(57)【要約】  本発明は、置換ビフェニルアミン類の新規な製造方法、並びに新規中間体生成物及びこの製造、並びに殺菌性カルボキサミド類の製造方法に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）のビフェニルアミンの製造方法であって、
【化１】
2008510745.tif 000034
（式中、
Ｒ１は水素、フッ素、塩素、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルキルチオ又はＣ１−Ｃ４−ハロゲンアルキルを表し、
Ｘ１はフッ素、塩素又は臭素を表し、
Ｘ２はフッ素、塩素又は臭素を表す）
方法Ａで、
（１）第一工程で、式（ＩＩ）
【化２】
2008510745.tif 000035
（式中、
Ｈａｌは塩素、臭素又はヨウ素を表し、
Ｒ２は水素、Ｃ１−Ｃ４−アルキル又はＣ１−Ｃ４−アルコキシを表し、及び
Ｒ１は前記で特定された意味を有する）
のアニリドを、式（ＩＩＩ）
【化３】
2008510745.tif 000036
の２−メチルブタ−３−イン−２−オールと反応させ、
（２）第二工程で、このようにして得られた式（ＩＶ）
【化４】
2008510745.tif 000037
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記で特定された意味を有する）
のアルキニルアニリドからアセトンを塩基の存在下で分離し、
（３）第三工程で、このようにして得られた式（Ｖ）
【化５】
2008510745.tif 000038
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記で特定された意味を有する）
のエチニルアニリドを、式（ＶＩ）
【化６】
2008510745.tif 000039
（式中、Ｘ１及びＸ２は前記で特定された意味を有する）
のチオフェンジオキシドと反応させ、及び
（４）第四工程で、このようにして得られた式（ＶＩＩ）
【化７】
2008510745.tif 000040
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＸ２は前記で特定された意味を有する）
のビフェニルアミドから窒素上の保護基［−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２］を酸性又は塩基性条件下で分離する
ことを特徴とする、方法。
【請求項２】
Ｈａｌが塩素、臭素又はヨウ素を表し、
Ｒ１が水素、フッ素、塩素、メチル、ｉｓｏ−プロピル、トリフルオロメチル、メトキシ又はメチルチオを表し、
Ｒ２が水素、メチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ｉｓｏ−プロポキシ又はｔｅｒｔ−ブトキシを表し、
Ｘ１がフッ素、塩素又は臭素を表し、
Ｘ２がフッ素、塩素又は臭素を表すことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
式（ＩＩ−ａ）
【化８】
2008510745.tif 000041
（式中、Ｈａｌ及びＲ２は請求項１又は２で特定された意味を有する）
のアニリドを出発化合物として使用することを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
一般式（Ｉ）のビフェニルアミンの製造方法であって、
【化９】
2008510745.tif 000042
（式中、Ｒ１、Ｘ１及びＸ２は請求項１で特定された意味を有する）
式（ＶＩＩ）
【化１０】
2008510745.tif 000043
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＸ２は請求項１で特定された意味を有する）
のビフェニルアミドから窒素上の保護基［−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２］を酸性又は塩基性条件下で分離することを特徴とする、方法。
【請求項５】
一般式（Ｉ）のビフェニルアミンの製造方法であって、
【化１１】
2008510745.tif 000044
（式中、Ｒ１、Ｘ１及びＸ２は請求項１で特定された意味を有する）
式（Ｖ）
【化１２】
2008510745.tif 000045
（式中、Ｒ１及びＲ２は請求項１で特定された意味を有する）
のエチニルアニリドを、式（ＶＩ）
【化１３】
2008510745.tif 000046
（式中、Ｘ１及びＸ２は請求項１で特定された意味を有する）
のチオフェンジオキシドと反応させ、
及び、このようにして得られた式（ＶＩＩ）
【化１４】
2008510745.tif 000047
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＸ２は前記で特定された意味を有する）
のビフェニルアミドから窒素上の保護基［−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２］を酸性又は塩基性条件下で分離することを特徴とする、方法。
【請求項６】
式（ＶＩＩＩ）のカルボキサミドの製造方法であって、
【化１５】
2008510745.tif 000048
〔式中、
Ｒ１は水素、フッ素、塩素、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルキルチオ又はＣ１−Ｃ４−ハロゲンアルキルを表し、
Ｘ１はフッ素、塩素又は臭素を表し、
Ｘ２はフッ素、塩素又は臭素を表し、
Ａは下記の部分Ａ１からＡ７：
【化１６】
2008510745.tif 000049
の一つを表し、
Ｒ３はＣ１−Ｃ３−アルキルを表し、
Ｒ４は水素、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ３−アルキルまたは１から７個のフッ素、塩素及び／又は臭素原子を有するＣ１−Ｃ３−ハロゲンアルキルを表し、
Ｒ５は水素、ハロゲン又はＣ１−Ｃ３−アルキルを表し、
Ｒ６は水素、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ３−アルキル、アミノ、モノ−又はジ（Ｃ１−Ｃ３−アルキル）アミノを表し、
Ｒ７は水素、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ３−アルキルまたは１から７個のフッ素、塩素及び／又は臭素原子を有するＣ１−Ｃ３−ハロゲンアルキルを表し、
Ｒ８はハロゲン、Ｃ１−Ｃ３−アルキルまたは１から７個のフッ素、塩素及び／又は臭素原子を有するＣ１−Ｃ３−ハロゲンアルキルを表し、
Ｒ９はハロゲン、Ｃ１−Ｃ３−アルキルまたは１から７個のフッ素、塩素及び／又は臭素原子を有するＣ１−Ｃ３−ハロゲンアルキルを表し、
Ｒ１０は水素、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ３−アルキルまたは１から７個のフッ素、塩素及び／又は臭素原子を有するＣ１−Ｃ３−ハロゲンアルキルを表す〕
方法Ｂで、
（１）第一工程で、式（ＩＩ）
【化１７】
2008510745.tif 000050
（式中、Ｈａｌ、Ｒ２及びＲ１は前記で特定された意味を有する）
のアニリドを、式（ＩＩＩ）
【化１８】
2008510745.tif 000051
の２−メチルブタ−３−イン−２−オールと反応させ、
（２）第二工程で、このようにして得られた式（ＩＶ）
【化１９】
2008510745.tif 000052
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記で特定された意味を有する）
のアルキニルアニリドからアセトンを塩基の存在下で分離し、
（３）第三工程で、このようにして得られた式（Ｖ）
【化２０】
2008510745.tif 000053
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記で特定された意味を有する）
のエチニルアニリドを、式（ＶＩ）
【化２１】
2008510745.tif 000054
（式中、Ｘ１及びＸ２は前記で特定された意味を有する）
のチオフェンジオキシドと反応させ、
（４）第四工程で、このようにして得られた式（ＶＩＩ）
【化２２】
2008510745.tif 000055
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＸ２は前記で特定された意味を有する）
のビフェニルアミドから窒素上の保護基［−Ｃ（＝０）Ｒ２］を酸性又は塩基性条件下で分離し、及び
（５）第五工程で、このようにして得られた式（Ｉ）
【化２３】
2008510745.tif 000056
（式中、Ｒ１、Ｘ１及びＸ２は前記で特定された意味を有する）
のビフェニルアミンを、式（ＩＸ）
【化２４】
2008510745.tif 000057
（式中、
Ａは前記で特定された意味を有し及び
Ｙはハロゲン又はヒドロキシを表す）
のカルボン酸誘導体と、適当ならば触媒の存在下で、適当ならば縮合剤の存在下で、適当ならば酸結合剤の存在下で及び適当ならば希釈剤の存在下で反応させる
ことを特徴とする、方法。
【請求項７】
式（ＩＶ）
【化２５】
2008510745.tif 000058
（式中、Ｒ１及びＲ２は請求項１で特定された意味を有する）
のアルキニルアニリド。
【請求項８】
請求項７に記載の式（ＩＶ）のアルキニルアニリドの製造方法であって、
式（ＩＩ）
【化２６】
2008510745.tif 000059
（式中、Ｈａｌ、Ｒ２及びＲ１は請求項１で特定された意味を有する）
のアニリドを、式（ＩＩＩ）
【化２７】
2008510745.tif 000060
の２−メチルブタ−３−イン−２−オールと反応させることを特徴とする、方法。
【請求項９】
式（Ｖ）
【化２８】
2008510745.tif 000061
（式中、Ｒ１はフッ素を表し及びＲ２は請求項１で特定された意味を有する）
のエチニルアニリド。
【請求項１０】
請求項８に記載の式（Ｖ）のエチニルアニリドの製造方法であって、
式（ＩＶ）
【化２９】
2008510745.tif 000062
（式中、Ｒ１はフッ素を表し及びＲ２は請求項１で特定された意味を有する）
のアルキニルアニリドからアセトンを塩基の存在下で分離することを特徴とする、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、置換ビフェニルアミンの新規な製造方法、新規中間体生成物及びこの製造方法、並びに殺菌活性カルボキサミドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ビフェニル誘導体はフェニルボロン酸とハロゲン化フェニルから鈴木カップリング反応又はＳｔｉｌｌｅカップリング反応を使用して調製できることが、既知である（例えば、ＷＯ０１／４２２２３、ＷＯ０２／０６４５６２、ＷＯ０３／０７０７０５、Ｒｏｂｅｒｔｓｏｎ  ａｎｄ  Ｈａｎｓｅｎ（ｅｄｓ．）ＰＣＢｓ、Ｔｈｅ  Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ  Ｐｒｅｓｓ  ｏｆ  Ｋｅｎｔｕｃｋｙ  ２００１、５７−６０参照）。
【０００３】
また、ビフェニル誘導体はアリールジンクハロゲニド（ａｒｙｌ  ｚｉｎｃ  ｈａｌｏｇｅｎｉｄｅｓ）をハロゲン化アリールと反応させることによって得ることができることが公知である（Ｂｕｌｌ．Ｋｏｒｅａｎ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２０００、２１、１６５−１６６）。
【０００４】
これらの方法の欠点は、製造コストが高いことである。ボロン酸の製造は、グリニャール反応を必要とし、また遷移金属触媒クロスカップリング反応（例えば、鈴木反応に従って）は、比較的多量のパラジウム触媒を必要とするか又は（Ｂｕｌｌ．Ｋｏｒｅａｎ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２０００、２１、１６５−１６６）ほぼ当量の亜鉛を必要とする。亜鉛は廃棄物として廃棄しなければならないし及び発癌性物質、ジブロモメタンが亜鉛の活性化に必要である。
【０００５】
際立った欠点は、ボロン酸の自己カップリングを避けることができないことであり（Ｒｏｂｅｒｔｓｏｎ  ａｎｄ  Ｈａｎｓｅｎ（ｅｄｓ．）ＰＣＢｓ、Ｔｈｅ  Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ  Ｐｒｅｓｓ  ｏｆ  Ｋｅｎｔｕｃｋｙ  ２００１、５７−６０）、及びポリ塩化ビフェニル類（ＰＣＢ類）が生成され得るという危険があることである（次の反応図参照）。
【０００６】
【化３０】
2008510745.tif 000002
【０００７】
しかし、本発明の方法では、第二のフェニル環はディールス−アルダー反応によって組み立てられる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、本発明の目的は、同時に高い全収率で及びさらに高い純度でビフェニルアミンを得るための新規な経済的な方法を発明することにあった。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
従って、本発明の主題は、一般式（Ｉ）
【００１０】
【化３１】
2008510745.tif 000003
【００１１】
（式中、
Ｒ１は水素、フッ素、塩素、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルキルチオ又はＣ１−Ｃ４−ハロゲンアルキルを表し、
Ｘ１はフッ素、塩素又は臭素を表し、
Ｘ２はフッ素、塩素又は臭素を表す）
のビフェニルアミンの製造方法において、方法Ａにより、
（１）第一工程で、式（ＩＩ）
【００１２】
【化３２】
2008510745.tif 000004
【００１３】
（式中、
Ｈａｌは塩素、臭素又はヨウ素を表し、
Ｒ２は水素、Ｃ１−Ｃ４−アルキル又はＣ１−Ｃ４−アルコキシを表し、及び
Ｒ１は前記で特定された意味を有する）
のアニリドを、式（ＩＩＩ）
【００１４】
【化３３】
2008510745.tif 000005
の２−メチルブタ−３−イン−２−オールと反応させ、
（２）第二工程で、このようにして得られた式（ＩＶ）
【００１５】
【化３４】
2008510745.tif 000006
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記で特定された意味を有する）
のアルキニルアニリドからアセトンを塩基の存在下で分離し、
（３）第三工程で、このようにして得られた式（Ｖ）
【００１６】
【化３５】
2008510745.tif 000007
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記で特定された意味を有する）
のエチニルアニリドを、式（ＶＩ）
【００１７】
【化３６】
2008510745.tif 000008
（式中、Ｘ１及びＸ２は前記で特定された意味を有する）
のチオフェンジオキシドと反応させ、及び
（４）第四工程で、このようにして得られた式（ＶＩＩ）
【００１８】
【化３７】
2008510745.tif 000009
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＸ２は前記で特定された意味を有する）
のビフェニルアミドから窒素上の保護基［−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２］を酸性又は塩基性条件下で分離する
ことを特徴とする前記一般式（Ｉ）のビフェニルアミンの製造方法である。
【００１９】
驚くべきことに、この反応順序を使用することによって、式（Ｉ）のビフェニルアミンは、安価な出発物質からグリニャール反応を使用せずに良好な収率で製造することができる。ブチノールを用いる遷移金属触媒カップリング反応は、鈴木カップリング反応に必要な量よりも少ない極めて少量の触媒を必要とするだけである。
【００２０】
Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロフェニル）アセトアミド、２−メチルブタ−３−イン−２−オール及び３，４−ジクロロチオフェン−１，１−ジオキシドを出発化合物として使用する場合には、本発明の方法Ａの４つの工程全ては、次の反応工程図で説明することができる：
【００２１】
【化３８】
2008510745.tif 000010
【００２２】
本発明の方法Ａは、出発化合物を使用しながら実施することが好ましい。出発化合物の示される部分それぞれは、次の意味を有する。好ましい、特に好ましい及び極めて特に好ましい意味は、それぞれの部分が存在する全ての化合物に適用される。
【００２３】
Ｈａｌは、好ましくは塩素を表す。
【００２４】
Ｈａｌはまた、好ましくは臭素を表す。
【００２５】
Ｈａｌはまた、好ましくはヨウ素を表す。
【００２６】
Ｈａｌは、特に好ましくは臭素を表す。
【００２７】
Ｒ１は、好ましくは水素を表す。
【００２８】
Ｒ１はまた、好ましくはフッ素を表し、この場合にフッ素は特に好ましくはそれぞれの化合物［例えば式（Ｉ）参照］の３位、４位又は５位に配置され、極めて特に好ましくは３位又は５位に配置され、特別には５位に配置される。
【００２９】
Ｒ１はまた、好ましくは塩素を表し、この場合に塩素は特に好ましくはそれぞれの化合物の３位又は５位に配置される。
【００３０】
Ｒ１はまた、好ましくはメチル又はｉｓｏ−プロピルを表し、この場合にメチル又はｉｓｏ−プロピルは特に好ましくはそれぞれの化合物の６位に配置される。
【００３１】
Ｒ１はまた、好ましくはトリフルオロメチルを表し、この場合のトリフルオロメチルは特に好ましくはそれぞれの化合物の４位又は５位に配置される。
【００３２】
Ｒ１はまた、好ましくはメトキシ又はメチルチオを表し、この場合のメトキシ又はメチルチオは特に好ましくはそれぞれの化合物の４位、５位又は６位に配置される。
【００３３】
Ｒ２は、好ましくは水素、メチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ｉｓｏ−プロポキシ又はｔｅｒｔ−ブトキシを表す。
Ｒ２は、特に好ましくはメチル、ｔｅｒｔ−ブチル、メトキシ又はｔｅｒｔ−ブトキシを表す。
【００３４】
Ｒ２は、極めて特に好ましくはメチルを表す。
【００３５】
Ｘ１は、好ましくはフッ素を表す。
【００３６】
Ｘ１はまた、好ましくは塩素を表す。
【００３７】
Ｘ１はまた、好ましくは臭素を表す。
【００３８】
Ｘ２は、好ましくはフッ素を表す。
【００３９】
Ｘ２はまた、好ましくは塩素を表す。
【００４０】
Ｘ２はまた、好ましくは臭素を表す。
【００４１】
好ましくは、本発明の方法Ａは、式（Ｉ−ａ）
【００４２】
【化３９】
2008510745.tif 000011
（式中、Ｘ１及びＸ２は前記で特定された意味を有する）
のビフェニルアミンを生じる。このためには、式（ＩＩ−ａ）
【００４３】
【化４０】
2008510745.tif 000012
（式中、Ｈａｌ及びＲ２は前記で特定された意味を有する）
のアニリドが出発化合物として用いられる。
【００４４】
本発明の方法Ａの第一工程を実施する場合に出発化合物として使用されるべき式（ＩＩ）のアニリドは、部分的に公知であるか又は公知の方法に従って得ることができる〔例えば、Ｓｙｎｌｅｔｔ、２００３、（１４）、２２３１；Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙ−Ｂａｓ．１９６４、８３、１１４２；Ｊ．Ｈｅｔ．Ｃｈｅｍ．１９６９、６、２４３参照〕。
【００４５】
本発明の方法Ａの第一工程を実施する場合に出発化合物としてさらに使用されるべき式（ＩＩＩ）の２−メチルブタ−３−イン−２−オールは、公知であり、商業的に入手できる。
【００４６】
本発明の方法Ａの第二工程を実施する場合に出発化合物として使用されるべき式（ＩＶ）のアルキニルアニリドは、新規であり、本特許出願の別の主題である。式（ＩＶ）のアルキニルアニリドは、本発明の方法Ａの第一工程から得られる。
【００４７】
本発明の方法Ａの第三工程を実施する場合に出発化合物として使用されるべき式（Ｖ）のエチニルアニリドは、部分的に新規であり（Ｒ１がフッ素を表す場合）、また本特許出願の主題である。式（Ｖ）のエチニルアニリドは、本発明の方法Ａの第二工程から得られる。
【００４８】
本発明の方法Ａの第三工程を実施する場合に出発化合物として使用されるべき式（ＶＩ）のチオフェンジオキシドは、公知である（例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９６１、２６、３４６−３５１；Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ  Ｃｈｅｍ．１９９８、８８、１４３−１５１；Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２０００、１２２、２４４０−２４４５参照）。
【００４９】
個々の反応工程に関する注釈：
第一工程
ハロゲン化アリールとアセチレンとのカップリングは、原則的に公知である。しかし、この場合には、種々の副反応が生じることができるという理由から、化合物を良好な収率で得ることには問題がある。第一の副反応は、（ＩＶ）のアルキニルアニリドの脱水反応であり、脱水反応の後には（Ｖ）のエチニルアニリドを生成させるためにアセトンを分離することができない（次の反応図参照）。
【００５０】
【化４１】
2008510745.tif 000013
【００５１】
この理由により、ブチノールがハロゲン化アリールと極めてわずかな収率で反応するだけであることが実際に公知である（例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．２００４、４５、１６０３−１６０６参照）。
【００５２】
第二の副反応は、次の反応図に従うインドールの生成である：
【００５３】
【化４２】
2008510745.tif 000014
【００５４】
この２−ハロゲンアニリドとアセチレン類からの環化反応も、文献から公知である（例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．２００４、４５、６９３−６９７参照）。
【００５５】
本発明の方法Ａの第一工程は、遷移金属触媒の存在下で、好ましくはジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）の存在下で実施される。しかし、この他の触媒、例えばテトラキス（トリフェニルホスファン）パラジウム（０）もまた使用できる。
【００５６】
本発明の方法Ａの第一工程は、好ましくは、ハロゲン化銅と、助触媒としてトリフェニルホスフィンの存在下で実施され、この場合はヨウ化銅が特に好ましい。
【００５７】
本発明の方法Ａの第一工程はまた、原則として銅塩を存在させずに実施することができ、この場合にはパラジウム触媒の量が著しく増量される。
【００５８】
本発明の方法Ａの第一工程を実施する場合には、操作は塩基の存在下で、好ましくは第二級アミン又は第三級アミンの存在下で行われる。好ましくはジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ピペリジン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミンが使用され、特に好ましくはトリエチルアミンが使用される。
【００５９】
本発明の方法Ａの第一工程を実施する場合には、希釈剤の使用は必要がない。しかし、炭酸アルカリが塩基として、例えば溶媒としてニトリル類中で使用することができる。
【００６０】
本発明の方法Ａの第一工程を実施する場合には、操作は一般的には２０℃から１２０℃の範囲内の温度、好ましくは５０℃から１００℃の範囲内の温度で行われる。
【００６１】
本発明の方法Ａの第一工程を実施する場合には、式（ＩＩ）のアニリド１モル当たり一般的に１モルから１．５モル、好ましくは１モルから１．１モルの式（ＩＩＩ）の２−メチルブタ−３−イン−２−オール並びに０．０１から１モル％の遷移金属触媒及び１から１０モルの塩基が使用される。
【００６２】
驚くべきことに、遷移金属触媒について通常必要な量と異なり、本発明の反応は、極めて少量の触媒を使用する場合でも極めて良好な収率で生じることが見出された。
【００６３】
第二工程
本発明の方法Ａの第二工程は、好ましくは、アセトンよりも高い温度で沸騰する希釈剤中で実施され、従ってアセトンは反応混合物から適当ならば減圧下で連続的に除去することができる。
【００６４】
塩基に関して不活性である全ての溶媒、例えば炭化水素、クロロハイドロカーボン類、エーテル類又はアミド類が考慮される。次のシクロヘキサン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、１，２−ジメトキシメタン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリジノンを使用することが好ましく、トルエン及びキシレンが特に好ましい。
【００６５】
本発明の方法Ａの第二工程は、塩基の存在下で実施される。塩基として次の塩基：アルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム；アルコラート類、例えばナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、ナトリウムブチラート；炭酸塩類、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムが考慮される。
【００６６】
インドール閉環は完全には回避できない。この理由は、このインドール閉環はまた塩基触媒反応でもあるからである（例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  ２００３、５９、１５７１；Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ  Ｔｒａｎｓ．１、２０００、１０４５−１０７５参照）。しかし、これにもかかわらずインドール形成は、反応完結後に急速冷却することによりかなりの程度まで抑制することができる。
【００６７】
本発明の方法Ａの第二工程を実施する場合には、操作は一般的に４０℃から１５０℃の間の温度で行われる。選択される温度はできるだけ低いが、反応が十分に早く生じるのに十分に高い。
【００６８】
本発明の方法Ａの第二工程を実施する場合には、一般的に、式（ＩＶ）のアルキニル１モル当たり０．０５モルから１．０モルの塩基が使用される。
【００６９】
第三工程
本発明の方法Ａの第三工程は、好ましくは溶媒の存在下で高められた温度で生じる。
【００７０】
本発明の方法Ａの第三工程を実施する場合には、溶媒として次の溶媒：炭化水素、クロロハイドロカーボン類、ニトリル類、アルコール類、ケトン類、エーテル類、アミド類、又はエステル類が考慮される。次の溶媒：トルエン、キシレン、メシチレン、デカリン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ブチロニトリル、バレロニトリル、プロピオニトリル、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノエチルエーテル、アニソール、ジメチルホルムアミド、酢酸ブチル  エステルが具体的に挙げられる。次の溶媒：キシレン、ブチロニトリル又はバレロニトリルを使用することが好ましい。
【００７１】
本発明の方法Ａの第三工程を実施する場合には、操作は一般的に８０℃から２００℃の間の温度で行われる。
【００７２】
式（ＶＩ）のチオフェンジオキシドの二量化を最小限に抑えるために、式（Ｖ）のエチニルアニリドは溶媒に入れることが好ましく、及び式（ＶＩ）のチオフェンジオキシドが高められた温度で徐々に加えられる。
【００７３】
完全な反応を達成するために、過剰の式（ＶＩ）のチオフェンジオキシドが用いられる。しかし、また前記の量よりも少ない量を使用することができる。式（Ｖ）のエチニルアニリド１モル当たり通常は０．９ルモルから１．５モル、好ましくは１．０５モルから１．２５モルの式（ＶＩ）のチオフェンジオキシドが使用される。式（Ｖ）のエチニルアニリド１モル当たり０．５モルから１．５モル、好ましくは０．９モルから１．２５モルの式（ＶＩ）のチオフェンジオキシドを使用することもできる。精製は結晶化によって生じる。
【００７４】
第四工程
窒素上の保護基［−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２］の分離は、公知の方法に従って塩基性又は酸性条件で行なうことができる（例えば、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｅｄ．３、Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ、Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ、１９９９参照）。
【００７５】
本発明の方法Ａの全ての工程は、特に示されない場合には、一般に常圧下で実施される。しかし、加圧又は減圧下で操作することもできる。
【００７６】
式（Ｉ）のビフェニルアミンは、殺菌活性化合物の製造に重要な中間体生成物である。
【００７７】
従って、式（ＶＩＩＩ）
【００７８】
【化４３】
2008510745.tif 000015
〔式中、
Ｒ１は水素、フッ素、塩素、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルキルチオ又はＣ１−Ｃ４−ハロゲンアルキルを表し、
Ｘ１はフッ素、塩素又は臭素を表し、
Ｘ２はフッ素、塩素又は臭素を表し、
Ａは下記の部分Ａ１からＡ７：
【００７９】
【化４４】
2008510745.tif 000016
の一つを表し、
Ｒ３はＣ１−Ｃ３−アルキルを表し、
Ｒ４は水素、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ３−アルキルを表すか、または１から７個のフッ素、塩素及び／又は臭素原子を有するＣ１−Ｃ３−ハロゲンアルキルを表し、
Ｒ５は水素、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ３−アルキルを表し、
Ｒ６は水素、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ３−アルキル、アミノ、モノ−又はジ（Ｃ１−Ｃ３−アルキル）アミノを表し、
Ｒ７は水素、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ３−アルキルを表すか、または１から７個のフッ素、塩素及び／又は臭素原子を有するＣ１−Ｃ３−ハロゲンアルキルを表し、
Ｒ８はハロゲン、Ｃ１−Ｃ３−アルキルを表すか、または１から７個のフッ素、塩素及び／又は臭素原子を有するＣ１−Ｃ３−ハロゲンアルキルを表し、
Ｒ９はハロゲン、Ｃ１−Ｃ３−アルキルを表すか、または１から７個のフッ素、塩素及び／又は臭素原子を有するＣ１−Ｃ３−ハロゲンアルキルを表し、
Ｒ１０は水素、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ３−アルキルを表すか、または１から７個のフッ素、塩素及び／又は臭素原子を有するＣ１−Ｃ３−ハロゲンアルキルを表す〕
の殺菌活性カルボキサミド（ＷＯ０３／０７０７０５参照）は、方法Ｂを使用して製造することができ、この場合に、
（１）第一工程で、式（ＩＩ）
【００８０】
【化４５】
2008510745.tif 000017
（式中、Ｈａｌ、Ｒ２及びＲ１は前記で特定された意味を有する）
のアニリドを、式（ＩＩＩ）
【００８１】
【化４６】
2008510745.tif 000018
の２−メチルブタ−３−イン−２−オールと反応させ、
（２）第二工程で、このようにして得られた式（ＩＶ）
【００８２】
【化４７】
2008510745.tif 000019
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記で特定された意味を有する）
のアルキニルアニリドからアセトンを塩基の存在下で分離し、
（３）第三工程で、このようにして得られた式（Ｖ）
【００８３】
【化４８】
2008510745.tif 000020
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記で特定された意味を有する）
のエチニルアニリドを、式（ＶＩ）
【００８４】
【化４９】
2008510745.tif 000021
（式中、Ｘ１及びＸ２は前記で特定された意味を有する）
のチオフェンジオキシドと反応させ、
（４）第四工程で、このようにして得られた式（ＶＩＩ）
【００８５】
【化５０】
2008510745.tif 000022
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＸ２は前記で特定された意味を有する）
のビフェニルアミドから窒素上の保護基［−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２］を酸性又は塩基性条件下で分離し、及び
（５）第五工程で、このようにして得られた式（Ｉ）
【００８６】
【化５１】
2008510745.tif 000023
（式中、Ｒ１、Ｘ１及びＸ２は前記で特定された意味を有する）
のビフェニルアミンを、式（ＩＸ）
【００８７】
【化５２】
2008510745.tif 000024
（式中、
Ａは前記で特定された意味を有し及び
Ｙはハロゲン又はヒドロキシを表す）
のカルボン酸誘導体と、適当ならば触媒の存在下で、適当ならば縮合剤の存在下で、適当ならば酸結合剤の存在下で及び適当ならば希釈剤の存在下で反応させる。
【００８８】
出発化合物を使用しながら本発明の方法Ｂを実施することが好ましく、この場合には出発化合物の示される部分それぞれは次の意味を有する。好ましい、特に好ましい及び極めて特に好ましい定義が、それぞれの部分が存在する全ての化合物に適用される。
【００８９】
Ｈａｌ、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＸ２は、前記の好ましい、特に好ましい及びきわめて特に好ましい定義を有する。
【００９０】
Ａは、好ましくはＡ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４又はＡ５を表す。
【００９１】
Ａは、特に好ましくはＡ１又はＡ２を表す。
【００９２】
Ｒ３は、好ましくはメチルを表す。
【００９３】
Ｒ４は、好ましくはヨウ素、メチル、ジフルオロメチル又はトリフルオロメチルを表す。
【００９４】
Ｒ４は、特に好ましくはメチル、ジフルオロメチル又はトリフルオロメチルを表す。
【００９５】
Ｒ５は、好ましくは水素、フッ素、塩素又はメチルを表す。
【００９６】
Ｒ５は、特に好ましくは水素又はフッ素を表す。
【００９７】
Ｒ６は、好ましくは水素、塩素、メチル、アミノ又はジメチルアミノを表す。
【００９８】
Ｒ６は、特に好ましくはメチルを表す。
【００９９】
Ｒ７は、好ましくはメチル、ジフルオロメチル又はトリフルオロメチルを表す。
【０１００】
Ｒ８は、好ましくは塩素、臭素、ヨウ素、メチル、ジフルオロメチル又はトリフルオロメチルを表す。
【０１０１】
Ｒ８は、特に好ましくはヨウ素、ジフルオロメチル又はトリフルオロメチルを表す。
【０１０２】
Ｒ９は、好ましくは臭素又はメチルを表す。
【０１０３】
Ｒ９は、特に好ましくはメチルを表す。
【０１０４】
Ｒ１０は、好ましくはメチル又はトリフルオロメチルを表す。
【０１０５】
Ｒ１０は、特に好ましくはメチル又はトリフルオロメチルを表す。
【０１０６】
Ｙは、好ましくは塩素又はヒドロキシを表す。
【０１０７】
本発明の方法Ｂの第一工程から第四工程は、本発明の方法Ａの第一工程から第四工程に対応し、上記の記載に従って実施される。
【０１０８】
本発明の方法Ａの第五工程を実施するための出発化合物として使用されるべき式（ＩＸ）のカルボン酸誘導体は、公知である及び／又は公知の方法に従って製造することができる（ＷＯ０３／０６６６０９、ＷＯ０３／０６６６１０、ＥＰ−Ａ０  ５４５  ０９９、ＥＰ−Ａ０  ５８９  ３０１、ＥＰ−Ａ０  ５８９  ３１３及びＵＳ３，５４７，９１７参照）。
【０１０９】
全ての不活性有機溶媒が、本発明の方法Ｂの第五工程を実施するための希釈剤として考慮される。好ましい例は：脂肪族、脂環式又は芳香族炭化水素、例えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン又はデカリン；ハロゲン化炭化水素、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジクロロエタン又はトリクロロエタン；エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、メチル−ｔ−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシメタン、１，２−ジエトキシエタン又はアニソール；ケトン類、例えばアセトン、ブタノン、メチルイソブチルケトン又はシクロヘキサノン；ニトリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ｎ−もしくはｉ−ブチロニトリル又はベンゾニトリル；アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドン又はヘキサメチルリン酸トリアミド；これらと水又は純水との混合物である。
【０１１０】
本発明の方法Ｂの第五工程は、適当ならば適当な酸受容体の存在下で実施される。全ての慣用の無機又は有機塩基がこれ自体考慮される。好ましい例は：アルカリ土類金属又はアルカリ金属の水素化物、水酸化物、アミド、アルコラート、酢酸塩、炭酸塩又は炭酸水素塩、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウム−ｔｅｒｔ−ブチレート、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸アンモニウム、並びに第三級アミン、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）又はジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）である。
【０１１１】
本発明の方法Ｂの第五工程は、適当ならば適当な縮合剤の存在下で行われる。これらの種類のアミド化反応に慣用される全ての縮合剤が考慮される。例として、酸ハロゲン化物形成剤、例えばホスゲン、三臭化リン、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン又は塩化チオニル；酸無水物形成剤、例えばクロロギ酸エチルエステル、クロロギ酸メチルエステル、クロロギ酸イソプロピルエステル、クロロギ酸イソブチルエステル又はメタンスルホニルクロリド；カルボジイミド類、例えばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）又は他の慣用の縮合剤、例えば五酸化リン、ポリリン酸、Ｎ，Ｎ’−カルボニルジイミダゾール、２−エトキシ−Ｎ−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン（ＥＥＤＱ）、トリフェニルホスフィン／四塩化炭素又はブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェートが挙げられる。
【０１１２】
本発明の方法Ｂの第五工程は、適当ならば触媒の存在下で実施される。例として、次の４−ジメチルアミノピリジン、１−ヒドロキシ−ベンゾトリアゾール又はジメチルホルムアミドが挙げられる。
【０１１３】
本発明の方法Ｂの第五工程を実施する場合には、反応温度は広い範囲の中で変化させることができる。一般には、操作は０℃から１５０℃の温度で、好ましくは０℃から８０℃の温度で行われる。
【０１１４】
式（ＶＩＩＩ）の化合物を製造するための本発明の方法Ｂの第五工程を実施するために、式（ＩＸ）のカルボン酸誘導体１モル当たり、一般的には０．８から１５モル、好ましくは０．８から８モルの式（Ｉ）のビフェニルアミンが使用される。
【０１１５】
ビフェニルアミンを製造するための本発明の方法及び殺菌活性カルボキサミドを製造するための本発明の方法を、前記の説明を例証する以下の実施例で説明する。しかし、実施例は、限定的な方法として解釈されるべきではない。
【発明を実施するための最良の形態】
【０１１６】
調製実施例
【実施例１】
【０１１７】
工程１：Ｎ−［４−フルオロ−２−（３−ヒドロキシ−３−メチルブタ−１−イン−１−イル）フェニル］アセトアミド
【０１１８】
【化５３】
2008510745.tif 000025
【０１１９】
トリフェニルホスフィン０．３２ｇ（１．２ミリモル、純度９９％）、ビス−トリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド０．０８５ｇ（０．１２ミリモル、純度９９％）及びヨウ化銅（Ｉ）０．１４ｇ（０．７２ミリモル、純度９８％）を、Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロフェニル）アセトアミド５６．８ｇ（０．２４モル、純度９８％）、２−メチルブタ−３−イン−２−オール３０．９ｇ（０．２６４モル、純度９８％）及びトリエチルアミン１２１．４ｇ（１．２モル）の混合物に加え、得られた混合物を８５℃で攪拌しながら６時間加熱した。過剰のトリエチルアミンを真空中で蒸留し、トルエン約１７０ｍｌを加え、同量の水を加え、及びこれらの相を約７０℃で分離した。
【０１２０】
室温まで冷却した後に、所望のＮ−［４−フルオロ−２−（３−ヒドロキシ−３−メチルブタ−１−イン−１イル）フェニル］アセトアミド３４．４ｇが、純度９７％を有する白色固体物質としてトルエン相から結晶化する（収率：理論収量の９１％）。
凝固点：１２０℃
【０１２１】
工程２：Ｎ−（２−エチニル−４−フルオロフェニル）アセトアミド
【０１２２】
【化５４】
2008510745.tif 000026
【０１２３】
３０％メタノールナトリウムメチラート溶液３．２ｇ（０．０１８モル）を、Ｎ−［４−フルオロ−２−（３−ヒドロキシ−３−メチルブタ−１−イン−１−イル）フェニル］アセトアミド２１．７ｇ（０．０９モル、純度９７．７％）と乾燥トルエン１８０ｍｌとの懸濁液に加えた。得られた混合物を還流下で加熱し、約６０ｍｌの蒸留液を１時間にわたって除去した。反応を行いながら、反応混合物の熱負荷をできるだけ低く保ち（急速加熱、反応が完結した後の急速冷却）、望まれていないインドール形成を抑制した。得られた混合物をトルエンで希釈し、３回水洗し、乾燥し、溶媒を真空中で蒸留した。
【０１２４】
これにより、Ｎ−（２−エチニル−４−フルオロフェニル）アセトアミドの明るいベージュ色の結晶１５．２ｇ（収率：理論収量の７６．２％）が得られ、これをキシレンから再結晶した。
融点：１０３℃
【０１２５】
工程３：Ｎ−（３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−イル）アセトアミド
【０１２６】
【化５５】
2008510745.tif 000027
【０１２７】
３，４−ジクロロチオフェン−１，１−ジオキシド６．７ｇ（０．０３６モル）を乾燥トルエン５０ｍｌに溶解した溶液を、乾燥キシレン３０ｍｌに溶解したＮ−（２−エチニル−４−フルオロフェニル）アセトアミド５．３ｇ（０．０３モル）に、１３０℃で攪拌しながら４時間にわたって滴加した。同時に、トルエンを、１３０℃の内部温度を維持する様な方法で蒸留した。混合物を１３０℃で２時間攪拌し、溶媒を真空中で蒸留した。粗収量は１０．４ｇに達した。
【０１２８】
キシレンから再結晶した後に、この反応によりＮ−（３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−イル）アセトアミド６．５ｇ（収率：理論収量の７２．７％）が得られた。
融点：１３８°−１４０℃
【０１２９】
別法：
３，４−ジクロロチオフェン−１，１−ジオキシド７．３ｇ（０．０３９６モル）を乾燥ｎ−ブチロニトリル３０ｍｌに溶解した溶液を、乾燥ｎ−ブチロニトリル３０ｍｌに溶解したＮ−（２−エチニル−４−フルオロフェニル）アセトアミド５．８ｇ（０．０３３モル）を還流下で攪拌しながら８時間にわたって滴加した。次いで、この混合物を還流下で６時間攪拌し、溶媒を真空中で蒸留した。粗収量は合計１２．７ｇとなった。
【０１３０】
キシレンから再結晶した後に、この反応によりＮ−（３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−イル）アセトアミド７．６ｇ（収率：理論収量の７７．５％）が得られた。
融点：１３８°−１４０℃
【０１３１】
工程４：３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−アミン
【０１３２】
【化５６】
2008510745.tif 000028
【０１３３】
約４５％水酸化カリウム水溶液０．０８モルを、Ｎ−（３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−イル）アセトアミド６．３ｇ（０．０２モル、純度：９５％）と２−メトキシエタノール１２ｍｌとの懸濁液に加えた。これを１００℃に加熱し、４時間攪拌し、冷却し、溶媒を真空中で蒸留した。残留物を氷水と混合し、トルエンを用いて数回抽出した。
【０１３４】
乾燥し、トルエンを蒸留した後に、これにより３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−アミン４．８ｇ（収率：理論収量の９２％）が褐色固体物質として得られた。
融点：５８℃
【実施例２】
【０１３５】
工程１：Ｎ−［４−フルオロ−２−（３−ヒドロキシ−３−メチルブタ−１−イン−１−イル）フェニル］−２，２−ジメチルプロパンアミド
【０１３６】
【化５７】
2008510745.tif 000029
【０１３７】
トリフェニルホスフィン０．１２ｇ（０．４５ミリモル、純度９９％）、ビス−トリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド０．０３２ｇ（０．０４５ミリモル、純度９９％）及びヨウ化銅（Ｉ）０．０５２ｇ（０．２７ミリモル、純度９８％）を、Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロフェニル）−２，２−ジメチル−プロパンアミド２５．０ｇ（０．０９モル、純度９９％）、２−メチルブタ−３−イン−２−オール１１．６ｇ（０．１３５モル、純度９８％）及びトリエチルアミン４５．５ｇ（０．４５モル）の混合物に加え、得られた混合物を８５℃で攪拌しながら６時間加熱した。過剰のトリエチルアミンを真空中で蒸留し、残留物をトルエン約７０ｍｌに溶解し、それぞれ水３０ｍｌを用いて３回洗浄し、乾燥し、溶媒を真空中で蒸留した。残留物を酢酸エチルエステルに溶解し、シリカゲルを用いて濾過した。
【０１３８】
ロータリーエバポレーターで化合物を濃縮した後に、この反応によりＮ−［４−フルオロ−２−（３−ヒドロキシ−３−メチルブタ−１−イン−１−イル）フェニル］−２，２−ジメチルプロパンアミド８２．８％からなる赤色油状物１２．８ｇが得られた。
【０１３９】
工程２：Ｎ−（２−エチニル−４−フルオロフェニル）−２，２−ジメチルプロパンアミド
【０１４０】
【化５８】
2008510745.tif 000030
【０１４１】
３０％メタノールナトリウムメチラート溶液０．５４ｇ（０．００３モル）を、Ｎ−［４−フルオロ−２−（３−ヒドロキシ−３−メチルブタ−１−イン−１−イル）フェニル］−２，２−ジメチルプロパンアミド５．０ｇ（０．０１５モル、純度８２．８％）を乾燥トルエン３０ｍｌに溶解した溶液に加えた。混合物を還流下で加熱し、約１０ｍｌの蒸留液を１時間にわたって除去した。反応を行いながら、反応混合物の熱負荷をできるだけ低く保った（急速加熱、反応が完結した後の急速冷却）、望まれていないインドール形成を抑制した。得られた混合物をトルエン１５ｍｌで希釈し、それぞれ水２０ｍｌを用いて２回洗浄し、乾燥し、溶媒を真空中で蒸留した。
【０１４２】
この反応により、Ｎ−（２−エチニル−４−フルオロフェニル）−２，２−ジメチルプロパンアミド７７．３％からなる赤色油状物３．３ｇ（収率：理論収量の７７．５％）が得られた。
【０１４３】
工程３：Ｎ−（３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−イル）−２，２−ジメチルプロパンアミド
【０１４４】
【化５９】
2008510745.tif 000031
【０１４５】
３，４−ジクロロチオフェン−１，１−ジオキシド２．０ｇ（０．０１１モル）を乾燥２−メトキシエタノール１５ｍｌに溶解した溶液を、Ｎ−（２−エチニル−４−フルオロフェニル）−２，２−ジメチルプロパンアミド２．６ｇ（０．００９モル）を乾燥２−メトキシエタノール１５ｍｌに溶解した溶液（濃度７７．３％）に、還流下で攪拌しながら４時間にわたって滴加した。次いで、混合物を沸点で３時間攪拌し、溶媒を真空中で蒸留した。
【０１４６】
カラムクロマトグラフィーで精製した後に、この反応により、Ｎ−（３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−イル）−２，２−ジメチルプロパンアミド２．３ｇ（収率：理論収量の７４．２％）が得られた。
融点：１３０°−１３１℃
【０１４７】
工程４：３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−アミン
【０１４８】
【化６０】
2008510745.tif 000032
【０１４９】
約４５％の水酸化カリウム水溶液０．０２４モルを、Ｎ−（３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−イル）−２，２−ジメチルプロパンアミド２．１ｇ（０．００６モル）と２−メトキシエタノール４ｍｌとの懸濁液に加えた。得られた混合物を１００℃で４時間攪拌し、冷却し、溶媒を真空中で蒸留した。残留物を氷水と混合し、トルエンを用いて数回抽出した。
【０１５０】
乾燥し、トルエンを蒸留した後に、この反応により３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−アミン１．４ｇ（収率：理論収量の９１％）が褐色固体物質として得られた。
融点：５８℃
【実施例３】
【０１５１】
【化６１】
2008510745.tif 000033
【０１５２】
３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−アミン０．３３３ｇ（１．３ミリモル）及び３−（ジフルオロメチル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニルクロリド０．３０４ｇ（１．５６ミリモル）をテトラヒドロフラン６ｍｌに溶解し、トリエチルアミン０．３６ｍｌ（２．６ミリモル）と混合した。この反応溶液を６０℃で１６時間攪拌した。これを分析のために濃縮し、及びシクロヘキサン／酢酸エチルエステルを用いてシリカゲル上でクロマトグラフ分離した。
【０１５３】
この反応により、Ｎ−（３’，４’−ジクロロ−５−フルオロビフェニル−２−イル）−３−（ジフルオロメチル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキサミド０．３９ｇ（理論収量の７２％）及びｌｏｇＰ（ｐＨ２．３）＝３．３３が得られた。
【国際調査報告】
2008510745.tif 000063
2008510745.tif 000064
2008510745.tif 000065
2008510745.tif 000066
2008510745.tif 000067
2008510745.tif 000068