(57)【要約】  調光フィルム（１０）は、熱可塑性樹脂及び特定のホスホニウムスルホネート塩を含む第一の層と、硬化性組成物から形成されると共に、１．５以上の屈折率を有する第二の層とを含んでなる。この調光フィルムは静電気蓄積の減少及び吸塵の減少を示すことで、ラップトップコンピューターのフラットパネルディスプレイのようなディスプレイデバイスの製造時の取扱いが容易になる。【選択図】    図１
2008512282.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の層及び第一の層の表面に配設された第二の層を含んでなる調光フィルムであって、
第一の層が、
芳香族ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンエーテル／スチレンポリマーブレンド、ポリアミド、ポリケトン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン及びこれらのブレンドから選択される熱可塑性樹脂と、
次の構造のホスホニウムスルホネート塩と
を含み、
【化１】
2008512282.tif 000025
（式中、１以上のＸがハロゲンであることを条件としてＸは各々独立にハロゲン又は水素であり、ｍ、ｐ及びｑは０〜１２の整数であり、ｎが１のときｐ及びｑが共に０ではないことを条件としてｎは０又は１であり、Ｒ１〜Ｒ３は各々独立にＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルであり、Ｒ４はＣ１〜Ｃ１８ヒドロカルビルであり、Ｙは以下のものから選択される。
【化２】
2008512282.tif 000026
（式中、Ｒ５は水素又はＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルである。））
第二の層が硬化性組成物の硬化生成物であり、第二の層が１．５以上の屈折率を有する、調光フィルム。
【請求項２】
熱可塑性樹脂が芳香族ポリカーボネートからなる、請求項１記載の調光フィルム。
【請求項３】
ｎ、ｐ及びｑが０であり、ｍが１〜１２である、請求項１記載の調光フィルム。
【請求項４】
ホスホニウムスルホネート塩がテトラ−ｎ−ブチルホスホニウムノナフルオロ−ｎ−スルホネートからなる、請求項１記載の調光フィルム。
【請求項５】
ホスホニウムスルホネート塩が第一の層の組成物全体を基準にして約０．００００１〜約２重量％で存在する、請求項１記載の調光フィルム。
【請求項６】
当該調光フィルムがフッ素化ホスホニウムスルホネート塩以外のフッ素化化合物を実質的に含まない、請求項１記載の調光フィルム。
【請求項７】
第一の層が約２５〜約３００μｍの厚さを有する、請求項１記載の調光フィルム。
【請求項８】
硬化性組成物が、（メタ）アクリレート、ビニル及びエポキシドから選択される１種以上の官能基を有する重合性化合物を含む、請求項１記載の調光フィルム。
【請求項９】
硬化性組成物がさらに金属酸化物ナノ粒子を含む、請求項８記載の調光フィルム。
【請求項１０】
硬化性組成物がさらに重合開始剤を含む、請求項８記載の調光フィルム。
【請求項１１】
硬化性組成物が次の構造の多官能性（メタ）アクリレートを含む、請求項１記載の調光フィルム。
【化３】
2008512282.tif 000027
式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ７はｒの原子価を有する置換又は非置換Ｃ１〜Ｃ１００ヒドロカルビルであり、ｒは２、３又は４である。
【請求項１２】
硬化性組成物がアルカン部分に炭素原子数２〜約１２のアルカンジオールジ（メタ）アクリレートを含む、請求項１記載の調光フィルム。
【請求項１３】
硬化性組成物が、
次の構造の二官能性（メタ）アクリレートと、
【化４】
2008512282.tif 000028
（式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ８は次の構造を有する。
【化５】
2008512282.tif 000029
（式中、Ｑは−Ｃ(ＣＨ３)２−、−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ(Ｏ)−、−Ｓ(Ｏ)−又は−Ｓ(Ｏ)２−であり、Ｒ９はＣ１〜Ｃ６アルキレン又はヒドロキシ置換Ｃ１〜Ｃ６アルキレンであり、ｔは各々独立に０、１、２、３又は４であり、ｄは１〜３である。））
次の構造のアリールエーテル（メタ）アクリレートと、
【化６】
2008512282.tif 000030
（式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｘ２はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ１０は置換又は非置換二価Ｃ１〜Ｃ１２アルキレン又はアルケニレンであり、Ａｒはフェニルを始めとする置換又は非置換Ｃ６〜Ｃ１２アリールであり、Ｒ１０及びＡｒの置換基は独立にフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ペルハロゲン化アルキル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ６ケトン、Ｃ１〜Ｃ６エステル、Ｎ，Ｎ−ジ(Ｃ１〜Ｃ３)アルキルアミド、又はこれらの置換基の１種以上を含む組合せとし得る。）
重合開始剤と
を含む、請求項１記載の調光フィルム。
【請求項１４】
二官能性(メタ)アクリレートが全硬化性組成物を基準にして約１０〜約９０重量％の量で存在する、請求項１３記載の調光フィルム。
【請求項１５】
アリールエーテル（メタ）アクリレートモノマーが全硬化性組成物を基準にして約１５〜約７０重量％の量で存在する、請求項１３記載の調光フィルム。
【請求項１６】
硬化性組成物が、
次の構造の二官能性（メタ）アクリレートと、
【化７】
2008512282.tif 000031
（式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ８は次の構造を有する。
【化８】
2008512282.tif 000032
（式中、Ｑは−Ｃ(ＣＨ３)２−、ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ(Ｏ)−、−Ｓ(Ｏ)−又は−Ｓ(Ｏ)２−であり、Ｒ９はＣ１〜Ｃ６アルキレン又はヒドロキシ置換Ｃ１〜Ｃ６アルキレンであり、ｔは各々独立に０、１、２、３又は４であり、ｄは１〜３である。））
次の構造のアリールエーテル（メタ）アクリレートと、
【化９】
2008512282.tif 000033
（式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ又はＳであり、Ｘ２はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ１０は置換又は非置換二価Ｃ１〜Ｃ１２アルキレン又はアルケニレンであり、Ａｒはフェニルを始めとする置換又は非置換Ｃ６〜Ｃ１２アリールであり、Ｒ１０及びＡｒの置換基は独立にフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ペルハロゲン化アルキル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ６ケトン、Ｃ１〜Ｃ６エステル、Ｎ，Ｎ−ジ(Ｃ１〜Ｃ３)アルキルアミド、又はこれらの置換基の１種以上を含む組合せとし得る。）
次の構造の臭素化芳香族（メタ）アクリレートと、
【化１０】
2008512282.tif 000034
（式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ又はＳであり、Ｘ３はＯ又はＳであり、ｒは０、１、２又は３であり、ｒが０のときｓも０であることを条件としてｓは０又は１であり、ｕは３、４又は５である。）
重合開始剤と
を含む、請求項１記載の物品。
【請求項１７】
硬化性組成物が次の構造の高屈折率モノマーを含む、請求項１記載の調光フィルム。
【化１１】
2008512282.tif 000035
式中、Ｚはエチレン性不飽和基であり、
Ｘ４はＯ、Ｓ又はＮＨであり、
Ｌ１及びＬ２は各々独立にＣ１〜Ｃ３アルキレン、−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−Ｓ−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−又は−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−Ｏ−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−であり、
Ｒ１１は水素又はＣ１〜Ｃ６アルキルであり、
Ｒ１２及びＲ１３は各々独立に、フェニル又はナフチルを始めとするアリール、アリール（Ｃ１〜Ｃ６アルキレン）−、ヘテロアリール或いはヘテロアリール（Ｃ１〜Ｃ６アルキレン）−であり、これらの基の各々はハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）Ｓ−、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル及びＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシから独立に選択される０〜５個の置換基で置換されており、
Ｙ１及びＹ２は各々独立にＯ、Ｓ、ＮＨ又はＮである。
【請求項１８】
Ｙ１及びＹ２が共にＳであり、
ｉ）Ｘ４がＳであるか、或いは
ii）Ｒ１２及びＲ１３の少なくとも一方が前述のように置換されたヘテロアリール又はヘテロアリール（Ｃ１〜Ｃ６アルキレン）−であるか、或いは
iii）Ｌ１及びＬ２の一方又は両方が−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−Ｓ−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−又は−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−Ｏ−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−である、
請求項１７記載の調光フィルム。
【請求項１９】
Ｙ１又はＹ２がＮであり、対応する組合せＲ１２−Ｙ１又はＲ１３−Ｙ２が各々独立にカルバゾールを除くＮ含有ヘテロアリールである、請求項１７記載の調光フィルム。
【請求項２０】
Ｚがアクリロイル、メタクリロイル、ビニル又はアリルであり、ＸがＯ又はＳであり、Ｒ１１が水素である、請求項１７記載の調光フィルム。
【請求項２１】
第二の層が１．６１以上の屈折率を有する、請求項１記載の調光フィルム。
【請求項２２】
第二の層が約１０〜約１００μｍの厚さを有する、請求項１記載の調光フィルム。
【請求項２３】
さらに、第二の層とは反対側の第一の層の表面に配設されたマスキング層を含む、請求項１記載の調光フィルム。
【請求項２４】
さらに、第一の層とは反対側の第二の層の表面に配設されたマスキング層を含む、請求項１記載の調光フィルム。
【請求項２５】
第一の層及び第一の層の表面に配設された第二の層を含んでなる調光フィルムであって、
第一の層が、
芳香族ポリカーボネートと、
次の構造のホスホニウムスルホネート塩と
を含み、
【化１２】
2008512282.tif 000036
（式中、１以上のＸがハロゲンであることを条件としてＸは各々独立にハロゲン又は水素であり、Ｒ１〜Ｒ３は各々独立にＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルであり、Ｒ４はＣ１〜Ｃ１８ヒドロカルビルである。）
第二の層が１．５以上の屈折率を有し、第二の層が次の構造の多官能性（メタ）アクリレートを含む硬化性組成物の硬化生成物である、調光フィルム。
【化１３】
2008512282.tif 000037
（式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ７はｒの原子価を有する置換又は非置換Ｃ１〜Ｃ１００ヒドロカルビルであり、ｒは２、３又は４である。）
【請求項２６】
第一の層及び第一の層の表面に配設された第二の層を含んでなる調光フィルムであって、
第一の層が、
芳香族ポリカーボネートと、
テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムノナフルオロ−ｎ−スルホネートと
を含み、
第二の層が１．６１以上の屈折率を有し、第二の層が、
次の構造の二官能性（メタ）アクリレートと、
【化１４】
2008512282.tif 000038
（式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ８は次の構造を有する。
【化１５】
2008512282.tif 000039
（式中、Ｑは−Ｃ(ＣＨ３)２−、−ＣＨ２−、−Ｃ(Ｏ)−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ(Ｏ)−又は−Ｓ(Ｏ)２−であり、Ｒ９はＣ１〜Ｃ６アルキレン又はヒドロキシ置換Ｃ１〜Ｃ６アルキレンであり、ｔは各々独立に０、１、２、３又は４であり、ｄは１〜３である。））
次の構造のアリールエーテル（メタ）アクリレートと、
【化１６】
2008512282.tif 000040
（式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｘ２はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ１０は置換又は非置換二価Ｃ１〜Ｃ１２アルキレン又はアルケニレンであり、Ａｒはフェニルを始めとする置換又は非置換Ｃ６〜Ｃ１２アリールであり、Ｒ１０及びＡｒの置換基は独立にフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ペルハロゲン化アルキル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ６ケトン、Ｃ１〜Ｃ６エステル、Ｎ，Ｎ−ジ(Ｃ１〜Ｃ３)アルキルアミド、又はこれらの置換基の１種以上を含む組合せとし得る。）
重合開始剤と
を含む硬化性組成物の硬化生成物である、調光フィルム。
【請求項２７】
調光フィルムの製造方法であって、
基板の表面を硬化性組成物で被覆する段階であって、基板が、
芳香族ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンエーテル／スチレンポリマーブレンド、ポリアミド、ポリケトン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン及びこれらのブレンドから選択される熱可塑性樹脂と、
次の構造のホスホニウムスルホネート塩と
を含む段階、
【化１７】
2008512282.tif 000041
（式中、１以上のＸがハロゲンであることを条件としてＸは各々独立にハロゲン又は水素であり、ｍ、ｐ及びｑは０〜１２の整数であり、ｎが１のときｐ及びｑが共に０ではないことを条件としてｎは０又は１であり、Ｒ１〜Ｒ３は各々独立にＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルであり、Ｒ４はＣ１〜Ｃ１８ヒドロカルビルであり、Ｙは以下のものから選択される。
【化１８】
2008512282.tif 000042
（式中、Ｒ５は水素又はＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルである。））
ニップロール及びミクロ構造化パターン原型を有するキャスティングドラムによって画成された圧縮ニップに被覆基板を通す段階、並びに
硬化性組成物がミクロ構造化パターン原型に接触しているうちに硬化性組成物を硬化させる段階
を含んでなる方法。
【請求項２８】
請求項２７記載の方法で製造された調光フィルム。
【請求項２９】
請求項１記載の調光フィルムを含んでなるフラットパネルディスプレイ。
【請求項３０】
第一の層及び第一の層の第一の表面に配設された第二の層を含んでなる調光フィルムであって、
第一の層が、
芳香族ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンエーテル／スチレンポリマーブレンド、ポリアミド、ポリケトン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン及びこれらのブレンドから選択される熱可塑性樹脂と、
次の構造のホスホニウムスルホネート塩と
を含み、
【化１９】
2008512282.tif 000043
（式中、１以上のＸがハロゲンであることを条件としてＸは各々独立にハロゲン又は水素であり、ｍ、ｐ及びｑは０〜１２の整数であり、ｎが１のときｐ及びｑが共に０ではないことを条件としてｎは０又は１であり、Ｒ１〜Ｒ３は各々独立にＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルであり、Ｒ４はＣ１〜Ｃ１８ヒドロカルビルであり、Ｙは以下のものから選択される。
【化２０】
2008512282.tif 000044
（式中、Ｒ５は水素又はＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルである。））
第二の層が硬化性組成物の硬化生成物であり、第二の層が１．５以上の屈折率を有し、第一の層の第二の表面がテクスチャー加工面を有する、調光フィルム。
【請求項３１】
第二の表面が０．３μｍを超える表面粗さ（Ｒａ）を有する、請求項３０記載の調光フィルム。
【請求項３２】
表面粗さ（Ｒａ）が０．３〜約２．２μｍである、請求項３１記載の調光フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、調光フィルム並びにその製造及び使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
調光フィルムは、ラップトップコンピューターのフラットパネルディスプレイのようなバックライト型ディスプレイデバイスで広く使用されている。これらは、ディスプレイの光強度を視角の関数として調節するために使用される。ポリカーボネート又はポリエチレンテレフタレートのような熱可塑性樹脂基層及びミクロ構造のプリズム層を含む調光フィルムが知られている。しかし、デバイス製造中のかかる調光フィルムの取扱いは、静電エネルギーの蓄積を引き起こし、ひいては吸塵を招く。フィルム上への粉塵の蓄積は、デバイス製造時間を増加させ、デバイスの歩留りを低下させ、デバイスの外観を損なう。さらに、例えばフラットパネルディスプレイでは、観察者に向けられた光の所望輝度及び拡散が得られるように配列された複数のフィルムが使用される。使用するフィルムの数が多くなるほど、ディスプレイの総合厚さが増加することに注意されたい。
【０００３】
ますます薄形化するフラットパネルディスプレイデバイスに対する需要が存在しているので、当技術分野では、多機能性の調光フィルム並びに帯電防止性及び防塵性の向上した調光フィルムが要望されている。
【特許文献１】米国特許第４１９８４６５号明細書
【特許文献２】米国特許第４２７５０９１号明細書
【特許文献３】米国特許第４３５１９２０号明細書
【特許文献４】米国特許第４３６３８４４号明細書
【特許文献５】米国特許第４５１９０６５号明細書
【特許文献６】米国特許第４５７６８５０号明細書
【特許文献７】米国特許第４７９０８９３号明細書
【特許文献８】米国特許第４８８３３４１号明細書
【特許文献９】米国特許第４９４３３８０号明細書
【特許文献１０】米国特許第４９４６５３１号明細書
【特許文献１１】米国特許第４９８４１４４号明細書
【特許文献１２】米国特許第５０５６８９２号明細書
【特許文献１３】米国特許第５１６１０４１号明細書
【特許文献１４】米国特許第５１７５０３０号明細書
【特許文献１５】米国特許第５１８３５９７号明細書
【特許文献１６】米国特許第５２４２６３０号明細書
【特許文献１７】米国特許第５２７１９６８号明細書
【特許文献１８】米国特許第５２８４４３５号明細書
【特許文献１９】米国特許第５４２４３３９号明細書
【特許文献２０】米国特許第５４５５１０５号明細書
【特許文献２１】米国特許第５４６８５４２号明細書
【特許文献２２】米国特許第５６２６８００号明細書
【特許文献２３】米国特許第５６３５２７８号明細書
【特許文献２４】米国特許第５７７１３２８号明細書
【特許文献２５】米国特許第５８２８４８８号明細書
【特許文献２６】米国特許第５８５５９８３号明細書
【特許文献２７】米国特許第５８９１９３１号明細書
【特許文献２８】米国特許第５９００２７８号明細書
【特許文献２９】米国特許第５９０８８７４号明細書
【特許文献３０】米国特許第５９１７６６４号明細書
【特許文献３１】米国特許第５９１９５５１号明細書
【特許文献３２】米国特許第５９３２６２６号明細書
【特許文献３３】米国特許第５９８１１１３号明細書
【特許文献３４】米国特許第６００５１３７号明細書
【特許文献３５】米国特許第６００７８８８号明細書
【特許文献３６】米国特許第６０２５８９７号明細書
【特許文献３７】米国特許第６０５２１６４号明細書
【特許文献３８】米国特許第６０５９００３号明細書
【特許文献３９】米国特許第６０９６２４７号明細書
【特許文献４０】米国特許第６１０７３６４号明細書
【特許文献４１】米国特許第６１９４４９７号明細書
【特許文献４２】米国特許第６２６１７００号明細書
【特許文献４３】米国特許第６２８００６３号明細書
【特許文献４４】米国特許第６２９１０７０号明細書
【特許文献４５】米国特許第６３１３１８７号明細書
【特許文献４６】米国特許第６３２９４８５号明細書
【特許文献４７】米国特許第６５９２９８８号明細書
【特許文献４８】米国特許出願公開第２００２／０１１４９２２号明細書
【特許文献４９】米国特許出願公開第２００３／００９９８０８号明細書
【特許文献５０】米国特許出願公開第２００３／０１０８７１０号明細書
【特許文献５１】米国特許出願公開第２００３／０１２７７７０号明細書
【特許文献５２】米国特許出願公開第２００３／０１６２８７１号明細書
【特許文献５３】米国特許出願公開第２００３／０２１１３２０号明細書
【特許文献５４】米国特許出願公開第２００３／０２１４７２８号明細書
【特許文献５５】米国特許出願公開第２００４／０１０９６６３号明細書
【特許文献５６】米国再発行特許第ＲＥ３８，５３０号明細書
【特許文献５７】米国特許第１５９１５７２号明細書
【特許文献５８】米国特許第１６７１０８６号明細書
【特許文献５９】米国特許第１８０７３５０号明細書
【特許文献６０】米国特許第３７１２７０６号明細書
【特許文献６１】米国特許第３９２４９２９号明細書
【特許文献６２】米国特許第４０７３５６８号明細書
【特許文献６３】米国特許第４２０８０９０号明細書
【特許文献６４】米国特許第４３４９５９８号明細書
【特許文献６５】米国特許第４６０１８６１号明細書
【特許文献６６】米国特許第４６１８５１８号明細書
【特許文献６７】米国特許第４７０３９９９号明細書
【特許文献６８】米国特許第４８０１１９３号明細書
【特許文献６９】米国特許第４８９５４２８号明細書
【特許文献７０】米国特許第５２１３８７２号明細書
【特許文献７１】米国特許第６３７５７７６号明細書
【特許文献７２】米国特許第６５１４５９４号明細書
【特許文献７３】米国特許第４０５９６１８号明細書
【特許文献７４】米国特許第４７２１３７７号明細書
【特許文献７５】米国特許第５５１８７８９号明細書
【特許文献７６】米国特許第６６６３９７８号明細書
【特許文献７７】米国特許出願公開第２００２／０１２３５８９号明細書
【特許文献７８】米国特許第６８３３１７６号明細書
【特許文献７９】米国特許第４８１２０３２号明細書
【特許文献８０】米国特許第６８３３３９１号明細書
【特許文献８１】米国特許出願公開第２００４／０２４２７２０号明細書
【特許文献８２】米国特許第１９０６６５５号明細書
【特許文献８３】米国特許第３３５２８２５号明細書
【特許文献８４】米国特許第４５４２４４９号明細書
【特許文献８５】米国特許第４７９１５４０号明細書
【特許文献８６】米国特許第４７９９１３１号明細書
【特許文献８７】米国特許第５４６６３９７号明細書
【特許文献８８】米国特許第５８５８１３９号明細書
【特許文献８９】米国特許第６０９１５４７号明細書
【特許文献９０】米国特許第６１２０６３６号明細書
【特許文献９１】米国特許第６５７７４４６号明細書
【特許文献９２】国際公開第９８／５９２６５号パンフレット
【特許文献９３】国際公開第００／２６２７４号パンフレット
【特許文献９４】国際公開第００／６９９４５号パンフレット
【特許文献９５】国際公開第０１／２７５２７号パンフレット
【特許文献９６】国際公開第０１／２７６６３号パンフレット
【特許文献９７】特開平０３−１５３７１５号公報
【特許文献９８】特開平０５−２８７０４０号公報
【特許文献９９】特開２０００−００９９０１号公報
【特許文献１００】特開平０４−２８５６５４号公報
【非特許文献１】ＡＳＴＭ  Ｄ  １００３−００“Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｈａｚｅ  ａｎｄ  Ｌｕｍｉｎｏｕｓ  Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ  ｏｆ  Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ”  Ｐａｇｅｓ  １−６
【非特許文献２】ＡＳＭＥ  Ｂ４６．１−１９９５“Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｔｅｘｔｕｒｅ（Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ，Ｗａｖｉｎｅｓｓ，ａｎｄ  Ｌａｙ）．Ａｎ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｓｔａｎｄａｒｄ．Ｐａｇｅｓ  １−１１３
【非特許文献３】Ｌ．Ｌ．Ｂｅｅｃｒｏｆｔ，ｅｔ  ａｌ．“Ｈｉｇｈ  Ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ  Ｉｎｄｅｘ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  ｆｏｒ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ”．Ｊ．Ｍ．Ｓ．−Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ａ３４（４），ｐｐ．５７３−５８６−（１９９７）
【発明の開示】
【０００４】
上記その他の欠点は、第一の層及び第一の層の表面に配設された第二の層を含んでなる調光フィルムであって、
第一の層が、
芳香族ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンエーテル／スチレンポリマーブレンド、ポリアミド、ポリケトン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン及びこれらのブレンドから選択される熱可塑性樹脂と、
次の構造のホスホニウムスルホネート塩と
を含み、
【０００５】
【化１】
2008512282.tif 000003
（式中、１以上のＸがハロゲンであることを条件としてＸは各々独立にハロゲン又は水素であり、ｍ、ｐ及びｑは０〜１２の整数であり、ｎが１のときｐ及びｑが共に０ではないことを条件としてｎは０又は１であり、Ｒ１〜Ｒ３は各々独立にＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルであり、Ｒ４はＣ１〜Ｃ１８ヒドロカルビルであり、Ｙは以下のものから選択される。
【０００６】
【化２】
2008512282.tif 000004
（式中、Ｒ５は水素又はＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルである。））
第二の層が硬化性組成物の硬化生成物であり、第二の層が１．５以上の屈折率を有する調光フィルムによって緩和される。
【０００７】
調光フィルムの製造方法及び調光フィルムを含むフラットパネルディスプレイを含む他の実施形態は、下記に詳しく記載される。
【０００８】
図面の簡単な説明
次に、添付の図面について説明する。複数の図中において、類似の構成要素には同じ番号がつけられている。
【０００９】
図１は、第一の層１０及び第二の層２０を含んでなる調光フィルム１のセグメントの概略断面図である。
【００１０】
図２は、第一の層１０、第二の層２０、第一のマスキング層及び第二のマスキング層４０を含んでなる調光フィルム１のセグメントの概略断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明者らは、調光フィルムの静電気蓄積及び吸塵を低減させる方法に関する広範な研究を行った。彼らは意外にも、特定の種類のホスホニウムスルホネート塩を熱可塑性樹脂の第一の層（基層）中に組み込むと、第二の層（硬化層）にはホスホニウムスルホネート塩を添加しなくても、フィルムの帯電防止清浄及び防塵性が劇的に向上することを発見した。ホスホニウムスルホネート塩の組込みは、熱可塑性樹脂基層の表面抵抗率を最大４桁以上も低下させると共に、調光フィルム全体の静電減衰半減期を最大３桁以上も低下させる。
【００１２】
調光フィルムは、熱可塑性樹脂を含む第一の層を含んでなる。好適な熱可塑性樹脂には、例えば、芳香族ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンエーテル／スチレンポリマーブレンド、ポリアミド、ポリケトン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン及びこれらのブレンドがある。一実施形態では、熱可塑性樹脂は芳香族ポリカーボネートからなる。第一の層は、第一の層の組成物全体を基準にして約５０〜約９９．９９重量％の量で熱可塑性樹脂を含有し得る。この範囲内では、熱可塑性樹脂の量は詳しくは９０重量％以上、さらに詳しくは９５重量％以上、さらに一段と詳しくは９８重量％以上である。
【００１３】
熱可塑性樹脂に加えて、第一の層は帯電防止性を付与するホスホニウムスルホネート塩を含んでいる。好適なホスホニウムスルホネート塩には、次の構造のものがある。
【００１４】
【化３】
2008512282.tif 000005
式中、１以上のＸがハロゲンであることを条件としてＸは各々独立にハロゲン又は水素であり、ｍ、ｐ及びｑは０〜１２の整数であり、ｎが１のときｐ及びｑが共に０ではないことを条件としてｎは０又は１であり、Ｒ１〜Ｒ３は各々独立にＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルであり、Ｒ４はＣ１〜Ｃ１８ヒドロカルビルであり、Ｙは以下のものから選択される。
【００１５】
【化４】
2008512282.tif 000006
式中、Ｒ５は水素又はＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルである。本明細書で用いる「ヒドロカルビル」という用語は、単独で使用されるにせよ、或いは接頭辞、接尾辞又は別の用語の一部として使用されるにせよ、炭素及び水素のみを含む残基をいう。かかる残基は、脂肪族又は芳香族、直鎖、環式、二環式、枝分れ、飽和或いは不飽和でよい。また、脂肪族、芳香族、直鎖、環式、二環式、枝分れ、飽和及び不飽和炭化水素部分の組合せを含んでいてもよい。しかし、ヒドロカルビル基と述べた場合でも、それは置換残基の炭素及び水素メンバーに加えてヘテロ原子を含むことがある。即ち、かかるヘテロ原子を含むと特記された場合には、ヒドロカルビル又はヒドロカルビレン残基はカルボニル基、アミノ基、ヒドロキシ基なども含むことがあり、或いはヒドロカルビル残基の主鎖中にヘテロ原子を含むことがある。本明細書で用いる「ハロゲン」という用語は、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を包含する。
【００１６】
一実施形態では、ホスホニウムスルホネート塩は、ｎ、ｐ及びｑが０であり、ｍが１〜１２である上記の構造を有する。即ち、ホスホニウムスルホネート塩は次の構造を有する。
【００１７】
【化５】
2008512282.tif 000007
式中、１以上のＸがハロゲンであることを条件としてＸは各々独立にハロゲン又は水素であり、Ｒ１〜Ｒ３は各々独立にＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルであり、Ｒ４はＣ１〜Ｃ１８ヒドロカルビルである。
【００１８】
一実施形態では、ホスホニウムスルホネート塩はフッ素化ホスホニウムスルホネート塩であって、有機スルホネートアニオンを含むフルオロカーボン及び有機ホスホニウムカチオンから構成される。かかるフッ素化有機スルホネートアニオンの例には、ペルフルオロメタンスルホネート、ペルフルオロブタンスルホネート、ペルフルオロヘキサンスルホネート、ペルフルオロヘプタンスルホネート、ペルフルオロオクタンスルホネートなどがある。上述の有機ホスホニウムカチオンの例には、テトラメチルホスホニウム、テトラエチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム、トリエチルメチルホスホニウム、トリブチルメチルホスホニウム、トリブチルエチルホスホニウム、トリオクチルメチルホスホニウム、トリメチルブチルホスホニウム、トリメチルオクチルホスホニウム、トリメチルラウリルホスホニウム、トリメチルステアリルホスホニウム、トリエチルオクチルホスホニウムのような脂肪族ホスホニウムカチオン、テトラフェニルホスホニウム、トリフェニルメチルホスホニウム、トリフェニルベンジルホスホニウム、トリブチルベンジルホスホニウムのような芳香族ホスホニウムカチオン、などがある。
【００１９】
ホスホニウムスルホネート塩は、これらの有機スルホネートアニオン及び有機カチオンのいずれかの任意の組合せで得ることができるが、上記に示した例に限定されない。フッ素化ホスホニウムスルホネート塩は、対応するスルホン酸及び第四ホスホニウム水酸化物を溶媒混合物中で混合し、次いで溶媒混合物を蒸発させることにより、非常に純粋な状態で製造できる。例えば、テトラブチルホスホニウムペルフルオロブタンスルホネートは、ペルフルオロブタンスルホン酸９８．６グラム（ｇ）、テトラブチルホスホニウム水酸化物の４０重量％溶液２００ミリリットル（ｍＬ）及び溶媒混合物５００ｍＬをフラスコに入れ、混合物を室温で１時間撹拌し、油層として分離するホスホニウムスルホネートを単離し、それを１００ｍＬの水で洗い、真空ポンプを用いて溶媒を蒸発させることにより、約９５％の収率で製造できる。
【００２０】
一実施形態では、ホスホニウムスルホネート塩はテトラ−ｎ−ブチルホスホニウムノナフルオロ−ｎ−ブチルスルホネート（テトラブチルホスホニウム１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロ−１−ブタンスルホネート、Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ａｂｓｔｒａｃｔｓ  Ｓｅｒｖｉｃｅ登録番号２２０６８９−１２−３）からなる。
【００２１】
ホスホニウムスルホネート塩は、調光フィルムの帯電防止性を向上させるのに有効な量で使用できる。かかる量は、一般に、第一の層の組成物全体を基準にして約０．００００１〜約２重量％である。この範囲内では、ホスホニウムスルホネート塩の量は詳しくは０．００１重量％以上、さらに詳しくは０．１重量％以上、さらに一段と詳しくは０．２重量％以上である。やはりこの範囲内では、ホスホニウムスルホネート塩の量は詳しくは１．５重量％以下、さらに詳しくは１重量％以下である。
【００２２】
一実施形態では、調光フィルムはフッ素化ホスホニウムスルホネート塩以外のフッ素化化合物を実質的に含まない。調光フィルムの環境に対するやさしさを向上させるため、ハロゲン化化合物の含有量を最小限に抑えることが望ましい場合がある。
【００２３】
第一の層は、一般に、約２５〜約３００μｍの厚さを有し得る。この範囲内では、厚さは詳しくは約５０μｍ以上、さらに詳しくは１００μｍ以上である。やはりこの範囲内では、厚さは詳しくは約２５０μｍ以下、さらに詳しくは２００μｍ以下である。
【００２４】
第一の層に加えて、調光フィルムは第一の層の表面に配設された第二の層を含んでなる。第二の層は１．５以上、さらに詳しくは約１．６１以上の屈折率を有する。第二の層は硬化性組成物の硬化生成物である。硬化性組成物は、一般に重合性化合物を含んでいる。本明細書で用いる重合性化合物とは、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、熱重合又は光化学重合を受けることができる１以上の官能基を含むモノマー又はオリゴマーである。好適な官能基には、例えば、アクリレート、メタクリレート、ビニル、エポキシドなどがある。
【００２５】
一実施形態では、硬化性組成物は、アルカン部分に炭素原子数２〜約１２のアルカンジオールジ（メタ）アクリレートを含んでいる。本明細書で用いるフラグメント「−（メタ）アクリル−」は、−アクリル−、−メタクリル−、−チオアクリル−（ＣＨ２＝ＣＨ２−Ｃ(＝Ｏ)−Ｓ−）及び−チオメタクリル−（ＣＨ２＝ＣＨ２(ＣＨ３)−Ｃ(＝Ｏ)−Ｓ−）を包含する。好適なアルカンジオールジ（メタ）アクリレートには、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８−オクタンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレートなど、及びこれらの混合物がある。一実施形態では、アルカンジオールジ（メタ）アクリレートは１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートからなる。
【００２６】
一実施形態では、硬化性組成物は次の構造の多官能性（メタ）アクリレートを含んでいる。
【００２７】
【化６】
2008512282.tif 000008
式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ７はｒの原子価を有する置換又は非置換Ｃ１〜Ｃ１００ヒドロカルビルであり、ｒは２、３又は４である。Ｒ７の置換基は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ペルハロゲン化アルキル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ６ケトン、Ｃ１〜Ｃ６エステル、Ｎ，Ｎ−ジ(Ｃ１〜Ｃ３)アルキル置換アミドなど、又はこれらの組合せを含んでいてもよい。
【００２８】
一実施形態では、硬化性組成物は二官能性（メタ）アクリレート、アリールエーテル（メタ）アクリレート及び重合開始剤を含んでいる。
【００２９】
二官能性（メタ）アクリレートは次の構造のものでもよい。
【００３０】
【化７】
2008512282.tif 000009
式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ８は次の構造を有する。
【００３１】
【化８】
2008512282.tif 000010
式中、Ｑは−Ｃ(ＣＨ３)２−、−ＣＨ２−、−Ｃ(Ｏ)−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ(Ｏ)−又は−Ｓ(Ｏ)２−であり、Ｒ９はＣ１〜Ｃ６アルキレン又はヒドロキシ置換Ｃ１〜Ｃ６アルキレンであり、ｔは各々独立に０、１、２、３又は４であり、ｄは１〜３である。好適な二官能性（メタ）アクリレートには、例えば、２，２−ビス（４−（２−（メタ）アクリロキシエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（２−（メタ）アクリロキシ）フェニル）プロパン、（メタ）アクリル酸の３−（４−｛１−［４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジブロモフェニル］−１−メチルエチル｝−２，６−ジブロモフェノキシ）−２−ヒドロキシプロピルエステル、（メタ）アクリル酸の３−［４−（１−｛１−［４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジブロモフェニル］−１−メチルエチル｝−２，６−ジブロモフェノキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ］−３，５−ジブロモフェニル｝−１−メチルエチル）−２，６−ジブロモフェノキシ］−２−ヒドロキシプロピルエステルなど、及びこれらの混合物がある。二官能性（メタ）アクリレートは、例えば、臭素化ビスフェノールをエピクロロヒドリンと反応させてエポキシドコポリマーを生成し、次いでそれを（メタ）アクリル酸と反応させて二官能性（メタ）アクリレートを生成することで製造できる。二官能性（メタ）アクリレートは商業的に入手することもでき、例えば、四臭素化ビスフェノールＡジエポキシドの反応生成物に基づく多官能性（メタ）アクリレートをＵＣＢ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社からＲＤＸ  ５１０２７として入手できる。追加の商業的に入手できる多官能性エポキシドには、例えば、いずれもＵＣＢ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社から入手できるＥＢ６００、ＥＢ３６００、ＥＢ３７００、ＥＢ３７０１、ＥＢ３７０２及びＥＢ３７０３、並びにＳａｒｔｏｍｅｒ社から入手できるＣＮ１０４及びＣＮ１２０がある。二官能性（メタ）アクリレートは、全硬化性組成物を基準にして約１０〜約９０重量％の量で存在し得る。この範囲内では、二官能性（メタ）アクリレートの量は詳しくは約３５重量％以上、さらに詳しくは約４５重量％以上、さらに一段と詳しくは約５０重量％以上である。やはりこの範囲内では、二官能性（メタ）アクリレートの量は詳しくは約７０重量％以下、さらに詳しくは約６５重量％以下、さらに一段と詳しくは約６０重量％以下である。
【００３２】
アリールエーテル（メタ）アクリレートは次の構造のものでもよい。
【００３３】
【化９】
2008512282.tif 000011
式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｘ２はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ１０は置換又は非置換二価Ｃ１〜Ｃ１２アルキレン又はアルケニレンであり、Ａｒはフェニルを始めとする置換又は非置換Ｃ６〜Ｃ１２アリールであり、Ｒ１０及びＡｒの置換基は独立にフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ペルハロゲン化アルキル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ６ケトン、Ｃ１〜Ｃ６エステル、Ｎ，Ｎ−ジ(Ｃ１〜Ｃ３)アルキルアミド、又はこれらの置換基の１種以上を含む組合せを含んでいてもよい。置換される場合、Ａｒ基は一置換、二置換、三置換、四置換又は五置換し得る。本明細書で用いる「アリールエーテル」は、アリールエーテル及び（アリールスルフィドとしても知られる）アリールチオエーテルの両方を包含する。一実施形態では、Ｘ２はＳである。一実施形態では、アリールエーテル（メタ）アクリレートは、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェニルチオエチル（メタ）アクリレート又はこれらの組合せからなる。アリールエーテル（メタ）アクリレートの製造方法は当技術分野で公知である。例えば、２−フェノキシエチルメタクリレートの合成は、米国特許第５４９８７５１号（Ｔｒａｐａｓｓｏら）及び同第６７１４７１２号（Ｂｉｓｈｏｐら）に記載されている。アリールエーテルメタクリレートは商業的に入手することもできる。例えば、フェニルチオエチルアクリレートは、Ｂｉｍａｘ  ＣｏｍｐａｎｙからＢＸ−ＰＴＥＡとして入手でき、２−フェノキシエチルアクリレートはＳａｒｔｏｍｅｒ社からＳＲ３３９として入手できる。アリールエーテル（メタ）アクリレートは、全硬化性組成物を基準にして約１５〜約７０重量％の量で存在する。この範囲内では、アリールエーテル（メタ）アクリレートの量は詳しくは約２０重量％以上、さらに詳しくは約３０重量％以上である。やはりこの範囲内では、アリールエーテル（メタ）アクリレートの量は詳しくは約６０重量％以下、さらに詳しくは約５０重量％以下、さらに一段と詳しくは約４０重量％以下である。
【００３４】
好適な重合開始剤及び量は下記に記載する。
【００３５】
別の実施形態では、硬化性コーティングは二官能性（メタ）アクリレート、アリールエーテルメタクリレート、臭素化芳香族（メタ）アクリレート及び重合開始剤を含んでなる。二官能性（メタ）アクリレート及びアリールエーテルメタクリレートは、上述のものと同じである。臭素化芳香族（メタ）アクリレートは次の構造のものでもよい。
【００３６】
【化１０】
2008512282.tif 000012
式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｘ３はＯ、ＮＨ又はＳであり、ｒは０、１、２又は３であり、ｒが０のときｓも０であることを条件としてｓは０又は１であり、ｕは３、４又は５である。好適な臭素化芳香族（メタ）アクリレートには、例えば、２，４，６−トリブロモベンジル（メタ）アクリレート、テトラブロモベンジル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ペンタブロモフェニル（メタ）アクリレート及びペンタブロモベンジル（メタ）アクリレートがある。臭素化芳香族（メタ）アクリレートの製造方法は当技術分野で公知である。例えば、各種臭素化芳香族（メタ）アクリレートの製法は米国特許第４０５９６１８号（Ｂｌｕｍｅｎｆｅｌｄら）に記載されている。臭素化芳香族（メタ）アクリレートは商業的に入手することもできる。例えば、ペンタブロモベンジルアクリレートはＡｍｅｒｉｂｒｏｍ社からＦＲ１０２５Ｍとして入手できる。二官能性（メタ）アクリレート及びアリールエーテルメタクリレートの量は、上述のものと同じでよい。臭素化芳香族（メタ）アクリレートの量は、全硬化性組成物を基準にして約１〜約２０重量％である。この範囲内では、臭素化芳香族（メタ）アクリレートの量は詳しくは約３重量％以上、さらに詳しくは約４重量％以上、さらに一段と詳しくは約５重量％以上である。やはりこの範囲内では、臭素化芳香族（メタ）アクリレートの量は詳しくは約１５重量％以下、さらに詳しくは約１０重量％以下、さらに一段と詳しくは約８重量％以下である。
【００３７】
別の実施形態では、硬化性組成物は次の構造の高屈折率モノマーを含んでいる。
【００３８】
【化１１】
2008512282.tif 000013
式中、Ｚはエチレン性不飽和基であり、Ｘ４はＯ、Ｓ又はＮＨであり、Ｌ１及びＬ２は各々独立にＣ１〜Ｃ３アルキレン、−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−Ｓ−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−又は−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−Ｏ−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−であり、Ｒ１１は水素又はＣ１〜Ｃ６アルキルであり、Ｒ１２及びＲ１３は各々独立に、フェニル又はナフチルを始めとするアリール、アリール（Ｃ１〜Ｃ６アルキレン）−、ヘテロアリール或いはヘテロアリール（Ｃ１〜Ｃ６アルキレン）−であり、これらの基の各々はハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）Ｓ−、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル及びＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシから独立に選択される０〜５個の置換基で置換されており、Ｙ１及びＹ２は各々独立にＯ、Ｓ、ＮＨ又はＮである。この実施形態の一選択例では、Ｙ１及びＹ２が共にＳであり、ｉ）Ｘ４がＳであるか、或いはii）Ｒ１２及びＲ１３の少なくとも一方が前述のように置換されたヘテロアリール又はヘテロアリール（Ｃ１〜Ｃ６アルキレン）−であるか、或いはiii）Ｌ１及びＬ２の一方又は両方が−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−Ｓ−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−又は−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−Ｏ−(Ｃ１〜Ｃ３アルキレン)−である。この実施形態の別の選択例では、Ｙ１又はＹ２がＮであり、対応する組合せＲ１２−Ｙ１又はＲ１３−Ｙ２が各々独立にカルバゾールを除くＮ含有ヘテロアリールである。この実施形態の別の選択例では、Ｚがアクリロイル、メタクリロイル、ビニル又はアリルであり、ＸがＯ又はＳであり、Ｒ１１が水素である。「高屈折率モノマー」とは、それを含む硬化組成物に増加した屈折率を付与し得るモノマーをいう。追加の高屈折率モノマー及びそれを含む硬化性組成物は、本願出願人に係る２００４年７月２１日出願の米国特許出願第号［代理人整理番号１３４４３４−７］に記載されている。
【００３９】
上述の硬化性組成物は、硬化性成分の重合を促進するための重合開始剤を含んでいる。好適な重合開始剤には、紫外線暴露によって成分の重合を促進する光開始剤がある。特に好適な光開始剤には、ホスフィンオキシド光開始剤がある。かかる光開始剤の例には、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社から入手できるＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）及びＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）系列のホスフィンオキシド光開始剤、ＢＡＳＦ  Ｃｏｒｐ．から入手できるＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標）系列、並びにＬａｍｂｅｒｔｉ社から入手できるＥＳＡＣＵＲＥ（登録商標）の光開始剤がある。他の有用な光開始剤には、ヒドロキシアルキルフェニルケトンやアルコキシアルキルフェニルケトン及びチオアルキルフェニルモルホリノアルキルケトンのようなケトン系光開始剤がある。また、ベンゾインエーテル光開始剤も好適である。上述の光開始剤の組合せも使用できる。
【００４０】
重合開始剤は、熱活性化の下で重合を促進するペルオキシ系開始剤も包含し得る。有用なペルオキシ開始剤の例には、例えば、過酸化ベンゾイル、ジクミルペルオキシド、メチルエチルケトンペルオキシド、過酸化ラウリル、シクロヘキサノンペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ｔ−ブチルベンゼンヒドロペルオキシド、ｔ−ブチルペルオクトエート、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）ヘキシ−３−イン、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、ｔ−ブチルクミルペルオキシド、α，α’−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ−ｍ−イソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサン、ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）イソフタレート、ｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、２，２−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）ブタン、２，２−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）オクタン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルペルオキシ）ヘキサン、ジ（トリメチルシリル）ペルオキシド、トリメチルシリルフェニルトリフェニルシリルペルオキシドなど、及びこれらの組合せがある。
【００４１】
重合開始剤は、硬化性組成物の硬化を促進するのに有効な量で使用できる。例えば、重合開始剤は、組成物の総重量を基準にして約０．０１〜約１０重量％の量で使用できる。この範囲内では、約０．１重量％以上、さらに好ましくは約０．５重量％以上の重合開始剤量を使用することが好ましいこともある。やはりこの範囲内では、約３重量％以下、さらに好ましくは約１重量％以下の重合開始剤量を使用することが好ましいこともある。
【００４２】
他の好適な硬化性組成物には、２００３年１月６日に提出され、同一譲受人に譲渡された米国特許出願第１０／３３６，４９３号に記載されたものがある。
【００４３】
第二の層は１．５以上、さらに詳しくは１．６１以上、さらに一段と詳しくは１．６３以上の屈折率を有する。第二の層の屈折率は、硬化性組成物中に金属酸化物ナノ粒子を含めることで高めることができる。好適な金属酸化物ナノ粒子及びその製造方法は、例えば、米国特許第６２６１７００号（Ｏｌｓｏｎら）、同第６２９１０７０号（Ａｒｐａｃら）並びに同一譲受人に譲渡された同時係属米国特許出願第１０／６５２，８１２号に記載されている。例えば、金属酸化物ナノ粒子は、アルコキシアルコール、水及び酸を含む酸性アルコール溶液で金属アルコキシドを加水分解して、金属酸化物ナノ粒子を含む第一のゾルを形成し、第一のゾルをオルガノシランで処理して、処理金属酸化物ナノ粒子を含む第二のゾルを形成し、有機塩基と酸とのモル比が約０．１：１〜約０．９：１となるような量の有機塩基で第二のゾルを処理して、処理金属酸化物ナノ粒子を含む第三のゾルを形成することで製造できる。金属アルコキシドの金属は、例えば、チタン、セリウム、ジルコニウム又はスズとし得る。金属アルコキシドのアルコキシドは、例えば、線状又は枝分れＣ１〜Ｃ１２アルコキシドとし得る。
【００４４】
硬化性組成物を硬化させて得られる硬化樹脂のガラス転移温度は、約３５℃以上、詳しくは約４０℃以上である。硬化樹脂はまた、以下の性質、即ち、約７０〜約７００ｋｇ／ｃｍ２の引張強さ、約１４０〜約１４０００ｋｇ／ｃｍ２の弾性率、約５〜約３００％の破断点伸び、約９１％以上の透過率、約５％未満のヘイズ、及び約０．００２以下の複屈折の１以上を有し得る。透過率及びヘイズは共に、約１０〜約３０μｍの硬化コーティング厚さを有する試料についてヘイズ計で測定できる。
【００４５】
硬化性組成物は、任意には、組成物の重合又は第二の層の性質に悪影響を及ぼさない限り、難燃剤、酸化防止剤、熱安定剤、紫外線安定剤、染料、着色剤、帯電防止剤、界面活性剤など、及びこれらの組合せから選択される添加剤をさらに含んでいてもよい。
【００４６】
第二の層は、約１０〜約１００μｍの厚さを有し得る。この範囲内では、第二の層の厚さは詳しくは約２０μｍ以上、さらに詳しくは約３５μｍ以上である。やはりこの範囲内では、第二の層の厚さは詳しくは約８０μｍ以下、さらに詳しくは約６０μｍ以下である。
【００４７】
調光フィルムの製造とデバイス中へのそれの組込みとの間における保護及び取扱いの便宜のため、調光フィルムは第一の層及び第二の層に加えて１以上のマスキング層を含んでいてもよい。例えば、調光フィルムは、第二の層と反対側にある第一の層の表面に配設されたマスキング層、及び／又は第一の層とは反対側の第二の層の表面に配設されたマスキング層を含んでいてもよい。好適なマスキング層には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル又はこれらの組合せからなる単一層又は共押出層がある。この場合、第一の層又は第二の層への付着力は感圧接着剤又は静電気によって調節される。
【００４８】
一実施形態は、第一の層及び第一の層の表面に配設された第二の層を含んでなる調光フィルムであって、
第一の層が、
芳香族ポリカーボネートと、
次の構造のホスホニウムスルホネート塩と
を含み、
【００４９】
【化１２】
2008512282.tif 000014
（式中、１以上のＸがハロゲンであることを条件としてＸは各々独立にハロゲン又は水素であり、Ｒ１〜Ｒ３は各々独立にＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルであり、Ｒ４はＣ１〜Ｃ１８ヒドロカルビルである。）
第二の層が１．５以上の屈折率を有し、第二の層が次の構造の多官能性（メタ）アクリレートを含む硬化性組成物の硬化生成物である調光フィルムである。
【００５０】
【化１３】
2008512282.tif 000015
（式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ７はｒの原子価を有する置換又は非置換Ｃ１〜Ｃ１００ヒドロカルビルであり、ｒは２、３又は４である。）。
【００５１】
別の実施形態は、第一の層及び第一の層の表面に配設された第二の層を含んでなる調光フィルムであって、
第一の層が、
芳香族ポリカーボネートと、
テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムノナフルオロ−ｎ−スルホネートと
を含み、
第二の層が１．６１以上の屈折率を有し、第二の層が、
次の構造の二官能性（メタ）アクリレートと、
【００５２】
【化１４】
2008512282.tif 000016
（式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ８は次の構造を有する。
【００５３】
【化１５】
2008512282.tif 000017
（式中、Ｑは−Ｃ(ＣＨ３)２−、−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ(Ｏ)−、−Ｓ(Ｏ)−又は−Ｓ(Ｏ)２−であり、Ｒ９はＣ１〜Ｃ６アルキレン又はヒドロキシ置換Ｃ１〜Ｃ６アルキレンであり、ｔは各々独立に０、１、２、３又は４であり、ｄは１〜３である。））
次の構造のアリールエーテル（メタ）アクリレートと、
【００５４】
【化１６】
2008512282.tif 000018
（式中、Ｒ６は水素又はメチルであり、Ｘ１はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｘ２はＯ、ＮＨ又はＳであり、Ｒ１０は置換又は非置換二価Ｃ１〜Ｃ１２アルキレン又はアルケニレンであり、Ａｒはフェニルを始めとする置換又は非置換Ｃ６〜Ｃ１２アリールであり、Ｒ１０及びＡｒの置換基は独立にフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ペルハロゲン化アルキル、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ６ケトン、Ｃ１〜Ｃ６エステル、Ｎ，Ｎ−ジ(Ｃ１〜Ｃ３)アルキルアミド、又はこれらの置換基の１種以上を含む組合せとし得る。）
重合開始剤と
を含む硬化性組成物の硬化生成物である調光フィルムである。
【００５５】
一実施形態では、第二の層は第一の層の反対側の表面上にミクロ構造化パターンを有する。さらに詳しくは、第一の層（基礎フィルム）は、第一の表面（即ち、フラットパネルディスプレイ中に使用した場合にＬＣＤに向かう第一の層の表面、さらに詳しくはデバイスのユーザーに向かう第一の層の表面）及び第二の表面（即ち、光ガイドに向かう表面、さらに詳しくはデバイスのユーザーと反対の方向に向かう表面）を有しており、第二の層は第一の層の第一の表面と物理的に連絡した状態で配設されている。
【００５６】
一実施形態では、第一の層は第二の表面を有していて、これは鏡面又はテクスチャー加工面（例えば、艶消し面、ビロード面など）とし得る。ラップトップコンピューターでテクスチャー化された第二の表面を使用する場合には、使用するフィルムの総合厚さを少なくとも光拡散フィルムの厚さだけ有利に減少させ得ることに注意されたい。さらに詳しく言えば、総合厚さを約５０μｍ以上、さらに詳しくは約１００μｍ以上減少させることができる。
【００５７】
「鏡面」、「艶消し面」及び「ビロード面」という用語は、いずれも当業者には容易に理解される用語である。例えば、鏡面は０．３μｍ未満の表面粗さ（Ｒａ）を有し、艶消し面（例えば、細目艶消し面、中目艶消し面、荒目艶消し面など）は０．３〜２．２μｍの表面粗さ（Ｒａ）を有し、ビロード面は２．２μｍを超える表面粗さ（Ｒａ）を有し得る。表面粗さ（Ｒａ）という用語は、当業者には容易に理解される用語であることに注意されたい。一般に、Ｒａはフィルムの平均粗さの尺度である。それは、表面高さと平均高さとの差の絶対値を積算し、一次元表面プロフィルについては測定長さで割り、二次元表面プロフィルについては測定面積で割って求めることができる。さらに詳しくは、表面粗さはＫｏｓａｋａ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ  Ｌｔｄ．から商業的に入手できるＳｅｒｆｃｏｒｄｅｒ  ＳＥ４０００Ｋを用いて測定できる。この場合、表面粗さはＡＳＴＭ  Ｂ４６．１−１９９５に従って測定される。
【００５８】
さらに、調光フィルムの第一の層は、ディスプレイデバイス中で１以上の光拡散フィルム（例えば、下部光拡散フィルム）を排除するのに十分なヘイズを有し得る。換言すれば、調光フィルムは多機能性フィルムであり、視軸（即ち、ディスプレイに対して垂直な軸線）に沿って光を導くと共に光拡散フィルムとしても作用し得る。光拡散フィルム及びディスプレイデバイスで使用されるその他任意のフィルムに関して本明細書で用いる「上部」及び「下部」という用語は、当業者には容易に理解される。「上部」という用語は、一般に、ＬＣＤに近いフィルム面又はフィルム自体（即ち、観察者に近く、及び／又は観察者に向かう面又はフィルム自体）をいう。逆に、「下部」という用語は、一般に、ＬＣＤから遠いフィルム面又はフィルム自体（即ち、観察者から遠く、及び／又は観察者と反対の方向に向かう面又はフィルム自体）をいう。例えば、第一の層は約２０〜約８０％のヘイズを有し得る。
【００５９】
％ヘイズは、下記の式から予測し算出できることに注意されたい。
【００６０】
【数１】
2008512282.tif 000019
式中、全光線透過率は積分透過率であり、全散乱光透過率はＡＳＴＭ  Ｄ１００３で規定されるようにフィルムで散乱された光の透過率である。
【００６１】
調光フィルムの製造方法の一実施形態は、
基板の表面を硬化性組成物で被覆する段階であって、基板が、
芳香族ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンエーテル／スチレンポリマーブレンド、ポリアミド、ポリケトン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン及びこれらのブレンドから選択される熱可塑性樹脂と、
次の構造のホスホニウムスルホネート塩と
を含む段階、
【００６２】
【化１７】
2008512282.tif 000020
（式中、１以上のＸがハロゲンであることを条件としてＸは各々独立にハロゲン又は水素であり、ｍ、ｐ及びｑは０〜１２の整数であり、ｎが１のときｐ及びｑが共に０ではないことを条件としてｎは０又は１であり、Ｒ１〜Ｒ３は各々独立にＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルであり、Ｒ４はＣ１〜Ｃ１８ヒドロカルビルであり、Ｙは以下のものから選択される。
【００６３】
【化１８】
2008512282.tif 000021
（式中、Ｒ５は水素又はＣ１〜Ｃ１２ヒドロカルビルである。））
ニップロール及びミクロ構造化パターン原型を有するキャスティングドラムによって画成された圧縮ニップに被覆基板を通す段階、並びに
硬化性組成物がミクロ構造化パターン原型に接触しているうちに硬化性組成物を硬化させる段階
を含んでなる。
【００６４】
基板の表面を硬化性組成物で被覆する方法は、例えば、米国特許第５１７５０３０号（Ｌｕら）、同第５１８３５９７号（Ｌｕ）、同第５２７１９６８号（Ｃｏｙｌｅら）、同第５４６８５４２号（Ｃｒｏｕｃｈ）、同第５６２６８００号（Ｗｉｌｌｉａｍｓら）及び同第６２８００６３号（Ｆｏｎｇら）、並びに米国特許出願公開第２００３／０１０８７１０号（Ｃｏｙｌｅら）に記載されている。
【００６５】
ミクロ構造化表面を形成する方法には、例えば、米国特許第５１７５０３０号（Ｌｕら）、同第５１８３５９７号（Ｌｕ）、同第５４６８５４２号（Ｃｒｏｕｃｈ）、同第５６２６８００号（Ｗｉｌｌｉａｍｓら）、同第５９１７６６４号（Ｏ’Ｎｅｉｌｌら）、同第５９１９５５１号（Ｃｏｂｂ，Ｊｒ．ら）及び同第６２８００６３号（Ｆｏｎｇら）、並びに米国特許出願公開第２００３／０１０８７１０号（Ｃｏｙｌｅら）がある。
【００６６】
一実施形態は、上述の第一の層組成物及び第二の層組成物のいずれかを含むと共に、上述の方法のいずれかで製造された調光フィルムである。
【００６７】
別の実施形態は、調光層を含んでなるフラットパネルディスプレイである。調光フィルムは、フラットパネルディスプレイ又はバックライトディスプレイの部品として、並びに投射型ディスプレイ、交通標識及び照明看板において有用である。調光フィルムを組み込んだディスプレイは、例えば、米国特許第５１６１０４１号（Ａｂｉｌｅａｈら）及び同第６０５２１６４号（Ｃｏｂｂ，Ｊｒ．ら）、並びに米国特許出願公開第２００３／０２１４７２８号（Ｏｌｃｚａｋら）に記載されている。
【００６８】
図１は、調光フィルム１のセグメントの概略断面図である。この調光フィルムは、第一の層１０及びミクロ構造化されたものとして図示された第二の層２０を含んでなる。
【００６９】
図２は、第一の層１０、ミクロ構造化されたものとして図示された第二の層２０、第一のマスキング層及び第二のマスキング層４０を含んでなる調光フィルム１のセグメントの概略断面図である。各マスキング層は、接着面を介して調光層の残部に接触している。
【００７０】
本明細書に開示されたすべての範囲は端点を含み、これらの端点は互いに結合可能である。
【実施例】
【００７１】
以下の非限定的な実施例によって本発明をさらに例証する。
【００７２】
実施例１〜２６、比較例１及び２
これらの例では、様々な量のフッ素化ホスホニウムスルホネート塩を含む未被覆ポリカーボネートフィルムの製造及び抵抗率試験が記載される。さらに、未被覆フィルム及び被覆フィルムの静電減衰試験も含まれる。下記表１及び２中に明記された量でテトラブチルホスホニウムペルフルオロブチルスルホネート（「ＦＣ−１」）を含むポリカーボネート樹脂を２７０℃で押し出して、約１７５μｍの厚さを有する基礎フィルムを形成した。このフィルムを、１２７℃に維持された研磨クロム製カレンダーロールと、厚さ３／８〜１／２インチの７０ジュロメーターシリコーンゴムで被覆されかつロール内部を循環する４３℃の水で冷却された鋼製カレンダーロールとの間に押し出した。
【００７３】
表面抵抗率は、Ｋｅｉｔｈｌｅｙモデル６５１７Ａ電位計及びＫｅｉｔｈｌｅｙモデル８００９抵抗率試験器具を用いて２３℃及び相対湿度５０％で測定した。電極は導電性ゴムで被覆されたステンレス鋼であって、中心電極については５０．８ｍｍの外径を有し、上部電極については８５．７ｍｍの外径を有していた。試料サイズは１０ｃｍ２であった。２３℃及び相対湿度５０％で４８時間のプレコンディショニングを試料に施してから測定を行ったが、報告される結果は各樹脂組成物について３つの試料の平均である。
【００７４】
未被覆フィルム及び被覆フィルムの両方について静電減衰測定を行った。被覆フィルムは次のようにして製造した。押出し中に、Ｔｒｅｄｅｇａｒ社からＴｒｕ−Ｃｌｉｎｇとして入手した下部マスキング層を上述のポリカーボネート基礎フィルムに塗布した。硬化性コーティング組成物は、約６０％の臭素化二官能性アクリレート、約４０％のフェニルチオエチルアクリレート及び微量の光開始剤を含んでいた。臭素化二官能性アクリレートは、ＵＣＢ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社から入手した、次の構造のテトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルであった。
【００７５】
【化１９】
2008512282.tif 000022
下部にマスキングを施した基礎フィルムに、グラビアロールでコーティング組成物を約４０μｍの厚さに塗布した。米国特許出願公開第２００３／０１０８７１０号（Ｃｏｙｌｅら）に記載された方法に従い、成形型を用いてコーティング中に表面組織を刻印した。表面組織は、非対称の先端及び溝を有し、不均一なサイズ、形状、方位及び溝間距離を有するランダムパターンをなしていた。成形型に接触しているうちに、コーティングをＵＶ光で硬化させた。Ｈｉｔａｃｈｉ  ７３２５として入手した上部マスクを適用した。静電減衰の測定前に、２３℃及び相対湿度５０％で２４時間のプレコンディショニングをすべてのフィルムに施した。被覆試料に関する静電減衰時間を測定するためには、３インチ×８インチ（７．６２ｃｍ×２０．３２ｃｍ）の寸法をもった試料をフィルムから切り取り、両マスキング層を手早く（約１秒以内に）剥離して基礎フィルム及び被覆層を露出させ、試料を静電測定器具に取り付けて被覆側の中心部における静電荷の測定の準備をし、初期静電荷を測定し、静電荷がその初期値の半分まで減少するのに要する時間（「静電減衰半減期」）を記録した。未被覆フィルムについては、マスキングを除去し、試験に先立って−１０キロボルト（ｋＶ）の静電気をフィルム表面に印加した。静電気が−５ｋＶに減少するのに要する時間を静電減衰半減期として記録した。
【００７６】
未被覆フィルムに関する表面抵抗率及び静電減衰の結果を表１に示す。被覆フィルムに関する静電減衰の結果を表２に示す。これらの結果は、表面抵抗率及び静電減衰半減期が基礎樹脂中に混入したフッ素化ホスホニウムスルホネート塩の量にほぼ比例して減少することを示している。多くのフィルムは、約１〜約１００秒の望ましい範囲内の減衰半減期及び約１０１１〜約１０１４Ω／ｍ２の望ましい範囲内の表面抵抗率を示した。帯電防止剤を基礎フィルムにのみ混入した（被覆層には混入しなかった）にもかかわらず、フィルムの被覆側が望ましい帯電防止特性を示したことは意外であった。
【００７７】
【表１】
2008512282.tif 000023
【００７８】
【表２】
2008512282.tif 000024
以上、好ましい実施形態に関して本発明を説明してきたが、当業者であれば、本発明の技術的範囲から逸脱せずに様々な変更及び同等物による構成要素の置換を行い得ることが理解されよう。加えて、特定の状況又は材料を本発明の教示に適合させるため、本発明の本質的な範囲から逸脱せずに多くの修正を施すことができる。したがって、本発明はこの発明を実施するために想定される最良の形態として開示された特定の実施形態に限定されず、特許請求の範囲に含まれるすべての実施形態を包含するものである。
【００７９】
本発明を記載する文脈中（特に特許請求の範囲の文脈中）において単数形で記載したものであっても、本明細書に明記されない限り、或いは前後関係から明らかに否定されない限り、単数及び複数の両方の場合を包含すると解すべきである。さらに、本明細書における「第一」、「第二」などの用語はいかなる順序、数量又は重要度も表すわけではなく、むしろある構成要素を別の構成要素から区別するために使用されることに注意すべきである。
【００８０】
すべての引用された特許、特許出願及び他の参考文献の開示内容は、援用によって本明細書の内容の一部をなす。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】第一の層１０及び第二の層２０を含んでなる調光フィルム１のセグメントの概略断面図である。
【図２】第一の層１０、第二の層２０、第一のマスキング層及び第二のマスキング層４０を含んでなる調光フィルム１のセグメントの概略断面図である。
【符号の説明】
【００８２】
１０  第一の層
２０  第二の層
３０  第一のマスキング層
４０  第二のマスキング層
【図１】
2008512282.tif 000045
【図２】
2008512282.tif 000046
【国際調査報告】
2008512282.tif 000047
2008512282.tif 000048
2008512282.tif 000049