(57)【要約】  歯が設けられた少なくとも二つのインターデジタル化されたコムを備え、一つのコムの他のコムに隣接する歯の端部の断面積が、他のコムから離れた歯の端部の断面積より大きい可変コンデンサであって、ジャイロ計および加速度計に用いることができる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
コムによって形成された第一（１０２）および第二（１０４）のインターデジタル化された電極（１０４）を備え、
前記コム（１０２、１０４）には、主軸線（Ｙ１、Ｙ１´）に沿って配置されたボディ（１０６、１０７）と第二の軸線（Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、…Ｘｎ、Ｘ１´、Ｘ２´、Ｘ３´、…Ｘｎ´）に沿ってそれぞれ配置された歯（１０８．１、１０８．２、１０８．３、…１０８．ｎ、１０９．１、１０９．２、１０９．３、…１０９．ｎ）とが設けられ、
前記歯（１０８．１、１０８．２、１０８．３、…１０８．ｎ、１０９．１、１０９．２、１０９．３、…１０９．ｎ）は、互いに平行に配置され且つそれらの第二の軸線（Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、…Ｘｎ、Ｘ１´、Ｘ２´、Ｘ３´、…Ｘｎ´）に沿って移動可能であり、
前記歯は、それらをボディ（１０６）に接続する第一の端部（１１０．１、１１０．２）と他のコムに対向するように前記第一の端部（１１０．１、１１０．２）とは反対側に配置された第二の自由端部（１１２．１、１１２．２）とを有し、
前記歯は、前記第一の端部の側面に配置され且つ略一定の断面積を有する第一の部分を備え、
前記歯の第二の自由端部（１１２．１、１１２．２）は、前記コムに接続された第一の部分（１１０．１、１１０．２）の断面積より小さい断面積を有し、
前記第二の端部の断面積は、第一の端部（１１０．１、１１０．２）からの距離が増大するにつれて次第に減少し、
前記一対の歯（１０８．１、１０８．２、１０８．３、…１０８．ｎ、１０９．１、１０９．２、１０９．３、…１０９．ｎ）は、他のコムの歯（１０８．１、１０８．２、１０８．３、…１０８．ｎ、１０９．１、１０９．２、１０９．３、…１０９．ｎ）の形状に補完的な形状を有するスペースを形成している可変コンデンサ。
【請求項２】
前記歯の自由端部は、（１１２．１、１１２．２）少なくとも二つのセグメントによって形成されている請求項１記載のコンデンサ。
【請求項３】
前記自由端部（１１２．１、１１２．２）は、尖端（１２２．１、１１２．２）に形成されている請求項1記載のコンデンサ。
【請求項４】
前記歯の自由端部（２１２．１、２１２．２）は、台形状に形成され、該台形の大きな底部（２２６．１、２２６．２）が歯に対して配置されている請求項２記載のコンデンサ。
【請求項５】
前記歯の自由端部（３１２．１、３１２．２）は、第一および第二の非交叉セグメントによって形成され、前記セグメントは、同一の長さを有し歯の長手方向軸線について対称であり、且つ円弧を形成する無制限数のセグメントによって接続されている請求項２記載のコンデンサ。     
【請求項６】
一つのコムにおける一つの歯の横方向端部を他のコムのすぐ隣接する歯の横方向端部から離れたエアギャップ（e）が１μｍと３μｍとの間の寸法を有する上述した請求項のいずれかに記載のコンデンサ。
【請求項７】
一つのコム（１０２、１０４）における一つの歯の自由端部を歯の軸線方向に沿う他のコム（１０４、１０２）から離れた距離（ｄ）が、３μｍと１５μｍとの間にある上述した請求項のいずれかに記載のコンデンサ。
【請求項８】
前記コム（１０２、１０４）がシリコンから作られている上述した請求項のいずれかに記載のコンデンサ。
【請求項９】
前記コム（１０２、１０４）は、電気的導電性材料で被覆された電気的絶縁材料から作られている請求項１乃至７のいずれかに記載のコンデンサ。
【請求項１０】
前記コム（１０２、１０４）は、石英またはシリカから作られている請求項９記載のコンデンサ。
【請求項１１】
上述した請求項のいずれかに記載の可変コンデンサを備えたジャイロ計。
【請求項１２】
上述した請求項のいずれかに記載の可変コンデンサを備えた加速度計。
【請求項１３】
移動電極と固定電極とを備え基板（４０２）を用いる請求項１乃至１０の一つに記載の可変コンデンサを製造する工程であって、溝（４１７）によって分離され可変横断面を有する電極の歯（４１９）を形成するために前記基板をエッチングし、電極接続手段を形成する可変コンデンサの製造工程。
【請求項１４】
前記基板は、一面がシリコン酸化物層（４０６）によって被覆されそれ自体がシリコン層によって被覆されたシリコンベース層（４０４）を備えている請求項１３記載の工程。
【請求項１５】
前記接続手段を形成する工程が、犠牲層（４２０）を堆積して構成し、電極と電気的に接続されるべき領域との間で相互接続部（４２６）を犠牲層（４２０）に形成し、移動電極（４１９．２）を除去するように基板と犠牲層とをエッチングするステップを備えている請求項１３または１４記載の工程。
【請求項１６】
前記犠牲層（４２０）がＰＳＧから作られている請求項１５記載の工程。
【請求項１７】
犠牲層（４２０）が堆積される前に、ＳｉＮ絶縁パターン（４２２）が形成される請求項１５または１６記載の工程。
【請求項１８】
相互接続部（４２６）がポリシリコンから作られている請求項１５乃至１７の一つに記載の工程。
【請求項１９】
シリコン酸化物層（４０６）をエッチングすることによって、移動電極（４１９．２）が基板から除去される請求項１５乃至１８のいずれか記載の工程。       
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主として、特に、小型のジャイロ計および加速度計に用いられる可変静電容量を有するコンデンサ（可変コンデンサ）に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
これら装置の表面積は、１ｃｍ２より小さく、それらは特に自動車の分野で、特に、乗客の安全性を高めるために用いられている。例えば、これら装置は、所定値より大きい減速が検出されたとき、あるいは車両が転倒したときに、衝撃中、エアバッグを起動するため、およびスリップが生じたときに駆動を補助するための情報を提供するようにしている。これら装置は、また、航空機および医学分野、医学機械を製造するのにも用いられる。マイクロ技術に用いられる可変コンデンサは、二つのインターデジタル化された容量性コム（櫛）を備え、その一つは、固定され、他は移動可能であり、いわゆるエアギャップ変化モードか、あるいは、いわゆる領域変化モードのいずれかで作動する。
【０００３】
各コムは、その歯が他のコムの歯の間に挿入される。各コムの歯は矩形を有し、矩形状のスペースを形成する他のコムの二つの歯の間に挿入される。二つの直ぐ隣接する歯の間の距離は、エアギャップと称されている。エアギャップ変化を作動するため、移動コムが固定コムに対して歯に垂直な方向に移動したときに、エアギャップの変化を測定することができる。
【０００４】
領域（面積）変化を作動するため、二つのコムの一つが歯の軸線に沿って移動したとき第一のコムの歯と第二のコムの歯との対向する面領域の変化を測定することができる。
【０００５】
いわゆる領域変化作動は、大きな変位を形成するアクチュエータ又は大きな変位を測定することができる静電容量計を形成することが必要である場合に、より適切である。これは、固定コムに対する移動コムの変位がエアギャップの寸法（好ましくは、小さいままである）によって制限されないからである。これは、いわゆるエアギャップ変化作動の場合ではない。
【０００６】
従って、例えば、１．５μｍと２μｍとの間の小さいエアギャップおよび例えば、５μｍと１０μｍとの間の歯の軸線に沿う大きな変位をもって可変コンデンサを作ることが必要である。  
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
小さなエアギャップおよび歯の軸線に沿う大きな変位をもって可変コンデンサを作ることが必要とされることに問題が生ずる。
【０００８】
第一に、特に、異方性のプラズマによってエッチングする場合、エッチングが大きな均一性を有するように比較的均一なコンデンサを有することが望ましい。大きなパターンをエッチングすることより細かいパターンをエッチングすることのほうが遅い。従って、エアギャップおよび移動距離の値がきわめて異なる場合にエッチングすると、ある不均一性が生ずることである。
【０００９】
第二に、現存の技術では、コンデンサの異なる部分間に相互接続レベルを形成することが必要となる。これは、エッチングされた構造体に犠牲層を堆積することによってなされ、この犠牲層は、コムを完全に被覆し、従って、特に、コム間のスペースを充填しなければならない。従って、相互接続構造が作られ、犠牲層がエッチングされて必要な相互接続ブリッジをコム面から分離する。しかし、大きなエアギャップを正しく充填することはきわめて困難であった。
【００１０】
従って、本発明の一つの目的は、大きな変位を作ることができる可変コンデンサを提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、確実に製造することができる可変コンデンサを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的は、インターデジタル化された歯が設けられ少なくとも第一および第二のコム（櫛）を備える面変化によって作動し、且つ上記歯において、各コムの他のコムに向かって配置された歯の端部の横断面積が、コムのボディへの接続端部の横断面積より小さく設定されている可変コンデンサによって達成される。
【００１３】
換言すると、エアギャップ領域は、できるだけ大きく形成され、歯の軸線に沿う領域は、できるだけ小さく形成される。コムのボディの軸線に沿って測定されたコムの端部におけるエアギャップの値に対するこの移動の値を測定することができることになるが、一方では、エッチングの均一性を阻害するような大きな領域の比率を増大し、これが、犠牲層を用いる際に問題を生じさせる。
【００１４】
従って、本発明の主な目的は、コムによって形成された少なくとも第一および第二のインターデジタル化された電極を備え、それぞれの電極には主軸線に沿うボディと第二の軸線に沿う歯とが設けられ、上記歯は互いに並行であり、上記第二の軸線に沿って移動することができ、歯は、これら歯をボディに接続する第一の端部と、他のコムに対向する第一の端部とは反対の第二の自由端部とを有し、これら歯の第二の自由端部の横断面積は、コムに接続された第一の端部の横断面積より小さい。
【００１５】
一対の歯は、他のコムの歯の形状に補完的な形状を有するスペースを形成することが有利である。
【００１６】
一実施例では、歯の自由端は、少なくとも二つのセグメントによって形成される。
【００１７】
第一の例では、この自由端は、尖端状に形成されている。
【００１８】
第二の例では、歯の自由端は、台形のように形成され、この台形の大きな底部は、歯に配置される。
【００１９】
第三の例では、歯の自由端は、同一の長さを有し、歯の長手方向の周りに対称であり、且つ円弧を形成する無限数のセグメントによって接続されている非交叉の第一および第二のセグメントによって形成されている。
【００２０】
コムの歯の横方向端部を他のコムのすぐ隣接する歯の横方向端部から離れたエアギャップの寸法は、１μｍと３μｍとの間にあることが有益である。
【００２１】
一つのコムの歯の自由端を歯の軸方向に沿う他のコムから離れた距離は、３μｍと１５μｍとの間にあることが有利である。
【００２２】
一実施例において、コムは、シリコンから作られている。
【００２３】
他の実施例では、コムは、電気的導電材料で被覆された電気的絶縁材料から作られている。
【００２４】
コムは、石英またはシリカから作られるのが有利である。
【００２５】
本発明の他の目的は、本発明に係る可変コンデンサを備えたジャイロ計を提供することにある。
【００２６】
本発明の他の目的は、本発明に係る可変コンデンサを備えた加速度計を提供することにある。
【００２７】
本発明の他の目的は、移動電極と固定電極とを備え且つ基板を用いるようにした可変コンデンサを製造することにある。この工程は、溝によって分離され可変横断面を有する電極の歯を形成するため基板をエッチングし、電極接続手段を形成するステップを備えている。
【００２８】
特に、この接続手段の形成は、好ましくはＰＳＧから作られた犠牲層を堆積して構成し、有利にはポリシリコンから作られた相互接続部を形成し、電極と電気的に接続されるべき領域との間で犠牲層上に相互接続部を形成し、移動電極を除去するように基板と犠牲層とをエッチングするステップを備えている。
【００２９】
基板は、一面がシリコン酸化物層によって被覆されそれ自体がシリコン層によって被覆されたシリコンベース層を備えていることが有益である。
【００３０】
また、犠牲層が堆積される前に、ＳｉＮ絶縁パターンを形成してもよい。
【００３１】
シリコン酸化物層をエッチングすることによって、移動電極が基板から除去されることが有利である。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によれば、均一なエッチングを実現することができ、且つコム間のスペースを適切に設定することができる有効な可変コンデンサを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明を実施する最良の形態を、図面を参照して詳細に説明する。
【実施例】
【００３４】
図１は、ある技術状態、例えば、小型化されたジャイロ計および加速度計に係る可変コンデンサを示す。このコンデンサは、第一のインターデジタル化されたコム（櫛）２と第二のインターデジタル化（相互デジタル化）されたコム（櫛）４とを備えている。第一のインターデジタル化コム２は、長手方向の軸線Ｙ１を有するボディ６と、このボディ６の軸線Ｙ１に対してそれぞれ垂直な軸線Ｘ１、Ｘ２，Ｘ３，Ｘｎを有する複数の歯８．１、８．２、８．３…、８．ｎ（ここで、ｎは、歯の数である）とを備えている。第二のインターデジタル化コム４は、長手方向の軸線Ｙ１´を有するボディ７と、それぞれ軸線Ｘ１´、Ｘ２´，Ｘ３´…、Ｘn´を有する複数の歯９．１、９．２、９．３…、９．ｎとを備えている。二つのコムは、略同じ構造を有し、すべての歯は、同一であり、従って、詳細な説明は、二つの隣接する歯に限定される。歯８．１および８．２は、これら歯をボディ６に接続する第一の軸方向端部１０．１、１０．２と、他のコムのボディに対向する第二の軸方向端部１２．１、１２．２とを備えている。各歯は、略矩形を有し、二つの略平行な側面１４．１、１４．２、１６．１、１６．２によって横方向に延びるように形成されており、第二の軸方向端部１２．１、１２．２は、第一および第二の側面１４．１、１４．２、１６．１、１６．２をそれぞれ接続するセグメントによって形成され、且つＹ１軸線に対して平行である。
【００３５】
各歯は、軸線Ｙ１に対して平行な平坦な底部１７．１を介して次の歯に接続され、各対の歯は、略矩形状のスペース１８．１を形成し、その内側に他のコムの一つの歯を挿入することができるようにされている。
【００３６】
二つの歯の直ぐ隣接する側面１６．１、１４．２は、エアギャップと呼ばれる距離eによって分離されている。各歯の自由端部１２．１、１２．２は、歯の軸線に沿って他のコムから距離ｄだけ分離されている。
【００３７】
狭いエアギャップeおよび大きな距離ｄを有することが望ましい。このようなコンデンサをエッチングすることはその構造の不均一性のために複雑な作業となり、上述した犠牲層等によってコム間のスペースを確実に且つ完全に埋めることは不可能である。
【００３８】
本発明は、これらの問題を解消する。
【００３９】
図２は、第一のコム１０２および第二のコム１０４を備える本発明に係る可変コンデンサの一例を示す。第一のコム１０２は、軸線Ｙ１を有するボディ１０６とこの軸線Ｙ１に対して垂直な軸線Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３を有する歯１０８．１、１０８．２、１０８．３…とを有する。第二のコムは、軸線Ｙ１´を有するボディ１０７と、軸線Ｘ１´，Ｘ２´，Ｘ３´を有する歯１０９．１、１０９．２、１０９．３とを備えている。従来技術に係るコンデンサについては、詳細な説明が第一のコム２における二つの歯に限定される。歯１０８．１および１０８．２は、第一の長手方向端部１１０．１、１１０．２をそれぞれ介してボディ１０６に接続され、また、他のコムに向かって配置された自由な長手方向端部１１２．１、１１２．２を備えている。本発明によれば、歯１０８．１、１０８．２の自由端部１１２．１、１１２．２は、第一の端部１１０．１、１１０．２の断面積より小さい断面積を有する。図示された例において、自由端部１１２．１、１１２．２は、尖端部１２２．１、１２２．２から成り、二等辺三角形によって形成され、これら三角形の基部はボディ１０６に配置されている。
【００４０】
図１で明らかなように、歯１０８．１、１０８．２は、略一定の断面形状、例えば、矩形を有するコム１０６のボディ１０６に接続された第一の部分を備えている。第二の自由端１１２．１、１１２．２は、第一の部分の断面積より小さい断面積を有し、この断面積は、歯の第一の端部から距離が次第に増大するにつれて次第に減少するように形成されている。従って、第二の自由端を、図２に示された尖端形状にすることができるが、また、台形（図３）あるいは丸い形状（図４）にすることもできる。
【００４１】
一対の歯は、各対向する歯の自由端に補完的な形状を有する底部１１７．１を介して接続されていることが有利である。図２に示された例において、底部は、二つの並列な直線セグメント１２０．１、１２０．１´および尖端１２４．１によって形成されている。
【００４２】
この結果、歯の軸線に沿う移動距離は、尖端１２２．１と尖端１２４．１とを分離する距離ｄによって限定される。
【００４３】
図５は、エアギャップの値e=２μｍのため尖端１１２．１の頂点で角度αの関数としてｄの変化を示す表を含む。
【００４４】
より鋭角角度α、大きな距離ｄであることが判る。
【００４５】
従って、本発明では、狭いエアギャップを歯の端部に保持することができるが、歯の軸線に沿っては大きな移動距離を行うことができる。矩形部の歯を有する可変コンデンサの公知の型式では、歯の端部のエアギャップは、２e+ｗに等しく、ここで、eは、第一のコムの歯と第二のコムの歯との間のエアギャップであり、ｗは、歯の幅である。本発明によれば、三角形尖端部を有する歯の各歯の端部のエアギャップは、２eに等しく、歯の厚さは、歯の自由端で零である。
【００４６】
図３は、第二の例を示す。この例では、歯の自由端２１２．１、２１２．２は、台形状であり、コムのボディに向かって配置された大きなベース２２６．１を備えている。一対の歯を接続する底部は、補完的形状であることが有利である。
【００４７】
図４は、歯の自由端３１２．１、３１２．２が二等辺三角形によって形成された第三の例を示すが、頂点の角度が円弧３２８．１、３２８．２によって代えられている。一対の歯を接続する底部は、補完的な形状を有することが有益である。
【００４８】
明らかに、二つの歯によって形成されたスペースが、これらスペースに嵌合する歯と補完的な形状でないコンデンサは、本発明の範囲を逸脱しない。
【００４９】
明らかに、コムが幾つかの尖端を備える歯を含むコンデンサは、本発明の範囲を逸脱しない。
【００５０】
エアギャップの寸法の均一性という本発明に係る容量性のコンデンサの形状のため、エッチングは、より均一である。更に、小さい寸法のエアギャップにより、コンデンサの異なる部分間の相互接続を形成するため連続するステップ中エアギャップ閉じることはより容易になる。
【００５１】
本発明に係るコンデンサは、特に、マイクロ技術を用いて作られる内蔵ジャイロ計を作るのに有益であり、このため大きな移動距離がきわめて有効である。角速度をジャイロ計で測定することが必要とされる場合に、ジャイロ計の質量は、サイン波励起信号によって移動される。回転速度の作動下で励起信号および回転速度の両方に垂直な方向の周りにコリオリ力が発生し、次いで、出力信号は、次の型式の式によって与えられる。
【００５２】
S=２ｍ．Ω．ωｄ．ｄ
ここで、ｍは、構造の全てあるいはいくらかの質量を示し、Ωは、測定されるべき入力角速度を示し、ωｄは、励起信号の角度周波数を示し、ｄは、励起振幅を示す。
【００５３】
従って、出力信号の値を高くするために、励起振幅の値を高くすることが望ましいことが明らかである。代表的に、対象物は、少なくとも５μｍ、有利には、１０μｍに等しい変位振幅値を有することができ、これによって良好な性能を有するジャイロ計を得ることができる。これらの移動値は、例えば、４０°と１０°との間、あるいは３０°と２０°との間の角度αのために本発明に係るコンデンサ（図５）によって達成可能である。
【００５４】
出願人は、可変コンデンサを製造する工程の例を述べる。
【００５５】
このコンデンサを製造する工程は、本発明に係る形状を有するコムを基板にエッチングする工程と、相互接続手段を製造する工程とを備えている。    
【００５６】
この工程の詳細な例は、以下に述べられる。
【００５７】
第一のステップにおいて、基板４０２は、例えば、シリコンから作られたベース４０４とこのベースの上面に被覆するように取付けられた絶縁層４０６とを備えて構成されている。この絶縁層４０６は、例えば、二酸化シリコンＳｉＯ２から作られている。
【００５８】
第二のステップにおいて、層４０６は、領域４０８においてエッチングされる。次いで、ＳｉＮの層が基板の全体の面に亘って堆積される。
【００５９】
次いで、このＳｉＮ層は、固定部を形成する領域を除き、平坦化することによって除去される。
【００６０】
最終工程において、層４０６は、領域４１２で再度エッチングされて基板との接続のため準備される。
【００６１】
次いで、シリコンの層４１９が、エピタキシーにつき堆積される。この層は、次いで、エッチングされて柱４１０と移動電極４１９．１と固定電極４１９．２とを形成する。
【００６２】
追加の工程（図６ｂ）において、ＰＳＧ（蛍光シリコンガラス）型犠牲層４２０が、歯の上部に、例えば、ＰＲＥＣＶＤ（プラズマ強化化学堆積）反応によって堆積されて溝４１７を覆うようにする。リソグラフィーおよびエッチングによって電極の上部にＳｉＮ絶縁パターン４２２を形成することができるようにすると有益である。
【００６３】
次いで、犠牲層４２０は、コンデンサの異なる部分、例えば、特定のコムの歯の間、コムと接触点との間、あるいは基板に接続された一つの柱と絶縁領域４２２に形成された接触点との間に電気的相互接続４２６を形成することができるように構成される。この例において、支持柱４１０とアンカー４０８において犠牲層４２０に通路がエッチングされる。
【００６４】
次のステップ（図６ｃ）において、ポリシリコン層４２４が犠牲層４２０に堆積される。次いで、この層４２４は、相互接続ブリッジを形成するようにエッチングされ、従って、このブリッジは、上記装置の異なる部分間を相互接続させることができる。
【００６５】
最終的に、第四のステップ（図６ｄ）において、犠牲層４２０は、エッチングされてブリッジ４２６を除去する。ＳｉＯ２層４０６もエッチングされて移動電極４１９．２をベース４０４から懸架する。固定電極４１９．１は、ＳｉＯ２層４０６を介してベース４０２に接続されたままである。
【００６６】
上記例において、電極はシリコンから作られている。しかし、それらを絶縁材料、例えば、Ｃｒ−ＡＵ，Ａｌ，Ｗ−Ｗｎ−ＡｕあるいはＴｉＷ−Ａｕの如き導電材料によって被覆された石英から作ることができる。導電層は、歯が絶縁材料にエッチングされた後（図６a）、スパッタリング又は蒸着によって堆積される。次いで、保護されるべき導電領域が、例えば、リソグラフィーマスクの堆積後、エッチングによって形成される。機械的なマスクを介して、導電材料を適当な領域にのみ堆積することができる。    
【００６７】
本発明は、特に、マイクロ技術、特に、自動車産業に用いられるジャイロ計または加速度計に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】従来技術に係る可変コンデンサの部分斜視図。
【図２】本発明に係るコンデンサの第一の好ましい例を示す概略上面図。
【図３】本発明に係るコンデンサの第二の好ましい例を示す概略上面図。
【図４】本発明に係るコンデンサの第三の好ましい例を示す概略上面図。
【図５】歯の角度の値の関数として歯の軸方向移動の値の変化を示す表。
【図６ａ】本発明に係るコンデンサを製造する一ステップを示す断面図。
【図６ｂ】本発明に係るコンデンサを製造する一ステップを示す断面図。
【図６ｃ】本発明に係るコンデンサを製造する一ステップを示す断面図。
【図６ｄ】本発明に係るコンデンサを製造する一ステップを示す断面図。
【符号の説明】
【００６９】
２      第一のコム    
４      第二のコム
６      ボディ
８．１  歯
【図１】
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【図２】
2008529026.tif 000004
【図３】
2008529026.tif 000005
【図４】
2008529026.tif 000006
【図５】
2008529026.tif 000007
【図６ａ】
2008529026.tif 000008
【図６ｂ】
2008529026.tif 000009
【図６ｃ】
2008529026.tif 000010
【図６ｄ】
2008529026.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月9日(2006.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コムによって形成された第一（１０２）および第二（１０４）のインターデジタル化された電極（１０４）を備え、
前記コム（１０２、１０４）には、主軸線（Ｙ１、Ｙ１´）に沿って配置されたボディ（１０６、１０７）と第二の軸線（Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、…Ｘｎ、Ｘ１´、Ｘ２´、Ｘ３´、…Ｘｎ´）に沿ってそれぞれ配置された歯（１０８．１、１０８．２、１０８．３、…１０８．ｎ、１０９．１、１０９．２、１０９．３、…１０９．ｎ）とが設けられ、
前記歯（１０８．１、１０８．２、１０８．３、…１０８．ｎ、１０９．１、１０９．２、１０９．３、…１０９．ｎ）は、互いに平行に配置され且つそれらの第二の軸線（Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、…Ｘｎ、Ｘ１´、Ｘ２´、Ｘ３´、…Ｘｎ´）に沿って移動可能であり、
各コムの歯は、それらをボディ（１０６）に接続する第一の端部（１１０．１、１１０．２）と他のコムに対向するように前記第一の端部（１１０．１、１１０．２）とは反対側に配置された第二の自由端部（１１２．１、１１２．２）とを有し、
前記歯は、前記第一の端部に配置され且つ略一定の断面積を有する第一の部分を備え、
前記歯の第二の自由端部（１１２．１、１１２．２）は、前記コムに接続された第一の部分（１１０．１、１１０．２）の断面積より小さい断面積を有し、
前記第二の端部の断面積は、第一の端部（１１０．１、１１０．２）からの距離が増大するにつれて次第に減少し、
前記一対の歯（１０８．１、１０８．２、１０８．３、…１０８．ｎ、１０９．１、１０９．２、１０９．３、…１０９．ｎ）は、他のコムの歯（１０８．１、１０８．２、１０８．３、…１０８．ｎ、１０９．１、１０９．２、１０９．３、…１０９．ｎ）の形状に補完的な形状を有するスペースを形成している可変コンデンサ。
【請求項２】
前記歯の自由端部は、（１１２．１、１１２．２）少なくとも二つのセグメントによって形成されている請求項１記載のコンデンサ。
【請求項３】
前記自由端部（１１２．１、１１２．２）は、尖端（１２２．１、１１２．２）に形成されている請求項1記載のコンデンサ。
【請求項４】
前記歯の自由端部（２１２．１、２１２．２）は、台形状に形成され、該台形の大きな底部（２２６．１、２２６．２）が歯に対して配置されている請求項２記載のコンデンサ。
【請求項５】
前記歯の自由端部（３１２．１、３１２．２）は、第一および第二の非交叉セグメントによって形成され、前記セグメントは、同一の長さを有し歯の長手方向軸線について対称であり、且つ円弧を形成する無制限数のセグメントによって接続されている請求項２記載のコンデンサ。     
【請求項６】
一つのコムにおける一つの歯の横方向端部を他のコムのすぐ隣接する歯の横方向端部から離れたエアギャップ（e）が１μｍと３μｍとの間の寸法を有する上述した請求項のいずれかに記載のコンデンサ。
【請求項７】
一つのコム（１０２、１０４）における一つの歯の自由端部を歯の軸線方向に沿う他のコム（１０４、１０２）から離れた距離（ｄ）が、３μｍと１５μｍとの間にある上述した請求項のいずれかに記載のコンデンサ。
【請求項８】
前記コム（１０２、１０４）がシリコンから作られている上述した請求項のいずれかに記載のコンデンサ。
【請求項９】
前記コム（１０２、１０４）は、電気的導電性材料で被覆された電気的絶縁材料から作られている請求項１乃至７のいずれかに記載のコンデンサ。
【請求項１０】
前記コム（１０２、１０４）は、石英またはシリカから作られている請求項９記載のコンデンサ。
【請求項１１】
上述した請求項のいずれかに記載の可変コンデンサを備えたジャイロ計。
【請求項１２】
上述した請求項のいずれかに記載の可変コンデンサを備えた加速度計。
【請求項１３】
移動電極と固定電極とを備え基板（４０２）を用いる請求項１乃至１０の一つに記載の可変コンデンサを製造する工程であって、溝（４１７）によって分離され可変横断面を有する電極の歯（４１９）を形成するために前記基板をエッチングし、電極接続手段を形成する可変コンデンサの製造工程。
【請求項１４】
前記基板は、一面がシリコン酸化物層（４０６）によって被覆されそれ自体がシリコン層によって被覆されたシリコンベース層（４０４）を備えている請求項１３記載の工程。
【請求項１５】
前記接続手段を形成する工程が、犠牲層（４２０）を堆積して構成し、電極と電気的に接続されるべき領域との間で相互接続部（４２６）を犠牲層（４２０）に形成し、移動電極（４１９．２）を除去するように基板と犠牲層とをエッチングするステップを備えている請求項１３または１４記載の工程。
【請求項１６】
前記犠牲層（４２０）がＰＳＧから作られている請求項１５記載の工程。
【請求項１７】
犠牲層（４２０）が堆積される前に、ＳｉＮ絶縁パターン（４２２）が形成される請求項１５または１６記載の工程。
【請求項１８】
相互接続部（４２６）がポリシリコンから作られている請求項１５乃至１７の一つに記載の工程。
【請求項１９】
シリコン酸化物層（４０６）をエッチングすることによって、移動電極（４１９．２）が基板から除去される請求項１５乃至１８のいずれか記載の工程。
【国際調査報告】
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