(57)【要約】本発明は、透明な熱可塑性樹脂、特にポリカーボネート、および二酸化ケイ素ベースの無機粒子とコア-シェル形態を有するアクリレートベースのポリマー粒子との組み合わせから成る組成物に関する。本発明は更に、上述の組成物から製造される成形物体にも関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な熱可塑性樹脂６０〜９９．９８重量％、粒度１〜１００μｍの二酸化ケイ素に基づく無機粒子０．０１〜２０重量％、およびコア／シェル形態かつ粒度１〜１００μｍのアクリレートに基づくポリマー粒子０．０１〜２０重量％を含むコンパウンド。
【請求項２】
二酸化ケイ素に基づく無機粒子が、水性懸濁液においてｐＨ価が５〜９である無定形ケイ酸である、請求項１記載のコンパウンド。
【請求項３】
透明な熱可塑性樹脂が芳香族ポリカーボネートである、請求項１または２記載のコンパウンド。
【請求項４】
二酸化ケイ素に基づく無機粒子が、水性懸濁液においてｐＨ価が５〜９である無定形ケイ酸であり、ケイ酸が５重量％の量でポリカーボネート中に配合される場合ＩＳＯ  １１３３による１００ｃｍ３／１０分以下のＭＶＲ増加を引き起こす、請求項３記載のコンパウンド。
【請求項５】
無定形ケイ酸が被覆されていない、請求項４記載のコンパウンド。
【請求項６】
成形品の製造への請求項１〜５の一つに記載のコンパウンドの使用。
【請求項７】
少なくとも一つの層が請求項１〜５の一つに記載のコンパウンドからつくられることを特徴とする、同時押出法による多層成形品の製造技術。
【請求項８】
請求項１〜５の一つに記載のコンパウンドから得られる成形品。
【請求項９】
少なくとも一つの同時押出層が、同時押出層の０．１〜２０重量％を構成する少なくとも一つのＵＶ吸収剤を含有することを特徴とする、請求項７記載の技術から得られる成形品。
【請求項１０】
該成形品がソリッドスラブである、請求項８または９記載の成形品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
以下の発明は透明な熱可塑性樹脂、特にポリカーボネート、および二酸化ケイ素に基づく無機粒子とコア-シェル形態のアクリレートに基づくポリマー粒子との組み合わせからつくられるコンパウンド、並びにこのコンパウンドからつくられる成形品に関する。
【０００２】
このコンパウンドまたは成形品は高い光透過率および高い光散乱を同時に示し、同時に高い光透過および高い光散乱が所望される様々な分野で使用され得る。そのような用途は、照明装置、例えば、典型的に使用されるパンクチュアルな光源（ｐｕｎｃｔｕａｌ  ｌｉｇｈｔ  ｓｏｕｒｃｅ）がそれ自体使用されず、ライトがむしろ広範囲にわたって均一に放射する照明装置のカバーである。これらのタイプの照明装置は室内、階段、ホール、または輸送機関（例えば列車、自動車および飛行機）において室内照明で使用される。
【０００３】
電子工業において、光散乱プレート（ｌｉｇｈｔ-ｄｉｓｐｅｒｓｉｎｇ  ｐｌａｔｅｓ）は、例えば平面モニター（ＬＣＤモニター）の照明装置に使用される。同時の高い光散乱および高い光透過がこの場合同様に非常に利点である。そのような平面モニターの照明装置は、横方向の光接合（エッジライトシステム）で現実化されるかもしくは、横方向の光接合が不十分なより大きいモニターの場合、バックライトユニット（ここで、ディフューザープレートの後ろの直接光はできるだけ均一な方法で分配されるべきである）を使用することにより現実化される。
【背景技術】
【０００４】
ポリカーボネートと様々な光散乱添加剤から製造される光散乱半透明製品は、最先端技術で知られている。
【０００５】
例えば、ＥＰ−Ａ  ６３４  ４４５はＴｉＯ２と組み合わさったコア-シェル形態のビニル-アクリレートに基づく粒子を含む光散乱コンパウンドを開示している。
【０００６】
ＤＥ−Ａ  ２２  ５１  ７０８において、透明な熱可塑性樹脂における分散顔料として硫酸バリウムの使用が開示されている。
【０００７】
平面モニターにおける光散乱ポリカーボネートホイルの使用がＵＳ  ２００４／００６６６４５に記載されている。この場合、ポリアクリレート、ＰＭＭＡ、ポリテトラフルオロエチレン、ポリアルキルトリアルコキシシロキサン、およびこれらの粒子の混合物が光散乱顔料として言及されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、既知の光散乱コンパウンドは、光散乱の規定のレベルにおいて十分な光透過を示さなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
驚くべきことに、この所望の特性の組み合わせが透明の熱可塑性樹脂（特にポリカーボネート）および二酸化ケイ素に基づく無機粒子とコア-シェル形態のアクリレートに基づくポリマー粒子との組み合わせを含むコンパウンドで得られることがわかった。無機粒子は、一般的に行われている配合技術による別の処理なしに直接ポリカーボネートに組み入れられるか、もしくは被覆を受け、次に配合され得る。この方法によって製造されるコンパウンドは、驚くべきことに並はずれた高い光透過と同時に規定の光散乱を示す。特に、同じレベルの光散乱において、個々の散乱顔料と比較して、無機および有機散乱顔料との組み合わせで驚くほど光透過のレベルが増加する。
【００１０】
従って、本発明の対象は、透明の熱可塑性樹脂、特にポリカーボネート６０〜９９．９８重量％、二酸化ケイ素に基づく無機粒子０．０１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％、または最も好ましくは０．１〜５重量％、およびコア-シェル形態のアクリレートに基づくポリマー粒子０．０１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％、または最も好ましくは０．１〜５重量％を含む化合物である。
【００１１】
本発明に基づいて形成される成形品の製造に好適な透明な熱可塑性樹脂は、例えばポリカーボネート、コポリエステルカーボネート、ポリエステル、コポリエステル、ポリカーボネートとポリエステルまたはコポリエステルとのブレンド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、スチレンアクリロニトリルコポリマーまたはこれらの混合物であるが、ポリカーボネート、コポリエステルカーボネート、ポリエステル、コポリエステル、ポリカーボネートとポリエステルまたはコポリエステルとの透明なブレンドが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
【００１２】
本発明に関する多層製品の製造に好適なポリカーボネートは、全ての既知のポリカーボネートである。これらはホモポリカーボネート、コポリカーボネート、および熱可塑性ポリエステルカーボネートである。
【００１３】
好適なポリカーボネートは、ジクロロメタンにおいてまたはフェノール／ｏ-ジクロロベンゾールを等重量百分率含む混合物において相対溶液粘度を測定することにより計算し、光散乱によって評価した、好ましい平均分子量Ｍｗ１８，０００〜４０，０００、好ましくは２６，０００〜３６，０００、および最も好ましくは２８，０００〜３５，０００を有する。
【００１４】
ポリカーボネートの製造の参考資料の例は、”Ｓｃｈｎｅｌｌ，  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ，  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｒｅｖｉｅｗｓ，  Ｖｏｌ．  ９，  Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ニューヨーク、ロンドン、シドニー  １９６４”、”Ｄ．  Ｃ．  ＰＲＥＶＯＲＳＥＫ，  Ｂ．  Ｔ．  ＤＥＢＯＮＡ，  ａｎｄ  Ｙ．  ＫＥＳＴＥＮ，  Ｃｏｒｐｏｒａｔｅ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｃｅｎｔｅｒ，  Ａｌｌｉｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，モーリスタウン、ニュージャージー  ０７９６０，  ’Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙ（ｅｓｔｅｒ）ｃａｒｂｏｎａｔｅ  Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ’  ｉｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｅｄｉｔｉｏｎ、第１９巻、７５〜９０頁  （１９８０）”、”Ｄ．  Ｆｒｅｉｔａｇ，  Ｕ．  Ｇｒｉｇｏ，  Ｐ．  Ｒ．  Ｍｕｌｌｅｒ，  Ｎ．  Ｎｏｕｖｅｒｔｎｅ，  ＢＡＹＥＲ  ＡＧ，  ’Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ’  ｉｎ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ、第１１巻、第２版、１９８８、６４８〜７１８頁"、および最後に”Ｄｒ．  Ｕ．  Ｇｒｉｇｏ，  Ｄｒ．  Ｋ．  Ｋｉｒｃｈｅｒ，  ａｎｄ  Ｄｒ．  Ｄ．  Ｒ．  Ｍｕｌｌｅｒ  ’Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ’  ｉｎ  Ｂｅｃｋｅｒ／Ｂｒａｕｎ，  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ、第３／１巻、Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ，  Ｐｏｌｙａｃｅｔａｌｓ，  Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ，  Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｅｓｔｅｒ，  Ｃａｒｌ  Ｈａｎｓｅｒ  Ｖｅｒｌａｇ  Ｍｕｎｉｃｈ、ウィーン  １９９２、１１７〜２９９頁”である。
【００１５】
ポリカーボネートの製造は、好ましくは相界面法（ｐｈａｓｅ  ｂｏｕｎｄａｒｙ  ｍｅｔｈｏｄ）もしくはエステル交換法（ｅｓｔｅｒ  ｉｎｔｅｒｃｈａｎｇｅ  ｍｅｔｈｏｄ）によって生じ、以下の段落でこの工程を相界面法を使用して開示する。
【００１６】
出発開始剤として、使用される好ましい化合物は、一般式
ＨＯ-Ｚ-ＯＨ
（式中、
Ｚ  は炭素原子を６〜３０個有し、一以上の芳香族基を含む二価の有機部分である）
のビスフェノールである。
【００１７】
そのような化合物の例は、ジヒドロキシジフェニル、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン、インダンビスフェノール、ビス（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（ヒドロキシフェニル）ケトン、およびα，α’-ビス（ヒドロキシフェニル）-ジイソプロピルベンゾールの群に属するビスフェノールである。
【００１８】
前述の化合物の群に属する特に好ましいビスフェノールは、ビスフェノール-Ａ、テトラアルキルビスフェノール-Ａ、４，４-（メタ-フェニレンジイソプロピル）ジフェノール（ビスフェノールＭ）、４，４-（パラ-フェニレンジイソプロピル）-ジフェノール、１，１-ビス-（４-ヒドロキシフェニル）-３，３，５-トリメチルシクロヘキサン（ビスフェノールＴＭＣ）、およびこれらの混合物である。
【００１９】
好ましくは、本発明による使用されるビスフェノール化合物を、炭酸化合物、特にホスゲン、またはエステル交換法の場合、ジフェニルカーボネートまたはジメチルカーボネートと反応させる。
【００２０】
ポリエステルカーボネートは、好ましくはあらかじめ言及したビスフェノール、少なくとも一つの芳香族ジカルボン酸、およびあるいは炭酸当量との反応を介して得られる。好適な芳香族ジカルボン酸は、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、３，３’-または４，４’-ジフェニルジカルボン酸、およびベンゾフェノンジカルボン酸である。ポリカーボネートにおけるカーボネート基の一部、８０ｍｏｌ％まで、好ましくは２０〜５０ｍｏｌ％が芳香族ジカルボン酸エステル基によって置換され得る。
【００２１】
相界面法において、使用される不活性有機溶媒は、例えばジクロロメタン、種々のジクロロエタンおよびクロロプロパン化合物、テトラクロロメタン、トリクロロメタン、クロロベンゾール、およびクロロトルオール（ｃｈｌｏｒｏｔｏｌｕｏｌ）であるが、クロロベンゾールまたはジクロロメタンまたはジクロロメタンとクロロベンゾールとの混合物が好ましく使用される。
【００２２】
相界面反応は、触媒（例えば三級アミン、特にＮ-アルキルピペリジンまたはオニウム塩）により加速され得る。トリブチルアミン、トリエチルアミン、およびＮ-エチルピペリジンが好ましく使用される。エステル交換法の場合、ＤＥ−Ａ  ４２  ３８  １２３において言及される触媒が好ましく使用される。
【００２３】
ポリカーボネートは、少量の分枝剤を使用することにより制御された方法で分枝され得る。好適な分枝剤のいくつかは、フロログルシノール、４，６-ジメチル-２，４，６-トリ-(４-ヒドロキシフェニル）-ヘプタン-２；４，６-ジメチル-２，４，６-トリ-(４-ヒドロキシフェニル）-ヘプタン；１，３，５-トリ-(４-ヒドロキシフェニル)-ベンゾール；１，１，１-トリ（４-ヒドロキシフェニル）-エタン；トリ-(４-ヒドロキシフェニル）-フェニルメタン；２，２-ビス-[４，４-ビス-(４-ヒドロキシフェニル）-シクロヘキシル]-プロパン；２，４-ビス-(４-ヒドロキシフェニル-イソプロピル)-フェノール；２，６-ビス-(２-ヒドロキシ-５’-メチル-ベンジル）-４-メチルフェノール；２-(４-ヒドロキシフェニル)-２-(２，４-ジヒドロキシフェニル)-プロパン；ヘキサ-(４-(４-ヒドロキシフェニル-イソプロピル)-フェニル)-オルト-テレフタル酸エステル；テトラ-(４-ヒドロキシフェニル)-メタン；テトラ-(４-(４-ヒドロキシフェニル-イソプロピル)-フェノキシ）−メタン；α，α’，α’’-トリス-(４-ヒドロキシフェニル）-１，３，５-トリイソプロピルベンゾール；２，４-ジヒドロキシ安息香酸；トリメシン酸；塩化シアヌル；３，３-ビス-(３-メチル-４-ヒドロキシフェニル)-２-オキソ-２，３-ジヒドロインドール；１，４-ビス-(４’，４’’-ジヒドロキシトリフェニル)-メチル)-ベンゾールであり、特に、１，１，１-トリ-(４-ヒドロキシフェニル）-エタンおよびビス-(３-メチル-４-ヒドロキシフェニル)-２-オキソ-２，３-ジヒドロインドールである。
【００２４】
場合により使用されるジフェノール、分枝剤、または分枝剤の混合物０．０５〜２ｍｏｌ％は、ジフェノールと共に使用されるかもしくは合成の後の工程において添加され得る。
【００２５】
連鎖停止剤（ｃｈａｉｎ  ｂｒｅａｋｅｒｓ）として、フェノール類（例えばフェノール、アルキルフェノール（例えばクレゾール、および４-ｔｅｒｔ-ブチルフェノール）、クロロフェノール、ブロモフェノール、クミルフェノールまたはこれらの混合物）がビスフェノール１モルあたり１〜２０ｍｏｌ％、好ましくは２〜１０ｍｏｌ％の量で好ましくは使用される。フェノール、４-ｔｅｒｔ-ブチルフェノールおよびクミルフェノールが好ましい。
【００２６】
連鎖停止剤および分枝剤は、このコンパウンドにビスフェノールと別に添加しても一緒に添加してもよい。
【００２７】
エステル交換法によるポリカーボネートの製造の例は、ＤＥ−Ａ  ４２  ３８  １２３に開示されている。
【００２８】
本発明に好ましいポリカーボネートは、ビスフェノールＡに基づくホモポリカーボネート、１，１-ビス-(４-ヒドロキシフェニル)-３，３，５-トリメチルシクロヘキサンに基づくホモポリカーボネート、および二つのモノマービスフェノールＡおよび１，１-ビス-(４-ヒドロキシフェニル)-３，３，５-トリメチルシクロヘキサンに基づくコポリカーボネート、および二つのモノマービスフェノールＡおよび４，４’-ジヒドロキシジフェニル（ＤＯＤ）に基づくコポリカーボネートである。
【００２９】
ビスフェノールＡに基づくホモポリカーボネートが好ましい。
【００３０】
使用される本発明による二酸化ケイ素に基づく無機粒子ａ）は、好ましくは水性懸濁液中において５〜９、好ましくは６〜８のｐＨ価を示す無定形ケイ酸である。
【００３１】
使用される二酸化ケイ素に基づく無機粒子の粒度は、１〜１００μｍ、好ましくは２〜５０μｍ、および最も好ましくは５〜２０μｍである。
【００３２】
特に好適な二酸化ケイ素に基づく無機粒子は、別の処理も大きなポリカーボネートの分解を生じることもなくポリカーボネートに配合されうる二酸化ケイ素である。この条件は、本発明の場合、もし二酸化ケイ素に基づく無機粒子をポリカーボネート中にポリカーボネートに基づいて５重量％配合する場合、ＩＳＯ  １１３３によるＭＶＲが１００ｃｍ３／１０分より大きくならないことに一致する。
【００３３】
二酸化ケイ素に基づく無機粒子の製造は、原理的にはＨｏｌｌｅｍａｎｎ-Ｗｉｂｅｒｇ（第１０１版)またはＲｏｍｐｐ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｌｅｘｉｃｏｎ第２．０版、シュトュットガルト／ニューヨーク、Ｇｅｏｒｇ  Ｔｈｉｅｍｅ  Ｖｅｒｌａｇ  １９９９に開示されている。
【００３４】
それらは原料の砂から合成して得られ、無定形ケイ酸である。最初の工程において、珪砂およびアルカリカーボネートを共に約１３００℃において溶融する。次に生じるアルカリシリケートを高温および高圧で過熱水中に溶解する（例えば１５０℃および圧力５ｂａｒ）。上述の無定形ケイ酸は、この水性アルカリシリケート溶液から無機酸沈殿によって製造され得る。
【００３５】
最初に、漸進反応において凝集し、最終的に凝集体になるコロイド一次粒子を形成する。この製造工程（湿潤方法）により得られる二酸化ケイ素粒子の場合、二酸化ケイ素粒子が形成される時に非常に少量のアルカリ埋封物がこの粒子中に存在することが重要である。このことは一方で、この二酸化ケイ素懸濁液のｐＨ価が５〜９、好ましくは６〜８である水性懸濁液中で明らかであり、他方でポリカーボネートそれ自体におけるこれらの粒子のＩＳＯ  １１３３によるＭＶＲが１００  ｃｍ３／１０分以下になる振る舞いにおいて明らかである。
【００３６】
上述の二酸化ケイ素に基づく無機粒子の第二の製造方法として、発熱製造法（ｐｙｒｏｇｅｎｉｃ  ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  ｐｒｏｃｅｓｓ）がある。この方法において、（フェロ）シリコンを塩素と反応することにより得られる四塩化ケイ素を水素と酸素との爆鳴気炎（ｄｅｔｏｎａｔｉｎｇ  ｇａｓ  ｆｌａｍｅ）において分解する。これらの粒子は、そのフリーのシラノール基のために強親水性であり、例えばクロロシランと反応させることにより疎水性にすることができる。多量でないアルカリまたは酸性埋封物がこの粒子中に存在することも、この熱分解法により得られる粒子に必要である。このことは今度もこれらの二酸化ケイ素懸濁液のｐＨ価の大きさが５〜９、好ましくは６〜８である、水性懸濁液において明らかであり、更に、ポリカーボネートそれ自体におけるＩＳＯ  １１３３によるＭＶＲが１００  ｃｍ３／１０分以下であるこれらの粒子の振る舞いにおいても明らかである。
【００３７】
上述の二酸化ケイ素に基づく無機粒子は、平均密度が０．２〜１．２ｇ／ｍＬであり、粒度が１〜１００μｍ、好ましくは２〜５０μｍ、および最も好ましくは５〜２０μｍであることを特徴とする。上述の粒子の純度は、二酸化ケイ素含量９０％より大きく、好ましくは９５％より大きく、最も好ましくは９９％より大きい。Ｋａｒｌ  Ｆｉｓｃｈｅｒにより測定された水分は、１０％未満、好ましくは５％未満、最も好ましくは２％未満である（１６０℃）。この粒子の形は、直径が１０未満の卵形または球形である。
【００３８】
上述の二酸化ケイ素に基づく無機粒子とポリカーボネートとの耐久性は、シリコーンコーティングを与えると更に改良され得る。ポリカーボネートとのより高い耐久性は、二酸化ケイ素に基づく非被覆無機粒子からつくられる対応する混合物と比較して、二酸化ケイ素に基づく被覆無機粒子とポリカーボネートからつくられる混合物おけるより低いＭＶＲにより明らかである。
【００３９】
シリコーンコーティングとして、例えば、ポリメチルヒドロシロキサンが使用され、これは前述の既知の方法で二酸化ケイ素に基づく無機粒子に適用され得る。
【００４０】
本発明による使用されるコア-シェル形態のアクリレートに基づくポリマー粒子の場合、そのような粒子はＥＰ−Ａ  ６３４  ４４５で公表されているような粒子が好ましい。
【００４１】
ポリマー物品ｂ）は天然ゴムビニルポリマーからつくられるコアを有する。天然ゴムビニルポリマーは、少なくとも一つのエチレンタイプの不飽和基を有するモノマーからのホモまたはコポリマーであり、水性媒体におけるエマルジョン重合の条件下での当業者に既知の付加重合であることを示す。そのようなモノマーは、ＵＳ  ４  ２２６  ７５２、第３列、４０〜６２行に列挙されている。
【００４２】
天然ゴムビニルポリマーは、重合アクリレート、メタクリレート、モノビニルアレーン、または任意に置換されたブタジエンを天然ゴムビニルポリマーの総重量に関して好ましくは少なくとも１５％、より好ましくは少なくとも２５％、最も好ましくは４０％、かつ一以上の共重合ビニルモノマーを０〜８５％、好ましくは０〜７５％、最も好ましくは０〜６０％含む。
【００４３】
好ましいアクリレートおよびメタクリレートは、好ましくはアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチル、ｓｅｃ-ブチルまたはｔｅｒｔ-ブチルまたはヘキシル、ヘプチルまたはオクチル基）に炭素原子を１〜１８個、より好ましくは１〜８個、および最も好ましくは２〜８個含む、アルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレートである。アルキル基は分枝であっても直鎖であってもよい。好ましいアルキルアクリレートは、エチルアクリレート、ｎ-ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、および２-エチルヘキシルアクリレートである。最も好ましいアルキルアクリレートはブチルアクリレートである。
【００４４】
他の好適なアクリレートは、例えば、１，６-ヘキサンジオールジアクリレート、エチルチオエチルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、２-ヒドロキシエチルアクリレート、２-フェノキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、２-エトキシエチルアクリレート、ｔ-ブチルアミノエチルメタクリレート、２-メトキシエチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、およびベンジルメタクリレートである。
【００４５】
好ましいモノビニルアレーンは、任意に芳香環上をアルキル基またはハロゲンによって置換されてもよい、スチレンまたはα-メチルスチレンである（例えば、メチル、エチル、または三級ブチルまたはクロロスチレン）。
【００４６】
置換される場合、ブタジエンは好ましくは炭素原子を１〜６個含み、もしくは一以上のハロゲンを有する一以上のアルキル基を有し、最も好ましいブタジエンは一以上のメチル基および／または一以上の塩素原子で置換されたブタジエンである。好ましい置換ブタジエンは、１，３-ブタジエン、イソプレン、クロロブタジエン、および２，３-ジメチル-１，３-ブタジエンである。
【００４７】
天然ゴムビニルポリマーは、一以上の（共）重合アクリレート、メタクリレート、モノビニルアレーン、および／または任意に置換ブタンジエンを含んでもよい。これらのモノマーは、一以上の更なる共重合性ビニルポリマー（例えば、ジアセトンアクリルアミド、ビニルナフタリン、４-ビニルベンジルアルコール、ビニルベンゾエート、ビニルプロピオネート、ビニルカプロエート、塩化ビニル、ビニルオレエート、ジメチルマレエート、無水マレイン酸、ジメチルフマレート、ビニルスルホン酸、ビニルスルホンアミド、メチルビニルスルホネート、ｎ-ビニルピロリドン、ビニルピリジン、ジビニルベンゾール、ビニルアセテート、ビニルバーセテート（ｖｉｎｙｌｖｅｒｓａｔａｔｅ）、アクリル酸、メタクリル酸、ｎ-メチルメタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、またはｎ-（イソブトキシメチル)-アクリルアミド）と共重合し得る。
【００４８】
一以上の前述のモノマーは、任意に全コア重量に関して共重合性多官能性架橋剤０〜１０％、好ましくは０〜５％および／または共重合性多官能性グラフト架橋剤０〜１０％、好ましくは０〜５％と反応し得る。架橋モノマーが使用される場合、好ましくはモノマーのコアの総重量に関して０．０５〜５％、より好ましくは０．１〜１％の含量で使用される。架橋モノマーは、産業において周知であり、一般的には、エチレンタイプ不飽和基がほぼ同じ反応性を有する、ポリエチレンタイプ不飽和（例えば、ジビニルベンゾール、トリビニルベンゾール、１，３-または１，４-トリオールアクリレートまたは-メタクリレート、グリコール-ジ-または-トリ-メタクリレートまたは-アクリレート（例えばエチレングリコールジメタクリレートまたは-ジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレートまたは-ジアクリレート、１，３-または１，４-ブチレングリコールジメタクリレートまたは最も好ましくは１，３-または１，４-ブチレングリコールジアクリレート））を有する。グラフト架橋モノマーが使用される場合、好ましくはモノマーのコアの総重量に関して０．１〜５％、より好ましくは０．５〜２．５％の含量で使用される。グラフト架橋モノマーは、産業において周知であり、一般的に不飽和基の反応性が十分に低く、続く重合のコアに残る十分な残留不飽和が可能である、ポリエチレンタイプの不飽和モノマーである。好ましいグラフト架橋剤は、α，β-エチレンタイプ不飽和カルボン酸またはジカルボン酸の共重合性アリル、メタリル、またはクロチルエステル（例えばアリルメタクリレート、アリルアクリレート、ジアリルマレエート、およびアリルアクリルオキシプロピオネート）であるが、アリルメタクリレートが最も好ましい。
【００４９】
ポリマー粒子ｂ）は、最も好ましくは、アルキル基の炭素数が２〜８であり、任意にコアの総重量に関して架橋剤０〜５％およびグラフト架橋剤０〜５％と共重合してもよい、天然ゴムアルキルアクリレートポリマーのコアを含む。天然ゴムアルキルアクリレートは、好ましくは最大５０％の一以上の共重合性ビニルモノマー（例えば、前述のビニルモノマー）と共重合してもよい。好適な架橋およびグラフト架橋モノマーは、当業者に周知であり、ＥＰ−Ａ  ０  ２６９  ３２４に開示されているモノマーが好ましい。
【００５０】
ポリマー粒子ｂ）のコアは、重合工程においてポリマー粒子を製造するために使用された残りのオリゴマー材料を含み得るが、そのようなオリゴマー材料は処理または使用の間に拡散または抽出を防ぐのに十分な分子量を有する。
【００５１】
このポリマー粒子ｂ）は、一以上のシェルを含む。これら一以上のシェルは、好ましくはビニルホモポリマーまたはビニルコポリマーから製造される。このシェルを製造するのに好適なモノマーまたは好適なシェルは、米国特許第４  ２２６  ７５２号、第４列、第２０〜４６行に列挙されており、この情報を挙げる。一以上のシェルは、好ましくはメタクリレート、アクリレート、ビニルアレーン、ビニルカルボキシレート、アクリル酸、および／またはメタクリル酸からなるポリマーである。
【００５２】
好ましいアクリレートおよびメタクリレートは、好ましくはアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチル、イソブチルまたはｔｅｒｔ-ブチル、２-エチルヘキシル、ヘキシル、ヘプチル、またはオクチル基）に炭素原子を１〜１８個、より好ましくは１〜８個、および最も好ましくは２〜８個含むアルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレートである。このアルキル基は分枝または直鎖であり得る。好ましいアルキルアクリレートはエチルアクリレートである。他の使用できるアクリレートおよびメタクリレートは、コアに関してあらかじめ言及したアクリレートおよびメタクリレートであるが、３-ヒドロキシプロピルメタクリレートが好ましい。最も好ましいアルキルアクリレートはメチルメタクリレートである。
【００５３】
好ましいビニルアレーンは、要すれば芳香環上をアルキル基またはハロゲンで置換してもよいスチレンまたはα-メチルスチレン（例えば、メチル、アルキル、または、ｔｅｒｔ-ブチルまたはクロロスチレン）である。
【００５４】
好ましいビニルカルボキシレートは、ビニルアセテートである。
【００５５】
シェルは好ましくは、重合性メタクリレート、アクリレート、またはモノビニルアレーンを少なくとも１５％、より好ましくは少なくとも２５％、最も好ましくは少なくとも４０％、および一以上のビニルコモノマー（例えば、他のアルキルメタクリレート、アリールメタクリレート、アルキルアクリレート、アリールアクリレート、アルキルアクリルアミドおよびアリールアクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレインイミド、および／または一以上の置換基（例えば、ハロゲン、アルコキシ、アルキルチオ、シアノアルキル、またはアミノ）によって置換されたアルキルアクリレート、アリールアクリレートおよび、アルキルメタクリレート）を０〜８５％、より好ましくは０〜７５％、および最も好ましくは０〜６０％含む。好適なビニルコモノマーの例は、あらかじめ挙げた。二以上のモノマーが共重合されてもよい。
【００５６】
シェルポリマーは、コアポリマーに関してあらかじめ言及したタイプの架橋剤および／またはグラフト架橋剤を含んでもよい。
【００５７】
シェルポリマーは好ましくは、全粒子重量の５〜４０％、より好ましくは１５〜３５％を構成する。
【００５８】
ポリマー粒子ｂ）は、重合アルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレートを、ポリマーの全重量に関して、少なくとも１５％、好ましくは２０〜８０％、より好ましくは２５〜６０％、および最も好ましくは３０〜５０％含む。好ましいアルキルアクリレートおよびアルキルメタクリレートは、あらかじめ言及したアルキルアクリレートおよびアルキルメタクリレートである。アルキルアクリレート成分またはアルキルメタクリレート成分は、ポリマー粒子ｂ）のコアおよび／またはシェルに存在し得る。コアおよび／またはシェルにおけるアルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレートのホモポリマーは、有用であるが、一以上の他のタイプのアルキル（メタ）アクリレートおよび／または一以上の他のビニルポリマー、好ましくは上に列挙したもの、と共重合したアルキル（メタ）アクリレートが好ましい。ポリマー粒子ｂ）は、最も好ましくは、ポリ-（ブチルアクリレート）からつくられる一つのコアを含み、かつポリ（メチルメタクリレート）からつくられる一つまたはいくつかのシェルを含む。
【００５９】
ポリマー粒子ｂ）は、光散乱特性をもつ熱可塑性ポリマーを製造するのに有用である。ポリマー粒子ｂ）のコアおよびシェルの屈折率nは、好ましくは熱可塑性ポリマーの屈折率の＋／−０．２５ユニット以内、より好ましくは＋／−０．１８ユニット以内、最も好ましくは＋／−０．１２ユニット以内である。コアおよびシェルの屈折率nは、好ましくは熱可塑性ポリマーの屈折率に関して＋／−０．００３ユニットよりも近くなく、より好ましくは＋／−０．０１ユニットより近くなく、最も好ましくは＋／−０．０５よりも近くない。この屈折率は、ＡＳＴＭ  Ｄ  ５４２−５０および／またはＤＩＮ  ５３  ４００規格により測定された。
【００６０】
ポリマー粒子ｂ）は、一般的に平均粒径が少なくとも０．５マイクロメートル、好ましくは少なくとも２マイクロメートル、より好ましくは２〜５０マイクロメートル、最も好ましくは２〜１５マイクロメートルである。「平均粒径」は数平均として理解される。好ましくは、少なくとも９０％、最も好ましくは少なくとも９５％のポリマー粒子ｂ）の直径が２マイクロメートルより大きい。ポリマー粒子ｂ）は、好ましくはさらさらとした粉末である。
【００６１】
ポリマー粒子ｂ）は、既知の方法によって製造され得る。一般的に、エマルジョンポリマー粒子の形成下においてコアポリマーの少なくとも一つのモノマー成分をエマルジョン重合する。エマルジョンポリマー粒子を、コアポリマーの同じ成分または一以上の別のモノマー成分で膨潤し、このモノマーをエマルジョンポリマー粒子中で重合する。膨潤および重合工程は、粒子が所望のコアサイズになるまで繰り返され得る。コアポリマー粒子を、第二の水性モノマーエマルジョン中において懸濁し、ポリマーシェルを第二のエマルジョン中においてモノマーからポリマー粒子上に重合する。一以上のシェルをコアポリマー上に重合してもよい。コア／シェルポリマー粒子の製造は、ＥＰ−Ａ  ０  ２６９  ３２４および米国特許第３，７９３，４０２号および第３，８０８，１８０号に開示されている。
【００６２】
本発明の第二の対象である、本発明に関連するコンパウンドから製造される成形品は、押出または射出ダイカストにより製造され得る。大きなソリッドスラブの場合、射出ダイカストを用いる製造は技術的な理由により経済的ではない。これらの場合、押出法が好ましい。押出法に関して、ポリカーボネート粒質を押出機に供給し、押出機の可塑化システムにおいて溶融する。合成フラックスをワイドスロットノズル（ａ  ｗｉｄｅ  ｓｌｏｔ  ｎｏｚｚｌｅ）によりプレスし、次に平滑カレンダー（ｓｍｏｏｔｈｉｎｇ  ｃａｌｅｎｄｅｒ）のニップにおいて所望の最終形態に造形および成形し、平滑ロール（ｓｍｏｏｔｈｉｎｇ  ｒｏｌｌ）上および周囲空気により冷却することにより固定する。この押出に使用される溶融粘度の高いポリカーボネートを、典型的には溶融温度２６０〜３２０℃において処理し、可塑化シリンダーのシリンダー温度並びにノズル温度をそれに応じてセットする。
【００６３】
一以上の横方向押出機（ｌａｔｅｒａｌ  ｅｘｔｒｕｄｅｒｓ）およびワイドスロットノズルの上流の好適なキャストアダプターの使用を通じて、様々な組成物のポリカーボネートフラックスを互いの上に重ねてもよく、このように多層ソリッドスラブを製造する（例えば、ＥＰ−Ａ  ０  １１０  ２２１およびＥＰ−Ａ  ０  １１０  ２３８参照）。
【００６４】
本発明に関連する成形品のベース層およびあるいは存在する同時押出層は、別の添加剤（例えばＵＶ吸収剤、および他の通例の加工添加剤、特に成形品取出剤および融剤並びに通常の安定剤、特に熱安定剤、並びに帯電防止剤、着色剤、蛍光増泊剤、および無機顔料）を含んでもよい。異なる添加剤または異なる濃度の添加剤が各層に存在してもよい。
【００６５】
同時押出層は、特にＵＶ吸収剤および成形品取出剤を含んでもよい。
【００６６】
好適な安定剤は、例えば、ホスフィン、ホスフィット、またはＳｉ含有安定剤並びにＥＰ−Ａ  ０  ５００  ４９６に開示される他のコンパウンドである。実施例は、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス-（ノニルフェニル）ホスフィット、テトラキス-（２，４-ジ-ｔｅｒｔ-ブチルフェニル)-４，４’-ビフェニレン-ジホスホナイト、ビス（２，４-ジクミルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、およびトリアリールホスフィットである。トリフェニルホスフィンおよびトリス-（２，４-ジ-ｔｅｒｔ-ブチルフェニル)ホスフィットが特に好ましい。
【００６７】
好適な成形品取出剤の例は、一価〜六価アルコール、特にグリセリン、ペンタエリトリトール、またはゲルベアルコールのエステルまたは部分エステルである。
【００６８】
一価アルコールの例は、ステアリルアルコール、パルミチルアルコール、およびゲルベアルコールである。二価アルコールの例は、グリコールであり、三価アルコールの例はグリセリンである。四価アルコールの例は、ペンタエリトリトールおよびメソエリトリトールであり、一方、五価アルコールの例はアラビトール、リビトールおよびキシリトールである。六価アルコールの例はマンニトール、グリシトール（ソルビトール）、およびズルシトールである。
【００６９】
エステルは、好ましくはモノエステル、ジエステル、トリエステル、テトラエステル、ペンタエステル、およびヘキサエステルまたはこれらの混合物であり、特に飽和脂肪族Ｃ１０〜Ｃ３６モノカルボン酸およびあるいはヒドロキシ-モノカルボン酸の静的混合物、好ましくは飽和脂肪族Ｃ１４〜Ｃ３２モノカルボン酸およびあるいはヒドロキシ-モノカルボン酸のエステルである。
【００７０】
市販の脂肪酸エステル、特にペンタエリトリトールおよびグリセリンのエステルは、製造工程に応じて６０％未満の様々な部分エステルを含み得る。
【００７１】
Ｃ原子１０〜３６個の飽和脂肪族モノカルボン酸の例は、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ヒドロキシステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、およびモンタン酸である。
【００７２】
Ｃ原子１４〜２２個の好ましい飽和脂肪族モノカルボン酸の例は、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ヒドロキシステアリン酸、アラキン酸、およびベヘン酸である。
【００７３】
パルミチン酸、ステアリン酸、およびヒドロキシステアリン酸のような飽和脂肪族モノカルボン酸が特に好ましい。
【００７４】
飽和脂肪族Ｃ１０〜Ｃ３６カルボン酸および脂肪酸エステルは、どちらもそれ自体関連文献で知られているか、もしくはそれ自体関連文献に開示されている方法によって製造され得る。ペンタエリトリトール脂肪酸エステルに関する例は、あらかじめ言及したモノカルボン酸、特に好ましいと示したモノカルボン酸である。
【００７５】
ペンタエリトリトールおよびグリセリンとステアリン酸およびパルミチン酸とのエステルが特に好ましい。
【００７６】
ゲルベアルコールおよびグリセリンとステアリン酸、パルミチン酸、およびあるいはヒドロキシステアリン酸とのエステルもまた特に好ましい。
【００７７】
好適な帯電防止剤の例は、カチオン活性化合物（例えば、四級アンモニウム塩、ホスホニウム塩、またはスルホニウム塩）、アニオン活性化合物（例えば、アルカリまたはアルカリ土類金属塩の形態のアルキルスルホネート、アルキルスルフェート、アルキルホスフェート、カルボキシレート）、および非イオノゲン性化合物（例えば、ポリエチレングリコールエステル、ポリエチレングリコールエーテル、脂肪酸エステル、およびエトキシル化脂肪アミン）である。好ましい帯電防止剤は、非イオノゲン性化合物である。
【００７８】
好適なＵＶ吸収剤の例は以下に示す化合物である。
ａ）  式（Ｉ）：
【化１】
2008507616.tif 000002
（式（Ｉ）において、ＲおよびＸは同じであるかもしくは異なっており、Ｈまたはアルキルまたはアルキルアリールである。）
に規定されるベンゾトリアゾールの誘導体。
好ましいベンゾトリアゾールの誘導体は、Ｘ  ＝  １，１，３，３-テトラメチルブチル、Ｒ  ＝  ＨであるＴｉｎｕｖｉｎ  ３２９、Ｘ  ＝  ｔｅｒｔ-ブチル、Ｒ  ＝  ２-ブチルであるＴｉｎｕｖｉｎ  ３５０、およびＸ  ＝  Ｒ  ＝  １，１-ジメチル-１-フェニルであるＴｉｎｕｖｉｎ  ２３４である。
ｂ）  式（ＩＩ）：
【化２】
2008507616.tif 000003
（式（ＩＩ）において、Ｒ１およびＲ２は同じであるかもしくは異なっており、Ｈ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ１０-アルキル、Ｃ５〜Ｃ１０-シクロアルキル、Ｃ７〜Ｃ１３-アラルキル、Ｃ６〜Ｃ１４-アリール、-ＯＲ５、または-（ＣＯ）-Ｏ-Ｒ５（Ｒ５  ＝  ＨまたはＣ１〜Ｃ４-アルキル）である。Ｒ３およびＲ４もまた同じであるかもしくは異なっており、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４-アルキル、Ｃ５〜Ｃ６-シクロアルキル、ベンジル、またはＣ６〜Ｃ１４-アリールである。ｍは１、２、または３であり、ｎは１、２、３、または４である。）
に規定される二量体ベンゾトリアゾールの誘導体。
Ｒ１  ＝  Ｒ３  ＝  Ｒ４  ＝  Ｈ、ｎ  ＝  ４、Ｒ２  ＝  １，１，３，３-テトラメチルブチル、ｍ  ＝  １であるＴｉｎｕｖｉｎ  ３６０が好ましい。
ｂ１）  式（ＩＩＩ）：
【化３】
2008507616.tif 000004
（式（ＩＩＩ）においてＢｒｉｄｇｅは
【化４】
2008507616.tif 000005
であり、
Ｒ１、Ｒ２、ｍおよびｎは式（ＩＩ）におけるＲ１、Ｒ２、ｍおよびｎと同じ意味を有し、
ｐは０〜３の整数であり、
ｑは１〜１０の整数であり、
Ｙ  ＝  -ＣＨ２-ＣＨ２-、-（ＣＨ２）３-、-（ＣＨ２）４-、-（ＣＨ２）５-、-（ＣＨ２）６-、またはＣＨ（ＣＨ３）-ＣＨ２であり、
Ｒ３およびＲ４は式（ＩＩ）におけるＲ３およびＲ４と同じ意味を有する。）
に規定される二量体ベンゾトリアゾールの誘導体。
Ｒ１  ＝  Ｈ、ｎ  ＝  ４、Ｒ２  ＝  ｔｅｒｔ-ブチル、ｍ  ＝  １、Ｒ２はＯＨ基に対してオルト位につけられており、Ｒ３  ＝  Ｒ４  ＝  Ｈ、ｐ  ＝  ２、Ｙ  ＝  -（ＣＨ２）５-、ｑ  ＝  １であるＴｉｎｕｖｉｎ  ８４０が好ましい。
ｃ）  式（ＩＶ）：
【化５】
2008507616.tif 000006
（式（ＩＶ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は同じであるかもしくは異なっており、ＨまたはアルキルまたはＣＮまたはハロゲンであり、Ｘ  ＝アルキルである。）
に規定されるトリアジン誘導体。
Ｒ１  ＝  Ｒ２  ＝  Ｒ３  ＝  Ｒ４  ＝  Ｈ、Ｘ  ＝ヘキシルであるＴｉｎｕｖｉｎ  １５７７および
Ｒ１  ＝  Ｒ２  ＝  Ｒ３  ＝  Ｒ４  ＝メチル、Ｘ  ＝オクチルであるＣｙａｓｏｒｂ  ＵＶ−１１６４が好ましい。
d)  式(IVa)：
【化６】
2008507616.tif 000007
（式（ＩＶａ）において、
Ｒ１  ＝  Ｃ１-アルキル〜Ｃ１７-アルキル、
Ｒ２  ＝  ＨまたはＣ１-アルキル〜Ｃ４-アルキル、かつ
ｎ  ＝  ０〜２０である。）
のトリアジン誘導体。
ｅ）  式（Ｖ）：
【化７】
2008507616.tif 000008
（式（Ｖ）において、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、およびＲ８は同じであっても異なっていてもよく、アルキル、ＣＮ、またはハロゲンであり、
Ｘ  ＝アルキルまたは-（ＣＨ２ＣＨ２-Ｏ-）ｎ-Ｃ（＝Ｏ）-である。）
の二量体トリアジン誘導体。
ｆ）  式（ＶＩ）：
【化８】
2008507616.tif 000009
（式（ＶＩ）においてＲ１〜Ｒ４０は同じであっても異なっていてもよく、Ｈ、アルキル、ＣＮ、またはハロゲンである。）
のジアリールシアノアクリレート。
Ｒ１〜Ｒ４０  ＝  ＨであるＵｖｉｎｕｌ  ３０３０が好ましい。
【００７９】
あらかじめ言及したＵＶ吸収剤は当業者に知られており、これらのいくつかは市販されている。
【実施例】
【００８０】
ポリカーボネート分解の測定のための、Ｂａｙｅｒ ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅからのＭａｋｒｏｌｏｎ  ３１０８  ５５０１１５  ９５％およびＧｒａｃｅからのＳｙｌｏｂｌｏｃ  ４１  ５％から成るコンパウンドのＭＶＲ測定。
【００８１】
前述のコンパウンドは３００℃において３８  ｃｍ３／１０分のＭＶＲ  （ＩＳＯ  １１３３）を示すのに対し、純粋なＭａｋｒｏｌｏｎ  ３１０８  ５５０１１５のＭＶＲは６  ｃｍ３／１０分である。
【００８２】
実施例１
コンパウンドを以下の組成：
・Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅからのポリカーボネートＭａｋｒｏｌｏｎ  ３１０８  ５５０１１５  ９９重量％
・Ｒｏｈｍ  ＆  Ｈａａｓからの粒度２〜１５μｍかつ平均粒度８μｍであるブタジエン／スチレンコアおよびメチルメタクリレートシェルを有するコア-シェル粒子Ｐａｒａｌｏｉｄ  ＥＸＬ  ５１３７  １重量％
で製造した。
【００８３】
実施例２
コンパウンドを以下の組成：
・Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅからのポリカーボネートＭａｋｒｏｌｏｎ  ３１０８  ５５０１１５  ９９重量％
・Ｇｒａｃｅからの粒度７．５〜１１．６μｍである無定形ケイ酸Ｓｙｌｏｂｌｏｃ  ４１  １重量％
で製造した。
【００８４】
実施例３
コンパウンドを以下の組成：
・Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅからのポリカーボネートＭａｋｒｏｌｏｎ  ３１０８  ５５０１１５  ９８重量％
・Ｒｏｈｍ  ＆  Ｈａａｓからの粒度２〜１５μｍかつ平均粒度８μｍであるブタジエン／スチレンコアおよびメチルメタクリレートシェルを有するコア-シェル粒子Ｐａｒａｌｏｉｄ  ＥＸＬ  ５１３７  ２重量％
で製造した。
【００８５】
実施例４
コンパウンドを以下の組成：
・Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅからのポリカーボネートＭａｋｒｏｌｏｎ  ３１０８  ５５０１１５  ９８重量％
・Ｇｒａｃｅからの粒度７．５〜１１．６μｍである無定形ケイ酸Ｓｙｌｏｂｌｏｃ  ４１  ２重量％
で製造した。
【００８６】
実施例５
コンパウンドを以下の組成：
・Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅからのポリカーボネートＭａｋｒｏｌｏｎ  ３１０８  ５５０１１５  ９９重量％
・Ｒｏｈｍ  ＆  Ｈａａｓからの粒度２〜１５μｍかつ平均粒度８μｍであるブタジエン／スチレンコアおよびメチルメタクリレートシェルを有するコア-シェル粒子Ｐａｒａｌｏｉｄ  ＥＸＬ  ５１３７  ０．５重量％
・Ｇｒａｃｅからの粒度７．５〜１１．６μｍである無定形ケイ酸Ｓｙｌｏｂｌｏｃ  ４１  ０．５重量％
で製造した。
【００８７】
実施例６
コンパウンドを以下の組成：
・Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅからのポリカーボネートＭａｋｒｏｌｏｎ  ３１０８  ５５０１１５  ９８重量％
・Ｒｏｈｍ  ＆  Ｈａａｓからの粒度２〜１５μｍかつ平均粒度８μｍであるブタジエン／スチレンコアおよびメチルメタクリレートシェルを有するコア-シェル粒子Ｐａｒａｌｏｉｄ  ＥＸＬ  ５１３７  １重量％
・Ｇｒａｃｅからの粒度７．５〜１１．６μｍである無定形ケイ酸Ｓｙｌｏｂｌｏｃ  ４１  １重量％
で製造した。
【００８８】
実施例１〜６に記載されている混合物を一般的に行われている方法を使用して配合し、次に射出ダイキャストを使用して厚さ４  ｍｍの着色試料プレートに加工した。光学データをＡＳＴＭ  Ｄ１００３、ＡＳＴＭ  Ｅ３１３、およびＤＩＮ  ５０３６に従って決定した。対応する光学値を表１に示す。
【００８９】
注目すべき点は、コア／シェル形態のビニルアクリレートに基づくポリマー粒子と無定形ケイ酸との組み合わせを含む、実施例５および６の光散乱能力が、予想したように無定形ケイ酸かもしくはポリマー粒子のどちらかを含むコンパウンド間の値ではなく、むしろ、コア／シェル形態のビニルアクリレートに基づく非常に多量のポリマー粒子を含む組成物の光散乱曲線とほぼ同一の光散乱曲線を示す点である。コア／シェル形態のビニルアクリレートに基づくポリマー粒子１％を有する実施例１からの試料の半値角は５１°である。このことは、偏向角５１°において、光強度が偏向角零度における光強度の５０％であることを意味する。実施例２において、半値角はたった２６°である。実施例５において、半値角は４９°であるが、これは実施例１の値とほぼ同じである。
【００９０】
実施例５における４１．９％の光透過率が実施例１における３７．２％の光透過率よりも大いに高いことは特に注目に値する。光散乱の表現の別の可変値である散乱能力（ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ  ａｂｉｌｉｔｙ）がＤＩＮ  ５０３６によるカーブから得られる。これは以下の式：
【数１】
2008507616.tif 000010
によって計算される。
【００９１】
この点に関して、実施例１および５における散乱能力が驚くべきことに５５％で同じレベルにあることが更に明らかである。
【００９２】
同じことが実施例３、４および６にも当てはまる。コア／シェル形態のビニルアクリレートに基づくポリマー粒子１％を無定形ケイ酸と組み合わせた実施例６における光透過３２．６％もまた、コア／シェル形態のビニルアクリレートに基づくポリマー粒子２％が単独で使用される実施例３における光散乱３１．２％より大きく高い。実施例６における半値角６１°も、実施例３における半値角６０°よりわずかに高い。散乱能力の差はさらにクリアである。実施例６における６５％は、実施例３における６２％より明らかに高い。
【表１】
2008507616.tif 000011
【国際調査報告】
2008507616.tif 000012
2008507616.tif 000013
2008507616.tif 000014
2008507616.tif 000015
2008507616.tif 000016
2008507616.tif 000017