(57)【要約】  基が互いに無関係に次の意味を有する：Ｒ1〜Ｒ3：水素、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、アミノカルボニル、スルホ、シアノ、ニトロ；Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ20−アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルオキシ、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルオキシ、Ｃ2〜Ｃ20−アルキニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アシルオキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルアミノカルボニル、ジ（Ｃ1〜Ｃ20−アルキル）アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ20−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルスルホニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、この場合記載されたアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびシクロアルキル基は、置換されていてよくおよび／またはＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく；フェニル、フェノキシ、この場合これらの基は、その側で置換されていてよく；Ｒ4は、スルホ；Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ20−アルキニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、この場合記載されたアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびシクロアルキル基は、置換されていてよくおよび／またはＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく；フェニル、この場合この基は、置換されていてよく；またはＲ1はＲ4と一緒に、および／またはＲ2はＲ3と一緒に、またはＲ4はＲ2と一緒に次の基を表わす：アルキレン−（ＣＨ）n−、但し、この場合ｎは、４、５または６であるものとし、またはブタジエニレン−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、この場合この基は、置換されていてよくおよび／またはＣＨ2基は酸素によって置換されていてよく、ＣＨ基は、ＮＲ5によって置換されていてよい、一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイト。
2008510741.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
2008510741.tif 000008
〔式中、基は、互いに無関係に次の意味を有する：
Ｒ1〜Ｒ3：
水素、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、アミノカルボニル、スルホ、シアノ、ニトロ；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ20−アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルオキシ、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルオキシ、Ｃ2〜Ｃ20−アルキニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アシルオキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルアミノカルボニル、ジ（Ｃ1〜Ｃ20−アルキル）アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ20−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルスルホニル、この場合記載されたアルキル基、アルケニル基およびアルキニル基は、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜３個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
フェニル、フェノキシ、この場合これらの基は、これらの側で
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；
Ｒ4：
スルホ；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ20−アルキニル、この場合記載されたアルキル基、アルケニル基およびアルキニル基は、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜３個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
フェニル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；
または
Ｒ1はＲ4と一緒に、および／またはＲ2はＲ3と一緒に、またはＲ4はＲ2と一緒に次の基を表わし：
アルキレン−（ＣＨ2）n−、但し、この場合ｎは、４、５または６であるものとし、この場合この基は、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１または２個のＣＨ2基は、酸素またはＮＲ5によって置換されていてよく、この場合２個のヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
ブタジエニレンーＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、この基は、
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１または２個のＣＨは、ＮＲ5によって置換されていてよく、この場合２個のヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
Ｒ5：
水素、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルまたはＣ1〜Ｃ6−アルキルオキシ〕で示されるイミダゾリウム−メチルスルファイト。
【請求項２】
基Ｒ1〜Ｒ3は、互いに無関係に次の意味を有する：
水素、弗素、塩素、アミノカルボニル、スルホ、シアノ；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アシルオキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルアミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ20−アルキル）−アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ20−アルキル）アミノ、この場合記載されたアルキル基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：ヒドロキシ、スルホ、シアノ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜３個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
フェニル、フェノキシ、この場合これらの基は、これらの側で
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニルを１〜３個まで有していてよい、請求項１記載の一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイト。
【請求項３】
基Ｒ1〜Ｒ3は、互いに無関係に次の意味を有する：
水素、弗素、塩素；
Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、この場合記載されたアルキル基およびシクロアルキル基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
その中で、１〜２個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
フェニル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基：
Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシを１〜３個まで有していてよい、請求項２記載の一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイト。
【請求項４】
基Ｒ1〜Ｒ3は、互いに無関係に次の意味：水素、メチル、エチル、１−プロピル、１−ブチル、１−ペンチル、１−ヘキシル、１−オクチル、１−デシル、１−ドデシル、１−ペンタデシルを有する、請求項３記載の一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイト。
【請求項５】
基Ｒ4は、次の意味を有する：
スルホ；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：ヒドロキシ、スルホ、シアノ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜３個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイト。
【請求項６】
基Ｒ4は、次の意味を有する：
スルホ；
Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、この場合記載されたアルキル基およびシクロアルキル基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
その中で、１〜２個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在する、請求項５記載の一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイト。
【請求項７】
基Ｒ4は、次の意味：メチル、エチル、１−プロピル、１−ブチル、１−ペンチル、１−ヘキシル、１−オクチル、１−デシル、１−ドデシル、１−ペンタデシルを有する、請求項６記載の一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイト。
【請求項８】
Ｎ，Ｎ′−ジメチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−エチルメチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−プロピル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−ブチル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−ペンチル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−ヘキシル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−オクチル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−デシル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−ドデシル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−ペンタデシル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト。
【請求項９】
一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイトの製造法において、一般式（Ｉ）
【化２】
2008510741.tif 000009
〔式中、基Ｒ1〜Ｒ4は、式（Ｉ）中に記載された意味を有する〕で示される相応するイミダゾールをジメチルスルファイトと反応させることを特徴とする、一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイトの製造法。
【請求項１０】
反応を、
（ｉ）６〜１０個の炭素原子を有する芳香族炭化水素、全部で５〜１０個の炭素原子を有する対称または非対称のジアルキルエーテル、５〜８個の炭素原子を有するシクロアルカンおよびＣ5〜Ｃ10−アルカンの群から選択された溶剤の存在下で、および
（ｉｉ）１０〜１００℃の温度で実施する、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
イオン液体の製造における出発物質としての一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイトの使用において、イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）を水とメタノールの放出下および亜硫酸水素イミダゾリウムの形成下に反応させることを特徴とする、イオン液体の製造における出発物質としての一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイトの使用。
【請求項１２】
イオン液体の製造における出発物質としての一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイトの使用において、イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）を水溶液中で２５℃で測定された１．８〜１４のｐＫａ値を有する無機プロトン酸または有機プロトン酸と、メタノールおよび二酸化硫黄の放出下および対応する、部分脱プロトン化されたかまたは全脱プロトン化された酸アニオンのイミダゾリウム塩の形成下に反応させることを特徴とする、イオン液体の製造における出発物質としての一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイトの使用。
【請求項１３】
イミダゾリウム塩が製造され、この場合部分脱プロトン化されたかまたは全脱プロトン化されたアニオンは、テトラフルオロ硼酸塩、ヘキサフルオロ燐酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、メタンスルホン酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、マンデル酸酸、硝酸塩、亜硝酸塩、トリフルオロ酢酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、メチル硫酸塩、エチル硫酸塩、プロピル硫酸塩、ブチル硫酸塩、ペンチル硫酸塩、ヘキシル硫酸塩、ヘプチル硫酸塩、オクチル硫酸塩、燐酸塩、燐酸二水素塩、燐酸水素塩、プロピオン酸塩、テトラクロロアルミン酸塩、Ａｌ2Ｃｌ7-、クロロ亜鉛酸塩、クロロ鉄酸塩、ビス（トリフルオロエチルスルホニル）イミド、ビス（ペンタフルオロエチルスルホニル）イミド、トリス（トリフルオロメチルスルホニル）エチド、ビス（ペンタフルオロエチルスルホニル）メチド、ｐ−トリルスルホン酸塩、ビス［サリチラト（２−）］硼酸塩、テトラカルボニルコバルト酸塩、ジメチレングリコールモノメチルエーテル硫酸塩、オクチル硫酸塩、オレイン酸塩、ステアリル酸塩、アクリル酸塩、メタクリル酸塩、マレイン酸塩、クエン酸水素塩、ビニルホスホン酸塩、ビス（ペンタフルオロエチル）ホスフィン酸塩、ビス［オキサラト（２−）］硼酸塩、ビス［１，２−ベンゼンジオラト（２−）−Ｏ，Ｏ′］硼酸塩、ジシアナミド、トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロ燐酸塩、トリス（ヘプタフルオロプロピル）トリフルオロ燐酸塩、テトラシアノ硼酸塩またはクロロコバルト酸塩である、請求項１２記載の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般式（Ｉ）
【化１】
2008510741.tif 000003
〔式中、基は、互いに無関係に次の意味を有する：
Ｒ1〜Ｒ3：
水素、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、アミノカルボニル、スルホ、シアノ、ニトロ；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ20−アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルオキシ、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルオキシ、Ｃ2〜Ｃ20−アルキニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アシルオキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルアミノカルボニル、ジ（Ｃ1〜Ｃ20−アルキル）アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ20−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルスルホニル、この場合記載されたアルキル基、アルケニル基およびアルキニル基は、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜３個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
フェニル、フェノキシ、この場合これらの基は、これらの側で
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；
Ｒ4：
スルホ；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ20−アルキニル、この場合記載されたアルキル基、アルケニル基およびアルキニル基は、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜３個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
フェニル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；
または
Ｒ1はＲ4と一緒に、および／またはＲ2はＲ3と一緒に、またはＲ4はＲ2と一緒に次の基を表わし：
アルキレン−（ＣＨ）n−、但し、この場合ｎは、４、５または６であるものとし、この場合この基は、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１または２個のＣＨ2基は、酸素またはＮＲ5によって置換されていてよく、この場合２個のヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
ブタジエニレン−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、この基は、
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１または２個のＣＨ2基は、ＮＲ5によって置換されていてよく、この場合２個のヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
Ｒ5：
水素、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルまたはＣ1〜Ｃ6−アルキルオキシ〕で示されるイミダゾリウム−メチルスルファイトに関する。
【０００２】
イミダゾリウム塩は、広範囲で使用されている重要な物質である。即ち、このイミダゾリウム塩は、例えば、衛生学および化粧術において柔軟すすぎ洗い剤の作用物質として、相間移動触媒として、または電子的使用のための導電性塩として使用される。更に、重要な使用群は、イオン液である。
【０００３】
イミダゾリウム塩は、通常、相応するイミダゾールをアルキル化することによって製造される。
【０００４】
ＷＯ９６／１８４５９には、所望のイミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオンまたはホスホニウムカチオンのハロゲン化物と、鉛塩、但し、この場合このアニオンは前記イオン液体のための望ましいアニオンであるものとし、との反応、及びこの反応により生じる鉛ハロゲン化物の分離によるハロゲン化物不含のイオン液体の製造が開示されている。記載された方法の欠点は、化学量論的量の毒性の、一般に良好に水溶性の鉛塩の使用および廃棄すべきかまたは再び後処理すべきである化学量論的量の鉛ハロゲン化物の発生にある。
【０００５】
ＷＯ  ０２／３４７２２には、１，２，３−置換されたイミダゾリウム塩、１，２，３，４−置換されたイミダゾリウム塩および１，２，３，４，５−置換されたイミダゾリウム塩を製造するための２つの合成経路が教示されている：（１）第１の経路の場合、相応する置換されたイミダゾールは、有機ハロゲン化物と反応され、置換されたイミダゾリウムハロゲン化物のハロゲン化物イオンは、イオン交換によって望ましいアニオンと交換される。（２）第２の経路の場合には、相応する置換されたイミダゾールは、アルキルトリフラートまたは望ましいアニオンのトリアルキルオキソニウム塩（例えばトリエチルオキソニウム−テトラフルオロホウ酸塩）と反応される。これら２つの製造法の欠点は、次に必要とされるイオン交換による高い費用および場合によってはそれに関連した、有機溶剤での生成物の抽出にある。更に、経路（１）による製造の場合、殊にイオン液体の使用の際に電子工業においてかまたは触媒反応において支障のある作用を生じるハロゲン化物イオンの残存含量が残留することは、欠点である。更に、経路（２）による製造の場合、使用すべきトリアルキルオキソニウム塩が比較的費用のかかる製造によってのみ入手可能であり、ひいてはこのトリアルキルオキソニウム塩の工業的使用が使用可能性ならびに経済性に関連して矛盾していることは、欠点である。
【０００６】
欧州特許出願公開第１１８２１９６号明細書は、ベースとなる１−置換イミダゾールと、アルキル化剤である、これに相応する有機的なジスルファートとの反応、及び所望のアニオンを含有する金属塩との引き続くイオン交換による１，３−置換イミダゾリウム塩のハロゲン化物なしの製造を教示する。即ち、例えば、１−ブチル−３−メチル−イミダゾリウム−テトラフルオロホウ酸の製造は、１−ブチルイミダゾールとジメチルスルファートとの反応、ナトリウム−テトラフルオロホウ酸での引き続く処理、および塩化メチレンでの前記生成物の複数回の抽出によって行なわれる。この記載された方法は、実際に、見かけ上、塩化物不含の１，３−置換イミダゾリウム塩を生じるが、しかし有機ジスルフェートの使用の決定的な欠点を有し、前記使用には発癌性作用及び腐食作用に基づく安全性の面での高いリスクがあり、従って莫大な安全性の面での出費を必要とする。更に、望ましいアニオンを含有する金属塩の添加によるイオン交換は非常に高価であり、というのは特にこのバッチを引き続き抽出により有機溶媒を使用しながら後処理しなくてはならないからである。
【０００７】
上記の合成経路には、それぞれアルキル化剤によりアニオンが導入され、引続きこのアニオンは、古典的なアニオン交換によって望ましいアニオンと交換されなければならない。この交換は、工業的に費用がかかり、一般に完全には行なわれず、したがって生成物は、なお支障のある不純物を有する。これは、例えば、アルキル化剤としてのジアルキルスルフェートを使用しながらの経路のような塩化物不含の合成経路にも当てはまり、それというのも、この場合も、アニオン交換の際に少なくとも微少量の望ましくない硫酸塩が生成物中に残留するからである。
【０００８】
欧州特許出願公開第０２９１０７４号明細書には、第四級アンモニウムカーボネートの形成下で第三級アミンと炭酸ジエステルとを反応させ、得られた第四級アンモニウムカーボネートと酸とを二酸化炭素の除去下に混合し、第四級アンモニウム塩を形成させることによって第四級アンモニウム塩を二段階反応で製造することが教示されている。
【０００９】
欧州特許出願公開第１３９８３１８号明細書には、基礎となる１−置換イミダゾールを炭酸ジエステルと反応させ、引続き得られた反応生成物を望ましいプロトン酸またはその塩と反応させ、望ましいアニオンを導入することによって、１，３−置換イミダゾリウム塩をハロゲン化物なしで製造することが開示されている。
【００１０】
更に、上記のアルキル化剤とは異なり、アルキル化の際に形成されるアルキルカーボネートは、古典的なイオン交換なしでも、即ち相応するアルキルアルコールおよびガス状の二酸化炭素に分解することによって、原理的に完全に除去されうる。しかし、アルキル化剤としてジアルキルカーボネートを使用することの欠点は、反応が不活性であることであり、したがって一般に１００℃を上廻る反応温度および高められた圧力（例えば、オートクレーブ）が必要とされる。
【００１１】
本発明の課題は、毒性のアルキル化剤を使用することなしに工業的に良好に入手でき、良好に使用可能な反応性アルキル化剤を使用しながら高い収量および高い純度で製出することができる、１，３−ジ置換イミダゾリウムカチオンを含有するイオン液体を製造するための出発化合物を見出すことであり、この場合高い純度は、費用のかかる精製なしでも達成できるはずであった。更に、見出すべき出発化合物は、望ましいアニオンで簡単に融通性をもって望ましいイオン液体に変換可能であるはずであり、このイオン液体は、高い収量および高い純度で別個の費用のかかる精製なしでも製出可能であるはずである。
【００１２】
それに応じて、一般式（Ｉ）のイミダゾリウム−メチルスルファイトが見出された。
【００１３】
その際、以下の意味を有する：
ハロゲン：
弗素、塩素、臭素、沃素；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、メチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−ブチル、２−メチル−１−プロピル（イソブチル）、２−メチル−２−プロピル（第三ブチル）、１−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチル、２−メチル−１−ブチル、３−メチル−１−ブチル、２−メチル−２−ブチル、３−メチル−２−ブチル、２，２−ジメチル−１−プロピル、
１−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、２−メチル−１−ペンチル、３−メチル−１−ペンチル、４−メチル−１−ペンチル、
２−メチル−２−ペンチル、３−メチル−２−ペンチル、４−メチル−２−ペンチル、２−メチル−３−ペンチル、３−メチル−３−ペンチル、２，２−ジメチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−１−ブチル、３，３−ジメチル−１−ブチル、２−エチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−２−ブチル、３，３−ジメチル−２−ブチル、１−ヘプチル、１−オクチル、
２−エチルヘキシル、２，４，４−トリメチルペンチル、１，１，３，３−テトラメチルブチル、１−ノニル、１−デシル、１−ウンデシル、１−ドデシル、１−トリデシル、１−テトラデシル、１−ペンタデシル、１−ヘキサデシル、１−ヘプタデシル、１−オクタデシル、１−ノナデシル、１−エイコシル、シクロペンチルメチル、２−シクロペンチルエチル、３−シクロペンチルプロピル、シクロヘキシルメチル、２−シクロヘキシルエチル、３−シクロヘキシルプロピル、ベンジル（フェニルメチル）、ジフェニルメチル（ベンズヒドリル）、トリフェニルメチル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、３−フェニルプロピル、α，α−ジメチルベンジル、ｐ−トリルメチル、１−（ｐ−ブチルフェニル）−エチル、ｐ−クロロベンジル、２，４−ジクロロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｍ−エトキシベンジル、２−シアノエチル、２−シアノプロピル、２−メトキシカルボニルエチル、２−エトキシカルボニルエチル、２−ブトキシカルボニルプロピル、１，２−ジ−（メトキシカルボニル）エチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、６−ヒドロキシヘキシル、２−アミノエチル、２−アミノプロピル、３−アミノプロピル、４−アミノブチル、６−アミノヘキシル、２−メチルアミノエチル、２−メチルアミノプロピル、３−メチルアミノプロピル、４−メチルアミノブチル、６−メチルアミノヘキシル、２−ジメチルアミノエチル、２−ジメチルアミノプロピル、３−ジメチルアミノプロピル、４−ジメチルアミノブチル、６−ジメチルアミノヘキシル、２−ヒドロキシ−２，２−ジメチルエチル、２−フェノキシエチル、２−フェノキシプロピル、３−フェノキシプロピル、４−フェノキシブチル、６−フェノキシヘキシル、メトキシメチル、２−メトキシエチル、２−メトキシプロピル、３−メトキシプロピル、４−メトキシブチル、６−メトキシヘキシル、２−エトキシエチル、２−エトキシプロピル、３−エトキシプロピル、４−エトキシブチル、６−エトキシヘキシル、２−ブトキシエチル、２−イソプロポキシエチル、２−ブトキシプロピル、２−オクチルオキシエチル、２−メトキシイソプロピル、ジエトキシメチル、ジエトキシエチル、２−（メトキシカルボニル）エチル、２−（エトキシカルボニル）エチル、２−（ｎ−ブトキシカルボニル）エチル、ＣnＦ(2n+1)-aHa、但し、この場合ｎは、１〜２０に等しく、０≦ａ≦２ｎ＋１であるものとし（例えば、ＣＦ3、Ｃ2Ｆ5、ＣＨ2ＣＨ2−Ｃ(n-2)Ｆ2(n-2)+1、Ｃ6Ｆ13、Ｃ8Ｆ17、Ｃ10Ｆ21、Ｃ12Ｆ25）、ＣnＣｌ(2n+1)Ｈa、但し、この場合ｎは、１〜２０に等しく、０≦ａ≦２ｎ＋１であるものとし、クロロメチル、２−クロロエチル、トリクロロメチル、１，１−ジメチル−２−クロロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、５−ヒドロキシ−３−オキサ−ペンチル、８−ヒドロキシ−３，６−ジオキサ−オクチル、１１−ヒドロキシー３，６，９−トリオキサ−ウンデシル、７−ヒドロキシ−４−オキサ−ヘプチル、１１−ヒドロキシ−４，８−ジオキサ−ウンデシル、１５−ヒドロキシ−４，８，１２−トリオキサ−ペンタデシル、９−ヒドロキシ−５−オキサ−ノニル、１４��ヒドロキシ−５，１０−ジオキサ−テトラデシル、５−メトキシ−３−オキサ−ペンチル、８−メトキシ−３，６−ジオキサ−オクチル、１１−メトキシ−３，６，９−トリオキサ−ウンデシル、７−メトキシ−４−オキサ−ヘプチル、１１−メトキシ−４，８−ジオキサ−ウンデシル、１５−メトキシ−４，８，１２−トリオキサ−ペンタデシル、９−メトキシ−５−オキサ−ノニル、１４−メトキシ−５，１０−ジオキサ−テトラデシル、５−エトキシ−３−オキサ−ペンチル、８−エトキシ−３，６−ジオキサ−オクチル、１１−エトキシ−３，６，９−トリオキサ−ウンデシル、７−エトキシ−４−オキサ−ヘプチル、１１−エトキシ−４，８−ジオキサ−ウンデシル、１５−エトキシ−４，８，１２−トリオキサ−ペンタデシル、９−エトキシ−５−オキサ−ノニル、１４−エトキシ−５，１０−ジオキサ−テトラデシル；
Ｃ2〜Ｃ20−アルケニル、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、エテニル（ビニル）、プロペン−１−イル、プロペン−２−イル、プロペン−３−イル、２−フェニル−エテニル（スチリル）；
Ｃ2〜Ｃ20−アルキニル、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、エチニル、１−プロピニル、３−プロピニル、２−フェニルエチニル；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルオキシ、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、メトキシ、エトキシ、１−プロポキシ、１−ブトキシ、１−ペントキシ、１−ヘキソキシ、２−ヒドロキシエトキシ、２−メトキシエトキシ、２−エトキシエトキシ、２−プロポキシエトキシ、２−ブトキシエトキシ、２−フェノキシエトキシ、５−ヒドロキシ−３−オキサ−ペンチルオキシ、５−メトキシ−３−オキサ−ペンチルオキシ、５−エトキシ−３−オキサ−ペンチルオキシ、５−プロポキシ−３−オキサ−ペンチルオキシ、５−ブトキシ−３−オキサ−ペンチルオキシ、５−フェノキシ−３−オキサ−ペンチルオキシ、８−ヒドロキシ−３，６−ジオキサ−ヘキシルオキシ、８−メトキシ−３，６−ジオキサ−ヘキシルオキシ、８−エトキシ−３，６−ジオキサ−ヘキシルオキシ、８−プロポキシ−３，６−ジオキサ−ヘキシルオキシ、８−ブトキシ−３，６−ジオキサ−ヘキシルオキシ、８−フェノキシ−３，６−ジオキサ−ヘキシルオキシ、３−ヒドロキシプロポキシ、３−メトキシプロポキシ、３−エトキシプロポキシ、３−プロポキシプロポキシ、３−ブトキシプロポキシ、３−フェノキシプロポキシ、７−ヒドロキシ−４−オキサ−ヘプチルオキシ、７−メトキシ−４−オキサ−ヘプチルオキシ、７−エトキシ−４−オキサ−ヘプチルオキシ、７−プロポキシ−４−オキサ−ヘプチルオキシ、７−ブトキシ−４−オキサ−ヘプチルオキシ、７−フェノキシ−４−オキサ−ヘプチルオキシ、１１−ヒドロキシー４，８−ジオキサ−ウンデシルオキシ、１１−メトキシ−４，８−ジオキサ−ウンデシルオキシ、１１−エトキシ−４，８−ジオキサ−ウンデシルオキシ、１１−プロポキシ−４，８−ジオキサ−ウンデシルオキシ、１１−ブトキシ−４，８−ジオキサ−ウンデシルオキシ、１１−フェノキシ−４，８−ジオキサ−ウンデシルオキシ、４−ヒドロキシブトキシ、４−メトキシブトキシ、４−エトキシブトキシ、４−プロポキシブトキシ、４−ブトキシブトキシ、４−フェノキシブトキシ、９−ヒドロキシ−５−オキサ−ノニルオキシ、９−メトキシ−５−オキサ−ノニルオキシ、９−エトキシ−５−オキサ−ノニルオキシ、９−プロポキシ−５−オキサ−ノニルオキシ、９−ブトキシ−５−オキサ−ノニルオキシ、９−フェノキシ−５−オキサ−ノニルオキシ、１４−ヒドロキシー５，１０−ジオキサ−テトラデシルオキシ、１４−メトキシ−５，１０−ジオキサ−テトラデシルオキシ、１４−エトキシ−５，１０−ジオキサ−テトラデシルオキシ、１４−プロポキシ−５，１０−ジオキサ−テトラデシルオキシ、１４−ブトキシ−５，１０−ジオキサ−テトラデシルオキシ、１４−フェノキシ−５，１０−ジオキサ−テトラデシルオキシ；
Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルオキシ、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、プロプ−２−エニルオキシ；
Ｃ2〜Ｃ20−アルキニルオキシ、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、プロプ−２−イニルオキシ；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルカルボニル、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、アセチル、プロピオニル、１−オキソブチル（ブチリル）、１−オキソペンチル、１−オキソヘキシル、１−オキソヘプチル、１−オキソオクチル、１−オキソノニル、１−オキソデシル、１−オキソウンデシル、１−オキソドデシル、１−オキソテトラデシル、１−オキソヘキサデシル、１−オキソオクタデシル、１−オキソエイコシル、１，３−ジオキソブチル、フェニルアセチル、３−フェニルプロピオニル、１−オキソー４−フェニルブチル（４−フェニルブチリル）、ベンゾイル；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルオキシカルボニル、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、メチルオキシカルボニル（ＣＨ3−Ｏ−ＣＯ−）、エチルオキシカルボニル、１−プロピル−オキシカルボニル、１−ブチルオキシカルボニル、１−ペンチルオキシカルボニル、１−ヘキシルオキシカルボニル、１−ヘプチルオキシカルボニル、１−オクチルオキシカルボニル；
Ｃ1〜Ｃ20−アシルオキシ、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、アセトキシ、プロピオニルオキシ、１−オキソブチルオキシ（ブチリルオキシ）、１−オキソペンチルオキシ、１−オキソヘキシルオキシ、１−オキソヘプチルオキシ、１−オキソオクチルオキシ、１−オキソノニルオキシ、１−オキソデシルオキシ、１−オキソウンデシルオキシ、１−オキソドデシルオキシ、１−オクソテトラデシルオキシ、１−オキソヘキサデシルオキシ、１−オキソオクタデシルオキシ、１−オキソエイコシルオキシ、フェニルアセトキシ、３−フェニルプロピオニルオキシ、１−オキソ−４−フェニルブチルオキシ（４−フェニルブチリルオキシ）、ベンゾイルオキシ；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルアミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ20−アルキル）アミノカルボニル、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、Ｎ−メチルアミノカルボニル、Ｎ−エチルアミノカルボニル、Ｎ−（１−プロピル）アミノカルボニル、Ｎ−（２−プロピル）アミノカルボニル、Ｎ−（１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ−（２−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ−（２−メチル−１−プロピル）アミノカルボニル（Ｎ−イソブチルアミノカルボニル）、Ｎ−（２−メチル−２−プロピル）アミノカルボニル（Ｎ−第三ブチルアミノカルボニル）、Ｎ−（１−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ−（２−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ−（３−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ−（２−メチル−１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ−（３−メチル−１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ−（２−メチル−２−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ−（３−メチル−２−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ−（２，２−ジメチル−１−プロピル）アミノカルボニル、Ｎ−（１−ヘキシル）アミノカルボニル、Ｎ−（２−ヘキシル）アミノカルボニル、Ｎ−（３−ヘキシル）アミノカルボニル、Ｎ−（２−メチル−１−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ−（３−メチル−１−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ−（４−メチル−１−ペンチル）アミノカルボニル、
Ｎ−（２−メチル−２−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ−（３−メチル−２−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ−（４−メチル−２−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ−（２−メチル−３−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ−（３−メチル−３−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ−（２，２−ジメチル−１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ−（２，３−ジメチル−１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ−（３，３−ジメチル−１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ−（２−エチル−１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ−（２，３−ジメチル−２−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ−（３，３−ジメチル−２−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ−（ヘプチル）アミノカルボニル、Ｎ−（オクチル）アミノカルボニル、Ｎ−（２−エチルヘキシル）アミノカルボニル、Ｎ−（２，４，４−トリメチルペンチル）アミノカルボニル、Ｎ−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノカルボニル、Ｎ−（１−ノニル）アミノカルボニル、Ｎ−（１−デシル）アミノカルボニル、Ｎ−（１−ウンデシル）アミノカルボニル、Ｎ−（１−ドデシル）アミノカルボニル、Ｎ−（１−テトラデシル）アミノカルボニル、Ｎ−（１−ヘキサデシル）アミノカルボニル、Ｎ−（１−オクタデシル）アミノカルボニル、Ｎ−（１−エイコシル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニル、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１−プロピル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２−プロピル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチル−１−プロピル）アミノカルボニル（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノカルボニル）、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチル−２−プロピル）アミノカルボニル（Ｎ，Ｎ−ジ−第三ブチルアミノカルボニル）、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（３−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチルー１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（３−メチル−１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチル−２−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（３−メチル−２−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２，２−ジメチル−１−プロピル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヘキシル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヘキシル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（３−ヘキシル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチルー１−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（３−メチル−１−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（４−メチルー１−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチルー２−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（３−メチル−２−ペンチル）アミノカルボニル、
Ｎ，Ｎ−ジ（４−メチル−２−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチル−３−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（３−メチル−３−ペンチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２，２−ジメチル−１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２，３−ジメチルー１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（３，３−ジメチル−１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２−エチル−１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２，３−ジメチル−２−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（３，３−ジメチル−２−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヘプチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１−オクチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２−エチルヘキシル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（２，４，４−トリメチルペンチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ノニル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１−デシル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ウンデシル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ドデシル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１−テトラデシル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヘキサデシル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１−オクタデシル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ（１−エイコシル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−メチルエチル−アミノカルボニル、
Ｎ，Ｎ−メチル−（１−プロピル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−メチル−（１−ブチル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−エチル−（１−プロピル）アミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−エチルー（１−ブチル）アミノカルボニル；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ20−アルキル）アミノ、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−（１−プロピル）アミノ、Ｎ−（２−プロピル）アミノ、Ｎ−（１−ブチル）アミノ、Ｎ−（２−ブチル）アミノ、Ｎ−（２−メチル−１−プロピル）アミノ（Ｎ−イソブチル−アミノ）、Ｎ−（２−メチル−２−プロピル）アミノ（Ｎ−第三ブチルアミノ）、Ｎ−（１−ペンチル）アミノ、Ｎ−（２−ペンチル）アミノ、Ｎ−（３−ペンチル）アミノ、Ｎ−（２−メチル−１−ブチル）アミノ、Ｎ−（３−メチル−１−ブチル）アミノ、Ｎ−（２−メチル−２−ブチル）アミノ、Ｎ−（３−メチル−２−ブチル）アミノ、Ｎ−（２，２−ジメチル−１−プロピル）アミノ、Ｎ−（１−ヘキシル）アミノ、Ｎ−（２−ヘキシル）アミノ、Ｎ−（３−ヘキシル）アミノ、Ｎ−（２−メチル−１−ペンチル）アミノ、Ｎ−（３−メチル−１−ペンチル）アミノ、Ｎ−（４−メチル−１−ペンチル）アミノ、Ｎ−（２−メチル−２−ペンチル）アミノ、Ｎ−（３−メチル−２−ペンチル）アミノ、Ｎ−（４−メチル−２−ペンチル）アミノ、Ｎ−（２−メチル−３−ペンチル）アミノ、Ｎ−（３−メチル−３−ペンチル）アミノ、Ｎ−（２，２−ジメチル−１−ブチル）アミノ、Ｎ−（２，３−ジメチル−１−ブチル）アミノ、Ｎ−（３，３−ジメチル−１−ブチル）アミノ、Ｎ−（２−エチル−１−ブチル）アミノ、Ｎ−（２，３−ジメチル−２−ブチル）アミノ、Ｎ−（３，３−ジメチル−２−ブチル）アミノ、Ｎ−（ヘプチル）アミノ、Ｎ−（オクチル）アミノ、Ｎ−（２−エチルヘキシル）アミノ、Ｎ−（２，４，４−トリメチルペンチル）アミノ、Ｎ−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ、Ｎ−（１−ノニル）アミノ、Ｎ−（１−デシル）アミノ、Ｎ−（１−ウンデシル）アミノ、Ｎ−（１−ドデシル）アミノ、Ｎ−（１−テトラデシル）アミノ、Ｎ−（１−ヘキサデシル）アミノ、Ｎ−（１−オクタデシル）アミノ、Ｎ−（１−エイコシル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−プロピル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２−プロピル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチル−１−プロピル）アミノ（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ）、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチル−２−プロピル）アミノ（Ｎ，Ｎ−ジ−第三ブチルアミノ）、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ペンチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ペンチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（３−ペンチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチル−１−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（３−メチル−１−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチル−２−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（３−メチル−２−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２，２−ジメチル−１−プロピル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヘキシル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヘキシル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（３−ヘキシル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチル−１−ペンチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（３−メチル−１−ペンチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（４−メチル−１−ペンチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチル−２−ペンチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（３−メチル−２−ペンチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−（４−メチル−２−ペンチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチル−３−ペンチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（３−メチル−３−ペンチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２，２−ジメチル−１−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２，３−ジメチル−１−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（３，３−ジメチル−１−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２−エチル−１−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２，３−ジメチル−２−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（３，３−ジメチル−２−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヘプチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−オクチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２−エチルヘキシル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２，４，４−トリメチルペンチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１，１，３，３，−テトラメチルブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ノニル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−デシル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ウンデシル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ドデシル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−テトラデシル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ヘキサデシル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−オクタデシル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−エイコシル）アミノ、Ｎ，Ｎ−メチルエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−メチル−（１−プロピル）アミノ、Ｎ，Ｎ−メチルー（１−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−エチル−（１−プロピル）アミノ、Ｎ，Ｎ−エチル−（１−ブチル）アミノ；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルスルホニル、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、１−プロピルスルホニル、１−ブチルスルホニル、１−ペンチルスルホニル、１−ヘキシルスルホニル；
Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル、シクロドデシル、１−メチルシクロペンチル、２−メチルシクロペンチル、３−メチルシクロペンチル、１，２−ジメチルシクロペンチル、１，３−ジメチルシクロペンチル、２，２−ジメチルシクロペンチル、２，３−ジメチルシクロペンチル、３，３−ジメチルシクロペンチル、１−メチルシクロヘキシル、２−メチルシクロヘキシル、３−メチルシクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル、１，２−ジメチルシクロヘキシル、１，３−ジメチルシクロヘキシル、１，４−ジメチルシクロヘキシル、２，２−ジメチルシクロヘキシル、２，３−ジメチルシクロヘキシル、２，４−ジメチルシクロヘキシル、３，３−ジメチルシクロヘキシル、３，４−ジメチルシクロヘキシル、４，４−ジメチルシクロヘキシル、１−メトキシシクロペンチル、２−メトキシシクロペンチル、３−メトキシシクロペンチル、１，２−ジメトキシシクロペンチル、１，３−ジメトキシシクロペンチル、２，２−ジメトキシシクロペンチル、２，３−ジメトキシシクロペンチル、３，３−ジメトキシシクロペンチル、１−メトキシシクロヘキシル、２−メトキシシクロヘキシル、３−メトキシシクロヘキシル、４−メトキシシクロヘキシル、１，２−ジメトキシシクロヘキシル、１，３−ジメトキシシクロヘキシル、１，４−ジメトキシシクロヘキシル、２，２−ジメトキシシクロヘキシル、２，３−ジメトキシシクロヘキシル、２，４−ジメトキシシクロヘキシル、３，３−ジメトキシシクロヘキシル、３，４−ジメトキシシクロヘキシル、４，４−ジメトキシシクロヘキシル、ジクロロシクロペンチル、クロロシクロヘキシル、ジクロロシクロヘキシル、２，３，４，５，６−ペンタクロロシクロヘキシル、ＣnＦ(2n-1)-aＨa、但し、この場合ｎは、３〜８．０に等しく、０≦ａ≦2n-1であるものとし、ＣnＣｌ(2n-1)-aＨa、但し、この場合ｎは、３〜８．０に等しく、０≦ａ≦n-1であるものとし、１，３−ジオキソラン−２−イル、１，３−ジオキソラン−２−イル、２−メチルー１，３−ジオキソラン、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−イル、２−メチルー１，３−ジオキソラン−２−イル、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−イル；
フェニル、フェノキシ、この場合これは、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；
例えば、フェニル、２−メチルフェニル（２−トリル）、３−メチルフェニル（３−トリル）、４−メチルフェニル（４−トリル）、２−エチルフェニル、３−エチルフェニル、４−エチルフェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、２−スルホフェニル（ｏ−トシル）、３−スルホフェニル（ｍ−トシル）、４−スルホフェニル（ｐ−トシル）、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、３−メチルフェノキシ、４−メチルフェノキシ、２−エチルフェノキシ、３−エチルフェノキシ、４−エチルフェノキシ、２−メトキシフェノキシ、３−メトキシフェノキシ、４−メトキシフェノキシ；
アルキレン−（ＣＨ2）n−、但し、この場合ｎは、４、５または６であるものとし、この場合この基は、
部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１または２個のＣＨ2基は、酸素またはＮＲ5によって置換されていてよく、この場合２個のヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、１，４−ブチレン、１，５−ブチレン、１，６−ヘキシレン、ＣnＦ2n-aＨa、但し、この場合ｎは、４〜６．０に等しく、０≦ａ≦2nであるものとし；
ブタジエニレンーＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、この基は、
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全にハロゲン化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１または２個のＣＨは、ＮＲ5によって置換されていてよく、この場合２個のヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
例えば、ブタジエニレン；
好ましくは、基Ｒ1〜Ｒ3は、本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の場合に次の意味を有する：
水素、弗素、塩素、アミノカルボニル、スルホ、シアノ；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アシルオキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルアミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ20−アルキル）−アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ20−アルキル）アミノ、この場合記載されたアルキル基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜３個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
フェニル、フェノキシ、この場合これらの基は、これらの側で
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル。
【００１４】
特に有利には、基Ｒ1〜Ｒ3は、本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の場合に次の意味を有する：
水素、弗素、塩素；
Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、この場合記載されたアルキル基およびシクロアルキル基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
その中で、１〜２個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合
２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
フェニル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ。
【００１５】
特に好ましい基Ｒ1〜Ｒ3の例としては、次のものが挙げられる：
水素、弗素、塩素、メチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−ブチル、２−メチル−１プロピル（イソブチル）、２−メチル−２−プロピル（第三ブチル）、１−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチル、２−メチル−１−ブチル、３−メチルー１−ブチル、２−メチル−２−ブチル、２，２−ジメチル−１−プロピル、１−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、２−メチル−１−ペンチル、３−メチル−１−ペンチル、４−メチル−１−ペンチル、２−メチル−２−ペンチル、３−メチル−２−ペンチル、４−メチル−２−ペンチル、２−メチル−３−ペンチル、３−メチル−３−ペンチル、２，２−ジメチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−１−ブチル、３，３−ジメチル−１−ブチル、２−エチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−２−ブチル、３，３−ジメチル−２−ブチル、メトキシメチル、２−メトキシメチル、２−メトキシプロピル、３−メトキシプロピル、４−メトキシブチル、２−エトキシエチル、２−エトキシプロピル、３−エトキシプロピル、４−エトキシブチル、２−ブトキシエチル、２−イソプロポキシエチル、２−メトキシイソプロピル、ジエトキシメチル、ジエトキシエチル、ＣnＦ(2n+1)-aＨa、但し、この場合ｎは、１〜６．０に等しく、０≦ａ≦2n+1（例えば、ＣＦ3、Ｃ2Ｆ5、ＣＨ2ＣＨ2−Ｃ(n-2)Ｆ2(n-2)+1、Ｃ6Ｆ13）、ＣnＣｌ(2n+1)-aＨa、但し、この場合ｎは、１〜６に等しく、０≦ａ≦2n+1であるものとし、クロロメチル、２−クロロエチル、トリクロロメチル、１，１−ジメチル−２−クロロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、５−メトキシ−３−オキサ−ペンチル、メトキシ、エトキシ、１−プロポキシ、１−ブトキシ、１−ペントキシ、１−ヘキソキシ、２−メトキシエトキシ、２−エトキシエトキシ、２−プロポキシエトキシ、２−ブトキシエトキシ、５−メトキシ−３−オキサ−ペンチルオキシ、３−メトキシプロポキシ、３−エトキシプロポキシ、４−メトキシブトキシ、４−エトキシブトキシ、クロロペンチル、シクロヘキシル、２，３，４，５，６−ペンタクロロシクロヘキシル、ＣnＦ(2n-1)-aＨa、但し、この場合ｎは、５〜６に等しく、０≦ａ≦2n-1であるものとし、ＣnＣｌ(2n-1)-aＨa、但し、この場合ｎは、５〜６に等しく、０≦ａ≦n-1であるものとし、１，３−ジオキソラン−２−イル、１，３−ジオキサン−２−イル、フェニル、２−メチルフェニル（２−トリル）、３−メチルフェニル（３−トリル）、４−メチルフェニル（４−トリル）、２−エチルフェニル、３−エチルフェニル、４−エチルフェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル。
【００１６】
殊に有利には、基Ｒ1〜Ｒ3は、本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の場合、水素、メチル、エチル、１−プロピル、１−ブチル、１−ペンチル、１−ヘキシル、１−オクチル、１−デシル、１−ドデシル、１−ペンタデシルを表わし、殊に水素、メチル、エチル、１−ブチル、１−ヘキシル、１−オクチル、１−デシルを表わす。
【００１７】
このましくは、基Ｒ4は、本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の場合に次の意味を有する：
スルホ；
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜３個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在する。
【００１８】
特に好ましくは、基Ｒ4は、本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の場合に次の意味を有する：
スルホ；
Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−シクロアルキル、この場合記載されたアルキル基およびシクロアルキル基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
その中で、１〜２個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在する。
【００１９】
特に好ましい基Ｒ4の例としては、次のものが挙げられる：スルホ、メチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−ブチル、２−メチル−１−プロピル（イソブチル）、２−メチル−２−プロピル（第三ブチル）、１−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチル、２−メチル−１−ブチル、３−メチル−１−ブチル、２−メチル−２−ブチル、３−メチル−２−ブチル、２，２−ジメチル−１−プロピル、１−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、２−メチル−１−ペンチル、３−メチル−１−ペンチル、４−メチル−１−ペンチル、２−メチル−２−ペンチル、３−メチル−２−ペンチル、４−メチル−２−ペンチル、２−メチル−３−ペンチル、３−メチル−３−ペンチル、２，２−ジメチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−１−ブチル、３，３−ジメチル−１−ブチル、２−エチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−２−ブチル、３，３−ジメチル−２−ブチル、ＣnＦ(2n+1)-aＨa、但し、この場合ｎは、１〜６に等しく、０≦ａ≦2n＋1であるものとし（例えば、ＣＦ3、Ｃ2Ｆ5、ＣＨ2ＣＨ2−Ｃ(n-2)Ｆ2(n-2)+1、Ｃ6Ｆ13）、ＣnＣｌ(2n+1)-aＨa、但し、この場合ｎは、１〜６に等しく、０≦ａ≦2n＋1であるものとし、クロロメチル、２−クロロエチル、トリクロロメチル、１，１−ジメチル−２−クロロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、２，３，４，５，６−ペンタクロロシクロヘキシル、ＣnＦ(2n-1)-aＨa、但し、この場合ｎは、５〜６に等しく、０≦ａ≦2n-1であるものとし、ＣnＣｌ(2n-1)-aＨa、但し、この場合ｎは、５〜６に等しく、０≦ａ≦n-1であるものとし、１，３−ジオキソラン−２−イル、１，３−ジオキサン−２−イル。
【００２０】
同様に、このましくは、基Ｒ4は、本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の場合に次の意味を有する：
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、アミノ、アミノカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、この場合Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニル基およびフェノキシ基は、その側で部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよくおよび／または次の基を１〜３個まで有していてよく：ヒドロキシ、スルホ、シアノ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜５個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在し；
Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、この場合この基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
次の基を１〜３個まで有していてよく：
ヒドロキシ、スルホ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロゲン化アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルカルボニル；および／または
その中で、１〜３個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在する。
【００２１】
特に好ましくは、基Ｒ4は、本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の場合に次の意味を有する：
Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−シクロアルキル、この場合記載されたアルキル基およびシクロアルキル基は、
部分的にかまたは完全に弗素化または塩素化されていてよく；および／または
その中で、１〜２個までのＣＨ2基は、酸素によって置換されていてよく、この場合２個の酸素ヘテロ原子の間には、少なくとも１個の炭素原子含有基が存在する。
【００２２】
特に好ましい基Ｒ4の例としては、次のものが挙げられる：メチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−ブチル、２−メチル−１−プロピル（イソブチル）、２−メチル−２−プロピル（第三ブチル）、１−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチル、２−メチル−１−ブチル、３−メチル−１−ブチル、２−メチル−２−ブチル、３−メチル−２−ブチル、２，２−ジメチル−１−プロピル、１−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、２−メチル−１−ペンチル、３−メチル−１−ペンチル、４−メチル−１−ペンチル、２−メチル−２−ペンチル、３−メチル−２−ペンチル、４−メチル−２−ペンチル、２−メチル−３−ペンチル、３−メチル−３−ペンチル、２，２−ジメチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−１−ブチル、３，３−ジメチル−１−ブチル、２−エチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−２−ブチル、３，３−ジメチル−２−ブチル、ＣnＦ(2n+1)-aＨa、但し、この場合ｎは、１〜６に等しく、０≦ａ≦2n＋1であるものとし（例えば、ＣＦ3、Ｃ2Ｆ5、ＣＨ2ＣＨ2−Ｃ(n-2)Ｆ2(n-2)+1、Ｃ6Ｆ13）、ＣnＣｌ(2n+1)-aＨa、但し、この場合ｎは、１〜６に等しく、０≦ａ≦2n＋1であるものとし、クロロメチル、２−クロロエチル、トリクロロメチル、１，１−ジメチル−２−クロロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、２，３，４，５，６−ペンタクロロシクロヘキシル、ＣnＦ(2n-1)-aＨa、但し、この場合ｎは、５〜６に等しく、０≦ａ≦2n-1であるものとし、ＣnＣｌ(2n-1)-aＨa、但し、この場合ｎは、５〜６に等しく、０≦ａ≦n-1であるものとし、１，３−ジオキソラン−２−イル、１，３−ジオキサン−２−イル。
【００２３】
殊に好ましくは、基Ｒ4は、本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の場合にメチル、エチル、１−プロピル、１−ブチル、１−ペンチル、１−ヘキシル、１−オクチル、１−デシル、１−ドデシル、１−ペンタデシルを表わし、殊にメチル、エチル、１−ブチル、１−ヘキシル、１−オクチル、１−デシルを表わす。
【００２４】
殊に好ましいイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）としては、次のものが挙げられる：Ｎ，Ｎ′−ジメチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−エチルメチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−プロピル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−ブチル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−ペンチル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−ヘキシル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−オクチル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−デシル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−ドデシル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト、Ｎ，Ｎ′−（１−ペンタデシル）メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト。
【００２５】
本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）は、一般式（ＩＩ）
【化２】
2008510741.tif 000004
〔式中、基Ｒ1〜Ｒ4は、式（Ｉ）中に記載された意味を有する〕で示される相応するイミダゾールをジメチルスルファイトと反応させることによって製造されてよい。このために、２つの反応体（エダクト）が一緒に供給される。２つのエダクトの供給の種類および順序は、製造法の場合には、本質的なことではない。即ち、例えばイミダゾール（ＩＩ）およびジメチルスルファイトは、順次に任意の順序でかまたは同時に反応装置中に供給することが可能である。２つのエダクトの一方を装入し、別のエダクトを数分間ないし数時間の或る程度の時間間隔で滴加することも可能である。
【００２６】
反応装置としては、製造方法の場合に原理的に、液相での反応に適している全ての反応装置を使用することができる。これは、殊に液状のエダクトの相応する混合物を可能にする反応装置、例えば攪拌釜である。
【００２７】
ジメチルスルファイトとイミダゾール（ＩＩ）とのモル比は、製造方法の場合に一般に０．９〜１．５、有利に０．９〜１．２、特に有利に０．９〜１．１、殊に有利に０．９５〜１．０５である。
【００２８】
イミダゾール（ＩＩ）とジメチルスルファイトとの反応は、製造方法の場合に一般に１０〜１５０℃の温度で行なわれる。しかし、本発明によれば、反応温度が上昇すると、一般にメチルスルファイトアニオンの熱的に誘導される異性体化によって必然的に異性体のイミダゾリウム-メタンスルホネートの含量が増大することが見出された。従って、特に純粋なイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）を得るために、反応を１００℃以下の温度で実施することは、好ましい。従って、反応は、有利に１０〜１００℃、特に有利に２０〜１００℃、殊に有利に３０〜９０℃、殊に５０〜８０℃の温度で行なわれる。反応は、一般に０．０５〜２ＭＰａ絶対、有利に０．０９〜０．５ＭＰａ絶対、特に有利に０．０９〜０．２ＭＰａ絶対、殊に有利に０．０９５〜０．１２ＭＰａ絶対の圧力で行なわれる。
【００２９】
反応に必要とされる時間は、第１にエダクトの化学的性質（イミダゾール（ＩＩ）の反応性）および選択された反応温度に依存する。この時間は、例えば反応の運動量が測定され、発熱反応の温度経過が測定されおよび／またはエダクトおよび生成物の濃度が分析的に測定されるような前試験によって算出されうる。一般に、必要とされる時間は、数分間ないし一日の範囲内にあり、一般に０．１〜２４時間の程度の大きさ、有利に０．１〜１０時間の程度の大きさである。
【００３０】
イミダゾール（ＩＩ）をジメチルスルファイトと反応させることによって、イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）は、次の反応式：
【化３】
2008510741.tif 000005
により化学量論的量で形成され、上記式中、基Ｒ1〜Ｒ4は、式（Ｉ）中に記載された意味を有する。一般に、イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）は、既に比較的純粋な形で得られ、望ましい純度に応じて直接単離されてもよいし、下記にさらに記載されているような次の精製工程に掛けてもよい。
【００３１】
製造方法の場合には、無機溶剤または有機溶剤を使用することも可能であり、この場合この溶剤は、反応条件下で２つのエダクトイミダゾール（ＩＩ）およびジメチルスルファイトならびに生成物イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）に対して不活性である。原理的に適した溶剤は、例えば脂肪族、芳香脂肪族または芳香族の炭化水素、アルコール、エーテル、ハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフランまたはアセトニトリルである。溶剤を使用する場合には、この溶剤は、好ましくは殊に公知技術水準に記載された溶剤、例えばＪＰ２００１−３２２９７０中のアセトニトリルおよびアルコールまたはＤＥ２２８２４７中のメタノール、クロロホルムおよびニトロベンゼンに対して比較的僅かな極性を有する。この比較的僅かな極性は、反応中に形成されるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）が固有の固相または液相を形成し、ひいては例えば、未反応のエダクトまたは可能な副生成物を有利に溶剤相中に残留させることを生じる。
【００３２】
これに関連して、本発明によれば、反応が
（ｉ）６〜１０個の炭素原子を有する芳香族炭化水素、全部で５〜１０個の炭素原子を有する対称または非対称のジアルキルエーテル、５〜８個の炭素原子を有するシクロアルカンおよびＣ5〜Ｃ10−アルカンの群から選択された溶剤の存在下で、および
（ｉｉ）１０〜１００℃の温度で実施される場合に、製造方法で特に純粋なイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）を高い収量で得ることができることが見出された。
【００３３】
６〜１０個の炭素原子を有する芳香族炭化水素としては、一般に置換されていないかまたはＣ1〜Ｃ4−アルキル、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、１，４−ブチレン、−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−で置換されたベンゼンならびに記載された範囲内の炭素原子の数を有するモノヒドロキシ−アルキルベンゼンまたはモノアルコキシ−アルキルベンゼンが使用される。６〜１０個の炭素原子を有する適した炭化水素の例としては、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、１−プロピルベンゼン、２−プロピルベンゼン、１−ブチルベンゼン、２−ブチルベンゼン、第三ブチルベンゼン、キシレン（ｏ−、ｍ−、ｐ−）、メチルエチルベンゼン（ｏ−、ｍ−、ｐ−）、ジエチルベンゼン（ｏ−、ｍ−、ｐ−）、トリメチルベンゼン（ｖｉｃ−、ｓｙｍ−、ａｓｙｍ−）、クレゾール（ｏ−、ｍ−、ｐ−）、エチルフェノール（ｏ−、ｍ−、ｐ−）、１，２，３，４−テトラヒドロナフタリンが挙げられる。
【００３４】
全部で５〜１０個の炭素原子を有する対称または非対称のジアルキルエーテルとしては、一般に非分枝鎖状または分枝鎖状のアルキル基を有するジアルキルエーテルが使用され、この場合少なくとも１つのアルキル基は、Ｃ3〜Ｃ9−アルキル基である。別のアルキル基の炭素数は、炭素原子の記載された全体数から明らかである。全部で５〜１０個の炭素原子を有する適した対称または非対称のジアルキルエーテルの例としては、ジイソプロピルエーテル、メチル−第三ブチルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテルおよびジエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
【００３５】
５〜８個の炭素元素を有するシクロアルカンとしては、一般に置換されていないかまたはＣ1〜Ｃ3−アルキルで置換されたシクロアルカンが使用される。５〜８個の炭素原子を有する適したシクロアルカンの例としては、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタンが挙げられる。
【００３６】
Ｃ5〜Ｃ10−アルカンとしては、一般に非分枝鎖状または分枝鎖状のアルカンが使用される。適したＣ5〜Ｃ10−アルカンの例としては、ｎ−ペンタン、２−メチルブタン（イソペンタン）、２，２−ジメチルプロパン、ｎ−ヘキサン、２−メチルペンタン、３−メチルペンタン、２，３−ジメチルブタン、２，２−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、異性体ヘプタン、ｎ−オクタン、異性体オクタン、ｎ−ノナン、異性体ノナン、ｎ−デカン、異性体デカンが挙げられる。
【００３７】
勿論、種々の溶剤の混合物を使用することも可能である。
【００３８】
溶剤としては、好ましい製造方法の場合に有利にトルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、メチル−第三ブチルエーテル、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタンまたはオクタンが使用される。
【００３９】
溶剤の使用すべき量は、好ましい製造方法の場合に一般に使用されるイミダゾール（ＩＩ）の量に対して１０〜１０００質量％、有利に２０〜５００質量％、特に有利に２０〜２００質量％である。
【００４０】
溶剤を使用しながらの製造方法の場合も、個々のエダクトおよび溶剤の種類および添加の順序は、本質的なことではない。即ち、例えばイミダゾール（ＩＩ）、ジメチルスルファイトおよび溶剤を、順次に任意の順序でかまたは同時に反応装置中に供給することは、可能である。イミダゾール（ＩＩ）および／またはジメチルスルファイトを溶剤の一部分または全体量と混合し、次の初めて２つの溶剤含有エダクトを一緒に組み合わせることも可能である。更に、２つのエダクトの一方を装入し、別のエダクトを数分間ないし数時間の或る程度の時間間隔で滴加し、少なくとも１つのエダクトを溶剤で希釈することも可能である。
【００４１】
６〜１０個の炭素原子を有する芳香族炭化水素、全部で５〜１０個の炭素原子を有する対称または非対称のジアルキルエーテル、５〜８個の炭素原子を有するシクロアルカンおよびＣ5〜Ｃ10−アルカンの記載された群から選択された好ましい溶剤の存在下で製造方法を実施する場合には、反応が行なわれた後の反応混合物の混合の終結後に相分離が行なわれる。反応装置の種類に応じて、２つの相の沈殿を前記の沈殿容器または別々の沈殿容器中で実施することは、好ましい。ところで、２つの相の沈殿後に、イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の得られた液相または固相が分離される。一般に、イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の相は、下方に存在し、溶剤相は、上方に存在する。分離された溶剤は、一般に返送されることができ、記載された反応のための溶剤として再度使用されることができる。場合によっては、溶剤中での場合による副生成物の増加に対する手段を取ることは、得策である。可能な手段としては、例えば（ｉ）少量部の溶剤の除去およびその新しい溶剤による代替または（ｉｉ）少なくとも少量部の溶剤の蒸留および引続く返送が挙げられる。
【００４２】
イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の望ましい純度に応じて、溶剤の使用なしの製造から得られるかまたは溶剤を使用しながらの製造から得られる粗製生成物を引続き精製工程に掛けることは、好ましい。イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の相が作業温度で液状である場合には、この相は、イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）が溶解しないかまたは極めて僅かにのみ溶解する適当な溶剤と一緒に振出される。このために適した溶剤は、例えば反応のために有利であると記載される溶剤またはエステル、例えば、酢酸エチルエステルである。イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の相が作業温度で固体である場合には、この相は、例えば、イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）が溶解しないかまたは極めて僅かにのみ溶解する適当な溶剤で洗浄されてよい。このために適した溶剤は、例えば同様に反応のために有利であると記載される溶剤またはエステル、例えば、酢酸エチルエステルである。更に、固体のイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）は、適当な溶剤中で再結晶されてもよい。このために適した溶剤は、イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）が溶解する溶剤、例えばアルコール、アセトニトリル、テトラヒドロフランまたはニトロベンゼンである。
【００４３】
更に、場合によっては精製されたイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の使用に応じて、このイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）を先になお乾燥させることは、好ましい。乾燥を実施する場合には、この乾燥は、特に有利に温度に注意しながら真空中で行なわれ、イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の分解および殊にイミダゾリウム−メタンスルホネートへの異性体化が防止される。
【００４４】
製造方法は、非連続的、半連続的または連続的に実施されてよい。非連続的実施の場合、エダクトおよび場合によっては溶剤は、一緒に供給され、望ましい温度で反応が実施される。反応の終結後、反応混合物は、記載されたように後処理される。連続的実施の場合、２つのエダクトは、反応のために望ましい温度で徐々に反応装置中に供給され、この場合、溶剤を用いての実施の際にこの溶剤は、２つのエダクトに分けられた、２つのエダクトの一方と一緒に添加されるかまたは別々に添加される。この場合、反応混合物は、供給されたエダクトおよび溶剤の量に相応して連続的に取り出され、記載されたように後処理される。この場合、後処理それ自体は、同様に連続的に行なうことができる。半連続的変法の場合、２つのエダクトの少なくとも一方は、望ましい温度で徐々に添加され、この場合反応は、一般に添加と同時に行なわれる。望ましい量を添加した後に、反応混合物は、一般になお或る程度の時間、後反応のために放置され、引続き記載されたように後処理される。
【００４５】
本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）は、種々のアニオンのイミダゾリウム塩の製造のために使用されてよい。工業的に該当するアニオンの１つは、亜硫酸水素塩アニオンである。即ち、本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）は、好ましい使用の１つで出発物質としてイオン液体の製造に使用され、この場合イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）は、メタノールの放出下および亜硫酸水素イミダゾリウムの形成下に水と反応する。反応装置としては、原理的に、液相での反応に適している全ての反応装置を使用することができる。これは、殊に液状のエダクトの相応する混合物を可能にする反応装置、例えば攪拌釜である。水とイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）とのモル比は、一般に０．９〜１．５、有利に０．９５〜１．２、特に有利に０．９５〜１．１、殊に有利に０．９９〜１．０５である。反応は、一般に１０〜８０℃、有利に１０〜６０℃、特に有利に２０〜４０℃の温度で行なわれる。圧力は、一般に０．０５〜２ＭＰａ絶対、有利に０．０９〜０．５ＭＰａ絶対、特に有利に０．０９５〜０．１２ＭＰａ絶対である。反応に必要な時間は、一般に数分間ないし数時間、有利に０．１〜５時間であり、例えば、反応の経過（ｐＨ値、亜硫酸メチルアニオンの濃度）に亘って測定されてよい。反応が行なわれた後、一般に形成されたメタノールおよび場合により存在する過剰の水は、真空中で１０〜８０℃、有利に１０〜６０℃の温度で取り出される。得られた生成物は、亜硫酸水素イミダゾリウムが溶解しないかまたは極めて僅かにのみ溶解する溶剤、例えば、６〜１０個の炭素原子を有する芳香族炭化水素、全部で５〜１０個の炭素原子を有する対称または非対称のジアルキルエーテル、５〜８個の炭素原子を有するシクロアルカンおよびＣ5〜Ｃ10−アルカンで洗浄されてよい。更に、生成物を、亜硫酸水素イミダゾリウムが溶解する溶剤、例えばアルコール、アセトニトリル、テトラヒドロフランまたはニトロベンゼン中で再結晶させることも可能である。生成物は、一般に真空中で乾燥される。
【００４６】
更に、工業的に該当するアニオンは、同様に本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）から簡単な方法で製造されることができる。即ち、本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）は、もう１つの好ましい使用で出発物質としてイオン液体の製造に使用され、この場合イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）は、水溶液中で２５℃で測定された１．８〜１４のｐＫａ値を有する無機プロトン酸または有機プロトン酸と、メタノールおよび二酸化硫黄の放出下および対応する、部分脱プロトン化されたかまたは全脱プロトン化された酸アニオンのイミダゾリウム塩の形成下に反応する。使用すべき無機プロトン酸または有機プロトン酸のｐＫａ値は、水溶液中で２５℃で測定された、有利に１．８〜１０、特に有利に２〜１０、殊に有利に３〜１０である。反応装置としては、原理的に、液相での反応に適している全ての反応装置を使用することができる。これは、殊に液状のエダクトの相応する混合物を可能にする反応装置、例えば攪拌釜である。無機プロトン酸または有機プロトン酸とイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）とのモル比は、一般に０．９〜１．５、有利に０．９５〜１．１、特に有利に０．９５〜１．０５、殊に有利に０．９９〜１．０２である。反応は、一般に１０〜８０℃、有利に１０〜６０℃、特に有利に２０〜４０℃の温度で行なわれる。圧力は、一般に０．０５〜２ＭＰａ絶対、有利に０．０９〜０．５ＭＰａ絶対、特に有利に０．０９５〜０．１２ＭＰａ絶対である。反応に必要な時間は、一般に数分間ないし数時間、有利に０．１〜５時間であり、例えば、反応の経過（ｐＨ値、亜硫酸メチルアニオンの濃度）に亘って測定されてよい。反応が行なわれた後、一般に場合によっては存在する過剰の酸は、塩基、例えば水酸化ナトリウムで中和され、引続き生成物は、イミダゾリウム塩が溶解しない溶剤、例えばアルコール、アセトニトリル、テトラヒドロフランまたはニトロベンゼンで洗浄される。生成物は、一般に真空中で乾燥される。
【００４７】
好ましくは、イミダゾリウム塩の製造のために、本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）が使用され、この場合部分脱プロトン化されたかまたは全脱プロトン化されたアニオンは、
フルオリド；ヘキサフルオロホスフェート；ヘキサフオロアルセネート；ヘキサフルオロアンチモネート；トリフルオロアルセネート；亜硝酸塩；硝酸塩；硫酸塩；硫酸水素塩；炭酸塩；炭酸水素塩；燐酸塩；燐酸水素塩；燐酸二水素塩、ビニルホスホネート、ジシアナミド、ビス（ペンタフルオロエチル）ホスフィネート、トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、トリス（ヘプタフルオロプロピル）トリフルオロホスフェート、ビス［オキサラート（２−）］ボレート、ビス［サリチラート（２−）］ボレート、ビス［１，２−ベンゼンジオラート（２−）ー０，０′］ボレート、テトラシアノボレート、テトラカルボニルコバルテート；
一般式（Ｖa）［ＢＲaＲbＲcＲd］-で示される四置換されたボレート、上記式中、Ｒa〜Ｒdは、互いに無関係に弗素を表わすかまたは１個以上のヘテロ原子を含有しおよび／または１個以上の官能基またはハロゲンによって置換されていてよい、１〜３０個の炭素原子を有する、炭素原子含有の有機の飽和または不飽和の非環式または環式の脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基を表わし；
一般式（Ｖｂ）［ＲeＳＯ3］-で示される有機スルホネート、上記式中、Ｒ6は、１個以上のヘテロ原子を含有しおよび／または１個以上の官能基またはハロゲンによって置換されていてよい、１〜３０個の炭素原子を有する、炭素原子含有の有機の飽和または不飽和の非環式または環式の脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基を表わし；
一般式（Ｖｃ）［ＲfＣＯＯ］-で示されるカルボキシレート、上記式中、Ｒfは、水素を表わすかまたは１個以上のヘテロ原子を含有しおよび／または１個以上の官能基またはハロゲンによって置換されていてよい、１〜３０個の炭素原子を有する、炭素原子含有の有機の飽和または不飽和の非環式または環式の脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基を表わし；
一般式（Ｖｄ）［ＰＦx（ＣyＦ2y+1-zＨz）6-x］-で示される（フルオロアルキル）フルオロホスフェート、上記式中、１≦ｘ≦６、１≦ｙ≦８および０≦ｚ≦２ｙ＋１；
一般式（Ｖｅ）［Ｒg−ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2−Ｒh］-、（Ｖｆ）［Ｒ1−ＳＯ2−Ｎ−ＣＯ−Ｒj］-または（ＩＶｇ）［Ｒk−ＣＯ−Ｎ−ＣＯ−Ｒl］-で示されるイミド、上記式中、Ｒｇ〜Ｒｌは、互いに無関係に水素を表わすかまたは１個以上のヘテロ原子を含有しおよび／または１個以上の官能基またはハロゲンによって置換されていてよい、１〜３０個の炭素原子を有する、炭素原子含有の有機の飽和または不飽和の非環式または環式の脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基を表わし；
一般式（Ｖｈ）
【化４】
2008510741.tif 000006
〔式中、Ｒm〜Ｒｏは、互いに無関係に水素を表わすかまたは１個以上のヘテロ原子を含有しおよび／または１個以上の官能基またはハロゲンによって置換されていてよい、１〜３０個の炭素原子を有する、炭素原子含有の有機の飽和または不飽和の非環式または環式の脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基を表わす〕で示されるメチド；
一般式（Ｖｉ）［Ｒp−ＳＯ3］-〔式中、Ｒｐは、１個以上のヘテロ原子を含有しおよび／または１個以上の官能基またはハロゲンによって置換されていてよい、１〜３０個の炭素原子を有する、炭素原子含有の有機の飽和または不飽和の非環式または環式の脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基を表わす〕で示される有機スルフェート；
一般式（Ｖｊ）［ＭqＨａｌr］s-〔式中、Ｍは、金属を表わし、Ｈａｌは、弗素、塩素、臭素または沃素を表わし、ｑおよびｒは、正の整数であり、錯体の化学量論的量を表わし、ｓは、正の整数であり、錯体の電荷を表わす〕で示されるハロメタラート；かまたは
硫化物、硫化水素、一般式（Ｖｋ）［ＨＳv］-で示されるポリ硫化水素、一般式（Ｖｍ）［Ｓv］2-〔式中、ｖは、２〜１０の正の整数である〕で示されるポリ硫化物、一般式（Ｖｎ）［ＲsＳ］-〔式中、Ｒsは、１個以上のヘテロ原子を含有しおよび／または１個以上の官能基またはハロゲンによって置換されていてよい、１〜３０個の炭素原子を有する、炭素原子含有の有機の飽和または不飽和の非環式または環式の脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基を表わす〕で示されるチオラートである。
【００４８】
ヘテロ原子として原則的には、式として−ＣＨ2−、−ＣＨ＝、Ｃ≡または＝Ｃ＝の基を置換することが可能である全てのヘテロ原子が考慮される。前記炭素含有残基がヘテロ原子を含有する場合には、酸素、窒素、硫黄、燐及びケイ素が有利である。有利な基として、特に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＮＲ−、−Ｎ＝、−ＰＲ−、−ＰＲ2及び−ＳｉＲ2−が挙げられ、その際前記残基Ｒは前記炭素含有残基の残りの部分である。
【００４９】
官能基として原則的には、炭素原子又はヘテロ原子に結合していてよい全ての官能基が考慮される。適した例として、−ＯＨ（ヒドロキシ）、＝Ｏ（殊にカルボニル基として）、−ＮＨ2（アミノ）、＝ＮＨ（イミノ）、−ＣＯＯＨ（カルボキシ）、−ＣＯＮＨ2（カルボキサミド）および−ＣＮ（シアノ）が挙げられる。官能基及びヘテロ原子は、直接的に隣接していてもよく、従って複数の近接した原子からの組み合わせ、例えば−Ｏ−（エーテル）、−Ｓ（チオエーテル）、−ＣＯＯ−（エステル）、−ＣＯＮＨ−（第二アミド）または−ＣＯＮＲ−（第三アミド）が含まれてもよい。
【００５０】
ハロゲンとして、弗素、塩素、臭素及び沃素が挙げられる。
【００５１】
１〜３０個の炭素原子を有する、炭素含有の有機の飽和または不飽和の非環式または環式の脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基として、四置換されたホウ酸塩（Ｖａ）の場合の基Ｒa〜Ｒd、有機スルホン酸塩（Ｖｄ）の場合の基Ｒe、カルボン酸塩（Ｖｃ）の場合の基Ｒf、イミド（Ｖｅ）、（Ｖｆ）および（Ｖｇ）の場合の基Ｒg〜Ｒl、メチド（Ｖｈ）の場合の基Ｒm〜Ｒo、有機硫酸塩（Ｖｉ）の場合の基Ｒpおよびチオール酸塩（Ｖｎ）の場合の基Ｒsは、互いに無関係に有利に
Ｃ1〜Ｃ30−アルキルおよびそのアリール置換成分、ヘテロアリール置換成分、シクロアルキル置換成分、ハロゲン置換成分、ヒドロキシ置換成分、アミノ置換成分、カルボキシ置換成分、ホルミル置換成分、−Ｏ−置換成分、−ＣＯ−置換成分、−ＣＯ−Ｏ−置換成分またはＣＯ−Ｎ<置換成分、例えばメチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−ブチル、２−メチルー１−プロピル（イソブチル）、２−メチル−２−プロピル（第三ブチル）、１−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチル、２−メチル−１−ブチル、３−メチル−１−ブチル、２−メチル−２−ブチル、３−メチル−２−ブチル、２，２−ジメチル−１−プロピル、１−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、２−メチル−１−ペンチル、３−メチル−１−ペンチル、４−メチル−１−ペンチル、２−メチル−２−ペンチル、３−メチル−２−ペンチル、４−メチル−２−ペンチル、２−メチル−３−ペンチル、３−メチル−３−ペンチル、２，２−ジメチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−１−ブチル、３，３−ジメチル−１−ブチル、２−エチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−２−ブチル、３，３−ジメチル−２−ブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル、ヘニコシル、ドコシル、トリコシル、テトラコシル、ペンタコシル、ヘキサコシル、ヘプタコシル、オクタコシル、ノナコシル、トリアコンチル、フェニルメチル（ベンジル）、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、２−フェニルエチル、３−フェニルプロピル、シクロペンチルメチル、２−シクロペンチルエチル、３−シクロペンチルプロピル、シクロヘキシルメチル、２−シクロヘキシルエチル、３−シクロヘキシルプロピル、メトキシ、エトキシ、ホルミル、アセチルまたはＣnＦ2(n-a)+(1-b)Ｈ2a+b、但し、この場合ｎ≦３０、０≦ａ≦ｎおよびｂは、０または１であるものとし（例えば、ＣＦ3、Ｃ2Ｆ5、ＣＨ2ＣＨ2−Ｃ(n-2)Ｆ(n-2)+1、Ｃ6Ｆ13、Ｃ8Ｆ17、Ｃ10Ｆ21、Ｃ12Ｆ25）、
Ｃ3〜Ｃ12ーシクロアルキルおよびそのアリール置換成分、ヘテロアリール置換成分、シクロアルキル置換成分、ハロゲン置換成分、ヒドロキシ置換成分、アミノ置換成分、カルボキシ置換成分、ホルミル置換成分、−Ｏ−置換成分、−ＣＯ−置換成分または−ＣＯ−Ｏ−置換成分、例えばシクロペンチル、２−メチル−１−シクロペンチル、３−メチル−１−シクロペンチル、シクロヘキシル、２−メチル−１−シクロヘキシル、３−メチル−１−シクロヘキシル、４−メチル−１−シクロヘキシルまたはＣnＦ2(n-a)-(1-b)Ｈ2a-b、但し、この場合ｎ≦３０、０≦ａ≦ｎおよびｂは、０または１であるものとし、
Ｃ2〜Ｃ30ーアルケニルおよびそのアリール置換成分、ヘテロアリール置換成分、シクロアルキル置換成分、ハロゲン置換成分、ヒドロキシ置換成分、アミノ置換成分、カルボキシ置換成分、ホルミル置換成分、−Ｏ−置換成分、−ＣＯ−置換成分または−ＣＯ−Ｏ−置換成分、例えば２−プロペニル、３−ブテニル、シス−２−ブテニル、トランス−２−ブテニルまたはＣnＦ2(n-a)-(1-b)Ｈ2a-b、但し、この場合ｎ≦３０、０≦ａ≦ｎおよびｂは、０または１であるものとし、
Ｃ3〜Ｃ12ーシクロアルケニルおよびそのアリール置換成分、ヘテロアリール置換成分、シクロアルキル置換成分、ハロゲン置換成分、ヒドロキシ置換成分、アミノ置換成分、カルボキシ置換成分、ホルミル置換成分、−Ｏ−置換成分、−ＣＯ−置換成分または−ＣＯ−Ｏ−置換成分、例えば３−シクロペンテニル、２−シクロヘキセニル、２−シクロヘキセニル、３−シクロヘキセニル、２，５−シクロヘキサジエニルまたはＣnＦ2(n-a)-3(1-b)Ｈ2a-3b、但し、この場合ｎ≦３０、０≦ａ≦ｎおよびｂは、０または１であるものとし、
及び
２〜３０個の炭素原子を有するアリールまたはヘテロアリールおよびそのアルキル置換成分、アリール置換成分、ヘテロアリール置換成分、シクロアルキル置換成分、ハロゲン置換成分、ヒドロキシ置換成分、アミノ置換成分、カルボキシ置換成分、ホルミル置換成分、−Ｏ−置換成分、−ＣＯ−置換成分または−ＣＯ−Ｏ−置換成分、例えばフェニル、２−メチル−フェニル（２−トリル）、３−メチル−フェニル（３−トリル）、４−メチル−フェニル、２−エチル−フェニル、３−エチル−フェニル、４−エチル−フェニル、２，３−ジメチル−フェニル、２，４−ジメチル−フェニル、２，５−ジメチル−フェニル、２，６−ジメチル−フェニル、３，４−ジメチル−フェニル、３，５−ジメチル−フェニル、４−フェニルーフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−ピロリル、２−ピロリル、３−ピロリル、２−ピリジニル、３−ピリジニル、４−ピリジニルまたはＣ6Ｆ(5-a)Ｈa、但し、この場合０≦ａ≦５であるものとする、を表わす。
【００５２】
アニオンが、四置換されたホウ酸塩（Ｖａ）［ＢＲaＲbＲcＲd］-である場合には、この際有利には全ての四つの残基Ｒa〜Ｒdは同一であり、その際前記Ｒは有利にはフッ素、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、フェニル、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルを表わす。殊に有利な四置換されたホウ酸塩（Ｖａ）は、テトラフルオロホウ酸塩、テトラフェニルホウ酸塩およびテトラ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸塩である。
【００５３】
前記アニオンが有機スルホン酸塩（Ｖｂ）［Ｒe−ＳＯ3］-である場合には、前記残基Ｒeは有利にメチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ｐ−トリル又はＣ9Ｆ19である。特に有利な有機スルホン酸塩（Ｖｂ）は、トリフルオロメタンスルホン酸塩（トリフラート（Ｔｒｉｆｌａｔ））、メタンスルホン酸塩、ｐ−トリルスルホン酸塩、ノナデカンフルオロノナスルホン酸塩（ノナフラート（Nonaｆｌａｔ））、ジメチレングリコールモノメチル−エーテル硫酸塩及びオクチル硫酸塩である。
【００５４】
アニオンがカルボン酸塩（Ｖｃ）[ＲfＣＯＯ]-である場合には、基Ｒfは、有利に水素、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、フェニル、ヒドロキシ−フェニルメチル、トリクロロメチル、ジクロロメチル、クロロメチル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、フルオロメチル、エテニル（ビニル）、２−プロペニル、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、シス−８−ヘプタデセニル、−ＣＨ2−Ｃ（ＯＨ）（ＣＯＯＨ）−、ＣＨ2−ＣＯＯ−または非分枝鎖状または分枝鎖状のＣ1〜Ｃ18−アルキル、例えばメチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−ブチル、２−メチル−１−プロピル（イソブチル）、２−メチル−２−プロピル（第三ブチル）、１−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチル、２−メチル−１−ブチル、３−メチル−１−ブチル、２−メチル−２−ブチル、３−メチルー２−ブチル、２，２−ジメチル−１−プロピル、１−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、２−メチルー１−ペンチル、３−メチル−１−ペンチル、４−メチル−１−ペンチル、２−メチル−２−ペンチル、３−メチル−２−ペンチル、４−メチル−２−ペンチル、２−メチル−３−ペンチル、３−メチルー３−ペンチル、２，２−ジメチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−１−ブチル、３，３−ジメチル−１−ブチル、２−エチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−２−ブチル、３，３−ジメチル−２−ブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、ヘプタデシルを表わす。殊に有利なカルボン酸塩（Ｖｃ）は、ギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩、吉草酸塩、安息香酸塩、マンデル酸塩、トリクロロ酢酸塩、ジクロロ酢酸塩、クロロ酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、ジフルオロ酢酸塩、フルオロ酢酸塩である。
【００５５】
前記アニオンが（フルオロアルキル）フルオロ燐酸塩（Ｖｄ）［ＰＦx（ＣyＦ2y+1-zＨz）6-x］-である場合には、ｚは有利には０である。特に有利には、ｚ＝０、ｘ＝３及び１≦ｙ≦４の（フルオロアルキル）フルオロ燐酸塩（Ｖｄ）、具体的には、［ＰＦ3（ＣＦ3）3］-、［ＰＦ3（Ｃ2Ｆ5）3］-、［ＰＦ3（Ｃ3Ｆ7）3］-および［ＰＦ3（Ｃ4Ｆ7）3］-である。
【００５６】
アニオンがイミド（Ｖe）［ＲoＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2−Ｒh］-、（Ｖｆ）［Ｒi−ＳＯ2−Ｎ−ＣＯ−Ｒj］-または（Ｖｇ）［ＲkＣＯ−Ｎ−ＣＯ−Ｒh］-である場合には、基Ｒg〜Ｒlは、互いに無関係に有利には、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、フェニル、トリクロロメチル、ジクロロメチル、クロロメチル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、フルオロメチル、又は非分枝鎖状または分枝鎖状のＣ1〜Ｃ12−アルキル、例えばメチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−ブチル、２−メチル−１−プロピル（イソブチル）、２−メチル−２−プロピル（第三ブチル）、１−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチル、２−メチル−１−ブチル、３−メチル−１−ブチル、２−メチル−２−ブチル、３−メチル−２−ブチル、２，２−ジメチル−１−プロピル、１−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、２−メチル−１−ペンチル、３−メチル−１−ペンチル、４−メチル−１−ペンチル、２−メチル−２−ペンチル、３−メチル−２−ペンチル、４−メチル−２−ペンチル、２−メチル−３−ペンチル、３−メチル−３−ペンチル、２，２−ジメチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−１−ブチル、３，３−ジメチル−１−ブチル、２−エチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−２−ブチル、３，３−ジメチル−２−ブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシルまたはドデシルである。
【００５７】
特に好ましいイミド（Ｖｅ）、（Ｖｆ）および（Ｖｇ）は、［Ｆ3Ｃ−ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2−ＣＦ3］-（ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド）、［Ｆ5Ｃ2−ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2−Ｃ2Ｆ5］-（ビス（ペンタフルオロエチルスルホニル）イミド）、［Ｆ3Ｃ−ＳＯ2−Ｎ−ＣＯ−ＣＦ3］-、［Ｆ3Ｃ−ＣＯ−Ｎ−ＣＯ−ＣＦ3］-およびＲg〜Ｒｌが互いに無関係にメチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、トリクロロメチル、ジクロロメチル、クロロメチル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチルまたはフルオロメチルであるようなイミドである。
【００５８】
アニオンがメチド（Ｖｈ）
【化５】
2008510741.tif 000007
である場合には、前記基Ｒm〜Ｒoは互いに無関係に有利には、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、フェニル、トリクロロメチル、ジクロロメチル、クロロメチル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、フルオロメチル、又は非分枝鎖状または分枝鎖状のＣ1〜Ｃ12−アルキル、例えばメチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−ブチル、２−メチル−１−プロピル（イソブチル）、２−メチル−２−プロピル（第三ブチル）、１−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチル、２−メチル−１−ブチル、３−メチル−１−ブチル、２−メチル−２−ブチル、３−メチル−２−ブチル、２，２−ジメチル−１−プロピル、１−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、２−メチル−１−ペンチル、３−メチル−１−ペンチル、４−メチル−１−ペンチル、２−メチル−２−ペンチル、３−メチル−２−ペンチル、４−メチル−２−ペンチル、２−メチル−３−ペンチル、３−メチル−３−ペンチル、２，２−ジメチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−１−ブチル、３，３−ジメチル−１−ブチル、２−エチル−１−ブチル、２，３−ジメチル−２−ブチル、３，３−ジメチル−２−ブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシルまたはドデシルである。特に有利なメチド（Ｖｈ）は、［（Ｆ3Ｃ−ＳＯ2）3Ｃ］-（トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メチド）、［（Ｆ5Ｃ2−ＳＯ2）3Ｃ］-（ビス（ペンタフルオロエチルスルホニル）メチド）および、前記基Ｒm〜Ｒoが互いに無関係にメチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、トリクロロメチル、ジクロロメチル、クロロメチル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチルまたはフルオロメチルであるメチドである。
【００５９】
アニオンが有機硫酸塩（Ｖｉ）［ＲpＯ−ＳＯ3］-である場合には、基Ｒpは、有利に分枝鎖状または非分枝鎖状のＣ1〜Ｃ30−アルキル基を表わす。特に好ましい有機硫酸塩（Ｖｌ）は、硫酸メチル、硫酸エチル、硫酸プロピル、硫酸ブチル、硫酸ペンチル、硫酸ヘキシル、硫酸ヘプチルまたは硫酸オクチルである。
【００６０】
アニオンがハロメタラート（Ｖｊ）［ＭqＨａｌr］s-である場合には、Ｍは、有利にアルミニウム、亜鉛、鉄、コバルト、アンチモンまたは錫を表わす。Ｈａｌは、有利には塩素または臭素、とりわけ特に有利には塩素を表わし、ｑは、有利には１、２または３であり、ｒおよびｓは、前記金属イオンの化学量論的量および電荷に相応して生じる。
【００６１】
アニオンがチオラート（Ｖｎ）［ＲsＳ］-である場合には、基Ｒｓは、有利に分枝鎖状または非分枝鎖状のＣ1〜Ｃ30−アルキル基を表わす。特に好ましいチオラート（Ｖｎ）は、硫化メチル、硫化エチル、硫化ｎ−プロピル、硫化ｎ−ブチル、硫化ｎ−ペンチル、硫化ｎ−ヘキシル、硫化ｎ−ヘプチル、硫化ｎ−オクチルまたは硫化ｎ−ドデシルである。
【００６２】
殊に有利には、イミダゾリウム塩の製造のために、本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）が使用され、この場合部分脱プロトン化されたかまたは全脱プロトン化されたアニオンは、テトラフルオロ硼酸塩、ヘキサフルオロ燐酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、メタンスルホン酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、マンデル酸酸、硝酸塩、亜硝酸塩、トリフルオロ酢酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、メチル硫酸塩、エチル硫酸塩、プロピル硫酸塩、ブチル硫酸塩、ペンチル硫酸塩、ヘキシル硫酸塩、ヘプチル硫酸塩、オクチル硫酸塩、燐酸塩、燐酸二水素塩、燐酸水素塩、プロピオン酸塩、テトラクロロアルミン酸塩、Ａｌ2Ｃｌ7-、クロロ亜鉛酸塩、クロロ鉄酸塩、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、ビス（ペンタフルオロエチルスルホニル）イミド、トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メチド、ビス（ペンタフルオロエチルスルホニル）メチド、ｐ−トリルスルホン酸塩、ビス［サリチラト（２−）］硼酸塩、テトラカルボニルコバルト酸塩、ジメチレングリコールモノメチルエーテル硫酸塩、オクチル硫酸塩、オレイン酸塩、ステアリル酸塩、アクリル酸塩、メタクリル酸塩、マレイン酸塩、クエン酸水素塩、ビニルホスホン酸塩、ビス（ペンタフルオロエチル）ホスフィン酸塩、ビス［オキサラト（２−）］硼酸塩、ビス［１，２−ベンゼンジオラト（２−）−Ｏ，Ｏ′］硼酸塩、ジシアナミド、トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロ燐酸塩、トリス（ヘプタフルオロプロピル）トリフルオロ燐酸塩、テトラシアノ硼酸塩またはクロロコバルト酸塩である。
【００６３】
本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）は、１，３−二置換されたイミダゾリウムをベースとするイオン液体を製造するのに重要な出発化合物である。このイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）は、毒性のアルキル化剤の使用なしに工業的に良好に入手可能で良好に使用可能な反応性アルキル化剤を使用しながら高い収量および高い純度で簡単に製出可能であり、この場合高い純度は、費用の掛かる精製なしでも達成させることができる。本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）は、望ましいアニオンを有する、１，３−二置換されたイミダゾリウムをベースとする望ましいイオン液体に簡単に融通性をもって変換可能であり、このイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）は、同様に高い収量および高い純度で、別個の費用の掛かる精製なしでも製出可能である。
【００６４】
本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）の特別な利点は、１，３−二置換されたイミダゾリウムをベースとする望ましいイオン液体の製出のために、前記イミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）と水または無機プロトン酸または有機プロトン酸との反応の際に、メチルスルファイトアニオンが揮発性メタノールの形成下（亜硫酸水素塩への水との反応の際）または揮発性メタノールおよび揮発性二酸化硫黄の形成下（無機プロトン酸または有機プロトン酸との反応の際）に簡単で完全に除去されうることである。
【００６５】
従って、本発明によるイミダゾリウム−メチルスルファイト（Ｉ）から製造可能な望ましいイオン液体は、問題なしに電子産業における使用に適している。
【００６６】
実施例
実施例１（Ｎ，Ｎ′−ブチル−メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト）
ジメチルスルファイト２１．１１ｇ（０．１９２モル）をトルエン１００ｍｌ中に装入し、トルエン２５ｍｌ中のＮ−ブチルイミダゾール２３．８ｇ（０．１９２モル）からなる溶液を添加した。この溶液を６０℃で１５時間攪拌した。反応中、生成されたＮ，Ｎ′−ブチルメチルイミダゾリウムメチルスルファイトによって第２の液相が形成された。攪拌の終結後、２相が分離した。Ｎ，Ｎ′−ブチルメチルイミダゾリウムメチルスルファイトを含有する下部の相を分離し、２回酢酸エチルエステルで振出した。引続き、Ｎ，Ｎ′−ブチルメチルイミダゾリウムメチルスルファイトを真空中で０．３ｋＰａ（３ミリバール）で４０℃で乾燥させた。計量された量は、理論的全収率の８３％に相当する３７．５ｇであった（Ｎ，Ｎ′−ブチルメチルイミダゾリウムメチルスルファイトおよびＮ，Ｎ′−ブチルメチルイミダゾリウムメタンスルホネート）。
【００６７】
得られた生成物をＮＭＲ分光法により分析し、Ｎ，Ｎ′−ブチルメチルイミダゾリウムメチルスルファイトとして同定した：
［１Ｈ−ＮＭＲ，４００Ｍｈｚ］, Ｄ2Ｏ：０．９ppm（ｔ−３Ｈ）；１．３ｐｐｍ（ｍ−２Ｈ）；１．８ｐｐｍ（ｍ−２Ｈ）；２．８ｐｐｍ（ｓ−３Ｈ−ＣＨ3ＳＯ3-）；３．４ｐｐｍ（ｓ−３Ｈ）；３．８ｐｐｍ（ｓ−３Ｈ）；４．２ｐｐｍ（ｔ−２Ｈ）；７．４ｐｐｍ（ｄ−２Ｈ）；８．７ｐｐｍ（ｓ−１Ｈ）。
【００６８】
ＮＭＲスペクトルの定量的評価は、信号比２．８ｐｐｍ（３Ｈ−メタンスルホネート）からもたらされた。３．８ｐｐｍ（イミダゾリウム−窒素での３Ｈ−メチル基）、形成されたメタンスルホネートの含量は、検出限界以下であった。これは、３モル％であった。従って、Ｎ，Ｎ′−ブチル−メチルイミダゾリウム−メチルスルファイトの純度は、９７％を上廻った。
【００６９】
実施例２（Ｎ，Ｎ′−ブチルメチルイミダゾリウム−メチルスルファイトから出発するＮ，Ｎ′−ブチルメチルイミダゾリウムーアセテートの合成）
実施例１の記載により製造されたＮ，Ｎ′−ブチル−メチルイミダゾリウム−メチルスルファイト４９．３ｇ（０．２１モル）を室温で装入し、撹拌下に緩徐に酢酸１３ｇ（０．２１モル）を滴加した。この反応混合物を４０〜６５℃で注意深く５０〜０．２ｋＰａ（５００〜２ミリバール）の真空下に置き、この場合形成されたメタノールを留去した。メタノール形成および留去が終結した後、反応混合物を１４０℃に加熱し、０．３ｋＰａ（３ミリバール）の真空下に二酸化硫黄を取り除いた。この反応混合物を冷却勾配中で捕集した。反応生成物の収量は、理論的全収率の９０％に相当する３７．２ｇであった。
【００７０】
得られた生成物をＮＭＲ分光法により分析し、Ｎ，Ｎ′−ブチルメチルイミダゾリウムーアセテートとして同定した：
［１Ｈ−ＮＭＲ，４００Ｍｈｚ］, Ｄ2Ｏ：０．９ppm（ｔ−３Ｈ）；１．３ｐｐｍ（ｍ−２Ｈ）；１．８ｐｐｍ（ｍ−２Ｈ）；１．９ｐｐｍ（ｓ−３Ｈ−ＣＨ3ＣＯＯ-）；３．４ｐｐｍ（ｓ−３Ｈ）；３．８ｐｐｍ（ｓ−３Ｈ）；４．２ｐｐｍ（ｔ−２Ｈ）；７．４ｐｐｍ（ｄ−２Ｈ）；８．７ｐｐｍ（ｓ−１Ｈ）。
【００７１】
実施例２は、本発明によるＮ，Ｎ′−ブチル−メチルイミダゾリウム−メチルスルファイトから酢酸との簡単な反応で望ましいイオン液体Ｎ，Ｎ′−ブチル−メチルイミダゾリウムーアセテートを高い収量および高い純度で製出することができることを示す。
【国際調査報告】
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