(57)【要約】  ラセミ体、ジアステレオマーの混合物、または純粋なジアステレオマーの形態の式Ｉ（式中、Ｒ0およびＲ00は、それぞれ互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ14−アリール、またはＯ、ＳおよびＮからなる群から選択されるへテロ原子を有するＣ3〜Ｃ12−ヘテロアリールであり、非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルコキシ、フェニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルフェニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシフェニル、Ｃ3〜Ｃ8−ヘテロアリール、Ｆもしくはトリフルオロメチルにより置換され；基：Ｒ1は、それぞれ互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、またはＣ原子、Ｓ原子、Ｓｉ原子、Ｐ（Ｏ）もしくはＰ（Ｓ）基を介してシクロペンタジエニル環に結合した置換基であり；Ｒ2およびＲ02は、それぞれ互いに独立して、水素原子、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ14−アリール、またはＯ、ＳおよびＮからなる群から選択されるへテロ原子を有するＣ3〜Ｃ12−ヘテロアリールであり、非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルコキシ、フェニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルフェニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシフェニル、Ｃ3〜Ｃ8−ヘテロアリール、Ｆもしくはトリフルオロメチルにより置換され；２個の指数：ｍは、それぞれ互いに独立して、１、２または３であり；ｎは、０または１であり；Ｘ1は、第二級ホスフィン基または環式ホスホナイト基であり；Ｘ2およびＸ3は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィン基である）で示される化合物。式Ｉで示される化合物は、プロキラル不飽和化合物の水素化のためのエナンチオ選択性触媒の貴重な配位子である。
2008505162.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラセミ体、ジアステレオマーの混合物、または純粋なジアステレオマーの形態の式Ｉ：
【化１】
2008505162.tif 000055
（式中、
Ｒ0およびＲ00は、それぞれ互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ14−アリール、またはＯ、ＳおよびＮからなる群から選択されるへテロ原子を有するＣ3〜Ｃ12−ヘテロアリールであり、非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルコキシ、フェニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルフェニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシフェニル、Ｃ3〜Ｃ8−ヘテロアリール、Ｆもしくはトリフルオロメチルにより置換され；
基：Ｒ1は、それぞれ互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、またはＣ原子、Ｓ原子、Ｓｉ原子、Ｐ（Ｏ）もしくはＰ（Ｓ）基を介してシクロペンタジエニル環に結合した置換基であり；
Ｒ2およびＲ02は、それぞれ互いに独立して、水素原子、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ14−アリール、またはＯ、ＳおよびＮからなる群から選択されるへテロ原子を有するＣ3〜Ｃ12−ヘテロアリールであり、非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルコキシ、フェニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルフェニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシフェニル、Ｃ3〜Ｃ8−ヘテロアリール、Ｆもしくはトリフルオロメチルにより置換されており；
２個の指数：ｍは、それぞれ互いに独立して、１、２または３であり；
ｎは、０または１であり；
Ｘ1は、第二級ホスフィン基または環式ホスホナイト基であり；
Ｘ2およびＸ3は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィン基である）で示される化合物。
【請求項２】
Ｒ0およびＲ00が、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニルおよびベンジルからなる群から選択される同一の基であり、非置換であるか、または置換されることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
基：Ｒ1が、それぞれ水素であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項４】
第二級ホスフィン基：Ｘ1、Ｘ2およびＸ3、ならびにホスホナイト基：Ｘ1が、同一の炭化水素基を２個含むことを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項５】
第二級ホスフィノ基：Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が、式：−ＰＲ3Ｒ4（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ互いに独立して、炭素原子を１〜１８個有する炭化水素基であり、非置換であるか、またはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルコキシ、（Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ）2−アミノ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1〜Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ、もしくは−ＣＯ2−Ｃ1〜Ｃ6−アルキルにより置換され、そして／あるいはヘテロ原子：Ｏを含む）に相当するか、またはＸ1、Ｘ2およびＸ3が、環式第二級ホスフィノであることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項６】
基：Ｘ1が、同一であり、基：Ｘ2およびＸ3が、同一であるかまたは異なっており、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が、−Ｐ（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2、−Ｐ（Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル）2、−Ｐ（Ｃ7〜Ｃ12−ビシクロアルキル）2、−Ｐ（ｏ−フリル）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2、−Ｐ［２−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）2Ｃ6Ｈ3］2、および−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2−４−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ2］2からなる群から選択される非環式第二級ホスフィン、あるいは非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ2−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ、もしくはＣ1〜Ｃ4−アルキリデンジオキシル１個以上により置換される
【化２】
2008505162.tif 000056
からなる群から選択される環式ホスフィンであることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項７】
式Ｉで示される化合物が、好ましくは、式Ｉａ（Ｒ，Ｓ，Ｒ'Ｓ'配置）もしくはＩｄ（Ｓ，Ｒ，Ｓ'Ｒ'配置）で示されるジアステレオマー、またはそれらの混合物として、あるいは式Ｉｃ（Ｒ，Ｒ，Ｒ'Ｒ'配置）もしくはＩｂ（Ｓ，Ｓ，Ｓ'Ｓ'配置）で示されるジアステレオマー、またはそれらの混合物として存在する
【化３】
2008505162.tif 000057
ことを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項８】
配位子としての式Ｉで示される化合物と遷移金属の群から選択される金属との金属錯体であり、合計で１当量よりも多くかつ２当量までのＴＭ８金属が結合した金属錯体。
【請求項９】
遷移金属が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒからなる群から選択されることを特徴とする、請求項８記載の金属錯体。
【請求項１０】
プロキラル有機化合物中の炭素−炭素または炭素−へテロ原子二重結合に水素を不斉付加することによりキラル有機化合物を製造するための均一触媒としての、請求項８記載の金属錯体の使用。
【請求項１１】
触媒量の、請求項８記載の少なくとも１種の金属錯体の存在下で、付加反応を実施することを特徴とする、触媒の存在下でプロキラル有機化合物中の炭素−炭素または炭素−へテロ原子二重結合に水素を不斉付加することによりキラル有機化合物を製造する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、メチレン基中が非置換であるか、もしくは置換されていてもよい第二級ホスフィン基および第二級ホスフィノメチル基、置換の環式ホスホニトメチル基、置換の第二級ホスフィノアミノメチル基、または置換の環式ホスホニトアミノメチル基により、シクロペンタジエニル環それぞれの互いに対してアルファ位が置換されるフェロセン；それらの製造方法；これらの四価フェロセン配位子との金属錯体；ならびにエナンチオ選択的合成における該金属錯体の使用に関する。
【０００２】
キラルフェロセンジホスフィンは、有機合成、例えばエナンチオ選択的付加反応のための貴金属触媒中の貴重な配位子であることが見出された。そのような触媒は、適切なプロキラル不飽和化合物、例えば置換オレフィン、ケトンまたはケチミン中の二重結合の水素化において特別な重要性を達成した。米国特許第５，４６３，０９７号、同第５，４６６，８４４号、および同第５，５８３，２４１号に記載された型のフェロセンジホスフィンは、しばらく、プロキラルイミンからの光学的に純粋なアミンの工業的製造、例えば、Ｎ−（２'，６'−ジメチルフェニル）−１−メトキシメチルエチリデンアミンの水素化に工業規模で使用されて好結果が得られさえした。Ｎ原子に結合したホスフィン基を有するフェロセンジホスフィンは、ＷＯ０２／２６７５０に記載されており、エナミド、イタコナートおよびα−ケトエステルに特に適するといわれている。
【０００３】
触媒は、助剤であり、反応生成物中に不純物として残留し、除去されなければならない。それゆえ、非常に少量使用するように努められ、分子量および金属量が重要な因子となる。しかし、フェロセンジホスフィンは、高い鉄含量を有するだけでなく比較的高い分子量も有する。
【０００４】
第１のシクロペンタジエニル環のジホスフィン構造が第２のシクロペンタジエニル環にも存在することで四座配位子を形成するようにする場合に、特定の芳香族ケチミンのエナンチオ選択的水素化の際の貴重な触媒特性を喪失せずに、過度に高い鉄含量および過度に高い分子量の問題を解決できることがここに見出された。これらの配位子は、モジュール型（modular）であり、容易に製造することができる。それゆえ、それらは、簡便な様式で特定の用途用に最適化することもできる。これらの配位子との金属錯体は、多くの結合可能性があるにも関わらず、対応する二座配位子のものとは異なる貴重な触媒特性を有しており、驚くべきことに、新規なまたは改善された利用機会が得られる可能性がある。更に、（適宜、立体選択的に）異なる二重結合、例えばＣ＝ＣまたはＣ＝Ｏを同時に水素化し、これより２つのプロセス工程で２種の触媒を使用することを避けるために、２種の異なる触媒活性の金属を結合させる機会も存在する。
【０００５】
本発明は、第一に、ラセミ体、ジアステレオマーの混合物、または純粋なジアステレオマーの形態の式Ｉ：
【０００６】
【化４】
2008505162.tif 000003
【０００７】
（式中、
Ｒ0およびＲ00は、それぞれ互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ14−アリール、またはＯ、ＳおよびＮからなる群から選択されるへテロ原子を有するＣ3〜Ｃ12−ヘテロアリールであり、非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルコキシ、フェニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルフェニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシフェニル、Ｃ3〜Ｃ8−ヘテロアリール、Ｆもしくはトリフルオロメチルにより置換され；
基：Ｒ1は、それぞれ互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、またはＣ原子、Ｓ原子、Ｓｉ原子、Ｐ（Ｏ）もしくはＰ（Ｓ）基を介してシクロペンタジエニル環に結合した置換基であり；
Ｒ2およびＲ02は、それぞれ互いに独立して、水素原子、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ14−アリール、またはＯ、ＳおよびＮからなる群から選択されるへテロ原子を有するＣ3〜Ｃ12−ヘテロアリールであり、非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルコキシ、フェニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルフェニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシフェニル、Ｃ3〜Ｃ8−ヘテロアリール、Ｆもしくはトリフルオロメチルにより置換され；
２個の指数：ｍは、それぞれ互いに独立して、１、２または３であり；
ｎは、０または１であり；
Ｘ1は、第二級ホスフィン基または環式ホスホナイト基であり；
Ｘ2およびＸ3は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィン基である）で示される化合物を提供する。
【０００８】
置換基：Ｒ1は、各シクロペンタジエニル環中に１〜３回、または１もしくは２回存在することができる。
【０００９】
立ち代わって、置換基：Ｒ1としてのまたはＲ1中の炭化水素基は、置換基、例えば、ハロゲン（Ｆ、ＣｌまたはＢｒ、特にＦ）、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＨ（Ｏ）、−ＣＮ、−ＮＲ03Ｒ04、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ05、−Ｓ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ05、−Ｓ（Ｏ）2−Ｏ−Ｒ05、−Ｐ（ＯＲ05）2、−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ05）2、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ03Ｒ04、−Ｓ（Ｏ）−ＮＲ03Ｒ04、−Ｓ（Ｏ）2−ＮＲ03Ｒ04、−Ｏ−（Ｏ）Ｃ−Ｒ06、−Ｒ03Ｎ−（Ｏ）Ｃ−Ｒ06、−Ｒ03Ｎ−Ｓ（Ｏ）−Ｒ06、−Ｒ03Ｎ−Ｓ（Ｏ）2−Ｒ06（式中、Ｒ03およびＲ04は、それぞれ互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジルであるか、またはＲ03およびＲ04は、一緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレンもしくは３−オキサペンタン−１，５−ジイル基を形成しており、Ｒ05は、水素、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニル、またはベンジルであり、Ｒ06は、Ｃ1〜Ｃ18−アルキルであり、好ましくはＣ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル（例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル）、Ｃ6〜Ｃ10−アリール（例えばフェニルまたはナフチル）またはＣ7〜Ｃ12−アラルキル（例えばベンジル）である）、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル，Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオ、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニル、ベンジル、フェノキシまたはベンジルオキシを、１個以上、例えば１〜３個、好ましくは１または２個有することができる。
【００１０】
置換または非置換の置換基：Ｒ1は、例えばＣ1〜Ｃ12−アルキル、好ましくはＣ1〜Ｃ8−アルキル、特に好ましくはＣ1〜Ｃ4−アルキルにすることができる。例は、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−またはｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル、およびドデシルである。
【００１１】
置換または非置換の置換基：Ｒ1は、例えばＣ5〜Ｃ8−シクロアルキル、好ましくはＣ5〜Ｃ6−シクロアルキルにすることができる。例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、およびシクロオクチルである。
【００１２】
置換または非置換の置換基：Ｒ1は、例えばＣ5〜Ｃ8−シクロアルキルアルキル、好ましくはＣ5〜Ｃ6−シクロアルキルアルキルにすることができる。例は、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、およびシクロオクチルメチルである。
【００１３】
置換または非置換の置換基：Ｒ1は、例えばＣ6〜Ｃ18−アリール、好ましくはＣ6〜Ｃ10−アリールにすることができる。例は、フェニルまたはナフチルである。
【００１４】
置換または非置換の置換基：Ｒ1は、例えばＣ7〜Ｃ12−アラルキル（例えば、ベンジルまたは１−フェニルエタ−２−イル）にすることができる。
【００１５】
置換または非置換の置換基：Ｒ1は、例えばトリ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）Ｓｉまたはトリフェニルシリルにすることができる。トリアルキルシリルの例は、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリ−ｎ−プロピルシリル、トリ−ｎ−ブチルシリルおよびジメチル−ｔ−ブチルシリルである。
【００１６】
置換基：Ｒ1は、例えばハロゲンにすることができる。例は、Ｆ、ＣｌおよびＢｒである。
【００１７】
置換または非置換の置換基：Ｒ1は、例えば、式：−ＳＲ01、−Ｓ（Ｏ）Ｒ01、および−Ｓ（Ｏ）2Ｒ01（式中、Ｒ01は、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、好ましくはＣ1〜Ｃ8−アルキル、特に好ましくはＣ1〜Ｃ4−アルキル；Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル、好ましくはＣ5〜Ｃ6−シクロアルキル；Ｃ6〜Ｃ18−アリール、好ましくはＣ6〜Ｃ10−アリール；またはＣ7〜Ｃ12−アラルキルである）で示されるチオ基、スルホキシド基、またはスルホン基にすることができる。これらの炭化水素基の例は、Ｒ1について先に列挙した。
【００１８】
置換基：Ｒ1は、例えば、−ＣＨ（Ｏ）、−Ｃ（Ｏ）−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、または−Ｃ（Ｏ）−Ｃ6〜Ｃ10−アリールにすることができる。
【００１９】
置換または非置換の置換基：Ｒ1は、例えば、基：−ＣＯ2Ｒ05または−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ03Ｒ04（式中、Ｒ03、Ｒ04およびＲ05は、好適さを含む先に示した意義を有する）にすることができる。
【００２０】
置換または非置換の置換基：Ｒ1は、例えば、基：−Ｓ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ05、−Ｓ（Ｏ）2−Ｏ−Ｒ05、−Ｓ（Ｏ）−ＮＲ03Ｒ04、および−Ｓ（Ｏ）2−ＮＲ03Ｒ04（式中、Ｒ03、Ｒ04およびＲ05は、好適さを含む先に示した意義を有する）にすることができる。
【００２１】
置換または非置換の置換基：Ｒ1は、例えば、基：−Ｐ（ＯＲ05）2または−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ05）2（式中、Ｒ05は、好適さを含む先に示した意義を有する）にすることができる。
【００２２】
置換または非置換の置換基：Ｒ1は、例えば、基：−Ｐ（Ｏ）（Ｒ05）2または−Ｐ（Ｓ）（ＯＲ05）2（式中、Ｒ05は、好適さなどの先に示した意義を有する）であってもよい。
【００２３】
第１のシクロペンタジエニル環中のＲ1は、第２のシクロペンタジエニル環中のＲ1と一緒になって、Ｃ2〜Ｃ4鎖、好ましくはＣ2〜Ｃ3鎖、例えば１，２−エチレン、１，２−および１，３−プロピレンを形成することができる。
【００２４】
置換基：Ｒ1の好ましい群において、これらは、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、置換または非置換のフェニル、トリ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）Ｓｉ、トリフェニルシリル、ハロゲン（特に、Ｆ、ＣｌおよびＢｒ）、−ＳＲa、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨ2Ｏ−Ｒa、−ＣＨ（Ｏ）、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2Ｒa（式中、Ｒaは、炭素原子を１〜１０個有する炭化水素基である）、から選択される。Ｒ1は、好ましくは、水素原子またはＣ1〜Ｃ4−アルキル（好ましくはメチル）である。
【００２５】
置換または非置換の置換基：Ｒ1の例は、メチル、エチル、ｎ−およびｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−およびｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、フェニル、ベンジル、トリメチルシリル、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、メチルチオ、メチルスルホニル、メチルスルホキシル、フェニルチオ、フェニルスルホニル、フェニルスルホキシ、−ＣＨ（Ｏ）、−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｃ（Ｏ）−ＯＣＨ3、−Ｃ（Ｏ）−ＯＣ2Ｈ5、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨＣＨ3、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（ＣＨ3）2、−ＳＯ3Ｈ、−Ｓ（Ｏ）−ＯＣＨ3、−Ｓ（Ｏ）−ＯＣ2Ｈ5、−Ｓ（Ｏ）2−ＯＣＨ3、−Ｓ（Ｏ）2−ＯＣ2Ｈ5、−Ｓ（Ｏ）−ＮＨ2、−Ｓ（Ｏ）−ＮＨＣＨ3、−Ｓ（Ｏ）−Ｎ（ＣＨ3）2、−Ｓ（Ｏ）−ＮＨ2、−Ｓ（Ｏ）2−ＮＨＣＨ3、−Ｓ（Ｏ）2−Ｎ（ＣＨ3）2、−Ｐ（ＯＨ）2、−ＰＯ（ＯＨ）2、−Ｐ（ＯＣＨ3）2、−Ｐ（ＯＣ2Ｈ5）2、−ＰＯ（ＯＣＨ3）2、−ＰＯ（ＯＣ2Ｈ5）2、トリフルオロメチル、メチルシクロヘキシル、メチルシクロヘキシルメチル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、ヒドロキシメチル、β−ヒドロキシエチル、γ−ヒドロキシプロピル、−ＣＨ2ＮＨ2、−ＣＨ2Ｎ（ＣＨ3）2、−ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2、−ＣＨ2ＣＨ2Ｎ（ＣＨ3）2、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、ＨＳ−ＣＨ2−、ＨＳ−ＣＨ2ＣＨ2−、ＣＨ3Ｓ−ＣＨ2−、ＣＨ3Ｓ−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ3、−ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（ＣＨ3）2、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＣＨ3）2、−ＣＨ2−ＳＯ3Ｈ、−ＣＨ2ＣＨ2−ＳＯ3Ｈ、−ＣＨ2−ＳＯ3ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−ＳＯ3ＣＨ3、−ＣＨ2−ＳＯ2ＮＨ2、−ＣＨ2−ＳＯ2Ｎ（ＣＨ3）2、−ＣＨ2−ＰＯ3Ｈ2、−ＣＨ2ＣＨ2−ＰＯ3Ｈ2、−ＣＨ2−ＰＯ（ＯＣＨ3）、−ＣＨ2ＣＨ2−ＰＯ（ＯＣＨ3）2、−Ｃ6Ｈ4−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｃ6Ｈ4−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ3、−Ｃ6Ｈ4−Ｓ（Ｏ）2ＯＨ、−Ｃ6Ｈ4−Ｓ（Ｏ）2ＯＣＨ3、−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＨ2−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＨ2−Ｏ−Ｓ（Ｏ）2ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−Ｓ（Ｏ）2ＣＨ3、−ＣＨ2−ＮＨ−Ｓ（Ｏ）2ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ−Ｓ（Ｏ）2ＣＨ3、−Ｐ（Ｏ）（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）2、−Ｐ（Ｓ）（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）2、−Ｐ（Ｏ）（Ｃ6〜Ｃ10−アリール）2、−Ｐ（Ｓ）（Ｃ6〜Ｃ10−アリール）2、−Ｃ（Ｏ）−Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、ならびに−Ｃ（Ｏ）−Ｃ6〜Ｃ10−アリールである。
【００２６】
アルキル基：Ｒ0およびＲ00は、線状または分枝状にすることができ、該アルキルは、好ましくは炭素原子を１〜１２個、より好ましくは１〜８個、特に好ましくは１〜６個含む。シクロアルキル基：Ｒ0およびＲ00は、好ましくはＣ5〜Ｃ8−シクロアルキル、特に好ましくはＣ5〜Ｃ6−シクロアルキルである。アリール基：Ｒ0およびＲ00は、例えば、フェニル、ナフチルまたはアントラセニルにすることができ、フェニルが好ましい。ヘテロアリール基：Ｒ0およびＲ00は、好ましくはＣ3〜Ｃ8−ヘテロアリールである。Ｒ0およびＲ00についての置換基、ならびにＲ2およびＲ02についての置換基は、例えば、Ｆ、トリフルオロメチル、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−もしくはｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、メトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ、ｎ−、ｉ−もしくはｔ−ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロペントキシ、シクロヘキソキシ、フェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、メトキシフェニル、フリル、チエニルまたはピロリルにすることができる。
【００２７】
Ｒ0およびＲ00の幾つかの例は、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−もしくはｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、シクロオクチル、フェニル、ベンジル、メチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、メトキシベンジル、フリル、チエニル、ピロリル、イミダゾリル、オキサゾリル、ピリジル、ピリミジル、キノリル、フリルメチル、チエニルメチルおよびピロリルメチルである。
【００２８】
好ましい実施形態において、Ｒ0およびＲ00は、同一の基である。別の好ましい実施形態において、Ｒ0およびＲ00は、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニルおよびベンジルからなる群から選択される同一の基であり、非置換であるか、または先に定義したとおり置換される。
【００２９】
Ｒ2およびＲ02がアルキルである場合、該アルキル基は、線状または分枝状にすることができ、好ましくは炭素原子を１〜１２個、より好ましくは１〜８個、特に好ましくは１〜６個含む。Ｒ2およびＲ02がシクロアルキルである場合、シクロアルキルは、好ましくはＣ5〜Ｃ8−シクロアルキル、特に好ましくはＣ5〜Ｃ6−シクロアルキルである。アリール基：Ｒ2およびＲ02は、例えば、フェニル、ナフチル、またはアントラセニルにすることができ、フェニルが好ましい。ヘテロアリール基：Ｒ2およびＲ02は、好ましくはＣ3〜Ｃ8−ヘテロアリールである。Ｒ2およびＲ02の例、およびＲ2およびＲ02についての置換基の例は、Ｒ0およびＲ00について先に示した基である。
【００３０】
好ましい実施形態において、Ｒ2およびＲ02は、同一の基である。別の好ましい実施形態において、Ｒ2およびＲ02は、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル、フェニルおよびベンジルからなる群から選択される同一の基であり、非置換であるか、または先に定義したとおり置換されている。
【００３１】
第二級ホスフィン基：Ｘ1、Ｘ2およびＸ3、ならびにホスホナイト基：Ｘ1は、２個の同一の炭化水素基、または２個の異なる炭化水素基を含有することができる。第二級ホスフィン基：Ｘ1、Ｘ2およびＸ3、ならびにホスホナイト基：Ｘ1は、好ましくはそれぞれ、２個の同一の炭化水素基を含む。更に、第二級ホスフィン基：Ｘ1とＸ2、Ｘ1とＸ3、Ｘ2とＸ3、ならびにＸ1とＸ2とＸ3が、同一にまたは異なることができる。
【００３２】
該炭化水素基は、非置換であるか、もしくは置換されることができ、そして／またはＯ、ＳおよびＮからなる群から選択されるヘテロ原子を含有することができる。それらは、炭素原子を１〜２２個、好ましくは１〜１８個、特に好ましくは１〜１４個含有することができる。好ましい第二級ホスフィンは、該ホスフィン基が、線状または分枝状Ｃ1〜Ｃ12−アルキル；非置換またはＣ1〜Ｃ6−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ6−アルコキシ−置換の、Ｃ5〜Ｃ12−シクロアルキルまたはＣ5〜Ｃ12−シクロアルキル−ＣＨ2−；フェニル、ナフチル、フリル、またはベンジル；およびハロゲン（例えば、Ｆ、ＣｌおよびＢｒ）、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルキル（例えばトリフルオロメチル）、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ−、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルコキシ−（例えばトリフルオロメトキシ）、（Ｃ5Ｈ6）3Ｓｉ、（Ｃ1〜Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ、第二級アミノまたは−ＣＯ2−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル（例えば−ＣＯ2ＣＨ3）により置換された、フェニルまたはベンジル、からなる群から選択される同一または異なる基を２個含むものである。
【００３３】
好ましくは炭素原子を１〜６個含む、Ｐ上のアルキル置換基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ならびにペンチルおよびヘキシルの異性体である。Ｐ上の非置換またはアルキル置換のシクロアルキル置換基の例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロペンチル、エチルシクロペンチル、ジメチルシクロペンチル、メチルシクロヘキシル、エチルシクロヘキシルおよびジメチルシクロヘキシルである。Ｐ上のアルキル−、アルコキシ−、ハロアルキル−、ハロアルコキシ−およびハロゲン−置換の、フェニルおよびベンジル置換基の例は、ｏ−、ｍ−またはｐ−フルオロフェニル、ｏ−、ｍ−またはｐ−クロロフェニル、ジフルオロフェニル、ジクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ビストリフルオロメチルフェニル、トリストリフルオロメチルフェニル、トリフルオロメトキシフェニル、ビストリフルオロメトキシフェニル、および３，５−ジメチル−４−メトキシフェニルである。
【００３４】
好ましい第二級ホスフィン基は、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、非置換のシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基１〜３個により置換されたシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、ベンジルおよび特にフェニル（非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1〜Ｃ4−フルオロアルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−フルオロアルコキシ基１〜３個により置換される）からなる群から選択される同一の基を含むものである。
【００３５】
該第二級ホスフィノ基は、好ましくは、式：−ＰＲ3Ｒ4（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ互いに独立して、炭素原子を１〜１８個有する炭化水素基であり、非置換であるか、またはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルコキシ、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2アミノ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1〜Ｃ12−アルキル）3Ｓｉもしくは−ＣＯ2−Ｃ1〜Ｃ6−アルキルで置換されており、そして／あるいはヘテロ原子：Ｏを含む）に相当する。
【００３６】
Ｒ3およびＲ4は、好ましくは、線状もしくは分枝状Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、非置換のシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基１〜３個により置換されたシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、フリル、ノルボルニル、アダマンチル、非置換のベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基１〜３個により置換されたベンジル、および特に非置換のフェニル、またはＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、−ＮＨ2、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1〜Ｃ4−フルオロアルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−フルオロアルコキシ基１〜３個により置換されたフェニル、からなる群から選択される同一の基である。
【００３７】
Ｒ3およびＲ4は、特に好ましくは、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フリル、非置換のフェニルまたはＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシおよび／またはＣ1〜Ｃ4−フルオロアルキル基１〜３個により置換されたフェニルからなる群から選択される同一の基である。
【００３８】
第二級ホスフィン基：Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は、環式第二級ホスフィノ、例えば、式：
【００３９】
【化５】
2008505162.tif 000004
【００４０】
で示される基にすることができ、非置換であるか、または−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ4〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルフェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシフェニル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシベンジルオキシ、もしくはＣ1〜Ｃ4−アルキリデンジオキシル基１個以上により置換される。
【００４１】
該置換基は、キラルＣ原子を導入するために、α位の一方または両方でＰ原子に結合することができる。α位の一方または両方の置換基は、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはベンジルであり、例えば、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ベンジル、−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、または−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールである。
【００４２】
β、γ位の置換基は、例えば、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、ベンジルオキシ、−Ｏ−ＣＨ2−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）−Ｏ−、および−Ｏ−Ｃ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2−Ｏ−にすることができる。幾つかの例は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−Ｏ−ＣＨ（フェニル）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（メチル）−Ｏ−、および−Ｏ−Ｃ（メチル）2−Ｏ−である。
【００４３】
先の式で示される基において、脂肪族５−もしくは６−員環、またはベンゼンは、隣接する炭素原子２個で縮合することができる。
【００４４】
他の公知で適切な第二級ホスフィン基は、環中に炭素原子を７個有する環式キラルホスホラン、例えば式：
【００４５】
【化６】
2008505162.tif 000005
【００４６】
で示される基（ここで、芳香族環は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ2−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキリデンジオキシル、またはＣ1〜Ｃ4−アルキレンジオキシルにより置換されていてもよい）で示される基である（ＵＳ２００３／００７３８６８  Ａ１およびＷＯ０２／０４８１６１参照）。
【００４７】
置換の型および置換基の数に応じて、環式ホスフィン基は、Ｃ−キラル、Ｐ−キラル、またはＣ−およびＰ−キラルにすることができる。
【００４８】
環式第二級ホスフィノは、例えば、式：
【００４９】
【化７】
2008505162.tif 000006
【００５０】
（式中、基：Ｒ'およびＲ''は、それぞれＣ1〜Ｃ4−アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ベンジル、−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールであり、Ｒ'およびＲ''は、同一でありまたは異なる）に相当することができる（可能なジアステレオマーの内の１種だけを示した）。Ｒ'およびＲ''が、同じ炭素原子に結合している場合、それらは一緒になって、Ｃ4〜Ｃ5−アルキレン基を形成することができる。
【００５１】
式Ｉで示される化合物の好ましい実施形態において、基：Ｘ1は、好ましくは同一であり、基：Ｘ2およびＸ3は、同一であるかまたは異なっており、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は、好ましくは、−Ｐ（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2、−Ｐ（Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル）2、−Ｐ（Ｃ7〜Ｃ12−ビシクロアルキル）2、−Ｐ（ｏ−フリル）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2、−Ｐ［２−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）2Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，４，５−トリス（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）2Ｃ6Ｈ3］2、および−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2−４−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ2］2からなる群から選択される非環式第二級ホスフィン、あるいは非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ2−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキリデンジオキシル、非置換のメチレンジオキシル、もしくはフェニル置換のメチレンジオキシル基１個以上により置換された、
【００５２】
【化８】
2008505162.tif 000007
【００５３】
からなる群から選択される環式ホスフィンである。
【００５４】
幾つかの具体的な例は、−Ｐ（ＣＨ3）2、−Ｐ（ｉ−Ｃ3Ｈ7）2、−Ｐ（ｎ−Ｃ4Ｈ9）2、−Ｐ（ｉ−Ｃ4Ｈ9）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ11）2、−Ｐ（ノルボルニル）2、−Ｐ（ｏ−フリル）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2、−Ｐ［２−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）2Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（メトキシ）2Ｃ6Ｈ3］2、および−Ｐ［３，５−ビス（メチル）2−４−（メトキシ）Ｃ6Ｈ2］2、ならびに式：
【００５５】
【化９】
2008505162.tif 000008
【００５６】
（式中、Ｒ'は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル、またはベンジルオキシメチルであり、Ｒ''は、Ｒ'と同じ意義を有する）で示される基である。
【００５７】
環式ホスホナイト基：Ｘ1は、基：−Ｏ−Ｐ−Ｏ−の酸素原子がα，ω位のＣ2〜Ｃ5−鎖に結合した５〜８員環にすることができ、炭素鎖はバイアロマティックまたはバイヘテロアロマティックの一部になることができる。環式ホスホナイト基のＣ原子は、非置換にするか、または、例えばＲ1に関して列挙した置換基により置換されることができる。好ましい置換基は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、ＣＦ3および−Ｃ（Ｏ）−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルである。基：−Ｏ−Ｐ−Ｏ−が脂肪族鎖に結合している場合、後者は、好ましくは置換または非置換の１，２−エチレンまたは１，３−プロピレンである。
【００５８】
環式ホスホナイト基：Ｘ1は、例えば、置換または非置換のＣ2〜Ｃ4−アルキレンジオール、好ましくはＣ2−ジオールから形成され、式XIII：
【００５９】
【化１０】
2008505162.tif 000009
【００６０】
（式中、Ｔは、直接結合、または非置換もしくは置換の−ＣＨ2−もしくは−ＣＨ2−ＣＨ2−である）に相当することができる。好ましいのは、Ｔが直接結合であること、およびこれより式XIIIa：
【００６１】
【化１１】
2008505162.tif 000010
【００６２】
（式中、Ｒ100は、水素、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、フェニル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、メチレンジオキシル、アルキリデニルジオキシル、またはＣ2〜Ｃ4−アルキレンジオキシルである）を有するホスホナイト基である。アルキリデニルジオキシルの例は、−ＯＣ（ＣＨ3）2Ｏ−、−ＯＣＨ（ＣＨ3）Ｏ−、−ＯＣＨ（Ｃ2Ｈ5）Ｏ−、−ＯＣＨ（ｎ−Ｃ3Ｈ7）Ｏ−、−ＯＣＨ（ｉ−Ｃ3Ｈ7）Ｏ−、−ＯＣＨ（Ｃ6Ｈ5）Ｏ−、および−ＯＣ（Ｃ2Ｈ5）2Ｏ−である。
【００６３】
他の環式ホスホナイトは、例えば、１，１'−ビフェニル−２，２'−ジオールから誘導され、式：XIV：
【００６４】
【化１２】
2008505162.tif 000011
【００６５】
（各フェニル環は、非置換であるか、または置換基、例えばＲ1について先に列挙した置換基、好ましくはハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、ＣＦ3、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシもしくは−Ｃ（Ｏ）−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル１〜５個により置換される）に相当することができる。
【００６６】
他の環式ホスホナイトは、例えば、１，１'−ビナフチル−２，２'−ジオールから誘導され、式：XV：
【００６７】
【化１３】
2008505162.tif 000012
【００６８】
（各ナフチル環は、非置換であるか、または置換基、例えばＲ1について先に列挙した置換基、好ましくはハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、ＣＦ3、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシもしくは−Ｃ（Ｏ）−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル１〜６個により置換される）に相当することができる。
【００６９】
他の環式ホスホナイトは、例えば、１，１'−ビへテロ芳香族−２，２'−ジオールから誘導され、式：XVI：
【００７０】
【化１４】
2008505162.tif 000013
【００７１】
（各フェニル環は、非置換であるか、または置換基、例えばＲ1について先に列挙した置換基、好ましくはハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、ＣＦ3、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシもしくは−Ｃ（Ｏ）−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル１〜４個により置換され、Ａは、−Ｏ−、−Ｓ−、＝Ｎ−、−ＮＨ−または−ＮＣ1〜Ｃ4−アルキル−である）に相当することができる。
【００７２】
式Ｉで示される化合物は、好ましくは式Ｉａ（Ｒ，Ｓ，Ｒ'，Ｓ'配置）もしくはＩｄ（Ｓ，Ｒ，Ｓ'，Ｒ'配置）で示されるジアステレオマー、またはそれらの混合物として、あるいは式Ｉｃ（Ｒ，Ｒ，Ｒ'，Ｒ'配置）もしくはＩｂ（Ｓ，Ｓ，Ｓ'，Ｓ'配置）で示されるジアステレオマー、またはそれらの混合物：
【００７３】
【化１５】
2008505162.tif 000014
として存在する。
【００７４】
アキラル反応の場合、考えられる立体異性体の混合物のいずれを用いることができる。
【００７５】
式Ｉで示される化合物、およびジアステレオマーまたはジアステレオマーの混合物は、例えば、ＵＳ−Ａ−５，４６３，０９７、T. Hayashi et al.によるJ. of Organometallic Chemistry, 370 (1989), pages 129-139、またはＷＯ９６／１６９７１に記載されているようなそれら自体知られている方法または類似の方法によって製造することができる。ホスホナイトの製法は、ＵＳ−Ａ−６，５８３，３０５に記載されている。代替法として、第二級ホスホナイトまたはハロゲン化ホスホナイトを公知の手法でジオールから製造し、その後、更に使用することができる（X-P Hu et al., Organic Letters Vol. 6, No. 20, pages 3585 to 3588 (2004)参照）。
【００７６】
各シクロペンタジエニル環中に−ＣＨＲ−Ｏ−アルキルまたは−ＣＨＲ−ＮＲ2基（式中、Ｒは、置換基である）を有するフェロセンは公知である。これらの化合物と、アルキルＬｉ（ブチルＬｉ、メチルＬｉ）２当量との反応、およびモノハロホスフィン２当量の付加により、第二級ホスフィン基：Ｘ2およびＸ3を導入することを可能にする。得られたジホスフィンは、−ＣＨＲ−ＮＲ2基を含む場合はフェリホスとして知られるようになった。その後、第二級ホスフィンまたはホスホナイト：Ｘ1−Ｈ  ２当量を用いて、公知の手法で、２個のＯ−アルキルまたはＮＲ2基を置換する。この方法では、例えば排除することができるトリメチルシリルのような補助的な置換基を用いて、シクロペンタジエニル環中のオルト位を遮断することが可能であり、こうして目的の手法で式ＩcおよびＩdで示されるジアステレオマーを製造することを可能にする。このようにして、式Ｉ中ｎが０である化合物が得られる。
【００７７】
式Ｉ中、Ｒ0およびＲ00が、それぞれ水素であるキラルフェロセンを製造するには、Ｎ−結合のキラルアミン基、例えば（Ｒ）−または（Ｓ）−Ｏ−メチルプロリノールがＣＨ2基に結合したフェロセンを、出発原料として用いて、上記プロセス工程を実施する。
【００７８】
式Ｉ中、ｎが１である化合物は、ＷＯ０２／２６７５０に記載された方法と類似の方法で製造することができる。各シクロペンタジエニル環中に−ＣＨＲ−ＮＲ2基［例えば、−ＣＨ（ＣＨ3）−ＮＨ（ＣＨ3）］を有するフェロセンは公知である。これらの化合物と、アルキルＬｉ（ブチルＬｉ、メチルＬｉ）２当量との反応、およびモノクロロホスフィン２当量の付加は、第二級ホスフィン基：Ｘ2およびＸ3を導入することを可能にする。その後、生成物を、ＷＯ０２／２６７５０に記載されるとおりにカルボン酸無水物、例えば無水酢酸と反応させ、その後、第一級アミン：Ｒ2ＮＨ2と反応させる。その後、得られた式II：
【００７９】
【化１６】
2008505162.tif 000015
【００８０】
で示される化合物（可能な異性体の内の一種だけを示した）において、ハロゲン化ホスフィンまたはハロゲン化ホスホナイト：Ｘ1−ハロゲン（ハロゲンは、例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉである）２当量との反応により、アミン基上の水素原子を所望の基：Ｘ1に置換することができる。
【００８１】
フェロセンを製造する方法において、中間体を、例えば、蒸留、結晶化、またはクロマトグラフィーにより精製した後に、それらを次の工程で用いることができる。中間体は、公知の方法で高い光学純度で得られる。式Ｉで示される化合物は、良好な収率および純度で得られる。
【００８２】
式ＩおよびＩa〜Ｉfで示される新規な化合物は、有機合成のための優れた触媒または触媒前駆体である金属錯体を形成するための配位子である。金属は、好ましくは遷移金属の中から選択される。特に好ましいのは、金属：Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒである。非常に特別に好ましい金属は、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｒｕ、ＲｈおよびＩｒである。有機合成の例は、プロキラル不飽和有機化合物の不斉水素化、アミンカップリング、エナンチオ選択的開環およびヒドロシリル化である。プロキラル不飽和有機化合物が用いられる場合、非常に高い過剰の光学異性体が有機化合物の合成で誘導され得、高い化学的変換率が短時間で達成されることができる。達成されることができるエナンチオ選択性および触媒活性は、優れている。
【００８３】
本発明は、更に、配位子としての式Ｉで示される化合物と遷移金属の群から選択される金属との金属錯体であって、遷移金属が合計で１当量より多くかつ２当量まで結合した金属錯体を提供する。結合したＴＭ−８金属の量は、好ましくは１．１〜２当量、特に好ましくは１．５〜２当量、非常に特別に好ましくは１．７〜２当量である。
【００８４】
可能な金属は、例えば、Ｃｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、ＲｕおよびＰｔである。
【００８５】
特に好ましい金属は、ルテニウム、ロジウムおよびイリジウムである。
【００８６】
該金属錯体は、金属原子の酸化数および配位数に応じて、更なる配位子および／または陰イオンを含むことができる。該錯体は、また、陽イオン性金属錯体にすることもできる。そのような類似の金属錯体およびそれらの製法は、文献に広範に記載されている。
【００８７】
該金属錯体は、例えば、一般式III、IVおよびＶ：
【００８８】
【化１７】
2008505162.tif 000016
【００８９】
（式中、
Ａ1は、式Ｉで示される化合物であり；
Ｌは、同一もしくは異なる単座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表すか、またはＬは、同一もしくは異なる二座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表し；
Ｌが単座配位子である場合、ｎは２、３もしくは４であり、またはＬが二座配位子である場合、ｎは１もしくは２であり；
ｚは、１、２または３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、Ｉｒ、およびＲｕからなる群から選択される金属であり、金属は、酸化状態：０、１、２または３であり；
Ｅ-は、オキソ酸または錯酸の陰イオンまたは二価陰イオンであり；
該陰イオン性配位子は、該金属の酸化状態：１、２、３または４の電荷と均衡を保っている）に相当することができる。
【００９０】
式Ｉで示される化合物に関しては、上記の好適さおよび実施形態が適用される。
【００９１】
単座非イオン性配位子は、例えば、オレフィン（例えば、エチレン、プロピレン）、溶媒和溶媒（solvating solvents）（ニトリル、線状または環式エーテル、非アルキル化またはＮ−アルキル化アミドおよびラクタム、アミン、ホスフィン、アルコール、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル）、一酸化窒素、および一酸化炭素からなる群から選択することができる。
【００９２】
適切な多座陰イオン性配位子は、例えば、アリル（アリル、２−メタリル）または脱プロトン化１，３−ジケト化合物、例えばアセチルアセトナートおよびシクロペンタジエニルである。
【００９３】
単座陰イオン性配位子は、例えば、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、擬ハロゲン化物（シアニド、シアナート、イソシアナート）、ならびにカルボン酸、スルホン酸およびホスホン酸の陰イオン（カルボナート、ホルマート、アセタート、プロピオナート、メチルスルホナート、トリフルオロメチルスルホナート、フェニルスルホナート、トシラート）からなる群から選択することができる。
【００９４】
二座非イオン性配位子は、例えば、線状または環式ジオレフィン（例えば、ヘキサジエン、シクロオクタジエン、ノルボルナジエン）、ジニトリル（マロノジニトリル）、非アルキル化またはＮ−アルキル化カルボン酸ジアミド、ジアミン、ジホスフィン、ジオール、ジカルボン酸ジエステルおよびジスルホン酸ジエステルからなる群から選択することができる。
【００９５】
二座陰イオン性配位子は、例えば、ジカルボン酸、ジスルホン酸およびジホスホン酸（例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、メチレンジスルホン酸およびメチレンジホスホン酸）、ジベンジリデンアセトン、π結合した芳香族化合物（例えばクメン）からなる群から選択することができる。
【００９６】
好ましい金属錯体としては、Ｅが、−Ｃｌ-、−Ｂｒ-、−Ｉ-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、ＳＯ42-、オキサラート、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、テトラアリールボラート（例えば、Ｂ（フェニル）4-、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］4-、Ｂ［ビス（３，５−ジメチル）フェニル］4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-およびＢ（４−メチルフェニル）4-など）、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-またはＳｂＦ6-であるものも挙げられる。
【００９７】
パラジウム錯体は、多くの場合、Ｐｄ（０）またはＰｄ（II）、および本発明の配位子から誘導される。本発明の配位子との反応に適したＰｄ前駆体の例は、無機（ハロゲン化物）または有機（カルボキシラート）陰イオンとのＰｄ（II）塩である。Ｐｄ（０）についてよく用いられる前駆体、Ｐｄ−ジベンジリデンアセトンである。
【００９８】
水素化に特に適した特に好ましい金属錯体は、式VI、VIIおよびVIII：
【００９９】
【化１８】
2008505162.tif 000017
【０１００】
（式中、
Ａ1は、式Ｉで示される化合物であり；
Ｍｅ2は、ロジウムまたはイリジウムであり；
Ｙは、２種のオレフィンまたは１種のジエンであり；
Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；
Ｅ1-は、オキソ酸または錯酸の陰イオンである）に相当する。
【０１０１】
先に記載した実施形態および好適さは、式Ｉで示される化合物に適用される。
【０１０２】
オレフィン：Ｙは、Ｃ2〜Ｃ12−オレフィン、好ましくはＣ2〜Ｃ6−オレフィン、特に好ましくはＣ2〜Ｃ4−オレフィンにすることができる。例は、プロペン、１−ブテンであり、特にエチレンである。ジエンは、炭素原子を５〜１２個、好ましくは５〜８個含有することができ、開鎖、環式、または多環式ジエンにすることができる。ジエンのオレフィン基２個は、好ましくは、ＣＨ2基１または２個に結合している。例は、１，４−ペンタジエン、シクロペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−シクロヘキサジエン、１，４−または１，５−ヘプタジエン、１，４−または１，５−シクロヘプタジエン、１，４−または１，５−オクタジエン、１，４−または１，５−シクロオクタジエン、およびノルボルナジエンである。Ｙは、好ましくはエチレン２分子、または１，５−ヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエンもしくはノルボルナジエンである。
【０１０３】
式VIにおいて、Ｚは、好ましくはＣｌまたはＢｒである。Ｅ1の例は、ＢＦ4-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、Ｂ（フェニル）4-、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-、またはＳｂＦ6-である。
【０１０４】
本発明は、遷移金属の群から選択される異なる金属２種を含む金属錯体を包含する。この場合、一方の金属：Ｍｅ1が０．０１〜１．９９当量、好ましくは０．５〜１当量、そして対応して他方の金属：Ｍｅ2が１．９９〜０．０１当量、好ましくは１．５〜１当量存在することができる。これらの錯体は、特に好ましくは、一方の金属：Ｍｅ1を０．８〜１．２当量、そして対応して他方の金属：Ｍｅ2を１．２〜０．８当量含む。遷移金属の可能な組合わせは、例えば、Ｒｈ／Ｒｕ、Ｒｈ／Ｉｒ、Ｒｕ／Ｉｒ、Ｉｒ／Ｐｔ、Ｉｒ／Ｐｄ、Ｒｈ／Ｐｔ、Ｒｈ／Ｐｄ、Ｒｕ／ＰｔおよびＲｕ／Ｐｄである。
【０１０５】
該金属錯体は、例えば、一般式IXおよびＸ：
【０１０６】
【化１９】
2008505162.tif 000018
【０１０７】
（式中、
ｘは、０．５〜１．５であり、ｙは、１．５〜０．５であり、ｘ＋ｙは、２であり；
Ｍｅ1およびＭｅ2は、異なる遷移金属であり；
Ａ1、Ｌおよびｚは、好適さを含む上述の意義を有する）に相当する。
【０１０８】
遷移金属：Ｍｅ1およびＭｅ2は、好ましくはロジウム、イリジウム、ルテニウム、白金、およびパラジウムからなる群から選択され、特に好ましくはルテニウム、ロジウムおよびイリジウムからなる群から選択される。
【０１０９】
指数：ｘは、好ましくは０．８〜１．２であり、指数：ｙは、好ましくは対応して１．２〜０．８の数である。
【０１１０】
異なる遷移金属２種を有する金属錯体は、好ましくは式XIおよびXII：
【０１１１】
【化２０】
2008505162.tif 000019
【０１１２】
（式中、Ａ1、Ｌ、Ｍｅ1、Ｍｅ2、Ｙ、ＺおよびＥ1は、好適さを含む上述の意義を有する）に相当する。
【０１１３】
本発明の金属錯体は、文献で知られる方法により製造する（ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４、ＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１、E. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto(Eds), Comprehensive Asymmetric Catalysis I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999、および本明細書に引用された参考文献も参照）。
【０１１４】
本発明の金属錯体は、反応条件下で活性化し得て、プロキラル不飽和有機化合物上での不斉付加反応に用い得る、均一触媒または触媒前駆体である（E. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalysis I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999,およびB. Cornils et al., Applied Homogeneous Catalysis with Organometallic Compounds, Volume 1,Second Edition, Wiley VCH-Verlag (2002)参照）。更なる用途は、例えば、パラジウム錯体を用いて第一級もしくは第二級アミンによるハロゲン化物もしくはスルホン化物のような脱離基を含む芳香族もしくはヘテロ芳香族のアミノ化、またはオキサ二環式アルカン（oxabicyclic alkanes）のＲｈ触媒によるエナンチオ選択的開環反応である（M. Lautens et al. Acc. Chem. Res. Volume 36 (203), pages 48-58）。
【０１１５】
該金属錯体は、例えば、炭素／炭素または炭素／へテロ原子二重結合を有するプロキラル化合物の不斉水素化（水素の付加）に用いることができる。可溶性均一金属錯体を用いたそのような水素化は、例えば、Pure and Appl. Chem., Vol. 68, No. 1, pp. 131-138(1996)に記載されている。水素化される好ましい不飽和化合物は、基：Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏを含む。本発明によれば、好ましいのは、ルテニウム、ロジウムおよびイリジウムの金属錯体を水素化に用いることである。
【０１１６】
本発明は、更に、プロキラル有機化合物中の炭素−炭素または炭素−へテロ原子二重結合に水素を不斉付加することによりキラル有機化合物を製造するための均一触媒としての、本発明の金属錯体の使用を提供する。
【０１１７】
本発明の更なる態様は、触媒量の、本発明に従う金属錯体の少なくとも１種の存在下で、付加反応を実施することを特徴とする、触媒の存在下でプロキラル有機化合物中の炭素−炭素または炭素−へテロ原子二重結合に水素を不斉付加することにより、キラル有機化合物を製造する方法である。
【０１１８】
水素化される好ましいプロキラル不飽和化合物は、開鎖または環式有機化合物中に同一のまたは異なるＣ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏ基を１個以上含有することができ、ここで、Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏ基は、環系の一部になることができるかまたは環外基である。該プロキラル不飽和化合物は、アルケン、シクロアルケン、ヘテロシクロアルケン、開鎖または環式ケトン、α，β−ジケトン、αまたはβ−ケトカルボン酸、ならびにそれらのα，β−ケトアセタールもしくは−ケトケタール、エステル、アミド、ケチミン、およびケトヒドラゾン（kethydrazones）にすることができる。アルケン、シクロアルケン、ヘテロシクロアルケンは、エナミドも包含する。
【０１１９】
本発明の方法は、低温または高温、例えば−２０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃、特に好ましくは１０〜８０℃の温度で実施することができる。光学収率は、一般に高温よりも比較的低温で良好である。
【０１２０】
本発明の方法は、大気圧または超大気圧で実施することができる。圧力は、例えば、１０5〜２×１０7Ｐａ（パスカル）であってもよい。水素化は、大気圧または過圧で実施することができる。
【０１２１】
触媒は、水素化される化合物に基づいて、好ましくは０．００００１〜１０モル％、特に好ましくは０．００００１〜５モル％、非常に特別に好ましくは０．００００１〜２モル％の量で用いる。
【０１２２】
配位子および触媒の製造、ならびに水素化は、不活性溶媒の存在下または非存在下で実施することができ、溶媒１種または溶媒の混合物を用いることができる。適切な溶媒は、例えば、脂肪族、脂環式、および芳香族炭化水素（ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン）、脂肪族ハロゲン化炭化水素（塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、およびテトラクロロエタン）、ニトリル（アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エーテル（ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、またはジエチレングリコールモノエチルエーテル）、ケトン（アセトン、メチルイソブチルケトン）、カルボン酸エステルおよびラクトン（酢酸エチル、酢酸メチル、バレロラクトン）、Ｎ−置換のラクタム（Ｎ−メチルピロリドン）、カルボキサミド（ジメチルアミド、ジメチルホルムアミド）、非環式尿素（ジメチルイミダゾリン）、スルホキシドおよびスルホン（ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホキシド、テトラメチレンスルホン）、フッ素化または非フッ素化アルコール（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、１，１，１−トリフルオロエタノール）、および水である。更に、適した溶媒は、低分子量カルボン酸、例えば酢酸である。溶媒は、単独で、または少なくとも２種の溶媒の混合物として用いることができる。
【０１２３】
反応は、共触媒、例えば第四級ハロゲン化アンモニウム（ヨウ化テトラブチルアンモニウム）の存在下、および／またはプロトン酸（例えば鉱酸）の存在下で実施することができる（例えば、ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４、ＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１、およびＥＰ−Ａ−０，６９１，９４９参照）。同じく、１，１，１−トリフルオロエタノールのようなフッ素化アルコールの存在は、触媒反応を促進することができる。プロキラルアリールケチミンの水素化において、ヨウ化テトラ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアンモニウムおよび鉱酸、好ましくはＨＩと組合わせたイリジウム錯体の使用が有用であることが見出された。
【０１２４】
触媒として用いられる金属錯体は、別個に製造して単離した化合物として添加することができるか、またはそれらを反応の前にその場で形成させ、その後、水素化する基材と混合することができる。単離した金属錯体を用いた反応の場合には、更なる配位子を添加することが有利となり得るかまたはその場で製造する場合には、過剰の配位子を用いることが有利になり得る。過剰は、製造に用いる金属化合物に基づいて、例えば最大６モルまで、好ましくは最大２モルまでにすることができる。
【０１２５】
本発明の方法は、一般に、反応容器内に触媒を入れ、その後、基材、そして所望なら反応助剤および付け足すべき化合物を添加し、次に反応を開始することにより実施する。付け足すガス状化合物、例えば水素は、好ましくは反応装置をそれらによって加圧することにより導入する。該方法は、様々な型の反応器で、連続式またはバッチ式で実施することができる。
【０１２６】
本発明により製造され得るキラル有機化合物は、特に調味料、香料、医薬品および農芸化学品の製造の分野で、そのような物質を製造するための活性物質またはそ中間体である。
【０１２７】
以下の実施例は、本発明を例示している。
【０１２８】
（Ａ）テトラホスフィのフェロセンの製造
【０１２９】
略語：Ｍｅはメチルであり、Ｅｔはエチルであり、Ｂｕはブチルであり、Ｐｈはフェニルであり、Ｘｙｌは３，５−ジメチルフェン−１−イルであり、Ｃｙはシクロヘキシルであり、Ａｃはアセチルであり、ＭＯＤは３，５−ジメチル−４−メトキシフェニルであり、ＴＨＦはテトラヒドロフランであり、ＴＢＭＥはｔ−ブチルメチルエーテルであり、ＭｅＯＨはメタノールであり、ＥｔＯＨはエタノールであり、ＤＭＥはジメトキシエタンであり、Ｅｔｐｙはピルビン酸エチルである。
【０１３０】
実施例Ａ１：
【０１３１】
【化２１】
2008505162.tif 000020
【０１３２】
ジシクロヘキシルホスフィン０．３４ml（１．７mmol）を、酢酸５ml中の（Ｒ，Ｓ）−ジアミンジホスフィン化合物（１）５３６mg（０．７７mmol）に添加して、赤色溶液を１０５℃で一晩撹拌した。冷却した後に、反応混合物をトルエンおよび水と共に振とうした。トルエン相を分別した後に、水相を塩化ナトリウム（水１０mlあたりＮａＣｌ  約２．５ｇ）と混和して、再度、トルエンで数回抽出した。有機相を一緒にして硫酸ナトリウムで乾燥させ、ロータリーエバポレータにより蒸発させた。赤色の粗生成物をクロマトグラフィー（シリカゲルMerk 60、溶離液：ヘプタン／ＴＢＭＥ  ５０：１）で精製した。生成物（Ａ１）を、固体の結晶性物質として得た。収量は、４２４mg（理論値の５５％）であった。
【表１】
2008505162.tif 000021
【０１３３】
実施例Ａ２：
【０１３４】
【化２２】
2008505162.tif 000022
【０１３５】
ジ−３，５−キシリルホスフィン（トルエン中力価２４．３％溶液を）１．７mmolを、酢酸２．５ml中の（Ｓ，Ｒ）−ジアミンジホスフィン化合物（１）５１８mg（０．７４mmol）に添加して、赤色溶液を１０５℃で一晩撹拌した。冷却した後に、反応混合物をトルエンおよび水と共に振とうした。有機相を一緒にして硫酸ナトリウムで乾燥させ、ロータリーエバポレータにより蒸発させた。赤色の粗生成物をクロマトグラフィー（シリカゲルMerk 60、溶離液：ヘプタン／ＴＢＭＥ  １０：１）で精製した。物質（Ａ２）を、固体材料として得た。収量は、５４０mg（理論値の６７％）であった。
【表２】
2008505162.tif 000023
【０１３６】
実施例Ａ３：
【０１３７】
【化２３】
2008505162.tif 000024
【０１３８】
酢酸中のジ−ｔ−ブチルホスフィン（２３．９mmol）の１０％溶液３５ｇを、（Ｓ，Ｒ）−ジアミンジホスフィン化合物（１）５．１２ｇ（７．３４mmol）に添加して、反応混合物を１０５℃で一晩撹拌した。冷却した後、酢酸をロータリーエバポレータにより減圧下で留去した。固体残渣を低温エタノール２５mlで２回洗浄し、高真空下で乾燥させた。その後、粗生成物を塩化メチレンに溶解して、水で抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒をロータリーエバポレータにより減圧下で留去した。トルエンから再結晶させて、黄色固体生成物を純度＞９０％、収率４８％で得た。
【表３】
2008505162.tif 000025
【０１３９】
実施例Ａ４：
【０１４０】
【化２４】
2008505162.tif 000026
【０１４１】
ａ）化合物（２）の製造
ｓ−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中１．３モル濃度）３０．４５ml（３９．６mmol）を、ジエチルエーテル２５ml中の化合物（０）５．１４４ｇ（１６．５mmol）の溶液に０〜５℃で約３０分間かけて撹拌しながら滴下し、反応混合物をこの温度で更に３．５時間撹拌した。その後、ビス（ＭＯＤ）クロロホスフィン１４．４４ｇ（４２．９mmol）を添加して、冷却機（cooling）を取り外し、反応混合物を更に一晩撹拌した。混合物を水とゆっくり混和し、水／ＴＢＭＥで抽出して有機相を収集し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒をロータリーエバポレータにより減圧下で留去した。粗生成物をカラム（シリカゲル６０；溶離液：エタノール）のクロマトグラフィーにより予備精製した。エタノールから再結晶させて、純粋な生成物７．０３ｇを黄色結晶材料として得た（収率：４６％）。
【表４】
2008505162.tif 000027
【０１４２】
ｂ）化合物（Ａ４）の製造
酢酸中のジ−ｔ−ブチルホスフィン（１２．０２mmol）の１０％溶液１８．９ｇを、酢酸２０ml中の（Ｓ，Ｒ）−ジアミンジホスフィン化合物（２）４．０ｇ（４．３１mmol）に添加して、反応混合物を１０５℃で一晩撹拌した。冷却した後に、混合物を塩化メチレン／水で抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させて、溶媒をロータリーエバポレータにより減圧下で留去した。粗生成物をクロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：１０  ヘプタン／１  ＴＢＭＥ／０．１  トリエチルアミン）により精製した。生成物を、橙色の有機結晶性化合物として得た（収率：５０％）
【表５】
2008505162.tif 000028
【０１４３】
実施例Ａ５：
【０１４４】
【化２５】
2008505162.tif 000029
【０１４５】
酢酸中のジ（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィン（３．０８mmol）の２４．３％溶液３．８１ｇを、酢酸４ml中の（Ｓ，Ｒ）−ジアミンジホスフィン化合物（２）１．０ｇ（１．２３mmol）に添加して、反応混合物を１０５℃で１０時間撹拌した。冷却した後に、酢酸をロータリーエバポレータにより減圧下で留去して、残渣を水／酢酸エチル抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させて、溶媒をロータリーエバポレータにより減圧下で留去した。クロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：１  酢酸エチル／９  ヘプタン）で精製して、所望の生成物を橙色固体として得た（収率：８１％）
【表６】
2008505162.tif 000030
【０１４６】
実施例Ａ６：
【０１４７】
【化２６】
2008505162.tif 000031
【０１４８】
ａ）化合物（３）の製造
ノナン中のｔ−ブチルヒドロペルオキシド（５．５モル濃度）の溶液２．６ml（１４．４mmol）を、ＴＨＦ４０ml中のＳ，Ｒ化合物（１）５ｇ（７．２mmol）の溶液に、０℃で撹拌しながら滴下した。次に、冷却機を取り外して、混合物を更に一晩撹拌し、黄色沈殿物を形成させた。ヘプタン４０mlを添加した後、混合物をろ過して、固体を少量のジエチルエーテルで洗浄し、減圧下で乾燥させた（収率：８８％）。粗生成物は純粋であり、更なる精製を行わずに、更に使用することができた。
【表７】
2008505162.tif 000032
【０１４９】
ｂ）化合物（４）の製造
ｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中の１．６モル）１０．４ml（１６．８mmol）を、ＴＨＦ２００ml中の化合物（３）４ｇ（５．６mmol）の溶液に、−７８℃で撹拌しながら滴下した。反応混合物をこの温度で更に２時間撹拌した。その後、ヨウ化メチル１．０５ml（１６．８mmol）を−７８℃で滴下して、反応混合物を更に−７８℃で０．５時間、その後、−４０℃で１時間、最後に−１０℃で３０分間撹拌した後に、激しく撹拌しながら−１０℃の水５mlを混和した。有機溶媒およびすべての未反応のヨウ化メチルを最高５０℃で減圧下で直ちに留去し、残渣を塩化メチレン／ＮａＣｌ水溶液で抽出した。有機相を収集して硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒をロータリーエバポレータにより減圧下で留去した。粗生成物を橙色固体として得、これを更なる精製を行わずに更に用いた（収率：＞９８％）。
【表８】
2008505162.tif 000033
【０１５０】
ｃ）化合物（５）の製造
トルエン（１０ml）中のホスフィンオキシド（４）  ３９０mg（０．５３mmol）およびＨＳｉ（ＯＥｔ）3  １．９ml（１０．５mmol）の懸濁液を、撹拌しながら加熱還流した。その後、チタン（IV）イソプロポキシド０．１９ml（０．６４mmol）を、２０分間かけてゆっくり滴下し、反応混合物を更に一晩還流した。冷却した後に、トルエンをロータリーエバポレータにより留去し、残渣を酢酸エチル２mlに懸濁させて、カラムにかけた。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝トリエチルアミンを１％含む酢酸エチル）により、所望の生成物を橙色泡状物として収率７３％で得た。
【表９】
2008505162.tif 000034
【０１５１】
ｄ）化合物（Ａ６）の製造
酢酸０．５ml中のジホスフィン（５）１２０mg（０．１７mmol）およびジシクロヘキシルホスフィン８１mg（０．４mmol）の溶液を、１０５℃で一晩撹拌した。冷却した後に、酢酸をロータリーエバポレータにより減圧下で留去し、その後、残渣をトルエンに取り出して、水で洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させて、トルエンをロータリーエバポレータにより蒸発させた。クロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：１  酢酸エチル／２０  ヘプタン）で精製して、所望の生成物を黄色固体として得た（収率：６７％）。
【表１０】
2008505162.tif 000035
【０１５２】
実施例Ａ７：
【０１５３】
【化２７】
2008505162.tif 000036
【０１５４】
酢酸１ml中のジホスフィン（５）２００mg（０．２８mmol）およびジ（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィン８６０mg（０．６９mmol）の溶液を、１０５℃で一晩撹拌した。冷却した後に、酢酸をロータリーエバポレータにより減圧下で留去した。クロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：１  酢酸エチル／２０  ヘプタン）で精製して、所望の生成物を橙色泡状物として得た（収率：６７％）。
【表１１】
2008505162.tif 000037
【０１５５】
実施例Ａ８：
【０１５６】
【化２８】
2008505162.tif 000038
【０１５７】
ａ）化合物（６）の製造
化合物（６）は、T. Hayashi et al.によりJ. Organometal. Chem., 370 (1989), pages 129-139に記載されたとおり製造した。
【０１５８】
ｂ）化合物（７）の製造
水中の４０％メチルアミン溶液４ml（３３．２mmol）を、イソプロパノール５ml中の化合物（６）４０３mg（０．５５mmol）に添加して、反応混合物を密閉式圧力アンプル（closed pressure ampoule）中で９０℃で６６時間撹拌した。揮発性成分を留去した後、残渣を酢酸エチル／ヘプタン１：１に取り出し、１０％水性クエン酸で抽出した。水相を酢酸エチル／ヘプタン１：１で洗浄した。溶液が塩基性になるまで２Ｎ  ＮａＯＨを添加した後に、粗生成物を塩化メチレンに抽出させ、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、その後、ロータリーエバポレータで蒸発させた。クロマトグラフィー（シリカゲル６０：溶離液＝シクロヘキサンを１％含むエタノール）により、所望の生成物を黄色固体泡状物として得た（収率：５８％）。
【表１２】
2008505162.tif 000039
【０１５９】
ｃ）化合物（Ａ８）の製造
トルエン２ml中の化合物（７）２０９mg（０．３１３mmol）、トリエチルアミン０．２ml（１．４mmol）、および塩化ジフェニルホスフィン０．１５ml（０．８１mmol）を、５０℃で一晩撹拌した。冷却した後に、ヘプタン１０mlを添加して、沈殿した塩化トリエチルアンモニウムをろ別して、ろ液をロータリーエバポレータにより減圧下で蒸発させた。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液：８０  ヘプタン／２０  酢酸エチル／２．５  トリエチルアミン）により、所望の生成物を固体橙色泡状物として得た（収率：９６％）。
【表１３】
2008505162.tif 000040
【０１６０】
実施例Ａ９：
【０１６１】
【化２９】
2008505162.tif 000041
【０１６２】
ａ）化合物（８）の製造
化合物（８）は、C. Glidewell et al.によりJ. Organometal. Chem. 527 (1997), pages 259-261に記載されたとおり製造した。
【０１６３】
ｂ）化合物（９）の製造
（Ｓ）−２−（メトキシメチル）ピロリジン４．９４ｇ（４２．８８mmol）を、乾燥アセトニトリル６００ml中の化合物（８）  ５．０１ｇ（８．５７mmol）に添加して、反応混合物を１００℃で７２時間撹拌した。冷却した後に、溶媒をロータリーエバポレータにより留去した。残渣を飽和水性ＮａＨＣＯ3／塩化メチレンで抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させて、ロータリーエバポレータにより蒸発させた。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝１  ＴＨＦ／２  ヘプタンおよびトリエチルアミン２％）により、所望の生成物を橙色油として得た。
【表１４】
2008505162.tif 000042
【０１６４】
ｃ）化合物（１０）の製造
化合物（９）７３０mg（１．６６mmol）を、ＴＢＭＥ  ２mlに溶解した。−７８℃で撹拌しながら、ｓ−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中の１．３モル濃度溶液）３．１８ml（４．１４mmol）をゆっくり滴下した。反応混合物を−７８℃で１時間、その後−３０℃で４時間撹拌した。その後、混合物を冷却して−７８℃に戻し、ジフェニルクロロホスフィン９８８mg（４．４８mmol）を添加した。１５分後に、冷却機を取り外して、反応混合物を一晩撹拌した。その後、水／ＴＢＭＥで抽出して、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒をロータリーエバポレータにより減圧下で留去した。クロマトグラフィー（シリカゲル６０：溶離液は、初め、Ｃｌ−ＰＰｈ2が溶出するまでは塩化メチレンであり、その後は１  ＴＨＦ／５  ヘプタンおよびトリエチルアミン１％）により、所望の生成物を黄色固体として得た（収率：７０％）。
【表１５】
2008505162.tif 000043
【０１６５】
ｄ）化合物（１１）の製造
無水酢酸５ml中の化合物（１０）４００mg（０．４９mmol）の溶液を、初め、１００℃で１時間、その後、９０℃で一晩貯蔵した。溶媒を減圧下で留去した。得られた残渣は、所望の生成物を＞９０％含んでいた。残渣を水／トルエンで抽出し、有機相を収集して、硫酸ナトリウムで乾燥させて、溶媒をロータリーエバポレータにより減圧下で留去した。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝１  ＴＨＦ／２  ヘプタンおよび１％トリエチルアミン）により、所望の生成物を黄色油として得た（収率：８７％）。
【表１６】
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【０１６６】
ｅ）化合物（Ａ９）の製造
メタノール０．５ml中の化合物（１１）３３mg（０．０４１mmol）およびジシクロヘキシルホスフィン９７μl（０．４１mmol）の溶液を、初め、９０℃で１５時間、その後、１００℃で更に１５時間撹拌した。反応混合物全部のクロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝１  ＴＨＦ／５  ヘプタンおよび１％トリエチルアミン）により、所望の生成物を橙色固体として得た。
【表１７】
2008505162.tif 000045
【０１６７】
実施例Ａ１０：
【０１６８】
【化３０】
2008505162.tif 000046
【０１６９】
メタノール１ml中の化合物（１１）１１０mg（０．１６mmol）とジ（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィン（トルエン中の２４％溶液）４５５μl（０．３４mmol）との混合物を、１００℃で一晩撹拌した。溶媒を減圧下で留去した後、残渣のクロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝１  ＴＨＦ／５  ヘプタンおよび１％トリエチルアミン）により、所望の生成物を橙色固体として得た。
【表１８】
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【０１７０】
Ｂ）使用例
【０１７１】
実施例Ｂ１：不飽和化合物の水素化
水素化を実施する方法、および光学収率：ｅｅの定量は、W. Weissensteiner et al.によるOrganometallics 21 (2002), pages 1766-1774に概括的な言葉で記載されている。触媒は、それぞれの場合で、配位子と触媒前駆体としての金属錯体（他に断りがなければ［Ｒｈ（ノルボルナジエン）2］ＢＦ4）とを混合することにより、溶媒中で「その場で」製造する。他に断りがなければ、基材濃度は０．２５mol/lであった。
水素化：
【０１７２】
【化３１】
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【０１７３】
ＭＡＡの変換率およびｅｅの定量を、キラルカラム（Chirasil-L-val）を用いたガスクロマトグラフィーにより実施した。
【０１７４】
【化３２】
2008505162.tif 000049
【０１７５】
ＥＡＣの水素化は、ＣＦ3ＣＨ2ＯＨ５％（v/v）の存在下、エタノール中で実施した。キラルカラム［Lipodex E(30m); １３０℃等温式；Ｈ2  １９０Kpa］を用いたガスクロマトグラフィーにより、ｅｅの定量を実施した。
【０１７６】
【化３３】
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【０１７７】
ＥＯＶの水素化において、［Ｒｕｌ2（ｐ−クメン）］2を、金属錯体および触媒前駆体として用いた。トリフルオロ酢酸無水物との反応の後に、キラルカラム［Lipodex E(30m)］を用いたガスクロマトグラフィーにより、ｅｅの定量を実施した。
【０１７８】
【化３４】
2008505162.tif 000051
【０１７９】
ＭＥＡの水素化において、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2を金属錯体および触媒前駆体として用いた。ヨウ化テトラブチルアンモニウム７０mgおよび酢酸１０mlの存在下で、ＭＥＡ（溶媒を含まない）１０５ｇを用いて、水素化をまとめて実施した。
【０１８０】
更なる詳細および結果を表１に示す。
【０１８１】
【表１９】
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【０１８２】
実施例Ｂ２：パラジウム錯体を用いた（ヘテロ）芳香族のアミノ化
触媒原液（ＤＭＥ１．７５ml中のＰｄ（ＯＡｃ）2  ０．０３５モルおよび配位子０．０１７５mmol）を調製した。第二の容器において、触媒原液０．０１mmol（Ｐｄに基づく、Ｓ／Ｃ＝１００）または０．００２mmol（Ｓ／Ｃ＝５００）、および最後にｎ−オクチルアミン１．２mmolを、内部標準としての少量のドデカンを含むＤＭＥ  １ml中のｏ−クロロピリジンまたはｐ−クロロトルエン  １mmolとＮａＯｔＢｕ  １．４mmolとの混合物に添加して、反応混合物を１００℃で撹拌した。反応をガスクロマトグラフィー（ＧＣ）によりモニターした。表に報告する結果は、面積によるＧＣ％に基づく。
【０１８３】
【化３５】
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【０１８４】
【表２０】
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酸アミドをアミンの代わりに用いてよい。
【国際調査報告】
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