ，４Ｈ)７．１７−７．１１(ｍ，４Ｈ)６．９６−６．９２(ｍ，３Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．５７(ｓ，２Ｈ)４．０６(ｔ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)３．９５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．１２(ｔ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)１．１２(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１８８】
段階４：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階３で得た化合物(３９５ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４５ｍｇ、１．０８ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３８０ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．００−７．９７(ｍ，２Ｈ)７．４６−７．４２(ｍ，４Ｈ)７．１４−７．０８(ｍ，４Ｈ)６．９６−６．８９(ｍ，３Ｈ)４．９６(ｓ，２Ｈ)４．４８(ｓ，２Ｈ)４．０２(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)３．８８(ｓ，２Ｈ)３．０８(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)２．４４(ｓ，３Ｈ)
【０１８９】
実施例５４
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化５７】
2008506685.tif 000059
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５３の段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[(４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−メチルフェニル)]オキサゾール(２６６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４３２ｍｇ(収率７５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８７(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)７．４３(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ)７．２４(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)７．１７−７．０４(ｍ，４Ｈ)６．９７−６．９１(ｍ，３Ｈ)４．９９(ｓ，２Ｈ)４．５７(ｓ，２Ｈ)４．０６(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)３．９５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８６(ｓ，２Ｈ)３．１２(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)２．４１(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)１．１２(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１９０】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４３２ｍｇ、０．７５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４７ｍｇ、１．１３ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させて標題化合物４０７ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８６(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)７．４３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ１Ｈ)７．２５−７．２３(ｍ，２Ｈ)７．１６−７．０６(ｍ，４Ｈ)６．９５−６．０７(ｍ，３Ｈ)４．９４(ｓ，２Ｈ)４．４６(ｓ，２Ｈ)４．０１(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．０６(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)２．４０(ｓ，３Ｈ)
【０１９１】
実施例５５
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化５８】
2008506685.tif 000060
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５３の段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[(４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４４７ｍｇ(収率７１％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)７．８５(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ)７．１９−７．１１(ｍ，４Ｈ)６．９７−６．９３(ｍ，３Ｈ)５．０１(ｓ，２Ｈ)４．５９(ｓ，２Ｈ)４．０７(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)３．９５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８６(ｓ，２Ｈ)３．１３(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)２．４６(ｓ，３Ｈ)１．１２(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１９２】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４４７ｍｇ、０．７１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４５ｍｇ、１．０７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４２３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１０(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)７．７０(ｄ，Ｊ＝８．４ｈｚ，２Ｈ)７．４３(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ)７．１７−７．１２(ｍ，４Ｈ)６．９７−６．９１(ｍ，３Ｈ)４．９８(ｓ，２Ｈ)４．５１(ｓ，２Ｈ)４．０３(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)３．９０(ｓ，２Ｈ)３．１０(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)２．４６(ｓ，３Ｈ)
【０１９３】
実施例５６
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化５９】
2008506685.tif 000061
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５３の段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)]オキサゾール(２５６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４１４ｍｇ(収率７３％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６３−７．６２(ｍ，１Ｈ)７．４４−７．３９(ｍ，２Ｈ)７．１７−７．０８(ｍ，５Ｈ)６．９７−６．９１(ｍ，３Ｈ)４．９４(ｓ，２Ｈ)４．５７(ｓ，２Ｈ)４．０６(ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)３．９５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８５(ｓ，２Ｈ)３．１２(ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)２．４０(ｓ，３Ｈ)１．１２(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１９４】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４１４ｍｇ、０．７３ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４６ｍｇ、１．１０ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３９０ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６６−７．６４(ｍ，１Ｈ)７．４２−７．４０(ｍ，２Ｈ)７．１４−７．０７(ｍ，５Ｈ)６．９４−６．８７(ｍ，３Ｈ)４．９３(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．０２(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)３．８８(ｓ，２Ｈ)３．０８(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)２．４１(ｓ，３Ｈ)
【０１９５】
実施例５７
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化６０】
2008506685.tif 000062
段階１：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−(４−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３８の段階１で得た化合物(１４．９７ｇ、０．０５ｍｏｌ)、(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)塩化スルホニル(１７．３８ｇ、０．０７５ｍｏｌ)及びトリエチルアミン(８．１ｇ、０．０８ｍｏｌ)を用いたことを除いては実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物１８．７９ｇ(収率７６％)を得た。
【０１９６】
段階２：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−(４−ヒドロキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階１で得た化合物(１８．７９ｇ、０．０３８ｍｏｌ)及びＰｄ／Ｃ触媒(４ｇ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階３と同一な方法で反応させ、標題化合物１５．２２ｇ(収率９９％)を得た。
【０１９７】
段階３：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階２で得た化合物(４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(４−クロロメチル−５−メチル−２−フェニル)オキサゾール(２５０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４３２ｍｇ(収率７５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０２(ｍ，２Ｈ)７．５９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ)７．４４(ｍ，３Ｈ)７．１２−７．０６(ｍ，５Ｈ)６．９２(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．０７(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．７８(ｍ，４Ｈ)２．８２(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)２．０９(ｍ，２Ｈ)１．２０(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０１９８】
段階４：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階３で得た化合物(４３２ｍｇ、０．７５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４７ｍｇ、１．１３ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４１１ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．００−７．９８(ｍ，２Ｈ)７．５９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ)７．４４−７．４２(ｍ，３Ｈ)７．１４−７．００(ｍ，５Ｈ)６．８８(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．４６(ｓ，２Ｈ)３．８３(ｓ，２Ｈ)３．７５(ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ)２．７９(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)２．４３(ｓ，３Ｈ)２．０４(ｓ，３Ｈ)
【０１９９】
実施例５８
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化６１】
2008506685.tif 000063
段階１：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５７の段階２で得た化合物(４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[(４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−メチルフェニル)]オキサゾール(２６６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４４８ｍｇ(収率７６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８９(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)７．６０(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ)７．２４(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)７．１５−７．０３(ｍ，５Ｈ)６．９１(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)４．９５(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．０７(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８２(ｓ，２Ｈ)３．７８(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．８２(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)２．４１(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)２．０８−２．０３(ｍ，２Ｈ)１．１９(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０２００】
段階２：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４３２ｍｇ、０．７６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４８ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４２３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８７(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)７．６０(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ)７．２４(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)７．１０−７．０３(ｍ，５Ｈ)６．９４(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)４．９５(ｓ，２Ｈ)４．４５(ｓ，２Ｈ)３．８１(ｓ，２Ｈ)３．７７(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．７９(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)２．４２(ｓ，３Ｈ)２．３９(ｓ，３Ｈ)２．０６−２．０３(ｍ，２Ｈ)
【０２０１】
実施例５９
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化６２】
2008506685.tif 000064
段階１：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５７の段階２で得た化合物(４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(３３０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４６３ｍｇ(収率７２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１２(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)７．８６(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)７．６０(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ)７．１７−７．０１(ｍ，５Ｈ)６．９３(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)４．９７(ｓ，２Ｈ)４．５０(ｓ，２Ｈ)４．０８(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８２(ｓ，２Ｈ)３．７９(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．８３(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)２．４５(ｓ，３Ｈ)２．１１−２．０２(ｍ，２Ｈ)１．１９(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０２０２】
段階２：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−４−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４６３ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４５ｍｇ、１．０８ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４３９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１０(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)７．６９(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)７．５３(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ)７．１０−６．９１(ｍ，５Ｈ)６．８４(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)４．９０(ｓ，２Ｈ)４．４０(ｓ，２Ｈ)３．８４(ｓ，２Ｈ)３．７４(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．７５(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)２．４０(ｓ，３Ｈ)２．０８−２．０２(ｍ，２Ｈ)
【０２０３】
実施例６０
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化６３】
2008506685.tif 000065
段階１：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５７の段階２で得た化合物(４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、[４−クロロメチル−５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)]オキサゾール(２５６ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ)及び６０％水酸化ナトリウム(５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階４と同一な方法で反応させ、標題化合物４４２ｍｇ(収率７６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６３−７．５９(ｍ，２Ｈ)７．３９(ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ)７．１５−７．０４(ｍ，６Ｈ)６．８９(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)４．９３(ｓ，２Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．０８(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８２(ｓ，２Ｈ)３．７８(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．８２(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)２．４０(ｓ，３Ｈ)２．１０−２．０４(ｍ，２Ｈ)１．１９(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０２０４】
段階２：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４４２ｍｇ、０．７６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４８ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４１７ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．８２(ｂｒｓ，１Ｈ)７．６６−７．５７(ｍ，２Ｈ)７．４１(ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ)７．１０−７．００(ｍ，６Ｈ)６．８６(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)４．９４(ｓ，２Ｈ)４．４６(ｓ，２Ｈ)３．８４(ｓ，２Ｈ)３．７８(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)２．７９(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)２．４０(ｓ，３Ｈ)２．０８−２．０２(ｍ，２Ｈ)
【０２０５】
実施例６１
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化６４】
2008506685.tif 000066
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３の段階３で得た化合物(３０２ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ)，２−[[５−メチル−２−フェニル)オキサゾール−４−イル]]エタノール(３０５ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ)及びトリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１．７ｍｍｏｌ)をトルエン(１０ｍｌ)に溶解した後、ジイソプロピルアゾジカルボン酸(３４４ｍｇ、１．７ｍｍｏｌ)を添加して室温で１２時間攪拌した。この混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン：酢酸エチル＝２０：１(ｖ：ｖ))で精製して標題化合物４６６ｍｇ(収率９３％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．００−７．９５(ｍ，２Ｈ)７．４３−７．３９(ｍ，３Ｈ)７．２８−７．２１(ｍ，１Ｈ)６．８９−６．８７(ｍ，３Ｈ)４．５１(ｓ，２Ｈ)４．２４(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)３．８３(ｓ，２Ｈ)２．９８(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)２．８６(ｓ，６Ｈ)２．３４(ｓ，３Ｈ)１．２３(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)
【０２０６】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４６６ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４３６ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９．９２(ｂｒｓ，１Ｈ)７．９８−７．９３(ｍ，２Ｈ)７．４４−７．３９(ｍ，３Ｈ)７．２５−７．１８(ｍ，１Ｈ)６．９７−６．８６(ｍ，３Ｈ)４．４９(ｓ，２Ｈ)４．２３(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)３．８９(ｓ，２Ｈ)２．９７(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)２．８４(ｓ，６Ｈ)２．３７(ｓ，３Ｈ)
【０２０７】
実施例６２
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化６５】
2008506685.tif 000067
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３の段階３で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３２６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物４６９ｍｇ(収率９１％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２７−７．１９(ｍ，３Ｈ)，６３８９−６．８６(ｍ，３Ｈ)，４．５０(ｓ，２Ｈ)，４．２６−４．１３(ｍ，４Ｈ)，３．８３(ｓ，２Ｈ)，２．９７(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)，２．８６(ｓ，６Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)，２．３６(ｓ，３Ｈ)，１．２３(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２０８】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４６９ｍｇ、０.９１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４３９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)１０.０５(ｂｒｓ,１Ｈ),７.８４(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２５−７.１８(ｍ,３Ｈ),６.９７−６.８６(ｍ,３Ｈ),４.５０(ｓ,２Ｈ),４.２２(ｔ,Ｊ＝６.７Ｈｚ,２Ｈ),３.８９(ｓ,２Ｈ),２.９６(ｔ,Ｊ＝６.７Ｈｚ,２Ｈ),２.８５(ｓ,６Ｈ),２.３８(ｓ,３Ｈ),２.３７(ｓ,３Ｈ).
【０２０９】
実施例６３
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化６６】
2008506685.tif 000068
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(３８０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、Ｎ，Ｎ−塩化ジエチルスルファモイル(１８９ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４１３ｍｇ(収率７６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.８６(ｄ,Ｊ＝８.３Ｈｚ,２Ｈ),７.２６−７.１９ｍ,３Ｈ),６.９０−６.８１(ｍ,３Ｈ),４.４５(ｓ,２Ｈ),４.２３(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),４.１３(ｑ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,２Ｈ),３.７９(ｓ,２Ｈ),３.３２(ｑ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,４Ｈ),２.９７(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.３７(ｓ,３Ｈ),２.３６(ｓ,３Ｈ),１.２５−１.１５(ｍ,９Ｈ).
【０２１０】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４１３ｍｇ、０.７６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４８ｍｇ、１.１４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３８８ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９.７９(ｂｒｓ,１Ｈ),７.８４(ｄ,Ｊ＝８.３Ｈｚ,２Ｈ),７.２６−７.１８(ｍ,３Ｈ),７.０２−６.８１(ｍ,３Ｈ),４.４５(ｓ,２Ｈ),４.２２(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),３.８６(ｓ,２Ｈ),３.３２(ｑ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,４Ｈ),２.９５(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.３８(ｓ,３Ｈ),２.３６(ｓ,３Ｈ),１.１７(ｔ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,６Ｈ).
【０２１１】
実施例６４
[Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化６７】
2008506685.tif 000069
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(３８０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)塩化スルホニル(１８９ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４６８ｍｇ(収率８６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.８６(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２６−７.１９(ｍ,３Ｈ),６.８９−６.８１(ｍ,３Ｈ),４.４３(ｓ,２Ｈ),４.２６−４.０８(ｍ,５Ｈ),３.７９(ｓ,２Ｈ),２.９７(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.７３(ｓ,３Ｈ),２.３８(ｓ,３Ｈ),２.３７(ｓ,３Ｈ),１.２６−１.１６(ｍ,９Ｈ).
【０２１２】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４６８ｍｇ、０.８６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５４ｍｇ、１.２９ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４３９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９.９１(ｂｒｓ,１Ｈ),７.８４(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２６−７.１７(ｍ,３Ｈ),７.０２−６.８１(ｍ,３Ｈ),４.４３(ｓ,２Ｈ),４.２６−４.１４(ｍ,３Ｈ),３.８５(ｓ,２Ｈ),２.９４(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.７３ｓ,３Ｈ), ２.３８(ｓ,３Ｈ),２.３５(ｓ,３Ｈ),１.１７(ｓ,３Ｈ),１.１４(ｓ,３Ｈ).
【０２１３】
実施例６５
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化６８】
2008506685.tif 000070
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３の段階３で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−[(４−トリフルオロメチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(４０７ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５２４ｍｇ(収率９２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝６.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２５−７.２４(ｍ,１Ｈ),６.８９−６.８２(ｍ,３Ｈ),４.５２(ｓ,２Ｈ),４.２８−４.１０(ｍ,４Ｈ),３.８４(ｓ,２Ｈ),２.９８(ｔ,Ｊ＝６.７Ｈｚ,２Ｈ),２.８７(ｓ,６Ｈ),２.４１(ｓ,３Ｈ),１.２４(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２１４】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５２４ｍｇ、０.９２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４９３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９.６５(ｂｒｓ,１Ｈ),８.０７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２３−７.１９(ｍ,１Ｈ),６.９５−６.８７(ｍ,３Ｈ),４.４９(ｓ,２Ｈ),４.２４(ｔ,Ｊ＝６.７Ｈｚ,２Ｈ),３.８９(ｓ,２Ｈ),２.９８(ｔ,Ｊ＝６.７Ｈｚ,２Ｈ),２.８５(ｓ,６Ｈ),２.４０(ｓ,３Ｈ).
【０２１５】
実施例６６
[Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化６９】
2008506685.tif 000071
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４６２ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、トリエチルアミン(０.１１ｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びｔ−ブチルアミノ塩化スルホニル(０.２１ｇ、１.２ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例１の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物５３８ｍｇ(収率９０％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０９(ｄ,Ｊ＝８.７Ｈｚ,２Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝８.７Ｈｚ,２Ｈ),７.２８−７.１９(ｍ,１Ｈ),６.８９−６.８２(ｍ,３Ｈ),５.２３(ｓ,１Ｈ),４.３４(ｓ,２Ｈ),４.２７−４.１２(ｍ,４Ｈ),３.８９(ｓ,２Ｈ),２.９９(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.４１(ｓ,３Ｈ),１.４０(ｓ,９Ｈ),１.２４(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２１６】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５３８ｍｇ、０.９ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５７ｍｇ、１.３５ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５０７ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.００(ｄ,Ｊ＝８.７Ｈｚ,２Ｈ),７.６１(ｄ,Ｊ＝８.７Ｈｚ,２Ｈ),７.０６−６.９８(ｍ,１Ｈ),６.８４−６.６６(ｍ,３Ｈ),５.７１(ｂｒｓ,１Ｈ),４.３０(ｓ,２Ｈ),４.１１(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),３.６９(ｓ,２Ｈ),２.８８(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.３１(ｓ,３Ｈ),１.１７(ｓ,９Ｈ).
【０２１７】
実施例６７
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化７０】
2008506685.tif 000072
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４６２ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、Ｎ，Ｎ−塩化ジエチルスルファモイル(１８９ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４９０ｍｇ(収率８２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６６(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２８−７.１９(ｍ,１Ｈ),６.９０−６.８１(ｍ,３Ｈ),４.４６(ｓ,２Ｈ),４.２４(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),４.１４(ｑ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,２Ｈ),３.７９(ｓ,２Ｈ),３.３２(ｑ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,４Ｈ),２.９９(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.４０(ｓ,３Ｈ),１.２９−１.１６(ｍ,９Ｈ).
【０２１８】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４９０ｍｇ、０.８２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５３ｍｇ、１.２３ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４６２ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.９９(ｂｒｓ,１Ｈ), ８.０７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２８−７.１９(ｍ,１Ｈ),６.９８−６.８１(ｍ,３Ｈ),４.４５(ｓ,２Ｈ),４.２４(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),３.８６(ｓ,２Ｈ),３.３２(ｑ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,４Ｈ),２.９８(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.４０(ｓ,３Ｈ),１.２９−１.１４(ｍ,６Ｈ).
【０２１９】
実施例６８
[Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化７１】
2008506685.tif 000073
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４６２ｍｇ、１ｍｍｏｌ) [Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ]塩化スルホニル(１８９ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物５１４ｍｇ(収率８６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０９(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２３−７.１９(ｍ,１Ｈ),６.９１−６.８１(ｍ,３Ｈ),４.４５(ｓ,２Ｈ),４.２８−４.０８(ｍ,５Ｈ),３.７９(ｓ,２Ｈ),２.９９(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.７４(ｓ,３Ｈ),２.４０(ｓ,３Ｈ),１.２６−１.１６(ｍ,９Ｈ).
【０２２０】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５１４ｍｇ、０.８６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５４ｍｇ、１.２９ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４８５ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.４３(ｂｒｓ,１Ｈ),８.０７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２６−７.１９(ｍ,１Ｈ),７.００−６.８２(ｍ,３Ｈ),４.４３(ｓ,２Ｈ),４.２７−４.１３(ｍ,３Ｈ),３.８５(ｓ,２Ｈ),２.９７(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.７３(ｓ,３Ｈ),２.４０(ｓ,３Ｈ),１.１８(ｓ,３Ｈ),１.１５(ｓ,３Ｈ).
【０２２１】
実施例６９
[Ｎ−(Ｎ−アリル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化７２】
2008506685.tif 000074
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−アリル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４６２ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(Ｎ−アリル−Ｎ−メチルアミノ)塩化スルホニル(１８７ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４７７ｍｇ(収率８０％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２８−７.２０(ｍ,１Ｈ),６.８９−６.８３(ｍ,３Ｈ),５.８９−５.７３(ｍ,１Ｈ),５.３１−５.２１(ｍ,２Ｈ),４.４９(ｓ,２Ｈ),４.２４(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),４.１４(ｑ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,２Ｈ),３.８５−３.７６(ｍ,２Ｈ),３.８３(ｓ,２Ｈ),３.００(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.８１(ｓ,３Ｈ),２.４１(ｓ,３Ｈ),１.２３(ｔ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,３Ｈ).
【０２２２】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−アリル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４７７ｍｇ、０.８ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５０ｍｇ、１.２ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４５０ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.９２(ｂｒｓ,１Ｈ),８.０８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２８−７.２０(ｍ,１Ｈ),７.００−６.８３(ｍ,３Ｈ),５.８８−５.７１(ｍ,１Ｈ),５.２９−５.１９(ｍ,２Ｈ),４.４８(ｓ,２Ｈ),４.２５(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),３.８９(ｓ,２Ｈ),３.８０(ｄ,Ｊ＝６.３Ｈｚ,２Ｈ),２.９８(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.８０(ｓ,３Ｈ),２.４１(ｓ,３Ｈ).
【０２２３】
実施例７０
[Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化７３】
2008506685.tif 000075
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４６２ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノ)塩化スルホニル(１８４ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４８９ｍｇ(収率８１％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２７−７.１９(ｍ,１Ｈ),６.８９−６.８１(ｍ,３Ｈ),４.４９(ｓ,２Ｈ),４.２４(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),４.１６(ｑ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,２Ｈ),４.０５(ｄ,Ｊ＝２.４Ｈｚ,２Ｈ),３.８３(ｓ,２Ｈ),２.９８(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.９５(ｓ,３Ｈ),２.４０(ｓ,３Ｈ),２.３４(ｔ,Ｊ＝２.４Ｈｚ,１Ｈ),１.２３(ｔ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,３Ｈ).
【０２２４】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４８９ｍｇ、０.８１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５３ｍｇ、１.２２ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４５４ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.２３(ｂｒｓ,１Ｈ),８.０７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６９(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２８−７.２０(ｍ,１Ｈ),７.０３−６.８３(ｍ,３Ｈ),４.４８(ｓ,２Ｈ),４.２５(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),４.０６(ｄ,Ｊ＝２.４Ｈｚ,２Ｈ),３.８９(ｓ,２Ｈ),２.９７(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.９６(ｓ,３Ｈ),２.４１(ｓ,３Ｈ),２.３４(ｔ,Ｊ＝２.４Ｈｚ,１Ｈ).
【０２２５】
実施例７１
[Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化７４】
2008506685.tif 000076
段階１：
[Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４６２ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(ピペリジニル)塩化スルホニル(２０２ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物５１８ｍｇ(収率８５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ), ７.６７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２８−７.１９(ｍ,１Ｈ),６.８９−６.８０(ｍ,３Ｈ),４.５１(ｓ,２Ｈ),４.２４(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),４.１４(ｑ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,２Ｈ),３.８１(ｓ,２Ｈ),３.２８−３.１７(ｍ,４Ｈ),２.９８(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.４０(ｓ,３Ｈ),１.６８−１.４３(ｍ,６Ｈ),１.２３(ｔ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,３Ｈ).
【０２２６】
段階２：
[Ｎ−(ピペリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５１８ｍｇ、０.８５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５４ｍｇ、１.２８ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４８９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.９１(ｂｒｓ,１Ｈ),８.０８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２８−７.１９(ｍ,１Ｈ),６.９９−６.８２(ｍ,３Ｈ),４.４９(ｓ,２Ｈ),４.２５(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),３.８９(ｓ,２Ｈ),３.２６−３.１７(ｍ,４Ｈ),２.９７(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.４１(ｓ,３Ｈ),１.６８−１.４３(ｍ,６Ｈ).
【０２２７】
実施例７２
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化７５】
2008506685.tif 000077
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３の段階３で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３１４ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物４５６ｍｇ(収率９０％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.５９−７.５７(ｍ,１Ｈ),７.３８−７.３５(ｍ,１Ｈ),７.２５−７.２３(ｍ,１Ｈ),７.０９−７.０６(ｍ,１Ｈ),６.８９−６.８５(ｍ,３Ｈ),４.５０(ｓ,２Ｈ),４.２５−４.１３(ｍ,４Ｈ),３.８３(ｓ,２Ｈ),２.９５(ｔ,Ｊ＝６.７Ｈｚ,２Ｈ),２.８６(ｓ,６Ｈ),２.３６(ｓ,３Ｈ),１.２４(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２２８】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４５６ｍｇ、０.９ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４２７ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)９.３９(ｂｒｓ,１Ｈ),７.６５−７.６２(ｍ,１Ｈ),７.４０−７.３７(ｍ,１Ｈ),７.２２−７.１８(ｍ,１Ｈ),７.１０−７.０６(ｍ,１Ｈ),６.９６−６.８６(ｍ,３Ｈ),４.４９(ｓ,２Ｈ),４.２１(ｔ,Ｊ＝６.７Ｈｚ,２Ｈ),３.８９(ｓ,２Ｈ),２.９４(ｔ,Ｊ＝６.７Ｈｚ,２Ｈ),２.８５(ｓ,６Ｈ),２.３５(ｓ,３Ｈ).
【０２２９】
実施例７３
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化７６】
2008506685.tif 000078
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１４の段階２で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[(５−メチル−２−フェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３０５ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５３０ｍｇ(収率９４％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.９９−７.９６(ｍ,２Ｈ),７.４６−７.３３(ｍ,７Ｈ),７.２７−７.１７(ｍ,２Ｈ),６.８３−６.７９(ｍ,３Ｈ),４.４６(ｓ,２Ｈ),４.１９(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),４.１５(ｑ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,２Ｈ),３.８３(ｓ,２Ｈ),３.２９(ｓ,３Ｈ),２.９６(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３７(ｓ,３Ｈ),１.２４(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２３０】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５３０ｍｇ、０.９４ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４９８ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.９８−７.９３(ｍ,２Ｈ),７.４６−７.１３(ｍ,９Ｈ),６.９２−６.７８(ｍ,３Ｈ),４.４６(ｓ,２Ｈ),４.１９(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),３.８６(ｓ,２Ｈ),３.２９(ｓ,３Ｈ),２.９４(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３６(ｓ,３Ｈ).
【０２３１】
実施例７４
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化７７】
2008506685.tif 000079
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１４の段階２で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３２６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５３７ｍｇ(収率９３％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.８６(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.４６−７.３３(ｍ,４Ｈ),７.２７−７.１７(ｍ,４Ｈ),６.８３−６.７９(ｍ,３Ｈ),４.４６(ｓ,２Ｈ),４.１９(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),４.１３(ｑ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,２Ｈ),３.８３(ｓ,２Ｈ),３.２９(ｓ,３Ｈ),２.９５(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３８(ｓ,３Ｈ),２.３６(ｓ,３Ｈ),１.２４(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２３２】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５３７ｍｇ、０.９３ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５０６ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.８４(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.４７−７.１４(ｍ,８Ｈ),６.９７−６.９６(ｍ,１Ｈ),６.８５−６.７８(ｍ,２Ｈ),６.２５(ｂｒｓ,１Ｈ),４.４６(ｓ,２Ｈ),４.２０(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),３.８５(ｓ,２Ｈ),３.３０(ｓ,２Ｈ),２.９１(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３８(ｓ,３Ｈ),２.３５(ｓ,３Ｈ).
【０２３３】
実施例７５
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化７８】
2008506685.tif 000080
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１４の段階２で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−[(４−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−４−イル]エタノール(４０７ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５７５ｍｇ(収率９１％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.４７−７.４４(ｍ,２Ｈ),７.３８−７.３３(ｍ,２Ｈ),７.２８−７.１９(ｍ,２Ｈ),６.８３−６.７８(ｍ,３Ｈ),４.４６(ｓ,２Ｈ),４.２０(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),４.１４(ｑ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,２Ｈ),３.８３(ｓ,２Ｈ),３.２９(ｓ,３Ｈ),２.９７(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３９(ｓ,３Ｈ),１.２４(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２３４】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５７５ｍｇ、０.９１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５４４ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０６(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６５(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.４６−７.１５(ｍ,６Ｈ),６.９３−６.７７(ｍ,３Ｈ),５.４１(ｂｒｓ,１Ｈ),４.４５(ｓ,２Ｈ),４.２１(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),３.８５(ｓ,２Ｈ),３.２９(ｓ,３Ｈ),２.９５(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３９(ｓ,３Ｈ).
【０２３５】
実施例７６
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化７９】
2008506685.tif 000081
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１４の段階２で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３１４ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、化合物５４１ｍｇ(収率９５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.５８−７.５７(ｍ,１Ｈ),７.４６−７.３３(ｍ,５Ｈ),７.２８−７.１９(ｍ,２Ｈ),７.０８−７.０６(ｍ,１Ｈ),６.８２−６.７９(ｍ,３Ｈ),４.４６(ｓ,２Ｈ),４.１９−４.１１(ｍ,４Ｈ),３.８３(ｓ,２Ｈ),３.２９(ｓ,３Ｈ),２.９４(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３５(ｓ,３Ｈ),１.２４(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２３６】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５４１ｍｇ、０.９５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５０９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.６４−７.６２(ｍ,１Ｈ),７.４７−７.０５(ｍ,８Ｈ),６.９１−６.７８(ｍ,３Ｈ),４.１７(ｂｒｓ,１Ｈ),４.４６(ｓ,２Ｈ),４.１８(ｔ,＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),３.８６(ｓ,２Ｈ),３.２９(ｓ,３Ｈ),２.９１(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３４(ｓ,３Ｈ).
【０２３７】
実施例７７
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化８０】
2008506685.tif 000082
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１８の段階２で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[(５−メチル−２−フェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３０５ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５５６ｍｇ(収率９３％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.９９−７.９６(ｍ,２Ｈ),７.４２−７.２０(ｍ, ８Ｈ),６.８１−６.７８(ｍ,３Ｈ),４.４４(ｓ,２Ｈ),４.２１(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),４.１４(ｑ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,２Ｈ),３.８４(ｓ,２Ｈ),３.２６(ｓ,３Ｈ),２.９６(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３７(ｓ,３Ｈ),１.２３(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２３８】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５５６ｍｇ、０.９３ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５２５ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０２(ｂｒｓ,１Ｈ),７.９６−７.９４(ｍ,２Ｈ),７.４４−７.４２(ｍ,３Ｈ),７.３６(ｄ,Ｊ＝８.７Ｈｚ,２Ｈ),７.２７(ｄ,Ｊ＝８.７Ｈｚ,２Ｈ),７.２１−７.１７(ｍ,１Ｈ),６.９１(ｓ,１Ｈ),６.８４−６.７９(ｍ,２Ｈ),４.４４(ｓ,２Ｈ),４.２０(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),３.８７(ｓ,２Ｈ),３.２６(ｓ,３Ｈ),２.９４(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３７(ｓ,３Ｈ).
【０２３９】
実施例７８
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化８１】
2008506685.tif 000083
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１８の段階２で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３２６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５７５ｍｇ(収率９４％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.８５(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.３９(ｄ,Ｊ＝８.７Ｈｚ,２Ｈ),７.３１(ｄ,Ｊ＝８.７Ｈｚ,２Ｈ),７.２５−７.１７(ｍ,３Ｈ),６.８４−６.７８(ｍ,３Ｈ),４.４４(ｓ,２Ｈ),４.２０(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),４.１４(ｑ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,２Ｈ),３.８３(ｓ,２Ｈ),３.２７(ｓ,３Ｈ),２.９７(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３８(ｓ,３Ｈ),２.３６(ｓ,３Ｈ),１.２３(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２４０】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(ｐ−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５７５ｍｇ、０.９４ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５４４ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.６２(ｂｒｓ,１Ｈ),７.８３(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.３８−７.１５(ｍ,７Ｈ),６.９１(ｓ,１Ｈ),６.９０−６.７８(ｍ,２Ｈ),４.４５(ｓ,２Ｈ),４.１９(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),３.８６(ｓ,２Ｈ),３.２６(ｓ,３Ｈ),２.９３(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３８(ｓ,３Ｈ),２.３５(ｓ,３Ｈ).
【０２４１】
実施例７９
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化８２】
2008506685.tif 000084
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１８の段階２で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(４−トリフルオロメチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(４０７ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物６１３ｍｇ(収率９２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０７(ｄ,Ｊ＝８.４Ｈｚ,２Ｈ),７.６７(ｄ,Ｊ＝８.４Ｈｚ,２Ｈ),７.４１−７.３０(ｍ,４Ｈ),７.２３−７.１８(ｍ,１Ｈ),６.８４−６.７８(ｍ,３Ｈ),４.４４(ｓ,２Ｈ),４.２１(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),４.１４(ｑ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,２Ｈ),３.８４(ｓ,２),３.２７(ｓ,３Ｈ),２.９７(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３９(ｓ,３Ｈ),１.２３(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２４２】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(６１３ｍｇ、０.９２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５８１ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０６(ｄ,Ｊ＝８.４Ｈｚ,２Ｈ),７.６７(ｄ,Ｊ＝８.４Ｈｚ,２Ｈ),７.３８−７.１７(ｍ,６Ｈ),６.８９−６.７８(ｍ,３Ｈ),４.４４(ｓ,２Ｈ),４.２１(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),３.８７(ｓ,２Ｈ),３.２６(ｓ,３Ｈ),２.９６(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３９(ｓ,３Ｈ).
【０２４３】
実施例８０
[Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化８３】
2008506685.tif 000085
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４６２ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)塩化スルホニル(２５７ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物２７０ｍｇ(収率４１％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２５−７.１２(ｍ,５Ｈ),６.８３−６.７６(ｍ,３Ｈ),４.４７(ｓ,２Ｈ),４.２４−４.０８(ｍ,４Ｈ),３.８１(ｓ,２Ｈ),３.６９(ｑ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,２Ｈ),２.９７(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.３９(ｓ,３Ｈ),２.３５(ｓ,３Ｈ),１.２２(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ),１.０７(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２４４】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(２７０ｍｇ、０.４１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(２６ｍｇ、０.６２ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物２５６ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.９５(ｂｒｓ,１Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.３０−７.０９(ｍ,５Ｈ),６.９５−６.７５(ｍ,３Ｈ),４.４５(ｓ,２Ｈ),４.２１(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),３.８３(ｓ,２Ｈ),３.７１(ｑ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,２Ｈ),２.９４(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.３９(ｓ,３Ｈ),２.３４(ｓ,３Ｈ),１.０８(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２４５】
実施例８１
[Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化８４】
2008506685.tif 000086
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４６２ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)塩化スルホニル(２５９ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物３５１ｍｇ(収率５３％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.３８(ｄ,Ｊ＝８.９Ｈｚ,２Ｈ),７.２４−７.１６(ｍ,１Ｈ),６.８９−６.７９(ｍ,５Ｈ),４.４５(ｓ,２Ｈ),４.２５−４.０９(ｍ,４Ｈ),３.８４(ｓ,２Ｈ),３.７９(ｓ,３Ｈ),３.２５(ｓ,３Ｈ),２.９７(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.３９(ｓ,３Ｈ),１.２３(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２４６】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(３５１ｍｇ、０.５３ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(３４ｍｇ、０.８ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３３２ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ), ７.４０−７.１６(ｍ,４Ｈ),６.９９−６.８０(ｍ,５Ｈ),４.４５(ｓ,２Ｈ),４.２３(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),３.８５(ｓ,２Ｈ),３.７８(ｓ,３Ｈ),３.２５(ｓ,３Ｈ),２.９４(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.３９(ｓ,３Ｈ).
【０２４７】
実施例８２
[Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化８５】
2008506685.tif 000087
段階１：
[Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(４６２ｍｇ、１ｍｍｏｌ) [Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]塩化スルホニル(２４６ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物２６６ｍｇ(収率４１％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.８０(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.３３−７.１６(ｍ,４Ｈ),６.９６−６.９１(ｍ,１Ｈ),６.８５−６.７９(ｍ,３Ｈ),４.４６(ｓ,２Ｈ),４.２４−４.０９(ｍ,４Ｈ),３.８３(ｓ,２Ｈ),３.２９(ｓ,３Ｈ),２.９７(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.３９(ｓ,３Ｈ),１.２３(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２４８】
段階２：
[Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(２６６ｍｇ、０.４１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(２６ｍｇ、０.６２ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物２５２ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０７(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.３３−７.１４(ｍ,４Ｈ),７.００−６.７９(ｍ,５Ｈ),４.４６(ｓ,２Ｈ),４.２２(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),３.８８(ｓ,２Ｈ),３.３０(ｓ,３Ｈ),２.９５(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.４０(ｓ,３Ｈ).
【０２４９】
実施例８３
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化８６】
2008506685.tif 000088
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例１８の段階２で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３１４ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５５６ｍｇ(収率９２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.５８−７.５７(ｍ,１Ｈ),７.４１−７.２０(ｍ,６Ｈ),７.０８−７.０６(ｍ,１Ｈ),６.８２−６.７８(ｍ,３Ｈ),４.４４(ｓ,２Ｈ),４.２０−４.１１(ｍ,４Ｈ),３.８４(ｓ,２Ｈ),３.２７(ｓ,３Ｈ),２.９４(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３５(ｓ,３Ｈ),１.２３(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２５０】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５５６ｍｇ、０.９２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５２５ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.６３−７.６１(ｍ,１Ｈ),７.４５(ｂｒｓ,１Ｈ),７.３９−７.１９(ｍ,６Ｈ),７.０７−７.０６(ｍ,１Ｈ),６.８９−６.７９(ｍ,３Ｈ),４.４４(ｓ,２Ｈ),４.１８(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),３.８９(ｓ,２Ｈ),３.２７(ｓ,３Ｈ),２.９１(ｔ,Ｊ＝６.６Ｈｚ,２Ｈ),２.３５(ｓ,３Ｈ).
【０２５１】
実施例８４
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化８７】
2008506685.tif 000089
段階１：
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステル(３２８ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３２６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物４７０ｍｇ(収率８９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.８６(ｄ,Ｊ＝８.３Ｈｚ,２Ｈ),７.２７−７.１９(ｍ,３Ｈ),６.９０−６.８２(ｍ,３Ｈ),４.５１(ｓ,２Ｈ),４.２３(ｔ,Ｊ＝６.７Ｈｚ,２Ｈ),３.８７(ｓ,２Ｈ),３.６９(ｓ,３Ｈ),３.３９−３.３２(ｍ,４Ｈ),２.９７(ｔ,Ｊ＝６.７Ｈｚ,２Ｈ),２.３８(ｓ,３Ｈ),２.３７(ｓ,３Ｈ),１.９２−１.８６(ｍ,４Ｈ).
【０２５２】
段階２：
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４７０ｍｇ、０.８９ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４５３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.８６(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２５(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２４−７.２０(ｍ,１Ｈ),６.９２−６.８４(ｍ,３Ｈ),５.４２(ｓ,１Ｈ),４.５１(ｓ,２Ｈ),４.２６(ｔ,Ｊ＝７.５Ｈｚ,２Ｈ),３.９２(ｓ,２Ｈ),３.９６−３.３５(ｍ,４Ｈ),２.９１(ｔ,Ｊ＝７.５Ｈｚ,２Ｈ),２.３９(ｓ,３Ｈ),２.３７(ｓ,３Ｈ),１.８８−１.８１(ｍ,４Ｈ).
【０２５３】
実施例８５
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化８８】
2008506685.tif 000090
段階１：
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−(３−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステル(３４２ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−[(４−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−４−イル]エタノール(４０７ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５２４ｍｇ(収率８８％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０８(ｄ,Ｊ＝７.８Ｈｚ,２Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝７.８Ｈｚ,２Ｈ),７.２７−７.１９(ｍ,１Ｈ),６.９０−６.８１(ｍ,３Ｈ),４.５２(ｓ,２Ｈ),４.２４(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),４.１８(ｑ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,２Ｈ),３.８５(ｓ,２Ｈ),３.４０−３.２７(ｍ,４Ｈ),２.９９(ｔ,Ｊ＝６.５Ｈｚ,２Ｈ),２.４１(ｓ,３Ｈ),１.９４−１.８６(ｍ,４Ｈ),１.２３(ｔ,Ｊ＝７.３Ｈｚ,３Ｈ).
【０２５４】
段階２：
[Ｎ−(ピロリジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５２４ｍｇ、０.８８ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４９５ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０９(ｄ,Ｊ＝８.３Ｈｚ,２Ｈ),７.６９(ｄ,Ｊ＝８.３Ｈｚ,２Ｈ),７.２６−７.２１(ｍ,２Ｈ),７.０４(ｓ,１Ｈ),６.８８−６.８３(ｍ,３Ｈ),５.０４(ｂｒｓ,１Ｈ),４.５０(ｓ,２Ｈ),４.２５(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,２Ｈ),３.９２(ｓ,２Ｈ),３.３８−３.２９(ｍ,４Ｈ),２.９６(ｔ,Ｊ＝７.１Ｈｚ,２Ｈ),２.４１(ｓ,３Ｈ),１.９３−１.８５(ｍ,４Ｈ).
【０２５５】
実施例８６
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化８９】
2008506685.tif 000091
段階１：
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステル(３４４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３２６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物４７３ｍｇ(収率８７％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.８５(ｄ,Ｊ＝８.４Ｈｚ,２Ｈ),７.２６−７.２０(ｍ,３Ｈ),６.８９−６.８３(ｍ,３Ｈ),４.５１(ｓ,２Ｈ),４.２３(ｔ,Ｊ＝６.７Ｈｚ,２Ｈ),３.８６(ｓ,２Ｈ),３.７３−３.７１(ｍ,４Ｈ),３.７０(ｓ,３Ｈ),３.３０−３.２６(ｍ,４Ｈ),３.７６(ｔ,Ｊ＝６.７Ｈｚ,２Ｈ),２.３８(ｓ,３Ｈ),２.３６(ｓ,３Ｈ).
【０２５６】
段階２：
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４７３ｍｇ、０.８７ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４５６ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７.８６(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２５(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２４−７.２２(ｍ,１Ｈ),６.９４(ｓ,１Ｈ),６.９１−６.８６(ｍ,２Ｈ),４.５２(ｓ,２Ｈ),４.５０(ｂｒｓ,１Ｈ),４.２５(ｔ,Ｊ＝７.８Ｈｚ,２Ｈ),３.９２(ｓ,２Ｈ),３.６９−３.６６(ｍ,４Ｈ),３.３３−３.２９(ｍ,４Ｈ),２.９１(ｔ,Ｊ＝７.８Ｈｚ,２Ｈ),２.３９(ｓ,３Ｈ),２.３８(ｓ,３Ｈ).
【０２５７】
実施例８７
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化９０】
2008506685.tif 000092
段階１：
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステル(３５８ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−[(４−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−４−イル]エタノール(４０７ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５３８ｍｇ(収率８８％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.６８(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２８−７.２０(ｍ,１Ｈ),６.８８−６.８３(ｍ,３Ｈ),４.５３(ｓ,２Ｈ),４.２５(ｔ,Ｊ＝６.４Ｈｚ,２Ｈ),４.１６(ｑ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,２Ｈ),３.８５(ｓ,２Ｈ),３.７４−３.６９(ｍ,４Ｈ),３.３１−３.２６(ｍ,４Ｈ),２.９９(ｔ,Ｊ＝６.４Ｈｚ,２Ｈ),２.４１(ｓ,３Ｈ),１.２４(ｔ,Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ).
【０２５８】
段階２：
[Ｎ−(モルホリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５３８ｍｇ、０.８８ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５０８ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８.０９(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,１Ｈ),７.７１(ｄ,Ｊ＝８.１Ｈｚ,２Ｈ),７.２８−７.２３(ｍ,２Ｈ),７.０４(ｓ,１Ｈ),６.９３−６.８９(ｍ,２Ｈ),４.５２(ｓ,２Ｈ),４.２６(ｔ,Ｊ＝７.４Ｈｚ,２Ｈ),３.９２(ｓ,２Ｈ),３.７１−３.６８(ｍ,４Ｈ),３.３２−３.２９(ｍ,４Ｈ),２.９５(ｔ,Ｊ＝７.４Ｈｚ,２Ｈ),２.４２(ｓ,３Ｈ).
【０２５９】
実施例８８
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化９１】
2008506685.tif 000093
段階１：
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステル(３５７ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３２６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５０７ｍｇ(収率９１％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８６(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２７−７．２３(ｍ，１Ｈ)，７．２２(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，６．８９−６．８３(ｍ，３Ｈ)，４．４９(ｓ，２Ｈ)，４．２３(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．８４(ｓ，２Ｈ)，３．７０(ｓ，３Ｈ)，３．３５−３．３２(ｍ，４Ｈ)，２．９７(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．４７−２．４３(ｍ，４Ｈ)，２．３８(ｓ．３Ｈ)，２．３６(ｓ，３Ｈ)，２．２９(ｓ，３Ｈ)．
【０２６０】
段階２：
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５０７ｍｇ、０.９１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４８９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＤＭＳＯ−ｄ６,２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ),７．４９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．４５−７．４２(ｍ，１Ｈ)，７．０８−７．０４(ｍ，３Ｈ)，４．６１(ｓ，２Ｈ)，４．３９(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．９１(ｓ，２Ｈ)，３．３３−３．３０(ｍ，４Ｈ)，３．１１(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．６９(ｓ，３Ｈ)，２．５４(ｓ，３Ｈ)，２．５３−２．５０(ｍ，４Ｈ)，２．３４(ｓ，３Ｈ)．
【０２６１】
実施例８９
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化９２】
2008506685.tif 000094
段階１：
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−(３−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステル(３７１ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−[(４−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−４−イル]エタノール(４０７ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５６２ｍｇ(収率９０％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．６７(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２６−７．２１(ｍ，１Ｈ)，６．８９−６．８２(ｍ，３Ｈ)，４．５１(ｓ，１Ｈ)，４．２４(ｔ．Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．８２(ｓ，２Ｈ)，３．３５−３．３２(ｍ，４Ｈ)，２．９９(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．４６−２．４３(ｍ，４Ｈ)，２．４１(ｓ，３Ｈ)，２．２９(ｓ，３Ｈ)，１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２６２】
段階２：
[Ｎ−(４−メチル−１−ピペラジニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５６２ｍｇ、０.９１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５３２ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＤＭＳＯ−ｄ６，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１６(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)，７．９２(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)，７．３４−７．２９(ｍ，１Ｈ)，６．９５−６．９２(ｍ，３Ｈ)，４．４７(ｓ，２Ｈ)，４．２７(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．８１(ｓ，２Ｈ)，３．６５(ｂｒｓ，１Ｈ)，３．２３−３．１９(ｍ，４Ｈ)，３．０２(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．５５−２．５０(ｍ，４Ｈ)，２．４５(ｓ，３Ｈ)，２．３０(ｓ，３Ｈ)．
【０２６３】
実施例９０
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化９３】
2008506685.tif 000095
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３０の段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[(５−メチル−２−フェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３０５ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５５３ｍｇ(収率９６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０２−７．９９(ｍ，２Ｈ)，７．４３−７．４１(ｍ，４Ｈ)，７．２５−７．１２(ｍ，３Ｈ)，６．９５−６．８２(ｍ，４Ｈ)，４．８８(ｓ，２Ｈ)，４．６２(ｓ，２Ｈ)，４．１１−３．８９(ｍ，６Ｈ)，３．１２(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．４３(ｓ，３Ｈ)，１．１２(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２６４】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５５３ｍｇ、０.９６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５２０ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．００−７．９６(ｍ，２Ｈ)，７．４５−７．３９(ｍ，４Ｈ)，７．１４−７．０８(ｍ，３Ｈ)，６．９１−６．８８(ｍ，４Ｈ)，５．２９(ｓ，１Ｈ)，４．８５(ｓ，２Ｈ)，４．４７(ｓ，２Ｈ)，３．９６(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．９３(ｓ，２Ｈ)，３．０５(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．４３(ｓ，３Ｈ)．
【０２６５】
実施例９１
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化９４】
2008506685.tif 000096
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３０の段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３２６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５５４ｍｇ(収率９４％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．４１(ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ)，７．２５−７．１３(ｍ，５Ｈ)，６．９５−６．８２(ｍ，４Ｈ)，４．８８(ｓ，２Ｈ)，４．６２(ｓ，２Ｈ)，４．１０−３．９４(ｍ，４Ｈ)，３．８８(ｓ，２Ｈ)，３．１２(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．４２(ｓ，３Ｈ)，２．３９(ｓ，３Ｈ)，１．２５(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２６６】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５５４ｍｇ、０.９４ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５２３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８６(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．４２(ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ)，７．２５−７．０８(ｍｍ，５Ｈ)，６．９４−６．７６(ｍ，４Ｈ)，５．３７(ｓ，１Ｈ)，４．８７(ｓ，２Ｈ)，４．５４(ｓ，２Ｈ)，４．００(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．９２(ｓ，２Ｈ)，３．０４(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．４１(ｓ，３Ｈ)，２．３９(ｓ，３Ｈ)．
【０２６７】
実施例９２
[[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化９５】
2008506685.tif 000097
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３０の段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−[(４−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−４−イル]エタノール(４０７ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５９２ｍｇ(収率９２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．７０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．４１(ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，１Ｈ)，７．２５−７．１４(ｍ，３Ｈ)，６．９７−６．８４(ｍ，４Ｈ)，４．９１(ｓ，２Ｈ)，４．６３(ｓ，２Ｈ)，４．０７(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．９３(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．８９(ｓ，２Ｈ)，３．１３(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．４６(ｓ，３Ｈ)，１．１２(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２６８】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５９２ｍｇ、０.９２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５６１ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．１０(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，７．７５(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，７．３９(ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，１Ｈ)，７．２５−７．０９(ｍ，３Ｈ)，６．９５−６．７８(ｍ，４Ｈ)，４．８７(ｓ，２Ｈ)，４．８３(ｓ，１Ｈ)，４．５３(ｓ，２Ｈ)，４．０３(ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，３．９５(ｓ，２Ｈ)，３．０８(ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，２．４５(ｓ，３Ｈ)．
【０２６９】
実施例９３
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化９６】
2008506685.tif 000098
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３０の段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３１４ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５２９ｍｇ(収率９１％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６４−７．６２(ｍ，１Ｈ)，７．４１−７．３８(ｍ，２Ｈ)，７．２２−７．０７(ｍ，４Ｈ)，６．９３−６．８６(ｍ，４Ｈ)，４．８６(ｓ，２Ｈ)，４．６２(ｓ，２Ｈ)，４．１２−３．９５(ｍ，４Ｈ)，３．８９(ｓ，２Ｈ)，３．１２(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．４１(ｓ，３Ｈ)，１．１３(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２７０】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５２９ｍｇ、０.９１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４９９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６６−７．６３(ｍ，１Ｈ)，７．４４−７．３９(ｍ，２Ｈ)，７．１９−７．０７(ｍ，４Ｈ)，６．９５−６．７７(ｍ，４Ｈ)，５．２９(ｓ，１Ｈ)，４．８３(ｓ，２Ｈ)，４．５０(ｓ，２Ｈ)，４．０２(ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，３．９４(ｓ，２Ｈ)，３．０７(ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，２．４０(ｓ，３Ｈ)．
【０２７１】
実施例９４
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化９７】
2008506685.tif 000099
段階１：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３４の段階２で得た化合物(４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[(５−メチル−２−フェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３０５ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５６０ｍｇ(収率９５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０１−７．９６(ｍ，２Ｈ)，７．６０(ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ)，７．４３−７．３８(ｍ，３Ｈ)，７．２５−６．９９(ｍ，４Ｈ)，６．８３−６．７０(ｍ，３Ｈ)，４．５１(ｓ，２Ｈ)，４．１５−４．０２(ｍ，４Ｈ)，３．８４(ｓ，２Ｈ)，３．７８(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．９４(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．７９(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２)，２．３７(ｓ，３Ｈ)，２．０７−２．０１(ｍ，２Ｈ)，１．１８(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２７２】
段階２：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５６０ｍｇ、０.９５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５２８ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０１−７．９６(ｍ，２Ｈ)，７．６３(ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ)，７．４３−７．３８(ｍ，３Ｈ)，７．１８−６．９９(ｍ，４Ｈ)，６．８３−６．７０(ｍ，３Ｈ)，４．４８(ｓ，２Ｈ)，４．１４(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．９１(ｓ，２Ｈ)，３．７８(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．８９(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．７８(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．３６(ｓ，３Ｈ)，２．０７−２．０１(ｍ，２Ｈ)．
【０２７３】
実施例９５
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化９８】
2008506685.tif 000100
段階１：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３４の段階２で得た化合物(４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３２６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５６８ｍｇ(収率９４％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８６(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．６０(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．２５−６．９９(ｍ，６Ｈ)，６．８３−６．６９(ｍ，３Ｈ)，４．５１(ｓ，２Ｈ)，４．１４−４．０２(ｍ，４Ｈ)，３．８３(ｓ，２Ｈ)，３．７８(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．９３(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．７９(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)，２．３５(ｓ，３Ｈ)，２．０７−２．００(ｍ，２Ｈ)，１．１８(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２７４】
段階２：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５６８ｍｇ、０.９４ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５２３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８３(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．６３(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ)，７．３６(ｂｒｓ，１Ｈ)，７．２４−６．９８(ｍ，６Ｈ)，６．９６(ｓ，１Ｈ)，６．８９−６．７０(ｍ，２Ｈ)，４．４８(ｓ，２Ｈ)，４．１３(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．９１(ｓ，２Ｈ)，３．７８(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．８３(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．７７(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)，２．３４(ｓ，３Ｈ)，２．０７−２．００(ｍ，２Ｈ)．
【０２７５】
実施例９６
[Ｎ−(１、２、３、４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化９９】
2008506685.tif 000101
段階１：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３４の段階２で得た化合物(４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−[(４−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−４−イル]エタノール(４０７ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物６０５ｍｇ(収率９２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０９(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，７．６８(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，７．６１(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ)，７．２２−７．００(ｍ，４Ｈ)，６．８３−６．７２(ｍ，３Ｈ)，４．５２(ｓ，２Ｈ)，４．１６−４．０２(ｍ，４Ｈ)，３．８４(ｓ，２Ｈ)，３．７８(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．９６(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．８１(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．３９(ｓ，３Ｈ)，２．０８−２．０２(ｍ，２Ｈ)，１．１８(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２７６】
段階２：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(６０５ｍｇ、０.９２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５７３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０４(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，７．６７(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，７．６２(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ)，７．１９−７．００(ｍ，４Ｈ)，６．９７−６．７１(ｍ，３Ｈ)，６．５３(ｂｒｓ，１Ｈ)，４．４８(ｓ，２Ｈ)，４．１４(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．９１(ｓ，２Ｈ)，３．７７(ｔ，５．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．９３(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．７９(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．３９(ｓ，３Ｈ)，２．０８−２．０２(ｍ，２Ｈ)．
【０２７７】
実施例９７
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１００】
2008506685.tif 000102
段階１：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３４の段階２で得た化合物(４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３１４ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５４８ｍｇ(収率９２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６２−７．５７(ｍ，２Ｈ)，７．３７−７．３５(ｍ，１Ｈ)，７．２５−６．９９(ｍ，５Ｈ)，６．８２−６．６８(ｍ，３Ｈ)，４．５０(ｓ，２Ｈ)，４．１３−４．０２(ｍ，４Ｈ)，３．８４(ｓ，２Ｈ)，３．７９(ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．９１(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．８０(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．３４(ｓ，３Ｈ)，２．０７−２．０１(ｍ，２Ｈ)，１．１９(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２７８】
段階２：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[３−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５４８ｍｇ、０.９２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５１７ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６４−７．５７(ｍ，２Ｈ)，７．３７−７．３５(ｍ，１Ｈ)，７．２５−６．９９(ｍ，５Ｈ)，６．８２−６．６８(ｍ，３Ｈ)，６．４４(ｂｒｓ，１Ｈ)，４．４８(ｓ，２Ｈ)，４．１２(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．９１(ｓ，２Ｈ)，３．７９(ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．８７(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．７８(ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ)，２．３４(ｓ，３Ｈ)，２．０７−２．０１(ｍ，２Ｈ)．
【０２７９】
実施例９８
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１０１】
2008506685.tif 000103
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３８の段階３で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[(５−メチル−２−フェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３０５ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物４８２ｍｇ(収率９６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９９−７．９６(ｍ，２Ｈ)，７．４６−７．２７(ｍ，３Ｈ)，７．２２(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，６．８７(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，４．４７(ｓ，２Ｈ)，４．２３(ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，２．９８(ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．８５(ｓ，６Ｈ)，２．３７(ｓ，３Ｈ)，１．２６(ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２８０】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４８２ｍｇ、０.９６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４５０ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９８−７．９２(ｍ，２Ｈ)，７．６８(ｂｒｓ，１Ｈ)，７．４５−７．４０(ｍ，３Ｈ)，７．２１(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，６．８４(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．４８(ｓ，２Ｈ)，４．２０(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．８４(ｓ，２Ｈ)，３．０２(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．８４(ｓ，６Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)．
【０２８１】
実施例９９
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１０２】
2008506685.tif 000104
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３８の段階３で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３２６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物４８５ｍｇ(収率９４％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２７−７．１１(ｍ，４Ｈ)，６．８５(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．４６(ｓ，２Ｈ)，４．２０(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，２．９６(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．８５(ｓ，６Ｈ)，２．３７(ｓ，３Ｈ)，２．３６(ｓ，３Ｈ)，１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２８２】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４８５ｍｇ、０.９４ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４５４ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)１０．５５(ｂｒｓ，１Ｈ)，７．８３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２６−７．１１(ｍ，４Ｈ)，６．７７(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．４８(ｓ，２Ｈ)，４．１８(ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ)，３．８４(ｓ，２Ｈ)，３．０２(ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ)，２．８４(ｓ，６Ｈ)，２．３８(ｓ，６Ｈ)．
【０２８３】
実施例１００
[Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１０３】
2008506685.tif 000105
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステル(３９４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、トリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びｔ−ブチルアミノ塩化スルホニル(２１０ｍｇ、１.２ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物３０７ｍｇ(収率５８％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２２(ｍ，４Ｈ)，６．８６(ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ)，５．１３(ｓ，１Ｈ)，４．３０(ｓ，２Ｈ)，４．２３(ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ)，３．８６(ｓ，２Ｈ)，３．７１(ｓ，３Ｈ)，２．９６(ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)，２．３６(ｓ，３Ｈ)，１．４０(ｓ，９Ｈ)．
【０２８４】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−ｔ−ブチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(３０７ｍｇ、０.５８ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(３７ｍｇ、０.８７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物２９６ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)１０．１５(ｂｒｓ，１Ｈ)，７．８３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２５−７．２０(ｍ，４Ｈ)，６．８３(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，５．３６(ｂｒｓ，１Ｈ)，４．３３(ｓ，２Ｈ)，４．１７(ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ)，３．８９(ｓ，２Ｈ)，３．０２(ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，６Ｈ)，１．４３(ｓ，９Ｈ)．
【０２８５】
実施例１０１
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１０４】
2008506685.tif 000106
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステル(３９４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、Ｎ，Ｎ−塩化ジエチルスルファモイル(１９３ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４５６ｍｇ(収率８６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２４−７．１９(ｍ，４Ｈ)，６．８６(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．４１(ｓ，２Ｈ)，４．２３(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．７８(ｓ，２Ｈ)，３．６７(ｓ，３Ｈ)，３．３０(ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，４Ｈ)，２．９５(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．３７(ｓ，３Ｈ)，２．３５(ｓ，３Ｈ)，１．１９(ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，６Ｈ)．
【０２８６】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４５６ｍｇ、０.８１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５１ｍｇ、１.２ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４１３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)１０．６５(ｂｒｓ，１Ｈ)，７．８３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２４−７．２０(ｍ，４Ｈ)，６．８３(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．４３(ｓ，２Ｈ)，４．１９(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．７９(ｓ，２Ｈ)，３．３０(ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，４Ｈ)，３．００(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．３６(ｓ，６Ｈ)，１．１７(ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，６Ｈ)．
【０２８７】
実施例１０２
[Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１０５】
2008506685.tif 000107
段階１：
Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステル(３９４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)塩化スルホニル(１９３ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物３８７ｍｇ(収率７３％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２４−７．１９(ｍ，４Ｈ)，６．８５(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．３９(ｓ，２Ｈ)，４．２６−４．１５(ｍ，３Ｈ)，３．７７(ｓ，２Ｈ)，３．６７(ｓ，３Ｈ)，２．９６(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．７２(ｓ，３Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)，２．３５(ｓ，３Ｈ)，１．１９(ｓ，３Ｈ)，１．１６(ｓ，３Ｈ)．
【０２８８】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(３８７ｍｇ、０.７３ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(４６ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３７３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)１０．９９(ｂｒｓ，１Ｈ)，７．８３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２５−７．２０(ｍ，４Ｈ)，６．８４(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．４１(ｓ，２Ｈ)，４．２１−４．１１(ｍ，３Ｈ)，３．７９(ｓ，２Ｈ)，３．００(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．７１(ｓ，３Ｈ)，２．３７(ｓ，３Ｈ)，２．３６(ｓ，３Ｈ)，１．１８(ｓ，３Ｈ)，１．１５(ｓ，３Ｈ)．
【０２８９】
実施例１０３
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１０６】
2008506685.tif 000108
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３８の段階２で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−[(４−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−４−イル]エタノール(４４６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５１８ｍｇ(収率９１％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０７(ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ)，７．６７(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．２５(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，６．８７(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．４８(ｓ，２Ｈ)，４．２４(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．８０(ｓ，２Ｈ)，２．９９(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．８６(ｓ，６Ｈ)，２．３９(ｓ，３Ｈ)，１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２９０】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５１８ｍｇ、０.９１ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４８８ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)１０．２５(ｂｒｓ，１Ｈ)，８．０７(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．６８(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２３(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，６．８６(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．４７(ｓ，２Ｈ)，４．２２(ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ)，３．９２(ｓ，２Ｈ)，３．０２(ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ)，２．８４(ｓ，６Ｈ)，２．４１(ｓ，３Ｈ)．
【０２９１】
実施例１０４
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１０７】
2008506685.tif 000109
段階１：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例３８の段階２で得た化合物(３１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３１４ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物４７２ｍｇ(収率９３％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．５８−７．５７(ｍ，１Ｈ)，７．３６−７．３５(ｍ，１Ｈ)，７．２０(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，７．０８−７．０５(ｍ，１Ｈ)，６．８６(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．４７(ｓ，２Ｈ)，４．２１(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．８０(ｓ，２Ｈ)，２．９５(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．８５(ｓ，６Ｈ)，２．３５(ｓ，３Ｈ)，１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
段階２：
[Ｎ−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(４７２ｍｇ、０.９３ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４４２ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)１０．０９(ｂｒｓ，１Ｈ)，７．６３−７．６２(ｍ，１Ｈ)，７．３９−７．３８(ｍ，１Ｈ)，７．２７−７．１５(ｍ，２Ｈ)，７．１２−７．０６(ｍ，１Ｈ)，６．８５−６．７９(ｍ，２Ｈ)，４．４７(ｓ，２Ｈ)，４．１８(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．０９(ｓ，２Ｈ)，２．９８(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．８４(ｓ，６Ｈ)，２．３４(ｓ，３Ｈ)．
【０２９２】
実施例１０５
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１０８】
2008506685.tif 000110
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例４５の段階２で得た化合物(３７８ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[(５−メチル−２−フェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３０５ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５１９ｍｇ(収率９２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９８−７．９５(ｍ，２Ｈ)，７．４５−７．２８(ｍ，６Ｈ)，７．２５−７．２４(ｍ，１Ｈ)，７．１２(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)，６．８２(ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．４２(ｓ，２Ｈ)，４．２１(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．７８(ｓ，２Ｈ)，３．２９(ｓ，３Ｈ)，２．６９(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３６(ｓ，３Ｈ)，１．２３(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２９３】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５１９ｍｇ、０.９２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４８８ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．６０(ｂｒｓ，１Ｈ)，７．９６−７．９４(ｍ，２Ｈ)，７．４５−７．２５(ｍ，８Ｈ)，７．１０(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，６．７９(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．４３(ｓ，２Ｈ)，４．１６(ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ)，３．８２(ｓ，２Ｈ)，３．２７(ｓ，３Ｈ)，３．００(ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)．
【０２９４】
実施例１０６
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１０９】
2008506685.tif 000111
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例４５の段階２で得た化合物(３７８ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３２６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５５５ｍｇ(収率９６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．４６−７．４２(ｍ，２Ｈ)，７．３８−７．３３(ｍ，２Ｈ)，７．２５−７．２１(ｍ，３Ｈ)，７．１２(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，６．８３(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．４２(ｓ，２Ｈ)，４．２２(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．１７(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．７８(ｓ，２Ｈ)，３．２９(ｓ，３Ｈ)，２．９６(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)，２．３４(ｓ，３Ｈ)，１．２３(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２９５】
段階２：[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５５５ｍｇ、０.９６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５２２ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．４６−７．４３(ｍ，２Ｈ)，７．３７−７．３２(ｍ，２Ｈ)，７．２８−７．２１(ｍ，３Ｈ)，７．１０(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，６．８０(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，４．４３(ｓ，２Ｈ)，４．１７(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．８２(ｓ，２Ｈ)，３．２８(ｓ，３Ｈ)，３．００(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３７(ｓ，６Ｈ)．
【０２９６】
実施例１０７
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１１０】
2008506685.tif 000112
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例４５の段階２で得た化合物(３７８ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−[(４−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−４−イル]エタノール(４０７ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５８１ｍｇ(収率９２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０７(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．６７(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．４６−７．４４(ｍ，２Ｈ)，７．３８−７．３３(ｍ，２Ｈ)，７．２８−７．２４(ｍ，１Ｈ)，７．１３(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，６．８３(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．４２(ｓ，２Ｈ)，４．２２(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．１４(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．７８(ｓ，２Ｈ)，３．２９(ｓ，３Ｈ)，２．９８(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３９(ｓ，３Ｈ)，１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２９７】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５８１ｍｇ、０.９２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５５０ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０６(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．６７(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．４４−７．４０(ｍ，２Ｈ)，７．３７−７．３２(ｍ，２Ｈ)，７．２８−７．２３(ｍ，２Ｈ)，７．１１(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，６．８０(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，５．５４(ｂｒｓ，１Ｈ)，４．４２(ｓ，２Ｈ)，４．１９(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．８２(ｓ，２Ｈ)，３．２７(ｓ，３Ｈ)，２．９９(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３９(ｓ，３Ｈ)．
【０２９８】
実施例１０８
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メトキシオキサゾール４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１１１】
2008506685.tif 000113
段階１：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メトキシオキサゾール４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例４５の段階２で得た化合物(３７８ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３１４ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５３０ｍｇ(収率９３％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．５８−７．５７(ｍ，１Ｈ)，７．４６−７．３３(ｍ，６Ｈ)，７．１２(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，７．０８−７．０７(ｍ，１Ｈ)，６．８２(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．４２(ｓ，２Ｈ)，４．１９(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．１３(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．７８(ｓ，２Ｈ)，３．２９(ｓ，３Ｈ)，２．９４(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３４(ｓ，３Ｈ)，１．２３(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０２９９】
段階２：
[Ｎ−[(Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル)アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メトキシオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５３０ｍｇ、０.９３ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４９９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６２−７．６１(ｍ，１Ｈ)，７．４５−７．２５(ｍ，６Ｈ)，７．１１(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，７．０８−７．０６(ｍ，１Ｈ)，６．８９(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，５．１６(ｂｒｓ，１Ｈ)，４．４３(ｓ，２Ｈ)，４．１６(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．８２(ｓ，２Ｈ)，３．２７(ｓ，３Ｈ)，２．９７(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３５(ｓ，３Ｈ)．
【０３００】
実施例１０９
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１１２】
2008506685.tif 000114
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例４９の段階２で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[(５−メチル−２−フェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３０５ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５５６ｍｇ(収率９３％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９８−７．９５(ｍ，２Ｈ)，７．４３−７．２８(ｍ，７Ｈ)，７．０５(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，６．７４(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．３９(ｓ，２Ｈ)，４．２２(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．９０(ｓ，２Ｈ)，３．２５(ｓ，３Ｈ)，２．９６(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３７(ｓ，３Ｈ)，１．２６(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０３０１】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５５６ｍｇ、０.９３ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５２５ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９７−７．９４(ｍ，２Ｈ)，７．４２−７．２９(ｍ，７Ｈ)，７．０５(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，６．７５(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．３８(ｓ，２Ｈ)，４．１５(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．７９(ｓ，２Ｈ)，３．２０(ｓ，３Ｈ)，２．９９(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３７(ｓ，３Ｈ)．
【０３０２】
実施例１１０
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１１３】
2008506685.tif 000115
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例４９の段階２で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３２６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)及びトリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５８２ｍｇ(収率９５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．３９(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，７．３２(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，７．２２(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２０(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，６．８３(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．４０(ｓ，２Ｈ)，４．２２(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．１６(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．７９(ｓ，２Ｈ)，３．２６(ｓ，３Ｈ)，２．９６(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)，２．３６(ｓ，３Ｈ)，１．２３(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０３０３】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５８２ｍｇ、０.９５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５４９ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．３９(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，７．２９(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，７．２３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．１３(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，６．８１(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．４２(ｓ，２Ｈ)，４．１６(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．８４(ｓ，２Ｈ)，３．２６(ｓ，３Ｈ)，３．０３(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)，２．３７(ｓ，３Ｈ)．
【０３０４】
実施例１１１
[Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１１４】
2008506685.tif 000116
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
実施例[Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステル(３９４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)塩化スルホニル(２５７ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物２６０ｍｇ(収率４４％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２５−７．２０(ｍ，５Ｈ)，７．１３−７．０７(ｍ，３Ｈ)，６．８３−６．７９(ｍ，２Ｈ)，４．４２(ｓ，２Ｈ)，４．２１(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．７７(ｓ，２Ｈ)，３．６９(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．６６(ｓ，３Ｈ)，２．９６(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)，２．３５(ｓ，６Ｈ)，１．０８(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０３０５】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−エチル−Ｎ−ｍ−トリルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(２６０ｍｇ、０.４４ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(２８ｍｇ、０.６６ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物２５２ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２６−７．１２(ｍ，６Ｈ)，７．０９(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，６．７８(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，４．４３(ｓ，２Ｈ)，４．１７(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．７９(ｓ，２Ｈ)，３．６９(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．０１(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．３７(ｓ，６Ｈ)，２．３４(ｓ，３Ｈ)，１．０７(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０３０６】
実施例１１２
[Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１１５】
2008506685.tif 000117
段階１：
[Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステル(３９４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)塩化スルホニル(２５９ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)、トリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物３５６ｍｇ(収率６０％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８６(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．６０(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２６−７．１６(ｍ，４Ｈ)，７．１２−６．８１(ｍ，４Ｈ)，４．４０(ｓ，２Ｈ)，４．２１(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．８０(ｓ，２Ｈ)，３．７９(ｓ，３Ｈ)，３．６７(ｓ，３Ｈ)，３．２４(ｓ，３Ｈ)，２．９６(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)，２．３５(ｓ，３Ｈ)．
【０３０７】
段階２：
[Ｎ−(Ｎ−アニソイル−Ｎ−メチルアミノ)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(３５６ｍｇ、０.６０ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(３８ｍｇ、０.９ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３４４ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．３８(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２６−７．１２(ｍ，)，６．８８−６．７８(ｍ，４Ｈ)，４．４３(ｓ，２Ｈ)，４．１７(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．８３(ｓ，２Ｈ)，３．７８(ｓ，３Ｈ)，３．２４(ｓ，３Ｈ)，３．０２(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，６Ｈ)．
【０３０８】
実施例１１３
[Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１１６】
2008506685.tif 000118
段階１：
[Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステル(３９４ｍｇ、１ｍｍｏｌ) [Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]塩化スルホニル(２４６ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)及びトリエチルアミン(１１１ｍｇ、１.１ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物１９２ｍｇ(収率３３％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．３４−７．１４(ｍ，７Ｈ)，７．１０−６．９２(ｍ，１Ｈ)，６．８７(ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ)，４．４２(ｓ，２Ｈ)，４．２１(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．８０(ｓ，２Ｈ)，３．６７(ｓ，３Ｈ)，３．２８(ｓ，３Ｈ)，２．９５(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．３７(ｓ，３Ｈ)，２．３５(ｓ，３Ｈ)．
【０３０９】
段階２：
[Ｎ−[Ｎ−(３−フルオロフェニル)−Ｎ−メチルアミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(１９２ｍｇ、０.３３ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(２３ｍｇ、０.５ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物１８５ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．３５−７．１４(ｍ，７Ｈ)，７．１０−６．８９(ｍ，１Ｈ)，６．７９(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，４．４３(ｓ，２Ｈ)，４．１６(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．８４(ｓ，２Ｈ)，３．２７(ｓ，３Ｈ)，３．０３(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，６Ｈ)．
【０３１０】
実施例１１４
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１１７】
2008506685.tif 000119
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記実施例４９の段階２で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−[(４−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−４−イル]エタノール(４４６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物６１３ｍｇ(収率９２％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０７(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．６７(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．３９(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，７．３２(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，７．１３(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，６．８３(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．４０(ｓ，２Ｈ)，４．２３(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．１５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．７９(ｓ，２Ｈ)，３．２６(ｓ，３Ｈ)，２．９８(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３９(ｓ，３Ｈ)，１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０３１１】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(６１３ｍｇ、０.９２ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５８１ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０６(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．６８(ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．３６(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，７．２９(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，７．１２(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，６．８２(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．４１(ｓ，２Ｈ)，４．１９(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．８４(ｓ，２Ｈ)，３．２５(ｓ，３Ｈ)，３．０１(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．４１(ｓ，３Ｈ)．
【０３１２】
実施例１１５
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１１８】
2008506685.tif 000120
段階１：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例４９の段階２で得た化合物(４１３ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３１４ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５４４ｍｇ(収率９０％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．５８−７．５７(ｍ，１Ｈ)，７．４１−７．３０(ｍ，５Ｈ)，７．１２(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，７．０９−７．０６(ｍ，１Ｈ)，６．８３(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．４０(ｓ，２Ｈ)，４．２０(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．１４(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．７９(ｓ，２Ｈ)，３．２６(ｓ，３Ｈ)，２．９４(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３５(ｓ，３Ｈ)，１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０３１３】
段階２：
[Ｎ−[[Ｎ−メチル−Ｎ−(４−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５４４ｍｇ、０.９ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５１３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．５８−７．５７(ｍ，１Ｈ)，７．４１−７．３０(ｍ，５Ｈ)，７．１２(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，７．０９−７．０６(ｍ，１Ｈ)，６．８３(ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．４０(ｓ，２Ｈ)，４．２０(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．１４(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．７９(ｓ，２Ｈ)，３．２６(ｓ，３Ｈ)，２．９４(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３５(ｓ，３Ｈ)，１．２４(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０３１４】
実施例１１６
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１１９】
2008506685.tif 000121
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５３の段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[(５−メチル−２−フェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３０５ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５５３ｍｇ(収率９６％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９８−７．９５(ｍ，２Ｈ)，７．４３−７．３９(ｍ，４Ｈ)，７．１５−６．９６(ｍ，４Ｈ)，６．９４−６．８１(ｍ，１Ｈ)，６．７９(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．５５(ｓ，２Ｈ)，４．２１(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．０５(ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，３．９６(ｓ，２Ｈ)，３．８３(ｓ，２Ｈ)，３．１１(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，２．９６(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３７(ｓ，３Ｈ)，１．１０(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０３１５】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５５３ｍｇ、０.９６ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５２０ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．８１(ｂｒｓ，１Ｈ)，７．９５−７．９２(ｍ，２Ｈ)，７．４４−７．３９(ｍ，４Ｈ)，７．１２−７．０７(ｍ，４Ｈ)，６．９４−６．９２(ｍ，１Ｈ)，６．７８(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．４９(ｓ，２Ｈ)，４．１４(ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ)，４．０２(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．９０(ｓ，２Ｈ)，３．０７(ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，２．９８(ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)．
【０３１６】
実施例１１７
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１２０】
2008506685.tif 000122
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５３の段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３２６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５５４ｍｇ(収率９４％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８５(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．４２(ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ)，７．２５−７．０９(ｍ，６Ｈ)，６．９８−６．９０(ｍ，１Ｈ)，６．８２(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．５５(ｓ，２Ｈ)，４．２１(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)，４．０５(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．９５(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．８３(ｓ，２Ｈ)，３．１１(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．９５(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)，２．３５(ｓ，３Ｈ)，１．１２(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０３１７】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５５４ｍｇ、０.９４ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５２３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８２(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，７．４３(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，７．２５−７．０８(ｍ，６Ｈ)，６．９６−６．９１(ｍ，１Ｈ)，６．７９(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．５１(ｓ，２Ｈ)，４．１６(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．０４(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．０９(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．９８(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)，２．３７(ｓ，３Ｈ)．
【０３１８】
実施例１１８
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１２１】
2008506685.tif 000123
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５３の段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−[(４−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−４−イル]エタノール(４０７ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５９９ｍｇ(収率９３％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０９(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，７．６７(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，７．４３(ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ)，７．２５−７．０９(ｍ，４Ｈ)，６．９７−６．９０(ｍ，１Ｈ)，６．８２(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．５６(ｓ，２Ｈ)，４．２２(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．０９−３．８９(ｍ，４Ｈ)，３．８３(ｓ，２Ｈ)，３．１２(ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，２．９８(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．３９(ｓ，３Ｈ)，１．１１(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０３１９】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−トリフルオロメチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５９９ｍｇ、０.９３ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５６７ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)８．０６(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，７．６７(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，７．４３(ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ)，７．２５−７．０９(ｍ，４Ｈ)，６．９７−６．９０(ｍ，１Ｈ)，６．８０(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．５０(ｓ，２Ｈ)，４．１８(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，４．０２(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．８９(ｓ，２Ｈ)，３．０８(ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ)，２．９８(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．３９(ｓ，３Ｈ)．
【０３２０】
実施例１１９
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１２２】
2008506685.tif 000124
段階１：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５３の段階２で得た化合物(３９０ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(チオフェン−２−イル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３１４ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５４７ｍｇ(収率９４％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．５８−７．５６(ｍ，１Ｈ)，７．４４−７．２５(ｍ，２Ｈ)，７．１６−７．０５(ｍ，５Ｈ)，６．９７−６．９０(ｍ，１Ｈ)，６．８０(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．５５(ｓ，２Ｈ)，４．１９(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)，４．０９−３．８９(ｍ，４Ｈ)，３．８３(ｓ，２Ｈ)，３．１１(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．９４(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３４(ｓ，３Ｈ)，１．１２(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０３２１】
段階２：
[Ｎ−(インドリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(チオフェン−２−イル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５４７ｍｇ、０.９４ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５１５ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．６０−７．５９(ｍ，１Ｈ)，７．４５−７．３７(ｍ，２Ｈ)，７．１６−７．０６(ｍ，５Ｈ)，６．９７−６．９４(ｍ，１Ｈ)，６．７９(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．５１(ｓ，２Ｈ)，４．１６(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)，４．０３(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，３．９０(ｓ，２Ｈ)，３．１０(ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．９６(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．３６(ｓ，３Ｈ)．
【０３２２】
実施例１２０
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１２３】
2008506685.tif 000125
段階１：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５７の段階２で得た化合物(４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[(５−メチル−２−フェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３０５ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５５４ｍｇ(収率９４％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．９７(ｍ，２Ｈ)，７．５９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．４２(ｍ，３Ｈ)，７．０３(ｍ，５Ｈ)，６．７９(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，４．４７(ｓ，２Ｈ)，４．２１(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)，４．０８(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．８０(ｍ，４Ｈ)，２．９８(ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ)，２．７９(ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ)，２．３７(ｓ，３Ｈ)，２．０７(ｍ，２Ｈ)，１．１９(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０３２３】
段階２：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−(２−フェニル−５−メチルオキサゾール−４−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５５４ｍｇ、０.９４ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５２３ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)，９．６１(ｂｒｓ，１Ｈ)，７．９６−７．９３(ｍ，２Ｈ)，７．５９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ)，７．３９−７．３８(ｍ，３Ｈ)，７．１５−６．９９(ｍ，５Ｈ)，６．７７(ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ)，４．４６(ｓ，２Ｈ)，４．１３(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．８４(ｓ，２Ｈ)，３．７６(ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ)，２．９９(ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ)，２．７９(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３７(ｓ，３Ｈ)，２．０９(ｍ，２Ｈ)．
【０３２４】
実施例１２１
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
【化１２４】
2008506685.tif 000126
段階１：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５７の段階２で得た化合物(４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ)、２−[５−メチル−２−(４−メチルフェニル)オキサゾール−４−イル]エタノール(３２６ｍｇ、１.５ｍｍｏｌ)、トリフェニルホスフィン(４４６ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(３４４ｍｇ、１.７ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５７４ｍｇ(収率９５％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８４(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．５９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ)，７．２５−７．０１(ｍ，７Ｈ)，６．７９(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，４．４７(ｓ，２Ｈ)，４．２０(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，４．０７(ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ)，３．７９−３．７６(ｍ，４Ｈ)，２．９５(ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ)，２．８１(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３８(ｓ，３Ｈ)，２．３５(ｓ，３Ｈ)，２．０７−２．０３(ｍ，２Ｈ)，１．１９(ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ)．
【０３２５】
段階２：
[Ｎ−(１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−Ｎ−[４−[２−[２−(４−メチルフェニル)−５−メチルオキサゾール−４−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階１で得た化合物(５７４ｍｇ、０.９５ｍｍｏｌ)及び水酸化リチウム一水和物(５９ｍｇ、１.４ｍｍｏｌ)を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５４１ｍｇ(収率９９％)を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ)：δ(ｐｐｍ)７．８３(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．５９(ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ)，７．２５−６．９９(ｍ，７Ｈ)，６．７６(ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ)，５．０４(ｂｒｓ，１Ｈ)，４．４６(ｓ，２Ｈ)，４．１６(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，３．８４(ｓ，２Ｈ)，３．７６(ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，２Ｈ)，２．９８(ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ)，２．８０(ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ)，２．３７(ｓ，３Ｈ)，２．３３(ｓ，３Ｈ)，２．０８−１．９９(ｍ，２Ｈ)．
【０３２６】
実施例１２２
［Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル）スルホニル−Ｎ−［４−［２−［２−（４−トリフルオロメチルフェニル）−５−メチルオキサゾール−４−イル］エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸の製造
【化１２５】
2008506685.tif 000127
段階１：
［Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル）スルホニル−Ｎ−［４−［２−［２−（４−トリフルオロメチルフェニル）−５−メチルオキサゾール−４−イル］エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５７の段階２で得た化合物（４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ）、２−［５−メチル−２−［（４−トリフルオロメチル）フェニル］オキサゾール−４−イル］エタノール（４０７ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（４４６ｍｇ、１．７ｍｍｏｌ）及びジイソプロピルアゾカルボン酸（３４４ｍｇ、１．７ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物６０５ｍｇ（収率９２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）８．０８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）７．６８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）７．６０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ）７．１７−７．０１（ｍ，５Ｈ）６．７９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）４．４８（ｓ，２Ｈ）４．２２（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）４．０６（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ）３．７９−３．７６（ｍ，４Ｈ）２．９７（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ）２．８２（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）２．３９（ｓ，３Ｈ）２．０９−２．０１（ｍ，２Ｈ）１．１８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）．
【０３２７】
段階２：
［Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル）スルホニル−Ｎ−［４−［２−［２−（４−トリフルオロメチルフェニル）−５−メチルオキサゾール−４−イル］エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸の製造
前記段階１で得た化合物（６０５ｍｇ、０．９２ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（５９ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５７３ｍｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：  δ（ｐｐｍ）８．０６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）７．６７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）７．５８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ）７．１６−６．９９（ｍ，５Ｈ）６．７７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）５．８９（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）４．４５（ｓ，２Ｈ）４．１９（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）３．８４（ｓ，２Ｈ）３．７６（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ）２．９８（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ）２．８０（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）２．３９（ｓ，３Ｈ）２．０８−１．９９（ｍ，２Ｈ）．
【０３２８】
実施例１２３
［Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル）スルホニル−Ｎ−［４−［２−［２−（チオフェン−２−イル）−５−メトキシオキサゾール−４−イル］エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸の製造
【化１２６】
2008506685.tif 000128
段階１：
［Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル）スルホニル−Ｎ−［４−［２−［２−（チオフェン−２−イル）−５−メトキシオキサゾール−４−イル］エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸エチルエステルの製造
前記実施例５７の段階２で得た化合物（４０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ）、２−［５−メチル−２−（チオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル］エタノール（３１４ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（４４６ｍｇ、１．７ｍｍｏｌ）及びジイソプロピルアゾカルボン酸（３４４ｍｇ、１．７ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例６１の段階１と同一な方法で反応させ、標題化合物５５４ｍｇ（収率９３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）７．６１−７．５７（ｍ，２Ｈ）７．３７−７．３５（ｍ，１Ｈ）７．１４−７．０１（ｍ，６Ｈ）６．７８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）４．４６（ｓ，２Ｈ）４．１８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）４．０７（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ）３．７９−３．７６（ｍ，４Ｈ）２．９４（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ）２．８２（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）２．３４（ｓ，３Ｈ）２．０９−２．０１（ｍ，２Ｈ）１．１９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）．
【０３２９】
段階２：
［Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル）スルホニル−Ｎ−［４−［２−［２−（チオフェン−２−イル）−５−メトキシオキサゾール−４−イル］エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸の製造
前記段階１で得た化合物（５５４ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（５９ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物５２３ｍｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：  δ（ｐｐｍ）８．０６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）７．６７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）７．５８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ）７．１６−６．９９（ｍ，５Ｈ）６．７７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）５．８９（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）４．４５（ｓ，２Ｈ）４．１９（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）３．８４（ｓ，２Ｈ）３．７６（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ）２．９８（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ）２．８０（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）２．３９（ｓ，３Ｈ）２．０８−１．９９（ｍ，２Ｈ）．
【０３３０】
実施例１２４
（Ｓ）−２−［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］プロピオン酸の製造
【化１２７】
2008506685.tif 000129
段階１：
（Ｓ）−２−［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］プロピオン酸エチルエステルの製造
（Ｓ）−［２−［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］プロピオン酸エチルエステル（４０８ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−塩化ジメチルスルファモイル（１５８ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１１１ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物１７０ｍｇ（収率３３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）７．９０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）７．２９−７．２１（ｍ，３Ｈ）７．０８−６８９（ｍ，３Ｈ）４．９８（ｓ，２Ｈ）４．６１−４．０７（ｍ，５Ｈ）２．７７（ｓ，６Ｈ）２．４２（ｓ，３Ｈ）２．３９（ｓ，３Ｈ）１．４０（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）１．２６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）．
【０３３１】
段階２：
（Ｓ）−２−［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］プロピオン酸の製造
前記段階１で得た化合物（１７０ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（２３ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物１５９ｍｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）９．７４（ｂｒｓ，１Ｈ）７．８７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）７．２６−７．１７（ｍ，４Ｈ）６．９７−６．８５（ｍ，２Ｈ）５．０２（ｓ，２Ｈ）４．４２−４．２９（ｍ，３Ｈ）２．７３（ｓ，６Ｈ）２．４３（ｓ，３Ｈ）２．３９（ｓ，３Ｈ）１．３９（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）．
【０３３２】
実施例１２５
（Ｓ）−３−メチル−２−［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］酪酸の製造
【化１２８】
2008506685.tif 000130
段階１：
（Ｓ）−３−メチル−２−［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］酪酸メチルエステルの製造
（Ｓ）−３−メチル−２−［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］酪酸メチルエステル（４２３ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−塩化ジメチルスルファモイル（１５８ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１１１ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物３４４ｍｇ（収率６５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）７．９０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）７．２６−７．２０（ｍ，３Ｈ）７．０９（ｓ，１Ｈ）７．０３−７．０１（ｍ，１Ｈ）６．９３−６．８９（ｍ，１Ｈ）４．９７（ｓ，２Ｈ）４．６０（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ）３．９７（ｄ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ，１Ｈ）３．７２（ｓ，３Ｈ）２．６５（ｓ，６Ｈ）２．４２（ｓ，３Ｈ）２．３９（ｓ，３Ｈ）２．１３−２．０５（ｍ，１Ｈ）０．８７−０．８３（ｍ，６Ｈ）．
【０３３３】
段階２：
（Ｓ）−３−メチル−２−［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］酪酸の製造
前記段階１で得た化合物（３４４ｍｇ，０．６５ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（４１ｍｇ，０．９８ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３３２ｍｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）１０．１８（ｂｒｓ，１Ｈ）７．８６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）７．２５−７．１８（ｍ，４Ｈ）７．１４−７．１１（ｍ，１Ｈ）７．００−６．８２（ｍ，１Ｈ）５．０５（ｓ，２Ｈ）４．４８（ｓ，２Ｈ）４．０４（ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，１Ｈ）２．６０（ｓ，６Ｈ）２．４３（ｓ，３Ｈ）２．３８（ｓ，３Ｈ）２．２０−２．０８（ｍ，１Ｈ）０．９８−０．８５（ｍ，６Ｈ）．
【０３３４】
実施例１２６
［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸の製造
【化１２９】
2008506685.tif 000131
段階１：
［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸メチルエステルの製造
［［１−［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸メチルエステル（３９４ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−塩化ジメチルスルファモイル（１５８ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１１１ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物２２１ｍｇ（収率４４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）７．９０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）７．３２−７．２２（ｍ，３Ｈ）７．１３−６．９２（ｍ，３Ｈ）５．０６（ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ）４．９８（ｓ，２Ｈ）３．７１（ｑ，Ｊ＝１８．３Ｈｚ，Ｊ＝２２．７Ｈｚ，２Ｈ）３．６１（ｓ，２Ｈ）２．８９（ｓ，６Ｈ）２．４３（ｓ，３Ｈ）２．３８（ｓ，３Ｈ）１．５７（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）．
【０３３５】
段階２：
［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸の製造
前記段階１で得た化合物（２２１ｍｇ，０．４４ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（２８ｍｇ，０．６６ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物２１２ｍｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）８．９４（ｂｒｓ，１Ｈ）７．８６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）７．２８−７．１４（ｍ，４Ｈ）７．０３−６．９２（ｍ，１Ｈ）６．８８−６．８７（ｍ，１Ｈ）５．０６（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ）４．９９（ｓ，２Ｈ）３．７４（ｑ，Ｊ＝１０．９Ｈｚ，Ｊ＝１８．３Ｈｚ，２Ｈ）２．８６（ｓ，６Ｈ）２．４２（ｓ，３Ｈ）２．３８（ｓ，３Ｈ）１．５７（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ）．
【０３３６】
実施例１２７
［Ｎ−（ピロリジニル）スルホニル−Ｎ−［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸の製造
【化１３０】
2008506685.tif 000132
段階１：
［Ｎ−（ピロリジニル）スルホニル−Ｎ−［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸メチルエステルの製造
［［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸メチルエステル（３９４ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、（ピロリジニル）塩化スルホニル（１８７ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）及びトライエチルアミン（１１１ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物２６９ｍｇ（収率５１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）７．９０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）７．３１−７．２２（ｍ，３Ｈ）７．１４−６．９２（ｍ，３Ｈ）５．１０（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ）４．９８（ｓ，２Ｈ）３．７２（ｑ，Ｊ＝１８．０Ｈｚ，Ｊ＝２４．４Ｈｚ，２Ｈ）３．６１（ｓ，３Ｈ）３．５９−３．３５（ｍ，４Ｈ）２．４３（ｓ，３Ｈ）２．３８（ｓ，３Ｈ）１．９３−１．８６（ｍ，４Ｈ）１．５８（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ）．
【０３３７】
段階２：
［Ｎ−（ピロリジニル）スルホニル−Ｎ−［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸の製造
前記段階１で得られた化合物（２６９ｍｇ，０．５１ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（３３ｍｇ，０．７７ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物２５９ｍｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）９．０８（ｂｒｓ，１Ｈ）７．８７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）７．２９−７．１４（ｍ，４Ｈ）７．０３−６．９２（ｍ，１Ｈ）６．８９−６．８７（ｍ，１Ｈ）５．１０（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ）４．９９（ｓ，２Ｈ）３．７６（ｑ，Ｊ＝１８．３Ｈｚ，Ｊ＝１４．２Ｈｚ，２Ｈ）３．３９−３．３３（ｍ，４Ｈ）２．４２（ｓ，３Ｈ）２．３８（ｓ，３Ｈ）１．８９−１．８２（ｍ，４Ｈ）１．５７（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ）．
【０３３８】
実施例１２８
［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸の製造
【化１３１】
2008506685.tif 000133
段階１：
［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）スルホニル−［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸メチルエステルの製造
［［１−［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸メチルエステル（３９４ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）塩化スルホニル（１８９ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１１１ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物１５９ｍｇ（収率３０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）７．９０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ）７．３１−７．２２（ｍ，３Ｈ）７．１４−６．９６（ｍ，３Ｈ）５．０２（ｑ，１Ｈ）４．９８（ｓ，２Ｈ）３．７０（ｑ，Ｊ＝１８．３Ｈｚ，２Ｈ）３．６１（ｓ，３Ｈ）３．３７（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，４Ｈ）２．４３（ｓ，３Ｈ）２．３９（ｓ，３Ｈ）１．５７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ）１．１９（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，６Ｈ）．
【０３３９】
段階２：
［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸の製造
前記段階１で得た化合物（１５９ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（２０ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物１５３ｍｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）７．８７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）７．５９（ｂｒｓ，１Ｈ）７．２９−７．２１（ｍ，４Ｈ）７．１７−６．９９（ｍ，１Ｈ）６．９２−６．８７（ｍ，１Ｈ）５．０４（ｑ，１Ｈ）４．９９（ｓ，２Ｈ）３．７３（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，２Ｈ）３．３４（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，４Ｈ）２．４３（ｓ，３Ｈ）２．３９（ｓ，３Ｈ）１．５７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ）１．１７（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，６Ｈ）．
【０３４０】
実施例１２９
［Ｎ−（Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸の製造
【化１３２】
2008506685.tif 000134
段階１：
［Ｎ−（Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ）スルホニル−［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸メチルエステルの製造
［［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸メチルエステル（３９４ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、（Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ）塩化スルホニル（１８９ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１１１ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物１３２ｍｇ（収率２５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）７．８９（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）７．３１−７．２２（ｍ，３Ｈ）７．１４−６．９２（ｍ，３Ｈ）５．００（ｑ，１Ｈ）４．９８（ｓ，２Ｈ）４．３２−４．２４（ｍ，１Ｈ）３．６８（ｑ，Ｊ＝１８．３Ｈｚ，２Ｈ）３．６１（ｓ，３Ｈ）２．７６（ｓ，３Ｈ）２．４３（ｓ，３Ｈ）２．３９（ｓ，３Ｈ）１．５７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ）１．２０（ｓ，３Ｈ）１．１７（ｓ，３Ｈ）．
【０３４１】
段階２：
［Ｎ−（Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ）スルホニル−［１−［［３−（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］フェニル］エチル］アミノ］酢酸の製造
前記段階１で得た化合物（１３２ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（１６ｍｇ，０．３８ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物１２８ｍｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）７．８７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）７．４９（ｂｒｓ，１Ｈ）７．２９−７．１７（ｍ，４Ｈ）７．０３−６．８７（ｍ，２Ｈ）５．０２（ｑ，１Ｈ）４．９９（ｓ，２Ｈ）４．２８−４．２２（ｍ，１Ｈ）３．７２（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，２Ｈ）２．７２（ｓ，３Ｈ）２．４３（ｓ，３Ｈ）２．３９（ｓ，３Ｈ）１．５７（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）１．１９（ｓ，３Ｈ）１．１５（ｓ，３Ｈ）．
【０３４２】
実施例１３０
３−［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］プロピオン酸の製造
【化１３３】
2008506685.tif 000135
段階１：
３−［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］プロピオン酸エチルエステルの製造
３−［［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］プロピオン酸エチルエステル（４０８ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−塩化ジメチルスルファモイル（１５８ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１１１ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４７４ｍｇ（収率９２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）７．９０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）７．２８−７．２２（ｍ，３Ｈ）７．０４−６．９３（ｍ，３Ｈ）４．９８（ｓ，２Ｈ）４．３５（ｓ，２Ｈ）４．０７（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ）３．４５（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）２．７９（ｓ，６Ｈ）２．５４（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）２．４３（ｓ，３Ｈ）２．３９（ｓ，３Ｈ）１．２２（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）．
【０３４３】
段階２：
３−［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［３−［（５−メチル−２−ｐ−トリルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］プロピオン酸の製造
前記段階１で得た化合物（４７４ｍｇ，０．９２ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（５８ｍｇ，１．３８ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４４４ｍｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）１０．３９（ｂｒｓ，１Ｈ）７．８７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）７．２８−７．２２（ｍ，３Ｈ）７．０３−６．９０（ｍ，３Ｈ）５．００（ｓ，２Ｈ）４．３３（ｓ，２Ｈ）３．４４（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）２．７８（ｓ，６Ｈ）２．５５（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）２．４２（ｓ，３Ｈ）２．３８（ｓ，３Ｈ）．
【０３４４】
実施例１３１
［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［３−［（２−フェニルオキサゾール−４−イル）エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸の製造
【化１３４】
2008506685.tif 000136
段階１：
［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［３−［（２−フェニルオキサゾール−４−イル）エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸エチルエステルの製造
［［３−［２−（２−フェニルオキサゾール−４−イル）エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸エチルエステル（３８０ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−塩化ジメチルスルファモイル（１５８ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１１１ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物３７５ｍｇ（収率７７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）８．０４−８．００（ｍ，２Ｈ）７．５８（ｓ，１Ｈ）７．４５−７．４３（ｍ，３Ｈ）７．２８−７．２２（ｍ，１Ｈ）６．９１−６．８５（ｍ，３Ｈ）４．５２（ｓ，２Ｈ）４．２８（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）４．１６（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ）３．８５（ｓ，２Ｈ）３．０８（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）２．８７（ｓ，６Ｈ）１．２４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）．
【０３４５】
段階２：
［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［３−［（２−フェニルオキサゾール−４−イル）エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸の製造
前記段階１で得た化合物（３７５ｍｇ，０．７７ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（４９ｍｇ，１．１６ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３５０ｍｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）９．３７（ｂｒｓ，１Ｈ）８．０１−７．８９（ｍ，２Ｈ）７．５８（ｓ，１Ｈ）７．４６−７．４４（ｍ，３Ｈ）７．２８−７．２２（ｍ，１Ｈ）６．９８−６．８５（ｍ，３Ｈ）４．５１（ｓ，２Ｈ）４．２８（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）３．９１（ｓ，２Ｈ）３．０７（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）２．８６（ｓ，６Ｈ）．
【０３４６】
実施例１３２
［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［４−［（２−フェニルオキサゾール−４−イル）エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸の製造
【化１３５】
2008506685.tif 000137
段階１：
［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［４−［（２−フェニルオキサゾール−４−イル）エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸エチルエステルの製造
［［４−［２−（２−フェニルオキサゾール−４−イル）エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸エチルエステル（３８０ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−塩化ジメチルスルファモイル（１５８ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１１１ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４１９ｍｇ（収率８６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）８．０４−７．９９（ｍ，２Ｈ）７．５７（ｓ，１Ｈ）７．４６−７．４３（ｍ，３Ｈ）７．２４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）６．８８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）４．４８（ｓ，２Ｈ）４．２８（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）４．１８（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ）３．８１（ｓ，２Ｈ）３．０８（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）２．８６（ｓ，６Ｈ）１．２４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）．
【０３４７】
段階２：
［Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル−Ｎ−［４−［（２−フェニルオキサゾール−４−イル）エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸の製造
前記段階１で得た化合物（４１９ｍｇ，０．８６ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（５４ｍｇ，１．２９ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３９１ｍｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）１１．３２（ｂｒｓ，１Ｈ）８．０３−７．９７（ｍ，２Ｈ）７．５８（ｓ，１Ｈ）７．４７−７．４２（ｍ，３Ｈ）７．２４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）６．８８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）４．４８（ｓ，２Ｈ）４．２５（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）３．８７（ｓ，２Ｈ）３．１０（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２）２．８５（ｓ，６Ｈ）．
【０３４８】
実施例１３３
［Ｎ−［［Ｎ−（４−クロロフェニル）−Ｎ−メチル］アミノ］スルホニル−Ｎ−［４−［（２−フェニルオキサゾール−４−イル）エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸の製造
【化１３６】
2008506685.tif 000138
段階１：
［Ｎ−［［Ｎ−（４−クロロフェニル）−Ｎ−メチル］アミノ］スルホニル−Ｎ−［４−［（２−フェニルオキサゾール−４−イル）エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸エチルエステルの製造
［［４−［２−（２−フェニルオキサゾール−４−イル）エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸エチルエステル（３８０ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、［Ｎ−［（４−クロロフェニル）−Ｎ−メチル］アミノ］塩化スルホニル（２６４ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１１１ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４５６ｍｇ（収率７８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）８．０２（ｍ，２Ｈ）７．５６（ｓ，１Ｈ）７．４６−７．２９（ｍ，７Ｈ）７．１５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）６．８６（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）４．４２（ｓ，２Ｈ）４．２７（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）４．１５（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ）３．８１（ｓ，２Ｈ）３．２７（ｓ，３Ｈ）３．０８（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）１．２４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）．
【０３４９】
段階２：
［Ｎ−［［Ｎ−（４−クロロフェニル）−Ｎ−メチル］アミノ］スルホニル−Ｎ−［４−［（２−フェニルオキサゾール−４−イル）エトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸の製造
前記段階１で得た化合物（４５６ｍｇ，０．７８ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（４９ｍｇ，１．１７ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物４２９ｍｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）９．４６（ｂｒｓ，１Ｈ）８．０２−７．９５（ｍ，２Ｈ）７．５８（ｓ，１Ｈ）７．４８−７．２５（ｍ，６Ｈ）７．１４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）６．８４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）４．４２（ｓ，２Ｈ）４．２４（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）３．８５（ｓ，２Ｈ）３．２５（ｓ，３Ｈ）３．０９（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）．
【０３５０】
実施例１３４
［Ｎ−［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル］−Ｎ−［４−［（２−フェニル−５−イソプロピルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸の製造
【化１３７】
2008506685.tif 000139
段階１：
［Ｎ−［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル］−Ｎ−［４−［（２−フェニル−５−イソプロピルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸エチルエステルの製造
［［３−［（５−イソプロピル−２−フェニルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸エチルエステル（４０８ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−塩化ジメチルスルファモイル（１５８ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１１１ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階２と同一な方法で反応させ、標題化合物４０２ｍｇ（収率７８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）８．０５−７．９８（ｍ，２Ｈ）７．４７−７．４０（ｍ，３Ｈ）７．３１−７．２３（ｍ，１Ｈ）６．９９−６．９１（ｍ，３Ｈ）４．９９（ｓ，２Ｈ）４．５４（ｓ，２Ｈ）４．１６（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ）３．８５（ｓ，２Ｈ）３．２９−３．１５（ｍ，１Ｈ）２．８７（ｓ，６Ｈ）１．３６（ｓ，３Ｈ）１．３２（ｓ，３Ｈ）１．２５（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ）
【０３５１】
段階２：
［Ｎ−［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スルホニル］−Ｎ−［４−［（２−フェニル−５−イソプロピルオキサゾール−４−イル）メトキシ］ベンジル］アミノ］酢酸の製造
前記段階１で得た化合物（４０２ｍｇ，０．７８ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（４９ｍｇ，１．１７ｍｍｏｌ）を用いたことを除いては前記実施例３の段階５と同一な方法で反応させ、標題化合物３７１ｍｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）９．９６（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）８．０３−７．９７（ｍ，２Ｈ）７．４７−７．４１（ｍ，３Ｈ）７．２８−７．１９（ｍ，１Ｈ）６．９９−６．８７（ｍ，３Ｈ）５．０３（ｓ，２Ｈ）４．４７（ｓ，２Ｈ）３．８８（ｓ，２Ｈ）３．２７−３．１７（ｍ，１Ｈ）２．８３（ｓ，６Ｈ）１．３６（ｓ，３Ｈ）１．３２（ｓ，３Ｈ）．
【０３５２】
試験例１
ＰＰＡＲαアゴニストの分析（ａｇｏｎｉｓｔ  ａｓｓａｙ）
段階１）
外因性ＰＰＡＲαのアゴニストの分析
本発明による実施例１〜１３４の化合物のヒトＰＰＡＲαに対する交差活性化分析を行った。リガンド結合ドメイン及びＧＡＬ４  ＤＮＡ結合ドメインを含むＰＰＡＲαのＤＮＡ構造体（ｃｏｎｓｔｒｕｃｔ）（Ｓｈｅｒ  ｅｔ．ａｌ．Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ３２，５５９８−５６０４，１９９３）を用いて行い、この構造体により発現されたＰＰＡＲαのリガンド結合ドメインに前記実施例の化合物が結合してＰＰＡＲαの活性に影響を与えるか否かを分析した。ホタルシフェラーゼ（ｆｉｒｅｆｌｙ−ｌｕｃｉｆｅｒａｓｅ）のＵＡＳ（ｕｐｓｔｒｅａｍ  ａｃｔｉｖａｔｉｏｎ  ｓｅｑｕｅｎｃｅ）に前記ＰＰＡＲαのリガンド結合ドメインと融合されているＧＡＬ４  ＤＮＡ結合ドメインが結合すると、ルシフェラーゼが発現するので、ルシフェラーゼの活性化の程度を分析して合成化合物がＰＰＡＲαの活性に及ぼす影響を評価した。
【０３５３】
具体的に、９６ウェルプレートに２×１０４細胞数／ウェルになるようにＨｅｐＧ２（ＡＴＣＣＨＢ−８０６５）または２９３Ｔ細胞（ＡＴＣＣ  ＣＲＬ−１５７３）を分株して３７℃，ＣＯ２培養器（培養条件：ＤＭＥＭ、１０％ＦＢＳ，１％ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ）で一晩中培養した。
【０３５４】
ＰＰＡＲα  ＤＮＡの形質感染は次のように行った。まず、ウェル当り、５０ｎｇ全長ヒトＰＰＡＲ−α  ＤＮＡ、５０ｎｇホタルシフェラーゼ構造体，５ｎｇウミシイタケルシフェラーゼ（ＲｅｎｉｌｌａＬｕｃｉｆｅｒａｓｅ）構造体、１．０μｌプラス試薬（ＰＬＵＳＴＭ  Ｒｅａｇｅｎｔ）及び８．３μｌの抗生物質を含有しない無血清培地（ｓｅｒｕｍ−ｆｒｅｅ  ｍｅｄｉｕｍ  ｗｉｔｈ  ｎｏ  ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ）を含む溶液Ａ（Ｐｒｏｍｅｇａ社製）を作って室温で１５分中放置した。ウェル当り０．５μｌリポフェクタミン試薬（ＬｉｐｏｆｅｃｔａｍｉｎｅＴＭ  Ｒｅａｇｅｎｔ）及び９．５μｌの抗生物質を含有しない無血清培地を含む溶液Ｂ、及びウェル当り５０μｌ無血清培養を含む溶液Ｃを用意した。溶液Ａ、Ｂ及びＣを交ぜてリポフェクタミン−ＤＮＡ錯体（ｌｉｐｏｆｅｃｔａｍｉｎ−ＤＮＡ  ｃｏｍｐｌｅｘ）を作った後、常温で１５分間放置した。９６ウェルプレートの各ウェルに単一層になっている細胞を無血清ＤＭＥＭで洗浄した後、前記のように製造したリポフェクタミン−ＤＮＡ錯体を７０μｌずつ加えた。次いで、形質感染が起こるように３７℃の５％ＣＯ２培養器で３時間培養させ、前記実施例１〜１３４で得た化合物を５０ｕＭで希釈液をウェル当り最終濃度２５μｍになるように添加した後、３７℃、ＣＯ２培養器で４８時間培養した。次いで、培地を取り除き、５０μｌの受動溶解緩衝液（ｐａｓｓｉｖｅ  ｌｙｓｉｓ  ｂｕｆｆｅｒ；Ｐｒｏｍｅｇａ社製）を加えて２０分間常温で振って細胞を溶解した。デュアルルシフェラーゼキット（Ｄｕａｌ  Ｌｕｃｉｆｅｒａｓｅ  Ｋｉｔ，Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ社製）のルシフェラーゼ分析試薬（Ｌｕｃｉｆｅｒａｓｅ  Ａｓｓａｙ  Ｒｅａｇｅｎｔ）を細胞溶解緩衝液２０μｌ当り４０μｌで加えて２０℃で８秒間反応させた後、停止液（ｓｔｏｐ  ｓｏｌｕｔｉｏｎ）であるストップアンドグロー試薬（Ｓｔｏｐ  ＆  Ｇｌｏ  Ｒｅａｇｅｎｔ，Ｐｒｏｍｅｇａ社製）４０μｌ加えて反応を終えた。Ｆ−ルシフェラーゼ及びＲ−ルシフェラーゼの発光（ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）値をマイクロルマットプラス（ＭｉｃｒｏＬｕｍａｔ  Ｐｌｕｓ，Ｂｅｒｔｈｏｒｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）で測定した。測定結果は対照群対比実施例の化合物を２５μＭで処理した時の活性増加及び対照群に比べて活性が５０％増加した時の実施例の化合物の濃度（ＥＣ５０）で分析してそれぞれ下記の表１ａ〜表１ｃに示した（この時、ＮＤは実施例の化合物で処理していないことを意味する）。
【０３５５】
段階２）
内因性（ｅｎｄｏｇｅｎｏｕｓ）ＰＰＡＲαアゴニストの分析
ウミシイタケルシフェラーゼ構造体、全長ヒトＰＰＡＲα、ＲＸＲ（ｒｅｔｉｎｏｉｄ  Ｘ  ｒｅｃｅｐｔｏｒ）及びＰＰＲＥ（ｐｅｒｏｘｉｓｏｍｅ  ｐｒｏｌｉｆｅｒａｔｏｒ−ｒｅｓｐｏｎｓｉｖｅ  ｅｌｅｍｅｎｔ）を含むホタルシフェラーゼＤＮＡ構造体（Ｓｈｅｒ  ｅｔ．ａｌ．Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ３２，５５９８−５６０４，１９９３：Ｆｌｅｉｓｃｈｈａｕｅｒ  ｅｔ．ａｌ．Ｈｕｍ  Ｇｅｎｅｔ  ９０，５０５−５１０，１９９３）を用いたことを除いては前記段階１と同一な方法で２９３Ｔ細胞を形質感染させて内因性（ｅｎｄｏｇｅｎｏｕｓ）ＰＰＡＲαに対するアゴニストの分析を行った。実施例の各化合物で４８時間処理して、化合物が結合された全長ＰＰＡＲαにＲ／Ｒ（ＰＰＡＲの内因性の結合パートナー）が結合されたヘテロ二量体（ｈｅｔｅｒｏｄｉｍｅｒ）のルシフェラーゼの活性を前記段階１のような方法で測定した。測定結果は下記表１ａ〜表１ｃに示し、この時、ＮＤは実施例の化合物で処理していないことを意味する。
下記表１ａ〜表１ｃに示したように、本発明の化合物は、脂肪代謝に関する酵素であるＰＰＡＲの活性を顕著に増大させる效果を奏する。
【表１】
2008506685.tif 000140
【表２】
2008506685.tif 000141
【表３】
2008506685.tif 000142
【０３５６】
試験例２：
抗肥満実験
本発明による化合物の抗肥満活性を評価するために、Ｂ６．Ｖ−Ｌｅｐｏｂ／Ｊマウス（韓国化学研究院の実験動物研究チーム）及び対照群として痩せた（ｌｅａｎ）マウスを用いた。ｏｂ／ｏｂマウスはインシュリン非依存性糖尿病モデル動物であって、抗肥満薬剤の效能研究に適する。
７〜９週齢のｏｂ／ｏｂマウスプール（ｐｏｏｌ）から４２匹（体重３８．６±１．４ｇ）を選び、７匹ずつの群に分けた。飼育環境条件は常温（２４±０．５℃）、常湿（５５±５％）換気（ｖｅｎｔｉｌａｔｉｏｎ）システム(１０−１２回／時）及び１２時間毎に自動点滅機能が作動する特定病原体未感染（Ｓｐｅｃｉｆｉｃ  ｐａｔｈｏｇｅｎ  ｆｒｅｅ，ＳＰＦ）の環境で維持しながら、動物の評価実験を行った。
各群は賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラート（ｆｅｎｏｆｉｂｒａｔｅ）で処理した陽性対照群及び実施例２、６２及び６５の化合物で処理した試験群に区分し、各動物当たりの投与用量は１００ｍｇ／１０ｍｌ／ｋｇ体重とした。各試験化合物及び対照化合物を０．５％ＣＭＣに希釈して前記濃度で投与した。投与方法は注射器を胃内に１日２回（例えば、０９：００時及び１８：００時）、４週間毎日経口投与し、次の項目に関する測定をした。
【０３５７】
１）一般症状及び死亡動物に関する観察
一般状態の変化、試験動物の行動変化、中毒症状及び死亡率を試験期間中絶えずに観察した。その結果、図１ａ及び図１ｂに示すように、実施例２、６２及び６５の化合物で処理した試験群の一日飼料の摂取量は、試験開始してから１週間顕著に低減し（Ｐ＜０．００５有意水準、図１ａ）、総飼料攝取量の累積量も同様の結果を示した（Ｐ＜０．０５有意水準、図１ｂ）。従って、本発明の化合物は飼料攝取量を減少させる陽性の效果を示す。
【０３５８】
２）体重測定
各群の平均体重を試料の投与を始めてから３日毎に測定して、平均体重の変化及び体重増加量の変化（測定された体重−初期体重）を分析した。その結果、図２ａ（平均体重の変化）及び図２ｂ（体重増加量の変化）に示したように、各試験群の体重は対照群に比べて顕著に減少した。特に、実施例６２の化合物で処理した試験群の平均体重変化は、試料を投与し始めてから１０日目に対照群に比べて顕著に減少し（Ｐ＜０．０１、Ｐ＜０．００５有意水準、図２）、各化合物の体重増加量の変化は投与し始めてから７日目に対照群に比べて低くなることを確認した（Ｐ＜０．０１有意水準、図２）。実施例６２の化合物で処理した試験群は、フェノフィブラート（ｆｅｎｏｆｉｂｒａｔｅ）で処理した陽性対照群に比べて極めて優れた效果を示し、実施例５及び６５の化合物は陽性対照群と同様の効果を奏した。
【０３５９】
３）脂肪代謝に関する物質及びインシュリンの血中濃度の測定
２８日間の投与を終わってから１６時間の間、実験マウスを絶食させ、トリグリセリド（ｔｒｉｇｌｙｃｅｒｉｄｅ）、遊離脂肪酸及びコレステロールのような脂肪代謝と係わる物質の濃度及びインシュリンの血中濃度を測定した。具体的に、血液を各マウスの眼球静脈叢（ｏｃｕｌａｒ  ｖｅｎｏｕｓ  ｐｌｅｘｕｓ）から採取して遠心分離で血漿を分離した後、グルコース（ＧＬＵ）、ＨＤＬ−コレステロール（ＨＤＬ）、ＬＤＬ−コレステロール（ＬＤＬ）、トリグリセリド（ＴＧ）及び遊離脂肪酸（ＮＥＦＡ）などを自動生化学分析装置であるセレトラー（Ｓｅｌｅｃｔｒａ；Ｖｉｔａｌ  Ｌａｂ社製）２機種を使用して酵素分析により測定し、血中インシュリンの濃度はインシュリン（Ｉｎｓｕｌｉｎ）測定用キット（シバヤギ社製）を使用してＥＬＩＳＡ法で測定し、その結果を次の表２に示す。
【表４】
2008506685.tif 000143
【０３６０】
前記表２に示したように、遊離脂肪酸の濃度は各群間とも類似しており、トリグリセリドの濃度は実施例６２の化合物で処理した対照群に比べて顕著に低くなることを確認した（Ｐ＜０．０５有意水準）。実施例５の化合物で処理した群のＬＤＬの濃度は低かった（Ｐ＜０．０５有意水準）。ＨＤＬの濃度はそれぞれの実施例６２及び６５の化合物で処理した群で顕著に高く、グルコース（ＧＬＵ）の濃度は実施例５、６２及び６５の化合物で処理した各群において対照群または陽性対照群に比べて極めて低かった。
【０３６１】
４）経口的ブドウ糖負荷試験（ｏｒａｌ  ｇｌｕｃｏｓｅ  ｔｏｌｅｒａｎｃｅ  ｔｅｓｔ、ＯＧＴＴ）
２８日間の投与が終わった後から１６時間実験マウスを絶食させた後、２ｇ／ｋｇのグルコース（ｇｌｕｃｏｓｅ）を投与してから０、１５、３０、６０及び１２０分に血液を眼球静脈叢から採取し、グルコース濃度及び曲線下面積（ＡＵＣ、ａｒｅａ  ｕｎｄｅｒ  ｔｈｅ  ｃｕｒｖｅ、Ｓｋｒｕｍｓａｇｅｒ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ  Ｃｌｉｎ  Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．４３，１２４４−１２５６，２００３））を測定した。
【０３６２】
その結果、図３ａないし図３ｃに示すように、絶食中のグルコースの濃度は実施例５、６２及び６５の化合物で処理した各試験群において対照群に比べて顕著に低かった（Ｐ＜０．０５有意水準、図３ｃ）。それぞれの実施例６２及び６５の化合物で処理した各試験群でのグルコース投与後３０分及び６０分におけるグルコース濃度は対照群に比べて顕著に低く（Ｐ＜０．０１、Ｐ＜０．０５有意水準、図３ａ）、ＡＵＣによるグルコース濃度の総変化量は、実施例５、６２及び６５化合物で処理した各試験群において対照群に比べて極めて低かった（Ｐ＜０．０５、Ｐ＜０．００５及びＰ＜０．０１有意水準、図３ｂ）。
従って、本発明の化合物は動物にグルコースの耐性（ｇｌｕｃｏｓｅ  ｔｏｌｅｒａｎｃｅ）を付与することができる。
【０３６３】
５）解剖
全ての試験が終わった後、実施例５及び６２の化合物で処理した試験群、及びフェノフィブラートで処理した陽性対照群の動物を犠牲して、全血、肝、筋肉及び脂肪組職を摘出した後、それらの白色脂肪組職（ｗｈｉｔｅ  ａｄｉｐｏｓｅ  ｔｉｓｓｕｅ）は、腹部脂肪（ｖｉｓｃｅｒａｌ  ｆａｔ）及び皮下脂肪（ｓｕｂｃｕｔａｎｅｏｕｓ  ｆａｔ）に分離して各脂肪量及び肝の重量をそれぞれ測定した。
その結果、図４ａないし４ｄに示すように、実施例の５及び６２化合物で処理した試験群において観察された脂肪量は絶対的に減少した（Ｐ＜０．０１、Ｐ＜０．００５有意水準、図４ａ）。肥満指数（ａｄｉｐｏｓｉｔｙ  ｉｎｄｅｘ＝[脂肪量／（体重−脂肪量）]、図４ｂ）、及び腹部脂肪（図４ｄ）及び皮下脂肪（図４ｃ）量も全て減少した。
【図面の簡単な説明】
【０３６４】
【図１ａ】賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例５、６２及び６５の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした飼料攝取率の経時変化を示すグラフである。
【図１ｂ】賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例５、６２及び６５の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした総飼料攝取量の累積量の経時変化を示すグラフである。
【図２ａ】賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例５、６２及び６５の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした平均体重量及び体重増加量の経時変化を示すグラフである。
【図２ｂ】賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例５、６２及び６５の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした平均体重量及び体重増加量の経時変化を示すグラフである。
【図３ａ】賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例５、６２及び６５の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした経口的ブドウ糖負荷試験の結果を示すグラフである。
【図３ｂ】賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例５、６２及び６５の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした経口的ブドウ糖負荷試験の結果を示すグラフである。
【図３ｃ】賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例５、６２及び６５の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした経口的ブドウ糖負荷試験の結果を示すグラフである。
【図４ａ】賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例５及び６５の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象として解剖を行った後、総脂肪量を測定した結果を示す図である。
【図４ｂ】賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例５及び６５の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象として解剖を行った後、肥満指数を測定した結果を示す図である。
【図４ｃ】賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例５及び６５の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象として解剖を行った後、皮下脂肪量を測定した結果を示す図である。
【図４ｄ】賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例５及び６５の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象として解剖を行った後、腹部脂肪量を測定した結果を示す図である。
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図２ａ】
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【図２ｂ】
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【図３ａ】
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【図３ｂ】
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【図３ｃ】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図４ｃ】
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【図４ｄ】
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【国際調査報告】
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