(57)【要約】  本発明は、サリチル酸、有機基置換サリチル酸、スルホン酸、または有機基置換硫黄酸を、チアジアゾールまたは有機基置換チアジアゾール、若しくはアルキル第一または第二アミンと反応させて得られる生成物を含む無灰清浄剤、および該無灰清浄剤を含む配合潤滑油に関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アミンとサリチル酸の反応生成物およびそのホウ素化誘導体を含むことを特徴とする無灰清浄剤。
【請求項２】
アミンとスルホン酸の反応生成物およびそのホウ素化誘導体を含むことを特徴とする無灰清浄剤。
【請求項３】
チアジアゾールとサリチル酸の反応生成物およびそのホウ素化誘導体を含むことを特徴とする無灰清浄剤。
【請求項４】
チアジアゾールとスルホン酸の反応生成物およびそのホウ素化誘導体を含むことを特徴とする無灰清浄剤。
【請求項５】
前記反応生成物は、塩であることを特徴とする請求項１、２、３または４に記載の無灰清浄剤。
【請求項６】
前記アミン反応体は、有機基置換第一または第二アミンであることを特徴とする請求項１または２に記載の無灰清浄剤。
【請求項７】
前記アミン反応体は、アルキル基置換第一または第二アミンであることを特徴とする請求項６に記載の無灰清浄剤。
【請求項８】
前記アミン反応体は、Ｃ４〜Ｃ２０第三級アルキル基置換第一または第二アミンであることを特徴とする請求項７に記載の無灰清浄剤。
【請求項９】
前記サリチル酸は、有機基置換サリチル酸であることを特徴とする請求項１または３に記載の無灰清浄剤。
【請求項１０】
前記サリチル酸は、Ｃ１〜Ｃ４０アルキル、Ｃ２〜Ｃ４０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ４０シクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリール、アリール、ヘテロ原子置換Ｃ１〜Ｃ４０アルキル、Ｃ２〜Ｃ４０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ４０シクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールまたはアリールで置換されたサリチル酸であることを特徴とする請求項９に記載の無灰清浄剤。
【請求項１１】
前記サリチル酸は、Ｃ１０〜Ｃ２０アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリールまたはそれらのヘテロ原子置換誘導体で置換されたサリチル酸であることを特徴とする請求項１０に記載の無灰清浄剤。
【請求項１２】
前記チアジアゾールは、有機基置換チアジアゾールであることを特徴とする請求項３または４に記載の無灰清浄剤。
【請求項１３】
前記チアジアゾールは、Ｃ１〜Ｃ４０アルキル、Ｃ２〜Ｃ４０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ４０シクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリール、アリール、ヘテロ原子置換Ｃ１〜Ｃ４０アルキル、Ｃ２〜Ｃ４０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ４０シクロアルキル、アリール、アリールアルキルまたはアルキルアリールで置換されたチアジアゾールであることを特徴とする請求項１２に記載の無灰清浄剤。
【請求項１４】
前記チアジアゾールは、Ｃ１０〜Ｃ３０アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリールまたはそれらのヘテロ原子置換誘導体で置換されたチアジアゾールであることを特徴とする請求項１３に記載の無灰清浄剤。
【請求項１５】
前記スルホン酸は、有機基置換スルホン酸であることを特徴とする請求項２または４に記載の無灰清浄剤。
【請求項１６】
前記有機基置換スルホン酸は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ１０シクロアルキル、アリール、アルキルアリール、アリールアルキル、それらのヘテロ原子置換誘導体、ＮＨ２またはＯＨで置換されたスルホン酸であることを特徴とする請求項１５に記載の無灰清浄剤。
【請求項１７】
主要量の、潤滑油粘度を有する基油；および
（１）アミンとサリチル酸の反応生成物およびそのホウ素化誘導体、
（２）アミンとスルホン酸の反応生成物およびそのホウ素化誘導体、
（３）チアジアゾールとサリチル酸との反応生成物およびそのホウ素化誘導体、並びに
（４）チアジアゾールとスルホン酸との反応生成物およびそのホウ素化誘導体
からなる群から選択される、少量添加量の少なくとも一種の低灰清浄剤
を含むことを特徴とする低灰潤滑油配合物。
【請求項１８】
前記低灰清浄剤を構成する前記反応生成物は、塩であることを特徴とする請求項１７に記載の低灰潤滑油配合物。
【請求項１９】
前記低灰清浄剤は、潤滑油配合物の全重量を基準として、０．０１〜８．０重量％（活性成分）の量で存在することを特徴とする請求項１７に記載の低灰潤滑油配合物。
【請求項２０】
前記低灰清浄剤は、潤滑油配合物の全重量を基準として、０．０１〜８．０重量％（活性成分）の量で存在することを特徴とする請求項１８に記載の低灰潤滑油配合物。
【請求項２１】
前記アミン反応体は、有機置換第一または第二アミンであり、前記サリチル酸は有機置換サリチル酸であり、前記チアジアゾールは有機置換チアジアゾールであり、前記スルホン酸は有機置換スルホン酸であることを特徴とする請求項１７、１８、１９、または２０に記載の低灰潤滑油配合物。
【請求項２２】
前記アミンは、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ４０シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリールまたはそれらのヘテロ原子置換誘導体で置換された第一または第二アミンであり、
前記チアジアゾールは、Ｃ１〜Ｃ４０アルキル、Ｃ２〜Ｃ４０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ４０シクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリール、アリールまたはそれらのヘテロ原子置換誘導体で置換されたチアジアゾールであり、
前記サリチル酸は、Ｃ１〜Ｃ４０アルキル、Ｃ２〜Ｃ４０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ４０シクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリール、アリールまたはそれらのヘテロ原子置換誘導体で置換されたサリチル酸であり、
前記スルホン酸は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ１０シクロアルキル、アリール、アルキルアリール、アリールアルキル、それらのヘテロ原子置換誘導体、ＮＨ２またはＯＨで置換されたスルホン酸である
ことを特徴とする請求項２１に記載の低灰潤滑油配合物。
【請求項２３】
清浄剤、分散剤、酸化防止剤、流動点降下剤、粘度指数向上剤、耐磨耗剤、極圧剤、摩擦調整剤、抗乳化剤、消泡剤、焼付防止剤、腐食防止剤、滑剤、シール膨潤量剤、染料、金属不活性化剤および汚染防止剤からなる群から選択される少なくとも一種の更なる性能強化添加剤を更に含むことを特徴とする請求項１７、１８、１９または２０に記載の低灰潤滑油配合物。
【請求項２４】
潤滑粘度の前記基油は、ＧＴＬ基材、ワックス異性化油基油およびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項１７、１８、１９、または２０に記載の低灰潤滑油配合物。
【請求項２５】
潤滑油粘度の前記基油は、ＧＴＬ基材であることを特徴とする請求項２４に記載の低灰潤滑油配合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、清浄剤、および清浄剤を含む潤滑油配合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
潤滑油技術では、近年、アルカリおよびアルカリ土類金属スルホネート、サリチレート、およびフェネートが、清浄剤として、および潤滑油の全塩基価を維持して、潤滑油の、特に使用中のエンジン油の酸性度および酸蓄積を相殺する手段として利用される。
【０００３】
清浄剤は、しかし、潤滑油中の灰分源である。
【０００４】
今後数年間には、ディーゼルエンジンからの、特にディーゼル出力車両からの微粒子物質（ＰＭ）エミッションに対するより厳しい規制が、主要市場の殆どで実施されるように予定される。車両製造業者は、恐らくは、ディーゼル微粒子フィルター（ＤＰＦ）技術を、微粒子物質エミッションを緩和／制御するための排出ガス後処理戦略の一部として利用することを求められるであろう。他のエミッション規制はまた、車両製造業者がディーゼル微粒子フィルターなどの後処理装置の適切な性能を保証しなければならない寿命または走行距離を規定するであろう。
【０００５】
潤滑油中の固形非揮発性灰分は、潤滑油中の金属スルホネート、サリチレート、またはフェネート清浄剤、同様に亜鉛含有耐磨耗剤に起因するが、これは、ディーゼルエンジンから放出される微粒子物質の主要成分となる。
【０００６】
この灰分を、エンジン油配合物における潜在的な灰分原因成分である化学物質に対する制限を特定することによって制御することは、従うことのできる一つの提案である。しかし、油中に存在することができるこれらの化学物質の量を制限し、そのために灰分が低減されることはまた、意図する清浄性の目的および／または配合油における全塩基価の維持に対するこれらの化学物質の効果を低減する。
【０００７】
他の方法により、清浄剤に起因する潤滑油の硫酸灰分を制御し、一方清浄剤の必要かつ好都合な機能を失わないことが、見いだされなければならない。
【０００８】
【特許文献１】米国特許第４，６１７，１３７号明細書
【特許文献２】米国特許第４，７６１，４８２号明細書
【特許文献３】米国特許第５，０５５，５８４号明細書
【特許文献４】米国特許第４，９０４，４０３号明細書
【特許文献５】米国特許第５，０２６，８６５号明細書
【特許文献６】米国特許第５，１３８，０６５号明細書
【特許文献７】米国特許第５，１９４，６２１号明細書
【特許文献８】米国特許第５，１７７，２１２号明細書
【特許文献９】ＥＰ  ５３５４７０Ａ号明細書
【特許文献１０】ＥＰ  ５７４６５５Ｂ１号明細書
【特許文献１１】米国特許第５，３９１，７５６号明細書
【特許文献１２】米国特許第５，５９７，７８５号明細書
【特許文献１３】米国特許第５，８４９，９２５号明細書
【特許文献１４】米国特許第６，３６５，５７７号明細書
【特許文献１５】米国特許第６，６２０，７７１号明細書
【特許文献１６】米国特許第６，１６５，９４９号明細書
【特許文献１７】米国仮特許出願第６０／６３７，７９４号明細書
【特許文献１８】米国特許第５，３５２，３７４号明細書
【特許文献１９】米国特許第５，６３１，２１２号明細書
【特許文献２０】米国特許第４，７６４，２９４号明細書
【特許文献２１】米国特許第５，５３１，９１１号明細書
【特許文献２２】米国特許第５，５１２，１８９号明細書
【特許文献２３】米国特許第４，９５６，１２２号明細書
【特許文献２４】米国特許第４，８２７，０６４号明細書
【特許文献２５】米国特許第４，８２７，０７３号明細書
【特許文献２６】米国特許第４，１４９，１７８号明細書
【特許文献２７】米国特許第３，３８２，２９１号明細書
【特許文献２８】米国特許第３，７４２，０８２号明細書
【特許文献２９】米国特許第３，７６９，３６３号明細書
【特許文献３０】米国特許第３，８７６，７２０号明細書
【特許文献３１】米国特許第４，２３９，９３０号明細書
【特許文献３２】米国特許第４，３６７，３５２号明細書
【特許文献３３】米国特許第４，４１３，１５６号明細書
【特許文献３４】米国特許第４，４３４，４０８号明細書
【特許文献３５】米国特許第４，９１０，３５５号明細書
【特許文献３６】米国特許第４，９５６，１２２号明細書
【特許文献３７】米国特許第５，０６８，４８７号明細書
【特許文献３８】米国特許第４，２１８，３３０号明細書
【特許文献３９】米国特許第５，０５５，６２６号明細書
【特許文献４０】ＥＰＡ  １６８５３４号明細書
【特許文献４１】米国特許第４，６５８，０７２号明細書
【特許文献４２】米国特許第６，０８０，３０１号明細書
【特許文献４３】米国特許第６，０９０，９８９号明細書
【特許文献４４】米国特許第６，１６５，９４９号明細書
【特許文献４５】米国特許第４，５６８，６６３号明細書
【特許文献４６】米国特許第４，６６３，３０５号明細書
【特許文献４７】米国特許第４，５４２，１２２号明細書
【特許文献４８】米国特許第４，６２１，０７２号明細書
【特許文献４９】米国特許第５，５４５，６７４号明細書
【特許文献５０】米国特許第２，８１７，６９３号明細書
【特許文献５１】米国特許第４，９００，４０７号明細書
【特許文献５２】米国特許第４，９３７，３９９号明細書
【特許文献５３】米国特許第４，９７５，１７７号明細書
【特許文献５４】米国特許第４，９２１，５９４号明細書
【特許文献５５】米国特許第５，２００，３８２号明細書
【特許文献５６】米国特許第５，５１６，７４０号明細書
【特許文献５７】米国特許第５，１８２，２４８号明細書
【特許文献５８】米国特許第５，２９０，４２６号明細書
【特許文献５９】米国特許第５，５８０，４４２号明細書
【特許文献６０】米国特許第５，９７６，３５１号明細書
【特許文献６１】米国特許第５，９３５，４１７号明細書
【特許文献６２】米国特許第５，８８５，４３８号明細書
【特許文献６３】米国特許第５，９６５，４７５号明細書
【特許文献６４】米国特許第６，１９０，５３２号明細書
【特許文献６５】米国特許第６，３７５，８３０号明細書
【特許文献６６】米国特許第６，３３２，９７４号明細書
【特許文献６７】米国特許第６，１０３，０９９号明細書
【特許文献６８】米国特許第６，０２５，３０５号明細書
【特許文献６９】米国特許第６，０９６，９４０号明細書
【特許文献７０】米国特許第６，６２０，３１２号明細書
【特許文献７１】米国特許第６，６７６，８２７号明細書
【特許文献７２】米国特許第６，３８３，３６６号明細書
【特許文献７３】米国特許第６，４７５，９６０号明細書
【特許文献７４】米国特許第５，０５９，２９９号明細書
【特許文献７５】米国特許第５，９７７，４２５号明細書
【特許文献７６】米国特許第５，９３５，４１６号明細書
【特許文献７７】米国特許第４，９２３，５８８号明細書
【特許文献７８】米国特許第５，１５８，６７１号明細書
【特許文献７９】米国特許第４，８９７，１７８号明細書
【特許文献８０】ＥＰ  ０３２４５２８（Ｂ１）号明細書
【特許文献８１】ＥＰ  ０５３２１１６（Ｂ１）号明細書
【特許文献８２】ＥＰ  ０５３２１１８（Ｂ１）号明細書
【特許文献８３】ＥＰ  ０５３７８１５（Ｂ１）号明細書
【特許文献８４】ＥＰ  ０５８３８３６（Ｂ２）号明細書
【特許文献８５】ＥＰ  ０６６６８９４（Ｂ２）号明細書
【特許文献８６】ＥＰ  ０６６８３４２（Ｂ１）号明細書
【特許文献８７】ＥＰ  ０７７６９５９（Ａ３）号明細書
【特許文献８８】国際公開第９７／０３１６９３（Ａ１）号パンフレット
【特許文献８９】国際公開第０２／０６４７１０（Ａ２）号パンフレット
【特許文献９０】国際公開第０２／０６４７１１（Ａ１）号パンフレット
【特許文献９１】国際公開第０２／０７０６２７（Ａ２）号パンフレット
【特許文献９２】国際公開第０２／０７０６２９（Ａ１）号パンフレット
【特許文献９３】国際公開第０３／０３３３２０（Ａ１）号パンフレット
【特許文献９４】英国特許第１，４２９，４９４号明細書
【特許文献９５】英国特許第１，３５０，２５７号明細書
【特許文献９６】英国特許第１，４４０，２３０号明細書
【特許文献９７】英国特許第１，３９０，３５９号明細書
【特許文献９８】国際公開第９９／４５０８５号パンフレット
【特許文献９９】国際公開第９９／２０７２０号パンフレット
【特許文献１００】ＥＰＡ  ４６４５４６号明細書
【特許文献１０１】ＥＰＡ  ４６４５４７号明細書
【特許文献１０２】米国特許第４，５９４，１７２号明細書
【特許文献１０３】米国特許第４，９４３，６７２号明細書
【特許文献１０４】米国特許第６，０４６，９４０号明細書
【特許文献１０５】米国特許第６，４７５，９６０号明細書
【特許文献１０６】米国特許第６，１０３，０９９号明細書
【特許文献１０７】米国特許第６，３３２，９７４号明細書
【特許文献１０８】米国特許第６，３７５，８３０号明細書
【特許文献１０９】米国特許第４，９０６，３５０号明細書
【特許文献１１０】米国特許第５，０７５，２６９号明細書
【非特許文献１】Ｋｌａｍａｎｎ著「潤滑油および関連生成物（Ｌｕｂｒｉｃａｎｔｓ  ａｎｄ  Ｒｅｌａｔｅｄ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）」（Ｖｅｒｌｏｇ  Ｃｈｅｍｉｅ、Ｄｅｅｒｆｉｅｌｄ  Ｂｅａｃｈ、ＦＬ）：ＩＳＢＮ  ０−８９５７３−１７７−０
【非特許文献２】Ｍ．Ｗ．Ｒｏｎｎｅｙ著「潤滑油添加剤（Ｌｕｂｒｉｃａｎｔ  Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ）」（Ｎｏｙｅｓ  Ｄａｔａ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ、Ｐａｒｋｒｉｄｇｅ、ＮＪ、１９７３年）
【非特許文献３】ＡＰＩ文献第１５０９号（ＡＰＩ  Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ  １５０９）（ｗｗｗ．ＡＰＩ．ｏｒｇ）
【非特許文献４】ＧｕｎｄｅｒｓｏｎおよびＨａｒｔ著「合成潤滑油（Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ  Ｌｕｂｒｉｃａｎｔｓ）」（Ｒｅｉｎｈｏｌｄ  Ｐｕｂｌ．Ｃｏｒｐ．、ＮＹ、１９６２年）
【非特許文献５】Ｅａｐｅｎら著「ポリｎ−アルキルベンゼン化合物：熱安定性の広液体範囲流体の部類（Ｐｏｌｙ  ｎ−Ａｌｋｙｌｂｅｎｚｅｎｅ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ：Ａ  Ｃｌａｓｓ  ｏｆ  Ｔｈｅｒｍａｌｌｙ  Ｓｔａｂｌｅ  ａｎｄ  Ｗｉｄｅ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｒａｎｇｅ  Ｆｌｕｉｄｓ）」（ＡＣＳ石油化学予稿集（ＡＣＳ  Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｐｒｅｐｒｉｎｔ）、第１０５３〜１０５８頁、フィラデルフィア、１９８４年）
【非特許文献６】Ｄｒｅｓｓｌｅｒ，Ｈ．著「合成潤滑油および高性能機能流体（Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ  Ｌｕｂｒｉｃａｎｔｓ  ａｎｄ  Ｈｉｇｈ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ  Ｆｌｕｉｄｓ）」（第５章（Ｒ．Ｌ．Ｓｈｕｂｋｉｎ編）、Ｍａｒｃｅｌ  Ｄｅｋｋｅｒ、ＮＹ、１９９３年）
【非特許文献７】ＳＡＥ文献８５  １７９７
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
新規種類の清浄剤が発見された。これは、それらが金属清浄剤でない限り、無灰または非常に低灰分のものである。新規無灰清浄剤は、スルホン酸、（有機基置換）スルホン酸、サリチル酸、または（有機基置換）サリチル酸と、チアジアゾール、（有機基置換）チアジアゾール、若しくは第一または第二アミンとの反応生成物、およびそれらのホウ素化誘導体である。また、これらの新規無灰清浄剤を含む配合潤滑油組成物が開示される。本明細書に開示される無灰清浄剤は、配合潤滑油の全重量を基準として、清浄剤（活性成分として）約０．０１〜約８．０重量％、好ましくは約０．２〜約３．０重量％、より好ましくは約０．５〜約２．０重量％の範囲の量で利用されることができる。これらの清浄剤は、グループＩ、グループＩＩ、グループＩＩＩ（例えば、ＧＬＴまたは他のワックス異性化油）、グループＩＶ、グループＶ、およびそれらの混合物を含む基油中で機能する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
新規無灰清浄剤は、一般に、（有機基置換）アミンスルホネート塩およびアミド、（有機基置換）アミンサリチレート塩およびアミド、（有機基置換）チアジアゾールスルホネート塩および反応生成物、並びに（有機基置換）チアジアゾールサリチレート塩および反応生成物として記載される。
【００１１】
本明細書および請求で用いられるように、用語「有機」、「有機基」、または「有機ラジカル」とは、基またはラジカルをいう。これは、分子の残り部に炭素原子を介して結合され、かつ炭素および水素、任意に窒素、硫黄、および酸素の一種以上から選択されるヘテロ原子からなる。該へテロ原子は、存在する場合には、主鎖原子として、および／または置換基内に存在する。
【００１２】
有機基またはラジカルには次が含まれる。即ち、排他的に炭素および水素からなる基またはラジカルである。これには、線状および分枝アルキル並びに線状および分枝アルケニル基またはラジカルを包含する脂肪族基またはラジカル、シクロアルキルおよびシクロアルケニル基またはラジカルを包含する脂環式基またはラジカル、芳香族基またはラジカル（単環、縮合多環、スピロ化合物、および多環化合物を含み、個々の環または多環は、互いにアルケンまたはヘテロ原子架橋を介して結合される）、脂肪族または脂環式基またはラジカルで置換された芳香族基またはラジカル、および芳香族基またはラジカルで置換された脂肪族または脂環式基またはラジカル、同様に環が、分子（互いに結合して、シクロ基が形成される）の異なる部分を通して完成される場合に形成されるシクロ基；炭素、水素、および一種以上の同じかまたは異なるヘテロ原子（窒素、硫黄、酸素）からなる基またはラジカル（その際ヘテロ原子は、炭素および水素を含む鎖または環の主鎖元素として存在する）；炭素、水素、および炭素および水素を含む鎖または環の、炭素および水素を含む鎖または環上の置換基として、炭素、水素、および一種以上の同じかまたは異なるヘテロ原子（窒素、硫黄、酸素）からなる基またはラジカルが含まれる。該へテロ原子置換基には、限定しない例示として、ヒドロキシ、アルコキシ、エーテル、エステル、カルボキシル、メルカプト、メルカプタル、アミノ、ニトロ、ニトロソ、スルホキシ、および他の基が含まれる。
【００１３】
有機基またはラジカルは、好ましくは、完全に、炭素および水素からなる。より好ましくは、それは、脂肪族、脂環式、または芳香族基であり、更により好ましくは、脂肪族基またはラジカルであり、最も好ましくはアルキル基またはラジカルである。
【００１４】
サリチル酸、アミン、チアジアゾール、およびスルホン酸は、次の限定しない式によって表される。
【化１】
2008542504.tif 000002
式中、Ｒ１は、水素、またはＣ１〜Ｃ４０アルキル、Ｃ２〜Ｃ４０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ４０シクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリール、アリール、ヘテロ原子（酸素、および／または硫黄、および／または窒素）置換Ｃ１〜Ｃ４０アルキル、Ｃ２〜Ｃ４０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ４０シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリールであり、好ましくは水素、Ｃ１０〜Ｃ３０アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、およびそれらのヘテロ原子置換誘導体であり、最も好ましくは水素、Ｃ１５〜Ｃ２０アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、およびそれらのヘテロ原子置換誘導体である（それらの誘導体には、ヘテロ原子置換基が、炭素主鎖に含まれ、ヘテロ原子基含有置換基が、炭素主鎖上に結合される）。
Ｒ２およびＲ３は、同じかまたは異なり、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ２０（シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール）、およびそれらのヘテロ原子置換誘導体である。但し、Ｒ２およびＲ３は、両方とも、水素であることができない。好ましくはＲ２およびＲ３は、同じかまたは異なり、水素、Ｃ４〜Ｃ２０ｔｅｒｔ−アルキル基である。再度、但し、Ｒ２およびＲ３は、両方とも水素であることができない。より好ましくは次式のものである。
【化２】
2008542504.tif 000003
［式中、ｚは、１〜４、好ましくは２である］
ｘは、水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ１０（シクロアルキル、アリール、アルキルアリール、アリールアルキル）、およびそれらのヒドロカルビル置換誘導体、ＮＨ２、ＯＨであり、好ましくは水素、Ｃ６〜Ｃ１０アルキルである。
Ａｒは、フェニル、ナフチル、アントラセニルであり、好ましくはフェニルまたはナフチルであり、最も好ましくはナフチルである。
ｙは、１または２、好ましくは１である。
並びにそれらのホウ素化誘導体である。
【００１５】
いかなるチアジアゾールまたはその誘導体も、サリチル酸またはスルホン酸と反応されるための出発物質反応体として用いるのに適切である。チアジアゾールまたはその誘導体は、広範に、文献に引用される。特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４、特許文献５、特許文献６、特許文献７、特許文献８、特許文献９、特許文献１０、特許文献１１、特許文献１２、特許文献１３、特許文献１４および特許文献１５を参照されたい。その開示は、参照により本明細書に援用される。
【００１６】
使用可能なチアジアゾールの好ましい例は、次式のものである。
【化３】
2008542504.tif 000004
【００１７】
無灰清浄剤およびそのホウ素化誘導体は、デポジット形成を低減し、添加油の全酸価の維持に寄与し、磨耗を減少し、ヒドロペルオキシドの分解を促進し、薄膜酸化試験で良好に機能することが、見出されている。全て、それらが、良好な清浄剤であることを示す。
【００１８】
無灰清浄剤は、従来のアルカリ金属清浄剤、または近年用いられるアルカリ土類金属清浄剤の全てまたは一部の代わりに用いられることができる。配合油におけるこれらの従来の清浄剤の全てに取って代わることが好ましい。
【００１９】
それらが添加される潤滑油配合物は、潤滑油粘度のいかなる天然、合成、または非従来の基油（典型的に、配合潤滑油を製造するのに用いられる）をも含む。
【００２０】
本発明の好ましい完全配合潤滑油は、基材と、有効量の少なくとも一種の無灰清浄剤を少なくとも一種の更なる性能強化添加剤と共に含む添加剤パッケージとを混合することによって調製される。例えば、限定されることなく、少なくとも一種の清浄剤、および／または分散剤、および／または酸化防止剤、および／または流動点降下剤、および／またはＶＩ向上剤、および／または耐磨耗剤、および／または極圧剤、および／または摩擦調整剤、および／または抗乳化剤、および／または消泡剤、および／または耐焼付剤、および／または腐食防止剤、および／または滑剤、および／またはシール膨潤抑制剤、および／または染料、および／または金属不活性化剤、および／または汚染防止剤などである。これらの内、無灰清浄剤に加えて、殆どの配合潤滑油に共通の添加剤には、任意に、更なる清浄剤、同様に分散剤、酸化防止剤、耐磨耗剤、およびＶＩ向上剤が、油の使用目的によって任意である他の添加剤と共に含まれる。有効量の少なくとも一種の無灰清浄剤、および典型的には一種以上の添加剤、または少なくとも一種の無灰清浄剤および一種以上のこれらの添加剤を含む添加剤パッケージが、基材に添加されるか、またはそれに混合されて、一種以上の配合生成物規格が満足される。公知であるように、ディーゼルエンジン、内燃機関、自動変速機、タービンまたはジェット、作動油、工業油等のための潤滑油に関するものなどである。多くの通常用いられる添加剤の概要については、非特許文献１を参照されたい。これはまた、上記に特定される多数の潤滑油添加剤を良好に説明している。また、非特許文献２が参照される。種々の製造業者は、これらの添加剤パッケージを販売して、基材または基材混合物に混合され、異なる適用または目的とする使用に必要な性能規格を満足するための完全配合潤滑油が形成される。添加剤パッケージ中に存在する種々の添加剤を正確に同定することは、典型的には、製造業者による企業機密として保持される。しかし、種々の添加剤の化学的特質は、当業者に知られる。例えば、アルカリ金属スルホネート、サリチレート、およびフェネートは、周知の清浄剤である。これは、無灰清浄剤に加えて用いられてもよく、一方ＰＩＢＳＡ（ポリイソブチレン無水コハク酸）およびＰＩＢＳＡ−ＰＡＭ（ポリイソブチレン無水コハク酸アミン）は、ホウ素化されるか、またはホウ素化されることなく、周知の用いられる分散剤である。ＶＩ向上剤および流動点降下剤には、アクリルポリマーおよびコポリマーが含まれる。ポリメタクリレート、ポリアルキルメタクリレート、同様にオレフィンコポリマー、ビニルアセテートおよびエチレンのコポリマー、ジアルキルフマレート、およびビニルアセテート、並びに既知の他のものである。摩擦調整剤には、グリコールエステルおよびエーテルアミンが含まれる。ベンゾトリアゾールは、広範に用いられる腐食防止剤であり、一方シリコーンは、周知の消泡剤である。酸化防止剤には、ヒンダードフェノールおよびヒンダード芳香族アミン（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノールおよびジフニルアミンなど）が、周知のオレイン酸銅および銅−ＰＩＢＳＡなどの銅化合物と共に含まれる。耐磨耗剤には、金属ホスフェート、金属ジチオホスフェート、金属ジアルキルジチオホスフェート、金属チオカルバメート、金属ジチオカルバメート、金属ジアルキルジチオカルバメート、および無灰耐磨耗剤（エトキシル化アミンジアルキルジチオホスフェートおよびエトキシル化アミンジチオベンゾエートによって例示され、特許文献１６に記載される）が含まれる。同時係属中の出願（特許文献１７）（２００４年１２月２１日出願）に記載される非イオン無灰耐磨耗剤はまた、用いられことができる。それらには、チオサリチル酸、有機基置換チオサリチル酸、チオサリチル酸の有機エステル、有機基置換チオサリチル酸の有機エステル、チオロマロネート、２，２ジチオジピリジン、有機基置換２，２ジチオジピリジン、チアゾリジン、および有機基置換チアゾリジンが含まれる。
【００２１】
無灰添加剤、特に無灰清浄剤の使用は、特に、低／低減または灰分なし（無灰）適用を目的とする潤滑油で用いるのに好ましい。
【００２２】
これは、潤滑油で用いられる種々の添加剤の例示の、しかし限定しない一覧であることを意味する。従って、添加剤パッケージは、多くの異なる化学タイプの添加剤を含むことができるし、またしばしばそれらを含む。全てのこれらの添加剤は、知られており、例示は、例えば、特許文献１８、特許文献１９、特許文献２０、特許文献２１および特許文献２２に見出されてもよい。
【００２３】
広範囲の潤滑基油が、当該技術分野で知られている。本発明で有用な潤滑基油は、天然油、合成油、および非従来油である。天然油、合成油、非従来油、およびそれらの混合物は、未精製、精製、または再精製（後者はまた、再生または再処理油として知られる）で用いられることができる。未精製油は、天然、合成、または非従来の素材から直接得られ、かつ更なる精製なしに用いられるものである。これらには、例えば、乾留操作から直接得られるシェール油、一次蒸留から直接得られる石油、およびエステル化プロセスから直接得られるエステルが含まれる。精製油は、未精製油について論じられる油に類似するが、これは、一種以上の精製または転位工程に付されて、少なくとも一種の潤滑油特性が向上される。当業者は、多くの精製または転位プロセスに精通している。これらのプロセスには、例えば、溶剤抽出、二次蒸留、酸抽出、塩基抽出、ろ過、浸出、水素添加、水素精製、および水素仕上げが含まれる。再精製油は、精製油に類似のプロセスによって得られるが、先に用いられた油を用いる。
【００２４】
グループＩ、ＩＩ、ＩＩＩ、ＩＶ、およびＶは、潤滑油基油に対する指針を作成するアメリカ石油協会によって開発され、かつ定義される基油材の広い分類である（非特許文献３）。グループＩ基材は、一般に、粘度指数約８０〜１２０を有し、硫黄約０．０３％超および飽和分約９０％未満を含む。グループＩＩ基材は、一般に、粘度指数約８０〜１２０を有し、硫黄約０．０３％以下および飽和分約９０％以上を含む。グループＩＩＩ基材は、一般に、粘度指数約１２０超を有し、硫黄約０．０３％以下および飽和分約９０％超を含む。グループＩＶには、ポリアルファオレフィン（ＰＡＯ）が含まれる。グループＶ基材には、グループＩ〜ＩＶに含まれない基材が含まれる。表１に、これらの５グループのそれぞれについての特性が概略される。
【００２５】
【表１】
2008542504.tif 000005
【００２６】
天然油には、動物油、植物油（例えば、ヒマシ油およびラード油）、および鉱油が含まれる。好ましい熱酸化安定性を有する動物油および植物油が、用いられることができる。天然油の内、鉱油が好ましい。鉱油は、その原油源で、例えばそれらが、パラフィン質であるか、ナフテン質であるか、または混合パラフィン質−ナフテン質であるか否かで、広範囲に異なる。石炭またはシェール油から誘導される油はまた、本発明で有用である。天然油はまた、その製造および精製に用いられる方法で、例えばその蒸留範囲、およびそれらが直留であるか、若しくは分解されるか、水素精製されるか、または溶剤抽出されるか否かで異なる。
【００２７】
合成油には、炭化水素油、同様に非炭化水素油が含まれる。合成油は、化学的組み合わせ（例えば、重合、オリゴマー化、縮合、アルキル化、アシル化等）などのプロセスから誘導されることができる。その際、より小さな、かつより単純な分子種からなる物質が、より大きな、かつより複雑な分子種からなる物質に形成される（合成される）。合成油には、重合および共重合オレフィン（例えば、ポリブチレン、ポリプロピレン、プロピレンイソブチレンコポリマー、エチレン−オレフィンコポリマー、およびエチレン−アルファオレフィンコポリマー）などの炭化水素油が含まれる。ポリアルファオレフィン（ＰＡＯ）油基材は、通常に用いられる合成炭化水素油である。例として、Ｃ８、Ｃ１０、Ｃ１２、Ｃ１４オレフィン、またはそれらの混合物から誘導されるＰＡＯが、利用されてもよい。特許文献２３、特許文献２４および特許文献２５を参照されたい。これは、その全体が参照により本明細書に援用される。
【００２８】
ＰＡＯ（知られた物質であり、一般に、商業的大規模でエクソンモービル化学（ＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ）、シェブロン（Ｃｈｅｖｒｏｎ）、ＢＰ−アモコ（ＢＰ−Ａｍｏｃｏ）、その他などの供給業者から入手可能である）の数平均分子量は、典型的には、約２５０〜約３０００の範囲であるか、またはそれより高い分子量であり、ＰＡＯは、粘度（１００℃）約１００ｃＳｔ未満、またはそれより高い粘度で製造されてもよい。加えて、より高粘度のＰＡＯは、商業的に入手可能であり、粘度（１００℃）約３０００ｃＳｔ未満、またはそれより高い粘度で製造されてもよい。ＰＡＯは、典型的には、比較的低分子量の水素添加ポリマー、またはアルファオレフィン（限定されることなく、約Ｃ２〜約Ｃ３２アルファオレフィンが含まれ、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセンなどの約Ｃ８〜約Ｃ１６アルファオレフィンが好ましい）のオリゴマーからなる。好ましいポリアルファオレフィンは、ポリ−１−オクテン、ポリ−１−デセン、ポリ−１−ドデセン、およびそれらの混合物、並びに混合オレフィン−誘導ポリオレフィンである。しかし、約Ｃ１４〜Ｃ１８の範囲のより高級なオレフィンの二量体が、許容可能な低揮発性を有する低粘度基材を提供するのに用いられてもよい。粘度グレードおよび出発オリゴマーにより、ＰＡＯは、主に、出発オレフィンの三量体および四量体（少量のより高級なオリゴマーを有する）であってもよい。これは、粘度範囲約１．５〜１２ｃＳｔを有する。
【００２９】
ＰＡＯ流体は、好都合には、アルファオレフィンを、フリーデル−クラフツ触媒などの重合触媒の存在下に重合することによって製造されてもよい。これには、例えば、三塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素、または三フッ化ホウ素と、水、アルコール（エタノール、プロパノール、またはブタノールなど）、カルボン酸、またはエステル（酢酸エチル、プロピオン酸エチルなど）との複合物が含まれる。例えば、特許文献２６または特許文献２７によって記載される方法が、好都合に、本明細書で用いられてもよい。ＰＡＯ合成の他の説明は、次の特許文献２８、特許文献２９、特許文献３０、特許文献３１、特許文献３２、特許文献３３、特許文献３４、特許文献３５、特許文献３６および特許文献３７に見出される。上記の特許は全て、本明細書に、その全体が引用されて含まれる。Ｃ１４〜Ｃ１８オレフィンの二量体は、特許文献３８に記載される。これもまた、本明細書に援用される。
【００３０】
ケイ素ベースの油、またはリン含有酸のエステルなどの他の有用な合成潤滑基材油はまた、利用されてもよい。他の合成潤滑基材の例として、将来有望な研究（非特許文献４）がある。これは、その全体が援用される。
【００３１】
アルキル化芳香族材においては、アルキル置換基は、典型的には、炭素原子約８〜２５個、通常炭素原子約１０〜１８個のアルキル基であり、約３個未満のこれらの置換基が、存在してもよい。これは、アルキルベンゼンについて、非特許文献５に記載される。トリアルキルベンゼンは、炭素原子８〜１２個の１−アルキンのシクロ二量化によって製造されてもよい。これは、特許文献３９に記載される。他のアルキルベンゼンは、特許文献４０および特許文献４１に記載される。アルキルベンゼンは、潤滑基材として、特に低温度適用（極車両使用および冷凍油）に対して、および製紙油で用いられる。それらは、商業的に、線状アルキルベンゼン（ＬＡＢ）の製造業者（Ｖｉｓｔａ  Ｃｈｅｍ．Ｃｏ．、Ｈｕｎｔｓｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．、Ｃｈｅｖｒｏｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．、およびＮｉｐｐｏｎ  Ｏｉｌ  Ｃｏ．など）から入手可能である。線状アルキルベンゼンは、典型的には、良好な低流動点および低温粘度、並びにＶＩ値約１００超を、添加剤に対する良好な溶解性と共に有する。所望な場合に用いられてもよい他のアルキル化芳香族は、例えば、非特許文献６に記載される。上記の文献はそれぞれ、その全体が参照により本明細書に援用される。
【００３２】
潤滑粘度の他の有用な流体には、従来には全くないか、または非従来的な基材が含まれる。これは、（好ましくは接触的に）処理されるか、または合成されて、高性能潤滑特性が提供される。
【００３３】
従来には全くないか、または非従来的な基材／基油には、一種以上のガスツウリキッド（ＧＴＬ）物質から誘導される基材、同様に天然ワックスまたはワックス質原料、鉱油および／または非鉱油のワックス質原料材（スラックワックスなど）、天然ワックス、およびワックス質材（ガス油、ワックス質燃料の水素化分解装置ボトム、ワックス質ラフィネート、水素化分解油、熱分解油、若しくは他の鉱油、または石炭液化またはシェール油から受け入れられるワックス質物質などの非石油誘導ワックス質物質さえ）から誘導される異性化油／異性化脱ロウ油基材の混合物、並びにこれらの基材の混合物の一種以上が含まれる。
【００３４】
本明細書で用いられるように、次の用語は、表示の意味を有する。即ち、
（ａ）「ワックス」：高流動点を有し、典型的には室温で、即ち温度約１５℃〜２５℃で固体として存在し、主としてパラフィン質物質からなる炭化水素質物質。
（ｂ）「パラフィン質物質」：いかなる飽和炭化水素（アルカンなど）でもある。パラフィン質物質には、線状アルカン、分枝アルカン（イソパラフィン）、シクロアルカン（シクロパラフィン；単環および／または多環）、および分枝シクロアルカンが含まれてもよい。
（ｃ）「水素処理」：原料材が、高温で圧力下に、通常触媒に存在下で水素と共に加熱されて、あまり好ましくない成分が除去および／または転化され、品質向上された生成物が製造される精製プロセスである。
（ｄ）「水素化」：硫黄および／または窒素含有炭化水素を、硫黄および／または窒素含有量が低減された炭化水素生成物に転化する接触水素添加プロセスである。これは、硫化水素および／またはアンモニアを、（個々に）副生物として生成する。同様に、酸素含有炭化水素または、炭化水素および水に還元されることができる。
（ｅ）「接触脱ロウ」：ノルマルパラフィン（ワックス）および／またはワックス質炭化水素が、分解／破砕によって、より低分子量の種に転化される接触プロセスである。
（ｆ）「水素異性化」（若しくは異性化または異性化脱ロウ）：ノルマルパラフィン（ワックス）および／または若干分枝されたイソパラフィンが、再配位／異性化によって、より分枝化されたイソパラフィンに転化される接触プロセスである。
（ｇ）「水素化分解」：水素添加が、炭化水素の分解／破砕を伴う、例えばより重質の炭化水素をより軽質の炭化水素に添加するか、または芳香族および／またはシクロパラフィン（ナフテン）を非環状分枝パラフィンに転化する接触プロセスである。
（ｈ）「水素化脱ロウ」：ノルマルパラフィン（ワックス）および／または若干分枝されたイソパラフィンが、再配位／異性化によって、より分枝されたイソパラフィンに、および分解／破砕によって、より低分子量の種に転化される接触プロセスである。
【００３５】
用語「水素異性化−水素化脱ロウ／接触脱ロウ」は、ノルマルパラフィンおよび／またはワックス質炭化水素を、分解／破砕によってより低分子量の種に、および再配位／異性化によってより分枝されたイソパラフィンに転化することの組み合わせ効果を有する一種以上の接触プロセスをいうのに用いられる。これらの組み合わせプロセスは、しばしば、「水素化脱ロウ」または「選択的水素化分解」、若しくは「異性化脱ロウ」として記載される。
【００３６】
ＧＴＬ物質は、一種以上の合成、結合、転化、再配位、および／または分解／解体プロセスを経て、ガス状炭素含有化合物、水素含有化合物、および／または原料材としての成分（水素、二酸化炭素、一酸化炭素、水、メタン、エタン、エチレン、アセチレン、プロパン、プロピレン、プロピン、ブタン、ブチレン、およびブチンなど）から誘導される物質である。ＧＴＬ基材および基油は、潤滑油粘度のＧＴＬ物質であり、一般に、炭化水素（例えば、ワックス質合成炭化水素）から誘導される。これは、それ自体、より単純なガス状の炭素含有化合物、水素含有化合物、および／または原料材としての成分から誘導される。ＧＴＬ基材には、潤滑油沸点範囲で沸騰する油が含まれる。これは、例えば蒸留または熱拡散によるなどで、ＧＴＬ物質から分離／分留され、引続いて、周知の接触または溶剤脱ロウプロセスに付されて、低減された／低流動点の潤滑油が製造される。ワックス異性化油（例えば、水素異性化または異性化脱ロウ合成炭化水素を含む）；水素異性化または異性化脱ロウフィッシャー−トロプシュ（Ｆ−Ｔ）物質（即ち、炭化水素、ワックス質炭化水素、ワックス、および可能な限り類似の含酸素化合物）；好ましくは水素異性化または異性化脱ロウＦ−Ｔ炭化水素または水素異性化または異性化脱ロウＦ−Ｔワックス、水素異性化または異性化脱ロウ合成ワックス、若しくはこれらの混合物である。
【００３７】
ＧＴＬ物質から誘導されるＧＴＬ基材、特に水素異性化／異性化脱ロウＦ−Ｔ物質誘導基材、および他の水素異性化／異性化脱ロウワックス誘導基材は、典型的には、動粘度（１００℃）約２ｍｍ２／秒〜約５０ｍｍ２／秒、好ましくは約３ｍｍ２／秒〜約５０ｍｍ２／秒、より好ましくは３．５ｍｍ２／秒〜約３０ｍｍ２／秒を有するものとして特徴付けられる。これは、Ｆ−Ｔワックスの異性化脱ロウによって誘導されるＧＴＬ基材により例示される。これは、動粘度（１００℃）約４ｍｍ２／秒、および粘度指数約１３０超を有する。本明細書における動粘度の引用は、ＡＳＴＭ法Ｄ４４５によってなされる測定値をいう。
【００３８】
ＧＴＬ物質から誘導されるＧＴＬ基材および基油、特に水素異性化／異性化脱ロウＦ−Ｔ物質誘導基材、および他の水素異性化／異性化脱ロウワックス誘導基材（ワックス水素異性化油／異性化脱ロウ油など）は、この発明の基材成分として用いられることができるが、これは、更に、典型的には、流動点約−５℃以下、好ましくは約−１０℃以下、より好ましくは約−１５℃以下、更により好ましくは約−２０℃以下を有するものとして特徴付けられる。これは、いくつかの条件下では、約−２５℃以下の好都合な流動点を有してもよく、有用な流動点は、約−３０℃〜約−４０℃以下である。所望により、異なる脱ロウ工程（接触脱ロウまたは溶剤脱ロウ）が、水素異性化油に関して行われて、所望の流動点が達成されてもよい。本明細書における流動点の引用は、ＡＳＴＭ  Ｄ９７および類似の自動型によってなされる測定値をいう。
【００３９】
ＧＴＬ物質から誘導されるＧＴＬ基材、特に水素異性化／異性化脱ロウＦ−Ｔ物質誘導基材、および他の水素異性化／異性化脱ロウワックス誘導基材は、この発明で用いられることができる基材成分であるが、これはまた、典型的には、粘度指数８０以上、好ましくは１００以上、より好ましくは１２０以上を有するものとして特徴付けられる。加えて、ある特定の場合には、これらの基材の粘度指数は、好ましくは１３０以上、より好ましくは１３５以上、更により好ましくは１４０以上であってもよい。例えば、好ましくはＦ−Ｔ物質（特にＦ−Ｔワックス）から誘導されるＧＴＬ基材は、一般に、粘度指数１３０以上を有する。本明細書における粘度指数の引用は、ＡＳＴＭ法Ｄ２２７０をいう。
【００４０】
加えて、ＧＴＬ基材は、典型的には、高度にパラフィン質（飽和分＞９０％）であり、モノシクロパラフィンおよびマルチシクロパラフィンの混合物を、非環式イソパラフィンとの組み合わせで含んでもよい。これらの組み合わせにおけるナフテン（即ち、シクロパラフィン）含有量の割合は、用いられる触媒および温度で異なる。更に、ＧＴＬ基材および基油は、典型的には、非常に低い硫黄および窒素含有量を有する。これは、一般に、これらの成分のそれぞれについて、約１０ｐｐｍ未満、より典型的に約５ｐｐｍ未満を含む。Ｆ−Ｔ物質（特にＦ−Ｔワックス）の水素異性化／異性化脱ロウによって得られるＧＴＬ基材および基油の硫黄および窒素含有量は、本質的にゼロである。
【００４１】
好ましい実施形態においては、ＧＴＬ基材は、主に非環式イソパラフィン、およびほんの少量のシクロパラフィンからなるパラフィン質物質を含む。これらのＧＴＬ基材は、典型的には、非環式イソパラフィン６０重量％超、好ましくは非環式イソパラフィン８０重量％超、より好ましくは非環式イソパラフィン８５重量％超、最も好ましくは非環式イソパラフィン９０重量％超からなるパラフィン質物質を含む。
【００４２】
ＧＴＬ基材、水素異性化または異性化脱ロウＦ−Ｔ物質誘導基材、およびワックス誘導水素異性化／異性化脱ロウ基材（ワックス異性化油／異性化脱ロウ油など）の有用な組成は、例えば、特許文献４２、特許文献４３および特許文献４４に列挙される。
【００４３】
ワックス質原料から誘導される異性化油／異性化脱ロウ油基材は、この発明で用いるのにも適切であるが、これは、潤滑油粘度のパラフィン質流体である。これは、鉱油、非鉱油、非石油、または天然源起源の水素異性化または異性化脱ロウワックス質原料材から誘導される。例えば、ガス油、スラックワックス、ワックス質燃料の水素化分解装置ボトム、炭化水素ラフィネート、天然ワックス、水素化分解油、熱分解油、フート油、石炭液化またはシェール油からのワックス、他の適切な（鉱油、非鉱油、非石油、または天然源誘導ワックス質物質）、炭素数約２０以上、好ましくは約３０以上を有する線状または分技ヒドロカルビル化合物、若しくはこれらの異性化油／異性化脱ロウ油基材および基油の混合物の一種以上などの原料材である。
【００４４】
スラックワックスは、ワックス質炭化水素油（例えば石油）から、溶剤または自動冷却脱ロウによって回収されるワックスである。溶剤脱ロウは、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、ＭＥＫ／ＭＩＢＫの混合物、ＭＥＫおよびトルエンの混合物などの冷溶剤を用い、一方自動冷却脱ロウは、加圧された液化低沸点炭化水素（プロパンまたはブタンなど）を用いる。
【００４５】
石油から確保されるスラックワックスは、硫黄および窒素含有化合物を含んでもよい。これらのヘテロ原子化合物は、水素化（水素化分解ではない）によって、例えば水素化脱硫（ＨＤＳ）および水素化脱窒素（ＨＤＮ）によって除去されなければならず、そのために水素異性化触媒の引続く被毒／不活性化が防止される。
【００４６】
本明細書および請求項で用いられる用語「ＧＴＬ基油／基材」、および／または「ワックス異性化基油／基材」は、製造プロセスで回収されるＧＴＬ基材／基油またはワックス異性化油基材／基油の各留分、二種以上のＧＴＬ基材／基油留分および／またはワックス異性化油基材／基油留分の混合物、同様に一種または二種以上の低粘度ＧＴＬ基材／基油留分および／またはワックス異性化油基材／基油留分と、一種または二種以上の高粘度ＧＴＬ基材／基油留分および／またはワックス異性化油基材／基油留分との混合物を包含して、ダンベル混合物が製造され、その際混合物は、前記される範囲内の粘度を示すものとして解されるべきである。
【００４７】
好ましい実施形態においては、ＧＴＬ基材が誘導されるＧＴＬ物質は、Ｆ−Ｔ物質（即ち、炭化水素、ワックス質炭化水素、ワックス）である。スラリーＦ−Ｔ合成プロセスは、好都合に、原料をＣＯおよび水素から合成するのに用いられてもよい。特に、触媒コバルト成分を含むＦ−Ｔ触媒を用いて、高いアルファが提供され、より望ましいより高分子量のパラフィンが製造されるものである。このプロセスはまた、当業者に周知である。
【００４８】
Ｆ−Ｔ合成プロセスにおいては、Ｈ２およびＣＯの混合物を含む合成ガスは、接触的に、炭化水素、好ましくは液体炭化水素に転化される。水素／一酸化炭素のモル比は、約０．５〜４の幅広い範囲であってもよいが、より典型的には約０．７〜２．７５、好ましくは約０．７〜２．５の範囲内である。周知のように、Ｆ−Ｔ合成プロセスには、触媒が、固定床、流動床の形態であるか、または炭化水素スラリー液体中の触媒粒子のスラリーとしてあるプロセスが含まれる。Ｆ−Ｔ合成反応の化学量論モル比は、２．０であるが、当業者が知るように、多くの理由から化学量論比以外が用いられる。コバルトスラリー炭化水素合成プロセスにおいては、Ｈ２／ＣＯの原料モル比は、典型的には約２．１／１である。Ｈ２およびＣＯの混合物を含む合成ガスは、スラリーの底部中に上方へバブリングされ、スラリー液体中の微粒子Ｆ−Ｔ合成触媒の存在下に、炭化水素を形成するのに効果的な条件で反応する。該炭化水素の一部は、反応条件で液体であり、炭化水素スラリー液体を含む。合成された炭化水素液体は、他の分離手段（遠心分離など）が用いられることができるものの、ろ過などの手段によって、触媒粒子からろ過液として分離される。合成された炭化水素のいくらかは、未反応の合成ガスおよび他のガス状反応生成物と共に、蒸気として炭化水素合成反応器の頂部から外に送られる。これらの塔頂炭化水素蒸気のいくらかは、典型的には、液体へ凝縮され、炭化水素液体のろ過液と組合される。従って、ろ過液の初留点は、凝縮された炭化水素蒸気のいくらかがそれと組合されているか否かによって異なってもよい。スラリー炭化水素合成のプロセス条件は、触媒および所望の生成物によって、いくらか異なる。主にＣ５＋パラフィン（例えば、Ｃ５＋〜Ｃ２００）、好ましくはＣ１０＋パラフィンを含む炭化水素を、担持コバルト成分を含む触媒を用いるスラリー炭化水素合成プロセスで形成するのに効果的な典型的な条件には、例えば、温度約３２０〜８５０°Ｆ、圧力８０〜６００ｐｓｉ、および時間空間速度１００〜４０，０００Ｖ／時／Ｖ（ガス状ＣＯおよびＨ２混合物の標準容積（０℃、１気圧）／時／触媒の容積として表される）が含まれる。用語「Ｃ５＋」は、本明細書では、炭素数４超を有する炭化水素をいうのに用いられる。しかし、炭素数５を有する物質が存在しなければならないことを意味するものではない。同様に、炭素数に関して引用される他の範囲は、炭素数範囲の限界値を有する炭化水素が存在しなければならないこと、または引用される範囲内の全ての炭素数が存在することを意味するものではない。炭化水素合成反応は、制限された水性ガスシフト反応が生じるか、または全く生じない条件下で行われることが好ましい。より好ましくは、水性ガスシフト反応が、炭化水素合成中に全く生じない。また、反応を、アルファ値少なくとも０．８５、好ましくは少なくとも０．９以上、より好ましくは少なくとも０．９２を達成する条件下で行い、そのためにより多くのより望ましい、より高分子量の炭化水素が合成されることが好ましい。これは、触媒コバルト成分を含む触媒を用いるスラリープロセスで達成されている。当業者は、アルファ値が、シュルツ−フローリー動力学のア���ファ値を意味することを知っている。適切なＦ−Ｔ反応タイプの触媒は、例えば一種以上の第ＶＩＩＩ族触媒金属（Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｕ、およびＲｅなど）を含むものの、触媒は、コバルト触媒成分を含むことが好ましい。一実施形態においては、触媒は、触媒有効量のＣｏ、並びにＲｅ、Ｒｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｔｈ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｕ、Ｍｇ、およびＬａの一種以上を、適切な無機担体物質上、好ましくは一種以上の耐火性金属酸化物を含むもの上に含む。Ｃｏ含有触媒の好ましい担体は、特にチタニアを含む。有用な触媒およびその調製は、知られており、かつ例示される。しかし、限定しない例は、例えば、特許文献４５、特許文献４６、特許文献４７、特許文献４８および特許文献４９に見出されてもよい。
【００４９】
上記されるように、基材が誘導されるワックス質原料は、鉱油、非鉱油、非石油、または他の天然源からのワックスまたはワックス質原料であり、特に、スラックワックス、またはＧＴＬ物質、好ましくはＦ−Ｔ物質（Ｆ−Ｔワックスと呼ばれる）である。Ｆ−Ｔワックスは、好ましくは初留点６５０〜７５０°Ｆを有し、かつ好ましくは終点少なくとも１０５０°Ｆまで連続的に沸騰する。より狭いカットのワックス質原料はまた、水素異性化において用いられてもよい。ｎ−パラフィンワックス質原料の一部は、より低沸点のイソパラフィン物質へ転化される。それ故、イソパラフィン（潤滑油範囲で沸騰する異性化油を含む）を得るには、十分な重質ｎ−パラフィン物質が存在しなければならない。接触脱ロウがまた、異性化／異性化脱ロウの後に行われる場合には、異性化油／異性化脱ロウ油のいくらかはまた、従来の接触脱ロウにおいて、より低沸点の物質へ水素化分解されるであろう。それ故、ワックス質原料の終点は、１０５０°Ｆ（１０５０°Ｆ＋）超であることが好ましい。
【００５０】
沸点範囲が本明細書に示される場合には、それは、より低いか、および／またはより高い蒸留温度（留分を区分するのに用いられる）を定義する。（例えば、留分が連続して沸騰するか、または全範囲を構成するかを特定することによって）特段に示されない限り、沸点範囲の特定は、特定の限界のいかなる物質も存在しなければならないことを必要とせず、むしろそれは、その範囲外で沸騰する物質を除外する。
【００５１】
ワックス質原料は、好ましくは、炭化水素合成プロセスによって形成される全６５０〜７５０°Ｆ＋留分を含み、初期カットポイント６５０°Ｆ〜７５０°Ｆ（従業者によって決定される）、および終点（好ましくは１０５０°Ｆ超）を有する。これは、合成の従業者によって用いられる触媒およびプロセス変量によって決定される。これらの留分は、本明細書では、「６５０〜７５０°Ｆ＋留分」といわれる。対照的に、「６５０〜７５０°Ｆ−留分」は、未特定の初期カットポイントおよび終点が、凡そ６５０°Ｆおよび７５０°Ｆである留分をいう。ワックス質原料は、全留分として、または蒸留または他の分離技術によって調製される全留分の部分として処理されてもよい。ワックス質原料はまた、典型的には９０％超、一般には９５％超、好ましくは９８重量％超のパラフィン質炭化水素を含み、その殆どは、ノルマルパラフィンである。それは、極僅かな量の硫黄および窒素化合物（例えば、それぞれ１ｗｐｐｍ未満）を有し、酸素２，０００ｗｐｐｍ未満、好ましくは１，０００ｗｐｐｍ未満、より好ましくは５００ｗｐｐｍ未満を含酸素化合物の形態で有する。これらの特性を有し、かつ本発明のプロセスで有用なワックス質原料は、先に示されるように、触媒コバルト成分を有する触媒を用いるスラリーＦ−Ｔプロセスを用いて製造されている。
【００５２】
潤滑油基材をワックス質材（例えば、スラックワックスまたはＦ−Ｔワックス）から製造する方法は、水素化脱ロウプロセスと特徴付けられてもよい。スラックワックスが原料として用いられる場合には、それらは、予備水素化工程に既に当業者に周知の条件下で付されて、硫黄および窒素含有化合物が、（触媒の被毒または不活性化を効果的に回避するであろうレベルまで）低減されるか、またはそれらが除去されることが必要があってもよい。これらは、さもなければ、続く工程で用いられる水素異性化／水素化脱ロウ触媒を不活性化するであろう。Ｆ−Ｔワックスが用いられる場合には、これらの予備処理は必要とされない。何故なら、上に示されるように、これらのワックスは、ほんの痕跡量（約１０ｐｐｍ未満、またはより典型的には約５ｐｐｍ未満〜０）の硫黄または窒素化合物含有量を有するからである。しかし、Ｆ−Ｔワックスに供給されるいくらかの水素化脱ロウ触媒は、含酸素化合物の除去に好都合であってもよく、一方他のものは、含酸素化合物の処理に好都合であってもよい。水素化脱ロウプロセスは、触媒の組み合わせにより、または単一の触媒により行われてもよい。転化温度は、圧力約５００〜２０，０００ｋＰａで、約１５０℃〜約５００℃の範囲である。このプロセスは、水素の存在下で運転されてもよく、水素分圧は、約６００〜６０００ｋＰａの範囲である。水素／炭化水素原料材の比率（水素循環速度）は、典型的には、約１０〜３５００ｎ．ｌ．ｌ．−１（５６〜１９，６６０ＳＣＦ／ｂｂｌ）の範囲であり、原料材の空間速度は、典型的には、約０．１〜２０ＬＨＳＶ、好ましくは０．１〜１０ＬＨＳＶの範囲である。
【００５３】
いかなる必要な水素化脱窒素または水素化脱硫にも引続いて、基材をこれらのワックス質原料から製造するのに用いられる水素処理は、非晶質水素化分解／水素異性化触媒（潤滑油水素化分解（ＬＨＤＣ）触媒など、例えばＣｏ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｗ、Ｍｏ等を、酸化物担体（例えば、アルミナ、シリカ、シリカ／アルミナ）上に含む触媒など）、若しくは結晶質水素化分解／水素異性化触媒、好ましくはゼオライト触媒を用いてもよい。
【００５４】
ＧＴＬ物質および／またはワックス質物質を、基材または基油へ水素化分解／水素異性化／異性化脱ロウのための他の異性化触媒およびプロセスは、例えば、特許文献５０、特許文献５１、特許文献５２、特許文献５３、特許文献５４、特許文献５５、特許文献５６、特許文献５７、特許文献５８、特許文献５９、特許文献６０、特許文献６１、特許文献６２、特許文献６３、特許文献６４、特許文献６５、特許文献６６、特許文献６７、特許文献６８、特許文献４２、特許文献６９、特許文献７０、特許文献７１、特許文献７２、特許文献７３、特許文献７４、特許文献７５、特許文献７６、特許文献７７、特許文献７８および特許文献７９、特許文献８０、特許文献８１、特許文献８２、特許文献８３、特許文献８４、特許文献８５、特許文献８６、特許文献８７、特許文献８８、特許文献８９、特許文献９０、特許文献９１、特許文献９２、特許文献９３、同様に特許文献９４、特許文献９５、特許文献９６、特許文献９７、特許文献９８および特許文献９９に記載される。特に好ましいプロセスは、特許文献１００および特許文献１０１に記載される。Ｆ−Ｔワックス原料を用いるプロセスは、特許文献１０２、特許文献１０３、特許文献１０４、特許文献１０５、特許文献１０６、特許文献１０７および特許文献１０８に記載される。
【００５５】
本明細書に開示されるｎ−パラフィンワックス質原料材を転化して、イソパラフィン質炭化水素基油を形成するのに有用な炭化水素転化触媒は、ゼオライト触媒である。ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−１２、ＺＳＭ−３８、ＺＳＭ−４８、オフレタイト、フェリエライト、ゼオライトベータ、ゼオライトシータ、およびゼオライトアルファなどである。これは、特許文献１０９に開示される。これらの触媒は、第ＶＩＩＩ族金属、特にパラジウムまたは白金との組み合わせで用いられる。第ＶＩＩＩ族金属は、従来の技術（イオン交換など）によってゼオライト触媒に組込まれてもよい。
【００５６】
一実施形態においては、ワックス質原料材の転化は、Ｐｔ／ゼオライトベータおよびＰｔ／ＺＳＭ−２３触媒の組み合わせによって、水素の存在下に行われてもよい。他の実施形態においては、潤滑油基材を製造するプロセスは、単一の触媒（Ｐｔ／ＺＳＭ−３５など）による水素異性化／脱ロウを含む。更に他の実施形態においては、ワックス質原料は、第ＶＩＩＩ族金属充填ＺＳＭ−４８、好ましくは第ＶＩＩＩ族貴金属充填ＺＳＭ−４８、より好ましくはＰｔ／ＺＳＭ−４８に、単段または二段のいずれかで供給されることができる。いかなる場合においても、有用な炭化水素基油生成物が得られてもよい。触媒ＺＳＭ−４８は、特許文献１１０に記載される。第ＶＩＩＩ族金属充填ＺＳＭ−４８種の触媒、好ましくはＰｔ／ＺＳＭ−４８を、ワックス質原料材の水素異性化で用いることは、いかなる引続く別個の接触または溶剤脱ロウ工程もその必要性をなくし、かつ好ましい。
【００５７】
別個の脱ロウ工程は、必要な場合には、周知の溶剤または接触脱ロウプロセスのいずれかを用いて達成されてもよい。全水素異化油または６５０〜７５０°Ｆ＋留分のいずれかは、それが、脱ロウ前に、より高沸点の物質から分離されていない場合に、存在する６５０〜７５０°Ｆ−物質を意図的に用いることによって、脱ロウされてもよい。溶剤脱ロウにおいては、水素異性化油は、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、ＭＥＫ／ＭＩＢＫの混合物、またはＭＥＫ／トルエンの混合物などの冷溶剤と接触され、更に、より高い流動点の物質を、ワックス質固体として沈殿するように冷却されてもよい。これは、次いで、溶剤含有潤滑油留分から分離される。これは、ラフィネートである。ラフィネートは、典型的には更に、スクレープドサーフェスチラーで冷却されて、より多くのワックス固体が除去される。低分子量の炭化水素（プロパンなど）がまた、脱ロウに用いられる。その際、水素異性化油は、液体プロパンと混合され、その少なくとも一部が、フラッシングされて除かれ、水素異性化油が冷却され、ワックスが沈殿されて出される。ワックスは、ラフィネートから、ろ過、膜分離、または遠心分離によって分離される。溶剤は、次いで、ラフィネートからストリッピングされる。これは、次いで、分留されて、本発明で有用な好ましい基材が製造される。また、接触脱ロウは、周知である。その際、水素異性化油は、水素と、適切な脱ロウ触媒の存在下に、水素異性化油の流動点を低下するのに効果的な条件で反応される。接触脱ロウはまた、水素異性化油の一部を、より低沸点の物質（沸点範囲が、例えば６５０〜７５０°Ｆ−である）へ転化する。これは、より重質の６５０〜７５０°Ｆ＋基材留分から分離され、基材留分は、二種以上の基材に分留される。より低沸点の物質の分離は、６５０〜７５０°Ｆ＋物質を、所望の基材に分留する前、またはその際のいずれかで達成されてもよい。
【００５８】
水素異性化油の流動点を低減するであろういかなる脱ロウ触媒も、好ましくは大収率の潤滑油基材を水素異性化油から提供するものが、用いられてもよい。これらには、形状選択性モレキュラーシーブが含まれる。これは、少なくとも一種の触媒金属成分と組合される場合に、石油留分を脱ロウするのに有用であることが示されている。これには、例えば、フェリエライト、モルデナイト、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−２２（シータ１またはＴＯＮとしても知られる）、およびシリコアルミノホスフェート（ＳＡＰＯとして知られる）が含まれる。意外にも、特に効果的であることが見出されている脱ロウ触媒は、Ｈ−モルデナイトと複合化された貴金属（好ましくはＰｔ）を含む。脱ロウは、触媒を、固定、流動、またはスラリー床で用いて達成されてもよい。典型的な脱ロウ条件には、温度約４００〜６００°Ｆ、圧力５００〜９００ｐｓｉｇ、Ｈ２処理速度１５００〜３５００ＳＣＦ／Ｂ（流通型反応器）、およびＬＨＳＶ  ０．１〜１０、好ましくは０．２〜２．０が含まれる。脱ロウは、典型的には、初留点６５０〜７５０°Ｆを有する水素異性化油４０重量％以下、好ましくは３０重量％以下を、その初留点未満で沸騰する物質へ転化するように行われる。
【００５９】
ＧＴＬ基材、異性化または異性化脱ロウワックス誘導基材は、従来のグループＩＩおよびグループＩＩＩ基材および基油に勝る好都合な動粘度を有し、そのために本発明により、非常に好都合に用いられてもよい。これらのＧＴＬ基材および基油は、実質的により高い動粘度（１００℃）約２０〜５０ｍｍ２／秒未満を有することができる。その際、商業的なグループＩＩ基油と比べると、約１５ｍｍ２／秒未満を有することができ、商業的なグループＩＩＩ基油は、動粘度（１００℃）約１０ｍｍ２／秒未満を有することができる。より高い動粘度範囲のＧＴＬ基材および基油は、より制限された動粘度範囲のグループＩＩおよびグループＩＩＩ基材および基油と比べて、本発明との組み合わせで、潤滑油組成物を配合する際に、更なる好都合な利点を提供することができる。
【００６０】
本発明においては、一種以上の異性化油／異性化脱ロウ油基材、ＧＴＬ基材、またはそれらの混合物、好ましくは、ＧＴＬ基材は、基油の全て、またはその一部を構成することができる。
【００６１】
一種以上のワックス異性化油／異性化脱ロウ油基材および基油は、それ自体で、またはＧＴＬ基材および基油との組み合わせで用いられることができる。
【００６２】
ＧＴＬ物質および／または他のワックス質原料物質から誘導される一種以上のこれらのワックス質原料誘導基材および基油は、同様に、それ自体で、または更に鉱油源、天然油の他の基材および基油との、および／または合成基油との組み合わせで用いられることができる。
【００６３】
ＧＴＬ物質および／またはワックス質原料から誘導される好ましい基材または基油は、主にパラフィン質組成を有するものとして特徴付けられ、更に、高い飽和分レベル、低〜０の硫黄、低〜０の窒素、低〜０の芳香族を有するものとして特徴付けられる。これは、本質的には、色相が無色透明である。
【００６４】
ＧＴＬ基材／基油、および／またはワックス水素異性化油／異性化脱ロウ油、好ましくはＦ−Ｔワックスから得られるＧＴＬ基油／基材、より好ましくはＦ−Ｔワックスの水素異性化／異性化脱ロウによって得られるＧＴＬ基油／基材は、基油全量の約５〜１００重量％、好ましくは約（２０〜４０）〜１００重量％、より好ましくは約７０〜１００重量％を構成することができ、用いられる量は、仕上げ潤滑油の要件に関して、実務者に任される。
【００６５】
好ましいＧＴＬ液体炭化水素組成物は、次のパラフィン質炭化水素成分を含むものである。即ち、メチル水素のパーセント（ＢＩ）によって測定される分技の程度、および末端基または分技から炭素原子４個以上の離れた循環メチレン炭素のパーセント（ＣＨ２≧４）によって測定される分技近接度は、次の通りである。即ち、（ａ）ＢＩ−０．５（ＣＨ２≧４）＞１５、および（ｂ）ＢＩ＋０．８５（ＣＨ２≧４）＜４５である。これは、全体として、該液体炭化水素組成物にわたって測定される。
【００６６】
好ましいＧＴＬ基油は、更に、所望により、芳香族炭化水素０．１重量％未満、窒素含有化合物２０ｗｐｐｍ未満、硫黄含有化合物２０ｗｐｐｍ未満、流動点−１８℃未満、好ましくは−３０℃未満、好ましいＢＩ≧２５．４、および（ＣＨ２≧４）≦２２．５を有するものとして特徴付けられることができる。それらは、名目沸点３７０℃＋を有し、平均して、それらは、１０より少ないヘキシル、またはより長い分技／炭素原子１００個であり、かつ平均して１６超のメチル分技／炭素原子１００個を有する。それらはまた、ＣＣＳによって測定される粘性率（−４０℃）、および次式：ＤＶ（−４０℃）＜２９００（ＫＶ、１００℃）−７０００によって表される動粘度（１００℃）の組み合わせによって特徴付けられることができる。
【００６７】
好ましいＧＴＬ基油はまた、分技パラフィンの混合物を含むものとして特徴付けられる。これは、潤滑油基油が、分技パラフィンの混合物少なくとも９０％を含むという点で特徴付けられる。その際、該分技パラフィンは、炭素鎖長約Ｃ２０〜約Ｃ４０、分子量約２８０〜約５６２、沸点範囲約６５０°Ｆ〜約１０５０°Ｆを有するパラフィンであり、更に該分技パラフィンは、アルキル分技４未満を含み、かつ該分技パラフィンの遊離炭素指数は、少なくとも約３である。
【００６８】
上記において、分技指数（ＢＩ）、分技近接度（ＣＨ２≧４）、および遊離炭素指数（ＦＣＩ）は、次のように決定される。
【００６９】
分枝指数
３５９．８８ＭＨｚ  １Ｈ溶液  ＮＭＲスペクトルは、ＣＤＣｌ３の１０％溶液を用いて、Ｂｒｕｋｅｒ  ３６０ＭＨｚ  ＡＭＸ分光計で得られる。ＴＭＳは、内部化学シフト基準である。ＣＤＣｌ３溶液は、７．２８に位置するピークを示す。全てのスペクトルは、９０度パルス（１０．９μ秒）、パルス遅れ時間３０秒（最長の水素スピン−格子緩和時間（Ｔ１）の少なくとも５倍である）、および１２０スキャン（良好なＳ／Ｎ比を確保するため）を用いる定量条件下で得られる。
【００７０】
Ｈ原子タイプは、次の領域に従って定義される。
９．２〜６．２ｐｐｍの芳香族環の水素
６．２〜４．０ｐｐｍのオレフィン炭素原子の水素
４．０〜２．１ｐｐｍの芳香族環のα−位置のベンジル水素
２．１〜１．４ｐｐｍのパラフィン質ＣＨメチン水素
１．４〜１．０５ｐｐｍのパラフィン質ＣＨ２メチレン水素
１．０５〜０．５ｐｐｍのパラフィン質ＣＨ３メチル水素
である。
【００７１】
分技指数（ＢＩ）は、非ベンジルメチル水素（０．５〜１．０５ｐｐｍの範囲）／全非ベンジル脂肪族水素（０．５〜２．１ｐｐｍ）の比（％）として計算される。
【００７２】
分枝近接度（ＣＨ２≧４）
９０．５ＭＨｚ３ＣＭＲ単一パルスおよび１３５分極移動無歪感度増大（ＤＥＰＴ）  ＮＭＲスペクトルは、ＣＤＣＬ３の１０％溶液を用いて、Ｂｒｕｃｋｅｒ３６０ＭＨｚ  ＡＭＸ分光計で得られる。ＴＭＳは、内部化学シフト基準である。ＣＤＣＬ３溶液は、１３Ｃスペクトルにおいて、７７．２３ｐｐｍに位置する三重線を示す。全ての単一パルススペクトルは、４５゜パルス（６．３μｓ）、パルス遅れ時間６０秒（最長の炭素スピン−格子緩和時間（Ｔ１）の少なくとも５倍である）（試料の完全な緩和を確保するため）、２００スキャン（良好なＳ／Ｎ比を確保するため）、およびＷＡＬＴＺ−１６プロトンデカップリングを用いる定量条件下で得られる。
【００７３】
Ｃ原子タイプのＣＨ３、ＣＨ２、およびＣＨは、１３５ＤＥＰＴ１３Ｃ  ＮＭＲ実験から同定される。≒２９．８ｐｐｍにおける全１３Ｃ  ＮＭＲスペクトルの主なＣＨ２共鳴は、末端基または分技から４個以上離れた等量の循環メチレン炭素による（ＣＨ２＞４）。分技のタイプは、主に、分技の端部におけるメチル炭素、または分枝上のメチルから一つ離れたメチレン炭素に対する１３Ｃ化学シフトに基づいて決定される。
【００７４】
遊離炭素指数（ＦＣＩ）。ＦＣＩは、炭素の単位で表され、末端炭素から少なくとも５炭素、および側鎖から４炭素離れて位置されるイソパラフィン中の炭素数の尺度である。末端メチルまたは分技炭素を「１」として数えて、ＦＣＩの炭素は、直鎖末端メチルまたは分技メタン炭素のいずれかから５番目超の炭素である。これらの炭素は、炭素−１３スペクトルにおいて、２９．９ｐｐｍ〜２９．６ｐｐｍに現れる。それらは次のように測定される。
ａ．試料中の分子の平均炭素数を計算する。これは、潤滑油物質について、試料油の分子量を１４（ＣＨ２の式量）で単純に除することによって、十分な正確さで達成される。
ｂ．全炭素−１３積分面積（チャート区分または面積カウント）を、工程ａからの平均炭素数で除して、積分領域／試料中の炭素が得られる。
ｃ．試料の面積（２９．９ｐｐｍ〜２９．６ｐｐｍ）を測定する。
ｄ．工程ｂからの積分面積／炭素で除して、ＦＣＩが得られる。
分技の測定は、いかなるフーリエ変換ＮＭＲ分光計をも用いて行われることができる。好ましくは、測定は、７．０Ｔ以上の磁石を有する分光計を用いて行われる。全ての場合において、質量分光計、ＵＶ、またはＮＭＲ検査（芳香族炭素が含まれない）による検証の後、スペクトル幅は、飽和炭素領域に制限された。即ち、ＴＭＳ（テトラメチルシラン）に対して約０〜８０ｐｐｍである。クロロホルム−ｄ１の１５〜２５重量％溶液は、４５゜パルスによって励起された。これは、０．８秒の捕捉時間を続けられた。不均一な強度データを最小にするために、プロトンデカップラーは、励起パルスの前の１０秒遅れ中に、および捕捉中にゲート制御された。全実験時間は、１１〜８０分の範囲であった。ＤＥＰＴおよびＡＰＴのシーケンスは、若干変更された文献記載に従って行われた。これは、ＶａｒｉａｎまたはＢｒｕｋｅｒ運転マニュアルに記載される。
【００７５】
ＤＥＰＴは、「分極移動による無歪感度増大法」である。ＤＥＰＴは、四級を示さない。ＤＥＰＴ４５シーケンスは、プロトンに結合された全ての炭素に対する信号を示す。ＤＥＰＴ９０は、ＣＨ炭素のみを示す。ＤＥＰＴ１３５は、ＣＨおよびＣＨ３アップを示し、ＣＨ２は、相から１８０゜外（ダウン）である。ＡＰＴは、付属プロトン試験である。それにより、全ての炭素を調べることが可能となる。しかし、ＣＨおよびＣＨ３がアップの場合には、四級およびＣＨ２はダウンである。シーケンスは、全ての分技メチルが、対応するＣＨを有するという点で有用である。メチルは、明らかに、化学シフトおよび相によって同定される。各試料の分技特性は、全試料がイソパラフィン質であるという仮定を計算で用いて、Ｃ−１３ＮＭＲによって決定される。補正は、ｎ−パラフィンまたはシクロパラフィンに対しては行われない。これは、油試料中に、種々の量で存在してもよい。シクロパラフィン含有量は、電界イオン化質量分光計（ＦＩＭＳ）を用いて測定される。
【００７６】
ＧＴＬ基油および合成炭化水素から誘導される基油、例えば水素異性化または異性化脱ロウワックス質合成炭化水素（例えばＦ−Ｔワックス質炭化水素基油）は、低または０の硫黄およびリン含有量を有するものである。硫黄、硫酸灰分、および亜リン酸含有量を徐々に低減された配合油を製造して、常に徐々に制限される環境規制が満たされるために、本来の装置製造業者および油配合業者の間に動きがある。低ＳＡＰ油として知られるこれらの油は、それ自体が、本来、低または０の初期硫黄およびリン含有量を有するものである基油の使用によるであろう。これらの油は、基油として用いられる場合に、低灰分の添加剤を用いて配合されることができ、添加剤が硫黄および／またはリンを含んでいるとしても、得られる配合油は、より低いか、または低いＳＡＰであろう。
【００７７】
車両エンジン（火花点火および圧縮点火の両方）のための低ＳＡＰ配合油は、硫黄含有量０．７重量％以下、好ましくは０．６重量％以下、より好ましくは０．５重量％以下、最も好ましくは０．４重量％以下、灰分含有量１．２重量％以下、好ましくは０．８重量％以下、より好ましくは０．４重量％以下、およびリン含有量０．１８％以下、好ましくは０．１重量％以下、より好ましくは０．０９重量％以下、最も好ましくは０．０８重量％以下を有し、ある事例においては、更に好ましくは０．０５重量％以下を有するであろう。
【００７８】
アルキレンオキサイドポリマーおよび共ポリマー、並びに例えば、エステル化またはエーテル化によって得られる修正末端ヒドロキシル基を含むそれらの誘導体は、有用な合成潤滑油である。例として、これらの油は、エチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド、これらのポリオキシアルキレンポリマーのアルキルおよびアリールエーテル（例えば、平均分子量約１０００を有するメチル−ポリイソプロピレングリコールエーテル、分子量約５００〜１０００を有するポリエチレングリコールのジフェニルエーテル、および分子量約１０００〜１５００を有するポリプロピレングリコールのジエチルエーテル）、またはそれらのモノ−およびポリカルボン酸エステル（例えば、酸性酸エステル、混合Ｃ３〜８脂肪酸エステル、またはテトラエチレングリコールのＣ１３オキソ酸ジエステルなど）の重合によって得られてもよい。
【００７９】
エステルは、有用な基材を含む。追加の溶解性およびシール親和性は、エステル（二塩基酸とモノアルカノールとのエステル、およびモノカルボン酸のポリオールエステルなど）を用いることによって得られてもよい。前者タイプのエステルには、例えば、ジカルボン酸（フタル酸、コハク酸、アルキルコハク酸、アルケニルコハク酸、マレイン酸、アゼライン酸、スベリン酸、セバシン酸、フマル酸、アジピン酸、リノール酸二量体、マロン酸、アルキルマロン酸、アルケニルマロン酸等など）と、種々のアルコール（ブチルアルコール、ヘキシルアルコール、ドデシルアルコール、２−エチルヘキシルアルコール等など）とのエステルが含まれる。これらのタイプのエステルの特定の例には、アジピン酸ジブチル、セバシン酸ジ（２−エチルヘキシル）、フマル酸ジ−ｎ−ヘキシル、セバシン酸ジオクチル、アゼライン酸ジイソオクチル、アゼライン酸ジイソデシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジデシル、セバシン酸ジエイコシル等が含まれる。
【００８０】
特に有用な合成エステルは、一種以上の多価アルコール（好ましくは、ネオペンチルポリオール等などのヒンダードポリオール、例えばネオペンチルグリコール、トリメチロールエタン、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、およびジペンタエリトリトールなど）を、炭素原子少なくとも約４個を含むアルカン酸（好ましくは、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキン酸、およびベヘン酸を含む飽和直鎖脂肪酸、若しくは対応する分技鎖脂肪酸またはオレイン酸などの不飽和脂肪酸などのＣ５〜Ｃ３０酸）と反応させることによって得られるものである。
【００８１】
適切な合成エステル成分には、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、トリメチロールエタン、ペンタエリトリトール、および／またはジペンタエリトリトールと、炭素原子約５〜約１０個を含む一種以上のモノカルボン酸とのエステルが含まれる。
【００８２】
ケイ素ベース油は、別の種類の有用な合成潤滑油である。これらの油には、ポリアルキル−、ポリアリール−、ポリアルコキシ−、およびポリアリールオキシ−シロキサン油、およびシリケート油が含まれる。適切なケイ素ベース油の例には、テトラエチルシリケート、テトライソプロピルシリケート、テトラ−（２−エチルヘキシル）シリケート、テトラ−（４−メチルヘキシル）シリケート、テトラ−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）シリケート、ヘキシル−（４−メチル−２−ペントキシ）ジシロキサン、ポリ（メチル）シロキサン、およびポリ−（メチル−２−メチルフェニル）シロキサンが含まれる。
【００８３】
他の種類の合成潤滑油は、リン含有酸のエステルである。これらには、例えば、トリクレジルホスフェート、トリオクチルホスフェート、デカンホスホン酸のジエチルエステルが含まれる。
【００８４】
他の種類の油には、高分子テトラヒドロフラン、その誘導体などが含まれる。
【００８５】
潤滑油粘度の他の有用な流体には、好ましくは接触的に処理されるか、または合成されて、高性能な潤滑特性を提供する特殊なまたは非従来の基材が含まれる。
【００８６】
多くの場合には、ＧＴＬ基材（ワックス質フィッシャー−トロプシュ炭化水素から誘導されるものなど）のみを、特定の耐磨耗性潤滑油に対して用いることは好都合であろう。一方、他の場合には、一種以上の更なる基材が、一種以上のＧＴＬ基材（例えば、フィッシャー−トロプシュ誘導基材）と混合されるか、それに添加されるか、またはそれと混合されてもよい。これらの更なる基材は、（ｉ）天然基材、（ｉｉ）合成基材、（ｉｉｉ）非従来の基材、およびそれらの混合物からなる群から選択されてもよい。
【００８７】
基材混合物が用いられる場合には、それは、少なくとも２０重量％、好ましくは少なくとも４０重量％、より好ましくは少なくとも６０重量％、最も好ましくは少なくとも８０重量％のＧＴＬ基材または基油、若しくはスラックワックスまたはフィッシャー−トロプシュ誘導基材、好ましくはフィッシャー−トロプシュ誘導基材を含むべきである。容易に明白であるように、これらの混合物を用い、一方これらの他の基材が用いられる場合に得られるものに勝る性能を示すいかなる配合油も、ＧＴＬ基材、フィッシャー−トロプシュ誘導基材、またはそれらの混合物が、用いられる唯一の基材である場合に達成されるものより、性能が劣るであろう。
【００８８】
本発明は、低硫黄、低灰分、および低リンの潤滑油組成物を、ＯＥＭの最近の潤滑油要件を満たすように配合する際に、利用されることができる。
【実施例】
【００８９】
実施例１
（ａ）プリミーン（Ｐｒｉｍｅｎｅ）８１Ｒサリチレート：化学量論量のサリチル酸（アルドリッチ（Ａｌｄｒｉｃｈ））を、ゆっくり、プリミーン８１ＲのＣ１２〜Ｃ１４ｔｅｒｔ−アミン（ロームアンドハース（Ｒｏｈｍ  ＆  Ｈａａｓ））の加熱（５０℃）かつ撹拌溶液へ加えた。温度を、酸−塩基中和の発熱反応により、１０５℃まで昇温して保持した。温度を、次いで、１時間で１２６℃へ昇温した。明るい黄色溶液を、冷却時に形成した。
（ｂ）プリミーン（Ｐｒｉｍｅｎｅ）８１Ｒ−オキシオクタデシルサリチレート：（ａ）と同じ手順である。但し、最終温度を、１時間で１３５℃へ昇温した。
（ｃ）プリミーン（Ｐｒｉｍｅｎｅ）８１Ｒ−５−オクチルデシルサリチレート：手順（ｂ）と同じである。
（ｄ）チアジアゾールサリチル酸、チアジアゾール５−オキシオクチルデシルサリチレート、チアジアゾール５−オクチルデシルサリチレート：手順（ｂ）と同じである。
【００９０】
１０５℃では、生成物は、サリチル酸の塩であった。１２０℃超の温度では、生成物は、用いられた酸のアミドであった。
【００９１】
全ての上記添加剤をまた、Ｂ（ＯＨ）３でホウ素化した。各分子へ添加されたホウ素の全量は、５０〜１０００ｐｐｍの範囲であった。
【００９２】
実施例２
この実施例は、ベンチ試験において、プリミーン（Ｐｒｉｍｅｎｅ）８１Ｒサリチレートおよび他の誘導体の優れた性能を示す。
（ａ）ＴＥＯＳＴ３３Ｃ試験：
ＴＥＯＳＴ（熱酸化エンジン模擬試験）は、ＡＳＴＭベンチ試験（Ｄ６３３５）であり、高温ターボチャージャーデポジットを予測するように設計される。
これらの結果は、アミンサリチレートを、金属清浄剤を含まない５Ｗ３０配合油へ添加することにより、実質的に、デポジット形成が、この試験で平均６３％低減されたことを示す。
【００９３】
【表２】
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【００９４】
（ｂ）全塩基価の評価：
配合油における塩基性の保全は、長期のドレイン性能にとって重大である。アミンサリチレートは、次に示されるように、更なるＴＢＮを油へ提供すると考えられる。
【００９５】
【表３】
2008542504.tif 000007
【００９６】
（ｃ）耐磨耗および酸化防止能力：
アミンサリチレートは、次に示されるように、ヒドロペルオキシド分解能力、および耐磨耗剤ＺＤＤＰとの可能な相乗作用を示す。
【００９７】
【表４】
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【００９８】
単にＺＤＤＰを含み、かつプリミーン（Ｐｒｉｍｅｎｅ）８１Ｒサリチレートまたは他の清浄剤（金属）を全く含まない油、またはＺＤＤＰおよび金属清浄剤を含む油に対する磨耗痕直径の結果は、いずれの場合においても、０．６４ｍｍであると見出された。
【００９９】
（ｄ）薄膜酸化試験（ＴＦＯ）：
ＴＦＯは、他のベンチデポジット試験（３時間、６３０゜Ｆ、２５００ｒｐｍ、油量２４５ｃｃ／分、および空気量２００Ｌ／分）である。これは、ＶＷＴＤｉ２（ＣＥＣ  Ｌ−７８−Ｔ−９９）ピストンデポジット試験に、良好に相関がある。この試験は、非特許文献７に記載される。結果は、アミンサリチレート、アミン５−オクチルデシルサリチレート、およびそれらのホウ素化誘導体は、良好な無灰清浄剤であることを示す。
【０１００】
【表５】
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【０１０１】
（ｅ）ＶＷＴＤｉ２（ＣＥＣ  Ｌ−７８−Ｔ−９９）ピストンデポジット試験：
プリミーン（Ｐｒｉｍｅｎｅ）８１Ｒサリチレートおよびそのホウ素化誘導体、並びにプリミーン（Ｐｒｉｍｅｎｅ）８１Ｒ５−オクチルデシルサリチレートを、このベンチエンジン試験で評価した。結果は、この種類の無灰添加剤はまた、燃焼ベンチエンジン試験で、良好に機能することができることを示す。
【０１０２】
【表６】
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【０１０３】
実施例３
サリチル酸および５−オキシアセチルデシルサリチル酸のチアジアゾール（バンルーブ（Ｖａｎｌｕｂｅ）８７１）誘導体は、Ｐ  ０．０８重量％を含む完全配合５Ｗ３０油（参照油３）において清浄剤を５０％置換した油として用いられた場合に、ＴＦＯ試験において、良好な性能を示した（油１および油２）。ＴＦＯの結果を表７に示す。
【０１０４】
【表７】
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【０１０５】
チアジアゾールサリチル酸誘導体はまた、参照油（ＺＤＤＰを、油中のヒドロペルオキシド分解の主要源として含む）に比較して、実質的なヒドロペルオキシド分解能力を示した。表８に示されるように、参照油中のＺＤＤＰ：ｔ−ブチルヒドロペルオキシド（ｔ−ＢＨＰ）の分解比率は、１：３である。これは、文献値と、非常に良好に一致する。チアジアゾール誘導体を油へ添加することにより、この比率が、二倍超になった。
【０１０６】
油を、ＪＥＯＬ  ＧＳＸ−４００  ＮＭＲ分光計を用いる炭素―１３核磁気共鳴（ＮＭＲ）分光法によって、ラーモア周波数１００メガヘルツで検討した。試料の温度を、現場で、２７℃〜６８℃で変動した。２００〜３５０の過渡値を、各スペクトルに対して、９０゜パルス（炭素核）、逆ゲートプロトンデカップリングで採取した。スペクトルを、２７℃で採取して、ｔ−ブチルヒドロペルオキシドおよびｔ−ブチルアルコールの初期相対濃度が測定された。続いて、温度を６５℃へ昇温し、この温度を２４０分保持した。スペクトルを、定期的に採取し、ｔ−ブチルヒドロペルオキシドの分解を、酸素結合炭素の共鳴をヒドロペルオキシドおよびアルコールに対して比較することによって監視した。
【０１０７】
【表８】
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【国際調査報告】
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