(57)【要約】【課題】大型の基板に対しても精度良く、かつ、効率良く微細パターンを転写可能な微細転写装置を提供すること。【解決手段】微細転写装置３０では、積層部３７において、基板３１とモールド３２が樹脂均し用プレスローラー３７ａと樹脂均し用支持ローラー３７ｂの間に送り込まれて積層される。これらの間を通過することで、樹脂の液滴が押しつぶされて基板３１とモールド３２の間に広がって樹脂の層３４ａが形成される。転写部３９において、基板３１とモールド３２は、転写用プレスローラー３８と転写用支持ローラー４３の間に送り込まれて加圧される。二段階に樹脂の層が均一化されるので、基板３１とモールド３２の間に一定厚さの樹脂の層部分３４ｂが確実に形成された状態で、微細パターンが転写される。よって、精度良く微細パターンを転写することができる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板あるいはモールドの表面に感光性樹脂を塗布する樹脂塗布部と、
塗布された前記感光性樹脂を挟み、前記基板と前記モールドを重ね合わせて積層体とする積層部と、
前記積層体を、転写用プレスローラーによるライン状の加圧位置を通過する移動経路に沿って搬送することで、前記基板と前記モールドの間に挟まれた前記感光性樹脂の層に前記モールドの微細パターンを転写する転写部と、
前記微細パターンが転写された後の前記感光性樹脂の層に光を照射して硬化させる露光部と、
前記積層体における前記基板の外周端から感光性樹脂がはみ出すことを防止する樹脂ブロック部と、
を有していることを特徴とする微細転写装置。
【請求項２】
感光性樹脂を挟み、基板とモールドを重ね合わせた構成の積層体を、転写用プレスローラーによるライン状の加圧位置を通過する移動経路に沿って搬送することで、前記基板と前記モールドの間に挟まれた前記感光性樹脂の層に前記モールドの微細パターンを転写する転写部と、
前記微細パターンが転写された後の前記感光性樹脂の層に光を照射して硬化させる露光部と、
前記積層体の端面からはみ出た感光性樹脂を硬化前に除去する樹脂除去部と、
を有していることを特徴とする微細転写装置。
【請求項３】
基板あるいはモールドの表面に感光性樹脂を塗布する樹脂塗布部と、
塗布された前記感光性樹脂を挟み、前記基板と前記モールドを重ね合わせて積層体とする積層部と、
前記積層体を、転写用プレスローラーによるライン状の加圧位置を通過する移動経路に沿って搬送することで、前記基板と前記モールドの間に挟まれた前記感光性樹脂の層に前記モールドの微細パターンを転写する転写部と、
前記微細パターンが転写された後の前記感光性樹脂の層に光を照射して硬化させる露光部と、
を有し、
前記樹脂塗布部は、
単一あるいは複数のノズルから感光性樹脂の液滴を吐出して、前記基板の表面に、所定のパターンで、前記感光性樹脂の液滴を付着させる樹脂吐出部と、
前記ノズルから吐出される前記感光性樹脂の液滴の吐出量の制御、前記基板に付着した前記感光性樹脂の液滴の付着パターンの制御、または、前記吐出量および前記付着パターンの双方の制御を行う樹脂吐出制御部と、
を備えていることを特徴とする微細転写装置。
【請求項４】
感光性樹脂を挟み、基板とモールドを重ね合わせて積層体とする積層部と、
前記積層体を、転写用プレスローラーによるライン状の加圧位置を通過する移動経路に沿って搬送することで、前記基板と前記モールドの間に挟まれた前記感光性樹脂の層に前記モールドの微細パターンを転写する転写部と、
前記微細パターンが転写された後の前記感光性樹脂の層に光を照射して硬化させる露光部と、
を有し、
前記積層部は、樹脂均し用プレスローラーと樹脂均し用支持ローラーを備え、前記樹脂均し用プレスローラーは、前記積層体を挟み、樹脂均し用の加圧力で前記樹脂均し用支持ローラーに押し付け可能であり、
前記基板および前記モールドは、前記樹脂均し用プレスローラーと前記樹脂均し用支持ローラーの間に送り込まれて積層され、これらの間を通過することで、前記感光性樹脂の液滴が均されて前記基板と前記モールドの間に広がって樹脂層が形成される微細転写装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記転写部は、前記転写用プレスローラーと転写用支持ローラーを備え、前記転写用プレスローラーは、前記積層体を挟み、転写用の加圧力で前記転写用支持ローラーに押し付け可能であり、
前記転写用プレスローラーと前記転写用支持ローラーの間を前記積層体が通過する間に、前記モールドの微細パターンが前記樹脂層に転写される微細転写装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記樹脂均し用の加圧力の制御、前記転写用の加圧力の制御、または、前記樹脂均し用の加圧力および前記転写用の加圧力の双方の制御を行うニップ圧制御部を有している微細転写装置。
【請求項７】
請求項５または６において、
前記露光部は、
光射出部と、
前記光射出部から射出された光線を、前記転写用プレスローラーと前記転写用支持ローラーのニップ部から送り出された直後の前記積層体における前記感光性樹脂の層の部分に向けて反射する反射面と、
を備え、
前記反射面は、前記転写用支持ローラーの外周面に形成されており、
前記積層体の前記基板は、前記転写用支持ローラーの側に位置し、前記光線を透過可能な透光性の基板である微細転写装置。
【請求項８】
請求項３ないし７のうちのいずれか一つの項において、
前記積層体の端面からはみ出た感光性樹脂を硬化前に除去する樹脂除去部を有している微細転写装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はナノインプリント装置、インプリント装置等と呼ばれる微細パターンを転写する微細転写装置に関し、特に、有機ＥＬパネル、ソーラーパネル等の大版の基板の表面に形成した感光性樹脂層に微細パターンを転写するのに適した微細転写装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ナノインプリント技術は、ＬＳＩ等の製造工程において、基板表面に形成した感光性樹脂層に微細パターンを転写するために用いられている。特許文献１には、このようなナノインプリント技術によるパターン形成方法が提案されている。
【０００３】
特許文献１に開示のパターン形成方法では、平板状の基材の表面に感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層を挟みモールドを基材に積層して積層体を形成している。この積層体に対してプレス工程、露光工程および離脱工程が順次に行われる。プレス工程では、リニアステージに乗せられた状態で、積層体がプレスローラー対のニップ部を通る移動経路に沿って搬送される。ニップ部を通過することで、モールドの微細パターンが感光性樹脂層に転写される。露光工程では、積層体の両側から活性光線を感光性樹脂層に照射し、当該感光性樹脂層を硬化させる。離脱工程では、硬化後の感光性樹脂層からモールドが剥離される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−１０５２１０号公報、図４、図５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来におけるナノインプリント技術を利用したパターン形成方法は、小さなサイズの基板表面への微細パターンの転写を目的としている。近年においては、有機ＥＬパネルなどの表示用パネル、ソーラーパネル等として大型の基板に対する需要が高い。例えば、５００ｍｍ×５００ｍｍのガラス基板等が用いられるようになっている。このような大型の基板に対しても、ナノインプリント技術を適用して微細パターンを効率良く転写することが考えられる。
【０００６】
精度良く微細パターンを転写するためには、基板表面における樹脂塗布領域に対して、均一な膜厚で正確に紫外線硬化樹脂等の感光性樹脂を塗布する必要がある。大型の基板の場合には樹脂塗布領域が広いので、樹脂塗布領域の全体に亘って均一な膜厚で感光性樹脂を塗布することがより困難になり、樹脂塗布領域からはみ出さないように精度良く感光性樹脂を塗布することもより困難になる。
【０００７】
また、プレスローラー等によってモールドを基板表面に形成した感光性樹脂層に押圧する転写工程では、基板の端から余分な感光性樹脂が外側に押し出される。大型の基板の場合には樹脂塗布領域も広いので、基板の端から外側にはみ出る感光性樹脂の量も多い。基板の端から外側にはみ出た感光性樹脂は、例えば、露光工程を経て硬化させた後に、切断して除去する必要がある。しかしながら、切断除去工程の追加は生産効率の低下、製造コストの増加を招くので好ましくない。
【０００８】
本発明の課題は、このような点に鑑みて、大型の基板に対しても精度良く、かつ、効率良く微細パターンを転写可能な微細転写装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するために、本発明の微細転写装置は、基板の表面あるいはモールドの表面に、感光性樹脂を塗布する樹脂塗布部を有している。この樹脂塗布部は、単一あるいは複数のノズルから感光性樹脂の液滴を吐出して、前記基板の表面あるいは前記モールドの表面に、所定のパターンで、前記感光性樹脂の液滴を付着させる樹脂吐出部と、前記ノズルから吐出される前記感光性樹脂の液滴の吐出量の制御、前記基板に付着した前記感光性樹脂の液滴の付着パターンの制御、または、前記吐出量および前記付着パターンの双方の制御を行う樹脂吐出制御部とを備えていることを特徴としている。
【００１０】
インクジェットヘッドのノズル等と同様な構成の液滴吐出部から感光性樹脂の液滴を吐出することで基板の表面あるいはモールドの表面に感光性樹脂が塗布される。感光性樹脂の塗布量を微細に制御することができるので、必要最小量の感光性樹脂を精度良く基板あるいはモールドの表面に塗布できる。これにより、転写工程において基板の端からの感光性樹脂のはみ出しを防止あるいは抑制できる。また、基板の表面における樹脂塗布領域の面積、形状等に応じて、適切な付着パターンで感光性樹脂の液滴を基板の表面に付着させて基板とモールドを両側から押圧すると、これらの間において感光性樹脂が一様に広がり、精度良く均一な層厚の樹脂層を形成することができる。
【００１１】
本発明の微細転写装置は、感光性樹脂を挟み、基板とモールドを重ね合わせて積層体とする積層部を備えている。この積層部は、樹脂均し用プレスローラーと樹脂均し用支持ローラーを備え、樹脂均し用プレスローラーは、前記積層体を挟み、樹脂均し用の加圧力で前記樹脂均し用支持ローラーに押し付けられる。
【００１２】
また、積層体を、転写用プレスローラーによるライン状の加圧位置を通過する移動経路に沿って搬送することで、基板とモールドの間に挟まれた感光性樹脂の層にモールドの微細パターンを転写する転写部は、前記転写用プレスローラーと転写用支持ローラーを備え、前記転写用プレスローラーは、積層体を挟み、転写用の加圧力で転写用支持ローラーに押し付けられる。転写用プレスローラーと転写用支持ローラーの間を積層体が通過する間に、モールドの微細パターンが樹脂層に転写される。
【００１３】
ここで、樹脂均し用の加圧力の制御、転写用の加圧力の制御、または、樹脂均し用の加圧力および転写用の加圧力の双方の制御を行うニップ圧制御部を備えていることが望ましい。
【００１４】
積層部において、基板およびモールドは、樹脂均し用プレスローラーと樹脂均し用支持ローラーの間に送り込まれて積層され、これらの間を通過することで、感光性樹脂の液滴が押しつぶされて基板とモールドの間に広がって感光性樹脂の層が形成される。また、転写部において、基板およびモールドは、さらに、転写用プレスローラーと転写用支持ローラーの間に送り込まれて加圧される。このように二段階で、感光性樹脂の層が均一化される。この結果、転写時には、基板とモールドの間に一定厚さの感光性樹脂の層が確実に形成された状態で、微細パターンが転写される。よって、精度良く微細パターンを転写することができる。
【００１５】
次に、本発明の微細転写装置の露光部は、光射出部と、前記光射出部から射出された光線を、前記転写用プレスローラーと前記転写用支持ローラーのニップ部から送り出された直後の前記積層体における前記感光性樹脂の層の部分に向けて反射する反射面とを備えている。反射面は前記転写用支持ローラーの外周面に形成されており、前記積層体の前記基板は、前記転写用支持ローラーの側に位置し、前記光線を透過可能な透光性の基板である。
【００１６】
転写用支持ローラーは転写位置において基板を撓み無く平坦な状態に支持するために硬質素材から形成されている。転写位置において基板の裏面を線接触状態で支持できるようにするためには、転写用支持ローラーの外周面の円筒度を高める必要がある。このために、支持ローラーの外周面は一般に鏡面仕上げされる。本発明では、鏡面仕上げされた転写用支持ローラーの外周面を、感光性樹脂を硬化させるための光線の反射面として利用している。
【００１７】
転写用支持ローラーと転写用プレスローラーのニップ部から送り出された直後の積層体の感光性樹脂の層の部分に光線を照射するためには、基板表面に対して斜め方向から光線を照射する必要がある。光線の入射角度が小さいと、基板を透過して感光性樹脂の層に向かう光線の一部が基板と感光性樹脂の層との境界で反射され、転写前の感光性樹脂の層の部分に当る可能性がある。
【００１８】
本発明では、転写用支持ローラーの外周面を光線の反射面として利用しているので、基板に対して大きな角度（基板表面に対して垂直に近い角度）で光線を照射することができる。よって、転写直後の感光性樹脂の層の部分に光線を確実に照射することができ、それ以外の部分に光線が照射してしまうことを防止あるいは抑制できる。
【００１９】
次に、本発明の微細転写装置は、前記積層体における前記基板と前記モールドの間における樹脂塗布領域以外の領域に感光性樹脂がはみ出すこと、あるいは、回り込むことを防止する樹脂ブロック部を有している。これにより、基板の表面における塗布領域以外の部分に感光性樹脂がはみ出る、あるいは回り込むことを確実に防止できる。
【００２０】
また、本発明の微細転写装置は、前記積層体の端面からはみ出た感光性樹脂を硬化前に除去する樹脂除去部を有している。硬化前の不必要な感光性樹脂の部分を除去することで、硬化後に不必要な感光性樹脂の部分を切断して除去する等の後工程が不要となり、転写作業の生産効率を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明を適用した実施の形態１のナノインプリント装置を示す説明図である。
【図２】図１における樹脂の塗布領域規制部を示す説明図である。
【図３】図１における樹脂の樹脂除去部を示す説明図である。
【図４】本発明を適用した実施の形態２のナノインプリント装置を示す説明図である。
【図５】図４における樹脂塗布部による付着パターンの一例を示す説明図である。
【図６】図４における露光部を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下に、図面を参照して、本発明を適用した微細転写装置の実施の形態を説明する。以下の実施の形態は、本発明を、ナノオーダーの微細パターンを転写するナノインプリント装置に適用したものである。本発明は、例えば、ミクロンオーダーの微細パターンを転写するインプリント装置等の微細転写装置に対して同様に適用可能であり、本発明は、ナノインプリント装置に限定されるものではない。
【００２３】
［実施の形態１］
図１は実施の形態１に係るナノインプリント装置（微細転写装置）の主要構成を示す説明である。ナノインプリント装置（微細転写装置）１は、透明なガラス基板２の表面を覆う紫外線硬化樹脂からなる樹脂層３に、モールド４の微細パターンの転写を行う。ナノインプリント装置１には、樹脂層３を挟み、ガラス基板２にモールド４が積層された構成の積層体５が供給される。ガラス基板２の代わりに樹脂基板を用いてもよいことは勿論である。
【００２４】
なお、積層体５は次のようにして供給される。図において想像線で示す樹脂塗布部６において、モールド４の表面に紫外線硬化樹脂が公知の各種の方法によって塗布される。紫外線硬化樹脂が塗布された後のモールド４には、図において想像線で示すモールド積層部８において、塗布された紫外線樹脂を挟み、ガラス基板２が位置決めされた状態で積層される。これらの樹脂塗布部６、モールド積層部８は、ナノインプリント装置１に搭載してもよいし、ナノインプリント装置１とは別体に構成することもできる。
【００２５】
ナノインプリント装置１は、装置架台１１と、この装置架台１１に搭載された移動式のステージ１２と、ステージ１２を移動させるための移動機構１３を備えている。ステージ１２は、前進方向Ｆおよび後退方向Ｂに往復直線移動可能である。装置架台１１には、転写部１５および露光部２０が搭載されている。
【００２６】
転写部１５はステージ１２の移動経路の途中位置に配置されている。転写部１５は、装置架台１１に取り付けたローラー支持台１６、このローラー支持台１６に搭載されたローラープレス機構１７、および、このローラープレス機構１７に搭載された転写用のプレスローラー１８を備えている。プレスローラー１８は、ステージ１２の移動経路の途中位置における真上に位置し、ローラープレス機構１７によって昇降可能である。
【００２７】
露光部２０は、プレスローラー１８に対して、ステージ１２の前進方向Ｆの側の位置に配置されている。露光部２０は、紫外線照射ランプ２１と、ランプ駆動回路部２２を備えており、プレスローラー１８から前進方向Ｆに送り出される積層体５に対して、斜め上方から紫外線を照射可能である。
【００２８】
転写動作においては、積層体５はガラス基板２が上側に位置する状態で、ステージ１２上に位置決め固定され、ステージ１２と共に前進方向Ｆに送られる。転写部１５において、積層体５はプレスローラー１８によって所定の加圧力でステージ１２に押し付けられながら送り出される。プレスローラー１８による加圧位置（ニップ位置）を通過する間に、モールド４の微細パターンが紫外線硬化樹脂からなる樹脂層３に転写される。
【００２９】
転写後の積層体５には、露光部２０から紫外線が照射される。紫外線は積層体５の透明なガラス基板２を透過して微細パターンが転写された樹脂層３を照射し、これにより、樹脂層３が硬化する。なお、露光後の積層体５は、図において想像線で示す脱型部９においてモールド４が剥離除去される。微細パターンが表面の樹脂層に転写されたガラス基板２はステージ１２から外されて、次段の工程に向けて搬送される。なお、脱型部９はナノインプリント装置１に搭載してもよいし、ナノインプリント装置１とは別体に構成することもできる。
【００３０】
空になったステージ１２は後退方向Ｂに移動して、新たな積層体５の受け入れ位置である初期位置に戻る。なお、ステージ１２の移動機構１３の制御、プレスローラー１８による加圧力の制御、露光部２０の露光制御は、装置架台１１に搭載されているコントローラー１０によって行われる。
【００３１】
（樹脂ブロック部）
上記構成のナノインプリント装置１においては、転写部１５において、プレスローラー１８によって積層体５がステージ１２に押し付けられながら、このプレスローラー１８による加圧位置を通過する。この際に、ガラス基板２とモールド４の間の樹脂層３も押圧されるので、ガラス基板２とモールド４の間から紫外線硬化樹脂の一部が押し出されて、ガラス基板２の外周端から外側にはみ出すおそれがある。かかる弊害を防止するために、積層体５を次の構成とすることが望ましい。
【００３２】
図２は積層体の一例を示す説明図である。この図に示す積層体５Ａは、ガラス基板２、モールド４、磁石シート２８および樹脂ブロックシート２９を備えている。樹脂塗布部６（図１参照）においては、ステージ１２の表面に載せた磁石シート２８の上にＮｉなどの磁性体からなるモールド４を載せる。これにより、モールド４は平らな状態でステージ上に配置される。また、磁石シート２８の表面には、モールド４を取り囲む状態に、樹脂ブロックシート２９が固定されている。例えば、接着剤によって着脱可能な状態で、樹脂ブロックシート２９が磁石シート２８の表面に取り付けられている。
【００３３】
この状態で、モールド４の表面に所定量の紫外線硬化樹脂７を塗布する。磁力によって平坦になったモールド表面に紫外線硬化樹脂７を塗布することにより、正確に必要最低量の紫外線硬化樹脂を均一に塗布できる。また、この状態で、バーコーター等の塗布具を用いて、塗布された紫外線硬化樹脂を均すことで、より正確な量の紫外線硬化樹脂が均一な厚さでモールド４の表面に塗布された状態を形成できる。
【００３４】
塗布後には、積層部８（図１参照）において、紫外線硬化樹脂７を挟み、ガラス基板２を位置決めしてモールド４に積層する。この結果、図２に示す構成の積層体５Ａが得られる。モールド４は樹脂ブロックシート２９で囲まれた状態で、ガラス基板２と磁石シート２８の間に挟まれる。したがって、ガラス基板２の表面に塗布した紫外線硬化樹脂７は、ガラス基板２の表面、モールド４の表面、および、樹脂ブロックシート２９の内周端面によって取り囲まれた隙間内にとじ込まれた状態になる。
【００３５】
かかる構成の積層体５Ａが転写部１５においてプレスローラー１８によって厚さ方向に加圧されても、紫外線硬化樹脂７は樹脂ブロックシート２９によって外周側への移動が阻止される。よって、紫外線硬化樹脂７がガラス基板２の外周端の側に押し出されて、外側にはみ出すことがない。
【００３６】
ここで、樹脂ブロックシート２９は、少なくとも、モールド４の厚さに、紫外線硬化樹脂７の樹脂層の厚さを加えた厚さとされる。また、樹脂ブロックシート２９は、ＰＯＭシート、フッ素樹脂シート、フッ素ゴムシート、シリコンゴムシート等から形成することができる。ＰＯＭシート、フッ素樹脂シートの場合には、例えば、シート厚さを０．３ｍｍ以上とする。フッ素ゴムシート、シリコンゴムシートの場合には、例えば、シート厚さを０．５ｍｍ以上とする。
【００３７】
（樹脂除去部）
積層体５において、ガラス基板２とモールド４の間からそれらの外周端に紫外線硬化樹脂がはみ出ることを防止する代わりに、これらの外周端からはみ出た紫外線硬化樹脂を硬化前（露光前）に除去するようにしてもよい。
【００３８】
図３は、はみ出した紫外線硬化樹脂を除去するのに適した積層体５Ｂを示す説明図である。積層体５Ｂにおいて、モールド４Ｂは、少なくとも、その幅方向の両側の縁部４ａ、４ｂがガラス基板２の両側の縁端２ａ、２ｂよりも幅方向の外方に一定幅で突出していると共に、これらの両側の縁部４ａ、４ｂはガラス基板２から離れる方向に９０度未満の角度で折れ曲っている。
【００３９】
ナノインプリント装置１にはスクレーパー２５ａ、２５ｂおよび吸着ユニット２６ａ、２６ｂが配置されている。スクレーパー２５ａ、２５ｂは、ステージ１２の移動方向における転写位置に対応する部位において、ステージ１２の両側に配置されている。各スクレーパー２５ａ、２５ｂには吸着ユニット２６ａ、２６ｂが配置されている。
【００４０】
転写位置において積層体５Ｂがプレスローラー１８によって加圧されると、紫外線硬化樹脂がガラス基板２の両側の縁端２ａ、２ｂから外方に押し出されることがある。押し出された紫外線硬化樹脂は、傾斜しているモールド４の両側の縁部４ａ、４ｂの表面にはみ出る。縁部４ａ、４ｂの表面にはみ出た紫外線硬化樹脂は、ステージ１２の移動に伴って、転写部におけるステージ１２の両側に配置されているスクレーパー２５ａ、２５ｂによって掻き取られる。掻き取られた紫外線硬化樹脂は吸着ユニット２６ａ、２６ｂによって吸着除去される。
【００４１】
スクレーパー２５ａ、２５ｂおよび吸着ユニット２６ａ、２６ｂを用いる代わりに、真空吸引ノズルを用いて、モールド４の両側の縁部４ａ、４ｂにはみ出た紫外線硬化樹脂を吸引除去することも可能である。
【００４２】
また、これらの樹脂除去機構を採用すると共に、樹脂塗布部６（図１参照）においてガラス基板２の表面に塗布する紫外線硬化樹脂の塗布量を必要最小量となるように精度良く制御することが望ましい。このようにすれば、転写部１５において、ガラス基板２の両側の縁端から紫外線硬化樹脂がはみ出ることを確実に防止できる。
【００４３】
なお、積層体５Ｂの後端縁からはみ出た紫外線硬化樹脂は、例えば、スクレーパーおよび吸着ユニットを、積層体５Ｂの幅方向に沿って移動させることで、掻き取って除去することができる。また、スクレーパー、真空吸引の代わりに、静電塗布の原理を応用して、はみ出た紫外線硬化樹脂を静電吸着して除去することも可能である。
【００４４】
一方、ガラス基板２の外周端からはみ出た紫外線硬化樹脂を、微細パターン転写領域の紫外線硬化樹脂とは別工程で硬化させて除去することも可能である。例えば、ガラス基板とモールドの積層体の全体をフィルムで覆い、はみ出た紫外線硬化樹脂を当該フィルムに付着させて硬化させて除去することができる。窒素パージ等によって、はみ出た紫外線硬化樹脂を完全に硬化させ、硬化後に切断して除去することもできる。また、転写部１５におけるプレスローラー１８の直下において、その横方からはみ出た紫外線硬化樹脂の部分に高輝度の紫外線を当て、当該樹脂の部分だけ先に硬化させて切断除去することも可能である。
【００４５】
［実施の形態２］
図４は実施の形態２に係るナノインプリント装置（微細転写装置）の主要部を示す説明図である。ナノインプリント装置（微細転写装置）３０は、基板、例えばガラス基板３１およびモールド３２を供給する供給部３３を備えている。また、供給されたガラス基板３１の表面に感光性樹脂、例えば紫外線硬化樹脂３４を塗布する樹脂塗布部３５と、塗布された紫外線硬化樹脂３４を挟み、ガラス基板３１とモールド３２を位置決めした状態で重ね合わせて積層体３６とする積層部３７を備えている。
【００４６】
ナノインプリント装置１は、さらに、積層部３７を、転写用プレスローラー３８によるライン状の加圧位置を通過する移動経路に沿って搬送することで、ガラス基板３１とモールド３２の間に挟まれた紫外線硬化樹脂３４の層にモールド３２の微細パターンを転写する転写部３９、および、微細パターンが転写された後の紫外線硬化樹脂３４の層に紫外線を照射して硬化させる露光部４０を備えている。これに加えて、硬化後の紫外線硬化樹脂３４の層からモールド３２を剥離し、転写後のガラス基板３１を次工程に送り出す脱型部４１を備えている。
【００４７】
上記の各部の駆動制御はコントローラー４２によって行われる。また、樹脂塗布部３５、積層部３７、転写部３９および露光部４０は、ガラス基板３１の移動経路に沿って、その上流側から下流側にむかって、この順序で配置されている。
【００４８】
樹脂塗布部３５は、単一あるいは複数のノズル３５ａから紫外線硬化樹脂３４の液滴を吐出して、ガラス基板３１の表面に、所定のパターンで付着させる樹脂吐出部３５ｂを備えている。コントローラー４２は、ノズル３５ａから吐出される紫外線硬化樹脂３４の液滴の吐出量の制御、ガラス基板３１に付着した紫外線硬化樹脂３４の液滴の付着パターンの制御、または、吐出量および付着パターンの双方の制御を行う吐出制御部として機能する。
【００４９】
例えば、図５に示すように、ガラス基板３１の表面３１ａ上において、紫外線硬化樹脂３４の液滴が、ガラス基板３１の移動方向である長さ方向、これに直交する幅方向において所定の間隔でマトリクス状に付着した付着パターンとなるように、制御される。処理対象のガラス基板３１のサイズ、微細パターンの形成領域、転写用プレスローラー３８の加圧力などのパラメータに応じて、最適な付着パターン、吐出される液滴の量等が制御される。
【００５０】
積層部３７は、樹脂均し用プレスローラー３７ａと樹脂均し用支持ローラー３７ｂを備えている。樹脂均し用プレスローラー３７ａは例えば樹脂ローラーであり、所定の樹脂均し用の加圧力で、硬質素材、例えば金属製の樹脂均し用支持ローラー３７ｂに向けて押し付け可能である。ガラス基板３１およびモールド３２は、樹脂均し用プレスローラー３７ａと樹脂均し用支持ローラー３７ｂの間に送り込まれて積層される。また、これらの間を通過することで、紫外線硬化樹脂の液滴が押しつぶされてガラス基板３１とモールド３２の間に広がって一定厚さの樹脂層３４ａが形成される。
【００５１】
転写部３９は、転写用プレスローラー３８と転写用支持ローラー４３を備えている。転写用プレスローラー３８は例えば樹脂ローラーであり、所定の転写用加圧力で、積層体３６を挟み、金属製等の硬質素材からなる転写用支持ローラー４３に押し付け可能である。転写用プレスローラー３８と転写用支持ローラー４３の間を積層体３６が通過する間に、これらの間の樹脂層３４ａが均一に均されながら、モールド３２の微細パターンが樹脂層に転写される。
【００５２】
ここで、コントローラー４２は、樹脂均し用の加圧力の制御、転写用の加圧力の制御、または、樹脂均し用の加圧力および転写用の加圧力の双方の制御を行うニップ圧制御部として機能する。
【００５３】
次に、図４および図６を参照して説明すると、露光部４０は、紫外線を射出する光射出部４０ａと、転写用支持ローラー４３の円形外周面に形成した反射面４３ａとを備えている。光射出部４０ａから射出された紫外線は反射面４３ａで反射されて、転写用プレスローラー３８と転写用支持ローラー４３のニップ部３９ａ（転写位置）から送り出された直後の積層体３６における紫外線硬化樹脂の層部分３４ｂに向かう。
【００５４】
積層体３６のガラス基板３１は、紫外線透過性の透明なガラス基板であり、図から分かるように、転写用支持ローラー４３の側に積層されている。したがって、反射面４３ａで反射された紫外線反射光成分は、ガラス基板３１を透過して転写位置３９ａ直後の紫外線硬化樹脂の層部分３４ｂを照射し、当該層部分を硬化させる。
【００５５】
紫外線を直接に層部分３４ｂに向けて照射する場合には、ガラス基板３１の表面に対する紫外線の入射角度が垂直方向から大きく傾斜し、層部分３４ｂの照射光量が確保できないことがある。また、ガラス基板内で紫外線が反射して転写位置３９ａの手前側の紫外線硬化樹脂の層部分を照射してしまい、微細パターンの転写を精度良く行うことができなくなるおそれもある。
【００５６】
本例では、紫外線を転写用支持ローラー４３の外周面に形成した反射面４３ａによって反射させるようにしているので、ガラス基板３１の表面に対して、その垂直方向に近い角度で入射させることができる。よって、確実に、転写直後の層部分３４ｂを照射して硬化させることができる。また、転写用支持ローラー４３は金属等の硬質素材から形成されており、ローラー面長方向において均一な転写圧力が加わるように、ローラー外周面は高い円筒度となるように加工され、一般的には鏡面加工されている。したがって、転写用支持ローラー４３の鏡面仕上げの外周面をそのまま反射面として利用することができる。
【００５７】
なお、本例のナノインプリント装置３０において、実施の形態１において説明した樹脂除去部（図３参照）を付設して、ガラス基板３１の外周端からはみ出た樹脂を除去するようにしてもよいことは勿論である。
【符号の説明】
【００５８】
１  ナノインプリント装置（微細転写装置）、２  ガラス基板、３  紫外線硬化樹脂層、
４  モールド、４Ｂ  モールド、４ａ，４ｂ  縁部、５  積層体、
５Ａ，５Ｂ  積層体、６  樹脂塗布部、７  紫外線硬化樹脂、８  積層部、
９  脱型部、１０  コントローラー、１１  装置架台、１２  ステージ、
１３  移動機構、１５  転写部、１６  ローラー支持部、１７  ローラープレス機構、
１８  プレス用ローラー、２０  露光部、２１  紫外線照射ランプ、
２２  ランプ駆動回路部、２５ａ，２５ｂ  スクレーパー、
２６ａ，２６ｂ  吸着ユニット、２８  磁石シート、２９  樹脂ブロックシート、
３０  ナノインプリント装置（微細転写装置）、３１  ガラス基板、３２  モールド、
３３  供給部、３４  紫外線硬化樹脂、３４ａ  樹脂層、
３４ｂ  転写直後の樹脂の層部分、３５  樹脂塗布部、３５ａ  ノズル、
３５ｂ  樹脂吐出部、３６  積層体、３７  積層部、３７ａ  樹脂均し用プレスローラー、３７ｂ  樹脂均し用支持ローラー、３８  転写用プレスローラー、３９  転写部、
３９ａ  ニップ部（転写位置）、４０  露光部、４１  脱型部、４２  コントローラー、
４３  転写用支持ローラー、４３ａ  反射面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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