(57)【要約】  本発明は、マスター基材、特に光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るためのマスター基材又はマイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作るためのマスター基材、の記録スタックにおける高密度のレリーフ構造を提供するための方法に関する。さらには、本発明は、高密度のレリーフ構造を作り出すためのマスター基材、特に光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るためのマスター基材又はマイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作るためのマスター基材、に関する。本発明は、高密度のレリーフ構造を含むマスター基材のみならず、また、色素の層を含むマスター基材の特別な使用に関する。さらには、本発明は、光学ディスクの大量製作用のスタンパー、光学ディスク、及びマイクロプリントに関する。本発明の全ての態様と一致して、上記の用途の全てに要求された高密度のレリーフ構造は、色素の層の材料のレーザーパルスで誘起された収縮によって直接的に又は間接的に形成される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスター基材、特に光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るためのマスター基材又はマイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作るためのマスター基材、の記録スタックにおける高密度のレリーフ構造を提供するための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  色素の層を含む記録スタックを提供すること；及び
−  該色素の層に高密度のレリーフ構造を作り出すために、レーザーパルスを適用することによって色素の層の材料を収縮させること
を含む、方法。
【請求項２】
前記色素の層の色素は、以下の群：ｏｘｏｎｏｌに基づいた色素、フタロシアニン、シアニン類、ＡＺＯより選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記記録スタックは、前記色素の層より下に配置された少なくとも一つの反射層をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記反射層は、以下の群：Ｎｉ、Ａｇ、Ａｌ、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４より選択された材料で作られる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記記録スタックは、前記色素の層の上に及び／又は下に配置された少なくとも一つの吸収層をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記吸収層は、以下の群：Ｎｉ、Ｃｕ、ＧｅＳｂＴｅ、ＳｎＧｅＳｂ、ＩｎＧｅＳｂＴｅより選択された材料で作られる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
高密度のレリーフ構造を作り出すためのマスター基材、特に光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るためのマスター基材又はマイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作るためのマスター基材であって、
当該マスター基材は、色素の層の材料を収縮させるレーザーパルスを適用することによって高密度のレリーフ構造が形成される、色素の層を含む、マスター基材。
【請求項８】
レーザーパルスを適用することによって色素の層の材料を収縮させることによって、色素の層において高密度のレリーフ構造を作り出すための、色素の層を含むマスター基材の使用。
【請求項９】
色素の層の材料の収縮によって色素の層に形成される高密度のレリーフ構造を含むマスター基材。
【請求項１０】
光学ディスクの大量作製用のスタンパーを作るための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  色素の層を含む記録スタックを提供すること；
−  該色素の層に高密度のレリーフ構造を作り出すために、レーザーパルスを適用することによって色素の層の材料を収縮させること；及び
−  該色素の層に金属層を提供することによって該高密度のレリーフ構造を基礎としてスタンパーを作ること
を含む、方法。
【請求項１１】
光学ディスクを作るための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  色素の層を含む記録スタックを提供すること；
−  該色素の層に高密度のレリーフ構造を作り出すために、レーザーパルスを適用することによって色素の層の材料を収縮させること；
−  該高密度のレリーフ構造を基礎としてスタンパーを作ること；及び
−  光学ディスクを作るために該スタンパーを使用すること
を含む、方法。
【請求項１２】
マイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作るための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  色素の層を含む記録スタックを提供すること；
−  該色素の層に高密度のレリーフ構造を作り出すために、レーザーパルスを適用することによって色素の層の材料を収縮させること；及び
−  該色素の層に金属層を提供することによって該高密度のレリーフ構造を基礎としてスタンプを作ること
を含む、方法。
【請求項１３】
マイクロプリントを作るための方法であって、
当該方法は、以下のステップ：
−  色素の層を含む記録スタックを提供すること；
−  該色素の層に高密度のレリーフ構造を作り出すために、レーザーパルスを適用することによって色素の層の材料を収縮させること；
−  該高密度のレリーフ構造を基礎としてスタンプを作ること；
−  マイクロプリントを作るために該スタンプを使用すること
を含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスター基材、特に光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るためのマスター基材又はマイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作り出すためのマスター基材、の記録スタックにおける高密度のレリーフ構造を提供するための方法に関係する。さらには、本発明は、高密度のレリーフ構造を作り出すためのマスター基材、特に光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るためのマスター基材又はマイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作るためのマスター基材、に関係する。本発明は、高密度のレリーフ構造を含むマスター基材のみならず、また、色素の層を含むマスター基材の特別な使用に関係する。さらには、本発明は、光学ディスクの大量製作用のスタンパー、光学ディスク、マイクロコンタクトプリンティング用のスタンプ、及びマイクロプリントを作るための方法に関係する。
【背景技術】
【０００２】
光学的な工程を基礎として製造されるレリーフ構造を、例えば、読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）並びに予め溝が付けられた追記型（Ｒ）及び書き換え可能な（ＲＥ）ディスクの大量の複製用のスタンパーとして使用することができる。このようなスタンパーの製造は、複製の工程で使用されるような、マスタリングとして知られている。
【０００３】
従来のマスタリングにおいては、ガラスの基材にスピンコートされた、薄い感光性の層が、変調された集束したレーザービームで照明される。レーザービームの変調は、形成されるものであるピットの間の中間のエリアが、露出されないままである一方で、マスター基材のいくつかの部分が、ＵＶ光によって露出されていることを引き起こす。ディスクが回転し、且つ、集束したレーザービームが、ディスクの外側へ徐々に引かれる一方で、交替する照明されたエリアの渦が残る。第二のステップにおいて、露出されたエリアは、フォトレジスト層の内側の物理的な穴で終わるように、いわゆる現像の工程において溶解させられるものである。ＮａＯＨ及びＫＯＨのようなアルカリ性の液体は、露出されたエリアを溶解させるために使用される。マスター基材の構造化された表面は、その後、薄いＮｉ層で覆われる。直流電気の工程において、薄いスパッター堆積させられたＮｉ層は、逆ピット構造を含む厚い処理しやすいＮｉ基材までさらに成長させられる。突出するバンプを備えたこのＮｉ基材は、マスター基材から分離され、且つ、スタンパーと呼ばれる。
【０００４】
相転移マスタリング（ＰＴＭ）は、光学ディスクの大量製作用の高密度のＲＯＭ及びＲＥ／Ｒスタンパーを作るための相対的に新しい方法である。相転移材料を、初期の書き込まれてない状態からレーザーで誘起された加熱を介して異なる状態まで変換することができる。記録スタックの加熱は、例えば、混合、溶融、アモルファス化、相分離、分解などを引き起こし得る。二つの相の一方、初期の又は書き込まれた状態は、他の相がそうするよりも、酸又はアルカリ性の現像液により速く溶解する。このような方法で、書き込まれたデータパターンを、突出するバンプ又ピットを備えた高密度のレリーフ構造へ変換することができる。また、この場合には、パターン化された基材を、高密度の光学ディスクの大量製作用のスタンパーとして、又は、マイクロコンタクトプリンティング用のスタンプとして、使用することができる。
【０００５】
これに関連して、速い成長の相変化材料及び相転移マスタリング用の記録スタックを使用することを、すでに提案した。成長に支配される相変化材料は、非晶質の及び結晶質の相の溶解速度において高いコントラストをもつ。結晶質の材料の溶融物を急冷することによって得られた、非晶質のマークを、ＫＯＨ及びＮａＯＨのような、濃縮された従来のアルカリ性の現像剤の液体に、しかし、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、及びＨ２ＳＯ４と同様の酸にもまた、溶解させることができる。マークの尾部における再結晶化を、制御された様式でマークの長さを低減するために、使用することができる。特に、最も小さいマーク、Ｉ２、の場合には、マークの尾部における再結晶化は、光学スポットのサイズよりも短い長さを備えた、三日月形のマークに至り得る。このような方法で、接線方向のデータ密度を、増加させることができる。
【０００６】
このような材料系の課題は、記録スタックの熱的な及び光学的な挙動を最適化することが必要とされた相対的に多数の記録スタック相であるかもしれない。別の困難性は、このような材料系で深いピットの構造を作る能力である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、相対的に単純な記録スタックを基礎とした高密度のレリーフ構造を作り出す可能性を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この目的は、独立請求項の特徴によって解決される。本発明のさらなる発展及び好適な実施形態は、従属請求項に概略が述べられる。
【０００９】
本発明の第一の態様と一致して、提供されるものは、マスター基材、特に光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るためのマスター基材又はマイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作るためのマスター基材、の記録スタックにおける高密度のレリーフ構造を提供するための方法であるが、その方法は、以下のステップ：
−  色素の層を含む記録スタックを提供すること；及び
−  色素の層に高密度のレリーフ構造を作り出すために、レーザーパルスを適用することによって色素の層の材料を収縮させること
を含む。
【００１０】
例えば、Ｏｘｏｎｏｌ色素は、レーザーで誘起された加熱の際における収縮の関心のある性質をもつ。加熱のおかげで、有機色素の材料の炭化が、起こるが、その炭化は、反応生産物の形成及び露出された体積の低減によって成し遂げられる。これは、他の記録のメカニズムの中で、このような色素に基づいた記録可能なディスクにおけるマークの従来の形成に対する重要な寄与である。知られた記録の技術では、収縮は、書き込まれたデータの読み出しを可能とする、低減された光路長に至る。それとは対照的に、本発明は、このような収縮のメカニズムをもつ有機色素の材料で高密度のレリーフ構造を作るためのこの体積測定の変化を使用することを提案する。それに限定されることなく、ブルー・レイ・ディスクのマスタリングは、本発明の可能性のある用途である。この場合には、記録は、好ましくは、４０５ｎｍでなされるが、しかし、他の波長もまた可能である。この波長での十分な吸収を備えた全ての色素の材料を、この用途に使用することができる。本発明と一致して作り出された高密度のレリーフ構造を、光学ディスクの大量複製に使用される、スタンパーを作るために使用することができるだけでなく、バイオセンサー用のチャネル構造及びディスプレイと同様の他の二次元の構造物にもまた使用することができる。
【００１１】
本発明の好適な実施形態では、色素の層の色素は、以下の群：ｏｘｏｎｏｌに基づいた色素、フタロシアニン、シアニン類、ＡＺＯより選択される。色素の層の厚さは、例えば、４０ｎｍと１００ｎｍとの間に、好ましくは６０ｎｍと８０ｎｍとの間に、ある。
【００１２】
本発明のさらなる発展と一致して、記録スタックは、色素の層より下に配置された少なくとも一つの反射層をさらに含む。
【００１３】
反射層は、好ましくは、以下の群：Ｎｉ、Ａｇ、Ａｌ、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４より選択された材料で作られる。いずれの場合も、反射層に使用された材料は、色素の層の色素とは異なる反射率を有するべきである。反射層の厚さは、例えば、５ｎｍと４０ｎｍとの間の厚さ、好ましくは、１０ｎｍと２０ｎｍとの間、であることもある。色素の層の下の反射層は、色素の層における温度分布を改善するための吸収層としてもまた作用することもある。
【００１４】
少なくとも、本発明のいくつかの実施形態では、記録スタックは、色素の層の上に及び／又は下に配置された少なくとも一つの吸収層をさらに含む。
【００１５】
吸収層は、好ましくは、以下の群：Ｎｉ、Ｃｕ、ＧｅＳｂＴｅ、ＳｎＧｅＳｂ、ＩｎＧｅＳｂＴｅより選択された材料で作られる。吸収層は、好ましくは、エッチング可能な且つ相対的に薄いもの、例えば、５ｎｍと４０ｎｍとの間、好ましくは５ｎｍと１０ｎｍとの間、である。
【００１６】
本発明の第二の態様と一致して、提供されるものは、高密度のレリーフ構造を作り出すためのマスター基材、特に光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るためのマスター基材又はマイクロコンタクトプリンティング用のスタンプを作るためのマスター基材、であるが、ここで、マスター基材は、色素の層の材料を収縮させるレーザーパルスを適用することによって高密度のレリーフ構造が形成される、色素の層を含む。このようなマスター基材は、上に記載した方法と共に使用されることに適切である。従って、詳細な特性及び可能性のあるさらなる発展に関しては、反復を回避するために、本発明の第一の態様と一致した方法の上記の記載が参照される。
【００１７】
同じことが、レーザーパルスを適用することによって色素の層の材料を収縮させることによって、色素の層において高密度のレリーフ構造を作り出すための、色素の層を含むマスター基材の使用に向けられた、本発明の第三の態様に当てはまる。
【００１８】
本発明の第四の態様と一致して、提供されるものは、色素の層の材料の収縮によって色素の層に形成される高密度のレリーフ構造を含むマスター基材である。このようなマスター基材は、本発明の第一の態様と一致した方法を実行することによって、得られることもあり、且つ、従って、詳細に関しては、対応する記載が再度参照される。
【００１９】
本発明の第五の態様と一致して、提供されるものは、光学ディスクの大量作製用のスタンパーであるが、ここでそのスタンパーは、それが、以下の工程：
−  色素の層を含む記録スタックを提供すること；
−  色素の層に高密度のレリーフ構造を作り出すために、レーザーパルスを適用することによって色素の層の材料を収縮させること；及び
−  色素の層に金属層を提供することによって高密度のレリーフ構造を基礎としてスタンパーを作ること
によって作られるという点で特徴付けられる。
【００２０】
金属層を提供するために、例えば、薄いＮｉ層は、マスター基材の記録スタックに形成された高密度のレリーフ構造にスパッター堆積させられる。このＮｉ層は、その後、厚い処理しやすいスタンパーまで電気化学的に成長させられる。スタンパーは、マスター基材から分離され、且つ、光学ディスクの大量複製用に使用されるためにさらに加工される（クリーニングされる、打ち抜きされる、など）。
【００２１】
本発明の第六の態様と一致して、提供されるものは、光学ディスクであるが、その光学ディスクは、それが、以下の工程：
−  色素の層を含む記録スタックを提供すること；
−  色素の層に高密度のレリーフ構造を作り出すために、レーザーパルスを適用することによって色素の層の材料を収縮させること；
−  高密度のレリーフ構造を基礎としてスタンパーを作ること；及び
−  光学ディスクを作るためにスタンパーを使用すること
によって作られるという点で特徴付けられる。
【００２２】
また、この場合には、高密度のレリーフ構造を、本発明の方法と一致して形成することができ、且つ、これに関連して、対応する記載が再度参照される。光学ディスクを作るために使用されたスタンパーは、上に記載されたタイプのものであることができる。光学ディスクそれ自体の作製は、当業者に周知であり、且つ、従って、ここには記載されない。
【００２３】
本発明の第七の態様と一致して、提供されるものは、マイクロプリントであるが、そのマイクロプリントは、それが、以下の工程：
−  色素の層を含む記録スタックを提供すること；
−  色素の層に高密度のレリーフ構造を作り出すために、レーザーパルスを適用することによって色素の層の材料を収縮させること；
−  高密度のレリーフ構造を基礎としてスタンプを作ること；
−  マイクロプリントを作るためにスタンプを使用すること
によって作られるという点で特徴付けられる。
【００２４】
再度、高密度のレリーフ構造を、本発明の方法と一致して形成することができる。高密度のレリーフ構造を基礎としたスタンプの作製は、当業者に周知であり、且つ、上に記載されたスタンパーの作製と同様に実行され得る。マイクロプリンティングの工程それ自体は、また当業者に周知であり、且つ、従って、ここには記載されない。
【００２５】
本発明のこれらの及び他の態様は、以後に記載された実施形態から明らかであり、且つ、それらを参照して解明されると思われる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
図１ａから１ｃは、光学ディスクの大量製作用のスタンパーを作るためのマスター基材２６の記録スタック１２、１４、１６に高密度のレリーフ構造１８を提供するための方法の第一の実施形態を概略的に図説する。
【００２７】
図１ａは、マスター基材２６を、それの初期の状態で示す。記録スタック１２、１４、１６は、ガラスの基材１０によって担持され、且つ、入射のレーザービームの方向から見られた外観の順番に、吸収層１６、有機色素の層１４、及び、反射層１６を含む。吸収層１６は、エッチング可能であり、且つ、相対的に薄いもの、例えば、５ｎｍと４０ｎｍとの間、好ましくは５ｎｍと１０ｎｍとの間である。色素の層１４は、好ましくは、ｏｘｏｎｏｌ色素のタイプのものである。色素の層の厚さは、４０ｎｍと１００ｎｍとの間、好ましくは６０ｎｍと８０ｎｍとの間、にある。反射層１２は、Ｎｉ、例えば、５ｎｍと４０ｎｍとの間の厚さ、好ましくは１０ｎｍと２０ｎｍとの間、であることもある。また、Ａｇ及びＡｌは、適切な材料である。ＳｉＯ２及びＳｉ３Ｎ４のような他の誘電体の層は、反射率が色素のものと調和することがない限りは、反射体として使用されることもある。
【００２８】
図１ｂは、ピット１８が形成される領域における一つの又はより多くのレーザーパルスの適用の後のマスター基材２６を示す。ピット１８は、色素の層の材料の熱に誘起された収縮によって形成される。
【００２９】
図１ｃは、エッチング工程が、ピット１８を露出させるために吸収層１６を取り除くために、実行された後のマスター基材２６を示す。適切なエッチング液は、例えば、ＨＮＯ３及びＨＣｌのような酸である。
【００３０】
本発明と一致した方法が、ピットの作り出しに限定されずに、要求に依存して、いずれの高密度のレリーフ構造をも作り出すことに適切であることは、当業者には明りょうなことである。
【００３１】
図２ａから２ｆまでは、光学ディスク２２を作るためのスタンパー２０（それら光学ディスクの一つのみが部分的に示される）又はマイクロプリント２６を作るためのスタンプ２４（それらマイクロプリントの一つのみが部分的に示される）を生産するための本発明と一致したマスター基材２６の使用を概略的に図説する。
【００３２】
図２ａは、マスター基材２６をそれの初期の状態で示す。記録スタック１２、１４は、ガラスの基材１０によって担持される。この場合には、記録スタックは、入射のレーザービームの方向から見られた外観の順番に、有機色素の層１４及び反射層１６を含む。それら層は、図１ａのものに等しいか又は類似のものであることもある。
【００３３】
図２ｂは、高密度のレリーフ構造１８が形成される領域における一つの又はより多くのレーザーパルスの適用の後のマスター基材２６を示す。図２ａから２ｃまでが、スタンパー２０及びスタンプ２４の形成の両方を図説するために使用されるとはいえ、高密度のレリーフ構造１８の性質が、その用途に依存することは、当業者には明りょうなことである。いずれの場合にも、高密度のレリーフ構造１８は、色素の層の材料の熱に誘起された収縮によって形成される。
【００３４】
図２ｃと一致して、金属のスタンパー２０及び金属のスタンプ２４は、それぞれ、高密度のレリーフ構造１８を基礎として形成される。金属層を提供するために、例えば、薄いＮｉ層が、マスター基材２６の記録スタック１２、１４に形成された高密度のレリーフ構造１８にスパッター堆積させられる。このＮｉ層は、その後、厚い処理しやすいスタンパー２０又はスタンプ２４まで電気化学的に成長させられる。スタンパー２０又はスタンプ２４は、マスター基材２６から分離され、且つ、さらに加工される（クリーニングされる、打ち抜きされる、など）。
【００３５】
図２ｄ及び２ｅは、Ｎｉのスタンパー２０を基礎とした光学ディスク２２の生産を、それが当業者には周知であるが、概略的に図説する。
【００３６】
図２ｆは、スタンプ２４を基礎としたマイクロプリント２６の作製を概略的に図説する。
【００３７】
ＤＶＤ＋Ｒの二層のディスクのＬ１のスタックに書き込まれたピット構造の例が、図３における原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）のピクチャで与えられる。ディスクは、６５８ｎｍの波長（ＮＡ＝０．６５）で記録された。薄いＳｉ３Ｎ４の吸収層、１００ｎｍの厚さの色素の層、及び１００ｎｍのＡｇの反射層を含む、記録スタックは、予めの溝の基材の上部に堆積させられた。記録の後で、ディスクは、Ｌ１の色素の層で二つの半体へと分離された。ディスクは、色素−Ｓｉ３Ｎ４の界面で分離された。露出されたエリアのレーザーに誘起された加熱は、誘起の格子の部分的な炭化に、且つ、従って、低減された体積に、至る。作り出されたピットは、非常に急勾配の壁を有し、且つ、相対的に深いものである。このピットの形状は、色素の層における吸収プロフィールによって決定される。吸収プロフィールは、色素の層の厚さ、自由選択の金属性の下層（反射体）及び自由選択の上部の吸収層によって、精密に調整される。
【００３８】
図４は、図３に示された実用的な実験の結果の断面の分析を示す。図４に詳細に示された且つ隣接した予めの溝の間に書き込まれたピットは、上に述べたような、非常に急勾配の壁を含む。
【００３９】
図５から９までは、従来のＤＶＤ＋Ｒの色素を基礎として行われた、示差走査熱量計（ＤＳＣ）及び熱重量分析（ＴＧＡ）の測定の結果を図説する。転移温度は、マスタリングに非常に有益である、およそ２５０℃−３００℃である。相対的な質量の低減は、３０％から９０％まで範囲にわたる。
【００４０】
図５は、あるＤＶＤ＋Ｒの色素（Ｏｒｇａｎｉｃａ  １１４０（Ｒ））のＤＳＣ及びＴＧＡ分析を図説する。質量におけるシャープな低減が、約２７０℃で起こる。相対的な体積の変化は、２５％である。
【００４１】
図６は、あるＤＶＤ＋Ｒの色素（Ｆｕｊｉ（Ｒ））のＤＳＣ及びＴＧＡ分析を図説する。この場合に、質量におけるシャープな低減は、約２５０℃で起こる。相対的な体積の変化は、９０％よりも多い。
【００４２】
図７は、あるＤＶＤ＋Ｒの色素（Ｂａｙｅｒ（Ｒ））のＤＳＣ及びＴＧＡ分析を図説する。ここで、質量におけるシャープな低減は、約２９０℃で起こる。相対的な体積の変化は、３０％よりも多い。
【００４３】
図８は、あるＤＶＤ＋Ｒの色素（ＭＣＣｐｄｓ２２１１（Ｒ））のＤＳＣ及びＴＧＡ分析を図説する。この色素では、質量におけるシャープな低減は、約２９０℃で起こる。相対的な体積の変化は、約４０％である。
【００４４】
最後に、図９は、あるＤＶＤ＋Ｒの色素（ＭＣＣ１６Ｘ（Ｒ））のＤＳＣ及びＴＧＡ分析を図説する。質量におけるシャープな低減は、約２９０℃で起こる。相対的な体積の変化は、約６０％である。
【００４５】
上に記載されない均等物及び変更物が、添付する請求項に定義される本発明の範囲から逸脱することなく、また用いられることもあることは、留意されることである。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１ａ】図１ａは、本発明と一致したマスター基材の実施形態を基礎として実行された、本発明と一致した方法の第一の実施形態を概略的に図説する；
【図１ｂ】図１ｂは、本発明と一致したマスター基材の実施形態を基礎として実行された、本発明と一致した方法の第一の実施形態を概略的に図説する；
【図１ｃ】図１ｃは、本発明と一致したマスター基材の実施形態を基礎として実行された、本発明と一致した方法の第一の実施形態を概略的に図説する；
【図２ａ】図２ａは、全て本発明と一致したスタンパー、光学ディスク、及びマイクロプリントをそれぞれ生産するための本発明と一致したマスター基材の使用を概略的に図説する；
【図２ｂ】図２ｂは、全て本発明と一致したスタンパー、光学ディスク、及びマイクロプリントをそれぞれ生産するための本発明と一致したマスター基材の使用を概略的に図説する；
【図２ｃ】図２ｃは、全て本発明と一致したスタンパー、光学ディスク、及びマイクロプリントをそれぞれ生産するための本発明と一致したマスター基材の使用を概略的に図説する；
【図２ｄ】図２ｄは、全て本発明と一致したスタンパー、光学ディスク、及びマイクロプリントをそれぞれ生産するための本発明と一致したマスター基材の使用を概略的に図説する；
【図２ｅ】図２ｅは、全て本発明と一致したスタンパー、光学ディスク、及びマイクロプリントをそれぞれ生産するための本発明と一致したマスター基材の使用を概略的に図説する；
【図２ｆ】図２ｆは、全て本発明と一致したスタンパー、光学ディスク、及びマイクロプリントをそれぞれ生産するための本発明と一致したマスター基材の使用を概略的に図説する；
【図３】図３は、従来のＤＶＤ＋Ｒ  Ｌ１のスタックを基礎としてなされた実用的な実験の結果の表面の分析を示す；
【図４】図４は、図３に示された実用的な実験の結果の断面の分析を示す；
【図５】図５は、従来のＤＶＤ＋Ｒの色素を基礎として行われた、示差走査熱量計（ＤＳＣ）及び熱重量分析（ＴＧＡ）の測定の結果を図説する。
【図６】図６は、従来のＤＶＤ＋Ｒの色素を基礎として行われた、示差走査熱量計（ＤＳＣ）及び熱重量分析（ＴＧＡ）の測定の結果を図説する。
【図７】図７は、従来のＤＶＤ＋Ｒの色素を基礎として行われた、示差走査熱量計（ＤＳＣ）及び熱重量分析（ＴＧＡ）の測定の結果を図説する。
【図８】図８は、従来のＤＶＤ＋Ｒの色素を基礎として行われた、示差走査熱量計（ＤＳＣ）及び熱重量分析（ＴＧＡ）の測定の結果を図説する。
【図９】図９は、従来のＤＶＤ＋Ｒの色素を基礎として行われた、示差走査熱量計（ＤＳＣ）及び熱重量分析（ＴＧＡ）の測定の結果を図説する。
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図１ｃ】
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【図２ａ】
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【図２ｂ】
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【図２ｃ】
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【図２ｄ】
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【図２ｅ】
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【図２ｆ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
2008527589.tif 000019
2008527589.tif 000020
2008527589.tif 000021