(57)【要約】【課題】改善した耐光酸化性を有するスチレンブタジエンスチレンブロックコポリマーをベースとする接着剤組成物【解決手段】本発明は、安定剤としてＮ−メチル基置換立体障害性アミンを含有する改善した耐光酸化性を有するスチレンブタジエンスチレンベースの感圧接着剤組成物に関する。本発明の更なる局面は、ブタジエンベースの感圧接着剤組成物の安定化のための方法及びスチレンブタジエンスチレンベースの感圧接着剤のための安定剤としてのＮ−メチル基置換立体障害性アミンの使用である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）スチレンブタジエンスチレンブロックコポリマー及び
ｂ）式（１）
【化１】
2008542487.tif 000014
（式中、＊は原子価を表す。）で表される構造要素を有し、８００ｇ／ｍｏｌ未満の分子量を有する立体障害性アミン光安定剤を含む感圧接着剤組成物。
【請求項２】
前記立体障害性アミンが、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート又はビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネートである、請求項１記載の感圧接着剤組成物。
【請求項３】
付加的にヒドロキシベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニルトリアジン、シュウ酸アニリド及びベンゾフェノンの群から選ばれるＵＶ吸収剤が存在する、請求項１記載の感圧接着剤組成物。
【請求項４】
前記ＵＶ吸収剤が、式
【化２】
2008542487.tif 000015
【化３】
2008542487.tif 000016
で表されるものである、請求項３記載の感圧接着剤組成物。
【請求項５】
前記立体障害性アミンが、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートであり及び付加的にＵＶ吸収剤が存在し、該ＵＶ吸収剤が式
【化４】
2008542487.tif 000017
で表されるものである、請求項１記載の感圧接着剤組成物。
【請求項６】
前記立体障害性アミンがビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネートであり及び付加的にＵＶ吸収剤が存在し、及び該ＵＶ吸収剤が式
【化５】
2008542487.tif 000018
で表されるものである、請求項１記載の感圧接着剤組成物。
【請求項７】
付加的に立体障害性フェノール系酸化防止剤、アルキルチオメチルフェノール又はホスフィットもしくはホスホナイト又はそれらの組合せを含む、請求項１記載の感圧接着剤組成物。
【請求項８】
スチレンブタジエンスチレンブロックコポリマーをベースとする感圧接着剤組成物の安定化方法であって、該組成物に式（Ｉ）
【化６】
2008542487.tif 000019
（式中、＊は原子価を表す。）で表される構造要素を有し、８００ｇ／ｍｏｌ未満の分子量を有する立体障害性アミン光安定剤を添加することを含む方法。
【請求項９】
スチレンブタジエンスチレンブロックコポリマーベースの感圧接着剤の安定化のための、式（１）
【化７】
2008542487.tif 000020
（式中、＊は原子価を表す。）で表される構造要素を有し、８００ｇ／ｍｏｌ未満の分子量を有する立体障害性アミン光安定剤の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、安定剤としてＮ−メチル基置換立体障害性アミンを含有する改善した耐光酸化性を有するブタジエンベースの感圧接着剤組成物に関する。本発明の更なる局面は、ブタジエンベースの感圧接着剤組成物の安定化方法及びブタジエンベースの感圧接着剤のための安定剤としてのＮ−メチル基置換立体障害性アミンの使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
感圧接着剤（ＰＳＡ）は、多くの基材に様々な物質を接着するために使用されている。感圧接着剤は、長時間高い表面粘着性を維持する接着剤である。言い換えれば、ＰＳＡは、理論上無限のオープンタイムを有する。ＰＳＡの接着力は、接着剤の、基材及び接着される物質の両方の表面との適合能力に由来する。接着剤の接着は、物体と基材の両方に対する粘着剤の適合性と粘着剤の本質的粘着性に起因する。接着物質の本質におけるいかなる変化も接着剤の接着強さ及び粘着性に大きな影響を有し得る。接着物質のいかなる相当な劣化も接着強さの損失を引き起こす。さらに、接着結合強さは、接着物質の汚染又は接着結合と隣接面の間の接合面における表面間の干渉によって低下する。
粘着剤の及び結果として生じる接着の劣化は、可視及び紫外線光のような電磁放射線によって引き起こされ得る。放射線は接着剤におけるポリマー種を分解させ、脆性を増加するか、又は実質的に炭化をもたらす。
多くのホットメルト感圧接着剤調合物は、ＳＩＳ、ＳＢＳ、ＳＥＢＳ及びＳＥＰＳを含む多種多様な熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ’ｓ）に基づいており、ここで、Ｓはスチレンブロックを表し、Ｉはポリイソプレンブロックを表し、Ｂはポリブタジエンブロックを表し、ＥＢはエチレン／ブチレンブロック及び最後にＥＰはポリエチレン／プロピレンブロックを表す。それらエラストマーに基づく多くの組成物が、特許及び一般的な技術文献において提案されている。組成物は、屋内及び屋外使用のために設計されている。屋外使用が想定されるとき、化学線に対する耐久性及び耐性が必要条件になる。
【０００３】
化学線の有害な影響に対する多種多様なＳＩＳベースの感圧接着剤の安定化が非特許文献１にノブロックによって記載されている。しかしながら、スチレンブタジエンスチレン（ＳＢＳ）ブロックコポリマーベースの感圧接着剤は開示されていない。
特許文献１は、スチレンブタジエンブロックコポリマー及びエチレン−ビニル酢酸コポリマーに基づく接着剤のための立体障害性アミン及びフェノール系酸化防止剤の一般的な使用を記載する。しかしながら、該文献は、有用な立体障害性アミンの種類に関しては記載していない。具体的な化合物は開示されていない。
感圧接着剤が太陽光、ＵＶ光に曝露されたとき、特に屋外用途に適用されたとき、優れたＵＶ安定性を示す感圧接着剤組成物が今でもまだ必要とされている。
【特許文献１】特開平０２−３２１８２号公報
【非特許文献１】ＩＰＷ６／９８、５８ないし６４頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
驚くべきことに、８００ｇ／ｍｏｌ未満の分子量及びＮ−メチル置換基を有する立体障害性アミンの添加によって化学線の有害な影響に対して特にＳＢＳベースの感圧接着剤が素晴らしく安定化し得ることが見出されている。安定化された感圧接着剤組成物は、長期間それらの粘着性を保ち、及び従来の安定化組成物と比較して著しく低い変色を示す。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の１つの局面は、
ａ）スチレンブタジエンスチレンブロックコポリマー及び
ｂ）式（Ｉ）
【化１】
2008542487.tif 000002
（式中、＊は原子価を表す。）で表される構造要素を有し、８００ｇ／ｍｏｌ未満の分子量を有する立体障害性アミン光安定剤
を含む感圧接着剤組成物である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
感圧接着剤は典型的にブロックコポリマー、粘着付与樹脂（ｔａｃｋｉｆｙｉｎｇ  ｒｅｓｉｎ）及び所望により可塑化用オイルを含む。ブロックコポリマーは、柔軟性、結着性及び円滑剥離（ｓｍｏｏｔｈ  ｐｅｅｌ）接着性を与える。またさらに粘着付与樹脂及び可塑化オイルの溶解又は懸濁のための媒体を与える。粘着付与樹脂は粘着性及び接着性を高め、及び粘度を減少し、並びに可塑化オイルは剥離値（ｐｅｅｌ  ｖａｌｕｅ）、粘度、ガラス転移温度及び貯蔵弾性率（Ｇ’）を低減し、及び柔軟性を高める。除去可能な接着剤の低い最大剥離値及び低い剥離接着力（ｐｅｅｌ  ａｄｈｅｓｉｏｎ）は、接着剤における高いポリマー及び可塑化濃度並びに低い粘着付与樹脂濃度の使用によってもたらされる。
適用温度での低粘性、耐熱性、優れた低温柔軟性、ベース基材に対する優れた接着力、基材のブリーディング（ｂｌｅｅｄｉｎｇ）又は汚染に対する耐性、及び優れたクイックタック又はクイックスティックを含む感圧接着剤の開発において満足しなければならない多くの要求がある。そのような接着剤の成形における問題は、１つの性質も犠牲にすることなく望ましい要求の優れたバランスをもたらすことである。
【０００７】
感圧接着剤のために使用される典型的なブロックコポリマーは、ＳＩＳ、ＳＢＳ、ＳＥＢＳ及びＳＥＰＳを含む熱可塑性エラストマーであり、前記Ｓはスチレンブロックを表し、Ｉはポリイソプレンブロックを表し、Ｂはポリブタジエンブロックを表し、ＥＢはエチレン／ブチレンブロックを表し及び最後にＥＰはポリエチレン／プロピレンブロックを表す。感圧接着剤組成物はＳＢＳブロックコポリマーを含むことが本発明に必須である。例えば該組成物は、総ブロックコポリマーの質量に基づき、少なくとも５０質量％のＳＢＳブロックコポリマーを含有し、好ましくは１００質量％のＳＢＳブロックコポリマーである。
言い換えれば、感圧接着剤組成物はスチレンブタジエンスチレン（ＳＢＳ）ブロックコポリマー以外のブッロクコポリマーを含有しない。
ＳＢＳブロックコポリマーは技術的に既知であり、及び様々な等級において、例えば商標名クラトン（登録商標：Ｋｒａｔｏｎ）のもと商業上入手可能である。典型的な例及びそれらの調製は欧州特許第１３３１２５８号明細書に記載されている。
本発明に有用な粘着付与樹脂は、広い範囲の商業上入手可能な樹脂から選ばれ得る。それらは、脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素樹脂、変性炭化水素及びテルペン、変性テルペン、ロジン及び変性ロジンを含む。それらの樹脂の軟化点は、好ましくは約１２０℃未満、より好ましくは約１１０℃未満、及び特に８０℃ないし１１０℃である。それらの粘着付与樹脂は、水素化の異なるレベルで商業上入手可能である。注目すべきは、ガムロジン、ウッドロジン、タル油ロジン、蒸留ロジン、二量体ロジン及び重合ロジンを含む水素化の異なるレベルを有する数多くの種類のロジン及び変性ロジンがあることである。ある特定の変性ロジンは、グリセロール並びにウッドロジン及びタル油ロジンのペンタエリト
リトールエステルを含む。
【０００８】
感圧接着剤調合物は溶液ブレンドによって、通常室温で、溶融混合によって又は２００℃までの温度での押出しによって調製し得る。
感圧接着剤調合物は、よく知られている塗布技術によってキャリアフォイル上に適用される。
【０００９】
立体障害性アミン、組成物の成分ｂ）は総組成物の質量に基づき、０．０１ないし５質量％の量で、特に０．１ないし２質量％で存在する。
前記立体障害性アミンがビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート又はビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネートである感圧接着剤組成物が好ましい。
前記立体障害性アミンは、例えばチバスペシャルティケミカルズ社から商業上入手可能である。本発明に有用なのは、チマソルブ１１９（登録商標：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）、チヌビン７６５（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）及びチヌビン１４４（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）、特にチヌビン７６５（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）及びチヌビン１４４（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）である。
【００１０】
具体的な態様において感圧接着剤組成物は、ヒドロキシベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニルトリアジン、シュウ酸アニリド及びベンゾフェノンの群から選ばれるＵＶ吸収剤を付加的に含有する。
ＵＶ吸収剤
２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］、２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物、次式［
Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ−ＣＨ2ＣＨ2−］2−（式中、Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒ
ドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェニル基）で表されるもの、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール。
２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、
４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよび２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
置換された及び置換されてない安息香酸のエステル、例えば、
４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
アクリレート、例えば、
エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン、ネオペンチルテトラ（α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート。
オキサミド、例えば、
４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリドおよび２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとのその混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ二置換オキサニリドの混合物並びにｏ−およびｐ−エトキシ二置換オキサニリドの混合物。
２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば、
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−
３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（４−[２−エチルヘ
キシルオキシ]−２−ヒドロキシフェニル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，
５−トリアジン。
【００１１】
ＵＶ吸収剤が式
【化２】
2008542487.tif 000003
で表されるものである感圧接着剤組成物が好ましい。
前記ＵＶ吸収剤は、好ましくは総組成物の質量に基づき、０．０１ないし５質量％、特に０．１ないし２質量％の量で存在する。
【００１２】
立体障害性アミンがビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートであり、及び付加的に、式
【化３】
2008542487.tif 000004
で表されるＵＶ吸収剤が存在する感圧接着剤組成物が特に価値がある。
【００１３】
また、立体障害性アミンがビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）−マロネートであり、及び付加的に、式
【化４】
2008542487.tif 000005
で表されるＵＶ吸収剤が存在する感圧接着剤組成物も有用である。
【００１４】
上述のＵＶ吸収剤はその多くが市販の物品であり、及び例えばチバスペシャルティケミカルズ社によって、商標名チヌビン（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）のもと売られている。特に有用な市販の化合物は、チヌビン２１３（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）、チヌビン２３４（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）、チヌビン５７１（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）、チヌビン３２６（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）及びチヌビン３２７（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）である。チヌビン５７１（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）、チヌビン２１３（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）及びチヌビン２３４（登録商標：Ｔｉｎｕｖｉｎ）が特に好ましい。異なる類を含む上述のＵＶ吸収剤の混合物もまた使用し得ることが理解される。
【００１５】
感圧接着剤組成物は、立体障害性フェノール系酸化防止剤、アルキルチオメチルフェノール又はホスフィットもしくはホスホナイト又はその組合せを付加的に含み得る。例を以下に与える。
１．  酸化防止剤
１．１．  アルキル化モノフェノール、例えば、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、線状又は側鎖において分岐したノニルフェノール、例えば２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物。
１．２．  アルキルチオメチルフェノール、例えば、
２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、ドデカンチオール及びホルムアルデヒドの反応生成物（ウィングスティ（Ｗｉｎｇｓｔａｙ）K）、オクチルチオメチル化スチレン化フェノール（クマノックス（Ｋｕｍａｎｏｘ）３
０１０）。
１．３．  ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００１６】
１．４．  トコフェロール、例えば、
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）。
１．５．  ヒドロキシ化チオジフェニルエーテル、例えば、
２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
１．６．  アルキリデンビスフェノール、例えば、
２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル
）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００１７】
１．７．  Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、例えば、
３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
１．８．  ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
１．９．  芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００１８】
１．１０．  トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
１．１１．  ベンジルホスホネート、例えば、
ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
１．１２．  アシルアミノフェノール、例えば、
４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【００１９】
１．１３．  β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価または多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
１．１４．  β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価または多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン；３，９−ビス［２−｛３−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンとのエステル。
１．１５．  β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価または多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００２０】
１．１６．  ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸のエステルであって、一価または多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
１．１７．  β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキ
サメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤル社製ナウガードＸＬ−１；登録商標：Ｎａｕｇａｒｄ）。
１．１８．  アスコルビン酸（ビタミンＣ）。
【００２１】
１．１９．  アミン系酸化防止剤、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシル−ジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン。
【００２２】
２．  ホスフィットおよびホスホナイト、例えば、
トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−クミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリル
ソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−第三ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィラン。
【００２３】
下記のホスフィットが特に好ましい：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（イルガフォス（登録商標：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、チバスペシャルティケミカルズ社）、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化５】
2008542487.tif 000006
【化６】
2008542487.tif 000007
この更なる添加剤は、総組成物の質量に基づき、好ましくは０．０１ないし１質量％、特に０．１ないし０．５質量％の量で存在する。
【００２４】
本発明の更なる局面は、スチレンブタジエンスチレンブロックコポリマーに基づく感圧接着剤組成物の安定のための方法であって、該組成物に式（Ｉ）
【化７】
2008542487.tif 000008
（式中、＊は原子価を表す。）
で表される構造要素を有し、８００ｇ／ｍｏｌ未満の分子量を有する立体障害性アミン光安定剤を添加することを含む方法である。
【００２５】
さらにもう１つの本発明の局面は、スチレンブタジエンスチレンブロックコポリマーベースの感圧接着剤の安定化のための、式（Ｉ）
【化８】
2008542487.tif 000009
（式中、＊は原子価を表す。）で表される構造要素を有し、８００ｇ／ｍｏｌ未満の分子量を有する立体障害性アミン光安定剤の使用である。
上記で与えられた定義及び好ましいものは、本発明の他の局面に対してもあてはまる。
下記の実施例は本発明を説明する。
【実施例】
【００２６】
製造及び試験
ＳＢＳ接着剤調合物を、溶媒として１６３部のトルエンに、１．２３部のイルガノックス（登録商標：Ｉｒｇａｎｏｘ）１７２６とともに、１００部のＳＢＳ（クラトンポリマー製のクラトン（登録商標：Ｋｒａｔｏｎ）Ｄ１１０２  ＣＵ、スチレン含有量２９．５質量％）、１２０部の完全に水素化されたロジンのグリセロールエステル（イーストマン製フォラル（登録商標：Ｆｏｒａｌ）８５−Ｅ）及び２５部のパラフィン油（バイエル社製マルコール（登録商標：Ｍａｒｃｏｌ）８２）を溶解することによって製造した。ＳＢＳ＋粘着付与樹脂＋油に対して計算された１．０質量％の異なる光安定剤を前記溶液に加える。
ＳＢＳ−ＰＳＡの製造
前記光安定剤とともに溶媒ベースの接着剤を、ＳＢＳベースの感圧接着剤（ＳＢＳ−ＰＳＡ）の製造に使用した。各々の調合物（ＳＢＳ−ＰＳＡ／トルエン（７５部／５０部））３ｇを、ガラスシャーレ（直径５０ｍｍ）に注ぎ、そして該溶媒を消散させた。最終のＳＢＳ−ＰＳＡフィルム厚は０．８ｍｍだった。ＳＢＳ−ＰＳＡフィルムをＷＯＭ曝露のためにＰＥＴフィルム上にのせた。
促進耐候試験
ＳＢＳ−ＰＳＡフィルムを非積層状で、すなわち剥離紙なしで曝露した。促進耐候試験をウェザロメーター（ＷＯＭ）で行った：キセノン光曝露、ブラックパネル温度６５℃、５０％ｒ．ｈ．、０．３５Ｗ／ｍ2（３４０ｎｍ）日光試験ＣＰＳ＋：キセノン光曝露、
ブラックパネル温度６４℃、５０％ｒ．ｈ．、４００Ｗ／ｍ2（３００ないし８００ｎｍ
）リーボック試験装置：ランプビタルクス（Ｖｉｔａｌｕｘ）３００を備える（６０℃に加熱された）。
色測定
色品質を、ＡＳＴＭ１９２６−７０黄色試験に従いＳＢＳ−ＰＳＡ試料で決定した黄色度に関して報告した。低ＹＩ値は僅かな変色、高ＹＩ値は試料の激しい変色を示す。ＳＢＳ−ＰＳＡが白いほど、よりＳＢＳ接着剤が安定化されている。
粘着性測定
測定した効果性の基準は指粘着性保持力の観点での粘着性である。粘着性保持力が高いほど、よりＳＢＳ接着剤が安定化されている。
【００２７】
この結果を表１ないし６に示す。
【表１】
2008542487.tif 000010
比較Ｂは、８００より高い分子量及びＮ−アルキル置換基を有する立体障害性アミンであった。
比較Ｃは、８００未満の分子量及びＮ−Ｈ置換基を有する立体障害性アミンであった。
本発明の実施例１及び２は、明らかに優れた粘着性保持力を示した。
【表２】
2008542487.tif 000011
【表３】
2008542487.tif 000012
【表４】
2008542487.tif 000013
【国際調査報告】
2008542487.tif 000021
2008542487.tif 000022
2008542487.tif 000023