(57)【要約】【課題】表面に付着した残留インクを除去するため、長期にわたってノズル面の摺擦を行った場合にも、短時間で残留インクを除去することが可能で、高耐久なノズルプレートを提供することを目的とする。【解決手段】液滴を吐出するノズル穴が形成されたノズル基材の液滴吐出側の面にパーフルオロポリエーテル骨格を分子中に含む化合物からなる層が形成されたノズルプレートであって、前記ノズルプレートの表面をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）測定したときに観測される、５２８〜５４０ｅＶにおけるＯ原子由来のピークのうち、５２８〜５３４ｅＶのピークをピーク２、５３４〜５４０ｅＶのピークをピーク１とすると、ピーク１の面積／ピーク２の面積が０．３５〜０．４５であることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液滴を吐出するノズル穴が形成されたノズル基材の液滴吐出側の面にパーフルオロポリエーテル骨格を分子中に含む化合物からなる層が形成されたノズルプレートであって、
前記ノズルプレートの表面をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）測定したときに観測される、５２８〜５４０ｅＶにおけるＯ原子由来のピークのうち、５２８〜５３４ｅＶのピークをピーク２、５３４〜５４０ｅＶのピークをピーク１とすると、ピーク１の面積／ピーク２の面積が０．３５〜０．４５であることを特徴とするノズルプレート。
【請求項２】
前記ノズルプレートの表面をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）測定したときに観測される、２８２〜２９６ｅＶにおけるＣ原子由来のピークのうち、２８２〜２９０ｅＶのピークをピーク４、２９０〜２９６ｅＶのピークをピーク３とすると、ピーク３の面積／ピーク４の面積が２．５〜３．５であることを特徴とする請求項１に記載のノズルプレート。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のノズルプレートを備えることを特徴とする液体吐出ヘッド。
【請求項４】
請求項３に記載の液体吐出ヘッドを備えることを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項５】
フッ素系界面活性剤を含み、静的表面張力が３０×１０−３Ｎ／ｍ以下であるインクを備えることを特徴とする請求項４に記載のインクジェット記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ノズルプレート、液体吐出ヘッド及びインクジェット記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、インクジェット記録装置では、インクジェットヘッドとして、インク流路内のインクを加圧する圧力発生手段として圧電素子を用いてインク流路の壁面を形成する振動板を変形させ、インク流路内容積を変化させてインク滴を吐出させるいわゆるピエゾ型のものが知られている。また、発熱抵抗体を用いてインク流路内でインクを加熱して気泡を発生させるいわゆるサーマル型のもの、インク流路の壁面を形成する振動板と電極とを対向配置し、振動板と電極との間に発生させる静電力によって振動板を変形させることで、インク流路内容積を変化させインク滴を吐出させる静電型のものなども知られている。
【０００３】
一方、インクジェット記録方法では、画像解像度の向上を目的とし、高浸透性を有するインクがしばしば使用されている。しかし、高浸透性のインクは表面張力が低いことから非常に濡れやすく、インクジェットヘッド（液体吐出ヘッド）のノズル表面を汚染しやすいという問題があった。
【０００４】
特許文献１では、インクジェット記録用水性インクについて、インクジェットヘッドのノズル面に対する前進接触角や後退接触角を制御し、安定的に噴射させる試みがなされている。さらに特許文献１では、インクジェットヘッドのノズル面に、例えばポリイミド樹脂を用いた撥水性膜が設けられていることが開示されている。
【０００５】
また特許文献２では、ノズル基材の液滴吐出面側に撥水層が形成されたノズル形成部材を備えたインクジェットヘッドが開示されており、撥水層は低分子量の分子が多い層と高分子量の分子が多い層の両方がノズル形成部材の表面に露出した状態で形成されていることが開示されている。これにより、ノズル形成部材の撥水層の耐久性及び撥水性のいずれも両立して向上させる試みがなされている。
【０００６】
これらを鑑み、高浸透性のインクを用いた場合でも、インクジェットヘッドのノズル表面の汚染を抑制し、さらにノズル基材の液滴吐出面側における撥水層の耐久性及び撥水性を向上させることができるインクジェットヘッドやノズルプレートが望まれていた。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。すなわち、本発明は、表面に付着した残留インクを除去するため、長期にわたってノズル面の摺擦を行った場合にも、短時間で残留インクを除去することが可能で、高耐久なノズルプレートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明は、液滴を吐出するノズル穴が形成されたノズル基材の液滴吐出側の面にパーフルオロポリエーテル骨格を分子中に含む化合物からなる層が形成されたノズルプレートであって、前記ノズルプレートの表面をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）測定したときに観測される、５２８〜５４０ｅＶにおけるＯ原子由来のピークのうち、５２８〜５３４ｅＶのピークをピーク２、５３４〜５４０ｅＶのピークをピーク１とすると、ピーク１の面積／ピーク２の面積が０．３５〜０．４５であることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、表面に付着した残留インクを除去するため、長期にわたってノズル面の摺擦を行った場合にも、短時間で残留インクを除去することが可能で、高耐久なノズルプレートを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のノズルプレートの一例を示す概略図（ａ）及び断面概略図（ｂ）である。
【図２】本発明のノズルプレート製造工程の一例を示す図である。
【図３】本発明の液体吐出ヘッドの一例を示す断面図である。
【図４】本発明のインクジェット記録装置の一例を示す図である。
【図５】本発明のインクジェット記録装置の一例を示す断面図である。
【図６】ＸＰＳ測定結果の一例を示すスペクトル図である。
【図７】ＸＰＳ測定結果の他の例を示すスペクトル図である。
【図８】ワイパーとノズルプレートの一例を示す概略図である。
【図９】ワイピングの一例を示す概略図である。
【図１０】インク引け時間の測定方法の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明は、液滴を吐出するノズル穴が形成されたノズル基材の液滴吐出側の面にパーフルオロポリエーテル骨格を分子中に含む化合物からなる層が形成されたノズルプレートであって、前記ノズルプレートの表面をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）測定したときに観測される、５２８〜５４０ｅＶにおけるＯ原子由来のピークのうち、５２８〜５３４ｅＶのピークをピーク２、５３４〜５４０ｅＶのピークをピーク１とすると、ピーク１の面積／ピーク２の面積が０．３５〜０．４５であることを特徴とする。
【００１２】
以下、本発明に係るノズルプレート、液体吐出ヘッド及びインクジェット記録装置について図面を参照しながら説明する。なお、本発明は以下に示す実施形態に限定されるものではなく、他の実施形態、追加、修正、削除など、当業者が想到することができる範囲内で変更することができ、いずれの態様においても本発明の作用・効果を奏する限り、本発明の範囲に含まれるものである。
【００１３】
（ノズルプレート）
図１は、本発明のノズルプレート２の一例を示す図である。図１（ａ）に示されるように、ノズルプレート２は複数のノズル穴１を有している。ノズル穴１の内部形状（内側形状）は、特に制限されるわけではないが、例えばホーン形状（略円柱形状又は略円錘台形状でもよい。）に形成することができる。ノズル穴１の径はインク滴出口側の直径で、１０〜１００μｍであることが好ましい。また、各列のノズルピッチは、例えば１５０ｄｐｉとすることができる。
【００１４】
図１のノズル穴１の拡大断面図に示されるように、ダレ幅１０、ダレ高さ１１を有する形状であってもよい。この場合、ダレ幅×ダレ高さ／２をダレ量と定義することができ、ダレ量が小さいことが好ましい。なお、図１（ａ）では撥インク層４は省略されている。
【００１５】
図１（ｂ）に示されるように、ノズルプレート２は、液滴を吐出するノズル穴１が形成されたノズル基材３の液滴吐出側の面に、パーフルオロポリエーテル骨格を分子中に含む化合物からなる層（以下、撥インク層４と称する）が形成されている。図に示されるように、撥インク層４はノズル基材３のインク吐出面側に形成されている。
【００１６】
ノズル基材３としては、ステンレスを用いることができるが、これに限られるものではない。例えば、Ａｌ、Ｂｉ、Ｃｒ、ＩｎＳｎ、ＩＴＯ、Ｎｂ、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｉＣｒ、Ｓｉ、ＳｉＯ２、Ｓｎ、Ｔａ２Ｏ５、Ｔｉ、Ｗ、ＺＡＯ（ＺｎＯ＋Ａｌ２Ｏ３）、Ｚｎやこれらを基材上に成膜したもの等をノズル基材３として用いることができる。
【００１７】
撥インク層４は、パーフルオロポリエーテル（以下、ＰＦＰＥと称することがある）骨格を分子中に含む化合物からなる層である。
前記パーフルオロポリエーテルとしては、公知のものを用いることができ、特に制限されるものではないが、例えばkrytoxFSL（Dupont社製）、krytoxFSH（Dupont社製）、FomblinZ（ソルベイソレクシス社製）、FLUOROLINKS10（ソルベイソレクシス社製）、FLUOROLINKC10（ソルベイソレクシス社製）、モレスコホスファロールＡ２０Ｈ（（株）松村石油研究所製）、モレスコホスファロールADOH（（株）松村石油研究所製）、モレスコホスファロールDDOH（（株）松村石油研究所製）、フロロサーフFG5010（フロロテクノロジー社製）、フロロサーフFG5020（フロロテクノロジー社製）、フロロサーフFG5060（フロロテクノロジー社製）、フロロサーフFG5070（フロロテクノロジー社製）などが挙げられる。
【００１８】
撥インク層４の平均膜厚としては、５〜３０ｎｍが好ましい。５ｎｍ以上とすることで、撥インク層により表面が十分に被覆され、膜に欠陥孔が発生することを防止し、好適な撥インク性が得られる。３０ｎｍ以下とすることで、部分的に厚くなった箇所がワイピングにより脱落して異物となることが回避され、良好に用いられる。
【００１９】
＜ノズルプレートの製造工程＞
図２に本発明のノズルプレートの製造工程の一例を示す。図２では、上流工程、前処理工程、撥インク層の成膜工程、後処理工程、下流工程が示されている。以下、具体例を挙げながら説明する。ノズル基材３として、ステンレスノズルプレートを例に挙げて説明しているが、これに限られるものではない。
【００２０】
−上流工程−
上流工程とは、ノズル基材３の表面、すなわち、インクを吐出する面である吐出面を研磨する工程である。
【００２１】
ノズル穴１を形成したステンレスノズルプレートの吐出面側表面を例えば超精密揺動型片面ポリンシングマシン（ＣＭＰ研磨装置、ＥＢＡＲＡ社製）にて、ポリウレタンパッドでステンレスノズルプレートの表面を１０ｋＰａの圧力で押さえながら、ＰＯＬＩＰＬＡ１０３（ＦＵＪＩＭＩ社製）を純水で４倍希釈（体積比は、ＰＯＬＩＰＬＡ１０３：純水＝１：３）したものを用い、ステンレスノズルプレートを５ｒｐｍで回転させ研磨する。このとき、吐出面の表面粗さＲａが０．１μｍ以下であることが好ましい。
【００２２】
ノズル基材３の吐出面の表面粗さＲａの測定方法は、例えば次のように求めることができる。表面粗さＲａの測定方法としては、ＪＩＳ  ０６０１に従って測定することが可能であり、例えば触針式表面形状測定装置Ｄｅｋｔａｋ１５０（アルバック社製）を用いて測定することができる。
表面粗さＲａを調整するためには、例えば、ポリウレタンパッドでプレート表面を押さえる際の圧力、ポリウレタンパッドを回転させる際の回転速度（ｒｐｍ：１分間に回転させる回数）、研磨液の流量、研磨時間等を変えることにより調整することが可能である。
【００２３】
−前処理工程−
前処理工程とは、表面を研磨したノズル基材３の処理であり、超音波洗浄する工程である。超音波以外にもスクラブ洗浄・シャワー洗浄（高圧スプレー洗浄・超音波シャワー洗浄）・浸漬洗浄（流水洗浄・噴流洗浄・バブリング洗浄）・蒸気洗浄などのウェット洗浄を行うことも可能である。
【００２４】
研磨後のステンレスノズルプレートは、研磨された表面が乾燥しないよう、ウェット環境下で有機溶剤による超音波洗浄にかける。ウェット環境としては、湿度５０％以上とすることが、乾燥防止のために好ましい。
【００２５】
有機溶剤には、アセトン、エタノール、イソプロパノールなどのアルコールや、ノベック（住友３Ｍ社製）、バートレル（Ｄｕｐｏｎｔ社製）、ガルデン（ソルベイソレクシス社製）などのハイドロフルオロエーテルなどいずれも使用可能である。
【００２６】
−撥インク層の成膜工程−
撥インク層４の成膜工程は次の通りである。まず、撥インク層４を形成するためのディップ液を調整する。前記の前処理を行った後のノズル基材３の表面、すなわち、インクを吐出する面である吐出面をプラズマ処理する。プラズマ処理以外にも真空洗浄（イオンビーム洗浄）・常圧洗浄（ＵＶオゾン洗浄・アイススクラバ洗浄・レーザ洗浄）などのドライ洗浄を行うことも可能である。
その後、ノズル基材３に、調整したディップ液をディッピング法に塗布する。常温（約２５度）に放置した後、加熱し、余剰パーフルオロポリエーテルを除去するための超音波洗浄を行う。撥インク層４において、パーフルオロポリエーテルの膜厚は単分子層レベルに整えられていることが好ましい。
【００２７】
撥インク層４のディップ液としては、パーフルオロポリエーテル誘導体をフッ素系溶媒に１重量％以下に希釈したものを用いることができる。パーフルオロポリエーテル誘導体は、末端に極性基を有しているものが好ましい。ここでいう極性基は、−ＯＨ、Ｃ＝Ｏ、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ２、−ＮＯ２、−ＮＨ３＋、−ＣＮなどが挙げられる。
フッ素系溶媒としては、ノベック（住友３Ｍ社製）、バートレル（Dupont社製）、ガルデン（ソルベイソレクシス社製）などのハイドロフルオロエーテルが挙げられる。
【００２８】
更に、ステンレスノズルプレートの吐出面を、例えばプラズマ処理装置ＰＤＣ−５１０（ヤマト科学社製）にて５００Ｗ、０．００１２ｇ／ｓで１分、酸素プラズマ処理を実施する。
【００２９】
撥インク層４の成膜は、例えば溶液中にステンレスノズルプレートを浸漬し、約３ｍｍ／ｓｅｃで引き上げ、続いて常温環境下で１０ｍｉｎ程度自然乾燥し、さらに１００℃で５時間加熱処理し定着する方法が挙げられる。加熱温度や加熱時間は目的に応じて変更することができるが、詳細は後述する。
また、ステンレスノズルプレートの吐出面の表面に過剰に付着したパーフルオロポリエーテルは、前記フッ素系溶媒中で、例えば５分間、超音波洗浄することで除去できる。
【００３０】
−後処理工程−
後処理工程は次の通りである。撥インク層４の表面を保護するため、ラミネート材で吐出面を覆い（ラミネート加工を行い）、ノズル基材３の裏面、すなわち吐出面と反対側の面をプラズマ処理する。
【００３１】
上記のようにして得られたノズルプレートは、ノズル面をプラスチックテープで保護し、テープで保護した状態で、プラズマクリーナＰＤＣ−５１０（ヤマト科学社製）にて酸素プラズマを照射し（０．００１２ｇ／ｓ、１分間）、逆スパッタすることで液室面及びノズル穴の内壁に付着した撥インク層を除去する。
テープとしては、例えば、半導体向けハイクリーン粘着プラスチップテープであるイクロステープ（三井化学社製）を用いることが好ましい。
【００３２】
−下流工程−
下流工程は必要に応じて行われる工程であり、下流工程はノズル基材３と、液室を構成する部材等とを接着し、加熱により接着力を強める工程である。
【００３３】
上記の後処理工程で得られたノズルプレートは下流工程の接着工程にて、流路板と低温硬化型エポキシ系接着剤等を用いて接着する。接着状態を長期に維持するためには加熱・圧着して接着するのが好ましい。加熱温度としては８０℃以下とすることが、熱による部材の疲労を回避するために好ましく、加熱・圧着時間としては２〜４時間であることが、生産性の面で好ましい。
【００３４】
用いる接着剤としては、低温硬化型エポキシ系接着剤等が挙げられる。好ましくは、常温硬化タイプとして、スコッチ・ウェルド二液エポキシ室温硬化型接着剤ＤＰ−４６０ＥＧ（住友３Ｍ社製）がある。常温で硬化せず６０〜１００℃で硬化開始するタイプの接着剤には、例えばＡＥ９０１シリーズ（味の素ファインテクノ社製）が挙げられる。
【００３５】
＜Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）測定＞
本発明において、パーフルオロポリエーテル骨格を分子中に含む化合物からなる層の表面をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）測定（以下、ＸＰＳ測定と称することがある）した場合におけるピーク面積比が所定の要件を満たすことを要する。以下に詳細を説明する。
【００３６】
ＸＰＳ測定は、超高真空中で試料にＸ線を照射し、放出される光電子のエネルギーをエネルギーアナライザーで測定する分析法として知られている。試料中の電子は核から一定の強さの束縛を受けており、束縛電子の結合エネルギーは照射Ｘ線のエネルギーと、Ｘ線を当てたときに放出される光電子の運動エネルギーとから算出できる。ここで、束縛電子の結合エネルギーは元素固有のものとなるので、光電子のエネルギースペクトルを解析することで元素の種類、存在量、化学結合状態などに関する情報を得ることができる。
【００３７】
ここで図６、図７にＸＰＳ測定した場合のスペクトルの例を示す。図６、図７はパーフルオロポリエーテルを成膜したノズルプレートの表面についてＸＰＳ測定をした結果の例である。図６において、５２８〜５４０ｅＶに現れるピークは、Ｏ原子由来のピークを表す。このとき、Ｏ原子由来におけるピークのうち、５２８〜５３４ｅＶのピークをピーク２とし、５３４〜５４０ｅＶのピークをピーク１と称する。
また、図７において、２８２〜２９６ｅＶに現れるピークは、Ｃ原子由来のピークを表す。このとき、Ｃ原子由来におけるピークのうち、２８２〜２９０ｅＶのピークをピーク４とし、２９０〜２９６ｅＶのピークをピーク３と称する。
【００３８】
次に、ＸＰＳ測定によって得られたスペクトルにおけるピーク面積を求める方法について説明する。本発明において、ＸＰＳ測定によって得られたスペクトルにおけるピーク面積の求め方は、完全自動Ｘ線光電子分光装置Ｋ−ａｌｐｈａ（サーモサイエンティフィックス社製）によりピーク面積を求める。なお、図６の比較例１を例に挙げると、破線で示されるように、ピークの立ち上がり位置５２８ｅＶと５３８ｅＶとを直線（ベースライン）で結び、ベースラインとピーク１、ピーク２が囲む面積を積分により求め、ピーク面積を求めている。２８２〜２９６ｅＶについても、ベースラインを決め、ベースラインとピーク３、ピーク４が囲む面積を積分により求め、ピーク面積を求めている。
【００３９】
本発明においては、ピーク１の面積／ピーク２の面積が、０．３５〜０．４５であることを要する。０．３５以上とすることで、インクによりノズル表面が汚染することがなく、またインク引け時間を短くすることが可能となる。０．４５以下とすることで、ワイピングに対する劣化が防止され、インクによるノズル表面の汚染を回避することが可能である。
【００４０】
また、本発明において、ピーク３の面積／ピーク４の面積が、２．５〜３．５であることが好ましい。２．５以上とすることで、インクによりノズル表面が汚染されることを防止でき、３．５以下とすることで、ワイピングに対する劣化が防止され、インクによるノズル表面の汚染を回避することが可能である。
【００４１】
ピーク面積の制御は、特に制限されるものではないが、上記の撥インク層４の成膜工程において、撥インク層形成用のディップ液をディップした後の加熱温度や加熱時間を変化させる方法が挙げられる。
加熱温度は、撥インク層４の成膜に用いられる溶媒によって好適な範囲が変わるため、一概にはいえないが、８０℃〜２５０℃が好ましく、より好ましくは１００℃〜１８０℃である。８０℃未満であると、溶媒が撥インク層４に残留してしまい、充分な撥インク性が得られないことがある。また、２５０℃より大きいと、パーフルオロポリエーテルが分解してしまい、充分な撥インク性が得られないことがある。
また、加熱時間は、撥インク層４の成膜に用いられる溶媒や加熱温度によって変更が可能であり、一概にはいえないが、０．５〜１．０時間が好ましい。
【００４２】
（液体吐出ヘッド）
次に本発明のノズルプレートを用いた液体吐出ヘッドを図３に基づいて説明する。図３の液体吐出ヘッドは、流路ユニット３１とアクチュエータユニット３２をフレーム３３を介して一体に固定して構成されている。流路ユニット３１は、ノズルプレート２、チャンバープレート３５、及び振動板３６を積層し、アクチュエータユニット３２の圧力発生手段である個々の圧電振動子３７の伸縮により圧力室３８を縮小、膨張させてインク滴を吐出するように構成されている。
【００４３】
ノズルプレート２には圧力室３８に連通するノズル穴１が穿設されており、またチャンバープレート３５には圧力室３８、流体抵抗３４が形成されている。
振動板３６は、圧電振動子３７の先端に当接する凸部４２と、弾性変形可能なダイヤフラム部４３と各圧力室３８に対向するように設けられている。またフレーム３３に設けられた共通液室４１からの液供給口４５が形成されている。また共通液室４１に面する領域にも上述のダイヤフラム部４３と同様のダイヤフラム部４４が構成されている。
【００４４】
流路ユニット３１は、チャンバープレート３５と前に説明したノズルプレート２と振動板３６を接合したものである。チャンバープレート３５は、例えばステンレス（ＳＵＳ）で形成することが可能であるが、これに限られるものではない。振動板３６は、圧延製金属板４８に、圧電振動子３７の変位により弾性変形が可能で、インクに対する耐蝕性を備えた例えばポリイミド(ＰＩ)やポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）樹脂等の高分子フィルム４９を積層して構成されている。要所に貫通孔からなる位置決め孔を穿設されており、ダイヤフラム部４３、４４を形成すべき領域をエッチングして、圧延製金属板４８により凸部４２が形成されている。
【００４５】
ノズル穴１は圧力室３８に対応して、インク滴出口側の直径が１０〜１００μｍの大きさで形成することが好ましい。また、ノズル面（吐出方向の表面すなわち吐出面）には、液体との撥水性を確保するため、前記撥インク層４を形成している（図３では不図示）。
そして、振動板３６の面外側（圧力室３８と反対面側）に各圧力室３８に対応して圧力発生手段としての圧電振動子３７を接合している。これらの振動板３６と圧力振動子３７によって振動板３６の可動部分であるダイヤフラム部４３を変形させる圧電型アクチュエータを構成している。
【００４６】
この液体吐出ヘッドでは、圧電振動子３７を溝加工（スリット加工）によって分断することなく形成する。また、圧電振動子３７の一端面には各圧電振動子に駆動波形を与えるためのＦＰＣケーブル５０を接続している。
なお、圧電振動子３７の圧電方向としてｄ３３方向の変位を用いて圧力室３８内の液体を加圧する構成とすることも、圧電振動子の圧電方向としてｄ３１方向の変位を用いて圧力室内の液体を加圧する構成とすることもできる。本実施形態ではｄ３３方向の変位を用いた構成をとっている。
【００４７】
ベース部材５１は金属材料で形成することが好ましい。ベース部材５１の材質（材料）が金属であれば、圧電振動子３７の自己発熱による蓄熱を防止することができる。圧電振動子３７とベース部材５１は接着剤により接着接合しているが、チャンネル数が増えると、圧電振動子３７の自己発熱により１００℃近くまで温度が上昇し、接合強度が著しく低下することになる。また、自己発熱によりヘッド内部の温度上昇が発生し、液体温度が上昇するが、液体の温度が上昇すると、液体粘度が低下し、噴射特性に大きな影響を与える。したがって、ベース部材５１を金属材料で形成して圧電振動子３７の自己発熱による蓄熱を防止することで、これらの接合強度の低下、液体粘度の低下による噴射特性の劣化を防止することができる。
【００４８】
また、ＦＰＣケーブル５０には各チャンネル（各圧力室３８に対応する）を駆動する駆動波形（電気信号）を印加するためのドライバＩＣ５２を複数搭載している。
さらに、振動板３６の周囲にはフレーム３３を接着剤で接合している。そして、このフレーム３３には、ドライバＩＣ５２と少なくともベース部材５１を挟んで反対側に配置されるように、圧力室３８に外部から液体を供給するための共通液室４１を形成している。この共通液室４１は、振動板３６の液体供給口４５を介して流体抵抗部３４及び圧力室３８に連通している。
共通液室４１には、ダイヤフラム部４４によってダンパー室５３が形成され、液体吐出によって共通液室４１内に発生する圧力波を減衰させ、液体吐出を安定させる。
【００４９】
圧電振動子３７は、圧電層（圧電材料層）５４と内部電極５５Ａ及び内部電極５５Ｂとを交互に積層し、両端面に共通側外部電極５６と個別側外部電極５７とを設けた状態で、スリット加工（溝加工）を施して溝を入れることにより、複数の圧電振動子を形成している。
【００５０】
このように構成した液体吐出ヘッドにおいては、圧電振動子３７の駆動部に対して選択的に、例えば２０〜５０Ｖの駆動パルス電圧を印加することによって、パルス電圧が印加された駆動部が積層方向に伸びて、ダイヤフラム部をノズル方向に変形させることができる。これにより、圧力室３８の容積／体積変化によって圧力室３８内の液体が加圧され、ノズル穴１から液滴が吐出（噴射）される。
【００５１】
（画像形成装置）
次に、本発明に係る液体吐出ヘッドを搭載した画像形成記録装置の一例について図４及び図５を参照して説明する。なお、図４は同記録装置の斜視説明図、図５は同記録装置の機構部の側面説明図である。
【００５２】
この画像形成記録装置は、記録装置本体８１の内部に主走査方向に移動可能なキャリッジ、キャリッジに搭載した本発明を実施した画像形成ヘッドからなる液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドへインクを供給するインクカートリッジ等で構成される印字機構部８２等を収納し、装置本体８１の下方部には前方側から多数枚の用紙８３を積載可能な給紙カセット（或いは給紙トレイでもよい。）８４を抜き差し自在に装着することができ、また、用紙８３を手差しで給紙するための手差しトレイ８５を開倒することができ、給紙カセット８４或いは手差しトレイ８５から給送される用紙８３を取り込み、印字機構部８２によって所要の画像を記録した後、後面側に装着された排紙トレイ８６に排紙する。
【００５３】
印字機構部８２は、図示しない左右の側板に横架したガイド部材である主ガイドロッド９１と従ガイドロッド９２とでキャリッジ９３を主走査方向（図５で紙面垂直方向）に摺動自在に保持し、このキャリッジ９３にはイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｂｋ）の各色のインク滴を吐出する本発明に係る液体吐出ヘッドからなる液体吐出ヘッド９４を複数のインク吐出口（ノズル）を主走査方向と交差する方向に配列し、インク滴吐出方向を下方に向けて装着している。またキャリッジ９３には液体吐出ヘッド９４に各色のインクを供給するための各インクカートリッジ９５を交換可能に装着している。
【００５４】
インクカートリッジ９５は上方に大気と連通する大気口、下方には液体吐出ヘッドへインクを供給する供給口を、内部にはインクが充填された多孔質体を有しており、多孔質体の毛管力により液体吐出ヘッドへ供給されるインクをわずかな負圧に維持している。また、液体吐出ヘッドとしてここでは各色の液体吐出ヘッド９４を用いているが、各色のインク滴を吐出するノズルを有する１個のヘッドでもよい。
【００５５】
ここで、キャリッジ９３は後方側（用紙搬送方向下流側）を主ガイドロッド９１に摺動自在に嵌装し、前方側（用紙搬送方向上流側）を従ガイドロッド９２に摺動自在に載置している。そして、このキャリッジ９３を主走査方向に移動走査するため、主走査モータ９７で回転駆動される駆動プーリ９８と従動プーリ９９との間にタイミングベルト７０を張装し、このタイミングベルト７０をキャリッジ９３に固定しており、主走査モーター９７の正逆回転によりキャリッジ９３が往復駆動される。
【００５６】
一方、給紙カセット８４にセットした用紙８３を液体吐出ヘッド９４の下方側に搬送するために、給紙カセット８４から用紙８３を分離給装する給紙ローラ１０１及びフリクションパッド１０２と、用紙８３を案内するガイド部材１０３と、給紙された用紙８３を反転させて搬送する搬送ローラ１０４と、この搬送ローラ１０４の周面に押し付けられる搬送コロ１０５及び搬送ローラ１０４からの用紙８３の送り出し角度を規定する先端コロ１０６とを設けている。搬送ローラ１０４は副走査モータ１０７によってギヤ列を介して回転駆動される。
【００５７】
そして、キャリッジ９３の主走査方向の移動範囲に対応して搬送ローラ１０４から送り出された用紙８３を記録ヘッド９４の下方側で案内する用紙ガイド部材である印写受け部材１０９を設けている。この印写受け部材１０９の用紙搬送方向下流側には、用紙８３を排紙方向へ送り出すために回転駆動される搬送コロ１１１、拍車１１２を設け、さらに用紙８３を排紙トレイ８６に送り出す排紙ローラ１１３及び拍車１１４と、排紙経路を形成するガイド部材１１５、１１６とを配設している。
【００５８】
記録時には、キャリッジ９３を移動させながら画像信号に応じて液体吐出ヘッド９４を駆動することにより、停止している用紙８３にインクを吐出して１行分を記録し、用紙８３を所定量搬送後次の行の記録を行う。記録終了信号または、用紙８３の後端が記録領域に到達した信号を受けることにより、記録動作を終了させ用紙８３を排紙する。
【００５９】
また、キャリッジ９３の移動方向右端側の記録領域を外れた位置には、ヘッド９４の吐出不良を回復するための回復装置１１７を配置している。回復装置１１７はキャップ手段と吸引手段とクリーニング手段を有している。キャリッジ９３は印字待機中にはこの回復装置１１７側に移動されてキャッピング手段でヘッド９４をキャッピングされ、ノズル部を湿潤状態に保つことによりインク乾燥による吐出不良を防止する。また、記録途中などに記録と関係しないインクを吐出することにより、全てのノズルのインク粘度を一定にし、安定した吐出性能を維持する。
【００６０】
吐出不良が発生した場合等には、キャッピング手段でヘッド９４のノズルを密封し、チューブを通して吸引手段でノズルからインクとともに気泡等を吸い出し、ノズル面に付着したインクやゴミ等はワイピング手段により除去され吐出不良が回復される。また、吸引されたインクは、本体下部に設置された廃インク溜（不図示）に排出され、廃インク溜内部のインク吸収体に吸収保持される。
【００６１】
（インク）
次に、本発明に用いられるインクジェット用インクについて説明する。
インクの構成成分としては、色材、湿潤剤、水溶性有機溶剤、界面活性剤、その他の添加剤（ｐＨ調整剤、防腐防黴剤、防錆剤、水溶性紫外線吸収剤、水溶性赤外線吸収剤等）、樹脂等が挙げられる。
【００６２】
−色材−
色材としては、公知の顔料や染料を適宜使用することができ、例えば無機顔料、有機顔料を用いることができる。
無機顔料としては、酸化チタン、酸化鉄、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、バリウムイエロー、カドミウムレッド、クロムイエロー、及びコンタクト法、ファーネス法、サーマル法などの公知の方法によって製造されたカーボンブラック等を使用することができる。
有機顔料としては、アゾ顔料（アゾレーキ、不溶性アゾ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料などを含む）、多環式顔料（例えば、フタロシアニン顔料、ぺリレン顔料、ぺリノン顔料、アントラキノン顔料、キナクリドン顔料、ジオキサジン顔料、インジゴ顔料、チオインジゴ顔料、イソインドリノン顔料、キノフラロン顔料など）、染料キレート（例えば、塩基性染料型キレート、酸性染料型キレートなど）、ニトロ顔料、ニトロソ顔料、アニリンブラックなどを使用できる。
これらの中でも、溶媒と親和性の良いものが好ましい。
【００６３】
上記の他に、顔料（例えばカーボン）の表面にスルホン基やカルボキシル基等の官能基を付加し水中に分散可能とした自己分散顔料等も使用できる。また、顔料をマイクロカプセルに包含させ、該顔料を水中に分散可能なものとしたものであっても良い。
インク中の色材としての顔料の添加量は、０．５〜２５重量％が好ましく、より好ましくは２〜１５重量％である。
【００６４】
−水溶性有機溶剤−
水溶性有機溶剤としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコーノレ、ポリプロピレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−へキサンジオール、グリセリン、１，２，６−へキサントリオール、１，２，４−ブタントリオール、１，２，３−ブタントリオール、ペトリオール等の多価アルコール類；エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル類；エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル等の多価アルコールアリールエーテル類、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−ヒドロキシエチル−２−ピロリドン、２−ピロリドン、１，３−ジメチルイミダゾリジノン、ε−カプロラクタム等の含窒素複素環化合物；ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類；モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン等のアミン類；ジメチルスルホキシド、スルホラン、チオジエタノール等の含硫黄化合物類；プロピレンカーボネート、炭酸エチレン、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。
【００６５】
−界面活性剤−
界面活性剤は洗浄性を上げたり、洗浄液兼充填液の混合安定性を上げたり、洗浄後の再充填性を上げるなどのために必要に応じて添加される。
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤などが挙げられる。
【００６６】
フッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物、パーフルオロアルキルベタイン、パーフルオロアルキルアミンオキサイド化合物、パーフルオロアルキルエーテル基を側鎖に有するポリオキシアルキレンエーテルポリマー及びこの硫酸エステル塩、フッ素系脂肪族系ポリマーエステルが挙げられる。
【００６７】
フッ素系界面活性剤として市販されているものとしては、サーフロンＳ−１１１、Ｓ−１１２、Ｓ−１１３、Ｓ１２１、Ｓ１３１、Ｓ１３２、Ｓ−１４１、Ｓ−１４５（旭硝子社製）、フルラードＦＣ−９３、ＦＣ−９５、ＦＣ−９８、ＦＣ−１２９、ＦＣ−１３５、ＦＣ−１７０Ｃ、ＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１、ＦＣ−４４３０（住友スリーエム社製）、ＦＴ−１１０、２５０、２５１、４００Ｓ（ネオス社製）、ゾニールＦＳ−６２、ＦＳＡ、ＦＳＥ、ＦＳＪ、ＦＳＰ、ＴＢＳ、ＵＲ、ＦＳＯ、ＦＳＯ−１００、ＦＳＮ  Ｎ、ＦＳＮ−１００、ＦＳ−３００、ＦＳＫ（Ｄｕｐｏｎｔ社製）、ポリフォックスＰＦ−１３６Ａ、ＰＦ−１５６Ａ、ＰＦ−１５１Ｎ（ＯＭＮＯＶＡ社製）などが挙げられる。
【００６８】
アニオン界面活性剤としては、アルキルアリル又はアルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルエーテル硫酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキルエステル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、アルキルアリールエーテルリン酸塩、アルキルアリールエーテル硫酸塩、アルキルアリールエーテルエステル硫酸塩、オレフィンスルホン酸塩、アルカンオレフィンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、エーテルカルボキシレート、スルホコハク酸塩、α−スルホ脂肪酸エステル、脂肪酸塩、高級脂肪酸とアミノ酸の縮合物、ナフテン酸塩等が挙げられる。
【００６９】
カチオン界面活性剤としては、アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、脂肪族アミン塩、ベンザルコニウム塩、第４級アンモニウム塩、アルキルピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩等が挙げられる。
【００７０】
ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレングリコールエステル、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール、グリセリンエステル、ソルビタンエステル、ショ糖エステル、グリセリンエステルのポリオキシエチレンエーテル、ソルビタンエステルのポリオキシエチレンエーテル、ソルビトールエステルのポリオキシエチレンエーテル、脂肪酸アルカノールアミド、アミンオキシド、ポリオキシエチレンアルキルアミン、グリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、アルキル（ポリ）グリコキシド等が挙げられる。
【００７１】
両性界面活性剤としては、イミダゾリニウムベタイン等のイミダゾリン誘導体、ジメチルアルキルラウリルベタイン、アルキルグリシン、アルキルジ（アミノエチル）グリシン等が挙げられる。
【００７２】
−その他の添加剤−
その他の添加剤としては、ｐＨ調整剤、防腐防黴剤等が挙げられる。
ｐＨ調整剤としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属元素の水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩；第４級アンモニウム水酸化物やジエタノールアミン、トリエタノ−ルアミン等のアミン；水酸化アンモニウム、第４級ホスホニウム水酸化物等が挙げられる。
防腐防黴剤としては、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、安息香酸ナトリウム、デヒドロ酢酸ナトリウム、ソルビン酸ナトリウム、ぺンタクロロフェノールナトリウム、２−ピリジンチオール−１−オキサイドナトリウム等が挙げられる。
【００７３】
−樹脂−
樹脂は、画像定着性の向上、画質の向上、顔料分散性の向上等の目的で必要に応じて添加する。その例としては、親水性高分子として、天然系ではアラビアガム、トラガンガム、グーアガム、カラヤガム、ローカストビーンガム、アラビノガラクトン、ペクチン、クインスシードデンプン等の植物性高分子；アルギン酸、カラギーナン、寒天等の海藻系高分子；ゼラチン、カゼイン、アルブミン、コラーゲン等の動物系高分子；キサンテンガム、デキストラン等の微生物系高分子、半合成系ではメチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース等の繊維素系高分子；デンプングリコール酸ナトリウム、デンプンリン酸エステルナトリウム等のデンプン系高分子；アルギン酸ナトリウム、アルギン酸ブロピレングリコールエステル等の海藻系高分子、純合成系ではポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、アクリル酸−アクリロニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、アクリル酸−アクリル酸アルキルエステル共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−アクリル酸−アクリル酸アルキルエステル共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸アルキルエステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、アクリル酸アルキルエステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−エチレン共重合体、酢酸ビニル−脂肪酸ビニルエチレン共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体等、及びこれらの塩が挙げられる。
これらの樹脂の添加量は、信頼性を考慮した上で適宜選択される。
【００７４】
また、最近は溶媒に溶けるタイプの樹脂ではなく、溶媒中で微粒子として分散したいわゆる樹脂エマルジョンが用いられることが多い。樹脂エマルジョンとは、樹脂微粒子を連続相としての溶媒中に分散したものであり、必要に応じて界面活性剤のような分散剤を含有させても良い。
【００７５】
分散相成分としての樹脂微粒子の含有量（樹脂エマルジョン中の樹脂微粒子の含有量）は一般的には１０〜７０重量％程度であり、樹脂微粒子の粒径は特にインクジェット記録装置に使用することを考慮すると、平均粒径で１０〜１０００ｎｍが好ましく、さらに２０〜３００ｎｍが好ましいが、特に限定されるものではない。
【００７６】
分散相の樹脂微粒子成分としてはアクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、スチレン系樹脂、ブタジエン系樹脂、スチレン−ブタジエン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリルスチレン系樹脂、アクリルシリコン系樹脂などが挙げられ、特にアクリルシリコン系樹脂が効果的であるが、特に限定されるものではなく、公知のものを用いた場合に信頼性を確保するためのものであり、市販の樹脂エマルジョンを用いることも可能である。
【００７７】
インク中の前記樹脂微粒子の含有量としては、一般的には０．１〜５０重量％、好ましくは０．５〜２０重量％、さらに好ましくは１〜１０重量％であるが、特に限定されるものではない。
【００７８】
−静的表面張力−
本発明に用いるインクとしては、前記フッ素系界面活性剤を含み、静的表面張力が３０×１０−３Ｎ／ｍ以下であるインクを用いることが好ましい。静的表面張力が３０×１０−３Ｎ／ｍ以下であるインクを製造するには、浸透剤、例えば２−エチル−１,３−ヘキサンジオールの量並びに、フッ素系界面活性剤の添加量により、調整することができる。静的表面張力が３０×１０−３Ｎ／ｍより大きいと、記録媒体に対するインクの浸透性が劣り、高画質な画像が得られないことがある。
【００７９】
表面張力は、例えばＺｉｓｍａｎ法で求めることができる。これによると、表面張力が既知の液体を撥インク層４の上にたらし、接触角θを測定し、液体の表面張力をｘ軸に、ｃｏｓθをｙ軸にプロットすると右肩下がりの直線が得られる（Ｚｉｓｍａｎ  Ｐｌｏｔと称される）。この直線について、ｙ＝１（θ＝０°）となるときの表面張力を臨界表面張力γｃとして算出することができる。
また、上記以外のその他の方法として、Ｆｏｗｋｅｓ法、Ｏｗｅｎｓ  ａｎｄ  Ｗｅｎｄｔ法、Ｖａｎ  Ｏｓｓ法を用いて臨界表面張力を求めることもできる。
【実施例】
【００８０】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００８１】
（実施例１〜３、比較例１〜３）
インク滴出口側の直径が２５μｍのノズル孔を形成したステンレスノズルプレートの吐出面側表面を超精密揺動型片面ポリンシングマシン（ＣＭＰ研磨装置、ＥＢＡＲＡ社製）にて、ポリウレタンパッドでプレート表面を１０ｋＰａの圧力で押さえながらＰＯＬＩＰＬＡ１０３（ＦＵＪＩＭＩ社製）を純水で４倍希釈（体積比は、ＰＯＬＩＰＬＡ１０３：純水＝１：３）したものを用いて、ステンレスノズルプレートを５０ｒｐｍで回転させて研磨した。
このとき、吐出面の表面粗さＲａが０．１μｍ以下になるまで研磨されたことを確認した。表面粗さＲａは、ＪＩＳ  ０６０１に従い、触針式表面形状測定装置Ｄｅｋｔａｋ１５０（アルバック社製）を用いて測定した。
【００８２】
次に、ステンレスノズルプレートの吐出面をヤマト科学社製プラズマ処理装置ＰＤＣ−５１０にて５００Ｗ、０．００１２ｇ／ｓで１分間、酸素プラズマ処理を実施した。
【００８３】
次に、パーフルオロポリエーテルとして、フロロサーフFG5020（フロロテクノロジー社製）をフッ素系溶媒（ノベックHFE7100、住友３Ｍ社製）により、０．２重量％に希釈したものをステンレスノズルプレートの吐出面に成膜した。
成膜は、溶液中にプレートを浸漬し、３ｍｍ／ｓｅｃで引き上げて成膜した。成膜後の加熱定着において、下記表１のように、加熱温度を２５℃〜３００℃まで変化させ、また加熱時間を変化させることで、異なった膜質のパーフルオロポリエーテルの撥インク層４を得た。このとき、撥インク層４の膜厚は、１２ｎｍであった。さらに、成膜後、ノベックHFE7100（住友３Ｍ社製）溶媒による超音波洗浄を５分間行った。
【００８４】
このようにして得られたノズルプレートは、ノズル面にイクロステープ（三井化学社製）でラミネート保護し、プラズマクリーナＰＤＣ−５１０（ヤマト科学社製）にて酸素プラズマを照射し（０．００１２ｇ／ｓ、１分間）、逆スパッタすることで液室面及びノズル穴１内壁に付着した撥インク層４を除去した。続いて、流路板と低温硬化型エポキシ系接着剤を介して７０℃、５時間で加熱・加圧接着した。
低温硬化型の接着剤は、常温で硬化せず６０〜１００℃で硬化開始するタイプの接着剤、ＡＥ９０１シリーズ（味の素ファインテクノ社製）を用いた。
以上のようにして、実施例１〜３、比較例１〜３のノズルプレートを得た。
【００８５】
（ＸＰＳ測定）
上記により得られたノズルプレートについて、完全自動Ｘ線光電子分光装置Ｋ−ａｌｐｈａ（サーモサイエンティフィックス社製）を用いてＸＰＳ測定を行った。得られたスペクトルを図６、図７に示す（実施例１、３、比較例１、３）。得られたスペクトルにより、ベースラインとピーク１、ピーク２が囲む面積を求め、ピーク面積比を求めた。同様に、ベースラインとピーク３、ピーク４が囲む面積を求め、ピーク面積比を求めた。なお、ベースラインについては、図６の比較例１のみ図示されている。結果を下記表１に示す。
【００８６】
（インク引け時間評価）
次に、実施例１〜３及び比較例１〜３で得られたノズルプレートについて、下記のようにしてインク引き時間の測定を行った。
【００８７】
図８に示されるように、厚さ１．２ｍｍ、幅３０ｍｍのＥＰＤＭ（エチレンプロピレン）ゴムブレード（ワイパー２０１）を長さ２０ｍｍのうち７ｍｍだけ自由にたわむ状態で、ゴムブレード固定ジグ２０２により一端を固定した。
【００８８】
次に、図９に示されるように、インク２１０を入れた容器にノズルプレート２を設置し、ノズルプレート２の吐出面がインク２１０に浸漬する状態にした。この状態で、ノズルプレート２の吐出面を、ノズルプレート２に２ｍｍ（／７ｍｍ）干渉する状態で、ゴムブレードをたわませながら、図９の（ａ）〜（ｄ）のように、１００ｍｍ／ｓｅｃの速さで５０００回片道ワイピングした。
【００８９】
ここで、「２ｍｍ（／７ｍｍ）干渉する状態」とは、図８のように、ゴムブレード（ワイパー２０１）のうち、たわむ部分の長さが７ｍｍのとき、ノズルプレート２に触れる部分の長さが２ｍｍである状態を表す。
【００９０】
次に、ワイピング後のノズルプレート２のインク引け時間を、図１０に示されるような計測方法にて測定した。図１０に示されるように、チップ（ノズルプレート２）の半分をインク２１０に浸し（図１０（ａ）、（ｂ））、１００ｍｍ／ｓｅｃの速さで引き上げた直後（ｔ＝０、図１０（ｃ））から、インクがｔ＝０時点の１割の面積になるまでに要する時間を計測した（図１０（ｅ））。
【００９１】
（インク）
インク引け時間の測定に用いたインクは以下のものを用いた。
下記処方の組成物を６０℃で撹拌溶解し、室温にて放冷後、ｐＨが９〜１０になるように水酸化リチウム１０％水溶液にて調整し、これを０．２２μｍのテフロン（登録商標）フィルターにて濾過し［インク１］を作製した。なお、［インク１］の静的表面張力は、３０×１０−3Ｎ／ｍ以下であった。
【００９２】
−インク１の処方−
Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラック１６８                                  ３重量％
２−ピロリドン                                                    ３重量％
ジエチレングリコール                                              ４重量％
グリセリン                                                        １重量％
アルキルエーテルカルボン酸塩系界面活性剤  ＥＣＴＤ−３ＮＥＸ（日本サーファクタント工業化学社製界面活性剤）                                    ０．１重量％
ノニポール４００（三洋化成工業社製界面活性剤）                ０．５重量％
サンアイバックＰ−１００（三愛石油社製防腐防黴剤）            ０．４重量％
イオン交換水                                                        残量
【００９３】
実施例１〜３、比較例１〜３で得られたノズルプレートについて、インク引け時間を求めた結果を下記表１に示す。表１中、「０回」とあるのは、ワイピングをしなかった場合のインク引け時間を示し、「５０００回」とあるのは、５０００回ワイピングを行った後のインク引け時間を示す。撥インク層４として機能するためには、インク引け時間が５０秒以下であることが望ましい。
【００９４】
【表１】
2015136894.tif 000003
【００９５】
上記より、Ｏ由来のピークの形状の変化に伴い、ワイピング実施前の段階から撥インク性を確保できていないものがあることがわかる（比較例３）。さらに、ワイピングを繰り返すことにより、撥インク性が低下するものがあり（比較例１、２）、撥インク性の低下しやすさをＸＰＳ測定のピークの面積比率から判断できることがわかる。
【００９６】
（実施例４）
上記の実施例１〜３、比較例１〜３により得られたノズルプレートを備える液体吐出ヘッドを作製した。
【００９７】
（実施例５）
実施例４で得た液体吐出ヘッドをインクジェットプリンター（ＩＰＳＩＯ  ＧＸ  ｅ３３００、株式会社リコー製）に搭載し、インクジェット記録装置を得た。上記［インク１］を用いてインクの吐出を行ったが、インクの吐出は良好であった。
【符号の説明】
【００９８】
１  ノズル穴
２  ノズルプレート
３  ノズル基材
４  撥インク層
１０  ダレ幅
１１  ダレ高さ
３１  流路ユニット
３２  アクチュエータユニット
３３  フレーム
３４  流体抵抗部
３５  チャンバープレート
３６  振動板
３７  圧電振動子
３８  圧力室
４１  共通液室
４２  凸部
４３  ダイヤフラム部
４４  ダイヤフラム部
４５  液体供給口
４８  圧延製金属板
４９  高分子フィルム
５０  ＦＰＣケーブル
５１  ベース部材
５２  ドライバーＩＣ
５３  ダンパー室
５５Ａ  内部電極
５５Ｂ  内部電極
５６  共通側外部電極
５７  個別側外部電極
８１  装置本体
８２  印字機構部
８３  用紙
８４  給紙カセット
８５  手差しトレー
８６  排紙トレー
９１  主ガイドロッド
９２  従ガイドロッド
９３  キャリッジ
９４  液体吐出ヘッド
９５  インクカートリッジ
９７  主走査モーター
９８  駆動プーリ
９９  従動プーリ
１０１  給紙ローラ
１０２  フリクションパッド
１０３  ガイド部材
１０４  搬送ローラ
１０５  搬送コロ
１０６  先端コロ
１０７  副走査モーター
１０９  印写受け部材
１１１  搬送コロ
１１２  拍車
１１３  排紙ローラ
１１４  拍車
１１５、１１６  ガイド部材
１１７  回復装置
２０１  ワイパー
２０２  ワイパー固定ジグ
２０３  ノズルプレート固定ジグ
２０４  ピンセット
２１０  インク
【先行技術文献】
【特許文献】
【００９９】
【特許文献１】特開２００３−２７７６５１号公報
【特許文献２】特開２０１０−７６４２２号公報
【図２】
2015136894.tif 000004
【図４】
2015136894.tif 000005
【図５】
2015136894.tif 000006
【図１】
2015136894.tif 000007
【図３】
2015136894.tif 000008
【図６】
2015136894.tif 000009
【図７】
2015136894.tif 000010
【図８】
2015136894.tif 000011
【図９】
2015136894.tif 000012
【図１０】
2015136894.tif 000013