(57)【要約】  外面（２４）を有している記録担体（２２）を走査する本発明光学走査装置は、放射（３）を発生するよう配置した放射源系（２）と、出口面（４５）を有して、前記放射源系と前記記録担体との間に配置した対物レンズ系と、前記記録担体との相互作用の後、放射から検出される情報を表す検出信号を発生する放射検出装置と、前記対物レンズ系の出口面と前記記録担体の外面との間のギャップ寸法を制御し、前記ギャップ間で放射のエバネッセント結合を生ぜしめる位置制御系（４２）と、を具える。本発明光学走査装置は、検出信号を処理して、記録担体の走査中、装置の特性を制御に適したエラー信号を発生するよう構成し、前記エラー信号は、ギャップ寸法を制御する位置制御系が使用する第１エラー信号（Ｅ１）を含む。本発明光学走査装置は、ギャップ寸法を制御する位置制御系が使用する、第１エラー信号とは異なる第２エラー信号（Ｅ２）を発生するよう構成したことを特徴とする。
2008511090.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外面を有する記録担体を走査する光学走査装置であって、
ａ）放射を発生するよう構成した放射源系と、
ｂ）出口面を有し、前記放射源系と前記記録担体との間に配置した対物レンズ系と、
ｃ）前記記録担体との相互作用の後、放射から検出される情報を表す検出信号を発生する放射検出装置と、
ｄ）前記対物レンズ系の出口面と前記記録担体の外面との間のギャップ寸法を制御するため、前記ギャップ間で放射のエバネッセント結合を生ぜしめる位置制御系と
を具え、記録担体走査の処理中、光学走査装置の特性を制御するのに適したエラー信号を発生させるよう前記検出信号を処理するよう構成し、前記エラー信号は、前記ギャップ寸法を制御するよう前記位置制御系が使用する第１エラー信号を含むものとした該光学走査装置において、
前記光学走査装置を、前記ギャップ寸法を制御するよう位置制御系が使用する、前記第１エラー信号とは異なる第２エラー信号を発生するよう構成したことを特徴とする光学走査装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光学走査装置において、前記位置制御系は、前記第１エラー信号または前記第２エラー信号を選択的に用いて前記ギャップ寸法を制御するよう構成し、前記位置制御系は、前記ギャップ寸法が比較的小さい場合には前記第１エラー信号を用い、前記ギャップ寸法が比較的大きい場合には前記第２エラー信号を用いる構成とした光学走査装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学走査装置において、前記位置制御系は、前記光学走査装置が前記記録担体のデータ領域を走査するとき、走査手順の処理中、効率的なエバネッセント結合を維持するよう前記ギャップ寸法を制御するために、前記第１エラー信号を用いる構成とした光学走査装置。
【請求項４】
請求項１、２又は３に記載の光学走査装置において、前記ギャップ間に効率的なエバネッセント結合を生じない第１の位置から前記ギャップ間に効率的なエバネッセント結合を生ずる第２の位置まで、前記位置制御系が前記記録担体に対して前記対物レンズ系を移動させるスタートアップ手順の処理中に、前記ギャップ寸法を制御する前記第２エラー信号を用いるよう前記位置制御系を構成した光学走査装置。
【請求項５】
請求項４に記載の光学走査装置において、前記位置制御系は、サーボ制御系を有するものとし、前記位置制御系は、前記スタートアップ手順の処理中に、前記サーボ制御系への入力として前記第２エラー信号を用いるよう構成した光学走査装置。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の光学走査装置において、前記位置制御系は、サーボ制御系を有するものとし、前記位置制御系は、前記スタートアップ手順の処理中、前記サーボ制御系を使用する前に、前記記録担体への前記対物レンズ系のアプローチを制御するのに前記第２エラー信号を用いるよう構成した光学走査装置。
【請求項７】
請求項４、５又は６に記載の光学走査装置において、前記位置制御系はサーボ制御系を有するものとし、前記位置制御系は、前記スタートアップ手順の処理中、前記サーボ制御系への引き継ぎを制御するのに前記第２エラー信号を用いるよう構成した光学走査装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学走査装置において、前記光学走査装置は、複数個の検出光路を有するものとし、前記第１エラー信号を第１検出光路における第１の放射から導き出し、第２エラー信号を第１検出光路とは異なる第２検出光路における第２の放射から導き出す構成とした光学走査装置。
【請求項９】
請求項８に記載の光学走査装置において、前記第１の放射及び前記第２の放射は、互いに直交する偏光極性に偏光する構成とした光学走査装置。
【請求項１０】
外面を有し、光学走査装置に使用する記録担体において、前記光学走査装置は、
ａ）放射を発生するよう構成した放射源系と、
ｂ）出口面を有し、前記放射源系と前記記録担体との間に配置した前記対物レンズ系と、
ｃ）前記記録担体との相互作用の後、放射から検出される情報を表す検出信号を発生する放射検出装置と、
ｄ）前記対物レンズ系の出口面と前記記録担体の外面との間のギャップ寸法を制御するよう、前記ギャップ間における放射のエバネッセント結合を生ぜしめる第１位置制御系と、
ｅ）記録担体の外面にわたり前記対物レンズ系を位置決めする第２位置制御系と
を備えたものとし、
前記記録担体は、前記第２位置制御系を使用して前記対物レンズ系を位置決めできる走査領域を有する構成とし、
前記走査領域は、
所定の幅を有するデータトラックにデータを記憶する１個以上のデータ領域と、
走査特性を規定するよう構成した１個以上の非データ領域であって、これにより前記放射検出装置は前記第２位置制御系が前記ギャップ寸法を制御するのに用いるエラー信号を発生することができ、前記所定のデータトラック幅よりも大きい幅を有する１個以上の該非データ領域と
を有する走査領域と
を備えたことを特徴とする記録担体。
【請求項１１】
請求項１０に記載の記録担体において、前記走査領域は複数個のデータ領域を有するものとし、少なくとも１個の非データ領域を、前記複数個のデータ領域のうち２個のデータ領域間に配置した記録担体。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載の記録担体において、前記走査領域は、複数個のデータ領域を有するものとし、少なくとも１個の非データ領域を、前記外面にわたる異なる位置に配置した記録担体。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の記録担体の走査方法であって、前記光学走査装置を用いて前記記録担体を走査する該方法において、
前記第２位置制御系を使用して非データ領域に前記対物レンズ系を位置決めするステップと、
前記放射の前記非データ領域との相互作用によって発生するエラー信号を用いて前記ギャップ寸法を制御するのに第１位置制御系を使用するステップと
よりなることを特徴とする記録担体の走査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は記録担体を走査する光学走査装置に関し、特に放射のエバネッセント結合を利用して記録担体を走査する光学走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
発明の背景
高密度光学走査装置の特別なタイプでは、記録担体の情報層上の走査点に放射ビームの焦点を合わせる（合焦する）ために固体浸レンズ（ＳＩＬ）が用いられる。ＳＩＬの出口面と記録担体の外面との間のギャップの所定サイズ（例えば２５ｎｍ）は、ＳＩＬから記録担体にいたる放射ビームにエバネッセント結合を生ずるのが望ましい。エバネッセント結合は、不満足な全反射（Frustrated Total Internal Reflection,ＦＴＩＲ）と称される場合がある。このような系は近接場系として既知であり、近接場系という名前は、ＳＩＬの出口面でエバネッセント波によって形成される近接場に由来する。代表的な光学走査装置は、青色レーザで約４０５ｎｍの波長を有する放射ビームを放つ放射源を使用する。
【０００３】
記録担体を走査する間、ＳＩＬの出口面と記録担体の外面と間のエバネッセント結合を維持すべきである。このエバネッセント結合の効率は、出口面と外面との間のギャップ寸法の変化とともに変動する。所要ギャップ寸法から遠ざかってギャップが増大するにつれ、結合効率は低下する傾向があり、それ故に走査点の質もまた低下する。走査手順の処理に記録担体からのデータの読込みが含まれる場合、例えば、この効率の低下によりデータ信号にエラーが入り込み、読込まれているデータの質を低下させる恐れがある。
【０００４】
近接場系の機械的公差範囲は小さく、このような系の構成部材の設計及び動作に厳しい規制及び制限が課される。効率的なエバネッセント結合に必要とされる小さなギャップ寸法は、これら小さい公差範囲をもたらすのに役立つ。
【０００５】
光学走査装置が記録担体の走査手順の処理を行う前には、スタートアップ手順が通常行われる。記録担体からのデータ読込み又はデータ書込みのような走査手順が高品質で行われるよう、このようなスタートアップ手順により、確実に、光学走査装置の構成部材（コンポーネント）を適正に位置決めする。
【０００６】
スタートアップ手順では、スタンバイ位置から走査位置に走査装置の対物レンズ系を移動させる処理がある。この処理には、開ループ操作を用いるアプローチ手順と、閉ループ操作を用いるプルイン手順との組合せを含むことができ、これにより確実に対物レンズ系と記録担体との間のギャップ寸法が走査手順のために最適化される。例えば、走査用記録担体が光学走査装置に配置されていない場合、または装置への給電が遮断もしくはスタンバイモードにセットされている場合、または記録担体を挿入する走査装置の開口部が開いている場合に、対物レンズ系はスタンバイ位置をとる。スタンバイ位置においては、対物レンズ系の繊細な光学コンポーネントを、例えば衝撃、かき傷、および、例えば、ほこりによるいかなる汚染からも保護するよう、対物レンズ系を配置する。
【０００７】
このようなプルイン手順を行う光学走査装置は、ソニー社によって開示されており、ここに参考までに付記するとＴ.イシモト他によるサンタフェにおける光学データストレージ２００１の学会会報を参照されたい。この光学系は、対物レンズ系と記録担体との間のギャップ寸法を調整するためのプルイン手順および走査手順の処理中、双方で用いられるギャップエラー信号（ＧＥＳ）を発生させる。このＧＥＳは、ギャップ寸法を調整するサーボ系を制御するために用いられる。プルイン手順において、対物レンズ系はサーボ系によって走査手順に最適の位置に移動される。このＧＥＳは、比較的小さいギャップ寸法に対応する対物レンズ系の位置のサーボ系に情報を提供する。比較的大きいギャップ寸法に対応するスタンバイ位置における対物レンズ系では、ＧＥＳは対物レンズ系の位置のサーボ系に情報を提供しない。アプローチ手順の処理中、比較的大きいギャップ寸法に対して、記録担体に向けた対物レンズ系の動きは制御されない。結果として、対物レンズ系は最適位置を越えて移動し、記録担体と衝突することすらある。このような衝突は、結果として対物レンズ系又は記録担体の損傷又は障害となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
発明の開示
本発明の目的は、記録担体に対して対物レンズ系を正確に、効果的に位置決めすることによって、エバネッセント結合を利用して記録担体を最適に走査するための光学走査装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の第１の発明は、外面を有する記録担体を走査するための光学走査装置を提供し、この光学走査装置は、
ａ）放射を発生するよう構成した放射源系と、
ｂ）出口面を有し、前記放射源系と前記記録担体との間に配置した対物レンズ系と、
ｃ）記録担体との相互作用の後、放射から検出される情報を表す検出信号を発生する放射検出装置と、
ｄ）対物レンズ系の出口面と記録担体の外面との間のギャップ寸法を制御するための、前記ギャップ間で放射のエバネッセント結合生ぜしめる位置制御系と
を具え、記録担体走査の処理中、光学走査装置の特性を制御するのに適したエラー信号を発生させるよう検出信号を処理するよう構成し、前記エラー信号は、前記ギャップ寸法を制御するよう位置制御系が使用する第１エラー信号を含むものとした該光学走査装置において、
前記光学走査装置を、前記ギャップ寸法を制御するよう位置制御系が使用する、前記第１エラー信号とは異なる第２エラー信号を発生するよう構成したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
ギャップ寸法を制御するために２個の異なるエラー信号を設けることによって、記録担体に対する対物レンズ系の位置決めは向上する。即ち、２個の異なるエラー信号は、このような位置決めを行う異なる手順の処理中、選択的に使用され得る異なる特性を有する。
【００１１】
記録担体を走査するためのエバネッセント結合を利用する近接場系のために、確実に効率的なエバネッセント結合を生ずるよう対物レンズ系を記録担体に対して最適位置に位置決めすることは重要である。これにより、例えば記録担体にデータを書込む際又は記録担体からデータを読込む際に、記録担体の走査が確実に高品質で行われる。対物レンズ系の最適位置決めは、比較的大きいギャップ寸法に対応する位置から記録担体に極めて近い比較的小さいギャップ寸法に対応する位置まで制御の下で対物レンズ系を移動することを含む。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の実施の形態において、前記位置制御系は、前記ギャップ間で効率的なエバネッセント結合を生じない第１の位置から前記ギャップ間で効率的にエバネッセント結合を生ずる第２位置まで、前記記録担体に対して前記対物レンズ系を移動するスタートアップ手順の処理中に、前記ギャップ寸法を制御する前記第２エラー信号を用いるよう前記位置制御系を構成する。
【００１３】
記録担体を走査する間、ギャップ寸法を制御するために第１エラー信号を用いるとともに、対物レンズ系のスタートアップ手順の処理中、ギャップ寸法を制御するのに適した第１エラー信号とは異なる第２エラー信号を用いることを実現した。記録担体付近で比較的初期に検出される可能性がある第２エラー信号を用いて、スタートアップ手順の改良が可能である。即ち、スタートアップ手順の処理中、対物レンズ系を記録担体へ移動する間、衝突の危険を減少させながらも、比較的大きいギャップ寸法に対応する位置から記録担体を走査するために最適な位置に、制御の下で正確に、対物レンズ系を比較的迅速に移動することが可能である。
【００１４】
本発明の他の発明によれば、外面を有しており、光学走査装置に用いられる記録担体を提供し、前記光学走査装置は、
ａ）放射を発生するよう構成した放射源系と、
ｂ）出口面を有し、前記放射源系と前記記録担体との間に配置した前記対物レンズ系と、
ｃ）記録担体との相互作用の後、放射から検出される情報を表す検出信号を発生する放射検出器装置と、
ｄ）対物レンズ系の出口面と記録担体の外面との間のギャップ寸法を制御するよう、前記ギャップ間における放射のエバネッセント結合を生ぜしめる前記位置制御系と、
ｅ）ディスクの外面にわたり前記対物レンズ系を位置決めする第２位置制御系と
を備えたものとし、
前記記録担体は、前記第２位置制御系を使用して前記対物レンズ系を位置決めできる走査領域を有する構成とし、
前記走査領域は、
所定の幅を有するデータトラックにデータを記憶する１個以上のデータ領域と、
走査特性を規定するよう構成した１個以上の非データ領域であって、これにより前記放射検出装置は前記第２位置制御系が前記ギャップ寸法を制御するのに用いるエラー信号を発生することができ、前記所定のデータトラック幅よりも大きい幅を有する１個以上の非データ領域と
を有する走査領域と
を備えたことを特徴とする。
【００１５】
平坦な、またはいわゆる「ミラー面」若しくはプレグルーブと称される非データ領域により得られる制御エラー信号により、第１位置制御系は正確に、制御可能に記録担体を走査するのに最適な位置に対物レンズ系を移動する。
【００１６】
本発明の他の発明は、前記光学走査装置を用いた前記記録担体を走査する記録担体の走査方法を提供し、この方法は、
前記第２位置制御系を用いた非データ領域に前記対物レンズ系を位置決めするステップと、
前記放射の前記非データ領域との相互作用によって発生する制御エラー信号を用いて前記ギャップ寸法を制御するのに前記第１位置制御系を使用するステップと
よりなることを特徴とする。
【００１７】
第２の位置制御系を使用して対物レンズ系を位置決めすることにより、走査手順の処理中に、エバネッセント結合のための対物レンズ系の位置が得られる前に、ギャップ寸法は記録担体の非データ領域の走査により得られたエラー信号を用いて第１位置制御系によって効果的に制御される。
【００１８】
本発明の更なる特徴及び効果を、以下、図面につき本発明の好適な実施例を説明するが、これら実施例は、単に例示的なものである。
【実施例】
【００１９】
発明の詳細な説明
図１は、本発明の実施例による記録担体を走査する光学走査装置を線図的に示す。
【００２０】
光学走査装置には、放射を発生するよう構成した放射源系を設ける。この実施例においては、放射源をレーザ２とし、放射は、例えば約４０５ｎｍのような所定の波長λを有する放射ビーム３とする。光学走査装置のスタートアップ手順及び記録担体走査手順の双方を行う間、放射ビーム３は光学走査装置の光軸（図示せず）に沿って通過し、コリメータレンズ４により平行化し、その断面強度分布をビーム整形器６によって整形する。放射ビーム３は、その後、非偏光ビームスプリッタ８を通過し、つぎに偏光ビームスプリッタ１０を通過し、第１焦点調整レンズ１２と第２焦点調整レンズ１４との間に生ずる焦点を有する。焦点調整方向１５方向に第１焦点調整レンズ１２を移動することにより、記録担体上における放射ビーム３の焦点位置の最適調整が得られる。光学走査装置の対物レンズ系２０は、対物レンズ１６を有し、この対物レンズにより放射ビーム３に合焦ウェーブフロントをもたらす。対物レンズ系２０は、更に、支持フレーム１９によって対物レンズ１６に固定した固体浸レンズ（ＳＩＬ）１８を有する。この実施例において、ＳＩＬ１８は、外面２４に対向する出口面４５を有する円錐超半球形状である。ＳＩＬのＮＡは１．９である。
【００２１】
支持フレーム１９により、ＳＩＬ１８に対する対物レンズ１６の整列と距離間隔の維持が確実となる。対物レンズ系は、平面な出口面を有し、この出口面は、ＳＩＬ１８の出口面４５である。焦点を導いた後、放射ビームは対物レンズ系２０を通過し、記録担体２２上に放射ビームスポットを形成する。記録担体２２に入射する放射ビームは直線偏光を有する。
【００２２】
光学走査装置によって走査される記録担体２２は、光学走査装置内の装着素子２３上に配置する。装着素子２３はクランプ装置（図示せず）を有し、このクランプ装置により、走査中、記録担体２２を装着素子２３上で動かないよう所定位置に正しく保持する。記録担体２２を所定位置に不動に保持した状態で、装着素子２３は、記録担体２２のデータトラックを走査するのに使用する放射走査スポットに対する記録担体の相対的な並進移動、図示の実施例では記録担体２２の回転を生ずる。記録担体２２は、ＳＩＬ１８の出口面４５に対向する外面２４を有する。図示の実施例において、記録担体２２をシリコンで形成し、外面２４は記録担体２２の情報層の表面であって、放射ビームはこの外面２４を経て記録担体２２に入射する。対物レンズ系２０は放射源２と記録担体２２との間に配置し、出口面４５と外面２４との間のギャップは、光軸ＯＡに一致する方向の出口面４５と外面との間の距離であるギャップ寸法を有する。
【００２３】
例えば、記録担体上の記録可能な最大情報記録密度は、情報層上の走査位置に焦点を合わせた放射スポットの寸法に反比例する。最小のスポット寸法は、２個の光学パラメータ、即ち放射の波長λと、対物レンズ系の開口数（ＮＡ）との比によって決定する。ＳＩＬのような対物レンズのＮＡは、ＮＡ＝ｎｓｉｎ（θ）で定義される（ただし、ｎは放射ビームが集点を合わせる媒質の屈折率、θはその媒質における放射の合焦円錐角の半分の角度とする）。空気中または平面記録担体のような平面が平行なプレートを通過して焦点を合わせる対物レンズのＮＡの上限値が１であることは明白である。放射ビームが高屈折率の媒質内で合焦し、かつレンズと対象物と間の媒質‐空気‐媒質の界面で屈折することなく対象物に通過する場合、レンズのＮＡは１以上にすることができる。このことは、例えば、半球形状のＳＩＬの出口面の中央の焦点を合わせ、ＳＩＬを対象物に近接配置することで達成できる。この場合、実効的なＮＡは、ＮＡｅｆｆ＝ｎＮＡ０となる（ただし、ｎは半球レンズの屈折率、ＮＡ０ は合焦レンズの空気中でのＮＡとする）。更にＮＡを増大させることができる可能性としては、超半球形状のＳＩＬであって、放射ビームを光軸の方へ屈折させ、超半球の中心の下方に合焦する超半球形ＳＩＬを使用することがある。後者の場合、実効的なＮＡは、ＮＡｅｆｆ ＝ｎ２ＮＡ０ となる。１よりも大きい実効的なＮＡｅｆｆ は、エバネッセント波が存在するＳＩＬの出口面から極めて短い距離（近接場とも称される）の範囲内にのみ存在することに注目されたい。この実施例においては、出口面は、対象物上に放射が入射する前の対物レンズ系の最後の屈折面である。この短い距離は、放射ビームの波長λの１／１０に等しい、もしくはそれ以下とするのが好ましい。
【００２４】
対象物が光学記録担体であり、かつ光学記録担体の外面をこの短い距離の中に配置する場合、放射はエバネッセント結合によってＳＩＬから記録担体まで透過する。このことは、記録担体の書込み又は読出しの間、ＳＩＬと記録担体と間のギャップ寸法が数十ナノメートルよりも小さい、例えば、波長λが約４０５ｎｍ、対物レンズ系のＮＡが１．９である放射ビームを発生させるために青色レーザ放射源を使用する系の場合には、約２５ｎｍとなることを意味する。
【００２５】
光学走査装置は、複数の検出光路を含む。第１検出光路には、検出放射ビームを第１検出器３０上に合焦するよう、反射ミラー２６、および集光レンズ２８を配置する。
【００２６】
第１検出光路とは異なる第２検出光路には、検出放射ビームを第２検出器３６上に合焦するよう配置した非偏光性ビームスプリッタ３２及び集光レンズ３４、並びに検出放射ビームを第３検出器４１上に合焦するよう配置した反射ミラー３８及び集光レンズ４０を設ける。
【００２７】
第１検出器３０、第２検出器３６および第３検出器４１は、記録担体２２との相互作用の後、放射で検出した情報を表す検出信号を発生する放射検出装置を構成する。
【００２８】
第２検出光路に沿って通過する一部の反射光線は、非偏光ビームスプリッタ３２及び集光レンズ３４を経て第２検出器３６に達する。第２検出器３６の信号処理回路は、読出し手順の処理中、記録担体２２上のデータトラックを走査する間に発生する主データ信号３７を処理するよう構成する。
【００２９】
光学走査装置は、第１検出器３０および第２検出器３６が電気的に接続される第１位置制御系４２を有する。第１位置制御系４２は、対物レンズ系の出口面４５と記録担体２２の外面２４と間のギャップ寸法を制御するよう構成する。
【００３０】
第１位置制御系４２は、サーボ制御系（図示せず）およびアクチュエータ４３を有する。アクチュエータ４３は、ギャップ寸法調整方向４４に対物レンズ系２０を移動するよう構成する。図示の実施例において、アクチュエータを、複数の永久磁石および誘導コイルにより構成する。コイルは、永久磁石の磁界中に位置決めする。コイルは電流を導き、ギャップ寸法調整方向４４に対物レンズ系２０を移動しうる作用力を発生する。代案として、アクチュエータを、対物レンズ系２０を移動する作用力を発生させる圧電アクチュエータにより構成することもできる。第１位置制御系４２は、対物レンズ系２０を効率的なエバネッセント結合が発生する位置に移動するようアクチュエータ４３を制御することによって、ギャップ間における放射のエバネッセント結合を行う。
【００３１】
放射の検出器３０，３６，４１は、記録担体を走査する間、検出器が装置の特性を制御するエラー信号を発生するための検出信号を処理するよう構成した信号処理回路（図示せず）を有する。エラー信号は、第１検出光路に沿って通過する放射から得られ、ギャップ寸法を制御する第１位置制御系４２が使用する第１エラー信号Ｅ１ を含む。さらに、このエラー信号は、第２検出光路に沿って通過する放射から得られ、ギャップ寸法を制御する第１位置制御系４２が使用する第２エラー信号Ｅ２ をも含む。第１検出光路に沿って通過する放射、および第２検出光路に沿って通過する放射は、互いに直交する方向に各々偏光する。
【００３２】
光学走査装置には、さらに、記録担体２２の外面４５にわたる対物レンズ系２０の半径方向位置を制御する第２位置制御系（図示せず）を設ける。第２位置制御系は、スタートアップ手順の処理に先立っての対物レンズ系２０の位置決め用および走査中の粗いトラッキング用の線形変位機構又は回転アーム等の粗調整位置決め機構と、トラッキングアクチュエータ等の走査中の微細トラッキング用の微調整位置決め機構とを有する。第３検出器４１は、プッシュプル検出器であって、このプッシュプル検出器は、記録担体２２のデータトラック上の走査放射スポットの半径方向トラッキングを維持するのに第２位置制御系が使用するプッシュプルエラー信号３９を発生する信号処理回路を有する。
【００３３】
図２は、記録担体の構造を線図的に示したものであり、この記録担体は図示の実施例においては光ディスクであって、半径方向に広がる走査領域４６を有する。第２位置制御系を使用し、この走査領域に対物レンズ系２０を位置決めし、記録担体２２の所望点を走査する。この走査領域は、１個以上のデータ領域４８を有し、このデータ領域４８において、情報層がデータトラック（図示せず）にデータを記憶し得るようにする。データ領域４８内の各々のデータトラックは、記録担体の半径ｒと一致する方向に所定幅（図示せず）を有する。記録担体２２は、さらに、１個以上の非データ領域を有し、この非データ領域では、情報層が平坦（いわゆる「ミラー面」と称される）もしくはプレグルーブであり、ふらつきを有する場合があり、第１または第２エラー信号Ｅ１ ，Ｅ２ の変調を生ずるいかなる構造体も有さない。図示の実施例において、２つの非データ領域５０，５２は、放射検出装置がエラー信号、図示の実施例においては、第１位置制御系４２がギャップサイズ寸法を制御しうる第２エラー信号Ｅ２を発生させることができる走査特性を付与する。１個以上の非データ領域５０、５２は、それぞれ所定のデータトラック幅より大きい半径方向の幅を有する。このことにより、非データ領域５０、５２を走査するとき、たとえ放射ビームスポットが外面２４上のトラック幅内に正確に位置決めされていないときでさえ、エラー信号が供給される許容範囲を生ずる。スタートアップ手順の処理を行う前には、微調整トラッキングは不可能であり、粗調整トラッキングのみが第２位置制御系によってトラック幅の１０倍又は１００倍又はそれ以上の精度で行われる。非データ領域５０、５２は、第１又は第２エラー信号Ｅ１ ，Ｅ２ の変調をもたらすいかなる構造上の特徴も有さない。
【００３４】
本発明の好適な実施例において、記録担体２２の走査領域４６は複数個のデータ領域４８を有し、少なくとも１個の非データ領域は複数個のデータ領域４８のうち２個間に位置する。このようにして、非データ領域はスタートアップ手順の処理中に使用でき、走査すべき目標データトラックに対して、記録担体上における目標データトラックの位置に関係なく、スタートアップの後、比較的速やかに到達できる。この実施例において、走査領域４６は外面２４にわたる異なる位置にある第１および第２の非データ領域５０，５２を含む複数個の非データ領域を有する。この実施例において、第１および第２の非データ領域５０，５２は、同心状であり、外面２４にわたる異なる半径方向位置にある。このようにして、目標データトラックへは、スタートアップ手順の処理中に使用する目標データトラックの近さに応じて選択される非データ領域５０，５２にアクセスすることによって、より速く到達できる。
【００３５】
図３Ａおよび図３Ｂには、本発明の実施例による、光学走査装置のスタートアップ手順および走査手順のステップを示す。
【００３６】
この実施例による光学走査装置のスタートアップ手順の間、第１位置制御系は、ギャップ寸法を制御する第２エラー信号Ｅ２を用いるよう構成する。スタートアップ手順は、アプローチ手順と、個別のプルイン手順をそれぞれ有する。アプローチ手順は開ループ操作を利用する。プルイン手順はサーボ制御装置の閉ループ操作を利用する。スタートアップ手順では、放射源２により発生した放射ビーム３を外面２４上に、上述したように、放射ビームスポットとして指向する。第２位置制御系は、対物レンズ系２０の位置を変化させ、放射ビームスポットが記録担体２２の非データ領域５０，５２等のうち１個に確実に入射させる。
【００３７】
スタートアップ手順では、記録担体２２に関連して、対物レンズ系２０をギャップ寸法調整方向４４に沿って移動させる。対物レンズ系２０を第１の位置から第２の位置まで移動させる。スタンバイ位置である第１の位置では、出口面４５と外面２４との間のギャップで放射の効果的なエバネッセント結合は生じない。走査に最適な位置である第２の位置では、ギャップに放射の効率的なエバネッセント結合を生ずる。
【００３８】
スタートアップ手順の最初のステップ５４におけるアプローチ手順の間、第１位置制御系は、第１の位置から外面２４に向かう対物レンズ系２０のアプローチを制御する第２エラー信号Ｅ２を用いるよう構成する。このアプローチは、ギャップ寸法調整方向４４に沿って行われる。第１位置制御系は、ギャップ寸法の制御前に、サーボ制御装置によってこのアプローチを制御する。
【００３９】
最初のステップ５４の間、放射ビームのエネルギーの比較的高い部分は、非データ領域５０，５２と相互作用する。この実施例において、この相互作用とは非データ領域５０，５２のうち１個による反射のことである。さらに、比較的大きいギャップ寸法では、このギャップでの効率的なエバネッセント結合を生じない。この結果、エネルギーの比較的高い部分は、ＳＩＬ１８における内部全反射（ＴＩＲ）のために出口面４５によっても反射される。エネルギーの比較的低い部分は、記録担体２２によって吸収され、外面２４を透過した後に記録担体２２によって吸収される。エネルギーの比較的低い部分は、記録担体２２を形成する材料により吸収される。エネルギーの比較的低い部分は、さらに、外面２４自体によっても吸収され、これは、エネルギーの比較的低い部分の入口となる層２４および情報層（ピット及びエンボス加工等）のうちいずれか一方の構造的特徴との相互作用の際に生ずるエネルギーの比較的低い部分の相殺的干渉に起因する。
【００４０】
光線の反射した部分は、光軸ＯＡに沿って、対物レンズ系２０、第２および第１の焦点調整レンズ１４，１２を通過し、偏光ビームスプリッタ１０を経て、第１検出器３０への第１検出光路に沿って、反射ミラー２６および集光レンズ２８を通過する。第１検出器３０に入射する反射光線の放射は、ある放射強度を有する。第１検出器３０は、この放射強度を検出し、第１エラー信号Ｅ１ を発する。第１エラー信号Ｅ１ の大きさは放射強度の大きさに関係しているため、結果として、比較的大きい放射強度を有する放射の場合は比較的強い第１エラー信号Ｅ１ を発する。第１検出光路に沿って通過する放射線は、記録担体２２に入射する放射ビームの偏光極性に直交する偏光極性を有する。第１エラー信号Ｅ１ は、上述したとおり、この実施例の走査手順の処理中に使用される。
【００４１】
第１検出光路に沿って通過しない反射光線の部分は、偏光ビームスプリッタ８を経て、第２検出器３６への第２検出光路に沿って、非偏光ビームスプリッタ３２および集光レンズ３４を通過する。第２検出器３６に入射する反射光線の放射は、ある放射強度を有する。第２検出器３６は、この放射強度として非データ領域５０，５２のうち１個の走査によって得られるエラー信号を検出し、第２エラー信号Ｅ２ を発生する。第２エラー信号Ｅ２ の大きさは放射強度の大きさに関係しているため、結果として、比較的大きい放射強度を有する放射の場合は比較的強い第２エラー信号Ｅ２ を発生する。第２検出光路に沿って通過する放射線は、記録担体２２に入射する放射ビームの偏光極性に平行な偏光極性を有する。
【００４２】
次のステップ５６では、第１位置制御系が第２エラー信号Ｅ２ をモニタする。対物レンズ系２０を記録担体２２に接近移動させ、ギャップ寸法が減少するにつれて、第２検出光路に沿う放射強度は増加する。この結果、第２エラー信号Ｅ２ の大きさも増大する。スタートアップ手順のこのステップ５６の間、外面２４上の放射ビームスポットは、合焦されない。従って、外面２４によって反射される全ての放射光線が対物レンズ系２０に向かって直接反射され、第２検出器３６に向かって通過するというわけではない。記録担体２２のより近くに対物レンズ系２０を移動すると、より多くの光線が対物レンズ系２０に向かって直接反射し、第２検出器３６を通過し、結果として、第２エラー信号Ｅ２ の大きさが増大する。
【００４３】
ステップ５８で第１位置制御系によって第２エラー信号Ｅ２ が第１閾値Ｔ１ に達していると確認されると、ステップ６０において、記録担体２２に向かって対物レンズ系２０を移動させる速度を減少する。第１閾値Ｔ１ は、放射光線のピーク量が対物レンズ系２０に向かって直接外面２４によって反射され、第２検出器３６によって検出されるときの、第２エラー信号Ｅ２ のピーク値に対応する。
【００４４】
ステップ６２では、第１位置制御系が、減速した速度で外面２４に向かって対物レンズ系２０を移動させつつ、第２エラー信号Ｅ２ をモニタする。ステップ６４で第１位置制御系により第２エラー信号Ｅ２ が第２閾値Ｔ２ に達したと認識すると、外面２４に向けて対物レンズ系２０を移動することによるギャップ寸法の制御は、ステップ６６でサーボ制御系の閉ループ操作に引き継がれる。第１位置制御系は、スタートアップ手順のプルイン手順の処理中、サーボ制御系への入力として第２エラー信号Ｅ２ を利用するよう構成する。第２閾値Ｔ２ は、ギャップ寸法が効率的なエバネッセント結合が出口面４５及び外面２４間のギャップに生ずる位置を対物レンズ系２０がとることを示す第２エラー信号Ｅ２ の大きさに対応する。第２エラー信号Ｅ２ が第２閾値Ｔ２ に対応する大きさを有している状態では、対物レンズ系２０の所定のセットポイント位置を、ステップ６８でサーボ制御系に入力する。所定のセットポイント位置は、外面２４に対する対物レンズ系２０の光軸ＯＡに沿う所要位置である。
【００４５】
サーボ制御系の閉じたフィードバックループでは、ステップ７０において、サーボ制御系は対物レンズ系２０の現在位置を制御するために第２エラー信号Ｅ２ を使用して外面２４に向けて対物レンズ系２０を移動する。サーボ制御系は第２エラー信号Ｅ２ をモニタする。サーボ制御系は、第２エラー信号Ｅ２ の大きさに基づいて対物レンズ系２０を外面２４に向けて移動させる速度を減少させる。ステップ７２では、第２エラー信号Ｅ２ の大きさから、対物レンズ系２０が所要セットポイント位置に達したか否かを、サーボ制御系が認識する。対物レンズ系２０が所要セットポイント位置に達したことを認識するまで、外面２４に向かう対物レンズ系２０の移動を続行する。所要セットポイントに達した時点で、ステップ７４において、サーボ制御系は、最終セットポイント位置に到達したか否かを判断する。最終セットポイント位置は、所要ギャップ寸法をもたらし、走査手順の処理中に、光学走査装置によって正確に記録担体２２を走査できるようにする、外面２４に対する対物レンズ系２０の光軸ＯＡに沿う位置に対応する。
【００４６】
最終セットポイントに達しない場合、ステップ６８において、さらに、サーボ制御系は、対物レンズ系２０の外面２４に近い位置に対応する異なる所要セットポイント位置を入力する。上述したのと同様に、ステップ７２では、この異なる他の所要セットポイントに達するまで、サーボ制御系は第２エラー信号Ｅ２ を用いて外面２４に向かう対物レンズ系２０の移動を制御する。ステップ７４では、サーボ制御系は、最終セットポイント位置に達したか否かを判断する。達していない場合、ステップ６８でサーボ制御系が反復して更に異なる他のセットポイント位置を入力し、上述した手法で外面２４に向けて対物レンズ系２０を移動する。新たなセットポイント位置を入力し、この新たなセットポイント位置に対物レンズ系２０を移動する反復処理は、サーボ制御系が最終セットポイントを通り越して対物レンズ系２０を移動し、外面２４に衝突するのを確実に防止する。
【００４７】
ステップ７４で、サーボ制御系が最終セットポイントに達したことを認識した後、ステップ７６でサーボ制御系は、その制御を第２エラー信号Ｅ２の利用する制御から、第１エラー信号Ｅ１を用いた制御に切り替える。
【００４８】
つぎに、ステップ７８で、光学走査装置は、例えば記録担体２２からのデータ読取り又はデータ書込みのような走査手順を行う。放射ビームスポットが記録担体２２の情報層のデータ領域４８のデータトラックに入射するように、走査手順の処理中、第２位置制御系は外面２４の表面に沿って対物レンズ系２０を移動する。装着素子２３は回転し、したがって、記録担体２２は放射ビームスポットに対して回転する。放射ビームスポットは、情報層２４上に合焦され、外面２４にわたるその位置は、第２位置制御系によって制御され、走査しているデータトラックに正確に追従する。放射ビームは情報層と相互作用し、放射ビーム光線は対物レンズ系２０に向けて情報層によって反射される。
【００４９】
上述した通り、一部のこれらの反射光は、第１検出器３０に向かう第１検出光路に沿って通過する。この反射された放射の大部分は、出口面４５及び外面２４での反射後に楕円偏光された状態になる。反射した放射が偏光子を通して観察される場合、これが周知の「マルタクロス（マルタ十字架）」パターンを形成する。信号処理回路は、第１検出器３０の検出信号に従って、第１エラー信号Ｅ１ を発生する。この生成は、マルタクロスパターンの全ての光を積分することによって行われる。第１エラー信号Ｅ１ は、低周波、例えば、約３０ｋＨｚのＤＣ周波数で、第１検出器３０によって検出される放射の部分から導出する。サーボ制御系は、第１エラー信号Ｅ１ を用いてギャップ寸法を制御する。サーボ制御系は第１エラー信号Ｅ１ をモニタし、走査手順の処理中、外面２４に対する対物レンズ系２０の位置が最終セットポイント位置から変動する場合、サーボ制御系はギャップ寸法調整方向４４に沿って対物レンズ系２０の位置を調整して所要ギャップサイズを維持する。ギャップ寸法のこの制御は、走査手順の処理中、効率的なエバネッセント結合を維持する。第１エラー信号Ｅ１ の大きさの変化は、サーボ制御系に対して、最終セットポイント位置からの対物レンズ系２０の位置変化を知らせる。
【００５０】
走査手順終了後、ステップ８０で、対物レンズ系２０を、ギャップ寸法調整方向４４に沿って、外面２４から離れる方向に移動する。対物レンズ系２０は、ギャップ間で効率的なエバネッセント結合を発生できない位置に移動される。この位置は、例えばスタンバイ位置である。
【００５１】
本発明の他の実施例において、スタートアップ手順の処理中、第１位置制御系は、第１エラー信号Ｅ１ 又は第２エラー信号Ｅ２ を選択的に用いてギャップ寸法を制御するよう構成する。ギャップ寸法が比較的小さい場合、第１位置制御系は第１エラー信号Ｅ１ を用いる。ギャップ寸法が比較的大きい場合、第１位置制御系は第２エラー信号Ｅ２ を用いてギャップ寸法を制御するよう構成する。この他の実施例のスタートアップ手順は、上述の実施例のスタートアップ手順に類似する。従って、２つの実施例の違いのみをここで説明する。スタートアップ手順の処理中、サーボ制御系は第２閾値Ｔ２ に達する際、ギャップ寸法調整方向４４に沿って外面２４に向けて対物レンズ系２０を移動し続ける。加えて、サーボ制御系は、第１のエラー信号Ｅ１ の大きさをモニタする。第１検出器３０は、非データ領域５０，５２のうち１個の非データ領域によって反射される放射を検出することによって、第１エラー信号Ｅ１ を発生する。第１エラー信号Ｅ１ が第３の異なる閾値Ｔ３に対応する大きさを有する場合、対物レンズ系２０の位置は、効率的なエバネッセント結合を可能にするギャップ寸法を与える。第３閾値Ｔ３が得られた後は、サーボ制御系の制御は第２エラー信号Ｅ２ の利用から第１エラー信号Ｅ１ の利用に変わる。上述の実施例で説明したものと同じような反復的な処理において、所要セットポイント位置がサーボ制御装置によって入力され、この所要セットポイント位置に達するまで対物レンズ系２０を移動し、そして、この所要セットポイントが所要の最終セットポイント位置でない場合、対物レンズ系２０が所要の最終セットポイント位置に達するまで、更に、異なる所要セットポイント位置が入力される。この後、第１エラー信号Ｅ１ を用いて走査手順の処理が行われる。
【００５２】
上述した本発明の実施例に関連して、図４に、ギャップ寸法の変化と共に、第１エラー信号Ｅ１ 、第２エラー信号Ｅ２ および全体エラー信号ＥＴ の計算された変化をプロットしたグラフを示す。第１軸８２に直交する第２軸８４上のエラー信号の強度に対して、ナノメートル単位のギャップ寸法を０〜１０００ｎｍの範囲を有するギャップ寸法を第１軸８２上にプロットして示す。第１エラー信号Ｅ１ のための第１検出器３０および第２エラー信号Ｅ２ のための第２検出器３６によって検出されるエラー信号の大きさを、外面２４及び出口面４５で反射する放射光線の合計１の一部として示す。そして、図５において、第１軸８６は、図４のプロットの第１軸８２と類似しているが、より大きいスケールを有し、０〜１００ｎｍの範囲を有しているギャップ寸法を示す。図４及び５を参照すると、第１エラー信号Ｅ１ の大きさは、約０．０ｎｍのギャップ寸法に対する約０．０の部分から、約５０ｎｍのギャップ寸法に対する約０．２６の最大の部分まで増加する。第２エラー信号Ｅ２ の大きさは、約０．０ｎｍのギャップ寸法に対する約０．２の部分から、約１００ｎｍのギャップサイズに対する約０．５８の最大の部分まで増加する。第２エラー信号Ｅ２ から、サーボ制御系は最高約１００ｎｍのギャップ寸法を決定できるのに対し、第１エラー信号Ｅ１ から、サーボ制御系は最高５０ｎｍのギャップ寸法を決定できる。全体エラー信号ＥＴ は、所定のギャップ寸法の第１および第２エラー信号Ｅ１ 、Ｅ２ の部分の合計である。約１００ｎｍより大きいギャップ寸法のために、第２エラー信号Ｅ２ は、ファブリーペロー効果によるゆらぎを有する。
【００５３】
上述した本発明の実施例に関連して、図６及び７に、ギャップ寸法と共に第１および第２エラー信号Ｅ１，Ｅ２ の変動の実験をプロットしたグラフを示す。ギャップ寸法を第１軸８８にプロットし、エラー信号の大きさを第１軸８８に直交する第２軸９０にプロットする。第１および第２の閾値Ｔ１，Ｔ２ を図６に示し、第２および第３の閾値Ｔ２ ，Ｔ３ を図７に示す。
【００５４】
上述の実施例は、本発明の例示として理解されたい。本発明の更なる他の実施例も想定される。本発明の更なる他の実施例において、対物レンズ系は異なるＳＩＬを備えるものとすることができる。このような異なるＳＩＬは、上述したのと異なる形状、例えば非円錐状超半球形状または出口面がＳＩＬまたは半球形状の突起であるメサ超半球形状を有するものとすることができる。
【００５５】
上述した本発明の実施例において、記録担体は情報層を有し、外面はこの情報層の表面である。或いは又、記録担体が情報層及びカバー層を有することも想定できる。情報層がカバー層の他の表面に配置されるのに対して、カバー層の１つの表面は外面である。この他の実施例において光学走査装置が適合されるため、走査手順の処理中、放射ビームはカバー層を通って情報層上のスポットに合焦される。そのような調節は、光軸に沿ったＳＩＬの厚さの変化である。
【００５６】
本発明の詳細な実施例で説明したように、記録担体はシリコンで形成する。或いは又、記録担体を異なる構造で形成し、例えば読み取り専用タイプのディスク用として、ポリカーボネート層及び金属層又は誘電体の積層を含む複数層で形成されることも更に想定できる。記録可能なタイプのディスクのために、複数層は、ポリカーボネート層及び可変位相または光磁気層または染料層を有する材料で形成した層を含むことも想定できる。記録担体は、また、異なる数のデータ領域を有することも想定でき、非データ領域及びこれらの領域は前に説明されるように、異なる配置を有する。記録担体は、複数の情報層（例えば２，３，４、又はそれ以上）を備える。
【００５７】
上述した本発明の実施例は、特定の波長を有している放射ビームを詳述した。放射ビームが異なる特定の波長を有することも想定でき、光学走査装置及び記録担体はこの異なる特定の波長で操作するよう最適に構成する。上述の本発明の実施例の記録担体は光学の記録担体であるが、光学走査装置が、例えば熱補助磁気記録（ＨＡＭＲ）又はハードディスクドライブ（ＨＤＤ）のようなハイブリッド記録を採用したディスクのような異なるタイプの記録担体を走査するのに適合させた更なる他の実施例も想定できる。
【００５８】
上述した本発明の実施例において、単一の放射ビームはスタートアップ手順及び走査手順双方のために利用される。これに対して異なる放射源によって発生する異なる放射ビームを、それぞれスタートアップ手順及び走査手順のために利用することも想定できる。
【００５９】
上述した本発明の実施例において、第１および第２エラー信号は、特定の偏光を有している検出した放射に基づいて発生する。上述した本発明とは異なる更に他の実施例において、第１および第２エラー信号を、異なる特性を有している放射に基づいて発生させることも想定できる。更に、第２エラー信号Ｅ２ を上述したのと異なる検出装置によって発生することも想定でき、例えば、第２エラー信号Ｅ２ を、プッシュプル検出器４１によって生ずる和信号を利用して、これに対して発生する。任意の一つの実施例にも関連して説明したいかなる特徴も単独で、又は説明される他の特徴と結合して利用され、他の実施例のうち１つ以上の特徴、または他の実施例のうち任意の実施例の組合せと結合しても利用されると理解されたい。更に、上述していない均等物及び変更例もまた、本発明の範囲から逸脱することなく使用され、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲で定義する。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の実施例による光学走査装置の線図的説明図である。
【図２】本発明の実施例による記録担体の線図的説明図である。
【図３Ａ】本発明の実施例によるスタートアップ手順のフローダイアグラムである。
【図３Ｂ】本発明の実施例による走査手順のステップのフローダイアグラムである。
【図４】本発明の実施例による光学走査装置のエラー信号の計算値を示すグラフである。
【図５】本発明の実施例による光学走査装置のエラー信号の計算値を示すグラフである。
【図６】本発明の実施例による光学走査装置のエラー信号の実験値を示すグラフである。
【図７】本発明の実施例による光学走査装置のエラー信号の実験値を示すグラフである。
【図１】
2008511090.tif 000003
【図２】
2008511090.tif 000004
【図３Ａ】
2008511090.tif 000005
【図３Ｂ】
2008511090.tif 000006
【図４】
2008511090.tif 000007
【図５】
2008511090.tif 000008
【図６】
2008511090.tif 000009
【図７】
2008511090.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月11日(2007.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外面を有する記録担体を走査する光学走査装置であって、
ａ）１本の放射ビームを発生するよう構成した放射源系と、
ｂ）出口面を有し、前記放射源系と前記記録担体との間に配置した対物レンズ系と、
ｃ）前記記録担体との相互作用の後、前記放射ビームからの検出信号であって、放射から検出される情報を表す該検出信号を発生する放射検出装置と、
ｄ）前記対物レンズ系の出口面と前記記録担体の外面との間のギャップ寸法を制御するため、前記ギャップ間で放射のエバネッセント結合を生ぜしめる位置制御系と
を具え、記録担体走査の処理中、前記ギャップ寸法を示し、光学走査装置の特性を制御するのに適した信号を発生させるよう前記検出信号を処理するよう構成し、前記信号は、前記ギャップ寸法を制御するよう前記位置制御系が使用する第１信号を含み、前記位置制御系は前記ギャップ寸法を制御する前記第１信号の特性を用いる構成とした該光学走査装置において、
前記光学走査装置は、前記ギャップ寸法を制御するよう位置制御系が使用する、前記第１信号とは異なる第２信号を含む前記信号を発生するよう構成したことを特徴とする光学走査装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光学走査装置において、前記信号のうち少なくとも一方の信号の特性を、前記出口面によって、前記放射検出装置の方へ反射する前記放射の一部によって決定する光学走査装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の光学走査装置において、前記位置制御系は、前記第１信号または前記第２信号を選択的に用いて前記ギャップ寸法を制御するよう構成し、前記位置制御系は、前記ギャップ寸法が比較的小さい場合には前記第１信号を用い、前記ギャップ寸法が比較的大きい場合には前記第２信号を用いる構成とした光学走査装置。
【請求項４】
請求項１、２または３に記載の光学走査装置において、前記位置制御系は、前記光学走査装置が前記記録担体のデータ領域を走査するとき、走査手順の処理中、効率的なエバネッセント結合を維持するよう前記ギャップ寸法を制御するために、前記第１信号を用いる構成とした光学走査装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学走査装置において、前記ギャップ間に効率的なエバネッセント結合を生じない第１の位置から前記ギャップ間に効率的なエバネッセント結合を生ずる第２の位置まで、前記位置制御系が前記記録担体に対して前記対物レンズ系を移動させるスタートアップ手順の処理中に、前記ギャップ寸法を制御する前記第２信号を用いるよう前記位置制御系を構成した光学走査装置。
【請求項６】
請求項５に記載の光学走査装置において、前記位置制御系は、サーボ制御系を有するものとし、前記位置制御系は、前記スタートアップ手順の処理中に、前記サーボ制御系への入力として前記第２信号を用いるよう構成した光学走査装置。
【請求項７】
請求項５または６に記載の光学走査装置において、前記位置制御系は、サーボ制御系を有するものとし、前記位置制御系は、前記スタートアップ手順の処理中、前記サーボ制御系を使用する前に、前記記録担体への前記対物レンズ系のアプローチを制御するのに前記第２信号を用いるよう構成した光学走査装置。
【請求項８】
請求項５、６または７に記載の光学走査装置において、前記位置制御系はサーボ制御系を有するものとし、前記位置制御系は、前記スタートアップ手順の処理中、前記サーボ制御系への引き継ぎを制御するのに前記第２信号を用いるよう構成した光学走査装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学走査装置において、前記光学走査装置は、複数個の検出光路を有するものとし、前記第１信号を第１検出光路における第１の放射から導き出し、第２信号を第１検出光路とは異なる第２検出光路における第２の放射から導き出す構成とした光学走査装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の光学走査装置において、前記第１の放射及び前記第２の放射は、互いに直交する偏光極性に偏光する構成とした光学走査装置。
【請求項１１】
外面を有し、光学走査装置に使用する記録担体において、前記光学走査装置は、
ａ）１本の放射ビームを発生するよう構成した放射源系と、
ｂ）出口面を有し、前記放射源系と前記記録担体との間に配置した前記対物レンズ系と、
ｃ）前記記録担体との相互作用の後、前記放射ビームからの検出信号であって、放射から検出される情報を表す該検出信号を発生する放射検出装置と、
ｄ）前記対物レンズ系の出口面と前記記録担体の外面との間のギャップ寸法を制御するよう、前記ギャップ間における放射のエバネッセント結合を生ぜしめる第１位置制御系と、
ｅ）記録担体の外面にわたり前記対物レンズ系を位置決めする第２位置制御系と
を備えたものとし、
前記記録担体は、前記第２位置制御系を使用して前記対物レンズ系を位置決めできる走査領域を有する構成とし、
前記走査領域は、
所定の幅を有するデータトラックにデータを記憶する１個以上のデータ領域と、
走査特性を規定するよう構成した１個以上の非データ領域であって、前記対物レンズ系を前記第２位置制御系により非データ領域に位置決めする場合、前記放射検出装置はそれぞれ前記ギャップ寸法を示す互いに異なる第１信号および第２信号を発生し、これにより、前記第１位置制御系は、前記ギャップ寸法を制御することができるようにした、前記所定のデータトラック幅よりも大きい幅を有する１個以上の該非データ領域と
を有する走査領域とした
ことを特徴とする記録担体。
【請求項１２】
請求項１１に記載の記録担体において、前記走査領域は複数個のデータ領域を有するものとし、少なくとも１個の非データ領域を、前記複数個のデータ領域のうち２個のデータ領域間に配置した記録担体。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の記録担体において、前記走査領域は、複数個のデータ領域を有するものとし、少なくとも１個の非データ領域を、前記外面にわたる異なる位置に配置した記録担体。
【請求項１４】
請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の記録担体の走査方法であって、前記光学走査装置を用いて前記記録担体を走査する該方法において、
前記第２位置制御系を使用して非データ領域に前記対物レンズ系を位置決めするステップと、
それぞれ前記ギャップ寸法を示す互いに異なる第１信号および第２信号を含み、前記放射の前記非データ領域との相互作用によって発生する信号を用いて前記ギャップ寸法を制御するのに第１位置制御系を使用するステップと
よりなることを特徴とする記録担体の走査方法。
【国際調査報告】
2008511090.tif 000011
2008511090.tif 000012
2008511090.tif 000013
2008511090.tif 000014
2008511090.tif 000015