(57)【要約】【課題】透明性が高く、かつガスバリア性能に優れている、積層バリアフィルムを提供する。【解決手段】基材２２と、前記基材２２上に積層されている無機膜２４とを備え、前記無機膜２４が、Ｓｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物により形成されている、バリアフィルム２６と、前記バリアフィルム２６上に積層されている接着剤層２５と、前記接着剤層２５の前記バリアフィルム２６が積層されている面とは反対側の面に積層されているフィルム２７とを備える、積層バリアフィルム２１。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
前記基材上に積層されている無機膜とを備え、
前記無機膜が、Ｓｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物により形成されている、バリアフィルム。
【請求項２】
請求項１に記載のバリアフィルムと、
前記バリアフィルム上に積層されている接着剤層と、
前記接着剤層の前記バリアフィルムが積層されている面とは反対側の面に積層されているフィルムとを備える、積層バリアフィルム。
【請求項３】
前記接着剤層が、ポリウレタン系接着剤又はアクリル系接着剤により形成されている、請求項２に記載の積層バリアフィルム。
【請求項４】
前記接着剤層のバリアフィルムが積層されている面とは反対側の面に積層されているフィルムが、基材及び前記基材上に積層されている無機膜を有するバリアフィルムである、請求項２又は３に記載の積層バリアフィルム。
【請求項５】
バリアフィルムの製造方法であって、
無機膜を成膜するための基材を用意する工程と、
前記基材上に、Ｓｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物により形成されている無機膜を成膜する工程とを備える、バリアフィルムの製造方法。
【請求項６】
前記基材上に無機膜を成膜する工程が、Ｚｎ及びＳｎの合金により形成されているターゲットと、Ｓｉにより形成されているターゲットとを用い、スパッタリング法により前記基材上に無機膜を成膜する工程である、請求項５に記載のバリアフィルムの製造方法。
【請求項７】
請求項５又は６に記載のバリアフィルムの製造方法によりバリアフィルムを得る工程と、
前記バリアフィルムと同一又は異なるフィルムを用意し、該フィルムを前記バリアフィルムに接着剤を介して貼り合わせることにより、積層バリアフィルムを得る工程とを備える、積層バリアフィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バリアフィルム、積層バリアフィルム及びそれらの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
軽量で自在に曲げることのできるフレキシブルデバイスにおいては、発光素子や光電変換素子等の発光面及び受光面側に用いられる封止部材として、ガスバリアフィルムが使用されている。
【０００３】
例えば、下記特許文献１には、熱可塑性フィルムと、該熱可塑性フィルム上に積層されており、亜鉛スズ酸化物により形成されている無機膜とを備える、ガスバリアフィルムが開示されている。上記亜鉛スズ酸化物中における、亜鉛の質量割合は、５％〜７０％とされている。
【０００４】
下記特許文献２においては、無機膜が成膜された基材と、プラスチックフィルムとがウレタン系接着剤を介して積層されている、積層防湿フィルムが開示されている。特許文献２では、上記ウレタン系接着剤は、グラビア塗工により塗布できるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２０１０−５２４７３２号公報
【特許文献２】特開２０１２−１４８５６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に開示されている、亜鉛スズ酸化物からなる無機膜は屈折率が高い。従って、熱可塑性フィルムやアンカーコート層等の樹脂材料上に上記無機膜が設けられた場合、樹脂材料と無機膜との屈折率差から光学干渉を生じることがあった。すなわち、バリアフィルムの光線透過率が低下しがちであった。
【０００７】
また、特許文献２のように、バリアフィルムの無機膜面に、ウレタン系接着剤をグラビア塗工することにより積層フィルムを得る場合、フィルム間の剥離強度が低く、剥離の原因となることがあった。すなわち、積層フィルムのガスバリア性能が低下することがあった。
【０００８】
本発明の目的は、透明性が高く、かつガスバリア性能に優れている、バリアフィルム、積層バリアフィルム及びそれらの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係るバリアフィルムは、基材と、上記基材上に積層されている無機膜とを備え、上記無機膜が、Ｓｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物により形成されている。
【００１０】
本発明に係る積層バリアフィルムは、上記バリアフィルムと、上記バリアフィルム上に積層されている接着剤層と、上記接着剤層の上記バリアフィルムが積層されている面とは反対側の面に積層されているフィルムとを備える。
【００１１】
本発明に係る積層バリアフィルムでは、好ましくは、上記接着剤層が、ポリウレタン系接着剤又はアクリル系接着剤により形成されている。
【００１２】
本発明に係る積層バリアフィルムでは、好ましくは、上記接着剤層のバリアフィルムが積層されている面とは反対側の面に積層されているフィルムが、基材及び上記基材上に積層されている無機膜を有するバリアフィルムである。
【００１３】
本発明に係るバリアフィルムの製造方法は、バリアフィルムの製造方法であって、無機膜を成膜するための基材を用意する工程と、上記基材上に、Ｓｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物により形成されている無機膜を成膜する工程とを備える。
【００１４】
本発明に係るバリアフィルムの製造方法では、好ましくは、上記基材上に無機膜を成膜する工程が、Ｚｎ及びＳｎの合金により形成されているターゲットと、Ｓｉにより形成されているターゲットとを用い、スパッタリング法により上記基材上に無機膜を成膜する工程である。
【００１５】
本発明に係る積層バリアフィルムの製造方法は、上記バリアフィルムの製造方法によりバリアフィルムを得る工程と、上記バリアフィルムと同一又は異なるフィルムを用意し、該フィルムを上記バリアフィルムに接着剤を介して貼り合わせることにより、積層バリアフィルムを得る工程とを備える。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係るバリアフィルム及び積層バリアフィルムでは、基材上に、Ｓｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物により形成されている無機膜が設けられている。従って、本発明によると、透明性が高く、しかもガスバリア性能に優れたバリアフィルム及び積層バリアフィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係るバリアフィルム及び積層バリアフィルムを作製するために用いられるスパッタリング装置の一例の概略構成図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る積層バリアフィルムの断面図である。
【図３】本発明の第２の実施形態に係る積層バリアフィルムの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の詳細を説明する。
【００１９】
本発明に係るバリアフィルムは、基材と、無機膜とを備える。上記無機膜は、上記基材上に積層されている。上記無機膜は、Ｓｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物により形成されている。従って、本発明に係るバリアフィルムは、ガスバリア性能に優れている。
【００２０】
また、上記Ｓｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物は、比較的低い屈折率を有するため、基材との界面における屈折率差が小さい。すなわち、基材と無機膜との界面での干渉が抑制されるため、十分な光透過性が確保される。従って、本発明に係るバリアフィルムは、透明性にも優れている。
【００２１】
本発明に係る積層バリアフィルムは、上記バリアフィルムと、接着剤層と、上記バリアフィルムと同一又は異なるフィルムとを備える。上記バリアフィルムの無機膜面上に、上記接着剤層及び上記バリアフィルムと同一又は異なるフィルムがこの順に積層されている。
【００２２】
このように本発明においては、Ｓｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物により形成されている無機膜が、接着剤層と接している。上記Ｓｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物により形成されている無機膜は柔軟性が高いため、接着層の耐久性に寄与することができる。すなわち、無機膜の柔軟性により、接着剤層との界面に発生する応力を分散させることができる。よって、本発明においては、フィルム間の剥離の発生を効果的に抑制することができる。すなわち、本発明によれば、耐久性及びガスバリア性に優れている積層バリアフィルムを提供することができる。
【００２３】
以下、本発明のバリアフィルム及び積層バリアフィルムの各層について、さらに詳細に説明する。
【００２４】
（基材）
基材としては、特に限定されないが、透光性を有する樹脂フィルムが好ましい。上記樹脂フィルムを構成する樹脂としては、特に限定されないが、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチルなどのアクリル系樹脂、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、イソフタレート共重合体などのポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂及びポリプロピレン系樹脂などのポリオレフィン系樹脂から選択された少なくとも１種を用いることができる。
【００２５】
透明性や、無機膜との接着性の観点から、樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）またはポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）であることが好ましい。なお、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）や、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）の屈折率は１．６〜１．７５程度である。
【００２６】
上記基材には、他の添加剤が含有されていてもよい。このような添加剤としては、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、フィラー、着色剤、耐候安定剤、潤滑剤、架橋剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤等が挙げられる。
【００２７】
上記基材としての樹脂フィルムは、延伸されていてもよく、未延伸であってもよい。また、基材は、２以上の樹脂フィルムの積層体であってもよい。
【００２８】
上記基材の厚みは、特に限定されないが、通常、５μｍ〜２００μｍ程度である。生産性や取扱性を高めるには、１０μｍ〜１８０μｍが好ましく、３５μｍ〜９０μｍがさらに好ましい。
【００２９】
また、本発明の効果を阻害しない限りにおいて、基材と無機膜との間に有機膜を設けてもよい。このような有機膜を設けた場合、基材表面をより一層平滑にすることができ、しかも無機膜と密着性をより一層高めることができる。
【００３０】
上記有機膜としては、例えば、エチレン−不飽和カルボン酸−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−不飽和カルボン酸−メタクリル酸エステル共重合体、熱可塑性エラストマー、低密度ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、アイオノマー、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ニトロセルロース、酢酸セルロース、シリコーン、ジイソシアネートとポリエーテルポリオールの縮合体であるポリエーテルポリウレタン又はジイソシアネートとポリエステルポリオールの縮合体であるポリエステルポリウレタンなどのポリウレタン系樹脂などが挙げられる。
【００３１】
有機膜の厚みは、無機膜との密着性を高め、平滑性を高めるために、０．１μｍ〜１０μｍであることが好ましい。
【００３２】
（無機膜）
本発明においては、ガスバリア機能を発現させるために、無機膜を上記基材上に積層して用いる。上記無機膜は、Ｓｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物により形成されている。上記無機膜は、基材の片面のみに設けられていてもよいし、基材の両面に設けられてもよい。
【００３３】
複酸化物中におけるＳｉの含有量は、特に限定されないが、２０重量％〜８０重量％であることが好ましく、３０重量％〜７０重量％であることがより好ましい。Ｓｉの含有量が、上記範囲内にある場合、より一層透明性が高く、かつガスバリア性能に優れたバリアフィルム又は積層バリアフィルムを提供することができる。
【００３４】
また、複酸化物中におけるＺｎのＺｎとＳｎとの総量に対する重量比（Ｚｎ／Ｚｎ＋Ｓｎ）は、０．３〜０．９９であることが好ましく、０．５〜０．９であることがより好ましい。上記範囲内にある場合、ガスバリア性をより一層高めることができる。
【００３５】
上記無機膜の膜厚としては特に限定はされないが、３０ｎｍ〜３０００ｎｍであることが好ましく、５０ｎｍ〜１０００ｎｍであることがより好ましい。膜厚が上記範囲にある場合、より一層ガスバリア性能を高めることができる。
【００３６】
無機膜の屈折率としては、特に限定されないが、１．９以下であることが望ましく、１．８以下であることがより望ましい。基材として用いられるポリエチレンナフタレートや、ポリエチレンテレフタレートの屈折率は、１．６〜１．７５程度であるため、無機膜の屈折率を１．９以下にすることにより、基材と無機膜との界面での光の反射をより一層抑制することができる。すなわち、バリアフィルム又は積層バリアフィルムの透明性がより一層高められる。
【００３７】
（接着剤層）
接着剤層を形成する接着剤としては、透明性を有する接着剤であれば、特に限定されない。透明性を有する接着剤としては、例えば、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、一液湿気硬化型変成シリコーン系接着剤、シアノアクリレート系接着剤等の反応性接着剤、クロロプレン系接着剤、塩ビ系接着剤等の溶剤型接着剤、アクリル酸エステル樹脂、スチレン・アクリル酸エステル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチレン・酢酸ビニル樹脂、エチレン・酢酸ビニル・アクリル酸エステル多元共重合樹脂等のエマルジョン系接着剤又はポリアミド系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ＥＶＡ系、アクリル系等の樹脂をベースとしたホットメルト接着剤などが使用可能である。なかでも、塗工等の生産性が良好で、かつ耐久性にも優れる、ポリウレタン系接着剤もしくはアクリル系接着剤が好ましい。なかでも、反応性ポリウレタン系接着剤が特に好ましい。
【００３８】
なお、本発明において、上記接着剤には、耐候性を高めるために紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。使用し得る紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、サリチル酸エステル系等各種タイプのものを挙げることができ、種々の市販品が適用できる。紫外線吸収剤は１種で用いることもでき、２種以上組合せて使用することもできる。
【００３９】
上記紫外線吸収剤の添加量は、接着剤中、通常、０．０１〜２質量％程度であり、０．１〜１質量％であることが好ましい。
【００４０】
さらに、上記紫外線吸収剤以外に、耐候性を高めるために、ヒンダードアミン系光安定化剤を添加してもよい。ヒンダードアミン系光安定化剤は、紫外線吸収剤のようには紫外線を吸収しないが、紫外線吸収剤と併用することによって著しい相乗効果を示す。上記ヒンダードアミン系光安定化剤の添加量は、接着剤中、通常、０．０１〜１質量％程度であり、０．１〜０．５質量％添加することが好ましい。
【００４１】
なお、上記紫外線吸収剤及びヒンダードアミン系光安定化剤の添加に際しては、これらのうち少なくとも一方を添加すればよい。
【００４２】
（フィルム）
本発明に係る積層バリアフィルムにおいては、上記接着剤層の上記バリアフィルムの無機膜面と接する側とは反対側の面に、さらに上記バリアフィルムと同一又は異なるフィルムが積層されていている。
【００４３】
上記バリアフィルムと異なるフィルムである場合においては、例えば、無機膜を保護する目的であれば、耐候性に優れたフッ素系樹脂からなるフィルムが用いられる。もっとも、上述したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）や、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）や、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）などを用いてもよい。
【００４４】
上記バリアフィルムと同一のフィルムである場合においては、積層バリアフィルムのガスバリア性能を、より一層高めることができるため好ましい。また、上記バリアフィルムと同一又は異なるフィルムを複数積層して用いてもよい。
【００４５】
（製造方法）
バリアフィルムの製造方法：
本発明に係るバリアフィルムは、基材上又は表面に有機膜が形成された基材の有機膜上に、無機膜を成膜することにより製造することができる。無機膜の成膜方法については、特に限定されないが、バリア性を高め均一な無機膜を得ることができることから、真空成膜法が好ましい。真空成膜法としては、スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法などの物理的気相成長法（ＰＶＤ）や、プラズマを利用したプラズマＣＶＤ等の化学的気相成長法（ＣＶＤ）が挙げられる。
【００４６】
図１は、本発明に係るバリアフィルム及び積層バリアフィルムを作製するために用いられるスパッタリング装置の一例としての概略構成図である。スパッタリング装置１は、成膜室２を有する。成膜室２内には、基材３を支持することのできる基板ホルダー４、第１のカソード５、及び第２のカソード６が備えられている。第１，第２のカソード５，６には、材料となるターゲットを取り付けることができる。例えば、第１のカソード５に、Ｚｎ及びＳｎの合金を取りつけ、第２のカソード６にＳｉを取りつけることができる。
【００４７】
第１，第２のカソード５，６は、第１，第２のパルス電源７，８にそれぞれ接続されている。これにより、第１，第２のカソード５，６に、パルス電力を供給することができる。
【００４８】
また、成膜室２には、真空ポンプ１１、アルゴンガス供給ライン９及び酸素ガス供給ライン１０が接続されている。これにより、成膜室２内を減圧することができ、成膜室２内にアルゴンガス及び酸素ガスを供給することができる。このように、成膜室２を減圧後、アルゴンガス及び酸素ガスを所定の流量で供給した後、第１，第２のカソード５，６に電力を供給することにより、基材３の表面に無機膜を形成することができる。
【００４９】
積層バリアフィルムの製造方法：
本発明に係る積層バリアフィルムの製造方法は、上記バリアフィルムの製造方法によりバリアフィルムを得る工程と、上記バリアフィルムと同一又は異なるフィルムを用意し、該フィルムを上記バリアフィルムに接着剤を介して貼り合わせることにより、積層バリアフィルムを得る工程とを備える。なお、上記接着剤は、上記バリアフィルムの無機膜面又は基材の表面に塗布される。
【００５０】
また、上記接着剤は、さまざまなコーティング方法により塗布することができる。このようなコーティング方法としては、ロールコート法、グラビアロールコート法、キスコート法等を挙げることができる。なかでも、高速な塗工速度であっても安定した塗工厚みが確保可能なグラビアロールコート法により、グラビア塗工することが好ましい。塗布量については、乾燥重量を基準として０．１〜１５０ｇ／ｍ２の範囲が望ましい。また接着剤層の厚みは、１〜５０μｍが好ましく、３〜３０μｍがより好ましい。
【００５１】
（積層形態）
本発明に係る積層バリアフィルムは、無機膜と接着剤層とが接する限りにおいて、様々な積層形態をとることができる。以下、図面を参照しつつ、本発明の積層バリアフィルムの第１，第２の実施形態に係る積層形態について説明する。なお、本発明は、これらの積層形態に限定されるものではない。
【００５２】
図２は、本発明の第１の実施形態に係る積層バリアフィルムの断面図である。第１の実施形態に係る積層バリアフィルム２１は、バリアフィルム２６、接着剤層２５及びフィルム２７を備える。
【００５３】
バリアフィルム２６は、基材２２、有機膜２３及び無機膜２４を備える。基材２２上には、有機膜２３及び無機膜２４がこの順に積層されている。無機膜２４は、Ｓｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物により形成されている、なお、本実施形態においては、基材２２上に有機膜２３が設けられているが、有機膜２３は設けられなくともよい。
【００５４】
バリアフィルム２６の無機膜２４上には、接着剤層２５が設けられている。接着剤層２５のバリアフィルム２６と接する面とは反対側の面には、フィルム２７が積層されている。
【００５５】
図３は、本発明の第２の実施形態に係る積層バリアフィルムの断面図である。第２の実施形態に係る積層バリアフィルム３１は、２枚のバリアフィルム、すなわち第１，第２のバリアフィルム２６Ａ，２６Ｂと、接着剤層２５とを備える。
【００５６】
第１，第２のバリアフィルム２６Ａ，２６Ｂは、基材２２、有機膜２３及び無機膜２４を備える。基材２２上には、有機膜２３及び無機膜２４がこの順に積層されている。もっとも、第１，第２のバリアフィルム２６Ａ，２６Ｂにおいて、有機膜２３は、設けられなくともよい。
【００５７】
第１のバリアフィルム２６Ａの無機膜２４面側に、接着剤層２５が積層されている。接着剤層２５の上記無機膜２４と接する側の面と反対側の面には、基材２２面が接着剤層２５と接するように、第２のバリアフィルム２６Ｂが積層されている。すなわち、第１のバリアフィルム２６Ａの無機膜２４面と、第２のバリアフィルム２６Ｂの基材２２面が接着剤層２５を隔てて対向するように積層されている。なお、本実施形態においては、２枚のバリアフィルムが積層されているが、３枚以上のバリアフィルムが、接着剤層２５を介して積層されていてもよい。
【００５８】
本発明に係る積層バリアフィルムにおいては、上記第１，第２の実施形態のように、少なくとも１つのバリアフィルムの無機膜面が、接着剤層と接するように積層されており、しかも上記無機膜がＳｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物により形成されている。従って、本発明に係る積層バリアフィルムは、透明性、耐久性及びガスバリア性能に優れている。
【００５９】
次に、具体的な実施例につき説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００６０】
（実施例１）
基材の準備：
バリアフィルムの基材として、ＰＥＮフィルム（帝人デュポン社製、品名「Ｑ６５ＦＡ」、厚み：１００μｍ、屈折率＝１．７５）を用意した。
【００６１】
バリアフィルムの作製：
次に、図１に示す成膜室２内で、準備したＰＥＮフィルムの表面に無機膜を成膜した。具体的には、ＰＥＮフィルムを基板ホルダー４に取り付け、さらに第１のカソード５にＺｎＳｎ合金（重量比Ｚｎ：Ｓｎ＝９５：５）ターゲットを、第２のカソード６にＳｉターゲットを取り付けた。次に、成膜室２を真空ポンプ１１により排気し、５．０×１０−４Ｐａまで減圧した。その後、下記成膜条件Ａに示す条件でスパッタリングし、ＰＥＮフィルム上に無機膜としてＳｉＺｎＳｎＯ膜を形成し、バリアフィルムを作製した。
【００６２】
［成膜条件Ａ］
アルゴンガス流量：５０ｓｃｃｍ，酸素ガス流量：５０ｓｃｃｍ
電源出力：第１のカソード＝５００Ｗ、第２のカソード＝１５００Ｗ
【００６３】
（実施例２）
第１のカソード５にＺｎＳｎ合金（重量比Ｚｎ：Ｓｎ＝７：３）ターゲットを取り付けたこと以外は、実施例１と同様としてバリアフィルムを作製した。
【００６４】
（比較例１）
第１のカソード５にＺｎＳｎ合金（重量比Ｚｎ：Ｓｎ＝７：３）を取り付け、下記成膜条件Ｂに示す条件でスパッタリングすることにより、実施例１で用いたＰＥＮフィルム上に無機膜としてＺｎＳｎＯ膜を形成し、バリアフィルムを作製した。
【００６５】
［成膜条件Ｂ］
アルゴンガス流量：５０ｓｃｃｍ，酸素ガス流量：５０ｓｃｃｍ
電源出力：第１のカソード＝５００Ｗ、第２のカソード＝０Ｗ
【００６６】
（比較例２）
第２のカソード６にＡｌを取り付け、下記成膜条件Ｃに示す条件でスパッタリングし、実施例１で用いたＰＥＮフィルム上に無機膜としてＡｌＯ薄膜を形成し、バリアフィルムを作製した。
【００６７】
［成膜条件Ｃ］
アルゴンガス流量：５０ｓｃｃｍ，酸素ガス流量：５０ｓｃｃｍ
電源出力：第１のカソード＝０Ｗ、第２のカソード＝１５００Ｗ
【００６８】
（評価）
得られたバリアフィルムについて、以下の評価項目について評価を実施した。
【００６９】
（１）水蒸気透過率
得られたバリアフィルムのガスバリア性を評価するために、差圧式透湿度測定装置（ＧＴＲテック社製、品番「ＧＴＲ−３００ＸＡＳＣ」）により、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６  Ａ法（差圧法）に準拠して、温度４０℃、湿度９０％の条件で水蒸気透過率を測定した。
【００７０】
（２）全光線透過率
ガスバリアフィルムの透明性の評価については、全光線透過率をヘイズメーター（東洋精機製作所社製、商品名「ヘイズガード２」）によりＪＩＳ  Ｋ７３６１に準拠して測定した。
【００７１】
（３）屈折率
無機膜の屈折率は、反射分光膜厚計（大塚電子社製、商品名「ＦＥ−３０００」）を用いて測定した。
【００７２】
詳細及び結果を下記の表１に示す。
【００７３】
【表１】
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【００７４】
実施例１，２のバリアフィルムは、Ｓｉ、Ｚｎ及びＳｎの複酸化物よりなる無機膜であるため、比較例１のバリアフィルムに比べて透明性の高いバリアフィルムを得ることができた。
【００７５】
（実施例３）
基材の準備：
バリアフィルムの基材として、ＰＥＴフィルム（帝人デュポン社製、品名「Ｑ６５ＦＡ」、厚み：５０μｍ）を用意した。
【００７６】
有機膜の形成：
次に、用意したＰＥＴフィルム上に、有機膜を形成した。
【００７７】
具体的には、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（Ａ）１００重量部、テトラエトキシシラン（Ｂ）６３重量部、及び水４．９重量部を含む、有機膜形成用組成物に、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン（チバ・スペシャリティーケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」）０．１重量部を加えた後、９Ｗの紫外線ランプを用いて紫外線を１５分間照射することにより予備重合を行った。
【００７８】
予備重合した組成物を、あらかじめ準備した上記ＰＥＴフィルムの一面に塗布し、塗布した組成物に電子線照射装置（ＥＳＩ社製、製品名「ＥＣ３００／１６５／８００」）を用いて、加速電圧１７５ｋＶ、照射線量１５０ｋＧｙの条件で電子線を照射することによって、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランのラジカル重合を行い、ラジカル重合体を形成した。
【００７９】
次に、電子線照射を行った組成物を一面に有するポリエチレンテレフタレートフィルムを４５℃、相対湿度６５％ＲＨの環境下に１時間放置することによって、ラジカル重合体における３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランに由来するメトキシ基とテトラエトキシシランのエトキシ基との加水分解及び脱水縮合反応及びテトラエトキシシランのエトキシ基同士の加水分解及び脱水縮合反応を行い、上記ラジカル重合体の主鎖間を架橋するテトラエトキシシランの脱水縮合物を形成し、有機膜（厚み５μｍ）を得た。
【００８０】
無機膜：
上記有機膜上に、実施例１と同様の方法で、無機膜を成膜し、バリアフィルムを作製した。なお、バリアフィルムは同じものを２枚作製した。
【００８１】
グラビア塗工液の調製：
ウレタン樹脂（三井化学社製、商品名「タケラックＡ１１０２」）と、硬化剤（三井化学社製、商品名「タケラックＡ３０７０」）とを、重量比が１６：１となるように混合した組成物１００重量部に対し、酢酸エチル３０重量部を加えて、グラビア塗工液を調製した。
【００８２】
積層バリアフィルムの作製：
上記グラビア塗工液を、作製したバリアフィルムの無機膜面とは反対側の面にグラビア塗工し、乾燥させることにより、膜厚１０μｍの接着剤層を形成した。上記ウレタン接着剤層を形成したバリアフィルムのウレタン接着剤層面と、作製したもう一枚のバリアフィルムの無機膜面とを貼り合わせることにより積層体を作製した。得られた積層体の無機膜面に、アクリル粘着剤を厚み２５μｍで塗工して接着剤層を形成し、その上に、厚み１００μｍのＥＴＦＥフィルムを貼り合わせて、積層バリアフィルムを得た。
【００８３】
（実施例４）
実施例１ではなく、実施例２と同様の方法で無機膜を成膜したこと、積層バリアフィルムの作製の際に、ウレタン樹脂ではなくアクリル系接着剤を用いて下記の条件でグラビア塗工液を調整し、膜厚１０μｍではなく膜厚２５μｍの接着剤層を形成したこと以外は、実施例３と同様にして、積層バリアフィルムを作製した。
【００８４】
グラビア塗工液の調製：
アクリル接着剤（積水化学工業社製、商品名「ＷＨＤ」）と硬化剤（日本ポリウレタン社製、商品名「コロネートＬ」）とを、重量比が１００：１．５となるように混合した組成物１００重量部に対し、トルエン５重量部、シランカップリング剤（信越化学社製、商品名「ＫＢＭ４０３」）０．５重量部、紫外線吸収剤（アデカ社製、商品名「アデカスタブＬＡ３６」）を０．４重量部加えて、グラビア塗工液を調製した。
【００８５】
（比較例３）
実施例３と同様の方法で、ＰＥＴフィルム上に有機膜を形成した。次に、第１のカソードにＳｉを取り付け、下記成膜条件Ｄに示す条件で、上記有機膜上にスパッタリングすることにより、ＰＥＴフィルム上に無機膜としてＳｉＯｘ薄膜を形成し、バリアフィルムを２枚作製した。
【００８６】
このようにして、２枚のバリアフィルムを作製したこと以外は、実施例３と同様にして積層バリアフィルムを作製した。
【００８７】
［成膜条件Ｄ］
アルゴンガス流量：５０ｓｃｃｍ，酸素ガス流量：５０ｓｃｃｍ
電源出力：第１のカソード＝２０００Ｗ、第２のカソード＝０Ｗ
【００８８】
（比較例４）
実施例１ではなく、比較例１と同様の方法で無機膜を作製したこと以外は、実施例３と同様にして積層バリアフィルムを作製した。
【００８９】
（評価）
得られた積層バリアフィルムについて、以下の評価項目について評価を実施した。
【００９０】
（１）全光線透過率
積層バリアフィルムの透明性の評価については、全光線透過率をヘイズメーター（東洋精機製作所社製、商品名「ヘイズガード２」）によりＪＩＳ  Ｋ７３６１に準拠して測定した。なお、全光線透過率は、初期及び温度８５℃、湿度８５％ＲＨの高温高湿環境下で５００時間後（ＤＨ５００時間後）のサンプルについて測定した。
【００９１】
（２）バリアフィルム剥離強度
バリアフィルム同士間の剥離強度を、ＪＩＳ  Ｋ６８５４−３に準拠して、万能材料試験機（(株)オリエンテック社製、商品名「テンシロンＵＴＡ−５００」）を用いて、試験片幅１５ｍｍ、剥離速度２００ｍｍ／分で、Ｔ型剥離強度を測定した。なお、Ｔ型剥離強度は、初期及び温度８５℃、湿度８５％ＲＨの高温高湿環境下で５００時間後（ＤＨ５００時間後）のサンプルについて測定した。
【００９２】
（３）水蒸気透過率
得られた積層バリアフィルムのガスバリア性を評価するために、差圧式透湿度測定装置（ＧＴＲテック社製、品番「ＧＴＲ−３００ＸＡＳＣ」）により温度４０℃，湿度９０％の条件で水蒸気透過率を測定した。
【００９３】
なお、水蒸気透過率は、初期及び温度８５℃、湿度８５％ＲＨの高温高湿環境下で５００時間後（ＤＨ５００時間後）のサンプルについて測定した。
【００９４】
詳細及び結果を下記の表２に示す。
【００９５】
【表２】
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【符号の説明】
【００９６】
１…スパッタリング装置
２…成膜室
３…基材
４…基板ホルダー
５…第１のカソード
６…第２のカソード
７…第１のパルス電源
８…第２のパルス電源
９…アルゴンガス供給ライン
１０…酸素ガス供給ライン
１１…真空ポンプ
２１，３１…積層バリアフィルム
２２…基材
２３…有機膜
２４…無機膜
２５…接着剤層
２６…バリアフィルム
２６Ａ，２６Ｂ…第１，第２のバリアフィルム
２７…フィルム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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