(57)【要約】  搬送路（Ｔ）に沿って基板（２３）を搬送するための装置を備えたプロセスシステムであって、搬送装置が、軸受モジュールと駆動装置モジュールとを備えており、軸受モジュールが、電磁石として形成されたアクチュエータを有する軸受ステータと、強磁性体素子を有する軸受ロータとを備えている形式のものにおいて、相互間隔を有して配置された少なくとも２つのアクチュエータによって、ギャップ領域の対応配置されたアクチュエータ対が形成されており、ギャップ領域に、軸受ロータのアクティブな磁気軸受が設けられている。
2008508738.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送路（Ｔ）に沿って基板（２３）を搬送するための装置を備えたプロセスシステムであって、
該搬送装置が、軸受モジュールと駆動装置モジュールとを備えており、軸受モジュールが、電磁石として形成されたアクチュエータを有する軸受ステータと、強磁性体素子を有する軸受ロータとを備えている形式のものにおいて、
相互間隔を有して配置された少なくとも２つのアクチュエータによって、ギャップ領域の対応配置されたアクチュエータ対が形成されており、ギャップ領域に、軸受ロータのアクティブな磁気軸受が設けられていることを特徴とする、搬送路に沿って基板を搬送するための装置を備えたプロセスシステム。
【請求項２】
軸受ステータが、ギャップ領域の対応配置された、相互間隔を有して配置された少なくとも２つのアクチュエータ対を備えており、軸受ロータの強磁性体素子が、両側でギャップ領域に係合している、請求項１記載のプロセスシステム。
【請求項３】
搬送路（Ｔ）が、中断領域を有している、請求項１または２記載のプロセスシステム。
【請求項４】
搬送路（Ｔ）が、コーティングプロセスラインのプロセスチャンバ（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３）の間において少なくとも１つのゲート（Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）の領域で中断されている、請求項３記載のプロセスシステム。
【請求項５】
搬送路（Ｔ）に沿って基板（２３）を搬送するための装置であって、
少なくとも１つの軸受モジュールおよび駆動装置モジュールが設けられており、軸受モジュールが、電磁石として形成されたアクチュエータを有する軸受ステータと、強磁性素子を有する軸受ロータとを備えている形式のものにおいて、
相互間隔を有して配置された少なくとも２つのアクチュエータによって、ギャップ領域の対応配置されたアクチュエータ対が形成されており、ギャップ領域に、軸受ロータのアクティブな磁気軸受が設けられていることを特徴とする、搬送路に沿って基板を搬送するための装置。
【請求項６】
軸受ステータが、ギャップ領域の対応配置された、相互間隔を有して配置された少なくとも２つのアクチュエータ対を備えており、軸受ロータの強磁性素子が、両側でギャップ領域に係合している、請求項５記載の装置。
【請求項７】
軸受モジュールが、基板キャリヤのためのキャリヤヘッド（８）を備えている、請求項５または６記載の装置。
【請求項８】
駆動装置モジュール（１）が、磁気式の加速装置（１ａ）を備えている、請求項５から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項９】
軸受モジュール（２５）が、パッシブな横位置安定のための安定装置を備えている、請求項５から８までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１０】
軸受モジュール（２５）が、アクティブな横位置安定のための安定装置を備えている、請求項５から９までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１１】
駆動装置モジュール（１）が、Ｔ字形状のステータ部分（１ｂ）とＵ字形プロフィール支持体（２）とを備えており、該Ｕ字形プロフィール支持体（２）に、ステータ部分（１ｂ）の第１の脚部（１ｃ）が係合しており、ステータ部分（１ｂ）の横脚部（１ｄ）が、Ｕ字形プロフィール支持体（２）の開放端部を覆っている、請求項５から１０までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１２】
横脚部（１ｄ）とＵ字形プロフィール支持体（２）の開放端部との間の空隙（２０ａ，２０ｂ）が、キャリヤヘッド（８）の強磁性体素子（７ａ，７ｂ）と電磁石（５ａ，５ｂ）との間の空隙（６ａ，６ｂ）よりも大きくなっている、請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
Ｕ字形プロフィール支持体（２）が、２つの電磁石（５ａ，５ｃ）のケーシング（４ａ，４ｂ）の間に配置されており、ケーシング（４ａ，４ｂ）とＵ字形プロフィール支持体（２）の外側画成壁部との間の空隙（１９ａ，１９ｂ）が、第１の脚部（１ｃ）とＵ字形プロフィール支持体（２）の内側画成壁部との間の空隙（１８ａ，１８ｂ）よりも大きくなっている、請求項１１または１２記載の装置。
【請求項１４】
支持体モジュール（２５）および駆動装置モジュール（１）とプロセス室との間にカバー（１３）が配置されている、請求項５から１３までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１５】
基板（２３）が、支持体モジュール（２５）の下方に配置されている、請求項５から１４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１６】
基板（２３）が、支持体モジュール（２５）の上方に配置されている、請求項５から１５までのいずれか１項記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、独立請求項の上位概念に記載の形式の、基板を搬送するための装置ならびにプロセスシステムに関する。
【０００２】
光学ディスプレイを製作するためにより大きな基板が要求される。このようなディスプレイは、とりわけたとえば携帯電話、ＤＶＤプレーヤ、ノートブック、ＴＶ機器、カーラジオのための比較的小さな、また中程度の大きさの表示システムで使用されるか、または工業分野で使用される。現在８０％超を液晶ディスプレイが占めており、これに対して選択的なプラズマディスプレイの製作方法は現在１５％で、有機発光ダイオードは現在既に２％を占めている。特に記載の選択的な製作方法では、表面加工、特に基板のコーティングの高い均一性を達成するためにプロセスの確実性に関する高い要求が生じており、このことは基板サイズの拡大および基板重量の増加と相俟って、従来達成が極めて困難であった。
【０００３】
欧州特許第０３４６８１５号明細書から、処理しようとする材料のための支持手段および搬送手段を備えた真空装置のための搬送系が公知である。搬送手段は、実質的に正方形の軸受ステータと、これを部分的に包囲する軸受ロータとを有するアクティブな磁気軸受を備えている。軸受ステータは、電磁石を備えており、電磁石は、支持磁界を形成するために、軸受ロータの、対応配置された強磁性体素子と協働する。公知のシステムでは、磁気軸受のプロセスの確実な調整は、構造に起因するソフトなロータ動力学に基づいて面倒である。
【０００４】
さらにドイツ連邦共和国特許出願公開第１０２４７９０９号明細書から、無接触式に支承され、無接触式に駆動、停止かつ位置決めされる運搬システムが公知である。運搬システムは、パッシブに２つの支持条片に磁気式に支承されている。加速および減速のための駆動は、長短ステータ構造におけるリニア式の非同期モータによって行われる。保持は、渦電流ブレーキによって実現され、渦電流ブレーキは、往復機構によって作動させることができる。位置決めは、キャリヤに存在する永久磁石によって行われる。さらに横方向安定装置が設けられており、この場合キャリヤの両側に、走行区間に沿って鋼ベルトが配置されており、鋼ベルトに、キャリヤにおいて、電気的に励磁された２〜４つのマグネットシステムが対向している。駆動は、走行区間に沿って、リニアモータの、所望の運動方向で移動磁界を生じさせるステータが存在することによって、無接触式に行われる。キャリヤは、ステータに対向する下面で、リニアモータの、一般的にアルミニウムから成る二次部分を備えている。二次部分に沿って、磁気的な帰路として中実な鋼板が配置されており、鋼板を介して、ステータの磁束は閉鎖することができ、かつこれによってステータ磁束のための比較的小さな空隙が確保されている。
【０００５】
本発明の課題は、特に大面積で薄い基板に関して、コンパクトでプロセスの確実な、コーティングプロセスライン上で基板を搬送するための装置ならびにプロセスシステムを提供することであり、この場合コーティングプロセスライン上の様々なプロセスステーションの間で、基板は、比較的高いプロセス確実性および動特性で運動可能である。
【０００６】
この課題は、本発明によれば、独立請求項の特徴部に記載の構成によって解決される。本発明のプロセスシステムは、搬送路に沿って基板を搬送するための装置を備えており、この場合搬送装置は、軸受モジュールと駆動装置モジュールとを備えており、軸受モジュールは、電磁石として形成されたアクチュエータを有する軸受ステータと、強磁性体素子を有する軸受ロータとを備えている。相互間隔を有して配置された少なくとも２つのアクチュエータによって、ギャップ領域の対応配置されたアクチュエータ対が形成されており、この場合ギャップ領域に、軸受ロータのアクティブな磁気軸受が設けられている。アクティブな磁気軸受のために、距離センサを有する軸受調整装置が設けられている。
【０００７】
ギャップ領域における軸受ロータの磁気軸受によって、従来技術に対する本発明による軸受モジュールの動特性が安定化され、ロータ動特性が改善される。これによって軸受モジュールは、相当程度重くて大きな基板でも、たとえば立方メートル寸法のディスクでも、極めて確実に、ゲートを通ってコーティングプロセスラインの様々なチャンバにガイドすることができ、しかも傾倒によって搬送モジュールがロックするか、または基板が損傷することはない。これによってプロセスは簡素化され、しかも加速される。基板をプロセスチャンバから取り出して、後続のプロセスチャンバに送りこんで、再び搬送路に懸架するために、作業員が手動で操作する必要はない。搬送路は、有利にはコーティングプロセスラインにおいて特にゲートで中断されており、ゲートは、たとえば様々な圧力段または雰囲気を有するチャンバを互いに気密に分離する。特に安定した支承を達成するために、軸受ロータは、有利には両側で相対するそれぞれ２つのアクチュエータもしくは電磁石によって保持されている。
【０００８】
上位概念で述べた構成の他に、本発明による基板を搬送するための装置の有する特徴によれば、相互間隔を有して配置された少なくとも２つのアクチュエータによって、ギャップ領域の対応配置されたアクチュエータ対が形成されており、ギャップ領域に、軸受ロータのアクティブな磁気軸受が設けられている。
【０００９】
搬送装置は、有利には金属から形成されたケーシングの内側に設けられている。これによってたとえばコーティングプロセスラインのコーティングチャンバおよび／またはエッチングチャンバおよび／またはクリーニングチャンバにおいてカソードおよび／または高周波で運転されるその他の素子に対する電磁両立性（ＥＭＶ保護）が達成される。ケーシングは、有利には水冷式である。
【００１０】
有利な実施形態では、調整装置の機能エラーまたは停電の際に軸受ロータを保持するための受容軸受が設けられている。これは有利には搬送装置のケーシングにおける内壁に配置されており、たとえば降下状態で軸受ロータを支持することのできるカラーもしくは段部として形成するか、または軸受ロータの適当な凹部に係合して、エラーの生じる際に軸受ロータを支持することのできる差込部として形成されている。
【００１１】
さらに選択的に、アクティブかつ／またはパッシブな横位置安定のための安定装置モジュールまたは安定化装置を設けることもでき、この場合アクティブな横位置安定のために、距離調整のための少なくとも１つの距離センサが設けられている。
【００１２】
キャリヤヘッドとキャリヤとの間に、振動減衰装置またはアクティブもしくはパッシブな振動絶縁のための装置を配置することができる。これによって有利には、基板はキャリヤヘッドから分離され、場合によってはほぼ横位置安定が達成される。
【００１３】
モジュール構造によって、簡単な取付および保守が許容され、これにより大面積の基板、たとえば光学ディスプレイなどの、工場で行われるプロセス、特に高精度のコーティングプロセスでコスト削減が得られる。これにより１×１ｍ2を超える寸法と１００μｍを下回る標準厚さとを有し、かつ少なくとも一時的に１ｍ／ｓを超える相当程度の速度で搬送される基板も位置正確に確実に搬送することができる。
【００１４】
有利には、駆動装置モジュールは、磁気式の加速装置を備えており、加速装置は、フラットなリニアモータとして形成されている。リニアモータは、シングルステータを備えてよく、選択的にリニアモータは、ダブルステータを備えていてよい。さらにリニアモータは、非同期モータであってよい。選択的に同期モータを使用することもできる。もちろんリニアモータは、円筒形のリニアモータによって形成することもできる。
【００１５】
選択的に有利には、磁気式または空気式のパルス駆動装置を設けることができる。
【００１６】
駆動装置モジュールは、重力場において加速するための装置を備えることができ、特に勾配を有する搬送路を備えることができる。有利には磁気式または電磁式の手段によって制動が行われる。
【００１７】
有利な実施形態では、駆動装置モジュールは、Ｔ字形状のステータとＵ字形プロフィール支持体とを備えており、Ｕ字形プロフィール支持体に、ステータ部分が縦脚部で係合していて、かつ横脚部でＵ字形プロフィール支持体の開放端部を覆っている。横脚部とＵ字形支持体の開放端部との間の空隙は、軸受ロータの強磁性体素子と電磁石との間の空隙よりも大きく形成することができる。有利には、Ｕ字形支持体は、２つの電磁石のケーシングの間に配置されており、この場合ケーシングとＵ字形支持体の外側画成壁部との間の空隙は、縦脚部とＵ字形プロフィール支持体の内側画成壁部との間の空隙よりも大きくなっている。これによりたとえばゲートにおいて、支持体モジュールの傾倒状態で、不安定運動、特に振動（がたつき）もしくはピッチ（縦揺れ）を補償する構造スペースが提供される。Ｕ字形支持体は、駆動のために同期機が使用される場合、有利には永久磁石を備えていて、これに対して選択的に非同期機が使用される場合、有利には特にアルミニウムまたはアルミニウム合金から成る非磁石の金属レールとして形成されている。
【００１８】
別の有利な実施形態では、軸受モジュール、駆動装置モジュールおよび場合によっては安定装置モジュールが、プロセス室に対してカバーの後方で配置されている。カバーは、光学的に不透過性に形成することができるので、プロセスチャンバにおけるコーティング材料によるモジュールの汚染は防止することができる。コーティング材料は、任意の進入角で光学的に非透過性のカバーに当接し、ほとんどカバーの後方に達することはない。同時にカバーの後方でモジュール側の空間の排気を実現するために、十分な大きさの十分な貫通孔が設けられている。基板からモジュールを有利に分離することができる。基板は、様々な処理法、たとえば放射熱による加熱にさらすことができ、しかもモジュールにほとんど影響が与えられることはない。特に基板のコーティング法、特にプラズマ促進された方法たとえば陰極スパッタリングまたはプラズマＣＶＤ法（ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）では、蒸着中比較的高い分圧に基づいて、コーティング材料は、不都合な形式でコーティングされた領域の外側、特に遮蔽材の後方にも沈積するが、光学的に非透過性のカバーが、モジュールの汚染を防止する。有利には、モジュールにおける狭幅の空隙がコーティング材料で閉塞され、かつ／または発生する寄生的なコーティングが剥離して、プロセスチャンバが汚染されるか、またはそのようなコーティングの材料が別のプロセスチャンバに連行されるのを防止する。面倒なクリーニングステップまたはモジュールの交換は回避することができる。有利な実施形態では、カバーは、少なくとも部分的に可動のキャリヤヘッドに配置することができる。
【００１９】
カバーは、熱放射に対する放射線防護材として役立つ場合、基板および／またはコーティングチャンバおよび／または場合によっては存在するコーティング源の温度に関して分離することができる。このことは、有利にはモジュールの領域の冷却、たとえばコイルおよびコイル支持体の冷却によって助成することができる。同様にカバーに冷却手段を設けることができる。有利には、モジュールの冷却装置は、カバーのための冷却装置と組み合わせることができる。カバーによって保護された領域（この領域にモジュールが配置されている）は、基板が軸受モジュールによって搬送されて、プロセスチャンバにおいて様々な処理プロセスにさらされる間に、基板に作用する放射熱の好ましくは最大で４０％、有利には最大で３０％、特に有利には最大で２０％、さらに有利には最大で１０％しか受けない。
【００２０】
本発明による装置によって、プロセスラインの、所与された条件範囲に簡単に適合することのできる様々な構造が実現される。
【００２１】
有利な実施形態では、基板は懸架式に搬送可能である。これによって搬送装置による搬送時における基板の不都合な曲げおよび機械負荷を回避することができる。基板は、有利には軸受モジュールの下方に配置されている。選択的に搬送装置が反対順序で逆さまの構成を有していると、軸受モジュールの上方に配置することもできる。これによって搬送装置の保持エレメントによる機械負荷が低減され、搬送装置の重心は下方に移動し、このことは振動に敏感な設備または振動に敏感な周囲において有利に働く。さらにまた時間と共にコーティング過程により生じる、可動部分の塗膜が、運動により基板またはコーティング源に落下して、これを汚染することが防止される。
【００２２】
以下に本発明を、図面につき詳しく説明する。図面の説明から、請求の範囲の記載とは別に、本発明の別の構成、詳細および利点を解することができる。
【００２３】
図１には、プロセスチャンバＰ１，Ｐ２，Ｐ３、ゲート（仕切）Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３ならびに搬送路Ｔを備えたコーティングプロセスラインを示した。搬送路Ｔは、ゲートで中断されている。プロセスチャンバＰ１，Ｐ２，Ｐ３は、クリーニングチャンバ、プラズマ処理チャンバ、エッチングチャンバ、コーティングチャンバ、ヒーティングチャンバなどであってよい。プロセスチャンバＰ１では、基板２３が、キャリヤ１４によって、本発明による搬送装置に取り付けられており、この場合搬送装置は、軸受ステータと、アクティブで磁気式に支承された軸受ロータとを有する少なくとも１つの軸受モジュールならびに駆動装置モジュールを備えている。もちろんアクティブな磁気軸受のために、距離センサを備えた調整装置が設けられており、調整装置は、図面を判りやすくするために図示していない。
【００２４】
軸受モジュールは、電磁石として形成されたアクチュエータを有する軸受ステータと、強磁性体素子を有する軸受ロータとを備えている。本発明によれば、相互間隔を有して配置された少なくとも２つのアクチュエータによって、ギャップ領域の対応配置されたアクチュエータ対が形成されており、軸受ロータのアクティブな磁気軸受は、ギャップ領域に設けられている。
【００２５】
有利には、軸受ステータは、それぞれギャップ領域の対応配置された、相互間隔を有して配置された少なくとも２つのアクチュエータ対を備えており、強磁性体素子を有する軸受ロータは、両側でギャップ領域に係合する。搬送路上の運動方向に沿って、複数のアクチュエータ対が設けられており、アクチュエータ対によって、軸受ステータのセグメント形成が行われる。軸受ロータの安定位置を保証するために、それぞれ４つのアクチュエータ対に、所定の長さの１つの軸受ロータが対応配置されている。本発明の有利な実施例では、１つの軸受ロータのために、６つまたはそれ以上のアクチュエータユニットが、重力を補償するために関与している。したがって１アクチュエータの停止した設備の運転が可能である。有利には、軸受ロータの長さは、軸受ステータセグメントの長さと少なくとも同じである。
【００２６】
図２には、基板を搬送するための有利な装置を示しており、特に基板を搬送するための有利なプロセスシステムにおいて、どのようにして搬送装置を真空コーティング法たとえばＰＶＤまたはＣＶＤを用いたコーティングプロセスラインの搬送路に使用できるのかを説明する。
【００２７】
搬送装置は、上位領域でケーシング３を備えている。ケーシング３は、有利には水冷式である。軸受ロータ８は、キャリヤ１４のキャリヤヘッドとして形成されている。駆動装置モジュール１によって、軸受ロータ８の運動は、図平面に対して垂直に行われる。
【００２８】
駆動装置モジュール１は、Ｔ字形で磁気式の加速装置１ａを備えており、加速装置１ａは、同期機または非同期機として形成してもよい。ステータ１ｂは、縦脚部１ｃで、Ｕ字形プロフィール支持体２に作用し、かつ横脚部１ｄで、Ｕ字形プロフィール支持体２の開放端部を覆う。選択的に有利には、磁気式または空気式のパルス駆動装置を設けてよい。
【００２９】
Ｕ字形プロフィール支持体２の反対側の端部に、離間して延びるキャリヤ１４の取り付けられたキャリヤヘッド８が配置されている。キャリヤヘッド８とキャリヤ１４との間に、有利には結合エレメント１６が設けられており、結合エレメント１６は、キャリヤ１４に設けられたキャリヤ取付装置１５に係合する。結合エレメント１６は、有利には金属薄板から成っていて、かつキャリヤヘッド８に対してキャリヤ１４ひいては基板を振動に関して分離するか、または緩衝する。
【００３０】
軸受モジュール２５は、有利にはアクティブかつ／またはパッシブな横位置安定性を有している。このために安定装置が設けられている。パッシブな横位置安定性は、結合エレメント１６がキャリヤの慣性モーメントを考慮して振動絶縁の得られるように形成されていると、達成される。このためにシステム結合エレメント１６およびキャリヤ１４は、主要固有振動数がロータ運動時に生じる標準振動数よりも低くなるように、設定されている。有利には結合エレメント１６は、比較的小さな曲げ強さを有している。ロータ運動の基準振動数は、１００ＨＺであり、これに対してシステム結合エレメント１６およびキャリヤ１４の有利な固有振動数は、５ＨＺに選択される。
【００３１】
選択的または追加的に、アクティブな横位置安定のために、図２に示していない電磁石が設けられており、電磁石によって、縦軸線２１に対して横向きに向けられた磁気作用面を形成することができ、磁気作用面は、軸受ロータの強磁性体素子と相互作用する。適当な調整装置は、少なくとも１つの距離センサを備えている。有利には、これに限定するもものではないが、アクティブな緩衝手段によってキャリヤの低周波の後振動が防止される。
【００３２】
軸受ロータ８とキャリヤ１４との間の領域に、カバー１３が断熱材として設けられている。
【００３３】
軸受ロータ８は、図２によれば、両側で、対向する電磁石５ａと電磁石１１ａとの間、もしくは電磁石５ｃと電磁石１１ｃとの間で保持されている。電磁石５ａ，５ｃは、ケーシング３内で突出部２７ａ，２７ｂに支承されている。電磁石５ａ，１１ａ，５ｃ，１１ｃのコアは、コイル５ｂ，１１ｂ，５ｄ，１１ｄによって包囲されており、この場合各電磁石５ａ，１１ａ，５ｃ，１１ｃは、ケーシング４ａ，４ｂ，１２ａ，１２ｂによって包囲されている。
【００３４】
軸受ロータ８を磁気式に浮遊させる、電磁石５ａ，１１ａ，もしくは５ｃ，１１ｃの電磁作用面は、縦軸線２１に対して垂直に配置されており、この場合キャリヤ１４ひいては基板は、縦軸線２１に対して平行に配置されている。
【００３５】
軸受ロータ８は、保持エレメント８ａ，８ｂを備えている。各保持エレメント８ａ，８ｂは、電磁石５ａ，１１ａ，５ｃ，１１ｃに向いた側の表面で、強磁性体素子７ａ，９ａ，７ｂ，９ｂを備えている。
【００３６】
軸受ロータ８は、両側で、縦軸線２１に対して横向きに保持エレメント８ａ，８ｂに配置された強磁性素子７ａ，９ａ，７ｂ，９ｂで、対向する電磁石５ａ，１１ａ，５ｃ，１１ｃの間に係合する。図示した軸受ロータ８および電磁石５ａ，１１ａ，５ｃ，１１ｃの実施例では、電磁石に対して相対的な軸受ロータ８のパッシブな横位置決めが得られる。本発明の別の実施例では、アクティブな横位置決めが行われ、横位置決めのために、別の電磁石および場合によっては別の強磁性体素子ならびに少なくとも１つの距離センサが設けられている。
【００３７】
有利には、軸受ロータを包囲する電磁石５ａ，５ｃもしくは１１ａ，１１ｃは、それぞれ異なる大きさで形成されている。軸受ロータ８の下方では、たとえば電磁石１１ａ，１１ｂのコアは、軸受ロータ８の上方に位置する電磁石５ａ，５ｂのコアよりも広幅である。電磁石５ａと電磁石１１ａとの間に空隙２８ａが形成されており、電磁石５ｃと電磁石１１ｃとの間に空隙２８ｂが形成されており、空隙に軸受ロータ８が係合する。
【００３８】
電磁石５ａ，５ｃに対向するエレメント７ａ，７ｂは、電磁石のコアの大きさに適合されていて、ここでは電磁石１１ａ，１１ｃに対向するエレメント９ａ，９ｂよりも小さくなっている。エレメント７ａ，７ｂもしくは９ａ，９ｂとこれらに対向する電磁石５ａ，５ｃもしくは１１ａ，１１ｃとの間に、空隙６ａ，６ｂもしくは１０ａ，１０ｂが形成されている。
【００３９】
ステータ部分１ｂの自由端部とＵ字形プロフィール支持体２の底部との間の空隙１７は、極めて大きく形成されていて、たとえば１〜３ｃｍ、有利には１．５〜２．５ｃｍ、特に有利には２ｃｍである。Ｕ字形プロフィール支持体２の自由端部で、自由端部の端面と横脚部１ｄとの間に、空隙２０ａもしくは２０ｂが形成されている。
【００４０】
横脚部１ｄとＵ字形支持体２の端面側の開放端部との間の空隙２０ａ，２０ｂは、軸受ロータ８の強磁性体素子と電磁石５ａ，５ｃとの間の空隙６ａ，６ｂよりも大きくなっている。
【００４１】
ケーシング４ａ，４ｂとＵ字形プロフィール支持体２の外側の画成壁部との間の空隙１９ａ，１９ｂは、縦脚部１ｃとＵ字形プロフィール支持体２の内側の画成壁部との間の空隙１８ａ，１８ｂよりも大きくなっている。
【００４２】
調整装置のエラーまたは停電の際に軸受ロータ８を保持するために、受容軸受（Fanglager）３ａ，３ｂが設けられており、受容軸受３ａ，３ｂは、ケーシングの内側で段部として形成されている。受容軸受３ａ，３ｂは、それぞれ電磁石１１ａ，１１ｃのケーシング１２ａ，１２ｂによって形成される。
【００４３】
もちろん支持装置モジュール２５、駆動装置モジュール２の配置構造および場合によっては存在する安定装置モジュールは、図示の配置構造とは異なる形式で形成することもできる。したがって基板２３は、支持装置モジュール２５の下方ではなく、支持装置モジュール２５の上方に配置してもよい。キャリヤヘッド８および図示していないキャリヤベース（これにキャリヤ１４もしくは基板がガイドされるか、または支承されている）は、図示の実施例とは逆向きに配置することもできる。
【００４４】
図３には、傾斜構造をした本発明による搬送装置の選択的な実施例を概略的に示した。縦軸線２１に対して最大４５°、有利には１０〜１５°の電磁石の傾度を有する傾斜構造が有利である。同じ構成素子には、図１および図２と同じ符号を用いた。個々の構成素子の機能説明については、図１および図２の記載を参照されたい。電磁石５ａ，１１ａ，５ｃ，１１ｃは傾斜しており、電磁作用面は、縦軸線２１に対してもはや垂直に配置されているのではなく、角度を成して、有利には４５°より小さな角度を成している。したがって軸受ロータ８は、八角形横断面を有している。受容軸受２２ａ，２２ｂは、ケーシング３内で、軸受ロータ８の、対応する凹部に係合する差込部（Zapfen；ほぞ、ピン）として形成されている。停電または調整装置の機能エラーの際に、軸受ロータ８は、受容軸受２２ａ，２２ｂに支持することができる。軸受ロータ８は、電磁石５ａ，１１ａ，５ｃ，１１ｃの対に直に対向する端面で、強磁性体７ａ，９ａもしくは７ｂ，９ｂを備えており、各電磁石対５ａ，１１ａおよび５ｃ，１１ｃに向かう空隙６ａ，６ｂもしくは１０ａ，１０ｂが形成される。電磁石対５ａ，１１ａもしくは５ｃ，１１ｃの間の間隔は、図２の配置構造とは異なって一定でなく、傾斜により軸受ロータ８に向かって拡大している。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】ゲートで中断された搬送路を備えたコーティングプロセスラインを概略的に示す図である。
【図２】本発明による搬送装置の横断面図である。
【図３】いわゆる４５°配置構造の、本発明による搬送装置の選択的な実施例を示す図である。
【符号の説明】
【００４６】
１  駆動装置モジュール、  １ａ  加速装置、  １ｂ  ステータ部分、  １ｃ  縦脚部、  １ｄ  横脚部、  ２  Ｕ字形プロフィール支持体、  ３  ケーシング、  ３ａ，３ｂ  受容軸受、  ４ａ，４ｂ  ケーシング、  ５ａ，５ｃ  電磁石、  ６ａ，６ｂ  空隙、  ７ａ，７ｂ  強磁性体素子、  ８  軸受ロータ、キャリヤヘッド、  ８ａ，８ｂ  保持エレメント、  ９ａ，９ｂ  強磁性体素子、  １０ａ，１０ｂ  ギャップ、  １１ａ，１１ｂ  電磁石、  １２ａ，１２ｂ  ケーシング、  １３  断熱材、  １４  キャリヤ、  １５  キャリヤ取付装置、  １６  振動緩衝体、  １７  空隙、  １８ａ，１８ｂ  空隙、  １９ａ，１９ｂ  空隙、  ２０ａ，２０ｂ  空隙、  ２１  縦軸線、  ２２ａ，２２ｂ  受容軸受、  ２３  基板、  ２５  支持体モジュール、  ２７ａ，２７ｂ  突出部、  ２８ａ，２８ｂ  空隙、  Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３  プロセスチャンバ、  Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４  ゲート、  Ｔ  搬送路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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