(57)【要約】  本発明は、導光板のマイクロレンズ製造方法において、光が通過する第１の領域と光が通過しない複数の第２の領域とを形成するが、第２の領域が異なる大きさ及び形状を有するハイブリッドアレイを形成するようになっているマスクをフォトレジストのコーティングされた基板上に位置合わせるステップと、第２の領域の上側から下側に照射される光が、１方向以上で非対称な傾斜角を有するように、１回以上の傾斜露光や垂直露光を行うステップと、露光された基板を現像してそれぞれは、非対称な傾斜柱状を有し、様々な大きさ及び形状からなるハイブリッドフォトレジスト柱を得るステップと、前記柱をリフロー工程により湾曲させてハイブリッドマイクロレンズパターンを得るステップと、前記パターンが陰刻する陰刻スタンパーを製作するステップと、前記スタンパーを金型にして前記パターンが陽刻された導光板を成形するステップとを含むことを特徴とする。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
導光板のマイクロレンズ製造方法において、
光が通過する第１の領域と光が通過しない複数の第２の領域とを形成するが、前記第２の領域がそれぞれ異なる大きさ及び形状を有するハイブリッドアレイを形成するようになっているマスクをフォトレジストのコーティングされた基板上に位置合わせする第１のステップと、
前記ハイブリッドアレイを形成する第２の領域の上側から下側に照射される光が、少なくとも１方向以上で非対称な傾斜角を有するように、少なくとも１回以上の傾斜露光や垂直露光を行う第２のステップと、
前記傾斜露光された基板を現像してそれぞれは非対称な傾斜柱状を有し、様々な大きさ及び形状からなるハイブリッドフォトレジスト柱を得る第３のステップと、
前記ハイブリッドフォトレジスト柱をリフロー工程によりそれぞれ湾曲させてハイブリッドマイクロレンズパターンを得る第４のステップと、
前記ハイブリッドマイクロレンズパターンが陰刻されるように陰刻スタンパーを製造する第５のステップと、
前記陰刻スタンパーを金型として前記ハイブリッドマイクロレンズパターンが陽刻された導光板を成形する第６のステップとを含むことを特徴とする半導体リフロー工程を用いた導光板のハイブリッドマイクロレンズ製造方法。
【請求項２】
前記マスクは、フィルムマスクまたはクロムマスクであることを特徴とする請求項１に記載の半導体リフロー工程を用いた導光板のハイブリッドマイクロレンズ製造方法。
【請求項３】
前記マスクの第２の領域は、一方向の延長線上に配列されるが、それぞれの第２の領域は、異なる大きさ及び形状を有するハイブリッドアレイを形成し、前記ハイブリッドアレイは、隣り合うさらに他のハイブリッドアレイから適当な距離だけ離れて形成され、前記ハイブリッドアレイを形成するそれぞれの第２の領域は、その間隔を異にして配列されることを特徴とする請求項１に記載の半導体リフロー工程を用いた導光板のハイブリッドマイクロレンズ製造方法。
【請求項４】
前記マスクの各第２の領域は、四角状に作製されることを特徴とする請求項１に記載の半導体リフロー工程を用いた導光板のハイブリッドマイクロレンズ製造方法。
【請求項５】
前記第４のステップは、非対称な傾斜柱状を有するハイブリッドフォトレジスト柱が非対称な四角柱状の上部とを有するハイブリッドマイクロレンズパターンまたは半球状の上部とを有するハイブリッドマイクロレンズパターンを形成するまでにリフロー工程を行うことを特徴とする請求項１に記載の半導体リフロー工程を用いた導光板のハイブリッドマイクロレンズ製造方法。
【請求項６】
前記第５のステップは、ハイブリッドマイクロレンズパターンの形成された基板上に金属薄膜をコーティングするステップと、前記金属薄膜上にニッケル電気めっきを行い、前記ニッケル電気めっきした領域のみを分離させてスタンパーを形成するステップとを含むことを特徴とする請求項１に記載の半導体リフロー工程を用いた導光板のハイブリッドマイクロレンズ製造方法。
【請求項７】
前記金属薄膜コーティングは、クロムコーティングであることを特徴とする請求項６に記載の半導体リフロー工程を用いた導光板のハイブリッドマイクロレンズ製造方法。
【請求項８】
前記金属薄膜コーティングは、前記クロムをコーティングした後、金をさらにコーティングすることを特徴とする請求項７に記載の半導体リフロー工程を用いた導光板のハイブリッドマイクロレンズ製造方法。
【請求項９】
前記陰刻スタンパーをマスクとして、前記陰刻スタンパーのハイブリッドマイクロレンズパターンが陽刻されるようにした陽刻スタンパーを製作するステップと、前記陽刻スタンパーを金型としてハイブリッドマイクロレンズパターンが陰刻された導光板を成形するステップとをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の半導体リフロー工程を用いた導光板のハイブリッドマイクロレンズ製造方法。
【請求項１０】
前記陽刻スタンパーは、陰刻スタンパーのハイブリッドマイクロレンズアレイパターン上にニッケルめっきを施した後、これを分離させて製作することを特徴とする請求項９に記載の半導体露光工程を用いた導光板のハイブリッドマイクロレンズ製造方法。
【請求項１１】
複数のマイクロレンズが形成される導光板において、
前記導光板上の一方向の延長線上に大きさ及び形状を異にする複数のマイクロレンズが位置合わせされるが、前記それぞれのマイクロレンズは、大きさ及び形状を異にするハイブリッドマイクロレンズアレイを構成し、前記のようなハイブリッドマイクロレンズアレイが複数配列され、前記アレイを構成するそれぞれのマイクロレンズは、その間隔を異にして形成することを特徴とするハイブリッドマイクロレンズを有する導光板。
【請求項１２】
前記導光板に形成される複数のハイブリッドマイクロレンズのうちのいずれか一部は、大きさを異にしたり、配列方向を異にしたりして配列されることを特徴とする請求項１１に記載のハイブリッドマイクロレンズを有する導光板。
【請求項１３】
前記導光板は、マイクロレンズにより入光部の光を拡散させるようになっている光拡散部と、マイクロレンズに光を乱反射させて均一な輝度を示すようにする光誘導部とから構成されることを特徴とする請求項１１に記載のハイブリッドマイクロレンズを有する導光板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、超微細パターン形状加工技術及び微細成形技術に関し、特に、マイクロレンズアレイまたは導光板（Ｌｉｇｈｔ  Ｇｕｉｄｉｎｇ  Ｐｌａｔｅ：ＬＧＰ）などに使用される光拡散及び光散乱、視野角の調節のためのハイブリッドマイクロレンズを製造する方法及びこの方法により製造された導光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置（ＬＣＤ）のバックライトユニットは、液晶表示装置のパネル全体に光を均一に伝える照光装置として使用しており、前記液晶表示装置パネルでは、透過する光の量を一定に調節して画像を表示する。
ＣＲＴ、ＰＤＰ、ＦＥＤとは異なり、液晶表示装置による表示は、そのものが非発光性であり、光のないところでは使用することができない。
【０００３】
このような欠点を補い、暗い所でも液晶表示装置（ＬＣＤ）の使用を可能とするために、前記液晶表示装置のパネル全体に均一に光を伝える照光装置としてバックライトユニットが使用されている。
前記バックライトユニットは、背景光源と、光を反射させる反射板と、導光板と、拡散板などから構成される。
前記導光板は、両側面に、光源として使用される背景光源から放出される光を液晶表示装置の全体面に均一に照射させている。
【０００４】
従来に携帯電話に使用されていた導光板を例にして説明すると、導光板は、背面に一定の方向に配列されたマイクロレンズを、エッチングによるドットや、所定の大きさの拡散インクドット方式により作製され使用されている。
【０００５】
しかし、上記のようなエッチングによるドット方式は、ウェットエッチング過程での問題で、所定の大きさや距離を有するパターンの製造が難しく、エッチング面が清潔でなくて光学的にも光の制御が難しく、製造期間が長く高価であるという問題があった。
また、拡散インクドット形式を使用するといっても、拡散インクのそのものの吸収率や散乱により光効率が非常に低下するという問題があった。
【０００６】
さらに、光学的の液晶表示装置は、装置面と約９０°をなす高い出射角の光が必要である反面、従来技術の導光板を通して出射される光は、出射角が導光板面と約３０°で非常に低いことから、低い出射角を高くするためには、高価のプリズムフィルムや拡散フィルムを使用しなければならないという問題があった。
前記使用される各フィルムを減らすために、様々なパターンを用いているが、これもまた、機械加工やエッチングを使用するために、均一な形状の製造が難しいという問題があった。
【特許文献１】特開平１１−５２３７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、従来の導光板に使用される拡散インクドットパターンやエッチングによるドットパターンに代わるために、複数のマイクロ単位の台形マイクロレンズにより光を反射または屈折させて入光部の光を拡散させる光拡散部と、半球状のマイクロレンズにより光を乱反射させて均一な輝度を示させる光誘導部とから構成されたハイブリッドマイクロレンズを製造する工程を容易かつ簡単にし、使用者の意図によって前記のハイブリッドマイクロレンズの大きさまたは導光板での位置を容易にするリフロー工程を用いた導光板のハイブリッドマイクロレンズ製造方法及びこの方法により製造された導光板を提供することを目的とする。
【０００８】
また、前記ハイブリッドマイクロレンズは、光拡散部で四角形の下部と非対称な四角柱状の上部とを備えるように製造され、光誘導部では円状の下部と半球状の上部とを備えるように製造されるリフロー工程を用いた導光板のハイブリッドマイクロレンズ製造方法及びこの方法により製造された導光板を提供することを他の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するため、本発明によるハイブリッドマイクロレンズ製造方法は、導光板のマイクロレンズ製造方法において、光が通過する第１の領域と光が通過しない複数の第２の領域とを形成するが、前記第２の領域がそれぞれ異なる大きさ及び形状を有するハイブリッドアレイを形成するようになっているマスクをフォトレジストのコーティングされた基板上に位置合わせする第１のステップと、前記ハイブリッドアレイを形成する第２の領域の上側から下側に照射される光が、少なくとも１方向以上で非対称な傾斜角を有するように、少なくとも１回以上の傾斜露光や垂直露光を行う第２のステップと、前記傾斜露光された基板を現像してそれぞれは非対称な傾斜柱状を有し、様々な大きさ及び形状からなるハイブリッドフォトレジスト柱を得る第３のステップと、前記ハイブリッドフォトレジスト柱をリフロー工程によりそれぞれ湾曲させてハイブリッドマイクロレンズパターンを得る第４のステップと、前記ハイブリッドマイクロレンズパターンが陰刻されるように陰刻スタンパーを製造する第５のステップと、前記陰刻スタンパーを金型として前記ハイブリッドマイクロレンズパターンが陽刻された導光板を成形する第６のステップとを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、リフロー工程を行って垂直露光や傾斜露光により製造されたフォトレジストによるハイブリッドマイクロレンズを製造することにより、簡単な製造工程により微細なハイブリッドマイクロレンズアレイパターンを製造することができるし、それにより、費用を減らし、製造時間を短縮するという効果がある。
また、本発明は、露光工程やリフロー工程によりフォトレジストの大きさや傾斜を調節することにより、ハイブリッドマイクロレンズを製作者任意に製造することができ、所望の光学的性質を有するハイブリッドマイクロレンズを導光板に任意に製造できるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の好ましい実施の形態を、添付図面に基づいて詳しく説明する。
ここで、本発明を説明するに当たり、関連した公知の機能または構成に対する具体的な記述は、本発明の要旨を不明確にするおそれがある場合には、その詳細な説明を省略する。
そして、後述の用語は、本発明での機能を考慮し定義された用語であり、これは、使用者、運用者の意図または慣例などによって異なることもある。よって、その定義は、本明細書全般にわたる内容に基づいて行われるべきである。
【００１２】
本発明のためには、先に露光工程に使用される図１に示すようなマスク２１を製造する。ここで、マスクは、パターンの精度によりフィルムマスクやクロムマスクなどが決定される。クロムマスクを使用すると、１μｍ程度の精度で製作することが可能である。
【００１３】
図１は、本発明に使用されるマスクの斜視図であり、同図に示すように、マスク２１は、光が通過する第１の領域２２と、光が通過しない複数の第２の領域２３ａ、２３ｂ及び２３ｃとを形成するが、前記第２の領域２３ａ、２３ｂ及び２３ｃが異なる大きさ及び形状を有するハイブリッドアレイ２３を形成する構成からなる。
【００１４】
このとき、それぞれの第２の領域２３ａ、２３ｂ及び２３ｃは、四角状に作製されることが好ましいが、もちろん、前記第２の領域２３を四角でない他の形状、すなわち、円、楕円、五角、六角などの形状に作製してもよい。
そして、本発明のマスクは、複数の第２の領域２３を同じ形状かつ同じ間隔で作製することができ、図１に示すように、複数の第２の領域２３が同じ四角状に作製されるが、隣り合うそれぞれの大きさや間隔を異にして作製することができる。
【００１５】
図２乃至図４は、本発明の実施例による非対称な四角柱状のフォトレジストを製造する露光工程を示す工程図である。
先ず、図２に示すように、スピンコータ（Ｓｐｉｎ  Ｃｏａｔｅｒ）装備を利用してガラスまたはシリコンウェーハ基板３１の上に感光剤であるＰＲ（Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）３２をコーティングする。このとき、使用されるＰＲ３２の種類は、厚さによって多様に決められる。
【００１６】
前記コーティング工程が終了すると、オーブンに入れ、コーティングされた基板３１をソフトベーキングを行う。このとき、ベーキング条件は、温度７０〜１２０℃で約２〜３０分の間で行うことが好ましい。
【００１７】
前記ソフトベーキングが終了すると、図３に示すように、マスク２１をＰＲコーティングされた基板３１の上に位置合わせキーに合わせて位置合わせを行い、図４に示すように、非対称な四角柱状に製造するために、決められた時間で垂直露光や傾斜露光の工程を行う。
【００１８】
このとき、露光工程に使用されるマスク２１は、大きさや方向が異なる四角形の複数の第２の領域２３を有するマスクである。そして、前記図３において、Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒａ３は、第２の領域２３ａ、２３ｂ及び２３ｃの垂直方向の幅を示し、Ｒｂ１、Ｒｂ２、Ｒｂ３は、第２の領域２３の水平方向の幅を示す。また、Ｌａ１、Ｌａ２は、第２の領域２３の垂直方向間の間隔を示し、Ｌｂ１、Ｌｂ２は、第２の領域２３の水平方向間の間隔を示す。
【００１９】
同図に示すように、前記Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒａ３の幅とＲｂ１、Ｒｂ２、Ｒｂ３の幅は、それぞれ異なる幅で作製され、Ｌａ１、Ｌａ２の間隔とＬｂ１、Ｌｂ２の間隔も異なる幅で作製することができる。
【００２０】
そして、前記露光工程が終了すると、現像作業を行うが、現像条件として、現像液の温度は、常温でディッピングする方式を用いる。
前記現像結果を、図４を参照して、同図に示すように傾斜露光により光を通過した第１の領域２２のＰＲ３２領域は、溶けて無くなり、光を受けていない第２の領域２３ａ、２３ｂ及び２３ｃのＰＲ３２領域は残ることになる。
結局、基板３１に残ることは、光を受けていない第２の領域２３のＰＲ３４部分である。このとき、前記ＰＲ３４の形状は、第２の領域２３の形状と同じ四角状を取り、傾斜露光の結果として、下側に広がる傾斜面を有する四角柱状に作製される。
【００２１】
このとき、前記ＰＲ３４は、傾斜露光の際の照射角度及び照射方向が変わるに従い、非対称形状を有する四角柱状に作製することができる。
前記露光工程により形成された非対称な四角柱状のＰＲ３４は、マスク２１の第２の領域２３ａ、２３ｂ及び２３ｃのパターンによることから、大きさも異なり、間隔も異なる四角柱状のＰＲ３４ａ、３４ｂ、３４ｃを形成することになる。
【００２２】
図５は、露光された基板を非対称な四角柱状のＰＲ３４ａ、３４ｂ、３４ｃの長さが長い部分で切断した断面図であり、図６は、露光された基板を非対称な四角柱状のＰＲ３４ａ、３４ｂ、３４ｃの長さが短い部分で切断した断面図である。
同図に示すように、非対称な四角柱状の各ＰＲ３４ａ、３４ｂ、３４ｃは、同じ高さを有するが、大きさは異にして作製することができるし、各非対称な四角柱状の各ＰＲ３４ａ、３４ｂ、３４ｃ間の間隔（Ｌａ、Ｌｂ）を方向によって異に形成することができる。
【００２３】
上述の現像作業を終了すると、ホットプレート装備を用いてリフロー（Ｒｅｆｌｏｗ）工程を行い、前記非対称な四角柱状の各ＰＲ３４ａ、３４ｂ、３４ｃを湾曲させる。
ここで、前記リフロー工程は、ＰＲ３４ａ、３４ｂ、３４ｃを加熱して前記感光剤（すなわち、ＰＲ）が熱で溶け落ちる工程をいう。このとき、リフロー条件は、製造形状により異なるが、温度１００〜２００℃で数分の間で行うことが好ましい。
【００２４】
図７は、本発明によるリフロー工程後の直線に配列されたＰＲの状態を示す平面図であり、図８は、本発明によるリフロー工程後の角度が変わって配列されたＰＲの状態を示す平面図であり、図９は、本発明によるリフロー工程後のＰＲの状態を示す断面図である。図１０は、入光部付近の台形状のマイクロレンズからなる光拡散部Ｂと、入光部から所定の距離だけ離れた半球状のマイクロレンズからなる光誘導部Ａとを示す平面図である。
同図に示すように、非対称な四角柱状のＰＲ３４ａ、３４ｂ、３４ｃをリフロー工程により台形状と半球状のマイクロレンズから構成されたハイブリッドマイクロレンズパターン３６を製作する。
【００２５】
上記したように製作されるハイブリッドマイクロレンズパターン３６は、マスク２１の大きさ、傾斜露光角度、及びリフロー時間により決定され、リフロー工程により様々な形態のハイブリッドマイクロレンズパターン３６を製作することができる。
また、前記図７乃至図８を参照して、本発明によるマイクロレンズの配列を様々な形態で実施することができる。
【００２６】
上述のような本発明によると、マスク２１の第２の領域２３ａ、２３ｂ及び２３ｃの形状と大きさ及び配列を調整する過程と、傾斜露光の角度及び方向を調整する過程と、リフロー工程での温度及び時間を調節する過程とにより所望の形態のハイブリッドマイクロレンズパターン３６を形成できるだけでなく、さらに、所望の形態の光学設計を自由に行うことができるという利点がある。
【００２７】
図１１及び図１２は、本発明の実施例による陰刻スタンパー製造過程を示す工程図である。
同図に示すように、複数のハイブリッドマイクロレンズパターン３６（３６ａ、３６ｂ、３６ｃ）が形成された基板３１の上に金属薄膜４１をコーティングする。
このとき、前記金属薄膜４１のコーティングは、主としてクロム（Ｃｒ）コーティングを行っており、金（Ａｕ）をさらにコーティングすることができる。
【００２８】
そして、前記金属薄膜４１のコーティングが終了すると、基板３１をめっき装備に取り付け、図１２に示すように、ニッケル電気めっきを施す。このとき、供給される電流は、各ステップにより数アンペアを流し、これによるめっき厚さは、４００〜４５０μｍとなり（４インチウェーハ基準）、ニッケルめっきされた領域がスタンパー４２となる。
前記ニッケル電気めっきを施してスタンパー４２を形成した後、基板３１とスタンパー４２とを分離させる。このとき、分離されたスタンパー４２は、ハイブリッドマイクロレンズパターン３６が陰刻で転写された形態を有する。
【００２９】
すなわち、前記スタンパー（以下、陰刻スタンパーという）４２には、ハイブリッドマイクロレンズパターン３６が陰刻で刻まれている。
上述の陰刻のハイブリッドマイクロレンズパターン３６を有する陰刻スタンパー４２を製作すると、前記陰刻スタンパー４２を金型として陽刻のハイブリッドマイクロレンズアレイパターンを有する導光板またはマイクロレンズアレイを成形することが可能となる。
そして、上記陰刻スタンパー４２を用いると、陰刻のハイブリッドマイクロレンズアレイパターンを有する導光板を製造するためのさらに他の陽刻スタンパーを製造することができる。
【００３０】
図１３は、本発明の実施例による陽刻スタンパー製造工程を示す概略図であり、同図に示すように、陰刻スタンパー４２の非対称な曲率のマイクロレンズアレイパターンの上に新しいニッケルめっき工程を施す。
前記めっき工程により新しいニッケルめっき領域４４が形成され、前記ニッケルめっき領域４４は、陰刻スタンパー４２から分離させることができる。
このように、陰刻スタンパー４２から分離された新しいニッケルめっき領域４４は、前記陰刻スタンパー４２が転写された形態を有する新しい陽刻スタンパー４４を形成することになる。
【００３１】
すなわち、新しい陽刻スタンパー４４は、ハイブリッドマイクロレンズアレイパターンが陽刻であるに対し、ハイブリッドマイクロレンズ間によるグルーブが陰刻で刻まれることになる。
【００３２】
よって、前記陽刻スタンパー４４を金型にすると、陰刻のハイブリッドマイクロレンズアレイパターンを有する導光板（図示せず）を成形することが可能となる。
上述のような本発明は、３次元的なハイブリッドマイクロレンズを形成するための方法であり、機械加工でない半導体リフロー工程を行って製作する。
【００３３】
前記本発明は、このために、１次の垂直露光と１次の傾斜露光とを行ってフォトレジスト材料を非対称な四角柱状にし、フォトレジストのリフロー特性を利用して熱処理を行うことにより、それぞれの非対称な四角柱が光を反射または屈折させる台形マイクロレンズと、散乱や拡散効果を有する半球状のマイクロレンズとからなるハイブリッドマイクロレンズパターンを製作することが可能となり、これを用いてハイブリッドマイクロレンズを有する導光板を製作することが可能となる。
【００３４】
以上のように、上記実施の形態を参照して詳細に説明され図示されたが、本発明は、これに限定されるものでなく、このような本発明の基本的な技術的思想を逸脱しない範囲内で、当業界の通常の知識を有する者にとっては、他の多くの変更が可能であろう。また、本発明は、添付の特許請求の範囲により解釈されるべきであることは言うまでもない。
【産業上の利用可能性】
【００３５】
本発明によると、リフロー工程を行って垂直露光や傾斜露光により製造されたフォトレジストによるハイブリッドマイクロレンズを製造することにより、簡単な製造工程により微細なハイブリッドマイクロレンズアレイパターンを製造することができるし、それにより、費用を減らし、製造時間を短縮するという効果がある。
また、本発明は、露光工程やリフロー工程によりフォトレジストの大きさや傾斜を調節することにより、ハイブリッドマイクロレンズを製作者任意に製造することができ、所望の光学的性質を有するハイブリッドマイクロレンズを導光板に任意に製造できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明に使用されるマスクの斜視図である。
【図２】本発明の実施例による非対称な四角柱状のフォトレジストを製造する露光工程を示す工程図である。
【図３】本発明の実施例による非対称な四角柱状のフォトレジストを製造する露光工程を示す工程図である。
【図４】本発明の実施例による非対称な四角柱状のフォトレジストを製造する露光工程を示す工程図である。
【図５】本発明の実施例により製造された非対称な四角柱状の各フォトレジストの大きさ及び形状の特徴を示す断面図である。
【図６】本発明の実施例により製造された非対称な四角柱状の各フォトレジストの大きさ及び形状の特徴を示す断面図である。
【図７】本発明の実施例によるリフロー工程後にハイブリッドマイクロレンズに変わったフォトレジストの形状を示す図面である。
【図８】本発明の実施例によるリフロー工程後にハイブリッドマイクロレンズに変わったフォトレジストの形状を示す図面である。
【図９】本発明の実施例によるリフロー工程後にハイブリッドマイクロレンズに変わったフォトレジストの形状を示す図面である。
【図１０】本発明の実施例によるリフロー工程後にハイブリッドマイクロレンズに変わったフォトレジストの形状を示す図面である。
【図１１】本発明の実施例によるスタンパー製造過程を示す工程図である。
【図１２】本発明の実施例によるスタンパー製造過程を示す工程図である。
【図１３】本発明の実施例による陽刻スタンパー製造工程を示す概略図である。
【符号の説明】
【００３７】
３１  シリコンウェーハ基板
３６  ハイブリッドマイクロレンズパターン
【図１】
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【図２】
2008545996.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2008545996.tif 000011
【図１０】
2008545996.tif 000012
【図１１】
2008545996.tif 000013
【図１２】
2008545996.tif 000014
【図１３】
2008545996.tif 000015
【国際調査報告】
2008545996.tif 000016
2008545996.tif 000017