(57)【要約】【課題】本発明の目的は、ガラス板の端面研磨のコストを抑えることができるガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置を提供することである。【解決手段】ガラス板の製造方法は、ガラス板３の端面３ａを研磨する研磨工程を有する。研磨工程は、遊離砥粒を含むスラリー２１ｄを回転体に成形した研磨ホイール２１を、回転体の回転軸２１ｈ周りに回転させる。研磨工程は、回転体の側周面をガラス板３の端面３ａに接触させながら、回転している研磨ホイール２１とガラス板３とを端面３ａの長手方向に沿って相対的に移動させて、端面３ａを研磨する。研磨工程は、ガラス板３の主表面に直交する第１方向に対して、回転軸２１ｈを長手方向に傾斜させる。これにより、研磨工程は、回転軸２１ｈが第１方向に平行である場合と比べて、端面３ａと接触する遊離砥粒の数を増やす。【選択図】図４
2015010002.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊離砥粒を含むスラリーを回転体に成形した研磨ホイールを、前記回転体の回転軸周りに回転させ、前記回転体の側周面をガラス板の端面に接触させながら、前記研磨ホイールと前記ガラス板とを前記端面の長手方向に沿って相対的に移動させて、前記端面を研磨する研磨工程を有し、
前記研磨工程では、前記ガラス板の主表面に直交する第１方向に対して前記回転軸を前記長手方向に傾斜させて、前記回転軸が前記第１方向に平行である場合と比べて、前記端面と接触する前記遊離砥粒の数を増やす、
ガラス板の製造方法。
【請求項２】
前記研磨ホイールは、一対の磁場形成部材の間の磁場形成空間に、前記遊離砥粒である磁性粉体を含む前記スラリーを保持することによって形成され、
前記研磨工程は、前記一対の磁場形成部材を前記回転軸周りに回転させ、前記磁場形成空間に保持された前記スラリーを前記ガラス板の前記端面に接触させて、前記端面を研磨する、
請求項１に記載のガラス板の製造方法。
【請求項３】
前記スラリーは、前記磁性粉体および水を含み、かつ、前記磁性粉体の濃度が少なくとも７０ｗｔ％である、
請求項２に記載のガラス板の製造方法。
【請求項４】
前記研磨工程は、
第１の前記研磨ホイールを用いて、前記ガラス板の前記端面を研磨する第１研磨工程と、
第２の前記研磨ホイールを用いて、前記第１研磨工程で研磨された前記端面を研磨する第２研磨工程と、
を有し、
前記第１研磨工程では、前記第１の研磨ホイールの前記回転軸を、前記長手方向に傾斜させ、
前記第２研磨工程では、前記第２の研磨ホイールの前記回転軸を、前記長手方向の反対方向に傾斜させる、
請求項１から３のいずれか１項に記載のガラス板の製造方法。
【請求項５】
遊離砥粒を含むスラリーを回転体に成形した研磨ホイールを、前記回転体の回転軸周りに回転させ、前記回転体の側周面をガラス板の端面に接触させながら、前記研磨ホイールと前記ガラス板とを前記端面の長手方向に沿って相対的に移動させて、前記端面を研磨する研磨工程を有し、
前記研磨工程では、前記ガラス板の主表面に直交する第１方向に対して、前記第１方向および前記長手方向と直交する幅方向に、前記回転軸を傾斜させる、
ガラス板の製造方法。
【請求項６】
前記研磨工程では、前記第１方向に対して前記回転軸を前記長手方向にさらに傾斜させて、前記端面と接触する前記遊離砥粒の数を増やす、
請求項５に記載のガラス板の製造方法。
【請求項７】
ガラス板の端面を研磨する研磨部を備え、
前記研磨部は、
遊離砥粒を含むスラリーを回転体に成形した研磨ホイールと、
前記回転体の回転軸周りに前記研磨ホイールを回転させる回転機構と、
前記ガラス板の主表面に直交する第１方向に対して、前記回転軸を傾斜させる傾斜機構と、
を有し、
前記研磨部は、前記回転機構によって回転している前記研磨ホイールの側周面を、前記ガラス板の前記端面に接触させながら、前記研磨ホイールと前記ガラス板とを前記長手方向に沿って相対的に移動させて、前記端面を研磨する、
ガラス板の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイおよびプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）に用いられるガラス板の製造工程は、板状に成形されたガラスを所定のサイズに切断する切断工程を含む。切断工程では、通常、マザーガラスと呼ばれる大型のガラス板にケガキ線を形成して、ガラス板を切断する。ガラス板の切断面には、通常、微細なクラック、および、非常に鋭いエッジが形成されている。切断面は、例えば、Ｒ形状に面取りされ、さらに、研磨ホイールで研磨されて鏡面状に仕上げられる。
【０００３】
特許文献１（国際公開第２０１２／０６７５８７号公報）は、磁性流体を用いてガラス板端面を研磨する方法を開示している。磁性流体を用いるガラス板端面の研磨工程では、磁性体粉と非磁性体の遊離砥粒とを含むスラリー状の磁性流体である磁性体スラリーを、一対の磁石の間の空間に保持する。そして、ガラス板端面を磁性体スラリーに接触させた状態で、ガラス板端面と磁性体スラリーとを相対的に移動させることで、ガラス板端面を研磨する。磁性体スラリーを用いる端面研磨では、遊離砥粒が被加工物の形状に追従して移動することができるので、遊離砥粒が被加工物に与えるダメージが小さい。従って、遊離砥粒を含む磁性体スラリーを用いて研磨されたガラス板の品質は、従来の固定砥粒を含む研磨ホイールを用いて研磨されたガラス板の品質よりも高い。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述したように、遊離砥粒を含む磁性体スラリーを用いるガラス板端面の研磨方法では、一対の磁石の間の空間に保持された磁性体スラリーを、回転軸周りに回転させながらガラス板端面に接触させる。そのため、流動性の低い磁性体スラリーを用いる場合、磁性体スラリーの入れ替えまたは攪拌を行わずにガラス板端面の研磨を長時間行うと、ガラス板端面と接触する磁性体スラリーの表面において、一部の遊離砥粒のみがガラス板端面と接触し、かつ、一部の遊離砥粒がガラス板端面と全く接触しない状態が起こり得る。この場合、ガラス板端面と接触する遊離砥粒の研磨能力は磨耗により徐々に低下するので、磁性体スラリーを攪拌し、または、磁性体スラリーを定期的に入れ替える必要がある。しかし、大型のガラス板端面の研磨加工では、１つの端面の加工中においても、遊離砥粒の研磨能力の低下が起こり得るため、研磨された端面の表面粗さが一定とならず、ガラス板の品質が安定しないおそれがある。また、磁性体スラリーに含まれる一部の遊離砥粒のみの研磨能力が低下した場合であっても、磁性体スラリーの入れ替えを行ったり、操業を止めて磁性体スラリーの攪拌を行ったりする必要があるので、余分なコストが発生するおそれがある。
【０００５】
本発明の目的は、ガラス板の端面研磨のコストを抑えることができるガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係るガラス板の製造方法は、ガラス板の端面を研磨する研磨工程を有する。研磨工程は、遊離砥粒を含むスラリーを回転体に成形した研磨ホイールを、回転体の回転軸周りに回転させる。研磨工程は、回転体の側周面をガラス板の端面に接触させながら、回転している研磨ホイールとガラス板とを端面の長手方向に沿って相対的に移動させて、端面を研磨する。研磨工程は、ガラス板の主表面に直交する第１方向に対して、回転軸を長手方向に傾斜させる。これにより、研磨工程は、回転軸が第１方向に平行である場合と比べて、端面と接触する遊離砥粒の数を増やす。
【０００７】
このガラス板の製造方法は、ダウンドロー法等によって成形され、製品サイズの寸法に切断されたガラス板の端面を加工する方法を含む。切断されたガラス板の切断面であるガラス板端面には、ガラス板の割れおよび欠けの原因となり得る微小の凹凸およびクラックが形成されやすい。ガラス板端面を研削してガラス板を面取りする研削工程を行うことで、微小の凹凸およびクラックの発生が抑制される。さらに、研削工程において面取りされたガラス板の端面を研磨する研磨工程を行うことで、ガラス板端面の表面粗さが小さくなり、より平滑な端面を有するガラス板が得られる。
【０００８】
研磨工程は、例えば、回転している研磨ホイールをガラス板端面に押し当てた状態で、研磨ホイールをガラス板端面に沿って移動させて、ガラス板端面を研磨する。研磨ホイールは、遊離砥粒を含むスラリーを、円筒形状等の回転体に成形して得られる。研磨工程では、研磨ホイールを回転体の回転軸周りに回転させ、回転体の側周面をガラス板端面に接触させることで、回転体の側周面に存在する遊離砥粒がガラス板端面と接触して、ガラス板端面が研磨される。
【０００９】
研磨工程では、遊離砥粒を含む研磨ホイールをガラス板端面に沿って傾斜させることで、回転体の側周面に存在し、かつ、ガラス板端面と接触することができる遊離砥粒の数が増加する。これにより、遊離砥粒１つ当たりの仕事量、具体的には、遊離砥粒１つ当たりのガラス板の研磨量が減るので、遊離砥粒の寿命が延びる。また、ガラス板端面を研磨することができる遊離砥粒の数が増えるので、研磨ホイールの全体的な研磨能力が向上し、研磨されたガラス板端面の表面粗さがより小さくなる。また、研磨ホイールの傾斜角度を調節することで、ガラス板端面を研磨することができる遊離砥粒の数を制御して、研磨されたガラス板端面の表面粗さを調節することができる。従って、このガラス板の製造方法は、ガラス板端面を遊離砥粒で研磨する場合において、遊離砥粒の寿命を延ばし、ガラス板の端面研磨のコストを抑えることができる。また、このガラス板の製造方法は、研磨ホイールを傾斜させることのみによって、研磨ホイールの研磨能力を調節することができるので、ガラス板端面を研磨するための装置をコンパクトにすることができる。
【００１０】
また、このガラス板の製造方法では、研磨ホイールは、一対の磁場形成部材の間の磁場形成空間に、遊離砥粒である磁性粉体を含むスラリーを保持することによって形成されることが好ましい。また、研磨工程は、一対の磁場形成部材を回転軸周りに回転させ、磁場形成空間に保持されたスラリーをガラス板の端面に接触させて、端面を研磨することが好ましい。磁性粉体を含むスラリーから形成される研磨ホイールを用いるガラス板端面の研磨工程では、遊離砥粒である磁性粉体は、被加工物であるガラス板端面の形状に追従して移動することができる。そのため、研磨ホイールがガラス板に与えるダメージが抑制されるので、ガラス板端面の研磨によるガラス板の品質の低下を抑えることができる。
【００１１】
また、このガラス板の製造方法では、スラリーは、磁性粉体および水を含み、かつ、磁性粉体の濃度が少なくとも７０ｗｔ％であることが好ましい。
【００１２】
また、このガラス板の製造方法では、研磨工程は、第１研磨工程と第２研磨工程とを有することが好ましい。第１研磨工程は、第１の研磨ホイールを用いて、ガラス板の端面を研磨する。第２研磨工程は、第２の研磨ホイールを用いて、第１研磨工程で研磨された端面を研磨する。第１研磨工程では、第１の研磨ホイールの回転軸を、長手方向に傾斜させる。第２研磨工程では、第２の研磨ホイールの回転軸を、長手方向の反対方向に傾斜させる。第１の研磨ホイールの回転軸の傾斜角度は、好ましくは、第２の研磨ホイールの回転軸の傾斜角度と等しい。ガラス板端面に沿って傾斜方向が互いに反対である２つの研磨ホイールを用いてガラス板端面を研磨することで、ガラス板端面全体を均一に研磨することができる。
【００１３】
本発明に係るガラス板の製造方法は、ガラス板の端面を研磨する研磨工程を有する。研磨工程は、遊離砥粒を含むスラリーを回転体に成形した研磨ホイールを、回転体の回転軸周りに回転させる。研磨工程は、回転体の側周面をガラス板の端面に接触させながら、回転している研磨ホイールとガラス板とを端面の長手方向に沿って相対的に移動させて、端面を研磨する。研磨工程は、ガラス板の主表面に直交する第１方向に対して、回転軸を幅方向に傾斜させる。幅方向は、第１方向および長手方向と直交する方向である。研磨ホイールを幅方向に傾斜させることにより、ガラス板の端部は、研磨ホイールのスラリーにより深く入り込む。そのため、ガラス板の端面が研磨ホイールから受ける圧力が増加し、ガラス板の端面が研磨されやすくなる。
【００１４】
また、このガラス板の製造方法では、研磨工程は、第１方向に対して回転軸を長手方向にさらに傾斜させて、端面と接触する遊離砥粒の数を増やすことが好ましい。
【００１５】
本発明に係るガラス板の製造装置は、ガラス板の端面を研磨する研磨部を備える。研磨部は、研磨ホイールと、回転機構と、傾斜機構とを有する。研磨ホイールは、遊離砥粒を含むスラリーを回転体に成形した部材である。回転機構は、回転体の回転軸周りに研磨ホイールを回転させる。傾斜機構は、ガラス板の主表面に直交する第１方向に対して、回転軸を傾斜させる。研磨部は、回転機構によって回転している研磨ホイールの側周面を、ガラス板の端面に接触させながら、研磨ホイールとガラス板とを端面の長手方向に沿って相対的に移動させて、端面を研磨する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係るガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置は、ガラス板の端面研磨のコストを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本実施形態に係る研磨装置の概略図である。
【図２】研磨ホイールの外観図である。
【図３】研磨ホイールの断面図である。
【図４】傾斜した研磨ホイールの側面図である。
【図５】傾斜した研磨ホイールの磁性体研磨スラリーに含まれ、ガラス板の端面を研磨する作用を有する磁性粉体が存在する領域を示す図である。
【図６】比較例であって、傾斜していない研磨ホイールの磁性体研磨スラリーに含まれ、ガラス板の端面を研磨する作用を有する磁性粉体が存在する領域を示す図である。
【図７】比較例であって、傾斜していない研磨ホイールがガラス板の端面に与える力を示す断面図である。
【図８】変形例Ａに係る、研磨装置の概略図である。
【図９】変形例Ａに係る、傾斜した研磨ホイールの側面図である。
【図１０】変形例Ｃに係る、傾斜した研磨ホイールの断面図である。
【図１１】変形例Ｃに係る、傾斜した研磨ホイールの断面図である。
【図１２】変形例Ｃに係る、傾斜した研磨ホイールの側面図である。
【図１３】変形例Ｄに係る、研磨機構の平面図である。
【図１４】変形例Ｄに係る、研磨機構の側面図である。
【図１５】変形例Ｄに係る、傾斜した研磨ホイールを有する研磨機構の平面図である。
【図１６】変形例Ｄに係る、傾斜した研磨ホイールを有する研磨機構の側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
（１）研磨装置の構成
本発明に係るガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置の実施形態について、図面を参照しながら説明する。本実施形態に係るガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置は、ガラス板の端面を研磨する研磨装置を用いる。図１は、研磨装置１の概略図である。研磨装置１は、ガラス板３を搬送しながらガラス板３の端面３ａを研磨する研磨加工を行う。研磨装置１によって研磨加工されるガラス板３は、フロート法およびダウンドロー法等によって熔融ガラスから成形された板状のガラスを、所定の寸法に切断し、面取り加工することで得られる。面取り加工は、ダイヤモンドホイール等を用いて、ガラス板の角部を、円弧形状またはＲ形状等に研削することで行われる。研磨装置１によって研磨加工されたガラス板３は、洗浄工程および検査工程等を経て、製品として出荷される。
【００１９】
図１に示されるように、研磨装置１は、主として、搬送機構１０および研磨機構２０を備える。搬送機構１０は、ガラス板３を、ガラス板３の端面３ａの長手方向に沿って搬送する。搬送機構１０は、ベルトコンベアおよびバキュームフロートパネル等を用いてガラス板３を搬送する。バキュームフロートパネルは、ガラス板３の下側の表面に空気を吹き付け、かつ、ガラス板３の下側の空間から空気を吸引することで、ガラス板３を浮上させる装置である。研磨機構２０は、ガラス板３の一対の端面３ａのそれぞれと対向するように設置される。研磨機構２０は、研磨ホイール２１を有する。研磨機構２０は、ガラス板３の端面３ａに向かって、回転している研磨ホイール２１を押し付けて、ガラス板３の端面３ａを研磨する。図１において、ガラス板３が搬送される方向、および、研磨ホイール２１が回転する方向は、矢印で示されている。
【００２０】
次に、研磨ホイール２１の構成について説明する。以下の説明において、「搬送方向」は、ガラス板３の端面３ａの長手方向であって、搬送機構１０によってガラス板３が搬送される方向を意味する。「幅方向」は、ガラス板３の表面に沿う方向であって、搬送方向に直交する方向を意味する。「鉛直方向」は、ガラス板３の表面に直交する方向を意味する。図面において、搬送方向は「ｙ軸」で示され、幅方向は「ｘ軸」で示され、鉛直方向は「ｚ軸」で示されている。鉛直方向に直交する平面を、「水平面」と呼ぶ。ガラス板３の表面は、水平面に平行である。
【００２１】
（２）研磨ホイールの構成
研磨ホイール２１は、ガラス板３の端面３ａを研磨するために使用される。図２は、研磨ホイール２１の外観図である。研磨ホイール２１は、クランク軸２１ａと、一対の磁場形成部材２１ｂ，２１ｃと、磁性体研磨スラリー２１ｄとを有する。研磨ホイール２１は、搬送方向に沿って、所定の傾斜角度だけ傾斜している。
【００２２】
クランク軸２１ａは、研磨ホイール２１の回転軸である。研磨ホイール２１は、クランク軸２１ａの中心軸２１ｈを中心に回転する。研磨ホイール２１の回転方向は、図１に示されるように、ガラス板３が搬送される方向と反対の方向にガラス板３を移動させようとする方向である。図３は、研磨ホイール２１の断面図である。図３は、クランク軸２１ａの中心軸２１ｈを含むｘｚ平面で研磨ホイール２１を切断した断面図である。図３には、参考として、研磨ホイール２１によって研磨されているガラス板３の断面の一部が示されている。ガラス板３の端面３ａの角部は、図３に示されるように、Ｒ面取りされている。
【００２３】
一対の磁場形成部材２１ｂ，２１ｃは、上部磁場形成部材２１ｂと下部磁場形成部材２１ｃとから構成される。上部磁場形成部材２１ｂおよび下部磁場形成部材２１ｃは、それぞれ、円筒形状を有する、永久磁石および電磁石等の磁石である。図３に示されるように、上部磁場形成部材２１ｂの下面である上部磁場形成面２１ｅは、下部磁場形成部材２１ｃの上面である下部磁場形成面２１ｆと対向している。上部磁場形成面２１ｅと下部磁場形成面２１ｆとの間の空間は、磁場形成空間２１ｇである。上部磁場形成部材２１ｂおよび下部磁場形成部材２１ｃは、磁場形成空間２１ｇに、所望の強さの磁場を形成することができる。磁場の方向は、クランク軸２１ａの中心軸２１ｈに平行な方向である。磁性体研磨スラリー２１ｄは、磁性粉体を含み、磁場により磁場形成空間２１ｇに保持される。図３に示されるように、ガラス板３の端面３ａの研磨工程において、ガラス板３の端面３ａは、磁性体研磨スラリー２１ｄの表面であるスラリー面２１ｉから、磁性体研磨スラリー２１ｄの中に挿入される。スラリー面２１ｉは、磁場形成空間２１ｇにおける研磨ホイール２１の側周面に相当する。このとき、ガラス板３の端面３ａは、磁場形成空間２１ｇに位置している。
【００２４】
磁性体研磨スラリー２１ｄは、磁性粉体と液体との混合物である。磁性体研磨スラリー２１ｄは、磁場形成空間２１ｇに磁場が形成されていない状態でも、磁場形成空間２１ｇに保持される場合がある。しかし、磁性体研磨スラリー２１ｄは、磁場形成空間２１ｇに形成される磁場によって、スラリー面２１ｉが実質的に平坦化された状態で、磁場形成空間２１ｇに保持される。
【００２５】
磁性粉体は、ガラス板３等の脆性材料を研磨するための研磨砥粒である。磁性粉体は、例えば、酸化鉄およびフェライト等の磁性体の粒子により構成される。磁性粉体としてフェライトを用いる場合、酸化防止のための添加物が不要になり、または、酸化防止のための添加物の使用量が低減するので、磁性粉体の経時的な変質を抑制することができる。
【００２６】
磁性粉体と混合される液体は、例えば、水、炭化水素、エステル類、エーテル類およびフッ化水素である。また、磁性粉体と混合される液体は、水を主成分とし、炭化水素、エステル類、エーテル類およびフッ化水素等が添加された液体であってもよい。磁性粉体と混合される液体は、水が好ましい。水を用いることで、ガラス板３の研磨加工中における磁性体研磨スラリー２１ｄの温度上昇を抑えることができる。
【００２７】
磁性粉体の凝集を抑制するために、磁性体研磨スラリー２１ｄに、０．５ｗｔ％以下の界面活性剤が添加されてもよい。界面活性剤は、例えば、脂肪酸エステルである。また、磁性体研磨スラリー２１ｄの組成変化を抑制するために、磁性体研磨スラリー２１ｄに、３．０ｗｔ％未満のプロピレングリコールが添加されてもよい。
【００２８】
研磨ホイール２１のガラス板３の研磨能力の観点から、磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれる磁性粉体の濃度は、少なくとも７０ｗｔ％であり、好ましくは少なくとも８０ｗｔ％であり、さらに好ましくは少なくとも８５ｗｔ％である。磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれる磁性粉体の濃度が７０ｗｔ％以上である場合、磁性体研磨スラリー２１ｄはペースト状になる。すなわち、磁性体研磨スラリー２１ｄは、磁場形成空間２１ｇに磁場が形成されていない状態、すなわち、磁場による拘束がない状態であっても、磁場形成空間２１ｇにおいて形状を保持することができる。磁性体研磨スラリー２１ｄは、磁場による拘束がない状態であっても、少なくともその形状を保持することができる程度に、水等の液体を含むことが好ましい。
【００２９】
磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれる磁性粉体の形状は、球状、または、角部を有する不定形状である。ここで、球状は、断面形状が円である場合だけではなく、断面形状が楕円および長円形等の角のない丸みを帯びた形状である場合をも含む。また、角部を有する不定形状は、１つまたは複数の鋭い角を有する一様でない立体形状を含む。角部は、縁に向かって薄くなっている部分、断面の輪郭線が１つまたは複数の鋭角または鈍角を形成している部分、および、縁が尖っている部分を含む。
【００３０】
磁性粉体の平均粒子径は、２μｍ以下であってもよく、２μｍより大きくかつ６μｍ以下であってもよく、６μｍより大きくかつ１５μｍ以下であってもよく、１５μｍより大きくてもよい。磁性粉体の平均粒子径は、例えば、磁性粉体の粒子の画像解析により求めることができる。具体的には、磁性粉体の粒子の画像を撮影し、画像上の粒子の投影面積に等しい面積を有する円の径を、その粒子の径と仮定することで、不定形状の磁性粉体の粒子径を算出することができる。
【００３１】
磁性粉体の形状が角部を有する不定形状である場合、磁性粉体のガラス板３の研磨能力と、研磨される端面３ａの平滑性とを両立させる観点から、磁性粉体の平均粒子径は、１５μｍ以下であることが好ましい。磁性粉体の形状が角部を有する不定形状である場合、その磁性粉体は、同じ径を有する球状の磁性粉体と比較して、ガラス板３の研磨能力が高い。そのため、磁性粉体の平均粒子径が１５μｍより大きいと、ガラス板３の端面３ａの平滑性を向上させることが困難になる。
【００３２】
磁性粉体の形状が球である場合、磁性粉体のガラス板３の研磨能力と、研磨される端面３ａの平滑性とを両立させる観点から、磁性粉体の平均粒子径は、２μｍ以上かつ２０μｍ以下であることが好ましい。磁性粉体の形状が球である場合、その磁性粉体は、同じ径を有する、角部を有する不定形状の磁性粉体と比較して、ガラス板３の研磨能力が低い。そのため、磁性粉体の平均粒子径が２μｍ未満であると、研磨に要する時間がガラス板３の量産に適さないほど長くなる。また、磁性粉体の平均粒子径が２０μｍを超えると、ガラス板３の端面３ａの平滑性を向上させることが困難になる。
【００３３】
磁性粉体は、最大磁束密度が１．０Ｔ以上であり、最大透磁率が３．０Ｈ／ｍ以上であることが好ましい。磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれる磁性粉体の濃度が８５％未満である場合、最大磁束密度が１．３Ｔ以上であり、最大透磁率が３．３Ｈ／ｍ以上であることが好ましく、最大磁束密度が１．６Ｔ以上であることがより好ましい。なぜなら、磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれる磁性粉体の濃度が８５％未満である場合、最大磁束密度および最大透磁率が高いほど、磁性粉体に対する磁場の拘束力が増加するので、ガラス板３の研磨能力が向上するからである。
【００３４】
（３）研磨装置の動作
研磨装置１が、ガラス板３の端面３ａを研磨する工程について説明する。最初に、面取り加工されたガラス板３が、搬送機構１０によって搬送される。搬送方向に沿って搬送されるガラス板３は、研磨機構２０の研磨ホイール２１に徐々に近付く。研磨機構２０は、ガラス板３の端面３ａが研磨ホイール２１に十分に近付いたこと、または、ガラス板３の端面３ａが研磨ホイール２１に接触したことをセンサ等によって検知すると、回転している研磨ホイール２１をガラス板３の端面３ａに向かって移動させる。その結果、図３に示されるように、ガラス板３の端面３ａは、スラリー面２１ｉから、磁性体研磨スラリー２１ｄの中に挿入される。ガラス板３の端面３ａが磁性体研磨スラリー２１ｄの中に挿入されている状態で、ガラス板３は、搬送機構１０によって搬送方向に搬送される。これにより、回転している研磨ホイール２１と、ガラス板３の端面３ａとは、搬送方向に沿って相対的に移動する。ガラス板３の端面３ａは、研磨ホイール２１の磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれている磁性粉体と衝突することによって、研磨される。
【００３５】
研磨ホイール２１は、ガラス板３の端面３ａを研磨して、端面３ａの加工変質層または脆弱破壊層を除去する。研磨ホイール２１は、ガラス板３の端面３ａの算術平均粗さＲａが、例えば１０ｎｍ未満となるように、ガラス板３の端面３ａを研磨することが好ましい。
【００３６】
（４）特徴
研磨装置１は、ダウンドロー法等によって成形され、製品サイズの寸法に切断されたガラス板３の端面３ａを研磨する。成形された大型のマザーガラスから切り出されたガラス板３の切断面には、ガラス板３の割れおよび欠けの原因となり得る微小の凹凸およびクラックが形成されやすい。ガラス板３の切断面である端面３ａを研削してガラス板３を面取りする研削工程を行うことで、微小の凹凸およびクラックの発生が抑制される。さらに、研削工程において面取りされたガラス板３の端面３ａを研磨する研磨工程を行うことで、端面３ａの表面粗さが小さくなり、より平滑な端面３ａを有するガラス板３が得られる。研磨工程において、ガラス板３の端面３ａは、均一に研磨されることが好ましい。
【００３７】
研磨装置１は、回転している研磨ホイール２１の側周面を、ガラス板３の端面３ａに押し当てた状態で、研磨ホイール２１とガラス板３とを搬送方向に沿って相対的に移動させて、端面３ａを研磨する。研磨ホイール２１は、遊離砥粒である磁性粉体を含む磁性体研磨スラリー２１ｄを、一対の磁場形成部材２１ｂ，２１ｃの間の磁場形成空間２１ｇに保持している。研磨装置１は、磁性体研磨スラリー２１ｄのスラリー面２１ｉを、ガラス板３の端面３ａに近付けて、ガラス板３の端面３ａを磁性体研磨スラリー２１ｄの中に挿入させる。これにより、磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれている磁性粉体は、ガラス板３の端面３ａと衝突して、ガラス板３の端面３ａが研磨される。磁性体研磨スラリー２１ｄを有する研磨ホイール２１を用いるガラス板３の端面３ａの研磨工程では、遊離砥粒である磁性粉体は、被加工物であるガラス板３の端面３ａの形状に追従して移動することができる。そのため、ガラス板３の端面３ａを研磨する工程において、研磨ホイール２１がガラス板３に与えるダメージが小さいので、ガラス板３の端面３ａの研磨によるガラス板３の品質の低下が抑制される。
【００３８】
図４は、搬送方向に傾斜している研磨ホイール２１の側面図である。図４には、研磨ホイール２１によって研磨されているガラス板３が示されている。図４において、研磨ホイール２１の傾斜角度は、θで表されている。傾斜角度は、研磨ホイール２１のクランク軸２１ａの中心軸２１ｈと、鉛直方向との間の角度である。研磨ホイール２１の図５は、搬送方向に傾斜している研磨ホイール２１の側面図である。図５には、磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれている磁性粉体であって、研磨ホイール２１の回転によってガラス板３の端面３ａと衝突することができる磁性粉体が存在する領域である研磨領域Ｒ１が、ハッチング領域として示されている。図６は、比較例としての、搬送方向に傾斜していない研磨ホイール２１の側面図である。図６には、研磨ホイール２１の回転によってガラス板３の端面３ａと衝突することができる磁性粉体が存在する領域である研磨領域Ｒ２が、ハッチング領域として示されている。
【００３９】
研磨装置１は、図４に示されるように、研磨ホイール２１を、所定の傾斜角度だけ搬送方向に傾斜させる。図５に示される研磨領域Ｒ１と、図６に示される研磨領域Ｒ２とを比較して分かるように、研磨スラリー２１ｄに含まれている磁性粉体であって、研磨ホイール２１の回転によってガラス板３の端面３ａと衝突することができる磁性粉体が存在する領域は、研磨ホイール２１を搬送方向に傾斜させることによって、増加する。すなわち、研磨ホイール２１を搬送方向に傾斜させると、ガラス板３の端面３ａを研磨する作用を有する磁性粉体の数が増加する。
【００４０】
研磨ホイール２１が搬送方向に傾斜していない場合、図６に示されるように、ガラス板３の端面３ａを研磨する作用を有する磁性粉体が存在する研磨領域Ｒ２は、クランク軸２１ａの中心軸２１ｈ方向において、磁性体研磨スラリー２１ｄの中央部のみを占めている。中心軸２１ｈ方向における研磨領域Ｒ２の幅は、ガラス板３の厚みとほぼ同じである。また、磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれる磁性粉体は、一般的に、流動性が低い。そのため、磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれている磁性粉体のほとんどは、ガラス板３の端面３ａを研磨する作用を有さない可能性がある。
【００４１】
一方、研磨ホイール２１が搬送方向に傾斜している場合、図５に示されるように、ガラス板３の端面３ａを研磨する作用を有する磁性粉体が存在する研磨領域Ｒ１は、クランク軸２１ａの中心軸２１ｈ方向において、磁性体研磨スラリー２１ｄのほとんどの部分を占めている。中心軸２１ｈ方向における研磨領域Ｒ１の幅は、磁性体研磨スラリー２１ｄの中心軸２１ｈ方向の厚みとほぼ同じである。すなわち、磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれている磁性粉体のほとんどは、ガラス板３の端面３ａを研磨する作用を有している。
【００４２】
そして、ガラス板３の端面３ａを研磨する作用を有する磁性粉体の数が大きいほど、磁性粉体１つ当たりの仕事量が減る。そのため、磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれる磁性粉体の流動性が低い場合であっても、研磨ホイール２１を搬送方向に傾斜させることにより磁性粉体１つ当たりのガラス板３の研磨量が減るので、磁性粉体の研磨能力の低下が抑制され、かつ、磁性粉体の寿命が延びる。
【００４３】
また、研磨ホイール２１を搬送方向に傾斜させることによって、ガラス板３の端面３ａを研磨する作用を有する磁性粉体の数が増えるので、研磨ホイール２１の全体的な研磨能力が向上し、研磨ホイール２１によって研磨されたガラス板３の端面３ａの表面粗さが小さくなる。
【００４４】
また、研磨ホイール２１の傾斜角度を調節することによって、ガラス板３の端面３ａを研磨する作用を有する磁性粉体の数を制御して、研磨ホイール２１によって研磨されたガラス板３の端面３ａの表面粗さを調節することができる。
【００４５】
従って、研磨装置１は、磁性体研磨スラリー２１ｄを有する研磨ホイール２１を用いてガラス板３の端面３ａを研磨する場合において、研磨ホイール２１を傾斜させることによって、磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれている磁性粉体の寿命を延ばして、ガラス板３の端面３ａの研磨加工のコストを抑えることができる。また、研磨装置１は、研磨ホイール２１を傾斜させることで研磨ホイール２１の研磨能力を容易に調節することができるので、研磨装置１をコンパクトにすることができる。すなわち、研磨装置１は、種種の粒径を有する磁性粉体を含む、複数の磁性体研磨スラリー２１ｄを用いる必要がない。
【００４６】
さらに、図６に示されるように、搬送方向に傾斜していない研磨ホイール２１でガラス板３の端面３ａを研磨する方法では、ガラス板３の端面３ａは、研磨ホイール２１から、幅方向の力のみを受ける。図７は、搬送方向に傾斜していない研磨ホイール２１によって研磨されるガラス板３の断面図である。ガラス板３の端面３ａは、円弧形状に面取りされている。図７において、ガラス板３の端面３ａが研磨ホイール２１から受ける幅方向の力である第１研磨力は、白抜きの矢印で示されている。図７において、端面３ａに垂直な方向に沿って、ガラス板３の端面３ａが研磨ホイール２１から受ける力である第２研磨力は、黒の矢印で示されている。第１研磨力の大きさは、鉛直方向において一定である。また、第２研磨力は、端面３ａに垂直な方向における、第１研磨力の分力である。そのため、図７に示されるように、第２研磨力は、ガラス板３の端面３ａの鉛直方向両端部で最小となり、かつ、鉛直方向中央部で最大となる。第２研磨力が大きいほど、端面３ａの研磨量が大きくなる。そのため、搬送方向に傾斜していない研磨ホイール２１でガラス板３の端面３ａを研磨する方法では、端面３ａの鉛直方向両端部の表面粗さは、端面３ａの鉛直方向中央部の表面粗さよりも、大きくなるおそれがある。従って、搬送方向に傾斜していない研磨ホイール２１は、ガラス板３の端面３ａを均一に研磨することが難しい。
【００４７】
一方、図５に示されるように、研磨装置１が行う端面３ａの研磨方法であって、搬送方向に傾斜している研磨ホイール２１でガラス板３の端面３ａを研磨する方法では、ガラス板３の端面３ａの鉛直方向両端部は、第２研磨力に相当する、端面３ａに垂直な方向の力を、ある程度受けることができる。そのため、搬送方向に傾斜している研磨ホイール２１でガラス板３の端面３ａを研磨する方法は、搬送方向に傾斜していない研磨ホイール２１でガラス板３の端面３ａを研磨する方法と比べて、ガラス板３の端面３ａをより均一に研磨することができる。従って、研磨装置１によって研磨されたガラス板３の端面３ａの表面粗さは、ガラス板３の一方の主表面側から他方の主表面側に亘って、安定している。
【００４８】
（５）変形例
（５−１）変形例Ａ
本実施形態に係る研磨装置１は、１つの研磨ホイール２１を用いて、ガラス板３の端面３ａを研磨する。しかし、ガラス板３の端面３ａは、２つ以上の研磨ホイール２１によって研磨されてもよい。
【００４９】
図８は、本変形例に係る研磨装置１０１の概略図である。研磨装置１０１は、本実施形態に係る研磨装置１と同様に、ガラス板３を搬送しながらガラス板３の端面３ａを研磨する研磨加工を行う。研磨装置１０１は、２つの研磨ホイール１２１，２２１を用いて、ガラス板３の端面３ａを研磨する。２つの研磨ホイール１２１，２２１は、第１研磨ホイール１２１および第２研磨ホイール２２１から構成される。第１研磨ホイール１２１および第２研磨ホイール２２１は、本実施形態における研磨ホイール２１と同様に、搬送方向に傾斜している。
【００５０】
図９は、傾斜している第１研磨ホイール１２１、および、傾斜している第２研磨ホイール２２１の側面図である。図９に示されるように、第１研磨ホイール１２１の傾斜方向は、第２研磨ホイール２２１の傾斜方向の反対の方向である。第１研磨ホイール１２１は、搬送方向に向かって傾斜し、第２研磨ホイール２２１は、搬送方向の反対の方向に向かって傾斜している。第１研磨ホイール１２１の傾斜角度は、第２研磨ホイール２２１の傾斜角度と等しい。
【００５１】
研磨装置１０１が行う研磨工程は、第１研磨工程と第２研磨工程とから構成される。第１研磨工程では、第１研磨ホイール１２１を用いて、ガラス板３の端面３ａを研磨する。第２研磨工程では、第２研磨ホイール２２１を用いて、第１研磨工程で研磨された端面３ａを研磨する。第１研磨ホイール１２１は、搬送方向に向かって、所定の傾斜角度だけ傾斜している。第２研磨ホイール２２１は、搬送方向の反対方向に向かって、第１研磨ホイール１２１の傾斜角度と同じ角度だけ傾斜している。すなわち、図９に示されるように、第１研磨ホイール１２１の回転軸１２１ｈ、および、第２研磨ホイール２２１の回転軸２２１ｈは、鉛直方向に対して、所定の角度だけ傾斜している。第１研磨ホイール１２１は、第１上部磁場形成部材１２１ｂ、第１下部磁場形成部材１２１ｃおよび第１磁性体研磨スラリー１２１ｄを有する。第２研磨ホイール２２１は、第２上部磁場形成部材２２１ｂ、第２下部磁場形成部材２２１ｃおよび第２磁性体研磨スラリー２２１ｄを有している。
【００５２】
図９に示されるように、第１研磨工程において、ガラス板３の端面３ａは、最初に、第１下部磁場形成部材１２１ｃに近い第１磁性体研磨スラリー１２１ｄによって研磨され、次に、第１上部磁場形成部材１２１ｂに近い第１磁性体研磨スラリー１２１ｄによって研磨される。第２研磨工程において、ガラス板３の端面３ａは、最初に、第２上部磁場形成部材２２１ｂに近い第２磁性体研磨スラリー２２１ｄによって研磨され、次に、第２下部磁場形成部材２２１ｃに近い第２磁性体研磨スラリー２２１ｄによって研磨される。
【００５３】
すなわち、第１研磨工程において第１研磨ホイール１２１から端面３ａが受ける力の経時的な変化は、第２研磨工程において第２研磨ホイール２２１から端面３ａが受ける力の経時的な変化の逆となる。従って、研磨装置１０１は、搬送方向に沿って傾斜方向が互いに逆である第１研磨ホイール１２１および第２研磨ホイール２２１を用いることで、ガラス板３の端面３ａの全体をより均一に研磨することができる。
【００５４】
なお、本変形例では、第１研磨ホイール１２１の傾斜角度が第２研磨ホイール２２１の傾斜角度と等しいのであれば、第１研磨ホイール１２１が、搬送方向の反対の方向に向かって傾斜し、第２研磨ホイール２２１が、搬送方向に向かって傾斜していてもよい。
【００５５】
（５−２）変形例Ｂ
本実施形態に係る研磨装置１は、ガラス板３の端面３ａが磁性体研磨スラリー２１ｄの中に挿入されている状態で、ガラス板３を搬送方向に搬送する。これにより、ガラス板３の端面３ａは、磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれている磁性粉体と衝突することによって、研磨される。しかし、研磨装置１は、ガラス板３の端面３ａが磁性体研磨スラリー２１ｄの中に挿入されている状態で、研磨ホイール２１と、ガラス板３の端面３ａとを搬送方向に沿って相対的に移動して、ガラス板３の端面３ａを研磨してもよい。例えば、研磨装置１は、ガラス板３を固定して、研磨ホイール２１を搬送方向に沿って移動させて、ガラス板３の端面３ａを研磨してもよい。また、研磨装置１は、ガラス板３および研磨ホイール２１を、搬送方向に沿って、互いに異なる速さで移動させて、ガラス板３の端面３ａを研磨してもよい。
【００５６】
（５−３）変形例Ｃ
本実施形態に係る研磨装置１は、長手方向に傾斜させた研磨ホイール２１を用いて、ガラス板３の端面３ａを研磨する。しかし、研磨装置１は、長手方向に傾斜させた研磨ホイール２１の代わりに、幅方向に傾斜させた研磨ホイール２１を用いて、ガラス板３の端面３ａを研磨してもよい。
【００５７】
図１０は、本変形例における研磨ホイール３２１の断面図である。図１０は、クランク軸３２１ａの中心軸３２１ｈを含むｘｚ平面で研磨ホイール３２１を切断した断面図である。図１０には、参考として、研磨ホイール３２１によって研磨されているガラス板３の断面の一部が示されている。研磨ホイール３２１は、クランク軸３２１ａと、一対の磁場形成部材３２１ｂ，３２１ｃと、磁性体研磨スラリー３２１ｄとを有する。研磨ホイール３２１は、クランク軸３２１ａの中心軸３２１ｈを中心に回転する。図１０に示されるように、中心軸３２１ｈは、ガラス板３の幅方向に傾斜している。具体的には、研磨ホイール３２１は、ガラス板３の端面３ａに近付く方向に向かって、鉛直方向下方に傾斜している。研磨ホイール３２１を幅方向に傾斜させることにより、ガラス板３の上側の主表面と端面３ａとの境界部、すなわち、ガラス板３の上側の角部は、研磨ホイール３２１の磁性体研磨スラリー３２１ｄの内部により深く入り込む。そのため、ガラス板３の上側の角部において、ガラス板３が研磨ホイール３２１から受ける圧力は高い。これにより、ガラス板３の上側の角部は、研磨ホイール３２１によって研磨されやすい。
【００５８】
図１１は、本変形例における別の研磨ホイール４２１の断面図である。図１１は、クランク軸４２１ａの中心軸４２１ｈを含むｘｚ平面で研磨ホイール４２１を切断した断面図である。図１１には、参考として、研磨ホイール４２１によって研磨されているガラス板３の断面の一部が示されている。研磨ホイール４２１は、クランク軸４２１ａと、一対の磁場形成部材４２１ｂ，４２１ｃと、磁性体研磨スラリー４２１ｄとを有する。研磨ホイール４２１は、クランク軸４２１ａの中心軸４２１ｈを中心に回転する。図１１に示されるように、中心軸４２１ｈは、ガラス板３の幅方向に傾斜している。具体的には、研磨ホイール４２１は、ガラス板３の端面３ａに近付く方向に向かって、鉛直方向上方に傾斜している。研磨ホイール４２１を幅方向に傾斜させることにより、ガラス板３の下側の主表面と端面３ａとの境界部、すなわち、ガラス板３の下側の角部は、研磨ホイール４２１の磁性体研磨スラリー４２１ｄの内部により深く入り込む。そのため、ガラス板３の下側の角部において、ガラス板３が研磨ホイール４２１から受ける圧力は高い。これにより、ガラス板３の下側の角部は、研磨ホイール４２１によって研磨されやすい。
【００５９】
図１２は、図１０に示される研磨ホイール３２１、および、図１１に示される研磨ホイール４２１を用いて、ガラス板３の端面３ａを研磨する研磨装置の概略図である。図１２は、ｘ軸に沿って見た、研磨ホイール３２１，４２１の側面図である。図１２に示されるように、幅方向に沿って互いに反対方向に傾斜している２種類の研磨ホイール３２１，４２１を用いてガラス板３の端面３ａを研磨することで、ガラス板３の上側および下側の角部における研磨装置の研磨能力を向上させることができる。これにより、図１２に示される研磨装置は、ガラス板３の端面３ａを均一に研磨することができる。
【００６０】
なお、本変形例に係る研磨ホイール３２１，４２１は、本実施形態の研磨ホイール２１と同様に、長手方向に沿ってさらに傾斜してもよい。この場合、研磨ホイール３２１，４２１の中心軸３２１ｈ，４２１ｈは、幅方向に沿って傾斜していると同時に、長手方向に沿って傾斜している。
【００６１】
（５−４）変形例Ｄ
本実施形態に係る研磨装置１は、研磨機構２０を備える。研磨機構２０は、例えば、ガラス板３の端面３ａに向かって研磨ホイール２１を押し付ける機構を有する。次に、研磨機構２０の具体的な構成の一例について説明する。
【００６２】
研磨機構２０は、主として、研磨ホイール２１と、１対のフロントアーム２２と、１対のリヤアーム２３と、駆動モータ２４と、傾斜機構２５と、ブレーキ機構２６と、カウンターウエイト２７と、基体２８と、制御部（図示せず）とから構成される。図１３は、ガラス板３の一方の端面３ａを研磨する研磨機構２０の平面図である。図１４は、図１３に示される矢印ＸＩＶの方向から見た、研磨機構２０の側面図である。図１３には、参考として、研磨機構２０によって加工されるガラス板３が示されている。図１３および図１４に示される研磨機構２０は、ガラス板３の他方の端面３ａを研磨する研磨機構２０と同じ構成および動作を有する。図１５は、図１３と同様の研磨機構２０の平面図である。図１６は、図１４と同様の研磨機構２０の側面図である。図１５および図１６は、傾斜機構２５によって、幅方向に直交する面内において研磨ホイール２１が傾斜している状態を表している。一方、図１３および図１４は、幅方向に直交する面内において研磨ホイール２１が傾斜していない状態を表している。
【００６３】
（５−４−１）研磨ホイール
研磨ホイール２１は、基体２８に固定され、かつ、傾斜機構２５に連結されている。研磨ホイール２１は、傾斜機構２５によって、長手方向に傾斜することができる。
【００６４】
（５−４−２）フロントアーム
一対のフロントアーム２２は、図１４に示されるように、研磨ホイール２１の上方、および、研磨ホイール２１の下方に設置されている。図１３に示されるように、フロントアーム２２の一方の端部は、フロントアーム第１回動軸２２ａに連結され、フロントアーム２２の他方の端部は、フロントアーム第２回動軸２２ｂに連結されている。フロントアーム第１回動軸２２ａは、基体２８に連結されている。フロントアーム第２回動軸２２ｂは、傾斜機構２５に連結されている。
【００６５】
フロントアーム２２は、フロントアーム第１回動軸２２ａを中心に、水平面内を回動する。フロントアーム２２が回動することによって、搬送方向に対するフロントアーム２２の角度が変化する。
【００６６】
フロントアーム２２は、後述するように、カウンターウエイト２７を用いる機械的な制御によって回動する。しかし、フロントアーム２２は、電気的な制御によって回動してもよい。例えば、電子カムシステムを応用することによって、研磨ホイール２１の磁性体研磨スラリー２１ｄに含まれる磁性粉体の状態、および、ガラス板３の端面３ａの断面形状等に応じて、フロントアーム２２の回動が適宜に制御されてもよい。
【００６７】
（５−４−３）リヤアーム
一対のリヤアーム２３は、一対のフロントアーム２２と同様に、研磨ホイール２１の上方、および、研磨ホイール２１の下方に設置されている。図１３に示されるように、リヤアーム２３の一方の端部は、リヤアーム第１回動軸２３ａに連結され、リヤアーム２３の他方の端部は、リヤアーム第２回動軸２３ｂに連結されている。リヤアーム第１回動軸２３ａは、基体２８に連結されている。リヤアーム第２回動軸２３ｂは、傾斜機構２５に連結されている。
【００６８】
リヤアーム２３は、リヤアーム第１回動軸２３ａを中心に、水平面内を回動する。リヤアーム２３が回動することによって、搬送方向に対するリヤアーム２３の角度が変化する。
【００６９】
フロントアーム第１回動軸２２ａとリヤアーム第１回動軸２３ａとの間の距離、および、フロントアーム第２回動軸２２ｂとリヤアーム第２回動軸２３ｂとの間の距離は、互いに等しく、かつ、一定である。そのため、フロントアーム２２およびリヤアーム２３は、搬送方向に対する角度に関わらず、互いに平行である。フロントアーム２２およびリヤアーム２３の回動によって、研磨ホイール２１の水平面内の位置が変化する。
【００７０】
（５−４−４）駆動モータ
駆動モータ２４は、研磨ホイール２１を回転駆動するための動力を発生させるモータである。駆動モータ２４は、後述するタイミングベルト２５ｃを介して、研磨ホイール２１に連結されている。駆動モータ２４は、傾斜機構２５に取り付けられている。
【００７１】
駆動モータ２４の駆動が開始すると、一対の磁場形成部材２１ｂ，２１ｃが、クランク軸２１ａの中心軸２１ｈを中心に回転する。これにより、磁場形成空間２１ｇに保持されている磁性体研磨スラリー２１ｄも、中心軸２１ｈの周りを回転する。
【００７２】
（５−４−５）傾斜機構
傾斜機構２５は、幅方向に直交する面内において研磨ホイール２１を回転させる。幅方向に直交する面は、図１４の紙面と平行な面である。図１４に示されるように、傾斜機構２５は、主として、基部２５ａと、スピンドル２５ｂと、タイミングベルト２５ｃとを有している。
【００７３】
基部２５ａは、フロントアーム第２回動軸２２ｂおよびリヤアーム第２回動軸２３ｂと連結されている。すなわち、傾斜機構２５は、フロントアーム２２およびリヤアーム２３と連結されている。
【００７４】
スピンドル２５ｂは、基部２５ａに連結され、幅方向に直交する面内において回転可能な部材である。スピンドル２５ｂは、傾斜軸２５ｄを中心に回転する。傾斜軸２５ｄは、図１３および図１４に示されるように、幅方向に平行な軸であって、かつ、研磨ホイール２１のクランク軸２１ａの中心軸２１ｈと交わる軸である。傾斜軸２５ｄと中心軸２１ｈとの交点の鉛直方向の位置は、研磨ホイール２１の上部磁場形成面２１ｅの中心と下部磁場形成面２１ｆの中心との中点である。研磨ホイール２１は、スピンドル２５ｂに固定されている。
【００７５】
タイミングベルト２５ｃは、駆動モータ２４が発生した動力を研磨ホイール２１に伝達するためのベルトである。研磨ホイール２１は、タイミングベルト２５ｃの駆動によって回転する。
【００７６】
傾斜機構２５は、傾斜軸２５ｄを中心に、スピンドル２５ｂを、幅方向に直交する面内において回転させることができる。これにより、スピンドル２５ｂに連結されている研磨ホイール２１も、傾斜軸２５ｄを中心に、幅方向に直交する面内において回転する。その結果、研磨ホイール２１は、ガラス板３の端面３ａの長手方向、すなわち、搬送方向に沿って傾斜する。研磨ホイール２１は、傾斜機構２５によって、搬送方向に沿って、所定の傾斜角度だけ傾斜している。図１６において、研磨ホイール２１の傾斜角度は、θで表されている。
【００７７】
（５−４−６）ブレーキ機構
ブレーキ機構２６は、フロントアーム２２の回動を制限する。ブレーキ機構２６によって、フロントアーム２２の回動にブレーキがかけられ、傾斜機構２５に連結されている研磨ホイール２１の水平面内の移動が制限される。ブレーキ機構２６は、例えば、搬送機構１０によって搬送されるガラス板３が研磨ホイール２１に接触する瞬間、および、搬送機構１０によって搬送されるガラス板３が研磨ホイール２１から離れる瞬間において、フロントアーム２２の回動を一時的に制限する。ブレーキ機構２６は、例えば、エアーシリンダーを用いる。ブレーキ機構２６は、基体２８に取り付けられている。
【００７８】
（５−４−７）カウンターウエイト
カウンターウエイト２７は、フロントアーム２２に力を加えて、フロントアーム２２を回動させるための機構である。カウンターウエイト２７によって、フロントアーム２２が回動して、傾斜機構２５に連結されている研磨ホイール２１が水平面内を移動する。カウンターウエイト２７は、基体２８に取り付けられている。
【００７９】
（５−４−８）基体
基体２８は、フロントアーム２２、リヤアーム２３、傾斜機構２５、ブレーキ機構２６およびカウンターウエイト２７等が連結されている部材である。基体２８は、研磨機構２０の設置場所に固定されている。
【００８０】
（５−４−９）制御部
制御部は、主として、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭおよびハードディスク等から構成されているコンピュータである。制御部は、駆動モータ２４、傾斜機構２５、ブレーキ機構２６、カウンターウエイト２７等に接続されている。制御部は、ＲＯＭ、ＲＡＭまたはハードディスク等に記憶されているプログラムおよびデータに基づいて、制御部に接続されている構成要素の制御を行う。例えば、制御部は、駆動モータ２４を制御して、研磨ホイール２１の回転速度を調節する。制御部は、傾斜機構２５を制御して、研磨ホイール２１の傾斜角度を調節する。制御部は、ブレーキ機構２６を制御して、研磨ホイール２１の水平面内の移動を制限する。制御部は、カウンターウエイト２７を制御して、研磨ホイール２１の水平面内の位置を調節し、かつ、研磨ホイール２１がガラス板３の端面３ａに与える力を調節する。
【符号の説明】
【００８１】
１      研磨装置（研磨部）
３      ガラス板
３ａ    ガラス板の端面
２１      研磨ホイール
２１ｂ    上部磁場形成部材（磁場形成部材）
２１ｃ    下部磁場形成部材（磁場形成部材）
２１ｄ    磁性体研磨スラリー（スラリー）
２１ｇ    磁場形成空間
２１ｈ    クランク軸の中心軸（回転軸）
２４      駆動モータ（回転機構）
２５      傾斜機構
【先行技術文献】
【特許文献】
【００８２】
【特許文献１】国際公開第２０１２／０６７５８７号公報
【図１】
2015010002.tif 000003
【図２】
2015010002.tif 000004
【図３】
2015010002.tif 000005
【図４】
2015010002.tif 000006
【図５】
2015010002.tif 000007
【図６】
2015010002.tif 000008
【図７】
2015010002.tif 000009
【図８】
2015010002.tif 000010
【図９】
2015010002.tif 000011
【図１０】
2015010002.tif 000012
【図１１】
2015010002.tif 000013
【図１２】
2015010002.tif 000014
【図１３】
2015010002.tif 000015
【図１４】
2015010002.tif 000016
【図１５】
2015010002.tif 000017
【図１６】
2015010002.tif 000018