(57)【要約】【課題】光学層としてのカラーフィルターと充填層としての透明樹脂層とをより強く接着させ、両者を剥離しにくくし、電気光学装置の長期信頼性を高めること。【解決手段】素子基板１１と、素子基板１１の表面８に配置された有機ＥＬ素子３０と、有機ＥＬ素子３０を覆う封止層３４と、封止層３４の上に配置された光学層としてのカラーフィルター３６と、封止層３４の上方に配置され有機ＥＬ素子３０を覆う保護基板４０と、カラーフィルター３６と保護基板４０との間に配置された充填層としての透明樹脂層４２と、を備えた電気光学装置であって、カラーフィルター３６は、有機ＥＬ素子３０が配置された第１の領域Ｅ１、及び第１の領域Ｅ１に隣接する第２の領域Ｅ２に配置され、第２の領域Ｅ２に配置されたカラーフィルター３６には、凹凸が形成されていることを特徴とする。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の第１面に配置された発光素子と、
前記発光素子を覆う封止層と、
前記封止層の上に配置された光学層と、
前記光学層の上方に配置された保護基板と
前記光学層と前記保護基板との間に配置された充填層と、
を備えた電気光学装置であって、
前記光学層は、前記発光素子が配置された第１の領域、及び前記第１の領域に隣接する前記第２の領域に配置され、
前記第２の領域に配置された前記光学層には、凹凸が形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記光学層は、少なくとも赤、緑、青の着色層を含むカラーフィルターであることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第２の領域に配置された前記カラーフィルターは、前記第１の領域に配置されている前記カラーフィルターの膜厚と比べて膜厚が大きくなった部分と、前記膜厚が大きくなった部分と比べて膜厚が小さくなった部分とを有していることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記第２の領域に配置された前記カラーフィルターは、前記赤、緑、青の着色層のうちの一つの着色層が配置された部分と、前記赤、緑、青の着色層の中から選ばれる二つ以上の着色層が積層された部分とを有していることを特徴とする請求項２または３に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記第２の領域に配置された前記カラーフィルターは、前記赤、緑、青の着色層のうちの一つの着色層が単層配置された部分と、前記赤、緑、青の着色層のうちの一つの着色層が複数層配置された部分とを有していることを特徴とする請求項２または３に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記第２の領域に配置された前記カラーフィルターは、開口部を有していることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記発光素子は、第１の方向と、前記第１の方向に交差する第２の方向とに複数配置され、
前記凹凸は、前記第１の方向または前記第２の方向に沿って延在するストライプ形状をなしていることを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記発光素子は、第１の方向と、前記第１の方向に交差する第２の方向とに複数配置され、
前記凹凸における凸領域は、矩形状または楕円形状を有し、
前記凸領域は、前記第１の方向と、前記第２の方向とに複数配置されていることを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記封止層は、前記第１面の側から順に積層された平坦化層と、無機封止層とを有し、
前記第２の領域は、前記平坦化層が配置された部分と、前記平坦化層が配置されていない部分とを有していることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記凹凸の凸部は、前記第１面に対して逆テーパー形状の端面を有していることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の電気光学装置を有していることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、及び当該電気光学装置を搭載した電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気光学装置の一例である有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）装置は、自発光型表示装置であり、例えば液晶装置などの非発光型表示装置と比べて、光源としてのバックライトが不要となるため薄型化や軽量化の点で有利であり、電子ビューファインダーなどのマイクロディスプレイへの応用が期待されている。
【０００３】
マイクロディスプレイへの応用が好適な電気光学装置として、例えば特許文献１に記載の有機ＥＬ装置が提案されている。特許文献１の有機ＥＬ装置は、石英基板やシリコン基板などの上に、駆動層（薄膜トランジスター）、有機ＥＬ素子、封止層、カラーフィルター、充填層、及び保護基板などが順に配置された構成を有している。封止層は、有機ＥＬ素子への酸素や水などの侵入を抑制し、有機ＥＬ素子の劣化を抑制する役割を有している。カラーフィルターは、有機ＥＬ素子で発した光を着色する役割を有し、色材を含む感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法で形成されている。保護基板は、有機ＥＬ素子や封止層が機械的衝撃でダメージ（機械的損傷）を受けないように保護する役割を有し、充填層を介してカラーフィルターに接着されている。特許文献１の有機ＥＬ装置では、有機ＥＬ素子で発した光がカラーフィルターを介して外部に射出されるので、高い色再現性を実現することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−２６０６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
有機ＥＬ素子は、酸素や水に加えて熱に対しても脆弱であり、高温で熱処理することが難しい。このため、色材を含む感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法でカラーフィルターを形成する際に使用した水（水分）を、熱処理でカラーフィルターから完全に除去することが難しく、カラーフィルターに水分が残留することがある。カラーフィルターに残留する水分は、カラーフィルターと充填層との密着性を低下させる。例えば、特許文献１に記載の有機ＥＬ装置に低温と高温との温度負荷（ストレス）を作用させると、カラーフィルター及び充填層の熱膨張差によってカラーフィルターと充填層とを剥離させる力が加わり、カラーフィルターと充填層とが部分的に剥離する恐れがあった。さらに、有機ＥＬ装置を長期間使用すると、上述した温度ストレス以外に外力による機械的ストレスが作用し、外力による機械的ストレスによってもカラーフィルターと充填層とが部分的に剥離する恐れがあった。このようなカラーフィルターと充填層との部分的な剥離は、有機ＥＬ素子で発した光の射出を阻害し、表示不良となる。すなわち、カラーフィルターに残留する水分によってカラーフィルターと充填層との密着性が低下し、有機ＥＬ装置の長期信頼性が低下する恐れがあった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例に係る電気光学装置は、基板と、前記基板の第１面に配置された発光素子と、前記発光素子を覆う封止層と、前記封止層の上に配置された光学層と、前記光学層の上方に配置された保護基板と、前記光学層と前記保護基板との間に配置された充填層と、を備えた電気光学装置であって、前記光学層は、前記発光素子が配置された第１の領域、及び前記第１の領域に隣接する前記第２の領域に配置され、前記第２の領域に配置された前記光学層には、凹凸が形成されていることを特徴とする。
【０００８】
本適用例に係る電気光学装置は、基板と、基板の第１面に配置された発光素子と、発光素子を覆う封止層と、封止層の上に配置された光学層と、光学層の上方に配置された保護基板と、光学層と保護基板との間に配置され両者を接着する充填層とを備えている。さらに、光学層は、発光素子が配置された第１の領域、及び第１の領域に隣接する第２の領域に配置され、第２の領域に配置された光学層には、凹凸が形成されている。
第２の領域に形成された凹凸によって、凹凸が形成されていない場合と比べて、光学層と充填層（接着層）とが接触する面積（接着面積）が広くなるので、光学層と充填層との接着強度が強くなり、光学層と充填層とが剥離しにくくなる。さらに、第２の領域に形成された凹凸の凹領域には、充填層が充填されている。凹領域に充填された充填層のアンカー効果によっても、充填層は光学層に強く固定され、両者は剥離しにくくなる。
電気光学装置の長期使用などで、光学層と充填層とを剥離させる温度ストレスや機械的ストレスが作用しても、第２の領域に形成された凹凸によって充填層は光学層に強く接着（固定）されているので、光学層と充填層との剥離及び当該剥離に起因する表示不具合が抑制される。従って、当該電気光学装置は、優れた長期信頼性を有するようになる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例に記載の電気光学装置において、前記光学層は、少なくとも赤、緑、青の着色層を含むカラーフィルターであることが好ましい。
【００１０】
上記適用例に記載の電気光学装置において、光学層は、少なくとも赤、緑、青の着色層を含むカラーフィルターで構成されている。すなわち、発光素子の上方には、光学層としてのカラーフィルターが配置されている。発光素子の熱劣化を抑制するために、例えば水の沸点より低い温度でカラーフィルターから水分を取り除く熱処理を施し、カラーフィルターに水分が残留しても、第２の領域に配置されたカラーフィルターには凹凸が形成され、カラーフィルターと充填層との間の接着強度が強くなっているので、充填層はカラーフィルターに強く接着（固定）され、両者は剥離しにくくなっている。よって、発光素子の熱劣化を抑制しつつ、カラーフィルターと充填層との剥離及び当該剥離に起因する表示不具合を抑制し、電気光学装置の長期信頼性を高めることができる。
【００１１】
［適用例３］上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第２の領域に配置された前記カラーフィルターは、前記第１の領域に配置されている前記カラーフィルターの膜厚と比べて膜厚が大きくなった部分と、前記膜厚が大きくなった部分と比べて膜厚が小さくなった部分とを有していることが好ましい。
【００１２】
上記適用例に記載の電気光学装置において、第２の領域に配置されたカラーフィルターは、第１の領域に配置されているカラーフィルターの膜厚と比べて膜厚が大きくなった部分と、膜厚が大きくなった部分と比べて膜厚が小さくなった部分とを有し、当該カラーフィルターの膜厚が大きくなった部分と、当該カラーフィルターの膜厚が小さくなった部分とによって、第２の領域に凹凸が形成される。第２の領域に形成された凹凸によって、凹凸が形成されていない場合と比べて、カラーフィルターと充填層とが接触する面積（接着面積）が広くなるので、カラーフィルターと充填層との接着強度が強くなり、カラーフィルターと充填層とが剥離しにくくなる。さらに、第２の領域に形成された凹凸の凹領域には、充填層が充填されている。凹領域に充填された充填層のアンカー効果によっても、充填層はカラーフィルターに強く固定され、両者は剥離しにくくなる。
【００１３】
［適用例４］上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第２の領域に配置された前記カラーフィルターは、前記赤、緑、青の着色層のうちの一つの着色層が配置された部分と、前記赤、緑、青の着色層の中から選ばれる二つ以上の着色層が積層された部分とを有していることが好ましい。
【００１４】
上記適用例に記載の電気光学装置において、第２の領域に配置されたカラーフィルターは、赤、緑、青の着色層のうちの一つの着色層が配置された部分と、赤、緑、青の着色層の中から選ばれる二つ以上の着色層が積層された部分とによって、凹凸が形成される。第２の領域に形成された凹凸によって、凹凸が形成されていない場合と比べて、カラーフィルターと充填層とが接触する面積（接着面積）が広くなるので、カラーフィルターと充填層との接着強度が強くなり、カラーフィルターと充填層とが剥離しにくくなる。さらに、第２の領域に形成された凹凸の凹領域には、充填層が充填されている。凹領域に充填された充填層のアンカー効果によっても、充填層はカラーフィルターに強く固定され、両者は剥離しにくくなる。
【００１５】
［適用例５］上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第２の領域に配置された前記カラーフィルターは、前記赤、緑、青の着色層のうちの一つの着色層が単層配置された部分と、前記赤、緑、青の着色層のうちの一つの着色層が複数層配置された部分とを有していることが好ましい。
【００１６】
上記適用例に記載の電気光学装置において、第２の領域に配置されたカラーフィルターは、赤、緑、青の着色層のうちの一つの着色層が単層配置された部分と、赤、緑、青の着色層のうちの一つの着色層が複数層配置された部分とによって、凹凸が形成される。第２の領域に形成された凹凸によって、凹凸が形成されていない場合と比べて、カラーフィルターと充填層とが接触する面積（接着面積）が広くなるので、カラーフィルターと充填層との接着強度が強くなり、カラーフィルターと充填層とが剥離しにくくなる。さらに、第２の領域に形成された凹凸の凹領域には、充填層が充填されている。凹領域に充填された充填層のアンカー効果によっても、充填層はカラーフィルターに強く固定され、両者は剥離しにくくなる。
【００１７】
［適用例６］上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第２の領域に配置された前記カラーフィルターは、開口部を有していることが好ましい。
【００１８】
上記適用例に記載の電気光学装置において、第２の領域に配置されたカラーフィルターは開口部を有し、カラーフィルターと、カラーフィルターに形成された開口部とによって、凹凸が形成されている。また、カラーフィルターに形成された開口部では、下層の封止層が露出されている。すなわち、凹凸における凸領域にはカラーフィルターが配置され、凹凸における凹領域には封止層が配置され、これらは充填層が接着する対象物を構成する。
第２の領域に形成された凹凸によって、凹凸が形成されていない場合と比べて、充填層と充填層が接着する対称物（カラーフィルター、封止層）とが接触する面積（接着面積）が広くなるので、充填層は当該対称物（カラーフィルター、封止層）に強く接着され、両者は剥離しにくくなる。さらに、第２の領域に形成された凹凸の凹領域には、充填層が充填され、凹領域に充填された充填層のアンカー効果によっても、充填層は当該対称物（カラーフィルター、封止層）に強く固定され、両者は剥離しにくくなる。
【００１９】
［適用例７］上記適用例に記載の電気光学装置において、前記発光素子は、第１の方向と、前記第１の方向に交差する第２の方向とに複数配置され、前記凹凸は、前記第１の方向または前記第２の方向に沿って延在するストライプ形状をなしていることが好ましい。
【００２０】
上記適用例に記載の電気光学装置において、発光素子は、第１の方向と、第１の方向に交差する第２の方向とに複数配置され、第２の領域に配置されたカラーフィルター（光学層）には、第１の方向または前記第２の方向に沿って延在するストライプ形状の凹凸が形成されている。ストライプ形状の凹凸によって、凹凸が形成されていない場合と比べて、カラーフィルターと充填層とが接触する面積（接着面積）が広くなるので、カラーフィルターと充填層との接着強度が強くなり、カラーフィルターと充填層とが剥離しにくくなる。さらに、ストライプ形状の凹凸の凹領域には、充填層が充填されている。凹領域に充填された充填層のアンカー効果によっても、充填層はカラーフィルターに強く固定され、両者は剥離しにくくなる。
【００２１】
［適用例８］上記適用例に記載の電気光学装置において、前記発光素子は、第１の方向と、前記第１の方向に交差する第２の方向とに複数配置され、前記凹凸における凸領域は、矩形状または楕円形状を有し、前記凸領域は、前記第１の方向と、前記第２の方向とに複数配置されていることが好ましい。
【００２２】
上記適用例に記載の電気光学装置において、発光素子は、第１の方向と、第１の方向に交差する第２の方向とに複数配置されている。第２の領域に配置されたカラーフィルター（光学層）は、第１の方向と第２の方向とに複数配置された矩形状または楕円形状の凸領域を有し、当該凸領域によって凹凸が形成されている。当該凸領域によって凹凸を形成することによって、凹凸が形成されていない場合と比べて、カラーフィルターと充填層とが接触する面積（接着面積）が広くなるので、カラーフィルターと充填層との接着強度が強くなり、カラーフィルターと充填層とが剥離しにくくなる。さらに、凹凸の凹領域には、充填層が充填されている。凹領域に充填された充填層のアンカー効果によっても、充填層はカラーフィルターに強く固定され、両者は剥離しにくくなる。
【００２３】
［適用例９］上記適用例に記載の電気光学装置において、前記封止層は、前記第１面の側から順に積層された平坦化層と、無機封止層とを有し、前記第２の領域は、前記平坦化層が配置された部分と、前記平坦化層が配置されていない部分とを有していることが好ましい。
【００２４】
上記適用例に記載の電気光学装置において、封止層は、第１面の側から順に積層された平坦化層と無機封止層とを有し、第２の領域は、平坦化層が配置された部分と、平坦化層が配置されていない部分とを有し、封止層（平坦化層、無機封止層）を覆うように光学層が配置されている。第２の領域に配置された光学層には、下層の平坦化層の形状が反映され、平坦化層が配置された部分と、平坦化層が配置されていない部分とによって凹凸が形成される。このため、凹凸が形成されていない場合と比べて、光学層と充填層とが接触する面積（接着面積）が広くなるので、光学層と充填層との接着強度が強くなり、カラーフィルターと充填層とが剥離しにくくなる。さらに、凹凸の凹領域には、充填層が充填されている。凹領域に充填された充填層のアンカー効果によっても、充填層はカラーフィルターに強く固定され、両者は剥離しにくくなる。
【００２５】
［適用例１０］上記適用例に記載の電気光学装置において、前記凹凸の凸部、前記第１面に対して逆テーパー形状の端面を有していることが好ましい。
【００２６】
上記適用例に記載の電気光学装置において、第２の領域のカラーフィルターに形成された凹凸の凸領域は、第１面に対して逆テーパー形状の端面を有している。カラーフィルターに形成された凹凸の凹領域には、充填層が充填され、凹領域に充填された充填層のアンカー効果によって、充填層はカラーフィルターに強く固定される。さらに、逆テーパー形状の端面を有する凸領域のカラーフィルターと、凹領域の充填層とが嵌合することによって、充填層はカラーフィルターにより強く固定され、両者はより動きにくくなる（剥離しにくくなる）。
【００２７】
［適用例１１］本適用例に係る電子機器は、上記適用例に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする。
【００２８】
本適用例に係る電子機器は、上記適用例に記載の電気光学装置を備えている。当該電気光学装置は、第２の領域に形成された凹凸によって優れた長期信頼性を有している。例えば、ヘッドマウントディスプレイ、デジタルカメラ、パーソナルコンピューターや携帯型情報端末、ナビゲーター、ビューワー、ヘッドアップディスプレイなどの電子機器の表示部に上記適用例に記載の電気光学装置を適用することで、長期信頼性に優れた電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】実施形態１に係る有機ＥＬ装置の電気的な構成を示す等価回路図。
【図２】実施形態１に係る有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図。
【図３】サブ画素の構成を示す概略平面図。
【図４】図３のＣ−Ｃ’線に沿った有機ＥＬパネルの構造を示す概略断面図。
【図５】図２のＡ−Ａ’線に沿った概略断面図。
【図６】図２の領域Ｂの概略平面図。
【図７】複数の基板が多面付けされたマザー基板の状態を示す概略平面図。
【図８】カラーフィルターの好適例を示す概略断面図。
【図９】カラーフィルターの好適例を示す概略断面図。
【図１０】カラーフィルターの好適例を示す概略平面図。
【図１１】カラーフィルターの好適例を示す概略平面図。
【図１２】カラーフィルターの好適例を示す概略平面図。
【図１３】実施形態２に係る有機ＥＬ装置の構成を示す概略断面図。
【図１４】実施形態２に係る有機ＥＬ装置のカラーフィルターの概略平面図。
【図１５】実施形態３に係る有機ＥＬ装置の平坦化層の配置の状態を示す概略平面図。
【図１６】実施形態３に係る有機ＥＬ装置の概略断面図。
【図１７】（ａ）はヘッドマウントディスプレイの構成を示す概略図、（ｂ）はデジタルカメラの構成を示す概略図。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の各図においては、各層や各部位を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部位の縮尺を実際とは異ならせしめてある。
【００３１】
（実施形態１）
「有機ＥＬ装置の概要」
実施形態１に係る有機ＥＬ装置１００は、電気光学装置の一例であり、例えば後述するＨＭＤ（Head Mounted Display）やデジタルカメラなどの表示部などに好適に使用することができるものである。
まず、本実施形態に係る有機ＥＬ装置１００の概要について、図１及び図２を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置の電気的な構成を示す等価回路図である。図２は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図である。
【００３２】
図１に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、互いに交差する複数の走査線１２及び複数のデータ線１３と、複数のデータ線１３のそれぞれに対して並列する複数の電源線１４とを有している。走査線１２は走査線駆動回路１６に接続され、データ線１３はデータ線駆動回路１５に接続されている。また、複数の走査線１２と複数のデータ線１３との各交差部に対応してマトリックス状に配置された複数のサブ画素１８を有している。
【００３３】
サブ画素１８は、有機ＥＬ素子３０と、有機ＥＬ素子３０の駆動を制御する画素回路２０とを有している。
【００３４】
有機ＥＬ素子３０は、陽極として機能する画素電極３１と、陰極として機能する対向電極３３と、画素電極３１と対向電極３３との間に設けられた有機発光層を含む発光機能層３２とを有している。このような有機ＥＬ素子３０は、電気的にダイオードとして表記することができ、有機ＥＬ素子３０に流れる電流によって、発光機能層３２が発光する。詳しくは、画素電極３１から発光機能層に３２に正孔が供給され、対向電極３３から発光機能層３２に電子が供給され、正孔と電子とが発光機能層３２で結合し、発光機能層３２が白色に発光する。
有機ＥＬ素子３０は、本発明における「発光素子」の一例である。
【００３５】
画素回路２０は、スイッチング用トランジスター２１と、蓄積容量２２と、駆動用トランジスター２３とを含んでいる。２つのトランジスター２１，２３は、例えばｎチャネル型もしくはｐチャネル型の薄膜トランジスター（Thin Film Transistor、以降ＴＦＴと称す）などを用いて構成することができる。
【００３６】
スイッチング用ＴＦＴ２１のゲートは、走査線１２に接続されている。スイッチング用ＴＦＴ２１のソースまたはドレインのうち一方は、データ線１３に接続されている。スイッチング用ＴＦＴ２１のソースまたはドレインのうち他方は、駆動用ＴＦＴ２３のゲートに接続されている。
【００３７】
駆動用ＴＦＴ２３のソースまたはドレインのうち一方は、有機ＥＬ素子３０の画素電極３１に接続されている。駆動用ＴＦＴ２３のソースまたはドレインのうち他方は、電源線１４に接続されている。駆動用ＴＦＴ２３のゲートと電源線１４との間には、蓄積容量２２が接続されている。
【００３８】
走査線１２が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ２１がオン状態になると、そのときにデータ線１３から供給される画像信号に基づく電位がスイッチング用ＴＦＴ２１を介して蓄積容量２２に保持される。該蓄積容量２２の電位すなわち駆動用ＴＦＴ２３のゲート電位に応じて、駆動用ＴＦＴ２３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用ＴＦＴ２３がオン状態になると、電源線１４から駆動用ＴＦＴ２３を介して、画素電極３１と対向電極３３とで挟まれた発光機能層３２に、ゲート電位に応じた量の電流が流れる。有機ＥＬ素子３０は、発光機能層３２に流れる電流量に応じて発光する。
【００３９】
図２に示すように、有機ＥＬ装置１００は、有機ＥＬパネル１やフレキシブル回路基板（以降、ＦＰＣと称す）１０５などから構成されている。
有機ＥＬパネル１は、基板１０（素子基板１１）と、保護基板４０と、基板１０と保護基板４０との間に配置された透明樹脂層４２（図４参照）などを有している。保護基板４０は、基板１０よりも小さく、基板１０に対向配置されている。
【００４０】
基板１０には、上述したサブ画素１８、走査線駆動回路１６、検査回路１７、走査線１２、データ線１３、電源線１４、及び光学層としてのカラーフィルター３６などが配置されている。サブ画素１８（有機ＥＬ素子３０）は、マトリックス状に配置され、第１の領域Ｅ１を形成する。第１の領域Ｅ１は、画像が表示される表示領域となる。光学層としてのカラーフィルター３６は、第１の領域Ｅ１、及び第１の領域Ｅ１の周辺領域（第２の領域Ｅ２）に配置されている。第２の領域Ｅ２は、第１の領域Ｅ１に隣接し、第１の領域Ｅ１を取り囲む額縁形状を有している。図中で、第１の領域Ｅ１は網掛けで、第２の領域Ｅ２はハッチングで示されている。
このように、カラーフィルター３６は、第１の領域Ｅ１と第２の領域Ｅ２とに配置されている。カラーフィルター３６が配置された領域は、保護基板４０が配置された領域よりも大きく、カラーフィルター３６の外縁は、基板１０の外縁と保護基板４０の外縁との間に配置されている。
【００４１】
基板１０の第１辺は、保護基板４０から大きく張り出している。基板１０の大きく張り出した部分には、複数の端子１０１が、該第１辺に沿って配置されている。該第１辺と直交し互いに対向する他の第２辺及び第３辺と、第１の領域Ｅ１との間には、走査線駆動回路１６が配置されている。該第１辺と対向する他の第４辺と、第１の領域Ｅ１との間には、検査回路１７が配置されている。第２辺と走査線駆動回路１６との間、第３辺と走査線駆動回路１６との間、及び第４辺と検査回路１７との間には、配線層２９が配置されている。つまり、配線層２９は、二つの走査線駆動回路１６と検査回路１７とを囲むように配置されている。配線層２９は、対向電極３３に電流を供給する陰極配線であり、大きな電流が流れるため、他の配線よりも配線幅が大きくなっている。
【００４２】
以降、該第１辺に沿った方向をＸ方向、該第１辺と直交し互いに対向する他の第２辺及び第３辺に沿った方向をＹ方向、基板１０から保護基板４０に向かう方向をＺ方向として説明する。
なお、Ｘ方向は本発明における「第１の方向」の一例であり、Ｙ方向は本発明における「第２の方向」の一例である。
【００４３】
ＦＰＣ１０５には、上述したデータ線駆動回路１５を含む駆動用ＩＣ１１０が実装されている。ＦＰＣ１０５は、駆動用ＩＣ１１０の入力側に配線を介して接続される入力端子１０２と、駆動用ＩＣ１１０の出力側に配線を介して接続される出力端子（図示省略）とを有している。ＦＰＣ１０５は、基板１０側の端子１０１に接続されている。上述した基板１０側のデータ線１３、電源線１４、走査線駆動回路１６、検査回路１７、及び配線層２９は、端子１０１及びＦＰＣ１０５を介して駆動用ＩＣ１１０に電気的に接続され、所定の信号が供給されている。
【００４４】
図３は、サブ画素の構成を示す概略平面図である。次に、図３を参照してサブ画素１８の構成とその平面的な配置について説明する。
【００４５】
上述したように、有機ＥＬパネル１（有機ＥＬ装置１００）は、カラーフィルター３６を有している。カラーフィルター３６は、少なくとも赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層を含んで構成され、サブ画素１８を覆うように配置されている。また、有機ＥＬ装置１００では、有機ＥＬ素子３０で発した光がカラーフィルター３６を通過し、外部に射出されるようになっている。
【００４６】
図３に示すように、赤（Ｒ）の着色層３６Ｒが配置されたサブ画素１８Ｒ、緑（Ｇ）の着色層３６Ｇが配置されたサブ画素１８Ｇ、及び青（Ｂ）の着色層３６Ｂが配置されたサブ画素１８Ｂが、Ｘ方向に順に配置されている。サブ画素１８Ｒでは赤（Ｒ）の光が、サブ画素１８Ｇでは緑（Ｇ）の光が、サブ画素１８Ｂでは青（Ｂ）の光が発せられる。同じ色の光が発せられるサブ画素１８は、Ｙ方向に配置されている。有機ＥＬ装置１００では、Ｘ方向に配置された３つのサブ画素１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂを１つの画素１９（表示単位）として、フルカラーの表示が提供される。
【００４７】
本実施形態において、Ｘ方向におけるサブ画素１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂの配置ピッチは５μｍ未満である。Ｘ方向に０．５μｍ〜１．０μｍの間隔を置いてサブ画素１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂが配置されている。Ｙ方向におけるサブ画素１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂの配置ピッチはおよそ１０μｍ未満である。
【００４８】
サブ画素１８における画素電極３１は略矩形状であって、長手方向がＹ方向に沿って配置されている。画素電極３１を、発光色に対応させて画素電極３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂと称す場合がある。各画素電極３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂの外縁を覆って絶縁性の隔壁２８が配置されている。これによって、各画素電極３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂ上に開口部２８ａが形成され、隔壁２８に設けられた開口部２８ａ内の画素電極３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂのそれぞれが、発光機能層３２と接することとなる。開口部２８ａの平面形状もまた略矩形状となっている。
【００４９】
赤（Ｒ）の着色層３６Ｒは、Ｙ方向に配列する複数の画素電極３１Ｒと重なるように配置されている。緑（Ｇ）の着色層３６Ｇは、Ｙ方向に配列する複数の画素電極３１Ｇと重なるように配置されている。青（Ｂ）の着色層３６Ｂは、Ｙ方向に配列する複数の画素電極３１Ｂと重なるように配置されている。つまり、着色層３６Ｒ、着色層３６Ｇ、着色層３６Ｂのそれぞれは、Ｙ方向に沿って延在し、Ｘ方向に規則的に配置されている。すなわち、カラーフィルター３６を構成する着色層３６Ｒ、着色層３６Ｇ、及び着色層３６Ｂは、Ｙ方向に沿って延在するストライプ配置をなしている。
【００５０】
「有機ＥＬパネルの概要」
図４は、図３のＣ−Ｃ’線に沿った有機ＥＬパネルの構造を示す概略断面図である。
【００５１】
上述したように、有機ＥＬパネル１は、基板１０と、保護基板４０と、基板１０と保護基板４０との間に配置された透明樹脂層４２とを有している。以下、図４を参照して、有機ＥＬパネル１の構成要素を順に説明する。
【００５２】
「基板」
図４に示すように、基板１０は、素子基板本体１１ａ、並びに素子基板本体１１ａの保護基板４０に対向する側の面に順に積層された画素回路２０、有機ＥＬ素子３０、封止層３４、及びカラーフィルター３６などを備えている。素子基板本体１１ａ及び画素回路２０は、素子基板１１を構成する。つまり、基板１０は、素子基板１１と、有機ＥＬ素子３０と、封止層３４と、カラーフィルター３６とが、順に積層された構成を有している。
なお、素子基板１１は、本発明における「基板」の一例である。
【００５３】
上述したように、素子基板１１は、素子基板本体１１ａと画素回路２０とで構成される。
素子基板本体１１ａは、例えば石英やガラスなどの光透過性材料で構成されている。なお、素子基板本体１１ａは、光透過性を有していなくてもよく、例えばシリコンやセラミックスなどの不透明材料で構成されていてもよい。
【００５４】
画素回路２０は、第１絶縁膜９ａから第２層間絶縁膜２６までに配置された絶縁膜、半導体膜、及び導電膜などで形成されている。すなわち、図４に図示された駆動用ＴＦＴ２３、及び図４では図示が省略された配線層２９とスイッチング用ＴＦＴ２１と蓄積容量２２と検査回路１７と走査線駆動回路１６と配線層２９と端子１０１とは、画素回路２０の構成要素であり、これらは第１絶縁膜９ａから第２層間絶縁膜２６までに配置された絶縁膜、半導体膜、及び導電膜などで形成されている。
【００５５】
素子基板本体１１ａは、第１絶縁膜９ａで覆われている。第１絶縁膜９ａの上には、半導体層２３ａが配置されている。半導体層２３ａは、ゲート絶縁膜として機能する第２絶縁膜９ｂで覆われている。第２絶縁膜９ｂを介して半導体層２３ａのチャネル領域と対向する位置に、ゲート電極２３ｇが配置されている。駆動用ＴＦＴ２３は、半導体層２３ａ、第２絶縁膜９ｂ（ゲート絶縁膜）、及びゲート電極２３ｇなどで構成される。ゲート電極２３ｇは、第１層間絶縁膜２４で覆われている。半導体層２３ａのソース領域２３ｓとドレイン領域２３ｄとにそれぞれ対応して、第２絶縁膜９ｂと第１層間絶縁膜２４とを貫通するコンタクトホールが形成される。これらのコンタクトホールを埋めるようにして導電膜が形成され、パターニングされて駆動用ＴＦＴ２３に接続される電極や配線が形成される。また、上記導電膜は、光反射性の例えばアルミニウム、あるいはアルミニムとＡｇ（銀）やＣｕ（銅）との合金などを用いて形成され、これをパターニングすることによって、サブ画素１８ごとに独立した反射層２５が形成される。
【００５６】
第１層間絶縁膜２４は、第２層間絶縁膜２６で覆われている。第２層間絶縁膜２６には、画素電極３１と駆動用ＴＦＴ２３とを電気的に接続させるためのコンタクトホールが配置されている。第１絶縁膜９ａ、第２絶縁膜９ｂ、第１層間絶縁膜２４、第２層間絶縁膜２６を構成する材料としては、例えばシリコン酸化物、シリコン窒化物、及びシリコン酸窒化物などを使用することができる。
【００５７】
第２層間絶縁膜２６の上には、画素電極３１、発光機能層３２、及び対向電極３３が順に積層されて有機ＥＬ素子３０が形成されている。
画素電極３１（３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂ）は、発光機能層３２に正孔を供給するための電極である。画素電極３１は、光透過性を有し、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの光透過性材料で形成されている。画素電極３１は、反射層２５と平面的に重なって、複数のサブ画素１８のそれぞれに島状に配置されている。画素電極３１は、第２層間絶縁膜２６に形成されたコンタクトホールを介して、駆動用ＴＦＴ２３に電気的に接続されている。
【００５８】
各画素電極３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂの外縁部を覆って隔壁２８が配置されている。これによって画素電極３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂ上に開口部２８ａが形成されている。隔壁２８は、例えばアクリル系の感光性樹脂を用いて形成され、各画素電極３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂをそれぞれ区画している（絶縁している）。なお、隔壁２８を酸化シリコンなどの無機絶縁材料で構成してもよい。
【００５９】
発光機能層３２は、画素電極３１（３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂ）及び隔壁２８を覆うように配置されている。発光機能層３２は、画素電極３１の側から順に積層された正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、及び電子輸送層などを有している。画素電極３１から供給される正孔と、対向電極３３から供給される電子とが有機発光層で結合し、発光機能層３２が発光する（光を発する）。
有機発光層は、赤色、緑色および青色の光成分を有する光、すなわち白色の光を発する。有機発光層は、単層で構成してもよいし、複数の層（例えば、電流が流れると主に青色で発光する青色発光層と、電流が流れると赤色と緑色を含む光を発する黄色発光層）で構成してもよい。
【００６０】
対向電極３３は、発光機能層３２に電子を供給するための共通電極である。対向電極３３は、発光機能層３２を覆って配置され、例えばＭｇとＡｇとの合金などで構成され、光透過性と光反射性とを有している。対向電極３３を構成する合金を薄膜化することで、光反射性の機能に加えて光透過性の機能を付与することができる。
【００６１】
対向電極３３の上には、封止層３４が配置されている。封止層３４は、発光機能層３２や対向電極３３の劣化を抑制するパッシベーション膜であり、発光機能層３２や対向電極３３への水分や酸素の侵入を抑制している。封止層３４は、対向電極３３の側から順に積層された第１の無機封止層３４ａと、平坦化層３４ｂと、第２の無機封止層３４ｃとで構成されている。封止層３４は、有機ＥＬ素子３０を覆い、素子基板１１の略全面に配置されている。なお、封止層３４には、端子を露出させる開口部（図示省略）が形成されている。
【００６２】
第１の無機封止層３４ａは、例えば公知技術のプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などを用いて形成されたシリコン酸窒化物で構成される。第１の無機封止層３４ａの膜厚は、概略０．１μｍ〜１μｍである。第１の無機封止層３４ａを構成する材料は、上述したシリコン酸窒化物の他に、シリコン酸化物やシリコン窒化物などを使用することができる。
【００６３】
平坦化層３４ｂは、熱安定性に優れた例えばエポキシ系樹脂や塗布型の無機材料（シリコン酸化物など）などで構成されている。平坦化層３４ｂの膜厚は、第１の無機封止層３４ａの膜厚よりも大きく、概略１μｍ〜５μｍである。平坦化層３４ｂは、第１の無機封止層３４ａの欠陥（ピンホール、クラック）や異物などを被覆し、平坦な面を形成する。
【００６４】
第２の無機封止層３４ｃは、例えば公知技術のプラズマＣＶＤ法などを用いて形成されたシリコン酸窒化物で構成される。第２の無機封止層３４ｃの膜厚は、概略０．１μｍ〜１μｍである。第２の無機封止層３４ｃは、第１の無機封止層３４ａと同じ材料で構成され、水分や酸素に対して高いバリア性を有している。
【００６５】
封止層３４上には、各色のサブ画素１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂに対応した着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂが配置されている。すなわち、封止層３４上には、着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂで構成されるカラーフィルター３６が配置されている。
【００６６】
「透明樹脂層、保護基板」
カラーフィルター３６の上には、透明樹脂層４２と、保護基板４０とが順に配置されている。
【００６７】
保護基板４０は、例えば石英やガラスなどの光透過性材料で構成され、有機ＥＬ素子３０を覆うように配置されている。保護基板４０は、機械的衝撃や外部雰囲気の影響を受けないように有機ＥＬ素子３０を保護している。
【００６８】
透明樹脂層４２は、カラーフィルター３６と保護基板４０との間に配置され、カラーフィルター３６と保護基板４０とを接着する接着層である。透明樹脂層４２は、例えばエポキシ樹脂で構成されている。透明樹脂層４２を構成する材料としては、エポキシ樹脂の他に、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂などを使用することができる。
透明樹脂層４２は、本発明における「充填層」の一例である。
【００６９】
このような構成によって、有機ＥＬ素子３０（発光機能層３２）で発せられた光は、カラーフィルター３６、透明樹脂層４２及び保護基板４０を通過し、矢印方向（Ｚ方向）に射出される。すなわち、赤（Ｒ）の着色層３６Ｒが配置されたサブ画素１８Ｒからは赤（Ｒ）の光が、緑（Ｇ）の着色層３６Ｇが配置されたサブ画素１８Ｇからは緑（Ｇ）の光が、及び青（Ｂ）の着色層３６Ｂが配置されたサブ画素１８Ｂからは青（Ｂ）の光が、それぞれ表示光として射出される。このように、有機ＥＬパネル１は、基板１０（有機ＥＬ素子３０）で発せられた光が、保護基板４０の側から射出されるトップエミッション構造を有している。
【００７０】
「カラーフィルターの製造方法」
次に、カラーフィルター３６の製造方法の概要を説明する。
カラーフィルター３６（着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂ）は、色材を含む感光性樹脂材料を塗布して、感光性樹脂層を形成し、これをフォトリソグラフィー法で露光・現像して形成する方法で形成されている。
【００７１】
最初に、緑（Ｇ）の色材を含む感光性樹脂をスピンコート法で塗布して乾燥することにより、緑（Ｇ）の感光性樹脂層を形成する。感光性樹脂層は、感光性のアクリル樹脂で構成され、光が照射された（露光された）領域が不溶化する。着色層３６Ｇの配置領域に光を照射し（露光し）、不溶化させ、現像液で不溶化していない未露光の感光性樹脂層を除去する。不溶化した感光性樹脂層を純水で洗浄し、焼成し、硬化させて緑（Ｇ）の着色層３６Ｇを形成する。なお、感光性樹脂層の焼成時に発光機能層３２が熱劣化しないように、感光性樹脂層の焼成温度は、水の沸点（１００℃）よりも低くなっている（例えば、８０℃程度）。
【００７２】
続いて、青（Ｂ）の着色層３６Ｂを形成する。すなわち、青（Ｂ）の色材を含む感光性樹脂をスピンコート法で塗布して乾燥することにより、青（Ｂ）の感光性樹脂層を形成した後、感光性樹脂層を露光・現像し、純水で洗浄し、焼成し、硬化させて青（Ｂ）の着色層３６Ｂを形成する。最後に、赤（Ｒ）の着色層３６Ｒを形成する。すなわち、赤（Ｒ）の色材を含む感光性樹脂をスピンコート法で塗布して乾燥することにより、赤（Ｒ）の感光性樹脂層を形成した後、感光性樹脂層を露光・現像し、純水で洗浄し、焼成し、硬化させて赤（Ｒ）の着色層３６Ｒを形成する。青（Ｂ）の着色層３６Ｂを形成する工程及び赤（Ｒ）の着色層３６Ｒを形成する工程においても、発光機能層３２を熱劣化させないように、緑（Ｇ）の着色層３６Ｇを形成する工程と同様に、感光性樹脂層の焼成温度は水の沸点（１００℃）よりも低くなっている（例えば、８０℃程度）。このため、カラーフィルター３６には、水分が残留することがある。
【００７３】
上記製造工程を経て、着色層３６Ｒと着色層３６Ｇと着色層３６Ｂとで構成されるカラーフィルター３６を形成する。着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂの膜厚は、どの色も同じであり、概略１．５μｍ〜２．０μｍである。なお、着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂの膜厚は、少なくとも１色を他の色と異ならせた構成であってもよい。
【００７４】
「カラーフィルターの構成」
図５は、図２のＡ−Ａ’線に沿った概略断面図である。図６は、図２の破線で囲まれた領域Ｂの概略平面図である。
図５では、着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂの配置の状態を見やすくするために、第２の領域Ｅ２に配置されている着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂの数は、実際に配置されている数よりも少なくなっている。図６では、カラーフィルター３６（実線）及び画素電極３１（破線）が図示され、他の構成要素の図示は省略されている。また、図６において、符号Ｔは凸領域を示し、符号Ｋは凹領域を示している。さらに、各符号Ｔ，Ｋの括弧内には、最上層に配置されている着色層が示されている。例えば、符号Ｔ（３６Ｒ）は、最上層に着色層３６Ｒが配置された凸領域Ｔを示す。符号Ｋ（３６Ｇ）は、最上層に着色層３６Ｇが配置された凹領域Ｋを示す。
以下、図５及び図６を参照して、カラーフィルター３６の構成を説明する。
【００７５】
図５に示すように、素子基板１１の上には、有機ＥＬ素子３０、封止層３４、カラーフィルター３６、透明樹脂層４２、及び保護基板４０が順に積層されている。
有機ＥＬ素子３０が積層される素子基板１１の面８（第２層間絶縁膜２６の表面）は、本発明における「第１面」の一例であり、以降、素子基板１１の表面８と称す。
【００７６】
上述したようにカラーフィルター３６は、第１の領域Ｅ１及び第２の領域Ｅ２に配置されている。カラーフィルター３６の外縁は、保護基板４０の外縁と基板１０の外縁との間に配置され、透明樹脂層４２で覆われている。カラーフィルター３６の外縁は、保護基板４０の外縁から張り出している。なお、保護基板４０の外縁が、カラーフィルター３６の外縁から張り出した構成であってもよい。また、カラーフィルター３６は、封止層３４の全域を覆う構成、すなわち素子基板１１の略全面に配置されている構成であってもよく、この場合カラーフィルター３６に端子１０１を露出させる開口部を形成する必要がある。
【００７７】
第１の領域Ｅ１において、カラーフィルター３６を構成する着色層３６Ｒ、着色層３６Ｇ、及び着色層３６Ｂは、Ｘ方向に規則的に配置されている。また、Ｘ方向において、着色層３６Ｒ、着色層３６Ｇ、及び着色層３６Ｂは、互いに接するように配置されている。なお、着色層３６Ｒ、着色層３６Ｇ、及び着色層３６Ｂは、それぞれの境界で重なる部分を有していても良いし、表示に影響しない範囲で接していない領域を有していてもよい。
【００７８】
第２の領域Ｅ２には、着色層３６Ｇが全域に配置されている。さらに、着色層３６Ｇの上には、着色層３６Ｒが配置（積層）されている。着色層３６Ｇの上に配置された着色層３６Ｒは、Ｙ方向に沿って延在するストライプ形状を有し、Ｘ方向に規則的に配置されている。すなわち、カラーフィルター３６は、第２の領域Ｅ２において、着色層３６Ｇだけが配置されている部分と、着色層３６Ｇと着色層３６Ｒとが積層されている部分とを有する。着色層３６Ｇだけが配置されている部分は、膜厚が小さくなった凹領域Ｋ（図６参照）となり、着色層３６Ｇと着色層３６Ｒとが積層されている部分は、膜厚が大きくなった凸領域Ｔ（図６参照）となる。これら二つの部分（凹領域Ｋと凸領域Ｔ）によって、第２の領域Ｅ２のカラーフィルター３６には、凹凸が形成されている。つまり、第２の領域Ｅ２に配置されたカラーフィルター３６には、赤、緑、青の着色層のうちの一つの着色層が配置された部分と、赤、緑、青の着色層の中から選ばれる二つ以上の着色層が積層された部分とによって、凹凸が形成されている。
【００７９】
図６に示すように、第１の領域Ｅ１に配置されている着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂ、並びに第２の領域Ｅ２に配置されている凹領域Ｋ及び凸領域Ｔは、それぞれＹ方向に沿って延在するストライプ形状を有している。第１の領域Ｅ１に配置されている着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂ、並びに第２の領域Ｅ２に配置されている凹領域Ｋ及び凸領域Ｔは、Ｘ方向において、それぞれ同じ寸法を有し、同じピッチで規則的に配置されている。
このように、第２の領域Ｅ２に形成される凹凸は、Ｙ方向に沿って延在するストライプ形状をなしている。
【００８０】
なお、凹領域Ｋ及び凸領域Ｔは、上述したＹ方向に沿って延在するストライプ形状の他に、Ｘ方向に沿って延在するストライプ形状であってもよい。また、凹領域Ｋ及び凸領域Ｔは、Ｙ方向に沿って延在する部分とＸ方向に沿って延在する部分とを有する構成であってもよい。さらに、凹領域Ｋ及び凸領域Ｔは、Ｘ方向に交差する部分を有する構成であってもよい。
【００８１】
「有機ＥＬパネルが抱える課題と対策」
図７は、複数の基板が多面付けされたマザー基板の状態を示す概略平面図である。
図７に示すように、マザー基板１１Ｗは、ウェハー状の例えば石英基板であって、外周の一部が切り欠かれたオリフラを有している。本実施形態では、マザー基板１１Ｗを基材（素子基板本体１１ａ）として、マザー基板１１Ｗの上に上述した素子基板１１（画素回路２０）、有機ＥＬ素子３０、封止層３４、及びカラーフィルター３６が形成されている。すなわち、複数の基板１０が多面付けされたマザー基板１１Ｗが形成されている。続いて、マザー基板１１Ｗを、ダイシングブレードを使用して（ダイシング加工で）分断線ＳＬに沿って分断し、単体の基板１０を形成する。次に、単体の基板１０に接着材を配置し、所定の位置に保護基板４０を貼り合せ、接着材を硬化させて基板１０と保護基板４０との間に透明樹脂層４２を配置し、有機ＥＬパネル１を形成する。
【００８２】
このように、本実施形態では、マザー基板１１Ｗをダイシング加工で分断することで形成された単体の基板１０と、単体の保護基板４０とを貼り合せることで、有機ＥＬ装置１００を形成している。単体の基板１０に、単体の保護基板４０を貼り合せることで、両者をより高精度に位置合わせすることができる。
【００８３】
ダイシング加工では、マザー基板１１Ｗ（カラーフィルター３６が形成された面）に水を吹きかけながらダイシングブレードでマザー基板１１Ｗを分断するので、カラーフィルター３６は水にさらされる。このため、ダイシング加工時にも、カラーフィルター３６に熱処理を施し、カラーフィルター３６から水分を除去する必要がある。当該熱処理の温度も、カラーフィルター３６を形成する工程と同じく、発光機能層３２の熱劣化を抑制するため、水の沸点（１００℃）よりも低く、カラーフィルター３６に水分が残留する。
【００８４】
このように、カラーフィルター３６を製造する工程や、マザー基板１１Ｗを分断する工程などによって、カラーフィルター３６に水分が残留することがある。さらに、カラーフィルター３６に残留する水分によって、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２との間の密着性が低下することになる。
【００８５】
カラーフィルター３６（アクリル樹脂）と、透明樹脂層４２（エポキシ樹脂）とは、熱膨張率が異なる材料で構成されているため、温度が変化した場合に、両者の熱膨張率の差によって、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２とを剥離させる力が作用する。この熱膨張率の差の影響は、有機ＥＬパネル１の中央部（第１の領域Ｅ１の中心部）よりも、有機ＥＬパネル１の周辺部（第１の領域Ｅ１の周縁部、第２の領域Ｅ２）で大きくなる。
【００８６】
有機ＥＬ装置１００を長期間使用すると、上述した熱膨張率の差の影響を発生させる温度ストレスや、外力による機械的ストレスなどが有機ＥＬ装置１００に作用し、透明樹脂層４２とカラーフィルター３６とを剥離させる力が加わり、透明樹脂層４２とカラーフィルター３６とが部分的に剥離する恐れがあった。さらに、第１の領域Ｅ１で透明樹脂層４２とカラーフィルター３６とが部分的に剥離すると、有機ＥＬ素子３０から発せられる光の射出が阻害され、表示ムラとなる。
すなわち、有機ＥＬ装置１００を長期間使用すると、透明樹脂層４２とカラーフィルター３６との部分的な剥離や、当該部分的な剥離による表示ムラなどが発生する恐れがあるという課題があった。
【００８７】
以下に示すように、本実施形態は、上記課題を抑制するための有効な構成を有している。
（１）カラーフィルター３６は、第２の領域Ｅ２において凹凸が形成され、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２（接着層）とが接触する面積、すなわちカラーフィルター３６と透明樹脂層４２との接着面積が広くなっている。このため、カラーフィルター３６に凹凸が形成されていない場合と比べて、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２との接着強度が強くなり、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２とは剥離しにくくなる。
【００８８】
（２）カラーフィルター３６は、第２の領域Ｅ２において凹凸が形成され、透明樹脂層４２は、当該凹凸の凹領域Ｋに充填されている。凹領域Ｋに配置された透明樹脂層４２は、透明樹脂層４２をカラーフィルター３６に強く固定する楔の役割を果たす。すなわち、凹領域Ｋに配置された透明樹脂層４２のアンカー効果によって、透明樹脂層４２はカラーフィルター３６により強く固定され、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２とは互いに動きにくくなる（剥離しにくくなる）。
【００８９】
上記（１）及び（２）によって、透明樹脂層４２はカラーフィルター３６に強く接着（固定）されているので、有機ＥＬ装置１００の長期使用による温度ストレスや機械的ストレスなどによって、透明樹脂層４２とカラーフィルター３６との間の部分的な剥離が抑制され、加えて当該部分的な剥離による表示ムラも抑制される。従って、有機ＥＬ装置１００は、優れた長期信頼性を有するようになる。
【００９０】
「カラーフィルターの好適例」
図８及び図９は、図５に対応し、カラーフィルターの好適例を示す概略断面図である。図１０乃至図１２は、図６に対応し、カラーフィルターの好適例を示す概略平面図である。以下、図８乃至図１２を参照して、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２とをより強く接着（固定）させるカラーフィルター３６の好適例を説明する。
【００９１】
図８に示すように、第２の領域Ｅ２の全域に着色層３６Ｇ（第１の着色層３６Ｇ）が配置され、第１の着色層３６Ｇの上に同じ色の着色層（第２の着色層３６Ｇ）が配置されている。第２の着色層３６Ｇは、Ｙ方向沿って延在するストライプ形状を有し、Ｘ方向に規則的に配置されている。第１の着色層３６Ｇが配置された領域が凹領域Ｋとなり、第１の着色層３６Ｇと第２の着色層３６Ｇとが積層された領域が凸領域Ｔとなる。つまり、第１の着色層３６Ｇが配置された領域と、第１の着色層３６Ｇと第２の着色層３６Ｇとが積層された領域とで、第２の領域Ｅ２に凹凸が形成されている。
【００９２】
このように、第２の領域Ｅ２に形成する凹凸は、図８に示すように同じ色の着色層の組み合わせで形成してもよいし、図５に示すように異なる色の着色層の組み合わせで形成してもよい。詳しくは、図８に示すように、第２の領域Ｅ２に配置されたカラーフィルター３６の凹凸は、赤（Ｒ）の着色層３６Ｒ、緑（Ｇ）の着色層３６Ｇ、及び青（Ｂ）の着色層３６Ｂのうちの一つの着色層が単層配置された部分と、青（Ｂ）の着色層３６Ｂのうちの一つの着色層が複数層配置された部分とによって形成してもよく、図５に示すように、赤（Ｒ）の着色層３６Ｒ、緑（Ｇ）の着色層３６Ｇ、及び青（Ｂ）の着色層３６Ｂのうちの一つの着色層が配置された部分と、赤（Ｒ）の着色層３６Ｒ、緑（Ｇ）の着色層３６Ｇ、及び青（Ｂ）の着色層３６Ｂの中から選ばれる二つ以上の着色層が積層された部分とによって形成してもよい。
【００９３】
さらに、第２の着色層３６Ｇは、素子基板１１の表面８に対して逆テーパーに傾斜した端面（逆テーパー形状の端面）を有している。その結果、第２の領域Ｅ２には、逆テーパー形状の端面を有する凸部（凸領域）と、第１の着色層３６Ｇの表面側で広くなった台形形状の凹部（凹領域）とが形成される。第１の着色層３６Ｇの表面側で広くなった台形形状の凹領域に透明樹脂層４２を配置すると、例えば台形形状の凹領域が形成されたカラーフィルター３６が雌型の嵌合部材となり、台形形状の凹領域に配置された透明樹脂層４２が雄型の嵌合部材となってカラーフィルター３６と透明樹脂層４２とが嵌合され、上述した透明樹脂層４２のアンカー効果がさらに強くなり、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２とがより強く固定される。従って、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２とがより動きにくくなる（剥離しにくくなる）。
このように、第２の領域Ｅ２のカラーフィルター３６は、逆テーパー形状の端面の凸領域Ｔを有していることが好ましい。
【００９４】
第２の着色層３６Ｇは、第１の着色層３６Ｇと別工程で形成される。具体的には、第１の着色層３６Ｇを形成した後に、緑（Ｇ）の色材を含む感光性樹脂材料を塗布して感光性樹脂層を形成し、これをフォトリソグラフィー法で露光・現像し、純水で洗浄し、焼成し、硬化させて第２の着色層３６Ｇを形成する。感光性樹脂層を露光する工程で、感光樹脂層の表面に対して略法線方向の光を照射し、感光性樹脂層に照射される露光量を、感光樹脂の表面側から裏面側に向けて徐々に小さくすることで、逆テーパー形状の端面を有する第２の着色層３６Ｇを形成することができる。
【００９５】
図９に示すように、第２の領域Ｅ２の全域に配置された着色層３６Ｇには、着色層３６Ｂと着色層３６Ｒが順に積層されている。上述したように、カラーフィルター３６を製造する工程では、着色層３６Ｇ、着色層３６Ｂ、及び着色層３６Ｒの順番に、各着色層を形成している。このため、新たな工程を追加することなく、着色層３６Ｇの上に、着色層３６Ｂと着色層３６Ｒとを積層し、凸領域の高さ（Ｚ方向の距離）を大きくすることができる。着色層３６Ｇの上に、着色層３６Ｂと着色層３６Ｒとを積層し、より深い凹凸を形成することで、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２との接着面積が大きくなり、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２との接着強度をより強くすることができる。さらに、上述したアンカー効果をより強くすることができる。このように、第２の領域Ｅ２のカラーフィルター３６は、より深い凹凸を有していることが好ましい。
【００９６】
図１０に示すように、第２の領域Ｅ２に配置されている凹領域Ｋ及び凸領域Ｔは、第１の領域Ｅ１に配置されている着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂと比べて、Ｘ方向の寸法が小さく、Ｘ方向により小さなピッチで配置されている。図６では、第１の領域Ｅ１に配置されている着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂ、並びに第２の領域Ｅ２に配置されている凹領域Ｋ及び凸領域Ｔは、Ｘ方向において、それぞれ同じ寸法を有し、同じピッチで規則的に配置されていた。すなわち、図１０の凹凸は、図６の凹凸と比べてより密になっているので、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２との接着面積が大きくなり、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２との接着強度をより強くすることができる。このように、第２の領域Ｅ２のカラーフィルター３６は、より密に配置された凹凸を有していることが好ましい。
【００９７】
図１１に示ように、第２の領域Ｅ２の全域に配置された着色層３６Ｇの上には、略矩形状の（島状の）着色層３６Ｒが配置されている。その結果、第２の領域Ｅ２には、略矩形状の凹領域Ｋ、及び略矩形状の凸領域Ｔが形成される。略矩形状の凹領域Ｋ、及び略矩形状の凸領域Ｔは、Ｘ方向及びＹ方向に配置され、第２の領域Ｅ２に凹凸が形成される。
なお、本実施形態における略矩形状は、正方形、長方形、正方形及び長方形の角部が丸くなった形状、長方形の短辺側が円弧になった形状などを含む。
【００９８】
図１２に示ように、第２の領域Ｅ２の全域に配置された着色層３６Ｇの上には、略楕円形状の着色層３６Ｒが配置され、略楕円形状の凸領域Ｔが形成される。略楕円形状の凸領域Ｔは、Ｘ方向及びＹ方向に複数配置され、第２の領域Ｅ２に凹凸が形成される。また、Ｘ方向に複数配置された凸領域Ｔのうちの一の凸領域ＴのＹ方向の位置と、当該一の凸領域Ｔに隣り合う凸領域ＴのＹ方向の位置とが異なるジグザグ配置となっている。Ｙ方向に複数配置された凸領域Ｔは、Ｘ方向の位置がそれぞれ同じであるストライプ配置となっている。
なお、本実施形態における略楕円形状は、円形状も含む。
【００９９】
図１１に示すカラーフィルター３６（略矩形状の凸領域Ｔを有するカラーフィルター３６）及び図１２に示すカラーフィルター３６（略楕円形状の凸領域Ｔを有するカラーフィルター３６）は、図５に示すカラーフィルター３６（ストライプ形状の凸領域Ｔを有するカラーフィルター３６）と、同じ効果を奏する。詳しくは、図１１や図１２に示すカラーフィルター３６においても、凹凸を有していない場合と比べて、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２との接着面積が大きくなり、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２との接着強度を強くすることができる。さらに、凹領域Ｋに配置された透明樹脂層４２のアンカー効果によって、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２とを動きにくくする（剥離しにくくする）ことができる。
このように、第２の領域Ｅ２のカラーフィルター３６は、略矩形状または略楕円形状の凸領域Ｔを有し、凸領域ＴはＸ方向とＹ方向とに複数配置されている構成であってもよい。
【０１００】
（実施形態２）
図１３は、図５に対応し、実施形態２に係る有機ＥＬ装置の構成を示す概略断面図である。図１４は、図６に対応し、本実施形態に係る有機ＥＬ装置のカラーフィルターの概略平面図である。図１４では、カラーフィルター３６及び画素電極３１が図示され、他の構成要素の図示は省略されている。
以下、図１３及び図１４を参照して、本実施形態に係る有機ＥＬ装置を、実施形態１との相違点を中心に説明する。また、実施形態１と同一の構成部位については、同一の符号を附し、重複する説明を省略する。
【０１０１】
本実施形態に係る有機ＥＬ装置は、第２の領域Ｅ２のカラーフィルター３６の構成が、実施形態１と異なる。詳しくは、本実施形態では、第２の領域Ｅ２のカラーフィルター３６は、開口部Ｈが形成された着色層３６Ｇを有している。この点が実施形態１と異なり、他の構成は実施形態１の有機ＥＬ装置１００と同じである。
【０１０２】
図１３に示すように、カラーフィルター３６は、第１の領域Ｅ１及び第２の領域Ｅ２に配置されている。カラーフィルター３６の外縁は、素子基板１１の外縁と保護基板４０の外縁との間に配置され、透明樹脂層４２で覆われている。
第２の領域Ｅ２には、着色層３６Ｇが配置され、当該着色層３６Ｇは開口部Ｈ（着色層３６Ｇが配置されていない部分）を有している。その結果、第２の領域Ｅ２のカラーフィルター３６には、着色層３６Ｒが配置された部分と、着色層３６Ｇが配置されていない部分とによって凹凸が形成されている。すなわち、第２の領域Ｅ２に配置されたカラーフィルター３６は開口部Ｈを有し、カラーフィルター３６と開口部Ｈとによって、凹凸が形成されている。また、開口部Ｈ（着色層３６Ｇが配置されていない部分）では、下層の第２の無機封止層３４ｃが露出している。透明樹脂層４２は、開口部Ｈで第２の無機封止層３４ｃと接し、開口部Ｈ以外の領域でカラーフィルター３６と接している。
【０１０３】
図１４に示すように、開口部Ｈは略矩形状を有し、Ｘ方向及びＹ方向に複数配置されている。開口部Ｈは、サブ画素１８の配置ピッチと略同じ寸法を有している。Ｘ方向において、複数配置された開口部Ｈのうちの一の開口部Ｈと、当該一の開口部Ｈに隣り合う開口部Ｈとは、Ｙ方向の位置が異なっている。Ｙ方向において、複数配置された開口部Ｈのうちの一の開口部Ｈと、当該一の開口部Ｈに隣り合う開口部Ｈとは、Ｘ方向の位置が同じになっている。すなわち、開口部Ｈは、Ｘ方向においてＹ方向の位置が規則的に異なったジグザグ配置を有し、Ｙ方向においてＸ方向の位置が同じとなったストライプ配置を有している。
また、開口部Ｈの寸法をサブ画素１８の配置ピッチよりも小さくし、第２の領域Ｅ２により多くの開口部Ｈを配置してもよいし、開口部Ｈの寸法をサブ画素１８の配置ピッチよりも大きくしてもよい。さらに、開口部Ｈの形状は、略楕円形状であってもよい。
【０１０４】
第２の領域Ｅ２に、開口部Ｈを有するカラーフィルター３６（着色層３６Ｇ）を配置することによっても、第２の領域Ｅ２に凹凸が形成され、以下に示す効果を奏することができる。
（１）カラーフィルター３６は、開口部Ｈによって第２の領域Ｅ２に凹凸が形成されている。透明樹脂層４２は、凹凸が形成されていない場合と比べて、透明樹脂層４２が接触する対象物（カラーフィルター３６、第２の無機封止層３４ｃ）との接着面積が広くなり、当該対象物により強く接着する。
【０１０５】
（２）透明樹脂層４２は、開口部Ｈ（着色層３６Ｇが配置されていない部分）の凹領域に充填されている。当該凹領域に配置された透明樹脂層４２のアンカー効果によっても、透明樹脂層４２と対象物（カラーフィルター３６、第２の無機封止層３４ｃ）との接着強度がより強くなり、両者は動きにくくなる（剥離されにくくなる）。
【０１０６】
（実施形態３）
図１５は、図６に対応し、実施形態３に係る平坦化層の配置の状態を示す概略平面図である。図１６は、図５に対応し、本実施形態に係る有機ＥＬ装置の概略断面図である。図１５では、平坦化層３４ｂ及び画素電極３１が図示され、他の構成要素の図示は省略されている。
以下、図１５及び図１６を参照して、本実施形態に係る有機ＥＬ装置を、実施形態１との相違点を中心に説明する。また、実施形態１と同一の構成部位については、同一の符号を附し、重複する説明を省略する。
【０１０７】
本実施形態に係る有機ＥＬ装置では、第２の領域Ｅ２において、平坦化層３４ｂがストライプ状に配置され、平坦化層３４ｂが配置された部分（凸領域）と、平坦化層３４ｂが配置されていない部分（凹領域）とが形成されている。この平坦化層３４ｂが配置された部分（凸領域）と、平坦化層３４ｂが配置されていない部分（凹領域）とによって、第２の領域Ｅ２のカラーフィルター３６に凹凸が形成されている。この点が実施形態１との相違点であり、他の構成は実施形態１に係る有機ＥＬ装置１００と同じである。
【０１０８】
図１５に示すように、第１の領域Ｅ１では、平坦化層３４ｂが、第１の領域Ｅ１の全域に配置されている。第２の領域Ｅ２では、Ｙ方向に延在するストライプ形状の平坦化層３４ｂが、Ｘ方向に複数配置されている。つまり、第２の領域Ｅ２は、平坦化層３４ｂが配置された部分と、平坦化層３４ｂが配置されていない部分とを有し、平坦化層３４ｂが配置された部分が凸領域となり、平坦化層３４ｂが配置されていない部分が凹領域となる。
【０１０９】
図１６に示すように、第２の領域Ｅ２において、平坦化層３４ｂは、第２の無機封止層３４ｃ及び着色層３６Ｇで覆われている。このため、着色層３６Ｇには、下層の平坦化層３４ｂの形状が反映され、平坦化層３４ｂが配置された部分が凸領域となり、平坦化層３４ｂが配置されていない部分が凹領域となる。すなわち、第２の領域Ｅ２に配置された着色層３６Ｇ（カラーフィルター３６）には、平坦化層３４ｂの形状が反映され、凹凸が形成される。さらに、着色層３６Ｇに形成された凹凸は、Ｙ方向に沿って延在するストライプ形状をなす。
【０１１０】
このように、平坦化層３４ｂが配置された部分（凸領域）と、平坦化層３４ｂが配置されていない部分（凹領域）とによって、第２の領域Ｅ２の着色層３６Ｇ（カラーフィルター３６）に凹凸が形成されている。当該凹凸によっても、以下に示す実施形態１と同じ効果を奏することができる。
（１）カラーフィルター３６は、下層に配置された平坦化層３４ｂによって凹凸が形成され、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２とが接触する面積（接着面積）が広くなり、カラーフィルター３６と透明樹脂層４２との接着強度を強くすることができる。
【０１１１】
（２）透明樹脂層４２は、カラーフィルター３６の凹領域（平坦化層３４ｂが配置されていない部分）に充填されている。当該凹領域に配置された透明樹脂層４２のアンカー効果によっても、透明樹脂層４２をカラーフィルター３６により強く固定（接着）することができる。
【０１１２】
（実施形態４）
「電子機器」
図１７（ａ）は、電子機器としてのヘッドマウントディスプレイ（ＨＭＤ）の構成を示す概略図である。図１７（ｂ）は、電子機器としてのデジタルカメラの構成を示す概略図である。以下、図１７（ａ）及び図１７（ｂ）を参照して、上記実施形態のいずれかに係る有機ＥＬ装置を搭載した電子機器を説明する。
【０１１３】
図１７（ａ）に示すように、ヘッドマウントディスプレイ（ＨＭＤ）１０００は、左右の目に対応して設けられた２つの表示部１００１を有している。観察者Ｍはヘッドマウントディスプレイ１０００を眼鏡のように頭部に装着することにより、表示部１００１に表示された文字や画像などを見ることができる。例えば、左右の表示部１００１に視差を考慮した画像を表示すれば、立体的な映像を見て楽しむこともできる。
【０１１４】
表示部１００１には、上述した実施形態に記載されている有機ＥＬ装置のいずれかが搭載され、第２の領域Ｅ２においてカラーフィルター３６と透明樹脂層４２とが強く接着され、両者は剥がれにくくなっている。このため、有機ＥＬ装置を長期間使用しても、カラーフィルターと充填層と間の局所的な剥離、及び当該局所的な剥離による表示ムラが抑制され、当該有機ＥＬ装置は優れた長期信頼性を有する。従って、当該有機ＥＬ装置が搭載されたヘッドマウントディスプレイ（ＨＭＤ）１０００も、優れた長期信頼性を有する。
【０１１５】
図１８（ｂ）に示すように、デジタルカメラ２０００は、撮像素子などの光学系を有する本体２００１を有している。本体２００１には、撮像した画像などを表示するモニター２００２と、被写体を視認するための電子ビューファインダー２００３とが設けられている。モニター２００２及び電子ビューファインダー２００３には、上述した実施形態に記載されている有機ＥＬ装置のいずれかが搭載され、当該有機ＥＬ装置は優れた長期信頼性を有する。従って、当該有機ＥＬ装置が搭載されたデジタルカメラ２０００も、優れた長期信頼性を有する。
【０１１６】
なお、上述した実施形態に記載されている有機ＥＬ装置のいずれかが搭載された電子機器を、上述したヘッドマウントディスプレイ１０００やデジタルカメラ２０００の他に、例えばパーソナルコンピューター、携帯型情報端末、ナビゲーター、ビューワー、及びヘッドアップディスプレイなどの電子機器に適用させることができる。
【０１１７】
本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う有機ＥＬ装置及び該有機ＥＬ装置が適用された電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。以下、具体的な例を挙げて変形例を説明する。
【０１１８】
（変形例）
封止層３４と透明樹脂層４２との間に配置される光学層は、カラーフィルター３６に限定されない。例えば、封止層３４と透明樹脂層４２との間に配置される光学層は、例えば集光機能を有するマイクロレンズや、特定波長を透過させる機能を有する干渉フィルターなどであってもよい。また、封止層３４の上にカラーフィルター３６を配置し、カラーフィルター３６の上に当該マイクロレンズや当該干渉フィルターを配置する構成、すなわち、封止層３４と透明樹脂層４２との間に複数の光学層を配置する構成であってもよい。
【０１１９】
第２の領域Ｅ２に配置された、光学層としてのマイクロレンズや干渉フィルターに凹凸を設けることによっても、マイクロレンズや干渉フィルターと透明樹脂層４２との接着性を高め、両者を剥離しにくくすることができる。すなわち、第２の領域Ｅ２に配置されたマイクロレンズや干渉フィルターなどに凹凸を設けることによっても、マイクロレンズや干渉フィルターと透明樹脂層４２との間の剥離が抑制され、有機ＥＬ装置の長期信頼性を高めることができる。
【符号の説明】
【０１２０】
１…有機ＥＬパネル、９ａ…第１絶縁膜、９ｂ…第２絶縁膜、１０…基板、１１…素子基板、１１ａ…素子基板本体、１１Ｗ…マザー基板、１２…走査線、１３…データ線、１４…電源線、１５…データ線駆動回路、１６…走査線駆動回路、１７…検査回路、１８…サブ画素、１９…画素、２０…画素回路、２１…スイッチング用ＴＦＴ、２２…蓄積容量、２３…駆動用ＴＦＴ、２３ａ…半導体層、２３ｇ…ゲート電極、２４…第１層間絶縁膜、２５…反射層、２６…第２層間絶縁膜、２９…配線層、３０…有機ＥＬ素子、３１…画素電極、３２…発光機能層、３３…対向電極、３４…封止層、３４ａ…第１の無機封止層、３４ｂ…平坦化層、３４ｃ…第２の無機封止層、３６…カラーフィルター、３６Ｒ、３６Ｇ，３６Ｂ…着色層、４０…保護基板、４２…透明樹脂層、４５…開口部、４６…コンタクトホール、１００…有機ＥＬ装置、Ｅ１…第１の領域、Ｅ２…第２の領域。
【図１】
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【図２】
2015005386.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2015005386.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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