(57)【要約】【課題】グラビアロールを用いて金属酸化物粒子を含有する塗布層を塗布する積層フィルムの製造方法において、塗布層のスジ状欠点の発生を抑制する。【解決手段】基材フィルム上に、グラビアロールを用いて塗布液を直接に塗布して塗布層を積層する積層フィルムの製造方法であって、前記塗布層は金属酸化物粒子を含有し、前記グラビアロールはロール周面に螺旋状の斜線型セルを１インチ（２５．４ｍｍ）当たり１５０線以上有し、かつ最表面がダイヤモンドライクカーボンで被覆されていることを特徴とする、積層フィルムの製造方法。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルム上に、グラビアロールを用いて塗布液を直接に塗布して塗布層を積層する積層フィルムの製造方法であって、前記塗布層は金属酸化物粒子を含有し、前記グラビアロールはロール周面に螺旋状の斜線型セルを１インチ（２５．４ｍｍ）当たり１５０線以上有し、かつ最表面がダイヤモンドライクカーボンで被覆されていることを特徴とする、積層フィルムの製造方法。
【請求項２】
塗布層における金属酸化物粒子の含有量が、塗布層の固形分総量１００質量％に対して５〜８０質量％である、請求項１に記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項３】
金属酸化物粒子が酸化珪素粒子または酸化ジルコニウム粒子である、請求項１または２に記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項４】
塗布層がさらに活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する、請求項１〜３のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項５】
基材フィルムが、すくなくとも樹脂と架橋剤を含有する熱硬化性の易接着層を有し、この易接着層上に塗布層を積層する、請求項１〜４のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材フィルム上にグラビアロールを用いて塗布液を直接に塗布して塗布層を積層する積層フィルムの製造方法に関し、詳しくは塗布層が金属酸化物粒子を含有する場合のスジ状欠点の発生を抑制することができる積層フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
グラビアロールを用いた塗布方式は一般的に知られており、特に薄膜の均一な塗布に好適である。グラビアロールはロールの周面にセルが形成されたロールで、グラビアロールに供給された塗布液はセルに一旦保持された後、連続搬送する基材フィルムにグラビアロールが接触することによってセル内の塗布液が基材フィルム上に塗布される。
【０００３】
一般的に用いられているグラビアロールは、炭素鋼やステンレス鋼を母材とするロールの周面にセルが形成され、さらにロール周面の硬度を上げるためにハードクロム（ＨＣｒ）等の硬質膜が被覆されている。硬質膜としては上記のハードクロム（ＨＣｒ）が一般的であるが、セラミックやダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）も硬質膜として使用されることが知られている。
【０００４】
近年、積層フィルムの製造方法において、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）被膜が表面に被覆されたグラビアロールを用いて基材フィルム上に塗布層を積層することが提案されている（特許文献１、２）。
【０００５】
一方、画像表示装置やタッチパネル等には、基材フィルム上に各種機能層（例えば反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、帯電防止機能、色補正機能等の機能層）を備えた光学フィルムが、画像表示面や表示装置（タッチパネル）の内部に用いられている。これらの光学フィルムは、上記機能に加えて透過率が高いことはもちろんであるが、スジやムラ等の欠点が少ないことが要求されている。
【０００６】
上記光学フィルムを構成する各種機能層には、その目的や用途に応じて金属酸化物粒子、例えば酸化珪素粒子（シリカ粒子）や酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子を含有させることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１３−６９８３号公報
【特許文献２】特開２０１３−３０３８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
グラビアロールを用いた塗布方式は、前述したように薄膜塗工に好適であるが、一方で、基材フィルムとグラビアロールとが接触しながら薄膜を形成するという塗布方式であることから、スジ状欠点が発生しやすいという問題がある。
【０００９】
上記問題は、塗布層が金属酸化物粒子を含有する場合に発生しやすくなり、更に、金属酸化物粒子の含有量が多くなるほど発生しやすくなる。
【００１０】
また、上記問題は、塗布層の厚みが薄膜になるほど発生しやすい傾向にある。
【００１１】
そこで、本発明の目的は、グラビアロールを用いて金属酸化物粒子を含有する塗布層を基材フィルム上に積層する積層フィルムの製造方法において、塗布層のスジ状欠点の発生を抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
[１]基材フィルム上に、グラビアロールを用いて塗布液を直接に塗布して塗布層を積層する積層フィルムの製造方法であって、前記塗布層は金属酸化物粒子を含有し、前記グラビアロールはロール周面に螺旋状の斜線型セルを１インチ（２５．４ｍｍ）当たり１５０線以上有し、かつ最表面がダイヤモンドライクカーボンで被覆されていることを特徴とする、積層フィルムの製造方法。
[２]塗布層における金属酸化物粒子の含有量が、塗布層の固形分総量１００質量％に対して５〜８０質量％である、[１]に記載の積層フィルムの製造方法。
[３]金属酸化物粒子が酸化珪素粒子または酸化ジルコニウム粒子である、[１]または[２]に記載の積層フィルムの製造方法。
[４]塗布層がさらに活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する、[１]〜[３]のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法。
[５]基材フィルムが、すくなくとも樹脂と架橋剤を含有する熱硬化性の易接着層を有し、この易接着層上に塗布層を積層する、[１]〜[４]のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、基材フィルム上にグラビアロールを用いて金属酸化物粒子を含有する塗布層を積層する積層フィルムの製造において、塗布層のスジ状欠点の発生を抑制することができる。
【００１４】
本発明の積層フィルムの製造方法は、特に光学フィルムあるいは表示装置やタッチパネルの保護フィルムの製造に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】図１は本発明で用いるグラビアロールの部分模式断面図である。
【図１Ａ】図１における土手部の範囲を説明するために、土手部を実線で示し、セルを点線で示した、説明用の図である。
【図２】図２は本発明で用いるリバースグラビア塗布装置の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明は、基材フィルム上に、グラビアロールを用いて塗布液を直接に塗布して塗布層を積層する積層フィルムの製造方法である。
【００１７】
本発明に係る塗布層は、金属酸化物粒子を含有する。
【００１８】
本発明に係るグラビアロールは、ロール周面に螺旋状の斜線型セルを１インチ（２５．４ｍｍ）当たり１５０線以上有し、かつ最表面がダイヤモンドライクカーボンで被覆されている。
【００１９】
本発明において、グラビアロールを用いて塗布液を基材フィルム上に直接に塗布するとは、図２に示すように、搬送される基材フィルム（５０）にグラビアロール（１０）を押し当てて塗布することを意味する。つまり、本発明の塗布方式はダイレクト方式であり、オフセット方式（グラビアロールと基材フィルムとの間にオフセットロールを配置する方式）は含まれない。
【００２０】
また、塗布液を基材フィルム上に直接に塗布するとは、基材フィルム上に他の層（例えば、易接着層や下地層等）を介在させずに塗布するという意味ではなく、従って、本発明に係る基材フィルムには、易接着層や下地層（アンダーコート層等）等の他の層が予め設けられた基材フィルムが含まれる。
【００２１】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００２２】
［グラビアロール］
本発明に係るグラビアロールは、ロール周面に螺旋状の斜線型セルを有する。この斜線型セルは、セル（溝）が螺旋状に連続的に繋がった構造となっている。
【００２３】
グラビアロールにおけるセルの形状としては、上記の斜線型の他に、格子型、ハニカム型（亀甲型）、ピラミッド型等が知られているが、斜線型以外の他のセル（格子型、ハニカム型（亀甲型）、ピラミッド型）は、個々のセルが独立して形成されている。
【００２４】
上記したように斜線型セルと他のセルとは、セル構造が基本的に異なっており、このセル構造の違いから、斜線型セルは他のセルに比べて気泡の発生が比較的抑制される傾向にある。これは、斜線型セルを有するグラビアロールは、グラビアロールが回転することにより、セル内に保持された塗布液がセル内を螺旋方向に移動（流動）することが、気泡の抑制に有効に作用していると考えられる。気泡の発生は、スジ状欠点の原因となることがある。
【００２５】
本発明に係るグラビアロールは、最表面がダイヤモンドライクカーボン（以下「ＤＬＣ」と略記する）で被覆されていることが特徴の一つである。
【００２６】
本発明に係るグラビアロールは、ロール周面に螺旋状の斜線型セルを１インチ（２５．４ｍｍ）当たり１５０線以上有する。つまり、グラビアロールの回転軸方向長さ１インチ（２５．４ｍｍ）当たり１５０個以上のセル（溝）を有する。
【００２７】
１インチ（２５．４ｍｍ）当たり１５０線以上の斜線型セルを有するグラビアロールは、塗布層を薄膜で均一に塗布するという観点から有効である。ここで、塗布層が均一であるとは、塗布幅方向における塗布層厚みが均一であること（塗布幅方向における厚みプロファイルが均一であること、即ち、ばらつきが小さいこと）を意味する。
【００２８】
上記観点から、斜線型セルの１インチ（２５．４ｍｍ）当たりの線数は、１６０線以上が好ましく、１７０線以上がより好ましく、１９０線以上が特に好ましい。線数の上限は３００線以下が好ましく、２５０線以下がより好ましい。３００線を超えると、塗布液の固形分濃度を高く設定する必要性があり、金属酸化物粒子を含有する塗布液を塗布するとスジ状欠点が発生しやすくなることがある。
【００２９】
一方、斜線型セルを有するグラビアロールの線数が１５０線以上と多くなると、塗布時における基材フィルムとグラビアロールとの接触面積が比較的大きくなる方向にある。つまり、斜線型セルを有するグラビアロールの線数が多くなると、図１に示す土手部４（塗布時に基材フィルムと接触する部分）の面積が大きくなる方向にある。
【００３０】
上記したように、１５０線以上の斜線型セルを有するグラビアロールは、塗布層を薄膜で均一に塗布するのに有効であるが、その一方、金属酸化物粒子を含有する塗布層を薄膜で塗布すると、スジ状欠点が発生しやすくなる。これは、１５０線以上の斜線型セルを有するグラビアロールは、塗布時における基材フィルムとグラビアロールとの接触面積が比較的大きくなることが起因していると考えられる。
【００３１】
この課題は、グラビアロールの最表面がＤＬＣで被覆されたグラビアロールを用いることによって解決する。つまり、金属酸化物粒子を含有する塗布層を基材フィルム上に、１５０線以上の斜線型セルを有するグラビアロールを用いて積層する積層フィルムの製造方法において、その課題であるスジ状欠点の発生は、最表面がＤＬＣで被覆されたグラビアロールを用いることによって抑制される。
【００３２】
以下、最表面がＤＬＣで被覆されたグラビアロールについて詳細に説明する。
【００３３】
図１は、本発明に係るグラビアロールの一部を示す部分模式断面図である。グラビアロール１の周面２には、複数のセル３とこれらのセルを区画する土手部４で構成されている（ここで、土手部４の範囲を、図１Ａを用いて説明すると、図１Ａにおいて実線にて示されている部分が土手部である。）。
【００３４】
本発明において、グラビアロールの最表面がＤＬＣで被覆されているとは、グラビアロール１の周面２の少なくとも土手部４が被覆されていることを意味する
グラビアロールを用いた塗布方式は、グラビアロールの周面を基材フィルムに押し当てて（接触させて）塗布する方式であり、グラビアロールにおける基材フィルムとの接触部分である土手部がＤＬＣ被膜で被覆されていることが重要である。
【００３５】
本発明において、土手部のみがＤＬＣ被膜で被覆されていてもよいし、または土手部とセル内の両方がＤＬＣ被膜で被覆されていてもよい。グラビアロールの耐摩耗性を向上させるという観点から、土手部とセル内の両方がＤＬＣ被膜で被覆されていることが好ましい。つまり、グラビアロールの周面における露出部の全域がＤＬＣ被膜で被覆されていることが好ましい。グラビアロールの周面における露出部の全域がＤＬＣ被膜で被覆されていることにより、前述したように気泡欠点の発生がさらに抑制される。
【００３６】
グラビアロールは、炭素鋼、ステンレス鋼、あるいは炭素繊維などの材料からなる母材ロールの周面にセルが形成されたものが一般的に知られており、本発明でも用いることができる。セルの形成は、母材ロールに直接あるいは金属めっき層（ニッケル、銅、チタン、クロム等の金属めっき層）を介して、エッチング方式、彫刻方式、レーザー方式等で形成される。
【００３７】
本発明で用いられるグラビアロールは、セルが形成されたロール周面の少なくとも土手部はＤＬＣ被膜で被覆されている。ＤＬＣ被膜はスパッタリングまたはプラズマＣＶＤ等によってロール周面に被覆されるので、通常、ロール周面の土手部とセル内は一緒にＤＬＣ被膜で被覆される。
【００３８】
本発明において、ＤＬＣ被膜の厚みは、スジ状欠点の発生を効果的に抑制するという観点から、０．１μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましく、特に１μｍ以上が好ましい。上限の厚みは、グラビアロールの加工性や塗布安定性の観点から１５μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、特に５μｍ以下が好ましい。
【００３９】
ＤＬＣ被膜はグラビアロールの最表面にあればよく、母材ロールとの密着を高める目的あるいは錆防止の目的で母材ロールとＤＬＣ被膜との間に、例えばハードクロム（ＨＣｒ）めっき層やニッケルめっき層などの別の層が１層もしくは複数層設けられていてもよい。
【００４０】
本発明に係るグラビアロールにおける斜線型セルのセル深度は、１０〜６０μｍの範囲が好ましく、１５〜５０μｍの範囲がより好ましい。また、斜線型セルの傾斜角度（グラビアロールの回転軸方向に対する角度）は、３０〜７０度の範囲が好ましく、４０〜６０度の範囲がより好ましい。
【００４１】
グラビアロールの外径は、スジ状欠点の発生を効果的に抑制するという観点から、１００ｍｍ以下が好ましく、８０ｍｍ以下がより好ましい。グラビアロールの外径を１００ｍｍ以下とすることにより、基材フィルムとの接触面積が小さくなり、スジ状欠点の発生が抑制されると推測される。グラビアロールの外径の下限は、塗布安定性を確保するという観点から２０ｍｍ以上が好ましく、３０ｍｍ以上がより好ましい。ここで、グラビアロールの外径とは、グラビアロールの周面の最表面（即ち、土手部）を基準とした外径であることを意味する。
【００４２】
[塗布層]
本発明に係る塗布層は、金属酸化物粒子を含有する。
【００４３】
本発明の塗布層が積層された積層フィルムは、各種光学フィルム（反射防止フィルム、防眩フィルム、透明導電性フィルム、透明導電性フィルム用ベースフィルム（屈折率調整フィルム）、赤外線遮蔽フィルム、紫外線吸収フィルム、色調調整フィルム等）や表示装置やタッチパネルの保護フィルム（ハードコートフィルム、防汚フィルム等）に好適である。
【００４４】
上記の光学フィルムや保護フィルムは、基材フィルム上に各種機能層が積層されている。例えば、反射防止層、防眩層、導電層、屈折率調整層、赤外線吸収層、紫外線吸収層、色調調整層、ハードコート層、防汚層等の機能層が基材フィルム上に積層されている。
【００４５】
上記の機能層は、その目的に応じて金属酸化物粒子を含有することがあり、本発明に係る塗布層は、金属酸化物粒子を含有する機能層に好適である。
【００４６】
本発明に係る塗布層に含有される金属酸化物粒子としては、例えば、酸化珪素粒子（シリカ粒子）、酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化錫粒子、酸化アンチモン粒子、酸化セリウム粒子、酸化鉄粒子、アンチモン酸亜鉛粒子、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、リンドープ酸化錫粒子、アルミニウムドープ酸化亜鉛粒子、ガリウムドープ酸化亜鉛粒子、フッ素ドープ酸化錫粒子等が挙げられる。
【００４７】
塗布層が例えば反射防止層あるいは屈折率調整層を構成する高屈折率層である場合、塗布層は屈折率が比較的高い金属酸化物粒子（例えば、酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ粒子）等）を含有し、
塗布層が反射防止層あるいは屈折率調整層を構成する低屈折率層である場合は、塗布層は屈折率が比較的低い金属酸化物粒子（例えば、酸化珪素粒子；シリカ粒子）を含有し、
塗布層が導電層である場合は、塗布層は導電性が比較的高い金属酸化物粒子（例えば、酸化亜鉛粒子、酸化錫粒子、酸化アンチモン粒子、酸化セリウム粒子、酸化鉄粒子、アンチモン酸亜鉛粒子、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、リンドープ酸化錫粒子、アルミニウムドープ酸化亜鉛粒子等）を含有し、
塗布層がハードコート層（滑り性や耐ブロッキング性が付与されたハードコート層）である場合は、塗布層は酸化珪素粒子（シリカ粒子）を含有することが好ましい。
【００４８】
上記したような金属酸化物粒子の中でも、上記機能層の機能を高い透明性を維持しながら効果的に発現させるという観点から、酸化珪素粒子や酸化ジルコニウム粒子が好ましく用いられる。したがって、金属酸化物粒子が酸化珪素粒子または酸化ジルコニウム粒子である場合に、本発明を特に好適に適用することができる。  塗布層に含有される金属酸化物粒子の平均粒子径は、塗布層を薄膜で均一に形成するという観点およびスジ状欠点の発生を抑制するという観点から、小さい方が好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径は、具体的には、０．５μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下がより好ましく、０．１μｍ以下が特に好ましく、０．０８μｍ以下が最も好ましい。平均粒子径の下限は、０．００５μｍ程度である。
【００４９】
また、塗布層を薄膜で均一に形成するという観点およびスジ状欠点の発生を抑制するという観点から、塗布層の厚み（乾燥厚み）（ｄ：μｍ）に対する金属酸化物粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）の比率（ｒ／ｄ）は、１．３以下が好ましく、１．０以下がより好ましく、０．９以下が特に好ましい。上記比率（ｒ／ｄ）の下限は０．０１程度である。
【００５０】
塗布層における金属酸化物粒子の含有量は、上記した機能層の機能を有効に発現させるという観点から、塗布層の固形分総量１００質量％に対して５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上が特に好ましい。このように、塗布層に含有される金属酸化物粒子の含有量が多くなるに伴ってスジ状欠点が発生しやすくなるが、前述した本発明に係るグラビアロールを用いることによってスジ状欠点の発生が抑制される。
【００５１】
塗布層における金属酸化物粒子の含有量の上限は、塗布層の固形分総量１００質量％に対して８０質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましく、７０質量％以下が特に好ましい。金属酸化物粒子の含有量が８０質量％を超えるとスジ状欠点が発生しやすくなる。
【００５２】
本発明に係る塗布層は、樹脂を含有することが好ましい。塗布層が樹脂を含有することによって、塗布層の塗布性が向上すること、金属酸化物粒子が均一に分散・保持されること、比較的堅牢な被膜が形成されること、および基材フィルムと塗布層との密着性が向上するなどの効果が得られる。
【００５３】
塗布層に含有される樹脂としては特に限定されないが、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく、特に活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましい。
【００５４】
熱硬化性樹脂は、熱によって重合または架橋する樹脂であり、例えばアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂等があげられる。これらの熱硬化性樹脂を含有する塗布液を塗布した後、加熱することによって硬化する。
【００５５】
活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線で重合し硬化する樹脂であり、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマーやオリゴマーが挙げられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。これらの活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗布液を塗布した後、活性エネルギー線が照射されることにより硬化する。
【００５６】
上記の分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例としては、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。
【００５７】
上記の分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するオリゴマーの例としては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、アルキット（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００５８】
上記した、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマーやオリゴマーは、単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。少なくとも、３官能以上の多官能モノマーや多官能オリゴマーを用いることが好ましい。
【００５９】
塗布層における樹脂の含有量は、前述の効果（例えば、塗布層の塗布性が向上すること、金属酸化物粒子が均一に分散・保持されること、比較的堅牢な被膜が形成されること、および基材フィルムと塗布層との密着性が向上されること）を有効に発現させるという観点から、塗布層の固形分総量１００質量％に対して１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましく、２０質量％以上が特に好ましい。上限の含有量は、９０質量％以下が好ましい。
【００６０】
塗布層が樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、塗布層はさらに光重合開始剤を含有することが好ましい。このような光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。
【００６１】
また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ（株）製のイルガキュア１８４、９０７、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３等、日本シイベルヘグナー（株）製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６等、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＣＴＸ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＭＢＩ等が挙げられる。
【００６２】
これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【００６３】
塗布層における光重合開始剤の含有量は、塗布層の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。
【００６４】
塗布層は、さらにレベリング剤、防汚剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤を含有することができる。
【００６５】
塗布層は、塗布層を形成するための塗布液（以下、「塗布液」と言う）を基材フィルム上に塗布することによって得られる。基材フィルム上に塗布された塗布液は、乾燥され、必要に応じて硬化（加熱硬化あるいは活性エネルギー線照射による硬化）されて塗布層が形成される。
【００６６】
本発明に係る塗布液は、少なくとも金属酸化物粒子を含有する。塗布液はさらに前述の樹脂を含有することが好ましく、また前述の光重合開始剤や各種添加剤を含有することができる。これらの成分は、有機溶媒および／または水系溶剤で溶解あるいは分散されて塗布液が調製される。
【００６７】
塗布液の固形分濃度は、０．５〜５０質量％の範囲が好ましく、１〜４０質量％の範囲がより好ましい。
【００６８】
塗布液は、比較的低粘度であることが好ましい。塗布液の粘度（２３℃）は、具体的には３０ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、２０ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、特に１０ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。塗布液の下限粘度は、０．３ｍＰａ・ｓ程度である。
【００６９】
また、塗布液のＷｅｔ塗布量は０．５〜２０ｇ／ｍ２の範囲が好ましく、１〜１０ｇ／ｍ２の範囲がより好ましく、特に１〜７ｇ／ｍ２の範囲が好ましい。
【００７０】
本発明は、塗布層が薄膜であるほど有効である。つまり、金属酸化物粒子を含有する塗布層をグラビアロールを用いて薄膜で塗布するとスジ状欠点が発生しやすい傾向にあるが、本発明のグラビアロールを用いることによって、スジ状欠点の発生は抑制される。
【００７１】
従って、塗布層の厚み（乾燥厚み）は、薄膜であるほど好ましい。塗布層の厚み（乾燥厚み）は、具体的には２．５μｍ以下が好ましく、１．７μｍ以下がより好ましく、１．０μｍ以下が特に好ましく、０．５μｍ以下が最も好ましい。塗布層の厚み（乾燥厚み）の下限は、安定して均一塗布性を確保するという観点から、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましい。
【００７２】
[基材フィルム]
本発明に係る基材フィルムとしては、ポリエステル樹脂フィルム、セルロース樹脂フィルム、ポリオレフィン樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、環状オレフィン樹脂フィルム、エポキシ樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリスルフォン樹脂フィルム、ポリフェニレンサルファイド樹脂フィルム、ポリエーテルスルフォン樹脂フィルム等が挙げられる。これらの樹脂フィルムの中でもポリエステル樹脂フィルムが好ましく、特に二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムは、物理特性（強度や耐摩耗性等）や耐溶剤性等に特に優れていることから好ましい。
【００７３】
上記基材フィルムの厚みは、１０〜３００μｍの範囲が適当であり、１５〜２５０μｍの範囲が好ましく、特に２０〜２００μｍの範囲が好ましい。
【００７４】
基材フィルムは、塗布層との密着性を向上させるために、易接着層が予め設けられていることが好ましい。
【００７５】
易接着層は、樹脂を含有する層であることが好ましい。易接着層における樹脂の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、６０質量％以上であることが特に好ましい。上限は９８質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、特に９０質量％以下が好ましい。
【００７６】
易接着層を構成する樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。これらの樹脂を単独あるいは複数種併用することができる。
【００７７】
易接着層は、塗布層との密着性を向上させるという観点から、易接着層に含有させる樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびポリウレタン樹脂からなる群の中から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。
【００７８】
易接着層は、更に架橋剤を含有することが好ましい。易接着層は、上述の樹脂と架橋剤を含有し、熱によって硬化せしめられる熱硬化性の層であることが好ましい。易接着層をこのような熱硬化層とすることにより、基材フィルムと塗布層との密着性をさらに向上させることができる。易接着層を熱硬化するときの条件（加熱温度、時間）は特に限定されないが、加熱温度は７０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましく、１５０℃以上が特に好ましく、２００℃以上が最も好ましい。上限は３００℃以下が好ましい。加熱時間は５〜３００秒の範囲が好ましく、１０〜２００秒の範囲がより好ましい。
【００７９】
上記架橋剤としては、例えばメラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メチロール化あるいはアルキロール化した尿素系架橋剤、アクリルアミド系架橋剤、ポリアミド系樹脂、アミドエポキシ化合物、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤などが挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が好ましく、特にメラミン系架橋剤が好ましい。
【００８０】
易接着層における架橋剤の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して０．５〜３０質量％の範囲が好ましく、１〜２５質量％の範囲がより好ましく、特に２〜２０質量％の範囲が好ましい。
【００８１】
易接着層は、その屈折率を比較的高目に設計するために、酸化チタンや酸化ジルコニウムなどの金属酸化物粒子を含有させることができる。易接着層におけるこれらの金属酸化物粒子の含有量は、易接着層の目標屈折率に応じて適宜調整されるが、具体的には易接着層の固形分総量１００質量％に対して１０〜６０質量％の範囲で調整されることが好ましい。
【００８２】
易接着層は、積層フィルムの製造工程における適度な滑り性を確保するという観点から、粒子を含有することが好ましい。かかる粒子（易滑性粒子）の平均粒子径は、易接着層の厚みより大きいものが好ましく、具体的には、粒子の平均粒子径は易接着層の厚みの１．１倍以上が好ましく、１．３倍以上がより好ましく、１．５倍以上が特に好ましい。
【００８３】
易接着層に含有させる粒子（易滑性粒子）としては特に限定されないが、シリカ、ゼオライトなどの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン（登録商標）粒子などの有機粒子が挙げられる。これらの中でもシリカ粒子が好ましく、特にコロイダルシリカが好ましい。
【００８４】
易接着層における粒子（易滑性粒子）の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して、０．１〜４質量％の範囲が好ましく、０．５〜３質量％の範囲がより好ましい。
【００８５】
易接着層の厚みは、１０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、１５〜１５０ｎｍ範囲が特に好ましい。
【００８６】
易接着層が予め設けられた基材フィルムは塗布層との密着性が向上する。一方、塗布層との密着性を向上させるために、易接着層の架橋度や硬度は比較的小さく設計されているが、このような架橋度や硬度が比較的小さい易接着層上に金属酸化物粒子を含有する塗布層をグラビアロールを用いて塗布すると、スジ状欠点の発生が助長されることがある。しかし、この問題は本発明に係るグラビアロールを用いることによって抑制される。
【００８７】
［積層フィルムの製造方法］
以下、本発明における積層フィルムの製造方法について詳細に説明する。
【００８８】
本発明の積層フィルムの製造方法は、基材フィルム上にグラビアロールを用いて塗布液を直接に塗布して塗布層を積層する積層フィルムの製造方法である。
【００８９】
本発明の製造方法では、塗布液を基材フィルム上に塗布した後に、該塗布液を乾燥させ、必要に応じて熱や活性エネルギー線によって硬化させて、塗布層が形成せしめられることが好ましい。
【００９０】
本発明に係る積層フィルムの製造方法は、グラビアロールを用いたリバースグラビア塗布方式を採用することが好ましい。係るリバースグラビア塗布方式は、連続搬送される基材フィルムの搬送方向とは逆方向に回転させられるグラビアロールが基材フィルムに押し当てられることによって、グラビアロールに供給された塗布液が基材フィルムに塗布される塗布方法である。通常、グラビアロールに供給された塗布液は基材フィルムに塗布される前に、その余剰分がドクターブレードによって掻き落とされて塗布量が調整される。
【００９１】
リバースグラビア塗布方式について以下に説明する。図２は、リバースグラビア塗布装置の一例を示す概略図である。このリバースグラビア塗工装置はキス方式であり、グラビアロール１０、塗布液供給手段２０、ドクターブレード３０、及び一対の搬送ローラ４１、４２を具備している。ここで、キス方式とは、基材フィルム５０を挟んでグラビアロール１０に対向する位置にバックロールが配置されていない方式であって、一対の搬送ローラ４１と４２に支持されながら搬送する基材フィルム５０にグラビアロール１０を押し当てて塗布する方式である。
【００９２】
グラビアロール１０は、図示しない回転駆動手段によって矢印ｙの方向へ駆動回転させられる。塗布液供給手段２０は、塗布液貯留容器２１と、この塗布液貯留容器２１に収容されている塗布液２２とで構成されている。一対の搬送ローラ４１、４２は、グラビアロール１０の両側に所定間隔をおいて配置されており、基材フィルム５０はグラビアロール１０が押し当てられた状態で矢印ｚの方向に搬送される。
【００９３】
グラビアロール１０は、その下部が塗布液貯留容器２１内の塗布液２２に浸漬するように配置されている。グラビアロール１０を回転させることによってグラビアロール１０の周面に形成されたセルに塗布液が供給され、ドクターブレード３０によってグラビアロール１０の周面の余剰塗布液が掻き落とされ、塗布液の量が調整される。グラビアロール１０を基材フィルム５０の搬送方向（矢印ｚの方向）とは逆方向（矢印ｙの方向）に回転させながら、グラビアロール１０を基材フィルム５０に押し当てることによって、グラビアロール１０のセル内の塗布液が基材フィルム５０に塗布される。
【００９４】
ドクターブレードの材質は特に制限されないが、ドクターブレードの母材にはステンレス鋼や炭素鋼が好ましく用いられる。また、ドクターブレードにおいてグラビアロールと接触する部分は、フッ素樹脂でコーティングされていることが好ましい。
【００９５】
本発明において、生産性アップの観点から塗布幅は広い方が好ましい。具体的には、塗布幅は１０００ｍｍ以上が好ましく、１３００ｍｍ以上がより好ましく、１５００ｍｍ以上が特に好ましい。上限の塗布幅は、２５００ｍｍ程度である。
【００９６】
このように塗布幅を広くするとスジ状欠点が発生しやすくなるが、本発明の製造方法を採用することによって、塗布幅が広い場合であっても有効にスジ状欠点の発生を抑制することができる。
【実施例】
【００９７】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法、評価方法および使用材料を以下に示す。
【００９８】
［測定方法および評価方法］
（１）易接着層および塗布層の厚み（乾燥厚み）の測定
基材フィルムあるいは積層フィルムの塗布幅方向中心部の断面を超薄切片に切り出し、透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて５万倍〜３０万倍の倍率で積層フィルムの断面を観察し、易接着層および塗布層の厚みを測定した。尚、各層の境界が明確でない場合は必要に応じて染色処理を施した。
【００９９】
下記（２）の方法に準じて易接着層および塗布層の幅方向における厚みを測定し、その平均値（ｍ）を易接着層および塗布層の厚みとした。
【０１００】
（２）塗布層の塗布幅方向の厚みプロファイル（塗布幅方向の厚みのばらつき）の評価
積層フィルムの塗布幅方向の一方の端部から１５０ｍｍ、３５０ｍｍ、５５０ｍｍ、７５０ｍｍ、９５０ｍｍ、１１５０ｍｍ、１３５０ｍｍの位置におけるそれぞれの塗布層厚みを上記（１）の方法に従って測定した。これらの８箇所の塗布層厚みから平均値（ｍ）と標準偏差（σ）を求め、下記式１から塗布幅方向における厚みのバラツキを求め、以下の基準で評価した。
【０１０１】
（σ／ｍ）×１００  ・・・式１。
【０１０２】
＜評価基準＞
Ａ；３．０％未満
Ｂ；３．０％以上５．０％未満
Ｃ；５．０％以上。
【０１０３】
（３）塗布層に含有される金属酸化物粒子の平均粒子径の測定
塗布層の断面をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で観察（約１万〜１０万倍）し、その断面写真から、無作為に選択した３０個の粒子のそれぞれの最大長さを計測し、それらを平均した値を金属酸化物粒子の平均粒子径とした。
【０１０４】
（４）易接着層に含有される粒子の平均粒子径の測定
基材フィルムに積層された易接着層の断面をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で観察（約１万〜１０万倍）し、その断面写真から、無作為に選択した３０個の粒子のそれぞれの最大長さを計測し、それらを平均した値を粒子の平均粒子径とした。
【０１０５】
（５）塗布層の屈折率の測定
塗布層を構成するそれぞれの塗布液をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で５８９ｎｍの屈折率を測定した。
【０１０６】
（６）スジ状欠点の評価
下記ｉ）およびｉｉ）の方法で積層フィルムの塗布層が積層された面を観察し、スジ状欠点の個数を調査し、ｉ）とｉｉ）の結果を平均した。観察面積はそれぞれ３０ｍ２である。評価基準を以下に示す。
＜観察方法＞
ｉ）積層フィルムの塗布層が積層された面を、ＬＥＤランプで照らし、目視にて観察する。
ｉｉ）積層フィルムの塗布層が積層された面を、３波長蛍光灯で照らし、目視にて観察する。
＜評価基準＞
Ｇ１；スジ状欠点個数が０．５個／ｍ２未満
Ｇ２；スジ状欠点個数が０．５個／ｍ２以上１．０個／ｍ２未満
Ｇ３；スジ状欠点個数が１．０個／ｍ２以上２．０個／ｍ２未満
Ｇ４；スジ状欠点個数が２．０個／ｍ２以上５．０個／ｍ２未満
Ｇ５；スジ状欠点個数が５．０個／ｍ２以上１０．０個／ｍ２未満
Ｇ６；スジ状欠点個数が１０．０個／ｍ２以上。
【０１０７】
［グラビアロール］
＜グラビアロールａ１、ａ２、ａ３、ａ４、a５、a６＞
ステンレス鋼からなる母材ロールの周面に線数の異なる斜線型セルが形成されたロールを６本用意し、これらのロールの周面に、厚みが１０μｍのハードクロム（ＨＣｒ）めっきを施し、さらにその表面にＤＬＣ被膜（厚み３μｍ）をプラズマＣＶＤ法によりコーティングした。
【０１０８】
これらのグラビアロールの回転軸方向長さ１インチ当たりの線数は、ａ１（１５０線）、ａ２（１９０線）、ａ３（２００線）、ａ４（２３０線）、ａ５（２５０線）、ａ６（３００線）である。
【０１０９】
これらのグラビアロールは、それぞれ外径が７０ｍｍ、面長が１８００ｍｍ、塗布幅が１５００ｍｍ、斜線型セルの傾斜角度が４５度である。
【０１１０】
＜グラビアロールｂ１、ｂ２、ｂ３＞
ステンレス鋼からなる母材ロールの周面に線数が異なる斜線型セルが形成されたロールを３本用意し、これらのロールの周面に、厚みが１０μｍのハードクロム（ＨＣｒ）めっきを施した。
【０１１１】
これらのグラビアロールの回転軸方向長さ１インチ当たりの線数は、ｂ１（１３０線）、ｂ２（１５０線）、ｂ３（２３０線）である。
【０１１２】
これらのグラビアロールは、それぞれ外径が７０ｍｍ、面長が１８００ｍｍ、塗布幅が１５００ｍｍ、斜線型セルの傾斜角度が４５度である。
【０１１３】
＜グラビアロールｃ１、ｃ２＞
ステンレス鋼からなる母材ロールの周面に線数の異なる格子型セルが形成されたロールを２本用意し、これらのロールの周面に、厚みが１０μｍのハードクロム（ＨＣｒ）めっきを施し、さらにその表面にＤＬＣ被膜（厚み３μｍ）をプラズマＣＶＤ法によりコーティングした。
【０１１４】
これらのグラビアロールの回転軸方向長さ１インチ当たりの線数は、ｃ１（１５０線）、ｃ２（２３０線）である。
【０１１５】
これらのグラビアロールは、それぞれ外径が７０ｍｍ、面長が１８００ｍｍ、塗布幅が１５００ｍｍである。
【０１１６】
［実施例１−１］
下記の要領で積層フィルムを製造した。
【０１１７】
＜基材フィルム（易接着層が積層された二軸延伸ＰＥＴフィルム）の製造＞
粒子を含まないポリエチレンテレフタレートを２８０℃で溶融押出し、静電印可された２０℃のキャストドラム上にキャストし無延伸シートとした後、これを１００℃で予熱し、この温度にてロール延伸で長手方向に３．０倍延伸した。この後、下記の易接着層用の水系塗料を上記フィルムの両面に塗布した。その後、１２０℃で幅方向に３．５倍延伸し、２２０℃で熱処理した。これにより、乾燥厚みが８０ｎｍの熱硬化性の易接着層が両面に積層された二軸延伸ＰＥＴフィルム（幅１６００ｍｍ、厚み１００μｍ）を得た。
【０１１８】
＜易接着層用の水系塗料＞
下記ポリエステル樹脂Ａを１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、粒子（平均粒子径が０．１９μｍのコロイダルシリカ粒子）を２質量部含有する水系分散物である。
【０１１９】
＜ポリエステル樹脂Ａ＞
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸  ３５モル％
２，６−ナフタレンジカルボン酸  ９モル％
５−Ｎａスルホイソフタル酸  ６モル％
・グリコール成分
エチレングリコール  ４９モル％
ジエチレングリコール  １モル％。
【０１２０】
＜塗布層の積層＞
図２のリバースグラビア塗布装置およびグラビアロールａ１を用いて、基材フィルム（易接着層が積層された二軸延伸ＰＥＴフィルム）の一方の易接着層上に直接に、下記の塗布液ａ１を塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させて、乾燥厚み（設定厚み）が１．６μｍの塗布層（ハードコート層）を形成した。この塗布層の屈折率は１．５２であった。
【０１２１】
＜塗布液ａ１＞
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４４質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」）４４質量部）８８質量部、下記の金属酸化物粒子（表面処理シリカ粒子分散液Ｚ）を固形分換算で７質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散あるいは溶解した塗布液である。この塗布液の固形分濃度は３０質量％、粘度は５ｍＰａ・ｓ（２３℃）である。
【０１２２】
＜金属酸化物粒子（表面処理シリカ粒子分散液Ｚ）＞
コロイダルシリカ粒子（日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル  ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ」、平均粒子径０．１３μｍ）３３０質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）８質量部、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン（ＧＥ東芝シリコーン（株）製）２質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加した。次に、この分散液にシクロヘキサノンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行って分散液を得た。
【０１２３】
［実施例１-２〜１−５および比較例１-１〜１−５］
実施例１−１において、グラビアロールの種類を表１に示すように変更する以外は、実施例１−１と同様にしてそれぞれの積層フィルムを製造した。
【０１２４】
尚、グラビアロールの種類（線数）に応じて、塗布層の乾燥厚み（設定厚み）が１．６μｍとなるように、塗布液ａ１の固形分濃度を有機溶剤の添加量にて調整した。
【０１２５】
［実施例２-１〜２−５〜および比較例２-１〜２−５］
実施例１-１〜１−５および比較例１-１〜１−５において、塗布液を下記の塗布液ａ２に変更する以外は、同様にしてそれぞれの積層フィルムを製造した。この塗布層の屈折率は１．５１であった。詳細は表１に示す。
【０１２６】
＜塗布液ａ２＞
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」）４０質量部）８０質量部、上記の金属酸化物粒子（表面処理シリカ粒子分散液Ｚ）を固形分換算で１５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散あるいは溶解した塗布液である。この塗布液の固形分濃度は３０質量％、粘度は５ｍＰａ・ｓ（２３℃）である。
【０１２７】
［評価］
上記の実施例および比較例で製造された積層フィルムについて、スジ状欠点および塗布層の厚みプロファイルを評価した。その結果を表１に示す。
【０１２８】
【表１】
2015223552.tif 000003
【０１２９】
［実施例３−１］
下記の要領で積層フィルムを製造した。
【０１３０】
＜基材フィルム（易接着層が積層された二軸延伸ＰＥＴフィルム）の製造＞
粒子を含まないポリエチレンテレフタレートを２８０℃で溶融押出し、静電印可された２０℃のキャストドラム上にキャストし無延伸シートとした後、これを１００℃で予熱し、この温度にてロール延伸で長手方向に３．０倍延伸した。この後、下記の易接着層用の水系塗料を上記フィルムの両面に塗布した。その後、１２０℃で幅方向に３．５倍延伸し、２２０℃で熱処理した。これにより、乾燥厚みが２０ｎｍの熱硬化性の易接着層が両面に積層された二軸延伸ＰＥＴフィルム（幅１６００ｍｍ、厚み１００μｍ）を得た。
【０１３１】
＜易接着層用の水系塗料＞
上記のポリエステル樹脂Ａを１００質量部、平均粒子径が１５ｎｍの酸化ジルコニウム粒子を６０質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、粒子（平均粒子径が０．１９μｍのコロイダルシリカ）を２質量部含有する水系分散物である。
【０１３２】
＜塗布層の積層＞
図２のリバースグラビア塗布装置およびグラビアロールａ３を用いて、基材フィルム（易接着層が積層された二軸延伸ＰＥＴフィルム）の一方の易接着層上に直接に、下記の塗布液ｂ１を塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させて、設定厚みが３０ｎｍ（０．０３μｍ）の塗布層（高屈折率層）を形成した。この塗布層の屈折率は、１．６４であった。
【０１３３】
＜塗布液ｂ１＞
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）５２質量部、金属酸化物粒子（平均粒子径が３０ｎｍの酸化ジルコニウム粒子）４５質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布液の固形分濃度は２質量％、粘度は１ｍＰａ・ｓ（２３℃）である。
【０１３４】
［実施例３−２〜３−４〜および比較例３−１〜３−２］
実施例３−１において、グラビアロールの種類を表２に示すように変更する以外は、実施例３−１と同様にしてそれぞれの積層フィルムを製造した。
【０１３５】
尚、グラビアロールの種類（線数）に応じて、塗布層の設定厚みが３０ｎｍ（０．０３μｍ）となるように、塗布液ｂ１の固形分濃度を有機溶剤の添加量にて調整した。
【０１３６】
［実施例４-１〜４−４〜および比較例４-１〜４−２］
実施例３-１〜３−４および比較例３-１〜３−２において、塗布液を下記の塗布液ｂ２に変更する以外は、同様にしてそれぞれの積層フィルムを製造した。この塗布層の屈折率は１．６７であった。詳細は表２に示す。
【０１３７】
＜塗布液ｂ２＞
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）３７質量部、金属酸化物粒子（平均粒子径が３０ｎｍの酸化ジルコニウム粒子）６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布液の固形分濃度は２質量％、粘度は１ｍＰａ・ｓ（２３℃）である。
【０１３８】
［評価］
上記の実施例および比較例で製造された積層フィルムについて、スジ状欠点および塗布層の厚みプロファイルを評価した。その結果を表２に示す。
【０１３９】
【表２】
2015223552.tif 000004
【０１４０】
[実施例５−１]
実施例３−１で製造した積層フィルムの塗布層（高屈折率層）の上に、下記の要領で塗布層（低屈折率層）を積層して、積層フィルムを製造した。
【０１４１】
＜塗布層の積層＞
図２のリバースグラビア塗布装置およびグラビアロールａ１を用いて、実施例３−１で製造した積層フィルムの塗布層（高屈折率層）の上に直接に、下記の塗布液ｃを塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させて、設定厚みが４０ｎｍ（０．０４μｍ）の塗布層（低屈折率層）を形成した。この塗布層の屈折率は１．４８であった。
【０１４２】
＜塗布液ｃ１＞
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）２７質量部、金属酸化物粒子（平均粒子径が１５ｎｍのコロイダルシリカ粒子；日産化学工業（株）のオルガノシリカゾル「ＭＩＢＫ−ＳＴ」）７０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル：メチルイソブチルケトン＝１：１の混合溶液）に分散・溶解して調製した。この塗布液の固形分濃度は２質量％、粘度は１ｍＰａ・ｓ（２３℃）である。
【０１４３】
［実施例５-２〜５−４〜および比較例５-１〜５−２］
実施例５−１において、グラビアロールの種類を表３に示すように変更する以外は、実施例５−１と同様にしてそれぞれの積層フィルムを製造した。
【０１４４】
尚、グラビアロールの種類（線数）に応じて、塗布層の設定厚みが４０ｎｍ（０．０４μｍ）となるように、塗布液ｃ１の固形分濃度を有機溶剤の添加量にて調整した。
【０１４５】
［評価］
上記の実施例および比較例で製造された積層フィルムについて、スジ状欠点および塗布層の厚みプロファイルを評価した。その結果を表３に示す。
【０１４６】
【表３】
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【符号の説明】
【０１４７】
１、１０  グラビアロール
２  グラビアロールの周面
３  セル
４  土手部
２０  塗布液供給手段
２１  塗布液貯留容器
２２  塗布液
３０  ドクターブレード
４１、４２  一対の搬送ローラ
５０  基材フィルム
【図１】
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【図１Ａ】
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【図２】
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