(57)【要約】【課題】従来の基板吸着搬送機構に基板位置決め機能を有しなかったため、基板受け台に基板位置決め機構を設けて複雑な構造としなければならず、また必ず基板受け台に載置し、位置決めの時間を要するという問題があった。【解決手段】基板を吸着して搬送する基板吸着搬送機構（１１）において、複数の非接触基板吸着部材（１０）を、その吸着面が作る平面が、基板吸着搬送機構（１１）の一つの角部を最下端とし、基板の自重で最下端に移動する程度に傾斜を付けた傾斜面となるように設け、前記最下端の角部を挟む２辺にそれぞれ第１の位置決めピン（８）と第２の位置決めピン（９）を設けた基板吸着搬送機構（１１）にするとよい。これにより基板が搬送中に自重で移動（１４）し、自動的に第１の位置決めピン（８）と第２の位置決めピン（９）に当接して位置決めすることができる。【選択図】図１
2015123571.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を吸着して搬送する基板吸着搬送機構において、複数の非接触基板吸着部材を、それらの吸着面が形成する平面が、基板吸着搬送機構の一つの角部を最下端とし、基板の自重で最下端に移動する程度に傾斜を付けた傾斜面となるように設け、前記最下端の角部を挟む２辺にそれぞれ第１の位置決めピンと第２の位置決めピンを設けたことを特徴とする基板吸着搬送機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ加工装置に好適な基板吸着搬送機構に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板に穴あけ加工するためのレーザ加工装置は、図５に構成の概略平面図を示すように、複数枚の基板を重ねた基板カートを基板供給装置２１の基板カート挿入部２１０に挿入し、基板吸着搬送機構ａ２２０によって１枚目の基板を吸着して、基板位置決め機構を有する基板受け台２４に載置し、基板の位置決めを行った後、基板吸着搬送機構２２を移動して当該基板を基板吸着搬送機構ｂ２２１に吸着し、同時に基板吸着搬送機構ａ２２０にて基板カートから２枚目の基板を吸着し、基板吸着搬送機構２２を移動して基板吸着搬送機構ａ２２０が吸着している基板を基板受け台２４に載置し、基板の位置決めを行った後、基板吸着搬送機構ａ２２０に吸着して、基板吸着搬送機構２２を移動して１枚目と２枚目の基板を基板加工テーブル２６に載置し、レーザ加工機２５で加工した後、基板回収装置２７側の基板吸着搬送機構（図示せず）で吸着して基板回収装置２７に搬送するものであった（特許文献１）。
【０００３】
図６に基板位置決め機構を有する基板受け台２４の下面図の例を示す。基板受け台２４の上の基板位置決め前位置５に載置された基板は、第１の位置決めピン駆動機構３と第２の位置決めピン駆動機構４によって駆動された第１の位置決めピン１と第２の位置決めピン２によって、位置決め後基板位置６に移動され、位置決めが完了する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２９７００７号公報（段落００５８）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記従来技術においては、基板受け台に基板位置決め機構を設ける必要があり、複雑な構造としなければならず、また必ず基板受け台に載置し、基板を位置決めするための時間を要す、という問題があった。特に、１枚目の基板についての位置決めのステップは、「基板吸着搬送機構２２を移動」するというステップと並行処理できるのに対し、２枚目の基板についての位置決めのステップは並行処理できるステップがなく、そのまま時間のロスとなる。
【０００６】
本発明の目的は、基板受け台の基板位置決め機構を不要にして、基板受け台の構造を単純化し、かつ基板位置決め時間を短縮することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の目的を達成するためには、基板を吸着して搬送する基板吸着搬送機構（１１）において、複数の非接触基板吸着部材（１０）を、それらの吸着面が形成する平面が、基板吸着搬送機構（１１）の一つの角部を最下端とし、基板の自重で最下端に移動する程度の傾斜面となるように設け、前記最下端の角部を挟む２辺にそれぞれ第１の位置決めピン（８）と第２の位置決めピン（９）を設けた基板吸着搬送機構（１１）にすると良い。
【０００８】
なお、上記カッコ内の符号は、図面と対照するためのものであるが、これにより特許請求の範囲の記載に何等影響を及ぼすものではない。
【発明の効果】
【０００９】
本発明による基板吸着搬送機構を用いることにより、基板がその自重により、自動的に第１の位置決めピンと第２の位置決めピンに接触して位置決めすることができるので、基板受け台の基板位置決め機構が不要となり、また基板吸着搬送機構ａが吸着している基板を基板受け台に載置して基板の位置決めを行う時間を省略できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る基板吸着搬送機構の下面図である。
【図２】本発明に係る基板吸着搬送機構が基板カートから基板を吸着する直前の状態を示す正面図である。
【図３】本発明に係る基板吸着搬送機構が吸着した基板が位置決めされた状態を示す正面図である。
【図４】本発明に係る基板吸着搬送機構が基板を本体の基板加工テーブルに渡す直前の状態を示す正面図である。
【図５】従来のレーザ加工装置の構成概略平面図である。
【図６】従来の基板受け台の下面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明に係る基板吸着搬送機構の実施の形態について図を用いて説明する。図１は本発明に係わる基板吸着搬送機構の下面図である。基板吸着搬送機構１１は、複数の非接触基板吸着部材１０を有し、それら非接触基板吸着部材１０の吸着面が形成する平面が、基板吸着搬送機構１１の一つの角部を最下端とし、基板の自重で最下端側に移動する程度の傾斜面となるように設けられている。非接触基板吸着部材１０によって基板位置１２ｂに吸着された基板は、非接触基板吸着部材１０のパッドに接触していないので、方向１４の方向に自重で自動的に移動する。移動した基板は、上記最下端の角部を挟む２辺にそれぞれ設けた第１の位置決めピン８と第２の位置決めピン９に当接して、位置決め後基板位置１３に停止する。これにより、基板の位置決めがなされる。ここで、非接触基板吸着部材１０としては、例えばＳＭＣ株式会社製非接触チャックＸＴ６６１等を用いるとよい。
【００１２】
次に、図５に示した従来のレーザ加工装置の概略平面図と、図２〜図４を用いて、本発明に係わる基板吸着搬送機構を用いたレーザ加工装置の位置決め、及び搬送動作を説明する。本発明に係わる基板吸着搬送機構を用いたレーザ加工装置は、図５の基板吸着搬送機構ａ２２０を図１の基板吸着搬送機構１１に置き換え、基板受け台２４を基板位置決め機構１，２，３，４を持たないものにしたものである。さらに、図５のもう一つの基板吸着搬送機構ｂ２２１を、図１の基板吸着搬送機構１１に置き換えてもよい。
【００１３】
まず、図２に示したように、基板吸着搬送機構１１が下降して、吸着前の基板位置１２ａにある基板カートに積み重ねられた基板２０の最上部から１枚目の基板を、非接触基板吸着部材１０を作動させて吸着する。ここにおいて、非接触基板吸着部材１０の吸着面が形成する平面が傾斜しているので、傾斜面の上端では隙間ｄが発生する。この隙間ｄは２０ｍｍ以下であれば基板を吸着できることがわかっている。この吸着を行った時点では、基板は第１の位置決めピン８と第２の位置決めピン９に接触していない。
【００１４】
図３は、基板吸着搬送機構１１が基板を吸着して上昇し、基板位置決め機構を持たない基板受け台２４の上方に搬送した状態を示す。図２と同じ部品については説明を省略する。このように、基板は自重で移動し、位置決め後の吸着位置１３で停止する。
【００１５】
図４は、基板吸着搬送機構１１が下降し、基板位置決め機構を持たない基板受け台２４上に載置する時の状態を示す。図２，図３と同じ部品については説明を省略する。第１の位置決めピン８と第２の位置決めピン９は基板受け台２４に押し付けられることにより、矢印の方向に縮み、基板の片側は基板受け台２４に当接する。この状態で非接触基板吸着部材１０の吸着を解除する。
【００１６】
その後、当該基板を基板吸着搬送機構ｂ２２１に吸着し、同時に基板吸着搬送機構１１にて基板供給装置２１の基板カートから２枚目の基板を吸着し、基板吸着搬送機構２２を移動して基板加工テーブル２６に直接搬送して載置し、レーザ加工機３１で加工する。基板加工テーブル２６においては、図４に示したように、第１の位置決めピン８と第２の位置決めピン９は基板加工テーブル２６に押し付けられることにより、矢印の方向に縮み、基板の片側は基板加工テーブル２６に当接する。この状態で非接触基板吸着部材１０の吸着を解除する。このように、従来の「基板の位置決めを行った後、基板吸着搬送機構ａ２２０に吸着」するという２枚目のステップが不要となる。
【００１７】
本例では、基板を２枚同時加工する装置に用いた場合で説明したが、基板を１枚ずつ加工する装置に用いた場合は基板の位置決めを行うための基板受け台が不要であり、基板カートに積み重ねられた状態の基板２０から直接基板加工テーブル２６に搬送することができ、基板受け台上に載置して位置決めする時間を省略できる。
【符号の説明】
【００１８】
１    第１の位置決めピン
２    第２の位置決めピン
３    第１の位置決めピン駆動機構
４    第２の位置決めピン駆動機構
５    位置決め前基板位置
６    位置決め後基板位置
８    第１の位置決めピン
９    第２の位置決めピン
１０  非接触基板吸着部材
１１  基板吸着搬送機構
１２ａ  吸着前の基板位置
１２ｂ  吸着後の基板位置
１３  位置決め後基板位置
１４  基板移動方向
２０  基板カートに積み重ねられた基板
２１  基板供給装置
２１０  基板カート挿入部
２２  基板吸着搬送機構
２２０  基板吸着搬送機構ａ
２２１  基板吸着搬送機構ｂ
２４  基板受け台
２５  レーザ加工装置
２６  基板加工テーブル
２７  基板回収装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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