(57)【要約】      （修正有）【課題】ＩＴＯ膜の表面に厚みが薄く均一で導通も良好な電極材の提供。【解決手段】ＩＴＯ膜上に、（ａ）アミノ基とカルボキシル基とを有する化合物、（ｂ）アミノ基を２以上有する化合物、（ｃ）カルボキシル基を２以上有する化合物、及び（ｄ）アミノ基とヒドロキシル基とを有する化合物からなる群から選択される多官能有機化合物（好ましくはアルギニン）からなる有機皮膜を形成する工程（Ａ）、前記工程（Ａ）で形成された有機皮膜に触媒となる金属イオンを吸着させる工程（Ｂ）、及び前記工程（Ｂ）で吸着した金属イオンを活性化して無電解めっきを行い、金属皮膜を形成する工程（Ｃ）を含む方法で、ＩＴＯ膜上へ金属皮膜を形成する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程（Ａ）〜（Ｃ）を含む、ＩＴＯ膜上への金属皮膜の形成方法。
（Ａ）ＩＴＯ膜上に、下記（ａ）〜（ｄ）からなる群から選択される多官能有機化合物からなる有機皮膜を形成する工程
（ａ）アミノ基とカルボキシル基とを有する化合物
（ｂ）アミノ基を２以上有する化合物
（ｃ）カルボキシル基を２以上有する化合物
（ｄ）アミノ基とヒドロキシル基とを有する化合物
（Ｂ）前記工程（Ａ）で形成された有機皮膜に触媒となる金属イオンを吸着させる工程
（Ｃ）前記工程（Ｂ）で吸着した金属イオンを活性化して無電解めっきを行い、金属皮膜を形成する工程
【請求項２】
前記金属皮膜の膜厚が２０〜１，０００ｎｍである、請求項１記載の金属皮膜の形成方法。
【請求項３】
前記有機皮膜を形成する工程が、前記ＩＴＯ膜の表面に、多官能有機化合物の濃度０．００１〜０．１Ｍの水溶液を塗布する工程を含む、請求項１又は２記載の金属皮膜の形成方法。
【請求項４】
前記金属イオンがパラジウムイオンである、請求項１〜３のいずれかに記載の金属皮膜の形成方法。
【請求項５】
ＩＴＯ膜を含む基材と、前記ＩＴＯ膜上に形成された金属皮膜とを有する電極材であって、前記ＩＴＯ膜と金属皮膜との間に下記（ａ）〜（ｄ）からなる群から選択される多官能有機化合物からなる有機皮膜を有することを特徴とする、電極材。
（ａ）アミノ基とカルボキシル基とを有する化合物
（ｂ）アミノ基を２以上有する化合物
（ｃ）カルボキシル基を２以上有する化合物
（ｄ）アミノ基とヒドロキシル基とを有する化合物
【請求項６】
前記金属皮膜の膜厚が２０〜１，０００ｎｍである、請求項５記載の電極材。
【請求項７】
請求項１記載の金属皮膜の形成方法を含む、請求項５記載の電極材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＩＴＯ膜上への金属皮膜の形成方法に関する。詳しくは、本発明は、ＩＴＯ膜上へ、厚みが薄く且つ均一で導通に優れた金属皮膜を形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明電極材であるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）は、可視光の透過率が約９０％に上るため、液晶パネルや有機ＥＬディスプレイなどのＦＰＤ（フラット・パネル・ディスプレイ）向けの電極や照明などに多用されている。
しかしながら、ＩＴＯは導電性が低いという欠点を有している。そこで、ＩＴＯ膜の表面に金属皮膜を形成して導電性を向上させる手法が検討されている。
【０００３】
ＩＴＯ膜表面上への金属皮膜形成方法としては、蒸着法やスパッタ法などのドライプロセスが考えられる（特許文献１；特開２０１３−１２０４１１、など）が、設備が大掛かりで高価であり、また連続加工には適さない。
【０００４】
めっきにより金属皮膜を形成する方法は、簡易な設備で連続的な製造も可能である。例えば、電気めっきによってＩＴＯ膜上に直接金属皮膜を形成する方法が提案されている（特許文献２；特開２０１２−２４８２８５）。しかしながら、ＩＴＯ膜の導電性が低いため、均一な金属皮膜の形成が困難である。また、ＩＴＯ膜が不連続であると加工ができないという欠点を有する。さらに、無電解めっきの場合には触媒の付与が必要となる。
【０００５】
そこで、触媒を含む樹脂などをＩＴＯ膜上に付与し、無電解めっきを行う方法が提案されている（特許文献３；特開２００９−１６４０４１）。しかしながら、この方法ではＩＴＯ膜と金属皮膜が樹脂層を介しているため、ＩＴＯ膜と金属皮膜との導通が確保されにくい。また、特許文献３記載の方法では樹脂に金属微粒子を含有させているものの、導通を確保するのには不十分である。さらに、樹脂の厚みにより金属皮膜部分が盛り上がるため、得られる電極材の厚みが増大するという欠点を有する。
【０００６】
このように、ＩＴＯ膜の導電性を向上させるために、ＩＴＯ膜の表面へ、厚みが薄く且つ均一で導通に優れた金属皮膜を形成する方法の開発が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１３−１２０４１１
【特許文献２】特開２０１２−２４８２８５
【特許文献３】特開２００９−１６４０４１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、ＩＴＯ膜の表面へ、厚みが薄く且つ均一で導通に優れた金属皮膜を形成する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、鋭意検討した結果、ＩＴＯ膜上に特定物質の有機皮膜を形成し、これに触媒となる金属イオンを吸着させ、吸着した金属イオンを活性化して無電解めっきを行うことによって、厚みが薄く且つ均一で導通に優れた金属皮膜を形成できることを見出し、本発明に到達した。
【００１０】
すなわち、本発明は、以下に示すＩＴＯ膜上への金属皮膜の形成方法及び導電膜に関するものである。
【００１１】
（１）以下の工程（Ａ）〜（Ｃ）を含む、ＩＴＯ膜上への金属皮膜の形成方法。
（Ａ）ＩＴＯ膜上に、下記（ａ）〜（ｄ）からなる群から選択される多官能有機化合物からなる有機皮膜を形成する工程
（ａ）アミノ基とカルボキシル基とを有する化合物
（ｂ）アミノ基を２以上有する化合物
（ｃ）カルボキシル基を２以上有する化合物
（ｄ）アミノ基とヒドロキシル基とを有する化合物
（Ｂ）前記工程（Ａ）で形成された有機皮膜に触媒となる金属イオンを吸着させる工程
（Ｃ）前記工程（Ｂ）で吸着した金属イオンを活性化して無電解めっきを行い、金属皮膜を形成する工程
【００１２】
（２）前記金属皮膜の膜厚が２０〜１，０００ｎｍである、（１）記載の金属皮膜の形成方法。
【００１３】
（３）前記有機皮膜を形成する工程が、前記ＩＴＯ膜の表面に、多官能有機化合物の濃度０．００１〜０．１Ｍの水溶液を塗布する工程を含む、（１）又は（２）に記載の金属皮膜の形成方法。
（４）前記金属イオンがパラジウムイオンである、（１）〜（３）のいずれかに記載の金属皮膜の形成方法。
【００１４】
（５）ＩＴＯ膜を含む基材と、前記ＩＴＯ膜上に形成された金属皮膜とを有する電極材であって、前記ＩＴＯ膜と金属皮膜との間に下記（ａ）〜（ｄ）からなる群から選択される多官能有機化合物からなる有機皮膜を有することを特徴とする、電極材。
（ａ）アミノ基とカルボキシル基とを有する化合物
（ｂ）アミノ基を２以上有する化合物
（ｃ）カルボキシル基を２以上有する化合物
（ｄ）アミノ基とヒドロキシル基とを有する化合物
【００１５】
（６）前記金属皮膜の厚みが２０〜１，０００ｎｍである、（５）記載の電極材。
（７）（１）記載の金属皮膜の形成方法を含む、（５）記載の電極材の製造方法。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ＩＴＯ膜と金属皮膜の間には、ごく薄い有機皮膜と触媒となる金属があるのみであるので、厚みが薄く均一で、導通も良い電極材が得られる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の金属皮膜形成方法は、上記工程（Ａ）〜（Ｃ）を含むものである。
１．工程（Ａ）：有機皮膜形成工程
本発明における工程（Ａ）では、ＩＴＯ膜上に、下記（ａ）〜（ｄ）からなる群から選択される多官能有機化合物からなる有機皮膜を形成する。
（ａ）アミノ基とカルボキシル基とを有する化合物
（ｂ）アミノ基を２以上有する化合物
（ｃ）カルボキシル基を２以上有する化合物
（ｄ）アミノ基とヒドロキシル基とを有する化合物
【００１８】
（１）ＩＴＯ膜
ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜の厚みは特に制限されない。ＩＴＯ膜の厚みは用途に応じて適宜選択され、その表面に金属皮膜を形成する本発明の方法を適用できる。ＩＴＯ膜は単独の膜であってもよいが、ベース基材の上に形成されたＩＴＯ膜であってもよい。
【００１９】
ＩＴＯ膜には、所望により、その表面をクリアーにしておく等の目的で事前に脱脂処理等を施すことができる。脱脂処理としては、アルコールなどによる洗浄や、界面活性剤を用いた処理など、公知の方法を採用することができる。
【００２０】
（２）多官能有機化合物
本発明で用いられる多官能有機化合物としては、（ａ）アミノ基とカルボキシル基とを有する化合物（以下、「化合物（ａ）」）、（ｂ）アミノ基を２以上有する化合物（以下、「化合物（ｂ）」）、（ｃ）カルボキシル基を２以上有する化合物（以下、「化合物（ｃ）」）、及び（ｄ）アミノ基とヒドロキシル基とを有する化合物（以下、「化合物（ｄ）」）が挙げられる。具体的には以下の化合物群が挙げられる。
【００２１】
（ａ）アミノ基とカルボキシル基とを有する化合物：化合物（ａ）
本発明で用いられる化合物（ａ）として、具体的には、１つのアミノ基と１つのカルボキシル基を有する化合物（中性アミノ酸）、１つのアミノ基と２以上のカルボキシル基を有する化合物（酸性アミノ酸）、２以上のアミノ基と１つのカルボキシル基を有する化合物（塩基性アミノ酸）などが挙げられる。前記化合物（ａ）においては、当該アミノ基及びカルボキシル基以外の官能基を含んでもよい。化合物（ｂ）、化合物（ｃ）、化合物（ｄ）と重複する化合物を含んでいてもよい。
【００２２】
より具体的には、グルタミン酸（酸性アミノ酸）；グリシン、システイン（中性アミノ酸）；リシン、ヒスチジン、アルギニン（塩基性アミノ酸）等のアミノ酸類が挙げられる。
【００２３】
（ｂ）アミノ基を２以上有する化合物：
本発明で用いられるアミノ基を２以上有する化合物として、具体的には、２つのアミノ基を有する化合物が挙げられる。前記化合物（ｂ）においては、当該アミノ基以外の官能基を含んでもよく、当該アミノ基以外の官能基としては、カルボキシル基、ヒドロキシル基等が挙げられる。化合物（ａ）、化合物（ｃ）、化合物（ｄ）と重複する化合物を含んでいてもよい。
【００２４】
より具体的には、エチレンジアミン又はグアニジン系化合物が挙げられる。グアニジン系化合物としては、上述した塩基性アミノ酸であるアルギニンの他、塩酸グアニジン、塩酸アミノグアニジン等が挙げられる。
【００２５】
（ｃ）カルボキシル基を２以上有する化合物：
本発明で用いられるカルボキシル基を２以上有する化合物として、具体的には、２つのカルボキシル基を有する化合物が挙げられる。
前記化合物（ｃ）においては、当該カルボキシル基以外の官能基を含んでもよく、当該カルボキシル基以外の官能基としては、アミノ基等が挙げられる。化合物（ａ）、化合物（ｂ）、化合物（ｄ）と重複する化合物を含んでいてもよい。より具体的には、コハク酸、シュウ酸、マロン酸等が挙げられる。
【００２６】
（ｄ）アミノ基とヒドロキシル基とを有する化合物：
本発明で用いられるアミノ基とヒドロキシル基とを有する化合物として、具体的には、１つのアミノ基と１つのヒドロキシル基を有する化合物が挙げられる。
前記化合物（ｄ）においては、当該アミノ基とヒドロキシル基以外の官能基を含んでもよく、当該アミノ基とヒドロキシル基以外の官能基としては、カルボキシル基等が挙げられる。化合物（ａ）、化合物（ｂ）、化合物（ｃ）と重複する化合物を含んでいてもよい。より具体的には、２−アミノエタノール、１−アミノ−２−プロパノール等が挙げられる。
【００２７】
なお、本発明に用いられる多官能有機化合物としては、アクリル基等の重合性二重結合を有しないことが好ましい。
【００２８】
多官能有機化合物の分子量は特に制限されないが、好ましくは４５〜３００程度である。多官能有機化合物の分子量がこの範囲であると、溶媒に溶解しやすく取り扱いが容易であり、有機皮膜による導通性の低下を抑制できるという利点を有する。
【００２９】
（３）有機皮膜の形成方法
多官能有機化合物からなる有機皮膜を形成する方法としては、前記多官能有機化合物を水性溶剤又は有機溶剤に溶解したのち、該多官能有機化合物を含む溶液を塗布する方法が挙げられる。塗布の方法としては、浸漬法（ディップ法）、あるいはコーティング法等の公知の方法が挙げられる。コーティング法の具体例としては、バーコーター、マイクログラビアコーター、ディップコーター等が挙げられる。
【００３０】
更に、インクジェット印刷、スクリーン印刷、凹版印刷、凸版印刷等の印刷法を用いて、特定パターン状に有機皮膜を形成することもできる。これによれば、パターン状の有機皮膜部分にのみ、選択的に金属皮膜を形成することができる。パターン形成方法としては他に、マスキングによる逆パターンを形成後、多官能有機化合物を含む溶液を付与し、その後マスキングを除去する方法も採用できる。
【００３１】
溶剤の具体例としては、水、アルコール等が挙げられる。好ましくは水である。
多官能有機化合物を含む溶液中の多官能有機化合物の濃度は特に制限されないが、好ましくは０．００１〜０．１Ｍ、より好ましくは０．０１〜０．０５Ｍである。多官能有機化合物を含む溶液中の多官能有機化合物の濃度が０．００１Ｍ未満であると、有機皮膜の形成が不十分となり、結果的に金属皮膜の形成が不十分となる。多官能有機化合物の濃度が０．１Ｍを超えても、有機皮膜の形成に大差はなく、余剰の多官能有機化合物が無駄となってしまう。
【００３２】
有機皮膜の形成に浸漬法を用いる場合、多官能有機化合物を含む溶液からなる浸漬浴中の温度（浸漬時の溶液温度）は、好ましくは３０〜５０℃、浸漬時間は好ましくは１〜１０分である。温度がこの範囲内であれば、有機皮膜の形成が好適に行われる。
【００３３】
浸漬法においては、通常、浸漬後に乾燥させる。好ましい乾燥温度は８０〜１００℃、乾燥時間は５〜１０分である。
【００３４】
上記方法で形成された有機皮膜の膜厚は、０．５〜１００ｎｍである。膜厚が０．５ｎｍ未満では均一な皮膜を形成することが困難であり、めっき後の金属皮膜に斑が生じる虞がある。膜厚が１００ｎｍを超えると、金属皮膜とＩＴＯ膜との導通が不良となる虞がある。
【００３５】
２．工程（Ｂ）：金属イオン吸着工程
本発明における工程（Ｂ）では、前記工程（Ａ）で形成された有機皮膜の表面に触媒となる金属イオンを吸着させる。
【００３６】
（１）金属イオン
工程（Ｂ）で用いる金属イオンは、後に続く工程（Ｃ）における無電解めっきの触媒となるものである。金属イオンの具体例としては、パラジウムイオン、銅イオン、及びニッケルイオンから選ばれる１種以上が挙げられる。
【００３７】
前記金属イオンは、溶媒を用いて金属イオン含有溶液としたのち、吸着処理に用いられる。金属イオン含有溶液に用いられる溶媒は特に限定されないが、好ましくは水である。
また、金属イオン含有溶液のｐＨは、好ましくは２〜６である。金属イオン含有溶液のｐＨが２未満であると、金属イオンの吸着が不良となる虞がある。ｐＨが６を超えると、金属イオン含有溶液の安定性が低下する虞がある。
【００３８】
金属イオン含有溶液のｐＨを適切な範囲に維持するため、適宜、ｐＨ調整剤を用いることができる。ｐＨ調整剤としては、既知の酸、アルカリ等を使用することができる。更にｐＨ緩衝剤を用いることができる。ｐＨ緩衝剤としては、ホウ砂、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等を用いることができ、特にホウ砂が好適である。ｐＨ緩衝剤の配合量は０．２〜３ｇ／Ｌが好ましく、０．５〜２ｇ／Ｌがより好ましい。
【００３９】
前記金属イオン含有溶液中の金属イオン濃度は特に制限されないが、０．０１ｍＭ〜５０ｍＭが好ましく、より好ましくは０．０５ｍＭ〜２０ｍＭであり、更に好ましくは０．０５ｍＭ〜１０ｍＭであり、特に好ましくは０．０８ｍＭ〜０．９ｍＭである。金属イオン濃度が０．０１ｍＭ未満であると、金属皮膜の析出性が低下する虞があり、金属イオン濃度が５０ｍＭを超えると、金属皮膜の密着性が低下する虞があり、また、コストも増大する場合がある。
【００４０】
（２）吸着方法
前記有機皮膜の表面に金属イオンを吸着させる方法としては、該有機皮膜が表面に形成されたＩＴＯ膜を金属イオン含有溶液に接触させる方法が挙げられる。
接触の方法としては、金属イオン含有溶液中に、有機皮膜が表面に形成されたＩＴＯ膜を浸漬する方法や、該ＩＴＯ膜にスプレー状に金属イオン含有溶液を噴きかける等の方法が挙げられる。
【００４１】
有機皮膜が表面に形成されたＩＴＯ膜を金属イオン含有溶液に接触させるときの反応温度は１０℃〜８０℃、好ましくは３０℃〜５０℃である。金属イオン含有溶液の接触時間は、１０秒〜８００秒が好ましく、より好ましくは６０秒〜５００秒である。
【００４２】
金属イオン含有溶液に接触させた後は、前記ＩＴＯ膜を水洗し、非特異的に付着した金属イオンを除去する。このとき、超音波洗浄等を行うと、効率良く洗浄することができる。
なお、前記有機被膜の表面に吸着した金属イオンは、官能基に配位して金属塩が形成されるものと思われる。
【００４３】
３．工程（Ｃ）：無電解めっき工程
本発明における工程（Ｃ）では、前記工程（Ｂ）で有機皮膜の表面に吸着した金属イオンを活性化して無電解めっきを行う。
【００４４】
（１）活性化処理
有機皮膜の表面に吸着した金属イオンを活性化する方法として具体的には、前記金属イオンを還元させることが挙げられる。
工程（Ｃ）では、ＩＴＯ膜を、還元剤を含む処理液に接触させ、工程（Ｂ）で有機皮膜表面に吸着された金属イオンを還元する。ここで、還元剤を含む処理液に用いる還元剤としては、ジメチルアミンボラン、次亜リン酸ナトリウム、ヒドラジン、メタノール、ジエチルメチルアミン、アスコルビン酸等が挙げられる。このうち、扱いやすい酸性領域で使用できる点からジメチルアミンボラン（ＤＭＡＢ）が特に好ましい。
【００４５】
また、還元剤を含む処理液の還元剤濃度は、１ｍＭ〜１００ｍＭが好ましく、より好ましくは１０ｍＭ〜３０ｍＭである。還元剤濃度がこの範囲であると、めっきの析出性が良好となるという利点を有する。
本発明の還元剤を含む処理液に使用される溶媒は、特に限定されないが、水を用いるのが好ましい。また、処理液としては酸性処理液を用いるのが一般的であるが、還元剤の選択によってはアルカリ性処理液を用いる場合もある。
【００４６】
前記ＩＴＯ膜を、還元剤を含む処理液に接触させる時間は、６０秒〜６００秒、好ましくは１８０秒〜３００秒である。接触温度は１０℃〜８０℃、好ましくは３０℃〜５０℃である。還元剤を含む処理液に接触させた後、ＩＴＯ膜を水洗し、非特異的に付着した還元剤溶液を除去する。
【００４７】
（２）無電解めっき
（ｉ）無電解めっき用金属
無電解めっき用金属としては、銅、ニッケル、スズ、及び銀からなる群から選択される少なくとも１種の金属またはこれらの合金（たとえば銅とスズの合金など）が挙げられ、特に好ましくは銅及びニッケルである。この金属メッキ加工によってＩＴＯ膜表面に高い導電性が付与される。
【００４８】
（ii）無電解めっき処理
本発明では、上述した還元処理などの活性化処理を行った後、所望の金属による無電解メッキ処理を施して金属層を形成する。無電解めっきには既存のめっき浴を使用することができ、このめっき浴に前述のＩＴＯ膜を浸漬すればよい。めっきの反応時間と温度は、めっき膜厚に応じて適宜調整することができる。
【００４９】
本発明における無電解めっき膜の膜厚は２０〜１，０００ｎｍ、好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍである。膜厚がこの範囲内であると、十分な導電性を示し、更に電極材の厚みも薄くすることができるという利点を有する。また、パターン状の金属皮膜を形成した場合には、金属皮膜ありの部分と金属皮膜なしの部分との段差を小さなものにできる。
無電解ニッケルめっき膜を形成後、樹脂基材を水洗し、非特異的に付着しためっき液を除去する。
【００５０】
４．電極材
本発明の電極材は、ＩＴＯ膜を含む基材と、前記ＩＴＯ膜上に形成された金属皮膜とを有し、前記ＩＴＯ膜と金属皮膜との間に上記化合物（ａ）〜（ｄ）からなる群から選択される多官能有機化合物からなる有機皮膜を有することを特徴とする。
【００５１】
（１）基材
本発明のＩＴＯ膜を含む基材は、ＩＴＯ膜単体で基材として使用してもよいが、別のベース基材、例えば、一般に用いられる絶縁性基材の表面に透明導電膜としてＩＴＯ膜を形成させたものを用いてもよい。ベース基材の上にＩＴＯ膜を形成させる方法としては、スパッタリング法やレーザーアブレーション法などの公知の真空成膜法を使用することができる。
【００５２】
ベース基材としては、エポキシ樹脂基材、ポリイミド基材、ガラス基材、ＰＥＴ基材、ＰＥＮ基材、或いは、三酢酸セルロース、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリテトラフルオロエチレン、シクロオレフィンポリマー、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシド、液晶ポリマー、ベンゾシクロブテン樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアリレート、アラミド樹脂、フェノール樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、シアネート樹脂などの樹脂から形成された基材を用いることができる。
【００５３】
ベース基材としては、一般的には、平板状の基材（各種基板）が用いられるが、必ずしも平板状の基材に限定されず、円筒形などの任意の形状の基材を用いることもできる。
本発明における導電性基材としては、上記した各基材の中でも、絶縁基材表面にＩＴＯ膜をその表面に形成してなるエポキシ樹脂基材、ポリイミド基材、ガラス基材、ＰＥＴ基材、及びＰＥＮ基材等から選ばれる絶縁基材を好適に用いることができる。
【００５４】
（２）金属皮膜
本発明の電極材における金属皮膜は、銅、ニッケル、スズ、及び銀からなる群から選択される少なくとも１種の金属またはこれらの合金（たとえば銅とスズの合金など）が挙げられる。前記金属皮膜の厚みは、２０〜１，０００ｎｍ程度である。金属皮膜の厚みがこの範囲内であると、十分な導電性を示し、更に電極材の厚みも薄くすることができるという利点を有する。
【００５５】
（３）有機皮膜
本発明の電極材における有機皮膜は、上述した化合物（ａ）〜（ｄ）からなる群から選択される多官能有機化合物からなるものである。
【００５６】
（４）電極材
本発明の電極材は、上述した本発明の金属皮膜の形成方法を含む方法により製造することができる。すなわち、ベース基材の上にＩＴＯ膜を形成させた基材を用い、該ＩＴＯ膜上に、上記（ａ）〜（ｄ）からなる群から選択される多官能有機化合物からなる有機皮膜を形成し、次いで該有機皮膜に触媒となる金属イオンを吸着させ、次いで吸着した金属イオンを活性化して無電解めっきを行い、金属皮膜を形成する。この方法を用いて製造された電極材は、厚みが薄く且つ均一で、導通も良好である。
【００５７】
５．用途
本発明の電極材は、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、太陽電池、有機ＥＬ照明、調光ガラス等に好適に用いることができる。
【実施例】
【００５８】
以下に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例により何らの制限を受けるものではない。なお、以下の実施例における各物性の評価方法は、以下の通りである。
【００５９】
（１）析出性
無電解めっき処理完了後の試料において金属皮膜の状態を目視観察し、析出性を評価した。処理面の面積のうち９５％を超える範囲に金属皮膜の形成が確認されたものは「○」、５０〜９５％を「△」、５０％未満の場合は「×」とした。
【００６０】
（２）裏面析出性
有機皮膜を形成していない裏面において金属皮膜の状態を目視観察し、裏面析出性を評価した。わずかでも金属皮膜の形成が確認されたものは「×」、金属皮膜の形成が確認されないものを「○」とした。
【００６１】
［実施例１］
＜基材＞
ジオマテック株式会社製のＦＬＡＴ  ＩＴＯ膜付きガラス（品番００３１、ＩＴＯ膜厚１５５ｎｍ、ガラス厚０．７ｍｍ）を基板として金属皮膜形成の試験に供した。前記基板を、アセトン、次いで、蒸留水で洗浄・乾燥させた後、メルクリーナーＳＣ−７００１（メルテックス株式会社製）の５００ｍＬ／Ｌ水溶液で４０℃にて約５分間処理（脱脂処理）した。脱脂処理後は２０℃の純水で、１分間洗浄した。
【００６２】
＜工程（Ａ）＞
アルギニンを水に溶解し、アルギニン濃度が０．０１Ｍの多官能有機化合物含有水溶液を調製した。上記基板を、多官能有機化合物含有水溶液の浸漬浴中に、４０℃にて５分間浸漬した。次いで、基板を前記浸漬浴から引き上げ、１００℃にて１０分間乾燥した。これにより、上記基板のＩＴＯ膜上に有機皮膜が形成された。
【００６３】
＜工程（Ｂ）＞
前記有機皮膜が形成された基板を、以下の組成を有する塩化パラジウム水溶液（ｐＨ＝４、希釈苛性で調整）に４０℃の条件で５分間浸漬し、ＩＴＯ膜表面にパラジウム塩を形成させた。その後、基板を取り出して水洗し、非特異的に付着している塩化パラジウムを除去した。
【００６４】
（塩化パラジウム水溶液の組成）
塩化パラジウム；０．１５ｇ／Ｌ
ＮａＣｌ；１ｇ／Ｌ
濃塩酸；１．３５３ｍＬ／Ｌ
【００６５】
＜工程（Ｃ）＞
前記基板を、還元剤を含む酸性処理液（０．３２Ｍジメチルアミンボランを０．１Ｎクエン酸緩衝液にて１６倍希釈；各組成は以下の通り）に４０℃で５分間浸漬し、基板上のパラジウム塩を還元した。次いで、還元剤を含む酸性処理液から基板を取り出して水洗し、非特異的に付着している還元剤を除去した。
【００６６】
（０．１Ｎクエン酸緩衝液の組成）
クエン酸；１．３８ｇ／Ｌ
クエン酸・３Ｎａ；１２．５８ｇ／Ｌ
（０．３２Ｍジメチルアミンボランの組成）
ジメチルアミンボラン；１９．８４ｇ／Ｌ
【００６７】
続いて、前記基板を、以下に示す組成の無電解ニッケルめっき浴に５０℃で３０秒間浸漬し、ニッケル膜（膜厚；１５０ｎｍ）を形成した。その後、基板を水洗して、ニッケルめっき液を除去した。上記工程によって、金属（ニッケル）膜厚が１５０ｎｍの金属皮膜がＩＴＯ膜上に形成された電極材を得た。
【００６８】
（無電解ニッケルめっき浴の組成）
硫酸ニッケル六水和物；１８ｇ／Ｌ
ホスフィン産ナトリウム一水和物；１５ｇ／Ｌ
クエン酸三ナトリウム二水和物；２０ｇ／Ｌ
塩化アンモニウム；１０ｇ／Ｌ
２５％アンモニア水；１０ｍＬ／Ｌ
【００６９】
［実施例２］
多官能有機化合物含有水溶液のアルギニン濃度を０．０２Ｍに代えた他は、実施例１と同様にしてＩＴＯ膜上に金属皮膜を形成した。
【００７０】
［実施例３］
多官能有機化合物含有水溶液のアルギニン濃度を０．０４Ｍに代えた他は、実施例１と同様にしてＩＴＯ膜上に金属皮膜を形成した。
［実施例４］
多官能有機化合物含有水溶液のアルギニン濃度を０．０８Ｍに代えた他は、実施例１と同様にしてＩＴＯ膜上に金属皮膜を形成した。
【００７１】
［実施例５］
アルギニンをグルタミン酸に代えた他は、実施例４と同様に行った。
［実施例６］
アルギニンをグリシンに代えた他は、実施例４と同様に行った。
【００７２】
［実施例７］
アルギニンをシステインに代えた他は、実施例４と同様に行った。
［実施例８］
アルギニンをリシンに代えた他は、実施例４と同様に行った。
【００７３】
［実施例９］
アルギニンをヒスチジンに代えた他は、実施例４と同様に行った。
［実施例１０］
アルギニンをエチレンジアミンに代えた他は、実施例４と同様に行った。
【００７４】
［実施例１１］
アルギニンを２−アミノエタノールに代えた他は、実施例４と同様に行った。
［実施例１２］
アルギニンをコハク酸に代えた他は、実施例４と同様に行った。
【００７５】
［実施例１３］
アルギニンを塩酸グアニジンに代えた他は、実施例４と同様に行った。
［実施例１４］
アルギニンを塩酸アミノグアニジンに代えた他は、実施例４と同様に行った。
【００７６】
［比較例１］
工程（Ａ）を実施しなかった、つまり有機皮膜を形成しなかった他は、実施例１と同様に行った。
【００７７】
【表１】
2015067848.tif 000002
【００７８】
上記実施例の結果から明らかなように、本発明の多官能有機化合物からなる有機皮膜を形成する工程を含む方法により得られる電極材は、表面の金属析出性が良好で裏面析出がなく、金属皮膜が所望の場所に良好な状態で均一に形成されていることがわかる。これは、本発明の特定の多官能有機化合物が、裏面のガラス基板上には有機皮膜を形成することなく、表面のＩＴＯ膜上にのみ、選択的に有機皮膜を形成していることを示している。更に、ＩＴＯ膜上に形成された有機皮膜が、触媒金属イオンを良好な状態で均一に吸着しているものと考えられるが、必ずしも明らかではない。
【産業上の利用可能性】
【００７９】
本発明によれば、ＩＴＯ膜と金属皮膜の間には、ごく薄い有機皮膜と触媒となる金属があるのみであるので、厚みが薄く均一で、導通も良い電極材が得られる。