(57)【要約】本発明は、波長が１９３ｎｍ以下の放射、特にＥＵＶの範囲の波長の放射を放射する光源（１０１）を備えた照明光学系に関する。本発明は、第１の面（１５０）に、光源（１０１）の光を受光して、光を第１及び第２の光束（２１）に分離する、少なくとも第１及び第２フィールドラスタ素子（３０９）を有する第１ファセット光学素子（１０２）と、第２の面（１５２）に、第１及び第２瞳ラスタ素子（４１５）を有する、少なくとも一つの第２ファセット光学素子（１０４）を含む光学部品（１９，１１９）と、を備え、第１の光束は第１ラスタ素子に入射し、第２の光束は第２瞳ラスタ素子に入射し、少なくとも、第１フィールドラスタ素子から第１瞳ラスタ素子へ延在する第１の光束上の第２の面（１５２）又は第２の面に共役な面に、又はその何れかの近傍に減衰器（１１００）が配置され、光学部品は、フィールド面に第１及び第２フィールドラスタ素子を結像する、照明光学系。【選択図】図３ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長が１９３ｎｍ以下の放射、特にＥＵＶの範囲の波長の放射を放射する光源（１０１）を備えた照明光学系であって、
第１の面（１５０）に、前記光源（１０１）の光を受光して、前記光を第１及び第２の光束（２１）に分離する、少なくとも第１及び第２フィールドラスタ素子（３０９）を有する第１ファセット光学素子（１０２）と、
第２の面（１５２）に、第１及び第２瞳ラスタ素子（４１５）を有する、少なくとも一つの第２ファセット光学素子（１０４）を含む光学部品（１９，１１９）と、を備え、
前記第１の光束は前記第１ラスタ素子に入射し、前記第２の光束は前記第２瞳ラスタ素子に入射し、少なくとも、前記第１フィールドラスタ素子から前記第１瞳ラスタ素子へ延在する前記第１の光束上の前記第２の面（１５２）又は前記第２の面に共役な面に、又はその何れかの近傍に減衰器（１１００）が配置され、前記光学部品は、フィールド面（１２９）に前記第１及び第２フィールドラスタ素子を結像する、照明光学系。
【請求項２】
前記第１ファセット光学素子が、２０を上回るフィールドラスタ素子、好ましくは４０を上回るフィールドラスタ素子、より好ましくは６０を上回るフィールドラスタ素子、更に好ましくは８０を上回るフィールドラスタ素子、一層好ましくは１００を上回るフィールドラスタ素子、より好ましくは１２０を上回るフィールドラスタ素子、一層好ましくは１５０を上回るフィールドラスタ素子、更に好ましくは３００を上回るフィールドラスタ素子を含む、請求項１に記載の照明光学系。
【請求項３】
前記第２ファセット光学素子が、２０を上回る瞳ラスタ素子、好ましくは４０を上回る瞳ラスタ素子、より好ましくは６０を上回る瞳ラスタ素子、更に好ましくは８０を上回る瞳ラスタ素子、一層好ましくは１００を上回る瞳ラスタ素子、より好ましくは１２０を上回る瞳ラスタ素子、一層好ましくは１５０を上回る瞳ラスタ素子、更に好ましくは３００を上回る瞳ラスタ素子を含む、請求項１又は請求項２に記載の照明光学系。
【請求項４】
前記光源から前記第１ファセット光学素子への光路に、前記光源からの放射を集光し、前記第１ファセット光学素子の領域に照射する集光器（１０３）が、前記第１ファセット光学素子の前に配置されている、請求項１から請求項３迄の何れかに記載の照明光学系。
【請求項５】
前記減衰器（１１００）の、前記第１ファセット光学素子（１０２）から前記第２ファセット光学素子（１０４）への光路に沿った、前記第２の面又は前記第２の面に共役な面への物理的距離（ＤＡ）が、前記第１の面から前記第２の面（１５２）への物理的距離（Ｄ）の１０％より小さい、請求項１から請求項４迄の何れかに記載の照明光学系。
【請求項６】
前記第１の光束が第１の断面を有し、前記減衰器（１１００）が少なくとも前記第１の光束の前記断面の少なくとも第１の領域をぼかす（ｖｉｇｎｅｔｔ）、請求項１から請求項５迄の何れかに記載の照明光学系。
【請求項７】
前記減衰器（１１００）が絞りである、請求項１から請求項６迄の何れかに記載の照明光学系。
【請求項８】
前記絞りがリング形の絞り（６００）又は矩形の絞り（６０２）又は台形の絞り（６０４）である、請求項７に記載の照明光学系。
【請求項９】
前記絞りが、絞り輪の部分である、請求項７又は請求項８に記載の照明光学系。
【請求項１０】
前記絞りが、少なくとも一つのワイヤ（８０２）を含む、請求項７から請求項９迄の何れかに記載の照明光学系。
【請求項１１】
前記減衰器（１１００）が、前記第１の光束の少なくとも一つの断面を可変にぼかすことができる装置を備える、請求項１から請求項１０迄の何れかに記載の照明光学系。
【請求項１２】
前記装置（１１００）が、回転軸（９５４）を中心に回転可能な素子（９５０）を有するワイヤ（９５２）を含み、
前記回転可能な素子（９５０）はその位置に応じて前記第１の光束の断面の様々な領域をぼかす、請求項１１記載の照明光学系。
【請求項１３】
前記減衰器（１１００）が、フィルタ素子である、請求項１から請求項１２迄の何れかに記載の照明光学系。
【請求項１４】
前記第１及び第２フィールドラスタ素子（３０９）の少なくとも一つが反射型である、請求項１から請求項１３迄の何れかに記載の照明光学系。
【請求項１５】
更なる減衰器（１０００）が、前記光源（１０１）から前記第１ファセット光学素子（１０２）への光路において、前記第１の面（１５０）又は前記第１の面に共役な面、又はその何れかの近傍に配置される、請求項１から請求項１４迄の何れかに記載の照明光学系。
【請求項１６】
前記更なる減衰器（１０００）の、前記光源から前記第１ファセット光学素子への光路の沿った、前記第１の面又は前記第１の面に共役な面への前記物理的距離が、前記第１の面（１５０）から前記第２の面（１５２）への物理的距離（Ｄ）の１０％より小さい、請求項１５に記載の照明光学系。
【請求項１７】
前記第１及び第２瞳ラスタ素子（４１５）が反射型である、請求項１から請求項１６迄の何れかに記載の照明光学系。
【請求項１８】
前記第１及び第２瞳ラスタ素子（４１５）が異なった形状である、請求項１から請求項１７迄の何れかに記載の照明光学系。
【請求項１９】
前記フィールド面（１２９）に、形状を有するフィールド（１３１）が形成される、請求項１から請求項１８迄の何れかに記載の照明光学系。
【請求項２０】
前記第１及び第２フィールドラスタ素子（３０９）が前記フィールド（１３１）の前記形状を有する、請求項１９記載の照明光学系。
【請求項２１】
前記照明光学系が、少なくとも一つのフィールド形成鏡（１１０）を含み、該フィールド形成鏡（１１０）は前記光束の経路において、第２ファセット光学素子（１０４）の後で、前記フィールド面（１２９）の前に設けられる、請求項１から請求項２０迄の何れかに記載の照明光学系。
【請求項２２】
波長が１９３ｎｍ以下のマイクロリソグラフィー、特にＥＵＶマイクロリソグラフィーの用の、フィールド面（１２９）のフィールド（１３１）を照明する、請求項１から請求項２１迄の何れかに記載の照明光学系と、前記フィールド面（１２）の物体を像面（１２４）の像に投影する投影対物光学系（１２６）を備えた投影露光光学系。
【請求項２３】
前記物体が構造形成マスクである、請求項に２２記載の投影露光光学系。
【請求項２４】
感光性物体が前記像面に配置された、請求項２３又は請求項２４に記載の投影露光光学系。
【請求項２５】
請求項２２から請求項２４迄の何れかに記載の投影露光光学系を用いて微細構造部品を製造する方法であって、
−  フィールド面に配置された構造形成マスクを照明するステップと、
−  前記構造形成マスクを投影対物光学系を用いて感光性層に投影するステップと、
−  前記感光性層を現像して、微細構造部品又は微細構造部品の一部を生成するステップとからなる、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光源を備えた照明光学系であって、波長が１９３ｎｍ以下の放射、特に、ＥＵＶ波長領域の放射を射出する光源を備えた照明光学系に関する。照明光学系は二重ファセット照明である。二重ファセット照明光学系では、照明光学系は、少なくとも、第１のファセット光学素子と第２のファセット光学素子からなる２つのファセット光学素子を備える。ファセット光学素子は、ラスタ素子とも呼ばれる、複数のファセットを有する。二重ファセット照明光学系では、第１光学素子のファセットは、１以上の光学素子によってフィールド面のフィールドを照射するフィールド面に結像される。このような二重ファセット照明光学系の照明がケーラー照明である。第１ファセット光学素子は、光源の光束を受光して、該光束を第１と第２の光束に分離する、少なくとも第１と第２のフィールドラスタ素子を有する。第２の光学部品は、少なくとも第１と第２の瞳ラスタ素子を有する。第１の光束は、第１フィールドラスタ素子と第１瞳ラスタ素子の間を延在し、第２の光束は、第２フィールドラスタ素子と第２瞳ラスタ素子の間を延在する。
【０００２】
（関連出願のクロスリファレンス）
本出願は、２００５年６月２１日に米国特許商標局に出願した米国仮出願第６０／６９２，７００号の米国特許第１２０条に基づく利益及び米国特許第１１９条に基づく優先権を主張する。米国仮出願第６０／６９２，７００号の内容は、参照により本願明細書に全体が包含される。
【背景技術】
【０００３】
波長が１９３ｎｍ以下のマイクロリソグラフィー用照明光学系は、多くの刊行物から知られている。照明光学系は、マイクロリソグラフィー投影露光装置の一部であってもよい。
【０００４】
電子部品の構造的な幅を、特に、ミクロンより微細な範囲に縮小するためには、使用する光の波長を小さくすることが有利である。波長が１９３ｎｍ以下の光を使用することが、特にソフトＸ線を用いたリソグラフィー、いわゆるＥＵＶリソグラフィーには適当である。
【０００５】
ＥＵＶリソグラフィーでは、１１〜１４ｎｍの波長、特に１３．５ｎｍの波長が現在論じられている。ＥＵＶリソグラフィーの画像品質は、一方では投影対物光学系によって、他方では照明光学系によって決定される。照明光学系は、構造形成マスク、いわゆるレチクルを配置可能なフィールド面に、フィールド又はリング形状フィールドを可能な限り均一に照明するものである。投影対物光学系の支援によって、フィールド面のフィールドを、ウェーハ面とも呼ばれる像面に投影する。像面にはウェーハなどの感光性物体を配置する。
【０００６】
ＥＵＶ光で作動する光学系の場合、光学素子は、反射性光学素子として配置する。反射性光学素子のみを用いた照明光学系を反射式照明光学系とも呼ぶ。ＥＵＶ照明光学系のフィールド面のフィールドの形状は通常、環状フィールドの形状である。
【０００７】
本発明の照明光学系を使用したマイクロリソグラフィー投影露光光学系は、通常、いわゆる走査モードで動作する。ＥＵＶリソグラフィー用照明光学系、及びこのような照明光学系を備えたマイクロリソグラフィー投影露光装置は、米国特許第Ｂ−６，４５２，６６１号、第Ｂ−６，１９８，７９３号又はＢ−６，４３８，１９９号に開示されている。上記のＥＵＶ照明光学系は、エタンデュ（ｅｔｅｎｄｕｅ）を設定し、フィールド面のフィールドの均一な照明を実現する、いわゆるハニカムコンデンサを備える。既に説明したように、ハニカムコンデンサは、通常、複数のラスタ素子を有する、第１ファセット光学素子と第２のファセット光学素子からなる２つのファセット光学素子を備える。反射式照明光学系では、第１ファセット光学素子は、複数のフィールドミラーファセットを有し、第２光学素子は、複数の瞳ミラーファセットを有する。
【０００８】
国際出願第ＷＯ２００５／０１５３１５４号は、フィールド面のフィールドの均一な照明を改善するため、減衰器、特にフィルタ素子を、フィールド面に共役な面内に、又は該面に近接して配置した二重ファセット照明光学系を開示している。国際出願第ＷＯ２００５／０１５３１５４号によると、フィルタ素子は、第１ファセット素子の個々のファセットに対応している。これによって、第１ファセット素子の各ファセットに対応する個々の光チャネルの光強度に影響を与えることができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
米国特許第Ｂ−６，２２５，０２７号は、光源と集光鏡を備えたＥＵＶマイクロリソグラフィー用照明光学系を開示している。集光鏡は、２〜１２の鏡部に分けられる。このように少数の鏡部が、フィールド面に均一性誤差が生じる原因となる。更に、米国特許第Ｂ−６，２２５，０２７号の照明光学系は、臨界照明をフィールド面の接線方向に備えた照明光学系を開示している。フィールド面の方向の臨界照明の課題は、光源がフィールド面に結像されるため、例えば、光源の強度の変動が直接フィールドの均一性に影響を与える点にある。
【００１０】
上述した従来の光学系の課題は、第１ラスタ素子を備えた第１光学素子を均一に照明したために、投影対物光学系の入射瞳と一致する照明光学系の射出瞳に大きな楕円率誤差が発生しうる点である。これは、特に、楕円度の高い光源を光源として使用し、瞳ラスタ素子を有する第２ファセット光学素子上、又はその近接にこの光源の像（即ち、いわゆる二次光源）を、大きさとエネルギー含量において極めて強く結像する場合に発生する。このバラツキによって、投影対物光学系の入射瞳と一致する照明光学系の射出瞳が不均一に充填される。このようにして射出瞳が不均一に充填されると、上述の楕円率誤差の原因となる。本明細書において、楕円率とは、瞳内のエネルギー分布の重み付けとして理解されたい。エネルギーが射出瞳内で角度範囲にわたって均等に分布している場合、楕円率の値は１となる。楕円率誤差は、楕円率の、均等な分布の理想的値、即ち、１の値からの差を意味する。楕円率については、図３ｂを参照してより詳細に説明する。
【００１１】
本発明は、従来技術の課題を、特に、楕円率誤差及びテレセン度の誤差の少ないことを特徴とする、１９３ｎｍ以下の波長の照明光学系を提供することによって、克服することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上述の目的は、本発明によると、波長が１９３ｎｍ以下の放射を発する光源を備えた照明光学系によって達成される。この照明光学系は、第１の面に、少なくともフィールドファセット又はフィールドラスタ素子を有する第１ファセット光学素子と、第２の面に、少なくとも一つの瞳ファセット又は瞳ラスタ素子を有する少なくとも一つの第２ファセット素子を含む光学部品を備え、第２ファセット子光学部品の少なくとも一つの瞳ファセット又は瞳ラスタ素子は、絞り又はフィルタとして構成可能な減衰器によって完全に、又は部部品的にぼかされる。減衰器は、第２の面上、又は第２の面に共役な面上、又はその何れかの近傍に設けられ、フィールドファセットが光学部品によってフィールド面に結像される。
【００１３】
フィールド面に照射されるフィールドの均一性を高めるため、第１ファセット光学素子は、２０を上回るフィールドファセット又は瞳ラスタ素子、好ましくは４０を上回るフィールドファセット、より好ましくは６０を上回るフィールドファセット、更に好ましくは８０を上回るフィールドファセット、一層好ましくは１００を上回るフィールドファセット、より好ましくは１２０を上回るフィールドファセット、一層好ましくは１５０を上回るフィールドファセット、更に好ましくは３００を上回るフィールドファセットを含む。
【００１４】
第２ファセット光学素子は、第１ファセット光学素子と同じ数の瞳ファセット又は瞳ラスタ素子を含む。このような場合、各フィールドファセットは、一つの瞳ファセットに対応付けられている。好ましい実施の形態では、瞳ファセットの数は、フィールドファセットの数より多い。このような光学系では、例えば、フィールドファセットと瞳ファセットとの対応付けを変更することによって、瞳の照明を変更することができる。
【００１５】
好ましい実施の形態では、第２ファセット光学素子は、２０を上回る瞳ファセット、好ましくは４０を上回る瞳ファセット、より好ましくは６０を上回る瞳ファセット、更に好ましくは８０を上回る瞳ファセット、一層好ましくは１００を上回る瞳ファセット、より好ましくは１２０を上回る瞳ファセット、一層好ましくは１５０を上回る瞳ファセット、更に好ましくは３００を上回る瞳ファセットを含む。
【００１６】
好ましくは、照明光学系は、光源から第１ファセット光学素子への光路に、光源からの放射を集光し、第１ファセット光学素子の領域に照射する集光器を備える。好ましくは、この第１光学素子の被照明領域は、リング形状の領域である。光路上で第１ファセット光学素子の前に集光器を配置することによって、照明光学系の光効率を向上できる。更に、米国特許第６，２２５，０２７号に示されるように、このような光学系で、集光器は、ファセット光学素子の代わりに光源によって加熱される。入れ子式斜入射集光器が最も好ましい。入れ子式斜入射集光器は、例えば、垂直入射光学素子と比較して、集光器の光学性能を低下させずに熱負荷を吸収できるという利点がある。このような集光器は、米国出願第２００４／００６５８１７Ａ１号に記載されている。米国出願第２００４／００６５８１７Ａ１号の内容は、本明細書に含まれている。
【００１７】
好ましくは、本発明の照明光学系によると、走査積分された楕円率は、被照射フィールドのｘ軸方向の位置、即ちフィールド高さに応じて変動する。この変動は＋／−１０％、特に＋／−５％より小さい。更に、この光学系は、好ましくは、テレセン度の誤差が低く、＋／−０．５ｍｒａｄを超えず、好ましくは、フィールドの位置、即ち、フィールドの高さに依存する。
【００１８】
好ましい実施の形態では、絞りは環状の絞りとして設けられる。
【００１９】
更に、矩形又は台形の構成を有した絞りも可能である。
【００２０】
第２ファセット素子のファセットの形状にほぼ対応する環状の絞りの場合、個々の光束を部分的にぼかすことができる。第２ファセット素子の第２ファセットは、瞳ファセットとも呼ばれる。部分的、又は完全にぼかすことによって、部分瞳とも呼ばれる三次光源は、照明光学系の射出瞳の面で部分的に、又は完全にぼかすことができる。これは、これらの部分瞳が、射出瞳の照明の分布にほとんど、或いは全く寄与しないことを意味する。
【００２１】
可能な限り安定した構造とするため、個々の瞳ファセット又は瞳ラスタ素子に部分的なぼかしを行う絞りを、一体として、例えば、絞り輪として形成することが好ましい。このような絞り輪は、本発明の一実施の形態では、複数の円形開口部を有する。
【００２２】
本発明の代替の実施の形態では、瞳ファセットをぼかすために複数のワイヤを用いる。このワイヤは、ぼかす瞳ファセットを変更できるように構成できる。
【００２３】
ワイヤからなる絞りの代わりに、環状フィールド絞り又は矩形絞りを用いることもできる。
【００２４】
個々の瞳ファセットを可変にぼかすため、矩形絞りの位置に応じて、ラスタ素子に入射する光束断面の様々な領域がぼかすことができるように、矩形絞りは、軸を中心に回転可能又は移動可能に構成できる。これによって、個々の瞳ファセットを部分的にぼかすことができる。
【００２５】
本発明によると、絞り、又はフィルタ素子を、光源から被照射面、いわゆる、投影する構造形成マスクを配置するフィールド面への照明光学系のビーム経路上において第２ファセット素子近傍に設ける。近接又は近傍とは、本明細書において、第１ファセット光学部品から第２ファセット光学部品の光路に沿った物理的距離が、第１ファセット光学素子と第２ファセット光学素子の物理的距離の１０％を下回ることを意味する。
【００２６】
代替の実施の形態では、減衰器、即ち、絞り又はフィルタを、第２ファセット光学素子が設けられた面に共役な面に配置する。
【００２７】
光学素子は、ＥＵＶ放射の範囲の波長で動作する照明光学系において反射型の構成を有する。これは、特に、第１ファセット光学素子のフィールドファセット又はフィールドラスタ素子、及び第２ファセット光学素子の瞳ファセット又は瞳ラスタ素子に関する。
【００２８】
フィールド面のフィールドが均一に照明されることよって特徴付けられる照明光学系を得るため、更なる減衰器を、第１光学素子が設けられた第１の面に近接して配置することができる。これは、例えば、光源から第１ファセット光学素子への光路において、国際出願第ＷＯ２００５／０５３１４号に記載のように、光源の後方で、第１ファセット素子の前方、好ましくは、第１ファセット光学素子に近接して、配置することができる。
【００２９】
特に好ましい実施の形態では、第２ファセット光学素子の瞳ファセットの形状は、第１ファセット光学素子によって構成される、それぞれの二次光源の形状にほぼ対応する。
【００３０】
これによって、光学系の効率性を、大幅に向上できる。
【００３１】
本発明の第１の実施の形態において、フィールドファセットはフィールド面のフィールドとほぼ同一の形状を有することができる。即ち、リング形状のフィールドの場合、フィールドファセットもリング形状の構成を有する。
【００３２】
本発明の第２の実施の形態において、フィールドファセット又はフィールドラスタ素子は、略矩形の形状を有し、フィールドを形成する部品を備える。
【００３３】
照明光学系に加えて、本発明は更に、フィールド面のフィールドを照明する、本発明の照明光学系と、フィールド面のフィールドに配置された物体、例えば、レチクルを像面の像に投影する投影対物光学系を備えた、波長が１９３ｎｍ以下のマイクロリソグラフィー用投影露光光学系を提供する。
【００３４】
通常、投影対物光学系の像面には感光性物体を配置し、物体を照明することによって、光で構造が形成されるようになっている。この像面に配置する感光性物体は、微細構造部品製造の基礎となる。本発明のこの態様は、本発明による投影露光装置を用いて感光性物体を照明し、該物体を現像することによって微細電子部品、例えば、半導体チップを製造する方法も提供する。
【００３５】
以下、本発明について、添付の図面を参照して、様々な例示を用いて説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
図１は、二重ファセット照明光学系とも呼ばれる、２つのファセット光学素子を備えた照明光学系におけるビーム経路を示す基本図である。一次光源１の光は、集光器３の支援によって、集光され、平行又は収束光束に変換される。集光器の平行又は収束光束は第１ファセット光学素子７を照明する。第１ファセット光学素子７のフィールドファセット又はフィールドラスタ素子５は、集光器から第１ファセット光学素子７に入射する光束を、フィールドラスタ素子５毎に射出する複数の光束に分離し、二次光源１０を、第２ファセット光学素子１１に近接して又は第２ファセット光学素子１１の位置に生成する。第１ファセット光学素子が配置された面を第１の面８とする。図の例では、第２ファセット光学素子が配置され、二次光源が形成される第２の面１３は、射出瞳面と共役な面である。図示の実施の形態では、フィールド光学素子１２は二次光源１０を、後続の投影対物光学系（図示されてない）の入射瞳に相当する照明光学系（図示されてない）の射出瞳に投影する。フィールドラスタ素子５は、瞳ラスタ素子９を有する第２ファセット光学素子１１とフィールド光学素子１２を備えた光学部品によって照明光学系のフィールド面１４に投影される。これは、ケーラー照明を備えた照明光学系の特徴である。フィールドラスタ素子を、フィールドラスタ素子がほぼ光学部品と重ね合わされたフィールド面に結像することによって、フィールド面に均一な照明を実現できる。構造形成マスク、いわゆるレチクルは、好ましくは、照明光学系のフィールド面１４に配置する。図１に示す、フィールドラスタ素子と瞳ラスタ素子の目的について、光チャネル２１がその間に形成される第１フィールドラスタ素子２０と第１瞳ラスタ素子２２に関する図２ａ、図２ｂを参照して以下に説明する。
【００３７】
既に説明したように、一つの第１フィールドラスタ素子２０は、一つの第１瞳ラスタ素子２２とフィールド光学部品１２の支援によって、照明光学系のフィールド面１４に投影され、そこで所定のジオメトリと形状のフィールドが照明される。第１瞳ラスタ素子と光学部品１９のフィールド光学部品は、フィールド面に第１ラスタ素子を結像する。レチクル、即ち、構造形成マスクは、第１フィールド面１４に配置される。フィールドラスタ素子が、通常、フィールド面に結像されるため、フィールドラスタ素子２０の幾何学的拡張が、フィールド面の被照明フィールドの形状を決定する。
【００３８】
フィールド面の被照射フィールドを図６に示す。
【００３９】
本発明の第１の実施の形態では、フィールドラスタ素子２０は、フィールドの形状、即ち、リング状のフィールドの場合、フィールドラスタ素子もリング状の形状を有しうる。これは、例えば、本明細書にその全体が包含される、米国特許第６，４５２，６６１号、又は米国特許第６，１９５，２０１号の出願に記載されている。
【００４０】
この代替として、フィールドラスタ素子は、矩形形状を有しうる。矩形フィールドラスタ素子を用いてフィールド面に弓状のフィールドを照射する場合、例えば、反射光学系ではフィールドミラーである、フィールド光学素子１２の支援で、矩形フィールドを弓状フィールドに変換する必要がある。
【００４１】
フィールドミラーは環状ラスタ素子を備えた光学系では必要はない。
【００４２】
第１フィールドラスタ素子２０は、一次光源１の像、いわゆる二次光源１０が、第１瞳ラスタ素子の場所に、又は第１瞳ラスタ素子の場所に近接して形成されるように構成されている。瞳ラスタ素子９の熱的負荷が過剰になることを回避するため、瞳ラスタ素子は、二次光源に対して焦点をずらして配置できる。
【００４３】
二次光源は、焦点をずらした結果、拡張部を有する。この拡張部は、光源の形状に起因することもありうる。
【００４４】
本発明の好ましい実施の形態では、瞳ラスタ素子の形状は、一次光源の形状に合うように調整できる。
【００４５】
図２ｂに示すように、フィールド光学素子１２は、二次光源１０を照明光学系の射出瞳面２６に、射出瞳が投影対物光学系の入射瞳と一致するように投影する働きをする。三次光源、いわゆる部分瞳が二次光源毎に射出瞳２６に形成される。
【００４６】
図３ａは、ＥＵＶリソグラフィー用に使用される、本発明の照明光学系を備えた、実施の形態の反射型マイクロリソグラフィー投影露光光学系の概略図である。光源１０１の光束は、本例では、複数のミラーシェルを有する入れ子式集光鏡として構成される斜入射集光鏡１０３によって焦点を合わせられ、格子型分光フィルタ素子１０５で分光フィルタリングした後、光源の中間像Ｚを介してフィールドラスタ素子を有する第１ファセット光学素子１０２に導かれる。集光鏡１０３の光源１０１と格子型分光フィルタ１０５は、いわゆる光源ユニット１５４を形成する。フィールドラスタ素子を有する第１ファセット光学素子は、第１ファセット光学素子に入射する光束を、瞳ラスタ素子を有する第２ファセット光学素子１０４の場所で、或いは第２ファセット光学素子１０４の近傍で各々が二次光源を生成する複数の光束に分離する。第１ファセット光学素子１０２は、第１の面１５０に、第２ファセット光学素子１０４は、第２の面１５２に配置される。光源は通常、分散光源であるため、二次光源もまた分散する、即ち、各二次光源は所定の形状を有する。上述のように、個々の瞳ラスタ素子は、二次光源の所定の形状に合うように調節できる。
【００４７】
瞳ラスタ素子は、フィールド光学部品、いわゆるフィールドミラーグループ１２１とともに使用して、フィールドラスタ素子を、構造形成マスク１１４を配置可能な照明光学系のフィールド面１２９に投影する。図３ａに示す実施の形態では、光学部品１１９は第２ファセット光学素子１０４とフィールドミラーグループ１２１を備える。
【００４８】
上述のように、二次光源の強度は極めて高いため、瞳ラスタ素子を有する第２ファセット光学素子１０４は、好ましくは、二次光源に対して焦点をずらして配置する。瞳ラスタ素子を有する第２ファセット光学素子が配置された第２の面１５２との距離は、フィールドラスタ素子を有する第１ファセット光学素子１０２と瞳ラスタ素子を有する第２ファセット光学素子１０４との間の距離の約２０％である。第１ファセット光学素子１０２と第２ファセット光学素子１０４との間の距離Ｄは、図３ａに示すように、第１光学素子１０２から第２光学素子１０４へ延在する主光線ＣＲに沿って画定される。
【００４９】
図示の実施の形態では、図１〜図２ｂに示すように、第１ファセット光学素子１０２の各フィールドラスタ素子は、第２ファセット光学素子１０４の一つの瞳ラスタ素子に対応している。本発明の他の実施の形態（図示しない）では、瞳ラスタ素子の数は、フィールドラスタ素子の数よりも大きい。このような場合、瞳面における照明の設定は、フィールドラスタ素子の瞳ラスタ素子に対する対応付けを変えることによって、容易に変更できる。図示の実施の形態では、各フィールドラスタ素子と各瞳ラスタ素子の間を一つの光束が延在している。フィールドラスタ素子から瞳ラスタ素子へ延在する個々の光束を、いわゆる光チャネルと呼ぶ。本発明によると、減衰器１１００は、第１フィールドラスタ素子から第１瞳ラスタ素子へ延在するこの光チャネルの少なくとも一つに配置される。第１フィールドラスタ素子から第１瞳ラスタ素子へ延在する光束は、特定の断面を有する。この断面は、減衰器によって少なくとも部分的にぼかされる。本発明に係わるこのような減衰器１１００は、図３ａに概略を示すように、第２の面に、又は第２の面に近接して配置される。本明細書において、近接とは、減衰器１１００からの距離ＤＡが第１の面１５０から第２の面１５２への物理的距離Ｄの１０％未満とする。
【００５０】
この本発明に係わる減衰器１１００によって、以下に説明するように、射出瞳の楕円率に影響を及ぼすことができる。
【００５１】
図３ａに更に、面が、投影対物光学系１２６の入射瞳面に相当する照明光学系の射出瞳面１４０を示す。投影対物光学系１２６の入射瞳は、図６に示す環状フィールドの中央フィールド点Ｚへの主光線ＣＲと投影光学系１２６の光学軸ＯＡとの交点Ｓから得られる。投影光学系は、図示の実施の形態において、６枚の鏡１２８．１，１２８．２，１２８．３，１２８．４，１２８．５，１２８．６を備える。構造形成マスクは、投影対物光学系の支援によって、感光性物体が配置される像面１２４に投影される。
【００５２】
局所的なｘ，ｙ，ｚ座標系をフィールド面１２９に示し、局所的なｕ，ｖ，ｚ座標系を射出面１４０に示す。
【００５３】
本明細書において、楕円率とは、射出瞳面の射出瞳のエネルギー分布の重み付けを意味する。図３ｂに示すように、座標系をｕ，ｖ，ｚ方向に定義した場合、エネルギー含量は、瞳１０００内に座標ｕ，ｖの角度範囲にわたって分布する。瞳は、図３ｂに示すように、角度範囲Ｑ１，Ｑ２，Ｑ３，Ｑ４，Ｑ５，Ｑ６，Ｑ７，Ｑ８に分割される。それぞれの角度範囲に含まれるエネルギー含量は、それぞれの角度範囲にわたって積分することによって得られる。例えば、Ｉ１が、角度範囲Ｑ１に含まれるエネルギー含量を示すとすると、Ｉ１には以下の式が適用される。
【数１】
2008544531.tif 000003
ここで、Ｅ（ｕ，ｖ）は、瞳の強度分布を表す。
以下の変数を−４５°／４５°楕円率とする。
【数２】
2008544531.tif 000004
以下の変数を０°／９０°楕円率とする。
【数３】
2008544531.tif 000005
ここで、Ｉ１，Ｉ２，Ｉ３，Ｉ４，Ｉ５，Ｉ６，Ｉ７，Ｉ８は、上述の、図３ｂに示すそれぞれの角度範囲Ｑ１，Ｑ２，Ｑ３，Ｑ４，Ｑ５，Ｑ６，Ｑ７，Ｑ８に含まれるエネルギー含量とする。
【００５４】
フィールド面の被照射フィールドのフィールド点毎に異なる射出瞳が得られるので、瞳及び楕円率は、フィールドの位置に依存する。マイクロリソグラフィーで使用する環状フィールドを図６に示す。フィールドを、フィールド面１２９のｘ，ｙ，ｚ座標系で表す。瞳はフィールド点に依存するため、フィールドのｘ，ｙ位置にも依存する。
【００５５】
図３ａに示す照明光学系はまた、国際出願ＷＯ２００５／０１５３１４号に記載の、第１ファセット光学素子１０２が配置された第１の面１５０、又は第１の面１５０に近接して設けられた更なる減衰器１０００を備える。減衰器１０００によって、個々のフィールドファセットを、部分的に、又は完全にぼかすことができるので、フィールド面の照明の均一性に意図的に影響を与えることができる。更なる減衰器１０００は、オプションであるが、本発明に必須ではない。
【００５６】
図４に、いわゆるフィールドハニカムプレートと呼ばれる、図３ａに参照番号１０２で示した第１ファセット光学素子上のフィールドラスタ素子又はフィールドファセット３０９の二次元構成を示す。フィールドラスタ素子３０９間の距離は、可能な限り小さく選択する。図４に、１２２個のフィールドラスタ素子３０９を自身に配置した第１ファセット素子を示す。円３３９は、フィールドラスタ素子３０９を備えた第１光学素子の円形照明の照明境界部を示す。このような照明は、例えば、光源から第１ファセット光学素子への光路において、第１ファセット光学素子の前に配置した集光器によって行う。ほぼ矩形のフィールドラスタ素子３０９は、例えば、長さをＸＦＲＥ＝４３．０ｍｍ、幅をＹＦＲＥ＝４．０ｍｍとする。フィールドラスタ素子３０９全ては円３３９内に配置されるため、完全に照明される。
【００５７】
図５に、図３ａで参照番号１０４で示した、第２ファセット光学素子上の瞳ラスタ素子４１５の第１の構成を示す。瞳ラスタ素子４１５は、ｕ，ｖ，ｚ座標系の中心に対して点対称に配置されている。瞳ラスタ素子４１５の形状は、好ましくは、瞳ラスタ素子を有する第２光学素子が配置される面の二次光源の形状に対応する。図示の実施の形態では、瞳ファセット又は瞳ラスタ素子４１５の数は、フィールドラスタ素子の数に対応する。即ち、光学系が１２２個のフィールドファセット又はフィールドラスタ素子３０９を有する場合、光学系は１２２個の瞳ファセット又は瞳ラスタ素子を有する。
【００５８】
図６に、図３ａに従った照明光学系によってフィールド面１２９に形成される環状フィールドを示す。
【００５９】
フィールド１３１は環状の形状を有する。図６に、フィールド１３１の座標系と中央フィールド点Ｚ、及びｘ，ｙ座標系を示す。ｙ方向は、照明光学系を走査用マイクロリソグラフィー投影光学系に使用した場合のいわゆる走査方向を示し、ｘ方向は、走査方向に垂直な方向を示す。いわゆるフィールドの高さと呼ばれる、ｘ方向の位置に応じて、走査積分した変数、即ち、ｙ軸に沿って積分した変数が決定される。照明の多くの変数は、フィールドに依存した変数である。このようなフィールド依存変数として、例えば、その量がフィールドの高さｘに応じて変化する、いわゆる走査エネルギー（ＳＥ）がある。走査エネルギーは、フィールドの高さの関数である。一般的に、以下の数式が適用される。
【数４】
2008544531.tif 000006
ここで、Ｅは、ｘとｙに依存する、ｘ，ｙフィールド面の強度分布である。均一な、即ち、一様な照明、及び、フィールド高さｘにも依存する楕円率、テレセン度（ｔｅｌｅｃｅｎｔｒｉｃｉｔｙ）などの照明光学系の他の特徴的な変数には、かかる変数がフィールドの高さｘ全体にわたりほぼ等しい値でばらつきがごく僅かであることが有利である。
【００６０】
本明細書において、楕円率とは、射出瞳面のそれぞれのフィールド点に対応する瞳のエネルギー分布の重み付けを意味する。図３ｂと関連する説明を参照されたい。
【００６１】
更に、光束の主線を、被照射フィールドの各フィールド点に画成する。主線とは、フィールド点を起点とする、エネルギーで重み付けした光束の方向である。
【００６２】
主光線ＣＲからの主線のズレを、いわゆる、テレセントリック誤差という。以下の式がテレセントリック誤差に適用される。
【数５】
2008544531.tif 000007
ここで、Ｎで、主光線を示すベクトルｓ（ｘ，ｙ）を正規化する。Ｅ（ｕ，ｖ，ｘ，ｙ）は、フィールド面１２９のフィールド座標ｘ，ｙと射出瞳面１４０の瞳座標ｕ，ｙに依存するエネルギー分布である。
【００６３】
一般に、フィールド面１２９のフィールドの各フィールド点は、図３ａに係わる照明光学系の射出瞳面１４０の射出瞳に関連付けられている。部分瞳とも呼ばれる複数の三次光源は、それぞれのフィールド点に対応する射出瞳に形成される。
【００６４】
図７に、図６に示す環状フィールドでフィールド高さがｘ＝−５２ｍｍの場合の走査積分瞳を示す。
【００６５】
走査積分瞳は、エネルギー分布Ｅ（ｕ，ｖ，ｘ，ｙ）を走査経路、即ちｙ方向に沿って積分することによって得られる。走査積分瞳は以下のように表される。
2008544531.tif 000008
走査積分瞳を座標ｕ，ｖについて積分することによって、上述の強度Ｉ１，Ｉ２，Ｉ３，Ｉ４，Ｉ５，Ｉ６，Ｉ７，Ｉ８が得られる。こうして、フィールドの高さｘに応じて、例えば、ｘ＝−５２ｍｍとして−４５°／４５°又は０°／９０°楕円率が得られる。
【００６６】
図７に示すように、射出瞳面の射出瞳は、個々の部分瞳、即ち三次光源５００を有する。図７に示すように、個々の部分瞳５００は、様々なエネルギーを含有し、例えば、図３ａに示す入れ子式集光器１０３では、入れ子式集光器の集光器シェル又は集光器スポークを起点とする微細構造を有する。部分瞳５００の強度値がそれぞれ異なることは、第１光学素子の照明が不均一である結果である。個々の部分瞳５００のエネルギーが不均衡であることに加えて、幾何学的な不均衡も存在する。図７から明らかなように、多くの部分瞳５００は楕円形の形状である一方で、ほぼ円形の構成をした部分瞳も存在している。個々の部分瞳における、形状の幾何学的差異とエネルギー的な差異の両方が原因となって、射出瞳の楕円率（例えば、−４５°／４５°又は０°／９０°楕円率）をフィールドの高さ、即ちｘ座標に沿って大きく確実に変化させている。
【００６７】
既に説明したように、楕円率は可能であればフィールドの高さ、即ち、ｘ座標に沿って一様又は均一であることが望ましい。
【００６８】
これは、本発明によると、個々の部分瞳５００を第２の面１５２に、又は第２の面に共役な面に、又はその何れかに近接して配置した減衰器の支援によって部分的にまたは完全にぼかすことによって実現できる。
【００６９】
楕円率には、個々の瞳ファセット又は個々の瞳ラスタ素子に対応する絞り又はフィルタの支援によって、光束の光強度を減衰することによって、意図的に影響を及ぼすことができる。減衰器は、例えば、単一の瞳ファセット又は単一の瞳ラスタ素子を部分的又は完全にぼかすことができる、絞りでもよい。
【００７０】
図８に、フィールド高さｘ＝０ｍｍ、即ち、図６の中央フィールド点を含む走査経路における走査積分瞳
2008544531.tif 000009
を示す。いわゆる０°／９０°楕円率は、図３ｂを参照した説明したようにして得られる。０°／９０°楕円率を補正する場合、部分瞳を図８に示すようにぼかす。ぼかされた部分瞳を参照番号５０２で図８に示す。ぼかされてない部分瞳を参照番号５００で示す。
【００７１】
図９に、第２光学ファセット素子の瞳ファセット又は瞳ラスタ素子を示す。瞳ファセットを図５に参照番号４１５で示す。更に、図９に、瞳ファセットを部分的にぼかして、上述のように、射出瞳の特定の領域からのエネルギーを除去するために用いる絞り４２０．１，４２０．２，４２０．３，４２０．４，４２０．５，４２０．６を示す。ぼかさない瞳ファセットの凹部を、参照番号４４０で示す。
【００７２】
図１０ａ〜図１０ｃに、個々の瞳ファセットをぼかすための、可能な種類の絞りを示す。図１０ａに、リング形の絞り６００を、１０ｂに矩形の絞りを、図１０ｃにいわゆる台形の絞り６０４を示す。絞りの種類に応じて、瞳ファセット４１５に関連付けられた部分瞳のエネルギーは照明光学系の射出絞瞳で絞りによって削減され、部分瞳のエネルギー分布の焦点はずれる。
【００７３】
リング形の絞り６００は、比較的構築が容易で、コンパクトに使用できるという長所がある。
【００７４】
他の種類の絞り（例えば、矩形の絞り６０２）は、再調整がより容易であるという長所がある。矩形の絞り６０２又は台形の絞り６０４は、外部からビーム経路に導入でき、導入する際の深さを可変にできる。これに対して、固定したリング形の絞りからなる絞り輪（ｓｔｏｐ  ｗｈｅｅｌ）は変更ができない。虹彩絞りからなる、変更可能な環状フィールド絞りは可能であるが、必要な精度を満たすためには多くの労力を要さなければ製造できない。
【００７５】
個々の瞳ファセットをぼかす絞りを一体として製造することは特に有利である。この絞りは、第２ファセット光学素子、即ち、瞳ファセットミラーの冷却リングに配置できる。
【００７６】
このような絞り輪を図９に示す。図９に示す絞りでは、個々の瞳ファセットに部分的なぼかしが、同様の形状をもって凹部が絞り輪に配置されるように、発生する。
【００７７】
図９に示す実施の形態では、開口部４２０．１，４２０．２，４２０．３，４２０．４，４２０．５，４２０．６，４２０．７，４２０．８，４２０．９，４４０各々が、特に、容易に製造できる点に特徴のある、絞りの円形開口部である。
【００７８】
図９に示す絞りによって、個々の瞳ファセットを完全に、又は部分的にぼかすことができる。絞りを、フィールドの高さ、即ち、ｘ座標に応じて楕円率のコース（ｃｏｕｒｓｅ）に導入する効果を、−４５°／４５°又は０°／９０°楕円率について図１１ａ及び図１１ｂに示す。図１１ａに、図３ａによる照明光学系で、第２ファセット素子近傍に絞りのない場合の−４５°／４５°楕円率２０００．１又は０°／９０°楕円率２０００．２を示す。フィールド高さに応じて、−４５°／４５°楕円率は１００％と１１６％の間を変動し、０°／９０°楕円率は１００％と９２％の間を変動している。楕円率は、図９に示す絞りを、第２ファセット光学素子に近接した照明光学系のビーム経路に導入することによって、大きく改善される。これを、図１１ｂに示す。フィールドの高さに応じて、−４５°／４５°楕円率２０００．１は、１００％から１０４％の間を変動し、は０°／９０°楕円率２０００．２は、９７．８％から１００％の間を変動する。
【００７９】
図１１Ｃ及び図１１ｄに、図３ａによる光学系で、第２ファセット光学素子の前に減衰器がある場合とない場合のフィールド高さｘに応じた光学系のテレセントリック誤差を示す。図１１ｃに、図３ａによる光学系で、減衰器がない場合の光学系のテレセントリック誤差の動向を示す。テレセントリック誤差は、ｘ軸方向２１００．１及びｙ軸方向２１００．２で０．５ｍｒａｄを上回る。図１１ｄに示すように、第２ファセット光学素子の前に減衰器を導入することによって、テレセントリック誤差は、ｘ軸方向２１００．１及びｙ軸方向２１００．２で０．５ｍｒａｄを下回るように保つことができる。
【００８０】
絞り輪は、絞り輪を用いて設定、特にσ設定ができるという、更なる利点がある。これは、図１１ｅ〜図１１ｈに示す。図１１ｅに、一例として、瞳ファセット４１５を有する第２ファセット光学素子を示す。図１１ｆに示すように、絞りを導入することによって、瞳ファセットを端部７００で完全にぼかすことができ、これによってσ設定値を設定できる。楕円率補正を行う場合、図１１ｇに示すように、絞り輪を用いて最も近接して位置する光ファセット７０２を部分的にぼかすことができる。図１１ｇ及び図１１ｈに示すように、第２ファセット光学素子に近接した絞り輪を用いて、このように、楕円率の補正に加えて、σ設定値の設定を行うことができる。σ設定値は、瞳の環状照明を規定する。以下の関係がσ値の設定に一般的に用いられている。
σ＝σＥｉＮ／σＯＵＴ
ここで、σ値は、対物光学系の瞳の充填度を示す。σ＝１．０の場合、対物光学系の瞳は完全に充填されている。σ＝０．６の場合、対物光学系の瞳は部分的にのみ充填されている。σ値の定義については米国特許第６，６５８，０８４Ｂ２に記載されている。
【００８１】
図１１ｈに、絞り輪の他の例を示す。図１１ｈに示す例では、瞳ファセットは端部７００及び中央部７０４において完全にぼかされており、瞳ファセットはリング形状領域７０２のみが部分的にぼかされ、この領域でリング形状の照明を生じている。
【００８２】
図１２及び図１３に、個々の瞳ファセット８００をぼかす他の例を示す。図１２に示す実施の形態では、個々の部分瞳の光をぼかすためにワイヤ８０２を用いている。ぼかしを可変に制御するため、個々のワイヤを、例えば、方向８０２．１，８０２．２，８０２．３，８０２．４に沿ってそれぞれの位置に移動させる。
【００８３】
図１３に、瞳ファセット９００を絞りによって、ぼかしを可変とする例を示す。絞りを参照番号９０２．１，９０２．２で記している。
【００８４】
瞳ファセット９００のぼかしを、絞りを用いて可変とするため、図１４に示すように、絞り９５０を、例えば、軸９５４の回りを回転可能なワイヤ９５２上に配置した実施の形態を提供することができる。軸９５４の設定に応じて、絞り９５２は瞳ファセットを狭い側、或いは広い側で覆うことができるので、軸９５４の回転に応じて様々なぼかしをおこなうことができる。
【００８５】
このように、本発明によって、初めて、走査積分した楕円率誤差及びテレセントリック誤差を個々の瞳ファセットを切り換えることによって充分に補正できる照明光学系が提供される。
【００８６】
更に、減衰器を、特に、第２ファセット素子が配置される面に近接して絞り、又は同様の共役な絞りを導入することによって、照明光学系を変更した場合に、続けて補正を行うことが可能になるという利点がある。このような変更は、光源の交換、例えば、プラズマ光源、又は全光源／集光装置を交換することによって、発生しうる。
【００８７】
更に、照明光学系の動作によって、光学系の特性が変化する場合も補正できる。例えば、鏡の被覆が劣化すると、鏡の反射特性が変化する。このような場合、光学系全体に補正が必要となる。
【００８８】
更に、固定又は可変の絞りを使用することによって、例えば、製造時の鏡の被覆の不具合、又は調整不良の補正を行うことができる。
【００８９】
絞りの更なる重要な用途として、σ設定値を可変にできる点があげられる。例えば、外側の瞳ファセットのリング形状部を完全にマスクすることによって、設定値を下げることができる。これは、新たに設定したσ設定値に、楕円率を新たに補正することと組み合わせることができる。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】二重ファセット照明光学系の基本図である。
【図２Ａ】光源からフィールド面までの二重ファセット照明光学系のビーム経路を示す図である。
【図２Ｂ】光源から射出瞳面までの二重ファセット照明光学系のビーム経路を示す図である。
【図３ａ】照明光学系の基本構成を示す図である。
【図３ｂ】射出瞳面の射出瞳を示す図である。
【図４】フィールドラスタ素子を有する第１ファセット光学素子を示す図である。
【図５】瞳ファセットを有する第２ファセット光学素子を示す図である。
【図６】照明光学系のフィールド面の被照射環状フィールドを示す図である。
【図７】減衰器による補正を行わない場合の射出瞳面の瞳照明を示す図である。
【図８】減衰器による補正を行った場合の射出瞳面の瞳照明を示す図である。
【図９】近傍に配置した絞り輪を有する第２ファセット光学素子を示す図である。
【図１０】図１０ａから１０ｃは、様々な種類の絞りを示す図である。
【図１１ａ】補正前における、フィールド高ｘに応じた−４５°／４５°又は０°／９０°楕円率の動向を示す図である。
【図１１ｂ】補正後における、フィールド高ｘに応じた−４５°／４５°又は０°／９０°楕円率の動向を示す図である。
【図１１ｃ】補正前における、テレセン度の動向を示す図である。
【図１１ｄ】補正後における、テレセン度の動向を示す図である。
【図１１ｅ】絞り輪によるσ設定値及び楕円率への影響を説明するための図である。
【図１１ｆ】絞り輪によるσ設定値及び楕円率への影響を説明するための図である。
【図１１ｇ】絞り輪によるσ設定値及び楕円率への影響を説明するための図である。
【図１２】個々の瞳をぼかすためのワイヤの配置を示す図である。
【図１３】個々の瞳ファセットをぼかすためのロッド状の絞りの配置を示す図である。
【図１４】個々の瞳ファセットをぼかすために軸を中心として回転可能なリッド状の絞りの配置を示す図である。
【図１】
2008544531.tif 000010
【図２ａ】
2008544531.tif 000011
【図２ｂ】
2008544531.tif 000012
【図３ａ】
2008544531.tif 000013
【図３ｂ】
2008544531.tif 000014
【図４】
2008544531.tif 000015
【図５】
2008544531.tif 000016
【図６】
2008544531.tif 000017
【図７】
2008544531.tif 000018
【図８】
2008544531.tif 000019
【図９】
2008544531.tif 000020
【図１０】
2008544531.tif 000021
【図１１ａ】
2008544531.tif 000022
【図１１ｂ】
2008544531.tif 000023
【図１１ｃ】
2008544531.tif 000024
【図１１ｄ】
2008544531.tif 000025
【図１１ｅ】
2008544531.tif 000026
【図１１ｆ】
2008544531.tif 000027
【図１１ｇ】
2008544531.tif 000028
【図１１ｈ】
2008544531.tif 000029
【図１２】
2008544531.tif 000030
【図１３】
2008544531.tif 000031
【図１４】
2008544531.tif 000032
【国際調査報告】
2008544531.tif 000033
2008544531.tif 000034
2008544531.tif 000035