(57)【要約】本発明は、外側面（２４）を有する記録担体（２２）を走査する光走査装置を提供するものであり、この光走査装置は、放射ビームを発生するように構成した放射源システム（２）と、出射面（７６）を有する対物レンズ系（２０）であって、前記放射源システムと前記記録担体との間に配置され、且つこの対物レンズ系の出射面と記録担体の外側面との間のギャップにまたがって放射ビームをエバネッセント結合させるようにした当該対物レンズ系と、放射を記録担体との相互作用後に検出する放射検出器装置とを具える。前記放射検出器装置は、前記対物レンズ系の出射面と前記記録担体の外側面との間の傾きの不整合を表わす傾き誤差信号（α，β）を生じるように構成されている。更に、この放射検出器装置は、前記出射面に亘る前記エバネッセント結合の効率の変化を表わす放射中の情報を検出することにより、前記傾き誤差信号を生じるように構成されている。
2008511089.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外側面を有する記録担体を走査する光走査装置であって、この光走査装置が、
ａ）放射を発生するように構成した放射源システムと、
ｂ）出射面を有する対物レンズ系であって、この対物レンズ系が前記放射源システムと前記記録担体との間に配置され、且つこの対物レンズ系の出射面と記録担体の外側面との間のギャップにまたがって放射ビームをエバネッセント結合させるようにした当該対物レンズ系と、
ｃ）放射を記録担体との相互作用後に検出する放射検出器装置と
を具える当該光走査装置において、
前記放射検出器装置は、前記対物レンズ系の出射面と前記記録担体の外側面との間の傾きの不整合を表わす傾き誤差信号（α，β）を生じるように構成されており、且つ
この放射検出器装置は、前記出射面に亘る前記エバネッセント結合の効率の変化を表わす放射中の情報を検出することにより、前記傾き誤差信号を生じるように構成されていることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光走査装置において、放射中の前記情報が、前記出射面に亘る光度分布を有する光走査装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光走査装置において、この光走査装置が光軸を有し、前記傾きの不整合には、この光軸に対してほぼ垂直な第１の傾き軸を中心とする傾きの不整合が含まれるようになっており、
前記放射検出器装置は第１検出領域及び第２検出領域を有し、前記出射面は第１出射面領域及び第２出射面領域を有し、これら第１出射面領域及び第２出射面領域は前記第１の傾き軸の両側にそれぞれ配置されており、
前記第１検出領域は、前記第１出射面領域に亘るエバネッセント結合の効率を表す情報を検出するとともに、前記第１出射面領域に亘るエバネッセント結合の効率を表す第１検出器信号（α1 ）を生じるように配置されており、
前記第２検出領域は、前記第２出射面領域に亘るエバネッセント結合の効率を表す情報を検出するとともに、前記第２出射面領域に亘るエバネッセント結合の効率を表す第２検出器信号（α2 ）を生じるように配置されている光走査装置。
【請求項４】
請求項３に記載の光走査装置において、前記放射検出装置は、式
α＝（α1 −α2 ）／（α1 ＋α2 ）
により、第１の傾き誤差信号（α）を生じるように構成されている光走査装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の光走査装置において、前記傾きの不整合には、前記光軸及び前記第１の傾き軸に対して垂直な第２の傾き軸を中心とする傾きが含まれるようになっており、
前記放射検出器装置は第３検出領域及び第４検出領域を有し、前記出射面は第３出射面領域及び第４出射面領域を有し、これら第３出射面領域及び第４出射面領域は前記第２の傾き軸の両側にそれぞれ配置されており、
前記第３検出領域は、前記第３出射面領域に亘るエバネッセント結合の効率を表す情報を検出するとともに、前記第３出射面領域に亘るエバネッセント結合の効率を表す第３検出器信号（β1 ）を生じるように配置されており、
前記第４検出領域は、前記第４出射面領域に亘るエバネッセント結合の効率を表す情報を検出するとともに、前記第４出射面領域に亘るエバネッセント結合の効率を表す第４検出器信号（β2 ）を生じるように配置されている光走査装置。
【請求項６】
請求項５に記載の光走査装置において、前記放射検出装置は、式
β＝（β1 −β2 ）／（β1 ＋β2 ）
により、第２の傾き誤差信号（β）を生じるように構成されている光走査装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光走査装置において、前記放射検出器装置が４象限検出器を有している光走査装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の光走査装置において、前記放射源システムにより発生される放射が放射ビームとなり、この光走査装置は、放射ビームにデフォーカスを導入して、この放射ビームが記録担体の情報層上に集束されず、これにより前記出射面におけるスポットの直径を増大させるようになっている光走査装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の光走査装置において、前記放射源システムにより発生される放射が放射ビームとなり、この光走査装置は、放射ビームにデフォーカスを導入して、前記出射面におけるこの放射ビームの断面領域がこの出射面の総面積の少なくとも４分の１を被覆するようになっている光走査装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の光走査装置において、この光走査装置が、前記傾き誤差信号により前記傾きの不整合を調整するように構成されている傾き不整合制御システムを有している光走査装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の光走査装置において、前記傾き不整合制御システムは、前記対物レンズ系の傾きを調整することにより前記傾きの不整合を調整するように構成されている光走査装置。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載の光走査装置において、前記傾き不整合制御システムは、前記記録担体の傾きを調整することにより前記傾きの不整合を調整するように構成されている光走査装置。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の光走査装置において、前記傾きの不整合の調整は、記録担体を光走査装置内に設置した後の始動中に行われて傾きの不整合を補正し、この傾きの不整合の補正がこの始動後にも維持されるとともに、前記記録担体に亘る種々の点でこの記録担体を走査する際に用いられるようになっている光走査装置。
【請求項１４】
請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の光走査装置において、前記傾き不整合の調整は、記録担体を光走査装置内に設置した後で前記記録担体に亘る種々の点でこの記録担体を走査する際に行われるようになっている光走査装置。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の光走査装置において、エバネッセント結合の効率を表す情報は、対物レンズ系の出射面による放射の少なくとも一部の反射時に放射内に導入されるようになっている光走査装置。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の光走査装置において、この光走査装置は、予め決定した波長を有する放射で記録担体を走査し、前記出射面と前記外側面との間のギャップは、前記出射面に亘りこの予め決定した波長の約１０分の１となるようにした光走査装置。
【請求項１７】
外側面を有する記録担体を走査する走査方法であって、
ａ）放射を発生するように構成した放射源システムと、
ｂ）出射面を有する対物レンズ系であって、この対物レンズ系が前記放射源システムと前記記録担体との間に配置され、且つこの対物レンズ系の出射面と記録担体の外側面との間のギャップにまたがって放射ビームをエバネッセント結合させるようにした当該対物レンズ系と、
ｃ）放射を記録担体との相互作用後に検出する放射検出器装置であって、前記対物レンズ系の出射面と前記記録担体の外側面との間の傾きの不整合を表わす傾き誤差信号（α，β）を生じるように構成されている当該放射検出器装置と、
ｄ）前記対物レンズ系の出射面と前記記録担体の外側面との間の傾きの不整合を調整するように構成された傾き不整合制御システムと
を具える光走査装置を用いて、前記記録担体を走査する走査方法において、
‐  前記放射源システムにより発生される前記放射を前記記録担体に照射し、この照射中、エバネッセント結合により、放射が前記対物レンズ系の出射面と前記記録担体の外側面との間のギャップにまたがるように通過するようにする工程と、
‐  前記放射検出器装置を用いて、前記記録担体との相互作用後の前記放射を検出する工程と、
‐  前記放射検出器装置を用いて、前記出射面に亘るエバネッセント結合の効率の変化を表わす情報を検出することにより、傾き誤差信号を生ぜしめる工程と、
‐  前記傾き不整合制御システムを用い、前記傾き誤差信号に応じて前記対物レンズ系の出射面と前記記録担体の外側面との間の傾きの不整合を調整する工程と
を有する走査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録担体を走査する、特に放射のエバネッセント結合を用いて記録担体を走査する光走査装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ある特定の種類の高密度光走査装置では、固体浸漬レンズ（ＳＩＬ）を用いて、放射を記録担体の情報層上の放射スポットに集束させる。ＳＩＬから記録担体へ放射をエバネッセント結合させるには、ＳＩＬの出射面と記録担体の外側面との間の距離をある値に、例えば、２５ｎｍにするのが望ましい。エバネッセント結合はＦＴＩＲ（Frustrated Total Internal Reflection）と称することもできる。このようなシステムは、ＳＩＬの出射面におけるエバネッセント波により形成される近視野から名称をとった近視野システムとして知られている。代表的な光走査装置は、約４０５ｎｍの波長を有する放射ビームを放出する青色レーザである放射源を用いることができる。
【０００３】
記録担体の走査中は、ＳＩＬの出射面と記録担体の外側面との間のエバネッセント結合を保持する必要がある。このエバネッセント結合の効率は、ＳＩＬの出射面と記録担体の外側面との間のギャップ間隔が変化すると変化するおそれがある。このギャップ間隔が所望値よりも大きくなると、結合効率が減少する傾向にあり、従って、走査スポットの質も低下する。例えば、記録担体からデータを読み出すことが走査機能に含まれる場合には、この走査スポットの質の低下により、読み出されるデータの質が低下し、場合に応じデータ信号中に誤差が導入される。
【０００４】
コンパクトディスク（ＣＤ）、デジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）又はブルーレイディスクのような近視野システムでは、対物レンズ系の光軸に対する記録担体の傾き不整合が、情報層への書き込み又は情報層からの読み出し中の走査スポットの質に悪影響を及ぼすおそれがあるということが知られている。
【０００５】
傾きの不整合の変化は、記録担体の平面性が悪い（凹凸がある）ことに起因する。このことは、場合に応じ長期に亙って高温度になったりするような環境的要因又は記録担体の製造処理の質が悪かったりすることに起因してディスクが反ることにより生じるおそれがある。上述したことに代え又は加えて、走査装置内での記録担体の緊締が悪いことにより不整合が生じるおそれがある。
【０００６】
近視野型でない光走査装置の場合、記録担体の傾き不整合を測定して補正するシステムが知られている。ある種の従来のシステムでは、記録担体の傾き不整合を検出し、この検出された傾き不整合の量に基づいてこの傾き不整合を補正するようにする傾き検出器が用いられている。他の従来のシステムでは、最適化ルーチンを実行し、その間に最初にデータを記録担体に書き込んで、次に読み出すようにしている。この場合、読み出されたデータの質は傾き不整合の関数として決定される。これにより、必要に応じ傾き不整合を補正している。
【０００７】
記録担体の傾き不整合を検出するのに従来の傾き検出器を用いると、導入される許容誤差が極めて小さい為に、近視野システムで充分なレベルの精度を得ることができず、更に、傾き検出器に対する対物レンズ系の整合度合を高くする必要がある。誤差がこのような小さな許容誤差を超えると、ＳＩＬと記録担体との間を接触させ、場合に応じＳＩＬ及び記録担体の双方又はいずれか一方を損傷させるおそれがある。
【０００８】
傾き不整合を測定して評価するのに、既知のシステムと同様に最適化ルーチンを使用することは、現実的ではない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、光走査装置と記録担体との間の傾き不整合を検出して補正することにより、エバネッセント結合を用いる記録担体を正確に且つ有効に走査する光走査装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によれば、
外側面を有する記録担体を走査する光走査装置であって、この光走査装置が、
ａ）放射を発生するように構成した放射源システムと、
ｂ）出射面を有する対物レンズ系であって、この対物レンズ系が前記放射源システムと前記記録担体との間に配置され、且つこの対物レンズ系の出射面と記録担体の外側面との間のギャップにまたがって放射ビームをエバネッセント結合させるようにした当該対物レンズ系と、
ｃ）放射を記録担体との相互作用後に検出する放射検出器装置と
を具える当該光走査装置において、
前記放射検出器装置は、前記対物レンズ系の出射面と前記記録担体の外側面との間の傾きの不整合を表わす傾き誤差信号を生じるように構成されており、且つ
この放射検出器装置は、前記出射面に亘る前記エバネッセント結合の効率の変化を表わす放射中の情報を検出することにより、前記傾き誤差信号を生じるように構成されていることを特徴とする光走査装置
を提供する。
【００１１】
記録担体を走査するのにエバネッセント結合を用いる近視野システムの場合、所望レベルの傾き整合からのずれにより、記録担体の走査中に書き込まれる又は読み出される又はその双方のデータの質及び精度に悪影響を及ぼす。エバネッセント結合を用いる近視野システムが有する機械的な許容誤差の余裕度は比較的小さく、その外側では、エバネッセント結合の効率が悪くなる。これらの許容誤差の余裕度を超える、所望レベルの傾き整合からのずれが、この効率の悪化をまねき、従って、データの質及び精度に悪影響を及ぼすおそれがある。更に、このようなずれがＳＩＬを記録担体と接触させ、場合に応じシステムの損傷及び故障の双方又はいずれか一方をまねくおそれがある。
【００１２】
傾き不整合が変化すると、前述したギャップにまたがるエバネッセント結合の効率が出射面に亘り変化する。従って、第１出射面領域においてギャップにまたがるエバネッセント結合の効率は、第２出射面領域においてギャップにまたがるエバネッセント結合の効率と異なるおそれがある。出射面領域に亘るエバネッセント結合の効率の変化を表わす情報を検出することにより、傾き誤差信号を発生させることができる。
【００１３】
本発明の例では、傾き誤差信号に応じて傾き不整合を調整するように構成した傾き不整合制御システムを光走査装置が有するようにする。
【００１４】
傾き誤差信号は、全出射面領域に亘るエバネッセント結合の効率を改善しうるように傾き不整合を補正するのに用いることができる。従って、記録担体を、精度レベル及び質を比較的高くして走査することができる。更に、傾き不整合の検出及び補正により、ディスク上へのデータのいかなる書き込みをも伴うことがない。従って、傾き不整合の補正処理が比較的迅速となり、必ずしも記録担体のデータ容量を使用する必要がない。
【００１５】
本発明の例によれば、第１の傾き軸を中心とする傾き不整合と第２の傾き軸を中心とする傾き不整合との双方を検出して調整しうるようにする。この例は、第３出射面領域及び第４出射面領域においてギャップにまたがるエバネッセント結合の効率を追加検出することにより達成される。
【００１６】
本発明の幾つかの例では、前記放射源システムにより発生される放射が放射ビームとなり、前記光走査装置は、放射ビームにデフォーカスを導入して、この放射ビームが記録担体の外側面上に集束されず、これにより前記出射面におけるスポットの直径を増大させるようにする。
【００１７】
これらの例では、前記光走査装置は、放射ビームにデフォーカスを導入して、前記出射面におけるこの放射ビームの断面領域がこの出射面の総面積の少なくとも４分の１を被覆するようにするのが好ましい。
【００１８】
この放射ビームのスポットの直径は出射面において増大する為、放射ビームの断面領域は出射面の総面積の少なくとも４分の１を被覆する。この直径の増大の結果、第１、第２、第３及び第４出射面領域が増大する。これにより、出射面に亘るエバネッセント結合の効率に関する多量の情報を検出でき、従って、傾きの不整合のより正確な調整を実行しうる。
【００１９】
本発明の一例では、前記傾きの不整合の調整が、記録担体を光走査装置内に設置した後の始動中に行われて傾きの不整合を補正し、この傾きの不整合の補正がこの始動後にも維持されるとともに、前記記録担体に亘る種々の点でこの記録担体を走査する際に用いられるようにする。
【００２０】
この傾き不整合の補正を始動中に行い、この補正を始動後に維持することにより、始動後の記録担体の走査中に傾き不整合を調整する必要なしに、記録担体を正確に走査することができる。
【００２１】
本発明の他の例では、前記傾き不整合の調整が、記録担体を光走査装置内に設置した後で前記記録担体に亘る種々の点でこの記録担体を走査する際に行われるようにする。
【００２２】
傾き不整合を記録担体に亘る種々の点で調整することにより、例えば、記録担体をディスクとした場合に、径に亘って表面の傾きが変化するおそれがある記録担体を正確に走査することができる。このような記録担体は、粗悪な品質レベルに製造されたものであるか、又は例えば、環境状態により歪みが発生したものである可能性がある。
【００２３】
本発明の更なる特徴及び利点は、添付図面を参照した本発明の以下の好適実施例の説明から明らかとなるであろう。
【実施例】
【００２４】
図１は、記録担体を走査するための本発明の一実施例による光走査装置を示す線図である。
【００２５】
この光走査装置は放射ビームを発生するように構成した放射源システムを有する。本例では、放射源システムはレーザ２であり、放射ビームは、予め決定した波長λ、例えば、約４０５nmの波長を有するレーザビーム３である。光走査装置の起動処理及び記録担体走査処理の双方の処理中、光走査装置の光軸ＯＡ（図１には図示せず）に沿って通る放射ビーム３はコリメータレンズ４により平行ビームにされ、その断面の光度分布はビームシェイパ６により整形される。この光ビーム３は次に、非偏光ビームスプリッタ８と、これに続く偏光ビームスプリッタ１０を通り、次に第１焦点調整レンズ１２及び第２焦点調整レンズ１４により集束される。放射ビーム３の集束は、第１焦点調整レンズ１２を焦点調整方向１５に移動させることにより、達成される。光走査装置の対物レンズ系２０は、フォーカシング波面を放射ビーム３内に導入する対物レンズ１６を有する。この対物レンズ系２０は更に、支持フレーム１９により対物レンズ１６に固定される固体浸漬レンズ（ＳＩＬ）を有する。支持フレーム１９は、ＳＩＬ１８に対する対物レンズ１６の整列及び離間距離を維持するようにする。対物レンズ系は平坦な出射面を有し、この出射面はＳＩＬ１８の出射面である。
【００２６】
光走査装置により走査される記録担体２２は、この光走査装置内の装着素子２３上に配置されている。この装着素子２３は緊締手段（図示せず）を有し、この緊締手段は、走査中に記録担体２２を装着素子２３上で適所に剛固で適正に保持するようにする。記録担体２２が適所に剛固に保持されていると、装着素子２３は、記録担体２２のデータトラックを走査するのに用いる放射走査スポットに対し、記録担体２２を移動、本例では回転させる。本例では、データトラックは光軸ＯＡに対し垂直な方向で回転する。記録担体２２は、ＳＩＬ１８の出射面に対向する外側面２４を有する。本例では、記録担体２２はシリコンから成っており、外側面２４は記録担体２２の情報層の表面であり、この表面を経て放射ビームが記録担体２２に入射する。
【００２７】
光走査装置は光軸（図示せず）を有し、対物レンズ系２０は、レーザ２と記録担体２２との間でこの光軸上に配置されている。又、対物レンズ系２０は、ＳＩＬ１８の出射面と記録担体２２の外側面２４との間のギャップにまたがって放射ビーム３をエバネッセント結合させるものである。ＳＩＬ１８の出射面と記録担体２２の外側面２４との間には、傾きの不整合がある。
【００２８】
例えば、記録担体上に記録しうる最大の情報密度は、情報層上の走査位置上に集束される放射スポットの寸法に反比例する。最大のスポット寸法は、光学的な２つのパラメータ、すなわち、放射の波長λと対物レンズ系の開口数（ＮＡ）との比により決定される。ＳＩＬのような対物レンズのＮＡはＮＡ＝ｎ・sin(θ) として規定される。ここで、ｎは放射ビームが集束される媒体の屈折率であり、θはこの媒体中で集束した放射ビームの錐状体の半角である。空気中で、又は平坦な記録担体のような面平行プレート中で集束する対物レンズのＮＡに対する上限は１であること明らかである。放射ビームが高屈折率媒体中で集束し、レンズと物体との間の媒体‐空気‐媒体の界面で反射すること無しに物体に進む場合には、レンズのＮＡは１を越えることができる。このことは、例えば、半球形のＳＩＬの出射面の中心で集束させ、このＳＩＬを物体に接近させることにより達成させることができる。この場合、有効ＮＡは、ＮＡeff ＝ｎ・ＮＡ0 である。ここで、ｎは半球形レンズの屈折率であり、ＮＡ0 は集束レンズの空気中でのＮＡである。ＮＡを更に増大させる方法は、超半球形状のＳＩＬを用い、この超半球形状のＳＩＬが放射ビームを光軸の方向に屈折させ且つこの放射ビームを超半球の中心の下側に集束させるようにすることである。後者の場合、有効ＮＡは、
ＮＡeff ＝ｎ2 ・ＮＡ0 
となる。１よりも大きい有効ＮＡeff は、ＳＩＬの出射面から極めて短い距離の範囲（近視野とも称する）内でエバネッセント波が存在する範囲にしか存在しないことに注意することが重要である。本例では、ＳＩＬの出射面は、放射が物体に当たる前の対物レンズ系の最後の屈折面である。前記の短い距離とは、代表的に、放射ビームの波長λの１０分の１よりも短い。
【００２９】
物体が光記録担体であり、光記録担体の外側面がこの短い距離以内に配置されている場合には、放射がエバネッセント結合によりＳＩＬから記録担体に伝達される。このことは、記録担体の書き込み又は読み出し中、ＳＩＬと記録担体との間の距離（ギャップ寸法とも称する）は数十ナノメートルよりも短くする、例えば、青色レーザ放射源を用いて約４０５nmに等しい波長λを有する放射ビームを発生させ且つ対物レンズ系のＮＡを１．９とするシステムの場合約２５nmよりも短くする必要があることを意味する。
【００３０】
光走査装置は、第１検出路及び第２検出路を有し、これらは双方とも、記録担体２２による反射を伴う放射ビームの光路内に配置されている。
【００３１】
光走査装置の第１検出路内には、検出放射ビームを第１偏光放射検出器３４上に集束させるために反射ミラー３０及びコンデンサ（集光）レンズ３２が配置されている。
【００３２】
放射ビームが記録担体２２により反射された後、この反射放射ビームは光軸ＯＡに沿って、対物レンズ系２０、第２焦点調整レンズ１４，第１焦点調整レンズ１２及び偏光ビームスプリッタ１０を通り、続いて第１検出路に沿って反射ミラー３０を通り、コンデンサレンズ３２により第１偏光放射検出器３４上に集束される。
【００３３】
光走査装置の他の第２検出路内には、非偏光ビームスプリッタ４４と、検出放射ビームを第２偏光放射検出器４８上に集束させるコンデンサレンズ４６と、非偏光ビームスプリッタ５０と、検出放射ビームを第３偏光放射検出器、本例ではプッシュプル検出器５４上に集束させるコンデンサレンズ５２と、反射ミラー６２と、予め決定した量だけデフォーカス（焦点ぼけ）させた検出放射ビームを放射検出器装置上に当てて、記録担体との相互作用後に放射ビームから生じる放射を検出するようにするコンデンサ対物レンズ６４とが配置されている。放射検出器装置は、本例では、４象限検出器６６を有しており、ＳＩＬ１８と記録担体２２の外側面２４との間の傾きの不整合を表わす傾き誤差信号を生じるように構成されている。この傾き誤差信号は、反射された放射ビームの、出射面に亘る光度分布の情報を検出放射ビーム中から検出することにより生ぜしめられる。この光度分布は、出射面に亘るエバネッセント結合の効率の変化を表わす。４象限検出器６６の４象限領域はそれぞれ且つ電気的に放射検出器装置の信号処理回路６７に接続されている。この信号処理回路６７は、傾き誤差信号に応じて傾きの不整合を変えるように構成されている傾き不整合制御システムの制御ユニット６８に電気的に接続されている。傾き不整合制御システムは更に、傾き不整合改変システム（図示せず）を有しており、この傾き不整合改変システムは、本例では制御ユニット６８に電気的に接続されたアクチュエータ（図示せず）である。制御ユニット６８はこのアクチュエータを制御するように構成されており、このアクチュエータは対物レンズ系２０の傾きを調整して、傾きの不整合を変える（改変する）ように構成されている。放射ビームが記録担体２２で反射した後、この反射放射は偏光ビームスプリッタ１０に達し、その後非偏光ビームスプリッタ８を通って第２検出路に至る。反射放射は、非偏光ビームスプリッタ４４及びコンデンサレンズ４６を通って第２偏光放射検出器４８に至るとともに、非偏光ビームスプリッタ５０及びコンデンサレンズ５２を通ってプッシュプル検出器５４に至る。４象限検出器６６により検出する反射放射を以下に説明する。
【００３４】
光走査装置の走査動作中、例えば、データの読み出し又は書き込み中、この光走査装置は２つの偏光放射検出器を用いる。第２偏光放射検出器４８は、記録担体２２上に集束される放射ビームに対し平行に偏光され、情報層から読み出され情報を有する放射を検出するために用いられる。第１偏光放射検出器３４は、記録担体２２上に集束される放射ビームの偏光方向に対し垂直に偏光された放射を検出する。
【００３５】
ギャップの間隔を制御するには、適切な誤差信号が必要である。参考のために記載するが、米国のサンタフェで開催された会議、Proceedings of Optical Data Storage 2001でSonyのT. Ishimoto氏等により発表されているように、良好なギャップ信号（ＧＳ）は、記録担体上に集束される放射ビームの偏光状態に対し垂直な偏光状態を有する反射放射から得られる。放射ビームのうちのかなり多くの放射部分が、出射面と記録担体の外側面とでの反射後に楕円偏光される。これにより、反射放射を偏光子に通して観測すると、周知のマルチーズクロスを生ぜしめる。ＧＳは、偏光光学系と１つの光検出器とを用いてこのマルチーズクロスの光を全て積分することにより発生される。ＧＳは、第１偏光放射検出器３４上に集束される検出放射ビームのうち、低周波、例えば直流から約３０ｋHzまでの部分から取り出される。
【００３６】
走査動作中、例えば、データ記録中は、高出力の極めて短いレーザパルスがレーザ２により放出される。これらのパルスの（平均）レーザ出力が動的に変化することにより、出射面と外側面２４との間のギャップの寸法に対応するＧＳを対応して変化させ、ギャップサーボシステムにより光走査装置に対するギャップをも変化させる。例えば、レーザ出力が急激に増大すると、ＧＳも増大する。しかし、ギャップサーボシステムがギャップの寸法を減少させて、ギャップ寸法を再び所望値にする。データ読み出し中にも、例えば、温度変動によりレーザ出力が変化すると、同様な効果が生じる。
【００３７】
プッシュプル検出器５４は検出放射ビームから、記録担体２２の情報層のトラック上の放射ビームスポットの径方向トラッキング誤差を検出する。このプッシュプル検出器５４は、記録担体２２上に集束される放射ビームの偏光方向に対し平行に偏光された放射を検出する。
【００３８】
次に、図２及び３を参照するに、第１象限領域Ａ、第２象限領域Ｂ、第３象限領域Ｃ及び第４象限領域Ｄを有する４象限検出器６６を示す。傾き不整合検出処理に際し、検出放射ビームスポット７０が４象限検出器６６に当たる。この検出放射ビームスポット７０は、以下に説明するように、予め決定したデフォーカスレベルを有する。
【００３９】
傾きの不整合には、光軸ＯＡに対し垂直な第１の傾き軸７８を中心とする傾き不整合が含まれ、更に光軸ＯＡ及び第１の傾き軸７８に対し垂直な第２の傾き軸８０を中心とする傾き不整合が含まれる。
【００４０】
４象限検出器６６は、第２象限領域Ｂ及び第４象限領域Ｄより成る第１検出領域と、第１象限領域Ａ及び第３象限領域Ｃより成る第２検出領域と、第１象限領域Ａ及び第２象限領域Ｂより成る第３検出領域と、第３象限領域Ｃ及び第４象限領域Ｄより成る第４検出領域とを有する。図４及び５を参照するに、（光軸ＯＡに沿って記録担体２２から対物レンズ系２０に向う方向に見て図４及び５に示す）出射面７６は、第１の傾き軸７８の両側にそれぞれ配置された第１出射面領域Ｅ及び第２出射面領域Ｆを有するとともに、第２の傾き軸８０の両側にそれぞれ配置された第３出射面領域Ｇ及び第４出射面領域Ｈを有する。
【００４１】
傾き不整合の検出処理に際して、第１象限領域Ａ、第２象限領域Ｂ、第３象限領域Ｃ及び第４象限領域Ｄの各々が、出射面７６と外側面２４との間のエバネッセント結合の効率を表わす検出放射ビームスポット７０における情報を検出するように配置される。信号処理回路６７は、第１出射面領域Ｅに亘るエバネッセント結合の効率を表わす第１検出器信号α1 を生じるように構成されている。同様に、この信号処理回路６７は、第２出射面領域Ｆに亘るエバネッセント結合の効率を表わす第２検出器信号α2 、第３出射面領域Ｇに亘るエバネッセント結合の効率を表わす第３検出器信号β1 及び第４出射面領域Ｈに亘るエバネッセント結合の効率を表わす第４検出器信号β2 を生じるように構成されている。
【００４２】
第１検出器信号α1 は、第２象限領域により生ぜしめられる第２象限領域信号と、第４象限領域により生ぜしめられる第４象限領域信号との和である。第２検出器信号α2 は、第１象限領域により生ぜしめられる第１象限領域信号と、第３象限領域により生ぜしめられる第３象限領域信号との和である。第３検出器信号β1 は、第１象限領域により生ぜしめられる第１象限領域信号と、第２象限領域により生ぜしめられる第２象限領域信号との和である。第４検出器信号β2 は、第３象限領域により生ぜしめられる第３象限領域信号と、第４象限領域により生ぜしめられる第４象限領域信号との和である。
【００４３】
各検出領域に対して、出射面領域、例えば、第１出射面領域Ｅに亘るエバネッセント結合の効率は、対応する検出領域、例えば、第１検出領域に当たる検出放射ビームスポット７０の放射の光度を検出することにより検出される。検出領域に当たる放射の光度が比較的高いということは、対応する出射面領域に亘るエバネッセント結合の効率が比較的低いことを表わす。これに対し、検出領域に当たる放射の光度が比較的低いということは、対応する出射面領域に亘るエバネッセント結合の効率が比較的高いことを表わす。
【００４４】
信号処理回路６７は、以下の式１及び２の関係に応じて第１の傾き誤差信号αを発生するように構成されている。
α＝（α1 −α2 ）／（α1 ＋α2 ）                                  （１）
α＝［（Ｂ＋Ｄ）−（Ａ＋Ｃ）］／［（Ｂ＋Ｄ）＋（Ａ＋Ｃ）］        （２）
【００４５】
更に、信号処理回路６７は、以下の式３及び４の関係に応じて第２の傾き誤差信号βを発生するように構成されている。
β＝（β1 −β2 ）／（β1 ＋β2 ）                                  （３）
β＝［（Ａ＋Ｂ）−（Ｃ＋Ｄ）］／［（Ａ＋Ｂ）＋（Ｃ＋Ｄ）］        （４）
【００４６】
制御ユニット６８は、第１の傾き誤差信号αに応じて第１の傾き軸７８を中心とする傾き不整合を変えるとともに、第２の傾き誤差信号βに応じて第２の傾き軸８０を中心とする傾き不整合を変えるように構成されている。
【００４７】
検出放射ビームスポット７０の横断面領域は、図２に示すように、所望の傾き整合を表わす均一光度（放射強度）を有する。従って、第１検出器信号α1 、第２検出器信号α2 、第３検出器信号β1 及び第４検出器信号β2 は互いにほぼ等しく、従って、第１の傾き誤差信号α及び第２の傾き誤差信号βは、制御ユニット６８によって傾き不整合を変える必要がない信号である。
【００４８】
図３に示す実施例における対物レンズ系２０のＳＩＬ１８は、出射面７６が外側面２４に対向する円錐の超半球形状を有する。出射面７６の直径は約４０μｍであり、ＳＩＬのＮＡは１．９である。出射面７６が外側面２４に対しほぼ平行であり、外側面２４が光軸ＯＡに対しほぼ垂直である所望の傾き整合を図２に示す。
【００４９】
図３は、対物レンズ系２０と記録担体２２とを示しており、これらは、光走査装置の走査動作、例えば、データ書き込み処理中に、走査ビームの光線８１が記録担体２２の情報層（外側面）２４上にスポット８２の形態で集束するような所望の傾き整合を有するものである。この点は、外側面２４と出射面７６との間のギャップ間隔が、放射ビームの波長λのほぼ１０分の１より短くなる場合に達成される。これにより、出射面７６の全領域に対し、ギャップにまたがって有効なエバネッセント結合が達成される。データ書き込みの例では、集束されたスポットがデータを情報層２４上に正確に書き込むものである。所望の傾き整合が存在しないと、記録担体の情報層２４上のスポット８２の質が悪影響を受ける。
【００５０】
図６、７、８及び９は、対物レンズ系が所望の傾き整合から逸脱している場合を示している。この場合、傾きの不整合が第１の傾き軸７８を中心として生じている。図６及び７は、傾きの不整合が第１の傾き軸７８を中心として一方向にある状態を示している。図８及び９は、傾きの不整合が第１の傾き軸７８を中心として前記の一方向とは反対の方向にある対照的な状態を示している。不所望な傾き不整合の場合には、出射面７６と外側面２４とが互いにほぼ平行ではない状態か、又は出射面７６が光軸ＯＡに対しほぼ垂直でない状態か、又はこれらの双方の状態が生じている。
【００５１】
傾き不整合の補正処理に際しては、光走査装置を、放射ビーム３中にデフォーカスを導入するように構成し、これにより放射ビーム３が記録担体２２内に集束せずに、出射面７６における放射ビーム３のスポットの直径を増大させるようにする。デフォーカスは、出射面７６における放射ビーム３の横断面領域が出射面７６の全領域の少なくとも４分の１を、好ましくは、少なくとも半分を、より好ましくは、ほぼ全てを覆うように放射ビーム３内に導入する。本例では、出射面７６に集束されるスポットの直径を少なくとも１０μｍ、好ましくは約２０μｍとする。デフォーカスは、第１焦点調整レンズ１２を焦点調整方向１５に移動させることにより導入される。
【００５２】
図６及び７を参照するに、傾き不整合の検出処理中は、放射ビーム３の光線８４が対物レンズ系２０を通過し、記録担体２２の外側面２４に当たる。図４から明らかなように、光軸ＯＡの左側における、従って、第１出射面領域Ｅに対応する、出射面７６と外側面２４との間のギャップは、第２出射面領域Ｆに対応する光軸ＯＡの右側におけるギャップよりも比較的小さくなる。本例における記録担体２２の半径ｒは、外側面２４の平面内にあり、記録担体２２の中心点から外側に伸びている。この中心点は、第１の傾き軸７８と第２の傾き軸８０との間の交点と一致する。ギャップの寸法は、中心点から半径ｒに沿って外側に向う方向で第１出射面領域Ｅに亘って小さくなる。又、このギャップの寸法は、中心点から半径ｒに沿って外側に向う方向で第２出射面領域Ｆに亘って大きくなる。光線８４は、外側面２４に当たると、部分的にこの外側面２４を透過しこれに続いて記録担体２２内で吸収及び反射するとともに、部分的に外側面２４により反射させられる。更に、光線８４は、ＳＩＬ１８の出射面７６で内部全反射されるおそれがある。
【００５３】
反射及び吸収される光線８４の割合は、ギャップの寸法に依存する。ギャップが所望値よりも大きくなると、ギャップに亘るエバネッセント結合の効率が比較的小さくなり、光線８４がギャップを通って外側面２４に伝達される割合が少なくなる。これにより、出射面７６の内面により内部全反射される光線８４の割合が多くなる。外側面２４に到達する光線８４の一部はこの外側面２４により反射され、一部はこの外側面２４を透過する。これらの光線は、記録担体２２と外側面２４との双方又はいずれか一方を形成した材料により吸収されるか、又は光線が、外側面２４の構造上の特徴とピット及び凸部のような情報層との双方又はいずれか一方と作用し合って、光線が相殺的干渉されることにより吸収されるおそれがある。
【００５４】
図６に示すように、第２出射面領域Ｆに亘っているギャップが所望値よりも大きくなると、第１出射面領域Ｅに亘っているギャップは所望値よりも小さくなる。この状態では、第１出射面領域Ｅに亘るエバネッセント結合の効率が比較的高くなり、第１出射面領域Ｅに亘って外側面２４に伝達される光線８４の割合が多くなる。従って、第１出射面領域Ｅに亘る光線８４が外側面２４により且つ記録担体２２内で吸収される割合が多くなる。従って、外側面２４や出射面７６の内面により反射される光線８４は少なくなる。
【００５５】
対物レンズ系２０のＳＩＬ１８の出射面７６や、外側面２４により光線８４が反射されることにより、対物レンズ系により反射される放射３中に情報を導入し、この情報が、対物レンズ系と記録担体２２との間の放射のエバネッセント結合の効率を表わしている。反射された光線８６は、光軸ＯＡに沿って、第２焦点調整レンズ１４、第１焦点調整レンズ１２、偏光ビームスプリッタ１０、非偏光ビームスプリッタ８を通過し、次いで第２検出路に沿って、非偏光ビームスプリッタ４４、非偏光ビームスプリッタ５０、更なる非偏光ビームスプリッタ５６、反射ミラー６２及び対物レンズ６４を通って４象限検出器６６に至る。
【００５６】
図７は、第１の傾き軸７８を中心として第１の方向に傾きの不整合が生じた場合に４象限検出器６６に当たった検出放射ビームスポット８８を示す。第１検出領域９０上では、検出される検出放射ビームの全光度は比較的低く、このことは、第１出射面領域Ｅの領域上の光線８４が出射面７６の内面と外側面２４との双方により僅かの割合しか反射しないことに相当する。第２検出領域９２上では、検出される検出放射ビームの全光度は比較的高く、このことは、第２出射面領域Ｆ上の光線８４が出射面７６の内面と外側面２４との双方により比較的多くの割合で反射されるということに相当する。
【００５７】
第１検出領域９０上で、全光度が比較的低い放射が検出されることにより、比較的低い値の第１検出器信号α1 が生ぜしめられる。第２検出領域９２上で、全光度が比較的高い放射が検出されることにより、比較的高い値の第２検出器信号α2 が生ぜしめられる。信号処理回路６７は式１及び２に応じて第１の傾き誤差信号αを生じる。制御ユニット６８は、この第１の傾き誤差信号αを受けてアクチュエータを制御することにより、対物レンズ系２０の傾きを図６に示すように傾き不整合補正方向９４に変化させ、前述したように、出射面７６と外側面２４とが互いにほぼ平行となっている所望の傾き整合が達成されるようにする。対物レンズ系２０の傾きを変えている間、第１検出領域９０と第２検出領域９２との双方により検出される光度が変化する為に、第１検出器信号α1 及び第２検出器信号α2 の値が変化する。その結果、第１の傾き誤差信号αが変化し、制御ユニット６８がこの変化をモニタリングする。この第１の傾き誤差信号αが、所望の傾き整合に特有の第１の傾き誤差信号αと少なくともほぼ同じであることを、制御ユニット６８が一旦識別すると、制御ユニット６８が、アクチュエータによる対物レンズ系２０の傾きの変化を停止させる。この時点で、第１の傾き軸７８を中心とする傾き不整合が補正される。
【００５８】
図８を参照するに、傾き不整合は第１の傾き軸７８を中心として上述したのと反対方向にある。傾き不整合検出処理中、放射ビーム３の光線８４が対物レンズ系２０を通過し、記録担体２２の外側面２４に当たる。図８から明らかなように、光軸ＯＡの左側における、従って、これに対応する第１出射面領域Ｅにおける出射面７６と外側面２４との間のギャップは、第２出射面領域Ｆに対応する光軸ＯＡの右側におけるギャップよりも相対的に大きい。このギャップの寸法は、中心点から半径ｒに沿う外方に向って第１出射面領域Ｅに亘って大きくなる。又、このギャップの寸法は、中心点から半径ｒに沿う外方に向って第２出射面領域Ｆに亘って小さくなる。
【００５９】
第２出射面領域Ｆに亘るギャップが所望値よりも小さくなると、第１出射面領域Ｅに亘るギャップは所望値よりも大きくなる。この状態では、エバネッセント結合の効率は第２出射面領域Ｆに亘って比較的高くなり、第２出射面領域Ｆに亘る光線８４の多くの割合が外側面２４に伝達される。従って、第２出射面領域Ｆに亘る光線８４の多くの割合が外側面２４により且つ記録担体２２内で吸収される。従って、第２出射面領域Ｆに亘る光線８４のうち、外側面２４と出射面７６の内面とにより反射させる割合は少なくなる。
【００６０】
図９は、第１の傾き軸７８を中心とする前記の反対方向の傾き不整合に対し異なる反射光線９４を有する検出放射ビームの検出放射ビームスポット９５が４象限検出器６６に当たった状態を示す。第１検出領域９６上で検出される検出放射ビームの全光度は比較的低く、このことは、第１出射面領域Ｅ上の光線８４のうち比較的多くの割合が出射面７６の内面と外側面２４との双方により反射されることに相当する。第２検出領域９８上では、検出される検出放射ビームの全光度は比較的低く、このことは、第２出射面領域Ｆ上の光線８４が比較的少ない割合で出射面７６の内面と外側面２４との双方により反射されることに相当する。
【００６１】
第１検出領域９６上で全光度が比較的高い放射が検出されることにより、値が比較的大きな第１検出器信号α1 が生ぜしめられる。第２検出領域９８上で全光度が比較的低い放射が検出されることにより、値が比較的小さな第２検出器信号α2 が生ぜしめられる。信号処理回路６７は式１に応じて第１の傾き誤差信号αを生じる。制御ユニット６８は、この第１の傾き誤差信号αを受けてアクチュエータを制御することにより、対物レンズ系２０の傾きを図８に示すように傾き不整合補正方向１００に変化させ、所望の傾き整合が達成されるようにする。このようにするために、前述したように、第１の傾き誤差信号αが所望の傾き整合を表わす第１の傾き誤差信号αと同じとなる時点を検出してこの時点でアクチュエータによる対物レンズ系２０の傾きの変化を停止させる制御ユニット６８が設けられている。
【００６２】
第１の傾き軸７８を中心とする傾き不整合を検出して補正することに加えて、傾き不整合補正処理には、前述したように第１の傾き軸７８を中心とする傾き不整合を検出して補正するのと同様に、第２の傾き軸８０を中心とする傾き不整合を検出して補正することも含まれる。
【００６３】
信号処理回路６７は、第３検出器信号β1 及び第４検出器信号β2 の大きさに依存する式３及び４に応じて第２の傾き誤差信号βを生じる。第３検出器信号β1 及び第４検出器信号β2 の大きさは、それぞれ、第３及び第４検出領域に当たる検出放射ビームの反射光線の光度に依存する。前述したように、検出領域に当たる放射の光度は、ギャップに亘るエバネッセント結合の効率に依存する。アクチュエータは、第２の傾き誤差信号βが、所望の傾き整合を表わす第２の傾き誤差信号βと同じとなるまで、対物レンズ系２０の傾きを、第２の傾き軸８０を中心とする傾き不整合補正方向に変える。
【００６４】
光走査装置は、傾き不整合補正処理に続いて、走査機能、例えば、記録担体２２へのデータの書き込み又は記録担体２２からのデータの読み出しを実行する。このようにする為に、第１焦点調整レンズ１２を焦点調整方向１５に移動させることにより放射ビーム３のデフォーカスを回避する。これにより、放射ビーム３が記録担体の情報層上のスポットに集束されるようにする。
【００６５】
本発明の他の実施例では、対物レンズ系が、異なるＳＩＬを有する。図１０、１１及び１２の各々は、他の実施例による異なるＳＩＬを有する対物レンズ系により記録担体の外側面上のスポットに集束される放射ビームを示す。これらの図に示す機構及び素子は前述した機構及び素子に類似している。これらの場合にも、前述したのと同様な機構及び素子の説明が当てはまるものであり、図１０の場合前述した符号に１００を加え、図１１の場合前述した符号に２００を加え、図１２の場合前述した符号に３００を加えて同様な機構及び素子を示している。
【００６６】
図１０は、対物レンズ系１２０が、非円錐超半球形状としたＳＩＬ１０２を有する本発明の実施例を示す。
【００６７】
図１１は、対物レンズ系２２０が有するＳＩＬ１０４がメサ型の超半球形状をしており、その出射面２７６がＳＩＬ１０４の突出部となっている本発明の実施例を示す。
【００６８】
図１２は、対物レンズ系３２０が有するＳＩＬ１０６が半球形状をしている本発明の実施例を示す。
【００６９】
上述した実施例は本発明の代表的な例にすぎないものと理解すべきである。本発明の更なる実施例も考えうるものである。
【００７０】
図１〜８を用いて示した本発明の上述した実施例では、対物レンズ系の傾きを調整することにより、所望の傾き整合を達成した。光軸ＯＡに対する対物レンズ系の傾き変化の最大範囲は約０．０７°〜０．２８°であり、対物レンズ系のこのような傾きがこの範囲にある場合、ギャップの大きさは放射ビームの波長λの約１０分の１である。この範囲内の傾き角は、０．５°である光軸ＯＡに対する対物レンズ系の可能な最大傾き角よりも小さい。或いはまた、本発明の他の実施例では、上述した傾きの変化を記録担体の傾きを調整することにより達成する。このことは、記録担体を保持する装着素子の傾きを第１及び第２の傾き誤差信号に応じて変えることにより達成される。この場合、記録担体の傾きをこのように変えるようにアクチュエータを構成する。更に、対物レンズ系の傾きと、記録担体の傾きとの双方を同時に調整することにより、傾きの不整合を補正することが考えられる。
【００７１】
本発明の上述した実施例では、傾き不整合の変化を含む傾き不整合の補正処理を、光走査装置の起動処理中に実行する。この傾き不整合の補正は、半径ｒの記録担体を光走査装置内に設置した後に実行する。傾き不整合が一旦補正されると、すなわち、出射面と外側面とが一旦所望の傾き整合レベルを有すると、光走査装置の起動処理後で走査作用中、この補正された傾き整合が維持される。
【００７２】
本発明の考えられる他の実施例では、記録担体を光走査装置内に設置した際に、記録担体の半径に沿う異なる点で、傾き不整合を測定する。光走査装置の走査作用を実行する前に、傾き不整合を最初に補正して、半径上の第１の点での所望の傾き整合レベルを達成する。半径に沿う走査作用中、この半径に沿う異なる各点で傾き不整合を補正し、この半径に沿う各点で所望の傾き整合レベルが達成されるようにする。
【００７３】
本発明の上述した実施例では、記録担体が情報層を有し、外側面がこの情報層の表面である。或いはまた、記録担体が情報層と被覆層とを有するようにすることが考えられる。被覆層の一方の表面を外側面とし、この被覆層の他方の表面上に情報層を配置する。この後者の実施例では、走査作用中に放射ビームが被覆層を通って情報層上のスポットに集束するように、光走査装置を適合させる。このような適合の１つの方法は、光軸に沿ってＳＩＬの厚さを変えることである。
【００７４】
本発明の上述した実施例では、放射検出器装置を、４象限検出器を含むものとして詳述した。各検出象限領域はホトダイオードである。或いはまた、放射検出器装置が、カメラ検出器に類似する検出器、例えば、電荷結合装置（ＣＣＤ）を有するようにすることが考えられる。
【００７５】
本発明の詳細な実施例に記載した記録担体は、シリコンから形成する。更に、記録担体を異なる構造とし、例えば、読取り専用型のディスクの場合、この記録担体をポリカーボネート層と、金属層、又は誘電体層の積層体とを有する複数の層から形成することが考えられる。記録可能型のディスクの場合、複数の層に、ポリカーボネート層と、相変化層又は光磁気層或いは色素層を有する材料より成る層とを含むようにすることが考えられる。記録担体は１つよりも多い、例えば、２つ、又は３つ、又は４つ、又はそれよりも多い情報層を有することができる。
【００７６】
本発明の上述した実施例では、ある波長を有する放射ビームを詳述した。しかし、放射ビームが他のある波長を有し、光走査装置及び記録担体がこの他のある波長で動作するように適切に配置されるようにすることが考えられる。本発明の上述した実施例における記録担体は光記録担体であるが、他の実施例では、例えば、熱支援磁気記録（ＨＡＭＲ）のようなハイブリッド記録を採用するディスク又はコンピュータハードディスクドライブ（ＨＤＤ）のディスクを含む種々の記録担体を走査するように光走査装置を適合させることが考えられる。
【００７７】
本発明の上述した実施例では、傾き不整合補正処理と操作作用との双方に１つの放射ビームを用いた。或いはまた、傾き不整合補正処理と操作作用との各々に、異なる放射源により発生させた異なる放射ビームをそれぞれ用いるようにすることが考えられる。上述した実施例とは異なる種類の記録担体を走査する放射を発生させるのに異なる放射源を用いることができる。
【００７８】
上述した本発明の実施例では、第１の傾き軸を光軸に対し垂直とし、第２の傾き軸を光軸と第１の傾き軸との双方に対し垂直とした。しかし、本発明の他の実施例では、第１及び第２の傾き軸が互いに且つ光軸ＯＡに対し異なる空間配置を有するようにすることが考えられる。
【００７９】
何れの実施例に関しても説明した何れの特徴事項も単独で、又は上述した他の特徴事項と組合わせて用いることができ、且つ他の何れの実施例又は他の何れの実施例の如何なる組合わせにおける１つ以上の特徴事項と組合わせても用いることができることを理解すべきである。更に、上述していない等価な事項や変形事項も、特許請求の範囲に規定した本発明の範囲を逸脱することなく、採用しうるものである。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】図１は、本発明の実施例による光走査装置を示す線図である。
【図２】図２は、本発明の実施例による傾き誤差信号検出用検出器装置を示す線図である。
【図３】図３は、対物レンズ系と記録担体とを所望の傾き整合状態で示す本発明の実施例による線図である。
【図４】図４は、本発明の一実施例による対物レンズ系の出射面の第１出射面領域及び第２出射面領域を示す平面図である。
【図５】図５は、本発明の一実施例による対物レンズ系の出射面の第３出射面領域及び第４出射面領域を示す平面図である。
【図６】図６は、本発明の一実施例による、対物レンズ系と、第１の傾き軸を中心とする傾き不整合となった記録担体とを示す線図である。
【図７】図７は、本発明の一実施例による、放射ビームスポットの情報を検出する検出器の構成を示す線図である。
【図８】図８は、本発明の一実施例による、対物レンズ系と、第１の傾き軸を中心として図６とは異なるように傾き不整合となった記録担体とを示す線図である。
【図９】図９は、本発明の一実施例による、放射ビームスポットの情報を検出する検出器の構成を示す線図である。
【図１０】図１０は、本発明の他の実施例による対物レンズ系及び記録担体を示す線図である。
【図１１】図１１は、本発明の更に他の実施例による対物レンズ系及び記録担体を示す線図である。
【図１２】図１２は、本発明の更に他の実施例による対物レンズ系及び記録担体を示す線図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
2008511089.tif 000015
2008511089.tif 000016