(57)【要約】  レチクルステージの安全機構を有する装置及び方法を開示する。本装置は、レチクルステージと光学ステージとを含んでいる。レチクルステージは、レチクルを支持しており、レチクルをｘ，ｙ，ｚ方向に動かすことができる。光学ステージは、レチクルからの反射光をウェハ基板に導く複数の構成要素と、光学ステージの１つ以上の構成要素をレチクルステージから離す安全メカニズムとを含んでいる。【選択図】  図１【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルを支持しており、前記レチクルをｘ，ｙ，ｚ方向に動かすことができるレチクルステージと、
前記レチクルからの反射光をウェハ基板に導く複数の構成要素と、安全メカニズムとを含んでいる光学ステージであって、前記安全メカニズムが前記光学ステージの１つ以上の構成要素を前記レチクルステージから離す、前記光学ステージと、
を備えている、フォトリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記レチクルステージの移動量がしきい値に等しい、又はしきい値を超えた場合に、前記安全メカニズムが、前記光学ステージの１つ以上の構成要素を前記レチクルステージから離す、請求項１に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記光学ステージが、前記光学ステージ内の前記反射光を成形するように配置されている固定ブラインドユニットと、反射光を基板に導く１つ以上の光学ミラーとを含んでいる、請求項１に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記安全メカニズムが、前記固定ブラインドユニットと連結されており、且つ、前記固定ブラインドユニットを前記レチクルステージから離す、請求項１に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記安全メカニズムがスタンドオフ構造を含んでおり、前記レチクルステージが前記スタンドオフ構造を押したときに前記スタンドオフ構造が前記固定ブラインドユニットを前記レチクルステージから離す、請求項４に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記安全メカニズムが、前記スタンドオフ構造の前記押す力を吸収するばね、を更に含んでいる、請求項５に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記安全メカニズムが、前記固定ブラインドユニットのニュートラルポジションを調整する調整ねじ、を更に含んでいる、請求項５に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記スタンドオフ構造が、磁化された金属を含んでいる、請求項５に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記レチクルステージが、前記磁化された金属のスタンドオフ構造と接続する金属接点、を含んでいる、請求項８に記載のフォトリソグラフィ装置。
【請求項１０】
レチクルをレチクルステージに取り付けるステップと、
前記レチクルステージを光学ステージの方に動かすステップと、
前記レチクルステージが移動量しきい値を超えた場合に、前記光学ステージの１つ以上の構成要素が前記レチクルステージに衝突することを防止するために、安全機構を起動する、トリガーステップと、
を備えている、フォトリソグラフィ方法。
【請求項１１】
前記安全機構を起動する前記トリガーステップが、前記光学ステージの１つ以上の構成要素を押して前記レチクルステージから離すステップ、を含んでいる、請求項１０に記載のフォトリソグラフィ方法。
【請求項１２】
前記光学ステージの固定ブラインドユニットを押して前記レチクルステージから離すステップ、を更に含んでいる、請求項１１に記載のフォトリソグラフィ方法。
【請求項１３】
前記安全機構を起動する前記トリガーステップが、前記レチクルステージが前記安全機構のスタンドオフ構造と接触することに起因する力を吸収するステップ、を含んでいる、請求項１０に記載のフォトリソグラフィ方法。
【請求項１４】
前記移動量しきい値が、前記スタンドオフ構造と前記レチクルステージとの間の隙間距離より大きいか又は等しい、請求項１３に記載のフォトリソグラフィ方法。
【請求項１５】
前記レチクルステージが前記移動量しきい値を超えて垂直下向き方向に動いた場合に前記安全機構が起動される、請求項１４に記載のフォトリソグラフィ方法。
【請求項１６】
極端紫外線（ＥＵＶ）光源と、
レチクルを有し、垂直方向に動くことのできるレチクルステージであって、前記レチクルが前記ＥＵＶ光源からの光を反射することができる、前記レチクルステージと、
前記レチクルステージからの反射光を成形する固定ブラインドユニットと、
前記固定ブラインドユニットからの前記成形された光をウェハに導く投影光学系と、
前記固定ブラインドユニットに隣接する安全機構であって、少なくとも前記固定ブラインドユニットが前記レチクルステージ又は前記レチクルと衝突することを防止する、前記安全機構と、
を備えている、フォトリソグラフィツール。
【請求項１７】
前記安全機構が前記固定ブラインドユニットを前記レチクルステージから離す、請求項１６に記載のフォトリソグラフィツール。
【請求項１８】
前記レチクルステージの前記垂直方向の移動量が移動量しきい値を超える場合に、前記安全機構が起動されて前記固定ブラインドユニットを前記レチクルステージから離す、請求項１７に記載のフォトリソグラフィツール。
【請求項１９】
前記固定ブラインドユニットを支持する調整可能なマウントと、
前記安全機構の一部として、前記調整可能なマウントに取り付けられているスタンドオフ構造であって、前記安全機構が起動された場合に前記調整可能なマウントを押す、前記スタンドオフ構造と、
を更に備えている、請求項１６に記載のフォトリソグラフィツール。
【請求項２０】
前記調整可能なマウントに連結されている吸収メカニズムであって、前記固定ブラインドユニットが前記レチクルステージから離れることができるように、前記スタンドオフ構造に起因する、前記調整可能なマウントからの力を吸収する、前記吸収メカニズム、
を更に備えている、請求項１９に記載のフォトリソグラフィツール。
【請求項２１】
リソグラフィを実行する複数の構成要素と、
前記構成要素の１つが別の構成要素に衝突することを防止する安全機構と、
を備えている、フォトリソグラフィツール。
【請求項２２】
前記安全機構が、前記構成要素の１つを押して別の構成要素から離す、請求項２１に記載のフォトリソグラフィツール。
【請求項２３】
フォトリソグラフィを実行する複数の構成要素を有するフォトリソグラフィツールにおいて、前記構成要素を保護する方法であって、
少なくとも１つの構成要素を下向き方向に動かすステップと、
下向き方向に動いている前記構成要素に別の構成要素が衝突することを防止するステップと、
を備えている、構成要素の保護方法。
【請求項２４】
前記別の構成要素を押して、前記下向き方向に動いている前記構成要素から離すステップ、
を更に備えている、請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
光学構成要素を支持しているマウントと、
レチクルステージと接触した場合に前記マウントを下向きに押すスタンドオフ構造と、
前記マウントにおける前記光学構成要素が前記レチクルステージから離れるように、前記下向きの押す力を吸収する吸収ユニットと、
を備えている、フォトリソグラフィツールの安全メカニズム。
【請求項２６】
前記マウントが調整可能であり、且つ可動である、請求項２５に記載の安全メカニズム。
【請求項２７】
前記スタンドオフ構造が、磁化された金属を含んでいる、請求項２５に記載の安全メカニズム。
【請求項２８】
前記レチクルステージがしきい値を超えて移動した場合に前記スタンドオフ構造が下向きに押す、請求項２５に記載の安全メカニズム。
【請求項２９】
前記吸収ユニットが、調整ねじに連結されているばねを含んでおり、前記ばねが、前記マウントと前記光学構成要素とを下向きに動かして前記レチクルステージから離す前記下向きの押し、を吸収する、請求項２５に記載の安全メカニズム。
【請求項３０】
前記調整ねじが、前記ばねの吸収力を調整することができる、請求項２９に記載の安全メカニズム。
【請求項３１】
前記調整ねじが基部ユニットによって支持されている、請求項３０に記載の安全メカニズム。
【発明の詳細な説明】
【関連出願】
【０００１】
本出願は、米国特許出願第１０／９６８，４０５号（出願日：２００４年１０月１８日）に対する優先権を主張する。
【発明の分野】
【０００２】
[001]本発明は、フォトリソグラフィに関し、より詳細には、レチクルステージの安全機構を有する方法及び装置に関する。
【発明の背景】
【０００３】
[002]パターン像（ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  ｉｍａｇｅ）を有するレチクル又はマスクは、フォトリソグラフィツール（ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ  ｔｏｏｌｓ）において使用される不可欠な構成要素である。従来のツールでは、透過型レチクルを使用している。具体的には、透過型レチクルの場合、光源から発せられた光がレチクルを通過し、感光性フォトレジストによって覆われている半導体基板上にパターン像が投影される。フォトレジストに捉えられる像は、基板上の集積回路を定義している。一般に、透過型レチクルを使用するツールでは、基板上の集積回路を形成する、１５０〜２００ナノメートル（ｎｍ）の線幅を持つ形状（ｆｅａｔｕｒｅ）を投影することができる。
【０００４】
[003]従来のツールにおいては、基板又はウェハがパターン像を受け取る準備ができた時点で、レチクルをレチクルステージに取り付け、レチクルステージは、レチクルを支持し、ある自由度の範囲内でｘ及びｙ方向に動かす。レチクルを汚染から保護するため、レチクルを密封する（ｓｅａｌ  ｏｆｆ）保護膜であるペリクルを使用することができる。しかしながら、ペリクルは、構成要素がレチクルステージに衝突してレチクルが損傷することを防止するようには設計されていない。
【０００５】
[004]集積回路がますます小型になるにつれて、基板に投影されるパターン像の形状は、より小さく精細な細部を要求する。３０ｎｍ以下である線幅を有する形状を投影することのできる１つのフォトリソグラフィ手法が、極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィである。ＥＵＶリソグラフィでは、透過型レチクルを使用する代わりに、真空チャンバ内で反射型レチクルを使用し、このレチクルは、１０〜１４ｎｍの波長範囲の光を基板に反射する。ＥＵＶリソグラフィに真空チャンバが必要であるのは、ＥＵＶビームの減衰を防止するためである。また、ＥＵＶリソグラフィでは、反射した光を基板に導くための複数のミラー及び光学構成要素も要求される。そのような構成要素は、レチクルステージの下方に位置する光学ユニット（ｏｐｔｉｃａｌ  ｔｒａｉｎ）又は光学ステージを形成することができる。
【０００６】
[005]ＥＵＶリソグラフィにおいては、レチクルステージによってレチクルを光学ステージに非常に近接して動かすことが要求される。結果として、光学的な理由からレチクルステージはｘ及びｙ方向のみならずｚ方向に動くことができる。従って、光学ステージの構成要素がレチクルステージに衝突し、それに起因して修復できない損傷がレチクルに生じることを防止するための安全機構が必要である。
【０００７】
[006]レチクルは極めて高価であるため、レチクルステージ及びレチクルを他の構成要素との衝突から保護する安全方策を提供する必要がある。
【発明の概要】
【０００８】
[007]本発明の１つの側面によると、フォトリソグラフィ装置は、レチクルステージと光学ステージとを含んでいる。レチクルステージは、レチクルを支持しており、レチクルをｘ，ｙ，ｚ方向に動かすことができる。光学ステージは、レチクルからの反射光をウェハ基板に導く複数の構成要素と、光学ステージの１つ以上の構成要素をレチクルステージから離す安全メカニズムとを含んでいる。
【０００９】
[008]本発明の別の側面によると、フォトリソグラフィ方法は、レチクルをレチクルステージに取り付けるステップを含んでいる。レチクルステージは、光学ステージの方に動く。レチクルステージが移動量しきい値を超えると、光学ステージの１つ以上の構成要素がレチクルステージに衝突することを防止するため、安全機構が起動される。
【００１０】
[009]本発明の別の側面によると、フォトリソグラフィツールは、リソグラフィを実行する複数の構成要素と、安全機構とを含んでいる。安全機構は、構成要素の１つが別の構成要素に衝突することを防止する。本発明の別の側面によると、構成要素を保護する方法は、少なくとも１つの構成要素を下向き方向に動かすステップと、別の構成要素が、下向き方向に動いている構成要素に衝突することを防止するステップと、を含んでいる。
【００１１】
[010]本発明の別の側面によると、フォトリソグラフィツールの安全メカニズムは、マウントと、スタンドオフ構造と、吸収ユニットとを含んでいる。マウントは、光学構成要素を支持している。スタンドオフ構造は、レチクルステージと接触するとマウントを下向きに押す。吸収ユニットは、マウントにおける光学構成要素がレチクルステージから離れるように、下向きの押す力を吸収する。
【００１２】
[011]本明細書に組み込まれておりその一部を構成している添付の図面は、本発明の例示的な実施形態及び例を示しており、詳細な説明と併せて、本発明の原理を説明する役割を果たす。
【詳細な説明】
【００１３】
[019]次に、添付の図面に図解してある例示的な実施形態について詳しく説明する。図面全体を通じて、可能な限り、同一・相当の部分を同一・相当の参照数字によって表してある。
【００１４】
[020]以下の実施形態及び例は、構成要素がレチクルステージに衝突することを防止する安全機構およびメカニズムを提供する。この方法においては、パターン像を持つレチクルを、修復できない損傷から保護することができる。１つの例によると、フォトリソグラフィ装置は、レチクルステージと光学ステージとを含んでいる。レチクルステージは、レチクルを支持しており、レチクルをｘ，ｙ，ｚ方向に動かすことができる。光学ステージは、レチクルからの反射光をウェハ基板に導く複数の構成要素と、光学ステージの１つ以上の構成要素をレチクルステージから離す安全メカニズムとを含んでいる。特定の例においては、安全メカニズムは、固定ブラインドユニット（ｆｉｘｅｄ  ｂｌｉｎｄ  ｕｎｉｔ）をレチクルステージから離すことができる。
【００１５】
[021]以下の例はＥＵＶリソグラフィを対象としているが、本明細書に説明したレチクルステージの安全機構およびメカニズムは、構成要素が互いに衝突することを防止する目的で、任意の種類のリソグラフィ又はリソグラフィツールにおいて実施することができる。１つの例においては、安全機構は、レチクルステージの移動量がしきい値を超えた場合に構成要素を押してレチクルステージから離すスタンドオフ構造、を含んでいる。
【００１６】
[022]図１は、レチクルステージの安全機構を有するＥＵＶリソグラフィツールの基本的な構成要素の１つの例のブロック図を示している。図示したように、このツールは、レチクルステージ１０２と、光学ステージ１２０と、ウェハステージ１１６とを収容しているチャンバ１００を含んでいる。この例においては、チャンバ１００は、真空の密閉されたチャンバである。レチクルステージ１０２は、レチクル１０４を支持しており、リソグラフィの間、プラス（＋）及びマイナス（−）ｘ、ｙ、ｚ方向にレチクル１０４を動かす。レチクル１０４は、ＥＵＶ光源１１２からのＥＵＶ光を使用してウェハステージ１１６上のウェハ１１４に投影されるパターン像を含んでいる。ＥＵＶ光がレチクル１０４に反射され、レチクル１０４がパターン像を投影する。この例においては、ウェハ１１４に投影される像は、レチクル１０４におけるパターン像の１／４の縮小とすることができる。
【００１７】
[023]光学ステージ１２０は、光学ステージ１２０内の反射光を成形する（ｓｈａｐｅ）固定ブラインドユニット１０８を含んでいる。例えば、図２Ａ及び図２Ｂを参照すると、図示した固定ブラインド２００は、所望の形状を有する開口２０２を含んでおり、この開口は自身を通過する光を成形する。開口２０２の大きさ及び形状は、所望の仕様に応じて変更することができる。固定ブラインドユニット１０８は、開口２０２の外側のＥＵＶ光を遮断する任意の種類の材料とすることができる。光学ステージ１２０は、反射光を光学ステージ１２０を経てウェハ１１４に導く任意の数のミラー構成要素を有する投影光学系１１０も含んでいる。ウェハステージ１１６は、走査を目的としてウェハ１１４をｘ方向及びｙ方向の両方に動かすことができる。
【００１８】
[024]ＥＵＶリソグラフィの間、この例におけるレチクルステージ１０２は、光学的な理由で固定ブラインドユニット１０８に近接して動くことができる。言い換えれば、レチクルステージ１０２は、特定の自由度の範囲内で＋ｚ方向及び−ｚ方向の両方に動くことができる。ＥＵＶリソグラフィの場合、ペリクルを使用しないため、レチクルステージ１０２が固定ブラインドユニット１０８（又は別の構成要素）に衝突することを防止し、少なくともレチクル１０４が損傷することを回避する目的で、安全機構１０６，１０７が固定ブラインドユニット１０８に隣接して配置されている。図１には示していないが、安全機構１０６，１０７及び固定ブラインドユニット１０８はマウントによって支持されており、マウントは、弾性的（ｃｏｍｐｌｉａｎｔ）且つ調整可能なマウントとすることができる。後から更に詳しく説明するように、安全機構１０６，１０７は、レチクルステージ１０２の移動量が移動量しきい値を超えた場合に、少なくとも固定ブラインドユニット１０８をレチクルステージ１０２又はレチクル１０４から離すことのできるメカニズムである。
【００１９】
[025]ＥＵＶリソグラフィの図１の例は、例示的であり、多数の変形形態を創案することができる。例えば、図示していないが、固定ブラインドユニット１０８近くにおいて光学ステージ１２０をレチクルステージ１０２から密封することができる。このようにして、チャンバ１００を２つの異なる真空チャンバに分割することができる。各真空チャンバは、異なるガスレベルに応じて様々な真空特性を持つことができる。更に、光をレチクル１０４に直接導く代わりに、ＥＵＶ光源１１２から投影光学系１１０のミラー構成要素に光を発し、ミラー構成要素に反射した光をレチクル１０４のパターン像に導くことができる。
【００２０】
[026]次に、レチクルステージの安全機構およびメカニズムについて、図３、図４Ａ、図４Ｂを参照しながら更に詳しく説明する。図３は、レチクルステージの安全機構１０６，１０７を備えたレチクルステージ１０２の１つの例の図を示している。この例においては、レチクルステージ１０２のステージストローク（ｓｔａｇｅ  ｓｔｒｏｋｅ）は２ｍｍとすることができ、その場合、レチクルステージ１０２は、＋ｚ方向に１ｍｍ、−ｚ方向に１ｍｍ動くことができる。アクチュエータ１６０は、そのようにレチクルステージ１０２を動かすことができる。レチクル１０４と固定ブラインドユニット１０８との間の間隔距離又は隙間は、光学的な目的で、０ｍｍより大きく１ｍｍ以下の範囲内とすることができる。レチクルステージ１０２の垂直ストロークは、レチクルステージ１０２と固定ブラインドユニット１０８との間の最大間隔距離を超え得るため、レチクルステージ１０２及びレチクル１０４を他の構成要素（例：固定ブラインドユニット１０８）との衝突から保護する目的で、安全機構１０６，１０７を適切な位置に配置することができる。
【００２１】
[027]安全機構１０６，１０７は、マウント１５２の上に配置されているスタンドオフ構造１２５と、マウント１５２の下、スタンドオフ構造１２５の下方に位置しているばねと、基部１５５によって支持されている調整ねじ１２４とを含んでいる。マウント１５２は、固定ブラインドユニット１０８及びスタンドオフ構造１２５を支持する弾性的且つ調整可能なマウントとすることができる。この例においては、スタンドオフ構造１２５と、レチクルステージ１０２の接点１６４との間の隙間距離は、０．５ｍｍとすることができる。安全機構１０６，１０７が起動されるレチクルステージ１０２の移動量しきい値は、この距離によって決めることができる。すなわち、後から更に詳しく説明するように、レチクルステージ１０２が、移動量しきい値（例：０．５ｍｍ）だけ、若しくは移動量しきい値を超えて−ｚ方向に動くと、安全機構１０６，１０７が起動され、それにより固定ブラインドユニット１０８がレチクルステージ１０２から離れる。
【００２２】
[028]マウント１５２とチャンバ壁１５０は、シール１６２によって連結されている。シール１６２は、ブロック図形式にて示してあるが、チャンバ壁１５０がシールされる任意の形状及び大きさとすることができる。シール１６２によって、チャンバ壁１５０の中に、レチクルステージ１０２及び光学ステージ１２０のための２つの真空チャンバを存在させることができる。スタンドオフ構造１２５は、レチクルステージ１０２の接点１６４の下に位置している。極めてクリーンな接点を提供するため、スタンドオフ構造１２５は、磁化した金属（例：磁化したニッケル）とすることができる。ばね１２２及び調整ねじ１２４は、マウント１５２を少なくとも下向きに押している力を吸収する吸収ユニットを形成することができる。調整ねじ１２４は、固定ブラインドユニット１０８のニュートラルポジション（ｎｅｕｔｒａｌ  ｐｏｓｉｔｉｏｎ）を調整するために使用することができる。
【００２３】
[029]レチクルステージ１０２のマイナス（−）ｚ方向の垂直ストロークが、スタンドオフ隙間（ｓｔａｎｄｏｆｆ  ｇａｐ）又は移動量しきい値（本例においては０．５ｍｍとすることができる）を超える、若しくは等しい場合、安全機構１０６，１０７が起動され、レチクルステージ１０２の接点１６４がスタンドオフ構造１２５を押す。別の例においては、接点１６４をレチクルステージ１０２に埋め込む、或いは接点１６４を省くことができ、後者の場合、接点はレチクルステージ１０２の底面である。安全機構１０６，１０７は、起動されるとそれに反応して、調整ねじ１２４に連結されているばね１２２の吸収力によって固定ブラインドユニット１０８が押されてレチクルステージ１０２から離れることができるようにする。例えば、レチクルステージ１０２がスタンドオフ構造１２５を押すと、スタンドオフ構造１２５がマウント１５２を下向きに押す。マウント１５２が下向きに動くと、ばね１２２の吸収力のため、マウント１５２によって固定ブラインドユニット１０８も下向きに動く。この例における固定ブラインドユニット１０８の移動距離は、調整ねじ１２４と、ばね１２２の吸収力とによって決まる。
【００２４】
[030]図４Ａ及び図４Ｂは、この動作を更に詳しく示している。図４Ａは、安全機構１０６，１０７が起動されない状態におけるレチクルステージ１０２の１つの例の図を示している。この図において、レチクルステージ１０２は、スタンドオフ構造１２５と接触するための、マイナス（−）ｚ方向における移動量しきい値を超えていない。図４Ｂは、移動量しきい値にあるか又はそれを超えている、安全機構１０６，１０７が起動される状態におけるレチクルステージ１０２の１つの例の図を示している。
【００２５】
[031]起動されると、レチクルステージ１０２が下向きに−ｚ方向に動いてスタンドオフ構造１２５を押し、これに反応してスタンドオフ構造１２５がマウント１５２を下向きに押す。ばね１２２のばね力と、シール１６２の可撓性との結果として、その下向きの押しに起因して、固定ブラインドユニット１０８が−ｚ方向にレチクルステージ１０２から離れる。更に、マウント１５２が下向き方向にわずかに移動し、シール１６２より下に位置することができる。このようにして、結果的に、固定ブラインドユニット１０８はレチクルステージ１０２との衝突を回避して、レチクル１０４の修復できない損傷を防止することができる。
【００２６】
[032]図５は、レチクルステージの安全機構５００の１つの代替例を示している。この例においては、調整ねじ１２４が、マウント１５２の上に位置しており、スタンドオフ構造として機能することができる。ばね１２２はマウント１５２の下に位置しており、基部１５５によって支持されている。従って、安全機構５００が起動されると、レチクルステージ１０２及びレチクル１０４（図示していない）が−ｚ方向に下向きに動いて調整ねじ１２４を押し、調整ねじがマウント１５２を下向きに押す。ばね１２２のばね力と、シール１６２の可撓性とによって、その下向きの押しに起因して、固定ブラインドユニット１０８が−ｚ方向にレチクルステージ１０２から離れる。この方式においては、調整ねじがスタンドオフ構造として機能し、固定ブラインドユニット１０８とレチクルステージ１０２との衝突を回避して、レチクル１０４の修復できない損傷を防止することができるため、必要な構成要素が少ない。
【００２７】
[033]ここまで、ステージレチクル（ｓｔａｇｅ  ｒｅｔｉｃｌｅ）の安全機構を有する方法及び装置を説明した。更に、上記の明細書においては、本発明についてその具体的且つ例示的な実施形態を参照しながら説明した。しかしながら、請求項に記載されている本発明の広い精神及び範囲から逸脱することなく、本発明に様々な修正及び変更を行うことができることが明らかであろう。従って、本明細書及び図面は、本発明を制限するのではなく説明を目的としているものとみなされたい。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】レチクルステージの安全機構を有するＥＵＶリソグラフィツールの基本的な構成要素の１つの例のブロック図を示している。
【図２Ａ】固定ブラインドの１つの例の平面図を示している。
【図２Ｂ】図２Ａの固定ブラインドの１つの例の三次元図を示している。
【図３】レチクルステージの安全機構を備えたレチクルステージの１つの例の図を示している。
【図４Ａ】レチクルステージの安全機構が起動されない状態におけるレチクルステージの１つの例の図を示している。
【図４Ｂ】移動量しきい値を超えてレチクルステージの安全機構が起動される状態におけるレチクルステージの１つの例の図を示している。
【図５】レチクルステージの安全機構の１つの代替例を示している。
【図１】
2008517463.tif 000002
【図２Ａ】
2008517463.tif 000003
【図２Ｂ】
2008517463.tif 000004
【図３】
2008517463.tif 000005
【図４Ａ】
2008517463.tif 000006
【図４Ｂ】
2008517463.tif 000007
【図５】
2008517463.tif 000008
【国際調査報告】
2008517463.tif 000009
2008517463.tif 000010