(57)【要約】  プラズマ被覆装置は、少なくとも一つの湾曲部を有する通路を定める第一側及び第二側を有する少なくとも一つの被覆場所を含む。その被覆場所は、基体の方へ向けたプラズマジェットを与える第一プラズマアークをも含む。第一プラズマアークは、湾曲部の第一側又は第二側のいずれかに配置されている。
2008508424.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの湾曲部を有する通路を定める第一側及び第二側；及び
基体の方へ向けたプラズマジェットを与える第一プラズマアークであって、湾曲部の第一側又は第二側のいずれかに位置する第一プラズマアーク；
を含む少なくとも一つの被覆場所、
を含む、基体を被覆するためのプラズマ被覆装置。
【請求項２】
基体が被覆場所を通って移動する時、第一プラズマアークと基体との間の距離が第一作動距離を定め、湾曲部の、第一プラズマアークとは反対の側と基体とが第二作動距離を定め、第一作動距離と第二作動距離が、基体が被覆場所を通って移動する時、実質的に同じである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
基体が被覆場所に入る前に基体を加熱する精密加熱器を更に含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
基体が精密加熱器中へ前進する前に基体を所望の温度へ加熱する粗加熱器を更に含む、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
第二被覆場所を更に含む、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
第一被覆場所から移動する間に失われる熱を補償するための、第一と第二の被覆場所の間に配置された補充加熱器を更に含む、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
プラズマアークからのジェットの軸と基体の局部的表面とが湾曲部の平面内における入射角を定め、その入射角が、基体が被覆場所を通って機動する時、実質的に９０°である、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
湾曲部の、第一プラズマアークとは反対の側に配置された第二プラズマアークを更に含む、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
一つ以上のプラズマアークを更に含み、第一プラズマアークと前記一つ以上のプラズマアークとが、湾曲部の第一側又は第二側のいずれかに配置された第一プラズマアークの配列を形成する、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
湾曲部の、第一プラズマアークの配列とは反対の側に配置された複数のプラズマアークを含む第二プラズマアークの配列を更に含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
基体を移動すること；及び
少なくとも一つの湾曲部を有する通路を定める第一側及び第二側を含み、基体の方へ向けたプラズマジェットを与える第一プラズマアークであって、前記湾曲部の第一側又は第二側のいずれかに位置する第一プラズマアークを含む少なくとも一つの被覆場所で基体を被覆すること
を含む、基体を被覆する方法。
【請求項１２】
基体が被覆場所を通って移動する時、第一プラズマアークと基体との間の距離が第一作動距離を定め、湾曲部の、第一プラズマアークとは反対の側と基体とが第二作動距離を定め、第一作動距離と第二作動距離が、基体が被覆場所を通って移動する時、実質的に同じである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
基体が被覆場所に入る前に精密加熱器により基体を加熱することを更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
基体が精密加熱器中へ前進する前に、粗加熱器により所望の温度へ基体を加熱することを更に含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
基体を第二被覆場所で被覆することを更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
第一と第二の被覆場所の間に配置された補充加熱器で基体を加熱して、第一被覆場所から移動する間に失われる熱を補償することを更に含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
プラズマアークからのジェットの軸と基体の局部的表面とが湾曲部の平面内における入射角を定め、その入射角が、基体が被覆場所を通って機動する時、実質的に９０°である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
被覆場所が、湾曲部の、第一プラズマアークとは反対の側に配置された第二プラズマアークを更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
被覆場所が一つ以上のプラズマアークを更に含み、第一プラズマアークと前記一つ以上のプラズマアークとが、湾曲部の第一側又は第二側のいずれかに配置された第一プラズマアークの配列を形成する、請求項１１に記載の装置。
【請求項２０】
被覆場所が、湾曲部の、第一プラズマアークの配列とは反対の側に配置された複数のプラズマアークを含む第二プラズマアークの配列を更に含む、請求項１９に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ被覆装置（ｐｌａｓｍａ  ｃｏａｔｉｎｇ  ｓｙｓｔｅｍ）に関する。より具体的には、本発明は、種々の形態の基体に順応する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマ被覆装置の中には、水平に向けられた基体が被覆場所を通って進行し、水平面内に維持され、基体の上方に配列したプラズマアークが一種類以上の反応物を伴ったプラズマジェットを基体の方へ送るものがある。そのような構成は非平面状基体には順応出来ず、両側被覆も与えることはできない。
【０００３】
別のプラズマ被覆装置では、基体が被覆場所又は被覆機を通る固定された直線的通路を通って行く直線的方法に構成されている。被覆場所には一つ以上の反応物マニホルド及びプラズマアークが配備されているのが典型的であり、それらプラズマアークは基体の一方の側又は両側に向けて反応物を伴ったプラズマジェットを送る。非平面状基体がそのような装置中の被覆場所を通過する時、基体の表面と夫々のプラズマアークとの距離は、基体の形態に従って変化する。更に、プラズマジェットの基体に対する入射角は、基体が被覆場所を通って進行するに従って変化する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、一種類以上の反応物を伴ったプラズマジェットを用いて基体を被覆するための方法及び装置を与える。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
一般的特徴として、プラズマ被覆装置は、少なくとも一つの湾曲部を有する通路を定める第一側及び第二側を有する少なくとも一つの被覆場所を含む。その被覆場所は、第一プラズマアークも含み、そのアークからプラズマジェットが発せられる。第一プラズマアークは屈曲部の第一側又は第二側のいずれかに位置する。被覆場所は、第一アークの側とは反対の側に配置された第二プラズマアークを含んでいてもよい。或る実施の態様では、被覆場所は、その被覆場所のいずれかの側に位置するプラズマアークの配列を含むか、又は被覆場所の向かい合う両側に位置する一対のアークの配列を含んでいてもよい。
【０００６】
本発明の更なる特徴及び利点は、次の記載及び特許請求の範囲から明らかになるであろう。
【０００７】
先ず図１を参照すると、そこには直線状被覆場所１０が示されており、基体１２は矢印１３で示されたように被覆場所を通る固定された直線状通路に従って行く。基体は自動車乗り物のための部品であってもよい。例えば、基体はポリカーボネートから作られた後部窓又は屋根のパネルであってもよい。
【０００８】
被覆場所１０は、一対のプラズマアーク又は一対のアークの配列１４（被覆場所１０を上から見た図１の面内に入るように伸びている）を被覆場所１０の向かい合う両側に含むのみならず、被覆処理のための反応物を与えるための連携的反応物マニホルドをも含んでいる。被覆場所１０は、被覆場所の上流に配置される一つ以上のヒーターを伴って、基体が被覆場所に入る前にそれを加熱してもよい。その被覆場所より下流に追加の被覆場所を配置し、更にプラズマ被覆する能力を与えるようにしてもよく、その場合二つの被覆場所の間に別のヒーターを配置してもよい。
【０００９】
対称面１５（又は被覆場所１０の向かい合う両側に配置された一対のプラズマアークについての対称線）に沿って測定した、アークの配列１４と基体１２の表面との間の距離が作動距離（ｗｏｒｋｉｎｇ  ｄｉｓｔａｎｃｅ）（ＷＤ）を定め、対称面１５と基体の局部的表面との間の角度が入射角（ａｎｇｌｅ  ｏｆ  ｉｎｃｉｄｅｎｃｅ）（ＡＯＩ）を定める。従って、例えば、プラズマアークと５インチの弓状（即ち、基体が曲がっている程度、例えば図１参照）の基体との間の間隔が２０インチである被覆場所の場合、上方プラズマアークについてのＷＤは、１０インチから１５インチまで変化し、下方アークのそれは５インチから１０インチまで変化し得る。ＡＯＩは、基体の端でのほとんど０°から基体１２の中心での約９０°まで変化し得る。
【００１０】
一般に、ＷＤ及びＡＯＩは、基体の向かい合う両側に配置されたプラズマアークから被覆前駆物質が由来する結果として、被覆厚さ、基体温度、及び基体端での過剰噴霧に影響を与え、究極的には、接着性、密度、組成、及び化学的構造のような他の特性のみならず、被覆性能に影響を与える他の特性に影響を与える。従って、例えば、基体の中心部に比較して一層大きな被覆厚さを生じ易い、基体の進行先端部及び後端部でプラズマ被覆が比較的厚くなる傾向を減少させることが望ましい。被覆厚さについての好ましい（即ち、薄過ぎて耐摩耗性を悪くすることなく、或は厚過ぎて水浸漬性能を悪くすることはない）範囲が存在するので、基体全体に渡る厚さの変動を最小限にして、被覆処理を一層確固たるものにすることが望ましい。進行先端及び後端での比較的厚い被覆は、基体の進行先端及び後端での堅固な水浸漬性能を低下する誘因になる可能性がある。更に、基体端近傍の疑似被覆は、基体の向かい合う両側にあるアークに由来する被覆前駆物質、及びそれら基体の端の優先的加熱により起こされる過剰噴霧に起因する可能性がある。従って、プラズマ被覆法は、もしＷＤ及びＡＯＩを適当な範囲に限定すれば、一層確固たるものになる。
【００１１】
次に図２Ａ及び２Ｂを参照すると、そこには本発明の一態様に従うＷＤ及びＡＯＩの変動を最小限にした被覆装置２０が示されている。その基本的部品として、装置２０は、ロードロック２２、粗加熱器２４、精密加熱器２６、第一被覆場所２８、精密補充加熱器３０、第二被覆場所３２、及び出口ロック３４を含む。被覆場所２８、３２の各々は、装置２０中に真空を発生させるための少なくとも一つのポンプ口３６を含む。
【００１２】
被覆場所２８、３２は、湾曲部を有し、それは、例えば、全体的にＵ字型をしていて、比較的狭いＷＤ及びＡＯＩ範囲内で基体を被覆できるようなっている。それにより、装置２０は、種々の形態及び大きさの基体に順応することができる。
【００１３】
二つの被覆場所を必要とする被覆方法に対しては、補充加熱器３０を使用することができる。この必要性は、例えば、二つの被覆場所の間の基体の移動時間が長く、基体が第二被覆場所に到達する前に著しく冷却してしまう場合に生じ得る。
【００１４】
装置２０が使用されている場合、基体３７は最初ロードロック２２中に入れ、連続的に減圧されている領域中へ搬送される。任意選択的に粗加熱器２４が基体の温度を上昇させ、精密加熱器２６の負担を過剰にしないようにする。コンベヤー装置により基体を精密加熱器２６へ進行させ、そこで基体の温度を更に被覆場所２８での被覆を最適にするように上昇させる。コンベヤーは基体を被覆場所２８へ進行させ、そこで第一被覆を基体３７に施す。次にコンベヤーは基体を、矢印４１で示すように、補充加熱器３０へ移動させ、そこで基体の温度を上昇させて、被覆場所２８から移動する間に起こり得る熱損失を補償する。補充加熱器３０から、コンベヤーは基体を第二被覆場所３２へ移動させ、そこで第二被覆を基体に施す。最後に、コンベヤーは基体を出口ロック３４へ進行させ、そこから基体を装置２０から取り出す。
【００１５】
図３Ａ〜３Ｄを参照すると、被覆場所２８、３２には、Ｕターンのような湾曲部４０を有するチャンネル即ち通路３８が夫々設けられており、一対のプラズマアークの配列（以下プラズマアーク４２、４４という）が、湾曲部４０の向かい合う両側に配置されている。或る構成では、被覆場所２８、３２の一方又は両方に、湾曲部４０のいずれかの側に唯一つのプラズマアークの配列を配備してもよい。更に、或る実施の態様では、装置２０は、唯一つの被覆場所のみを含む。更に、被覆場所は、湾曲部４０の一方の側に位置する一つの配列体ではなく、一つのプラズマアークを含んでいてもよく、或いは湾曲部４０の向かい合う両側に位置する一対のアークを含んでいてもよい。
【００１６】
被覆場所は、プラズマアーク４２、４４の周辺に何らかの方法で位置するマニホルドをも含み、被覆過程中に適当な反応物の流れを与える。プラズマアーク４２、４４には不活性ガス（例えば、アルゴン）が供給され、それは部分的イオン化点まで加熱され、被覆される基体の方へ向けたジェットとして（夫々のアークから）真空室中へ放射される。被覆反応物は、夫々のアークジェットに隣接するマニホルドに分布した注入オリフィスにより制御された速度でアークと基体との間に導入される。制御器を用いてプラズマアークとマニホルドとの操作を管理し、マニホルドが互いに独立に作動できるようにしてもよい。
【００１７】
上で言及したように、装置２０は、基体３７を矢印４１の総体的方向にチャンネル３８を通って移動させるコンベヤー即ち搬送機構を含む。図示したように、基体３７は凸型外側表面４６及び凹型内側表面４８を有する。被覆過程中、基体３７が湾曲部４０の周りを機動した時、外側プラズマアーク４２と基体３７の外側表面４６とは距離ｄ１を定め、内側プラズマアーク４４と凹型内側表面４８は距離ｄ２を定める。
【００１８】
向かい合う両側のプラズマアーク４２、４４は対称面５０上に、或いは、夫々の被覆場所の一方の側又は両側に一つのアークが配置されている場合は対称線上に配置されている。それにより、コンベヤー装置は、基体３７を湾曲部４０を通る通路に沿って移動させ、同時に基体を回転させて、基体がプラズマアーク４２、４４の間のほぼ中程で対称面５０と交差し、局部的に対称面５０にほぼ直角に配向するようにする。即ち、距離ｄ１及びｄ２は、基体３７が被覆場所２８、３２を通って進む時、実質的に同じに保持される。
【００１９】
基体搬送即ちコンベヤー機構は、種々の形態及び大きさの基体に順応するように充分な融通性を持ち、種々の基体がチャンネル３８を通って種々の軌道に沿って移動し（もし必要ならば適当な設備の変更をして）、向かい合うアークの配列に対する基体の位置及び配向についての優先的条件を満足する。複雑な曲率を有する基体は、相対的に大きな弓状部分及び表面配向の範囲を含む断面が湾曲部の面に平行となり、基体の凹型側が内側のプラズマアークに面するように配向させるのが好ましい。
【００２０】
被覆場所２８、３２は、プラズマ被覆中のＷＤの変動及びＡＯＩの変動を、被覆過程が許容可能な製品を生ずる夫々の範囲内に限定する。被覆場所２８、３２は、基体が図１に図示した被覆場所１０を通って進行する時に生じる、対応する範囲に比べて狭いＷＤ及びＡＯＩの範囲内で被覆されるように、複雑な形態の局部的表面を維持することを可能とする。このことから、従来の被覆場所と比較して、方法及び製品の堅実性が改良され、一層広い範囲の形態に効果的にプラズマ被覆を行なえるという結果が得られる。
【００２１】
上に記載した被覆場所２８、３２はＵターンのような形の湾曲部４０を有するが、被覆場所は他の形の湾曲部を持っていてもよい。例えば、図４に示した別の被覆場所１００には、実質的に９０°の湾曲部４０が設けられる。この構成では、プラズマアークの配列４２、４４（又は単一のアーク）は、湾曲部４０の向かい合う両方の角に位置している。
【００２２】
コンベヤー即ち搬送機構は、矢印４１の総体的方向にチャンネル３８を通って基体３７を動かす。図示したように、基体３７は凸型外側表面４６及び凹型内側表面４８を有する。被覆過程中、基体３７が湾曲部４０の周りを機動する時、外側プラズマアーク４２と基体３７の外側表面４６は距離ｄ１を定め、内側プラズマアーク４４と凹型内側表面４８は距離ｄ２を定める。
【００２３】
向かい合ったプラズマアーク４２、４４は、対称面５０上に、或いは単一のアークが湾曲部４０の一方又は両方の角に配置されている場合には対称線上に配置される。それにより、コンベヤー装置は基体３７を湾曲部４０を通る通路に沿って移動し、同時に基体を回転し、プラズマアーク４２と４４のほぼ中程で基体が対称面５０と交差し、対称面５０とほぼ直角に局部的に配向されるようにする。即ち、距離ｄ１及びｄ２は、基体３７が被覆場所１００を通って進行する時、実質的に同じに保持される。
【００２４】
上で述べたことは本発明の原理の種々の実施の態様の例示を意味するものであることは当業者には容易に認められるであろう。この説明は、本発明が次の特許請求の範囲に規定した本発明の本質から離れることなく修正、変更及び変化を受けることができる点で、本発明の範囲、或いは適用を限定するものではない。例えば、装置は種々の湾曲部を有する被覆場所を含んでいてもよく、装置全体が図２に示す回路以外の直線的やり方で配列されていてもよい。或る実施の態様では、椀型部品のような部品を異なった軸の周りに回転し、部品全体を被覆するようにしてもよい。例えば、部品を一つの被覆場所で異なった軸の回りに回転するか、又は一つの被覆場所で一つの軸の周りに回転し、別の被覆場所で異なった軸の周りに回転させてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】図１は、直線状被覆場所の上面図である。
【図２】図２において、図２Ａは、本発明の一態様に従うプラズマ被覆装置の上面図であり、図２Ｂは、図２Ａの線２Ｂ−２Ｂに沿った断面図である。
【図３】図３において、図３Ａ乃至３Ｄは、図２の装置の被覆場所を通って移動する基体を図示したものである。
【図４】図４において、図４Ａ乃至４Ｄは、本発明の別の態様に従い被覆場所を通って移動する基体を図示したものである。
【図１】
2008508424.tif 000003
【図２】
2008508424.tif 000004
【図３Ａ】
2008508424.tif 000005
【図３Ｂ】
2008508424.tif 000006
【図３Ｃ】
2008508424.tif 000007
【図３Ｄ】
2008508424.tif 000008
【図４Ａ】
2008508424.tif 000009
【図４Ｂ】
2008508424.tif 000010
【図４Ｃ】
2008508424.tif 000011
【図４Ｄ】
2008508424.tif 000012
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月1日(2006.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
剛直な基体に被覆を均一に施すためのプラズマ被覆装置であって、
少なくとも一つの湾曲部（４０）がその中に定められた通路（３８）を有し、通路（３８）及び湾曲部（４０）が第一側及び第二側を含む、少なくとも一つの被覆場所（２８又は３２）、湾曲部（４０）の第一側又は第二側のいずれかに位置し、湾曲部（４０）において剛直な基体（３７）の方へ通路（３８）中にプラズマジェットを向ける第一プラズマアーク（４２又は４４）を含む装置において、
第一プラズマアーク（４２又は４４）が対称線（５０）を定め、
対称線（５０）に沿った、第一プラズマアーク（４２又は４４）と基体（３７）との間の距離が第一作動距離を定め、
その作動距離が、基体（３７）が第一プラズマアーク（４２又は４４）及び湾曲部（４０）を通過して移動する時、実質的に同じに保持される
ことを特徴とする、プラズマ被覆装置。
【請求項２】
基体（３７）が被覆場所（２８又は３２）を通って移動する時、第一プラズマアーク（４２又は４４）と基体（３７）との間の距離が第一作動距離を定め、湾曲部の、第一プラズマアーク（４２又は４４）とは反対の側と基体（３７）との間の距離が第二作動距離を定め、第一作動距離と第二作動距離が、基体（３７）が被覆場所（２８又は３２）を通って移動する時、実質的に同じに保持される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
基体が被覆場所に入る前に基体を加熱する精密加熱器（２６）を更に含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
基体が精密加熱器中へ前進する前に基体を所定の温度へ加熱する粗加熱器（２４）を更に含む、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
第二被覆場所を更に含む、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
第一被覆場所から移動する間に失われる熱を補償するための、第一と第二の被覆場所の間に配置された補充加熱器（３０）を更に含む、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
第一プラズマアーク（４２又は４４）からのジェットの軸と基体（３７）の局部的表面とが湾曲部の平面内における入射角を定め、その入射角が、基体が被覆場所を通って機動する時、同じ基体が直線通路に沿って移動する場合に生ずるであろう範囲と比較して狭い範囲内にある、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
湾曲部の、第一プラズマアークとは反対の側に配置された第二プラズマアークを更に含む、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
一つ以上の追加のプラズマアークを更に含み、第一プラズマアークと前記一つ以上のプラズマアークとが、湾曲部の第一側又は第二側のいずれかに配置された第一プラズマアークの配列を形成する、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
湾曲部の、第一プラズマアークの配列とは反対の側に配置された複数のプラズマアークを含む第二プラズマアークの配列を更に含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
剛直な基体に被覆を均一に施す方法であって、
基体を、少なくとも一つの、定められた湾曲部（４０）を有する通路（３８）に沿い、第一側及び第二側を含む少なくとも一つの被覆場所（２８又は３２）を通って移動させること、
基体が第一プラズマアーク（４２又は４４）及び湾曲部（４０）を通って移動する時、プラズマジェットを、対称線（５０）に沿って、湾曲部（４０）の第一側又は第二側のいずれかに位置する第一プラズマアーク（４２又は４４）から通路（３８）中に剛直な基体（３７）の方へ向けること
を含む方法において、
剛直な基体（３７）が通路（３８）に沿って移動する時、第一プラズマアーク（４２又は４４）から基体（３７）までの対称線（５０）に沿った作動距離が実質的に同じに保持されるように、剛直な基体（３７）を通路（３８）に沿って移動させること
を特徴とする、剛直な基体に被覆を均一に施す方法。
【請求項１２】
基体（３７）が被覆場所（２８又は３２）を通って移動する時、湾曲部の、第一プラズマアーク（４２又は４４）とは反対の側と基体（３７）との間の距離が第二作動距離を定め、
第一作動距離と第二作動距離が、基体（３７）が被覆場所（２８又は３２）を通って移動する時、実質的に同じに保持される、
請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
基体が被覆場所に入る前に精密加熱器（２６）により基体を加熱することを更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
基体が精密加熱器中へ前進する前に、粗加熱器（２４）により所定の温度へ基体を加熱することを更に含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
基体を第二被覆場所で被覆することを更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
第一と第二の被覆場所の間に配置された補充加熱器（３０）で基体を加熱して、第一被覆場所から移動する間に失われる熱を補償することを更に含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
第一プラズマアーク（４２又は４４）からのジェットの軸と基体（３７）の局部的表面とが湾曲部の平面内における入射角を定め、その入射角が、基体が被覆場所を通って機動する時、同じ基体が直線通路に沿って移動する場合に生ずるであろう範囲と比較して狭い範囲内にある、請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
被覆場所が、湾曲部の、第一プラズマアークとは反対の側に配置された第二プラズマアークを更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
被覆場所が一つ以上のプラズマアークを更に含み、第一プラズマアークと前記一つ以上のプラズマアークとが、湾曲部の第一側又は第二側のいずれかに配置された第一プラズマアークの配列を形成する、請求項１１に記載の装置。
【請求項２０】
被覆場所が、湾曲部の、第一プラズマアークの配列とは反対の側に配置された複数のプラズマアークを含む第二プラズマアークの配列を更に含む、請求項１９に記載の装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
プラズマ被覆装置の中には、水平に向けられた基体が被覆場所を通って進行し、水平面内に維持され、基体の上方に配列したプラズマアークが一種類以上の反応物を伴ったプラズマジェットを基体の方へ送るものがある。そのような構成は非平面状基体には順応出来ず、両側被覆も与えることはできない。
上記種類の一つの装置が、ＯＴＢエンジニアリング（ＯＴＢ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ）（オランダ、アイントホーフェン）により提供されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
別のプラズマ被覆装置では、基体が被覆場所又は被覆機を通る固定された直線的通路を通って行く直線的方法に構成されている。被覆場所には一つ以上の反応物マニホルド及びプラズマアークが配備されているのが典型的であり、それらプラズマアークは基体の一方の側又は両側に向けて反応物を伴ったプラズマジェットを送る。非平面状基体がそのような装置中の被覆場所を通過する時、基体の表面と夫々のプラズマアークとの距離は、基体の形態に従って変化する。更に、プラズマジェットの基体に対する入射角は、基体が被覆場所を通って進行するに従って変化する。上記種類の装置は、ＵＳ６，３９７，７７６に記載されている。
更に別のプラズマ装置は、基体即ち物品がプラズマ場所を通る湾曲した通路に従って行くように構成されている。その場所には、湾曲した通路の一方の側又は両側に配置された一つ以上のプラズマ発生機が設けられるのが典型的である。非平面状基体がそのような装置の被覆場所を通過する時、基体の形及び通路の曲率に従って基体の表面と夫々のプラズマ発生機との距離が変化する。容器のプラズマ殺菌を行うこの種の装置が、ＤＥ１０１３４０３７及びＤＥ１０３５１２４９に記載されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
対称面１５（又は被覆場所１０の向かい合う両側に配置された一対のプラズマアークについての対称線）に沿って測定した、アークの配列１４と基体１２の表面との間の距離が作動距離（ｗｏｒｋｉｎｇ  ｄｉｓｔａｎｃｅ）（ＷＤ）を定め、対称面１５と基体の局部的表面との間の角度が入射角（ａｎｇｌｅ  ｏｆ  ｉｎｃｉｄｅｎｃｅ）（ＡＯＩ）を定める。従って、例えば、向かい合うプラズマアークと５インチ（〜１３ｃｍ）の弓状（即ち、基体が曲がっている程度、例えば図１参照）の基体との間の間隔が２０インチ（〜５１ｃｍ）である被覆場所の場合、上方プラズマアークについてのＷＤは、１０インチから１５インチまで（〜２５ｃｍから〜３８ｃｍまで）変化し、下方アークのそれは５インチから１０インチまで（〜１３ｃｍから〜２５ｃｍまで）変化し得る。ＡＯＩは、基体の端でのほとんど０°から基体１２の中心での約９０°まで変化し得る。
【国際調査報告】
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