(57)【要約】【課題】  添加剤のフッ素成分やシリコーン成分の添加量を減らすことなしに機能性フィルム（光学積層体）の最表面の帯電特性をコントロールでき、さらには保護フィルムの貼り合せ・剥離を繰り返しても機能性フィルムの最表面が帯電し難い、帯電防止性光学積層体を提供すること。【解決手段】  光学積層体の透光性基体と反対側の最表面にプラズマ処理を施すことで、表示装置表面に用いられても帯電し難い帯電防止性光学積層体を提供することができる。特に、表示装置製造時行われる保護フィルムの貼り合せ・剥離を繰り返しても帯電し難いため、帯電除去作業が不要となることでの各種デバイスの検査時間を短縮することができる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基体の片面に、少なくとも１層の光学機能層を積層した積層体であって、該積層体の該透光性基体と反対側の最表面をプラズマ処理したことを特徴とする帯電防止性光学積層体。
【請求項２】
前記プラズマ処理が、プラズマガス種として非重合性ガスを用いることを特徴とする請求項１記載の帯電防止性光学積層体。
【請求項３】
前記非重合性ガスが、酸素を含むことを特徴とする請求項２に記載の帯電防止性光学積層体。
【請求項４】
前記光学機能層が、レベリング剤を含む透光性樹脂からなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の帯電防止性光学積層体。
【請求項５】
帯電防止層を有さないことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の帯電防止性光学積層体。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の帯電防止性光学積層体と、該帯電防止性光学積層体の透光性基体側に設けられた偏光素子とを備えることを特徴とする偏光板。
【請求項７】
透過性表示体の視認側表面に、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の帯電防止性光学積層体、または請求項６記載の偏光板を備えてなることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主に液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のディスプレイ表面に設ける光学積層体に関し、特に積層体最表面の帯電を解消（改善）した光学積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどの表示装置表面には、蛍光燈などの室内照明、窓からの太陽光の入射、操作者の影などの写り込みにより、画像の視認性が妨げられること抑えるために、表面反射光を拡散し、外光の正反射を抑え、外部環境の写り込みを防ぐことができる（防眩性を有する）微細凹凸構造を形成させた防眩フィルムなどの、機能性フィルム（光学積層体）が最表面に設けられている。
【０００３】
これら機能性フィルムは、ポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」という。）やトリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」という。）等の透光性基体上に、微細凹凸構造を形成させた防眩層を一層設けたものや、光拡散層上に低屈折率層を積層したものが、一般に製造販売されており、層構成の組み合わせにより所望の機能を提供する機能性フィルムの開発が進められている。
【０００４】
機能性フィルムの表面形状、外観コントロールのために、フッ素系材料、シリコーン系材料を添加剤として添加される。これら添加剤は、塗膜表面に防汚性を付与することや表面滑り性による表面強度アップの機能も併せ持っており、特に塗膜表面に偏在させることでその効果をより高いものとしている。
【０００５】
偏光板製造の過程において、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムの表面に機能性フィルムを貼り合せる際に、水系接着剤を使用して貼り合せられている。水系接着剤との接着性を高めるため、機能性フィルムをあらかじめケン化処理し、ＰＶＡフィルムに貼り合せることが主流であったが、近年、水系接着剤に代わってＵＶ接着剤などの無溶剤系接着剤が用いられるようになり、このケン化処理工程を省くことができるようになってきた（たとえば特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平０９−２５８０２３号公報
【特許文献２】特開２０１２−２４７５３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
直接的な原因は不明であるが、ケン化処理がなくなったことによると推測される機能性フィルム表面が帯電するという問題が発生するようになった。液晶表示装置の作製にあたっては、主に偏光板製造時と液晶パネル組立時に、最表面となる機能性フィルムの機能層保護のために保護フィルムを貼り合せ、組立体の機能確認時に保護フィルムを剥がす、ということが行われており、この保護フィルムの貼り合せと剥離の作業が機能性フィルム表面の帯電を発生させている。
【０００８】
液晶表示装置用途以外でも、添加剤のフッ素成分やシリコーン成分を含有する機能性フィルムでは塗膜表面の帯電性アップの問題が発生し、当該フィルムを用いた製造工程において、ゴミ付着、フィルム搬送性の悪化の問題などと関連している。この問題解決のために、フッ素成分やシリコーン成分の添加量を削減したり、帯電防止剤を添加したりして、塗膜表面の導電率をアップするなどの方法が取られるが、これらの方法は、外観コントロールとの両立が困難であり、フッ素成分やシリコーン成分の添加量を削減せずに帯電特性だけをコントロールすることが困難であった。
【０００９】
そこで本発明は、フッ素成分やシリコーン成分の添加量を減らすことなしに機能性フィルムの最表面の帯電特性をコントロールでき、さらには保護フィルムの貼り合せ・剥離を繰り返しても機能性フィルムの最表面が帯電し難い、帯電防止性光学積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明（１）の帯電防止性光学積層体は、透光性基体の片面に、少なくとも１層の光学機能層を積層した積層体であって、該積層体の該透光性基体と反対側の最表面をプラズマ処理したことを特徴とする。
【００１１】
本発明（２）の帯電防止性光学積層体は、プラズマ処理にプロセスガスに非重合性ガスを用いることを特徴とする。
【００１２】
本発明（３）の帯電防止性光学積層体は、プロセスガスに用いる非重合性ガスが酸素を含むことを特徴とする。
【００１３】
本発明（４）の帯電防止性光学積層体は、光学機能層がレベリング剤を含む透光性樹脂からなることを特徴とする。
【００１４】
本発明（５）の帯電防止性光学積層体は、帯電防止層を有さないことを特徴とする。
【００１５】
本発明の偏光板は、帯電防止性光学積層体の透光性基体側に偏光素子が設けられたことを特徴とする。
【００１６】
本発明の表示装置は、透過性表示体の視認側表面に、帯電防止性光学積層体または上記偏光板を備えてなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、光学積層体の透光性基体と反対側の最表面にプラズマ処理を施すことで、表示装置表面に用いられても帯電し難い帯電防止性光学積層体を提供することができる。特に、表示装置製造時行われる保護フィルムの貼り合せ・剥離を繰り返しても帯電し難いため、帯電除去作業が不要となることでの各種デバイスの検査時間を短縮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の帯電防止性光学積層体の各構成要素について詳述する。
【００１９】
《透光性基体》
本発明に用いられる透光性基体としては、透光性である限り特に限定されず、石英ガラスやソーダガラス等のガラスも使用可能であるが、ＰＥＴ、ＴＡＣ、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、含ノルボルネン樹脂、ポリエーテルスルホン、セロファン、芳香族ポリアミド等の各種樹脂フィルムを好適に使用することができる。なお、ＰＤＰ、ＬＣＤに用いる場合は、ＰＥＴ、ＴＡＣフィルムがより好ましい。
【００２０】
これら透光性基体の透明性は高いものほど良好であるが、全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７１０５）としては８０％以上、より好ましくは９０％以上が良い。また、透光性基体の厚さとしては、軽量化の観点からは薄い方が好ましいが、その生産性やハンドリング性を考慮すると、１〜７００μｍの範囲のもの、好ましくは６〜２５０μｍを使用することが好適である。
【００２１】
また、透光性基体に、アルカリ処理、コロナ処理、プラズマ処理、スパッタ処理等の表面処理や、界面活性剤、シランカップリング剤等の塗布、又はＳｉ蒸着などの表面改質処理を行うことにより、透光性基体と光学機能層との密着性を向上させることができるため、当該光学機能層における耐スクラッチ性が向上する。
【００２２】
《透光性樹脂》
本発明に係る光学機能層は、透光性樹脂に透光性微粒子を分散させることができる。ここで、「透光性樹脂」とは、塗料中の透光性微粒子を除く全固形成分である（マトリックス成分）。透光性樹脂は、熱や放射線等のエネルギーにより硬化するエネルギー硬化型樹脂をエネルギーにより硬化することにより形成されたものであることが好ましく、放射線硬化型樹脂組成物を放射線で硬化することにより形成されたものであることがより好ましいが、特に限定されない。ここで、当該透光性樹脂を構成する放射線硬化型樹脂組成物としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等のラジカル重合性官能基や、エポキシ基、ビニルエーテル基、オキセタン基等のカチオン重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマーを単独で、又は適宜混合した組成物が用いられる。モノマーの例としては、アクリル酸メチル、メチルメタクリレート、メトキシポリエチレンメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等を挙げることができる。オリゴマー、プレポリマーとしては、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、多官能ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート、アルキットアクリレート、メラミンアクリレート、シリコーンアクリレート等のアクリレート化合物、不飽和ポリエステル、テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルや各種脂環式エポキシ等のエポキシ系化合物、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、１，４−ビス｛［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、ジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル等のオキセタン化合物を挙げることができる。これらは単独、もしくは複数混合して使用することができる。
【００２３】
上記放射線硬化型樹脂組成物は、そのままで電子線照射により硬化可能であるが、紫外線照射による硬化を行う場合は、光重合開始剤の添加が必要である。用いられる放射線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線のいずれであってもよい。また、これらの放射線は、偏光であっても無偏光であってもよい。光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合開始剤、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物等のカチオン重合開始剤を単独又は適宜組み合わせて使用することができる。
【００２４】
上記放射線硬化型樹脂組成物に加えて、その重合硬化を妨げない範囲で高分子樹脂を添加使用することができる。この高分子樹脂は、後述する樹脂層塗料に使用される有機溶剤に可溶な熱可塑性樹脂であり、具体的にはアクリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース又はセルロース誘導体等が挙げられ、これらの樹脂中には、カルボキシル基やリン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有することが好ましい。
【００２５】
また、レベリング剤、増粘剤、帯電防止剤等の添加剤を使用することができる。レベリング剤は、塗膜表面の張力均一化を図り塗膜形成前にクレーターやオレンジピールなどの欠陥を直す働きがあり、上記放射線硬化型樹脂組成物より界面張力、表面張力共に低い物質が用いられる。レベリング剤には分子構造にパーフルオロアルキル基を有するフッ素系レベリング剤や、有機変性ポリシロキサンを有するシリコーン系レベリング剤などがあり、良好な塗膜形成に好適であるが、いずれも高い絶縁性を有することからレベリング剤を添加剤として使用することにより帯電量が大きくなる。増粘剤は、上記放射線硬化型樹脂組成物へチキソ性を付与する働きがあり、透光性微粒子や顔料等の沈降防止による樹脂層表面の微細な凹凸形状形成に効果がある。増粘剤は、特に限定されないが、例えば、合成雲母を使用することが好適である。更に、当該増粘剤の表面を４級アンモニウム塩などで有機化処理することが好適である。当該処理を行うことにより樹脂や金属酸化物との親和性が増し、性能が向上するほか、加工性適性も向上する。
【００２６】
光学機能層における透光性樹脂は、主に上述の放射線硬化型樹脂組成物の硬化物により構成されるが、その形成方法は、放射線硬化型樹脂組成物と有機溶剤からなる塗料を塗工し、有機溶剤を揮発させた後に電子線又は紫外線照射により硬化せしめるものである。ここで使用される有機溶剤としては、放射線硬化型樹脂組成物を溶解するのに適したものを選ぶ必要がある。具体的には、透光性基体への濡れ性、粘度、乾燥速度といった塗工適性を考慮して、アルコール系、エステル系、ケトン系、エーテル系、芳香族炭化水素から選ばれた単独又は混合溶剤を使用することができる。
【００２７】
《透光性微粒子》
本発明に係る光学機能層に用いられる透光性微粒子は、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリル共重合体、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化エチレン系樹脂等よりなる有機透光性微粒子を使用することができる。
【００２８】
ここで、光学機能層に含まれる透光性微粒子は、放射線硬化型透光性樹脂層との屈折率の差が、０．０５以下であることが好適であり、０．０３以下であることがより好適であり、０．０１以下であることがより好適である。放射線硬化型透光性樹脂層と透光性微粒子の屈折率差が０．０５より大きい場合は、光散乱の度合いが大きくなりすぎ、高コントラストへの寄与が低下する。透光性微粒子の屈折率は、好ましくは１．４５〜１．５８であり、より好ましくは１．５０〜１．５７である。「屈折率」は、ＪＩＳ Ｋ−７１４２に従った測定値を指す
【００２９】
次に、透光性微粒子の粒径は、０．３〜１０μｍであることが好適であり、１〜５μｍであることがより好適である。粒径が０．３μｍより小さい場合は防眩性が低下するため、また１０μｍより大きい場合は、ギラツキを発生すると共に、表面凹凸の程度が大きくなり過ぎて表面が白っぽくなってしまうため好ましくない。更に、透光性微粒子の粒径は、膜厚の２０〜８０％が好適であり、３０〜７０％が更に好適である。「粒径」は、電子顕微鏡で実測した１００個の粒子の直径の平均値を指す。尚、全個数の内、当該微粒子の製造工程において混入する微細粉及び粗大粉は、５％未満（より好ましくは１％未満）である。上記透光性樹脂中の透光性微粒子の割合は特に限定されないが、光学機能層中の固形成分の１〜５０重量％とすることが好適であり、５〜１０重量％とすることがより好適である。当該範囲とすると、防眩機能、ギラツキ等の特性を満足する上で好ましく、光学機能層表面の微細な凹凸形状と光拡散をコントロールし易い。
【００３０】
《低反射層》
コントラストを向上させるために、第一の光学機能層上に第二の光学機能層として低反射層を設けることができる。この場合、低反射層の屈折率が光学機能層の屈折率より低いことが必要であり、１．４５以下であることが好ましい。これらの特徴を有する材料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ２（ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ３（ｎ＝１．４）、ＡｌＦ３（ｎ＝１．４）、Ｎａ３ＡｌＦ６（ｎ＝１．３３）、等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系、シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。その中で、特に、フッ素系の含フッ素材料が汚れの防止の点において好ましい。また、低反射層は、臨界表面張力が２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが好ましい。臨界表面張力が２０ｄｙｎｅ／ｃｍより大きい場合は、低反射層に付着した汚れが取れにくくなる。
【００３１】
上記含フッ素材料としては、有機溶剤に溶解し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共重合体や、フルオロオレフィン／炭化水素共重合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアクリレート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシラン、等を挙げることができる。これらは単独でも複数組み合わせて使用することも可能である。
【００３２】
また、２−（パーフルオロデシル）エチルメタクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチルメタクリレート、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−（パーフルオロ−９−メチルデシル）エチルメタクリレート、３−（パーフルオロ−８−メチルデシル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含フッ素メタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシルプロピルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロ−９−メチルデシル）エチルアクリレート等の含フッ素アクリレート、３−パーフルオロデシル−１，２−エポキシプロパン、３−（パーフルオロ−９−メチルデシル）−１，２−エポキシプロパン等のエポキサイド、エポキシアクリレート等の放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プレポリマー等を挙げることができる。これらは単独若しくは複数種類混合して使用することも可能である。
【００３３】
更に、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水若しくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した低反射材料を使用することもできる。５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水若しくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾルは水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。上記シリカゾルは、ＳｉＯ２として０．５〜５０重量％濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は、球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。
【００３４】
また、皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキサンをフッ素変性したものなどを用いることができる。上記のような皮膜形成剤の中でも、特にフッ素化合物を用いることにより、低反射層の臨界表面張力が低下して油分の付着を抑制することができるので好ましい。本発明の低反射層は、上記で述べた材料を例えば溶剤で希釈し、スピンコーター、ロールコーター、印刷等の方法で放射線硬化型樹脂層上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上記の光重合開始剤を使用する）等により硬化させることによって得ることができる。放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プレポリマーは耐汚染性には優れているが、濡れ性が悪いため、組成によっては放射線硬化型樹脂層上で低反射層をはじくという問題や、低反射層が放射線硬化型樹脂層から剥がれるという問題が生じるおそれがあるため、放射線硬化型樹脂層に使用する前述の放射線硬化型樹脂として説明した、アクリロイル系、メタクリロイル系、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等重合性不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合し、使用することが望ましい。
【００３５】
尚、熱によるダメージを受けやすいＰＥＴ、ＴＡＣ等のプラスチック系フィルムを透光性基体に使用する場合は、これら低反射層の材料としては、放射線硬化型樹脂を選択することが好ましい。
【００３６】
低反射層が良好な反射防止機能を発揮するための厚さについては、公知の計算式で算出することができる。入射光が低反射層に垂直に入射する場合に、低反射層が光を反射せず、且つ１００％透過するための条件は次の関係式を満たせばよいとされている。なお、式中Ｎ０は低反射層の屈折率、Ｎｓは放射線硬化型樹脂層の屈折率、ｈは低反射層の厚さ、λ０は光の波長を示す。
【００３７】
【数１】
2015136929.tif 000002
【００３８】
上記（１）式によれば、光の反射を１００％防止するためには、低反射層の屈折率が下層（放射線硬化型樹脂層）の屈折率の平方根になるような材料を選択すればよいことが分かる。ただし、実際は、この数式を完全に満たす材料は見出し難く、限りなく近い材料を選択することになる。上記（２）式では（１）式で選択した低反射層の屈折率と、光の波長から低反射層の反射防止膜としての最適な厚さが計算される。例えば、放射線硬化型樹脂層、低反射層の屈折率をそれぞれ１．５０、１．３８、光の波長を５５０ｎｍ（視感度の基準）とし、これらの値を上記（２）式に代入すると、低反射層の厚さは０．１μｍ前後の光学膜厚、好ましくは０．１±０．０１μｍの範囲が最適であると計算される。
【００３９】
《光学機能層の構造》
光学機能層の膜厚は、３〜２５μｍの範囲であることが好適であり、５〜１５μｍの範囲であることがより好適であり、６〜１２μｍの範囲であることが更に好適である。膜厚が３μｍより薄い場合は、比重の異なる微粒子を十分に厚さ方向に分離させることができない。２５μｍより厚い場合は、光学機能層の硬化収縮によりカールが発生したり、マイクロクラックが発生したり、透光性基体との密着性が低下したり、さらには光透過性が低下したりする。そして、膜厚の増加に伴う必要塗料量の増加によるコストアップの原因ともなる。
【００４０】
《帯電防止層》
本発明に係る光学機能層として、帯電防止層を設けることは必須ではない。帯電防止層は、アルミ、錫等の金属、ＩＴＯ等の金属酸化膜を蒸着、スパッタ等で極めて薄く設ける方法、アルミ、錫等の金属微粒子やウイスカー、酸化錫等の金属酸化物にアンチモン等をドープした微粒子やウイスカー、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタンと金属イオンや有機カチオン等の電子供与体（ドナー）との間でできた電荷移動錯体をフィラー化したもの等をポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等に分散し、ソルベントコーティング等により設ける方法、ポリピロール、ポリアニリン等にカンファースルホン酸等をドープしたものをソルベントコーティング等により設ける方法等により設けることができるものであるが、帯電防止性光学積層体の最表面をプラズマ処理することで、従来にはなく十分な帯電防止性を付与できるため、別途帯電防止層を設けるコストを削減することができる。
【００４１】
《プラズマ放電処理》
プラズマ放電処理としては、減圧プラズマまたは大気圧プラズマ放電処理法のどちらでも良いが、ロールｔｏロールでの塗工法により積層体を製造する場合は、大気圧プラズマ放電処理法の方が連続生産に向いており好ましい。
【００４２】
プラズマ放電処理のプロセスガスとして使用するプラズマガス種としては、たとえば、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、キセノン、ネオン、ラドン、窒素などの不活性ガスや、酸素、空気、一酸化炭素、二酸化炭素、四塩化炭素、クロロホルム、水素、アンモニア、四フッ化炭素、トリフルオロメタン、アセトン、シラン等、任意に選択することができる。また、公知のフッ化ガスあるいは上記ガスの混合ガスでもよい。本発明においては、プラズマガス種として不活性ガスに少量の酸素を含んでいることが好ましい。詳細な理由は不明であるが、同じ処理密度条件でのプラズマ放電処理において、帯電防止性光学積層体の帯電より起こり難くなるからである。
【００４３】
プラズマ放電処理における処理密度は、０．１〜１００W／ｃｍ２の範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜３０Ｗ／ｃｍ２の範囲である。
【実施例】
【００４４】
以下に実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明はそれらの実施例に限定されない。
【００４５】
＜実施例１＞
（塗料の調合）
本発明の光学積層体作製に用いる塗料として、下表1に記載の塗料を調合した。表中の添加量は重量部を示す。塗料は混合物をホモジナイザーにて１時間攪拌することにより調合した。
【００４６】
【表１】
2015136929.tif 000003
【００４７】
（光学機能層の形成）
塗料１を、膜厚４０μｍのトリアセチルセルロース透光性基体（富士フイルム社製、フジタック  ＴＤ−４０）の片面上にバーコーティング方式にてドライ膜厚が６μｍとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥した後、紫外線照射（ランプ：高圧水銀灯、ランプ出力：１２０Ｗ／ｃｍ、積算光量：１２０ｍＪ／ｃｍ）により塗工膜を硬化させ、透光性基体上に光学機能層を形成した。
【００４８】
（プラズマ処理）
該光学機能層上に、供給電力：１９００Ｗ、電極ギャップ：２ｍｍ、プロセスガス：窒素99.5％+ドライエア０．５％、処理温度：２５℃、処理時間：２０秒、にてプラズマ処理を行って、実施例１の光学積層体を得た。
【００４９】
＜実施例２＞
光学機能層の形成で、塗料１の代わりに塗料２を使用した以外は、実施例１と同様にして作製を行い、実施例２の光学積層体を得た。
【００５０】
＜実施例３＞
プラズマ処理におけるプロセスガスを、窒素１００％とした以外は、実施例１と同様に作製を行い、実施例３の光学積層体を得た。
【００５１】
＜実施例４＞
光学機能層の形成で、塗料１の代わりに塗料２を使用し、プラズマ処理におけるプロセスガスを、窒素１００％とした以外は、実施例１と同様に作製を行い、実施例４の光学積層体を得た。
【００５２】
＜比較例１＞
プラズマ処理を行わない以外は実施例１と同様にして作製を行い、比較例１の光学積層体を得た。
【００５３】
＜比較例２＞
光学機能層の形成で、塗料１の代わりに塗料２を使用した以外は、比較例１と同様にして作成を行い、比較例２の光学積層体を得た。
【００５４】
＜比較例３＞
光学機能層の形成で、塗料１の代わりに塗料３を使用した以外は、比較例１と同様にして作成を行い、比較例３の光学積層体を得た。
【００５５】
＜比較例４＞
光学機能層の形成で、塗料１の代わりに塗料４を使用した以外は、比較例１と同様にして作成を行い、比較例４の光学積層体を得た。
【００５６】
以上のようにして得られた実施例１〜２および比較例１〜４の光学積層体について、次の測定評価を行った。
【００５７】
（欠陥検査）
欠陥検査は、各光学積層体サンプルの透光性基体と反対側の表面に対して、目視にて塗布欠陥（クレーター、オレンジピールなど）の有無を確認した。
【００５８】
（表面元素分析）
表面元素分析は、各光学積層体サンプルの透光性基体と反対側の表面をＸ線光電子分光分析装置（アルバック・ファイ社製：Ｑｕａｎｔｅｒａ  ＳＸＭ）を用いて、帯電成分であるパーフルオロアルキル基に起因するフッ素原子と有機変性ポリシロキサンに起因するケイ素原子の定量測定により評価した。
【００５９】
（剥離耐電圧）
剥離耐電圧は、各光学積層体サンプルの透光性基体と反対側の表面に、帯電防止保護フィルム（藤森工業社製：ＡＳ３−３１０）をラミネーターで貼り合わせ、２４時間保管を行って得られた測定サンプルに対し、２３℃、ＲＨ５５％の環境下において３０ｍ／ｍｉｎの剥離速度で帯電防止保護フィルムを剥離し、直後の光学積層体サンプル表面の帯電圧を、表面電位差器（シシド静電気社：スタチロンＭ２）により測定することで評価した。
【００６０】
実施例１〜４および比較例１〜４の測定評価の結果は、表２の通りであった。
【００６１】
【表２】
2015136929.tif 000004
【００６２】
実施例１〜４の本発明の帯電防止性光学積層体は、剥離帯電圧が０．５ｋＶ以下となり、偏光板及び表示装置の作製において、問題なく使用することができた。プラズマ処理を施さない比較例１及び比較例２の光学積層体は、剥離帯電圧が１０．０ｋＶ以上となり、偏光板及び表示装置の作製に支障があった。実施例１及び比較例１並びに実施例２及び比較例２の関係から、プラズマ処理による表面原子量が約１／５に減少することが分かり、これに応じてレベリング剤の添加量を減少させた比較例３及び比較例４では、レベリング剤添加量の減少による塗布欠陥が発生するのみならず、予想したほど剥離帯電圧が低下しなかった。
【産業上の利用可能性】
【００６３】
光学積層体の最表面をプラズマ処理することで、従来の表示装置用光学積層体に設けられている帯電防止層を設けなくとも、耐電圧の低い、帯電防止性光学積層体を得ることができ、より低コストの偏光板作製、及び表示装置作製に貢献できる。