(57)【要約】      （修正有）【課題】処理の効率を高くできる真空処理装置を提供する。【解決手段】真空処理装置において、真空処理ユニットの処理室内での試料の処理中に電力を供給する電源、当該処理室内に供給されるガスの流量を調整する調節ユニットを収納するベッド部を有し、当該ベッド部は、前記電源を収納する収納部分をスライド可能な引き出し構造とし、また前記調整ユニットの、前記電源が引き出される側とは異なる側の側面にガス供給用コネクタを設ける。【選択図】図１
2015008243.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
減圧された真空搬送室を有する真空搬送容器、当該真空搬送容器の真空搬送室に配置され、処理対象の試料を搬送する搬送機を含む真空搬送ブロックと、
前記真空搬送ブロックの真空搬送容器の側壁に連結され、前記試料の処理室が当該真空搬送容器の真空搬送室と連通する真空容器を含み、当該真空容器の処理室において、前記搬送された試料がプラズマを用いて処理される複数の真空処理ユニットと、
前記真空搬送ブロックおよび前記真空処理ユニットの前方に配置された大気搬送室を有する大気搬送容器、当該大気搬送容器の搬送室に配置され、カセットに収納された試料を大気圧で搬送する搬送機を含む大気搬送ブロックと、
前記真空搬送ブロックの真空搬送容器と前記大気搬送ブロックの大気搬送容器を連結し、前記両搬送容器間での前記試料の搬送を可能とする試料搬送連結ブロックと、
を備えた真空処理装置であって、
前記複数の真空処理ユニットの下部に配置され、前記真空容器の処理室内での前記試料の処理中に電力を供給する電源、当該処理室内に供給されるガスの流量を調節する調節ユニットを収納するベッド部を備え、
前記ベッド部は、前記電源を収納する収納部分を外部に引き出し可能なスライド形式の構造とし、前記調整ユニットの、当該電源が引き出される側とは異なる側の側面にガス供給用コネクタを配置することを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載された真空処理装置において、前記コネクタは、真空処理装置が設置される建屋から供給されるガスの配管と接続されるガス供給ユニットのコネクタであることを特徴とする真空処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載された真空処理装置において、前記ベッド部は、前記処理室に配置されたコイル部への電力の供給を調整する前記電源、当該処理室へのガス供給を調整する前記調整ユニット、当該処理室の動力系の電力および制御系の電力をそれぞれ分配する分電ユニットを内部に備えた処理室架台であり、当該ベッド部の上面が取り外し可能な平板で構成され、前記調節ユニットは、複数のガス流量調整器を備えたガス供給ユニットであり、前記ベッド部の上面平板を取り外した状態で前記ベッド部の外部に開放可能に構成されることを特徴とする真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空処理装置に関する。更に詳しくは、真空容器内部の処理室に大気搬送容器や真空搬送容器などを介して半導体ウエハ等の基板状の試料（被処理体）を搬送し、当該搬送した試料に対してプラズマ処理を行う真空処理装置に係り、特に真空容器を含む真空処理ユニットを真空処理装置本体から着脱可能に配置した真空処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空処理装置として、内部が減圧される処理室を有する複数の真空処理容器と、これら真空処理容器が周囲に連結されて配置され、減圧された内部を処理対象の試料が搬送される真空搬送容器と、この真空搬送容器の前方側に連結され、その前面側に前記試料が収納されたカセットが載せられる複数のカセット台載置が配置されて大気圧下の内部で前記試料が搬送される大気搬送容器とを備えたものが知られている。
このような真空処理装置の一例として、特開２０１０−１０３９８号公報（特許文献）に開示のものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−１０３９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前記特許文献１には、「内部が減圧される処理室を有する複数の真空処理容器と、これら真空処理容器が周囲に連結されて配置され減圧された内部を処理対象の試料が搬送される真空処理容器と、この真空処理容器の前方側に連結されその前面側に前記試料が収納されたカセットが載せられる複数のカセット台が配置されて大気圧下の内部で前記試料が搬送される大気搬送容器と、この大気搬送容器内の左右の一端部に配置され前記試料の位置を調節する位置合わせ機と、この位置合わせ機の下方で床面との間に配置され前記複数の真空処理容器に供給される流体の供給を調節する調節器とを備えた」と記載されている（要約参照）。
【０００５】
つまり、カセットに収納されている試料を大気圧により搬送する大気搬送容器内の左右の一端部に配置され、前記試料の位置を調節する位置合わせ機と、この位置合わせ機の下方で床面との間に配置され、複数の処理容器の各々内部の処理室に供給されるガスや水等の流体の供給を調節する調節器とが備えた真空処理装置の構成、仕組みが記載されている。
【０００６】
係る真空処理装置によれば、試料を処理する処理室外部の空間（デッドスペース）を有効活用し、装置の設置面積あたりの生産性の高い真空処理装置を提供することができる効果を有する。しかし、真空処理装置に対して着脱する複数の真空処理のユニット単体として機能を実現する点について考慮が不十分であった。特に、各真空処理ユニットに搭載される処理室における処理の動作に必要な電源や制御装置、ガス供給ユニット等のユーティリティの配置を、装置の占有面積の増大とともに保守、点検の作業の量や時間を抑制する構成について十分に考慮されていなかった。
【０００７】
したがって、上記保守や点検のための作業に長時間を要すると、試料の処理を行っていない装置の非稼動時間が長くなることになり、真空処理装置全体での単位時間当たりの試料の処理枚数、いわゆるスループットが損なわれてしまうこととなる。これは、真空処理装置の稼動効率が低下してしまうことに繋がる。
【０００８】
そこで、本発明は、係る真空処理装置の稼動効率の低下を是正し、処理室における試料の処理効率を高くできる真空処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明は、真空処理ユニットの処理室内での試料の処理中に電力を供給する電源、当該処理室内に供給されるガスの流量を調整する調節ユニットを収納するベッド部を有し、当該ベッド部は、前記電源を収納する収納部分をスライド可能な引き出し構造とし、また前記調整ユニットの、前記電源が引き出される側とは異なる側の側面にガス供給用コネクタを設ける。
【００１０】
例えば、本発明は、減圧された真空搬送室を有する真空搬送容器、当該真空搬送容器の真空搬送室に配置され、処理対象の試料を搬送する搬送機を含む真空搬送ブロックと、
前記真空搬送ブロックの真空搬送容器の側壁に連結され、前記試料の処理室が当該真空搬送容器の真空搬送室と連通する真空容器を含み、当該真空容器の処理室において、前記搬送された試料がプラズマを用いて処理される複数の真空処理ユニットと、
前記真空搬送ブロックおよび前記真空処理ユニットの前方に配置された大気搬送室を有する大気搬送容器、当該大気搬送容器の搬送室に配置され、カセットに収納された試料を大気圧で搬送する搬送機を含む大気搬送ブロックと、
前記真空搬送ブロックの真空搬送容器と前記大気搬送ブロックの大気搬送容器を連結し、前記両搬送容器間での前記試料の搬送を可能とする試料搬送連結ブロックと、
を備えた真空処理装置であって、
前記複数の真空処理ユニットの下部に配置され、前記真空容器の処理室内での前記試料の処理中に電力を供給する電源、当該処理室内に供給されるガスの流量を調節する調節ユニットを収納するベッド部を備え、
前記ベッド部は、前記電源を収納する収納部分を外部に引き出し可能なスライド形式の構造とし、前記調整ユニットの、当該電源が引き出される側とは異なる側の側面にガス供給用コネクタを配置することを特徴とする。
【００１１】
本発明の真空処理装置において、前記コネクタは、真空処理装置が設置される建屋から供給されるガスの配管と接続されるガス供給ユニットのコネクタであることを特徴とする。
【００１２】
本発明の真空処理装置において、前記ベッド部は、前記処理室に配置されたコイル部への電力の供給を調整する前記電源、当該処理室へのガス供給を調整する前記調整ユニット、当該処理室の動力系の電力および制御系の電力をそれぞれ分配する分電ユニットを内部に備えた処理室架台であり、当該ベッド部の上面が取り外し可能な平板で構成され、前記調節ユニットは、複数のガス流量調整器を備えたガス供給ユニットであり、前記ベッド部の上面平板を取り外した状態で前記ベッド部の外部に開放可能に構成されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、真空処理室における試料の処理の効率を高くできる真空処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施例に係る真空処理装置の一真空処理ユニットの構成の概略を示す側面図である。
【図２】図１に示す真空処理ユニットのＡ−Ａ面を上方から見た構成の概略を示す図である。
【図３】図１に示す真空処理ユニットのＢ−Ｂ面を上方から見た構成の概略を示す側面図である。
【図４】図１に示す真空処理ユニットのＣ−Ｃ面を上方から見た構成の概略を示す横断面図である。
【図５】本発明の実施例に係る真空処理装置の構成の概略を示す上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本実施例では、各真空処理ユニットの動作に必要な電源や制御装置、ガス供給ユニットなどのユーティリティを当該真空処理ユニットの上下に配置し、当該ユニットと共にこれらのユーティリティが着脱可能に構成した例である。
【実施例１】
【００１６】
以下、本発明の実施例について図面を用いて説明する。最初に、真空処理装置の概略構成について説明する。図５は、本発明の実施例に係る真空処理装置１を上方から見た時の概略図である。
【００１７】
同図において、真空処理装置（プラズマ処理装置）１は、大別して真空側ブロック１０２０、大気側ブロック３０００、を有する。
【００１８】
真空側ブロック１０２０は、真空搬送ブロック１０、真空処理ユニット２０を有し、大気側ブロック３０００は、大気搬送ブロック３０を有する。
【００１９】
真空搬送ブロック１０は、本例では、複数の真空搬送容器１１０ａ、１１０ｂ、中間室真空容器（中間室連結部）１２０、ロック室真空容器（ロック室連結部）１３０、を有する。そして、これらの真空容器１２０、真空容器１３０は、試料搬送連結ブロックを構成する。
【００２０】
真空搬送容器１１０ａ、１１０ｂは、それぞれ真空搬送室１１０１ａ、１１０１ｂを有し、当該真空搬送室内には、それぞれウエハなどの基板状の試料を搬送する搬送機１１０２ａ、１１０２ｂが配置されている。
【００２１】
搬送機１１０２ａ、１１０２ｂは、それぞれ真空搬送ロボットからなり、当該ロボットは、真空搬送容器１１０ａ、１１０ｂの真空搬送室１１０１ａ、１１０ｂ内に配置され、ロック室真空１３０や中間室真空容器１２０（ロック室３０２１を含む真空容器）を通して搬送された試料を真空処理ユニット２００ａ、２００ｂ、２００ｃ、２００ｄ側の真空容器（真空チャンバ）２１２の処理室２１２１に搬送し、また当該真空処理ユニット側の試料を取り出し、元に戻すように搬送する機能を有する。
【００２２】
すなわち、真空搬送室１１０１ａ内に配置された真空搬送ロボット１１０２ａは、前方の２つの真空処理ユニット２００ａ、２００ｂ内部の処理室または中間室１２０１とロック室１３０１との間で、試料の取り出し、搬送および受け渡しを行う。同様に、真空搬送ロボット１１０２ｂは、中間室１２０１と真空処理ユニット２００ｃ、２００ｄ内の処理室との間で試料の取り出し、搬送および受け渡しを行う。
【００２３】
また、真空搬送容器１１０ａ、１１０ｂの真空搬送室１１０１ａ、１１０１ｂは、真空処理ユニット２０（２００ａ〜２００ｄ）の真空容器２１２（図１の真空容器２１２参照）の処理室２１２１（図１の処理室２１２１参照）と同等の圧力まで減圧することができるように構成されている。
【００２４】
中間室真空容器１２０は、中間室１２０１を含む真空容器からなる。そして、当該真空容器１２０は、真空搬送容器１１０ａ、１１０ｂ同士を連結し、両真空搬送容器の真空搬送室１１０２ａ、１１０２ｂ同士を、当該中間室１２０１を介して連通する。
すなわち、中間室真空容器１２０は、真空搬送容器１１０ａと真空搬送容器１１０ｂを連結し、当該両真空搬送容器の真空搬送室１１０１ａ、１１０１ｂを連通し、当該両者間で試料の搬送が可能なように構成されている。
【００２５】
ロック室真空容器１３０は、ロック室１３０１を含む真空容器からなる。そして、当該真空容器１３０は、真空搬送容器１１０ａの前面側（図５の下側）にて、当該真空搬送容器と後述する大気搬送容器３１０を連結し、真空搬送容器１１０ａの真空室１１０１ａと大気搬送容器３１０の大気室３１０１とを当該ロック室１３０１を介して連通する。
すなわち、ロック室連結部１３０は、真空搬送容器１１０ａと大気搬送容器３１０を連結し、当該真空搬送容器の真空搬送室１１０１ａと大気搬送容器３１０の大気室３１０１を連通し、当該両者間で試料の搬送が可能なように構成されている。
【００２６】
ロック室１３０１は、内部に上下に各１枚の試料が収納可能な収納部を備えている。同様に中間室１２０１も、上下に１枚ずつの試料を収納可能な収納部を備えている。
【００２７】
ロック室１３０１は、内部の試料収納室内を排気および乾燥したガスを供給可能に構成されている。また、ロック室１３０１は、内部の試料収納室内に試料を収納した状態で室内の圧力を大気搬送室３１０１と同じ又は僅かに高いものであって、実質同等と見做せる程度の値と真空搬送室１１０ａの内部の圧力と同じ又は僅かに低いものであって、実質同等と見做せる程度の値との間で調節できる機能を有している。
【００２８】
つまり、ロック室１３０１は、大気搬送室３１０１およびカセット載置台３２０を有する大気側ブロック３０００と真空側ブロック１０２０との間での試料の取り出しや受け渡しのための連通の開閉機構であるとともに、可変圧インタフェースとして機能する。
【００２９】
真空処理ユニット２０は、本例では、複数の真空処理ユニット２００ａ〜３００ｄ、を有する。真空処理ユニット２００ａ〜３００ｄは、それぞれ処理室２１２１を含む真空処理容器２１２、を有する。そして、真空処理容器２１２は、真空搬送容器１１０ａ、１１０ｂに、その側壁を介して各処理室と各搬送室とが連通するように着脱可能に連結されている。
【００３０】
すなわち、真空処理ユニット２０の真空処理容器２１２（図１の真空処理容器２１２参照）は、真空搬送容器１１０ａ、１１０ｂに連結され、当該両容器の各処理室２１２１と各搬送室１１０１ａ、１１０１ｂを連通し、当該両者間における試料の搬送、取り出しが可能なように構成されている。
【００３１】
真空処理容器２１２の処理室２１２１の内部（空間）には、所定の圧力（真空圧）まで減圧可能な処理用のガスが供給され、また図示しない電界または磁界が印加される。そして、処理室２１２１の試料の上方の空間にプラズマを形成し、試料の表面を処理する構成となっている。
【００３２】
試料の表面処理は、真空容器内部の空間である処理室２１２１をバルブ等により気密に封止して区画した上で真空ポンプ（図１の真空ポンプ２０８を参照）の駆動により排気し、所定の圧力まで減圧する。
【００３３】
そして、当該減圧した空間に試料を処理するためのガスを図示しないガス源であるガス貯留タンクと連結されたガス供給管路から供給しつつ、電界または磁界を供給する供給手段から電界または磁界を供給して当該ガスを励起し、試料台の載置面上方の空間にプラズマを形成してなされる。
【００３４】
真空処理ユニット２０の真空処理容器２１２の詳細構成については後述する。
【００３５】
真空処理装置１の前方側（図５の下側）には、大気搬送ブロック３０を有する筐体を備えている。
【００３６】
大気搬送ブロック３０は、大気搬送容器３１０、カセット載置台３２０を有する。大気搬送容器３１０は、大気圧、またはこれより僅かに高い値の圧力にある大気搬送室３１０を含む。
【００３７】
筐体は、真空処理装置１の後方側面（図５の上方側の面）である背面には、ロック室１３０１を構成する真空容器１３０が連結され、ロック室１３０１と大気搬送室３１０１とは、これらの間に配置された図示しないゲートバルブにより、その連通が気密に開閉される通路を介して連結されている。
【００３８】
大気搬送容器３１０の大気室３１０１の内側の空間には、大気圧搬送機３１０２が配置されている。
【００３９】
大気圧搬送機３１０２は、大気搬送ロボットからなり、当該ロボット３１０２は、大気搬送容器３１０の大気搬送室３１０１内に配置され、カセット内に収納されている試料を取り出し、ロック室３０２１を含む真空容器を通して真空搬送ユニット１００ａの真空搬送容器側に搬送する機能を有する。
【００４０】
また、試料を退避ステーション３３０（３３０１〜３３０４）に退避する機能を有する。退避ステーション３３０は、大気搬送容器３１０の側面、背面に複数配置されている。
【００４１】
カセット載置台３２０は、複数のカセット載置台３２０１〜３２０５を有する。カセット載置台３２０の上面には、ウエハなどの基板状の試料（被処理体）を収納するカセットが載置される。
【００４２】
カセット載置台３２０上に載せられたカセット（図示せず）内の試料は、大気搬送ロボット３１０２により、当該カセットから取り出されて大気搬送室３１０２の内部を搬送された後、ロック室１３０１に搬入される。
【００４３】
試料は、ロック室１３０１内に収納された状態で内部が排気されて減圧された後、真空搬送ロボット１１０２ａにより、ロック室１３０１から真空側ブロック１０２０に取り出され、真空処理ユニット２００ａ、２００ｂまたは中間室１２０１のうちの何れか一つに搬送される。
また、中間室１２０１に搬送された試料は真空処理ユニット２００ｃ、２１００ｄの何れかに搬送される。
【００４４】
また、これらの試料の搬送は、試料がカセットから取り出される前に、この試料へ処理が実施される何れかの真空処理ユニットの処理室、搬送ロボットを含む搬送経路および当該処理のレシピを含む処理の条件が、真空処理装置１が設置される図示していないクリーンルーム等の建屋での試料の搬送や処理を調節するホストコンピュータや真空処理装置１に備えられた制御用のパーソナルコンピュータ（ＰＣ）等のコントローラからの指令に基づいて予め設定されている。
【００４５】
そして、何れかの真空処理ユニットの処理室において処理された試料は、当該処理後に真空搬送ロボット１１０２ａ、１１０２ｂにより取り出されて、元の経路を逆向きに搬送され、大気搬送室３１０１の側面と背面とに複数（本実施例では４個）が配置され、内部に複数のウエハを上下に隙間を空けて収納可能な容器である退避ステーション３３０を経由してカセットの元の位置へ戻される。
【００４６】
本例では、真空処理装置１の大気側ブロックの試料は、カセットから取り出されて真空処理装置の後方（図５の上方）に向う所定の経路を搬送されて何れかの真空処理ユニットに搬送され、その内部の処理室で処理された後に元のカセットに向かって装置前方（図５の下方）向きに搬送される。
【００４７】
以上述べたように、処理室２１２１を含む真空処理ユニット２０（２００ａ〜２００ｄ）、真空搬送室１１０１ａ、１１０１ｂを含む真空搬送容器１１０、中間室１２０１を含む連結部１２０、ロック室１３０１を含む連結部１３０などは、減圧された条件でカセットに収容されている試料を搬送し、かつ当該試料に対して所望の処理を行う真空側ブロック２０３０を構成している。また、大気搬送ユニット３０は、大気側ブロック３０００を構成している。
【００４８】
また、本実施例の真空処理装置１は、前後方向（図５の上下方向）に複数（本例では２個）の真空搬送容器１１０ａ、１１０ｂがロック室１３０１，中間室１２０１を間に挟んで連結され、その側壁面を対向させ配置されている。
【００４９】
また、各々の真空搬送容器１１０ａ、１１０ｂは上方から見て矩形、またはこれと見做せる程度に近似した平面形状を有し、真空処理装置１の前方から見て左右方向（図の左右方向）の各々の側の側壁面に一つの真空処理ユニットが連結されている。
そして、前後方向（図５の上下方向）について、二つの真空処理ユニットが、少なくとも各々の真空容器同士の間に空間を空けて隣り合って配置されている。
【００５０】
さらに、本実施例の真空処理装置１は、その大気搬送室３１０１を構成する筐体の前面側のカセット載置台３２０が配置される面を装置が設置されるクリーンルーム等の建屋の床上のカセットが搬送されるラインに沿って、隣接する真空処理装置と左右方向（ラインの方向）に距離を空けて配置される。前後方向で隣り合う真空処理ユニット同士の間の空間、および真空処理装置同士の間の空間や真空処理装置１の後方（図５の上方）側の空間といった真空処理装置１０の周囲の空間は、作業者が通る、あるいは作業を実施できる作業用のスペースとなっており、少なくとも人間一人の左右方向の幅より大きい距離が空けられている。
【００５１】
また、本実施例の真空搬送容器１１０ａ、１１０ｂは、その辺に相当する矩形の周の４つの側壁面の何れも、搬送される試料が内部を通過する通路であるゲートとこれを開閉するゲートバルブとを、何れかの真空処理ユニット、ロック室、中間室、試料収納容器を連結可能に構成されている。
【００５２】
なお、真空搬送室１１０１ｂを内部に有する真空搬送容器１１０ｂは、その背面（図５の上側の面）は何も連結されていないが、内部に複数の試料を収納可能な退避ステーション等の収納容器あるいは真空処理ユニットが連結されても良い。また、背面側を気密に封止されたロック室１３０１，中間室１２０１の何れかが連結されていても良い。
【００５３】
次に、真空処理ユニット２０の構成について説明する。図1は真空処理ユニット２０の概略構成を示す図である。
【００５４】
本実施例は、図５の真空処理ユニット２００ａ，２００ｂ，２００ｃ，２００ｄの構成を示すものであるが、これらはいずれも同一の部品の形状、構造や相互の相対的な配置等の構成であるので、真空処理ユニット２０として、その一つである真空処理ユニット２００ａを例に挙げて説明する。
【００５５】
真空処理ユニット２０のユニット２００ａは、大別すると、以下の３つの部分に分けられる。
（１）１つは、内部に処理室（真空処理室２１２１）を有する真空容器２１２（真空チャンバ）および真空容器２１２の下方に配置され、処理室内部を排気するターボ分子ポンプを含む真空ポンプ２０８を含む処理部２１００である。
（２）他の１つは、真空容器２１２の上方に配置されて処理室内に供給する電界または磁界を形成して伝播させる部分であるプラズマ形成部２２００である。
（３）残りの１つは、処理部２１００の下方に配置され、当該処理部で用いられる電力およびガス等の流体の供給を調節する調節ユニット（ガス供給ユニット２１０）が直方体、あるいはこれと見做せる程度に近似した形状を備える筐体の内部と上面とに配置され処理部２１００およびこの上方のプラズマ形成部２２００とを下方から支持する台となっているベッド部２３０である。
【００５６】
処理部２１００は、外側チャンバ（真空チャンバ）を構成する真空容器２１２、ターボ分子ポンプ等の真空ポンプ２０８などを備えている。
【００５７】
真空容器２１２は、（外側チャンバ）は、内部に円筒形を有した処理室２１２１を有して外部の大気に対して内側が気密に封止されて区画されている。また、真空容器２１２は、図示していないが、例えば、上部に試料を処理室２１２１内に搬入する搬入口、つまり開口部を有し、当該開口部側の内部空間を仕切り弁によって仕切れる構造となっている。
【００５８】
換言すれば、処理室２１２１は、基板を搬入する開口部を有し、当該開口部側の内部空間を仕切り弁によって機密に保持する構造となっている。
【００５９】
なお、本例の真空容器２１２は、その内部の室は、さらに別の容器である円筒形を有した内側チャンバ２０６によって気密に区画されており、当該容器の処理室は円筒形の内側側壁面を有した内側チャンバ２０６内に配置された室、つまり真空処理室２１２１である。つまり、本例の真空容器２１２内部の空間は、多重（二重）に配置された容器により多重に仕切られている。
【００６０】
また、この処理室内には、円筒形を有した当該処理室２１２１と、その中心軸同士を合致またはこれと見做せる程度に近接させて配置され円筒形を有した試料台２１３および試料台２１３内部に配置され、高周波のバイアス電力が供給される基板電極を有する。
【００６１】
試料は、処理室２１２１内の試料台２１３の載置面上に搬送され、これに保持された状態で内側チャンバ２０６の内部（真空処理室２１２１）に導入された処理用のガスを用いて形成されたプラズマにより、試料表面に予め形成、配置された膜構造の対象の膜がエッチング処理される。
【００６２】
真空ポンプ２０８は、真空容器２１２の下方に配置され、また当該真空容器２１２に連結し、真空容器内のガスを排気する。
【００６３】
プラズマ形成部２２００は、処理部２１００の処理容器上方に配置されている。そして、高周波発振部２０１、ウエハバイアス電源２０３、ウエハバイアス整合器２０４、ＥＳＣ電源２０５、コイル部２０７などを備えている。
【００６４】
高周波発振部２０１は、プラズマ生成手段を構成するものであって、例えば、処理室（処理室２１２１）内にプラズマを生成するための電界を形成するマグネトロン等からなる。
【００６５】
ウエハバイアス電源装置２０３は、基板電極にバイアス電力を供給する。基板電極は、真空容器（外側チャンバ）２１２内に配置され、試料が処理中にその上面である載置面に載せられて吸着、保持される試料台２１３の内部に配置される金属製円板形状を有する。
【００６６】
ウエハバイアス整合器２０４は、基板電極に供給するバイアス電力を調整する。
【００６７】
ＥＳＣ電源２０５は、基板電極に被処理体を静電吸着するものであって、当該基板電極の載置面を構成する誘電体膜の内部に配置された電極に直流電力を供給する。基板電極は、試料台２１３上面の載置面上に試料を静電吸着させるため、試料台２１３の上面を覆うように配置される。
【００６８】
そして、これらは、処理部２１００の処理容器２１２上方で処理室２１２１の上方と側方外周を囲んで配置され、直流電力が供給され円筒形を有したコイル部２０７の上面上方に配置されている。
【００６９】
コイル部２０７は、真空容器２０６の上方に配置され、電界、磁界の発生手段を含むプラズマ発生手段を構成する。
【００７０】
ベッド部２３００は、処理部２１００の真空容器２１２および真空ポンプ２０８の下方配置されている。そして、コイル電源２０９、ガス供給ユニット２１０、分電ユニット２１１、処理室架台２１４、レベル調整用アジャスタ２１６などを備えている。
【００７１】
コイル電源２０９は、複数（３個）のコイル電源２０９からなり、コイル部２０７への電力の供給を調節する。
【００７２】
ガス供給ユニット２１０は、複数種類のガス毎の供給管との取り合い部２１７である複数のコネクタ２１７１を有し、処理室内へのガスの供給を調節する。
【００７３】
ガス供給ユニット２１０は、コイル電源２０９がベッド部２３００に収納された状態の上方に収納されている。
そして、コイル電源を収納した収納部の引き出しが引き出される側とは異なる側の側面には、ガス供給ユニット２１０である調節ユニットのコネクタ（図３、４のコネクタ２１７１参照）を配置する。
【００７４】
分電ユニット２１１は、処理室の動力系の電力および制御系の電力をそれぞれ分配する。
【００７５】
処理室架台２１４は、その上面に支持柱が載せられて真空容器２１２下面と接続されて連結され、真空容器２１２およびその上面と接してこれに載せられたプラズマ形成部２２００の荷重を受けて支持している。
【００７６】
また、処理室架台２１４は、外観は直方体またはこれと見做せる程度に近似した形状を備えた箱体の形状を有し、当該箱体の内部には、コイル電源２０９、ガス供給ユニット２１０、分電ユニット２１１、などを収納した収納部（ベッド部）を有し、当該ベッド部のコイル電源２０９を収納している収納部は、装置の外側にスライド可能な引き出しを備えた引出し構造となっている。
【００７７】
処理室架台２１４は、梁状の部材が縦、横方向に連結して組合せられ上記の形状が構成された、所謂ラーメン構造またはこれと見做せる直方体形の構造を有している。
上記支持柱は梁状の部材と力学的に連結され、好ましくは接合され、一方の荷重を他方に直接的に伝達可能に構成されている。
【００７８】
また、処理室架台２１２の側壁、好ましくは側壁を構成する梁状部材は、モジュール全体のレベル調整用アジャスタ２１６（本例では片側側壁に２個ずつ、計４個）と連結もしくは接合され、真空処理装置１あるいは真空処理ユニット２０（２００ａ）が設置される建屋の床面に対する真空処理ユニット２０（２００ａ）の上下方向の高さ或いは水平方向の傾斜の度合いが、レベル調整用アジャスタ２１６の螺子を回転させることで調節される。
【００７９】
また、処理室架台２１４は、直方体に形成され、当該直方体形状の上面は平板２１４１により構成されている。また、当該平板による平面は、真空処理装置１の使用者、またはこれに対して保守、点検等の作業を行なう作業者がその平面上に乗載可能な強度が得られるように構成されている。
すなわち、処理室架台２１４の平板または梁状部材は真空処理装置１に連結、接続されている。
【００８０】
また、平板上には、プラズマ形成部２２００が真空容器２１２上方に配置されている。そして、その位置が固定され、処理室内に供給する電界または磁界を形成可能にした状態でプラズマ形成部２２００の高周波発振部２０１と電気的に接続され、処理室内に電力を供給するための高周波電源２０２が載せられている。
つまり、処理室架台２１４は、その内部にコイル電源２０９、ガス供給ユニット２１０、分電ユニット２１１、などを収納するベッド部２３００を構成している。
【００８１】
レベル調整用アジャスタ２１６は、プラズマ処理室架台２１４の下側に４個配置されており、モジュール全体のレベル調整用として機能する。
【００８２】
図２は、図１に示す真空処理ユニットのＡ−Ａ面を上方から見た構成の概略を示す図である。そして、図上の上向き矢印方向が図５に示す真空搬送容器１００ａに連結される側であり、図上の下向き矢印方向が真空処理装置１の左右の空間であって、作業者が通る、あるいは作業を行なうことができる作業スペースの側である。
【００８３】
同図において、高周波発振部２０１、ウエハバイアス電源２０３と、ウエハバイアス整合器２０４、およびＥＳＣ電源２０５は、外形が円筒形を有したコイル部２０７の上面上方に載せられて配置されている。
【００８４】
また、コイル部２０７および高周波発振部２０１、ウエハバイアス電源２０３と、ウエハバイアス整合器２０４、およびＥＳＣ電源２０５は、真空容器２１２の側壁面に接続されたクレーンやジャッキ等のリフターであるコイル上下装置２１５と連結されている。
【００８５】
すなわち、これらは、コイル上下装置２１５により、コイル部２０７と共に上下する機構となっている。
そして、コイル部２０７が上昇する際に、ウエハバイアス電力と被処理体を静電吸着させるためのＥＳＣ電力は、図示しない給電接続ブロックから切り離される。
【００８６】
また、コイル部２０７の下降位置で前記電力の給電が可能となり、上昇位置で電力の給電が遮断されるように構成してある。
【００８７】
また、上部に配置されるウエハバイアス電源装置２０３、ウエハバイアス整合器２０４、ＥＳＣ電源２０５は、プラズマ処理室２０の外面（メンテ側）寄りに配置し、これらの交換作業を容易に行えるようにする。
【００８８】
本実施例では、コイル部２０７がコイル上下装置２１５と連結されており、コイル部２０７上面に載せられて接続された高周波発振部２０１、ウエハバイアス電源装置２０３と、ウエハバイアス整合器２０４、およびＥＳＣ電源２０５は、コイル上下装置２１５の動作によりコイル部２０７と共に上下する。
【００８９】
このため、本実施例では、コイル部２０７が上昇する際にウエハバイアス電源２０３とＥＳＣ電源２０５とは、コイル部２０７の円筒形下部と処理部の真空容器２１２との間に配置された図示しない給電接続ブロックから切り離される。
【００９０】
コイル部２０７の最下位置では、給電ブロックを介してウエハバイアス電源部２０３とＥＳＣ電源２０５とが真空容器２１２、処理室内部の試料台２１３又はその内部の基板電極と電気的に接続される。
【００９１】
この接続により、基板電極への給電が可能となる。また、コイル部２０７が上昇して給電ブロックを介した電気的接続が開放され、基板電極への給電が切断される。
【００９２】
ウエハバイアス電源２０３、ウエハバイアス整合器２０４、ＥＳＣ電源２０５は、コイル部２０７の円形の上面で、その中心から真空処理装置１０の前後方向について左右の側（作業スペースの側）に片寄せて配置されている。
【００９３】
図３は、図１の処理室をモジュール化したプラズマ処理装置２０の側面図（Ｂ−Ｂ視）の概略図を示す図である。
【００９４】
同図において、処理室架台２１４内に配置したガス供給ユニット２１０は、内部にガス流量調節器を備えたユニットで構成されており、上方の真空ポンプ２０８に対して、ガス流量調節器へのアクセスが可能な配置としている。
【００９５】
ガス供給ユニット２１０は、ユニット側面にガス一次側取合い部を設け、処理室架台２１４の踏み板面より下方でガス配管接続可能となっている。
【００９６】
これは、架台踏み板面より上方のメンテナンスエリアを確保するのに有効である。
また、ガス供給ユニット２１０から真空容器２０６までのガス供給配管が最短になるようにガス供給ユニット２１０を配置する。
また、架台底面に樹脂系シートを設置し、架台底面に配置したコイル電源２０９と、分電ユニット２１１はメンテナンスの際に矢印方向に引き出し可能な構造となっている。
【００９７】
図３は、図１に示す真空処理ユニットのＢ−Ｂ面を上方から見た構成の概略を示す側面図である。図１、図２と同様に、本図も真空処理ユニット２０（２００ａ）の構成を開示している。
【００９８】
同図において、コイル部２０７の中心には、真空容器２１２あるいはコイル部２０７の上下方向に延在して内部をプラズマ形成のための電界が伝播する円筒形の導波管が、その軸を処理室またはコイル部２０７の中心と合致させて配置される。
【００９９】
また、円筒形の導波管の上端部はその軸が水平方向で真空搬送容器側に向かって延在する断面矩形状の導波管と接続されている。
【０１００】
水平方向に延在する矩形状の導波管は、その一端において更にその軸が上方に延在する断面矩形状の導波管と接続されて、この上下方向に延在する断面矩形の導波管の途中または上端部に高周波発振部２０１が配置されている。
【０１０１】
つまり、本例の導波管は、コイル部２０７の上方で複数箇所で実質的に直角に軸の向きを変化させた屈曲した管路を構成しており、その上端部に高周波発振部２０１が取り付けられ、発振されて形成された電界は導波管内部を進行の方向を複数回変え最終的にコイル部２０７または処理室の上方から下方に向けて伝播する。このような構成は、他の真空処理ユニットについても同様である。
【０１０２】
上述の通り、ウエハバイアス電源２０３、ウエハバイアス整合器２０４、ＥＳＣ電源２０５を、これらを搭載する真空処理ユニットが連結、配置された側の作業スペースに片寄せて配置した構成と併せて、上記導波管を備えた構成とすることにより、本例の真空処理装置１は、コイル部２０７を含め処理部、プラズマ形成部の部品または部材の交換の作業の量或いは要する時間を低減し、作業を容易に行うことができる。
【０１０３】
また、本例において、処理室架台（ベッド部）２１４内に配置したガス供給ユニット２１０は、内部に複数のガス流量調節器を備えている。
より詳細には、ガス供給ユニット２１０は、図示していないが、処理室に供給可能な複数のガスの異なる物質、組成毎に異なる管路であって、各々が並列して配置された複数の管路と、当該管路上に並べられて配置され、当該ガスの流量を調節するガス流量調節器および管路を開閉するバルブと、複数の管路が合流した一つの管路を内部に有した外形が直方体またはこれと見做せる程度に近似した筐体を備えたユニットである。
【０１０４】
また、ガス供給ユニット２１０は、処理室架台（ベッド部）２１４の内部において、その上部に配置され、作業者は処理室架台２１４の上面を構成する平板２１４１を取り外すことで、ガス供給ユニット２１０本体またはその内部の管路あるいはバルブ、ガス流量調節器にアクセス可能に構成されている。
【０１０５】
また、ガス供給ユニット２１０は、ガスの種類各々に対応したガスの管路の端部がその筐体の一つの側面から突出して配置され、その先端には、真空処理装置１０が設置される建屋の床面の下方に予め配置されている複数種類のガス毎の供給管との取合い部２１７を構成する複数のコネクタ２１７１を有している。
【０１０６】
さらに、ガス供給ユニット２１０は、ガス供給ユニット２１０から真空容器２１２までのガス供給配管が最短になるように配置する。
【０１０７】
また、処理室架台２１４の底面には樹脂製のシートが配置されると共に、処理室架台２１４（ベッド部）の内部にコイル電源２０９と分電ユニット２１１とを収納した収納部分を、図示の左右方向（真空処理装置１の前方から見て左右方向）、つまり矢印方向Ａにスライドさせることにより、処理室架台２１４の作業スペース側、特に真空処理装置１の左右の空間である周囲の作業スペース側に引き出すことができる。
【０１０８】
作業者は、当該引き出しされた収納部の内部に収納されていたコイル電源２０９の上面や側面を周囲に曝された状態にすることをもって、これらに保守、点検を施したり、また引き出しから取り外す等の作業を行なうことができる。
【０１０９】
一方で、ガス供給ユニット２１０は、処理室架台２１４内部の３つのコイル電源２０９の上方に、当該電源と区画して収納されていると共に、ガス供給ユニット２１０の複数のガス毎の管路の先端に配置されたコネクタは、処理室架台２１４の隣り合う真空処理ユニット２０（２００ａ）との間の空間または大気搬送室３１０１の筐体との間の空間に面した側面の側に突出して配置されている。
【０１１０】
このような構成にすることにより、処理室架台２１４の周囲において作業者が作業をする領域の面積を確保するのに有効である。
【０１１１】
図４は、図１に示す真空処理ユニットのＣ−Ｃ面を上方から見た構成の概略を示す横断面図であり、また真空処理ユニット２０（２００ａ）の処理室架台２１４の平面図を示している。
【０１１２】
同図において、ガス供給ユニット２１０は、処理室架台２１４の内部の上段に配置されている。
【０１１３】
ガス供給ユニット２１０の筐体は、処理室架台２１４の上面を構成する平板を取り外すことで、作業者がアクセス可能となり、さらにガス供給ユニットの天板を外すことで、内部が開放されて内側の管路、バルブ、ガス流量調節器等の機器が外部の大気に曝露される。この状態で作業者は当該内部にアクセスが可能となっている。
【０１１４】
このため、本実施例では、処理室架台２１４の上面と接続されて処理室部およびプラズマ形成部を支持する支持柱は、ガス供給ユニット２１０が収納された処理室架台２１４の一方の側の上面での上下方向投影された領域には配置されておらず真空搬送容器に近接した箇所で一本のみが接続される。
【０１１５】
他方、分電ユニット２１１が配置された他方の側の上面では複数の支持柱が処理室架台２１４の上面と接続されている。支持柱が配置されていない領域で処理室架台２１４の上面の平板を取り外すことで、作業者は容易にガス供給ユニット２１０にアクセスできる。
【０１１６】
さらに、ガス供給ユニット２１０の下方のスペースに複数（３個）のコイル電源２０９が配置され、これに隣接して配置された分電ユニット２１１とともに、真空処理装置１０の前方から見た場合の左右方向（図上下方）の何れかの側の作業スペースに引き出し可能に構成されている。内部にこれらを上下に重ねて配置することで、処理室架台２１４、ひいては真空処理ユニット２０（２００ａ）の設置された際の占有面積をより小さなものにできる。
【０１１７】
また、ガス供給ユニット２１０の建屋から供給されるガスの供給管とのコネクタ２１７１を有する取り合い部２１７を処理室架台２１４の隣り合う真空処理ユニットまたは大気側ブロックの筐体に面する側の側面に突出させて配置することで、下方に配置されたコイル電源２０９の引き出しを可能にし、また、取り合い部２１７を含めた処理室架台２１４の占有面積の増大を抑制できる。
【０１１８】
また、保守や点検等でガス供給ユニット２１０にアクセスする場合は、作業用のスペースの側に面した取り合い部２１７のコネクタ２１７１の着脱を容易に行なうことができ、さらには、コイル電源２０９、分電ユニット２１１は、処理室架台２１４前面の側（真空処理装置１の左右何れかの作業スペースに面する側）に配置した動力・信号ケーブル接続ポート、ユーティリティ接続ポートと容易に着脱可能であるとともに引き出し可能な構造となっている。
【０１１９】
以上述べた実施例によれば、各真空処理ユニットの処理室において、試料に対する処理の動作に必要な電源や制御装置、ガス供給ユニットなどのユーティリティの配置を、装置の占有面積の増大とともに保守、点検の作業の量や時間を抑制し得るような構成としていることから、真空処理室における試料の処理の効率を高くできる真空処理装置を提供することができる。
【０１２０】
また、処理架台２１４内部の上段にガス供給ユニット２１０を配置し、ガス供給ユニット２１０の平板の天板を外すことで、内部の機器へのアクセスが可能である。
また、ガス供給ユニット２１０の下方のデッドスペースに複数（３個）のコイル電源（２０９）を配置し、モジュール全体の占有面積を極小の設置面積になるよう配置している。
【０１２１】
また、交換等でアクセスする場合は、メンテナンス側に配置した動力・信号ケーブル接続ポート、ユーティリティ接続ポートが容易に着脱可能であり、且つユニット全体は引き出し可能な構造となっている。同様に、分電ユニット２１１もユニット全体をメンテナンス側に引き出し可能である。
【０１２２】
そして、処理室単体でプラズマ処理可能な機能を有するモジュール装置として構成することができる。
【０１２３】
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上述した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。
また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
【符号の説明】
【０１２４】
１  真空処理装置
３１０１  大気搬送室
３１０  大気搬送ロボット
２１３  カセット載置台
３３０  退避ステーション
１３０１  ロック室
１１０１ａ、１０１ｂ１  真空搬送室
１１０２ａ、１１０２ｂ  真空搬送ロボット
１２０１  中間室
２１２    真空処理容器（真空チャンバ；外側チャンバ、内側シャンバ）
２１２１  処理室
２０（２００ａ〜２００ｄ）  真空処理ユニット
２０１  高周波発振部
２０２  高周波電源
２０３  ウエハバイアス電源装置
２０４  ウエハバイアス整合器
２０５  ＥＳＣ電源
２０６  真空容器
２０７  コイル部
２０８  真空ポンプ
２０９  コイル電源
２１０  ガス供給ユニット
２１１  分電ユニット
２１２  真空チャンバ
２１３  試料台
２１４  処理室架台
２１５  コイル上下装置
２１６  処理室レベル調整用アジャスタ
２１７（２１７１）  取り合い部（コネクタ）
１０２０  真空側ブロック
３０００  大気側ブロック
２１００  処理部
２２００  プラズマ形成部
２３００  ベッド部
【図１】
2015008243.tif 000003
【図２】
2015008243.tif 000004
【図３】
2015008243.tif 000005
【図４】
2015008243.tif 000006
【図５】
2015008243.tif 000007