(57)【要約】  式Ｉ（式中、Ｒは、例えばメチルまたはフェニルを表す）で示されるフェロセンジホスフィンにおいて、対応する金属錯体の触媒特性は、多くの場合、ＣＰ環の一方または両方の構造変化により明確に影響を受け、選択した基材に関する触媒反応が最適化され顕著に改善され得る。この型のジホスフィン配位子は、新規な製造法を用いることにより利用し易くなる。
2008505163.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラセミ体、立体異性体の混合物、または光学的に純粋な立体異性体の形態の式ＩまたはＩ'：
【化１】
2008505163.tif 000054
〔式中、
Ｒは、水素、あるいは非置換、またはＦ−、Ｃｌ−、ＯＨ−、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ−置換の、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール、またはＣ7〜Ｃ11−アラルキルであり；
Ｘ1およびＸ2は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィノ基であり；
Ａ1は、アミノ基であるか；または
Ａ1は、−ＯＲ3基（式中、Ｒ3は、水素、あるいは非置換、またはＦ−、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−、フェニル−もしくはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2−置換の、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール、Ｃ7〜Ｃ11−アラルキル、またはＣ1〜Ｃ18−アシルである）であり；
Ｒ1およびＲ2は、それぞれ互いに独立して、ハロゲン原子、またはＣ原子、Ｎ原子、Ｓ原子、Ｓｉ原子、Ｐ（Ｏ）基もしくはＰ（Ｓ）基を介してシクロペンタジエニル環に結合した置換基であり；
ｍは、１〜３であり、
ｎは、０または１〜３である〕で示される化合物。
【請求項２】
Ｒが、水素、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジルまたはフェニルであることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
第二級ホスフィノ基：Ｘ1およびＸ2が、２個の同一または２個の異なる炭化水素基を含み、第二級ホスフィノ基：Ｘ1およびＸ2が、同一または異なることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項４】
基：Ｘ1およびＸ2が、−Ｐ（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2、−Ｐ（Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル）2、−Ｐ（Ｃ7〜Ｃ12−ビシクロアルキル）2、−Ｐ（ｏ−フリル）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2、−Ｐ［２−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）2Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，４，５−トリス（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）2Ｃ6Ｈ3］2、および−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2−４−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ2］2からなる群から選択される、それぞれの場合の同一もしくは異なる非環式sec−ホスフィノ基、あるいは非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ2−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキリデンジオキシル、非置換のメチレンジオキシル、もしくはフェニル置換のメチレンジオキシルにより一置換もしくは多置換された、
【化２】
2008505163.tif 000055
からなる群から選択される環式ホスフィノ基であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項５】
Ｘ1およびＸ2が、それぞれ、−Ｐ（ＣＨ3）2、−Ｐ（ｉ−Ｃ3Ｈ7）2、−Ｐ（ｎ−Ｃ4Ｈ9）2、−Ｐ（ｉ−Ｃ4Ｈ9）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ11）2、−Ｐ（ノルボルニル）2、−Ｐ（ｏ−フリル）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2、−Ｐ［２−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（メトキシ）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，４，５−トリ（メトキシ）Ｃ6Ｈ2］2、および−Ｐ［３，５−ビス（メチル）2−４−（メトキシ）Ｃ6Ｈ2］2であるか、または式：
【化３】
2008505163.tif 000056
（式中、Ｒ'は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル、またはベンジルオキシメチルであり、Ｒ''は、Ｒ'と同じ意義を有する）の一つを有する基であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項６】
Ａ1が、−ＮＨ2、−ＮＨＲ5、または−ＮＲ5Ｒ6（式中、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ互いに独立して、置換もしくは非置換の、脂肪族、脂環式もしくは芳香族炭化水素基であるか、またはＲ5およびＲ6が、Ｎ原子と一緒になって、Ｎ−複素環を形成しており、該Ｎ−複素環は、Ｏ、ＳもしくはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）からなる群から選択される更なるヘテロ原子を含んでいてもよい）であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ5およびＲ6は、それぞれ、メチル、エチル、もしくはプロピルおよびブチルの異性体、フェニル、ベンジル、シクロヘキシルであるか、またはＲ5およびＲ6が、一緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレンもしくは３−オキサペンチレンをなしており、それらは、非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシエチル、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチル、および（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−エチルにより置換されていてもよいことを特徴とする、請求項６記載の化合物。
【請求項８】
置換基：Ｒ1およびＲ2が、シクロペンタジエニル環上に、１回存在するか（ｍは１であり、ｎは０である）、またはそれぞれが１回（ｍおよびｎがそれぞれ１である）、２回（ｍかｎのいずれかが２である）もしくは３回（ｍは２であり、ｎは１である）存在することを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項９】
置換基：Ｒ1およびＲ2の位置が、３、３'、５および５'位であり、好ましい置換様式が、３位、３位と３'位、５位、ならびに５位と５'位であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項１０】
置換基：Ｒ1およびＲ2が、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、置換もしくは非置換のフェニル、トリ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）Ｓｉ、トリフェニルシリル、ハロゲン、−ＳＲ06、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨＲ06ＯＨ、−ＣＲ06Ｒ'06ＯＨ、−ＣＨ2Ｏ−Ｒ06、−ＣＨ（Ｏ）、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2Ｒ06および−Ｐ（Ｏ）（Ｒ03）2〔式中、Ｒ06は、炭素原子を１〜１０個有する炭化水素基であり、Ｒ'06Ｏは、独立して、Ｒ'06の意義の内の一つを有しかつＲ03は、水素、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニルまたはベンジルである〕から選択されることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項１１】
式IV：
【化４】
2008505163.tif 000057
（式中、Ｒは、水素、あるいは非置換、またはＦ−、Ｃｌ−、ＯＨ−、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ−置換の、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール、またはＣ7〜Ｃ11−アラルキルであり；Ａ2は、不斉炭素原子を少なくとも１個有する開鎖または環式第二級アミノである）で示される化合物。
【請求項１２】
配位子としての式Ｉ、Ｉ'またはIVで示される化合物の１種と、ＴＭ８金属、好ましくはＣｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、ＲｕおよびＰｔの群から選択される金属との錯体。
【請求項１３】
式XIIおよびXIII：
【化５】
2008505163.tif 000058
（式中、
Ａ3は、式Ｉ、Ｉ'またはIVで示される化合物の１種であり；
Ｌは、同一もしくは異なる単座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表すか、またはＬは、同一もしくは異なる二座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表し；
Ｌが単座配位子である時は、ｒは２、３もしくは４であり、またはＬが二座配位子である時は、ｎは１もしくは２であり；
ｚは、１、２または３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、Ｉｒ、およびＲｕからなる群から選択される金属であり、酸化状態：０、１、２、３または４を有し；
Ｅ-は、オキソ酸または錯酸の陰イオンであり；
該陰イオン性配位子は、該金属の酸化状態：１、２、３または４の電荷と均衡を保っている）の一つに相当する、請求項１２記載の金属錯体。
【請求項１４】
式XVI：
【化６】
2008505163.tif 000059
（式中、Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；Ａ3は、式Ｉ、Ｉ'またはIVで示される化合物であり；Ｌは、同一または異なる配位子を表し；Ｅ-は、オキソ酸、鉱酸または錯酸の陰イオンであり；Ｓは、配位子として配位可能な溶媒であり；ａは、１〜３であり；ｂは、０〜４であり；ｃは、０〜６であり；ｄは、１〜３であり；ｅは、０〜４であり；ｆは、１〜３であり；ｇは、１〜４であり；ｈは、０〜６であり；ｋは、１〜４であり；錯体は全体として無電荷である）に相当する、請求項１２記載の金属錯体。
【請求項１５】
キラル有機化合物を製造するため、好ましくはプロキラル有機化合物中の炭素−炭素または炭素−へテロ原子二重結合に水素を不斉付加するための均一触媒としての、請求項１２記載の金属錯体の使用。
【請求項１６】
触媒量の、請求項１２記載の少なくとも１種の金属錯体の存在下で、付加反応を実施することを特徴とする、触媒の存在下でプロキラル有機化合物中の炭素−炭素または炭素−へテロ原子二重結合に水素を不斉付加することによる、キラル有機化合物を製造する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、キラルα炭素原子を有する基、または１，１’位に結合したＣＨ2基を介して結合したアキラルもしくはキラル基を有し、シクロペンタジエニル環中の更なる置換基を少なくとも１個含む２，２'−ジホスフィノフェロセン；それらを製造する方法；配位子としてこれらのジホスフィンを伴う遷移金属の金属錯体；および不斉または対称付加反応における均一触媒としての金属錯体の使用；ならびに、好ましくはプロキラル不飽和有機化合物の不斉水素化の方法に関する。
【０００２】
キラルジホスフィンは、不斉付加反応、特に水素化のための均一触媒として用いられる遷移金属錯体の貴重な配位子であることが立証された。ジホスフィンタイプのキラル配位子が、多数知られている。この立体選択性触媒の分野では、規定の基材との特定の反応で、どの配位子が良好な触媒活性および立体選択性を達成させることができるかを予測することは可能でないという、未解決の問題が残されている。この理由から現在では、適切な配位子は試行により同定されている。適切な配位子が見つかれば、配位子の構造および目的反応の特性に関する最適化を実行できることが、非常に有利になる。
【０００３】
マンジホス（mandyphos）（慣用名）タイプのフェロセンジホスフィン：
【０００４】
【化７】
2008505163.tif 000003
【０００５】
（式中、Ｒは、例えばメチルまたはフェニルである）は、知られるようになって比較的長く、中でも、P. Knochel et alによりTetrahedron: Asymmetry 10(1999), pages 375-384に記載されている。そのような配位子の金属錯体では、特定の基材の場合、他のジホスフィン配位子との錯体よりも良好な水素化が得られる。これらの配位子の特性は、置換基：Ｒおよび／または第二級ホスフィノ基中の置換基の選択によってのみ、変えることができる。シクロペンタジエニル環の一方または両方の構造変化により更に最適化する可能性を利用することにより、配位子の使用の範囲を広げることが非常に望ましい。しかし、そのような構造の改変もそれらを実現する方法も、知られるようになっていない。
【０００６】
驚くべきことに、冒頭に挙げた型の配位子のシクロペンタジエニル環の一方もしくは両方に置換基を導入すること、および／または第二級アミノ基を変化させることが、多くの場合、対応する金属錯体の触媒特性に大きく影響を与え、触媒反応をより良好に最適化することができ、選択した基材を大きく改善し得ることが、ここに見出された。そのような新規なジホスフィン配位子が、新規な製造方法により得られ、規定の中間体を介してモジュール式（modular fashion）で製造し得ることも見出された。
【０００７】
本発明は、第一に、ラセミ体、立体異性体の混合物、または光学的に純粋な立体異性体の形態の式ＩまたはＩ'：
【０００８】
【化８】
2008505163.tif 000004
【０００９】
〔式中、
Ｒは、水素、あるいは非置換、またはＦ−、Ｃｌ−、ＯＨ−、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ−置換の、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール、またはＣ7〜Ｃ11−アラルキルであり；
Ｘ1およびＸ2は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィノ基であり；
Ａ1は、アミノ基であるか；または
Ａ1は、−ＯＲ3基（式中、Ｒ3は、水素、あるいは非置換、またはＦ−、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−、フェニル−もしくはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2−置換の、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール、Ｃ7〜Ｃ11−アラルキルまたはＣ1〜Ｃ18−アシルである）であり；
Ｒ1およびＲ2は、それぞれ互いに独立して、ハロゲン原子、またはＣ原子、Ｎ原子、Ｓ原子、Ｓｉ原子、Ｐ（Ｏ）基もしくはＰ（Ｓ）基を介してシクロペンタジエニル環に結合した置換基であり；
ｍは、１〜３であり、
ｎは、０または１〜３である〕で示される化合物を提供する。
【００１０】
立体異性体のうち、Ｒ，Ｓ，Ｒ'，Ｓ'配置、Ｒ，Ｒ，Ｒ'，Ｒ'配置、Ｓ，Ｒ，Ｓ'，Ｒ配置、およびＳ，Ｓ，Ｓ'，Ｓ'配置を有するもの、ならびにそれらの混合物が好ましい。
【００１１】
【化９】
2008505163.tif 000005
【００１２】
Ｃ1〜Ｃ8−アルキル基：Ｒは、直鎖状または分枝状であってもよく、アルキル基：Ｒ1は、好ましくはＣ1〜Ｃ4−アルキルである。これらは、例えば、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、およびｎ−、ｉ−またはｔ−ブチルにすることができ、また、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチルの異性体にすることもできる。置換されたアルキルの例は、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、トリフルオロエチル、ヒドロキシメチル、β−ヒドロキシエチル、メトキシメチル、エトキシメチルおよびβ−メトキシエチルである。アルキル基は、好ましくは直鎖状である。アルキル基：Ｒ1は、好ましくはメチルまたはエチルである。
【００１３】
シクロアルキル基：Ｒは、好ましくはＣ5〜Ｃ8−シクロアルキルである。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルまたはシクロオクチルにすることができ、例えば、Ｆ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシにより置換されていてもよい。好ましいシクロアルキル基は、シクロペンチルおよびシクロヘキシルである。
【００１４】
Ｃ6〜Ｃ10−アリール基：Ｒは、例えば、フェニルまたはナフチルにすることができる。アリール基：Ｒ1は、好ましくはフェニルであり、非置換でも、またはＦ、Ｃｌ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシにより置換されていてもよい。
【００１５】
アラルキル基：Ｒは、好ましくはフェニル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、特に好ましくはベンジルまたはβ−フェニルエチルであり、フェニル基は、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシにより置換されることができる。
【００１６】
好ましい実施形態において、式Ｉで示される化合物中のＲは、水素、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジルまたはフェニルである。
【００１７】
第二級ホスフィノ基：Ｘ1およびＸ2は、２個の同一または２個の異なる炭化水素基にすることができる。第二級ホスフィノ基：Ｘ1およびＸ2は、好ましくは、それぞれ同一の炭化水素基を２個含んでいる。更に、第二級ホスフィノ基：Ｘ1およびＸ2は、同一にまたは異なることができる。第二級ホスフィノ基：Ｘ1およびＸ2は、好ましくは同一である。
【００１８】
炭化水素基は、非置換であるか、もしくは置換されることができ、そして／またはＯ、ＳおよびＮからなる群から選択されるヘテロ原子を含有することができる。それらは、炭素原子を１〜２２個、好ましくは１〜１８個、特に好ましくは１〜１４個含有することができる。好ましいsec−ホスフィノ基は、直鎖状または分枝状Ｃ1〜Ｃ12−アルキル；非置換またはＣ1〜Ｃ6−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ6−アルコキシ−置換の、Ｃ5〜Ｃ12−シクロアルキルまたはＣ5〜Ｃ12−シクロアルキル−ＣＨ2−；フェニル、ナフチル、フリル、またはベンジル；あるいはハロゲン−（例えば、Ｆ−、Ｃｌ−またはＢｒ−）、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル−、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルキル−（例えばトリフルオロメチル−）、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ−、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルコキシ−（例えばトリフルオロメトキシ−）、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ−、（Ｃ1〜Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ−、sec−アミノ−または−ＣＯ2−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル−（例えば−ＣＯ2ＣＨ3−）置換の、フェニルおよびベンジル、からなる群から選択される同一または異なる基を２個含む。
【００１９】
好ましくは炭素原子を１〜６個含む、Ｐ上のアルキル置換基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ならびにペンチルおよびヘキシルの異性体である。Ｐ上の非置換またはアルキル置換のシクロアルキル置換基の例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロペンチル、エチルシクロペンチル、ジメチルシクロペンチル、メチルシクロヘキシル、エチルシクロヘキシルおよびジメチルシクロヘキシルである。Ｐ上のアルキル−、アルコキシ−、ハロアルキル−、ハロアルコキシ−およびハロゲン−置換の、フェニルおよびベンジル置換基の例は、ｏ−、ｍ−またはｐ−フルオロフェニル、ｏ−、ｍ−またはｐ−クロロフェニル、ジフルオロフェニル、ジクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ビストリフルオロメチルフェニル、トリストリフルオロメチルフェニル、トリフルオロメトキシフェニル、ビストリフルオロメトキシフェニル、および３，５−ジメチル−４−メトキシフェニルである。
【００２０】
好ましい第二級ホスフィノ基は、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、非置換のシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、置換基としてＣ1〜Ｃ4−アルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基を１〜３個有するシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、ベンジル、および特にフェニル（非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1〜Ｃ4−フルオロアルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−フルオロアルコキシ置換基１〜３個により置換されている）からなる群から選択される同一の基を含むものである。置換基：Ｆは、また、４または５回存在することもできる。
【００２１】
sec−ホスフィノ基は、好ましくは、式：−ＰＲ3Ｒ4（式中、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ互いに独立して、炭素原子を１〜１８個有し、非置換であるか、またはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルコキシ、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2アミノ、（Ｃ5Ｈ6）3Ｓｉ−、（Ｃ1〜Ｃ12−アルキル）3Ｓｉもしくは−ＣＯ2−Ｃ1〜Ｃ6−アルキルで置換されており、そして／あるいはヘテロ原子：Ｏを含む炭化水素基である）に相当する。
【００２２】
Ｒ3およびＲ4は、好ましくは、直鎖状もしくは分枝状Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、非置換のシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、置換基としてＣ1〜Ｃ4−アルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基を１〜３個含むシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、フリル、ノルボルニル、アダマンチル、非置換のベンジル、置換基としてＣ1〜Ｃ4−アルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基を１〜３個含むベンジル、および特に非置換のフェニル、またはＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、−ＮＨ2、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1〜Ｃ4−フルオロアルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−フルオロアルコキシ置換基１〜３個で置換されたフェニルからなる群から選択される同一の基である。
【００２３】
Ｒ3およびＲ4は、特に好ましくは、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フリル、非置換のフェニル、ならびにＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、および／またはＣ1〜Ｃ4−フルオロアルキル基１〜３個で置換されたフェニルからなる群から選択される同一の基である。
【００２４】
第二級ホスフィノ基：Ｘ1およびＸ2は、非置換であるか、または−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ4〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルフェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシフェニル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシベンジルオキシ、もしくはＣ1〜Ｃ4−アルキリデンジオキシルにより一置換もしくは多置換された、環式sec−ホスフィノ基、例えば、式：
【００２５】
【化１０】
2008505163.tif 000006
【００２６】
で示されるものにすることができる。
【００２７】
該置換基は、キラル炭素原子を導入するために、α位の一方または両方でＰ原子に結合されることができる。α位の一方または両方の置換基は、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはベンジルであり、例えば、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ベンジル、−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、または−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールである。
【００２８】
β、γ位の置換基は、例えば、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、ベンジルオキシ、−Ｏ−ＣＨ2−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ（Ｃ6〜Ｃ10−アリール）−Ｏ−にすることができる。幾つかの例は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−Ｏ−ＣＨ（フェニル）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（メチル）−Ｏ−、および−Ｏ−Ｃ（メチル）2−Ｏ−である。
【００２９】
脂肪族５−もしくは６−員環、またはベンゼンは、上記式の基の中の隣接する炭素原子２個で縮合されることができる。
【００３０】
適切な他の公知の第二級ホスフィノ基は、環中に炭素原子を７個有する環式およびキラルホスホランのもの、例えば式：
【００３１】
【化１１】
2008505163.tif 000007
【００３２】
で示されるものであり、ここで、芳香族環は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ2−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキリデンジオキシル、またはＣ1〜Ｃ4−アルキレンジオキシルにより置換されていてもよい（ＵＳ２００３／００７３８６８  Ａ１およびＷＯ０２／０４８１６１参照）。
【００３３】
置換の型および置換基の数に応じて、環式ホスフィノ基は、Ｃ−キラル、Ｐ−キラル、またはＣ−およびＰ−キラルにすることができる。
【００３４】
環式sec−ホスフィノ基は、例えば、式：
【００３５】
【化１２】
2008505163.tif 000008
【００３６】
（式中、基：Ｒ'およびＲ''は、それぞれＣ1〜Ｃ4−アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ベンジル、−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールであり、Ｒ'およびＲ''は、同一であるかまたは異なる）で示されるものに相当する（可能なジアステレオマーの内の１種だけ図示した）。Ｒ'およびＲ''が、同じ炭素原子に結合している場合、それらが一緒になって、Ｃ4〜Ｃ5−アルキレンをなしていてもよい。
【００３７】
好ましい実施形態において、式ＩおよびＩ'で示される化合物中の基：Ｘ1およびＸ2は、好ましくは、−Ｐ（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2、−Ｐ（Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル）2、−Ｐ（Ｃ7〜Ｃ12−ビシクロアルキル）2、−Ｐ（ｏ−フリル）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2、−Ｐ［２−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）2Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，４，５−トリス（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）2Ｃ6Ｈ3］2、および−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）2−４−（Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ）Ｃ6Ｈ2］2からなる群から選択される、それぞれの場合の同一もしくは異なる非環式sec−ホスフィノ基、あるいは非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ2−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキリデンジオキシル、非置換のメチレンジオキシル、もしくはフェニル置換のメチレンジオキシルにより一置換もしくは多置換された、
【００３８】
【化１３】
2008505163.tif 000009
【００３９】
からなる群から選択される環式ホスフィノ基である。
【００４０】
幾つかの具体的な例は、−Ｐ（ＣＨ3）2、−Ｐ（ｉ−Ｃ3Ｈ7）2、−Ｐ（ｎ−Ｃ4Ｈ9）2、−Ｐ（ｉ−Ｃ4Ｈ9）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ11）2、−Ｐ（ノルボルニル）2、−Ｐ（ｏ−フリル）2、−Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2、−Ｐ［２−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（メチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［２−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（メトキシ）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4］2、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，５−ビス（メトキシ）Ｃ6Ｈ3］2、−Ｐ［３，４，５−トリ（メトキシ）Ｃ6Ｈ2］2、および−Ｐ［３，５−ビス（メチル）2−４−（メトキシ）Ｃ6Ｈ2］2、ならびに式：
【００４１】
【化１４】
2008505163.tif 000010
【００４２】
（式中、Ｒ'は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル、またはベンジルオキシメチルであり、Ｒ''は、Ｒ'と同じ意義を有する）で示される基である。
【００４３】
アミノ基：Ａ1は、−ＮＨ2、−ＮＨＲ5、または−ＮＲ5Ｒ6（式中、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ互いに独立して、置換もしくは非置換の、脂肪族、脂環式もしくは芳香族炭化水素基であるか、またはＲ5およびＲ6が、Ｎ原子と一緒になって、Ｎ複素環を形成しており、該複素環は、Ｏ、ＳもしくはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）からなる群から選択される更なるヘテロ原子を含んでいてもよい）であってもよい。Ｎ−複素環は、好ましくは、３〜１２員、より好ましくは３〜８員、特に好ましくは５〜８環員を有する。基：−ＮＨＲ5または−ＮＲ5Ｒ6は、好ましくは、炭素原子を合計で２〜２４個、より好ましくは２〜１６個、特に好ましくは２〜１２個含む。
【００４４】
該炭化水素基およびＮ−複素環は、例えば、ハロゲン（ＦまたはＣｌ、特にＦ）、−ＣＮ、−ＮＲ01Ｒ02、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ03、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ03Ｒ04、−Ｏ−（Ｏ）Ｃ−Ｒ04、−Ｒ01Ｎ−（Ｏ）Ｃ−Ｒ04（式中、Ｒ01およびＲ02は、それぞれ互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニルもしくはベンジルであるか、またはＲ01およびＲ02が、一緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレンもしくは３−オキサペンタン−１，５−ジイルをなしており、Ｒ03は、水素、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニル、またはベンジルであり、Ｒ04は、Ｃ1〜Ｃ18−アルキルであり、好ましくはＣ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル（例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル）、Ｃ6〜Ｃ10−アリール（例えばフェニルまたはナフチル）またはＣ7〜Ｃ12−アラルキル（例えばベンジル）である）、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルコキシ、フェニル、ベンジル、フェノキシまたはベンジルオキシにより、一置換または多置換されることができ、例えば一置換〜三置換されることができ、好ましくは一置換または二置換されることができる。
【００４５】
アミノ基：Ａ1は、式：−ＮＨＲ5およびＲ5Ｒ6Ｎ−（式中、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ互いに独立して、置換または非置換のＣ1〜Ｃ12−アルキル（好ましくはＣ1〜Ｃ6−アルキル）、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル（好ましくはＣ5〜Ｃ6−シクロアルキル）、Ｃ6〜Ｃ10−アリール（好ましくはフェニル）、およびＣ7〜Ｃ11−アラルキル（好ましくはベンジル）（いずれの置換基も先に記載したとおりのものである）であるか、またはＲ5およびＲ6が、Ｎ原子と一緒になって、３〜８員、好ましくは５〜８員Ｎ−複素環を形成しており、先に記載したとおり非置換であるか、または置換されていてもよい）に相当することができる。
【００４６】
好ましくは直鎖状である、アルキルの例は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチルである。シクロアルキルの例は、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロオクチルである。シクロアルキルの例は、特にシクロペンチルおよびシクロヘキシルである。sec−アミノが、Ｎ−複素環を形成する場合は、Ｒ5およびＲ6が、一緒になって、好ましくは、テトラメチレン、ペンタメチレン、３−オキサペンチレン、または３−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）Ｎ−ペンチレンをなしている。
【００４７】
基：Ｒ5およびＲ6が、不斉炭素原子を含む場合は、これらは、Ｎ原子に対して、例えばγ位に位置し、好ましくはα位またはβ位に位置する。不斉炭素原子を形成するための好ましい置換基は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシエチル、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチル、および（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−エチルである。
【００４８】
好ましい実施形態において、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ、メチル、エチル、もしくはプロピルおよびブチルの異性体、フェニル、ベンジル、シクロヘキシルであるか、またはＲ5およびＲ6が、一緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレン、または３−オキサペンチレンをなしており、非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシエチル、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチル、および（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−エチルにより置換されていてもよい。
【００４９】
アルキル基：Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、好ましくはＣ1〜Ｃ6−アルキルにすることができる。シクロアルキル基：Ｒ3は、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキルにすることができる。アリール基：Ｒ3は、好ましくはフェニルであり、アラルキル基：Ｒ3は、好ましくはベンジルである。アシル基：Ｒ3は、好ましくは炭素原子を１〜１２個、特に好ましくは１〜８個含む。アシルは、好ましくは、カルボン酸、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、クロロ酢酸、ヒドロキシ酢酸、メトキシ酢酸または安息香酸から誘導される。
【００５０】
式Ｉで示される化合物の好ましい実施形態において、置換基：Ｒ1およびＲ2が、シクロペンタジエニル環上に、１回存在するか（ｍは１であり、ｎは０である）、またはそれぞれが１回（ｍおよびｎがそれぞれ１である）、２回（ｍかｎのいずれかが２である）もしくは３回（ｍは２であり、ｎは１である）存在する。置換基：Ｒ1およびＲ2の好ましい位置は、３、３'、５および５'位である。好ましい置換様式は、３位、３位と３'位、５位、ならびに５位と５'位である。ｍ＋ｎの合計は、好ましくは１〜５、より好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜３である。
【００５１】
置換基：Ｒ1およびＲ2は、立ち代わって、例えば、ハロゲン（Ｆ、ＣｌまたはＢｒ、特にＦ）、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＨ（Ｏ）、−ＣＮ、−ＮＲ01Ｒ02、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ03、−Ｓ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ03、−Ｓ（Ｏ）2−Ｏ−Ｒ03、−Ｐ（ＯＲ03）2、−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ03）2、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ01Ｒ02、−Ｓ（Ｏ）−ＮＲ01Ｒ02、−Ｓ（Ｏ）2−ＮＲ01Ｒ02、−Ｏ−（Ｏ）Ｃ−Ｒ04、−Ｒ01Ｎ−（Ｏ）Ｃ−Ｒ04、−Ｒ01Ｎ−Ｓ（Ｏ）−Ｒ04、−Ｒ01Ｎ−Ｓ（Ｏ）2−Ｒ04（式中、Ｒ01およびＲ02は、それぞれ互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジルであるか、またはＲ01およびＲ02が、一緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレンまたは３−オキサペンタン−１，５−ジイルをなしており、Ｒ03は、水素、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニル、またはベンジルであり、Ｒ04は、Ｃ1〜Ｃ18−アルキルであり、好ましくはＣ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル（例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル）、Ｃ6〜Ｃ10−アリール（例えばフェニルまたはナフチル）またはＣ7〜Ｃ12−アラルキル（例えばベンジル）である）、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル，Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオ、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニル、ベンジル、フェノキシまたはベンジルオキシにより一置換または多置換されていてもよく、例えば一置換〜三置換されていてもよく、好ましくは一置換または二置換されていてもよい。
【００５２】
置換または非置換の置換基：Ｒ1およびＲ2は、例えばＣ1〜Ｃ12−アルキル、好ましくはＣ1〜Ｃ8−アルキル、特に好ましくはＣ1〜Ｃ4−アルキルにすることができる。例は、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−またはｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル、およびドデシルである。
【００５３】
置換または非置換の置換基：Ｒ1およびＲ2は、例えばＣ5〜Ｃ8−シクロアルキル、好ましくはＣ5〜Ｃ6−シクロアルキルにすることができる。例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、およびシクロオクチルである。
【００５４】
置換または非置換の置換基：Ｒ1およびＲ2は、例えばＣ5〜Ｃ8−シクロアルキルアルキル、好ましくはＣ5〜Ｃ6−シクロアルキルアルキルにすることができる。例は、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、およびシクロオクチルメチルである。
【００５５】
置換または非置換の置換基：Ｒ1およびＲ2は、例えばＣ6〜Ｃ18−アリール、好ましくはＣ6〜Ｃ10−アリールにすることができる。例は、フェニルおよびナフチルである。
【００５６】
置換または非置換の置換基：Ｒ1およびＲ2は、例えばＣ7〜Ｃ12−アラルキル（例えば、ベンジルまたは１−フェニルエタ−２−イル）にすることができる。
【００５７】
置換または非置換の置換基：Ｒ1およびＲ2は、例えばトリ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）Ｓｉまたはトリフェニルシリルにすることができる。トリアルキルシリルの例は、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリ−ｎ−プロピルシリル、トリ−ｎ−ブチルシリルおよびジメチル−ｔ−ブチルシリルである。
【００５８】
置換基：Ｒ1およびＲ2は、例えばハロゲンにすることができる。例は、Ｆ、ＣｌおよびＢｒである。
【００５９】
置換または非置換の置換基：Ｒ1およびＲ2は、例えば、式：−ＳＲ05、−Ｓ（Ｏ）Ｒ05、および−Ｓ（Ｏ）2Ｒ05（式中、Ｒ05は、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、好ましくはＣ1〜Ｃ8−アルキル、特に好ましくはＣ1〜Ｃ4−アルキル；Ｃ5〜Ｃ8−シクロアルキル、好ましくはＣ5〜Ｃ6−シクロアルキル；Ｃ6〜Ｃ18−アリール、好ましくはＣ6〜Ｃ10−アリール；またはＣ7〜Ｃ12−アラルキルである）で示されるチオ基、スルホキシド基、またはスルホン基にすることができる。これらの炭化水素基の例は、先に列挙した。
【００６０】
置換基：Ｒ1およびＲ2は、例えば、−ＣＨ（Ｏ）、−Ｃ（Ｏ）−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、または−Ｃ（Ｏ）−Ｃ6〜Ｃ10−アリールにすることができる。
【００６１】
置換または非置換の置換基：Ｒ1およびＲ2は、例えば、−ＣＯ2Ｒ03または−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ01Ｒ02基（式中、Ｒ01、Ｒ02およびＲ03は、好適さを含む、先に示した意義を有する）にすることができる。
【００６２】
置換または非置換の置換基：Ｒ1およびＲ2は、例えば、−Ｓ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ03、−Ｓ（Ｏ）2−Ｏ−Ｒ03、−Ｓ（Ｏ）−ＮＲ01Ｒ02、および−Ｓ（Ｏ）2−Ｏ−ＮＲ01Ｒ032基（式中、Ｒ01、Ｒ02およびＲ03は、好適さを含む、先に示した意義を有する）にすることができる。
【００６３】
置換または非置換の置換基：Ｒ1およびＲ2は、例えば、−Ｐ（ＯＲ03）2または−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ03）2基（式中、Ｒ03は、好適さを含む、先に示した意義を有する）にすることができる。
【００６４】
置換または非置換の置換基：Ｒ1およびＲ2は、例えば、−Ｐ（Ｏ）（Ｒ03）2または−Ｐ（Ｓ）（ＯＲ03）2基（式中、Ｒ03は、好適さを含む、先に示した意義を有する）にすることができる。
【００６５】
置換基：Ｒ1およびＲ2の好ましい群において、これらは、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、置換または非置換のフェニル、トリ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）Ｓｉ、トリフェニルシリル、ハロゲン（特に、Ｆ、ＣｌおよびＢｒ）、−ＳＲ06、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＨＲ06ＯＨ、−ＣＲ06Ｒ'06ＯＨ、−ＣＨ2Ｏ−Ｒ06、−ＣＨ（Ｏ）、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2Ｒ06（式中、Ｒ06は、炭素原子を１〜１０個有する炭化水素基である）、および−Ｐ（Ｏ）（Ｒ03）2（式中、Ｒ03は、先に示した意義を有する）から選択される。Ｒ1およびＲ2は、特に好ましくは、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル（特にメチル）、およびトリ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）Ｓｉ（特にトリメチルシリル）である。
【００６６】
置換または非置換の置換基：Ｒ1およびＲ2の例は、メチル、エチル、ｎ−およびｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−およびｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、フェニル、ベンジル、トリメチルシリル、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、メチルチオ、メチルスルホニル、メチルスルホキシル、フェニルチオ、フェニルスルホニル、フェニルスルホキシル、−ＣＨ（Ｏ）、−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｃ（Ｏ）−ＯＣＨ3、−Ｃ（Ｏ）−ＯＣ2Ｈ5、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨＣＨ3、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（ＣＨ3）2、−ＳＯ3Ｈ、−Ｓ（Ｏ）−ＯＣＨ3、−Ｓ（Ｏ）−ＯＣ2Ｈ5、−Ｓ（Ｏ）2−ＯＣＨ3、−Ｓ（Ｏ）2−ＯＣ2Ｈ5、−Ｓ（Ｏ）−ＮＨ2、−Ｓ（Ｏ）−ＮＨＣＨ3、−Ｓ（Ｏ）−Ｎ（ＣＨ3）2、−Ｓ（Ｏ）−ＮＨ2、−Ｓ（Ｏ）2−ＮＨＣＨ3、−Ｓ（Ｏ）2−Ｎ（ＣＨ3）2、−Ｐ（ＯＨ）2、−ＰＯ（ＯＨ）2、−Ｐ（ＯＣＨ3）2、−Ｐ（ＯＣ2Ｈ5）2、−ＰＯ（ＯＣＨ3）2、−ＰＯ（ＯＣ2Ｈ5）2、トリフルオロメチル、メチルシクロヘキシル、メチルシクロヘキシルメチル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、ヒドロキシメチル、β−ヒドロキシエチル、γ−ヒドロキシプロピル、−ＣＨ2ＮＨ2、−ＣＨ2Ｎ（ＣＨ3）2、−ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2、−ＣＨ2ＣＨ2Ｎ（ＣＨ3）2、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、ＨＳ−ＣＨ2−、ＨＳ−ＣＨ2ＣＨ2−、ＣＨ3Ｓ−ＣＨ2−、ＣＨ3Ｓ−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ3、−ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（ＣＨ3）2、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＣＨ3）2、−ＣＨ2−ＳＯ3Ｈ、−ＣＨ2ＣＨ2−ＳＯ3Ｈ、−ＣＨ2−ＳＯ3ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−ＳＯ3ＣＨ3、−ＣＨ2−ＳＯ2ＮＨ2、−ＣＨ2−ＳＯ2Ｎ（ＣＨ3）2、−ＣＨ2−ＰＯ3Ｈ2、−ＣＨ2ＣＨ2−ＰＯ3Ｈ2、−ＣＨ2−ＰＯ（ＯＣＨ3）、−ＣＨ2ＣＨ2−ＰＯ（ＯＣＨ3）2、−Ｃ6Ｈ4−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｃ6Ｈ4−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ3、−Ｃ6Ｈ4−Ｓ（Ｏ）2ＯＨ、−Ｃ6Ｈ4−Ｓ（Ｏ）2ＯＣＨ3、−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＨ2−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＨ2−Ｏ−Ｓ（Ｏ）2ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−Ｓ（Ｏ）2ＣＨ3、−ＣＨ2−ＮＨ−Ｓ（Ｏ）2ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ−Ｓ（Ｏ）2ＣＨ3、−Ｐ（Ｏ）（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）2、−Ｐ（Ｓ）（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）2、−Ｐ（Ｏ）（Ｃ6〜Ｃ10−アリール）2、−Ｐ（Ｓ）（Ｃ6〜Ｃ10−アリール）2、−Ｃ（Ｏ）−Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、および−Ｃ（Ｏ）−Ｃ6〜Ｃ10−アリールである。
【００６７】
式Ｉで示される化合物は、置換基を導入する位置に応じて、様々な方法で製造することができる。基：Ｘ1およびＸ2に対するシクロペンタジエニル（以後短縮のためにｃｐと呼称する）中のオルト位は、３位または３'位である。Ａ1ＣＨＲ−基に対するｃｐ中のオルト位は、５位または５'位である。４位は、３位と５位の間に位置する。
【００６８】
唯一の置換基をｃｐ環の３位に導入するつもりの場合、場合により市販される公知の１，１'−ビス（１−sec−アミノエタ−１−イル）−フェロセンから製造を出発することができ、プロセス工程ａ）において、それらをアルキルリチウムのような金属化試薬により金属化し、次に金属を臭素に置換する。その後、プロセス工程ｂ）において、Ｌｉアミドにより臭素に対するオルト位を再度、選択的にリチウム化することができ、次にプロセス工程ｃ）において、適切な親電子性物質との反応により所望の置換基を導入することができる。最後の反応工程ｄ）において、最初に２，２'位の臭素原子を金属化し（例えばアルキルリチウムにより）、次に、Ｘ1−ハロゲン化物と反応させて第二級ホスフィノ基を導入する。
【００６９】
最初のプロセス工程のようなフェロセンの金属化は、公知の反応であり、例えば、T. Hayashi et al., Bull. Chem. Soc. Jpn. 53(1980), pages 1138 to 1151、またはJonathan Clayden Organolithiums: Selectivity for Synthesis (Tetrahedron Organic Chemistry Series), Pergamon Press (2002)に記載されている。アルキルリチウム中のアルキルは、例えば、炭素原子を１〜４個含有することができる。メチルリチウムおよびブチルリチウムがよく用いられる。マグネシウムGrinard化合物は、好ましくは式（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）ＭｇＸ0（式中、Ｘ0は、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）で示される化合物である。
【００７０】
反応は、有利には低温で、例えば２０〜−１００℃で、好ましくは０〜−８０℃で実施する。反応時間は、約２〜２０時間である。反応は、有利には不活性保護ガス、例えば窒素または希ガス（アルゴンなど）の下で実施する。
【００７１】
反応は、有利には不活性溶媒の存在下で実施する。そのような溶媒は、単独で、または少なくとも２種の溶媒の混合物として用いることができる。溶媒の例は、脂肪族、脂環式、および芳香族炭化水素、ならびに開鎖または環状エーテルである。具体的な例は、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテルもしくはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、およびジオキサンである。
【００７２】
プロセス工程ａ）におけるハロゲン化は、一般に、金属化した後に、同じ反応混合物中で、金属化と同様の反応条件を保持しながら直接実施する。好ましいのは、ハロゲン化試薬１〜１．４当量を用いることである。ハロゲン化用試薬は、例えば、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩを導入するための、ハロゲン（Ｃｌ2、Ｂｒ2、Ｉ2）、ハロゲン間化合物（Ｃｌ−Ｂｒ、Ｃｌ−Ｉ）、および脂肪族過ハロゲン化炭化水素（Ｃｌ3Ｃ−ＣＣｌ３またはＢｒＦ2Ｃ−ＣＦ2Ｂｒ）；またはフッ素を導入するためのＮ−フルオロビス（フェニル）スルホニルアミンである。
【００７３】
プロセス工程ａ）における金属化およびハロゲン化は、位置選択的に進行し、および中間体は、高収率で得られる。キラル基：Ａ1ＣＨＲ−が存在するため、反応は、また、位置選択性である。更に、必要に応じて、この段階で、例えばキラルカラムを用いたクロマトグラフィーにより、光学異性体を分離することもできる。
【００７４】
プロセス工程ｂ）において、ハロゲン原子に対してオルト位の酸性Ｈ原子を置換するのに十分な金属アミドを用いて、同じシクロペンタジエニル環内のハロゲン原子に対してオルト位で再度、フェロセン骨格を位置選択的に金属化する。フェロセンのシクロペンタジエニル環内のＣＨ基あたりに少なくとも１〜５当量の脂肪族Ｌｉ  sec−アミド、またはＣｌ−、Ｂｒ−もしくはＩＭＧ−sec−アミドを用いる。
【００７５】
脂肪族Ｌｉ  sec−アミドまたはハロゲン−Ｍｇ−sec−アミドは、炭素原子を２〜１８個、好ましくは２〜１２個、特に好ましくは１〜１０個含むsec−アミドから誘導することができる。Ｎ原子に結合した脂肪族基は、アルキル、シクロアルキルもしくはシクロアルキルアルキルにすることができるか、または窒素原子が、脂肪族基と一緒になって、炭素原子を４〜１２個、好ましくは５〜７個有するＮ−複素環を形成することができる。Ｎ原子に結合した基の例は、メチル、エチル、ｎ−およびｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ならびにシクロヘキシルメチルである。Ｎ−複素環の例は、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、Ｎ−メチルピペラジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、およびアザノルボルナンである。好ましい実施形態において、アミドは、式：Ｌｉ−Ｎ（Ｃ3〜Ｃ4−アルキル）2またはＸ2Ｍｇ−Ｎ（Ｃ3〜Ｃ4−アルキル）2（式中、アルキルは、特にｉ−プロピルである）に相当する。別の好ましい実施形態において、アミドは、Ｌｉ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）に相当する。
【００７６】
プロセス工程ｃ）において、親電子性化合物の基は、金属（Ｍ）の置換により導入される。芳香族化合物内の反応する＝ＣＭ基あたり１〜１．２当量の反応性親電子性化合物を用いることが可能である。しかし、また、２．５当量までの相当の過剰を用いることもできる。
【００７７】
反応は、有利には、低温で、例えば２０〜−１００℃で、好ましくは０〜−８０℃で実施する。反応は、有利には不活性保護ガス、例えば希ガス（アルゴンなど）または窒素の下で実施する。反応性親電子性化合物を添加した後に、反応混合物を、有利には温めさせて室温にさせるか、または例えば１００℃まで、好ましくは５０℃までの高温に加熱し、これらの条件下で数時間撹拌して反応を完了させる。
【００７８】
反応は、有利には不活性溶媒の存在下で実施する。そのような溶媒は、単独で、または少なくとも２種の溶媒の混合物として用いることができる。溶媒の例は、脂肪族、脂環式、および芳香族炭化水素、ならびに開鎖または環状エーテルである。具体的な例は、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、およびジオキサンである。
【００７９】
基：Ｒ1およびＲ2を形成させる反応性親電子性化合物の例は、下記である。
Ｆ、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩを導入するための、ハロゲン（Ｃｌ2、Ｂｒ2、Ｉ2）、ハロゲン間化合物（Ｃｌ−Ｂｒ、Ｃｌ−Ｉ）、および脂肪族過ハロゲン化炭化水素（Ｃｌ3Ｃ−ＣＣｌ３またはＢｒＦ2Ｃ−ＣＦ2Ｂｒ、Ｎ−フルオロビス（フェニル）スルホニルアミン）；
カルボキシル基：−ＣＯ2Ｈを導入するためのＣＯ2；
カルボキシラート基を導入するためのクロロカルボナートもしくはブロモカルボナート［Ｃｌ−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ］（式中、Ｒは、炭素原子を１〜１８個、好ましくは１〜１２個、特に好ましくは１〜８個有し、不活性置換基（例えば、sec−ホスフィノジ（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）2Ｎ−、−Ｃ（Ｏ）−ＯＣ1〜Ｃ8−アルキル、または−ＯＣ1〜Ｃ8−アルキル）により置換された炭化水素基（アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル）である）（金属もしくは金属基の方向により反応性の−ＣＨＯのような基が、式Ｉで示される化合物中に同時に存在する場合、またはＣｌとＢｒ、ＣｌとＩ、もしくはＣｌとＢｒが、好ましくは芳香族炭化水素基に同時に結合している場合には、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩのような反応性基も、不活性置換基に包含される）；
−ＣＨ（Ｏ）基を導入するためのジ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）ホルムアミド、例えばジメチルホルムアミドまたはジエチルホルムアミド；
−Ｃ（Ｏ）−Ｒ基を導入するためのジ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）カルボキサミド；
−ＣＨ（Ｏ）−Ｒ基を導入するための、非置換であるか、もしくは基：Ｒ中のsec−ホスフィノにより置換されていてもよいアルデヒド、または−ＣＨ2ＯＨ基を導入するためのパラホルムアルデヒド；
−Ｃ（ＯＨ）ＲＲa基を導入するための、非置換であるか、または基：ＲもしくはＲa中のsec−ホスフィノにより置換されていてもよい、対称もしくは非対称ケトン（式中、Ｒaは、独立して、Ｒの意義の内の一つを有するか、またはＲおよびＲaが、一緒になって、３〜８環員を有する脂環を形成している）；
炭素原子がＨまたはＲにより置換されていてもよい−Ｃ−Ｃ−ＯＨ基を導入するためのエポキシド；
式：（ＣＨ3）2Ｎ+＝ＣＨ2ｘｌで示されるEschenmoser塩；
−ＣＨ（Ｒ）−ＮＨ−Ｒa基を導入するためのイミン：Ｒ−ＣＨ＝Ｎ−Ｒa（式中、Ｒaは、独立して、Ｒの意義の内の一つを有するか、またはＲおよびＲaが、一緒になって、３〜８環員を有する脂環を形成しており、ＲおよびＲaは、同時に水素にはならない）；
−Ｃ（Ｒ）（Ｒb）−ＮＨ−Ｒa基を導入するためのイミン：Ｒ−Ｃ（Ｒb）＝Ｎ−Ｒa（式中、Ｒaは、独立して、Ｒの意義の内の一つを有するか、またはＲおよびＲaが、一緒になって、３〜８環員を有する脂環を形成しており、Ｒbは、独立して、Ｒの意義の一つを有するか、またはＲおよびＲbが、一緒になって、３〜８員を有する脂環を形成している）；
炭化水素基およびヘテロ炭化水素基（例えば、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、Ｃ6〜Ｃ14−アリール、Ｃ7〜Ｃ14−アラルキル）を導入するための炭化水素−ハロゲン化物、およびヘテロ炭化水素−ハロゲン化物、特に塩化物、臭化物およびヨウ化物；
炭化水素およびヘテロ炭化水素基（例えば、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、Ｃ6〜Ｃ14−アリール、Ｃ7〜Ｃ14−アラルキル）を導入するための、異なる反応性のハロゲン原子（特に塩素と臭素またはヨウ素との組合わせ、臭素とヨウ素または臭素原子２個またはヨウ素原子２個との組合わせ）を有するハロ炭化水素およびハロへテロ炭化水素、；
アルケニル基、例えばアリルまたはビニルを導入するためのハロゲン化アルケニル、特に、塩化、臭化およびヨウ化アルケニル；
トリ（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）Ｓｉ基を導入するためのハロゲン化（塩化、臭化）トリ（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）シリル、トリフェニルシリル基を導入するためのハロゲン化トリフェニルシリル；
（ＣＨ3Ｏ）2（Ｏ）Ｐ−、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）（Ｏ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）2（Ｏ）Ｐ−、（エチレンジオキシル）（Ｏ）Ｐ−のようなホスホン酸エステル基を導入するための、リン酸エステル一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
（ＣＨ3Ｏ）2（Ｓ）Ｐ−、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）2（Ｓ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）2（Ｓ）Ｐ−、（エチレンジオキシル）（Ｓ）Ｐ−のようなトリホスホン酸エステル基を導入するための、チオリン酸エステル一ハロゲン化物（塩化物、臭化物）；
−ＳＲ基を導入するための有機ジスルフィド：Ｒ−ＳＳ−Ｒ；ならびに
−ＳＨ基を導入するための硫黄（Ｓ8）。
【００８０】
先に記載した方法において、可能な立体異性体の内の一つだけ構造式として示す。当業者ならば、その他の立体異性体が分かるものと思う。
【００８１】
ｃｐ環の３および３'位に置換基を導入するために、場合により市販されている公知のマンジホス配位子から出発して、例えば、
ａ）有機過酸化物と反応させて、好ましくは式II：
【００８２】
【化１５】
2008505163.tif 000011
【００８３】
（式中、Ｒ、Ｒ3、およびＲ4は、先に挙げた意義を有し、Ｒ'3およびＲ'4は、独立して、Ｒ3およびＲ4の意義の内の一つを有し、Ａ1は、sec−アミノである）で示される、対応するホスフィンオキシドを形成させ、
ｂ）式IIで示される化合物を好ましくはリチウム化し、その後、親電子性物質と反応させて、３および３'位に基：Ｒ1およびＲ2を導入し、式III：
【００８４】
【化１６】
2008505163.tif 000012
【００８５】
で示される化合物を形成させ、
ｃ）式IIIで示される化合物を還元して、式Ｉで示される化合物を形成することが可能である。導入した置換基は、還元条件下で不活性でなければならない。
【００８６】
プロセス工程ａ）における酸化は、有利には溶媒（例えば上述のもの）中で、約−３０〜５０℃の温度で実施する。プロセス工程ｂ）における反応条件は、上記条件と類似している。プロセス工程ｃ）における還元は、触媒を用いて、または化学的水素化試薬（例えば、水素化金属［Ｌｉ(ＡｌＨ4)］、アルキルボラン、アルコキシボラン、アルキルシラン、アルコキシシラン、アルキルスタンナン、またはアルコキシスタンナン）を、適宜、金属アルコキシド（チタニウムテトラアルコキシド）のようなLewis酸と共に用いて実行することができる。反応は、有利には水素化試薬の反応性に応じて、溶媒の存在下、０〜１５０℃の温度で実施する。
【００８７】
式Ｉで示される化合物中のＲが水素または置換基であり、金属化において金属を５および５'位に向けるＯ−またはＮ−含有置換基が更に基：Ａ1中に存在すれば、５および５'位の置換は、特に良好に進む。
【００８８】
本発明は、式IV：
【００８９】
【化１７】
2008505163.tif 000013
【００９０】
で示される化合物を、５位のみ、または５位と５'位、のいずれかで１当量または少なくとも２当量の金属化試薬（好ましくはアルキルリチウム）を用いて金属化し、その後、親電子性物質と反応させて基：Ｒ1におよびＲ2を導入することを特徴とする、式Ｉa：
【００９１】
【化１８】
2008505163.tif 000014
【００９２】
（式中、Ｒ、Ｘ1、Ｘ2、Ｒ1およびＲ2は、先に示した意義を有するが、Ｒが水素でなければ、Ｒ2が水素ではあり、Ｒが水素であれば、Ａ2が不斉炭素原子を少なくとも１個有する開鎖もしくは環式sec−アミノ基であり、またはＲが水素でなければＡ2はジ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノもしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシにより置換された開鎖もしくは環式アキラルもしくはキラルsec−アミノ基である）で示される化合物を製造する方法を提供する。
【００９３】
式IVで示される化合物は、第一に、本発明の方法の貴重な中間体であり、第二に、遷移金属の均一触媒用の貴重な配位子である。式IVにおいて、Ｒが、水素、あるいは非置換、またはＦ−、Ｃｌ−、ＯＨ−、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ−置換の、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール、またはＣ7〜Ｃ11−アラルキルであり；Ａ2が、不斉炭素原子を少なくとも１個有する開鎖または環式sec−アミノである化合物も、本発明により提供される。
【００９４】
プロセス条件は、先に記載しており、実施例に示される。Ｒが水素であれば、工程ａ）における金属化は段階的に実施し得るので、一置換および二置換の化合物だけでなく、異なる置換基を有する化合物も、このプロセスにより製造することができる。
【００９５】
開鎖または環式sec−アミノ基：Ａ2は、式：Ｒ5Ｒ6Ｎ−（式中、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ互いに独立して、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル（好ましくはＣ1〜Ｃ6−アルキル）、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル（好ましくはＣ5〜Ｃ6−シクロアルキル）であるか、またはＮ原子と一緒になって、３〜８員、好ましくは５〜８員Ｎ−複素環を形成しており、Ｒ5およびＲ6の内の少なくとも一方および複素環基は、Ｏ−またはＮ−含有置換基を含んでいてもよい）に相当することができる。
【００９６】
好ましくは直鎖状である、アルキルの例は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチルである。シクロアルキルの例は、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロオクチルである。シクロアルキルの例は、特にシクロペンチルおよびシクロヘキシルである。sec−アミノ基が、Ｎ−複素環を形成する場合には、Ｒ5およびＲ6が、一緒になって、好ましくは、テトラメチレン、ペンタメチレン、３−オキサペンチレン、または３−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）Ｎ−ペンチレンをなしている。適切な置換基は、例えば、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシエチル、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチル、および（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−エチルである。置換基は、例えば、sec−アミノ基のＮ原子に対して、例えばγ位に、好ましくはα位またはβ位に位置する。Ｒ5およびＲ6は、また、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニルまたはベンジルにより置換されることもできる。
【００９７】
好ましい実施形態において、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ、メチル、エチル、シクロヘキシルであるか、またはＲ5およびＲ6が、一緒になって、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシエチル、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチル、および（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−エチルにより置換され、所望なら更に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニルまたはベンジルにより置換された、テトラメチレン、ペンタメチレンもしくは３−オキサペンチレンをなしている。
【００９８】
特に好ましい例は、式：
【００９９】
【化１９】
2008505163.tif 000015
【０１００】
（式中、Ｓは、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシエチル、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチル、または（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−エチルである）で示されるものである。
【０１０１】
式IVで示される化合物は、式Ｖ：
【０１０２】
【化２０】
2008505163.tif 000016
【０１０３】
で示される化合物を金属化し、その後、それらをハロゲン化sec−ホスフィンと反応させることにより、式Ｖで示される化合物から簡便な手法で得ることができる。式Ｖで示される化合物は、対応するアセトキシもしくはアミン化合物、またはそれらの塩を、アミン：Ａ2Ｈで置換することにより得ることができる。
【０１０４】
上記プロセスにより得られるジアステレオマーとは異なる、式Ｉb：
【０１０５】
【化２１】
2008505163.tif 000017
【０１０６】
で示されるジアステレオマーは、その反応順序の変形、つまり、式Ｖで示される金属化（リチウム化）化合物を最初に親電子性物質と反応させて基：Ｒ1およびＲ2を導入し、その後、再度、金属化（リチウム化）し、その後、ハロゲン化sec−ホスフィンと反応させることにより製造することができる。
【０１０７】
同様に、３，３'，５，５'位が置換された、式Ｉで示される化合物は、式Ｖで示される化合物から、
ａ）式Ｖで示される化合物を金属化（リチウム化）し、その後、それらをハロゲン化して、式VI：
【０１０８】
【化２２】
2008505163.tif 000018
【０１０９】
（式中、Ｈａｌは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり、好ましくはＢｒである）で示される化合物を形成させ、
ｂ）第二級リチウムアミドを用いて式VIで示される化合物を金属化し、その後、それらを親電子性物質と反応させて基：Ｒ1およびＲ2を誘導し、式VII：
【０１１０】
【化２３】
2008505163.tif 000019
【０１１１】
で示される化合物を形成させ、
ｃ）式VIIで示される化合物を金属化（リチウム化）し、その後、それらをハロゲン化sec−ホスフィンと反応させて、式VIII：
【０１１２】
【化２４】
2008505163.tif 000020
【０１１３】
で示される化合物を形成させ、
式VIIIで示される化合物を金属化（リチウム化）し、その後、それらを親電子性物質と反応させて、基：Ｒ1およびＲ2を誘導して、式IX：
【０１１４】
【化２５】
2008505163.tif 000021
【０１１５】
（式中、２個の基：Ｒ1および２個の基：Ｒ2は、同一のまたは異なる基になることができる）
で示される化合物を形成させることにより、式Ｖで示される化合物から得ることができる。
【０１１６】
４および４'位で置換される式Ｉで示される化合物は、式IVで示される化合物から、
ａ）式IVで示される化合物を金属化（リチウム化）し、その後それらをハロゲン化し、好ましくはそれらを臭素化して（式中、Ｈａｌは、Ｂｒである）、式Ｘ：
【０１１７】
【化２６】
2008505163.tif 000022
【０１１８】
（式中、Ｈａｌは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）で示される化合物を形成させ、
ｂ）第二級リチウムアミドを用いて式Ｘで示される化合物をリチウム化し、その後それらを親電子性物質と反応させて基：Ｒ1およびＲ2を誘導し、式XI：
【０１１９】
【化２７】
2008505163.tif 000023
【０１２０】
（式中、２個の基：Ｒ1および２個の基：Ｒ2は、同一のまたは異なる基にすることができる）で示される化合物を形成させ、
ｃ）所望なら、アルキルリチウムと反応させることにより、式XIで示される化合物中のハロゲン原子をリチウムに置換し、その後、順次、水での加水分解によりＨａｌを水素に置換するか、またはそれらを親電子性物質と反応させて、基：Ｒ1およびＲ2を誘導する
ことにより得ることができる。
【０１２１】
式Ｉで示される新規な化合物中の第二級アミノ基：Ａ1（Ａ1は、また、Ａ2と同じ意義を有することもできる）は、例えば、無水酢酸を用いた公知の手法で基：Ａ1をアセトキシに置換することにより、更に修飾することができる。アセトキシ基は、加水分解してヒドロキシル基を形成させるか、または所望のアルコール：Ｒ3ＯＨもしくはアミンと反応させることにより置換することができる。ヒドロキシル化合物は、また、エステル化またはエーテル化することもできる。そのようなプロセスは、文献に記載されている（例えば、T. Hayashi et al., Bull. Chem. Soc. Jpn. 53 (1980), pages 1138〜1151参照）。
【０１２２】
本発明の金属錯体は、反応条件下で活性化し得て、プロキラル不飽和有機化合物上での不斉付加反応に用い得る、均一触媒または触媒前駆体である（E. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalysis I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999,およびB. Cornils et al., Applied Homogeneous Catalysis with Organometallic Compounds, Volume 1,Second Edition, Wiley VCH-Verlag (2002)参照）。
【０１２３】
式Ｉ、I'およびIVで示される新規な化合物は、ＴＭ８金属の群から、特にＲｕ、ＲｈおよびＩｒからなる群から選択される金属の錯体のための配位子であり、不斉合成、例えばプロキラル不飽和有機化合物の不斉水素化のための優れた触媒または触媒前駆体である。プロキラル不飽和有機化合物が用いられれば、有機化合物の合成において非常に過剰の光学異性体を誘導することができ、短い反応時間で高度の化学的変換を実現することができる。実現され得る鏡像選択性および触媒活性は、優れており、不斉水素化においては、冒頭に挙げた公知の「Kagan配位子」を用いた場合よりもかなり高い。更に、そのような配位子は、また、他の不斉付加または環化反応において用いることもできる。
【０１２４】
本発明は更に、配位子として式Ｉ、Ｉ'またはIVで示される化合物の内の１種とＴＭ８金属の群から選択される金属との錯体を提供する。
【０１２５】
可能な金属は、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、ＲｕおよびＰｔである。好ましい金属は、ロジウムおよびイリジウム、ならびにまたルテニウム、白金およびパラジウムである。
【０１２６】
特に好ましい金属は、ルテニウム、ロジウムおよびイリジウムである。
【０１２７】
該金属錯体は、金属原子の酸化数および配位数に応じて、更なる配位子および／または陰イオンを含むことができる。それらは、また、陽イオン性金属錯体にすることもできる。そのような類似の金属錯体およびそれらの製法は、文献に広範に記載されている。
【０１２８】
該金属錯体は、例えば、一般式XIIおよびXIII：
【０１２９】
【化２８】
2008505163.tif 000024
【０１３０】
（式中、
Ａ3は、式Ｉ、Ｉ'またはIVで示される化合物の内の１種であり；
Ｌは、同一のもしくは異なる単座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表すか、またはＬは、同一のもしくは異なる二座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表し；
Ｌが単座配位子であればｒは２、３もしくは４であり、またはＬが二座配位子であればｎは１もしくは２であり；
ｚは、１、２または３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、Ｉｒ、およびＲｕからなる群から選択される金属であり、酸化状態：０、１、２、３または４を有し；
Ｅ-は、オキソ酸または錯酸の陰イオンであり；
該陰イオン性配位子は、該金属の酸化状態：１、２、３または４の電荷と均衡を保っている）に相当する。
【０１３１】
先に記載した好適さおよび実施形態は、式ＩおよびＩ'で示される化合物に適用される。
【０１３２】
単座非イオン性配位子は、例えば、オレフィン（例えば、エチレン、プロピレン）、溶媒和溶媒（solvating solvents）（ニトリル、直鎖状または環状エーテル、非アルキル化またはＮ−アルキル化アミドおよびラクタム、アミン、ホスフィン、アルコール、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル）、一酸化窒素、および一酸化炭素からなる群から選択することができる。
【０１３３】
適切な多座陰イオン性配位子は、例えば、アリル（アリル、２−メタリル）または脱プロトン化１，３−ジケト化合物、例えばアセチルアセトナートおよびシクロペンタジエニルである。
【０１３４】
単座陰イオン性配位子は、例えば、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、擬ハロゲン化物（シアニド、シアナート、イソシアナート）、ならびにカルボン酸、スルホン酸およびホスホン酸の陰イオン（カルボナート、ホルマート、アセタート、プロピオナート、メチルスルホナート、トリフルオロメチルスルホナート、フェニルスルホナート、トシラート）からなる群から選択することができる。
【０１３５】
二座非イオン性配位子は、例えば、直鎖状または環状ジオレフィン（例えば、ヘキサジエン、シクロオクタジエン、ノルボルナジエン）、ジニトリル（マロノニトリル）、非アルキル化またはＮ−アルキル化カルボン酸ジアミド、ジアミン、ジホスフィン、ジオール、ジカルボン酸ジエステルおよびジスルホン酸ジエステルからなる群から選択することができる。
【０１３６】
二座陰イオン性配位子は、例えば、ジカルボン酸、ジスルホン酸およびジホスホン酸（例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、メチレンジスルホン酸およびメチレンジホスホン酸）からなる群から選択することができる。
【０１３７】
好ましい金属錯体としては、Ｅ-が、−Ｃｌ-、−Ｂｒ-、−Ｉ-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、テトラアリールボラート（例えば、Ｂ（フェニル）4-、Ｂ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］4-、Ｂ［３，５−ジメチルフェニル］4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-およびＢ（４−メチルフェニル）4-など）、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-またはＳｂＦ6-であるものも挙げられる。
【０１３８】
水素化に特に適した特に好ましい金属錯体は、式XIVおよびXV：
【０１３９】
【化２９】
2008505163.tif 000025
【０１４０】
（式中、
Ａ3は、式Ｉ、Ｉ'またはIVで示される化合物の内の１種であり；
Ｍｅ2は、ロジウムまたはイリジウムであり；
Ｙ1は、２種のオレフィンまたは１種のジエンを表し；
Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；
Ｅ1-は、オキソ酸または錯酸の陰イオンである）に相当する。
【０１４１】
先に記載した実施形態および好適さは、式ＩおよびＩ'で示される化合物に適用される。
【０１４２】
オレフィン：Ｙ1は、Ｃ2〜Ｃ12−オレフィン、好ましくはＣ2〜Ｃ6−オレフィン、特に好ましくはＣ2〜Ｃ4−オレフィンにすることができる。例は、プロペン、１−ブテンであり、特にエチレンである。ジエンは、炭素原子を５〜１２個、好ましくは５〜８個含有することができ、開鎖ジエン、環式ジエン、または多環式ジエンにすることができる。ジエンのオレフィン基２個は、好ましくは、ＣＨ2基１または２個によって結合している。例は、１，４−ペンタジエン、シクロペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−シクロヘキサジエン、１，４−または１，５−ヘプタジエン、１，４−または１，５−シクロヘプタジエン、１，４−または１，５−オクタジエン、１，４−または１，５−シクロオクタジエン、およびノルボルナジエンである。Ｙは、好ましくはエチレン２分子、または１，５−ヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエンもしくはノルボルナジエンを表す。
【０１４３】
式IXにおいて、Ｚは、好ましくはＣｌまたはＢｒである。Ｅ1の例は、ＢＦ4-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、Ｂ（フェニル）4-、Ｂ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-、またはＳｂＦ6-である。
【０１４４】
本発明の金属錯体は、文献で知られる方法により製造する（ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４、ＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１、E. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto(Eds), Comprehensive Asymmetric Catalysis I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999、および本明細書に引用された参考文献を参照）。
【０１４５】
ルテニウム錯体は、例えば、式XVI：
【０１４６】
【化３０】
2008505163.tif 000026
【０１４７】
（式中、Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；Ａ3は、式Ｉ、Ｉ'またはIVで示される化合物であり；Ｌは、同一のまたは異なる配位子を表し；Ｅ-は、オキソ酸、鉱酸または錯酸の陰イオンであり；Ｓは、配位子として配位可能な溶媒であり；ａは、１〜３であり；ｂは、０〜４であり；ｃは、０〜６であり；ｄは、１〜３であり；ｅは、０〜４であり；ｆは、１〜３であり；ｇは、１〜４であり；ｈは、０〜６であり；ｋは、１〜４であり；錯体は全体として無電荷である）に相当することができる。
【０１４８】
Ｚ、Ａ3、ＬおよびＥ-に関する上記好適さは、式VIIIで示される化合物に適用される。配位子：Ｌは、また、アレーンまたはヘテロアレーン（例えば、ベンゼン、ナフタレン、メチルベンゼン、キシレン、クメン、１，３，５−メシチレン、ピリジン、ビフェニル、ピロール、ベンズイミダゾール、またはシクロペンタジエニル）、およびLewis酸として機能する金属塩（例えば、ＺｎＣｌ2、ＡｌＣｌ3、ＴｉＣｌ4およびＳｎＣｌ4）にすることができる。溶媒の配位子は、例えば、アルコール、アミン、酸アミド、ラクタムおよびスルホンにすることができる。
【０１４９】
この型の錯体は、以下に列挙した参考文献、および本明細書に引用した参考文献に記載されている。
【表１】
2008505163.tif 000027
【０１５０】
本発明の金属錯体は、反応条件下で活性化し得て、プロキラル不飽和有機化合物上での不斉付加反応に用い得る、均一触媒または触媒前駆体を表す。
【０１５１】
該金属錯体は、例えば、炭素−炭素または炭素−へテロ原子二重結合を有するプロキラル化合物の不斉水素化（水素の付加）に用いることができる。可溶性均一金属錯体を用いたそのような水素化は、例えば、Pure and Appl. Chem., Vol. 68, No. 1, pp. 131-138(1996)に記載されている。水素化される好ましい不飽和化合物は、基：Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏを含む。本発明によれば、好ましくは、ルテニウム、ロジウムおよびイリジウムの金属錯体が、水素化に用いられる。
【０１５２】
本発明は、更に、プロキラル有機化合物中の炭素−炭素または炭素−へテロ原子二重結合に水素を不斉付加することによりキラル有機化合物を製造するための均一触媒としての、本発明の金属錯体の使用を提供する。
【０１５３】
本発明の更なる態様は、触媒量の本発明の金属錯体少なくとも１種の存在下で、付加反応を実施することを特徴とする、触媒の存在下でプロキラル有機化合物中の炭素−炭素または炭素−へテロ原子二重結合に水素を不斉付加することによる、キラル有機化合物を製造する方法である。
【０１５４】
水素化される好ましいプロキラル不飽和化合物は、開鎖または環式有機化合物中に同一のまたは異なるＣ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏ基を１個以上含有することができ、ここで、Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏ基は、環系の一部または環外基になることができる。該プロキラル不飽和化合物は、アルケン、シクロアルケン、ヘテロシクロアルケン、ならびにまた開鎖または環式ケトン、α，β−ジケトン、αまたはβ−ケトカルボン酸、ならびにそれらのα，β−ケトアセタールまたは−ケタール、エステル、アミド、ケチミン、およびケトヒドラゾン（kethydrazones）にすることができる。
【０１５５】
不飽和有機化合物の幾つかの例は、アセトフェノン、４−メトキシアセトフェノン、４−トリフルオロメチルアセトフェノン、４−ニトロアセトフェノン、２−クロロアセトフェノン、対応する非置換またはＮ−置換のアセトフェノンベンジルイミン、非置換または置換のベンゾシクロヘキサノンまたはベンゾシクロペンタノン、および対応するイミン、イミン（非置換または置換のテトラヒドロキノリン、テトラヒドロピリジンおよびジヒドロピロールからなる群のもの）、および不飽和カルボン酸、エステル、カルボキサミド、ならびにカルボン酸塩、例えば、α−および所望ならβ−置換のアクリル酸またはクロトン酸である。好ましいカルボン酸は、式：
【０１５６】
【化３１】
2008505163.tif 000028
【０１５７】
（式中、Ｒ01は、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、非置換でももしくは置換基としてＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ基を１〜４個有していてもよい、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、または非置換でももしくは置換基としてＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ基を１〜４個有していてもよい、Ｃ6〜Ｃ10−アリール（好ましくはフェニル）であり、Ｒ02は、非置換であるか、もしくは先に定義したとおりに置換されていてもよい、直鎖状または分枝状Ｃ1〜Ｃ6−アルキル（例えばイソプロピル）、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、または保護されたアミノ（例えばアセチルアミノ）である）で示される酸、ならびにそれらの塩、エステルおよびアミドである。
【０１５８】
本発明の方法は、低温または高温で、例えば−２０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃、特に好ましくは１０〜８０℃の温度で実施することができる。光学収率は、一般に高温よりも比較的低温で良好である。
【０１５９】
本発明の方法は、大気圧または超大気圧で実施することができる。圧力は、例えば、１０5〜２×１０7Ｐａ（パスカル）であってもよい。水素化は、大気圧または超大気圧で実施することができる。
【０１６０】
触媒は、水素化される化合物に基づいて、好ましくは０．０００１〜１０モル％、特に好ましくは０．００１〜１０モル％、特に０．０１〜５モル％の量で用いる。
【０１６１】
配位子および触媒の製造、ならびにまた水素化は、溶媒を用いないでまたは不活性溶媒の存在下で実施することができる。後者の場合、溶媒１種または溶媒混合物を用いることができる。適切な溶媒は、例えば、脂肪族、脂環式、および芳香族炭化水素（ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン）、脂肪族ハロゲン化炭化水素（塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、およびテトラクロロエタン）、ニトリル（アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エーテル（ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、またはジエチレングリコールモノエチルエーテル）、ケトン（アセトン、メチルイソブチルケトン）、カルボン酸エステルおよびラクトン（酢酸エチル、酢酸メチル、バレロラクトン）、Ｎ−置換のラクタム（Ｎ−メチルピロリドン）、カルボキサミド（ジメチルアミド、ジメチルホルムアミド）、非環式尿素（ジメチルイミダゾリン）、スルホキシドおよびスルホン（ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホキシド、テトラメチレンスルホン）、アルコール（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール）、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、および水である。溶媒は、単独で、または少なくとも２種の溶媒の混合物としてのいずれかで用いることができる。
【０１６２】
反応は、共触媒、例えば第四級ハロゲン化アンモニウム（ヨウ化テトラブチルアンモニウム）の存在下、および／またはプロトン酸（例えば鉱酸）の存在下で実施することができる（例えば、ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４、ＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１、およびＥＰ−Ａ−０，６９１，９４９参照）。同様に、１，１，１−トリフルオロエタノールのようなフッ素化アルコールの存在が、触媒反応にとって有利となり得る。
【０１６３】
触媒として用いられる金属錯体を、別個に製造した単離化合物として添加することができるか、またはそれを反応の前にその場で形成させ、その後、基材と混合して水素化することができる。単離した金属錯体を用いた反応の場合には更なる量の配位子を添加することが有利となり得るか、またはその場で製造する場合には、過剰の配位子を用いることが有利となり得る。過剰は、製造に用いる金属化合物に基づいて、例えば１〜６モル、好ましくは１〜２モルにすることができる。
【０１６４】
本発明の方法は、一般に、反応容器内に触媒を入れ、その後、基材、ならびに適宜、反応助剤および加えるべき化合物を添加し、次に反応を開始することにより実施する。追加されるガス状化合物、例えば水素またはアンモニアを、好ましくは加圧下で導入する。該方法は、様々な型の反応器で、連続式またはバッチ式で実施することができる。
【０１６５】
本発明により製造され得るキラル有機化合物は、特に調味料、香料、医薬品および農芸化学品の製造の分野でそのような物質を製造するための活性物質またはそ中間体である。
【０１６６】
以下の実施例は、本発明を例示している。
【０１６７】
Ａ）置換のフェロセンジホスフィンの製造
略語：Ｍｅはメチルであり、Ｐｈはフェニルであり、ＴＨＦはテトラヒドロフランであり、ＴＢＭＥはtert−ブチルメチルエーテルであり、ｎｂｄはノルボルナジエンである。
【０１６８】
実施例Ａ１：３，３'位におけるメチル置換
【０１６９】
【化３２】
2008505163.tif 000029
【０１７０】
ａ）化合物（２）の製造
ノナン中のtert−ブチルヒドロペルオキシド（５．５モル濃度）の溶液２．６ml（１４．４mmol）を、０℃のＴＨＦ４０ml中のＳ，Ｒ化合物（１）５ｇ（７．２ml）の溶液に撹拌しながら滴下した。次に、冷却機（cooling）を取り外して、混合物を更に一晩撹拌し、黄色沈殿物を形成するに至った。ヘプタン４０mlを添加して、混合物をろ過し、固体を微量の低温ジエチルエーテルで洗浄して減圧下で乾燥させた（収率：８８％）。粗生成物は純粋であり、更に、直接使用することができた。
【表２】
2008505163.tif 000030
【０１７１】
ｂ）化合物（３）の製造
ｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中の１．６モル）１０．４ml（１６．８mmol）を、−７８℃のＴＨＦ２００ml中の化合物（２）４ｇ（５．６mmol）の溶液に撹拌しながら滴下し、反応混合物をこの温度で更に２時間撹拌した。その後、ヨウ化メチル１．０５ml（１６．８mmol）を−７８℃で滴下し、反応混合物を初めは−７８℃で０．５時間、その後−４０℃で１時間、最後に−１０℃で３０分間、更に撹拌した後、激しく撹拌ながら−１０℃の水５mlを混和した。有機溶媒および未反応のヨウ化メチルを最大５０℃までで減圧下で直ちに留去し、残渣を塩化メチレン／ＮａＣｌ水溶液で抽出した。有機相を収集して硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒をロータリーエバポレータにより減圧下で留去した。粗生成物を橙色固体として得、これを更なる精製を行わずに更に用いた（収率：＞９８％）。
【表３】
2008505163.tif 000031
【０１７２】
ｃ）化合物（Ａ１）の製造
トルエン（１０ml）中のホスフィンオキシド（３）  ３９０mg（０．５３mmol）およびＨＳｉ（ＯＥｔ）3  １．９ml（１０．５mmol）の懸濁液を、撹拌しながら加熱還流した。その後、チタン（IV）イソプロポキシド０．１９ml（０．６４mmol）を、２０分間かけて滴下し、反応混合物を一晩還流した。冷却した後に、ＴＨＦをロータリーエバポレータにより留去し、残渣を酢酸エチル２mlに懸濁させて、カラムに適用した。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝トリエチルアミンを１％含む酢酸エチル）により、所望の生成物を橙色泡状物として収率７３％で得た。
【表４】
2008505163.tif 000032
【０１７３】
実施例Ａ２：３位におけるメチル置換
【０１７４】
【化３３】
2008505163.tif 000033
【０１７５】
ａ）化合物（４）の製造
化合物（４）は、文献：P. Knochel et al., Tetrahedron: Asymmetry, 10 (1999) 1839-42に記載されている。
【０１７６】
ｂ）化合物（５）の製造
以下の溶液を調製した：
溶液ａ）ｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中の１．６Ｍ）２．７ml（４mmol）を、０℃のＴＨＦ３ml中の２，２，６，６−テトラメチルピペリジン０．７３ml（４．１mmol）に滴下し、その溶液をこの温度で１時間撹拌した。
溶液ｂ）ＴＨＦ３ml中の化合物（４）５００mg（１．０３mmol）
溶液ａ）を−７８℃に冷却した。撹拌しながら、溶液ｂ）を１５分間かけて滴下し、反応混合物を初めは−７８℃で３０分間、その後−３０℃で４時間、更に撹拌した。冷却して、−７８℃に戻した後に、ヨウ化メチル０．２６ml（４mmol）を滴下し、混合物をこの温度で更に２時間撹拌した。次に、反応混合物をＴＨＦ／水  ２mlと混和して、酢酸エチル／水で抽出した。有機相を収集して硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒をロータリーエバポレータにより留去した。クロマトグラフィー精製（シリカゲル６０；溶離液＝１０  ジクロロメタン／１  トリエチルアミンを１％含有するメタノール）により、主に生成物と出発原料との混合物が得られた。ホスフィンとの反応の後はこの混合物がかなり容易に分離できるので、更なる精製を行わずに更に進行させた。生成物を特性表示するために、更なるクロマトグラフィーにより試料を精製した。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）の特性信号：δ２．１０（ｓ，６Ｈ）２．０８（ｓ，６Ｈ）１．９５（ｓ，３Ｈ），１．４５−１．３８（ｍ，２×３Ｈ）。
【０１７７】
ｃ）化合物（Ａ２）の製造
ｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中１．６モル濃度）１．３ml（２mmol）を、０℃のジエチルエーテル５ml中の工程ｂ）で得た生成物３４０mgに滴下し、反応混合物をこの温度で２時間撹拌した。−７８℃に冷却した後に、ジフェニルクロロホスフィン５１０mgを添加し、冷却浴を取り外して、混合物を一晩撹拌した。水１mlを添加し、混合物を抽出して、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させて、ロータリーエバポレータにより蒸発させた。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝１  酢酸エチル／５  トリエチルアミンを１％含有するヘプタン）での精製により、生成物２７０mgを橙色固体として得た。
【表５】
2008505163.tif 000034
【０１７８】
実施例Ａ３：５位におけるメチル置換
【０１７９】
【化３４】
2008505163.tif 000035
【０１８０】
ａ）化合物（６）の製造
化合物（６）は、文献：T Hayashi et al., J. Organometal Chem., 370 (1989) 129-139に記載されている。
【０１８１】
ｂ）化合物（７）の製造
アセトニトリル５０mlおよび水５ml中の化合物（６）５．０ｇ（６．６mmol）およびＯ−メチル−（Ｓ）−プロリノール１３．３ｇ（１１５mmol）の溶液を、１００℃で少なくとも８０時間撹拌した。冷却した後に、溶媒および過剰のｏ−メチルプロリノールを、ロータリーエバポレータにより減圧下で留去した。残渣をＴＢＭＥ２０mlに取り出し、水で数回洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させて、ロータリーエバポレータにより蒸発させた。粗生成物をクロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝１  酢酸エチル／４  ヘプタンおよびトリエチルアミン１％）により精製した。生成物を橙色固体泡状物として得た（収率：９３％）。
【表６】
2008505163.tif 000036
【０１８２】
ｃ）化合物（Ａ３）の製造
ｓ−ブチルリチウム（ｓ−ＢｕＬｉ）（シクロヘキサン中の１．３Ｍ）４ml（５．２mmol）を、０℃のＴＢＭＥ３５ml中の化合物（７）  ２ｇ（２．４mmol）の溶液に滴下し、反応混合物を０℃で更に２時間撹拌した。その後、−７８℃に冷却して、ヨウ化メチル０．１９５ml（３．１mmol）を添加した。１時間後に、冷却浴を取り外した。温度を０℃に上昇させ、混合物を０℃で更に２時間撹拌した。反応混合物を氷水に注いで、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、ロータリーエバポレータにより減圧下で蒸発させた。残渣をクロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝１  酢酸エチル／４  ヘプタンおよびトリエチルアミン１％）により精製した。生成物を黄色固体として収率７１％で得た。
【表７】
2008505163.tif 000037
【０１８３】
実施例Ａ４：５，５'位における臭素置換
【０１８４】
【化３５】
2008505163.tif 000038
【０１８５】
ａ）化合物（８）の製造
化合物（８）を、C. Glidewell et al.により J. Organometal. Chem. 527 (1997), pages 259-261に記載されたとおり製造した。
【０１８６】
ｂ）化合物（９）の製造
（Ｓ）−２−（メトキシメチル）ピロリジン４．９４ｇ（４２．８８mmol）を、乾燥アセトニトリル６００ml中の化合物（８）  ５．０１ｇ（８．５７mmol）に添加して、反応混合物を１００℃で７２時間撹拌した。冷却した後に、溶媒をロータリーエバポレータにより留去した。残渣を飽和水性ＮａＨＣＯ3／塩化メチレンに抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させて、ロータリーエバポレータにより蒸発させた。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝１  ＴＨＦ／２  ヘプタンおよびトリエチルアミン２％）により、所望の生成物を橙色油状物として得た。
【表８】
2008505163.tif 000039
【０１８７】
ｃ）化合物（１０）の製造
化合物（９）７３０mg（１．６６mmol）を、ＴＢＭＥ  ２mlに溶解した。撹拌しながら、ｓ−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中１．３モル濃度溶液）３．１８ml（４．１４mmol）を−７８℃でゆっくり滴下した。反応混合物を−７８℃で１時間、その後−３０℃で４時間撹拌した。その後、それを冷却して−７８℃に戻し、ジフェニルクロロホスフィン９８８mg（４．４８mmol）を添加した。１５分後に、冷却機を取り外して、反応混合物を更に一晩撹拌した。その後、水／ＴＢＭＥで抽出して、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒をロータリーエバポレータにより減圧下で留去した。クロマトグラフィー（シリカゲル６０：溶離液は、初めＣｌ−ＰＰｈ2が溶出するまでは塩化メチレンであり、その後は１  ＴＨＦ／５  ヘプタンおよびトリエチルアミン１％）により、所望の生成物を黄色固体として得た（収率：７０％）。
【表９】
2008505163.tif 000040
【０１８８】
ｄ）化合物（Ａ４）の製造
ＴＢＭＥ１０ml中の化合物（１０）５１０mg（０．６３mmol）の溶液を−７８℃に冷却して、ｔ−ブチルリチウム（ペンタン中１．５モル濃度溶液）１．０５ml（１．５７mmol）をゆっくり滴下した。温度を−３０℃に上昇させて、混合物を初めはこの温度で２時間、次に０℃で３０分間撹拌した。冷却して−７８℃に戻した後に、ＴＨＦ  １ml中の１，２−ジブロモテトラフルオロエタン４０８mg（１．５７mmol）の溶液をゆっくり滴下し、混合物を−７８℃で更に３０分間撹拌した。その後、冷却浴を取り外して、混合物を更に１時間撹拌した。反応混合物を水２mlと混和して、塩化メチレンで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させて、ロータリーエバポレータにより蒸発させた。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝２０  ヘプタン／１  酢酸エチルおよびトリエチルアミン１％）による精製で、生成物を黄色固体として得た。
【表１０】
2008505163.tif 000041
【０１８９】
実施例Ａ５：５位におけるトリメチルシリル置換
【０１９０】
【化３６】
2008505163.tif 000042
【０１９１】
ＴＢＭＥ２０ml中の化合物（１０）５００mg（０．６２mmol）の溶液を−７８℃に冷却して、ｔ−ＢｕＬｉ（ペンタン中１．５モル濃度溶液）０．５ml（０．７５mmol）をゆっくり滴下した。次に、混合物を−３０℃〜−１５℃の範囲の温度で２時間撹拌した。冷却して−７８℃に戻した後に、トリメチルクロロシラン０．１ml（０．８mmol）を添加して、混合物を−７８℃で更に３０分間撹拌した。その後、冷却浴を取り外して、混合物を更に１時間撹拌した。反応混合物を水２mlと混和し、その後、水で抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させて、ロータリーエバポレータにより蒸発させた。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝２０  ヘプタン／１  酢酸エチルおよびトリエチルアミン１％）による精製で、生成物を橙色固体として得た。
【表１１】
2008505163.tif 000043
【０１９２】
実施例Ａ６：５，５'位におけるトリメチルシリル置換
【０１９３】
【化３７】
2008505163.tif 000044
【０１９４】
ＴＢＭＥ２０ml中の化合物（１０）５００mg（０．６２mmol）の溶液を、−７８℃に冷却して、ｔ−ＢｕＬｉ（ペンタン中１．５モル濃度溶液）０．９ml（１．４mmol）をゆっくり滴下した。次に、混合物を−３０℃〜−１５℃の範囲の温度で２時間撹拌した。冷却して−７８℃に戻した後に、トリメチルクロロシラン０．２ml（１．６mmol）を添加して、混合物を−７８℃で更に３０分間撹拌した。その後、冷却浴を取り外して、混合物を更に１時間撹拌した。反応混合物を水２mlと混和し、その後、水で抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させて、ロータリーエバポレータにより蒸発させた。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝２０  ヘプタン／１  酢酸エチルおよびトリエチルアミン１％）による精製で、生成物を橙色固体として得、それは1Ｈ−および31Ｐ−ＮＭＲによれば、回転異性体２種の混合物であった。
1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）、幾つかの特性信号：
Ｏ−ＣＨ3基の信号：δ３．３６および３．３２（積分比〜３３：６７の２個のＳ、合計６Ｈ）
Ｓｉ（ＣＨ3）3基の信号：δ０．６５および０．０３（積分比〜６７：３３の２個のＳ、合計１８Ｈ）
31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ  −２４．５（ｓ，大きい信号），２８．１（ｓ,小さい信号）
【０１９５】
実施例（Ａ７）：
【０１９６】
【化３８】
2008505163.tif 000045
【０１９７】
以下の溶液を調製した：
溶液ａ）ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中の１．６Ｍ）０．８６ml（１．３７mmol）を、０℃のＴＨＦ１ml中の２，２，６，６−テトラメチルピペリジン０．２３２ml（１．３７mmol）に滴下し、その溶液をこの温度で１時間撹拌した。
溶液ｂ）ＴＨＦ１０ml中の化合物（Ａ４）２２０mg（０．２３mmol）
溶液ａ）を−７８℃に冷却した。撹拌しながら、溶液ｂ）を１５分間かけて滴下し、反応混合物を初めに−７８℃で３０分間、その後−１５〜−２０℃で４時間、更に撹拌した。再度、−７８℃に冷却した後、トリメチルクロロシラン０．１７３ml（１．３７mmol）を滴下し、その後、混合物を−２０℃で更に２時間撹拌した。反応混合物を冷却して−７８℃に戻し、この温度で一晩撹拌した。その後、温度を１０℃にゆっくり上昇させた。次に、反応混合物を少量の水と混和して、酢酸エチル／水で抽出した。有機相を収集して硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒をロータリーエバポレータにより留去した。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離液＝１  酢酸エチル／１５  ヘプタン、トリエチルアミンを１％含有する）による精製の後に、有機生成物が単離された。
【表１２】
2008505163.tif 000046
【０１９８】
Ｂ）金属錯体の製造
実施例Ｂ１：
［Ｒｈ（ｎｂｄ）2］ＢＦ4  ５．１mg（０．０１３６mmol）および実施例Ａ６からのジホスフィン１０．４mg（０．０１６３mmol）を秤量して、電磁撹拌器を備えたSchlenk容器に入れ、真空およびアルゴンにより換えた。撹拌しながら脱気したメタノール０．８mlを添加して、金属錯体の橙色溶液（触媒溶液）を得た。均一なＣ2−対称錯体が形成した。
【表１３】
2008505163.tif 000047
【０１９９】
Ｃ）使用例
【０２００】
実施例Ｃ１：不飽和化合物の水素化
水素化を実施する方法、および光学収率：ｅｅの定量方法は、W. Weissensteiner et al.によるOrganometallics 21 (2002), pages 1766-1774の一般用語内に記載されている。触媒は、それぞれの例で、配位子と触媒前駆体としての金属錯体（他に断りがなければ［Ｒｈ（ノルボルナジエン）2］ＢＦ4）とを溶媒中で混合することにより、「その場で」製造する。他に断りがなければ、基材濃度は０．２５mol/l、金属に対する基材のモル比＝２００、そして金属に対する配位子のモル比＝１．０５であった。
【０２０１】
水素化：
基材：ＭＡＣ、ＤＭＩ、ＭＣＡ、ＥＡＣの反応条件：
触媒前駆体＝［Ｒｈ（ノルボルナジエン）2］ＢＦ4；溶媒＝ＭｅＯＨ；水素圧＝１バール；温度＝２５℃；反応時間＝１時間
ＥＡＣの水素化を、エタノール中ＣＦ3ＣＨ2ＯＨ  ５％（v/v）の存在下で実施した。ＥＡＣの場合、キラルカラム［Lipodex E(30m); １３０℃等温式；Ｈ2  １９０Kpa］を用いたガスクロマトグラフィーにより、ｅｅを定量した。
【０２０２】
【化３９】
2008505163.tif 000048
【０２０３】
基材：ＭＰＧについての反応条件：
触媒前駆体＝［Ｒｈ（ノルボルナジエン）Ｃｌ2］；溶媒＝トルエン；水素圧＝８０バール（８×１０6Pa）；温度＝２５℃；反応時間＝１６時間
ＭＰＧ：
【０２０４】
【化４０】
2008505163.tif 000049
【０２０５】
基材：ＥＯＶについての反応条件：
触媒前駆体＝［Ｒｕｌ2（ｐ−クメン）］2；溶媒＝エタノール；添加：エタノール１０mlあたり１Ｎ  ＨＣｌ  ０．０６ml；水素圧＝８０バール；温度＝８０℃；反応時間＝１６時間
トリフルオロ酢酸無水物を用いた誘導体化の後に、キラルカラム［Lipodex E(30m)］を用いたガスクロマトグラフィーにより、ｅｅの定量を実施した。
【０２０６】
【化４１】
2008505163.tif 000050
【０２０７】
基材：ＭＥＡについての反応条件：
金属に対する基材のモル比＝１００；触媒前駆体＝［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2；溶媒＝トルエン；添加：Ｉｒ  １当量あたりヨウ化テトラブチルアンモニウム２当量、およびトルエン１０mlあたりトリフルオロ酢酸０．０３ml；水素圧＝８０バール；温度＝２５℃；反応時間＝１６時間
ＭＥＡ：
【０２０８】
【化４２】
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【０２０９】
水素化の結果を、以下の表１および２に報告する。「ｅｅ」は、鏡像体過剰率である。配置をカッコ内に示す。置換が、意外にも配置に影響を与えて反転させ得ることが、表１の比較の配位子および置換した配位子を用いた結果から見ることができる。更に、置換基の導入時に光学収率の上昇が見られる。
【０２１０】
【表１４】
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【０２１１】
【表１５】
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【国際調査報告】
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