(57)【要約】  鏡像異性体富化組成物に脱富化を受けさせる方法を提供し、この方法は、炭素−ヘテロ原子結合を含有していて前記炭素がキラル中心でありかつ前記ヘテロ原子がＶＩ族のヘテロ原子である基質の少なくとも１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーを含んで成る鏡像異性体富化組成物を触媒系および場合により反応促進剤の存在下で反応させることで、炭素−ヘテロ原子結合を有する前記基質の１番目および２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーを含んで成っていて前記１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーに対する２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーの比率が前記鏡像異性体富化組成物中に存在していた前記１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーに対する２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーの比率よりも高い生成物組成物を得ることを含んで成る。好適な基質には、式（１）：【化１】2008517990.tif 000019［式中、ＸはＯ、Ｓを表し、Ｒ１、Ｒ２は、各々独立して、場合により置換されていてもよいヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビル、場合により置換されていてもよい複素環基を表すか、或は場合により、Ｒ１とＲ２が場合により置換されていてもよい環１個または２個以上を形成するように連結していてもよいが、但しＲ１およびＲ２が＊がキラル中心であるように選択されることを条件とする］で表される化合物が含まれる。好適な方法では、式（２）：【化２】2008517990.tif 000020［式中、ＸはＯ、Ｓを表し、Ｒ１、Ｒ２は、各々独立して、場合により置換されていてもよいヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビル、場合により置換されていてもよい複素環基を表すか、或は場合により、Ｒ１とＲ２が場合により置換されていてもよい環１個または２個以上を形成するように連結していてもよいが、但しＲ１とＲ２が異なることを条件とする］で表される化合物を得ることができる。
2008517990.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鏡像異性体富化組成物に脱富化を受けさせる方法であって、炭素−ヘテロ原子結合を含有していて前記炭素がキラル中心でありかつ前記ヘテロ原子が周期律表ＶＩ族のヘテロ原子である基質の少なくとも１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーを含んで成る鏡像異性体富化組成物を触媒系および場合により反応促進剤の存在下で反応させることで、炭素−ヘテロ原子結合を有する前記基質の１番目および２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーを含んで成っていて前記１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーに対する２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーの比率が前記鏡像異性体富化組成物中に存在していた前記１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーに対する２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーの比率よりも高い生成物組成物を得ることを含んで成る方法。
【請求項２】
炭素−ヘテロ原子結合を含有していて前記炭素原子がキラル中心である前記基質が式（１）：
【化１】
2008517990.tif 000015
［式中、
Ｘは、Ｏ、Ｓを表し、
Ｒ１、Ｒ２は、各々独立して、場合により置換されていてもよいヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビル、場合により置換されていてもよい複素環基を表すか、或は
場合により、Ｒ１とＲ２が、場合により置換されていてもよい環１個または２個以上を形成するように連結していてもよいが、但し
Ｒ１およびＲ２が＊がキラル中心であるように選択されることを条件とする］
で表される化合物である請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記触媒系が遷移金属触媒および場合により配位子を含んで成る請求項１または請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記遷移金属触媒が式ＭｎＸｐＹｒ
［式中、
Ｍは、遷移金属であり、
Ｘは、ハロゲン化物であり、
Ｙは、場合により置換されていてもよいヒドロカルビルである中性の錯化基、場合により置換されていてもよい過ハロゲン化ヒドロカルビルである中性の錯化基、または場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニルである錯化基であり、そして
ｎ、ｐおよびｒは、整数である］
で表される遷移金属ハロゲン化物錯体である請求項３記載の方法。
【請求項５】
ＭがＲｈまたはＩｒでありそしてＹが場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニル基である請求項４記載の方法。
【請求項６】
ＭがＩｒであり、ＸがＩでありそしてＹが場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニル基、好適にはペンタメチルシクロペンタジエニル基である請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記遷移金属触媒が式Ｍ２Ｘ４Ｙ２［式中、ＭはＩｒであり、ＸはＩであり、そしてＹは場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニル基、好適にはペンタメチルシクロペンタジエニル基である］で表される遷移金属ハロゲン化物錯体である請求項６記載の方法。
【請求項８】
反応促進剤を存在させる請求項１から７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
前記反応促進剤がハロゲン化物塩である請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記ハロゲン化物塩が金属のハロゲン化物である請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記金属のハロゲン化物がカリウムもしくはセシウムのヨウ化物である請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
塩基、好適には炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウムを存在させる請求項１から１０のいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
式（２）：
【化２】
2008517990.tif 000016
［式中、
Ｘは、Ｏ、Ｓを表し、
Ｒ１、Ｒ２は、各々独立して、場合により置換されていてもよいヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビル、場合により置換されていてもよい複素環基を表すか、或は
場合により、Ｒ１とＲ２が、場合により置換されていてもよい環１個または２個以上を形成するように連結していてもよいが、但し
Ｒ１とＲ２が異なることを条件とする］
で表される化合物を得る請求項１から１２のいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
炭素−ヘテロ原子結合を含有していて前記炭素がキラル中心でありかつ前記ヘテロ原子が周期律表ＶＩ族のヘテロ原子である基質の少なくとも１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーを含んで成る鏡像異性体富化組成物を触媒系および場合により反応促進剤の存在下で反応させることで生じさせた式（２）で表されるケトンまたはチオケトンを次に移動水素化用触媒および水素供与体と接触させることで、炭素−ヘテロ原子結合を有する前記基質の１番目および２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーを含んで成っていて１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーに対する２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーの比率が前記鏡像異性体富化組成物中に存在していた１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーに対する２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーの比率よりも高い生成物組成物を得る請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記移動水素化用触媒が一般式（ａ）：
【化３】
2008517990.tif 000017
［式中、
Ｒ３は、場合により置換されていてもよい中性のヒドロカルビル、場合により置換されていてもよい中性の過ハロゲン化ヒドロカルビルまたは場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニルである配位子を表し、
Ａは、場合により置換されていてもよい窒素を表し、
Ｂは、場合により置換されていてもよい窒素、酸素、硫黄または燐を表し、
Ｅは、連結基を表し、
Ｍは、移動水素化に触媒作用を及ぼし得る金属を表し、そして
Ｙは、アニオン性基、塩基性配位子または空部位を表すが、但し
ＡまたはＢの中の少なくとも一方が置換されている窒素を含んで成りかつその置換基がキラル中心を少なくとも１個有することを条件とし、かつ
Ｙが空部位でない時にはＡまたはＢの中の少なくとも一方が水素原子を持つことを条件とする］
で表される触媒である請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
炭素−ヘテロ原子結合を含有する基質の少なくとも１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーを含んで成る前記鏡像異性体富化組成物がキラル分離または化学的もしくは酵素的キラル分割で得られた未反応の鏡像異性体もしくは副生成物である請求項１から１５のいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
式ＭｎＸｐＹｒ［式中、Ｍは遷移金属であり、Ｘはハロゲン化物であり、Ｙは、場合により置換されていてもよいヒドロカルビルである中性の錯化基、場合により置換されていてもよい過ハロゲン化ヒドロカルビルである中性の錯化基、または場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニルである錯化基であり、そしてｎ、ｐおよびｒは整数である］で表される遷移金属ハロゲン化物錯体と式（１）：
【化４】
2008517990.tif 000018
［式中、
Ｘは、Ｏ、Ｓを表し、
Ｒ１、Ｒ２は、各々独立して、場合により置換されていてもよいヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビル、場合により置換されていてもよい複素環基を表すか、或は
場合により、Ｒ１とＲ２が、場合により置換されていてもよい環１個または２個以上を形成するように連結していてもよいが、但し
Ｒ１およびＲ２が＊がキラル中心であるように選択されることを条件とする］
で表されるアルコールもしくはスルフィド配位子と場合により塩基を接触させることで得ることができる組成物。
【請求項１８】
塩基を用いそして前記塩基が炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウムである請求項１７記載
の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、鏡像異性体富化基質（ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒｉｃａｌｌｙ  ｅｎｒｉｃｈｅｄ  ｓｕｂｓｔｒａｔｅｓ）、特にアルコールおよびスルフィドに脱富化（ｄｅ−ｅｎｒｉｃｈｍｅｎｔ）を受けさせる方法に関する。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００２】
本発明の１番目の面に従い、鏡像異性体富化組成物に脱富化を受けさせる方法を提供し、この方法は、炭素−ヘテロ原子結合を含有していて前記炭素がキラル中心でありかつ前記ヘテロ原子がＶＩ族のヘテロ原子である基質の少なくとも１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーを含んで成る鏡像異性体富化組成物を触媒系および場合により反応促進剤の存在下で反応させることで、炭素−ヘテロ原子結合を有する前記基質の１番目および２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーを含んで成っていて１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーに対する２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーの比率が前記鏡像異性体富化組成物中に存在していた１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーに対する２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーの比率よりも高い生成物組成物を得ることを含んで成る。
【０００３】
前記生成物組成物は、好適には、炭素−ヘテロ原子結合を含有していて前記炭素がキラル中心である基質の１番目と２番目の鏡像異性体のラセミ混合物である。
【０００４】
本発明の方法を用いて鏡像異性的脱富化を受けさせることができる基質には、キラリティーを持つ第二級炭素原子の所のアルコールおよび第二級炭素原子の所にキラリティーを持つスルフィドが含まれる。
【０００５】
本発明の方法において、好適には、炭素−ヘテロ原子結合を含有していて前記炭素原子がキラル中心である基質は、式（１）：
【０００６】
【化１】
2008517990.tif 000003
【０００７】
［式中、
Ｘは、Ｏ、Ｓを表し、
Ｒ１、Ｒ２は、各々独立して、場合により置換されていてもよいヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビル、場合により置換されていてもよい複素環基を表すか、或は
場合により、Ｒ１とＲ２が場合により置換されていてもよい環１個または２個以上を形成するように連結していてもよいが、但し
Ｒ１およびＲ２が＊がキラル中心であるように選択されることを条件とする］
で表される化合物である。
【０００８】
Ｒ１−２が独立して表し得るヒドロカルビル基には、アルキル、アルケニルおよびアリール基およびこれらの任意組み合わせ、例えばアラルキルおよびアルカリール、例えばベ
ンジル基などが含まれる。
【０００９】
Ｒ１−２が表し得るアルキル基には、炭素原子数が２０以下、特に炭素原子数が１から７、好適には炭素原子数が１から５の直鎖および分枝アルキル基が含まれる。アルキル基が分枝している場合、そのような基が含有する分枝鎖の炭素原子数はしばしば１０以下、好適には分枝鎖の原子数は４以下である。特定の態様におけるアルキル基は環式であってもよく、それは一般に最も大きな環の中に炭素原子を３から１０個含有し、そして場合により、橋渡しされている環を１個以上含有することを特徴としてもよい。Ｒ１−２が表し得るアルキル基の例には、メチル、エチル、プロピル、２−プロピル、ブチル、２−ブチル、ｔ−ブチルおよびシクロヘキシル基が含まれる。
【００１０】
Ｒ１−２が表し得るアルケニル基には、Ｃ２−２０、好適にはＣ２−６のアルケニル基が含まれる。存在する炭素−炭素二重結合の数は１以上であってもよい。アルケニル基は置換基、特にフェニル置換基を１個以上持っていてもよい。アルケニル基の例には、ビニル、スチリルおよびインデニル基が含まれる。Ｒ１またはＲ２のいずれかがアルケニル基を表す場合、炭素−炭素二重結合が存在する位置は好適にはＣ−ヘテロ原子部分に対してβ位である。
【００１１】
Ｒ１−２が表し得るアリール基は環を１個または縮合環を２個以上含有していてもよく、そのような環もしくは縮合環にはシクロアルキル、アリールまたは複素環式環が含まれ得る。Ｒ１−２が表し得るアリール基の例には、フェニル、トリル、フルオロフェニル、クロロフェニル、ブロモフェニル、トリフルオロメチルフェニル、アニシル、ナフチルおよびフェロセニル基が含まれる。
【００１２】
Ｒ１−２が独立して表し得る過ハロゲン化ヒドロカルビル基には、過ハロゲン化アルキルおよびアリール基およびこれらの任意組み合わせ、例えばアラルキルおよびアルカリール基などが含まれる。Ｒ１−２が表し得る過ハロゲン化アルキル基の例には−ＣＦ３および−Ｃ２Ｆ５が含まれる。
【００１３】
Ｒ１−２が独立して表し得る複素環式基には、芳香、飽和および部分不飽和環系が含まれ、これらは環を１個または縮合環を２個以上から成っていてもよく、そのような環もしくは縮合環にはシクロアルキル、アリールまたは複素環式環が含まれ得る。複素環式基は複素環式環を少なくとも１個含有し、それらの中で最も大きな環は環原子を通常は３から７個含有し、それらの中の少なくとも１個の原子は炭素でありそして少なくとも１個の原子はＮ、Ｏ、ＳまたはＰの中のいずれかである。Ｒ１またはＲ２のいずれかが複素環式基を表すか或は含んで成る場合、Ｃ−ヘテロ原子基と結合しているＲ１またはＲ２の中の原子は好適には炭素原子である。Ｒ１−２が表し得る複素環式基の例には、ピリジル、ピリミジル、ピロリル、チオフェニル、フラニル、インドリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリルおよびトリアゾリル基が含まれる。
【００１４】
Ｒ１−２のいずれかが置換されているヒドロカルビルもしくは複素環式基である場合、そのような置換基１個または２個以上は反応の速度にも立体選択率にも悪影響を与えないような置換基であるべきである。任意の置換基には、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ヒドロキシ、アミノ、チオール、アシル、ヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビル、複素環、ヒドロカルビルオキシ、モノ−もしくはジ−ヒドロカルビルアミノ、ヒドロカルビルチオ、エステル、カーボネート、アミド、スルホニルおよびスルホンアミド基、ここで、ヒドロカルビル基は、この上でＲ１に関して定義した通りである、が含まれる。存在する置換基は１個以上であってもよい。
【００１５】
Ｒ１とＲ２が式（１）で表される化合物の炭素原子および／またはＸ原子のいずれかと
一緒になって環を形成するように連結している場合、それらは場合により環ヘテロ原子、好適にはＯ、ＳまたはＮ環原子を１個以上含有していてもよい５、６もしくは７員の環であるのが好適である。そのような式（１）で表される化合物の例には２−メチルシクロヘキサノールが含まれる。
【００１６】
好適な特定態様では、Ｒ１とＲ２の両方を異ならせ、そして両方が異なるＣ１−６アルキル基であるか、両方が異なるアリール基、特に一方がフェニル基であるように選択するか、或は一方がアリール、特にフェニルでありそしてもう一方がＣ１−６アルキルであるように選択する。Ｒ１およびＲ２の中の一方または両方が置換フェニル基の場合、置換基が存在していてもよく、特にＣ−Ｘ基に対してパラ位に置換基が存在していてもよい。
【００１７】
式（１）で表される化合物の例には、１−フェニルエタン−１−オール、１−（２−ナフチル）エタン−１−オール、１−（１−ナフチル）エタン−１−オール、１−フェニルエタン−１−チオール、１−（２−ナフチル）エタン−１−チオールおよび１−（１−ナフチル）エタン−１−チオールが含まれる。
【００１８】
前記触媒系は、好適には、遷移金属触媒および場合により配位子を含んで成る。
【００１９】
場合により存在させてもよい配位子には、アミン、アルコールおよびおスルフィドが含まれる。
【００２０】
配位子を用いる場合、場合により、その配位子と前記遷移金属触媒を前記基質と反応させる前に前以て混合または前以て配位させておいてもよい。そのような前以て配位させておいてもよい配位子および遷移金属触媒の例には、公開番号がＷＯ９７／２０７８９、ＷＯ９８／４２６４３およびＷＯ０２／４４１１１の国際特許出願（これらは各々引用することによって本明細書に組み入れられる）に開示されている触媒が含まれる。
【００２１】
遷移金属触媒には、遷移金属のハロゲン化物、遷移金属ハロゲン化物錯体および遷移金属の錯体が含まれるが、そのような遷移金属は場合により置き換え可能（ｄｉｓｐｌａｃｅａｂｌｅ）配位子と錯体を形成していてもよい。
【００２２】
置き換え可能配位子には、ホスフィン、例えばトリ−ヒドロカルビルホスフィン、例えばＰｈ３Ｐなど、カルベン、例えばイミダゾールカルベンなど、ニトリル、例えばアセトニトリルなど、一酸化炭素、トリフレート、アルケンおよびジエンが含まれる。遷移金属が場合により置き換え可能配位子と錯体を形成していてもよい遷移金属錯体の例には、式ＭｎＬｏＸｐＹｒ
［式中、
Ｍは、遷移金属であり、
Ｌは、置き換え可能配位子であり、
Ｘは、ハロゲン化物であり、
Ｙは、場合により置換されていてもよいヒドロカルビルである中性の錯化基、場合により置換されていてもよい過ハロゲン化ヒドロカルビルである中性の錯化基、または場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニルである錯化基であり、そして
ｎは、整数であり、そして
ｏ、ｐおよびｒは、各々、０または整数であるが、但しｏ＋ｐ＋ｒが整数であることを条件とする］
で表される錯体が含まれる。
【００２３】
そのような遷移金属触媒は、好適には、周期律表のＶＩＩＩ族の遷移金属、例えばルテニウム、ロジウムまたはイリジウムなどが基になった遷移金属ハロゲン化物または遷移金
属ハロゲン化物錯体である。
【００２４】
そのような遷移金属触媒は、より好適には、式ＭｎＸｐＹｒ
［式中、
Ｍは、遷移金属であり、
Ｘは、ハロゲン化物であり、
Ｙは、場合により置換されていてもよいヒドロカルビルである中性の錯化基、場合により置換されていてもよい過ハロゲン化ヒドロカルビルである中性の錯化基、または場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニルである錯化基であり、そして
ｎ、ｐおよびｒは、整数である］
で表される遷移金属ハロゲン化物錯体である。
【００２５】
遷移金属触媒は実質的にこの上に示した式で表される通りであると考えているが、ある場合には、また、そのような遷移金属触媒は二量体、三量体または他のある種の高分子（ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ）種として存在する可能性もある。
【００２６】
Ｍが表し得る金属には、移動水素化（ｔｒａｎｓｆｅｒ  ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｉｏｎ）に触媒作用を及ぼし得る金属が含まれる。好適な金属には遷移金属、より好適には周期律表のＶＩＩＩ族の金属（鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウムおよび白金）、より好適にはルテニウム、ロジウムまたはイリジウム、最も好適にはイリジウムが含まれる。
【００２７】
整数ｎ、ｐ、ｒを典型的には遷移金属ハロゲン化物錯体が全体として中性種であるように選択する。従って、ｎ、ｐ、ｒの選択は当該金属の原子価状態および存在するハロゲン化物の数および錯化基Ｙの性質に直接関係する。例えば、Ｙが負に帯電しているシクロペンタジエニルである錯化基の場合、当該金属の原子価状態と均衡を取るに必要な負帯電ハロゲン化物の数はＹが中性のヒドロカルビルである錯化基の時の数よりも少ないであろう。
【００２８】
当該金属がルテニウムの場合、それは好適にはＩＩの原子価状態で存在する。当該金属がロジウムまたはイリジウムの場合、それは、Ｙが場合により置換されていてもよい中性のヒドロカルビルまたは場合により置換されていてもよい中性の過ハロゲン化ヒドロカルビル配位子の時には好適にはＩの原子価状態で存在し、そしてＹが場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニル配位子の時には好適にはＩＩＩの原子価状態で存在する。特に好適な金属はイリジウムである。
【００２９】
Ｙが表し得る場合により置換されていてもよいヒドロカルビルまたは過ハロゲン化ヒドロカルビルである中性の錯化基には、場合により置換されていてもよいアリールおよびアルケニルである錯化基が含まれる。
【００３０】
Ｙが表し得る場合により置換されていてもよいアリールである錯化基は、環を１個または縮合環を２個以上含有していてもよく、そのような環もしくは縮合環にはシクロアルキル、アリールまたは複素環式環が含まれ得る。そのような錯化基が含有する環は好適には６員の芳香環である。アリールである錯化基が有する環１個または２個以上はしばしばヒドロカルビル基で置換されている。そのような置換の様式および置換基の数は多様であり、存在する環の数の影響を受け得るが、存在する置換基の数はしばしば１から６である。置換基には、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ヒドロキシ、アミノ、チオール、アシル、ヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビル、複素環、ヒドロカルビルオキシ、モノ−もしくはジ−ヒドロカルビルアミノ、ヒドロカルビルチオ、エステル、カーボネート、アミド、スルホニルおよびスルホンアミド基、ここで、ヒドロカルビル基は、この上でＲ１に関して定義した通りである、が含まれ得る。そのような１から６個の置換基は、典型的に、各々独立して、ヒドロカルビル基、好適には２、３または６個のヒドロカルビル基、より好適には６個のヒドロカルビル基である。好適なヒドロカルビル置換基には、メチル、エチル、イソプロピル、メンチル、ネオメンチルおよびフェニルが含まれる。特にアリールである錯化基が単一の環の場合、そのような錯化基は好適にはベンゼンまたは置換ベンゼンである。錯化基が過ハロゲン化ヒドロカルビルの場合、それは好適には多ハロゲン置換（ｐｏｌｙｈａｌｏｇｅｎａｔｅｄ）ベンゼン、例えばヘキサクロロベンゼンまたはヘキサフルオロベンゼンなどである。ヒドロカルビル置換基が鏡像異性および／またはジアステレオマー中心を含有する場合、それらの鏡像異性および／またはジアステレオマー的に高純度の形態を用いるのが好適である。特にベンゼン、ｐ−シミル、メシチレンおよびヘキサメチルベンゼンが好適な錯化基である。
【００３１】
Ｙが表し得る場合により置換されていてもよいアルケニルである錯化基には、Ｃ２−３０、好適にはＣ６−１２アルケンまたはシクロアルケンが含まれるが、それらが有する炭素−炭素二重結合は好適には２個以上、好ましくは、炭素−炭素二重結合は２個のみである。そのような炭素−炭素二重結合は、場合により、存在し得る他の不飽和系と共役していてもよく、好適には互いに共役している。そのようなアルケンもしくはシクロアルケンは好適にはヒドロカルビル置換基で置換されていてもよい。そのアルケンが有する二重結合が１個のみの場合、そのような場合により置換されていてもよいアルケニルである錯化基は個別のアルケンを２個含有し得る。好適なヒドロカルビル置換基にはメチル、エチル、イソプロピルおよびフェニルが含まれる。場合により置換されていてもよいアルケニルである錯化基の例には、シクロ−オクタ−１，５−ジエンおよび２，５−ノルボルナジエンが含まれる。特にシクロ−オクタ−１，５−ジエンが好適である。
【００３２】
Ｙが表し得る場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニルである錯化基には、エータ−５結合を形成し得るシクロペンタジエニル基が含まれる。そのようなシクロペンタジエニル基はしばしば１から５個の置換基で置換されている。置換基には、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ヒドロキシ、アミノ、チオール、アシル、ヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビル、複素環、ヒドロカルビルオキシ、モノ−もしくはジ−ヒドロカルビルアミノ、ヒドロカルビルチオ、エステル、カーボネート、アミド、スルホニルおよびスルホンアミド基（ここで、ヒドロカルビル基は、この上でＲ１に関して定義した通りである）が含まれ得る。シクロペンタジエニル基は好適には１から５個のヒドロカルビル基、より好適には３から５個のヒドロカルビル基、最も好適には５個のヒドロカルビル基で置換されている。好適なヒドロカルビル置換基にはメチル、エチルおよびフェニルが含まれる。ヒドロカルビル置換基が鏡像異性および／またはジアステレオマー中心を含有する場合、それらの鏡像異性および／またはジアステレオマー的に高純度の形態を用いるのが有利であり得る。場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニルである錯化基の例には、シクロペンタジエニル、ペンタメチル−シクロペンタジエニル、ペンタフェニルシクロペンタジエニル、テトラフェニルシクロペンタジエニル、エチルテトラメチルペンタジエニル、メンチルテトラフェニルシクロペンタジエニル、ネオメンチルテトラフェニルシクロペンタジエニル、メンチルシクロペンタジエニル、ネオメンチルシクロペンタジエニル、テトラヒドロインデニル、メンチルテトラヒドロインデニルおよびネオメンチルテトラヒドロインデニル基が含まれる。特にペンタメチルシクロペンタジエニルが好適である。
【００３３】
式ＭｎＸｐＹｒ［式中、Ｍは、ＲｈまたはＩｒであり、そしてＹは、場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニル基である］で表される遷移金属ハロゲン化物錯体が好適である。式ＭｎＸｐＹｒ［式中、Ｍは、Ｉｒであり、そしてＹは、場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニル基である］で表される遷移金属ハロゲン化物錯体が最も好適である。
【００３４】
遷移金属ハロゲン化物錯体の例にはＲｕ２Ｃｌ４（シミル）２，Ｒｈ２Ｃｌ４（Ｃｐ＊）２，Ｒｈ２Ｂｒ４（Ｃｐ＊）２，Ｒｈ２ｌ４（Ｃｐ＊）２，Ｉｒ２Ｃｌ４（Ｃｐ＊）２，Ｒｕ２ｌ４（シミル）２，ＲｈＣｌ２Ｃｐ＊，ＲｈＢｒ２Ｃｐ＊，Ｒｈｌ２Ｃｐ＊およびＩｒ２Ｉ４（Ｃｐ＊）２［ここで、Ｃｐ＊はペンタメチルシクロペンタジエニル基である］が含まれる。
【００３５】
好適な特定態様における触媒系は、好適には、式ＭｎＸｐＹｒ［式中、Ｍは遷移金属であり、Ｘはハロゲン化物であり、Ｙは、場合により置換されていてもよいヒドロカルビルである中性の錯化基、場合により置換されていてもよい過ハロゲン化ヒドロカルビルである中性の錯化基、または場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニルである錯化基であり、そしてｎ、ｐおよびｒは整数である］で表される遷移金属ハロゲン化物錯体と式（１）で表されるアルコールもしくはスルフィド配位子を接触させることで得ることができる組成物である。
【００３６】
有利には、そのような触媒系の少なくとも一部を固体状担体に担持されている状態または封じ込められている（ｅｎｃａｐｓｕｌａｔｅｄ）系として導入してもよい。当該触媒系を固体状担体に担持されている状態または封じ込められている系として存在させる場合、そのような担持触媒系は、特に繰り返しが想定される場合必要であり得る分離作業の実施に役立ちかつ段階と段階の間の材料の循環を容易にする可能性がある。当該触媒系の担持または封じ込めで使用可能な固体状担体または封じ込め技術の例がＷＯ０３／００６１５１およびＷＯ０５／０１６５１０に記述されている。
【００３７】
場合により存在させてもよい反応促進剤には、ハロゲン化物塩、例えば金属のハロゲン化物などが含まれる。好適な反応促進剤には臭化物、特にヨウ化物塩が含まれる。ヨウ化カリウムおよびヨウ化セシウムが非常に好適である。
【００３８】
本発明の方法を好適には塩基の存在下で実施する。塩基の例には炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムが含まれる。
【００３９】
本発明のさらなる面では、式（１）で表される出発アルコールもしくはスルフィドの脱プロトンで生じる式（２）：
【００４０】
【化２】
2008517990.tif 000004
【００４１】
［式中、
Ｘは、Ｏ、Ｓを表し、
Ｒ１、Ｒ２は、各々独立して、場合により置換されていてもよいヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビル、場合により置換されていてもよい複素環基を表すか、或は
場合により、Ｒ１とＲ２が場合により置換されていてもよい環１個または２個以上を形成するように連結していてもよいが、但し
Ｒ１とＲ２が異なることを条件とする］
で表される相当するケトンもしくはチオケトンを製造することができる。
【００４２】
式（１）で表される出発アルコールもしくはスルフィドの脱プロトンで生じる相当する
式（２）で表されるケトンもしくはチオケトンの生成を抑制または助長する必要がある場合、有利には、水素受容体および／または水素供与体を用いてもよい。
【００４３】
本発明の方法に存在させてもよい水素受容体には、酸、酸素、アルデヒドおよびケトン、イミンおよびイミニウム塩、易水素化可能炭化水素、染料、クリーンな酸化剤、炭酸塩、重炭酸塩およびこれらの任意組み合わせに由来するプロトンが含まれる。
【００４４】
便利な適合性酸のいずれか、例えば蟻酸、酢酸、水素炭酸塩、水素硫酸塩、アンモニウム塩またはアルキルアンモニウム塩などからプロトンを生じさせることができる。便利には、当該基質自身からプロトンを生じさせてもよい。
【００４５】
水素受容体として使用可能なアルデヒドおよびケトンは炭素原子を一般に１から２０個、好適には炭素原子を２から１５個、より好適には炭素原子を３から５個含有する。アルデヒドおよびケトンには、アルキル、アリール、ヘテロアリールアルデヒドおよびケトン、およびアルキル、アリールまたはヘテロアリール基を混ぜて有するケトンが含まれる。水素受容体の代表例であり得るアルデヒドおよびケトンの例には、ホルムアルデヒド、アセトン、メチルエチルケトンおよびベンゾフェノンが含まれる。水素受容体がアルデヒドまたはケトンの場合、アセトンが特に好適である。
【００４６】
水素受容体として使用可能な易水素化可能炭化水素には、水素を受け取る性質を有する炭化水素または還元系を生じる性質を有する炭化水素が含まれる。水素受容体として使用可能な易水素化可能炭化水素の例には、キノン、ジヒドロアレン（ｄｉｈｙｄｒｏａｒｅｎｅｓ）およびテトラヒドロアレン（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏａｒｅｎｅｓ）が含まれる。
【００４７】
水素受容体の代表例であり得るクリーンな酸化剤には、高い酸化電位を有する酸化剤、特に標準的な水素電極を基準にして約０．１ｅＶより大、しばしば約０．５ｅＶより大、好適には約１ｅＶより大の酸化電位を有する酸化剤が含まれる。水素受容体の代表例であり得るクリーンな酸化剤の例には、酸化性金属および酸素が含まれる。
【００４８】
染料には、ローズベンガル、プロフラビン、臭化エチジウム（ｅｔｈｉｄｉｕｍ）、エオシンおよびフェノールフタレインが含まれる。
【００４９】
炭酸塩および重炭酸塩には、炭酸および重炭酸のアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウムおよび第四級アミン塩が含まれる。
【００５０】
最も好適な水素受容体は、酸、アセトン、酸素、基質アミンおよび炭酸塩および重炭酸塩からのプロトンである。
【００５１】
水素供与体には、水素、第一級および第二級アルコール、第一級、第二級および第三級アミン、カルボン酸およびこれらのエステルおよびアミン塩、易脱水素可能炭化水素、クリーンな還元剤およびこれらの任意組み合わせが含まれる。
【００５２】
水素供与体として使用可能な第一級および第二級アルコールは、炭素原子を一般に１から１０個、好適には炭素原子を２から７個、より好適には炭素原子を３または４個含有する。水素供与体の代表例であり得る第一級および第二級アルコールの例には、メタノール、エタノール、プロパン−１−オール、プロパン−２−オール、ブタン−１−オール、ブタン−２−オール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコールおよびメントールが含まれる。水素供与体がアルコールの場合、第二級アルコールが好適であり、特にプロパン−２−オールおよびブタン−２−オールが好適である。
【００５３】
水素供与体として使用可能な第一級、第二級および第三級アミンは、炭素原子を一般に１から２０個、好適には炭素原子を２から１４個、より好適には炭素原子を３から８個含有する。水素供与体の代表例であり得る第一級、第二級および第三級アミンの例には、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、ヘキシルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジ−イソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジ−イソブチルアミン、ジヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、ピペリジン、（Ｒ）または（Ｓ）６，７−ジメトキシ−１−メチルジヒドロイソキノリン、トリエチルアミンが含まれる。水素供与体がアミンの場合、第一級アミンが好適であり、特に第二級アルキル基を含有する第一級アミン、特にイソプロピルアミンおよびイソブチルアミンが好適である。
【００５４】
水素供与体として使用可能なカルボン酸またはこれらのエステルまたは塩は、炭素原子を一般に１から１０個、好適には炭素原子を１から３個含有する。特定態様におけるカルボン酸は有利にベータ−ヒドロキシ−カルボン酸である。そのようなカルボン酸とＣ１−１０アルコールからエステルを生じさせることができる。水素供与体として使用可能なカルボン酸の例には、蟻酸、乳酸、アスコルビン酸およびマンデル酸が含まれる。カルボン酸を水素供与体として用いる場合、そのようなカルボン酸の少なくともいくらかを好適には塩として存在させる。アミン塩を生じさせてもよい。そのような塩を生じさせる時に使用可能なアミンには、芳香および非芳香両方のアミンが含まれるが、これらもまた第一級、第二級および第三級アミンであり、炭素原子を典型的に１から２０個含有する。第三級アミン、特にトリアルキルアミンが好適である。塩を生じさせる時に使用可能なアミンの例には、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジ−イソプロピルエチルアミンおよびピリジンが含まれる。最も好適なアミンはトリエチルアミンである。カルボン酸の少なくともいくらかをアミン塩として存在させる場合、特に蟻酸とトリエチルアミンの混合物を用いる場合、酸とアミンのモル比を一般に約５：２にする。反応過程中にいずれかの成分を添加、通常はカルボン酸を添加することで、そのような比率を維持してもよい。他の好適な塩にはナトリウム、カリウム、マグネシウム塩が含まれる。
【００５５】
水素供与体として使用可能な易脱水素可能炭化水素には、芳香化を起こす性質を有する炭化水素または高共役系を生じる性質を有する炭化水素が含まれる。水素供与体として使用可能な易脱水素可能炭化水素の例には、シクロヘキサジエン、シクロヘキセン、テトラリン、ジヒドロフランおよびテルペンが含まれる。
【００５６】
水素供与体の代表例であり得るクリーンな還元剤には、高い還元電位を有する還元剤、特に標準的な水素電極を基準にして約−０．１ｅＶより大、しばしば約−０．５ｅＶより大、好適には約−１ｅＶより大の還元電位を有する還元剤が含まれる。水素供与体の代表例であり得る奇麗な還元剤の例には、ヒドラジンおよびヒドロキシルアミンが含まれる。
【００５７】
最も好適な水素供与体は、（Ｒ）または（Ｓ）６，７−ジメトキシ−１−メチルジヒドロイソキノリン、プロパン−２−オール、ブタン−２−オール、蟻酸トリエチルアンモニウム、蟻酸ナトリウム、蟻酸カリウム、および蟻酸トリエチルアンモニウムと蟻酸の混合物である。
【００５８】
気体状水素を存在させてもよいが、本方法を通常は気体状水素の存在無しに実施する、と言うのは、それは不必要であると思われるからである。
【００５９】
典型的には、不活性なパージ用ガスを用いてもよい。
【００６０】
本方法を適切には−７８から＋１５０℃、好適には−２０から＋１１０℃、より好適には−１０から＋４０℃の範囲内の温度で実施する。
【００６１】
基質である式（１）で表される化合物の初期濃度を適切には０．０５から１．０の範囲内にするが、大規模な操作を便利に実施しようとする場合には、モルを基準にして例えば６．０以下、より特別には０．７５から２．０にしてもよい。基質と触媒系のモル比を適切には５０：１以上にするが、この比率は５００００：１以下、好適には２５０：１から５０００：１、より好適には５００：１から２５００：１であってもよい。
【００６２】
反応促進剤を存在させる場合、そのような反応促進剤を好適には当該基質を基準にしてモル過剰量、特に１から５倍、または便利であるならば、例えば２０倍に及ぶモル過剰量で用いる。
【００６３】
水素供与体および／または受容体を存在させる場合、そのような水素供与体および／または受容体を好適には当該基質を基準にしてモル過剰量、特に５から２０倍、または便利であるならば、例えば５００倍に及ぶモル過剰量で用いる。
【００６４】
反応時間は典型的に１．０分から２４時間の範囲、特に８時間以内、便利には約３時間である。反応後の混合物を標準的手順で処理する。
【００６５】
反応用溶媒、例えばジメチルホルムアミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、トルエン、クロロホルム、ジクロロメタン、または便利には、基質であるアルコールもしくはスルフィドが反応温度で液状の時には基質であるアルコールもしくはスルフィドを存在させてもよい。通常は、水を実質的に存在させないで実施するのが好適であるが、水が反応を過度に抑制することはないと思われる。基質であるアルコールもしくはスルフィドまたは反応用溶媒が水と混和せずかつ所望生成物が水溶性の場合には、水を２番目の相として存在させる方が望ましい可能性がある。当該基質の濃度を反応時間、収率および鏡像異性体過剰度の脱富化が最適になるように選択してもよい。
【００６６】
本発明のさらなる面では、炭素−ヘテロ原子結合を含有していて前記炭素がキラル中心でありかつ前記ヘテロ原子がＶＩ族のヘテロ原子である基質の少なくとも１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーを含んで成る鏡像異性体富化組成物を触媒系および場合により反応促進剤の存在下で反応させることで生じさせた式（２）で表されるケトンまたはチオケトンを含んで成る組成物を次に移動水素化用触媒および水素供与体と接触させることで、炭素−ヘテロ原子結合を有する前記基質の１番目および２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーを含んで成っていて１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーに対する２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーの比率が前記鏡像異性体富化組成物中に存在していた１番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーに対する２番目の鏡像異性体もしくはジアステレオマーの比率よりも高い生成物組成物を得る。
【００６７】
水素供与体は本明細書の上で定義した通りである。
【００６８】
前記式２で表される化合物の還元を好適には立体選択的還元系を用いて達成する。そのような立体選択的還元ではキラル配位遷移金属触媒を用いた移動水素化方法を用いるのが最も好適である。そのような方法およびその方法で用いる触媒、反応体および条件の例には、国際特許出願公開番号ＷＯ９７／２０７８９、ＷＯ９８／４２６４３およびＷＯ０２／４４１１１（これらは各々引用することによって本明細書に組み入れられる）に開示されているそれらが含まれる。本発明の方法で用いるに好適な移動水素化用触媒は、一般式（ａ）：
【００６９】
【化３】
2008517990.tif 000005
【００７０】
［式中、
Ｒ３は、場合により置換されていてもよい中性のヒドロカルビル、場合により置換されていてもよい中性の過ハロゲン化ヒドロカルビルまたは場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニルである配位子を表し、
Ａは、場合により置換されていてもよい窒素を表し、
Ｂは、場合により置換されていてもよい窒素、酸素、硫黄または燐を表し、
Ｅは、連結基を表し、
Ｍは、移動水素化に触媒作用を及ぼし得る金属を表し、そして
Ｙは、アニオン性基、塩基性配位子または空部位を表すが、但し
ＡまたはＢの中の少なくとも一方が置換されている窒素を含んで成りかつその置換基がキラル中心を少なくとも１個有することを条件とし、かつ
Ｙが空部位でない時にはＡまたはＢの中の少なくとも一方が水素原子を持つことを条件とする］
で表される。
【００７１】
特に好適な移動水素化触媒は、ＷＯ９７／２０７８９、ＷＯ９８／４２６４３およびＷＯ０２／４４１１１に記述されている種類のＲｕ、ＲｈもしくはＩｒ触媒であり、これは、場合により置換されていてもよいジアミン配位子、例えば場合により置換されていてもよいエチレンジアミン配位子、この場合により置換されていてもよいジアミン配位子が有する少なくとも１個の窒素原子は好適にはキラル中心含有基で置換されている、および中性の芳香配位子、例えばｐ−シメンなど、または場合により置換されていてもよいシクロペンタジエン配位子、例えばペンタメチルシクロペンタジエンなどを含有して成る。
【００７２】
本発明の方法で用いるに非常に好適な移動水素化用触媒は、一般式（Ａ）：
【００７３】
【化４】
2008517990.tif 000006
【００７４】
［式中、
Ｒ３は、場合により置換されていてもよい中性のヒドロカルビル、場合により置換されていてもよい中性の過ハロゲン化ヒドロカルビルまたは場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニルである配位子を表し、
Ａは、−ＮＲ４−、−ＮＲ５−、−ＮＨＲ４、−ＮＲ４Ｒ５または−ＮＲ４Ｒ５、ここで、Ｒ４はＨ、Ｃ（Ｏ）Ｒ６、ＳＯ２Ｒ６、Ｃ（Ｏ）ＮＲ６Ｒ１０、Ｃ（Ｓ）ＮＲ６Ｒ１０、Ｃ（＝ＮＲ１０）ＳＲ１１またはＣ（＝ＮＲ１０）ＯＲ１１であり、Ｒ５およびＲ６は
、各々独立して、場合により置換されていてもよいヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビルまたは場合により置換されていてもよい複素環基を表し、そしてＲ１０およびＲ１１は、各々独立して、水素またはＲ６で定義した如き基である、を表し、
Ｂは、−Ｏ−、−ＯＨ、ＯＲ７、−Ｓ−、−ＳＨ、ＳＲ７、−ＮＲ７−、−ＮＲ８−、−ＮＨＲ８、−ＮＲ７Ｒ８、−ＮＲ７Ｒ９、−ＰＲ７または−ＰＲ７Ｒ９、ここで、Ｒ８はＨ、Ｃ（Ｏ）Ｒ９、ＳＯ２Ｒ９、Ｃ（Ｏ）ＮＲ９Ｒ１２、Ｃ（Ｓ）ＮＲ９Ｒ１２、Ｃ（＝ＮＲ１２）ＳＲ１３またはＣ（＝ＮＲ１２）ＯＲ１３であり、Ｒ７およびＲ９は、各々独立して、場合により置換されていてもよいヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビルまたは場合により置換されていてもよい複素環基を表し、そしてＲ１２およびＲ１３は、各々独立して、水素またはＲ９で定義した如き基である、を表し、
Ｅは、連結基を表し、
Ｍは、移動水素化に触媒作用を及ぼし得る金属を表し、そして
Ｙは、アニオン性基、塩基性配位子または空部位を表すが、但し
Ｙが空部位でない時にはＡまたはＢの中の少なくとも一方が水素原子を持つことを条件とする］
で表される。
【００７５】
ＡまたはＢの中の少なくとも一方が置換されている窒素を含んで成りそしてその置換基がキラル中心を少なくとも１個有する式（Ａ）で表される移動水素化用触媒が非常に好適である。
【００７６】
そのような触媒種は実質的にこの上に示した式で表されると考えている。それを固体状担体に担持されている状態で導入することも可能である。
【００７７】
Ｒ５−７またはＲ９−１１が表す場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基には、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアリール基およびこれらの任意組み合わせ、例えばアラルキルおよびアルカリール、例えばベンジル基などが含まれる。
【００７８】
Ｒ５−７またはＲ９−１１が表し得るアルキル基には、炭素原子数が１から２０、特に炭素原子数が１から７、好適には炭素原子数が１から５の直鎖および分枝アルキル基が含まれる。特定の態様におけるアルキル基は環式であってもよく、それは一般に最も大きな環の中に炭素原子を３から１０個含有し、そして場合により、橋渡しされている環を１個以上含有することを特徴としてもよい。Ｒ５−７またはＲ９−１１が表し得るアルキル基の例には、メチル、エチル、プロピル、２−プロピル、ブチル、２−ブチル、ｔ−ブチルおよびシクロヘキシル基が含まれる。
【００７９】
Ｒ５−７またはＲ９−１１の中の１つ以上が表し得るアルケニル基には、Ｃ２−２０、好適にはＣ２−６のアルケニル基が含まれる。存在する炭素−炭素二重結合の数は１以上であってもよい。アルケニル基は置換基、特にフェニル置換基を１個以上持っていてもよい。
【００８０】
Ｒ５−７またはＲ９−１１の中の１つ以上が表し得るアルキニル基には、Ｃ２−２０、好適にはＣ２−１０のアルキニル基が含まれる。存在する炭素−炭素三重結合の数は１以上であってもよい。アルキニル基は置換基、特にフェニル置換基を１個以上持っていてもよい。アルキニル基の例にはエチニル、プロピニルおよびフェニルエチニル基が含まれる。
【００８１】
Ｒ５−７またはＲ９−１１の中の１つ以上が表し得るアリール基は環を１個または縮合もしくは橋状環を２個以上含有していてもよく、そのような環または縮合もしくは橋状環にはシクロアルキル、アリールまたは複素環式環が含まれ得る。Ｒ５−７またはＲ９−１
１が表し得るアリール基の例には、フェニル、トリル、フルオロフェニル、クロロフェニル、ブロモフェニル、トリフルオロメチルフェニル、アニシル、ナフチルおよびフェロセニル基が含まれる。
【００８２】
Ｒ５−７またはＲ９−１１の中の１つ以上が独立して表し得る過ハロゲン化ヒドロカルビル基には、過ハロゲン化アルキルおよびアリール基およびこれらの任意組み合わせ、例えばアラルキルおよびアルカリール基などが含まれる。Ｒ５−７またはＲ９−１１が表し得る過ハロゲン化アルキル基の例には−ＣＦ３および−Ｃ２Ｆ５が含まれる。
【００８３】
Ｒ５−７またはＲ９−１１の中の１つ以上が独立して表し得る複素環式基には、芳香、飽和および部分不飽和環系が含まれ、これらは環を１個または縮合環を２個以上含有していてもよく、そのような環もしくは縮合環にはシクロアルキル、アリールまたは複素環式環が含まれ得る。複素環式基は複素環式環を少なくとも１個含有し、それらの中で最も大きな環は環原子を通常は３から７個含有し、それらの中の少なくとも１個の原子は炭素でありそして少なくとも１個の原子はＮ、Ｏ、ＳまたはＰの中のいずれかである。Ｒ５−７またはＲ９−１１が表し得る複素環式基の例には、ピリジル、ピリミジル、ピロリル、チオフェニル、フラニル、インドリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリルおよびトリアゾリル基が含まれる。
【００８４】
Ｒ５−７またはＲ９−１１のいずれかが置換されているヒドロカルビルもしくは複素環式基である場合、そのような置換基１個または２個以上は反応の速度にも立体選択率にも悪影響を与えないような置換基であるべきである。任意の置換基には、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ヒドロキシ、アミノ、イミノ、チオール、アシル、ヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビル、複素環、ヒドロカルビルオキシ、モノもしくはジ−ヒドロカルビルアミノ、ヒドロカルビルチオ、エステル、カルボキシ、カーボネート、アミド、スルホニルおよびスルホンアミド基、ここで、ヒドロカルビル基は、この上でＲ５−７またはＲ９−１１に関して定義した通りである、が含まれる。存在する置換基は１個以上であってもよい。Ｒ５−７またはＲ９−１１は各々キラル中心を１個以上含有していてもよい。
【００８５】
Ｒ３が表し得る場合により置換されていてもよいヒドロカルビルまたは過ハロゲン化ヒドロカルビルである中性の配位子には、場合により置換されていてもよいアリールおよびアルケニルである配位子が含まれる。
【００８６】
Ｒ３が表し得る場合により置換されていてもよいアリールである配位子は、環を１個または縮合環を２個以上含有していてもよく、そのような環もしくは縮合環にはシクロアルキル、アリールまたは複素環式環が含まれ得る。そのような配位子が含有する環は好適には６員の芳香環である。アリールである配位子が有する環１個または２個以上はしばしばヒドロカルビル基で置換されている。そのような置換の様式および置換基の数は多様であり、存在する環の数の影響を受け得るが、しばしば１から６個のヒドロカルビル置換基、好適には２、３または６個のヒドロカルビル基、より好適には６個のヒドロカルビル基が存在する。好適なヒドロカルビル置換基には、メチル、エチル、イソプロピル、メンチル、ネオメンチルおよびフェニルが含まれる。特にアリールである配位子が単一の環の場合、そのような配位子は好適にはベンゼンまたは置換ベンゼンである。配位子が過ハロゲン化ヒドロカルビルの場合、それは好適には多ハロゲン置換（ｐｏｌｙｈａｌｏｇｅｎａｔｅｄ）ベンゼン、例えばヘキサクロロベンゼンまたはヘキサフルオロベンゼンなどである。ヒドロカルビル置換基が鏡像異性および／またはジアステレオマー中心を含有する場合、それらの鏡像異性および／またはジアステレオマー的に高純度の形態を用いるのが好適である。特にベンゼン、ｐ−シミル、メシチレンおよびヘキサメチルベンゼンが好適な配位子である。
【００８７】
Ｒ３が表し得る場合により置換されていてもよいアルケニルである配位子には、Ｃ２−３０、好適にはＣ６−１２アルケンまたはシクロアルケンが含まれるが、それらが有する炭素−炭素二重結合は好適には２個以上、好ましくは、炭素−炭素二重結合は２個のみである。そのような炭素−炭素二重結合は、場合により、存在し得る他の不飽和系と共役していてもよく、好適には互いに共役している。そのようなアルケンもしくはシクロアルケンは好適にはヒドロカルビル置換基で置換されていてもよい。そのアルケンが有する二重結合が１個のみの場合、そのような場合により置換されていてもよいアルケニルである配位子は個別のアルケンを２個含有し得る。好適なヒドロカルビル置換基にはメチル、エチル、イソプロピルおよびフェニルが含まれる。場合により置換されていてもよいアルケニルである配位子の例には、シクロ−オクタ−１，５−ジエンおよび２，５−ノルボルナジエンが含まれる。特にシクロ−オクタ−１，５−ジエンが好適である。
【００８８】
Ｒ３が表し得る場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニル基には、エータ−５結合を形成し得るシクロペンタジエニル基が含まれる。そのようなシクロペンタジエニル基はしばしば１から５個のヒドロカルビル基、好適には３から５個のヒドロカルビル基、より好適には５個のヒドロカルビル基で置換されている。好適なヒドロカルビル置換基にはメチル、エチルおよびフェニルが含まれる。ヒドロカルビル置換基が鏡像異性および／またはジアステレオマー中心を含有する場合、それらの鏡像異性および／またはジアステレオマー的に高純度の形態を用いるのが好適である。場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニル基の例には、シクロペンタジエニル、ペンタメチル−シクロペンタジエニル、ペンタフェニルシクロペンタジエニル、テトラフェニルシクロペンタジエニル、エチルテトラメチルペンタジエニル、メンチルテトラフェニルシクロペンタジエニル、ネオメンチルテトラフェニルシクロペンタジエニル、メンチルシクロペンタジエニル、ネオメンチルシクロペンタジエニル、テトラヒドロインデニル、メンチルテトラヒドロインデニルおよびネオメンチルテトラヒドロインデニル基が含まれる。特にペンタメチルシクロペンタジエニルが好適である。
【００８９】
ＡまたはＢのいずれかが−ＮＲ４−、−ＮＨＲ４、ＮＲ４Ｒ５、−ＮＲ８−、−ＮＨＲ８またはＮＲ７Ｒ８、ここで、Ｒ５およびＲ７は、この上で定義した通りである、で表されるアミド基の場合、Ｒ４またはＲ８は、−Ｃ（Ｏ）Ｒ６または−Ｃ（Ｏ）Ｒ９で表されるアシル基であり、Ｒ６およびＲ９は、独立して、しばしば、直鎖もしくは分枝Ｃ１−７アルキル、Ｃ１−８シクロアルキルまたはアリール、例えばフェニルなどである。Ｒ６またはＲ１０が表し得るアシル基の例には、ベンゾイル、アセチルおよびハロゲノアセチル、特にトリフルオロアセチル基が含まれる。
【００９０】
ＡまたはＢのいずれかが−ＮＲ４−、−ＮＨＲ４、ＮＲ４Ｒ４、−ＮＲ８−、−ＮＨＲ８またはＮＲ７Ｒ８、ここで、Ｒ５およびＲ７は、この上で定義した通りである、で表されるスルホンアミド基として存在する場合、Ｒ４またはＲ８は、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ６または−Ｓ（Ｏ）２Ｒ９で表されるスルホニル基であり、Ｒ６およびＲ９は、独立して、しばしば、直鎖もしくは分枝Ｃ１−１２アルキル、Ｃ１−１２シクロアルキルまたはアリール、例えばフェニルなどである。好適なスルホニル基には、メタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、より好適にはｐ−トルエンスルホニル基およびナフチルスルホニル基、特に樟脳スルホニルが含まれる。
【００９１】
ＡまたはＢのいずれかが−ＮＲ４−、−ＮＨＲ４、ＮＲ４Ｒ５、−ＮＲ８−、−ＮＨＲ８またはＮＲ７Ｒ８、ここで、Ｒ５およびＲ７は、この上で定義した通りである、で表される基として存在する場合、Ｒ４またはＲ８は、Ｃ（Ｏ）ＮＲ６Ｒ１０、Ｃ（Ｓ）ＮＲ６Ｒ１０、Ｃ（＝ＮＲ１０）ＳＲ１１、Ｃ（＝ＮＲ１０）ＯＲ１１、Ｃ（Ｏ）ＮＲ９Ｒ１２、Ｃ（Ｓ）ＮＲ９Ｒ１２、Ｃ（＝ＮＲ１２）ＳＲ１３またはＣ（＝ＮＲ１２）ＯＲ１３で表される基であり、Ｒ６およびＲ９は、独立して、しばしば、直鎖もしくは分枝Ｃ１−８
アルキル、例えばメチル、エチル、イソプロピルなど、Ｃ１−８シクロアルキルまたはアリール、例えばフェニル基などであり、そしてＲ１０−１３は、しばしば、各々独立して、水素または直鎖もしくは分枝Ｃ１−８アルキル、例えばメチル、エチル、イソプロピルなど、Ｃ１−８シクロアルキルまたはアリール、例えばフェニル基などである。
【００９２】
Ｂが−ＯＲ７、−ＳＲ７、−ＰＲ７−または−ＰＲ７Ｒ９で表される基として存在する場合、Ｒ７およびＲ９は、独立して、しばしば、直鎖もしくは分枝Ｃ１−８アルキル、例えばメチル、エチル、イソプロピルなど、Ｃ１−８シクロアルキルまたはアリール、例えばフェニル基などである。
【００９３】
ＡおよびＢの正確な性質はＡおよび／またはＢが形式的に金属と結合するか或は孤立電子対を通して金属に配位するかによって決まることは理解されるであろう。
【００９４】
基ＡとＢは連結基Ｅを通して連結している。連結基Ｅは、ＡとＢの両方が金属Ｍと結合またはそれに配位するようにＡとＢの適切な形態（ｃｏｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ）を達成する。ＡとＢは一般に２、３または４個の原子を通して連結している。ＡとＢを連結させるＥ中の原子は置換基を１個以上持っていてもよい。Ｅ中の原子、特にＡまたはＢに対してアルファ位に位置する原子とＡおよびＢは複素環式環、好適には芳香環、特に５、６または７員の環を形成するように連結していてもよい。そのような環は他の１個以上の環と縮合していてもよい。ＡとＢを連結させる原子はしばしば炭素原子である。ＡまたはＢに加えて、ＡとＢを連結させる炭素原子の中の１個以上も好適には置換基を持つ。置換基には、この上で定義した如きＲ５−７またはＲ９−１１の置換基であり得る置換基が含まれる。そのような置換基のいずれかを有利には金属Ｍに配位しない基であるように選択する。好適な置換基には、この上で定義した如きハロゲン、シアノ、ニトロ、スルホニル、ヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビルおよび複素環基が含まれる。最も好適な置換基はＣ１−６アルキル基およびフェニル基である。最も好適には、ＡとＢは２個の炭素原子を通して連結、特に場合により置換されていてもよいエチル部分を通して連結している。ＡとＢが２個の炭素原子を通して連結している場合、そのＡとＢを連結させている２個の炭素原子は芳香もしくは脂肪環式基、特に５、６もしくは７員の環の一部を構成していてもよい。そのような環は他の１個以上のそのような環と縮合していてもよい。Ｅが炭素原子２個分の分離に相当しそしてこれらの炭素原子の中の一方または両方がこの上で定義した如き場合により置換されていてもよいアリール基を持つか或はＥが炭素原子２個分の分離に相当しそしてそれが場合によりフェニル環と縮合していてもよいシクロペンタンまたはシクロヘキサン環を含んで成る態様が特に好適である。
【００９５】
Ｅは、好適には、立体特異的中心を少なくとも１個有する化合物の一部を構成している。ＡとＢを連結させている２、３または４個の原子の中のいずれかまたは全部がこれらの原子の中の１個以上の所に少なくとも１個の立体特異的中心を限定するように置換されている場合、そのような立体特異的中心の中の少なくとも１個が基ＡまたはＢの中のいずれかに隣接する原子の所に位置するのが好適である。そのような立体特異的中心が少なくとも１個存在する場合、それを有利には鏡像異性体的に高純度の状態で存在させる。
【００９６】
Ｂが−Ｏ−または−ＯＨを表しそしてＥ中の隣接して位置する原子が炭素の場合、Ｂがカルボン酸基の一部を形成していないのが好適である。
【００９７】
Ａ−Ｅ−Ｂが表し得る化合物またはＡ−Ｅ−Ｂを脱プロトンで生じさせ得る化合物は、しばしば、アミノアルコールであり、４−アミノアルカン−１−オール、１−アミノアルカン−４−オール、３−アミノアルカン−１−オール、１−アミノアルカン−３−オール、特に２−アミノアルカン−１−オール、１−アミノアルカン−２−オール、３−アミノアルカン−２−オールおよび２−アミノアルカン−３−オール、特に２−アミノエタノールまたは３−アミノプロパノールを包含し、またはジアミンであり、１，４−ジアミノアルカン、１，３−ジアミノアルカン、特に１，２−もしくは２，３−ジアミノアルカン、特にエチレンジアミンを包含する。Ａ−Ｅ−Ｂが表し得るさらなるアミノアルコールは２−アミノシクロペンタノールおよび２−アミノシクロヘキサノールであり、これらは好適にはフェニル環と縮合している。Ａ−Ｅ−Ｂが表し得るさらなるジアミンは１，２−ジアミノシクロペンタンおよび１，２−ジアミノシクロヘキサンであり、これらは好適にはフェニル環と縮合している。そのアミノ基は有利にＮ−トシル化されていてもよい。Ａ−Ｅ−Ｂがジアミンを表す場合、好適には、少なくとも１個のアミノ基がＮ−トシル化されている。そのようなアミノアルコールまたはジアミンは有利に置換、特に連結基Ｅが少なくとも１個のアルキル基、例えばＣ１−４アルキル、特にメチル基または少なくとも１個のアリール基、特にフェニル基で置換されている。
【００９８】
Ａ−Ｅ−Ｂが表し得る化合物およびそれらを生じさせ得るプロトン化相当物の具体例は下記である：
【００９９】
【化５】
2008517990.tif 000007
【０１００】
好適には、それらの鏡像異性および／またはジアステレオマー的に高純度の形態を用いる。その例には、（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−ノルエフェドリン、（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）−シス−１−アミノ−２−インダノール、（１Ｓ，２Ｒ）−２−アミノ−１，２−ジフェニルエタノール、（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−シス−１−アミノ−２−インダノール、（１Ｒ，２Ｓ）−（−）−ノルエフェドリン、（Ｓ）−（＋）−２−アミノ−１−フェニルエタノール、（１Ｒ，２Ｓ）−２−アミノ−１，２−ジフェニルエタノール、Ｎ−トシル−（１Ｒ，２Ｒ）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン、Ｎ−トシル−（１Ｓ，２Ｓ）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン、（１Ｒ，２Ｓ）−シス−１，２−インダンジアミン、（１Ｓ，２Ｒ）−シス−１，２−インダンジアミン、（Ｒ）−（−）−２−ピロリジンメタノールおよび（Ｓ）−（＋）−２−ピロリジンメタノールが含まれる。
【０１０１】
Ｍが表し得る金属には、移動水素化に触媒作用を及ぼし得る金属が含まれる。好適な金属には遷移金属、より好適には周期律表のＶＩＩＩ族の金属、特にルテニウム、ロジウムまたはイリジウムが含まれる。当該金属がルテニウムの場合、それは好適にはＩＩの原子価状態で存在する。当該金属がロジウムまたはイリジウムの場合、それは、Ｒ３が場合により置換されていてもよい中性のヒドロカルビルまたは場合により置換されていてもよい中性の過ハロゲン化ヒドロカルビル配位子の時には好適にはＩの原子価状態で存在し、そしてＲ３が場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニル配位子の時には好適にはＩＩＩの原子価状態で存在する。
【０１０２】
金属ＭがＩＩＩの原子価状態で存在するロジウムでありそしてＲ３が場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニル配位子であるのが好適である。
【０１０３】
Ｙが表し得るアニオン性基には、水素化物、ヒドロキシ、ヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルビルアミノおよびハロゲン基が含まれる。Ｙがハロゲンを表す場合、好適には、そのハロゲンは塩化物（ｃｈｌｏｒｉｄｅ）である。Ｙがヒドロカルビルオキシまたはヒドロカルビルアミノ基を表す場合、そのような基は、反応で用いた水素供与体が脱プロトンを受けることで生じ得る。
【０１０４】
Ｙが表し得る塩基性配位子には、水、Ｃ１−４アルコール、Ｃ１−８第一級もしくは第二級アミンまたは反応系に存在させる水素供与体が含まれる。Ｙが表す好適な塩基性配位子は水である。
【０１０５】
最も好適には、Ａ−Ｅ−Ｂ、Ｒ３およびＹを当該触媒がキラリティーを持つように選択する。その場合、好適には、鏡像異性および／またはジアステレオマー的に高純度の形態を用いる。そのような触媒を最も有利には不斉移動水素化工程で用いる。多くの多様において、そのような触媒のキラリティーはＡ−Ｅ−Ｂの性質に由来する。
【０１０６】
式Ｂ（ｉ−ｉｖ）で表される触媒が特に好適である：
【０１０７】
【化６】
2008517990.tif 000008
【０１０８】
そのような移動水素化用触媒の調製は、配位子、好適にはキラリティーを持つ二座窒素配位子と金属錯体、例えば場合により置換されていてもよいヒドロカルビルである中性の錯化基、場合により置換されていてもよい過ハロゲン化ヒドロカルビルである中性の錯化
基または場合により置換されていてもよいシクロペンタジエニルである錯化基を含有するＲｕ、ＲｈまたはＩｒ金属錯体などを一緒にすることで前以てまたはインシトゥで実施可能である。この実施で好適には溶媒を存在させる。用いる溶媒は、当該触媒の生成に悪影響を及ぼさない如何なる溶媒であってもよい。そのような溶媒には、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン、メタノール、テトラヒドロフラン、エチルメチルケトンが含まれる。そのような溶媒は好適にはメタノールである。
【０１０９】
本発明の方法は有利にキラル工程、例えばキラル分離、化学的および酵素的キラル分割などで得られた望まれない異性体を再利用しようとする時に使用可能である。キラル分離または分割を実施する時、典型的には、ラセミ混合物に結果として所望の鏡像異性体もしくは鏡像異性副生成物の分離がもたらされるような物理的、化学的または生化学的処理を受けさせるが、しばしば、未反応または望まれない鏡像異性体もしくは鏡像異性副生成物が残存する。本発明の方法は、未反応の鏡像異性体を所望の鏡像異性体を含有する使用可能な原料に変化させる方法を提供するものである。
【０１１０】
本発明を以下の実施例で例示する。
【実施例１】
【０１１１】
手順
反応１：  標準的条件＋０．５当量の２，４−ジメチル−３−ペンタノール
１０ｍｌの丸底フラスコに（Ｓ）−１−フェニルエタノール（２４６．８ｍｇ、９９％、２４４．３ｍｇ、２．０ミリモル）、塩化ペンタメチルシクロペンタジエニルイリジウム（ＩＩＩ）二量体（１６．６ｍｇ、９６％、１５．９ｍｇ、０．０２ミリモル）、トリデカン（３７２．４ｍｇ、９９％、３６８．７ｍｇ、２．０ミリモル）、ヨウ化カリウム（３３５．４ｍｇ、９９％、３３２．０ｍｇ、２．０ミリモル）、２，４−ジメチル−３−ペンタノール（１１７．４ｍｇ、９９％、１１６．２ｍｇ、１．０ミリモル）、炭酸カリウム（２７９．２ｍｇ、９９％、２７６．４ｍｇ、２．０ミリモル）およびトルエン（４ｍｌ）を加えると結果として淡オレンジ色の溶液が生じた。水冷却器を取り付けた後の反応容器を８０℃のオイルバスの中に置いてタイマーを開始させ、オイルバスの中に入れて１分以内に反応溶液が暗オレンジ色になり、徐々に暗色になって２時間後に暗褐色になりそして全体に渡ってその色のままであった。規則的な間隔でサンプル（〜１００μｌ）を採取してジクロロメタン（２ｍｌ）と０．５Ｍの水酸化ナトリウム溶液（２ｍｌ）に入れて反応を消滅させ、有機層を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過した後、アキラルＧＣおよびキラルＧＣで分析した。
【０１１２】
反応２：  標準的条件＋１．０当量の２，４−ジメチル−３−ペンタノール
１０ｍｌの丸底フラスコに（Ｓ）−１−フェニルエタノール（２４６．８ｍｇ、９９％、２４４．３ｍｇ、２．０ミリモル）、塩化ペンタメチルシクロペンタジエニルイリジウム（ＩＩＩ）二量体（１６．６ｍｇ、９６％、１５．９ｍｇ、０．０２ミリモル）、トリデカン（３７２．４ｍｇ、９９％、３６８．７ｍｇ、２．０ミリモル）、ヨウ化カリウム（３３５．４ｍｇ、９９％、３３２．０ｍｇ、２．０ミリモル）、２，４−ジメチル−３−ペンタノール（２３４．７ｍｇ、９９％、２３２．４ｍｇ、２．０ミリモル）、炭酸カリウム（２７９．２ｍｇ、９９％、２７６．４ｍｇ、２．０ミリモル）およびトルエン（４ｍｌ）を加えると結果として淡オレンジ色の溶液が生じた。水冷却器を取り付けた後の反応容器を８０℃のオイルバスの中に置いてタイマーを開始させ、オイルバスの中に入れて１分以内に反応溶液が暗オレンジ色になり、徐々に暗色になって２時間後に暗褐色になりそして全体に渡ってその色のままであった。規則的な間隔でサンプル（〜１００μｌ）を採取してジクロロメタン（２ｍｌ）と０．５Ｍの水酸化ナトリウム溶液（２ｍｌ）に入れて反応を消滅させ、有機層を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過した後、アキラルＧＣおよびキラルＧＣで分析した。
【０１１３】
分析
アキラルＧＣ
Ｃｈｒｏｍｐａｃ  ７６８０  ＣＰ  ＳＩＬ  ５ＣＢカラム、長さ＝２５．０ｍ、直径３２０μｍ、膜厚＝５．０μｍ
圧力＝８．０ｐｓｉ
流量＝１．１ｍｌ／分
温度＝２５０℃で２２．５分間に続いて２０℃／分で３００℃になるまで上昇
１−フェニルエタノール＝１３．１分
アセトフェノン＝１３．７分
トリデカン＝２７．５分
２，４−ジメチル−３−ペンタノール＝５．７分
【０１１４】
キラルＧＣ
ＣＰ−Ｃｈｉｒａｓｉｌ−Ｄｅｘ−ＣＢカラム、長さ＝２５．０ｍ、直径２５０μｍ、膜厚＝０．２５μｍ
圧力＝１０．０ｐｓｉ
流量＝０．７ｍｌ／分
温度＝１１０℃で４０分間に続いて２０℃／分で１９０℃になるまで上昇させそして５分間保持
（Ｒ）−１−フェニルエタノール＝２３．７分
（Ｓ）−１−フェニルエタノール＝２６．０分
アセトフェノン＝１０．０分
トリデカン＝２１．０分
２，４−ジメチル−３−ペンタノール＝４．６分
【０１１５】
【表１】
2008517990.tif 000009
【０１１６】
【表２】
2008517990.tif 000010
【実施例２】
【０１１７】
手順
反応２：  ＋炭酸カリウム
１０ｍｌの丸底フラスコに（Ｓ）−１−フェニルエタノール（２４６．８ｍｇ、９９％、２４４．３ｍｇ、２．０ミリモル）、塩化ペンタメチルシクロペンタジエニルイリジウム（ＩＩＩ）二量体（１６．６ｍｇ、９６％、１５．９ｍｇ、０．０２ミリモル）、トリデカン（３７２．４ｍｇ、９９％、３６８．７ｍｇ、２．０ミリモル）、ヨウ化カリウム（３３５．４ｍｇ、９９％、３３２．０ｍｇ、２．０ミリモル）、炭酸カリウム（２７９．２ｍｇ、９９％、２７６．４ｍｇ、２．０ミリモル）およびトルエン（４ｍｌ）を加えると結果として淡オレンジ色の溶液が生じた。水冷却器を取り付けた後の反応容器を８０℃のオイルバスの中に置いてタイマーを開始させ、オイルバスの中に入れて１分以内に反応溶液が暗オレンジ色になり、益々暗色になって２時間後に暗褐色になりそして全体に渡ってその色のままであった。規則的な間隔でサンプル（〜１００μｌ）を採取してジクロロメタン（２ｍｌ）と２．５Ｍの水酸化ナトリウム溶液（２ｍｌ）に入れて反応を消滅させ、有機層を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過した後、アキラルＧＣおよびキラルＧＣで分析した。
【０１１８】
分析
アキラルＧＣ
Ｃｈｒｏｍｐａｃ  ７６８０  ＣＰ  ＳＩＬ  ５ＣＢカラム、長さ＝２５．０ｍ、直径３２０μｍ、膜厚＝５．０μｍ
圧力＝８．０ｐｓｉ
流量＝１．１ｍｌ／分
温度＝２５０℃で２２．５分間に続いて２０℃／分で３００℃になるまで上昇
１−フェニルエタノール＝１３．１分
アセトフェノン＝１３．７分
トリデカン＝２７．５分
【０１１９】
キラルＧＣ
ＣＰ−Ｃｈｉｒａｓｉｌ−Ｄｅｘ−ＣＢカラム、長さ＝２５．０ｍ、直径２５０μｍ、膜厚＝０．２５μｍ
圧力＝１０．０ｐｓｉ
流量＝０．７ｍｌ／分
温度＝１１０℃で４０分間に続いて２０℃／分で１９０℃になるまで上昇させそして５分間保持
（Ｒ）−１−フェニルエタノール＝２３．７分
（Ｓ）−１−フェニルエタノール＝２６．０分
アセトフェノン＝１０．０分
トリデカン＝２１．０分
【０１２０】
【表３】
2008517990.tif 000011
【実施例３】
【０１２１】
【表４】
2008517990.tif 000012
注：＊＊  ＳＴＲＥＭ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから購入
反応に先立って溶媒に脱気を受けさせた：
【０１２２】
乾燥させておいた奇麗な密封型丸底フラスコにシリンジで無水２−プロパノールを１００ｍｌ加えた後、脱気を真空下２０℃で３０分間受けさせた。
【０１２３】
（ａ）触媒調製
（＋）−ノルエフェドリンおよびロジウム化合物の重量を測定して乾燥させておいた奇麗なＳｃｈｌｅｎｋフラスコの中に入れた。そのフラスコに「Ｓｕｂａ−ｓｅａｌ」（ＲＴＭ）の蓋を付けた。その内容物に排気を受けさせた後、室温で窒素によるパージ洗浄を１５回受けさせた。次に、２−プロパノール（２０ｍｌ）をカニューレで加えた。そのフラスコの口を密封した後、そのフラスコを出発固体が溶解するまで撹拌した。その結果としてオレンジ色の上澄み液と暗色の固体が生じた。そのフラスコの口を再び開け、窒素流を流し込みながらフラスコの内容物を６０℃に２時間５分加熱した。３０分の間隔で触媒を検査した。それは各間隔毎に暗褐色の溶液であり、底に黒色の固体が存在していた。
【０１２４】
（ｂ）水添
アセトフェノンを２−プロパノール（８０ｍｌ）に溶解させた後、それに脱気を４０分間受けさせた。その溶液をカニューレで前記触媒が入っているフラスコに加えた後、シリンジで２−プロパノール中０．１ＭのＫＯＨ溶液（脱気を受けさせておいた）を加えた。その混合物を室温に放置し、間隔を置いてサンプルを採取してガスクロで分析した。この小規模の操作の時には反応混合物に窒素を流し込まなかったが、より大きな規模の生産の時には流し込むことになるであろう。１時間後に（Ｒ）−１−フェニルエタノールを９２％の変換率、８４％ｅｅで得た。
【実施例４】
【０１２５】
【表５】
2008517990.tif 000013
【０１２６】
（ａ）触媒調製
前記ロジウム化合物を５０ｍｌの２−プロパノールに入れて懸濁させた後、それに真空および窒素フラッシュによる脱気を３回受けさせた。その混合物を加熱して固体が溶解するまで穏やかに還流させた後、周囲温度になるまで冷却した。その溶液に撹拌しながら（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−シス−１−アミノ−２−インダノールを加えた。その混合物に真空および窒素フラッシュによる脱気を数回受けさせた後、３０℃に３０分間温めた。その結果として生じた触媒のオレンジ−赤色溶液を次の段階で用いたが、これはアルゴンまたは窒素下で貯蔵可能であった。
【０１２７】
（ｂ）水添
アセトフェノンを前記触媒溶液に加えた。その混合物を周囲温度で１時間撹拌した。ナトリウム２−プロポキサイド（新しく調製した２−プロパノール中０．１Ｍの溶液を０．２５ｍｌ）を加えた。その混合物を２時間撹拌した後、サンプルを採取した；アセトフェノンの５７％が反応して７９％ｅｅの（Ｒ）−１−フェニルエタノールが生じた。
【実施例５】
【０１２８】
【表６】
2008517990.tif 000014
【０１２９】
（ａ）触媒調製
前記イリジウム化合物および（＋）−ノルエフェドリンを脱気を受けさせておいた２−プロパノール（２０ｍｌ）に窒素下で入れて懸濁させた後、その反応物に窒素によるパージ洗浄を３０分間受けさせた。その混合物を６０℃に９０分間加熱した後、周囲温度になるまで冷却した。その結果として生じた触媒の溶液を次の段階で用いたが、これはアルゴンまたは窒素下で貯蔵可能であった。
【０１３０】
（ｂ）水添
アセトフェノン（２ｍｌ、１７ミリモル）を２−プロパノール（８０ｍｌ）に溶解させた後、窒素でパージ洗浄した。次に、前記触媒溶液に続いて水酸化カリウム溶液（２−プロパノール中０．１Ｍの溶液を３．３ｍｌ）を加えた。その混合物を窒素下周囲温度で１０時間撹拌した。それによって１−フェニルエタノールを得た。収率６８％、ｅｅ４９％。
【国際調査報告】
2008517990.tif 000021
2008517990.tif 000022
2008517990.tif 000023