(57)【要約】  本明細書に記載の発明には、メトキシ桂皮酸オクチル、オキシベンゾン、サリチル酸エチルヘキシル、及びアボベンゾン、及び任意選択の水から本質的には構成される化学薬品系が含まれる。該化学薬品系は、化粧品配合物、化学薬品配合物、及び医薬製剤に添加された場合に、紫外線エネルギーに対する抵抗性を付与する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
メトキシ桂皮酸オクチル、オキシベンゾン、サリチル酸エチルヘキシル、アボベンゾン、及び任意に水から本質的になる化学薬品系。
【請求項２】
化学薬品系を輸送及び貯蔵するための包装をさらに含む、請求項１に記載の化学薬品系。
【請求項３】
メトキシ桂皮酸オクチルが２０．０重量％〜９０．０重量％の濃度を有する、請求項１に記載の化学薬品系。
【請求項４】
オキシベンゾンが１．０重量％〜２５．０重量％の濃度を有する、請求項１に記載の化学薬品系。
【請求項５】
サリチル酸エチルが１．０重量％〜９０．０重量％の濃度を有する、請求項１に記載の化学薬品系。
【請求項６】
アボベンゾンが１．０重量％〜２５．０重量％の濃度を有する、請求項１に記載の化学薬品系。
【請求項７】
１又は２以上のビタミンをさらに含む、請求項１に記載の化学薬品系。
【請求項８】
１又は２以上の抗酸化剤を含む、請求項１に記載の化学薬品系。
【請求項９】
酸化チタン、オクチルクリレン（ｏｃｔｙｌｃｒｙｌｅｎｅ）、ＰＡＢＡ、及びベンゾフェノン類の中の１又は２以上をさらに含む、請求項１に記載の化学薬品系。
【請求項１０】
芳香化学薬品をさらに含む、請求項１に記載の化学薬品系。
【請求項１１】
化学薬品組成物の紫外線劣化を防止する方法であって、
メトキシ桂皮酸オクチル、オキシベンゾン、サリチル酸エチルヘキシル、アボベンゾン、及び任意に水から本質的になる化学薬品系を調合すること、並びに、
該化学薬品系を化学薬品組成物の製造業者に提供すること、を含む方法。
【請求項１２】
化学薬品系を製造業者に提供するに先立って該系を包装することをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
メトキシ桂皮酸オクチル、オキシベンゾン、サリチル酸エチルヘキシル、及びアボベンゾンが、製造業者によって製造される化学薬品組成物のための比率で調合される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
製造業者が、化学薬品系を化学薬品組成物に、熱を加えないで添加する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
紫外線劣化を受け難い化学薬品組成物を、熱を加えないで調合する方法であって、
メトキシ桂皮酸オクチル、オキシベンゾン、サリチル酸エチルヘキシル、及びアボベンゾンを含む化学薬品系を得ること、並びに、
該化学薬品系を化学薬品組成物に、熱を加えないで添加すること、を含む方法。
【請求項１６】
前以て選択された最終用途に適合した比率の複数の紫外線フィルター並びに該複数の紫外線フィルターを貯蔵及び輸送するための包装から本質的には構成される系。
【請求項１７】
化学薬品組成物の紫外線劣化を防止するための系を製造する方法であって、
粉末形態の紫外線抑制剤、水、及び液体形態の紫外線抑制剤から本質的になる混合物を調合すること、
該混合物を５０℃〜５５℃の温度に加熱すること（ここで、粉末系成分を液相に溶解する）、
任意に該液相にさらなる粉末又は液体を添加すること（ここで、該液相は澄明乃至帯黄色の液体である）、並びに、
該液相を包装すること、を含む方法。
【請求項１８】
紫外線抑制剤が、メトキシ桂皮酸オクチル、オキシベンゾン、サリチル酸エチルヘキシル、及びアボベンゾンの中の１種又は複数を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
液相を化粧品配合物に添加することをさらに含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
液相を医薬製剤に添加することをさらに含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
液相を化学薬品配合物に添加することをさらに含む、請求項１７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書で開示する本発明の実施形態は、紫外線抑制系、該紫外線抑制系を作るための１種又は複数の方法、及び該紫外線抑制系を使用するための１種又は複数の方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
色調は、消費者が化粧品の購入に先立って確かめる、化粧品の第１番目の最も重要な属性である。化粧品の色調安定性は、１種又は複数の人工光源からの、並びに直射太陽光及び／又は間接太陽光からの紫外線に対する暴露によって影響される。
【０００３】
サンスクリーンは、皮膚が暴露される場合はいつでも、太陽が放射する紫外線によるダメージから皮膚を保護するのに推奨される形態である。サンバーンを防止又は最小にするため、及び自然な日焼けの発生を可能にするためには、サンスクリーンの反復使用が必須である。皮膚にサンスクリーンを不適切に使用すると、サンバーンを起こす。
【０００４】
化粧品にサンスクリーンを不適切に使用すると、皮膚のダメージに類似した、紫外光による化粧品のダメージが引きおこされる。人工光、直射太陽光及び間接太陽光からの紫外光は、化粧品の色調を変褪色させ、色調を消費者にとって望ましくないものにする。
【０００５】
紫外、ＵＶ、放射線は、Ｘ線〜可視光、４０ｎｍ〜４００ｎｍ（３０〜３ｅＶ）の電磁スペクトル部分として定義される。ＵＶスペクトルは、４０〜１９０ｎｍの真空ＵＶ、１９０〜２２０ｎｍの遠ＵＶ、２２０〜２９０ｎｍのＵＶＣ、２９０〜３２０ｎｍのＵＶＢ、及び３２０〜４００ｎｍのＵＶＡに分割される。太陽は、ＵＶ放射線の主たる天然光源である。人工光源には、ブラックライト、水銀蒸気ランプ、ハロゲン光、高輝度放電ランプ、蛍光及び白熱電球光源が含まれる。特有の危険は、放射されるＵＶ放射線の波長範囲に応じて種々の光源に対して当てはまる。ＵＶＣ光源の放射線は、遠ＵＶ及び真空ＵＶと同様大気圏で完全に吸収されるので、実際にはほとんどまったく観察されない。
【０００６】
ＵＶＢは、光化学傷害を引き起こすのに十分なエネルギーを有し、且つ大気圏で完全には吸収されないので、通常、最も危害が大きな形態のＵＶ放射線である。ＵＶＡは、最も一般的に認められるタイプのＵＶ光である。ＵＶＡへの暴露は、皮膚の日焼けを引き起こす初期の色素黒化効果を有する。大気圏のオゾンは、この部分のＵＶスペクトルをほとんど吸収しない。ＵＶＡ〜ＵＶＢの放射線に暴露されると、着色化合物の原子群は、それらの電子をより高いエネルギー準位に励起させて変化を受ける。この電子遷移が、化粧品の変退色の一因となる。
【０００７】
化粧品のＵＶ光損傷を抑制するために、２つの基本的な手法がこれまであった。１つの手法では、ＵＶ線を防ぐように作用し、入射光に対する物理的遮蔽を作り出す酸化チタンなどの物理的遮蔽物が使用されてきた。この手法は、特定タイプの化粧品に限られる。
【０００８】
もう１つの手法では、ＵＶ放射線を受け入れ、それを熱などの無害なエネルギーに変換する化学吸収剤が使用されてきた。ほとんどの吸収剤において、ベンゼン環又は拡張ラムダ系が、効率的な電子吸引基で置換されている。カルボニル基が吸引基の典型である。典型的には、アミノ又はメトキシ基などの電子供与基がカルボニル基のパラ位に存在する。電子供与基は、いわゆるプッシュ／プル置換共役系を形成することが多い。この手法は、化粧品において、ＵＶ放射線の有害効果を防止するものではなく、有害効果を単に制限するだけである。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本明細書で説明する本発明の一実施形態には、メトキシ桂皮酸オクチル、オキシベンゾン、サリチル酸エチルヘキシル、任意選択の水、及びアボベンゾンから本質的には構成される化学薬品系が含まれる。
【００１０】
本発明のもう１つの実施形態には、化学薬品組成物の紫外線劣化を防止する方法が含まれる。該方法は、メトキシ桂皮酸オクチル、オキシベンゾン、サリチル酸エチルヘキシル、任意選択の水、及びアボベンゾンから本質的には構成される化学薬品系を調合すること、及び該化学薬品系を化学薬品組成物の製造業者に提供することを含む。
【００１１】
本発明の別な一実施形態には、紫外線劣化を受け難い化学薬品組成物を、熱を加えないで調合する方法が含まれる。該方法は、メトキシ桂皮酸オクチル、オキシベンゾン、サリチル酸エチルヘキシル、及びアボベンゾンを含む化学薬品系を得ること、並びに該化学薬品系を化学薬品組成物に、熱を加えないで添加することを含む。
【００１２】
本発明の他の実施形態には、化学薬品組成物の紫外線劣化を防止するための系を作る方法が含まれる。該方法は、粉末形態の紫外線抑制剤、水、及び液体形態の紫外線抑制剤から本質的には構成される混合物を調合すること、該混合物を５０℃〜５５℃の温度に加熱すること（ここで、粉末系成分を液相に溶解する）、該液相にさらなる粉末又は液体を任意選択で添加すること（ここで、液相は澄明乃至帯黄色の液体である）、及び該液相を包装することを含む。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
当業者が本発明を実施するのを可能とするため、本発明の実施形態を十分に詳細に説明する。その他の実施形態を利用することも可能であり、本明細書中で論議される本発明の精神又は範囲から逸脱しないで、構造的、演繹的、化学的、及びその他の変更を行うことができる。したがって、以下の詳細な説明は、限定する意味で解釈すべきではなく、本明細書中で論議される本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲によってのみ規定される。
【００１４】
本明細書に記載の本発明の実施形態には、ＵＶ放射線に由来する劣化及び損傷を防止するためにＵＶに不安定な組成物中で使用するための基本系、並びに該基本系を含む配合物、該基本系を作る方法、並びに該基本系をＵＶに不安定な組成物とブレンドする方法が含まれる。
【００１５】
基本系は、ＵＶフィルター、すなわちメトキシ桂皮酸オクチル、アボベンゾン、オキシベンゾン、及びサリチル酸オクチルのブレンド物を含む。各ＵＶフィルターの濃度、及びあるフィルターの他のフィルターに対する比率は、可変であり、基本系の適用分野によって決まる。例えば、各ＵＶフィルターの濃度は、ほお紅、コンシーラー、及びファンデーションを含む群の各適用分野に対して相違する。
【００１６】
基本系に添加できるその他の成分には、ビタミンＡ、Ｃ、Ｄ及びＥ及び任意のその他油溶性ビタミンなど、０．００１〜１．００％の比率のビタミン類が含まれる。ＢＨＴ、Ｔｉｎｏｓｏｒｂ（ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン）、ビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、Ｔｉｎｏｇａｒｄ（トリス（テトラメチルヒドロキシピペリジノール）クエン酸エステル）、テトラジブチルペンタエリトリチルヒドロキシヒドロ桂皮酸エステル、ベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸ナトリウム、Ｃｉｂａｆａｓｔ、及び当業者に周知のその他の抗酸化剤などの抗酸化剤を、基本系中にブレンド物の０．００１重量％〜２．００重量％の比率で組み込むことができる。
【００１７】
若干の実施形態で基本系に添加できるその他のＳＰＦに有効な成分としては、酸化チタン、オクチルクリレン、ＰＡＢＡ、ベンゾフェノン類、及び当業者に周知のその他のＳＰＦ剤が挙げられる。これらの成分は、０．００１％〜８．００％の比率で添加される。これらのＳＰＦ成分は、若干の実施形態ではただ１つの成分として、他の実施形態では成分群として添加できる。
【００１８】
ファルネソール、トリクロサン、Ｄｅｏ  Ｓａｆｅ  Ａｃｔｉｖｅ、リシノール酸亜鉛、銀イオン、クエン酸トリエチル、及び当業者に周知のその他のデオドラント活性剤などの、脱臭に寄与する有効成分を、基本系に基本系の０．０１％〜１．００％の比率で添加できる。金属イオン封鎖剤、キレート化剤、保存剤、及び抗ニトロソ化剤などのその他の薬剤を、約０．００１％〜１．００％の範囲の濃度で添加できる。
【００１９】
若干の実施形態では、ブレンド物中に芳香性化学薬品を組み込み、組成物の性能を高める特有の特性を提供する。ブレンド物中に天然由来の有効な植物精油及び脂質画分を組み込み、特有の外観を達成し、性能を高めることができる。
【００２０】
本発明の基本系は、一般にＵＶによる劣化を受けやすい化粧品配合物、及び若干の実施形態では医薬製剤、及び化学薬品配合物用の独立型ＵＶ抑制系として使用できる。本発明の基本系は、化粧品、医薬品及び化学製品の総合的な安定性及び効力に寄与するさらなる補助剤のための担体としても使用できる。これらの補助剤としては、本明細書に記載のさらなるＳＰＦ有効成分、脱臭剤、及び芳香性化学薬品が挙げられる。基本系は、最終消費者用品中で使用される基本系を総濃度に応じて４〜５０のＳＰＦ値を生じるＳＰＦカクテルとしても使用できる。
【００２１】
本発明の基本系は、メトキシ桂皮酸オクチル及びサリチル酸オクチルなど、基本系の中の液体成分を蒸気ジャケット釜内で５０〜５５℃の範囲の温度に加熱することによって調合される。粉末系成分は、加熱された液体成分中に溶解される。その他全ての成分は、適切な液相又は粉末相に含められ、別々に又は一緒に添加される。
【００２２】
基本系は、若干の実施形態では最終製品に直接添加できる、安定で澄明乃至帯黄色の液体である。別の実施形態では、基本系を別々の相中で混合し、所望の溶解度を達成する。基本系を、組成物の製造に先立って調合し、さらなる加熱なしに室温で組み込むことができる。基本系は、それが添加される配合物に対して安定性及び向上した効力を付与する。基本系は、製造のための処理時間を低減することによって化粧品配合物の製造を助ける。基本系は、また、製造を単純化し、製造業者が製品を製造するのに、精巧な装置及び精巧なＵＶカクテルの知識を有することを必要としない。
【００２３】
基本系の配合物の一実施形態は、次の材料、すなわち、
材料                                          ％（ｗ／ｗ）
メトキシ桂皮酸オクチル                      ２０．００〜９０．００
サリチル酸エチルヘキシル                      １．００〜９０．００
アボベンゾン                                  １．００〜２５．００
を有する水性系である。
【００２４】
基本系の中の親油性基材系は、次の材料、すなわち、
材料                                          ％（ｗ／ｗ）
メトキシ桂皮酸オクチル                      ２０．００〜９０．００
オキシベンゾン                                １．００〜２５．００
サリチル酸エチルヘキシル                      １．００〜９０．００
アボベンゾン                                  １．００〜２５．００
を含む。
【００２５】
本発明の基本系は、溶媒及び抽出残留物を含まない。１つの別な水性基本系は、次の材料、すなわち、
材料                                          ％（ｗ／ｗ）
メトキシ桂皮酸オクチル                      ７０．００
サリチル酸エチルヘキシル                    １５．００
アボベンゾン                                １５．００
を含む。
【００２６】
他の基本系配合物は、次の材料、すなわち、
材料                                          ％（ｗ／ｗ）
メトキシ桂皮酸オクチル                      ６０．００
オキシベンゾン                              １５．００
サリチル酸エチルヘキシル                    １５．００
アボベンゾン                                １０．００
を含む。
【００２７】
本発明による化粧品用及び皮膚科用調合物は、このような調合物で慣例的に使用されるような化粧品用助剤、例えば保存剤、殺菌剤、香料、消泡剤、染料、顔料（着色効果を有する）、増粘剤、保水剤及び／又は保湿剤、脂肪、油、ワックス、又は化粧品用若しくは皮膚科用製剤のその他の慣例的構成成分、例えばアルコール、ポリオール、ポリマー、泡安定剤、電解質、有機溶媒、又はシリコーン誘導体を含むことができる。
【００２８】
本明細書に記載の本発明化粧品の種別例には、石鹸、ボディシャンプー、洗顔クリーム、及びその他のこのような洗浄用化粧品；スキントナー、クリーム、乳液、パック、及びその他のこのような基礎的皮膚ケアー製品；粉末、ファンデーション、及びその他のこのような基礎メイクアップ製品；口紅、頬紅、アイシャドー、アイライナー、マスカラ、及びその他のこのような顔用化粧品；マニキュア用メイクアップ製品など；シャンプー、ヘアリンス、ヘアコンディショナー、ヘアトリートメント、セットローション、ブロースタイリングローション、ヘアスプレー、泡スタイリング剤、ゲルスタイリング剤、ヘアリキッド、ヘアトニック、ヘアクリーム、育毛トニック、育毛賦活剤、毛染め剤、毛髪仕上げ剤、及びその他のこのようなヘアケア化粧品；香料、オーデコロン、及びその他のこのような芳香化粧品；練歯磨き；浴用剤；及び脱毛剤、アフターシェーブローション、発汗抑制剤、デオドラント、日焼け止め、及びその他のこのような特殊化粧品が含まれる。基礎スキンケア製品、メイクアップ製品、及びその他のこのような皮膚化粧品又はヘアケア化粧品が特に好ましい。この化粧品の物理的状態の例には、水性液、オイル基材液体、乳液、クリーム、泡、半固体、固体及び粉末が含まれる。この化粧品を噴霧して使用することも可能である。
【００２９】
前述の一般的説明及び後続の詳細な説明は、両方とも例示的且つ単に説明的なものであり、特許を請求する本発明のさらなる説明をさらに提供することを意味すると解すべきである。付属の図面は、本発明のさらなる理解を提供するために含められ、本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を構成し、本発明のいくつかの実施形態を例示し、また、その説明は本発明の原理を説明するのに役立つ。