(57)【要約】  本発明は、安全な条件下で、かびに汚染された建築物空間（４００）、加熱換気及び空気調和系、乗り物、事務所空間、プロセス機器、ファイル、文書、郵便物、郵便物処理機器、産業用プロセス機器並びに消費者関連項目の改善のために二酸化塩素ガス（１００）を使用する方法を提供する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
改善及び居住適性を回復することを必要とする大きな包囲されたかびに汚染された体積及び内容物を改善するのに適した方法であって：二酸化塩素ガスを発生させる工程と；改善を必要とする体積中に前記二酸化塩素ガスを導入する工程と；導入した二酸化塩素ガスを改善を必要とする前記体積中に分配する工程と；改善のために必要に応じて、含まれる内容物のガスの浸透を可能にするレベル及び持続時間で、環境にとって安全な条件下で、前記二酸化塩素ガスの濃度を改善を必要とする前記体積内部に維持し、それによって、大きな包囲された体積及び内容物を改善し、居住適性を回復する工程と；を含む方法。
【請求項２】
前記二酸化塩素ガスの時間加重平均濃度及び暴露時間は、かび汚染が実質的に非アレルゲン性にされるように選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
建築物は、実質的に光非透過性のテント内部に包囲され、その間に、前記導入した二酸化塩素ガスの光誘発分解を避けるように改善を行う、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記テントは、気体に対して実質的に非透過性である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
時間加重平均二酸化塩素ガス濃度は、約５００〜３０００ppmｖの範囲内に約３〜１２時間の時間維持される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
処理すべきかびの少なくとも一部分は壁紙の下にある、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
改善及び居住適性を回復することを必要とする大きな包囲されたかびに汚染された体積及び内容物を改善するのに適した方法であって：二酸化塩素ガスを発生させる工程と；改善を必要とする体積中に前記二酸化塩素ガスを導入する工程と；導入した二酸化塩素ガスを改善を必要とする前記体積中に分配する工程と；改善のために必要に応じて、含まれる内容物のガスの浸透を可能にするレベル及び持続時間で、環境にとって安全な条件下で、前記二酸化塩素ガスの濃度を改善を必要とする前記体積内部に維持し、それによって、大きな包囲された体積及び内容物を改善し、居住適性を回復する工程と；を含む方法を使用して、かび汚染の後に居住適性を回復した建築物構造。
【請求項８】
前記二酸化塩素ガスの時間加重平均濃度及び暴露時間は、かび汚染が実質的に非アレルゲン性にされるように選択される、請求項７に記載の建築物構造。
【請求項９】
建築物は、実質的に光非透過性のテント内部に包囲され、その間に、前記導入した二酸化塩素ガスの光誘発分解を避けるように改善を行う、請求項７に記載の建築物構造。
【請求項１０】
前記テントは、気体に対して実質的に非透過性である、請求項９に記載の建築物構造。
【請求項１１】
時間加重平均二酸化塩素ガス濃度は、約５００〜３０００ppmｖの範囲内に約３〜１２時間の時間維持される、請求項７に記載の建築物構造。
【請求項１２】
処理すべきかびの少なくとも一部分は壁紙の下にある、請求項７に記載の建築物構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野及び背景技術】
【０００１】
約１，０００種のかびを米国において見い出すことができ、世界中に１００，０００を超える周知の種を見い出すことができる。これらは、木の枠のある建築物の構造を損傷し得、家具を破壊し得、アレルギー反応を含む多数の有害な健康への影響を引き起こし得る。かびに対するアレルギー反応の開始は、即座であるかまたは遅延し得る。アレルギー応答は、枯れ草熱タイプの症状の例えば鼻水のたれる鼻及び赤い目を含む。
【０００２】
かびはまた、局在化した皮膚または粘膜の感染を引き起こすことがあるが、一般に、損なわれた免疫、ＡＩＤＳ、制御されない糖尿病を有する個人、または免疫抑制薬を摂取している人を除いてはヒトにおける全身性の感染を引き起こさない。かびはまた、かびに対してアレルギー性である若干の個人において、喘息の発作を引き起こし得る。加えて、かびに対する暴露は、特定の個人において、目、皮膚、鼻及びのどを刺激し得る。
【０００３】
現在Stachybotrys chartarum（ＳＣ）として周知のStachybotrys atraは、かびの蔓延の源として、１９９０年代初期の幾つかのニューヨーク市の建築物において関係した破壊的なかびの種である。多くの他の危険な菌類もまた建築物汚染の源として特定されており、例えばアスペルギルス、ペニシリウム、フサリウム、トリコデルマ、及びMemnoniellaの種であり、これらの全てが強力なマイコトキシンを生成し得、その幾つかは、ＳＣによって生成する化合物と同一である。
【０００４】
マイコトキシンは、毒剤として特定されている、真菌の代謝物質である。２つのかびにより生成した毒素（アフラトキシン及びオクラトキシンＡ）は、米国毒性学プログラム（the National Toxicology Program）によってヒト発がん物質として分類された。
【０００５】
現在、かびまたはかびの胞子の空中濃度（airborne concentration）に関する連邦の規格も推奨（例えば、ＯＳＨＡ、ＮＩＯＳＨ、ＥＰＡ）もない。かびへの暴露と健康への影響との間の関係に関する科学的研究が継続中である。
【０００６】
かびは成長するために水を必要とするので、かびによる損傷を改善する際の第１の工程は、水分の源、例えば漏出、制御されない湿度等を突き止めることである。清掃の努力は通常、ひどく損傷した材料、例えば、じゅうたん、天井タイル及びその他同様なものの除去、続いて表面清掃及び十分な乾燥を含む。
【０００７】
表面清掃は典型的に、以下の技術のうちの１つによって実現してよい：胞子がまき散らされるのを防ぐのに十分なタンク中の水を使用した湿式真空、洗剤及び水溶液を使用した湿式の拭き取り、並びにＨＥＰＡ真空。多孔質材料は、この仕方で清浄化することがほぼ不可能であり、廃棄しなければならないだろう。漂白剤及び消毒薬は一般に推奨されない。
【０００８】
包囲された空間、特に大きな構造、特に壁紙、壁板及びその他同様なものの裏に隠れたかび汚染が存在する場所における、かびを改善する有効な手段に対する必要が依然として存在する。また、現在、かびに汚染された多孔質材料を大規模に改善するための有効な手段が存在しない。
【０００９】
さらに、現在、汚染された構造内部に存在する殺したかびの胞子のアレルゲン性の特性を大規模に破壊する有効な手段が存在せず、そのマイコトキシンを扱う何らかの有効な手段も存在しない。
【発明の開示】
【００１０】
本発明は、環境にとって安全な仕方でかびの改善を必要とする大きな包囲された体積内部に含まれる内容物のガスの浸透に対処する、二酸化塩素ガスの有効な大規模使用方法を提供する。本発明は：
１．塩素ガス及び他の汚染物を好ましくは含まない二酸化塩素ガスを発生させる工程と、
２．かびの改善を必要とする体積中に二酸化塩素ガスを導入する工程と、
３．導入した二酸化塩素ガスを前記体積中に分配する工程と、
４．かびの改善のために必要に応じて、含まれる内容物のガスの浸透を可能にする濃度で十分な持続時間、二酸化塩素ガスを前記体積内部に維持する工程と、
５．所望により、かび汚染に関する改善後試験（空気監視及び表面拭き取り（surface swab））を提供する工程と、を含む方法を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
１具体例においては、本発明は、例えば、開示を本明細書において参考のために引用する米国特許第6,468,479号において開示され、請求されるような、二酸化塩素発生器のような装置を使用することによって二酸化塩素を製造することを含むプロセスを提供する。二酸化塩素を、直接に気体として、または、より好ましくは水性（または他の適切な液体キャリア）二酸化塩素混合物として発生させる。発生器を好ましくは過剰の亜塩素酸ナトリウムを使用して作動させて、不純物としての塩素ガスを発生させる可能性を低減する。
【００１２】
発生器中のキャリア液体は、好ましくは水である。水溶液中で、二酸化塩素溶液平衡分圧を最も最適に約２６，０００ppmｖ未満（標準温度及び標準気圧に対して補正して）に保つ。
【００１３】
発生した二酸化塩素を直接に、または他に、間接的に貯蔵タンクを経て、高気体：液体比放射体（emitter）に移す。１好適な具体例においては、放射体は、高効率ミストエリミネータ及び非常に低い液体／気体率を有する気体／液体接触器のような装置である。１具体例においては、放射体は、ストリッパーのような装置である。
【００１４】
ガス状二酸化塩素濃度が、空気中の二酸化塩素の爆発限界よりもかなり下を維持するように、放射体を稼働する。二酸化塩素の発生の前に、放射体を水単独を用いて使用して、改善を必要とする体積中の相対湿度を上昇させてよく、これは温度の調節を伴う。他に、増湿及び改善を、同じ装置を使用して、二酸化塩素溶液の温度における適切な調節によって、同時に行うことができる。この前増湿は、耐性のあるかびの胞子の外皮を膨潤させる助けになることがあり、特に扱いにくい種を改善するのを助けることがある。改善の最中の湿度レベルの制御はまた、幾つかの多孔質表面のガスの浸透を助けることがある。
【００１５】
低減した照明の中で、好ましくは実質的に暗い中で処理を行って、二酸化塩素から塩素への分解を最小にする。プロセスを、赤外線カメラまたは同様の装置の使用を用いて監視する。
【００１６】
改善すべき空間が潜在的に腐食を受けやすい材料を含む場合、二酸化塩素は、最高の可能な純度を有するべきである。特に、塩素ガスは、導入した二酸化塩素ガス中に約５％未満、好ましくは約０．５％未満のレベルで存在すべきである。
【００１７】
一旦所望の相対湿度及び温度に達したら、次に二酸化塩素ガスの可変の発生速度を開始する。初期速度は、改善を必要とする体積内部の様々な表面の要求（surfaces demands）に浸透するのに十分な二酸化塩素を提供するために高い。この速度は、表面の要求に対処するように並びに改善を必要とする体積の予め定められた二酸化塩素残留レベルへの初期充填を提供するように予め定められている。二酸化塩素発生速度を次に適切に低減して、改善を必要とする体積の空気中の予め定められた二酸化塩素濃度を予め定められた時間維持する。これは多数の手段によって実現することができ、例えば、放射体に供給される溶液中の二酸化塩素の濃度を下げることか、または放射体への二酸化塩素溶液の流量を下げることである。
【００１８】
二酸化塩素ガス濃度を、改善を必要とする体積からの減衰または損失率を補うために決定する。改善を必要とする体積は、好ましくはその外部の区域に対してわずかに負圧であり、剥離可能なシーラント、例えば固まる泡の使用によって体積を密閉する努力をする。一旦必要な時間加重平均濃度及び接触時間に達したら、次に二酸化塩素の発生を止める。
【００１９】
発生器、貯蔵所及び放射体を次に淡水を用いてパージする。一旦これが完了したら、水を、アルカリ性化及び脱塩素剤または二酸化塩素を洗浄するであろう他の機能性化学（例えば、アスコルビン酸）と共に注入してよい。この洗浄溶液を次に放射体に供給し、ブロワは依然として稼働中であり、放射体は、改善された前記体積内部の環境空気組成物から二酸化塩素を洗浄し始める。このプロセスを、改善された体積内部の環境空気組成物が、外部環境に対して再度開放し、復元するための許容限度に戻るまで続ける。
【００２０】
放射体は、改善を必要とする体積の内部または外部に位置することができる。しかしながら、放射体が、改善を必要とする体積内部に位置することが非常に好ましく、というのは汚染された空気が改善を必要とする体積から出ることが可能でないからである。
【００２１】
本発明は、本発明の１具体例を概略で示す図１を参照することによってさらに理解できる。本発明を、二酸化塩素ガス発生器１００を使用して実施し、これは、水中に溶解した二酸化塩素１８０を、直接１６０に、または他に、間接的１４０に貯蔵所２００を経て、建築物区域及び／または建築物４００の加熱、換気及び空気調和（ＨＶＡＣ）リターンエア系の処理のための空気中の二酸化塩素ガス３６０を製造するブロワ３２０を含む放射体３００に提供する。
【００２２】
二酸化塩素発生器１００は、水道補給水（city makeup water）１４０及び化学薬品１２０または１３０の混合物である入力１５０を受け入れる。適切な混合手段を使用して、水道補給水１４０及び化学薬品１２０または１３０を組み合わせる。計量手段を使用して、組み合わせた水道補給水１４０及び化学薬品１２０または１３０の量及び比率を調節する。プロセスの任意の適合段階（climatizing stage）において、水単独が二酸化塩素発生器１００の入力１５０に提供されて、処理すべき体積の相対湿度を調節する。プロセスの第２の段階において、二酸化塩素前駆体化学薬品１２０を水道補給水１４０と組み合わせる。二酸化塩素及びその対応する二酸化塩素前駆体化学薬品を発生させる幾つかの化学的手段は当分野において周知であり、適切な手段及び化学薬品の選択は、当業者の能力の範囲内である。二酸化塩素を発生させる模範的な化学的手段は、米国特許第4,689,169号（Mason et al.）、同第5,204,081号（Mason et al.）、同第5,227,306号（Eltomi et al.）、同第5,258,171号（Eltomi et al.）、同第5,965,004号（Cowley et al.）、同第6,468,479号（Mason et al.）及び同第6,645,457号（Mason et al.）において開示されており、これらの教示を本明細書において参考のために引用する。
【００２３】
二酸化塩素発生器１００の出力を、直接１６０に経路を決めて、水中に溶解した二酸化塩素１８０を放射体３００に提供できる。他に、二酸化塩素発生器の出力を、貯蔵所２００に経路を決める１４０ことができ、貯蔵所２００から、水中に溶解した二酸化塩素１８０を、放射体３００に経路を決めることができる。
【００２４】
放射体３００は、二酸化塩素を水から除去し、空気中の二酸化塩素３６０を、ダクト手段によって、改善すべき体積、一般に、建築物区域及び／またはＨＶＡＣリターンエア系に供給する。“ダクト手段”としては、一時的なまたは永久の導管組織、パイプ、ホース及びその他同様なものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。放射体から回収した水３８０を再循環し、混合手段によって水道補給水１４０及び化学薬品１２０または１３０と組み合わせて、二酸化塩素発生器１００への入力１５０を提供できる。
【００２５】
プロセスの第３の段階において、二酸化塩素発生器１００、貯蔵所２００及び放射体３００を、水単独を用いてフラッシングする。プロセスのさらなる段階の最中、無毒化化学薬品１３０を水と組み合わせて、二酸化塩素発生器１００への入力を提供する。
【００２６】
改善を必要とする体積内部の露点を監視し、制御することは、重要な側面である。改善のプロセスの最中、凝縮を避ける処置を取らなければならない。従って、全改善プロセスの最中、過剰増湿を避けるために及び放射体に供給する二酸化塩素溶液の温度を調節するために、スペースヒーターまたはＨＶＡＣ系の両方を使用して、改善を必要とする体積内部の雰囲気を注意深く制御しなければならない。こうしたファクターの制御の失敗は、スポット損傷並びに二酸化塩素のより高い使用を生じ得る。
【００２７】
本明細書において使用する“ＣＴ”は、時間単位の暴露時間をかけた時間加重平均二酸化塩素濃度と等しい。時間単位の暴露時間にわたる二酸化塩素濃度のプロットにおいて、ＣＴは、曲線の下の面積と等しいと思われる。例えば、１２時間の暴露期間にわたる時間加重平均二酸化塩素濃度が７５０ppmｖだった場合、ＣＴは９０００ppmｖ時間であろう。
【００２８】
脱汚染を確実にし、同時に建築物の内容物の例えば電子機器（例えば、電話機器、コンピュータ、複写機、及び他の電子事務所用機器）、家具、及びその他同様なものへの損傷を避けるのに可能な程度に二酸化塩素濃度及びＣＴを最小にするのは、本発明の態様である。典型的な二酸化塩素濃度は５００〜３０００ppmｖの範囲内であり、暴露時間は典型的に約８〜１２時間である。かびの改善の場合、１２時間の時間にわたる約５００〜１５００ppmｖの範囲内の時間平均（time averaged）二酸化塩素ガス濃度は、かびの胞子を殺し、アレルゲン性の影響を除去するために有効であることが見い出された。
【００２９】
汚染された材料の前試験をより小規模に行って、有効濃度及び暴露時間を決定することができる。汚染された材料の試験試料を改善の前に建築物から採取し、二酸化塩素処理にさらして、有効濃度及び暴露時間を評価してよい。
【実施例】
【００３０】
実施例ｌ
【００３１】
約５０，０００ft２のかびに汚染された建築物（約百万立方フィート）を、二酸化塩素ガスを２，５００〜３，０００ppmｖの範囲内の濃度で用いて３時間の時間にわたって建築物を燻蒸することによって改善した。燻蒸の前及び最中に温度を約７５°Fで維持し、相対湿度を約７５％で維持した。汚染された建築物の内部のじゅうたん及び他の多孔質材料は、燻蒸の前に除去しなかった。前述のプロセスは、生存し得るかび及びかびの胞子を施設から実質的に除去し、かびの成長から生物学的塊を実質的に除去した。処理の前に黒色、灰色及び緑色の色合いがあった多孔質表面は、元の外観に戻った。かびの塊も実質的に除去され、その結果、０．１〜０．２５グラムのかび残留物を集めるために１〜４平方フィートの試料が必要であり、かびの塊における９９＋％の除去をもたらした。処理した材料の試料を、ＰＣＲ（ポリメラーゼ連鎖反応）分析によってＤＮＡに関して分析した。初期濃度レベルに依存して、ＤＮＡの３〜７logの低減が観察された。施設の産業用衛生点検は、かび汚染または残留かびアレゲニシティー（alegenicity）またはマイコトキシンの存在の証拠を見い出さなかった。
【００３２】
実施例２
【００３３】
３つの表面の上の階及び地階からなる約６０００平方フィートの構造は、水の侵入及び適切な環境条件が原因で、様々な種のかなりのかびの成長を現していたことが突き止められた。構造に入った人員は、洞充血、刺激された上部気道、及び目を含む、アレルギー応答の即座の症状を示した。かびの成長は、壁、天井及び他の表面に目で見え、多量にあった。
【００３４】
構造の温度を上昇させ、７０〜１００°F（２１〜３８℃）の範囲内に維持し、相対湿度を最小６５％に上昇させた。米国特許第6,468,479号において説明されているプロセスによって、二酸化塩素溶液を、閉じた流体ループ中で発生させた。６００〜１３００ppmｖの濃度を１２時間の時間及び二酸化塩素の９０００ppmｖ時間を超える合計ＣＴを維持するような速度で、二酸化塩素ガスを構造に加えた。
【００３５】
二酸化塩素濃度及び純度を、溶液相におけるＡＷＷＡ標準法６５００−ＣｌＯ２−Ｅ及び気相サンプリングのための手順に適合させるためのこれを用いた修正によって監視した。構造は、構造に合せ、約０．０５インチの水柱のわずかな負圧下で維持された補強された１６ミルＰＶＣで製造されたテントの内部に含まれた。除去した空気を活性炭ろ過器によって洗浄した。閉じ込めテントの外部で検出した最大二酸化塩素濃度は、十億分の二未満であり、確立されている最大暴露指針の十分に範囲内だった。
【００３６】
処理に続いて、かび生存率を構造において評価した。全てのかび及びかびの胞子の実質的に１００％パーセントが生存し得なくされ、これは、壁紙及び壁板の外装用の紙コーティングの下のかびを含んだ。より大きな程度の殺したことの測定（kill determination）は、かびの胞子の環境中の蔓延が原因で可能ではなかった。処理したかびの目視検査は、黒色から淡い黄褐色への呈色という色の変化を証明した。生存し得ないかびは除去するのが非常に容易だった。かびを殺したことは、全ての表面及び壁紙の下で観察された。処理の後に施設に入った人員は、アレルゲン性の応答を、残留生物学的物質に直接暴露した後でさえも報告しなかった。
【００３７】
本発明は、本明細書において説明する特定の具体例によってではなく、添付の請求の範囲によって範囲内に限定されるものである。説明した具体例は、本発明の個々の態様を示すことを意図されており、機能的に同等の方法及び成分は本発明の範囲内にある。確かに、本発明の様々な修正は、本明細書において示し、説明するものに加えて、前述の説明及び添付図面から当業者には明瞭になろう。このような修正は、添付の請求の範囲内に含まれることを意図されている。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明の１具体例の略図である。
【図１】
2008514377.tif 000003
【国際調査報告】
2008514377.tif 000004