(57)【要約】      （修正有）【課題】伝送特性の低下が抑制され、高品質な光通信を行い得る光導波路、かかる光導波路を製造し得るインプリント用型および光導波路の製造方法、かかる光導波路を備えた光電気混載基板および電子機器を提供する。【解決手段】光導波路は、コア部１４と、コア部１４に隣接する側面クラッド部１５とが形成されているコア層１３と、コア部１４および側面クラッド部１５をコア部１４の軸線Ａに対して傾斜した方向に横断するミラー面と、を有し、ミラー面のうちの側面クラッド部１５を横断する領域である側面クラッド部領域１４１ｂの平均表面粗さＲａは、ミラー面のうちのコア部１４を横断する領域であるコア部領域１４１ａの平均表面粗さＲａよりも大きい。【選択図】図３
2015087711.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア部と、前記コア部に隣接する側面クラッド部とが形成されているコア層と、
前記コア部および前記側面クラッド部を前記コア部の軸線に対して傾斜した方向に横断するミラー面と、を有し、
前記ミラー面のうちの前記側面クラッド部を横断する領域である側面クラッド部領域の平均表面粗さＳＲａは、前記ミラー面のうちの前記コア部を横断する領域であるコア部領域の平均表面粗さＳＲａよりも大きいことを特徴とする光導波路。
【請求項２】
前記コア部領域の平均表面粗さＳＲａをＳＲａ１、前記側面クラッド部の平均表面粗さＳＲａをＳＲａ２としたとき、ＳＲａ２／ＳＲａ１が、１．５以上１０以下である請求項１に記載の光導波路。
【請求項３】
前記ＳＲａ２は、０ｎｍより大きく５００ｎｍ以下である請求項２に記載の光導波路。
【請求項４】
前記ＳＲａ１は、０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下である請求項２または３に記載の光導波路。
【請求項５】
前記コア部の途中または端部に位置する空洞部を有しており、
前記空洞部の内壁面の一部が前記ミラー面を構成している請求項１ないし４のいずれか１項に記載の光導波路。
【請求項６】
前記コア層を挟んで積層された２層のクラッド層を有している請求項１ないし５のいずれか１項に記載の光導波路。
【請求項７】
前記コア部および前記側面クラッド部との境界部付近の屈折率は、前記コア部側から前記側面クラッド部側に向けて連続的に小さくなっている請求項１ないし６のいずれか１項に記載の光導波路。
【請求項８】
前記ミラー面は、インプリント法により形成されたものである請求項１ないし７のいずれか１項に記載の光導波路。
【請求項９】
コア部と、前記コア部に隣接する側面クラッド部とが形成されているコア層に、前記コア部および前記側面クラッド部を前記コア部の軸線に対して傾斜した方向に横断するミラー面を形成するのに用いるインプリント用型であって、
前記ミラー面のうちの前記コア部を横断する領域であるコア部領域を成形する第１成形面と、
前記第１成形面よりも表面粗さが大きく、前記ミラー面のうちの前記側面クラッド部を横断する領域である側面クラッド部領域を成形する第２成形面と、を有することを特徴とするインプリント用型。
【請求項１０】
請求項９に記載のインプリント用型を用いて前記ミラー面を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項１１】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の光導波路を備えることを特徴とする光電気混載基板。
【請求項１２】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の光導波路を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路、インプリント用型、光導波路の製造方法、光電気混載基板および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、光信号を一地点から他地点に導くための手段として、光導波路が普及しつつある。この光導波路は、線状のコア部と、その周囲を覆うように設けられたクラッド部とを有している。コア部は、光に対して実質的に透明な材料によって構成され、クラッド部は、コア部より屈折率が低い材料によって構成されている。
【０００３】
光導波路では、コア部の一端から導入された光が、クラッド部との境界で反射しながら他端に搬送される。光導波路の入射側には、半導体レーザー等の発光素子が配置され、出射側には、フォトダイオード等の受光素子が配置される。発光素子から入射された光は光導波路を伝搬し、受光素子により受光され、受光した光の明滅パターンもしくはその強弱パターンに基づいて通信を行う。
【０００４】
このような光導波路によって例えば信号処理基板内の電気配線が置き換えられると、高周波ノイズの発生、電気信号の劣化といった電気信号に特有の課題が解消され、信号処理基板のさらなる高スループット化が可能になると期待されている。
【０００５】
電気配線を光導波路に置き換える際には、電気信号と光信号との相互変換を行う必要があることから、発光素子および受光素子とこれらの間を光学的に接続する光導波路とを備えた光導波路モジュールが開発されている。
【０００６】
このような光導波路モジュールに用いられる光導波路は、例えば、特許文献１に開示されているように、光路を変換して発光素子または受光素子と光学的に接続するため、コア部およびクラッド部をコア部の軸線に対して傾斜した方向に切断した切断面で構成されたミラー面が設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−１０７８４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特許文献１に係る光導波路では、不要な光（例えば、コア部に閉じ込められなかった光や外光）がミラー面のうちのクラッド部を横断する領域で反射し、その反射した光が正規の光（コア部を伝搬する光）と干渉し、クロストークが生じるという問題があった。
【０００９】
本発明の目的は、伝送特性の低下が抑制され、高品質な光通信を行い得る光導波路、かかる光導波路を製造し得るインプリント用型および光導波路の製造方法、かかる光導波路を備えた光電気混載基板および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
このような目的は、下記（１）〜（１２）の本発明により達成される。
（１）  コア部と、前記コア部に隣接する側面クラッド部とが形成されているコア層と、
前記コア部および前記側面クラッド部を前記コア部の軸線に対して傾斜した方向に横断するミラー面と、を有し、
前記ミラー面のうちの前記側面クラッド部を横断する領域である側面クラッド部領域の平均表面粗さＳＲａは、前記ミラー面のうちの前記コア部を横断する領域であるコア部領域の平均表面粗さＳＲａよりも大きいことを特徴とする光導波路。
【００１１】
（２）  前記コア部領域の平均表面粗さＳＲａをＳＲａ１、前記側面クラッド部の平均表面粗さＳＲａをＳＲａ２としたとき、ＳＲａ２／ＳＲａ１が、１．５以上１０以下である上記（１）に記載の光導波路。
【００１２】
（３）  前記ＳＲａ２は、０ｎｍより大きく５００ｎｍ以下である上記（２）に記載の光導波路。
【００１３】
（４）  前記ＳＲａ１は、０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下である上記（２）または（３）に記載の光導波路。
【００１４】
（５）  前記コア部の途中または端部に位置する空洞部を有しており、
前記空洞部の内壁面の一部が前記ミラー面を構成している上記（１）ないし（４）のいずれか１項に記載の光導波路。
【００１５】
（６）  前記コア層を挟んで積層された２層のクラッド層を有している上記（１）ないし（５）のいずれか１項に記載の光導波路。
【００１６】
（７）  前記コア部および前記側面クラッド部との境界部付近の屈折率は、前記コア部側から前記側面クラッド部側に向けて連続的に小さくなっている上記（１）ないし（６）のいずれか１項に記載の光導波路。
【００１７】
（８）  前記ミラー面は、インプリント法により形成されたものである上記（１）ないし（７）のいずれか１項に記載の光導波路。
【００１８】
（９）  コア部と、前記コア部に隣接する側面クラッド部とが形成されているコア層に、前記コア部および前記側面クラッド部を前記コア部の軸線に対して傾斜した方向に横断するミラー面を形成するのに用いるインプリント用型であって、
前記ミラー面のうちの前記コア部を横断する領域であるコア部領域を成形する第１成形面と、
前記第１成形面よりも表面粗さが大きく、前記ミラー面のうちの前記側面クラッド部を横断する領域である側面クラッド部領域を成形する第２成形面と、を有することを特徴とするインプリント用型。
【００１９】
（１０）  上記（９）に記載のインプリント用型を用いて前記ミラー面を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。
【００２０】
（１１）  上記（１）ないし（８）のいずれか１項に記載の光導波路を備えることを特徴とする光電気混載基板。
【００２１】
（１２）  上記（１）ないし（８）のいずれか１項に記載の光導波路を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、不要な光がミラー面の側面クラッド部領域で反射するのを防止または抑制することができる。これにより、不要な光と正規の光（コア部を伝搬する光）との干渉を防止または抑制することができる。そのため、伝送特性の低下が抑制され、高品質な光通信を行い得る。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の光導波路の第１実施形態を示す斜視図である。
【図２】図１に示す光導波路の縦断面図である。
【図３】図１に示す光導波路のミラー面のコア層領域を説明するための部分拡大斜視図である。
【図４】図３に示すミラー面のコア部領域および側面クラッド部領域を説明するための模式的縦断面図である。
【図５】図１に示す空洞部の開口部の変形例を示す平面図である。
【図６】図１に示す空洞部の内壁面上に反射膜を設けた変形例を示す縦断面図である。
【図７】図１に示すミラー面のコア部領域および側面クラッド部領域の変形例１を示す模式的縦断面図である。
【図８】図１に示すミラー面のコア部領域および側面クラッド部領域の変形例２を示す模式的縦断面図である。
【図９】図１に示すミラー面のコア部領域および側面クラッド部領域の変形例３を示す模式的縦断面図である。
【図１０】図１に示すミラー面のコア部領域および側面クラッド部領域の変形例４を示す模式的縦断面図である。
【図１１】本発明の光導波路の第２実施形態を示す断面図である。
【図１２】本発明の光導波路の第３実施形態を示す断面図である。
【図１３】本発明の光導波路の製造に用いられるインプリント用型の一例を模式的に示す斜視図である。
【図１４】図１３に示すインプリント用型を用いて光導波路を製造する方法を説明するための図である。
【図１５】本発明の光電気混載基板の実施形態を示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の光導波路、インプリント用型、光導波路の製造方法、光電気混載基板および電子機器について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
【００２５】
＜光導波路＞
≪第１実施形態≫
まず、本発明の光導波路の第１実施形態について説明する。
【００２６】
図１は、本発明の光導波路の第１実施形態を示す斜視図、図２は、図１に示す光導波路の縦断面図である。なお、以下では、説明の便宜上、図１および図２中の下側を「下」、上側を「上」という。
【００２７】
図１に示す光導波路１は、帯状または板状をなしており、光入射部と光出射部との間で光信号を伝送し、光通信を行う。
【００２８】
図１に示す光導波路１は、下側からクラッド層１１、コア層１３およびクラッド層１２をこの順で積層してなる積層体１０を備えている。コア層１３中には、長尺状のコア部１４とその側面に隣接して設けられた側面クラッド部１５とが形成されている。このように２層のクラッド層１１、１２に挟まれたコア層１３がコア部１４および側面クラッド部１５を有することにより、コア部１４の外周が側面クラッド部１５およびクラッド層１１、１２で構成されるクラッド部で囲まれることとなり、コア部１４に効率的に光を閉じ込めて伝搬させることができる。
また、光導波路１には、積層体１０の一部を貫通する空洞部１７０が設けられている。
【００２９】
コア部１４の屈折率は、クラッド部の屈折率より大きければよいが、その差は０．３％以上であるのが好ましく、０．５％以上であるのがより好ましい。一方、上限値は特に設定されないが、好ましくは５．５％程度とされる。屈折率差が前記下限値未満の場合、光を伝搬する効果が低下するおそれがあり、一方、屈折率差が前記上限値を上回る場合、光の伝送効率のそれ以上の向上は期待できない。
【００３０】
なお、前記屈折率差とは、コア部１４の最大屈折率をｎ４、側面クラッド部１５、クラッド層１１およびクラッド層１２の各最小屈折率をｎ５、ｎ１、ｎ２としたとき、次式で表される。
【００３１】
屈折率差（％）＝｜ｎ４／ｎ５−１｜×１００
屈折率差（％）＝｜ｎ４／ｎ１−１｜×１００
屈折率差（％）＝｜ｎ４／ｎ２−１｜×１００
【００３２】
また、コア層１３の幅方向、すなわち図２の紙面奥行方向（紙面に対して垂直な方向）における屈折率分布は、いかなる形状の分布であってもよい。すなわち、この屈折率分布は、屈折率が不連続的に変化したいわゆるステップインデックス（ＳＩ）型の分布であってもよく、屈折率が連続的に変化したいわゆるグレーデッドインデックス（ＧＩ）型の分布であってもよい。ＳＩ型の分布であれば屈折率分布の形成が容易であり、ＧＩ型の分布であれば屈折率の高い領域に信号光が集まる確率が高くなるため伝送効率が向上する。
【００３３】
すなわち、コア部１４および側面クラッド部１５との境界部付近の屈折率がコア部１４側から側面クラッド部１５側に向けて連続的に小さくなっている場合、コア部１４を伝搬する光をより効果的に閉じ込めることができる。
【００３４】
同様に、光導波路１の厚さ方向、すなわち図２の上下方向における屈折率分布も、上述したステップインデックス型の分布であってもよく、上述したグレーデッドインデックス型の分布であってもよい。
【００３５】
また、コア部１４は、図１では積層体１０の層厚方向から見た平面視（以下、単に「平面視」という）で直線状であるが、これに限定されず、平面視で曲線状であってもよく、また、途中で分岐または交差していてもよい。
【００３６】
また、コア部１４の横断面形状は、図１では四角形（矩形状）であるが、これに限定されず、例えば、真円、楕円形、長円形等の円形、三角形、五角形、六角形等の他の多角形であってもよい。ただし、コア部１４の横断面形状が四角形（矩形状）であることにより、コア部１４を形成し易い利点がある。
【００３７】
コア部１４の幅および高さ（コア層１３の厚さ）は、特に限定されないが、１〜２００μｍ程度であるのが好ましく、５〜１００μｍ程度であるのがより好ましい。これにより、コア部１４の伝送効率を高めつつコア部１４の高密度化を図ることができる。すなわち、単位面積当たりに敷設可能なコア部１４の数を多くすることができるので、小面積であっても大容量の光通信を行うことができる。
【００３８】
なお、コア層１３に形成されるコア部１４の数は、図１では説明の便宜上１本であるが、これに限定されず、例えば、１〜１００本とされる。
【００３９】
上述したようなコア層１３およびクラッド層１１、１２の構成材料（主材料）は、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料等を用いることができる。なお、樹脂材料は、異なる組成のものを組み合わせた複合材料であってもよい。これらは、比較的加工が容易であるため、空洞部１７０が形成されるコア層１３やクラッド層１１、１２の構成材料として好適である。
【００４０】
なお、光導波路１において、クラッド層１１は必要に応じて設けられればよく、省略することもできる。その場合、空気層がクラッド層１１の役目を果たすこととなる。
【００４１】
前述したように、光導波路１には、積層体１０の一部が貫通するように除去されてなる空洞部１７０が設けられている。すなわち、光導波路１は、積層体１０とそれに形成された空洞部１７０とを備えたものである。図１に示す空洞部１７０は、コア部１４の長手方向の途中に位置している。空洞部１７０の内壁面の一部は、コア部１４の軸線Ａに対して傾斜した方向に横断する傾斜面１７１になっている。このような傾斜面１７１は、光反射性を有し、コア部１４の光路を変換するミラー面（光路変換部）として機能する。例えば、傾斜面１７１からなるミラー面は、コア部１４内において図２の右側から左側に向かって伝搬する光を、下方に向けて反射することにより、伝搬方向を変換する。なお、ここで、「軸線Ａ」は、コア部１４の中心を通り、かつ、コア部１４の光軸に沿った線（中心線）である。
【００４２】
また、空洞部１７０は、クラッド層１２の上面に直交しかつコア部１４の軸線Ａを含む仮想の平面で切断されたときの断面形状が、略台形をなしている。この台形は、図２の下方の辺が短く、上方の辺が長い。また、この台形の斜辺に相当するのが、前述した傾斜面１７１、および、この傾斜面１７１に対向する位置にある傾斜面１７２である。
【００４３】
また、空洞部１７０の内壁面（内側面）のうち、コア部１４の軸線Ａとほぼ平行な２つの面は、それぞれクラッド層１１の下面に対して垂直な直立面１７３、１７４になっている（図１参照）。これらの２つの傾斜面１７１、１７２と２つの直立面１７３、１７４とにより、空洞部１７０の内側面が構成されている。
【００４４】
以下、ミラー面を構成する傾斜面１７１について詳述する。なお、傾斜面１７２は、傾斜面１７１と同様の構成であってもよいし、傾斜面１７１と異なる構成（例えば単なる平坦面）であってもよい。
【００４５】
図１に示すように、傾斜面１７１は、クラッド層１１、１２を横断する領域であるクラッド層領域１１１、１２１と、コア層１３を横断する領域であるコア層領域１４１とで構成されている。
【００４６】
図３は、図１に示す光導波路のミラー面のコア層領域を説明するための部分拡大斜視図、図４は、図３に示すミラー面のコア部領域および側面クラッド部領域を説明するための模式的縦断面図である。
【００４７】
図３に示すように、コア層領域１４１は、コア部１４を横断する領域であるコア部領域１４１ａと、側面クラッド部１５を横断する領域である側面クラッド部領域１４１ｂとで構成されている。
【００４８】
特に、側面クラッド部領域１４１ｂの平均表面粗さＳＲａは、コア部領域１４１ａの平均表面粗さＳＲａよりも大きいことが好ましい。これにより、不要な光が側面クラッド部領域１４１ｂで反射するのを防止または抑制し、不要な光が側面クラッド部領域１４１ｂで反射しても、その反射光を拡散させることができる。そのため、不要な光と正規の光との干渉を防止または抑制することができる。その結果、伝送特性の低下が抑制され、高品質な光通信を行い得る。
【００４９】
例えば、コア部１４を伝搬した正規の光をコア部領域１４１ａで反射させて受光素子で受光する場合、コア部１４に閉じ込められずにコア層１３（側面クラッド部１５）を伝搬した不要な光（以下、「クラッドモードの光」ともいう）が側面クラッド部領域１４１ｂで反射するのを防止または抑制し、側面クラッド部領域１４１ｂで反射しても、その反射光を拡散させることができる。そのため、不要な光が受光素子で受光されてしまうのを防止または抑制することができる。
【００５０】
また、例えば、発光素子から出射した光のうちの一部を正規の光としてコア部領域１４１ａで反射させてコア部１４に入射させる場合、発光素子から出射した光の残部が側面クラッド部領域１４１ｂで反射するのを防止または抑制し、側面クラッド部領域１４１ｂで反射しても、その反射光を拡散させることができる。そのため、発光素子から出射した光の残部がコア部１４に閉じ込められずに側面クラッド部１５を伝搬するのを防止または抑制することができる。すなわち、クラッドモードを低減することができる。
【００５１】
ここで、コア部領域１４１ａの平均表面粗さＳＲａをＳＲａ１、側面クラッド部領域１４１ｂの平均表面粗さＳＲａをＳＲａ２としたとき、ＳＲａ２／ＳＲａ１が、１．５以上１０以下であることが好ましく、１．５以上８以下であることがより好ましく、２以上７以下であることがさらに好ましい。これにより、コア部領域１４１ａの光反射性および側面クラッド部領域１４１ｂの光反射防止性の双方を優れたものとすることができる。
【００５２】
また、前記ＳＲａ１は、コア部領域１４１ａが光反射性を発揮できればよく、例えば、０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましく、０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。これにより、コア部領域１４１ａの光反射性を優れたものとすることができる。
【００５３】
また、前記ＳＲａ２は、前記ＳＲａ１よりも大きく、側面クラッド部領域１４１ｂが光反射防止性を発揮できればよく、例えば、０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。これにより、傾斜面１７１の側面クラッド部領域１４１ｂの光反射防止性を十分なものとすることができる。
【００５４】
また、本実施形態では、図３および図４に示すように、側面クラッド部領域１４１ｂの法線方向は、コア部領域１４１ａの法線方向と異なる。本実施形態では、側面クラッド部領域１４１ｂの軸線Ａに対する傾斜角度θ２は、コア部領域１４１ａの軸線Ａに対する傾斜角度θ１と異なる。具体的には、側面クラッド部領域１４１ｂの軸線Ａに対する傾斜角度θ２は、コア部領域１４１ａの軸線Ａに対する傾斜角度θ１よりも大きい。なお、ここで、θ１およびθ２は、それぞれ、図２に示す断面で見たときの軸線Ａに対する傾斜角度をいう。また、傾斜角度θ１、θ２の測定は、社団法人日本電子回路工業会が発行するＪＰＣＡ規格「光導波路を用いた光配線板の寸法測定方法（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０２Ｓ）」を用いることができる。
【００５５】
このようなコア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂを有するミラー面によれば、不要な光が傾斜面１７１の側面クラッド部領域１４１ｂで反射しても、その反射光の反射方向を、正規の光が傾斜面１７１のコア部領域１４１ａで反射する方向と異ならせることができる。そのため、不要な光と正規の光との干渉を防止または抑制することができる。その結果、伝送特性の低下が抑制され、高品質な光通信を行い得る。
【００５６】
例えば、コア部１４を伝搬した正規の光を傾斜面１７１のコア部領域１４１ａで反射させて受光素子で受光する場合、クラッドモードの光が傾斜面１７１の側面クラッド部領域１４１ｂで反射しても、その反射光の反射方向を、正規の光がコア部領域１４１ａで反射する方向と異ならせることができる。そのため、不要な光が受光素子で受光されてしまうのを防止または抑制することができる。
【００５７】
また、例えば、発光素子から出射した光のうちの一部を正規の光として傾斜面１７１のコア部領域１４１ａで反射させてコア部１４に入射させる場合、発光素子から出射した光の残部が傾斜面１７１の側面クラッド部領域１４１ｂで反射しても、その反射光の反射方向を、正規の光がコア部領域１４１ａで反射する方向と異ならせることができる。そのため、発光素子から出射した光の残部がコア部１４に閉じ込められずにコア層１３（側面クラッド部１５）を伝搬するのを防止または抑制することができる。すなわち、クラッドモードを低減することができる。
【００５８】
ここで、図３では、説明の便宜上、コア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂのそれぞれが平坦面であり、コア部領域１４１ａと側面クラッド部領域１４１ｂとの間には、段差が形成されているが、かかる段差をなくすべく、コア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂが連続した面となるように、傾斜角度θ１、θ２が連続的に変化していていることが好ましい。
【００５９】
すなわち、コア部領域１４１ａと側面クラッド部領域１４１ｂとの境界部付近における傾斜面１７１の軸線Ａに対する傾斜角度θ１、θ２は、コア部領域１４１ａ側から側面クラッド部領域１４１ｂ側から向けて連続的に変化していることが好ましい。
【００６０】
このような傾斜角度が連続的に変化する傾斜面１７１は、コア部１４と側面クラッド部１５の境界部付近の構成材料が連続的に変化する場合、すなわち、コア部１４と側面クラッド部１５の境界部付近が傾斜材料で構成されている場合、後述するように、材料の加工速度の違いを利用して、レーザー加工により容易に形成することができる。
【００６１】
なお、傾斜面１７１のクラッド層領域１１１、１２１の軸線Ａに対する傾斜角度は、コア部領域１４１ａまたは側面クラッド部領域１４１ｂの軸線Ａに対する傾斜角度θ１またはθ２と同じであってもよいし、コア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂの軸線Ａに対する傾斜角度θ１およびθ２のいずれとも異なっていてもよいが、コア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂのそれぞれは、クラッド層領域１１１、１２１の少なくとも一方と連続した面で構成されていることが好ましい。これにより、コア層１３とクラッド層１１、１２との間の応力集中を低減することができる。その結果、コア層１３とクラッド層１１、１２との界面の層間剥離の発生が抑制され、層間剥離に伴う伝送損失やミラーにおける反射損失の低減も図ることができる。また、傾斜面１７１を構成する各領域、すなわち、クラッド層領域１１１、１２１およびコア層領域１４１（コア部領域１４１ａ、側面クラッド部領域１４１ｂ）は、それぞれ、凸状または凹状に湾曲した部分を有していてもよい。
【００６２】
また、側面クラッド部領域１４１ｂの軸線Ａに対する傾斜角度θ２とコア部領域１４１ａの軸線Ａに対する傾斜角度θ１との差は、０．０５〜４０°であることが好ましく、５〜１０°であることがより好ましく、１０〜１５°であることがさらに好ましい。これにより、傾斜面１７１の形成を容易なものとしつつ、側面クラッド部領域１４１ｂで反射する光の方向を、コア部領域１４１ａで反射する光の方向と異ならせることができる。
【００６３】
これに対し、かかる傾斜角度の差が小さすぎると、側面クラッド部領域１４１ｂで反射するクラッドモードの光が受光素子で受光されないように受光素子と傾斜面１７１との距離を大きくしなければならなかったり、発光素子から出射した光のうち側面クラッド部領域１４１ｂで反射した光がコア層１３（側面クラッド部１５）に入射しやすくなり、クラッドモードの光が増加する傾向を示したりする。一方、かかる傾斜角度の差が大きすぎると、傾斜面１７１の形状が複雑化し、傾斜面１７１に応力が集中したり、傾斜面１７１の形成が難しくなったりする。
【００６４】
また、傾斜角度θ１は、コア部領域１４１ａが変換する光路の結合先の位置に応じて適宜設定されるが、好ましくは３５〜５５°程度に設定され、より好ましくは４０〜５０°程度に設定される。傾斜角度θ４を前記範囲内に設定することにより、傾斜面１７１においてコア部１４の光路を効率よく変換し、光路変換に伴う損失を抑制することができる。
【００６５】
一方、傾斜角度θ２は、前述したような傾斜角度θ１との差を有することが好ましく、具体的には、２５〜８０°程度であることが好ましく、３０〜６０°程度であることがより好ましい。
【００６６】
このようなミラー面を構成する傾斜面１７１の形成方法としては、特に限定されず、例えば、レーザー加工、エッチング、インプリント等の公知の加工技術を用いることができる。傾斜面１７１は、前述した空洞部１７０の内壁面の一部で構成されているため、レーザー加工、エッチング、インプリント等の公知の加工技術を用いて空洞部１７０を形成することにより、比較的簡単に形成することができる。
【００６７】
また、傾斜面１７１をインプリント法により形成する場合、前述したような表面粗さの異なるコア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂを有する傾斜面１７１を簡単かつ高精度に形成することができる。
【００６８】
傾斜面１７１をインプリント法により形成する場合、後に詳述するが、コア部領域１４１ａを成形する第１成形面と、側面クラッド部領域１４１ｂを成形する第２成形面とを有するインプリント用型を用いればよい（図１３参照）。この場合、前記第２成形面の表面粗さを前記第１成形面の表面粗さよりも大きくすればよい。
【００６９】
また、傾斜面１７１をレーザー加工により形成する場合であっても、コア部１４と側面クラッド部１５との加工性の違いを利用して前述したような表面粗さの異なるコア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂを有する傾斜面１７１を形成することができる。この場合、コア部１４および側面クラッド部１５は、レーザー加工による加工速度が互いに異なる材料で構成されていることが好ましい。これにより、傾斜面１７１をレーザー加工により形成する場合、コア部１４と側面クラッド部１５との加工速度の違いによって、法線方向が異なるコア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂを形成することができる。
【００７０】
前述したように、コア部１４および側面クラッド部１５は、屈折率差を生じるように互いに異なる材料で構成されているため、レーザー加工による加工速度が異なることとなる。したがって、前述したように、コア部１４と側面クラッド部１５との加工速度の違いを利用して傾斜面１７１をレーザー加工により形成する場合、側面クラッド部領域１４１ｂの軸線Ａに対する傾斜角度θ２とコア部領域１４１ａの軸線Ａに対する傾斜角度θ１との差と、側面クラッド部１５の屈折率とコア部１４の屈折率との間の差とは、相関関係を有することとなる。よって、光導波路１の屈折率分布がグレーデッドインデックス型の分布である場合、コア部領域１４１ａと側面クラッド部領域１４１ｂとの境界部付近における傾斜面１７１の軸線Ａに対する傾斜角度θ１、θ２は、コア部領域１４１ａ側から側面クラッド部領域１４１ｂ側から向けて連続的に変化することとなる。
【００７１】
なお、側面クラッド部領域１４１ｂは、空洞部１７０を形成するレーザー加工またはインプリント加工の後に別の処理により粗面化してもよい。
【００７２】
（変形例）
以下、図１に示す空洞部１７０またはその周辺部分の変形例について説明する。なお、以下の変形例について、前述した構成と同様の事項に関しては、その説明を省略する。
【００７３】
図５は、図１に示す空洞部の開口部の変形例を示す平面図である。
空洞部１７０の開口部の形状は、図１に示すような矩形状であってもよいが、図５に示す開口部１７５のような長円形であってもよい。なお、図５に示す光導波路１は、以下の点が異なる以外、図１に示す光導波路１と同様である。
【００７４】
開口部１７５は、前述した２つの傾斜面１７１、１７２に対応する直線線分からなる傾斜面上端１７１ａ、１７２ａと、２つの直立面１７３、１７４に対応する弧からなる直立面上端１７３ａ、１７４ａとで構成された、長円形をなしている。これにより、空洞部１７０近傍において、構造の変化や熱変化等に伴う応力が発生したとき、その応力が空洞部１７０近傍に集中し難くなる。その結果、光導波路１の伝送効率の低下や傾斜面１７１における反射効率の低下をより抑制し、高品質な光通信を行い得る光導波路１が得られる。
【００７５】
なお、開口部１７５の全体形状は、前述した矩形や長円形に限定されず、傾斜面上端１７１ａ以外の部分は、いかなる形状であってもよいが、例えば、四角形、五角形、六角形のような多角形が挙げられる。
【００７６】
一方、コア層１３の下面を基準面とするとき、その基準面と直立面１７３、１７４とがなす角度（鋭角側）は、それぞれ好ましくは６０〜９０°程度とされる。各図では、ほぼ９０°として図示している。このような空洞部１７０は、その占める幅が最小限に抑えられるので、複数の空洞部１７０を隣り合わせて形成したとき、その間隔を最小化することができる。したがって、基準面と直立面１７３、１７４とがなす角度を前記範囲内に収めることは、狭いピッチで併設されたコア部１４に対しても空洞部１７０を高密度に配置し得るという点で有用である。また、基準面と直立面１７３、１７４とがなす角度を前記範囲内に収めることにより、直立面１７３、１７４近傍において各層を構成する材料の物性差による応力集中が特に抑えられる。その結果、層間剥離が特に生じ難くなるため、光導波路１の信頼性を特に高めることができる。
【００７７】
なお、空洞部１７０の最大深さは、積層体１０の厚さから適宜設定されるものであり、特に限定されないが、光導波路１の機械的強度や可撓性といった観点から、好ましくは１〜５００μｍ程度とされ、より好ましくは５〜４００μｍ程度とされる。
【００７８】
また、空洞部１７０の最大長さ、すなわち図５における空洞部１７０のＹ方向の最大長さは、特に限定されないが、クラッド層１１、１２やコア層１３の厚さや傾斜面１７１の傾斜角度との関係から、好ましくは２〜１２００μｍ程度とされ、より好ましくは１０〜１０００μｍ程度とされる。
【００７９】
さらに、空洞部１７０の最大幅、すなわち図５における空洞部１７０のＸ方向の最大長さは、特に限定されず、コア部１４の幅等に応じて適宜設定されるが、好ましくは１〜６００μｍ程度とされ、より好ましくは５〜５００μｍ程度とされる。
【００８０】
なお、空洞部１７０は、１本のコア部１４に対して１つ設けられていてもよいが、複数本のコア部１４に対してこれらに跨るように１つの空洞部１７０が設けられていてもよい。
【００８１】
また、複数個の空洞部１７０を形成する場合、それらの形成位置は、Ｙ方向において互いに同じ位置であっても、互いにずれていてもよい。
【００８２】
また、傾斜面１７１は、空洞部１７０の内側面ではなく、積層体１０の端面を軸線Ａに対して斜めに加工した傾斜面であってもよい。
【００８３】
図６は、図１に示す空洞部の内壁面上に反射膜を設けた変形例を示す縦断面図である。
図６に示す光導波路１は、空洞部１７０の内壁面上に反射膜１７６が設けられている以外は、図１に示す光導波路１と同様である。
【００８４】
このような反射膜１７６を設けることにより、傾斜面１７１における反射特性を特に高めることができる。反射膜１７６としては、例えば、金属膜、炭素膜、樹脂膜、セラミック膜、シリコン膜等が挙げられる。このうち、金属膜が好ましく用いられる。金属膜によれば、金属特有の光沢による反射率の高い反射膜１７６が得られる。金属膜の構成材料としては、例えば、アルミニウム、鉄、クロム、ニッケル、銅、亜鉛、銀、白金、金、鉛等が挙げられる。
【００８５】
反射膜１７６の平均厚さは、特に限定されないが、０．１〜５００μｍ程度であるのが好ましく、０．５〜３００μｍ程度であるのがより好ましい。これにより、十分な反射率を有するとともに、剥がれ難い反射膜が得られる。なお、反射膜１７６は、少なくともコア部領域１４１ａ上に設けられていればよく、クラッド層領域１１１、１２１や側面クラッド部領域１４１ｂ上には設けられていなくてもよい。
【００８６】
反射膜１７６の成膜方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法のような物理蒸着法、ＣＶＤ法のような化学蒸着法、めっき法、熱転写法、金属箔転写法、印刷法、塗布法等が挙げられる。
【００８７】
（コア層領域の変形例１）
図７は、図１に示すミラー面のコア部領域および側面クラッド部領域の変形例１を示す模式的縦断面図である。
【００８８】
図７に示すコア層領域１４１は、側面クラッド部領域１４１ｂが平面視にて軸線Ａに対して傾斜角度θ３（あおり角度）をもって傾斜している以外は、図３に示すコア層領域１４１と同様である。
【００８９】
図７に示す例では、側面クラッド部領域１４１ｂは、コア部領域１４１ａとは反対側に傾斜している。
【００９０】
このように傾斜角度θ１およびθ３を有する側面クラッド部領域１４１ｂによれば、効率的に、クラッドモード光を受光素子の受光領域から逸らすことができ、不要な光と正規の光との干渉を防止または抑制することができる。これにより、光信号のシグナル・ノイズ比（Ｓ／Ｎ）を向上させることができ、通信品質を向上させることができる。
【００９１】
平面視における側面クラッド部領域１４１ｂの軸線Ａに対する傾斜角度θ３は、特に限定されないが、例えば、０〜４５°であることが好ましく、１０〜３５°であることがより好ましく、１５〜３０°であることがさらに好ましい。
【００９２】
なお、図７では、説明の便宜上、コア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂのそれぞれが平坦面であり、コア部領域１４１ａと側面クラッド部領域１４１ｂとの間には、段差が形成されているが、かかる段差をなくすべく、コア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂが連続した面となるように、傾斜角度θ１、θ２、θ３が連続的に変化していていることが好ましい。
【００９３】
（コア層領域の変形例２）
図８は、図１に示すミラー面のコア部領域および側面クラッド部領域の変形例２を示す模式的縦断面図である。
【００９４】
図８に示すコア層領域１４１は、側面クラッド部領域１４１ｂが平面視にて軸線Ａに対して傾斜角度θ４（あおり角度）をもって傾斜している以外は、図３に示すコア層領域１４１と同様である。
【００９５】
図８に示す例では、側面クラッド部領域１４１ｂは、コア部領域１４１ａ側に傾斜している。
【００９６】
このように傾斜角度θ１およびθ４を有する側面クラッド部領域１４１ｂによれば、効率的に、不要な光と正規の光との干渉を防止または抑制することができる。これにより、光信号のシグナル・ノイズ比（Ｓ／Ｎ）を向上させることができ、通信品質を向上させることができる。
【００９７】
平面視における側面クラッド部領域１４１ｂの軸線Ａに対する傾斜角度θ４は、特に限定されないが、例えば、０〜４５°であることが好ましく、１０〜３５°であることがより好ましく、１５〜３０°であることがさらに好ましい。
【００９８】
なお、図８では、説明の便宜上、コア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂのそれぞれが平坦面であり、コア部領域１４１ａと側面クラッド部領域１４１ｂとの間には、段差が形成されているが、かかる段差をなくすべく、コア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂが連続した面となるように、傾斜角度θ１、θ２、θ４が連続的に変化していていることが好ましい。
【００９９】
（コア層領域の変形例３）
図９は、図１に示すミラー面のコア部領域および側面クラッド部領域の変形例３を示す模式的縦断面図である。
【０１００】
図９に示すコア層領域１４１は、側面クラッド部領域１４１ｂの軸線Ａに対する傾斜角度θ２が異なる以外は、図３に示すコア層領域１４１と同様である。
【０１０１】
図９に示す例では、側面クラッド部領域１４１ｂの軸線Ａに対する傾斜角度θ２がコア部領域１４１ａの軸線Ａに対する傾斜角度θ１よりも小さい。
【０１０２】
このような側面クラッド部領域１４１ｂによっても、不要な光と正規の光との干渉を防止または抑制することができる。これにより、光信号のシグナル・ノイズ比（Ｓ／Ｎ）を向上させることができ、通信品質を向上させることができる。
【０１０３】
なお、図９では、説明の便宜上、コア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂのそれぞれが平坦面であり、コア部領域１４１ａと側面クラッド部領域１４１ｂとの間には、段差が形成されているが、かかる段差をなくすべく、コア部領域１４１ａおよび側面クラッド部領域１４１ｂが連続した面となるように、傾斜角度θ１、θ２が連続的に変化していていることが好ましい。
【０１０４】
（コア層領域の変形例４）
図１０は、図１に示すミラー面のコア部領域および側面クラッド部領域の変形例４を示す模式的縦断面図である。
【０１０５】
図１０に示すコア層領域１４１は、側面クラッド部領域１４１ｂの軸線Ａに対する傾斜角度θ２が異なる以外は、図３に示すコア層領域１４１と同様である。
【０１０６】
図１０に示す例では、側面クラッド部領域１４１ｂの軸線Ａに対する傾斜角度θ２がコア部領域１４１ａの軸線Ａに対する傾斜角度θ１と等しくなっている。
【０１０７】
また、側面クラッド部領域１４１ｂは、コア部領域１４１ａと連続した面（平面）となっている。
【０１０８】
このような傾斜面１７１であっても、側面クラッド部領域１４１ｂが粗面化されていることにより、不要な光と正規の光との干渉を防止または抑制することができる。また、傾斜面１７１の形状が簡単であるため、傾斜面１７１の形成が容易となる。
【０１０９】
≪第２実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第２実施形態について説明する。
図１１は、本発明の光導波路の第２実施形態を示す断面図である。
【０１１０】
以下、第２実施形態について説明するが、以下の説明では、第１実施形態との相違点について説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
【０１１１】
図１１に示す光導波路１では、図２に示す光導波路１において、傾斜面１７２に代えて、軸線Ａに対してほぼ直交している平坦な直立面１７２’を備えている。本実施形態に係る光導波路１は、この点で相違している以外、第１実施形態に係る光導波路１と同様である。
このような第３実施形態においても、第１実施形態と同様の作用、効果が得られる。
【０１１２】
≪第３実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第３実施形態について説明する。
図１２は、本発明の光導波路の第３実施形態を示す断面図である。
【０１１３】
以下、第３実施形態について説明するが、以下の説明では、第１実施形態との相違点について説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
【０１１４】
図１２に示す光導波路１は、さらに、クラッド層１１の下面に積層された支持フィルム２と、クラッド層１２の上面に積層されたカバーフィルム３と、を備えている以外、第１実施形態に係る光導波路１と同様である。
【０１１５】
また、空洞部１７０は、カバーフィルム３を貫通するよう構成されている。したがって、傾斜面１７１は、カバーフィルム３からクラッド層１２およびコア層１３をそれぞれ経てクラッド層１１の途中に至るまでの間に連続して形成された面となる。
【０１１６】
このような第４実施形態においても、第１実施形態と同様の作用、効果が得られる。
また、支持フィルム２およびカバーフィルム３を用いることで、積層体１０を外力や異物付着、汚染等から保護することができる。
【０１１７】
＜光導波路の製造方法＞
次に、本発明の光導波路を製造する方法の一例について説明する。以下では、図２に示す光導波路１を製造する場合を例に説明する。
【０１１８】
図２に示す光導波路１は、クラッド層１１、コア層１３およびクラッド層１２を順次積層して積層体１０を得る工程と、空洞部１７０を形成する工程と、を有する方法により製造することができる。
【０１１９】
以下、各工程について順次説明する。
［１］まず、（ａ）クラッド層１１を形成するための組成物、コア層１３を形成するための組成物、およびクラッド層１２を形成するための組成物を、順次成膜して製造する方法、（ｂ）各組成物を用いてクラッド層１１、コア層１３およびクラッド層１２をそれぞれ形成した後、積層する方法、（ｃ）３種の組成物を同時に押出成形して積層体を製造する方法等により、コア層形成層またはコア層形成層を含む多層構造を得る。
【０１２０】
この際、コア層１３を形成するための組成物として、露光により屈折率が変化する屈折率変調能を有するものを用いれば、このコア層形成層に露光処理を施すことのみで、所望のパターンで敷設されたコア部１４を含むコア層１３を得ることができる。
【０１２１】
なお、コア層１３の製造方法は、このような方法に限定されない。例えば成膜工程と、フォトリソグラフィー技術とエッチング技術とを組み合わせたパターニング工程と、を繰り返し行うことにより、所望のパターンで敷設されたコア部１４を含むコア層１３を得ることができる。
【０１２２】
［２］次に、空洞部１７０を形成する。これにより、光導波路１が得られる。空洞部１７０の形成方法には様々な方法が挙げられる。例えば、切削加工や研削加工といった機械加工法の他、レーザー加工法、電子線加工法、インプリント法等が挙げられる。このうち、レーザー加工法またはインプリント法によれば、寸法精度の高い空洞部１７０を比較的容易に形成することができる。以下、代表的にインプリント法によって空洞部１７０を形成する方法について説明する。
【０１２３】
図１３は、本発明の光導波路の製造に用いられるインプリント用型の一例を模式的に示す斜視図、図１４は、図１３に示すインプリント用型を用いて光導波路を製造する方法を説明するための図である。
【０１２４】
インプリント法により空洞部１７０を形成する場合、例えば、図１３に示すようなインプリント用型９００を用いる。
【０１２５】
インプリント用型９００は、空洞部１７０の内壁面に合致した外形を有する。すなわち、インプリント用型９００は、傾斜面１７１、１７２を成形する成形面９０１、９０２と、直立面１７３、１７４を成形する成形面９０３、９０４とを有する。
【０１２６】
ここで、成形面９０１は、コア部領域１４１ａを成形する第１成形面９０１ａと、側面クラッド部領域１４１ｂを成形する第２成形面９０１ｂとを有する。
【０１２７】
そして、第２成形面９０１ｂは、粗面化されており、第１成形面９０１ａよりも表面粗さが大きい。
このような成形面９０１〜９０４には、必要に応じて離型処理が施される。
【０１２８】
なお、図１３では、成形面９０２も成形面９０１と同様に構成されている場合を図示しているが、成形面９０２は表面粗さの均一な平坦な面であってもよい。
【０１２９】
このようなインプリント用型９００を用いて、以下のように空洞部１７０を形成する。
まず、図１４（ａ）に示すように、前述したようにして得られた積層体１０を用意する。
【０１３０】
次いで、図１４（ｂ）に示すように、インプリント用型９００の成形面９０１〜９０４を有する部分が積層体１０に埋まるように、インプリント用型９００を積層体１０に押圧する。この際、必要に応じて、加熱処理を行ってもよい。
【０１３１】
その後、インプリント用型９００を積層体１０から離型し、図１４（ｃ）に示すように、光導波路１を得る。
【０１３２】
このようなインプリント用型９００を用いた光導波路１の製造方法によれば、前述したような傾斜面１７１を簡単かつ高精度に形成することができる。
【０１３３】
＜光電気混載基板＞
次に、本発明の光電気混載基板の実施形態について説明する。
【０１３４】
図１５は、本発明の光電気混載基板の実施形態を示す縦断面図である。
図１５に示す光電気混載基板１００は、光導波路（本発明の光導波路）１と、その上面に積層された電気配線基板５と、これらの間に介挿され両者を接着する接着シート９と、を有している。
【０１３５】
図１５に示す電気配線基板５は、コア基板５１とその両面に積層されたビルドアップ層５２とを備えた多層基板５０と、この多層基板５０に設けられた貫通孔５３と、を有している。
【０１３６】
コア基板５１は、電気配線基板５を支持する基板であり、その構成材料としては、例えば、各種樹脂材料が挙げられる。この他、紙、ガラス布、樹脂フィルム等を基材とし、この基材に樹脂材料を含浸させたもの、具体的には、ガラス布・エポキシ銅張積層板、ガラス不織布・エポキシ銅張積層板等のコンポジット銅張積層板に使用される絶縁性基板の他、ポリエーテルイミド樹脂基板、ポリエーテルケトン樹脂基板、ポリサルフォン系樹脂基板等の耐熱・熱可塑性の有機系リジッド基板や、アルミナ基板、窒化アルミニウム基板、炭化ケイ素基板等のセラミックス系リジッド基板等であってもよい。
【０１３７】
これらの導体層５２２および貫通配線は、それぞれ、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、金、銀のような金属単体、またはこれらの金属元素を含む合金等の導電性材料で構成される。
【０１３８】
また、絶縁層５２１は、酸化ケイ素、窒化ケイ素のようなケイ素化合物、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂のような樹脂材料等により構成される。
【０１３９】
このようにして、ビルドアップ層５２内には、面方向のみでなく厚さ方向にも広がる電気回路を構築することができ、電気回路の高密度化を図ることができる。
【０１４０】
なお、このような多層基板５０は、いかなる工法で形成されたものであってもよいが、一例としてアディティブ法、セミアディティブ法、サブトラクティブ法等の各種ビルドアップ工法により形成される。
【０１４１】
また、本発明の光電気混載基板が備える電気配線基板は、上述した電気配線基板５のような多層基板を含むものに限定されず、例えば多層基板を単層の電気配線基板（リジッド基板）で代替したものであってもよく、ポリイミド基板、ポリエステル基板、アラミドフィルム基板のような各種フレキシブル基板で代替したものであってもよい。また、多層基板５０は、コア基板５１を含まないコアレスの多層基板で代替することもできる。
【０１４２】
また、図１５に示す電気配線基板５は、多層基板５０の上面に設けられたソルダーレジスト層５４を有している。ソルダーレジスト層５４を設けることにより、電気配線基板５の導体層５２２を酸化や腐食等から保護する。
【０１４３】
なお、この電気配線基板５には、図示しない電気素子が搭載されていてもよい。電気素子としては、例えば、ＩＣ、ＬＳＩ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、コンデンサー、コイル、抵抗、ダイオード等が挙げられる。
【０１４４】
また、図１５に示す光電気混載基板１００は、電気配線基板５上に搭載された光素子６を有している。
【０１４５】
図１５に示す光素子６は、素子本体６０と、素子本体６０の下面に設けられた受発光部６１および端子６２と、端子６２から下方に突出するよう設けられたバンプ６３と、を有している。なお、受発光部とは、受光部または発光部、あるいはその双方の機能を有するものを指す。
【０１４６】
光素子６は、受発光部６１の光軸が光導波路１の空洞部１７０の傾斜面１７１（ミラー）を介してコア部１４の光軸と一致するよう配置されている。これにより、光導波路１と光素子６とが光学的に接続され、光導波路１を伝搬する光信号を光素子６に受光させたり、光素子６から出射された光信号を光導波路１に入射したりすることができる。
【０１４７】
光素子６としては、例えば、面発光レーザー（ＶＣＳＥＬ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）、有機ＥＬ素子等の発光素子、フォトダイオード（ＰＤ、ＡＰＤ）等の受光素子が挙げられる。
【０１４８】
＜電子機器＞
上述したような本発明に係る光導波路は、伝送効率が高く、かつ他の光学部品との光結合効率に優れたものである。このため、本発明の光導波路を備えることにより、高品質の光通信を行い得る信頼性の高い電子機器（本発明の電子機器）が得られる。
【０１４９】
本発明の光導波路を備える電子機器としては、例えば、携帯電話、ゲーム機、ルーター装置、ＷＤＭ装置、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等の電子機器類が挙げられる。これらの電子機器では、いずれも、例えばＬＳＩ等の演算装置とＲＡＭ等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光導波路を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消され、その性能の飛躍的な向上が期待できることから、電子機器の低コスト化に貢献することができる。
【０１５０】
さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。
【０１５１】
以上、本発明の光導波路、インプリント用型、光導波路の製造方法、光電気混載基板および電子機器について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば光導波路には、任意の構成物が付加されていてもよい。
【０１５２】
また、傾斜面１７１を光入射側ミラーとして用いた場合、光出射側はコア部１４の端面からコア部１４の光軸に沿って光を出射させるようにしてもよく、その際、出射端にはコネクターが装着されていてもよい。一方、傾斜面１７１を光出射側ミラーとして用いた場合、光入射側はコア部１４の端面からコア部１４の光軸に沿って光を入射するようにしてもよく。その際、入射端にはコネクターが装着されていてもよい。
【０１５３】
また、光導波路には複数の傾斜面が形成されていてもよい。例えば２つの傾斜面が形成されている場合、一方の傾斜面を光入射側ミラーとして用い、他方の傾斜面を光出射側ミラーとして用いることができる。
【符号の説明】
【０１５４】
１                  光導波路
２                  支持フィルム
３                  カバーフィルム
５                  電気配線基板
５０                多層基板
５１                コア基板
５２                ビルドアップ層
５２１              絶縁層
５２２              導体層
５３                貫通孔
５４                ソルダーレジスト層
６                  光素子
６０                素子本体
６１                受発光部
６２                端子
６３                バンプ
１０                積層体
１１                クラッド層
１２                クラッド層
１３                コア層
１４                コア部
１５                側面クラッド部
９                  接着シート
１００              光電気混載基板
１１１、１２１      クラッド層領域
１４１              コア層領域
１４１ａ            コア部領域
１４１ｂ            側面クラッド部領域
１７０              空洞部
１７１              傾斜面（ミラー面）
１７１ａ、１７２ａ  傾斜面上端
１７２              傾斜面
１７２’            直立面
１７３、１７４      直立面
１７３ａ、１７４ａ  直立面上端
１７５              開口部
１７６              反射膜
９００              インプリント用型
９０１              成形面
９０１ａ            第１成形面
９０１ｂ            第２成形面
９０２              成形面
９０３              成形面
９０４              成形面
Ａ                  軸線
θ１                傾斜角度
θ２                傾斜角度
θ３                傾斜角度
θ４                傾斜角度
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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