(57)【要約】  フラットメタル製品（２）、特に特殊鋼及び／又は炭素鋼のストリップの電解酸洗のための方法及び装置（１３）が開示されている。少なくとも一のダイアモンド電極及び／又は、例えば鉛９３／錫７のような鉛／錫電極（１５）が使用されている。ダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極の特殊な特性は、水置換の形成である。電解水は通常、水素と酸素とに分解されるが、ダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極は、酸素の代わりにオゾン又は高度な反応性を有する水酸ラディカルが形成される作用領域を提供する。結果として、酸洗時間は従来の化学的スケール除去に比べて、また既存の電解酸洗に比べて、大幅に削減される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一のダイアモンド電極及び／又は、例えば鉛９３／錫７電極のような少なくとも一の鉛／錫電極（１５）が使用されることを特徴とする、フラットメタル製品（２）、特に特殊鋼及び又は炭素鋼のストリップの電解酸洗のための方法。
【請求項２】
電流は、一方では前記フラット製品（２）に直接供給され、他方では少なくとも一の電極の対に供給されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記電極の対のうちの少なくとも一方の電極（１５）及び必要に応じて前記フラット製品（２）はアノードとして接続され、他方の前記電極（１５）はカソードとして接続されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
電流は、断続的に供給されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
電流は、一定して供給されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
直流は、酸洗される前記フラット製品（２）及び前記電極（１５）に交互（逆パルスプレーティング）に印加されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
１０ｇ／ｌ〜２５０ｇ／ｌの無機酸濃度、特に５０〜２００ｇ／ｌ、好ましくは１５０ｇ／ｌの無機酸濃度の無機酸と水との混合物が使用されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
水とＮａ２ＳＯ４（硫化ナトリウム）との混合物が使用され、酸洗される前記フラット製品に応じて、Ｎａ２ＳＯ４の濃度は１００〜３５０ｇ／ｌＮａ２ＳＯ４、好ましくは１５０ｇ／ｌＮａ２ＳＯ４に設定されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
混酸が使用され、その濃度が、酸洗される前記フラット製品（２）に応じて、２０〜１００ｇ／ｌＨＦ及び５０〜３００ｇ／ｌＨＮＯ３、好ましくは５０ｇ／ｌＨＦ及び１５０ｇ／ｌＨＮＯ３に設定されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
電極上の電流密度は、酸洗される前記フラット製品（２）に応じて、０．５〜１５０Ａ／ｄｍ２に設定されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
電解液の温度は、酸洗される前記フラット製品（２）に応じて、２０〜９０℃、好ましくは７５℃に設定されていることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
電圧は、調節可変であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記フラット製品と前記電極との間の距離は、前記フラット製品（２）と前記電極（１５）との間に供給される電解液の量に伴って調製されることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記１対の電極の電極（１５）間又は前記電極（１５）と前記フラット製品（２）との間の距離は、前記フラット製品の起伏に合わせて調節されることを特徴とする請求項２〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
少なくとも一のダイアモンド電極及び／又は、例えば鉛９３／錫７電極のような少なくとも一の鉛／錫電極（１５）が使用されることを特徴とする、フラットメタル製品（２）、特に特殊鋼及び又は炭素鋼のストリップの電解酸洗のために請求項１〜１４のいずれか一項による方法を実施するための装置。
【請求項１６】
少なくとも１対の対向する電極（１５）が設けられ、該１対の電極の間にフラット製品（２）を供給することができることを特徴とする請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
電流を、一方では前記フラット製品（２）に直接供給し、他方では前記電極（１５）に供給するための装置（１９）が設けられ、特に前記１対の電極のうちの一方がカソードとして接続され、他方の前記電極がアノードとして接続されるとともに、前記フラット製品を必要に応じてアノードとして接続することができることを特徴とする、請求項１５又は１６に記載の装置。
【請求項１８】
案内装置（１４、１４’）が設けられ、この装置によってストリップ（２）を水平に対する所定の角度に案内することができ、電極（１５）は、同じ角度に配置され、装置（２１，  ２１’，  ２１”，  ２１’’’，  ２２，  ２２’，  ２２”，  ２２’’’）が設けられ、この装置によって、電解液を前記ストリップ（２）と前記電極（１５）との間に導入することができることを特徴とする請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１９】
ストリップを、斜め下に所定の、特に３０〜４５度の角度で導入することができ、次いで、少なくとも一の偏向ローラ（１４’）を斜め下に所定の、特に３０〜４５度の角度で導入することができることを特徴とする請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記１対の電極のうちの少なくとも一方の電極１５）と前記偏向ローラ（１４’）とは、前記フラット製品の動きの方向に対して垂直に調整することが出来ることを特徴とする請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２１】
前記１対の電極の電極間の間隙は調製可能であることを特徴とする請求項１６〜２０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２２】
電解液の供給量を調整するために、制御装置が設けられていることを特徴とする請求項１５〜２１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２３】
少なくとも一の分離機が最後部の一の前記電極に嵌合されていることを特徴とする請求項１５〜２２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２４】
制御装置が前記電極（１５）への電流を制御するために設けられていることを特徴とする請求項１５〜２３のいずれか一項に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットメタル製品、特に、特殊鋼及び又は炭素鋼のストリップの電解酸洗のための方法、及び装置に関する。フラットメタル製品という文言は、主に金属ストリップ及び平板に関している。しかし、本発明は、また長尺の金属製品（例えば、線材、異形材、チューブ材）又は、一般的に金属表面に適用することができる。
【背景技術】
【０００２】
冷間圧延され、錆びが生成し、耐酸性を有するストリップの場合の良好なレベルの洗浄を得るために、これらストリップの表面は更なる処理を経て、前工程の熱処理の間に形成された付着性の酸化物層、又はスケールを除去されなければならない。スケールの除去は、未だにボルテックス（ｖｏｒｔｅｘ）又は研磨紙によって再生段階において機械的に行われている。生産の更なる工程における中間焼鈍及び最終焼鈍に由来する焼鈍スケールのような残存する残渣スケールは化学工程、すなわち、スケールで覆われたストリップが複数の酸浴を通過する酸洗によって分解され除去される。特殊鋼に使用される酸洗剤（＝酸洗溶液＝電解液）は通常、水で希釈された硝酸とフッ化水素との加熱された酸混合物（混酸）である。一般の酸洗浴の温度は酸洗工程の間、好ましくない環境的に有毒なＮＯＸを形成するＮＯ３アニオンの反応まで継続的に上昇される。
【０００３】
冷間圧延された特殊鋼のいわゆる“中性電解液”法を用いる酸洗は既知となっている。この酸洗において、電圧は間接的にストリップに印加されている。このことはいかなる電流ローラとストリップとの間にも接触点が無いということを意味している。この方法の別の特徴は、アノードとカソードが完全に電解液で覆われており、水平に配置されているということ、すなわち電解液層は水平に充満されているということである。
【０００４】
特許文献１は、電解酸洗の変形として記載された垂直に供給されたストリップの電解酸洗の方法を開示している。ここでは、電極は垂直に配置されている。この場合、電圧はストリップに間接的に印加されている。電解液（Ｎａ２ＳＯ４）は、アノードとストリップとの間の間隙中に供給されている。この電解酸洗の方法の利点は、硝酸を使用しないので、ＮＯＸの形成が起こらないということである。この方法の欠点は、用途の狭い範囲に由来している。この装置を有する方法は、冷間圧延された特殊鋼の酸洗のみに使用される。
【０００５】
非特許文献１は、専ら金属表面の電解酸洗に関する方法を記載している。全体的に、アノード上の酸素の直接的生成について述べており、この酸素が酸洗を可能としている。
【０００６】
特許文献２は、Ｆｅ３＋の塩、及び／又はＨ２Ｏ２のようなガス状の又は液状の酸素担持体、空気、及び追加的な酸素の組み合わせを通じた、金属表面を酸洗する可能な方法について記載しており、酸洗はアノードの酸化から得られている。この場合、０．５〜１．０Ａ／ｄｍ２が電解液に印加されている。
【０００７】
特許文献３は、ストリップの電解メッキ（ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｉｃ  ｇａｌｖａｎｉｚｉｎｇ）のための方法を開示している。この方法は、電極の垂直配置を含んでいる。電解液は、アノードとストリップとの間隙に供給されている。電圧はストリップに直接印加され、すなわちカソードが電流ローラの形をとっている。
【０００８】
また、特許文献４は高い電流密度での特殊鋼の酸洗を開示している。しかし、４０〜６０Ａ／ｄｍ２の電流密度が、実物大の製造設備における合理的な範囲（＜４０ボルト）内でこれを達成することのできる装置を調査すること無しに、記載されている。
【０００９】
さらに、特許文献５は、垂直なストリップの供給、間接的な電流供給及びストリップと電極との間の間隙中の電解液の重力による流れを有する電解酸洗のための装置について記載している。この場合、電流はストリップの長い距離に及ぶ必要があり、変更ローラの１つで方向を変えられる危険性、及びこれによってもはや酸洗工程をかけられないという危険性がある。
【特許文献１】オーストリー特許発明第４０６３８５号明細書
【特許文献２】独国特許公開第３９３７４３８号明細書
【特許文献３】オーストリー特許発明第３７３９２２号明細書
【特許文献４】米国特許第４３６３７０９号明細書
【特許文献５】英国特許第２１４００３６号明細書
【特許文献６】国際公開第０４／００５５８５号パンフレット
【非特許文献１】“金属の酸洗”Ｄｒ．  Ｒａｆａｅｌ  Ｒｉｔｕｐｅｒ著、Ｄｒ．  Ｒａｆａｅｌ  Ｒｉｔｕｐｅｒにより出版
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、既存の電解酸洗の方法及び対応する装置を改良し、酸洗時間の削減を可能とすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この目的は、請求項１にかかる方法と請求項１５にかかる装置とによって達成される。少なくとも一のダイアモンド電極及び／又は少なくとも一の、例えば鉛９３錫７の電極のような鉛／錫電極が使用される。ダイアモンド電極及び鉛／錫電極の独特な特性は、水置換（ｗａｔｅｒ  ｒｅｐｌａｃｅｍｅｎｔ）の形態である。電解液の水は通常、水素と酸素とに分解されるが、ダイアモンド電極及び／又は鉛錫電極は、オゾン又は高度に反応性を有するハイドロキシルラディカルが酸素の代わりに形成される作用領域を提供する。本発明の素晴らしい結果の１つは、従来の化学的スケール除去に比べて、また従来の電解酸洗に比べて、酸洗時間が大幅に削減されることである。この理由は、非常に有効なＯＨラディカル、ｓｔａｔｕ  ｎａｓｃｅｎｄｉの酸素の形成、及び同時に生じる化学的腐食又は金属表面上の酸素の溶解である。人工的に生産されたダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極の使用によって、酸洗溶液の電解において金属表面に酸素の代わりに非常に有効なＯＨラディカルを形成することができる。これらは酸洗溶液に含まれるすべての溶解物質を酸化させる。さらに、ダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極は、活性な酸洗溶液に関して高度の安定性を有している。
【００１２】
本発明の一の可能な発展形においては、電流は一方において平板製品に直接供給され、他方において１対の電極に供給される。フラット製品と一方の電極とをアノードとして、また他方とをカソードとして接続することができる。電流をアノードの（フラット製品の）一方の側に供給することは、ｓｔａｔｕ  ｎａｓｃｅｎｄｉの酸素を生成させるが、ダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極のアノードとしての使用は同時にＯＨラディカルを形成し、このＯＨラディカルが金属表面の酸洗を可能とする。
【００１３】
従って、アノード  （鋼ストリップ又は鋼平板）  上の酸素の生成、及び／又はアノード（電極）上のＯＨラディカルの形成は、硝酸ＨＮＯ３を置換し、酸洗溶液は金属錯化合物を形成し、よって特殊鋼及び／又は炭素鋼の表面からスケールを除去することができる。酸洗溶液（フッ酸（ＨＦ）、硫酸（Ｈ２ＳＯ４）、燐酸（Ｈ３ＰＯ４）、塩酸（ＨＣｌ）、混酸、又は硫酸ナトリウム（Ｎａ２ＳＯ４）のような無機酸）は、ここでは直流のための担持媒体として、及び、同時に鋼表面の化学的スケール除去のための酸洗溶液として働く。金属ストリップとすることができるアノードへの電流の直接供給を通じて、ｓｔａｔｕ  ｎａｓｃｅｎｄｉの酸素がアノードの酸化によって生成される。また、アノードは人工的に生産されたダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極を備え、ダイアモンドは対応する基板材料に適用されるとともに、好適な元素のドーピングによって導電性を有するようにされている。
【００１４】
ダイアモンド電極を生産する方法は、当業者にとって既知である。以下の生産方法は例として記載されている。
１）特に、化学的気相成長（ＣＶＤ）工程によって、基板材料（例えば、ニオビウム）上に直接ボロンをドーピングしたダイアモンドを生産することによる。
２）金属又は合金とダイアモンド粒子との間に導電性を有する接続が生まれるように、金属又は合金の表面の中に、ドーピングされ人工的に生産されたダイアモンドで構成された粒子を埋め込むことによる（特許文献６を参照のこと）。
３）導電性を有するプラスティックの中にドーピングされ人工的に生産されたダイアモンドで構成された粒子を埋め込むことによる。
【００１５】
本発明の一の有利な発展形は、直流が、好ましくは直接的に、酸洗されるフラット製品（ストリップ）とダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極とに断続的に印加されることを特徴とする。しかし、また、直流は継続的に、すなわち絶えず供給することができる。
【００１６】
本発明の有利な発展形は、直流が酸洗されるフラット製品（ストリップ）及び電極に交互に印加されることを特徴とする、すなわち、常にカソード電流からアノード電流へ変化し、次いでカソード電流へ再度戻る直流によって、電極を起動することができるということを意味している。
【００１７】
Ｎａ２ＳＯ４のような無機酸、混酸、及び／又はアルカリ電解液は、電解液として使用することができる。
【００１８】
フラットメタル製品（例えば、ストリップ）の表面のスケールの化学的侵食及び／又は分解のために、１０ｇ／ｌ〜２５０ｇ／ｌの無機酸濃度の無機酸と水との混合物を使用することができ、無機酸の濃度は特に５０〜２００ｇ／ｌ、好ましくは１５０ｇ／ｌである。
【００１９】
特に、電解液は水とＮａ２ＳＯ４（硫化ナトリウム）の混合物とすることができ、電解液の成分は酸洗されるフラット製品に合わせて調整され、Ｎａ２ＳＯ４の濃度は１００〜３５０ｇ／ｌ、好ましくは１５０ｇ／ｌＮａ２ＳＯ４である。
【００２０】
しかし、電解液は混酸（フッ酸（ＨＦ）と硝酸（ＨＮＯ３）との混合物）を使用することもでき、混酸の成分は酸洗されるフラット製品（ストリップ）に合わせて調整することができ、混酸の濃度は２０〜１００ｇ／ｌＨＦ及び５０〜３００ｇ／ｌＨＮＯ３、好ましくは５０ｇ／ｌＨＦ及び１５０ｇ／ｌＨＮＯ３である。混酸が使用される場合でさえ、最少量のＮＯＸが出現した場合には、酸素又はＯＨラディカルが生成することによって、すぐに生産されたＮＯＸをＨＮＯ３へ再び酸化する。
【００２１】
また、電解液として、従来の化学的酸洗に一般的に使用される濃度及び成分に対応する濃度及び成分の混酸を使用することも可能である。
【００２２】
ＨＮＯ３を置き換えるための、本発明による直流の使用は、不可避的に生産されるＮＯＸを削減するためになんらの対策を講ずる必要も無い、ということを意味している。尿素又は過酸化水素の使用を不要にすることもできる。
【００２３】
どのような場合においても、酸洗浴の濃度を正確に実現することを保障する装置を提供することが可能である。これは、例えば鋼ストリップのようなフラット製品の表面の品質を改善することを可能としている。
【００２４】
電流密度（単位面積当たりのアンペア数）は、酸洗されるフラット製品に合わせて調整することができ、電極上の電流密度は０．５〜１５０Ａ／ｄｍ２である。電解液の温度は酸洗されるストリップに合わせて調整され、２０〜９０℃、好ましくは７５℃である。
【００２５】
本発明の有利な発展形は、ストリップの金属表面を必要に応じて研磨するように、電圧を様々に調節できることを特徴としている。
【００２６】
本発明の有益な発展形は、１対のダイアモンド電極及び／又は１対の鉛／錫電極とストリップとの間の間隙への電解液供給量（酸洗溶液の量）が制御されることを特徴としている。このことにより、ストリップは油圧的に又は機械的に電極の対の間の中心に正確に位置決めすることができる。このように、ダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極とストリップとの間の距離を最小値まで削減することが可能である。
【００２７】
本発明の有利な発展形は、ダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極の間の間隙を変えることが可能であることを特徴としている。このことは、ストリップをストリップの起伏に合わせて容易に調整することができるということを意味している。
【００２８】
本発明のさらに有益な発展形は、ストリップの起伏が決定され、ダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極がストリップから離隔され、ストリップとダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極との間のいかなる接触（これは、短絡を生じさせる）をも避けられるようにされていることを特徴としている。
【００２９】
ストリップとダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極との間の距離を設定し制御するための装置をさらに設けることができる。ストリップとダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極との間の好適な距離は、電流を調整することを可能とし、このことによって電力経費を削減することを可能としている。
【００３０】
本発明による装置の一の可能な実施形態は酸洗浴であり、直流がストリップと電極（カソード及びアノード）との間の導電性接点に直接印加されている。この場合、案内装置を設けることができ、この案内装置によってストリップを水平に対する所定の角度に案内することができ、電極を同じ角度に配置することができるとともに、装置を設けることによって、電解液をストリップと電極との間に導入することができる。特に、ストリップは鋭角で、特に３０〜４５度の角度で斜め下方向に導くことができ、次いで少なくとも一の偏向ローラを所定の角度、特に３０〜４５度の角度で斜め上方向に導くことができ、ストリップは容易に、かつ効果的に酸洗浴の中に導入することができる。斜めに傾けられた配置は浴のスペースを削減する。従来の化学的酸洗設備に比べて実質的に少ないスペースしか必要としない。さらに、ストリップの撓みの無い非常に効果的なストリップの案内が達成される。
【００３１】
１対の電極のうちの少なくとも一方の電極及び変更ローラの位置は、フラット製品の動きの方向とは垂直に調整することができる。電極及び変更ローラは、ストリップが挿入されたときに、油圧式及び／又は機械的に邪魔にならないように持ち上げることができる。
【００３２】
このような傾斜した酸洗浴は、ストリップの導入がダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極の折りたたみ、及び変更ローラの同時の持ち上げによって実質的に容易とすることができるので、バッチ式供給の酸洗及びいわゆる連続酸洗の両方に使用することができる。
【００３３】
本発明の有利な変形は、電解液（酸洗溶液）の供給量のための制御装置の装備によって達成され、別々の制御装置がストリップとダイアモンド電極及び／又は鉛／錫電極との間のそれぞれの液体の入り口に設けられ、流量はストリップの幅に合わせて調整されるとともに、異なる幅のストリップに対して最適になるように設定されている。ストリップの結果的な油圧式又は機械的な案内は、ストリップの位置をダイアモンド電極の対及び／又は鉛／錫電極の対の間の距離に合わせて調整することができる、ということを意味している。
【００３４】
本発明の一の利点は、費やされた酸洗、すなわち使用された酸洗溶液がいかなる硝酸塩をも含有せず、よってより簡単に、また経費の面から効果的に回復できるということである。費やされた溶液の熱分解のためのエネルギーの経費は、従来技術のためのものより実質的に少ないことが証明されている。
【００３５】
すべての計測値のモニタリング及び、ＨＮＯ３と尿酸とのためのタンクユニットとポンプは不要とすることができ、結果として主な経費削減となる。
【００３６】
ストリップの搬送方向に配置された分離装置は、ストリップがストリップと電極との間にいかなる接触をも許容せずにできる限り正確に電極に近づけられることを保障している。このことは、ストリップが電極と短絡を形成しないことを保障している。
【００３７】
本発明の有利な変形は、電流の制御によってストリップの表面が迅速、かつ効果的に、また、ＮＯＸのような有害なガス又は使用された酸洗溶液中の硝酸塩による環境の汚染無しに、品質等級に合った酸洗がなされることを可能としている。
【００３８】
本発明は後述に図面に例を参照しつつ説明されている。
【００３９】
図１は、従来技術による酸洗浴１を示している。金属ストリップ２は、脱脂浴５を通じて取り外しリール４４の上から供給され、次いで、混酸（ＨＦ／ＨＮＯ３）を使用した酸洗浴１中でのスケールの化学的除去に入る前に、洗浄機４中において脱イオン水で洗浄される。混酸３は、ポンプ７によってパイプ６を介して酸洗浴１の中に供給され、パイプ８を介して例えば中間槽９の中に導出される。中間槽９では、混酸３が再循環されている。尿酸溶液１０の測量された添加は、ポンプ１１によって直接酸洗浴１の中に行われる。これは、ＮＯＸの割合が削減されるように環境的理由によって行われる。酸洗浴１の後、金属ストリップ２は洗浄機１２の中で脱イオン水によって付着性の混酸を洗浄され、乾燥機の中でブロワーによって水分を除去され、次いで、巻き取りリール４５上に巻き取られる。
【００４０】
図２は、従来技術による酸洗浴１を示している。金属ストリップ２は、例えば硫酸ナトリウム（Ｎａ２ＳＯ４）のような電解液３を通じてカソード３４とアノード３５との間に供給される。電極とストリップとの間の距離は、通常約７０〜１５０ｍｍであり、金属ストリップ２は、例えば設備の中央部の支持ローラによって軽減することができる所定の撓みを有している。電解液３は、例えばパイプ８によって中間槽９の中に導出され、ポンプ７によってパイプ６を介して酸洗浴１の中に戻され、ここから電解液３は再循環される。
【００４１】
図３は、本発明による酸洗浴１３を示し、この酸洗浴１３は酸洗浴１の機能を充足している。例えば特殊鋼及び／又は炭素鋼のストリップである金属ストリップ２は、１対の電極の電極１５の間の間隙の中に供給される。それぞれの電極１５の対の一方の電極及び電流ローラ１４（又は金属ストリップ２）は常に調整器１９に接続されている。
【００４２】
上部の電極１５はそれぞれの場合において方向２０に動かされ、変更ローラ１４’は方向２０’に動かされ、金属ストリップ２と電極１５との間の距離は調整可能である。これは、電流の最適な使用を可能としている。電解液又は酸洗溶液３は、ポンプ７によってパイプ６を介して交互に供給され、パイプ２１、２１’、２１”、２１’ ’’が設けられ、これらパイプは金属ストリップ２と電極１５との間の間隙２４、２４’、２４”、２４’  ’’の中に電解液３を供給している。電解液又は酸洗溶液は、制御バルブ２２、２２’、２２”、２２’ ’’によって要求される条件に調整される。金属ストリップ２と電極１５の間を通過した後、電解液３は電解酸洗浴１３の下部２３に収集され、ポンプ７に戻される。分離器２５、２５’、２５”、２５’ ’ ’はストリップの搬送方向に配置される。
【００４３】
下部電極は、それぞれの場合において調整器１９の負極出力端子に接続され、調整器１９の正極出力端子は電流ローラ１４に接続されている。上部電極１５は、それぞれの場合において調整器１９の負極出力端子に接続され、金属ストリップは調整器１９の正極出力端子に接続されている。ダイアモンド電極又は鉛／錫電極の形態をとっている電極１５に対して、直流は交互に印加される必要がある。
【００４４】
本発明のさらに有利な発展形（具体例に限られるというわけではない）は、入り口側の下部電極を調整器の正極出力端子に接続するようにされており、アノードとして作用している。金属ストリップは、同様に正電位に接続されている。次いで、上部電極は、調整器の負極出力端子に接続され、カソードとして作用している。出口側においては、電極の接続は逆である。すなわち出口側では、下部電極がカソードとして作用し、上部電極がアノードとして作用している。このように、ストリップの上部側及び下部側の両方が、アノード上に形成されるＯＨラディカルの領域となる。この発展形においては、入り口側及び出口側にそれぞれ一の調整器１９しか設けられていない。
【００４５】
後者の可能な実施形態の代替例（具体例に限られるわけではない）は、電流は金属ストリップ２には接続されず、常にカソード及びアノードとして作用している電極の対にのみ電流が供給されるようにされている。
【００４６】
図４は、巻き戻しリール４４及び巻き付けリール４５を有する設備を示しており、金属ストリップ２が対応する速度で処理を通じて引っ張られるのを可能としている。処理は化学的及び／又は電気的脱脂５を備え、油で汚れたストリップと、電解酸洗浴１３とを洗浄することができる。電解酸洗浴１３は調整器に接続されている。電極１５の対は、１対の電極１５のみが電流ローラ１４と調整器に一時に接続されるように配置されている。様々な電圧を設定する調整器によって、断続的で交互の及び／又は連続的な電圧を電極に印加することができ、金属ストリップ２の表面を必要に応じて研磨することができる。金属ストリップ２は、電流ローラ１４及び偏向ローラ１４’上で撓んでいる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】混酸によって化学的な除去を行う従来型の酸洗設備の概略図である。
【図２】“中性電解液”法に基づく設備の図である。
【図３】本発明による方法に基づく酸洗浴の図である。
【図４】本発明による方法に基づく設備の図である。
【符号の説明】
【００４８】
１・・・酸洗浴
２・・・金属ストリップ
３・・・電解液
４・・・洗浄機
５・・・脱脂浴
６・・・ポンプ７から酸洗浴１、１３へのパイプ
７・・・ポンプ
８・・・酸洗浴１から中間槽９へのパイプ
９・・・中間槽
１０・・・尿酸溶液
１１・・・尿酸溶液１０のためのポンプ
１２・・・洗浄機
１３・・・電解酸洗浴
１４・・・電流ローラ
１４’・・・偏向ローラ
１５・・・電極
１６・・・乾燥機
１９・・・調整器
２０・・・電極１５の動きの方向
２０’・・・偏向ローラ１４’の動きの方向
２１、２１’、２１”、２１’ ’ ’・・・電解液供給パイプ
２２、２２’、２２”、２２’ ’ ’・・・電解液供給制御バルブ
２３・・・酸洗浴の下部
２４、２４’、２４”、２４’ ’ ’・・・金属ストリップ２と電極１５との間の間隙
２５、２５’、２５”、２５’ ’ ’・・・分離器
３０・・・液量レベル
３４・・・カソード
３５・・・アノード
４４・・・巻き戻しリール
４５・・・巻き取りリール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【手続補正書】
【提出日】平成18年6月20日(2006.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一のダイアモンド電極及び／又は、例えば鉛９３／錫７電極のような少なくとも一の鉛／錫電極（１５）を備える少なくとも１対の対向する電極が使用され、電流は、一方では前記フラット製品（２）に直接供給され、他方では前記一対の電極に供給され、前記電極の対の前記ダイアモンド及び／又は鉛／錫電極（１５）及び必要に応じて前記フラット製品（２）はアノードとして接続され、他方の前記電極（１５）はカソードとして接続され、前記フラット製品（２）は、前記１対の電極間に供給されることを特徴とする、フラットメタル製品（２）、特に特殊鋼及び又は炭素鋼のストリップの電解酸洗のための方法。
【請求項２】
電流は、断続的に供給されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
電流は、一定して供給されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
直流は、酸洗される前記フラット製品（２）及び前記電極（１５）に交互（逆パルスプレーティング）に印加されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
１０ｇ／ｌ〜２５０ｇ／ｌの無機酸濃度、特に５０〜２００ｇ／ｌ、好ましくは１５０ｇ／ｌの無機酸濃度の無機酸と水との混合物が使用されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
水とＮａ２ＳＯ４（硫化ナトリウム）との混合物が使用され、酸洗される前記フラット製品に応じて、Ｎａ２ＳＯ４の濃度は１００〜３５０ｇ／ｌＮａ２ＳＯ４、好ましくは１５０ｇ／ｌＮａ２ＳＯ４に設定されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
混酸が使用され、その濃度が、酸洗される前記フラット製品（２）に応じて、２０〜１００ｇ／ｌＨＦ及び５０〜３００ｇ／ｌＨＮＯ３、好ましくは５０ｇ／ｌＨＦ及び１５０ｇ／ｌＨＮＯ３に設定されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
電極上の電流密度は、酸洗される前記フラット製品（２）に応じて、０．５〜１５０Ａ／ｄｍ２に設定されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
電解液の温度は、酸洗される前記フラット製品（２）に応じて、２０〜９０℃、好ましくは７５℃に設定されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
電圧は、調節可変であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記フラット製品と前記電極との間の距離は、前記フラット製品（２）と前記電極（１５）との間に供給される電解液の量に伴って調製されることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記１対の電極の電極（１５）間又は前記電極（１５）と前記フラット製品（２）との間の距離は、前記フラット製品の起伏に合わせて調節されることを特徴とする請求項２〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
少なくとも１対の対向する電極（１５）が設けられ、該１対の電極の間にフラット製品（２）を供給することができ、前記電極の対は、少なくとも一のダイアモンド電極及び／又は、例えば鉛９３／錫７電極のような少なくとも一の鉛／錫電極を備え、電流を、一方では前記フラット製品（２）に直接供給し、他方では前記電極（１５）に供給するための装置（１９）が設けられ、前記電極の対のうちの一の電極がカソードとして接続され、少なくとも一のダイアモンド電極及び／又は少なくとも一の鉛／錫電極を備える他方の前記電極がアノードとして接続され、前記フラット製品は必要に応じてアノードとして接続することができることを特徴とする、フラットメタル製品（２）、特に特殊鋼及び又は炭素鋼のストリップの電解酸洗のために請求項１〜１２のいずれか一項による方法を実施するための装置。
【請求項１４】
案内装置（１４、１４’）が設けられ、この装置によってストリップ（２）を水平に対する所定の角度に案内することができ、電極（１５）は、同じ角度に配置され、装置（２１，  ２１’，  ２１”，  ２１’’’，  ２２，  ２２’，  ２２”，  ２２’’’）が設けられ、この装置によって、電解液を前記ストリップ（２）と前記電極（１５）との間に導入することができることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
ストリップを、斜め下に所定の、特に３０〜４５度の角度で導入することができ、次いで、少なくとも一の偏向ローラ（１４’）を斜め下に所定の、特に３０〜４５度の角度で導入することができることを特徴とする請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記１対の電極のうちの少なくとも一方の電極１５）と前記偏向ローラ（１４’）とは、前記フラット製品の動きの方向に対して垂直に調整することが出来ることを特徴とする請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１７】
前記１対の電極の電極間の間隙は調製可能であることを特徴とする請求項１３〜１６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１８】
電解液の供給量を調整するために、制御装置が設けられていることを特徴とする請求項１３〜１７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１９】
少なくとも一の分離機が最後部の一の前記電極に嵌合されていることを特徴とする請求項１３〜１８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２０】
制御装置が前記電極（１５）への電流を制御するために設けられていることを特徴とする請求項１３〜１９のいずれか一項に記載の装置。
【国際調査報告】
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