(57)【要約】  パッシブマトリックス平面スイッチング双安定ディスプレイ1は、第１電極20、第２電極30、及び第１電極20と第２電極30の交点に関連付けられた画素10を備える。ディスプレイ1は同一基板上に、第１電極20、及び、画素ごとに、第２グループの電極G2と交互に配置される第１グループの電極G1を有する。第１及び第２グループの電極G1,G2は、同一の第１方向に伸び、かつ、第１方向において第１グループの電極のみが存在する第１領域、第２グループの電極のみが存在する第２領域、並びに第１及び第２領域の中間で第１及び第２グループの電極が共に存在する第３領域を得るために、互いに対して第１方向に位置がずれている。絶縁領域は、少なくとも第２電極が第１電極と交差しなければならない交差位置に存在する。第２電極は、第２方向に伸び、前記交差位置において第１電極と交差し、第２領域において第２グループの電極に接触して配置される。副電極は、第１領域において第１グループの電極を相互接続して第１グループの電極を第１電極のうちの関連する一つに接続し、画素ごとに第２方向に配置される。
2008527436.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パッシブマトリックス平面方向スイッチング双安定ディスプレイの画素のための、第１グループの電極及び第２グループの電極のインターリーブ電極構造の製造方法であって、前記画素は第１電極と第２電極との交点に関連付けられ、当該製造方法は以下のステップを含む。
（ｉ）第１電極、並びに画素ごとに第１グループの電極及び第２グループの電極を同一基板上に提供するステップ。
ここで、第１及び第２グループの電極は、実質的に同一の第１方向に伸び、かつ、第１方向において第１グループの電極のみが存在する第１領域、第２グループの電極のみが存在する第２領域、並びに第１及び第２領域の中間で第１及び第２グループの電極が共に存在する第３領域を得るために、互いに対して第１方向に位置がずれている。
（ｉｉ）各々第２方向に伸び、第２領域において第２グループの電極に接触して配置された第２電極を提供するステップ。
（ｉｉｉ）少なくとも第２電極が第１電極と交差しなければならない交差位置に絶縁領域を提供するステップ。
及び、ステップ（ｉ）又は（ｉｉ）の間に、第１領域において第１グループの電極を相互接続して第１グループの電極を第１電極のうちの関連する一つに接続する副電極を画素ごとに第２方向に提供するステップ。
【請求項２】
ステップ（ｉ），（ｉｉｉ），（ｉｉ）の順で実行し、ステップ（ｉｉｉ）の間に前記絶縁領域が前記同一基板上に第１電極の上側で少なくとも前記交差位置において提供され、及びステップ（ｉｉ）の間に第２電極が前記同一基板上に第２グループの電極の上側及び前記絶縁領域の上側において提供される請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
ステップ（ｉｉ）の間に第２電極が他の基板上に提供され、ステップ（ｉｉｉ）の間に前記絶縁領域が第１電極又は第２電極のいずれかの上に少なくとも前記交差位置において提供され、及び前記同一基板及び前記他の基板が積み重ねられる請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
画素ごとに前記副電極を提供するステップが、当該副電極を基板上に提供し第１グループの電極と第１電極のうちの関連する一つとの一体構造を形成することにより、ステップ（ｉ）の間に適用される請求項１に記載の製造方法。
【請求項５】
第１グループの電極を提供するステップが実質的に平行に配置されたライン形状の切片のみである第１グループの電極を提供し、
画素ごとに前記副電極を提供するステップが、当該副電極を第１領域に提供して前記平行に配置されたライン形状の切片を電気的に相互接続し且つ相互接続された平行に配置されたライン形状の切片を第１電極のうちの関連する一つに電気的に接続することにより、ステップ（ｉｉｉ）の間に適用される請求項２又は請求項３に記載の製造方法。
【請求項６】
第１領域の第１方向の寸法が副電極のうちの関連する一つの幅より大きい請求項１に記載の製造方法。
【請求項７】
第２グループの電極を提供するステップは、第２方向に伸び第２領域に配置される切片と一緒に第２グループの電極を提供して画素ごとに第２グループの電極の一体構造を形成することにより、ステップ（ｉ）の間に適用され、前記切片は第１電極のうちの関連する一つと電気的に接続しておらず、及び、ステップ（ｉｉｉ）の間に提供される第２電極のうちの関連する一つが前記切片に電気的と接触している請求項１に記載の製造方法。
【請求項８】
前記切片の第１方向の幅が第２電極のうちの関連する一つの幅よりも大きい請求項７に記載の製造方法。
【請求項９】
第２グループの電極を提供するステップが、実質的に平行に配置されるライン形状の切片のみである第２グループの電極を提供し、及び第２電極を提供するステップが第２領域において前記平行に配置されたライン形状の切片を相互接続する請求項２に記載の製造方法。
【請求項１０】
第２グループの電極を提供するステップが実質的に平行に配置されたライン形状の切片のみである第２グループの電極を提供し、及び前記同一基板及び前記他の基板を積み重ねるステップが第２領域において前記平行に配置されたライン形状の切片を相互接続する請求項３に記載の製造方法。
【請求項１１】
第２領域の第１方向の寸法が第２電極のうちの関連する一つの幅よりも大きい請求項７に記載の製造方法。
【請求項１２】
第１電極、第２電極、並びに第１電極及び第２電極の交点に関連付けられた画素を備えるパッシブマトリックス平面方向スイッチング双安定ディスプレイであって、当該ディスプレイは以下を有する。
（ｉ）同一基板上の第１電極、及び画素ごとに第２グループの電極と交互に配置される第１グループの電極。
ここで、第１及び第２グループの電極は、実質的に同一の第１方向に伸び、かつ、第１方向において第１グループの電極のみが存在する第１領域、第２グループの電極のみが存在する第２領域、並びに第１及び第２領域の中間で第１及び第２グループの電極が共に存在する第３領域を得るために、互いに対して第１方向に位置がずれている。
（ｉｉ）少なくとも第２電極が第１電極と交差しなければならない交差位置における絶縁領域。
（ｉｉｉ）第２方向に伸び、前記交差位置において第１電極と交差し、第２領域において第２グループの電極に接触して配置された第２電極。
及び、第１領域において第１グループの電極を相互接続して第１グループの電極を第１電極のうちの関連する一つに接続する、第２方向に配置された画素ごとの副電極。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パッシブマトリックス平面方向スイッチング双安定ディスプレイの画素のためのインターリーブ電極構造を製造する方法、及び画素ごとのインターリーブ電極構造を備えたパッシブマトリックス平面方向スイッチング双安定ディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、電場が電極によって発生するときに、粒子が基板に対して平行に移動する平面方向スイッチング電気泳動ディスプレイを開示する。同文献の図33において、マトリックスディスプレイの数個の画素が示される。画素の各々は、画素電極及び非画素電極を有する。非画素電極はライン形状であって、ロウ方向に伸びている。矩形の画素電極は、カラム方向で相互接続している。画素電極間のこれらの接続は非画素電極と交差する。この従来技術の図31は画素の断面図を示し、それにより、平面方向の場がセルボリューム中に発生するように、非画素電極及び画素電極が共に粒子が存在するセルボリュームの同じ側に位置していることが明らかである。この従来技術は、特により大きな画素において、発生する電界が比較的弱いという欠点を有する。
【０００３】
特許文献２は、粒子が平面方向及び平面方向に垂直な方向に移動することができる電気泳動ディスプレイを開示する。ディスプレイセルは、粒子を含む画素ボリュームを有する。ディスプレイ外側電極がディスプレイボリュームの片側に存在し、インターリーブ内側電極及び接地電極がディスプレイボリュームの反対側に存在する。粒子の平面方向の動きが、内側電極と接地電極との間の適切な電圧によって達成される。マトリックスの画素を別々に選択することを可能にするために、交差する電極が必要である。このディスプレイにおいて、ディスプレイ外側電極は、内側電極を相互接続し且つ画素の接地電極を相互接続する接続線が向けられるロウ方向に垂直なカラム方向に伸びている。したがって、この従来技術は平面方向の場を発生させるためにディスプレイボリュームの同じ側に配置されるインターリーブ電極を示すが、これらの電極は互いに交差しない。
【特許文献１】特開２００２−３１１４６１号公報
【特許文献２】特開２００２−１６９１９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、平面方向の場を発生させるための画素ごとのインターリーブ電極構造であってこれらの電極が互いに交差しているレイアウトを製造することを容易にすることである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１において請求されているように、本発明の第１の態様は製造方法を提供する。請求項１２において請求されているように、第２の態様はパッシブマトリックス平面方向スイッチング双安定ディスプレイを提供する。有利な実施の形態が、従属請求項において定義される。
【０００６】
本発明の第１の態様よる方法は、画素ごとに第１及び第２グループのインターリーブ電極が存在するパッシブマトリックス平面方向スイッチング双安定ディスプレイを提供する。上記ディスプレイは、交差する第１及び第２電極を有する。上記画素は、第１電極及び第２電極の交点に関連付けられる。第１電極が第１グループの電極に電気的に接続されなければならず、第２電極が第２グループの電極に電気的に接続されなければならない。
【０００７】
第１電極、第１グループの電極及び第２グループの電極は、同一基板上に提供される。第１及び第２グループの細長い電極は、同じ第１方向に伸び、かつ、第１方向において第１グループの電極のみが存在する第１領域、第２グループの電極のみが存在する第２領域、並びに第１及び第２領域の中間で第１及び第２グループの電極が共に存在する第３領域を得るために、互いに対して第１方向に位置がずれている。
【０００８】
少なくとも第２電極が第１電極と交差しなければならない交差位置に絶縁体が提供される。第２方向にそれぞれ伸びる第２電極は、交差位置を横切るように配置され、第２領域において第２グループのインターリーブ電極と接触している。
【０００９】
第１グループのインターリーブ電極は、第１グループの電極が提供されるステップの間、又は第２電極が提供されるステップの間のいずれかにおいて、第１グループのインターリーブ電極を第１領域において相互接続し相互接続された第１グループを第１電極のうちの関連する一つに接続する副電極を第２方向において画素ごとに提供することにより、画素ごとに第１電極に接続される。
【００１０】
本発明にかかる実施の形態において、絶縁体は第１電極上に提供され、第２電極は第２グループの電極上及び絶縁体上に提供され、いずれも同じ基板上に提供される。同様に、副電極は第１基板上に存在し、第１グループの電極と一緒に提供されるか、又は第２電極と一緒に提供されることができる。
【００１１】
他の実施の形態において、第２電極は、第１電極、第１グループの電極及び第２グループの電極とは違い、他の基板上に提供される。ここで、絶縁体は、少なくとも交差位置における第１電極上、又は少なくとも交差位置における第２電極上に提供されてもよい。同様に、副電極は、最初に述べた基板上に第１グループの電極と一緒に、又は他の基板上に第２電極と一緒に提供されることができる。最初に述べた基板と前記他の基板とを積み重ねたときに、第２電極と第２グループの電極との接触が、及び関連する場合には、副電極と第１グループの電極との接触が生じる。
【００１２】
本発明による実施の形態において、第１及び第２グループの電極が提供されるステップの間に、画素ごとの副電極を提供するステップが適用される。このステップの間に、第１グループの電極と第１電極のうちの関連する一つとの一体構造を得るように、副電極が基板上に提供される。したがって、第１グループの電極は、第１領域において相互に接続し、第２電極と交差する必要がない。この相互接続は、相互接続された第１グループの電極を、第２電極と交差することなく関連する第１電極に接続するために、関連する第１電極まで容易に伸ばすことができる。
【００１３】
本発明の実施の形態において、第１グループの電極を提供するステップは、平行に配置されたライン形状の切片のみである第１グループの電極を提供し、そして、画素ごとの副電極を提供するステップは、第２電極を提供するステップの間に、当該平行に配置されたライン形状の切片を電気的に相互接続し且つ相互接続された平行に配置されたライン形状の切片を第１電極のうちの関連する一つに電気的に接続するように第１領域に副電極を提供することにより、適用される。また、第１グループの電極は相互接続され、第２電極と交差する必要なく第１領域において関連する第１電極に接続される。平行に配置されたライン形状の切片は、例えばRoll-to-Rollプロセスを用いることにより、特に製造が容易である。
【００１４】
発明による実施の形態において、第１領域の第１方向の寸法は、副電極のうちの関連する一つの幅より大きい。これは、副電極の位置に許容誤差を認める。副電極が第１グループの電極と同じステップにおいて提供されない場合、この許容誤差は特に重要である。
【００１５】
本発明の実施の形態において、第２グループの電極を提供するステップは、第１及び第２グループの電極を提供するステップの間に、画素ごとに第２グループの電極の一体構造を得るように、第２方向に伸び第２領域に位置する切片と一緒に第２グループの電極を提供することにより、適用される。当該切片は、第１電極のうちの関連する一つと電気的に接続するほどは伸びていない。第２電極を提供するステップの間に提供される第２電極のうちの関連する一つは、前記切片と接触する。このように、第２グループの電極は、一つの製造ステップにおいて櫛形状の相互配線グループとして提供される。後のステップにおいて相互接続切片の上に電気的に接続するようにこの第２電極が提供されるときに、関連する第２電極との接続が得られる。
【００１６】
本発明による実施の形態において、相互接続切片の第１方向の幅は、第２電極のうちの関連する一つの幅より大きい。これは、相互接続切片に対する第２電極の位置の許容誤差を認め、相互接続切片より後のステップで第２電極が提供されるので、容易な製造を促進する。
【００１７】
本発明による実施の形態において、第２グループの電極を提供するステップは、平行に配置されたライン形状の切片のみである第２グループの電極を提供する。後のステップにおいて、第２電極が第２領域において前記平行に配置されたライン形状の切片と接触するように提供される。平行に配置されたライン形状の切片は、例えばRoll-to-Rollプロセスを用いることにより、特に製造が容易である。
【００１８】
本発明による実施の形態において、第２領域の第１方向の寸法は、第２電極のうちの関連する一つの幅より大きい。たとえ第１方向における第２電極の位置が若干の許容誤差を有していても、平行に配置されたライン形状の切片を第２電極に信頼できるように相互接続することはより容易である。
【００１９】
これらの及び他の本発明の態様は、以下に述べる実施の形態から明らかであり、それらを参照して説明される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
図1は、交差する上部電極30と下部電極20との間に垂直な電場が発生する従来技術のパッシブマトリックスディスプレイのレイアウトを図示する。伝統的に、パッシブマトリックスディスプレイは、平行に配置された第２電極30と直角に交差する平行に配置された第１電極20の組を有する電極構造を用いる。第１及び第２電極の交点の中間に位置する画素10中に存在する表示材料の光学的状態は、関連する第１及び第２電極の間に印加される電圧Vに依存する。双安定ディスプレイにおいて、この表示材料は双安定特性を有する。材料を横切る電圧を必要とすることなく比較的長い時間維持される少なくとも2つの安定な光学的状態が存在する。双安定材料の例は、電気泳動材料である。
【００２１】
ディスプレイ1の右上側の拡大断面図は、単一の画素10のための交差する上部電極30及び下部電極20を示す。第１ドライバ2は下部電極20に接続され、第２ドライバ3は上部電極30に接続される。通常、第１ドライバ2は選択ドライバと称し、第２ドライバ3はデータドライバと称する。第１電極20も同様に選択電極、ロウ電極又は下部電極と称する。第２電極30も同様にデータ電極、カラム電極又は上部電極と称する。あるいは、データ電極30がロウ方向に伸びてもよく、選択電極20がカラム方向に伸びてもよく、及び／又は選択電極が上部電極であってもよく、データ電極が下部電極であってもよい。画素10の単一のロウのみがデータドライバ3によってデータ電極30に同時に供給されるデータ電圧に対して反応するよう選択ドライバ2が選択電極20に適切な選択電圧を供給するように、選択ドライバ2及びデータドライバ3は制御される。選択されたロウの画素10に同時にデータ電圧を供給する間、画素のロウを連続して一つずつ選択することによって、完全な画像をディスプレイ1に写すことができる。
【００２２】
この従来技術のレイアウトにおいて、ディスプレイ1の面に垂直な電場を発生させる電極20及び30の中間に双安定材料が存在する。このレイアウトは、ディスプレイ1の面に平行な電界を発生させなければならない双安定材料の平面方向スイッチングに適していない。平面方向の電場を発生させるために、画素10内の電極はディスプレイの平面内で、好ましくは双安定材料の同じ側で、互いに隣り合って配置されなければならない。
【００２３】
図2は、説明だけのために、いくつかのディスプレイ素子だけの範囲で、従来技術の電気泳動ディスプレイ1の部分断面図を示す。電気泳動ディスプレイ装置1は、ベース基板11、及び例えばポリエチレンから成る2枚の透明な基板12及び16の間に存在する電子インクを含む電気泳動膜を有する。一方の基板12は、透明な画像電極40, 40'を備え、他方の基板16は透明な対向電極50を備えている。画像電極40、40'は、ここではディスプレイ1の底に位置する上部電極20である。対向電極50は、ここではディスプレイ1の上部に存在する図1の下部電極30を構成し、画像電極40, 40'と直角に交差する。
【００２４】
電子インクは、約１０から５０ミクロンの大きさの複数のマイクロカプセル14を含む。マイクロカプセル14は球形である必要は無く、他の任意の形状、例えば主に矩形とすることが可能である。各々のマイクロカプセル14は、流体17中に浮遊する正に帯電した黒色の粒子15及び負に帯電した白色の粒子13を含む。斜線で示した材料18は高分子バインダーである。粒子13及び15は黒及び白以外の別の色を有することができる。2種類の粒子13,15が異なる光学的特性を有し、かつ印加される電場に対して異なる動きをすることのみが重要である。通常、粒子13,15は反対に帯電する。層12は必要でないか、又は接着剤層とすることができる。画像電極40,40'に対して負の電圧を対向電極50に印加した場合、マイクロカプセル14の対向電極50を向いた側に黒色の粒子15を移動させる電場が発生する。同時に、白い粒子13はマイクロカプセル14の反対側へ移動して観察者から隠れてしまい、ディスプレイ素子は観察者に暗く見える。対向電極50及び画像電極40,40'の間に正の場を印加することによって、白い粒子13はマイクロカプセル14の対向電極50を向いた側へ移動し、ディスプレイ素子は観察者に白く見える（図示せず）。電場が取り除かれた場合、粒子13、15は獲得した状態にとどまり、ディスプレイは双安定特性を示して実質的に電力を消費しない。
【００２５】
図2において一つのマイクロカプセル14が画像電極40, 40'のうちの1つに関係しているが、実際的な実施の形態においては多くのマイクロカプセル14が画像電極40,40'のうちの1つに関係することができる。
【００２６】
図3A及び図3Bは本発明の実施の形態によるパッシブマトリックス双安定ディスプレイ1の画素のためのインターリーブ電極構造を示す。図3Aは、ディスプレイ1を製造する間の特定の時点における電極を示す。図3Bは、ディスプレイ1を製造する間のその後の時点における電極を示す。
【００２７】
図3Aにおいて、第１グループの電極G1、副電極S1、第２グループの電極G2、切片S2及び第１電極20はいずれも、同一の製造ステップにおいて基板（図示せず）上に提供される。第１グループの電極G1は、図3A及び3Bにおいて水平方向である第１方向に伸びるライン切片を有する。第２グループの電極G2は、同様に第１方向に伸びるライン切片を有する。図3A及び3Bでの垂直方向である第２方向において、第１及び第２グループの電極は互いをインターリーブする。第１グループの電極G1及び第２グループの電極G2は、第１グループの電極G1だけが存在する第１領域A1（図3A及び3B中の画素10の左側）、第２グループの電極G2だけが存在する第２領域A2（図3A及び3B中の画素10の右側）、並びに第１領域A1及び第２領域A2の中間で第１グループの電極G1及び第２グループの電極G2が共に存在する第３領域A3を得るために、互いに対して第１方向に位置がずれている。
【００２８】
第２方向に伸びる副電極S1によって、第１グループの電極G1は第１領域A1において電気的に相互接続している。この副電極S1は、画素10に関連する第１電極20まで伸びており、この画素10の第１グループの電極G1を第１電極20に電気的に接続する。第２グループの電極G2は、第２方向に伸びる切片S2によって第２領域A2において電気的に相互接続している。
【００２９】
図3Bにおいて、図3Aの構造の上に、第２電極30が第１電極20と交差しなければならない位置において、まず絶縁体40が第１電極20上に提供される。通常この位置は、切片S2の延長方向に位置する。次に、第２電極30が切片S2上に提供され電気的にこの切片S2と接触する。第２電極30が電気的に第１電極20から分離されるように、第２電極30は絶縁体40上で第１電極20と交差する。好ましくは、切片S2の第１方向の幅が切片S2の幅W2より大きい。切片S2とは別の他のステップにおいて提供される第２電極30の第１方向における位置は、より大きな許容誤差で配置することができる。これは、安価な製造プロセスを可能にする。
【００３０】
電圧差が第１電極20及び第２電極30の間に存在する場合、これらのインターリーブされた第１グループの電極G1及び第２グループの電極G2は平面方向の電界を発生させる。画素10ごとにインターリーブ構造が得られる一方、第１電極20及び第２電極30は単一の交点しか必要としない。
【００３１】
多くの代わりのレイアウトが可能であり、例えば、第１及び第２電極は90°から外れた角度で互いと交差することができ、又は第１及び第２電極を入れ替えることができる。絶縁体40が、例えば、第１電極20を全て覆ってもよい。同じ性能を維持しつつ画素10の寸法を拡大・縮小することが可能であるので、そのような画素構造は特に有利である。電極間の間隔だけは、同一に保たれなければならない。
【００３２】
全ての電極G1、G2、S2、S1、20、30及び絶縁体40が同じ基板上に提供されてもよいことに注意しなければならない。あるいは、図3Aに示される電極構造を一つの基板上に提供し、そして第２電極30を絶縁体40と一緒に第２基板上に提供することが可能である。絶縁体40を、その代わりに、第１基板上の第１電極上に提供することもできる。同様に、ここでは第１基板上に提供されている比較的広い垂直な切片S2を、第２電極30上の分離切片として第２基板上に提供することができ、又は（図4A及び4Bに示されるように）局所的に幅を広くすることができる第２電極30とすることができる。そして、電極G2は、第２領域A2の中へ十分遠くに伸びなければならない。しかし、少なくとも第１及び第２グループG1,G2の水平なインターリーブライン部分並びに第１電極20は、同じ基板上に、好ましくは同じプロセスステップにおいて提供されるべきである。
【００３３】
図4A及び図4Bは発明の他の実施の形態によるパッシブマトリックス双安定ディスプレイの画素のためのインターリーブ電極構造を示す。図4Aは、ディスプレイ1を製造する間の特定の時点における電極を示す。図4Bは、ディスプレイ1を製造する間のその後の時点における電極を示す。
【００３４】
図4Aにおいて、第１グループの電極G1、第２グループの電極G2及び第１電極20は、同じ製造ステップの間に基板（図示せず）上に提供される。図4A及び4Bにおける水平方向である第１方向に伸びるライン切片によって、第１グループの電極G1が形成される。同様に第１方向に伸びるライン切片によって第２グループの電極G2が形成される。図4A及び4Bにおける垂直方向である第２方向において、第１及び第２グループの電極はインターリーブされている。第１グループの電極G1及び第２グループの電極G2は、第１グループの電極G1だけが存在する第１領域A1（図4A及び4B中の画素10の左側）、第２グループの電極G2だけが存在する第２領域A2（図4A及び4B中の画素10の右側）、並びに第１領域A1及び第２領域A2の中間で第１グループの電極G1及び第２グループの電極G2が共に存在する第３領域A3を得るために、互いに対して第１方向に位置がずれている。
【００３５】
この製造ステップの後、第１グループの電極G1及び第２グループの電極G2は共に、まだ電気的に相互接続していない。第１グループG1の及び第２グループG2の全てのライン並びに第１電極20が全て同じ第１方向に伸びるので、比較的単純な単一のプロセスステップ、例えばRoll-to-Roll製造プロセスによって、高精度な間隔でこれらのラインを提供することが可能である。
【００３６】
図4Bにおいて、図4Aの構造の上に、第２電極30が第１電極20と交差しなければならない位置に、まず絶縁体40が第１電極20上に提供される。次に、副電極S1及び第２電極30が共に提供される。副電極S1は、第１領域A1中に提供され、第１グループG1の水平ライン切片を相互接続し且つこれらの相互接続された水平ライン切片を第１電極20に接続する。副電極S1は画素10を越えて伸びてはならず、したがって、各々の画素10は他の副電極S1と相互接続していないそれぞれの副電極S1を有する。第２電極30は、第２領域A2中に提供され、第２グループG2の水平ライン切片を相互接続する。したがってここでは、第２電極は図3Bに示される切片S2を構成する。第２電極30が電気的に第１電極20から分離されるように、第２電極30は絶縁体40の上で第１電極20と交差する。好ましくは、領域A1の第１方向の幅は第１電極20の幅W1より大きく、領域A2の第１方向の幅は第２電極30の幅W2より大きい。その時は、インターリーブライン切片G1及びG2並びに第１電極20とは別の他のステップにおいて一緒に提供される副電極S1及び第２電極30の位置は、より大きな許容誤差で配置されることができる。これは安価な製造プロセスを可能にする。第１及び第２電極20, 30は、いくつかの画素10に沿って伸びる。通常、第１及び第２電極20, 30は、ディスプレイ1の両端の間で画素10の全部のラインに沿って伸びる。
【００３７】
また、多くの代わりのレイアウトが可能であり、例えば、第１及び第２電極は90°から外れる角度で互いと交差することができ、又は第１及び第２電極を入れ替えることができる。
【００３８】
図4A中に示される電極は同じ基板上に存在しなければならないことを注意しなければならない。絶縁体40は第１電極20上に提供されることができ、更に切片S1及び第２電極30をこの同じ基板上に提供することができる。しかし、第２電極30及び／又は切片S1を第２基板上に提供することも可能である。その時は、絶縁体40は第１電極20上に又は第２電極30上に提供されることができる。この場合も、第１及び第２の基板を積み重ねることによって接触が得られる。
【００３９】
図5は、本発明の実施の形態による画素の配列を図示する。インターリーブした第１及び第２グループの電極G1及びG2を含む画素10の構造は、図3B中に示された構造、図4B中に示された構造又はそれらの代替構造のいずれかと同一である。図5は、第２電極30と交差する第１電極20を明確に示す。第１電極20及び第２電極はそれぞれ、図5において水平及び垂直方向のラインに沿って広がる複数の画素と関連している。第１及び第２グループG1, G2のインターリーブ電極は、各々の画素10に対して存在する。
【００４０】
図6は、Roll-to-Roll製造プロセスを図示する。電気泳動ディスプレイの製造のためのそのようなRoll-to-Roll製造プロセスは、例えば刊行物「"Microcup Electrophoretic Displays by Roll-to-Roll Manufacturing processes" by R.C. Liang et al, SiPix Imaging, Inc. in Proceedings of the Ninth International Display Workshop 2002 (IDW'02), pages 1337 to 1340」から知られている。
【００４１】
開示されたRoll-to-Rollプロセスにおいて、その上に透明なパターン化された導電体TCが存在するプラスティック基板PSを有する層が、この層を出力へ移動させる生産機械に投入される。ラインの動きに沿って層が処理される。ステップST1で、層の透明導電体が放射線硬化性樹脂組成物RCで覆われる。ステップST2において、微小凹み(microcup)MCを得るために、樹脂が圧印加工され硬化される。ステップST3で、微小凹みMCが電気泳動流体で満たされる。ステップST4で、微小凹みMCが封止層によって封止される。そして、ステップST5で、封止された微小凹みMCを備えた層が積層され、切断される。この従来技術はさらに、ディスプレイの面に垂直な場を発生させる交差する電極となる２つのパターン化された導電膜の間に微小凹みMCが挟まれるように、更なるパターン化された導線膜が加えられる（図6中で図示せず）ことを開示する。
【００４２】
小さい許容誤差を持つ必要がある全ての構造が同じステップ中で製造されるので、実施の形態が図3B及び図4Bに示される本発明による電極構造は、この単純かつ安価なRoll-to-Rollプロセス（又は、例えば印刷ベースのような他の低コスト製造プロセス）によって、容易に生産することができる。図4A及び4Bの単純な一次元のライン又はブロックは、これらの低コスト製造プロセスによる生産が特に容易である。
【００４３】
上述した実施の形態は本発明を制限するのではなく説明のためのものであり、特許請求の範囲から逸脱することなく当業者が多くの他の実施例を設計することが可能であることに留意すべきである。
【００４４】
電気泳動ディスプレイパネルは、例えば案内標識、公共輸送機関標識、宣伝ポスター、価格ラベル、掲示板などの形で、情報が表示され得る様々なアプリケーションの基礎となることができる、加えて、例えば変化する模様や色を備える壁紙のような、変化する無情報面が必要な場面で、特に表面が紙のような外観を必要とする場合に、それらを用いることができる。
【００４５】
「有する」の語の使用は、特許請求の範囲に述べられたもの以外の要素やステップの存在を排除しない。単数形で述べられた要素は、その要素が複数存在することを排除しない。本発明は、いくつかの異なる素子を有するハードウェアによって、及び適切にプログラムされたコンピュータによって実施されることができる。いくつかの手段を列挙している物の発明の請求項において、これらの手段のいくつかは、全く同一のハードウェア部材によって実施されることができる。単に特定の手段が相互に異なる従属請求項中で述べられていたとしても、利益を得るようにこれらの手段の組み合わせを用いることができないことを示すものではない。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】垂直な電場が交差する上部及び下部電極の間で発生する従来技術のパッシブマトリックスディスプレイのレイアウトを示す図。
【図２】従来技術の電気泳動ディスプレイの一部の断面を示す図。
【図３Ａ】本発明の実施の形態によるパッシブマトリックス双安定ディスプレイの画素のためのインターリーブ電極構造を示す図。
【図３Ｂ】本発明の実施の形態によるパッシブマトリックス双安定ディスプレイの画素のためのインターリーブ電極構造を示す図。
【図４Ａ】本発明の他の実施の形態によるパッシブマトリックス双安定ディスプレイの画素のためのインターリーブ電極構造を示す図。
【図４Ｂ】本発明の他の実施の形態によるパッシブマトリックス双安定ディスプレイの画素のためのインターリーブ電極構造を示す図。
【図５】本発明の実施の形態による画素の配列を示す図。
【図６】Roll-to-Roll製造プロセスを示す図。
【図１】
2008527436.tif 000003
【図２】
2008527436.tif 000004
【図３Ａ】
2008527436.tif 000005
【図３Ｂ】
2008527436.tif 000006
【図４Ａ】
2008527436.tif 000007
【図４Ｂ】
2008527436.tif 000008
【図５】
2008527436.tif 000009
【図６】
2008527436.tif 000010
【国際調査報告】
2008527436.tif 000011
2008527436.tif 000012