(57)【要約】  光平行化・拡散フィルム及びかかるフィルムの製造方法が提供される。かかるフィルムは、第一の側及び第一の側と背中合せの第二の側を有すると共に少なくとも第一のへりを有するプラスチック層を含んでいる。第一の側は第一のテクスチャード表面を有しており、第一の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。第一の軸線は第一のへりに対して実質的に平行である。かかるプラスチック層はそれを通って進行する光を平行化する。【選択図】    図３
2008507731.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の側（４６）及び第一の側と背中合せの第二の側（４８）を有すると共に少なくとも第一のへり（６１）を有するプラスチック層（２８）であって、第一の側（４６）は第一のテクスチャード表面を有し、第一の軸線（６２）に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有し、第一の軸線（６２）は第一のへり（６１）に対して実質的に平行であるプラスチック層（２８）を含み、プラスチック層（２８）はそれを通って進行する光を平行化することを特徴とする光平行化・拡散フィルム。
【請求項２】
第二の軸線（６０）に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有し、第二の軸線（６０）は第一の軸線（６２）に対して実質的に垂直であることを特徴とする、請求項１記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項３】
第一のテクスチャード表面が複数の山部（５２）及び複数の谷部（５４）を含み、各山部（５２）は１以上の隣接した谷部（５２）から外方に延在していることを特徴とする、請求項１記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項４】
複数の山部（５２）の平均高さが複数の山部（５２）の平均幅の２５〜７５％の範囲内にあることを特徴とする、請求項３記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項５】
複数の山部（５２）の平均幅が０．５〜１００ミクロンの範囲内にあることを特徴とする、請求項３記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項６】
プラスチック層（２８）が、プラスチック層（２８）を通って第一の側（４８）から第二の側（４６）に進行する光を平行化することを特徴とする、請求項１記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項７】
プラスチック層（２８）が、それを通過する光をプラスチック層（２８）に対して垂直な軸線に向けて平行化することを特徴とする、請求項６記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項８】
第二の側（４８）が第二のテクスチャード表面を有し、第二のテクスチャード表面上の傾き角の７０％以上が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項１記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項９】
プラスチック層（２８）が、該層の総質量の０．００１〜１．０％の範囲内の蛍光増白剤を含むことを特徴とする、請求項１記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項１０】
プラスチック層（２８）がその中に帯電防止剤化合物を含むことを特徴とする、請求項１記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項１１】
帯電防止剤化合物がフッ素化ホスホニウムスルホネートからなることを特徴とする、請求項１０記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項１２】
プラスチック層（２８）が、プラスチック層の総質量の０．０１〜１．０％の範囲内のＵＶ吸収剤化合物を含むことを特徴とする、請求項１記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項１３】
プラスチック層（２８）が０．０２５〜１０ミリメートルの範囲内の厚さを有することを特徴とする、請求項１記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項１４】
プラスチック層（２８）が０．０２５〜０．５ミリメートルの範囲内の厚さを有することを特徴とする、請求項１記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項１５】
第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度であることを特徴とする、請求項１記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項１６】
加熱したプラスチックをダイ（１０４）から押し出してプラスチック層（１０６）を形成する段階を含み、プラスチック層（１０６）は第一の側及び第一の側と背中合せの第二の側を有すると共に少なくとも第一のへり（６１）を有し、プラスチック層（１０６）は第一の軸線及び第二の軸線の両方に沿って延在し、第一の軸線は第一のへりに対して実質的に平行であり、第二の軸線は第一の軸線に対して実質的に垂直である、光平行化・拡散フィルムの製造方法であって、
第一及び第二の回転する円筒形ローラー（６４、１０８）の１以上を所定温度より低く冷却する段階、並びに
第一及び第二の回転する円筒形ローラー（６４、１０８）の間でプラスチック層（１０６）を移動させる段階であって、第一の円筒形ローラー（６４）はプラスチック層（１０６）の第一の側に接触し、第二の円筒形ローラー（１０８）は第二の側に接触し、第一の円筒形ローラー（６４）はプラスチック層（１０６）の第一の側に第一のテクスチャード表面を形成し、第一の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する段階
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１７】
第二の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
さらに、巻取スプール（１１８）の回りに冷却したプラスチック層を巻き取る段階を含むことを特徴とする、請求項１６記載の方法。
【請求項１９】
第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項１６記載の方法。
【請求項２０】
ダイ（１０４）と機能的に連結された押出装置（１０２）を含み、押出装置（１０２）は加熱したプラスチック（１０６）をダイ（１０４）から押し出してプラスチック層（１０６）を形成し、プラスチック層は第一の側及び第一の側と背中合せの第二の側を有すると共に少なくとも第一のへりを有し、プラスチック層（１０６）は第一の軸線及び第二の軸線の両方に沿って延在し、第一の軸線は第一のへりに対して実質的に平行であり、第二の軸線は第一の軸線に対して実質的に垂直である、光平行化・拡散フィルムの製造用システムであって、
プラスチック層（１０６）を受け取るために互いに近接して配設された第一及び第二の円筒形ローラー（６４、１０８）、並びに
第一及び第二の円筒形ローラー（６４、１０８）の１以上を所定温度より低く冷却するように構成された冷却装置（１２０）
を含み、第一の円筒形ローラー（６４）はプラスチック層（１０６）の第一の側に接触してプラスチック層（１０６）の第一の側に第一のテクスチャード表面を形成し、第二の円筒形ローラー（１０８）はプラスチック層（１０６）の第二の側に接触し、第一の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とするシステム。
【請求項２１】
第二の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項２０記載のシステム。
【請求項２２】
第二の円筒形ローラー（１０８）がプラスチック層（１０６）上に第二のテクスチャード表面を形成し、第二のテクスチャード表面上の傾き角の７０％以上が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項２０記載のシステム。
【請求項２３】
さらに、第一及び第二の円筒形ローラー（６４、１０８）から冷却したプラスチック層を受け取るために互いに近接して配設された第三及び第四の円筒形ローラー（１１４、１１６）を含み、第三及び第四の円筒形ローラー（１１４、１１６）は共に回転してプラスチック層を巻取装置（１２８）に向けて駆動するように構成され、巻取装置（１２８）はプラスチック層を受け取って巻取スプール（１１８）の回りに巻き取ることを特徴とする、請求項２０記載のシステム。
【請求項２４】
第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項２０記載の方法。
【請求項２５】
プラスチック層（１５４）を加熱する段階を含み、プラスチック層（１５４）は第一の側及び第一の側と背中合せの第二の側を有すると共に少なくとも第一のへりを有し、プラスチック層（１５４）は第一の軸線及び第二の軸線の両方に沿って延在し、第一の軸線は第一のへりに対して実質的に平行であり、第二の軸線は第一の軸線に対して実質的に垂直である、光平行化・拡散フィルムの製造方法であって、
第一及び第二の回転する円筒形ローラー（６４、１６０）の１以上を所定温度より高く加熱する段階、並びに
第一及び第二の回転する円筒形ローラー（６４、１６０）の間でプラスチック層（１５４）を移動させる段階であって、第一の円筒形ローラー（６４）はプラスチック層（１５４）の第一の側に接触し、第二の円筒形ローラー（１６０）は第二の側に接触し、第一の円筒形ローラー（６４）はプラスチック層（１５４）の第一の軸線に近接した第一の側に第一のテクスチャード表面を形成し、第一の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する段階
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２６】
第二の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項２５記載の方法。
【請求項２７】
さらに、巻取スプール（１７０）の回りにプラスチック層（１５４）を巻き取る段階を含むことを特徴とする、請求項２５記載の方法。
【請求項２８】
第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項２５記載の方法。
【請求項２９】
プラスチック層（１５４）を加熱するように構成された第一の加熱装置（１５６）を含み、プラスチック層（１５４）は第一の側及び第一の側と背中合せの第二の側を有すると共に少なくとも第一のへりを有し、プラスチック層（１５４）は第一の軸線及び第二の軸線の両方に沿って延在し、第一の軸線は第一のへりに対して実質的に平行であり、第二の軸線は第一の軸線に対して実質的に垂直である、光平行化・拡散フィルムの製造用システムであって、
プラスチック層（１５４）を受け取るために互いに近接して配設された第一及び第二の円筒形ローラー（６４、１６０）、並びに
第一及び第二の円筒形ローラー（６４、１６０）の１以上を加熱するように構成された第二の加熱装置（１７２）
を含み、第一の円筒形ローラー（６４）はプラスチック層（１０６）の第一の側に接触して第一の側に第一のテクスチャード表面を形成し、第二の円筒形ローラー（１６０）はプラスチック層（１５４）の第二の側に接触し、第一の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とするシステム。
【請求項３０】
第二の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項２９記載のシステム。
【請求項３１】
第二の円筒形ローラー（１６０）が第二の側に第二のテクスチャード表面を形成し、第二のテクスチャード表面上の傾き角の７０％以上が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項２９記載のシステム。
【請求項３２】
さらに、第一及び第二の円筒形ローラー（６４、１６０）から冷却したプラスチック層を受け取るために互いに近接して配設された第三及び第四の円筒形ローラー（１６６、１６８）を含み、第三及び第四の円筒形ローラー（１６６、１６８）は共に回転してプラスチック層を巻取装置（１８０）に向けて駆動するように構成され、巻取装置（１８０）はプラスチック層を受け取って巻取スプール（１７０）の回りに巻き取ることを特徴とする、請求項２９記載のシステム。
【請求項３３】
第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項２９記載のシステム。
【請求項３４】
光平行化・拡散フィルム上にテクスチャード表面を形成するための道具であって、
第一の軸線（６６）の回りに配置されかつ外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部（２１１、２１３）を有する円筒形部分（６４）を含み、円筒形部分（６４）はさらに外部テクスチャード表面に近接して配置されかつ第一の端部（２１１）に対して実質的に垂直に円筒形部分（６４）を実質的に横切って延在する第一の線（６８）を有し、円筒形部分（６４）はさらに第一の端部（２１１）から実質的に所定の距離で円筒形部分（６４）の外周を取り巻いて延在する第二の線（７０）を有し、外部テクスチャード表面は複数の山部及び複数の谷部を有し、各山部は１以上の隣接した谷部から外方に延在しており、複数の山部及び複数の谷部は複数の傾き角を画定し、第一の線（６８）又は第二の線（７０）に近接した外部テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、道具。
【請求項３５】
第一の線（６８）及び第二の線（７０）の両方に近接した外部テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項３４記載の道具。
【請求項３６】
外部テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項３４記載の道具。
【請求項３７】
円筒形ローラー（６４）が第一の軸線の回りに配置されかつ外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部（２１１、２１３）を有し、円筒形ローラー（６４）はさらに外部テクスチャード表面に近接して配置されかつ第一の端部に対して実質的に垂直に円筒形ローラーを実質的に横切って延在する第一の線を有し、円筒形ローラー（６４）はさらに第一の端部から実質的に所定の距離で円筒形ローラー（６４）の外周を取り巻いて延在する第二の線を有し、当該方法は円筒形ローラー（６４）を第一の軸線の回りに所定の回転速度で回転させる段階を含む、円筒形ローラー（６４）上にテクスチャード表面を形成する方法であって、
所定の強度で円筒形ローラー（６４）の外面に接触する脈動エネルギービームを放射すると共に、円筒形ローラー（６４）の回転中に円筒形ローラー（６４）の第一の端部（２１１）から第二の端部（２１３）までエネルギービームを移動させることで、エネルギービームが外面の複数部分を取り除いてテクスチャード表面を得る段階であって、第一の線又は第二の線に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する段階
を含むことを特徴とする方法。
【請求項３８】
第一の線及び第二の線の両方に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項３７記載の方法。
【請求項３９】
テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項３７記載の方法。
【請求項４０】
円筒形ローラー（６４）の外面の線速度が２５〜２５００ミリメートル／秒の範囲内にあることを特徴とする、請求項３７記載の方法。
【請求項４１】
エネルギービームを円筒形ローラー６４に対して０．００１〜０．１ミリメートル／秒の範囲内の速度で移動させることを特徴とする、請求項３７記載の方法。
【請求項４２】
エネルギービームが円筒形ローラー（６４）の外面で０．００５〜０．５ミリメートルの範囲内の焦点直径を有することを特徴とする、請求項３７記載の方法。
【請求項４３】
円筒形ローラー（６４）に接触するエネルギービームが、円筒形ローラーの所定面積について０．１〜１００マイクロ秒の範囲内の時間にわたり伝達される０．０５〜１．０ジュールの範囲内のエネルギーレベルを有することを特徴とする、請求項４２記載の方法。
【請求項４４】
エネルギービームがレーザービームからなることを特徴とする、請求項３７記載の方法。
【請求項４５】
レーザービームが１．０６ミクロンの波長を有することを特徴とする、請求項４４記載の方法。
【請求項４６】
レーザービームがＮｄ：ＹＡＧレーザービームからなることを特徴とする、請求項４４記載の方法。
【請求項４７】
エネルギービームが電子ビームからなることを特徴とする、請求項３７記載の方法。
【請求項４８】
ビームがイオンビームからなることを特徴とする、請求項３７記載の方法。
【請求項４９】
テクスチャード表面が複数の山部及び複数の谷部を有し、各山部は１以上の隣接した谷部から外方に延在していることを特徴とする、請求項３７記載の方法。
【請求項５０】
複数の山部の平均高さが複数の山部の平均幅の２５〜１００％の範囲内にあることを特徴とする、請求項４９記載の方法。
【請求項５１】
複数の山部の平均幅が０．５〜１００ミクロンの範囲内にあることを特徴とする、請求項４９記載の方法。
【請求項５２】
円筒形ローラー（２７８）が第一の軸線の回りに配置されかつ外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部を有し、円筒形ローラー（２７８）はさらに外部テクスチャード表面に近接して配置された第一の線を有し、第一の線は第一の端部に対して実質的に垂直に円筒形ローラーを実質的に横切って延在しており、円筒形ローラーはさらに第一の端部から実質的に所定の距離で円筒形ローラーの外周を取り巻いて延在する第二の線を有する、円筒形ローラー（２７８）上にテクスチャード表面を形成する方法であって、
電解質流体中で円筒形ローラー（２７８）を第一の軸線の回りに所定の回転速度で回転させると共に、円筒形ローラー（２７８）を電気的に接地する段階、及び
電解質流体中に所定の電流密度を印加することで、流体中の金属イオン（２７６）が円筒形ローラー（２７８）の外面に結合してテクスチャード表面を形成する段階であって、第一の線又は第二の線に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する段階
を含むことを特徴とする方法。
【請求項５３】
第一の線及び第二の線の両方に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項５２記載の方法。
【請求項５４】
テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項５２記載の方法。
【請求項５５】
円筒形ローラー（２７９）が電解質流体中で毎分１〜１０回の範囲内の回転速度で０．５〜５０時間の範囲内の時間にわたり回転することを特徴とする、請求項５２記載の方法。
【請求項５６】
金属イオン（２７６）がクロムイオンからなることを特徴とする、請求項５２記載の方法。
【請求項５７】
所定の電流密度が０．００１〜０．０１アンペア／平方ミリメートルの範囲内にあることを特徴とする、請求項５２記載の方法。
【請求項５８】
テクスチャード表面が複数の山部及び複数の谷部を有し、各山部は１以上の隣接した谷部から外方に延在していることを特徴とする、請求項５２記載の方法。
【請求項５９】
複数の山部の平均高さが複数の山部の平均幅の２５〜１００％の範囲内にあることを特徴とする、請求項５８記載の方法。
【請求項６０】
複数の山部の平均幅が０．５〜１００ミクロンの範囲内にあることを特徴とする、請求項５８記載の方法。
【請求項６１】
円筒形ローラー（２５３）が第一の軸線の回りに配置されかつ外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部を有し、円筒形ローラー（２５３）はさらに外部テクスチャード表面に近接して配置された第一の線を有し、第一の線は第一の端部に対して実質的に垂直に円筒形ローラー（２５３）を実質的に横切って延在しており、円筒形ローラー（２５３）はさらに第一の端部から実質的に所定の距離で円筒形ローラーの外周を取り巻いて延在する第二の線を有する、円筒形ローラー（２５３）上にテクスチャード表面を形成する方法であって、
金属イオン（２３６）及び非金属粒子（２３８）を含む流体中で円筒形ローラー（２５３）を第一の軸線の回りに所定の回転速度で回転させる段階、並びに
金属イオン（２３６）及び非金属粒子（２３８）を円筒形ローラー（２５３）の外面に化学結合させてテクスチャード表面を形成する段階であって、第一の線又は第二の線に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する段階
を含むことを特徴とする方法。
【請求項６２】
第一の線及び第二の線の両方に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項６１記載の方法。
【請求項６３】
テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項６１記載の方法。
【請求項６４】
非金属粒子（２３８）が１〜１００マイクロメートルの範囲内の粒度を有するシリカ粒子からなることを特徴とする、請求項６１記載の方法。
【請求項６５】
シリカ粒子が中実シリカ粒子からなることを特徴とする、請求項６４記載の方法。
【請求項６６】
シリカ粒子が中空シリカ粒子からなることを特徴とする、請求項６４記載の方法。
【請求項６７】
シリカ粒子が多孔質シリカ粒子からなることを特徴とする、請求項６４記載の方法。
【請求項６８】
非金属粒子（２３８）が１〜１００マイクロメートルの範囲内の粒度を有するアルミナ粒子からなることを特徴とする、請求項６１記載の方法。
【請求項６９】
アルミナ粒子が中実アルミナ粒子からなることを特徴とする、請求項６８記載の方法。
【請求項７０】
アルミナ粒子が多孔質アルミナ粒子からなることを特徴とする、請求項６８記載の方法。
【請求項７１】
金属イオン（２３６）がニッケルイオン及びニッケル合金イオンの１種以上からなることを特徴とする、請求項６１記載の方法。
【請求項７２】
テクスチャード表面が複数の山部及び複数の谷部を有し、各山部は１以上の隣接した谷部から外方に延在していることを特徴とする、請求項６１記載の方法。
【請求項７３】
複数の山部の平均高さが複数の山部の平均幅の２５〜１００％の範囲内にあることを特徴とする、請求項７２記載の方法。
【請求項７４】
複数の山部の平均幅が０．５〜１００ミクロンの範囲内にあることを特徴とする、請求項７２記載の方法。
【請求項７５】
非金属粒子（２３８）が１〜１００マイクロメートルの範囲内の粒度を有するダイヤモンド粒子からなることを特徴とする、請求項６１記載の方法。
【請求項７６】
円筒形ローラー（３９０）が第一の軸線の回りに配置されかつ外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部（３９３、３９５）を有し、円筒形ローラー（３９０）はさらに外部テクスチャード表面に近接して配置された第一の線を有し、第一の線は第一の端部（３９３）に対して実質的に垂直に円筒形ローラー（３９０）を実質的に横切って延在しており、円筒形ローラー（３９０）はさらに第一の端部（３９３）から実質的に所定の距離で円筒形ローラー（３９０）の外周を取り巻いて延在する第二の線を有し、当該方法は円筒形ローラー（３９０）を第一の軸線の回りに所定の回転速度で回転させる段階を含む、円筒形ローラー（３９０）上にテクスチャード表面を形成する方法であって、
円筒形ローラー（３９０）上に誘電流体を適用する段階、及び
円筒形ローラー（３９０）に近接して配設された１以上の電極（３７２）から電気火花を繰返し放電させる段階であって、電気火花が円筒形ローラー（３９０）の外面に接触して円筒形ローラー（３９０）上の所定量の金属を加熱融解することでテクスチャード表面を形成し、円筒形ローラー（３９０）の回転中に電気火花が円筒形ローラー（３９０）の第一の端部（３９３）から第二の端部（３９５）まで移動し、第一の線又は第二の線に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する段階
を含むことを特徴とする方法。
【請求項７７】
第一の線及び第二の線の両方に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項７６記載の方法。
【請求項７８】
テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項７６記載の方法。
【請求項７９】
電気火花が１００〜１０００ボルトの電圧を有する、請求項７６記載の方法。
【請求項８０】
テクスチャード表面が複数の山部及び複数の谷部を有し、各山部は１以上の隣接した谷部から外方に延在していることを特徴とする、請求項７６記載の方法。
【請求項８１】
複数の山部の平均高さが複数の山部の平均幅の２５〜１００％の範囲内にあることを特徴とする、請求項８０記載の方法。
【請求項８２】
複数の山部の平均幅が０．５〜１００ミクロンの範囲内にあることを特徴とする、請求項８０記載の方法。
【請求項８３】
円筒形ローラー（３１８）が第一の軸線の回りに配置されかつ外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部を有し、円筒形ローラー（３１８）はさらに外部テクスチャード表面に近接して配置された第一の線を有し、第一の線は第一の端部に対して実質的に垂直に円筒形ローラー（３１８）を実質的に横切って延在しており、円筒形ローラー（３１８）はさらに第一の端部（３２１）から実質的に所定の距離で円筒形ローラーの外周を取り巻いて延在する第二の線を有し、当該方法は円筒形ローラー（３１８）を第一の軸線の回りに所定の回転速度で回転させる段階を含む、円筒形ローラー（３１８）上にテクスチャード表面を形成する方法であって、
切削工具（３１０）を所定の周波数で円筒形ローラー（３１８）の外面に繰返し接触させる段階であって、円筒形ローラー（３１８）の回転中に切削工具（３１０）が円筒形ローラー（３１８）の第一の端部（３２１）から第二の端部（３２３）まで移動し、切削工具（３１０）が外面の複数部分を取り除いてテクスチャード表面を得、第一の線又は第二の線に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する段階
を含むことを特徴とする方法。
【請求項８４】
第一の線及び第二の線の両方に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項８３記載の方法。
【請求項８５】
テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項８３記載の方法。
【請求項８６】
円筒形ローラー（３１８）の所定の回転速度が毎分１０〜２００回の範囲内にある、請求項８３記載の方法。
【請求項８７】
所定の周波数が１０００〜１５００キロヘルツの範囲内にある、請求項８３記載の方法。
【請求項８８】
テクスチャード表面が複数の山部及び複数の谷部を有し、各山部は１以上の隣接した谷部から外方に延在していることを特徴とする、請求項８３記載の方法。
【請求項８９】
複数の山部の平均高さが複数の山部の平均幅の２５〜１００％の範囲内にあることを特徴とする、請求項８８記載の方法。
【請求項９０】
複数の山部の平均幅が０．５〜１００ミクロンの範囲内にあることを特徴とする、請求項８８記載の方法。
【請求項９１】
円筒形ローラー（３４０）が第一の軸線の回りに配置されかつ外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部を有し、円筒形ローラー（３４０）はさらに外部テクスチャード表面に近接して配置された第一の線を有し、第一の線は第一の端部に対して実質的に垂直に円筒形ローラー（３４０）を実質的に横切って延在しており、円筒形ローラー（３４０）はさらに第一の端部から実質的に所定の距離で円筒形ローラー（３４０）の外周を取り巻いて延在する第二の線を有する、円筒形ローラー（３４０）上にテクスチャード表面を形成する方法であって、
円筒形ローラー（３４０）を耐薬品性の層（３４３）で被覆すると共に、耐薬品性の層（３４３）を所定の位置（３４６）で取り除いて下方の円筒形ローラー表面を所定の位置（３４６）で露出させる段階、及び
エッチング液を含む容器（３３２）内で円筒形ローラー（３４０）を第一の軸線の回りに所定の回転速度で回転させる段階であって、エッチング液が所定の位置（３４６）で円筒形ローラー（３４０）の複数部分を取り除いてテクスチャード表面を得、第一の線又は第二の線に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する段階
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９２】
第一の線及び第二の線の両方に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項９１記載の方法。
【請求項９３】
テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有することを特徴とする、請求項９１記載の方法。
【請求項９４】
円筒形ローラー（３４０）が毎分１〜５０回の範囲内の回転速度で回転することを特徴とする、請求項９１記載の方法。
【請求項９５】
エッチング液の質量の５〜２５％が硝酸であることを特徴とする、請求項９１記載の方法。
【請求項９６】
エッチング液の質量の５〜２５％が塩酸であることを特徴とする、請求項９１記載の方法。
【請求項９７】
耐薬品性の層（３４３）がリソグラフィー法を用いて所定の位置で取り除かれることを特徴とする、請求項９１記載の方法。
【請求項９８】
耐薬品性の層（３４３）がエネルギービームを用いて所定の位置で取り除かれることを特徴とする、請求項９１記載の方法。
【請求項９９】
耐薬品性の層（３４３）が、円筒形ローラー（３４０）を工具に接触させることで所定の位置で取り除かれ、工具は耐薬品性の層（３４３）より高いが円筒形ローラーの硬さより低い硬さを有することを特徴とする、請求項９１記載の方法。
【請求項１００】
耐薬品性の層（３４３）がホトレジスト層からなることを特徴とする、請求項９１記載の方法。
【請求項１０１】
耐薬品性の層（３４３）がワックス層からなることを特徴とする、請求項９１記載の方法。
【請求項１０２】
耐薬品性の層（３４３）がプラスチック層からなることを特徴とする、請求項９１記載の方法。
【請求項１０３】
テクスチャード表面が複数の山部及び複数の谷部を有し、各山部は１以上の隣接した谷部から外方に延在していることを特徴とする、請求項９１記載の方法。
【請求項１０４】
複数の山部の平均高さが複数の山部の平均幅の２５〜１００％の範囲内にあることを特徴とする、請求項１０３記載の方法。
【請求項１０５】
複数の山部の平均幅が０．５〜１００ミクロンの範囲内にあることを特徴とする、請求項１０３記載の方法。
【請求項１０６】
光源（２２）及び光源（２２）に近接して配設されて光源（２２）からの光を受光するための光ガイド（２６）を含むバックライト型デバイスであって、
第一の側（４６）及び第一の側と背中合せの第二の側（４８）を有すると共に少なくとも第一のへりを有する１以上のプラスチック層（２８）であって、第一の側（４６）は第一のテクスチャード表面を有し、第一の軸線（６２）に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有し、第一の軸線（６２）は第一のへり（６１）に対して実質的に平行であるプラスチック層（２８）を含み、プラスチック層（２８）はそれを通って進行する光を平行化することを特徴とするバックライト型デバイス。
【請求項１０７】
第二の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有し、第二の軸線は第一の軸線に対して実質的に垂直であることを特徴とする、請求項１０６記載のバックライト型デバイス。
【請求項１０８】
さらに、第一のテクスチャード表面に近接して配設された１以上の導光フィルム（３０）を含むことを特徴とする、請求項１０６記載のバックライト型デバイス。
【請求項１０９】
第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度であることを特徴とする、請求項１０６記載のバックライト型デバイス。
【請求項１１０】
プラスチック層（２８）が、プラスチック層（２８）の総質量の０．０１〜１．０％の範囲内のＵＶ吸収剤化合物を含むことを特徴とする、請求項１０６記載のバックライト型デバイス。
【請求項１１１】
プラスチック層（２８）の総質量の８０％以上がポリカーボネート化合物からなることを特徴とする、請求項１０６記載のバックライト型デバイス。
【請求項１１２】
プラスチック層（２８）が、該層（２８）の総質量の０．００１〜１．０％の範囲内の蛍光増白剤を含むことを特徴とする、請求項１０６記載のバックライト型デバイス。
【請求項１１３】
プラスチック層（２８）がその中に帯電防止剤化合物を含むことを特徴とする、請求項１０６記載のバックライト型デバイス。
【請求項１１４】
帯電防止剤化合物がフッ素化ホスホニウムスルホネートからなることを特徴とする、請求項１１３記載のバックライト型デバイス。
【請求項１１５】
一元層（２８）の総質量の８０％以上がポリカーボネート化合物からなる一元層（２８）であって、一元層は第一の側（４６）及び第一の側（４６）と背中合せの第二の側（４８）を有すると共に少なくとも第一のへり（６１）を有し、第一の側（４６）は第一のテクスチャード表面を有し、第一の軸線（６２）に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有し、第一の軸線（６２）は第一のへり（６１）に対して実質的に平行である一元層（２８）を含み、プラスチック層（２８）はそれを通って進行する光を平行化することを特徴とする光平行化・拡散フィルム。
【請求項１１６】
第二の軸線（６０）に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有し、第二の軸線（６０）は第一の軸線（６２）に対して実質的に垂直であることを特徴とする、請求項１１５記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項１１７】
第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度であることを特徴とする、請求項１１５記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項１１８】
一元層（２８）がさらに一元層中に実質的に均一に配置された帯電防止剤化合物を含むことを特徴とする、請求項１１５記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項１１９】
前記帯電防止剤化合物がフッ素化ホスホニウムスルホネートからなることを特徴とする、請求項１１５記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項１２０】
一元層（２８）が、一元層の総質量の０．０１〜１．０％の範囲内のＵＶ吸収剤化合物を含むことを特徴とする、請求項１１５記載の光平行化・拡散フィルム。
【請求項１２１】
一元層（２８）が、該層（２８）の総質量の０．００１〜１．０％の範囲内の蛍光増白剤を含むことを特徴とする、請求項１１５記載の光平行化・拡散フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光平行化・拡散フィルム及びかかるフィルムを製造するためのシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
光を受光してその光を拡散させるための光拡散フィルムが開発されてきた。光拡散フィルムは、複数の製造段階を用いて製造される。最初に、複数のポリスチレンビーズがアクリレート溶液中に配置される。次いで、アクリレート溶液をプラスチックフィルムの表面に塗布する。その後、プラスチックフィルムを加熱してアクリレートを硬化させ、ポリスチレンビーズをプラスチックフィルムに結合する。かかる光拡散フィルムの製造方法に関する大きな欠点は、アクリレート溶液及びポリスチレンビーズをフィルムに塗布するために複数の比較的複雑な段階が必要となることである。さらに、製造プロセスを実施するためには比較的高い費用がかかる。
【０００３】
したがって、ポリスチレンビーズやアクリレート溶液を使用することなく簡易化された方法で製造できる光拡散フィルムに対するニーズが存在している。
【特許文献１】米国特許第６４７６８９０号明細書
【特許文献２】米国特許第６４５２６５３号明細書
【特許文献３】米国特許第６２８５００１号明細書
【特許文献４】米国特許第６６３６３６３号明細書
【特許文献５】米国特許第６７２１１０２号明細書
【特許文献６】米国特許第６５８３９３６号明細書
【特許文献７】米国特許出願公開第２００２／０１９１１３４号明細書
【特許文献８】米国特許出願公開第２００２／００２７６２７号明細書
【特許文献９】米国特許出願公開第２００２／００１８１６１号明細書
【特許文献１０】米国特許出願公開第２００３／００２５８５２号明細書
【特許文献１１】米国特許出願公開第２００４／００８０７２５号明細書
【特許文献１２】米国特許出願公開第２００３／０１６９４９９号明細書
【特許文献１３】米国特許出願公開第２００３／０１６９５１２号明細書
【特許文献１４】米国特許出願公開第２００３／０１６９５１３号明細書
【特許文献１５】米国特許出願公開第２００３／０１７０４４２号明細書
【特許文献１６】米国特許出願公開第２００４／００６８１６７号明細書
【特許文献１７】米国特許出願公開第２００３／０２２３５３３号明細書
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
例示的な一実施形態に係る光平行化・拡散フィルムが提供される。本フィルムは、第一の側及び第一の側と背中合せの第二の側を有すると共に少なくとも第一のへりを有するプラスチック層を含んでいる。第一の側は第一のテクスチャード表面を有し、第一の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。第一の軸線は第一のへりに対して実質的に平行である。プラスチック層は、それを通って進行する光を平行化する。
【０００５】
別の例示的な実施形態に係る光平行化・拡散フィルムの製造方法が提供される。本方法は、加熱したプラスチックをダイから押し出してプラスチック層を形成する段階を含んでいる。プラスチック層は第一の側及び第一の側と背中合せの第二の側を有すると共に少なくとも第一のへりを有している。プラスチック層は第一の軸線及び第二の軸線の両方に沿って延在している。第一の軸線は第一のへりに対して実質的に平行である。第二の軸線は第一の軸線に対して実質的に垂直である。本方法はさらに、第一及び第二の回転する円筒形ローラーの１以上を所定温度より低く冷却する段階を含んでいる。本方法はさらに、第一及び第二の回転する円筒形ローラーの間でプラスチック層を移動させる段階を含んでいる。第一の円筒形ローラーはプラスチック層の第一の側に接触し、第二の円筒形ローラーは第二の側に接触する。第一の円筒形ローラーはプラスチック層の第一の側に第一のテクスチャード表面を形成し、第一の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。
【０００６】
別の例示的な実施形態に係る光平行化・拡散フィルムの製造用システムが提供される。本システムは、ダイと機能的に連結された押出装置を含んでいる。押出装置は加熱したプラスチックをダイから押し出してプラスチック層を形成する。プラスチック層は第一の側及び第一の側と背中合せの第二の側を有すると共に少なくとも第一のへりを有している。プラスチック層は第一の軸線及び第二の軸線の両方に沿って延在している。第一の軸線は第一のへりに対して実質的に平行である。第二の軸線は第一の軸線に対して実質的に垂直である。本システムはさらに、プラスチック層を受け取るために互いに近接して配設された第一及び第二の円筒形ローラーを含んでいる。本システムはさらに、第一及び第二の円筒形ローラーの１以上を所定温度より低く冷却するように構成された冷却装置を含んでいる。第一の円筒形ローラーはプラスチック層の第一の側に接触してプラスチック層の第一の側に第一のテクスチャード表面を形成する。第二の円筒形ローラーはプラスチック層の第二の側に接触し、第一の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。
【０００７】
別の例示的な実施形態に係る光平行化・拡散フィルムの製造方法が提供される。本方法は、第一の側及び第二の側を有するプラスチック層を加熱する段階を含んでいる。プラスチック層は第一の側及び第一の側と背中合せの第二の側を有すると共に少なくとも第一のへりを有している。プラスチック層は第一の軸線及び第二の軸線の両方に沿って延在している。第一の軸線は第一のへりに対して実質的に平行である。第二の軸線は第一の軸線に対して実質的に垂直である。本方法はさらに、第一及び第二の回転する円筒形ローラーの１以上を所定温度より高く加熱する段階を含んでいる。本方法はさらに、第一及び第二の回転する円筒形ローラーの間でプラスチック層を移動させる段階を含み、第一の円筒形ローラーはプラスチック層の第一の側に接触し、第二の円筒形ローラーは第二の側に接触する。第一の円筒形ローラーはプラスチック層の第一の軸線に近接した第一の側に第一のテクスチャード表面を形成し、第一の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。
【０００８】
別の例示的な実施形態に係る光平行化・拡散フィルムの製造用システムが提供される。本システムは、プラスチック層を加熱するように構成された第一の加熱装置を含んでいる。プラスチック層は第一の側及び第一の側と背中合せの第二の側を有すると共に少なくとも第一のへりを有している。プラスチック層は第一の軸線及び第二の軸線の両方に沿って延在している。第一の軸線は第一のへりに対して実質的に平行である。第二の軸線は第一の軸線に対して実質的に垂直である。本システムはさらに、プラスチック層を受け取るために互いに近接して配設された第一及び第二の円筒形ローラーを含んでいる。本システムはさらに、第一及び第二の円筒形ローラーの１以上を加熱するように構成された第二の加熱装置を含んでいる。第一の円筒形ローラーはプラスチック層の第一の側に接触して第一の側に第一のテクスチャード表面を形成し、第二の円筒形ローラーはプラスチック層の第二の側に接触し、第一の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。
【０００９】
別の例示的な実施形態に係る、光平行化・拡散フィルム上にテクスチャード表面を形成するための道具が提供される。本道具は、第一の軸線の回りに配設されると共に、外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部を有する円筒形部分を含んでいる。円筒形部分はさらに、外部テクスチャード表面に近接して配置されかつ第一の端部に対して実質的に垂直に円筒形部分を実質的に横切って延在する第一の線を有している。円筒形部分はさらに、第一の端部から実質的に所定の距離で円筒形部分の外周を取り巻いて延在する第二の線を有している。外部テクスチャード表面は複数の山部及び複数の谷部を有し、各山部は１以上の隣接した谷部から外方に延在している。複数の山部及び複数の谷部は複数の傾き角を画定し、第一の線又は第二の線に近接した外部テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。
【００１０】
別の例示的な実施形態に係る、円筒形ローラー上にテクスチャード表面を形成する方法が提供される。円筒形ローラーは、第一の軸線の回りに配置されかつ外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部を有している。、円筒形ローラーはさらに、外部テクスチャード表面に近接して配置されかつ第一の端部に対して実質的に垂直に円筒形ローラーを実質的に横切って延在する第一の線を含んでいる。円筒形ローラーはさらに、第一の端部から実質的に所定の距離で円筒形ローラーの外周を取り巻いて延在する第二の線を含んでいる。本方法は、円筒形ローラーを第一の軸線の回りに所定の回転速度で回転させる段階を含んでいる。本方法はさらに、所定の強度で円筒形ローラーの外面に接触する脈動エネルギービームを放射すると共に、円筒形ローラーの回転中に円筒形ローラーの第一の端部から第二の端部までエネルギービームを移動させる段階を含んでいる。エネルギービームが外面の複数部分を取り除いてテクスチャード表面を得、第一の線又は第二の線に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。
【００１１】
別の例示的な実施形態に係る、円筒形ローラー上にテクスチャード表面を形成する方法が提供される。円筒形ローラーは、第一の軸線の回りに配置されかつ外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部を有している。円筒形ローラーはさらに、外部テクスチャード表面に近接して配置された第一の線を含んでいる。第一の線は、第一の端部に対して実質的に垂直に円筒形ローラーを実質的に横切って延在している。円筒形ローラーはさらに、第一の端部から実質的に所定の距離で円筒形ローラーの外周を取り巻いて延在する第二の線を含んでいる。本方法は、電解質流体中で円筒形ローラーを第一の軸線の回りに所定の回転速度で回転させる段階を含んでいる。円筒形ローラーは電気的に接地される。本方法はさらに、電解質流体中に所定の電流密度を印加することで、流体中の金属イオンが円筒形ローラーの外面に結合してテクスチャード表面を形成する段階を含み、第一の線又は第二の線に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。
【００１２】
別の例示的な実施形態に係る、円筒形ローラー上にテクスチャード表面を形成する方法が提供される。円筒形ローラーは、第一の軸線の回りに配置されかつ外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部を有している。円筒形ローラーはさらに、外部テクスチャード表面に近接して配置された第一の線を含んでいる。第一の線は、第一の端部に対して実質的に垂直に円筒形ローラーを実質的に横切って延在している。円筒形ローラーはさらに、第一の端部から実質的に所定の距離で円筒形ローラーの外周を取り巻いて延在する第二の線を含んでいる。本方法はさらに、金属イオン及び非金属粒子を含む流体中で円筒形ローラーを第一の軸線の回りに所定の回転速度で回転させる段階を含んでいる。本方法はさらに、金属イオン及び非金属粒子を円筒形ローラーの外面に化学結合させてテクスチャード表面を形成する段階を含み、第一の線又は第二の線に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。
【００１３】
別の例示的な実施形態に係る、円筒形ローラー上にテクスチャード表面を形成する方法が提供される。円筒形ローラーは、第一の軸線の回りに配置されかつ外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部を有している。円筒形ローラーはさらに、外部テクスチャード表面に近接して配置された第一の線を含んでいる。第一の線は第一の端部に対して実質的に垂直に円筒形ローラーを実質的に横切って延在している。円筒形ローラーはさらに、第一の端部から実質的に所定の距離で円筒形ローラーの外周を取り巻いて延在する第二の線を含んでいる。本方法は、円筒形ローラーを第一の軸線の回りに所定の回転速度で回転させる段階を含んでいる。本方法はさらに、円筒形ローラー上に誘電流体を適用する段階を含んでいる。本方法はさらに、円筒形ローラーに近接して配設された１以上の電極から電気火花を繰返し放電させる段階を含んでいる。電気火花が円筒形ローラーの外面に接触して円筒形ローラー上の所定量の金属を加熱融解することでテクスチャード表面を形成する。円筒形ローラーの回転中に電気火花が円筒形ローラーの第一の端部から第二の端部まで移動し、第一の線又は第二の線に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。
【００１４】
別の例示的な実施形態に係る、円筒形ローラー上にテクスチャード表面を形成する方法が提供される。円筒形ローラーは、第一の軸線の回りに配置されかつ外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部を有している。円筒形ローラーはさらに、外部テクスチャード表面に近接して配置された第一の線を含んでいる。第一の線は第一の端部に対して実質的に垂直に円筒形ローラーを実質的に横切って延在している。円筒形ローラーはさらに、第一の端部から実質的に所定の距離で円筒形ローラーの外周を取り巻いて延在する第二の線を含んでいる。本方法は、円筒形ローラーを第一の軸線の回りに所定の回転速度で回転させる段階を含んでいる。本方法はさらに、切削工具を所定の周波数で円筒形ローラーの外面に繰返し接触させる段階を含んでいる。円筒形ローラーの回転中に切削工具は円筒形ローラーの第一の端部から第二の端部まで移動する。切削工具が外面の複数部分を取り除いてテクスチャード表面を得、第一の線又は第二の線に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。
【００１５】
別の例示的な実施形態に係る、円筒形ローラー上にテクスチャード表面を形成する方法が提供される。円筒形ローラーは、第一の軸線の回りに配置されかつ外部テクスチャード表面並びに第一及び第二の端部を有している。円筒形ローラーはさらに、外部テクスチャード表面に近接して配置された第一の線を含んでいる。第一の線は第一の端部に対して実質的に垂直に円筒形ローラーを実質的に横切って延在している。円筒形ローラーはさらに、第一の端部から実質的に所定の距離で円筒形ローラーの外周を取り巻いて延在する第二の線を含んでいる。本方法は、円筒形ローラーを耐薬品性の層で被覆すると共に、耐薬品性の層を所定の位置で取り除いて下方の円筒形ローラー表面を所定の位置で露出させる段階を含んでいる。本方法はさらに、エッチング液を含む容器内で円筒形ローラーを第一の軸線の回りに所定の回転速度で回転させる段階を含んでいる。エッチング液が所定の位置で円筒形ローラーの複数部分を取り除いてテクスチャード表面を得、第一の線又は第二の線に近接したテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。
【００１６】
別の例示的な実施形態に係るバックライト型デバイスが提供される。バックライト型デバイスは光源を含んでいる。バックライト型デバイスはさらに、光源に近接して配設されて光源からの光を受光するための光ガイドを含んでいる。バックライト型デバイスはさらに、第一の側及び第一の側と背中合せの第二の側を有すると共に少なくとも第一のへりを有する１以上のプラスチック層を含んでいる。第一の側は第一のテクスチャード表面を有し、第一の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有し、第一の軸線は第一のへりに対して実質的に平行であり、プラスチック層はそれを通って進行する光を平行化する。
【００１７】
別の例示的な実施形態に係る光平行化・拡散フィルムが提供される。本フィルムは、一元層の総質量の８０％以上がポリカーボネート化合物からなる一元層を含んでいる。一元層は、第一の側及び第一の側と背中合せの第二の側を有すると共に少なくとも第一のへりを有している。第一の側は第一のテクスチャード表面を有し、第一の軸線に近接した第一のテクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する。第一の軸線は第一のへりに対して実質的に平行である。プラスチック層はそれを通って進行する光を平行化する。
【００１８】
本発明の実施形態に係る他のシステム及び／又は方法は、以下の図面及び詳しい説明を検討することで当業者には明らかとなろう。かかるシステム及び方法のすべてが本発明の技術的範囲内にあり、特許請求の範囲によって保護されるべきものである。
【００１９】
図面の簡単な説明
図１は、例示的な実施形態に係るバックライト型デバイスの分解図である。
【００２０】
図２は、図１のバックライト型デバイスの一部分の略図である。
【００２１】
図３は、別の例示的な実施形態に従って図１のバックライト型デバイスで使用される光平行化・拡散フィルムの概略断面図である。
【００２２】
図４は、光平行化・拡散フィルムの前面上の傾き分布を表すグラフである。
【００２３】
図５は、傾き角分布を測定するための例示的なトラジェクトリーを示す円筒形ローラーの上面図である。
【００２４】
図６は、傾き角分布を測定するための例示的なトラジェクトリーを示す光平行化・拡散フィルムの上面図である。
【００２５】
図７は、傾き角分布を測定するための例示的なトラジェクトリーを示す円筒形ローラーの上面図である。
【００２６】
図８は、傾き角分布を測定するための例示的なトラジェクトリーを示す光平行化・拡散フィルムの上面図である。
【００２７】
図９は、別の例示的な実施形態に従って光平行化・拡散フィルムを製造するためのメルトカレンダリングシステムの略図である。
【００２８】
図１０は、別の例示的な実施形態に従って光平行化・拡散フィルムを製造するためのエンボシングシステムの略図である。
【００２９】
図１１は、別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー上にテクスチャード表面を得るためのエネルギービーム彫刻システムの略図である。
【００３０】
図１２は、図１１のエネルギービーム彫刻システムを用いて得られる円筒形ローラー上のテクスチャード表面の略図である。
【００３１】
図１３は、図１２の円筒形ローラーを用いて得られる光平行化・拡散フィルム上のテクスチャード表面の略図である。
【００３２】
図１４は、別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー上にテクスチャード表面を得るための粒子・金属イオン共堆積システムの略図である。
【００３３】
図１５は、図１４の粒子・金属イオン共堆積システムを用いて得られる円筒形ローラー上のテクスチャード表面の略図である。
【００３４】
図１６は、図１５の円筒形ローラーを用いて得られる光平行化・拡散フィルム上のテクスチャード表面の略図である。
【００３５】
図１７は、別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー上にテクスチャード表面を得るための金属イオン堆積システムの略図である。
【００３６】
図１８は、別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー上にテクスチャード表面を得るためのミクロ機械加工彫刻システムの略図である。
【００３７】
図１９は、図１８のシステムで使用される切削工具の拡大正面図である。
【００３８】
図２０は、図１８のシステムで使用される切削工具の拡大側面図である。
【００３９】
図２１は、別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー上にテクスチャード表面を得るための化学的エッチング彫刻システムの略図である。
【００４０】
図２２は、図２１のシステムで使用される円筒形ローラーの一部分の拡大断面図である。
【００４１】
図２３は、別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー上にテクスチャード表面を得るための放電彫刻システムの略図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
図１及び２について説明すれば、液晶ディスプレイ装置（図示せず）を照明するためのバックライト型デバイス２０が示されている。バックライト型デバイス２０は、光源２２、反射フィルム２４、光ガイド２６、光平行化・拡散フィルム２８、光平行化フィルム３０、光平行化フィルム３２及び光拡散フィルム３４を含んでいる。図示のように、光源２２は光ガイド２６の第一の端部に配設されている。さらに、反射フィルム２４は光ガイド２６の第一の側に近接して配設されている。光平行化・拡散フィルム２８の第一の側は光ガイド２６の第二の側に近接して配設されると共に、ポスト３６、３８を用いて光ガイド２６から隔離されている。ポスト３６、３８は、光ガイド２６とフィルム２８との間にエアギャップを形成している。光平行化フィルム３０は、フィルム２８の第二の側に近接して配設されている。最後に、光平行化フィルム３２は光平行化フィルム３０に近接して配設され、光拡散フィルム３４は光平行化フィルム３２に近接して配設されている。
【００４３】
次に、光ガイド２６及び光平行化・拡散フィルム２８の両方を通って伝わる例示的な光ビームの進路を説明しよう。光源２２から放射された光ビーム４２は、光ガイド２６を通って進行し、光ガイド２６の上面に対して実質的に垂直な軸線４４に向かって反射される。光ビーム４２が光ガイド２６から出射してエアギャップ４０に入る際、光ビーム４２は約４５度の角度で軸線４４から離れるように屈折する。光ビーム４２が光平行化・拡散フィルム２８に入射する際、フィルム２８は光ビーム４２を軸線４４に向かって屈折させる。その後、光ビーム４２がフィルム２８から出射する際、光ビームは約３１度の角度で軸線４４から離れるように屈折する。その後、光ビーム４２は軸線４４に対して３１度の角度で光平行化フィルム３０の下面に入射し、フィルム３０を通って進行する。フィルム３０は、その上面で、光ビームを軸線４４に対して０度の角度に屈折させる。光ビームは軸線４４に対して０度の角度でフィルム３２に入射するので、フィルム３２は軸線４４に沿って比較的高い輝度を与える。
【００４４】
次に、図２及び３を参照しながら、光平行化・拡散フィルム２８をさらに詳しく説明しよう。フィルム２８は、光ビームを軸線４４に向けて屈折させるために使用される。フィルム２８は、０．０２５〜１０ミリメートルの範囲内の厚さを有する一元プラスチック層から構成されている。もちろん、フィルム２８は０．０２５ミリメートル未満又は１０ミリメートル超の厚さを有するように構成することもできる。フィルム２８はプラスチック層中に配置された蛍光増白剤化合物を有していて、蛍光増白剤化合物の質量はプラスチック層の総質量の０．００１〜１．０％の範囲内にある。フィルム２８はさらに、プラスチック層中に配置された帯電防止剤化合物（例えば、フッ素化ホスホニウムスルホネート）を含んでいる。フッ素化ホスホニウムスルホネートは、一般式{ＣＦ３(ＣＦ２)ｎ(ＳＯ３)}Θ{Ｐ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)}Φを有している。式中、Ｆはフッ素であり、ｎは１〜１２の整数であり、Ｓは硫黄であり、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は同一の要素であって、各々炭素原子数１〜８の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数６〜１２の芳香族炭化水素基であり、Ｒ４は炭素原子数１〜１８の炭化水素基である。フィルム２８はさらに、プラスチック層中に配置された紫外線（ＵＶ）吸収剤化合物を含んでいて、ＵＶ吸収剤化合物の質量はプラスチック層の総質量の０．０１〜１．０％の範囲内にある。フィルム２８は、複数の山部５２及び複数の谷部５４を有するテクスチャード上面４６を含んでいる。複数の山部５２の平均高さは、複数の山部の平均幅の２５〜７５％の範囲内にある。さらに、複数の山部５２の平均幅は０．５〜１００ミクロンの範囲内にある。山部５２及び谷部５４は、所望の傾き角分布が得られるようにして上面４６分布している。
【００４５】
傾き角分布とは、光平行化・拡散フィルム２８上における１以上の所定トラジェクトリーに沿った複数の傾き角分布である。さらに、各傾き角（φ）は下記の式を用いて計算される。
【００４６】
傾き角φ＝ａｒｃ  ｔａｎ｜Δｈ／Δｗ｜
式中、
（Δｗ）は、テクスチャード表面４６に沿った所定幅（例えば、０．５ミクロン）を表し、
（Δｈ）は、（ｉ）幅（Δｗ）に沿ったテクスチャード表面４６上の最低位置と（ii）幅（Δｗ）に沿った表面４６上の最高位置との間の高さの差を表す。
【００４７】
プラスチックフィルムに関して本願中に報告される傾き角は、Ｋｏｓａｋａ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ  Ｌｉｍｉｔｅｄ（東京、日本）製のＳｕｒｆｃｏｄｅｒ  ＥＴ４０００測定器を用いて生成されるフィルタード二次元表面プロフィルデータから算出できる。即ち、Ｓｕｒｆｃｏｄｅｒ  ＥＴ４０００測定器の動作設定値は次の通りである。Ｃｕｔｏｆｆ＝０．２５ｍｍであり、試料長さ及び評価長さは共に１０ｍｍである。速度は０．１ｍｍ／秒に設定され、８０００の等間隔の点でプロフィルデータが得られる。
【００４８】
円筒形ローラーに関して本願中に報告される傾き角は、やはりＫｏｓａｋａ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ  Ｌｉｍｉｔｅｄ製のＳｕｒｆｃｏｄｅｒ  ＳＥ１７００α測定器を用いて生成されるフィルタード二次元表面プロフィルデータから算出できる。Ｓｕｒｆｃｏｄｅｒ  ＳＥ１７００α測定器の動作設定値は次の通りである。即ち、評価長さ＝７．２ｍｍ、Ｃｕｔｏｆｆ  Ｌｃ＝０．８００ｍｍである。試料長さ及び評価長さは共に１０ｍｍである。速度は０．５００ｍｍ／秒に設定され、１４４００の点でプロフィルデータが得られる。
【００４９】
傾き角分布は、プラスチック層上の所定の基準トラジェクトリー又は基準線に沿って測定できる。別法として、複数の基準トラジェクトリー又は基準線を用いてプラスチック層の表面全体にわたり傾き角分布を測定することもできる。
【００５０】
例えば、図６及び８について説明すれば、テクスチャード表面４６を横切る所定のトラジェクトリー（例えば、フィルム２８のへり６１平行な軸線６２又は軸線６２に垂直な軸線６０）に沿って複数の傾き角（φ）を算出できる。別法として、複数の傾き角（φ）は線８０又は線８２に沿っても算出できる。上述のトラジェクトリーの１以上では、所望の傾き角分布は０〜５度の値を有する傾き角を７〜２０％含む。
【００５１】
図４について説明すれば、例示的な実施形態に係るフィルム２８の第一の側にあるテクスチャード表面上の傾き角分布を示すグラフが示されている。ここで本発明者らは、テクスチャード表面４６上の傾き角の２０％以下、好ましくは表面４６上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有する場合、隣接する輝度増強フィルム（例えば、フィルム３０及び３２）は軸線４４に関して増加した輝度を有することを認めた。
【００５２】
図１及び２について説明すれば、テクスチャード上面４６上における０〜５度の傾き角の百分率は、フィルム２８から出射して光平行化フィルム３０に入射する光の角度を制御する。表面４６上における傾き角の百分率が約１６％である場合、光は図示のように軸線４４に対して３１度の角度でフィルム２８から出射する。代替実施形態では、光が軸線４４に対して３１度より大きい角度でフィルム２８から出射することが望ましければ、フィルム２８は０〜５度の値を有する傾き角が１６％を超えるように構成すればよい。別の代替実施形態では、光が軸線４４に対して３１度より小さい角度でフィルム２８から出射することが望ましければ、フィルム２８は０〜５度の値を有する傾き角が１６％未満になるように構成すればよい。
【００５３】
図３について説明すれば、フィルム２８はその第二の側にもテクスチャード表面４８を有する。テクスチャード表面４８は、テクスチャード表面４８上の傾き角の７０％以上が０〜５度の値を有するような傾き角分布を有する。
【００５４】
図９について説明すれば、所定の形状に切断して光平行化・拡散フィルム２８を形成し得るテクスチャードプラスチック層１０６を製造するためのメルトカレンダリングシステム１００が示されている。メルトカレンダリングシステム１００は、押出装置１０２、ダイ１０４、円筒形ローラー６４、１０８、１１０、１１２、１１４、１１６、円筒形スプール１１８、ローラー冷却装置１２０、フィルム厚さスキャナー１２２、モーター１２４、１２６、１２８及び制御コンピューター１３０を含んでいる。
【００５５】
押出装置１０２は、プラスチックを所定温度より高く加熱してプラスチックを液体状態にするために設けられている。押出装置１０２は、ダイ１０４及び制御コンピューター１３０と機能的に連結されている。制御コンピューター１３０からの制御信号（Ｅ）に応答して、押出装置１０２はその中でプラスチックを所定温度より高く加熱し、プラスチックをダイ１０４から押し出してプラスチック層１０６を形成する。
【００５６】
円筒形ローラー６４、１０８は、ダイ１０４から両者間にプラスチック層１０６を受け取ってプラスチック層１０６の少なくとも一方の側にテクスチャード表面を形成するために設けられている。円筒形ローラー６４、１０８は、好ましくは鋼で作製され、ローラー冷却装置１２０と機能的に連結されている。もちろん、代替実施形態では、円筒形ローラー６４、１０８は当業者にとって公知である他の金属又は非金属材料で作製することもできる。ローラー冷却装置１２０は、ローラー６４、１０８の間を通過する際にプラスチック層１０６を凝固させるため、ローラー６４、１０８の温度を所定温度より低く維持する。円筒形ローラー６４は、テクスチャード表面１０７上の傾き角又はテクスチャード表面１０７上にある１以上のトラジェクトリーに沿った傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有するようなテクスチャード表面１０７を有している。かくして、円筒形ローラー６４がプラスチック層１０６の第一の側に接触した場合、円筒形ローラー６４はプラスチック層１０６上にテクスチャード表面を形成し、層１０６の表面４６上の傾き角又はテクスチャード表面４６上にある１以上のトラジェクトリーに沿った傾き角の７〜２０％は０〜５度の値を有する。
【００５７】
図５及び７について説明すれば、円筒形ローラー６４の傾き角（φ）は外面１０７を横切る所定のトラジェクトリー（例えば、端部２１１に対して実質的に垂直にローラー６４を実質的に横切って延在する線６８、又は端部２１１から所定の距離でローラー６４の外周を実質的に取り巻いて延在する線６２）に沿って測定できる。別法として、円筒形ローラー６４の傾き角（φ）は線８４又は線８６に沿って測定できる。
【００５８】
円筒形ローラー１１０、１１２は、ローラー６４、１０８間を通過した後のプラスチック層１０６を受け取るように構成されている。円筒形ローラー１１０の位置を調整することで、円筒形ローラー１０８に接触するプラスチック層１０６の表面積の大きさを変化させることができる。円筒形ローラー１１０は、プラスチック層１０６を凝固させるためにローラー１１０の温度を所定温度より低く維持するローラー冷却装置１２０と機能的に連結されている。円筒形ローラー１１２は、ローラー１１０の下流側でプラスチック層１０６の一部分を受け取り、円筒形ローラー１１４、１１６に向けてプラスチック層１０６を導く。
【００５９】
円筒形ローラー１１４、１１６は、両者間にプラスチック層１０６を受け取り、円筒形スプール１１８に向けてプラスチック層１０６を移動させるために設けられている。円筒形ローラー１１４、１１６は、それぞれモーター１２６、１２４と機能的に連結されている。制御コンピューター１３０は、スプール１１８に向けてプラスチック層１０６を駆動するため、それぞれモーター１２４、１２６を作動してローラー１１６、１１４を所定方向に回転させる制御信号（Ｍ１）、（Ｍ２）を発生する。
【００６０】
円筒形スプール１１８は、テクスチャードプラスチック層１０６を受け取ってプラスチック層１０６のロールを形成するために設けられている。円筒形スプール１１８は、モーター１２８と機能的に連結されている。制御コンピューター１３０は、プラスチック層１０６のロールを形成するため、モーター１２８を作動してスプール１１８を所定方向に回転させる制御信号（Ｍ３）を発生する。
【００６１】
フィルム厚さスキャナー１２２は、プラスチック層１０６が円筒形ローラー１１４、１１６によって受け取られる前にプラスチック層１０６の厚さを測定するために設けられている。フィルム厚さスキャナー１２２はプラスチック層１０６の厚さを表す信号（Ｔ１）を発生し、これは制御コンピューター１３０に伝送される。
【００６２】
図１０について説明すれば、所定の形状に切断してフィルム２８を形成し得るプラスチック層１５４を製造するためのエンボシングシステム１５０が示されている。エンボシングシステム１５０は、円筒形スプール１５２、フィルム加熱装置１５６、円筒形ローラー６４、１６０、１６２、１６４、１６６、１６８、円筒形スプール１７０、ローラー加熱装置１７２、フィルム厚さスキャナー１７４、モーター１７６、１７８、１８０及び制御コンピューター１８２を含んでいる。
【００６３】
円筒形スプール１５２は、その上にプラスチック層１５０を保持するために設けられている。円筒形スプール１５２が回転すると、プラスチック層１５０の一部分がスプール１５２から巻き出され、円筒形ローラー６４、１６０に向かって移動する。
【００６４】
フィルム加熱装置１５６は、円筒形スプール１５２から円筒形ローラー６４、１６０に向かって移動する際にプラスチック層１５０を加熱するために設けられている。制御コンピューター１８２は、装置１５６を作動してプラスチック層１５０を所定温度より高く加熱するための信号（Ｈ１）を発生し、これはフィルム加熱装置１５６に伝送される。
【００６５】
円筒形ローラー６４、１６０は、円筒形スプール１５２から両者間にプラスチック層１０６を受け取ってプラスチック層１０６の少なくとも一方の側にテクスチャード表面を形成するために設けられている。円筒形ローラー６４、１６０は、好ましくは鋼で作製され、ローラー加熱装置１７２と機能的に連結されている。もちろん、代替実施形態では、円筒形ローラー６４、１６０は当業者にとって公知である他の金属又は非金属材料で作製することもできる。ローラー加熱装置１７２は、ローラー６４、１６０の間を通過する際にプラスチック層１５４を少なくとも部分的に溶融させるため、ローラー６４、１６０の温度を所定温度より高く維持する。円筒形ローラー６４は、テクスチャード表面１０７上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有するような外部テクスチャード表面１０７を有している。かくして、円筒形ローラー６４がプラスチック層１５４の第一の側に接触した場合、円筒形ローラー６４はプラスチック層１５４上にテクスチャード表面を形成し、層１５４の上面上の傾き角の７〜２０％は０〜５度の値を有する。
【００６６】
円筒形ローラー１６２、１６４は、ローラー６４、１６０間を通過した後のプラスチック層１５４を受け取るように構成されている。円筒形ローラー１６２の位置を調整することで、円筒形ローラー１６０に接触するプラスチック層１５４の表面積の大きさを変化させることができる。円筒形ローラー１６４は、ローラー１６２の下流側でプラスチック層１５４の一部分を受け取り、円筒形ローラー１６６、１６８に向けてプラスチック層１５４を導く。
【００６７】
円筒形ローラー１６６、１６８は、プラスチック層１５４を受け取り、円筒形スプール１７０に向けてプラスチック層１５４を移動させるために設けられている。円筒形ローラー１６６、１６８は、それぞれモーター１７８、１７６と機能的に連結されている。制御コンピューター１８２は、スプール１７０に向けてプラスチック層１５４を駆動するため、それぞれモーター１７６、１７８を作動してローラー１６８、１６６を所定方向に回転させる制御信号（Ｍ４）、（Ｍ５）を発生する。
【００６８】
円筒形スプール１７０は、プラスチック層１５４を受け取ってプラスチック層１５４のロールを形成するために設けられている。円筒形スプール１７０は、モーター１８０と機能的に連結されている。制御コンピューター１８２は、プラスチック層１０６のロールを形成するため、モーター１８０を作動してスプール１７０を所定方向に回転させる制御信号（Ｍ６）を発生する。
【００６９】
フィルム厚さスキャナー１７４は、プラスチック層１５４が円筒形ローラー１１４、１１６によって受け取られる前にプラスチック層１５４の厚さを測定するために設けられている。フィルム厚さスキャナー１７４はプラスチック層１５４の厚さを表す信号（Ｔ２）を発生し、これは制御コンピューター１８２に伝送される。
【００７０】
図１１について説明すれば、例示的な実施形態に従って円筒形ローラー６４上にテクスチャード表面を形成するためのシステム２００が示されている。テクスチャード表面を有する円筒形ローラー６４をメルトカレンダリングシステム１００又はエンボシングシステム１５０で使用することで、フィルム２８を得るために使用されるテクスチャードプラスチック層を形成できる。システム２００は、レーザー２０２、線形アクチュエーター２０４、モーター２０６及び制御コンピューター２０８を含んでいる。
【００７１】
レーザー２０２は、外面２０９の一部を取り除いてその上にテクスチャード表面を得るため、所定強度で外面に接触する脈動レーザービームを放射するために設けられている。レーザー２０２から放射されるレーザービームは、円筒形ローラー６４の外面２０９で０．００５〜０．５ミリメートルの範囲内の焦点直径を有している。さらに、レーザービームは、円筒形ローラー６４の所定面積について０．１〜１００マイクロ秒の範囲内の時間にわたり伝達される０．０５〜１．０ジュールの範囲内のエネルギーレベルを有している。レーザー２０２は制御コンピューター２０８と機能的に連結されていて、制御コンピューター２０８から受信される制御信号（Ｃ１）に応答してレーザービームを発生する。レーザー１０２は、１．０６ミクロンの波長を有するレーザービームを放射するように構成されたネオジム（Ｎｄ）：イットリウム−アルミニウム−ガーネット（ＹＡＧ）レーザーからなる。しかし、円筒形ローラー上に所望のテクスチャード表面を形成し得る任意のレーザー源を使用できることを理解すべきである。代替実施形態では、レーザー２０２は、円筒形ローラー上に所望のテクスチャード表面を形成するように構成された電子ビーム放射装置と置き換えることができる。さらに別の代替実施形態では、レーザー２０２は、円筒形ローラー上に所望のテクスチャード表面を形成するように構成されたイオンビーム放射装置と置き換えることができる。
【００７２】
線形アクチュエーター２０４は、軸線２０３に沿ってレーザー２０２を移動させるため、レーザー２０２と機能的に連結されている。軸線２０３は円筒形ローラー６４の外面２０９に対して実質的に平行である。線形アクチュエーター２０４は、円筒形ローラー６４に対して０．００１〜０．１ミリメートル／秒の範囲内の速度でレーザー２０２を移動させる。代替実施形態では、線形アクチュエーター２０４を円筒形ローラー６４に連結することで、静止したレーザーに対してローラー６４を軸方向に移動させることができる。
【００７３】
モーター２０６は、線形アクチュエーター２０４がローラー６４の端部２１１から端部２１３まで軸線２０３に沿ってレーザー２０２を移動させる間にローラー６４を回転させるため、円筒形ローラー６４と機能的に連結されている。制御コンピューター２００は、モーター２０６を作動して円筒形ローラー６４を所定速度で回転させる制御信号（Ｍ７）を発生する。詳しくは、モーター２０６は外面２０９の線速度が２５〜２５００ミリメートル／秒の範囲内にあるように円筒形ローラー６４を回転させる。
【００７４】
図１２について説明すれば、円筒形ローラー６４のテクスチャード表面２０９の一部分の断面図が示されている。テクスチャード表面２０９は、エネルギービーム彫刻システム２００を用いて得られたものである。テクスチャード表面２０９は、テクスチャード表面２０９上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有するような傾き角分布を有している。
【００７５】
図１３について説明すれば、円筒形ローラー６４によって形成されたテクスチャードプラスチック層から切り出した光平行化・拡散フィルム２８のテクスチャード表面２１５の一部分の断面図が示されている。フィルム２８は、フィルム２８上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有するような傾き角分布を有している。
【００７６】
図１４について説明すれば、別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー２５１上にテクスチャード表面を形成するためのシステム２３０が示されている。円筒形ローラー２５１をメルトカレンダリングシステム１００又はエンボシングシステム１５０で使用することで、テクスチャードプラスチック層を形成し、次いでこれを所定の形状に切断して上述のフィルム２８の物理的特性を有するフィルムを得ることができる。システム２３０は、ハウジング２３２、モーター２４２、ポンプ２４４、温度調節装置２４６、粒子・金属イオン補給装置２４８及び制御コンピューター２５０を含んでいる。
【００７７】
ハウジング２３２は、円筒形ローラー２５１を収容するための内部領域２３４を画成している。ハウジング２３２は、複数の金属イオン２３６及び複数の非金属粒子２３８を含む流体を保持している。非金属粒子２３８は１〜１００マイクロメートルの範囲内の粒度又は粒径を有している。非金属粒子はシリカ粒子からなる。シリカ粒子は、中実シリカ粒子、中空シリカ粒子又は多孔質シリカ粒子であり得る。代替実施形態では、非金属粒子はアルミナ粒子からなる。アルミナ粒子は、中実アルミナ子、中空アルミナ粒子又は多孔質アルミナ粒子であり得る。さらに別の代替実施形態では、非金属粒子はダイヤモンド粒子からなる。金属イオンはニッケルイオン及びニッケル合金イオンからなる。流体をハウジング２３２内で所望温度に維持した場合、流体中の非金属粒子及び金属イオンは円筒形ローラー２５１の外面２５３に化学結合してテクスチャード表面を形成する。円筒形ローラー２５１を流体中で回転させれば、テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有するようなテクスチャード表面が得られる。
【００７８】
モーター２４２は円筒形ローラー２５１と機能的に連結されており、円筒形ローラー２５１を所定の回転速度で回転させるために設けられている。モーター２４２はハウジング２３２の内部に配設されている。代替実施形態では、モーター２４２はハウジング２３２の外部に配設され、ローラー２５１を回転させるため、ハウジング２３２を貫通して延在する軸（図示せず）が円筒形ローラー２５１に連結されている。制御コンピューター２５０は、モーター２４２を作動して円筒形ローラー２５１を所定の回転速度で回転させる制御信号（Ｍ８）を発生する。
【００７９】
ポンプ２４４は、非金属粒子及び金属イオンを含む流体をハウジング２３２から温度調節装置２４６及び粒子・金属イオン補給装置２４８を通して輸送するために設けられている。詳しくは、制御コンピューター２５０が、ポンプ２４４を作動して流体をハウジング２３２から装置２４６及び装置２４８を通して内部領域２３４に戻す信号（Ｐ１）を発生する。
【００８０】
温度調節装置２４６はポンプ２４２と機能的に連結されており、非金属粒子及び金属イオンを含む流体をポンプ２４４から受け取る。温度調節装置２４６は、それを通して輸送される流体の温度を、円筒形ローラー２５１の外面２５３上への非金属粒子及び金属イオンの共堆積を可能にする所望温度に調節するために設けられている。温度調節装置２４６は、それを通して輸送される流体の温度を監視し、流体の温度を所望温度に加減する。
【００８１】
粒子・金属イオン補給装置２４８は、温度調節装置２４６と機能的に連結されており、非金属粒子及び金属イオンを含む流体を装置２４６から受け取る。装置２４８は、表面２５３上への粒子及び金属イオンの共堆積中に非金属粒子及び金属イオンの濃度を監視する。非金属粒子及び金属イオンがローラー２５１の外面２５３に結合するのに従い、流体中の非金属粒子及び金属イオンの濃度は減少することが理解されよう。装置２４８は、それを通して輸送される流体中の非金属粒子及び金属イオンの濃度を測定し、追加量の非金属粒子及び金属イオンを流体に添加して各材料の所望濃度を維持する。流体が装置２４８によってコンディショニングを受けた後、流体はハウジング２３２の内部領域２３４に戻される。
【００８２】
図１５について説明すれば、円筒形ローラー２５１のテクスチャード表面２５３の一部分の断面図が示されている。テクスチャード表面２５３は、粒子・金属イオン共堆積システム２３０を用いて得られたものである。テクスチャード表面２５３は、テクスチャード表面２５３上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有するような傾き角分布を有している。
【００８３】
図１６について説明すれば、円筒形ローラー２５１によって形成されたテクスチャードプラスチック層から切り出した光平行化・拡散フィルムのテクスチャード表面２５４の一部分の断面図が示されている。テクスチャード表面２５４は、テクスチャード表面２８上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有するような傾き角分布を有している。
【００８４】
図１７について説明すれば、別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー２７８上にテクスチャード表面を形成するためのシステム２７０が示されている。円筒形ローラー２７８をメルトカレンダリングシステム１００又はエンボシングシステム１５０で使用することで、上述のフィルム２８と実質的に同様な物理的特性を有するフィルムを得るために使用されるテクスチャードプラスチック層を形成することができる。システム２７０は、ハウジング２７２、モーター２８０、電流源２８２及び制御コンピューター２８４を含んでいる。
【００８５】
ハウジング２７２は、円筒形ローラー２７８を収容するための内部領域２７４を画成している。ハウジング２７２は、複数の金属イオン２７６を含む電解質流体を保持している。非金属粒子２３８は１〜１００マイクロメートルの範囲内の粒度又は粒径を有している。一実施形態では、複数の金属イオン２７６はクロムイオンからなる。電解質流体中に所定の電流密度を印加した場合、金属イオン２７６は円筒形ローラー２７８の外面２７９に結合してテクスチャード表面を形成する。円筒形ローラー２７８を電解質流体中で回転させれば、テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有するようなテクスチャード表面が得られる。
【００８６】
モーター２８０は円筒形ローラー２７８と機能的に連結されており、円筒形ローラー２７８を所定の回転速度で所定の時間にわたり回転させるために設けられている。例えば、モーター２８０は円筒形ローラー２７８を毎分１〜１０回の範囲内の回転速度で０．５〜５０時間の範囲内の時間にわたり回転させることができる。モーター２８０はハウジング２７２の内部に配設されている。代替実施形態では、モーター２８０はハウジング２７２の外部に配設され、ローラー２７８を回転させるため、ハウジング２７２を貫通して延在する軸（図示せず）が円筒形ローラー２７８に連結されている。詳しくは、制御コンピューター２８４が、モーター２８０を作動して円筒形ローラー２７８を所定の回転速度で回転させる制御信号（Ｍ９）を発生する。
【００８７】
電流源２８２は、電解質流体中に所定の電流密度を印加して電解質流体中の金属イオンを円筒形ローラー２７８の外面２７９に付着させるために設けられている。電流源２８０は、電解質流体中に浸された金属棒２７５と円筒形ローラー２７８との間に電気的に接続されている。電流源２８０はさらに、制御コンピューター２８４と機能的に接続されている。制御コンピューター２８４は、電流源２８２を作動して電解質流体中に電流を発生させる制御信号（Ｉ１）を発生する。一実施形態では、電流源２８０は電解質流体中に０．００１〜０．１アンペア／平方ミリメートルの範囲内の電流密度を生み出すことで、流体中の金属イオンを円筒形ローラー２７８に付着させる。
【００８８】
図１８について説明すれば、別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー３１８上にテクスチャード表面を形成するためのシステム３００が示されている。円筒形ローラー３１８をメルトカレンダリングシステム１００又はエンボシングシステム１５０で使用することで、テクスチャードプラスチック層を形成し、次いでこれを所定の形状に切断して上述のフィルム２８と実質的に同様な物理的特性を有するフィルムを得ることができる。システム３００は、彫刻装置３０２、線形アクチュエーター３１２、モーター３１４及び制御コンピューター３１６を含んでいる。
【００８９】
彫刻装置３０２は、所定の周波数で円筒形ローラー３１８の外面３１９に繰返し接触することで、外面３１９の複数部分を取り除いてテクスチャード表面を得るために設けられている。詳しくは、所定の周波数は好ましくは１０００〜１５００Ｋｈｚの範囲内にある。彫刻装置３０２は、圧電変換器ユニット３０４、往復部材３０６、切削工具ホルダー３０８及び切削工具３１０を含んでいる。
【００９０】
圧電変換器ユニット３０４は、制御コンピューター３１６から受信される制御信号（Ｐ）に応答して、往復部材３０６を軸線３０７に沿って所定の周波数で上下に繰返し運動させるために設けられている。往復部材３０６はさらに、切削工具３１０を保持する切削工具ホルダー３０８の第一の端部と機能的に連結されている。
【００９１】
図１９及び２０について説明すれば、切削工具３１０は円筒形ローラー３１８の外面３１９の複数部分を取り除くために設けられている。切削工具３１０はダイヤモンドで作製され、２〜３０マイクロメートルの範囲内の先端直径（Ｄ１）を有している。切削工具３１０は、工具３１０の中心点の回りに１６０度にわたって延在する切削面３１１を有している。外面３１９が所定速度で回転している間に、工具３１０の切削面３１１は外面３１９に繰返し接触する。
【００９２】
線形アクチュエーター３１２は、軸線３０３に沿って彫刻装置３０２を移動させるため、彫刻装置３０２と機能的に連結されている。軸線３０３は、円筒形ローラー３１８の外面３１９に対して実質的に平行である。線形アクチュエーター３１２は、円筒形ローラー３１８に対して彫刻装置３０２を円筒形ローラー３１８の第一の端部３２１から第二の端部３２３まで所定の軸方向速度で移動させる。代替実施形態では、線形アクチュエーター３１２を円筒形ローラー３１８に連結することで、静止した彫刻装置に対してローラー３１８を軸方向に移動させることもできる。
【００９３】
モーター３１４は、線形アクチュエーター３１２が端部３２１から端部３２３まで軸線３０３に沿って彫刻装置３０２を移動させる間にローラー３１８を回転させるため、円筒形ローラー３１８と機能的に連結されている。制御コンピューター３１６は、モーター３１４を作動して円筒形ローラー３１８を所定の回転速度で回転させる信号（Ｍ１０）を発生する。詳しくは、モーター３１０は毎分１０〜２００回の範囲内の回転速度で円筒形ローラー３１８を回転させる。
【００９４】
図２１について説明すれば、別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー３４０上にテクスチャード表面を形成するためのシステム３３０が示されている。円筒形ローラー３４０をメルトカレンダリングシステム１００又はエンボシングシステム１５０で使用することで、テクスチャードプラスチック層を形成し、次いでこれを所定の形状に切断して上述のフィルム２８と実質的に同様な物理的特性を有するフィルムを得ることができる。システム３３０は、ハウジング３３２、モーター３３６及び制御コンピューター３３８を含んでいる。
【００９５】
システム３３０の動作を説明する前に、円筒形ローラー３４０の構造を簡単に説明しておこう。図２２について説明すれば、円筒形ローラー３４０は耐薬品性の層３４３で被覆された実質的に円筒形の内側部分３４２を有している。耐薬品性の層３４３はプラスチック層からなっている。代替実施形態では、耐薬品性の層３４３はワックス層からなっている。さらに別の代替実施形態では、耐薬品性の層３４３はホトレジスト層からなっている。円筒形ローラー３４０を耐薬品性の層３４３で被覆した後、所定の位置（例えば、位置３４６）にある層３４３の複数部分が取り除かれる。レーザーのようなエネルギービームを用いて、所定の位置で層３４３の複数部分が取り除かれる。代替実施形態では、耐薬品性の層３４３より高いが円筒形の内側部分３４２より低い硬さを有する工具（図示せず）を用いて、所定の位置で層３４３の複数部分が取り除かれる。さらに別の代替実施形態では、当技術分野で公知のリソグラフィー法を用いて、所定の位置で耐薬品性の層３４３が取り除かれる。
【００９６】
ハウジング３３２は、円筒形ローラー３４０を収容するための内部領域３３４を画成している。ハウジング３３２は、円筒形ローラー３４０の内側部分の露出した複数部分を取り除くためのエッチング液を保持している。エッチング液は硝酸を含み、エッチング液の質量の５〜２５％が硝酸である。代替実施形態では、エッチング液は塩酸を含み、エッチング液の質量の５〜２５％が塩酸である。円筒形ローラー２７８をエッチング液中で回転させれば、エッチング液は位置３４６に近接した円筒形ローラー３４０の複数部分を取り除くことで、テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有するようなテクスチャード表面を形成する。
【００９７】
モーター３３６は円筒形ローラー３４０と機能的に連結されており、円筒形ローラー３４０を所定の回転速度で回転させるために設けられている。モーター３３６はハウジング３３２の内部に配設されている。代替実施形態では、モーター３３６はハウジング３３２の外部に配設され、ローラー３４０を回転させるため、ハウジング３３２を貫通して延在する軸（図示せず）が円筒形ローラー３４０に連結されている。制御コンピューター３３８は、モーター３３６を作動して円筒形ローラー３４１を所定の回転速度で回転させる制御信号（Ｍ１１）を発生する。詳しくは、モーター３３６は毎分１〜５０回の範囲内の回転速度で円筒形ローラー３４１を回転させることができる。
【００９８】
図２３について説明すれば、別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー３９０上にテクスチャード表面を形成するためのシステム３７０が示されている。円筒形ローラー３９０をメルトカレンダリングシステム１００又はエンボシングシステム１５０で使用することで、テクスチャードプラスチック層を形成し、次いでこれを所定の形状に切断して上述のフィルム２８と実質的に同様な物理的特性を有するフィルムを得ることができる。システム３７０は、電極又は電極アレイ３７２、電圧源３７４、線形アクチュエーター３７６、モーター３８２、フィルター３８４、誘電流体源３８６及び制御コンピューター３８８を含んでいる。
【００９９】
電極３７２は、外面３９１に接触する電気火花を繰返し放電させることで、外面３９１の複数部分を取り除いてテクスチャード表面を得るために設けられている。電極３７２は電圧源３７４と機能的に接続されており、電圧源３７４から電圧を受け取って１００〜１０００ボルトの範囲内の電圧を有する電気火花を発生する。制御コンピューター３８０は、電圧源３７４を作動して電極３７２に所定の電圧を印加させる信号（Ｖ２）を発生する。電極３７２はさらに、線形アクチュエーター３７６と機能的に連結されている。円筒形ローラー３９０が回転している間に、電極３７２は軸線３７３に沿って移動し、電気火花を繰返し放電させて円筒形ローラー３９０の複数部分を取り除くことで、テクスチャード表面上の傾き角の７〜２０％が０〜５度の値を有するようなテクスチャード表面を形成する。
【０１００】
ポンプ３８２は、誘電流体貯留器３８６からフィルター３８４を通して、そして最後にはノズル３８０を通して誘電流体を輸送するために設けられている。ノズル３８０は、誘電流体を円筒形ローラー３９０の外面３９１上に導く。誘電流体は、それを通して電気火花を円筒形ローラー３９０の外面３９１に導くために使用される。ノズル３８０はさらに、線形アクチュエーター３７６と機能的に連結されている。
【０１０１】
線形アクチュエーター３７６は、電極３７２及びノズル３８０の両方と機能的に連結されている。線形アクチュエーター３７６は、円筒形ローラー３９０の外面に対して実質的に平行な軸線３７３に沿って電極３７２及びノズル３８０を移動させる。詳しくは、線形アクチュエーター３７６は、円筒形ローラー３１８の第一の端部３９３から第二の端部３９５まで軸線３７３に沿って電極３７２及びノズル３８０を移動させる。
【０１０２】
モーター３７８は、線形アクチュエーター３７６が端部３９３から端部３９５まで軸線３７３に沿って電極３７２及びノズル３８０の両方を移動させる間にローラー３９０を回転させるため、円筒形ローラー３９０と機能的に連結されている。制御コンピューター３８８は、モーター３７８を作動して円筒形ローラー３９０を所定の回転速度で回転させる信号（Ｍ１２）を発生する。
【０１０３】
かかる光平行化・拡散フィルム及び該フィルムの製造方法は、他のシステム及び方法に比べて実質的な利点を表している。詳しくは、かかるシステム及び方法は、光を拡散させ得るテクスチャード表面を有するプラスチック層を、ポリスチレンビーズ又はアクリレート溶液のような追加の材料をプラスチック層に添加することなく容易に製造できるという技術的効果を有する。
【０１０４】
以上、例示的な実施形態に関して本発明を説明してきたが、当業者であれば、本発明の技術的範囲から逸脱せずに様々な変更及び同等物による構成要素の置換を行い得ることが理解されよう。加えて、本発明の技術的範囲から逸脱することなく、本発明の教示に多くの修正を施して特定の状況に適合させることができる。したがって、本発明はこの発明を実施するために開示された実施形態に限定されず、特許請求の範囲に含まれるすべての実施形態を包含するものである。さらに、第一、第二などの用語の使用はいかなる重要度の順序も表すわけではなく、第一、第二などの用語はむしろある構成要素を別のものから区別するために使用される。
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】例示的な実施形態に係るバックライト型デバイスの分解図である。
【図２】図１のバックライト型デバイスの一部分の略図である。
【図３】別の例示的な実施形態に従って図１のバックライト型デバイスで使用される光平行化・拡散フィルムの概略断面図である。
【図４】光平行化・拡散フィルムの前面上の傾き分布を表すグラフである。
【図５】傾き角分布を測定するための例示的なトラジェクトリーを示す円筒形ローラーの上面図である。
【図６】傾き角分布を測定するための例示的なトラジェクトリーを示す光平行化・拡散フィルムの上面図である。
【図７】傾き角分布を測定するための例示的なトラジェクトリーを示す円筒形ローラーの上面図である。
【図８】傾き角分布を測定するための例示的なトラジェクトリーを示す光平行化・拡散フィルムの上面図である。
【図９】別の例示的な実施形態に従って光平行化・拡散フィルムを製造するためのメルトカレンダリングシステムの略図である。
【図１０】別の例示的な実施形態に従って光平行化・拡散フィルムを製造するためのエンボシングシステムの略図である。
【図１１】別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー上にテクスチャード表面を得るためのエネルギービーム彫刻システムの略図である。
【図１２】図１１のエネルギービーム彫刻システムを用いて得られる円筒形ローラー上のテクスチャード表面の略図である。
【図１３】図１２の円筒形ローラーを用いて得られる光平行化・拡散フィルム上のテクスチャード表面の略図である。
【図１４】別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー上にテクスチャード表面を得るための粒子・金属イオン共堆積システムの略図である。
【図１５】図１４の粒子・金属イオン共堆積システムを用いて得られる円筒形ローラー上のテクスチャード表面の略図である。
【図１６】図１５の円筒形ローラーを用いて得られる光平行化・拡散フィルム上のテクスチャード表面の略図である。
【図１７】別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー上にテクスチャード表面を得るための金属イオン堆積システムの略図である。
【図１８】別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー上にテクスチャード表面を得るためのミクロ機械加工彫刻システムの略図である。
【図１９】図１８のシステムで使用される切削工具の拡大正面図である。
【図２０】図２０は、図１８のシステムで使用される切削工具の拡大側面図である。
【図２１】別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー上にテクスチャード表面を得るための化学的エッチング彫刻システムの略図である。
【図２２】図２２は、図２１のシステムで使用される円筒形ローラーの一部分の拡大断面図である。
【図２３】図２３は、別の例示的な実施形態に従って円筒形ローラー上にテクスチャード表面を得るための放電彫刻システムの略図である。
【符号の説明】
【０１０６】
２２  光源
２６  光ガイド
２８  プラスチック層
３０  導光フィルム
４６  第一の側
４８  第二の側
５２  山部
５４  谷部
６０  第二の軸線
６１  第一のへり
６２  第一の軸線
６４  第一の円筒形ローラー
６６  第一の軸線
６８  第一の線
７０  第二の線
１０２  押出装置
１０４  ダイ
１０６  プラスチック層
１０８  第二の円筒形ローラー
１１４  第三の円筒形ローラー
１１６  第四の円筒形ローラー
１１８  巻取スプール
１２０  冷却装置
１２８  巻取装置
１５４  プラスチック層
１５６  第一の加熱装置
１６０  第二の円筒形ローラー
１６６  第三の円筒形ローラー
１６８  第四の円筒形ローラー
１７０  巻取スプール
１７２  第二の加熱装置
１８０  巻取装置
２１１  第一の端部
２１３  第二の端部
２３６  金属イオン
２３８  非金属粒子
２５３  円筒形ローラー
２７６  金属イオン
２７８  円筒形ローラー
３１０  切削工具
３１８  円筒形ローラー
３２１  第一の端部
３３２  容器
３４０  円筒形ローラー
３４３  耐薬品性の層
３４６  所定の位置
３７２  電極
３９０  円筒形ローラー
３９３  第一の端部
３９５  第二の端部
【図１】
2008507731.tif 000003
【図２】
2008507731.tif 000004
【図３】
2008507731.tif 000005
【図４】
2008507731.tif 000006
【図５】
2008507731.tif 000007
【図６】
2008507731.tif 000008
【図７】
2008507731.tif 000009
【図８】
2008507731.tif 000010
【図９】
2008507731.tif 000011
【図１０】
2008507731.tif 000012
【図１１】
2008507731.tif 000013
【図１２】
2008507731.tif 000014
【図１３】
2008507731.tif 000015
【図１４】
2008507731.tif 000016
【図１５】
2008507731.tif 000017
【図１６】
2008507731.tif 000018
【図１７】
2008507731.tif 000019
【図１８】
2008507731.tif 000020
【図１９】
2008507731.tif 000021
【図２０】
2008507731.tif 000022
【図２１】
2008507731.tif 000023
【図２２】
2008507731.tif 000024
【図２３】
2008507731.tif 000025
【国際調査報告】
2008507731.tif 000026
2008507731.tif 000027
2008507731.tif 000028