(57)【要約】  不斉水素化、不斉還元、不斉ヒドロホウ素化、不斉オレフィン異性化、不斉ヒドロシリル化、不斉アリル化及び不斉有機金属付加のような、種々の基質の多数の反応を触媒するのに使用できるホスフィン−アミノホスフィン配位子のルテニウム錯体が開示される。また、ルテニウム錯体の製造方法、並びに水素化を触媒するルテニウム錯体を用いて、１，３−ジカルボニル、α―ヒドロキシカルボニル及びβ−ヒドロキシカルボニル化合物の選択的不斉水素化によってそれぞれ対応するヒドロキシカルボニル、１，２−ジオール及び１，３−ジオール化合物をそれぞれ生成する方法が開示される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
式１：
［（Ｒ3）3Ｐ］3ＲｕＸ2                                    １
を有するルテニウム化合物と式２：
（Ｒ）2Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ2）Ｐ（Ｒ1）2                        ２
［式中、Ｒ、Ｒ2及びＲ3は、独立して、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
Ｒ1は置換又は非置換の、分岐鎖又は直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換又は非置換の、分岐鎖又は直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルコキシ、置換又は非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換又は非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルコキシ、置換又は非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、置換又は非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリールオキシであり；
Ｘはフルオライド、クロライド、ブロマイド又はヨーダイドであり；
Ｌは置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキレン、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキレン、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリーレン、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリーレン又は置換若しくは非置換のメタロセニルメチレンであり、Ｌは実質的にエナンチオマーとして純粋である］
を有する実質的にエナンチオマーとして純粋なキラル配位子を含んでなるルテニウム錯体化合物。
【請求項２】
Ｘがクロライドであり、Ｒ3がフェニルであり且つ（Ｒ）2Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ2）Ｐ（Ｒ1）2が構造３又は４：
【化１】
2008504260.tif 000005
［式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、独立して、水素、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍは第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族又は第ＶＩＩＩ族の金属である］
を表す請求項１に記載の錯体化合物。
【請求項３】
Ｒがアリールであり；Ｒ1がアリール、アリールオキシ、Ｃ2〜Ｃ6アルキル又はＣ3〜Ｃ6シクロアルキルであり；Ｒ2が水素、Ｃ1〜6アルキル又はアリールであり；Ｒ4が水素又はＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ5及びＲ6が水素であり；且つＭが鉄、ルテニウム又はオスミウムである請求項２に記載の錯体化合物。
【請求項４】
Ｒがフェニルであり；Ｒ1がフェニル、３−フルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、４−フルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル又は３，４−ジクロロフェニルであり；Ｒ2が水素、メチル、エチル又はイソプロピルであり；Ｒ4が水素又はＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ5及びＲ6が水素であり；且つＭが鉄である請求項２に記載の錯体化合物。
【請求項５】
式５：
【化２】
2008504260.tif 000006
［式中、Ｒ、Ｒ2及びＲ3は、独立して、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
Ｒ1は置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルコキシ、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール又は置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリールオキシであり；
Ｘはフルオライド、クロライド、ブロマイド又はヨーダイドであり；且つ
Ｌは置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキレン、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキレン、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリーレン、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリーレン又は置換若しくは非置換のメタロセニルメチレンであり、Ｌは実質的にエナンチオマーとして純粋である］
を有する化合物。
【請求項６】
Ｘがクロライドであり、Ｒ3がフェニルであり且つ（Ｒ）2Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ2）Ｐ（Ｒ1）2が構造３又は４：
【化３】
2008504260.tif 000007
［式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、独立して、水素、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍは第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族又は第ＶＩＩＩ族の金属である］
を表す請求項５に記載の錯体化合物。
【請求項７】
Ｒがアリールであり；Ｒ1がアリール、アリールオキシ、Ｃ2〜Ｃ6アルキル又はＣ3〜Ｃ6シクロアルキルであり；Ｒ2が水素、Ｃ1〜6アルキル又はアリールであり；Ｒ4が水素又はＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ5及びＲ6が水素であり；且つＭが鉄、ルテニウム又はオスミウムである請求項６に記載の錯体化合物。
【請求項８】
Ｒがフェニルであり；Ｒ1がフェニル、３−フルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、４−フルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル又は３，４−ジクロロフェニルであり；Ｒ2が水素、メチル、エチル又はイソプロピルであり；Ｒ4が水素又はＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ5及びＲ6が水素であり；且つＭが鉄である請求項６に記載の錯体化合物。
【請求項９】
式１：
［（Ｒ3）3Ｐ］3ＲｕＸ2                                    １
を有するルテニウム錯体と式２：
（Ｒ）2Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ2）Ｐ（Ｒ1）2                        ２
を有する実質的にエナンチオマーとして純粋なキラル配位子とを、不活性溶媒中で接触させることを含む請求項１に記載のルテニウム錯体化合物の製造方法。
【請求項１０】
式１：
［（Ｒ3）3Ｐ］3ＲｕＸ2                                    １
を有するルテニウム錯体と式３又は４：
【化４】
2008504260.tif 000008
［式中、Ｒ及びＲ2は、独立して、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
Ｒ1は置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルコキシ、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリールオキシであり；
Ｒ3はフェニルであり；
Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、独立して、水素、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍは第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族又は第ＶＩＩＩ族の金属である］
を有する、実質的にエナンチオマーとして純粋なキラル配位子とを、ハロカーボン溶媒、双極性非プロトン溶媒、環状若しくは非環状エーテル溶媒、ケトン溶媒又は芳香族炭化水素から選ばれた不活性溶媒中で−５０℃〜溶媒の沸点の温度で接触させることを含んでなる請求項５に記載の化合物の製造方法。
【請求項１１】
前記不活性溶媒がジクロロメタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ベンゼン、トルエン、キシレン又はそれらの任意の２種若しくはそれ以上の混合物であり；Ｒがアリールであり；Ｒ1がアリール、アリールオキシ、Ｃ2〜Ｃ6アルキル又はＣ3〜Ｃ6シクロアルキルであり；Ｒ2が水素、Ｃ1〜6アルキル又はアリールであり；Ｒ4が水素又はＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ5及びＲ6が水素であり；Ｘがクロライドであり；且つＭが鉄、ルテニウム又はオスミウムであり；且つ前記方法を２０〜４０℃の温度で実施する請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記不活性溶媒がジクロロメタン又はトルエンから選ばれ；Ｒがフェニルであり；Ｒ1がフェニル、３−フルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、４−フルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル又は３，４−ジクロロフェニルであり；Ｒ2が水素、メチル又はエチルであり；Ｒ4が水素又はＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ5及びＲ6が水素であり；且つＭが鉄であり；且つ前記方法を２０〜４０℃の温度で実施する請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
不活性有機溶媒中、請求項１に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、１，３−ジカルボニル化合物を水素と接触させることを含んでなる、対応するヒドロキシカルボニル化合物を生成するための、１，３−ジカルボニル化合物の不斉水素化方法。
【請求項１４】
不活性有機溶媒中、請求項２に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、炭素数５〜２０の１，３−ジカルボニル化合物を水素と接触させて反応混合物を形成することを含んでなる、対応するヒドロキシカルボニル化合物を生成するための、炭素数５〜２０の１，３−ジカルボニル化合物の不斉水素化方法であって、前記ルテニウム錯体化合物の量が、１，３−ジカルボニル反応体化合物に基づき、０．００００５〜０．５当量であり；且つ前記方法を０．０７〜１３７．９バール（ゲージ）の水素圧において周囲温度〜反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点の温度で実施する方法。
【請求項１５】
前記水素圧が３．４５〜６９ｂａｒｇである請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
不活性有機溶媒中、請求項１に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、α―ヒドロキシカルボニル化合物を水素と接触させることを含んでなる、対応する１，２−ジオール化合物を生成するためのα−ヒドロキシカルボニル化合物の不斉水素化方法。
【請求項１７】
不活性有機溶媒中、請求項２に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、炭素数３〜２０のα−ヒドロキシカルボニル化合物を水素と接触させて反応混合物を形成することを含んでなる、対応する１，２−ジオール化合物を生成するための、前記α−ヒドロキシカルボニル化合物の不斉水素化方法であって、前記ルテニウム錯体の量が、α−ヒドロキシカルボニル反応体化合物に基づき、０．００００５〜０．５当量であり；且つ前記方法を０．０７〜１３７．９バール（ゲージ）の水素圧において周囲温度〜反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点の温度で実施する方法。
【請求項１８】
前記水素圧が３．４５〜６９ｂａｒｇである請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
不活性有機溶媒中、請求項１に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、β―ヒドロキシカルボニル化合物を水素と接触させることを含んでなる、対応する１，３−ジオール化合物を生成するための、β−ヒドロキシカルボニル化合物の不斉水素化方法。
【請求項２０】
不活性有機溶媒中、請求項２に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、炭素数４〜２０のβ−ヒドロキシカルボニル化合物を水素と接触させて反応混合物を形成することを含んでなる、対応する１，３−ジオール化合物を生成するための、炭素数４〜２０のβ−ヒドロキシカルボニル化合物の不斉水素化方法であって、前記ルテニウム錯体の量が、β−ヒドロキシカルボニル反応体化合物に基づき、０．００００５〜０．５当量であり；且つ前記方法を０．０７〜１３７．９バール（ゲージ）の水素圧において周囲温度〜反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点の温度で実施する方法。
【請求項２１】
前記水素圧が３．４５〜６９ｂａｒｇである請求項２０に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホスフィン−アミノホスフィン配位子のいくつかの新規ルテニウム錯体及びそれらの製造方法に関する。ルテニウム錯体は、種々の基質の多数の反応、例えば不斉水素化、不斉還元、不斉ヒドロホウ素化、不斉オレフィン異性化、不斉ヒドロシリル化、不斉アリル化及び不斉有機金属付加を触媒するのに使用できる。
【背景技術】
【０００２】
キラル生成物の生成において触媒の不斉が何倍にも増やされるので、不斉触媒反応はエナンチオマー純度の高い生成物を生成するのに最も効率的な方法である。これらのキラル生成物は、単純なエナンチオマー医薬品のための構成単位として及びいくつかの農薬において多く利用されてきた。使用される不斉触媒は本質的に酵素触媒又は合成触媒であることができる。後者の型の触媒は前者の型の触媒よりも適用可能な反応型の許容範囲がはるかに大きいのではるかに有望である。合成不斉触媒は通常、１個又はそれ以上の有機配位子によって取り囲まれた金属反応中心から成る。配位子は通常、高エナンチオマー純度で生成され、不斉を引き起こす作用因子である。これらの配位子は概して、製造が困難であり、従って高価である。注目すべき例外は、容易に製造され且つ空気中で安定な、不斉触媒反応のための金属錯体として有用なキラルホスフィン−アミノホスフィン配位子であり、それらはＢｏａｚらによって特許文献１に記載されている。
【０００３】
β−ケトエステルのβ−ヒドロキシエステルへの不斉水素化は、特にこれらの生成物が多数の工業的用途を有するために、かなりの注目を集めてきたが、中でも特筆すべきはアトルバスタチンの合成における合成中間体である。この型の水素化に使用される錯体は多くはルテニウムをベースとし、最も有効な触媒はＢＩＮＡＰのような軸性キラル配位子から得られるものである。例えば非特許文献１及び２を参照されたい。二座キラル配位子のルテニウム錯体の製造には多数の方法がある。これらの方法は、その多くが多段階法であり、たいていの場合には手数がかかり且つあまり一般的ではないが、種々の水素化活性及びエナンチオ選択性を有する錯体を生じる。おそらく、最も用途が広く、一般的で且つ有用なルテニウム錯体は、キラルビス−ホスフィンの他に、メタリル補助配位子を有する。例えば非特許文献３、４及び５を参照されたい。これらのメタリル種は一般に、ホスフィン−アミノホスフィン配位子とは適合できない激しい反応条件（例えば強酸）による多段階法を用いて製造される。ルテニウム錯体の最も簡単な製造の１つは、トリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウムジクロリドのような市販の種からの配位子置換による。これらの製造は一般にこれまでは、キラル二座ビス−ホスフィン配位子と後者の錯体との反応を伴い、１つのキラル二座配位子と１つの（アキラル）トリフェニルホスフィンを含む二塩化ルテニウム錯体を生じるものであった（非特許文献６）。この方法を用いて製造される錯体はこれまで比較的少なく、また、いくつかの種は１，３−ジケトン水素化に対して高いエナンチオ選択性を示すが、β−ケトエステル基質の水素化は中程度のエナンチオ選択性でしか進行しなかった（非特許文献７、８及び９）。いずれの場合にも、ホスフィン−アミノホスフィンのルテニウム錯体はこれまでこのような方法で製造されたことがなかった。
【０００４】
【特許文献１】米国特許第６５９０１１５号
【非特許文献１】Ｍａｓｈｉｍａ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９４，５９，３０６４〜３０７６
【非特許文献２】Ｋｉｔａｍｕｒａ，ｅｔ  ａｌ．，Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．１９９２，７１，１〜１３
【非特許文献３】Ｇｅｎｅｔ  ｅｔ  ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍ．１９９１，２，４３〜４６
【非特許文献４】Ｇｅｎｅｔ  ｅｔ  ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍ．１９９４，５，６６５〜６７４
【非特許文献５】Ｇｅｎｅｔ  ｅｔ  ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍ．１９９４，５，６７５〜６９０
【非特許文献６】Ｍｅｚｚｅｔｔｉ，Ａ．：Ｃｏｎｓｉｇｌｉｏ，Ｇ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９９１，１６７５〜１６７７
【非特許文献７】Ｍｅｚｚｅｔｔｉ，Ａ．；Ｔｓｃｈｕｍｐｅｒ，Ａ．；Ｃｏｎｓｉｇｌｉｏ，Ｇ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｄａｌｔｏｎ  Ｔｒａｎｓ．１９９５，４９〜５６
【非特許文献８】Ｓｔｏｏｐ，Ｒ．Ｍ．；Ｍｅｚｚｅｔｔｉ，Ａ；Ｓｐｉｎｄｌｅｒ，Ｆ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ  １９９８，１７，６６８〜６７５
【非特許文献９】Ｍａｉｅｎｚａ，Ｆ．；Ｓａｎｔｏｒｏ，Ｆ．；Ｓｐｉｎｄｌｅｒ，Ｆ．；Ｍａｌａｎ，Ｃ．；Ｍｅｚｚｅｔｔｉ，Ａ．Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍ．２００２，１３，１８１７〜１８２４
【発明の開示】
【０００５】
本発明者らは、一連の新規の実質的にエナンチオマーとして純粋なホスフィン−アミノホスフィン配位子のルテニウム錯体を発見した。従って、本発明は、式１：
［（Ｒ3）3Ｐ］3ＲｕＸ2                                    １
を有するルテニウム化合物と式２：
（Ｒ）2Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ2）Ｐ（Ｒ1）2                        ２
を有する実質的にエナンチオマーとして純粋なキラル配位子を含んでなるルテニウム錯体化合物を提供する。前記式において、
Ｒ、Ｒ2及びＲ3は、独立して、置換又は非置換の、分岐鎖又は直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換又は非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換又は非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、及び１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換又は非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
Ｒ1は置換又は非置換の、分岐鎖又は直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換又は非置換の、分岐鎖又は直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルコキシ、置換又は非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換又は非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルコキシ、置換又は非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、置換又は非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリールオキシであり；
Ｘはフルオライド、クロライド、ブロマイド又はヨーダイドであり；
Ｌは、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキレン、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキレン、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリーレン、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリーレン、又は置換若しくは非置換のメタロセニルメチレンであり、Ｌは実質的にエナンチオマーとして純粋である、即ち、９０％又はそれ以上のエナンチオマー過剰である。
【０００６】
本発明の好ましい錯体は、Ｒ3がフェニルであり且つ（Ｒ）2Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ2）Ｐ（Ｒ1）2が一括して構造３又は４（３のエナンチオマー）を表すものである：
【０００７】
【化１】
2008504260.tif 000002
【０００８】
［式中、Ｒ、Ｒ1及びＲ2は前述の通りであり；
Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、独立して、水素、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍは第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族及び第ＶＩＩＩ族の金属から選ばれる］。
【０００９】
本発明の別の実施態様は、式１：
［（Ｒ3）3Ｐ］3ＲｕＸ2                                    １
を有するルテニウム化合物と式２：
（Ｒ）2Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ2）Ｐ（Ｒ1）2                        ２
［式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｌ及びＸは前に定義した通りである］を有する実質的にエナンチオマーとして純粋なキラル配位子とを不活性有機溶媒中で接触させることを含んでなる新規錯体化合物の製造方法である。
【００１０】
本発明の更なる実施態様は、ルテニウム化合物１及び配位子２を含むルテニウム錯体の存在下において、１，３−ジカルボニル化合物を水素と接触させることを含んでなる、対応するヒドロキシカルボニル化合物を生成するための１，３−ジカルボニル化合物の不斉水素化方法である。
【００１１】
本発明は、またルテニウム化合物１及び配位子２を含むルテニウム錯体の存在下において、ヒドロキシカルボニル化合物を水素と接触させることを含んでなる、対応するジオール化合物を生成するためのヒドロキシカルボニル化合物の不斉水素化方法を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6のそれぞれを表すことができるアルキル基は、炭素数２０以下の直鎖又は分岐鎖脂肪族炭化水素基であることができ、例えばＣ1〜Ｃ6アルコキシ、シアノ、Ｃ2〜Ｃ6−アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6−アルカノイルオキシ、ヒドロキシ、アリール又はハロゲンから選ばれた１〜３個の基で置換されることができる。用語「Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ」、「Ｃ2〜Ｃ6−アルコキシカルボニル」及び「Ｃ2〜Ｃ6−アルカノイルオキシ」は、それぞれ、構造−ＯＲ7、−ＣＯ2Ｒ7及び−ＯＣＯＲ7に対応する基を意味し、Ｒ7はＣ1〜Ｃ6−アルキル又は置換Ｃ1〜Ｃ6−アルキルである。用語「Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル」は炭素数３〜８の飽和炭素環式炭化水素基を意味する。Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6のそれぞれが表すアリール基としては、フェニル、ナフチル又はアントラセニル；及びＣ1〜Ｃ6−アルキル、置換Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ6〜Ｃ10アリール、置換Ｃ6〜Ｃ10アリール、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、ハロゲン、カルボキシ、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルカノイルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルスルホニル、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、Ｃ2〜Ｃ6−アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6−アルカノイルアミノ又は−Ｏ−Ｒ8、Ｓ−Ｒ8、−ＳＯ2−Ｒ8、−ＮＨＳＯ2Ｒ8若しくは−ＮＨＣＯ2Ｒ8［Ｒ8はフェニル若しくはナフチル；又はＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ6〜Ｃ10アリール、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ若しくはハロゲンから選ばれた１〜３個の基で置換されたフェニル若しくはナフチルである］から選ばれた１〜３個の置換基で置換されたフェニル、ナフチル又はアントラセニルを挙げることができる。ヘテロアリール基としては、酸素、硫黄及び窒素から選ばれた１〜３個のヘテロ原子を含む５員環又は６員環が挙げられる。このようなヘテロアリール基の例は、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリルなどである。ヘテロアリール基は、例えばＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、置換Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルチオ、アリール、アリールチオ、アリールオキシ、Ｃ2〜Ｃ6−アルオキシカルボニル又はＣ2〜Ｃ6−アルカノイルアミノのような３個以下の基で置換されることができる。ヘテロアリール基は、また、例えば前記文中に記載した３個以下の基で置換されてもよいし非置換でもよい縮合環系、例えばベンゾ又はナフト残基で置換することができる。Ｒ1によって表されることができるアルコキシ基は、炭素数２０以下の直鎖又は分岐鎖脂肪族アルコキシ基であることができ、また、例えばＣ1〜Ｃ6−アルコキシ、シアノ、Ｃ2〜Ｃ6−アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6−アルカノイルオキシ、アリール及びハロゲンから選ばれた１〜３個の基で置換されることができる。用語「Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ」、「Ｃ2〜Ｃ6−アルコキシカルボニル」及び「Ｃ2〜Ｃ6−アルカノイルオキシ」は、それぞれ、構造−ＯＲ7、−ＣＯ2Ｒ7及び−ＯＣＯＲ7に対応する基を示すのに用い、Ｒ7はＣ1〜Ｃ6−アルキル又は置換Ｃ1��Ｃ6−アルキルである。用語「Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルコキシ」は炭素数３〜８の飽和炭素環式アルコキシ基を意味する。Ｒ1が表すアリールオキシ基としては、フェノキシ、ナフチルオキシ又はアントラセニルオキシ；及びＣ1〜Ｃ6−アルキル、置換Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ6〜Ｃ10アリール、置換Ｃ6〜Ｃ10アリール、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、ハロゲン、カルボキシ、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルカノイルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルスルホニル、トリフルオロメチル、Ｃ2〜Ｃ6−アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6−アルカノイルアミノ又は−Ｏ−Ｒ8、Ｓ−Ｒ8、−ＳＯ2−Ｒ8、−ＮＨＳＯ2Ｒ8若しくは−ＮＨＣＯ2Ｒ8［Ｒ8はフェニル若しくはナフチル；又はＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ6〜Ｃ10アリール、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ若しくはハロゲンから選ばれた１〜３個の基で置換されたフェニル若しくはナフチルである］から選ばれた１〜３個の置換基で置換されたフェノキシ、ナフチルオキシ又はアントラセニルオキシを挙げることができる。用語「ハロゲン」は、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を含めるために使用する。
【００１３】
当業者ならば、「Ｃ1〜Ｃ6−アルキル」のような、前記範囲の炭素原子を有する基又は部分へのここでの言及はそれぞれ、Ｃ1基（メチル）及びＣ6基（ヘキシル）端点だけでなく、対応する個々のＣ2、Ｃ3、Ｃ4及びＣ5基のそれぞれも含むことがわかるであろう。更に、前記の炭素数範囲内の個々の点のそれぞれを更に組合せて、記載した全範囲内に本質的に含まれる部分的範囲を記載することができることがわかるであろう。例えば用語「Ｃ1〜Ｃ6−アルキル」は個々の部分Ｃ1〜Ｃ6だけでなく、「Ｃ2〜Ｃ5−アルキル」のような部分的範囲も含む。
【００１４】
特性決定データに基づき、化合物１及び２から得られた錯体化合物は、構造５：
【００１５】
【化２】
2008504260.tif 000003
【００１６】
［式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｌ及びＸは前に定義した通りである］を有すると考えられる。現在好ましい本発明の化合物は、式５｛式中、Ｒ3はフェニルであり、Ｘはクロライドであり、且つ部分構造Ｒ2Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ2）ＰＲ12は一括して基３又は４［式中、Ｒはアリール、最も好ましくはフェニルであり；Ｒ1はアリール、Ｃ2〜Ｃ6アルキル又はＣ3〜Ｃ6シクロアルキル、好ましくはフェニル、３−フルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、４−フルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル又は３，４−ジクロロフェニル、最も好ましくは３，４−ジフルオロフェニルであり；Ｒ2は水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はアリール、最も好ましくはメチルであり；Ｒ4は水素又はＣ1〜Ｃ6アルキル、最も好ましくはメチルであり；Ｒ5及びＲ6は水素であり；Ｍは鉄、ルテニウム又はオスミウム、最も好ましくは鉄である］を表す｝を有して、錯体５Ａ又は５Ｂを提供する。
【００１７】
【化３】
2008504260.tif 000004
【００１８】
本発明によって提供される錯体化合物は、式１：
［（Ｒ3）3Ｐ］3ＲｕＸ2                                    １
を有するルテニウム錯体と式２：
（Ｒ）2Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ2）Ｐ（Ｒ1）2                        ２
［式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｌ及びＸは前に定義した通りである］を有する実質的にエナンチオマーとして純粋なキラル配位子とを不活性有機溶媒中で接触させることによって製造できる。この錯体化合物生成物は、結晶化又は沈澱のような当業者に知られた標準方法によって単離できる。好ましい一実施態様においては、ルテニウム化合物１をホスフィン−アミノホスフィン３又は４と接触させる。配位子３又は４の使用量はルテニウム化合物１のモル当たり１〜５モル、好ましくは１〜１．５モルであることができる。
【００１９】
この方法は不活性溶媒中で実施する。適当な溶媒の例としては、ハロカーボン溶媒、例えばジクロロメタン、テトラクロロエチレン及びクロロベンゼン；双極性非プロトン溶媒、例えばアセトニトリル、ジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシド；環状又は非環状エーテル溶媒、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル及びテトラヒドロフラン；ケトン溶媒、例えばアセトン、メチルエチルケトン及びジエチルケトン；並びに芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン若しくはキシレン又はそれらの混合物が挙げられる。好ましい溶媒はジクロロメタン及びトルエンである。この方法は、−５０℃〜溶媒の沸点の温度、好ましくは２０〜４０℃において実施できる。
【００２０】
反応が完了次第、ルテニウム錯体生成物は、結晶化又は蒸留のような常法によって単離できる。好ましい単離方法は、ルテニウム錯体が不溶であるか又は実質的に不溶である液体を添加することによって錯体を沈殿させることである。このような非溶媒液体の例としては、水、Ｃ3〜Ｃ6アルカノール、例えばｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール又はｎ−ヘキサノール並びに脂肪族及び脂環式炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン及びシクロヘキサンが挙げられ、場合によっては続いて混合物からの溶媒の蒸留除去を行う。好ましい非溶媒はイソプロパノール及びヘプタンである。
【００２１】
本発明は、また、炭素数５〜２０の１，３−ジカルボニル化合物を少なくとも１種の本発明のルテニウム錯体化合物の存在下で水素と接触させることを含んでなる、対応するヒドロキシカルボニル化合物を生成するための、炭素数５〜２０の１，３−ジカルボニル化合物の不斉水素化方法を提供する。
【００２２】
この水素化反応は、キラル３−ヒドロキシカルボニル化合物を形成し、それは一般に高エナンチオマー過剰で得られる。この水素化方法は、典型的には、不活性有機溶媒の存在下で、実施する。適当な溶媒の例としては、低級アルコール、例えばメタノール、エタノール及びイソプロパノール；脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタンなど；芳香族炭化水素、トルエン、キシレン類など；環状又は非環状エーテル、例えばｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなど；ハロゲン化脂肪族又は芳香族炭化水素、例えばジクロロメタン、テトラクロロエチレン、クロロホルム、クロロベンゼンなど；及び極性非プロトン溶媒、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。好ましい溶媒としては、メタノール又はエタノールが挙げられる。
【００２３】
本発明は、また、炭素数３〜２０のα−ヒドロキシカルボニル化合物を少なくとも１種の前記ルテニウム錯体化合物の存在下で水素と接触させることを含んでなる、対応する１，２−ジオール化合物を生成するための、炭素数３〜２０のα−ヒドロキシカルボニル化合物の不斉水素化方法を提供する。この水素化反応はキラル１，２−ジオール化合物を形成し、これは一般に高エナンチオマー過剰で得られる。この水素化方法は、典型的には、不活性有機溶媒の存在下で実施する。適当な溶媒の例としては、低級アルコール、例えばメタノール、エタノール及びイソプロパノール；脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタンなど；芳香族炭化水素、例えばトルエン、キシレン類など；環状又は非環状エーテル、例えばｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなど；ハロゲン化脂肪族又は芳香族炭化水素、例えばジクロロメタン、テトラクロロエチレン、クロロホルム、クロロベンゼンなど；並びに極性非プロトン溶媒、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。好ましい溶媒としてはメタノール又はエタノールが挙げられる。
【００２４】
本発明は、また、炭素数４〜２０のβ−ヒドロキシカルボニル化合物を少なくとも１種の前述のルテニウム錯体化合物の存在下で、水素と接触させることを含んでなる、対応する１，３−ジオール化合物を生成するための、炭素数４〜２０のβ−ヒドロキシカルボニル化合物の不斉水素化方法を提供する。水素化反応は、キラル１，３−ジオール化合物を形成し、これは一般に高エナンチオマー過剰で得られる。この水素化方法は、典型的には、不活性有機溶媒の存在下で実施する。適当な溶媒の例としては、低級アルコール、例えばメタノール、エタノール及びイソプロパノール；脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタンなど；芳香族炭化水素、例えばトルエン、キシレン類など；環状又は非環状エーテル、例えばｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなど；ハロゲン化脂肪族又は芳香族炭化水素、例えばジクロロメタン、テトラクロロエチレン、クロロホルム、クロロベンゼンなど；並びに極性非プロトン溶媒、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。好ましい溶媒としてはメタノール又はエタノールが挙げられる。
【００２５】
この水素化方法は、高圧で、触媒量の前述の少なくとも１種のルテニウム錯体化合物の存在下で、ジカルボニル又はヒドロキシカルボニル化合物を水素と接触させることによって実施する。ルテニウム錯体化合物の使用量は、反応体化合物に基づき、０．００００５〜０．５当量であることができ、通常は錯体が多いほど速い反応速度を生ずる。水素雰囲気は純粋な水素であってもよいし、又は１種又はそれ以上の不活性ガスと混合された水素であってもよい。この方法は、典型的には、０．０７〜１３７．９バール（ゲージ）−ｂａｒｇ（１〜２０００ポンド／平方インチ（ゲージ）−ｐｓｉｇ）、好ましくは３．４５〜６９ｂａｒｇ（５０〜１０００ｐｓｉｇ）の水素圧で実施する。この方法は、通常、妥当な転化速度を生じる温度で実施し、この温度は−５０℃もの低温であることもできるが、通常は周囲温度〜反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点（又は高圧における見掛けの沸点）である。
【００２６】
本発明のルテニウム錯体化合物はまた、不斉還元、不斉ヒドロホウ素化、不斉オレフィン異性化、不斉ヒドロシリル化、不斉アリル化及び種々の反応体を用いた不斉有機金属付加のような他の反応を触媒するのに使用できる。
【実施例】
【００２７】
本発明によって提供される新規化合物及び触媒を以下の実施例によって更に説明する。
【００２８】
実施例１
ジクロロ−［（Ｓ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｒ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ｂ−ａ）の製造
（Ｓ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｒ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ａ，Ｒ＝Ｒ1＝フェニル，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（３６７ｍｇ；０．６０ミリモル；１．２当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（４７９ｍｇ；０．５０ミリモル）と合した。乾燥ジクロロメタン（１０ｍＬ）を添加し、フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、次いで室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（１０ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ｂ−ａを０．３８ｇ（７３％）生成した。
【００２９】
実施例２
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ａ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ａ，Ｒ＝Ｒ1＝フェニル，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（３６７ｍｇ；０．６０ミリモル；１．２当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（４７９ｍｇ；０．５０ミリモル）と合した。乾燥ジクロロメタン（１０ｍＬ）を添加し、フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、次いで室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（１０ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ａを３２０ｍｇ（６１％）生成した。
【００３０】
実施例３
トルエン中におけるジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ａ）の製造
ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（２４０ｍｇ；０．２５ミリモル）をフラスコ中に入れた。（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ａ，Ｒ＝Ｒ1＝フェニル，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（１６８ｍｇ；０．２７５ミリモル；１．１当量）を乾燥トルエン５ｍＬ中に溶解させ、添加した。フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、次いで室温で一晩攪拌した。ヘプタン（１０ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させ、これを濾過によって採取し、ヘプタンで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ａを７７ｍｇ（２９％）生成した。
【００３１】
実施例４
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｂ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｂ，Ｒ＝Ｒ1＝フェニル，Ｒ2＝Ｈ，Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（１７９ｍｇ；０．３０ミリモル；１．２当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（２４０ｍｇ；０．２５ミリモル）と合した。乾燥ジクロロメタン（５ｍＬ）を添加し、フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、次いで室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（５ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｂを１８５ｍｇ（７２％）生成した。
【００３２】
実施例５
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−エチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｃ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−エチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｃ，Ｒ＝Ｒ1＝フェニル，Ｒ2＝エチル，Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（１８８ｍｇ；０．３０ミリモル；１．２当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（２４０ｍｇ；０．２５ミリモル）と合した。乾燥ジクロロメタン（５ｍＬ）を添加し、フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、次いで室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（５ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｃを８５ｍｇ（３２％）生成した。
【００３３】
実施例６
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ジシクロヘキシルホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｄ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ジシクロヘキシルホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｄ，Ｒ＝フェニル，Ｒ1＝シクロヘキシル，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（１８７ｍｇ；０．３０ミリモル；１．２当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（２４０ｍｇ；０．２５ミリモル）と合した。乾燥ジクロロメタン（５ｍＬ）を添加し、フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、次いで室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（５ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｄを１０２ｍｇ（３９％）生成した。
【００３４】
実施例７
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ジエチルホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｅ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ジエチルホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｅ，Ｒ＝フェニル，Ｒ1＝エチル，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（１００ｍｇ；０．１９ミリモル；１．２当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（１５５ｍｇ；０．１６ミリモル）と合した。乾燥ジクロロメタン（３．５ｍＬ）を添加し、フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、次いで室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（３．５ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｅを８２ｍｇ（５４％）生成した。
【００３５】
実施例８
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ジフェノキシホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｆ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ジフェノキシホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｆ，Ｒ＝フェニル−Ｐｈ，Ｒ1＝ＯＰｈ，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（３８６ｍｇ；０．６０ミリモル；１．２当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（４７９ｍｇ；０．５０ミリモル）と合した。乾燥ジクロロメタン（１０ｍＬ）を添加し、フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、次いで室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（１０ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｆを４３９ｍｇ（８１％）生成した。
【００３６】
実施例９
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｇ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｇ，Ｒ＝フェニル，Ｒ1＝３，５−ジメチルフェニル，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（２００ｍｇ；０．３０ミリモル；１．２当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（２４０ｍｇ；０．２５ミリモル）と合した。フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、乾燥ジクロロメタン（５ｍＬ）を添加した。反応混合物を室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（５ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｇを１７３ｍｇ（６３％）生成した。
【００３７】
実施例１０
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−イソプロピル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｈ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−イソプロピル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｈ，Ｒ＝Ｒ1＝フェニル，Ｒ2＝イソプロピル，Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（１９１ｍｇ；０．３０ミリモル；１．２当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（２４０ｍｇ；０．２５ミリモル）と合した。フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、乾燥ジクロロメタン（５ｍＬ）を添加した。反応混合物を室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（５ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｈを１７７ｍｇ（６６％）生成した。
【００３８】
実施例１１
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ビス（４−メトキシフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｉ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ビス（４−メトキシフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｉ，Ｒ＝フェニル，Ｒ1＝４−メトキシフェニル，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（２０１ｍｇ；０．３０ミリモル；１．２当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（２４０ｍｇ；０．２５ミリモル）と合した。フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、乾燥ジクロロメタン（５ｍＬ）を添加した。反応混合物を室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（５ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｉを１９６ｍｇ（７１％）生成した。
【００３９】
実施例１２
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ビス（３，４−ジフルオロフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｊ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ビス（３，４−ジフルオロフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｊ，Ｒ＝フェニル，Ｒ1＝３，４−ジフルオロフェニル，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（２２２ｍｇ；０．３２５ミリモル；１．３当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（２４０ｍｇ；０．２５ミリモル）と合した。フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、乾燥ジクロロメタン（５ｍＬ）を添加した。反応混合物を室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（５ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｊを１９８ｍｇ（７１％）生成した。分析：Ｃ55Ｈ46Ｃｌ2Ｆ4ＦｅＮＰ3Ｒｕに関する計算値：Ｃ，５９．１０；Ｈ，４．１５；Ｎ，１．２５；実測値：Ｃ，５９．８２；Ｈ，４．２８；Ｎ，１．１２。
【００４０】
実施例１３
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ビス（３，４−ジクロロフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｋ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ビス（３，４−ジクロロフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｋ，Ｒ＝フェニル，Ｒ1＝３，４−ジクロロフェニル，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（３０５ｍｇ；０．４０７ミリモル；１．３当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（３００ｍｇ；０．３１３ミリモル）と合した。フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、乾燥ジクロロメタン（６ｍＬ）を添加した。反応混合物を室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（６ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｋを３０３ｍｇ（８２％）生成した。
【００４１】
実施例１４
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ビス（３，５−ジフルオロフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｌ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ビス（３，５−ジフルオロフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｌ，Ｒ＝フェニル，Ｒ1＝３，５−ジフルオロフェニル，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（２２２ｍｇ；０．３２５ミリモル；１．３当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（２５０ｍｇ；０．２５ミリモル）と合した。フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、乾燥ジクロロメタン（５ｍＬ）を添加した。反応混合物を室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（５ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｌを１９３ｍｇ（６９％）生成した。
【００４２】
実施例１５
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ビス（３，５−ジクロロフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｍ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ビス（３，５−ジクロロフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｍ，Ｒ＝フェニル，Ｒ1＝３，５−ジクロロフェニル，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（２４７ｍｇ；０．３２５ミリモル；１．３当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（２４０ｍｇ；０．２５ミリモル）と合した。フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、乾燥ジクロロメタン（５ｍＬ）を添加した。反応混合物を室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（５ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｍを２３８ｍｇ（８０％）生成した。
【００４３】
実施例１６
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ビス（４−フルオロフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｎ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ビス（４−フルオロフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｎ，Ｒ＝フェニル，Ｒ1＝４−フルオロフェニル，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（２１０ｍｇ；０．３２５ミリモル；１．３当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（２５０ｍｇ；０．２５ミリモル）と合した。フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、乾燥ジクロロメタン（５ｍＬ）を添加した。反応混合物を室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（５ｍＬ）を添加しえ、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｎを０．２２ｇ（８１％）生成した。
【００４４】
実施例１７
ジクロロ−［（Ｒ）−Ｎ−ビス（３−フルオロフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン］（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（５Ａ−ｏ）の製造
（Ｒ）−Ｎ−ビス（３−フルオロフェニル）ホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（３ｏ，Ｒ＝フェニル，Ｒ1＝３−フルオロフェニル，Ｒ2＝Ｒ4＝メチル，Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ，Ｍ＝Ｆｅ））（２１０ｍｇ；０．３２５ミリモル；１．３当量）をジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（２５０ｍｇ；０．２５ミリモル）と合した。フラスコの排気及び窒素の充填を１０回行い、乾燥ジクロロメタン（５ｍＬ）を添加した。反応混合物を室温で一晩攪拌した。イソプロパノール（５ｍＬ）を添加して、沈澱を生成させた。ジクロロメタンを真空蒸留によって除去し、得られた固体を濾過によって採取し、イソプロパノールで洗浄し、窒素スウィープを行いながら真空下で乾燥させて、５Ａ−ｏを２０７ｍｇ（７７％）生成した。
【００４５】
実施例１８
錯体５Ｂ−ａを用いた、アセト酢酸メチルのメチル（Ｓ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１からの錯体５Ｂ−ａ（２．６ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸メチル（５４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。キラルＧＣによる生成物溶液のアッセイは、９０．７％ｅｅのメチル（Ｓ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。キラルＧＣ［３０ｍ×０．２５ｍｍ  Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ（Ｊ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ），フィルム厚０．２５μｍ，１００℃等温］：ｔR＝６．２９分（アセト酢酸メチル），ｔR＝６．５４分［メチル（Ｓ）−３−ヒドロキシブチレート］，ｔR＝６．７１分［メチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレート］。
【００４６】
実施例１９
錯体５Ｂ−ａを用いた、アセト酢酸エチルのエチル（Ｓ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１からの錯体５Ｂ−ａ（２．６ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたエタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸エチル（６４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたエタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８９．４％ｅｅのエチル（Ｓ）−３−ヒドロキシブチレートへの８９％の転化を示した。キラルＧＣ［３０ｍ×０．２５ｍｍ  Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ（Ｊ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）、フィルム厚０．２５μｍ，１００℃等温］：ｔR＝８．３６分（アセト酢酸エチル），ｔR＝８．６９分［エチル（Ｓ）−３−ヒドロキシブチレート］，ｔR＝８．９３分［エチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレート］。
【００４７】
実施例２０
水素１００ｐｓｉｇにおいて錯体５Ｂ−ａを用いた、アセト酢酸エチルのエチル（Ｓ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１からの錯体５Ｂ−ａ（２．６ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたエタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸エチル（６４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたエタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で６．９ｂａｒｇ（１００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８８．６％ｅｅのエチル（Ｓ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。
【００４８】
実施例２１
錯体５Ｂ−ａを用いた、プロピオニル酢酸メチルのメチル（Ｓ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの水素化
実施例１からの錯体５Ｂ−ａ（２．６ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたプロピオニル酢酸メチル（６３μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８６．２％ｅｅのメチル（Ｓ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの１００％の転化を示した。キラルＧＣ［３０ｍ×０．２５ｍｍ  Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ（Ｊ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）、フィルム厚０．２５μｍ，７０℃等温］：ｔR＝９．７２分（プロピオニル酢酸メチル），ｔR＝１０．３４分［メチル（Ｓ）−３−ヒドロキシペンタノエート］，ｔR＝１０．８０分［メチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエート］。
【００４９】
実施例２２
錯体５Ａ−ａを用いた、アセト酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例２からの錯体５Ａ−ａ（２．６ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸メチル（５４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８９．５％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。
【００５０】
実施例２３
錯体５Ａ−ａを用いた、アセト酢酸エチルのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例２からの錯体５Ａ−ａ（２．６ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたエタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸エチル（６４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたエタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８７．６％ｅｅのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの８６．２％の転化を示した。
【００５１】
実施例２４
錯体５Ａ−ａを用いた、プロピオニル酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの水素化
実施例２からの錯体５Ａ−ａ（２．６ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたプロピオニル酢酸メチル（６３μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８９．４％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの１００％の転化を示した。
【００５２】
実施例２５
錯体５Ａ−ａを用いた、アセト酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例３からの錯体５Ａ−ａ（２．６ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸メチル（５４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８７．４％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。
【００５３】
実施例２６
錯体５Ａ−ｃを用いた、アセト酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例５からの錯体５Ａ−ｃ（２．６ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸メチル（５４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、７６．２％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。
【００５４】
実施例２７
錯体５Ａ−ｃを用いた、アセト酢酸エチルのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例５からの錯体５Ａ−ｃ（２．６ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたエタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸エチル（６４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたエタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、７１．６％ｅｅのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの８４．８％の転化を示した。
【００５５】
実施例２８
錯体５Ａ−ｇを用いた、アセト酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例９からの錯体５Ａ−ｇ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸メチル（５４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８２．５％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。
【００５６】
実施例２９
錯体５Ａ−ｇを用いた、アセト酢酸エチルのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例９からの錯体５Ａ−ｇ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたエタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸エチル（６４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたエタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８１．７％ｅｅのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。
【００５７】
実施例３０
錯体５Ａ−ｇを用いた、プロピオニル酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの水素化
実施例９からの錯体５Ａ−ｇ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたプロピオニル酢酸メチル（６３μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、７９．３％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの１００％の転化を示した。
【００５８】
実施例３１
錯体５Ａ−ｉを用いた、アセト酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１１からの錯体５Ａ−ｉ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸メチル（５４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８５．４％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの９７．１％の転化を示した。
【００５９】
実施例３２
錯体５Ａ−ｉを用いた、アセト酢酸エチルのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１１からの錯体５Ａ−ｉ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたエタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸エチル（６４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたエタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、９２．７％ｅｅのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの３３．５％の転化を示した。
【００６０】
実施例３３
錯体５Ａ−ｉを用いた、プロピオニル酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの水素化
実施例１１からの錯体５Ａ−ｉ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたプロピオニル酢酸メチル（６３μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８４．９％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの２４．３％の転化を示した。
【００６１】
実施例３４
メタノール中において錯体５Ａ−ｊを用いた、アセト酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１２からの錯体５Ａ−ｊ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸メチル（５４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、９３．９％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの９９．３％の転化を示した。
【００６２】
実施例３５
エタノール中において錯体５Ａ−ｊを用いた、アセト酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１２からの錯体５Ａ−ｊ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及びアセト酢酸メチル（５４μＬ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で１２時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、９６．０％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。
【００６３】
実施例３６
錯体５Ａ−ｊを用いた、アセト酢酸エチルのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１２からの錯体５Ａ−ｊ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたエタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸エチル（６４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたエタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、９５．４％ｅｅのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。
【００６４】
実施例３７
錯体５Ａ−ｊを用いた、プロピオニル酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの水素化
実施例１２からの錯体５Ａ−ｊ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたプロピオニル酢酸メチル（６３μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、９５．６％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの９８．６％の転化を示した。
【００６５】
実施例３８
錯体５Ａ−ｊを用いた、ベンゾイル酢酸エチルのエチル（Ｓ）−３−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートへの水素化
実施例１２からの錯体５Ａ−ｊ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及びベンゾイル酢酸エチル（８６μＬ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液を1Ｈ  ＮＭＲによって分析すると、キラルＨＰＬＣによると９４．９％ｅｅであるエチル（Ｓ）−３−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートへの９９％の転化を示した。
【００６６】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４〜７．２（５Ｈ，ｍ）；５．１３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．３６，８．４８Ｈｚ）；４．１７８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１７Ｈｚ）；３．２（１Ｈ，ｂｒ  ｓ）；２．７６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５８，１６．３０Ｈｚ）；２．６９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．３３，１６．３３Ｈｚ）；１．２５９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１７Ｈｚ）。キラルＨＰＬＣ（２５０×４．６ｍｍ  Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＤ−Ｈ［Ｃｈｉｒａｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ］，ヘキサン：イソプロパノール（９５：５），１ｍＬ／分，λ＝２５４ｎｍ）；ｔR（ベンゾイル酢酸エチル）１２．２分，ｔR  １７．９分［エチル（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネート］，ｔR  １９．２分［エチル（Ｓ）−３−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネート］。
【００６７】
実施例３９
エタノール中において錯体５Ａ−ｊを用いた、ジメチル３−オキソオクタンジオエートのジメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシオクタンジオエートへの水素化
実施例１２からの錯体５Ａ−ｊ（５．６ｍｇ；０．００５ミリモル；０．００５当量）及びジメチル３−オキソオクタンジオエート（２１６ｍｇ；１．０ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で１２時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、溶媒をストリッピングした。1Ｈ  ＮＭＲによる生成物のアッセイは、キラルＧＣ分析によると９７．７％ｅｅであるジメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシオクタンジオエートへの＞９９％の転化を示した。
【００６８】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ４．０４〜３．９８（１Ｈ，ｍ）；３．７１６（ｓ，３Ｈ）；３．６６９（ｓ，３Ｈ）；２．５５〜２．４３（ｍ，２Ｈ）；２．３７〜２．３１（ｍ，２Ｈ）；１．７６〜１．３５（ｍ，６Ｈ）。キラルＧＣ［３０ｍ×０．２５ｍｍ  Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ（Ｊ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ），フィルム厚０．２５μｍ，１５５℃等温］：ｔR＝２５．２５分［ジメチル（Ｓ）−３−ヒドロキシオクタンジオエート］，ｔR＝２５．８０分［ジメチル（Ｒ）−３−ヒドロオキシオクタンジオエート］。
【００６９】
実施例４０
ｎ−ブタノール中において錯体５Ａ−ｊを用いた、ジメチル３−オキソオクタンジオエートのジメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシオクタンジオエートへの水素化
実施例１２からの錯体５Ａ−ｊ（５．６ｍｇ；０．００５ミリモル；０．００５当量）及びジメチル３−オキソオクタンジオエート（２１６ｍｇ；１．０ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたｎ−ブタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で１２時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、溶媒をストリッピングした。1Ｈ  ＮＭＲによる生成物のアッセイは、キラルＧＣ分析によると９８．０％ｅｅであるジメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシオクタンジオエートへの６８％の転化を示した。
【００７０】
実施例４１
メタノール中において錯体５Ａ−ｊを用いた、１−ヒドロキシ−２−ブタノンの（Ｒ）−１，２−ブタンジオールへの水素化
実施例１２からの錯体５Ａ−ｊ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及び１−ヒドロキシ−２−ブタノン（４５μＬ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。キラルＧＣによる反応混合物の分析は、１，２−ブタンジオールへの８１．９％の転化を示した。溶媒をストリッピングし、残渣を、ジクロロメタン２．５ｍＬ中、触媒量のＤＭＡＰと共に無水酢酸（０．１４ｍＬ；１．５ミリモル；３当量）及びトリエチルアミン（０．２８ｍＬ；２．０ミリモル；４当量）を用いて、ジアセテートに転化した。こうして生成された１，２−ジアセトキシブタンのアッセイは、キラルＧＣ分析によって８７．４％ｅｅの（Ｒ）−エナンチオマーを示した。
【００７１】
キラルＧＣ［３０ｍ×０．２５ｍｍ  Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ（Ｊ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ），フィルム厚０．２５μｍ，１００℃等温］：ｔR＝７．２３分（１−ヒドロキシ−２−ブタノン），ｔR＝１３．８，１４．１分（１，２−ブタンジオール），ｔR  １６．８５分［（Ｓ）−１，２−ジアセトキシブタン］，ｔR＝１７．７５分［（Ｒ）−１，２−ジアセトキシブタン］。
【００７２】
実施例４２
エタノール中において錯体５Ａ−ｊを用いた、１−ヒドロキシ−２−ブタノンの（Ｒ）−１，２−ブタンジオールへの水素化
実施例１２からの錯体５Ａ−ｊ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及び１−ヒドロキシ−２−ブタノン（４５μＬ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。キラルＧＣによる反応混合物の分析は、１，２−ブタンジオールへの９３．４％の転化を示した。溶媒をストリッピングし、残渣を、ジクロロメタン２．５ｍＬ中、触媒量のＤＭＡＰと共に無水酢酸（０．１４ｍＬ；１．５ミリモル；３当量）及びトリエチルアミン（０．２８ｍＬ；２．０ミリモル；４当量）を用いて、ジアセテートに転化した。こうして生成された１，２−ジアセトキシブタンのアッセイは、キラルＧＣ分析によって８８．８％ｅｅの（Ｒ）−エナンチオマーを示した。
【００７３】
実施例４３
錯体５Ａ−ｊを用いた、１−ヒドロキシ−３−ブタノンの（Ｒ）−１，３−ブタンジオールへの水素化
実施例１２からの錯体５Ａ−ｊ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及び１−ヒドロキシ−３−ブタノン（４５μＬ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。キラルＧＣによる反応混合物の分析は、１，３−ブタンジオールへの９９．２％の転化を示した。溶媒をストリッピングし、残渣を、ジクロロメタン２．５ｍＬ中、触媒量のＤＭＡＰと共に無水酢酸（０．１４ｍＬ；１．５ミリモル；３当量）及びトリエチルアミン（０．２８ｍＬ；２．０ミリモル；４当量）を用いて、ジアセテートに転化した。こうして生成された１，３−ジアセトキシブタンのアッセイは、キラルＧＣ分析によって８１．８％ｅｅの（Ｒ）−エナンチオマーを示した。キラルＧＣ［３０ｍ×０．２５ｍｍ  Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ（Ｊ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ），フィルム厚０．２５μｍ，１００℃等温］：ｔR＝８．８２分（１−ヒドロキシ−３−ブタノン），ｔR＝１６．０９分（１，３−ブタンジオール），ｔR  ２０．６５分［（Ｓ）−１，３−ジアセトキシブタン］，ｔR＝２３．２０分［（Ｒ）−１，３−ジアセトキシブタン］。
【００７４】
実施例４４
錯体５Ａ−ｊを用いた、２−ヒドロキシアセトフェノンの（Ｒ）−１−フェニル１，２−エタンジオールへの水素化
実施例１２からの錯体５Ａ−ｊ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及び２−ヒドロキシアセトフェノン（６８ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。キラルＧＣによる反応混合物の分析は、キラルＧＣによって７７．６％ｅｅを有する（Ｒ）−１−フェニル−１，２−エタンジオールへの１１．２％の転化を示した。キラルＧＣ［３０ｍ×０．２５ｍｍ  Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ（Ｊ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ），フィルム厚０．２５μｍ，１５０℃等温］：ｔR＝１２．９４分（２−ヒドロキシ−アセトフェノン），ｔR＝２８．３０分［（Ｓ）−１−フェニル−１，２−エタンジオール］，ｔR＝２９．２１分［（Ｒ）−１−フェニル−１，２−エタンジオール］。
【００７５】
実施例４５
錯体５Ａ−ｋを用いた、アセト酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１３からの錯体５Ａ−ｋ（３．０ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及びアセト酢酸メチル（５４μＬ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８７．９％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。
【００７６】
実施例４６
錯体５Ａ−ｋを用いた、アセト酢酸エチルのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１３からの錯体５Ａ−ｋ（３．０ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたエタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸エチル（６４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたエタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、９４．０％ｅｅのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの５９．２％の転化を示した。
【００７７】
実施例４７
錯体５Ａ−ｋを用いた、プロピオニル酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの水素化
実施例１３からの錯体５Ａ−ｋ（３．０ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたプロピオニル酢酸メチル（６３μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８９．７％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの１００％の転化を示した。
【００７８】
実施例４８
錯体５Ａ−ｋを用いた、ベンゾイル酢酸エチルのエチル（Ｓ）−３−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートへの水素化
実施例１３からの錯体５Ａ−ｋ（３．０ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及びベンゾイル酢酸エチル（８６μＬ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（５ｍＬ）を添加し、混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液を1Ｈ  ＮＭＲによって分析すると、キラルＨＰＬＣによると９１．３％ｅｅであるエチル（Ｓ）−３−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートへの８７％の転化を示した。
【００７９】
実施例４９
錯体５Ａ−ｋを用いた、ジメチル３−オキソオクタンジオエートのジメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシオクタンジオエートへの水素化
実施例１３からの錯体５Ａ−ｋ（５．９ｍｇ；０．００５ミリモル；０．００５当量）及びジメチル３−オキソオクタンジオエート（２１６ｍｇ；１．０ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で１２時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、溶媒をストリッピングした。1Ｈ  ＮＭＲによる生成物のアッセイは、キラルＧＣ分析によって９７．５％ｅｅのジメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシオクタンジオエートへの＞９９％の転化を示した。
【００８０】
実施例５０
錯体５Ａ−ｋを用いた、１−ヒドロキシ−２−ブタノンの（Ｒ）−１，２−ブタンジオールへの水素化
実施例１３からの錯体５Ａ−ｋ（３．０ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及び１−ヒドロキシ−２−ブタノン（４５μＬ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。キラルＧＣによる反応混合物の分析は、１，２−ブタンジオールへの６５．６％の転化を示した。溶媒をストリッピングし、残渣を、ジクロロメタン２．５ｍＬ中、触媒量のＤＭＡＰと共に無水酢酸（０．１４ｍＬ；１．５ミリモル；３当量）及びトリエチルアミン（０．２８ｍＬ；２．０ミリモル；４当量）を用いて、ジアセテートに転化した。こうして生成された１，２−ジアセトキシブタンのアッセイは、キラルＧＣ分析によって８４．６％ｅｅの（Ｒ）−エナンチオマーを示した。
【００８１】
実施例５１
錯体５Ａ−ｌを用いた、アセト酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１４からの錯体５Ａ−ｌ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及びアセト酢酸メチル（５４μＬ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８４．４％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。
【００８２】
実施例５２
錯体５Ａ−ｌを用いた、アセト酢酸エチルのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１４からの錯体５Ａ−ｌ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたエタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸エチル（６４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたエタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、９２．５％ｅｅのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。
【００８３】
実施例５３
錯体５Ａ−ｌを用いた、プロピオニル酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの水素化
実施例１４からの錯体５Ａ−ｌ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたプロピオニル酢酸メチル（６３μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８６．１％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの１００％の転化を示した。
【００８４】
実施例５４
錯体５Ａ−ｎを用いた、アセト酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１６からの錯体５Ａ−ｎ（２．７ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及びアセト酢酸メチル（５４μＬ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、８９．６％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。
【００８５】
実施例５５
錯体５Ａ−ｎを用いた、アセト酢酸エチルのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１６からの錯体５Ａ−ｎ（２．７ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたエタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸エチル（６４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたエタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、９１．６％ｅｅのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの１００％の転化を示した。
【００８６】
実施例５６
錯体５Ａ−ｎを用いた、プロピオニル酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの水素化
実施例１６からの錯体５Ａ−ｎ（２．８ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたプロピオニル酢酸メチル（６３μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、９１．９％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの９８．８％の転化を示した。
【００８７】
実施例５７
錯体５Ａ−ｏを用いた、アセト酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１７からの錯体５Ａ−ｏ（２．７ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及びアセト酢酸メチル（５４μＬ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、９２．９％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの９９．８％の転化を示した。
【００８８】
実施例５８
錯体５Ａ−ｏを用いた、アセト酢酸エチルのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの水素化
実施例１７からの錯体５Ａ−ｏ（２．７ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたエタノール２ｍＬ中に溶解されたアセト酢酸エチル（６４μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたエタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、９２．７％ｅｅのエチル（Ｒ）−３−ヒドロキシブチレートへの９９．８％の転化を示した。
【００８９】
実施例５９
錯体５Ａ−ｏを用いた、プロピオニル酢酸メチルのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの水素化
実施例１７からの錯体５Ａ−ｏ（２．７ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたメタノール（２ｍＬ）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。アルゴンで脱ガスされたメタノール２ｍＬ中に溶解されたプロピオニル酢酸メチル（６３μＬ；０．５ミリモル）を添加し、アルゴンで脱ガスされたメタノール１．０ｍＬで洗浄した。反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液をキラルＧＣによって分析すると、９４．３％ｅｅのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシペンタノエートへの１００％の転化を示した。
【００９０】
実施例６０
錯体５Ａ−ｏを用いた、ベンゾイル酢酸エチルのエチル（Ｓ）−３−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートへの水素化
実施例１７からの錯体５Ａ−ｏ（２．７ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及びベンゾイル酢酸エチル（８６μＬ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液を1Ｈ  ＮＭＲによって分析すると、キラルＨＰＬＣによると８０．２％ｅｅであるエチル（Ｓ）−３−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートへの９９％の転化を示した。
【国際調査報告】
2008504260.tif 000009
2008504260.tif 000010