(57)【要約】  電子デバイスが、基板と、基板の上にあり、かつ１組のベクトルで配列された開口部のアレイを規定する構造とを含む。１組のベクトルの第１のベクトルに沿った開口部の間の第１の位置において、第１の位置における第１の高さが、互いに実質的に等しい。電子デバイスは、また、少なくとも部分的に、第１のベクトルに沿った開口部内にあり、かつ第１のベクトルに沿った開口部の間の位置において構造の上にある、線の幾何学的形状の有機層を含む。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の上にあり、かつ１組のベクトルで配列された開口部のアレイを規定する構造であって、前記１組のベクトルの第１のベクトルに沿った開口部の間の第１の位置において、前記第１の位置における第１の高さが、互いに実質的に等しい、構造と、
少なくとも部分的に、前記第１のベクトルに沿った前記開口部内にあり、かつ前記第１のベクトルに沿った前記開口部の間の前記位置において前記構造の上にある、第１の線の幾何学的形状の有機層とを含むことを特徴とする電子デバイス。
【請求項２】
前記構造がウェル構造であることを特徴とする請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項３】
前記有機層が有機活性層を含むことを特徴とする請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項４】
前記電子デバイスが、放射線放出構成要素、放射線応答構成要素、またはそれらの組合せを含むことを特徴とする請求項３に記載の電子デバイス。
【請求項５】
前記有機層が、電荷注入層、電荷輸送層、電荷阻止層、またはそれらの任意の組合せを含むことを特徴とする請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項６】
前記１組のベクトルの第２のベクトルに沿った開口部の間の第２の位置において、前記第２の位置における第２の高さが、互いに実質的に等しいことを特徴とする請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項７】
前記第１の高さおよび前記第２の高さが、互いに実質的に等しいことを特徴とする請求項６に記載の電子デバイス。
【請求項８】
前記第１の高さが、前記第２の高さと著しく異なることを特徴とする請求項６に記載の電子デバイス。
【請求項９】
前記第１のベクトルおよび前記第２のベクトルが、互いに実質的に垂直に配向されることを特徴とする請求項６に記載の電子デバイス。
【請求項１０】
前記基板と前記構造との間にある電極をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項１１】
前記有機層の上にある電極をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項１２】
電子デバイスを形成するための方法であって、
基板の上にある構造を形成する工程であって、前記構造が、１組のベクトルで配列された開口部のアレイを規定し、前記１組のベクトルの第１のベクトルに沿った開口部の間の第１の位置において、前記第１の位置における第１の高さが、互いに実質的に等しい工程と、
第１の線の幾何学的形状の第１の有機層を印刷する工程であって、前記第１の有機層が、少なくとも部分的に、前記第１のベクトルに沿った前記開口部内にあり、かつ前記第１のベクトルに沿った開口部の間の前記位置において前記構造の上にある工程とを含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
前記第１の有機層が有機活性層を含むことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
印刷が、連続液体分配装置を使用して、連続印刷として行われることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記構造が、前記１組のベクトルの第２のベクトルを含み、前記第２のベクトルに沿った開口部の間の第２の位置において、前記第２の位置における第２の高さが、互いに実質的に等しく、
前記方法が、第２の線の幾何学的形状の第２の有機層を連続的に印刷する工程をさらに含み、
前記第２の有機層が、少なくとも部分的に、前記第２のベクトルに沿った前記開口部内にあり、かつ前記第２のベクトルに沿った開口部の間の位置において前記構造の上にあることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１の有機層が、第１の波長において発光最大を有する第１の有機活性層を含み、前記第２の有機層が、前記第１の波長と異なった第２の波長において発光最大を有する第２の有機活性層を含むことを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１の有機層を連続的に印刷する工程が、１００ｃｍ／ｓを超える移動速度で行われることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
基板と、
前記基板の上にある第１の組の構造によって規定された開口部の第１のベクトルであって、前記第１の組の構造が、互いに実質的に等しい第１の高さを有する、開口部の第１のベクトルと、
少なくとも部分的に、前記開口部の第１のベクトル内にあり、かつ前記第１の組の構造の上にある、第１の線の幾何学的形状の第１の有機層と、
第２の組の構造によって規定され、かつ前記開口部の第１のベクトルに実質的に平行にある開口部の第２のベクトルであって、前記第２の組の構造が、互いに実質的に等しい第２の高さを有する、開口部の第２のベクトルと、
少なくとも部分的に、前記開口部の第２のベクトル内にあり、かつ前記第２の組の構造の上にある、第２の線の幾何学的形状の第２の有機層とを含むことを特徴とする電子デバイス。
【請求項１９】
前記第１の高さが、前記第２の高さと著しく異なることを特徴とする請求項１８に記載の電子デバイス。
【請求項２０】
前記第１の有機層が、第１の波長において発光最大を有する第１の有機活性層を含み、前記第２の有機層が、前記第１の波長と異なった第２の波長において発光最大を有する第２の有機活性層を含むことを特徴とする請求項１９に記載の電子デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、電子デバイス、およびそれらを形成するためのプロセスに関し、より特定的には、有機層を含む線を含む電子デバイス、およびそのような電子デバイスを形成するためのプロセスに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機電子デバイスを含む電子デバイスが、日常生活でより広く使用され続ける。有機電子デバイスの例としては、有機発光ダイオード（「ＯＬＥＤ」）が挙げられる。ＯＬＥＤに使用される層を形成する際に、さまざまな堆積技術を用いることができる。層を印刷するための技術としては、インクジェット印刷および連続印刷が挙げられる。
【０００３】
インクジェット印刷は、精密な量の液体を分配するその能力によって、フルカラーＯＬＥＤディスプレイの形成に広く用いられている。しかし、インクジェットプリンタが、線の最も狭いものを印刷することができないことがある。インクジェットプリンタは、液体を液滴として分配する。４０ｐＬの液滴を使用することができるが、約４１ミクロンの直径を有する。最新インクジェット技術を用いる場合でさえ、１０ｐＬの液滴が約２６ミクロンの直径を有する。微細な線を印刷する限られた能力を有することに加えて、インクジェットプリンタのための印刷ヘッドが、約０．１ｍ／ｓ以下の速度で移動する。典型的な印刷速度は約０．０６４ｍ／ｓである。結果として、インクジェット印刷は、時間がかかり、デバイスの限られた処理量をもたらす。
【０００４】
そのような、有機層を堆積させる低流量および液滴ベースの方法は、典型的には、ディスプレイデバイスの異なった色と関連するウェル構造の隣接した開口部内への、液体組成物のオーバフローを回避するために用いられている。液体組成物のオーバフローまたはブリーディングは、性能を低減するか、隣接した電子構成要素によって生成された色を変えることがある。
【０００５】
【特許文献１】米国特許第４，３５６，４２９号明細書
【特許文献２】米国特許第４，５３９，５０７号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第２００２／０１２１６３８号明細書
【特許文献４】米国特許第６，４５９，１９９号明細書
【特許文献５】米国特許第５，２４７，１９０号明細書
【特許文献６】米国特許第５，４０８，１０９号明細書
【特許文献７】米国特許第５，３１７，１６９号明細書
【特許文献８】国際公開第０２／０２７１４号パンフレット
【特許文献９】米国特許出願公開第２００１／００１９７８２号明細書
【特許文献１０】欧州特許第１１９１６１２明細書
【特許文献１１】国際公開第０２／１５６４５号パンフレット
【特許文献１２】国際公開第０２／３１８９６号パンフレット
【特許文献１３】欧州特許第１１９１６１４明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、解像度またはデバイス表面積の増加によって、デバイス内の有機電子構成要素の数が増加すると、典型的なインクジェット堆積によって用いられる時間の長さが増加し、低減された処理量、および、したがって、増加されたコストをもたらす。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
電子デバイスが、基板と、基板の上にあり、かつ１組のベクトルで配列された開口部のアレイを規定する構造とを含む。１組のベクトルの第１のベクトルに沿った開口部の間の第１の位置において、第１の位置における第１の高さが、互いに実質的に等しい。電子デバイスは、また、少なくとも部分的に、第１のベクトルに沿った開口部内にあり、かつ第１のベクトルに沿った開口部の間の位置において構造の上にある有機層を含む線を含む。
【０００８】
電子デバイスを形成するための方法が、基板の上にある構造を形成する工程を含む。構造は、１組のベクトルで配列された開口部のアレイを規定し、１組のベクトルの第１のベクトルに沿った開口部の間の第１の位置において、第１の位置における第１の高さが、互いに実質的に等しい。方法は、第１の有機層を含む第１の線を印刷する工程であって、第１の線が、少なくとも部分的に、第１のベクトルに沿った開口部内にあり、かつ第１のベクトルに沿った開口部の間の位置において構造の上にある工程をさらに含む。
【０００９】
電子デバイスが、基板と、基板の上にある第１の組の構造によって規定された開口部の第１のベクトルとを含む。第１の組の構造は、互いに実質的に等しい第１の高さを有する。電子デバイスは、少なくとも部分的に、開口部の第１のベクトル内にあり、かつ第１の組の構造の上にある第１の有機層を含む第１の線をさらに含む。電子デバイスは、また、第２の組の構造によって規定され、かつ開口部の第１のベクトルに実質的に平行にある開口部の第２のベクトルを含む。第２の組の構造は、互いに実質的に等しい第２の高さを有する。電子デバイスは、また、少なくとも部分的に、開口部の第２のベクトル内にあり、かつ第２の組の構造の上にある第２の有機層を含む第２の線を含む。
【００１０】
先の一般的な説明および次の詳細な説明は、例示および説明にすぎず、特許請求の範囲に規定されるような本発明を限定するものではない。
【００１１】
本発明を、添付の図において、限定ではなく例として示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
一実施形態において、電子デバイスが、基板と、基板の上にあり、かつ１組のベクトルで配列された開口部のアレイを規定する構造とを含む。１組のベクトルの第１のベクトルに沿った開口部の間の第１の位置において、第１の位置における第１の高さが、互いに実質的に等しい。電子デバイスは、また、少なくとも部分的に、第１のベクトルに沿った開口部内にあり、かつ第１のベクトルに沿った開口部の間の位置において構造の上にある、線の幾何学的形状の有機層を含む。
【００１３】
一例において、構造はウェル構造である。電子デバイスは、放射線放出構成要素、放射線応答構成要素、またはそれらの組合せを含むことができる。
【００１４】
別の例において、有機層は有機活性層を含む。さらなる例において、有機層は、電荷注入層、電荷輸送層、電荷阻止層、またはそれらの任意の組合せを含む。
【００１５】
１組の第２のベクトルの第２のベクトルに沿った開口部の間の第２の位置において、第２の位置における第２の高さが、互いに実質的に等しいことができる。第１の高さおよび第２の高さは、互いに実質的に等しいことができるか、第１の高さは、第２の高さと著しく異なることができる。一例において、第１のベクトルおよび第２のベクトルは、互いに実質的に垂直に配向される。
【００１６】
さらなる例において、電子デバイスは、基板と構造との間にある電極を含む。別の例において、電子デバイスは、有機層の上にある電極を含む。
【００１７】
別の実施形態において、電子デバイスを形成するための方法が、基板の上にある構造を形成する工程を含む。構造は、１組のベクトルで配列された開口部のアレイを規定し、１組のベクトルの第１のベクトルに沿った開口部の間の第１の位置において、第１の位置における第１の高さが、互いに実質的に等しい。方法は、第１の線の幾何学的形状の第１の有機層を印刷する工程であって、第１の有機層が、少なくとも部分的に、第１のベクトルに沿った開口部内にあり、かつ第１のベクトルに沿った開口部の間の位置において構造の上にある工程をさらに含む。
【００１８】
一例において、第１の有機層は有機活性層を含む。印刷を、連続液体分配装置を使用して、連続印刷として行うことができる。第１の有機層を連続的に印刷する工程を、１００ｃｍ／ｓを超える移動速度で行うことができる。
【００１９】
別の例において、構造は、１組のベクトルの第２のベクトルを含み、第２のベクトルに沿った開口部の間の第２の位置において、第２の位置における第２の高さが、互いに実質的に等しい。方法は、第２の線の幾何学的形状の第２の有機層を連続的に印刷する工程をさらに含む。第２の有機層は、少なくとも部分的に、第２のベクトルに沿った開口部内にあり、かつ第２のベクトルに沿った開口部の間の位置において構造の上にある。第１の有機層は、第１の波長において発光最大を有する第１の有機活性層を含むことができ、第２の有機層は、第１の波長と異なった第２の波長において発光最大を有する第２の有機活性層を含むことができる。
【００２０】
さらなる実施形態において、電子デバイスが、基板と、基板の上にある第１の組の構造によって規定された開口部の第１のベクトルとを含む。第１の組の構造は、互いに実質的に等しい第１の高さを有する。電子デバイスは、少なくとも部分的に、開口部の第１のベクトル内にあり、かつ第１の組の構造の上にある、第１の線の幾何学的形状の第１の有機層をさらに含む。電子デバイスは、また、第２の組の構造によって規定され、かつ開口部の第１のベクトルに実質的に平行にある開口部の第２のベクトルを含む。第２の組の構造は、互いに実質的に等しい第２の高さを有する。電子デバイスは、また、少なくとも部分的に、開口部の第２のベクトル内にあり、かつ第２の組の構造の上にある、第２の線の幾何学的形状の第２の有機層を含む。
【００２１】
一例において、第１の高さは、第２の高さと著しく異なる。別の例において、第１の有機層は、第１の波長において発光最大を有する第１の有機活性層を含み、第２の有機層は、第１の波長と異なった第２の波長において発光最大を有する第２の有機活性層を含む。
【００２２】
本発明の他の特徴および利点は、次の詳細な説明から、および特許請求の範囲から明らかであろう。詳細な説明は、最初に、用語の定義および明確化を扱い、次いで、電子デバイスの製造プロセス、代替実施形態、ならびに利点を扱う。
【００２３】
（１．用語の定義および明確化）
以下で説明される実施形態の詳細を扱う前、いくつかの用語を定義または明確化する。「アレイ」、「周辺回路」、および「遠隔回路」という用語は、有機電子デバイスの異なった領域または構成要素を意味することが意図される。たとえば、アレイは、規則的な配列（通常、列および行によって示される）内のピクセル、セル、または他の構造を含むことができる。アレイ内のピクセル、セル、または他の構造は、アレイと同じ有機電子デバイス内であるがアレイ自体の外側にあることができる周辺回路によって、局所的に制御することができる。遠隔回路は、典型的には、周辺回路から離れてあり、かつ、アレイに信号を送るか、アレイから信号を受けることができる（典型的には、周辺回路を介して）。遠隔回路は、また、アレイに無関係の機能を行うことができる。遠隔回路は、アレイを有する基板上に存在してもしなくてもよい。
【００２４】
層、材料、部材、または構造に言及するときの「電荷阻止」という用語は、そのような層、材料、部材、または構造が、電荷が、別の層、材料、部材、または構造と混ざる可能性を著しく低減することを意味することが意図される。
【００２５】
層、材料、部材、または構造に言及するときの「電荷注入」という用語は、そのような層、材料、部材、または構造が、隣接した層、材料、部材、または構造内への電荷移動を促進することを意味することが意図される。
【００２６】
層、材料、部材、または構造に言及するときの「電荷輸送」という用語は、そのような層、材料、部材、または構造が、相対効率および小さい電荷損失で、そのような層、材料、部材、または構造の厚さを通る、そのような電荷の移動を促進することを意味することが意図される。
【００２７】
「連続」という用語およびその変形は、実質的に途切れないことを意味することが意図される。一実施形態において、連続的に印刷することは、液滴を使用する堆積技術とは対照的に、液体または液体組成物の実質的に途切れない流れを使用して印刷することである。別の実施形態において、連続的に延在するは、層、部材、または構造の著しい途切れがその長さに沿ってない、ある長さの層、部材、または構造を指す。
【００２８】
「電子構成要素」という用語は、電気機能または電気放射（たとえば、電気光学）機能を行う回路の最も低いレベルのユニットを意味することが意図される。電子構成要素としては、トランジスタ、ダイオード、抵抗器、キャパシタ、インダクタ、半導体レーザ、光学スイッチなどを挙げることができる。電子構成要素は、寄生抵抗（たとえば、ワイヤの抵抗）または寄生キャパシタンス（たとえば、コンダクタ間のキャパシタが意図されないか偶発的である、異なった電子構成要素に接続された２つのコンダクタの間の容量結合）を含まない。
【００２９】
「電子デバイス」という用語は、適切に接続され適切な電位が供給されると、集合的に機能を行う、回路、電子構成要素、またはそれらの組合せの集まりを意味することが意図される。電子デバイスは、システムを含むか、システムの一部であることができる。電子デバイスの例としては、ディスプレイ、センサアレイ、コンピュータシステム、アビオニクスシステム、自動車、携帯電話、他の消費者用または産業用電子製品などが挙げられる。
【００３０】
基板の上にある構造に言及するときの、「高さ」、「長さ」、および「幅」という用語は、互いに実質的に垂直な寸法を指すことが意図される。「高さ」は、下にある基板より上の距離を指すことが意図される。「長さ」は、基板に実質的に平行な平面内の寸法を指すことが意図される。「幅」は、基板に実質的に平行な、かつ「長さ」寸法に実質的に垂直な平面内の寸法を指すことが意図される。一実施形態において、「幅」は「長さ」より短い。
【００３１】
基板の上に印刷することに言及するときの「線」という用語は、基板の平面図によって見られるような途切れない幾何学的要素を意味することが意図される。線が鋭角を有しても有さなくてもよいことに留意されたい。
【００３２】
「液体組成物」という用語は、液体媒体に溶解されて溶液を形成するか、液体媒体中に分散されて分散液を形成するか、液体媒体中に懸濁されて懸濁液またはエマルションを形成する材料を意味することが意図される。
【００３３】
「有機活性層」という用語は、有機層の少なくとも１つが、単独で、または異なる材料と接触するとき、整流接合を形成することができる、１つまたは複数の有機層を意味することが意図される。
【００３４】
「開口部」という用語は、平面図の視点（ｐｅｒｓｐｅｃｔｉｖｅ）から見られるような、領域を囲む特定の構造がないことによって特徴づけられた領域を意味することが意図される。
【００３５】
「上にある」という用語は、必ずしも、層、部材、または構造が、別の層、部材、または構造のすぐ隣であるか、別の層、部材、または構造と接触することを意味しない。
【００３６】
「放射線放出構成要素」という用語は、適切にバイアスされると、目標波長または波長スペクトルにおける放射線を放出する電子構成要素を意味することが意図される。放射線は、可視光スペクトル内または可視光スペクトルの外側（紫外（「ＵＶ」）または赤外（「ＩＲ」））であることができる。発光ダイオードが、放射線放出構成要素の例である。
【００３７】
「放射線応答構成要素」という用語は、電子構成要素が、適切にバイアスされると、目標波長または波長スペクトルにおける放射線を検知するかこれに応答することができることを意味することが意図される。放射線は、可視光スペクトル内または可視光スペクトルの外側（ＵＶまたはＩＲ）であることができる。光検出器、ＩＲセンサ、バイオセンサ、および光起電力セルが、放射線応答構成要素の例である。
【００３８】
「整流接合」という用語は、１つのタイプの電荷キャリヤが、接合を介して、１つの方向に、反対方向と比較して、より容易に流れる、半導体層内の接合、または半導体層と異なる材料との間の界面によって形成された接合を意味することが意図される。ｐｎ接合が、ダイオードとして用いることができる整流接合の例である。
【００３９】
「ステッチング欠陥」という用語は、電子デバイス内の製造アーティファクトを意味することが意図され、製造アーティファクトは、電子デバイスが、製造されるか、使用されるか、それらの組合せのとき観察することができる電子デバイス内のシームまたは他のパターンとして現れる。
【００４０】
「構造」という用語は、単独で、または他のパターニングされた層または部材と組合されて、意図された目的を果たすユニットを形成する、１つまたは複数のパターニングされた層または部材を意味することが意図される。構造の例としては、電極、ウェル構造、カソードセパレータなどが挙げられる。
【００４１】
「実質的に等しい」という用語は、パラメータの２つ以上の値が、等しいかほぼ等しく、いかなる不等も、当業者には重要でないとみなされることを意味することが意図される。
【００４２】
「実質的に平行な」という用語は、１つまたは複数の線、１つまたは複数のベクトル、または１つまたは複数の平面の組合せの配向が、平行またはほぼ平行であり、いかなるゆがみも、当業者には重要でないとみなされることを意味することが意図される。
【００４３】
「基板」という用語は、剛性または可撓性であることができ、かつ、ガラス、ポリマー、金属、またはセラミック材料、またはそれらの任意の組合せを含むことができる１つまたは複数の材料の１つまたは複数の層を含むことができるベース材料を意味することが意図される。基板の基準点は、プロセスシーケンスの開始点である。基板は、電子構成要素、回路、または導電性部材を含んでも含まなくてもよい。
【００４４】
「移動速度」という用語は、所与の軸に沿った移動の速度を意味することが意図される。
【００４５】
アレイと関連するときの「ベクトル」という用語は、行、列、または斜めの線を意味することが意図される。
【００４６】
「ウェル構造」という用語は、基板の上にある構造であって、基板内のまたは基板の上にある、物体、領域、またはそれらの任意の組合せを、異なった物体、または基板内のまたは基板の上にある異なった領域と接触することから分離する主機能を果たす構造を意味することが意図される。
【００４７】
ここで使用される際、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」という用語、またはそれらのいかなる他の変形も、非排他的な包含を網羅することが意図される。たとえば、要素のリストを含むプロセス、方法、物品、または装置が、必ずしも、それらの要素のみに限定されないが、明白に記載されていないか、そのようなプロセス、方法、物品、または装置に固有の他の要素を含むことができる。さらに、そうでないと明白に記載されていない限り、「または」は、「排他的なまたは」ではなく、「包含的なまたは」を指す。たとえば、条件ＡまたはＢが、次のいずれか１つによって満たされる。Ａが真であり（または存在し）、かつＢが偽である（または存在しない）、Ａが偽であり（または存在せず）、かつＢが真である（または存在する）、ならびに、ＡおよびＢの両方が真である（または存在する）。
【００４８】
さらに、明確にするため、および、ここで説明される実施形態の範囲の一般的な意味を与えるために、「ａ」または「ａｎ」の使用は、「ａ」または「ａｎ」が指す１つまたは複数の物品を説明するために使用される。したがって、説明は、「ａ」または「ａｎ」が使用されるときはいつでも、１つまたは少なくとも１つを含むように読まれるべきであり、単数形は、反対のことがそうでないように意味されることが明らかでない限り、また、複数形を含む。
【００４９】
元素の周期表内の列に対応する族番号は、ＣＲＣ化学物理学ハンドブック（ＣＲＣ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ）、第８１版（２０００）に見られるような「新表記（Ｎｅｗ  Ｎｏｔａｔｉｏｎ）」法を使用する。
【００５０】
特に定義されない限り、ここで使用される技術用語および科学用語はすべて、本発明が属する技術における当業者によって一般に理解されるのと同じ意味を有する。適切な方法および材料を、本発明の実施形態、またはそれらを製造または使用するための方法について、ここで説明するが、説明されるものと同様のまたは同等の他の方法および材料を、本発明の範囲から逸脱することなく用いることができる。ここで挙げられる刊行物、特許出願、特許、および他の引例をすべて、それらの全体を引用により援用する。矛盾する場合は、本明細書は、定義を含めて、優先する。さらに、材料、方法、および例は、例示にすぎず、限定することは意図されない。
【００５１】
本発明の他の特徴および利点は、次の詳細な説明から、および特許請求の範囲から明らかになるであろう。
【００５２】
ここで説明されない程度に、特定の材料、処理行為、および回路に関する多くの詳細は、従来のものであり、有機発光ダイオードディスプレイ技術、光検出器技術、光起電技術および半導体技術の範囲内のテキストブックおよび他のソースに見出されるであろう。
【００５３】
（２．電子デバイスを形成するためのプロセス）
図１〜７は、ワークピース１００を含む例示的な電子デバイスの形成の間の図を含む。図１〜２は、製造シーケンスの初期部分の間の、それぞれ、斜視図および断面図の図を含む。第１の電極２１０が基板１２０の上に形成される。基板１２０は、従来のものであり、有機または無機材料を含むことができ、剛性または可撓性であることができる。基板１２０は、１つまたは複数の電子構成要素を含んでも含まなくてもよい。一実施形態において、第１の電極２１０は、示された電子構成要素のためのアノードである。一実施形態において、基板１２０および第１の電極２１０は、１つまたは複数の従来の技術を用いて形成される。第１の電極２１０内の層の各々は、堆積され、パターニングされる必要があってもなくてもよい。一実施形態において、第１の電極２１０は、電子構成要素が放出または応答する目標とされる放射線波長または波長の１つのスペクトル（複数のスペクトル）に対して実質的に透明である。
【００５４】
基板構造１０２が、形成され、基板１２０、および第１の電極２１０の部分の上にあり、基板構造１０２は、開口部１０４のアレイを規定するように構成される。一実施形態において、構造１０２はウェル構造である。開口部１０４のアレイは、第１の電極２１０の部分を露出する開口部１０４のベクトルを含む。各ベクトルは、開口部１０４の行または列であることができる。特定のベクトルに沿った開口部１０４の間の、基板構造１０２の位置は、互いに実質的に等しい高さを有する。たとえば、基板構造１０２は、行に沿って、位置１２２および１２４などの、開口部１０４間の位置における高さが、互いに実質的に等しいように形成することができる。
【００５５】
１つの例示的な実施形態において、行などの第１のベクトルに沿った開口部の間の位置（たとえば、位置１２２および１２４）における高さは、列などの第２のベクトルに沿った位置（たとえば、位置１２６）における高さに実質的に等しい。代替実施形態において、第２のベクトルに沿った位置における高さは、第１のベクトルに沿った位置における高さと異なることができる。たとえば、第１の行などの第１のベクトルに沿った位置（たとえば、位置１２２および１２４）における高さは、互いに実質的に等しい。第２の行などの第２のベクトルに沿った位置（たとえば、位置１２８および１３０）における高さも、互いに実質的に等しい。しかし、第１のベクトルに沿った位置（たとえば、位置１２２および１２４）における高さは、第２のベクトルに沿った位置（たとえば、位置１２８および１３０）における高さと異なることができる。
【００５６】
特定の実施形態において、基板構造１０２は、無機（たとえば、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウムなど）、有機材料（たとえば、フォトレジスト、ポリイミドなど）、またはそれらの任意の組合せを含む。別の実施形態において、基板構造１０２は、電子デバイスが動作されている間、周囲光に対するコントラストを増加させるために、黒色材料（たとえば、炭素）を含むことができる。１つの例示的な実施形態において、基板構造１０２は、１つまたは複数のレジストまたはポリマー層から形成することができる。レジストは、たとえば、ネガティブレジスト材料またはポジティブレジスト材料であることができる。レジストは、従来の技術を用いて、基板１２０および第１の電極２１０の上に堆積させることができる。基板構造１０２は、堆積させるときパターニングすることができるか、ブランケット層として堆積させ、従来のリソグラフィ技術を用いてパターニングすることができる。１つの特定の実施形態において、基板構造１０２は、断面図から見られるような約２から１０ミクロンの厚さを有する。１つの例示的な実施形態において、開口部１０４は、平面図から見ると、幅が約５０から１００ミクロンの範囲内であり、長さが約１００から５００ミクロンの範囲内である。開口部１０４における基板構造１０２の傾斜は、第１の電極２１０の表面に対して、９０°未満、約９０°、または９０°を超えることができる。
【００５７】
一実施形態において、基板構造１０２は、有機層を形成する前、表面処理を受けても受けなくてもよい。基板構造１０２の表面エネルギーを低減するために、従来のフッ素化表面処理を行うことができる。
【００５８】
電荷注入層、電荷阻止層、電荷輸送層、またはそれらの組合せなどの任意の層２２０が、堆積されて、第１の電極２１０の上にある。一実施形態において、任意の層２２０は、正孔注入層、正孔輸送層、電子阻止層、またはそれらの任意の組合せを含む。任意の層２２０は、１つまたは複数の従来の技術によって形成される。たとえば、任意の層２２０は、堆積され、パターニングされる必要があってもなくてもよい。一実施形態において、任意の層２２０は、以下でより詳細に説明されるように、印刷装置を使用して液体組成物から形成することができる。
【００５９】
プロセスのこの時点において、印刷装置を使用して、１つまたは複数の層を形成することができる。印刷装置は、同じまたは異なった組成物を有する１つまたは複数の線を印刷することができる。一実施形態において、印刷装置は、有機層を含む線の形態の液体組成物を印刷する。例示的な有機層としては、有機活性層、電荷注入層、電荷輸送層、電荷阻止層、またはそれらの組合せが挙げられる。そのような層を形成するために使用される液体組成物を、以下で説明する。
【００６０】
いくつかの実施形態において、液体組成物は、少なくとも１つの有機溶媒と、少なくとも１つの材料とを含む。たとえば、液体組成物は、溶媒と、約１重量％から２重量％の固形分などの、約０．５から５重量％の固形分とを含むことができる。固形分としては、小さい有機分子、ポリマー、またはそれらの組合せを挙げることができる。
【００６１】
放射線放出有機活性層の場合、適切な放射線放出材料としては、１つまたは複数の小分子材料、１つまたは複数のポリマー材料、またはそれらの組合せが挙げられる。小分子材料としては、たとえば、米国特許公報（特許文献１）（「タン（Ｔａｎｇ）」）；米国特許公報（特許文献２）（「バン・スライク（Ｖａｎ  Ｓｌｙｋｅ）」）；米国特許公報（特許文献３）（「グルシン（Ｇｒｕｓｈｉｎ）」）；または米国特許公報（特許文献４）（「キド（Ｋｉｄｏ）」）に記載されたもののいずれか１つまたは複数を挙げることができる。あるいは、ポリマー材料としては、米国特許公報（特許文献５）（「フレンド（Ｆｒｉｅｎｄ）」）；米国特許公報（特許文献６）（「ヒーガー（Ｈｅｅｇｅｒ）」）；または米国特許公報（特許文献７）（「ナカノ（Ｎａｋａｎｏ）」）に記載されたもののいずれか１つまたは複数を挙げることができる。例示的な材料は、半導性共役ポリマーである。そのようなポリマーの例としては、ポリ（パラフェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、ＰＰＶコポリマー、ポリフルオレン、ポリフェニレン、ポリアセチレン、ポリアルキルチオフェン、ポリ（ｎ−ビニルカルバゾール）（ＰＶＫ）などが挙げられる。１つの特定の実施形態において、いかなるゲスト材料もない放射線放出活性層が、青色光を発することができる。
【００６２】
放射線応答有機活性層の場合、適切な放射線応答材料としては、多くの共役ポリマーまたはエレクトロルミネセンス材料を挙げることができる。そのような材料としては、たとえば、共役ポリマーまたはエレクトロルミネセンス材料およびフォトルミネセンス材料が挙げられる。特定の例としては、ポリ（２−メトキシ，５−（２−エチル−ヘキシルオキシ）−１，４−フェニレンビニレン）（「ＭＥＨ−ＰＰＶ」）、またはＣＮ−ＰＰＶとのＭＥＨ−ＰＰＶ複合体が挙げられる。
【００６３】
フィルタ層の位置は、有機活性層と電子デバイスの使用者側との間であることができる。フィルタ層は、基板、電極（たとえば、アノードまたはカソード）、電荷輸送層、電荷注入層、または電荷阻止層の一部であることができるか、フィルタ層は、基板、電極、電荷輸送層、電荷注入層、電荷阻止層、またはそれらの任意の組合せのいずれか１つまたは複数の間にあることができるか、それらの任意の組合せである。別の実施形態において、フィルタ層は、別個に製造され（基板に取付けられていない間）、電子デバイス内の電子構成要素を製造する前、間、または後、いつでも、後で基板に取付けられる層であることができる。この実施形態において、フィルタ層は、基板と電子デバイスの使用者との間にあることができる。
【００６４】
フィルタ層が基板と別個であるか基板の一部である場合、または、フィルタが基板と基板に最も近い電極との間にある場合、適切な材料としては、ポリオレフィン（たとえば、ポリエチレンまたはポリプロピレン）；ポリエステル（たとえば、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレート）；ポリイミド；ポリアミド；ポリアクリロニトリルまたはポリメタクリロニトリル；ペルフルオロ化または部分フッ素化ポリマー（たとえば、ポリテトラフルオロエチレン、またはテトラフルオロエチレンおよびポリスチレンのコポリマー）；ポリカーボネート；ポリ塩化ビニル；ポリウレタン；アクリル酸またはメタクリル酸のエステルのホモポリマーまたはコポリマーを含むポリアクリル樹脂；エポキシ樹脂；ノボラック樹脂；またはそれらの任意の組合せを含む有機材料が挙げられる。
【００６５】
正孔注入層、正孔輸送層、電子阻止層、またはそれらの任意の組合せの場合、適切な材料としては、ポリアニリン（「ＰＡＮＩ」）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（「ＰＥＤＯＴ」）、ポリピロール、テトラチアフルバレンテトラシアノキノジメタン（「ＴＴＦ−ＴＣＱＮ」）などの有機電荷移動化合物、キド（Ｋｉｄｏ）に記載されているような正孔輸送材料、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００６６】
電子注入層、電子輸送層、正孔阻止層、またはそれらの任意の組合せの場合、適切な材料としては、金属キレート化オキシノイド（ｏｘｉｎｏｉｄ）化合物（たとえば、Ａｌｑ3またはアルミニウム（ＩＩＩ）ビス（２−メチル−８−キノリナト）４−フェニルフェノレート（「ＢＡｌｑ」））；フェナントロリンベースの化合物（たとえば、２，９ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（「ＤＤＰＡ」）または９，１０−ジフェニルアントラセンス（ｄｉｐｈｅｎｙｌａｎｔｈｒａｃｅｎｃｅ）（「ＤＰＡ」））；アゾール化合物（たとえば、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−５−ビフェニル−１，３，４−オキサジアゾール（「ＰＢＤ」）または３−（４−ビフェニル）−４−フェニル−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（「ＴＡＺ」）；キド（Ｋｉｄｏ）に記載されているような電子輸送材料；ジフェニルアントラセン誘導体；ジナフチルアントラセン誘導体；４，４−ビス（２，２−ジフェニル−エテン−１−イル）−ビフェニル（「ＤＰＶＢＩ」）；９，１０−ジ−ベータ−ナフチルアントラセン；９，１０−ジ−（ナフェンチル（ｎａｐｈｅｎｔｈｙｌ））アントラセン；９，１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセン（「ＡＤＮ」）；４，４’−ビス（カルバゾール−９−イル）ビフェニル（「ＣＢＰ」）；９，１０−ビス−［４−（２，２−ジフェニルビニル）−フェニル］−アントラセン（「ＢＤＰＶＰＡ」）；アントラセン、Ｎ−アリールベンゾイミダゾール（「ＴＰＢＩ」など）；１，４−ビス［２−（９−エチル−３−カルバゾイル）ビニレニル］ベンゼン；４，４’−ビス［２−（９−エチル−３−カルバゾイル）ビニレニル］−１，１’−ビフェニル；９，１０−ビス［２，２−（９，９−フルオレニレン）ビニレニル］アントラセン；１，４−ビス［２，２−（９，９−フルオレニレン）ビニレニル］ベンゼン；４，４’−ビス［２，２−（９，９−フルオレニレン）ビニレニル］−１，１’−ビフェニル；ペリレン、置換ペリレン；テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルペリレン（「ＴＢＰｅ」）；ビス（３，５−ジフルオロ−２−（２−ピリジル）フェニル−（２−カルボキシピリジル）イリジウムＩＩＩ（「Ｆ（Ｉｒ）Ｐｉｃ」）；ピレン、置換ピレン；スチリルアミン；フッ素化フェニレン；オキシダゾール；１，８−ナフタルイミド；ポリキノリン；ＰＰＶ中の１つまたは複数のカーボンナノチューブ；またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００６７】
抵抗器、トランジスタ、キャパシタなどの電子構成要素の場合、有機層は、チオフェン（たとえば、ポリチオフェン、ポリ（アルキルチオフェン）、アルキルチオフェン、ビス（ジチエンチオフェン（ｄｉｔｈｉｅｎｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、アルキルアントラジチオフェンなど）、ポリアセチレン、ペンタセン、フタロシアニン、またはそれらの任意の組合せの１つまたは複数を含むことができる。
【００６８】
有機染料の例としては、４−ジシアンメチレン−２−メチル−６−  （ｐ−ジメチアミノスチリル（ｄｉｍｅｔｈｙａｍｉｎｏｓｔｙｒｙｌ））−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）、クマリン、ピレン、ペリレン、ルブレン、それらの誘導体、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００６９】
有機金属材料の例としては、少なくとも１つの金属に配位結合された１つまたは複数の官能基を含む官能基化ポリマーが挙げられる。使用のために企図される例示的な官能基としては、カルボン酸、カルボン酸塩、スルホン酸基、スルホン酸塩、ＯＨ部分を有する基、アミン、イミン、ジイミン、Ｎ−オキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、β−ジカルボニル基、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。使用のために企図される例示的な金属としては、ランタニド金属（たとえば、Ｅｕ、Ｔｂ）、７族金属（たとえば、Ｒｅ）、８族金属（たとえば、Ｒｕ、Ｏｓ）、９族金属（たとえば、Ｒｈ、Ｉｒ）、１０族金属（たとえば、Ｐｄ、Ｐｔ）、１１族金属（たとえば、Ａｕ）、１２族金属（たとえば、Ｚｎ）、１３族金属（たとえば、Ａｌ）、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。そのような有機金属材料としては、トリス（８−ヒドロキシキノラト）アルミニウム（Ａｌｑ3）などの金属キレート化オキシノイド化合物；（特許文献８）に開示されているような、イリジウムと、フェニルピリジン配位子、フェニルキノリン配位子、またはフェニルピリミジン配位子との錯体などのシクロメタル化（ｃｙｃｌｏｍｅｔａｌａｔｅｄ）イリジウムまたは白金エレクトロルミネセンス化合物、たとえば、公開された米国特許公報（特許文献９）、（特許文献１０）、（特許文献１１）、（特許文献１２）、および（特許文献１３）に記載された有機金属錯体；またはそれらの任意の混合物が挙げられる。
【００７０】
共役ポリマーの例としては、ポリ（フェニレンビニレン）、ポリフルオレン、ポリ（スピロビフルオレン）、それらのコポリマー、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００７１】
液体媒体を選択することも、液体組成物の１つまたは複数の適切な特徴を達成するための重要な要因であることができる。液体媒体を選択するときに考慮されるべき要因としては、たとえば、結果として生じる溶液、エマルション、懸濁液、または分散液の粘度、ポリマー材料の分子量、固形分ローディング、液体媒体のタイプ、液体媒体の沸点、下にある基板の温度、ゲスト材料を受ける有機層の厚さ、またはそれらの任意の組合せが挙げられる
【００７２】
いくつかの実施形態において、液体媒体は少なくとも１つの溶媒を含む。例示的な有機溶媒としては、ハロゲン化溶媒、コロイド形成ポリマー酸、炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、エーテル溶媒、環状エーテル溶媒、アルコール溶媒、グリコール溶媒、ケトン溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒、アミド溶媒、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００７３】
例示的なハロゲン化溶媒としては、四塩化炭素、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ビス（２−クロロエチル）エーテル、クロロメチルエチルエーテル、クロロメチルメチルエーテル、２−クロロエチルエチルエーテル、２−クロロエチルプロピルエーテル、２−クロロエチルメチルエーテル、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００７４】
例示的なコロイド形成ポリマー酸としては、フッ素化スルホン酸（たとえば、ペルフルオロ化エチレンスルホン酸などのフッ素化アルキルスルホン酸）またはその任意の組合せが挙げられる。
【００７５】
例示的な炭化水素溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカヒドロナフタレン、石油エーテル、リグロイン、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００７６】
例示的な芳香族炭化水素溶媒としては、ベンゼン、ナフタレン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン（イソ−プロピルベンゼン）メシチレン（トリメチルベンゼン）、エチルトルエン、ブチルベンゼン、シメン（イソ−プロピルトルエン）、ジエチルベンゼン、イソ−ブチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、ｓｅｃ−ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、アニソール、４−メチルアニソール、３，４−ジメチルアニソール、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００７７】
例示的なエーテル溶媒としては、ジエチルエーテル、エチルプロピルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、グリム、ジグリム、ベンジルメチルエーテル、イソクロマン（ｉｓｏｃｈｒｏｍａｎ）、２−フェニルエチルメチルエーテル、ｎ−ブチルエチルエーテル、１，２−ジエトキシエタン、ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、エチルｎ−プロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、ｎ−ヘキシルメチルエーテル、ｎ−ブチルメチルエーテル、メチルｎ−プロピルエーテル、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００７８】
例示的な環状エーテル溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、テトラヒドロピラン、４メチル−１，３−ジオキサン、４−フェニル−１，３−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、２−メチル−１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキサン、２，５−ジメトキシテトラヒドロフラン、２，５−ジメトキシ−２，５−ジヒドロフラン、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００７９】
例示的なアルコール溶媒としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール（すなわち、イソ−ブタノール）、２−メチル−２−プロパノール（すなわち、ｔｅｒｔ−ブタノール）、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２，２−ジメチル−１−プロパノール、１−ヘキサノール、シクロペンタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、２，２−ジメチル−１−プロパノール、３−ヘキサノール、２−ヘキサノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−エチルブタノール、２，４−ジメチル−３−ペンタノール、３−ヘプタノール、４−ヘプタノール、２−ヘプタノール、１−ヘプタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサノール、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００８０】
アルコールエーテル溶媒も使用することができる。例示的なアルコールエーテル溶媒としては、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−ブタノール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、１−エトキシ−２−プロパノール、３−メトキシ−１−ブタノール、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、３−メトキシ−３−メチルブタノール、エチレングリコールモノ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００８１】
例示的なグリコール溶媒としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＤＰＧＭＥ）、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００８２】
例示的なケトン溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ−ブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルメチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、３−ヘキサノン、ジイソプロピルケトン、２−ヘキサノン、シクロペンタノン、４−ヘプタノン、イソ−アミルメチルケトン、３−ヘプタノン、２−ヘプタノン、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン、５−メチル−３−ヘプタノン、２−メチルシクロヘキサノン、ジイソブチルケトン、５−メチル−２−オクタノン、３−メチルシクロヘキサノン、２−シクロヘキセン−１−オン、４−メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノン、イソホロン、ベンジルアセトン、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００８３】
例示的なニトリル溶媒としては、アセトニトリル、アクリロニトリル、トリクロロアセトニトリル、プロピオニトリル、ピバロニトリル、イソブチロニトリル、ｎ−ブチロニトリル、メトキシアセトニトリル、２−メチルブチロニトリル、イソバレロニトリル、Ｎ−バレロニトリル、ｎ−カプロニトリル、３−メトキシプロピオニトリル、３−エトキシプロピオニトリル、３，３’−オキシジプロピオニトリル、ｎ−ヘプタンニトリル、グリコロニトリル（ｇｌｙｃｏｌｏｎｉｔｒｉｌｅ）、ベンゾニトリル、エチレンシアノヒドリン、スクシノニトリル、アセトンシアノヒドリン、３−ｎ−ブトキシプロピオニトリル、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００８４】
例示的なスルホキシド溶媒としては、ジメチルスルホキシド、ジ−ｎ−ブチルスルホキシド、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００８５】
例示的なアミド溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アシルアミド、２−アセトアミドエタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ−トルアミド、トリフルオロアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルドデカンアミド、エプシロン−カプロラクタム、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルホルムアミド、ホルムアミド、ピバルアミド、Ｎ−ブチルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−ホルミルエチルアミン、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホルムアミド、１−ホルミルピペリジン、Ｎ−メチルホルムアニリド、またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００８６】
企図されるクラウンエーテルとしては、本発明によって処理される組合せの一部としてのエポキシ化合物出発材料の塩化物含有量の低減を助けるように機能することができるいずれか１つまたは複数のクラウンエーテルが挙げられる。例示的なクラウンエーテルとしては、ベンゾ−１５−クラウン−５；ベンゾ−１８−クラウン−６；１２−クラウン−４；１５−クラウン−５；１８−クラウン−６；シクロヘキサノ−１５−クラウン−５；４’，４”（５”）−ジｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ−１８−クラウン−６；４’，４”（５”）−ジｔｅｒｔ−ブチルジシクロヘキサノ−１８−クラウン−６；ジシクロヘキサノ−１８−クラウン−６；ジシクロヘキサノ−２４−クラウン−８；４’−アミノベンゾ−１５−クラウン−５；４’−アミノベンゾ−１８−クラウン−６；２−（アミノメチル）−１５−クラウン−５；２−（アミノメチル）−１８−クラウン−６；４’−アミノ−５’−ニトロベンゾ−１５−クラウン−５；１−アザ−１２−クラウン−４；１−アザ−１５−クラウン−５；１−アザ−１８−クラウン−６；ベンゾ−１２−クラウン−４；ベンゾ−１５−クラウン−５；ベンゾ−１８−クラウン−６；ビス（（ベンゾ−１５−クラウン−５）−１５−イルメチル）ピメレート；４−ブロモベンゾ−１８−クラウン−６；（＋）−（１８−クラウン−６）−２，３，１１，１２−テトラ−カルボン酸；ジベンゾ−１８−クラウン−６；ジベンゾ−２４−クラウン−８；ジベンゾ−３０−クラウン−１０；ａｒ−ａｒ’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ−１８−クラウン−６；４’−ホルミルベンゾ−１５−クラウン−５；２−（ヒドロキシメチル）−１２−クラウン−４；２−（ヒドロキシメチル）−１５−クラウン−５；２−（ヒドロキシメチル）−１８−クラウン−６；４’−ニトロベンゾ−１５−クラウン−５；ポリ−［（ジベンゾ−１８−クラウン−６）−コ−ホルムアルデヒド］；１，１−ジメチルシラ（ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａ）−１１−クラウン−４；１，１−ジメチルシラ−１４−クラウン−５；１，１−ジメチルシラ−１７−クラウン−５；シクラム（ｃｙｃｌａｍ）；１，４，１０，１３−テトラチア−７，１６−ジアザシクロオクタデカン；ポルフィン；またはそれらの任意の組合せが挙げられる。
【００８７】
別の実施形態において、液体媒体としては水が挙げられる。水不溶性コロイド形成ポリマー酸と複合された（ｃｏｍｐｌｅｘｅｄ）導電性ポリマーを、基板の上に堆積させ、電荷輸送層として使用することができる。
【００８８】
多くの異なった種類の液体媒体（たとえば、ハロゲン化溶媒、炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、水など）を上で説明する。異なった種類からの１つを超える液体媒体の混合物も使用することができる。
【００８９】
液体組成物は、また、バインダー材料、充填剤材料、またはそれらの組合せなどの不活性材料を含むことができる。液体組成物に対して、不活性材料は、液体組成物の少なくとも一部によって形成されるか液体組成物の少なくとも一部を受ける層の電子特性、放射線放出特性、または放射線応答特性に著しく影響を及ぼさない。
【００９０】
印刷ヘッド３１０を含む印刷装置は、図３に示されているように、線の形態で、基板構造１０２の上に、および開口部１０４内に、セグメント３１４を連続的に印刷する。１つの例示的な実施形態において、印刷装置が、ベクトルに沿った開口部１０４内に、および、開口部１０４間の、かつベクトルに沿った位置における基板構造１０２の上に少なくとも部分的に、液体組成物を連続的に印刷する。
【００９１】
印刷ヘッド３１０は、液体組成物の連続流３１２が分配されるノズル３１６を含む。一実施形態において、印刷ヘッド３１０は、基板１２０と、基板構造１０２とを含むワークピース１００上に液体組成物を連続的に印刷するように構成される。ノズル３１６は、幅が少なくとも１０ミクロンであることができる開口部を有する。一実施形態において、開口部は、幅が約１０から３０ミクロンの範囲内である。１つの特定の実施形態において、開口部は、幅が約１８ミクロンである。別の特定の実施形態において、開口部は、幅が約１２ミクロン、または幅が約１４ミクロンである。
【００９２】
１つの例示的な実施形態において、液体組成物の連続流３１２は、開口部１０４のベクトル（たとえば、行または列）に沿って印刷される。印刷ヘッド３１０は、開口部１０４のベクトルに沿って向けられ、開口部１０４内の任意の層２２０の上に、および、開口部１０４間の、かつベクトルに沿った位置における基板構造１０２の上に少なくとも部分的に、液体組成物の連続流３１２を堆積させる。液体組成物の粘度は、その液体媒体がセグメント３１４から蒸発するにつれて増加する。
【００９３】
印刷装置は、少なくとも０．１ｍ／ｓの速度で、液体組成物の連続流３１２を基板１２０の上に印刷するように構成することができる。別の実施形態において、印刷装置は、セグメント３１４に沿って、少なくとも１ｍ／ｓ、少なくとも３ｍ／ｓ、または少なくとも６ｍ／ｓの速度で、セグメント３１４を印刷するように構成することができる。特定の実施形態において、液体組成物は、約１ｍ／ｓから３ｍ／ｓの範囲内の速度で堆積される。
【００９４】
印刷ヘッド３１０は、約５０マイクロリットル／ｍｉｎ．、約１００マイクロリットル／ｍｉｎ以上などの、少なくとも１分あたり１０マイクロリットルの速度で、液体組成物を分配するように構成することができる。たとえば、印刷ヘッド３１０は、約５０から４００マイクロリットル／ｍｉｎの速度で液体組成物を分配することができる。ノズル３１６のための開口部のサイズは、１つまたは複数の条件、１つまたは複数の連続印刷パラメータ、またはそれらの任意の組合せに基いて選択することができる。１つの特定の実施形態において、液体組成物は、印刷ヘッド３１０から、約１００マイクロリットル／ｍｉｎの速度で、幅（たとえば、直径）約１８ミクロンの開口部を通って分配される。
【００９５】
（セグメント３１４の）液体組成物中の液体媒体は、蒸発して、平面図から見られるような線の形状の第１の有機活性層４０６を残す。図４に示されているように、第１の有機活性層４０６は、開口部１０４内の任意の層２２０および第１の電極２１０の上に、ならびに、部分的に基板構造１０２の上にある。図５は、図４の断面図に実質的に垂直な方向の、基板構造１０２および基板１２０の断面図を示す。たとえば、図４の断面図は、行などのベクトルに沿っていることができ、図５の断面図は、列などの異なったベクトルに沿っていることができる。
【００９６】
図４および図５から見ることができるように、第１の有機活性層４０６は、行に沿って配置された開口部１０４内に形成される。しかし、第１の有機活性層４０６は、隣接した行に沿って配置された開口部内にこぼれない。他の行に沿って、１つまたは複数の有機層を含む１つまたは複数の他の層（図示せず）を、その後、他の液体組成物から形成することができる。それらの他の層は、隣接した行に沿って配置された開口部内にこぼれることなく、それぞれの行に沿って配置された開口部１０４内に、およびそのそれぞれの行に沿って配置された開口部１０４の間の基板構造１０２の上に、セグメントとして形成することができる。
【００９７】
図６および図７に示されているように、第２の電極６０２が、基板構造１０２および第１の電極２１０の上に形成される。一実施形態において、付加的な有機活性層６０８、６１０、および６１２が、印刷された。有機活性層６０８、６１０、および６１２の各々は、第１の有機活性層４０６に関して先に説明された印刷装置および手順を用いて形成することができる。１つの特定の実施形態において、有機活性層４０６および６０８は、実質的に同じ組成物を有し、有機活性層６１０および６１２の各々は、図６に示された他の層と比較して、異なった組成物を有する。たとえば、有機活性層４０６および６０８は青色発光層を含むことができ、第２の有機活性層６１０は緑色発光層を含むことができ、第３の有機活性層６１２は赤色発光層を含むことができる。一例において、有機活性層６１０などの１つの有機活性層が、第１の波長において発光最大を有し、有機活性層６１０および６１２の１つなどの第２の有機活性層が、第１の波長と異なった第２の波長において発光最大を有する。基板構造１０２の上で、有機活性層４０６、６０８、６１０、または６１２のいずれか１つまたは複数が、異なった有機活性層と接触するか、異なった有機活性層の下にあるか、異なった有機活性層の上にあることができる。いかなる特定の有機活性層も隣接した行の開口部の底部に沿ってない限り、電子デバイスは適切に動作することができる。
【００９８】
一実施形態において、有機活性層４０６、６０８、６１０、６１２、またはそれらの任意の組合せは、ウェル構造内の開口部の中心内で測定されるような約１０から１００ｎｍの範囲内の厚さを有する。有機活性層４０６、６０８、６１０、６１２、またはそれらの任意の組合せは、１つのパスの間セグメントを印刷することによって、または、１つを超えるパスを用いることによって、形成することができる。たとえば、液体組成物中の固形分濃度が少なくとも２重量％である場合、有機活性層は、１つのパスでセグメントを印刷することによって形成することができる。液体組成物中の固形分濃度が約１重量％である場合、有機活性層は、１つを超えるパスを用いて、１つを超える線を別のセグメントの上に印刷することによって形成することができる。１つの特定の実施形態において、第１のセグメントを約２０ｎｍの厚さに印刷し、第２のセグメントを第１のセグメントの上に約５０ｎｍの累積厚さに印刷することによって、第１の有機活性層４０６を形成することができる。本明細書を読んだ後、当業者は、厚さの他の組合せを用いることができることを理解するであろう。
【００９９】
有機活性層４０６、６０８、６１０、６１２、またはそれらの任意の組合せは、層の１つまたは複数を印刷した後、硬化させることができる。一実施形態において、有機活性層４０６、６０８、６１０、６１２は、電子構成要素のアレイ内にあることができる。アレイは、アレイの第１の側に最も近くにある第１の組の第１の電子構成要素と、アレイの第２の側に最も近くにある第２の組の第２の電子構成要素とを含み、第２の側は第１の側と反対である。有機活性層４０６、６０８、６１０、６１２、またはそれらの任意の組合せは、第１の電子構成要素の１つから第２の電子構成要素の１つまで連続的に延在するセグメントを含む。
【０１００】
示されていないが、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層、またはそれらの組合せを、第２の電極６０２を形成する前、有機活性層４０６、６０８、６１０、６１２、またはそれらの任意の組合せの上に形成することができる。正孔阻止層、電子輸送層、または電子注入層は、１つまたは複数の従来の材料を含むことができ、従来の堆積技術を用いて形成することができる。一実施形態において、正孔阻止層、電子輸送層、または電子注入層は、印刷装置を使用して層を印刷することによって形成することができる。
【０１０１】
第２の電極６０２が、１組の有機活性層４０６、６０８、６１０、および６１２の上にある。一実施形態において、第２の電極６０２は、形成されている電子構成要素のための共通カソードである。第２の電極６０２は、ＯＬＥＤ内のカソードのために従来使用される材料を含む。第２の電極６０２は、従来の堆積技術を用いて形成される。
【０１０２】
第１の電極２１０のいずれか１つまたは複数、および第２の電極６０２を横切る電位の印加が、第１の電極２１０と第２の電極６０２との間に配置された１つまたは複数の有機活性層（たとえば、層４０６、６０８、６１０、６１２、またはそれらの任意の組合せ）からの放射線放出をもたらすことができる。一実施形態において、アレイは、実質的にステッチング欠陥がない。
【０１０３】
図６および図７に示されていない他の回路を、先に説明された層または付加的な層の１つまたは複数を使用して形成することができる。示されていないが、付加的な絶縁層および相互接続レベルを形成して、アレイの外側にあることができる周辺領域内の回路（図示せず）を考慮することができる。そのような回路としては、行または列デコーダ、ストローブ（たとえば、行アレイストローブ、列アレイストローブ）、またはセンス増幅器を挙げることができる。あるいは、そのような回路を、図６および図７に示されているような層のいずれか１つまたは複数の形成の前、間、または後、形成することができる。
【０１０４】
乾燥剤（図示せず）を有するリッド（図示せず）が、アレイの外側の位置（図示せず）において基板１２０に取付けられて、実質的に完成されたデバイスを形成する。間隙（図示せず）が、第２の電極６０２と乾燥剤との間にあってもなくてもよい。リッドおよび乾燥剤のために使用される材料、ならびに取付けプロセスは、従来のものである。
【０１０５】
別の実施形態において、任意の層２２０は、ＰＡＮＩ、ＰＥＤＯＴ、ポリピロール、またはそれらの任意の組合せのスルホン化形態などの導電性ポリマーであることができる。任意の層２２０は、横断部分などの、少なくとも部分基板構造１０２の上に形成することができる。有機活性層４０６、６０８、６１０、６１２、またはそれらの任意の組合せは、電気的短絡または漏れ経路が形成するのを実質的に防止するために、１つまたは複数の横断部分の上を含む、任意の層２２０と第２の電極６０２との間の接触を実質的に防止するように印刷することができる。
【０１０６】
（３．代替実施形態）
代替実施形態において、図８に示されているように、ワークピース８００が、異なった位置において異なった高さを有する液体閉じ込め構造を形成することができる構造の組合せを含むことができる。長手方向部分および横断部分を含む液体閉じ込め構造は、基板８０２の上にあり、液体閉じ込め構造の横断部分の高さによって規定された深さを有する開口部を規定する。基板８０２は、電子構成要素またはそれらの部分を含んでも含まなくてもよい。
【０１０７】
１つの例示的な実施形態において、長手方向部分８１２および８１４ならびに横断部分８０６が、１組の開口部８２０を規定する。１つの例示的な実施形態において、横断部分８０６は、長手方向部分８１２および８１４に実質的に垂直である。代替実施形態において、横断部分は、各横断部分８０６が、長手方向部分８１２および８１４に垂直でないが、依然として長手方向部分８１２および８１４の両方と接触するように、垂直からゆがめられる。１組の開口部８２０は、開口部８２０のベクトルに含まれる。横断部分８０６は、互いに実質的に等しい高さを有し、結果として、横断部分８０６によって規定された開口部８２０は、実質的に等しい深さを有する。
【０１０８】
この例示的な実施形態において、１組の開口部８２２が、長手方向部分８１４および８１６ならびに横断部分８０８によって規定される。横断部分８０８は、互いに実質的に等しい高さを有する。同様に、１組の開口部８２４が、長手方向部分８１６および８１８ならびに横断部分８１０によって規定される。横断部分８１０は、互いに、ならびに長手方向部分８１６および８１８に実質的に等しい高さを有する。
【０１０９】
１つの例示的な実施形態において、横断部分８０６および横断部分８０８は、互いに実質的に等しい高さを有する。代替実施形態において、横断部分８０６および横断部分８０８は、異なった高さを有する。特定の実施形態において、横断部分８０６および横断部分８０８は、互いに実質的に等しい高さを有し、横断部分８１０は、横断部分８０６および横断部分８０８の高さと異なった高さを有する。
【０１１０】
複数の組の横断部分の間のそのような高さ差は、異なった材料の厚さを制御するのに有用であることができる。たとえば、電子デバイス内の例示的なディスプレイの異なった色と関連する構成要素を形成する際に、異なった組の開口部を使用することができる。１つの例示的な実施形態において、開口部８２０は、青色放射線放出構成要素が形成されるところに配置され、開口部８２２は、緑色放射線放出構成要素が形成されるところに配置され、開口部８２４は、赤色放射線放出構成要素が形成されるところに配置される。
【０１１１】
図８に示されているような長手方向部分および横断部分は、基板構造１０２に関して先に説明されたように１つまたは複数の材料を堆積させることによって形成することができる。長手方向部分および横断部分は、１つまたは複数のパターニングされた層として堆積させることができるか、堆積させ、従来のリソグラフィ技術を用いてパターニングすることができる。
【０１１２】
放射線放出構成要素のアレイを含む電子デバイスのための１つの特定の実施形態において、第１の液体組成物が、長手方向部分８１２および８１４に実質的に平行な、かつ長手方向部分８１２と長手方向部分８１４との間の線で印刷されて、開口部８２０内にあり、かつ少なくとも部分的に横断部分８０６の上にある。第２の液体組成物が、長手方向部分８１４および８１６に実質的に平行な、かつ長手方向部分８１４と長手方向部分８１６との間の線で印刷されて、開口部８２２内にあり、かつ少なくとも部分的に横断部分８０８の上にある。さらに、第３の液体組成物が、長手方向部分８１６および８１８に実質的に平行な、かつ長手方向部分８１６と長手方向部分８１８との間の線で印刷されて、開口部８２４内にあり、かつ少なくとも部分的に横断部分８１０の上にある。横断部分８０６および８０８が、互いに実質的に等しい高さを有し、かつ横断部分８１０と異なる場合、開口部８２０および８２２内に形成された層が、開口部８２４内に形成された層と異なった厚さを有しても有さなくてもよい。たとえば、青色発光層を開口部８２０内に形成することができ、緑色発光層を開口部８２２内に形成することができ、赤色発光層を開口部８２４内に形成することができる。
【０１１３】
他の実施形態において、紫外電磁放射線、赤外電磁放射線、および可視光などの電磁放射線を放出するかこれに応答するために、他の液体組成物を使用することができる。図８の電子デバイスのために使用することができる、有機層を含む液体組成物および印刷線は、本明細書中で先に説明した。
【０１１４】
別の実施形態において、構造は、ずれた開口部のベクトルを規定することができる。図９は、例示的な構造の開口部の例示的なパターンの図を含む。構造９０４が、基板９０２の上にあり、複数の組の開口部９０６を規定する。ベクトル９１０に沿って配置された開口部９０６は、ベクトル９１０に平行なベクトルに沿って配置された開口部９０６からずれていることができる。たとえば、開口部９０６は、斜めのベクトル９０８に実質的に平行なベクトル、および行ベクトル９１０に実質的に平行なベクトルと整列することができる。この例において、液体組成物を、ベクトル９１０に平行な、またはベクトル９０８に平行なベクトルで、分配することができる。
【０１１５】
さらに他の実施形態（図示せず）において、他の電子デバイスを形成することができる。たとえば、パッシブマトリックスディスプレイを形成することができる。第１の電極が、互いに実質的に平行な長さを有するストリップであることができる。横断部分のない、図８の長手方向部分は、カソードセパレータであることができる。第２の電極は、互いに実質的に平行な、かつ第１の電極のためのストリップに実質的に垂直な長さを有する第２の電極のストリップと置換えられる。別の実施形態において、電子構成要素は、放射線センサなど、放射線に応答することができる。電子構成要素への、または電子構成要素からの放射線を、基板（「ボトムエミッション」）を、またはリッド（「トップエミッション」）を透過させることができる。第１および第２の電極の位置は逆であることができ、それにより、カソードは、アノードと比較して、基板により近い。
【０１１６】
（４．利点）
１つの例示的な実施形態において、ここで説明されるプロセスを用いて、液体組成物を、隣接した平行なベクトルに沿って配置された開口部内にこぼすことなく、横断部分の上に、および構造のベクトルに沿って配置された開口部の間に印刷することができる。
【０１１７】
別の例示的な実施形態において、ここで説明されるプロセスを用いて、連続層を有する線を形成することができる。そのような連続層は、ＰＥＤＯＴまたはＰＡＮＩのスルホン化されたものを含有するような電荷輸送層を介する電極間の漏れ経路の形成を防止することができる。
【０１１８】
さらに例示的な実施形態において、ここで説明されるプロセスを用いて、より速い処理、および電子構成要素の形成の間のより良好な線幅制御をもたらすことができる。
【０１１９】
一般的な説明または例において上で説明された活動のすべてが必要とされるわけではないこと、特定の活動の一部を必要としなくてもよいこと、および、説明されたものに加えて、１つまたは複数のさらなる活動を行ってもよいことに留意されたい。さらに、活動が記載された順序は、必ずしも、それらが行われる順序ではない。本明細書を読んだ後、当業者は、どんな活動を特定の要求または望みのために用いることができるかを定めることができるであろう。
【０１２０】
先の明細書において、本発明を特定の実施形態に関して説明した。しかし、当業者は、特許請求の範囲に記載されるような本発明の範囲から逸脱することなく、１つまたは複数の修正または１つまたは複数の他の変更を行うことができることを理解する。したがって、明細書および図は、限定的な意味ではなく例示的な意味でみなされるべきであり、いかなるおよびすべてのそのような修正および他の変更が、本発明の範囲内に含まれることが意図される。
【０１２１】
任意の１つまたは複数の利益、１つまたは複数の他の利点、１つまたは複数の問題の１つまたは複数の解決策、またはそれらの任意の組合せを、１つまたは複数の特定の実施形態に関して上で説明した。しかし、利益、利点、問題の解決策、または、いかなる利益、利点、または解決策が生じるかより顕著になることを引起し得るいかなる要素も、特許請求の範囲のいずれかまたはすべての、重要な、必要な、または本質的な特徴または要素と解釈されるべきではない。
【０１２２】
明確にするため、別個の実施形態に関連して上でおよび下で説明される本発明のいくつかの特徴を、また、１つの実施形態において組合せで提供することができることが理解されるべきである。逆に、簡潔にするため、１つの実施形態に関連して説明される本発明のさまざまな特徴を、また、別個に、または任意のサブコンビネーションで提供することができる。さらに、範囲内に記載された値への言及は、その範囲内のどの値も含む。
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】構造が基板の上にあり１組の開口部を規定する例示的な電子デバイス形成する際のプロセスの間の基板の部分を含む、それぞれ斜視図および断面図の図を含む。
【図２】構造が基板の上にあり１組の開口部を規定する例示的な電子デバイス形成する際のプロセスの間の基板の部分を含む、それぞれ斜視図および断面図の図を含む。
【図３】例示的な電子デバイス形成する際の分配プロセスの間の断面図の図を含む。
【図４】図１に示された例示的な電子デバイスのための、線の幾何学的形状の有機層を印刷した後の断面図の図を含む。
【図５】図１に示された例示的な電子デバイスのための、線の幾何学的形状の有機層を印刷した後の断面図の図を含む。
【図６】図４および図５の基板の上に、線の幾何学的形状の付加的な有機層、および第２の電極を形成した後の、それぞれ平面図および断面図の図を含む。
【図７】図４および図５の基板の上に、線の幾何学的形状の付加的な有機層、および第２の電極を形成した後の、それぞれ平面図および断面図の図を含む。
【図８】異なった高さを有する横断部分を含む代替構造の斜視図の図を含む。
【図９】電子デバイスを形成する際に使用することができる代替印刷パターンの斜視図の図を含む。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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