(57)【要約】【課題】高温条件に長時間曝された場合の位相差の低下及び色相の変化が少なく、且つパターンを構成する領域間の輪郭が明確な、複屈折パターンを有する層を備える物品を容易に製造しうる製造方法及びそのような偽造防止媒体を提供する。【解決手段】基材の面上に、順波長分散重合性液晶化合物を含む光重合性の液晶組成物を塗布して液晶組成物層を形成し、前記液晶組成物層中の前記順波長分散光重合性液晶化合物を配向させ、前記液晶組成物層を乾燥させ、前記基材及び乾燥した状態の前記液晶組成物層を有する複層物を得る工程、透過率の異なる複数の領域を有する遮光マスクを介し前記複層物に３５０〜４００ｎｍの光を照射し、前記液晶組成物層を半硬化する工程、前記複層物をＴＮＩ以上に加熱する工程、及び加熱温度を維持して、前記液晶組成物層を本硬化し、前記基材上に前記複屈折パターン層を形成する工程を含む、製造方法。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複屈折パターン層を備える物品の製造方法であって、
（Ｉ）基材の面上に、順波長分散重合性液晶化合物を含む光重合性の液晶組成物を塗布して液晶組成物層を形成し、前記液晶組成物層中の前記順波長分散光重合性液晶化合物を配向させ、前記液晶組成物層を乾燥させ、前記基材及び乾燥した状態の前記液晶組成物層を有する複層物を得る工程、
（ＩＩ）透過率の異なる複数の領域を有する遮光マスクを介して、２０〜４０℃の温度下、前記複層物に３５０〜４００ｎｍの光を照射し、前記液晶組成物層を半硬化する工程であって、前記照射は、少なくとも前記複数の領域の少なくとも１以上において、前記液晶組成物層上への照射強度が０を超え１０ｍＪ／ｃｍ２以下である工程、
（ＩＩＩ）前記複層物をＴＮＩ以上に加熱する工程、及び
（ＩＶ）工程（ＩＩＩ）における加熱温度を維持して、前記液晶組成物層に、照射強度１００ｍＪ／ｃｍ２以上の光を照射して、前記液晶組成物層を本硬化し、前記基材上に前記複屈折パターン層を形成する工程
を含む、製造方法。
【請求項２】
前記基材が、脂環式構造含有重合体を含む樹脂のフィルムである、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記工程（ＩＩ）において、光の照射を、空気雰囲気下において、前記複層物の前記基材側の面に行なう、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記工程（ＩＶ）において、光の照射を、窒素雰囲気下において行なう、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記遮光マスクが、透過率の異なる３つ以上の領域を有し、前記工程（ＩＩ）において、前記遮光マスクの前記領域のそれぞれに対応した前記液晶組成物層の領域において、３以上の異なる照射強度で光の照射が行なわれる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
前記複屈折パターン層が、位相差の異なる３つ以上の領域を有し、前記複屈折パターン層を８０℃で１時間処理した後の位相差量変化がいずれの領域においても５％以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記複屈折パターン層が、位相差の異なる３つ以上の領域を有し、前記複屈折パターン層を８０℃で１時間処理した後の色相変化がいずれの領域においても５％以下である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法により得られる物品を含む偽造防止媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偽造防止媒体等の用途に有用な物品の製造方法、及び偽造防止媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学的な用途に用いる物品であって、異なる位相差を有する複屈折パターンを有するフィルム状の物品は、種々の用途に用いることができる。かかる用途の一つとして、偽造防止媒体としての用途がある。偽造防止媒体は、真正な製品に付して、当該製品の真正性を識別する媒体である。偽造防止媒体のより具体的な態様の例としては、偏光板などの特定のフィルタを介して観察した際に、特定の模様等が観察され、これにより製品の真正性を識別しうる媒体が挙げられる。
【０００３】
複屈折パターンを有する物品の既知の製造方法の例としては、特許文献１〜４に記載される方法が挙げられる。これらの文献に記載される方法では、液晶相を呈した重合性の化合物を、配向状態を維持したまま重合し、その後露光条件の異なる露光を行い、さらに重合体の層をベークすることにより、複屈折パターンを固定化することが行なわれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−２８２１５３号公報
【特許文献２】特開２０１１−０３３７９１号公報
【特許文献３】特開２００９−６９７９３号公報
【特許文献４】特開２００９−１７５２０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような方法によって形成された、複屈折パターンを有する物品は、高温条件に長時間曝されると、ベークによって固定化された位相差が容易に等方化し、位相差が低下してしまい、また、色相が変化しやすく、本来意図した意匠性及び識別性を発現できなくなってしまうという問題点がある。
【０００６】
また、このような方法によって形成された、複屈折パターンを有する物品においては、パターンを構成する領域間の輪郭が曖昧となり、意匠性及び識別性が乏しくなる場合がある。
【０００７】
従って、本発明の目的は、高温条件に長時間曝された場合の位相差の低下及び色相の変化が少なく、且つパターンを構成する領域間の輪郭が明確な、複屈折パターンを有する層を備える物品を容易に製造しうる製造方法を提供することにある。
【０００８】
本発明の別の目的は、高温条件に長時間曝された場合の位相差の低下及び色相の変化が少なく、且つパターンを構成する領域間の輪郭が明確で、容易に製造しうる偽造防止媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は前記の課題を解決するべく検討した結果、従来技術において採用されている、既に重合した重合体のベークによる位相差の固定を行なうのに代えて、光照射による２段階の重合と、その間における、液晶化合物を等方化させる工程とを組み合わせ、さらに、照射する光を特定の波長とすることにより、上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明によれば、以下のものが提供される。
【００１０】
〔１〕  複屈折パターン層を備える物品の製造方法であって、
（Ｉ）基材の面上に、順波長分散重合性液晶化合物を含む光重合性の液晶組成物を塗布して液晶組成物層を形成し、前記液晶組成物層中の前記順波長分散光重合性液晶化合物を配向させ、前記液晶組成物層を乾燥させ、前記基材及び乾燥した状態の前記液晶組成物層を有する複層物を得る工程、
（ＩＩ）透過率の異なる複数の領域を有する遮光マスクを介して、２０〜４０℃の温度下、前記複層物に３５０〜４００ｎｍの光を照射し、前記液晶組成物層を半硬化する工程であって、前記照射は、少なくとも前記複数の領域の少なくとも１以上において、前記液晶組成物層上への照射強度が０を超え１０ｍＪ／ｃｍ２以下である工程、
（ＩＩＩ）前記複層物をＴＮＩ以上に加熱する工程、及び
（ＩＶ）工程（ＩＩＩ）における加熱温度を維持して、前記液晶組成物層に、照射強度１００ｍＪ／ｃｍ２以上の光を照射して、前記液晶組成物層を本硬化し、前記基材上に前記複屈折パターン層を形成する工程
を含む、製造方法。
〔２〕  前記基材が、脂環式構造含有重合体を含む樹脂のフィルムである、〔１〕に記載の製造方法。
〔３〕  前記工程（ＩＩ）において、光の照射を、空気雰囲気下において、前記複層物の前記基材側の面に行なう、〔１〕又は〔２〕に記載の製造方法。
〔４〕  前記工程（ＩＶ）において、光の照射を、窒素雰囲気下において行なう、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の製造方法。
〔５〕  前記遮光マスクが、透過率の異なる３つ以上の領域を有し、前記工程（ＩＩ）において、前記遮光マスクの前記領域のそれぞれに対応した前記液晶組成物層の領域において、３以上の異なる照射強度で光の照射が行なわれる、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の製造方法。
〔６〕  前記複屈折パターン層が、位相差の異なる３つ以上の領域を有し、前記複屈折パターン層を８０℃で１時間処理した後の位相差量変化がいずれの領域においても５％以下である、〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の製造方法。
〔７〕  前記複屈折パターン層が、位相差の異なる３つ以上の領域を有し、前記複屈折パターン層を８０℃で１時間処理した後の色相変化がいずれの領域においても５％以下である、〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の製造方法。
〔８〕  〔１〕〜〔７〕のいずれか１項に記載の製造方法により得られる物品を含む偽造防止媒体。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の物品の製造方法によれば、高温条件に長時間曝された場合の位相差の低下及び色相の変化が少なく、且つパターンを構成する領域間の輪郭が明確な、複屈折パターンを有する層を備える物品を容易に製造しうる。また、本発明の偽造防止媒体は、高温条件に長時間曝された場合の位相差の低下及び色相の変化が少なく、且つパターンを構成する領域間の輪郭が明確で、容易に製造しうる偽造防止媒体としうる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明の製造方法の工程（Ｉ）で得られる複層物の一例を概略的に示す斜視図である。
【図２】図２は、本発明の製造方法の工程（ＩＩ）の操作の一例を概略的に示す斜視図である。
【図３】図３は、図２に例示した工程を含む本発明の製造方法により形成された複層パターン層を模式的に示す平面図である。
【図４】図４は、本発明の偽造防止媒体の真正性識別の観察により、模様が観察される原理を模式的に説明する斜視図である。
【図５】図５は、実施例及び比較例で用いたバンドパスフィルターの、波長と透過率との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、例示物及び実施形態を挙げて本発明について詳細に説明するが、本発明は以下に挙げる例示物及び実施形態に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。
本願において、別に断らない限り、位相差の測定は、波長５５０ｎｍの光について測定した値を採用する。
【００１４】
〔１．製造方法：概要〕
本発明の製造方法は、複屈折パターン層を備える物品の製造方法であって、
（Ｉ）基材の面上に、順波長分散重合性液晶化合物を含む光重合性の液晶組成物を塗布して液晶組成物層を形成し、前記液晶組成物層中の前記順波長分散光重合性液晶化合物を配向させ、前記液晶組成物層を乾燥させ、前記基材及び乾燥した状態の前記液晶組成物層を有する複層物を得る工程、
（ＩＩ）透過率の異なる複数の領域を有する遮光マスクを介して、２０〜４０℃の温度下、前記複層物に３５０〜４００ｎｍの光を照射し、前記液晶組成物層を半硬化する工程であって、前記照射は、少なくとも前記複数の領域の少なくとも１以上において、前記液晶組成物層上への照射強度が０を超え１０ｍＪ／ｃｍ２以下である工程、
（ＩＩＩ）前記複層物をＴＮＩ以上に加熱する工程、及び
（ＩＶ）工程（ＩＩＩ）における加熱温度を維持して、前記液晶組成物層に、照射強度１００ｍＪ／ｃｍ２以上の光を照射して、前記液晶組成物層を本硬化し、前記基材上に前記複屈折パターン層を形成する工程
を含む。
【００１５】
〔１．１．基材〕
本発明に用いる基材は、特に限定されず、本発明の製造方法に用いうる各種のフィルムを用いうる。
特に、工程（ＩＩ）において、光を、基材を通して液晶組成物層に到達させる操作を含む場合、基材は、工程（ＩＩ）で用いる光の透過率がある程度以上高いものである必要がある。具体的には、工程（ＩＩ）で用いる光の透過率が、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上のものを用いうる。
【００１６】
本発明の製造方法に基材を用いた後、これを複屈折パターン層から剥離せずにそのまま物品の一部とする場合は、基材は、可視光を透過しうるものであって、且つ、複屈折Δｎが小さいものであることが好ましい。基材の可視光透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上としうる。また、基材の複屈折Δｎは、波長５５０ｎｍの透過光に対する値として、好ましくは５×１０−５以下、より好ましくは３×１０−５以下としうる。
【００１７】
好ましい態様において、基材は、その表面が配向規制力を有するものとしうる。その場合、その上に直接液晶組成物を塗布することにより、液晶化合物を配向させうる。また、別の態様において、基材の表面上に、配向膜等の配向規制力を付与しうる層を形成し、これを工程（Ｉ）に用いうる。その場合、工程（Ｉ）において、当該層の上に液晶組成物を塗布することにより、液晶化合物を配向させうる。基材の表面に配向規制力を付与する処理の例としては、ラビング処理、及び基材の延伸処理が挙げられる。
【００１８】
工程（Ｉ）に供するのに先立ち、基材には、液晶組成物を塗布した際の濡れ性を向上させるための処理を行いうる。かかる処理としては、塗布する液晶組成物の組成に応じた既知の各種の処理を採用しうる。例えば、コロナ放電処理を行いうる。
【００１９】
基材の材質は、特に限定されず、種々の樹脂を用いうる。樹脂の例としては、各種の重合体を含む樹脂が挙げられる。当該重合体としては、脂環式構造含有重合体、セルロースエステル、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ＵＶ透過アクリル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、エポキシ重合体、ポリスチレン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。これらの中でも、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性等の観点から、脂環式構造含有重合体及びセルロースエステルが好ましく、さらに、低複屈折の状態で、本発明の工程に良好に用いうる観点から、脂環式構造含有重合体がより好ましい。
【００２０】
脂環式構造含有重合体は、繰り返し単位中に脂環式構造を有する非晶性の重合体であり、主鎖中に脂環式構造を含有する重合体及び側鎖に脂環式構造を含有する重合体のいずれも用いることができる。
脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。
１つの脂環式構造の繰り返し単位を構成する炭素数に特に制限はないが、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ましくは６〜１５個である。
【００２１】
脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は使用目的に応じて適宜選択されるが、通常５０重量％以上、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは９０重量％以上である。
脂環式構造を有する繰り返し単位が過度に少ないと、フィルムの耐熱性が低下するおそれがある。
【００２２】
脂環式構造含有重合体は、具体的には、（１）ノルボルネン重合体、（２）単環の環状オレフィン重合体、（３）環状共役ジエン重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。
これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン重合体及びこれらの水素添加物がより好ましい。
【００２３】
ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネンモノマーの開環重合体、ノルボルネンモノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素添加物；ノルボルネンモノマーの付加重合体、ノルボルネンモノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体などが挙げられる。
これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネンモノマーの開環重合体水素添加物が最も好ましい。
上記の脂環式構造含有重合体は、例えば特開２００２−３２１３０２号公報等に開示されている公知の重合体から選ばれる。
【００２４】
脂環式構造含有重合体は、そのガラス転移温度が、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００〜２５０℃の範囲である。
ガラス転移温度がこのような範囲にある脂環式構造含有重合体は、高温下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。
【００２５】
脂環式構造含有重合体の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン（樹脂が溶解しない場合にはトルエン）を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」と略す。）で測定したポリイソプレン換算（溶媒がトルエンのときは、ポリスチレン換算）の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常１０，０００〜１００，０００、好ましくは２５，０００〜８０，０００、より好ましくは２５，０００〜５０，０００である。
重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度及び成形加工性が高度にバランスされ好適である。
【００２６】
脂環式構造含有重合体の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は特に制限されないが、通常１〜１０、好ましくは１〜４、より好ましくは１．２〜３．５の範囲である。
【００２７】
脂環式構造含有重合体を含む樹脂は、その分子量２，０００以下の樹脂成分（すなわち、オリゴマー成分）の含有量が、好ましくは５重量％以下、より好ましくは３重量％以下、さらに好ましくは２重量％以下である。
オリゴマ一成分の量が前記範囲内にあると、表面における微細な凸部の発生が減少し、厚みむらが小さくなり面精度が向上する。
オリゴマー成分の量を低減するためには、重合触媒や水素化触媒の選択、重合、水素化等の反応条件、樹脂を成形用材料としてペレット化する工程における温度条件、等を最適化すればよい。
オリゴマーの成分量は、前述のＧＰＣによって測定することができる。
【００２８】
基材の材質として脂環式構造含有重合体を含む樹脂を用いた場合の、基材の厚みは特に制限されないが、生産性の向上、薄型化及び軽量化を容易にする観点から、その厚みは、通常１〜１０００μｍ、好ましくは５〜３００μｍ、より好ましくは３０〜１００μｍである。
【００２９】
脂環式構造含有重合体を含む樹脂は、脂環式構造含有重合体のみからなってもよいが、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の配合剤を含んでもよい。脂環式構造含有重合体を含む樹脂中の、脂環式構造含有重合体の割合は、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上である。
脂環式構造含有重合体を含む樹脂の好適な具体例としては、日本ゼオン社製「ゼオノア１４２０」を挙げうる。
【００３０】
セルロースエステルとしては、セルロースの低級脂肪酸エステル（例：セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレートおよびセルロースアセテートプロピオネート）が代表的である。低級脂肪酸は、１分子あたりの炭素原子数６以下の脂肪酸を意味する。セルロースアセテートには、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）やセルロースジアセテート（ＤＡＣ）が含まれる。
【００３１】
セルロースアセテートの酢化度は、５０〜７０％が好ましく、特に５５〜６５％が好ましい。重量平均分子量７００００〜１２００００が好ましく、特に８００００〜１０００００が好ましい。また、上記セルロースアセテートは、酢酸だけでなく上記酢化度を満足する限り、一部プロピオン酸、酪酸等の脂肪酸でエステル化されていても良い。また、基材を構成する樹脂は、セルロースアセテートと、セルロースアセテート以外のセルロースエステル（セルロースプロピオネート及びセルロースブチレート等）とを組み合わせて含んでも良い。その場合、これらのセルロースエステルの全体が、上記酢化度を満足することが好ましい。
【００３２】
基材として、トリアセチルセルロースのフィルムを用いる場合、かかるフィルムとしては、トリアセチルセルロースを低温溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解することで調製されたトリアセチルセルロースドープを用いて作成されたトリアセチルセルロースフィルムが、環境保全の観点から特に好ましい。トリアセチルセルロースのフィルムは、共流延法により作製しうる。共流延法は、トリアセチルセルロースの原料フレークを溶媒に溶解し、これに必要に応じて任意の添加剤を添加し溶液（ドープ）を調製し、当該ドープをドープ供給手段（ダイ）から支持体の上に流延し、流延物をある程度乾燥して剛性が付与された時点でフィルムとして支持体から剥離し、当該フィルムをさらに乾燥して溶媒を除去することにより行いうる。原料フレークを溶解する溶媒の例としては、ハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等が挙げられる。ドープに添加する添加剤の例としては、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等が挙げられる。ドープを流延する支持体の例としては、水平式のエンドレスの金属ベルト、及び回転するドラムが挙げられる。流延に際しては、単一のドープを単層流延することもできるが、複数の層を共流延することもできる。複数の層を共流延する場合、例えば、低濃度のセルロースエステルドープの層と、そのおもて面及び裏面に接して設けられた高濃度のセルロースエステルドープの層が形成されるよう、複数のドープを順次流延しうる。フィルムを乾燥して溶媒を除去する手段の例としては、フィルムを搬送して、内部を乾燥に適した条件に設定した乾燥部を通過させる手段が挙げられる。
【００３３】
トリアセチルセルロースのフィルムの好ましい例としては、ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ（富士写真フィルム（株）製）等の公知のもの、及び発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号にて公開されたものが挙げられる。トリアセチルセルロースのフィルムの厚みは特に限定されないが、３０〜１５０μｍが好ましく、４０〜１３０μｍがより好ましく、７０〜１２０μｍが更に好ましい。
【００３４】
〔１．２．工程（Ｉ）〕
本発明の製造方法の工程（Ｉ）は、
（Ｉ−１）  基材の面上に、順波長分散重合性液晶化合物を含む光重合性の液晶組成物を塗布して液晶組成物層を形成し、
（Ｉ−２）  液晶組成物層中の順波長分散重合性液晶化合物を配向させ、
（Ｉ−３）  液晶組成物層を乾燥させる
ことを含む。これにより、基材及び乾燥した状態の前記液晶組成物層を有する複層物を得る。
本願においては、説明の便宜上、文脈上明らかな場合は、塗布後乾燥前の液晶組成物の層、乾燥後半硬化前の液晶組成物の層、及び半硬化後本硬化前の液晶組成物の層を、包括的に単に「液晶組成物層」と呼ぶことがある。
【００３５】
〔１．３．液晶組成物〕
工程（Ｉ）に用いる液晶組成物（以下において、当該組成物を、「組成物（Ａ）」と略称する場合がある。）は、順波長分散重合性液晶化合物を含む、光重合性の液晶組成物である。光重合性の液晶組成物とは、含まれる重合性の化合物が、光の照射により重合しうる化合物である。光重合性の液晶組成物は、通常、光重合開始剤と、かかる光重合開始剤の作用により重合反応を起こしうる、単量体としての重合性の化合物とを含むものとしうる。
【００３６】
組成物（Ａ）の成分としての液晶化合物とは、組成物（Ａ）に配合し配向させた際に、液晶相を呈しうる化合物である。重合性液晶化合物とは、かかる液晶相を呈した状態で組成物（Ａ）中で重合し、液晶相における分子の配向を維持したまま重合体となりうる液晶化合物である。さらに、順波長分散重合性液晶化合物とは、そのように重合体とした場合、得られた重合体が順波長分散を示す重合性液晶化合物である。
また、本願において、組成物（Ａ）の成分であって、重合性を有する化合物（重合性液晶化合物及びその他の重合性を有する化合物等）を総称して単に「重合性化合物」ということがある。
組成物（Ａ）は、工程（ＩＩ）において、波長３５０〜４００ｎｍの光により半硬化を行う必要があるため、重合性化合物及び／又は重合開始剤を適宜選択することにより、当該波長の光により重合されうる組成物とされる。
【００３７】
本願において、順波長分散とは、長波長において位相差が小さく、短波長において位相差が大きい、位相差の分散をいう。順波長分散重合性液晶化合物の重合体は、可視領域の全体において順波長分散を示すことが好ましいが、可視領域の代表的な値、例えば４００ｎｍ、５００ｎｍ及び７８０ｎｍの三点において測定を行い、この３点において順波長分散を示す重合性光液晶化合物を、本発明において順波長分散重合性液晶化合物として用いることができる。
【００３８】
本願の製造方法では、順波長分散重合性液晶化合物を用いることにより、得られる複屈折パターン層を、透過する光の波長に応じて異なる位相差を発現するものとすることができる。その結果、本発明の製造方法により得られる物品を含む偽造防止媒体において、真正性識別の観察における多色表示を達成することができる。
【００３９】
〔１．４．順波長分散重合性液晶化合物〕
重合性液晶化合物としては、重合性基を有する液晶化合物、側鎖型液晶ポリマーを形成しうる化合物などが挙げられる。重合性基を有する液晶化合物としては、例えば、特開平１１−５１３３６０号公報、特開２００２−０３００４２号公報、特開２００４−２０４１９０号公報、特開２００５−２６３７８９号公報、特開２００７−１１９４１５号公報、特開２００７−１８６４３０号公報などに記載された重合性基を有する棒状液晶化合物などが挙げられる。また、側鎖型液晶ポリマー化合物としては、例えば、特開２００３−１７７２４２号公報などに記載の側鎖型液晶ポリマー化合物などが挙げられる。また、好ましい液晶化合物の例を製品名で挙げると、ＢＡＳＦ社製「ＬＣ２４２」等が挙げられる。これらの液晶化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００４０】
〔１．５．重合性モノマー〕
組成物（Ａ）は、任意の成分として、重合性モノマーを含有しうる。本願において、「重合性モノマー」とは、重合性を有しモノマーとして働きうる化合物のうち、特に、順波長分散重合性液晶化合物以外の化合物をいう。
重合性モノマーとしては、例えば、１分子当たり１以上の重合性基を有するものを用いうる。そのような重合性基を有することにより、液晶樹脂フィルムの形成に際し重合を達成することができる。重合性モノマーが１分子当たり２以上の重合性基を有する架橋性モノマーである場合、架橋的な重合を達成することができる。かかる重合性基の例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びエポキシ基を挙げることができる。重合性モノマーの具体的な例としては、本願実施例において、化合物２として用いられる化合物を挙げることができる。
【００４１】
重合性モノマーは、それ自体が液晶性のものであってもよく、非液晶性のものであってもよい。ここで、それ自体が「非液晶性」であるとは、当該重合性モノマーそのものを、室温から２００℃のいずれの温度に置いた場合にも、配向処理をした基材上で配向を示さないものをいう。配向を示すかどうかは、偏光顕微鏡のクロスニコル透過観察にてラビング方向を面相で回転させた場合に、明暗のコントラストがあるかどうかで判断する。
【００４２】
組成物（Ａ）において、重合性モノマーの配合割合は、順波長分散重合性液晶化合物１００重量部に対し、通常、１〜１００重量部、好ましくは５〜５０重量部である。当該範囲内で、重合性モノマーの配合割合を、所望の順波長分散特性を示すように適宜調整することにより、順波長分散特性の精密な制御が容易となる。
重合性モノマーは、既知の製造方法により製造することができる。
【００４３】
〔１．６．組成物（Ａ）のその他の成分〕
組成物（Ａ）は、順波長分散重合性液晶化合物及び重合性モノマーに加えて、必要に応じて、以下に例示するもの等の任意の成分を含みうる。
【００４４】
組成物（Ａ）は、重合開始剤を含みうる。重合開始剤としては、組成物（Ａ）中の、順波長分散重合性液晶化合物、重合性モノマー及びその他の重合性化合物が有する重合性基の種類に応じて適宜選択しうる。例えば、重合性基がラジカル重合性であればラジカル重合開始剤を、アニオン重合性の基であればアニオン重合開始剤を、カチオン重合性の基であればカチオン重合開始剤を、それぞれ使用しうる。
【００４５】
ラジカル重合開始剤としては、可視光線、紫外線（ｉ線など）、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の露光により、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である光ラジカル発生剤を使用するのが好適である。
【００４６】
光ラジカル発生剤としては、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、Ｏ−アシルオキシム系化合物、オニウム塩系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、イミドスルホナート系化合物等を挙げることができる。これらの化合物は、露光によって活性ラジカルまたは活性酸、あるいは活性ラジカルと活性酸の両方を発生する成分である。光ラジカル発生剤は、一種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４７】
アセトフェノン系化合物の具体例としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１，２−オクタンジオン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−４’−モルフォリノブチロフェノン等を挙げることができる。
【００４８】
ビイミダゾール系化合物の具体例としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。
【００４９】
光重合開始剤としてビイミダゾール系化合物を用いる場合、水素供与体を併用することが、感度をさらに改良することができる点で好ましい。
「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。
【００５０】
メルカプタン系化合物としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン等を挙げることができる。アミン系化合物としては、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等を挙げることができる。
【００５１】
トリアジン系化合物としては、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン系化合物を挙げることができる。
【００５２】
Ｏ−アシルオキシム系化合物の具体例としては、１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−ヘプタン−１，２−ジオン  ２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−オクタン−１，２−ジオン  ２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−〔４−（ベンゾイル）フェニル〕−オクタン−１，２−ジオン  ２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン  １−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−［９−エチル−６−（３−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン  １−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−（９−エチル−６−ベンゾイル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）−エタノン  １−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）ベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等を挙げることができる。
【００５３】
光ラジカル発生剤としては、市販品をそのまま用いることもできる。具体例としては、ＢＡＳＦ社製の、商品名：イルガキュア９０７、商品名：イルガキュア１８４、商品名：イルガキュア３６９、品名：イルガキュア６５１、品名：イルガキュア８１９、品名：イルガキュア９０７、イルガキュア３７９、及び商品名：イルガキュア  ＯＸＥ０２、ＡＤＥＫＡ社製の、商品名：アデカオプトマーＮ１９１９等が挙げられる。
【００５４】
前記アニオン重合開始剤としては、例えば、アルキルリチウム化合物；ビフェニル、ナフタレン、ピレン等の、モノリチウム塩又はモノナトリウム塩；ジリチウム塩やトリリチウム塩等の多官能性開始剤；等が挙げられる。
【００５５】
また、前記カチオン重合開始剤としては、例えば、硫酸、リン酸、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のプロトン酸；三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズのようなルイス酸；芳香族オニウム塩又は芳香族オニウム塩と、還元剤との併用系；が挙げられる。
これらの重合開始剤は一種単独で、又は二種以上を組合わせて用いることができる。
組成物（Ａ）において、重合開始剤の配合割合は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、０．１〜３０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部である。
【００５６】
組成物（Ａ）は、表面張力を調整するための、界面活性剤を含みうる。当該界面活性剤としては、特に限定はないが、通常、ノニオン系界面活性剤が好ましい。当該ノニオン系界面活性剤としては、市販品を用いうる。例えば、分子量が数千程度のオリゴマーであるノニオン系界面活性剤、例えば、セイミケミカル（株）製ＫＨ−４０等が挙げられる。組成物（Ａ）において、界面活性剤の配合割合は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、０．０１〜１０重量部、好ましくは０．１〜２重量部である。
【００５７】
組成物（Ａ）は、有機溶媒等の溶媒を含みうる。かかる有機溶媒の例としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル類；及びトルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。溶媒の沸点は、取り扱い性に優れる観点から、６０〜２５０℃であることが好ましく、６０〜１５０℃であることがより好ましい。溶媒の使用量は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、１００〜１０００重量部である。
【００５８】
組成物（Ａ）は、さらに、架橋剤、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等の任意の添加剤を含みうる。本発明の重合性組成物において、かかる任意の添加剤の配合割合は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、各々０．１〜２０重量部である。
【００５９】
組成物（Ａ）は、通常、上に述べた成分を混合することにより、調製することができる。
【００６０】
〔１．７．液晶組成物の塗布〕
工程（Ｉ−１）における塗布の具体的な方法の例としては、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、及びディッピング法が挙げられる。塗布される液晶組成物の層の厚みは、複屈折パターン層に求められる所望の厚さに応じて適宜設定しうる。
【００６１】
〔１．８．配向処理〕
工程（Ｉ−２）の、順波長分散重合性液晶化合物を配向させる処理は、（Ｉ−１）の塗布により直ちに達成される場合もあるが、必要に応じて、塗布の後に、一定時間の放置、加温などの配向処理を施すことにより達成される場合もある。配向処理の条件は、使用する液晶組成物の性質に応じて適宜設定しうるが、例えば、２０〜１００℃の温度条件において１〜３０分間処理する条件としうる。用いる液晶組成物の組成及び処理条件を適宜設定することにより、基材の配向規制方向に沿った配向を達成しうる。
【００６２】
配向処理により、液晶組成物層中の重合性液晶化合物が、液晶相を呈する。かかる液晶相は、ネマチック相であることが、良好な位相差を得る上で好ましい。液晶組成物の組成を適宜選択することにより、かかるネマチック相を得ることができる。
【００６３】
〔１．９．乾燥〕
工程（Ｉ−３）の乾燥は、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等の乾燥方法で達成しうる。かかる乾燥により、液晶組成物の層から、溶媒を除去することができる。
【００６４】
〔１．１０．複層物〕
工程（Ｉ）により、基材及び乾燥した状態の液晶組成物層を有する複層物を得る。図１は、本発明の製造方法の工程（Ｉ）で得られる複層物の一例を概略的に示す斜視図である。図１において、複層物１００は、基材１０１と、基材１０１の上に形成された、乾燥した状態の液晶組成物層１０２とを有する。
【００６５】
〔１．１１．工程（ＩＩ）〕
本発明の製造方法の工程（ＩＩ）では、特定の遮光マスクを介して、液晶組成物層に光を照射する。
図２は、本発明の製造方法の工程（ＩＩ）の操作の一例を概略的に示す斜視図である。図２では、光源２１１から矢印Ａ５１の方向に出光した光は、波長３５０〜４００ｎｍの光を透過するバンドパスフィルター２２１、及び遮光マスク２３０を介して、複層物１００の基材１０１側の面に照射される。このような照射を行なうことにより、光はさらに、基材１０１を透過して液晶組成物層１０２に達し、液晶組成物層の半硬化が達成される。
【００６６】
図２では、説明のため、バンドパスフィルター２２１、遮光マスク２３０及び複層物１００は離隔して図示しているが、工程（ＩＩ）は、これらを離隔せず重ねた状態で行ないうる。特に、遮光マスク２３０及び複層物１００を離隔せず重ねて載置し、この状態で工程（ＩＩ）を行うことにより、領域の輪郭での回折の影響を最小限とし、且つ、正確な照射強度の調整を行うことができる。
【００６７】
本願において、液晶組成物層を「半硬化」させるとは、液晶組成物層中の重合性化合物を、本硬化で達成される重合転化率より低い重合転化率で重合させることをいう。半硬化における重合転化率は、最も重合転化率が高い領域において、好ましくは８０％未満であり、より好ましくは６０％未満としうる。
【００６８】
工程（ＩＩ）は、２０℃〜４０℃の温度において行なう。工程（ＩＩ）を行う温度は、好ましくは２２℃以上、より好ましくは２５℃以上であり、一方好ましくは３５℃以下、より好ましくは３０℃以下である。かかる温度において照射を行なうことにより、液晶組成物層の半硬化の条件を緩和なものとし、各領域に位相差の差異を確実に付与することができる。
【００６９】
工程（ＩＩ）での照射に用いる光は、波長３５０〜４００ｎｍの光である。かかる光は、図２の例に示す通り、光源からの光を、当該波長範囲の光を選択的に透過するバンドパスフィルターに通すことにより得うる。かかる波長の光を用いることにより、光の回折の少ない照射を達成することができ、その結果、複屈折パターンの領域の輪郭を明確なものとしうる。
【００７０】
図２の例に示す通り、工程（ＩＩ）においては、光の照射を、複層物の基材側の面に行なうことが好ましい。基材側の面に光を照射し、基材を通して液晶組成物層へ光を到達させることにより、液晶組成物層の半硬化の条件をより緩和なものとし、各領域に位相差の差異を確実に付与することができる。
【００７１】
工程（ＩＩ）は、空気雰囲気下で行うこともでき、窒素ガス等の不活性気体の雰囲気下で行なうこともできるが、空気雰囲気下で行なうことが好ましい。空気雰囲気下で光の照射を行なった場合、通常、空気中の酸素により、液晶組成物層中の重合性化合物の重合は阻害されうる。かかる重合の阻害が存在することにより、液晶組成物層の半硬化の条件をより緩和なものとし、各領域に位相差の差異を確実に付与することができる。
【００７２】
〔１．１２．遮光マスク〕
工程（ＩＩ）においては、透過率の異なる複数の領域を有する遮光マスクを用いる。ここでいう透過率とは、工程（ＩＩ）における照射に用いる光の透過率である。遮光マスクが、透過率の異なる複数の領域を有することにより、液晶組成物層の複数の領域において、複数種類の異なる強度での光の照射を達成することができ、その結果、領域毎に異なる重合転化率での半硬化を達成することができる。
【００７３】
透過率の異なる複数の領域を設ける態様の例としては、遮光マスクの面が、ある透過率を有する一以上の領域と、他の透過率を有する一以上の領域を含む態様が挙げられる。遮光マスクは、透過率の異なる３つ以上の領域を有し、それにより、得られる複屈折パターン層が、位相差の異なる３つ以上の領域を有することが好ましい。複屈折パターン層が位相差の異なる３つ以上の領域を有することにより、真正性識別の観察における意匠性をより高めることができ、且つ、真正性の識別をより確実に行なうことができる。
【００７４】
工程（ＩＩ）において用いる遮光マスクとしては、透過率の異なる複数の領域が一枚のマスクとなったものを用いることが、操作の容易性から好ましい。ただし、遮光マスクはこれには限られず、複数枚のマスクを重ねて用いたり、複数枚のマスクを並べて用いたりすることにより、透過率の異なる複数の領域を構成し、これを工程（ＩＩ）に用いてもよい。
【００７５】
遮光マスクの複数の領域は、背景領域と、文字及び／又は図形の領域との組み合わせとしうる。図２の例では、遮光マスク２３０は、背景領域２３４と、文字「Ａ」の形状の領域２３１と、文字「Ｂ」の領域２３２と、文字「Ｃ」の領域２３３とからなる複数の領域を有している。以下の具体例の説明において、このような、文字「Ａ」の領域、文字「Ｂ」の領域、文字「Ｃ」の領域、及び背景領域を有する遮光マスクのパターン又は複屈折パターン層のパターンにおいて、文字「Ａ」の領域、文字「Ｂ」の領域、及び文字「Ｃ」の領域を、それぞれ単に「領域Ａ」、「領域Ｂ」、及び「領域Ｃ」と略称することがある。
【００７６】
図２の例に示す領域Ａ２３１、領域Ｂ２３２及び領域Ｃ２３３のそれぞれは、背景領域２３４と接しているので、背景領域２３４と異なる透過率を有することにより、背景領域とは異なる領域を規定しうる。領域Ａ２３１、領域Ｂ２３２及び領域Ｃ２３３の透過率は、同じであってもよく異なっていてもよいが、これらの透過率を全て互いに異なる透過率とすることにより、背景領域とは別に３種類の異なる色を、真正性識別の観察に際して表現することができる。
【００７７】
〔１．１３．照射強度〕
工程（ＩＩ）では、少なくとも前記複数の領域の少なくとも１以上において、光の照射強度を、液晶組成物層上への照射強度として、０を超え１０ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲とする。照射強度は、遮光マスク面上への照度（単位ｍＷ／ｃｍ２）を測定し、この値と、照射時間と、遮光マスクの透過率と、基材を透過させる照射を行なう場合は基材の透過率とから算出しうる。照度の測定は、紫外線照度計（例えばオーク製作所製、商品名「ＵＶ−Ｍ０３」）を用い、バンドパスフィルターを透過した光を、遮光フィルターの光源側の面に接して受光部を設置した状態で測定することにより求めうる。
【００７８】
〔１．１４．工程（ＩＩＩ）〕
本発明の製造方法の工程（ＩＩＩ）では、工程（ＩＩ）の後、複層物をＴＮＩ以上に加熱する。工程（ＩＩＩ）での加熱温度は、好ましくは（ＴＮＩ＋５）℃以上、より好ましくは（ＴＮＩ＋１０）℃以上であり、一方好ましくは（ＴＮＩ＋３０）℃以下、より好ましくは（ＴＮＩ＋２５）℃以下としうる。ＴＮＩとは、液晶相を呈している液晶組成物の温度を徐々に高めて行き、ある温度で等方相に転移した場合におけるその温度をいう。具体的には例えば、ネマチック相から等方相へ転移する温度を、ＴＮＩとしうる。
【００７９】
工程（ＩＩＩ）において、複層物を前記特定の温度で加熱することにより、液晶組成物層中に重合せず残存している重合性液晶化合物を等方化させることができる。
【００８０】
工程（ＩＩＩ）における加熱時間は、重合性液晶化合物の等方化が達成される時間となるよう適宜調整しうるが、好ましくは３秒以上、より好ましくは５秒以上であり、一方好ましくは５分以下、より好ましくは３分以下である。
【００８１】
〔１．１５．工程（ＩＶ）〕
本発明の製造方法の工程（ＩＶ）では、工程（ＩＩＩ）における加熱温度を維持して、前記液晶組成物層に、照射強度１００ｍＪ／ｃｍ２以上の光を照射して、前記液晶組成物層を本硬化する。照射強度は、好ましくは１５０ｍＪ／ｃｍ２以上、より好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ２以上であり、一方好ましくは１５００ｍＪ／ｃｍ２以下、より好ましくは１０００ｍＪ／ｃｍ２以下である。かかる本硬化により、工程（ＩＩＩ）により等方化された重合性液晶化合物が重合され、領域毎に異なる位相差を有する複屈折パターン層が形成される。
【００８２】
工程（ＩＩ）とは異なり、工程（ＩＶ）では、重合性液晶化合物が十分に重合することが好ましいため、照射は、複層物の液晶組成物層側の面に行なうことが好ましい。また、工程（ＩＶ）は、窒素ガス等の不活性気体の雰囲気下で行なうことが好ましい。また、工程（ＩＶ）で用いる光の波長は、波長３５０〜４００ｎｍの光であってもよいが、これに限らず、可視光線、紫外線、及び赤外線等の任意の光を用いうる。但し、操作が簡便なことから、紫外線を照射する方法が好ましい。
【００８３】
工程（ＩＶ）の照射を、工程（ＩＩＩ）における加熱温度を維持して行なうとは、工程（ＩＩＩ）の加熱を行った後、その温度をＴＮＩ未満に低下させること無く工程（ＩＶ）を開始し、工程（ＩＶ）の終了まで温度をＴＮＩ以上に維持することをいう。したがって、工程（ＩＶ）の照射の際の温度は、工程（ＩＩＩ）における加熱温度と全く同じ温度でなくてもよい。
【００８４】
〔１．１６．複屈折パターン層及び物品〕
工程（Ｉ）〜（ＩＶ）を行うことにより、基材上に複屈折パターン層を形成することができる。本願において、複屈折パターン層とは、複屈折パターンを有する層であり、複屈折パターンとは、２つ以上の異なる複屈折を有する領域により規定されるパターンである。
【００８５】
工程（Ｉ）〜（ＩＶ）を行うことにより得られた、基材及び複屈折パターン層を備える複層物は、それをそのまま物品としてもよい。または、得られた複層物から複屈折パターン層を剥離し、これを物品としてもよい。または、剥離した複屈折パターン層を別の基材に貼合し、これを物品としてもよい。
【００８６】
図３は、図２に例示した工程を含む本発明の製造方法により形成された複層パターン層を模式的に示す平面図である。図３において、複屈折パターン層３００は、背景領域３３４、領域Ａ３３１、領域Ｂ３３２及び領域Ｃ３３３を含む複数の領域を有しており、これらの領域はそれぞれ、遮光マスク２３０の背景領域２３４、領域Ａ２３１、領域Ｂ２３２及び領域Ｃ２３３に対応する。また、領域３３５は、工程（ＩＩ）において、遮光マスク２３０を介さずに照射が行なわれた領域である。
【００８７】
工程（Ｉ）〜（ＩＶ）を実施した結果、複屈折パターン層のそれぞれの領域においては、重合性液晶化合物の一部が配向された状態で重合し、他の一部が等方化された状態で重合し、重合体を形成している。配向された状態の重合体の割合は、工程（ＩＩ）における重合転化率により異なる。その結果、工程（ＩＩ）における照射強度がより高い領域はより高い位相差を発現し、一方、工程（ＩＩ）における照射強度がより低い領域はより低い位相差を発現する。その結果、複屈折パターン層は、位相差の異なる複数の領域を有するものとなる。
【００８８】
好ましい態様において、複屈折パターン層は、位相差の異なる３つ以上の領域を有する。複屈折パターン層が位相差の異なる３つ以上の領域を有することにより、意匠性をより高めることができ、且つ、真正性の識別をより確実に行なうことができる。
【００８９】
本発明の製造方法により形成した複屈折パターン層は、光照射による２段階の重合と、その間における、液晶化合物を等方化させる工程との組み合わせにより形成されたことにより、複屈折パターンを有しながら、且つ、高温条件に長時間曝された場合の位相差の低下及び色相の変化が少ないものとすることができる。
【００９０】
具体的には、複屈折パターン層を、８０℃で１時間処理した後の位相差量変化が、いずれの領域においても５％以下であるものとすることができる。また、前記複屈折パターン層を８０℃で１時間処理した後の色相変化がいずれの領域においても５％以下であるものとすることができる。ここで位相差の値としては、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製、ミューラーマトリクスポラリメータ）を用い波長５５０ｎｍにおいて測定した値を用いうる。位相差の変化率は、（（加温前の位相差−加温後の位相差）／加温前の位相差）×１００（％）として計算しうる。また、色相は、正反射層の上に複屈折パターン層を含む物品を載置し、その上にさらに直線偏光板を載置した状態で、各領域の反射スペクトルを、日本分光（ＵＶ−Ｖｉｓ５５０）で測定し、この反射スペクトルから、人間の目に対応する分光感度（等色関数）を乗じて三刺激値Ｘ、Ｙ及びＺを求め、色相（ａ＊、ｂ＊、Ｌ＊）を算出することにより求めうる。色相の変化率はΔＥとして計算しうる。加温後の色相（ａ＊、ｂ＊、Ｌ＊）についてのΔＥは｛（ａ＊−ａ０＊）２＋（ｂ＊−ｂ０＊）２＋（Ｌ＊−Ｌ０＊）２｝１／２で求められる。ここでａ０＊、ｂ０＊、Ｌ０＊はそれぞれ加温前の色相の値である。
【００９１】
複屈折パターン層の厚みは、特に限定されず所望の位相差等の光学的性質を発現しうる厚みに適宜制御できる。複屈折パターン層の厚みは、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは３μｍ以上であり、一方好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは８μｍ以下である。
【００９２】
〔２．偽造防止媒体〕
本発明の偽造防止媒体は、前記本発明の製造方法により得られる物品を含む。本発明の偽造防止媒体は、具体的には、正反射層と、複屈折パターン層とを含む積層構造を有しうる。本発明の製造方法に用いた基材が、複屈折性が小さい（例えばΔｎが３×１０−５以下）ものであれば、基材を含む物品をそのまま正反射層と組み合わせて、偽造防止媒体としうる。一方、Δｎが大きい場合は、基材を剥離し、それをそのまま、若しくは別の基材と貼合した後、正反射層と組み合わせて、偽造防止媒体としうる。
【００９３】
正反射層の例としては、アルミ蒸着箔、銀蒸着箔、鏡、アルミホイル等が挙げられる。本発明の偽造防止媒体は、さらに、任意の構成要素として、正反射層と前記物品とを貼合するための粘着層を含みうる。粘着層としては特に限定されないが、アクリル系溶剤型粘着剤、アクリル系エマルジョン型粘着剤、ウレタン系溶剤型粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系ホットメルト接着剤、エポキシ系接着剤等の粘接着剤を好ましく用いることができる。粘着層の材料の例としては、綜研化学；ＳＫダイン２０９４、大同化成製；ビニゾールＥ−５３０１が挙げられる。必要に応じて硬化剤等の助剤を添加しても良い。
【００９４】
本発明の偽造防止媒体は、直線偏光板を介して観察することにより、その真正性を識別することができる。具体的には、正反射層と複屈折パターン層とを含む偽造防止媒体の、複屈折パターン層側の面に、直線偏光板を載置して観察すると、複屈折パターンのそれぞれの領域が、模様として観察される。
【００９５】
図４は、本発明の偽造防止媒体の真正性識別の観察により、模様が観察される原理を模式的に説明する斜視図である。図４においては、説明の便宜上、直線偏光板４０１と、複屈折パターン層３００と、正反射層４０２とは離隔して図示されているが、実際の観察においては、複屈折パターン層３００と正反射層４０２とは積層され、さらに直線偏光板４０１はその上に載置される。
【００９６】
図４において、矢印Ａ３１〜Ａ３３は、複屈折パターン層３００が存在せず、直線偏光板４０１及び正反射層４０２のみが存在していた場合、入射した光がどのように反射し観察されるかを概念的に示している。矢印Ａ３１に示される通り直線偏光板４０１に光が入射すると、直線偏光板４０１の透過軸方向Ａ１に沿った直線偏光成分のみが矢印Ａ３２の通り透過する。透過した光は、矢印Ａ４１及びＡ４２で示す偏光方向を保ち、正反射層４０２において反射され、再び直線偏光板４０１を透過して、矢印Ａ３３で示す通り出射する。
【００９７】
一方、図４において、矢印Ａ１１〜１５は、直線偏光板４０１及び正反射層４０２の間に複屈折パターン層３００が存在している場合、入射した光がどのように反射し観察されるかを概念的に示している。矢印Ａ１１に示される通り直線偏光板４０１に光が入射すると、直線偏光板４０１の透過軸方向Ａ１に沿った直線偏光成分、即ち矢印Ａ２１の偏光方向を有する光のみが、矢印Ａ１２の通り透過する。透過した光は、複屈折パターン層３００を透過すると、透過した部分の位相差に応じて、矢印Ａ２２に示すような楕円偏光となり、矢印Ａ１３の通り透過し、正反射層４０２で反射される。反射された楕円偏光は、再び複屈折パターン層３００を透過し、偏光状態がさらに変化し、矢印Ａ２３で示すような楕円偏光となり、矢印Ａ１４の通り、再び直線偏光板４０１に到達する。矢印Ａ１４で示される光のうち、一部の直線偏光成分のみが直線偏光板を透過できるため、矢印Ａ１４で示される光のうち、一部の光のみが、矢印Ａ１５の通り出射する。したがって、矢印Ａ１１で示された入射光のうち、どれだけの割合が矢印１５で示される出射光として出射するかは、複屈折パターン層３００における位相差によって様々に変化する。ここで、複屈折パターン層３００は、順波長分散を示すため、入射光に対する出射光の割合は、その波長によって大きく異なり、多く出射される波長と少なく出射される波長との差異が生じるため、色相が観察される。さらに、それぞれの領域は位相差が異なるため、多く出射される波長及び少なく出射される波長も領域に応じて異なり、その結果、それぞれの領域において、異なる色相が観察される。
【００９８】
一方、本発明の偽造防止媒体を、直線偏光板４０１を介さずに観察した場合、上記のような異なる色相は観察されず、通常は異なる領域を目視で識別することができない。
【００９９】
このような偽造防止媒体は、容易に複製することが困難であり、しかも、通常の観察ではそのような識別のための構成を有していること自体認識され難い。したがって、このような偽造防止媒体を、真正性を識別することが求められる製品に付し、それを直線偏光板を介して観察することにより、その真正性を識別することができる。
【０１００】
さらに、本発明の偽造防止媒体は、上で述べた原理により、直線偏光板を介して観察した際に、それぞれの領域において、異なる色相を呈するよう構成しうる。その結果、真正性識別の観察における意匠性をより高めることができ、且つ、真正性の識別をより確実に行なうことができる。
【０１０１】
本発明の偽造防止媒体は、真正性の識別を求められる任意の製品に付することができる。具体的な用途を挙げると、例えば、医薬品、化粧品、香水およびトナーなどの容器、開封シール、包装物、紙幣、証券、金券、旅券、電子機器、バッグ、衣服、布地、クレジットカード、セキュリティカード、情報を図形化したコード（例えばバーコード等の１次元のコード、並びにＱＲコード（登録商標）等の２次元のコード）を付した製品、並びに各種証明等に施す偽造防止のための識別標識等が挙げられる。
【実施例】
【０１０２】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に説明する実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。
以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
【０１０３】
＜測定方法＞
＜照度＞
照度の測定には、紫外線照度計（オーク製作所製、商品名「ＵＶ−Ｍ０３」）を用い、バンドパスフィルターを透過した光を、遮光フィルターの光源側の面に接して受光部を設置した状態で測定した。
【０１０４】
＜位相差＞
位相差の測定は、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製、ミューラーマトリクスポラリメータ）で、別に断らない限り波長５５０ｎｍにおいて測定した。
【０１０５】
〔製造例１〜２：液晶組成物の調製〕
表１に示す配合割合で各成分を混合し、組成物（１）及び（２）を調製した。
【０１０６】
【表１】
2015087472.tif 000003
【０１０７】
表１において、各成分の量比を表す数値は全て重量部である。表１における略語の意味は、下記の通りである。
化合物１：重合性液晶化合物（商品名「ＬＣ２４２」ＢＡＳＦ社製、下記式（Ｅ１）で示される化合物）
化合物２：重合性モノマー、下記式（Ｅ２）で示される化合物
化合物３：下記式（Ｅ３）で示される化合物
【０１０８】
【化１】
2015087472.tif 000004
【０１０９】
【化２】
2015087472.tif 000005
【０１１０】
【化３】
2015087472.tif 000006
【０１１１】
架橋剤：商品名「ＡＴＭＰＴ」、新中村化学工業社製
界面活性剤：商品名「フタージェント２０９Ｆ」０．１％溶液、ネオス社製
重合開始剤：商品名「イルガキュア３７９」、チバ・ジャパン社製
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
【０１１２】
得られた組成物（１）及び（２）のそれぞれを、ラビング処理した支持体（ＣＯＰゼオノアフィルム、商品名「ＺＦ１６」、日本ゼオン株式会社製）上に、スピンコーターで乾燥膜厚が５．５μｍになるように塗工した後、ホットプレートにて１２０℃で２分間加熱乾燥し、複層物を得た。次にこの複層物に１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を露光し、膜厚５．５μｍの光学異方性層からなる位相差板を得た。作製した位相差板について、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製の位相差解析装置：ＡｘｏＳｃａｎにて面内位相差Ｒｅの波長分散特性の測定を行った。Δｎ＝Ｒｅ／膜厚の関係からΔｎを算出し、Ｒｅ（４００）／Ｒｅ（５５０）及びＲｅ（７８０）／Ｒｅ（５５０）の値を求めた。その結果、組成物（１）のＲｅ（４００）／Ｒｅ（５５０）は１．０１９であり、Ｒｅ（７８０）／Ｒｅ（５５０）は０．９８９であった。また、組成物（２）のＲｅ（４００）／Ｒｅ（５５０）は０．８１４であり、Ｒｅ（７８０）／Ｒｅ（５５０）は１．０４６であった。
【０１１３】
〔製造例３及び４：遮光マスクの調製〕
図２において示される遮光マスク２３０の通りの形状を有する、２種類の遮光マスク（遮光マスク（１）及び遮光マスク（２））を調製した。ガラス基板の一方の面上に、ポリイミドテープ（住友スリーエム製、商品名「耐熱マスキングテープ７４１４Ｌ」）を重ねて貼付した。領域Ａ２３１、領域Ｂ２３２、領域Ｃ２３３及び背景領域２３４のそれぞれにおいて、テープを重ねる枚数を調節することにより、波長３６５ｎｍの紫外光の透過率が、それぞれの領域において表２に示す値となるようにした。
【０１１４】
【表２】
2015087472.tif 000007
【０１１５】
〔実施例１〕
（１−１．基材の調製）
脂環式構造含有重合体樹脂のフィルム（株式会社オプテス製、商品名「ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００」、厚さ１００μｍ）の片面をコロナ放電処理し、次いでその面をフェルトのロールでラビングして、基材を得た。この基材の波長５９０ｎｍにおける複屈折Δｎは３×１０−５であった。
【０１１６】
（１−２．液晶組成物の塗布）
製造例１で得た組成物（１）を、前記基材のラビングを施した面に塗布し、乾燥させ、厚み５．１μｍの液晶組成物の層を形成し、基材及び液晶組成物層からなる複層物を得た。
【０１１７】
（１−３．半硬化及び等方化処理）
水銀キセノンランプ（ＨＯＹＡ製ＥＸＥＣＵＲＥ３０００、２００Ｗ）からの紫外線を、図５の線Ｂ（破線）で示す透過率特性を有するバンドパスフィルターＢ（透過波長３５０〜４００ｎｍ）に通し、続いて複層物と重ね合わせた、製造例３で得た遮光マスク（１）に通した後、前記複層物の基材側の面に１秒間照射した。照度は、遮光マスク（１）上への波長３５０〜４００ｎｍの照度として１０ｍＷ／ｃｍ２とした（即ち、遮光マスク（１）への照射強度は１０ｍＪ／ｃｍ２）。照射は、空気雰囲気下、温度２５℃において行なった。これにより、液晶組成物層を半硬化させた。照射後、複層物を、９０℃のホットプレート上に１分間放置し、等方化処理した。
【０１１８】
（１−４．本硬化）
次いで、工程（１−３）における温度を維持して、窒素雰囲気下で、メタルハライドランプ（ＧＳ  ＹＵＡＳＡ社製）からの紫外線を、前記複層物の液晶組成物層側の面に、波長３５０〜４００ｎｍの照度として１６０ｍＷ／ｃｍ２で５秒間照射し（即ち、照射強度は８００ｍＪ／ｃｍ２）、液晶組成物層を硬化させて、厚み５．１μｍの複屈折パターン層とした。これにより、基材、及び基材上に設けられた複屈折パターン層を備える物品を作製した。
得られた物品は、図３に示す形状の、領域Ａ３３１、領域Ｂ３３２、領域Ｃ３３３及び背景領域３３４を含む複屈折パターンを有していた。物品は、複数枚作製し、その一部を位相差変化の評価に供し、他の一部を色相変化の評価及び目視による観察に供した。
【０１１９】
（１−５．位相差変化の評価）
工程（１−４）で得られた物品の、領域Ａ、領域Ｂ及び領域Ｃのそれぞれの波長５５０ｎｍにおける位相差を測定した。その後、物品をオーブン中で８０℃で１時間加温処理し、処理後の物品の、領域Ａ、領域Ｂ及び領域Ｃのそれぞれの波長５５０ｎｍにおける位相差を再び測定し、それぞれの領域における加温処理前後の位相差の変化率（（（加温前の位相差−加温後の位相差）／加温前の位相差）×１００（％））を求めた。結果を表３に示す。
【０１２０】
（１−６．色相変化の評価及び目視による観察：加温前）
工程（１−４）で得られた物品の、基材側の面を、粘着層（綜研化学社製、商品名「ＳＫダイン２０９４」固形分２５％、溶媒：酢酸エチル／２＝９３／７を４００部と架橋剤（綜研化学社製「Ｅ−ＡＸ」１．１部との混合物））を介して、正反射層（表面にアルミニウム層（厚み２５μｍ）を有するシート）と貼合し、（複屈折パターン層）／（基材）／（粘着層）／（正反射層）の層構成を有する偽造防止媒体を得た。
得られた偽造防止媒体の複屈折パターン層側の面を、偏光板を介さず直接目視にて観察し、何も貼合しない正反射層と対比した（以下において、この観察を、「観察（Ｉ）」という。）。その結果、複屈折パターン層上のパターンは視認できず、正反射層のみを観察した場合に比べて何らかのパターンがあるとは認識されなかった。
【０１２１】
次に、偽造防止媒体の複屈折パターン層側の面上に、直線偏光板（サンリッツ社製）を載置し、偽造防止媒体の複屈折パターン層側の面を観察した（以下において、この観察を、「観察（ＩＩ）」という。）。観察（ＩＩ）に際して、直線偏光板は、その透過軸方向と、複屈折パターン層の遅相軸方向とが４５°の角度をなすよう載置した。
観察（ＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認され、複屈折パターンにより規定される鮮明な輪郭の文字を視認することができた。
【０１２２】
さらに、直線偏光板を載置した状態で、各領域の反射スペクトルを、日本分光（ＵＶ−Ｖｉｓ５５０）で測定した。この反射スペクトルから、人間の目に対応する分光感度（等色関数）を乗じて三刺激値Ｘ、Ｙ及びＺを求め、色相（ａ０＊、ｂ０＊、Ｌ０＊）を算出した。
【０１２３】
（１−７．色相変化の評価及び目視による観察：加温後）
次に、工程（１−６）で得た偽造防止媒体を、オーブン中で８０℃で１時間加温処理し、処理後の物品について、工程（１−６）と同様に、直線偏光板を載置した状態での観察（以下において、この観察を、「観察（ＩＩＩ）」という。）、並びに反射スペクトルの測定及び色相の算出を行った。色相については、加温処理後の色相（ａ＊、ｂ＊、Ｌ＊）を求め、色差ΔＥを算出した。算出結果を表３に示す。
観察（ＩＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認され、加温処理前と同様に、複屈折パターンにより規定される文字を視認することができた。
【０１２４】
〔実施例２〕
工程（１−３）の等方化処理において、等方化の温度及びその後の本硬化の温度を１００℃に変更した他は、実施例１と同様にして、物品及び偽造防止媒体を得て評価した。
観察（Ｉ）の結果、複屈折パターン層上のパターンは視認できず、正反射層のみを観察した場合に比べて何らかのパターンがあるとは認識されなかった。
観察（ＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認され、複屈折パターンにより規定される鮮明な輪郭の文字を視認することができた。
観察（ＩＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認され、加温処理前と同様に、複屈折パターンにより規定される文字を視認することができた。
その他の評価結果を、表３に示す。
【０１２５】
〔実施例３〕
工程（１−３）の半硬化において、紫外線の照射時間を０．８秒に変更して照射強度を８ｍＪ／ｃｍ２に変更した他は、実施例１と同様にして、物品及び偽造防止媒体を得て評価した。
観察（Ｉ）の結果、複屈折パターン層上のパターンは視認できず、正反射層のみを観察した場合に比べて何らかのパターンがあるとは認識されなかった。
観察（ＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認され、複屈折パターンにより規定される鮮明な輪郭の文字を視認することができた。
観察（ＩＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認され、加温処理前と同様に、複屈折パターンにより規定される文字を視認することができた。
その他の評価結果を、表３に示す。
【０１２６】
〔実施例４〕
工程（１−３）の半硬化において、遮光マスクとして、製造例３で得た遮光マスク（１）に代えて製造例４で得た遮光マスク（２）を用いた他は、実施例１と同様にして、物品及び偽造防止媒体を得て評価した。
観察（Ｉ）の結果、複屈折パターン層上のパターンは視認できず、正反射層のみを観察した場合に比べて何らかのパターンがあるとは認識されなかった。
観察（ＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認され、複屈折パターンにより規定される鮮明な輪郭の文字を視認することができた。
観察（ＩＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認され、加温処理前と同様に、複屈折パターンにより規定される文字を視認することができた。
その他の評価結果を、表３に示す。
【０１２７】
〔実施例５〕
工程（１−１）の基材の調製において、脂環式構造含有重合体樹脂のフィルムに代えて、ＰＥＴフィルム（東洋紡製、コスモシャインＡ４１００、厚さ１００μｍ）を用いた他は、実施例１の工程（１−１）〜（１−４）と同様にして、複屈折パターン層を形成し、基材及び複屈折パターン層を備える複層物を得た。
得られた複層物について、実施例１の工程（１−５）及び（１−６）の評価を行なうことを試みたところ、観察（ＩＩ）において、基材の位相差のため、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が良好に視認できなかった。
そのため、得られた複層物から、複屈折パターン層を剥離して、別のフィルム（株式会社オプテス製、商品名「ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００」、厚さ１００μｍ、実施例１で用いたフィルムと同じもの）に転写し、（複屈折パターン層）／（フィルム）の層構成を有する物品を得た。これを物品として用い、以下、実施例１の工程（１−５）〜（１−７）の評価を行なった。
観察（Ｉ）の結果、複屈折パターン層上のパターンは視認できず、正反射層のみを観察した場合に比べて何らかのパターンがあるとは認識されなかった。
観察（ＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認され、複屈折パターンにより規定される鮮明な輪郭の文字を視認することができた。
観察（ＩＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認され、加温処理前と同様に、複屈折パターンにより規定される文字を視認することができた。
その他の評価結果を、表３に示す。
【０１２８】
〔比較例１〕
工程（１−３）の半硬化において、紫外線の照射時間を１．５秒に変更して照射強度を１５ｍＪ／ｃｍ２に変更し、バンドパスフィルターを、図５の線Ａ（実線）で示す透過率特性を有するバンドパスフィルターＡ（透過波長３００〜３５０ｎｍ）に変更した他は、実施例１と同様にして、物品及び偽造防止媒体を得て評価した。
観察（Ｉ）の結果、複屈折パターン層上のパターンは視認できず、正反射層のみを観察した場合に比べて何らかのパターンがあるとは認識されなかった。
観察（ＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認されたが、複屈折パターンの領域の輪郭が不鮮明であった。
観察（ＩＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認されず、複屈折パターンにより規定される文字を視認することができなかった。
その他の評価結果を、表４に示す。
【０１２９】
〔比較例２〕
工程（１−３）の半硬化において、紫外線の照射時間を５秒に変更して照射強度を５０ｍＪ／ｃｍ２に変更した他は、実施例１と同様にして、物品及び偽造防止媒体を得て評価した。
観察（Ｉ）の結果、複屈折パターン層上のパターンは視認できず、正反射層のみを観察した場合に比べて何らかのパターンがあるとは認識されなかった。
観察（ＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認されず、複屈折パターンにより規定される文字を視認することができなかった。
観察（ＩＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認されず、複屈折パターンにより規定される文字を視認することができなかった。
その他の評価結果を、表４に示す。
【０１３０】
〔比較例３〕
工程（１−２）の液晶組成物の塗布において、製造例１で得た組成物（１）に代えて、製造例２で得た組成物（２）を用いた他は、実施例１と同様にして、物品及び偽造防止媒体を得て評価した。
観察（Ｉ）の結果、複屈折パターン層上のパターンは視認できず、正反射層のみを観察した場合に比べて何らかのパターンがあるとは認識されなかった。
観察（ＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認されず、複屈折パターンにより規定される文字を視認することができなかった。
観察（ＩＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認されず、複屈折パターンにより規定される文字を視認することができなかった。
その他の評価結果を、表４に示す。
【０１３１】
〔比較例４〕
工程（１−３）の半硬化において、紫外線の照射時間を５秒に変更して照射強度を５０ｍＪ／ｃｍ２に変更し、工程（１−４）の本硬化において、紫外線の照射時間を０．３秒に変更して照射硬度を５０ｍＪ／ｃｍ２に変更した他は、実施例１と同様にして、物品及び偽造防止媒体を得て評価した。
観察（Ｉ）の結果、複屈折パターン層上のパターンは視認できず、正反射層のみを観察した場合に比べて何らかのパターンがあるとは認識されなかった。
観察（ＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認されず、複屈折パターンにより規定される文字を視認することができなかった。
観察（ＩＩＩ）の結果、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び背景領域が、異なる色相として視認されず、複屈折パターンにより規定される文字を視認することができなかった。
その他の評価結果を、表４に示す。
【０１３２】
【表３】
2015087472.tif 000008
【０１３３】
【表４】
2015087472.tif 000009
【０１３４】
表中の位相差の単位は、ｎｍである。
表３及び表４において耐熱性評価の結果は、それぞれ以下のものを示す：
○：すべての領域において、位相差と色相変化率がともに５％未満である
△：一部の領域において、位相差と色相変化率の少なくともどちらかが５％以上であり、前記一部の領域以外の領域は、位相差と色相変化率がともに５％未満である
×：すべての領域において、位相差と色相変化率がともに５％以上である
【０１３５】
以上の結果から明らかな通り、実施例１〜５の製造方法により、鮮明な輪郭の文字を識別することができ、加温処理を行っても位相差の変化及び色相の変化が少ない物品及び偽造防止媒体を得ることができた。
【符号の説明】
【０１３６】
１００：複層物
１０１：基材
１０２：液晶組成物層
２１１：光源
２２１：バンドパスフィルター
２３０：遮光マスク
２３１：領域Ａ
２３２：領域Ｂ
２３３：領域Ｃ
２３４：背景領域
３００：複屈折パターン層
３３１：領域Ａ
３３２：領域Ｂ
３３３：領域Ｃ
３３４：背景領域
３３５：領域
４０１：直線偏光板
４０２：正反射層
【図１】
2015087472.tif 000010
【図２】
2015087472.tif 000011
【図３】
2015087472.tif 000012
【図４】
2015087472.tif 000013
【図５】
2015087472.tif 000014