(57)【要約】【課題】ヒートサイクル環境下での偏光板割れ、高温で温湿度変化が繰り返される環境下での画像表示装置の端部剥がれ、湿度変動が大きい環境下での画像表示装置の輝度ムラを抑制できる偏光板の提供。【解決手段】第２フィルム、第１フィルム、粘着材層をこの順で有し、第１フィルムの吸収軸方向と第２フィルムの弾性率が最大となる方向が平行で、値Ｘが１３５以下、値Ｙが０．３０以下の偏光板；画像表示装置。Ｘ＝Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//；Ｙ＝（σ//＋σ⊥）／｛（Ｅ2//＋Ｅ2⊥）×ｄ2｝；σ//＝｛Ｅ1//×ｄ1×｜εp//−ε1//｜｝；εp//＝（Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//）／（Ｅ1//×ｄ1＋Ｅ2//×ｄ2）；σ⊥＝｛Ｅ1⊥×ｄ1×｜εp⊥−ε1⊥｜｝；εp⊥＝（Ｅ1⊥×ｄ1×ε1⊥＋Ｅ2⊥×ｄ2×ε2⊥）／（Ｅ1⊥×ｄ1＋Ｅ2⊥×ｄ2）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
第２フィルム、第１フィルムおよび粘着材層をこの順で有し、
前記第１フィルムと前記粘着材層が直接接触し、
前記第１フィルムは偏光子であり、
前記第１フィルムの吸収軸方向と前記第２フィルムの弾性率が最大となる方向が平行であり、
下記式（１）から算出される値Ｘが１３５以下であり、
下記式（２）から算出される値Ｙが０．３０以下である偏光板；
式（１）：Ｘ＝Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//
式（２）：Ｙ＝（σ//＋σ⊥）／｛（Ｅ2//＋Ｅ2⊥）×ｄ2｝
式（２Ａ−１）：σ//＝｛Ｅ1//×ｄ1×｜εp//−ε1//｜｝
式（２Ａ−２）：εp//＝（Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//）／（Ｅ1//×ｄ1＋Ｅ2//×ｄ2）
式（２Ｂ−１）：σ⊥＝｛Ｅ1⊥×ｄ1×｜εp⊥−ε1⊥｜｝
式（２Ｂ−２）：εp⊥＝（Ｅ1⊥×ｄ1×ε1⊥＋Ｅ2⊥×ｄ2×ε2⊥）／（Ｅ1⊥×ｄ1＋Ｅ2⊥×ｄ2）
式中、
Ｅ1//は前記第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における前記第１フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
Ｅ1⊥は前記第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における前記第１フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
ｄ1は前記第１フィルムの膜厚を表し、単位はμｍであり；
ε1//は前記第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における前記第１フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
ε1⊥は前記第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における前記第１フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
Ｅ2//は前記第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における前記第２フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
Ｅ2⊥は前記第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における前記第２フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
ｄ2は前記第２フィルムの膜厚を表し、単位はμｍであり；
ε2//は前記第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における前記第２フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
ε2⊥は前記第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における前記第２フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。
【請求項２】
第２フィルム、第１フィルムおよび第３フィルムをこの順で有し、
前記第１フィルムは偏光子であり、
前記第１フィルムの吸収軸方向と前記第２フィルムの弾性率が最大となる方向が平行であり、
前記第１フィルムの吸収軸方向と前記第３フィルムの弾性率が最大となる方向が平行であり、
下記式（３）から算出される値ｘが１３５以下であり、
下記式（４）から算出される値ｙが０．３０以下である偏光板；
式（３）：ｘ＝Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//＋Ｅ3//×ｄ3×ε3//
式（４）：ｙ＝（σ//＋σ⊥）／｛（Ｅ2//＋Ｅ2⊥）×ｄ2＋（Ｅ3//＋Ｅ3⊥）×ｄ3｝
式（４Ａ−１）：σ//＝｛Ｅ1//×ｄ1×｜εp//−ε1//｜｝
式（４Ａ−２）：εp//＝（Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//＋Ｅ3//×ｄ3×ε3//）／（Ｅ1//×ｄ1＋Ｅ2//×ｄ2＋Ｅ3//×ｄ3）
式（４Ｂ−１）：σ⊥＝｛（Ｅ1⊥×ｄ1×｜εp⊥−ε1⊥｜｝
式（４Ｂ−２）：εp⊥＝（Ｅ1⊥×ｄ1×ε1⊥＋Ｅ2⊥×ｄ2×ε2⊥＋Ｅ3⊥×ｄ3×ε3⊥）／（Ｅ1⊥×ｄ1＋Ｅ2⊥×ｄ2＋Ｅ3⊥×ｄ3）
式中、
Ｅ1//は前記第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における前記第１フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
Ｅ1⊥は前記第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における前記第１フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
ｄ1は前記第１フィルムの膜厚を表し、単位はμｍであり；
ε1//は前記第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における前記第１フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
ε1⊥は前記第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における前記第１フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
Ｅ2//は前記第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における前記第２フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
Ｅ2⊥は前記第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における前記第２フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
ｄ2は前記第２フィルムの膜厚を表し、単位はμｍであり；
ε2//は前記第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における前記第２フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
ε2⊥は前記第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における前記第２フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。
Ｅ3//は前記第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における前記第３フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
Ｅ3⊥は前記第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における前記第３フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
ｄ3は前記第３フィルムの膜厚を表し、単位はμｍであり；
ε3//は前記第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における前記第３フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
ε3⊥は前記第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における前記第３フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。
【請求項３】
前記第２フィルムの膜厚ｄ2および前記第３フィルムの膜厚ｄ3が共に３５．０μｍ以下である請求項２に記載の偏光板。
【請求項４】
前記第１フィルムと前記第３フィルムが直接接触する、請求項２または３に記載の偏光板。
【請求項５】
前記第２フィルムと前記第１フィルムが直接接触する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項６】
前記第２フィルムの弾性率Ｅ2//を前記第２フィルムの弾性率Ｅ2⊥で除した値が１．２０以上である請求項１〜５のいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項７】
前記第２フィルムの弾性率Ｅ2//を前記第２フィルムの弾性率Ｅ2⊥で除した値が１．４０以上である請求項１〜５のいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項８】
前記第２フィルムの弾性率Ｅ2//が５．５〜１０．０ＧＰａである請求項１〜７のいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項９】
前記式（１）から算出される値Ｘまたは前記式（３）から算出される値ｘが１２０以下である請求項１〜８のいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項１０】
前記式（２）から算出される値Ｙまたは前記式（４）から算出される値ｙが０．２２以下である請求項１〜９のいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項１１】
前記第２フィルムの前記第１フィルムが積層された面とは反対側の面に、帯電防止層、硬化樹脂層、反射防止層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層から選ばれる機能性層を含む請求項１〜１０のいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項１２】
前記第２フィルムが、ポリマーとして少なくともセルロースアシレートを含有する請求項１〜１１のいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の偏光板を含む画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板および画像表示装置に関する。より詳しくは、高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下での偏光板割れが抑制され、画像表示装置に組み込んだ場合に高温での温湿度変化が繰り返される環境下での偏光板の端部剥がれを抑制でき、画像表示装置に組み込んだ場合に湿度変動が大きい環境下での輝度ムラを抑制できる偏光板と、この偏光板を含む画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハロゲン化銀写真感光材料、位相差フィルム、偏光板及び画像表示装置には、セルロースエステル、ポリエステル、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマービニルポリマー、及び、ポリイミド等に代表されるポリマーフィルムが用いられている。これらのポリマーからは、平面性や均一性の点でより優れたフィルムを製造することができるため、光学用途のフィルムとして広く採用されている。
【０００３】
これらのうち、適切な透湿度を有するセルロースアシレートフィルム（特にセルロースアセテートフィルム）やアクリルフィルムは、最も一般的であるポリビニルアルコール（ＰＶＡ）／ヨウ素からなる偏光子とオンラインで直接貼り合わせることが可能である。そのため、偏光板の保護フィルムとして広く採用されている。
【０００４】
偏光板は環境変化に伴って伸縮するため、例えば保管や輸送時に吸湿した偏光板を用いた画像表示装置では、バックライトを点灯したときの発熱で偏光板中に存在する水分が蒸発し、偏光板または液晶パネルに反りが生じることが知られている。スリム化及び大型化を進めると、偏光板または液晶パネルの反りに起因し、画面表示装置周辺部に輝度ムラなどの故障が発生することがある。特許文献１には、偏光板の寸法変化率を調整することで、高温高湿環境下での液晶パネルである画像表示装置の反りを改善する方法が開示されており、特許文献２には、偏光板に形成された粘着材層のクリープ特性を調整することで、高温高湿環境下での画像表示装置の反りを改善する方法が開示されている。一方、特許文献３では、偏光子を薄膜化することで、高温環境下での画像表示装置の反りを改善する方法が開示されている。また、特許文献４には、透明ポリマーフィルムを延伸して、弾性率や湿度膨張係数を調整する方法が記載されている。
【０００５】
特許文献５には下記式（１）〜（３）で表される湿熱処理後の収縮力差Ｆｗ（単位×１０Ｎ／ｍ）が１〜３４の範囲にあり、下記式（４）〜（６）で表される熱処理後の収縮力差Ｆｄ（単位×１０Ｎ／ｍ）が１〜４０の範囲にあり、かつ、波長５９０ｎｍで測定した面内レタデーション（Ｒｅ）が１０ｎｍ未満であり、波長５９０ｎｍで測定した厚み方向レタデーション（Ｒｔｈ）の絶対値が２５ｎｍ未満である光学フィルムを用いて製造される位相差フィルムや偏光板を用いた液晶パネル、並びに液晶表示装置は、高温高湿環境下や高温環境下での輝度ムラ発生が改善されており、優れた信頼性を示すと記載されている。
［ここで湿熱処理はフィルムを６０℃相対湿度９０％の環境で４８時間保持する処理であり、熱処理は８０℃の環境で４８時間保持する処理を意味する。また、音波伝播速度が最大方向は、フィルムを２５℃、相対湿度６０％にて２４時間調湿後、超音波パルスの縦波振動の伝搬速度が最大方向である。］
式（１）    Ｆｗ＝Ｆｗ１−Ｆｗ２
［式中、Ｆｗ１は音波伝播速度が最大方向における湿熱処理後の光学フィルムの収縮力であり、Ｆｗ２は音波伝播速度が最大方向と直交する方向における湿熱処理後の収縮力を意味する。］
式（２）    Ｆｗ１＝Ｅｗ１×εｗ１×ｄｗ
［式中、特性量はすべて音波伝播速度が最大方向の値である。Ｅｗ１は湿熱処理後の弾性率、εｗ１は湿熱処理後の湿度寸法変化率の絶対値、ｄｗは湿熱処理後の膜厚を表す。Ｅｗ１は２．０〜８．０ＧＰａ、εｗ１は０．０１〜０．３８％、ｄｗは５〜８０μｍの範囲である。］
式（３）    Ｆｗ２＝Ｅｗ２×εｗ２×ｄｗ
［式中、特性量はすべて音波伝播速度が最大方向と直交する方向の値である。Ｅｗ２は弾性率、εｗ２は湿熱処理後の湿度寸法変化率の絶対値、ｄｗは膜厚を表す。Ｅｗ２は１．０〜５．０ＧＰａ、εｗ２は０．１３〜０．５０％、ｄｗは５〜８０μｍの範囲である。］
式（４）    Ｆｄ＝Ｆｄ１−０．１×Ｆｄ２
［式中、Ｆｄ１は音波伝播速度が最大方向における熱処理後の収縮力であり、Ｆｄ２は音波伝播速度が最大方向と直交する方向における熱処理後の収縮力を意味する。］
式（５）    Ｆｄ１＝Ｅｄ１×εｄ１×ｄｄ
［式中、特性量はすべて音波伝播速度が最大方向の値である。Ｅｄ１は弾性率、εｄ１は寸法変化率の絶対値、ｄｄは膜厚を表す。Ｅｄ１は２．５〜１０．０ＧＰａ、εｄ１は０．０１〜１．００％、ｄｄは５〜８０μｍの範囲である。］
式（６）    Ｆｄ２＝Ｅｄ２×εｄ２×ｄｄ
［式中、特性量はすべて音波伝播速度が最大方向と直交する方向の値である。Ｅｄ２（単位    ＧＰａ）は弾性率、εｄ２は寸法変化率の絶対値、ｄｄは膜厚を表す。Ｅｄ２は１．５〜５．５ＧＰａ、εｄ２は０．０１〜１．００％、ｄｄは５〜８０μｍの範囲である。］
【０００６】
特許文献６には繰り返し単位を有する化合物、及びセルロースエステルを少なくとも含み、波長５９０ｎｍにおける面内レタデーション（Ｒｅ）が１０ｎｍ以下であり、弾性率が３．５ＧＰａを超え、繰り返し単位を有する化合物が、多塩基酸及び多価アルコールの縮合体であり、かつ、下記（１）〜（６）の条件を満たす光学フィルムにより、収縮力を抑制し、且つ弾性率を向上させた光学フィルム、ロール状光学フィルム、偏光板、液晶表示装置を提供可能となったと記載されている。
（１）多塩基酸として炭素数５以下の多塩基酸を少なくとも含む。
（２）多塩基酸の平均炭素数が３以上６未満。
（３）多価アルコールの平均炭素数が２以上３以下。
（４）１種の多塩基酸と１種の多価アルコールの組み合わせによって構成される繰り返し単位がすべて炭素数４以上９以下。
（５）数平均分子量が８００以上５０００以下。
（６）水酸基価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−２９２９６６号公報
【特許文献２】特開２００３−５０３１３号公報
【特許文献３】特開２０１２−１３７６４号公報
【特許文献４】特開２００７−３３１３８８号公報
【特許文献５】特開２０１４−９５８８０号公報
【特許文献６】特開２０１４−１６４１６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来、画像表示装置の偏光板に用いられる偏光子は３０μｍ程度、保護フィルムは４０μｍ以上の膜厚を有し十分な力学強度を持っていることを前提として、偏光板は設計されてきていた。特に、偏光子は高い剛性を有するとされており、これまで、環境変化に伴う偏光子の寸法変化に起因する収縮力が、大きく環境変化する環境下での画像表示装置の反りの主原因であると考えられてきた。
【０００９】
しかしながら、近年の画像表示装置やそれに用いられる偏光板の薄型化に伴い、偏光子及び保護フィルムの膜厚が薄くなり、偏光子及び保護フィルムが十分な力学強度を持つとする前提が崩れてきている。このような薄くて十分な力学強度を持たない偏光子や保護フィルムを使用した場合、特許文献１〜６に記載の方法では大きく環境変化する環境下での画像表示装置の反りに起因する諸問題、例えば、偏光板割れ、偏光板の端部剥れ、輝度ムラの問題が発生することがわかった。特に本発明者らが検討したところ、特許文献１〜６に記載の方法においても、０℃を下回る低温から６０℃を上回る高温の温度の高低変化が繰り返される環境下（以下、「高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下」のことを、０℃を下回る低温から６０℃を上回る高温の温度の高低変化が繰り返される環境下と定義する）で偏光板割れが発生したり、６０℃を上回る高温で５℃以上の温度変化および６０％以上の相対湿度の変化が繰り返される環境下（以下、「高温で温湿度変化が繰り返される環境下」のことを、６０℃を上回る高温で５℃以上の温度変化および６０％以上の相対湿度の変化が繰り返される環境下と定義する）で偏光板の端部剥がれが発生したり、高湿環境下に画像表示装置を長時間放置した後に画像表示装置を湿度変動が大きい環境下で点灯した場合（例えば、画像表示装置を４５℃・相対湿度８０％の環境で１４日間保持した後に、２５℃・相対湿度６０％の環境に移し、黒表示状態で４時間点灯させた場合）には輝度ムラが発生したりすることが明らかになった。特に、寒冷地で０℃を下回る低温で保管された画像表示装置を使用するとバックライト点灯時の偏光板は６０℃を超える高温となり、消灯後後に再び０℃を下回る低温で保管されるなど、実際のユーザーが画像表示装置を使用することにより、バックライトの点灯・消灯が繰り返される。このバックライト点灯・消灯の繰り返しにより、偏光板は高温と低温のヒートサイクル環境に暴露されることになる。あるいは、日中の温湿度変化が高い環境下で実際のユーザーが画像表示装置を長時間使用することにより、点灯したままのバックライトの熱により高温で温湿度変化が繰り返される。この長時間の使用により、液晶パネルは高温で温湿度変化が繰り返される環境下に暴露されることとなる。特許文献５や６では初期状態や画像表示装置が１回のみ温湿度が変化した環境下に暴露した場合の検討しかしておらず、高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境や高温で温湿度変化が繰り返される環境下での性能に注目していなかった。
したがって、画像表示装置の偏光板に用いられる偏光子や保護フィルムが厚くて十分な力学強度を持っていることを前提とせずに、偏光子や保護フィルムの厚さや力学強度の大きさによらずに環境変化する環境下での画像表示装置の反りに起因する諸問題の発生を抑制できる新たな偏光板の設計方法を検討することが求められていた。
【００１０】
高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下では偏光板の反りだけではなく、偏光板割れが発生することを見出した。本発明が解決しようとする課題は画像表示装置に組み込んだ場合に高温で温湿度変化が繰り返される環境下での偏光板の端部剥がれを抑制でき、画像表示装置に組み込んだ場合に湿度変動が大きい環境下での輝度ムラを抑制でき、かつ高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下での偏光板割れを抑制できる偏光板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らが鋭意検討した結果、偏光子の薄手化が進み、偏光子の収縮力が低下している近年の偏光板では、従来のように画像表示装置の反りの原因となる収縮力が偏光子の収縮力だけではなく、保護フィルムの収縮力の寄与率を偏光板の設計に導入することが必須であることを見出した。
また、偏光子と偏光板との湿度寸法変化の差に由来して偏光子に発生する内部応力を、偏光板保護フィルムの剛性（偏光子の両面に偏光板保護フィルムを有する場合は偏光板保護フィルムの剛性の和）で割った値（後述の値Ｙまたは値ｙ）を小さくすることで、主に高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下での偏光板割れや、高温で温湿度変化が繰り返される環境下での画像表示装置の偏光板の端部剥がれを安定的に抑制できることを見出した。
また、偏光子の吸収軸に平行な方向における偏光子の収縮力と偏光板保護フィルムの収縮力の和の値（後述の値Ｘまたは値ｘ）を小さくすることで、主に高湿環境下に画像表示装置を長時間放置した後に画像表示装置を湿度変動が大きい環境下で点灯した場合に発生する輝度ムラを安定的に抑制できることを見出した。
以上より、これらの値を同時に小さくすることにより、上記課題を解決できる偏光板を提供できることがわかり、本発明の完成に至った。
【００１２】
上記課題を解決するための具体的な手段である本発明および本発明の好ましい態様は、以下のとおりである。
［１］  第２フィルム、第１フィルムおよび粘着材層をこの順で有し、
第１フィルムと粘着材層が直接接触し、
第１フィルムは偏光子であり、
第１フィルムの吸収軸方向と第２フィルムの弾性率が最大となる方向が平行であり、
下記式（１）から算出される値Ｘが１３５以下であり、
下記式（２）から算出される値Ｙが０．３０以下である偏光板；
式（１）：Ｘ＝Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//
式（２）：Ｙ＝（σ//＋σ⊥）／｛（Ｅ2//＋Ｅ2⊥）×ｄ2｝
式（２Ａ−１）：σ//＝｛Ｅ1//×ｄ1×｜εp//−ε1//｜｝
式（２Ａ−２）：εp//＝（Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//）／（Ｅ1//×ｄ1＋Ｅ2//×ｄ2）
式（２Ｂ−１）：σ⊥＝｛Ｅ1⊥×ｄ1×｜εp⊥−ε1⊥｜｝
式（２Ｂ−２）：εp⊥＝（Ｅ1⊥×ｄ1×ε1⊥＋Ｅ2⊥×ｄ2×ε2⊥）／（Ｅ1⊥×ｄ1＋Ｅ2⊥×ｄ2）
式中、
Ｅ1//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第１フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
Ｅ1⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第１フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
ｄ1は第１フィルムの膜厚を表し、単位はμｍであり；
ε1//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第１フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
ε1⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第１フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
Ｅ2//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第２フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
Ｅ2⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第２フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
ｄ2は第２フィルムの膜厚を表し、単位はμｍであり；
ε2//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第２フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
ε2⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第２フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。
［２］  第２フィルム、第１フィルムおよび第３フィルムをこの順で有し、
第１フィルムは偏光子であり、
第１フィルムの吸収軸方向と第２フィルムの弾性率が最大となる方向が平行であり、
第１フィルムの吸収軸方向と第３フィルムの弾性率が最大となる方向が平行であり、
下記式（３）から算出される値ｘが１３５以下であり、
下記式（４）から算出される値ｙが０．３０以下である偏光板；
式（３）：ｘ＝Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//＋Ｅ3//×ｄ3×ε3//
式（４）：ｙ＝（σ//＋σ⊥）／｛（Ｅ2//＋Ｅ2⊥）×ｄ2＋（Ｅ3//＋Ｅ3⊥）×ｄ3｝
式（４Ａ−１）：σ//＝｛Ｅ1//×ｄ1×｜εp//−ε1//｜｝
式（４Ａ−２）：εp//＝（Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//＋Ｅ3//×ｄ3×ε3//）／（Ｅ1//×ｄ1＋Ｅ2//×ｄ2＋Ｅ3//×ｄ3）
式（４Ｂ−１）：σ⊥＝｛（Ｅ1⊥×ｄ1×｜εp⊥−ε1⊥｜｝
式（４Ｂ−２）：εp⊥＝（Ｅ1⊥×ｄ1×ε1⊥＋Ｅ2⊥×ｄ2×ε2⊥＋Ｅ3⊥×ｄ3×ε3⊥）／（Ｅ1⊥×ｄ1＋Ｅ2⊥×ｄ2＋Ｅ3⊥×ｄ3）
式中、
Ｅ1//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第１フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
Ｅ1⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第１フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
ｄ1は第１フィルムの膜厚を表し、単位はμｍであり；
ε1//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第１フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
ε1⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第１フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
Ｅ2//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第２フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
Ｅ2⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第２フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
ｄ2は第２フィルムの膜厚を表し、単位はμｍであり；
ε2//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第２フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
ε2⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第２フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。
Ｅ3//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第３フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
Ｅ3⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第３フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
ｄ3は第３フィルムの膜厚を表し、単位はμｍであり；
ε3//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第３フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
ε3⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第３フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。
［３］  ［２］に記載の偏光板は、第２フィルムの膜厚ｄ2および第３フィルムの膜厚ｄ3が共に３５．０μｍ以下であることが好ましい。
［４］  ［２］または［３］に記載の偏光板は、第１フィルムと第３フィルムが直接接触することが好ましい。
［５］  ［１］〜［４］のいずれか一つに記載の偏光板は、第２フィルムと第１フィルムが直接接触することが好ましい。
［６］  ［１］〜［５］のいずれか一つに記載の偏光板は、第２フィルムの弾性率Ｅ2//を第２フィルムの弾性率Ｅ2⊥で除した値が１．２０以上であることが好ましい。
［７］  ［１］〜［５］のいずれか一つに記載の偏光板は、第２フィルムの弾性率Ｅ2//を第２フィルムの弾性率Ｅ2⊥で除した値が１．４０以上であることが好ましい。
［８］  ［１］〜［７］のいずれか一つに記載の偏光板は、第２フィルムの弾性率Ｅ2//が５．５〜１０．０ＧＰａであることが好ましい。
［９］  ［１］〜［８］のいずれか一つに記載の偏光板は、式（１）から算出される値Ｘまたは式（３）から算出される値ｘが１２０以下であることが好ましい。
［１０］  ［１］〜［９］のいずれか一つに記載の偏光板は、式（２）から算出される値Ｙまたは式（４）から算出される値ｙが０．２２以下であることが好ましい。
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれか一つに記載の偏光板は、第２フィルムの第１フィルムが積層された面とは反対側の面に、帯電防止層、硬化樹脂層、反射防止層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層から選ばれる機能性層を含むことが好ましい。
［１２］  ［１］〜［１１］のいずれか一つに記載の偏光板は、第２フィルムが、ポリマーとして少なくともセルロースアシレートを含有することが好ましい。
［１３］  ［１］〜［１２］のいずれか一つに記載の偏光板を含む画像表示装置。
【００１３】
以下の態様も本発明に含まれる。
［１０１］  少なくとも、偏光分離機能を有するフィルム（第１フィルム）の一方の面に、透明フィルム（第２フィルム）を有し、
第１フィルムの吸収軸方向と第２フィルムの音波伝播速度が最大となる方向を平行もしくは直交となるように積層し、
第１フィルムの膜厚をｄ１、第２フィルムの膜厚をｄ２とした場合、下記式（１）を満たし、且つｄ１が２５μｍ以下である偏光板。
式（１）  ０．５＜ｄ２  ／  ｄ１  ＜  ５．０
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、画像表示装置に組み込んだ場合に高温で温湿度変化が繰り返される環境下での偏光板の端部剥がれを抑制でき、画像表示装置に組み込んだ場合に湿度変動が大きい環境下での輝度ムラを抑制でき、かつ高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下での偏光板割れを抑制できる偏光板を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、代表的な実施形態や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は「〜」前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【００１６】
［偏光板］
本発明の偏光板の第１の態様は、第２フィルム、第１フィルムおよび粘着材層をこの順で有し、
第１フィルムと粘着材層が直接接触し、
第１フィルムは偏光子であり、
第１フィルムの吸収軸方向と第２フィルムの弾性率が最大となる方向が平行であり、
下記式（１）から算出される値Ｘが１３５以下であり、
下記式（２）から算出される値Ｙが０．３０以下である。
式（１）：Ｘ＝Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//
式（２）：Ｙ＝（σ//＋σ⊥）／｛（Ｅ2//＋Ｅ2⊥）×ｄ2｝
式（２Ａ−１）：σ//＝｛Ｅ1//×ｄ1×｜εp//−ε1//｜｝
式（２Ａ−２）：εp//＝（Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//）／（Ｅ1//×ｄ1＋Ｅ2//×ｄ2）
式（２Ｂ−１）：σ⊥＝｛Ｅ1⊥×ｄ1×｜εp⊥−ε1⊥｜｝
式（２Ｂ−２）：εp⊥＝（Ｅ1⊥×ｄ1×ε1⊥＋Ｅ2⊥×ｄ2×ε2⊥）／（Ｅ1⊥×ｄ1＋Ｅ2⊥×ｄ2）
本発明の偏光板の第２の態様は、第２フィルム、第１フィルムおよび第３フィルムをこの順で有し、
第１フィルムは偏光子であり、
第１フィルムの吸収軸方向と第２フィルムの弾性率が最大となる方向が平行であり、
第１フィルムの吸収軸方向と第３フィルムの弾性率が最大となる方向が平行であり、
下記式（３）から算出される値ｘが１３５以下であり、
下記式（４）から算出される値ｙが０．３０以下である。
式（３）：ｘ＝Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//＋Ｅ3//×ｄ3×ε3//
式（４）：ｙ＝（σ//＋σ⊥）／｛（Ｅ2//＋Ｅ2⊥）×ｄ2＋（Ｅ3//＋Ｅ3⊥）×ｄ3｝
式（４Ａ−１）：σ//＝｛Ｅ1//×ｄ1×｜εp//−ε1//｜｝
式（４Ａ−２）：εp//＝（Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//＋Ｅ3//×ｄ3×ε3//）／（Ｅ1//×ｄ1＋Ｅ2//×ｄ2＋Ｅ3//×ｄ3）
式（４Ｂ−１）：σ⊥＝｛（Ｅ1⊥×ｄ1×｜εp⊥−ε1⊥｜｝
式（４Ｂ−２）：εp⊥＝（Ｅ1⊥×ｄ1×ε1⊥＋Ｅ2⊥×ｄ2×ε2⊥＋Ｅ3⊥×ｄ3×ε3⊥）／（Ｅ1⊥×ｄ1＋Ｅ2⊥×ｄ2＋Ｅ3⊥×ｄ3）
式中、
Ｅ1//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第１フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
Ｅ1⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第１フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
ｄ1は第１フィルムの膜厚を表し、単位はμｍであり；
ε1//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第１フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
ε1⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第１フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
Ｅ2//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第２フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
Ｅ2⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第２フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
ｄ2は第２フィルムの膜厚を表し、単位はμｍであり；
ε2//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第２フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
ε2⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第２フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。
Ｅ3//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第３フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
Ｅ3⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第３フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａであり；
ｄ3は第３フィルムの膜厚を表し、単位はμｍであり；
ε3//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第３フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表し；
ε3⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第３フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。
これらのような構成により、本発明の偏光板は画像表示装置に組み込んだ場合に高温で温湿度変化が繰り返される環境下での偏光板の端部剥がれを抑制でき、画像表示装置に組み込んだ場合に湿度変動が大きい環境下での輝度ムラを抑制でき、かつ高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下での偏光板割れを抑制できる。特開２０１４−９５８８０号公報や特開２０１４−１６４１６９号公報では、高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下で画像表示装置を用いた場合の問題点に着目しておらず、上記式（１）〜（４）に関連する偏光板の設計について示唆していなかった。
【００１７】
＜偏光板の構成＞
まず、本発明の偏光板の好ましい構成を説明する。
本発明の偏光板は、本発明の偏光板の第１の態様も第２の態様も、少なくとも、偏光子（第１フィルム）の一方の面側に、第２フィルムを有する。
本発明の偏光板の第１の態様は、第２フィルム、第１フィルムおよび粘着材層をこの順で有し、第１フィルムと粘着材層が直接接触し、第１フィルムが偏光子であり、第１フィルムの吸収軸方向と第２フィルムの弾性率が最大となる方向が平行である。すなわち、本発明の偏光板の第１の態様は、偏光子（第１フィルム）の保護フィルムが１枚である構成の偏光板である。本発明の偏光板の第１の態様は、第２フィルムと第１フィルムが直接接触することが好ましい。第２フィルムと第１フィルムが直接接触するとは、第２フィルムと第１フィルムが接着剤または粘着材を介して積層する場合も含む。第２フィルムと第１フィルムの間に接着剤または粘着材以外の他の部材が含まれないことが好ましい。本発明の偏光板の第１の態様は、第２フィルムが透明であることが好ましい。
一方、本発明の偏光板の第２の態様は、第２フィルム、第１フィルムおよび第３フィルムをこの順で有し、第１フィルムが偏光子であり、第１フィルムの吸収軸方向と第２フィルムの弾性率が最大となる方向が平行であり、第１フィルムの吸収軸方向と第３フィルムの弾性率が最大となる方向が平行である。すなわち、本発明の偏光板の第２の態様は、偏光子（第１フィルム）の保護フィルムが２枚である構成の偏光板である。本発明の偏光板の第２の態様は、第２フィルムと第１フィルムが直接接触することが好ましい。さらに本発明の偏光板の第２の態様は、第１フィルムと第３フィルムが直接接触することが好ましい。第３フィルムと第１フィルムが直接接触するとは、第３フィルムと第１フィルムが接着剤または粘着材を介して積層する場合も含む。第３フィルムと第１フィルムの間に接着剤または粘着材以外の他の部材が含まれないことが好ましい。本発明の偏光板の第２の態様は、第２フィルムが透明であることが好ましい。本発明の偏光板の第２の態様は、第３フィルムが透明であることが好ましい。
【００１８】
＜値Ｘおよび値ｘ＞
本発明の偏光板の第１の態様は、式（１）から算出される値Ｘが１３５以下である。
式（１）：Ｘ＝Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//
本発明の偏光板の第２の態様は、式（３）から算出される値ｘが１３５以下である。
式（３）：ｘ＝Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//＋Ｅ3//×ｄ3×ε3//
本発明の偏光板は、式（１）から算出される値Ｘまたは式（３）から算出される値ｘが１２０以下であることが好ましく、６０〜１１８であることがより好ましい。
【００１９】
＜値Ｙおよび値ｙ＞
本発明の偏光板の第１の態様は、式（２）から算出される値Ｙが０．３０以下である。
式（２）：Ｙ＝（σ//＋σ⊥）／｛（Ｅ2//＋Ｅ2⊥）×ｄ2｝
式（２Ａ−１）：σ//＝｛Ｅ1//×ｄ1×｜εp//−ε1//｜｝
式（２Ａ−２）：εp//＝（Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//）／（Ｅ1//×ｄ1＋Ｅ2//×ｄ2）
式（２Ｂ−１）：σ⊥＝｛Ｅ1⊥×ｄ1×｜εp⊥−ε1⊥｜｝
式（２Ｂ−２）：εp⊥＝（Ｅ1⊥×ｄ1×ε1⊥＋Ｅ2⊥×ｄ2×ε2⊥）／（Ｅ1⊥×ｄ1＋Ｅ2⊥×ｄ2）
本発明の偏光板の第２の態様は、式（４）から算出される値ｙが０．３０以下である。
式（４）：ｙ＝（σ//＋σ⊥）／｛（Ｅ2//＋Ｅ2⊥）×ｄ2＋（Ｅ3//＋Ｅ3⊥）×ｄ3｝
式（４Ａ−１）：σ//＝｛Ｅ1//×ｄ1×｜εp//−ε1//｜｝
式（４Ａ−２）：εp//＝（Ｅ1//×ｄ1×ε1//＋Ｅ2//×ｄ2×ε2//＋Ｅ3//×ｄ3×ε3//）／（Ｅ1//×ｄ1＋Ｅ2//×ｄ2＋Ｅ3//×ｄ3）
式（４Ｂ−１）：σ⊥＝｛（Ｅ1⊥×ｄ1×｜εp⊥−ε1⊥｜｝
式（４Ｂ−２）：εp⊥＝（Ｅ1⊥×ｄ1×ε1⊥＋Ｅ2⊥×ｄ2×ε2⊥＋Ｅ3⊥×ｄ3×ε3⊥）／（Ｅ1⊥×ｄ1＋Ｅ2⊥×ｄ2＋Ｅ3⊥×ｄ3）
本発明の偏光板は、式（２）から算出される値Ｙまたは式（４）から算出される値ｙが０．２２以下であることが好ましく、０．１９以下であることがより好ましい。
偏光板は、式（２Ａ−１）または式（４Ａ−１）から算出されるσ//は技術的には第１フィルムと偏光板との湿度寸法変化の差に由来して第１フィルムに発生する内部応力のうち、第１フィルムの吸収軸方向の成分を意味するパラメータである。
偏光板は、式（２Ａ−２）または式（４Ａ−２）から算出されるεp//は技術的には偏光板の吸収軸方向の湿度寸法変化を意味するパラメータである。
偏光板は、式（２Ｂ−１）または式（４Ｂ−１）から算出されるσ⊥は技術的には第１フィルムと偏光板との湿度寸法変化の差に由来して第１フィルムに発生する内部応力のうち、第１フィルムの透過軸方向の成分を意味するパラメータである。
偏光板は、式（２Ｂ−２）または式（４Ｂ−２）から算出されるεp⊥は技術的には偏光板の透過軸方向の湿度寸法変化を意味するパラメータである。
【００２０】
＜粘着材層＞
粘着材層としては公知の粘着材により形成した層を用いることができ、例えば特開２００３−５０３１３号公報の［０００７］〜［００７９］に記載されている粘着層を使用することができる。
【００２１】
＜第１フィルム＞
第１フィルムは、偏光子である。
偏光子の湿度膨張係数は延伸温度、速度、倍率の調整で適宜制御できる。
また、第１フィルム（偏光子）としては、例えば、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬して延伸したもの等を用いることができる。ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬して延伸した第１フィルム（偏光子）を用いる場合、接着剤を用いて偏光子の片面または両面に第２フィルムまたは第３フィルムの表面処理面を直接貼り合わせることができる。第２フィルムまたは第３フィルムが第１フィルム（偏光子）と直接貼合されていることが好ましい。接着剤としては、ポリビニルアルコール又はポリビニルアセタール（例えば、ポリビニルブチラール）の水溶液や、ビニル系ポリマー（例えば、ポリブチルアクリレート）のラテックスを用いることができる。特に好ましい接着剤は、完全鹸化ポリビニルアルコールの水溶液である。
【００２２】
第１フィルムの膜厚ｄ１は２５μｍ以下であることが好ましく、０．０１〜２３μｍがより好ましく、１〜２０μｍが特に好ましく、５〜１８μｍがさらに特に好ましい。
【００２３】
第２フィルムの膜厚をｄ２とした場合、ｄ２／ｄ１は０．５〜５．０であることが好ましく、０．７〜４．０がより好ましく、０．８〜３．０が特に好ましく、１．０〜２．５がさらに特に好ましい。
第３フィルムの膜厚をｄ３とした場合、ｄ３／ｄ１は０．５〜５．０であることが好ましく、０．７〜４．０がより好ましく、０．８〜３．０が特に好ましく、１．０〜２．５がさらに特に好ましい。
【００２４】
Ｅ1//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第１フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａである。第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向は、第１フィルムの音波伝播速度が最大となる方向と平行であることが好ましい。第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第１フィルムの弾性率は、１０．０〜４０．０ＧＰａが好ましく、２０．０〜３０．０ＧＰａがより好ましく、２１．０〜３０．０ＧＰａがさらに好ましい。
Ｅ1⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第１フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａである。第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第１フィルムの弾性率は、２．５〜１０．０ＧＰａが好ましく、３．０〜７．５ＧＰａがより好ましく、３．５〜６．０ＧＰａがさらに好ましい。
ε1//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第１フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。ε1//は０．０１〜０．３８％が好ましく、０．０５〜０．３０％がより好ましく、０．０７〜０．２０％が特に好ましく、０．０７〜０．１４％がより特に好ましい。
ε1⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第１フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。ε1⊥は１．００〜２．００％が好ましく、１．２０〜１．８０％がより好ましく、１．４０〜１．６０％が特に好ましい。
【００２５】
本発明において、第１フィルムの吸収軸方向と平行または直交とは、第１フィルムの吸収軸方向と平行または直交方向に対して±１０°の角度範囲内であることを意味し、±５°の角度範囲であることが好ましく、±１°の角度であることがより好ましい。
【００２６】
本発明において、音波伝播速度が最大方向とは、音速伝播方向が最大方向に対して±１０°の角度範囲にあることを意味し、±５°の角度で交わっていることが好ましく、±１°の角度で交わっていることがより好ましい。
音波伝播速度が最大方向と直交する方向とは、音速伝播方向が最大方向に対して９０°±１０°の角度で交わっていることを意味し、９０°±５°の角度で交わっていることが好ましく、９０°±１°の角度で交わっていることがより好ましい。
【００２７】
＜第２フィルムおよび第３フィルム＞
第２フィルムおよび第３フィルムは、本発明の偏光板の偏光板保護フィルムとして用いることができる。本発明の偏光板の第１の態様は、第１フィルムである偏光子とその一方の表面を保護する一枚の偏光板保護フィルム（光学フィルム）および偏光子の他の一方の表面に直接接触する粘着材層を含み、第２フィルムは偏光板保護フィルムとして用いることが特に好ましい。本発明の偏光板の第２の態様は、偏光子とその両面を保護する二枚の偏光板保護フィルム（光学フィルム）を含み、第２フィルムおよび第３フィルムは少なくとも一方の偏光板保護フィルムとして用いることが特に好ましい。
第２フィルムおよび第３フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合、第２フィルムおよび第３フィルムには表面処理（特開平６−９４９１５号公報、同６−１１８２３２号公報にも記載）を施して親水化しておくことが好ましく、例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、又は、アルカリ鹸化処理などを施すことが好ましい。表面処理としてはアルカリ鹸化処理が最も好ましく用いられる。
（第２フィルムおよび第３フィルムの特性）
−第２フィルムおよび第３フィルムの膜厚−
第２フィルムおよび第３フィルムの膜厚は特に制限は無く、例えば１〜８０μｍとすることができる。本発明の偏光板は、第２フィルムの膜厚ｄ2および第３フィルムの膜厚ｄ3が共に３５．０μｍ以下であることが好ましく、３０．０以下であることが、第２フィルムおよび第３フィルムが薄膜である場合も高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下での偏光板割れが抑制され、画像表示装置に組み込んだ場合に高温で温湿度変化が繰り返される環境下での偏光板の端部剥がれを抑制でき、画像表示装置に組み込んだ場合に湿度変動が大きい環境下での輝度ムラを抑制できる観点から、より好ましい。
【００２８】
−弾性率−
Ｅ2//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第２フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａである。第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向は、第２フィルムの音波伝播速度が最大となる方向と平行であることが好ましい。第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第２フィルムの弾性率は、５．５〜１０．０ＧＰａが好ましく、５．７〜７．５ＧＰａがより好ましく、５．９〜７．０ＧＰａがさらに好ましい。
Ｅ2⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第２フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａである。第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第２フィルムの弾性率は、２．５〜１０．０ＧＰａが好ましく、３．０〜７．５ＧＰａがより好ましく、３．５〜６．０ＧＰａがさらに好ましい。
【００２９】
本発明の偏光板は、第２フィルムの弾性率Ｅ2//を第２フィルムの弾性率Ｅ2⊥で除した値（Ｅ2//／Ｅ2⊥）が１．２０以上であることが高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下での偏光板割れが抑制され、画像表示装置に組み込んだ場合に高温で温湿度変化が繰り返される環境下での偏光板の端部剥がれを抑制でき、画像表示装置に組み込んだ場合に湿度変動が大きい環境下での輝度ムラを抑制できる観点から、好ましく、１．４０以上であることがより好ましく、１．５０以上であることが特に好ましい。
【００３０】
Ｅ3//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第３フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａである。第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第３フィルムの弾性率は、５．５〜１０．０ＧＰａが好ましく、５．７〜７．５ＧＰａがより好ましく、３．５〜６．０ＧＰａがさらに好ましい。
Ｅ3⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第３フィルムの弾性率を表し、単位はＧＰａである。第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第３フィルムの弾性率は、１．２〜５．５ＧＰａが好ましく、１．５〜５．０ＧＰａがより好ましく、２．０〜４．５ＧＰａがさらに好ましい。
【００３１】
−湿度寸法変化率−
ε2//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第２フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。ε2//は０．０１〜０．３８％が好ましく、０．０５〜０．３０％がより好ましく、０．０７〜０．２８％が特に好ましく、０．０９〜０．２０％がより特に好ましい。
ε2⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第２フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。ε2⊥は０．１３〜０．８０％が好ましく、０．２０〜０．７０％がより好ましく、０．３０〜０．６５％が特に好ましく、０．４５〜０．６０％がより特に好ましい。
ε3//は第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における第３フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。ε3//は０．０１〜０．３８％が好ましく、０．０５〜０．３０％がより好ましく、０．０７〜０．２８％が特に好ましく、０．０９〜０．２０％がより特に好ましい。
ε3⊥は第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における第３フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率を表す。ε3⊥は０．１３〜０．８０％が好ましく、０．２０〜０．７０％がより好ましく、０．３０〜０．６５％が特に好ましく、０．４５〜０．６０％がより特に好ましい。
第２フィルムまたは第３フィルムを延伸することなどによって湿度寸法変化率を制御することができる。
【００３２】
−第２フィルムおよび第３フィルムの平衡含水率−
第２フィルムおよび第３フィルムの含水率（平衡含水率）は特に限定されることはないが、偏光板の保護フィルムとして用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃、相対湿度８０％における含水率が、０〜４質量％であることが好ましい。０．１〜３．５質量％であることがより好ましく、１〜３質量％であることが特に好ましい。平衡含水率が４質量％以下であれば、位相差フィルムの支持体として用いる際に、レタデーションの湿度変化による依存性が大きくなりすぎることがなく好ましい。
含水率の測定法は、第２フィルムおよび第３フィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置“ＣＡ−０３”及び“ＶＡ−０５”｛共に三菱化学（株）製｝にてカー
ルフィッシャー法で測定した。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出した。
【００３３】
−第２フィルムおよび第３フィルムの透湿度−
第２フィルムおよび第３フィルムの透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８をもとに、４０℃、相対湿度９０％の条件において測定される。第２フィルムの透湿度は特に限定されることはないが、５０〜１５００ｇ／（ｍ2・２４ｈ）であることが好ましい。１００〜１０００ｇ／（ｍ2・２４ｈ）であることがより好ましく、２００〜８００ｇ／（ｍ2・２４ｈ）であることが特に好ましい。透湿度がこの範囲であれば、偏光板加工性と、湿度若しくは湿熱に対する偏光板の耐久性とを両立することができ、好ましい。また、偏光子を挟んで第２フィルムの対向側に使われる第３フィルムの透湿度は特に限定されることはないが、低いほうが好ましく、３〜１０００ｇ／（ｍ2・２４ｈ）以下であることが好ましく、５〜５００ｇ／（ｍ2・２４ｈ）であることがより好ましく、１０〜１００ｇ／（ｍ2・２４ｈ）であることがさらに好ましく、１０〜５０ｇ／（ｍ2・２４ｈ）であることが特に好ましい。この範囲であれば、偏光板加工性と、湿度若しくは湿熱に対する偏光板の耐久性とを両立したり、画像表示装置の反りをさらに効果的に改良したりすることができる。
【００３４】
−第２フィルムおよび第３フィルムのヘイズ−
第２フィルムおよび第３フィルムのヘイズは、小さいほうが好ましく、０．０１〜２．０％であることが好ましい。より好ましくは１．０％以下、更に好ましくは０．５％以下である。ヘイズの測定は、第２フィルムおよび第３フィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨでヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）などを用いて、ＪＩＳ  Ｋ−６７１４に従って測定することができる。
【００３５】
−レタデーション−
第２フィルムおよび第３フィルムは、波長５９０ｎｍで測定したＲｅ及びＲｔｈ（下記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）にて定義される）を、用途に応じて適切に調整することが重要であり、この値は、第２フィルムおよび第３フィルムを構成するポリマーの化学構造（例えば、セルロースエステルであれば置換基の種類や置換度）、前述の繰り返し単位を有する化合物の種類や添加量、フィルムの膜厚、製膜時の工程条件、延伸工程などにより制御することができる。
第２フィルムおよび第３フィルムのレタデーションを低減させ、例えば、ＩＰＳモードの液晶表示装置の偏光板保護フィルムの用途で使用する場合には、視認側偏光板のフロント側（視認側）保護フィルムとして用いられる第２フィルムと、視認側偏光板のリア側（バックライト側）保護フィルムとして用いられる第３フィルムは、いずれも下記式（ＩＩＩａ）及び（ＩＶａ）を満たすことが好ましく、更に保護フィルムとして用いられる光学フィルムを支持体として、後述の機能層を設けることもできる。これにより、例えば、液晶表示装置の表示画面のコントラストを向上させたり、視野角特性や色味を改善したりすることができる。
式（Ｉ）  Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ＩＩ）  Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
式（ＩＩＩａ）  Ｒｅ＜３０ｎｍ
式（ＩＶａ）  ｜Ｒｔｈ｜＜８０ｎｍ
（式中、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）である。）
この場合、面内の遅相軸の方位は特に限定されないが、面内でフィルムの弾性率が最大となる方位に対して略並行若しくは略直交であることが好ましい。第２フィルムおよび第３フィルムは、いずれもＲｅが０〜２０ｎｍであることがより好ましく、Ｒｔｈは−２０〜６０ｎｍであることがより好ましい。
また第３フィルムにおいては、Ｒｅが０〜１０ｎｍであることが更に好ましく、Ｒｔｈが−１０〜２０ｎｍであることが更に好ましい。第３フィルムを液晶表示装置の偏光板の液晶セル側保護フィルムとして用いる場合に、Ｒｅ及びＲｔｈが上記範囲にあると、斜め方向からの光漏れがより改良され、表示品位を向上させることができる。本態様は液晶セルとフィルムとが直接光学補償しないＩＰＳ型液晶表示装置において、特に好ましく用いることができる。
【００３６】
なお、Ｒｅ及びＲｔｈは次のようにして測定できる。
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈ（単位；ｎｍ）は次の方法に従って求めたものである。まず、フィルムを２５℃、相対湿度６０％にて２４時間調湿後、プリズムカップラー（ＭＯＤＥＬ２０１０  Ｐｒｉｓｍ  Ｃｏｕｐｌｅｒ：Ｍｅｔｒｉｃｏｎ製）を用い、２５℃、相対湿度６０％において、５３２ｎｍの固体レーザーを用いて下記式（Ｂ）で表される平均屈折率（ｎ）を求め、後述の方法でＲｅ、Ｒｔｈを求める。
式（Ｂ）：  ｎ＝（ｎTE×２＋ｎTM）／３
［式中、ｎTEはフィルム平面方向の偏光で測定した屈折率であり、ｎTMはフィルム面法線方向の偏光で測定した屈折率である。］
本明細書において、Ｒｅ（λｎｍ）、Ｒｔｈ（λｎｍ）は各々、波長λ（単位；ｎｍ）における面内レタデーション及び厚さ方向のレタデーションを表す。Ｒｅ（λｎｍ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが一軸又は二軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λｎｍ）は算出される。
Ｒｔｈ（λｎｍ）はＲｅ（λｎｍ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、λに関する記載が特になく、Ｒｅ、Ｒｔｈとのみ記載されている場合は、波長５９０ｎｍの光を用いて測定した値のことを表す。また、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレタデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレタデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレタデーション値を測定し、その値と平均屈折率及び入力された膜厚値を基に、以下の式（３）及び式（４）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００３７】
式（３）
【数１】
2015215605.tif 000002
【００３８】
［式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレタ−デーション値を表す。また、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する厚み方向の屈折率を表し、ｄはフィルムの膜厚を表す。］
【００３９】
式（４）：  Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
測定されるフィルムが一軸や二軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λｎｍ）は算出される。
Ｒｔｈ（λｎｍ）はＲｅ（λｎｍ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。これら平均屈折率と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００４０】
−レタデーションの湿度依存性−
Ｒｅの湿度依存性（ΔＲｅ）及びＲｔｈの湿度依存性（ΔＲｔｈ）は、相対湿度がＨ（単位；％）であるときの面内方向及び膜厚方向のレタデーション値：Ｒｅ（Ｈ％）及びＲｔｈ（Ｈ％）から、下記式に基づいて算出される。
ΔＲｅ＝Ｒｅ（１０％）−Ｒｅ（８０％）
ΔＲｔｈ＝Ｒｔｈ（１０％）−Ｒｔｈ（８０％）
Ｒｅ（Ｈ％）及びＲｔｈ（Ｈ％）は、フィルムを２５℃、相対湿度６０％にて２４時間調湿後、２５℃、相対湿度６０％において、粘着材を介してガラス板に貼合する。これを６０℃、相対湿度９０％にて４８時間調湿後、２５℃、相対湿度Ｈ％にて２４時間調湿した後に、２５℃、相対湿度Ｈ％において、前述の方法と同様にして、相対湿度Ｈ％における測定波長が５９０ｎｍであるときのレタデーション値を測定、算出したものである。なお、相対湿度を明記せずに単にＲｅと表記されている場合は、前述の相対湿度６０％にて測定した値を表す。
第２フィルムおよび第３フィルムの湿度を変化させた場合のレタデーション値は、以下の関係式を満たすことが好ましい。
｜ΔＲｅ｜＜３０ｎｍ、かつ、
｜ΔＲｔｈ｜＜３０ｎｍ
また以下の関係式を満たすことがより好ましい。
｜ΔＲｅ｜＜１５ｎｍ、かつ、
｜ΔＲｔｈ｜＜１５ｎｍ
また以下の関係式を満たすことが更に好ましい。
｜ΔＲｅ｜＜１０ｎｍ、かつ、
｜ΔＲｔｈ｜＜１０ｎｍ
また以下の関係式を満たすことが最も好ましい。
｜ΔＲｅ｜＜５ｎｍ、かつ、
｜ΔＲｔｈ｜＜５ｎｍ
上記湿度を変化させた場合のレタデーション値を制御することにより、外部環境が変化した場合のレタデーション変化を低下させることができ、信頼性の高い液晶表示装置を提供することができる。また、第２フィルムおよび第３フィルムのΔＲｔｈを低減させることによって、特定の条件で液晶表示装置を表示面の斜めから観察した際に視認される円形状の色ムラが改善されるという好ましい効果も得られる。また、第２フィルムおよび第３フィルムを液晶表示装置に３Ｄ表示機能を付与する効果を有するフィルムと偏光子との間に配置すると、３Ｄ表示時のクロストーク改善にも好ましい効果もある。ΔＲｅやΔＲｔｈを効果的に低減させるために、前述の湿度依存性低減剤を併用することも好ましい。
【００４１】
−光弾性係数−
第２フィルムおよび第３フィルムを偏光板保護フィルムとして使用した場合には、偏光子の収縮による応力などにより複屈折（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が変化する場合がある。このような応力に伴う複屈折の変化は光弾性係数として測定できるが、その範囲は、１５×１０12Ｐａ-1以下（１５Ｂｒ以下）であることが好ましく、−５×１０12Ｐａ-1〜１２×１０12Ｐａ-1であることがより好ましく、−２×１０12Ｐａ-1〜１１×１０12Ｐａ-1であることが更に好ましい。
【００４２】
−アルカリ鹸化処理による光学フィルム表面の接触角−
第２フィルムおよび第３フィルムがセルロースアシレートを含む場合は￥、偏光板保護フィルムとして用いる場合の表面処理の有効な手段の１つとしてアルカリ鹸化処理が挙げられる。この場合、アルカリ鹸化処理後の第２フィルムおよび第３フィルム表面の接触角が５５°以下であることが好ましい。より好ましくは５０°以下であり、４５°以下であることが更に好ましい。
【００４３】
−ガラス転移温度−
ガラス転移温度は、第２フィルムおよび第３フィルムを構成するポリマーの運動性が大きく変化する境界温度である。本発明におけるガラス転移温度は、示差走査熱量測定装置（ＤＳＣ）の測定パンに第２フィルムおよび第３フィルムを２０ｍｇ入れ、これを窒素気流中で１０℃／分で３０℃から１２０℃まで昇温し、１５分間保持した後、３０℃まで−２０℃／分で冷却し、この後、再度３０℃から２５０℃まで昇温し、ベースラインが低温側から変化し始める温度として求めることができる。第２フィルムおよび第３フィルムのＴｇは、１００〜２３０℃であることが好ましく、１１０〜２００℃がより好ましく、１１５〜１８０℃であることがさらに好ましい。Ｔｇが１００℃以上であると、画像表示装置が高温下に晒された場合に偏光板の収縮が抑制されるため、例えば、画像表示装置が反って光漏れ故障を引き起こすことがなくなるため好ましい。また、偏光板が高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下に晒された場合でも偏光板の収縮が抑制され、偏光板割れが抑制されるため好ましい。一方、Ｔｇが２３０℃以下であると、フィルムを延伸する際の加熱温度を実用特性上、問題にならない温度に抑制することができるため、例えば、フィルムの着色を抑制することができ好ましい。逆に、工業的に無理のない延伸温度でも、均一に延伸することが可能となるため、フィルムにクレーズのような欠陥が発生することがなくなり、例えば、フィルムのヘイズを抑制したり、脆性を向上させたりすることができるため好ましい。なお、フィルムに残留溶媒が含まれている場合、Ｔｇは低下する。
【００４４】
（第２フィルムおよび第３フィルムの組成）
−ポリマー−
第２フィルムおよび第３フィルムに使用するポリマーとして、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきた、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、セルロースエステルという）を好ましく用いることが出来る。
以下にセルロースエステルについて詳細を説明する。
【００４５】
−−セルロースエステル−−
第２フィルムおよび第３フィルムはセルロースエステルを含むことが好ましい。
第２フィルムおよび第３フィルムはセルロースエステルを含み、セルロースエステル含有率が３０〜９９質量％であることが好ましく、４０〜９０質量％であることがより好ましく、５０〜８０質量％であることが更に好ましく、このことにより、偏光板加工性に優れたフィルムを製造することができる。
第２フィルムおよび第３フィルムに用いられるセルロースエステルは、原料のセルロースと酸とのエステルである。本発明の偏光板は、第２フィルムが、ポリマーとして少なくともセルロースアシレートを含有することが好ましい。セルロースアシレートは、炭素数２〜２２程度のカルボン酸エステルであることが好ましく、炭素数６以下の低級脂肪酸エステルであることがより好ましい。セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の置換度の測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じた方法や、ＮＭＲ法を挙げることができる。そして、炭素数２〜２２程度のセルロースアシレートである場合には、繰り返し単位を有する縮合物を用い、特に炭素数２のセルロースアセテートである場合には、これに加え、繰り返し単位を有する付加物も好ましく用いることによって液晶表示装置の輝度ムラを改善することができる。
セルロースエステルの原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースエステルでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、特に限定されるものではない。
【００４６】
第２フィルムおよび第３フィルムに用いられるセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、偏光板保護フィルム、光学フィルムの用途に用いる場合、フィルムに適度な透湿性や吸湿性を付与するため、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．００〜３．００であることが好ましい。更には置換度が２．３０〜２．９８であることが好ましく、２．７０〜２．９６であることがより好ましく、２．８０〜２．９４であることが更に好ましい。また、フィルム表面から１μｍの領域に含まれるセルロースアシレートのアシル置換度（ＤＳｓ）と、光学フィルムの厚み方向中心から１μｍの領域に含まれるセルロースアシレートのアシル置換度（ＤＳｃ）とは、ＤＳｓ≦ＤＳｃの関係を満たすことが好ましい。ＤＳｓは、例えば、フィルム表面から１μｍの領域をカミソリ刃等で削り出し、得られた粉を公知の方法で測定することができ、ＤＳｃは、同じくフィルムを厚み方向中心まで削り出し（例えば、５０μｍのフィルムであれば、２５μｍまで削り出した後に、さらに１μｍの領域を削り出す）、測定することができる。
【００４７】
セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でも芳香族基でもよく特に限定されず、単一でも二種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれ更に置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。
【００４８】
これらの中でも、合成の容易さ、コスト、置換基分布の制御のしやすさなどの観点から、アセチル基、アセチル基とプロピル基の混合エステルが好ましく、アセチル基が特に好ましい。
【００４９】
第２フィルムおよび第３フィルムに好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になる傾向がある。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう傾向がある。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８に詳細に記載されている。
【００５０】
また、第２フィルムおよび第３フィルムに好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜４．０であることが好ましく、２．０〜３．５であることが更に好ましく、２．３〜３．４であることが最も好ましい。
【００５１】
第２フィルムおよび第３フィルムに用いられるセルロースアシレートに関しては、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。
【００５２】
セルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布などの観点で、単一あるいは異なる二種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。
【００５３】
−可塑剤−
第２フィルムおよび第３フィルムに用いられるセルロースアシレートフィルムは、可塑剤を少なくとも１種含むことが好ましい。
可塑剤は、ポリマー鎖の凝集を抑制すると推定され、ヘイズや脆性の観点での性質を改善するのに寄与すると考えられる。
可塑剤の含有量は、フィルム粘弾性の観点から、セルロースアシレート１００質量部に対して、５質量部以上２５質量部以下が好ましく、６質量部以上２０質量部以下がより好ましい。
可塑剤として偏光板保護フィルム用の公知の可塑剤を用いることができる。例えば、リン酸エステル化合物を用いることができる。リン酸エステル化合物としては、特開２００５−１０４１４８号公報の０１９８段落、特開２００５−４１９１１号公報の００２４段落〜００２７段落、特開２００５−１５４４８３号公報の００２１段落〜００２７段落等に記載のものを用いることができ、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【００５４】
−−糖エステル化合物−−
可塑剤として、従来よりセルロースアシレートフィルムに用いられている種々のラノース構造単位を含むことが好ましく、全ての糖残基がピラノース構造単位またはフラノース構造単位であることがより好ましい。また、糖エステルが多糖から構成される場合は、ピラノース構造単位またはフラノース構造単位をともに含むことが好ましい。
【００５５】
糖エステル化合物の糖残基は、５単糖由来であっても６単糖由来であってもよいが、６単糖由来であることが好ましい。
【００５６】
糖エステル化合物中に含まれる構造単位の数は、１〜１２であることが好ましく、１〜６であることがより好ましく、１または２であることが特に好ましい。
【００５７】
糖エステル化合物はヒドロキシル基の少なくとも１つがエステル化されたピラノース構造単位またはフラノース構造単位を１個〜１２個含む糖エステル化合物であることがより好ましく、ヒドロキシル基の少なくとも１つがエステル化されたピラノース構造単位またはフラノース構造単位を１または２個含む糖エステル化合物であることがより好ましい。
【００５８】
単糖または２〜１２個の単糖単位を含む糖類の例としては、例えば、エリトロース、トレオース、リボース、アラビノース、キシロース、リキソース、アロース、アルトロース、グルコース、フルクトース、マンノース、グロース、イドース、ガラクトース、タロース、トレハロース、イソトレハロース、ネオトレハロース、トレハロサミン、コウジビオース、ニゲロース、マルトース、マルチトール、イソマルトース、ソホロース、ラミナリビオース、セロビオース、ゲンチオビオース、ラクトース、ラクトサミン、ラクチトール、ラクツロース、メリビオース、プリメベロース、ルチノース、シラビオース、スクロース、スクラロース、ツラノース、ビシアノース、セロトリオース、カコトリオース、ゲンチアノース、イソマルトトリオース、イソパノース、マルトトリオース、マンニノトリオース、メレジトース、パノース、プランテオース、ラフィノース、ソラトリオース、ウンベリフェロース、リコテトラオース、マルトテトラオース、スタキオース、マルトペンタオース、ベルバスコース、マルトヘキサオース、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、δ−シクロデキストリン、キシリトール、ソルビトールなどを挙げることができる。
【００５９】
好ましくは、リボース、アラビノース、キシロース、リキソース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、トレハロース、マルトース、セロビオース、ラクトース、スクロース、スクラロース、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、δ−シクロデキストリン、キシリトール、ソルビトールであり、さらに好ましくは、アラビノース、キシロース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、マルトース、セロビオース、スクロース、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリンであり、特に好ましくは、キシロース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、マルトース、セロビオース、スクロース、キシリトール、ソルビトールである。
【００６０】
第２フィルムおよび第３フィルムに用いられる糖エステル化合物は、用いられる置換基を含め、下記一般式（１Ａ）で表される構造を有することがより好ましい。
一般式（１Ａ）  （ＯＨ）p−Ｇ−（Ｌ1−Ｒ11）q（Ｏ−Ｒ12）r
一般式（１Ａ）中、Ｇは糖残基を表し、Ｌ1は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ13−のいずれか一つを表し、Ｒ11は水素原子または一価の置換基を表し、Ｒ12はエステル結合で結合した一価の置換基を表し、Ｒ13は水素原子または一価の置換基を表す。ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立に０以上の整数を表し、ｐ＋ｑ＋ｒはＧが環状アセタール構造の無置換の糖類であると仮定した場合のヒドロキシル基の数と等しい。
【００６１】
Ｇの好ましい範囲は、糖残基の好ましい範囲と同様である。
【００６２】
Ｌ1は、−Ｏ−または−ＣＯ−であることが好ましく、−Ｏ−であることがより好ましい。Ｌ1が−Ｏ−である場合は、エーテル結合またはエステル結合由来の連結基であることが特に好ましく、エステル結合由来の連結基であることがより特に好ましい。
また、Ｌ1が複数ある場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００６３】
Ｒ11およびＲ12の少なくとも一方は芳香環を有することが好ましい。
【００６４】
特に、Ｌ1が−Ｏ−である場合（すなわち糖エステル化合物中のヒドロキシル基にＲ11、Ｒ12が置換している場合）、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリール基、あるいは、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアミノ基の中から選択されることが好ましく、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、あるいは置換または無置換のアリール基であることがより好ましく、無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、あるいは、無置換のアリール基であることが特に好ましい。
また、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13がそれぞれ複数ある場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００６５】
ｐは０以上の整数を表し、好ましい範囲は後述する単糖ユニット当たりのヒドロキシル基の数の好ましい範囲と同様である。
ｒはＧに含まれるピラノース構造単位またはフラノース構造単位の数よりも大きい数を表すことが好ましい。
ｑは０であることが好ましい。
また、ｐ＋ｑ＋ｒはＧが環状アセタール構造の無置換の糖類であると仮定した場合のヒドロキシル基の数と等しいため、ｐ、ｑおよびｒの上限値はＧの構造に応じて一意に決定される。
【００６６】
糖エステル化合物の置換基の好ましい例としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、２−シアノエチル基、ベンジル基など）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２のアリール基、例えば、フェニル基、ナフチル基）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアシル基、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、トルイル基、フタリル基など）、アミド基（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアミド、例えばホルムアミド基、アセトアミド基など）、イミド基（好ましくは炭素数４〜２２、より好ましくは炭素数４〜１２、特に好ましくは炭素数４〜８のアミド基、例えば、スクシイミド基、フタルイミド基など）を挙げることができる。その中でも、アルキル基またはアシル基がより好ましく、メチル基、アセチル基、ベンゾイル基がより好ましく、さらにその中でもベンゾイル基が特に好ましい。
【００６７】
また、糖エステル化合物中の構造単位当たりのヒドロキシル基の数（以下、ヒドロキシル基含率とも言う）は、３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１または２であることが特に好ましい。ヒドロキシル基含率を範囲に制御することにより、高温高湿経時における糖エステル化合物の偏光子層への移動およびＰＶＡ−ヨウ素錯体の破壊を抑制でき、高温高湿経時における偏光子性能の劣化を抑制する点から好ましい。
【００６８】
糖エステル化合物の入手方法としては、市販品として（株）東京化成製、アルドリッチ製等から商業的に入手可能であり、もしくは市販の炭水化物に対して既知のエステル誘導体化法（例えば、特開平８−２４５６７８号公報に記載の方法）を行うことにより合成可能である。
【００６９】
糖エステル化合物は、数平均分子量が、好ましくは２００〜３５００、より好ましくは２００〜３０００、特に好ましくは２５０〜２０００の範囲が好適である。
【００７０】
以下に、第２フィルムおよび第３フィルムに好ましく用いることができる糖エステル化合物の具体例を挙げるが、本発明は以下の態様に限定されるものではない。
【００７１】
糖エステル化合物（１）：
【００７２】
【化１】
2015215605.tif 000003
糖エステル化合物（１）におけるＲ3の平均置換度は４〜８であることが好ましく、６〜８であること、すなわち後述の可塑剤Ｂ−１またはＤ−１がより好ましい。糖エステル化合物（１）におけるＲ3の平均置換度は６または７であることが特に好ましく、６であること、すなわち後述の可塑剤Ｂ−１がより特に好ましい。
【００７３】
糖エステル化合物（２）：Ａｃはアセチル基を表す。
【００７４】
【化２】
2015215605.tif 000004
【００７５】
糖エステル化合物（３）：
【００７６】
【化３】
2015215605.tif 000005
【００７７】
糖エステル化合物（４）：Ｂｚは、ベンゾイル基を表す。
【００７８】
【化４】
2015215605.tif 000006
【００７９】
以下の構造式中、Ｒはそれぞれ独立に任意の置換基を表し、複数のＲは同一であっても、異なっていてもよい。以下の構造において、置換基１、２はそれぞれ任意のＲを表す。また、置換度は、Ｒが置換基で表される数を表す。「なし」はＲが水素原子であることを表す。
ＣｌｏｇＰ値とは、１−オクタノールと水への分配係数Ｐの常用対数ｌｏｇＰを計算によって求めた値である。ＣｌｏｇＰ値の計算には、Ｄａｙｌｉｇｈｔ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社のシステム：ＰＣＭｏｄｅｌｓに組み込まれたＣＬＯＧＰプログラムを用いた。
【００８０】
【化５】
2015215605.tif 000007
【００８１】
【表１】
2015215605.tif 000008
【００８２】
【化６】
2015215605.tif 000009
【００８３】
【表２】
2015215605.tif 000010
【００８４】
【化７】
2015215605.tif 000011
【００８５】
【表３】
2015215605.tif 000012
【００８６】
【化８】
2015215605.tif 000013
【００８７】
【表４】
2015215605.tif 000014
【００８８】
糖エステル化合物は、セルロースアシレート１００質量部に対し２質量部〜３０質量部含有することが好ましく、５質量部〜２０質量部含有することがより好ましい。
また、ポリエステル系可塑剤を糖エステル化合物と併用する場合は、ポリエステル系可塑剤の添加量（質量部）に対する糖エステル化合物の添加量（質量部）は、０．５〜１０倍（質量比）加えることが好ましく、０．５〜８倍（質量比）加えることがより好ましい。
【００８９】
−−繰り返し単位を有する化合物−−
第２フィルムおよび第３フィルムには、可塑剤として、繰り返し単位を有する化合物も使用することができる。
【００９０】
繰り返し単位を有する化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、６００〜５０００であることが好ましく、６００〜３０００であることがより好ましく、６５０〜２３００が更に好ましく、７００〜１８００が最も好ましい。繰り返し単位を有する化合物の数平均分子量は６００以上であれば揮発性が低くなり、第２フィルムおよび第３フィルムを製膜したり、延伸したりした時の高温条件下における揮散によるフィルム故障や工程汚染を生じにくくなると同時に、数平均分子量を上昇させることによって湿熱環境下で保持した場合のレタデーション変化を抑制することができる。また、５０００以下であれば第２フィルムおよび第３フィルムを構成するポリマーとの相溶性を確保することができブリードアウトが生じにくくなる。ただし、本発明における繰り返し単位を有する化合物は、このような繰り返し単位部分を有する化合物のみからなるものに限定されることはなく、繰り返し単位を有さない化合物との混合物であってもよい。
繰り返し単位を有する化合物の数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定、評価することができる。
また、繰り返し単位を有する化合物は使用する環境温度あるいは湿度下で（一般には室温状況、所謂２５℃、相対湿度６０％）、液体であっても固体であってもよい。また、その色味は少ないほど良好であり特に無色であることが好ましい。熱的にはより高温において安定であることが好ましく、分解開始温度が１５０℃以上、更に２００℃以上が好ましい。
以下、第２フィルムおよび第３フィルムに用いられる繰り返し単位を有する化合物について、その具体例を挙げながら詳細に説明するが、本発明で用いることができる繰り返し単位を有する化合物はこれらに限定されるものではない。
【００９１】
−−−繰り返し単位を有する化合物の種類−−−
縮合物または付加物を挙げることができ、縮合物としては、多価アルコールと多塩基酸との縮合物、多価エーテルアルコールと多塩基酸との縮合物、多価アルコールと多塩基酸との縮合物とイソシアナート化合物との縮合物を好ましく挙げることができ、付加物としては、アクリル酸エステルの付加物、メタクリル酸エステルの付加物を好ましく挙げることができる。また、ポリエーテル系化合物、ポリウレタン系化合物、ポリエーテルポリウレタン系化合物、ポリアミド系化合物、ポリスルフォン系化合物、ポリスルフォンアミド系化合物、後述するその他の高分子系化合物から選択される少なくとも１種の数平均分子量が６００以上の化合物を用いることもできる。
【００９２】
そのうち少なくとも１種は、多価アルコールと多塩基酸との縮合物、多価エーテルアルコールと多塩基酸との縮合物、アクリル酸エステルの付加物、メタクリル酸エステルの付加物であることが好ましく、多価アルコールと多塩基酸との縮合物、多価エーテルアルコールと多塩基酸との縮合物であることがより好ましく、多価アルコールと多塩基酸との縮合物であることが更に好ましい。
以下に、第２フィルムおよび第３フィルムに好ましく用いられる繰り返し単位を有する化合物について種類別に記述する。
【００９３】
−−−多価アルコールと多塩基酸との縮合物−−−
まず、多価アルコールと多塩基酸との縮合物について説明する。好ましい多価アルコールと多塩基酸との縮合物としては、特に限定されないが、二塩基酸とグリコールの反応によって得られるものであり、反応物の両末端は反応物のままでもよいが、更にモノカルボン酸やモノアルコールを反応させて、所謂末端の封止を実施すると湿熱環境下で保持した場合のレタデーション変化を抑制することができ好ましい。このような縮合物では、末端が未封止の縮合物と比較して水酸基価が低下し、水酸基価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であることが好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。
多価アルコールと多塩基酸との縮合物において、多価アルコールは少なくとも炭素数３以上の多価アルコールを含むことが流延支持体の汚れ抑制の観点から好ましい。
多価アルコールと多塩基酸との縮合物は、炭素数２〜１２のグリコールと炭素数４〜１２の二塩基酸とから合成することが好ましい。
【００９４】
多価アルコールと多塩基酸との縮合物に使用される二塩基酸としては、炭素数３〜１２の脂肪族ジカルボン酸残基又は脂環式ジカルボン酸残基又は炭素数８〜１２の芳香族ジカルボン酸残基であることが好ましい。そして、加熱処理に伴うブリードアウトの程度を良化させるため、少なくとも炭素数４以下の脂肪族多塩基酸を含むこと、及び／又は芳香族多塩基酸を含むことがより好ましい。また、グリコールとしては、炭素数が２〜１２の脂肪族又は脂環式グリコール残基、炭素数６〜１２の芳香族グリコール残基であることが好ましい。これらは所望のレタデーションに応じて、適宜選択して使用することができ、１種類だけを含有させても良く、２種類以上を含有させてもよい。例えば、レタデーションを低減させたフィルムを作製したい場合には、脂肪族又は脂環式ジカルボン酸残基又はフタル酸残基、及び脂肪族又は脂環式グリコール残基を選択することが好ましい。また、レタデーションを上昇させたフィルムを作製したい場合には、芳香族ジカルボン酸残基及び／又は芳香族グリコール残基を含有させることが好ましい。
以下、多価アルコールと多塩基酸との縮合物の合成に好ましく用いることができる二塩基酸及びグリコールについて説明する。
【００９５】
二塩基酸としては、脂肪族ジカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸のいずれも用いることができる。
脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、アゼライン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等が挙げられる。なかでも、マロン酸、コハク酸及びアジピン酸を含むことが相溶性向上の観点から好ましい。
芳香族ジカルボン酸としては、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５―ナフタレンジカルボン酸、１，４―ナフタレンジカルボン酸等が挙げられる。なかでも、フタル酸及びテレフタル酸が好ましく、テレフタル酸が特に好ましい。
二塩基酸の炭素数は、３〜１２であることが好ましく、４〜８であることがより好ましく、４〜６であることが好ましい。本発明では２種以上の二塩基酸の混合物を用いてもよく、この場合、２種以上の二塩基酸の平均炭素数が上記範囲となることが好ましい。二塩基酸の炭素数が上記範囲であれば、輝度ムラの改良に加えて、第２フィルムおよび第３フィルムを構成するポリマーとの相溶性に優れ、第２フィルムおよび第３フィルムの製膜時及び加熱延伸時においてもブリードアウトを生じにくいため好ましい。
脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカルボン酸とを併用することも好ましい。具体的には、アジピン酸とフタル酸との併用、アジピン酸とテレフタル酸との併用、コハク酸とフタル酸との併用、コハク酸とテレフタル酸のとの併用が好ましく、コハク酸とフタル酸との併用、コハク酸とテレフタル酸との併用がより好ましい。脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカルボン酸とを併用する場合、両者の比率（モル比）は特に限定されないが、９５：５〜４０：６０が好ましく、５５：４５〜４５：５５がより好ましい。
【００９６】
グリコール（ジオール）としては、脂肪族ジオール及び芳香族ジオールが挙げられ、脂肪族ジオールが好ましい。
脂肪族ジオールとしては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、及び１，３−プロパンジオールの少なくとも１種であり、特に好ましくは、エチレングリコール及び１，２−プロパンジオールの少なくとも１種である。２種用いる場合は、エチレングリコール及び１，２−プロパンジオールを用いることが好ましい。
グリコールの炭素数は、２〜１０であることが好ましく、２〜６であることがより好ましく、２〜４であることが特に好ましい。２種以上のグリコールを用いる場合には、２種以上の平均炭素数が上記範囲となることが好ましい。グリコールの炭素数が上記範囲であれば、輝度ムラの改良に加えて、第２フィルムおよび第３フィルムを構成するポリマーとの相溶性に優れ、フィルムの製膜時及び加熱延伸時においてもブリードアウトを生じにくいため好ましい。
【００９７】
また、多価アルコールと多塩基酸との縮合物の両末端は、モノアルコール残基やモノカルボン酸残基で保護することが好ましい。その場合、モノアルコール残基としては炭素数１〜３０の置換、無置換のモノアルコール残基が好ましい。
【００９８】
また、モノカルボン酸残基で封止する場合は、モノカルボン酸残基として使用されるモノカルボン酸は、炭素数１〜３０の置換、無置換のモノカルボン酸が好ましい。これらは、脂肪族モノカルボン酸でも芳香族カルボン酸でもよい。まず好ましい脂肪族モノカルボン酸について記述すると、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸が挙げられ、芳香族モノカルボン酸としては、例えば安息香酸、パラ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種又は２種以上の混合物として使用することができる。
【００９９】
このとき、両末端のモノカルボン酸残基の炭素数が３以下であると、揮発性が低下し、多価アルコールと多塩基酸との縮合物の加熱による減量が大きくならず、工程汚染の発生や面状故障の発生を低減することができる。このような観点からは、封止に用いるモノカルボン酸類としては脂肪族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸が炭素数２〜２２の脂肪族モノカルボン酸であることがより好ましく、炭素数２〜３の脂肪族モノカルボン酸であることが更に好ましく、炭素数２の脂肪族モノカルボン酸残基であることが特に好ましい。例えば、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸及びその誘導体等が好ましく、酢酸又はプロピオン酸がより好ましく、酢酸（末端がアセチル基となる）が最も好ましい。封止に用いるモノカルボン酸は２種以上を混合してもよい。
【０１００】
なお、多価アルコールと多塩基酸との縮合物の両末端が未封止の場合、縮合物はポリエステルポリオールであることが好ましい。
【０１０１】
かかる多価アルコールと多塩基酸との縮合物の合成は常法により、上記二塩基性酸又はこれらのアルキルエステル類とグリコール類との（ポリ）エステル化反応又はエステル交換反応による熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法によっても容易に合成し得るものである。これらの多価アルコールと多塩基酸との縮合物については、村井孝一編者「可塑剤  その理論と応用」（株式会社幸書房、昭和４８年３月１日初版第１版発行）に詳細な記載がある。また、特開平０５−１５５８０９号、特開平０５−１５５８１０号、特開平５−１９７０７３号、特開２００６−２５９４９４号、特開平０７−３３０６７０号、特開２００６−３４２２２７号、特開２００７−００３６７９号各公報などに記載されている素材を利用することもできる。
【０１０２】
また、商品として、株式会社ＡＤＥＫＡから、多価アルコールと多塩基酸との縮合物としてＤＩＡＲＹ  ２００７、５５頁〜２７頁に記載にアデカサイザー（アデカサイザーＰシリーズ、アデカサイザーＰＮシリーズとして各種あり）を使用でき、また大日本インキ化学工業株式会社「ポリマ関連製品一覧表２００７年版」２５頁に記載のポリライト各種の商品や、大日本インキ化学工業株式会社「ＤＩＣのポリマ改質剤」（２００４．４．１．０００ＶＩＩＩ発行）２頁〜５頁に記載のポリサイザー各種を利用できる。更に、米国ＣＰ  ＨＡＬＬ社製のＰｌａｓｔｈａｌｌ  Ｐシリーズとして入手できる。ベンゾイル官能化ポリエーテルは、イリノイ州ローズモントのベルシコルケミカルズ（Ｖｅｌｓｉｃｏｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）から商品名ＢＥＮＺＯＦＬＥＸで商業的に販売されている（例えば、ＢＥＮＺＯＦＬＥＸ４００、ポリプロピレングリコールジベンゾエート）。
【０１０３】
−−−多価エーテルアルコールと多塩基酸との縮合物−−−
次に、多価エーテルアルコールと多塩基酸との縮合物について説明する。多価エーテルアルコールと多塩基酸との縮合物とは、ジカルボン酸とポリエーテルジオールとの縮合ポリマーを示すものである。ジカルボン酸としては、多価アルコールと多塩基酸との縮合物で記述した炭素数４〜１２の脂肪族ジカルボン酸残基又は炭素数８〜１２の芳香族ジカルボン酸残基をそのまま使用するものである。
流延支持体の汚れ抑制のため、多価エーテルアルコールと多塩基酸との縮合物において、多価エーテルアルコールのヒドロキシル基に隣接する炭素原子のうち、少なくとも一つが２級炭素又は３級炭素であることが好ましい。
【０１０４】
次に炭素原子２〜１２個の脂肪族グリコールを有するポリエーテル類としては、ポリエチレンエーテルグリコール、ポリプロピレンエーテルグリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール並びにこれらの組み合わせが挙げられる。典型的に有用な市販のポリエーテルグリコール類としては、カーボワックス（Ｃａｒｂｏｗａｘ）レジン、プルロニックス（Ｐｌｕｒｏｎｉｃｓ）レジン及びニアックス（Ｎｉａｘ）レジンが挙げられる。本発明に使用される
ポリエステルポリエーテル系可塑剤の製造に際しては、当業者に周知の常用されている重合法が使用できる。
【０１０５】
これらの多価エーテルアルコールと多塩基酸との縮合物としては、米国特許第４，３４９，４６９号明細書に記載されている多価エーテルアルコールと多塩基酸との縮合物などが挙げられる。
【０１０６】
−−−多価アルコールと多塩基酸との縮合物とイソシアナート化合物との縮合物−−−
更に、多価アルコールと多塩基酸との縮合物とイソシアナート化合物との縮合物について説明する。縮合物は、多価アルコールと多塩基酸との縮合物とイソシアナート化合物の縮合で得ることができる。まず、多価アルコールと多塩基酸との縮合物としては、両末端を封止する前の多価アルコールと多塩基酸との縮合物をそのまま使用でき、多価アルコールと多塩基酸との縮合物で前述した素材を好ましく利用できる。
【０１０７】
ポリウレタン構造を形成するジイソシアナート成分としては、エチレンジイソシアナート、トリメチレンジイソシアナート、テトラメチレンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート等で代表されるＯＣＮ（ＣＨ2）p ＮＣＯ（ｐ＝２〜８）ポリメチレンイソシアナート並びに、パラ−フェニレンジイソシアナート、トリレンジイソシアナート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアナート、１，５−ナフチレンジイソシアナート等の芳香族ジイソシアナート、更には、メタ−キシリレンジイソシアナート等が用いられるが、これらに制限されるものではない。これらの中でも、特にトリレンジイソシアナート、メタ−キシリレンジイソシアナート、テトラメチレンジイソシアナートが好ましいものである。
【０１０８】
多価アルコールと多塩基酸との縮合物とイソシアナート化合物との縮合物の合成については、特開平５−１９７０７３号、特開２００１−１２２９７９号、特開２００４−１７５９７１号、特開２００４−１７５９７２号各公報などに記載してある素材を利用できる。
【０１０９】
−その他の添加剤−
第２フィルムおよび第３フィルムは前述した可塑剤だけでなく、紫外線吸収剤、湿度依存性低減剤、ヒドロキシル基を有する化合物、アミノ基を有する化合物、レタデーションの耐久性を向上させる化合物、偏光子の耐久性を向上させる化合物、無機微粒子などのその他の添加剤などを含有してもよい。
第２フィルムおよび第３フィルムには、さらにその他の種々の添加剤（例えば、劣化防止剤、剥離剤、赤外線吸収剤、波長分散調整剤など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号などに記載されている。更にまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、第２フィルムおよび第３フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
なお、さらにその他の添加剤としては、通常セルロースエステルに使われる添加剤（例えば、発明協会公開技報２００１−１７４５）を用いることができ、前述のような繰り返し単位を有する化合物であることが、ブリードアウト抑制やフィルム製造過程における揮発抑制の観点から好ましい。
【０１１０】
−紫外線吸収剤−
紫外線吸収剤について説明する。
第２フィルムおよび第３フィルムは、２種類以上の紫外線吸収剤を含有してもよい。
２種類以上の紫外線吸収剤は、ハロゲン元素を含有しない化合物であることが好ましく、下記一般式（１１）で表されることがより好ましい。
一般式（１１）
【０１１１】
【化９】
2015215605.tif 000015
【０１１２】
一般式（１１）中、Ｘは水素原子、アルキル基、アルコキシル基、水酸基、アミノ基またはアミド基である。これらは可能であれば更に置換基を有していてもよい。
紫外線吸収剤の少なくとも１種は、一般式（１１）におけるＹ及びＺがそれぞれ独立にアルキル基であり、Ｙ及びＺが表すアルキル基が置換基として芳香環を含有せず、
紫外線吸収剤の少なくとも１種は、一般式（１１）におけるＹ及びＺがそれぞれ独立にアルキル基であり、Ｙ及びＺが表すアルキル基が置換基として１個の芳香環を有する。
【０１１３】
Ｘは、水素原子、アルキル基、アルコキシル基、又は水酸基が好ましい。
【０１１４】
一般式（１１）において、Ｘは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、又は炭素数１〜５のアルコキシ基を表すことが好ましく、水素原子がより好ましい。
【０１１５】
炭素数１〜５のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基などを挙げることができる。
【０１１６】
炭素数１〜５のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基などを挙げることができる。
【０１１７】
第２フィルムおよび第３フィルムが２種類以上の紫外線吸収剤を含有する場合、紫外線吸収剤の少なくとも１種は、一般式（１１）におけるＹ及びＺがそれぞれ独立にアルキル基であり、Ｙ及びＺが表すアルキル基が置換基として芳香環を含有しないことが好ましく、紫外線吸収剤の少なくとも１種は、一般式（１１）におけるＹ及びＺがそれぞれ独立にアルキル基であり、Ｙ及びＺが表すアルキル基が置換基として１個の芳香環を有することが好ましい。
一般式（１１）におけるＹ及びＺがそれぞれ独立にアルキル基であり、Ｙ及びＺが表すアルキル基が置換基として芳香環を含有しない紫外線吸収剤と、一般式（１１）におけるＹ及びＺがそれぞれ独立にアルキル基であり、Ｙ及びＺが表すアルキル基が置換基として１個の芳香環を有する紫外線吸収剤とを併用することで、ケン化処理時の白化現象が抑制できるという効果が得られる。芳香環としてはベンゼン環が好ましい。
【０１１８】
一般式（１１）におけるＹ及びＺは、各々、炭素数２〜２０の置換又は無置換のアルキル基を表すことが好ましい。
【０１１９】
炭素数２〜２０の置換、無置換のアルキル基とは、直鎖であっても、分岐であっても良く、また置換基を有していても良い。炭素数２〜２０の置換、無置換のアルキル基としては、例えばエチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、ブトキシエチル基等が挙げられる。
【０１２０】
一般式（１）におけるＹ及びＺがそれぞれ独立にアルキル基であり、Ｙ及びＺが表すアルキル基が置換基として芳香環を含有しない紫外線吸収剤と、一般式（１）におけるＹ及びＺがそれぞれ独立にアルキル基であり、Ｙ及びＺが表すアルキル基が置換基として１個の芳香環を有する紫外線吸収剤との含有比は、９５：５〜１０：９０が好ましく、８０：２０〜５０：５０がより好ましい。
【０１２１】
分光透過率の観点から、紫外線吸収剤の合計の添加量は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．５質量部以上１０質量部以下が好ましく、１質量部以上５質量部以下がより好ましい。
【０１２２】
−湿度依存性低減剤−
第２フィルムおよび第３フィルムは、更に湿度依存性を低減させる化合物として、下記式（Ａ）で定義されるΔＲｔｈ（Ａ）が−１００以上０ｎｍ未満である湿度依存性低減剤を含有させることもできる。このような添加剤を併用すると、Ｒｔｈの湿度依存性をより効率的に低減することができるため、添加剤の総量を低減することもできる。したがって、流延支持体の汚れ抑制の観点から好ましい。
式（Ａ）  ΔＲｔｈ（Ａ）＝（ΔＲｔｈ（ｒｈ、Ａ）−ΔＲｔｈ（ｒｈ、０））／Ｑ
［式中、ΔＲｔｈ（ｒｈ、Ａ）は、化合物が添加されたフィルムの２５℃・相対湿度１０％におけるＲｔｈから２５℃・相対湿度８０％におけるＲｔｈを引いた値を表し、ΔＲｔｈ（ｒｈ、０）は、化合物が添加されていないフィルムの２５℃・相対湿度１０％におけるＲｔｈから２５℃・相対湿度８０％におけるＲｔｈを引いた値を表し、Ｑはフィルム中の第２フィルムおよび第３フィルムを構成するポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量を表す。］
【０１２３】
−ヒドロキシル基を有する化合物−
湿度依存性低減剤として好ましく用いられるヒドロキシル基を含む化合物、より好ましくはフェノール性水酸基を含む化合物としては、例えば、特開２００８−８９８６０号公報の１３〜１９ページに記載のある化合物Ａや、特開２００８−２３３５３０号公報の７〜９ページに記載のある一般式（Ｉ）で表される化合物を好ましく用いることができる。
【０１２４】
−アミノ基を有する化合物−
特開２０１２−１９８５２９号公報に開示されている化合物などを好適に用いることができる。
【０１２５】
−レタデーションの耐久性を向上させる化合物−
特開２０１３−２０２２３号公報に開示されている化合物などを好適に用いることができる。
【０１２６】
−偏光子の耐久性を向上させる化合物（偏光子耐久性改良剤）−
偏光子耐久性改良剤は、水素結合性水素供与性基を有することが好ましい。
【０１２７】
水素結合性水素供与性基の例は、例えば、Ｊｅｆｆｒｅｙ，Ｇｅｏｒｇｅ  Ａ．著、Ｏｘｆｏｒｄ  ＵＰ刊のＩｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  ｔｏ  Ｈｙｄｒｏｇｅｎ  Ｂｏｎｄｉｎｇ等の成書に記載されている。
偏光子耐久性改良剤中の水素結合性水素供与性基としては、セルロースアシレート中のカルボニル基との相互作用の観点から、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、が好ましく、スルホニルアミノ基、アシルアミノ基、アミノ基、水酸基がより好ましく、アミノ基、水酸基が更に好ましい。
【０１２８】
偏光子耐久性改良剤中の分子量／芳香環数の比は３００以下であることが好ましく、より好ましくは１９０以下であり、特に好ましくは１６０以下であり、より特に好ましくは１５０以下である。
また、偏光子耐久性改良剤中の分子量／芳香環数の比は、セルロースアシレートとの相溶性向上の観点からは、９０以上であることが好ましく、１００以上であることがより好ましい。
【０１２９】
偏光子耐久性改良剤の分子量は２００〜１０００であることが好ましく、２５０〜８００であることがより好ましく、２８０〜６００であることが特に好ましい。分子量が上述の範囲の下限値以上であるとセルロースアシレートフィルムの製膜時の偏光子耐久性改良剤の揮散による消失を抑制でき、分子量が上述の範囲の上限値以下であるとセルロースアシレートと偏光子耐久性改良剤の相溶性が良好で低ヘイズのセルロースアシレートフィルムが得られるため、好ましい。
以下、偏光子耐久性改良剤について、一般式（１）で表される化合物と、一般式（２）で表される化合物の順に説明する。
【０１３０】
−−一般式（１）で表される化合物−−
【化１０】
2015215605.tif 000016
【０１３１】
一般式（１）中、Ｒ1は置換基を表し、Ｒ2は下記一般式（１−２）で表される置換基を表し；ｎ１は０〜４の整数を表し、ｎ１が２以上の時、複数のＲ1は互いに同一であっても異なっていてもよく；ｎ２は１〜５の整数を表し、ｎ２が２以上の時、複数のＲ2は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１３２】
【化１１】
2015215605.tif 000017
【０１３３】
一般式（１−２）中、Ａは置換又は無置換の芳香族環を表し；Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、又は下記一般式（１−３）で表される置換基を表し；Ｒ5は、単結合又は炭素原子数１〜５のアルキレン基を表し；Ｘは、置換又は無置換の芳香族環を表し；ｎ３は０〜１０の整数を表し、ｎ３が２以上の時、複数のＲ5及びＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１３４】
【化１２】
2015215605.tif 000018
【０１３５】
一般式（１−３）において、Ｘは、置換又は無置換の芳香族環を表し；Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、及びＲ9は、それぞれ独立に水素原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し；ｎ５は１〜１１の整数を表し、ｎ５が２以上の時、複数のＲ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１３６】
Ｒ1は置換基を表す。置換基の例としては、特に制限はなく、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜１０のアルキル基、例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘプチル、１−エチルペンチル、ベンジル、２−エトキシエチル、１−カルボキシメチル等）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、オレイル等）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０のアルキニル基、例えば、エチニル、ブタジイニル、フェニルエチニル等）、シクロアルキル基（好ましくは炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル等）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜２６のアリール基、例えば、フェニル、１−ナフチル、４−メトキシフェニル、２−クロロフェニル、３−メチルフェニル等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数２〜２０のヘテロ環基、例えば、２−ピリジル、４−ピリジル、２−イミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、２−チアゾリル、２−オキサゾリル等）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２６のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、１−ナフチルオキシ、３−メチルフェノキシ、４−メトキシフェノキシ等）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニル基、例えば、エトキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル等）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０のアミノ基、例えば、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、アニリノ等）、スルホンアミド基（好ましくは炭素原子数０〜２０のスルホンアミド基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホンアミド、Ｎ−フェニルスルホンアミド等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０のアシルオキシ基、例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０のカルバモイル基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル等）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０のアシルアミノ基、例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、シアノ基、又はハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、ヒドロキシル基が挙げられる。
【０１３７】
Ｒ1は炭素原子数１〜２０のアルキル基、ヒドロキシル基が好ましく、ヒドロキシル基、メチル基がより好ましい。また、Ｒ1は更に１つ以上の置換基を有していてもよく、更なる置換基としてはＲ1と同様の置換基が挙げられる。
【０１３８】
ｎ１は、０〜４の整数を表し、２〜４が好ましい。
【０１３９】
ｎ２は、１〜５の整数を表し、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましい。
【０１４０】
Ｒ2は、下記一般式（１−２）で表される置換基を表す。
【０１４１】
【化１３】
2015215605.tif 000019
【０１４２】
一般式（１−２）中、Ａは置換又は無置換の芳香族環を表し；Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、又は下記一般式（１−３）で表される置換基を表し；Ｒ5は、単結合又は炭素原子数１〜５のアルキレン基を表し；Ｘは、置換又は無置換の芳香族環を表し；ｎ３は０〜１０の整数を表し、ｎ３が２以上の時、複数のＲ5及びＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１４３】
Ａは、置換又は無置換の芳香族環を表す。芳香族環は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などのヘテロ原子を含む複素環であってもよい。Ａの例としては、ベンゼン環、インデン環、ナフタレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、ビフェニル環、ピレン環、ピラン環、ジオキサン環、ジチアン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環、トリアジン環などが挙げられる。また、他の６員環又は５員環が縮合していてもよい。
Ａは、ベンゼン環が好ましい。
Ａが有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アルキル基、ヒドロキシル基などが挙げられ、アルキル基又はヒドロキシル基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基又はヒドロキシル基がより好ましく、炭素数１〜５のアルキル基又はヒドロキシル基が更に好ましい。
【０１４４】
一般式（１−２）中、Ｒ5は、単結合又は炭素原子数１〜５のアルキレン基を表し、炭素原子数１〜５のアルキレン基は置換基を有していてもよい。Ｒ5は、炭素原子数が１〜４のアルキレン基が好ましく、炭素原子数が１〜３のアルキレン基がさらに好ましい。Ｒ5が有していてもよい置換基としては、炭素原子数１〜５のアルキル基（例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル）、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、ヒドロキシル基などが挙げられる。
【０１４５】
一般式（１−２）中、Ｘは、置換もしくは無置換の芳香族環を表す。芳香族環は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などのヘテロ原子を含む複素環であってもよい。Ｘの例としては、ベンゼン環、インデン環、ナフタレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、ビフェニル環、ピレン環、ピラン環、ジオキサン環、ジチアン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環、トリアジン環などが挙げられる。また、他の６員環又は５員環が縮合していてもよい。Ｘは、ベンゼン環が好ましい。Ｘが有していてもよい置換基としては、Ａの置換基として挙げた例と同様である。
【０１４６】
ｎ３は、０〜１０の整数を表し、０〜２が好ましく、０〜１がより好ましい。なお、ｎ３が２以上の整数である場合、複数の−（Ｒ5−Ｘ）で表される基はそれぞれ互いに同一であっても異なっていてもよく、それぞれＡに結合する。ｎ３が０の場合、−（Ｒ5−Ｘ）で表される基は存在しないため、Ａには−（Ｒ5−Ｘ）で表される基は結合しない。
【０１４７】
Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基、下記一般式（１−３）で表される置換基を表す。Ｒ3及びＲ4は、水素原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、一般式（１−３）で表される置換基が好ましく、水素原子、メチル基、一般式（１−３）で表される置換基がより好ましい。
【０１４８】
【化１４】
2015215605.tif 000020
【０１４９】
一般式（１−２）で表される置換基中に含まれてもよい一般式（１−３）で表される置換基において、Ｘは、置換又は無置換の芳香族環を表し；Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、及びＲ9は、それぞれ独立に水素原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し；ｎ５は１〜
１１の整数を表し、ｎ５が２以上の時、複数のＲ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１５０】
一般式（１−２）で表される置換基中に含まれてもよい一般式（１−３）で表される置換基中のＸは、一般式（１−２）中のＸと同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、及びＲ9は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。Ｒ3及びＲ4は、水素原子、炭素原子数１〜３のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましい。
【０１５１】
ｎ５は、１〜１１の整数を表し、１〜９が好ましく、１〜７がより好ましい。
【０１５２】
一般式（１−２）で表される置換基中に含まれてもよい一般式（１−３）で表される置換基は、下記一般式（１−３’）で表される置換基であることが好ましい。
【０１５３】
【化１５】
2015215605.tif 000021
【０１５４】
一般式（１−２）で表される置換基中に含まれてもよい一般式（１−３’）の各記号の定義は、一般式（１−３）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲も同様である。
【０１５５】
一般式（１−２）で表される置換基中に含まれてもよい一般式（１−３）で表される置換基は、下記一般式（１−３’’）で表される置換基であることがより好ましい。
【０１５６】
【化１６】
2015215605.tif 000022
【０１５７】
一般式（１−３’’）中、ｎ４は０〜１０の整数を表す。
【０１５８】
ｎ４は、０〜１０の整数を表し、０〜８が好ましく、０〜６がより好ましい。
【０１５９】
一般式（１−２）で表される置換基は、下記一般式（１−２’）で表される置換基であることが好ましい。
【０１６０】
【化１７】
2015215605.tif 000023
【０１６１】
一般式（１−２’）中、Ｒ3は水素原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、又は一般式（１−３）で表される置換基を表し；Ｒ5は、単結合又は炭素原子数１〜５のアルキレン基を表し；Ｘは、置換又は無置換の芳香族環を表し；ｎ３は０〜５の整数を表し、ｎ３が２以上の時、複数のＲ5及びＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１６２】
一般式（１−２’）中の各記号の好ましい範囲は、一般式（１−２）中のそれぞれと同様である。
【０１６３】
一般式（１−２）は、下記一般式（１−２’’）で表されることが好ましい。
【０１６４】
【化１８】
2015215605.tif 000024
【０１６５】
一般式（１−２’’）中、ｎ３は０〜５の整数を表す。
一般式（１−２’’）のｎ３の好ましい範囲は、一般式（１−２）中のｎ３の好ましい範囲と同様である。
【０１６６】
以下に、一般式（１）で表される化合物の具体例を示すが、以下の具体例に限定されるものではない。
【０１６７】
【化１９】
2015215605.tif 000025
【０１６８】
【化２０】
2015215605.tif 000026
【０１６９】
なお、水酸基数の異なる一般式（１）で表される化合物が多点で水素結合することを可能とするために、互いに異なる２種以上の一般式（１）で表される化合物を含有する混合物としてもよい。一例は、フェノールに対してスチレンが１〜３モルアルキル化したスチレン化フェノールと、アルキル化したスチレンのフェニル部位にさらにスチレンがアルキル化したスチレン化フェノールと、スチレンの２〜４量体程度のオリゴマーがフェノールにアルキル化したスチレン化フェノールとの混合物が挙げられる。
【０１７０】
一般式（１）で表される化合物は、一般に、１当量のフェノール類に酸触媒の存在下、１当量以上のスチレン類を添加することによって合成することができ、市販品を用いてもよい。また、上記合成法により得られた混合物をそのまま使用してもよい。
一般式（１）で表される化合物の市販品としては、三光株式会社製のスチレン化フェノールである「ＴＳＰ」、日塗料化学株式会社製の「ＰＨ−２５」、精工化学株式会社製の「ノンフレックスＷＳ」などが挙げられる。
【０１７１】
−−一般式（２）で表される化合物−−
【化２１】
2015215605.tif 000027
（一般式（２）中、Ｒ11、Ｒ13及びＲ15は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基または炭素数６〜２０の芳香族基を表す。）
【０１７２】
一般式（２）中、Ｒ15は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基または炭素数６〜２０の芳香族基を表すことが好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基又は炭素数６〜１８の芳香族基であることがより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基も含む）又は炭素数６〜１２の芳香族基であることが特に好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基又はフェニル基であることがより特に好ましく、メチル基、イソプロピル基又はフェニル基であることが最も好ましい。
【０１７３】
一般式（２）中、Ｒ11およびＲ13は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数６〜２０の芳香族基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基であることがより好ましく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基又はフェニル基であることが特に好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はフェニル基であることがより特に好ましく、メチル基又はフェニル基であることが最も好ましい。
一般式（２）中、Ｒ11が、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基又は炭素数６〜２０の芳香族基でありであり、かつＲ13が水素原子または炭素数６〜２０の芳香族基であることが好ましい。Ｒ11が、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２の芳香族基であり、かつＲ13が水素原子または炭素数６〜１２の芳香族基であることがより好ましい。Ｒ11が、炭素数１〜３のアルキル基またはシクロヘキシル基であり、かつＲ13が水素原子またはフェニル基であることが特に好ましい。Ｒ11が、メチル基であり、かつＲ13が水素原子またはフェニル基であることがより特に好ましい。
【０１７４】
Ｒ15はさらに置換基を有していてもよい。Ｒ15が有していてもよい置換基としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はないが、ハロゲン原子、アルキル基、又は芳香族基であることが好ましく、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２の芳香族基であることがより好ましく、塩素原子、メチル基、又はフェニル基であることが特に好ましい。特にＲ15が炭素数１〜２０のアルキル基である場合は、置換基として芳香族基を有することが好ましく、炭素数６〜１２の芳香族基を有することがより好ましく、フェニル基を有することが特に好ましい。また、特にＲ15が炭素数１〜２０の芳香族基である場合は、置換基としてハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基を有することが好ましく、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基を有することがより好ましく、塩素原子またはメチル基を有することが特に好ましい。
【０１７５】
Ｒ11およびＲ13はさらに置換基を有していてもよい。Ｒ11が有していてもよい置換基としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はないが、炭素数６〜１２の芳香族基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
【０１７６】
以下に、一般式（２）で表される化合物の具体例を示すが、以下の具体例に限定されるものではない。
【０１７７】
【化２２】
2015215605.tif 000028
【０１７８】
一般式（２）で表される化合物は、商業的に入手してもよく、公知の方法によって合成してもよい。
【０１７９】
−−含有量−−
第２フィルムおよび第３フィルムは、一般式（１）または（２）で表される化合物の含有量が、セルロースアシレートに対して０．５質量％〜２０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましい。セルロースアシレートに対して１質量％以上であれば、弾性率の向上効果が得られやすく、またセルロースアシレートに対して２０質量％以下であれば、セルロースアシレートフィルムを製膜した場合にブリードアウトや染み出しも発生しにくい。
一般式（１）または（２）で表される化合物の含有量は、セルロースアシレートに対して１〜１５質量％であることが特に好ましく、１〜１０質量％であることがより特に好ましい。
【０１８０】
一方、第２フィルムおよび第３フィルムを用いた偏光板のリワーク性を改善させるために、例えば、公知の共流延技術などを用い、添加剤の厚み方向分布を付与することが好ましい。具体的には、表面付近の添加剤の含有量が、他の部分の含有量より低いことが好ましい。
【０１８１】
−無機微粒子（マット剤）−
第２フィルムおよび第３フィルム表面には、フィルム間の滑り性付与やブロッキング防止のために微粒子を添加することが好ましい。この微粒子としては、疎水基で表面が被覆され、二次粒子の態様をとっているシリカ（二酸化ケイ素，ＳｉＯ２）が好ましく用いられる。なお、微粒子には、シリカとともに、あるいはシリカに代えて、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、燐酸カルシウムなどの微粒子を用いてもよい。
【０１８２】
無機微粒子はいわゆるマット剤として機能し、微粒子添加によりフィルム表面に微小な凹凸が形成されこの凹凸によりフィルム同士が重なっても互いに貼り付かず、フィルム同士の滑り性が確保される。この際のフィルム表面からの微粒子が突出した突起による微小凹凸は高さ３０ｎｍ以上の突起が１ｍｍ2あたりに１０４個／ｍｍ2以上である場合に特に滑り性、ブロッキング性の改善効果が大きい。
【０１８３】
また、第２フィルムおよび第３フィルムを偏光板の保護フィルムとして用いる場合には、フィルムにけん化処理を行うことが好ましいが、その際にフィルム表面の突起高さが低く密度が少なくなり、また親水化により吸湿して膨潤しやすくなることで貼り付き易くなる傾向がある。そのため、けん化処理が施された後（けん化処理後）でも微粒子が突出した突起による微小凹凸高さ３０ｎｍ以上の突起が１ｍｍ2あたりに１０４個／ｍｍ2以上を有することがケン化後の滑り性、ブロッキング性改善に効果が大きい。
【０１８４】
無機微粒子は特に表層に付与することが、フィルムのヘイズ上昇がなくブロッキング性、滑り性改善するために好ましい。表層に微粒子を付与する方法としては、重層流延や塗布などによる手段があげられる。
【０１８５】
フィルムロール中で接触面圧が高くなると、フィルムの重なる部分同士が一定の確率で貼り付き、滑りにくくなる。このように、フィルムの表面に過重な圧力が加わることなどが原因で、重なったフィルム同士が貼り付いてしまう現象は、ブロッキングとも呼ばれている。フィルム同士が貼り付いてしまうために滑りにくくなることにより、フィルムを巻き取った際の変形が滑りにより緩和されなくなる。そのため、従来のフィルムロールには、ベコと呼ばれる周方向に沿った凹みやしわ、巻き芯の凹凸や巻き付け時のフィルム端面（切り口）に起因して巻き芯側にフィルム変形となる故障（以下、芯側写り故障と称する）等が発生する。このベコやしわや芯側写り故障は、フィルムが薄ければ薄いほど、フィルムの弾性率が低ければ低いほど、発生しやすい。
【０１８６】
フィルムロールでは、ナーリング部分の間の使用に供される領域部分（使用部分）においては０．０１ＭＰａ以上０．１０ＭＰａ程度以下の範囲内の接触面圧がかかっている。
巻き芯付近のフィルムの部分にかかる接触面圧は、フィルムが長尺になればなるほど、高くなる傾向にある。長さ４０００ｍ弱の長尺フィルムの巻き芯側では、０．０５ＭＰａ以上０．１０ＭＰａ以下の範囲内程度の接触面圧がかかっている。そのため、従来では、フィルムが２０００ｍより短い場合には大きな問題は生じなかったものの、例えばフィルムの長さが２０００ｍ以上１００００ｍ以下の範囲内というようにフィルムが長いと、ブロッキング、ベコ、しわ、芯側写り故障が発生しやすい傾向にあった。
【０１８７】
また、従来では、例えばフィルムの厚さが１０μｍ以上６０μｍ以下の範囲内というようにフィルムが薄いと、巻芯に巻き取ってフィルムロールにする際に、ブロッキング、ベコ、しわ、芯側写り故障が発生しやすい傾向にあった。また、従来では、例えばフィルムの弾性率が１．０ＧＰａ以上４．０ＧＰａ以下の範囲内というようにフィルムの弾性率が低いと、巻芯に巻き取ってフィルムロールにする際に、ブロッキング、ベコ、しわ、芯側写り故障が発生しやすい。
【０１８８】
このような巻き取り適性の改善にはフィルム表面の微小凹凸付与によるブロッキング性、滑り性の改善が有効である。特にフィルム同士の接触面圧が０．０５ＭＰａ以上０．１０ＭＰａの範囲での静摩擦係数が１．２以下であることが、フィルムの重なる部分間で滑りが生じるので、ブロッキング、ベコ、しわ、芯側写り故障の発生が低減される。接触面圧が０．０５ＭＰａ以上０．１０ＭＰａ以下の範囲内の部分の静摩擦係数が１．０以下であれば好ましく、接触面圧が０．０５ＭＰａ以上０．１０ＭＰａ以下の範囲内の部分の静摩擦係数が０．９以下であればより好ましい。
【０１８９】
−光学異方性を制御する化合物−
第２フィルムおよび第３フィルムは、光学異方性を制御する化合物を含有することが好ましく、総含有率は１３〜７０質量％であることが好ましく、１５〜６０質量％がより好ましく、１８〜５０質量％がさらに好ましい。これらのうち、レタデーション上昇剤の割合は０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．０５〜７質量％であることがより好ましく、０．１０〜５質量％であることがさらに好ましい。
【０１９０】
−添加剤の総含有率（Ｃｔ）−
添加剤の総含有量（Ｃｔ）は、５〜２００ｐｈｒが好ましく、１０〜１００ｐｈｒがより好ましく、１５〜６０ｐｈｒが更に好ましい。但し、場合により、添加剤の含有量は、２〜１００ｐｈｒが好ましく、５〜５０ｐｈｒがより好ましく、６〜３０ｐｈｒがさらに好ましいこともある。後者の好ましい態様は、輝度ムラ改良の観点から、特に膜厚が薄いフィルムの場合に好ましく適用することができる。このような条件を満たす添加量、膜厚であれば輝度ムラを改善することができるため好ましく、２００ｐｈｒ以下であれば、フィルムからのブリードアウトを抑制しやすく好ましい。膜厚が薄いフィルムの場合には、フィルムからのブリードアウトが促進される傾向のため、添加量の上限は低めに設定される。
なお、添加剤を２種以上含有させる場合には、第２フィルムおよび第３フィルムでは２種以上の添加剤の合計含有量が上記範囲に収まればよい。
【０１９１】
−添加剤の表面含有率（Ｃｓ）−
第２フィルムおよび第３フィルムにおいては、第２フィルムおよび第３フィルムに機能層の密着性や耐光性を改善させたり、第２フィルムおよび第３フィルムを用いた偏光板のリワーク性を改善させたりする観点から、添加剤の表面含有率を低減することが好ましい。したがって、添加剤の表面含有率（Ｃｓ）は、添加剤の総含有率（Ｃｔ）より低いことが好ましく、（Ｃｔ−Ｃｓ）は、５０ｐｈｒ以下が好ましく、３〜３０ｐｈｒがより好ましく、５〜２０ｐｈｒがさらに好ましい。５０ｐｈｒ以下であると、例えば微小なシワ状の面状故障を引き起こしにくいため好ましい。
添加剤として、繰り返し単位を有する化合物を用いると、古くから可塑剤として用いられている低分子化合物と比較して、膜厚方向への添加量分布がつきにくい。したがって、このような表面含有量を達成するため、後述するように、添加剤濃度の異なる層を共流延することが好ましい。
表面含有量の測定方法は特に限定されないが、例えば、Ｇｅ、ＫＲＳ−５、ダイヤモンドやＺｎＳｅ等からなるＡＴＲプリズム（例えば、ＭＫＩＩ  Ｇｏｌｄｅｎ  Ｇａｔｅ  Ｓｉｎｇｌｅ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ  ＡＴＲ  Ｓｙｓｔｅｍ、Ｓｐｅｃａｃ製）をフーリエ変換赤外分光装置（例えば、ＮＩＣＯＬＥＴ６７００、サーモフィッシャー製）に装着して、反射モードで測定し、特徴的な吸収ピーク面積を観測することにより評価することができる。具体的には、ポリマー由来の吸収ピーク面積（Ｉ1）と添加剤由来のピーク面積（Ｉ2）との比率（Ｉ2／Ｉ1）を用いて評価することができる。
また、フィルム表面から３μｍまでのサンプルを削り出し、得られたサンプルをフーリエ変換赤外分光装置の透過モードで測定することもできる。このように削り出したサンプルを用いる場合には、核磁気共鳴吸収装置（1Ｈ−ＮＭＲ、例えば、ＡＶＡＮＣＥ４００、Ｂｒｕｋｅｒ製）を用いて測定し、特徴的なシグナル強度比を観測することにより評価することもできる。
【０１９２】
（第２フィルムおよび第３フィルムの製造方法）
第２フィルムおよび第３フィルムの製造方法は、少なくとも下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の工程を有することが好ましい。
（ａ）１種のポリマーと溶媒とを含む溶液を支持体上に流延する工程
（ｂ）支持体から剥ぎ取る工程
（ｃ）搬送方向に延伸する工程
【０１９３】
（ｃ）の工程について、先に説明する。
延伸が、残留溶媒量が１．０〜３００質量％の状態で行われることが、第２フィルムおよび第３フィルムを用いた偏光板のリワーク性改良の観点から好ましく、残留溶媒量が１００〜２８０質量％がより好ましく、１５０〜２５０質量％が更に好ましい。
【０１９４】
搬送方向への延伸倍率は第２フィルムおよび第３フィルムに要求する特性に応じて適宜設定することができ、１〜５００％が好ましく、３〜１００％がより好ましく、５〜８０％がさらに好ましく、１０〜６０％が特に好ましい。これらの延伸は１段で実施しても、多段で実施してもよい。なお、「延伸倍率（％）」とは、以下の式を用いて求めたものを意味する。
延伸倍率（％）＝１００×｛（延伸後の長さ）−（延伸前の長さ）｝／延伸前の長さ
ここで、延伸前の長さ、および延伸後の長さは、延伸ゾーン前におけるベースの搬送速度、および延伸ゾーン後におけるベースの搬送速度として評価することもできる。
一方、第２フィルムおよび第３フィルムを製造する場合、搬送方向に直交する方向への延伸をなるべく行わないことが、第２フィルムおよび第３フィルムの第１フィルムの吸収軸に平行な方向の弾性率、湿度寸法変化率を好ましい範囲に制御する観点から好ましい。搬送方向に直交する方向への延伸倍率は、フィルム幅（例えばピン幅）を維持しながら搬送する際に自然にかかる程度に抑制することが好ましく、例えば０〜５％が好ましく、０〜３％がより好ましく、０〜１％が特に好ましく、フィルムが自発的に収縮する場合には、収縮させることが好ましく、例えば−３０〜０％が好ましく、−２０〜−３％がより好ましく、−１５〜−５％が特に好ましい。
【０１９５】
搬送方向への延伸における延伸速度は１０〜１００００％／分が好ましく、より好ましくは１００〜３０００％／分であり、さらに好ましくは２００〜１５００％／分である。
【０１９６】
延伸工程の後に熱処理する（後熱処理）工程を有することが値Ｘ、値ｘ、値Ｙおよび値ｙ低減の観点から好ましい。後熱処理の温度は、フィルムに溜まった残留歪みを短時間で低減する観点から、光学フィルムのガラス転移温度をＴｇ（単位：℃）とした場合に、（Ｔｇ−１０）℃以上（Ｔｇ＋６０）℃未満であることが好ましく、Ｔｇ〜（Ｔｇ＋５０）℃がより好ましく、（Ｔｇ＋１０）℃〜（Ｔｇ＋４０）℃がさらに好ましい。（Ｔｇ−１０）℃を以上であると残留歪みを十分低減するために必要な熱処理時間が短くなるため生産性の観点から好ましく、（Ｔｇ＋６０）℃以下であるとレタデーションズレが抑制されるため好ましい。また、熱処理の時間は、残留歪みを低減するのに十分な時間であれば特に限定されることはないが、０．０１〜６０分間であることが好ましく、０．１〜４０分間であることがより好ましく、１〜３０分間であることがさらに好ましい。０．０１分間以上であれば残留歪みが十分に低減することができるため好ましく、６０分間以下であれば生産性を確保できるため好ましい。
以下、（ａ）の工程、（ｂ）の工程を含めて、第２フィルムおよび第３フィルムの製造方法を説明する。
【０１９７】
−ドープ溶液の有機溶媒−
第２フィルムおよび第３フィルムに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としても良いし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としても良く、第２フィルムおよび第３フィルムに対しては特に限定されるものではない。
【０１９８】
その他、ドープ溶液及び第２フィルムおよび第３フィルムについての溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開２０００−９５８７６、特開平１２−９５８７７、特開平１０−３２４７７４、特開平８−１５２５１４、特開平１０−３３０５３８、特開平９−９５５３８、特開平９−９５５５７、特開平１０−２３５６６４、特開平１２−６３５３４、特開平１１−２１３７９、特開平１０−１８２８５３、特開平１０−２７８０５６、特開平１０−２７９７０２、特開平１０−３２３８５３、特開平１０−２３７１８６、特開平１１−６０８０７、特開平１１−１５２３４２、特開平１１−２９２９８８、特開平１１−６０７５２、特開平１１−６０７５２などに記載されている。これらの特許によると本発明で好ましく用いられるセルロースエステルに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。
【０１９９】
−溶解工程−
ドープ溶液の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよく、更には冷却溶解法あるいは高温溶解方法、更にはこれらの組み合わせで実施される。本発明におけるドープ溶液の調製、更には溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
【０２００】
−流延、乾燥、延伸、巻取り工程−
次に、ドープ溶液を用いた第２フィルムおよび第３フィルムの製造方法について述べる。第２フィルムおよび第３フィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置を用いることができる。溶解機（釜）から調製されたドープ溶液を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をすることが好ましい。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離することが好ましい。
得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを加熱装置内のロール群で機械的に搬送して巻取り機でロール状に所定の長さに巻き取ることが好ましい。テンター（例えばピンテンター）で搬送する場合、第２フィルムおよび第３フィルムに対して、搬送方向に直交する方向への延伸をなるべく行わないことが好ましく、例えばフィルム幅（例えばピン幅）を維持しながら搬送することが好ましい。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。別の態様としては、先述の金属支持体を５℃以下に冷却したドラムとし、ドラム上にダイから押出したドープをゲル化させてから約１周した時点で剥ぎ取り、ピン状のテンターで把持しながら搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを加熱装置内のロール群で機械的に搬送して巻取り機でロール状に所定の長さに巻き取る方法など、ソルベントキャスト法で製膜する様々な方法をとることが可能である。なお、フィルム収縮力を低下させる観点からは、ドープを一旦冷却し、残留溶媒量が多い状態で高温の乾燥ゾーンに搬送する工程が好ましく、冷却したドラムを使用する冷却流延法が好ましい。本発明では、金属支持体から剥離した後からテンターで把持する前までの間のゾーンを延伸工程として好ましく用いることができ、金属支持体の回転速度とテンターの搬送速度とに差をつけることでウェブを延伸することができ、好ましい延伸倍率は前述の通りである。
加熱装置内のロール群で機械的に搬送するゾーンを、後熱処理工程として好ましく用いることができ、搬送時張力は低いほうが好ましく、１０〜３００Ｎであることが好ましく、１５〜２００Ｎであることがより好ましく、２０〜１５０Ｎであることがさらに好ましい。搬送張力は、加熱装置内のロールの周速差をつけることによって制御することができ、１０Ｎ以上であれば、フィルムとロール間で起こるスリップ防止し、フィルムに微細なキズが付くことを防げるため好ましく、３００Ｎ以下であれば、フィルムの残留歪みを効果的に低減することができるため好ましい。また、搬送張力を低くすると残留歪みが溜まりにくくなり、値Ｘ、値ｘ、値Ｙおよび値ｙが良化する傾向にある。
第２フィルムおよび第３フィルムは単層フィルムであっても、２層以上の積層構造を有していてもよい。例えば、コア層と表層の２層からなる積層構造であって、共流延によって製膜された態様であることも好ましい。
なお、共流延する場合には、例えば、層数の調整が容易なフィードブロック法や、各層の厚み精度に優れるマルチマニホールド法を用いることができ、本発明においては、フィードブロック法をより好ましく用いることができる。
【０２０１】
−−残留溶媒量−−
ウェブ（フィルム）の残留溶媒量は、下記式に基づいて算出した。
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
［式中、Ｍは、ウェブ（フィルム）の質量を表し、Ｎは、ウェブ（フィルム）を１１０℃で３時間乾燥させたときの質量を表す。］
【０２０２】
−蒸気接触工程−
第２フィルムおよび第３フィルムの製造方法においては、必要に応じて、後熱処理工程の代わりとして、または後熱処理工程に加えて、後述する接触気体を接触させる状態を維持する工程（蒸気接触工程）を適用することもできる。水蒸気接触工程の効果は限定されることはないが、フィルムの寸法変化率や、フィルムを湿熱環境下で保持した場合のレタデーション変化を、短時間の処理で抑制することができる。いかなる理論に拘泥するものでもないが、このことは、第２フィルムおよび第３フィルムに後述の接触気体を接触させると、フィルムのガラス転移温度が低下することになり、短時間でポリマーの構造安定化を促すことができることに起因すると考えられ、この効果は、接触気体の吸収率が高いポリマーでより効果的に現れる。例えば、水蒸気を接触させる場合、セルロースアシレートやアクリルのような吸湿性のポリマーを含むと特に有効である。なお、蒸気接触工程は任意の場所で実施することができるが、前述の延伸工程又は後熱処理工程や、後述の有機溶媒接触工程の終了した後に実施されることが好ましい。また、蒸気接触工程の前や後に、適宜、後述の表面処理を併用してもよい。以下において、セルロースアシレートフィルムに水蒸気を含む気体を接触させる状態を維持する工程（蒸気接触工程）について説明する。
【０２０３】
−−接触気体−−
蒸気接触工程における第２フィルムおよび第３フィルムに接触される気体（接触気体）としては、液体状態の溶媒を気体状態にした気体であれば特に限定されることはないが、水蒸気を含む気体であることが好ましく、水蒸気を主たる成分として含む気体であることがより好ましく、水蒸気であることが更に好ましい。ここで、主たる成分として含む気体とは、単一の気体からなる場合には、その気体のことを示し、複数の気体からなる場合には、構成する気体のうち、最も質量分率の高い気体のことを示す。
接触気体は、湿潤気体供給装置によって生成される気体であることが好ましい。具体的には、液体状態の溶媒をボイラで加熱して気体状態とした後、ブロアによって送られるものであり、接触気体には、適宜空気を混合させてもよく、ブロアによって送られた後に加熱装置を経由させて更に加熱してもよい。ここで、空気は加熱されたものであることが好ましい。このようにして生成された接触気体の温度は、７０〜２００℃であることが好ましく、８０〜１６０℃であることがより好ましく、１００〜１４０℃であることが最も好ましい。上限温度よりも高いとフィルムのカールが強くなり、好ましくなく、下限温度よりも低いと十分な効果が得られないことがある。接触気体が水を含む場合には、その相対湿度は、２０〜１００％であることが好ましく、４０〜１００％であることがより好ましく、６０〜１００％であることが特に好ましい。
液体状態の溶媒は、水や有機溶媒や無機溶媒を含む溶媒を示す。水を用いる場合には、軟水、硬水や純水などを用いることができ、ボイラの保護の観点から軟水を用いることが好ましい。光学フィルムへの異物混入は、製品としての光学フィルムの光学特性や機械特性の劣化の原因となるため、できるだけ異物の少ない水を用いることが好ましい。したがって、光学フィルムへの異物混入を防ぐためには、軟水や純水を用いることが好ましく、純水を用いることがより好ましい。ここで、純水とは、電気抵抗率が少なくとも１ＭΩ以上であり、特にナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウムなどの金属イオンの含有濃度は１ｐｐｍ未満、塩素、硝酸などのアニオンは０．１ｐｐｍ未満の含有濃度を指す。純水は、逆浸透膜、イオン交換樹脂、蒸留などの単体、あるいは組み合わせによって、容易に得ることができる。有機溶媒を用いる場合には、メタノール、アセトンやメチルエチルケトンなどが挙げられる。なお、液体状態の溶媒は、接触気体を回収した回収気体を凝縮して得られた凝縮液を含んでいてもよい。
【０２０４】
−−接触工程−−
水蒸気接触工程における第２フィルムおよび第３フィルムと前述の接触気体との接触方法としては、接触気体を光学フィルムに当てる方法、接触気体で満たされた空間に第２フィルムおよび第３フィルムを配置する方法、又は接触気体で満たされた空間を通過させる方法を用いることができ、接触気体を第２フィルムおよび第３フィルムに当てる方法、又は接触気体で満たされた空間を通過させる方法が好ましい。また、光学フィルムと接触気体との接触は、第２フィルムおよび第３フィルムを千鳥状に配置された複数のローラーで搬送しながら実施されることが好ましい。
接触気体との接触時間は、特に限定されないが、効果が発揮される範囲内であれば、生産効率の点から出来るだけ短いほうが好ましい。処理時間の上限値として、例えば、３６００秒以下であることが好ましく、６００秒以下であることがより好ましい。一方、処理時間の下限値として、例えば、１０秒以上であることが好ましく、３０秒以上であることがより好ましい。
接触気体との接触するときの第２フィルムおよび第３フィルムの温度は特に限定されないが、５０〜１５０℃であることが好ましい。
また、水蒸気接触前の第２フィルムおよび第３フィルムの残留溶媒量は特に限定されないが、セルロースアシレート分子の流動性がほとんど消失していることが好ましく、０〜５質量％であることが好ましく、０〜０．３質量％であることがより好ましい。
第２フィルムおよび第３フィルムと接触した接触気体は、冷却装置が接続された凝縮装置に送られ、加熱気体と凝縮液とに分けられてもよい。
【０２０５】
−有機溶媒に接触させる工程−
第２フィルムおよび第３フィルムの製造方法においては、場合により、第２フィルムおよび第３フィルム表面に有機溶媒を接触、乾燥させることにより、例えば、第２フィルムおよび第３フィルム表面の密着性を向上させることもできる。したがって、第２フィルムおよび第３フィルムの片面だけに有機溶媒を接触させた場合、第２フィルムおよび第３フィルムを偏光子と直接貼合する場合には、有機溶媒に接触させた面を偏光子との貼合面とすることが好ましい。有機溶媒接触工程における第２フィルムおよび第３フィルムと有機溶媒との接触方法としては、一般的に知られた接触方法、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、スプレー法、ダイコート法、或いは、米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法、マイクログラビアコート法を用いることができる。また、水蒸気接触工程における主溶媒である水の代わりに有機溶媒を用いることにより、第２フィルムおよび第３フィルムと有機溶媒を接触させることもできる。
【０２０６】
−表面加工−
第２フィルムおよび第３フィルムを主な用途である画像表示装置の偏光板保護フィルムに用いる場合、溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等の光学フィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることがある。これらについては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む），金属支持体，乾燥，剥離などに分類され、好ましく用いることができる。
【０２０７】
−表面処理−
第２フィルムおよび第３フィルムは、場合により表面処理を行うことによって、第２フィルムおよび第３フィルムと各機能層（例えば、下塗層及びバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
【０２０８】
（第２フィルムおよび第３フィルムの用途および機能）
−機能層−
第２フィルムおよび第３フィルムは、画像表示装置用途に適用される。特に画像表示装置が液晶表示装置であることが好ましく、液晶表示装置が、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光子、及び液晶セルと偏光子との間に少なくとも一枚の光学補償シートを配置した構成であることが更に好ましい。これらの液晶表示装置としては、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＡＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＶＡ及びＨＡＮが好ましい。
その際に前述の第２フィルムおよび第３フィルムを画像表示装置に用いるに際し、各種の機能層を付与することが実施されてもよい。それらは、例えば、帯電防止層、硬化樹脂層（透明ハードコート層）、反射防止層、易接着層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層などである。本発明の偏光板は、第２フィルムの第１フィルムが積層された面とは反対側の面に、帯電防止層、硬化樹脂層、反射防止層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層から選ばれる機能性層を含むことが好ましい。これらの機能層及びその材料としては、界面活性剤、滑り剤、マット剤、帯電防止層、ハードコート層などが挙げられ、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁〜４５頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
【０２０９】
−位相差フィルム−
また、第２フィルムおよび第３フィルムは、位相差フィルムとして用いることができる。なお、「位相差フィルム」とは、一般に液晶表示装置等の表示装置に用いられ、光学異方性を有する光学材料のことを意味し、位相差板、光学補償フィルム、光学補償シートなどと同義である。液晶表示装置において、位相差フィルムは表示画面のコントラストを向上させたり、視野角特性や色味を改善したりする目的で用いられる。
第２フィルムおよび第３フィルムを用いることで、レタデーションが自在に制御され、偏光子との密着性に優れた位相差フィルムを作製することができる。
【０２１０】
また、第２フィルムおよび第３フィルムを複数枚積層したり、第２フィルムおよび第３フィルムとその他のフィルムとを積層したりしてＲｅやＲｔｈを適宜調整して位相差フィルムとして用いることもできる。フィルムの積層は、粘着材や接着剤を用いて実施することができる。
【０２１１】
また、場合により、第２フィルムおよび第３フィルムを位相差フィルムの支持体として用い、その上に液晶等からなる光学異方性層を設けて位相差フィルムとして使用することもできる。位相差フィルムに適用される光学異方性層は、例えば、液晶性化合物を含有する組成物から形成してもよいし、複屈折を持つポリマーフィルムから形成してもよいし、第２フィルムおよび第３フィルムから形成してもよい。
液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物又は棒状液晶性化合物が好ましい。
【０２１２】
−−ディスコティック液晶性化合物−−
液晶性化合物として使用可能なディスコティック液晶性化合物の例には、様々な文献（例えば、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載の化合物が含まれる。
【０２１３】
光学異方性層において、ディスコティック液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。また、ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。重合性基を有するディスコティック液晶性分子については、特開２００１−４３８７号公報に開示されている。
【０２１４】
−−棒状液晶性化合物−−
光学異方性層において、棒状液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。本発明に使用可能な重合性棒状液晶性化合物の例は、例えば、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４，６８３，３２７号明細書、同５，６２２，６４８号明細書、同５，７７０，１０７号明細書、国際公開第９５／２２５８６号パンフレット、同９５／２４４５５号パンフレット、同９７／００６００号パンフレット、同９８／２３５８０号パンフレット、同９８／５２９０５号パンフレット、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報等に記載の化合物が含まれる。
【０２１５】
−ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム−
第２フィルムおよび第３フィルムは、ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムとすることができる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、第２フィルムおよび第３フィルムの片面又は両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れかあるいは全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されている。
【０２１６】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の偏光板を含む画像表示装置である。
画像表示装置は、液晶表示装置であることが好ましい。
【０２１７】
＜液晶表示装置＞
一般に液晶表示装置は二枚の偏光板の間に液晶セルが設けられる。本発明の偏光板を二枚の偏光板のいずれに用いてもよいが、視認側（フロント側）の偏光板に用いることが好ましい。
【０２１８】
本発明の偏光板は、様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。以下に各液晶モードについて説明する。これらのモードのうち、本発明の偏光板は、全てのモードにおいて好ましく用いることができるが、特にＶＡモード及びＩＰＳモードの液晶表示装置に好ましく用いられる。これらの液晶表示装置は、透過型、反射型及び半透過型のいずれでもよい。
【０２１９】
（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明の偏光板は、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の位相差フィルムの支持体として第２フィルムおよび第３フィルムを用いた画像表示装置に用いることができる。ＴＮ型液晶表示装置に用いる位相差フィルムについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号及び特開平９−２６５７２号の各公報の他、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。
【０２２０】
（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明の偏光板は、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の位相差フィルムの支持体として第２フィルムおよび第３フィルムを用いた画像表示装置に用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる位相差フィルムについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
【０２２１】
（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明の偏光板は、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の位相差フィルムや位相差フィルムの支持体として第２フィルムおよび第３フィルムを用いた画像表示装置に用いてもよい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。これらの態様において第２フィルムおよび第３フィルムを用いた偏光板は視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。
【０２２２】
（ＩＰＳ型液晶表示装置及びＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明の偏光板は、ＩＰＳモード及びＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置及びＥＣＢ型液晶表示装置の位相差フィルムや位相差フィルムの支持体、又は偏光板の保護フィルムとして第２フィルムおよび第３フィルムを用いた画像表示装置に用いることが特に好ましい。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。
この態様においては、液晶セルの上下の偏光板の保護フィルムのうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護フィルム（セル側の保護フィルム）に第２フィルムを用いた偏光板を液晶セルの上下に用いることが好ましい。また、更に好ましくは、偏光板の保護フィルムと液晶セルの間に光学異方性層のレタデーションの値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定した光学異方性層を片側に配置するのが好ましい。
【０２２３】
（ＯＣＢ型液晶表示装置及びＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明の偏光板は、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置或いはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の位相差フィルムの支持体として第２フィルムおよび第３フィルムを用いた画像表示装置に用いてもよい。ＣＢ型液晶表示装置或いはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる位相差フィルムについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）に記載がある。
【０２２４】
（反射型液晶表示装置）
本発明の偏光板は、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の位相差フィルムとして第２フィルムおよび第３フィルムを用いた画像表示装置に用いてもよい。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、国際公開第９８／４８３２０号パンフレット、特許第３０２２４７７号公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる位相差フィルムについては、国際公開第００／６５３８４号パンフレットに記載がある。
【０２２５】
（その他の液晶表示装置）
本発明の偏光板は、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の位相差フィルムの支持体として第２フィルムおよび第３フィルムを用いた画像表示装置に用いてもよい。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されている。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置とについては、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ  ｅｔ  ａｌ．，ＳＩＤ  ９８  Ｄｉｇｅｓｔ  １０８９（１９９８））に記載がある。
更に、本発明の偏光板は、３Ｄ立体映像表示を表示することができる映像表示パネルで好ましく用いられる位相差フィルムや、位相差フィルムの支持体として第２フィルムおよび第３フィルムを用いた画像表示装置に用いることもできる。具体的には、第２フィルムまたは第３フィルムの全面にλ／４層を形成させたり、例えばライン状に交互に複屈折率が異なるパターン化された位相差層を形成させたりすることができる。第２フィルムおよび第３フィルムとして、従来のセルロースアシレートフィルムと比較して、湿度変化に対する寸法変化率が小さいフィルムを用いる場合、特に後者において好ましく用いることができる。
【実施例】
【０２２６】
以下に実施例を挙げて本発明の特徴を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０２２７】
［製造例］
＜第２フィルムおよび第３フィルムの製造と評価＞
第２フィルムおよび第３フィルムは、以下に示す材料と製造方法から表５または表６に記載のものを選択して製造した。
【０２２８】
（セルロースアシレート溶液の調製）
１〕セルロースアシレート
下記のセルロースアシレートＡを使用した。各セルロースアシレートは１２０℃に加熱して乾燥し、含水率を０．５質量％以下とした後、２０質量部を使用した。
【０２２９】
・セルロースアシレートＡ：
置換度が２．８６のセルロースアセテートの粉体を用いた。セルロースアシレートＡの粘度平均重合度は３００、６位のアセチル基置換度は０．８９、アセトン抽出分は７質量％、質量平均分子量／数平均分子量比は２．３、含水率は０．２質量％、６質量％ジクロロメタン溶液中の粘度は３０５ｍＰａ・ｓ、残存酢酸量は０．１質量％以下、Ｃａ含有量は６５ｐｐｍ、Ｍｇ含有量は２６ｐｐｍ、鉄含有量は０．８ｐｐｍ、硫酸イオン含有量は１８ｐｐｍ、イエローインデックスは１．９、遊離酢酸量は４７ｐｐｍであった。粉体の平均粒子サイズは１．５ｍｍ、標準偏差は０．５ｍｍであった。
【０２３０】
２〕添加剤
下記の添加剤群の中から下記表５または６に記載されるものを選択した。下記表５または６中、「添加量」は、フィルムを構成するポリマー質量を１００質量％としたときの質量％；（ｐｈｒ）を表す。量となるようにセルロースアシレート溶液への添加量を調整した。
−可塑剤−
・Ａ−１：トリフェニルホスフェート／ビフェニルジフェニルホスフェート（２／１質量比）の混合物
・Ｂ−１：下記構造の化合物
【化２３】
2015215605.tif 000029
・Ｃ−２：エタンジオール／フタル酸（１／１モル比）の縮合物の両末端の酢酸エステル体、数平均分子量８００、水酸基価０ｍｇＫＯＨ／ｇ
・Ｃ−３：エタンジオール／アジピン酸（１／１モル比）の縮合物、数平均分子量１０００、水酸基価１１２ｍｇＫＯＨ／ｇ
・Ｄ−１：下記構造の化合物
【化２４】
2015215605.tif 000030
【０２３１】
−紫外線吸収剤−
・Ｌ−１：下記構造の化合物
【化２５】
2015215605.tif 000031
【０２３２】
・Ｌ−２：下記構造の化合物
【化２６】
2015215605.tif 000032
【０２３３】
・Ｌ−３：下記構造の化合物
【化２７】
2015215605.tif 000033
【０２３４】
−その他添加剤−
・Ｒ−１：下記構造の化合物（偏光子耐久性を向上させる化合物）
【化２８】
2015215605.tif 000034
【０２３５】
−無機微粒子−
・Ｍ−１：
二酸化ケイ素微粒子（粒子サイズ１６ｎｍ、モース硬度約７）（０．０２質量部）
【０２３６】
・Ｍ−２：
二酸化ケイ素微粒子（粒子サイズ２０ｎｍ、モース硬度約７）（０．０５質量部）
【０２３７】
３〕溶媒
下記の溶媒の中から表５または６に記載される溶媒を選択し、８０質量部を使用した。各溶媒の含水率は０．２質量％以下であった。
・溶媒Ａ  ジクロロメタン／メタノール／ブタノール＝８１／１８／１（質量比）
・溶媒Ｂ  ジクロロメタン／メタノール＝８７／１３（質量比）
【０２３８】
４〕溶解
攪拌羽根を有する４０００リットルのステンレス製溶解タンクに、溶媒及び添加剤を投入して撹拌、分散させながら、セルロースアシレートを徐々に添加した。投入完了後、室温にて２時間撹拌し、３時間膨潤させた後に再度撹拌を実施し、セルロースアシレート溶液を得た。
なお、攪拌には、５ｍ／ｓｅｃ（剪断応力５×１０4ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ2〔４．９×１０5Ｎ／ｍ／ｓｅｃ2〕）の周速で攪拌するディゾルバータイプの偏芯攪拌軸及び中心軸にアンカー翼を有して周速１ｍ／ｓｅｃ（剪断応力１×１０4ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ2〔９．８×１０4Ｎ／ｍ／ｓｅｃ2〕）で攪拌する攪拌軸を用いた。膨潤は、高速攪拌軸を停止し、アンカー翼を有する攪拌軸の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとして実施した。
膨潤した溶液をタンクから、ジャケット付配管で５０℃まで加熱し、更に１．２ＭＰａの加圧化で９０℃まで加熱し、完全溶解した。加熱時間は１５分であった。この際、高温にさらされるフィルター、ハウジング、及び配管はハステロイ合金（登録商標）製で耐食性の優れたものを利用し保温加熱用の熱媒を流通させるジャケットを有する物を使用した。
次に３６℃まで温度を下げ、セルロースアシレート溶液を得た。
【０２３９】
このようにして得られた濃縮前ドープを８０℃で常圧のタンク内でフラッシュさせて、蒸発した溶剤を凝縮器で回収分離した。フラッシュ後のドープの固形分濃度は、２４．８質量％となった。なお、凝縮された溶剤は調製工程の溶剤として再利用すべく回収工程に回された（回収は蒸留工程と脱水工程などにより実施されるものである）。フラッシュタンクでは、中心軸にアンカー翼を有する軸を周速０．５ｍ／ｓｅｃで回転させることにより攪拌して脱泡を行った。タンク内のドープの温度は２５℃であり、タンク内の平均滞留時間は５０分であった。
【０２４０】
５〕ろ過
次に、最初公称孔径１０μｍの焼結繊維金属フィルターを通過させ、ついで同じく１０μｍの焼結繊維フィルターを通過させた。ろ過後のドープ温度は、３６℃に調整して２０００Ｌのステンレス製のストックタンク内に貯蔵した。
【０２４１】
（第２フィルムおよび第３フィルムの作製）
下記の製膜工程の中から表５または６に記載される工程を選択した。
−工程Ａ−
１）流延工程
続いてストックタンク内のドープを送液した。流延ダイは、幅が３．１ｍであり、流延幅を３０００ｍｍとし、共流延用に調整したフィードブロックを装備して、３層構造のフィルムを形成できるようにした。そして、前述のドープを分岐して、それぞれ主流（中間層）、支持体面側および反対側（エアー面側）の表層用として用い、表層用ドープだけに表５または表６に記載のマット剤を添加して、ダイ突出口のドープの流量を調整して流延を行った。表層用ドープの流量は、表層の膜厚が、支持体面側およびエアー面側ともに３ｕｍとなるようにドープの流量を調整した。ドープの温度を３６℃に調整するため、流延ダイにジャケットを設けてジャケット内に供給する伝熱媒体の入口温度を３６℃とした。
ダイ、フィードブロック、配管はすべて作業工程中で３６℃に保温した。
【０２４２】
２）流延ダイ
ダイの材質は、オーステナイト相とフェライト相との混合組成を持つ２相系ステンレス鋼であり、熱膨張率が２×１０-6（℃-1）以下の素材であり、電解質水溶液での強制腐食試験でＳＵＳ３１６と略同等の耐腐食性を有する素材を使用した。
また、流延ダイのリップ先端には、溶射法によりＷＣコーティングを形成したものを用いた。また、ドープを可溶化する溶剤である混合溶媒（ジクロロメタン／メタノール／ブタノール（８３／１５／２質量部））をビード端部とスリットの気液界面に片側で０．５ｍｌ／分で供給した。
【０２４３】
３）金属支持体
ダイから押出されたドープは、支持体として幅３．５ｍで直径が３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体を利用した。表面はニッケル鋳金及びハードクロムメッキを行った。ドラムの表面粗さは０．０１μｍ以下に研磨し、５０μｍ以上のピンホールは皆無であり、１０〜５０μｍのピンホールは１個／ｍ2以下、１０μｍ以下のピンホールは２個／ｍ2以下である支持体を使用した。このとき、ドラムの温度は−５℃に設定し、ドラムの周速度が１００ｍ／分となるようにドラムの回転数を設定した。
【０２４４】
４）流延乾燥
続いて、１５℃に設定された空間に配置されているドラム上に流延され、冷却されてゲル化したドープは、ドラム上で３２０°回転した時点でゲル化フィルム（ウェブ）として剥ぎ取られた。このとき、支持体速度に対して剥ぎ取り速度を調整して、搬送方向に延伸した。搬送方向への延伸倍率と共に延伸方向をＭＤと下記表５、表６に記載した。但し、表５において延伸方向をＴＤと記載したフィルムは搬送方向の延伸倍率が１％以内であった。延伸時の残留溶媒量は１７０〜２８０質量％の間であった。
【０２４５】
５）テンター搬送・乾燥工程条件
剥ぎ取られたウェブは、ピンクリップを有するテンターで両端を固定したまま、もしくは幅方向に延伸を行った後、乾燥ゾーン内を搬送され、乾燥風により乾燥した。下記表５において延伸方向をＴＤと記載したフィルムは幅方向に延伸したことを表し、その延伸倍率も下記表５に記載した。下記表５において延伸方向をＭＤと記載したフィルムは、ウェブは、ピンクリップを有するテンターで両端を固定したままで乾燥ゾーン内を搬送されたため、幅方向の延伸倍率は０〜１％であった。
【０２４６】
−工程Ｂ−
１）流延工程
続いてストックタンク内のドープを送液した。流延ダイは、幅が３．１ｍであり、流延幅を３０００ｍｍとし、共流延用に調整したフィードブロックを装備して、３層構造のフィルムを形成できるようにした。そして、前述のドープを分岐して、それぞれ主流（中間層）、支持体面側および反対側（エアー面側）の表層用として用い、表層用ドープだけに表５記載のマット剤を添加して、ダイ突出口のドープの流量を調整して流延を行った。表層用ドープの流量は、表層の膜厚が、支持体面側およびエアー面側ともに２ｕｍとなるようにドープの流量を調整した。ドープの温度を３０℃に調整するため、流延ダイにジャケットを設けてジャケット内に供給する伝熱媒体の入口温度を３０℃とした。
ダイ、フィードブロック、配管はすべて作業工程中で３０℃に保温した。
【０２４７】
２）流延ダイ
ダイの材質は、オーステナイト相とフェライト相との混合組成を持つ２相系ステンレス鋼であり、熱膨張率が２×１０-6（℃-1）以下の素材であり、電解質水溶液での強制腐食試験でＳＵＳ３１６と略同等の耐腐食性を有する素材を使用した。
また、流延ダイのリップ先端には、溶射法によりＷＣコーティングを形成したものを用いた。また、ドープを可溶化する溶剤である混合溶媒（ジクロロメタン／メタノール（８５／１５質量部））をビード端部とスリットの気液界面に片側で０．５ｍｌ／分で供給した。
【０２４８】
３）金属支持体
ダイから押出されたドープは、支持体としてバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体を利用した。このとき、バンドの温度は１５℃に設定し、バンドの周速度が５０ｍ／分となるように設定した。
【０２４９】
４）流延乾燥
続いて、１５℃に設定された空間に配置されているバンド上に流延され、乾燥が進行して自己支持性が出たドープは、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で溶媒を含むフィルム（ウェブ）として剥ぎ取られた。
剥ぎ取られたウェブは、ウェブの引き取り速度を調整することによって搬送方向に延伸した。搬送方向への延伸倍率と共に延伸方向をＭＤと表５、表６に記載した。延伸時の残留溶媒量は４０〜１５０質量％の間であった。
【０２５０】
５）テンター搬送・乾燥工程条件
延伸が終わったウェブは、クリップを有するテンターで両端を固定されながら乾燥ゾーン内を搬送され、乾燥風により乾燥した。ウェブは、クリップを有するテンターで両端を固定したままで乾燥ゾーン内を搬送されたため、幅方向の延伸倍率は０〜１％であった。
【０２５１】
上記製膜工程で作製されたフィルムは、続けて下記の乾燥、後処理、巻取り工程を経て表５または６に記載の第２フィルムまたは第３フィルムとした。
【０２５２】
６）後乾燥工程条件
前述した方法で得られた耳切り後のフィルムを、ローラー搬送ゾーンで更に乾燥した。ローラーの材質はアルミ製若しくは炭素鋼製であり、表面にはハードクロム鍍金を施した。ローラーの表面形状はフラットなものとブラストによりマット化加工したものとを用いた。作製したフィルムを温度１００〜１４０℃、２０分にて後熱処理を行った。
【０２５３】
７）後処理、巻取り条件
乾燥後のフィルムは、３０℃以下に冷却して両端耳切りを行った。耳切りはフィルム端部をスリットする装置をフィルムの左右両端部に、２基ずつ設置して（片側当たりスリット装置数は２基）、フィルム端部をスリットした。更にフィルムの両端にナーリングを行った。ナーリングは片側からエンボス加工を行うことで付与した。こうして、最終製品幅２０００ｍｍのフィルムを得て、巻取り機により巻取り、第２フィルムまたは第３フィルムを作製した。
【０２５４】
なお、表５に記載のフィルム１４〜１８は、富士フイルム（株）製の市販のタックフィルムであるＴＤ８０ＵＬ（フィルム１４）、Ｔ８０ＵＺ（フィルム１５）、ＴＤ６０ＵＬ（フィルム１６）、ＴＤ４０ＵＣ（フィルム１７）、ＴＤ４０ＵＴ（フィルム１８）を購入し、そのまま使用した。
【０２５５】
（フィルムの評価）
各実施例および比較例の偏光板に用いた第２フィルムおよび第３フィルムのＲｅ、Ｒｔｈを本明細書中に記載の方法で測定した。
各実施例および比較例の偏光板に用いた後述の第１フィルム、第２フィルムおよび第３フィルムの膜厚、弾性率、湿度寸法変化率および音波伝播速度を以下の方法で測定した。
得られた結果を下記表５〜表７に示した。
【０２５６】
−膜厚−
第１フィルム、第２フィルムおよび第３フィルムの厚さは、（株）ミツトヨ製高精度デジタル測長機（ＶＬ−５０−Ｂ）を用いて測定した。
【０２５７】
−弾性率−
作製した第１フィルム、第２フィルムおよび第３フィルムから、第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向またはこれと直交する方向を長手方向として２００ｍｍ（測定方向）×１０ｍｍのサンプルを切り出し、東洋ボールドウィン（株）製万能引っ張り試験機“ＳＴ
Ｍ  Ｔ５０ＢＰ”を用い、２５℃、相対湿度６０％雰囲気で２４時間調湿した後、引張速
度１０％／分で０．１％伸びと０．５％伸びにおける応力を測定し、その傾きから弾性率を求めた。
弾性率は、第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向における弾性率と、第１フィルムの吸収軸方向と直交する方向における弾性率をそれぞれ測定した。
第２フィルムについてはさらにＥ2//／Ｅ2⊥の値を計算した。
【０２５８】
−湿度寸法変化率−
第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向またはこれと直交する方向を長手方向として長さ１２ｃｍ（測定方向）、幅３ｃｍのフィルム試料を切り出し、試料に１０ｃｍの間隔でピン孔を空け、６０℃相対湿度９０％の環境で４８時間保持した後、２５℃相対湿度８０％にて２４時間調湿後、ピン孔の間隔をピンゲージで測長する（測定値をＬ80とする）。次いで、試料を２５℃相対湿度６０％にて２４時間調湿後、ピン孔の間隔をピンゲージで測長する（測定値をＬ60とする）。続いて試料を２５℃相対湿度１０％にて４８時間調湿後、ピン孔の間隔をピンゲージで測長する（測定値をＬ10とする）。
これらの測定値を用いて下記式により湿度寸法変化率を算出する。
相対湿度１０％と８０％との湿度寸法変化率［％］＝｜Ｌ10−Ｌ80｜／Ｌ60
第１フィルム、第２フィルムおよび第３フィルムの第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向の湿度寸法変化率も、第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向の湿度寸法変化率も、フィルムの相対湿度１０％と８０％との寸法変化を相対湿度６０％での寸法に対して百分率で表した湿度寸法変化率とした。
【０２５９】
−音波伝播速度−
本発明において音波伝播速度が最大となる方向は、第１フィルム、第２フィルムおよび第３フィルムを２５℃、相対湿度６０％にて２４時間調湿後、配向性測定機（ＳＳＴ−２５００：野村商事（株）製）を用いて、超音波パルスの縦波振動の伝搬速度が最大となる方向として求めた。
第１フィルム、第２フィルムおよび第３フィルムの音波伝播速度が最大となる方向は、第１フィルムの吸収軸方向と平行な方向と一致した。
【０２６０】
［実施例１〜１８および比較例１〜１０］
＜偏光板１〜２８の作製と評価＞
（偏光板の作製）
−〔１〕光学フィルムの鹸化−
下記表５または表６に記載の各第２フィルムまたは第３フィルムを５５℃に調温した４．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウム水溶液（けん化液）に３０秒間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、更に水洗浴を通した。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理した第２フィルムまたは第３フィルムを作製した。
【０２６１】
−〔２〕偏光子の作製−
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１の作製方法に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、偏光子を作製した。使用した長尺ポリビニルアルコールフィルム原反の厚みを変更し、下記表７記載の第１フィルムとして用いるフィルム９１〜９３を得た。
【０２６２】
−〔３〕貼り合わせ
このようにして得た下記表７に記載の第１フィルムである偏光子の一方の面に、鹸化処理した下記表５に記載の第２フィルムを、もう一方の面に下記表６に記載の第３フィルムを配置した後、ＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、ロールツーロールで貼り合わせて各実施例および比較例の偏光板１〜２８を作製した。
【０２６３】
（偏光板の評価）
−〔１〕初期偏光度−
各実施例および比較例の偏光板を４０ｍｍ角で切り出し、偏光度を前述した方法で算出したところ、全ての偏光板の偏光度が９９．９％であった。
【０２６４】
−〔２〕経時偏光度１−
各実施例および比較例の偏光板を４０ｍｍ角で切り出し、各偏光板について第３フィルムがある場合は、その面に粘着材層を形成し、第３フィルムがない場合は、第１フィルムの第２フィルムとは反対面に粘着材層を形成した。粘着材層は、特開２００３−５０３１３号公報の実施例１に開示されている方法により形成した。それぞれ粘着材でガラス板に貼り合わせ、６０℃・相対湿度９０％の条件で５００時間放置し、放置後の偏光度（経時偏光度１）を前述の方法で算出したところ、全ての偏光板の偏光度が９９．９％であった。
【０２６５】
−〔３〕経時偏光度２−
経時偏光度１の評価と同様に、偏光板を４０ｍｍ角で切り出し、ガラス板に貼り合わせ、８０℃・相対湿度１０％の環境で５００時間放置し、放置後の偏光度（経時偏光度２）を前述の方法で算出したところ、全ての偏光板の偏光度が９９．９％であった。
【０２６６】
−〔４〕ヒートサイクル割れ−
偏光板を７００ｍｍ×４００ｍｍのサイズで切り出し、表８記載の偏光板を粘着材層を介してガラス板に貼合した。各偏光板について第３フィルムがある場合は、その面に粘着材層を形成し、第３フィルムがない場合は、第１フィルムの第２フィルムとは反対面に粘着材層を形成した。粘着材層は、特開２００３−５０３１３号公報の実施例１に開示されている方法により形成した。各偏光板とガラス板の積層体を低温−４０℃、高温＋７０℃の試験条件で５００サイクルの試験を行い、試験後の偏光板の外観を確認し、以下の基準で評価した。ヒートサイクル割れはＡまたはＢ評価であることが実用上必要であり、Ａ評価であることが好ましい。得られた結果を下記表８に記載した。
この方法は、本発明の偏光板を内蔵する液晶表示装置が寒冷地の室内で使用される場合を想定し、高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下における偏光板割れ、すなわち偏光板のヒートサイクル耐久性を評価する為のものである。
（偏光板割れ状況）
Ａ：割れは見られなかった。
Ｂ：奥行き０．２ｍｍ未満の僅かな割れが確認された。
Ｃ：奥行き０．２ｍｍ以上の割れが確認された。
【０２６７】
−〔５〕液晶表示装置への実装評価−
（ＩＰＳ型液晶表示装置への実装／初期性能）
市販の液晶テレビ（ＩＰＳモードのスリム型４２型液晶テレビ；ＬＧ電子製４２ＬＳ５６００）から、液晶セルを挟んでいる一対の偏光板を剥し取り、作製した偏光板を第２フィルムが液晶セルとは反対側に配置されるように、粘着材層を介して液晶セルに再貼合した。各偏光板について第３フィルムがある場合は、その面に粘着材層を形成し、第３フィルムがない場合は、偏光子の第２フィルムとは反対面に粘着材層を形成した。粘着材層は、特開２００３−５０３１３号公報の実施例１に開示されている方法により形成した。組みなおした液晶テレビの表示特性を確認し、正面及び斜めからの輝度、色味を確認したところ、偏光板を貼りなおす前と同様に、良好な表示特性であることを確認した。なお、液晶セルを挟んでいる一対の偏光板のうち、視認側の偏光板だけを剥しとって、再貼合して評価した場合も、本表示特性は好ましいものであった。
【０２６８】
−−ＩＰＳ液晶表示装置への実装１（高温での温湿度変化  端部剥がれ）−−
作製した液晶表示装置を、６０℃・相対湿度９０％の環境で３日間保持した後に、７０℃、相対湿度１０％の環境で３日間保持した。このサイクルを７回繰返した後に、表示画面の周辺部を目視で観察した。偏光板端部の剥がれ（パネルからの浮き）を確認し、以下の基準で評価した。評価結果を表８に示す。高温での温湿度変化  端部剥がれはＡまたはＢ評価であることが実用上必要であり、Ａ評価であることが好ましい。得られた結果を下記表８に記載した。
この方法は、本発明の偏光板を内蔵する画像表示装置に組み込んだ場合に高温での温湿度変化が繰り返される環境下での端部剥がれ、すなわち画像表示装置の高温での温湿度変化が繰り返される環境下での耐久性を評価する為のものである。
（高温での温湿度変化後の端部剥がれ状況）
Ａ：剥がれや浮きは見られなかった。
Ｂ：奥行き０．２ｍｍ未満の僅かな剥がれが確認された。
Ｃ：奥行き０．２ｍｍ以上の剥がれが確認された。
Ｄ：奥行き０．２ｍｍ以上の剥がれが確認され、浮きも確認された。
【０２６９】
−−ＩＰＳ型液晶表示装置への実装２（湿度変動  輝度ムラ）−−
作製した液晶表示装置を、４５℃・相対湿度８０％の環境で１４日間保持した後に、２５℃・相対湿度６０％の環境に移し、黒表示状態で点灯させ続け、４時間後に目視観察して、正面方向の輝度ムラを評価した。湿度変動  輝度ムラはＡまたはＢ評価であることが実用上必要であり、Ａ評価であることが好ましい。評価結果を表８に示す。得られた結果を下記表８に記載した。
この方法は、本発明の偏光板を内蔵する画像表示装置に組み込んだ場合に湿度変動が大きい環境下での輝度ムラ、すなわち画像表示装置の湿度変動耐久性を評価する為のものである。
（正面方向の輝度ムラ）
画像表示装置正面から観察した場合の黒表示時の輝度ムラを観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：照度１００ｌｘの環境下でムラが全く視認されない
Ｂ：照度１００ｌｘの環境下でムラがほとんど視認されない
Ｃ：照度１００ｌｘの環境下で淡いムラが視認される
Ｄ：照度１００ｌｘの環境下で明確なムラが視認される
Ｅ：照度３００ｌｘの環境下で明確なムラが視認される
【０２７０】
【表５】
2015215605.tif 000035
【０２７１】
【表６】
2015215605.tif 000036
【０２７２】
【表７】
2015215605.tif 000037
【０２７３】
【表８】
2015215605.tif 000038
【０２７４】
上記表５〜８より、本発明の偏光板は、画像表示装置に組み込んだ場合に高温で温湿度変化が繰り返される環境下での偏光板の端部剥がれを抑制でき、画像表示装置に組み込んだ場合に湿度変動が大きい環境下での輝度ムラを抑制でき、かつ高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下での偏光板割れを抑制できる偏光板であることがわかった。
一方、比較例１〜４および８〜１０の偏光板１〜４および２３〜２５より、値Ｘまたは値ｘが本発明で規定する上限値を超えると、画像表示装置に組み込んだ場合に湿度変動が大きい環境下での輝度ムラが発生することがわかった。
比較例５および６の偏光板５および１０より、値Ｙまたは値ｙが本発明で規定する上限値を超えると、高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下での偏光板割れが発生し、画像表示装置に組み込んだ場合に高温で温湿度変化が繰り返される環境下での端部剥がれが発生することがわかった。
比較例７の偏光板１２より、値Ｘまたは値ｘが本発明で規定する上限値を超え、かつ、値Ｙまたは値ｙが本発明で規定する上限値を超えると、高温と低温のヒートサイクルが繰り返される環境下での偏光板割れが発生し、画像表示装置に組み込んだ場合に高温で温湿度変化が繰り返される環境下での端部剥がれが発生し、画像表示装置に組み込んだ場合に湿度変動が大きい環境下での輝度ムラが発生することがわかった。