(57)【要約】      （修正有）【課題】ハウジングの外装扉の内壁にスラリーや洗浄液等が付着することを防止することができる防水カバーを備えた研磨装置を提供する。【解決手段】基板を研磨テーブル上の研磨面に押圧して基板の研磨を行なう研磨部がハウジング内に収容された研磨装置であって、ハウジングの外装扉の内側に、装置外に取り外し可能な防水カバー６を設けた。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を研磨テーブル上の研磨面に押圧して基板の研磨を行なう研磨部がハウジング内に収容された研磨装置であって、
前記ハウジングの外装扉の内側に、装置外に取り外し可能な防水カバーを設けたことを特徴とする研磨装置。
【請求項２】
前記防水カバーは、樹脂材の平板からなることを特徴とする請求項１記載の研磨装置。
【請求項３】
前記外装扉は、前記研磨部のメンテナンスが可能なように前記研磨部に対応した位置に設けられていることを特徴とする請求項１または２記載の研磨装置。
【請求項４】
前記外装扉の内側への前記防水カバーの装着し忘れを防止するインターロック機構を備えていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の研磨装置。
【請求項５】
前記インターロック機構は、前記防水カバーの装着し忘れの状態では、前記外装扉の閉じる動作を妨げるインターロック用レバーを備えていることを特徴とする請求項４記載の研磨装置。
【請求項６】
前記防水カバーの装着し忘れの状態では、前記インターロック用レバーの一部が前記外装扉側に向かって突出していることにより前記外装扉の閉じる動作を妨げることを特徴とする請求項５記載の研磨装置。
【請求項７】
前記インターロック用レバーは、前記防水カバーを装着していく際に防水カバーの下端に押されて回転し、前記外装扉側に向かって突出していた前記インターロック用レバーの一部が前記外装扉側から内側に引っ込むことにより前記外装扉の閉じる動作を許容することを特徴とする請求項６記載の研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ等の基板を研磨テーブル上の研磨面に押圧して基板を研磨する研磨部がハウジング内に収容された研磨装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体デバイスの高集積化・高密度化に伴い、回路の配線がますます微細化し、多層配線の層数も増加している。回路の微細化を図りながら多層配線を実現しようとすると、下側の層の表面凹凸を踏襲しながら段差がより大きくなるので、配線層数が増加するに従って、薄膜形成における段差形状に対する膜被覆性（ステップカバレッジ）が悪くなる。したがって、多層配線にするためには、このステップカバレッジを改善し、然るべき過程で平坦化処理しなければならない。また光リソグラフィの微細化とともに焦点深度が浅くなるため、半導体デバイスの表面の凹凸段差が焦点深度以下に収まるように半導体デバイス表面を平坦化処理する必要がある。
【０００３】
従って、半導体デバイスの製造工程においては、半導体デバイス表面の平坦化技術がますます重要になっている。この平坦化技術のうち、最も重要な技術は、化学的機械研磨（ＣＭＰ（Chemical  Mechanical  Polishing））である。この化学的機械的研磨は、研磨装置を用いて、シリカ（ＳｉＯ２）やセリア（ＣｅＯ２）等の砥粒を含んだ研磨液（スラリー）を研磨パッドに供給しつつ半導体ウエハなどの基板を研磨パッドに摺接させて研磨を行うものである。
【０００４】
上述したＣＭＰプロセスを行う研磨装置は、研磨パッドを有する研磨テーブルと、半導体ウエハ（基板）を保持するためのトップリング又は研磨ヘッド等と称される基板保持装置とを備えている。このような研磨装置を用いて半導体ウエハ（基板）の研磨を行う場合には、基板保持装置により半導体ウエハを保持しつつ、研磨液供給ノズルから研磨液（スラリー）を研磨パッドに供給し、半導体ウエハを研磨パッドの表面（研磨面）に対して所定の圧力で押圧する。このとき、研磨テーブルと基板保持装置とを回転させることにより半導体ウエハが研磨面に摺接し、半導体ウエハの表面が平坦かつ鏡面に研磨される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−５０４３６号公報
【特許文献２】特開２０００−４０６４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
研磨装置は、上述したように、研磨液供給ノズルから研磨パッド上に研磨液（スラリー）を供給しつつ研磨テーブルを回転させ、基板を研磨パッドに押圧することにより、基板を研磨するものであるため、研磨パッド上に供給されたスラリーのミストが周囲に飛散するという問題がある。また、基板の研磨後には研磨パッド上に純水等の洗浄液を供給しつつ研磨テーブルを回転させ、基板を研磨パッドに接触させることにより、水ポリッシングを行ったり、洗浄を行ったりするため、研磨パッド上に供給された洗浄液などのミストが周囲に飛散するという問題がある。このように研磨装置は、スラリーや洗浄液などのミストや水滴が飛散する環境にあるため、研磨装置の全体はハウジングによって覆われている。
【０００７】
上述した研磨装置においては、研磨パッドは消耗品であるために定期的に交換が必要であり、またトップリングもメンブレン（弾性膜）やリテーナリング等の各種消耗品の交換が必要である。また、研磨装置は各種の精密な機器の集合体であるため、機器のメンテナンスが必須となる。そのため、研磨装置のハウジングには、開閉可能な外装扉が複数個設けられている。
【０００８】
しかしながら、外装扉の内壁にはスラリーや洗浄液等が付着しているため、メンテナンスの際に外装扉を開閉するとスラリーや洗浄液等が飛び散り、作業者に付着したり、作業者の足下に落下して作業者の安全性を確保できないという問題点がある。
【０００９】
本発明は、上述の事情に鑑みなされたもので、ハウジングの外装扉の内壁にスラリーや洗浄液等が付着することを防止することができる防水カバーを備えた研磨装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、上記防水カバーの装着し忘れを防止することができるインターロック機構を備えた研磨装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述の目的を達成するため、本発明の研磨装置は、基板を研磨テーブル上の研磨面に押圧して基板の研磨を行なう研磨部がハウジング内に収容された研磨装置であって、前記ハウジングの外装扉の内側に、装置外に取り外し可能な防水カバーを設けたことを特徴とする。
本発明によれば、ハウジングの外装扉の内側に防水カバーを設置したため、外装扉にスラリーや洗浄液等が付着することを防止することができる。したがって、外装扉の開閉時にスラリーや洗浄液等がハウジングの外へ漏出することを防止することができる。
【００１１】
本発明の好ましい態様によれば、前記防水カバーは、樹脂材の平板からなることを特徴とする。
本発明によれば、防水カバーは、矩形状等の平板からなり、塩化ビニール等の強度および耐薬品性に優れた樹脂材から構成されている。
【００１２】
本発明の好ましい態様によれば、前記外装扉は、前記研磨部のメンテナンスが可能なように前記研磨部に対応した位置に設けられていることを特徴とする。
【００１３】
本発明の好ましい態様によれば、前記外装扉の内側への前記防水カバーの装着し忘れを防止するインターロック機構を備えていることを特徴とする。
本発明によれば、防水カバーの装着し忘れを防止するインターロック機構を設けたため、たとえ、メンテナンス時に防水カバーを取り外したとしても、メンテナンス後に防水カバーの装着し忘れがない。
【００１４】
本発明の好ましい態様によれば、前記インターロック機構は、前記防水カバーの装着し忘れの状態では、前記外装扉の閉じる動作を妨げるインターロック用レバーを備えていることを特徴とする。
【００１５】
本発明の好ましい態様によれば、前記防水カバーの装着し忘れの状態では、前記インターロック用レバーの一部が前記外装扉側に向かって突出していることにより前記外装扉の閉じる動作を妨げることを特徴とする。
本発明によれば、防水カバーの装着し忘れがある場合、インターロック用レバーの一部が突き出しているため、外装扉を閉じようとすると、外装扉の内壁の一部がインターロック用レバーの一部に当接してしまい、外装扉をこれ以上閉じることができない。
【００１６】
本発明の好ましい態様によれば、前記インターロック用レバーは、前記防水カバーを装着していく際に防水カバーの下端に押されて回転し、前記外装扉側に向かって突出していた前記インターロック用レバーの一部が前記外装扉側から内側に引っ込むことにより前記外装扉の閉じる動作を許容することを特徴とする。
本発明によれば、防水カバーを装着していくと防水カバーの下端に押されてインターロック用レバーが回転し、外装扉側に向かって突出していたインターロック用レバーの一部が外装扉側から内側に引っ込むことにより、インターロック機構が解除された状態となり、外装扉を閉じることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明は、以下に列挙する効果を奏する。
（１）ハウジングの外装扉の内側に防水カバーを設置したため、外装扉にスラリーや洗浄液等が付着することを防止することができる。したがって、外装扉の開閉時にスラリーや洗浄液等がハウジングの外へ漏出することを防止することができる。
（２）防水カバーの装着し忘れを防止するインターロック機構を設けたため、たとえ、メンテナンス時に防水カバーを取り外したとしても、メンテナンス後に防水カバーの装着し忘れがない。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、本発明に係る研磨装置の全体構成を示す模式的斜視図である。
【図２】図２は、ハウジング内に収容された研磨部の詳細構成を示す斜視図である。
【図３】図３は、ハウジングの要部を示す図であり、ハウジングに設けられた外装扉およびその周囲を示す斜視図である。
【図４】図４は、観音開き式の２枚の外装扉を取り外して、ハウジングの内部を見た状態を示す斜視図である。
【図５】図５は、図４に示す防水カバーの端部を支持する支持部を示す斜視図である。
【図６】図６は、図４に示す防水カバーの装着忘れを防止するインターロック機構を示す斜視図である。
【図７】図７は、図６の要部拡大図である。
【図８】図８は、インターロック機構が解除された状態を示す斜視図である。
【図９】図９は、防水カバーを枠体に装着する際に防水カバーの下端がインターロック用レバーの第１アームの上面に当接した状態を示す斜視図である。
【図１０】図１０は、防水カバーを枠体に装着する際に防水カバーを図９に示す状態から更に下方にスライドさせた状態を示す斜視図である。
【図１１】図１１は、インターロック用レバーの第２アームが支持部材の切り欠きに収容されてインターロック機構が解除された状態（図１０に示す状態）のときに、外装扉を閉じた状態を示す平面図である。
【図１２】図１２は、インターロック用レバーの第２アームが突出していてインターロック機構が動作している状態（図９に示す状態）のときに、外装扉を閉じようとした状態を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明に係る研磨装置の実施形態について図１乃至図１２を参照して詳細に説明する。なお、図１から図１２において、同一または相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
【００２０】
図１は、本発明に係る研磨装置の全体構成を示す模式的斜視図である。図１に示すように、研磨装置の全体は略直方体状のハウジング１によって覆われており、研磨装置の内部は外部環境とは隔離されている。研磨装置の一側端には、半導体ウエハ等の基板をストックするカセットを載置するロード／アンロード部２が設けられている。ロード／アンロード部２には、オープンカセット、ＳＭＩＦ（Standard  Manufacturing  Interface）ポッド、またはＦＯＵＰ（Front  Opening  Unified  Pod）を搭載することができる。ハウジング１の外側面には、ハウジング１内に収容された研磨部（後述する）をメンテナンスするための複数の外装扉３が設置されている。
【００２１】
図２は、ハウジング１内に収容された研磨部２０の詳細構成を示す斜視図である。図２に示すように、研磨部２０は、研磨テーブル２１と、研磨対象物である半導体ウエハ等の基板Ｗを保持して研磨テーブル上の研磨パッドに押圧するトップリング３０とを備えている。研磨テーブル２１は、テーブル軸を介してその下方に配置される研磨テーブル回転モータ（図示せず）に連結されており、テーブル軸の回りに回転可能になっている。研磨テーブル２１の上面には研磨パッド２２が貼付されており、研磨パッド２２の表面が基板Ｗを研磨する研磨面２２ａを構成している。研磨パッドには、ロデール社製のＳＵＢＡ８００、ＩＣ−１０００、ＩＣ−１０００／ＳＵＢＡ４００（二層クロス）等が用いられている。ＳＵＢＡ８００は繊維をウレタン樹脂で固めた不織布である。ＩＣ−１０００は硬質の発泡ポリウレタンであり、その表面に多数の微細な孔を有したパッドであり、パーフォレートパッドとも呼ばれている。研磨テーブル２１の上方には研磨液供給ノズル２３が設置されており、この研磨液供給ノズル２３によって研磨テーブル２１上の研磨パッド２２に研磨液（スラリー）が供給されるようになっている。
【００２２】
トップリング３０は、シャフト３１に接続されており、シャフト３１は、支持アーム３２に対して上下動するようになっている。シャフト３１の上下動により、支持アーム３２に対してトップリング３０の全体を上下動させ位置決めするようになっている。シャフト３１は、研磨ヘッド回転モータ（図示せず）の駆動により回転するようになっている。シャフト３１の回転により、トップリング３０がシャフト３１の回りに回転するようになっている。
【００２３】
トップリング３０は、その下面に半導体ウエハなどの基板Ｗを保持できるようになっている。支持アーム３２はシャフト３３を中心として旋回可能に構成されており、下面に基板Ｗを保持したトップリング３０は、支持アーム３２の旋回により基板の受取位置から研磨テーブル２１の上方に移動可能になっている。トップリング３０は、下面に基板Ｗを保持して基板Ｗを研磨パッド２２の表面（研磨面）２２ａに押圧する。このとき、研磨テーブル２１およびトップリング３０をそれぞれ回転させ、研磨テーブル２１の上方に設けられた研磨液供給ノズル２３から研磨パッド２２上に研磨液（スラリー）を供給する。研磨液には砥粒としてシリカ（ＳｉＯ２）やセリア（ＣｅＯ２）を含んだ研磨液が用いられる。このように、研磨液を研磨パッド２２上に供給しつつ、基板Ｗを研磨パッド２２に押圧して基板Ｗと研磨パッド２２とを相対移動させて基板上の絶縁膜や金属膜等を研磨する。
【００２４】
図２に示すように、研磨装置は、研磨パッド２２をドレッシングするドレッシング装置３５を備えている。ドレッシング装置３５は、ドレッサアーム３６と、ドレッサアーム３６の先端に回転自在に取り付けられたドレッサ３７と、ドレッサアーム３６の他端に連結されるドレッサヘッド３８とを備えている。ドレッサ３７の下部はドレッシング部材３７ａにより構成され、ドレッシング部材３７ａは円形のドレッシング面を有しており、ドレッシング面には硬質な粒子が電着等により固定されている。この硬質な粒子としては、ダイヤモンド粒子やセラミック粒子などが挙げられる。ドレッサアーム３６内には、図示しないモータが内蔵されており、このモータによってドレッサ３７が回転するようになっている。ドレッサヘッド３８はシャフト３９により支持されている。
【００２５】
研磨パッド２２の研磨面２２ａをドレッシングするときは、研磨パッド２２上にドレッシング液を供給しつつ研磨パッド２２を回転させるとともに、モータによりドレッサ３７を回転させ、次いで昇降機構によりドレッサ３７を下降させ、ドレッサ３７の下面のドレッシング部材３７ａを回転する研磨パッド２２の研磨面に摺接させる。その状態で、ドレッサアーム３６を揺動（スイング）させることにより、その先端に位置するドレッサ３７は、研磨パッド２２の研磨面の外周端から中心部まで横切るように移動することができる。この揺動動作により、ドレッシング部材３７ａは研磨パッド２２の研磨面をその中心を含む全体に亘ってドレッシングすることができる。
【００２６】
図２に示すように、研磨装置は、純水等の液体を研磨パッド２２上に吹き付けて研磨パッド２２上の異物を除去するアトマイザ４０を備えている。アトマイザ４０は、研磨パッド２２の上方に配置され、研磨パッド２２の表面（研磨面）２２ａと平行に研磨パッド２２の略半径方向に延びるように配置されている。
【００２７】
図２に示すように構成された研磨部２０においては、研磨中においてはスラリー（研磨液）を研磨パッド２２上に供給しつつ基板Ｗを研磨パッド２２に押圧して基板Ｗの研磨がなされ、研磨後には純水等の洗浄液を研磨パッド２２上に供給しつつ基板Ｗを研磨パッド２２に接触させて基板Ｗの研磨パッド２２上での洗浄がなされる。基板Ｗの洗浄後には、研磨パッド２２の再生のためにドレッシング液を研磨パッド２２上に供給しつつ研磨パッド２２上のドレッシングがなされる。また、研磨パッド２２上の異物を除去するために、アトマイザから液体が研磨パッド２２に吹き付けられる。そのため、研磨部２０においては、スラリー，洗浄液，ドレッシング液等が周囲に飛散し、これらスラリーや洗浄液等が外装扉３（図１参照）の内壁にも飛散する。
【００２８】
そこで、本発明は、外装扉３の内側に防水カバーを設けることにより、外装扉３の内壁にスラリーや洗浄液等の液体が付着することを防止している。
図３は、ハウジング１の要部を示す図であり、ハウジング１に設けられた外装扉３およびその周囲を示す斜視図である。
図３に示すように、図２に示す研磨部２０に対応したハウジング１の箇所には、４つの外装扉３が設置されている。４つの外装扉３は一側端においてヒンジ４によってハウジング１に固定されており、図３に示す例においては、隣接する左右２枚の外装扉３，３は、それぞれ逆方向に回転して手前に開く観音開き式になっている。
【００２９】
図４は、観音開き式の２枚の外装扉３，３を取り外して、ハウジング１の内部を見た状態を示す斜視図である。図４に示すように、２枚の外装扉３，３を取り外すと、外装扉の内側が見えるようになり、図４では研磨テーブル上の研磨パッド２２，トップリングの支持アーム３２，アトマイザ４０等が見えている。ハウジング１の外装扉で覆われていた部分には矩形状の開口部５が形成されており、開口部５の下側半分を覆うように２枚の防水カバー６，７が設置されている。防水カバー６，７は、矩形状の２枚の平板からなり、塩化ビニール等の強度および耐薬品性に優れた樹脂材から構成されている。図４においては、防水カバーは２枚に分割された例が示されているが、２枚の防水カバー６，７が一体化された１枚の防水カバーでもよい。防水カバー６，７の前面には、防水カバー６，７の着脱時に把持するための把手６ａ，７ａが設けられている。
【００３０】
図５は、図４に示す防水カバーの端部を支持する支持部を示す斜視図である。図５に示すように、防水カバー６の側端部はコ字形断面を有する垂直方向に延びる枠体８によって支持されている。枠体８はハウジング１の側壁に固定されている（図示せず）。防水カバー６の下端部は、同様にコ字形断面を有する水平方向に延びる枠体（図示せず）によって支持されている。したがって、防水カバー６は、枠体８の内側の溝８ｇに嵌め込んで下方にスライドさせることにより枠体８に装着でき、逆に、防水カバー６は上方にスライドさせて枠体８から取り外すことができる。防水カバー７も同様に枠体によって着脱可能に支持されている（図示せず）。なお、２枚の防水カバー６，７が隣接する合わせ目部分の背面側には、合わせ目部分を支持する支持板が設置されている（図示せず）。
【００３１】
図４に示すように、研磨部２０にある外装扉３の内側に防水カバー６，７を設けることにより、外装扉３の内壁にスラリーや洗浄液等が付着することが防止できる。
しかしながら、研磨部２０のメンテナンス時に防水カバー６，７を装置外に取り外し、メンテナンスが完了したら防水カバー６，７を装着する必要があるが、防水カバー６，７を装着し忘れる場合がある。その場合には、次の研磨工程において外装扉３の内壁にスラリーや洗浄液等が付着してしまうことになる。
【００３２】
そこで、本発明は、ハウジング１の開口部５に防水カバー６，７が装着されている場合には外装扉３を閉じることができるが、防水カバー６，７が装着されていない場合には外装扉３を閉じることができないようにし、防水カバー６，７の装着し忘れを防止するインターロック機構を設けている。
【００３３】
図６は、図４に示す防水カバー６，７の装着し忘れを防止するインターロック機構を示す斜視図である。図７は、図６の要部拡大図である。図８は、インターロック機構が解除された状態を示す斜視図である。
図６に示すように、仮想線（二点鎖線）で示す防水カバー６の前方にはインターロック機構１０が設置されている。図６では、防水カバー６が実際には装着されていないときのインターロック機構１０の状態を図示しているため、防水カバー６は仮想線（二点鎖線）で示している。図６に示すように、インターロック機構１０は、ハウジング１に形成された開口部５の周囲のハウジング側壁１ａに取り付けられた支持部材１１と、支持部材１１に回転可能に支持されたインターロック用レバー１２とから構成されている。
【００３４】
図７に示すように、支持部材１１は、防水カバー６の前方において防水カバー６と平行に延びていてハウジング側壁１ａに取り付けられている取付部１１ａと、取付部１１ａから防水カバー６の反対側（防水カバー６の前方側）に折曲されてインターロック用レバー１２を支持する支持部１１ｂとを備えている。支持部１１ｂは取付部１１ａに対して直交するように折曲されている。インターロック用レバー１２は、概略Ｌ字状の形状を有し、支持部１１ｂに設けられた支持軸１１ｃに回転可能に支持されている。すなわち、支持軸１１ｃは支持部１１ｂの側面から突出するように設けられており、インターロック用レバー１２は支持軸１１ｃに嵌合されるとともに支持部１１ｂの側面に接触することにより支持軸１１ｃに回転可能に支持されている。支持軸１１ｃには止め輪１３が固定されており、インターロック用レバー１２が支持軸１１ｃから抜け落ちないように抜け止めがなされている。Ｌ字状のインターロック用レバー１２は、前記支持軸１１ｃによって支持されるとともに支持部１１ｂに沿って延びている第１アーム１２ａと、第１アーム１２ａから９０度折曲されて取付部１１ａと平行に延びている第２アーム１２ｂとから構成されている。第２アーム１２ｂには、樹脂材等からなる当て板１５が貼着されている。
【００３５】
一方、インターロック用レバー１２の第１アーム１２ａの直上には、支持部１１ｂの端部を切り起こすことにより形成されたストッパ１４が設けられており、ストッパ１４がインターロック用レバー１２の第１アーム１２ａに当接することにより、インターロック用レバー１２は図７に示す状態から時計方向には回転できるが、反時計方向には回転できないようになっている。また、支持部１１ｂには、インターロック用レバー１２の第１アーム１２ａの上方に、ストッパ１４と反対側で切り欠き１６が形成されている。
【００３６】
図６および図７に示すように構成されたインターロック機構１０において、防水カバー６を枠体８の内側の溝８ｇ（図５参照）に嵌め込んで防水カバー６を溝８ｇに沿って下方にスライドさせることにより防水カバー６を装着する際に、防水カバー６の下端はインターロック用レバー１２の第１アーム１２ａの上面に当接する。防水カバー６の下端がインターロック用レバー１２の第１アーム１２ａに当接した後に防水カバー６を更に下方にスライドさせていくと、インターロック用レバー１２は矢印で示すように時計方向に回転し始める。インターロック用レバー１２は防水カバー６の下降につれて時計方向の回転を続け、防水カバー６の枠体８への装着が完了する際には、図８に示すように、インターロック用レバー１２の第２アーム１２ｂは切り欠き１６内に収容されるようになる。なお、インターロック用レバー１２は、防水カバー６を取り外すと第２アーム１２ｂの自重で反時計方向に回転して図７に示す状態に戻る。
【００３７】
一方、防水カバー６の装着し忘れがあった場合には、インターロック用レバー１２は回転することなく図７に示す状態で留まる。したがって、外装扉３を閉じようとすると、図７に示すように、インターロック用レバー１２の第２アーム１２ｂが外側に向かって突出しているため、外装扉３の内壁が第２アーム１２ｂに当接してしまい、外装扉３を閉じることができない。すなわち、インターロック用レバー１２の第２アーム１２ｂは、防水カバー６を装着していない場合には外装扉３を閉じられないようにして防水カバー６の装着し忘れを防止するインターロック機構として機能する。
【００３８】
図９乃至図１２は、防水カバーの装着し忘れを防止するインターロック機構１０の動作を示す図である。
図９は、防水カバー６を枠体８に装着する際に防水カバー６の下端６Ｌがインターロック用レバー１２の第１アーム１２ａの上面に当接した状態を示す斜視図である。
防水カバー６を枠体８の溝８ｇ（図５参照）に嵌め込んで防水カバー６を下方にスライドさせていくと、図９に示すように、防水カバー６の下端６Ｌはインターロック用レバー１２の第１アーム１２ａの上面に当接する。
【００３９】
図１０は、防水カバー６を枠体８に装着する際に防水カバー６を図９に示す状態から更に下方にスライドさせた状態を示す斜視図である。
防水カバー６を図９に示す状態から更に下方にスライドさせると、図１０に示すように、インターロック用レバー１２は防水カバー６に押されて時計方向に回転し、第１アーム１２ａの上面のエッジ部１２ｅが防水カバー６の前面に接触した状態になり、第２アーム１２ｂは支持部材１１に形成された切り欠き１６に収容される。
【００４０】
図１１は、インターロック用レバー１２の第２アーム１２ｂが支持部材１１の切り欠き１６に収容され、第２アーム１２ｂのインターロック機構が解除された状態（図１０に示す状態）のときに、外装扉３を閉じた状態を示す平面図である。
防水カバー６の装着が完了した場合、図１１に示すように、インターロック用レバー１２の第２アーム１２ｂが支持部材１１の切り欠き１６に収容されているため、第２アーム１２ｂは内側に引っ込んだ状態にある。したがって、図１１に示すように、外装扉３を閉じてもインターロック用レバー１２の第２アーム１２ｂが外装扉３の内壁に接触することがない。
【００４１】
図１２は、インターロック用レバー１２の第２アーム１２ｂが突出していてインターロック機構が動作している状態（図９に示す状態）のときに、外装扉３を閉じようとした状態を示す平面図である。
防水カバー６の枠体８の装着し忘れがある場合、図１２に示すように、インターロック用レバー１２の第２アーム１２ｂが支持部材１１の切り欠き１６に収容されないで突き出しているため、外装扉３を閉じようとすると、外装扉３の内壁の一部３ａがインターロック用レバー１２の第２アーム１２ｂに当接してしまい、外装扉３をこれ以上閉じることができない。したがって、外装扉３は、図１２に示すように、半開きの状態となる。
【００４２】
ハウジング１には、外装扉３が完全に閉じたことを検知して検知信号を研磨装置の制御部に送信する検知部（図示せず）が設けられており、研磨装置の制御部は、前記検知部から検知信号を受信しない限り研磨装置の研磨部２０を作動させることがないように設定されている。したがって、防水カバーの装着し忘れがあった状態で研磨部２０が研磨工程を開始することはない。
【００４３】
これまで本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、その技術思想の範囲内において、種々の異なる形態で実施されてよいことは勿論である。
【符号の説明】
【００４４】
１  ハウジング
１ａ  ハウジング側壁
２  ロード／アンロード部
３  外装扉
３ａ  内壁の一部
４  ヒンジ
５  開口部
６  防水カバー
６ａ  把手
６Ｌ  下端
７  防水カバー
７ａ  把手
８  枠体
８ｇ  溝
１０  インターロック機構
１１  支持部材
１１ａ  取付部
１１ｂ  支持部
１１ｃ  支持軸
１２  インターロック用レバー
１２ａ  第１アーム
１２ｂ  第２アーム
１２ｅ  エッジ部
１３  止め輪
１４  ストッパ
１５  当て板
１６  切り欠き
２０  研磨部
２１  研磨テーブル
２２  研磨パッド
２２ａ  研磨面
２３  研磨液供給ノズル
２４  シャフト
３０  トップリング
３１  シャフト
３２  支持アーム
３５  ドレッシング装置
３６  ドレッサアーム
３７  ドレッサ
３７ａ  ドレッシング部材
３８  ドレッサヘッド
３９  シャフト
４０  アトマイザ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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