(57)【要約】本発明は、２００ｎｍ以下の電磁放射線を放出するためのガス放電を生成する充填ガス（３）を満たした管（４）からなり、不活性ガスを提供して該ガスを硬化すべき材料の表面に供給する不活性ガス設備を備えていることを特徴とする、ＵＶ光により硬化できる材料を硬化させるためのガス放電ランプに関する。さらに本発明は、ＵＶ光により硬化できる材料を硬化させるためのシステムおよび方法、ならびに本発明に基づく方法により硬化される材料に関する。
2008521162.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＵＶ光により硬化できる材料を硬化させるためのガス放電ランプであって、２００ｎｍ以下の電磁線を放出するためのガス放電を生成する充填ガス（３）を満たした管（４）を備え、不活性ガスを提供して該ガスを硬化すべき材料の表面に供給する不活性ガス設備を使用することを特徴とするガス放電ランプ。
【請求項２】
前記ガス放電ランプ（１）は低圧照射装置であることを特徴とする請求項１に記載のガス放電ランプ。
【請求項３】
前記管（４）の直径は５ｍｍから２０ｍｍ、好ましくは１０ｍｍから１５ｍｍ、特に好ましくは１２ｍｍから１３ｍｍであることを特徴とする請求項１または２に記載のガス放電ランプ。
【請求項４】
前記管（４）は石英ガラスからなり、２００ｎｍ以下、特に１８５ｎｍの波長を透過させることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載のガス放電ランプ。
【請求項５】
前記管（４）の肉厚は０．５ｍｍから２ｍｍ、好ましくは０．８ｍｍから１．５ｍｍ、特に好ましくは１ｍｍから１．３ｍｍであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記載のガス放電ランプ。
【請求項６】
前記充填ガス（３）は水銀、ならびにＮｅ０％から１００％および／またはＡｒ０％から１００％、好ましくはＮｅ０％から５０％およびＡｒ５０％から１００％、特に好ましくはＮｅ２０％から３０％およびＡｒ７０％から８０％の比率のＮｅ−Ａｒ混合物からなることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一項に記載のガス放電ランプ。
【請求項７】
前記充填ガス（３）のガス圧力は０．５ミリバールから１０ミリバール、好ましくは０．５ミリバールから５ミリバール、特に好ましくは１ミリバールから３ミリバールであることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一項に記載のガス放電ランプ。
【請求項８】
ガス放電は前記管（４）内に配置された２つの電極（２）により生成され、またこれらの電極（２）に接続されたバラスト（５）により制御されることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載のガス放電ランプ。
【請求項９】
前記バラスト（５）は、前記電極（２）への電流供給を制御して、放電管温度を８５°Ｃから１５０°Ｃに調整することを特徴とする請求項８に記載のガス放電ランプ。
【請求項１０】
ガス放電は、高エネルギー放射線、特にマイクロ波領域の放射線により無電極で生成されることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載のガス放電ランプ。
【請求項１１】
前記ガス放電ランプ（１）は中圧照射装置であることを特徴とする請求項１に記載のガス放電ランプ。
【請求項１２】
前記不活性ガスは化学的に不活性な気体状物質、好ましくはアルゴン、窒素または二酸化炭素であることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか一項に記載のガス放電ランプ。
【請求項１３】
充填ガス（３）を満たした管（４）内の放電によって２００ｎｍ以下の電磁線を放出するためのガス放電ランプ（１）、
および
不活性ガスを提供して硬化すべき材料の表面に該ガスを供給する不活性ガス設備
を有することを特徴とするＵＶ光により硬化できる材料を硬化させるためのシステム。
【請求項１４】
前記ガス放電ランプ（１）は低圧照射装置であることを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記管（４）の直径は５ｍｍから２０ｍｍ、好ましくは１０ｍｍから１５ｍｍ、特に好ましくは１２ｍｍから１３ｍｍであることを特徴とする請求項１３または１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記管（４）は石英ガラスからなり、２００ｎｍ以下、特に１８５ｎｍの波長を透過させることを特徴とする請求項１３ないし１５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１７】
前記管（４）の肉厚は０．５ｍｍから２ｍｍ、好ましくは０．８ｍｍから１．５ｍｍ、特に好ましくは１ｍｍから１．３ｍｍであることを特徴とする請求項１３ないし１６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１８】
前記充填ガス（３）は水銀、ならびにＮｅ０％から１００％および／またはＡｒ０％から１００％、好ましくはＮｅ０％から５０％およびＡｒ５０％から１００％、特に好ましくはＮｅ２０％から３０％およびＡｒ７０％から８０％の比率のＮｅ−Ａｒ混合物からなることを特徴とする請求項１３ないし１７のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１９】
前記充填ガス（３）のガス圧力は０．５ミリバールから１０ミリバール、好ましくは０．５ミリバールから５ミリバール、特に好ましくは１ミリバールから３ミリバールであることを特徴とする請求項１３ないし１８のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２０】
ガス放電は前記管（４）内に配置された２つの電極（２）により生成されるとともに、前記電極（２）に接続されたバラスト（５）により制御されることを特徴とする請求項１３ないし１９のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２１】
前記バラスト（５）は、前記電極（２）の電流供給を制御して、放電管温度を８５°Ｃから１５０°Ｃに調整することを特徴とする請求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】
ガス放電は、高エネルギー放射線、特にマイクロ波領域の放射線により無電極で生成されることを特徴とする請求項１３ないし１９のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２３】
前記ガス放電ランプ（１）は中圧照射装置であることを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【請求項２４】
前記不活性ガスは化学的に不活性な気体状物質、好ましくはアルゴン、窒素または二酸化炭素であることを特徴とする請求項１３ないし２３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２５】
ガス放電ランプ（１）により２００ｎｍ以下の電磁放射線を放出する工程、
不活性ガスを用意する工程、
および硬化すべき材料の表面に該不活性ガスを供給する工程、
を有することを特徴とするＵＶ光により硬化できる材料を硬化させるための方法。
【請求項２６】
直径５ｍｍから２０ｍｍ、好ましくは１０ｍｍから１５ｍｍ、特に好ましくは１２ｍｍから１３ｍｍの管（４）を用意することを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
２００ｎｍ以下、特に１８５ｎｍの波長を透過させる石英ガラスの前記管（４）を用意することを特徴とする請求項２５または２６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８】
肉厚が０．５ｍｍから２ｍｍ、好ましくは０．８ｍｍから１．５ｍｍ、特に好ましくは１ｍｍから１．３ｍｍの前記管（４）を用意することを特徴とする請求項２５ないし２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
水銀、ならびにＮｅ０％から１００％および／またはＡｒ０％から１００％、好ましくはＮｅ０％から５０％およびＡｒ５０％から１００％、特に好ましくはＮｅ２０％から３０％およびＡｒ７０％から８０％の比率のＮｅ−Ａｒ混合物からなる充填ガスを用意することを特徴とする請求項２５ないし２８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０】
０．５ミリバールから１０ミリバール、好ましくは０．５ミリバールから５ミリバール、特に好ましくは１ミリバールから３ミリバールのガス圧力を提供することを特徴とする請求項２５ないし２９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３１】
前記管（４）内に配置された２つの電極（２）によるガス放電の生成ならびにこれらの電極（２）に接続されたバラスト（５）による制御を特徴とする請求項２５ないし３０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２】
前記バラスト（５）による前記電極（２）への電流供給の制御によって放電管温度を８５°Ｃから１５０°Ｃに調整することを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
高エネルギー放射線、特にマイクロ波領域の放射線によりガス放電を無電極で生成することを特徴とする請求項２５ないし３０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４】
化学的に不活性な気体状物質、好ましくはアルゴン、窒素または二酸化炭素を不活性ガスとして使用することを特徴とする請求項２５ないし３３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５】
充填ガス（３）を満たした管（４）内のガス放電により２００ｎｍ以下の電磁放射線を放出するためのガス放電ランプ（１）、および
不活性ガスを用意して硬化すべき材料の表面に該ガスを供給する不活性ガス設備
を用いてＵＶ光により硬化された材料。
【請求項３６】
前記ガス放電ランプ（１）は低圧照射装置であることを特徴とする請求項３５に記載の材料。
【請求項３７】
前記管（４）の直径は５ｍｍから２０ｍｍ、好ましくは１０ｍｍから１５ｍｍ、特に好ましくは１２ｍｍから１３ｍｍであることを特徴とする請求項３５または３６に記載の材料。
【請求項３８】
前記管（４）は石英ガラスからなり、２００ｎｍ以下、特に１８５ｎｍの波長を透過させることを特徴とする請求項３５ないし３７のいずれか一項に記載の材料。
【請求項３９】
前記管（４）の肉厚は０．５ｍｍから２ｍｍ、好ましくは０．８ｍｍから１．５ｍｍ、特に好ましくは１ｍｍから１．３ｍｍであることを特徴とする請求項３５ないし３８のいずれか一項に記載の材料。
【請求項４０】
前記充填ガスは水銀、ならびにＮｅ０％から１００％および／またはＡｒ０％から１００％、好ましくはＮｅ０％から５０％およびＡｒ５０％から１００％、特に好ましくはＮｅ２０％から３０％およびＡｒ７０％から８０％の比率のＮｅ−Ａｒ混合物からなることを特徴とする請求項３５ないし３９のいずれか一項に記載の材料。
【請求項４１】
前記充填ガス（３）のガス圧力は０．５ミリバールから１０ミリバール、好ましくは０．５ミリバールから５ミリバール、特に好ましくは１ミリバールから３ミリバールであることを特徴とする請求項３５ないし４０のいずれか一項に記載の材料。
【請求項４２】
ガス放電は前記管（４）内に配置された２つの電極（２）により生成されるとともに、前記電極（２）に接続されたバラスト（５）により制御されることを特徴とする請求項３５ないし４１のいずれか一項に記載の材料。
【請求項４３】
前記バラスト（５）は、前記電極（２）への電流供給を制御して、放電管温度を８５°Ｃから１５０°Ｃに調整することを特徴とする請求項４２に記載の材料。
【請求項４４】
ガス放電は、高エネルギー放射線、特にマイクロ波領域の放射線により無電極で生成されることを特徴とする請求項３５ないし４１のいずれか一項に記載の材料。
【請求項４５】
前記ガス放電ランプ（１）は中圧照射装置であることを特徴とする請求項３５に記載の材料。
【請求項４６】
前記不活性ガスは化学的に不活性な気体状物質、好ましくはアルゴン、窒素または二酸化炭素であることを特徴とする請求項３５ないし４５のいずれか一項に記載の材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１に基づくＵＶ光により硬化できる材料を硬化するためのガス放電ランプ、請求項１３に基づくＵＶ光により硬化できる材料を硬化するためのシステム、および請求項２５に基づくＵＶ光により硬化できる材料を硬化するための方法、ならびに請求項３５に基づくＵＶ光により硬化される材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
極めて広範な分野において、ワニス、カラー印刷インク、注型材、接着剤などの材料が使用されている。元来一部では、現在も溶剤含有システムおよび水性システムが採用されている。しかし、乾燥工程において用いられる熱エネルギーは極めて多量であるため、高揮発性溶剤成分のなかには深刻な環境汚染をもたらすものがあり、あるいは空気清浄化規則により溶剤焼却施設または溶剤回収施設を設置しなければならない場合には、多額の投資が必要となる。
【０００３】
従来の溶剤含有システムの代案として考慮されるのが、紫外線硬化性材料である。最近では、ＵＶ硬化材料はいくつかの分野において実績を上げており、他の分野でもその重要性が増している。
【０００４】
その場合には、ＵＶ硬化材料、特に色素や厚膜材料を硬化するために、３２０−３８０ｎｍの長波長ＵＶ線および３２０−４５０ｎｍの可視光線が深部硬化のために使用され、また２００−３２０ｎｍの短波長放射線が表面硬化および酸素抑制低減のために使用される。色素や厚膜系の硬化は、好ましくは４００ｎｍ以上の可視領域において吸収する光重合開始剤により実施される。このため、ワニス、カラー印刷インク、接着剤および注型材のＵＶ硬化では、主に水銀中圧照射装置が使用されるが、それらのなかには特に長波長領域（＞４００ｎｍ）において照射するものがある。
【０００５】
短波を発する照射装置、例えば波長１７２ｎｍのエキシマレーザは、例えば透明ワニスの場合には、不活性ガス下または真空中で塗料面に極めて薄い深部硬化層を生じる。但し、より深部にある層は中圧照射装置により更に硬化させなければならない。これにより、艶消効果が現れるが、ワニスは完全には深部硬化できない。
【０００６】
１８５ｎｍのピークを有する低圧照射装置は、オゾン製造ならびに水分解や空気、水または基材表面をクリーニングするための無機成分の酸化などの光化学用途に対する専用である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記の種々の方法、特に中圧照射装置における短所として挙げられるのは、使用される照射装置の多大の所要エネルギー、特に温度に敏感な基材にとって問題となる照射装置の高い発熱性、ならびに照射装置の構造およびその冷却に伴う大型化であり、これらの点から装置コストが多額となる。
【０００８】
さらに、ＵＶ硬化は主に箔や板材などの二次元部品の硬化に使用される。三次元部品の硬化には依然として大きな問題が残されており、すべての対象個所における、または不活性ガス条件下における均等な硬化のために複雑なＵＶ設備を構築して、空気中で実施しなければならない。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
したがって、本発明の目的は、所要エネルギーおよび構造規模を低減し、かつ発熱を減少させるシステムおよび方法を提供することであり、さらに提供されるランプシステムは種々の三次元形状を持つ構造に対して十分に適合しうるものである。
【００１０】
この目的は、請求項１に記載の特徴を有する本発明のガス放電ランプにより達成される。
【００１１】
本発明にしたがって開示されるのは、ＵＶ光により硬化できる材料を硬化させるためのガス放電ランプであり、それは２００ｎｍ以下の電磁放射線を放出するためのガス放電を生成する充填ガス（３）を満たした管（４）を有し、不活性ガスを提供して硬化すべき材料の表面に該ガスを供給する不活性ガス設備を備えている。
【００１２】
さらに、この目的は請求項１３に記載の特徴を有する本発明のシステムにより達成される。
【００１３】
本発明にしたがって開示されるのは、充填ガスを満たした管内の放電によって２００ｎｍ以下の電磁放射線を放出するためのガス放電からなるＵＶ光により硬化できる材料を硬化させるためのシステム、ならびに不活性ガスを用意して該ガスを硬化すべき材料の表面に供給する不活性ガス設備である。
【００１４】
さらに、この目的は請求項２５に記載の特徴を有する本発明の方法により達成される。
【００１５】
本発明にしたがって開示されるのは、ＵＶ光により硬化できる材料を硬化させるための方法であって、ガス放電ランプによって２００ｎｍ以下の電磁放射線を放出するための工程、不活性ガスを用意する工程、および硬化すべき材料の表面に該不活性ガスを供給する工程を有する。
【００１６】
上記に加えて、本発明の目的は請求項３５に記載の特徴を有する材料により、本発明にしたがって達成される。
【００１７】
本発明にしたがって開示されるのはＵＶ光により硬化された材料であり、それは充填ガスを満たした管内の放電によって２００ｎｍ以下の電磁放射線を放出するためのガス放電ランプの採用と、不活性ガスを用意して該不活性ガスを硬化すべき材料の表面に供給する不活性ガス設備の採用により達成される。
【００１８】
ガス放電ランプは、好ましくは低圧照射装置である。
【００１９】
管の直径は５ｍｍから２０ｍｍであり、好ましくは１０ｍｍから１５ｍｍ、特に好ましくは１２ｍｍから１３ｍｍである。
【００２０】
好ましい形状にされる管は、２００ｎｍ以下、特に１８５ｎｍの波長を透過させる石英ガラスからなる。
【００２１】
管の肉厚は０．５ｍｍから２ｍｍであり、好ましくは０．８ｍｍから１．５ｍｍ、特に好ましくは１ｍｍから１．３ｍｍである。
【００２２】
充填ガスは、好適には水銀、およびＮｅ−Ａｒの混合物、すなわち、Ｎｅ０％から１００％および／またはＡｒ０％から１００％、好ましくはＮｅ０％から５０％およびＡｒ５０％から１００％、特に好ましくはＮｅ２０％から３０％およびＡｒ７０％から８０％の比率の混合物からなる。
【００２３】
充填ガスのガス圧力は、０．５ミリバールから１０ミリバールが効果的であり、好ましくは０．５ミリバールから５ミリバール、特に好ましくは１ミリバールから３ミリバールである。
【００２４】
好ましくは、ガス放電は、管内に配置された２つの電極により生成されるとともに、これらの電極に接続されたバラストにより制御される。
【００２５】
バラストは、電極の電流供給を制御して好適には放電管温度を８５°Ｃから１５０°Ｃに調整する。
【００２６】
ガス放電は、高エネルギー放射線、特にマイクロ波領域の放射線により生成することもできる。したがって、ガス放電は例えば無電極照射システムにおいても生成できる。
【００２７】
ガス放電ランプは、中圧照射装置とすることもできる。
【００２８】
不活性ガスは、化学的に不活性な気体状物質であることが効果的であり、好ましくはアルゴン、窒素、二酸化炭素である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
図１は、ガス放電ランプ１の概略図を示す。ガス放電ランプ１は所定の充填ガス圧を有する充填ガス３を備えた真空気密管４からなり、その中でガス放電が行われ、また通常は２つの金属製の電極２が管４内に融接されている。一方の電極２は放電のための電子を供給するが、これらの電子は第２の電極２を介してさらに外部回路へ送られる。電子の放出は通常は熱電子放出（高温電極）により行われるが、強電場における放出あるいは直接的にイオン衝撃（イオン励起二次放出）によっても行われる（低温電極）。電極からなるこれらの照射装置のほかに、当然ながらマイクロ波などの高エネルギー放射線により点火される無電極照射装置１も使用できる。
【００３０】
ガス放電ランプ１は、駆動のためにガス放電ランプ１はバラスト５を有するが、バラスト５は電極に接続され、ガス放電ランプ１内で稼動のためにガス放電を点火する。外部電気回路におけるガス放電ランプ１の適切な電流制限がなければ、ガス放電ランプ１内の電流は管４のガス体積中の電荷担体の増加により急増するため、ランプが早期に破壊されることとなる。
【００３１】
ＵＶ線により硬化できる材料として、ワニス、カラー印刷インク、接着剤および注型材などが挙げられる。
【００３２】
ガス放電ランプ１としては、低圧照射装置および中圧照射装置の双方が使用できる。これらは本発明にしたがって最適化することにより、波長２００ｎｍ以下、特に波長１８５ｎｍにおいて特に高効率を以て発せられる。
【００３３】
この場合、中圧照射装置では多量の熱が生じるという欠点があるため、強力な冷却が必要となる。この理由から、中圧照射装置は例えば低圧照射装置とは異なり、不活性ガスを充填した硬化設備室内に設置することができない。なぜならば、強力な換気によって、残留物酸素濃度が２０％にまで急増するからである。したがって、中圧照射装置は硬化装置の外部に設置しなければならない。この場合には、２００ｎｍ以下の波長を持つＵＶ線透過性の石英板（Suprasilなど）を硬化設備に設けるための多額の装置コストが必要となる。さらに、外部設置式の照射装置全体において不活性ガスを流動させなければ、オゾンが生成されて、短波ＵＶ線は基材表面に到達できなくなる。不活性ガス雰囲気中における水銀式中圧照射装置による硬化のための別の可能な方法は、水などの冷却剤によって放射方向を調整することである。この目的ためには、例えば反射板および／またはハウジングが冷却剤により冷却される。不活性ガスが充填された照射室では、乱流は生じない。
【００３４】
水銀式低圧放電ランプは、水銀原子による衝撃イオン化過程におけるプラズマ放電にて放電を生成する放射線源である。この放射線は、スペクトル的に紫外線から赤外線まで分布している。最も強力な放射成分は、中圧照射装置とは異なり、実質的に２５４ｎｍおよび１８５ｎｍの波長に存在する。
【００３５】
管４の直径が小さい程、この１８５ｎｍ収率が高まる。好適には管４の直径は５ｍｍから２０ｍｍであるが、好ましくは１０ｍｍから１５ｍｍ、特に好ましくは１２ｍｍから１３ｍｍであり、１２ｍｍから１３ｍｍの直径は製造上の技術的観点からも最適である。
【００３６】
管４の肉厚は０．５ｍｍから２ｍｍであるが、好ましくは０．８ｍｍから１．５ｍｍ、特に好ましくは１ｍｍから１．３ｍｍである。
【００３７】
低圧照射装置の充填ガス３は、水銀およびアルゴン充填、あるいは水銀と希ガスとの混合物、例えばＡｒ−ＫｒおよびＡｒ−Ｎｅとすることができる。これらの希ガス混合物Ａｒ−ＫｒおよびＡｒ−Ｎｅは、純アルゴン充填ガスよりも高い１８５ｎｍ収率を発揮する。この場合に最適であることが判明したのは、Ｎｅ０％から１００％および／またはＡｒ０％から１００％、好ましくはＮｅ０％から５０％およびＡｒ５０％から１００％、特に好ましくはＮｅ２０％から３０％およびＡｒ７０％から８０％の比率を有する希ガス混合物Ｎｅ−Ａｒである。さらに、１８５ｎｍ収率はガス圧力の低減により高めることができる。充填ガス３のガス圧力は０．５ミリバールから１０ミリバールとされるが、好ましくは０．５ミリバールから５ミリバールである。しかし、２ミリバール以下のガス圧力値では、１８５ｎｍピーク強さの減少が再び生じるため、充填ガス３の最適ガス圧力は２ミリバールから３ミリバールである。
【００３８】
管４の材質として種々の石英材料を使用することにより、放出される波長つまり１８５ｎｍ収率が影響され得る。図２には、ＵＶ照射装置に対する種々の石英材料の透過性が示されている。そこには、ナノメートル単位の波長に応じた種々の石英材料の透過百分率が表示されている。グラフから見て取れるように、所定の石英材料のみが波長２００ｎｍ以下、特に１８５ｎｍを通過させる。１８５ｎｍでの透過性が特に顕著なのは、水晶と合成石英「Suprasil」である。さらに、１８５ｎｍ収率は肉厚の小さい管４の使用により増加する。最適であることが判明したのは、肉厚１．３ｍｍの石英ガラス「Ilmasil hp」および肉厚１ｍｍの石英ガラス「Hereaus Suprasil」である。上記のＳiＯ2ベースの石英材料のほかに、１００ｎｍから２００ｎｍ領域のＵＶ線の透過度を有するセラミックまたは他の無機材料も使用できる。
【００３９】
１８５ｎｍラインの放射は、照射装置の温度上昇に伴い最大およそ１５０°Ｃの値まで増加する。この値を越すと、水銀共鳴線の物理的な自己吸収の開始により、放射は顕著に減少する。そのため、照射装置が一定のランプ電流により連続的に加熱されて放射線強度が最大値となるのではなく、管壁温度がランプ電流の制御により所望値に維持できることが必要である。これにより、放射線強度が一定に維持できる。
【００４０】
したがって、ガス放電ランプ１は、ランプ電流供給を制御するバラスト５を備えている。ここで、特に高い１８５ｎｍ収率が認められたのは８５°Ｃから１５０°Ｃの範囲であった。この範囲を越すと、１８５ｎｍ収率は再び低下し、充填ガス圧力の減少につれて広い最大領域が減少し、１８５ｎｍ収率は高温でより急激に再び低下する。
【００４１】
ランプ電流に応じて、９０°Ｃから１５０°Ｃまでの温度上昇が生じる。５００ｍＡの低いランプ電流により、例えば長さ３００ｍｍの照射装置においておよそ１６ワットの有効電力が適用され、また電流１．２Ａでは３３ワットの電力が適用される。このことから得られるのは、０．５Ａでの１３．５％の放射線収率、また１．２Ａでの９％の放射線収率という効率である。１Ａでの最適稼動点は、合成水銀の従来式照射装置と比較して１５０％の効率を生じる。１８５ｎｍ照射線の測定された出力は、２から３ワットの範囲にある。
【００４２】
バラスト５は広い範囲においてその電流を調整することができる。すなわち、例えば、本発明に基づく低圧照射装置に関して基線値から始まって＋−５０％の範囲である０．９Ａ＋−５０％（０．４５Ａから１．３５Ａまで）に調整できる。他の種類の照射装置については、対応する基線値を二つのチョークおよび一つのキャパシタの単純な交換により適合させることができる。＋−５０％範囲における電流設定は、電位差計により手動で、あるいは電圧インタフェースを介して遠隔制御できる。本発明に基づくバラスト５により、この電圧インタフェースは管壁温度を所望温度値と比較するコンパレータ回路を介して制御され、あるいは電流は固定電圧値により設定される。
【００４３】
ガス放電ランプ１の管４を、極めて多様な形状（蛇行形状、円弧形状または螺旋形状）にしてもよい。生成した放射線の最適利用が提供されるのは、円筒形状である。他の形状は、生成した放射線をそれら自身で再び多少取り込むという点において相互に影響を及ぼすのであるが、１８５ｎｍ収率はやはり高いと言える。
【００４４】
ガス放電ランプとして中圧照射装置の使用については、管４は最適には１０から３０００ｍｍの長さおよびおよそ１６から２８ｍｍの管径を有する。放電管温度は、およそ７００°Ｃから９００°Ｃである。管４の材料としては、波長２００ｎｍ以下、特に波長１８５ｎｍを透過させる石英ガラスが再び使用される。
【００４５】
粘着剤および注型材のラジカル硬化に伴う酸素抑制作用を阻止することはもちろん、酸素下でのＵＶ照射により生じるオゾン生成を阻止するため、硬化工程は不活性ガス（保護ガス）下で行われる。この場合に、不活性ガス設備は不活性ガスを供給し、硬化すべき材料の表面に対してこの不活性ガスを供給する。化学的に不活性な気体化合物はいずれも不活性ガスとして使用でき、例えばヘリウム、アルゴンなどの希ガス、さらに窒素や二酸化炭素も不活性ガスとして用いてもよい。二酸化炭素は、例えばドライアイス形状や気体形状で使用できる。優れた被覆特性を得るためには、０．０００１から１０％、好ましくは０．３から３％の酸素濃度の不活性下でこの工程を実施する。
【００４６】
ＵＶ硬化性材料は、光重合開始剤、プレポリマー類（予備架橋された基本成分）、モノマー類（反応性希釈剤として使用できる基本成分）、添加剤、充填剤、および／または色素などの物質からなる。
【００４７】
ＵＶ線の作用により、これらの材料に含まれる光重合開始剤から遊離基が生成され、これはシステムの架橋を惹起して、短時間に硬化させる。
【００４８】
放射線硬化性成分として対象となるのは、例えば（メタ）アクリレート、ビニルエーテル、ビニルアミド、反応性希釈剤としてのスチレンと共に適用可能である場合のリンゴ酸またはギ酸ベースの不飽和ポリエステルなど、あるいはマレインイミド／ビニルエーテルシステムである。
【００４９】
（メタ）アクリレート成分としては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、シリコン（メタ）アクリレート、アクリル化ポリアクリレートが好ましい。
【００５０】
放射線硬化性のエチレン不飽和基の好ましくは少なくとも４０モル％、特に好ましくは少なくとも６０モル％が、（メタ）アクリレート基であることが好ましい。
【００５１】
放射線硬化性成分は、さらに付加的熱硬化のための反応基、例えば、アルコール、炭酸、アミン、エポキシド、無水物、イソシアネートあるいはメラミン基の化学反応によるメラミン、イソシアネート、エポキシド、無水物、アルコール、炭酸などの反応基（二重硬化）を含むことができる。
【００５２】
放射線硬化性成分は、例えば有機溶媒または水などの溶液として、水性分散液または乳濁液として、粉末として、あるいは１００％液剤として使用できる。
【００５３】
放射線硬化性成分および放射線硬化性集合体は常温で流動できることが好ましい。放射線硬化性成分は、好ましくは２０重量％以下、特に１０重量％以下の無機溶媒および／または水を含む。それらは、好ましくは溶媒および水を含まない（１００％固体）。
【００５４】
放射線硬化性集合体は、放射線硬化性成分のほかに、結合剤としての成分を含むことができる。対象となるのは、色素、レオロジカル剤、着色剤、安定剤などである。
【００５５】
ＵＶ光による硬化では、市販の光重合開始剤が一般に使用される。
【００５６】
光重合開始剤として対象となるのは、例えばベンゾフェノン、アルキルベンゾフェノン、ハロゲンメチル化ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アントロンおよびハロゲン化ベンゾフェノンである。さらに通常の光重合開始剤として、α−ヒドロキシケトン、α−アミノケトン、チオキサントンおよびメチルベンゾイルホルメート（ＭＢＦ）が挙げられる。ベンゾインおよびその誘導体も適している。同様に有効な光重合開始剤は、アントラキノンとその多くの誘導体、例えばβ−メチルアントラキノン、３−ブチルアントラキノンおよびアントラキノン炭酸エステルであり、特にアシルホスフィンオキシド基を備えた有効な光重合開始剤として挙げられるのはアシルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゼン・ジフェニルホスフィンオキシド（ルシリン登録済商標ＴＰＯ）である。
【００５７】
本発明が有利なのは、放射線硬化性集合体中の光重合開始剤の含量が顕著に低減できることである。
【００５８】
放射線硬化性集合体は、１００重量部の放射線硬化性成分に対して好ましくは１０重量部以下、特に４重量部以下、特に好ましくは１．５重量部以下の光重合開始剤を含む。
【００５９】
特に０．０１重量部から１．５重量部、特に好ましくは０．０１重量部から１重量部までの量の光重合開始剤で十分である。
【００６０】
不活性ガス設備と結合するように提案されたガス放電ランプ１は、ラジカルおよびカチオン性ワニス、カラー印刷インク、接着剤および注型材のいずれにも適している。この場合には、透明ワニスおよび色素システムが、白、シアン、マゼンタ、黄、または黒色で、あるいはそれらの混合物として硬化できる。着色ワニス、カラー印刷インク、接着剤および注型材については、この方法により４０ミクロン以上の層厚まで硬化できる。同様に透明ワニスまたは充填システムも、２０００ミクロン以上の層厚まで支障なく硬化できる。ＵＶおよび天候に対する耐久力を高めるためのＵＶ吸収剤を含むワニスシステムも１００ミクロンよりかなり大きい層厚において、また色素として二酸化チタンなどを有する高色素白システムも、支障なく硬化できる。
【００６１】
基材表面からのガス放電ランプ１の距離は、この方法では１ｃｍから１８ｃｍ以上の範囲とすることができる。ワニス、カラー印刷インク、接着剤および注型材の硬化のために、一つまたは複数の照射装置あるいはアレイ照射装置が採用できる。照射装置の放射熱は低いので、被覆されかつ硬化される基材の加熱は反応熱以外には軽微である。
【００６２】
更なる適用事項としては、基材の接着性を向上させるための基材の前処理が挙げられる。この場合には、基材表面は一つまたは複数の照射装置１により不活性状態で照射されて「活性化される」が、それにより基材の表面張力が増す。その際に生成された遊離基は、例えばワニス、カラー印刷インク、接着剤および注型材などの不飽和基と反応して、基材と被覆との間に化学結合を生じる。次に一つまたは複数の照射装置１により、被覆材料が不活性状態で硬化できる。これにより、ワニス、カラー印刷インク、接着剤および注型材の接着性の顕著な向上が、種々の基材において達成できる。別の方法では、一つまたは複数の照射装置１により不活性状態で前処理された基材が、光活性の「ＵＶプライマー」により前処理できる。すなわち、基材とプライマーとの間に化学結合が生じる。一つまたは複数の照射装置１により不活性状態でさらにＵＶ照射工程を実施することにより、この効果がさらに高まる。ＵＶ硬化性被覆材料によるその後の被覆および一つまたは複数の照射装置１による不活性状態での再度のＵＶ硬化の結果として、プライマーと被覆材料との間に化学結合が生じる。この工程により、種々の基材に対するＵＶ架橋可能なシステムにおける接着性を顕著に改善できる。不活性状態での照射装置１による前処理工程後に基材の表面張力の増加および接着性を改善するため、上記の両方法では以後のプライマーおよび被覆工程におけるＵＶ硬化を大気中において従来の中圧照射装置によって実施することもできる。
【００６３】
照射装置１による別の用途としては、基材表面の無菌化、殺菌および／または消毒が挙げられる。
【００６４】
照射装置１によるさらに別の用途としては、艶消しおよび無光沢表面の生成が挙げられる。
【００６５】
本発明に基づくシステムおよび方法の利点は、本発明の低圧照射装置によって加わるエネルギーが小さいので、ＵＶ硬化における温度上昇が低いことにある。これが特に顕著なのは、プラスチック類、紙、木材などの温度に敏感な基材の被覆の場合である。さらに、低圧照射装置は中圧照射装置に比べて所要エネルギー量が著しく低いため、エネルギーコストが低減できる。しかも、本発明に基づくガス放電ランプはあらゆるタイプの形状に対応できる。すなわち、ランプは蛇行形状あるいはＵ形状とすることができるため、湾曲表面を持つ対象物の場合にも照射装置が硬化用表面に対して最適となる。さらに、透明ワニスおよび色素システムの硬化が極めて短時間で可能である。厚い層の硬化も、本発明に基づくガス放電ランプにより不活性ガス下で実施できる。低圧照射装置は低温状態であるため、照射装置を冷却する必要がなく、そのため構造上の規模が低減できるとともに、例えば照射装置の変更が冷却完了までの待機時間なしに実施できるので、照射装置の取り扱いも簡便である。構造規模の減少により、装置コストも低減される。さらに、基材の前処理も可能である。加えて、照射装置は殺菌および消毒にも使用できるとともに、ＵＶ安定化ワニスの硬化だけではなくラジカルおよびカチオン硬化システムも可能である。同様に、ＵＶ透過基材（カチオンおよびラジカル）と非透明基材のカチオン接着剤による接着も可能である。別の適用分野は、色素システムの艶消しおよび深部硬化である。
【００６６】
本方法は、三次元物体の精製はもちろん二次元および三次元物体の印刷、被覆およびライニング／積層のため、紙のような織物状の材料、フォイルまたは板材の精製を行うべく、不活性状態下でステーション方式または連続稼動方式にて実施することができる。
【実施例】
【００６７】
別途の記載がない限り、すべての試験は、１８５ｎｍ領域において増幅照射を行う2台の最適化された低圧ＵＶ照射装置を用いて実施された。通常のアマルガム照射装置（従来型石英）は、１８５ｎｍの短波ＵＶ領域では照射せず、２５４ｎｍでのみ照射する。
【００６８】
合成石英製のアマルガム照射装置は、２５４ｎｍおよび１８５ｎｍで照射する。ただし、１８５ｎｍでの照射は、最適化された照射装置を用いた場合よりも著しく低い。
【００６９】
１．ＵＶ透明ワニスの硬化
デュポン・パフォーマンス・コーティング社製のＵＶ溶剤含有透明ワニスをガラス板（膜厚およそ４０μｍ、ＦＫ＝５０％）に塗布し、溶剤を蒸発させた後に「ＵＶＡCube inert」に挿入した。２台の低圧照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で硬化させた （残留Ｏ2濃度＝１．５％）。1秒間の照射後、材料は引っかき抵抗性高光沢フィルムとして完全硬化した。白色紙に対するＫＭｎＯ4試験において、フィルムの着色は認められなかった。
【００７０】
２．ＵＶ透明ワニスの硬化
Laromer登録済商標PO 84F（BASF社）５０ｇ、TMPTA（BASF社）１．５ｇ、および光重合開始剤としてDarocur登録済商標MBF（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社）１ｇからなる透明ワニスをガラス板に塗布（膜厚およそ４０μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。２台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で硬化させた（残留Ｏ2濃度＝１．５％）。２秒間の照射後、材料は引っかき抵抗性高光沢フィルムとして完全硬化した。白色紙に対するＫＭｎＯ4試験において、微少なフィルム着色が認められた。
【００７１】
３．注型材料としてのＵＶ透明ワニスの硬化
上記ワニスを、アルミニウム製ふたに充填した（膜厚およそ３ｍｍ）。次に「ＵＶＡCube inert」において、２台の低圧照射装置を用いて、この照射装置からおよそ１８ｃｍの距離で上記材料に６０秒間の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。材料は完全硬化し、表面が引っかき抵抗性を有するおよそ３ｍｍの柔軟なポリマーが形成された。
【００７２】
４．ＵＶ吸収剤を含有するＵＶ透明ワニスの硬化（ＭＢＦ）
Laromer登録済商標PO 84F（BASF社）１００ｇ、ＵＶ吸収剤としてTinuvin登録済商標１１３０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社）５．０ g、および光重合開始剤としてDarocur登録済商標MBF（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社）２．０gからなる透明ワニスを白色カードに塗布（膜厚およそ１２μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。２台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で硬化させた（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。２秒間の照射後、材料は引っかき抵抗性高光沢フィルムとして完全硬化した。白色紙に対するＫＭｎＯ4試験において、微少なフィルム着色が認められた。
【００７３】
５．ＵＶ吸収剤を含有するＵＶ透明ワニスの厚膜硬化（ＭＢＦ）
上記ワニスを、白色カードにおよそ４０μｍ厚さの層になるように塗布した。次に「ＵＶＡCube inert」において、２台の低圧照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で上記材料に３０秒間の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。フィルムは完全硬化し、高光沢面は完全な引っかき抵抗性を示した。１０秒間の照射後、フィルムは完全には硬化しなかった。
【００７４】
６．UV吸収剤を含有するUV透明ワニスの厚膜硬化（ＭＢＦ）
上記ワニスを、白色カードにおよそ１００μｍ厚さの層になるように塗布した。次に「ＵＶＡCube inert」において、2台の低圧照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で上記材料に６０秒間の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。フィルムは完全硬化し、高光沢面は完全な引っかき抵抗性を示した。
【００７５】
７．ＵＶ吸収剤を含有するＵＶ透明ワニスの硬化（ＴＰＯ）
Laromer登録済商標PO 84F（BASF社）１００ｇ、ＵＶ吸収剤としてTinuvin登録済商標１１３０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社）５．０ｇ、および光重合開始剤としてLucirin登録済商標TPO-L（BASF社）２．０ｇからなる透明ワニスを白色カードに塗布（膜厚およそ４０μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。２台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で硬化させた（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。５秒間の照射後、この材料は引っかき抵抗性高光沢フィルムとして完全硬化した。白色紙に対するKMnO4試験において、微少なフィルム着色が認められた。
【００７６】
８．ＵＶ吸収剤を含有するＵＶ透明ワニスの厚膜硬化（ＴＰＯ）
上記ワニスを、白色カードにおよそ１００μｍ厚さの層になるように塗布した。次に「ＵＶＡCube inert」において、２つの低圧ビームを持つ照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離でこの材料に５秒間の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。フィルムは完全硬化し、高光沢面は完全な引っかき抵抗性を示した。
【００７７】
９．ラジカルＵＶ硬化型インクジェット用白色染料の硬化
高度に着色されたインクジェット用白色染料を白色カードに塗布（膜厚およそ１２μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。次に、２台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で２秒以内の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。材料は完全硬化し、光沢面を呈した。
同一条件下でアマルガム照射装置（通常の石英）を用いてＵＶ硬化を行った場合には、材料は９０秒間の照射後も硬化しなかった。
同一条件下で合成石英の「通常型」低圧ＵＶ照射装置を用いてＵＶ硬化を行った場合には、材料は１０秒間の照射後に硬化し、艶消し面を呈した。
これにより、１８５ｎｍにて増幅照射を行う照射装置の効果が証明された。
【００７８】
１０．ラジカルＵＶ硬化型インクジェット用白色染料の硬化
高度に着色されたインクジェット用白色染料を白色カードに塗布（膜厚およそ４０μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。次に、２台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ１８ｃｍの距離で６０秒間の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。材料は完全硬化し、構造化された表面を呈した。
【００７９】
１１．ラジカルＵＶ硬化型インクジェット用黄色染料の硬化
高度に着色されたインクジェット用黄色染料を白色カードに塗布（膜厚およそ１２μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。次に、２台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で２秒以内の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。材料は完全硬化し、光沢面を呈した。
同一条件下でアマルガム照射装置（通常の石英）を用いてＵＶ硬化を行った場合には、材料は９０秒間の照射後に硬化し、構造化された表面を呈した。
同一条件下で合成石英の「通常型」低圧ＵＶ照射装置を用いてＵＶ硬化を行った場合には、材料は１０秒間の照射後に硬化し、艶消し面を呈した。
これにより、１８５ｎｍでの増幅照射を行う照射装置の効果が証明された。
【００８０】
１２．ラジカルＵＶ硬化型インクジェット用黄色染料の硬化
高度に着色されたインクジェット用黄色染料を白色カードに塗布（膜厚およそ４０μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。次に、２台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ6ｃｍの距離で２０秒間の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。材料は完全硬化し、構造化された表面を呈した。
【００８１】
１３．ラジカルＵＶ硬化型インクジェット用シアン染料の硬化
高度に着色されたインクジェット用シアン染料を白色カードに塗布（膜厚およそ１２μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。次に、２台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で２秒間の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。材料は完全硬化し、光沢面を呈した。
同一条件下でアマルガム照射装置（通常の石英）を用いてＵＶ硬化を行った場合には、材料は９０秒間の照射後に硬化し、光沢面を呈した。
同一条件下で合成石英の「通常型」低圧ＵＶ照射装置を用いてＵＶ硬化を行った場合には、材料は５秒間の照射後に硬化し、艶消し面を呈した。
これにより、１８５ｎｍでの増幅照射を行う照射装置の効果が証明された。
【００８２】
１４．ラジカルＵＶ硬化型インクジェット用マゼンタ染料の硬化
高度に着色されたインクジェット用マゼンタ染料を白色カードに塗布（膜厚およそ１２μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。次に、台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で２秒以内の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。材料は完全硬化し、光沢面を呈した。
同一条件下でアマルガム照射装置（通常の石英）を用いてＵＶ硬化を行った場合には、材料は９０秒間の照射後に硬化し、光沢面を呈した。
同一条件下で合成石英の「通常型」低圧ＵＶ照射装置を用いてＵＶ硬化を行った場合には、材料は５秒間の照射後に硬化し、僅かに艶消しされた面を呈した。
これにより、１８５ｎｍでの増幅照射を行う照射装置の効果が証明された。
【００８３】
１５．ラジカルＵＶ硬化型インクジェット用黒色染料の硬化
高度に着色されたインクジェット用黒色染料を白色カードに塗布（膜厚およそ１２μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。次に、２台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で５秒間の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。材料は完全硬化し、艶消し面を呈した。
同一条件下でアマルガム照射装置（通常の石英）を用いてＵＶ硬化を行った場合には、材料は９０秒間の照射後に硬化し、艶消し面を呈した。
同一条件下で合成石英の「通常型」低低圧ＵＶ照射装置を用いてＵＶ硬化を行った場合には、材料は１０秒間の照射後に硬化し、艶消し面を呈した。
これにより、１８５ｎｍでの増幅照射を行う照射装置の効果が証明された。
【００８４】
１６．カチオン系ＵＶ硬化型白色「Flexofarbe」の硬化
高度に着色された白色「Flexofarbe」を白色カードに塗布（膜厚およそ１２μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。次に、２台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で２０秒間の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。材料は完全硬化し、艶消し面を呈した。
膜厚６μｍで同様の試験を行った場合には、材料は１０秒間の照射後に完全硬化し、光沢面を呈した。
【００８５】
１７．カチオン系ＵＶ硬化型黄色「Flexofarbe」の硬化
高度に着色された黄色「Flexofarbe」を白色カードに塗布（膜厚およそ１２μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。次に、２台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で２０秒間の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。材料は完全硬化し、光沢面を呈した。
膜厚６μｍで同様の試験を行った場合には、材料は１０秒間の照射後に完全硬化し、光沢面を呈した。
【００８６】
１８．カチオン系ＵＶ硬化型シアン「Flexofarbe」の硬化
高度に着色されたシアン「Flexofarbe」を白色カードに塗布（膜厚およそ１２μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。次に、２台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で３０秒間の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。材料は完全硬化し、艶消し面を呈した。
膜厚６μｍで同様の試験を行った場合には、材料は１０秒間の照射後に完全硬化し、艶消し面を呈した。
【００８７】
１９．カチオン系ＵＶ硬化型マゼンタ「Flexofarbe」の硬化
高度に着色されたマゼンタ「Flexofarbe」を白色カードに塗布（膜厚およそ１２μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。次に、2台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で２０秒間の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。材料は完全硬化し、光沢面を呈した。
膜厚６μｍで同様の試験を行った場合には、材料は１０秒間の照射後に完全硬化し、光沢面を呈した。
【００８８】
２０．カチオン系ＵＶ硬化型黒色「Flexofarbe」の硬化
高度に着色された黒色「Flexofarbe」を白色カードに塗布（膜厚およそ１２μｍ）し、「ＵＶＡCube inert」に挿入した。次に２台の照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で３０秒間の照射を行った（残留Ｏ2濃度＝１．４％）。材料は完全には硬化せず、鈍い艶消し面を呈した。
膜厚６０μｍで同様の試験を行った場合には、材料は１０秒間の照射後に完全硬化し、鈍い艶消し面を呈した。
【００８９】
２１．カチオン系ＵＶ硬化型「Flexofarbe」による艶消し面の形成
膜厚およそ１２μｍで１０秒間のみカチオン系ＵＶ硬化型「Flexofarbe」に照射を行った場合には、「鈍い艶消し」面が得られたが、深層は硬化されなかった。低圧照射装置あるいは同じく従来型中圧水銀照射装置を用いてさらに照射を行ったところ、上記表面構造が得られると共に、艶消し面が形成できた。
【００９０】
２２．ワニス、印刷用カラーインク、接着剤または注型材料の接着性改善を目的としたプラスチック面の前処理
２台の最適化された低圧照射装置を用いて、この照射装置からおよそ６ｃｍの距離で、一般的なPMMA板におよそ１０秒間の照射を行った。それにより、およそ３８Nm/mであったこのプラスチックの表面張力が、４６Nm/mに変化した。およそ２０秒間の照射後に、５０Nm/m以上の表面張力値が達成された。
ラジカルＵＶ硬化型ワニスなどを上記処理面に塗布した場合には、基材に対しては良好な接着性を呈したが、未処理のPMMAに対する接着性は認められなかった。
プライマーまたはＵＶプライマーを前処理済みの面に塗布し、次にラジカルＵＶ硬化型ワニスなどを塗布して硬化させることにより（必要ならば、プライマー塗布後にＵＶ再照射を行ってもよい）、PMMAに対する接着性をさらに顕著に改善することができる。
ＰＥ、ＰＰ、Ｐａ、テフロンなどのプラスチック類ならびにシリコーン紙についても、同様の結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
本発明は、図面に関連して以下に詳しく説明される。
【図１】ガス放電ランプの概略図
【図２】種々の石英タイプの透過率グラフ
【図１】
2008521162.tif 000003
【図２】
2008521162.tif 000004