(57)【要約】【課題】レーザー彫刻により発生した彫刻カスのリンス性及びＵＶインキ耐刷性に優れるレーザー彫刻用フレキソ印刷版及びその製版方法、レーザー彫刻用フレキソ印刷版用リンス液、並びに、レーザー彫刻用フレキソ印刷版製版キット、を提供すること。【解決手段】架橋したレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を準備する工程、上記印刷版原版を、画像様にレーザー彫刻する工程、彫刻された表面を、（成分１）特定構造の有機溶剤、（成分２）両性界面活性剤、及び／又は、アニオン性界面活性剤、並びに、（成分３）水、を含有する水性リンス液を用いてリンスする工程を含有することを特徴とする、フレキソ印刷版の製版方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
架橋したレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を準備する工程、
前記印刷版原版を、画像様にレーザー彫刻する工程、
彫刻された表面を、（成分１）下記式（Ｉ）で表されるアルコール類、下記式（ＩＩ）で表されるエチレングリコールエーテル類、及び、下記式（ＩＩＩ）で表されるケトン類、よりなる群から選ばれた有機溶剤、（成分２）両性界面活性剤、及び／又は、アニオン性界面活性剤、並びに、（成分３）水、を含有する水性リンス液を用いてリンスする工程を含有し、
前記架橋したレリーフ形成層が、（成分Ａ）熱可塑性エラストマーと、（成分Ｂ）重合性化合物と、（成分Ｃ）重合開始剤と、を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、熱及び／又は光により架橋した層であり、
成分１の含有量が水性リンス液の全質量に対して０．５〜４５質量％であることを特徴とする、
フレキソ印刷版の製版方法。
【化１】
2015030122.tif 000024
〔式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜３の直鎖アルキル基、又は、炭素数３〜４の分岐アルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の炭素数の合計は４〜５であり、
式（ＩＩ）中、Ｘ及びＹはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｘ及びＹが共に水素原子のとき、Ｒ4はｎ−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、Ｒ5は水素原子、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、Ｘ及びＹの一方が水素原子、もう一方がメチル基のとき、Ｒ4は炭素数３〜４の直鎖又は分岐アルキル基を表し、Ｒ5は水素原子若しくは炭素数３〜４の直鎖又は分岐アルキル基を表し、
式（ＩＩＩ）中、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ6及びＲ7の炭素数の合計は４〜６である。〕
【請求項２】
成分１が、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、４−メチル−２−ペンタノール、エチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ジエチルケトン、及び、２−ペンタノンよりなる群から選ばれた化合物である、請求項１に記載のフレキソ印刷版の製版方法。
【請求項３】
成分１が、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、又は、ジエチルケトンである、請求項２に記載のフレキソ印刷版の製版方法。
【請求項４】
成分１の２０℃における水への溶解度が１．５〜１０．０ｇ／１００ｍｌである、請求項１〜３のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版の製版方法。
【請求項５】
成分２が、下記式（ＩＶ）又は下記式（Ｖ）で表される両性界面活性剤である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版の製版方法。
【化２】
2015030122.tif 000025
〔式（ＩＶ）中、Ｒ8〜Ｒ10は、それぞれ独立に一価の有機基を表し、
式（Ｖ）中、Ｒ11〜Ｒ13は、それぞれ独立に一価の有機基を表し、Ｌは二価の連結基を表し、ＡはＣＯＯ又はＳＯ3を表す。〕
【請求項６】
成分２が、ベンゼンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、又は、硫酸エステル塩である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版の製版方法。
【請求項７】
成分Ａが、スチレン系熱可塑性エラストマーである、請求項１〜６のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版の製版方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版の製版方法により得られたフレキソ印刷版。
【請求項９】
（成分１）下記式（Ｉ）で表されるアルコール類、下記式（ＩＩ）で表されるエチレングリコールエーテル類、及び、下記式（ＩＩＩ）で表されるケトン類、よりなる群から選ばれた有機溶剤、（成分２）両性界面活性剤、及び／又は、アニオン性界面活性剤、並びに、（成分３）水、を含有し、
成分１の含有量が水性リンス液の全質量に対して０．５〜４５質量％であることを特徴とする、
レーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液。
【化３】
2015030122.tif 000026
〔式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜３の直鎖アルキル基、又は、炭素数３〜４の分岐アルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の炭素数の合計は４〜５であり、
式（ＩＩ）中、Ｘ及びＹはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｘ及びＹが共に水素原子のとき、Ｒ4はｎ−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、Ｒ5は水素原子、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、Ｘ及びＹの一方が水素原子、もう一方がメチル基のとき、Ｒ4は炭素数３〜４の直鎖又は分岐アルキル基を表し、Ｒ5は水素原子若しくは炭素数３〜４の直鎖又は分岐アルキル基を表し、
式（ＩＩＩ）中、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ6及びＲ7の炭素数の合計は４〜６である。〕
【請求項１０】
成分１が、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、４−メチル−２−ペンタノール、エチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ジエチルケトン、及び、２−ペンタノンよりなる群から選ばれた化合物である、請求項９に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液。
【請求項１１】
成分１が、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、又は、ジエチルケトンである、請求項１０に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液。
【請求項１２】
成分１の２０℃における水への溶解度が１．５〜１０．０ｇ／１００ｍｌである、請求項９〜１１のいずれか一項に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液。
【請求項１３】
（成分Ａ）熱可塑性エラストマーと、（成分Ｂ）重合性化合物と、（成分Ｃ）重合開始剤と、を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、熱及び／又は光により架橋したレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版、並びに、
請求項９〜１２のいずれか一項に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液を含有することを特徴とする、
レーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フレキソ印刷版及びその製版方法、レーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、並びに、レーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キットに関する。
【背景技術】
【０００２】
レリーフ形成層をレーザーにより直接彫刻し製版する、いわゆる「直彫りＣＴＰ方式」が多く提案されている。この方式では、フレキソ印刷版原版に直接レーザーを照射し、光熱変換により熱分解及び揮発を生じさせ、凹部を形成する。このような直彫りＣＴＰ方式では、従来の製版工程、すなわち、ネガフィルム又はレリーフ形成層上に備えられたブラックレイヤーをレーザーで画像様にアブレーションして作製したマスクを介して紫外線照射し画像部を硬化させる「露光工程」、及び非画像部となる未露光部を除去する「現像工程」、その後の「乾燥工程」「後露光工程」などが不要となるので、製版工程を大幅に簡略化できるメリットは大きい。
従来のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版としては、例えば、特許文献１〜８に記載のものが知られている。
【０００３】
特許文献１〜４には、レリーフ層バインダーとして疎水性のエラストマー（ゴム）を用いたフレキソ印刷版原版が開示されており、特許文献５には親水性のポリビニルアルコール誘導体を用いたフレキソ印刷版原版が開示されている。
特許文献６には、疎水性エラストマーを用いた版材のリンス性を向上させる技術として、レリーフ形成層に多孔質無機微粒子を含有させ、上記粒子に液状の彫刻カスを吸着させることにより除去性を向上させる技術が開示されている。
特許文献７には、レリーフ形成層に加水分解性シリル基及び／又はシラノール基を有する化合物を含有させることにより、特にアルカリ性リンス液での彫刻カスのリンス性を向上させる技術が開示されている。
特許文献８には、レーザー彫刻可能な感光性樹脂組成物中に、有機ケイ素化合物を含有させることで彫刻後のカス残率が減り（カスが付きにくくなり）、有機溶剤を含浸させた布で彫刻カスを拭き取りやすくなるという技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第５７９８２０２号明細書
【特許文献２】特開２００２−３６６５号公報
【特許文献３】特開２００４−２６２１３５号公報
【特許文献４】特開２００１−１２１８３３号公報
【特許文献５】特開２００６−２０６１号公報
【特許文献６】特開２００４−１７４７５８号公報
【特許文献７】特開２０１１−１４８２９９号公報
【特許文献８】国際公開第２００５／０７０６９１号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、レーザー彫刻により発生した彫刻カスのリンス性及びＵＶインキ耐刷性に優れるレーザー彫刻型フレキソ印刷版及びその製版方法、レーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、並びに、レーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キット、を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の上記課題は、以下の解決手段＜１＞、＜８＞、＜９＞及び＜１３＞により解決された。好ましい実施形態である＜２＞〜＜７＞、及び、＜１０＞〜＜１２＞と共に列記する。
＜１＞架橋したレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を準備する工程、上記印刷版原版を、画像様にレーザー彫刻する工程、彫刻された表面を、（成分１）下記式（Ｉ）で表されるアルコール類、下記式（ＩＩ）で表されるエチレングリコールエーテル類、及び、下記式（ＩＩＩ）で表されるケトン類、よりなる群から選ばれた有機溶剤、（成分２）両性界面活性剤、及び／又は、アニオン性界面活性剤、並びに、（成分３）水、を含有する水性リンス液を用いてリンスする工程を含有し、上記架橋したレリーフ形成層が、（成分Ａ）熱可塑性エラストマーと、（成分Ｂ）重合性化合物と、（成分Ｃ）重合開始剤と、を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、熱及び／又は光により架橋した層であり、成分１の含有量が水性リンス液の全質量に対して０．５〜４５質量％であることを特徴とする、フレキソ印刷版の製版方法、
【０００７】
【化１】
2015030122.tif 000002
〔式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜３の直鎖アルキル基、又は、炭素数３〜４の分岐アルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の炭素数の合計は４〜５であり、式（ＩＩ）中、Ｘ及びＹはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｘ及びＹが共に水素原子のとき、Ｒ4はｎ−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、Ｒ5は水素原子、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、Ｘ及びＹの一方が水素原子、もう一方がメチル基のとき、Ｒ4は炭素数３〜４の直鎖又は分岐アルキル基を表し、Ｒ5は水素原子若しくは炭素数３〜４の直鎖又は分岐アルキル基を表し、式（ＩＩＩ）中、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ6及びＲ7の炭素数の合計は４〜６である。〕
【０００８】
＜２＞成分１が、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、４−メチル−２−ペンタノール、エチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ジエチルケトン、及び、２−ペンタノンよりなる群から選ばれた化合物である、＜１＞に記載のフレキソ印刷版の製版方法、
＜３＞成分１が、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、又は、ジエチルケトンである、＜２＞に記載のフレキソ印刷版の製版方法、
＜４＞成分１の２０℃における水への溶解度が１．５〜１０．０ｇ／１００ｍｌである、＜１＞〜＜３＞のいずれか一つに記載のフレキソ印刷版の製版方法、
＜５＞成分２が、下記式（ＩＶ）又は下記式（Ｖ）で表される両性界面活性剤である、＜１＞〜＜４＞のいずれか一つに記載のフレキソ印刷版の製版方法、
【０００９】
【化２】
2015030122.tif 000003
〔式（ＩＶ）中、Ｒ8〜Ｒ10は、それぞれ独立に一価の有機基を表し、式（Ｖ）中、Ｒ11〜Ｒ13は、それぞれ独立に一価の有機基を表し、Ｌは二価の連結基を表し、ＡはＣＯＯ又はＳＯ3を表す。〕
【００１０】
＜６＞成分２が、ベンゼンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、又は、硫酸エステル塩である、＜１＞〜＜４＞のいずれか一つに記載のフレキソ印刷版の製版方法、
＜７＞成分Ａが、スチレン系熱可塑性エラストマーである、＜１＞〜＜６＞のいずれか一つに記載のフレキソ印刷版の製版方法、
＜８＞＜１＞〜＜７＞のいずれか一つに記載のフレキソ印刷版の製版方法により得られたフレキソ印刷版、
＜９＞（成分１）下記式（Ｉ）で表されるアルコール類、下記式（ＩＩ）で表されるエチレングリコールエーテル類、及び、下記式（ＩＩＩ）で表されるケトン類、よりなる群から選ばれた有機溶剤、（成分２）両性界面活性剤、及び／又は、アニオン性界面活性剤、並びに、（成分３）水、を含有し、成分１の含有量が水性リンス液の全質量に対して０．５〜４５質量％であることを特徴とする、レーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、
【００１１】
【化３】
2015030122.tif 000004
〔式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜３の直鎖アルキル基、又は、炭素数３〜４の分岐アルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の炭素数の合計は４〜５であり、式（ＩＩ）中、Ｘ及びＹはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｘ及びＹが共に水素原子のとき、Ｒ4はｎ−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、Ｒ5は水素原子、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、Ｘ及びＹの一方が水素原子、もう一方がメチル基のとき、Ｒ4は炭素数３〜４の直鎖又は分岐アルキル基を表し、Ｒ5は水素原子若しくは炭素数３〜４の直鎖又は分岐アルキル基を表し、式（ＩＩＩ）中、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ6及びＲ7の炭素数の合計は４〜６である。〕
【００１２】
＜１０＞成分１が、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、４−メチル−２−ペンタノール、エチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ジエチルケトン、及び、２−ペンタノンよりなる群から選ばれた化合物である、＜９＞に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、
＜１１＞成分１が、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、又は、ジエチルケトンである、＜１０＞に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、
＜１２＞成分１の２０℃における水への溶解度が１．５〜１０．０ｇ／１００ｍｌである、＜９＞〜＜１１＞のいずれか一つに記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、
＜１３＞（成分Ａ）熱可塑性エラストマーと、（成分Ｂ）重合性化合物と、（成分Ｃ）重合開始剤と、を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、熱及び／又は光により架橋したレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版、並びに、＜９＞〜＜１２＞のいずれか一つに記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液を含有することを特徴とする、レーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キット。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、レーザー彫刻により発生した彫刻カスのリンス性及びＵＶインキ耐刷性に優れるレーザー彫刻型フレキソ印刷版及びその製版方法、レーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、並びに、レーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キットを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
（フレキソ印刷版の製版方法）
本発明におけるフレキソ印刷版の製版方法は、架橋したレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を準備する工程、上記印刷版原版を、画像様にレーザー彫刻する工程、彫刻された表面を、（成分１）下記式（Ｉ）で表されるアルコール類、下記式（ＩＩ）で表されるエチレングリコールエーテル類、及び、下記式（ＩＩＩ）で表されるケトン類、よりなる群から選ばれた有機溶剤、（成分２）両性界面活性剤、及び／又は、アニオン性界面活性剤、並びに、（成分３）水、を含有する水性リンス液を用いてリンスする工程を含有し、上記架橋したレリーフ形成層が、（成分Ａ）熱可塑性エラストマーと、（成分Ｂ）重合性化合物と、（成分Ｃ）重合開始剤と、を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、熱及び／又は光により架橋した層であり、成分１の含有量が水性リンス液の全質量に対して０．５〜４５質量％であることを特徴とする。
【００１５】
【化４】
2015030122.tif 000005
〔式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜３の直鎖アルキル基、又は、炭素数３〜４の分岐アルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の炭素数の合計は４〜５であり、式（ＩＩ）中、Ｘ及びＹはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｘ及びＹが共に水素原子のとき、Ｒ4はｎ−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、Ｒ5は水素原子、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、Ｘ及びＹの一方が水素原子、もう一方がメチル基のとき、Ｒ4は炭素数３〜４の直鎖又は分岐アルキル基を表し、Ｒ5は水素原子若しくは炭素数３〜４の直鎖又は分岐アルキル基を表し、式（ＩＩＩ）中、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ6及びＲ7の炭素数の合計は４〜６である。〕
【００１６】
なお、本明細書では、フレキソ印刷版原版の説明に関し、上記成分Ａ、成分Ｂ及び成分Ｃを含有し、レーザー彫刻に供する画像形成層としての、表面が平坦な層であり、かつ未架橋の架橋性層をレリーフ形成層といい、上記レリーフ形成層を架橋後にレーザー彫刻して表面に凹凸を形成した層をレリーフ層という。また、ＵＶインキとは、紫外線硬化性のインキである。
【００１７】
また、本発明において、数値範囲を表す「下限〜上限」の記載は、「下限以上、上限以下」を表し、「上限〜下限」の記載は、「上限以下、下限以上」を表す。すなわち、上限及び下限を含む数値範囲を表す。また、本発明において、「（成分Ａ）熱可塑性エラストマー」等を単に「成分Ａ」等ともいう。
以下、レーザー彫刻型フレキソ印刷版の製版方法に関する必須又は任意の構成要件について説明する。
【００１８】
＜レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を準備する工程＞
本発明に用いられるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版（以下、単に「フレキソ印刷版原版」ともいう。）は、後述するレーザー彫刻用樹脂組成物を、熱及び／又は光により架橋したレリーフ形成層を有する。
レリーフ形成層を有する印刷版原版をレーザー彫刻することにより「フレキソ印刷版」が作製される。
また、本発明において「レリーフ層」とは、レーザーにより彫刻された層、すなわち、レーザー彫刻後の上記レリーフ形成層をいう。
【００１９】
本発明に用いられるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版は、上記のレリーフ形成層と、必要により、支持体、支持体とレリーフ形成層との間の接着層、レリーフ形成層上にカバーフィルムやスリップコート層を有していてもよい。
【００２０】
〔レリーフ形成層〕
レリーフ形成層は、後述のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる架橋される前の状態の層であり、必要に応じ、乾燥が行われていてもよい。
【００２１】
レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版によるフレキソ印刷版の作製態様としては、レリーフ形成層をレーザー彫刻することによりレリーフ層を形成してフレキソ印刷版を作製する態様である。レリーフ形成層は架橋されていることにより、印刷時におけるレリーフ層の摩耗を防ぐことができ、また、レーザー彫刻後にシャープな形状のレリーフ層を有するフレキソ印刷版を得ることができる。
【００２２】
レリーフ形成層は、レリーフ形成層用の後述の如き成分を有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、シート状又はスリーブ状に成形することで形成することができる。レリーフ形成層は、通常、後述する支持体上に設けられるが、製版、印刷用の装置に備えられたシリンダーなどの部材表面に直接形成したり、そこに配置して固定化したりすることもでき、必ずしも支持体を必要としない。
以下、主としてレリーフ形成層をシート状にした場合を例に挙げて説明する。
【００２３】
〔支持体〕
レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル（例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＡＮ（ポリアクリロニトリル））やポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂、スチレン−ブタジエンゴム、二トリル−ブタジエンゴム、エチレンプロピレンゴム、ブチルゴムなどの合成ゴム、ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂（エポキシ樹脂やフェノール樹脂など）が挙げられる。支持体としては、ＰＥＴフィルムやスチール基板が好ましく用いられる。支持体の形態は、レリーフ形成層がシート状であるかスリーブ状であるかによって決定される。
【００２４】
〔接着層〕
レリーフ形成層を支持体上に形成する場合、直接積層してもよいが、両者の間に層間の接着力を強化する目的で接着層を設けてもよい。
接着層に使用しうる材料（接着剤）としては、例えば、Ｉ．Ｓｋｅｉｓｔ編、「Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ａｄｈｅｓｉｖｅｓ」、第２版（１９７７）に記載のものを用いることができる。
【００２５】
〔カバーフィルム、スリップコート層〕
レリーフ形成層表面への傷や凹み防止の目的で、レリーフ形成層上にカバーフィルムを設けてもよい。カバーフィルムの厚さは、２５〜５００μｍが好ましく、５０〜２００μｍがより好ましい。カバーフィルムは、例えば、ＰＥＴのようなポリエステル系フィルム、ＰＥ（ポリエチレン）やＰＰ（ポリプロピレン）のようなポリオレフィン系フィルムを用いることができる。またカバーフィルムの表面はマット化されていてもよい。カバーフィルムは、彫刻前又は印刷前に剥離除去される。
カバーフィルムが剥離困難な場合や、逆にレリーフ形成層に接着しにくい場合には、両層間にスリップコート層を設けてもよい。スリップコート層に使用される材料は、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、部分鹸化ポリビニルアルコール、ヒドロシキアルキルセルロース、アルキルセルロース、ポリアミド樹脂など、水に溶解又は分散可能で、粘着性の少ない樹脂を主成分とすることが好ましい。
【００２６】
〔レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法〕
本発明におけるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法は、後述する本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物を層として形成する層形成工程、並びに、樹脂組成物を架橋しレリーフ形成層とする架橋工程、を含む製造方法であることが好ましい。
【００２７】
その後、必要に応じてレリーフ形成層の上にカバーフィルムをラミネートしてもよい。ラミネートは、加熱したカレンダーロールなどでカバーフィルムとレリーフ形成層を圧着することや、表面に少量の溶媒を含浸させたレリーフ形成層にカバーフィルムを密着させることによって行うことができる。
カバーフィルムを用いる場合には、まずカバーフィルム上にレリーフ形成層を積層し、次いで支持体をラミネートする方法を採ってもよい。
接着層を設ける場合は、接着層を塗布した支持体を用いることで対応できる。スリップコート層を設ける場合は、スリップコート層を塗布したカバーフィルムを用いることで対応できる。
【００２８】
〔層形成工程〕
本発明のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法は、後述のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程を含むことが好ましい。
レリーフ形成層の形成方法としては、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、このレーザー彫刻用樹脂組成物から溶媒を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法や、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して溶媒を除去する方法が好ましく例示できる。
【００２９】
レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版におけるレリーフ形成層の厚さは、耐磨耗性やインキ転移性のような種々の印刷適性を満たす観点からは、０．０５〜１０ｍｍが好ましく、０．１〜５ｍｍがより好ましく、０．３〜２ｍｍが更に好ましい。
【００３０】
〔架橋工程〕
本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法は、上記レリーフ形成層を熱及び／又は光により架橋したレリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る架橋工程を含む製造方法であることが好ましく、上記レリーフ形成層を熱により架橋したレリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る架橋工程を含む製造方法であることがより好ましい。
レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を加熱することで、レリーフ形成層を架橋することができる（熱架橋工程）。熱により架橋を行うための加熱手段としては、印刷版原版を熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。
レリーフ形成層を熱架橋することで、第１にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第２にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。
【００３１】
また、光重合開始剤等を使用し、重合性化合物を重合し架橋を形成するため、光による架橋を更に行ってもよい。
レリーフ形成層が光重合開始剤を含有する場合には、光重合開始剤のトリガーとなる光（「活性光線」ともいう。）をレリーフ形成層に照射することで、レリーフ形成層を架橋することができる。
光は、レリーフ形成層全面に行うのが一般的である。光としては可視光、紫外光、及び電子線などが挙げられるが、紫外光が最も一般的である。レリーフ形成層の支持体等、レリーフ形成層を固定化するための基材側を裏面とすれば、表面に光を照射するだけでもよいが、支持体が活性光線を透過する透明なフィルムであれば、更に裏面からも光を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下では重合阻害が生じる恐れがあるので、レリーフ形成層にポリ塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、活性光線の照射を行ってもよい。
【００３２】
＜フレキソ印刷版原版を、画像様にレーザー彫刻する工程＞
本発明におけるフレキソ印刷版の製版方法は、上記レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を、画像様にレーザー彫刻する工程（以下、単に「彫刻工程」ともいう。）を含む。
彫刻工程は、上記レリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程である。具体的には、レリーフ形成層に対して、所望の画像に対応したレーザー光を照射して彫刻を行うことによりレリーフ層を形成することが好ましい。また、所望の画像のデジタルデータを元にコンピューターでレーザーヘッドを制御し、レリーフ形成層に対して走査照射する工程が好ましく挙げられる。
この彫刻工程には、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、レリーフ形成層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやＹＡＧレーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、レリーフ形成層中の分子は分子切断又はイオン化されて選択的な除去、すなわち、彫刻がなされる。レーザー彫刻の利点は、彫刻深さを任意に設定できるため、構造を３次元的に制御することができる点である。例えば、微細な網点を印刷する部分は、浅く又はショルダーをつけて彫刻することで、印圧でレリーフが転倒しないようにすることができ、細かい抜き文字を印刷する溝の部分は深く彫刻することで、溝にインキが埋まりにくくなり、抜き文字つぶれを抑制することが可能となる。
中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度でレリーフ形成層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。
【００３３】
彫刻工程に用いられる赤外線レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザー（ＣＯ2レーザー）又は半導体レーザーが好ましい。特に、ファイバー付き半導体赤外線レーザー（ＦＣ−ＬＤ）が好ましく用いられる。一般に、半導体レーザーは、ＣＯ2レーザーに比べレーザー発振が高効率かつ安価で小型化が可能である。また、小型であるためアレイ化が容易である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。
半導体レーザーとしては、波長が７００〜１，３００ｎｍのものが好ましく、８００〜１，２００ｎｍのものがより好ましく、８６０〜１，２００ｎｍのものが更に好ましく、９００〜１，１００ｎｍのものが特に好ましい。
【００３４】
ファイバー付き半導体レーザーは、更に光ファイバーを取り付けることで効率よくレーザー光を出力できるため、本発明における彫刻工程には有効である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。例えば、ビームプロファイルはトップハット形状とすることができ、安定に版面にエネルギーを与えることができる。半導体レーザーの詳細は、「レーザーハンドブック第２版」レーザー学会編、実用レーザー技術  電子通信学会等に記載されている。
また、本発明におけるフレキソ印刷版の製版方法に好適に使用しうるファイバー付き半導体レーザーを備えた製版装置は、特開２００９−１７２６５８号公報及び特開２００９−２１４３３４号公報に詳細に記載され、これを本発明に係るフレキソ印刷版の製版に使用することができる。
【００３５】
＜彫刻された表面をリンスする工程＞
本発明では、上記のようにレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を画像様にレーザー彫刻する工程の後、彫刻された表面をリンスする工程（以下、単に「リンス工程」ともいう。）が必須である。
彫刻からリンス工程までの時間間隔（レリーフ形成層のある一点が彫刻された時点から、同一箇所がリンス液に接触するまでの時間）は特に制限されないが、短い方が好ましい。これは、彫刻後リンスしないまま時間が経つと、版上に残存した彫刻カスが徐々に凝集するためか、リンス性が低下する傾向があるためである。彫刻した日と同日にリンスすることが好ましく、彫刻後２時間以内にリンスすることがより好ましく、１時間以内にリンスすることが更に好ましい。
【００３６】
〔レーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液〕
本発明におけるレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液（以降、「本発明のリンス液」と称する。）は、（成分１）特定構造の有機溶剤、（成分２）両性界面活性剤、及び／又は、アニオン性界面活性剤、及び、（成分３）水、を含有する水性リンス液であり、成分１が、成分３の水に相溶又は成分２によって可溶化されている単相の（分離していない）水溶液又は水分散液である。
成分１は、彫刻カスの除去作用を担う主剤であるが、リンス液として成分１を単独で使用した場合は溶剤臭が極めて強く製版現場の環境が悪くなるため、使用量が削減可能でかつ液表面での溶剤露出を低減できるように、本発明のリンス液では（成分３）水と混合、又は（成分２）界面活性剤によって可溶化させて用いる。
このとき、水と極めて相溶性が高い有機溶剤を用いると、水中で安定に存在し得るので彫刻カスにリンス液を接触させても有機溶剤が彫刻カスに浸透していきにくくリンス性が不十分となる。そのため、成分１としては、本発明の構造が必要となり、更には２０℃における水への溶解度が１．５〜１０．０ｇ／１００ｍｌであることがより好ましい態様となる。これによって、溶剤臭を大幅に低減でき、かつ彫刻カスに接触した場合にはｏｉｌ  ｉｎ  ｗａｔｅｒのミセルを破壊させることによって現像主剤である（成分１）有機溶剤が彫刻カス中に浸透しカス除去が可能となる。また、本発明における成分２自体も、彫刻カス中へのリンス液の浸透促進、及びカス除去促進の機能を有していると考えている。
以下、本発明のリンス液の構成成分について説明する。
【００３７】
（成分１）特定構造の有機溶剤
本発明のリンス液は、成分１として、下記式（Ｉ）で表されるアルコール類、下記式（ＩＩ）で表されるエチレングリコールエーテル類、及び、下記式（ＩＩＩ）で表されるケトン類、よりなる群から選ばれた有機溶剤を含有する。
【００３８】
【化５】
2015030122.tif 000006
〔式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜３の直鎖アルキル基、又は、炭素数３〜４の分岐アルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の炭素数の合計は４〜５であり、式（ＩＩ）中、Ｘ及びＹはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｘ及びＹが共に水素原子のとき、Ｒ4はｎ−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、Ｒ5は水素原子、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、Ｘ及びＹの一方が水素原子、もう一方がメチル基のとき、Ｒ4は炭素数３〜４の直鎖又は分岐アルキル基を表し、Ｒ5は水素原子若しくは炭素数３〜４の直鎖又は分岐アルキル基を表し、式（ＩＩＩ）中、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ6及びＲ7の炭素数の合計は４〜６である。〕
【００３９】
式（Ｉ）で表されるアルコール類としては、２，２−ジメチル−１−プロパノール（ネオペンチルアルコール）、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、２−メチル−２−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、２，３−ジメチル−２−ブタノール、３、３−ジメチル−２−ブタノール、２−ペンタノール、２−メチル−２−ペンタノール、３−メチル−２−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−メチル−３−ペンタノール、３−メチル−３−ペンタノール、３−ヘキサノールが挙げられる。
このうち、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコールがより好ましい。
【００４０】
式（ＩＩ）で表されるエチレングリコールエーテル類としては、エチレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノｓｅｃ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノイソブチルエーテル、プロピレングリコールモノｓｅｃ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、のモノエーテル類、エチレングリコールジｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールジイソプロピルエーテル、エチレングリコールジイソブチルエーテル、エチレングリコールジｓｅｃ−ブチルエーテル、エチレングリコールジｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールジｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールジイソプロピルエーテル、プロピレングリコールジｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールジイソブチルエーテル、プロピレングリコールジｓｅｃ−ブチルエーテル、プロピレングリコールジｔ−ブチルエーテル、のジエーテル類が挙げられる。
このうち、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｔ−ブチルエーテルがより好ましく、エチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテルが更に好ましい。
【００４１】
式（ＩＩＩ）で表されるケトン類としては、３−メチル−２−ブタノン、２−ペンタノン、ジエチルケトン、２−メチル−３−ペンタノン、２，４−ジメチル−３−ペンタノン、３−ヘキサノン、２−メチル−３−ヘキサノン、４−ヘプタノンが挙げられる。
このうち、２−ペンタノン、ジエチルケトンがより好ましく、ジエチルケトンが更に好ましい。
【００４２】
本発明のリンス液に用いられる成分１は、２０℃における水への溶解度が１．５〜１０．０ｇ／１００ｍｌの範囲にあることが好ましい。これら有機溶剤の水への溶解度は一般に温度により変動するが、リンス液の液温が外部環境などで変化する可能性のある５〜４０℃の温度領域では、劇的に変動するものではなく、かつこの温度領域中の温度であれば効果はほぼ同等であったため、本出願では一般的に用いられる２０℃での溶解度で好ましい範囲を規定した。
以下、成分１として好ましい有機溶剤を例示する。有機溶剤名の後のかっこ書きは、２０℃における水への溶解度を表している。
例えば、２，２−ジメチル−１−プロパノール（３．５ｇ／１００ｍｌ）、２−メチル−１−ブタノール（３．０ｇ／１００ｍｌ）、３−メチル−１−ブタノール（２．７ｇ／１００ｍｌ）、３−メチル−２−ブタノール（５．６ｇ／１００ｍｌ）、２−ペンタノール（４．５ｇ／１００ｍｌ）、３−ペンタノール（５．２ｇ／１００ｍｌ）、４−メチル−２−ペンタノール（２．０ｇ／１００ｍｌ）、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル（４．４ｇ／１００ｍｌ）、２−ペンタノン（４．０ｇ／１００ｍｌ）、ジエチルケトン（１．７ｇ／１００ｍｌ）が挙げられる。
本発明のリンス液に用いられる成分１と同様の構造を有しつつも効果が認められなかったエチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル（水に混和）やエチレングリコールモノｎ−ヘキシルエーテル（１．０ｇ／１００ｍｌ）はこの物性的特徴が影響しているものと推察している。ただし、本発明の効果が認められたエチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル（水に混和）や効果が認められない４−メチル−２−ペンタノン（１．９ｇ／１００ｍｌ）の例外もあり、この物性的特徴のみが本発明の効果に寄与しているものではない。
【００４３】
成分１としては、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、４−メチル−２−ペンタノール、エチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ジエチルケトン、及び、２−ペンタノンよりなる群から選ばれた化合物であることが好ましく、３−ペンタノール、３−メチル−２−ブタノール、エチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、及び、ジエチルケトンよりなる群から選ばれた化合物であることがより好ましく、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、又は、ジエチルケトンで有ることが更に好ましい。
【００４４】
本発明のリンス液に用いられる成分１としては、上記の有機溶剤を１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
本発明における成分１の使用量は、リンス液の全質量に対し、０．５〜４５質量％である。０．５質量％未満になると本発明の効果が認められず、４５質量％を超えると作業環境における溶剤臭が悪くなり、かつＵＶインキ耐性も低下する。１〜３５質量％であることがより好ましく、３〜２５質量％であることが更に好ましい。
また、リンス液中の成分１の（成分３）水に対する含有量が、成分１の２０℃における水への溶解度を超えていることが好ましい。本発明のリンス液は、（成分２）両性界面活性剤、及び／又は、アニオン性界面活性剤を含有することにより、２相に分離することなく成分１をリンス液中に、溶解度を超えて含有されることができる。上記態様であれば、リンス液が彫刻カスに接触した場合に、ｏｉｌ  ｉｎ  ｗａｔｅｒのミセルを破壊させることによって現像主剤である成分１が彫刻カス中に浸透するため、良好なリンス性が得られると推測される。
【００４５】
（成分２）両性界面活性剤、及び／又は、アニオン性界面活性剤
本発明のリンス液は、（成分２）両性界面活性剤、及び／又は、アニオン性界面活性剤、を含有する。これにより、成分１と水とが安定に相溶することが可能となり、かつ彫刻カスの除去性向上、及び除去されたカスのリンス液中での分散安定性が向上する。
【００４６】
成分２に用いられる両性界面活性剤としては、公知のものを制限なく使用することが出来るが、ベタイン系界面活性剤、アミンオキシド系界面活性剤、ホスフィンオキシド系界面活性剤、又は、アミノ酸系界面活性剤が好ましく、カルボキシベタイン系界面活性剤、スルホベタイン系界面活性剤、ホスホベタイン系界面活性剤、アミンオキシド系界面活性剤、ホスフィンオキシド系界面活性剤がより好ましく、下記式（ＩＶ）及び／又は下記式（Ｖ）で表される化合物が更に好ましい。
【００４７】
【化６】
2015030122.tif 000007
〔式（ＩＶ）中、Ｒ8〜Ｒ10は、それぞれ独立に一価の有機基を表し、式（Ｖ）中、Ｒ11〜Ｒ13は、それぞれ独立に一価の有機基を表し、Ｌは二価の連結基を表し、ＡはＣＯＯ又はＳＯ3を表す。〕、
【００４８】
式（ＩＶ）及び（Ｖ）中のＲ8〜Ｒ10、Ｒ11〜Ｒ13における一価の有機基としては、特に制限はないが、アルキル基、ヒドロキシ基を有するアルキル基、アルキル鎖中にアミド結合を有するアルキル基、又は、アルキル鎖中にエーテル結合を有するアルキル基であることが好ましく、アルキル基、ヒドロキシ基を有するアルキル基、又は、アルキル鎖中にアミド結合を有するアルキル基であることがより好ましい。
また、上記一価の有機基におけるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、Ｒ8〜Ｒ10のうちの２つ、及びＲ11〜Ｒ13のうちの２つがメチル基である、すなわち、式（ＩＶ）及び（Ｖ）で表される化合物がＮ，Ｎ−ジメチル構造を有することが特に好ましい。
【００４９】
上記式（Ｖ）におけるＬは、二価の連結基であり、特に制限はないが、アルキレン基、又は、ヒドロキシ基を有するアルキレン基であることが好ましく、炭素数１〜８のアルキレン基、又は、ヒドロキシ基を有する炭素数１〜８のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数１〜３のアルキレン基、又は、ヒドロキシ基を有する炭素数１〜３のアルキレン基であることが更に好ましい。
上記式（Ｖ）におけるＡは、カルボン酸イオンであることがより好ましい。
【００５０】
上記式（ＩＶ）で表される化合物の具体的な例としては、以下のものが挙げられる。
【００５１】
【化７】
2015030122.tif 000008
【００５２】
【化８】
2015030122.tif 000009
【００５３】
上記式（Ｖ）で表される化合物の具体的な例としては、以下のものが挙げられる。
【００５４】
【化９】
2015030122.tif 000010
【００５５】
【化１０】
2015030122.tif 000011
【００５６】
【化１１】
2015030122.tif 000012
【００５７】
【化１２】
2015030122.tif 000013
【００５８】
成分２に用いられるアニオン性界面活性剤としては、公知のものを制限無く使用することができるが、スルホン酸塩化合物、又は、硫酸エステル塩化合物が好ましく、ベンゼンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、又は、硫酸エステル塩化合物がより好ましく、ベンゼンスルホン酸塩、又は、ナフタレンスルホン酸塩、が更に好ましい。
【００５９】
また、上記ベンゼンスルホン酸塩、及び、ナフタレンスルホン酸塩は、ベンゼン環上に置換基を有していてもよい。置換基としては、例えばハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、直鎖、分岐又は環状のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基など）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、ニトロ基、ヘテロ環基などが挙げられる。また、これらの置換基は、上記置換基によって更に置換されていてもよい。好ましくは、アルキル基、アルキルオキシ基、又はアリールオキシ基であり、より好ましくはアルキル基である。
【００６０】
上記硫酸エステル塩化合物としては、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアリールエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレン多環フェニルエーテル硫酸エステル塩、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩が例示でき、ポリオキシエチレンアリールエーテル硫酸エステル塩、又は、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩が好ましく、ポリオキシエチレンアリールエーテル硫酸エステル塩がより好ましい。また、ポリオキシエチレンアリールエーテル硫酸エステル塩のアリール基としてはナフチル基が好ましい。
【００６１】
上記硫酸エステル塩化合物は、アルキル基又はアリール基の芳香環上に上記置換基を有していてもよい。また、これらの置換基は、上記置換基により更に置換されていてもよい。上記置換基のうち、アルキル基、アルキルオキシ基、又はアリールオキシ基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【００６２】
ベンゼンスルホン酸塩の具体的な例としては、以下のものが挙げられる。
【００６３】
【化１３】
2015030122.tif 000014
【００６４】
ナフタレンスルホン酸塩の具体的な例としては、以下のものが挙げられる。
【００６５】
【化１４】
2015030122.tif 000015
【００６６】
硫酸エステル塩の具体的な例としては、以下のものが挙げられる。
【００６７】
【化１５】
2015030122.tif 000016
【００６８】
本発明のリンス液に用いられる成分２としては、上記界面活性剤を１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。成分２の使用量は、特に限定する必要はないが、リンス液の全質量に対し、０．０３〜２５質量％であることが好ましく０．０５〜２０であることがより好ましく、０．２〜１５質量％であることが更に好ましく、１〜１２質量％であることが特に好ましい。
【００６９】
成分２の分子量は、１００〜３，０００が好ましく、１５０〜２，０００がより好ましく、２００〜１，５００が更に好ましい。
【００７０】
（成分３）水
本発明のリンス液は、必須成分として（成分３）水を含有する。
水としては、水道水、地下水、工業用水、イオン交換水、蒸留水、逆浸透水、活性炭又は一般家庭用浄水器で処理した水等あらゆる水を使用できる。
成分３の含有量は、特に限定する必要はないが、リンス液の全質量に対し、４５〜９９質量％であることが好ましく、６０〜９７質量％であることがより好ましく、７０〜９５質量％であることが更に好ましい。
【００７１】
成分１、成分２及び成分３の含有量の合計値は、７０〜１００質量％であることが好ましく、８０〜１００質量％であることがより好ましく、９０〜１００質量％であることが更に好ましい。
【００７２】
≪その他の添加剤≫
本発明のリンス液には、上記成分以外にも本発明の効果を損なわない限りにおいて目的に応じて種々の化合物を添加することができる。例えば、ｐＨ調整剤、消泡剤、防腐剤、香料、着色剤等が挙げられる。
【００７３】
≪ｐＨ調整剤≫
本発明に用いることができるリンス液のｐＨは特に限定されないが、６以上であることが好ましく、６．５以上であることがより好ましく、７．０以上であることが更に好ましい。また、リンス液のｐＨは１４以下であることが好ましく、１３以下であることがより好ましく、１２．５以下であることが更に好ましい。上記範囲であると、取り扱いが容易である。リンス液を上記のｐＨ範囲とするために、ｐＨ調整剤として適宜酸及び／又は塩基を用いてｐＨを調整すればよく、使用するｐＨ調整剤は特に限定されない。
【００７４】
≪消泡剤≫
本発明のリンス液は、消泡剤を含有してもよい。
消泡剤としては、成分２に該当しない界面活性剤を使用することができる。例えば、一般的なシリコーン系消泡剤、ＨＬＢ（Hydrophile-Lipophile Balance）値が５以下のノニオン系界面活性剤等の化合物等を使用することができ、シリコーン系の消泡剤が好ましい。シリコーン系の消泡剤であれば、乳化分散型及び可溶化型等のいずれを使用してもよい。
消泡剤として具体的には、例えば、ＴＳＡ７３１、ＴＳＡ７３９（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）が挙げられる。
消泡剤の含有量は、リンス液全量に対して、０．００１〜１．０質量％であることが好ましい。
また、消泡剤の、成分２に対する含有量は、０．１〜３０質量％であることが好ましく、０．２〜１０質量％であることがより好ましく、０．２〜５質量％であることが更に好ましい。
【００７５】
≪防腐剤≫
本発明のリンス液は、防腐剤を含有してもよい。
防腐剤としては、フェノール又はその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、４−イソチアゾリン−３−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−３−オン、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、第四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオール、１，１−ジブロモ−１−ニトロ−２−エタノール、１，１−ジブロモ−１−ニトロ−２−プロパノール等が好ましく使用できる。種々のカビ、殺菌に対して効力のあるように２種以上の防腐剤を併用することが好ましい。
防腐剤の含有量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、リンス液全量に対して、０．０１〜４質量％の範囲が好ましい。
【００７６】
本発明のリンス液の作製は、リンス工程で使用する液濃度で作製してもよいし、濃縮液として作製しておき、使用時に規定の濃度となるように（成分３）水で希釈してもよい。後者の方が、リンス液の運搬や保管の点で好ましい。
【００７７】
本発明のリンス液を用いて、彫刻されたフレキソ印刷版をリンスする方法としては、手作業でリンス液をレリーフ層表面に適用し馬毛ブラシや不織布などを用いて手で擦る方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機を用いる方法、リンス液を高圧スプレー噴射する方法、リンス液にフレキソ印刷版を浸した状態で超音波洗浄する方法、などが挙げられるが、これらに制限されるものではない。
【００７８】
＜その他の工程＞
上記リンス工程の後、彫刻・リンスされたレリーフ層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。
更に、必要に応じてレリーフ層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋である本工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。
【００７９】
以上のようにして、所望の画像様にレリーフを有するフレキソ印刷版が得られる。
フレキソ印刷版が有するレリーフ層のショアＡ硬度は、５０〜９０°であることが好ましい。レリーフ層のショアＡ硬度が５０°以上であると、彫刻により形成された微細な網点がフレキソ印刷機の強い印圧を受けても倒れてつぶれることがなく、正常な印刷ができる。また、レリーフ層のショアＡ硬度が９０°以下であるとベタ部での印刷かすれ（インキ着肉不良）を防止することができる。ショアＡ硬度は、測定対象の表面に圧子（押針又はインデンタと呼ばれる）を押し込み変形させ、その変形量（押込み深さ）を測定して、数値化するデュロメータ（スプリング式ゴム硬度計）により測定することが出来る。
【００８０】
以下、本発明におけるレリーフ層を形成する、レーザー彫刻用樹脂組成物について説明する。
【００８１】
本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物は、（成分Ａ）熱可塑性エラストマーと、（成分Ｂ）重合性化合物と、（成分Ｃ）重合開始剤とを含有することを特徴とする。
【００８２】
（レーザー彫刻用樹脂組成物）
（成分Ａ）熱可塑性エラストマー
本発明における樹脂組成物は、必須成分として、（成分Ａ）熱可塑性エラストマーを含有する。熱可塑性エラストマーは、高温時では可塑化、流動し、常温ではゴム弾性を示す材料である。熱可塑性エラストマーは常温において、微細に分散した多相構造を形成する。大部分の熱可塑性エラストマーでは、各相はブロック共重合又はグラフト共重合で化学的に結合している。化学的結合がない場合には十分に微細な分散状態を形成している。成分Ａとしては、各相が化学的に結合した熱可塑性エラストマーが好ましく、ブロック共重合体がより好ましい。ブロック共重合体の分子構造は、ポリエーテル又はゴム分子のようなソフトセグメントと、常温付近では加硫ゴムと同じく塑性変形を示さないハードセグメントからなる。そして、上記ハードセグメントの相とソフトセグメントの相とが微細に分散した多相構造を形成する。ハードセグメントが形成する相としては凍結相、結晶相、水素結合、イオン架橋など種々のタイプが存在する。
【００８３】
このような熱可塑性エラストマーは、常温でゴム弾性を示す。そのため、印刷時に被印刷物の凹凸に応じて変形可能なためインキ着肉性に優れ、かつ被印刷物から離れた後は元の形状が復元されるため耐刷性に優れる。更に、熱可塑性エラストマーは、加熱によって流動性が発現することから、素材の混合など取り扱いが容易である。以上の理由から、熱可塑性エラストマーは、本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物を、例えば、フレキソ版などの可撓性を必要とするレリーフ印刷版の製造に適用する場合に好適である。
【００８４】
レリーフ印刷版の耐刷性及び硬度の観点から、熱可塑性エラストマー中におけるハード
セグメントの割合は、１０〜７０質量％が好ましく、１５〜６０質量％が好ましい。
熱可塑性エラストマーは、柔軟性とゴム弾性発現の観点から、ガラス転移温度（Ｔｇ）
が２０℃以下のポリマーであることが好ましく、０℃以下のポリマーであることがより好
ましい。熱可塑性エラストマーは、耐刷性の観点から、融点（Ｔｍ）が７０℃以上のポリ
マーであることが好ましく、１００℃以上のポリマーであることがより好ましい。
【００８５】
熱可塑性エラストマーとしては、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル系熱可塑性エラストマー、シリコーン系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー、ニトリル系熱可塑性エラストマー、フッ素系熱可塑性エラストマー、塩素化ポリエチレン架橋体等を挙げることができ、中でも、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマーが好ましく、スチレン系熱可塑性エラストマーが最もＵＶインキ耐性と後述する本発明のリンス液による彫刻カスのリンス性とが良好となるため好ましい。
【００８６】
スチレン系熱可塑性エラストマーが最も好ましい理由は、ソフトセグメントの疎水性が高いほどＵＶインキ耐性が良好となり、一方でハードセグメントの凝集力が比較的弱いほどリンス性が良好となるためと考えている。後者のメカニズムとしては、彫刻カスの主成分はハードセグメントの分解凝集物と考えており、この凝集力が弱いほど、本発明のリンス液が浸透しやすく、かつ溶解、分散しやすくなるためであると推定される。
【００８７】
（成分Ａ−１）スチレン系熱可塑性エラストマー
スチレン系熱可塑性エラストマーとしては、スチレン系モノマーに由来するモノマー単位を主体とする重合体ブロック（ハードセグメント）と、共役ジエン化合物に由来するモノマー単位を主体とするブロック（ソフトセグメント）とのブロック共重合体、及び、上記ブロック共重合体の共役ジエン化合物に由来するモノマー単位を水素添加したものを例示することができる。
スチレン系モノマーとしては、スチレン及び少なくとも１つの置換基（ハロゲン原子（
Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基）
により任意の位置で置換されたスチレン誘導体が挙げられる。具体的には、スチレン、α
−メチルスチレン、ビニルトルエン又はｔ−ブチルスチレンが挙げられ、中でもスチレン
が好ましい。
共役ジエン化合物としては、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、２，３−ジメチ
ルブタジエンが挙げられ、中でもブタジエン、イソプレンが好ましい。
これらは１種類のみを使用してもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
スチレン系熱可塑性エラストマーとして、具体的には、スチレン−ブタジエン−スチレ
ン共重合体（ＳＢＳ）、スチレン−イソプレン−スチレン共重合体（ＳＩＳ）、スチレン
−エチレン／ブチレン−スチレン共重合体（ＳＥＢＳ）、スチレン−エチレン／プロピレ
ン−スチレン共重合体（ＳＥＰＳ）又はスチレン−エチレン−エチレン／プロピレン−ス
チレン共重合体（ＳＥＥＰＳ）等が挙げられ、中でも、ＳＩＳ、ＳＢＳ、ＳＥＢＳが好ま
しい。
【００８８】
（成分Ａ−２）オレフィン系熱可塑性エラストマー
オレフィン系熱可塑性エラストマーは、ハードセグメントであるポリオレフィン樹脂と、ソフトセグメントであるオレフィン系エラストマーとが多相を形成したものである。
ハードセグメントであるポリオレフィンとしては、ポリエチレン、ポリプロピレンが好ましい。
ソフトセグメントであるオレフィン系エラストマーとしては、エチレンに由来するモノマー単位と、炭素数が３以上のα−オレフィン単位に由来する構成単位、からなる共重合体がより好ましい。
炭素数が３以上のα−オレフィンとしては、プロピレン、１−ブテン、２−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ブテン、１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−オクタデセンなどのα−オレフィンから誘導される構成単位が挙げられる。
オレフィン系エラストマーの具体例として、エチレン−プロピレンランダム共重合体、エチレン−ブテンランダム共重合体、エチレン−ヘキセンランダム共重合体、エチレン−オクテンランダム共重合体、エチレン−デセンランダム共重合体、エチレン−４−メチルペンテンランダム共重合体等が挙げられ、中でもエチレン−プロピレンランダム共重合体、エチレン−ブテンランダム共重合体が好ましい。
オレフィン系熱可塑性エラストマーは、ハードセグメントとなる熱可塑性樹脂とソフトセグメントとなるエラストマーとを溶融混合して架橋させる、いわゆる動的架橋により製造されたものが好ましい。これは、熱可塑性樹脂の連続相中にゴムの不連続相が存在するミクロ相分離構造において、動的架橋ではゴムの不連続相のドメインサイズを小さくすることが可能で、これにより引張強さや伸びが大きい熱可塑性エラストマーとなるためである。
【００８９】
（成分Ａ−３）ウレタン系熱可塑性エラストマー
ウレタン系熱可塑性エラストマーは、ジイソシアネートと短鎖グリコールとからなるハードセグメントと、ジイソシアネートと長鎖ポリオールから成るソフトセグメントを有するものである。
短鎖グリコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ビスフェノールＡ等を例示することが出来る。
長鎖ポリオールとしては、分子量が４００〜６，０００のポリ（アルキレンオキシド）グリコール（例えば、ポリエチレングリコール、ポリ（１，２及び１，３プロピレンオキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシド）グリコール、ポリ（ヘキサメチレンオキシド）グリコールなど）のようなポリエーテル系のもの、あるいはポリアルキレンアジペート、ポリカプロラクトン、ポリカーボネート等のようなポリエステル系のものが使われる。
また、ジイソシアネート化合物としては、フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩｐＤＩ）など公知のものが用いられる。
【００９０】
（成分Ａ−４）エステル系熱可塑性エラストマー
エステル系熱可塑性エラストマーとしては、（１）炭素数２〜１２の脂肪族及び／又は脂環族ジオールと、（２）芳香族ジカルボン酸又はそのアルキルエステル、及び（３）重量平均分子量が４００〜６，０００のポリアルキレンエーテルグリコールとを原料とし、エステル化反応、又は、エステル交換反応により得られたオリゴマーを重縮合させて得たものである。
【００９１】
本発明で用いる炭素数２〜１２の脂肪族及び／又は脂環族ジオールとしては、ポリエステルの原料、特にポリエステルエラストマーの原料として公知のものを用いることができ、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられ、好ましくは、１，４−ブタンジオール、エチレングリコール、特に好ましくは１，４−ブタンジオールを主成分とするものであり、１種又は２種以上を使用することができる。
【００９２】
芳香族ジカルボン酸としては、ポリエステルの原料、特にポリエステルエラストマーの原料として公知のものが使用でき、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等を挙げることができ、好ましくは、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、特に好ましくは、テレフタル酸を主成分とするものであり、これらの２種以上を併用してもよい。また、芳香族ジカルボン酸のアルキルエステルとしては、ジメチルテレフタレート、ジメチルイソフタレート、ジメチルフタレート、２，６−ジメチルナフタレート等のジメチルエステルが挙げられ、好ましくはジメチルテレフタレート、２，６−ジメチルナフタレートであり、特に好ましくは、ジメチルテレフタレートであり、これらは２種以上を併用することができる。また、上記以外に３官能のジオール、その他のジオールや他のジカルボン酸及びそのエステルを少量共重合してもよく、更に、アジピン酸等の脂肪族又は脂環族のジカルボン酸、又は、そのアルキルエステル等も共重合成分として使用してもよい。
【００９３】
ポリアルキレンエーテルグリコールとしては、重量平均分子量が４００〜６，０００のものが使用されるが、好ましくは５００〜４，０００、特に好ましくは６００〜３，０００のものである。分子量が４００未満では、共重合体のブロック性が不足し、重量平均分子量が６，０００を超えるものは、系内での相分離によりポリマーの物性が低下する。ここで、ポリアルキレンエーテルグリコールとしては、ポリエチレングリコール、ポリ（１，２及び１，３プロピレンエーテル）グリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリヘキサメチレンエーテルグリコール、エチレンオキシドとプロピレンオキシドのブロック又はランダム共重合体、エチレンオキシドとテトラヒドロフランのブロック又はランダム共重合体等が挙げられる。特に好ましくはポリテトラメチレンエーテルグリコールである。
【００９４】
ポリアルキレンエーテルグリコールの含有量は、生成するブロック共重合体に対し、５〜９５質量％であることが好ましく、１０〜８５質量％であることがより好ましく、２０〜８０質量％であることが更に好ましい。含有量が上記範囲であれば、縮重合によりポリマーを得ることが容易となるため好ましい。また、本発明におけるポリエステル系共重合体は、（３）重量平均分子量が４００〜６，０００のポリアルキレンエーテルグリコールのかわりに、（４）脂肪族又は脂環式ジカルボン酸と脂肪族ジオールと縮合したポリエステルオリゴマー、（５）脂肪族ラクトン又は脂肪族モノオールカルボン酸から合成されたポリエステルオリゴマーでもよい。
【００９５】
（４）の例としては、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、ジシクロヘキシル−４，４’−ジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸又はコハク酸、シュウ酸、アジピン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸のうちの一種以上とエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコール等のジオールのうちの一種以上とを縮合した構造のポリエステルオリゴマーが挙げられ、（５）の例としてε−カプロラクトン、ω−オキシカプロン酸等から合成されたポリカプロラクトン系ポリエステルオリゴマーが挙げられる。
【００９６】
（成分Ａ−５）アミド系熱可塑性エラストマー
アミド系熱可塑性エラストマーとしては、ポリアミドをハードセグメントに、ガラス転移温度の低いポリエステルジオール又はポリエーテルジオールをソフトセグメントに用いたマルチブロックコポリマーが例示される。
ここで、ポリアミド成分としては、ナイロン−６、−６６、−６１０、−１１、−１２などが挙げられ、中でもナイロン−６、ナイロン−１２が好ましい。
ポリエーテルジオールとしては、ポリ（オキシテトラメチレン）グリコール、ポリ（オキシプロピレン）グリコールなどが挙げられる。
ポリエステルジオールとしては、ポリ（エチレン−１，４−アジペート）グリコール、ポリ（ブチレン−１，４−アジペート）グリコール、ポリテトラメチレングリコールなどが挙げられる。ポリアミド系エラストマーの具体例として、ナイロン１２／ポリテトラメチレングリコールブロック共重合体などが挙げられる。
【００９７】
（成分Ａ−６）エチレン−（メタ）アクリル酸エステル系熱可塑性エラストマー
エチレン−（メタ）アクリル酸エステル系熱可塑性エラストマーは、エチレンを主体とする重合体ブロック（ハードセグメント）と、（メタ）アクリル酸エステルに由来する重合体ブロック（ソフトセグメント）とのブロック共重合体を例示することができる。
（メタ）アクリル酸エステルとしては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸イソペンチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸ｎ−デシル、（メタ）アクリル酸イソデシルなどが挙げられる。これらの構成単位は、単独で含有されていてもよく、少なくとも２種が含有されていてもよい。
また、上記エチレン及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の他に、一酸化炭素に由来する構成単位を含むターポリマーもエチレン−（メタ）アクリル酸エステル系熱可塑性エラストマーとして好ましい。
エチレン−（メタ）アクリル酸エステル系熱可塑性エラストマーの具体例として、エチレン／アクリル酸ｎ−ブチル／一酸化炭素共重合体、エチレン／アクリル酸デシル／一酸化炭素共重合体等が挙げられ、中でもエチレン／アクリル酸ｎ−ブチル／一酸化炭素共重合体が好ましい。
【００９８】
本発明において、成分Ａは、１種のみ用いてもよく、２種以上を併用してもよい。成分Ａの含有量は、塗膜の形態保持性と彫刻感度のバランスから、全固形分中、１０〜９５質量％であることが好ましく、５０〜９０質量％であることがより好ましい。なお、「固形分」とは、レーザー彫刻用樹脂組成物において、溶媒等の揮発性成分を除いた成分を意味する。
【００９９】
また、レリーフ形成層のレーザー彫刻感度を向上させる目的で、これらの熱可塑性エラストマーの主鎖に、カルバモイル基、カーボネート基等の易分解性官能基を導入したものを用いることもできる。
【０１００】
また、成分Ａとしては上市されている製品を使用することもでき、Ｋｒａｔｏｎ  Ｄ１１０２ＪＳＺ（Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社製）、Ｋｒａｔｏｎ  Ｄ１１６１ＪＳＰ（Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社製）、Ｋｒａｔｏｎ  Ｇ１６５０ＭＵ（Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社製）、Ｋｒａｔｏｎ  Ｇ１７３０（Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社製）、サーモラン３５５５Ｎ（三菱化学（株）製）、サーモラン５８００Ｂ（三菱化学（株）製）、ミラクトランＥ１９０ＰＮＡＴ（日本ミラクトラン（株）製）、ミラクトランＥ３９０ＰＮＡＴ（日本ミラクトラン（株）製）、プリマロイＡ１６００Ｎ（三菱化学（株）製）、ＵＢＥＳＴＡ  ＸＰＡ  ９０５５Ｆ１（宇部興産（株）製）、Ｅｌｖａｌｏｙ  ＨＰ４４１（ＤｕＰｏｎｔ社製）が例示できる。
【０１０１】
形態保持性、レリーフ形成層を調製する際の溶媒への溶解性の観点から、熱可塑性エラ
ストマーの重量平均分子量は、５，０００〜５００，０００が好ましく、１０，０００〜
４００，０００がより好ましく、１５，０００〜３００，０００が更に好ましい。
なお、本発明における樹脂等の重量平均分子量（Ｍｗ）は、例えばゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定し、測定値を分子量既知のポリスチレンで検量し換算することにより求めることができる。
具体的には、例えば、ＧＰＣは、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（東ソー（株）製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を３本用い、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いる。また、条件としては、試料濃度を０．３５質量％、流速を０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ、測定温度を４０℃とし、ＩＲ検出器を用いて行う。また、検量線は、東ソー（株）製「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ−４０」、「Ｆ−２０」、「Ｆ−４」、「Ｆ−１」、「Ａ−５０００」、「Ａ−２５００」、「Ａ−１０００」、「ｎ−プロピルベンゼン」の８サンプルから作製する。
【０１０２】
（成分Ｂ）重合性化合物
レリーフ形成層中に架橋構造を形成する観点から、本発明に用いられるレーザー彫刻用樹脂組成物は、（成分Ｂ）重合性化合物を含有する。
重合性化合物は、エチレン性不飽和基を少なくとも１個、好ましくは２個以上、より好ましくは２〜６個、更に好ましくは２個有する化合物の中から任意に選択することができる。重合性化合物としては、特開２００９−２５５５１０号公報、特開２００９−２０４９６２号公報の段落００９８〜０１２４に記載の重合性化合物を例示できる。
【０１０３】
以下、エチレン性不飽和基を分子内に１つ有する単官能モノマー、及び、エチレン性不飽和基を分子内に２個以上有する多官能モノマーについて説明する。
本発明におけるレリーフ形成層中には、架橋構造を形成することが必要であることから、多官能モノマーが好ましく使用される。これらの多官能モノマーの分子量は、１２０〜３，０００であることが好ましく、２００〜２，０００であることがより好ましい。
単官能モノマー及び多官能モノマーとしては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等）と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
本発明においては、炭素数１〜２０のアルキレン基を有するジ（メタ）アクリレートが好ましく、直鎖又は分岐を有する炭素数２〜１０のアルキレン基を有するジ（メタ）アクリレートがより好ましく、直鎖の炭素数３〜６のアルキレン基を有するジ（メタ）アクリレートが更に好ましい。上記アルキレン基は置換基を有していてもよく、上記置換基としては、ヒドロキシ基が挙げられる。
【０１０４】
本発明における樹脂組成物に、重合性化合物を用いることにより、レリーフ形成層における膜物性、例えば、脆性、柔軟性などを調整することもできる。
また、本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物中の重合性化合物の含有量は、架橋膜の柔軟性や脆性の観点から、固形分換算で、５〜６０質量％が好ましく、８〜３０質量％の範囲がより好ましい。
【０１０５】
（成分Ｃ）重合開始剤
本発明に用いられるレーザー彫刻用樹脂組成物は、更に（成分Ｃ）重合開始剤を含有する。
重合開始剤としては、光重合開始剤及び熱重合開始剤が例示され、熱による架橋が好ましい観点から、熱重合開始剤が好ましい。重合開始剤としては、当業者間で公知のものを制限なく使用することができる。
成分Ｃは、成分Ｂの付加重合を促進するラジカル重合開始剤が好ましく、特開２００８−６３５５４号公報の段落００７４〜０１１８に記載されている化合物を好ましく例示できる。
ラジカル重合開始剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物等が挙げられる。中でも彫刻感度と、レリーフ印刷版原版のレリーフ形成層に適用した際にはレリーフエッジ形状を良好とするといった観点から、有機過酸化物又はアゾ系化合物がより好ましく、有機過酸化物が特に好ましい。
有機過酸化物としては、特開２００８−６３５５４号公報、特開２００８−２３３２４４号公報に記載のものが好ましく、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエートがより好ましい。
【０１０６】
また、有機過酸化物の併用成分として、後述する光熱変換剤を組み合わせて用いることで彫刻感度が高くなるので好ましい。これは、有機過酸化物を用いてレリーフ形成層を熱架橋により硬化させる際、ラジカル発生に関与しない未反応の有機過酸化物が残存するが、残存した有機過酸化物はレーザー彫刻時に発熱的に分解する。その結果、照射されたレーザーエネルギーに発熱分が加算されるので彫刻感度が高くなると推定される。
この効果は光熱変換剤としてカーボンブラックを用いる場合に著しい。これは、カーボンブラックから発生した熱が有機過酸化物にも伝達される結果、カーボンブラックだけでなく有機過酸化物からも発熱し、成分Ａ等の分解に使用されるべき熱エネルギーの発生が相乗的に生じるためと考えている。
【０１０７】
重合開始剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用することも可能である。本発明における樹脂組成物中の重合開始剤の含有量は、耐刷性の観点から、樹脂組成物の固形分全質量に対し０．０１〜１０質量％が好ましく、０．１〜３質量％がより好ましい。
【０１０８】
（成分Ｄ）光熱変換剤
本発明に用いられるレーザー彫刻用樹脂組成物は、更に、光熱変換剤を含有することが好ましい。光熱変換剤は、レーザーの光を吸収し発熱することで、レーザー彫刻時の硬化物の熱分解を促進すると考えられる。このため、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換剤を選択することが好ましい。
本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物を用いて製造したレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を、７００〜１，３００ｎｍの赤外線を発するレーザー（ＹＡＧレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等）を光源としてレーザー彫刻に用いる場合に、光熱変換剤として、７００〜１，３００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物を用いることが好ましい。光熱変換剤としては、種々の染料又は顔料が用いられる。
【０１０９】
光熱変換剤のうち、染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、７００〜１，３００ｎｍに極大吸収波長を有するものが挙げられ、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が好ましく挙げられる。本発明において好ましく用いられる染料としては、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、フタロシアニン系色素及び特開２００８−６３５５４号公報の段落０１２４〜０１３７に記載の染料を挙げることができる。
【０１１０】
本発明において使用される光熱変換剤のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。また、顔料としては、特開２００９−１７８８６９号公報の段落０１２２〜０１２５に記載の顔料が例示できる。
これらの顔料のうち、好ましいものはカーボンブラックである。カーボンブラックは、組成物中における分散性などが安定である限り、ＡＳＴＭによる分類のほか、用途の如何に拘らずいずれも使用可能である。カーボンブラックには、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなどが含まれる。なお、カーボンブラックなどの黒色着色剤は、分散を容易にするため、必要に応じて分散剤を用い、予めニトロセルロースやバインダーなどに分散させたカラーチップやカラーペーストとして使用することができ、このようなチップやペーストは市販品として容易に入手できる。また、カーボンブラックとしては、特開２００９−１７８８６９号公報の段落０１３０〜０１３４に記載されたものが例示できる。
【０１１１】
レーザー彫刻用樹脂組成物中における光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、上記樹脂組成物の固形分全質量の０．０１〜３０質量％の範囲が好ましく、０．０５〜２０質量％がより好ましく、０．１〜１０質量％が特に好ましい。
【０１１２】
＜その他の成分＞
本発明における樹脂組成物は、成分Ａ〜成分Ｄの他に、本発明の効果を損なわない限りにおいて目的に応じて種々の化合物を併用することができる。本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物には、上記成分Ａに加え、成分Ａに包含されない公知のバインダーポリマーを併用することができる。例えば、レーザー彫刻感度の観点からは、露光又は加熱により熱分解する部分構造を含むポリマーが好ましい。また、例えば、柔軟で可撓性を有する膜形成が目的とされる場合には、軟質樹脂が選択される。更に、レリーフ形成層用組成物の調製の容易性、得られたレリーフ印刷版における油性インクに対する耐性向上の観点から、親水性又は親アルコール性ポリマーを使用することが好ましい。これらの成分は、特開２００８−１６３０８１号公報に記載されている。
このように、レリーフ印刷版の適用用途に応じた物性を考慮し、目的に応じたバインダーポリマーを選択し、上記バインダーポリマーの１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１１３】
本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物を調製する際に用いることの出来る溶媒は、レーザー彫刻用樹脂組成物の構成成分を溶解・分散可能なものであればいかなるものでもよい。
例えば、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、ジエチルケトン、シクロヘキサノンが挙げられる。
【０１１４】
更には、本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物には、ゴムの分野で通常用いられている各種添加剤を、本発明の効果を阻害しない範囲で適宜配合することができる。例えば、加硫剤、充填剤、可塑剤、ワックス、プロセス油、有機酸、金属酸化物、オゾン分解防止剤、老化防止剤、熱重合防止剤、着色剤等が挙げられ、これらは１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１５】
プロセス油を使用する場合、例えば芳香族系プロセス油、ナフテン系プロセス油、パラ
フィン系プロセス油を挙げることができる。その添加量は、成分Ａ１００質量部あたり１〜７０質量部が好ましい。
有機酸は金属塩として、常套の加硫剤と組み合わせて、加硫促進のための助剤として使用することができる。有機酸としては例えば、ステアリン酸、オレイン酸、ムラスチン酸を挙げることができる。併用される金属源としては酸化亜鉛（亜鉛華）、酸化マグネシウム等の金属酸化物を挙げることができる。これらは加硫工程において、ゴム中で有機酸と金属酸化物が金属塩を形成し、硫黄等の加硫剤の活性化を促すとされている。このような金属塩を系中で形成させるための金属酸化物の添加量は、成分Ａ１００質量部あたり０．１〜１０質量部が好ましく、２〜１０質量部がより好ましい。
有機酸の添加量は、成分Ａ１００質量部あたり０．１〜５質量部が好ましく、０．１〜３質量部がより好ましい。
【０１１６】
（レーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キット）
本発明におけるレーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キットは、本発明におけるフレキソ印刷版原版と、本発明のリンス液とを含む。
本発明におけるレーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キットに含まれる本発明におけるフレキソ印刷版原版と、本発明のリンス液の好ましい態様は、上述したものと同様である。
また、本発明におけるフレキソ印刷版製版キットは、上記印刷版原版及びリンス液以外に、任意の品を含んでいてもよい。
例えば、リンス用のブラシや不織布、リンス液のスプレー容器等が挙げられるが、これらに制限されない。
【実施例】
【０１１７】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。なお、実施例におけるポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に断りのない限り、ＧＰＣ法で測定した値を表示している。また、特に断りのない限り「部」は「質量部」を、「％」は「質量％」を意味する。
【０１１８】
以下に、実施例及び比較例のフレキソ印刷版原版に用いた成分Ａ〜成分Ｄ、及び実施例及び比較例のリンス液に用いた成分１〜成分３の化合物名を示す。
＜（成分Ａ）熱可塑性エラストマー＞
Ａ−１：Ｋｒａｔｏｎ  Ｄ１１０２ＪＳＺ（スチレン系、ＳＢＳ、Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社製）
Ａ−２：Ｋｒａｔｏｎ  Ｄ１１６１ＪＳＰ（スチレン系、ＳＩＳ、Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社製）
Ａ−３：Ｋｒａｔｏｎ  Ｇ１６５０ＭＵ（スチレン系、ＳＥＢＳ、Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社製）
Ａ−４：Ｋｒａｔｏｎ  Ｇ１７３０（スチレン系、ＳＥＰＳ、Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社製）
Ａ−５：サーモラン３５５５Ｎ（オレフィン系、動的架橋、三菱化学（株）製）
Ａ−６：サーモラン５８００Ｂ（オレフィン系、非架橋、黒色、三菱化学（株）製）
Ａ−７：ミラクトランＥ１９０ＰＮＡＴ（ウレタン系、アジピン酸ポリエステル、日本ミラクトラン（株）製）
Ａ−８：ミラクトランＥ３９０ＰＮＡＴ（ウレタン系、ポリエーテル、日本ミラクトラン（株）製）
Ａ−９：プリマロイＡ１６００Ｎ（エステル系、ポリエーテル、三菱化学（株）製）
Ａ−１０：ＵＢＥＳＴＡ  ＸＰＡ  ９０５５Ｆ１（アミド系、宇部興産（株）製）
Ａ−１１：Ｅｌｖａｌｏｙ  ＨＰ４４１（エチレン−（メタ）アクリル酸エステル系、エチレン／ｎ−ブチルアクリレート／一酸化炭素の共重合体、ＤｕＰｏｎｔ社製)
【０１１９】
＜成分Ａ以外のバインダーポリマー＞
Ａ’−１：Ｎｉｐｏｌ  １５０２（スチレンブタジエンゴム、日本ゼオン（株）製）
【０１２０】
＜（成分Ｂ）重合性化合物＞
Ｂ−１：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（ＮＫエステル  Ａ−ＨＤ−Ｎ、新中村化学工業（株）製）
【０１２１】
＜（成分Ｃ）重合開始剤＞
Ｃ−１：ジクミルパーオキサイド（パークミルＤ、日本油脂（株）製）
Ｃ−２：Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１（ＢＡＳＦ社製）
【０１２２】
＜（成分Ｄ）光熱変換剤＞
Ｄ−１：カーボンブラック（ＭＡ１００、三菱化学（株）製）
【０１２３】
＜（成分１）特定構造の有機溶剤＞
１−１：３−ペンタノール（５．２ｇ／１００ｍｌ）
１−２：３−メチル−２−ブタノール（５．２ｇ／１００ｍｌ）
１−３：エチレングリコールモノｔ−ブチルエーテル（水に混和）
１−４：プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル（４．４ｇ／１００ｍｌ）
１−５：ジエチルケトン（１．７ｇ／１００ｍｌ）
【０１２４】
＜成分１以外の有機溶剤＞
１’−１：イソプロピルアルコール（水に混和）
１’−２：ｎ−ブタノール（６．４ｇ／１００ｍｌ）
１’−３：ベンジルアルコール（４．０ｇ／１００ｍｌ）
１’−４：エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル（水に混和）
１’−５：エチレングリコールモノｎ−ヘキシルエーテル（１．０ｇ／１００ｍｌ）
１’−６：プロピレングリコールモノメチルエーテル（水に混和）
１’−７：ジエチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル（水に混和）
１’−８：ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル（０．３ｇ／１００ｍｌ）
１’−９：２−ブタノン（２２ｇ／１００ｍｌ）
１’−１０：４−メチル−２−ペンタノン（１．９ｇ／１００ｍｌ）
１’−１１：ｎ−ヘプタン（０．０１ｇ／１００ｍｌ）
【０１２５】
＜（成分２）両性、アニオン性界面活性剤＞
成分２としては、段落００５１〜００６７に例示した化合物の中から、下記の化合物を使用した。
ＢＯ−５：  ソフタゾリンＬＡＯ  （川研ファインケミカル（株）製）
ＢＣ−２：  タケサーフＣ−１５７  （竹本油脂（株）製）
ＢＣ−５：  レボン２０００Ｌ  （三洋化成工業（株）製）
ＢＳ−５：  ソフタゾリンＬＳＢ−Ｒ  （川研ファインケミカル（株）製）
ＡＰ−３：  ネオペレックスＧ−６５  （花王（株）製）
ＡＰ−７：  エレミノールＭＯＮ−７  （三洋化成工業（株）製）
ＡＮ−２：  ペレックスＮＢＬ  （花王（株）製）
ＡＮ−６：  ニューコールＢ−１３ＳＮ  （竹本油脂（株）製）
【０１２６】
＜成分２以外の界面活性剤＞
Ｗ−１：エマレックス７１０（エチレンオキシドアルキルエーテル、ノニオン系界面活性剤、日本乳化剤（株）製）
Ｗ−２：ニューコールＢ−１３（エチレンオキシドナフタレンエーテル、ノニオン系界面活性剤、竹本油脂（株）製）
Ｗ−３：パイオニンＢ１１１（ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、カチオン系界面活性剤、竹本油脂（株）製）
【０１２７】
（実施例１）
＜１．レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の作製＞
（株）モリヤマ製の混練機に、（成分Ａ）熱可塑性エラストマーとしてＡ−１を８４部、（成分Ｂ）重合性化合物としてＢ−１を９部、（成分Ｄ）光熱変換剤としてＤ−１を４部、を投入して２００℃で１８０分間混練した。その後、１６０℃まで冷却した後、（成分Ｃ）重合開始剤としてＣ−１を３部、投入し５分間混練し、レーザー彫刻用樹脂組成物１を得た。その後すぐに、（株）モリヤマ製の押出機で０．９ｍｍの厚さに押出成型し、１２０℃のオーブン中で３時間加熱し、レリーフ形成層１を得た。
このレリーフ形成層の片方の面にカバーフィルムとして１５μｍ厚ポリプロピレン（ＰＰ）フィルムを貼り付け、レリーフ形成層の反対の面に、ＵＶ硬化性接着剤を用いて、厚さ０．１９ｍｍのＰＥＴフィルムをラミネート成型した。このときＵＶ硬化性接着剤の厚さが０．０５ｍｍとなるようにラミネートのクリアランスを調整し、カバーフィルム以外の版材厚さが１．１４ｍｍのレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版１を作製した。レリーフ形成層のショアＡ硬度を前述の測定方法により測定したところ、８２°であった。
【０１２８】
＜２．フレキソ印刷版の製版＞
得られた原版１のレリーフ形成層に対し、以下のレーザーにより彫刻した。
（ＦＣ−ＬＤによる彫刻）
半導体レーザー彫刻機として、最大出力８．０Ｗのファイバー付き半導体レーザー（ＦＣ−ＬＤ）ＳＤＬ−６３９０（ＪＤＳＵ社製、波長  ９１５ｎｍ）を装備したレーザー記録装置を用いた。半導体レーザー彫刻機でレーザー出力：７．５Ｗ、ヘッド速度：４０９ｍｍ／秒、ピッチ設定：２，５４０ＤＰＩの条件で、３０μｍの凸細線を彫刻した。半導体レーザーで彫刻した場合は、元データをほぼ忠実に版上で再現することが可能で、レリーフ層に形成された凸細線は３０μｍ幅であった。
【０１２９】
＜３．リンス液の作製＞
本発明のリンス液は、以下の処方で調液した。
（成分１）  １−１                                                  ０．７質量部
（成分２）  ＢＣ−５                                      固形分として、５質量部
シリコーン系消泡剤：ＴＳＡ７３９（東レ・ダウコーニング（株）製）  ０．０１質量部
防腐剤：バイオホープ（イソチアゾリン系／ニトロブロモアルコール系、（株）理研グリーン製）                                                          ０．０１質量部
（成分３）水道水              上記成分を含む液全量が１００質量部になるように調整
【０１３０】
＜４．リンス工程＞
以下の項目でフレキソ印刷版の性能評価を行い、結果を表１に示した。
上記方法にて彫刻したレリーフ層上に上記リンス液を版表面が均一に濡れるようにスポイトで滴下（約１００ｍｌ／ｍ2）し、２分静置後、馬毛ブラシを用いて荷重２００ｇｆ（１．９６Ｎ）で版を縦方向に２０回（３０秒）擦り、引き続き版を横方向に２０回（３０秒）擦った。リンス時の室温及びリンス液の温度は、共に２５℃であった。
その後、流水にて版面を洗浄、版面の水分を除去し、１時間ほど自然乾燥した。
【０１３１】
＜５．フレキソ印刷版の評価＞
〔リンス性〕
リンス済みのフレキソ印刷版の表面を倍率１００倍のマイクロスコープ（キーエンス（株）製）で観察し、版上の取れ残りカスを評価した。評価基準は以下の通りである。
１：版全面にカスが付着している。
２：版画像凸部に僅かにカスが残っており、また、画像底部（凹部）にカスが残っている。
３：版画像凸部に僅かにカスが残っており、また、画像底部（凹部）に僅かにカスが
残っている。
４：画像底部（凹部）に僅かにカスが残っているのみである。
５：まったく版上にカスが残っていない。
評価４以上であれば、実用上許容できるレベルである。
なお、表中のリンス性の項目における「評価不可」とは、リンス液中の有機溶剤と水とが２相に分離したため、リンス液として使用することができず、リンス性の評価ができなかったことを意味している。
【０１３２】
〔ＵＶインキ耐刷性〕
得られたフレキソ印刷版を印刷機（（株）太陽機械製作所製）に、クッションテープとしてＬｏｈｍａｎｎ５．１＋を用いてセットし、インクとしてＵＶフレキソ５００藍（ＵＶインキ、（株）Ｔ＆Ｋ  ＴＯＫＡ製）を用い、９００ｌｐｉのアニロックスローラを用いて、印刷紙としてフルカラーフォームＭ  ７０（日本製紙（株）製、厚さ１００μｍ）に印刷を行った。フレキソ印刷版とアニロックスローラとのタッチ圧はキスタッチから１００μｍ押込み、フレキソ印刷版と印刷紙とのタッチ圧はキスタッチから１６０μｍ押込んだ条件で、部数５０万部まで印刷した。
得られた印刷物の細線画像をルーペで観察し、細線が途切れたり、よれたりした時点を刷了とし、刷了までに印刷することができた部数を耐刷性の指標とした。数値が大きいほど耐刷性に優れる。
なお、表中のＵＶインキ耐刷性の項目における「評価不可」とは、リンス性が非常に低いレベルであったため、印刷物の細線画像が６０μｍ幅以上の太線になったか、又は、リンス性が「評価不可」であり、リンス工程を行うことができなかったため、ＵＶインキ耐刷性を評価できなかったことを意味している。
【０１３３】
（実施例２〜１２０、比較例１〜２６）
実施例１で用いた成分Ａ、成分１、成分２の化合物種、及び、成分１、成分２の処方量、彫刻に用いたレーザー種を表１〜５又は７に示すように変更し、更には、リンス液のｐＨが表１の値となるように水酸化ナトリウム適当量をリンス液に添加した以外は、実施例１と同様にして、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版とリンス液を作製し、実施例１と同様にして評価した。
【０１３４】
（ＣＯ2レーザーによる彫刻）
実施例９９〜１２０では、炭酸ガスレーザーによる彫刻を行った。
炭酸ガスレーザー（ＣＯ2レーザー）彫刻機として、高品位ＣＯ2レーザーマーカＭＬ−９１００シリーズ（（株）キーエンス製）を用いた。レーザー彫刻用印刷版原版１からカバーフィルムを剥離後、炭酸ガスレーザー彫刻機で、出力：１２Ｗ、ヘッド速度：２００ｍｍ／秒、ピッチ設定：２，５４０ＤＰＩの条件で、３０μｍ幅の凸細線を彫刻した。炭酸ガスレーザーで彫刻した場合、元データに対する版上の画像再現性は、半導体レーザーを使用した場合よりも劣り、レリーフ層に形成された凸細線は平均２４μｍ幅であった。
【０１３５】
（実施例１２１〜１４２）
実施例１に記載の（成分Ｄ）光熱変換剤を用いず、実施例１で用いた成分Ａ、成分１、成分２の化合物種、及び、成分１、成分２の処方量を表５に示すように変更し、更には彫刻に用いたレーザーをＣＯ2レーザーとした以外は、実施例１と同様にして、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版とリンス液を作製し、実施例１と同様にして評価した。このときの元データに対する版上の画像再現性は、半導体レーザーを使用した場合よりもやや劣り、レリーフ層に形成された凸細線は平均２７μｍ幅であった。
【０１３６】
（実施例１４３〜１６４）
実施例１に記載の（成分Ｄ）光熱変換剤を用いず、（成分Ｃ）を光重合開始剤であるＩｒｇａｃｕｒｅ６５１（２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ＢＡＳＦ社製）に置き換え、成型されたレリーフ形成層に対し、架橋工程として光化学的補強とデタックの工程（長波のＵＶライト（ＵＶＡ）を使用し約１２Ｊ／ｃｍ2の光量を照射、次いで短波のＵＶライト（ＵＶＣ）照射）を追加し、実施例１で用いた成分Ａ、成分１、成分２の化合物種、及び、成分１、成分２の処方量を表６に示すように変更し、更には彫刻に用いたレーザーをＣＯ2レーザーとした以外は、実施例１と同様にして、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版とリンス液を作製し、実施例１と同様にして評価した。このときの元データに対する版上の画像再現性は半導体レーザーを使用した場合よりも少し劣り、レリーフ層に形成された凸細線は平均３６μｍ幅であった。
【０１３７】
（比較例２７）
実施例１に記載のリンス液を、Purple Power Industrial Strength Cleaner/Degreaser
（AIKEN Chemical社製、ｐＨ１１．２、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル含有、希釈せず原液で使用）に変更した以外は、実施例１と同様にして、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を作製し、実施例１と同様にして評価した。
【０１３８】
【表１】
2015030122.tif 000017
【０１３９】
【表２】
2015030122.tif 000018
【０１４０】
【表３】
2015030122.tif 000019
【０１４１】
【表４】
2015030122.tif 000020
【０１４２】
【表５】
2015030122.tif 000021
【０１４３】
【表６】
2015030122.tif 000022
【０１４４】
【表７】
2015030122.tif 000023