(57)【要約】  フィールド電圧が１，８００Ｖから３５，０００Ｖである電界または電磁界を、１２から６００Ｖの電圧、０．１μＡから１００μＡの電流強度、１０，０００から３５，０００Ｈｚの周波数によって形成する装置を有する治療装置。
2008526330.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
治療装置において、
フィールド電圧が１，８００Ｖから３５，０００Ｖである電界または電磁界を、１２から６００Ｖの電圧、０．１μＡから１００μＡの電流強度、１０，０００から３５，０００Ｈｚの周波数によって形成する装置を有する、ことを特徴とする治療装置。
【請求項２】
請求項１記載の治療装置において、
１２Ｖから５０Ｖの電圧、とりわけ有利には１８Ｖから２８Ｖの電圧を有する電界または電磁界を形成する装置を有する、ことを特徴とする治療装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の治療装置において、
０．１μＡから２０μＡの電流強度、とりわけ有利には０．８μＡから１０μＡの電流強度を有する電界または電磁界を形成する装置を有する、ことを特徴とする治療装置。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか一項記載の治療装置において、
２０，０００Ｈｚから４０，０００Ｈｚの周波数、とりわけ有利には２５，０００Ｈｚから３８，０００Ｈｚの周波数を有する電界または電磁界を形成する装置を有する、ことを特徴とする治療装置。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれか一項記載の治療装置において、
電界または電磁界を形成する装置は、実質的にハンドグリップ（１１）内に配置されており、該ハンドグリップは直列に接続されたコイルと治療ゾンデ（１２）を有する、ことを特徴とする治療装置。
【請求項６】
請求項１から５までのいずれか一項記載の治療装置において、
電界または電磁界を形成する装置は、治療ゾンデとして中空のガラスゾンデ（１２，５）を有し、該ガラスゾンデには少なくとも導電性のガスが充填されている、ことを特徴とする治療装置。
【請求項７】
請求項１から６までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記治療ゾンデは、ア―スするための電流導出装置（２７，２８，２９）を有する、ことを特徴とする治療装置。
【請求項８】
請求項１から７までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記治療ゾンデには、少なくとも１つの希ガスまたは任意の希ガス混合体が充填されている、ことを特徴とする治療装置。
【請求項９】
請求項１から８までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記治療ゾンデには、アルゴンおよびネオンからなる希ガス混合体が充填されている、ことを特徴とする治療装置。
【請求項１０】
請求項１から９までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記治療ゾンデには、３０Ｖｏｌ．％のアルゴンおよび７０Ｖｏｌ．％のネオンからなる希ガス混合体が充填されている、ことを特徴とする治療装置。
【請求項１１】
請求項１から１０までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記治療ゾンデの上方端部は、場合により凸面状の細い先端（１５，１６）として構成されている、ことを特徴とする治療装置。
【請求項１２】
請求項１から１１までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記治療ゾンデの上方端部は、場合により凸面状の円錐状先端（１７）として構成されている、ことを特徴とする治療装置。
【請求項１３】
請求項１から１２までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記治療ゾンデの上方端部は鈍い先端（１８）として、場合により円錐状に、場合により凸面状または凹面状に構成されている、ことを特徴とする治療装置。
【請求項１４】
請求項１から１３までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記治療ゾンデの上方端部はレンズ状の端部（１９，２０）として、場合により凸面状または凹面状に構成されている、ことを特徴とする治療装置。
【請求項１５】
請求項１から１４までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記治療ゾンデの上方端部は、凹面状の端部（１）として構成されている、ことを特徴とする治療装置。
【請求項１６】
請求項１から１５までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記治療ゾンデの上方端部は、拡張された端部として構成されている、ことを特徴とする治療装置。
【請求項１７】
請求項１から１６までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記治療ゾンデはその上方端部に、上方端部が開放したエラスティックなキャップ（２）、または細管に終端するキャップ、またはカップの形状に構成されたキャップを有する、ことを特徴とする治療装置。
【請求項１８】
請求項１から１７までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記治療ゾンデの上方端部は、櫛の形状を有する、ことを特徴とする治療装置。
【請求項１９】
請求項１から１７までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記治療ゾンデは、開放した円形フレーム（１３）の２つの端部（１４）にそれぞれ配置されている、ことを特徴とする治療装置。
【請求項２０】
請求項１から１７までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記ゾンデはガス吸収装置（２３）を有する、ことを特徴とする治療装置。
【請求項２１】
請求項２０記載の治療装置において、
前記ガス吸収装置（２３）はゾンデの長手軸に沿ってスライドする、ことを特徴とする治療装置。
【請求項２２】
請求項２０または２１記載の治療装置において、
前記ガス吸収装置（２３）はゾンデ上に金属装填物（２４）を有する、ことを特徴とする治療装置。
【請求項２３】
請求項２１から２２までのいずれか一項記載の治療装置において、
前記ガス吸収装置（２３）はゾンデ上に一方の端部で開口部（２７）を有し、該開口部は開放または閉鎖することができる、ことを特徴とする治療装置。
【請求項２４】
請求項２１から２３までのいずれか一項記載の治療装置において、
ゾンデ上のガス吸収装置（２３）の前記開口部（２７）にはカニューレ（２５）が接続されており、該カニューレはフレキシブルなまたは非フレキシブルな細管（２６）を有する、ことを特徴とする治療装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は治療装置に関する。
【０００２】
バクテリヤ、ウィルス、および菌類は人間および動物、とりわけ歯の治療で常に問題である。
【０００３】
ＥＰ１３３５６８０Ｂ１には、カリエス用の治療装置が記載されており、この治療装置はオゾン発生器とをバケットとを有する。オゾン発生器からオゾンが管路を介してハンドピースに導かれ、このハンドピースはオゾンを治療すべき歯に送出する。バケットはハンドピースに固定されており、これによりガスを吸収し、歯の選択された領域をオゾンに曝す。ここでバケットは、これが選択された領域を完全に密閉するように構成されており、これにより有毒なオゾンが環境空気に漏出することがなく、患者および歯の治療を実行する歯科医師が保護される。オゾンは再び吸引され、循環され、還元される。この治療装置は構造的に大型であり、重量がある。
【０００４】
本発明の課題は、従来技術を改善し、とりわけ扱いやすい小型の治療装置を提供することである。この治療装置は有害なオゾンをほとんど放出せず、したがって吸引装置と、オゾンを還元するための還元源を必要とせず、それにもかかわらず健康上の心配のない酸化ガスが使用され、カリエスが軽減するだけでなく、皮膚表面上および歯と口腔内のすべての菌を殺菌することができ、とりわけ治療は健常な歯では完全に無痛である。
【０００５】
本発明の対象は、１，８００Ｖから３５，０００Ｖのフィールド電圧を備える電界または電磁界を、１２Ｖから６００Ｖの電圧、０．１μＡから１００μＡの電流強度、および１０，０００Ｈｚから３５，０００Ｈｚの周波数によって形成する装置を有する治療装置である。
【０００６】
電界または電磁界は、１２Ｖから６００Ｖの電圧、有利には１２Ｖから５０Ｖの電圧、特に有利には１８Ｖから２８Ｖの電圧、０．１μＡから１００μＡの電流強度、有利には０．１μＡから２０μＡの電流強度、特に有利には０．８μＡから１０μＡの電流強度、１０，０００Ｈｚから５０，０００Ｈｚの周波数、有利には２５，０００Ｈｚから４０，０００Ｈｚの周波数、特に有利には２５，０００Ｈｚから３８，０００Ｈｚの周波数により形成される。電界または電磁界内の電圧は、１，８００Ｖから３５，０００Ｖ、有利には８，０００Ｖから１８，０００Ｖ、特に有利には１２，０００Ｖから１８，０００Ｖである。
【０００７】
本発明の治療装置は有利には人間または動物での適用のためのものである。
【０００８】
本発明の治療装置は有利にはハンドグリップに高電圧トランスを有する。この高電圧トランスは直列に接続されたコイルの形態で巻線を備える。ここでコイルは１２から２０，有利には１４から１８、特に有利には１６であり、有利には特別のコア、有利には初期透磁性μｉが３５０から８５０、有利には４５０から７５０、特に有利には５５０から６５０、まったく有利には６００のロッド型コアを有し、これにより１８，０００Ｖから３５，０００Ｖのフィールド電圧を形成する。上に述べた１０，０００Ｈｚから５０，０００Ｈｚの制御周波数は、３５０Ｈｚから５００Ｈｚ、有利には４００Ｈｚから４８０Ｈｚ、特に有利には４３０Ｈｚから４６０Ｈｚ、まったく特に有利には４５０Ｈｚの反復周波数により、または１０８０Ｈｚから１２８０Ｈｚ（無痛カリエス治療のために）、有利には１１２０Ｈｚから１２４０Ｈｚ（無痛カリエス治療のために）の反復周波数により形成される。このパルス周波数は半導体スイッチ、有利にはＭＯＳスイッチングトランジスタにより達成される。この半導体スイッチは有利にはハンドグリップに配置され、これにより良好な出力が供給ケーブルのインダクタンス損失およびキャパシタンス損失なしで達成される。このパルス形式は、減衰された振動を励振する短い矩形パルスである。パルス幅は１から３０μｓの間であり、有利には１から１３μＳの間で調整可能である。この調整は、最高出力段の５％から１００％で酸素原子を形成する出力を制御する。
【０００９】
チャンバ内に巻回された小型の高圧トランスはハンドグリップ内でシールドされ、最小の電磁的障害しか形成しない。ここでケーシング漏れ電流は全出力時でも１０μＡであり非常に小さい。患者電流が８０μＡより大きくなると、電子回路は有利には自動的に遮断する。治療時間、患者電流監視、および遮断は有利にはマイクロチップを介して制御される。臨床的実験で、歯科治療の場合、治療時間は４０ｓが有利であることが判明した。これは有利には信号音により指示することができる。
【００１０】
ハンドグリップにはゾンデ、有利には中空ガラスゾンデが配置されている。このゾンデにはガス、有利には導電性のガスが充填されており、ガスは有利には少なくとも１つの希ガスまたは任意の混合希ガスである。有利な実施形態では、治療ゾンデはガラス製空洞部からなり、真空にされているか、または真空にすることができる。治療ゾンデには有利には別のガラス製空洞部が配置されており、この空洞部にはガスが充填されており、治療ゾンデの上方端部まで伸長している。すなわち治療ゾンデの先端に移行する。ガラスゾンデはその下方端部にシリンダ状の金属シャッタを有する。前記下方端部にガラスゾンデはハンドグリップ内で、有利には形状結合したクランプジョイントを介して固定されている。ガラスゾンデの上方端部、すなわち先端は適用形式に応じて構成されている。歯に適用する場合、ガラスゾンデは先鋭な端部、または丸まった端部、または拡張したレンズ状端部を有し、先端自体は平坦に、凸状に、または凹状に構成することができる。皮膚科で皮膚表面に適用する場合に対しては、大きなレンズ状端部が有利であり、比較的に大きな面積を治療することができる。痔核を治療するためのゾンデは長く尖っており、中央が拡張している。子宮口用のゾンデは長く尖っており、僅かに曲がった先端を有する。頭皮または毛髪濾胞を治療するためのゾンデは櫛の形状を有し、櫛の歯はこの場合、Ｕ字形のガラス管である。ガラス管はゾンデの本体と結合しており、Ｕ字形のガラス管はゾンデの本体に向かって解放しており、ガスが妨げられずにゾンデ全体の中を循環することができる。歯は１，２，３，４，５，６，７，８等であるが、４つの歯が有利である。すべてのゾンデは基本的に、有利にはシリコン製のキャップを担持することもできる。キャップはスペースホルダとして用いられるか、または毛細管内に終端するか、またはコップの形態に構成されており、歯に、または歯の周囲に、または歯の上に係合することができる。ゾンデはまた身体部分全体を収容することができる。身体部分は例えば手、脚、腕、または足等である。さらに相応に構成されたガスゾンデは耳（耳道）、肛門、膣、口腔領域（例えば舌、扁桃）、並びに筋肉、関節、眼（まぶた、眼球）、鼻穴、喉および脊椎、足または手（爪）等に適用することができる。ガラスゾンデには少なくとも導電性ガス、有利には希ガスが０．１から１０００ｍｂａｒの負圧で、有利には０．１から５００ｍｂａｒ、特に有利には０．１から１０ｍｂａｒ、まったく特に有利には２ｍｂａｒから５ｍｂａｒ、さらに特別に有利には３ｍｂａｒから５ｍｂａｒの負圧で充填されている。希ガスとして有利には任意の希ガス混合気、特に有利にはアルゴンとネオンの混合気が使用され、ネオンがアルゴンよりも多く含まれる。０Ｖｏｌ．％のアルゴンから１００Ｖｏｌ．％のネオン、有利には１０Ｖｏｌ．％のアルゴンから９０Ｖｏｌ．％のネオン、特に有利には３０Ｖｏｌ．％のアルゴンから７０Ｖｏｌ．％のネオン、特別有利には３０Ｖｏｌ．％のアルゴンと７０Ｖｏｌ．％のネオンの混合気が使用される。
【００１１】
有利な実施形態では、治療ゾンデがアースへの電流導出装置を有し、この装置は有利には、身体と接触するか、またはほぼ接触する個所の近傍でゾンデに固定されている。この電流導出装置は、電流を導くことができる任意の装置であり、液体、ガス、または金属製の装置とすることができ、有利には金属製のワイヤであり、ゾンデのガラス端部からゾンデに沿ってアースに案内される。有利にはワイヤはゾンデの外側または内側でアースに導かれる。ワイヤがゾンデの内側を案内される場合には、ゾンデは二重壁でなければならない。電流導出装置、例えば電流導出液体または電流導出ガス、有利には金属製ワイヤは、治療ゾンデに固定されたパイプに配置することができる。パイプは有利にはプラスチック、金属、またはガラス製である。ワイヤは有利には、身体と接触するまたはほぼ接触する個所の近傍でゾンデに固定される。ここで導出部、すなわちワイヤとガラスゾンデとの間には空間があり、この空間は身体と接触する、治療ゾンデの上方端部に固定されている。
さらにゾンデ端部が凹状の場合、ゾンデ端部は空洞部に固定することができる。ゾンデ端部が尖っている場合、ゾンデ先端に沿っていずれかの個所に固定することができ、ゾンデ端部がレンズ形状の場合、有利にはレンズ縁部に固定される。電流導出装置の固定は有利には、ワイヤを治療ゾンデの上方端部でガラスに溶かし込むか、接着するか、またはクランプジョイントにより固定する。このクランプジョイントは治療ゾンデの先端を介して張引される。クランプジョイントはリングとして構成することができ、金属またはプラスチックからなる。リングは有利には剛性または有利には弾性とすることができ、有利はシリコンエラストマである。驚くべきことに、痛みに敏感な患者でも、アースへの電流導出装置を有する治療ゾンデはまったく痛みを感じないことが発見された。
【００１２】
酸化ガス源は、治療装置が酸化ガスをガラスゾンデで有利には環境空気酸素または純粋酸素から形成するように構成されている。治療ゾンデはハンドグリップに取付けられており、静電ガス放電の原理にしたがい電界が２つの極間に、ここではゾンデと患者との間に形成される。ゾンデは絶縁体、すなわち空気により分離されている。限界電界強度から電界には持続的放電過程によって電子が形成される。この電子は、環境空気に含まれる酸素をイオン化酸素、すなわち基に分解し、高反応性物質（発生期の酸素）、例えば主として形成される酸素原子、ヒドロキシルイオン、オゾン、およびその他を形成する。３５０００Ｈｚまでの交流電圧を印加すると、電極間、すなわちガスゾンデと患者との間に放電過程が発生し、これと結び付いて、電子濃度の高い電界が発生する。基は、空気の分子が電子と衝突し、このときに高いエネルギーレベルに達することにより発生する。高反応性の酸素原子は、適用個所の菌と反応する。このときにオゾンが発生するが、このオゾンは０．１ｐｐｍのＭＡＫ（最大作業場濃度）限界よりも低く、ＭＡＫ値の１８％である。驚くべきことには、本発明の電流強度と周波数の領域でとりわけ多くの酸素原子が形成される。酸素原子はオゾン形成の前にも、オゾン崩壊の際にも形成される。本発明の治療装置で形成されるオゾンは組織に吸収されると崩壊する。とりわけ歯科治療での水生の環境では、すなわち細胞間物質内では約１０分で元の濃度が半減する。
【００１３】
本発明の治療装置は、電流強度が低く、酸素原子形成が高いので、動物および人間の皮膚表面の治療、雑菌除去、血行促進、およびひいてはリンパ液流の向上に特に適する。従って、感染した傷、床ずれ、爪剥離症、にきび、頭痛、偏頭痛、血腫、乾癬、神経性皮膚炎、筋肉炎および関節炎、一般的なスポーツ損傷、一般的に皮膚科学、産婦人科学、眼科学、腫瘍、皮膚炎、感染性皮膚病、毛髪濾胞および脂腺の病気、錯角化症、皮膚の水疱形成症、皮膚の丘疹鱗屑性疾患、いぼ、および歯科学の治療に特に適する。
【００１４】
これに対して従来技術ではオゾンが閉鎖されたシステムで形成される。オゾン発生器は本体に収容されており、この本体からオゾンがシリコンホースを通ってシリコンベルにポンピングされる。このシリコンベルは治療対象物（例えば歯）にしっかりと当接される。シリコンベルが十分に気密に閉鎖された場合だけオゾン発生器は動作する。オゾンは毎秒１００回、ベル内で交換される。使用されないオゾンはシリコンホースの第２のチャネルを介して本体に帰還され、そこで再び空気酸素に再変換される。
【００１５】
従来技術での４，０００，０００μｇ／ｍ３＝２，１００ｐｐｍの高いオゾン濃度は実際非常に高く、そのため酸素原子の第１形成フェーズは治療に使用されず、オゾン自体ではなくこの酸素原子が雑菌を除去する。なぜならオゾンはまず酸素原子に再び崩壊し、それから再び酸素分子に反応しなければならないからである。雑菌除去のための酸素原子の割合は、本発明の装置では従来技術に対して係数１００以上大きい。文献の記載によればオゾンは次亜塩素酸（ＨＯＣＬ）より２５倍効果的であり、クロラミン（ＮＨ２ＣＬ）より５，０００倍効果的である。
【００１６】
歯科治療装置としての本発明の治療装置は、適用個所のすべての菌を約４０秒以内に殺菌する。
【００１７】
本発明の歯科治療装置は有利には以下の適用領域で使用される。
１．  歯肉炎
２．  歯周炎
３．  口内炎（真菌症を含む）
４．  アフタ
５．  ヘルペス（ｌａｐｉａｌｉｓ）
６．  インプラント周囲
７．  歯牙難生
８．  空洞（研磨後の）
９．  過敏症
１０．  表在性カリエス（研磨後の裂溝カリエス、歯頚カリエス）
１１．  中央カリエス
１２．  深在性カリエス（残留カリエス）
１３．  歯髄穿孔／充血
１４．  歯根治療（最終手段）
１５．  歯冠残根（歯冠のセメント処理前）
１６．  抜歯傷（凝血−安定化）
１７．  Ｋｏａｇｕｌａｐｈａｔｉｅ  （Ａｌｖｉｏｌｉｔｉｓ）
１８．  漏血
１９．  チャネル切削（インプラント取り込み前）
２０．  傷口領域（手術前／後）
２１．  分岐部浸食
２２．  フィステル
２３．  神経痛
２４．  筋関節炎（非機能症を含む）。
【００１８】
特に驚くべきことには、本発明の治療装置によって無痛カリエス治療が可能である。これにより機械的器具によるカリエスの剔刮は最小限に低減される。なぜなら絶対的な殺菌により、歯物質をそれ以上、切削する必要がないからである。歯髄損傷ないしは、現在では歯根治療が後で行われ、歯の生命が失われる歯芽が、本発明の治療装置による殺菌に基づき、歯の生命が維持されて上手く治療される。特に驚くべきことには、膿の下にある歯が顎から除去され、歯と歯が除去された個所が本発明の治療装置により治療され、歯と顎が無菌状態とされた後に、再び移植されると、遅くとも１０日後に再び顎でしっかりと成長し、これによりインプラントが必要なくなる。本発明の治療装置による治療によって、通常は行われる外科的介入および抗生物質の投与が回避される。
【００１９】
本発明の治療装置のさらに有利な実施形態では、電磁界を形成する装置が（受話器に似た）開放した円形フレームのそれぞれ２つの端部に配置されており、この装置はガスゾンデに終端指、これにより電界または電磁界を有利には顎関節筋に形成する。この装置により中枢神経固着が除去される。この装置の作用原理は、緊張した筋肉および筋硬直での病理学的過程である。病理学的状態を十分に正常化するための治療的基礎が形成される。使用される酸素原子は、グリコシスを活性化するグルタチオンペルオキシダーゼの形成を刺激する。
【００２０】
本発明の原理によって、ヘモグロビンに酸素飽和が生じる（好気性の筋肉収縮に対する十分な酸素提供）。血液の流動学的特性が増大する。過剰遊離基が除去される。同時に磁界パルスが筋肉を刺激する。血行促進と温度上昇がその結果である。これによりリンパ流が促進される。本発明の装置により、高度に緊張した顎間接筋自体も弛緩される。本発明の装置の有利な実施形態はとりわけ病気予防に適する：
１．  正確でずれのない噛み合わせのために
２．  エラー位置の矯正のために
３．  口の開度が制限されているため困難な治療の回避
４．  間違った噛み合わせから生じる関連症の回避
５．  長期の治療による過度の捻れの回避および以下の治療：
６．  鎮痛および弛緩
７．  （顎関節の誤位置の結果としての）偏頭痛
８．  脊椎の苦痛（顎間接筋の誤位置による）
９．  夜間ないし昼間の歯ぎしり
１０．  顎関節の関節炎（顎関節症）
１１．  開口障害。
【００２１】
有効性試験
出発材料は例外なしに虫歯である。虫歯は抽出後に生理的食塩水を備える搬送容器に入れられた。以下の試料がスチールフライス（直径１．９ｍｍのローズドリル）ないしはダイヤモンド分離ディスクによって作製された：
グループ１：フライスされたカリエス歯材料（ボーリング屑）；
グループ２：歯セグメント、軟化ゾーンの基部まで標本された；
グループ３：歯セグメント、軟化ゾーンを越えて、着色された特別に堅い象牙質まで標本された。
【００２２】
すべての試料は処理後、無菌の塩化ナトリウム溶液に注入され、３５℃の孵化器で２４時間（それぞれ別個に）保存され、次に激しくシェークされ、続いてコロンビア寒天（去勢雄羊血液が５％添加された）を有するペトリシャーレにそれぞれ注入され、バクテリア懸濁液が培養基全体に均等に分散された。培養は１００時間以上、同様に３５℃で行われた。
【００２３】
すべてのグループは本発明の歯科治療装置によって４０秒処理された。その後、処理されたグループ１−３のペトリシャーレは無菌であった。
【００２４】
図面
図１
図１は、本発明の治療装置の有利な実施形態を示す。
図２から７
図２から７は、本発明の治療ソンデの有利な実施形態を示す。
図３から８
図３から８は、本発明の治療ソンデの有利な実施形態を示す。
図８
図８は、皮膚表面を治療するのに有利な治療ゾンデを示す。
図９
図９は、本発明の治療装置用の本発明の付加機器を示す。この付加機器には電界または電磁界を形成する装置が開放した円形フレームの２つの端部に配置されている。
図１０
図１０は、本発明の治療ゾンデにガス吸収装置が挿入されている装置を示す。
図１１
図１１は、電流導出装置を備える本発明の治療ゾンデの有利な実施形態を示す。
図１２
図１２は、櫛形ゾンデの実施形態を示す。
【００２５】
図１には、本発明の治療装置の有利な実施形態が示されている。治療装置は構造形式に起因して比較的小型の本体６を有する。この本体には回転ノブ７と指示フィールド８が取付けられている。この回転ノブにより酸化ガスの作用量が調整され、指示フィールド８により酸化ガスの作用量が指示される。本体には接続カプラ９を介してスパイラルケーブル１０が取付けられており、このスパイラルケーブル１０はハンドグリップ１１に導かれており、コイル（図示せず）を有する。ハンドグリップ１１の端部には、治療に応じてそれぞれのゾンデ１２が取付けられる。
【００２６】
図１は、カリエス治療用のＣＡ治療ゾンデを示す。このゾンデはその先端に有利には凹面状の端部１と、有利にはシリコーンからなるスペースホルダとしてのキャップ２を有する。このゾンデは３００，０００ｐｐｍまでの酸素原子をもっぱら空洞部に形成する。さらに細管に終端するキャップまたは歯に係合するキャップを載せることもできる。ＣＡ治療ゾンデはまた、スペースホルダとして用いられるキャップなしでも駆動することができる。ゾンデの下方端部はシリンダ状の金属ロック３である。
ゾンデは中空のガラス本体５を有し、このガラス本体はゴムリング４を有する。このゴムリングは、液体が治療ゾンデに沿って、この治療ゾンデが形状結合して差し込まれているハンドグリップの内側に浸透し、治療ゾンデ端部の下方金属ロックとハンドグリップとの接触面を汚染するのを阻止する。この接触面はクリーニングするのが困難である。
【００２７】
図３は、Ｐａ領域８番に対するＰＡ／８ゾンデを示す。このゾンデはその先端１５に細い先端を４５°の角度で有する。この先端は有利には凸面状に構成することもできる。本体は図２で説明した治療ゾンデと同じである。
【００２８】
図４は、歯周炎用のＰＡゾンデを示す。このゾンデは細い先端１６を９０°の角度で有する。この先端も有利には凸面状に構成することができる。本体は図２で説明した治療ゾンデと同じである。
【００２９】
図５は、有利には歯根チャネル治療、裂溝またはカリエス用のＣＲゾンデである治療ゾンデを示す。このゾンデはその先端１７に円錐状の端部を有する。この円錐状の端部は、図３の治療ゾンデにプラスチック製の円錐物を挿入することによっても形成することができる。円錐物は、歯根チャネルまでの間隔を保持するために、とりわけガラスゾンデの破損のおそれを低減するために用いられる。先端はまた有利には凸面状に構成することができる。本体は図２で説明した治療ゾンデと同じである。
【００３０】
図６は、歯槽およびフライスチャネル用のＡＬゾンデである治療ゾンデを示す。このゾンデはその先端１８に鈍った、場合により円錐形状の、有利には凸面状に構成された先端を有する。本体は図２で説明した治療ゾンデと同じである。
【００３１】
図７は、歯肉用のＧＩゾンデである治療ゾンデを示す。このゾンデはその先端に拡張したキノコ状の、有利には凹面状の端部１９を有する。本体は図２で説明した治療ゾンデと同じである。
【００３２】
図８は、感染性のまたは炎症した傷口のある皮膚表面を治療するための治療ゾンデであり、特別に大きなレンズ状の平坦な、または凸面状のまたは凹面状の端部２０を有する。本体は図２で説明した治療ゾンデと同じである。
【００３３】
図９は、本発明の治療装置用の本発明の付加機器を示す。この付加機器には電界または電磁界を形成する装置が開放した円形フレーム１３の２つの端部１４に配置されている。また図１の本発明の治療装置６に接続するための接続カプラ６を備えるケーブル１０が示されている。
【００３４】
図１０は、基本的に本発明の各治療ゾンデに使用することのできる本発明の付加機器を示す。ここではガス、有利には導電性のガスを含むゾンデにガス吸収装置２３が取付けられる。ガス吸収装置２３は、プラスチック、ガラス、絶縁された金属または金属からなる通常の先端２３とすることができる。このガス吸収装置は有利には気密にゾンデ先端２１に装着される。このときゾンデ自体はパッキンリング２２を、さらに良好に密閉するために有することができる。本発明のガス吸収装置２３は有利にはゾンデの長手軸に沿ってスライドされ、これによりその中で形成され、存在している酸化ガスがガス吸収装置２３から搬送される。このことは開放または閉鎖することのできる開口部を介して行われる。この開口部には、有利にはプラスチックまたは金属製のカニューレ２５および細管２６を備えるアタッチメントが装着される。細管はフレキシブルまたは非フレキシブルであり、この細管を介してガスが歯にある傷ポケット、歯根チャネルまたは歯根切除部、またはその他の適用個所に供給され、そこで殺菌が行われる。酸化ガスは空気酸素から、治療ゾンデの駆動により電界が形成されることによって形成される。このために必要な酸素はピストンにより吸引されるか、またはホース管路により外部から供給される。
【００３５】
ガス吸収装置２３には金属装填物が存在することができる。この金属装填物は酸化ガスによって侵襲されない特殊鋼、チタン、プラチナ、ロジウム、金等のような貴金属である。この金属装填物は酸化ガスの形成を、指によりそれを押圧し、対向電極を形成することによって改善する。金属装填物はピン、パイプ、または有利にはグリッドとすることができる。基本的に酸化ガスは金属装填物なしでも、指をガス吸収装置２３の前方部で押し付けることだけによって形成することができる。
【００３６】
図１１は、本発明の電流導出装置を有する治療ゾンデを示す。この電流導出装置はアース２９に導かれるワイヤ２８に対する固定装置２７を有する。本体は中空のガラス本体５であり、このガラス本体はゴムリング４を有する。このゴムリングは、液体が治療ゾンデに沿って、この治療ゾンデが形状結合して差し込まれているハンドグリップの内側に浸透し、治療ゾンデ端部の下方金属ロックとハンドグリップとの接触面を汚染するのを阻止する。この接触面はクリーニングするのが困難である。
【００３７】
図１２は櫛形ゾンデを示す。この櫛形ゾンデは、頭皮または毛髪濾胞の病気を治療するためのゾンデであり、櫛の形状を有する。
櫛の歯３０はこの場合、Ｕ字形のガラス管であり、ゾンデの本体とＵ字形のパイプがゾンデの本体に対して開放しているように接続しており、これによりガスは妨げられずにゾンデ全体の中を循環することができる。本体は図２で説明した治療ゾンデと同じである。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明の治療装置の有利な実施形態を示す。
【図２】本発明の治療ソンデの有利な実施形態を示す。
【図３】本発明の治療ソンデの有利な実施形態を示す。
【図４】本発明の治療ソンデの有利な実施形態を示す。
【図５】本発明の治療ソンデの有利な実施形態を示す。
【図６】本発明の治療ソンデの有利な実施形態を示す。
【図７】本発明の治療ソンデの有利な実施形態を示す。
【図８】皮膚表面を治療するのに有利な治療ゾンデを示す。
【図９】本発明の治療装置用の本発明の付加機器を示す。
【図１０】本発明の治療ゾンデにガス吸収装置が挿入されている装置を示す。
【図１１】電流導出装置を備える本発明の治療ゾンデの有利な実施形態を示す。
【図１２】櫛形ゾンデの実施形態を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【手続補正書】
【提出日】平成19年9月7日(2007.9.7)
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
人間および動物用の治療装置において、
フィールド電圧が１，８００Ｖから３５，０００Ｖである電界または電磁界を、１２から６００Ｖの電圧、０．１μＡから１００μＡの電流強度、１０，０００から３５，０００Ｈｚの周波数によって形成する装置を有する、ことを特徴とする治療装置。
【国際調査報告】
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