(57)【要約】式（Ｉ）の２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンの製造方法を提供する。ｉ）溶媒の中で式（III）の１−ハロリボフラノース化合物と式（IV）の核酸塩基を反応させて式（ＩＩ）のヌクレオシドを得、反応中に生成される式（Ｖ）のハロゲン化シリルを連続的に除去する段階；及びii）式（ＩＩ）のヌクレオシドを脱保護して式（Ｉ）の２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンを得る段階を含む式（Ｉ）の２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンの立体選択的な製造。
2008515968.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｉ）溶媒中で式（III）の１−ハロリボフラノース化合物と式（IV）の核酸塩基を反応させて式（ＩＩ）のヌクレオシドを得、反応中に生成される式（Ｖ）のハロゲン化シリルを連続的に除去する段階；及び
ii）前記式（ＩＩ）のヌクレオシドを脱保護して式（Ｉ）の２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンを得る段階；
を含むことを特徴とする、式（Ｉ）の２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンの製造方法：
【化１】
2008515968.tif 000023
前記式中、
Ｒはアルキルであり、
Ｐ１はヒドロキシ保護基であり、
Ｐ２はアミノ保護基であり、
Ｘはハロゲン元素である。
【請求項２】
前記段階ｉ）でのハロゲン化シリルの除去を蒸留によって行うことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記段階ｉ）で用いられる前記式（IV）の核酸塩基が前記式（III）の1−ハロリボフラノース１モル当り５〜５０モルの量で用いられることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記段階ｉ）で用いられる溶媒がベンゼン、置換されたベンゼン、トルエン、キシレン、デカリン、ジグリム、２−エトキシエチルエーテル、ジフェニルエーテル、置換されたジフェニルエーテル、ビフェニル、置換されたビフェニル、Ｃ６−１４アルカン、置換されたＣ６−１４アルカン、及びこれらの混合物からなる群から選ばれることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記式（Ｖ）のハロゲン化シリルが臭化トリメチルであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記蒸留を、反応混合液にキャリアーを滴加してから行うことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記キャリアーが、ベンゼン、置換されたベンゼン、トルエン、キシレン、Ｃ６−１４アルカン、置換されたＣ６−１４アルカン、及びこれらの混合物からなる群から選ばれることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記キャリアーが、ヘプタンであることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記キャリアーが、1−ハロリボフラノース１ｇに対し５０ｍｌ〜１０００ｍｌの量で用いられることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記キャリアーが、熱媒体またはＮ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（ＢＳＡ）とともに用いられることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
前記熱媒体が、デカリン、ジフェニルエーテル、置換されたジフェニルエーテル、ビフェニル、置換されたビフェニル、及びこれらの混合物からなる群から選ばれることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項１２】
前記熱媒体が、ジフェニルエーテルであることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記熱媒体が、前記キャリアーの量を基準として０．１〜５体積％で用いられることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
Ｎ，Ｏ-ビス（トリメチルシリル）アセトアミドが前記キャリアーを基準として０．０５〜１．５体積％の量で用いられることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記段階ｉ）でのハロゲン化シリルの除去が不活性ガスを反応混合物に通過させることで行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記不活性ガスが、窒素、ヘリウム、ネオン、及びアルゴンからなる群から選ばれることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記不活性ガスが、バブリング（ｂｕｂｂｌｉｎｇ）またはスイーピング（ｓｗｅｅｐｉｎｇ）法によって注入されることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記不活性ガスを、前記式（III）の1−ハロリボフラノース化合物１００gに対し1Ｌ／分以上の流速で注入することを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
前記段階ｉ）が８０〜３００℃の温度で行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記段階ii）において、脱保護後、前記式（ＩＩ）のヌクレオシドをα／βアノマー混合物の形態で水に溶解させ、得られた溶液を４０〜６０℃の温度に加熱し、攪拌したり、攪拌しなかったりしてｐＨを調節しないで１０〜２５℃の温度で冷却させ、析出された固体を濾過して前記式（Ｉ）の２’−デオキシ−２’，２’-ジフルオロシチジンを得る段階をさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
有機溶媒内で式（Ｉ）の２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジン、その半水和物またはその二水和物を塩酸と反応させることを含むことを特徴とする、式（Ｉ）の２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンの塩酸塩の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンを選択的に製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
下記式（Ｉ）の２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジン（ゲムシタビン）は、リボフラノース骨格の１位置に立体化学的なβ位置に配向したシトシン（cytosine）核酸塩基を有し、非小細胞肺癌（non small cell lung cancer： NSCLC）、膵臓癌、膀胱癌、乳房癌または卵巣癌を治療するのに有効である。
【化１】
2008515968.tif 000003
【０００３】
ゲムシタビンは、下記反応式１に示すように通常ラクトール化合物から反応離脱基を有する活性リボフラノース中間体に変換する過程を介して製造し得る。
【化２】
2008515968.tif 000004
前記式中、Ｐ１はヒドロキシ保護基であり、Ｌは離脱基である。
【０００４】
前記グリコシル化反応のための活性リボフラノース中間体の例としては、α−メタンスルホン酸リボフラノースのような１−スルホン酸リボフラノース及び１−ハロリボフラノースなどが挙げられる。
【０００５】
前記α−メタンスルホン酸リボフラノースは、核酸塩基と反応して立体選択的なグリコシル化が起るので所望のβ−ヌクレオシドを高収率で得ることができる（米国特許第５，３７１，２１０号、第５，４０１，８３８号、第５，４２６，１８３号、第５，５９４，１２４号、第５，６０６，０４８号、及びヨーロッパ特許第５７７３０３号参照）。しかし、β−メタンスルホン酸リボフラノースに比べてα−メタンスルホン酸リボフラノースを高収率で得るためには約−８０℃未満の極低温条件を必要とし、したがってこの方法は量産に不適である。
【０００６】
前記１−ハロリボフラノース誘導体は、穏和な条件（例えば、常温）下で容易に製造でき、陰イオン性核酸塩基と反応させてグリコシル化反応を行うことができる（米国特許第５，７４４，５９７号及びヨーロッパ特許第５７７３０４号参照）。しかし、１−ハロリボフラノース誘導体を用いたグリコシル化は非立体選択的（すなわち、１位置でアノマー化が起きる）であるので、α−及びβ-ヌクレオシドの混合物を形成し、精製過程を通じて最終的に得る所望のβ-ヌクレオシドの収率が低い。
【０００７】
米国特許第５，２２３，６０８号は、α−及びβ−シチジンヌクレオシド１：１混合物を塩酸塩形態に転換させ、この塩酸塩混合物を熱水に溶解させ、生成溶液のｐＨを８．２に調節した後、その溶液を冷却、濾過することで、該α−及びβ−アノマーのシチジンヌクレオシドの混合物からβ−アノマーを選択的に分離する工程を開示している。しかし、この方法もβ−アノマーの収率が低い。
【０００８】
従って、本発明者らは従来の技術の問題点を解決するために鋭意研究努力を重ねた結果、１−ハロリボフラノース誘導体を用いるグリコシル化反応中に得られるハロゲン化合物を連続的に除去することによってアノマー化の生成を効率的に抑制し、その結果、前記反応の立体選択性が著しく高まることを発見したことにより、本発明を完成するに至った。
【特許文献１】米国特許第５，３７１，２１０号
【特許文献２】米国特許第５，４０１，８３８号
【特許文献３】米国特許第５，４２６，１８３号
【特許文献４】米国特許第５，５９４，１２４号
【特許文献５】米国特許第５，６０６，０４８号
【特許文献６】ヨーロッパ特許第５７７３０３号
【特許文献７】米国特許第５，７４４，５９７号
【特許文献８】ヨーロッパ特許第５７７３０４号
【特許文献９】米国特許第５，２２３，６０８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、１−ハロリボフラノースを用いた新規な立体選択的グリコシル化反応を用いて２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンを高純度及び高収率で製造するための改良した方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明では、
ｉ）溶媒中で式（III）の１−ハロリボフラノース化合物と式（IV）の核酸塩基を反応させて式（ＩＩ）のヌクレオシドを得、反応中に生成される式（Ｖ）のハロゲン化シリルを連続的に除去する段階；及び
ii）前記式（ＩＩ）のヌクレオシドを脱保護して式（Ｉ）の２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンを得る段階；
を含むことを特徴とする、前記式（Ｉ）の２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンの製造方法を提供する：
【化３】
2008515968.tif 000005
【化４】
2008515968.tif 000006
前記式中、
Ｒはアルキルであり、
Ｐ１はヒドロキシ保護基であり、
Ｐ２はアミノ保護基であり、
Ｘはハロゲン元素である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によると、α−ハロリボフラノースと核酸塩基とのグリコシル化反応中に生成するハロゲン化シリルを效果的に連続除去することによって２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンを立体選択的に高収率かつ高純度で得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の方法は、グリコシル化反応中に生成する式（Ｖ）のハロゲン化シリルを連続的に除去することで、式（Ｉ）の化合物を效率的に製造することを特徴とする。
【００１３】
本発明で用いられる「アノマーの含量が高い（ａｎｏｍｅｒ−ｅｎｒｉｃｈｅｄ）」という用語は、特定のアノマーの含量が５０％を超えるアノマー混合物、望ましくは実質的に純粋なアノマー混合物を意味する。また、「アノマー化（anomerization）」は、純粋なアノマー、またはα−アノマーとβ−アノマーの混合物がリボフラノースのＣ１位置でエピマー化（epimerization）することを意味する。
【００１４】
本発明において、「キャリアー（carrier）」は、グリコシル化反応中に生成するハロゲン化シリルを除去するための溶媒を意味し、「熱媒体（heating medium）」は、反応系に充分な熱を供給し、反応混合物をハロゲン化シリルを蒸留によって連続的に除去できる充分に高い沸点を有する溶媒を意味する。
【００１５】
本発明において、「置換された」とは、水素、シアノ、ハロ、カルボアルコキシ、トルオイル、ニトロ、アルコキシ、及びアルキルからなる群から選ばれる一つ以上の基によって単独的にまたはそれらの組み合わせによって置換されることを意味する。
本発明によると、立体選択的グリコシル化反応は反応式２に示すように行う。
【化５】
2008515968.tif 000007
【００１６】
具体的に、式（III）のα−アノマーの含量が高い１−ハロリボフラノースを、式（IV）の核酸塩基とグリコシル化応させると式（ＩＩ）のβ-ヌクレオシドとともに式（Ｖ）のハロゲン化シリルが生成するが、このハロゲン化シリルはα−アノマーのアノマー化を誘発するハロゲン化剤として作用する。従って、このハロゲン化シリルはグリコシル化反応が終わるまで単純蒸留または不活性ガスを用いることで連続的に除去される。その結果、アノマー化の程度が著しく減少し、β-アノマー生成に有利な立体選択的グリコシル化反応が行われる。
【００１７】
前記蒸留を行うと同時に、キャリアーまたはキャリアーと高沸点熱媒体との混合物をグリコシル化反応混合液に徐々に滴加する。
【００１８】
不活性ガスは、別途の管を介して反応器内に投入されてグリコシル化反応に影響を与えることなく反応混合物からハロゲン化シリルを除去する。より詳しくは、ハロゲン化シリルを除去するために不活性ガスは、前記管を反応液中に浸した状態でバブリング（bubbling）により管内に注入されるか、または前記管を反応液上に設けてスイーピング（sweeping）により管内に注入される。
【００１９】
本発明の方法で出発物質として用いられる式（III）のα−アノマーの含量が高い１−ハロリボフラノースは、ヒドロキシ保護基を有し、韓国特許出願第２００４−５９６２３号に開示された方法により製造し得る。前記ヒドロキシ保護基の例としては、ホルミル、アセチル、置換されたアセチル、プロピオニル、ブチニル、ピバルアミド、ベンゾイル、ビフェニルカルボニル、置換されたビフェニルカルボニル、エトキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、t-ブチル、テトラヒドロピラニル、アリル、Ｎ−フェニルカルバメート、Ｎ−イミダゾイルカルバメート、トリアルキルシリル、イソプロピルジアルキルシリル、アルキルジイソプロピルシリル、トリイソプロピルシリル、及びｔ−ブチルジアルキルシリルが挙げられます。その中で、ベンゾイル、ビフェニルカルボニルまたは置換されたビフェニルカルボニルがより望ましい。
【００２０】
式（IV）の核酸塩基は、アミノ保護基を有し、米国特許第５，３７１，２１０号、第５，４０１，８３８号、第５，４２６，１８３号、第５，５９４，１２４号、第５，６０６，０４８号、及びヨーロッパ特許第５７７３０３号に記載された方法で製造し得る。前記アミノ保護基の例としては、トリメチルシリル、トリイソプロピルシリル、トリブチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、及びt-ブチルジアリールシリルのようなシリル基；t−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、及び４−ニトロベンジルオキシカルボニルのようなカルバメート基；ホルミル、アセチル、ベンゾイル、ピバロイル、メトキシメチル、ｔ−ブチル、ベンジル、及びテトラヒドロピラニルが挙げられます。その中で、トリメチルシリルが最も望ましい。
【００２１】
本発明の方法において、式（IV）の核酸塩基は、式（III）の１−ハロリボフラノースに対して５〜５０モル当量、望ましくは１０〜３０モル当量、より望ましくは１５〜２０モル当量用いられる。
【００２２】
本発明のグリコシル化工程に好適な溶媒としては、ベンゼン、置換されたベンゼン、トルエン、キシレン、デカリン（decaline）、ジグリム（diglyme）、２−エトキシエチルエーテル、ジフェニルエーテル、置換されたジフェニルエーテル、ビフェニル、置換されたビフェニル、Ｃ６−１４アルカン、置換されたＣ６−１４アルカン、及びこれらの混合物である。この中で、トルエン、Ｃ７−１４アルカン、ジフェニルエーテル、及びこれらの混合物からなる群から選ばれることが望ましく、特にジフェニルエーテルとヘプタンとの混合溶媒が最も望ましい。前記溶媒は、式（III）の１−ハロリボフラノース１ｇに対して５ｍｌ〜５０ｍｌ、望ましくは１０ｍｌ〜２０ｍｌの量で用いられる。
【００２３】
蒸留による式（Ｖ）のハロゲン化シリルの除去に用いられるキャリアーは、グリコシル化反応条件下で不活性でなければならず、望ましくはハロゲン化シリルより高い沸点を有する。前記キャリアーは、ベンゼン、置換されたベンゼン、トルエン、キシレン、Ｃ６−１４アルカン、置換されたＣ６−１４アルカン、及びこれらの混合物であり得る。その中で、トルエン、ヘプタン、オクタンまたはノナンが望ましく、ヘプタンが最も望ましい。キャリアーは、式（III）の１−ハロリボフラノース１ｇに対して５０ｍｌ〜１０００ｍｌ、望ましくは１００ｍｌ〜３００ｍｌの量で用いられる。
【００２４】
本発明の方法において、２００℃以上の高沸点を有する熱媒体をキャリアーとの混合物の形態でさらに用いることにより、反応系に充分な熱を供給し、蒸留による溶媒損失を補うことができる。熱媒体は、グリコシル化反応条件下で不活性でなければならず、キャリアーより高い沸点を有することが望ましい。前記熱媒体は、デカリン、ジフェニルエーテル、置換されたジフェニルエーテル、ビフェニル、置換されたビフェニル、及びこれらの混合物からなる郡から選ばれることができる。その中で、ジフェニルエーテルが最も望ましい。前記熱媒体は、キャリアーに対して０．１〜５体積％、望ましくは０．５〜３体積％の量で用いられる。
【００２５】
前記キャリアー及び前記熱媒体を、グリコシル化反応が終わるまで反応混合物に一定した速度で連続的に添加することによって、均一な立体選択性を達成することができる。
また、蒸留によるハロゲン化シリルの除去を向上させるために、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（ＢＳＡ）のようなシリル化剤を反応混合物にさらに添加することができ、これはキャリアーとの混合物の形態で用いられる。前記シリル化剤は、キャリアーに対して０．０５〜１．５体積％、望ましくは０．１〜０．５体積％の含量で用いられる。
【００２６】
本発明では、窒素、ヘリウム、ネオン、及びアルゴンのような不活性ガスを、式（Ｖ）のハロゲン化シリルの除去に用いることができ、特に窒素が最も望ましい。前記不活性ガスは、式（III）の１−ハロリボフラノース化合物１００ｇに対して１Ｌ／分以上の流速で注入することが望ましい。不活性ガスの注入量が１Ｌ／分未満である場合、α-ヌクレオシドに対するβ-ヌクレオシドの比率が３以下となる。
【００２７】
本発明によるグリコシル化反応は、８０〜３００℃、望ましくは１００〜２００℃、より望ましくは１３０〜１５０℃の温度で４〜２４時間行われる。
【００２８】
グリコシル化反応の工程は、薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）、水素核磁気共鳴性（１Ｈ−ＮＭＲ）または高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）法によってモニターできる。
【００２９】
式（ＩＩ）のβ−アノマーの含量が高いヌクレオシドの脱保護は、通常的な方法で行うことができる。例えば、大抵のシリル保護基は、水またはアルコールの作用により容易に除去することができる。ホルミル、アセチル、ピバロイル、及びベンゾイルのようなアシル−アミノ保護基は、強塩基を用いた加水分解により除去できる。前記強塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；ナトリウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド；ジエチルアミン、ヒドロキシルアミン、アンモニア、ヒドラジンなどがあり、特にアンモニアが望ましい。また、アシル保護基は、メタンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸、硫酸のような酸触媒、または酸性イオン交換樹脂を用いて除去することができる。
【００３０】
式（ＩＩ）のβ−アノマーの含量が高いヌクレオシドは脱保護後に生成した式（ＩＩ）のβ−アノマーの含量が高いヌクレオシド及び未反応シトシンの混合物から、溶解度差を利用して分離することによって、純粋な形態で得ることができる。このような分離は、ジクロロメタン及びメタノールからなる溶媒システムを用いて行うことが望ましく、前記溶媒系において、式（ＩＩ）のβ−アノマーの含量が高いヌクレオシドは溶解性が高いのに対し、未反応シトシンは溶けにくい。
【００３１】
従って、このような本発明の立体選択的グリコシル化反応によると、α：βの比率が１：４〜１：１４であるβ-ヌクレオシドの含量が高いヌクレオシド生成物が得られる。
前記式（Ｉ）のβ−ヌクレオシドは、α／βアノマー混合物を水に溶解して４０〜６０℃の温度に加熱した後、１０〜２５℃の温度に冷却させ、冷却過程で析出した固体を濾過することを含む単純再結晶工程によって、半水和物または二水和物の形態で９９．８％以上の高純度及び７０％以上の高収率で単離されることができる。このような工程において、半水和物の形態を誘導する場合に攪拌過程を経るようになるが、二水和物の形態を誘導する場合に攪拌なしで行うことができる。
【００３２】
本発明によるβ-ヌクレオシドの半水和物または二水和物は、下記表１に示す条件下で含水率の変化がなく、安定的であることが確認できる。
【表１】
2008515968.tif 000008
【００３３】
前記高純度のβ−ヌクレオシドの半水和物または二水和物は、追加精製なしで直接用いられ、米国薬局方（２００４）の８９２〜８９４ｐｐに記載された純度範囲内の薬学的に許容可能な塩酸塩を製造することができる。
【００３４】
従って、本発明は、また、有機溶媒中で式（Ｉ）の２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンまたはその半水和物または二水和物を塩酸と反応させることを含む２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンの塩酸塩の製造方法を提供する。
【実施例】
【００３５】
以下、本発明を下記実施例によってさらに詳しく説明する。但し、下記実施例によって本発明の範囲が限定されない。
【００３６】
製造例及び実施例において、「−ＯＣＯＢｉＰｈ」または「ＢｉＰｈＯＣＯ−」は、構造的に
【化６】
2008515968.tif 000009
を意味する。
【００３７】
また、得られた各生成物を下記２つの条件下でＨＰＬＣによって分析した。：（１）式（Ｉ）の化合物の場合、Ｚｏｒｂａｘ  ＲＸ−Ｃ８カラム（４．６×２５０ｍｍ、５μｍ）、及び溶出液として水１Ｌに溶解されたＮａＨ２ＰＯ４・Ｈ２Ｏ  １３．８ｇ／Ｈ２ＰＯ４（ｐＨ２．４−２．６）２．５ｍｌの溶液を用い；（２）式（ＩＩ）の化合物の場合は、ＹＭＣ Ｈｙｄｒｏｓｐｈｅｒｅ Ｃ１８カラム（４．６×１５０ｍｍ、５μｍ）、及び溶出液として水１Ｌに溶解されたＮａＨ２ＰＯ４・Ｈ２Ｏ  １３．８ｇ／Ｈ２ＰＯ４（ｐＨ２．４〜２．６）２．５ｍｌの溶液２４０ｍｌとメタノール７６０  ｍｌとの混合溶液を用いた。
【００３８】
製造例１：
１−α−ブロモ−２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ-リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）安息香酸塩の製造
段階１：
２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）安息香酸塩の製造
【化７】
2008515968.tif 000010
水素化トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウムリチウム１３．５ｇをテトラヒドロフラン１６０ｍｌに溶解し、常温で３０分間攪拌した後、−４０℃に冷却した。これにテトラヒドロフラン８０ｍｌに溶解させたＤ−エリトロ−２−デオキシ−２，２−ジフルオロ−ペントフラノース−１−ウロース−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）安息香酸塩２０ｇの溶液を滴加した。前記混合物を徐々に常温へ昇温させた後、２時間反応させた。反応が終わってから、１Ｎ ＨＣｌ ２２０ｍｌを反応液に加え、テトラヒドロフラン層を分離した。水層をエーテル２２０ｍｌで抽出し、前記分離したテトラヒドロフラン層と合わせ、水、飽和重炭酸ナトリウム及び生理食塩水各々２２０ｍｌで順次に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下で除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して淡黄色シロップ状の標題化合物１８．３ｇ（収率：９１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣ１３，δ）；３．８９−３．９１（ｄ，１Ｈ），４．６１−４．８１（ｍ，２Ｈ），５．３１−５．９２（ｍ，２Ｈ），７．２６−７．７０（ｍ，１０Ｈ），８．０５−８．１６（ｍ，４Ｈ）  
【００３９】
段階２：
２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）ベンゾイル−１β−リン酸ジフェニルの製造
【化８】
2008515968.tif 000011
前記段階１で得た２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）安息香酸塩１８．３ｇをトルエン１４６ｍｌに溶解し、これにトリエチルアミン６．７ｍｌを加え、ジフェニルクロロホスフェート１２．４ｍｌをトルエン３７ｍｌに希釈させて滴加した。４時間後、反応混合液に１Ｎ ＨＣｌ ４８ｍｌを加えて残っているトリエチルアミンを中和し、トルエン層を分離し、水層をエーテル４８ｍｌで抽出した。エーテル抽出物を前記分離したトルエン層と合わせ、水、飽和重炭酸ナトリウム、及び生理食塩水で順次に洗浄した。有機層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下で除去してα−フォスフェートアノマー及びβ−フォスフェートアノマーの混合物を固体として得た。この混合物を1Ｈ−ＮＭＲで分析して、α−フォスフェート：β−フォスフェートが１：１０．６の比率で生成されたことを確認した。β−フォスフェートをイソプロパノールと水の混合溶媒（混合比＝３：１，ｖ／ｖ）中で再結晶して白色固体の標題化合物２６．５ｇ（収率：８７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣ１３，δ）；４．５６−４．２５（ｍ，３Ｈ），５．８０（ｍ，１Ｈ），５．９５（ｔ，１Ｈ），７．４４−６．９８（ｍ，１６Ｈ），７．５１（ｄ，２Ｈ），７．５７（ｄ，２Ｈ），７．８９（ｄ，２Ｈ），８．０１（ｄ，２Ｈ）  
融点（ｍ．ｐ）：１０１−１０３℃
ＨＰＬＣの純度（面積％）：α−フォスフェートアノマー１．７６％、β-フォスフェートアノマー９８．２４％
【００４０】
段階３：
１−α−ブロモ−２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）安息香酸塩の製造
【化９】
2008515968.tif 000012
前記段階２で得た２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）ベンゾイル−１β−リン酸ジフェニル２２．８ｇを３０％−ＨＢｒ／酢酸８０．５ｍｌに加え、常温で６時間反応させた。この反応液にジクロロメタン４００ｍｌを加えて希釈させ、この希釈液に氷水５００ｍｌを徐々に注入した。水層を除去した後、ジクロロメタン層をさらに氷水、飽和重炭酸ナトリウム、及び生理食塩水で順次に洗浄した。前記ジクロロメタン層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した後、濾液を減圧下で濃縮して固体のα−及びβ−異性体の混合物を得た。この混合物を１Ｈ−ＮＭＲで分析してα−ブロモアノマーと：β−ブロモアノマーの比率が１０．７：１の比率で生成されたことを確認した。β−ブロモ混合物をイソプロパノール中で選択的に再結晶して白色固体の標題化合物１７．０ｇ（収率：８２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣ１３，δ）；８．１９（ｄ，２Ｈ），８．０６（ｄ，２Ｈ），７．７３（ｄ，２Ｈ），７．６３（ｄ，２Ｈ），７．６４−７．４１（ｍ，６Ｈ），６．５６（ｄ，１Ｈ），５．６０（ｄｄ，１Ｈ）
融点（ｍ．ｐ）：１１１−１１２℃
ＨＰＬＣの純度（面積％）：α−ブロモアノマー９９．７４％、β−ブロモアノマー０．２６％
【００４１】
製造例２：
１−α−ブロモ−２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−３，５−ジ−（４−フェニル）安息香酸塩の製造
段階１：
２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−３，５−ジ−（４−フェニル）安息香酸塩の製造
【化１０】
2008515968.tif 000013
水素化トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウムリチウム８．６６ｇをテトラヒドロフラン１２０ｍｌに溶解し、常温で３０分間攪拌した後、−４０℃に冷却した。これにテトラヒドロフラン１００ｍｌにＤ−エリトロ−２−デオキシ−２，２−ジフルオロ−ペントフラノース−１−ウロース−３，５−ジ−（４−フェニル）安息香酸塩１５ｇを溶解させた溶液を反応液に徐々に滴加した。混合物を常温へ昇温した後、１時間反応させた。１Ｎ ＨＣｌ １４２ｍｌを反応液に徐々に滴加して過量の水素化トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウムリチウムを分解させ、有機層を分離した。水層をエーテル１５０ｍｌで抽出し、前記分離した有機層と合わせた後、水、飽和重炭酸ナトリウム、及び生理食塩水各々２２０ｍｌで順次に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下で除去し、得られた固体をトルエン中で再結晶して白色固体の標題化合物１３．４ｇ（収率：８９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣ１３，δ）；３．４５（ｓ，１Ｈ），４．８５−４．５０（ｍ，３Ｈ），５．８−５．４（ｍ，２Ｈ），７．４９−７．４３（ｍ，６Ｈ），７．７１−７．６１（ｍ，８Ｈ），８．１８−８．１２（ｍ，４Ｈ）
融点（ｍ．ｐ）：１５６−１５８℃
【００４２】
段階２：
２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−３，５−ジ−（４−フェニル）ベンゾイル−１β−リン酸ジフェニルの製造
【化１１】
2008515968.tif 000014
前記段階１で得た２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−３，５−ジ−（４−フェニル）安息香酸塩１３ｇをトルエン１３０ｍｌ及びジクロロメタン１００ｍｌの混合溶媒に溶解し、これにトリエチルアミン５．１ｍｌを加えた後、クロロリン酸ジフェニル７．６ｍｌを１滴ずつ室温で混合溶媒に滴加した。５時間後、減圧下で溶媒を除去し、得られた固体をジクロロメタン１３０ｍｌに溶解させ、これに１Ｎ ＨＣｌ ６５ｍｌを加えた。有機層を分離し、水、飽和重炭酸ナトリウム、及び生理食塩水で順次に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧下で除去して固体のα−フォスフェートアノマーとβ−フォスフェートアノマーとの混合物を得た。この混合物を１Ｈ−ＮＭＲで分析してα−フォスフェート：β−フォスフェートの比率が１：１０．８の比率で生成されたことを確認した。β−フォスフェートをイソプロパノール中で選択的に再結晶して白色固体の標題化合物１５ｇ（収率：８３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣ１３，δ）；４．７０−４．４０（ｍ，３Ｈ），５．９０（ｍ，１Ｈ），６．０８（ｔ，１Ｈ），７．７０−７．０８（ｍ，２４Ｈ），８．１５−８．０４（ｄｄ，４Ｈ）
融点（ｍ．ｐ）：1４５−１４７℃
ＨＰＬＣの純度（面積％）：α−フォスフェートアノマー１．２９％、β−フォスフェートアノマー９８．７１％
【００４３】
段階３：
１−α−ブロモ−２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−３，５−ジ−（４−フェニル）安息香酸塩の製造
【化１２】
2008515968.tif 000015
前記段階２で得た２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−３，５−ジ−（４−フェニル）−ベンゾイル−１β−リン酸ジフェニル１３ｇを３０％−ＨＢｒ／酢酸８３．２ｍｌに加えて溶解し、この混合溶媒を室温で７時間反応させた。この反応液に氷水５０ｍｌを徐々に滴加してから析出された固体を濾過した。この濾過された固体はα−ブロモアノマーとβ−ブロモアノマーとの混合物であって、この混合物を１Ｈ−ＮＭＲで分析してα−ブロモアノマー：β−ブロモアノマーが１０．９：１の比率で生成されたことを確認した。α−ブロモ化合物をエタノール中で選択的に再結晶して白色固体の標題化合物８．４５ｇ（収率：８３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣ１３，δ）；４．８９−４．２２（ｍ．３Ｈ），５．６２（ｄｄ，１Ｈ），６．５５（ｄ，１Ｈ），７．７３−７．４２（ｍ，１４Ｈ），８．６３−８．１１（ｄｄ，４Ｈ）
融点（ｍ．ｐ）：１５１−１５３℃
ＨＰＬＣの純度（面積％）：α−ブロモアノマー９９．６７％、β−ブロモアノマー０．３３％
【００４４】
実施例１：
１−（２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）ベンゾイル−Ｄ−リボフラノシル−４−アミノピリミジン−２−オンの合成
【化１３】
2008515968.tif 000016
【００４５】
実施例１−１
シトシン４４．５ｇ、ヘキサメチルジシラザン２５２ｍｌ、及び硫酸アンモニウム２５２ｍｇを混合し、溶液が均一になるまで還流させた後、１時間さらに還流させた。この反応混合液に酢酸エチル２００ｍｌを加えてから加熱することによって残っている未反応ヘキサメチルジシラザンを留去した。反応液にヘプタン１６０ｍｌとジフェニルエーテル４０ｍｌとの混合物を加え、前記製造例１で得た１−α−ブロモ−２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）安息香酸塩１０．４ｇを加えた。得られた混合物にジフェニルエーテル４０ｍｌ／ヘプタン４Ｌ混合液を１滴ずつ滴加しつつ８時間反応させるとともに反応温度を１３０〜１４０℃に維持して蒸留を行った。この手順を用いることによって反応中の反応混合物から臭化トリメチルシリルを連続的に除去した。反応が終わってから、反応液にヘプタン１４０ｍｌを加え、１００℃に冷却させた。水１２ｍｌを注意深く滴加して急冷（quenching）させ、常温で攪拌した。析出した固体を濾過し、ヘプタンで洗浄して白色固体の未反応シトシンを含有するα−及びβ−ヌクレオシド異性体の混合物を得た。この混合物をＨＰＬＣで分析してα−ヌクレオシドアノマー：β−ヌクレオシドアノマーの比率は１：８．８の比率であることを確認した。ヌクレオシドの混合物及び未反応シトシンを含む固体をジクロロメタン２００ｍｌとメタノール４０ｍｌの混合物に加え、一時間還流させた後、濾過してシトシンを除去した。濾液を減圧下で蒸留し、イソプロピルエーテルを残渣に加え、濾過した後、暖風乾燥して白色固体の標題化合物１０．８ｇ（収率：９８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ，ｄ−６，δ）；８．１（ｄ，２Ｈ），７．９（ｄ，２Ｈ），７．８（ｄ，２Ｈ），７．７（ｄ，２Ｈ），７．６（ｄ，２Ｈ），７．５−７．４（ｍ，７Ｈ），６．３（ｔ，１Ｈ），５．８（ｍ，１Ｈ），５．７（ｄ，１Ｈ），４．７−４．６（ｍ，３Ｈ）
アノマーの比率（ＨＰＬＣ分析）：α−ヌクレオシド／β−ヌクレオシド＝１／８．８
【００４６】
実施例１−２
シトシン１１．１ｇ、ヘキサメチルジシラザン６３ｍｌ、及び硫酸アンモニウム６３ｍｇを混合し、２時間還流させた。この反応混合液にトルエン６０ｍｌを加えて加熱することによって残っている未反応ヘキサメチルジシラザンを留去した。反応液にオクタン４０ｍ１及びジフェニルエーテル２０ｍｌを加え、前記製造例１で得た１−α−ブロモ−２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）安息香酸塩３．５gを加えた。この混合物にジフェニルエーテ１０ｍｌ/ヘプタン１Ｌの混合液を１滴ずつ滴加しつつ１０時間反応させるとともに反応温度を１４０〜１５０℃に維持して蒸留を行った。この手順を用いることによって反応中に反応混合物から臭化トリメチルシリルを連続的に除去した。反応が終わってから、反応液にヘプタン５０ｍｌを加えた。溶液を８０〜１００℃に冷却し、水１２ｍｌを注意深く１滴ずつ滴加し、常温で１時間攪拌した。析出した固体を濾過し、ヘプタンで洗浄して白色固体の未反応シトシンを含有するα−及びβ−ヌクレオシド異性体との混合物を得た。このヌクレオシド混合物をＨＰＬＣで分析してα−ヌクレオシド：β−ヌクレオシドの比率は１：５．６であることを確認した。ヌクレオシド混合物及び未反応シトシンを含む固体をジクロロメタン７０ｍｌとメタノール１５ｍｌの混合物に加え、一時間還流させた後、濾過してシトシンを除去した。濾液を減圧下で蒸留し、イソプロピルエーテルを残渣に加えて、濾過した後、暖風乾燥して白色固体の標題化合物３．４５ｇ（収率：９３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲのデータは前記実施例１−１と同一であった。
アノマーの比率（ＨＰＬＣ分析）：α−ヌクレオシド／β−ヌクレオシド＝１／５．６
【００４７】
実施例１−３
シトシン２．２３ｇ、ヘキサメチルジシラザン１２．６ｍｌ、及び硫酸アンモニウム１２．６ｍｇを混合し、溶液が均一になるまで還流させた後、１時間さらに還流させた。この反応混合液に酢酸エチル２００ｍｌを加えてから加熱することによって残っている未反応ヘキサメチルジシラザンを除去した。得られた溶液に前記製造例１で得た１−α−ブロモ-２’-デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）安息香酸塩０．２６ｇを加えた。この混合物にＮ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド２ｍｌ／ヘプタン２００ｍｌ混合液を滴加しつつ６時間反応させるとともに反応温度を１２５〜１４０℃に維持して蒸留を行った。この手順を用いることによって反応中の反応混合物から臭化トリメチルシリルを連続的に除去した。反応が終わってから、溶液を８０℃に冷却させ、水１ｍｌを注意深く１滴ずつ滴加し、常温で１時間攪拌した。析出した固体を濾過し、ヘプタンで洗浄して未反応シトシンを含有するα−及びβ−ヌクレオシド異性体との混合物を得た。この混合物をＨＰＬＣで分析してα−ヌクレオシド：β−ヌクレオシドの比率は１：１４であることを確認した。
【００４８】
実施例１−４
シトシン３４０ｇ、ヘキサメチルジシラザン１，８３５ｍｌ、硫酸アンモニウム１．８４ｇを混合し、溶液が均一となるまで還流させた後、１時間さらに還流させた。この反応混合液にヘプタン１．２Ｌとジフェニルエーテル５００ｍｌを連続的に加えて溶液の温度を１００℃に下げた後、前記製造例１で得た１−α−ブロモ−２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）安息香酸塩１００ｇを加えた。反応温度を１４０〜１４３℃に維持した状態で反応器内に別途の管を注入し、スイーピングにより窒素を１．０〜１．３１Ｌ／分の流量で通過させながら反応混合物を1２時間反応させた。この手順を用いることによって反応中の反応混合物から臭化トリメチルシリルを除去した。反応が終わってから、溶液を８０℃に冷却させ、水１００ｍｌを注意深く１滴ずつ滴加し、常温で１時間攪拌した。析出した固体を濾過し、ヘプタンで洗浄して白色固体の未反応シトシンを含有するα−及びβ−ヌクレオシド異性体の混合物を得た。この混合物をＨＰＬＣで分析してα−ヌクレオシド：β−ヌクレオシドの比率は１：４．９であることを確認した。
【００４９】
実施例１−５
窒素を３．０〜３．５Ｌ／分の流量で管に注入することを除いては、前記実施例１−４の方法と同一に反応を行って白色固体の未反応シトシンを含有するα−及びβ−ヌクレオシド異性体との混合物を得た。この混合物をＨＰＬＣで分析してα−ヌクレオシド：β−ヌクレオシドの比率は１：６．１であることを確認した。
【００５０】
実施例２：
１−（２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−３，５−ジ−（４−フェニル）ベンゾイル−Ｄ−リボフラノシル−４−アミノピリミジン−２−オンの合成
【化１４】
2008515968.tif 000017
シトシン２２.２ｇ、ヘキサメチルジシラザン１２６ｍｌ、及び硫酸アンモニウム１２６ｍｇを混合し、２時間還流させた後、酢酸エチル１００ｍｌを加えて未反応ヘキサメチルジシラザンを留去した。反応液に、ヘプタン８０ｍｌ、前記製造例２で得た１−α−ブロモ−２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−３，５−ジ−（４−フェニル）安息香酸塩５．９３ｇ、及びジフェニルエーテル２０ｍｌを順次に加えた。この混合物にヘプタン４Ｌを１滴ずつ９時間反応させるとともに反応温度を１３０〜１４０℃に維持して蒸留を行った。この手順を用いることによって反応中の反応混合物から臭化トリメチルシリルを連続的に除去した。反応が終わってから、ヘプタン１６０ｍｌを反応混合液に加え、温度を１００℃に冷却させた。これに水８ｍｌを注意深く滴加し、常温で攪拌した後、濾過した。析出した固体をヘプタンで洗浄して白色固体の未反応シトシンを含有するα−のクレオシドアノマー及びβ−ヌクレオシドアノマーの混合物を得た。この混合物をＨＰＬＣで分析してα−ヌクレオシド：β-ヌクレオシドの比率は１：５．４であることを確認した。この混合物をジクロロメタン２００ｍｌ、メタノール４０ｍｌに加え、１時間還流させた後、濾過してシトシンを除去した。濾液を減圧下で蒸留して白色固体の標題化合物４ｇ（６４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）：８．７４−７．２７（ｍ，１９Ｈ），６．３８（ｍ，１Ｈ），５．８３（ｍ，１Ｈ），５．７８（ｄ，１Ｈ），４．７８−４．４５（ｍ，３Ｈ）
融点（ｍ．ｐ）：２５０−２５５℃
アノマーの比率（ＨＰＬＣ分析）：α−ヌクレオシド／β−ヌクレオシド＝１／５．４
【００５１】
実施例３：
２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジン（式（Ｉ）の化合物−１；ゲムシタビン）の合成
【化１５】
2008515968.tif 000018
【００５２】
実施例３−１：
２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジン半水和物
実施例１−１で得た１−（２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）ベンゾイル−Ｄ−リボフラノシル−４−アミノピリミジン−２−オン１０.８ｇをメタノール中の７Ｎ−アンモニア８６ｍｌに加え、これにメタノール２１６ｍｌをさらに加えた。反応混合液を常温で１２時間攪拌し、減圧下で溶媒を除去し、水１２０ｍｌ及び酢酸エチル８０ｍｌを加えて攪拌した。水層を分離し、酢酸エチル層は水４０ｍｌを加えて抽出した。水層を合わせ、ジエチルエテール４０ｍｌで水層を洗浄し、減圧下で蒸留して水を除去した。残渣に水２５ｍｌをさらに加え、混合物を４５〜５０℃で加熱して固体を溶解させ、冷却して室温で２時間攪拌して固体の沈殿物を得た。この固体を濾過し、水及びアセトンで洗浄し、一晩中暖風乾燥して純白色固体の標題化合物半水和物を３．９９ｇ（収率：７６．９％）得た。
含水率：３．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ ｄ−６，δ）；７．７（１Ｈ，ｄ），７．３９（１Ｈ，ｄ），６．２（１Ｈ，ｄ），６．１（１Ｈ，ｔ），５．８（１Ｈ，ｔ），４．２（ｍ，１Ｈ），３．９−３．８（ｍ，２Ｈ），３．７（ｍ，１Ｈ）
融点（ｍ．ｐ）＝１９８−２０２℃
ＨＰＬＣの純度（面積％）：β−アノマー−９９．９７％
α−アノマー−０．０２％以下
シトシン−０．０１％以下
【００５３】
実施例３−２：
２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジン二水和物
固体が析出される間、溶液を攪拌無しに冷却させることを除いては、前記実施例３−１の方法と同様に行うことで、純白色の標題化合物二水和物を４．２２ｇ（収率：８１．３％）得た。
含水率：１１．５％
融点（ｍ．ｐ）=２２０−２２４℃
Ｈ−ＮＭＲデータは実施例３−１と同一である。
ＨＰＬＣの純度（面積％）：β−アノマー−９９．９８％
α−アノマー−０．０１％以下
シトシン−０．０１％以下
【００５４】
実施例４：
２’-デオキシ−２’，２’-ジフルオロシチジン（式（Ｉ）の化合物−２；ゲムシタビン）の合成
【化１６】
2008515968.tif 000019
【００５５】
シトシン３２．２ｇ及び硫酸アンモニウム１８４ｍｇをヘキサメチルジシラザン１８４ｍｌに加えた後、１時間還流させた。これにヘプタン２５０ｍｌを添加して１３５〜１４０℃に加熱して未反応のヘキサメチルジシラザンを留去した。生成液にヘプタン１５０ｍｌ及び前記製造例１で得た１−α−ブロモ−２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）安息香酸塩１０．０ｇを加えた後、ジフェニルエーテル３８．７ｍｌを加えた。この混合物にヘプタン１．５Ｌを１滴ずつ添加しつつ１０時間反応させるとともに溶液温度を１３５〜１４０℃に維持して蒸留を行った。この手順を用いることによって反応中の反応混合物から臭化トリメチルシリルが連続的に除去された。反応が終わってから、ヘプタン２４０ｍｌを加え、水１１．６ｍｌを徐々に加えた。析出した固体を攪拌し濾過し、ヘプタンで洗浄した常温で乾燥した後、白色固体の未反応シトシンを含有するα−及びβ−ヌクレオシド異性体の混合物を得た。このヌクレオシド混合物をＨＰＬＣで分析してα−ヌクレオシド：β−ヌクレオシドの比率は１：６．１であった（図１参照）。前記固体をジクロロメタン３００ｍｌ及びメタノール６０ｍｌに懸濁させ、２時間還流させた。反応液を濾過してジクロロメタン１５０ｍｌとメタノール３０ｍｌとの混合液で洗浄し、減圧下で蒸留して１−（２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）ベンゾイル−Ｄ−リボフラノシル−４−アミノピリミジン−２−オンのα／β混合物を得た。この混合物にメタノール２００ｍｌ及び７Ｎ アンモニア／メタノール溶液８３ｍｌを加え、常温で一晩中攪拌した。反応が終わってから、減圧下で蒸留して溶媒を除去し、残渣に酢酸エチル８０ｍｌ及び水９０ｍｌを加えた。水層を分離し、酢酸エチルを４０ｍｌで抽出した。水層を合わせ、エーテル４０ｍｌで２回洗浄した。所望の化合物の理論重量に対して５倍が残留するまで水を減圧下で留去し、残渣を５０〜５５℃に加熱し、２時間攪拌しながら室温に冷却して固体の沈殿を誘導した。析出した固体を濾過し、水及びアセトンで洗浄した後、一晩中暖風乾燥して純白色結晶状の標題化合物３．６９ｇ（収率：７２．６％）を得た。
含水率：３．５％
１Ｈ−ＮＭＲのデータ及び融点は実施例３−１と同一であった。
ＨＰＬＣの純度（面積％）：β−アノマー−９９．９％
α−アノマー−０．０１％以下
シトシン−０．０２％以下
【００５６】
実施例５：
２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジン（式（Ｉ）の化合物−３；ゲムシタビン）の合成
【化１７】
2008515968.tif 000020
Ｎ-アセチルシトシン２４ｇ、ヘキサメチルジシラザン１２６ｍｌ、及び硫酸アンモニウム１２６ｍｇを混合し、２時間還流させた。混合物にヘプタン１００ｍｌを加え、未反応ヘキサメチルジシラザンを留去した。オクタン５０ｍｌ及び前記製造例１で得た１−α−ブロモ−２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）安息香酸塩５ｇを加えた。この混合物にＮ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド１．８ｍｌ／ヘプタン９００ｍｌ溶液を１滴ずつ８時間反応させるとともに反応温度を１３５〜１４０℃に維持して蒸留を行った。この手順を用いることによって反応中の反応混合物から臭化トリメチルシリルを連続的に除去した。反応が終わってから、ヘプタン６０ｍｌを加えて温度を１００℃に冷却させた後、水１２ｍｌを徐々に滴加した。析出した固体を常温で２時間攪拌した後、濾過し、ヘプタンで洗浄して白色固体状の未反応シトシンを含有するα−及びβ−ヌクレオシド異性体との混合物を得た。このヌクレオシド混合物をＨＰＬＣで分析してα−ヌクレオシドアノマー：β−ヌクレオシドアノマーの比率は１：４．８であることを確認した。このヌクレオシド混合物をメタノール１０８ｍｌ及び７Ｎ−アンモニア／メタノール溶液４５ｍｌに懸濁させ、溶媒を減圧下で除去した後、酢酸エチル５０ｍｌ及び水６０ｍｌを残渣に加えた。水層を分離し、酢酸エチルを水２０ｍｌで抽出した。水層を合わせ、エーテル４０ｍｌで２回洗浄した。水を減圧下で留去し、水１５ｍｌを残渣に加え５０〜５５℃に加熱し、２時間攪拌しながら室温に冷却して固体の沈殿を誘導した。析出した固体を濾過し、水及びアセトンで洗浄し、一晩中暖風乾燥して純白色の標題化合物３２.２ｇ（収率：６３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲデータ及び融点は実施例３−１と同一であった。
ＨＰＬＣの純度（面積％）：β−アノマー−９９．８％
α−アノマー−０．０２％以下
シトシン−０．０２％以下
【００５７】
実施例６：
２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンの塩酸塩
【化１８】
2008515968.tif 000021
【００５８】
実施例６−１
前記実施例３−１で得た２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジン半水和物３．５ｇ（含水率３．８％）をアセトン３５ｍｌに加え、濃い塩酸１.２ｍｌを１滴ずつ滴加し、常温で２時間攪拌した。析出した固体を濾過し、アセトンで洗浄し、暖風乾燥して純白色の標題化合物３．５２ｇ（９１.９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ，ｄ６）：９．９５（ｓ，１Ｈ），８．８１（ｓ，１Ｈ），８．０５（ｄ，１Ｈ），６．１５（ｄ，１Ｈ），５．９６（ｍ，１Ｈ），４．１４−４．０３（ｍ，１Ｈ），３．７９（ｄ，１Ｈ），３．７０−３．５１（ｍ，２Ｈ）
融点（ｍ．ｐ）：２８７−２９２℃
【００５９】
実施例６−２
前記実施例３−２で得た２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジン二水和物３．５ｇ（含水率１１．５％）をアセトン３５ｍｌに加え、濃い塩酸１．２ｍｌを１滴ずつ滴加し、常温で２時間攪拌した。析出した固体を濾過し、アセトンで洗浄し、暖風乾燥して純白色の標題化合物３．２３ｇ（９１．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲデータ及び融点は実施例６−１と同一であった。
【００６０】
比較例：
ハロゲン化シリルの除去のための蒸留を省略した２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロシチジンの製造
比較例１
シトシン３２．２ｇ及び硫酸アンモニウム１８４ｍｇをヘキサメチルジシラザン１８４ｍｌに加え、１時間還流させた。これにヘプタン２５０ｍｌを添加し、１３５〜１４０℃で加熱して未反応ヘキサメチルジシラザンを留去した。反応混合液にヘプタン１５０ｍｌ及び前記製造例１で得た１−α−ブロモ−２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）安息香酸塩１０．０ｇを加えた後、ジフェニルエーテル３８．７ｍｌをさらに加えた。得られた混合物を１０時間還流して反応させ、反応温度を１３５〜１４０℃に維持した。反応が終わってから、ヘプタン２４０ｍｌを加え、水１１．６ｍｌを徐々に加えた。析出した固体を攪拌し、濾過し、ヘプタンで洗浄し、室温で乾燥して白色固体状の未反応シトシンを含有するα−及びβ−ヌクレオシド異性体の混合物を得た。この混合物をＨＰＬＣで分析してα−ヌクレオシド：β−ヌクレオシドの比率は１：１．４であることを確認した（図２参照）。前記固体をジクロロメタン３００ｍｌ及びメタノール６０ｍｌ溶液に懸濁し、２時間還流させた。反応液を濾過し、濾過物をジクロロメタン１５０ｍｌ及びメタノール３０ｍｌの混合液で洗浄した後、濾液を減圧下で蒸留して１−（２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）ベンゾイル−Ｄ−リボフラノシル−４−アミノピリミジン−２−オンのα／β混合物を得た。この混合物にメタノール２００ｍｌ及び７Ｎ アンモニア／メタノール溶液８３ｍｌを加え、常温で一晩中攪拌した。反応が終わってから、減圧下で蒸留して溶媒を除去し、酢酸エチル８０ｍｌ及び水９０ｍｌを残渣に加えた。水層を分離し、酢酸エチル層を水４０ｍｌで抽出した。水層を合わせ、エーテル４０ｍｌで２回洗浄した。所望の化合物の理論的な重みに基づいて５倍が残留するまで水を減圧下で留去し、残渣を５０〜５５℃に加熱し、２時間攪拌しながら室温に冷却して固体の沈殿を誘導した。析出した固体を濾過し、水及びアセトンで洗浄し、一晩中暖風乾燥して純白色結晶状の標題化合物１．８０ｇ（収率：３５．５％）を得た。
含水率：３．７％
１Ｈ−ＮＭＲデータ及び融点は実施例３−１と同一であった。
アノマーの比率（ＨＰＬＣ分析）：α−ヌクレオシド／β−ヌクレオシド＝１／１．４
【００６１】
比較例２
シトシン３２．２ｇ及び硫酸アンモニウム１８４ｍｇをヘキサメチルジシラザン１８４ｍｌに加え、１時間還流した。これにヘプタン２５０ｍｌを添加し、温度を１３５〜１４０℃に加熱して未反応ヘキサメチルジシラザンを留去した。反応混合液に前記製造例１で得た１−α−ブロモ−２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−Ｄ−リボフラノシル−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）安息香酸塩１０．０ｇ及びアニソール３６．３ｍｌを加えた。この混合物を１０時間還流して反応させ、反応温度を１３５〜１４０℃に維持した。反応が終わってから、ヘプタン２４０ｍｌを加え、水１１．６ｍｌを徐々に加えた。析出した固体を攪拌し、濾過し、ヘプタンで洗浄し、常温で乾燥して白色固体状の未反応シトシンを含有するα−及びβ−ヌクレオシド異性体の混合物を得た。この混合物をＨＰＬＣで分析してα−ヌクレオシド：β−ヌクレオシドの比率は１：１．３であることを確認した（図３参照）。前記固体にジクロロメタン３００ｍｌ及びメタノール６０ｍｌに懸濁し、２時間還流した。反応液を濾過し、濾液をジクロロメタン１５０ｍｌ及びメタノール３０ｍｌの混合液で洗浄し、減圧下で蒸留して１−（２’−デオキシ−２’，２’−ジフルオロ−５−ベンゾイル−３−（４−フェニル）ベンゾイル−Ｄ−リボフラノシル−４−アミノピリミジン−２−オンのα／β混合物を得た。この混合物にメタノール２００ｍｌ及び７Ｎ アンモニア／メタノール溶液８３ｍｌを加え、常温で一晩中攪拌した。反応が終わってから、減圧下で蒸留して溶媒を除去し、酢酸エチル８０ｍｌ及び水９０ｍｌを残渣に加えた。水層を分離し、酢酸エチル層を水４０ｍｌで抽出した。水層を合わせ、エーテル４０ｍｌで２回洗浄した。所望の化合物の理論重量に対して５倍が残留するまで水を減圧下で留去し、残渣を５０〜５５℃に加熱し、２時間攪拌しながら室温に冷却して固体の沈殿を誘導した。析出された固体を濾過し、水及びアセトンで洗浄し、一晩中暖風乾燥して純白色結晶状の標題化合物１６．４ｇ（収率：３２．３％）を得た。
含水率：３．５％
１Ｈ−ＮＭＲデータ及び融点は実施例３−１と同一であった。
アノマーの比率（ＨＰＬＣ分析）：α−ヌクレオシド／β−ヌクレオシド＝１／１．３
【００６２】
実施例４、比較例１、及び比較例２によるグリコシル化反応及び脱保護反応の結果を下記表２に示した。
【表２】
2008515968.tif 000022
【００６３】
表２から明らかなように、本発明によると、β−アノマーが比較例１及び２に比べて非常に高収率で生成される。
【００６４】
以上、本発明は特定の実施例により説明したが、本発明はこれらに限定されることなく、添付された特許請求の範囲によって定義された本発明の範囲内で本発明の属する技術分野における当業者により多様に変形及び修正が可能であることは自明である。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】実施例４で得られた化合物を高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で分析した結果を示すグラフである。
【図２】比較例１で得られた化合物を高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で分析した結果を示すグラフである。
【図３】比較例２で得られた化合物を高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で分析した結果を示すグラフである。
【図１】
2008515968.tif 000024
【図２】
2008515968.tif 000025
【図３】
2008515968.tif 000026
【国際調査報告】
2008515968.tif 000027
2008515968.tif 000028