(57)【要約】  不斉水素化、不斉還元、不斉ヒドロホウ素化、不斉オレフィン異性化、不斉ヒドロシリル化、不斉アリル化、不斉共役付加及び不斉有機金属付加のような種々の反応の実施に使用できる触媒の形成に有用なホスフィン−アミノホスフィンの製造方法が開示される。この方法は、（１）式（２）：Ｒ2Ｐ−Ｌ−ＮＨＲ3を有する化合物を不活性有機溶媒及び酸受容体の存在下で三ハロゲン化燐ＰＸ3と接触させて、式（３）：2008504262.tif 000012を有する中間体化合物を生成させ；（２）中間体化合物（３）を式Ｒ1−Ｍ1、Ｒ2−Ｍ1を有する反応体又はそれらの混合物と接触させる工程を含む。
2008504262.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）式２：
Ｒ2Ｐ−Ｌ−ＮＨＲ3
２
を有する化合物を不活性有機溶媒及び酸受容体の存在下で三ハロゲン化燐ＰＸ3と接触させて、式３：
【化１】
2008504262.tif 000005
を有する中間体化合物を生成させ；そして
（２）中間体化合物３を式Ｒ1−Ｍ1、Ｒ2−Ｍ1を有する反応体又はそれらの混合物と接触させる
ことを含んでなる、式１：
Ｒ2Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ3）−ＰＲ1Ｒ2
１
［式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、独立して、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素又は酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
Ｌは置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキレン、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキレン、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリーレン、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリーレン又は置換若しくは非置換のメタロセニルメチレンから選ばれた二価キラル基であり、Ｌは実質的にエナンチオマーとして純粋であり；
Ｘはハライドであり；
Ｍ1は、第Ｉ族又は第ＩＩ族から選ばれた金属である］
を有するホスフィン−アミノホスフィン化合物の製造方法。
【請求項２】
工程（１）及び（２）を、環状及び非環状のエーテル、芳香族炭化水素、脂肪族及び脂環式炭化水素及びそれらの任意の２種又はそれ以上の混合物から選ばれた不活性有機溶媒の存在下で、−１００℃〜前記不活性有機溶媒の概ね沸点の範囲の温度において実施する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（１）式：
【化２】
2008504262.tif 000006
を有する化合物を酸受容体の存在下で三ハロゲン化燐ＰＸ3と接触させて、式：
【化３】
2008504262.tif 000007
を有する中間体化合物を生成させ；そして
（２）前記中間体化合物を、式Ｒ1−Ｍ1、Ｒ2−Ｍ1を有する反応体又はそれらの混合物と接触させる
ことを含んでなり、工程（１）及び（２）を、環状及び非環状のエーテル、芳香族炭化水素、脂肪族及び脂環式炭化水素及びそれらの任意の２種又はそれ以上の混合物から選ばれた不活性有機溶媒の存在下で、−１００℃〜前記不活性有機溶媒の概ね沸点の範囲の温度において実施する、式４：
【化４】
2008504262.tif 000008
［式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は独立して、水素、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍ2は第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族及び第ＶＩＩＩ族の金属から選ばれる］
を有するホスフィン−アミノホスフィン化合物を製造するための請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記溶媒がジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン及び／又はこれらの任意の２種若しくはそれ以上の混合物であり、且つ前記温度が−８０℃〜６０℃である請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記酸受容体がＣ3〜Ｃ15第三アミン又はピリジンであり；ＸがＣｌであり；前記溶媒がジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン又はこれらの任意の２種若しくはそれ以上の混合物であり；且つ前記温度が−８０℃〜６０℃である請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記酸受容体がＣ3〜Ｃ15第三アミン又はピリジンであり；ＸがＣｌであり；Ｍ1がＭｇＢｒ、ＭｇＣｌ、ＭｇＩ、Ｌｉ、Ｎａ又はＫであり；前記溶媒がジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン又はこれらの任意の２種若しくはそれ以上の混合物であり；且つ前記温度が−８０℃〜６０℃である請求項３に記載の方法。
【請求項７】
前記酸受容体がＣ3〜Ｃ15第三アミン又はピリジンであり；ＸがＣｌであり；Ｍ1がＭｇＢｒ、ＭｇＣｌ、ＭｇＩ、Ｌｉ、Ｎａ又はＫであり；前記溶媒がジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン又はこれらの任意の２種若しくはそれ以上の混合物であり；前記温度が−８０℃〜６０℃であり；Ｒがアリールであり；Ｒ1及びＲ2が同一であって、アリール、Ｃ2〜Ｃ6アルキル又はＣ3〜Ｃ6シクロアルキルであり；Ｒ3が水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はアリールであり；Ｒ4が水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、ベンジル、ラセミ若しくは実質的にエナンチオマーとして純粋な１−フェニルエチル又はアリールであり；Ｒ5及びＲ6が水素であり；且つＭ2が鉄、ルテニウム又はオスミウムである請求項３に記載の方法。
【請求項８】
前記酸受容体がトリエチルアミンであり；前記溶媒がトルエンであり；Ｍ1がＭｇＢｒ又はＭｇＣｌであり；Ｒがフェニルであり；Ｒ1及びＲ2が同一であって、フェニル、ｐ−メトキシフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル、３，４−ジクロロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、３−フルオロフェニル又は４−フルオロフェニルであり；Ｒ3が水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はアリールであり；Ｒ4が水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、ベンジル、ラセミ若しくは実質的にエナンチオマーとして純粋な１−フェニルエチル又はアリールであり；Ｒ5及びＲ6が水素であり；且つＭ2が鉄である請求項３に記載の方法。
【請求項９】
（１）式：
【化５】
2008504262.tif 000009
を有する化合物を酸受容体の存在下で三ハロゲン化燐ＰＸ3と接触させて、式：
【化６】
2008504262.tif 000010
を有する中間体化合物を生成させ；そして
（２）前記中間体化合物を、式Ｒ1−Ｍ1、Ｒ2−Ｍ1を有する反応体又はそれらの混合物と接触させる
ことを含んでなり、工程（１）及び（２）を、環状及び非環状のエーテル、芳香族炭化水素、脂肪族及び脂環式炭化水素及びそれらの任意の２種若しくはそれ以上の混合物から選ばれた不活性有機溶媒の存在下で、−１００℃〜前記不活性有機溶媒の概ね沸点の温度において実施する、式５：
【化７】
2008504262.tif 000011
［式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、独立して、水素、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍ2は第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族及び第ＶＩＩＩ族の金属から選ばれる］
を有するホスフィン−アミノホスフィン化合物を製造するための請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記溶媒がジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン及び／又はこれらの任意の２種若しくはそれ以上の混合物であり、且つ前記温度が−８０℃〜６０℃である請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記酸受容体がＣ3〜Ｃ15第三アミン又はピリジンであり；ＸがＣｌであり；前記溶媒がジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン又はこれらの任意の２種若しくはそれ以上の混合物であり；且つ前記温度が−８０℃〜６０℃である請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記酸受容体がＣ3〜Ｃ15第三アミン又はピリジンであり；ＸがＣｌであり；Ｍ1がＭｇＢｒ、ＭｇＣｌ、ＭｇＩ、Ｌｉ、Ｎａ又はＫであり；前記溶媒がジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン又はこれらの任意の２種若しくはそれ以上の混合物であり；且つ前記温度が−８０℃〜６０℃である請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記酸受容体がＣ3〜Ｃ15第三アミン又はピリジンであり；ＸがＣｌであり；Ｍ1がＭｇＢｒ、ＭｇＣｌ、ＭｇＩ、Ｌｉ、Ｎａ又はＫであり；前記溶媒がジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン又はこれらの任意の２種若しくはそれ以上の混合物であり；前記温度が−８０℃〜６０℃であり；Ｒがアリールであり；Ｒ1及びＲ2が同一であって、アリール、Ｃ2〜Ｃ6アルキル又はＣ3〜Ｃ6シクロアルキルであり；Ｒ3が水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はアリールであり；Ｒ4が水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、ベンジル、ラセミ若しくは実質的にエナンチオマーとして純粋な１−フェニルエチル又はアリールであり；Ｒ5及びＲ6が水素であり；且つＭ2が鉄、ルテニウム又はオスミウムである請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記酸受容体がトリエチルアミンであり；前記溶媒がトルエンであり；Ｍ1がＭｇＢｒ又はＭｇＣｌであり；Ｒがフェニルであり；Ｒ1及びＲ2が同一であって、フェニル、ｐ−メトキシフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル、３，４−ジクロロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、３−フルオロフェニル又は４−フルオロフェニルであり；Ｒ3が水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はアリールであり；Ｒ4が水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、ベンジル、ラセミ若しくは実質的にエナンチオマーとして純粋な１−フェニルエチル又はアリールであり；Ｒ5及びＲ6が水素であり；且つＭ2が鉄である請求項９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、或る種のアミノホスフィンの新しい製造方法に関する。更に詳しくは、本発明は、不斉水素化、不斉還元、不斉ヒドロホウ素化、不斉オレフィン異性化、不斉ヒドロシリル化、不斉アリル化、不斉共役付加及び不斉有機金属付加のような種々の反応の実施に使用できる触媒の形成に有用なホスフィン−アミノホスフィンの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
キラル生成物の生成において触媒の不斉が何倍にも増やされるので、不斉触媒反応はエナンチオマー純度の高い生成物を生成するのに最も効率的な方法である。これらのキラル生成物は、単純なエナンチオマー医薬品のための構成単位として及びいくつかの農薬において、多く利用されてきた。使用された不斉触媒は本質的に酵素触媒又は合成触媒であるこっとができる。後者の型の触媒は前者の型の触媒よりも適用可能な反応型の許容範囲がはるかに大きいのではるかに有望である。合成不斉触媒は通常、１個又はそれ以上の有機配位子によって取り囲まれた金属反応中心を含む。配位子は、通常高エナンチオマー純度で生成され、不斉を引き起こす作用因子である。これらの配位子は概して、製造が困難であり、従って高価である。注目すべき例外は、容易に製造され且つ空気中で安定であるキラルホスフィン−アミノホスフィン配位子であり、Ｂｏａｚ，Ｎ．Ｗ．及びＤｅｂｅｎｈａｍ，Ｓ．Ｄ．によって特許文献１に記載されている。特許文献１に記載されたホスフィン−アミノホスフィン化合物は、触媒活性金属と組合せて、不斉水素化方法において触媒として有用な錯体を形成することができる。このような不斉水素化方法から得ることができる化合物は、製薬業界において特に重要であり、その例としては、高エナンチオマー純度を有するアミノ酸、２−置換スクシネート及び２−ヒドロキシエステルが挙げられるが、これらに限定するものではない。
【０００３】
特許文献１は、
（１）ジアルキルアミン−ホスフィン化合物をカルボン酸無水物と反応させて、対応するホスフィン−エステル化合物を生成させ；
（２）前記ホスフィン−エステル化合物を第一アミンと反応させて、第二アミン−ホスフィン化合物を生成させ；そして
（３）前記第二アミン−ホスフィン化合物を二置換ホスフィンハロゲン化物と反応させる
三段法によるホスフィノ−アミノホスフィンの合成を開示している。
【０００４】
ホスフィン−アミノホスフィン化合物の特許文献１の合成の第３工程は、前駆体の第二アミン−ホスフィン化合物と適当に置換されたジアルキル、ジアリール又はアルキルアリールホスフィンハロゲン化物とのカップリングを含む。この方法は、いくつかの要因によって制限される。例えば、市販されているクロロホスフィン類は少ししかなく、二置換ホスフィンハロゲン化物の製造は困難であることが多い。更に、アミンとホスフィンハロゲン化物とのカップリングは厳しい立体障害を受けるおそれがあり、その立体障害が、第二アミン−ホスフィン反応体の窒素原子上及び／又は二置換ホスフィンハロゲン化物反応体の燐原子上に存在することができる置換基の型を制限する可能性がある。
【０００５】
【特許文献１】米国特許第６，５９０，１１５号
【発明の開示】
【０００６】
本発明者らは、幅広い種類のホスフィン−アミノホスフィン化合物の合成を可能にする改良方法を開発した。本発明の方法は、
（１）式２：
Ｒ2Ｐ−Ｌ−ＮＨＲ3
２
を有する化合物を不活性有機溶媒及び酸受容体の存在下で三ハロゲン化燐ＰＸ3と接触させて、式３：
【０００７】
【化１】
2008504262.tif 000003
【０００８】
を有する中間体化合物を生成させ；そして
（２）中間体化合物３を式Ｒ1−Ｍ1、Ｒ2−Ｍ1を有する反応体又はそれらの混合物と接触させる
工程を含んでなる式１：
Ｒ2Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ3）−ＰＲ1Ｒ2
１
［式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一であるか又は異なり、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ20炭素環式アリール又はＣ4〜Ｃ20ヘテロアリール（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）から選ばれ；
Ｌは、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキレン、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキレン、Ｃ6〜Ｃ20炭素環式アリーレン、Ｃ4〜Ｃ20ヘテロアリーレン（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）、又はメタロセニルメチレンから選ばれた二価キラル基であり、Ｌは実質的にエナンチオマーとして純粋である、即ち、９０％又はそれ以上のエナンチオマー過剰であり；
Ｘはハライドであり；且つ
Ｍ1は、グリニャール反応体Ｒ1−ＭｇＸ及びＲ2−ＭｇＸのハロゲン化マグネシウム残基ＭｇＸを含む第Ｉ族及び第ＩＩ族から選ばれた金属である］
を有する化合物の製造を提供する。
【０００９】
当業者ならば、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＬによって示される基はいずれも置換されていても非置換であってもよいことがわかるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の新規方法は、不活性有機溶媒中で実施する。不活性有機溶媒の例としては、環状若しくは非環状のエーテル、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）；芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン及びキシレン（混合キシレン異性体を含む）；脂肪族及び脂環式炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン及びシクロヘキサン；並びにこれらの任意の２種又はそれ以上の混合物が挙げられる。好ましい溶媒は、トルエン、キシレン類、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル又はテトラヒドロフランである。
【００１１】
工程（１）は、酸受容体、例えば工程（１）の反応によって発生するハロゲン化水素と反応することによってそれを掃去又は消費する化合物の存在下で実施する。酸受容体は好ましくはＣ3〜Ｃ15第三アミン又はピリジンであり、好ましいアミンはトリエチルアミン及びジイソプロピルエチルアミンである。存在する酸受容体の量は典型的には、反応体２のモル当たり１〜５モル、好ましくは１〜２モルである。
【００１２】
工程（１）において使用する反応体２は、入手できるか又は米国特許第６，５９０，１１５号のような種々の方法で製造できる。工程（１）において使用する反応体２と三ハロゲン化燐ＰＸ3の相対量は典型的には、反応体２と三ハロゲン化燐ＰＸ3のモル比０．５：１〜４：１、好ましくは１：１〜１．５：１を与える。明確には測定されていないが、それに続く反応の結果は、この反応において（即ち、Ｌがメタロセニルメチレンである場合に）生成された目的とするジハロアミノホスフィン５には実質的にモノハロジアミノホスフィン及びトリアミノホスフィンが混入していないことを示している。これらの種の統計的混合物が予想され得るので、これは驚くべきことである。理論によって拘束するつもりはないが、これらの結果は、使用されるアミンによって引き起こされた立体的過密が、三ハロゲン化燐と反応できるアミンの数を制限するためである可能性がある。三ハロゲン化燐ＰＸ3は、三フッ化物、酸塩化物、三臭化物又は三ヨウ化物のような任意の三ハロゲン化物であることができるが、好ましくは三塩化燐である。
【００１３】
この方法の工程（１）は、−１００℃〜不活性有機溶媒の沸点の温度、好ましくは−８０℃〜６０℃の温度で実施できる。必要ではないが、二ハロゲン化物中間体３は、この方法の第２工程の実施前に単離することができる。
【００１４】
この方法の工程（２）において、中間体３は、不活性有機溶媒（例えば前記溶媒の１種又はそれ以上）の存在下で式Ｒ1−Ｍ1、Ｒ2−Ｍ1又はそれらの混合物を有する１種又はそれ以上の反応体と接触させる。使用するＲ1−Ｍ1及び／又はＲ2−Ｍ1の量は、通常Ｒ1−Ｍ1／Ｒ2−Ｍ1対工程（１）において使用する三ハロゲン化燐ＰＸ3のモル比３：１〜６：１、好ましくは３：１〜４：１を与える。工程（２）は、−１００℃〜溶媒の沸点の温度、好ましくは−８０℃〜２５℃の温度で実施できる。Ｍ1は好ましくは、ＭｇＢｒ、ＭｇＣｌ、ＭｇＩ、Ｌｉ、Ｎａ又はＫである。
【００１５】
式１を有する、この方法の生成物は、当業者によく知られた方法を用いて、例えば抽出、濾過又は結晶化によって反応混合物から単離できる。式１の生成物は、必要ならば常法、例えば抽出、クロマトグラフィー及び結晶化を用いて精製できる。
【００１６】
本発明の方法に従って製造されるホスフィノアミノ−ホスフィン化合物は、好ましくは式４又は５（４のエナンチオマー）：
【００１７】
【化２】
2008504262.tif 000004
【００１８】
［式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前述の通りであり；
Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、独立して、水素、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ20炭素環式アリール又はＣ4〜Ｃ20ヘテロアリール（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）であり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍ2は第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族又は第ＶＩＩＩ族の金属からの金属である］
を有する化合物を生じるメタロセニルメチレンであるＬ基を用いる。
【００１９】
本発明に従って合成することができるホスフィノアミノ−ホスフィン化合物の特に好ましい群は、式４及び５［式中、Ｒはアリール、最も好ましくはフェニルであり；Ｒ1及びＲ2は、アリール、Ｃ2〜Ｃ6アルキル又はＣ3〜Ｃ6シクロアルキルから選ばれた同一置換基であり、最も好ましくはフェニル、ｐ−メトキシフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル、３，４−ジクロロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、３−フルオロフェニル又は４−フルオロフェニルであり；Ｒ3は水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はアリールであり；Ｒ4は水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、ベンジル、ラセミ若しくは実質的にエナンチオマーとして純粋な１−フェニルエチル又はアリールであり；Ｒ5及びＲ6は水素であり；Ｍ2は鉄、ルテニウム又はオスミウム、最も好ましくは鉄である］を有する。当業者ならば、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6によって示される基はいずれも置換されていてもよいし非置換であってもよいことがわかるであろう。
【００２０】
Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＬのそれぞれが表すことができるアルキル基は、炭素数２０以下の直鎖又は分岐鎖脂肪族炭化水素基であることができ、また、例えばＣ1〜Ｃ6アルコキシ、シアノ、Ｃ2〜Ｃ6−アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6−アルカノイルオキシ、アリール及びハロゲンから選ばれた１〜３個の基で置換されることができる。用語「Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ」、「Ｃ2〜Ｃ6−アルコキシカルボニル」及び「Ｃ2〜Ｃ6−アルカノイルオキシ」はそれぞれ、構造−ＯＲ7、−ＣＯ2Ｒ7及び−ＯＣＯＲ7に対応する基を示すのに用い、Ｒ7はＣ1〜Ｃ6−アルキル又は置換Ｃ1〜Ｃ6−アルキルである。用語「Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル」は、炭素数３〜８の飽和炭素環式炭化水素基を示すのに用いる。Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＬのそれぞれが表すことができるアリール基としては、フェニル、ナフチル若しくはアントラセニル；及びＣ1〜Ｃ6−アルキル、置換Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ6〜Ｃ10アリール、置換Ｃ6〜Ｃ10アリール、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、ハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルカノイルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルスルホニル、トリフルオロメチル、Ｃ2〜Ｃ6−アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6−アルカノイルアミノ及び−Ｏ−Ｒ8、Ｓ−Ｒ8、−ＳＯ2−Ｒ8、−ＮＨＳＯ2Ｒ8及び−ＮＨＣＯ2Ｒ8［Ｒ8はフェニル若しくはナフチル；又はＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ6〜Ｃ10アリール、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ及びハロゲンから選ばれた１〜３個の基で置換されたフェニル若しくはナフチルである］から選ばれた１〜３個の置換基で置換されたフェニル、ナフチル若しくはアントラセニルを挙げることができる。
【００２１】
ここに記載したＣ4〜Ｃ20ヘテロアリール基としては、酸素、硫黄及び窒素から選ばれた１〜３個のヘテロ原子を含む５員環又は６員環が挙げられる。このようなヘテロアリール基の例は、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリルなどである。ヘテロアリール基は、例えば、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、置換Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルチオ、アリール、アリールチオ、アリールオキシ、Ｃ2〜Ｃ6−アルコキシカルボニル及びＣ2〜Ｃ6−アルカノイルアミノのような３個以下の基で置換されることができる。ヘテロアリール基はまた、例えば前記文中に記載した３個以下の基で置換されても非置換でもよい縮合環系、例えばベンゾ又はナフト残基で置換されることができる。用語「ハロゲン」は、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を含めるために使用する。
【００２２】
当業者ならば、「Ｃ1〜Ｃ6−アルキル」のような、前記範囲の炭素原子を有する基又は部分へのここでの言及は、それぞれ、Ｃ1基（メチル）及びＣ6基（ヘキシル）端点だけでなく、対応する個々のＣ2、Ｃ3、Ｃ4及びＣ5基のそれぞれも含むことがわかるであろう。更に、前記の炭素数範囲内の個々の点のそれぞれを更に組合せて、記載した全範囲内に本質的に含まれる部分的範囲を記載することができることがわかるであろう。例えば、用語「Ｃ1〜Ｃ6−アルキル」は、個々の部分Ｃ1〜Ｃ6だけでなく、「Ｃ2〜Ｃ5−アルキル」のような部分的範囲も含む。
【００２３】
式１のホスフィン−アミノホスフィン化合物と触媒活性金属（「金属」）との錯体は、種々の反応体を使用する多数の可能な反応を促進するのに有効な触媒である。可能な反応の例としては、不斉水素化、不斉還元、不斉ヒドロホウ素化、不斉オレフィン異性化、不斉ヒドロシリル化、不斉アリル化、不斉共役付加及び不斉有機金属付加が挙げられる。式１のホスフィン−アミノホスフィン化合物との錯形成のために選択される金属は、目的とする反応によって決まる。金属は、第ＶＩＩＩ族金属から選ばれることができ、イリジウム、ルテニウム及び特にロジウムが好ましい。錯体は製造してから、使用前に単離することもできるが、ホスフィン−アミノホスフィン化合物１及び金属プレ触媒から錯体をその場で（ｉｎ  ｓｉｔｕ）製造するのが好ましい。使用するホスフィン−アミノホスフィン化合物１及び触媒活性金属の相対量は典型的には、燐：金属原子比１：１〜４：１、好ましくは２：１〜３：１を与える。
【００２４】
式１のホスフィン−アミノホスフィン化合物と触媒活性金属との錯体は、本発明の別の実施態様を構成する不斉水素化反応の実施において特に有用である。従って、本発明は、水素化可能な化合物を、式１のホスフィン−アミノホスフィン化合物と触媒活性金属との触媒錯体の存在下において水素化条件の温度及び圧力下で水素と接触させることを含んでなる、水素化可能な化合物の水素化方法を含む。不斉水素化反応の場合には、錯形成される触媒活性金属は、好ましくはロジウム、イリジウム又はルテニウムであり、最も好ましくはロジウムである。水素化方法において使用する錯体の量は、反応体化合物に基づき、０．００００５〜０．５モル当量であることができ、通常は錯体が多いほど反応速度が速くなる。反応雰囲気は水素であるが、反応条件に不活性の他の材料を含むこともできる。反応は大気圧又は高い圧力（ｅｌｅｖａｔｅｄ  ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）で、例えば０．５〜２００ゲージ（ｂａｒｇ）で実施できる。反応は、妥当な転化速度を生じる温度で実施する。この温度は−５０℃の低温であることもできるが、通常は周囲温度〜反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点（又は高い圧力における見掛けの沸点）である。
【実施例】
【００２５】
本発明によって提供される方法及びその方法から得られるホスフィン−アミノホスフィン化合物の使用を、以下の実施例によって、更に説明する。
【００２６】
実施例１
（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ａ）の製造
トルエン（１０ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これを氷中で５℃未満に冷却した。三塩化燐（０．２６ｍＬ；３．０ミリモル；１．０当量（２ａに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．５０ｍＬ；３．６ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン１０ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ａ）（１．２６ｇ；３．０ミリモル）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして、約５分間にわたって添加した。反応混合物を３０分かけて周囲温度まで加温し、周囲温度で２時間撹拌した。反応混合物を氷中で５℃未満に冷却し、ジエチルエーテル中フェニルマグネシウムブロミドの３．０Ｍ溶液（３．５ｍＬ；１０．５ミリモル；３．５当量）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして、約１０分間にわたって添加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。薄層クロマトグラフィー（ｔｌｃ）分析によると、２ａは完全に消費されていた。混合物を氷水中で冷却し、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（２０ｍＬ）を、温度が１５℃未満であり続けるような速度で添加した。層を分離させ、水溶液を濾過して不溶性物質を除去し、更に酢酸エチルで抽出した。合した有機抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮した。粗製生成物を、中性アルミナのパッドを通して濾過し、トリエチルアミンが５％添加された酢酸エチル：ヘプタン（１：９）で溶離させて、４ａを１．５２ｇ（８３％）生成した。
【００２７】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．６５（ｍ，２Ｈ）；７．４〜７．０（ｍ，１４Ｈ）；６．８２（ｍ，４Ｈ）；５．００６（ｍ，１Ｈ）；４．５０２（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；４．４０（ｍ，１Ｈ）；４．１５（ｍ，１Ｈ）；３．７９８（ｓ，５Ｈ）；２．１４８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝３．３０Ｈｚ）；１．４７１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８７Ｈｚ）。ＦＤＭＳ：ｍ／ｚ  ６１１（Ｍ+）。［α］D25  ＋２２９．８°（ｃ  １．１０，トルエン）。
【００２８】
実施例２
（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−イソプロピル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｂ）の製造
トルエン（１０ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これをドライアイス−アセトン浴中で−７０℃未満に冷却した。三塩化燐（１７４μＬ；２．０ミリモル；１．０当量（２ｂに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．３３ｍＬ；２．４ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン８ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−イソプロピル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ｂ）（９１０ｍｇ；２．０ミリモル）を、温度が−５０℃未満であり続けるようにして滴加した。反応混合物をドライアイス−アセトン中で１時間撹拌し、次いで１時間かけて周囲温度まで加温し、周囲温度で２時間撹拌した。反応混合物を−７０℃未満に冷却し、ジエチルエーテル中フェニルマグネシウムブロミドの３．０Ｍ溶液（２．３３ｍＬ；７．０ミリモル；３．５当量）を、温度が−５０℃未満であり続けるようにして添加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。ｔｌｃ分析によると、２ｂは完全に消費されていた。ヘプタン（２５ｍＬ）を添加し、反応混合物をアセトン（０．７８ｍＬ；５当量）の添加によって急冷した。混合物を濾過し、沈殿を酢酸エチルで洗浄し、濾液をストリッピングした。残渣を熱酢酸エチル中に溶解させ、濾過し、ストリッピングして、粗製生成物０．９５ｇを生成した。この物質を、中性アルミナのパッドを通して濾過し、トリエチルアミンが５％添加された酢酸エチル：ヘプタン（１：９）で溶離させて、４ｂを０．８６ｇ（６７％）生成した。この物質を、熱酢酸エチルによる微細化、ヘプタンによる希釈及び周囲温度への冷却によって更に精製した。得られた沈澱を濾過し、ヘプタンで洗浄し、乾燥させて、４ｂを５６０ｍｇ（４４％）生成した。
【００２９】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．５〜７．０（ｍ，２０Ｈ）；４．８２８（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；４．２８９（ｍ，１Ｈ）；４．０１６（ｓ，５Ｈ）；３．９５（ｍ，１Ｈ）；３．７１８（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；３．６（ｍ、１Ｈ）；１．５６（ｍ，３Ｈ）；１．０８５（ｍ，３Ｈ）；０．８７６（ｍ，３Ｈ）。ＦＤＭＳ：ｍ／ｚ  ６３９．２（Ｍ+）。
【００３０】
実施例３
（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−ネオペンチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｃ）の製造
トルエン（１０ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これをドライアイス−アセトン浴中で−７０℃未満に冷却した。三塩化燐（１７４μＬ；２．０ミリモル；１．０当量（２ｃに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．３３ｍＬ；２．４ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン８ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−ネオペンチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ｃ）（９６７ｍｇ；２．０ミリモル）を、温度が−５０℃未満であり続けるようにして滴加した。反応混合物をドライアイス−アセトン中で１時間撹拌し、次いで１時間かけて周囲温度まで加温し、周囲温度で２時間撹拌した。反応混合物を−７０℃未満に冷却し、ジエチルエーテル中フェニルマグネシウムブロミドの３．０Ｍ溶液（２．３３ｍＬ；７．０ミリモル；３．５当量）を、温度が−５０℃未満であり続けるようにして添加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。ｔｌｃ分析によると、２ｃは完全に消費されていた。ヘプタン（２５ｍＬ）を添加し、反応混合物をアセトン（０．７８ｍＬ；５当量）の添加によって急冷した。混合物をセライトを通して濾過し、沈殿を酢酸エチルで洗浄し、濾液をストリッピングした。残渣を熱酢酸エチル中に溶解させ、濾過し、ストリッピングして、粗製生成物１．５７ｇを生成した。この物質を、フラッシュシリカゲルのパッドを通して濾過し、トリエチルアミンが５％添加された酢酸エチル：ヘプタン（１：９）で溶離させて、０．７４ｇを得た。この物質を、熱酢酸エチル中に溶解し、ヘプタンで希釈し、４℃に一晩冷却した。得られた結晶を濾過し、ヘプタンで洗浄し、乾燥させて、４ｃを１７０ｍｇ（１３％）生成した。
【００３１】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．７０（ｍ，２Ｈ）；７．５６２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８７Ｈｚ）；７．４５〜７．１（ｍ，１４Ｈ）；６．７５（ｍ，２Ｈ）；４．８４０（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；４．６（ｍ，１Ｈ）；４．２１５（ｍ，１Ｈ）；４．１７７（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；３．８３７（ｓ，５Ｈ）；２．３８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１４．５６Ｈｚ）；２．２４２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．４０，１４．５６Ｈｚ）；２．０７４（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５９Ｈｚ）；０．３１２（ｓ，９Ｈ）。ＦＤＭＳ：ｍ／ｚ  ６６７．１７（Ｍ+）。
【００３２】
実施例４
（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｄ）の製造
トルエン（５ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これを氷浴中で＜５℃に冷却した。三塩化燐（２４０μＬ；２．７５ミリモル；１．０当量（２ｄに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．４６ｍＬ；３．３ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン８ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ｄ）（１．２９ｇ；２．７５ミリモル）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして滴加し、トルエン２ｍＬで洗浄した。反応混合物を２４時間５０℃に加熱し、次いで＜５℃に冷却し、ジエチルエーテル中フェニルマグネシウムブロミドの３．０Ｍ溶液（３．２０ｍＬ；９．６ミリモル；３．５当量）を、温度が１５℃未満であり続けるようにして添加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。混合物を氷水中で冷却し、ヘプタン（２０ｍＬ）を添加した。炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（１０ｍＬ）を、温度が１０℃未満であり続けるような速度で添加した。層を分離させ、水溶液を濾過して不溶性物質を除去し、酢酸エチルで２回抽出した。合した有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。粗製生成物を、フラッシュシリカゲルのパッドを通して濾過し、トリエチルアミンが５％添加された酢酸エチル：ヘプタン（１：９）で溶離させて、４ｄを０．８８ｇ（４９％）生成した。
【００３３】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．７〜７．１（ｍ，２０Ｈ）；４．９６２（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；４．５５〜４．４（ｍ，１Ｈ）；４．２３０（ｍ，１Ｈ）；３．８９７（ｍ，１Ｈ）；３．８６７（ｓ，５Ｈ）；２．２２２（ｂｒ  ｓ，３Ｈ）；０．９６２（ｂｒ  ｓ，９Ｈ）。ＦＤＭＳ：ｍ／ｚ  ６５３．７７（Ｍ+）。
【００３４】
実施例５
（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−フェニル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｅ）の製造
トルエン（５ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これを氷浴中で＜５℃に冷却した。三塩化燐（２００μＬ；２．２９ミリモル；１．０当量（２ｅに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．３８ｍＬ；２．７５ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン８ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−フェニル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ｅ）（１．１２ｇ；２．２９ミリモル）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして滴加し、トルエン２ｍＬで洗浄した。反応混合物を２４時間、周囲温度に加熱し、次いで＜５℃に冷却し、ジエチルエーテル中フェニルマグネシウムブロミドの３．０Ｍ溶液（２．７０ｍＬ；８．０ミリモル；３．５当量）を、温度が１５℃未満であり続けるようにして添加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。混合物を氷水中で冷却し、ヘプタン（２０ｍＬ）を添加した。炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（１０ｍＬ）を、温度が１０℃未満であり続けるような速度で添加した。層を分離させ、水溶液を濾過して不溶性物質を除去し、酢酸エチルで２回抽出した。合した有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮して、粗製生成物を１．５６ｇ得た。この物質を、フラッシュシリカゲルのパッドを通して濾過し、トリエチルアミンが５％添加された酢酸エチル：ヘプタン（１：９）で溶離させて、４ｅを１．１９ｇ（７７％）生成した。
【００３５】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．７〜７．０（ｍ，２０Ｈ）；６．７４（ｍ，３Ｈ）；６．４７（ｍ，２Ｈ）；５．３５（ｍ，１Ｈ）；４．５７１（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；４．３５８（ｍ，１Ｈ）；４．１１５（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；３．８６５（ｓ，５Ｈ）；１．９９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８７Ｈｚ）。ＦＤＭＳ：ｍ／ｚ  ６７３．７７（Ｍ+）。
【００３６】
実施例６
（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−ベンジル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｆ）の製造
トルエン（５ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これを氷浴中で＜５℃に冷却した。三塩化燐（２３４μＬ；２．６８ミリモル；１．０当量（２ｆに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．４５ｍＬ；３．２２ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン１０ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−ベンジル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ｆ）（１．３５ｇ；２．６８ミリモル）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして滴加し、トルエン２ｍＬで洗浄した。反応混合物を４５分間、＜５℃において撹拌し、周囲温度に２時間加温し、次いで＜５℃に冷却し、ジエチルエーテル中フェニルマグネシウムブロミドの３．０Ｍ溶液（３．１５ｍＬ；９．４ミリモル；３．５当量）を、温度が１５℃未満であり続けるようにして添加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。混合物を氷水中で冷却し、ヘプタン（２０ｍＬ）を添加した。炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（１０ｍＬ）を、温度が１０℃未満であり続けるような速度で添加した。層を分離させ、水溶液を濾過して不溶性物質を除去し、酢酸エチルで２回抽出した。合した有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、粗製生成物を中性アルミナのパッドを通して濾過し、トリエチルアミンが５％添加された酢酸エチル：ヘプタン（１：９）で溶離させて、１．１８ｇ（６４％）の４ｆのセンターカットを生成した。
【００３７】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．６０〜７．５８（ｍ，２Ｈ）；７．５〜７．１（ｍ，１９Ｈ）；６．９４１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５９Ｈｚ）；６．７４（ｍ，２Ｈ）；４．８２６（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；４．３８６（ｍ，１Ｈ）；４．３５（ｍ，１Ｈ）；４．１８５（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；３．７５２（ｓ，５Ｈ）；３．６９７（ｓ，２Ｈ）；１．８０４（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）。
【００３８】
実施例７
（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−［（Ｓ）−１−フェニルエチル］−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｇ）の製造
トルエン（５ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これを氷浴中で＜５℃に冷却した。三塩化燐（１３１μＬ；１．５０ミリモル；１．０当量（２ｇに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．２５ｍＬ；１．８０ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン８ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−［（Ｓ）−１−フェニルエチル］−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ｇ）（７７６ｍｇ；１．５ミリモル）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして滴加し、トルエン２ｍＬで洗浄した。反応混合物を１時間、周囲温度に加温し、周囲温度で６時間撹拌し、次いで＜５℃に冷却し、ジエチルエーテル中フェニルマグネシウムブロミドの３．０Ｍ溶液（１．７５ｍＬ；５．２５ミリモル；３．５当量）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして添加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。混合物を氷水中で冷却し、ヘプタン（１５ｍＬ）を添加した。炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（１０ｍＬ）を、温度が１０℃未満であり続けるような速度で添加した。層を分離させ、水溶液を濾過して不溶性物質を除去し、酢酸エチルで抽出した。合した有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮して、１．１７ｇの粗製生成物を生成した。この物質を中性アルミナのパッドを通して濾過し、酢酸エチル：トリエチルアミン：ヘプタン（５：５：９０）で溶離させて、４ｇを７８９ｍｇ（７５％）生成した。
【００３９】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．６〜７．０（ｍ，２５Ｈ）；４．６９（ｍ，２Ｈ）；４．２１６（ｍ，１Ｈ）；４．１５（ｍ，１Ｈ）；４．０３１（ｓ，５Ｈ）；１．４９３（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５９Ｈｚ）；１．４５（ｍ，３Ｈ）。
【００４０】
実施例８
（Ｒ）−Ｎ−ジフェニルホスフィノ−Ｎ−［（Ｒ）−１−フェニルエチル］−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｈ）の製造
トルエン（１０ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これを氷浴中で＜５℃に冷却した。三塩化燐（２１８μＬ；２．５０ミリモル；１．０当量（２ｈに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．４２ｍＬ；３．０ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン８ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−［（Ｒ）−１−フェニルエチル］−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ｈ）（１．２９ｇ；２．５０ミリモル）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして滴加し、トルエン２ｍＬで洗浄した。反応混合物を１時間、周囲温度に加温し、周囲温度で２７時間撹拌し、次いで＜５℃に冷却し、ジエチルエーテル中フェニルマグネシウムブロミドの３．０Ｍ溶液（２．９０ｍＬ；８．７３ミリモル；３．５当量）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして添加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。混合物を氷水中で冷却し、ヘプタン（２０ｍＬ）を添加した。炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（１０ｍＬ）を、温度が１０℃未満であり続けるような速度で添加した。混合物を濾過して不溶性物質を除去し、層を分離させ、水層を酢酸エチルで抽出した。合した有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮して、２．１１ｇの粗製生成物を生成した。この物質を中性アルミナのパッドを通して濾過し、酢酸エチル：トリエチルアミン：ヘプタン（５：５：９０）で溶離させて、４ｈを１．６０ｇ生成した。この物質を、還流ｔｅｒｔ−ブタノール１６ｍＬ中に溶解させ、周囲温度に冷却した。この時点で、固体が確認された。水（１６ｍＬ）を添加して、はるかに多量の固体を生成した。この混合物を３０分間放置し、濾過し、水洗した。得られた固体を窒素スウィープしながら真空下で乾燥させて、４ｈを１．４６ｇ（８３％）生成した。
【００４１】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．６〜７．０（ｍ，２３Ｈ）；６．９１５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）；４．９３（ｍ，１Ｈ）；４．３４７（ｓ，１Ｈ）；４．１１６（ｓ，５Ｈ）；４．０６４（ｍ，１Ｈ）；３．８１２（ｍ（５），１Ｈ，Ｊ＝５．７７Ｈｚ）；３．４２６（ｓ，１Ｈ）；１．６８５（ｍ，３Ｈ）；１．３７８（ｍ，３Ｈ）。
【００４２】
実施例９
（Ｒ）−Ｎ−［ビス（４−メトキシフェニル）ホスフィノ］−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｉ）の製造
トルエン（１０ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これを氷浴中で＜５℃に冷却した。三塩化燐（１７４μＬ；２．０ミリモル；１．０当量（２ａに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．３３ｍＬ；２．４ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン８ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ａ）（８５５ｍｇ；２．０ミリモル）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして滴加し、トルエン２ｍＬで洗浄した。反応混合物を２時間、周囲温度に加温し、次いで＜５℃に冷却し、ＴＨＦ中４−メトキシフェニルマグネシウムブロミドの０．５Ｍ溶液（１４ｍＬ；７．０ミリモル；３．５当量）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして約１０分かけて添加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。ｔｌｃ分析によると、２ａは完全に消費されていた。混合物を氷水中で冷却し、ヘプタン（２０ｍＬ）を添加した。炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（１５ｍＬ）を、温度が１０℃未満であり続けるような速度で添加した。層を分離させ、水溶液を濾過して不溶性物質を除去し、それを酢酸エチルで２回抽出した。合した有機抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮して、１．５６ｇの粗製生成物を生成した。この物質を中性アルミナのパッドを通して濾過し、トリエチルアミンが５％添加された酢酸エチル：ヘプタンの１：９〜１：４の勾配で溶離させて、２ｆを０．１７ｇ及び不純物質を１．１０ｇ生成した。後者を、還流ｔｅｒｔ−ブタノール５ｍＬ中に溶解させ、周囲温度に冷却した。得られた沈澱を濾過によって採取し、ｔｅｒｔ−ブタノールで洗浄し、乾燥させて、４ｉを０．８１ｇ（総収率７３％）生成した。
【００４３】
ＦＤＭＳ：ｍ／ｚ  ６７１．０３（Ｍ+）。
【００４４】
実施例１０
（Ｒ）−Ｎ−［ビス（３，４−ジフルオロフェニル）ホスフィノ］−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｊ）の製造
トルエン（１０ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これを氷浴中で＜５℃に冷却した。三塩化燐（１７４μＬ；２．０ミリモル；１．０当量（２ａに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．３３ｍＬ；２．４ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン８ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ａ）（８５５ｍｇ；２．０ミリモル）を、温度が５℃未満であり続けるようにして滴加し、トルエン２ｍＬで洗浄した。反応混合物を３０分間、５℃未満で撹拌し、周囲温度に１時間加温し、次いで＜５℃に冷却し、ＴＨＦ中３，４−ジフルオロフェニルマグネシウムブロミドの０．５Ｍ溶液（１４ｍＬ；７．０ミリモル；３．５当量）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして約１０分かけて添加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。ｔｌｃ分析によると、２ａは完全に消費されていた。混合物を氷水中で冷却し、ヘプタン（２０ｍＬ）を添加した。炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（１５ｍＬ）を、温度が１０℃未満であり続けるような速度で添加した。層を分離させ、水溶液を濾過して不溶性物質を除去し、それを酢酸エチルで２回抽出した。合した有機抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮して、１．７９ｇの粗製生成物を生成した。この物質を中性アルミナのパッドを通して濾過し、トリエチルアミンが５％添加された酢酸エチル：ヘプタン（１：９）で溶離させて、４ｊを１．４０ｇ生成した。この物質を還流ｔｅｒｔ−ブタノール７．５ｍＬ中に溶解させ、周囲温度に冷却し、水７．５ｍＬで希釈した。次いで、この混合物を４℃に６時間冷却し、得られた沈澱を濾過によって採取し、水洗し、乾燥させて、含有率が約８６％の４ｊを１．３３ｇ生成した（収率８４％）。残りはｔｅｒｔ−ブタノールであった。
【００４５】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．６５（ｍ，３Ｈ）；７．５〜７．０（ｍ，１０Ｈ）；６．７〜６．５（ｍ，３Ｈ）；４．９８（ｍ，１Ｈ）；４．５１７（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；４．４３２（ｍ，１Ｈ）；４．１６８（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；３．７９７（ｓ，５Ｈ）；２．１６３（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝３．５７Ｈｚ）；１．４９９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８７Ｈｚ）。ＦＤＭＳ：ｍ／ｚ  ６８３．０３（Ｍ+）。
【００４６】
実施例１１
（Ｒ）−Ｎ−［ビス（３，４−ジクロロフェニル）ホスフィノ］−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｋ）の製造
トルエン（１０ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これを氷浴中で＜５℃に冷却した。三塩化燐（１７４μＬ；２．０ミリモル；１．０当量（２ａに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．３３ｍＬ；２．４ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン８ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ａ）（８５５ｍｇ；２．０ミリモル）を、温度が５℃未満であり続けるようにして滴加し、トルエン２ｍＬで洗浄した。反応混合物を３０分間、５℃未満で撹拌し、周囲温度に１時間加温し、次いで＜５℃に冷却し、ＴＨＦ中３，４−ジクロロフェニルマグネシウムブロミドの０．５Ｍ溶液（１４ｍＬ；７．０ミリモル；３．５当量）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして約１０分かけて添加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。ｔｌｃ分析によると、２ａは完全に消費されていた。混合物を氷水中で冷却し、ヘプタン（２０ｍＬ）を添加した。炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（１５ｍＬ）を、温度が１０℃未満であり続けるような速度で添加した。層を分離させ、水溶液を濾過して不溶性物質を除去し、それを酢酸エチルで２回抽出した。合した有機抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮して、２．１６ｇの粗製生成物を生成した。この物質を中性アルミナのパッドを通して濾過し、トリエチルアミンが５％添加された酢酸エチル：ヘプタン（１：９）で溶離させて、４ｋを１．４５ｇ（９７％）生成した。
【００４７】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．７〜６．６（ｍ，１６Ｈ）；４．９３（ｍ，１Ｈ）；４．５３８（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；４．４４３（ｍ，１Ｈ）；４．１７３（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；３．７９５（ｓ，５Ｈ）；２．１７８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝３．３０Ｈｚ）；１．５４３（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８７Ｈｚ）。
【００４８】
実施例１２
（Ｒ）−Ｎ−［ビス（３，５−ジフルオロフェニル）ホスフィノ］−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｍ）の製造
トルエン（１０ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これを氷浴中で＜５℃に冷却した。三塩化燐（１７４μＬ；２．０ミリモル；１．０当量（２ａに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．３３ｍＬ；２．４ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン８ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ａ）（８５５ｍｇ；２．０ミリモル）を、温度が５℃未満であり続けるようにして滴加し、トルエン２ｍＬで洗浄した。反応混合物を５℃未満で３０分間撹拌し、周囲温度に３時間加温し、次いで＜５℃に冷却し、ＴＨＦ中３，５−ジフルオロフェニルマグネシウムブロミドの０．５Ｍ溶液（１４ｍＬ；７．０ミリモル；３．５当量）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして約１０分かけて添加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。ｔｌｃ分析によると、２ａは完全に消費されていた。混合物を氷水中で冷却し、ヘプタン（２０ｍＬ）を添加した。炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（１５ｍＬ）を、温度が１０℃未満であり続けるような速度で添加した。層を分離させ、水溶液を濾過して不溶性物質を除去し、それを酢酸エチルで２回抽出した。合した有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮して、１．７０ｇの粗製生成物を生成した。この物質を中性アルミナのパッドを通して濾過し、トリエチルアミンが５％添加された酢酸エチル：ヘプタン（１：９）で溶離させて、４ｍを１．１０ｇ（８０％）生成した。
【００４９】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．６３（ｍ，２Ｈ）；７．３８５（ｂｒ  ｓ，４Ｈ）；７．２〜７．０（ｍ，６Ｈ）；６．７５〜６．６（ｍ，２Ｈ）；６．６〜６．４（ｍ，２Ｈ）；４．８８（ｍ，１Ｈ）；４．５６６（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；４．４４５（ｍ，１Ｈ）；４．１７０（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；３．８０６（ｓ，５Ｈ）；２．２４１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝３．３０Ｈｚ）；１．５９０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８７Ｈｚ）。
【００５０】
実施例１３
（Ｒ）−Ｎ−［ビス（３，５−ジクロロフェニル）ホスフィノ］−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｎ）の製造
トルエン（１０ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これを氷浴中で＜５℃に冷却した。三塩化燐（１７４μＬ；２．０ミリモル；１．０当量（２ａに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．３３ｍＬ；２．４ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン８ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ａ）（８５５ｍｇ；２．０ミリモル）を、温度が５℃未満であり続けるようにして滴加し、トルエン２ｍＬで洗浄した。反応混合物を５℃未満で３０分間撹拌し、周囲温度に３時間加温し、次いで＜５℃に冷却し、ＴＨＦ中３，５−ジクロロフェニルマグネシウムブロミドの０．５Ｍ溶液（１４ｍＬ；７．０ミリモル；３．５当量）を、温度が１０℃未満であり続けるようにして約１５分かけて添加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。ｔｌｃ分析によると、２ａは完全に消費されていた。混合物を氷水中で冷却し、ヘプタン（２０ｍＬ）を添加した。炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（１５ｍＬ）を、温度が１０℃未満であり続けるような速度で添加した。層を分離させ、水溶液を濾過して不溶性物質を除去し、それを酢酸エチルで２回抽出した。合した有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮して、１．９８ｇの粗製生成物を生成した。この物質を中性アルミナのパッドを通して濾過し、トリエチルアミンが５％添加された酢酸エチル：ヘプタン（１：９）で溶離させて、４ｎを１．０８ｇ（９７％）生成した。この物質を、還流ｔｅｒｔ−ブタノール１０ｍＬで微細化し、周囲温度に冷却し、水１０ｍＬで希釈した。得られたゴム状固体を採取し、水洗し、窒素スウィープをしながら、真空下で乾燥させて、４ｎを０．８７ｇ（５８％）生成した。
【００５１】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．７〜６．９（ｍ，１６Ｈ）；４．８０（ｍ，１Ｈ）；４．５９７（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；４．４６２（ｍ，１Ｈ）；４．１６４（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；３．８００（ｓ，５Ｈ）；２．２６２（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝３．０２Ｈｚ）；１．６５５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８７Ｈｚ）。
【００５２】
実施例１４
（Ｒ）−Ｎ−［ビス（４−フルオロフェニル）ホスフィノ］−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｏ）の製造
トルエン（１０ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これを氷浴中で＜５℃に冷却した。三塩化燐（０．２６ｍＬ；３．０ミリモル；１．０当量（２ａに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．５０ｍＬ；３．６ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン１０ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ａ）（１．２８ｇ；３．０ミリモル）を、温度が５℃未満であり続けるようにして滴加し、トルエン２ｍＬで洗浄した。反応混合物を５℃未満で３０分間撹拌し、周囲温度に２時間加温し、次いで＜５℃に冷却し、ジエチルエーテル中４−フルオロフェニルマグネシウムブロミドの２．０Ｍ溶液（５．２５ｍＬ；１０．５ミリモル；３．５当量）を、温度が１０℃未満であり続けるようにしてゆっくりと滴加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。ｔｌｃ分析によると、２ａは完全に消費されていた。混合物を氷水中で冷却し、ヘプタン（２０ｍＬ）を添加した。炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（１５ｍＬ）を、温度が１０℃未満であり続けるような速度で添加した。混合物を濾過して不溶物質を除去し、層を分離させた。水溶液を酢酸エチルで１回抽出した。合した有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、粗製生成物を中性アルミナのパッドを通して濾過し、トリエチルアミンが５％添加された酢酸エチル：ヘプタン（１：９）で溶離させて、４ｏを１．５８ｇ（８１％）生成した。
【００５３】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．６４（ｍ，２Ｈ）；７．４〜７．１５（ｍ，８Ｈ）；７．０８０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５９Ｈｚ）；６．９６３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ）；６．７２（ｍ，２Ｈ）；６．５２１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．５２Ｈｚ）；５．０１（ｍ，１Ｈ）；４．４８５（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；４．４０９（ｍ，１Ｈ）；４．１５７（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；３．７９５（ｓ，５Ｈ）；２．１１０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝３．５７Ｈｚ）；１．４３６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８７Ｈｚ）。
【００５４】
実施例１５
（Ｒ）−Ｎ−［ビス（３−フルオロフェニル）ホスフィノ］−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（４ｐ）の製造
トルエン（１０ｍＬ）を１００ｍＬの３つ口フラスコに加え、これを氷浴中で＜５℃に冷却した。三塩化燐（０．２６ｍＬ；３．０ミリモル；１．０当量（２ａに基づく））を添加し、次いでトリエチルアミン（０．５０ｍＬ；３．６ミリモル；１．２当量）を添加した。トルエン１０ｍＬ中に溶解した（Ｒ）−Ｎ−メチル−１−［（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン（２ａ）（１．２８ｇ；３．０ミリモル）を、温度が５℃未満であり続けるようにして滴加し、トルエン２ｍＬで洗浄した。反応混合物を５℃未満で３０分間撹拌し、周囲温度に２時間加温し、次いで＜５℃に冷却し、ＴＨＦル中３−フルオロフェニルマグネシウムブロミドの１．０Ｍ溶液（１０．５ｍＬ；１０．５ミリモル；３．５当量）を、温度が１０℃未満であり続けるようにしてゆっくりと滴加した。反応混合物を一晩、周囲温度に加温した。ｔｌｃ分析によると、２ａは完全に消費されていた。混合物を氷水中で冷却し、ヘプタン（２０ｍＬ）を添加した。炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（１５ｍＬ）を、温度が１０℃未満であり続けるような速度で添加した。混合物を濾過して不溶物質を除去し、層を分離させた。水溶液を酢酸エチルで１回抽出した。合した有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮して、粗製生成物２．２８ｇを生成した。この物質を中性アルミナのパッドを通して濾過し、トリエチルアミンが５％添加された酢酸エチル：ヘプタン（１：９）で溶離させて、４ｐを１．７１ｇ（８８％）生成した。この物質を還流ｔｅｒｔ−ブタノール１７ｍＬ中に溶解させ、周囲温度に冷却して、固体を生成した。水（１７ｍＬ）を添加して、追加の固体を多量に得た。混合物を１時間放置し、固体を採取し、水洗し、窒素スウィープしながら真空下で乾燥させて、４ｐを１．６２ｇ（８３％）生成した。
【００５５】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．６４（ｍ，２Ｈ）；７．３８６（ｂｒ  ｓ，４Ｈ）；７．２５〜６．９（ｍ，８Ｈ）；６．８２〜６．７（ｍ，２Ｈ）；６．６５〜６．５（ｍ，２Ｈ）；４．９５（ｍ，１Ｈ）；４．５３４（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；４．４２３（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；４．１５６（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）；３．８０２（ｓ，５Ｈ）；２．１８７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝３．５７Ｈｚ）；１．５２１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８７Ｈｚ）。
【００５６】
実施例１６
配位子４ａのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルの製造
メチル２−アセトアミドシンナメート（１１０ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ，３．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１からの配位子４ａ（３．７ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水ＴＨＦ（２．０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでメチル２−アセトアミドシンナメートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ポンド／平方インチ（ゲージ）−ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌して、キラルＧＣ分析によって測定した場合に９９．２％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルへの１００％の転化を得た。
【００５７】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，４００ＭＨｚ）δ７．２８〜７．１６（ｍ，５Ｈ），４．６４〜４．６１（ｍ，１Ｈ），３．６５（ｓ，３Ｈ），３．１３〜３．０８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．５，１３．９Ｈｚ），２．９４〜２．８８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９，１３．９Ｈｚ），１．８７（ｓ，３Ｈ）。キラルＧＣ条件：  Ｃｈｉｒａｓｉｌ  Ｌ−Ｖａｌｉｎｅ［Ｖａｒｉａｎ］２５ｍ×内径０．２５ｍｍ，フィルム厚０．１２μｍ，１６０℃で９分間，１６０〜１８５℃  ７０℃／分，１８５℃で５分間，Ｈｅ  １５ｐｓｉｇ。ｔR［（Ｒ）−Ｎ−アセチルフェニルアラニンメチルエステル］７．７７分，ｔR［（Ｓ）−Ｎ−アセチルフェニルアラニンメチルエステル］８．２９分，ｔR（メチル２−アセトアミドシンナメート）１３．２４分。
【００５８】
実施例１７
配位子４ａのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンの製造
２−アセトアミド桂皮酸（１０２ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（３．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１からの配位子４ａ（３．７ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（２．０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで２−アセトアミド桂皮酸の溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８バール（ゲージ）（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；６０μＬ；０．１２ミリモル；５当量）の作用によってＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、９９．４％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンへの１００％の転化を示した。
【００５９】
実施例１８
配位子４ａのロジウム錯体を用いた乳酸メチルの製造
ピルビン酸メチル（５１ｍｇ；０．５０ミリモル）を反応器中で無水ＴＨＦ（３．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１からの配位子４ａ（３．７ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水ＴＨＦ（２．０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで２−アセトアミド桂皮酸の溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８バール（ゲージ）（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を８時間撹拌して、キラルＧＣ分析によって測定した場合に８８．２％ｅｅの（Ｒ）−乳酸メチルへの９０．２％の転化を得た。乳酸メチルの分析に基づく性質は、標品と全く一致していた。
【００６０】
キラルＧＣ［Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ（Ｊ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）３０ｍ×内径０．２５ｍｍ，フィルム厚０．２５μｍ，７５℃等温，Ｈｅ  １５ｐｓｉｇ］：ｔR［（Ｒ）−乳酸メチル］７．７５分，ｔR［（Ｓ）−乳酸メチル］９．１６分，ｔR（ピルビン酸メチル）５．１６分。
【００６１】
実施例１９
配位子４ｂのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルの製造
メチル２−アセトアミドシンナメート（１１０ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ，５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例２からの配位子４ｂ（３．８ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水ＴＨＦ（０．５ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでメチル２−アセトアミドシンナメートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌して、キラルＧＣ分析によって測定した場合に９１．８％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルへの９１．１％の転化を得た。
【００６２】
実施例２０
配位子４ｂのロジウム錯体を用いたＲ−２−メチルコハク酸の製造
イタコン酸（６５ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例２からの配位子４ｂ（３．８ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでイタコン酸の溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；１２０μＬ；０．２４ミリモル；１０当量）の作用によってジメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、９０．９％ｅｅのＲ−２−メチルコハク酸への１００％の転化を示した。
【００６３】
２−メチルコハク酸ジメチルに関するキラルＧＣ［Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ，Ｊ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，３０ｍ×内径０．２５ｍｍ，フィルム厚０．２５μｍ，９０℃等温，Ｈｅ  １５ｐｓｉｇ］：ｔR［（Ｒ）−２−メチルコハク酸ジメチル］１７．３６分，ｔR［（Ｓ）−２−メチルコハク酸ジメチル］１７．８２分，ｔR（イタコン酸ジメチル）２３．１６分。
【００６４】
実施例２１
配位子４ｃのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−アラニンの製造
２−アセトアミドアクリレート（６５ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水ＴＨＦ（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例３からの配位子４ｃ（４．０ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水ＴＨＦ（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで２−アセトアミドアクリレートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；６０μＬ；０．１２ミリモル；５当量）の作用によってメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、９３．６％ｅｅのＮ−アセチルＬ−アラニンへの１４．４％の転化を示した。
【００６５】
キラルＧＣ条件：Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ［Ｊ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ］３０ｍ×内径０．２５ｍｍ，フィルム厚０．２５μｍ，４０〜１００℃  ７０℃／分，１００℃で１５分，１００〜１７０℃  １５℃／分，１７０℃で７分，Ｈｅ  ６ｐｓｉｇ  ６分，Ｈｅ  ６〜２０ｐｓｉｇ  ８０ｐｓｉｇ／分，２０ｐｓｉｇ  ２２分。ｔR［（Ｒ）−Ｎ−アセチルアラニンメチルエステル］１９．３６分，ｔR［（Ｓ）−Ｎ−アセチルアラニンメチルエステル］１９．１２分，ｔR（２−アセトアミドアクリル酸メチル）１７．９１分。
【００６６】
実施例２２
配位子４ｄのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−アラニンの製造
２−アセトアミドアクリレート（６５ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水ＴＨＦ（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例４からの配位子４ｄ（３．９ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水ＴＨＦ（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで２−アセトアミドアクリレートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；６０μＬ；０．１２ミリモル；５当量）の作用によってメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、９３．４％ｅｅのＮ−アセチルＬ−アラニンへの９２．６％の転化を示した。
【００６７】
実施例２３
配位子４ｅのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンの製造
２−アセトアミド桂皮酸（１０２ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例５からの配位子４ｅ（４．０ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで２−アセトアミド桂皮酸の溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８バール（ゲージ）（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；６０μＬ；０．１２ミリモル；５当量）の作用によってＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、９４．０％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンへの９８．８％の転化を示した。
【００６８】
実施例２４
配位子４ｆのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンの製造
２−アセトアミド桂皮酸（１０２ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例６からの配位子４ｆ（４．１ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで２−アセトアミド桂皮酸の溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８バール（ゲージ）（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；６０μＬ；０．１２ミリモル；５当量）の作用によってＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、９３．４％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンへの９８．８％の転化を示した。
【００６９】
実施例２５
配位子４ｇのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−アラニンメチルエステルの製造
２−アセトアミドアクリル酸メチル（７２ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例７からの配位子４ｇ（４．２ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで２−アセトアミドアクリル酸メチルの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌し、反応混合物をキラルＧＣによって分析したところ、９６．２％ｅｅのＮ−アセチルＬ−アラニンメチルエステルへの９９．４％の転化を示した。
【００７０】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，６００ＭＨｚ）δ４．４２〜４．３８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３，１４．７Ｈｚ）；３．７２（ｓ，３Ｈ）；１．９８（ｓ，３Ｈ）；１．３８〜１．３７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）。キラルＧＣ条件：Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ［Ｊ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ］３０ｍ×内径０．２５ｍｍ，フィルム厚０．２５μｍ，４０〜１００℃  ７０℃／分，１００℃で１５分，１００〜１７０℃  １５℃／分，１７０℃で７分，Ｈｅ  ６ｐｓｉｇ  ６分，Ｈｅ  ６〜２０ｐｓｉｇ  ８０ｐｓｉｇ／分，２０ｐｓｉｇ  ２２分。ｔR［（Ｒ）−Ｎ−アセチルアラニンメチルエステル］１９．３６分，ｔR［（Ｓ）−Ｎ−アセチルアラニンメチルエステル］１９．１２分，ｔR（２−アセトアミドアクリル酸メチル）１７．９１分。
【００７１】
実施例２６
配位子４ｈのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンの製造
２−アセトアミド桂皮酸（１０２ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例８からの配位子４ｈ（４．２ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで２−アセトアミド桂皮酸の溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８バール（ゲージ）（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；６０μＬ；０．１２ミリモル；５当量）の作用によってＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、８６．０％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンへの９８．９％の転化を示した。
【００７２】
実施例２７
配位子４ｉのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルの製造
メチル２−アセトアミドシンナメート（１１０ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例９からの配位子４ｉ（４．０ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでメチル２−アセトアミドシンナメートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８バール（ゲージ）（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌して、キラルＧＣ分析によって測定した場合に９７．８％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルへの１００％の転化を得た。
【００７３】
実施例２８
配位子４ｉのロジウム錯体を用いたＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルＬ−シクロプロピルアラニンベンジルエステルの製造
ベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレート（１５９ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例９からの配位子４ｉ（４．０ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌して、キラルＧＣ分析によって測定した場合に９８．１％ｅｅのアミノ酸誘導体ベンジル（Ｓ）−２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルプロピオネートへの１００％の転化を得た。
【００７４】
1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，３００ＭＨｚ）δ７．３７〜７．２６（ｍ，５Ｈ），６．０７〜６．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），５．９２（ｂｓ，１Ｈ），５．１８（ｓ，２Ｈ），１．７６〜１．６６（ｍ，１Ｈ），１．４５（ｓ，９Ｈ），１．０３〜０．９７（ｓ，２Ｈ），０．６６〜０．６３（ｍ，２Ｈ）。キラルＧＣ［Ｃｈｉｒａｓｉｌ  Ｌ−Ｖａｌｉｎｅ（Ｖａｒｉａｎ）２５ｍ×内径０．２５ｍｍ，フィルム厚０．１２μｍ，１７５℃  等温，Ｈｅ  １５ｐｓｉｇ］：ｔR［ベンジル（Ｒ）−２−ｔｅｒｔ−ブトキシアミノカルボニル−３−シクロプロピルプロピオネート］１４．５９分，ｔR［ベンジル（Ｓ）−２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルプロピオネート］１５．２１分，ｔR（ベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレート）２６．３４分。
【００７５】
実施例２９
配位子４ｉのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンの製造
２−アセトアミド桂皮酸（１０２ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例９からの配位子４ｉ（４．０ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで２−アセトアミド桂皮酸の溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８バール（ゲージ）（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；６０μＬ；０．１２ミリモル；５当量）の作用によってＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、９８．３％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンへの９９．５％の転化を示した。
【００７６】
実施例３０
配位子４ｉのロジウム錯体を用いたＲ−２−メチルコハク酸の製造
イタコン酸（６５ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例９からの配位子４ｉ（４．０ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでイタコン酸の溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；１２０μＬ；０．２４ミリモル；１０当量）の作用によってジメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、９４．１％ｅｅの（Ｒ）−２−メチルコハク酸への１００％の転化を示した。
【００７７】
実施例３１
配位子４ｊのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルの製造
メチル２−アセトアミドシンナメート（１１０ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１０からの配位子４ｊ（４．１ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでメチル２−アセトアミドシンナメートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌して、キラルＧＣ分析によって測定した場合に９９．０％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルへの１００％の転化を得た。
【００７８】
実施例３２
配位子４ｊのロジウム錯体を用いたＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルＬ−シクロプロピルアラニンベンジルエステルの製造
ベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレート（１５９ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１０からの配位子４ｊ（４．１ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌して、キラルＧＣ分析によって測定した場合に９９．４％ｅｅのアミノ酸誘導体ベンジル（Ｓ）−２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルプロピオネートへの９９．６％の転化を得た。
【００７９】
実施例３３
配位子４ｊのロジウム錯体を用いたＲ−２−メチルコハク酸の製造
イタコン酸（６５ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１０からの配位子４ｊ（４．１ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでイタコン酸の溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８バール（ゲージ）（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；１２０μＬ；０．２４ミリモル；１０当量）の作用によってジメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、９８．４％ｅｅの（Ｒ）−２−メチルコハク酸への９９．９％の転化を示した。
【００８０】
実施例３４
配位子４ｋのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンの製造
２−アセトアミド桂皮酸（１０２ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１１からの配位子４ｋ（４．５ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで２−アセトアミド桂皮酸の溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８バール（ゲージ）（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；６０μＬ；０．１２ミリモル；５当量）の作用によってＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、９９．２％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンへの９９．６％の転化を示した。
【００８１】
実施例３５
配位子４ｋのロジウム錯体を用いたＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルＬ−シクロプロピルアラニンベンジルエステルの製造
ベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレート（１５９ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１１からの配位子４ｋ（４．５ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌して、キラルＧＣ分析によって測定した場合に９８．８％ｅｅのアミノ酸誘導体ベンジル（Ｓ）−２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルプロピオネートへの９９．９％の転化を得た。
【００８２】
実施例３６
配位子４ｍのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンの製造
２−アセトアミド桂皮酸（１０２ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１２からの配位子４ｍ（４．１ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで２−アセトアミド桂皮酸の溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８バール（ゲージ）（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；６０μＬ；０．１２ミリモル；５当量）の作用によってＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、９９．１％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンへの９９．５％の転化を示した。
【００８３】
実施例３７
配位子４ｍのロジウム錯体を用いたＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルＬ−シクロプロピルアラニンベンジルエステルの製造
ベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレート（１５９ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１２からの配位子４ｍ（４．１ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌して、キラルＧＣ分析によって測定した場合に９９．２％ｅｅのアミノ酸誘導体ベンジル（Ｓ）−２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルプロピオネートへの１００％の転化を得た。
【００８４】
実施例３８
配位子４ｎのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンの製造
２−アセトアミド桂皮酸（１０２ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１３からの配位子４ｎ（４．５ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで２−アセトアミド桂皮酸の溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８バール（ゲージ）（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；６０μＬ；０．１２ミリモル；５当量）の作用によってＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、９８．８％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンへの９９．６％の転化を示した。
【００８５】
実施例３９
配位子４ｎのロジウム錯体を用いたＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルＬ−シクロプロピルアラニンベンジルエステルの製造
ベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレート（１５９ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１３からの配位子４ｎ（４．５ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌して、キラルＧＣ分析によって測定した場合に９８．８％ｅｅのアミノ酸誘導体ベンジル（Ｓ）−２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルプロピオネートへの９９．５％の転化を得た。
【００８６】
実施例４０
配位子４ｏのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンの製造
２−アセトアミド桂皮酸（１０２ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１４からの配位子４ｏ（３．９ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで２−アセトアミド桂皮酸の溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。その時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；６０μＬ；０．１２ミリモル；５当量）の作用によってＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルをキラルＧＣによって分析したところ、９８．８％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンへの９９．５％の転化を示した。
【００８７】
実施例４１
配位子４ｏのロジウム錯体を用いたＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルＬ−シクロプロピルアラニンベンジルエステルの製造
ベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレート（１５９ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１４からの配位子４ｏ（３．９ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌して、キラルＧＣ分析によって測定した場合に９８．８％ｅｅのアミノ酸誘導体ベンジル（Ｓ）−２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルプロピオネートへの１００％の転化を得た。
【００８８】
実施例４２
配位子４ｐのロジウム錯体を用いたＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルの製造
メチル２−アセトアミドシンナメート（１１０ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１５からの配位子４ｐ（３．９ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでメチル２−アセトアミドシンナメートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８バール（ゲージ）（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌して、キラルＧＣ分析によって測定した場合に９８．８％ｅｅのＮ−アセチルＬ−フェニルアラニンメチルエステルへの１００％の転化を得た。
【００８９】
実施例４３
配位子４ｐのロジウム錯体を用いたＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルＬ−シクロプロピルアラニンベンジルエステルの製造
ベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレート（１５９ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解し、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例１５からの配位子４ｐ（３．９ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いでベンジル２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルアクリレートの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシし、水素０．６９〜１．３８ｂａｒｇ（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌して、キラルＧＣ分析によって測定した場合に９９．０％ｅｅのアミノ酸誘導体ベンジル（Ｓ）−２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−シクロプロピルプロピオネートへの１００％の転化を得た。
【国際調査報告】
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