(57)【要約】本発明は、記録担体（６０）のマスタを、記録担体において円形又はらせん状のトラック内にデータを書き込むことによって製作するのに適しており、記録担体を回転させる手段（５８）と、記録担体（６０）の回転に対して放射方向に記録担体（６０）にわたってレーザ（６１）を移動させる手段（６２）と、レーザ出力電力を制御する手段（６５）と、記録担体（６０）の回転、レーザ（６１）の移動、及びレーザ出力電力を同期化させる手段（６６）とを備えるLBR（レーザ・ビーム・レコーダ）（５６）を制御する方法に関する。本発明によれば、円形又はらせん状とは別の配置を備える少なくとも１つのトラックにデータの少なくとも一部が書き込まれるように、記録担体６０の回転、レーザ６１の移動、及びレーザ出力電力を同期化させる工程が行われる。本発明はレーザ・ビーム・レコーダにも関する。
2008512812.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録担体のマスタを、前記記録担体において円形又はらせん状のトラック内にデータを書き込むことによって製作するのに適しており、
記録担体を回転させる手段と、
前記記録担体の前記回転に対して放射方向に前記記録担体にわたってレーザを移動させる手段と、
レーザ出力電力を制御する手段と、
前記記録担体の前記回転、前記レーザの前記移動、及び前記レーザ出力電力を同期化させる手段と
を備えるLBR（レーザ・ビーム・レコーダ）を制御する方法において、
円形又はらせん状とは別の配置を備える少なくとも１つのトラックに前記データの少なくとも一部が書き込まれるように前記記録担体の前記回転、前記レーザの前記移動、及び前記レーザ出力電力を同期化させる工程を備えることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、前記データの前記一部を書き込むためにデカルト座標（x,y）と極座標（R,θ）との間のマッピングが行われることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１記載の方法において、前記少なくとも１つのトラックが、直線の配置を備えることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１記載の方法において、前記データの前記一部が、ピットの形式で備えられることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項４記載の方法において、前記ピットは、前記記録担体の平面内にある仮想行と、前記記録担体の平面内にある仮想列との交点に配置されることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項４記載の方法において、前記ピットの少なくとも一部が重なることを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項４記載の方法において、前記ピットの少なくとも一部が、異なる深度を有することを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１記載の方法において、前記データの少なくとも一部が、異なる深度を有するピットの形式で備えられ、前記記録担体が、第１の記録層と、少なくとも第２の記録層とを備え、前記第１の記録層と前記少なくとも第２の記録層との間には、別個のピット深度につながる物理バリアが設けられていることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１記載の方法において、前記データの一部が、局所的な広がりを有する直線の形式で書き込まれることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１記載の方法において、前記データの一部が、局所的な狭まりを有する直線の形式で書き込まれることを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１記載の方法において、前記記録担体が、スタンパの作製に関して用いられることが意図されていることを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１１記載の方法において、前記スタンパは、回転させることなく読み出すことが意図されている（光）記録媒体の生産に用いられることが意図されていることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１１記載の方法において、前記スタンパは、プリンティングに、特に、マイクロコンタクト・プリンティングに用いることが意図されていることを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項１記載の方法において、前記トラックは、2次元データ・レイアウトを備えるメタトラックであることを特徴とする方法。
【請求項１５】
記録担体のマスタを、前記記録担体において円形又はらせん状のトラック内にデータを書き込むことによって製作するのに適しており、
記録担体を回転させる手段と、
前記記録担体の前記回転に対して放射方向に前記記録担体にわたってレーザを移動させる手段と、
レーザ出力電力を制御する手段と、
前記記録担体の前記回転、前記レーザの前記移動、及び前記レーザ出力電力を同期化させる手段と
を備えるLBR（レーザ・ビーム・レコーダ）において、
前記記録担体の前記回転、前記レーザの前記移動、及び前記レーザ出力電力を同期化させる手段を、円形又はらせん状とは別の配置を備える少なくとも１つのトラックに前記データの少なくとも一部が書き込まれるように前記記録担体の前記回転、前記レーザの前記移動、及び前記レーザ出力電力を同期化させるよう適合させることを特徴とするLBR。
【請求項１６】
請求項１５記載のLBRにおいて、前記同期化させる手段を、デカルト座標(x,y)と極座標(R,θ)との間のマッピングを行うよう適合させることを特徴とするLBR。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録担体において円形又はらせん状のトラック内にデータを書き込むことによって記録担体のマスタを製作するのに適した、LBR（レーザ・ビーム・レコーダ）を制御する方法に関する。上記方法は、記録担体を回転させる工程と、記録担体の回転に対して放射方向に記録担体にわたってレーザを移動させる工程と、レーザ出力電力を制御する工程と、記録担体の回転、レーザの移動、及びレーザ出力電力を同期化させる工程とを備える。更に、本発明は、記録担体において円形又はらせん状のトラック内にデータを書き込むことによって記録担体のマスタを製作するのに適したレーザ・ビーム・レコーダに関する。レーザ・ビーム・レコーダは、記録担体を回転させる手段と、記録担体の回転に対して放射方向に記録担体にわたってレーザを移動させる手段と、レーザ出力電力を制御する手段と、記録担体の回転、レーザの移動、及びレーザ出力電力を同期化させる手段とを備える。
【背景技術】
【０００２】
光学式記憶の主な利点は、ROM媒体の複製の費用が低いことである。従来の光学式記憶の概念の主な欠点は、光ドライブ内に回転部分が存在していることである。回転部分は多くの欠点（例えば、摩耗に弱いこと、回転による雑音の発生、やや大きな電力消費（特に、高い回転速度で）等）を有する。例えば、タルボット効果に基づいたT-ROM概念は、光カード・システムにおいて用いる部品を回転させることのない光学式読み出しの原理として提案されている。この概念は、等間隔の穴の行列にわたって生成される2次元周期的光干渉パターンに基づいている。光カード（例えば、ROM媒体）は、複数光源及び検出器（例えば、CCDのような検出器）のこの行列に配置されている。光カード（すなわち、光記録担体）は、透過モードにおいて読み出される。非書き込み領域は、書き込み領域（例えば、ピット）よりも多くの光を透過し、逆も同様である。このようにして、別々の画素の透過レベルにおいて符号化された2値データを読み出すことが可能である。主たる課題は、前述のリーダに適したROM媒体を製造することである。
【０００３】
レーザ・ビーム・レコーダは、例えば、CDやDVDの複製に用いるスタンパを供給する基礎を成すガラス・マスタの生産に関してよく知られている。従来のマスタ製作では、薄い感光層（ガラス基板上にスピン塗布される）が、レーザ・ビーム・レコーダにおいて、変調された集束レーザ・ビームによって照射される。レーザ・ビームの変調によって、ディスクの特定部分がUV（又は別の波長）によって露光される一方、露光領域（ピット）間の中間層は露光されていない状態に留まるようになる。ディスクが回転し、集束レーザ・ビームがディスクの外側に平滑に引き付けられる一方、交互にくる照射領域のらせんが残る。データを円形の配置に配置させることも知られている。すなわち、既知のレーザ・ビーム・レコーダでは、データが、らせん状又は円形のトラックに配置される。後に、露光領域は、いわゆる現像プロセスにおいて現像される。光子の影響下で、現像用のベース液に溶解する酸が形成される。この溶解によって、フォトレジスト層内部に物理的な穴が生じる。使用済ガラスはUV露光、及び後の現像液、に対する感度が低いため、層の厚みが自然に、作られた穴のバリアとなっている。その後、Ni層が、パターン化されたフォトレジスト層の上部にスパッタ堆積される。このNi層は、逆のピット構造を有するやや厚いスタンパが残るように直流電気によって成長させる。このスタンパを用いて、例えばポリカーボネートによる射出成形によって、又は、ガラス/２P複製プロセスによってディスクを複製する。
【０００４】
層転移材料によってリリーフ構造を製造することも可能である。前述の無機材料により、レーザによって誘発された加熱による異なるモフォロジ/格子構造が得られる。アルカリ液（KOH及びNaOH）、並びに酸（HClやHNO3のような）のようなエッチング液と接触した場合、熱劣化相及び初期相は、異なる溶解率を有する。例えば、アモルファス領域は、当初は結晶の相変化層に書き込むことができる。アモルファス・マーク、又は結晶質の内部材料は、リリーフ構造が残るように、より速く溶解する。相変化層は、相変化記録スタック（書き込み中の光コントラスト及び熱反応を微調節するために金属ヒートシンク層及び誘電層を更に備える）に埋め込まれる。相転移層は、エッチング可能な下層と組み合わせてマスク層として用いることもできる。相転移層のマスタ製作は、リリーフ構造の密度を更に増加させるうえで興味深い候補である。従来の電気化学的プレーティングでは、スタンパ又は金属ネガは、パターン化されたリリーフ構造でできている。このスタンパは、ポリカーボネート・ディスク内又は２P/ガラス・ディスク内のピット構造を複製するために作製される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、特に、レーザ・ビーム・レコーダの応用分野を広げることであるが、それに限定されない。それによって、本明細書の冒頭で述べたタイプの光カードを作製するためのスタンパを生産することができるようになる。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前述の目的は、独立請求項の特徴によって解決される。本発明の更なる展開及び好ましい実施例は、従属請求項に記載している。
【０００７】
本発明の第１の局面によれば、本明細書の冒頭に述べたタイプのレーザ・ビーム・レコーダを制御する方法は、円形又はらせん状とは別の配置を備える少なくとも１つのトラックにデータの少なくとも一部が書き込まれるように、記録担体の回転、レーザの移動、及びレーザ出力電力を同期化させる工程を備える。
【０００８】
本発明の第２の局面によれば、前述の目的は、本明細書の冒頭に述べたタイプのレーザ・ビーム・レコーダによって解決される。このレーザ・ビーム・レコーダでは、記録担体の回転、レーザの移動、及びレーザ出力電力を同期化させる手段を、円形又はらせん状とは別の配置を備える少なくとも１つのトラックにデータの少なくとも一部が書き込まれるように適合させる。
【０００９】
それによって、ほぼ何れの2次元リリーフ構造（例えば、デカルト・グリッドのようなグリッドに配置された矩形のデータ・ピット行列）も形成することが可能である。このことによって例えば、本発明によって、それぞれ制御され、適合させた従来のマスタ製作機によって生産可能な円形ディスクがもたらされる。矩形のカットアウトによって、矩形のデータ・ピット行列を備えた所望のカードが供給される。時間上の固定の基準点においてディスクの回転をレーザ・パルス・パターンと同期化させることが好ましい。ディスク（すなわち、記録担体）が、一定の各速度で回転する場合、回転の時間は固定である（すなわち、T=1/fである、fは、ディスクの回転周波数である（角速度ω＝２πｆである））。時間上の基準点とピットP（i,j）との間の遅延は、t=θ/ωである。時間ｔでは、書き込みパルスを始動させて画素又はピットP(i,j)を書き込む。あるいは、レーザ・ビーム・レコーダを一定線形速度モードで動作させることも可能である。この場合、角速度を、半径全てにおいて一定の線形速度を得るよう適合させる。
【００１０】
以下の特徴は多くの場合において、本発明の方法に関してのみ特許請求の範囲に記載しているが、前述の特徴を、本発明によるレーザ・ビーム・レコーダに関して効果的に用いることもできることが当業者には明らかである。
【００１１】
上記データ部分を書き込むために、デカルト座標と極座標との間のマッピングが行われることが好ましい。既知のデータ・パターンの場合、書き込む対象のピットは、デカルト座標によって知られている。ピット（又は何れかの他のデータ構造）の前述の場所は、パターンの原点が固定されると、極座標（角度及び半径）に変換することが可能である。後に、レーザ・パルス列を規定し、ディスクの回転と同期化させることが可能である。
【００１２】
例えば、少なくとも１つのトラックが、直線の配置を備えることが、それに限定することなしで可能である。直線（特に等間隔の平行線）の形式のトラックは例えば、回転なしで読み出すことが意図された光カードの生産に関して有用である。
【００１３】
多くの応用分野の場合、データの一部がピットの形式で備えられることが好ましい。大半の場合、物理ピットは、通常の現像プロセス及びエッチング・プロセスによって形成される。しかし、物理ピットがアブレーションによって直接形成されることも本発明の範囲内である。
【００１４】
例えば、デカルト・グリッドのようなグリッドに配置されたデータに関しては、記録担体の平面内にある仮想行と、記録担体の平面内にある仮想列との交点にピットがあることが好ましい。
【００１５】
特定の応用分野では、ピットの少なくとも一部が重なることが効果的であり得る。数多くの円形スポットが重なる場合、レーザの光スポットよりも（ずっと）大きなピットを書き込むことが可能である。このことは、例えば、データ分解能がリーダの読み出しチャンネルによって制限され得る第１世代の光カード・リーダの場合、興味深いものであり得る。
【００１６】
本発明の更なる実施例によれば、ピットの少なくとも一部は、異なる深度を有することが可能である。異なる深度を有するピットを設けることによって、基本的に３つ以上の透過／反射レベルを備えるROM媒体を作製してデータ密度を増加させることが可能である。
【００１７】
この関係で、データの少なくとも一部が、異なる深度を有するピットの形式で備えられ、記録担体が、第１の記録層と、少なくとも第２の記録層とを備え、それらの間には、別個のピット深度につながる物理バリアが設けられていることが好ましい。記録層は好ましくは、フォトレジスト材料でできている。本発明は、２つの異なる深度レベルをもたらすために２つの記録層のみを用いることに限定されない一方、対応する数の異なる透過／反射レベルを設けるために3つ以上の記録層を有する記録担体も有する。第１の一般的な解決策によれば、物理バリアは、所定の破壊機構によって（特に光化学反応または熱効果によって）破壊する界面層を備える。3つ以上の記録層が設けられている場合、好ましくは、適切な界面層が、隣接する記録層全ての間に配置されている。破壊機構が熱効果の場合、記録担体の光学特性は、例えば、溶融、熱劣化や他の熱変化機構によって変化する。第１の一般的な解決策の更なる展開は、界面層が一定量の光子によって漂白可能であり、漂白された材料が、光化学反応において用いる現像液内で溶解できることである。界面層が、所定のレーザ電力を超えると感度が高くなる抑制層であることも考えられる。例えば、第１のフォトレジスト層を、現像前の処理によって、スピン塗布し、ベーキングし、処理することが可能である。次いで、第２のフォトレジスト層が、スピン塗布され、ベーキングされる。抑制層は当初、第１のフォトレジスト層の一部であったが、現像前の処理中の現像液による処理によって、異なる化学特性（及び光学特性）を得た。界面層は好ましくは、PMMA、窒化シリコン、窒化アルミニウム及びZnS-SiO2の群から選択された材料でできている。第２の一般的な解決策では、物理バリアは、第１の記録層及び第２の記録層が固有の異なる材料でできている点で形成される。この場合、別々の記録層を、例えば、互いにスピン塗布するか又は堆積させる。例えば、第１の記録層及び第２の記録層は、異なる感光性化合物を備え得る。更に、第１の記録層及び第２の記録層が、異なる組成を有することが考えられる。更に、又はあるいは、第２の一般的な解決策に関しては、第１の記録層及び第２の記録層がレーザの（例えば、深ＵＶの）照射に対して異なる感度を備えることが考えられる。例えば、より低い感度を有するフォトレジストを基板上にスピン塗布して第２の記録層を形成し、後に、より高い感度を有するフォトレジストを第２の記録層上にスピン塗布して第１の記録層を形成し、この場合、第２の記録層には、高いレーザ電力レベルにおいてしか達しないことが考えられる。更に、第１の記録層及び第２の記録層が、異なる感度を光化学現像に対して有することも考えられる。更に、第１の記録層及び第２の記録層が、異なる感度をエッチング剤に対して有することも考えられる。例えば、第１の記録層はフォトレジストによって形成することができ、第２の記録層はガラス基板によって形成することができる。
【００１８】
複数レベルのリリーフ構造を相転移材料によって形成することも可能である。その場合、より多くの相転移記録層が、１つの記録スタックに組み合わせられる。異なる電力レベルを印加することによって、第１の記録層内にマークが書き込まれることになるか（低レーザ電力）、又は第２の記録層内にマークが書き込まれることになる（高レーザ電力）。周知の相変化材料は、2レベルのリリーフ構造を作るうえで非常に適切である。前述の2レベル構造の記録スタックは、第１の誘電層、第１の相変化層、第１の界面層、第２の相変化層、第２の界面層及び金属ヒートシンク層を備える。
【００１９】
本発明は、データの一部が、局所的な広がりを有する直線の形式で書き込まれる解決策も有する。例えば、データを、局所的な広がりを有する連続したグルーブの形式で備えることができる。上記広がりは、連続したレーザ電力上にスーパインポーズされるレーザ・パルスによって得られる。
【００２０】
更に、又はあるいは、データの一部が、局所的なくびれを有する直線の形式で書き込まれる。例えば、局所的な狭まりを有する連続したグルーブを形成することができる。前述の狭まりは、レーザ電力のばらつきによって得られる。
【００２１】
記録担体は、スタンパの作製に関して用いることが意図されることが好ましい（それに限定されることなしで）。スタンパは通常、データを表す突起バンプを有するニッケル基板である。データが記録担体に書き込まれた後、露光／照射領域が、エッチングによって化学的に除去される。それによって、物理ピットはレジスト層内に留まる。得られたリリーフ構造には、スパッタ堆積された金属層（好ましくは、ニッケル）が設けられている。このNi層を、電気化学的プレーティングによって、厚く、管理可能な基板に成長させる。Ni基板をマスタ基板と分離して最後にスタンパにする。例えば、スタンパを後に用いて光記憶媒体を複製することができる。
【００２２】
この意味合いでは、回転させることなく読み出すことを意図している光記録担体の生産にスタンパを用いることが意図されていることが特に考えられる。光記録担体は例えば、本明細書の冒頭に述べたタルボット効果によって読み出すことが意図された光カードであり得る。
【００２３】
別の応用分野によれば、スタンパは、プリンティング（特にマイクロコンタクト・プリンティング）に用いることが意図されている。
【００２４】
データ密度を更に増加させるために、トラックが、2次元データ・レイアウトを有するメタトラックであることが考えられる。ディスク平面における2次元データ記憶は、容量を増加させるための新たなやり方である。2次元データ記憶の予想データ容量は、少なくとも2倍であることが推定される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明の前述及びその他の局面は、以下に説明する実施例から明らかであり、上記実施例を参照して明らかになる。
【実施例】
【００２６】
図１は、本発明による方法の実施例を示す流れ図である。例証する方法は、工程S1に始まる。工程S２では、レーザ・ビーム・レコーダを設ける。これは、図２を参照して更に詳細に説明する。工程S３では、基板及び記録スタックを備える記録担体を設ける。通常のマスタ製作の場合、記録スタックはフォトレジスト層を備える。任意的には、他の層（例えば、レーザ光の吸収を増加させ、ピット形状を改良するための層）も設け得る。層転移材料に基づいたマスタ基板を用いることも考えられる。更に、異なる深度を有するピットを作製する場合、対応する数の記録層を備える記録担体を用いることができる。工程S４では、要求されたデータ・パターンが、デカルト座標において受け取られる。要求データ・パターンは、円形やらせん状とは別の配置を有するトラックに配置されたデータを備える。工程S５では、デカルト座標における要求データ・パターンと、極座標においてパターン化された要求データとの間のマッピングが行われる。周知のように、デカルト座標と極座標との間に、以下の関係が存在している。x=Rcos（θ）及びy=Rsin（θ）である。工程S6では、記録担体の回転、レーザの移動及びレーザ出力電力を同期化させる。それによって、要求データ・パターンが、記録担体に書き込まれる。図１に表す方法は、工程S７で終了する。
【００２７】
図２は、本発明によるレーザ・ビーム・レコーダを略示する図である。レーザ・ビーム・レコーダ５６は、本発明による方法の実施にも適切である。レーザ・ビーム・レコーダ５６は、記録担体６０を回転させる手段５８を備える。レーザ６１は、手段６２によって、記録担体６０の回転に対して放射方向に移動可能である。更に、レーザ・ビーム・レコーダ５６の動作を制御するコントローラ６４が設けられている。コントローラ６４は、デカルト座標における要求データ・パターンを受け取るためにインタフェース６８に結合される。コントローラ６４（図示していない通常の回路に加えて）は、レーザ出力電力を制御する手段６５と、円形やらせん状とは別の配置を備える少なくとも１つのトラックにデータの少なくとも一部が書き込まれるように記録担体６０の回転と、レーザ６１の放射方向の移動と、レーザ出力電力とを同期化させる手段６６とを備える。コントローラ６４は好ましくは、適切なソフトウェアと相互作用する少なくとも１つのマイクロプロセッサに基づいて実現される。少なくとも特定の場合、既存のレーザ・ビーム・レコーダが、ファームウェアのアップグレードのみによって本発明を実現することを可能にすることができるとみなされる。他の場合には、既存のレーザ・ビーム・レコーダが本発明を行うことを可能にするようハードウェアを交換又は追加することが必要になる。
【００２８】
図３Aは、記録担体60上に書き込まれたピット４４の矩形データ・パターン５４の例を示す。ピットP(i,j)のデカルト座標は、x=Rcos（θ）及びｙ=Rsin（θ）である。矩形デ―タ・パターン５４は、直線トラックにおいてピットに書き込むことによって作製される。１つのトラック１０のみを示す。
【００２９】
図３Bは、記録担体６０上に書き込まれたピット４４の矩形データ・パターン５４を示す。ピットは、行及び列の交点において配置され、行及び列のうち、２つの行７６及び２つの行７８を示す。この場合、列が、直線トラックを形成し、そのうち１つのトラックは１２で示す。集束レーザ・スポットは、無限の時間及び場所の分解能が存在している場合、実際に、マスタ基板全体に及び得る。データ・パターン５４を書き込むために、らせんが書き込まれるようにレーザ・スポットをゆっくりと外に移動させるようにレーザ・ビーム・レコーダを動作させる。集束スポットの中央らせんを７０で示す。集束レーザ・スポットの外部境界７２、７４間の幅は、たわみ振幅によって定められる。ピットの2次元グリッド、又は別の矩形のリリーフ構造を書き込むために、最適なトラックピッチ（放射方向の速度、及び角速度によって定められる）、及び書き込みパルスの時間分解能を求める必要がある。更に、ビームのトラック外偏差をもたらす、レーザ・ビーム・レコーダ内のデフレクタを用いて、円筒からデカルト座標へのマッピングをより高精度で制御することも可能である。更に、異なる長さのマークが書き込まれるようにレーザ・ビームを変調することが可能である。プリグルーブを備えたマスタ基板をマスタ製作に用いる場合、光スポットが中心からわずかに外れた配置をもたらす、プッシュ信号における作為的なオフセットによって７０において示す名目上の位置の偏差を得ることも考えられる。偏差がトラックピッチの半分に等しい（＝TP/2の）場合、レーザ・スポットの1回の通過内で、記録担体の表面全体に及ぶことがあり得る。その場合、例えば、非常に高精度の矩形データ・ピット・グリッドを書き込むことが可能である。
【００３０】
図４Aは、予め記録されたピットを備えたデータ線を示す。図４Bは図４Aのデータ線２０を示し、図４Cは、図４Bによるデータ線の作製に用いるレーザ・パルス・パターンを示す。書き込みストラテジに関しては、パルス電力は、時間の関数ではなく、デカルト座標として表す。時間の関数としてのパルス電力は、同期化書き込みから続くマッピングから得られる。
【００３１】
図５Aは、予め記録されたピットを備えたデータ線の別の実施例を示す。図5Bは図５Aのデータ線22を示し、図５Cは、図5Bによるデータ線の作製に用いるレーザ・パルス・パターンを示す。この場合にも、パルス電力は時間の関数としてではなく、デカルト座標の関数として表す。やはり時間の関数としてのパルス電力は、同期化された書き込みに続くマッピングから得られる。
【００３２】
図４及び図５に示す例は例えば、フラッシュROMカードに用いることが可能である。
【００３３】
図６は、直線トラック３０、３２に配置された、部分的に上書きするマーク４９の同期化された配置を介して、連続したグルーブを書き込むことによって得られる2次元リリーフ構造５４を示す。
【００３４】
図７は、複数の隣接する直線トラック３４によって形成される直線メタトラック３６の形式で備えられる2次元データ・パターン５４の例を示す。行列レベル３０（下部材料）以外には、全て同じ深度を有するピット５４のみが存在している。
【００３５】
図８は、異なる深度を有するピットが書き込まれる場合の、本発明による同期化を更に詳細に示す流れ図である。図８に示す工程は、例えば、図１の代替工程S6であり得る。図８に示す方法は、図９に示す記録担体によって行うことができる。前述の記録担体２１０は、第２のフォトレジスト記録層２１４がスピン塗布された基板２０８を備える。物理バリア２１６を形成する界面層２２２が、第２の記録層２１４と第１の記録層２１２との間に設けられる。これは、フォトレジストによっても形成される。前述の記録担体２１０では、図８による方法は以下のやり方で行うことができる。
【００３６】
工程S6.1では、記録担体の回転及びレーザの移動を、ピットを書き込む対象の場所においてレーザは配置されるように同期化させる。
【００３７】
工程S6.2では、第１の深度よりも大きな第２の深度のピットを書き込むか否かが判定される。否定の場合、方法は工程S6.3に進む。
【００３８】
工程S6.3では、第１の深度を有するピット２３４（図９）を書き込むために、変調レーザ・ビームの電力が、物理バリア２１６（図９）を破壊することなく第１の記録層２１２（図９）を貫通させるように選択される。このレーザ電力レベルは、図９中でP1として示す。
【００３９】
第１の深度よりも大きな第２の深度を有するピットを書き込むと工程S6.2において判定された場合、工程S6.4に進む。
【００４０】
工程S6.4では、第２の深度を有するピット２３６（図９）を書き込むために、変調レーザ・ビームの電力が、第１の記録層２１２（図９）を貫通させ、物理バリア２１６(図９)が破壊され、第２の記録層２１４（図９）を貫通させるように選択される。ピット２３６を作製するのにふさわしいレーザ電力レベルは図９中でP２として示す。電力レベルP2は、物理バリア２１６を破壊するのに必要な閾値電力レベルPTよりも高い。
【００４１】
図８によれば、ピット全てが書き込まれたか否かを工程S6.4で判定する。肯定の場合、方法は工程S7で終了する（図１）。更なるピットを書き込まなければならない場合、方法はやはり工程S6.1に進む。
【００４２】
図１０Aは、現像後の、図９の記録担体２１０を示す。フォトレジストに基づいて記録担体２１０を現像するために、記録担体２１０は、現像液（KOH、NaOHや他のアルカリ液）で洗浄される。これは、酸分子の溶解につながり、それによって、物理的な穴が記録層内部に残される。結果として生じる記録担体２１０は、別個のピット深度２１８、２２０を備える。相転移マスタ製作の場合、アルカリ液（NaOH、KOH）も酸（HCl、HNO3）もエッチング液体として用いてリリーフ構造を形成することが可能である。
【００４３】
図１０Bは、図１０Aの光記録担体２１０に基づいて製作されるスタンパを示す。スタンパ３００を作製するために、金属層を、記録担体２１０上にスパッタ堆積させる。金属は好ましくはニッケルである。このニッケル層を、電気化学的プレーティングによって、厚く、管理可能な基板に成長させる。後に、ニッケル基板を記録担体２１０（マスタ基板）と分離し、スタンパを得る。
【００４４】
図１１は、複数レベルのピット・パターンの上部図を示す。データ５４は、ピット５１、５２、５３の矩形行列が形成されるように直線トラックに配置される。ピット５３はピット５１よりも深い。更に、ピット５３はピット５２よりも深い。前述のデータ・パターンは例えば、それらの間に２つの物理バリアが配置された３つの記録層を有する記録担体によって形成することが可能である。
【００４５】
図１２は、複数レベルの2次元メタトラックの上部図を示す。複数レベルの2次元データ・パターン５４は、書き込まれていない領域５０に対して、異なる別個の深度を有するピット５１及びピット５２を備える。複数レベルの2次元メタトラック４２は、複数の隣接した直線トラック４０によって形成される。
【００４６】
最後に、前述していない均等物及び修正も、特許請求の範囲に規定された、本発明の範囲から逸脱することなく用いることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明による方法の実施例を示す流れ図である。
【図２】本発明によるレーザ・ビーム・レコーダ（本発明による方法を行うのにも適している）を略示する図である。
【図３Ａ】矩形ピット行列を備える記録担体である。
【図３Ｂ】らせん状のトラックピッチによって課される名目上の位置において、かつ、例えば、デフレクタを用いることによって、名目上の位置から外れた位置においてレーザを配置することによるマークの書き込みを示す図である。
【図４Ａ】ピットが予め記録されたデータ線を示す図である。
【図４Ｂ】図４Aのデータ線２０を示す図である。
【図４Ｃ】図４Bによるデータ線を作成するのに用いるレーザ・パルス・パターンを示す図である。
【図５Ａ】予め記録されたピットを備えるデータ線の別の実施例を示す図である。
【図５Ｂ】図５Aのデータ線２０を示す図である。
【図５Ｃ】図５Bによるデータ線を作成するのに用いるレーザ・パルス・パターンを示す図である。
【図６】マークの部分的な上書きの同期化させた配置を介して、連続したグルーブを書き込むことによって得られる２次元リリーフ構造を示す図である。
【図７】2次元メタトラックの上面図である。
【図８】深度が異なるピットが書き込まれる場合の、本発明による同期化を更に詳細に示す流れ図である。
【図９】前述の第１の一般的な解決策を略示する図（記録担体を、断面図において表し、異なる２つのレーザ電力レベルの印加も示す）である。
【図１０Ａ】現像及びエッチングの後の図９の記録担体を示す断面図である。
【図１０Ｂ】図１０Aによって記録担体に基づいて製作されるスタンパを略示する図である。
【図１１】複数レベルのピット・パターンの上面図である。
【図１２】複数レベルの2次元メタトラックの上面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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