(57)【要約】  粒子の集団を分析する装置が説明される。この装置は、例えばレーザから、電磁放射ビームを発生させるようになっている放射源と、電磁放射ビームの経路内に配置されている粒子チャンバとを含む。この装置は、さらに、粒子チャンバによって散乱させられた電磁放射、または、他の形で粒子チャンバから受け取られた電磁放射を検出するためのセンサも含む。センサ位置合わせユニットが検出軸線に沿ってセンサを支持し、および、検出軸線に対して概ね垂直である平面内に位置している直交軸線に沿ったセンサの位置の調整を可能にする。一実施形態では、このセンサ位置合わせユニットは、第１の支持プラットホームと、第１の直交軸線に沿った第１の支持プラットホームの位置を調整するために配置されている第１の調整機構とを含む。このセンサ位置合わせユニットは、さらに、センサを支持する第２の支持プラットホームも含む。この第２の支持プラットホームは、この第２の支持プラットホームが第２の直交軸線に沿って移動することを可能にするように、第１の支持プラットホームに連結されている。第２の調整機構が、第２の直交軸線に沿った第１の支持プラットホームに対する第２の支持プラットホームの相対的な位置を調整するために設けられている。このようにして、センサの位置が、所望の粒子特徴の検出を最適化するために調整されることが可能である。【選択図】図３Ａ
2008510994.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子の集団を分析する装置であって、
電磁放射ビームを発生させるようになっている放射源と、
前記電磁放射ビームの経路内に配置されている粒子チャンバと、
電磁放射を検出するようになっているセンサと、
検出軸線に沿って前記センサを支持するセンサ位置合わせユニットであって、前記検出軸線に対して概ね垂直である平面内に位置している少なくとも２つの直交軸線に沿った前記センサの位置の調整を可能にするようになっているセンサ位置合わせユニットと、
を備える装置。
【請求項２】
前記センサ位置合わせユニットは、
第１の支持プラットホームと、
前記直交軸線の第１の軸線に沿って前記第１の支持プラットホームの位置を調整するために配置されている第１の調整機構と、
前記第１の支持プラットホームに連結されており、かつ、前記センサを支持する第２の支持プラットホームと、
前記直交軸線の第２の軸線に沿った前記第１の支持プラットホームに対する前記第２の支持プラットホームの相対的な位置を調整するために配置されている第２の調整機構と、
を備える請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１の支持プラットホームは、
支持基部と、
前記支持基部から延びる連結肩部であって、この連結肩部の中を通して配置されている少なくとも１つの案内溝を有する連結肩部と、
を備える請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記第１の調整機構は、
フレームと、
前記フレームと固定的に整合しているブラケットと、
前記少なくとも１つの案内溝の中を通して前記ブラケットを前記連結肩部と連結するセキュアメントであって、前記案内溝に沿った前記連結肩部の移動を可能にするような大きさにされているセキュアメントと、
前記ブラケットの第１の末端に配置されており、かつ、前記連結肩部の第１の末端に係合するねじ駆動装置と、
前記ブラケットの第２の末端に配置されており、かつ、前記連結肩部の第２の末端に係合する戻しばねであって、前記ねじ駆動装置とこの戻しばねは、前記直交軸線の前記第１の軸線に沿った前記第１の支持プラットホームの調整を容易にするために協働する戻しばねと、
を備える請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記第１の支持プラットホームは第１の支持基部を備える請求項２に記載の装置。
【請求項６】
前記第２の支持プラットホームは第２の支持基部を備え、前記第１および第２の支持基部は、前記直交軸線の前記第２の軸線に沿って前記第１および第２の支持基部が互いに対して相対的に移動することを可能にするＴ形溝連結部内で互いに係合する請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記第２の調整機構は、
前記第１の支持プラットホームと概ね固定的に整合している第１の末端と、第２の末端と、前記第２の支持プラットホームとの概ね固定的な整合とを有するねじ駆動装置と、
前記ねじ駆動装置による前記第１および第２の支持プラットホームの間の相対的移動に抵抗する偏倚部材と、
を備える請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記Ｔ形溝連結部はダブテール形である請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記ダブテール形のＴ形溝連結部の隅に配置されている１つまたは複数の圧縮性軸受をさらに備える請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記１つまたは複数の圧縮性軸受は中空の管を備える請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記中空の管は、前記ダブテール形のＴ形溝連結部の中で概ね正方形の横断面に変形する請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記第２の支持プラットホームは第２の支持基部を備え、前記第１および第２の支持基部は、前記直交軸線の前記第２の軸線に沿って前記第１および第２の支持基部が互いに対して相対的に移動することを可能にするＴ形溝連結部内で互いに係合する請求項４に記載の装置。
【請求項１３】
前記第２の調整機構は、
前記第１の支持プラットホームと概ね固定的に整合している第１の末端と、第２の末端と、前記第２の支持プラットホームとの概ね固定的な整合とを有するねじ駆動装置と、
前記ねじ駆動装置による前記第１および第２の支持プラットホームの間の相対的移動に抵抗する偏倚部材と、
を備える請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記Ｔ形溝連結部はダブテール形である請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記ダブテール形のＴ形溝連結部の隅に配置されている１つまたは複数の圧縮性軸受をさらに備える請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記１つまたは複数の圧縮性軸受は中空の管を備える請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記中空の管は、前記ダブテール形のＴ形溝連結部の中で概ね正方形の横断面に変形する請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記粒子チャンバはフローサイトメータのフローセルである請求項１に記載の装置。
【請求項１９】
前記センサは光センサである請求項１に記載の装置。
【請求項２０】
検出軸線に対して垂直な平面内のセンサの位置を調整する装置であって、
前記センサを支持するようになっている第１の支持プラットホームと、
第１の軸線に沿って前記第１の支持プラットホームの位置を調整するために配置されている第１の調整機構と、
前記第１の支持プラットホームにスライド自在に連結されておりかつ前記センサを支持する第２の支持プラットホームと、
第２の軸線に沿った前記第１の支持プラットホームに対する前記第２の支持プラットホームの相対的な位置を調整するために配置されている第２の調整機構であって、前記第１および第２の軸線は概ね互いに直交しており、かつ、前記検出軸線に対して概ね垂直である平面内に位置している第２の調整機構と、
を備える装置。
【請求項２１】
前記第１の支持プラットホームは、
支持基部と、
前記支持基部から延びる連結肩部であって、この連結肩部の中を通して配置されている少なくとも１つの案内溝を有する連結肩部と、
を備える請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
前記第１の調整機構は、
フレームと、
前記フレームと固定的に整合しているブラケットと、
前記少なくとも１つの案内溝の中を通して前記ブラケットを前記連結肩部と連結するセキュアメントであって、前記案内溝に沿った前記連結肩部の移動を可能にするような大きさにされているセキュアメントと、
前記ブラケットの第１の末端に配置されており、かつ、前記連結肩部の第１の末端に係合するねじ駆動装置と、
前記ブラケットの第２の末端に配置されており、かつ、前記連結肩部の第２の末端に係合する戻しばねであって、前記ねじ駆動装置とこの戻しばねは、前記直交軸線の前記第１の軸線に沿った前記第１の支持プラットホームの調整を容易にするために協働する戻しばねと、
を備える請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
前記第１の支持プラットホームは第１の支持基部を備える請求項２０に記載の装置。
【請求項２４】
前記第２の支持プラットホームは第２の支持基部を備え、前記第１および第２の支持基部は、前記直交軸線の前記第２の軸線に沿って前記第１および第２の支持基部が互いに対して相対的に移動することを可能にするＴ形溝連結部内で互いに係合する請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記第２の調整機構は、
前記第１の支持プラットホームと概ね固定的に整合している第１の末端と、第２の末端と、前記第２の支持プラットホームとの概ね固定的な整合とを有するねじ駆動装置と、
前記ねじ駆動装置による前記第１および第２の支持プラットホームの間の相対的移動に抵抗する偏倚部材と、
を備える請求項２４に記載の装置。
【請求項２６】
前記Ｔ形溝連結部はダブテール形である請求項２４に記載の装置。
【請求項２７】
前記ダブテール形のＴ形溝連結部の隅に配置されている１つまたは複数の圧縮性軸受をさらに備える請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記１つまたは複数の圧縮性軸受は中空の管を備える請求項２７に記載の装置。
【請求項２９】
前記中空の管は、前記ダブテール形のＴ形溝連結部の中で概ね正方形の横断面に変形する請求項２７に記載の装置。
【請求項３０】
前記第２の支持プラットホームは第２の支持基部を備え、前記第１および第２の支持基部は、前記直交軸線の前記第２の軸線に沿って前記第１および第２の支持基部が互いに対して相対的に移動することを可能にするＴ形溝連結部内で互いに係合する請求項２２に記載の装置。
【請求項３１】
前記第２の調整機構は、
前記第１の支持プラットホームと概ね固定的に整合している第１の末端と、第２の末端と、前記第２の支持プラットホームとの概ね固定的な整合とを有するねじ駆動装置と、
前記ねじ駆動装置による前記第１および第２の支持プラットホームの間の相対的移動に抵抗する偏倚部材と、
を備える請求項３０に記載の装置。
【請求項３２】
前記Ｔ形溝連結部はダブテール形である請求項３１に記載の装置。
【請求項３３】
前記ダブテール形のＴ形溝連結部の隅に配置されている１つまたは複数の圧縮性軸受をさらに備える請求項３２に記載の装置。
【請求項３４】
前記１つまたは複数の圧縮性軸受は中空の管を備える請求項３３に記載の装置。
【請求項３５】
前記中空の管は、前記ダブテール形のＴ形溝連結部の中で概ね正方形の横断面に変形する請求項３４に記載の装置。
【請求項３６】
フローサイトメータであって、
電磁放射ビームを放射するようになっている放射源と、
検出軸線に沿って移動する、電磁放射を検出するようになっているセンサと、
前記放射源と前記センサとの間に配置されているフローセルと、
前記検出軸線に沿って移動する電磁放射を検出する前記センサを支持するセンサ位置合わせユニットであって、前記検出軸線に対して概ね垂直である平面内に位置する直交軸線に沿って前記センサの位置を調整することを可能にするようになっているセンサ位置合わせユニットと、
を備えるフローサイトメータ。
【請求項３７】
前記センサ位置合わせユニットは、
第１の支持プラットホームと、
前記直交軸線の第１の軸線に沿って前記第１の支持プラットホームの位置を調整するために配置されている第１の調整機構と、
前記第１の支持プラットホームに連結されており、かつ、前記センサを支持する第２の支持プラットホームと、
前記直交軸線の第２の軸線に沿った前記第１の支持プラットホームに対する前記第２の支持プラットホームの相対的な位置を調整するために配置されている第２の調整機構と、
を備える請求項３６に記載の装置。
【請求項３８】
前記第１の支持プラットホームは、
支持基部と、
前記支持基部から延びる連結肩部であって、この連結肩部の中を通して配置されている少なくとも１つの案内溝を有する連結肩部と、
を備える請求項３７に記載の装置。
【請求項３９】
前記第１の調整機構は、
フレームと、
前記フレームと固定的に整合しているブラケットと、
前記少なくとも１つの案内溝の中を通して前記ブラケットを前記連結肩部と連結するセキュアメントであって、前記案内溝に沿った前記連結肩部の移動を可能にするような大きさにされているセキュアメントと、
前記ブラケットの第１の末端に配置されており、かつ、前記連結肩部の第１の末端に係合するねじ駆動装置と、
前記ブラケットの第２の末端に配置されており、かつ、前記連結肩部の第２の末端に係合する戻しばねであって、前記ねじ駆動装置とこの戻しばねは、前記直交軸線の前記第１の軸線に沿った前記第１の支持プラットホームの調整を容易にするために協働する戻しばねと、
を備える請求項３８に記載の装置。
【請求項４０】
前記第１の支持プラットホームは第１の支持基部を備える請求項３７に記載の装置。
【請求項４１】
前記第２の支持プラットホームは第２の支持基部を備え、前記第１および第２の支持基部は、前記直交軸線の前記第２の軸線に沿って前記第１および第２の支持基部が互いに対して相対的に移動することを可能にするＴ形溝連結部内で互いに係合する請求項４０に記載の装置。
【請求項４２】
前記第２の調整機構は、
前記第１の支持プラットホームと概ね固定的に整合している第１の末端と、前記第２の支持プラットホームと概ね固定的に整合している第２の末端とを有するねじ駆動装置と、
前記ねじ駆動装置による前記第１および第２の支持プラットホームの間の相対的移動に抵抗する偏倚部材と、
を備える請求項４１に記載の装置。
【請求項４３】
電磁放射ビームの経路内に配置されている粒子チャンバに向けて前記電磁放射ビームを発生するようになっている放射源と、検出軸線に沿って電磁放射を検出するようになっているセンサとを有するフローサイトメータにおいて、前記検出軸線に対する前記センサの相対的な位置を最適化する方法であって、
前記センサの出力に対応する電子信号を監視する段階と、
前記電子信号が１つまたは複数の予め決められた基準に合致するまで、前記検出軸線に対して垂直な平面内に位置する少なくとも２つの直交軸線に沿って前記センサの位置を調整する段階と、
を含む方法。
【請求項４４】
前記監視段階は、オシロスコープを使用して前記電子信号を視覚的に監視することを含む請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
前記調整段階は、
第１の調整機構を使用して、前記少なくとも２つの直交軸線の第１の直交軸線に沿った前記センサの位置を調整する段階と、
第２の調整機構を使用して、前記少なくとも２つの直交軸線の第２の直交軸線に沿った前記センサの位置を調整する段階と、
を含む請求項４３に記載の方法。
【請求項４６】
前記調整段階は、前記電子信号の大きさが最大化されるまで、位置している前記少なくとも２つの直交軸線に沿った前記センサの位置を調整することを含む請求項４４に記載の方法。
【請求項４７】
前記調整段階は、前記電子信号のピークパルスの大きさが最大化されるまで、前記少なくとも２つの直交軸線に沿った前記センサの位置を調整することを含む請求項４４に記載の方法。
【請求項４８】
前記調整段階は、前記電子信号のピークヌル（ｐｅａｋ  ｎｕｌｌ）の大きさが最大化されるまで、前記少なくとも２つの直交軸線に沿った前記センサの位置を調整することを含む請求項４４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般的に、分析システムでの使用のためのセンサ位置合わせ装置に関する。さらに特に、フローサイトメータ内の電磁ビーム検出経路に沿って光検出器を支持および位置決めするセンサ位置合わせ装置が説明される。
【背景技術】
【０００２】
生物細胞のような粒子の集団の１つまたは複数の特徴を測定するように設計されている装置が、実験室環境内において極めて一般的になっている。この装置は、様々な異なる分析方法を使用して様々な粒子タイプを分析するために使用可能である。例えば、特定の細胞特徴に関係するデータが、処理された生物細胞の集団の直接的な観察によって獲得されるだろう。この方法は、血液学的異常および疾病を診断するために使用されることが多い。間接的な仕方で生物学的および／または化学的データを獲得する別のタイプの分析システムが、人工粒子の集団を使用する。一般的に述べると、この前もって作られた粒子は球の形状である。この球は、反応性の表面被覆を有する非反応性のコアを含む。この表面被覆は、対象である分析物の化学成分と公知の仕方で反応してその球の蛍光発光のような特徴を変化させるように選択されている。この球は分析物に送り込まれ、および、その結果として生じる反応（または反応の失敗）が分析システムによって検出される。
【０００３】
Ｒｏｄｒｉｇｕｅｚ他に対する米国特許第５，１２５，７３７号が、粒子の流れが電磁放射エネルギーの点集束ビームの中に入れられて通過させられるフローサイトメータを説明している。この第５，１２５，７３７号特許は、本明細書に引例として組み入れられている。この装置の１つの実施態様が図１に示されている。この装置は、フローセル１０を形成する細長い円筒形の部材を備える。このフローセル１０は、例えば石英ガラス、石英、または、サファイアのような任意の光透過性材料で形成されることが可能である。このフローセル１０の内側部分が、集束した流れ１４として生物細胞サンプルが中を通過させられる狭窄穴すなわちネックダウン（ｎｅｃｋｅｄ−ｄｏｗｎ）穴１２を除いて、その長さ全体にわたって円筒形である。このフローセル１０の外壁１５は円筒形であり、かつ、光学定盤１６を含む。レンズシステム１８が、好ましくはレーザ２２からの、電磁エネルギーのビーム２０を穴１２において点状に集束させる。散乱放射レセプタとして働く光検出器アセンブリ２４が、レーザ放射電磁エネルギーのコミッション軸線（ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ  ａｘｉｓ）２６に対して直交しておりかつこの軸線を中心としている平面の中に配置されている。
【０００４】
この光検出器アセンブリ２４は、マスク２８とビームダンプ３０（不要なレーザ光を除去するための障害物）とを備える電磁センサによって構成されている。このマスク２８は、異なる構成のフローセル１０から同等の光散乱情報を得るために必要とされている通りの円形、楕円形、または、他の形状であることが可能である。このマスクは、レーザ光ビーム２０と同中心に方向配置されている。ビームダンプ３０は、図示されているレーザビームに面する光検出器アセンブリ２４を水平方向に横断して延びる。このビームダンプ３０は、より明瞭な信号対雑音出力を提供するために、中心からわずかに角度的に扇形に広げられることが可能である。
【０００５】
動作時には、レーザ２２によって放射される電磁放射がレンズシステム１８の中を通過し、このレンズシステム１８から、フローセル１０の中を通過する粒子流の中を通過する。この電磁放射は粒子流１４の粒子によって複数のビーム３２の形に散乱させられる。様々な散乱角におけるビーム３２の大きさが光検出器アセンブリ２４によって検出される。一方、光検出器アセンブリ２４は、そのビーム３２の大きさに対応する電子信号を、後続の処理と変換とデータ分析とのための後続の電子回路に供給する。
【０００６】
この装置の他の要素に対する光検出器アセンブリ２４の相対的な位置が、上述のシステムの総合的な精度の重要な側面であることが現時点ですでに発見されている。現在まで、光検出器アセンブリ２４の正確な位置決めは、極度に厳密な公差に製作される固定されたセンサ支持フレームを使用して実現されてきた。こうした厳密な製作交差は高コストあり、かつ、時として実現が困難である。したがって、この固定されたセンサ支持物という手法の代わりとなる代替物が望ましい。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
粒子の集団を分析する装置を説明する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この装置は、例えばレーザから、電磁放射ビームを発生させるようになっている放射源と、電磁放射ビームの経路内に配置されている粒子チャンバとを含む。この装置は、さらに、粒子チャンバによって散乱させられた電磁放射、または、他の形で粒子チャンバから受け取られた電磁放射を検出するためのセンサも含む。センサ位置合わせユニットが検出軸線に沿ってセンサを支持し、および、検出軸線に対して概ね垂直である平面内に位置している直交軸線に沿ったセンサの位置の調整を可能にする。一実施態様では、このセンサ位置合わせユニットは、第１の支持プラットホームと、第１の直交軸線に沿った第１の支持プラットホームの位置を調整するために配置されている第１の調整機構とを含む。このセンサ位置合わせユニットは、さらに、センサを支持する第２の支持プラットホームも含む。この第２の支持プラットホームは、この第２の支持プラットホームが第２の直交軸線に沿って移動することを可能にするように、第１の支持プラットホームに連結されている。第２の調整機構は、第２の直交軸線に沿った第１の支持プラットホームに対する第２の支持プラットホームの相対的な位置を調整するために備えられている。このようにして、センサの位置が、所望の粒子特徴の検出を最適化するために調整されることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
図２Ａから図２Ｃは、４０で全体的に示されている、粒子集団を分析するための装置の一実施形態を示す。この装置４０の幾つかの構成要素が、上述したＲｏｄｒｉｇｕｅｚ他に対する米国特許第５，１２５，７３７号に示されている装置に見い出せる対応する構成要素に類似している。この目的のために、装置４０は、電磁放射源４５と集束システム５０とを含む。この電磁放射源４５と集束システム５０は、放射軸線５５に沿って電磁放射ビームを方向付けるようになっている。粒子チャンバ６０が、集束システム５０とセンサ６５との間に放射軸線５５に沿って配置されている。粒子チャンバ６０の中を通過して流れる粒子が、放射軸線５５に沿って供給される電磁放射に影響を与える。センサ６５は、電磁スペクトル中の１つまたは複数の波長の電磁放射を検出するようになっている。これらの波長は、例えば、放射源４５によって発生させられた電磁放射の波長に直接的に合致してもよく、または、この代わりに、分析される粒子が粒子チャンバ６０を通過して流れる時にこの粒子によって発生させられる蛍光放射の波長に合致してもよい。センサ６５によって受け取られる電磁放射は、検出軸線に沿って粒子チャンバ６０から供給される。図示している実施形態では、この検出軸線と放射軸線５５は互いに同一である。
【００１０】
装置フレームとの絶対的な固定された関係において（および、したがって、検出軸線５５との絶対的な固定された関係において）センサ６５を支持する従来の装置とは違って、装置４０のセンサ６５は、センサ位置合わせユニット７０に固定されている。このセンサ位置合わせユニット７０は、検出軸線５５に対して概ね垂直である平面内に位置している直交軸線７５、８０に沿ったセンサ６５の位置の調整を可能にするようになっている。
【００１１】
図示されている実施形態では、センサ位置合わせユニット７０は、垂直調整アセンブリ８５と水平調整アセンブリ９０とを含む。垂直調整アセンブリ８５は固定フレーム部材９５によって支持されており、および、センサ６５の位置が垂直軸線７５に沿って調整されることを可能にする調整ねじ１００を備えている。水平調整アセンブリ９０は、垂直調整アセンブリ８５によって支持されており、および、センサ６５の位置が水平軸線８０に沿って調整されることを可能にする別の調整ねじ１０５を備えている。
【００１２】
垂直調整アセンブリ８５を形成する特定の要素が図３Ａから図３Ｃに示されている。概略的に述べると、図示されている実施形態の垂直調整アセンブリ８５は支持プラットホーム１１０と調整機構１１３とを含む。この支持プラットホーム１１０は、水平調整アセンブリ９０が取り付けられる溝１１７を有する取り付け基部１１５を含む。連結肩部１２０が基部１１５の末端から直角に延びる。１つまたは複数の穴１２５が連結肩部１２０を貫通している。各々の穴１２５は対応する皿穴１３０を含む。
【００１３】
調整機構１１３は、そのブラケットの第１の末端に配置されているねじ駆動装置１４０と、そのブラケットの第２の末端に配置されている戻しばね１４５とを有する、ブラケット１３５を含む。１対のセキュアメント（ｓｅｃｕｒｅｍｅｎｔ）１５０が穴１２５の中を貫通して延びて、ブラケット１３５をフレーム部材９５に取り付ける。穴１２５とセキュアメント１５０は、穴１２５に沿った連結肩部１２０の垂直移動を可能にし、実際上は、穴１２５が支持プラットホーム１１０の垂直移動のための案内溝として機能することを可能にするような大きさにされている。
【００１４】
軸線７５に沿った、連結肩部１２０の垂直位置と、従って、支持プラットホーム１１０の垂直位置とが、主として、ねじ駆動装置１４０と戻しばね１４５とによって最大限度の上方位置と下方位置との間に制限されている。ねじ駆動装置１４０は、対応するねじ山付きインサートアセンブリに係合するファインレゾリューションねじ（ｆｉｎｅ  ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ  ｓｃｒｅｗ）１００を含む。このねじ山付きインサートアセンブリは、ファインレゾリューションねじ山付き基部（ｆｉｎｅ  ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ  ｔｈｒｅａｄｅｄ  ｂａｓｅ）（１７０）を備える。一方、この基部１７０は、中央に配置されているねじ山付き穴１８０とフランジ１８５とを有する本体部分１７５によって構成されている。この本体部分１７５はブラケット１３５の肩部１９５内の穴１９０の底部を貫通して延びる。本体部分１７５と穴１９０の両方は、本体部分１７５が穴１９０内に位置している時に、その本体部分１７５の回転を防止するための平らな部分２００を含む。基部１７０を穴１９０内に固定するために、ナット２０５が本体部分１７５の外側表面のねじ山に係合する。ファインレゾリューションねじ１００は基部１７０を貫通して延びて、連結肩部１２０の第１の側部に係合する。
【００１５】
戻しばね１４５は、ブラケット１３５のＵ字形の延長部分から形成されている。このＵ字形の延長部分は丸く湾曲しており、かつ、拡幅された支持物セクション２２０において終端する、ブラケット１３５の底部のリップ（ｌｉｐ）２１５から延びる材料の狭幅ストリップ２１０を含む。支持物セクション２２０は、調整ねじ１００とは反対側に位置した連結肩部１２０の第２の側部に係合する。
【００１６】
動作時には、戻しばね１４５は、ねじ駆動装置１４０の方向において連結肩部１２０の底部に対する偏倚力を与えるように圧縮されている。垂直軸線７５に沿った肩部１２０の位置が、主として、ファインレゾリューションねじ１００が基部１７０を貫通して延びて肩部１２０の上部部分に接触する度合いを調整することによって調節される。
【００１７】
図４Ａから図４Ｅは、水平調整アセンブリ９０と、垂直調整アセンブリ８５の支持プラットホーム１１０に対するその水平調整アセンブリ９０の対応関係との一実施形態を示す。一般的に述べると、この水平調整アセンブリ９０は、センサ支持プラットホーム２１０とねじ駆動装置２１５とから構成されている。このセンサ支持プラットホーム２１０は、センサ６５に連結するようになっている前面２２０を含む。センサ６５によって使用される信号/電力ワイヤを保持するために、案内溝２２５が面２２０内に設けられてもよい。個々のセンサ設計のサポートのために前面２２０を適合化させるために、様々な他の構造がその前面２２０上に設けられてもよい。
【００１８】
図４Ｄと図４Ｅとに示されているように、センサ支持プラットホーム２１０の後部表面２３０は、取り付け基部１１５の前面において溝１１７に係合するダブテール形の延長部分２３５を含む。この延長部分２３５と溝１１７は一体になって、水平軸線８０に沿って取り付け基部１１５に対してセンサ支持プラットホーム２１０が相対的に移動することを可能にする概ねＴ字形の溝連結部を形成する。テフロン（登録商標）管軸受２４０が、ダブテール形延長部分２３５の内側の隅と溝１１７の内側表面との間に配置されている。管軸受２４０は、必然的に円筒形である横断面を有する。しかし、管軸受２４０の寸法が、延長部分２３５が溝１１７と係合する時に、この軸受が、円筒形の横断面形状から、図４Ｅに示されている概ね正方形の横断面形状に変形するように選択されることが好ましい。このために、各々の管軸受２４０の外径は、溝１１７のダブテール形部分の寸法Ｗのサイズの約１．１５倍である。軸受構成が取り付け基部１１５と共に所定位置にセンサ支持プラットホーム２１０を固着させるのに十分な量の摩擦を実現すると同時に、水平軸線８０に沿ったセンサ支持プラットホーム２１０の移動を可能にする限りは、他の材料と直径とが使用されてもよい。軸受２４０は、様々な公差に製造されたＴ形溝連結部の使用を容易にする補償器として機能することを含む、幾つかの機能を果たす。
【００１９】
水平調整アセンブリ９０のねじ駆動装置２１５の一実施形態が、特に図４Ａと図４Ｃと図４Ｄに示されている。図示されているように、ねじ駆動装置２１５は、支持プラットホーム１１０の連結肩部１２０内の穴２５５を通って延びるねじ山付きインサート２５０を含む。ファインレゾリューション調整ねじ１０５は、センサ支持プラットホーム２１０の肩部２７０内の穴２６０の中を通って延びて、ねじ山付きインサート２５０と係合する。戻しばね２７５が、肩部１２０と肩部２７０とを互いに引き離すための、水平軸線８０に沿った張力を与える。
【００２０】
動作時には、支持プラットホーム２１０の水平位置（および、したがって、センサ６０の水平位置）が、所望の位置が得られ終わるまで調整ねじ１０５を回転させることによって設定される。調整ねじ１０５がねじ山付きインサート２５０の中に送り込まれるようにその調整ねじ１０５が回転させられる時には、肩部２７０は戻しばね２７５の偏倚に逆らって肩部１２０に向かって動かされる。したがって、図４Ｂと図４Ｄと図４Ｅとに示されているように、センサ支持プラットホーム２１０は支持プラットホーム１１０に対して相対的に矢印２８０の方向に動かされる。調整ねじ１０５がねじ山付きインサート２５０から次第に外されるようにその調整ねじ１０５が回転させられる時には、肩部２７０は、戻しばね２７５によって発生された力によって肩部１２０から遠ざかるように動かされる。したがって、図４Ｂと図４Ｄと図４Ｅとに示されているように、センサ支持プラットホーム２１０は支持プラットホーム１１０に対して矢印２８５の方向に相対的に動かされる。
【００２１】
最適の検出位置へのセンサ６５の配置が、センサ６５の出力を監視すると同時に上述の調整機構を動作させることによって実現されることが可能である。例えば、オシロスコープのような信号検出器が、粒子の流れが粒子チャンバ６０の中を通過する最中にセンサ６５からの出力信号を検出するために接続されてもよい。粒子チャンバ６０の中を通過して流れる各々の粒子または粒子群が、そのオシロスコープ上で視覚的に監視されることが可能なセンサ６５からの対応する出力信号を発生させる。このオシロスコープの水平掃引周波数が、粒子が粒子チャンバ６５の中を通過する周波数と概ね同一または数倍に設定されることが可能である。この同期化が、オシロスコープの水平軸線に沿った規則正しい間隔でのパルスのピークまたは最小の発生を結果的に生じさせる。その次に、センサ６５からの出力信号（すなわち、パルスのピークまたはパルスの最小）がその最大の大きさに達し、これによって検出軸線５５に対するセンサ６５の最適な相対的な位置決めを示すまで、垂直調整アセンブリ８５と水平調整アセンブリ９０とが動作させられる。センサ６５の最適位置の決定のための他の手段が同様に適している。
【００２２】
上述のシステムの基本的な開示内容から逸脱することなしに、様々な変更が上述のシステムに加えられることが可能である。本発明を１つまたは複数の特定の実施形態に関連してかなり詳細に説明してきたが、当業者は、添付されている特許請求項に説明されている本発明の範囲と着想とから逸脱することなしに、本発明に変更が加えられてよいということを理解するだろう。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１は、従来技術の開示内容にしたがって構成されているフローサイトメータの略図である。
【図２Ａ】図２Ａは、本発明の開示内容にしたがって構成されているフローサイトメータの一実施形態の略図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、本発明の開示内容にしたがって構成されているフローサイトメータの一実施形態の略図である。
【図２Ｃ】図２Ｃは、本発明の開示内容にしたがって構成されているフローサイトメータの一実施形態の略図である。
【図３Ａ】図３Ａは、図２Ａに示されているフローサイトメータにおけるセンサの垂直位置の調整に使用するのに適している垂直調整アセンブリの一実施形態の略図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図２Ｂに示されているフローサイトメータにおけるセンサの垂直位置の調整に使用するのに適している垂直調整アセンブリの一実施形態の略図である。
【図３Ｃ】図３Ｃは、図２Ｃに示されているフローサイトメータにおけるセンサの垂直位置の調整に使用するのに適している垂直調整アセンブリの一実施形態の略図である。
【図４Ａ】図４Ａは、図２Ａに示されているフローサイトメータにおけるセンサの水平位置の調整に使用するのに適している水平調整アセンブリの一実施形態の略図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、図２Ｂに示されているフローサイトメータにおけるセンサの水平位置の調整に使用するのに適している水平調整アセンブリの一実施形態の略図である。
【図４Ｃ】図４Ｃは、図２Ｃに示されているフローサイトメータにおけるセンサの水平位置の調整に使用するのに適している水平調整アセンブリの一実施形態の略図である。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図４Ｅ】
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【国際調査報告】
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