(57)【要約】  本発明は、高密度のレリーフ構造を作り出すためのマスター基材（１０）に、特に光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るためのマスター基材（１０）又はマイクロコンタクトプリンティング用のスタンパーを作り出すためのマスター基材に、関し、ここで、有機色素の層（１２）が、高密度のレリーフ構造を作り出すために提供される。本発明は、さらに、有機色素の層を含むマスター基材（１０）に高密度のレリーフ構造を提供する方法に関し、その方法は、以下のステップ：ピット（３２）が形成されることになるマスター基材（１０）の領域（３０）に色素を脱色するレーザーパルスを適用すること；及び、エッチング工程によって有機色素の層（１２）の脱色された領域（３０）を取り除くことを含む。本発明は、また、マスター基材（１０）に高密度のレリーフ構造を提供する方法に関し、その方法は、以下のステップ：−有機色素の層（１２）を担持するポリカーボナート層（１４）を少なくとも含むマスター基材（１０）を提供すること；レーザーパルスを適用することによって色素／ポリカーボナートの界面（１６）にバンプ（２０）を形成すること；及び、エッチング工程によって、残留する色素の層を取り除くことを含む。
2008527588.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高密度のレリーフ構造を作り出すためのマスター基材、特に光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るためのマスター基材又はマイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作り出すためのマスター基材であって、
有機色素の層が、高密度のレリーフ構造を作り出すために提供される、マスター基材。
【請求項２】
前記有機色素の層は、平面の下側の表面を含む、請求項１に記載のマスター基材。
【請求項３】
前記有機色素の層は、予め溝が付けられた下側の表面を含む、請求項１に記載のマスター基材。
【請求項４】
前記有機色素の層の色素は、以下の群：ＡＺＯ、シアニン、フタロシアニンより選択される、請求項１に記載のマスター基材。
【請求項５】
前記有機色素の層は、ポリカーボナートによって担持される、請求項１に記載のマスター基材。
【請求項６】
当該マスター基材は、有機色素の層とポリカーボナートの層との間の界面におけるレーザーパルスによって作り出されたバンプによって形成された高密度のレリーフ構造を含む、請求項１に記載のマスター基材。
【請求項７】
前記有機色素の層は、ガラスの基材より上に配置される、請求項１に記載のマスター基材。
【請求項８】
当該マスター基材は、前記有機色素の層に形成された高密度のレリーフ構造を含む、請求項１に記載のマスター基材。
【請求項９】
金属性の反射体の層が、前記ガラスの基材と前記色素の層との間に配置される、請求項７に記載のマスター基材。
【請求項１０】
吸収層が、前記色素の層の上部に配置される、請求項１に記載のマスター基材。
【請求項１１】
有機色素の層を含むマスター基材に高い密度のレリーフ構造を提供するための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  ピットが形成されるマスター基材の領域に色素を脱色するレーザーパルスを適用すること；及び
−  エッチング工程によって有機色素の層の脱色された領域を取り除くこと
を含む、方法。
【請求項１２】
マスター基材に高い密度のレリーフ構造を提供するための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を担持するポリカーボナートの層を少なくとも含むマスター基材を提供すること；
−  レーザーパルスを適用することによって色素／ポリカーボナートの界面にバンプを形成すること；及び
−  エッチング工程によって残留する色素の層を取り除くこと
を含む、方法。
【請求項１３】
光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を含むマスター基材を提供すること；
−  ピットが形成されるマスター基材の領域に色素を脱色するレーザーパルスを適用すること；
−  エッチング工程によって該有機色素の層の脱色された領域を取り除くこと；及び
−  該マスター基材を基礎としてスタンパーを作ること
を含む、方法。
【請求項１４】
光学ディスクを作るための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を含むマスター基材を提供すること；
−  ピットが形成されるマスター基材の領域に色素を脱色するレーザーパルスを適用すること；
−  エッチング工程によって該有機色素の層の脱色された領域を取り除くこと；
−  該マスター基材を基礎としてスタンパーを作ること；及び
−  光学ディスクを作るために該スタンパーを使用すること
を含む、方法。
【請求項１５】
マイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作るための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を含むマスター基材を提供すること；
−  ピットが形成されるマスター基材の領域に色素を脱色するレーザーパルスを適用すること；
−  エッチング工程によって該有機色素の層の脱色された領域を取り除くこと；及び
−  該マスター基材を基礎としてスタンプを作ること
を含む、方法。
【請求項１６】
マイクロプリントを作るための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を含むマスター基材を提供すること；
−  ピットが形成されるマスター基材の領域に色素を脱色するレーザーパルスを適用すること；
−  エッチング工程によって該有機色素の層の脱色された領域を取り除くこと；
−  該マスター基材を基礎としてスタンプを作ること；及び
−  マイクロプリントを作るために該スタンプを使用すること
を含む、方法。
【請求項１７】
光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を担持するポリカーボナートの層を少なくとも含むマスター基材を提供すること；
−  レーザーパルスを適用することによって色素／ポリカーボナートの界面にバンプを形成すること；
−  エッチング工程によって残留する色素の層を取り除くこと；及び
−  該マスター基材を基礎としてスタンパーを作ること
を含む、方法。
【請求項１８】
光学ディスクを作るための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を担持するポリカーボナートの層を少なくとも含むマスター基材を提供すること；
−  レーザーパルスを適用することによって色素／ポリカーボナートの界面にバンプを形成すること；
−  エッチング工程によって残留する色素の層を取り除くこと；
−  該マスター基材を基礎としてスタンパーを作ること；及び
−  光学ディスクを作るために該スタンパーを使用すること
を含む、方法。
【請求項１９】
マイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作るための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を担持するポリカーボナートの層を少なくとも含むマスター基材を提供すること；
−  レーザーパルスを適用することによって色素／ポリカーボナートの界面にバンプを形成すること；
−  エッチング工程によって残留する色素の層を取り除くこと；及び
−  該マスター基材を基礎としてスタンプを作ること；
を含む、方法。
【請求項２０】
マイクロプリントを作るための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を担持するポリカーボナートの層を少なくとも含むマスター基材を提供すること；
−  レーザーパルスを適用することによって色素／ポリカーボナートの界面にバンプを形成すること；
−  エッチング工程によって残留する色素の層を取り除くこと；
−  該マスター基材を基礎としてスタンプを作ること；及び
−  マイクロプリントを作るために該スタンプを使用すること
を含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高密度のレリーフ構造を作り出すためのマスター基材、特に、光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るためのマスター基材又はマイクロコンタクトプリンティング用のスタンパーを作り出すためのマスター基材、に関係する。さらには、本発明は、マスター基材に高い密度のレリーフ構造を提供するための方法及び有機色素の層を含むマスター基材に高い密度のレリーフ構造を提供するための方法に関係する。また、本発明は、それぞれ、スタンパー、光学ディスク、スタンプ、及びマイクロプリントを作るための方法に関係する。
【背景技術】
【０００２】
光学的な工程を基礎として製造されるレリーフ構造を、例えば、読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）並びに予め溝が付けられた追記型（Ｒ）及び書き換え可能な（ＲＥ）ディスクの大量の複製用のスタンパーとして使用することができる。このようなスタンパーの製造は、複製の工程で使用されるように、マスタリングとして知られている。
【０００３】
従来のマスタリングにおいては、ガラスの基材にスピンコートされた、薄い感光性の層が、変調された集束したレーザービームで照明される。レーザービームの変調は、形成されるものであるピットの間の中間のエリアが、露出されないままである一方で、マスター基材のいくつかの部分が、ＵＶ光によって露出されていることを引き起こす。ディスクが回転し、且つ、集束したレーザービームが、ディスクの外側に徐々に引かれる一方で、交替する照明されたエリアの渦が残る。第二のステップにおいて、露出されたエリアは、フォトレジスト層の内側の物理的な穴で終わるように、いわゆる現像の工程において溶解させられるものである。ＮａＯＨ及びＫＯＨのようなアルカリ性の液体は、露出されたエリアを溶解させるために使用される。マスター基材の構造化された表面は、その後、薄いＮｉ層で覆われる。直流電気の工程において、薄いスパッターで堆積させたＮｉ層は、逆ピット構造を含む厚い処理しやすいＮｉ基材までさらに成長させられる。突出するバンプを備えたこのＮｉ基材は、マスター基材から分離され、且つ、スタンパーと呼ばれる。
【０００４】
相転移マスタリング（ＰＴＭ）は、光学ディスクの大量製作用の高密度のＲＯＭ及びＲＥ／Ｒスタンパーを作るための相対的に新しい方法である。相転移材料を、初期の書き込まれてない状態からレーザーで誘起された加熱を介して異なる状態まで変換することができる。記録スタックの加熱は、例えば、混合、溶融、アモルファス化、相分離、分解などを引き起こし得る。二つの相の一方、初期の又は書き込まれた状態は、他の相がそうするよりも、酸又はアルカリ性の現像液により速く溶解する。このような方法で、書き込まれたデータパターンを、突出するバンプ又ピットを備えた高密度のレリーフ構造へ変換することができる。また、この場合には、パターン化された基材を、高密度の光学ディスクの大量製作用のスタンパーとして、又は、マイクロコンタクトプリンティング用のスタンプとして、使用することができる。
【０００５】
これに関連して、速い成長の相変化材料及び相転移マスタリング用の記録スタックを使用することを、すでに提案した。成長に支配される相変化材料は、非晶質の及び結晶質の相の溶解速度において高いコントラストをもつ。結晶質の材料の溶融物を急冷することによって得られた、非晶質のマークを、ＫＯＨ及びＮａＯＨのような、濃縮された従来のアルカリ性の現像剤の液体に、しかしまた、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、及びＨ２ＳＯ４と同様の酸にも、溶解させることができる。マークの尾部における再結晶化を、制御された様式でマークの長さを低減するために、使用することができる。特に、最も小さいマーク、Ｉ２、の場合には、そのマークの尾部における再結晶化は、光学スポットのサイズよりも短い長さを備えた、三日月形のマークに至り得る。このような方法で、接線方向のデータ密度を、増加させることができる。
【０００６】
このような材料系の課題は、記録スタックの熱的な及び光学的な挙動を最適化することが必要とされた相対的に多数の記録スタック相であるかもしれない。別の困難性は、このような材料系で深いピットの構造を作る能力である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、相対的に単純な記録スタックを基礎としたマスタリングを可能とする冒頭で述べたタイプの方法及びマスター基材を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この目的は、独立請求項の特徴によって解決される。本発明のさらなる発展及び好適な実施形態は、従属請求項に概略が述べられる。
【０００９】
本発明の第一の態様と一致して、上記の目的は、高密度のレリーフ構造を作り出すためのマスター基材、特に光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るためのマスター基材又はマイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作り出すためのマスター基材、によって解決されるが、ここで、有機色素の層は、高密度のレリーフ構造を作り出すために提供される。この解決手段は、例えばＣＤ−Ｒ及びＤＶＤ＋Ｒの用途に関連して、現在使用される有機色素の層が、マスタリングの工程と関連して使用されることにもまた適切であることを見出すことに基づく。有機色素の層の厚さは、例えば、２０ｎｍと１５０ｎｍとの間にあり、及び好ましくは、６０ｎｍと８０ｎｍとの間にある。
【００１０】
本発明と一致したマスター基材のいくつかの実施形態については、有機色素の層は、平面の下側の表面を含む。有機色素の層の平面の下側の表面は、例えば従来の用途におけるトラッキングに使用されたいずれの予め溝が付けられたパターンからも独立である、高密度のレリーフ構造の形成を可能とする。
【００１１】
しかしながら、本発明と一致したマスター基材の他の実施形態では、有機色素の層が、予め溝が付けられた下側の表面を含むことは、好適である。例えば、予め溝が付けられた有機色素の層を担持する予め溝が付けられた基材を、高密度のレリーフ構造を作るために使用することができるが、ここでは、予めの溝は、隣接したランドが色素でほとんど覆われない一方で狭い溝のみが色素で充填されるため、いわゆる超分解能に至る。
【００１２】
本発明と一致したマスター基材の好適な実施形態では、有機色素の層の色素は、以下の群：ＡＺＯ、シアニン、フタロシアニンより選択される。
【００１３】
本発明の第一の一般的な実施形態と一致して、有機色素の層は、ポリカーボナートによって担持される。このような書き込まれてないマスター基材は、レーザーパルスを適用することによって、色素−ポリカーボナートの界面でバンプを形成する可能性を提供する。これは、いくつかのタイプの色素、例えば、フタロシアニン色素について、色素及びポリカーボナートの混合が、それがそのようなものとして知られるように、色素／ポリカーボナートの界面で起こるという事実のおかげである。従来の用途において、これらのバンプは、光路長の低減を引き起こし、且つ、また、書き込まれたマークの読み出しに寄与する。それとは対照的に、本発明の一つの態様は、エッチング工程によって残留する色素の層を取り除くことによって、高い密度のレリーフ構造を作り出すために、これらのバンプを使用することである。このエッチング工程では、残留する色素の層は、選択的にエッチングされない、即ち、書き込まれた及び書き込まれてない色素の両方が、取り除かれる。しかしながら、選択的なエッチングは、ポリカーボナート／色素の混合物と残留する色素の層との間のみならずポリカーボナートと色素との間に存在する。
【００１４】
第一の一般的な実施形態と一致したマスター基材のこのような加工は、あるマスター基材に至るが、ここで、そのマスター基材は、有機色素の層とポリカーボナートの層との間の界面におけるレーザーパルスによって作り出されたバンプによって形成された高密度のレリーフ構造を含む。
【００１５】
本発明と一致したマスター基材の第二の一般的な実施形態と一致して、有機色素の層は、ガラスの基材より上に配置される。この解決手段は、レーザーパルスによって脱色されてしまってある有機色素の層の領域が、エッチング工程に、特にＫＯＨ及びＮａＯＨのようなアルカリ性のエッチング液に、敏感になることもあることを見出すことに基づく。
【００１６】
上に述べたように加工される、本発明の第二の一般的な実施形態と一致したマスター基材は、あるマスター基材に至るが、ここで、そのマスター基材は、有機色素の層に形成された高密度のレリーフ構造を含む。
【００１７】
第二の一般的な実施形態について、金属性の反射体の層が、ガラスの基材と色素の層との間に配置されることは、好適である。このような金属性の反射体の層は、例えば、Ｎｉ層であり得る。金属性の反射体の層の厚さは、例えば、５ｎｍと１００ｎｍとの間に、及び好ましくは１０ｎｍと４０ｎｍとの間に、ある。金属性の反射体の層は、色素の層における吸収プロフィールを向上させるために、提供される。それは、また、有機色素の層における吸収プロフィールを鋭くし、且つこのように、より急勾配の熱的に劣化された／脱色された領域を引き起こすことになる。
【００１８】
本発明と一致したマスター基材の全ての実施形態では、それは、記録スタックが、有機色素の層の上部に配置された吸収層をさらに含むとすれば、好都合であり得る。このような層の厚さは、例えば５ｎｍと４０ｎｍとの間に、及び好ましくは５ｎｍと１０ｎｍとの間に、ある。吸収層は、好ましくは、エッチングすること又は剥離することを介して、取り除かれる。このような吸収層は、また、有機色素の層における吸収プロフィールを向上させる。
【００１９】
本発明の第二の態様と一致して、上記の目的は、有機色素の層を含むマスター基材に高い密度のレリーフ構造を提供するための方法によって解決されるが、その方法は、以下のステップ：
−  ピットが形成されるマスター基材の領域に色素を脱色するレーザーパルスを適用すること；及び
−  エッチング工程によって有機色素の層の脱色された領域を取り除くこと
を含む。
【００２０】
この方法は、好ましくは、本発明と一致したマスター基材の第二の一般的な実施形態へ適用される。エッチング工程を、アルカリ性のエッチング液又は酸のエッチング液を使用することによって、行うことができる。また、この場合には、色素の層は、ＡＺＯ色素、シアニン、又はフタロシアニンのタイプのものであることもある。
【００２１】
本発明の第三の態様に一致して、上記の目的は、マスター基材に高い密度のレリーフ構造を提供するための方法によって解決されるが、その方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を担持するポリカーボナートの層を少なくとも含むマスター基材を提供すること；
−  レーザーパルスを適用することによって色素／ポリカーボナートの界面にバンプを形成すること；及び
−  エッチング工程によって残留する色素の層を取り除くこと
を含む。
【００２２】
本発明の第三の態様に一致した方法は、好ましくは、上に述べた第一の一般的な実施形態を一致したマスター基材を基礎として、実行される。
【００２３】
本発明の第四の態様と一致して、提供されるものは、光学ディスク（５０）の大量製作用のスタンパーを作るための方法であるが、その方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を含むマスター基材を提供すること；
−  ピットが形成されるマスター基材の領域に色素を脱色するレーザーパルスを適用すること；
−  エッチング工程によって有機色素の層の脱色された領域を取り除くこと；及び
−  マスター基材を基礎としてスタンパーを作ること
を含む。
【００２４】
本発明の第五の態様と一致して、提供されるものは、光学ディスクを作るための方法であるが、その方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を含むマスター基材を提供すること；
−  ピットが形成されるマスター基材の領域に色素を脱色するレーザーパルスを適用すること；
−  エッチング工程によって有機色素の層の脱色された領域を取り除くこと；
−  マスター基材を基礎としてスタンパーを作ること；及び
−  光学ディスクを作るためにスタンパーを使用すること
を含む。
【００２５】
本発明の第六の態様と一致して、提供されるものは、マイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作るための方法であるが、その方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を含むマスター基材を提供すること；
−  ピットが形成されるマスター基材の領域に色素を脱色するレーザーパルスを適用すること；
−  エッチング工程によって有機色素の層の脱色された領域を取り除くこと；及び
−  マスター基材を基礎としてスタンプを作ること
を含む。
【００２６】
本発明の第七の態様と一致して、提供されるものは、マイクロプリントを作るための方法であるが、その方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を含むマスター基材を提供すること；
−  ピットが形成されるマスター基材の領域に色素を脱色するレーザーパルスを適用すること；
−  エッチング工程によって有機色素の層の脱色された領域を取り除くこと；
−  マスター基材を基礎としてスタンプを作ること；及び
−  マイクロプリントを作るためにスタンプを使用すること
を含む。
【００２７】
本発明の第八の態様と一致して、提供されるものは、光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るための方法であるが、その方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を担持するポリカーボナートの層を少なくとも含むマスター基材を提供すること；
−  レーザーパルスを適用することによって色素／ポリカーボナートの界面にバンプを形成すること；
−  エッチング工程によって残留する色素の層を取り除くこと；及び
−  マスター基材を基礎としてスタンパーを作ること
を含む。
【００２８】
本発明の第九の態様と一致して、提供されるものは、光学ディスクを作るための方法であるが、その方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を担持するポリカーボナートの層を少なくとも含むマスター基材を提供すること；
−  レーザーパルスを適用することによって色素／ポリカーボナートの界面にバンプを形成すること；
−  エッチング工程によって残留する色素の層を取り除くこと；
−  マスター基材を基礎としてスタンパーを作ること；及び
−  光学ディスクを作るためにスタンパーを使用すること
を含む。
【００２９】
本発明の第十の態様と一致して、提供されるものは、マイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作るための方法であるが、その方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を担持するポリカーボナートの層を少なくとも含むマスター基材を提供すること；
−  レーザーパルスを適用することによって色素／ポリカーボナートの界面にバンプを形成すること；
−  エッチング工程によって残留する色素の層を取り除くこと；及び
−  マスター基材を基礎としてスタンプを作ること；
を含む。
【００３０】
本発明の第十一の態様と一致して、提供されるものは、マイクロプリントを作るための方法であるが、その方法は、以下のステップ：
−  有機色素の層を担持するポリカーボナートの層を少なくとも含むマスター基材を提供すること；
−  レーザーパルスを適用することによって色素／ポリカーボナートの界面にバンプを形成すること；
−  エッチング工程によって残留する色素の層を取り除くこと；
−  マスター基材を基礎としてスタンプを作ること；及び
−  マイクロプリントを作るためにスタンプを使用すること
を含む。
【００３１】
本発明のこれらの及び他の態様は、以後に記載した実施形態から明らかであり且つそれらを参照して解明されることになる。
【００３２】
さらには、本発明の第四から十一までの態様と一致した解決手段が、本発明の第一から第三のまでの態様と関連して開示された実施形態及び詳細に対応してさらに発展させられることもあり、且つ、それぞれの特徴の全ての組み合わせが、これによって開示されるものと考えられるものとすることは、たとえここで添付する請求項で明示的に請求されないとしても、明りょうである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
図１ａから１ｃまでは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第一の一般的な実施形態の第一の例を概略的に示すが、ここで、図１ａは、未処理のマスター基材１０を示し、図１ｂは、書き込みの後のマスター基材１０を示し、及び、図１ｃは、エッチングの後のマスター基材１０を示す。
【００３４】
マスター基材１０は、有機色素の層１２を含むが、ここで、有機色素は、例えば、フタロシアニンである。有機色素の層１２の厚さは、例えば、７０ｎｍである。有機色素の層１２は、平面の上側の表面を有するポリカーボナートの層１４によって担持される。それによって、色素／ポリカーボナートの界面１６が、形成される。
【００３５】
有機色素の層１２の領域３０へレーザーパルスを適用することによって、バンプ２０が、図１ｂから理解されることもあるように、色素／ポリカーボナート１６に形成される。
【００３６】
図１ｃは、イソプロパノールでのエッチングの後のマスター基材１０を示す。書き込まれた及び書き込まれてない色素の層の両方が、取り除かれるが、しかし、選択的なエッチングが、バンプ２０と有機色素の層１２との間のみならず、ポリカーボナートの層１４と有機色素の層１２との間に、存在する。
【００３７】
図１ｄは、スタンパー４０及びスタンプ４２の作製をそれぞれ概略的に示す。スタンパー４０及びスタンプ４２は、それぞれ、高密度のレリーフ構造２４に基づいて形成される。金属層を提供するために、例えば、薄いＮｉ層が、マスター基材１０の記録スタックに形成された高密度のレリーフ構造２４にスパッター堆積させられる。このＮｉ層は、その後、薄い処理しやすいスタンパー４０又はスタンプ４２へ電気化学的に成長させられる。スタンパー４０又はスタンプ４２は、マスター基材１０から分離され、且つ、さらに加工される（クリーニングされる、打ち抜きされる、など）。
【００３８】
図１ｅは、スタンパー４０を基礎とした光学ディスク５０の作製を、それが当業者に周知であるが、概略的に示す。
【００３９】
図１ｆは、スタンプ４２を基礎としたマイクロプリント５２の作製を、それがまた当業者に周知であるが、概略的に示す。
【００４０】
図２ａから２ｃまでは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第一の一般的な実施形態の第二の例を概略的に示すが、ここで、図２ａは、未処理のマスター基材１０を示し、図２ｂは、書き込みの後のマスター基材１０を示し、及び、図２ｃは、エッチングの後のマスター基材１０を示す。
【００４１】
図２ａに示された記録スタックの構造及びそれの加工は、ポリカーボナートの層１４がバンプ２０が形成される予めの溝２４を含むことを除いて、図１ａから１ｃまでと関連して記載したものと同じである。さらには、提供されるものは、吸収を誘起させるための、有機色素の層１２の上部における自由選択の吸収層２２である。
【００４２】
バンプ（ただ一つのバンプ２０が示される）は、色素の大部分が元来存在する溝２４に作り出される。フタロシアニンの色素は、バンプの形成に基づいたマスタリングに最も適切な色素である。ブルー・レイ・ディスクのマスタリングについては、記録は、好ましくは、４０５ｎｍでなされるが、しかし、他の波長もまた可能である。フタロシアニンは、好適であるとはいえ、この波長で十分な吸収を備えた全ての色素の材料を、この用途に使用することができる。
【００４３】
図２ｄは、図２ａから２ｃまでと一致したマスター基材を基礎としてなされた実用的な実験の結果の断面の分析を示す。図２ｄに示された構造で終わるために、従来のＤＶＤ＋Ｒディスクが、記録され、金属層が、剥離され、且つ、残留する書き込まれた及び書き込まれてない色素の層が、イソプロパノール中で溶解させられた。
【００４４】
図３ａから３ｃまでは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第二の一般的な実施形態の第一の例を概略的に示すが、ここで、図３ａは、未処理のマスター基材１０を示し、図３ｂは、書き込みの後のマスター基材１０を示し、及び、図３ｃは、エッチングの後のマスター基材１０を示す。
【００４５】
図３ａに示された記録スタックは、ガラスの基材２８を含むが、そのガラスの基材には、金属性の層２６が、提供される。金属性の層２６は、金属性の層２６によって担持される有機色素の層１２における吸収プロフィールを向上させるために、提供される。有機色素の層１２の上部に、提供されるものは、吸収を誘起するための吸収層２２である。
【００４６】
図３ｂは、色素を脱色するレーザーパルスが、ピットが形成される領域３０を脱色するために適用されてしまった後の、マスター基材１０を示す。
【００４７】
図３ｃは、例えば２０％ＫＯＨでの、エッチングの後のマスター基材１０を示す。図３ｃから理解されることもあるように、有機色素の層１２の書き込まれてない領域は、なお存在し、且つ、ピット３２を形成する。このような方法で、高い密度のレリーフ構造を、形成することができる。
【００４８】
図３ｄは、スタンパー４０及びスタンプ４２の作製をそれぞれ概略的に示す。スタンパー４０及びスタンプ４２は、それぞれ、高密度のレリーフ構造２０を基礎として形成される。金属層を提供するために、例えば、薄いＮｉ層が、マスター基材１０の記録スタックに形成された高密度のレリーフ構造２０にスパッタ堆積させられる。この薄いＮｉ層は、その後、薄い処理しやすいスタンパー４０又はスタンプ４２へ電気化学的に成長させられる。スタンパー４０又はスタンプ４２は、マスター基材１０から分離され、且つ、さらに加工される（クリーニングされる、打ち抜きされる、など）。
【００４９】
図３ｅは、スタンパー４０を基礎とした光学ディスク５０の作製を、それが当業者に周知であるが、概略的に示す。
【００５０】
図３ｆは、スタンプ４２を基礎としたマイクロプリント５２の作製を、それがまた当業者に周知であるが、概略的に示す。
【００５１】
図４ａから４ｃまでは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第二の一般的な実施形態の第二の例を概略的に示すが、ここで、図４ａは、未処理のマスター基材１０を示し、図４ｂは、書き込みの後のマスター基材１０を示し、及び、図４ｃは、エッチングの後のマスター基材１０を示す。
【００５２】
マスター基材１０の構造は、それの加工のみならず、ガラスの基材２８が予めの溝２４を含むことを除いて、図３ａから３ｃまでと関連して記載されたものと同じである。図４ｂ及び４ｃから理解されることもあるように、ピット３２は、二つの隣接した予め溝の部分の間に形成される。
【００５３】
図４ｄは、図４ａから４ｃまでと一致したマスター基材を基礎としてなされた実用的な実験の結果の断面の分析を示す。図４ｄに示されたような断面で終わるために、従来のＤＶＤ＋Ｒディスクが、記録され、且つ、書き込まれた且つ脱色されたエリアが、２０％のＫＯＨ中での２０分の溶解を介して、化学的に取り除かれた。溝の構造は、図４ｄにおいてもまた明りょうに認識できるものである。
【００５４】
本発明と一致したマスター基材及び方法を、例えば、ＢＤ−ＲＯＭディスク及びＢＤ−Ｒ／ＲＥディスクの大量製作用のスタンパーを作るために、使用することができる。
【００５５】
最後に、上に記載されない均等物及び変更が、また、添付する請求項において定義される、本発明の範囲から逸脱することなく用いられることもあることは、留意されることである。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１ａ】図１ａは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第一の一般的な実施形態の第一の例を概略的に示す；
【図１ｂ】図１ｂは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第一の一般的な実施形態の第一の例を概略的に示す；
【図１ｃ】図１ｃは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第一の一般的な実施形態の第一の例を概略的に示す；
【図１ｄ】図１ｄは、スタンパー及びスタンプの作製をそれぞれ概略的に示す；
【図１ｅ】図１ｅは、光学ディスクの作製を概略的に示す；
【図１ｆ】図１ｆは、マイクロプリントの作製を概略的に示す；
【図２ａ】図２ａは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第一の一般的な実施形態の第二の例を概略的に示す；
【図２ｂ】図２ｂは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第一の一般的な実施形態の第二の例を概略的に示す；
【図２ｃ】図２ｃは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第一の一般的な実施形態の第二の例を概略的に示す；
【図２ｄ】図２ｄは、図２ａから２ｃまでと一致したマスター基材を基礎としてなされた実用的な実験の結果の断面の分析を示す；
【図３ａ】図３ａは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第二の一般的な実施形態の第一の例を概略的に示す；
【図３ｂ】図３ｂは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第二の一般的な実施形態の第一の例を概略的に示す；
【図３ｃ】図３ｃは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第二の一般的な実施形態の第一の例を概略的に示す；
【図３ｄ】図３ｄは、スタンパー及びスタンプの作製をそれぞれ概略的に示す；
【図３ｅ】図３ｅは、光学ディスクの作製を概略的に示す；
【図３ｆ】図３ｆは、マイクロプリントの作製を概略的に示す；
【図４ａ】図４ａは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第二の一般的な実施形態の第二の例を概略的に示す；
【図４ｂ】図４ｂは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第二の一般的な実施形態の第二の例を概略的に示す；
【図４ｃ】図４ｃは、本発明と一致した方法によって加工する間に本発明と一致したマスター基材の第二の一般的な実施形態の第二の例を概略的に示す；
【図４ｄ】図４ｄは、図４ａから４ｃまでと一致したマスター基材を基礎としてなされた実用的な実験の結果の断の面分析を示す。
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図１ｃ】
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【図１ｄ】
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【図１ｅ】
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【図１ｆ】
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【図２ａ】
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【図２ｂ】
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【図２ｃ】
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【図２ｄ】
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【図３ａ】
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【図３ｂ】
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【図３ｃ】
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【図３ｄ】
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【図３ｅ】
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【図３ｆ】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図４ｃ】
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【図４ｄ】
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【国際調査報告】
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