(57)【要約】電極マイクロアレイ上で用いる電気化学脱保護溶液を開示する。さらに、その電気化学脱保護溶液を用いた電極アレイ上での電気化学合成方法を開示する。本発明の溶液及び方法は、電極のマイクロアレイ上でオリゴヌクレオチド、ペプチド、微小分子、又はポリマーを合成する際に、活性電極のみで脱保護が起きる隔離性を実質的に向上させながら、酸に対して不安定な保護基を除去するためのものである。本発明の方法は、電極アレイの少なくとも１個の電極に電圧又は電流を適用する工程を含むものである。その電極アレイは、電気化学脱保護溶液で覆われている。【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸を供給する還元可能な溶媒と、有機塩と、有機塩基とを含んでなる、電極マイクロアレイ上で用いる電気化学脱保護溶液。
【請求項２】
上記酸を供給する還元可能な溶媒が、メチレンクロライド、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロ−１，２−ジフルオロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，４−ジクロロベンゼン、１−ブタノール、１−ヘキセン、１−プロパノール、２−（２−ブトシキエトキシ）エチルアセテート、２−ブトキシエタノールアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−メトキシエタノール、２−メチルヘキサン、２−ニトロプロパン、アセトンアルコール、アセトン、アセトニトリル、アリルアルコール、ベンゼン、ベンゾトリフルオライド、ベンジルクロライド、ビフェニル、二硫化炭素、クロロベンゼン、クロロブロモエタン、シクロデカン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロノナン、シクロオクタン、シクロペンタン、ジアセトンアルコール、ジブロモメタン、ジクロロジフェニルトリクロロエタン、ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジエチルグリコール、ジメチルホルムアミド、ジプロピレングリコール、エタノール、エチルアセテート、エチルベンゼン、エチルエーテル、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチルベンゼン、エチレングリコール、ホルムアミド、フルフラール、フルフリルアルコール、ヘプタフルオロシクロペンタン、ヘプタフルオロプロピルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサン、イソアミルアルコール、イソブチルアセテート、イソブチルアルコール、イソブチルイソブチレート、イソメトキシノナフルオロブタン、イソ−メトキシノナフルオロブタン、イソホロン、イソプロピルアセテート、イソ−プロピルアルコール、メタノール、メトキシプロピルアセテート、メチルアミルケトン、メチルクロライド、メチルクロロホルム、メチルエチルケトン、メチルグリコールアセテートメチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、モノクロロトルエン、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−デカン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−メチルピロリドン、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−ペンタン、ｎ−プロピルアセテート、ｎ−プロピルアルコール、オルト−ジクロロベンゼン、パークロロエタン、プロピレングリコールジアセテート、プロピレンアルコール、ｔ−アミルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、テトラヒドロフラン、トルエン、トランス−１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、トリクロロメタン、トリエチレングリコール、ビニルクロライド、キシレン、そしてこれらの組合わせからなる群から選択される請求項１記載の電気化学脱保護溶液。
【請求項３】
上記酸を供給する還元可能な溶媒が、酸供給源と還元可能な溶媒とからなる請求項１記載の電気化学脱保護溶液。
【請求項４】
酸供給源の濃度が約０．１ｍＭ〜約２Ｍであり、酸供給源が、
2008538128.tif 000036
、チオフェノール、１，４−ブタンジチオール、１，３−プロパンジチオール、メチルチオフェン、
2008538128.tif 000037
、Ｒ１７−ＳＨ及びそれらの組み合わせから選択されたものである請求項３記載の電気化学脱保護溶液。
ここで、Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ１０，Ｒ１１，Ｒ１２，Ｒ１３は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、スルホアミノ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステル、
Ｒ１８は、
2008538128.tif 000038
であり、
Ｒ１７は、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、そしてハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒロドキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、ヒドロパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェノモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、スルホアミノ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアゾノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステル基からなる群から選択される。
【請求項５】
上記還元可能な溶媒が、メチレンクロライド、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，４−ジクロロベンゼン、１−ブタノール、１−ヘキセン、１−プロパノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアセテート、２−ブトキシエタノールアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−メトキシエタノール、２−メチルヘキサン、２−ニトロプロパン、アセトンアルコール、アセトン、アセトニトリル、アリルアルコール、ベンゼン、ベンゾトリフルオライド、ベンジルクロライド、ビフェニル、二硫化炭素、四塩化炭素、クロロベンゼン、クロロブロモメタン、シクロデカン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロノナン、シクロオクタン、シクロペンタン、ジアセトンアルコール、ジブロモメタン、ジクロロジフェニルトリクロロエタン、ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジプロピレングリコール、エタノール、酢酸エチル、エチルベンゼン、エチルエーテル、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチルベンゼン、エチレングリコール、ホルムアミド、フルフラール、フルフリルアルコール、ヘプタフルオロシクロペンタン、ヘプタフルオロプロピルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサン、イソアミルアルコール、酢酸イソブチル、イソブチルアルコール、イソブチルイソブチレート、イソメトキシノナフルオロブタン、イソメトキシノナフルオロブタン、イソホロン、酢酸イソプロピル、イソプロピルアルコール、メタノール、酢酸メトキシプロピル、メチルアミルケトン、メチルクロライド、メチルクロロホルム、メチルエチルケトン、メチルグリコールアセテートメチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、モノクロロトルエン、モノチオホスフェート、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−デカン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−メチルピロリドン、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−プロピルアセテート、ｎ−プロピルアルコール、オルト−ジクロロベンゼン、パークロロエタン、パークロロエチレン、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール、第３アミルアルコール、第３ブチルアルコール、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、トルエン、トランス−１，２−ジクロロエチレン、トルクロロエチレン、トリクロロフルオロメタン、トリエチレングリコール、塩化ビニル、キシレン、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択される請求項３記載の電気化学脱保護溶液。
【請求項６】
還元可能な溶媒が、有機溶媒と還元可能な薬剤とからなる請求項３記載の電気化学脱保護溶液。
【請求項７】
上記有機溶媒が、メチレンクロライド、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，４−ジクロロベンゼン、１−ブタノール、１−ヘキセン、１−プロパノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアセテート、２−ブトキシエタノールアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−メトキシエタノール、２−メチルヘキサン、２−ニトロプロパン、アセトンアルコール、アセトン、アセトニトリル、アリルアルコール、ベンゼン、ベンゾトリフルオライド、ベンジルクロライド、ビフェニル、二硫化炭素、四塩化炭素、クロロベンゼン、クロロブロモメタン、シクロデカン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロノナン、シクロオクタン、シクロペンタン、ジアセトンアルコール、ジブロモメタン、ジクロロジフェニルトリクロロエタン、ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジプロピレングリコール、エタノール、酢酸エチル、エチルベンゼン、エチルエーテル、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチルベンゼン、エチレングリコール、ホルムアミド、フルフラール、フルフリルアルコール、ヘプタフルオロシクロペンタン、ヘプタフルオロプロピルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサン、イソアミルアルコール、酢酸イソブチル、イソブチルアルコール、イソブチルイソブチレート、イソメトキシノナフルオロブタン、イソメトキシノナフルオロブタン、イソホロン、酢酸イソプロピル、イソプロピルアルコール、メタノール、酢酸メトキシプロピル、メチルアミルケトン、メチルクロライド、メチルクロロホルム、メチルエチルケトン、メチルグリコールアセテートメチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、モノクロロトルエン、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−デカン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−メチルピロリドン、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−プロピルアセテート、ｎ−プロピルアルコール、オルト−ジクロロベンゼン、パークロロエタン、パークロロエチレン、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール、第３アミルアルコール、第３ブチルアルコール、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、トルエン、トランス−１，２−ジクロロエチレン、トルクロロエチレン、トリクロロフルオロメタン、トリエチレングリコール、塩化ビニル、キシレン、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択される請求項６記載の電気化学脱保護溶液。
【請求項８】
上記還元可能な薬剤の濃度が約０．００１ｍＭ〜約２００ｍＭであり、その還元可能な薬剤が以下の化合物からなる群から選択される請求項６記載の電気化学脱保護溶液。
2008538128.tif 000039
ここで、Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０，Ｒ１１，Ｒ１２，Ｒ１３は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステルからなる群から選択される。
【請求項９】
上記還元可能な溶媒が、有機溶媒と、アルコールと、還元可能な薬剤とからなる請求項３記載の電気化学脱保護溶液。
【請求項１０】
上記有機溶媒が、メチレンクロライド、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，４−ジクロロベンゼン、１−ヘキセン、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアセテート、２−ブトキシエタノールアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−メトキシエタノール、２−メチルヘキサン、２−ニトロプロパン、アセトン、アセトニトリル、ベンゼン、ベンゾトリフルオライド、ベンジルクロライド、ビフェニル、二硫化炭素、四塩化炭素、クロロベンゼン、クロロブロモメタン、シクロデカン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロノナン、シクロオクタン、シクロペンタン、ジブロモメタン、ジクロロジフェニルトリクロロエタン、ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジプロピレングリコール、酢酸エチル、エチルベンゼン、エチルエーテル、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチルベンゼン、エチレングリコール、ホルムアミド、フルフラール、ヘプタフルオロシクロペンタン、ヘプタフルオロプロピルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサン、イソアミルアルコール、酢酸イソブチル、イソブチルイソブチレート、イソメトキシノナフルオロブタン、イソメトキシノナフルオロブタン、イソホロン、酢酸イソプロピル、酢酸メトキシプロピル、メチルアミルケトン、メチルクロライド、メチルクロロホルム、メチルエチルケトン、メチルグリコールアセテートメチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、モノクロロトルエン、モノチオホスフェート、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−デカン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−メチルピロリドン、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−プロピルアセテート、オルト−ジクロロベンゼン、パークロロエタン、パークロロエチレン、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール、第３アミルアルコール、第３ブチルアルコール、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、トルエン、トランス−１，２−ジクロロエチレン、トルクロロエチレン、トリクロロフルオロメタン、トリエチレングリコール、塩化ビニル、キシレン、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択される請求項９記載の電気化学脱保護溶液。
【請求項１１】
上記還元可能な薬剤の濃度が約０．００１ｍＭ〜約２００ｍＭであり、その還元可能な薬剤が以下の化合物からなる群から選択される請求項６記載の電気化学脱保護溶液。
2008538128.tif 000040
ここで、Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０，Ｒ１１，Ｒ１２，Ｒ１３は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステルからなる群から選択される。
【請求項１２】
上記アルコールの濃度が還元可能な溶媒の約０．１％〜約９９％であり、そのアルコールが、メタノール、エタノール、プロパノール、イソブタノール、１−ブタノール、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノール、アセトンアルコール、アリルアルコール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、エチルグリコール、エチレングリコール、フルフリルアルコール、イソアミルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、プロピレングリコール、第３アミアルコール、第３ブチルアルコール、トリエチレングリコール、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択される請求項９記載の電気化学脱保護溶液。
【請求項１３】
上記有機塩の濃度が約０．１ｍＭ〜約５Ｍであり、その有機塩が、
2008538128.tif 000041
、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラエチルアンモニウムｐ−トルエンスルホネート、１，１−ジブチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１，１−ジメチルピロリジニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１，１−ジプロピル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムトリス（トリフルオロエチル）メチド、１，３−ジメチル−イミダゾリウムビス（ペンタフルオロエチル）ホスフィナート、１，３−ジメチルイミダゾリウムメチルサルフェート、１，３−ジメチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムジシアナミド、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムメチルサルフェート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムテトラシアノボレート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムトシレート、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−３−エチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウム２−（２−メトキシエトキシ）エチルサルフェート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチル）イミド、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムコバルトテトラカルボニル、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムジシアナミド、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムオクチルサルフェート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムトシレート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロアセテート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−３−メチル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−ブチル−４−メチル−ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−４−メチル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−イミダゾリウムトシレート、１−ブチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−メチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムヘキサフルオロアンチモナート、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムメチルサルフェート、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムテトラフルオロボレート、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムトシレート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（ペンタフルオロエチル）ホスフィネート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（ペンタフルオロエチルスルホニル）イミド、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチル）イミド、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス[１，２−ベンゼンジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス[オキサラート（２−）]ボレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムコバルトテトラカルボニル、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムジシアナミド、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムナイトレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムトシレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロアセテート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメチルトリフルオロボレート、１−ヘキシル−１−メチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−ヘキシル−１−メチル−ピロリジニウムジシアナミド、１−ヘキシル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ヘキシル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ヘキシル−３−メチ��−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムジシアナミド、１−ヘキシル３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムテトラシアノボレート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ヘプタフルオロプロピル）トリフルオロホスフェート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１−メチル−３−（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル）−イミダゾリウム−ヘキサフルオロホスフェート、１−メチル−３−オクチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−メチル−イミダゾリウムトシレート、１−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−オクタデシル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−オクダデシル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−オクチル−１−メチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、１−オクチル−３−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ペンチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ペンチル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ノナフルオロブチル）トリフルオロホスフェート、１−ペンチル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１−フェニルプロピル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−フェニルプロピル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−フェニルプロピル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−フェニルプロピル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−テトラデシル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、３−エチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、��−エチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、３−エチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、３−エチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、３−メチル−１−プロピル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムメチルサルフェート、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサホスフェート、４−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、ベンジルトリフェニル−ホスホニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、ビス−テトラメチルアンモニウムオキサレート、ブチルジメチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、ブチルメチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルジステアイルアンモニウムビスサルフェート、ジメチルジステアリルアンモニウムメトサルフェート、エチルトリフェニルホスホニウムアセテート、グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、グアニジウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、ヘキサメチル−グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、ヘキサメチル−グアニジウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、メチルトリオクチルアンモニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”−ペンタメチル−Ｎ”−イソプロピル−グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”−ペンタメチル−Ｎ”−イソプロピル−グアニジウムトリス（ペンタフルオロメチル）トリフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”−ペンタメチル−Ｎ”−プロピル−グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”−ペンタメチル−Ｎ”−プロピル−グアニジウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｎ”−エチル−グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｎ”−エチル−グアニジウムトリス
（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｎ−ブチル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−ブチル−ピリジニウムメチルサルフェート、Ｎ−ブチル−ピエイジニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−ブチル−ピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ−ヘキシル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、Ｎ−ヘキシル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、Ｎ−ヘキシル−ピロジニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−ヘキシル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−ヘキシル−ピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ−オクチル−ピリジニウムビス（トリフルロロメチルスルホニル）イミド、Ｎ−オクチル−ピリジニウムトリス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、Ｏ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウム(isouronium)トリフルオロメタンスルホネート、Ｏ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｏ−メチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｏ−メチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルイソチオウロニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルチオウロニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルアンモニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、テトラブチルアンモニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、テトラブチルアンモニウム水素サルフェート、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラブチルアンモニウムナイトレート、テトラブチルアンモニウムパークロレート、テトラブチルアンモニウムサルフェート、テトラブチルアンモニウムテトラシアノボレート、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、テトラブチルホスホニウムアセテート、テトラブチルホスホニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、テトラブチルホスホニウムビス[１，２−ベンゼンジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、テトラブチルホスホニウムビス[オキサラート（２−）]−ボレート、テトラブチルホスホニウムテトラシアノボレート、テトラブチルホスホニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、テトラエチルアンモニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、テトラエチルアンモニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、テトラエチルアンモニウムビス[１，２−ベンゼンジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、テトラエチルアンモニウムビス[２，２’−ビフェニルジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、テトラエチルアンモニウムビス[マロナート（２−）]−ボレート、テトラエチルアンモニウムビス[サリチラート（２−）]−ボレート、テトラエチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラエチルアンモニウム水素マレート、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラエチルアンモニウムトシレート、テトラエチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、テトラエチルアンモニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、テトラメチルアンモニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、テトラメチルアンモニウムビス[オキサラート（２−）]−ボレート、テトラメチルアンモニウムビス[サリチラート（２−）]−ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラメチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、トリブチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムビス（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィネート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムビス[１，２−ベンゼンジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムデカノエート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムジシアナミド、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムテトラシアノボレート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムテトラフルオロボレート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウム、トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、トリ−イソ−ブチル（メチル）−ホスホニウムトシレート、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択されたものである請求項１記載の電気化学脱保護溶液。
ここで、Ｒ１２，Ｒ１３，Ｒ１４，Ｒ１５そしてＲ１６は、それぞれ独立に、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基からなる群から選択される。
【請求項１４】
上記有機塩基の濃度が約０．０１ｍＭ〜約２００ｍＭであり、有機塩基が、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン（ジメチルピリジンアイソマー）、
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、からなる群から選択される請求項１記載の電気化学脱保護溶液。
ここで、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、
ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、
スルホアミノ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステルからなる群から選択され、
Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、ペルオキシ酸、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、スルホアミノ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステルからなる群から選択される。
【請求項１５】
酸を供給する還元可能な溶媒と、有機塩と、有機塩基とを含む電気化学脱保護溶液により覆われた電極アレイの少なくとも一つの電極に電圧又は電流を適用する、不安定な酸からなる保護基の電気化学脱保護方法。
【請求項１６】
上記酸を供給する還元可能な溶媒が、メチレンクロライド、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−ジフルオロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，４−ジクロロベンゼン、１−ブタノール、１−ヘキセン、１−プロパノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアセテート、２−ブトキシエタノールアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−メトキシエタノール、２−メチルヘキサン、２−ニトロプロパン、アセトンアルコール、アセトン、アセトニトリル、アリルアルコール、ベンゼン、ベンゾトリフルオライド、ベンジルクロライド、ビフェニル、二硫化炭素、クロロベンゼン、クロロブロモメタン、シクロデカン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロノナン、シクロオクタン、シクロペンタン、ジアセトンアルコール、ジブロモメタン、ジクロロジフェニルトリクロロエタン、ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジプロピレングリコール、エタノール、酢酸エチル、エチルベンゼン、エチルエーテル、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチルベンゼン、エチレングリコール、ホルムアミド、フルフラール、フルフリルアルコール、ヘプタフルオロシクロペンタン、ヘプタフルオロプロピルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサン、イソアミルアルコール、酢酸イソブチル、イソブチルアルコール、イソブチルイソブチレート、イソメトキシノナフルオロブタン、イソメトキシノナフルオロブタン、イソホロン、酢酸イソプロピル、イソプロピルアルコール、メタノール、酢酸メトキシプロピル、メチルアミルケトン、メチルクロライド、メチルクロロホルム、メチルエチルケトン、メチルグリコールアセテートメチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、モノクロロトルエン、モノチオホスフェート、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−デカン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−メチルピロリドン、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−プロピルアセテート、ｎ−プロピルアルコール、オルト−ジクロロベンゼン、パークロロエテン、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール、第３アミルアルコール、第３ブチルアルコール、テトラヒドロフラン、トルエン、トランス−１，２−ジクロロエチレン、トルクロロエチレン、トリクロロフルオロメタン、トリエチレングリコール、塩化ビニル、キシレン、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択される請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
上記酸を供給する還元可能な溶媒が、酸供給源と還元可能な溶媒とからなる請求項１５記載の方法。
【請求項１８】
上記酸供給源の濃度が約０．１ｍＭ〜約２Ｍであり、その酸供給源が、
2008538128.tif 000043
、チオフェノール、１，４−ブタンジチオール、１，３−プロパンジチオール、メチルチオフェン、
2008538128.tif 000044
、Ｒ１７−ＳＨ及びそれらの組み合わせから選択されたものである請求項１７記載の方法。
ここで、Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０，Ｒ１１，Ｒ１２，Ｒ１３は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、ヒドロパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、スルホアミノ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステル、
Ｒ８は、
2008538128.tif 000045
であり、
Ｒ１７は、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、そしてハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒロドキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、ヒドロパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェノモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、スルホアミノ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアゾノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステル基からなる群から選択される。
【請求項１９】
上記還元可能な溶媒が、メチレンクロライド、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，４−ジクロロベンゼン、１−ブタノール、１−ヘキセン、１−プロパノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアセテート、２−ブトキシエタノールアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−メトキシエタノール、２−メチルヘキサン、２−ニトロプロパン、アセトンアルコール、アセトン、アセトニトリル、アリルアルコール、ベンゼン、ベンゾトリフルオライド、ベンジルクロライド、ビフェニル、二硫化炭素、四塩化炭素、クロロベンゼン、クロロブロモメタン、シクロデカン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロノナン、シクロオクタン、シクロペンタン、ジアセトンアルコール、ジブロモメタン、ジクロロジフェニルトリクロロエタン、ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジプロピレングリコール、エタノール、酢酸エチル、エチルベンゼン、エチルエーテル、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチルベンゼン、エチレングリコール、ホルムアミド、フルフラール、フルフリルアルコール、ヘプタフルオロシクロペンタン、ヘプタフルオロプロピルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサン、イソアミルアルコール、酢酸イソブチル、イソブチルアルコール、イソブチルイソブチレート、イソメトキシノナフルオロブタン、イソメトキシノナフルオロブタン、イソホロン、酢酸イソプロピル、イソプロピルアルコール、メタノール、酢酸メトキシプロピル、メチルアミルケトン、メチルクロライド、メチルクロロホルム、メチルエチルケトン、メチルグリコールアセテートメチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、モノクロロトルエン、モノチオホスフェート、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−デカン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−メチルピロリドン、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−プロピルアセテート、ｎ−プロピルアルコール、オルト−ジクロロベンゼン、パークロロエタン、パークロロエチレン、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール、第３アミルアルコール、第３ブチルアルコール、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、トルエン、トランス−１，２−ジクロロエチレン、トルクロロエテン、トリクロロエチレン、トリクロロフルオロメタン、トリエチレングリコール、塩化ビニル、キシレン、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択される請求項１７記載の方法。
【請求項２０】
上記還元可能な溶媒が有機溶媒と還元可能な薬剤とからなる請求項１７記載の方法。
【請求項２１】
上記有機溶媒が、メチレンクロライド、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロ−１，２−トリフルオロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，４−ジクロロベンゼン、１−ブタノール、１−ヘキセン、１−プロパノール、２−（２−ブトシキエトキシ）エチルアセテート、２−ブトキシエタノールアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−メトキシエタノール、２−メチルヘキサン、２−ニトロプロパン、アセトンアルコール、アセトン、アセトニトリル、アリルアルコール、ベンゼン、ベンゾトリフルオライド、ベンジルクロライド、ビフェニル、二硫化炭素、四塩化炭素、クロロベンゼン、クロロブロモエタン、シクロデカン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロノナン、シクロオクタン、シクロペンタン、ジアセトンアルコール、ジブロモメタン、ジクロロジフェニルトリクロロエタン、ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジエチルグリコール、ジメチルホルムアミド、ジプロピレングリコール、エタノール、エチルアセテート、エチルベンゼン、エチルエーテル、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチルベンゼン、エチレングリコール、ホルムアミド、フルフラール、フルフリルアルコール、ヘプタフルオロシクロペンタン、ヘプタフルオロプロピルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサン、イソアミルアルコール、イソブチルアセテート、イソブチルアルコール、イソブチルイソブチレート、イソメトキシノナフルオロブタン、イソ−メトキシノナフルオロブタン、イソホロン、イソプロピルアセテート、イソ−プロピルアルコール、メタノール、メトキシプロピルアセテート、メチルアミルケトン、メチルクロライド、メチルクロロホルム、メチルエチルケトン、メチルグリコールアセテートメチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、モノクロロトルエン、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−デカン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−メチルピロリドン、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−プロピルアセテート、ｎ−プロピルアルコール、オルト−ジクロロベンゼン、パークロロエテン、パークロロエチレン、プロピレングリコールジアセテート、プロピレンアルコール、ｔ−アミルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、トルエン、トランス−１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエテン、トリクロロエチレン、トリクロロフルオロメタン、トリエチレングリコール、ビニルクロライド、キシレン、そしてこれらの組合わせからなる群から選択される請求項２０記載の方法。
【請求項２２】
上記還元可能な薬剤の濃度が約０．００１ｍＭ〜約２００ｍＭであり、その還元可能な薬剤が以下の化合物からなる群から選択される請求項２０記載の方法。
2008538128.tif 000046
ここで、Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０，Ｒ１１，Ｒ１２，Ｒ１３は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、ヒドロパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステルからなる群から選択される。
【請求項２３】
上記還元可能な溶媒が、有機溶媒と、アルコールと、還元可能な薬剤を含む請求項１７記載の方法。
【請求項２４】
上記有機溶媒が、メチレンクロライド、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，４−ジクロロベンゼン、１−ヘキセン、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアセテート、２−ブトキシエタノールアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールアセテート、２−メチルヘキサン、２−ニトロプロパン、アセトン、アセトニトリル、ベンゼン、ベンゾトリフルオライド、ベンジルクロライド、ビフェニル、二硫化炭素、四塩化炭素、クロロベンゼン、クロロブロモメタン、シクロデカン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロノナン、シクロオクタン、シクロペンタン、ジブロモメタン、ジクロロジフェニルトリクロロエタン、ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジプロピレングリコール、酢酸エチル、エチルベンゼン、エチルエーテル、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチルベンゼン、エチレングリコール、ホルムアミド、フルフラール、ヘプタフルオロシクロペンタン、ヘプタフルオロプロピルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサン、酢酸イソブチル、イソブチルイソブチレート、イソメトキシノナフルオロブタン、イソメトキシノナフルオロブタン、イソホロン、酢酸イソプロピル、酢酸メトキシプロピル、メチルアミルケトン、メチルクロライド、メチルクロロホルム、メチルエチルケトン、メチルグリコールアセテートメチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、モノクロロトルエン、モノチオホスフェート、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−デカン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−メチルピロリドン、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−プロピルアセテート、オルト−ジクロロベンゼン、パークロロエテン、パークロロエチレン、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、トルエン、トランス−１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエテン、トルクロロエチレン、トリクロロフルオロメタン、トリエチレングリコール、塩化ビニル、キシレン、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択される請求項２０記載の方法。
【請求項２５】
上記還元可能な薬剤の濃度が約０．００１ｍＭ〜約２００ｍＭであり、その還元可能な薬剤が以下の化合物からなる群から選択される請求項２３記載の方法。
2008538128.tif 000047
ここで、Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０，Ｒ１１，Ｒ１２，Ｒ１３は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、ヒドロパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステルからなる群から選択される。
【請求項２６】
上記アルコールの濃度が還元可能な溶媒の約０．１％〜約９９％であり、そのアルコールが、メタノール、エタノール、プロパノール、イソブタノール、１−ブタノール、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノール、アセトンアルコール、アリルアルコール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、エチルグリコール、エチレングリコール、フルフリルアルコール、イソアミルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、プロピレングリコール、第３アミアルコール、第３ブチルアルコール、トリエチレングリコール、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択される請求項２３記載の方法。
【請求項２７】
上記有機塩の濃度が約０．１ｍＭ〜約５Ｍであり、有機塩が、
2008538128.tif 000048
、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラエチルアンモニウムｐ−トルエンスルホネート、１，１−ジブチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１，１−ジメチルピロリジニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１，１−ジプロピル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムトリス（トリフルオロエチル）メチド、１，３−ジメチル−イミダゾリウムビス（ペンタフルオロエチル）ホスフィナート、１，３−ジメチルイミダゾリウムメチルサルフェート、１，３−ジメチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムジシアナミド、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムメチルサルフェート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムテトラシアノボレート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムトシレート、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−３−エチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウム２−（２−メトキシエトキシ）エチルサルフェート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチル）イミド、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムコバルトテトラカルボニル、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムジシアナミド、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムオクチルサルフェート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムトシレート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロアセテート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−３−メチル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−ブチル−４−メチル−ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−４−メチル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−イミダゾリウムトシレート、１−ブチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−メチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムヘキサフルオロアンチモナート、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムメチルサルフェート、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムテトラフルオロボレート、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムトシレート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（ペンタフルオロエチル）ホスフィネート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（ペンタフルオロエチルスルホニル）イミド、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチル）イミド、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス[１，２−ベンゼンジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス[オキサラート（２−）]ボレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムコバルトテトラカルボニル、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムジシアナミド、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムナイトレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムトシレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロアセテート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメチルトリフルオロボレート、１−ヘキシル−１−メチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−ヘキシル−１−メチル−ピロリジニウムジシアナミド、１−ヘキシル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ヘキシル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ヘキシル−３−メチ��−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムジシアナミド、１−ヘキシル３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムテトラシアノボレート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ヘプタフルオロプロピル）トリフルオロホスフェート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１−メチル−３−（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル）−イミダゾリウム−ヘキサフルオロホスフェート、１−メチル−３−オクチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−メチル−イミダゾリウムトシレート、１−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−オクタデシル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−オクダデシル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−オクチル−１−メチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、１−オクチル−３−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ペンチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ペンチル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ノナフルオロブチル）トリフルオロホスフェート、１−ペンチル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１−フェニルプロピル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−フェニルプロピル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−フェニルプロピル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−フェニルプロピル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−テトラデシル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、３−エチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、��−エチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、３−エチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、３−エチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、３−メチル−１−プロピル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムメチルサルフェート、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサホスフェート、４−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、ベンジルトリフェニル−ホスホニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、ビス−テトラメチルアンモニウムオキサレート、ブチルジメチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、ブチルメチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルジステアイルアンモニウムビスサルフェート、ジメチルジステアリルアンモニウムメトサルフェート、エチルトリフェニルホスホニウムアセテート、グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、グアニジウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、ヘキサメチル−グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、ヘキサメチル−グアニジウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、メチルトリオクチルアンモニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”−ペンタメチル−Ｎ”−イソプロピル−グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”−ペンタメチル−Ｎ”−イソプロピル−グアニジウムトリス（ペンタフルオロメチル）トリフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”−ペンタメチル−Ｎ”−プロピル−グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”−ペンタメチル−Ｎ”−プロピル−グアニジウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｎ”−エチル−グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｎ”−エチル−グアニジウムトリス
（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｎ−ブチル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−ブチル−ピリジニウムメチルサルフェート、Ｎ−ブチル−ピエイジニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−ブチル−ピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ−ヘキシル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、Ｎ−ヘキシル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、Ｎ−ヘキシル−ピロジニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−ヘキシル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−ヘキシル−ピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ−オクチル−ピリジニウムビス（トリフルロロメチルスルホニル）イミド、Ｎ−オクチル−ピリジニウムトリス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、Ｏ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウム(isouronium)トリフルオロメタンスルホネート、Ｏ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｏ−メチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｏ−メチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルイソチオウロニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルチオウロニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルアンモニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、テトラブチルアンモニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、テトラブチルアンモニウム水素サルフェート、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラブチルアンモニウムナイトレート、テトラブチルアンモニウムパークロレート、テトラブチルアンモニウムサルフェート、テトラブチルアンモニウムテトラシアノボレート、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、テトラブチルホスホニウムアセテート、テトラブチルホスホニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、テトラブチルホスホニウムビス[１，２−ベンゼンジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、テトラブチルホスホニウムビス[オキサラート（２−）]−ボレート、テトラブチルホスホニウムテトラシアノボレート、テトラブチルホスホニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、テトラエチルアンモニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、テトラエチルアンモニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、テトラエチルアンモニウムビス[１，２−ベンゼンジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、テトラエチルアンモニウムビス[２，２’−ビフェニルジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、テトラエチルアンモニウムビス[マロナート（２−）]−ボレート、テトラエチルアンモニウムビス[サリチラート（２−）]−ボレート、テトラエチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラエチルアンモニウム水素マレート、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラエチルアンモニウムトシレート、テトラエチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、テトラエチルアンモニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、テトラメチルアンモニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、テトラメチルアンモニウムビス[オキサラート（２−）]−ボレート、テトラメチルアンモニウムビス[サリチラート（２−）]−ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラメチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、トリブチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムビス（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィネート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムビス[１，２−ベンゼンジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムデカノエート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムジシアナミド、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムテトラシアノボレート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムテトラフルオロボレート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウム、トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、トリ−イソ−ブチル（メチル）−ホスホニウムトシレート、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択されたものである請求項１５記載の方法。
ここで、Ｒ１２，Ｒ１３，Ｒ１４，Ｒ１５そしてＲ１６は、それぞれ独立に、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基からなる群から選択される。
【請求項２８】
上記有機塩基の濃度が約０．０１ｍＭ〜約２００ｍＭであり、その有機塩基が、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン（ジメチルピリジンアイソマー）、
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、からなる群から選択される請求項１５記載の方法。
ここで、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、スルホアミノ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステルからなる群から選択され、
Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、ヒドロパーオキシ酸、ペルオキシ酸、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、スルホアミノ基、
ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステルからなる群から選択される。
【請求項２９】
電圧が約０．１Ｖ〜約１０Ｖである請求項１５記載の方法。
【請求項３０】
約０．０１〜２００ｍＭのルチジンと、約０．１〜１００ｍＭのベンゾキノンと、約０．１〜２Ｍのヒドロキノンと、約０．１〜５Ｍのテトラエチルアンモニウムパラトルエンスルホネートと、アセトニトリル約１０％〜約９９％及びエタノール約１％〜約９０％からなる溶媒とを含む電気化学脱保護溶液。
【請求項３１】
約０．０１〜２００ｍＭのＮ，Ｎ’−ジイソプロピルエチルアミンと、約０．１〜１００ｍＭの２，５−ジ−tert−ブチルベンゾキノンと、約０．１〜１００ｍＭの２，５−ジ−tert−ブチルヒドロキノンと、約０．１〜５Ｍのテトラエチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェートと、ジクロロメタン約１％〜約９９％及びイソプロパノール約１％〜約９９％からなる溶媒とを含む電気化学脱保護溶液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電極マイクロアレイ上で酸に対して不安定な保護基(acid-labile protecting group)を除去するために用いる電気化学脱保護溶液とその除去方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、オリゴヌクレオチド、ペプチド、微小分子、分岐ポリマー又は他のポリマーを、微小間隔で多数の電極が配列した電極アレイ上で合成するのに有用である。
【背景技術】
【０００２】
ＤＮＡマイクロアレイの分野の急速な発展により、多数のＤＮＡ合成方法が見出されている。それらの方法には、予め合成したオリゴヌクレオチドをスポッティングする方法、マスクを使用し又はマスクを使用しない技術を用いたフォトリソグラフィー、印刷試薬を用いたその場合成、そして保護基の電気化学脱保護を用いた電極マイクロアレイ上でのその場同時合成が含まれる。オリゴヌクレオチドのマクロアレイ合成の総説としては、Gaoら, Biopolymer 2004, 73:579、がある。ペプチドアレイの合成方法は、フォトマスクを用いた方法が１９９１年に最初に報告されている。この方法は発展し、２０００年には、光で活性化された酸を用いた及び／又は脱保護用の光増感剤と組み合わせたアドレス化可能なマスキング技術を含むものとなっている。光に対して不安定な保護基を用いたペプチドマイクロ合成が、Pelloisら,J.Comb.Chem.2000,2:355と、Fodorら,Science,1991,251:767で提案されている。予め合成したペプチド又は分離したタンパク質をスポッティングすることによりペプチドアレイを作製している。タンパク質又はペプチドのアレイの総説としては、CahillとNordhoffのAdv.Biochem.Engin/Biotechnol.2003,83:177がある。
【０００３】
マイクロアレイ又は他の基材上でＤＮＡ又はペプチドの合成を行う場合、各モノマー（すなわち、それぞれヌクレオチド又はアミノ酸）をそれぞれ連続して添加する場合、次のモノマーユニットを添加するためには、保護基を除去する必要がある。この操作は、一般に脱保護と呼ばれる。除去又は脱保護の工程では、脱保護溶液、すなわち、次のモノマーユニットが添加できるように保護基を除去することによりＤＮＡ、ペプチド、又はその他の物質の末端を脱保護する特別の溶液を用いることができる。一般に、保護基は酸に不安定又は塩基に不安定である、すなわち、酸性条件は酸に不安定な基を除去することができ、塩基性条件は塩基に不安定な基を除去することができる。さらに、いくつかの保護基は特定の溶媒に対してのみ不安定である。また、脱保護は光に不安定な保護基を用いて行うこともでき、特定波長の光を照射することによりその保護基を除去することができる。光で除去可能な保護基に関する総説は、Photoremovable Protecting Groups in Organic Chemistry, Pillai,Synthesis 39:1-26(1980)、である。保護基を用いることは有機合成における一般的な技術である。保護基に関する総説は、Protective Groups in Organic Synthesis, Greene,T.W.とWuts,P.G.M.,Wiley Interscience,1999と、Protecting Group Chemistry, Robertson, J., Oxford University Press,2001、である。
【０００４】
マイクロアレイ上でのポリマー合成の工程として、電極上で電気化学的方法により保護基を除去することができる（モンゴメリー（Montgomery）の米国特許第6,093,302号、6,280,595号、6,444,111号、以下、モンゴメリー特許と呼び、出典明示により本明細書の一部となる）。モンゴメリー特許の方法では、特定の電極に電圧が適用され、特定の電極においてのみ保護基が除去される。隣接する電極での脱保護が起きるのを防止するため、その方法及びその溶液は、その電気化学効果を、脱保護が行われている電極の周囲の狭い領域に限定する必要がある。緩衝剤を含む水系の脱保護溶液を用いる場合（例えば、モンゴメリー特許）、その溶液は、電極の近傍での酸性種や塩基性種の生成に対し緩衝作用を有し、隣接する電極へのそれら種の拡散を抑制する。しかしながら、有機系（すなわち、非水系）の脱保護溶液を用いる場合、脱保護を隔離する機構は必ずしも明らかではないが、他のいくつかの種による酸性試薬の除去あるいは酸性試薬の抑制を行う分子間の相互作用によると考えられる。
【０００５】
モンゴメリー特許は、水系の脱保護溶液、特に０．１０Ｍ及び０．０５Ｍのリン酸ナトリウム水溶液バッファーを開示している。０．１０Ｍのバッファー溶液のｐＨは７．２である。リン酸ナトリウムバッファーを用いた例に加え、モンゴメリー特許には、酢酸バッファー、ホウ酸バッファー、炭酸バッファー、クエン酸バッファー、ＨＥＰＥＳバッファー、ＭＯＰＳバッファー、リン酸バッファー、ＴＲＩＳバッファー、そしてＫＩ溶液を含む種々の水溶液バッファーが記載されている。
【０００６】
サザン(Southern)は、米国特許第5,667,667号で、トリエチルアンモニウムサルフェートのアセトニトリル溶液（１体積％硫酸と３体積％トリエチルアミン、又は０．０１体積％硫酸と０．０３体積％トリエチルアミン）からなる有機脱保護溶液を開示している。化学量論的には、この有機溶液は過剰のプロトンを保持しているように見える。モンゴメリー特許で示したように、サザンの溶液は保護をマイクロアレイ上のみに制限できておらず、活性電極から離れた領域にまでランダムに保護が起きている。
【０００７】
サザンは、国際公開第020415号で、活性なレドックス生成物を閉じ込める別の方法を開示している。具体的には、隣接する電極で生成する少なくとも１種のクエンチ用のレドックス生成物により、活性電極上で活性なレドックス生成物が生成する。電極は、カソードとアノードとが交互に平行に線状に並んでいる。開示されているただ一つの脱保護溶液は、２５ｍＭベンゾキノン、２５ｍＭヒドロキノン、２５ｍＭテトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェートを含むアセトニトリル溶液である。サザンの国際公開第020415号は、活性なレドックス生成物が、少なくとも１種の他のレドックス生成物によりクエンチされるように電解質を選択することを強調している。しかしながら、サザンの国際公開第020415号は、クエンチ用のレドックス生成物が存在しない場合に、電気化学的に生成した酸をどのようにして閉じ込めるかについては開示していない。
【０００８】
ハンメリッヒ（Hammerich）とスベンスマルク（Svensmark）（Anodic Oxidation-Containing Compounds, Hammerich, O., and Svensmark, B in Oragnic Electrochemistry, an introduction and guide, edited by Lund, H and Baizer, M.M., Third Edition, Marcel Dekker, Inc., New York, 1991, pp, 615-657)は、電子吸引性置換基を有するヒドロキノンの水系条件下、水を含む被プロトン性溶媒中、又はピリジンを含むアセトニトリル中でのアノード酸化を開示している。ハンメリッヒとスベンスマルクは、さらに、強酸性条件下でジエノンが酸触媒により転位し、試薬が水の場合、ヒドロキノン誘導体又はキノンが再安定化(reestablish)されることを開示している。したがって、ハンメリッヒとスベンスマルクのヒドロキノン−ベンゾキノンのレドックス脱保護系は、サザンの国際公開第020415号のものと同じである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、本願の属する技術分野において、電気化学的に生成させた試薬を脱保護のために、有機脱保護溶液中に閉じ込めることに対するニーズは存在する。本発明は、その課題に関するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、電極マイクロアレイ上で用いる電気化学脱保護溶液を提供する。本発明の電気化学脱保護溶液は、有機溶媒系溶液からなり、オリゴヌクレオチド、ペプチド、オリゴマー、微小分子、分岐ポリマー、又は他のポリマー、又は微小分子のコンビネーションマイクロアレイ（すなわち、コンビナトリアルライブラリー）に限定されずあらゆる種類のオリゴマーの合成における脱保護工程に用いることができる。各ケースには、酸による化学的”脱保護”工程が含まれ、そこでは、オリゴマー合成において次の”モノマーユニット(mer)”が共有結合できるように、分子から保護部を除去する。その溶液を脱保護溶液と呼ぶ。電気化学脱保護は、合成プロセスにおける電気化学工程であり、そこでは電極マイクロアレイ上の多数の電極の１以上に電圧又は電流を適用し、化学種に結合している酸又は塩基に不安定な保護基（部分）の除去を促進する、酸又は塩基を局所的に生成させる（電極がアノードかカソードかによる）。
【００１１】
その化学種が反応層に結合していること、すなわち、電極に順番に結合することが好ましい。電圧又は電流を適用される電極は、活性電極と呼ばれ、アノード又はカソードである。脱保護後、保護基が除去された化学種は、脱保護の行われた電極上で、別の化学成分又はモノマー（又はポリマーでも）と反応することにより合成が継続して進行し、ポリマー（オリゴヌクレオチド、ポリペプチド、微小分子、又は他のポリマー種）は成長する。
【００１２】
本発明の一実施形態では、電気化学脱保護溶液は、酸を供給する還元可能な溶媒と、有機塩と、有機塩基とからなる。本発明の別の実施形態では、酸を供給する還元可能な溶媒は、酸供給源と還元可能な溶媒とからなる。本発明の別の実施形態では、還元可能な溶媒は、有機溶媒と、還元可能な薬剤とからなる。
【００１３】
本発明の別の実施形態では、本発明の電気化学脱保護溶液は、有機溶媒と、アルコールと、ベンゾキノン誘導体と、ヒドロキノン誘導体と、その有機溶媒に可溶な有機塩と、有機塩基とからなる。水系保護溶液が使用できなかったり、あまり好ましくない場合に、有機系の脱保護溶液を用いてより優れた特性を得るために、その有機溶媒は脱保護溶液を提供する。成分を溶解させ、酸に不安定な保護基を電気化学的に脱保護するための脱保護溶液を調製可能なものであれば、その有機溶媒は特に限定されない。
【００１４】
試薬を電気化学的に生成させ、さらに結合分子中の化学反応性基から保護基を選択的に除去することができる。本発明の脱保護溶液の存在下、選択した電極に十分な電気ポテンシャル（電圧又は電流）を適用することにより、活性電極上でその試薬を生成させることができる。活性電極で生成した酸性試薬が結合分子から酸に不安定な保護基を（電気化学的に）除去する時、活性電極上で脱保護反応が起きる。
【００１５】
接地電位に対し十分な電圧を印加するか、所望のアンペア数の電流を流すことにより、活性電極上に十分な量の酸を電気化学的に生成させることができる。電圧を設定することにより、適用電圧を一定にしながら、異なる時間に異なる電極で電流を変化させることができる。アンペア数を設定すると、目標のアンペア数に合わせるように電圧を変化させることにより、電流を一定レベルに保持することができる。一のソースにより電流を流し、あるいは電圧を調整することにより所望のレベルで電流を一定に維持することができることが好ましい。脱保護工程における電流は、電極当たり、約１ｎＡから約５ｍＡが好ましい。さらに好ましくは、電極当たりの電流は約５０ｎＡから約２μＡである。最も好ましくは、電気化学脱保護に用いる電流は約０．２６μＡ（すなわち、２６０ｎＡである。）である。
【００１６】
電圧制御を用いる場合、脱保護工程における電圧は、活性電極当たり約０．１Ｖ〜約１０Ｖである。電圧は、活性電極当たり約０．４Ｖ〜約５Ｖが好ましい。より好ましくは電極当たりの電圧は約０．８Ｖ〜約２．６Ｖである。最も好ましくは、電圧は電極当たり約１．３Ｖである。
【００１７】
本発明を、アミノ酸配列（例えば、ペプチド又はポリペプチド又はタンパク質）又は核酸を含む分子の電気化学的合成により例示するが、他のオリゴマーやポリマーの合成にも容易に適用できるものである。そのオリゴマーやポリマーの例としては、限定されるものではないが、核酸の線状及び環状ポリマー、多糖類、α−、β−又はγ−アミノ酸を有するペプチド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレア、ポリアミド、ポリエチレンイミン、ポリアリレンスルフィド、ポリシロキサン、ポリイミド、ポリアセテート、又は他のポリマーを挙げることができる。好ましい形態としては、ポリペプチドが電極アレイ上で合成される。別の好ましい形態として、ＤＮＡを含むオリゴヌクレオチドが電極アレイ上で合成される。別の好ましい形態として、ポリマー分子が各電極で異なる（互いに）場合に、オリゴヌクレオチド、ポリペプチド、分岐ポリマーそして他のポリマー等を含む微小分子からなるマイクロアレイを合成するための脱保護工程に用いることができる。
【００１８】
本発明の好ましい形態では、有機溶媒はアセトニトリルである。本発明の別の好ましい形態では、有機溶媒はメチレンクロライドである。本発明の範囲から逸脱しない範囲で、他の有機溶媒を用いることもできる。一般に、他の溶媒としては、それに限定されるものではないが、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素、アルコール、グリコール、グリコールエーテル、エーテル、エステル、ケトン、アルデヒド、アミド、そしてアミンが含まれる。
【００１９】
好ましい形態として、アルコールはメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、又はイソブタノールである。最も好ましい形態として、アルコールはメタノール又はイソプロパノールである。他のアルコールやグリコールも用いることができる。
【００２０】
本発明の好ましい形態として、電気化学脱保護溶液は、約１ｍＭ〜２Ｍのヒドロキノン、約０ｍＭ〜１０ｍＭのベンゾキノン、約０．１ｍＭ〜２００ｍＭのルチジン、約０．１〜２Ｍの有機塩、そして約０％〜６０％のメタノールと残部がアセトニトリルである溶媒と、からなる。
【００２１】
本発明の一形態では、ヒドロキノンを、チオフェノール、１，４−ブタンジチオール、１，３−プロパンジチオール、又はメチルチオフェン又は他の適切なチオールのいずれか一つと置き換えることができる。この脱保護溶液は、酸に不安定な保護基の除去に用いることができる。その電気化学脱保護溶液は、約０．１ｍＭ〜２Ｍのチオフェノール、１，４−ブタンジチオール又は１，３−プロパンジチオール、メチルチオフェン、又は他のチオール、又はそれらの組み合わせ、約０．１ｍＭ〜１Ｍの有機塩、約０．１ｍＭ〜２００ｍＭのルチジン、そして還元性溶媒とからなる。
【００２２】
本発明の別の形態では、酸に不安定な保護基の除去方法が提供され、その方法は、電極アレイの少なくとも一つの電極に電圧又は電流を適用する工程を含むものである。電極アレイは、本発明の電気化学脱保護溶液のいずれか一つで覆われている。
【００２３】
本発明の別の好ましい形態として、電気化学脱保護溶液は、約１ｍＭ〜５０ｍＭの２，５−ジ（tert-ブチル）ヒドロキノン、約０ｍＭ〜５０ｍＭの２，５−ジ（tert-ブチル）ベンゾキノン、約０．１〜２Ｍの有機塩と、約０％〜５０％イソプロノールと残部がメチレンクロライドからなる溶媒、とからなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本明細書では、”オリゴマー”という用語は、中間的な分子量を有する分子を意味し、その構造は、より低分子量の分子から実際にあるいは概念的に得られる、小さな多数のユニットから実質的になるものである。分子は、１個の又はわずかなユニットを除去すると特性が顕著に変化する場合、中間的な分子量を有するとみなすことができる。分子の一部又は全部が中間的な分子量を有し、かつより低分子量の分子から実際にあるいは概念的に得られる、小さな多数のユニットから実質的になる場合、その分子はオリゴマー的と表現され、又は形容詞的に用いられるオリゴマーにより表現される。オリゴマーは、一般的にモノマーからなる。
【００２５】
”コオリゴマー”という用語は、１以上のモノマー種から得られるオリゴマーを意味する。オリゴマーという用語は、コオリゴマーを含んでいる。オリゴマーの例としては、デオキシアデニレート(deoxyadenylate)（Ａ）、デオキシグアニレート(deoxyguanylate)（Ｇ）、デオキシシチジレート(deoxycytidylate)（Ｃ）、デオキシチミジレート(deoxythymidtlate)（Ｔ）ユニットを次の配列で含む一本鎖ＤＮＡ、すなわちＡＧＣＴＧＣＴＡＴがコオリゴマーであり、そして１０個のＴユニットからなる一本鎖ＤＮＡ分子もオリゴマーであり、両方ともオリゴマーと呼ばれる。
【００２６】
”モノマー”という用語は、重合して、オリゴマー、コオリゴマー、ポリマー、又はコポリマー等の巨大分子の中心構造の構成ユニットを構成する分子を意味する。モノマーの例としては、Ａ，Ｃ，Ｇ，Ｔ、アデニレート、グアニレート、シチジレート、ウリジレート、アミノ酸、ビニルクロライド、そして他のビニル化合物を挙げることができる。
【００２７】
”ポリマー”という用語は、高分子量の巨大分子からなる物質を意味し、その構造は、より低分子量の分子から実際にあるいは概念的に得られる、多数の繰り返し単位からなるものである。多くの場合、特に合成ポリマーの場合、その分子は、１個又はわずかなユニットを付加あるいは除去しても分子特性又は物理特性への影響が無視できる程度の高分子量を有するものとみなされる。この定義は、微細な分子構造により特性が大きく影響を受ける特定の分子には当てはまらない。分子の一部又は全部が高分子量であり、より低分子量の分子から実際にあるいは概念的に得られる、多数の繰り返し単位からなるものである場合、その分子は、巨大分子的又はポリマー的として表現され、又は形容詞的に用いられるポリマーにより表現される。
【００２８】
”コポリマー”という用語は、１種以上のモノマーから得られるポリマーを意味する。２種のモノマー種の共重合で得られるコポリマーは場合により二元ポリマーと呼ばれ、３種のモノマーから得られるものは三元ポリマー、４種のモノマーから得られるものは四元ポリマーと呼ばれる。ポリマーという用語は、コポリマーも含んでいる。
【００２９】
化学基の命名は、国際純正・応用化学連合の"Principles of Chemical Nomenclature: a Guide to IUPAC Recommendations, Leigh et al., Science, 1998"の指導に従う。
【００３０】
”アルキル基”という用語は、１個の基を有する直鎖又は分岐鎖のアルキル基であって、約１００個まで、好ましくは２０個までの炭素原子を含むものを意味する。アルキル基の例としては、特に限定されないが、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、第２ブチル基、第３ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、第３ペンチル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、そしてｎ−オクチル基を挙げることができる。置換アルキル基は、１個以上の水素原子が他の基で置換されたもの、あるいは１個以上の炭素原子が２価又は３価の基又は原子で置換されたものである。
【００３１】
”アルケニル基”という用語は、１個の基を有する直鎖又は分岐鎖のアルキル基であって、少なくとも１個の炭素−炭素間二重結合を有し、約１００個まで、好ましくは２０個までの炭素原子を含むものを意味する。アルケニル基の例としては、特に限定されないが、ビニル基、１−プロペニル基、２−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、２−ペンテニル基、２，４−ヘキサジエニル基、４−（エチル）−１，３−ヘキサジエニル基、そして２−（メチル）−３−（プロピル）−１，３−ブタジエニル基を挙げることができる。置換アルケニル基は、１個以上の水素原子が他の基で置換されたもの、あるいは１個以上の炭素原子が２価、３価又は４価の基又は原子で置換されたものである。
【００３２】
”アルキニル基”という用語は、１個の基を有する直鎖又は分岐鎖のアルキル基であって、少なくとも１個の炭素−炭素間三重結合を有し、約１００個まで、好ましくは２０個までの炭素原子を含むものを意味する。アルキニル基の例としては、特に限定されないが、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、４−ペンチニル基、５−ヘキシニル基、６−ヘプチニル基、７−オクチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、２−メチル−３−ペンチニル基、４−エチル−２−ペンチニル基、そして５，５−メチル−１，３−ヘキシニル基を挙げることができる。置換アルキニル基は、１個以上の水素原子が他の基で置換されたもの、あるいは１個以上の炭素原子が２価、３価又は４価の基又は原子で置換されたものである。
【００３３】
”シクロアルキル基”という用語は、少なくとも１個の環を形成するアルキル基であって、その環が約３〜１４個の炭素原子を有するものを意味する。シクロアルキル基の例としては、特に限定されないが、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、そしてシクロヘキシル基を挙げることができる。置換シクロアルキル基は、１個以上の水素原子が他の基で置換されたもの、あるいは１個以上の炭素原子が２価、３価又は４価の基又は原子で置換されたものである。
【００３４】
”シクロアルケニル基”という用語は、少なくとも１個の環を形成するアルケニル基であって、その環が少なくとも１個の炭素−炭素間二重結合を有し、その環が約３〜１４個の炭素原子を有するものを意味する。シクロアルケニル基の例としては、特に限定されないが、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、１，３−シクロパンタジエニル基、そしてシクロヘキシニル基を挙げることができる。置換シクロアルケニル基は、１個以上の水素原子が他の基で置換されたもの、あるいは１個以上の炭素原子が２価、３価又は４価の基又は原子で置換されたものである。
【００３５】
”シクロアルキニル基”という用語は、少なくとも１個の環を形成するアルキニル基であって、その環が少なくとも１個の炭素−炭素間三重結合を有し、その環が約３〜１４個の炭素原子を有するものを意味する。少なくとも１個の三重結合と、少なくとも１個の二重結合を有する環を形成する基は、シクロアルキニル基である。シクロアルキニル基の例としては、特に限定されないが、シクロオクチン基を挙げることができる。置換シクロアルキニル基は、１個以上の水素原子が他の基で置換されたもの、あるいは１個以上の炭素原子が２価、３価又は４価の基又は原子で置換されたものである。
【００３６】
”アリル基”という用語は、大部分が炭素原子で、１個の基を有する芳香環基であって、約４〜５０個の炭素原子を有するものを意味する。アリル環構造は、１個以上のヘテロ原子を含む環を含む。アリル基の例としては、特に限定されないが、フェニル基、ナフチル基、そしてアンスリル基を含む。置換アリル基は、１個以上の水素原子が他の基で置換されたもの、あるいは１個以上の炭素原子が２価又は３価の基又は原子で置換されたものである。
【００３７】
化学基で用いられる”ヘテロ”という用語又は”ヘテロ原子”という用語は、炭素又は水素以外の原子を意味する。ヘテロ原子の例としては、特に限定されるものではないが、酸素原子、窒素原子、リン原子、硫黄原子、ホウ素原子、ケイ素原子、そしてセレン原子を挙げることができる。
【００３８】
”複素環基”という用語は、環の一部を形成する少なくとも１個のヘテロ原子を有する少なくとも１個の環を有する環構造を意味し、約３〜５０個の原子が結合して環構造を形成している。６個の原子を有する複素環基の例としては、ピリジンがある。他の複素環基の例としては、特に限定されないが、アクリジン基、カルバゾール基、クロメン基、イミダゾール基、フラン基、インドール基、キノリン基、そしてホスフィノリン基を挙げることができる。複素環基の例としては、特に限定されないが、アジリジン基、１，３−ジチトレン基、１，３−ジアゼチジン基、そして１，４，２−オキサザホスホリジン基等の非芳香族構造を有するものも含まれる。複素環基の例としては、特に限定されないが、２Ｈ−フラノ[３，２−ｂ]ピラン基、５Ｈ−ピリド[２，３−ｄ]−ｏ−オキサジン基、１Ｈ−ピラゾロ[４，３−ｄ]オキサゾール基、４Ｈ−イミダゾ[４，５−ｄ]チアゾール基、セレナゾロ[５，４−ｆ]ベンゾチアゾール基、そしてシクロペンタ[ｂ]ピラン基等の縮合した芳香環及び非芳香環を挙げることができる。
【００３９】
”多環”又は”多環基”という用語は、１個以上の環と、その環構造を構成する約４〜５０個の炭素を有する炭素環構造を意味する。多環基の例としては、特に限定されるものではないが、ビシクロ[１．１．０]ブタン基、ビシクロ[５．２．０]ノナン基、トリシクロ[５．３．１．１]ドデカン基を挙げることができる。
【００４０】
”ハロ”又は”ハロゲン”という用語は、いずれをも含めて、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を意味する。
【００４１】
”ヘテロ原子基”という用語は、一緒に結合しかつ２つの原子の間で共有結合を形成する２個の自由原子価を有する１個以上のヘテロ原子を意味する。例えば、オキシ基、−Ｏ−は２個のメチル基の間を架橋してＣＨ３−Ｏ−ＣＨ３（ジメチルエーテル）を形成し、あるいは２個の炭素間を架橋して、シス又はトランス２，３−エポキシブテン、
2008538128.tif 000002
等のエポキシ基を形成する。ここで用いられているように、かつ一般的な使い方と異なり、ヘテロ原子基という用語は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、そしてシクロアルキニル基における基の置換を意味するために使用され、一般的な意味で使用する目的でヘテロ原子基という用語とともに環状架橋という用語を用いるのでない限り、エポキシ等の環状架橋を意味するものではない。
【００４２】
ヘテロ原子基の例としては、ヘテロ架橋（エポキシ架橋等）の命名法を用いると、以下のものに特に限定されるものではないが、アジミノ基（−Ｎ＝Ｎ−ＨＮ−）、アゾ基（−Ｎ＝Ｎ−）、ビイミノ基（−ＮＨ−ＮＨ−）、エピジオキシ基（−Ｏ−Ｏ−）、エピジチオ基（−Ｓ−Ｓ−）、エピチオ基（−Ｓ−）、エピチオキシイミノ基（−Ｓ−Ｏ−ＮＨ−）、エポキシ基（−Ｏ−）、エポキシイミノ基（−Ｏ−ＮＨ−）、エポキシニトリロ基（−Ｏ−Ｎ＝）、エポキシチオ基（−Ｏ−Ｓ−）、エポキシチオキシ（−Ｏ−Ｓ−Ｏ−）、フラノ基（−Ｃ４Ｈ２Ｏ−）、イミノ基（−ＮＨ−）、そしてニトリロ基（−Ｎ＝）を挙げることができる。アクリル架橋を形成する場合の命名法を用いると、以下のものに特に限定されるわけではないが、エポキシ基（−Ｏ−）、エピチオ基（−Ｓ−）、エピセレノ基（−Ｓｅ−）、エピジオキシ基（−Ｏ−Ｏ−）、エピジチオ基（−Ｓ−Ｓ−）、λ４−スルホ基（−ＳＨ２−）、エポキシチオ基（−Ｏ−Ｓ−）、エポキシチオ基（−Ｏ−Ｓ−Ｏ−）、エポキシイミノ基（−Ｏ−ＮＨ−）、エピミノ基（−ＮＨ−）、ジアザノ基（−ＮＨ−ＮＨ−）、ジアゼノ基（−Ｎ＝Ｎ−）、トリア[１]ゼノ基(triaz[1]eno)（−Ｎ＝Ｎ−ＮＨ−）、ホスホノ基（−ＰＨ−）、スタンナノ基（−ＳｎＨ２−）、エポキシメタノ基（−Ｏ−ＣＨ２−）、エポキシエタノ基（−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−）、エポキシプロ[１]ペノ(epoxyprop[1]eno)
2008538128.tif 000003
を挙げることができる。
【００４３】
”架橋”という用語は、環構造の一部とその環構造の別の部分との間の炭化水素による橋架けによる結合を意味する。架橋の例としては、以下のものに特に限定されないが、メタノ基、エタノ基、エテノ基、プロパノ基、ブタノ基、２−ブテノ基、そしてベンゼノ基を挙げることができる。
【００４４】
”ヘテロ架橋”という用語は、環構造の一部とその環構造の別の部分との間の１個以上のヘテロ原子基による橋架け、あるいは線状構造の一部とその線状構造の別の部分との間を結合するヘテロ架橋により形成された環を意味し、そのようにして環を形成する。
【００４５】
”オキシ基”という用語は、２価の基−Ｏ−を意味する。
【００４６】
”オキソ基”という用語は、２価の基＝Ｏを意味する。
【００４７】
”カルボニル基”という用語は、
2008538128.tif 000004
を意味し、炭素は結合のために２個の基を有する。
【００４８】
”アミド基”又は”アシルアミノ基”という用語は、
2008538128.tif 000005
を意味し、窒素は結合のための１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００４９】
”アルコキシ基”という用語は、−Ｏ−Ｒを意味し、酸素は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。Ｒがアルキル基であるアルコキシ基の例としては、以下のものに特に限定されないが、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、１，１−ジメチルエトキシ基、１，１−ジメチルプロポキシ基、１，１−ジメチルブトキシ基、１，１−ジメチルペントキシ基、１−エチル−１−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、２，２−ジメチルブトキシ基、１−メチル−１−エチルプロポキシ基、１，１−ジエチルプロポキシ基、１，１，２−トリメチルプロポキシ基、１，１，２−トリメチルブトキシ基、１，１，２，２−テトラメチルプロポキシ基を挙げることができる。Ｒがアルケニル基であるアルコキシ基の例としては、以下のものに特に限定されないが、エテニルオキシ基、１−プロペニルオキシ基、２−プロペニルオキシ基、１−ブテニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、１−メチル−prop−２−エニルオキシ基、１，１−ジメチル−prop−２−エニルオキシ基、１，１，２−トリメチル−プロポ−２−エニルオキシ基、そして１，１−ジメチル−but−２−エニルオキシ基、２−エチル−１，３−ジメチル−but−１−エニルオキシ基を挙げることができる。Ｒがアルキニル基であるアルコキシ基の例としては、以下のものに特に限定されないが、エチニルオキシ基、１−プロピニルオキシ基、２−プロピニルオキシ基、１−ブチニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、１−メチル−prop−２−イニルオキシ基、１，１−ジメチル−prop−２−イニルオキシ基、そして１，１−ジメチル−but−２−イニルオキシ基、３−エチル−３−メチル−but−１−イニルオキシ基を挙げることができる。Ｒがアリル基であるアルコキシ基の例としては、以下のものに特に限定されないが、フェノキシ基、２−ナフチルオキシ基、そして１−アンチルオキシ基を挙げることができる。
【００５０】
”アシル基”という用語は、
2008538128.tif 000006
を意味し、炭素は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。アシル基の例としては、以下のものに限定されないが、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、アクリロイル基、プロピオロイル基、メタクリロイル基、クロトニル基、イソクロトノイル基、ベンゾイル基、そしてナフトイル基を挙げることができる。
【００５１】
”アシルオキシ基”という用語は、
2008538128.tif 000007
を意味し、炭素は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。アシルオキシ基の例としては、以下のものに特に限定されないが、アセトキシ基、エチルカルボニルオキシ基、２−プロペニルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、１−ヘキシニルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、２−ナフトイルオキシ基、３−シクロデセニルカルボニルオキシ基を挙げることができる。
【００５２】
”オキシカルボニル基”という用語は、
2008538128.tif 000008
を意味し、炭素は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。オキカルボニル基の例としては、以下のものに特に限定されないが、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、そしてシクロヘキシルカルボニル基を挙げることができる。
【００５３】
”アルコキシカルボニルオキシ基”という用語は、
2008538128.tif 000009
を意味し、炭素は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００５４】
”カルボキシ基”という用語は、−Ｃ（Ｏ）ＯＨを意味し、炭素は１個の基を有する。
【００５５】
”アミノ基”という用語は、−ＮＨ２を意味し、窒素は１個の基を有する。
【００５６】
”第２アミノ基”という用語は、−ＮＨ−Ｒを意味し、窒素は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００５７】
”第３アミノ基”という用語は、
2008538128.tif 000010
を意味し、窒素は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００５８】
”ヒドラジ基”という用語は、−ＮＨ−ＮＨ−を意味し、各窒素は同じ原子に結合する１個の基を有している。”ヒドラゾ基”は、−ＮＨ−ＮＨ−を意味し、各窒素原子は、異なる原子に結合する１個の基を有している。
【００５９】
”ヒドラジノ基”という用語は、ＮＨ２−Ｎ＊Ｈ−を意味し、窒素（Ｎ＊）は１個の基を有している。
【００６０】
”ヒドラゾノ基”という用語は、ＮＨ２−Ｎ＊＝を意味し、窒素（Ｎ＊）は２個の基を有している。
【００６１】
”ヒドロキシイミノ基”という用語は、ＨＯ−Ｎ＊＝を意味し、窒素（Ｎ＊）は２個の基を有している。
【００６２】
”アルコキシイミノ基”という用語は、Ｒ−Ｏ−Ｎ＊＝を意味し、窒素（Ｎ＊）は２個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００６３】
”アジド基”という用語は、Ｎ３−を意味し、窒素（Ｎ＊）は１個の基を有する。
【００６４】
”アゾキシ基”という用語は、−Ｎ＊（Ｏ）＝Ｎ−を意味し、各窒素は１個の基を有する。
【００６５】
”アルカゾキシ基”という用語は、Ｒ−Ｎ（Ｏ）＝Ｎ＊−を意味し、窒素（Ｎ＊）は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。アゾキシベンゼンは例示化合物である。
【００６６】
”シアノ基”という用語は、−ＣＮを意味する。”イソシアノ基”という用語は、−ＮＣを意味する。”シアナート基”という用語は、−ＯＣＮを意味する。”イソシアナート”という用語は、−ＮＣＯを意味する。”フルミナート基”という用語は、−ＯＮＣを意味する。”チオシアナート基”という用語は、−ＳＣＮを意味する。”イソチオシアナート基”という用語は、−ＮＣＳを意味する。”セレノシアナート基”という用語は、−ＳｅＣＮを意味する。”イソセレノシアナート基”という用語は、−ＮＣＳｅを意味する。
【００６７】
”カルボキシアミド基”又は”アシルアミノ基”という用語は、
2008538128.tif 000011
を意味し、窒素は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００６８】
”アシルイミノ基”という用語は、
2008538128.tif 000012
を意味し、窒素は２個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００６９】
”ニトロソ基”という用語は、Ｏ＝Ｃ−を意味し、窒素は１個の基を有する。
【００７０】
”アミノオキシ基”という用語は、−Ｏ−ＮＨ２を意味し、酸素は１個の基を有する。
【００７１】
”カルソイミジオイ基(carxoimidioy)”という用語は、
2008538128.tif 000013
を意味し、炭素は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００７２】
”ヒドラゾノイル基”という用語は、
2008538128.tif 000014
を意味し、炭素は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００７３】
”ヒロドキシモイル基”又は”オキシム基”という用語は、
2008538128.tif 000015
を意味し、炭素は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００７４】
”ヒドラジノ基”という用語は、
2008538128.tif 000016
を意味し、炭素は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００７５】
”アミジノ基”という用語は、
2008538128.tif 000017
を意味し、炭素は１個の基を有する。
【００７６】
”スルフィド基”という用語は、−Ｓ−Ｒを意味し、硫黄は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００７７】
”チオール基”という用語は、−Ｓ−を意味し、硫黄は２個の基を有している。ヒドロチオール基は、−ＳＨを意味する。
【００７８】
”チオアシル基”という用語は、−Ｃ（Ｓ）−Ｒを意味し、炭素は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００７９】
”スルホキシド基”という用語は、
2008538128.tif 000018
を意味し、硫黄は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。”チオスルホキシド基”という用語は、スルホキシド基の酸素を硫黄で置換したものを意味し、その用語には、Ｒ基の最初の炭素がオキシ基で置換され、別の基の硫黄原子にスルホキシドが結合している場合、硫黄とＲ基との間を結合する酸素を置換したものも含まれる。
【００８０】
”スルホン基”という用語は、
2008538128.tif 000019
を意味し、硫黄は１個の基を有し、Ｒは水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。”チオスルホン基”という用語は、スルホン基の１箇所以上の酸素を硫黄で置換したものを意味し、その用語には、Ｒ基の最初の炭素がオキシ基で置換され、別の基の硫黄原子にスルホンが結合している場合、硫黄とＲ基との間を結合する酸素を置換したものも含まれる。
【００８１】
”リン酸エステル基”という用語は、Ｒ１Ｒ２ＰＯ４−を意味し、酸素は１個の基を有し、Ｒ１は水素、あるいは置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基であり、Ｒ２は置換又は非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基又は多環基である。
【００８２】
化学種に関し、”置換された”又は”置換”という用語は、少なくとも１個の炭素の１個の水素を１価の基で置換すること、少なくとも１個の炭素の２個の水素を２価の基で置換すること、少なくとも１個の末端炭素（メチル基）の３個の水素を３価の基で置換すること、少なくとも１個の炭素及び結合した水素（例えば、メチレン基）を２価、３価又は４価の基で置換すること、そしてそれらの組み合わせからなる群からそれぞれ独立に選択される内容を意味する。置換は価数により制限される。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基、そして多環基に対し置換が可能であり、置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基、置換シクロアルキル基、置換シクロアルケニル基、置換シクロアルキニル基、置換アリル基、置換複素環基、そして置換多環基が存在する。
【００８３】
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基、そして多環基に対する置換基は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基、多環基、ハロゲン、ヘテロ原子基、オキシ基、オキソ基、カルボニル基、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、イミノ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ヒドロキシイミノ基、アジド基、アゾキシ基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、イソシアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、イソチオシアナート基、イソセレノシアナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、チオール基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシ基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、ヒドロパーオキシ基、ペルオキシ酸、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトリロ基、ニトロ基、アシ−ニトロ基(aci-nitro)、ニトロソ基、セミカルバゾノ基、オキサモイル基、ペンタゾイル基、セレノ基、チオオキシ基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルフィニル基、スルホ基、スルホアミノ基、スルホナート基、スルホニル基、スルホニルジオキシ基、ヒドロチオール基、テトラゾイル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボニル基、チオカルボキシ基、チオシアナート基、チオホルミル基、チオアシル基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオウレイド基、チオオキソ基、トリアザノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオ基、トリチオスルホ基、スルフィニイミジン酸基(sulfinimidic acid)、スルホイミジン酸基、スルフィノヒドラゾン酸基、スルホノヒドラゾン酸基、スルフィノヒドロキシミン酸基(sulfinohydroximic acid)、スルホノヒドロキシミン酸基及びリン酸エステル基、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択されたものを挙げることができる。
【００８４】
置換の例として、エタンの１個の水素をヒドロキシル基で置換したエタノール、プロパンの中間の炭素の２個の水素をオキソ基で置換したアセトン（ジメチルケトン）がある。別の例として、プロパンの中間の炭素（メチレン基）をオキシ基（−Ｏ−）で置換したジメチルエーテル（ＣＨ３−Ｏ−ＣＨ３）がある。別の例として、ベンゼンの１個の水素原子をフェニル基で置換したビフェニルがある。
【００８５】
以上のように、ヘテロ原子基は、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基の内部のメチレン基（：ＣＨ２）と置換されて、環ではなく線状又は分岐状の置換構造を形成し、あるいはシクロアルキル環、シクロアルケニル環又はシクロアルキニル環の内部のメチレン基と置換されて複素環を形成する。別の例として、ニトリロ基（−Ｎ＝）は、ベンゼンの１個の炭素及び結合した水素と置換されてピリジンを与え、オキシ基はピランを与える。
【００８６】
”非置換の”という用語は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基又はアリル基の水素又は炭素が置換されていないことを意味する。
【００８７】
”ルチジン”という用語は、ジメチルピリジンの異性体を意味する。異性体には、２，６−、２，５−、２，４−、２，３−、３，４−、３，５−、３，６−、４，５−、４，６−、５，６−ジメチルピリジンがある。
【００８８】
”有機塩基”という用語は、窒素を有する有機化合物であって、窒素が塩基性を付与するものを含む。有機塩基は、例えばピリジン、ジエチルピリジン、そしてピラゾール等の置換又は非置換の環構造の窒素を含み、また、例えばジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、そしてトリブチルアミン等の置換又は非置換の非環構造の窒素を含み、そして置換又は非置換の、ヘテロ環構造又は環及び非環構造の組み合わせの窒素を含む。一般に、すべてのアミンが含まれる。
【００８９】
”酸を供給する還元可能な溶媒”という用語は、アノードでレドックス反応（酸化）を受け、活性電極に隣接して酸性媒体を提供するとともに、カソードでレドックス反応（還元）を受け、電気化学脱保護溶液に電流を流す（所定の十分な電圧）ことを可能とする溶媒を意味する。
【００９０】
”酸供給源”という用語は、アノードでレドックス反応（酸化）を受け、活性電極に隣接して酸性媒体を提供することの可能な薬剤を意味する。
【００９１】
”還元可能な溶媒”という用語は、カソードでレドックス反応（還元）を受け、電気化学脱保護溶液に電流を流す溶媒を意味する。
【００９２】
”還元可能な薬剤”という用語は、レドックス反応（還元）を受け、電気化学脱保護溶液に電流を流すことの可能な、脱保護溶液に含まれる薬剤を意味する。
【００９３】
電気化学脱保護溶液
本発明は、電極マイクロアレイ上で用いる電気化学脱保護溶液を提供する。その溶液は、オリゴヌクレオチド、ペプチド、オリゴマー、又は他のポリマー、又は微小分子のコンビネーションマイクロアレイ（すなわち、コンビナトリアルライブラリー）の合成における脱保護工程に用いる有機溶媒系溶液であり、電気化学的に生成させた酸性試薬により酸に対して不安定な保護基を除去する工程が、その合成プロセスに含まれる。その溶液を脱保護溶液と呼ぶ。電気化学脱保護は、合成プロセスにおける電気化学工程であり、電極マイクロアレイの１個以上の電極に所定の電圧又は所定の電流を適用して局所的に酸又は塩基を生成させることにより（電極がアノードかカソードかによる）、化学種に結合した酸に対して不安定な保護基（成分）の除去を促進する。電極に付随する反応層に、その化学種を付随させることが好ましい。電圧又は電流が適用された電極が活性電極であり、アノード又はカソードである。脱保護後、保護基が除去された電極を、別の化学成分又はモノマー（又はポリマーでも）に曝すことにより、脱保護の起きた電極上で合成を継続して進行させ、ポリマー（オリゴヌクレオチド、ポリペプチド、微小分子、分岐ポリマー又は他のポリマー種）を成長させる。
【００９４】
本発明の一形態では、電気化学脱保護溶液が、酸を供給する還元可能な溶媒と、有機塩と、有機塩基とからなる。酸を供給する還元可能な溶媒の例としては、メチレンクロライド、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロ−１，２−ジフルオロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，４−ジクロロベンゼン、１−ブタノール、１−ヘキセン、１−プロパノール、２−（２−ブトシキエトキシ）エチルアセテート、２−ブトキシエタノールアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−メトキシエタノール、２−メチルヘキサン、２−ニトロプロパン、アセトンアルコール、アセトン、アセトニトリル、アリルアルコール、ベンゼン、ベンゾトリフルオライド、ベンジルクロライド、ビフェニル、二硫化炭素、クロロベンゼン、クロロブロモエタン、シクロデカン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロノナン、シクロオクタン、シクロペンタン、ジアセトンアルコール、ジブロモメタン、ジクロロジフェニルトリクロロエタン、ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジエチルグリコール、ジメチルホルムアミド、ジプロピレングリコール、エタノール、エチルアセテート、エチルベンゼン、エチルエーテル、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチルベンゼン、エチレングリコール、ホルムアミド、フルフラール、フルフリルアルコール、ヘプタフルオロシクロペンタン、ヘプタフルオロプロピルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサン、イソアミルアルコール、イソブチルアセテート、イソブチルアルコール、イソブチルイソブチレート、イソメトキシノナフルオロブタン、イソ−メトキシノナフルオロブタン、イソホロン、イソプロピルアセテート、イソ−プロピルアルコール、メタノール、メトキシプロピルアセテート、メチルアミルケトン、メチルクロライド、メチルクロロホルム、メチルエチルケトン、メチルグリコールアセテートメチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、モノクロロトルエン、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−デカン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−メチルピロリドン、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−ペンタン、ｎ−プロピルアセテート、ｎ−プロピルアルコール、オルト−ジクロロベンゼン、パークロロエタン、プロピレングリコールジアセテート、プロピレンアルコール、ｔ−アミルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、テトラヒドロフラン、トルエン、トランス−１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、トリクロロメタン、トリエチレングリコール、ビニルクロライド、キシレン、そしてこれらの組み合わせを挙げることができる。
【００９５】
有機塩の濃度は、約０．１ｍＭ〜約５Ｍである。有機塩の例としては、
2008538128.tif 000020
、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラエチルアンモニウムｐ−トルエンスルホネート、１，１−ジブチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１，１−ジメチルピロリジニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１，１−ジプロピル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムトリス（トリフルオロエチル）メチド、１，３−ジメチル−イミダゾリウムビス（ペンタフルオロエチル）ホスフィナート、１，３−ジメチルイミダゾリウムメチルサルフェート、１，３−ジメチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ベンジル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムジシアナミド、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムメチルサルフェート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムテトラシアノボレート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムトシレート、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−３−エチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウム２−（２−メトキシエトキシ）エチルサルフェート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチル）イミド、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムコバルトテトラカルボニル、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムジシアナミド、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムオクチルサルフェート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムトシレート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロアセテート、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−３−メチル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−ブチル−４−メチル−ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−４−メチル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−イミダゾリウムトシレート、１−ブチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−メチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムヘキサフルオロアンチモナート、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムメチルサルフェート、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムテトラフルオロボレート、１−エチル−１−メチル−ピロリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムトシレート、１−エチル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（ペンタフルオロエチル）ホスフィネート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（ペンタフルオロエチルスルホニル）イミド、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチル）イミド、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス[１，２−ベンゼンジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムビス[オキサラート（２−）]ボレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムコバルトテトラカルボニル、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムジシアナミド、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムナイトレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムトシレート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロアセテート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメチルトリフルオロボレート、１−ヘキシル−１−メチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−ヘキシル−１−メチル−ピロリジニウムジシアナミド、１−ヘキシル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ヘキシル−２，３−ジメチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ヘキシル−３−メチ��−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムジシアナミド、１−ヘキシル３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムテトラシアノボレート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ヘプタフルオロプロピル）トリフルオロホスフェート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１−ヘキシル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１−メチル−３−（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル）−イミダゾリウム−ヘキサフルオロホスフェート、１−メチル−３−オクチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−メチル−イミダゾリウムトシレート、１−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−オクタデシル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−オクダデシル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−オクチル−１−メチル−ピロリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、１−オクチル−３−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムメチルサルフェート、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−オクチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ペンチル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ペンチル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ノナフルオロブチル）トリフルオロホスフェート、１−ペンチル−３−メチル−イミダゾリウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、１−フェニルプロピル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、１−フェニルプロピル−３−メチル−イミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−フェニルプロピル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−フェニルプロピル−３−メチル−イミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−テトラデシル−３−メチル−イミダゾリウムテトラフルオロボレート、３−エチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、��−エチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、３−エチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、３−エチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、３−メチル−１−プロピル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムメチルサルフェート、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、３−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサホスフェート、４−メチル−Ｎ−ブチル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、ベンジルトリフェニル−ホスホニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、ビス−テトラメチルアンモニウムオキサレート、ブチルジメチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、ブチルメチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルジステアイルアンモニウムビスサルフェート、ジメチルジステアリルアンモニウムメトサルフェート、エチルトリフェニルホスホニウムアセテート、グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、グアニジウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、ヘキサメチル−グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、ヘキサメチル−グアニジウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、メチルトリオクチルアンモニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”−ペンタメチル−Ｎ”−イソプロピル−グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”−ペンタメチル−Ｎ”−イソプロピル−グアニジウムトリス（ペンタフルオロメチル）トリフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”−ペンタメチル−Ｎ”−プロピル−グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”−ペンタメチル−Ｎ”−プロピル−グアニジウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｎ”−エチル−グアニジウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｎ”−エチル−グアニジウムトリス
（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｎ−ブチル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、Ｎ−ブチル−ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−ブチル−ピリジニウムメチルサルフェート、Ｎ−ブチル−ピエイジニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−ブチル−ピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ−ヘキシル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、Ｎ−ヘキシル−ピリジニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、Ｎ−ヘキシル−ピロジニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−ヘキシル−ピリジニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−ヘキシル−ピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ−オクチル−ピリジニウムビス（トリフルロロメチルスルホニル）イミド、Ｎ−オクチル−ピリジニウムトリス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、Ｏ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウム(isouronium)トリフルオロメタンスルホネート、Ｏ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｏ−メチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｏ−メチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−イソウロニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルイソチオウロニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルチオウロニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルアンモニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、テトラブチルアンモニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、テトラブチルアンモニウム水素サルフェート、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラブチルアンモニウムナイトレート、テトラブチルアンモニウムパークロレート、テトラブチルアンモニウムサルフェート、テトラブチルアンモニウムテトラシアノボレート、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、テトラブチルホスホニウムアセテート、テトラブチルホスホニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、テトラブチルホスホニウムビス[１，２−ベンゼンジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、テトラブチルホスホニウムビス[オキサラート（２−）]−ボレート、テトラブチルホスホニウムテトラシアノボレート、テトラブチルホスホニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、テトラエチルアンモニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、テトラエチルアンモニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、テトラエチルアンモニウムビス[１，２−ベンゼンジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、テトラエチルアンモニウムビス[２，２’−ビフェニルジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、テトラエチルアンモニウムビス[マロナート（２−）]−ボレート、テトラエチルアンモニウムビス[サリチラート（２−）]−ボレート、テトラエチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラエチルアンモニウム水素マレート、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラエチルアンモニウムトシレート、テトラエチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、テトラエチルアンモニウムビス（トリフルオロメチル）イミド、テトラメチルアンモニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、テトラメチルアンモニウムビス[オキサラート（２−）]−ボレート、テトラメチルアンモニウムビス[サリチラート（２−）]−ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラメチルアンモニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、トリブチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムビス（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィネート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）メタン、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムビス[１，２−ベンゼンジオラート（２−）−Ｏ，Ｏ’]−ボレート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムデカノエート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムジシアナミド、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムテトラシアノボレート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウムテトラフルオロボレート、トリヘキシル（テトラデシル）−ホスホニウム、トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、トリ−イソ−ブチル（メチル）−ホスホニウムトシレート、そしてそれらの組み合わせを挙げることができる。Ｒ１２，Ｒ１３，Ｒ１４，Ｒ１５そしてＲ１６は、それぞれ独立に、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基からなる群から選択される。
【００９６】
有機塩基の濃度は、約０．０００１ｍＭ〜約２００ｍＭである。有機塩基の例としては、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン（ジメチルピリジンアイソマー）、
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、を挙げることができる。Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、
ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、
スルホアミノ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステルからなる群から選択することができる。
【００９７】
Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、ペルオキシ酸、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、スルホアミノ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステルからなる群から選択することができる。
【００９８】
本発明の別の形態では、酸を供給する還元可能な溶媒は、酸供給源と還元可能な溶媒とからなる。酸供給源の濃度は約０．１ｍＭ〜約２Ｍである。酸供給源の例としては、
ベンゾフェノン、チオフェノール、１，４−ブタンジチオール、１，３−プロパンジチオール、メチルチオフェン、
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、Ｒ１７−ＳＨ及びそれらの組み合わせを挙げることができる。
【００９９】
Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、スルホアミノ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステルからなる群から選択することができる。
【０１００】
Ｒ１７は、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、そしてハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒロドキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、ヒドロパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェノモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、スルホアミノ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアゾノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステル基からなる群から選択することができる。
【０１０１】
還元可能な溶媒の例としては、メチレンクロライド、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロ−１，２−ジフルオロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，４−ジクロロベンゼン、１−ブタノール、１−ヘキセン、１−プロパノール、２−（２−ブトシキエトキシ）エチルアセテート、２−ブトキシエタノールアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−メトキシエタノール、２−メチルヘキサン、２−ニトロプロパン、アセトンアルコール、アセトン、アセトニトリル、アリルアルコール、ベンゼン、ベンゾトリフルオライド、ベンジルクロライド、ビフェニル、二硫化炭素、クロロベンゼン、クロロブロモエタン、シクロデカン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロノナン、シクロオクタン、シクロペンタン、ジアセトンアルコール、ジブロモメタン、ジクロロジフェニルトリクロロエタン、ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジエチルグリコール、ジメチルホルムアミド、ジプロピレングリコール、エタノール、エチルアセテート、エチルベンゼン、エチルエーテル、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチルベンゼン、エチレングリコール、ホルムアミド、フルフラール、フルフリルアルコール、ヘプタフルオロシクロペンタン、ヘプタフルオロプロピルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサン、イソアミルアルコール、イソブチルアセテート、イソブチルアルコール、イソブチルイソブチレート、イソメトキシノナフルオロブタン、イソ−メトキシノナフルオロブタン、イソホロン、イソプロピルアセテート、イソ−プロピルアルコール、メタノール、メトキシプロピルアセテート、メチルアミルケトン、メチルクロライド、メチルクロロホルム、メチルエチルケトン、メチルグリコールアセテートメチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、モノクロロトルエン、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−デカン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−メチルピロリドン、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−ペンタン、ｎ−プロピルアセテート、ｎ−プロピルアルコール、オルト−ジクロロベンゼン、パークロロエタン、プロピレングリコールジアセテート、プロピレンアルコール、ｔ−アミルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、テトラヒドロフラン、トルエン、トランス−１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、トリクロロメタン、トリエチレングリコール、ビニルクロライド、キシレン、そしてこれらの組合わせからなる群から選択することができる。
【０１０２】
本発明の別の形態では、還元可能な溶媒が、有機溶媒と還元可能な薬剤とからなる。有機溶媒の例としては、メチレンクロライド、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，４−ジクロロベンゼン、１−ブタノール、１−ヘキセン、１−プロパノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアセテート、２−ブトキシエタノールアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−メトキシエタノール、２−メチルヘキサン、２−ニトロプロパン、アセトンアルコール、アセトン、アセトニトリル、アリルアルコール、ベンゼン、ベンゾトリフルオライド、ベンジルクロライド、ビフェニル、二硫化炭素、四塩化炭素、クロロベンゼン、クロロブロモメタン、シクロデカン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロノナン、シクロオクタン、シクロペンタン、ジアセトンアルコール、ジブロモメタン、ジクロロジフェニルトリクロロエタン、ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジプロピレングリコール、エタノール、酢酸エチル、エチルベンゼン、エチルエーテル、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチルベンゼン、エチレングリコール、ホルムアミド、フルフラール、フルフリルアルコール、ヘプタフルオロシクロペンタン、ヘプタフルオロプロピルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサン、イソアミルアルコール、酢酸イソブチル、イソブチルアルコール、イソブチルイソブチレート、イソメトキシノナフルオロブタン、イソメトキシノナフルオロブタン、イソホロン、酢酸イソプロピル、イソプロピルアルコール、メタノール、酢酸メトキシプロピル、メチルアミルケトン、メチルクロライド、メチルクロロホルム、メチルエチルケトン、メチルグリコールアセテートメチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、モノクロロトルエン、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−デカン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−メチルピロリドン、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−プロピルアセテート、ｎ−プロピルアルコール、オルト−ジクロロベンゼン、パークロロエタン、パークロロエチレン、プロピレングリコールジアセテート、
プロピレングリコール、第３アミルアルコール、第３ブチルアルコール、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、トルエン、トランス−１，２−ジクロロエチレン、トルクロロエチレン、トリクロロフルオロメタン、トリエチレングリコール、塩化ビニル、キシレン、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択することができる。
【０１０３】
還元可能な薬剤の濃度は約０．００１ｍＭ〜約２００ｍＭである。還元可能な薬剤の例としては、
2008538128.tif 000023
を挙げることができる。
【０１０４】
Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に、水素、置換及び未置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリル基、複素環基及び多環基、ハロゲン、アミド基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、カルボキシ基、アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基、ヒドラジノ基、アジド基、アルカゾキシ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナート基、チオシアナート基、フルミナート基、セレノシアナート基、カルボキシアミド基、アシルイミノ基、ニトロソ基、アミノオキシ基、カルボキシイミドイル基、ヒドラゾノイル基、オキシム基、アシルヒドラジノ基、アミジノ基、スルフィド基、スルホキシド基、チオスルホキシド基、スルホン基、チオスルホン基、チオサルフェート基、ヒドロキシル基、ホルミル基、ヒドロキシパーオキシ基、カルバモイル基、トリメチルシリル基、ニトロ基、ニトロソ基、オキサモイル基、ペンタゾリル基、スルファモイル基、スルフェナモイル基、スルフェノ基、スルフィナモイル基、スルフィノ基、スルホ基、ヒドロチオール基、テトラゾリル基、チオカルバモイル基、チオカルバゾノ基、チオカルボジアゾノ基、チオカルボノヒドラジド基、チオカルボキシ基、チオホルミル基、チオアシル基、チオシアナート基、チオセミカルバジド基、チオスルフィノ基、チオスルホ基、チオウレイド基、トリアザノ基、トリアゼノ基、トリアジニル基、トリチオスルホ基、そしてリン酸エステルからなる群から選択することができる。
【０１０５】
本発明の別の形態では、還元可能な溶媒は、有機溶媒、アルコール、そして還元可能な薬剤とからなる。有機溶媒の例としては、メチレンクロライド、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，４−ジクロロベンゼン、１−ヘキセン、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアセテート、２−ブトキシエタノールアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−メトキシエタノール、２−メチルヘキサン、２−ニトロプロパン、アセトン、アセトニトリル、ベンゼン、ベンゾトリフルオライド、ベンジルクロライド、ビフェニル、二硫化炭素、四塩化炭素、クロロベンゼン、クロロブロモメタン、シクロデカン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロノナン、シクロオクタン、シクロペンタン、ジブロモメタン、ジクロロジフェニルトリクロロエタン、ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジプロピレングリコール、酢酸エチル、エチルベンゼン、エチルエーテル、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチルベンゼン、エチレングリコール、ホルムアミド、フルフラール、ヘプタフルオロシクロペンタン、ヘプタフルオロプロピルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサン、イソアミルアルコール、酢酸イソブチル、イソブチルイソブチレート、イソメトキシノナフルオロブタン、イソメトキシノナフルオロブタン、イソホロン、酢酸イソプロピル、酢酸メトキシプロピル、メチルアミルケトン、メチルクロライド、メチルクロロホルム、メチルエチルケトン、メチルグリコールアセテートメチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、モノクロロトルエン、モノチオホスフェート、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−デカン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−メチルピロリドン、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−プロピルアセテート、オルト−ジクロロベンゼン、パークロロエタン、パークロロエチレン、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール、第３アミルアルコール、第３ブチルアルコール、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、トルエン、トランス−１，２−ジクロロエチレン、トルクロロエチレン、トリクロロフルオロメタン、トリエチレングリコール、塩化ビニル、キシレン、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択することができる。
【０１０６】
アルコールの濃度は、還元可能な溶媒の約０％〜約９０％である。アルコールの例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソブタノール、１−ブタノール、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノール、アセトンアルコール、アリルアルコール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、エチルグリコール、エチレングリコール、フルフリルアルコール、イソアミルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、プロピレングリコール、第３アミアルコール、第３ブチルアルコール、トリエチレングリコール、そしてそれらの組み合わせからなる群から選択することができる。還元可能な薬剤の例は、前に列挙している。
【０１０７】
本発明の一形態では、電気化学脱保護溶液は、有機溶媒と、アルコールと、ベンゾキノン誘導体と、ヒドロキノン誘導体と、その有機溶媒に可溶な有機塩と、反応性有機塩基とからなる。水系の脱保護溶液を用いることができない、あるいはあまり好ましくない場合には、有機溶媒は脱保護溶液を提供し、有機系の脱保護溶液を用いて良好な特性を得ることができる。有機溶媒は、成分を溶解し、酸に対して不安定な保護基に対する電気化学脱保護を行うための脱保護溶液を形成できるものであれば特に限定されない。理論に囚われることなく、アルコールの量が脱保護溶液に添加されるヒドロキノン誘導体の量を支配し、アルコール量を増やすと脱保護溶液に添加するヒドロキノン誘導体の量も増える。アルコールは、活性電極にプロトン源をも提供する。理論に囚われることなく、ベンゾキノン誘導体は、おそらくカソードで反応し、ヒドロキノン誘導体又は中間体を生成する。理論に囚われることなく、ヒドロキノン誘導体は、おそらくアノードで反応し、ベンゾキノン誘導体又は中間体を生成する。理論に囚われることなく、塩は脱保護溶液に導電性を付与し、活性電極上で酸性試薬を電気化学的に生成させ、脱保護反応を生起させる。理論に囚われることなく、反応性有機塩基は、活性電極の直上の空間から拡散して酸性試薬を反応することにより、電気化学的に生成した酸性試薬を活性電極に閉じ込める。
【０１０８】
本発明では、電極マイクロアレイ上での合成プロセスの過程で、酸に対して不安定な保護基を有する反応性モノマーが電極に結合した反応層に共有結合する。保護基は、合成時にモノマーの反応部が反応するのを防止し、たとえ隣接する電極であっても、各電極上での異なる構造のポリマー（すなわち、モノマーの集合）の合成を可能とする。また、モノマー種は、調製された表面に予め結合された化学種、例えばリンカーと共有結合により結合する。ここで、リンカーは予め合成された（その場あるいは別の場所で）、短鎖のオリゴヌクレオチド、ペプチド、又は他のポリマー種である。どちらの場合でも、モノマー種の次の結合反応は、同じ種かどうかには関係なく、前に結合していたモノマーの反応部から保護基を脱保護によりまず除去しない限り、起こらない。
【０１０９】
脱保護は、（１）すべての反応液（モノマーを含む）を除去し、マイクロアレイを脱保護溶液で覆うように、脱保護溶液を電極マイクロアレイの中に導入し、（２）コンピュータ・インターフェイスを介してマイクロアレイの電極をアドレスし、（３）アドレスした電極に所定の電圧又は所定の電流を適用し、電極を活性化して、活性化させた電極だけの電極表面で電気化学試薬を生成させ、そして（４）脱保護溶液を除去する。選択した電極を”アドレス”することにより、次のモノマーを結合させるために脱保護するために選択された、特定のサイトの特定の電極に所定の電圧又は所定の電流を適用する。マイクロアレイに対する対極は、通常はカソードであり、マイクロアレイ自身に設けるか、あるいは別の電極を用いることもできる。
【０１１０】
試薬を電気化学的に生成させ、結合分子の化学反応性基から保護基を選択的に除去することができる。本発明の脱保護溶液の存在下で選択した電極に十分な電気ポテンシャル（電圧又は電流）を適用することにより、活性電極でその試薬を生成させることができる。活性電極で（電気化学的に）生成した酸性試薬が、結合分子から酸に対して不安定な保護基を除去することにより、”活性”電極で脱保護反応が起きる。
【０１１１】
接地電位に対し設定電圧を印加するか、設定したアンペア数の電流を流すことにより、活性電極で十分な量の酸を電気化学的に生成させることができる。電圧を設定することにより、適用電圧を一定に維持することができるが、異なる電極や異なる時間による差異により、電流が変化する。アンペア数を設定すると、設定アンペア数となるように常に電圧を変化させることにより、電流を一定レベルに維持することができる。多くの電気化学脱保護に対して最も好ましい方法は、電流規制である、すなわち、電圧を変化させることにより電流を所望の値に維持する。脱保護工程における電流は、電極当たり約１ｎＡ〜約５ｍＡである。好ましい電流は、電極当たり約５０ｎＡ〜２μＡである。電極当たり０．２６μＡは、本発明のほとんどの電気化学脱保護において好ましい電流である。電圧規制の場合、脱保護工程における電圧は、約０．４Ｖ〜約５Ｖである。最も好ましい電圧は、約０．８Ｖ〜約２．６Ｖである。約１．３Ｖは、本発明のほとんどの電気化学脱保護において好ましい電圧である。
【０１１２】
本発明を、電極マイクロアレイ上でのアミノ酸配列又は核酸を含む分子の合成における電気化学脱保護で例示するが、他のオリゴマー又はポリマー又は微小分子の合成にも容易に適用できる。そのようなオリゴマー又はポリマーとしては、例えば、核酸の線状又は分岐ポリマーや、多糖類や、α−、β−又はΩ−アミノ酸を含むペプチド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレア、ポリアミド、ポリエチレンイミン、ポリアリレンスルフィド、ポリシロキサン、ポリイミド、ポリアセテート、分岐ポリマー又は他のポリマーを挙げることができる。好ましい形態として、本発明を、ポリペプチド合成における脱保護工程に用いることができる。別の好ましい形態として、本発明を、ＤＮＡを含むオリゴヌクレオチドの合成における脱保護工程に用いることができる。別の好ましい形態として、本発明を、オリゴヌクレオチド、ポリペプチド、そして他のポリマーを含む微小分子からなるマイクロアレイの合成のための脱保護工程に用いることができ、なお、各電極でポリマー分子が（互いに）異なっても良い。
【０１１３】
”保護基”という用語は、モノマー、リンカー又は予め調製された分子の反応性官能基を保護するために、モノマー、リンカー又は予め調製された分子に結合する物質を意味する。電気化学的に発生させた試薬が保護基を除去する。本発明で用いることのできる保護基には、酸に不安定な保護基すべてが含まれる。さらに、別の好ましい形態では、ホスホールアミダイトのヒドロキシ基が、酸に対して不安定なジメトキシトリチル基（ＤＭＴ）により保護される。
【０１１４】
また、他の保護基を用いることができ、本発明の範囲にも含まれる。例えば、アミノ基は、tert−ブチルオキシカルボニル基、tert−アミルオキシカルボニル基、アダマンチルオキシカルボニル基、１−メチルシクロブチルオキシカルボニル基、２−（ｐ−ビフェニル）プロピル（２）オキシカルボニル基、２−（ｐ−フェニルアゾフェニルイル）プロピル（２）オキシカルボニル基、α,α−ジメチル−３，５−ジメチルオキシベンジルオキシカルボニリル基、２−フェニルプロピル（２）オキシカルボニル基、４−メチルオキシベンジルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、フルフリルオキシカルボニル基、トリフェニルメチル（トリチル）基、ｐ−トルエンスルフェニルアミノカルボニル基、ジメチルホスフィノチオイル基、ジフェニルホスフィノチオイル基、２−ベンゾイル−１−メチルビニル基、ｏ−ニトロフェニルスルフェニル基、ヘキサジエニルオキシカルボニル基、クロロベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシベンジル基、メトキシメチルエーテル基、エトキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニルエーテル基、１−ナフチリデン基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、メトキシトリチル基、フタノイル基、tert−ブチルエステル基、そしてジメチルトリチル基等の酸に対して不安定な保護基により保護される。別の例として、tert−ブチルエステルは、カルボン酸基を保護することができる。
【０１１５】
本発明の好ましい形態として、有機溶媒はアセトニトリルである。本発明の別の好ましい形態では、有機溶媒はメチレンクロライドである。本発明の範囲から逸脱しない範囲で、他の有機溶媒を用いることもできる。一般に、理論に囚われることなく、他の溶媒としては、脂肪族炭水素、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素、アルコール、グリコール、グリコールエーテル、エーテル、エステル、ケトン、アルデヒド、アミド、そしてアミンを挙げることができる。他の種類の溶媒も用いることができ、本発明の範囲に含まれる。
【０１１６】
以下のものは、本発明を実施するのに適した溶媒の例であり、１，１，１−トリロロエタン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，４−ジクロロベンゼン、１−ブタノール、１−ヘキセン、１−プロパノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアセテート、２−ブトキシエタノールアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−メトキシエタノール、２−メチルヘキサン、２−ニトロプロパン、酢酸、アセトンアルコール、アセトン、アセトニトリル、アリルアルコール、ベンゼン、ベンゾトリフルオライド、ベンジルクロライド、ビフェニル、二硫化炭素、四塩化炭素、クロロベンゼン、クロロブロモメタン、シクロデカン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロノナン、シクロオクタン、シクロペンタン、ジアセトンアルコール、ジビロモエタン、ジｊクロロジフェニルトリクロロエタン、ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、ジエタノールアミン、ジエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジメチルエタノールアミン、ジメチルホルムアミド、ジプロピレングリコール、エタノール、エチルアセテート、エチルベンゼン、エチルエーテル、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチルベンゼン、エチレングリコール、ホルムアミド、ギ酸、フルフラール、フルフリルアルコール、ヘプタフルオロシクロペンタン、ヘプタフルオロプロピルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサン、イソアミルアルコール、イソブチルアセテート、イソブチルアルコール、イソブチルイソブチレート、イソメトキシノナフルオロブタン、イソ−メトキシノナフルオロブタン、イソホロン、イソプロピルアセテート、イソ−プロピルアルコール、イソプロピルアミン−ストリアジン(striazine)、メタノール、メトキシプロピルアセテート、メチルアミルケトン、メチルクロライド、メチルクロロホルム、メチルエチルケトン、メチルグリコールアセテートメチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、メチレンクロライド、モノクロロトルエン、モノチオホスフェート、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−デカン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−メチルピロリドン、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ブチルアセテート、ｎ−メトキシノナフルオロブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−プロピルアセテート、ｎ−プロピルアルコール、オルト−ジクロロベンゼン、パークロロエタン、パークロロエチレン、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール、ピリジン、t−アミルアルコール、t−ブチルアルコール、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、トルエン、トランス−１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエテン、トリクロロエチレン、トリクロロフルオロメタン、トリエタノールアミン、トリエチレングリコール、ビニルクロライド、そしてキシレンを挙げることができる。
【０１１７】
本発明の好ましい形態として、アルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール又はイソブタノールである。最も好ましい形態として、アルコールはメタノール又はイソプロパノールである。本発明に好ましくかつ本発明の範囲に含まれる他のアルコールやグリコールの例としては、１−ブタノール、２−ブトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノールアセテート、２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールアセテート、２−メトキシエタノール、アセトンアルコール、アリルアルコール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、ジエタノールアミン、ジエチレングリコール、ジメチルエタノールアミン、ジプロピレングリコール、エタノール、エチルグリコールアセテート、エチルグリコール、エチレングリコール、フルフリルアルコール、イソアミルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール。t−アミルアルコール、t−ブチルアルコール、トリエタノールアミン、そしてトリエチレングリコールを挙げることができる。上述のアルコールやグリコールの例には、アルコールやグリコールが溶媒に溶けて本発明の脱保護溶液を形成することが可能であり、電気化学脱保護により酸に対して不安定な保護基を除去することができる場合には、２種以上のアルコールやグリコールの混合物も含まれる。
【０１１８】
本発明の好ましい形態では、電気化学脱保護溶液は、約１ｍＭ〜２Ｍのヒドロキンと、約０ｍＭ〜２０ｍＭのベンゾキノンと、約０．０００１ｍＭ〜２００ｍＭのルチジンと、そして約０．１〜５Ｍの有機塩と、そして約０％〜８０％のメタノールと残部がアセトニトリルからなる溶媒とからなる。
【０１１９】
本発明の一形態では、ヒドロキノンとベンゾキノンの代わりに、チオフェノール、１，４−ブタンジチオール、１，３−プロパンジチール、メチルチオフェン又は他のチオールを用いることができる。この脱保護溶液は、酸に対して不安定な保護基を除去するのに用いることができる。その電気化学脱保護溶液は、約０．１ｍＭ〜２．０Ｍのチオフェノール、１，４−ブタンジチール、１，３−プロパンジチオール、メチルチオフェン、又は他のチオール、又はそれらの組み合わせと、約０．１ｍＭ〜５Ｍの有機塩と、約０．０００１ｍＭ〜２００ｍＭのルチジンと、還元可能な溶媒とからなる。
【０１２０】
本発明の別の形態では、ヒドロキノンとベンゾキノンの代わりに、チオフェノール、１，４−ブタンジチオール、１，３−プロパンジチール、メチルチオフェン又は他のチオールを用いることができる。この脱保護溶液は、酸に対して不安定な保護基を除去するのに用いることができる。その電気化学脱保護溶液は、約０．１ｍＭ〜２．０Ｍのチオフェノール、１，４−ブタンジチール又は１，３−プロパンジチオール、又はメチルチオフェン、又はそれらの組み合わせと、約０．０００１ｍＭ〜２００ｍＭのルチジンと、約０．１〜５Ｍの有機塩と、約０％〜６０％のメタノールと残部がアセトニトリルからなる溶媒とからなる。
【０１２１】
本発明の別の形態では、酸に対して不安定な保護基の電気化学脱保護方法が提供され、その方法は、アレイ電極の少なくとも１個の電極に所定の電圧又は所定の電流を適用することを含む。電極のアレイは、本発明の電気化学脱保護溶液のいずれか一つにより覆われている。
【実施例】
【０１２２】
以下の実施例は、単に本発明を説明し、図示し、明確にするためのものであり、本発明の範囲を限定するものではない。
【０１２３】
実施例１．
一の好ましい脱保護溶液は、１Ｍのヒドロキノン、１０ｍＭのベンゾキノン、５０ｍＭのテトラエチルアンモニウムパラトルエンスルホネート、５ｍＭのルチジン、２０％のメタノール、８０％のアセトニトリルとからなる。その溶液は、メタノールとアセトニトリルをまず混合して調製する。すべての混合物を添加すると、約１リットルの溶液が得られたが、これは溶液中のヒドロキノン量により体積が大きく増加したためである。最初にベンゾキノンを添加し、次いでヒドロキノンを添加し、次いで塩、そしてルチジンを添加した。ベンゾキノンを最初に添加するが、それは最初に添加しないと十分に溶解しないからである。溶液を攪拌プレート上で攪拌棒を用いて混合した。すべての成分が溶解するまで混合した。溶液を使用するまで、混合を続けた。
【０１２４】
実施例２．
アノードへの脱保護の閉じ込めに対する有機塩基の効果を検討するため、本発明の方法に従い電気化学脱保護溶液を調製した。所定量のルチジンを含む電気化学脱保護溶液の存在下で電気化学的に生成させた酸によるジメトキシトリチル（ＤＭＴ）の除去の効率及び特性を調べるために、Ｃｙ３（蛍光色素）ホスホアミダイトで標識する工程を手順として含む。具体的には、５’ヒドロキシル基をＤＭＴで保護した５−ｍｅｒオリゴヌクレオチドで電極マイクロアレイチップを初期化した。種々のルチジン量の存在下で、ＤＭＴ保護基を除去するために、特定の電極上で酸を電気化学的に生成させた。Ｃｙ３ホスホアミダイトは、ＤＭＴで保護されていないすべての５’ヒドロキシル基に結合しているので、蛍光顕微鏡を用いて電気化学脱保護を可視化することができる。
【０１２５】
同じオリゴヌクレオチドを、各電極（ＡＣＴＧＴ，５’→３’）で合成した。ＤＭＴは、最終”Ａ”ヌクレオチド塩基に残っており、電気化学脱保護に対する有機塩基の効果を調べることができる。調製した電気化学脱保護溶液は、５０ｍＭのヒドロキノン、２．５ｍＭのアントラキノン、５０ｍＭのテトラエチルアンモニウムパラトルエンスルホネート、そして有機塩基として種々の量の２，６−ルチジン、１０体積％のメタノールと９０体積％のアセトニトリルからなる溶媒とからなる。ルチジンの濃度は０．１又は５ｍＭである。電気化学脱保護は、２．０Ｖの定電圧で２４０秒行った。脱保護後、脱保護された領域を観察するため、Ｃｙ３ホスホアミダイトを結合させた。
【０１２６】
図１は、電極アレイの上面を拡大したものである。そのパターンは、２列形式１１４において、アノードとカソードが交互に配置され、ルチジン濃度は、０ｍＭ（１１０，１１２）、１ｍＭ（１０６，１０８）、そして５ｍＭ（１０２，１０４）である。脱保護溶液中のルチジン濃度が５ｍＭ（１０２，１０４）又は１ｍＭ（１０６，１０８）である場合、アノード１１８に直近する領域の外側の明るい領域が減少しており、アノード近傍の領域に脱保護がより閉じ込められていた。ルチジン１２２が存在しないと、Ｃｙ３蛍光色素による明るい領域が広がっており、アノードへの閉じ込めの効果は弱かった。
【０１２７】
実施例３．
アノードへの脱保護の閉じ込めに対する有機塩基の効果を検討するため、本発明の方法に従い電気化学脱保護溶液を調製した。所定量のルチジンを含む電気化学脱保護溶液の存在下で電気化学的に生成させた酸によるジメトキシトリチル（ＤＭＴ）の除去の効率及び特性を調べるために、Ｃｙ３（蛍光色素）ホスホアミダイトで標識する工程を手順として含む。具体的には、５’ヒドロキシル基をＤＭＴで保護した５−ｍｅｒオリゴヌクレオチドで電極マイクロアレイチップを初期化した。種々のルチジン量の存在下で、ＤＭＴ保護基を除去するために、特定の電極上で酸を電気化学的に生成させた。Ｃｙ３ホスホアミダイトは、ＤＭＴで保護されていないすべての５’ヒドロキシル基に結合しているので、蛍光顕微鏡を用いて電気化学脱保護を可視化することができる。
【０１２８】
同じオリゴヌクレオチドを、各電極（ＡＣＴＧＴ，５’→３’）で合成した。ＤＭＴは、最終”Ａ”ヌクレオチド塩基に残っており、電気化学脱保護に対する有機塩基の効果を調べることができる。調製した電気化学脱保護溶液は、５０ｍＭのヒドロキノン、２．５ｍＭのアントラキノン、５０ｍＭのテトラエチルアンモニウムパラトルエンスルホネート、そして有機塩基として種々の量の２，６−ルチジン、１０体積％のメタノールと９０体積％のアセトニトリルからなる溶媒とからなる。ルチジンの濃度は０．５又は２５ｍＭである。電気化学脱保護は、２．０Ｖの定電圧で６０秒行った。脱保護後、脱保護された領域を観察するため、Ｃｙ３ホスホアミダイトを結合させた。
【０１２９】
図２は、電極アレイの上面を拡大したものである。そのパターンは、２列形式２１８，２０６，２１６において、アノードとカソードが交互に配置され、ルチジン濃度は、０ｍＭ（２１２，２１４）、５ｍＭ（２０２，２０４）、そして２５ｍＭ（２０８，２１０）である。脱保護溶液中のルチジン濃度が２５ｍＭ（２０８，２１０）又は５ｍＭ（２０２，２０４）である場合、アノード２２４，２２６に直近する領域の外側の明るい領域が減少しており、アノード近傍の領域に脱保護がより閉じ込められていた。ルチジン２２２が存在しないと、Ｃｙ３蛍光色素による明るい領域が広がっており、アノードへの閉じ込めの効果は弱かった。
【０１３０】
実施例４．
本アッセイにおいては、電極マイクロアレイ上で３５−ｍｅｒのＤＮＡオリゴヌクレオチドを合成したが、各電極は異なる配列を有している。合成後、オリゴヌクレオチドを化学的に脱保護した。合成（合成時における電気化学保護）領域は、４℃、６ＸＳＳＰＥ＋０．１％Ｔｗｅｅｎ溶液中で１ｎＭの濃度で５’末端にＣｙ５をラベルしたランダム９−ｍｅｒＤＮＡオリゴマーをハイブリダイズすることにより決定した。マイクロアレイを６ＸＳＳＰＥで３回洗浄し、Ａｘｏｎ  ＧｅｎｅＰｉＸ（登録商標）スキャナーを用い、６ＸＳＳＰＥ中でＣｙ５の蛍光を可視化した。
【０１３１】
調製した電気化学脱保護溶液は、１Ｍのヒドロキノン、１０ｍＭのベンゾキノン、５０ｍＭのテトラエチルアンモニウムパラトルエンスルホネート、そして有機塩基として種々の量の２，６−ルチジン、２０体積％のメタノールと８０体積％のアセトニトリルからなる溶媒とからなる。ルチジンの濃度は０又は５ｍＭである。図３では、ルチジンを用いず、電極当たり０．１２５μＡの電流を６０秒流すことにより電気化学脱保護を行った。図４では、５ｍＭルチジンを用い、電極当たり０．２６μＡの電流を６０秒流すことにより電気化学脱保護を行った。図３では、いくつかの電極の周囲にある白いハローが、電極から離れたその領域で脱保護が起きていることを示している。溶液中にルチジンが存在している図４では、白いハローが消失しており、電極から離れたところで脱保護が起きていないことを示している。
【０１３２】
実施例５．
電気化学脱保護溶液は、以下の表１の処方に基づいて調製した。
【０１３３】
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2008538128.tif 000025
【０１３４】
実施例６．
電気化学脱保護溶液を以下の表２の処方に基づいて調製した。
【０１３５】
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【０１３６】
実施例７．
本実施例では、コンビマトリックス・カスタムアレイ(Combimatrix CustomArray（登録商標)）１Ｋマイクロアレイを用いた。本アッセイでは、２０−ｍｅｒＤＮＡオリゴヌクレオチドを、図５に示すボックスパターンの中のマイクロアレイ上で合成した。合成は、塩基（２，６−ルチジン（２，６−ジメチルピリジン））の濃度を変えて行った。酸を選択的に生成させる活性電極に電気化学的に生成する酸を閉じ込めるために、塩基を添加した。用いた塩基の濃度は、０，１，５，そして２０ｍＭである。電気化学脱保護溶液は、５０ｍＭのヒドロキノン、２．５ｍＭのアントラキノン、５０ｍＭのテトラエチルアンモニウムパラトルエンスルホネート、そして選択された一の濃度の２，６−ルチジンを用いて調製した。溶媒は、１５体積％のメタノールと８５体積％のアセトニトリルである。
【０１３７】
隣接する電極を対極（カソード）とする図１から４の実施例とは異なり、本実施例では、マイクロアレイから離れた共通電極をカソードとして用いた。合成に用いた電極は、周囲に８個の電極を有するボックスパターンであって、中央の電極とその周囲の電極とが離間した状態に配置した。活性電極上で酸を生成させるための電流は、１分間に１μＡとした。合成終了後、オリゴヌクレオチドを化学的に脱保護した。電極上での合成は、マイクロアレイにＣｙ５をタグした相補ＤＮＡをハイブリダイズすることにより解析した。Ａｘｏｎ  ＧｅｎｅＰｉＸスキャナーをＣｙ５蛍光観察用に設定して、Ｃｙ５を観察した。
【０１３８】
図５は、電気化学的に生成させた酸の閉じ込めに対する、異なる濃度の２，６−ルチジンの効果を示している。塩基の濃度が少なすぎると（０及び１ｍＭ）、電気化学的に生成させた酸は活性電極から遠くに拡散し、合成は中央の電極だけでなくボックスパターンを囲む使用していない電極にまで広がって起きている（ケースＡとＢ）。好ましい量の塩基を用いると（５ｍＭ）、閉じ込めが良好に行われ、パターン中の８個の活性電極のみで合成を行うことができた（ケースＣ）。塩基が多すぎると、酸は活性電極付近に存在する塩基をすべて中和することができないので、完全に脱保護の反応を進行させることはできなかった（ケースＤ）。
【図面の簡単な説明】
【０１３９】
【図１】電極マイクロアレイの一部の上面の拡大落射蛍光画像であり、電界化学脱保護溶液中の２，６−ルチジンによる酸の閉じ込めの効果を示している。ルチジンの濃度は０，１，又は５ｍＭである。電気化学脱保護は２Ｖで２４０秒行った。脱保護された領域を蛍光で映像化するために、Ｃｙ３で標識したホスホールミダイトをアレイに結合させた。
【図２】電極マイクロアレイの一部の上面の拡大落射蛍光画像であり、電界化学脱保護溶液中の２，６−ルチジンによる酸の閉じ込めの効果を示している。ルチジンの濃度は０，５，又は２５ｍＭである。電気化学脱保護は２Ｖで６０秒行った。脱保護された領域を蛍光で映像化するために、Ｃｙ３で標識したホスホールミダイトをアレイに結合させた。
【図３】電極マイクロアレイの一部の上面の拡大落射蛍光画像であり、脱保護溶液の中に有機塩基が含まれない場合の効果を示しており、アノードのいくつかには周囲は白く曇っていることで確認できる。脱保護された領域を蛍光で映像化するために、Ｃｙ３で標識したホスホールミダイトをアレイに結合させた。
【図４】電極マイクロアレイの一部の上面の拡大落射蛍光画像であり、脱保護溶液の中に有機塩基が含まれる場合の効果を示しており、白い曇りがないことが確認できる。
【図５】電極マイクロアレイ上で電気化学的に生成した酸の閉じ込めに対する２，６−ルチジンの濃度の効果を示している。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【配列表】
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【手続補正書】
【提出日】平成20年5月29日(2008.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】配列表
【補正方法】変更
【補正の内容】
【配列表】
2008538128000001.app
【国際調査報告】
2008538128.tif 000056