(57)【要約】  本発明は、閉鎖エレメント（１３）によって燃料インジェクタを操作するための磁石弁に関する。制御室（１５）の流出絞り（１４）は、閉鎖エレメント（１３）を介して解放または閉鎖可能である。プランジャピン（６）には、プランジャプレート（７）が可動に取り付けられていて、ストッパ（５）により位置固定されている。プランジャプレート（７）と相対するように磁石（２）が配置されている。プランジャピン（６）には、少なくとも１つの溢流通路（２６）が形成されていて、この溢流通路（２６）を介して、流出絞り室（３４）とリリーフスペース（３５）とが、互いに液圧に接続されていて、プランジャプレート（７）の下方に液圧的なクッションが形成される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料インジェクタを操作するための磁石弁であって、当該磁石弁に閉鎖エレメント（１３）が設けられており、該閉鎖エレメント（１３）を介して、制御室（１５）の流出絞り（１４）が、解放可能または閉鎖可能であり、当該磁石弁にプランジャピン（６）が設けられており、該プランジャピン（６）にプランジャプレート（７）が可動に取り付けられていて、かつ位置固定されており、当該磁石弁に、プランジャプレート（７）と相対するように配置されている磁石（２）が設けられている形式のものにおいて、プランジャピン（６）に少なくとも１つの溢流通路（２６）が形成されており、該溢流通路（２６）を介して、流出絞り室（３４）とリリーフスペース（３５）とが、互いに液圧的に接続されて、液圧的なクッションを、プランジャプレート（７）の下方に形成することを特徴とする、燃料インジェクタを操作するための磁石弁。
【請求項２】
少なくとも１つの溢流通路（２６）の少なくとも１つの流出開口（２４）が、プランジャピンガイド（１０）の端面（２３）と、プランジャプレート頸部（２０）の下側との間でリリーフスペース（３５）に通じている、請求項１記載の磁石弁。
【請求項３】
プランジャプレート頸部（２０）が、斜め面取り部（２１）を有している、請求項２記載の磁石弁。
【請求項４】
斜め面取り部（２１）の円錐角が、半径方向で外側から内側に向かって延びている、請求項３記載の磁石弁。
【請求項５】
斜め面取り部（２１）が、外側に向かって斜め面取り部縁部（２５）により制限されている、請求項３記載の磁石弁。
【請求項６】
少なくとも１つの溢流通路（２６）の少なくとも１つの流入開口（２７）が、流出絞り室（３４）に含まれている燃料によって負荷されている、請求項１記載の磁石弁。
【請求項７】
プランジャピン（６）の溢流通路（２６）が、プランジャピン（６）の対称軸線（２２）に対して、所定の傾斜角（２８）で傾いて延びている、請求項１記載の磁石弁。
【請求項８】
閉鎖エレメント（１３）が、セラミックスボールとして形成されており、プランジャピン（６）のボール受け（１２）においてガイドされている、請求項１記載の磁石弁。
【請求項９】
２つの部分から成るプランジャを備えた当該磁石弁が、プランジャプレート（７）とプランジャピン（６）とを有するように形成されており、プランジャプレート（７）が、プランジャピン（６）に対して相対的に可動に配置されており、プランジャプレート（７）が、過剰行程ばねなしで液圧的にストッパ（５）に向かって戻し可能である、請求項１記載の磁石弁。
【請求項１０】
請求項１から９までのいずれか１項記載の磁石弁が使用されていることを特徴とする、コモンレール高圧噴射システムに設けられている燃料インジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
磁石弁は、燃料インジェクタを操作するための燃料噴射装置において使用することができる。そのために磁石弁はインジェクタボディ内に挿入されている電磁石を有していて、この電磁石がプランジャ群と協働する。このプランジャ群は、プランジャピンとプランジャプレートとを有している。プランジャピンは、閉鎖体を収容するように構成されている。この閉鎖体は、燃料インジェクタのノズルニードルを操作する制御室の流出部を、閉鎖するかまたは解放する。電磁石の励振時にプランジャ群の行程運動を正確に行うために、２つの部分から成るプランジャ構成群もしくはプランジャガイドスリーブにおいては、プランジャプレートとプランジャピンとのギャップ無しの確実な結合が必要であり、ワンピースのプランジャにおいてはプランジャピンのギャップなしの確実な結合が必要である。
【０００２】
背景技術
ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９６５０８６５号明細書は磁石弁に関する。この磁石弁の可動鉄心もしくはプランジャは複数の部分から形成されている。このプランジャはプランジャディスクと、摺動部材においてガイドされるプランジャピンとを有している。磁石弁が閉鎖された後のプランジャディスクの後振動を回避するために、磁石プランジャには減衰装置が構成されている。このような装置によって、磁石弁の短い所要の切換え時間が精確に保持可能であり再現可能でもある。この磁石弁は、噴射装置、特に、たとえば高圧集合室（コモンレール）を備えた高圧噴射装置において使用するようになっている。
【０００３】
減衰装置は第１のプランジャ部分を有しており、減衰装置によって、第１のプランジャ部分のダイナミックな摺動時の後振動が減衰可能である。第１のプランジャ部分は軸線方向を向いている段部を有していて、この段部は、段部に対して相補的に形成され定置に配置された、摺動部材の切欠き内に、第１のプランジャ部分の摺動時に進入できる。この場合、切欠きは段部と一緒に減衰室を取り囲んでいて、この減衰室は漏れギャップを介して減衰室を取り囲む放圧室と接続している。
【０００４】
択一的には、プランジャピンに環状肩部を配置することができ、この環状肩部は第１のプランジャ部分によって取り囲まれていて、第１のプランジャ部分にも環状肩部が取り付けられている。この環状肩部とプランジャピンの環状肩部との間で減衰室が常に取り囲まれていて、この減衰室自体は漏れギャップを介して、減衰室を囲む放圧室と接続している。
【０００５】
電磁弁により操作可能な、２つの部分から形成されたプランジャによるこの手段によれば、プランジャピンとプランジャプレートとの間にはストッパリングが挿入されている。このストッパリングは、開放した位置固定ディスクとして形成されていて、振れる傾向がある。この振れにより、一方では、プランジャピンとプランジャプレートとの間に生じる遊びに、他方では、位置固定ディスクの完全な損壊に繋がり得る著しい磨耗現象が生じる恐れがある。プランジャピンとプランジャプレートとの間に生じる遊びは、噴射時に量許容誤差に不都合に影響し、その結果、特に再現可能性は、極めて僅かな量が連続して噴射される短い間隔においてはもはや与えられていない。
【０００６】
ドイツ連邦共和国特許出願公開第１０１３３４５０号明細書から、差込み回動結合部材を備えた磁石弁が公知である。この磁石弁は、燃料インジェクタにおいて燃料を内燃機関の燃焼室に噴射するために使用される。この場合、燃料インジェクタは、インジェクタボディと電磁石とを有している。この電磁石によって、制御室を放圧するための磁石弁のプランジャ群が操作可能であり、その結果、インジェクタボディ内にあるノズルニードルアッセンブリは、開閉運動を実施する。プランジャ群は、第１のプランジャ部分と第２のプランジャ部分とを有している。第１のプランジャ部分と第２のプランジャ部分とは、差込み回動結合部材により互いに結合していて、この場合、一方のプランジャ部分は、回動位置固定部を有するプランジャガイドによって取り囲み係合されている。
【０００７】
燃料インジェクタと関連して、燃料供給のために噴射システムに装入される今日公知の磁石弁において、プランジャ行程は調整リングを介して調整される。この調整リングが、相応のプランジャストッパの軸方向の位置を規定する。プランジャを介してか、もしくはプランジャの軸方向の運動を介して、燃料インジェクタのノズルの開口、ひいては噴射される燃料量が規定される。磁石弁もしくは燃料インジェクタを組み立てる際には、プランジャ行程を決定する構成部材は測定されこの測定結果に基づき、あらかじめ規定された特定のプランジャ行程に必要な、調整リングの寸法設定を計算する。次いで磁石群は、計算に相応して寸法設定された調整リングと一緒にインジェクタボディに螺合され、続いてプランジャ行程は、螺合されたもしくは緊締された状態で測定される。超高圧噴射システムにおいて使用するためには、場合によってはプランジャ行程にとってはマイクロメータ範囲での許容誤差が許容可能であり、これによって、再現可能なインジェクタ特性が保証される。許されるほんの僅かな許容誤差に基づき、第１の取付け後のプランジャ行程は、上述したように、常に許容誤差値内にあるわけではない。この場合にプランジャ行程の調整を狭い許容誤差値内で保証するためには、磁石群は完全に取り外されて、別の寸法設定の調整リングの選択を介してプランジャ行程が新たに調整されなければならない。それどころかむしろ、場合によってはこの過程は、プランジャ行程の許容可能な許容誤差保持が達成されるまで繰り返されなければならない。
【０００８】
発明の開示
本発明により、短い連続的な噴射過程において量影響と散乱影響とを最小限にするために、過剰行程ディスクの、プランジャピンへの衝突を、完全に回避するとは言わないまでも減じることが提案される。これまでこの目的のために使用された過剰行程ばねは、液圧的なクッションで代替される。
【０００９】
本発明に係る磁石弁は、燃料インジェクタを操作するための磁石弁であって、当該磁石弁に閉鎖エレメントが設けられ、この閉鎖エレメントを介して、制御室の流出絞りが、解放可能または閉鎖可能であり、当該磁石弁にプランジャピンが設けられ、このプランジャピンにプランジャプレートが可動に取り付けられかつ位置固定され、当該磁石弁に、プランジャプレートと相対するように配置されている磁石が設けられている形式のものにおいて、プランジャピンに少なくとも１つの溢流通路が形成され、この溢流通路を介して、流出絞り室とリリーフスペースとが互いに液圧的に接続され、液圧的なクッションをプランジャプレートの下方に形成することを特徴とする。
【００１０】
本発明に係る磁石弁は、請求項１記載の磁石弁において、少なくとも１つの溢流通路の少なくとも１つの流出開口が、プランジャピンガイドの端面と、プランジャプレート頸部の下側との間でリリーフスペースに通じている。
【００１１】
本発明に係る磁石弁は、請求項２記載の磁石弁において、プランジャプレート頸部が、斜め面取り部を有している。
【００１２】
本発明に係る磁石弁は、請求項３記載の磁石弁において、斜め面取り部の円錐角が、半径方向で外側から内側に向かって延びている。
【００１３】
本発明に係る磁石弁は、請求項３記載の磁石弁において、斜め面取り部が、外側に向かって斜め面取り部縁部により制限されている。
【００１４】
本発明に係る磁石弁は、請求項１記載の磁石弁において、少なくとも１つの溢流通路の少なくとも１つの流入開口が、流出絞り室に含まれている燃料によって負荷されている。
【００１５】
本発明に係る磁石弁は、請求項１記載の磁石弁において、プランジャピンの溢流通路が、プランジャピンの対称軸線に対して、所定の傾斜角で傾いて延びている。
【００１６】
本発明に係る磁石弁は、請求項１記載の磁石弁において、閉鎖エレメントが、セラミックスボールとして形成されており、プランジャピンのボール受けにおいてガイドされている。
【００１７】
本発明に係る磁石弁は、請求項１記載の磁石弁において、２つの部分から成るプランジャを備えた当該磁石弁が、プランジャプレートとプランジャピンとを有するように形成され、プランジャプレートが、プランジャピンに対して相対的に可動に配置されており、プランジャプレートが、過剰行程ばねなしで液圧的にストッパに向かって戻し可能である。
【００１８】
本発明に係るコモンレール高圧噴射システムに設けられている燃料インジェクタでは、請求項１から９までのいずれか１項記載の磁石弁が使用されている。
【００１９】
磁石弁の閉鎖時には、２つの部分から形成されたプランジャアッセンブリの構成要素であるプランジャピンとプランジャプレートとは一緒に弁座に向かって運動する。たとえばセラミックスボールとして形成されていてよい閉鎖エレメントが弁座にぶつかると、プランジャプレートとプランジャピンとは分離する。プランジャプレートは、所定の過剰行程領域に超過振動する（ｄｕｒｃｈｓｃｈｗｉｎｇｅｎ）ことができる。閉鎖過程におけるプランジャピンとプランジャプレートとの分離により、衝撃力ひいては「閉鎖衝突」が減じられる。これまで使用された過剰行程ばねは、プランジャプレートを、直後の噴射前に再び出発ポジションに押し返す。これまで使用された過剰行程ばねがプランジャプレートをその出発ポジションに戻す前に、噴射過程が短い時間間隔で行われると、噴射量と噴射散乱との質は悪化する。本発明により提案された、プランジャピンの内部に形成された溢流通路により、今では液圧的な接続が存在し、これにより、流出絞りを介してリリーフされた燃料量が、流出絞り室から液圧的なスペースに導入される。溢流通路を貫流する流体、つまり燃料は、定置に組付けられたプランジャピンガイドの上方の別の液圧的なスペースに流入する。このために、１つの流出開口、もしくは複数の溢流通路の場合の複数の流出開口は、定置に取り付けられたプランジャピンガイドの上側と、プランジャピンに可動に取り付けられたプランジャプレートの頸部領域の下側との間の領域に通じる。１つまたは複数の溢流通路の流出開口から流出する燃料は、定置に取り付けられたプランジャピンガイドの上方の端面と、プランジャプレートの頸部領域の下側との間に液圧的なクッションを形成する。このクッションは、プランジャピンにおいて可動にガイドされるプランジャプレートに減衰作用をもたらす。
【００２０】
定置のプランジャピンガイドの端面の側を向いている、プランジャプレートの頸部領域の側には、有利には斜め面取り部が形成される。この斜め面取り部は、半径方向で見て外側から内側に延びていて、斜め面取り部縁部によって制限される。プランジャプレートの頸部区分の下側に設けられているこのように形成された斜め面取り部によって、プランジャピンの周面に設けられている１つの流出開口または複数の流出開口を介して、定置のプランジャピンガイドと頸部領域の下側との間にある別の液圧的なスペースに進入する燃料の流出は、円錐面と斜め面取り部縁部とにより制限された配置形式により回避される。これにより流体ストックは、斜め面取り部の円錐状面と、斜め面取り部縁部と、プランジャピンの周面とにより制限されたスペースに常に留まる。この場合、流体ストックが、プランジャプレートに作用する。
【００２１】
本発明により提案された手段により、プランジャピンにおいてガイドされるプランジャプレートに戻し力が加えられる。しかしこの戻し力は、常に永続的にプランジャプレートに作用するわけではない。ボール形に形成された閉鎖エレメントが開放している状態、閉鎖エレメントの閉鎖直後、つまり閉鎖エレメントの弁座への当接直後にしか、戻し力は存在しない。したがってこの戻し力は、三日月形ディスクとして形成されたストッパへのプランジャプレートの衝突を減じるかもしくは減衰する。
【００２２】
図面
以下に、本発明を図面につき詳細に説明する。
【００２３】
実施例
図１からは、背景技術から公知の磁石弁を見て取ることができる。この磁石弁のプランジャプレートは、過剰行程ばねにより負荷されていて、この過剰行程ばね自体は、インジェクタボディ内で定置に配置されたプランジャピンガイドにおいて支持される。
【００２４】
図１に示した磁石弁１は、弁ケーシング４に収容されている磁石２を有している。この磁石２は、プランジャピン６の上方の端面を負荷する閉鎖ばね３を取り囲んでいる。プランジャプレート７の上方には機械的なストッパ５が設けられている。このストッパ５は、たとえば三日月形ディスクとして形成することができ、プランジャピン６に可動に取り付けられたプランジャプレート７にとっては上方の行程制限部材である。プランジャプレート７自体は、プランジャピンガイド１０において支持される過剰行程ばね８を介して負荷されている。プランジャピンガイド１０は、弁緊締ねじ９を介して弁ケーシング４内に位置固定されている。プランジャピンガイド１０には１つまたは複数の孔１６が形成されていてよい。これらの孔１６は、燃料インジェクタの漏れ領域への燃料の溢流を可能にする。弁緊締ねじ９を介してプランジャピンガイド１０は、弁部材１１に当着されている。
【００２５】
プランジャプレート７が可動に取り付けられているプランジャピン６は、ボール受け１２を有している。このボール受け１２内に図１ではボール形に形成された閉鎖エレメント１３が挿入されている。この閉鎖エレメント１３は、たとえばセラミックスボールであってよい。このセラミックスボールはプランジャピン６により弁座に置かれ、したがって流出絞り１４は閉鎖される。この流出絞り１４を介して、燃料インジェクタ（図１には詳細に図示せず）の制御室１５は放圧可能である。
【００２６】
図１に示した、背景技術から公知の磁石弁の構成によって、特にパイロット噴射とメイン噴射との間の８００μｓより短い噴射間隔における絶対量の著しい増加と、三日月形ディスクとして構成されたストッパ５へのプランジャプレート７の衝突時の、２回のメイン噴射の間の散乱の著しい増加とが確認され得る。
【００２７】
図２からは、本発明により提案された、燃料インジェクタを操作するための磁石弁用の磁石プランジャの第１の実施例を見て取ることができる。図２から見て取るこのできる磁石弁１は磁石コイル２を有していて、この磁石コイル２はプランジャプレート７の上側と相対するように配置されている。プランジャプレート７は、三日月形ディスクとして形成されたストッパ５を介してプランジャピン６に可動に取り付けられている。このプランジャピン６の対称軸線は符号２２により認識される。プランジャピン６は閉鎖ばね３により負荷される。弁ケーシング４は、雄ねじ山を備えた弁緊締ねじ９を受容するために働く。この弁緊締ねじ９を介してピンガイド１０は、弁ケーシング４内に取り付けられる。
【００２８】
ピンガイド１０は、弁部材１１の上方の平坦面に載置されている。弁部材１１内には流出絞り室３４が形成されている。この流出絞り室３４の、流出絞り１４に向いている側は漏斗状部分３３を有していて、この漏斗状部分３３に弁座３２が形成されている。この弁座３２は図２では、ボール形に形成された閉鎖エレメント１３により閉鎖されている。この閉鎖エレメント１３は、たとえばセラミックスボールとして形成されていてよい。閉鎖エレメント１３は、プランジャピン６の下方の端部に設けられているボール受け１２にガイドされている。弁座３２の下方には、流出絞り１４が弁部材１１内に位置する。この流出絞り１４を介して、閉鎖エレメント１３が開放している場合に制御室１５は放圧可能である。この場合、弁ケーシング４の流出絞り１４を介して燃料のリリーフ体積が、制御室１５から流出絞り室３４に流入する。
【００２９】
プランジャピン６は少なくとも１つの溢流通路２６を有している。少なくとも１つのこの溢流通路２６は、プランジャピン６の下方の区分に形成されている流入開口２７を介して燃料によって負荷される。燃料は、閉鎖エレメント１３が開放している場合、流出絞り１４を介して制御室１５から流出絞り室３４に流入し、そこから流入開口２７を介して少なくとも１つの溢流通路２６に流入する。１つまたは複数の溢流通路２６は、それぞれ１つの流出開口２４を有している。しかしこれらの溢流通路２６はプランジャピン６において、全溢流通路２６が、１つの共通の流出開口２４に通じるように形成することもできる。
【００３０】
流出開口２４はプランジャピン６に関連して、定置のプランジャピンガイド１０の端面２３とプランジャプレート頸部２０の下側との間の領域に通じるように位置する。これによって溢流通路２６から流出する燃料は、所定の個所でリリーフスペース３５に流入する。このリリーフスペース３５では、有利には液圧的な圧力クッションを形成することができる。
【００３１】
減衰特性を改善するために、定置のプランジャピンガイド１０の端面２３を向いているプランジャ頸部２０の端部は、斜め面取り部２１を有している。この斜め面取り部２１は、所定の円錐角で外側から内側へとプランジャピン６の外周面に向かって延びている。斜め面取り部２１は、斜め面取り部縁部２５により制限されるので、円錐面の傾斜角に相応に形成されたスペースが形成される。このスペースは、溢流通路２６の流出開口２４から流出する燃料体積で満たすことができる。斜め面取り部２１の形成に基づき、減衰クッションからの燃料の早期の流出は回避される。プランジャピン６に設けられている溢流通路２６の数は任意であってよいものの、溢流通路２６が液圧的な絞りであることは望まれず、したがって溢流通路２６の直径に関しては十分に大きく寸法設定されていることが望ましいという制限がある。プランジャピン６に形成可能な溢流通路２６の数は、プランジャピン６の直径と製造可能性とに関係する。プランジャピン６を取り囲む液圧的なスペースに形成されたスタティックなクッションを利用するためだけでなく、ダイナミックな付加的な流入力を利用するためにも、各溢流通路２６は固有の１つの流出開口２４を有している。プランジャピン６の周面における溢流通路２６の対称的な配置形式は、プランジャピン６とプランジャガイド１０との間、およびプランジャピン６とプランジャプレート７との間のガイドにおける横方向力を最小にするために有利である。
【００３２】
定置のプランジャピンガイド１０の端面２３の上方、およびプランジャプレート７の頸部区分２０に設けられている斜め面取り部２１の下方の液圧的なクッションは、永続的に密接しているわけではなく、閉鎖エレメント１３の開放状態において効果的に、かつ閉鎖エレメント１３の閉鎖直後、つまり閉鎖エレメント１３が弁座３２に到達した直後にのみ、効果的に密接しているのである。本発明により提案された手段によって、ストッパとして働く三日月形ディスク５の下面へのプランジャプレート７の上方の平坦面の衝突は著しく減衰され得る。流出絞り制御室３４から別の液圧的なスペース３５に流入する戻り量が、符号３０で示されていて、１つのまたは複数の流出開口２４から流出する燃料体積が、符号３１で示してある。この燃料体積３１は、プランジャプレート７の運動の減衰のために働く。
【００３３】
連続する噴射過程の間の時間間隔が特に短い場合には、プランジャプレート７は、１つのまたは複数の流出開口２４から流出する燃料により、迅速に再び出発位置に戻ることができる。この場合、三日月形ディスクとして構成されたストッパ５へのプランジャプレート７の上方の平坦面の、比較的僅かな衝撃を伴う衝突が生じる。有利には、閉鎖エレメント１３により弁座３２が閉鎖された直ぐ後まで、流出絞り室３４の内側にはリリーフ量の流れが存在するということが利用される。これに対して、ノズルと弁ガイドとからの比較的僅かな漏れ量は永続的に存在する。
【００３４】
流出絞り室３４のリリーフ量の流れ過程を通じて溢流通路２６に流入する燃料と、端面２３と斜め面取り部２１との間の流出開口２４を介する燃料の流出とに基づき、プランジャプレート７は出発ポジションに迅速に戻ることができる。僅かに生じる漏れ量（矢印３１）により、プランジャプレート７は僅かな衝撃しか伴わずに三日月形ディスクとして形成されたストッパ５に衝突することができ、そこで保持され得る。プランジャピンガイド１０の上方の環状通路から流れる第２の戻り量が、符号３１で示してある。ストッパ５へのプランジャプレート７の戻り運動は、行程が進行中で軸方向の力が減少しつつある場合に出発位置の方向で行われるので、プランジャプレート７と、三日月形ディスクとして形成できるストッパ５との、磨耗の原因となる衝突に至ることがある。流出開口２４から流出する燃料の量は、プランジャプレート７が次の噴射過程までに出発位置に再び戻されている、つまりストッパ５と接触する程度に計量されている。しかし次の噴射過程が早期に行われると、種々異なる開口特性により、噴射量の高められた行程／行程ばらつきに繋がる。これは極めて不都合なことである。図２に矢印Ａで示した弁閉鎖の場合には、流出開口２４から流出する燃料のダイナミックな流れと、プランジャピンガイド１０の上方の環状通路にある燃料のスタティックな量とが、プランジャプレート７のバックスイングを減衰する。プランジャプレート７の、プランジャピンガイド１０の端面２３との接触は必要ではないが考慮され得る。
【００３５】
図３からは、プランジャプレート７の行程経過を見て取ることができる。プランジャプレート７は、ばねもしくは本発明により提案されたように液圧的なストッパで減衰されている。
【００３６】
符号４０により示される曲線経過は、プランジャプレート７の出発ポジションへの戻し速度を表している曲線の勾配を示している。曲線経過は第１の勾配４０で転換点４５にまで上昇し、この転換点４５でこの曲線経過は、漏れ流３１に基づきもたらされる第２の勾配４２を呈している。
【００３７】
プランジャプレート７の戻しが過剰行程ばねにより行われる場合の、プランジャプレート７が有する速度が符号４３により示されている（図１の過剰行程ばね８参照）。ゆっくりとしか形成されないばね力に基づき、過剰行程ばね８を介して負荷されたプランジャプレート７の戻し運動は、主にゆっくりと行われる。発生する過剰振動が、符号４４で示されている。この過剰振動４４は、時間軸にわたって見ると、漸近的に鎮まる。プランジャピン６の閉鎖過程後、つまり閉鎖エレメント１３が弁座３２に置かれた後で、プランジャプレート７が出発ポジションに再び達するために通過しなければならない全過剰行程範囲が、ＵｅＨにより示されている。プランジャプレート７の出発ポジションは、三日月形ディスクとして形成されたストッパ５に当接することで特徴付けられている。
【００３８】
曲線経過４３のばね力によるプランジャプレート７の戻しの場合には、全過剰行程範囲ＵｅＨにわたって、同じ力がプランジャプレート７に作用する。本発明により提案された液圧的な戻しの場合には、最初に発生する過剰流量およびプランジャプレート７とプランジャピンガイド１０との間の狭幅な漏れギャップに基づいて、大きな戻し力が作用する。矢印Ａの方向での弁閉鎖後、およびプランジャプレート７とプランジャピンガイド１０とが互いにさらに離れた後には、ほんの僅かな力しかプランジャプレート７をなお出発ポジションに留めていない。プランジャプレート７は出発ポジションにおいて、三日月形ディスクとして形成されたストッパ５に当接している。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】プランジャプレートとプランジャピンガイドとの間に定置に収容されている、過剰行程ばねを備えた燃料インジェクタを制御するための、背景技術から公知の磁石弁を示す図である。
【図２】別の液圧的なスペースを有する流出制御室を液圧的に使用するために、プランジャピン内に形成された溢流通路が設けられている、本発明により提案された手段の第１の実施例を示す図である。
【図３】過剰行程ばねを介して負荷されていて、かつ液圧的なクッションで緩衝される、時間軸線に関して示されたプランジャプレートの運動時間を示す図である。
【符号の説明】
【００４０】
１  磁石弁、  ２  磁石、  ３  閉鎖ばね、  ４  弁ケーシング、  ５  ストッパ（三日月形ディスク）、  ６  プランジャピン、  ７  プランジャプレート、  ８  過剰行程ばね、  ９  弁緊締ねじ、  １０  プランジャピンガイド、  １１  弁部材、  １２  ボール受け、  １３  閉鎖エレメント（セラミックスボール）、  １４  流出絞り、  １５  制御室、  １６  溢流孔、  ２０  プランジャプレート頸部、  ２１  斜め面取り部、  ２２  対称軸線、  ２３  プランジャピンガイドの端面、  ２４  流出開口、  ２５  縁部、  ２６  溢流通路、  ２７  流入開口、  ２８  溢流通路傾斜角、  ２９  流入領域、  ３０  第１の戻り量、  ３１  第２の戻り量、  ３２  弁座、  ３３  漏斗状部分、  ３４  流出絞り室、  ３５  リリーフスペース、  ４０  制御量に基づく第１の勾配、  ４２  漏れオイル量に基づく第２の勾配、  ４３  ばね力に基づく勾配、  ４４  過剰振動、  ４５  転換点、  ＵｅＨ  過剰行程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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2008517212.tif 000009
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