(57)【要約】  透明な基材と、情報記録層とを含む光ディスクであって、前記光ディスクが読取り書込み表面と、対向した表面とを含み、前記ディスクの少なくとも１つの表面が表面コーティングを含み、前記ディスクの前記少なくとも１つの表面が、１００のテーバー磨耗サイクルの後に２０％以下の反射能の変化、約９×１０１３オーム／平方以下の抵抗率、および約２０℃および５０％の相対湿度において試験されたときに約０．５秒より短い静電気減衰を示す。【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な基材と、情報記録層とを含む光ディスクであって、前記光ディスクが、読取り書込み表面と、対向した表面とを含み、前記ディスクの少なくとも１つの表面が表面コーティングを含み、前記ディスクの前記少なくとも１つの表面が、
ａ）１００のテーバー磨耗サイクルの後に２０％以下の反射能の変化を示し、
ｂ）約９×１０１３オーム／平方以下の抵抗率を示し、
ｃ）約２０℃および５０％の相対湿度において試験されたときに約０．５秒より短い静電気減衰を示す、光ディスク。
【請求項２】
前記ディスクの前記少なくとも１つの表面が、前記少なくとも１つの表面の表面張力が３０ダイン／ｃｍより小さいような指紋抵抗（ｆｉｎｇｅｒｐｒｉｎｔ  ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）を示す、請求項１に記載の光ディスク。
【請求項３】
４０μＮの引っ掻き力において３０ｎｍより小さい引っ掻き深さを有する、請求項１に記載の光ディスク。
【請求項４】
少なくともＦの鉛筆硬度を有する、請求項３に記載の光ディスク。
【請求項５】
前記表面コーティングが、約３．５μｍ以下の厚さを有する、請求項１に記載の光ディスク。
【請求項６】
前記表面コーティングが、リチウムトリフルオロメタンサルフェート、ＬｉＳＯ３Ｃ４Ｆ９、およびＬｉＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２からなる群から選択されたペルフルオロアルキルスルホネート塩を含む、請求項１に記載の光ディスク。
【請求項７】
前記表面コーティングが、
Ｉ．無色ウレタンポリアクリル酸エステル０〜１００重量部と、
ＩＩ．相応して、
Ａ）ポリアクリル酸エステル約３０〜約６０重量％と、
Ｂ）重合収縮改良剤２０〜７０重量％と、
Ｃ）少なくとも１種の溶剤０〜約５０重量％とを含有する組成物１００〜０重量部と、
ＩＩＩ．ＩおよびＩＩに対し０〜約５重量％の、フリーラジカルの供給源と、
ＩＶ．ＩおよびＩＩに対し０〜約５重量％の、流動制御添加剤および帯電防止剤から選択された添加剤と、
を含む、請求項１に記載の光ディスク。
【請求項８】
光記録媒体をコートするために有用な表面コーティングであって、前記表面コーティングでコートされた透明な基材が、１００のテーバー磨耗サイクルの後に２０％以下の反射能の変化、約９×１０１３オーム／平方以下の抵抗率、および約２０℃および５０％の相対湿度において試験されたときに約０．５秒より短い静電気減衰を示す、表面コーティング。
【請求項９】
前記基材が、５Ｂの鉛筆硬度および８μＮの引っ掻き力において３０ｎｍの引っ掻き深さを有し、前記保護表面層でコートされた同一の基材が、少なくともＦの鉛筆硬度および４０μＮの引っ掻き力において３０ｎｍより小さい引っ掻き深さを有する、請求項８に記載の表面コーティング。
【請求項１０】
前記基材が、前記少なくとも１つの表面の表面張力が約３３ダイン／ｃｍであるような指紋抵抗を有し、前記保護表面層でコートされた同一の基材が約３０ダイン／ｃｍ以下の表面張力を有する、請求項８に記載の表面コーティング。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は概して、耐磨耗性と帯電防止性質との両方を有する硬質保護層を有する光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
光記録媒体は典型的に、基材上に光記録層を含む。磁気光学ディスクなどの媒体では、情報は２つの保護層の間に配置された磁気光学材料の薄いフィルム上に記憶される。コンパクトディスクおよびデジタルビデオディスクは、反射光記録層を有してもよい。
【０００３】
ディスクの作動のための基本原理は、レーザーを使用して磁気光学層の温度をキュリー温度付近に局部的に上げ、局部磁化の方向をディスクに印加された記録磁界の方向に切り替えることである。２つの保護層が磁気光学材料を密閉してそれを腐蝕から保護し、そして、２つの保護層は窒化ケイ素、酸化ケイ素、または窒化アルミニウム誘電体などの材料から形成される。記録機構の読取り書込みヘッドは、ディスク表面の上で滑る。潤滑剤を表面に配してディスクヘッドとディスク表面との両方を損傷から保護する。潤滑剤は、ディスクヘッドと表面との間の摩擦を低減し、それらは、ディスクの耐摩耗性を強化する。
【０００４】
基材は典型的に、ポリカーボネートまたはポリメチルメタクリレートなどの材料、すなわち、すぐれた剛性、透明性および寸法安定性だが不十分な耐磨耗性を有する材料から形成される。基材の保護のために、「ハードコート」層がしばしば基材の少なくとも１つの表面上にコートされ、そのための保護バリアを形成する。ハードコート層は、例えばアクリルポリマーなどの放射線硬化性樹脂から形成されてもよい。また、ハードコートは酸化ケイ素などの無機材料から形成されている。しかしながら、ハードコート層は典型的に粉塵を表面に引き付ける静電気を蓄積し、表面を読取り書込みビームから隠して光記録層に達するのを妨げることがあり、このため、帯電防止剤が表面に添加されるかまたはハードコート層に混入される。有用な帯電防止剤は透明、耐磨耗性であり、かつ薬剤が読取り書込み機能を妨げずハードコート層の耐磨耗性を低減しないように組成安定性でなければならない。帯電防止剤は、いくつかの場合、コーティングする前にハードコートの他の成分と混合され、また、他の場合、堆積されたハードコート上に添加されている。これらの方法の各々は、特定の成分およびそれらの性質に応じて、利点および不便な点を有する。
【０００５】
読取り書込み表面および対向した表面の一方または両方が紫外線硬化性硬質表面コーティングでコートされている、透明な基材と情報記録層とを備える光記録ディスクは、１００のテーバー磨耗サイクルの後、２０％以下の、コートされた表面の反射能の変化を示すことが見出されている。コートされた表面は、約１０１３オーム／平方以下の抵抗率、および約０．５秒より短い静電気減衰（ｓｔａｔｉｃ  ｄｅｃａｙ）を示す。静電気減衰値は、約２０℃および２０％の相対湿度（ＲＨ）において試験されたとき、および約２０℃および５０％の相対湿度において試験されたときに０．５秒より短い。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、少なくとも１つの表面上に表面コーティングを有する光記録媒体を提供する。前記光記録媒体は、すぐれた耐磨耗性および帯電防止性質を示す。
【０００７】
具体的に、本発明は、透明な基材と、情報記録層とを含む光ディスクを提供し、前記光ディスクが、読取り書込み表面と、対向した表面とを備え、前記ディスクの少なくとも１つの表面が表面コーティングを含み、前記ディスクの前記少なくとも１つの表面が、
ａ）１００のテーバー磨耗サイクルの後に２０％以下の反射能の変化を示し、
ｂ）約９×１０１３オーム／平方以下の抵抗率を示し、
ｃ）約２０℃および５０％の相対湿度において試験されたときに約０．５秒より短い静電気減衰を示す。
【０００８】
１つの実施態様において、本発明は、
ａ）４０μＮの引っ掻き力において３０ｎｍより小さい引っ掻き深さ、
ｂ）約９×１０１３オーム／平方以下の抵抗率、および
ｃ）約２０℃および５０％の相対湿度において試験されたときに約０．５秒より短い静電気減衰を示す光記録媒体を提供する。
【０００９】
別の実施態様において、本発明は、表面コーティングが約２．５〜約３．５ミクロンの厚さを有する光記録媒体を提供する。
【００１０】
別の実施態様において、本発明は、少なくとも１つのウレタンポリアクリル酸エステルを含む、少なくとも１つの表面上の表面コーティングを含む光ディスクを提供する。
【００１１】
別の実施態様において、本発明は、光記録媒体をコートするために有用な表面コーティングを提供し、前記表面コーティングでコートされた透明な基材が、１００のテーバー磨耗サイクルの後に２０％以下の反射能の変化、約９×１０１３オーム／平方以下の抵抗率、および約２０℃および５０％の相対湿度において試験されたときに約０．５秒より短い静電気減衰、および４０μＮの引っ掻き力において３０ｎｍより小さい引っ掻き深さを示す。
【００１２】
別の実施態様において、本発明は、少なくとも１つのウレタンポリアクリル酸エステルを含む、光媒体をコートするために有用な表面コーティングを提供する。
【００１３】
別の実施態様において、本発明は、少なくとも１つのウレタンポリアクリル酸エステルと少なくとも１つのリチウムペルフルオロアルキルスルホネート塩とを含む、光媒体をコートするために有用な表面コーティングを提供する。
【００１４】
本明細書において使用されるとき、これらの用語は、以下の意味を有する。
【００１５】
１．用語「コーティング組成物」は、基材上にコートするために適した組成物を意味する。
【００１６】
２．用語「層」および「コーティング」は、コートされた組成物を指すために交換可能に用いられる。
【００１７】
３．用語「抵抗率」は、オーム／平方で測定された表面電気抵抗を意味する。
【００１８】
４．用語「Ｔｇ」はガラス転移温度を意味する。
【００１９】
５．用語「潤滑剤」は、表面間に減摩作用を生じさせるように少なくとも一方が移動可能である、２つの隣接した固体表面の間に導入された物質を意味する。
【００２０】
６．用語「ハードコート」は、保護表面層を意味する。
【００２１】
７．本明細書中で用いられるとき、用語「無色」は、成分が約０．１より小さい可視線（すなわち、約４００〜６００ｎｍ）の吸光度を有することを意味する。
【００２２】
８．用語「テーバー」は、ＩＳＯ９３５２に記載された研削ホイールを用いる磨耗試験手順を指す。
【００２３】
本願明細書において全ての重量、量および比は、特に記載しない限り、重量による。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下の詳細な説明は、特定の実施態様について記載し、限定的な意味においてとられるべきではい。本発明の範囲は添付した特許請求項によって定義される。
【００２５】
光記録媒体は、基材と、光記録層と、保護層とを備える。様々な成分は、以下により詳細に記載される。しかしながら、一般的に、磁性層は、薄い金属コーティングまたは一次磁性金属顔料のどちらかと、顔料のためのバインダーとを含有する。基材は、記録ヘッドに関連して高い寸法安定性を有し、金属またはガラスを含んでもよい。
【００２６】
１つの実施態様において、本発明は、透明な基材と、情報記録層と保護層とを備える光ディスクである。光ディスクは、読取り書込み表面と、対向した表面とを有し、保護層は、読取り書込み表面上にコートされる。
【００２７】
基材
光ディスクのための有用な基材は光透明な材料である。基材は典型的に、ガラスまたは熱可塑性樹脂、例えばポリカーボネートまたはポリメチルメタクリレートから製造され、紫外線硬化性アクリル樹脂から製造されたコーティングを有する。基材は、単一層または複数の層であってもよい。複数の層が用いられる場合、層は、同一または異なっていてもよい。層は、従来の方法、例えばキャスチング、押出、射出成形、積層、スピンコーティング、スクリーン印刷等によって形成される。
【００２８】
基材層の表面は典型的に、案内溝で筋をつけられ、このような溝は１ミクロンより小さい実質的に均一な深さを有する。溝は、約１ミクロンまたは２ミクロンの間隔で同心円状に離隔される。
【００２９】
機能性層
本発明による光記録媒体は、磁気光学材料の薄いフィルムに情報を記憶する。この材料は、基材上に配置される。磁気光学層は、これらの材料が大きな磁気光学作用をもたらすので、磁気光学作用を示すいずれかの適した材料、例えば、希土類遷移金属をベースとした非晶質の縦に磁化されたフィルムで形成されてもよい。
【００３０】
また、誘電体層が、光媒体の様々な層の間に干渉をもたらすことによって見掛けの磁気光学作用を強化するために存在してもよい。典型的に、２つの誘電体層が設けられ、情報記録層を囲む。
【００３１】
媒体の反射率を増加させ、光記録媒体からのリードバック信号出力を増加させるために反射層が設けられる。有用な反射層には、金、アルミニウムまたはそれらの合金などがある。
【００３２】
本発明による光記録媒体は、層をその上に連続的に積層することによってまたは真空フィルム形成操作、例えばスパッタリングおよび蒸着によって透明な基材上に形成されてもよい。堆積された第１の層は典型的に誘電体層であり、その後に、すべての層がコートされるまで、１つ以上の磁性記録層、少なくとも１つの反射層、保護層等が続く。次に、ディスクの表面を清浄にし、および／または不純物がないように表面処理する。ディスクを中位の溶剤で清浄にするかまたは潤滑剤を表面に適用する前に数秒間、酸素プラズマによって処理してもよい。潤滑剤は、光媒体を浸漬し、次いで潤滑剤溶液を記録媒体の上で排出またはポンピングし、次いで排出することによって適用されてもよい。
【００３３】
保護層
ここにおいて提供された耐磨耗性および帯電防止保護層、すなわち「ハードコート」は、それでコートされた光ディスクが改良された磨耗および帯電防止性質を示すことを可能にする。保護コートでコートされた光ディスクは、他の場合なら約８μＮの引っ掻き力において３０ｎｍより大きい引っ掻き深さを有する材料が使用されるときに、４０μＮの引っ掻き力において３０ｎｍより小さい引っ掻き深さ、少なくともＦの鉛筆硬度を有する。
【００３４】
帯電防止性質に関して、保護コーティングをそれに適用したディスクの表面は、１００のテーバー磨耗サイクルの後に２０％以下の反射能の変化を示し、約９×１０１３オーム／平方以下の抵抗率を示し、約２０℃および２０％の相対湿度において試験されたときに、また、約２０℃および５０％の相対湿度において試験されたときに約０．５秒より短い静電気減衰を示す。
【００３５】
１つの実施態様において、保護層は、ウレタンポリアクリル酸エステルと、ポリアクリル酸エステルを含有する組成物と、重合収縮改良剤と、フリーラジカルの供給源とを含む。１つの実施態様において、保護層はまた、リチウムペルフルオロアルキル塩を含有する。
【００３６】
より具体的に、ハードコートの１つの実施態様は、
Ｉ．無色ウレタンポリアクリル酸エステル０〜１００重量部と、
ＩＩ．相応して、
（Ａ）ポリアクリル酸エステル約３０〜約６０重量％と、
（Ｂ）重合収縮改良剤約２０〜約７０重量％と、
（Ｃ）少なくとも１つの溶剤０〜約５０重量％とを含有する組成物１００〜０重量部と、
ＩＩＩ．ＩおよびＩＩに対し０〜約５重量％の、フリーラジカルの供給源と、
ＩＶ．ＩおよびＩＩに対し０〜約５重量％の、流動制御、スリップ剤、および帯電防止剤の供給源から選択された少なくとも１つの添加剤と、を含む。
【００３７】
第１の成分（成分Ｉ）としてここにおいて有用なウレタンポリアクリル酸エステルは、式
【化１】
2008515128.tif 000002
式１
を有し、上式中、
Ｒ１は原子価「ａ」を有し、有機ポリイソシアネートからＮＣＯ基を除去した後に残っている残基であり、
Ｒ２は原子価ｂ＋１を有し、４〜１０個の炭素原子（好ましくは５個の炭素原子と、場合により、１個の連鎖酸素原子）を有する多価の脂肪族基であり、
Ｒ３はＨまたはＣＨ３であり、
ａは少なくとも２の値を有する数であり、
ｂは３〜５の整数である。
【００３８】
ここにおいて第２の成分（成分ＩＩ）として有用な組成物は、
（Ａ）アルカン、シクロアルカン、またはアザシクロアルカンポリオール（前記ポリオールは２４個までの炭素原子を有する）のポリアクリル酸エステル（前記エステルは４〜１０個のアクリロイルオキシ基と、存在するとき、カルボニル基の炭素に共有結合している窒素とを有する）３０〜６０重量％と、
（Ｂ）重合収縮改良剤２０〜７０重量％と、
（Ｃ）１つ以上のコーティング溶剤０〜３０重量％とを含有する。
【００３９】
重合収縮改良剤（第２の成分のＢ部分）は好ましくは、
（１）
【化２】
2008515128.tif 000003
を有する基から選択された少なくとも２個の基と、分子量１６８〜２０００当たり少なくとも２個のアクリル基とを有する分子量１６８〜５０００の重合性カルバミン酸化合物、
（２）以下に定義された重合性ポリ（アクリロイルオキシアルコキシ）アルカン、シクロアルカンまたはアザシクロアルカン、からなる群から選択される。
【００４０】
重合性カルバミン酸化合物（第２の成分のＢ部分（１））は好ましくは、
（ｉ）式
【化３】
2008515128.tif 000004
式ＩＩ
のカルバミン酸エステル
［上式中、
Ｒ３はＨまたはＣＨ３であり、
Ｒ４はＲ６−
および
【化４】
2008515128.tif 000005
から選択された二価脂肪族基であり、式中、Ｒ６は１〜６個の炭素原子を有するアルキレン基または５〜１０個の炭素原子を有する５または６員環シクロアルキレン基であり、
Ｒ５はヒドロキシル基をモノマーまたはポリマーの脂肪族ポリオールから除去することによって得られた多価の直鎖構造であり、
ｃは２〜１５（好ましくは３〜６）の整数である］、
（ｉｉ）式
【化５】
2008515128.tif 000006
式ＩＩＩ
のアクリロイルオキシアルキルイソシアヌレート
［上式中、
Ｒ７はＲ６および
【化６】
2008515128.tif 000007
から選択された多価の脂肪族基であり、式中、Ｒ６は式ＩＩについて記載された通りであり、Ｒ１１はｇ＋１の原子価を有し、４〜１０個の炭素原子（好ましくは５個の炭素原子）と、場合により、１個の連鎖酸素原子とを有する多価の脂肪族基であり、ｇは１〜３の整数である］、
（ｉｉｉ）式
【化７】
2008515128.tif 000008
式ＩＶ
のポリアクリルアミド化合物
［上式中、
Ｒ３は上に記載された通りであり、
Ｒ８は２〜１０個の炭素原子と場合により、４個までの連鎖酸素原子とを有する直鎖、分岐状、または環状アルカジイルまたはトリイル基であり、ｄは２または３の整数である］からなる群から選択される。
【００４１】
第２の成分のＢ部分（２）として有用な重合性材料は、式
【化８】
2008515128.tif 000009
式Ｖ
によって表すことができ、
Ｒ３およびＲ４は上に記載された通りであり、
Ｒ９は２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
ｅは１〜３の値を有する数であり、
ｆは３〜６の整数であり、
Ｒ１０は２４個までの炭素原子を有するアルカンシクロアルカン、またはアザシクロアルカンポリオールの残基であり、そこでアザシクロアルカンの窒素はカルボニル基の炭素に共有結合している。
【００４２】
フリーラジカルの供給源（第３の成分）は、フリーラジカルのエネルギー活性化可能な供給源を第１および第２の成分の合計部分の０〜５重量％で含む。
【００４３】
式Ｉのウレタンポリアクリル酸エステル（第１の成分）は好ましくは、ジ−またはトリイソシアネート１モルと、それぞれ、ポリアクリロイルオキシアルカノール２〜２．２モルまたは３〜３．３モルとを反応させることによって調製される。ポリアクリロイルオキシアルカノールは、４〜１０個の炭素原子と４〜６個のヒドロキシ基（それらのほとんどのヒドロキシル基がアクリル酸でエステル化されている）とを有するポリオールとして考えることができる。本明細書中で用いられるとき用語「アクリロイルオキシ」には、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の両方を含める。有用なポリアクリロイルオキシアルカノールの代表例は、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、２，２，３，３−テトラ（アクリロイルオキシメチル）−プロパノール、アラビトールテトラアクリレート、およびソルビトールペンタアクリレートおよび相当するメタクリレートである。
【００４４】
ウレタンポリアクリル酸エステルの調製に使用できるイソシアネートには、少なくとも２個のイソシアネート基を有する脂肪族、脂環式、および芳香族ポリイソシアネートがある。このような化合物は公知であり、２，４−トリレンジイソシアネート、３，５，５，−トリメチル−１−イソシアナト−３−イソシアナトメチルシクロヘキサン（イソホロンジイソシアネートとも呼ばれる）、ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３，５−トリス（６−イソシアナトヘキシル−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ、３Ｈ、５Ｈ）トリオン、１，３−ジ（イソシアナトエチル）ヒダントイン、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートおよび１，３，５−ベンゼントリイソシアネートなどがある。他の適したポリイソシアネートは、とりわけ、米国特許第３，６４１，１９９号明細書、米国特許第３，７００，６４３号明細書、および米国特許第３，９３１，１１７号明細書に記載されている。
【００４５】
ここにおいて第２の成分のＡ部分として有用なポリアクリル酸エステルは、アルカン、シクロアルカンまたはアザシクロアルカンポリオール（２４個までの炭素原子を有するポリオール）の１つ以上のポリアクリル酸エステルを含む。窒素は、存在するとき、カルボニル基に共有結合している。このような化合物の例には、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、ペンタアクリロイルオキシメチルエタン、３，３，７，７−テトラ（アクリロイルオキシメチル）−５−オキサノナン、アラビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレートおよび相当するメタクリレート、および１，３−ビス（２−アクリロイルオキシエチル−５，５−ジメチル）−２，４−イミダゾリジンジオンなどがある。
【００４６】
光学コーティング樹脂のカルバミン酸エステル（Ｂ部分（１）（ｉ））は好ましくは、１つ以上のモノイソシアネート置換された付加重合性エチレン性不飽和有機化合物（このような化合物は以下、「エチレン性不飽和イソシアネート」と称される場合がある）を、いずれの脂肪族モノマーまたはポリマーポリオールであってもよい少なくとも１つのポリオールと反応させることによって調製される。ポリオールは好ましくは、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオールまたはポリアクリレートポリオール（このようなポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、およびポリアクリレートポリオールは、一括して以下、「ポリオール」と称される場合がある）であり、前記ポリオールは、１分子中少なくとも２個のヒドロキシアルキルまたはヒドロキシシクロアルキル基を有する。反応体の量および反応時間は、例えば、赤外線分析によって測定されたときに反応混合物中の本質的に全ての遊離イソシアネート基の消費をもたらすように選択される。概して、ポリオール中のヒドロキシル基１モル当たり約０．８〜１モルのエチレン性不飽和イソシアネートが用いられる。好ましくは、エチレン性不飽和イソシアネートとポリオールとの間の反応は、ジブチル錫ジラウレートなどの適した触媒の存在下で行われる。反応は一般的に、バッチまたは連続処理を利用して、少なくとも約１時間以上、約２５℃〜１００℃の温度において実質的に無水条件下で適した混合容器内で行われる。
【００４７】
本発明のコーティングを製造するための重合性カルバミン酸エステル樹脂の調製に使用できるモノマー脂肪族およびポリマーポリオールは好ましくは炭素、水素および酸素だけを含有するが、望ましい場合、光学コーティング樹脂としての＊重合性カルバミン酸エステルの機能を妨げない他の鎖原子（例えば、硫黄原子）または置換基（例えば、クロロメチル基）を含有する。それらは、少なくとも２個のヒドロキシル基、３１〜１０００、好ましくは５９〜３００のヒドロキシル当量および３１〜１０００、好ましくは５９〜３００の分子量、および６２〜５０００、好ましくは１１８〜２１００の分子量を有する。
【００４８】
モノマー脂肪族ポリオールは、鎖状に一緒に結合している、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−など、２〜約１００の単位を含有することができるポリマー脂肪族ポリオールとは対照的に反復単位を含有しないポリオールである。モノマー脂肪族ポリオールは公知であり、例えば、アルカンポリオール、例えばエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、グリセリン、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、テトラメチロールエタン、ペンタエリトリトール、ジペンタエリトリトール、エリトリトール、アラビトールおよびソルビトールなどがある。
【００４９】
有用な光開始剤には、アシロインおよびそれらの誘導体、例えばメチルベンゾイルホルメート、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、およびアルファ−メチルベンゾイン、アルファ−ヒドロキシケトン、ジケトン、例えばベンジルおよびジアセチル、有機硫化物、例えばジフェニルモノスルフィド、ジフェニルジスルフィド、デシルフェニルスルフィド、およびテトラメチルチウラムモノスルフィド、Ｓ−アシルジチオカルバメート、例えばＳ−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカルバメート、フェノン、例えばアセトフェノン、アルファ，アルファ，アルファトリ−ブロムアセトフェノン、アルファ，アルファ−ジエトキシアセトフェノン、オルト−ニトロ−アルファ，アルファ，アルファ−トリブロモアセトフェノン、ベンゾフェノン、および４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、およびスルホニルハリド、例えばｐ−トルエンスルホニルクロリド、１−ナフタレンスルホニルクロリド、２−ナフタレンスルホニルクロリド、１，３−ベンゼンジスルホニルクロリド、２，４−ジニトロベンゼンスルホニルブロミドおよびｐ−アセタミドベンゼンスルホニルクロリドなどがある。熱エネルギーおよび化学線などの硬化技術のために、フリーラジカル重合開始剤は通常、コーティング樹脂の全重量に対して約０．０１〜５重量パーセントの範囲の量において用いられる。重合開始剤の量が約０．０１重量パーセントより少ないとき、コーティング樹脂の重合速度は遅くなる。重合開始剤が約５重量パーセントを超える量において用いられるとき、約５重量パーセントの重合開始剤を含有する組成物に比べて重合速度の測定可能な増加は観察されない。好ましくは、熱エネルギーまたは化学線によって硬化された本発明の重合性コーティング樹脂において約１．０〜約５．０重量パーセントの重合開始剤が用いられる。
【００５０】
１つの実施態様において、ハードコートはまた、少なくとも１つのリチウムペルフルオロアルキルスルホネート塩を成分ＩおよびＩＩに対して約５％まで（ＩＶ部分）含有する。有用な塩には、リチウムトリフルオロメタンサルフェート、ＬｉＳＯ３Ｃ４Ｆ９、ＬｉＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２などがある。リチウム塩は、保護層を形成する前に他の材料と予混合される。
【００５１】
抑制剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、染料、流動剤、付加的な帯電防止剤など、光学コーティングのために樹脂中で通常用いられる補助剤が、望ましい場合には添加されてもよい。有用な流動剤には、シリコーン流動剤、ポリアクリレート流動剤などがある。
【００５２】
好ましい実施態様を記載するために本願明細書において特定の実施態様が説明および記載されたが、同じ目的を達成するために予想された多種多様な別のおよび／または同等の実施が、本発明の範囲から逸脱せずに、示されおよび記載された特定の実施態様の代わりに実施できることは当業者によって理解されよう。化学、機械、電気−機械、電気、およびコンピュータ技術の当業者は、本発明を多種多様な実施態様において実施できることを容易に理解するであろう。この出願は、本願明細書に記載された好ましい実施態様の一切の改造または変型にわたるものとする。従って、本発明は特許請求項およびその同等物によってのみ限定されることが明らかに意図される。
【実施例】
【００５３】
磨耗試験は、２つの研削ホイールがターンテーブル上の予め決められた位置に配置される摩耗試験機を使用する。次に、試料をターンテーブル上に置き、５００グラムの予め決められた負荷を研削ホイールに適用し、ターンテーブルを回転させる。回転する間、研削ホイールが表面を研磨する。テーバー（Ｔａｂｅｒ）ＣＦ１０ホイールを使用し、テーブルを１００サイクルの間、回転させた。
【００５４】
本発明のハードコートを有するディスクは、２５のテーバーサイクル後に１０％より小さい、および１００のテーバーサイクル後に２０％より小さい反射能の変化を示した。コーティングのない商用ＤＶＤ＋Ｒディスクは、２５のテーバーサイクル後に４０％および１００のテーバーサイクルにおいて５０％超の変化を示した。
【００５５】
ＡＦＭナノ引っ掻き試験
コートされていないポリカーボネート基材およびコートされたポリカーボネート基材の試料に、基準引っ掻き力を基材に適用するＡＦＭ試験を実施した。コートされていないポリカーボネート基材は、８μＮの引っ掻き力において３０ｎｍの引っ掻き深さを有し、保護表面層でコートされた同一の基材は、４０μＮの引っ掻き力において３０ｎｍより小さい引っ掻き深さを有する。
【００５６】
鉛筆の耐引っ掻き性試験
この試験は、異なった芯硬度、例えば、番号４Ｈ芯〜８Ｂ等のマース・ルモグラフ（Ｍａｒｓ  Ｌｕｍｏｇｒａｐｈ）（登録商標）図画用鉛筆を使用する。鉛筆の各々は、ディスクの表面に書くために硬度の順序において使用される。硬度の等級は、ディスクの表面に引っ掻きを生じない最初の鉛筆の芯の硬度である。
【００５７】
耐引っ掻き性：鉛筆硬度  表１
2008515128.tif 000010
←より軟質                          より硬質→
６Ｂ  ５Ｂ  ４Ｂ  ３Ｂ  ２Ｂ  Ｂ  ＨＢ  Ｆ  Ｈ  ２Ｈ  ３Ｈ  ４Ｈ  ５Ｈ  ６Ｈ
【００５８】
静電気減衰試験
初充電のない（必要ならば放電する）試料ディスクを約５０００ボルト充電し、電荷が約５０ボルトまで減衰する秒単位の時間を測定した。これらの測定を２０％の湿度および５０％の湿度において実施した。
【００５９】
表２
2008515128.tif 000011
【国際調査報告】
2008515128.tif 000012
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