(57)【要約】  基板にフラッシュを生成する方法およびシステム。該方法は、該基板にプリントされるパターンの１つ以上のフィギュアを受け取るステップと、各フィギュアを少なくとも４つの略矩形形状に分解するステップとを含んでいる、該４つの略矩形形状は少なくとも１つの水平境界および少なくとも１つの垂直境界によって分離される。該方法はさらに、各フィギュアの各縁が同一アパーチャの画像であるように略矩形形状ごとにフラッシュを生成するステップを含んでいる。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板にフラッシュを生成する方法であって、
前記基板にプリントされるパターンの１つ以上のフィギュアを受け取るステップと、
各フィギュアを少なくとも４つの略矩形形状に分解するステップであって、前記４つの略矩形形状が少なくとも１つの水平境界および少なくとも１つの垂直境界によって分離されるステップと、
略矩形形状ごとにフラッシュを生成するステップであって、前記フラッシュが生成されて、各フィギュアの縁が第１のアパーチャの画像であるように各フィギュアを形成するステップと、
を備える方法。
【請求項２】
前記少なくとも４つの略矩形形状およびこれと関連した情報をフラッシュ生成器に転送するステップをさらに備えており、前記情報が各略矩形形状の各辺を内辺および外辺の一方であると識別するための辺記述子（a side descriptor）と、各略矩形形状の垂直サイズおよび水平サイズと、各略矩形形状の垂直オフセットおよび水平オフセットのうちの少なくとも１つを備えており、内辺がフィギュアの縁に対応しない辺として定義され、外辺がフィギュアの縁に対応する辺として定義される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
形状偏向器およびベクトル偏向器のうちの少なくとも１つの動作をコントロールする信号を生成するステップをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記フラッシュを生成するステップが、前記略矩形形状と関連した前記情報を使用して略矩形形状ごとに前記フラッシュを生成する工程を備える、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記アパーチャが下部アパーチャである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記アパーチャが上部アパーチャである、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記フラッシュを生成するステップが、前記略矩形形状の前記辺記述子、前記垂直サイズおよび前記水平サイズのうちの少なくとも１つに従って上部アパーチャの画像が下部アパーチャにイメージングされるように電子ビームを成形する工程を備える、請求項２に記載の方法。
【請求項８】
前記フラッシュを生成するステップが、前記水平オフセットおよび前記垂直オフセットに従って前記成形された電子ビームを移動させる工程を備える、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記電子ビームを成形するステップが、前記略矩形形状の右辺が内辺として識別される場合に、前記下部アパーチャに投影された前記画像の右辺が前記下部アパーチャの左辺の右まで水平サイズ距離であるように前記電子ビームを移動させる工程を備える、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記電子ビームを成形するステップが、前記略矩形形状の右辺が外辺として識別される場合に、前記下部アパーチャに投影された前記画像の左辺が前記下部アパーチャの右辺の左まで水平サイズ距離であるように前記電子ビームを移動させる工程を備える、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記電子ビームを成形するステップが、前記略矩形形状の上辺が内辺として識別される場合に、前記下部アパーチャに投影された前記画像の上辺が前記下部アパーチャの底辺の上垂直サイズ距離であるように前記電子ビームを移動させる工程を備える、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
前記電子ビームを成形するステップが、前記略矩形形状の上辺が外辺として識別される場合に、前記下部アパーチャに投影された前記画像の底辺が前記下部アパーチャの上辺の下垂直サイズ距離であるように前記電子ビームを移動させる工程を備える、請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
前記成形された電子ビームを移動させるステップが、前記略矩形形状の上辺が内辺として識別される場合に、前記成形された電子ビームを前記垂直オフセットだけ垂直に移動させる工程を備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
前記成形された電子ビームを移動させるステップが、前記略矩形形状の上辺が外辺として識別される場合に、前記成形された電子ビームを前記垂直オフセットから前記下部アパーチャの垂直サイズを引いた分だけ垂直に移動させる工程を備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
前記成形された電子ビームを移動させるステップが、前記略矩形形状の右辺が内辺として識別される場合に、前記成形された電子ビームを前記水平オフセットの分だけ水平に移動させる工程を備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１６】
前記成形された電子ビームを移動させるステップが、前記略矩形形状の右辺が外辺として識別される場合に、前記成形された電子ビームを前記水平オフセットから前記下部アパーチャの水平サイズを引いた分だけ水平に移動させる工程を備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１７】
基板にフラッシュを書き込む装置であって、
パターンの１つ以上のフィギュアを受け取り、各フィギュアを少なくとも４つの略矩形形状に分解するように構成されているデータ処理システムであって、前記略矩形形状が少なくとも１つの水平境界および少なくとも１つの垂直境界によって分離されるデータ処理システムと、
前記データ処理システムに結合されたフラッシュ生成器であって、エネルギビームカラムの１つ以上の偏向器の動作をコントロールする信号を生成するように構成されたフラッシュ生成器と、
第１のアパーチャおよび第２のアパーチャを有するエネルギビームカラムであって、前記フラッシュ生成器に結合され、前記生成された信号に応答して略矩形形状ごとにフラッシュを生成するように構成されており、前記フラッシュが生成されて、各フィギュアの縁が前記第１のアパーチャの画像であるように各フィギュアを形成するエネルギビームカラムと、
を備える装置。
【請求項１８】
前記データ処理システムがさらに、前記少なくとも４つの略矩形形状およびこれと関連した情報を前記フラッシュ生成器に転送するように構成されており、前記情報が、各略矩形形状の各辺を内辺および外辺の一方であると識別する辺記述子と、各略矩形形状の垂直サイズおよび水平サイズと、各略矩形形状の垂直オフセットおよび水平オフセットのうちの少なくとも１つを備えており、内辺がフィギュアの縁に対応しない辺として定義され、外辺がフィギュアの縁に対応する辺として定義される、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記エネルギビームカラムが、前記辺記述子、前記垂直サイズおよび前記水平サイズのうちの少なくとも１つに従って前記第２のアパーチャの画像が前記第１のアパーチャに投影されるようにエネルギビームを成形するように構成された形状偏向器を備える、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記エネルギビームカラムが、
前記辺記述子、前記垂直サイズおよび前記水平サイズのうちの少なくとも１つに従って前記第２のアパーチャの画像が前記第１のアパーチャに投影されるようにエネルギビームを成形するように構成された形状偏向器と、
前記水平オフセットおよび前記垂直オフセットのうちの少なくとも１つに従って前記成形されたエネルギビームを移動させるように構成されたベクトル偏向器とを備える、請求項１８に記載の装置。
【請求項２１】
前記第１のアパーチャが下部アパーチャであり、前記第２のアパーチャが上部アパーチャである、請求項１７に記載の装置。
【請求項２２】
前記エネルギビームカラムが、電子ビームカラム、イオンビームカラムおよびレーザビームカラムからなる群より選択される、請求項１７に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【発明の背景】
【０００１】
発明の分野
[0001]本発明の実施形態は、概してリソグラフィおよび電子（または他のエネルギ）ビームカラム、より具体的には可変的成形ビームを使用する書き込み技術に関する。
【０００２】
関連技術の説明
[0002]リソグラフィ（パターン生成）の分野において、パターン生成システムの正確さを増加させることが望ましいことは周知である。このようなパターン生成システムに対する２つの主な適用は、半導体デバイスを形成するために電子ビームリソグラフィと、ウェーハ上へのパターンのダイレクト電子ビーム書き込みとによる半導体製作で使用するマスクを作ることである。
【０００３】
[0003]リソグラフィシステムは、ソースから、このエネルギ形態に感応的な層によってコーティングされた基板へのエネルギ（ビーム）の流れをコントロールすることによってパターンを生成または暴露する。パターン暴露はコントロールされて、フラッシュと普通称される個別ユニットに分けられ、ここでフラッシュとは、暴露シーケンスの１サイクル中に暴露されるパターンの一部である。フラッシュは、ソース、例えば光、電子または他の粒子ビームからのエネルギを選択されたパターンエリア内のコーティングされた基板に到達させることによって発生される。パターンを発生させるために使用されるフラッシュ組成、用量および暴露シーケンス、ひいてはリソグラフィックシステムのコントロールの詳細は概して書き込み戦略として知られている。
【０００４】
[0004]しかしながら、多くの場合、ビームおよび／またはこのビーム生成と関連して使用されるアパーチャは雑音ゆえに長期間ドリフトすることがあるため、パターンと関連したフィギュアの臨界寸法均一性に悪影響を与えることになる。このような悪影響は普通臨界寸法均一性エラーと称されることがある。このようなエラーは、成形電子雑音、アパーチャおよびカラム機械振動に起因する雑音、磁界放射に起因するビーム雑音、ビームドリフト、電子用量のランダムエラーおよびベクトル電子雑音などの多数の要因によって引き起こされることがある。
【０００５】
[0005]ゆっくりと変化する雑音およびドリフトはしばしば、部分的にのみコントロール下にある環境条件に関するため、ドリフトおよび低周波数雑音によって引き起こされる臨界寸法均一性エラーを軽減する書き込み戦略のための方法およびシステムに対する必要性が当分野において存在する。
【発明の概要】
【０００６】
[0006]本発明の１つ以上の実施形態は、基板にフラッシュを生成する方法を目的としている。該方法は、該基板にプリントされるパターンの１つ以上のフィギュアを受け取るステップと、各フィギュアを少なくとも４つの略矩形形状に分解するステップとを含んでいる。該４つの略矩形形状は少なくとも１つの水平境界および少なくとも１つの垂直境界によって分離される。該方法はさらに、各フィギュアの各縁が同じアパーチャの画像であるように略矩形形状ごとにフラッシュを生成するステップを含んでいる。
【０００７】
[0007]本発明の１つ以上の実施形態はまた、基板上にフラッシュを書き込む装置を目的としている。該装置は、パターンの１つ以上のフィギュアを受け取り、各フィギュアを少なくとも４つの略矩形形状に分解するように構成されたデータ処理システムを含んでいる。該略矩形形状は少なくとも１つの水平境界および少なくとも１つの垂直境界によって分離される。該装置はさらに、該データ処理システムに結合されたフラッシュ生成器を含んでいる。該フラッシュ生成器は、電子ビームカラムの１つ以上の偏向器の動作をコントロールする信号を生成するように構成されている。該装置はさらに、第１のアパーチャおよび第２のアパーチャを有する該電子ビームカラムを含んでいる。該電子ビームカラムは該フラッシュ生成器に結合されている。該電子ビームカラムは、各フィギュアの各縁が該第１のアパーチャの画像であるように該生成信号に応答して略矩形形状ごとにフラッシュを生成するように構成されている。
【詳細な説明】
【０００８】
[0008]本発明の上記引用された特徴が詳細に理解可能な方途で、上記簡潔に要約された本発明のより特定的な説明が実施形態を参照してなされてもよく、このうちの一部は添付の図面に図示されている。しかしながら、添付の図面は本発明の通常の実施形態のみを図示しており、本発明は他の等しく効果的な実施形態を認めることができるため、この範囲を制限するものとは解釈されるべきではないことに注目すべきである。
【０００９】
[0015]図１は、本発明の１つ以上の実施形態が遂行可能なリソグラフィ（イメージング）システム１００のブロック図を図示している。システム１００は、データ処理システム１０２と、フラッシュ生成器１０９と、電子ビームカラム１１２と位置決めシステム１１６とを含んでいる。
【００１０】
[0016]データ処理システム１０２は、基板１１８、例えばマスク上に書き込まれるパターンを表すデータを受け取るように構成されている。このようなデータは、ＭＥＢＥＳ、ＧＳＤＩＩ、ＯＡＳＩＳなどの形状記述フォーマットのフィギュアを含むことがある。フィギュアの受け取りに応じて、データ処理システム１０２は、各フィギュアを少なくとも４つの矩形に分解または変換し、この矩形は少なくとも１つの水平境界（「水平分割境界」）および少なくとも１つの垂直境界（「垂直分割境界」）によって分離される。各矩形は、基板１１８上にプリント可能なプリミティブ（ｐｒｉｍｉｔｉｖｅ）として使用されるとみなされる。さらに、各矩形の各辺は内辺または外辺のいずれかとして識別またはマークされる。外辺はフィギュアの縁に対応する辺として定義され、縁は基板１１８にプリント可能なフィギュアの外部境界として定義される。内辺は、水平分割境界または垂直分割境界のいずれかに対応する辺として定義される。従って、内辺はフィギュアの縁に対応しない。本発明の１つ以上の実施形態が矩形を参照して説明されているが、本発明の他の実施形態は、三角形などの他の幾何学的形状を想定している。
【００１１】
[0017]図４Ａは、本発明の一実施形態に従った、４つの矩形つまり４１０〜４４０に分解されるフィギュア４００の例を図示している。各矩形は４つの辺を有している。しかしながら、これらの辺のうちの２つのみがフィギュア４００の縁に対応し、縁はフィギュア４００の外部境界として定義されている。例えば、矩形４１０の辺４１５および４１８のみがフィギュア４００の縁４０５および４０８にそれぞれ対応している。従って、矩形４１０の辺４１５および４１８は外辺として識別されるのに対して、矩形４１０の辺４１６および４１７は内辺として識別される。同様に、矩形４４０の辺４４７および４４９のみがパターンフィギュア４００の縁４０９および４１１にそれぞれ対応する。従って、矩形４４０の辺４４７および４４９は外辺として識別されるのに対して、矩形４４０の辺４４６および４４５は内辺として識別される。一実施形態において、フィギュア４００の縁に対応する２つの辺は相互に隣接している。
【００１２】
[0018]図１を再度参照すると、フラッシュ生成器１０９は、矩形およびこの矩形と関連した種々の記述子を使用して、電子ビームカラム１１２、より具体的には（図２に示された）形状偏向器２１２およびベクトル偏向器２１６の動作をコントロールする信号（例えば、電圧信号）を生成するように構成されている。各矩形の各辺を内辺または外辺のいずれかであると識別するための辺記述子に加えて、矩形と関連した種々の記述子は、各矩形の垂直サイズおよび水平サイズと、各矩形の垂直オフセットおよび水平オフセットとに関する情報を含むことがある。垂直オフセットはベクトルフィールド内の矩形の底辺の所望の位置として定義される。ベクトルフィールドは、矩形がベクトル偏向器によって位置決め可能な基板上のエリアである。水平オフセットは、ベクトルフィールド内の矩形の左辺の所望の位置として定義される。
【００１３】
[0019]電子ビームカラム１１２は、フラッシュ生成１０９によって生成された信号に従って矩形ごとにフラッシュを生成するように構成されている。本発明の実施形態は電子ビームカラムを参照して説明されているが、本発明の他の実施形態は、イオンビームカラム、レーザビームカラム、あるいは当業者によって既知の他のエネルギビームカラムなどの他のタイプのビームカラムの使用を想定している。電子ビームカラム１１２は図２を参照してより詳細に説明されている。
【００１４】
[0020]位置決めシステム１１６は、基板１１８が配置されるステージの位置決めを調整し、位置偏向器が電子ビームカラム１１２で使用されるならば、このような偏向器を調整するように構成されている。
【００１５】
[0021]図２は、本発明の１つ以上の実施形態と関連した電子ビームカラム２００の概略図を図示している。電子ビームカラム２００は電子ビームソース２０４と、照明光学部品２０５と、上部アパーチャ２１０と、伝達光学部品２１５と、形状偏向器２１２と、下部アパーチャ２１４と、ベクトル偏向器２１６と、基板送出光学部品２２５とを含んでいる。代替実施形態において、電子ビームカラム２００はさらに、照明光学部品２０５と上部アパーチャ２１０との間に位置決めされたブランカー（ｂｌａｎｋｅｒ）偏向器を含んでいる。さらに別の代替実施形態において、電子ビームカラム２００はさらに、基板送出光学部品２２５と基板１１８との間に配置された位置偏向器を含んでいる。
【００１６】
[0022]電子ビームソース２０４は、電子ビーム２２２を生成するように構成されている。電子ビームソース２０４は、熱電界放出ソース、熱放出ソースまたは電界放出ソースであってもよい。
【００１７】
[0023]照明光学部品２０５は、電子ビームソース２０４が上部アパーチャ２１０に照射するのを支援するように構成されているのに対して、伝達光学部品２１５は、上部アパーチャ２１０を下部アパーチャ２１４に投影するように構成されている。基板送出光学部品２２５は、生成されたフラッシュを基板１１８に投影するように構成されている。上部アパーチャ２１０および下部アパーチャ２１４は、電子ビーム２２２の形状を形成するように構成されている。一実施形態では、各アパーチャは正方形の開口を定義する。
【００１８】
[0024]形状偏向器２１２およびベクトル偏向器２１６は、フラッシュ生成器１０９によって生成された信号に応答して電子ビーム２２２を成形するように構成されている。より具体的には、形状偏向器２１２は、上部アパーチャ２１０の画像や影の下部アパーチャ２１４への重畳が修正可能であるように電子ビーム２２２を移動させるように構成されている。下部アパーチャ２１４を通過する電子ビーム２２２は、下部アパーチャ２１４への上部アパーチャ２１０の画像の重畳の形状を有している。このように、形状偏向器２１２は、電子ビーム２２２を成形するように構成されている。ベクトル偏向器２１６は、成形されたビームを基板１１８上の所望の場所に移動させるように構成されている。電子ビーム２２２の移動および成形は、図３を参照して以下のグラフにより詳細に提供される。
【００１９】
[0025]図３は、本発明の１つ以上の実施形態に従ったリソグラフィ（イメージング）システム１００の書き込み戦略のフロー図を図示している。ステップ３１０において、データ処理システム１０２は、基板１１８に書き込まれるパターンを表す複数のフィギュアを受け取る。ステップ３２０において、各フィギュアは少なくとも４つの矩形に分解され、これらの矩形は少なくとも１つの水平分割境界および少なくとも１つの垂直分割境界によって分離される。上述のように、各矩形は、基板１１８上にプリント可能なプリミティブとして使用されるとみなされる。ステップ３３０において、データ処理システム１０２は、矩形と関連した記述子を伴った矩形をフラッシュ生成器１０９に伝達する。このような記述子は、各矩形の各辺を内辺または外辺のいずれかとして識別するものと、各矩形の垂直サイズおよび水平サイズと、各矩形の垂直オフセットおよび水平オフセットとを含んでいる。
【００２０】
[0026]矩形およびこの関連記述子の受け取り時に、フラッシュ生成器１０９は、形状偏向器２１２およびベクトル偏向器２１６の動作をコントロールする信号を生成する（ステップ３４０）。ステップ３５０において、形状偏向器２１２は、外辺および内辺のインジケータと、各矩形の水平および垂直サイズとに従って電子ビーム２２２を成形する。これらの記述子が使用されて電子ビーム２２２を成形する方途が以下より詳細に説明される。
【００２１】
[0027]図示目的で、各矩形（例えば、矩形４１０、４４０）の水平サイズはＸで表されることがあり、各矩形（例えば、矩形４１０、４４０）の垂直サイズはＹで表されることがある。矩形の右辺が内辺であれば、電子ビーム２２２は、下部アパーチャにイメージングされた上部アパーチャの画像の右辺が下部アパーチャの左辺の右までＸ距離であるように移動される。例えば、矩形４１０の右辺４１６は内辺である。従って、電子ビーム２２２は、投影された画像４５０の右辺４５８が図４Ｂに図示されているように、下部アパーチャ２１４の左辺４７４の右までＸ距離に位置決めされるように成形または移動される。
【００２２】
[0028]他方、矩形の右辺が外辺であれば、電子ビーム２２２は、下部アパーチャにイメージングされた上部アパーチャの画像の左辺が下部アパーチャの右辺の左までＸ距離であるように移動される。例えば、矩形４４０の右辺４４９は外辺である。従って、電子ビーム２２２は、投影された画像４５０の左辺４５６が図４Ｂに図示されるように、下部アパーチャ２１４の右辺４７８の左までＸ距離に位置決めされるように移動される。
【００２３】
[0029]矩形の上辺が内辺であれば、電子ビーム２２２は、下部アパーチャにイメージングされた上部アパーチャの画像の上辺が下部アパーチャの底辺の上Ｙ距離であるように移動される。例えば、矩形４４０の上辺４４５は内辺である。従って、電子ビーム２２２は、投影された画像４５０の上辺４５２が図４Ｂに図示されているように、下部アパーチャ２１４の底辺４７６の上Ｙ距離に位置決めされるように移動される。
【００２４】
[0030]矩形の上辺が外辺であれば、電子ビーム２２２は、下部アパーチャにイメージングされた上部アパーチャの画像の底辺が下部アパーチャの上辺の下Ｙ距離であるように移動される。例えば、矩形４１０の上辺４１５は外辺である。従って、電子ビーム２２２は、投影された画像４５０の底辺４５４が図４Ｂに図示されるように下部アパーチャ２１４の上辺４７２の下Ｙ距離に位置決めされるように移動される。
【００２５】
[0031]図３を再度参照すると、ステップ３６０において、ベクトル偏向器２１６は水平および垂直オフセットに従って成形された電子ビームを移動させる。矩形の上辺が内辺であれば、成形された電子ビームは垂直オフセットだけ垂直方向に移動される。他方、矩形の上辺が外辺であれば、成形された電子ビームは垂直オフセット（垂直アパーチャサイズ引く垂直サイズ）だけ垂直方向に移動される。いずれの場合も、結果は、矩形の底辺が所望の垂直オフセットで位置決めされるということである。
【００２６】
[0032]矩形の右辺が内辺であれば、成形された電子ビームは水平オフセットだけ水平方向に移動される。他方、矩形の右辺が外辺であれば、成形された電子ビームは水平オフセット（水平アパーチャサイズ引く水平サイズ）だけ水平方向に移動される。いずれの場合も、結果は、矩形の左辺は所望の水平オフセットで位置決めされるということである。
【００２７】
[0033]このように、各矩形と関連した記述子は、基板１１８上に矩形のフラッシュを生成するために使用される。フラッシュは、各フィギュアの縁が同じアパーチャ、例えば下部アパーチャ２１４の画像であるように生成される。本発明の１つ以上の実施形態は下部アパーチャ２１４を参照して説明されているが、本発明の他の実施形態は上部アパーチャ２１０の使用を想定している。
【００２８】
[0034]本発明の利点の１つは、ドリフト、ならびに、機械振動および磁界放射などの他のゆっくりと変化する雑音ソースによって引き起こされることがある臨界寸法均一性エラーの削減を含んでいる。図５は、本発明の１つ以上の実施形態を使用してプリントされたパターンフィギュア５００に対するドリフトの効果を図示している。フィギュア５００は、図３を参照して説明された書き込み戦略を使用する４つの矩形を使用してプリントされる。プリントされたフィギュアは垂直分割境界５１０と、水平分割境界５２０と、縁５３０および５４０とを有している。電子ビームがアパーチャ間でドリフトする場合、分割境界５１０および５２０のみが位置を変更させるのに対して、縁５３０および５４０は同じままであり、パターンフィギュア５００のサイズは不変のままである。一実施形態において、本発明は、異なる矩形が書き込まれる時間は、低周波数雑音およびドリフトソースのレートに対して実質的に短いとしている。
【００２９】
[0035]上記は本発明の実施形態を目的としているが、本発明の他のさらなる実施形態がこの基本的範囲を逸脱することなく考案されてもよく、またこの範囲は請求項によって判断される。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の１つ以上の実施形態に従ったリソグラフィ（イメージング）システムのブロック図を図示している。
【図２】本発明の１つ以上の実施形態と関連した電子ビームカラムの概略図を図示している。
【図３】本発明の１つ以上の実施形態に従ったリソグラフィ（イメージング）システムの書き込み戦略のフロー図を図示している。
【図４Ａ】本発明の一実施形態に従った、４つの矩形に分解されるパターンフィギュアの例を図示している。
【図４Ｂ】本発明の１つ以上の実施形態に従った、上部アパーチャを介する下部アパーチャへの画像の投影を図示している。
【図５】本発明の１つ以上の実施形態を使用してプリントされたパターンフィギュアに対するドリフトの効果を図示している。
【符号の説明】
【００３１】
１００…リソグラフィシステム、１０２…データ処理システム、１０９…フラッシュ生成器、１１２…ビームカラム、１１６…位置決めシステム、１１８…基板、２００…電子ビームカラム、２０４…電子ビームソース、２０５…照明光学部品、２１０…上部アパーチャ、２１２…形状偏向器、２１４…下部アパーチャ、２１６…ベクトル偏向器、２２２…電子ビーム、２２５…基板送出光学部品、４００…フィギュア、４１０〜４４０…矩形、４０５、４０８、４０９、４１１…縁、４１５、４１６、４１７、４１８、４４５、４４６、４４７、４４９…辺、４５０…画像。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【国際調査報告】
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