(57)【要約】  本発明は標準化された機械式インターフェース（ＳＭＩＦ）レチクルポッドを提供し、それはレチクルを支持するための制御環境を提供するように形成されており、制御環境は混入物を原因とする結晶生成がほぼ起こらないように維持されている。従って、粒状物を除去し気体の混入物を吸着できるフィルタ部材を有する層状フィルタが提供される。フィルタは表面領域を備えたほぼ平らな形状の内向面を有しており、表面領域はレチクル面のほぼ半分以上の面積である。内向面はレチクルのパターン化表面に隣接して配置されており、レチクルのパターン化表面の面積の大部分に相当する面積を有する。また、ＳＭＥＦポッドは制御環境内に非常に乾燥した気体を注入することによってフィルタを再生すると共に制御環境の混入物を吹き流すように形成されたパージシステムを備える。
2008535283.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
混入物による結晶生成をほぼ起こさないように維持されている制御環境内にレチクルを支持するように形成されたレチクルＳＭＩＦポッドであって、
協働して制御環境を形成するポッドのベース部及びポッドのシェル部と、複数のレチクル支持材及びガイドと、フィルタフレームと、層状フィルタとを有し、
レチクルは第一形状及び第一領域を有するパターン化表面を有し、
ポッドのベース部は制御環境の内部に位置する形状である第一面と、制御環境の外部に位置する形状である第二面と、第一面及び第二面に囲まれ気体流路を形成する中心穴とを有し、
レチクル支持材及びガイドはレチクルをその上に支持するために、第一面上に設置されており、レチクル支持材及びガイドは受容面を有するレチクル受容領域を形成し、受容面はレチクルがポッドのベース部上に受容されている時にパターン化表面とほぼ同一の広さを有し、
フィルタフレームは開口端と、穴の開いた底端と、開口端を穴の開いた底端に連結することによってその間に底端の厚さ方向の気体流路を形成する側壁とを有し、フィルタフレームはポッドと気密係合した中心穴内に堅固に受容される形状であり、開口端は第一面近くにあり、穴の開いた底端は第一面から離れており、
層状フィルタはフィルタ領域を有するフィルタ形状を形成する範囲を有し、層状フィルタが開口端に密封係合している気体流路内に配置されることで、フィルタに入るもしくは出るほぼ全ての気体がフィルタ領域を通過し、フィルタ領域の面積が第一領域の面積の大部分に相当するレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項２】
フィルタ領域の面積が第一領域の面積の少なくとも６０％である請求項１に記載のＳＭＩＦポッド。
【請求項３】
フィルタの形状が第一面の形状とほぼ一致する請求項１に記載のＳＭＩＦポッド。
【請求項４】
受容面がフィルタ領域と同軸であると共に重なるように配置されており、フィルタ領域が受容面に実質的に隣接する請求項１に記載のレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項５】
フィルタ領域が、ポッドのベース部の第一面を実質的に形成し、制御環境からの気体の唯一の入口及び出口である請求項１に記載のレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項６】
層状フィルタがフィルタフレーム内に配置された複数の平行なフィルタ部材を有し、各フィルタ部材がフィルタに入るもしくは出る気体から結晶生成の原因となる混入物の少なくとも一部を除去するように選択されている請求項１に記載のＳＭＩＦポッド。
【請求項７】
複数の平行なフィルタ部材が、粒子濾過媒体を有するフィルタ部材を少なくとも一つ、及び気体混入物を吸着するための吸着媒体を有するフィルタ部材を少なくとも一つ含む請求項６に記載のレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項８】
吸着媒体が、酸、有機及び無機の凝縮性混入物、二酸化硫黄ガス、アンモニア及び水蒸気で形成される群から選択される少なくとも一つの気体混入物を吸着することができ、気体混入物は一つ以上の制御環境と、フィルタに入るもしくは出る気体との中に存在する請求項７に記載のレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項９】
制御環境内の混入物の濃度が少なくとも１ｐｐｂに継続的に維持される請求項８に記載のレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項１０】
フィルタがフィルタフレーム中に係留されることでカートリッジを形成し、前記カートリッジが中心穴内に取外しできるように係合されることで、フィルタの濾過能力を補充するための取替え式になっている請求項１に記載のレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項１１】
ポッド部が、
ポッド部の第一面と第二面との間に広がる開口部を有する少なくとも一つのパージポートと、
パージポート内に受容された気体注入装置用シール材と、
パージガスが制御環境に注入されないかぎり気体が制御環境へ及び制御環境から移動するのを防ぐように形成されているチェックバルブと
をさらに有し、気体注入装置はポッドの制御環境へとパージガスを注入することで制御環境内の混入物を吹流して、フィルタを再生するための気体用入口に連結される形状である請求項１に記載のレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項１２】
パージガスが非常に乾燥した窒素ガスと非常に乾燥したアルゴンガスから選択される請求項１１に記載のレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項１３】
開口端がフィルタ領域とほぼ等しい広さの気体接触領域を有し、穴の開いた底端が複数の穴を有し、各穴は制御環境の外部と気体連通の状態にある穴の開いた領域を有し、穴の開いた領域の合計が開口端のガス接触領域より実質的に小さい請求項１に記載のレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項１４】
レチクルＳＭＩＦポッド内に支持されるレチクルを囲む制御環境内における結晶を形成する混入物を減少させる方法であって、レチクルが第一形状のパターン化表面を有し、第一形状が第一領域から成っており、
ポッドのベース部及びポッドのシェル部を提供する段階と、ここでポッドのシェル部はポッドのベース部に密封係合することで制御環境を形成し、ポッドのベース部は中心穴と少なくとも一つのパージポートとを取り囲む対向する第一面及び第二面を有しており、中心穴及びパージポートは第一面及び第二面の間に気体流路を形成し、第一面は制御環境の内部に位置しており、第二面は制御環境の外部に位置しており、
複数のレチクル支持材を第一面上に提供する段階と、ここでレチクル支持材はレチクルがレチクル支持材に受容される時にパターン化表面とほぼ同じ広さのレチクル受容面を形成し、レチクル受容面は第一形状及び第一領域を有しており、
フィルタカートリッジを中心穴に挿入する段階と、ここでフィルタカートリッジは開口端と、穴の開いた底端と、開口端と穴の開いた底端との間に気体流路を形成する側壁と、第一フィルタ領域が開口端に隣接するように気体流路に設置された第一フィルタ領域を有する層状フィルタとを有し、フィルタカートリッジが中心穴に挿入されることで、第一フィルタ領域を第一面と第一領域から窪んだ穴の開いた底端との近くに配置し、
第一フィルタ領域の面積が第一領域の面積の大部分に相当するよう第一フィルタ領域の広さを選択する段階と、
少なくとも一つのパージポート内にパージガスの入口に連結されている気体注入用接続具を密封固定する段階と、
パージガスをパージガスの入口を介して制御環境内へ定期的に押入れ、第一フィルタ領域と接触させることで制御環境及びフィルタから結晶を生成する混入物をほぼ吹き流すことでフィルタを再生させる段階とを有する方法。
【請求項１５】
第一フィルタ領域の面積が第一領域の面積の少なくとも６０％である請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
第一フィルタ領域が第一形状と一致する形状である請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
レチクル受容面が第一フィルタ領域と同軸で重なり、第一フィルタ領域が受容面の非常に近くに位置するように第一フィルタ領域が配置される請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
フィルタ領域がポッドのベース部の第一面を形成し、制御環境からの気体の唯一の入口及び出口である請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
層状フィルタがフィルタフレーム内に配置された複数の平行なフィルタ部材を有し、各フィルタ部材がフィルタに入るもしくはフィルタから出る気体から結晶生成を引き起こす混入物の少なくとも一部を除去するために選択される請求項１４に記載の方法。
【請求項２０】
層状フィルタが粒子を濾過するための少なくとも一つの粒子フィルタ部材と、少なくとも一つの吸着性部材とを有し、吸着性部材は結晶生成に関与することが知られている少なくとも一つの気体混入物を吸着することができる吸着性媒体であり、気体混入物は酸、有機及び無機の凝縮性混入物、二酸化硫黄ガス、アンモニア及び水蒸気から選択され、気体混入物は一つ以上の制御環境とフィルタに入るもしくはフィルタから出る気体との中に存在する請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
制御環境内の結晶生成を引き起こす混入物の濃度が、少なくとも１ｐｐｂに継続的に維持される請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
レチクルＳＭＩＦポッドであって、
協働して制御環境を形成するポッドのベース部及びポッドのシェル部と、
複数の支持材及びガイドと、
レチクル支持材及びレチクルガイド上に支持されるレチクルと、
フィルタフレームと、
層状フィルタと
を有し、ポッドのベース部は制御環境の内部に位置するように形成された第一面と、制御環境の外部に位置するように形成された第二面と、第一面及び第二面によって囲まれると共に気体流路を形成する中心穴とを有し、
支持材及びガイドはその上にレチクルを支持するために第一面上に設置されており、
レチクルは混入物による結晶生成によって損傷しやすいパターン化表面を有し、パターン化表面は第一形状及び第一領域を有し、
フィルタフレームは開口端と、穴の開いた底端と、開口端を穴の開いた底端に連結することによってそれらの間に底端の厚さ方向の気体流路を形成する側壁とを有し、フィルタフレームはポッドに気密係合するように中心穴の中に堅固に受容される形状であり、ポッドは第一面に隣接する開口端と第一面から窪んだ穴の開いた底端とを有し、
層状フィルタは第一フィルタ領域を有するフィルタ形状を形成する範囲を有し、層状フィルタが開口端と密封係合の状態で気体流路内に配置されることで、フィルタに入るもしくはフィルタから出る全ての気体がフィルタ領域を通過し、フィルタ領域の面積が第一領域の面積の大部分に相当するレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項２３】
第一フィルタ領域の面積が第一領域の面積の少なくとも６０％である請求項２２に記載のレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項２４】
第一フィルタ領域が第一形状と一致する形状である請求項２２に記載のレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項２５】
パターン化表面が第一フィルタ領域と同軸で重なっており、第一フィルタ領域がパターン化表面にほぼ隣接するように第一フィルタ領域が配置される請求項２２に記載のレチクルＳＭＩＦポッド。
【請求項２６】
レチクルＳＭＩＦポッド内のレチクル上の結晶形成を減少させる方法であって、レチクルは第一形状のパターン化表面を有し、第一形状は第一領域から成っており、
吸着性を有するフィルタカートリッジを提供する段階を有し、フィルタカートリッジが第一領域の少なくとも５０％の表面積を有する内側に露出したフィルタ面を有する方法。
【請求項２７】
レチクルをフィルタ面に対して同軸に配置し、フィルタ面がレチクルの前記パターン化表面に直面するよう配置する段階をさらに有する請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
少なくとも清浄で乾燥した空気を用いてＳＭＩＦポッドをパージすることで、清浄で乾燥した空気がフィルタカートリッジを通ってポッドから出ることによって、フィルタカートリッジの吸着性を再生する段階をさらに有する請求項２６に記載の方法。
【請求項２９】
レチクルＳＭＩＦポッド内のレチクル上に結晶が生成するのを減少させる方法であって、レチクルが第一形状のパターン化表面を有し、第一形状が第一領域であり、
吸着性を有するフィルタカートリッジを提供する段階を有し、
フィルタカートリッジはレチクルポッドの壁の中にあり、第一領域の少なくとも５０％の表面積を有する内向きに露出したフィルタ面とレチクルポッドの外向きに露出したフィルタ面とを有する方法。
【請求項３０】
少なくとも清浄で乾燥した空気によってＳＭＩＦポッドをパージすることで、清浄で乾燥した空気がフィルタカートリッジを通ってポッドから出ることによって、レチクル内にあるフィルタカートリッジの吸着性を複数回再生する段階をさらに有する請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
内部に混入物感受性基盤を有する基盤コンテナ内の混入物を減少させる方法であって、
吸着性を有するフィルタカートリッジを提供する段階と、
少なくとも清浄で乾燥した空気を用いてフィルタカートリッジを介して基盤コンテナをパージすることによって、フィルタカートリッジの吸着性を再生する段階と
を有し、基盤は第一形状の露出した平面を有し、第一形状は第一領域から成っており、フィルタカートリッジが第一領域の少なくとも５０％の表面積を有する内向きに露出したフィルタ面を有し、フィルタカートリッジが基盤コンテナの外部に開放可能な外向きに露出した面を有する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、参照によって文献援用されている、２００５年４月４日に出願されたアメリカ合衆国仮特許出願第６０／６６８１８９号に基づく利益を主張する。
【０００２】
本発明は、半導体産業で用いられる標準化された機械式インターフェース（ＳＭＩＦ）基盤搬送容器に関係し、特に搬送容器内の制御環境内において化学物質の及び粒子の混入物を減少させるためのフィルタシステムを有する輸送及び出荷可能なレチクル／フォトマスク搬送容器に関連する。
【背景技術】
【０００３】
半導体に使用するためのシリコンウエハの加工は、一般に加工段階の一つとしてフォトリソグラフィを含む。フォトリソグラフィにおいて、窒化ケイ素の積層したウエハの表面は光感受性液体ポリマ若しくはフォトレジストで覆われた後に、所望されるパターンを備えた鋳型を用いて選択的に放射源にさらされる。通常、紫外線がマスク若しくはレチクルの表面を介して光る若しくは反射されることによって、フォトレジストで覆われたウエハに所望されるパターンを投影することができる。フォトレジストの光にさらされた部分は化学的に改変され、次にウエハが露光されていないフォトレジストを除去する化学媒体で処理される時に影響を受けずに残り、マスク上の正確な形状のパターンに改変されたフォトレジストがウエハ上に残る。ウエハはエッチング処理に移され、それは窒化物層の露光した部分を除去することで、ウエハ上の窒化物のパターンをマスクの正確な図柄にする。
【０００４】
産業界の傾向はより小さく及び／又はより高度な論理密度を有するチップの生産に向いており、より大きなウエハにより小さな幅の線を余儀なくしている。明白なことであるが、パターン化できるレチクル表面の精密さの度合いと、このパターンをウエハの表面に正確に複製できる度合いとが最終的な半導体製品の品質に影響を与える要因である。ウエハの表面に複製されたパターンの解像度は、フォトレジストでコートされたウエハの表面にパターンを投影するのに用いられる紫外光の波長に依存する。最先端のフォトリソグラフィ装置は１９３ｎｍの波長の遠紫外光を用いており、それは１００ｎｍ程の最小形状を可能にする。現在開発されている装置は１５７ｎｍの極紫外（ＥＵＶ）光を利用することで、７０ｎｍ以下の特徴の解像を可能にする。レチクルは非常に平坦なガラス板であり、ウエハ上に複製されるパターンを有する。一般的なレチクル基盤の材料はクォーツである。現在の集積回路の重要な部品は非常に小さなサイズであるため、レチクルの作業面（すなわちパターン化表面）は混入物がない状態で維持されることが非常に重要であり、混入物は表面を傷つける、若しくは処理中にフォトレジストレイヤに投影された像を乱すことによって、許容できない品質となった最終産物をもたらす。通常、ＥＵＶがフォトリソグラフィ処理の一部として用いられる場合、致命的となる粒子の大きさは、非パターン化及びパターン化表面それぞれに対して０．１μｍ及び０．０３μｍである。一般にレチクルのパターン化表面は錫、光透過性フィルム、好ましくはニトロセルロースで覆われており、フレームに付着及び支持され、さらにレチクルに付着されている。その目的は、混入物を外に締め出し、画像面におけるそのような混入物によって起こり得る印刷の不具合を減少させることである。しかしながら、深紫外光フォトリソグラフィのレチクルの性質を介する透過とは対照的に、強烈なＥＵＶはパターン化表面からの反射を利用できる。この場合、当技術分野ではＥＵＶに対して透過性である薄膜材料が付与されない。結果的に、ＥＵＶフォトリソグラフィに用いられる反射性フォトマスク（レチクル）は、従来式のフォトリソグラフィに用いられるレチクルより非常に混入物及び損傷に対して感受的である。このことがＥＵＶフォトリソグラフィを用いるためのレチクルを貯蔵、輸送及び出荷するために設計されている全てのレチクルＳＭＩＦポッドに高機能の要求を課す。
【０００５】
製造、加工、出荷、取扱、輸送若しくは貯蔵中にレチクルが他の面と不必要及び意図せずに接触することは、滑り摩擦及び擦り傷を原因としてレチクルのパターン化表面の精巧な特徴に傷をつけるであろうことが当技術分野において周知である。同様に、レチクル表面の粒子状の混入物は、そのような不備のあるレチクルを用いる処理の最終産物に深刻な影響を与えるのに十分な程度にレチクルを危険にさらす可能性があることを一般に当業者は認識している。この点については、産業界は革新的な手法を開発することによって、レチクルコンテナ内にレチクルを配置及び支持することで、レチクルの滑り摩擦及び結果的な擦り傷とそれに伴う混入粒子の生成とを減少若しくは排除する。貯蔵、加工及び輸送の間にウエハ周囲の制御環境を維持することの必要性の認識に基づいて、従来技術はウエハ直近の環境の制御を可能にする隔離技術に関する方法を発展させ、それはコンテナを提供することによって粒状物質の流入が比較的起こらないように維持できるようにした。通常、コンテナには標準化された機械式インターフェースが取り付けられており、それが加工機械によるコンテナの自動操作を可能にしている。そのようなコンテナは２００ｍｍまでのフォトマスクを保持することができ、標準機械式インターフェースポッド若しくはＳＭＩＦ−ポッドと呼ばれる。そのような制御環境を有していたとしても、制御環境内に存在するであろう粒子の移動は、コンテナの急速な移動及び／又は取り込まれた空気を乱すことによって引き起こされる制御環境内に取り込まれた空気の気圧変化若しくは取り込まれた空気の乱流によって生じる可能性がいまだにある。例えば薄壁のＳＭＩＦポッドは、制御環境内に取り込まれた空気を移動させるほどの高度に起因する圧力変化によって壁が動くことを経験するであろう。温度変化はコンテナ内の対流を引き起こす。圧力変化によるコンテナ及びその部品の寸法の変化は搬送容器のカバー及びドア間のシールを損傷し、搬送容器内への粒子の侵入を引き起こすであろう。従来技術の方法は、外部環境と内部の制御された空気との間で気体交換をする装置を意図している。気体交換装置は空気が流れるための通路を提供する。従来技術の気体交換装置は粒子フィルタを有することによって、外部環境から搬送容器の制御環境への粒子の侵入を阻止することができる。
【０００６】
当業者は粒子の混入物があるものの、平均の半分であることを理解するであろう。等しく重要なものは、密閉シールされたシステム中に流れ込む若しくは漏れて入る又は取り込まれた外気に起因する気相の混入物若しくは気体中の分子混入物（ＡＭＣ）である。例えば、適度な露点温度において、空気中の水蒸気が空気から凝結し、その一部がレチクル上に堆積するであろう。完全に、密封されたコンテナであっても、加工中にレチクルがコンテナから取り出される及びコンテナ内に戻される時に、システム内へ空気が入り込む可能性がある。レチクルのパターン化表面上に凝結した水蒸気は、固形の粒子がするように光を邪魔する。気相若しくは蒸気の混入物の他の源は、フォトマスクのライフサイクルにおけるレチクル／ポッドの洗浄操作の結果、残留してしまった溶媒、搬送容器の構成部品からガスが放出されることによって生成される化学物質、及び搬送容器のシェルとドアとの間の密閉シール機構を破ることによって外気から搬送容器内へと入ってくる化学物質である。多様な種類の混入物が気相の混入に対する最も大きな要因であると考えられる。これらにはＮＨ３（アンモニア）、ＳＯ２（二酸化硫黄）、Ｈ２Ｏ（水蒸気）及び凝縮性有機物Ｃ６−Ｃ１０が含まれる。フォトリソグラフィシステムによって、フォトマスクは４３６ｎｍから１５７ｎｍの範囲の波長のレーザ光源に曝されるであろう。現在では、１９３ｎｍのレーザが最も一般的である。レーザのエネルギは、レチクルの表面に欠陥形成及び伝播を引き起こす化学反応を開始するであろう。例えば、いくつかの化学種は変化することによって、ＳＯ４２−及びＮＨ４＋などの高反応性種を形成する。例えば酸などであるこれらの化学物質のうちのいくつかはガラスと反応性であり、レチクルを削ることによってレチクルに損傷を与え、パターン化表面に曇りを生じる。塩基は毒耐性を生じる。凝縮性有機物はＳｉＣ形成を引き起こす。通常、全ての混入物は同様の効果：レチクルの機能を破壊する結晶生成を引き起こすと考えられる。このことに関して現在では、水蒸気若しくは水が結晶生成に必要な鍵となる構成要素の一つであると考えられている。基本的に、水は前述の混入物のいくつかと結合して塩を形成し、それは結晶生成の性質として通常は共に結集する。例えば、従来技術における乾燥剤の使用はこの問題を改善することはできない。なぜならば、それらは塩（若しくは結晶）の形成を防ぐのに十分に低いレベルに水蒸気の濃度を下げることができないからである。同様に、清浄な乾燥した空気（ＣＤＡ）若しくは他の乾燥した気体でレチクル搬送容器をパージすることは、結晶生成を回避するのに必要なレベルまで水蒸気の濃度を下げることはできないであろう。従って、レチクルのライフサイクルの各段階において混入物を制御する機構が必要とされる。
【０００７】
化学混入物の効果を改善するために当該分野において一般に用いられている手法の一つは定期的なレチクル／マスクの洗浄である。平均洗浄時間（ＭＴＢＣ）は、例えば１９３ｎｍの露光機器中で約８０００のウエハに迫る。ＭＴＢＣの閾値はレチクル／マスクを用いたウエハ上に刻まれる平均欠陥時間（ＭＴＢＤ）を防ぐように設定される。しかしながら、機能性を超えて解像度が低下し、マスクが廃棄されなければならなくなる前に、レチクル／マスクに施すことができるそのような「洗浄」の回数には限界がある。上述の記載を参照すると、当業者は貯蔵、輸送、操作する間に、搬送容器が空のレチクルである時の待機状態の間と同様に、搬送容器内のレチクル環境がきれいに保たれることを保証する必要性を認識するであろう。所望されるものの、ＡＭＣ若しくは他の混入物による侵入に対して絶対的に遮蔽性である密閉シールされた環境を構築することは一般に実現不可能である。また、特にレチクル及びレチクル搬送容器が輸送若しくは出荷される時に、レチクル搬送容器を継続的にパージすることは不可能である。
【０００８】
必要とされるものは、フォトマスク搬送容器内のＡＭＣの侵入、濃度及び蓄積率があるレベルに制御されることを保証するためのある種の構造若しくは装置である。そのレベルとは、結晶性の塩の形成を排除若しくは著しく減少させることによって、フォトマスクの使用寿命を顕著に延長できるレベルである。
【特許文献１】米国特許第７０１４６９３号明細書
【特許文献２】米国特許第６７６１７５３号明細書
【特許文献３】米国特許第６６１０１２８号明細書
【特許文献４】米国特許第６４４７５８４号明細書
【特許文献５】米国特許第６３１９２９７号明細書
【特許文献６】米国特許第５４８２１６１号明細書
【特許文献７】米国特許第５９８８２３３号明細書
【特許文献８】米国特許第５８１００６２号明細書
【発明の開示】
【０００９】
本発明は、貯蔵、輸送、加工及び出荷の間にレチクルを内部に収納するための制御環境を備えたレチクル／マスク搬送容器を提供する。本発明の主要な実施形態によると、レチクル／マスク搬送容器は、制御環境への粒子及び気相混入物の侵入及び増加を制御するための手段を有する。
【００１０】
発明の一側面によると、レチクル搬送容器は複合サンドイッチを形成するよう配置された特殊なフィルタ部材を含む層状フィルタを有する。各フィルタ部材は特殊な媒体が使われており、それは、レチクル搬送容器内に存在することが分かっている若しくはレチクル搬送容器内の密閉シールされた空間に拡散することが分かっているいくつかの微量混入物のうち少なくとも一つを選択的に捕捉することができるその性能を備える特徴を有する。
【００１１】
本発明の他の面によると、フィルタ媒体は混入物に弱く結合するよう選択されることによって、フィルタを加圧ガス流にさらすことで混入物をフィルタから除去することができ、結果的にフィルタの再生が可能になる。
【００１２】
本発明の関連形態によると、フィルタは粒子がレチクルのパターン化表面に付着する代わりに好ましく付着する表面を提示するための形状、大きさ及び配置にされる。代替形態の他の面は、大きなフィルタ、すなわちパターン化表面の表面積の少なくとも６０％であることが好ましい主要表面を少なくとも一つ有するフィルタを意図しており、コンテナ内の粒子の拡散距離を利用することで、レチクルのパターン化表面に付着するのではなくフィルタ上に好ましく付着させることを目的とする。主要な実施形態の他の面によると、フィルタはレチクルにほぼつり合った形状及びサイズであることが好ましく、レチクルに対してほぼ同心円状に配置されることが好ましい。この実施形態の一つの面においては、フィルタの少なくとも一つの表面が、レチクルの支持構造上に位置するレチクルを有する搬送容器のドア部に実質的に配置されている。
【００１３】
関連形態においては、本発明はフィルタ媒体の露出がレチクル搬送容器内の密閉シールされた空間の内部に対してレチクルポッドの外部に限定する手段を提供する。手段の一面はフィルタを保持するために穴の開いたトレイを提供することを含み、穴はフィルタが外部環境と接触する制限領域を提供する。手段の他の面は別の流体非透過性層を有するフィルタを提供することを含み、前記層は一方向スリットバルブに取り付けられることで、外気がレチクル搬送容器内の密閉シールされた空間と連通することを防ぐ。手段の他の面はパージポート内にチェックバルブを設置して混入物が密閉シールされた空間に入るのを防ぐことを含む。
【００１４】
本発明のさらに別の主要な実施形態においては、レチクル搬送容器はＸＣＤＡと名付けられた外部の清浄な乾燥した空気を加圧してレチクル搬送容器の密閉シールされた空間に注入する手段を備える。パージガスは十分に加圧されることで、フィルタと排出手段との両方を通るガスの排出を可能にする。このような密閉シールされた空間のパージングは混入物を流しだすと共にフィルタ及びレチクル搬送容器を除湿することでフィルタを再生するのに役立つ。
【００１５】
発明の更なる目的、利点及び新規の特徴が以下の説明中に部分的に説明されており、以下の検討によって当業者にとって部分的に明らかになるであろう、若しくは発明実践によって理解されるであろう。発明の目的及び利点は、特に添付されている請求の範囲において指摘されている手段及び組み合わせによって理解及び達成されるであろう。
【００１６】
添付図面は本発明のレチクル搬送容器の実施形態及びその特徴及び部品を示している。前後、左右、頂部及び底部、上方及び下方、及び水平及び垂直の全ての参照は説明の便宜を目的としており、本発明若しくはその部品をどれか一つの位置若しくは空間的配置に限定するものではない。添付図面中で特定される全ての寸法及びこの特定は発明の範囲から逸脱することなく発明の実施形態の可能な設計及び目的とされる用途によって変更されるであろう。
【００１７】
図１−１１には、本発明の主要な実施形態による化学フィルタシステムを備えたレチクル搬送容器１００が示されている。レチクル搬送容器１００（代わりにレチクルコンテナ、レチクルポッド、若しくはレチクルボックスとも呼ばれる）は通常ドア部１０６（ベース部とも呼ばれる）を有し、ドア部は搬送容器シェル１１２（カバーとも呼ばれる）と結合することによって密閉シールされた空間１１８を形成し、前記空間はレチクル１２４が貯蔵及び輸送されるシールされた環境を提供する。広い意味で用いられている「レチクル」の用語は、半導体産業において用いられるクォーツ、ブランク、フォトマスク及びマスクを含み、それらは粒子及び気相の化学混入物によって損傷を受けやすい。一般に、レチクル１２４は第二のパターン化表面１２８に対向する第一表面１２６を有する四角形であり、第二の面は上述されたような刻まれたパターンを備えた表面領域１２９を有する。レチクルの側面１３０は第一表面１２６を第二のパターン化表面１２８から分け隔て、レチクルの周囲１３０に広がっている。本発明が特定の形状のレチクル１２４によって限定されることは適切ではない。
【００１８】
図２、４及び５に最もよく示されているドア部１０６は、側壁１４８によって隔てられた対向するドア上面１３６とドア底面１４２を含む。複数のレチクル支持材１５４、側部レチクル配置材１６０及び後部配置材１６６がドア上面１３６から外側に向かって延びており、ドア上面の上周部１７２近くであり、ドア上面の中央部１７８のほぼ周囲に離間して配置されている。レチクル支持材１５４はドア上面１３６上の所定の高さ１５６にレチクル１２４を保持するよう形成されている。側部レチクル配置材１６０及び後部配置材１６６はレチクル１２４の手動の配置を補助するのに役立っており、レチクル支持材１５４にレチクルの側方及び後方の適切な配置を保証する。それにより、レチクルは、図３に最もよく描写されるようにドア部１０６に取り付けられたレチクル受容領域１６８によって結合され、且つレチクル支持材１５４、側部レチクル配置材１６０及び後部配置材１６６によって形成されるその空間に位置することができる。ガスケット１８４はドア表面１３６の上周部１７２に沿って輪になる。ドア部１０６及び搬送容器シェル１１２がレチクル１２４の形状と一致することが好ましい。
【００１９】
ここで図２、３及び４を参照すると、ドア部１０６は中心穴１９０を有しており、中心穴１９０はドア部１０６を貫通して延びており、且つドア上面１３６上の第一開口部１９６と、ドア底面１４２上の第二開口部２０２と、第一開口部１９６を第二開口部２０２に連結している内周壁２０８とによって形成される。図２、３及び４に図示される実施例においては、第一及び第二開口部１９６及び２０２がほぼ正方形であり、第一及び第二領域２１２及び２１４それぞれによって特徴付けられている。内周壁２０８は、第一及び第二開口部１９６及び２０２間においてドア部１０６の側壁１４８に対してほぼ平行に延びている。内周壁２０８はフィルタフレーム２２６をしっかりと支持するのに適した周囲棚２２０を有して形成されることによって、フィルタフレーム２２６は第一開口部１９６に対してほぼ垂直であり、ドア上面１３６とほぼ同一平面上に配置される。
【００２０】
図２に最もよく図示されているある実施形態においては、フィルタフレーム２２６は本発明に基づくフィルタ２３２が用いられる半剛性であり形成されている可撓性容器であろう。フィルタフレーム２２６はほぼ縁のある帽子の形状であり、開口端２４８周囲の周辺フランジ２４２（リップとも呼ばれる）、開口端２４８に依存しており閉じた端２５２で終結しているフィルタフレームの側壁２５８を有することで、フィルタ２３２を受容できる穴２６２を形成する。閉じた端２５２は図４に最もよく図示されるような複数の穴２６４を形成する構造である。フィルタフレームの側壁２５８は内周壁２０８上の周囲棚２２０に対して相補的な形状を有する肩２６８を有する。フィルタフレームはドア上面１３６にある第一開口部１９６を通って挿入され、中心穴１９０内へ堅固に固定するように受容されるように形成されることで、ドア上面１３６上に位置するフランジ２４２と、内周壁２０８の周囲棚２２０にしっかりと配置される肩２６８とを有するドア部１０６に取り外し式に取り付けることができる。別の実施形態においては、例えば上述のガスケット１８４のような弾性シール若しくはガスケットが肩２６８と周囲棚２２０との間に挟まれることによって、フィルタフレーム２２６とフィルタ２３２との間に密閉シールを提供する。
【００２１】
次は、フィルタ２３２が図２及び１２の図面を参照して説明される。フィルタ２３２は、参照によって文献援用されている米国特許第７０１４６９３号、第６７６１７５３号、６６１０１２８号及び６４４７５８４号に記載のフィルタのように、流体透過性な、清浄な、費用効果的な、効率が高い、圧力低下が低い、吸着性複合フィルタをそれぞれ提供する様々な構造をとるであろう。図２及び図１２はフィルタ２３２の実施例を図示している。フィルタ２３２は流体透過性フィルタであり、数種の吸着性及び非吸着性媒体を含むことが望まれる。吸着性媒体は、例えば化学吸着性媒体及び物理吸着性媒体を含む。非吸着性媒体は粒子非透過性媒体を含むであろう。当業者は、吸着性媒体が粒状物を除去できる穴の大きさに開発されることを理解するであろう。また、そのような吸着性媒体は本実施形態による粒子非透過性媒体の例である。各種の媒体は分離フィルタ部材中に存在する。「物理吸着性」の用語は、弱い物理的力によって吸着物を保持する可逆的な吸着プロセスを意味する。対照的に、「化学吸着性」の用語は、化学結合が気体若しくは液体分子と固体表面との間に形成される不可逆的な化学反応プロセスを意味する。「粒子非透過性」の用語は、流体透過性であって粒子非透過性媒体を通って流れる流体から閾値のサイズより大きいサイズを有する粒子をほぼ濾過する性質を指す。一般に、粒子は流体の流れを逆転させることによって各粒子非透過性媒体から除去され、媒体の粒子濾過性能はほぼ元に戻る。図２を参照すると、本発明に基づく例示のフィルタ２３２は、所定の一連の層に平行に配置された取り外し式もしくは交換式の複数のフィルタ部材（層、部品もしくはラミナとも呼ばれる）を有する。例示のフィルタ２３２は、第一の粒子非透過性媒体であるベース層２７６と、第一の吸着性媒体である第一フィルタ膜２７８と、第二の吸着性媒体である第二フィルタ膜２８０と、第二の粒子非透過性媒体であるカバー層２８２とを有し、吸着媒体層２７８及び２８０は粒子非透過性媒体であるベース層２７６とカバー層２８２との間に挟まれている。主要な実施形態において、ベース層２７６及びカバー層２８２は、濾過用の不織ポリエステル、ポリアミド、もしくはポリプロピレン材料又は流体の流れ中の粒状物を除去するように作られた他の同様の材料を有する。他の粒子フィルタ媒体、例えば高性能粒子空気（ＨＥＰＡ）フィルタ媒体もしくは超低貫通性空気（ＵＬＰＡ）フィルタ媒体も本発明の範囲から逸脱することなく個々にもしくは組み合わされて用いられるであろう。ベース及びカバー層２７６及び２８２は、外気から（例えばクリーンルームから）密閉シールされた空間１１８に粒子が侵入するのを阻害し、密閉シールされた空間１１８から外気への粒子の排出も阻害する。本発明の好適な実施形態においては、第一フィルタ膜２７８に関連する第一の吸着性媒体は第一の物理吸着性媒体である。本明細書中で用いられる「未処理」の用語は、化学処理によって化学吸着をするように改変されていない活性炭を意味し、むしろ未処理の活性炭は物理的な非極性の吸着剤のままである。図２及び１２に示される第一の物理吸着性フィルタ部材２７８は未処理の活性炭を含みうる。炭素は多孔性であり（特殊な表面領域は約１０００ｍ２／ｇである）、繊維もしくはポリマ繊維のマットに取り込まれた粒子の形状であり、織もしくは不織である。未処理の活性炭は、ヤシ殻、石炭、木、ピッチ及び他の有機源を含む様々な源から作られる。さらに、スルホン化共重合体コートを未処理の活性炭に付着することができる。フィルタ膜２７８の媒体は、例えば粒状の活性炭、ビーズ状の活性炭、化学的に含浸された炭素、化学的に含浸された活性炭、ゼオライト、カチオン交換樹脂、アニオン交換樹脂、カチオン交換繊維、アニオン交換繊維、活性炭の繊維、及び化学的に含浸された活性炭の繊維などの他の材料を含むであろう。層２７８の物理吸収性媒体はＳＯ２ガスと同様にＣ６−Ｃ１０などの酸、有機及び無機の凝縮性混入物を特異的に除去する。そのような媒体は、例えばピュロライト（登録商標）（Purolyte(R)）の商品名でピュロライトコーポレーション（Purolyte  Corporation）から販売されている。第二のフィルタ膜２８０は、微細孔ビーズの形状であるスルホン化ジビニルベンゼンスチレン共重合体などの第二の吸着性媒体である強酸性イオン交換樹脂である。第二の吸着性媒体は、密閉シールされた空間１１８内とクリーンルームの外気との両方由来のアンモニア（ＮＨ４）及び水蒸気（Ｈ２Ｏ）を特異的に捕捉するように形成されている。そのような媒体は、アンバーリスト（登録商標）１５ドライ（AMBERLYST(R)15DRY）もしくはアンバーリスト（登録商標）３５ドライ（AMBERLYST(R)35DRY）の商品名でローム  アンド  ハース（Rohm  and  Haas）から販売されている。上述の範囲外の物理的性質を有する触媒も用いることができる。また、ベース層２７６及びカバー層２８２は、吸着層２７８及び２８０に粒状もしくは微粒子の媒体を保持するのに役立つ。当業者は、層の数、相互に対する層の配置、層を形成する媒体の種類の様々な組み合わせは、本発明の範囲から逸脱することなく有益に利用できることを認識するであろう。例えば、本発明の別の実施形態においては、化学吸着性及び物理吸着性のフィルタ部材が用いられている。化学吸着性フィルタ部材と物理吸着性フィルタ部材の相対的な厚みは、二つのフィルタ部材の使用寿命が用いられた環境においてほぼ同時に尽きるように設計されるであろう。従って、スルホン化ポリマで形成される化学吸着性フィルタ部材は、未処理の炭素から作られる物理吸着性フィルタ部材より薄く作ることができる。なぜならば、炭素の物理吸着性は、酸性のスルホン化ポリマの化学吸着性より早く消耗するからである。別の実施形態においては、化学吸着性及び物理吸着性媒体が単一のフィルタ層内に存在する。さらに別の実施形態においては、多数のフィルタ部材がフレームコンテナ（図示しない）内に順番に支持されることによって、各層に対して垂直方向に空気が通過する多段階フィルタを提供する。そのような多段階フィルタはその濾過能力が尽きた後に全体が交換される。また、高表面積３３８を有するフィルタ部材は、従来技術において開示されているような図１３の三次元セルの充填配置のように各媒体を形成することによって作られている。そのような高表面積３３８フィルタは媒体にひだを付けてアコーディオンのような構造にすることによって形成される。フィル��２３２から分離して取り外しできる親水性媒体のプレフィルタ層（図示しない）はカバー層２８２のベース層２７６上に用いられる。
【００２２】
さらに図２を参照すると、層２７６、２７８、２８０及び２８２は同じ形状２８７であることが好ましい。全ての層は形状２８７の周縁２８９によって結合された同一の表面積２８８を有するが、異なる厚さを有する。組立てられた状態においては、いくつかの層２７６、２７８、２８０及び２８２がフィルタフレーム２２６の穴２６２内に順番に配置されることで、厚さ２９０の複合サンドイッチ構造を有する多段階フィルタを形成する。フィルタフレーム２２６はドア上面１３６上の第一開口部１９６を介して挿入され、中心穴１９０内に取り外し可能に取り付けられ、周囲棚２２０上に支持される肩２６８を有するフランジ２４２がドア上面１３６上に位置する。関連形態においては、フィルタフレーム２２６及びフィルタ２３２がカートリッジ２７０を有し、参照によって文献援用される米国特許第６３１９２９７号に記載されるように、ドア部１０６のドア上面１３６上の中心穴１９０へ挿入及び中心穴１９０から取り除くことができる。
【００２３】
図２、３及び５を参照して最もよく説明されている本発明の主要な実施形態においては、第一開口部１９６の第一領域２１２はレチクル１２４の第二のパターン化表面１２８の表面領域１２９にほぼつり合うように形成されている。特定の実施形態のある面によると、第一領域２１２は表面領域の少なくとも５０％であり、別の実施形態では表面積は表面領域１２９の少なくとも６０％、好ましくは表面領域１２９の７５％から１００％の範囲内である。本発明の好適な実施形態においては、第一領域２１２はレチクル受容領域１６８とほぼ同心円状である。さらに、組立てられた状態、すなわち搬送容器シェル１１２がドア部１０６に結合され、レチクル１２４がレチクル支持材１５４上に支持されている時に、フィルタ２３２が密閉シールされた空間１１８内の第二のパターン化表面１２８の少なくとも一部に対向して配置される表面領域２８８を有して配置されることで、レチクル周縁１３０が表面領域２８８の周縁２８９と重なるように第一開口部１９６及びレチクル支持材１５４の場所は配置される。当業者は、表面領域２８８及び第二のパターン化表面１２８の他の有効な形態が本発明の範囲から逸脱することなく実施可能であることを理解するであろう。全ての上述された有効な形状は第二のパターン化表面１２８に対して表面領域２８８の範囲を最大にするように選択され、それは密閉シールされた空間１１８の寸法と、レチクル搬送容器のパージ、レチクル加工、輸送、出荷及び貯蔵中に生じる拡散距離と、レチクル１２４がレチクル搬送容器１００内に入っている間に遭遇するであろう他の状態とにある程度基づいている。表面領域２８８は第二のパターン化表面１２８に隣接して配置される。本発明のように表面領域２８８の範囲及び場所を選択することによって、密閉シールされた空間１１８に存在するもしくは入り込む粒子が第二のパターン化表面１２８に拡散する代わりに、表面２８８に好ましく接触及び付着する確率は最大化される。当業者にとって、表面領域２８８の範囲はフィルタ２３２内に流体が入ることができる流体の通過の総量で表される。一方で、参照番号３３８に関連する「高表面積」の用語は、流体がフィルタ２３２の全体の厚み２９０を通って流れるような濾過に用いることができる全フィルタ媒体の有効な表面積を指す。有効な表面積は気体の吸着及び化学反応を制御する。この点に関して、フィルタ２３２は従来式のＳＭＩＦポッドフィルタとは異なっており、表面２８８がドア上面１３６の大部分に広がることができるため、本発明のフィルタ２３２は構造的にドア部１０６の重要な部品である。さらに、組立てられた状態においては、ベース層２７６が閉じた端２５２上に位置することで、フィルタ２３２は、図４に最も良く示されているように複数の穴２６４を介してレチクルポッド１００の外側の外気と流体連通の状態に密閉シールされた空間１１８を配置する。
【００２４】
本発明の主要な実施形態はフィルタ媒体２７６、２７８、２８０、２８２及びフィルタ２３２を構成する他の媒体をレチクル搬送容器１００の外の外気にさらすことを制限する手段を提供する。そのような手段の一つが図２及び４の図に例示されている。当業者は、レチクル搬送容器１００内の密閉シールされた空間１１８と流体連通しているフィルタ２３２の表面２８８の範囲が上述のように最大であることを理解するであろう。しかしながら、外気と直接連通しているフィルタ２３２のベース層２７６の範囲は限定された数の穴２６４及び各穴の限定領域２６６によってより小さくなっている。本発明に提供される他の手段は、ベース層２７６の下の閉じた端２５２近くの流体非透過性膜３６０を含む。流体非透過性膜３６０に十字に交差するような角度で切り込まれたスリット（図示しない）、前記スリットは穴２６４に対向して配置されるのが好ましい、は流体非透過性膜のスリット部が軸方向に延びることで、ポッドの内部がパージモードで加圧された時に開くことを可能にする。通常、ポッドは吸引されることがないため、スリット部は中向きに開くことはなく、レチクル搬送容器１００から流体が流れる間に開く多数の一方向バルブのように外向きに効果的に機能するのみである。類似のバルブが米国特許第５４８２１６１号に記載されており、その全ての内容は参照によって援用されている。さらに、外膜３６０が疎水性膜であることによって、フィルタ２３２を通って外気からレチクル搬送容器１００内へ水蒸気が侵入するのを防ぐ。ＳＭＩＦポッドが加圧されてフィルタを通る外向きの著しい流れを生じる場合、疎水性の性質は堪えられなくなり、共に運ばれてきた水蒸気と共に空気もしくはパージガスの放出を許容する。フィルタを通る内向き及び外向きの流れが静的に最小な状態において、疎水性の効果は外部から内部へ水蒸気を運ぶ空気の流れを効果的に減らすことが期待される。
【００２５】
本発明の主要な実施形態においては、密閉シールされた空間１１８内の水蒸気の濃度が数ｐｐｂに近い濃度レベルに保たれることが好ましい。例えば乾燥剤などの従来技術の手法を用いると、密閉シールされた空間１１８内の水蒸気の濃度は数ｐｐｍ内に制御される。その湿度制御のレベルはレチクルポッド１００をパージシステムに連結することによって達成され、前記パージシステムとは例えば乾燥した窒素ガスや乾燥したアルゴンなどの非常に乾燥した気体を密閉シールされた空間１１８を通して定期的に流すものである。ここで図２及び６−９を参照すると、本発明の主要な実施形態に基づいてパージシステム（図示しない）に連結するために取り付けられたレチクル構造１００の構造が図示されている。図２において見られるように、ドア部１０６の上縁１７２は注入ポート３０６及び排出ポート３１２と共に形成されており、それらはドア部１０６の側壁１４８に対してほぼ平行な方向にドア上面１３６とドア底面１４２との間のドア部１０６を通って延びている。注入ポート３０６及び排出ポート３１２は注入用接続具３１８及び排出用接続具３２４を同軸に受容するよう形成されている。注入用接続具３１８及び排出用接続具３２４は注入ポート３０６及び排出ポート３１２にそれぞれネジ止めによって連結されている。また、他の接続手段が発明の範囲から逸脱することなく用いることができる。注入用接続具３１８はガス流入管（図示しない）に取り外し式に連結されている。排出用接続具３２４は順にガス排出手段（図示しない）に接続されているガス排出管（図示しない）に取り外し式に連結されている。注入用接続具３１８及び排出用接続具３２４は、一方向の流れを許容し、且つシステムが用いられていないときに密閉シールされた空間１１８内に気体のもしくは粒子状の混入物が進入もしくは退出するのを防ぐよう形成されたチェックバルブ３３０をそれぞれ備える。また、既に参照されている米国特許第５４８２１６１号に記載されているようなスリットを有するダイヤフラムバルブをチェックバルブ３３０と連結して、もしくは連結せずに用いることができる。これは、フィルタ媒体２７６、２７８、２８０、２８２、及びフィルタ２３２を構成する他の媒体がレチクル搬送容器１００の外の外気にさらされるのを制限するための機械的な手段である。当業者は、例えば乾燥した窒素ガス及び乾燥したアルゴンガスなどの非常に乾燥したパージガスを加圧下で密閉シールされた空間１１８へと注入することで、パージガスの少なくとも一部をフィルタ２３２を介して排出し、閉じた端２５２を介して外気中に出すことを理解するであろう。レチクル搬送容器１００をパージする装置及び方法は、参照によって二つの特許の全容が文献援用されている米国特許第５９８８２３３号及び第５８１００６２号に記載されている。代替形態においては、排出用接続具３２４がガス流入口に連結された注入用接続具３１８によって置換されている。この形態においては、密閉シールされた空間１１８が注入用接続具３１８を通ってそこへ流れ込むパージガスによって加圧される。パージガスはフィルタ２３２を通って密閉シールされた空間１１８から外に出る。通常、密閉シールされた空間１１８をパージすることで、微量の混合物を気体の流れに巻き込むことによって取り除く。また、乾燥した気体でのパージは、フィルタ２３２を除湿する。加圧下でのパージは、物理吸着性媒体のフィルタ部材及び、微粒子を特異的に濾過するフィルタ部材に弱く結合している粒子及び他の混入物を押しのけて除去することができる。事実上、パージはフィルタの混入物を吸着する容量を補充することによってフィルタ２３２を再生する。当業者は、本発明のフィルタ２３２の容量は消耗したフィルタ２３２を取り替えることによっても補充されることを理解するであろう。
【００２６】
もちろん、ＳＭＩＦレチクルポッド用の本環境制御の多くの代替形態は、当業者によって理解されるように可能であり発明の範囲内である。そのような実施形態は、フィルタを有する層の数及び配置を変更すること、フィルタの場所を変更すること、フィルタの面積を変更すること、いくつかの小さなフィルタを用いること、及び複数のパージ用ポートを用いることを限定することなく含む。
【００２７】
上述の説明は多くの特異性を含むものの、これらは発明の範囲の限定として解釈すべきではなく、現時点におけるいくつかの好適な発明の実施形態の説明を単に提示していると解釈すべきである。したがって、発明の範囲は本明細書中で説明される実施例よりも添付の請求の範囲及びそれらの法的な同等物によって決定されなければならない。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の主要な実施形態によるレチクル搬送容器のアセンブリの底部斜視図である。
【図２】本発明の主要な実施形態によるレチクル搬送容器のアセンブリの分解斜視図である。
【図３】レチクルを支持して描かれている図１のレチクル搬送容器のベース部の斜視図である。
【図４】図３のレチクル搬送容器のベース部の底部斜視図である。
【図５】図３のベース部の平面図である。
【図６】図５のベース部のＢ−Ｂ線断面図である。
【図７】図６のパージポートを表す詳細な図である。
【図８】図５のベース部のＡ−Ａ線断面図である。
【図９】図８のパージポートを表す詳細な図である。
【図１０】本発明の代替形態によるカバー部の内面を表すカバー部の底部斜視図である。
【図１１】本発明による典型的なフィルタの斜視図である。
【図１２】本発明の第二の実施形態による高表面積フィルタの斜視図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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