(57)【要約】【課題】樹脂層など新たな層をプラスチック基材と金属ナノ粒子膜の間に挿入することなく、光焼成後においてもプラスチック基材から金属ナノ粒子膜が剥離することがない薄膜パターンの形成方法およびその膜構造を提供することを課題とする。【解決手段】金属ナノ粒子分散インキを基材上にパターン化後、光焼成することによって形成した導電パターンの膜構造であって、前記膜構造の前記基材から離れた部位の金属ナノ粒子ほど焼結が進み、その膜構造中の空隙が減少していることを特徴とする導電パターンの膜構造。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属ナノ粒子分散インキをプラスチック基材上にパターン化後、光焼成することによって形成した導電パターンの膜構造であって、前記膜構造の前記基材から離れた部位の金属ナノ粒子ほど焼結が進み、その膜構造中の空隙が減少していることを特徴とする導電パターンの膜構造。
【請求項２】
金属ナノ粒子分散インキを使用した導電パターンの製造方法であって、
プラスチック基材上に金属ナノ粒子分散インキのパターンを形成するパターン形成工程と、
前記の工程で形成された金属ナノ粒子を含むパターンに光を照射することにより焼結する光焼成工程と、をこの順に備えてなり、
前記光焼成工程は、前記基材が透明である波長領域の光源を用い、１回に照射する時間を１ミリ秒以下、照射する光の積算量を０．５ｍJ／ｃｍ２以上とすることを特徴とする導電パターンの製造方法。
【請求項３】
前記金属ナノ粒子分散インクの金属ナノ粒子の粒子径が、動的光散乱法を用いて測定した体積平均径で１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２に記載の導電パターンの導電パターンの製造方法。
【請求項４】
前記光源がキセノンフラッシュ光源またはパルスレーザー光源であることを特徴とする請求項２または３に記載の導電パターンの製造方法。
【請求項５】
前記パターン形成工程が、凸版印刷または凹版印刷または孔版印刷または平版印刷またはインクジェット印刷を使用することを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載の導電パターンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜パターンの形成方法、及びその薄膜パターンの膜構造に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、印刷技術による電子デバイス形成プロセスである”プリンテッドエレクトロニクス（ＰＥ）”では、導電性を有する金属製の機能性材料の印刷パターニングが盛んにおこなわれている。
【０００３】
例えば、金属配線形成について、その印刷形成プロセス技術は企業間で競われており、高解像度なパターニング技術に焦点を当て、様々な印刷方法が開発されている。
【０００４】
一方で、高位置精度のパターニング技術に関しては、高解像度なパターニング技術と比較すると、優先度が低くなっているのが現状である。しかしながら、高解像度なパターニング技術が進めば、必然と高位置精度のパターニング技術が求められてくる。
【０００５】
プリンテッドエレクトロニクスでは、印刷基材として、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルムに代表される安価なプラスチック基材が用いられることが多く、高位置精度パターニング実現のためには、目的のプラスチック基材へ正確にパターニングすることはもちろん、印刷後のプラスチック基材の管理・コントロールも必要となってくる。
【０００６】
とりわけ、材料を焼成する工程では、プラスチック基材に高温の熱が負荷される場合が多く、熱耐性の乏しいプラスチック基材に関しては、大きく歪が生じてしまう問題点がある。
【０００７】
そこで、基材への熱負荷を軽減する焼成方法として、キセノンフラッシュ光源などを用いた光焼成方法が注目されている。この手法を用いると、ごく短時間の間に、パターニングした金属性の機能性材料のみ、高温の熱が負荷され、その基材であるプラスチック基材への負荷を軽減することができる。
【０００８】
現在、金属製の機能性材料としては、銀や銅のナノサイズの微粒子が分散されている金属ナノ粒子分散インクが扱われることが多い。例えば、この金属ナノ粒子分散インクに対して、キセノンフラッシュ光源で光焼成を行なうと、数ミリ秒の間に、金属ナノ粒子周辺の有機保護膜などを不活性化、金属ナノ粒子同士の焼結を促し、高い導電性を得ることができる。
【０００９】
しかしながら、光焼成は金属ナノ粒子の焼結を急激に誘起させ膜化させるため、金属ナノ粒子の焼結起因の収縮応力や、金属ナノ粒子膜からの熱伝達による基材の伸縮（基材温度の上昇および下降による基材の膨張および収縮）によって、基材と金属ナノ粒子膜の間でせん断応力が発生し、形成した金属ナノ粒子膜が基材からはがれてしまう問題点がある。経験的にも熱耐性に乏しい安価なプラスチック基材ほど、その傾向が顕著である。
【００１０】
以上のように、プラスチック基材上に金属ナノ粒子分散インクを高位置精度にパターニングし、その後、機能性を得るためのパターニングの後工程である焼成方法として、光焼成は有効な手段の一つだが、金属ナノ粒子の焼結起因の収縮応力や、金属ナノ粒子膜からの熱伝達による基材の伸縮によって、基材と金属ナノ粒子膜の間でせん断応力が発生し、基材から形成した金属ナノ粒子膜がはがれてしまう問題点がある。
【００１１】
この問題点を解決する手段として特許文献１には、プラスチック基材と金属ナノ粒子膜の間に樹脂層を挿入する技術が開示されているが、新たに樹脂層を挿入する事によってコストの上昇を避けることができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２０１４−１１１９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
上記の問題点を解決するため、本発明の課題は、樹脂層など新たな層をプラスチック基材と金属ナノ粒子膜の間に挿入することなく、光焼成後においてもプラスチック基材から金属ナノ粒子膜が剥離することがない薄膜パターンの形成方法およびその膜構造を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、上記の課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、その課題を解決する手段を見出すに至った。具体的には、粒子の焼結の進行を膜厚方向にコントロールすることで、更には、金属ナノ粒子膜の厚さ方向において、その表面近傍は高い導電性を重視して粒子成長を促し、基材近傍は密着性を重視して粒子の焼結の進行を抑制することにより、高い導電性を獲得すると同時に、プラスチック基材と金属ナノ粒子膜の間でせん断応力を抑制することが可能となることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１５】
そこで、上記課題を解決する手段として、本発明の請求項１は、金属ナノ粒子分散インキをプラスチック基材上にパターン化後、光焼成することによって形成した導電パターンの膜構造であって、前記膜構造の前記基材から離れた部位の金属ナノ粒子ほど焼結が進み、その膜構造中の空隙が減少していることを特徴とする導電パターンの膜構造である。
【００１６】
また、請求項２は、金属ナノ粒子分散インキを使用した導電パターンの製造方法であって、
プラスチック基材上に金属ナノ粒子分散インキのパターンを形成するパターン形成工程と、
前記の工程で形成された金属ナノ粒子を含むパターンに光を照射することにより焼結する光焼成工程と、をこの順に備えてなり、
前記光焼成工程は、前記基材が透明である波長領域の光源を用い、１回に照射する時間を１ミリ秒以下、照射する光の積算量を０．５ｍJ／ｃｍ２以上とすることを特徴とする導電パターンの製造方法である。
【００１７】
また、請求項３は、前記金属ナノ粒子分散インクの金属ナノ粒子の粒子径が、動的光散乱法を用いて測定した体積平均径で１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２に記載の導電パターンの導電パターンの製造方法である。
【００１８】
また、請求項４は、前記光源がキセノンフラッシュ光源またはパルスレーザー光源であることを特徴とする請求項２または３に記載の導電パターンの製造方法である。
【００１９】
また、請求項５は、前記パターン形成工程が、凸版印刷または凹版印刷または孔版印刷または平版印刷またはインクジェット印刷を使用することを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載の導電パターンの製造方法である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明は以上の特徴を持つことから、下記に示す効果がある。
【００２１】
即ち、上記請求項１に係る発明によれば、膜厚方向に粒子の焼結の進行をコントロールすることで、電子が移動する薄膜パターン表面は粒子の焼結を促すことでコンダクティビティが増加し、基材近傍は、粒子の焼結を抑制することで、膜構造の体積の減少が少なく、収縮応力の発生が抑制され、基材との密着性を損なうことがない。その粒子の焼結の進行の尺度として、膜構造中の空隙の量、グレインサイズ、結晶子サイズなどを用いる。また基材近傍に関してはバインダー成分が膜構造中の空隙に多く残ることで、密着性を向上させることができる。
【００２２】
また、上記請求項２、３に係る発明によれば、微粒子が金属粒子であることで、粒子の焼結後に導電化の機能を得ることができ、粒径が１００ｎｍ以下であることで、それより大きい粒子に比べて、単位質量当りの表面積がはるかに大きくなり、表面での現象である粒子の焼結は、粒子が小さいほうが容易に焼結する。また、沈降などの問題点を防ぐことができる。
【００２３】
また、上記請求項４に係る発明によれば、エネルギー源として、キセノンフラッシュランプ光源を用いることで、短時間の光照射で強度のエネルギーを得ることができ、金属ナノ粒子分散インクの焼成と相性が非常に良い。また、ランニングコストが安い、タクトが早い、装置の簡便さなどの運用面でのメリットがある。またエネルギー源として、パルスレーザー光源を用いることで、他の手段と比較して、極短時間で強度のエネルギーを得ることができるメリットがある。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の実施例で使用した反転印刷装置の構成の例を示した概略説明図。
【図２】本発明の実施例でＰＥＴフィルム上に銅の金属ナノ粒子分散インクをパターニングした光焼成前のサンプルの顕微鏡写真。
【図３】本発明の実施例でＰＥＴフィルム上に銅の金属ナノ粒子分散インクをパターニングしたサンプルについて、条件１と条件２で光焼成したサンプルの顕微鏡写真。
【図４】条件１のときの金属ナノ粒子膜の断面について推測されるモデルであって、金属ナノ粒子膜の表面側は焼結が進行し空隙が減少しているのに対し、基材側は焼結の進行が少なく、空隙が減少していない状況を表した模式図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明の実施の形態について、以下に説明する。
（金属ナノ粒子分散インク）
金属ナノ粒子膜を作製するための材料としては、溶媒中で金属ナノ粒子が安定に分散するための有機保護膜が付着している金属ナノ粒子を溶媒に分散させた金属ナノ粒子分散インクを用いることができる。金属ナノ粒子の種類としては金、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、ロジウム等が挙げられる。
【００２６】
金属ナノ粒子の粒径は、１０〜１００ｎｍ程度の粒径が好ましい。ここで、粒径とは、動的光散乱法を用いた測定データから算出した体積平均径を指す。粒径が小さいほど、サイズ効果により、金属ナノ粒子同士の融着温度が低くなり、より小さい熱エネルギーで金属皮膜化することが可能となる。しかしながら、金属ナノ粒子分散インクとしての分散安定性は悪くなり、凝集などが発生する可能性が高くなる。
【００２７】
溶媒には、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤及び炭化水素系溶剤などが使用される。エステル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、エトキシエチルプロピオネート、アルコール系溶剤として、１−ブタノール、３メトキシ−３メチル−１ブタノール、１−ヘキサノール、１，３ブタンジオール、１−ペンタノール、２−メチル１−ブタノール、４−メチル−２−ペンタノール、エーテル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、炭化水素系溶剤として、ソルベッソ１００（エクソン化学社製）、ソルベッソ１５０（エクソン化学社製）などが挙げられる。
【００２８】
また、受像層組成物の塗布性、分散安定性などの点から、適宜選択して使用されるものとして、水、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、トルエン、キシレン、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、ジクライム、シクロヘキサノンなどが挙げられる。
【００２９】
バインダー樹脂としては、プラスチック基材との密着力を向上させるため、セルロース系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、またそれらの複合樹脂などが使用できる。また、低温で分解するものが望ましい。
【００３０】
また、これらのインキには必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、レベリング剤等が添加されてもよい。なお、本発明のインキはこれらに限定されるものではない。
【００３１】
（光焼成）
光焼成に用いるキセノンフラッシュ光源については、特にこれに限定するものではないが、プラスチック基材の光透過性に合わせて特定の波長領域をカットすることが望ましい。この理由として、プラスチック基材が透過できない特定波長のエネルギーを吸収することで、プラスチック基材自体が発熱してしまう可能性があるからである。
【００３２】
また、照射回数に関しては、金属ナノ粒子分散インキの金属ナノ粒子やプラスチック基材によって単発照射と複数回照射のどちらでも選択できる。複数回照射では、例えば照射の周波数を０．１Ｈｚ〜５００Ｈｚまで選択でき、膜厚方向に光焼成後の粒子の焼結の進行を制御するために、その条件を１回ずつ設定することができるものが望ましい。
【００３３】
キセノンフラッシュ光源を光源とした場合の照射エネルギーは、複数回照射であっても、膜厚方向に粒子の焼結の進行を制御するために、その条件を１回ずつ設定することができる。ここで、金属ナノ粒子の焼結を促進するために、照射エネルギーの積算量は、０．５Ｊ／ｃｍ２以上が望ましい。但し、あまりに照射エネルギーが大きい場合、表面にクレータ状の凹凸が発生し、機能性を損なう可能性があるため、金属ナノ粒子の種類によって、上限値が存在する。
【００３４】
また、単発照射、複数回照射に限らず、１回の照射時間は、パターン表面のみの粒子の焼結を促すため、パターン表面の粒子の焼結を促進できる範囲の中で、短時間であることが望ましい。時間としては１ミリ秒以下が望ましい。ここで粒子の焼結とは、金属ナノ粒子を構成する原子の熱拡散による移動が起こり、金属ナノ粒子同士が融合し一体化する方向に変化することを指す。このことにより、金属ナノ粒子膜からなるパターン表面の導電率は、その金属のバルクの導電率に近づく方向に変化する。これは金属ナノ粒子間の空隙が無くなる方向に構造が変化するからである。同時に、体積が小さくなるため、金属ナノ粒子膜には収縮する方向の応力（収縮応力）が発生する。
【００３５】
一方、パターン表面から膜厚方向に、すなわちプラスチック基材に近づくほど、金属ナノ粒子が焼結し一体化する度合いが小さくなる。このことは、膜構造中の応力の観点から見ると、プラスチック基材に近いほど元の膜構造に近く、収縮応力が小さいため、プラスチック基材から剥がれ難い。またプラスチック基材に近いほど、膜構造中の空隙が多く残り、その空隙に金属ナノ粒子分散インク中のバインダー樹脂などが存在するため、プラスチック基材との密着性が良くなる。
【００３６】
また、一般的な大気中の熱焼成において、銅粒子のように酸素と反応して機能性に影響を与えてしまう材料に関しては、複数回照射ではなく、単発照射が望ましい。
【００３７】
（金属ナノ粒子膜のパターン形成）
パターン形成方法としては、印刷によるパターン形成が望ましく、凸版印刷、凹版印刷、平版印刷、孔版印刷、インクジェット印刷などが挙げられる。中でも、凸版印刷の一種であるフレキソ印刷やブランケットを使用した反転印刷などは、薄膜かつ高精細のパターニングが可能である。
【００３８】
また、パターン形成ではなく、均一なインク液膜が必要な場合は、例えばディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、ダイコート、スプレーコート法等を用いることができる。中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータは、広い範囲の粘度のインクについて均一なインク液膜を形成することができる。
【００３９】
（プラスチック基材）
使用するプラスチック基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることもできる。
【００４０】
また、これらプラスチック基材には、アンカー層を設けてもよい。アンカー層の形成材料としては、高分子ポリマー、溶剤を主成分とし、任意に微粒子などを添加した塗布組成物を使用することができる。本発明のアンカー層を構成する材料としては、透明であること、熱耐性があること、金属粒子との密着がよいことなどの性能が要求される。
【００４１】
高分子ポリマーとしては、ポリアクリル酸エステル、ポリメタアクリル酸エステル、ポリエチルアクリル酸エステル、スチレンーブタジエン共重合体、ブタジエン共重合体、アクリロニトリルーブタジエン共重合体、クロロプレン共重合体、架橋アクリル樹脂、架橋スチレン樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン、ベンゾグアナミン樹脂、フエノール樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタアクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、スチレン−アクリルアミド共重合体、ｎ−イソブチルアクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニル、アクリルアミド、シリコーン樹脂、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ポリイミド、ロジン系樹脂、ポリエチレン、ポリカーボネート、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール、セルロース系樹脂、エポキシ樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−アクリル共重合体、塩化ビニル樹脂、ポリウレタン、等が挙げられるがこれに限定されるものではない。これらポリマーにアクリル基、カルボキシル基、イソシアネート基などの反応性部位を付与したもの、更にはこれらに必要に応じて架橋剤、光開始剤などを添加して、硬化型ポリマーとしても使用できる。
【実施例】
【００４２】
以下に、ＰＥＴフィルム上へ銅の金属ナノ粒子分散インクのパターニングを行う実施例を示して更に詳しく説明する。
【００４３】
印刷方法は、インク剥離性フィルムを用いた反転印刷法を選択した。この印刷方法は、インク剥離性フィルムへインク液を塗工し、該インク液を予備乾燥した予備乾燥インク膜に、凸部パターンが非画像パターンである凸版を押し当て引き離すことで、予備乾燥インク膜の不要な部分を凸版の凸部に転写除去し、該インク剥離性フィルム上に残った画像パターンを、被印刷基材に転写することで、多様で高精細な薄膜パターンを得ることを特徴としている。
【００４４】
反転印刷を行う装置は、図１に示す通り、インク剥離性フィルム１０６と、被印刷基材１０９、当該インク剥離性フィルム１０６の搬送の制御を行なう、インク剥離性フィルム巻き出し部１０７とインク剥離性フィルム巻き取り部１０８の搬送系とインク塗工部１０１、インク乾燥部１０２、パターン除去部１０３、アライメント部１０４、基材貼り合わせ部１０５、を備えて構成されている。
【００４５】
使用した銅の金属ナノ粒子分散インクは、芳香族炭化水素系で平均粒径は３０〜５０ｎｍ、銅の含有量は２０〜５０ｗｔ％であり、添加物としてレベリング剤（添加量０．５ｗｔ％、ビックケミージャパン社製、製品名：ＢＹＫ３３３）、バインダー（添加量５ｗｔ％、積水化学工業社製、製品名：エスレックＢＫ）、転写性付与剤を混ぜている。
【００４６】
インク剥離性フィルム１０６として、基材厚１００μｍのＰＥＴフィルム上に剥離性シリコーンゴムを塗布して乾燥させ、厚さ１０μｍとしたものを使用した。また、金属ナノ粒子分散インクの塗工性を向上させるために、その膜面に対して濡れ性が向上する表面処理（ＵＳＨＩＯ社製、製品名：ＳＨＶ０７、表面処理方法：スプレー塗布、乾燥後、紫外線１７２ｎｍの光照射）を施した。
【００４７】
まず、インク塗工部１０１で、可動ステージ上に設けられた多孔質性材料を用いた吸着面にインク剥離性フィルム１０６を固定し、ダイヘッドを用いて、金属ナノ粒子分散インクを均一に２００ｎｍの厚さに調整してベタ膜塗工をおこなった。
【００４８】
その後、減圧乾燥機であるインク乾燥部１０２へ、金属ナノ粒子分散インクのベタ膜が形成されたインク剥離性フィルム１０６を搬送し、半乾燥させ、パターン除去部１０３まで搬送させる。
【００４９】
パターン除去部１０３は、可動ステージに樹脂製（またはガラス製でも良い。）の凸版が吸着により装着されており、インク剥離性フィルム１０６上のインク塗工面を該凸版に近づけた後、可動ステージに設けられているローラをインク剥離性フィルム１０６の上から押し当て、回転させながら印圧をかけ、インク剥離性フィルム１０６を該凸版から剥がすことにより、凸版の凸部と接した塗工膜を凸版に転移させ、インク剥離性フィルム１０６上にパターンを得る。
【００５０】
次に、可動性ステージと複数の顕微鏡カメラから構成されているアライメント部１０４で、インク剥離性フィルム１０６が透明なことを利用して、インク剥離性フィルム１０６上に得られたパターンの一部や位置合わせ用のマークパターン（第１の位置合わせパターン）と、ＰＥＴ上に予め設けられた位置合わせ用パターン（第２の位置合わせパターン）を透過画像で認識し、アライメントをおこなう。
【００５１】
貼り合わせ部１０５には、前記アライメント部１０４に設置された可動性ステージ上にローラが設けられる。貼り合わせ部１０５に設置された可動性ステージに固定されたＰＥ
Ｔと、わずかな隙間をあけて設置されたインク剥離性フィルム１０６の上から、同じく前記貼り合わせ部１０５に設置されたローラを押し当て、可動性ステージの移動と共にローラを回転させながら印圧をかけ、つぎにインク剥離性フィルム１０６をＰＥＴから剥がすことにより、被印刷基材１０９であるＰＥＴフィルムにパターンを転写した。
【００５２】
ＰＥＴフィルム上に銅の金属ナノ粒子分散インクをパターニングした結果を図２に示す。ストライプパターンであれば、１０μｍ以下の良好なパターンが得られた。
【００５３】
得られたサンプルを、キセノン光源フラッシュ光源を備えた光焼成装置によって、光焼成を行なった。高いエネルギーを極短時間(２００ｎｓ以下)で、光焼成を行なったサンプル（条件１）、比較例として、条件１と積算エネルギーは同等になるように、光焼成装置に負荷する電圧を低下させ、照射時間を条件１より長く設定した条件（２０００ｎｓ）にてサンプル（条件２）を作製した。
【００５４】
それぞれ光焼成後の密着性を比較すると、条件１では、ＰＥＴフィルム上から金属ナノ粒子膜の剥離は無く焼成できていたのに対して、条件２では、ＰＥＴ上から金属ナノ粒子膜のはがれが発生した。（図３）
【００５５】
条件１のとき、金属ナノ粒子膜の断面について推測されるモデルを図４に示す。これは、光焼成時のキセノンフラッシュ光源の照射時間が短いが故に、金属ナノ粒子膜の極表面のみ粒子の焼結が促進され、金属ナノ粒子の焼結の進行状態に傾斜を持たせることができたと考えられる。
【００５６】
金属ナノ粒子膜には、金属ナノ粒子と金属ナノ粒子の間に空隙が存在する。また光焼結の進行に伴って、金属ナノ粒子同士が溶けて一体化するように振る舞い、見かけの粒子サイズが大きくなる。また空隙が少なくなって、導電性が高くなる。Ｘ線回折から測定できる結晶子のサイズも大きくなる。また、その空隙が潰れて体積が減少する方向に収縮応力が発生する。
【００５７】
一方で、被印刷基材１０９すなわちＰＥＴフィルムの表面近傍の金属ナノ粒子は、熱伝導によって熱負荷が与えられるものの金属ナノ粒子膜の表面と比較すると温度が低く、粒子の焼結が抑制される結果、金属ナノ粒子膜の収縮応力の発生が小さかったため、ＰＥＴフィルムとの収縮差が小さく、金属ナノ粒子膜がはがれなかったと推測できる。条件２では、キセノンフラッシュ光源の照射時間が長かったために、ＰＥＴフィルム表面近傍の金属ナノ粒子まで、粒子の焼結が進行した結果、金属ナノ粒子膜の収縮応力の発生が大きくなるため、ＰＥＴフィルムとの収縮差が大きくなり、金属ナノ粒子膜がはがれたと考える。
【００５８】
以上、金属ナノ粒子膜の厚さ方向に対して、金属ナノ粒子の粒子成長の度合いをコントロールし、傾斜を持たせることで、密着性の不具合なく高精細パターンの形成が可能となる。
【符号の説明】
【００５９】
１０１・・・インク塗工部
１０２・・・インク乾燥部
１０３・・・パターン除去部
１０４・・・アライメント部
１０５・・・貼り合わせ部
１０６・・・インク剥離性フィルム
１０７・・・インク剥離性フィルム巻き出し部
１０８・・・インク剥離性フィルム巻き取り部
１０９・・・被印刷基材
【図１】
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【図４】
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【図２】
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【図３】
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