(57)【要約】  ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除することによりツーリング仕様を生成することを含む、ツーリング仕様生成システムを使用してフォトマスクを製造するのに使用されるフォトマスク注文を生成する方法。論理オペレーションに必要とされる情報は、データベース等の外部ソースからインポートすることができ、且つ／又は、ルックアップリストから選択することができる。論理オペレーションの式を構成する演算子のエイリアスをフォトマスク顧客が望むように変更することができる。ツーリング仕様のフォーマットは、フォトマスク顧客のコンピュータシステムが検証することができる。ツーリング仕様は、当該ツーリング仕様の解析のために、さまざまな独自フォーマット及び業界標準フォーマットでフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信され、フォトマスク設計は、ツーリング仕様を使用してシミュレーションすることができる。フォトマスク顧客のコンピュータシステムは、解析結果の受信後、ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成する。フォトマスク注文は、その後、フォトマスクの製造のためにフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信される。ツーリング仕様生成システムは、スタンドアロンシステムとすることもできるし、フォトマスク注文生成システムと一体化することもできる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスクを製造する方法であって、
フォトマスク顧客のコンピュータシステムからツーリング仕様を受信するステップと、
前記ツーリング仕様を解析するステップと、
前記解析の結果を前記フォトマスク顧客の前記コンピュータシステムへ送信するステップと、
前記ツーリング仕様に基づいて生成されたフォトマスク注文を受信するステップと、
前記フォトマスク注文に基づいてフォトマスクを製造するステップと
を含む、フォトマスクを製造する方法。
【請求項２】
前記ツーリング仕様は、さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び標準フォトマスクデータフォーマットのうちの少なくとも１つで受信される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び前記標準フォトマスクデータフォーマットは、ＧＤＳＩＩ、ＭＥＢＥＳ、Ｏａｓｉｓ、ＤＸＦ、Ａｐｐｌｉｃａｎ、．ｃｆｌｔ、．ｃｉｎｃ、及び．ｐｓのうちの少なくとも１つを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記ツーリング仕様は解析され、それによって、前記ツーリング仕様の妥当性、実現可能性、及び望ましさのうちの少なくとも１つが判断される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記解析の前記結果は、
ホットスポット及び計測学のマッピング、マスク製造ルール違反、特徴カウント及びレイアウト密度の統計量、リソグラフィ印刷及び可変性の感度解析、マスクコスト及びサイクル時間の見積もり並びに削減についての提案、リソグラフィに対するニーズと整合するマスク仕様、フルチッププロセスウィンドウ及び／又はＣＤ制御の見積もり、オルタネートＲＥＴシナリオの可能性
のうちの少なくとも１つを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ツーリング仕様を解析した後、前記フォトマスク顧客の前記コンピュータシステムへ前記ツーリング仕様を返信するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記フォトマスク顧客の前記コンピュータシステムへ前記ツーリング仕様を返信する前に、前記解析に基づいて前記ツーリング仕様を変更するステップをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記ツーリング仕様を使用してフォトマスク設計をシミュレーションするステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記ツーリング仕様は、前記シミュレーションされたフォトマスク設計を使用して解析される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
フォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文を生成する方法であって、
ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除することにより前記ツーリング仕様を生成するステップと、
前記ツーリング仕様の解析のために前記ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するステップと、
前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムから前記解析の結果を受信するステップと、
前記ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成するステップと、
前記フォトマスク注文を前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムへ送信するステップと
を含む、フォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文を生成する方法。
【請求項１１】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントは、データレイヤ属性、入力データ属性、式、パターングループ、及びエイリアスのうちの少なくとも１つを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのデータを外部ソースからインポートするステップをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記データをインポートするステップは、コマンドラインジェネレータ及びスキャナのうちの少なくとも一方を使用して行われる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記外部ソースは、データベース、ＧＤＳＩＩファイル、ＭＥＢＥＳファイル、及びフォトマスク注文テンプレートのうちの少なくとも１つである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記外部ソースはデータベースであり、前記データベースは、前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムと共有される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのうちの少なくとも１つは、少なくとも１つのルックアップリストから選ばれる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１７】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントは、少なくとも１つのエイリアスを含み、
前記方法は、前記少なくとも１つのエイリアスをそのデフォルト値から変更するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
前記ツーリング仕様のフォーマットを検証するステップをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１９】
前記ツーリング仕様の前記フォーマットは、一組のルールを使用して検証される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
サードパーティのデータフラクチャリングアプリケーションが使用できるフォーマットに前記ツーリング仕様を変換するステップをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項２１】
前記ツーリング仕様は、さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び標準フォトマスクデータフォーマットのうちの少なくとも１つで生成される、請求項１０に記載の方法。
【請求項２２】
前記さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び前記標準フォトマスクデータフォーマットは、ＧＤＳＩＩ、ＭＥＢＥＳ、Ｏａｓｉｓ、ＤＸＦ、Ａｐｐｌｉｃａｎ、．ｃｆｌｔ、．ｃｉｎｃ、及び．ｐｓのうちの少なくとも１つを含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
グラフィックスユーティリティインターフェース、ウィザード、及びコマンドジェネレータのうちの少なくとも１つを使用して、前記論理オペレーションの前記コンポーネントのデータを入力するステップをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項２４】
前記データを入力するステップは、グラフィックスユーティリティインターフェースを使用して行われる、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記データを入力するステップは、ウィザードを使用して行われる、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
前記データを入力するステップは、コマンドジェネレータを使用して行われる、請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムは、前記ツーリング仕様を解析して、前記ツーリング仕様の妥当性、実現可能性、及び望ましさのうちの少なくとも１つを判断する、請求項１０に記載の方法。
【請求項２８】
前記解析の前記結果は、
ホットスポット及び計測学のマッピング、マスク製造ルール違反、特徴カウント及びレイアウト密度の統計量、リソグラフィ印刷及び可変性の感度解析、マスクコスト及びサイクル時間の見積もり並びに削減についての提案、リソグラフィに対するニーズと整合するマスク仕様、フルチッププロセスウィンドウ及び／又はＣＤ制御の見積もり、オルタネートＲＥＴシナリオの可能性
のうちの少なくとも１つを含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記ツーリング仕様を使用してフォトマスク設計をシミュレーションするステップをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項３０】
前記ツーリング仕様は、前記シミュレーションされたフォトマスク設計を使用して解析される、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
フォトマスク注文を処理する方法であって、
フォトマスク顧客のコンピュータシステムからツーリング仕様を受信するステップと、
前記ツーリング仕様を解析するステップと、
前記解析の結果を前記フォトマスク顧客の前記コンピュータシステムへ送信するステップと、
前記ツーリング仕様に基づいて生成されたフォトマスク注文を受信するステップと
を含む、フォトマスク注文を処理する方法。
【請求項３２】
前記ツーリング仕様は、さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び標準フォトマスクデータフォーマットのうちの少なくとも１つで受信される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び前記標準フォトマスクデータフォーマットは、ＧＤＳＩＩ、ＭＥＢＥＳ、Ｏａｓｉｓ、ＤＸＦ、Ａｐｐｌｉｃａｎ、．ｃｆｌｔ、．ｃｉｎｃ、及び．ｐｓのうちの少なくとも１つを含む、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記ツーリング仕様は解析され、それによって、前記ツーリング仕様の妥当性、実現可能性、及び望ましさのうちの少なくとも１つが判断される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３５】
前記解析の前記結果は、
ホットスポット及び計測学のマッピング、マスク製造ルール違反、特徴カウント及びレイアウト密度の統計量、リソグラフィ印刷及び可変性の感度解析、マスクコスト及びサイクル時間の見積もり並びに削減についての提案、リソグラフィに対するニーズと整合するマスク仕様、フルチッププロセスウィンドウ及び／又はＣＤ制御の見積もり、オルタネートＲＥＴシナリオの可能性
のうちの少なくとも１つを含む、請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
前記ツーリング仕様を解析した後、前記フォトマスク顧客の前記コンピュータシステムへ前記ツーリング仕様を返信するステップをさらに含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項３７】
前記フォトマスク顧客の前記コンピュータシステムへ前記ツーリング仕様を返信する前に、前記解析に基づいて前記ツーリング仕様を変更するステップをさらに含む、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
前記ツーリング仕様を使用してフォトマスク設計をシミュレーションするステップをさらに含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項３９】
前記ツーリング仕様は、前記シミュレーションされたフォトマスク設計を使用して解析される、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
ツーリング仕様生成システムを使用してツーリング仕様を生成する方法であって、
前記仕様生成システム外部のソースから、論理オペレーションの少なくとも１コンポーネントに関するデータをインポートするステップと、
前記論理オペレーションの前記少なくとも１コンポーネントに基づいてツーリング仕様を生成するステップと、
前記ツーリング仕様の解析のために前記ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するステップと
を含む、ツーリング仕様生成システムを使用してツーリング仕様を生成する方法。
【請求項４１】
前記ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成するステップをさらに含む、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
前記論理オペレーションの前記少なくとも１コンポーネントは、データレイヤ属性、入力データ属性、式、パターングループ、及びエイリアスのうちの少なくとも１つを含む、請求項４０に記載の方法。
【請求項４３】
前記データをインポートするステップは、コマンドラインジェネレータ及びスキャナのうちの少なくとも一方を使用して行われる、請求項４０に記載の方法。
【請求項４４】
前記外部ソースは、データベース、ＧＤＳＩＩファイル、ＭＥＢＥＳファイル、及びフォトマスク注文テンプレートのうちの少なくとも１つである、請求項４０に記載の方法。
【請求項４５】
前記外部ソースはデータベースであり、前記データベースは、前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムと共有される、請求項４０に記載の方法。
【請求項４６】
前記論理オペレーションの他の少なくとも１コンポーネントを、少なくとも１つのルックアップリストから選ぶステップをさらに含む、請求項４０に記載の方法。
【請求項４７】
前記ツーリング仕様のフォーマットを検証するステップをさらに含む、請求項４０に記載の方法。
【請求項４８】
前記ツーリング仕様の前記フォーマットは、一組のルールを使用して検証される、請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
サードパーティのデータフラクチャリングアプリケーションが使用できるフォーマットに前記ツーリング仕様を変換するステップをさらに含む、請求項４０に記載の方法。
【請求項５０】
前記ツーリング仕様は、さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び標準フォトマスクデータフォーマットのうちの少なくとも１つで生成される、請求項４０に記載の方法。
【請求項５１】
前記さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び前記標準フォトマスクデータフォーマットは、ＧＤＳＩＩ、ＭＥＢＥＳ、Ｏａｓｉｓ、ＤＸＦ、Ａｐｐｌｉｃａｎ、．ｃｆｌｔ、．ｃｉｎｃ、及び．ｐｓのうちの少なくとも１つを含む、請求項５０に記載の方法。
【請求項５２】
グラフィックスユーティリティインターフェース、ウィザード、及びコマンドジェネレータのうちの少なくとも１つを使用して、前記論理オペレーションの他の少なくとも１コンポーネントのデータを入力するステップをさらに含む、請求項４０に記載の方法。
【請求項５３】
他の少なくとも１コンポーネントのデータを入力するステップは、グラフィックスユーティリティインターフェースを使用して行われる、請求項４０に記載の方法。
【請求項５４】
他の少なくとも１コンポーネントのデータを入力するステップは、ウィザードを使用して行われる、請求項４０に記載の方法。
【請求項５５】
他の少なくとも１コンポーネントのデータを入力するステップは、コマンドジェネレータを使用して行われる、請求項４０に記載の方法。
【請求項５６】
前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムは、前記ツーリング仕様を解析して、前記ツーリング仕様の妥当性、実現可能性、及び望ましさのうちの少なくとも１つを判断する、請求項４０に記載の方法。
【請求項５７】
前記解析の結果は、
ホットスポット及び計測学のマッピング、マスク製造ルール違反、特徴カウント及びレイアウト密度の統計量、リソグラフィ印刷及び可変性の感度解析、マスクコスト及びサイクル時間の見積もり並びに削減についての提案、リソグラフィに対するニーズと整合するマスク仕様、フルチッププロセスウィンドウ及び／又はＣＤ制御の見積もり、オルタネートＲＥＴシナリオの可能性
のうちの少なくとも１つを含む、請求項５６に記載の方法。
【請求項５８】
前記ツーリング仕様を使用してフォトマスク設計をシミュレーションするステップをさらに含む、請求項４０に記載の方法。
【請求項５９】
前記ツーリング仕様は、前記シミュレーションされたフォトマスク設計を使用して解析される、請求項５８に記載の方法。
【請求項６０】
フォトマスクの製造に使用されるツーリング仕様を生成する方法であって、
ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除することにより前記ツーリング仕様を生成するステップと、
特定の標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットに従ったフォーマットで前記ツーリング仕様を出力するステップと
を含む、フォトマスクの製造に使用されるツーリング仕様を生成する方法。
【請求項６１】
前記ツーリング仕様のフォーマットを検証するステップをさらに含む、請求項６０に記載の方法。
【請求項６２】
前記ツーリング仕様の前記フォーマットは、一組のルールを使用して検証される、請求項６１に記載の方法。
【請求項６３】
前記さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び前記標準フォトマスクデータフォーマットは、ＧＤＳＩＩ、ＭＥＢＥＳ、Ｏａｓｉｓ、ＤＸＦ、Ａｐｐｌｉｃａｎ、．ｃｆｌｔ、．ｃｉｎｃ、及び．ｐｓのうちの少なくとも１つを含む、請求項６１に記載の方法。
【請求項６４】
フォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文を生成する方法であって、
グラフィカルユーザインターフェース、ウィザード、及びコマンドジェネレータのうちの少なくとも１つを使用して、論理オペレーションの少なくとも１コンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除することによりツーリング仕様を生成するステップであって、前記論理オペレーションは前記ツーリング仕様によって表される、生成するステップと、
前記ツーリング仕様の解析のために前記ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するステップと、
前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムから前記解析を受信するステップと、
前記ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成するステップと、
前記フォトマスク注文を前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムへ送信するステップと
を含む、フォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文を生成する方法。
【請求項６５】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントは、データレイヤ属性、入力データ属性、式、パターングループ、及びエイリアスのうちの少なくとも１つを含む、請求項６４に記載の方法。
【請求項６６】
前記論理オペレーションの他の少なくとも１コンポーネントのデータを外部ソースからインポートするステップをさらに含む、請求項６４に記載の方法。
【請求項６７】
前記データをインポートするステップは、コマンドラインジェネレータ及びスキャナのうちの少なくとも一方を使用して行われる、請求項６６に記載の方法。
【請求項６８】
前記外部ソースは、データベース、ＧＤＳＩＩファイル、ＭＥＢＥＳファイル、及びフォトマスク注文テンプレートのうちの少なくとも１つである、請求項６６に記載の方法。
【請求項６９】
前記外部ソースはデータベースであり、前記データベースは、前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムと共有される、請求項６８に記載の方法。
【請求項７０】
前記論理オペレーションの前記他の少なくとも１コンポーネントは、少なくとも１つのルックアップリストから選ばれる、請求項６６に記載の方法。
【請求項７１】
前記論理オペレーションの前記少なくとも１コンポーネントは、少なくとも１つのエイリアスを含み、
前記方法は、前記少なくとも１つのエイリアスをそのデフォルト値から変更するステップをさらに含む、請求項６４に記載の方法。
【請求項７２】
前記ツーリング仕様のフォーマットを検証するステップをさらに含む、請求項６４に記載の方法。
【請求項７３】
前記ツーリング仕様の前記フォーマットは、一組のルールを使用して検証される、請求項７２に記載の方法。
【請求項７４】
サードパーティのデータフラクチャリングアプリケーションが使用できるフォーマットに前記ツーリング仕様を変換するステップをさらに含む、請求項６４に記載の方法。
【請求項７５】
前記ツーリング仕様は、さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び標準フォトマスクデータフォーマットのうちの少なくとも１つで生成される、請求項６４に記載の方法。
【請求項７６】
前記さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び前記標準フォトマスクデータフォーマットは、ＧＤＳＩＩ、ＭＥＢＥＳ、Ｏａｓｉｓ、ＤＸＦ、Ａｐｐｌｉｃａｎ、．ｃｆｌｔ、．ｃｉｎｃ、及び．ｐｓのうちの少なくとも１つを含む、請求項７５に記載の方法。
【請求項７７】
前記ツーリング仕様を生成するステップは、グラフィックスユーティリティインターフェースを使用して行われる、請求項６４に記載の方法。
【請求項７８】
前記ツーリング仕様を生成するステップは、ウィザードを使用して行われる、請求項６４に記載の方法。
【請求項７９】
前記ツーリング仕様を生成するステップは、コマンドジェネレータを使用して行われる、請求項６４に記載の方法。
【請求項８０】
前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムは、前記ツーリング仕様を解析して、前記ツーリング仕様の妥当性、実現可能性、及び望ましさのうちの少なくとも１つを判断する、請求項６４に記載の方法。
【請求項８１】
前記解析の結果は、
ホットスポット及び計測学のマッピング、マスク製造ルール違反、特徴カウント及びレイアウト密度の統計量、リソグラフィ印刷及び可変性の感度解析、マスクコスト及びサイクル時間の見積もり並びに削減についての提案、リソグラフィに対するニーズと整合するマスク仕様、フルチッププロセスウィンドウ及び／又はＣＤ制御の見積もり、オルタネートＲＥＴシナリオの可能性
のうちの少なくとも１つを含む、請求項８０に記載の方法。
【請求項８２】
前記ツーリング仕様を使用してフォトマスク設計をシミュレーションするステップをさらに含む、請求項６４に記載の方法。
【請求項８３】
前記ツーリング仕様は、前記シミュレーションされたフォトマスク設計を使用して解析される、請求項８２に記載の方法。
【請求項８４】
フォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文生成システムであって、
ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除するためのツーリング仕様ジェネレータと、
前記ツーリング仕様を解析するツーリング仕様アナライザと、
前記ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成し、前記フォトマスク注文をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するフォトマスク注文ジェネレータと
を備える、フォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文生成システム。
【請求項８５】
前記ツーリング仕様アナライザは、前記ツーリング仕様の解析のために前記ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するファイル送信機を備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項８６】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントは、データレイヤ属性、入力データ属性、式、パターングループ、及びエイリアスうちの少なくとも１つを含む、請求項８４に記載のシステム。
【請求項８７】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのうちの少なくとも１つのデータを外部ソースからインポートするデータインポータをさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項８８】
前記データインポータは、コマンドラインジェネレータ及びスキャナのうちの少なくとも一方を備える、請求項８７に記載のシステム。
【請求項８９】
前記外部ソースは、データベース、ＧＤＳＩＩファイル、ＭＥＢＥＳファイル、及びフォトマスク注文テンプレートのうちの少なくとも１つである、請求項８７に記載のシステム。
【請求項９０】
前記外部ソースはデータベースであり、前記データベースは、前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムと共有される、請求項８９に記載のシステム。
【請求項９１】
少なくとも１つのルックアップリストであって、前記少なくとも１つのルックアップリストから、前記論理オペレーションの前記コンポーネントのうちの少なくとも１つが選ばれる、少なくとも１つのルックアップリストをさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項９２】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントは、少なくとも１つのエイリアスを含み、
前記システムは、前記少なくとも１つのエイリアスをそのデフォルト値から変更するためのエイリアスマネージャをさらに備える、請求項８６に記載のシステム。
【請求項９３】
前記論理オペレーションのフォーマットを検証するための論理オペレーション検証器をさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項９４】
前記論理オペレーション検証器は、一組のルールを使用して前記論理オペレーションの前記フォーマットを検証する、請求項９３に記載のシステム。
【請求項９５】
サードパーティのデータフラクチャリングアプリケーションが使用できるフォーマットに前記ツーリング仕様を変換するためのツーリング仕様変換器をさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項９６】
前記ツーリング仕様ジェネレータは、さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び標準フォトマスクデータフォーマットのうちの少なくとも１つで前記ツーリング仕様を生成する、請求項８４に記載のシステム。
【請求項９７】
前記さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び前記標準フォトマスクデータフォーマットは、ＧＤＳＩＩ、ＭＥＢＥＳ、Ｏａｓｉｓ、ＤＸＦ、Ａｐｐｌｉｃａｎ、．ｃｆｌｔ、．ｃｉｎｃ、及び．ｐｓのうちの少なくとも１つを含む、請求項９６に記載のシステム。
【請求項９８】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのデータを入力するためのグラフィックスユーティリティインターフェース、ウィザード、及びコマンドジェネレータのうちの少なくとも１つをさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項９９】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのデータを入力するためのグラフィックスユーティリティインターフェースをさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項１００】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのデータを入力するためのウィザードをさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項１０１】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントを入力するためのコマンドジェネレータをさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項１０２】
前記ツーリング仕様アナライザは、前記ツーリング仕様を解析して、前記ツーリング仕様の妥当性、実現可能性、及び望ましさのうちの少なくとも１つを判断する、請求項８４に記載のシステム。
【請求項１０３】
前記ツーリング仕様アナライザは、
ホットスポット及び計測学のマッピング、マスク製造ルール違反、特徴カウント及びレイアウト密度の統計量、リソグラフィ印刷及び可変性の感度解析、マスクコスト及びサイクル時間の見積もり並びに削減についての提案、リソグラフィに対するニーズと整合するマスク仕様、フルチッププロセスウィンドウ及び／又はＣＤ制御の見積もり、オルタネートＲＥＴシナリオの可能性
のうちの少なくとも１つに関する解析結果を生成する、請求項１０２に記載のシステム。
【請求項１０４】
前記ツーリング仕様を使用してフォトマスク設計をシミュレーションするためのフォトマスク設計シミュレータをさらに備える、請求項８４に記載のシステム。
【請求項１０５】
前記ツーリング仕様アナライザは、前記フォトマスク設計シミュレータによってシミュレーションされた前記フォトマスク設計を使用して前記ツーリング仕様を解析する、請求項１０４に記載のシステム。
【請求項１０６】
フォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文生成システムであって、
ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除するためのツーリング仕様ジェネレータであって、前記ツーリング仕様は、フォトマスク設計のフラクチャリング命令を含む、ツーリング仕様ジェネレータと、
前記フラクチャリング命令を使用して前記フォトマスク設計をシミュレーションするフォトマスク設計シミュレータと、
前記ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成し、前記フォトマスク注文をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するフォトマスク注文ジェネレータと
を備える、フォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文生成システム。
【請求項１０７】
前記ツーリング仕様を解析するためのツーリング仕様アナライザをさらに備える、請求項１０６に記載のシステム。
【請求項１０８】
前記ツーリング仕様アナライザは、前記ツーリング仕様の解析のために前記ツーリング仕様を前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムへ送信する、請求項１０７に記載のシステム。
【請求項１０９】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントは、データレイヤ属性、入力データ属性、式、パターングループ、及びエイリアスのうちの少なくとも１つを含む、請求項１０６に記載のシステム。
【請求項１１０】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのうちの少なくとも１つのデータを外部ソースからインポートするデータインポータをさらに備える、請求項１０６に記載のシステム。
【請求項１１１】
前記データインポータは、コマンドラインジェネレータ及びスキャナのうちの少なくとも一方を備える、請求項１１０に記載のシステム。
【請求項１１２】
前記外部ソースは、データベース、ＧＤＳＩＩファイル、ＭＥＢＥＳファイル、及びフォトマスク注文テンプレートのうちの少なくとも１つである、請求項１１０に記載のシステム。
【請求項１１３】
前記外部ソースはデータベースであり、前記データベースは、前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムと共有される、請求項１１０に記載のシステム。
【請求項１１４】
少なくとも１つのルックアップリストであって、前記少なくとも１つのルックアップリストから、前記論理オペレーションの前記コンポーネントのうちの少なくとも１つが選ばれる、少なくとも１つのルックアップリストをさらに備える、請求項１０６に記載のシステム。
【請求項１１５】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントは、少なくとも１つのエイリアスを含み、
前記システムは、前記少なくとも１つのエイリアスをそのデフォルト値から変更するためのエイリアスマネージャをさらに備える、請求項１０９に記載のシステム。
【請求項１１６】
前記論理オペレーションのフォーマットを検証するための論理オペレーション検証器をさらに備える、請求項１０６に記載のシステム。
【請求項１１７】
前記論理オペレーション検証器は、一組のルールを使用して前記論理オペレーションの前記フォーマットを検証する、請求項１１６に記載のシステム。
【請求項１１８】
サードパーティのデータフラクチャリングアプリケーションが使用できるフォーマットに前記ツーリング仕様を変換するためのツーリング仕様変換器をさらに備える、請求項１０６に記載のシステム。
【請求項１１９】
前記ツーリング仕様ジェネレータは、さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び標準フォトマスクデータフォーマットのうちの少なくとも１つで前記ツーリング仕様を生成する、請求項１０６に記載のシステム。
【請求項１２０】
前記さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び前記標準フォトマスクデータフォーマットは、ＧＤＳＩＩ、ＭＥＢＥＳ、Ｏａｓｉｓ、ＤＸＦ、Ａｐｐｌｉｃａｎ、．ｃｆｌｔ、．ｃｉｎｃ、及び．ｐｓのうちの少なくとも１つを含む、請求項１１９に記載のシステム。
【請求項１２１】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのデータを入力するためのグラフィックスユーティリティインターフェース、ウィザード、及びコマンドジェネレータのうちの少なくとも１つをさらに備える、請求項１０６に記載のシステム。
【請求項１２２】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのデータを入力するためのグラフィックスユーティリティインターフェースをさらに備える、請求項１０６に記載のシステム。
【請求項１２３】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのデータを入力するためのウィザードをさらに備える、請求項１０６に記載のシステム。
【請求項１２４】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントを入力するためのコマンドジェネレータをさらに備える、請求項１０６に記載のシステム。
【請求項１２５】
前記ツーリング仕様アナライザは、前記ツーリング仕様を解析して、前記ツーリング仕様の妥当性、実現可能性、及び望ましさのうちの少なくとも１つを判断する、請求項１０６に記載のシステム。
【請求項１２６】
前記ツーリング仕様アナライザは、
ホットスポット及び計測学のマッピング、マスク製造ルール違反、特徴カウント及びレイアウト密度の統計量、リソグラフィ印刷及び可変性の感度解析、マスクコスト及びサイクル時間の見積もり並びに削減についての提案、リソグラフィに対するニーズと整合するマスク仕様、フルチッププロセスウィンドウ及び／又はＣＤ制御の見積もり、オルタネートＲＥＴシナリオの可能性
のうちの少なくとも１つに関する解析結果を生成する、請求項１２５に記載のシステム。
【請求項１２７】
前記ツーリング仕様アナライザは、前記フォトマスク設計シミュレータによってシミュレーションされた前記フォトマスク設計を使用して前記ツーリング仕様を解析する、請求項１０７に記載のシステム。
【請求項１２８】
フォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文を生成する方法であって、
ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除することにより前記ツーリング仕様を生成するステップであって、前記ツーリング仕様は、フォトマスク設計のフラクチャリング命令を含む、ツーリング仕様を生成するステップと、
前記フラクチャリング命令を使用して前記フォトマスク設計をシミュレーションするステップと、
前記シミュレーションされたフォトマスク設計に基づいて前記ツーリング仕様を解析するステップと、
前記ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成するステップと、
前記フォトマスク注文をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するステップと
を含む、フォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文を生成する方法。
【請求項１２９】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントは、データレイヤ属性、入力データ属性、式、パターングループ、及びエイリアスのうちの少なくとも１つを含む、請求項１２８に記載の方法。
【請求項１３０】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのデータを外部ソースからインポートするステップをさらに含む、請求項１２８に記載の方法。
【請求項１３１】
前記データをインポートするステップは、コマンドラインジェネレータ及びスキャナのうちの少なくとも一方を使用して行われる、請求項１３０に記載の方法。
【請求項１３２】
前記外部ソースは、データベース、ＧＤＳＩＩファイル、ＭＥＢＥＳファイル、及びフォトマスク注文テンプレートのうちの少なくとも１つである、請求項１３０に記載の方法。
【請求項１３３】
前記外部ソースはデータベースであり、前記データベースは、前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムと共有される、請求項１３２に記載の方法。
【請求項１３４】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのうちの少なくとも１つは、少なくとも１つのルックアップリストから選ばれる、請求項１２８に記載の方法。
【請求項１３５】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントは、少なくとも１つのエイリアスを含み、
前記方法は、前記少なくとも１つのエイリアスをそのデフォルト値から変更するステップをさらに含む、請求項１２９に記載の方法。
【請求項１３６】
前記ツーリング仕様のフォーマットを検証するステップをさらに含む、請求項１２８に記載の方法。
【請求項１３７】
前記ツーリング仕様の前記フォーマットは、一組のルールを使用して検証される、請求項１３６に記載の方法。
【請求項１３８】
サードパーティのデータフラクチャリングアプリケーションが使用できるフォーマットに前記ツーリング仕様を変換するステップをさらに含む、請求項１２８に記載の方法。
【請求項１３９】
前記ツーリング仕様は、さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び標準フォトマスクデータフォーマットのうちの少なくとも１つで生成される、請求項１２８に記載の方法。
【請求項１４０】
前記さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び前記標準フォトマスクデータフォーマットは、ＧＤＳＩＩ、ＭＥＢＥＳ、Ｏａｓｉｓ、ＤＸＦ、Ａｐｐｌｉｃａｎ、．ｃｆｌｔ、．ｃｉｎｃ、及び．ｐｓのうちの少なくとも１つを含む、請求項１３９に記載の方法。
【請求項１４１】
グラフィックスユーティリティインターフェース、ウィザード、及びコマンドジェネレータのうちの少なくとも１つを使用して、前記論理オペレーションの前記コンポーネントのデータを入力するステップをさらに含む、請求項１２８に記載の方法。
【請求項１４２】
前記データを入力するステップは、グラフィックスユーティリティインターフェースを使用して行われる、請求項１４１に記載の方法。
【請求項１４３】
前記データを入力するステップは、ウィザードを使用して行われる、請求項１４１に記載の方法。
【請求項１４４】
前記データを入力するステップは、コマンドジェネレータを使用して行われる、請求項１４１に記載の方法。
【請求項１４５】
前記ツーリング仕様が解析され、それによって、前記ツーリング仕様の妥当性、実現可能性、及び望ましさのうちの少なくとも１つが判断される、請求項１２８に記載の方法。
【請求項１４６】
前記解析の結果は、
ホットスポット及び計測学のマッピング、マスク製造ルール違反、特徴カウント及びレイアウト密度の統計量、リソグラフィ印刷及び可変性の感度解析、マスクコスト及びサイクル時間の見積もり並びに削減についての提案、リソグラフィに対するニーズと整合するマスク仕様、フルチッププロセスウィンドウ及び／又はＣＤ制御の見積もり、オルタネートＲＥＴシナリオの可能性
のうちの少なくとも１つを含む、請求項１４５に記載の方法。
【請求項１４７】
フォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文を生成する方法であって、
ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除することにより前記ツーリング仕様を生成するステップと、
前記ツーリング仕様が適切なフォーマットであることを検証するステップと、
前記ツーリング仕様の解析のために前記ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するステップと、
前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムから前記解析を受信するステップと、
前記ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成するステップと、
前記フォトマスク注文を前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムへ送信するステップと
を含む、フォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文を生成する方法。
【請求項１４８】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントは、データレイヤ属性、入力データ属性、式、パターングループ、及びエイリアスのうちの少なくとも１つを含む、請求項１４７に記載の方法。
【請求項１４９】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのデータを外部ソースからインポートするステップをさらに含む、請求項１４７に記載の方法。
【請求項１５０】
前記データをインポートするステップは、コマンドラインジェネレータ及びスキャナのうちの少なくとも一方を使用して行われる、請求項１４９に記載の方法。
【請求項１５１】
前記外部ソースは、データベース、ＧＤＳＩＩファイル、ＭＥＢＥＳファイル、及びフォトマスク注文テンプレートのうちの少なくとも１つである、請求項１４９に記載の方法。
【請求項１５２】
前記外部ソースはデータベースであり、前記データベースは、前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムと共有される、請求項１５１に記載の方法。
【請求項１５３】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのうちの少なくとも１つは、少なくとも１つのルックアップリストから選ばれる、請求項１４７に記載の方法。
【請求項１５４】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントは、少なくとも１つのエイリアスを含み、
前記方法は、前記少なくとも１つのエイリアスをそのデフォルト値から変更するステップをさらに含む、請求項１４７に記載の方法。
【請求項１５５】
前記ツーリング仕様の前記フォーマットは、一組のルールを使用して検証される、請求項１４７に記載の方法。
【請求項１５６】
サードパーティのデータフラクチャリングアプリケーションが使用できるフォーマットに前記ツーリング仕様を変換するステップをさらに含む、請求項１４７に記載の方法。
【請求項１５７】
前記ツーリング仕様は、さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び標準フォトマスクデータフォーマットのうちの少なくとも１つで生成される、請求項１４７に記載の方法。
【請求項１５８】
前記さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び前記標準フォトマスクデータフォーマットは、ＧＤＳＩＩ、ＭＥＢＥＳ、Ｏａｓｉｓ、ＤＸＦ、Ａｐｐｌｉｃａｎ、．ｃｆｌｔ、．ｃｉｎｃ、及び．ｐｓのうちの少なくとも１つを含む、請求項１５７に記載の方法。
【請求項１５９】
グラフィックスユーティリティインターフェース、ウィザード、及びコマンドジェネレータのうちの少なくとも１つを使用して、前記論理オペレーションの前記コンポーネントのデータを入力するステップをさらに含む、請求項１４７に記載の方法。
【請求項１６０】
前記データを入力するステップは、グラフィックスユーティリティインターフェースを使用して行われる、請求項１５９に記載の方法。
【請求項１６１】
前記データを入力するステップは、ウィザードを使用して行われる、請求項１５９に記載の方法。
【請求項１６２】
前記データを入力するステップは、コマンドジェネレータを使用して行われる、請求項１５９に記載の方法。
【請求項１６３】
前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムは、前記ツーリング仕様を解析して、前記ツーリング仕様の妥当性、実現可能性、及び望ましさのうちの少なくとも１つを判断する、請求項１４７に記載の方法。
【請求項１６４】
前記解析の結果は、
ホットスポット及び計測学のマッピング、マスク製造ルール違反、特徴カウント及びレイアウト密度の統計量、リソグラフィ印刷及び可変性の感度解析、マスクコスト及びサイクル時間の見積もり並びに削減についての提案、リソグラフィに対するニーズと整合するマスク仕様、フルチッププロセスウィンドウ及び／又はＣＤ制御の見積もり、オルタネートＲＥＴシナリオの可能性
のうちの少なくとも１つを含む、請求項１６３に記載の方法。
【請求項１６５】
前記ツーリング仕様を使用してフォトマスク設計をシミュレーションするステップをさらに含む、請求項１４７に記載の方法。
【請求項１６６】
前記ツーリング仕様は、前記シミュレーションされたフォトマスク設計を使用して解析される、請求項１６５に記載の方法。
【請求項１６７】
フォトマスクの製造に使用されるツーリング仕様を生成する方法であって、
論理オペレーションのコンポーネントを作成するステップ、変更するステップ、及び削除するステップのうちの少なくとも１つのステップであって、前記コンポーネントは、演算子と、前記演算子に対応する少なくとも１つのエイリアスとを有する少なくとも１つの式を含む、少なくとも１つのステップと、
前記少なくとも１つのエイリアスをデフォルト値から変更するステップと、
前記変更された少なくとも１つのエイリアスを含む前記論理オペレーションに基づいてツーリング仕様を生成するステップと
を含む、フォトマスクの製造に使用されるツーリング仕様を生成する方法。
【請求項１６８】
前記ツーリング仕様の解析のために、前記フォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ前記ツーリング仕様を送信するステップをさらに含む、請求項１６７に記載の方法。
【請求項１６９】
前記ツーリング仕様のフォーマットを検証するステップをさらに含む、請求項１６７に記載の方法。
【請求項１７０】
前記ツーリング仕様に基づいてフォトマスク設計をシミュレーションするステップをさらに含む、請求項１６７に記載の方法。
【請求項１７１】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのデータを外部ソースからインポートするステップをさらに含む、請求項１６７に記載の方法。
【請求項１７２】
前記データをインポートするステップは、コマンドラインジェネレータ及びスキャナのうちの少なくとも一方を使用して行われる、請求項１７１に記載の方法。
【請求項１７３】
前記外部ソースは、データベース、ＧＤＳＩＩファイル、ＭＥＢＥＳファイル、及びフォトマスク注文テンプレートのうちの少なくとも１つである、請求項１７１に記載の方法。
【請求項１７４】
前記外部ソースはデータベースであり、前記データベースは、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムと共有される、請求項１７３に記載の方法。
【請求項１７５】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのうちの少なくとも１つは、少なくとも１つのルックアップリストから選ばれる、請求項１６７に記載の方法。
【請求項１７６】
フォトマスクの製造に使用されるツーリング仕様生成システムであって、
論理オペレーションのコンポーネントの作成、変更、及び削除のうちの少なくとも１つを行うための論理オペレーションマネージャであって、前記コンポーネントは、演算子と、前記演算子に対応する少なくとも１つのエイリアスとを有する少なくとも１つの式を含む、論理オペレーションマネージャと、
前記少なくとも１つのエイリアスをデフォルト値から変更するためのエイリアスマネージャと、
前記変更された少なくとも１つのエイリアスを含む前記論理オペレーションに基づいてツーリング仕様を生成するツーリング仕様ジェネレータと
を備える、フォトマスクの製造に使用されるツーリング仕様生成システム。
【請求項１７７】
前記ツーリング仕様の解析のために前記ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するツーリング仕様アナライザをさらに備える、請求項１７６に記載のシステム。
【請求項１７８】
前記ツーリング仕様のフォーマットを検証するためのツーリング仕様検証器をさらに備える、請求項１７６に記載のシステム。
【請求項１７９】
前記ツーリング仕様に基づいてフォトマスク設計をシミュレーションするフォトマスク設計シミュレータをさらに備える、請求項１７６に記載のシステム。
【請求項１８０】
前記論理オペレーションの前記コンポーネントのうちの少なくとも１つのデータを外部ソースからインポートするためのデータインポータをさらに備える、請求項１７６に記載のシステム。
【請求項１８１】
前記データインポータは、コマンドラインジェネレータ及びスキャナのうちの少なくとも一方を備える、請求項１８０に記載のシステム。
【請求項１８２】
前記外部ソースは、データベース、ＧＤＳＩＩファイル、ＭＥＢＥＳファイル、及びフォトマスク注文テンプレートのうちの少なくとも１つである、請求項１８０に記載のシステム。
【請求項１８３】
前記外部ソースはデータベースであり、前記データベースは、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムと共有される、請求項１８２に記載のシステム。
【請求項１８４】
少なくとも１つのルックアップリストであって、前記少なくとも１つのルックアップリストから、前記論理オペレーションの前記コンポーネントのうちの少なくとも１つが選ばれる、少なくとも１つのルックアップリストをさらに備える、請求項１７６に記載のシステム。
【請求項１８５】
ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除することにより前記ツーリング仕様を生成するステップと、
前記ツーリング仕様の解析のために前記ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するステップと、
前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムから前記ツーリング仕様を受信するステップと、
前記ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成するステップと、
前記フォトマスク注文を前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムへ送信するステップと
を含む方法をコンピュータが実行するためのコンピュータ可読命令を含むコンピュータ可読媒体。
【請求項１８６】
ツーリング仕様生成システムであって、
論理オペレーションの少なくとも１コンポーネントに関するデータを前記ツーリング仕様生成システム外部のソースからインポートするためのデータインポータと、
前記論理オペレーションの前記少なくとも１コンポーネントに基づいてツーリング仕様を生成するためのツーリング仕様ジェネレータと、
前記ツーリング仕様の解析のために前記ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するファイル送信機を備えるツーリング仕様アナライザと
を備える、ツーリング仕様生成システム。
【請求項１８７】
前記データインポータは、コマンドラインジェネレータ及びスキャナのうちの少なくとも一方を備える、請求項１８６に記載のシステム。
【請求項１８８】
前記外部ソースは、データベース、ＧＤＳＩＩファイル、ＭＥＢＥＳファイル、及びフォトマスク注文テンプレートのうちの少なくとも１つである、請求項１８６に記載のシステム。
【請求項１８９】
前記外部ソースはデータベースであり、前記データベースは、前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムと共有される、請求項１８８に記載のシステム。
【請求項１９０】
フォトマスク注文生成システムであって、
グラフィカルユーザインターフェース、ウィザード、及びコマンドジェネレータのうちの少なくとも１つを使用して、論理オペレーションの少なくとも１コンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除するためのツーリング仕様ジェネレータであって、前記論理オペレーションは、前記ツーリング仕様によって表される、ツーリング仕様ジェネレータと、
前記ツーリング仕様の解析のために前記ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するツーリング仕様アナライザと、
前記ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成し、前記フォトマスク注文を前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムへ送信するフォトマスク注文ジェネレータと
を備える、フォトマスク注文生成システム。
【請求項１９１】
前記ツーリング仕様ジェネレータはグラフィックスユーティリティインターフェースを備える、請求項１９０に記載のシステム。
【請求項１９２】
前記ツーリング仕様ジェネレータはウィザードを備える、請求項１９０に記載のシステム。
【請求項１９３】
前記ツーリング仕様ジェネレータはコマンドジェネレータを備える、請求項１９０に記載のシステム。
【請求項１９４】
フォトマスク注文生成システムであって、
ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除するためのツーリング仕様ジェネレータと、
前記論理オペレーションが適切なフォーマットであることを検証するための論理オペレーション検証器と、
前記ツーリング仕様の解析のために前記ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するツーリング仕様アナライザと、
前記ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成し、前記フォトマスク注文を前記フォトマスク製造業者の前記コンピュータシステムへ送信するフォトマスク注文ジェネレータと
を備える、フォトマスク注文生成システム。
【請求項１９５】
前記論理オペレーション検証器は、一組のルールを使用して前記論理オペレーションの前記フォーマットを検証する、請求項１９４に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
［発明の分野］
本発明は、包括的には、フォトマスク注文の生成に使用できる、フォトマスク設計情報を含むツーリング仕様を生成するためのシステム及び方法に関する。より詳細には、本発明は、設計の妥当性、実現可能性、及び／又は望ましさを検証することをフォトマスク製造業者の処理システムに可能にするためにフォトマスク製造業者の処理システムへ転送することができる、フォトマスク設計情報を含むツーリング仕様を生成できるソフトウェアベースのアプリケーションに関する。本発明は、ユーザフレンドリーであり、且つ、さまざまなフラクチャーエンジンフォーマット（fracture engine format）と共に使用することに適合できるツーリング生成システムを使用して設計情報を含むツーリング仕様（tooling specification）を生成するためのシステム及び方法にさらに関する。
【０００２】
［発明の背景］
フォトマスクは、電子回路の微細イメージを含む高精度プレートである。フォトマスクは、通常、一方の側にクロムの層を有する非常に平坦な石英片又はガラス片から作製されている。クロムには、電子回路設計の一部がエッチングされている。マスク上のこの回路設計は、「ジオメトリ」とも呼ばれる。
【０００３】
半導体デバイスの生産に使用される通常のフォトマスクは、「ブランク」のフォトマスク又は「未現像(undeveloped)」のフォトマスクから形成される。図１に示すように、通常のブランクフォトマスク１０は、３つ又は４つの層から構成される。第１の層１１は、一般に基板と呼ばれる石英又はほぼ透明な他の材料の層である。次の層は、通常、Ｃｒ等の不透明材料の層１２である。この層は、多くの場合、ＣｒＯ等の反射防止材料の第３の層１３を含む。この反射防止層は、任意の所与のフォトマスクに含めてもよいし、含めなくてもよい。最上層は、通常、感光性レジスト材料の層１４である。他のタイプのフォトマスクも既知であり、使用されている。これらの他のタイプのフォトマスクには、位相シフトマスク、組み込み減衰型位相シフトマスク(embedded attenuated phase shift mask)（「ＥＡＰＳＭ」）、及び交互位相配置型位相シフトマスク(alternating aperture phase shift mask)（「ＡＡＰＳＭ」）が含まれるが、これらに限定されるものではない。
【０００４】
フォトマスクの製造プロセスは、多くのステップを伴い、多くの時間を要する可能性がある。この点に関して、フォトマスクを製造するために、フォトマスク１０上に作り出される不透明材料１２の所望のパターンは、通常、露光システム内にロードされる電子データファイルによって規定される。この露光システムは、通常、ブランクフォトマスクの全体にわたってラスタ形式又はベクトル形式で電子ビーム（Ｅビーム）又はレーザビームを走査する。ラスタ走査露光システムのこのような一例は、Collierの米国特許第３９００７３７号明細書に記載されている。それぞれの独特の露光システムは、ブランクフォトマスクを露光する際に機器に命令するための、システム独自のデータ処理用のソフトウェア及びフォーマットを有する。Ｅビーム又はレーザビームが、ブランクフォトマスク１０の全体にわたって走査される時、露光システムは、Ｅビーム又はレーザビームを、電子データファイルによって規定されるとおり、フォトマスク上のアドレス指定可能ロケーションに向ける。Ｅビーム又はレーザビームに露光される感光性レジスト材料のエリアは可溶性になるのに対して、露光されていない部分は不溶性のまま維持される。ブランクフォトマスク１０のフォトレジスト１４の、Ｅビーム又はレーザビームによって露光すべき場所及び露光すべきでない場所を決定するために、ジョブデック（jobdeck）の形で処理機器に適切な命令を提供する必要がある。
【０００５】
露光システムが、図２に示すように、感光性レジスト材料１４上に所望のイメージを走査した後、可溶性の感光性レジスト材料は、当該技術分野において既知の手段によって除去され、露光されていない不溶性の感光性レジスト材料１４’は、不透明材料１３及び１２に付着したままである。このように、フォトマスク１０上に形成されるパターンは、残っている感光性レジスト材料１４’によって形成される。
【０００６】
このパターンは、次に、既知のエッチングプロセスを介して、残っているフォトレジスト材料１４’からフォトマスク１０へ転写され、残っているフォトレジスト１４’によって覆われていない領域の反射防止材料１３及び不透明材料１２が除去される。当該技術分野では多種多様なエッチングプロセスが既知である。これらの多種多様なエッチングプロセスには、ドライエッチング及びウェットエッチングが含まれる。したがって、多種多様な機器を使用して、このようなエッチングが行われる。エッチングが完了した後、図３に示すように、残っているフォトレジスト材料１４’は剥離又は除去され、フォトマスクが完成する。完成したフォトマスクでは、残っている反射防止材料１３’及び不透明材料１２’によってこれまで反射されたようなパターンが、可溶性材料が前のステップで除去された後に、残っているフォトレジスト１４’が留まっている領域に配置される。
【０００７】
何らかの許容できない欠陥が特定のフォトマスクに存在するかどうかを判断するために、フォトマスクを検査することが必要である。欠陥は、ジオメトリに影響を与える何らかの不具合である。これには、望ましくないクロムエリア（クロムスポット、クロム拡張部分、ジオメトリ間のクロムブリッジング）又は不要なクリアエリア（ピンホール、クリア拡張部分、クリアの切断）が含まれる。欠陥は、顧客の回路を機能させなくする可能性がある。顧客は、欠陥仕様書に、彼らのプロセスに影響を与える欠陥のサイズを示すであろう。そのサイズ以上のすべての欠陥を修復しなければならないか、又は、欠陥を修復できない場合には、マスクを不合格にして書き換えなければならない。
【０００８】
通常、KLA-Tencor又はApplied Materialsによって製造された検査システム等の自動化マスク検査システムを使用して、欠陥が検出される。このような自動化システムは、フォトマスクに照射ビームを向けて、フォトマスクを透過した光ビームの部分の強度及びフォトマスクから反射されて戻ってきた光ビームの部分の強度を検出する。検出された光強度は、次に、予測光強度と比較され、何らかの異常があれば、欠陥として示される。一システムの詳細は、KLA-Tencorに譲渡された米国特許第５５６３７０２号明細書に見ることができる。
【０００９】
検査に合格した後、完成したフォトマスクは洗浄されて、汚染物質が落とされる。次に、完成したフォトマスクに薄膜を塗布して、その重要なパターン領域を浮遊する汚れから保護することができる。その後、通過薄膜欠陥検査(through pellicle defect inspection)を行うことができる。場合によっては、薄膜を塗布する前又は塗布した後に、フォトマスクが切断される場合がある。
【００１０】
上述した製造ステップのそれぞれを実行するために、半導体製造業者（たとえば、顧客）は、最初に、製造されるフォトマスクに関する種々のタイプのデータをフォトマスク製造業者に提供しなければならない。この点に関して、顧客は通常、フォトマスクの製造及び処理に必要とされるさまざまなタイプの情報及びデータを含むフォトマスク注文を提供する。これらの情報及びデータには、たとえば、フォトマスクの設計に関するデータ、使用される材料に関するデータ、納期に関するデータ、支払い情報に関するデータ、並びに注文の処理及びフォトマスクの製造に必要とされる他の情報が含まれる。
【００１１】
フォトマスクの製造における長年にわたる問題は、フォトマスク注文を顧客から受け取った時からフォトマスクを製造するのに要する時間である。この点に関して、フォトマスク注文を処理して、フォトマスクを製造するのに要する全体の時間は、長期にわたる可能性があり、したがって、フォトマスクの全体の生産量は最大にならない。この問題の一部は、フォトマスクを注文する多くの顧客が多くの場合、自身の注文をさまざまな異なるフォーマットで行い、これらのさまざまな異なるフォーマットが多くの場合、フォトマスク製造業者のコンピュータシステム及び／又は製造機器に適合していないことに起因する。したがって、フォトマスク製造業者は、多くの場合、注文データを再フォーマットして、その注文データを、製造業者のコンピュータシステム及び／又は製造機器に適合する異なるフォーマットに調節し、変換し、且つ／又は、補完することが必要とされる。これは、かなりの時間を要する可能性があり、したがって、フォトマスクを製造するのに要する時間を遅らせる可能性がある。
【００１２】
これらの問題に対処しようとして、フォトマスク業界は、フォトマスク注文が行われるべきさまざまな標準フォトマスク注文フォーマットを開発してきた。たとえば、ＳＥＭＩ  Ｐ−１０標準規格は、フォトマスクの製造に使用される１つの標準フォーマットである。加えて、２〜３の半導体製造業者は、標準フォーマットを採用するのではなく、フォトマスク注文が行われるそれらの製造業者独自のフォトマスク注文フォーマットを開発している。これらの標準フォトマスク注文フォーマット及び独自のフォトマスク注文フォーマットは、フォトマスク注文が顧客から一様なフォーマットで受け取られるように作成され、それによって、フォトマスクを製造するのに要する全体の時間が削減されていた。
【００１３】
このような標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自のフォトマスク注文フォーマットの使用は、フォトマスクを製造するのに要する時間を削減する際に役立つが、多くの半導体製造業者は、さまざまな理由から、このような標準フォーマット及び／又は独自フォーマットでフォトマスク注文を行いたがらなかった。たとえば、ＳＥＭＩ  Ｐ−１０標準注文フォーマットは、かなり複雑であり、注文を行う顧客が、このような標準規格に関連する要件についての高度な実用的知識を有することを必要とする。多くの半導体製造業者はフォトマスクを製造しないので、このような製造業者は、このような標準フォーマットの複雑さを学ぶための資源も、時間も、能力も有しない場合がある。したがって、半導体製造業者は、多くの場合、体系的に編成されていない方法で、また、多くの場合は不完全な方法で、フォトマスク製造業者にフォトマスク注文データを提供する。その結果、フォトマスク製造業者は、このデータを解析して、このデータを使用できるフォーマット（たとえば、ＳＥＭＩ  Ｐ−１０フォーマット）に編成することが必要とされる。さらに、通常、これらの標準フォーマット及び独自フォーマットは、完全な注文が提出されることを必要とする。さらに、これらの標準規格は、ツーリング仕様のみを解析のために転送できる標準フォーマットを含まない。フォトマスク製造の分野では、特定の設計の妥当性、実現可能性、及び／又は望ましさを検証するためにフォトマスク製造業者へ送信でき、その後、フォーマット注文を生成するのに使用できる標準フォーマット及び／又は独自フォーマットでフォトマスク注文のツーリング仕様を自動的に生成するための顧客サイドのシステム及び方法の必要性が長い間切実に感じられていた。
【００１４】
以前、AlignRite社（Photronics社の前身組織）は、インターネットベースの配信システムの使用を通じて、電子データの配信を促進することを試みた。しかしながら、AlignRiteシステムは、顧客からフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへのフォトマスクデータの高速配信が可能であり、且つ、リアルタイムでこのデータの正確度を確認することができたが、この従来のシステムは、単一の標準フォーマット及び／又は独自フォーマットによるフォトマスク注文データの自動生成を提供するものではなかった。この点に関して、データが顧客から受信されると、そのデータに対する標準的な修正をオペレータが手動で入力することも必要であった。手動による変更の入力が必要とされる度に、ヒューマンエラーのリスクが増加し、ジョブの全体の長さが延長されていた。さらに、AlignRiteのシステムは、単に自動的に生成されただけのツーリング命令の転送を可能にしていなかった。このツーリング命令は、特定のフォトマスク注文の妥当性、実現可能性、及び／又は望ましさを検証して、その後、フォトマスク注文を生成するのに使用することができる。
【００１５】
その後、他の者は、製造データ及び支払いデータがインターネット上で自動的にダウンロードされてオンラインで自動的に検証されるシステムを開示した。１つのこのようなシステムは、２００２年１月１０日に公開されたDuPont Photomask社の国際公開第０２／０３１４１号パンフレットに記載されている。このシステムは、米国特許第６，６２２，２９５号の主題でもある。より詳細には、DuPontの国際公開パンフレットは、フォトマスク注文データが、顧客によってオンラインで入力され、処理のためにフォトマスク製造業者へ送信されるシステムを開示している。このシステムでは、顧客は、フォトマスク注文データを入力するように促される。このようなデータは、フォトマスク製造業者に送信される。フォトマスク製造業者は、次に、データの診断評価を実行する。いずれかのデータが不完全又は不正確である場合、システムは、顧客にメッセージを送信して、このようなエラーを顧客に通知する。その後、ユーザは、そのエラーを訂正しなければならない。データが製造業者によって確認された（且つ、必要に応じて訂正された）後、製造業者は、このデータを処理して、このデータを、ＳＥＭＩ  Ｐ−１０標準フォーマット等の標準（又は独自の）フォーマットにする。
【００１６】
DuPontの国際公開パンフレットのシステムは、診断目的には役立つが、非常に扱いにくく、フォトマスク注文又は特にツーリング仕様書を構築する際に、ユーザに柔軟性をほとんど提供しない。さらに、DuPontの国際公開パンフレットのシステムはまた、ユーザが完全な注文を入力することも必要とし、その注文に含まれる設計をどのように改良し得るかについての診断もフィードバックも提供しない。したがって、簡単で、且つ、さらに、完成した注文を提出する前に設計の妥当性、実現可能性、及び／又は望ましさについて解析でき、さらにその後、注文を作成するのに使用できる、フラクチャリング（fracturing）命令を含むツーリング仕様を生成するシステム及び方法の必要性が長い間切実に感じられていた。
【００１７】
同様に、Photonicsは、以前、自社の独自のフォトマスク注文の生成システム及び方法を開発している。たとえば、本発明の譲受人であるPhotonicsは、以前、自社の独自のＭａｓｋＰｉｌｏｔ（登録商標）システムを開発している。このシステムは、莫大な商業的成功を実証している。このシステムは、２００４年７月３０日に出願された米国特許出願第１０／２０９２５４号明細書及び２００４年６月２５日に出願された米国特許出願第１０／８７７０１１号明細書の主題である。これらのすべての出願は、共通の譲受人に譲渡されている。これらの開示のそれぞれは、参照により本明細書に援用される。ＭａｓｋＰｉｌｏｔ（登録商標）システムは、グラフィカルユーザインターフェースを使用してテンプレート又は注文の形で、顧客に完全なフォトマスク注文情報を入力させる。このシステムは、顧客が、フラクチャリング命令を生成するのに使用されるツーリング仕様のみを含んだ不完全な注文を入力してフォトマスク製造業者へ送信することを提供しない。
【００１８】
さらに国外の他の者は、設計の妥当性、実現可能性、及び／又は望ましさを検証することをフォトマスク製造業者に可能にしたフォーマットで、設計情報を含む不完全なフォトマスク注文を生成している。このような１つのシステムは、同じ譲受人による２００４年６月２４日に出願された米国特許出願第１０／８７７００１号明細書に開示されている。この米国特許出願の開示は、その全体が参照により本明細書に援用される。このようなシステムの一例は、韓国のフォトマスク顧客がPhotronics社の支社であるPKLにツーリング仕様を供給するのに使用されてきた。これらのシステムは、非常に単純に見え、ツーリング仕様を生成する際に柔軟性をフォトマスク顧客に提供せず、設計が解析された後に完全な注文を生成する他のソフトウェアと共に使用することができない。さらに、このようなシステムの出力ファイルは、ポストスクリプトテキストファイルであり、このポストスクリプトテキストファイルは、異なるフラクチャーエンジンに使用できるフォーマットに再フォーマットするためにさらに処理を必要とする。また、これらのシステムは、ツーリング仕様を生成する情報を他のシステムからインポートしない。全体として、この従来技術のシステムの柔軟性及び機能の欠如によって、このシステムは物足りないものとなっており、ツーリング仕様を生成するためのユーザフレンドリーで且つ柔軟性のあるシステム及び方法の必要性が生じている。
【００１９】
上述した製造ステップが完了した後、完成したフォトマスクは、半導体又は他の製品の製造に使用するために顧客へ送られる。詳細には、フォトマスクは一般に、半導体業界で使用されて、半導体回路を画定する微小規模イメージが、シリコン又はガリウム砒素の基板又はウェハへ転写される。イメージをフォトマスクからシリコン基板又はシリコンウェハへ転写するためのプロセスは、一般に、リソグラフィ又はマイクロリソグラフィと呼ばれる。通常、図４に示すように、半導体製造プロセスは、堆積ステップ、フォトリソグラフィステップ、及びエッチングステップを含む。堆積中、電気的な絶縁材料又は（金属、ポリシリコン、又は酸化物のような）電気的な導電材料のいずれかの層が、シリコンウェハの表面に堆積される。この材料は、次に、感光性レジストでコーティングされる。フォトマスクは、次に、写真を作るのにネガ写真が使用されるのとほとんど同じ方法で使用される。フォトリソグラフィは、フォトマスク上のイメージをウェハ上に投影することを伴う。フォトマスク上のイメージが数回並んでウェハ上に投影される場合、これは、ステッピングとして知られており、このフォトマスクはレチクルと呼ばれる。
【００２０】
図５に示すように、半導体ウェハ２０上にイメージ２１を作成するために、フォトマスク１０は、感光性材料の層を含む半導体ウェハ２０と光学系２２との間に挿入される。一般にステッパと呼ばれるエネルギー源２３によって生成されたエネルギーは、不透明材料が存在するフォトマスク１０のエリアを通過することを阻止される。ステッパ２３からのエネルギーは、不透明材料１２及び反射防止材料１３によって覆われていない石英基板１１の透明部分を通過する。光学系２２は、不透明材料１２及び１３のパターンの縮小イメージ２４を半導体ウェハ２０上に投影し、半導体ウェハ上の感光性材料に反応を引き起こす。感光性材料の溶解性は、エネルギーに晒されたエリアで変化する。ポジ型フォトリソグラフィプロセスの場合、露光された感光性材料は、可溶性になり、除去することができる。ネガ型フォトリソグラフィプロセスの場合、露光された感光性材料は、不溶性になり、露光されていない可溶性の感光性材料が除去される。
【００２１】
可溶性感光性材料が除去された後、不溶性感光性材料に形成されたイメージ又はパターンは、一般にエッチングと呼ばれる、当該技術分野で既知のプロセスによって基板へ転写される。パターンが基板材料上に一旦エッチングされると、残りのレジストが除去されて、その結果、完成品となる。材料及びレジストの新たな層が、その後、ウェハ上に堆積され、次のフォトマスク上のイメージがその上に投影される。再び、ウェハは、現像されてエッチングされる。このプロセスは、回路が完成するまで繰り返される。通常の半導体デバイスでは、多くの層が堆積される場合があるので、単一の半導体デバイスであっても、その製造には多くの異なるフォトマスクが必要な場合がある。実際に、２つ以上の機器が半導体製造業者により使用されて、１つの半導体デバイスが製造される場合、各層ごとに２つ以上のフォトマスクが必要とされ得る可能性すらある。さらに、異なる生産ラインでフォトレジストを露光するのに、異なるタイプの機器が使用される場合もあるので、複数の同一のフォトマスクパターンであっても、半導体製造機器の相違を考慮するために、サイジング、向き、スケーリング、及び他の属性においてさらに変更することが必要とされる場合がある。同様の調整は、フォトマスク製造業者のリソグラフィ機器の相違を考慮することにも必要な場合がある。これらの相違は、フォトマスク製造プロセスで考慮する必要がある。
【００２２】
従来技術は興味深いが、従来技術の既知の方法及び装置は、本発明が克服しようとするいくつかの限界を提示している。
【００２３】
詳細には、設計の妥当性、実現可能性、及び／又は望ましさを検証することをフォトマスク製造業者に可能にするためにフォトマスク製造業者の処理システムへ転送できるフォーマットで、設計情報を含むフォトマスク注文の少なくとも一部を生成するためのシステム及び方法を提供することが、本発明の１つの目的である。
【００２４】
設計の妥当性、実現可能性、及び／又は望ましさを検証することをフォトマスク製造業者に可能にし、且つ、その後、適切なフォトマスク注文を生成するために、ツーリング仕様生成システムを使用してフォトマスク注文の生成に使用できる、フラクチャリング命令を含んだツーリング仕様を自動的に生成するためのシステム及び方法を提供することが、本発明の別の目的である。
【００２５】
他のソースからの仕様データをインポートして調整できる、フォトマスク注文の生成に使用されるツーリング仕様を生成するためのシステム及び方法を提供することが、本発明の別の目的である。
【００２６】
このようなツーリング仕様生成システムが、デフォルトのシンボリックオペレーションと共に又はこれに代えてユーザ定義のシンボリックオペレーションを使用し、ツーリング仕様の作成に使用されるオプション又は必須のデータエントリーポイントの一部又は全部をポピュレート(populate)する能力等、柔軟で且つユーザフレンドリーなツールを含むことが、本発明のさらなる目的である。
【００２７】
このようなツーリング仕様生成システムが、さまざまな業界標準フォトマスクデータフォーマット又は独自フォトマスクデータフォーマットでツーリング仕様を生成できるようにすることが、本発明のさらなる目的である。このさまざまな業界標準フォトマスクデータフォーマット又は独自フォトマスクデータフォーマットには、ＧＤＳＩＩ、Ｍｅｂｅｓ、Ｏａｓｉｓ、ＤＸＦ、Ａｐｐｌｉｃａｎ、．ｃｆｌｔ、．ｃｉｎｃ、．ｐｓ等が含まれるが、これらに限定されるものではない。
【００２８】
このようなツーリング仕様生成システムが、他のフォトマスク注文生成システムと共に使用できるツーリング仕様を生成できるスタンドアロンシステムとなることができるか、又は、フォトマスク注文生成システムと一体化したユーティリティとなり得ることが、本発明の別の目的である。
【００２９】
このようなツーリング仕様生成システムが、グラフィカルユーザインターフェース、従来のウィザード、及び／又はコマンドジェネレータを使用してユーザによりアクセスされることが、本発明の別の目的である。
【００３０】
フラクチャー命令の手入力に関連する転写エラーを削減するための自動ツーリング仕様生成システムを提供することが、本発明の別の目的である。
【００３１】
製造されるフォトマスクの全体的なアウトプットを増加させるのに使用できるツーリング仕様生成システムを提供することが、本発明の別の目的である。
【００３２】
従来技術の欠点を解決することが、本発明の別の目的である。
【００３３】
他の目的は、上記説明から明らかであろう。
【００３４】
［発明の概要］
本発明の１つの例示的な実施の形態によるツーリング仕様生成システムでは、設計データが、データベース又は他のファイルから抽出され、フォトマスク顧客のシステム又はフォトマスク顧客のコンピュータによってアクセス可能な他の外部システムにおけるさまざまなフォーマットでインポートされる。ツーリング仕様データは、グラフィカルユーザインターフェースによるプロンプトの指示に基づいて、ウィザードに基づいて、且つ／又は、スクリプトされたコマンドの使用により、入力することができる。論理オペレーションユーティリティは、論理式内で使用されるオペレーション用のユーザ定義の固有シンボリック表現及び／又は事前定義のシンボリックオペレーションを使用することができる。ツーリング仕様生成システムは、ルールとリンクすることができる。これらのルールは、別個に記憶され、したがって容易に更新可能である。これらのルールは、完全且つ正確なデータがツーリング仕様に含まれることを保証するために使用することができる。部分的なツーリング仕様データ又は完全なツーリング仕様データを、たとえば、スキャンすることにより、且つ／又は、他のファイルフォーマットから変換することにより、電子的にインポートすることもできる。ツーリング仕様データは、入力されると、さらに変更することもできるし、それ以上変更することなく提出することもできる。ツーリング仕様が入力されると、そのツーリング仕様に関連する情報は、設計の妥当性、実現可能性、及び／又は望ましさを検証するために、フォトマスク製造業者に電子的に転送することができる。（提出又はさらに変更された）設計の妥当性、実現可能性、及び／又は望ましさが確認された後、ツーリング仕様は、完全なフォトマスク注文を生成するのに必要な他のデータと組み合わせることができ、完全な注文としてフォトマスク製造業者に再提出することができる。
【００３５】
本発明の実施の形態によるツーリング仕様生成システムは、フォトマスク注文生成システムをフォトマスク注文の生成に使用できるように、そのツーリング仕様出力がフォトマスク注文生成システムと互換性のあるスタンドアロンシステムとすることができる。代替的に、ツーリング仕様生成システムは、フォトマスク注文生成システム内に直接一体化することもできる。この場合、フォトマスク注文属性を両方のシステム間で共有でき、いずれかのシステムでデータフィールドをポピュレートするのに使用できる。ツーリング仕様生成システムは、フォトマスク注文生成システムの一部として使用されるか、又は、フォトマスク注文生成システムと共に使用される場合、ツーリング仕様を作成するのに使用される任意選択のデータエントリーポイント又は必須のデータエントリーポイントの一部又は全部を自動的にポピュレートすることをユーザに可能にすることができる。
【００３６】
ツーリング仕様生成システムのツーリング仕様出力は、一般的なテキストフォーマットとすることもできるし、ＧＤＳＩＩ、Ｍｅｂｅｓ、Ｏａｓｉｓ、ＤＸＦ、Ａｐｐｌｉｃａｎ、．ｃｆｌｔ、及び．ｃｉｎｃ等の他のさまざまなフォーマットとすることもできる。ツーリング仕様出力は、コンピュータ支援設計又は電子設計自動化に使用されるソフトウェアとしてフォトリソグラフィ機器が認識でき且つ使用できる業界フォーマットとすることができる。あるいは、ツーリング仕様出力は、いくつか例を挙げると、ＸＭＬ、ＳＯＡＰＸＭＬ、ポストスクリプト、ＨＴＭＬ、ＡＳＣＩＩ等の業界フォーマットとすることもできる。
【００３７】
本発明の一実施の形態によるフォトマスクを製造する方法は、フォトマスク顧客のコンピュータシステムからツーリング仕様を受信することと、当該ツーリング仕様を解析することとを含む。解析の結果はフォトマスク顧客のコンピュータシステムへ送信され、ツーリング仕様に基づいて生成されたフォトマスク注文が受信され、フォトマスクが当該フォトマスク注文に基づいて製造される。
【００３８】
本発明の１つの例示的な実施の形態によるフォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文を生成する方法は、ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除することにより当該ツーリング仕様を生成することと、ツーリング仕様の解析のために当該ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信することとを含む。解析の結果は、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムから受信され、フォトマスク注文が、ツーリング仕様に基づいて生成され、当該フォトマスク注文は、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信される。
【００３９】
本発明の１つの例示的な実施の形態によるフォトマスク注文を処理する方法は、フォトマスク顧客のコンピュータシステムからツーリング仕様を受信することと、当該ツーリング仕様を解析することとを含む。解析の結果は、フォトマスク顧客のコンピュータシステムへ送信され、ツーリング仕様に基づいて生成されたフォトマスク注文が受信される。
【００４０】
本発明の１つの例示的な実施の形態によるツーリング仕様生成システムを使用してツーリング仕様を生成する方法は、仕様生成システム外部のソースから、論理オペレーションの少なくとも１コンポーネントに関するデータをインポートすることと、論理オペレーションの少なくとも１コンポーネントに基づいてツーリング仕様を生成することとを含む。ツーリング仕様は、当該ツーリング仕様の解析のためにフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信される。
【００４１】
本発明の１つの例示的な実施の形態によるフォトマスクの製造に使用されるツーリング仕様を生成する方法は、ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除することにより当該ツーリング仕様を生成することと、特定の標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットに従ったフォーマットでツーリング仕様を出力することとを含む。
【００４２】
本発明の別の例示的な実施の形態によるフォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文を生成する方法は、グラフィカルユーザインターフェース、ウィザード、及びコマンドジェネレータのうちの少なくとも１つを使用して、論理オペレーションの少なくとも１コンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除することによりツーリング仕様を生成することであって、論理オペレーションはツーリング仕様によって表される、ツーリング仕様を生成することと、ツーリング仕様の解析のために当該ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信することとを含む。解析の結果は、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムから受信され、フォトマスク注文が、ツーリング仕様に基づいて生成され、当該フォトマスク注文は、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信される。
【００４３】
本発明の別の例示的な実施の形態によるフォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文を生成する方法は、ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除することにより当該ツーリング仕様を生成することであって、当該ツーリング仕様は、フォトマスク設計のフラクチャリング命令を含む、ツーリング仕様を生成することと、フラクチャリング命令を使用してフォトマスク設計をシミュレーションすることを含む。ツーリング仕様は、シミュレーションされたフォトマスク設計に基づいて解析され、フォトマスク注文が、ツーリング仕様に基づいて生成され、当該フォトマスク注文は、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信される。
【００４４】
本発明の別の例示的な実施の形態によるフォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文を生成する方法は、ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除することにより当該ツーリング仕様を生成することと、ツーリング仕様が適切なフォーマットであることを検証することとを含む。ツーリング仕様は、当該ツーリング仕様の解析のためにフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信され、この解析が、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムから受信される。フォトマスク注文が、ツーリング仕様に基づいて生成され、フォトマスク注文は、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信される。
【００４５】
本発明の別の例示的な実施の形態によるフォトマスクの製造に使用されるツーリング仕様を生成する方法は、論理オペレーションのコンポーネントを作成すること、変更すること、及び削除することのうちの少なくとも１つであって、コンポーネントは、演算子と当該演算子に対応する少なくとも１つのエイリアスとを有する少なくとも１つの式(expression)を含む、少なくとも１つと、少なくとも１つのエイリアスをデフォルト値から変更することとを含む。ツーリング仕様が、変更された少なくとも１つのエイリアスを含む論理オペレーションに基づいて生成される。
【００４６】
本発明の１つの例示的な実施の形態によるフォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文生成システムは、ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除するためのツーリング仕様ジェネレータと、ツーリング仕様を解析するツーリング仕様アナライザと、ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成し、当該フォトマスク注文をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するフォトマスク注文ジェネレータとを含む。
【００４７】
本発明の別の例示的な実施の形態によるフォトマスクの製造に使用されるフォトマスク注文生成システムは、ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除するためのツーリング仕様ジェネレータであって、ツーリング仕様は、フォトマスク設計のフラクチャリング命令を含む、ツーリング仕様ジェネレータと、フラクチャリング命令を使用してフォトマスク設計をシミュレーションするフォトマスク設計シミュレータと、ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成し、当該フォトマスク注文をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するフォトマスク注文ジェネレータとを含む。
【００４８】
本発明の１つの例示的な実施の形態によるフォトマスクの製造に使用されるツーリング仕様生成システムは、論理オペレーションのコンポーネントの作成、変更、及び削除のうちの少なくとも１つを行うための論理オペレーションマネージャであって、コンポーネントは、演算子と当該演算子に対応する少なくとも１つのエイリアスとを有する少なくとも１つの式を含む、論理オペレーションマネージャと、少なくとも１つのエイリアスをデフォルト値から変更するためのエイリアスマネージャとを含む。ツーリング仕様ジェネレータが、変更された少なくとも１つのエイリアスを含む論理オペレーションに基づいてツーリング仕様を生成する。
【００４９】
本発明の１つの例示的な実施の形態によるツーリング仕様生成システムは、論理オペレーションの少なくとも１コンポーネントに関するデータを当該ツーリング仕様生成システム外部のソースからインポートするためのデータインポータと、論理オペレーションの少なくとも１コンポーネントに基づいてツーリング仕様を生成するためのツーリング仕様ジェネレータと、ツーリング仕様の解析のために当該ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するファイル送信機を含むツーリング仕様アナライザとを含む。
【００５０】
本発明の１つの例示的な実施の形態によるフォトマスク注文生成システムは、グラフィカルユーザインターフェース、ウィザード、及びコマンドジェネレータのうちの少なくとも１つを使用して、論理オペレーションの少なくとも１コンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除するためのツーリング仕様ジェネレータであって、論理オペレーションはツーリング仕様によって表される、ツーリング仕様ジェネレータと、ツーリング仕様の解析のために当該ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するツーリング仕様アナライザと、ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成し、当該フォトマスク注文をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信するフォトマスク注文ジェネレータとを含む。
【００５１】
本発明の１つの例示的な実施の形態によるフォトマスク注文生成システムは、ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除するためのツーリング仕様ジェネレータと、論理オペレーションが適切なフォーマットであることを検証するための論理オペレーション検証器とを含む。ツーリング仕様アナライザが、ツーリング仕様の解析のために当該ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信し、フォトマスク注文ジェネレータが、ツーリング仕様に基づいてフォトマスク注文を生成し、当該フォトマスク注文をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信する。
【００５２】
本発明の１つの例示的な実施の形態による方法をコンピュータが実行するためのコンピュータ可読命令を含むコンピュータ可読媒体は、ツーリング仕様によって表される論理オペレーションのコンポーネントを作成、変更、且つ／又は削除することによりツーリング仕様を生成すること、及びツーリング仕様の解析のために当該ツーリング仕様をフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信することを含む。ツーリング仕様は、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムから受信され、フォトマスク注文が、ツーリング仕様に基づいて生成され、当該フォトマスク注文は、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信される。
【００５３】
少なくとも１つの実施の形態では、論理オペレーションのコンポーネントは、データレイヤ属性、入力データ属性、式、パターングループ、及びエイリアスのうちの少なくとも１つを含む。
【００５４】
少なくとも１つの実施の形態では、データをインポートするステップは、コマンドラインジェネレータ及びスキャナのうちの少なくとも一方を使用して行われる。
【００５５】
少なくとも１つの実施の形態では、外部ソースは、データベース、ＧＤＳＩＩファイル、ＭＥＢＥＳファイル、及びフォトマスク注文テンプレートのうちの少なくとも１つである。
【００５６】
少なくとも１つの実施の形態では、外部ソースはデータベースであり、当該データベースは、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムと共有される。
【００５７】
少なくとも１つの実施の形態では、論理オペレーションのコンポーネントのうちの少なくとも１つは、少なくとも１つのルックアップリストから選ばれる。
【００５８】
本発明の少なくとも１つの実施の形態では、ツーリング仕様のフォーマットは、一組のルールを使用して検証される。
【００５９】
本発明の少なくとも１つの実施の形態では、ツーリング仕様は、サードパーティのデータフラクチャリングアプリケーションが使用できるフォーマットに変換される。
【００６０】
本発明の少なくとも１つの実施の形態では、さまざまな独自フォトマスクデータフォーマット及び標準フォトマスクデータフォーマットは、ＧＤＳＩＩ、ＭＥＢＥＳ、Ｏａｓｉｓ、ＤＸＦ、Ａｐｐｌｉｃａｎ、．ｃｆｌｔ、．ｃｉｎｃ、及び．ｐｓのうちの少なくとも１つを含む。
【００６１】
本発明の少なくとも１つの実施の形態では、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムは、ツーリング仕様を解析して、当該ツーリング仕様の妥当性、実現可能性、及び望ましさのうちの少なくとも１つを判断する。
【００６２】
本発明の少なくとも１つの実施の形態では、解析の結果は、ホットスポット及び計測学ののマッピング(metrology mapping)、マスク製造ルール違反、特徴カウント（feature count）及びレイアウト密度の統計量、リソグラフィ印刷及び可変性の感度解析、マスクコスト及びサイクル時間の見積もり並びに削減についての提案、リソグラフィに対するニーズと整合するマスク仕様、フルチッププロセスウィンドウ及び／又はＣＤ制御の見積もり、オルタネートＲＥＴシナリオ（alternate RET scenarios）の可能性、のうち少なくとも１つを含む。
【００６３】
本発明の少なくとも１つの実施の形態では、ツーリング仕様は、シミュレーションされたフォトマスク設計を使用して解析される。
【００６４】
本発明のこれらの特徴及び他の特徴は、本発明のさまざまな例示的な実施の形態の以下の詳細な説明で説明されるか、又は、以下の詳細な説明から明らかになる。
【００６５】
本発明の例示ではあるが好ましい実施の形態の以下の詳細な説明を添付図面と共に取り入れる場合に、その詳細な説明を参照することによって、本発明の上記目的、機能、及び利点、並びに、関連する目的、機能、及び利点はより十分に理解される。
【００６６】
［好ましい実施形態（複数可）の詳細な説明］
本発明のさまざまな例示的な実施形態は、フォトマスクを製造するのに使用される、データをフラクチャリングする命令を表す電子的ファイルを生成するためのコンピュータ化されたシステム及び方法に関する。詳細には、このシステム及び方法は、フォトマスク顧客等のエンドユーザに、論理オペレーションを作成する能力を提供する。論理オペレーションのコンポーネントは、ツーリング仕様を構成し、論理オペレーションは、フォトマスクの１つ又は２つ以上のレイヤのデータフラクチャリング命令を含む。以下でより詳細に説明するように、論理オペレーションは、式、データレイヤ属性、入力データ属性、パターングループ、及びエイリアスを含むことができる。たとえばＭａｓｋＰｉｌｏｔ（登録商標）テンプレートや入力データファイル等の外部ソースから特定の情報を検索して、論理オペレーション内に属性を事前にポピュレートすることができる。加えて、エンドユーザは、エイリアスを選択する能力も有する。エイリアスは、式で使用される演算子のシンボリック表現である。エンドユーザは、エイリアスに最も慣れている。
【００６７】
図６は、フォトマスク製造業者のコンピュータシステム２００と共に使用される、本発明の１つの例示的な実施形態によるツーリング仕様生成システム１１０を含むフォトマスク顧客のコンピュータシステム１００を示している。ツーリング仕様生成システム１１０は、論理オペレーションマネージャ１１５、エイリアスマネージャ１２０、論理オペレーション検証器１２５、ツーリング仕様ジェネレータ１３０、ファイル送信機１３５、及びツーリング仕様変換器１４０を含む。以下でさらに説明するように、エンドユーザは、ツーリング仕様生成システム１１０のさまざまなコンポーネントを使用して、データをフラクチャリングする命令を表す論理オペレーションを作成することができる。これは、フォトマスク製造プロセスのツーリング仕様を生成するために、たとえばＭａｓｋＰｉｌｏｔ（登録商標）等のフォトマスク注文生成システム１４５によって使用される。本発明は、ＭａｓｋＰｉｌｏｔ（登録商標）と共に使用されることに限定されるものではなく、他のいずれのフォトマスク注文生成システムとも使用できることが十分理解されるべきである。図６は、フォトマスク注文生成システム１４５に対してスタンドアロンシステムとしてツーリング仕様生成システム１１０を示しているが、本発明の他の例示的な実施形態では、ツーリング仕様生成システム１１０は、フォトマスク注文生成システム１４５と一体化できることが十分理解されるべきである。また、以下でさらに説明するように、１つ又は２つ以上の別個に保持されるデータベース１５０は、ツーリング仕様生成システム１１０によって使用される情報を記憶し、供給することができる。データベース１５０は、フォトマスク注文生成システム１４５が共有することができる。
【００６８】
論理オペレーションマネージャ１１５は、エンドユーザが論理オペレーションの作成、変更、及び／又は削除を行うのに使用される。論理オペレーションは、データレイヤ属性、入力データ属性、式、パターングループ、及びエイリアスの集合体である。これらは、ツーリング仕様を作成するのに使用される。データレイヤ属性は、特定のマスクレイヤのレイヤ名、レイヤ番号、及び入力データ参照番号を定義する。この情報の一部は、後に、式を作成する時にオペランドとして使用することができる。「データレイヤ」のカテゴリーに分類される属性の例には、いくつか例を挙げると、レイヤ名（Layer Name）及びレイヤ番号（Layer Number）が含まれ得る。入力データ属性は、ツーリング仕様を作成する目的でデータを操作するのに必要とされるパラメータを定義する。「入力データ」のカテゴリーに分類される属性の例には、いくつか例を挙げると、入力ファイル名（Input File Name）、最上位構造（Top Structure）、スナップグリッド（Snap Grid）、回転（Rotation）、及び位置合わせ（Alignment）が含まれ得る。パターングループは、入力データ属性のパターンカテゴリーの英数字記述である。パターングループの例には、いくつか例を挙げると、プライマリ（Primary）、テスト（Test）、フレーム（Frame）、及びスクライブ（Scribe）が含まれ得る。式は、この用語がコンピュータ言語で従来から使用されているように、オペランド及び演算子で構成される。オペランドは、操作されるオブジェクトであり、演算子は、特定の動作を表すシンボル又はコマンドである。エイリアスは、演算子のシンボリック表現である。
【００６９】
論理オペレーションマネージャ１１５によって、エンドユーザは、データを入力して論理オペレーションを作成することが可能になる。加えて、論理オペレーションマネージャ１１５は、論理オペレーションを作成するデータを外部ソースからインポートするデータインポータ（図示せず）も含むこともできる。データインポータは、たとえば、コマンドラインジェネレータ及び／又はスキャナを含むことができる。一例として、システム１１０は、いくつか例を挙げると、たとえば、ＧＤＳＩＩファイル、ＭＥＢＥＳファイル、及び１つ又は２つ以上のＭａｓｋＰｉｌｏｔ（登録商標）テンプレート等のソースから属性内の値をインポートすることを可能にすることができる。加えて、ツーリング仕様生成システム１００とは別個に又はツーリング仕様生成システム１００と一体化して、データベース１５０を保持することができる。データベース１５０は、論理オペレーションのさまざまな属性の情報を含む。
【００７０】
保存された論理オペレーションは、全体的又は部分的に、完全に変更可能であり、且つ削除可能である。たとえば、前に保存された論理オペレーションは、選択可能な属性リストに基づいて検索することができ、さらに、たとえば、論理オペレーションからマスクレイヤを除去することによって変更することができる。論理オペレーションは、１つ又は２つ以上のＭａｓｋＰｉｌｏｔ（登録商標）テンプレートから作成された場合、１つ又は２つ以上のＭａｓｋＰｉｌｏｔ（登録商標）テンプレートからその論理オペレーションにマスクレイヤを追加できるように、自身がどのＭａｓｋＰｉｌｏｔ（登録商標）テンプレート（複数可）から形成されたかを「知っている」。加えて、エイリアスは、好ましくは、論理オペレーションごとに別個に記憶され、その結果、エイリアスの変更又は削除は、既存の論理オペレーションに影響を与えない。この点に関して、論理オペレーションは、好ましくは、その式のエイリアスを「知っている」。たとえば、各論理オペレーションは、システムでインストールされた「デフォルト」エイリアスを使用することができるが、以下でさらに説明するように、エンドユーザは、好ましくは、いつでもその選択を変更する能力を有する。
【００７１】
エイリアスマネージャ１２０は、式で使用されるあらゆる演算子について、エンドユーザが１つ又は２つ以上のエイリアスを作成することを可能にする。たとえば、システム１１０は、各論理オペレーションがデフォルトで使用できる一組の演算子を含むことができる。それらの演算子について、エンドユーザは、演算子自体の表現を代用することができる場合がある。たとえば、エンドユーザは、「ＡＮＤ」として定義された演算子を「＋」で代用することを選ぶことができる。この機能は、単一の文字表現又は演算子に制限されるものではない。ただし、この機能は、好ましくは、一組のエイリアス内の一意の文字表現に制限される。エイリアスは、作成後、システム１１０内に保存することができ、変更又は削除のために後に検索することができる。
【００７２】
論理オペレーション検証器１２５は、論理オペレーションのデータレイヤ属性、入力データ属性、及び論理オペレーションの式の文法を含む論理オペレーションの完全性を検証する能力をエンドユーザに提供する。また、論理オペレーション検証器１２５は、ユーザが入力した属性が、供給されたパターンデータ内に実際に存在することを確認することもできる。システム１１０は、一組又は二組以上のルールとリンクすることができる。これらのルールは、好ましくは、別個に記憶され、したがって容易に更新可能である。これらのルールは、完全且つ正確なデータが論理オペレーションに含まれることを保証するために使用することができる。たとえば、式に関する一組のルールは、その式に使用できる適切なエイリアスを管理するルールを含めて、論理オペレーションの式のシンタックスを検証するのに使用することができる。論理オペレーションは、検証のために、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムへ送信できることも十分理解されるべきである。
【００７３】
ツーリング仕様ジェネレータ１３０は、エンドユーザがツーリング仕様を生成することを可能にする。このツーリング仕様は、その後、パースされて、データをフラクチャリングするのに使用される。ツーリング仕様は、基本的には、１つ又は２つ以上のフォトマスクレイヤのデータフラクチャリング命令を含む論理オペレーションの式の表現である。２つ以上のツーリング仕様を１つの論理オペレーションから生成することができる。ツーリング仕様は、生成されると、印刷でき、且つ／又は、ユーザ指定のロケーションに保存することができる。ユーザ指定のロケーションは、いくつか例を挙げると、たとえば、ローカルディスクデバイス、ポータブルストレージデバイス、又はネットワークデバイス等である。
【００７４】
ファイル送信機１３５は、１つ又は２つ以上のツーリング仕様ファイルを含む圧縮ファイルを作成して、指定されたサイトへ任意の、アプリケーションによりサポートされる転送プロトコルを介して送信することができる。この任意の、アプリケーションによりサポートされる転送プロトコルは、いくつか例を挙げると、ＦＴＰ、ＨＴＴＰ、ＳＭＴＰ等である。圧縮ファイルは、たとえばｇｚｉｐ等の任意の適したフォーマットとすることができる。一例では、指定されたサイトは、フォトマスク製造業者とすることができる。この場合、フォーマット製造業者は、必要な範囲でファイルを「アンジップ（unzip）」、すなわち解凍し、ツーリング仕様を使用して、必要とされるフォトマスクを製造する。
【００７５】
ツーリング仕様変換器１４０は、保存されたツーリング仕様又はインポートされたツーリング仕様を、サードパーティのデータフラクチャリングアプリケーションが使用できるフォーマットに変換することができる。このサードパーティのデータフラクチャリングアプリケーションは、いくつか例を挙げると、たとえば、Ｋ２、ＣＡＴＳ、Ｃａｌｉｂｒｅ、Ｓｙｎｏｐｓｉｓ、Ｍａｓｋ  Ｃｏｍｐｏｓｅｒ等である。たとえば、前に生成されたＸＭＬ文書の形のツーリング仕様を、ツーリング仕様生成システム１１０内でオープンすることができ、その後、システム１１０は、その文書をパースして、データフラクチャリングユーティリティと互換性のある新しいファイルを生成する。この点に関して、システム１１０は、さらに、さまざまなデータフラクチャリングアプリケーションの要件を満たすように、論理オペレーションの作成時又はツーリング仕様の生成時に使用される１つ又は２つ以上の属性のデフォルト値を定義することをエンドユーザに可能にすることができる。選ばれたデフォルト値が特定のデータフラクチャリングアプリケーションと共に機能するかどうかを判断する際のガイドとして一組の更新可能で且つ別個に記憶されるルールを使用することができる。
【００７６】
論理オペレーションを構成するさまざまな属性は、ルックアップリストを使用してエンドユーザにより選択及び／又は変更することもできる。このルックアップリストは、事前にポピュレートして編集不能とすることもできるし、事前にポピュレートして編集可能とすることもできるし、又は空で編集可能とすることもできる。たとえば、ツーリング仕様生成システム１１０が、ＭａｓｋＰｉｌｏｔ（登録商標）等のフォトマスク注文生成システム１４５と一体化されている場合、システム１１０は、システム１１０とフォトマスク注文生成システム１４５との間で共通の属性に対するルックアップリスト値を共有することができる。別の例として、ツーリング仕様生成システム１１０は、スタンドアロンシステムとすることもできる。この場合、ルックアップリストは、別個のフォトマスク注文生成システム１４５と互換性のある属性の値を含むことができる。
【００７７】
フォトマスク製造業者のコンピュータシステムは、シミュレーションユーティリティ２１０及び解析ユーティリティ２１５を含むことができる。シミュレーションユーティリティは、たとえば、SynopsisによるＳｉＶＬ等の任意の適した独自フォトマスク設計シミュレーションソフトウェア及び／又は市販フォトマスク設計シミュレーションソフトウェアを使用して、ツーリング仕様生成システム１１０により生成されたツーリング仕様に基づきフォトマスク設計をシミュレーションすることができる。この点に関して、フォトマスク顧客のコンピュータシステム１００は、たとえば、ネットワークを介してフォトマスク製造業者のコンピュータシステムにリンクすることができる。
【００７８】
解析ユーティリティ２１５は、生成されたツーリング仕様を解析するのに使用することができる。この解析は、シミュレーションされたフォトマスク設計に基づくこともできるし、シミュレーションとは別に行うこともできる。加えて、本発明の他の例示的な実施形態では、ツーリング仕様生成システム１１０は、それ自体で、フォトマスク設計シミュレーションを行うこともできる。ツーリング仕様解析は、好ましくは、フォトマスク設計の妥当性、実現可能性、及び／又は望ましさに関する結果を生成する。たとえば、解析は、いくつか例を挙げると、ホットスポット及び計測学のマッピング、マスク製造ルール違反、特徴カウント及びレイアウト密度の統計量、リソグラフィ印刷及び可変性の感度解析、マスクコスト及びサイクル時間の見積もり並びに削減についての提案、リソグラフィに対するニーズと整合するマスク仕様、フルチッププロセスウィンドウ及び／又はＣＤ制御の見積もり、オルタネートＲＥＴシナリオの可能性、を提供することができる。一般に、解析によって、好ましくは、フォトマスク顧客が自身のツーリング仕様の改善及び／又は訂正に使用できる情報が得られ、その結果、フォトマスク製造プロセスのコストがより低くなり、サイクル時間が削減される。本発明の少なくとも１つの実施形態では、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムは、ツーリング仕様をフォトマスク顧客のコンピュータシステムへ返信する前に、ツーリング仕様を変更する。
【００７９】
また、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムは、フォトマスク注文処理システム２２０も含むことができる。フォトマスク注文処理システム２２０は、所望のフォトマスクを製造するために、フォトマスク注文を受信して処理する。
【００８０】
エンドユーザは、グラフィックスユーティリティインターフェース（graphics utility interface）（ＧＵＩ）、従来のウィザード、又はコマンドジェネレータを通じてツーリング仕様生成システム１１０と対話することができる。ＧＵＩは、ツーリング仕様の生成のために正しく且つ正確な情報をシステム１１２に入力するようにエンドユーザをガイドする。図７〜図１３は、本発明の１つの例示的な実施形態によるツーリング仕様生成システム１１０と共に使用可能なＧＵＩのさまざまなスクリーンを示している。これらのスクリーンは、以下のようなスタートアップスクリーンに表示されるメニュー構造を使用してアクセスすることができる。
【００８１】
【表１】
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【００８２】
一例として、「オプション（Options）」サブメニューをクリックすることによって、図７に示す「データベース（Database）」タブスクリーン１４５等の複数のタブスクリーンが表示される。「データベース」タブスクリーン１４５によって、エンドユーザは、システム１１０がデータを抽出する必要があるファイルを突き止めることができるパスを指定することが可能になる。図７に示す例では、「データベース」タブスクリーン１４５は、データを抽出するＵＲＬを選択することをエンドユーザに可能にし、そのＵＲＬにアクセスするユーザＩＤ及びパスワードの入力を必要に応じて要求する。
【００８３】
ＧＵＩは、図８に示すように、「一般フラクチャーパラメータ（general fracture parameters）」スクリーン１５０をさらに含むことができる。このスクリーンは、フォトマスクレイヤを製造するのに使用されるデータをフラクチャリングするためのパラメータを設定することをエンドユーザに可能にする。図８に示すように、「一般フラクチャーパラメータ」スクリーン１５０は、「事前カット（Precut）」、「事前グリッド（PreGrid）」、「両面（Two-Sided）」、「反転（Reverse）」、「ルール（Rule）」等、設定リストからその値を選択できるアイテムと、「サイジング（Sizing）」や「スレッド（Thread）」等、設定リストからその値が選択されないアイテムとを含むことができる。「一般フラクチャーパラメータ」スクリーン１５０に表示されるアイテムは、図８に示すものに限定されるものではない。
【００８４】
論理オペレーションは、図９に示すように、「論理オペレーション」スクリーン１５５から見ることができ、且つ／又は、変更することができる。このスクリーンによって、特に、「論理オペレーション名」の入力及び／又は表示が可能になる。「論理オペレーション名」は、特定の論理オペレーションにその作成時に与えられる。
【００８５】
ＧＵＩは、論理オペレーションのコンポーネントのそれぞれに関するスクリーンも含むことができる。たとえば、図１０は「パターングループ（Pattern Group）」スクリーン１６０を示し、図１１は「入力データ（Input Data）」スクリーン１６５を示し、図１２は「レイヤデータ（Layer Data）」スクリーン１７０を示し、図１３は「論理式（Logical Expression）」スクリーン１７５を示している。
【００８６】
本発明の例示的な実施形態では、ツーリング仕様生成システム１１０は、ＭａｓｋＰｉｌｏｔ（登録商標）等の別個のフォトマスク注文生成システムと共に使用できるスタンドアロンシステムとすることができる。代替的に、ツーリング仕様生成システム１１０は、フォトマスク注文生成システムと一体化することもできる。前述したように、ツーリング仕様生成システム１１０をフォトマスク注文生成システムと一体化することによって、これらの２つのシステムは、ルックアップリスト及び情報データベースを共有する等、情報を共有することが可能になる。これによって、共通フォーマットでデータを入力すること及び同じ情報を２度入力する必要が省かれること等の利点が提供される。
【００８７】
図１４は、本発明の１つの例示的な実施形態によるツーリング仕様生成システム１１０を使用してフォトマスクを製造する方法を示すフローチャートである。ステップＳ１において、論理オペレーションの適切な属性を論理オペレーションマネージャ１１５に入力した後、ツーリング仕様が、ツーリング仕様生成システム１１０によって生成される。このステップの期間中、論理オペレーションで使用される任意の演算子のエイリアスを作成するのにエイリアスマネージャ１２０を使用することができる。ステップＳ１の代わりとして、前に保存されたツーリング仕様を検索してもよく、外部ソースからツーリング仕様をインポートしてもよい。
【００８８】
ステップＳ２において、生成されたツーリング仕様のフォーマットが、論理オペレーション検証器１２５によって検証される。たとえば、このステップでは、論理オペレーションのシンタックスを、事前に生成された一組のルールを使用して検証することができる。これらのルールは、たとえば、論理オペレーションにおけるオブジェクトの正しい順序、及び／又は、各論理オペレーションの必要な属性を判断することができる。ツーリング仕様のフォーマットにエラーが見つかると、エラーを訂正するようにツーリング仕様を再生成することができ、ツーリング仕様を再度検証することができる。この検証ステップは任意選択であり、他の例示的な実施形態では、論理オペレーションのフォーマットを検証することなく、ツーリング仕様を生成することができる。論理オペレーションの検証は、フォトマスク顧客のコンピュータ又はフォトマスク製造業者のコンピュータのいずれかで行うことができる。
【００８９】
ステップＳ３において、ツーリング仕様は、ファイル送信機１３５を使用してフォトマスク製造業者のコンピュータシステム２００へ送信される。このステップでは、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムがツーリング仕様を読み出すことができるように、ツーリング仕様は、複数の標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットで出力することができる。標準フォーマットの一例は、いくつか例を挙げると、コンピュータ支援設計又は電子設計自動化に関連するフォトリソグラフィ機器又はフォトリソグラフィソフトウェアによって認識され且つ使用されるフォーマットとすることができる。独自フォーマットには、いくつか例を挙げると、ＸＭＬ、ＳＯＡＰＸＭＬ、ポストスクリプト、及びＨＴＭＬが含まれ得る。
【００９０】
ステップＳ４において、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムは、フォトマスク顧客のコンピュータシステムから受信されたツーリング仕様内に含まれるフラクチャリング命令に基づいてフォトマスク設計をシミュレーションする。このステップでは、フォトマスク製造業者は、たとえば、SynopsisによるＳｉＶＬ等、任意の適した市販フォトマスク設計シミュレーションソフトウェア及び／又は独自フォトマスク設計シミュレーションソフトウェアを使用することができる。
【００９１】
ステップＳ４において、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムは、フォトマスク設計シミュレーション結果に基づいてツーリング仕様を解析する。このシミュレーションステップは任意選択であることが十分理解されるべきであり、フォトマスク設計の解析は、このようなシミュレーションなしで完了することができる。さらに、シミュレーションステップは、解析後に行うこともでき、且つ／又は、解析を必要とすることなく、ツーリング仕様生成システム１１０が行うこともできる。ステップＳ４において、ツーリング仕様が、結果のフォトマスク設計の妥当性、実現可能性、及び／又は望ましさに基づいて解析される。前述したように、解析によって、好ましくは、フォトマスク顧客が自身のツーリング仕様の改良及び／又は訂正に使用できる情報が得られ、その結果、フォトマスク製造プロセスのコストがより安価になり、サイクル時間が削減される。
【００９２】
ステップＳ６において、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムは、ツーリング仕様とともに、又はツーリング仕様なしで、解析結果をフォトマスク顧客のコンピュータシステムへ送信する。解析結果は、ツーリング仕様と共に送信される場合、ツーリング仕様ファイル内に組み込むことができる。解析結果は、たとえば、ＸＭＬ文書又はＨＴＭＬ文書として単独で、すなわち、ツーリング仕様とは別に送信することができる。加えて、フォトマスク製造業者のコンピュータシステムは、解析に基づいてツーリング仕様を変更することもできる。
【００９３】
ステップＳ７において、フォトマスク顧客のコンピュータシステムは、解析結果の受信後、ツーリング仕様を使用してフォトマスク注文を生成する。このステップでは、フォトマスク注文を生成する前に、最初に、フォトマスク製造業者によって提供された解析結果に基づいてツーリング仕様を変更することができる。たとえば、解析結果は、ツーリング仕様が妥当でなく、それによって、論理オペレーションの変更を必要とすることを示す場合もあり、又はフォトマスク製造業者により提案された変更に従うようにツーリング仕様を改変でき、その変更の結果、フォトマスク設計が改良されることを示す場合もある。フォトマスク注文は、ＭａｓｋＰｉｌｏｔ（登録商標）等、任意の適したフォトマスク注文生成システムを使用して生成することができる。本発明の少なくとも１つの実施形態では、ファイルは、２つ以上のフォトマスク製造業者の注文フォーマットと互換性のある形である。
【００９４】
ステップＳ８において、フォトマスク注文がフォトマスク製造業者へ送信される。この注文は、解析を行った同じフォトマスク製造業者へ送信される必要はない。最後に、ステップＳ９において、フォトマスク製造業者は、フォトマスク注文を使用してフォトマスクを製造する。
【００９５】
今や本発明の好ましい実施形態を詳細に図示して説明してきたので、これらの好ましい実施形態に対するさまざまな修正及び改良は、当業者には容易に明らかであろう。したがって、本発明の精神及び範囲は、広く解釈されるべきであり、上記明細書ではなく添付の特許請求の範囲のみによって限定されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】従来技術のブランクのフォトマスク又は未現像のフォトマスクを表す図である。
【図２】部分的に処理された後の図１のフォトマスクを表す図である。
【図３】完全に処理された後の図１及び図２のフォトマスクを表す図である。
【図４】処理されたフォトマスクを使用して半導体ウェハを作製又は処理する方法を示すフローチャートである。
【図５】ウェハステッパを使用して半導体を作製するプロセスを示す図である。
【図６】フォトマスク製造業者のコンピュータシステムと共に使用される、本発明の１つの例示的な実施形態によるツーリング仕様生成システムを含むフォトマスク顧客のコンピュータシステムである。
【図７】指定されたデータを入力するようにユーザをガイドするために本発明と共に使用される１つの例示的なグラフィカルユーザインターフェースのスクリーンである。
【図８】指定されたデータを入力するようにユーザをガイドするために本発明と共に使用される１つの例示的なグラフィカルユーザインターフェースのスクリーンである。
【図９】指定されたデータを入力するようにユーザをガイドするために本発明と共に使用される１つの例示的なグラフィカルユーザインターフェースのスクリーンである。
【図１０】指定されたデータを入力するようにユーザをガイドするために本発明と共に使用される１つの例示的なグラフィカルユーザインターフェースのスクリーンである。
【図１１】指定されたデータを入力するようにユーザをガイドするために本発明と共に使用される１つの例示的なグラフィカルユーザインターフェースのスクリーンである。
【図１２】指定されたデータを入力するようにユーザをガイドするために本発明と共に使用される１つの例示的なグラフィカルユーザインターフェースのスクリーンである。
【図１３】指定されたデータを入力するようにユーザをガイドするために本発明と共に使用される１つの例示的なグラフィカルユーザインターフェースのスクリーンである。
【図１４】本発明の１つの例示的な実施形態によるツーリング仕様生成システムを使用してフォトマスクを製造する方法を示すフローチャートである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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