(57)【要約】  ニッケル基ゲルマニドコンタクトが、コンタクトを形成するための加工中並びにゲルマニド化後のプロセス（post-germanidation processes）中に、ニッケル基ゲルマニドの凝集を妨げる加工助剤を含有する。この加工助剤は、ニッケル層を覆うキャップ層の形をとる、或いは、ニッケル基コンタクトを形成するために使用されるニッケル層内に組み入れられる。凝集を減少させることにより、コンタクトの電気特性を向上させる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンタクトを製作する方法であって、
少なくともゲルマニウムを含有する活性領域を含む基板を設けること、
前記活性領域上にニッケルを含有するコンタクト層を堆積させること、
前記コンタクト層に加工助剤を供給すること、及び
ニッケル基コンタクトを形成するために前記基板を加工することを含み、前記加工が、前記基板をアニールして反応を起こし、前期ニッケル基コンタクトを形成することを含み、前記加工助剤が、加工中に前記コンタクト層での凝集を妨げる、前記方法。
【請求項２】
基板が、上面層がゲルマニウム又はシリコンゲルマニウムを含有する多層基板を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
基板が、ゲルマニウム又はシリコンゲルマニウムを含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
加工助剤が、ニッケル基コンタクトに不溶性である、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
加工助剤が、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｒ又はそれらの組合せを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
加工助剤を供給することが、コンタクト層の上にキャップ層を形成することを含む、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
キャップ層の厚みが、約５００℃以上の温度での凝集を妨げるのに十分である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
キャップ層の厚みが、少なくとも最高約７００℃までの温度での凝集を妨げるのに十分である、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
キャップ層の厚みが、約５０ｎｍ以下である、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
加工助剤を供給することが、ニッケル及び前記加工助剤を含有するニッケル基合金コンタクト層を形成するために、コンタクト層を堆積させるステップに前記加工助剤を組み入れることを含む、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
ニッケル基合金中の加工助剤が、約５０原子百分率未満である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
コンタクト層における加工助剤の割合が、約５００℃以上の温度で加工中に凝集を妨げるのに十分である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
コンタクト層における加工助剤の割合が、少なくとも最高約７００℃までの温度で加工中に凝集を妨げるのに十分である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
加工助剤が、ニッケル基コンタクトに可溶性及び不溶性の材料の組合せを含む、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
加工助剤が、Ｐｔ及び／又はＰｄを含有する、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
少なくともゲルマニウムを含有する活性領域を有する基板と、
前記活性領域に結合された、ニッケルを含むコンタクトと、
前記コンタクトと接触する加工助剤とを含む集積回路であって、前記加工助剤が、前記コンタクトを形成するために、加工中に前記コンタクトにおける前記ニッケルの凝集を妨げる、集積回路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概して、例えば集積回路（ＩＣ）用の、ゲルマニドコンタクト（germanide contact）の形成に関する。本発明は、より詳細には、集積回路用のニッケル基ゲルマニドコンタクト（nickel-based germanide contact）の形成の改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１は、従来型ＣＭＯＳ  ＩＣの一部分１００を示す。この部分は、シリコン基板１０１上に形成された第１及び第２の相補トランジスタ１２０及び１４０を含む。第１のトランジスタは、深いｐドープウェル１２１上に形成されたｎＭＯＳトランジスタであり、第２のトランジスタは、深いｎドープウェル１４１上に形成されたｐＭＯＳトランジスタである。ｎＭＯＳトランジスタの下に浅いｐドープウェル１２２があり、ｐＭＯＳトランジスタの下に浅いｎドープウェル１４２が位置する。トランジスタを分離するためにシャロートレンチアイソレーション１６０が使用される。各トランジスタは、ソース（１２３又は１４３）電極、ドレイン（１２４又は１４４）電極、及びゲート（１２５又は１４５）電極を含む。ｎＭＯＳトランジスタの場合、ソース電極、ドレイン電極及びゲート電極は、Ｐ（リン）などのｎ型ドーパントでドープされる。ｐＭＯＳトランジスタの場合、ソース電極、ドレイン電極及びゲート電極は、Ｂ（ホウ素）などのｐ型ドーパントでドープされる。
【０００３】
例えばトランジスタのソース電極、ドレイン電極、及びゲート電極のコンタクト抵抗を低減するためには、チタンシリサイド又はコバルトシリサイドが使用される。チタンシリサイド及びコバルトシリサイドは、それらの優れた電気特性及び比較的高い熱的安定性により、コンタクト１７０として使用される。金属シリサイドコンタクトは、自己整合シリサイドプロセスを用いて形成される。自己整合プロセスの一環として、ゲート電極の両側に誘電体側壁スペーサ（１２８及び１４８）が使用される。シリサイドプロセスについては、すべての目的で参照により本明細書に組み込まれている、例えば、Sze, "ULSI Technology", McGraw-Hill (1996)に記載されている。
【０００４】
高速用途用に、ゲルマニウムやゲルマニウムシリコンなどのゲルマニウム系基板が使用される。ゲルマニウム系基板は、大きな駆動電流に対して導電性であるそれらの高いキャリア移動度特性により、高速用途に有利である。ゲルマニウム系基板内にソース電極、ドレイン電極、及びゲート電極用コンタクトを形成するためには、金属ゲルマニドプロセスが用いられる。
【０００５】
シリサイドコンタクトを形成するために広く使用されているチタン及びコバルト金属は、ゲルマニドプロセスには不適合である。これは、優れた電気特性（例えば、低い固有抵抗）を有するチタン又はコバルトコンタクトの形成が、ゲルマニウム系適用例に有害な比較的高いアニール温度を必要とするからである。例えば、高温は、ゲルマニウムを蒸発させる、或いは、意図的に歪められた材料が使用された場合にその材料の歪みを望ましくなく緩和する。
【０００６】
【非特許文献１】Sze, "ULSI Technology", McGraw-Hill (1996)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前述の検討から、ＩＣ用の改良されたゲルマニドコンタクトを提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は概して、例えば集積回路の製造に関する。一実施形態では、基板が設けられる。この基板は、ゲルマニウムを含有する活性領域を含む。ニッケル基コンタクトは、活性領域上に形成される。ニッケル基コンタクトは、加工中にニッケルの凝集を妨げる加工助剤（processing material）を含む。これにより、ニッケル基コンタクトの電気特性が向上する。
【０００９】
一実施形態では、活性領域を覆うように、基板の上にニッケル層が堆積される。このニッケル層の上に加工助剤を含むキャップ層が形成される。他の実施形態では、ニッケル層が加工助剤を含有して、ニッケル合金層を形成する。次いで、基板は、ニッケル基コンタクトを形成するために、アニールすることによって加工される。キャップ層又はコンタクト層の加工助剤は、ニッケル基コンタクトを形成するために、アニール中にニッケルの凝集を妨げる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
図２〜６は、本発明の一実施形態による、ニッケル基コンタクトを形成するためのプロセスを示す。図２を参照すると、基板２０１の一部分の断面が示されている。この基板は、集積回路素子を形成する働きをする。一実施形態では、基板は、少なくとも最上層又は表面層がゲルマニウムを含有する多層基板を含む。例えば、多層基板は、ゲルマニウムオンインシュレータ基板を含む。ゲルマニウムオンインシュレータ基板は、シリコン酸化膜などの絶縁体層２０４によって分離されたゲルマニウムを含有する最上層２０５を備えるシリコンバルク基板２０３を含むことができる。基板の最上層は、例えば、単結晶材料、多結晶又はアモルファス材料、或いはそれらの組合せを含む。ゲルマニウム層は、歪んでいても歪み緩和していてもよい。シリコン−ゲルマニウムバルク層の上に、ゲルマニウムを含有する面を設けることも有用である。
【００１１】
他の実施形態では、少なくとも基板の最上層又は表面層が、シリコンゲルマニウムを含有する。好ましくは、このシリコンゲルマニウム層は、ｘを５０原子百分率未満とするＳｉ１−ｘＧｅｘを含有する。シリコンゲルマニウム層は、歪んでいても歪み緩和していてもよい。基板は、シリコンゲルマニウムの上にＧｅ比率の異なるシリコンゲルマニウムを含有することもできる。ゲルマニウム又はシリコンゲルマニウムを含む単一層基板を設けることも有用である。他の実施形態では、少なくとも基板の最上面の一部分が、ゲルマニウム又はシリコンゲルマニウムを含有する。
【００１２】
或いは、ゲルマニウム層の上に設けられた薄い歪みシリコン層も有用である。シリコン層は、引張歪みを維持するために十分薄くすべきである。典型的には、薄い歪みシリコン層の厚みは、１００ｎｍ未満である。
【００１３】
図３を参照すると、基板の一部分には、トランジスタ用ドープウェル（doped wells）が形成される。図示のように、ウェルは、ＣＭＯＳ用に形成される。他のタイプの用途でも有用である。一実施形態では、ｐＭＯＳ及びｎＭＯＳトランジスタにそれぞれ活性領域３０８及び３０９が設けられる。ｐＭＯＳトランジスタの活性領域は、深いｐウェル３２１及び浅いｎウェル３２２を含む。ｎＭＯＳトランジスタの活性領域は、深いｎウェル３４１及び浅いｐウェル３４２を含む。活性領域を分離するものが、シャロートレンチアイソレーション（ＳＴＩ）３６０である。
【００１４】
図４に示されるように、このプロセスでは、続いて、活性領域３０８及び３０９内にｐＭＯＳトランジスタ４２０及びｎＭＯＳトランジスタ４４０を形成する。これらのトランジスタはそれぞれが、第１の拡散領域（４２３又は４４３）と第２の拡散領域（４２４又は４４４）とゲート（４２５又は４４５）とを含む。ｐＭＯＳトランジスタの拡散領域はｐ型ドーパントを含み、ｎＭＯＳトランジスタの拡散領域はｎ型ドーパントを含む。トランジスタのゲートはゲルマニウムを含む。典型的には、ゲートは多結晶ゲルマニウムを含む。シリコンやシリコンゲルマニウムなどの他のタイプの材料も有用である。ゲートはドーパントでドープされることが好ましい。一実施形態では、トランジスタのゲートは、ｐ型ドーパントでドープされる。ゲートを他のドーパントでドープすることも有用である。ｐＭＯＳ及びｎＭＯＳトランジスタのゲートを別のタイプのドーパントでドープすることも有用なことがある。ゲートの下にはゲート酸化膜層がある。ゲート酸化膜層は、例えばシリコン熱酸化物を含む。他のタイプのゲート酸化膜材料も有用である。一実施形態では、ｐＭＯＳ及びｎＭＯＳゲートの両側に絶縁側壁スペーサ４２８及び４４８が設けられる。
【００１５】
図５を参照すると、このプロセスでは、続いて、拡散領域及びゲート上に、ニッケル基ゲルマニドコンタクトを形成するための材料を堆積させる。一実施形態では、基板上にニッケル層５７１が堆積される。ニッケル層を形成するためには、マグネトロンスパッタリングを含む、スパッタリングなどの様々な技法を使用することができる。ニッケル層は、例えば、室温程度で約５Ｘ１０−７トール（６．７Ｘ１０−５パスカル）の圧力でスパッタされる。ニッケル層を形成するための他の技法又はパラメータも有用である。ニッケル層の厚みは、約５〜１００ｎｍである。ニッケル層の厚みは、約５０ｎｍ未満であることが好ましい。他の厚みでも有用なことがある。
【００１６】
ニッケル層の上にはキャップ層５７２が形成される。一実施形態では、キャップ層は、ニッケルゲルマニド層の凝集を妨げる材料を含有する。一実施形態では、キャップ層の材料は、ニッケル基コンタクトに不溶性である。一実施形態では、キャップ層は、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｚｒ又はそれらの組合せを含有する。加工温度でのニッケルゲルマニドの凝集を妨げることができる他の材料も有用である。他の実施形態では、キャップ層は、Ｐｄ及び／又はＰｔなどのニッケル基コンタクトに可溶性の材料を含有する。キャップ層を形成するためにニッケル基コンタクトに可溶性及び不溶性の材料の組合せを使用することも有用である。
【００１７】
キャップ層を形成するために、マグネトロンスパッタリングを含む、スパッタリングなどの様々な技法を使用することができる。スパッタリングは、一実施形態では室温で実施される。熱的及び電子ビーム蒸着など、キャップ層を形成するための他の技法又はパラメータも有用である。
【００１８】
キャップ層の厚みは、約５００℃よりも高い温度で層内での凝集を妨げるのに十分であるべきである。好ましくは、キャップ層の厚みは、少なくとも最高約７００℃までの温度で層内での凝集を妨げるのに十分であるべきである。一実施形態では、キャップ層の厚みは、約５００〜７００℃の温度で層内での凝集を妨げるのに十分であるべきである。キャップ層の厚みは、例えば約５０ｎｍ以下である。キャップ層の厚みは、約５ｎｍであることが好ましい。
【００１９】
コンタクト層が形成された後、基板は、コンタクトを形成するためにアニールされる。アニーリングにより、コンタクト層と基板の材料が反応して、ゲルマニウムを含有する基板領域にニッケル基ゲルマニドコンタクト又はニッケル基ゲルマノシリサイドコンタクト（nickel-based germanosilicide contact）を形成する。コンタクト層に対してゲルマニウム下地層の場合にはニッケル基モノゲルマニドコンタクト（nickel-based monogermanide contact）が形成され、シリコンゲルマニウム下地層の場合にはニッケル基ゲルマノシリサイドコンタクトが形成される。一実施形態では、アニーリングは、急速熱アニール（ＲＴＰ）を含む。他のタイプのアニーリングも有用である。ＲＴＰは、約２００℃から少なくとも約７００℃までの温度で約１〜１００秒間実施される。ＲＴＰは、約２８０℃から少なくとも約５００℃までの温度で実施されることが好ましい。ＲＴＰの雰囲気は、例えば窒素である。真空、Ｈｅ、Ａｒなどの他のタイプの雰囲気も有用である。他のタイプの不活性ガスも有用なことがある。
【００２０】
図６を参照すると、コンタクト層は、コンタクトが形成される領域内にコンタクト層の一部分を残留させるためにパターン化される。一実施形態では、コンタクト層の材料がＳＴＩ及び側壁スペーサの上の領域６９０及び６９１から除去されて、拡散領域及びゲートの表面を覆うコンタクト層を残留させる。コンタクト層は、例えば、従来のマスク及びエッチング技術によってパターン化される。例えば、除去されるべき層の一部分を露光するためにフォトレジスト層が堆積されパターン化され、続いて、フォトレジスト層で保護されていない層をエッチングプロセスで除去する。他の実施形態では、コンタクト層は、コンタクトを形成するために、アニーリングプロセスの前にパターン化される。
【００２１】
代替実施形態では、例えば図４に示されたようなトランジスタが調製された基板の上に、ニッケル基合金を含有するコンタクト層が堆積される。ニッケル基合金は、ＮｉＹを含む。ただし、Ｙは、コンタクト層の凝集を妨げる材料から選択された材料を含む。一実施形態では、Ｙは、ニッケル基コンタクトに不溶性の材料を含む。一実施形態では、Ｙは、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｚｒ又はそれらの組合せを含む。ニッケル基コンタクトに不溶性の他の材料も有用である。他の実施形態では、Ｙは、Ｐｄ及び／又はＰｔなどの、ニッケル基コンタクトに可溶性の材料を含む。ニッケル基コンタクトに可溶性及び不溶性の両材料の組合せを含むＹを与えることも有用である。ニッケル基合金層の厚みは、例えば約５〜１００ｎｍである。ニッケル基合金層の厚みは、５０ｎｍ未満であることが好ましい。
【００２２】
一実施形態では、Ｙの割合は、約５００℃よりも高い温度で層内での凝集を妨げるのに十分であるべきである。好ましくは、Ｙの割合は、少なくとも最高約７００℃までの温度で層内での凝集を妨げるのに十分であるべきである。より好ましくは、Ｙの割合は、約５００〜７００℃の温度で層内での凝集を妨げるのに十分であるべきである。Ｙの割合は、例えば約０．１〜５０原子百分率である。Ｙの割合は、約２０原子百分率未満であることが好ましい。
【００２３】
ニッケル基合金層が形成された後、このプロセスでは、続いて、コンタクト層をアニールすることによってコンタクトを形成する。アニーリングプロセスは、例えば、前述のようにＲＴＰを含む。ニッケル及びゲルマニウムを含有する領域にコンタクトが形成される。ゲルマニウムが不在の領域（例えば、ＳＴＩの上部）では、反応は起こらない。ニッケル層の未反応部分は、例えば、ニッケル層の反応済み部分に対して選択性のウェットエッチングを用いて選択的に除去される。その結果、自己整合ニッケルゲルマニド又はニッケルゲルマノシリサイドコンタクトが形成される。
【００２４】
本発明について、様々な実施形態を参照しながら具体的に示し説明してきたが、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく本発明に変更又は修正が加えられうることが、当業者によって理解されるであろう。したがって、本発明の範囲は、上記説明を参照するのではなく、添付の特許請求の範囲を参照して、それらの全範囲の同等物とともに決定されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】従来型ＣＭＯＳ  ＩＣの一部分を示す図である。
【図２】本発明の一実施形態による、コンタクトを形成するためのプロセスを示す図である。
【図３】本発明の一実施形態による、コンタクトを形成するためのプロセスを示す図である。
【図４】本発明の一実施形態による、コンタクトを形成するためのプロセスを示す図である。
【図５】本発明の一実施形態による、コンタクトを形成するためのプロセスを示す図である。
【図６】本発明の一実施形態による、コンタクトを形成するためのプロセスを示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【手続補正書】
【提出日】平成18年4月12日(2006.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンタクトを製作する方法であって、
少なくともゲルマニウムを含有する活性領域を含む基板を設けること、
前記活性領域上にニッケルを含有するコンタクト層を堆積させること、
前記コンタクト層に加工助剤を供給すること、及び
前記基板を加工してニッケル基コンタクトを形成することを含み、前記加工が、前記基板をアニールして反応を起こし、前記ニッケル基コンタクトを形成することを含み、前記加工助剤が、加工温度での加工中に前記コンタクト層での凝集を妨げる量である、前記方法。
【請求項２】
基板が、上面層がゲルマニウム又はシリコンゲルマニウムを含有する多層基板を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
基板が、ゲルマニウム又はシリコンゲルマニウムを含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
加工助剤が、ニッケル基コンタクトに不溶性である、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
加工助剤が、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｒ又はそれらの組合せを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
加工助剤を供給することが、コンタクト層の上にキャップ層を形成することを含む、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
キャップ層の厚みが、約５００℃以上の温度での凝集を妨げるのに十分である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
キャップ層の厚みが、少なくとも最高約７００℃までの温度での凝集を妨げるのに十分である、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
キャップ層の厚みが、約５０ｎｍ以下である、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
加工助剤を供給することが、ニッケル及び前記加工助剤を含有するニッケル基合金コンタクト層を形成するために、コンタクト層を堆積させるステップに前記加工助剤を組み入れることを含む、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
ニッケル基合金中の加工助剤が、約５０原子百分率未満である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
コンタクト層における加工助剤の割合が、約５００℃以上の温度で加工中に凝集を妨げるのに十分である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
コンタクト層における加工助剤の割合が、少なくとも最高約７００℃までの温度で加工中に凝集を妨げるのに十分である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
加工助剤が、ニッケル基コンタクトに可溶性及び不溶性の材料の組合せを含む、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
加工助剤が、Ｐｔ及び／又はＰｄを含有する、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
少なくともゲルマニウムを含有する活性領域を有する基板と、
前記活性領域と接触する、ニッケルを含有する金属層と、
前記金属層と接触する加工助剤とを含む集積回路であって、前記加工助剤が、前記活性領域上にニッケル基コンタクトを形成するために、加工温度でのアニーリングを含む加工中に前記金属層での凝集を妨げる量を含む、集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月12日(2007.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンタクトを製作する方法であって、
少なくともゲルマニウムを含有する活性領域を含む基板を設けること、
前記活性領域上にニッケルを含有するコンタクト層を堆積させること、
前記コンタクト層に加工助剤を供給すること、及び
前記基板を加工してニッケル基コンタクトを形成することを含み、前記加工が、前記基板をアニールして反応を起こし、前記ニッケル基コンタクトを形成することを含み、前記加工助剤が、加工温度での加工中に前記コンタクト層での凝集を妨げる量である、前記方法。
【請求項２】
基板が、上面層がゲルマニウム又はシリコンゲルマニウムを含有する多層基板を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
基板が、ゲルマニウム又はシリコンゲルマニウムを含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
加工助剤が、ニッケル基コンタクトに不溶性である、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
加工助剤が、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｒ又はそれらの組合せを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
加工助剤を供給することが、コンタクト層の上にキャップ層を形成することを含む、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
キャップ層の厚みが、約５００℃以上の温度での凝集を妨げるのに十分である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
キャップ層の厚みが、少なくとも最高約７００℃までの温度での凝集を妨げるのに十分である、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
キャップ層の厚みが、約５０ｎｍ以下である、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
加工助剤を供給することが、ニッケル及び前記加工助剤を含有するニッケル基合金コンタクト層を形成するために、コンタクト層を堆積させるステップに前記加工助剤を組み入れることを含む、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
ニッケル基合金中の加工助剤が、約５０原子百分率未満である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
コンタクト層における加工助剤の割合が、約５００℃以上の温度で加工中に凝集を妨げるのに十分である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
コンタクト層における加工助剤の割合が、少なくとも最高約７００℃までの温度で加工中に凝集を妨げるのに十分である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
加工助剤が、ニッケル基コンタクトに可溶性及び不溶性の材料の組合せを含む、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
加工助剤が、Ｐｔ及び／又はＰｄを含有する、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
少なくともゲルマニウムを含有する活性領域を有する基板と、
前記活性領域と接触する、ニッケルを含有する金属層と、
前記金属層と接触する加工助剤とを含む集積回路であって、前記加工助剤が、前記活性領域上にニッケル基コンタクトを形成するために、加工温度でのアニーリングを含む加工中に前記金属層での凝集を妨げる量を含む、集積回路。
【請求項１７】
加工助剤の厚みが、少なくとも最高約７００℃までの温度で凝集を妨げるのに十分である、請求項１６に記載の集積回路。
【請求項１８】
加工助剤の量が、約５０原子百分率未満である、請求項１６に記載の集積回路。
【請求項１９】
加工助剤が、ニッケル基コンタクトに可溶性及び不溶性の材料の組合せを含む、請求項１６に記載の集積回路。
【請求項２０】
加工助剤が、Ｐｔ及び／又はＰｄを含有する、請求項１６に記載の集積回路。
【国際調査報告】
2008508713.tif 000009
2008508713.tif 000010
2008508713.tif 000011