(57)【要約】  本発明は、βアノマーが富化された２１−デオキシ−２１，２１−Ｄ−リボフラノシルジフルオロヌクレオシド〔式(II)〕、およびこれらの生理学的に許容できる塩、特に、ゲムシタビン塩酸塩〔式(IIb)〕のβ-富化されたアノマーを99％より高い純度で調製するための、式(I)の新規なトリクロロアセトイミダートを利用することによる、高選択的、簡単、かつ経済的なグリコシル化法を提供する。2008531680.tif 000058
2008531680.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(I)：
【化１】
2008531680.tif 000051
（式中、Ｐは、水素またはヒドロキシ保護基である）
の化合物。
【請求項２】
前記保護基Ｐが、ホルミル、2-クロロアセチル、ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、4-ニトロベンジル、フェノキシカルボニル、tert-ブチル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、アリル、テトラヒドロチエニル、2-メトキシエトキシメチル、メトキシアセチル、フェノキシアセチル、イソブチリル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、メシル、トリメチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、メチルジイソピルシリル、トリイソプロピルシリル、またはtert-ブチルジメチルシリルから選択される、請求項１に記載の式(I)の化合物。
【請求項３】
式(I)の化合物の調製方法であって、
式(IV)：
【化２】
2008531680.tif 000052
（式中、Ｐは請求項１で定義されたとおりである）
のラクトール化合物を、不活性有機溶媒中、塩基の存在下で、トリクロロアセトニトリルと反応させる工程を含む、調製方法。
【請求項４】
前記有機溶媒が、ハロゲン化炭化水素、酢酸の(C1〜4)アルキルエステル、エーテル、および芳香族炭化水素から選択される、請求項３に記載の調製方法。
【請求項５】
前記不活性有機溶媒が、ジクロロメタン、1,2‐ジクロロエタン、酢酸エチル、ジイソプロピルエーテル、またはトルエンから選択される、請求項３または４に記載の調製方法。
【請求項６】
前記塩基が、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、シクロヘキシルアミン、ピリジン、2,4-ジメチルアミノピリジン、およびN-メチルモルホリンから選択される、請求項３〜５のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項７】
前記塩基が、触媒量、当モル量、または式(IV)の化合物1モル当たり1〜3モルのモル比で、好ましくは触媒量で使用される、請求項３〜６に記載の調製方法。  
【請求項８】
トリクロロアセトニトリルが、式(IV)のラクトール化合物に対して当モル量、または式(IV)の化合物1モル当たり1〜20モルのモル比で、好ましくは式(IV)の化合物1モル当たり1.0〜15モルのモル比で使用される、請求項３〜７のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項９】
前記反応が、-20℃〜20℃の範囲の温度にて行われる、請求項３〜８のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１０】
式(IIb)： 
【化３】
2008531680.tif 000053
のゲムシタビン塩酸塩の99％より高度にβ-富化されたアノマーを調製するための立体選択的なグリコシル化法であって、
ａ）式(I)： 
【化４】
2008531680.tif 000054
（式中、Ｐは請求項１で定義されたとおりである）
の化合物を、不活性有機溶媒中、任意でルイス酸触媒の存在下で、式(Va)または(Vb)：
【化５】
2008531680.tif 000055
（式中、Ｒ４は窒素保護基であり、Ｒ５はヒドロキシ保護基である）
のシトシンでグリコシル化して、式(IIa)： 
【化６】
2008531680.tif 000056
（式中、ＰおよびＲ４は、請求項１および上記により定義されたとおりである）
の保護されたゲムシタビン遊離塩基にする工程；
ｂ）C1〜3アルコールの存在下アンモニア水で、あるいはヒドロキシイオン交換陰イオン交換樹脂で、前記式(IIa)の化合物を処理することによって、前記保護基を除去して、式(IIc)：
【化７】
2008531680.tif 000057
のゲムシタビン遊離塩基のβ-富化されたアノマーを得る工程；
ｃ）こうして得られた前記式(IIc) のゲムシタビン遊離塩基を、C1〜3アルコール中、塩化水素と接触させて、式(IIb) のゲムシタビン塩酸塩の95％以上にβ-富化されたアノマーを、好ましくは95％以上の純度で得る工程；および
ｄ）任意で、C2〜3脂肪族有機酸と水との混合物からの結晶化によって、式(IIb) のゲムシタビン塩酸塩のβ-アノマー含量を99％よりさらに高度に富化させる工程
を含む、グリコシル化法。
【請求項１１】
式(Va)および(Vb)の化合物における前記窒素保護基Ｒ４および前記ヒドロキシル基Ｒ５が、アセチルまたはトリアルキルシリルである、請求項１０に記載の調製方法。
【請求項１２】
前記不活性有機溶媒が、アセトニトリル、トルエン、キシレンおよびその異性体、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,1‐ジクロロエタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン、およびアニソールから選択される、請求項１０または１１に記載の調製方法。
【請求項１３】
前記ルイス酸触媒が、四塩化スズ、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、トリメチルシリルノナフルオロブチルスルホネート、過塩素酸トリメチルシリル、ボロントリフルオライドジエチルエーテラート、およびトリメチルシリルテトラフルオロボレートから選択される、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１４】
式(Va)および(Vb)のシトシン化合物が、式(I)の化合物1モル当たり1〜2.0モルのモル比で用いられる、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１５】
C1〜3アルコールが、メタノール、エタノール、1-プロパノール、または2-プロパノールから選択される、請求項１０〜１４のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１６】
C1〜3アルコールの存在下、アンモニア水で、式(IIa)の化合物を処理する工程を含む保護基Ｐ、Ｒ４、およびＲ５の前記脱保護が、室温から約60℃までの温度にて行われる、請求項１０〜１５のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１７】
陰イオン交換樹脂が強塩基陰イオン交換樹脂である、請求項１０〜１６のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１８】
前記強塩基陰イオン交換樹脂が、アンバーライト樹脂類、例えば、FPA40 Cl、FPA90 Cl、FPA91 Cl、FPA97 Cl、FPA98 Cl、IRA 400、IRA402 Cl、およびIRA410 Clから選択される、請求項１０〜１７のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１９】
C2〜3脂肪族有機酸が酢酸またはプロピオン酸である、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の調製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、式(I)で示される新規な中間体、これらの調製方法、ならびに、式(II)で示される、治療的および商業的に有用な21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドおよびこれらの生理学的に許容できる塩のβ-富化されたアノマーの調製における、これらの使用を提供する。
【背景技術】
【０００２】
式(II)：
【化１】
2008531680.tif 000003
（式中、Ｒは、ピリミジン誘導体またはプリン誘導体から選択される塩基を表し、Ｐは、水素またはヒドロキシ保護基を表す）
で示される21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドは、有用な治療上の特性を有する。このような治療的および商業的に有用な1-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドの１つは、式(IIb)：
【化２】
2008531680.tif 000004
で示されるのゲムシタビン塩酸塩であり、最初にHertelらによって米国特許第4,526,988号、その一部継続出願の米国特許第4,692,434号および分割出願の米国特許第4 808,614号等で、有用な抗ウイルス物質として開示され、その後、Grindeyらによって米国特許第5,464,826号で、哺乳動物における感受性腫瘍の有用な抗腫瘍剤として開示されている。
【０００３】
米国特許第4,526,988号、同第4,692,434号、および同第4 808,614号には、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドの合成方法が、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩の合成方法を含めて開示されている。この合成方法は、アルキル-3-ジオキソラニル-2,2-ジフルオロ-3-ヒドロキシプロピオネート(1)を加水分解してラクトン(III)を得、その後そのヒドロキシル基を適切に保護した後、還元して、式(IV)の保護された21-デオキシ-21,21-ジフルオロリボースを得る工程を含む。こうして得られた化合物(IV)の遊離のヒドロキシ基は、適切な誘導体(2)に変換される。誘導体(2)において、Ｌ基は、適切な塩基とのカップリング反応のための良好な脱離基として働いて、ヒトロキシ保護基の除去後に式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドを与える。この化学反応を、以下に要約する： 
【０００４】
米国特許第4,526,988号、同第4,692,434号、および同第4 808,614号には、化学者が常習的に用いている任意の保護基を用いることができると記載されているにもかかわらず、シリルヒドロキシ保護基、特にtert-ブチルジメチルシリル基が好ましい。これらの基は、通常の条件下で開裂され難く、ハロゲン化水素酸と接触させるだけで除去することができるためである。ラクトン(III)のケト官能基のヒドロキシ化合物(VI)への還元は、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤を用いて達成される。
塩基との反応のための化合物(IV)の好適な脱離基は、有機合成において通常用いられる脱離基、例えば、メタンスルホニル、アセテート、ハロゲンなどである。
【０００５】
しかし、米国特許第4,526,988号、同第4,692,434号、および同第4 808,614号に開示された方法は、高価な、tert-ブチルジメチルシリル基のようなヒドロキシ保護基、および水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化リチウムアルミニウムのような還元剤を用いる。これらの還元剤は、危険であり、特別の取扱注意を要し、これによって製造のためのコストとリスクを増大させる。  
【０００６】
さらに、式(III)のラクトンは、キラル中心を有しているため、エリトロ鏡像体およびトレオ鏡像体の混合物として得られる。ここで、エリトロ鏡像体およびトレオ鏡像体のうち、エリトロ鏡像体が生物学的により活性であり、天然に存在するリボースの立体化学を有する炭化水素を与えるため、エリトロ鏡像体が好ましい。しばしば、前記鏡像体を分離するために、煩雑で高価なクロマトグラフィー処理手順が頼みとされる。
【０００７】
加えて、ラクトン(III)がヒドロキシ化合物(IV)に還元されるときに第二のキラル中心が生じてα-およびβ-アノマーの混合物を与える。これらのアノマーのうち、後者、すなわちβ-アノマーが、より生物学的に活性であり好ましい。米国特許第4,526,988号、同第4,692,434号、および同第4 808,614号に開示された方法では、式(IV)の保護された21-デオキシ-21,21-ジフルオロリボースがα-およびβ-アノマーの4:1の比の混合物として生成する。この場合も同様に、しばしば、望まれていないα-アノマーを除去するための手の込んだ精製技術が必要とされ、さらに、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドの所望するβ-アノマーの製造コストを増加させる。
【０００８】
【化３】
2008531680.tif 000005
【０００９】
式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドおよびその中間体の製造のための多くの改良が報告されており、これを以下に要約する：
【００１０】
ｉ）Chouらは、米国特許第4,965,374号で、式(III)のラクトン化合物のエリトロ鏡像体の調製方法を開示している。ここでは、ヒドロキシ保護基Ｐが95％より高い純度でベンゾイル基であり、エリトロおよびトレオ鏡像体の混合物をジクロロメタンに溶解する工程、この溶液を-5℃〜10℃に冷却する工程、および、そのまま、あるいは任意でヘキサンを添加した後に、沈殿したエリトロおよびトレオ鏡像体を濾過することによって集める工程を含む。
【化４】
2008531680.tif 000006
【００１１】
ｉｉ）Chouらは、米国特許第5,223,608号で、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩または対応する臭化水素酸塩のβ-アノマーを約80％の純度で得る方法であって、α-およびβ-アノマーの1:1混合物を約50℃〜100℃の温度にて水に溶解する工程、次いでこの溶液にアセトンを添加する工程、および、この混合物を約-10℃〜50℃に冷却した後で沈殿した前記約80％の純度のβ-アノマーを集める工程を含む方法を教示している。
米国特許第5,223,608号には、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩または対応する臭化水素酸塩のβ-アノマーの純度を99％に富化させるための方法であって、上述した方法によって得られるものと同様の80％の純度の物質を、同じ精製方法を用いる繰り返しの精製にかける工程を含む方法も記載されている。
米国特許第5,223,608号には、さらに、β-アノマーが富化された、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩または対応する臭化水素酸塩を99％の純度で得るための方法であって、α-およびβ-アノマーの1:1混合物を約45℃〜90℃の温度にて水に溶解する工程、次いでこの溶液のｐＨを約7.0〜9.0に調節する工程、およびこの混合物を約-10℃〜30℃に冷却した後で沈殿した前記99％の純度のβ-アノマーを集める工程を含む方法を開示している。このようにして得られた遊離の塩基は、塩化水素または臭化水素酸の存在下で同じ結晶化方法に供されて、約99％のβ-アノマーのアノマー純度で、所望する式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩または対応する臭化水素酸塩を与える。
【化５】
2008531680.tif 000007
しかし、米国特許第5,223,608号に開示された方法は、繰り返された結晶化工程が99％の純度の生成物を得るために必要とされ、製造工程を長くするだけではなく製造コストも増大させるという不利な点がある。
【００１２】
ｉｉｉ）Chouらは、米国特許第5,252,756号で、式(2)の化合物のβ-富化されたアノマーの立体選択的な調製方法を開示している。ここでは、脱離基Ｌがアリールスルホネートまたは置換アリールスルホネートから選択され、式(IV)のラクトールを、不活性溶媒中、酸スカベンジャーの存在下で、スルホン化試薬と接触させる工程を含む。
【化６】
2008531680.tif 000008
【００１３】
ｉｖ）Chouらは、米国特許第5,256,797号でさらに、式(2)の化合物のα-およびβ-アノマーの混合物の分離方法を記載している。ここでは、脱離基Ｌがアルキルするホネートまたは置換アルキルスルホネートから選択され、アノマー混合物を溶媒と接触させる工程、この混合物を加熱し、カウンター溶媒を添加する工程、次いで、温度を低くして2つの鏡像体の分離を達成する工程を含む。
【化７】
2008531680.tif 000009
【００１４】
ｖ）Chouらは、米国特許第5,256,798号で、α-アノマーが富化された(2)の化合物のアノマーの調製方法を記載している。ここでは、脱離基Ｌが対応するβアノマーからのスルホネートであり、不活性溶媒中、高温で、β-アノマーをスルホン酸の共役陰イオン源で処理する工程を含む。
【化８】
2008531680.tif 000010
【００１５】
ｖｉ）Chouらは、米国特許第5,371,210号および同第5,401,838号で、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドのβ-アノマーの調製のための立体選択的な溶融グリコシル化法を記載している。ここでは、ＲおよびＰは上述により定義したものと同様であり、式(2)のジフルオロ炭水化物（式中、Ｌは、α-およびβ-アノマーの比が1:1またはそれ以上である混合物としてのアリール／アルキルスルホニルオキシ基である）を、触媒の非存在下、100℃〜160℃の高温にて、アミノ／ヒドロキシル保護基で保護された少なくとも3モル当量の過剰の塩基Ｒと反応させる工程、次いでアミノ／ヒドロキシル保護基を除去して式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドのβ-アノマーを与える工程を含む。
【化９】
2008531680.tif 000011
しかし、この方法は、官能基の保護工程および脱保護工程を含むため長く；塩基Ｒを過剰量必要とし、さらに、反応を行うために高温を要するため、商業的な製造に最適ではない。
【００１６】
ｖｉｉ）Chouらは、米国特許第5,401,861号で、中間体化合物(2)のα-富化されたアノマーの製造方法を記載している。ここでは、脱離基はスルホニルオキシ基であり、極低温にて、ラクトール化合物(IV)のα-およびβ-アノマーの混合物の溶液をアミン塩基で処理する工程、およびスルホン化試薬を添加する工程を含む。
しかし、この方法には、-40℃〜-120℃の範囲の極低温が、α-およびβ-アノマーの分離を達成するために用いられるという制限がある。
【化１０】
2008531680.tif 000012
【００１７】
ｖｉｉｉ）Brittonらは、米国特許第5,420,266号で、有機溶媒中、ヒドロキシド塩基で処理することによる、式(II)のα-アノマーのβ-アノマーへのアノマー化方法、またはその逆のアノマー化方法を開示している。
【化１１】
2008531680.tif 000013
しかし、得られた生成物は、α-およびβ-アノマーを62:38〜97:3の範囲の比のアノマー比で含有し、言うまでもなく、少なくとも99％の純度のβ-アノマーを得るためには、さらなる結晶化工程を要する。
【００１８】
ｉｘ）Jonesは、米国特許第5,424,416号で化合物(II)のβ-富化されたアノマー調製方法であって、式(IV)のラクトールの溶液を-40℃〜-120℃の範囲の温度にて塩基と接触させる工程、次いで、スルホン化試薬を添加して式(2)のα-富化されたアノマー（式中、Ｌは、フルオロアルキルスルホニルオキシ基またはフルオロアリールスルホニルオキシ基である）を生成させる工程を含む方法を開示している。こうして得られた化合物(2)を、スルホン酸の共役陰イオンと反応させて、対応するβ-富化されたアノマー(2)（式中、Ｌは、アルキル／アリールスルホニルオキシ基である）を得る。こうして得られたβ-富化されたアノマー(2)を50℃〜120℃の温度に加熱して対応するα-富化されたアノマー(2)（式中、Ｌは、アルキル／アリールスルホニルオキシ基である）を得る。このα-富化されたアノマー(2)を、不活性溶媒中、23℃〜170℃の温度にて、核酸塩基陰イオンＲと接触させると、β-富化された式(II)の化合物が得られる。
【化１２】
2008531680.tif 000014
しかし、合成の長さ、非常に低い温度、および非常に高い温度が、この方法の大きな制限である。
【００１９】
ｘ）Kjellは、米国特許第5,426,183号で、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドのα-およびβ-富化されたアノマーの調製のための、触媒的、立体選択的な方法を記載している。ここでは、ＲおよびＰは、上述により定義したものと同様であり、式(2)のジフルオロ炭水化物（式中、Ｌは、α-およびβ-アノマーの比が1:1またはそれ以上である混合物としての、スルホニルオキシ基、シアノ基、ハロゲン基、カルボアルコキシ基等である）を、トリフルオロメタンスルホン酸、ナノフルオロブタンスルホン酸、硫酸、過塩素酸、硝酸、トリフルオロ酢酸等のカリウム／バリウム／セシウムトリアルキルアンモニウム塩から選択される触媒の存在下、50℃〜100℃の高温にて、アミノ／ヒドロキシが保護された必須の塩基Ｒと反応させる工程、次いで、アミノ／ヒドロキシ保護基を除去して式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドのβ-アノマーを得る工程を含む。
【化１３】
2008531680.tif 000015
【００２０】
ｘｉ）Hertelらは、米国特許第5,480,992号およびその分割の米国特許第5,541,345号で、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドの別の調製方法を記載している。ここでは、ＲおよびＰは、上述により定義したものと同様であり、式(3)のアミンを式(4)の非環式の化合物（式中、Ｙ基は、水素、アルキル、またはハロゲンである）と反応させる工程、次いで、環化および脱保護して化合物(II)にする工程を含む。
【化１４】
2008531680.tif 000016
【００２１】
ｘｉｉ）Chouらは、米国特許第5,453,499号で、式(2)のハロゲン化合物のα-アノマーの立体選択的な調製方法を記載している。ここでは、Ｌ基は、Ｌ基がスルホニルオキシ基である対応するβ-アノマー化合物からのハロゲンであり、不活性溶媒中、β-アノマー化合物をハロゲン化物イオン源で処理する工程を含む。このハロゲン化合物は、式(II)の化合物の中間体である。
【化１５】
2008531680.tif 000017
【００２２】
ｘｉｉｉ）Wildfeurは、米国特許第5,521,294号で、必須のシトシンを式(5)の中間体と反応させる工程を含む、式(IIb)のゲムシタビンの調製方法を記載している。
【化１６】
2008531680.tif 000018
【００２３】
ｘｉｖ）Wirthらは、米国特許第5,559,222号およびその分割の米国特許第5,608,043号で、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩の調製方法であって、本質的に、米国特許第4,526,988号、同第4,692,434号、および同第4 808,614号に記載されている調製方法の改良である方法を開示している。この改良法は、式(IV)のラクトール化合物を5-O-トリフェニルメチル誘導体(6)に変換する工程、次いで、メタンスルホニルクロライドと反応させてメシル誘導体(7)を得る工程を含む。その後、このメシル誘導体(7)を、シリル化ピリミジン塩基と反応させ、次いで保護基を除去してアノマーの混合物としてのゲムシタビン誘導体を得、これを塩基で処理して98％の純度のβ-アノマーを得る。
【化１７】
2008531680.tif 000019
しかし、この製法で報告された全収率は化合物(IV)からわずか1.3％であり、このことがこの製法を商業的な規模において全く魅力的ではないものにしている。
【００２４】
ｘｖ）Chouは、米国特許第5,594,124号で、化合物(II)のβ-富化されたアノマーを調製するための立体選択的な製法であって、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、ジクロロフルオロメタン、アセトン、トルエン、アニソール、クロロベンゼン、またはこれらの混合物から選択される不凍不活性溶媒中、-120℃〜25℃の範囲の温度にて、化合物(2) （式中、Ｌ基は、スルホニルオキシ基である）を核酸塩基Ｒでグリコシル化する工程を含む方法を開示している。しかし、非常に低い温度の利用が、この製法の制限である。
【化１８】
2008531680.tif 000020
【００２５】
ｘｖｉ）上述の製法の変形で、Chouらは、米国特許第5,606,048号で、トルエン、キシレン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン、グライム、ジグライム、ジクロロブロモエタン、ジブロモクロロメタン、トリブロモメタン、ジブロモメタン、アニソール、およびこれらの混合物から選択される、高沸点不活性溶媒中で行われるグリコシル化法を記載している。しかし、この方法は、官能基の保護工程および脱保護工程を含み；大過剰の塩基Ｒを必要とするため長く、さらに、反応を行うために高温を必要とするため、商業的な製造に最適ではない。
【化１９】
2008531680.tif 000021
【００２６】
ｘｖｉｉ）Kjellは、米国特許第5,633,367号で、式(II)の化合物の調製方法であって、触媒量のピリジニウムフッ化水素酸塩および非反応性ハロゲン化溶媒の存在下、式(8)の2-ケトヌクレオシドをジエチルアンモニウムサルファトリフルオリド（DAST）と反応させる工程を含む方法記載している。
【化２０】
2008531680.tif 000022
【００２７】
ｘｖｉｉｉ）Berglundは、米国特許第5,637,688号、およびその継続出願の米国特許第5,808,048号で、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩の調製方法であって、メタノールまたはエタノールの存在下、無水の条件で、1-(21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-31,51-ジ-O-ベンゾイル-D-リボフラノシル)-4-アミノピリミジン-2-オン(9)のβ-アノマーのベンゾイル保護基を触媒量のアルキルアミンで除去する工程、次いで、非ブロック化されたヌクレオシドを塩酸、および、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、プロパノール、ブタノール、イソブタノール、sec-ブタノール、およびイソプロパノールから選択される非溶剤溶媒で処理する工程、ならびに、ここから式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩を回収する工程を含む。この方法には、非ブロック化反応が、用いる全ての反応剤および溶媒が無水の状態である厳密に無水の条件を必要とする点で厳格な制限がある。
【化２１】
2008531680.tif 000023
【００２８】
加えて、米国特許第4,965,374号、同第5,223,608号、同第5,434,254号、および同第5,945,547号の開示、ならびに、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩の合成方法についての同第5,945,547号の実施例7、8、9、10、11、12、および13の記載により、さらに以下の点が認められる：
ａ）実施例7および11に記載された方法によって得られたジ-O-ベンゾイル保護されたゲムシタビンのベンゾイル保護基の除去は、メタノール中の前記ジ-O-ベンゾイル保護されたゲムシタビンの溶液にアンモニアガスをバブルさせて通す工程、次いで、メタノールを蒸発させ、油性の残渣を酢酸エチルで抽出して、ゲムシタビンをα-およびβ-アノマーの1:1の混合物として得る工程によって達成される。
アンモニアガスの使用は、特別な取扱い上および安全上の注意を必要とし、これによって製造のコストおよびリスクを増大させる、
ｂ）上述の工程(a)で得られるゲムシタビンは、必ずオイルとして得られ、このオイルを熱イソプロパノール（60℃）に溶解する工程、次いで、試薬グレードの塩酸を添加し、溶液を冷蔵条件下で一晩冷却させる工程（この工程で、固体のゲムシタビン塩酸塩がα-およびβ-アノマーの1:1の混合物として分離され、集められる）によってその塩酸塩に変換される。
ｃ）工程(b)で得られる塩酸塩は、医薬品グレードの物質を得るために、これまで上述したさらなる精製工程、すなわち50℃〜100℃のアセトン-水混合液からの繰り返して行われる結晶化工程、ｐＨ7.0〜9.9の水からの繰り返して行われる結晶化工程等を必要とし、上述した全ての単位操作により、ゲムシタビン塩酸塩のβ-アノマーの収率がわずか約0.14％〜0.33％となる。
【００２９】
さらに、ゲムシタビンまたはその塩のβ-アノマーの製造方法は、必ず副生成物、特に、α-アノマーおよび式(V)のシトシンの生成を伴うことに注意されたい。
【化２２】
2008531680.tif 000024
【００３０】
世界各地の薬局方収載の仕様書は、ゲムシタビン塩酸塩に存在する上述した不純物の濃度について非常に規制が厳しく、その濃度はそれぞれ0.1％以下でなければならない。
【特許文献１】米国特許第5,945,547号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３１】
上記の内容から分かるように、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドおよび式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩の合成のための従来技術の方法には、以下の制限のいずれか１つまたはそれ以上がある：
ｉ）高価な、tert-ブチルジメチルシリル基のようなヒドロキシ保護基、および水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化リチウムアルミニウムのような還元剤の利用（これらの還元剤はさらに、危険であり、特別の取扱注意を要し、これによって製造のためのコストと危険性を増大させる）；
ｉｉ）多数の保護工程および脱保護工程の利用（製造工程を長くするだけでなく、コストを増大させる）；
ｉｉｉ）高沸点溶媒および高い反応温度の利用（高いエネルギー消費が必要となる）；
ｉｖ）約-120℃の非常に低い温度の利用（商業的規模において実際的でない）；
ｖ）核酸塩基の大過剰での利用（コストを高くするだけでなく、過剰の試薬を除去するために精巧な除去方法が必要となる）；
ｖｉ）特定の保護基の除去のための、気体アンモニア、および厳密に無水の条件の利用（特別な取扱上および安全上の注意が必要となる）；
ｖｉｉ）しばしば、望まれていないα-アノマーが過半量で生成する；
ｖｉｉｉ）煩雑で高価なクロマトグラフィー処理手順、および治療上所望されるβ-富化されたアノマーを得るための多数の結晶化技術の利用（製造工程を長くするだけでなく、コストを増大させる）；ならびに、
ｉｘ）式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドおよび式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩の、かなり低収率での生成。
【００３２】
したがって、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシド、特に、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩を製造するための改良法であって、従来技術の制限がなく、これと関係せず、目的化合物をより高い収率で提供し、薬局方の仕様に適合する方法が必要とされている。
【００３３】
本発明の目的は、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシド、特に、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩の調製方法であって、従来技術の方法の制限がない方法を提供することである。
本発明の別の目的は、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシド、特に、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩を調製するための新規な中間体を提供することである。
本発明のさらに別の目的は、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシド、特に、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩を調製するための新規な中間体の調製方法を提供することである。
本発明のさらなる目的は、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシド、特に、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩のβ-富化されたアノマーの調製方法であって、簡単かつ経済的で、危険で高価な試薬および溶媒の使用を避け、さらに、厳密に無水の条件、および取扱上および安全上の注意を必要としない方法を提供することである。
本発明のさらなる目的は、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシド、特に、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩をより高い収率での調製方法を提供することである。
本発明の別の目的は、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシド、特に、式ｃのゲムシタビン塩酸塩の調製方法であって、簡単でより面倒でない精製法を利用する方法を提供することである。
本発明のさらなる目的は、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシド、特に、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩の調製方法であって、薬局方の仕様に適合する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００３４】
式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシド、特に、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩の改良された製造方法を提供しようと努力した結果、本発明者らは、従来技術の制限のほとんど（全部ではないとしても）に、以下を活用することによって対処することができることを見出した：
ａ）目的化合物の合成のための新規な中間体；
ｂ）より低価格、より危険性が少ない試薬および溶媒；ならびに、
ｃ）新規かつ簡単な結晶化法。
本発明の基礎を形成するこれらの点を、以下に詳細に議論する：
【００３５】
まず第一に、本発明者らは、式(IV)のラクトール化合物のヒドロキシ官能基が、塩基の存在下で、トリクロロアセトニトリルと反応して、対応する式(I)： 
【化２３】
2008531680.tif 000025
のトリクロロアセトイミダート（新規であり、これまで報告されていない化合物）を与えることを見出した。
【００３６】
式(I) のトリクロロアセトイミダートの調製は、従来技術で利用されこれまで詳細に議論した他の活性な誘導体の調製と異なり、いかなる特別なまたは煩雑な注意も必要とせず、高価な試薬を利用しないため経済的であり、さらに生成物が定量的に近い収率で得られるという点で容易である。
【００３７】
第二に、式(I) のトリクロロアセトイミダートが、核酸塩基Ｒと高度に立体選択的な態様でグリコシル化反応して、式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドのβ-富化されたアノマーを与えることを見出した。
【化２４】
2008531680.tif 000026
【００３８】
核酸塩基Ｒと式(I) のトリクロロアセトイミダートとのこのグリコシル化反応は、この２つを適切な溶媒中で一緒に加熱することによって簡単に達成され、ほとんどの従来技術の方法とは異なって、高温または極低温を必要としない。  
【００３９】
さらに、本方法は、非常に高いモル過剰の核酸塩基を利用をなくし、実際に、前記核酸塩基Ｒを2モル当量以下で用いて定量的な変換を達成することができた。これにより、より純度が高く、未反応の核酸塩基の含有量が少ない生成物がもたらされ、生成物が、非常に高い化学純度およびアノマー純度の製品の提供のためのさらなる精製により適したものになる。このことが、本方法を従来技術の方法に対して非常に優れたものにする。
【００４０】
さらに、上述したグリコシル化反応後に得られた生成物の保護基の除去は、従来技術の方法とは異なって、厳密に無水の条件を必要とせず、アルコール性溶媒中で、保護されたジフルオルヌクレオシドをアンモニア水と接触させる工程によって容易に達成することができ、そこから、大部分がβ-アノマーである脱保護された生成物(II)を単離することができる。あるいは、脱保護は、保護された化合物を、ヒドロキシイオン交換陰イオン交換樹脂と接触させる工程によって達成することができる。
【００４１】
さらに、ジフルオロヌクレオシド(II)の製薬品として許容できる塩が、脱保護されたジフルオロヌクレオシドを製薬品として許容できる必須の酸と混合する工程によって、保護基の除去が行われた同じアルコール性溶媒から調製することができ、さらに、大部分がβ-アノマーである塩を、95％以上、さらにしばしば99％以上の高い化学純度およびアノマー純度で単離することができることを見出し、たった1回の結晶化工程で薬局方の仕様に適合させた。
【００４２】
加えて、光学純度およびアノマー純度の両方が、脂肪酸と水との混合物からのジフルオロヌクレオシド(II)の任意の精製工程によってさらに高められることを見出した。このことも先と同様に新規でありこれまで報告されていない。
【００４３】
最後に、ラクトール化合物を、対応するラクトン化合物(III)から、水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム（Vitrideとして一般に知られている）で後者を還元する工程によって得ることができることも見出した。水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウムは、従来技術で利用されている他の還元剤とは異なって、自然発火性がより低く、非常に低い温度を必要とせず、実際に、-20℃〜-30℃の範囲の温度で反応を行うことができる。
【００４４】
このように、上述した発明によれば、
１つの態様では、本発明は、式(I)：
【化２５】
2008531680.tif 000027
（式中、Ｐは、水素またはヒドロキシ保護基である）
で示される新規な中間体を提供する。式(I)の中間体は、式(II)： 
【化２６】
2008531680.tif 000028
（式中、Ｒは、プリンまたはピリミジンから選択される核酸塩基である）
の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドの調製に有用である。
【００４５】
別の態様では、本発明は、式(I)：
【化２７】
2008531680.tif 000029
で示される新規な中間体を提供する。式(I)の中間体は、式(IIb)：
【化２８】
2008531680.tif 000030
のゲムシタビン塩酸塩の調製に有用である。
【００４６】
さらに別の態様では、本発明は、式(I)の新規な中間体調製方法であって、式(IV)：
【化２９】
2008531680.tif 000031
（式中、Ｐは、上述により定義したとおりである）
のラクトール化合物を、塩基の存在下、不活性有機溶媒中で、トリクロロアセトニトリルと反応させる工程を含む方法を提供する。
【００４７】
さらなる態様では、本発明は、簡単で、都合が良く、かつ費用効率が高い、式(I)の新規な中間体の調製方法であって、式(III)：
【化３０】
2008531680.tif 000032
（式中、Ｐは、上述により定義したとおりである）
のラクトン化合物を、不活性有機溶媒中、-20℃〜-30℃の範囲の温度で、水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム（Vitrideとして一般に知られている）で還元して、式(IV)のラクトール化合物を得る工程、こうして得られた式(IV)のラクトール化合物を、不活性有機溶媒中、塩基の存在下で、トリクロロアセトニトリルと反応させて式(I)の中間体を得る工程を含む方法を提供する。
さらなる態様では、本発明は、式(II)：
【化３１】
2008531680.tif 000033
（式中、Ｒは、プリンまたはピリミジンから選択される核酸塩基である）
の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドの調製方法であって、式(I)： 
【化３２】
2008531680.tif 000034
（式中、Ｐは、上述により定義したとおりである）
の新規な中間体を、不活性有機溶媒中、任意でルイス酸触媒の存在下で、下記式： 
【化３３】
2008531680.tif 000035
（式中、Ｒ１は、水素、アルキル、またはハロゲンであり；Ｒ２は、ヒドロキシであり；Ｒ３は、水素またはハロゲンであり；かつ、Ｒ４は、水素または窒素保護基である）
から選択されるプリンまたはピリミジン塩基Ｒでグリコシル化する工程、次いで、保護基を除去して式(II)の化合物を得る工程を含む方法を提供する。
【００４８】
別の態様では、本発明は、式(IIb)：
【化３４】
2008531680.tif 000036
のゲムシタビン塩酸塩の調製方法であって、式(I)： 
【化３５】
2008531680.tif 000037
の新規な中間体を、不活性有機溶媒の存在下、任意でルイス酸触媒の存在下、式(Va)および(Vb)： 
【化３６】
2008531680.tif 000038
（式中、Ｒ４は、窒素保護基であり、Ｒ５は、ヒドロキシ保護基である）
のシトシンでグリコシル化する工程、次いで保護基を除去する工程、およびこうして得られたゲムシタビンの遊離塩基を塩化水素と接触させて式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩を得る工程を含む方法を提供する。
【００４９】
さらなる別の態様では、本発明は、式(II)：
【化３７】
2008531680.tif 000039
（式中、Ｒは、プリンまたはピリミジンから選択される核酸塩基である）
の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドのβ-富化されたアノマーを調製するための立体選択的なグリコシル化法であって、
ａ）式(I)： 
【化３８】
2008531680.tif 000040
（式中、Ｐは、上述により定義したとおりである）
の新規な中間体を、不活性有機溶媒中、任意でルイス酸触媒の存在下で、下記式： 
【化３９】
2008531680.tif 000041
（式中、Ｒ１は、水素、アルキル、またはハロゲンであり；Ｒ２は、ヒドロキシであり；Ｒ３は、水素またはハロゲンであり；かつ、Ｒ４は、水素または窒素保護基である）
から選択されるプリンまたはピリミジン塩基Ｒでグリコシル化して、式(IIA)：
【化４０】
2008531680.tif 000042
（式中、Ｐは、上述により定義したとおりである）
の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドを得る工程；
ｂ）式(IIA)の化合物を、C1〜3アルコールの存在下で、アンモニア水で処理すること、またはヒドロキシイオン交換陰イオン交換樹脂で処理することによって、保護基を除去して、式(II)： 
【化４１】
2008531680.tif 000043
の化合物の遊離塩基のβ-富化されたアノマーを得る工程；
ｃ）こうして得られた前記式(II) の化合物の遊離塩基を、C1〜3アルコール中、製薬品として許容できる酸と接触させて、その製薬品として許容できる酸の付加体の対応するβ-富化されたアノマーを得る工程；および
ｄ）任意で、C2〜3脂肪族有機酸と水との混合液からの結晶化によって式(II)の化合物のβ-アノマー含量を富化させる工程
を含む方法を提供する。
【００５０】
さらなる態様では、本発明は、式(IIb)： 
【化４２】
2008531680.tif 000044
のゲムシタビン塩酸塩の99％より高度にβ-富化されたアノマーを調製するための立体選択的なグリコシル化法であって、を含む方法を提供する。
ａ）式(I)：
【化４３】
2008531680.tif 000045
（式中、Ｐは、上述により定義したとおりである）
の新規な中間体を、不活性有機溶媒中、任意でルイス酸触媒の存在下で、式(Va)および(Vb)：
【化４４】
2008531680.tif 000046
（式中、Ｒ４は、窒素保護基であり、Ｒ５は、ヒドロキシ保護基である）
のシトシンでグリコシル化して、式(IIa)：
【化４５】
2008531680.tif 000047
（式中、ＰおよびＲ４は、上述により定義したとおりである）
の保護されたゲムシタビン遊離塩基を得る工程；
ｂ）式(IIa)の化合物を、C1〜3アルコールの存在下で、アンモニア水で処理すること、またはヒドロキシイオン交換陰イオン交換樹脂で処理することによって、保護基を除去して、式(IIc)： 
【化４６】
2008531680.tif 000048
のゲムシタビン遊離塩基のβ-富化されたアノマーを得る工程；
ｃ）こうして得られた式(IIc) のゲムシタビン遊離塩基を、C1〜3アルコール中、塩化水素と接触させて、式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩の、95％以上、好ましくは99％以上の純度にβ-富化されたアノマーを得る工程；ならびに、
ｄ）任意で、C2〜3脂肪族有機酸と水との混合液からの結晶化によって式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩のβ-アノマー含量を99％より高くさらに富化させる工程
を含む方法を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５１】
［式(I)の新規な中間体の調製］
式(I) のトリクロロアセトイミダート化合物は、不活性有機溶媒中、塩基の存在下で、式(IV)のラクトール化合物をトリクロロアセトニトリルと反応させる工程によって調製することができる。
【００５２】
式(IV)および式(I)の両化合物におけるヒドロキシ保護基Ｐは、有機合成において日常的に用いられる保護基であり、これらだけに限定されないが、ホルミル、2-クロロアセチル、ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、4-ニトロベンジル、フェノキシカルボニル、tert-ブチル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、アリル、テトラヒドロチエニル、2-メトキシエトキシメチル、メトキシアセチル、フェノキシアセチル、イソブチリル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、メシル、トリメチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、トリイソプロピルシリル、tert-ブチルジメチルシリルなどであってよい。
【００５３】
用いることができる好適な不活性有機溶媒は、水に非混和性の溶媒であり、基本的な反応に関与しない性質はさておき、水と２相の系を形成することができる溶媒である。このような溶媒は、効率的な変換反応をもたらすだけでなく、単に溶媒を蒸発させることによって、あるいは水を添加することによる処理によって、生成物の単離をも助ける。
用いることができる不活性で水に非混和性の好適な有機溶媒には、ハロゲン化（例えば、塩素化）炭化水素（例えば、ジクロロメタンおよび1,2-ジクロロエタン）；エステル〔例えば、酢酸（C1〜4）アルキルエステル（例えば、酢酸エチル）〕；エーテル（例えば、ジイソプロピルエーテル）；芳香族炭化水素（例えば、トルエン、キシレン）などが含まれる。塩素化炭化水素が好ましく、なかでも、ジクロロメタンおよび1,2-ジクロロエタンが最も好ましい。  
【００５４】
有機塩基および無機塩基の両方が利用可能であるが、有機塩基が好ましい。用いることができる好ましい有機塩基には、これらだけに限られないが、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、シクロヘキシルアミン、ピリジン、2,4-ジメチルアミノピリジン、N-メチルモルホリンなどが含まれる。トリエチルアミンおよびジイソプロピルアミンが、それらのコストが低いことにより、好ましい。
【００５５】
塩基は、触媒量で、または式(IV)のラクトール化合物に対して当モル比もしくは過剰量で用いることができる。好ましくは、触媒量で用いられる。
【００５６】
トリクロロアセトニトリルは、ラクトール化合物(IV)に対して当モル比もしくは過剰量で用いることができる。通常、式(IV)の化合物1モル当たり1〜20モルのモル比で用いる。好ましくは、塩基は、式(IV)の化合物1モル当たり1〜1.5モルのモル比で用いる。
【００５７】
トリクロロアセトイミダートの形成は、一般的に、ラクトール化合物(IV)を、トリクロロアセトニトリルと塩基の不活性有機溶媒中の混合物に-20℃〜20℃の範囲の温度にて添加した後、反応混合物を、20℃〜30℃の範囲の室温で3〜10時間、反応が完結するまで撹拌することよって行われる。
【００５８】
こうして形成されたトリクロロアセトイミダート(I)は、単に溶媒を蒸発させることによって単離することができ、あるいは水を反応混合物に添加し、水相から有機相を分離し、次いで有機溶媒を蒸発させることによって単離することができる。さらに、こうして得られた生成物は、次の核酸塩基Ｒとのグリコシル化反応工程のために、そのまま精製することなく使用することができる。
【００５９】
あるいは、反応が完結した後の反応混合物を水で洗浄し、分離した有機相を適切な脱水剤で乾燥して、その溶液を、そのまま単離することなく、次の核酸塩基Ｒとのグリコシル化反応工程のために使用することができる。
【００６０】
通常、オイルとして得られる式(I)の化合物は、α-アノマーもしくはβ-アノマーのいずれか、またはこれらの混合物であってよい。
【００６１】
上述の方法で得られた式(I)の典型的な化合物（式中、Ｐはベンゾイル基であり、式(Ia)の化合物で表される）は、以下の分光学的特性および物理的特性を有していた。
1H NMR(CDCl3,δ)：8.7 (s, NH, IH), 7.36 - 8.1 (m, Ar, 10H), 6.51 - 6.59 (dd,H-l, IH), 5.59 - 5.66 (dd, H-3 IH), 4.64 - 4.83 (m, H-5 2H, H-4 IH)
13C NMR (CDCl3,δ)：164.7 - 165.9 (C=NH), 127.9 - 130 (Ar), 121.3 (C-2), 97.58 (C-1), 90 (CC13), 78.8 (C-4), 71.9 (C-3), 63.8 (C-5).
質量スペクトル(M+)：522.3
比旋光度 +15〜+60°
【００６２】
振り返って、ラクトール化合物(IV)は、ラクトン化合物(III)から、不活性有機溶媒中、-20℃〜-30℃の温度にて水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム（Vitrideとして一般に知られている）で還元する工程によって調製することができる。
Vitride（CAS Reg.No.[22722-98-1]）は、トルエン中の70％溶液として商業的に入手可能であり、ラクトン(III)の還元のためにそのまま使用することができる。他の水素化還元試薬（例えば、水素化アルミニウムリチウム、水素化tert-ブトキシアルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウムリチウム等）とは異なって、Vitrideは、比較的中程度の強度の還元剤であり、自然発火性が低く、酸素に安定なポンプでくみ上げることができる液体であり、非常に低い温度を必要とせず、ほとんどのありふれた非プロトン性溶媒と相溶性であり、したがって、製造における利用において多くの利点を有する。
【００６３】
典型的には、還元反応は、適切な非プロトン性溶媒中、不活性ガス雰囲気下、20℃〜-30℃の温度にて、商業的に入手可能なVitrideの70%のトルエン溶液をラクトン化合物(III)の溶液と反応させることによって行うことができる。ラクトール化合物(IV)は、通常の後処理手順によって単離することができる。
【００６４】
用いることができる好適な非プロトン性溶媒には、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等が含まれる。
【００６５】
典型的には、生成物は、反応混合物を6N塩酸でクエンチした後、水と非混和性の有機溶媒で抽出することによって単離することができる。
有機溶媒を蒸発させると、ラクトール (IV)が得られる。
Vitrideは、式(III)のラクトン化合物に対して当モル比もしくは過剰量で用いることができ、通常、式(III)の化合物1モル当たり1〜3モルのモル比で用いる。好ましくは、Vitrideは、式(III)の化合物1モル当たり1〜1.5モルのモル比で用いる。
【００６６】
［式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドの調製］
式(II)の21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドは、式(I)の中間体化合物（式中、保護基Ｐは、上述により定義されたとおりである）を必須の核酸塩基Ｒでグリコシル化する工程によって調製することができる。
【００６７】
核酸塩基Ｒは、チャートＩに示した構造で表されるピリミジン化合物またはプリン化合物のいずれかから選択することができる。
【００６８】
チャートＩに表した化合物において、Ｒ１は、水素、アルキル、またはハロゲンであってよく；Ｒ２は、ヒドロキシであり；一方、Ｒ３は、水素またはハロゲンであり；Ｒ４は、水素または窒素保護基であってよい。アルキルは、典型的には、炭素原子1〜4個の低級アルキルであり、ハロゲンは、塩素、臭素、ヨウ素、またはフッ素を表し；一方、窒素保護基Ｒ４は、有機合成において日常的に利用される保護基であり、特に、アセチル保護基およびトリアルキルシリル保護基が好ましい。
【化４７】
2008531680.tif 000049
【００６９】
グリコシル化反応は、不活性有機溶媒の存在下、任意でルイス酸触媒の存在下で、式(I)の化合物をチャートＩに表した核酸塩基のいずれかと反応させて、式(IIA)の保護された21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシド（式中、ＰおよびＲは、上述により定義されたとおりである）を得ることによって行われる。
【００７０】
用いることができる好適な不活性有機溶媒には、これらに限定されないが、アセトニトリル、トルエン、キシレンおよびその異性体、クロロベンゼン、オルト-ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,1‐ジクロロエタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン、アニソールが含まれる。好適な不活性溶媒は、1,2-ジクロロエタンが含まれる。
【００７１】
用いることができる好適なルイス酸触媒は、四塩化スズ、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、トリメチルシリルノナフルオロスルホネート、過塩素酸トリメチルシリル、三フッ化ホウ素ジエチルエーテラート、トリメチルシリルテトラフルオロボレート等から選択することができる。トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートが好ましい。
【００７２】
典型的には、グリコシル化反応は、これまでに記述したいずれかの不活性有機溶媒中で、化合物(I)、核酸塩基Ｒ、および任意でルイス酸触媒を一緒に、反応が完結するまで還流させて、式(IIA)の保護された21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドを得ることによって行う。
【００７３】
核酸塩基Ｒは、式(I)の化合物に対して当モル比もしくは過剰量で用いることができるが、式(I)の化合物1モル当たり2.0モル未満の量で用いる。通常、式(I)の化合物1モル当たり1〜2.0モルのモル比で用いる。好ましくは、塩基は、式(I)の化合物1モル当たり1〜1.6モルのモル比で用いる。
【００７４】
式(IIA)の保護された21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドは、従来の方法、例えば、反応混合物に水を添加し、生成物を有機溶媒中に抽出する方法によって反応混合物から単離することができる。グリコシル化反応に用いる不活性有機溶媒が水と非混和性である場合、生成物は自動的に前記溶媒中に抽出される。しかし、グリコシル化反応に用いる不活性有機溶媒が水と混和性である場合には、生成物を任意の水と非混和性の溶媒〔例えば、アルキルエステル（例えば酢酸エチル）、塩素化炭化水素（例えばジクロロメタン）等〕で抽出する。保護された化合物(IIA)は、有機溶媒を蒸発させることによって単離することができる。
【００７５】
保護基ＰおよびＲ４の脱保護工程がある場合、この工程は、式(IIA)の保護された21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドを、C1〜3アルコールから選択される溶媒中でアンモニア水と接触させるか、あるいはヒドロキシイオン交換陰イオン交換樹脂と接触させて、式(II)の化合物の遊離塩基のβ-富化されたアノマーを得ることによって行う。
【００７６】
典型的には、脱保護工程は、式(IIA)の保護された21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドのC1〜3アルコール溶液を、アンモニア水と共に、室温〜約60℃の温度にて、保護基の除去が完全に達成されるのに十分な時間激しく撹拌して、式(II)の化合物の遊離塩基を得ることによって行う。
【００７７】
メタノール、エタノール、1-プロパノールおよび2-プロパノールから選択されるC1〜3アルコールを用いることができるが、メタノールが最も好ましい。保護された化合物(IIA)は、一般に、エタノール、1-プロパノールおよび2-プロパノールよりもメタノールにより溶解可能であり、このため、メタノール中での脱保護は、しばしば加熱または還流を必要とする他の2種の溶媒とは異なり、25℃〜30℃の室温にて行うことができるからである。さらに、メタノールは、遊離塩基の塩の形成を同じ溶媒中で行うことができ、さらに、同じ溶媒から結晶化させてβ-富化されたアノマーを得ることができるという利点がある。
【００７８】
あるいは、脱保護工程は、保護された化合物式(IIA)を、ヒドロキシイオン交換陰イオン交換樹脂と接触させることによって行うことができる。
【００７９】
塩素を陰イオンとして含有する陰イオン交換樹脂は、対応するヒドロキシ交換陰イオン交換樹脂に、前者を水酸化ナトリウム水溶液と2〜3時間混合することによって変換することができる。この懸濁液を濾過し、樹脂床を脱塩水で濾液のｐＨが6.0〜7.0の範囲になるまで連続的に洗浄する。この洗浄した樹脂をさらにC1〜3アルコールで洗浄して、ヒドロキシルイオン交換を達成する。
【００８０】
このヒドロキシイオン交換樹脂を、C1〜3アルコール中の化合物(IIA)と一緒に、30℃〜50℃の温度、好ましくは40℃〜45℃の温度にて、20時間〜40時間混合して、脱保護を達成する。最後に樹脂を濾過し、濾液を濃縮して化合物(II)の遊離塩基を得る。
【００８１】
用いることができる好適な陰イオン交換樹脂は、強塩基陰イオン交換体であり、イオンの形態は、一般に塩素イオンである。このような陰イオン交換樹脂の典型的なものは、商業的に入手可能なアンバーライト樹脂類であり、FPA40 Cl、FPA90 Cl、FPA91 Cl、FPA97 Cl、FPA98 Cl、IRA 400、IRA402 Cl、IRA410 Clなどである。
【００８２】
したがって、典型的な実施態様では、保護された化合物(IIA)のメタノール溶液に、25％アンモニア水溶液を添加し、室温で4〜8時間の間、脱保護が完結するまで混合物を激しく撹拌する。メタノールを蒸発によって除去すると、化合物(II)の遊離塩基が得られる。
【００８３】
別の典型的な実施態様では、陰イオン交換樹脂、例えば、アンバーライトIRA 400を、室温にて2〜3時間、5％水酸化ナトリウム水溶液と共に激しく撹拌した後、樹脂を濾別する。濾別された樹脂を、脱イオン水で、濾液のｐＨが6.0〜7.0の範囲になるまで連続的に洗浄する。最後に、この樹脂をC1〜3アルコール、例えばメタノールで洗浄する。こうして得られたヒドロキシイオン交換樹脂を、40℃〜45℃の温度にて36時間、メタノール中の保護された化合物(IIA)と共に撹拌する。最後に、樹脂を濾別し、濾液を濃縮して、脱保護された遊離塩基化合物(II)を得る。
【００８４】
上述した2つの方法のいずれかによって得られた脱保護された化合物(II)は、通常、オイルとして得られ、そのまま何ら精製することなく、その製薬品として許容できる塩の形成に用いることができる。
【００８５】
塩の形成は、メタノール、エタノール、1-プロパノールおよび2-プロパノールから選択されるC1〜3アルコール中の遊離塩基(II)の溶液を、十分な時間、必須の酸と接触させることによって達成することができる。こうして形成された塩は、単離され、あるいは同じアルコール性溶媒から結晶化され、あるいはメタノール、エタノール、1-プロパノールおよび2-プロパノールのいずれかで結晶化されて、対応する酸付加塩(II)を、通常、β-富化されたアノマーとして与える。
【００８６】
調製することができる式(II)の化合物の典型的な酸付加塩には、例えば、酒石酸、クエン酸、酢酸、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸等の酸を用いて得られた塩が含まれる。
【００８７】
酸付加塩のアノマー純度および化学純度は、必要であれば、メタノール、エタノール、1-プロパノールおよび2-プロパノールのいずれかからのもう一回の同じ結晶化によって、あるいは、水と、酢酸およびプロピオン酸から選択されるC2〜3脂肪族有機酸との混合液からの任意の結晶化によって、さらに富化することができる。
【００８８】
［式(IIa)のゲムシタビン塩酸塩の調製］
式(IIa)のゲムシタビン塩酸塩は、不活性有機溶媒の存在下、任意でルイス酸触媒の存在下で、式(I)の中間体化合物（式中、保護基Ｐは、上述により定義したとおりである）を式(Va)および(Vb)のシトシン化合物（式中、Ｒ４は、窒素保護基であり、Ｒ５は、ヒドロキシ保護基である）でグリコシル化して式(IIa)の保護されたゲムシタビン遊離塩基にする工程によって調製することができる。
【００８９】
用いることができる好適な不活性有機溶媒には、これらに限られないが、アセトニトリル、トルエン、キシレンおよびその異性体、クロロベンゼン、オルト-ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,1‐ジクロロエタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン、アニソールが含まれる。好適な不活性溶媒は、1,2-ジクロロエタンが含まれる。
【００９０】
用いることができる好適なルイス酸触媒は、これらに限られないが、四塩化スズ、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、トリメチルシリルナノフルオロスルホネート、過塩素酸トリメチルシリル、三フッ化ホウ素ジエチルエーテラート、トリメチルシリルテトラフルオロボレート等から選択される。トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートが好ましい。
【００９１】
典型的には、グリコシル化反応は、これまでに記述したいずれかの不活性有機溶媒中で、化合物(I)、シトシン化合物(Va)または(Vb)、および任意でルイス酸触媒を一緒に、反応が完結するまで還流させて、式(IIa)の保護されたゲムシタビン化合物を得ることによって行う。
【００９２】
シトシン化合物(Va)または(Vb)は、式(I)の化合物に対して当モル比、あるいは、過剰量であるが、式(I)の化合物1モル当たり2モル未満の比で用いることができる。通常、式(I)の化合物1モル当たり1〜2.0モルのモル比で用いる。好ましくは、塩基は、式(I)の化合物1モル当たり1〜1.6モルのモル比で用いる。
【００９３】
式(IIa)の保護されたゲムシタビンは、従来の方法、例えば、反応混合物に水を添加し、生成物を有機溶媒中に抽出する方法によって反応混合物から単離することができる。グリコシル化反応に用いる不活性有機溶媒が水と非混和性である場合、生成物は自動的に前記溶媒中に抽出される。しかし、グリコシル化反応に用いる不活性有機溶媒が水と混和性である場合には、生成物を任意の水と非混和性の溶媒〔例えば、アルキルエステル（例えば酢酸エチル）、塩素化炭化水素（例えばジクロロメタン）等〕で抽出する。式(IIa)の保護された化合物は、有機溶媒を蒸発させることによって単離することができる。
【００９４】
保護基ＰおよびＲ４の脱保護工程は、式(IIa)の保護された21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドを、C1〜3アルコールから選択される溶媒中でアンモニア水と接触させるか、あるいはヒドロキシイオン交換陰イオン交換樹脂と接触させて、式(IIc)の化合物のゲムシタビン遊離塩基のβ-富化されたアノマーを得ることによって行う。
【００９５】
脱保護工程は、式(IIa)の保護された21-デオキシ-21,21-D-リボフラノシルジフルオロヌクレオシドのC1〜3アルコール溶液を、アンモニア水と共に、室温〜約60℃の温度にて、保護基の除去が完全に達成されるのに十分な時間激しく撹拌して、式(II)の化合物の遊離塩基を得ることによって行う。
【００９６】
メタノール、エタノール、1-プロパノールおよび2-プロパノールから選択されるC1〜3アルコールを用いることができるが、メタノールが最も好ましい。式(IIA)の保護された化合物は、一般に、エタノール、1-プロパノールおよび2-プロパノールよりもメタノールにより溶解可能であり、このため、メタノール中での脱保護は、しばしば加熱または還流を必要とする他の2種の溶媒とは異なり、25℃〜30℃の室温にて行うことができるからである。さらに、メタノールは、遊離塩基の塩の形成を同じ溶媒中で行うことができ、さらに、同じ溶媒から結晶化させて95％より高い純度のβ-富化されたアノマーを得ることができるという利点がある。
【００９７】
あるいは、脱保護工程は、保護された化合物式(IIA)を、ヒドロキシイオン交換陰イオン交換樹脂と接触させることによって行うことができる。
【００９８】
塩素を陰イオンとして含有する陰イオン交換樹脂は、対応するヒドロキシ交換陰イオン交換樹脂に、前者を水酸化ナトリウム水溶液と2〜3時間の間混合することによって変換することができる。この懸濁液を濾過し、樹脂床を脱塩水で濾液のｐＨが6.0〜7.0の範囲になるまで連続的に洗浄する。この洗浄した樹脂をさらにC1〜3アルコールで洗浄して、ヒドロキシルイオン交換を達成する。  
【００９９】
このヒドロキシイオン交換樹脂を、C1〜3アルコール中の化合物(IIa)と一緒に、30℃〜50℃の温度、好ましくは40℃〜45℃の温度にて、20時間〜40時間混合して、脱保護を達成する。最後に樹脂を濾過し、濾液を濃縮して化合物(IIc)の遊離塩基を得る。  
【０１００】
用いることができる好適な陰イオン交換樹脂は、強塩基陰イオン交換体であり、イオンの形態は、一般に塩素イオンである。このようなアニオン交換樹脂の典型的なものは、商業的に入手可能なアンバーライト樹脂類であり、FPA40 Cl、FPA90 Cl、FPA91 Cl、FPA97 Cl、FPA98 Cl、IRA 400、IRA402 Cl、IRA410 Clなどである。  
【０１０１】
したがって、典型的な実施態様では、保護された化合物(IIa)のメタノール溶液に、25％アンモニア水溶液を添加し、室温で4〜8時間の間、脱保護が完結するまで混合物を激しく撹拌する。メタノールを蒸発によって除去すると、化合物(IIc)の遊離塩基が得られる。  
【０１０２】
別の典型的な実施態様では、陰イオン交換樹脂、例えば、アンバーライトIRA 400を、室温にて2〜3時間、5％水酸化ナトリウム水溶液と共に激しく撹拌した後、樹脂を濾別する。濾別された樹脂を、脱イオン水で、濾液のｐＨが6.0〜7.0の範囲になるまで連続的に洗浄する。最後に、この樹脂をC1〜3アルコール、例えばメタノールで洗浄する。こうして得られたヒドロキシイオン交換樹脂を、40℃〜45℃の温度にて36時間、メタノール中の保護された化合物(IIa)と共に撹拌する。最後に、樹脂を濾別し、濾液を濃縮して、脱保護された遊離塩基化合物(IIc)を得る。
【０１０３】
上述した2つの方法のいずれかによって得られた脱保護された化合物(IIc)は、通常、オイルとして得られ、そのまま何ら精製することなく、その塩酸塩の形成に用いることができる。  
【０１０４】
塩の形成は、メタノール、エタノール、1-プロパノールおよび2-プロパノールから選択されるC1〜3アルコール中の遊離塩基(IIc)の溶液を、十分な時間、塩化水素と接触させることによって達成することができる。塩酸水溶液および塩化水素ガスのいずれを用いることもできる。こうして形成された塩酸塩は、単離され、あるいは同じアルコール性溶媒から結晶化され、あるいはメタノール、エタノール、1-プロパノールおよび2-プロパノールのいずれかで結晶化されて、ゲムシタビン塩酸塩(IIb)を、通常、95％より高いアノマー純度、しばしば99％より高いアノマー純度にβ-富化されたアノマーとして与える。  
【０１０５】
こうして得られたゲムシタビン塩酸塩(IIb)のアノマー純度および化学純度は、必要であれば、メタノール、エタノール、1-プロパノールおよび2-プロパノールのいずれかからもう１回の同じ結晶化によって、あるいは、水と、酢酸およびプロピオン酸から選択されるC2〜3脂肪族有機酸との混合液からの任意の結晶化によって、99％より高くさらに富化することができる。  
【０１０６】
上述したC2〜3脂肪族有機酸はいずれも、正常に式(IIb)のゲムシタビン塩酸塩を高いアノマー純度でもたらすが、酢酸が最も好ましい。酢酸は、高い化学純度の化合物をももたらすからである。
【０１０７】
典型的には、塩酸塩(IIb)の水溶液に、酢酸を添加し、室温で10時間〜20時間混合物を激しく撹拌して結晶化を達成させた。結晶化した塩(IIb)を、濾過、遠心分離、またはデカンテーションによって単離して、乾燥して純粋な(IIb)を得ることができる。
【０１０８】
本発明の方法による、ゲムシタビン塩酸塩(IIb)の高い化学純度およびアノマー純度での調製をスキームＩにまとめる。
【０１０９】
【化４８】
2008531680.tif 000050
【実施例】
【０１１０】
本発明は、以下の実施例によってさらに理解することができるが、これらの実施例が本発明の範囲を制限するものと解釈されるべきではない。
【０１１１】
［実施例１］
〔21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-3,5-ビスベンゾイルオキシ-D-リボーストリクロロアセトイミダート（式(Ia)の化合物）の調製〕
工程１：ラクトール、すなわち21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-D-リボフラノース-3,5-ジベンゾエート（式IVの化合物）の調製
水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム（Vitride；トルエン中70%；80 ml；0.287 mol）を、窒素雰囲気下、-30℃に冷却した21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-D-リボフラノース-3,5-ジベンゾエート-1-オキソリボース（III；0.265 mol）の無水テトラヒドロフラン溶液に徐々に添加した。添加後、反応混合物を同じ温度で1時間激しく攪拌し、6N塩酸の添加によりクエンチした。この反応混合物を、酢酸エチルで抽出した。有機相を分離し、5％重炭酸ナトリウム溶液、次いで水で洗浄した。減圧下で有機相を濃縮して標題化合物をオイルとして100 gm（99.5％）得た。
1H NMR(CDCl3,δ)：5.6 (m, H-I, IH), 5.45 - 5.32 (br, H-3, IH), 4.7 (m, H-4, IH), 4.65 (br, H-5, 2H), 3.6 (s, IH, OH).
【０１１２】
工程２：21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-3,5-ビスベンゾイルオキシ-D-リボーストリクロロアセトイミダート(Ia)の調製
窒素雰囲気下、-10℃〜0℃に冷却した、トリクロロアセトニトリル（179.5 gm；1.246 mol）、ジイソプロピルエチルアミン（3.73 gm；0.028 mol）の混合物に、21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-D-リボフラノース-3,5-ジベンゾエート（行程１で得られた式IVの化合物；25 gm；0.066 mol）の1,2-ジクロロエタン（50 ml）溶液を徐々に添加した。この反応混合物を、室温になるようにし、さらに5時間、反応が完結するまで攪拌した。有機相を減圧下で蒸発させ、標題化合物をオイルとして35 gm（100％）得た。
精製した試料は、以下の分光学的特徴を有していた。
1H NMR(CDCl3,δ)：8.7 (s, NH, IH), 7.36 - 8.1 (m, Ar, 10H), 6.51 - 6.59 (dd,H-l, IH), 5.59 - 5.66 (dd, H-3 IH), 4.64 - 4.83 (m, H-5 2H, H-4 IH)
13C NMR (CDCl3,δ)：164.7 - 165.9 (C=NH), 127.9 - 130 (Ar), 121.3 (C-2), 97.58 (C-1), 90 (CC13), 78.8 (C-4), 71.9 (C-3), 63.8 (C-5).
質量スペクトル(M+)：522.3
比旋光度 +15〜+60  
【０１１３】
［実施例２］
〔21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-3,5-ジベンゾエート-N4-アセチルシチジン（保護されたゲムシタビンIIa）の調製〕
21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-3,5-ビスベンゾイルオキシ-D-リボーストリクロロアセトイミダート(Ia；5.22 g；0.01 mol)、シリル化N-アセチルシトシン（Vb；2.45 gm；0.016 mol w.r.t. N-アセチルシトシン）、およびトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（6.41 gm；0.01 mol）の混合物の1,2-ジクロロエタン（50 ml）溶液を一晩還流させた。この反応混合物を室温に冷却し、それぞれ50 mlの水で2回洗浄した後、5％重炭酸ナトリウム溶液および飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄した。減圧下でジクロロエタンを濃縮して標題化合物を5.12 gm（37％）得た。この一部をシリカゲルによるクロマトグラフィーに付した。
質量スペクトル(M+)：512.35
【０１１４】
［実施例３］
〔21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-3,5-ジベンゾエート-N4-アセチルシチジン（保護されたゲムシタビンIIa）の調製〕
窒素雰囲気下、-10℃〜0℃に冷却した、トリクロロアセトニトリル（47.6 gm；0.33 mol）、ジイソプロピルエチルアミン（3.73 gm；0.028 mol）の混合物に、21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-D-リボフラノース-3,5-ジベンゾエート（IV；25 gm；0.066 mol）の1,2-ジクロロエタン（50 ml）溶液を徐々に添加した。この反応混合物を、室温になるようにし、さらに5時間、反応が完結するまで攪拌した。
【０１１５】
21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-3,5-ビスベンゾイルオキシ-D-リボーストリクロロアセトイミダート(Ia；34.5 g；0.066 mol)を含む上述のそのままの反応液に、シリル化N-アセチルシトシン（15.2 gm；0.1 mol w.r.t. N-アセチルシトシン）、およびトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（22 gm；0.1 mol）の1,2-ジクロロメタン（300 ml）溶液を添加し、この混合物を一晩還流させた。この反応混合物を室温に冷却し、それぞれ100 mlの水で2回洗浄した後、5％重炭酸ナトリウム溶液および飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄した。減圧下でジクロロエタンを濃縮して標題化合物を30 gm（88.7％）得た。
【０１１６】
［実施例４］
〔21-デオキシ-21,21-ジフルオロシチジン（ゲムシタビン遊離塩基IIc）の調製〕
保護されたゲムシタビン（IIa：7 gm；実施例２および３から得られたもの）のメタノール（35 ml）溶液に、水酸化アンモニウム溶液（20％、14 ml）を添加し、この混合物を室温で24時間攪拌した。減圧下でメタノールを除去し、標題化合物をオイルとして得た。
【０１１７】
［実施例５］
〔ゲムシタビン塩酸塩(IIb)の調製〕
実施例４で得られた残渣（ゲムシタビン遊離塩基IIc）をメタノール（28 ml）に溶解し、活性炭（0.7 gm）で脱色した。この炭素を濾別し、濾液に濃塩酸（1.12 ml）を添加し、混合物を0℃に冷却し、0℃〜5℃の温度にて1時間、激しく攪拌した。沈殿した固体をろ過し、乾燥して、標題化合物を白色結晶性固体として0.56 gm（12.7％）得た。HPLC分析は、生成物が95％のβ-アノマーを含むことを示した。
【０１１８】
［実施例６］
〔ゲムシタビン塩酸塩(IIb)の調製〕
ゲムシタビン塩酸塩(0.56 gm；実施例５で得られたもの)を、55〜60℃にて脱イオン水（4.5 ml）に溶解した。この溶液を活性炭（56 mg）で脱色し、炭素を濾別した。濾液を酢酸（45 ml）と混合し、混合物を室温で2時間攪拌した。沈殿した固体を濾過し、減圧下、60℃〜70℃にて5〜6時間乾燥して、β-アノマーが99.94％のアノマー純度を有するゲムシタビン塩酸塩(IIb)を0.45 gm（80％）得た。
【０１１９】
［実施例７］
〔21-デオキシ-21,21-ジフルオロシチジン(ゲムシタビン遊離塩基IIc)の調製〕
アンバーライトIRA 400（100 gm；20〜25メッシュ；イオン形態は塩素）を水酸化ナトリウム水溶液（5％；500 ml）と共に、室温にて2〜3時間攪拌した。この樹脂を濾別し、樹脂のベッドを脱イオン水で濾液のｐＨが6.0〜7.0になるまで連続的に洗浄した。次いで、この樹脂ベッドをメタノールで洗浄し、室温で乾燥した。
【０１２０】
保護されたゲムシタビン（IIa：5.5 gm実施例２および３から得られたもの）のメタノール（50 ml）溶液に、上記で得られたヒドロキシイオン交換樹脂（2.25 gm）を添加し、混合物を40℃〜45℃の温度にて36時間攪拌した。樹脂を濾別し、メタノールで洗浄した。濾液を減圧下で濃縮して、標題化合物をオイルとして2.0 gm（71％）得た。
【０１２１】
［実施例８］
〔ゲムシタビン塩酸塩(IIb)の調製〕
実施例７で得られた残渣(ゲムシタビン遊離塩基IIc)をメタノール（20 ml）に溶解し、活性炭（0.35 gm）で脱色した。この炭素を濾別し、濾液に濃塩酸（1.0 ml）を添加し、混合物を0℃に冷却し、0℃〜5℃の温度にて1時間、激しく攪拌した。沈殿した固体をろ過し、乾燥して、標題化合物を白色結晶性固体として0.43 gm（18.9％）得た。HPLC分析は、生成物が95％のβ-アノマーを含むことを示した。
【０１２２】
［実施例９］
〔ゲムシタビン塩酸塩(IIb)の調製〕
ゲムシタビン塩酸塩(0.43 gm；実施例８で得られたもの)を、55〜60℃にて脱イオン水（3.5 ml）に溶解した。この溶液を活性炭（50 mg）で脱色し、炭素を濾別した。濾液を酢酸（34 ml）と混合し、混合物を室温で2時間攪拌した。沈殿した固体を濾過し、減圧下、60℃〜70℃にて5〜6時間乾燥して、β-アノマーが99.94％のアノマー純度を有するゲムシタビン塩酸塩(IIb)を0.35 gm（81％）得た。
【０１２３】
［実施例１０］
〔2-デオキシ-2,2-ジフルオロ-3,5-ジベンゾエート-5-フルオロウリジン塩酸塩の調製〕
5-フルオロウラシル（5 gm；0.038 mol）を、アセトニトリル（15 ml）中、ヘキサメチルジシラザン（13.77 gm；0.085 mol）および触媒量（0.50 ml）のメタンスルホン酸と共に110℃〜120℃にて5〜6時間加熱して透明な溶液を得た。この反応混合物液を減圧下で濃縮して、ガム状の塊を得た。これを60℃に加熱し、21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-3,5-ビスベンゾイルオキシ-D-リボーストリクロロアセトイミダート(Ia；6.70 gm；0.013 mol)のアセトニトリル（5 ml）溶液と混合した。次いで、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（7.12 gm；0.03 mol）を添加した。この反応混合物を、激しく攪拌しながら90℃にて10時間加熱した。
【０１２４】
反応混合物を、ジクロロメタンと水との混合液（100 ml；1:1）に注いだ。有機相を分離し、5％重炭酸ナトリウム溶液、水で洗浄した後、蒸発させて白色固体6.28 g（100％）を得た。この固体を、酢酸エチルおよびヘキサン（1:1）を用いるシリカゲルによるクロマトグラフィーに付し、遊離塩基(IIa)を3.25 gm（51.7％）得た。
1H NMR(CDCl3,δ)：4.59 (q, IH, H-4'), 4.68, 4.91 (dd, dd, 2H, H-5'), 5.79 (dd, IH, H-3'), 6.52 (q, IH, H-I'), 8.06 (d, IH, H-6)
質量スペクトル(M+)：489
【０１２５】
ベンゾイル保護基の除去、およびこうして得られた脱保護された遊離塩基の塩酸塩への変換は、実施例４〜９に記載した方法により達成され、2-デオキシ-2,2-ジフルオロ-3,5-ジベンゾエート-5-フルオロウリジン塩酸塩が70％のβ-アノマーのアノマー純度で得られた。
【０１２６】
［実施例１１］
〔2-デオキシ-2,2-ジフルオロ-3,5-ジベンゾエート-5-フルオロシチジン塩酸塩の調製〕
5-フルオロシトシン（5 mg；0.038 mol）を、ヘキサメチルジシラザン（6.308 gm；0.039 mol）および触媒量（0.50 ml）のメタンスルホン酸と共に110℃〜120℃にて5〜6時間加熱して透明な溶液を得た。温度を50℃に下げ、シリル化した塊を21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-3,5-ビスベンゾイルオキシ-D-リボーストリクロロアセトイミダート(Ia；6.70 gm；0.013 mol)のアセトニトリル（7 ml）溶液と混合した。次いで、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（7.12 gm；0.03 mol）を添加した。この反応混合物を、激しく攪拌しながら90℃にて10時間加熱した。
【０１２７】
この反応混合物を、ジクロロメタンと水との混合液（100 ml；1:1）に注いだ。有機相を分離し、5％重炭酸ナトリウム溶液、水で洗浄した後、蒸発させて白色固体6.0 gを得た。この固体を、酢酸エチルおよびヘキサン（1:1）を用いるシリカゲルによるクロマトグラフィーに付し、遊離塩基を2.0 gm（31.8％）を得た。
1H NMR(CDCl3,δ)：4.56 (q, IH, H-4'), 4.73, 4.78 (dd, dd, 2H, H-5'), 5.79 (dd, IH, H-3'), 6.63 (q, IH, H-I'), 8.09 (d, IH, H-6)
質量スペクトル(M+)：488
【０１２８】
ベンゾイル保護基の除去、およびこうして得られた脱保護された遊離塩基の塩酸塩への変換は、実施例４〜９に記載した方法により達成され、2-デオキシ-2,2-ジフルオロ-3,5-ジベンゾエート-5-フルオロウリジン塩酸塩が、68％のβ-アノマーのアノマー純度で得られた。
【０１２９】
［実施例１２］
〔2-デオキシ-2,2-ジフルオロ-3,5-ジベンゾエート-5-チミジン塩酸塩の調製〕
チミン（5 gm；0.04 mol）を、ヘキサメチルジシラザン（15.2 gm；0.094 mol）および触媒量（0.5 ml）のトリメチルシリルクロライドと共に110℃〜120℃にて5〜6時間加熱して透明な溶液を得た。この反応混合物液を減圧下で濃縮して、ガム状の塊を得た。これを再び新たなアセトニトリル（10 ml）に溶解した。この溶液に、21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-3,5-ビスベンゾイルオキシ-D-リボーストリクロロアセトイミダート(Ia；7.0 gm；0.0134 mol)のアセトニトリル（10 ml）溶液を添加し、次いで、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（7.37 gm；0.033 mol）を添加した。この反応混合物を、激しく攪拌しながら90℃にて5時間加熱した。この反応混合物を、ジクロロメタンと水との混合液（100 ml；1:1）に注いだ。有機相を分離し、5％重炭酸ナトリウム溶液、水で洗浄した後、蒸発させて白色固体6.0 gを得た。この固体を、酢酸エチルおよびヘキサン（1:1）を用いるシリカゲルによるクロマトグラフィーに付した。
質量スペクトル(M+)：485
【０１３０】
ベンゾイル保護基の除去、およびこうして得られた脱保護された遊離塩基の塩酸塩への変換は、実施例４〜９に記載した方法により達成され、2-デオキシ-2,2-ジフルオロ-3,5-ジベンゾエート-5-フルオロウリジン塩酸塩が、70％のβ-アノマーのアノマー純度で得られた。
【０１３１】
［実施例１３］
〔2-デオキシ-2,2-ジフルオロ-3,5-ジベンゾエート-5-ウリジン塩酸塩の調製〕
ウラシル（5 gm；0.044 mol）を、アセトニトリル（20 ml）中、ヘキサメチルジシラザン（76.8 gm；0.47 mol）および触媒量（40 ml）のトリメチルシリルクロライドと共に135℃〜140℃にて5〜6時間加熱して透明な溶液を得た。この反応混合物液を減圧下で濃縮して、ガム状の塊を得た。これを再び新たなアセトニトリル（20 ml）に溶解した。この溶液に、21-デオキシ-21,21-ジフルオロ-3,5-ビスベンゾイルオキシ-D-リボーストリクロロアセトイミダート(Ia；7.5 gm；0.0143 mol)のアセトニトリル（50 ml）溶液を添加し、次いで、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（10.43 gm；0.047 mol）を添加した。この反応混合物を、激しく攪拌しながら90℃にて10時間加熱した。
【０１３２】
この反応混合物を、ジクロロメタンと水との混合液（100 ml；1:1）に注いだ。有機相を分離し、5％重炭酸ナトリウム溶液、水で洗浄した後、蒸発させて白色固体6.5 gを得た。この固体を、酢酸エチルおよびヘキサンを用いるシリカゲルによるクロマトグラフィーに付した。
質量スペクトル(M+)：472.5
【０１３３】
ベンゾイル保護基の除去、およびこうして得られた脱保護された遊離塩基の塩酸塩への変換は、実施例４〜９に記載した方法により達成され、2-デオキシ-2,2-ジフルオロ-3,5-ジベンゾエート-5-フルオロウリジン塩酸塩が、65％のβ-アノマーのアノマー純度で得られた。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月2日(2007.1.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(I)：
【化１】
2008531680.tif 000059
（式中、Ｐは、水素またはヒドロキシ保護基である）
の化合物。
【請求項２】
前記保護基Ｐが、ホルミル、2-クロロアセチル、ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、4-ニトロベンジル、フェノキシカルボニル、tert-ブチル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、アリル、テトラヒドロチエニル、2-メトキシエトキシメチル、メトキシアセチル、フェノキシアセチル、イソブチリル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、メシル、トリメチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、メチルジイソピルシリル、トリイソプロピルシリル、またはtert-ブチルジメチルシリルから選択される、請求項１に記載の式(I)の化合物。
【請求項３】
式(I)の化合物の調製方法であって、
式(IV)：
【化２】
2008531680.tif 000060
（式中、Ｐは請求項１で定義されたとおりである）
のラクトール化合物を、不活性有機溶媒中、塩基の存在下で、トリクロロアセトニトリルと反応させる工程を含む、調製方法。
【請求項４】
前記有機溶媒が、ハロゲン化炭化水素、酢酸の(C1〜4)アルキルエステル、エーテル、および芳香族炭化水素から選択される、請求項３に記載の調製方法。
【請求項５】
前記不活性有機溶媒が、ジクロロメタン、1,2‐ジクロロエタン、酢酸エチル、ジイソプロピルエーテル、またはトルエンから選択される、請求項３または４に記載の調製方法。
【請求項６】
前記塩基が、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、シクロヘキシルアミン、ピリジン、2,4-ジメチルアミノピリジン、およびN-メチルモルホリンから選択される、請求項３〜５のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項７】
前記塩基が、触媒量、当モル量、または式(IV)の化合物1モル当たり1〜3モルのモル比で、好ましくは触媒量で使用される、請求項３〜６に記載の調製方法。  
【請求項８】
トリクロロアセトニトリルが、式(IV)のラクトール化合物に対して当モル量、または式(IV)の化合物1モル当たり1〜20モルのモル比で、好ましくは式(IV)の化合物1モル当たり1.0〜15モルのモル比で使用される、請求項３〜７のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項９】
前記反応が、-20℃〜20℃の範囲の温度にて行われる、請求項３〜８のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１０】
式(IIb)： 
【化３】
2008531680.tif 000061
のゲムシタビン塩酸塩の99％より高度にβ-富化されたアノマーを調製するための立体選択的なグリコシル化法であって、
ａ）式(I)： 
【化４】
2008531680.tif 000062
（式中、Ｐは請求項１で定義されたとおりである）
の化合物を、不活性有機溶媒中、任意でルイス酸触媒の存在下で、式(Va)または(Vb)：
【化５】
2008531680.tif 000063
（式中、Ｒ４は窒素保護基であり、Ｒ５はヒドロキシ保護基である）
のシトシンでグリコシル化して、式(IIa)： 
【化６】
2008531680.tif 000064
（式中、ＰおよびＲ４は、請求項１および上記により定義されたとおりである）
の保護されたゲムシタビン遊離塩基にする工程；
ｂ）C1〜3アルコールの存在下アンモニア水で、あるいはヒドロキシイオン交換陰イオン交換樹脂で、前記式(IIa)の化合物を処理することによって、前記保護基を除去して、式(IIc)：
【化７】
2008531680.tif 000065
のゲムシタビン遊離塩基のβ-富化されたアノマーを得る工程；
ｃ）こうして得られた前記式(IIc) のゲムシタビン遊離塩基を、C1〜3アルコール中、塩化水素と接触させて、式(IIb) のゲムシタビン塩酸塩の95％以上にβ-富化されたアノマーを、好ましくは95％以上の純度で得る工程；および
ｄ）任意で、C2〜3脂肪族有機酸と水との混合物からの結晶化によって、式(IIb) のゲムシタビン塩酸塩のβ-アノマー含量を99％よりさらに高度に富化させる工程
を含む、グリコシル化法。
【請求項１１】
式(Va)および(Vb)の化合物における前記窒素保護基Ｒ４および前記ヒドロキシル基Ｒ５が、アセチルまたはトリアルキルシリルである、請求項１０に記載の調製方法。
【請求項１２】
前記不活性有機溶媒が、アセトニトリル、トルエン、キシレンおよびその異性体、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,1‐ジクロロエタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン、およびアニソールから選択される、請求項１０または１１に記載の調製方法。
【請求項１３】
前記ルイス酸触媒が、四塩化スズ、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、トリメチルシリルノナフルオロブチルスルホネート、過塩素酸トリメチルシリル、ボロントリフルオライドジエチルエーテラート、およびトリメチルシリルテトラフルオロボレートから選択される、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１４】
式(Va)および(Vb)のシトシン化合物が、式(I)の化合物1モル当たり1〜2.0モルのモル比で用いられる、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１５】
C1〜3アルコールが、メタノール、エタノール、1-プロパノール、または2-プロパノールから選択される、請求項１０〜１４のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１６】
C1〜3アルコールの存在下、アンモニア水で、式(IIa)の化合物を処理する工程を含む保護基Ｐ、Ｒ４、およびＲ５の前記脱保護が、室温から約60℃までの温度にて行われる、請求項１０〜１５のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１７】
陰イオン交換樹脂が強塩基陰イオン交換樹脂である、請求項１０〜１６のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１８】
前記強塩基陰イオン交換樹脂が、アンバーライト樹脂類、例えば、FPA40 Cl、FPA90 Cl、FPA91 Cl、FPA97 Cl、FPA98 Cl、IRA 400、IRA402 Cl、およびIRA410 Clから選択される、請求項１０〜１７のいずれか一項に記載の調製方法。
【請求項１９】
C2〜3脂肪族有機酸が酢酸またはプロピオン酸である、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の調製方法。
【国際調査報告】
2008531680.tif 000066
2008531680.tif 000067
2008531680.tif 000068