(57)【要約】  微細複製装置はウェブ（４２２）を含む微細複製物品を形成し、第１のパターン化ロール（４６０）と、第１のニップロール（４５４）と、ウェブ基板の第１の側に隣接配置された第１のコーティングダイ（４５６）とを含むとともに、ウェブ基板は第１のパターン化ロールと第１のニップロールとの間に配置されている。第１のニップロールはウェブ基板の第２の側に接触するとともに、第１のパターン化ロールはウェブ基板の第１の側に接触する。装置は第２のパターン化ロール（４７４）と、第２のニップロールと、ウェブ基板の第２の側に隣接配置された第２のコーティングダイ（４６４）とを含み、ウェブ基板は第２のパターン化ロールと第２のニップロールとの間に配置されている。第２のニップロールはウェブ基板の第１の側に接触するとともに、第２のパターン化ロール（４７４）はウェブ基板の第２の側に接触する。駆動アセンブリは１００マイクロメートル以内の連続位置合わせを維持しつつ、第１のパターン化ロールと第２のパターン化ロールとを回転させる。
2008535682.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のパターン化ロール、第１のニップロール、および第１のコーティングダイと、
第２のパターン化ロール、第２のニップロール、および第２のコーティングダイと、
前記第１および第２のロールが１００マイクロメートル以内の連続位置合わせを維持するように、前記第１のパターン化ロールと前記第２のパターン化ロールとを回転させるように構成された駆動アセンブリと、を備え、
前記第１のコーティングダイがウェブ基板の第１の側に隣接配置されているとともに、前記ウェブ基板が前記第１のパターン化ロールと第１のニップロールとの間に配置され、前記第１のニップロールが前記ウェブ基板の第２の側に接触するとともに、前記第１のパターン化ロールが前記ウェブ基板の前記第１の側に接触しており、
前記第２のコーティングダイが前記ウェブ基板の第２の側に隣接配置されているとともに、前記ウェブ基板が前記第２のパターン化ロールと第２のニップロールとの間に配置され、前記第２のニップロールが前記第１の側に接触するとともに前記第２のパターン化ロールが前記第２の側に接触している、第１および第２の対向面を有するウェブを含む微細複製物品を形成するロールツーロール微細複製装置。
【請求項２】
前記第１のパターン化ロールに隣接配置された第１の硬化源と、前記第２のパターン化ロールに隣接配置された第２の硬化源とをさらに備える、請求項１に記載のロールツーロール微細複製装置。
【請求項３】
前記第１のニップロールが前記第１のパターン化ロールに向けてまたは離れるように移動可能である、請求項１または２に記載のロールツーロール微細複製装置。
【請求項４】
前記第２のニップロールが前記第２のパターン化ロールに向けてまたは離れるように移動可能である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のロールツーロール微細複製装置。
【請求項５】
前記第２のニップロールが前記第２のコーティングダイの後であって前記第２の硬化源の前に配置される、請求項２に記載のロールツーロール微細複製装置。
【請求項６】
前記第１のニップロールが前記第１のコーティングダイの後であって前記第１の硬化源の前に配置される、請求項２に記載のロールツーロール微細複製装置。
【請求項７】
第１の側塗布ウェブを形成するために、第１の硬化性液体をウェブの第１の側に配置することと、
第１のニップロールと、第１のパターン化ロールであって、前記ウェブの前記第１の側の前記第１の硬化性液体内に第１の微細複製パターンを形成する第１のパターン化ロール、との間に前記第１の側塗布ウェブを通過させることと、
第１の硬化微細複製パターンを作製するために、前記第１の微細複製パターンを硬化させることと、
第２の側塗布ウェブを形成するために、第２の硬化性液体をウェブの第２の側に配置することと、
第２のニップロールと、第２のパターン化ロールであって、前記ウェブの前記第２の側の前記第２の硬化性液体内に第２の微細複製パターンを形成する第２のパターン化ロール、との間に前記第２の側塗布ウェブを通過させることと、
第１の硬化微細複製パターンを作製するために、前記第１の微細複製パターンを硬化させることと、を含み、
前記第１および第２の硬化微細複製パターンが１００マイクロメートル以内に位置合わせされる、ロールツーロール微細複製装置上で第１および第２の対向面を有するウェブを含む微細複製物品を作製する方法。
【請求項８】
前記第１および第２のパターンが１０マイクロメートル以内に位置合わせされる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第１の側塗布ウェブを通過させるステップが、前記第１の側塗布ウェブを第１のニップロールと、第１のパターン化ロールとの間に通過させることを含み、前記第１のパターン化ロールが前記ウェブの前記第１の側の前記第１の硬化性液体内に第１の微細複製パターンを形成するとともに、前記第１のニップロールが前記第１の側塗布ウェブを前記第１のパターン化ロール上に押圧する、請求項７または８に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２の側塗布ウェブを通過させるステップが、前記第２の側塗布ウェブを第２のニップロールと第２のパターン化ロールとの間に通過させるステップを含み、前記第２のパターン化ロールが前記ウェブの前記第２の側の前記第２の硬化性液体内に第２の微細複製パターンを形成するとともに、前記第２のニップロールが前記第２の側塗布ウェブを前記第２のパターン化ロール上に押圧する、請求項７〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記第２の側塗布ウェブを通過させるステップが、前記第２の側塗布ウェブを第２のニップロールと第２のパターン化ロールとの間に通過させるステップを含み、前記第２のパターン化ロールが前記ウェブの前記第２の側の前記第２の硬化性液体内に第２の微細複製パターンを形成するとともに、前記第２のニップロールが前記第２の側塗布ウェブを前記第２のパターン化ロール上に押圧するステップが、前記第２の側塗布ウェブのランド厚さを制御する、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、一般に、ウェブ上への材料の連続成形に関し、特に、ウェブの両側に成形されたパターン間に高位置合わせ度を有する物品の成形に関する。
【背景技術】
【０００２】
新聞の印刷から高機能の電子および光学デバイスの作製まで多くの物品の作製において、少なくとも一時的に液体の形状のある材料を基板の両側に塗布することが必要である。多くの場合、材料は所定のパターンで基板に塗布され、例えば、印刷の場合インクは文字および絵のパターンで塗布される。このような場合、基板の両側のパターン間での位置合わせのために少なくとも最低要件があることが一般的である。
【０００３】
基板が回路基板などの個々の物品である場合、パターンのアプリケータは通常位置合わせの達成を助けるためにエッジに依存する。しかし、基板がウェブであるとともに位置合わせを維持する際に周期的に参照するために基板のエッジに依存することが不可能である場合、問題はやや困難になる。なお、ウェブの場合でも位置合わせの要件が厳格でない、例えば、１００マイクロメートルを超えるという、完璧な位置合わせからのずれが容認される場合、材料塗布をその程度まで制御するための機械的手段は既知である。印刷業界にはそのような基準を満たすことが可能な装置が充実している。
【０００４】
しかし、基板の両側にパターンを有するある製品では、はるかに正確なパターン間の位置合わせが必要とされる。そのような場合、ウェブが連続移動されてない場合には、材料をそのような基準に塗布することができる装置は知られている。そして、ウェブが連続移動中である場合には、例えば、あるタイプの可撓性回路の場合のように、パターニングロールの１回転当たり一度の完璧な位置合わせという、１００マイクロメートルあるいは５マイクロメートル内にパターニングロールをリセットすることが容認可能である場合には、当該技術はなお前進方法に関するガイドラインを与える。
【０００５】
しかし、例えば、輝度向上フィルムなどの光学物品において、基板の両側に塗布された光学的に透明な高分子内のパターンが、ツール回転内の任意の点で位置合わせ外れが極僅かな許容範囲以下であることが必要とされる。これまで当該技術は、パターンが間歇的ではなく連続的に１００マイクロメートル以内に位置合わせされた状態で維持されるように、連続移動されているウェブの両側にパターン化表面を成形する方法について言及していない。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
ロールツーロール微細複製装置が記載されている。この装置は第１および第２の対向面を有するウェブを含む微細複製物品を形成する。この装置は第１のパターン化ロール、第１のニップロール、および第１のコーティングダイを含み、第１のコーティングダイがウェブ基板の第１の側に隣接配置されているとともに、ウェブ基板が第１のパターン化ロールと第１のニップロールとの間に配置されている。第１のニップロールがウェブ基板の第２の側に接触するとともに第１のパターン化ロールがウェブ基板の第１の側に接触している。装置は第２のパターン化ロール、第２のニップロール、および第２のコーティングダイを含み、第２のコーティングダイがウェブ基板の第２の側に隣接配置されているとともに、ウェブ基板が第２のパターン化ロールと第２のニップロールとの間に配置されている。第２のニップロールがウェブ基板の第１の側に接触するとともに第２のパターン化ロールがウェブ基板の第２の側に接触している。駆動アセンブリが第１および第２のロールが１００マイクロメートル以内、または７５マイクロメートル以内、または５０マイクロメートル以内、または１０マイクロメートル以内、または５マイクロメートル以内の連続位置合わせを維持するように、第１のパターン化ロールと第２のパターン化ロールとを回転させるように構成されている。
【０００７】
本開示の他の態様は、この装置を用いて微細複製物品を作製する方法に関する。この方法は、第１の硬化性液体をウェブの第１の側に配置して第１の側塗布ウェブを形成するステップと、第１の側塗布ウェブを第１のニップロールと第１のパターン化ロールとの間に通過させ、第１のパターン化ロールがウェブの第１の側の第１の硬化性液体内に第１の微細複製パターンを形成するステップと、第１の微細複製パターンを硬化させて第１の硬化微細複製パターンを作製するステップと、第２の硬化性液体をウェブの第２の側に配置して第２の側塗布ウェブを形成するステップと、第２の側塗布ウェブを第２のニップロールと第２のパターン化ロールとの間に通過させ、第２のパターン化ロールがウェブの第２の側の第２の硬化性液体内に第２の微細複製パターンを形成するステップと、第１の微細複製パターンを硬化させて第１の硬化微細複製パターンを作製するステップとを含む。第１および第２の硬化微細複製パターンは１００マイクロメートル以内に位置合わせされている。ある実施形態において、第１および第２の硬化微細複製パターンは１００マイクロメートルより良好に、または７５マイクロメートル以内に、または５０マイクロメートル以内に、または１０マイクロメートル以内に、または５マイクロメートル以内に位置合わせされている。
【０００８】
定義
本開示の状況において、「位置合わせ」は、同じウェブの反対側の他の構造に対して規定関係にあるウェブの一面上の構造の位置決めを意味する。
【０００９】
本開示の状況において、「ウェブ」は、ある方向の一定寸法と直交方向の所定または不定の長さとを有する材料シートを意味する。
【００１０】
本開示の状況において、「連続位置合わせ」は、第１および第２のパターン化ロールの回転中、常にロール上の構造間の位置合わせ度が指定限界より良好であることを意味する。
【００１１】
本開示の状況において、「微細複製された」または「微細複製」は、構造化表面特徴の変化が、約１００マイクロメートル以下である製品毎の製造中の個々の特徴忠実性を保持するプロセスによる微細構造化表面の作製を意味する。
【００１２】
添付の図面のいくつかの図において同様な部分は同様な参照番号を有している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
一般に、本開示は、各側に微細複製パターン化構造が塗布された可撓性基板を作製する装置および方法に関する。微細複製物品は互いに高精度で位置合わせされている。両側の構造は協働して要求に応じた物品光学品質提供することが可能であり、ある実施形態において、構造は複数のレンズ特徴である。
【００１４】
図１１を参照すると、図示されているのは両面微細複製物品１２００の例示的実施形態である。物品１２００は対向する第１および第２の表面１２２０、１２３０を有するウェブ１２１０基板を含む。第１および第２の表面１２２０、１２３０は、それぞれ第１および第２の微細複製構造１２２５、１２３５を含む。第１の微細複製構造１２２５は複数の特徴１２２６を含み、特徴１２２６は、図示の実施形態において、約１４２マイクロメートルの有効径を有する円柱レンズである。第２の微細複製構造１２３５は複数の鋸歯または角錐プリズム特徴１２３６を含む。対向する第１および第２の微細複製構造１２２５、１２３５が、図１１に図示した特定の形状以外の任意の有用な形態および／または形状であり得ることは理解されよう。
【００１５】
図示の例示的実施形態において、第１および第２の特徴１２２６、１２３６は同じピッチまたは周期の繰り返しＰを有し、例えば、第１の特徴の周期が１０〜５００マイクロメートル、５０〜２５０マイクロメートル、または約１５０マイクロメートルであるとともに、第２の特徴の繰り返し周期も同じである。第１および第２の特徴の周期比は、整数比（または逆数）であり得るが他の組み合わせも可能である。
【００１６】
図示の例示的実施形態において、対向する微細複製特徴１２２６、１２３６は協働して複数のレンズ特徴１２４０を形成する。図示の例示的実施形態において、レンズ特徴１２４０はレンチキュラーレンズである。各レンズ特徴１２４０の性能は、各レンズを形成する対向する特徴１２２９、１２３９のアラインメントの関数であるため、レンズ特徴の第２の次元における精密なアラインメントまたは位置合わせが好ましい。多くの実施形態において、レンズから反対側の特徴までの距離はレンズの焦点距離と同等な距離にある。
【００１７】
任意に、物品１２００は第１および第２のランド領域１２２７、１２３７も含む。ランド領域は基板表面１２２０、１２３０と各それぞれの特徴の下部、すなわち谷部１２２８、１２３８との間の材料として規定される。多くの実施形態において、第１のランド領域１２２８はレンズ側で少なくとも約１０マイクロメートルであり得るとともに、第２のランド領域１２３８はプリズム側で少なくとも約２５マイクロメートルであり得る。ランド領域は特徴がウェブに対する良好な接着を有することを助け得るとともに、複製忠実性に役立ち得る。必要に応じて、ランド領域位置決めを用いてウェブの第１および第２の側の特徴を調整し得る。以下に説明する第２のニップロールは、第１のランド領域１２２８および／または第２のランド領域１２３８の制御を助けることができる。一実施形態において、第１のランド領域１２２８および／または第２のランド領域１２３８は、レンズから反対側の特徴までの距離が円柱レンズの焦点距離と実質的に同等であるように制御される。
【００１８】
上記の物品１２００を以下に詳細に説明するウェブの対向上に精密に位置合わせされた微細複製構造を作製する装置および方法を用いて作製することができる。
【００１９】
硬化性液体をウェブの第１の側上に成形および硬化させることにより、第１の微細複製構造を第１のパターン化ロール上に作製することができる。第１の硬化性液体は、オハイオ州シンシナティ（Ｃｉｎｃｉｎｎａｔｉ、Ｏｈｉｏ）のコグニス・コーポレーション（Ｃｏｇｎｉｓ  Ｃｏｒｐ．）から入手可能なフォトマー（Ｐｈｏｔｏｍｅｒ）６０１０、共にペンシルバニア州エクストン（Ｅｘｔｏｎ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）のサートマー・カンパニー（Ｓａｒｔｏｍｅｒ  Ｃｏ．）から入手可能なＳＲ３８５テトラヒドロフルフリル・アクリレートおよびＳＲ２３８（７０／１５／１５％）１，６−ヘキサンジオール・ジアクリレート、コネチカット州ストラトフォード（Ｓｔｒａｔｆｏｒｄ，Ｃｏｎｎｅｃｔｉｃｕｔ）のハンフォード・リサーチ・インコーポレーテッド（Ｈａｎｆｏｒｄ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｉｎｃ．）から入手可能なカンファーキノン（Ｃａｍｐｈｏｒｑｕｉｎｏｎｅ）、ウィスコンシン州ミルウォーキー（Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，Ｗｉｓｃｏｎｓｉｎ）のアルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．）から入手可能なエチル１−４−ジメチルアミノ・ベンゾアート（０．７５／０．５％）などの任意の光硬化性アクリレート樹脂溶液であり得る。硬化性液体をウェブの第２の側上に成形および硬化させることにより、第２の微細複製構造を第２のパターン化ロール上に作製することができる。第２の硬化性液体は、第１の硬化性液体と同じまたは異なり得る。ある実施形態において、第１および第２の硬化性液体は、それぞれ第１および第２のパターン化ロールが通過する前にウェブ表面に配置される。他の実施形態において、第１の硬化性液体は第１のパターン化ロール上に配置されるとともに、第２の硬化性液体は第２のパターン化ロール上に配置され、硬化性液体はその後パターン化ロールからウェブに転写される。
【００２０】
各それぞれの構造がパターンに成形された後、各それぞれのパターンは紫外光源を始めとする硬化光源を用いて外部硬化される。その後、剥離ロールを用いて第２のパターン化ロールから微細複製物品を取り外すことができる。任意に、剥離剤またはコーティングを用いてパターン化ツールからのパターン化構造の取り外しを助けることができる。
【００２１】
上記の物品を作製するために用いた図示のプロセス設定は以下の通りである。約８Ｎ（２ポンド力）の成形装置内外のウェブ張力で約０．３メートル（１フット）／分のウェブ速度を用いた。約５％の剥離ロール延伸比を用いてウェブを第２のパターン化ツールから引っ張った。約１６Ｎ（４ポンド力）のニップ圧力を用いた。第１および第２のパターン化ロール間には、約０．０２５センチメートル（０．０１インチ）の間隙がある。滴下塗布装置を用いてウェブの第１の表面に樹脂を供給することができるとともに、シリンジポンプを用いて約１．３５ｍｌ／分の速度で第２の表面に樹脂を供給することができる。
【００２２】
構造の硬化は硬化性液体内の光開始剤に合わせた放射源を用いて達成することができる。
【００２３】
第１のパターン化ロールは、１５０マイクロメートルのピッチで１４２マイクロメートル直径を有する円柱レンズを形成する一連のネガ像を含んでいた。第２のパターン化ロールは、１５０マイクロメートルのピッチで６０度の開先角度を有する複数の対称プリズムを形成する一連のネガ像を含んでいた。
【００２４】
一般に、上記の物品は以下に開示する、約１００マイクロメートルより良好な、または５０マイクロメートルより良好な、または２５マイクロメートル未満、または１０マイクロメートル未満、または５マイクロメートル未満の位置合わせを有する両面微細複製構造を作製するシステムおよび方法によって作製することができる。システムは、一般に、第１のパターニングアセンブリと第２のパターニングアセンブリとを含む。各それぞれのアセンブリは、第１および第２の表面を有するウェブのそれぞれの表面上に微細複製パターンを作製する。第１のパターンがウェブの第１の側に作製されるとともに、第２のパターンがウェブの第２の側に作製される。
【００２５】
各パターニングアセンブリは、コーティングを塗布する手段と、パターニング部材と、硬化部材とを含む。通例、パターニングアセンブリは、パターン化ロールと、各ロールを保持するとともに駆動する支持構造とを含む。第１のパターニングアセンブリの塗布手段は、第１の硬化性コーティング材料をウェブの第１の表面上に分注する。第２のパターニングアセンブリの塗布手段は、第２の硬化性コーティング材料をウェブの第２の表面上に分注し、第２の表面は第１の表面の反対側である。通例、第１および第２のコーティング材料は同じ組成である。
【００２６】
第１のコーティング材料がウェブ上に配置された後、ウェブは第１のパターン化部材上を通過し、第１のコーティング材料内にパターンが作製される。その後、第１のコーティング材料を硬化させて第１のパターンを形成する。続いて、第２の材料がウェブ上に配置された後、ウェブは第２のパターン化部材上を通過し、第２のコーティング材料内にパターンが作製される。その後、第２のコーティング材料を硬化させて第２のパターンを形成する。通例、各パターン化部材は微細複製ツールであるとともに、各ツールは、通例、材料を硬化させる専用の硬化部材を有する。しかし、第１および第２のパターン化材料の両方を硬化させる単一の硬化部材を有することが可能である。また、コーティングをパターン化ツール上に配置することが可能である。
【００２７】
システムはウェブが連続移動されつつパターンがウェブの両側に転写されるように、第１および第２のパターン化ロールを回転させる手段も含み、パターンはウェブの両側に約１００マイクロメートルより良好に、または１０マイクロメートルより良好に連続位置合わせされた状態に維持される。
【００２８】
本開示の利点は、両側の微細複製構造を互いに概して１００マイクロメートル以内に、５０マイクロメートル以内に、または２０マイクロメートル以内に、または１０マイクロメートル以内に、または５マイクロメートル以内に位置合わせされた状態に保持しつつ、連続形成された微細複製構造をウェブの各側に有することにより、ウェブの各対向面上に微細複製構造を有するウェブを製造することができるということである。
【００２９】
図１〜２を参照すると、ロールツーロール成形装置１２０を含むシステム１１０の例示的実施形態が図示されている。図示の成形装置１２０において、ウェブ１２２が主巻出スプール（図示せず）から成形装置１２０に提供される。ウェブ１２２の本質は、上述したように、作製される製品によって大きく異なり得る。しかし、成形装置１２０が光学物品の作製に用いられる場合、ウェブ１２２を介する硬化を可能にするために通常ウェブ１２２は半透明または透明である。ウェブ１２２は様々なローラ１２６を回って成形装置１２０内に向けられる。
【００３０】
ウェブ１２２の正確な張力制御は最適な結果を達成するのに有利であるため、ウェブ１２２を張力検知装置（図示せず）上に方向付けてもよい。ライナウェブを用いてウェブ１２２を保護することが望ましい場合には、ライナウェブを、通例、巻出スプールにおいて分離するとともにライナウェブ巻取スプール（図示せず）上に方向付けられる。ウェブ１２２をアイドラーロールを介してダンサーロールに方向付けて精密な張力制御を行うことができる。アイドラーローラはウェブ１２２をニップロール１５４と第１のコーティングヘッド１５６との間の位置に向けることができる。
【００３１】
様々な塗布方法を採用し得る。図示の実施形態において、第１のコーティングヘッド１５６はダイコーティングヘッドである。その後、ウェブ１２２はニップロール１５４と第１のパターン化ロール１６０との間を通過する。第１のパターン化ロール１６０はパターン化表面１６２を有するとともに、ウェブ１２２がニップローラ１５４と第１のパターン化ロール１６０との間を通過する際、第１のコーティングヘッド１５６によってウェブ１２２に分注された材料がパターン化表面１６２のネガの形状に形作られる。
【００３２】
ウェブ１２２が第１のパターン化ロール１６０と接している間、材料が第２のコーティングヘッド１６４からウェブ１２２の他方の表面上に分注される。第１のコーティングヘッド１５６に対して上記した説明と平行して、第２のコーティングヘッド１６４も第２の押出機（図示せず）と第２のコーティングダイ（図示せず）とを含むダイコーティング装置である。ある実施形態において、第１のコーティングヘッド１５６によって分注された材料はポリマー前駆体を含むとともに、例えば、紫外線などの硬化エネルギーの印加で固体ポリマーに硬化しようとする組成物である。
【００３３】
第２のコーティングヘッド１６４によってウェブ１２２上に分注された材料はその後、第２のパターン化表面１７６を有する第２のパターン化ロール１７４と接触する。上記の説明と平行してある実施形態において、第２のコーティングヘッド１６４によって分注された材料はポリマー前駆体を含むとともに、例えば、紫外線などの硬化エネルギーの印加で固体ポリマーに硬化しようとする組成物である。
【００３４】
この時点でウェブ１２２は両面に貼付されたパターンを有している。剥離ロール１８２は第２のパターン化ロール１７４からのウェブ１２２の除去を助けるために存在し得る。ある例では、ロールツーロール成形装置内外へのウェブ張力はほぼ一定である。
【００３５】
２面微細複製パターンを有するウェブ１２２はその後、アイドラーロールを介して巻取スプール（図示せず）に向けられる。介在フィルムがウェブ１２２を保護することが望ましい場合には、介在フィルムが第２の巻出スプール（図示せず）から提供され得るとともに、ウェブと介在フィルムとが適当な張力で巻取スプール上に一緒に巻き取られる。
【００３６】
図１〜３を参照すると、第１および第２のパターン化ロールが、それぞれ第１および第２のモータアセンブリ２１０、２２０に結合されている。モータアセンブリ２１０、２２０の支持は、直接または間接的にアセンブリを枠２３０に載置することにより達成される。モータアセンブリ２１０、２２０は精密載置装置を用いて枠に結合される。図示の実施形態の例において、第１のモータアセンブリ２１０は枠２３０に固定的に載置されている。ウェブ１２２が成形装置１２０中に通される際の位置に配置された第２のモータアセンブリ２２０は、横方向および流れ方向の両方に繰り返し位置決めされる必要があり、そのため移動可能である。移動可能なモータ装置２２０は直線スライド２２２に結合されて、例えば、ロール上のパターン間で切り替える場合に繰り返し正確な位置決めを助け得る。第２のモータ装置２２０は枠２３０の後側に、第２のパターン化ロール１７４を第１のパターン化ロール１６０に対して並んで位置決めする第２の載置装置２２５も含む。ある場合には、第２の載置装置２２５は横方向の正確な位置決めを可能にする直線スライド２２３を含む。
【００３７】
図４を参照すると、対向面上に位置合わせされた微細複製構造を有する両面ウェブ４２２を作製する成形装置４２０の例示的実施形態が図示されている。アセンブリは第１および第２の塗布手段４５６、４６４と、ニップローラ４５４と、第１および第２のパターン化ロール４６０、４７４とを含む。ウェブ４２２は第１の塗布手段４５６、この例では第１の押出ダイ４５６に提示される。第１のダイ４５６は第１の硬化性液体層コーティング４７０をウェブ４２２上に分注する。第１のコーティング４７０はニップローラ４５４、通例、ゴム被覆ローラにより第１のパターン化ローラ４６０内に押し込まれる。第１のパターン化ロール４６０上にある間に、コーティングは例えば紫外光源などの適当な波長光の硬化源４８０、例えば、ランプを用いて硬化される。
【００３８】
第２の硬化性液体層４８１は第２の側押出ダイ４６４を用いてウェブ４２２の反対側に塗布される。第２の層４８１は第２のパターン化ツールローラ４７４内に押し込まれるとともに、硬化プロセスが第２のコーティング層４８１に対して繰り返される。以下に説明するように、ツールローラ４６０、４７４を互いに精密な角度関係に維持することにより、２つのコーティングパターンの位置合わせが達成される。
【００３９】
図５を参照すると、第１および第２のパターン化ロール５６０、５７４の一部の近接図が図示されている。第１のパターン化ロール５６０は微細複製表面を形成する第１のパターン５６２を有する。第２のパターン化ロール５７４は第２の微細複製パターン５７６を有する。図示の例示的実施形態において、第１および第２のパターン５６２、５７６は同じパターンであるが、パターンは異なっていてもよい。図示の実施形態において、第１のパターン５６２および第２のパターン５７６はプリズム構造として示されているが、任意の単一または多数の有用な構造が第１のパターン５６２および第２のパターン５７６を形成することができる。
【００４０】
ウェブ５２２が第１のロール５６０上を通過する際、第１の表面５２４上の第１の硬化性液体（図示せず）は、第１のパターン化ロール５６０上の第１の領域５２６付近で、硬化光源５２５により硬化される。第１の微細複製パターン化構造５９０は、液体が硬化されるとウェブ５２２の第１の側５２４に形成される。第１のパターン化構造５９０は、第１のパターン化ロール５６０上のパターン５６２のネガである。第１のパターン化構造５９０が形成された後、第２の硬化性液体５８１がウェブ５２２の第２の表面５２７上に分注される。第２の液体５８１が早期に硬化されないようにするために、第２の液体５８１は、第２の液体５８１に当たらないように第１の硬化光５２５を配置することによって、第１の硬化光５２５から隔離することができる。代替的には、遮蔽手段５９２を第１の硬化光５２５と第２の液体５８１との間に配置することができる。また、ウェブを介して硬化することが実用的ではないまたは困難である場合、硬化源をそれぞれのパターン化ロール内に配置することができる。
【００４１】
第１のパターン化構造５９０が形成された後、ウェブ５２２は第１と第２のパターン化ロール５６０、５７４間の間隙領域５７５に進入するまで第１のロール５６０に沿って続く。そして、第２の液体５８１が第２のパターン化ロール上の第２のパターン５７６と係合するとともに第２の微細複製構造に形作られ、その後、第２の硬化光５３５により硬化される。ウェブ５２２が第１と第２のパターン化ロール５６０、５７４間の間隙５７５に入ると、このときまでに実質的に硬化されるとともにウェブ５２２に接着された第１のパターン化構造５９０は、ウェブ５２２が間隙５７５内および第２のパターン化ローラ５７４の周囲で移動し始める間、ウェブ５２２が滑らないようにする。これにより、ウェブ上に形成された第１および第２のパターン化構造間の位置合わせエラーの原因としてのウェブ伸張および滑りを除去する。
【００４２】
第２の液体５８１が第２のパターン化ロール５７４と接する間ウェブ５２２を第１のパターン化ロール５６０上に支持することにより、ウェブ５２２の両側５２４、５２７上に形成された第１と第２の微細複製構造５９０、５９３間の位置合わせ度は、第１と第２のパターン化ロール５６０、５７４の表面間の位置関係を制御する関数になる。第１および第２のパターン化ロール５６０、５７４の周囲およびロールにより形成される間隙５７５間のウェブのＳ巻き（Ｓ−ｗｒａｐ）は、張力、ウェブ歪み変化、温度、ウェブを挟む機構により生じる微細滑り、および横方向位置制御の影響を最小限にする。通例、Ｓ巻きはウェブ５２２を１８０度の巻き角にわたって各ロールに接するように維持するが、巻き角は特定の要件に応じてより大きくてもより小さくてもよい。
【００４３】
通例、パターン化ロールは同じ平均直径であるがこれは必須ではない。任意の特定の用途に対して適当なロールを選択することは当業者の技術および知識の範囲内である。
【００４４】
図６を参照すると、モータ載置装置が図示されている。ツールまたはパターン化ロール６６２を駆動するモータ６３３が、機枠６５０に載置されるとともに、結合器６４０を介してパターン化ローラ６６２の回転シャフト６０１に接続されている。モータ６３３は主エンコーダ６３０に結合されている。副エンコーダ６５１は、パターン化ロール６６２の精密な角度位置合わせ制御を提供するようにツールに結合されている。主６３０および副６５１エンコーダは協働してパターン化ロール６６２の制御を提供し、以下にさらに詳細に説明するようにパターン化ロール６６２を第２のパターン化ロールと位置合わせした状態に保つ。
【００４５】
シャフト共振の低減または排除は重要であるが、それはこれが指定限界内のパターン位置制御を許す位置合わせエラーの原因になるからである。モータ６３３と指定する一般的なサイジング計画より大きいシャフト６５０との間で結合器６４０を使用すると、より柔軟性のある結合器によって生じるシャフト共振も低減することができる。軸受けアセンブリ６６０は様々な箇所に配置されてモータ装置に対する回転支持を提供する。
【００４６】
図示の例示的実施形態において、ツールローラ６６２の直径はそのモータ６３３の直径より小さくてもよい。この装置を収容するためにツールルーラを対で鏡像状に配置して装着し得る。図７において、２つのツールローラアセンブリ６１０および７１０は、２つのツールローラ６６２および７６２を１つにすることができるように鏡像として装着されている。図１も参照すると、第１のモータ装置は通例枠に固定的に取り付けられているとともに、第２のモータ装置は移動可能な光学的品質直線スライドを用いて位置決めされる。
【００４７】
ツールローラアセンブリ７１０はツールローラアセンブリ６１０と非常に類似しているとともに、ツールまたはパターン化ロール７６２を駆動するモータ７３３を含み、モータ７３３は機枠７５０に載置されているとともに結合器７４０を介してパターン化ローラ７６２の回転シャフト７０１に接続されている。モータ７３３は主エンコーダ７３０に結合されている。副エンコーダ７５１は、パターン化ロール７６２の正確な位置合わせ制御を提供するようにツールに結合されている。主７３０および副７５１エンコーダは協働してパターン化ロール７６２の制御を提供し、以下にさらに詳細に説明するように、パターン化ロール７６２を第２のパターン化ロールと位置合わせした状態に保つ。
【００４８】
シャフト共振の低減または排除は重要であるが、それはこれが指定限界内のパターン位置制御を許す位置合わせエラーの原因になるからである。モータ７３３と指定する一般的なサイジング計画より大きいシャフト７５０との間で結合器７４０を使用すると、より柔軟性のある結合器によって生じるシャフト共振も低減することができる。軸受けアセンブリ７６０は様々な箇所に配置されてモータ装置に対する回転支持を提供する。
【００４９】
ウェブの両面上の微細複製構造上の特徴サイズは互いに微細な位置合わせにあることが望ましいため、パターン化ロールを高精度で制御しなければならない。本明細書に記載された限度内の横方向位置合わせを、以下に説明するように流れ方向位置合わせを制御する際に用いられる技術を適用することにより達成することができる。例えば、１０インチ外周パターン化ローラ上に約１０マイクロメートルの終端間特徴配置を達成するためには、各ローラを±３２秒角／回転の回転精度内に維持しなければならない。ウェブがシステム中を進行する速度が増すにつれて位置合わせの制御はより困難になる。
【００５０】
出願人は、ウェブの対向面に２．５マイクロメートル以内に位置合わせされたパターン化特徴を有するウェブを作製できる、１０インチ円形パターン化ロールを有するシステムを構築するとともに例示した。この開示を読むとともに本明細書に教示する原理を適用すれば、当業者には他の微細複製表面に対する位置合わせ度を達成する方法が理解できよう。
【００５１】
図８を参照すると、モータ装置８００の概略が図示されている。モータ装置８００は主エンコーダ８３０と駆動シャフト８２０とを含むモータ８１０を含む。駆動シャフト８２０は結合器８２５を介してパターン化ロール８６０の駆動シャフト８４０に結合されている。副または負荷エンコーダ８５０は駆動シャフト８４０に結合されている。２つのエンコーダを上記したモータ装置内で用いることにより、測定装置（エンコーダ）８５０をパターン化ロール８６０付近に配置することによってパターン化ロールの位置をより正確に測定することができるため、モータ装置８００が動作している際のトルク外乱の影響を低減または排除することができる。
【００５２】
図９を参照すると、制御部品に取り付けられているように図８のモータ装置の概略が図示されている。図１〜３に示された例示的装置において、同様な構成は各モータ装置２１０および２２０を制御する。したがって、モータ装置９００は主エンコーダ９３０と駆動シャフト９２０とを含むモータ９１０を含む。駆動シャフト９２０は結合器９３０を介してパターン化ロール９６０の駆動シャフト９４０に結合されている。副または負荷エンコーダ９５０は駆動シャフト９４０に結合されている。
【００５３】
モータ装置９００は制御装置９６５と通信することにより、パターン化ロール９６０の正確な制御を可能にする。制御装置９６５は駆動モジュール９６６とプログラムモジュール９７５とを含む。プログラムモジュール９７５はライン９７７、例えば、サーコス（ＳＥＲＣＯＳ）ファイバネットワークを介して駆動モジュール９６６と通信する。プログラムモジュール９７５を用いて設定点などのパラメータを駆動モジュール９６６に入力する。駆動モジュール９６６は入力４８０ボルト、３相電力９１５を受け取り、それを直流に整流して、それを電力接続９７３を介して配電し、モータ９１０を制御する。モータエンコーダ９１２は位置信号を制御モジュール９６６に供給する。パターン化ロール９６０上の副エンコーダ９５０も位置信号をライン９７１を介して駆動モジュール９６６に戻すように供給する。駆動モジュール９６６はエンコーダ信号を用いてパターン化ロール９６０を正確に位置決めする。位置合わせ度を達成するための制御設計を以下に詳細に説明する。
【００５４】
図示の例示的実施形態において、各パターン化ロールは専用の制御装置により制御される。専用の制御装置は協働して第１と第２のパターン化ロール間の位置合わせを制御する。各駆動モジュールはそのそれぞれのモータアセンブリと通信するとともに制御する。
【００５５】
出願人により構築されるとともに例示されたシステム内の制御装置は以下を含む。パターン化ロールの各々を駆動するために、高分解能正弦エンコーダフィードバック（５１２正弦周期×４０９６駆動補間＞＞２００万部／回転）を有する高性能、低コギングトルクモータ、ボッシュ・レックスロス（Ｂｏｓｃｈ−Ｒｅｘｒｏｔｈ）（インドラマット（Ｉｎｄｒａｍａｔ））から入手可能なモデルＭＨＤ０９０Ｂ−０３５−ＮＧ０−ＵＮを用いた。また、システム包含同期モータ、ボッシュ・レックスロス（Ｂｏｓｃｈ−Ｒｅｘｒｏｔｈ）（インドラマット（Ｉｎｄｒａｍａｔ））から入手可能なモデルＭＨＤ０９０Ｂ−０３５−ＮＧ０−ＵＮ、しかし誘導モータなどの他のタイプを用いることもできる。
【００５６】
各モータを非常に剛性のベロー結合器、Ｒ／Ｗコーポレーション（Ｒ／Ｗ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から入手可能なモデルＢＫ５−３００を介して直接結合した（変速機または機械的減速なしに）。代替的結合器設計を用いることもできるが、ベロー式は概して高回転精度を提供しつつ剛性を合成する。各結合器を代表的な製造業者の仕様が推奨するものより大幅に大きい結合器が選択されるような大きさに形成した。
【００５７】
さらに、結合器とシャフトとの間のゼロ緩みコレットまたは圧縮式係止ハブが好ましい。各ローラシャフトを中空シャフト負荷側エンコーダ、イリノイ州ショウンバーグ（Ｓｃｈａｕｍｂｕｒｇ，ＩＬ）のハイデンハイン・コーポレーション（Ｈｅｉｄｅｎｈａｉｎ  Ｃｏｒｐ．）から入手可能なモデルＲＯＮ２５５Ｃを介してエンコーダに取り付けた。エンコーダ選択は、通例３２秒角精度より大きい可能な最高精度および分解能を有さなければならない。出願人の設計、１８０００正弦周期／回転を採用したが、これは４０９６ビット分解能駆動補間と併せて、精度より大幅に高い分解能を与える５０００万部／回転の分解能を超えた。負荷側エンコーダは±２秒角の精度を有し、伝達単位の最大偏移は±１秒角未満であった。
【００５８】
ある例では、各シャフトを可能な限り直径が大きく且つ可能な限り短くなるように設計して剛性を最大にすることにより、可能な最高共振周波数を得る。すべての回転要素の精密アラインメントはこの位置合わせエラーという原因による最小位置合わせエラーを保証することが望ましい。
【００５９】
図１０を参照すると、出願人のシステムにおいて、同一の位置参照コマンドが、２ミリ秒更新速度でサーコス（ＳＥＲＣＯＳ）ファイバネットワークを介して各軸に同時に提示された。各軸は２５０マイクロ秒間隔の位置ループ更新速度で、三次スプラインで位置参照を補間する。一定速度は単純な一定時間間隔経路を生じるため、補間方法は決定的なものではない。分解能はいかなる丸めまたは数値化誤差も排除するために重要なものである。軸転倒も対処されなければならない。ある場合には、各軸の制御周期が電流ループ実行速度（６２マイクロ秒間隔）で同期していることが重要である。
【００６０】
上部経路１１５１は制御のフィードフォワード部である。制御ストラテジーは位置ループ１１１０と、速度ループ１１２０と、電流ループ１１３０とを含む。位置参照１１１１は微分されて、一度速度フィードフォワード項１１５２を生成して２回目に加速度フィードフォワード項１１５５を生成する。フィードフォワード経路１１５１はライン速度変更および動的補正時の動作を助ける。
【００６１】
位置コマンド１１１１は現在位置１１１４から減算されてエラー信号１１１６を生成する。エラー１１１６は比例コントローラ１１１５に印加されて、速度コマンド参照１１１７を生成する。速度フィードバック１１６７はコマンド１１１７から減算されて速度エラー信号１１２３を生成し、それは、その後ＰＩＤコントローラに印加される。速度フィードバック１１６７はモータエンコーダ位置信号１１２６を微分することにより生成される。微分および数値分解能限界により、ローパスバターワースフィルタ１１２４が適用されて、エラー信号１１２３から高周波ノイズ成分を除去する。狭いストップバンド（ノッチ）フィルタ１１２９がモータ−ローラ共振周波数の中心で適用される。これにより、大幅に高い利得を速度コントローラ１１２０に適用することができる。モータエンコーダの分解能の上昇は性能も改善する。制御図内のフィルタの正確な場所は決定的なものではなく、順方向または逆方向経路が許容可能であるが、同調パラメータは場所に依存する。
【００６２】
ＰＩＤコントローラを位置ループ内で用いることもできるが、積分器のさらなる位相ずれは安定化をより困難にする。電流ループは従来のＰＩコントローラであり、利得はモータパラメータによって確立される。可能な最高帯域電流ループは最適性能を可能にする。また最小トルクリップルが望ましい。
【００６３】
外乱の最小限化は最大位置合わせを得るために重要である。これは、前述したように、モータ構成および電流ループ通信を含むが、機械的外乱を最小限にすることも重要である。例にはウェブスパンを入るおよび出る際の非常に平滑な張力制御、均一な軸受けおよびシール抗力、ローラからのウェブ剥離からの張力混乱の最小化、均一ゴムニップローラがある。現在の設計において、ツールロールに噛合した第３の軸がプルロールとして提供されて、硬化構造をツールから取り外す際に助ける。
【００６４】
ウェブ材料はその上に微細複製パターン化構造を作製することができる上記したような任意の適当な材料であればよい。必要に応じて、ウェブを多層化することもできる。液体は、通例、パターン化構造が作製される側と反対側の硬化源によって硬化されるため、ウェブ材料は使用される硬化源に対して少なくとも部分的に透明であればよい。硬化エネルギー源の例には赤外線、紫外線、可視光線、マイクロ波、またはｅビームがある。当業者には、他の硬化源を用いることができるとともに、特定のウェブ材料／硬化源の組み合わせの選択が、作製される特定の物品（位置合わせされた微細複製構造を有する）に依存することは理解できよう。
【００６５】
ウェブ材料を介して液体を硬化させる代替例は、金属ウェブまたは金属層を有するウェブなどを介する硬化が困難であるウェブに有用である、二液反応型硬化、例えばエポキシを用いることであろう。硬化は成分のインライン混合またはパターン化ロール上の一部に触媒を噴霧することによっても達成可能であり、触媒はコーティングおよび触媒が接触すると液体を硬化させて微細複製構造を形成する。
【００６６】
微細複製構造が作製される液体は、ＵＶ光により硬化可能なアクリレート類などの硬化性光重合性材料であればよい。当業者には、他のコーティング材料を用いることができるとともに、材料の選択が微細複製構造に望ましい特定の特性に依存することは理解できよう。同様に採用される特定の硬化方法は、当業者の技術および知識の範囲内にある。硬化方法の例は反応硬化、熱硬化、または放射線硬化である。
【００６７】
液体をウェブへ送達および制御するために有用な塗布手段の例は、例えばシリンジまたは蠕動ポンプなどの任意の適当なポンプと結合されたダイまたはナイフコーティングである。当業者には、他の塗布手段を用いることができるとともに、特定の手段の選択はウェブに送達される液体の特定の特性に依存することが理解できよう。
【００６８】
本開示の他の態様は、２つの微細複製ツール間の均一な張力帯の作製を提供するため、ツール１から均一な剥離角と、ツール２からパターンの制御可能なより均一な塗布厚さとを生成する。制御可能かつより均一な塗布厚さは、必要な最終製品により決定されるキャリパー仕様および許容範囲になり得る。均一な剥離角はより光学的に均一な製品を作製するのに役立つ。
【００６９】
第１のツールより僅かな割合大きい直径を有する第２のツールを作製することにより、均一な張力帯を達成することができる。ツール同士を１分当たり厳密に同一回転数で回転させることにより、第２のツールの僅かな割合大きい直径は、第１のツールより若干高い表面回転速度を有する第２のツールを生じる。これは若干高い張力帯を生じるため、形成されるたるみをなくす。ウェブに沿った特徴に変わる横断ツール特徴のアラインメントを維持するためには、第２のツールは第１のツール上の特徴と厳密に同一の回転角度で、すべての横断ツール特徴に合わせたひし形である。本発明と以前の手法との差は、延伸帯が２つのツール間に生成されるということである。延伸帯を用いて、材料をツールから剥離する際の均一な張力帯を生成することができる。均一な張力はたるみの力学により生じる２つのツール間のウェブスパンの差を低減するかまたはなくす。パターンのウェブ横断方向幅が増すにつれて、均一な剥離角を達成するために必要な張力量が増す。より高い特徴を有するパターンも、均一な剥離を達成するためにより高い張力を必要とする。剥離角も光学的に均一な材料を作製するために重要である。ツールから異なる角度で剥離される際、異なる領域は異なる屈曲を経験する。この異なる屈曲が製品に僅かな光学的非均一性を生じる。たるみによって生じる力学的変動をなくすことにより、より均一な剥離が達成される。これは、より良好なアラインメント、より均一なランド、およびより均一な光学的外観を生じる。
【００７０】
本開示の他の例示的実施形態は、第２の下流の工作ロールにより作製されるランド厚さの制御に関する。この方法および装置は、フィルムまたは基板が第２のツール上に巻かれた後フィルムまたは基板上に押下される第２のニップロールの使用を含む。フィルム上へのニップの直接圧力はその下で未硬化樹脂を圧搾する。樹脂の層厚さは硬化後の微細複製特徴の基部高さまたはランドを決定する。ニップ圧力を調整することにより、ランド厚さを、直接かつ他のプロセスパラメータから独立して個別に制御することができる。
【００７１】
図１２を参照すると、対向面上に位置合わせされた微細複製構造を有する両面ウェブ４２２を作製する成形装置４２１の例示的実施形態が図示されている。アセンブリは第１および第２の塗布手段またはコーティングダイ４５６、４６４と、第１および第２のニップローラ４５４、４８２と、第１および第２のパターン化ロール４６０、４７４とを含む。ウェブ４２２は第１の塗布手段４５６、この例では、第１の押出コーティングダイ４５６に提示される。第１のコーティングダイ４５６は第１の硬化性液体層コーティング４７０をウェブ４２２上に分注する。第１のコーティング４７０は、ある実施形態では、ゴム被覆ローラである第１のニップローラ４５４により第１のパターン化ローラ４６０内に押し込まれる。第１のパターン化ロール４６０上にある間に、コーティングは、例えば、紫外光源などの適当な波長光の硬化源４８０、例えば、ランプを用いて硬化される。
【００７２】
そして、第２の硬化性液体層４８１が第２の側押出コーティングダイ４６４を用いてウェブ４２２の反対側に塗布される。第２の層４８１は第２のニップローラ４８２によって第２のパターン化ツールローラ４７４内に押し込まれ、その後、硬化プロセスが第２のコーティング層４８１に対して繰り返される。本明細書に説明するように、ツールローラ４６０、４７４を互いに精密な角度関係に維持することにより、２つのコーティングパターンの位置合わせが達成される。さらに、第２のニップローラ４８２は上述したようにランド領域厚さを制御するのを助けることができる。
【００７３】
第２のニップローラのいくつかの利点には以下のものがある。１）ロール間のウェブ張力がランド厚さ要件により決定されない。張力を用いてランド厚さを制御していないため、ウェブの最低伸張などの条件を最適化するためにより広い張力設定が可能である。これはひいては両側のパターンの互いに対する位置合わせを改善するとともにパターン化ウェブ内の湾曲を最小限にする。２）ランド厚さ制御に関する流体力学の影響が極めて低減される。第２のニップなしでは、ウェブと第２のツールとの間に引きずられる樹脂量はウェブ速度と樹脂速度とに強く依存する。低粘度樹脂および／または低速度を用いることにより小さなランド厚さを得ることができる。ウェブ張力を増すことも助けになるが、項目１）に説明したように望ましくない恐れがある。
【００７４】
高速で且つ樹脂粘度のより大きい範囲にわたり小さいランドを作製することが可能であることは、両面微細複製プロセスを産業様式にまで拡大する際の大きな要因である。図１２は、第２のニップロールを含むこの例示的連続両面微細複製プロセスラインを図示する。樹脂は第１の圧力制御ニップを用いて第１のツール内に供給される。第１のニップ圧力を調整することにより、第１の側のランド厚さを制御することができる。ニップはフィルムとツールとの間に供給されている樹脂層厚さを縮小する。第２のツールはツール１とツール２とにより構成される間隙制御ニップにより供給される。ツール１とツール２との間の僅かな間隙は、ツール２内に供給することができる樹脂量を制限する。間隙を過度に小さく（２５または５０マイクロメートル未満）することはできないが、それはロールの芯振れ、偏位およびフィルムゲージ変動を考慮して正のクリアランスがつねに存在しなければならないからである。そのため、２つのツール間に短いスパンのウェブがある。このスパン内のウェブ張力はランド厚さに影響を及ぼすが、その短い長さのためあまり有効に制御することはできない。また、張力設定はウェブ誘導、剥離ロール張力、ウェブゲージ等などの他のパラメータによっても決定される。このように、ランド厚さをウェブ張力によってのみある程度まで制御することができる。
【００７５】
第２の微細複製側のこのランド厚さに関する制御を増すために、図１２に図示するように第２の圧力制御ニップを第２のツール上で用いる。形状的制約のため、ウェブと樹脂とが第２のツール上に巻かれた後に第２のニップが載置されることが望ましい。
【００７６】
当業者には、本開示の範囲と趣旨とから逸脱することなく本開示の様々な変更例および代替例が明らかであるとともに、この開示が本明細書に記載された図示の実施形態に限定されないことは理解されよう。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本開示によるシステムの例示的実施形態の斜視図を図示する。
【図２】本開示による図１のシステムの一部の近接図を図示する。
【図３】本開示による図１のシステムの他の斜視図を図示する。
【図４】本開示の実施形態による成形装置の例示的実施形態の概略図を図示する。
【図５】本開示による図４の成形装置の一部の近接図を図示する。
【図６】本開示によるロール載置装置の例示的実施形態の概略図を図示する。
【図７】本開示による１対のパターン化ロールの載置装置の例示的実施形態の概略図を図示する。
【図８】本開示によるモータおよびロール装置の例示的実施形態の概略図を図示する。
【図９】本開示によるロール間の位置合わせを制御する手段の例示的実施形態の概略図を図示する。
【図１０】本開示による位置合わせを制御する方法および装置の例示的実施形態のブロック図を図示する。
【図１１】本開示により作製された例示的物品の断面図を図示する。
【図１２】本開示による第２のニップロールを含むシステムの例示的実施形態の立面図を図示する。
【図１】
2008535682.tif 000003
【図２】
2008535682.tif 000004
【図３】
2008535682.tif 000005
【図４】
2008535682.tif 000006
【図５】
2008535682.tif 000007
【図６】
2008535682.tif 000008
【図７】
2008535682.tif 000009
【図８】
2008535682.tif 000010
【図９】
2008535682.tif 000011
【図１０】
2008535682.tif 000012
【図１１】
2008535682.tif 000013
【図１２】
2008535682.tif 000014
【国際調査報告】
2008535682.tif 000015
2008535682.tif 000016
2008535682.tif 000017