(57)【要約】【課題】太陽電池素子を封止する封止材に対する高い密着性が、高温高湿の厳しい条件下においても長期間維持される耐候性、耐久性に優れた太陽電池用バックシート、及びそれを備える太陽電池モジュールを提供する。【解決手段】支持体と、前記支持体の少なくとも一方の面側に、降伏点を有するポリマーを含む塗布層（Ｂ）と、塗布層（Ｃ）と、をこの順に有し、前記塗布層（Ｃ）は太陽電池用バックシートが適用される太陽電池モジュールの封止材と直接接する太陽電池用バックシート、及びそれを備えた太陽電池モジュールである【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、
前記支持体の少なくとも一方の面側に、降伏点を有するポリマーを含む塗布層（Ｂ）と
塗布層（Ｃ）と、をこの順に有し、
前記塗布層（Ｃ）は太陽電池用バックシートが適用される太陽電池モジュールの封止材と直接接する太陽電池用バックシート。
【請求項２】
前記塗布層（Ｂ）の膜厚は、塗布層（Ｃ）の膜厚よりも大きい請求項１に記載の太陽電池用バックシート。
【請求項３】
前記塗布層（Ｂ）の膜厚は、０．３μｍ〜５μｍの範囲である請求項１又は請求項２に記載の太陽電池用バックシート。
【請求項４】
前記塗布層（Ｂ）は、さらに無機粒子を含む請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の太陽電池用バックシート。
【請求項５】
前記塗布層（Ｂ）における無機粒子の含有率は１０体積％〜３５体積％の範囲である請求項４に記載の太陽電池用バックシート。
【請求項６】
前記塗布層（Ｂ）に含まれる無機粒子の平均粒子径は、前記塗布層（Ｂ）の膜厚以下である請求項４又は請求項５に記載の太陽電池用バックシート。
【請求項７】
前記塗布層（Ｂ）に含まれる無機粒子の平均粒子径は、前記塗布層（Ｂ）の膜厚の１／２以下である請求項４〜請求項６のいずれか１項に記載の太陽電池用バックシート。
【請求項８】
前記塗布層（Ｂ）に含まれる無機粒子の平均粒子径は、１．０μｍ以下である請求項４〜請求項７のいずれか１項に記載の太陽電池用バックシート。
【請求項９】
前記塗布層（Ｂ）に含まれる無機粒子は、コロイダルシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、及び酸化ジルコニウムから選択される少なくとも１種の粒子である請求項４〜請求項８のいずれか１項に記載の太陽電池用バックシート。
【請求項１０】
前記塗布層（Ｂ）に含まれる無機粒子は、少なくとも黒色顔料を含有する請求項４〜請求項９のいずれか１項に記載の太陽電池用バックシート。
【請求項１１】
前記黒色顔料が、少なくともカーボンブラックを含有する請求項１０に記載の太陽電池用バックシート。
【請求項１２】
太陽光が入射する透明性の基材と、
前記基材上に設けられ、太陽電池素子及び前記太陽電池素子を封止する封止材を有する素子構造部分と、
前記素子構造部分の前記基材が位置する側と反対側に配置された請求項１〜請求項１１のいずれか１項に記載の太陽電池用バックシートと、
を備えた太陽電池モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽電池用バックシート及び太陽電池モジュールに関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽電池は、発電時に二酸化炭素の排出がなく環境負荷が小さい発電方式であり、近年急速に普及が進んでいる。太陽電池モジュールは、一般に太陽光が入射するオモテ面側に配置されるフロント基材と、太陽光が入射するオモテ面側とは反対側（裏面側）に配置される、いわゆるバックシートとの間に、太陽電池素子が封止材で封止された太陽電池セルが挟まれた構造を有しており、フロント基材と太陽電池セルとの間及び太陽電池セルとバックシートとの間は、それぞれＥＶＡ（エチレン−ビニルアセテート共重合体）樹脂などの封止材で封止されている。
太陽電池モジュールが一般に用いられる環境は、屋外等の常に風雨に曝されるような環境であるため、太陽電池用バックシートの耐久性は重要な課題の一つである。
【０００３】
このような湿熱環境下での太陽電池用バックシートの耐久性は、太陽電池用バックシートと隣接する封止材と太陽電池用バックシートとが剥離したり、太陽電池用バックシートが積層構造を有している場合に、太陽電池用バックシート内の各層間で剥離が生じたりして、水分が太陽電池側基板に入らないことが重要である。
【０００４】
近年、太陽電池モジュールのバックシートのさらなる薄層化が望まれており、特に、バックシートと封止材とを接着する塗布層を薄くすることが望まれている。
しかしながら、太陽電池モジュールは、屋外において、直射日光、高温高湿などの厳しい条件下にて長期間使用されるために、塗布層を薄くするに従い、バックシートと封止材との密着性が従来以上に低下してしまうという問題があった。
耐久性に優れた太陽電池用バックシートとして、基材フィルムの両面にビニル系モノマー等を含む硬化性組成物の硬化層を有する３層構造のバックシート（例えば、特許文献１参照。）、或いは、特定の物性を有するアクリルポリオールとイソシアネート化合物との反応で得られるウレタン樹脂を接着層として用いた太陽電池用バックシート（例えば、特許文献２参照。）が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−２２７３８２号公報
【特許文献２】特開２０１２−１４２３４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１〜２の太陽電池用バックシートでは、耐候性に優れ、経時後のバックシートの外観上の剥がれは、ある程度抑制されるものの、本発明者らの検討によれば、屈曲した場合などにおけるバックシートと封止材との界面における剥離まで充分に抑制されるものではなく、封止材とバックシートとの剥離試験による密着力が不十分であり、さらなる改良が望まれているのが現状である。
【０００７】
上記従来技術の問題点を考慮してなされた本発明の課題は、接着のための塗布層が薄層であっても、太陽電池素子を封止する封止材との密着性、特に高温高湿下の厳しい環境においても優れた密着性が長期間維持される耐久性に優れた太陽電池用バックシート、及びそれを備える太陽電池モジュールを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
【０００９】
＜１＞
支持体と、支持体の少なくとも一方の面側に、降伏点を有するポリマーを含む塗布層（Ｂ）と、塗布層（Ｃ）と、をこの順に有し、塗布層（Ｃ）は太陽電池用バックシートが適用される太陽電池モジュールの封止材と直接接する太陽電池用バックシート。
＜２＞
塗布層（Ｂ）の膜厚は、塗布層（Ｃ）の膜厚よりも大きい＜１＞に記載の太陽電池用バックシート。
＜３＞
塗布層（Ｂ）の膜厚は、０．３μｍ〜５μｍの範囲である＜１＞又は＜２＞に記載の太陽電池用バックシート。
【００１０】
＜４＞
塗布層（Ｂ）は、さらに無機粒子を含む＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の太陽電池用バックシート。
＜５＞
塗布層（Ｂ）における無機粒子の含有率は１０体積％〜３５体積％の範囲である＜４＞に記載の太陽電池用バックシート。
＜６＞
塗布層（Ｂ）に含まれる無機粒子の平均粒子径は、塗布層（Ｂ）の膜厚以下である＜４＞又は＜５＞に記載の太陽電池用バックシート。
＜７＞
塗布層（Ｂ）に含まれる無機粒子の平均粒子径は、塗布層（Ｂ）の膜厚の１／２以下である＜４＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の太陽電池用バックシート。
【００１１】
＜８＞
塗布層（Ｂ）に含まれる無機粒子の平均粒子径は、１．０μｍ以下である＜４＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の太陽電池用バックシート。
＜９＞
塗布層（Ｂ）に含まれる無機粒子は、コロイダルシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、及び酸化ジルコニウムから選択される少なくとも１種の粒子である＜４＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の太陽電池用バックシート。
【００１２】
＜１０＞
塗布層(Ｂ)に含まれる無機粒子は、少なくとも黒色顔料を含有する＜４＞〜＜９＞のいずれか１項に記載の太陽電池用バックシート。
＜１１＞
黒色顔料が、少なくともカーボンブラックを含有する＜１０＞に記載の太陽電池用バックシート。
【００１３】
＜１２＞
太陽光が入射する透明性の基材と、基材上に設けられ、太陽電池素子及び前陽電池素子を封止する封止材を有する素子構造部分と、素子構造部分の基材が位置する側と反対側に配置された＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載の太陽電池用バックシートと、を備えた太陽電池モジュール。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、接着のための塗布層が薄層であっても、太陽電池素子を封止する封止材との密着性、特に高温高湿下の厳しい環境においても優れた密着性が長期間維持される耐久性に優れた太陽電池用バックシート、及びそれを備える太陽電池モジュールを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の太陽電池用バックシートに、結晶系太陽電池セルを配置してなる太陽電池モジュールの一例を示す平面図であり、（Ａ）は、太陽電池用バックシートの露出面積が３９％、（Ｂ）は、太陽電池用バックシートの露出面積が２５％、（Ｃ）は、太陽電池用バックシートの露出面積が５％の態様を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の太陽電池用バックシート及び太陽電池モジュールについて詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、支持体の少なくとも一方の面側に、「塗布層（Ｂ）、及び塗布層（Ｃ）をこの順に有する」とは、支持体の少なくとも一方の面側に、支持体側から、塗布層（Ｂ）と、塗布層（Ｃ）と、がこの順に備えられることを意味し、任意に設けられる他の層の存在を否定するものではない。即ち、例えば、支持体と塗布層（Ｂ）との間に下塗り層を有したり、塗布層（Ｂ）と塗布層（Ｃ）との間に中間層を有したりする態様であってもよい。また、支持体の（Ｂ）層などを有しない裏面には、耐候性層、ガスバリア層などを有していてもよい。
【００１７】
［太陽電池用バックシート］
本発明の太陽電池用バックシート（以下、適宜、「バックシート」と称する）は、支持体と、支持体の少なくとも一方の面側に、降伏点を有するポリマーを含む塗布層（Ｂ）（以下、適宜、「（Ｂ）層」と称する）と、塗布層（Ｃ）（以下、適宜、「（Ｃ）層」と称する）と、をこの順に有し、塗布層（Ｃ）は太陽電池用バックシートが適用される太陽電池モジュールの封止材と直接接する位置に備えられている。
これにより、高温高湿の厳しい条件下においても、封止材に対する高い密着性が長期間維持される耐候性、耐久性に優れた太陽電池用バックシート、及びそれを備えた太陽電池モジュールが得られる。
【００１８】
本発明の作用は明確ではないが、本発明のバックシートは、封止材に直接接触する易接着層である（Ｃ）層と支持体との間に、降伏点を有するポリマーを含む（Ｂ）層を備えるが、（Ｂ）層の主成分である降伏点を有するポリマーにより形成された膜は優れた強度と、高温高湿下での寸法安定性を有することになり、これに起因して、少なくとも（Ｂ）層と（Ｃ）層の２層を備える塗布層が薄層であっても、厳しい条件下においてバックシートと封止材との密着性が良好なレベルで維持され、密着性の低下が長期間に亘って抑制されるものと考えられる。
【００１９】
以下、本発明のバックシートの構成を説明する。
太陽電池用バックシートの一実施形態では、支持体の片面に、酸変性ポリオレフィン水分散体を含んで形成される被覆層（以下、適宜、「インラインコート層」と称する）、降伏点を有するポリマーを含む（Ｂ）層、及び封止材との密着性に優れた易接着層である（Ｃ）層とを備える。
支持体の（Ｂ）層を形成しない側（以下、裏面側と称することがある）には、必要に応じて、耐候性層やガスバリア層などが設けられる。以下に詳述する実施例では、支持体の裏面側には、耐候性層である、無機粒子とシリコーン樹脂とを含有する（Ｄ）層、及、フッ素含有樹脂を含有する（Ｅ）層をこの順に備える。
インラインコート層、（Ｄ）層及び（Ｅ）層は、いずれもバックシートに、所望により設けられる任意の層である。
【００２０】
以下、本発明のバックシートの詳細について説明する。
本発明のバックシートは、支持体と、支持体の少なくとも一方の面側に（Ｂ）層と（Ｃ）層とを有する。（Ｃ）層は、バックシートの最外層であって、易接着性層として機能する層である。
【００２１】
本発明のバックシートは、その他、必要に応じて、着色層、耐候性層、紫外線吸収層、ガスバリア層等の周知の機能層が設けられていてもよい。また、支持体と（Ｂ）層との間にはインラインコート層や中間層を設けてもよい。これら任意の層は、支持体の（Ｂ）層が設けられる面側、及び当該面とは反対の面側（裏面側）のいずれに設けられていてもよい。また、支持体とそれと隣接するように設ける（Ｂ）層又は機能層との間には、下塗り層を設けてもよい。なお、（Ｂ）層は、着色層等の機能層を兼ねる層であってもよい。
【００２２】
以下、まず、本発明のバックシートに用いられる支持体及びこれに積層して設けられる各層の詳細について説明する。
（支持体）
支持体は、樹脂（以下「原料樹脂」と称する）を含む。
【００２３】
−原料樹脂−
原料樹脂しては、ポリエステル、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンサルファイド等が挙げられるが、コスト、機械安定性や耐久性の観点からポリエステルが好ましい。
ポリエステルとしては、例えば、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルが挙げられる。線状飽和ポリエステルの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−ナフタレートなどが挙げられる。このうち、力学的物性やコストのバランスの点で、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）が特に好ましい。
【００２４】
ポリエステルは、単独重合体であってもよいし、共重合体であってもよい。更に、ポリエステルに他の種類の樹脂、例えばポリイミド等を少量ブレンドしたものであってもよい。
【００２５】
ポリエステルの種類は、上記に限られるものではなく、公知のポリエステルを使用してもよい。公知のポリエステルとしては、ジカルボン酸成分と、ジオール成分とを用いて合成してもよいし、市販のポリエステルを用いてもよい。
【００２６】
ポリエステルを合成する場合は、例えば、（ａ）ジカルボン酸成分と、（ｂ）ジオール成分とを、周知の方法でエステル化反応及びエステル交換反応の少なくとも一方の反応をさせることによって得ることができる。
【００２７】
（ａ）ジカルボン酸成分としては、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸、ダイマー酸、エイコサンジオン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸等の脂肪族ジカルボン酸類；アダマンタンジカルボン酸、ノルボルネンジカルボン酸、イソソルビド、シクロヘキサンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸などの脂環族ジカルボン酸；テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、フェニルインダンジカルボン酸、アントラセンジカルボン酸、フェナントレンジカルボン酸、９，９’−ビス（４−カルボキシフェニル）フルオレン酸等の芳香族ジカルボン酸；などのジカルボン酸もしくはそのエステル誘導体が挙げられる。
【００２８】
（ｂ）ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール等の脂肪族ジオール類；シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、イソソルビドなどの脂環式ジオール類；ビスフェノールＡ、１，３―ベンゼンジメタノール、１，４−ベンゼンジメタノール、９，９’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンなどの芳香族ジオール類；等のジオール化合物が挙げられる。
【００２９】
（ａ）ジカルボン酸成分として、芳香族ジカルボン酸の少なくとも１種を用いることが好ましい。より好ましくは、ジカルボン酸成分のうち、芳香族ジカルボン酸を主成分として含有する。なお、「主成分」とは、ジカルボン酸成分に占める芳香族ジカルボン酸の割合が８０質量％以上であることをいう。芳香族ジカルボン酸以外のジカルボン酸成分を含んでもよい。このようなジカルボン酸成分としては、芳香族ジカルボン酸などのエステル誘導体等である。
【００３０】
（ｂ）ジオール成分として、脂肪族ジオールの少なくとも１種を用いることが好ましい。脂肪族ジオールとして、エチレングリコールを含むことができ、好ましくはエチレングリコールを主成分として含有することがよい。なお、主成分とは、ジオール成分に占めるエチレングリコールの割合が８０質量％以上であることをいう。
【００３１】
脂肪族ジオール（例えばエチレングリコール）の使用量は、芳香族ジカルボン酸（例えばテレフタル酸）及び必要に応じそのエステル誘導体の１モルに対して、１．０１５〜１．５０モルの範囲であるのが好ましい。脂肪族ジオールの使用量は、より好ましくは１．０２〜１．３０モルの範囲であり、更に好ましくは１．０２５〜１．１０モルの範囲である。脂肪族ジオールの使用量は、１．０１５以上の範囲であると、エステル化反応が良好に進行し、１．５０モル以下の範囲であると、例えばエチレングリコールの２量化によるジエチレングリコールの副生が抑えられ、融点やガラス転移温度、結晶性、耐熱性、耐加水分解性、耐候性など多くの特性を良好に保つことができる。
【００３２】
エステル化反応又はエステル交換反応には、従来から公知の反応触媒を用いることができる。反応触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、亜鉛化合物、鉛化合物、マンガン化合物、コバルト化合物、アルミニウム化合物、アンチモン化合物、チタン化合物、リン化合物などが挙げられる。通常、ポリエステルの製造方法が完結する以前の任意の段階において、重合触媒としてアンチモン化合物、ゲルマニウム化合物、チタン化合物を添加することが好ましい。このような方法としては、例えば、ゲルマニウム化合物を例に取ると、ゲルマニウム化合物粉体をそのまま添加することが好ましい。
【００３３】
例えば、エステル化反応工程は、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジオールとを、チタン化合物を含有する触媒の存在下で重合する。このエステル化反応では、触媒であるチタン化合物として、有機酸を配位子とする有機キレートチタン錯体を用いると共に、工程中に少なくとも、有機キレートチタン錯体と、マグネシウム化合物と、置換基として芳香環を有しない５価のリン酸エステルとをこの順序で添加する過程を設けることがよい。
【００３４】
具体的には、エステル化反応工程では、まず、初めに、芳香族ジカルボン酸及び脂肪族ジオールを、マグネシウム化合物及びリン化合物の添加に先立って、チタン化合物である有機キレートチタン錯体を含有する触媒と混合する。有機キレートチタン錯体等のチタン化合物は、エステル化反応に対しても高い触媒活性を持つので、エステル化反応を良好に行なわせることができる。このとき、芳香族ジカルボン酸成分及び脂肪族ジオール成分を混合した中にチタン化合物を加えてもよいし、芳香族ジカルボン酸成分（又は脂肪族ジオール成分）とチタン化合物を混合してから脂肪族ジオール成分（又は芳香族ジカルボン酸成分）を混合してもよい。また、芳香族ジカルボン酸成分と脂肪族ジオール成分とチタン化合物とを同時に混合するようにしてもよい。混合は、その方法に特に制限はなく、従来公知の方法により行なうことが可能である。
【００３５】
ここで、上記ポリエステルの重合に際し、下記の化合物を加えることも好ましい。
５価のリン化合物として、置換基として芳香環を有しない５価のリン酸エステルの少なくとも一種が用いられる。例えば、炭素数２以下の低級アルキル基を置換基として有するリン酸エステル〔（ＯＲ）３−Ｐ＝Ｏ；Ｒ＝炭素数１又は２のアルキル基〕が挙げられ、
具体的には、リン酸トリメチル、リン酸トリエチルが特に好ましい。
【００３６】
リン化合物の添加量としては、Ｐ元素換算値が５０ｐｐｍ〜９０ｐｐｍの範囲となる量が好ましい。リン化合物の量は、より好ましくは６０ｐｐｍ〜８０ｐｐｍとなる量であり、さらに好ましくは６０ｐｐｍ〜７５ｐｐｍとなる量である。
【００３７】
ポリエステルにマグネシウム化合物を含めることにより、ポリエステルの静電印加性が向上する。
マグネシウム化合物としては、例えば、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、マグネシウムアルコキシド、酢酸マグネシウム、炭酸マグネシウム等のマグネシウム塩が挙げられる。中でも、エチレングリコールへの溶解性の観点から、酢酸マグネシウムが最も好ましい。
【００３８】
マグネシウム化合物の添加量としては、高い静電印加性を付与するためには、Ｍｇ元素換算値が５０ｐｐｍ以上となる量が好ましく、５０ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの範囲となる量がより好ましい。マグネシウム化合物の添加量は、静電印加性の付与の点で、好ましくは６０ｐｐｍ〜９０ｐｐｍの範囲となる量であり、さらに好ましくは７０ｐｐｍ〜８０ｐｐｍの範囲となる量である。
【００３９】
エステル化反応工程においては、触媒成分であるチタン化合物と、添加剤であるマグネシウム化合物及びリン化合物とを、下記式（ｉ）から算出される値Ｚが下記の関係式（ｉｉ）を満たすように、添加して溶融重合させる場合が特に好ましい。ここで、Ｐ含有量は芳香環を有しない５価のリン酸エステルを含むリン化合物全体に由来するリン量であり、Ｔｉ含有量は、有機キレートチタン錯体を含むＴｉ化合物全体に由来するチタン量である。このように、チタン化合物を含む触媒系でのマグネシウム化合物及びリン化合物の併用を選択し、その添加タイミング及び添加割合を制御することによって、チタン化合物の触媒活性を適度に高く維持しつつも、黄色味の少ない色調が得られ、重合反応時やその後の製膜時（溶融時）などで高温下に曝されても黄着色を生じ難い耐熱性を付与することができる。
（ｉ）Ｚ＝５×（Ｐ含有量［ｐｐｍ］／Ｐ原子量）−２×（Ｍｇ含有量［ｐｐｍ］／Ｍｇ原子量）−４×（Ｔｉ含有量［ｐｐｍ］／Ｔｉ原子量）
（ｉｉ）０≦Ｚ≦５．０
【００４０】
これは、リン化合物はチタンに作用するのみならずマグネシウム化合物とも相互作用することから、３者のバランスを定量的に表現する指標となるものである。
式（ｉ）は、反応可能な全リン量から、マグネシウムに作用するリン分を除き、チタンに作用可能なリンの量を表現したものである。値Ｚが正の場合は、チタンを阻害するリンが余剰な状況にあり、逆に負の場合はチタンを阻害するために必要なリンが不足する状況にあるといえる。反応においては、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｐの各原子１個は等価ではないことから、式中の各々のモル数に価数を乗じて重み付けを施してある。
【００４１】
なお、ポリエステルの合成には特殊な合成等が不要であり、安価でかつ容易に入手可能なチタン化合物、このようなリン化合物、マグネシウム化合物を用いて、反応に必要とされる反応活性を持ちながら、色調及び熱に対する着色耐性に優れたポリエステルを得ることができる。
【００４２】
式（ｉｉ）において、重合反応性を保った状態で、色調及び熱に対する着色耐性をより高める観点から、１．０≦Ｚ≦４．０を満たす場合が好ましく、１．５≦Ｚ≦３．０を満たす場合がより好ましい。
【００４３】
エステル化反応工程の好適な態様としては、エステル化反応が終了する前に、芳香族ジカルボン酸及び脂肪族ジオールに、１ｐｐｍ〜３０ｐｐｍのクエン酸又はクエン酸塩を配位子とするキレートチタン錯体を添加することがよい。その後、キレートチタン錯体の存在下に、また、６０ｐｐｍ〜９０ｐｐｍ（より好ましくは７０ｐｐｍ〜８０ｐｐｍ）の弱酸のマグネシウム塩を添加し、該添加後にさらに、６０ｐｐｍ〜８０ｐｐｍ（より好ましくは６５ｐｐｍ〜７５ｐｐｍ）の、芳香環を置換基として有しない５価のリン酸エステルを添加することが好ましい。
【００４４】
エステル化反応工程は、少なくとも２個の反応器を直列に連結した多段式装置を用いて、エチレングリコールが還流する条件下で、反応によって生成した水又はアルコールを系外に除去しながら実施することができる。
【００４５】
エステル化反応工程は、一段階で行なってもよいし、多段階に分けて行なうようにしてもよい。
エステル化反応工程を一段階で行なう場合、エステル化反応温度は２３０〜２６０℃が好ましく、２４０〜２５０℃がより好ましい。
エステル化反応工程を多段階に分けて行なう場合、第一反応槽のエステル化反応の温度は２３０〜２６０℃が好ましく、より好ましくは２４０℃〜２５０℃であり、圧力は１．０ｋｇ／ｃｍ２〜５．０ｋｇ／ｃｍ２が好ましく、より好ましくは２．０ｋｇ／ｃｍ２〜３．０ｋｇ／ｃｍ２である。第二反応槽のエステル化反応の温度は２３０℃〜２６０℃が好ましく、より好ましくは２４５℃〜２５５℃であり、圧力は０．５ｋｇ／ｃｍ２〜５．０ｋｇ／ｃｍ２、より好ましくは１．０ｋｇ／ｃｍ２〜３．０ｋｇ／ｃｍ２である。さらに３段階以上に分けて実施する場合は、中間段階のエステル化反応の条件は、第一反応槽と最終反応槽の間の条件に反応温度と圧力を設定するのが好ましい。
【００４６】
一方、エステル化反応で生成されたエステル化反応生成物を重縮合反応させて重縮合物を生成する。重縮合反応は、１段階で行なってもよいし、多段階に分けて行なうようにしてもよい。
【００４７】
エステル化反応で生成したオリゴマー等のエステル化反応生成物は、引き続いて重縮合反応に供される。この重縮合反応は、多段階の重縮合反応槽に供給することにより好適に行なうことが可能である。
【００４８】
例えば、３段階の反応槽で行なう場合の重縮合反応条件は、第一反応槽は、反応温度が２５５〜２８０℃、より好ましくは２６５〜２７５℃であり、圧力が１００〜１０ｔｏｒｒ（１３．３×１０−３〜１．３×１０−３ＭＰａ）、より好ましくは５０〜２０ｔｏｒｒ（６．６７×１０−３〜２．６７×１０−３ＭＰａ）であって、第二反応槽は、反応温度が２６５〜２８５℃、より好ましくは２７０〜２８０℃であり、圧力が２０〜１ｔｏｒｒ（２．６７×１０−３〜１．３３×１０−４ＭＰａ）、より好ましくは１０〜３ｔｏｒｒ（１．３３×１０−３〜４．０×１０−４ＭＰａ）であって、最終反応槽内における第三反応槽は、反応温度が２７０〜２９０℃、より好ましくは２７５〜２８５℃であり、圧力が１０〜０．１ｔｏｒｒ（１．３３×１０−３〜１．３３×１０−５ＭＰａ）、より好ましくは５〜０．５ｔｏｒｒ（６．６７×１０−４〜６．６７×１０−５ＭＰａ）である態様が好ましい。
【００４９】
上記のようにして合成されたポリエステルには、光安定化剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、易滑剤（微粒子）、核剤（結晶化剤）、結晶化阻害剤などの添加剤を更に含有させてもよい。
【００５０】
また、意匠性及び反射率の観点から、硫酸バリウム、リン酸カルシウム、シリカ粒子、酸化チタンなどの無機粒子、ポリメチルペンテンなどの有機粒子を含むことが好ましい。中でも、シリカ粒子、酸化チタンなどの白色粒子が好ましく、特に好適には、酸化チタンが用いられる。 酸化チタンは、平均一次粒径が０．１μｍ〜１．０μｍであるものが好ましく用いられ、平均一次粒径は、特に０．１μｍ〜０．３μｍの範囲が最も好ましい。平均一次粒径は、ハネウェル社製のマイクロトラックＦＲＡにより測定される値である。
上記の中でも、無機粒子が好ましく、無機粒子は、耐光性及び分散性の観点から、アルミナ処理、シリカ処理、ＺｒＯ２処理などが施されているものが好ましく、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の耐加水分解性への影響を考慮し、アルミナ処理のみが施されたものが最も好ましい。また、分散性の観点から、ポリオールや有機ポリシロキサンなどの有機表面処理されているものが好ましい。表面処理された酸化チタンの例としては、例えば、石原産業社製のＰＦ−７３９（アルミナ処理後にポリオール処理を施したもの）などが挙げられる。
酸化チタンを含む場合、酸化チタンの添加量は、ポリエステルに対して、０．５質量％〜１０質量％が好ましく、耐加水分解性及び遷移確率の観点から０．５質量％〜５質量％が好ましい。
【００５１】
ポリエステルの合成では、エステル化反応により重合した後に、固相重合を行うことが好ましい。固相重合することにより、ポリエステルの含水率、結晶化度、ポリエステルの酸価、すなわち、ポリエステルの末端カルボキシル基の濃度、固有粘度を制御することができる。
特に、固相重合開始時のエチレングリコール（ＥＧ）ガス濃度を固相重合終了時のＥＧガス濃度よりも２００ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの範囲で高くすることが好ましく、より好ましくは２５０ｐｐｍ〜８００ｐｐｍ、さらに好ましくは３００ｐｐｍ〜７００ｐｐｍの範囲で高くして固相重合することが好ましい。この時、平均ＥＧガス濃度（固相重合開始時と終了時のガス濃度の平均）のＥＧを添加することでＡＶ（末端ＣＯＯＨ濃度）を制御できる。即ち、ＥＧ添加により末端ＣＯＯＨと反応させＡＶを低減できる。添加ＥＧ量は、１００ｐｐｍ〜５００ｐｐｍが好ましく、より好ましくは１５０ｐｐｍ〜４５０ｐｐｍ、さらに好ましくは２００ｐｐｍ〜４００ｐｐｍである。
【００５２】
また、固相重合の温度は１８０℃〜２３０℃が好ましく、より好ましくは１９０℃〜２１５℃、さらに好ましくは１９５℃〜２０９℃である。
また、固相重合時間は１０時間〜４０時間が好ましく、より好ましくは１４時間〜３５時間、さらに好ましくは１８時間〜３０時間である。
【００５３】
ここで、ポリエステルは、高い耐加水分解性を有することが好ましい。このためポリエステル中のカルボキシル基含量は５０当量／ｔ（ここで、ｔはｔｏｎを意味し、ｔｏｎは１０００ｋｇの意味である）以下が好ましく、より好ましくは３５当量／ｔ以下であり、さらに好ましくは２０当量／ｔ以下である。カルボキシル基含量が５０当量／ｔ以下であると、耐加水分解性を保持し、湿熱経時したときの強度低下を小さく抑制することができる。カルボキシル基含量の下限は、ポリエステルに形成される層（例えば着色層）との間の接着性を保持する点で、２当量／ｔ、より好ましくは３当量／ｔ、さらに好ましくは３当量／ｔが望ましい。
ポリエステル中のカルボキシル基含量は、重合触媒種、製膜条件（製膜温度や時間）、固相重合、添加剤（末端封止剤等）により調整することが可能である。
【００５４】
−カルボジイミド化合物、ケテンイミン化合物、イミノエーテル化合物−
支持体には、その原料樹脂がポリエステルである場合などには、カルボジイミド化合物、ケテンイミン化合物、及びイミノエーテル化合物から選ばれる少なくとも１種を含んでもよい。カルボジイミド化合物、ケテンイミン化合物、及びイミノエーテル化合物は、各々単独で使用してよく、２種以上を併用してもよい。これによりサーモ後のポリエステルの劣化を抑制し、サーモ後も高い絶縁性を保つのに有効である。
【００５５】
カルボジイミド化合物、ケテンイミン化合物、又はイミノエーテル化合物は、ポリエステルに対して、０．１〜１０質量％含有されていることが好ましく、０．１〜４質量％含有されていることがより好ましく、０．１〜２質量％含有されていることがさらに好ましい。カルボジイミド化合物、ケテンイミン化合物、又はイミノエーテル化合物の含有量を上記範囲内とすることにより、支持体と隣接する層との間の密着性をより高めることができる。また、支持体の耐熱性を高めることができる。
なお、カルボジイミド化合物、ケテンイミン化合物、及びイミノエーテル化合物から選ばれる２種以上が併用される場合は、２種類の化合物の含有率の合計が、上記範囲内であることが好ましい。
【００５６】
カルボジイミド化合物について説明する。
カルボジイミド化合物としては、分子中に１個以上のカルボジイミド基を有する化合物（ポリカルボジイミド化合物を含む）が挙げられ、具体的には、モノカルボジイミド化合物として、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、ジメチルカルボジイミド、ジイソブチルカルボジイミド、ジオクチルカルボジイミド、ｔ−ブチルイソプロピルカルボジイミド、ジフェニルカルボジイミド、ジ−ｔ−ブチルカルボジイミド、ジ−β−ナフチルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジ−２，６−ジイソプロピルフェニルカルボジイミドなどが例示される。ポリカルボジイミド化合物としては、その重合度が、下限が通常２以上、好ましくは４以上であり、上限が通常４０以下、好ましくは、３０以下であるものが使用され、米国特許第２９４１９５６号明細書、特公昭４７−３３２７９号公報、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２８巻、ｐ２０６９−２０７５（１９６３）、及びＣｈｅｍｉｃａｌ  Ｒｅｖｉｅｗ  １９８１、８１巻、第４号、ｐ．６１９−６２１等に記載された方法により製造されたものが挙げられる。
【００５７】
ポリカルボジイミド化合物の製造原料である有機ジイソシアネートとしては、例えば、芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネートやこれらの混合物を挙げることができ、具体的には、１，５−ナフタレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネートと２，６−トリレンジイソシアネートの混合物、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、２，６−ジイソプロピルフェニルイソシアネート、１，３，５−トリイソプロピルベンゼン−２，４−ジイソシアネートなどが例示される。
【００５８】
工業的に入手可能な具体的なポリカルボジイミド化合物としては、カルボジライトＨＭＶ−８ＣＡ（日清紡製）、カルボジライト  ＬＡ−１（日清紡製）、スタバクゾールＰ（ラインケミー社製）、スタバクゾールＰ１００（ラインケミー社製）、スタバクゾールＰ４００（ラインケミー社製）、スタビライザー９０００（ラシヒケミ社製）などが例示される。
【００５９】
カルボジイミド化合物は単独で使用することもできるが、複数の化合物を混合して使用することもできる。
【００６０】
ここで、環骨格にカルボジイミド基を１つ含み、その第一窒素と第二窒素が結合基により結合されている環状構造を分子内に少なくとも１つ有する環状カルボジイミド化合物は、環状封止剤として機能する。
環状カルボジイミド化合物は、国際公開２０１１／０９３４７８号パンフレットに記載された方法によって調製することができる。
【００６１】
環状カルボジイミド化合物は、環状構造を有する。環状カルボジイミド化合物は、環状構造を複数有していてもよい。環状構造は、カルボジイミド基（−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−）を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている。一つの環状構造中には、１個のカルボジイミド基のみを有するが、例えば、スピロ環など、分子中に複数の環状構造を有する場合にはスピロ原子に結合するそれぞれの環状構造中に１個のカルボジイミド基を有していれば、化合物として複数のカルボジイミド基を有していてもよい。環状構造中の原子数は、好ましくは８〜５０、より好ましくは１０〜３０、さらに好ましくは１０〜２０、特に好ましくは１０〜１５である。
【００６２】
ここで、環状構造中の原子数とは、環構造を直接構成する原子の数を意味し、例えば、８員環であれば８、５０員環であれば５０である。環状構造中の原子数が８より小さいと、環状カルボジイミド化合物の安定性が低下して、保管、使用が困難となる場合があるためである。また反応性の観点よりは環員数の上限値に関しては特別の制限はないが、５０を超える原子数の環状カルボジイミド化合物は合成上困難となり、コストが大きく上昇する場合が発生するためである。かかる観点より環状構造中の原子数は好ましくは、１０〜３０、より好ましくは１０〜２０、特に好ましくは１０〜１５の範囲が選択される。
【００６３】
環状カルボジイミド化合物としては、下記一般式（Ｏ−Ａ）又は一般式（Ｏ−Ｂ）で表される環状カルボジイミド化合物を用いることが好ましい。
以下、本発明の環状カルボジイミド化合物の好ましい構造について、下記一般式（Ｏ−Ａ）と一般式（Ｏ−Ｂ）の順に説明する。
【００６４】
まず、一般式（Ｏ−Ａ）で表される環状カルボジイミド化合物について説明する。
【００６５】
【化１】
2015057814.tif 000002
【００６６】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ５は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基又はアルコキシ基を表す。Ｒ２〜Ｒ４及びＲ６〜Ｒ８は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又はアルコキシ基を表す。Ｒ１〜Ｒ８は互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−又は−ＣＨ２−を表す。Ｌ１は２価の連結基を表す。
【００６７】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ５は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基又はアルコキシ基を表し、アルキル基又はアリール基を表すことが好ましく、２級もしくは３級アルキル基又はアリール基を表すことがポリエステルの末端に連結したイソシアエネートとポリエステルの水酸基末端の反応を抑制し、増粘を抑制する観点からより好ましく、２級アルキル基を表すことが特に好ましい。
【００６８】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ５が表すアルキル基は、炭素数１〜２０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基であることがより好ましく、炭素数２〜６のアルキル基であることが特に好ましい。Ｒ１及びＲ５が表すアルキル基は直鎖であっても分枝であっても環状であってもよいが、分枝又は環状であることが、ポリエステルの末端に連結したイソシアエネートとポリエステルの水酸基末端の反応を抑制し、増粘を抑制する観点から好ましい。Ｒ１及びＲ５が表すアルキル基は２級又は３級アルキル基であることが好ましく、２級アルキル基であることがより好ましい。Ｒ１及びＲ５が表すアルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｓｅｃ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｉｓｏ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、などを挙げることができ、その中でもｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｉｓｏ−ヘキシル基、シクロヘキシル基が好ましく、ｉｓｏ−プロピル基、シクロヘキシル基、ｔｅｒｔ−ブチル基がより好ましく、ｉｓｏ−プロピル基及びシクロヘキシル基が特に好ましい。
【００６９】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ５が表すアルキル基はさらに置換基を有していてもよく、該置換基としては特に制限されるものではない。但し、Ｒ１及びＲ５が表すアルキル基は、カルボン酸との反応性の観点から、さらに置換基を有さないことが好ましい。
【００７０】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ５が表すアリール基は、炭素数６〜２０のアリール基であることが好ましく、炭素数６〜１２のアリール基であることがより好ましく、炭素数６のアリール基であることが特に好ましい。Ｒ１及びＲ５が表すアリール基は、Ｒ１とＲ２が縮合又はＲ５とＲ６が縮合して形成されたアリール基であってもよいが、Ｒ１及びＲ５は、それぞれＲ２及びＲ６と縮合して環を形成しないことが好ましい。Ｒ１及びＲ５が表すアリール基は、フェニル基、ナフチル基などを挙げることができ、その中でもフェニル基がより好ましい。
【００７１】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ５が表すアリール基はさらに置換基を有していてもよく、該置換基としては特に制限されるものではない。但し、Ｒ１及びＲ５が表すアリール基は、カルボン酸との反応性の観点から、さらに置換基を有さないことが好ましい。
【００７２】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ５が表すアルコキシ基は、炭素数１〜２０のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１〜１２のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数２〜６のアルコキシ基であることが特に好ましい。Ｒ１及びＲ５が表すアルコキシ基は直鎖であっても分枝であっても環状であってもよいが、分枝又は環状であることが、ポリエステルの末端に連結したイソシアエネートとポリエステルの水酸基末端の反応を抑制し、増粘を抑制する観点から好ましい。Ｒ１及びＲ５が表すアルコキシ基の好ましい例は、Ｒ１及びＲ５が表すアルキル基の末端に−Ｏ−が連結した基を挙げることがあり、好ましい範囲も同様にＲ１及びＲ５が表す好ましいアルキル基の末端に−Ｏ−が連結した基である。
【００７３】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ５が表すアルコキシ基はさらに置換基を有していてもよく、該置換基としては特に制限されるものではない。但し、Ｒ１及びＲ５が表すアルコキシ基は、カルボン酸との反応性の観点から、さらに置換基を有さないことが好ましい。
【００７４】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ５は、同じであっても異なっていてもよいが、コストの観点から同じであることが好ましい。
【００７５】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ２〜Ｒ４及びＲ６〜Ｒ８は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又はアルコキシ基を表し、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ２〜Ｒ４及びＲ６〜Ｒ８が表すアルキル基、アリール基又はアルコキシ基はさらに置換基を有していてもよく、該置換基としては特に制限されるものではない。
【００７６】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ２及びＲ６がともに水素原子であることが、Ｒ１及びＲ５に嵩高い置換基を導入しやすい観点から好ましい。ここで、ＷＯ２０１０／０７１２１１号公報には、上記一般式（Ｏ−Ａ）においてＲ２及びＲ６に相当する部位（カルボジイミド基に対してメタ位）にアルキル基やアリール基が置換した化合物が例示されているが、これらの化合物はポリエステルの末端に連結したイソシアネートとポリエステルの水酸基末端との反応を抑制することができない上、一般式（Ｏ−Ａ）においてＲ２及びＲ６に相当する部位（カルボジイミド基に対してオルト位）に置換基を導入することが困難である。
【００７７】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ１〜Ｒ８は互いに結合して環を形成してもよい。このときに形成される環は特に制限はないが、芳香族環であることが好ましい。例えば、Ｒ１〜Ｒ４の２以上が互いに結合して縮合環を形成してもよく、Ｒ１〜Ｒ４が置換しているベンゼン環とともに炭素数１０以上のアリーレン基やヘテロアリーレン基を形成してもよい。このときに形成される炭素数１０以上のアリーレン基としては、ナフタレンジイル基などの炭素数１０〜１５の芳香族基が挙げられる。
【００７８】
一般式（Ｏ−Ａ）中、同様に、例えば、Ｒ５〜Ｒ８の２以上が互いに結合して縮合環を形成してもよく、Ｒ５〜Ｒ８が置換しているベンゼン環とともに炭素数１０以上のアリーレン基やヘテロアリーレン基を形成してもよく、そのときの好ましい範囲はＲ１〜Ｒ４が置換しているベンゼン環とともに炭素数１０以上のアリーレン基やヘテロアリーレン基を形成するときの好ましい範囲と同様である。
但し、一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ１〜Ｒ８は互いに結合して環を形成しないことが好ましい。
【００７９】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−及び−ＣＨ２−から選択される少なくとも１種を表し、その中でも−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−であることが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−であることが合成容易性の観点からより好ましい。
【００８０】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｌ１は２価の連結基を表し、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよく、２価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２価の炭素数３〜２０の脂環族基、２価の炭素数５〜１５の芳香族基、又はこれらの組み合わせであることが好ましく、２価の炭素数１〜２０の脂肪族基であることがより好ましい。
【００８１】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｌ１が表す２価の脂肪族基として、炭素数１〜２０のアルキレン基が挙げられる。炭素数１〜２０のアルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、へキサデシレン基などが挙げられ、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。これらの脂肪族基は置換されていてもよい。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【００８２】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｌ１が表す２価の脂環族基として、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基が挙げられる。炭素数３〜２０のシクロアルキレン基として、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロへプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロドデシレン基、シクロへキサデシレン基などが挙げられる。これらの脂環族基は置換されていてもよい。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【００８３】
一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｌ１が表す２価の芳香族基として、へテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数５〜１５のアリーレン基が挙げられる。炭素数５〜１５のアリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていてもよい。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【００８４】
一般式（Ｏ−Ａ）中におけるカルボジイミド基を含む環状構造中の原子数は、好ましくは８〜５０、より好ましくは１０〜３０、さらに好ましくは１０〜２０、特に好ましくは１０〜１５である。
【００８５】
ここで、カルボジイミド基を含む環状構造中の原子数とは、カルボジイミド基を含む環状構造を直接構成する原子の数を意味し、例えば、８員環であれば８、５０員環であれば５０である。環状構造中の原子数が８より小さいと、環状カルボジイミド化合物の安定性が低下して、保管、使用が困難となる場合があるためである。また反応性の観点よりは環員数の上限値に関しては特別の制限はないが、５０を超える原子数の環状カルボジイミド化合物は合成上困難となり、コストが大きく上昇する場合が発生するためである。かかる観点より、一般式（Ｏ−Ａ）中、環状構造中の原子数は好ましくは、１０〜３０、より好ましくは１０〜２０、特に好ましくは１０〜１５の範囲が選択される。
【００８６】
次に、一般式（Ｏ−Ｂ）で表される環状カルボジイミド化合物について説明する。
【００８７】
【化２】
2015057814.tif 000003
【００８８】
一般式（Ｏ−Ｂ）中、Ｒ１１、Ｒ１５、Ｒ２１及びＲ２５は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基又はアルコキシ基を表す。Ｒ１２〜Ｒ１４、Ｒ１６〜Ｒ１８、Ｒ２２〜Ｒ２４及びＲ２６〜Ｒ２８は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又はアルコキシ基を表す。Ｒ１１〜Ｒ２８は互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ１１、Ｘ１２、Ｘ２１及びＸ２２は、それぞれ独立に単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−又は−ＣＨ２−を表す。Ｌ２は４価の連結基を表す。
【００８９】
一般式（Ｏ−Ｂ）中、Ｒ１１、Ｒ１５、Ｒ２１及びＲ２５の好ましい範囲は、上記一般式（Ｏ−Ａ）中のＲ１及びＲ５の好ましい範囲と同様である。
Ｒ１１、Ｒ１５、Ｒ２１及びＲ２５が表すアリール基は、Ｒ１１とＲ１２が縮合、Ｒ１５とＲ１６が縮合、Ｒ２１とＲ２２が縮合又はＲ２５とＲ２６が縮合して形成されたアリール基であってもよいが、Ｒ１１、Ｒ１５、Ｒ２１及びＲ２５は、それぞれＲ１２、Ｒ１６、Ｒ２２及びＲ２６と縮合して環を形成しないことが好ましい。
Ｒ１１、Ｒ１５、Ｒ２１及びＲ２５は、同じであっても異なっていてもよいが、コストの観点から同じであることが好ましい。
【００９０】
一般式（Ｏ−Ｂ）中、Ｒ１２〜Ｒ１４、Ｒ１６〜Ｒ１８、Ｒ２２〜Ｒ２４及びＲ２６〜Ｒ２８の好ましい範囲は、上記一般式（Ｏ−Ａ）中のＲ２〜Ｒ４及びＲ６〜Ｒ８の好ましい範囲と同様である。
Ｒ１２〜Ｒ１４、Ｒ１６〜Ｒ１８、Ｒ２２〜Ｒ２４及びＲ２６〜Ｒ２８中、Ｒ１２、Ｒ１６、Ｒ２２及びＲ２６がともに水素原子であることが、Ｒ１１、Ｒ１５、Ｒ２１及びＲ２５に嵩高い置換基を導入しやすい観点から好ましい。
【００９１】
ここで、一般式（Ｏ−Ｂ）で表される環状カルボジイミド化合物は、このようにカルボジイミド基の近傍に、アルキル基、アリール基又はアルコキシ基のように嵩高い基を導入することで、カルボジイミド基とポリエステルの末端カルボン酸が反応した後に生成するイソシアネート基とポリエステルの末端水酸基の反応を抑制できる。この結果、ポリエステルの高分子量化を抑制でき、上述のようなポリエステルの粘性増加による切り屑の発生を抑制できる。
【００９２】
一般式（Ｏ−Ｂ）中、Ｒ１１〜Ｒ２８は互いに結合して環を形成してもよく、好ましい環の範囲は上記一般式（Ｏ−Ａ）中、Ｒ１〜Ｒ８が互いに結合して形成する環の範囲と同様である。
【００９３】
一般式（Ｏ−Ｂ）中、Ｘ１１、Ｘ１２、Ｘ２１及びＸ２２の好ましい範囲は、上記一般式（Ｏ−Ａ）中のＸ１及びＸ２の好ましい範囲と同様である。
【００９４】
一般式（Ｏ−Ｂ）中、Ｌ２は４価の連結基を表し、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、４価の炭素数３〜２０の脂環族基、４価の炭素数５〜１５の芳香族基、又はこれらの組み合わせであることが好ましく、４価の炭素数１〜２０の脂肪族基であることがより好ましい。
【００９５】
一般式（Ｏ−Ｂ）中、Ｌ２が表す４価の脂肪族基として、炭素数１〜２０のアルカンテトライル基などが挙げられる。炭素数１〜２０のアルカンテトライル基として、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ドデカンテトライル基、ヘキサデカンテトライル基などが挙げられ、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基がより好ましく、エタンテトライル基が特に好ましい。これら脂肪族基は置換基を含んでいてもよい。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【００９６】
一般式（Ｏ−Ｂ）中、Ｌ２が表す４価の脂環族基として、炭素数３〜２０のシクロアルカンテトライル基が挙げられる。炭素数３〜２０のシクロアルカンテトライル基として、シクロプロパンテトライル基、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘプタンテトライル基、シクロオクタンテトライル基、シクロノナンテトライル基、シクロデカンテトライル基、シクロドデカンテトライル基、シクロヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これら脂環族基は置換基を含んでいてもよい。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリーレン基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【００９７】
一般式（Ｏ−Ｂ）中、Ｌ２が表す４価の芳香族基として、へテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数５〜１５のアレーンテトライル基が挙げられる。炭素数５〜１５のアレーンテトライル基（４価）として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていてもよい。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【００９８】
一般式（Ｏ−Ｂ）中、４価の連結基であるＬ２を介して、カルボジイミド基を含む環状構造が２つ含まれる。
一般式（Ｏ−Ｂ）中における各カルボジイミド基を含む環状構造中の原子数の好ましい範囲はそれぞれ、上記一般式（Ｏ−Ａ）中におけるカルボジイミド基を含む環状構造中の原子数の好ましい範囲と同様である。
【００９９】
ここで、環状カルボジイミド化合物は、分子内に２つ以上のカルボジイミド基の第一窒素と第二窒素とが連結基により結合した環構造を有さない芳香族カルボジイミドであること、すなわち環状カルボジイミド化合物は単環であり、上記一般式（Ｏ−Ａ）で表されることが、増粘し難い観点から好ましい。
但し、揮散を抑制でき、製造時のイソシアネートガスの発生を抑制できる観点からは、本発明の環状カルボジイミド化合物は環状構造を複数有し、上記一般式（Ｏ−Ｂ）で表されることも好ましい。
【０１００】
環状カルボジイミド化合物の分子量は、重量平均分子量で４００〜１５００が好ましい。環状カルボジイミド化合物の分子量は、４００以上であると、揮散性が小さく、製造時のイソシアネートガスの発生を抑制できるため好ましい。また、環状カルボジイミド化合物の分子量の上限は特に限定はないが、カルボン酸との反応性の観点から、１５００以下が好ましい。
環状カルボジイミド化合物の分子量は、５００〜１２００であることがより好ましい。
【０１０１】
一般式（Ｏ−Ａ）又は一般式（Ｏ−Ｂ）で表される環状カルボジイミド化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。但し、本発明は以下の具体例により限定されるものではない。
【０１０２】
【化３】
2015057814.tif 000004
【０１０３】
【化４】
2015057814.tif 000005
【０１０４】
【化５】
2015057814.tif 000006
【０１０５】
【化６】
2015057814.tif 000007
【０１０６】
環状カルボジイミド化合物は、芳香環に隣接して−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−で表される構造（カルボイジイミド基）を少なくとも１つ有する化合物であることが好ましく、例えば、適当な触媒の存在下に、有機イソシアネートを加熱し、脱炭酸反応で製造できる。また、本発明の環状カルボジイミド化合物は、特開２０１１−２５６３３７号公報に記載の方法などを参考にして合成することができる。
【０１０７】
環状カルボジイミド化合物を合成するにあたり、カルボジイミド基の第一窒素と第二窒素に隣接するアリーレン基のオルト位に特定の嵩高い置換基を導入する方法としては特に制限はないが、例えば既知の方法でアルキルベンゼンをニトロ化することで、アルキル基が置換されたニトロベンゼンを合成することができ、それを元にＷＯ２０１１／１５８９５８に記載の方法で環状カルボジイミドを合成することができる。
【０１０８】
ケテンイミン化合物について説明する。
ケテンイミン化合物としては、下記一般式（Ｋ−Ａ）で表されるケテンイミン化合物を用いることが好ましい。
【０１０９】
【化７】
2015057814.tif 000008
【０１１０】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アリールオキシ基、アシル基又はアリールオキシカルボニル基を表し、Ｒ３はアルキル基又はアリール基を表す。
【０１１１】
ここで、ケテンイミン化合物の窒素原子と該窒素原子に結合している置換基を除く部分の分子量は３２０以上であることが好ましい。すなわち、一般式（Ｋ−Ａ）では、Ｒ１−Ｃ（＝Ｃ）−Ｒ２基の分子量は３２０以上であることが好ましい。ケテンイミン化合物の窒素原子と該窒素原子に結合している置換基を除く部分の分子量は、３２０以上であることが好ましく、５００〜１５００であることがより好ましく、６００〜１０００であることがさらに好ましい。このように、窒素原子と該窒素原子に結合している置換基を除く部分の分子量を上記範囲内とすることにより、支持体とそれと接する層との密着性を高めることができる。これは、窒素原子と該窒素原子に結合している置換基を除く部分が一定範囲の分子量を有することで、ある程度の嵩高さをもったポリエステル末端が支持体に接する層に拡散し投錨効果を発揮するためである。
【０１１２】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ２で表されるアルキル基は、炭素数１〜２０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基であることがより好ましい。Ｒ１及びＲ２が表すアルキル基は直鎖であっても分枝であっても環状であってもよい。Ｒ１及びＲ２が表すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｉｓｏ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、などを挙げることができる。中でもメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｉｓｏ−ブチル基、シクロヘキシル基とすることがより好ましい。
【０１１３】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ２が表すアルキル基はさらに置換基を有していてもよい。ケテンイミン基とカルボキシル基との反応性を低下させない限り、置換基は特に制限されることはなく、置換基としては、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。なお、Ｒ１及びＲ２が表すアルキル基の炭素数は、置換基を含まない炭素数を示す。
【０１１４】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ２が表すアリール基は、炭素数６〜２０のアリール基であることが好ましく、炭素数６〜１２のアリール基であることがより好ましい。Ｒ１及びＲ２が表すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを挙げることができ、その中でもフェニル基が特に好ましい。
【０１１５】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ２が表すアリール基には、ヘテロアリール基が含まれるものとする。ヘテロアリール基とは、芳香族性を示す５員、６員又は７員の環又はその縮合環の環構成原子の少なくとも１つがヘテロ原子に置換されたものをいう。ヘテロアリール基としては、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、チエニル基、ベンズオキサゾリル基、インドリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、カルバゾリル基、アゼピニル基を例示することができる。ヘテロアリール基に含まれるヘテロ原子は、酸素原子、硫黄原子、窒素原子であることが好ましく、中でも、酸素原子又は窒素原子であることが好ましい。
【０１１６】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ２が表すアリール基又はヘテロアリール基はさらに置換基を有していてもよく、ケテンイミン基とカルボキシル基との反応性を低下させない限り、置換基は特に制限されない。置換基としては上記のアルキル基に対する置換基を同様に例示することができる。なお、Ｒ１及びＲ２が表すアリール基又はヘテロアリール基の炭素数は、置換基を含まない炭素数を示す。
【０１１７】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ２が表すアルコキシ基は、炭素数１〜２０のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１〜１２のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数２〜６のアルコキシ基であることが特に好ましい。Ｒ１及びＲ２が表すアルコキシ基は直鎖であっても分枝であっても環状であってもよい。Ｒ１及びＲ２が表すアルコキシ基の好ましい例としては、Ｒ１及びＲ２が表すアルキル基の末端に−Ｏ−が連結した基を挙げることができる。Ｒ１及びＲ２が表すアルコキシ基はさらに置換基を有していてもよく、ケテンイミン基とカルボキシル基との反応性を低下させない限り、置換基は特に制限されない。置換基としては上記のアルキル基に対する置換基を同様に例示することができる。なお、Ｒ１及びＲ２が表すアルコキシ基の炭素数は、置換基を含まない炭素数を示す。
【０１１８】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ２が表すアルコキシカルボニル基は、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基であることが好ましく、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基であることがより好ましく、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基であることが特に好ましい。Ｒ１及びＲ２が表すアルコキシカルボニル基のアルコキシ部としては、上述したアルコキシ基の例を挙げることができる。
【０１１９】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ２が表すアミノカルボニル基は、炭素数１〜２０のアルキルアミノカルボニル基、炭素数６〜２０のアリールアミノカルボニル基であることが好ましい。アルキルアミノカルボニル基のアルキルアミノ部の好ましい例としては、Ｒ１及びＲ２が表すアルキル基の末端に−ＮＨ−が連結した基を挙げることができる。Ｒ１及びＲ２が表すアルキルアミノカルボニル基はさらに置換基を有していてもよく、ケテンイミン基とカルボキシル基との反応性を低下させない限り、置換基は特に制限されない。置換基としては上記のアルキル基に対する置換基を同様に例示することができる。炭素数６〜２０のアリールアミノカルボニル基のアリールアミノ部の好ましい例としては、Ｒ１及びＲ２が表すアリール基の末端に−ＮＨ−が連結した基を挙げることができる。Ｒ１及びＲ２が表すアリールアミノカルボニル基はさらに置換基を有していてもよく、ケテンイミン基とカルボキシル基との反応性を低下させない限り、置換基は特に制限されない。置換基としては上記のアルキル基に対する置換基を同様に例示することができる。なお、Ｒ１及びＲ２が表すアルキルアミノカルボニル基の炭素数は、置換基を含まない炭素数を示す。
【０１２０】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ２が表すアリールオキシ基は、炭素数６〜２０のアリールオキシ基であることが好ましく、炭素数６〜１２のアリールオキシ基であることがより好ましい。Ｒ１及びＲ２が表すアリールオキシ基のアリール部としては、上述したアリール基の例を挙げることができる。
【０１２１】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ２が表すアシル基は、炭素数２〜２０のアシル基であることが好ましく、炭素数２〜１２のアシル基であることがより好ましく、炭素数２〜６のアシル基であることが特に好ましい。Ｒ１及びＲ２が表すアシル基はさらに置換基を有していてもよく、ケテンイミン基とカルボキシル基との反応性を低下させない限り、置換基は特に制限されない。置換基としては上記のアルキル基に対する置換基を同様に例示することができる。なお、Ｒ１及びＲ２が表すアシル基の炭素数は、置換基を含まない炭素数を示す。
【０１２２】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ１及びＲ２が表すアリールオキシカルボニル基は、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基であることが好ましく、炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニル基であることがより好ましいＲ１及びＲ２が表すアリールオキシカルボニル基のアリール部としては、上述したアリール基の例を挙げることができる。
【０１２３】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ３はアルキル基又はアリール基を表す。アルキル基は、炭素数１〜２０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基であることがより好ましい。Ｒ３が表すアルキル基は直鎖であっても分枝であっても環状であってもよい。Ｒ３が表すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｉｓｏ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、などを挙げることができる。中でもメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、シクロヘキシル基とすることがより好ましい。
【０１２４】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ３が表すアルキル基はさらに置換基を有していてもよい。ケテンイミン基とカルボキシル基との反応性を低下させない限り、置換基は特に制限されることはなく、置換基としては上記のアルキル基に対する置換基を同様に例示することができる。
【０１２５】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ３が表すアリール基は、炭素数６〜２０のアリール基であることが好ましく、炭素数６〜１２のアリール基であることがより好ましい。Ｒ３が表すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを挙げることができ、その中でもフェニル基が特に好ましい。
【０１２６】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ３が表すアリール基にはヘテロアリール基が含まれるものとする。ヘテロアリール基とは、芳香族性を示す５員、６員又は７員の環又はその縮合環の環構成原子の少なくとも１つがヘテロ原子に置換されたものをいう。ヘテロアリール基としては、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、チエニル基、ベンズオキサゾリル基、インドリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、カルバゾリル基、アゼピニル基を例示することができる。ヘテロアリール基に含まれるヘテロ原子は、酸素原子、硫黄原子、窒素原子であることが好ましく、中でも、酸素原子又は窒素原子であることが好ましい。
【０１２７】
一般式（Ｋ−Ａ）中、Ｒ３が表すアリール基又はヘテロアリール基はさらに置換基を有していてもよく、ケテンイミン基とカルボキシル基との反応性を低下させない限り、置換基は特に制限されない。置換基としては上記のアルキル基に対する置換基を同様に例示することができる。
【０１２８】
なお、一般式（Ｋ−Ａ）は、繰り返し単位を含んでいてもよい。この場合、Ｒ１又はＲ３の少なくとも一方が繰り返し単位であり、この繰り返し単位には、ケテンイミン部が含まれることが好ましい。
【０１２９】
ケテンイミン化合物としては、下記一般式（Ｋ−Ｂ）で表されるケテンイミン化合物を用いることも好ましい。
【０１３０】
【化８】
2015057814.tif 000009
【０１３１】
一般式（Ｋ−Ｂ）中、Ｒ１はアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アリールオキシ基、アシル基又はアリールオキシカルボニル基を表す。Ｒ２は置換基としてＬ１を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アリールオキシ基、アシル基又はアリールオキシカルボニル基を表す。Ｒ３はアルキル基又はアリール基を表す。ｎは１〜４の整数を表し、Ｌ１はｎ価の連結基を表す。（Ｒ１−Ｃ（＝Ｃ）−Ｒ２−）ｎ−Ｌ１基の分子量は３２０以上であることが好ましい。
【０１３２】
一般式（Ｋ−Ｂ）中、Ｒ１は、一般式（Ｋ−Ａ）におけるそれと同意であり、好ましい範囲も同様である。
【０１３３】
一般式（Ｋ−Ｂ）中、Ｒ２は、ｎ価の連結基であるＬ１を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アリールオキシ基、アシル基又はアリールオキシカルボニル基を表す。アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アリールオキシ基、アシル基又はアリールオキシカルボニル基としては、一般式（Ｋ−Ａ）におけるそれと同意であり、好ましい範囲も同様である。
【０１３４】
一般式（Ｋ−Ｂ）中、Ｒ３は、一般式（Ｋ−Ａ）におけるそれと同意であり、好ましい範囲も同様である。
【０１３５】
一般式（Ｋ−Ｂ）中、Ｌ１はｎ価の連結基を表し、ここで、ｎは１〜４の整数を表す。中でも、ｎは２〜４であることが好ましい。
【０１３６】
一般式（Ｋ−Ｂ）中、Ｌ１が表す二価の連結基の具体例としては、例えば、−ＮＲ８−（Ｒ８は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表し、水素原子が好ましい）で表される基、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルケニレン基、アルキニレン基、置換もしくは無置換のフェニレン基、置換もしくは無置換のビフェニレン基、置換もしくは無置換のナフチレン基、−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＳＯ−ならびにこれらを２つ以上組み合わせて得られる基が挙げられる。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
一般式（Ｋ−Ｂ）中、Ｌ１が表す三価の連結基の具体例としては、例えば、二価の連結基の例として挙げた連結基のうち置換基を有するものから１つの水素原子を取り除いた基が挙げられる。
一般式（Ｋ−Ｂ）中、Ｌ１が表す四価の連結基の具体例としては、例えば、二価の連結基の例として挙げた連結基のうち置換基を有するものから２つの水素原子を取り除いた基が挙げられる。
【０１３７】
一般式（Ｋ−Ｂ）中、Ｌ１が表す連結基のｎ価を２〜４とすることにより、ケテンイミン部を一分子中に２以上有する化合物とすることができ、より優れた末端封止効果を発揮することができる。また、ケテンイミン部を一分子中に２以上有する化合物とすることにより、ケテンイミン基当たりの分子量を低くすることができ、効率よくケテンイミン化合物とポリエステルの末端カルボキシル基を反応させることができる。さらに、ケテンイミン部を一分子中に２以上有することにより、ケテンイミン化合物やケテン化合物が揮散することを抑制することができる。
【０１３８】
一般式（Ｋ−Ｂ）中、ｎは３又は４であることがより好ましい。ｎを３又は４とすることにより、ケテンイミン部を一分子中に３又は４有する化合物とすることができ、より優れた末端封止効果を発揮することができる。また、ｎを３又は４とすることにより、一般式（Ｋ−Ｂ）中のＲ１又はＲ２の置換基のモル分子量を小さくした場合であっても、ケテンイミン化合物の揮散を抑制することができる。
【０１３９】
ケテンイミン化合物としては、下記一般式（Ｋ−Ｃ）で表されるケテンイミン化合物を用いることも好ましい。
【０１４０】
【化９】
2015057814.tif 000010
【０１４１】
一般式（Ｋ−Ｃ）中、Ｒ１及びＲ５はアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アリールオキシ基、アシル基又はアリールオキシカルボニル基を表す。Ｒ２及びＲ４は置換基としてＬ２を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アリールオキシ基、アシル基又はアリールオキシカルボニル基を表す。Ｒ３及びＲ６はアルキル基又はアリール基を表す。Ｌ２は単結合又は二価の連結基を表す。Ｒ１−Ｃ（＝Ｃ）−Ｒ２−Ｌ２−Ｒ４―Ｃ（＝Ｃ）−Ｒ５基の分子量は３２０以上であることが好ましい。
【０１４２】
一般式（Ｋ−Ｃ）中、Ｒ１は、一般式（Ｋ−Ａ）におけるそれと同意であり、好ましい範囲も同様である。また、Ｒ５は、一般式（Ｋ−Ａ）におけるＲ１と同意であり、好ましい範囲も同様である。
【０１４３】
一般式（Ｋ−Ｃ）中、Ｒ２は、一般式（Ｋ−Ｂ）におけるそれと同意であり、好ましい範囲も同様である。また、Ｒ４は、一般式（Ｋ−Ｂ）におけるＲ２と同意であり、好ましい範囲も同様である。
【０１４４】
一般式（Ｋ−Ｃ）中、Ｒ３は、一般式（Ｋ−Ａ）におけるそれと同意であり、好ましい範囲も同様である。また、Ｒ６は、一般式（Ｋ−Ａ）におけるＲ３と同意であり、好ましい範囲も同様である。
【０１４５】
一般式（Ｋ−Ｃ）中、Ｌ２は、単結合又は二価の連結基を表す。二価の連結基の具体例としては、一般式（Ｋ−Ｂ）のＬ１で例示した連結基を挙げることができる。
【０１４６】
ここで、ケテンイミン化合物の窒素原子と該窒素原子に結合している置換基を除く部分の分子量は３２０以上であることが好ましい。ケテンイミン化合物の窒素原子と該窒素原子に結合している置換基を除く部分の分子量は３２０以上であれば良く、４００以上であることが好ましく、５００以上であることがさらに好ましい。また、一分子中のケテンイミン部の数に対するケテンイミン化合物のモル分子量（モル分子量／ケテンイミン部の数）は、１０００以下であることが好ましく、５００以下であることがより好ましく、４００以下であることがさらに好ましい。ケテンイミン化合物のケテンイミン部炭素上の置換基の分子量及びケテンイミン部の数に対するケテンイミン化合物のモル分子量を上記範囲内とすることにより、ケテンイミン化合物自体の揮散を抑制し、ポリエステルの末端カルボキシル基を封止する際に生じるケテン化合物の揮散を抑制し、さらにポリエステルの末端カルボキシル基の封止を低添加量のケテンイミン化合物にて行うことができる。
【０１４７】
ケテンイミン基を少なくとも１つ有するケテンイミン化合物は、例えば、Ｊ．  Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  １９５３，  ７５  （３），  ｐｐ  ６５７−６６０に記載の方法などを参考にして合成することができる。
【０１４８】
以下、一般式（Ｋ−Ａ）〜（Ｋ−Ｃ）で表されるケテンイミン化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれに限定されない。
【０１４９】
【化１０】
2015057814.tif 000011
【０１５０】
【化１１】
2015057814.tif 000012
【０１５１】
【化１２】
2015057814.tif 000013
【０１５２】
上記例示化合物に示されているように、ケテンイミン化合物は、３官能又は４官能であることがより好ましい。これにより、ポリエステル等原料樹脂の末端封止効果をより高めることができ、ケテンイミン化合物やケテン化合物の揮散を効果的に抑制することができる。
また、例示化合物（Ｋ−６）のようにケテンイミン部を環骨格として環状構造を有する場合、一般式（Ｋ−Ａ）〜（Ｋ−Ｃ）中、Ｒ１とＲ３は連結して環状構造を形成し、Ｒ３は、環骨格のアルキレン基又はアリーレン基からなる。この場合、Ｒ１はケテンイミン部を含む連結基を有する。
例示化合物（Ｋ−１０）は一般式（Ｋ−Ａ）〜（Ｋ−Ｃ）の繰り返し数ｎの繰り返し単位を示し、ｎは３以上の整数を表す。例示化合物（Ｋ−１０）に示される左末端は水素原子であり、右末端はフェニル基である。
【０１５３】
−支持体の製造方法−
以下、支持体の製造方法の好ましい態様について、支持体がポリエステルである場合を例に挙げて説明する。
【０１５４】
支持体は、例えば、上記のポリエステルをフィルム状に溶融押出を行った後、キャスティングドラムで冷却固化させて未延伸フィルムとし、この未延伸フィルムを、ガラス転移温度（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋６０）℃で長手方向に１回もしくは２回以上合計の倍率が３倍〜６倍になるよう延伸し、その後Ｔｇ〜（Ｔｇ＋６０）℃で幅方向に倍率が３〜５倍になるように延伸した２軸延伸フィルムであることが好ましい。
さらに、必要に応じて１８０℃〜２３０℃で１秒間〜６０秒間の熱処理を行ったものでもよい。
なお、Ｔｇは、ガラス転移温度を表し、ＪＩＳ Ｋ７１２１或いはＡＳＴＭ Ｄ３４１８−８２等に基づいて測定することができる。例えば、本発明では、島津製作所社製の示差走査熱量測定装置（ＤＳＣ）を用いて測定する。
具体的には、試料としてポリエステル等のポリマーを１０ｍｇ秤量し、アルミパンにセットし、昇温速度１０℃／ｍｉｎで、室温から最終温度３００℃まで昇温しながら、ＤＳＣ装置で、温度に対する熱量を測定したとき、ＤＳＣ曲線が屈曲する温度をガラス転移温度とした。
【０１５５】
以下、支持体の製造方法の好ましい態様として、ポリエステルフィルムの製造方法の一例について説明する。
【０１５６】
・ポリエステルフィルム形成工程：
ポリエステルフィルム形成工程、すなわちポリエステルフィルムを製膜する工程では、樹脂組成物に含まれるポリエステルと、ケテンイミン化合物、カルボジイミド化合物、及びイミノエーテル化合物の少なくとも一種と、を溶融させた溶融体をギアポンプや濾過器を通し、その後、ダイを介して冷却ロールに押出し、これを冷却固化させる。これにより、（未延伸）フィルムを形成することができる。溶融は押出し機を用いて行なうが、単軸押出し機を用いてもよく、２軸押出し機を用いてもよい。
【０１５７】
カルボジイミド化合物やケテンイミン化合物、イミノエーテル化合物は、直接これらの押出し機に添加してもよいが、予めポリエステルとマスターバッチを形成し押出し機に投入することが、押出し安定性の観点から好ましい。マスターバッチを形成する場合は、ケテンイミン化合物を含むマスターバッチの供給量に上記変動を与えることが好ましい。なお、マスターバッチケテンイミンの濃度は濃縮したものを使用することが好ましく、製膜後のフィルム中の濃度の２〜１００倍、より好ましくは５〜５０倍にすることがコストの観点から好ましい。
【０１５８】
押出しは真空排気や不活性ガス雰囲気下で行なうことが好ましい。これによりでケテンイミン、カルボジイミド化合物、及びイミノエーテル化合物などの末端封止材等の分解を抑止できる。押出し機の温度は使用するポリエステルの融点から融点＋８０℃以下で行なうことが好ましく、より好ましくは融点＋１０℃以上、融点＋７０℃以下、さらに好ましくは融点＋２０℃以上、融点＋６０℃以下である。融点＋１０℃未満では、充分に樹脂が融解しない。一方、温度が融点＋８０℃を超えると、ポリエステルや、ケテンイミン化合物、カルボジイミド化合物、及びイミノエーテル化合物などの末端封止材等が分解し好ましくない。なお、この押出しの前に、ポリエステルや、ケテンイミン化合物、カルボジイミド化合物、及びイミノエーテル化合物などの末端封止材等のマスターバッチを乾燥しておくことが好ましく、好ましい含水率は、１０ｐｐｍ〜３００ｐｐｍが好ましく、より好ましくは２０ｐｐｍ〜１５０ｐｐｍである。
【０１５９】
なお、押出された溶融体は、ギアポンプ、濾過機、多層ダイを通してキャストドラム上に流涎される。多層ダイの方式はマルチマニホールドダイ、フィードブロックダイ、どちらも好適に用いることができる。ダイの形状はＴ−ダイ、ハンガーコートダイ、フィッシュテール、いずれでも構わない。このようなダイの先端（ダイリップ）に上述のような温度変動を付与することが好ましい。キャストドラム上では、溶融樹脂（メルト）を、静電印加法を用いて冷却ロールに密着させることができる。この際、キャストドラムの駆動速度に上記のような変動を与えることが好ましい。キャストドラムの表面温度は、おおよそ１０℃〜４０℃とすることができる。キャストドラムの直径は０．５ｍ以上５ｍ以下が好ましく、より好ましくは１ｍ以上４ｍ以下である。キャストドラムの駆動速度（最外週の線速度）は１ｍ／分以上５０ｍ／分以下が好ましく、より好ましくは３ｍ／分以上３０ｍ／分以下である。
【０１６０】
・延伸工程：
フィルム形成工程によって形成された（未延伸）フィルムは、延伸工程において、延伸処理を施すことができる。延伸は縦方向（ＭＤ）、横方向（ＴＤ）の少なくとも一方に行なうことが好ましく、より好ましくは、ＭＤ、ＴＤの両方延伸を行なうことが、フィルムの物性にバランスが取れ好ましい。このような２方向延伸は、縦、横逐次におこなってもよく、同時に実施してもよい。延伸工程においては、冷却ロールで冷却固化させた（未延伸）フィルムに１つ又は２つの方向に延伸されることが好ましく、２つの方向に延伸されることがより好ましい。２つの方向への延伸（二軸延伸）は、長手方向（ＭＤ：Ｍａｃｈｉｎｅ  Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）の延伸（以下「縦延伸」ともいう）及び幅方向（ＴＤ：Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ  Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）の延伸（以下、「横延伸」ともいう）であることが好ましい。当該縦延伸、横延伸は各々１回で行ってもよく、複数回に亘って実施してもよく、同時に縦、横に延伸してもよい。
延伸処理は、フィルムのガラス温度（Ｔｇ）℃〜（Ｔｇ＋６０）℃で行うのが好ましく、より好ましくは（Ｔｇ＋３）℃〜（Ｔｇ＋４０）℃、さらに好ましくは（Ｔｇ＋５）℃〜（Ｔｇ＋３０）℃である。この時、上述のように温度分布を付与することが好ましい。
【０１６１】
好ましい延伸倍率は少なくとも一方に２８０％〜５００％、より好ましくは３００％〜４８０％、さらに好ましくは３２０％〜４６０％である。二軸延伸の場合、縦、横均等に延伸してもよいが、一方の延伸倍率を他方より大きくし不均等に延伸するほうがより好ましい。縦（ＭＤ）、横（ＴＤ）いずれを大きくしてもよい。ここで云う延伸倍率は、以下の式を用いて求めたものである。
延伸倍率（％）＝１００×｛（延伸後の長さ）／（延伸前の長さ）〕
【０１６２】
二軸延伸処理は、例えば、フィルムのガラス転移温度である（Ｔｇ１）℃〜（Ｔｇ１＋６０）℃で長手方向に１回もしくは２回以上、合計の倍率が３倍〜６倍になるよう延伸し、その後、（Ｔｇ１）℃〜（Ｔｇ＋６０）℃で幅方向に倍率が３〜５倍になるよう施すことができる。
【０１６３】
縦二軸延伸処理は出口側の周速を速くした２対以上のニップロールを用いて、長手方向に延伸することができ（縦延伸）、またチャックで幅方向を把持した後、このチャック間の長手方向の間隔を広げることで延伸してもよい。
横延伸はフィルムの両端をチャックで把持しこれを直交方向（長手方向と直角方向）に広げておこなうことができる（横延伸）。
同時延伸は、チャックで把持したあと、長手方向にチャック間隔を拡げる操作と、幅方向にチャック間隔を拡げる操作を組み合わせることで実施できる。
【０１６４】
これらの延伸工程に、後述する下塗り層（インラインコート層）の塗布工程を組み合わせることが好ましい。下塗り層は、このような延伸工程の前や延伸工程の間の工程において、塗布によりポリエステルフィルムの表面に形成されることが好ましい。すなわち、本発明では、ポリエステルフィルム基材を少なくとも１回延伸することが好ましい。
【０１６５】
例えば、延伸工程と塗布工程は、下記のような組合せで実施することができる。
（ａ）縦延伸→塗布→横延伸
（ｂ）塗布→縦延伸→横延伸
（ｃ）塗布→縦、横同時延伸
（ｄ）縦延伸→横延伸→塗布→縦延伸
（ｅ）縦延伸→横延伸→塗布→横延伸
【０１６６】
この中で好ましいのが（ａ）、（ｂ）、（ｃ）であり、さらに好ましいのが（ａ）である。この手法が最も密着力が高く、設備もコンパクトとなり好ましい。
【０１６７】
延伸工程においては、延伸処理の前又はその後、好ましくは延伸処理後に、フィルムに熱処理を施すことができる。熱処理を施すことによって、微結晶を生成し、力学特性や耐久性を向上させることができる。１８０〜２２５℃程度（更に好ましくは、１８５〜２１０℃）で１〜６０秒間（更に好ましくは２〜３０秒間）の熱処理をフィルムに施してもよい。
【０１６８】
延伸工程においては、熱処理後、熱緩和処理を施すことができる。熱緩和処理とは、フィルムに対して応力緩和のために熱を加えて、フィルムを収縮させる処理である。熱緩和処理は、フィルムのＭＤ及びＴＤの両方向に施すことが好ましい。熱緩和処理における諸条件は、熱処理温度より低い温度で処理することが好ましく、１３０℃〜２２０℃が好ましい。また、熱緩和処理は、フィルムの熱収縮率（１５０℃）がＭＤ及びＴＤがいずれも１〜１２％であることが好ましく、１〜１０％が更に好ましい。尚、熱収縮率（１５０℃）は、測定方向３５０ｍｍ、幅５０ｍｍのサンプルを切り出し、サンプルの長手方向の両端近傍３００ｍｍ間隔に標点を付け、１５０℃の温度に調整されたオーブンに一端を固定、他端をフリーで３０分間放置し、その後、室温で標点間距離を測定し、この長さをＬ（ｍｍ）とし、かかる測定値を用いて、下記式にて熱収縮率を求めることができる。
１５０℃熱収縮率（％）＝１００×（３００−Ｌ）／３００
また、熱収縮率が正の場合は縮みを、負は伸びを表わす。
以上の工程を経て、支持体としてのポリエステルフィルムが製造される。
【０１６９】
また、白色ポリエステルフィルムの製造方法について一例を説明する。
白色ポリエステルフィルムは、少なくともポリエステル樹脂と白色粒子とを含有する。白色ポリエステルフィルムは、ポリエステルフィルム形成工程を設けて形成することができる。ポリエステルフィルム形成工程は、ポリエステル樹脂と白色粒子とを混合し、押出機で溶融混練してシート状に押し出し、これを冷却固化させる工程を含む。これにより、未延伸フィルムを形成する。押出す場合、例えば０．５〜３０ＭＰａの押出圧力が付与される。白色粒子は、ポリエステル樹脂に対して０．３〜５．０質量％の範囲で混合することができる。
なお、ポリエステルフィルムには、一方の面にポリマー層（平均膜厚０．０３〜０．５μｍ）が、他方の面に機能性層（平均膜厚４．０〜８．０μｍ）が、形成されてもよい。
【０１７０】
ポリエステルフィルム形成工程では、白色ポリエステルの製造にあたり、ポリエステル樹脂と白色粒子と必要に応じて他の添加物とを混合し、押出機で溶融混練したマスターペレットを調製することが好ましい。白色粒子には、既述の無機粒子より選ばれる白色粒子を用いることができる。マスターペレットの調製に用いるポリエステル樹脂は、ジオール成分とジカルボン酸成分を常法に従い重縮合した後、ペレット状に加工されたものを用いることができる。また、ポリエステルフィルムに含まれる、白色粒子以外の粒子や、カルボジイミド化合物やケテンイミン化合物、イミノエーテル化合物等の末端封止剤も、必要に応じてマスターペレットに混合される。カルボジイミド化合物やケテンイミン化合物、イミノエーテル化合物等の末端封止剤は、直接押出し機に添加してもよいが、あらかじめポリエステルと共に混合し溶融混練してマスターバッチを調製しておき、マスターバッチの形態で押出機に投入することが、押出し安定性の点で好ましい。
【０１７１】
マスターペレットを調製する工程では、乾燥工程を設けることが好ましく、粒子又は末端封止剤、ポリエステル樹脂等の組成物を真空中あるいは熱風中で乾燥する。乾燥工程では、これらの組成物中の含水率を１００ｐｐｍ以下、より好ましくは８０ｐｐｍ以下、さらに好ましくは６０ｐｐｍ以下にすることが好ましい。この時の乾燥温度は８０〜２００℃が好ましく、より好ましくは１００〜１８０℃、さらに好ましくは１１０〜１７０℃である。乾燥時間は、上記含水率になるように適宜調整することができる。
【０１７２】
次いで、乾燥した白色粒子及びポリエステルを混練し、高濃度に白色粒子が分散したマスターペレットを作製する。マスターペレット中の白色粒子又は末端封止剤の添加剤濃度は、フィルムでの使用濃度の１．５〜２０倍が好ましく、より好ましくは２〜１５倍、さらに好ましくは３〜１０倍である。添加濃度を目的とする濃度よりも高くするのは、次工程の製膜工程で、ポリエステルペレットによって希釈されて目的濃度となるためである。
【０１７３】
混練には、単軸押出し機、２軸押出し機、バンバリーミキサー、ブラベンダー等の各種混練機を使用できる。中でも、２軸押出し機を用いることが好ましい。混練温度は、ポリエステル樹脂の結晶融解温度（Ｔｍ）以上Ｔｍ＋８０℃以下が好ましく、より好ましくはＴｍ＋１０〜Ｔｍ＋７０℃、さらに好ましくはＴｍ＋２０〜Ｔｍ＋６０℃である。混練雰囲気は、空気中、真空中、不活性気流中いずれでもよいが、より好ましくは真空中、不活性気流中である。混練時間は、１〜２０分が好ましく、より好ましくは２〜１８分であり、さらに好ましくは３〜１５分である。混練した樹脂は、ストランド状に押出し、空気中あるいは水中で冷却、固化した後、裁断し、ペレット化する。
【０１７４】
マスターペレットは、スターペレットと共に加えられるポリエステル樹脂とともに、樹脂温度の最高到達温度が３００℃程度になるよう加熱され、溶融される。その後、溶融樹脂（メルト）は、ダイを通して冷却ロール上にフィルム状となるように押出される（押出工程）。溶融樹脂は、冷却ロール上で固化されて製膜される。このように製膜されたフィルムは、キャストフィルム（未延伸原反）となる。溶融樹脂は、メルト配管を通し、ギアポンプ、濾過器を通すことが好ましい。また、メルト配管中にスタチックミキサーを設け、樹脂と添加物の混合を促すことも好ましい。
なお、末端封止剤の分解を抑止するためにも、上記のような押出しは、真空排気や不活性ガス雰囲気下で行なうことが好ましい。
【０１７５】
−その他事項−
支持体の厚みは、３０μｍ以上３５０μｍが好ましいが、耐電圧の観点から、１６０μｍ以上３００μｍ以下がより好ましく、さらに好ましくは１８０μｍ以上２８０μｍ以下である。
【０１７６】
支持体は、１２０℃、相対湿度１００％の条件で５０時間保存した後の破断伸びが、保存前の破断伸びに対して５０％以上であるものが好ましい（以下、当該条件により湿熱処理した支持体の処理前後における破断伸びの保持率を、単に「破断伸び保持率」ともいう。）。破断伸び保持率が５０％以上であることで、加水分解に伴う変化が抑えられ、長期使用の際に塗布層との密着界面での密着状態が安定的に保持されることにより、経時での剥離等が防止される。これにより、バックシートが、例えば屋外等の高温、高湿環境や曝光下に長期に亘り置かれる場合でも、高い耐久性能を示す。より好ましくは５０％に達する時間は、７５時間以上２００時間以下が好ましく、より好ましくは１００時間以上１８０時間以下である。
【０１７７】
支持体は１８０℃で５０時間熱処理した後の破断強度が、熱処理前の破断強度の５０％以上であることが好ましい。より好ましくは１８０℃で８０時間熱処理した後の破断強度が熱処理前の破断強度の５０％以上であり、さらに好ましくは１８０℃で１００時間熱処理した後の破断強度が熱処理前の破断強度の５０％以上である。これにより高温に曝されたときの耐熱性を良好にすることができる。
【０１７８】
支持体は１５０℃で３０分間熱処理をした時の熱収縮がＭＤ，ＴＤとも１％以下、より好ましくは０．５％以下であることが好ましい。熱収縮を１％以下に保つことにより、太陽電池モジュールを形成した時の反りを防止することができる。
【０１７９】
支持体は必要に応じてコロナ放電処理、火炎処理、グロー放電処理のような表面処理を行ってもよい。これらのうちでコロナ放電処理は低コストで行うことができる、好ましい表面処理方法である。
【０１８０】
コロナ放電処理は、通常誘導体を被膜した金属ロール（誘電体ロール）と絶縁された電極間に高周波、高電圧を印加して、電極間の空気の絶縁破壊を生じさせることにより、電極間の空気をイオン化させて、電極間にコロナ放電を発生させる。そして、このコロナ放電の間を、支持体を通過させることにより行う。
本発明で用いる好ましい処理条件は、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランス１〜３ｍｍ、周波数１〜１００ｋＨｚ、印加エネルギー０．２〜５ｋＶ・Ａ・分／ｍ２程度が
好ましい。
【０１８１】
グロー放電処理は、真空プラズマ処理又はグロー放電処理とも呼ばれる方法で、低圧雰囲気の気体（プラズマガス）中での放電によりプラズマを発生させ、基材表面を処理する方法である。本発明の処理で用いる低圧プラズマはプラズマガスの圧力が低い条件で生成する非平衡プラズマである。本発明の処理は、この低圧プラズマ雰囲気内に被処理フィルムを置くことにより行われる。
【０１８２】
グロー放電処理において、プラズマを発生させる方法としては、直流グロー放電、高周波放電、マイクロ波放電等の方法を利用することができる。放電に用いる電源は直流でも交流でもよい。交流を用いる場合は３０Ｈｚ〜２０ＭＨｚ程度の範囲が好ましい。
交流を用いる場合には５０又は６０Ｈｚの商用の周波数を用いてもよいし、１０〜５０ｋＨｚ程度の高周波を用いてもよい。また、１３．５６ＭＨｚの高周波を用いる方法も好ましい。
【０１８３】
グロー放電処理で用いるプラズマガスとして、酸素ガス、窒素ガス、水蒸気ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等の無機ガスを使用することができ、特に、酸素ガス、又は、酸素ガスとアルゴンガスとの混合ガスが好ましい。具体的には、酸素ガスとアルゴンガスとの混合ガスを使用することが望ましい。酸素ガスとアルゴンガスを用いる場合、両者の比率としては、分圧比で酸素ガス：アルゴンガス＝１００：０〜３０：７０位、より好ましくは、９０：１０〜７０：３０位が好ましい。また、特に気体を処理容器に導入せず、リークにより処理容器にはいる大気や被処理物から出る水蒸気などの気体をプラズマガスとして用いる方法も好ましい。
【０１８４】
ここで、プラズマガスの圧力としては、非平衡プラズマ条件が達成される低圧が必要である。具体的なプラズマガスの圧力としては、０．００５〜１０Ｔｏｒｒ、より好ましくは０．００８〜３Ｔｏｒｒ程度の範囲が好ましい。プラズマガスの圧力が０．００５Ｔｏｒｒ未満の場合は接着性改良効果が不充分な場合があり、逆に１０Ｔｏｒｒを超えると電流が増大して放電が不安定になる場合がある。
プラズマ出力としては、処理容器の形状や大きさ、電極の形状などにより一概には言えないが、１００〜２５００Ｗ程度、より好ましくは、５００〜１５００Ｗ程度が好ましい。
【０１８５】
グロー放電処理の処理時間は０．０５〜１００秒、より好ましくは０．５〜３０秒程度が好ましい。処理時間が０．０５秒未満の場合には接着性改良効果が不充分な場合があり、逆に１００秒を超えると被処理フィルムの変形や着色等の問題が生じる場合がある。
グロー放電処理の放電処理強度はプラズマ出力と処理時間によるが、０．０１〜１０ｋＶ・Ａ・分／ｍ２の範囲が好ましく、０．１〜７ｋＶ・Ａ・分／ｍ２がより好ましい。放電処理強度を０．０１ｋＶ・Ａ・分／ｍ２以上とすることで充分な接着性改良効果が得
られ、１０ｋＶ・Ａ・分／ｍ２以下とすることで被処理フィルムの変形や着色といった問
題を避けることができる。
【０１８６】
グロー放電処理では、あらかじめ被処理フィルムを加熱しておくことも好ましい。この方法により、加熱を行わなかった場合に比べ、短時間で良好な接着性が得られる。加熱の温度は４０℃〜被処理フィルムの軟化温度＋２０℃の範囲が好ましく、７０℃〜被処理フィルムの軟化温度の範囲がより好ましい。加熱温度を４０℃以上とすることで充分な接着性の改良効果が得られる。また、加熱温度を被処理フィルムの軟化温度以下とすることで処理中に良好なフィルムの取り扱い性が確保できる。
真空中で被処理フィルムの温度を上げる具体的方法としては、赤外線ヒーターによる加熱、熱ロールに接触させることによる加熱などが挙げられる。
【０１８７】
〔降伏点を有するポリマーを含む塗布層（Ｂ）：（Ｂ）層〕
本発明のバックシートでは、支持体の少なくとも片方の面に、降伏点を有するポリマーを含む（Ｂ）層を備える。
（Ｂ）層が含むポリマーが降伏点を有するか否か、及びポリマーの降伏点は、以下の方法により測定される。
（ポリマーの降伏点の測定方法）
まず、セラピール（東レ社製）に、降伏点を測定するポリマーを乾燥後の膜厚が１５μｍになるように塗布し、１７０℃で２分間乾燥して、セラピール表面にポリマー膜を形成する。
セラピール表面に形成されたポリマー膜を、１２１℃，１００％の高温高湿環境下に３０時間保存し、その後、３ｃｍ×５ｍｍの大きさに切断して、ポリマー膜をセラピールから剥離する。
得られたポリマー膜を引っ張り試験機（テンシロン：Ａ＆Ｄ  Ｃｏｍｐａｎｙ社製）により２３．０℃、５０．０％の環境下、５０ｍｍ／ｍｉｎの速度でポリマー膜の引張試験を行い、伸張度と応力とを測定する。
この引っ張り試験において、ポリマー膜は引っ張り応力に従って伸びが大きくなるが、ある応力を超えると歪み（伸び）が大きくなるのに対して引っ張り応力が下降する現象が起こる。この現象をポリマー膜が「降伏」したと判断し、この点における応力を降伏点と称する。このような挙動を示すポリマーを「降伏点を有する」と判断する。
他方、引っ張り応力と伸びが共に上昇し、ある応力で破断するポリマー膜は降伏点を有しないと判断する。
【０１８８】
（Ｂ）層に用いうる降伏点を有するポリマーとしては、ベースとなるポリマーには特に制限はなく、アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル樹脂などから選択されるが、上記測定法によりポリマー膜が降伏点を有するものであることを要する。
降伏点を有するポリマーは、ポリマーを有機溶剤に溶解して用いてもよく、ポリマー粒子が水に分散してなる分散物として用いてもよい。環境への配慮から水に分散しているものを使用するのが好ましい。
降伏点を有するポリマーは市販品としても入手可能であり、例えば、三井化学〔（株）、ボンロンＸＰＳ００１、ボンロンＸＰＳ００２（いずれも商品名：アクリル系樹脂粒子分散物）、東洋紡（株）ハードレンＮＺ−１００１（商品名：酸変性オレフィン系樹脂粒子分散物）などが挙げられる。
降伏点を有するポリマーは１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよいが、２種以上混合する場合には、ポリマー混合物により形成される膜が降伏点を有することを要する。一般的には、混合するポリマーの５０質量％以上が降伏点を有するポリマーであることが好ましく、さらに好ましくは混合するポリマーの７０質量％以上、特に好ましくは混合する全てのポリマーが降伏点を有するものである。
（Ｂ）層は、降伏点を有するポリマーを適切な溶剤に溶解させるか、ポリマー粒子を分散媒に分散させたものを塗布し、乾燥して形成される。（Ｂ）層形成用組成物には、降伏点を有すポリマー及び溶媒或いは分散媒に加え、必要に応じて、その他の添加剤が含まれていてもよい。（Ｂ）層形成用組成物は、環境への配慮から水に分散しているものを使用するのが好ましい。
【０１８９】
−その他の添加剤−
その他の添加剤としては、（Ｂ）層に付与する機能に応じて、例えば、膜強度向上のための無機粒子、架橋剤、塗膜の均一性を向上するための界面活性剤、着色剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、防腐剤などが挙げられる。
【０１９０】
−無機粒子−
塗布層（Ｂ）には無機粒子を含有することが好ましい。無機粒子としては、例えば、コロイダルシリカなどのシリカ粒子、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化錫などの金属酸化物粒子、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどの無機炭酸塩粒子、硫酸バリウム等の金属化合物粒子、カーボンブラックなどの黒色顔料粒子が挙げられ、なかでも、白色顔料としては、コロイダルシリカ、酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化ジルコニウムなどが好ましく挙げられ、黒色顔料としてはカーボンブラックなどが好ましく挙げられる。
（Ｂ）層には、無機粒子を１種のみ含んでもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合、白色顔料のみを２種以上用いてもよく、黒色顔料を２種以上用いてもよく、また、白色顔料と黒色顔料とを併用してもよい。
【０１９１】
ここで、無機粒子として黒色顔料を用いることで、太陽電池用バックシートに隠蔽性を持たせることができる。
太陽電池においては、意匠性の観点から、発電素子への配線などが外側から見えないことが好ましく、太陽電池用バックシートに高い隠蔽性をたせることが好ましい態様である。フィルムの隠蔽性を向上させるために、ポリエステルに直接黒色顔料であるカーボンブラックを添加してなるポリエステルフィルムが知られている。しかしながら、ポリエステルにカーボンブラックを直接添加すると、カーボンブラックが結晶化の核となってポリエステルの結晶化速度が速くなるため、延伸によるフォルム成形が困難になる、或いは、ポリエステルを用いたフィルムを湿熱雰囲気下に置いた場合にフィルムの結晶化度増大の速度が速く、早期に脆化し、フィルムの耐湿熱性が低下する、といった問題があった。
本発明においては、（Ｂ）層にカーボンブラックなどの黒色顔料を添加することで、無機粒子としての強度向上効果のみならず、支持体となるポリエステルフィルムの耐湿熱性低下を抑制しつつ、太陽電池用バックシートに高い隠蔽性を付与しうるという利点をも有することになる。
【０１９２】
（Ｂ）層に用いうるコロイダルシリカとは、ケイ素酸化物を主成分とする粒子が、水、アルコール類、ジオール類等あるいは、これらの混合物を分散媒としてコロイダル状で存在するものである。
コロイダルシリカ粒子の粒子径は、平均一次粒径が数ｎｍ〜１００ｎｍ程度である。平均一次粒径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができるし、また動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測することもできる。コロイダルシリカ粒子の形状は球形であってもよいし、これらが数珠状に連結したものでもよい。
コロイダルシリカ粒子は、市販されており、例えば日産化学工業社のスノーテックスシリーズ、触媒化成工業社のカタロイド−Ｓシリーズ、バイエル社のレバシルシリーズ等が挙げられる。具体的には、たとえば日産化学工業社製のスノーテックスＳＴ−２０、ＳＴ−３０、ＳＴ−４０、ＳＴ−Ｃ、ＳＴ−Ｎ、ＳＴ−２０Ｌ、ＳＴ−Ｏ、ＳＴ−ＯＬ、ＳＴ−Ｓ、ＳＴ−ＸＳ、ＳＴ−ＸＬ、ＳＴ−ＹＬ、ＳＴ−ＺＬ、ＳＴ−ＯＺＬ、ＳＴ−ＡＫ、スノーテックス−ＡＫシリーズ、スノーテックス−ＰＳシリーズ、スノーテックス−ＵＰシリーズ等を挙げることができる。
【０１９３】
（Ｂ）層に用いられるカーボンブラックには、特に制限はなく、黒色顔料として知られているカーボンブラックを適宜選択して用いることができる。
本発明では、カーボンブラックとして、少量で高い着色力を得るために、カーボンブラック粒子を使用することが好ましく、一次粒子径が１μｍ以下のカーボンブラック粒子を使用することがより好ましく、一次粒子径が０．１μｍ〜０．８μｍのカーボンブラック粒子であることが特に好ましい。さらに、カーボンブラック粒子を分散剤とともに水に分散して使用することが好ましい。
なお、カーボンブラックは、商業的に入手することができるものを使用してもよく、例えば、ＭＦ−５６３０ブラック（商品名：大日精化（株）製）や、特開２００９−１３２８８７号公報の段落番号［００３５］に記載のものなどを用いることができる。
【０１９４】
塗布層（Ｂ）に含まれる無機粒子の平均粒子径には特に制限はないが、膜強度を向上させ、且つ、良好な接着性を維持するという観点からは、平均一次粒子径は、塗布層（Ｂ）の膜厚以下であることが好ましく、塗布層（Ｂ）の膜厚の１／２以下であることがより好ましく、塗布層（Ｂ）の膜厚の１/３以下であることがさらに好ましい。
【０１９５】
また、具体的には、無機粒子の平均一次粒子径は、１．０μｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ〜７００ｎｍであることがより好ましく、１５ｎｍ〜３００ｎｍがさらに好ましい。
本明細書における無機粒子の平均一次粒子径は、ハネウェル社製マイクロトラックＦＲＡにより測定された値を用いている。
塗布層（Ｂ）における無機粒子の含有率は、１０体積％〜３５体積％の範囲であることが好ましく、２０体積％〜３０体積％の範囲であることがより好ましい。
【０１９６】
［架橋剤］
（Ｂ）層形成用組成物は、架橋剤を含有することが好ましい。
（Ｂ）層形成用組成物が架橋剤を含有することで、（Ｂ）層形成用組成物に含まれるバインダー（降伏点を有するポリマー）膜中に架橋構造が形成され、接着性及び強度がより向上した層が形成される。
【０１９７】
架橋剤としては、エポキシ系、イソシアネート系、メラミン系、カルボジイミド系、オキサゾリン系等の架橋剤を挙げることができる。（Ｂ）層とインラインコート層との間、または、（Ｂ）層とポリエステル基材との間の湿熱経時後の密着性を確保する観点から、このなかで特にオキサゾリン系架橋剤が好ましい。
【０１９８】
オキサゾリン系架橋剤の具体例としては、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−エチル−２−オキサゾリン、２，２’−ビス−（２−オキサゾリン）、２，２’−メチレン−ビス−（２−オキサゾリン）、２，２’−エチレン−ビス−（２−オキサゾリン）、２，２’−トリメチレン−ビス−（２−オキサゾリン）、２，２’−テトラメチレン−ビス−（２−オキサゾリン）、２、２’−ヘキサメチレン−ビス−（２−オキサゾリン）、２，２’−オクタメチレン−ビス−（２−オキサゾリン）、２，２’−エチレン−ビス−（４，４’−ジメチル−２−オキサゾリン）、２，２’−ｐ−フェニレン−ビス−（２−オキサゾリン）、２，２’−ｍ−フェニレン−ビス−（２−オキサゾリン）、２，２’−ｍ−フェニレン−ビス−（４，４’−ジメチル−２−オキサゾリン）、ビス−（２−オキサゾリニルシクロヘキサン）スルフィド、ビス−（２−オキサゾリニルノルボルナン）スルフィド等がある。さらに、これらの化合物の（共）重合体も好ましく利用することができる。
【０１９９】
また、オキサゾリン系架橋剤は、市販品を用いてもよく、例えば、エポクロスＫ２０１０Ｅ、Ｋ２０２０Ｅ、Ｋ２０３０Ｅ、ＷＳ５００、ＷＳ７００〔いずれも日本触媒化学工業（株）製〕等を用いることができる。
【０２００】
−架橋剤の触媒−
（Ｂ）層形成用組成物には、架橋剤と共に、架橋剤の触媒をさらに併用してもよい。架橋剤の触媒を含有することで、バインダー（樹脂）と架橋剤との架橋反応が促進され、耐溶剤性の向上が図られる。また、架橋が良好に進むことで、（Ｂ）層の強度、寸法安定性がより改善できる。
特に、架橋剤としてオキサゾリン基を有する架橋剤（オキサゾリン系架橋剤）を用いる場合、架橋剤の触媒を使用することがよい。
【０２０１】
架橋剤の触媒としては、オニウム化合物を挙げることができる。
オニウム化合物としては、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、ニトロニウム塩、ニトロソニウム塩、ジアゾニウム塩等が好適に挙げられる。
【０２０２】
オニウム化合物の具体例としては、リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、ｐ−トルエンスルホン酸アンモニウム、スルファミン酸アンモニウム、イミドジスルホン酸アンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、四フッ化ホウ素テトラブチルアンモニウム、六フッ化燐テトラブチルアンモニウム、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、硫酸テトラブチルアンモニウム等のアンモニウム塩；
ヨウ化トリメチルスルホニウム、四フッ化ホウ素トリメチルスルホニウム、四フッ化ホウ素ジフェニルメチルスルホニウム、四フッ化ホウ素ベンジルテトラメチレンスルホニウム、六フッ化アンチモン２−ブテニルテトラメチレンスルホニウム、六フッ化アンチモン３−メチル−２−ブテニルテトラメチレンスルホニウム等のスルホニウム塩；
四フッ化ホウ素トリメチルオキソニウム等のオキソニウム塩；
塩化ジフェニルヨードニウム、四フッ化ホウ素ジフェニルヨードニウム等のヨードニウム塩；
六フッ化アンチモンシアノメチルトリブチルホスホニウム、四フッ化ホウ素エトキシカルボニルメチルトリブチルホスホニウム等のホスホニウム塩；
四フッ化ホウ素ニトロニウム等のニトロニウム塩；四フッ化ホウ素ニトロソニウム等のニトロソニウム塩；
塩化４−メトキシベンゼンジアゾニウム等のジアゾニウム塩、
等が挙げられる。
【０２０３】
これらの中でも、オニウム化合物は、硬化時間の短縮の点で、アンモニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩がより好ましく、これらの中ではアンモニウム塩が更に好ましく、安全性、ｐＨ、及びコストの観点からは、リン酸系、塩化ベンジル系のものが好ましい。オニウム化合物が第二リン酸アンモニウムであることがより特に好ましい。
【０２０４】
架橋剤の触媒は、１種のみであってもよいし、２種以上を併用してもよい。
架橋剤の触媒の添加量は、架橋剤に対して、０．１質量％以上１５質量％以下の範囲が好ましく、０．５質量％以上１２質量％以下の範囲がより好ましく、１質量％以上１０質量％以下の範囲が特に好ましく、２質量％以上７質量％以下がより特に好ましい。架橋剤に対する架橋剤の触媒の添加量が０．１質量％以上であることは、架橋剤の触媒を積極的に含有していることを意味し、架橋剤の触媒の含有によりバインダーである降伏点を有するポリマーと架橋剤の間の架橋反応がより良好に進行し、より優れた耐久性が得られる。また、架橋剤の触媒の含有量が１５質量％以下であることで、溶解性、塗布液のろ過性、隣接する各層との密着性の点で有利である。
【０２０５】
−（Ｂ）層の厚み−
（Ｂ）層の厚みは、後述する易接着層である（Ｃ）層の厚みよりも厚いことが密着性向上の観点から好ましい。即ち、（Ｂ）層の厚みを（ｂ）、（Ｃ）層の厚みを（ｃ）としたときに（ｂ）＞（ｃ）の関係であることが好ましく、より好ましくは、（ｂ）：（ｃ）が、２：１〜１５：１の範囲である。
また、（Ｂ）層の厚みは、０．５μｍ以上が好ましく、より好ましくは、０．７μｍ以上である。また、５．０μｍ以下であることが好ましく、さらに好ましくは１．５μｍ以下である。（Ｂ）層の厚み、及び（Ｂ）層の厚みと（Ｃ）層の厚みとのバランスが、上記範囲において、（Ｂ）層を構成するポリマー膜の特性が良好に発現され、支持体と封止材との密着性と耐久性がより優れたものとなる。
【０２０６】
−（Ｂ）層の形成方法−
（Ｂ）層の形成方法としては、塗布による方法がある。塗布による方法は、簡便でかつ均一性の高い薄膜での形成が可能である点で好ましい。塗布方法としては、例えば、グラビアコーターやバーコーターなどの公知の方法を利用することができる。塗布に用いる塗布液の溶媒（或いは、分散媒）としては、水でもよいし、トルエンやメチルエチルケトンのような有機溶剤でもよい。溶媒は、１種類を単独で用いてもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。（Ｂ）層形成用組成物は、環境への配慮から、降伏点を有するポリマーが水に分散しているものを使用するのが好ましい。
【０２０７】
（Ｂ）層を塗布により形成する場合は、乾燥ゾーンにおいて塗膜の乾燥と熱処理を兼ねることが好ましい。
（Ｂ）層形成用組成物（塗布液）を塗布した後には、塗膜を乾燥させる工程を設けることが好ましい。乾燥工程は、塗膜に乾燥風を供給する工程である。乾燥風の平均風速は、５ｍ／秒〜３０ｍ／秒であることが好ましく、７ｍ／秒〜２５ｍ／秒であることがより好ましく、９ｍ／秒〜２０ｍ／秒以下であることがさらに好ましい。
【０２０８】
（Ｂ）層を支持体上に塗布する前に、支持体表面に対してコロナ放電処理、グロー処理、大気圧プラズマ処理、火炎処理、ＵＶ処理等の表面処理を行うことも好ましい。また、酸変性ポリオレフィンを含んで形成されるインラインコート層を設けることも好ましい。
【０２０９】
（下塗り層：インラインコート層）
インラインコート層は、既述のように前記支持体に用いるポリエステルフィルムの延伸工程の前や延伸工程の間の工程において、塗布によりポリエステルフィルムの表面に形成される。
インラインコート層は、酸変性ポリオレフィン含有する。インラインコート層形成用組成物を塗布する際には水溶液もしくは水系分散液（ラテックス）を、塗布することが好ましい。酸変性ポリオレフィンは、非水溶性であるため、水溶液もしくは水系分散液（ラテックス）には、その分散安定性を付与する中和剤として、沸点が２００℃以下である塩基性化合物が混合される。
【０２１０】
インラインコート層形成用組成物の調製に一例を挙げて詳細を説明する。
まず、酸変性ポリオレフィンを調製する。
撹拌機及びヒーターを備えた、ガラス容器に、原料として、エチレンとメタクリル酸の共重合樹脂と、有機溶剤（例えば、ｎ−プロパノール）と、塩基性化合物と蒸留水とを仕込み、密閉し撹拌混合する。
撹拌混合後に、容器底部に樹脂粒状物の沈澱が認められず、浮遊状態となっていることを確認する。その後、そこでガラス容器全体を保温材で被い、ヒーターの電源を入れ、系内温度を５０℃〜２５０℃に保温しながら、さらに３０分間〜１２０分間撹拌を継続する。その後、ヒーターの電源を切り、攪拌しつつ、自然冷却にて冷却する。
その後、ガラス容器の保温材を外し、ガラス容器の下半分を水に浸し水冷した。系内温が３５℃以下になったときに攪拌を停止し、ガラス容器内の内容物をステンレス製フィルターでろ過して、酸変性ポリオレフィンを含有する水性分散体を得ることができる。
【０２１１】
その後、得られた酸変性ポリオレフィン水分散体に、架橋剤及び蒸留水を加えてインラインコート層形成用組成物を得る。
この組成物には、さらに、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤などの界面活性剤などを目的に応じて添加してもよい。
インラインコート層形成用組成物をポリエステルフィルムに塗布する際の塗布方法としては、特に制限はなく、バーコーター塗布、スライドコーター塗布等の公知の方法を用いることができる。
【０２１２】
〔塗布層（Ｃ）〕
塗布層（Ｂ）の支持体とは反対の面に、塗布層（Ｃ）が設けられる。
塗布層（Ｃ）は本発明の太陽電池用バックシートが適用される太陽電池モジュールの封止材と直接接する位置、即ち、最外層に位置し、易接着層として機能する層である。
塗布層（Ｃ）は少なくともバインダーを含み、所望により種々の添加剤を含みうる。
−バインダー−
バインダーとしては、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂から選ばれる１種類以上のポリマーが挙げられる。これらの樹脂は密着力を得やすいため好ましく用いられる。具体的には、例えば以下の樹脂が挙げられる。
【０２１３】
アクリル樹脂としては、例えば、ホリメチルメタクリレート、ポリエチルアクリレート等を含有するポリマー等が好ましい。アクリル樹脂として、アクリルとシリコーンとの複合樹脂も好ましい。アクリル樹脂としては上市されている市販品を用いてもよく、例えば、ＡＳ−５６３Ａ（ダイセルフアインケム（株）製）、ジュリマーＥＴ−４１０、同ＳＥＫ−３０１（ともに日本純薬工業（株）製）が挙げられる。アクリルとシリコーンとの複合樹脂としては、セラネートＷＳＡ１０６０、同ＷＳＡ１０７０（ともにＤＩＣ（株）製）、及びＨ７６２０、Ｈ７６３０、Ｈ７６５０（ともに旭化成ケミカルズ（株）製）が挙げられる。
ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）等が好ましい。ポリエステル樹脂としては上市されている市販品を用いてもよく、例えば、バイロナールＭＤ−１２４５(東洋紡（株）製）を好ましく用いることができる。
ポリウレタン樹脂としては、例えば、カーボネート系ウレタン樹脂が好ましく、例えば、スーパーフレックス４６０（第一工業製薬（株）製）を好ましく用いることができる。
【０２１４】
ポリオレフィン樹脂としては、例えば、変性ポリオレフィン共重合体が好ましい。ポリオレフィン樹脂としては上市されている市販品を用いてもよく、例えば、アローベースＳＥ−１０１３Ｎ、ＳＤ−１０１０、ＴＣ−４０１０、ＴＤ−４０１０（ともにユニチカ（株）製）、ハイテックＳ３１４８、Ｓ３１２１、Ｓ８５１２（ともに東邦化学（株）製）、ケミパールＳ−１２０、Ｓ−７５Ｎ、Ｖ１００、ＥＶ２１０Ｈ（ともに三井化学（株）製）などを挙げることができる。その中でも、低密度ポリエチレン、アクリル酸エステル、無水マレイン酸の三元共重合体である、アローベースＳＥ−１０１３Ｎ、ユニチカ（株）製を用いることが密着性を向上させる上で好ましい。
【０２１５】
これらのポリオレフィン樹脂は単独で用いても２種以上併用して用いてもよく、２種以上併用する場合は、アクリル樹脂とポリオレフィン樹脂の組合せ、ポリエステル樹脂とポリオレフィン樹脂の組合せ、ウレタン樹脂とポリオレフィン樹脂の組合せが好ましく、アクリル樹脂とポリオレフィン樹脂の組合せがより好ましい。
アクリル樹脂とポリオレフィン樹脂の組合せで用いる場合、（Ｃ）層中のポリオレフィン樹脂とアクリル樹脂の合計に対するアクリル樹脂の含有量は、３〜５０質量％であることが好ましく、５〜４０質量％であることがより好ましく、７〜２５質量％であることが特に好ましい。
【０２１６】
これらのポリオレフィン樹脂に、ポリエステル樹脂（例えば、バイロナールＭＤ−１２４５（東洋紡（株）製）を好ましく組合せて用いることができる。またポリオレフィン樹脂にポリウレタン樹脂を加えることも好ましく、例えば、カーボネート系ウレタン樹脂が好ましく、例えば、スーパーフレックス４６０（第一工業製薬（株）製）を好ましく用いることができる。
【０２１７】
−架橋剤−
（Ｃ）層に含まれるバインダー（樹脂）は、架橋剤により架橋されていてもよい。（Ｃ）層に架橋構造を形成させると密着性をより向上することができ、好ましい。架橋剤としては、エポキシ系、イソシアネート系、メラミン系、カルボジイミド系、オキサゾリン系等（Ｂ）層において例示した架橋剤を同様に挙げることができる。その中でも（Ｃ）層明では、架橋剤がオキサゾリン系架橋剤であることが好ましい。オキサゾリン基を有する架橋剤として、エポクロスＫ２０１０Ｅ、同Ｋ２０２０Ｅ、同Ｋ２０３０Ｅ、同ＷＳ−５００、同ＷＳ−７００（いずれも日本触媒化学工業（株）製）等を利用することができる。
【０２１８】
架橋剤の添加量は、（Ｃ）層が含むバインダーに対して０．５質量％〜５０質量％が好ましく、より好ましくは３質量％〜４０質量％であり、特に好ましくは５質量％以上３０質量％未満である。特に架橋剤の添加量は、０．５質量％以上であると、（Ｃ）層の強度及び接着性を保持しながら充分な架橋効果が得られ、５０質量％以下であると、塗布液のポットライフを長く保て、４０質量％未満であると塗布面状を改良できる。
【０２１９】
−架橋剤の触媒−
（Ｃ）層においても、架橋剤を用いる場合には、架橋剤の触媒をさらに併用してもよい。架橋剤の触媒を含有することで、バインダー（樹脂）と架橋剤との架橋反応が促進され、耐溶剤性の向上が図られる。また、架橋が良好に進むことで、（Ｃ）層と封止材との密着性がより改善される。
特に、架橋剤としてオキサゾリン基を有する架橋剤（オキサゾリン系架橋剤）を用いる場合、架橋剤の触媒を使用することがよい。
【０２２０】
架橋剤の触媒としては、オニウム化合物を挙げることができる。
オニウム化合物としては、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、ニトロニウム塩、ニトロソニウム塩、ジアゾニウム塩等が好適に挙げられる。
これら架橋剤の触媒としては、（Ｂ）層において挙げた化合物が同様に使用され、好ましい例も同様である。
【０２２１】
（Ｃ）層に含まれる架橋剤の触媒は、１種のみであってもよいし、２種以上を併用してもよい。
架橋剤の触媒の添加量は、架橋剤に対して、０．１質量％以上１５質量％以下の範囲が好ましく、０．５質量％以上１２質量％以下の範囲がより好ましく、１質量％以上１０質量％以下の範囲が特に好ましく、２質量％以上７質量％以下がより特に好ましい。架橋剤に対する架橋剤の触媒の添加量が０．１質量％以上であることは、架橋剤の触媒を積極的に含有していることを意味し、架橋剤の触媒の含有によりバインダーと架橋剤の間の架橋反応がより良好に進行し、より優れた耐溶剤性が得られる。また、架橋剤の触媒の含有量が１５質量％以下であることで、溶解性、塗布液のろ過性、封止剤との密着性向上の点で有利である。
【０２２２】
（Ｃ）層には、バインダーに加え、本発明の効果を損なわない限りにおいて種々の添加剤を含有してもよい。
添加剤としては、帯電防止剤、紫外線吸収剤、着色剤、防腐剤などが挙げられる。
帯電防止剤としては、ノニオン系界面活性剤等の界面活性剤、有機系導電性材料、無機系導電性材料、有機系／無機系複合導電性材料などが挙げられる。
（Ｃ）層が含みうる帯電防止剤に用いられる界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤などが好ましく、なかでもノニオン系界面活性剤が好ましく、エチレングリコール鎖（ポリオキシエチレン鎖；−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｎ−）を有し且つ炭素−炭素三重結合（アルキン結合）を有さないノニオン系界面活性剤が好ましく挙げられる。さらに、エチレングリコール鎖が７〜３０であるものが特に好ましい。
より具体的には、ヘキサエチレングリコールモノドデシルエーテル、３，６，９，１２，１５−ペンタオキサヘキサデカン−１−オール、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンメチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンメチルナフチルエーテル等が挙げられるが、これらに限定されない。
帯電防止剤として界面活性剤を用いる場合の含有量は、固形分重量で２．５質量％〜４０質量％であることが好ましく、より好ましくは５．０質量％〜３５質量％であり、さらに好ましくは１０質量％〜３０質量％である。
この含有量の範囲において、部分放電電圧の低下が抑制され、且つ、太陽電池素子を封止する封止材に対する封止材（例えば、ＥＶＡ：エチレン−ビニルアセテート共重合体）との密着性が良好に維持される。
【０２２３】
有機系導電性材料としては、例えば、分子中にアンモニウム基、アミン塩基、四級アンモニウム基などのカチオン性の置換基を有するカチオン系導電性化合物；スルホン酸塩基、リン酸塩基、カルボン酸塩基などのアニオン性を有するアニオン系導電性化合物；アニオン性の置換基、カチオン性置換基の両方を有する両性系導電性化合物等のイオン性の導電性材料；共役したポリエン系骨格を有するポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリピロールなどの導電性高分子化合物等が挙げられる。
【０２２４】
無機系導電性材料としては、例えば、金、銀、銅、白金、ケイ素、硼素、パラジウム、レニウム、バナジウム、オスミウム、コバルト、鉄、亜鉛、ルテニウム、プラセオジウム、クロム、ニッケル、アルミニウム、スズ、亜鉛、チタン、タンタル、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、イットリウム、ランタニウム、マグネシウム、カルシウム、セリウム、ハフニウム、バリウム、等の無機物群を主たる成分とするものを酸化、亜酸化、次亜酸化させたもの；上記無機物群と上記無機物群を酸化、亜酸化、次亜酸化させたものとの混合物（以後これらを称して無機酸化物とする）；上記無機物群を主たる成分とするものを窒化、亜窒化、次亜窒化させたもの；上記無機物群と上記無機物群を窒化、亜窒化、次亜窒化したものとの混合物（以後これらを称して無機窒化物とする）；上記無機物群を主たる成分とするものを酸窒化、亜酸窒化、次亜酸窒化させたもの；上記無機物群と上記無機物群を酸窒化、亜酸窒化、次亜酸窒化させたものの混合物（以後これらを称して無機酸窒化物とする）；上記無機物群を主たる成分とするものを炭化、亜炭化、次亜炭化させたもの；上記無機物群と上記無機物群を炭化、亜炭化、次亜炭化させたものとの混合物（以後これらを称して無機炭化物とする）；上記無機物群を主たる成分とするものをフッ化、塩素化、臭化及びヨウ化の少なくとも一つのハロゲン化、亜ハロゲン化、次亜ハロゲン化させたもの；上記無機物群と上記無機物群をハロゲン化、亜ハロゲン化、次亜ハロゲン化させたものとの混合物（以後これらを称して無機ハロゲン化物とする）；上記無機物群を硫化、亜硫化、次亜硫化させたもの；上記無機物群と上記無機物群を硫化、亜硫化、次亜硫化させたものとの混合物（以後これらを称して無機硫化物とする）；無機物群に異元素をドープしたもの；グラファイト状カーボン、ダイヤモンドライクカーボン、カーボンファイバー、カーボンナノチューブ、フラーレンなどの炭素系化合物（以後これらを称し炭素系化合物とする）；これらの混合物などが挙げられる。
【０２２５】
本発明の太陽電池用バックシートは、支持体上に、少なくとも前記塗布層（Ｂ）と塗布層（Ｃ）とをこの順に備える。この構成とすることで、本発明のバックシートは封止材との密着性とその耐久性、耐候性に優れたものとなる。
なお、支持体の裏面側には、以下に詳述する耐候性層の少なくとも１層を有していてもよい。耐候性層を有することで、支持体に与える環境からの影響が抑制され、耐候性、耐久性がより向上する。
以下、本発明に好適に用いられる耐候性層として、塗布層（Ｄ）及び塗布層（Ｅ）を例に挙げて詳細に説明する。
【０２２６】
〔バインダー、着色剤および散乱粒子を含有する耐候性層：塗布層（Ｄ）〕
耐候性層として、バインダー、着色剤および散乱粒子を含有する層〔塗布層（Ｄ）〕が挙げられる。このような耐候性層を以下、適宜、（Ｄ）層と称する。
（Ｄ）層は、電池側基板〔＝太陽光が入射する側の透明性の基材（ガラス基板等）／太陽電池素子を含む素子構造部分〕／太陽電池用バックシートの積層構造を有する太陽電池において、太陽電池用バックシートにおける支持体の電池側基板と接する側とは反対側に配される裏面保護層である。
【０２２７】
（Ｄ）層は、単層構造であっても、複数の層からなる積層構造であってもよい。単層の場合、ポリマー支持体上に、バインダー、着色剤および散乱粒子を含有する層を配置する態様が好ましい。一方、積層構造の場合、ポリマー支持体上にバインダー、着色剤および散乱粒子を含有する層を２層積層する態様と、ポリマー支持体上にバインダー、着色剤および散乱粒子を含有する層を形成した上に、さらに、任意のフッ素系ポリマーを含み、着色剤、散乱粒子のいずれも含まない耐候性層（例えば、以下に詳述する塗布層（Ｅ））の如き別の組成物の層）を積層する態様をとることもできる。
【０２２８】
−バインダー
（Ｄ）層に用いられるバインダーは、有機ポリマー、無機ポリマーまたは有機・無機複合ポリマーからなるバインダーのいずれであってもよく、ポリマーを含むことで、支持体に対する接着や、耐候性層２層以上からなる積層構造をとる場合の層間における接着が良化するとともに、湿熱環境下での劣化耐性が得られる。
無機ポリマーとしては特に制限はなく、公知の無機ポリマーを用いることができる。
有機ポリマーまたは有機・無機複合ポリマーとしては特に制限はないが、フッ素系ポリマーおよびシリコーン系ポリマーの少なくとも一方を含むことが好ましく、フッ素系有機ポリマーおよびシリコーン−アクリル有機・無機複合樹脂の少なくとも一方を含むことがより好ましく、シリコーン−アクリル有機・無機複合樹脂を含むことが特に好ましい。
【０２２９】
《シリコーン系ポリマー》
シリコーン系ポリマーは、分子鎖中に（ポリ）シロキサン構造を有するポリマーであり、（Ｄ）層はシリコーン系ポリマーを含有することにより、太陽電池用バックシートの支持体や後述する塗布層（Ｅ）などの隣接材料との接着性及び湿熱環境下での耐久性により優れるものとなる。
シリコーン系ポリマーは、分子鎖中に（ポリ）シロキサン構造を有している限り特に制限されるものではなく、（ポリ）シロキサン構造単位を有する化合物の単独重合体（ホモポリマー）であってもよく、（ポリ）シロキサン構造単位と他の構造単位とを含む共重合体であってもよい。シロキサン構造単位と共重合する他の構造単位は、非シロキサン系の構造単位である。
シリコーン系ポリマーは、（ポリ）シロキサン構造として、下記一般式（１）で表されるシロキサン構造単位を有するものが好ましい。
【０２３０】
【化１３】
2015057814.tif 000014
【０２３１】
一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基を表す。ここで、Ｒ１とＲ２とは同一でも異なってもよく、また、複数存在するＲ１及びＲ２は各々、互いに同一でも異なってもよい。ｎは、１以上の整数を表す。
シリコーン系ポリマー中のシロキサン構造単位である「−（Ｓｉ（Ｒ１）（Ｒ２）−Ｏ）ｎ−」の部分構造は、線状、分岐状あるいは環状の構造を有する各種の（ポリ）シロキサン構造を形成しうるシロキサンセグメントである。
【０２３２】
Ｒ１及びＲ２はがハロゲン原子を表す場合のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子等を挙げることができる。
Ｒ１及びＲ２が１価の有機基を表す場合の１価の有機基としては、Ｓｉ原子と共有結合可能な基であればいずれでもよく、例えば、アルキル基（例：メチル基、エチル基など）、アリール基（例：フェニル基など）、アラルキル基（例：ベンジル基、フェニルエチルなど）、アルコキシ基（例：メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基など）、アリールオキシ基（例；フェノキシ基など）、メルカプト基、アミノ基（例：アミノ基、ジエチルアミノ基など）、アミド基等が挙げられる。これらの有機基は、無置換でも置換基をさらに有してもよい。有機基が更に置換基を有する場合の該置換基としては、例えば、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０２３３】
中でも、ポリマー基材などの隣接材料との接着性及び湿熱環境下での耐久性の点で、Ｒ１、Ｒ２としては各々独立に、水素原子、塩素原子、臭素原子、無置換の又は置換された炭素数１〜４のアルキル基（特にメチル基、エチル基）、無置換の又は置換されたフェニル基、無置換の又は置換されたアルコキシ基、メルカプト基、無置換のアミノ基、アミド基が好ましく、より好ましくは、湿熱環境下での耐久性の点で、無置換の又は置換されたアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４のアルコキシ基）である。
【０２３４】
ｎは、１〜５０００であることが好ましく、１〜１０００であることがより好ましい。
【０２３５】
ポリマー中における「−（Ｓｉ(Ｒ１) (Ｒ２)−Ｏ）ｎ−」の部分（一般式（１）で表される（ポリ）シロキサン構造単位）の比率は、ポリマーの全質量に対して、１５〜８５質量％であることが好ましく、中でも、ポリマー層表面の強度向上を図り、引っ掻きや擦過等による傷の発生を防ぐと共に、ポリマー基材などの隣接材料との接着性及び湿熱環境下での耐久性により優れる観点から、２０〜８０質量％の範囲がより好ましい。（ポリ）シロキサン構造単位の比率は、１５質量％以上であると、ポリマー層表面の強度が向上し、引っ掻きや擦過、飛来した小石等の衝突で生じる傷の発生が防止され、また支持体をなすポリマー基材などの隣接材料との接着性に優れる。傷の発生抑止により耐候性が向上し、熱や水分が与えられて劣化しやすい剥離耐性、形状安定性、並びに湿熱環境下に曝されたときの接着耐久性が効果的に高められる。また、（ポリ）シロキサン構造単位の比率が８５質量％以下であると、液を安定に保つことができる。
【０２３６】
本発明におけるポリマーが（ポリ）シロキサン構造単位と他の構造単位とを有する共重合ポリマーである場合、分子鎖中に一般式（１）で表される（ポリ）シロキサン構造単位を質量比率で１５〜８５質量％と、非シロキサン系構造単位を質量比率で８５〜１５質量％とを含んでいる場合が好ましい。このような共重合ポリマーを含有することにより、ポリマー層の膜強度が向上し、引っ掻きや擦過等による傷の発生を防ぎ、支持体をなすポリマー基材との接着性、すなわち熱や水分が与えられて劣化しやすい剥離耐性、形状安定性、並びに湿熱環境下での耐久性を、従来に比べて飛躍的に向上させることができる。
【０２３７】
上記の共重合ポリマーとしては、シロキサン化合物（ポリシロキサンを含む）と、非シロキサン系モノマー又は非シロキサン系ポリマーから選ばれる化合物とが共重合し、一般式（１）で表される（ポリ）シロキサン構造単位と非シロキサン系の構造単位とを有するブロック共重合体であることが好ましい。この場合、シロキサン化合物及び共重合される非シロキサン系モノマー又は非シロキサン系ポリマーは、一種単独でもよく、二種以上であってもよい。
【０２３８】
上記の（ポリ）シロキサン構造単位と共重合する非シロキサン系構造単位（非シロキサン系モノマー又は非シロキサン系ポリマーに由来）は、シロキサン構造を有していないこと以外は特に制限されるものではなく、任意のポリマーに由来のポリマーセグメントのいずれであってもよい。ポリマーセグメントの前駆体である重合体（前駆ポリマー）としては、例えば、ビニル系重合体、ポリエステル系重合体、ポリウレタン系重合体等の各種の重合体等が挙げられる。
中でも、調製が容易なこと及び耐加水分解性に優れる点から、ビニル系重合体及びポリウレタン系重合体が好ましく、ビニル系重合体が特に好ましい。
【０２３９】
上記のビニル系重合体の代表的な例としては、アクリル系重合体、カルボン酸ビニルエステル系重合体、芳香族ビニル系重合体、フルオロオレフィン系重合体等の各種の重合体が挙げられる。中でも、設計の自由度の観点から、アクリル系重合体が特に好ましい。
なお、非シロキサン系構造単位を構成する重合体は、一種単独でもよいし、２種以上の併用であってもよい。
【０２４０】
また、非シロキサン系構造単位を形成しうる前駆ポリマーは、酸基及び中和された酸基の少なくとも１つ並びに／又は加水分解性シリル基を含有するものが好ましい。このような前駆ポリマーのうち、ビニル系重合体は、例えば、（ａ）酸基を含むビニル系単量体と加水分解性シリル基及び／又はシラノール基を含むビニル系単量体とを、これらと共重合可能な単量体と共重合させる方法、（２）予め調製した水酸基並びに加水分解性シリル基及び／又はシラノール基を含むビニル系重合体にポリカルボン酸無水物を反応させる方法、（３）予め調製した酸無水基並びに加水分解性シリル基及び／又はシラノール基を含むビニル系重合体を、活性水素を有する化合物（水、アルコール、アミン等）と反応させる方法などの各種方法を利用して調製することができる。
【０２４１】
前駆ポリマーは、例えば、特開２００９−５２０１１号公報の段落番号００２１〜００７８に記載の方法を利用して製造、入手することができる。
【０２４２】
本発明におけるポリマー層は、バインダーとして、前記ポリマーを単独で用いてもよいし、他のポリマーと併用してもよい。他のポリマーを併用する場合、本発明における（ポリ）シロキサン構造を含むポリマーの含有比率は、全バインダー量の３０質量％以上が好ましく、より好ましくは６０質量％以上である。（ポリ）シロキサン構造を含むポリマーの含有比率が３０質量％以上であることで、層表面の強度向上を図り、引っ掻きや擦過等による傷の発生が防止されると共に、ポリマー基材との接着性及び湿熱環境下での耐久性により優れる。
【０２４３】
上記ポリマーの分子量としては、５，０００〜１００，０００が好ましく、１０，０００〜５０，０００がより好ましい。
【０２４４】
ポリマーの調製には、（ｉ）前駆ポリマーと、一般式（１）で表される構造単位を有するポリシロキサンとを反応させる方法、（ii）前駆ポリマーの存在下に、Ｒ１及び／又はＲ２が加水分解性基である一般式（１）で表される構造単位を有するシラン化合物を加水分解縮合させる方法、等の方法を利用することができる。
上記の（ii）の方法で用いられるシラン化合物としては、各種シラン化合物が挙げられるが、アルコキシシラン化合物が特に好ましい。
【０２４５】
上記の（ｉ）の方法によりポリマーを調製する場合、例えば、前駆ポリマーとポリシロキサンの混合物に、必要に応じて水と触媒を加え、２０〜１５０℃程度の温度で３０分〜３０時間程度（好ましくは５０〜１３０℃で１〜２０時間）反応させることにより調製することができる。触媒としては、酸性化合物、塩基性化合物、金属含有化合物等の各種のシラノール縮合触媒を添加することができる。
また、上記の（ii）の方法によりポリマーを調製する場合、例えば、前駆ポリマーとアルコキシシラン化合物の混合物に、水とシラノール縮合触媒を添加して、２０〜１５０℃程度の温度で３０分〜３０時間程度（好ましくは５０〜１３０℃で１〜２０時間）加水分解縮合を行なうことにより調製することができる。
【０２４６】
また、（ポリ）シロキサン構造を有するポリマーは、上市されている市販品を用いてもよく、例えば、ＤＩＣ（株）製のセラネートシリーズ（例えば、セラネートＷＳＡ１０７０、同ＷＳＡ１０６０等）、旭化成ケミカルズ(株)製のＨ７６００シリーズ(Ｈ７６５０，Ｈ７６３０，Ｈ７６２０等）、ＪＳＲ（株）製の無機・アクリル複合エマルジョンなどを使用することができる。
【０２４７】
（ポリ）シロキサン構造を有するポリマーの（Ｄ）層中における塗布量としては、０．２ｇ／ｍ２超１５ｇ／ｍ２以下の範囲であることが好ましい。ポリマーの塗布量が上記範囲において外力を受けて発生する傷の発生が抑制され、（Ｄ）層の充分な硬化が達成される。
上記範囲の中では、（Ｄ）層の表面強度の観点から、０．５ｇ／ｍ２〜１０．０ｇ／ｍ２の範囲が好ましく、１．０ｇ／ｍ２〜５．０ｇ／ｍ２の範囲がより好ましい。
【０２４８】
上記した中でも、本発明における（Ｄ）層は、前記ポリマーとして、ＤＩＣ（株）製のセラネートシリーズ、ＪＳＲ（株）製の無機・アクリル複合エマルジョンを用いて構成された形態が好ましい。
【０２４９】
−フッ素系ポリマー−
（Ｄ）層は、フッ素系ポリマー（含フッ素ポリマー）を主バインダーとして構成されてもよい。主バインダーとは、層中において含有量が最も多いバインダーである。
ここで用いうるフッ素系ポリマーとしては−（ＣＦＸ１−ＣＸ２Ｘ３）−で表される繰り返し単位を有するポリマーであれば特に制限はない（但し、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子又は炭素数１から３のフルオロアルキル基を示す。）。
具体的なポリマーの例としては、ポリテトラフルオロエチレン（以降、ＰＴＦＥと表す場合がある）、ポリフッ化ビニル（以降、ＰＶＦと表す場合がある）、ポリフッ化ビニリデン（以降、ＰＶＤＦと表す場合がある）、ポリ塩化３フッ化エチレン（以降、ＰＣＴＦＥと表す場合がある）、ポリテトラフルオロプロピレン（以降、ＨＦＰと表す場合がある）などがある。
【０２５０】
フッ素系ポリマーは単独のモノマーを重合したホモポリマーでも良いし、２種類以上を共重合したものでもよい。この例として、テトラフルオロエチレンとテトラフルオロプロピレンを共重合したコポリマー（Ｐ（ＴＦＥ／ＨＦＰ）と略記）、テトラフルオロエチレンとフッ化ビニリデンを共重合したコポリマー（Ｐ（ＴＦＥ／ＶＤＦ）と略記）等を挙げることができる。
さらに、前記フッ素系ポリマーを含む（Ｄ）層に用いるポリマーとしては−（ＣＦＸ１−ＣＸ２Ｘ３）−で表されるフッ素系構造単位と、それ以外の構造単位とを共重合したポリマーでもよい。これらの例としてテトラフルオロエチレンとエチレンの共重合体（以下、Ｐ（ＴＦＥ／Ｅ）と略記）、テトラフルオロエチレンとプロピレンの共重合体（Ｐ（ＴＦＥ／Ｐ）と略記）、テトラフルオロエチレンとビニルエーテルの共重合体（Ｐ（ＴＦＥ／ＶＥ）と略記）、テトラフルオロエチレンとパーフロロビニルエーテルの共重合体（Ｐ（ＴＦＥ／ＦＶＥ）と略記）、クロロトリフルオロエチレンとビニルエーテルの共重合体（Ｐ（ＣＴＦＥ／ＶＥ）と略記）、クロロトリフルオロエチレンとパーフロロビニルエーテルの共重合体（Ｐ（ＣＴＦＥ／ＦＶＥ）と略記）等を挙げることができる。
【０２５１】
これらのフッ素系ポリマーとしてはポリマーを有機溶剤に溶解して用いるものでも、ポリマー微粒子を水に分散して用いるものでもよい。環境負荷が小さい点から後者が好ましい。フッ素系ポリマーの水分散物については例えば特開２００３−２３１７２２号公報、特開２００２−２０４０９号公報、特開平９−１９４５３８号公報等に記載されており、ここに記載のポリマーを本発明に適用しうる。
【０２５２】
フッ素系ポリマーを含む（Ｄ）層のバインダーとしては上記のフッ素系ポリマーを単独で用いてもよいし、２種類以上併用してもよい。また、全バインダーの５０質量％を超えない範囲でアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、シリコーン樹脂などのフッ素系ポリマー以外の樹脂を併用してもよい。但し、フッ素系ポリマー以外の樹脂が５０質量％を超えると目的でとする耐候性向上効果が得られない場合がある。
【０２５３】
（Ｄ）層を設ける場合の層の厚みは０．８μｍ〜１２μｍの範囲であることが好ましい。この厚みの範囲において、耐久性、耐候性向上効果が十分に得られ、面状の悪化が抑制され、且つ、隣接する層との接着力が十分となる。より好ましい膜厚は１．０μｍ〜１０μｍ程度の範囲である。
【０２５４】
−着色剤−
（Ｄ）層に用いうる着色剤としては、特に制限はなく、公知の染料や公知の顔料などを用いることができる。ただし、本明細書における着色剤は、散乱粒子を除く。本発明では、着色剤は、黒色の着色剤、グリーン系の着色剤、ブルー系の着色剤、レッド系の着色剤であることが好ましい。
【０２５５】
（Ｄ）層に用いられる着色顔料はカーボンブラック、チタンブラック、黒色の複合金属酸化物、シアニン系カラーおよびキナクリドン系カラーから選択される少なくとも１種を含有することが好ましい以外は特に限定されず、要求される光学濃度に応じて選択すればよい。
ここで、黒色の複合金属酸化物としては、鉄、マンガン、コバルト、クロム、銅、ニッケルのうち少なくとも１種を含む複合金属酸化物が好ましく、コバルト、クロム、鉄、マンガンおよび銅、ニッケルのうち２種以上を含むことがより好ましく、カラーインデックスがＰＢｋ２６、ＰＢｋ２７およびＰＢｋ２８、ＰＢｒ３４から選ばれる少なくとも１つ以上の顔料がより特に好ましい。なお、ＰＢｋ２６の顔料は、鉄、マンガン、銅の複合酸化物であり、ＰＢｋ２７の顔料は鉄、コバルト、クロムの複合酸化物であり、ＰＢｋ−２８は銅、クロム、マンガンの複合酸化物であり、ＰＢｒ３４はニッケル、鉄の複合酸化物である。シアニン系カラーおよびキナクリドン系カラーとしては、シアニングリーン、シアニンブルー、キナクリドンレッド、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等が挙げられる。
【０２５６】
なかでも、着色剤としてカーボンブラックを用いることが、光学濃度を上記好ましい範囲に制御しやすい観点や、少量で光学濃度を制御できる観点から、好ましい。
カーボンブラックは、粒子径が０．１〜０．８μｍのカーボンブラック微粒子であることが好ましい。さらに、カーボンブラック微粒子を分散剤とともに水に分散して使用することが好ましい。なお、カーボンブラックは商業的に入手することができるものを使用することができ、例えばＭＦ−５６３０ブラック（大日精化（株）製や、特開２００９−１３２８８７号公報の［００３５］段落に記載のものなどを用いることができる。
【０２５７】
−散乱粒子−
（Ｄ）層が含みうる散乱粒子としては、特に制限はなく、公知の散乱粒子を用いることができる。本明細書中、散乱粒子とは、粒子そのものに、光吸収がほとんどない粒子のことを言い、前記着色剤を含まない。本発明では前記散乱粒子として、白色顔料を用いることが好ましい。
散乱粒子として用いうる白色顔料としては、二酸化チタン、硫酸バリウム、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、コロイタルシリカ等の無機顔料、中空粒子等の有機顔料などが挙げられ、なかでも二酸化チタンが好ましい。
二酸化チタンの結晶系にはルチル型、アナターゼ型、ブルカイト型があるが、本発明で用いる二酸化チタンとしては、このうちルチル型が好ましい。本発明で用いる二酸化チタンは必要に応じて酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、アルカノールアミン化合物、ケイ素化合物などで表面処理をしてもよい。
特に、嵩比重が０．５０ｇ／ｃｍ３以上である二酸化チタンを用いることで二酸化チタンが密に詰まり、耐候性層が強靭になる。一方、嵩比重が０．８５ｇ／ｃｍ３を超える二酸化チタンを用いると、二酸化チタンの分散性が悪化して塗布層の面状が悪くなる。嵩比重を０．５０ｇ／ｃｍ３以上０．８５ｇ／ｃｍ３以下にすることで、二酸化チタンが密に詰まり、塗膜が強靭になることで、二酸化チタンの質量割合を高く設定しても密着性を高く維持できる。耐候性層に用いる二酸化チタンの嵩比重としては、特に、０．６０ｇ／ｃｍ３以上０．８０ｇ／ｃｍ３以下が好ましい。
【０２５８】
本明細書中における白色顔料の嵩比重は、下記の方法によって測定される値である。（１）顔料を目開き１．０ｍｍのふるいを通す。（２）上記の顔料について、約１００ｇの顔料を秤量し（ｍ）、２５０ｍＬメスシリンダーに静かに入れる。必要に応じて、顔料層の上面を圧密せずに注意深くならし、体積（Ｖ）を測定する。（３）下記の式に従って、嵩比重を求める。嵩比重＝ｍ／Ｖ  （単位：ｇ／ｃｍ３）
【０２５９】
（Ｄ）層がシリコーン系或いはフッ素系ポリマーなどのベースポリマーに加え、さらに散乱粒子としての白色顔料を含有することで（Ｄ）層の反射率を高くでき、長期高温高湿試験（８５℃、相対湿度８５％で２０００〜３０００時間）およびＵＶ照射試験（ＩＥＣ６１２１５のＵＶ試験に準じ、総照射量が４５Ｋｗｈ／ｍ２）下での黄変を少なくすることができる。さらに、（Ｄ）層に散乱粒子などの白色顔料を添加することで、隣接する他の層との密着性がより改善される。
（Ｄ）層に散乱粒子を用いる場合の塗布量は、（Ｄ）層１層当たり１．０ｇ／ｍ２〜１５ｇ／ｍ２であることが好ましい。散乱粒子、好ましくは白色顔料の含有量が１．０ｇ／ｍ２以上であると、反射率や耐ＵＶ性（耐光性）を効果的に与えることができる。また、白色顔料の耐候性層中における塗布量が１５ｇ／ｍ２以下であると、着色層の面状を良好に維持しやすく、膜強度により優れる。なかでも、（Ｄ）層に含有される散乱粒子の塗布量が、２．５ｇ／ｍ２〜１０ｇ／ｍ２の範囲であることがより好ましく、４．５ｇ／ｍ２〜８．５ｇ／ｍ２の範囲が特に好ましい。
散乱粒子としての白色顔料の平均粒径としては、体積平均粒径で０．０３μｍ〜０．８μｍが好ましく、より好ましくは０．１５μｍ〜０．５μｍ程度である。平均粒径が上記の範囲内であると、光の反射効率が高い。平均粒径は、レーザー解析／散乱式粒子径分布測定装置ＬＡ９５０〔（株）堀場製作所製〕により測定される値である。
【０２６０】
（Ｄ）層における、バインダー成分（上記のシリコーン系ポリマーを含む）の含有量は、散乱粒子である白色顔料１００質量部に対して、１５質量部〜２００質量部の範囲が好ましく、１７質量部〜１００質量部の範囲がより好ましい。バインダーの含有量は、１５質量部以上であると、着色層の強度が充分に得られ、また２００質量部以下であると、反射率や装飾性を良好に保つことができる。
【０２６１】
−他の成分−
本発明のポリマーシートがシリコーン系ポリマーなどのバインダー、着色剤および散乱粒子を含有する（Ｄ）層を有する場合、必要に応じて、さらに各種添加剤などの他の成分、例えば、架橋剤、界面活性剤、フィラー等を含んでいてもよい。
なかでも、バインダー（結着樹脂）に架橋剤を添加して（Ｄ）層に架橋剤に由来する架橋構造を形成することが、（Ｄ）層の強度と耐久性をより向上させるという観点から好ましい。
（Ｄ）層が含みうる架橋剤としては、エポキシ系、イソシアネート系、メラミン系、カルボジイミド系、オキサゾリン系等の架橋剤を挙げることができる。これらのなかでも、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤およびイソシアネート系架橋剤から選ばれる少なくとも１種以上の架橋剤であることが好ましい。
架橋剤としては、（Ｂ）層において説明したものが、（Ｄ）層においても同様に適用され、好ましい例も同様である。
【０２６２】
（Ｄ）層に架橋剤を用いる場合の添加量は、（Ｄ）層に含まれるバインダー１００質量部に対して０．５質量部〜３０質量部が好ましく、より好ましくは３質量部以上１５質量部未満である。架橋剤の添加量は、０．５質量％以上であると、前記耐候性層の強度及び接着性を保持しながら充分な架橋効果が得られ、３０質量％以下であると、塗布液のポットライフを長く保て、１５質量％未満であると塗布面状を改良できる。
【０２６３】
（Ｄ）層に用い得る界面活性剤としては、アニオン系やノニオン系等の公知の界面活性剤が挙げられる。界面活性剤を添加する場合、その塗布量は０．１ｍｇ／ｍ２〜１０ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは０．５ｍｇ／ｍ２〜３ｍｇ／ｍ２である。界面活性剤の塗布量は、０．１ｍｇ／ｍ２以上であると、ハジキの発生を抑えて良好な層形成が得られ、１０ｍｇ／ｍ２以下であると、ポリマー支持体などとの接着を良好に行なうことができる。
（Ｄ）層には、フィラーを添加してもよい。フィラーとしてはコロイダルシリカなどの公知のフィラーを用いることができる。
【０２６４】
（Ｄ）層は、バインダー等を含む塗布液を支持体の裏面側の表面に塗布して乾燥させることにより形成することができる。
本発明のポリマーシートは、（Ｄ）層が、フッ素系ポリマーおよびシリコーン系ポリマーの少なくとも一方を含有する（Ｄ）層形成用水系組成物を塗付されてなる塗布層であることが好ましい。
本発明のポリマーシートの製造方法においては、これらシリコーン系又はフッ素系樹脂や所望により併用される他の成分が水中に分散含有された水分散液を調製し、この水分散液を水系塗布液として所望のポリマー支持体上に塗布する態様が好ましい。
塗布方法や用いる塗布液の溶媒には、特に制限はない。塗布方法としては、例えばグラビアコーターやバーコーターを利用することができる。塗布液に用いる溶媒は、水でもよいし、トルエンやメチルエチルケトン等の有機溶媒でもよい。環境負荷の観点から、水を塗布溶媒とした水系塗布液に調製されることが好ましい。
塗布溶媒は１種類を単独で用いてもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。バインダーを水分散した水系塗布液を形成して、これを塗布する方法が好ましい。この場合、溶媒中の水の割合は６０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましい。
【０２６５】
塗布後は、所望の条件で塗膜の乾燥を行う乾燥工程が設けられてもよい。乾燥時の乾燥温度については、塗布液の組成や塗布量などの場合に応じて適宜選択すればよい。また、ポリマー支持体が２軸延伸フィルムである場合は、２軸延伸した後のポリマー支持体に上記耐候性層を形成するための塗布液を塗布した後、塗膜を乾燥させてもよいし、１軸延伸後のポリマー支持体に塗布液を塗布して塗膜を乾燥させた後に、初めの延伸と異なる方向に延伸する方法でもよい。さらに、延伸前のポリマー支持体に塗布液を塗布して塗膜を乾燥させた後に２方向に延伸してもよい。
【０２６６】
−厚み−
塗布層（Ｄ）〔（Ｄ）層〕の厚みとしては、通常は０．３μｍ〜２２μｍが好ましく、０．５μｍ〜１５μｍがより好ましく、０．８μｍ〜１２μｍの範囲が更に好ましく、１．０μｍ〜８μｍの範囲が特に好ましく、２μｍ〜６μｍの範囲が最も好ましい。厚みが上記の範囲において湿熱環境下に曝されたときに（Ｄ）層表面から内部に水分が浸透し難く、また、（Ｄ）層と支持体との界面に水分が到達し難くなることで接着性の劣化が顕著に抑制されるとともに、（Ｄ）層自体の膜強度も良好に維持され、湿熱環境下に暴露したときに耐候性層の破壊が生じ難くなることで接着性の維持がより改善される。
【０２６７】
〔フッ素系ポリマーを含む耐候性層：塗布層（Ｅ）〕
本発明のポリマーシートは、シリコーン系又はフッ素系バインダー樹脂と着色剤と散乱粒子とを含む（Ｄ）層の表面に、さらに、フッ素系ポリマーを含有する塗布層（Ｅ）〔以下、適宜、（Ｅ）層と称する）を有していてもよい。
本発明のポリマーシートが、フッ素系ポリマーを含む（Ｅ）層を有する場合、（Ｅ）層は、支持体上に任意に設けられる前記（Ｄ）層の表面に直接設けられることが好ましい。（Ｅ）層は、本発明のポリマーシートの最外層に位置することが好ましい。
フッ素系ポリマーを含む塗布層（Ｅ）は、フッ素系ポリマー（含フッ素ポリマー）を主バインダーとして構成される。主バインダーとは、（Ｅ）層において含有量が最も多いバインダーを意味する。
以下、（Ｅ）層及びそこに含まれるフッ素系ポリマーについて具体的に説明する。
【０２６８】
−フッ素系ポリマー−
（Ｅ）層前記フッ素系ポリマーを含む耐候性層に用いるフッ素系ポリマーとしては−（ＣＦＸ１−ＣＸ２Ｘ３）−で表される繰り返し単位を有するポリマーであれば特に制限はない（式中、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３はそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子、塩素原子又は炭素数１から３のフルオロアルキル基を示す。）。
（Ｅ）層で用いられるフッ素系ポリマーは、塗布層（Ｄ）に用いられるフッ素系ポリマーと同様のポリマーが挙げられ、具体例、及び、好ましい例も同様である。
【０２６９】
塗布層（Ｅ）の形成に際しては、フッ素系ポリマーを有機溶剤に溶解して用いてもよく、フッ素系ポリマー粒子を水などの適切な分散媒に分散して用いてもよい。環境負荷が小さいという観点からは、水又は水系溶剤を分散媒としたポリマー粒子分散物として用いることが好ましい。フッ素系ポリマーの水分散物については、例えば、特開２００３−２３１７２２号公報、特開２００２−２０４０９号公報、特開平９−１９４５３８号公報等に記載されており、これらを塗布層（Ｅ）の形成に用いてもよい。
【０２７０】
塗布層（Ｅ）には、フッ素系ポリマーを単独で用いてもよいし、２種類以上併用してもよい。また、全バインダーの５０質量％を超えない範囲でアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、シリコーン樹脂などのフッ素系ポリマー以外の樹脂を併用してもよい。ただし、フッ素系ポリマーが５０質量％を超えて含有されることでバックシートに用いた場合に耐候性向上効果がより良好に発現される。
【０２７１】
−滑剤−
塗布層（Ｅ）は、滑剤の少なくとも一種を含有することが好ましい。
滑剤を含有することで、含フッ素系ポリマーを用いた場合に生じやすい滑り性の低下（すなわち動摩擦係数の上昇）が抑えられるので、引っ掻きや擦過、小石などの衝突などの外力で生じる傷付きやすさが飛躍的に緩和される。また、含フッ素系ポリマーを用いた場合に生じやすい塗布液の面状ハジキを改善することができ、面状が良好なフッ素系ポリマーを含む耐候性層を形成することができる。
【０２７２】
滑剤は、塗布層（Ｅ）中に０．２ｍｇ／ｍ２〜２００ｍｇ／ｍ２の範囲で含有される。滑剤の塗布量が０．２ｍｇ／ｍ２未満であると、滑剤が少な過ぎて、滑剤を含有することによる動摩擦係数の低減効果が小さい。また、滑剤の塗布量が２００ｍｇ／ｍ２を超えて多くなり過ぎると、ポリマー層を塗布形成する際に、塗布ムラや凝集物が発生したり、はじき故障が発生したり、しやすくなる。
上記範囲の中では、動摩擦係数低減効果と塗布適性の観点から、１．０ｍｇ／ｍ２〜１１５０ｍｇ／ｍ２の範囲が好ましく、５．０ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２の範囲がより好ましい。
【０２７３】
滑剤としては、例えば、合成ワックス系化合物、天然ワックス系化合物、界面活性剤系化合物、無機系化合物、有機樹脂系化合物などが挙げられる。中でも、ポリマー層の表面強度の点で、合成ワックス系化合物、天然ワックス系化合物、及び界面活性剤系化合物から選ばれる化合物が好ましい。
【０２７４】
合成ワックス系化合物としては、例えば、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス等のオレフィン系ワックス、ステアリン酸、オレイン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ベヘン酸、パルミチン酸、アジピン酸などのエステル、アミド、ビスアミド、ケトン、金属塩及びその誘導体、フィッシャートロプシュワックスなどの合成炭化水素系ワックス、リン酸エステル、硬化ヒマシ油、硬化ヒマシ油誘導体の水素化ワックスなどが挙げられる。
【０２７５】
天然ワックス系化合物としては、例えば、カルナバワックス、キャンデリラワックス、木蝋などの植物系ワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックスなどの石油系ワックス、モンタンワックスなどの鉱物系ワックス、蜜蝋、ラノリンなどの動物系ワックスなどが挙げられる。
【０２７６】
界面活性剤系化合物としては、例えば、アルキルアミン塩などのカチオン系界面活性剤、アルキル硫酸エステル塩などのアニオン系界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテルなどのノニオン系界面活性剤、アルキルベタインなどの両性系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などが挙げられる。
【０２７７】
滑剤は、上市されている市販品を用いてもよく、具体的には、
合成ワックス系の滑剤として、例えば、三井化学（株）製のケミパールシリーズ（例えば、ケミパールＷ７００、同Ｗ９００，同Ｗ９５０等）、中京油脂（株）製のポリロンＰ−５０２、ハイミクロンＬ−２７１，ハイドリンＬ−５３６などが挙げられ、
天然ワックス系の滑剤として、例えば、中京油脂（株）製のハイドリンＬ−７０３−３５,セロゾール５２４,セロゾールＲ−５８６などが挙げられ、また、
界面活性剤系の滑剤として、例えば、日光ケミカルズ（株）製のＮＩＫＫＯＬシリーズ（例えば、ＮＩＫＫＯＬ ＳＣＳ等）、花王（株）製のエマールシリーズ(例えば、エマール４０など)が挙げられる。
【０２７８】
上記した中でも、本発明における塗布層（Ｅ）は、ポリマーとして、ＤＩＣ（株）製のセラネートシリーズ、ＪＳＲ（株）製の無機・アクリル複合エマルジョンを、滑剤として、三井化学（株）製のケミパールシリーズを用いて構成された形態が好ましい。
【０２７９】
−その他の添加剤−
（Ｅ）層には、必要に応じて、コロイダルシリカ、シランカップリング剤、架橋剤、界面活性剤等を添加してもよい。
コロイダルシリカについては、塗布層（Ｂ）において記載したものが同様に用いられる。
（Ｅ）層が、面状の改良のためコロイダルシリカを含有する場合の含有量としては、（Ｅ）層の全固形分中、０．３質量％〜１．０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜０．８質量％であることがより好ましい。添加量を０．３質量％以上とすることで、面状改良効果が得られ、１．０質量％以下とすることで、塗布液の凝集がより効果的に防止される。
【０２８０】
（Ｅ）層にコロイダルシリカを含有する場合、シランカップリング剤を添加することが面状改良の観点から好ましい。
シランカップリング剤としては、アルコキシシラン化合物が好ましく、例えば、テトラアルコキシシラン、トリアルコキシシランなどが挙げられる。なかでも、トリアルコキシシランが好ましく、特にアミノ基を有するアルコキシシラン化合物が好ましい。
シランカップリング剤を添加する場合、その添加量は（Ｅ）層に対して０．３質量％〜１．０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜０．８質量％であることが特に好ましい。添加量を０．３質量％以上とすることで、面状改良効果が得られ、１．０質量％以下とすることで、塗布液の凝集を防止できる。
【０２８１】
（Ｅ）層に架橋剤を添加して架橋構造を形成することが、耐候性向上の観点から好ましい。（Ｅ）層に用いられる架橋剤としては、（Ｄ）層に用いられる架橋剤として挙げたものが同様に挙げられる。
【０２８２】
（Ｅ）層に用いられる界面活性剤としては、アニオン系やノニオン系等の公知の界面活性剤を用いることができる。界面活性剤を添加する場合、その塗布量は０ｍｇ／ｍ２〜１５ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは０．５ｍｇ／ｍ２〜５ｍｇ／ｍ２である。界面活性剤の塗布量は、０．１ｍｇ／ｍ２以上であると、ハジキの発生を抑えて良好な層形成が得られ、１５ｍｇ／ｍ２以下であると、接着を良好に行なうことができる。
【０２８３】
−厚み−
（Ｅ）層の厚みとしては、通常は０．８μｍ〜１２μｍが好ましく、０．５μｍ〜１５μｍがより好ましく、１．０μｍ〜１０μｍの範囲がさらに好ましい。
厚みが前記範囲において耐候性、耐久性がより向上し、塗布面状の悪化が抑制される。
【０２８４】
本発明のポリマーシートは、（Ｅ）層の上（外層）にさらに別の層を積層してもよいが、バックシート用ポリマーシートの耐久性の向上、軽量化、薄型化、低コスト化などの観点から、（Ｅ）層が太陽電池用バックシートの最外層であることが好ましい。
【０２８５】
−その他の層−
（ガスバリア層）
支持体の（Ｂ）層とは反対側の面には、ガスバリア層を設けてもよい。カスバリア層は、ポリエステル支持体への水やガスの浸入を防止する防湿性の機能を与える層である。
ガスバリア層の水蒸気透過量（透湿度）としては、１０２ｇ／ｍ２・ｄ〜１０−６ｇ／ｍ２・ｄが好ましく、より好ましくは１０１ｇ／ｍ２・ｄ〜１０−５ｇ／ｍ２・ｄであり、さらに好ましくは１００ｇ／ｍ２・ｄ〜１０−４ｇ／ｍ２・ｄである。
尚、透湿度はＪＩＳ  Ｚ０２０８等に基づいて測定することができる。
【０２８６】
このような透湿度を有するガスバリア層を形成するには、乾式法が好適である。乾式法によりガスバリア性のガスバリア層を形成する方法としては、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、誘導加熱蒸着、及びこれらにプラズマやイオンビームによるアシスト法などの真空蒸着法、反応性スパッタリング法、イオンビームスパッタリング法、ＥＣＲ（電子サイクロトロン）スパッタリング法などのスパッタリング法、イオンプレーティング法などの物理的気相成長法（ＰＶＤ法）、熱や光、プラズマなどを利用した化学的気相成長法（ＣＶＤ法）などが挙げられる。中でも、真空下で蒸着法により膜形成する真空蒸着法が好ましい。
【０２８７】
ガスバリア層を形成する材料としては、無機酸化物、無機窒化物、無機酸窒化物、無機ハロゲン化物、無機硫化物などが挙げられる
なお、アルミ箔を貼り合わせてガスバリア層としてもよい。
【０２８８】
ガスバリア層の厚みは、１μｍ以上３０μｍ以下が好ましい。厚みは、１μｍ以上であると経時（サーモ）中に支持体中に水が浸透し難く耐加水分解性に優れ、３０μｍ以下であると無機層が厚くなり過ぎず、無機層の応力で支持体にベコが発生することもない。
【０２８９】
［太陽電池モジュール］
本発明の太陽電池モジュールは、例えば、太陽光の光エネルギーを電気エネルギーに変換する太陽電池素子を、太陽光が入射する透明性の基板と太陽電池用バックシートとの間に配置し、該基板とバックシートとの間をエチレン−酢酸ビニル共重合体などの封止材で封止している。
具体的には、本発明の太陽電池用保護シートは、太陽光が入射する透明性の基材と、基材上に設けられ、太陽電池素子及び太陽電池素子を封止する封止材を有する素子構造部分と、素子構造部分の基材が位置する側と反対側に配置された太陽電池用バックシートと、を備える。そして、太陽電池用バックシートとして、本発明の太陽電池バックシートが適用される。
【０２９０】
太陽電池モジュール、太陽電池セル、バックシート以外の部材については、例えば、「太陽光発電システム構成材料」（杉本栄一監修、（株）工業調査会、２００８年発行）に詳細に記載されている。
【０２９１】
透明性のフロント基板は、太陽光が透過し得る光透過性を有していればよく、光を透過する基材から適宜選択することができる。発電効率の観点からは、光の透過率が高いものほど好ましく、このような基板として、例えば、ガラス基板、アクリル樹脂などの透明樹脂などを好適に用いることができる。
【０２９２】
太陽電池素子としては、単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコンなどのシリコン系、銅−インジウム−ガリウム−セレン、銅−インジウム−セレン、カドミウム−テルル、ガリウム−砒素などのIII−V族やII−VI族化合物半導体系など、各種公知の太陽電池素子を適用することができる。
【実施例】
【０２９３】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
【０２９４】
（透明ＰＥＴ支持体の作製）
−ポリエステルの合成−
高純度テレフタル酸（三井化学（株）製）１００ｋｇとエチレングリコール（日本触媒（株）製）４５ｋｇのスラリーを、予めビス（ヒドロキシエチル）テレフタレート約１２３ｋｇが仕込まれ、温度２５０℃、圧力１．２×１０５Ｐａに保持されたエステル化反応
槽に、４時間かけて順次供給し、供給終了後もさらに１時間かけてエステル化反応を行なった。その後、得られたエステル化反応生成物１２３ｋｇを重縮合反応槽に移送した。
【０２９５】
引き続いて、エステル化反応生成物が移送された重縮合反応槽に、エチレングリコールを、得られるポリマーに対して０．３質量％添加した。５分間撹拌した後、酢酸コバルト及び酢酸マンガンのエチレングリコール溶液を、得られるポリマーに対してそれぞれ３０ｐｐｍ、１５ｐｐｍとなるように加えた。更に５分間撹拌した後、チタンアルコキシド化合物の２質量％エチレングリコール溶液を、得られるポリマーに対して５ｐｐｍとなるように添加した。その５分後、ジエチルホスホノ酢酸エチルの１０質量％エチレングリコール溶液を、得られるポリマーに対して５ｐｐｍとなるように添加した。その後、低重合体を３０ｒｐｍで攪拌しながら、反応系を２５０℃から２８５℃まで徐々に昇温するとともに、圧力を４０Ｐａまで下げた。最終温度、最終圧力到達までの時間はともに６０分とした。所定の攪拌トルクとなった時点で反応系を窒素パージし、常圧に戻し、重縮合反応を停止した。そして、冷水にストランド状に吐出し、直ちにカッティングしてポリマーのペレット（直径約３ｍｍ、長さ約７ｍｍ）を作製した。なお、減圧開始から所定の撹拌トルク到達までの時間は３時間であった。
【０２９６】
但し、チタンアルコキシド化合物には、特開２００５−３４０６１６号公報の段落番号［００８３］の実施例１で合成しているチタンアルコキシド化合物（Ｔｉ含有量＝４．４４質量％）を用いた。
【０２９７】
−固相重合−
上記で得られたペレットを、４０Ｐａに保たれた真空容器中、２２０℃の温度で３０時間保持して、固相重合を行った。
【０２９８】
−ベース形成−
以上のように固相重合を経た後のペレットを、２８０℃で溶融して金属ドラムの上にキャストし、厚さ約３ｍｍの未延伸ベースを作製した。その後、９０℃で縦方向に３．４倍に延伸し、下記条件でコロナ放電処理を行い、次いで、下記組成のインラインコート層形成用組成物をポリエチレンテレフタレート支持体のコロナ処理面に、塗布量が５．１ｍｌ／ｍ２となるように、ＭＤ延伸後、ＴＤ延伸前にインラインコート法にて塗布を行い、厚み０．１μｍのインラインコート層を形成した。なお、ＴＤ延伸温度は、１０５℃で、ＴＤ方向に４．５倍に延伸し、膜面２００℃で１５秒間の熱処理を行い、１９０℃でＭＤ緩和率５％、・ＴＤ緩和率１１％でＭＤ・ＴＤ方向に熱緩和を行い、インラインコート層が形成された厚み２５０μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体（以下、「インラインコート層付き透明ＰＥＴ支持体」と称する。）を得た。
【０２９９】
（コロナ放電処理）
ＰＥＴ支持体の一方の面に行ったコロナ放電処理の条件は以下の通りである。
・電極と誘電体ロールギャップクリアランス：１．６ｍｍ
・処理周波数：９．６ｋＨｚ
・処理速度：２０ｍ／分
・処理強度：０．３７５ｋＶ・Ａ・分／ｍ２
【０３００】
（インラインコート層形成塗布液の組成）
・ポリオレフィン樹脂水分散液                                ３．７４質量部
〔アローベースＳＥ−１０１３Ｎ、ユニチカ（株）製、固形分：２０．２質量％〕
・アクリル樹脂水分散液                                        ０．３質量部
〔ＡＳ−５６３Ａ、ダイセルファインケム（株）製、固形分：２８質量％のラテックス〕
・水溶性オキサゾリン系架橋剤                                ０．８５質量部
〔エポクロスＷＳ−７００、日本触媒（株）製、固形分：２５質量％〕
・蒸留水                                                      １００質量部
【０３０１】
以上のようにして得られたインラインコート層付き透明ＰＥＴ支持体を用いて、以下のようにして塗布層（Ｂ）〜塗布層（Ｅ）を形成しての太陽電池用バックシートとした。
【０３０２】
［実施例１〜９１、比較例１〜８］
まず、表１に記載の原料を用い、以下に記載する固形分含有比率となるようにして、（Ｂ）層形成用組成物を調製した。この処方に、表７〜表１１に示すような種類と量（乾膜の状態での容量％）で無機粒子を添加して、（Ｂ）層形成用組成物とする場合もある。
なお、下記表１におけるナトリウム−１．２−｛ビス（３，３，４，４，５，５，６，６，６−ナノフルオロヘキシルカルボニル）｝エタンスルホナートは、水／エタノール２：１の混合溶媒で２質量％となるように希釈して用いた。表１に記載の各成分を以下に記載する固形分比率で混合し、さらに蒸留水を加え、固形分濃度が７．０質量％となるようにして、（Ｂ）層形成用組成物を調製した。
また、実施例８８〜９１では、実施例１〜８７で用いたインラインコート層付き透明ＰＥＴ支持体に代えて、下記のインラインコート層付き白色ＰＥＴ支持体を用いた。
【０３０３】
（白色ＰＥＴ支持体の作製）
−マスターペレットの作製−
上記「透明ＰＥＴ支持体の作製」において作製した固相重合前のペレットに酸化チタンを、含有比率がペレット全体の５０質量％になるように加えて混練し、マスターペレットを作製した。
ここで、酸化チタンとして、石原産業社製のＰＦ−７３９（商品名；平均一次粒径＝０．２５μｍ、表面処理としてアルミナ処理後にポリオール処理を施したもの）を用いた。
【０３０４】
−ベース形成−
上記「透明ＰＥＴ支持体の作製」と同様に固相重合を経た後のペレット、及び上記のマスターペレットを、酸化チタン量が下記の表１１に示す濃度になるように混合し、２８０℃で溶融して金属ドラムの上にキャストし、厚さ約３ｍｍの未延伸ベースを作製した。その後、９０℃で縦方向（ＭＤ）に３．０倍に延伸（ＭＤ延伸）し、上記「透明ＰＥＴ支持体の作製」と同様の条件でコロナ放電処理を行った。次いで、このコロナ処理面に、上記「透明ＰＥＴ支持体の作製」と同様のインラインコート層形成用組成物を、塗布量が５．１ｍｌ／ｍ２となるようにインラインコート法にて塗布し、厚み０．１μｍのインラインコート層を形成した。塗布は、ＭＤ延伸後、ＭＤと直交する横方向（ＴＤ）に延伸する前（ＴＤ延伸前）に行った。そして、インラインコート層の形成後、１０５℃で４．５倍にＴＤ延伸し、インラインコート層の表面を２００℃で１５秒間熱処理した。その後、１９０℃でＭＤ緩和率５％、ＴＤ緩和率１１％としてＭＤ及びＴＤに熱緩和を施した。
以上のようにして、厚み２５０μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体（インラインコート層付き白色ＰＥＴ）を得た。
【０３０５】
【表１】
2015057814.tif 000015
【０３０６】
−（Ｂ）層形成用組成物の固形分比率−
・降伏点を有するポリマー                                            ９０質量部
・架橋剤                                                            １０質量部
・ナトリウム−１．２−｛ビス（３，３，４，４，５，５，６，６，６−
ナノフルオロヘキシルカルボニル）｝エタンスルホナート              １質量部
参考までに、実施例２において用いた（Ｂ）層形成用組成物の処方を具体的に示す。実施例４〜実施例８７では、この組成物にさらに無機粒子が添加される。
−実施例２の（Ｂ）層形成用組成物−
・水溶性オキサゾリン系架橋剤                                      ２９．０質量部
〔エポクロスＷＳ−７００、日本触媒（株）製、固形分：２５質量％〕
・降伏点を有するポリマー〔ＸＰＳ００２（固形分濃度：４５質量％）〕
１４４．７質量部
・ナトリウム−１．２−｛ビス（３，３，４，４，５，５，６，６，６−
ナノフルオロヘキシルカルボニル）｝エタンスルホナート（２質量％）  ３．６質量部
・蒸留水                                                        ８２２．６質量部
【０３０７】
得られた（Ｂ）層形成用組成物を、乾燥後の膜厚が１．０μｍとなるようにインラインコート層付き透明ＰＥＴ支持体のインラインコート層が形成された側の表面に塗布し、１７０℃で２分間乾燥して塗布層（Ｂ）を形成した。塗布層（Ｂ）における無機粒子の種類と添加量は表７〜表１１に示すとおりである。
（Ｂ）層の形成に用いたポリマーの詳細を下記表２に示す。表２に記載のポリマー膜の降伏点は、既述の方法にて測定した結果である。
【０３０８】
【表２】
2015057814.tif 000016
【０３０９】
その後、塗布層（Ｃ）（表６〜表１１では「（Ｃ）層」と記載）形成用組成物〔Ｃ−１〜Ｃ−９〕を（Ｂ）層の表面に、０．３μｍの乾燥膜厚となるように塗布し、乾燥して（Ｃ）層を形成した。
（Ｃ）層形成用組成物〔Ｃ−１〜Ｃ−９〕の組成を下記表３に示す。ＥＭＡＬＥＸ１１０は、水／エタノール２：１の混合溶媒で２質量％となるように希釈して用いた。
【０３１０】
【表３】
2015057814.tif 000017
【０３１１】
【化１４】
2015057814.tif 000018
【０３１２】
さらに、支持体のインラインコート層を形成していない側に、耐候性層として、下記表４及び表５に示す組成の（Ｄ）層形成用組成物、（Ｅ）層形成用組成物を用いて、（Ｄ）層、及び（Ｅ）層を図１に示す順に形成してバックシートを得た。
−（Ｄ）層の形成−
１．二酸化チタン分散物の調製
ダイノミル分散機を用いて二酸化チタンの平均粒径が０．４２μｍになるよう分散して二酸化チタン分散液を調製した。なお、二酸化チタンの平均粒径はハネウェル社製、マイクロトラックＦＲＡを用いて測定した。
（二酸化チタン分散液の組成）
・二酸化チタン … ４５５．８質量部(タイペークＣＲ−９５、石原産業（株）製、粉体)
・ＰＶＡ水溶液 … ２２７．９質量部(ＰＶＡ−１０５、クラレ（株）製、濃度１０質量％)
・分散剤 … ５．５質量部(デモールＥＰ、花王（株）製、濃度２５質量％)
・蒸留水 … ３１０．８質量部
【０３１３】
２．（Ｄ）層形成用組成物の調製
下記表４に記載の各成分を混合し、（Ｄ）層形成用組成物〔Ｄ−１〜Ｄ−４〕を調製した。下記表４における「二酸化チタン分散液※」は、上記で調製したものを用いている。
３．（Ｄ）層の形成
得られた（Ｄ）層形成用組成物を、ポリマー支持体の裏面（（Ｂ）層非形成面）上にバインダー塗布量が４．７ｇ／ｍ２、二酸化チタン塗布量が５．６ｇ／ｍ２となるよう塗布して１７０℃で２分間乾燥して、厚み５μｍの（Ｄ）層（白色層）を形成した。
【０３１４】
【表４】
2015057814.tif 000019
【０３１５】
−（Ｅ）層の形成−
（Ｄ）層表面に、下記表５に示す（Ｅ）層形成用組成物〔Ｅ−１〜Ｅ−３〕の（Ｅ）層形成用組成物塗布液をバインダー塗布量が１．３ｇ／ｍ２となるよう塗布して、１７５℃で２分間乾燥して（Ｅ）層を形成した。
（Ｃ）層の厚みはいずれも０．３μｍである。また、支持体上に形成された（Ｃ）層〜（Ｅ）層の形成にいずれの組成を用いたかについても、下記表６〜表１１に記載した。
【０３１６】
【表５】
2015057814.tif 000020
【０３１７】
［評価］
各例で得られた太陽電池用バックシートについて、以下の評価を行った。その結果を下記表６〜表１１に示す。
【０３１８】
（封止材（ＥＶＡ）との密着力）
各例で得られた太陽電池用バックシートを２．５ｃｍ（ＴＤ方向）×１５ｃｍ（ＭＤ方向）にカットした。次に、２．５ｃｍ×７．５ｃｍ×厚さ０．５ｃｍのガラス板の上にＥＶＡフィルム（杭州  Ｆ８０６）を積層したものに、評価用のバックシートを（Ｃ）層がＥＶＡに接するように乗せ、１４５℃、真空引き４分、加圧１０分の条件下で日清紡メカトロニクス社製  真空ラミネート装置（ＬＡＭＩＮＡＴＯＲ０５０５Ｓ）を用いて、ラミネートした。
ＥＶＡに接着されたバックシートを、２３℃，５０％の条件で２４時間以上、調湿した後、バックシートのＭＤ方向にカッターで１０ｍｍ幅になるように２本の切り込みを入れ、切り込みを入れたバックシートとＥＶＡとガラス板との積層物を、１２１℃，１００％の環境下で３０時間保存した。
上記、作製したサンプルの１０ｍｍ幅の部分を１００ｍｍ／ｍｉｎの速度でテンシロンにより１８０°で引っ張った。そして、以下の評価基準で（Ｂ）層における破壊応力を評価した。この応力が高い程、高温高湿条件下での密着力が高く、耐候性に優れると評価した。
また、剥離した箇所を目視で観察し、支持体であるＰＥＴ表面の凝集破壊の有無を判定した。凝集破壊が生じるとＰＥＴ支持体が遷移する。
上記試験を１０回行い、ＰＥＴ表面の凝集破壊率（遷移確率）を以下の基準にて判断した。
【０３１９】
・（Ｂ）層における破壊応力（表６〜表１１中、「密着力」と記載）
５：破壊応力が５Ｎ／ｍｍ以上であるもの
４：破壊応力が４〜５Ｎ／ｍｍ未満であるもの
３：破壊応力が３〜４Ｎ／ｍｍ未満であるもの
２：破壊応力が２〜３Ｎ／ｍｍ未満であるもの
１：全てＰＥＴの凝集破壊でＢ塗布層の破壊応力が測定できないもの
・ＰＥＴ凝集破壊確率（表６〜表１１中、「遷移確率」と記載）
３：ＰＥＴの凝集破壊が無い
２：ＰＥＴの凝集破壊が１／２以下である
１：全てＰＥＴの凝集破壊が発生する
【０３２０】
【表６】
2015057814.tif 000021
【０３２１】
【表７】
2015057814.tif 000022
【０３２２】
【表８】
2015057814.tif 000023
【０３２３】
【表９】
2015057814.tif 000024
【０３２４】
【表１０】
2015057814.tif 000025
【０３２５】
【表１１】
2015057814.tif 000026
【０３２６】
上記の結果から、本実施例では、封止材（ＥＶＡ）との高温高湿環境下での長期保存後の密着力が良好なレベルに維持され、層間の剥離も抑制されたことがわかる。
これにより、本発明の太陽電池用バックシートは、太陽電池素子を封止する封止材に対する密着性を高温高湿度の厳しい条件下においても長期間維持しうることがわかる。
また、実施例８４〜８７の結果より、（Ｂ）層にカーボンブラックを含有させることで、密着力、層間剥離抑制効果を低下させることなく、太陽電池用バックシートに所望の遮光性を付与しうることがわかる。
【０３２７】
〔実施例９２〕
＜太陽電池発電モジュールの作製＞
厚さ３ｍｍの強化ガラスと、ＥＶＡシート（三井化学ファブロ（株）製のＳＣ５０Ｂ）と、結晶系太陽電池セルと、ＥＶＡシート（三井化学ファブロ（株）製のＳＣ５０Ｂ）と、実施例３６の太陽電池用バックシートとを、太陽電池用バックシートの（Ｃ）層が、太陽電池素子の封止材であるＥＶＡシートと直接接するようにこの順に重ね合わせ、真空ラミネータ（日清紡（株）製、真空ラミネート機）を用いてホットプレスすることにより、ＥＶＡと接着させた。接着方法は、以下の通りである。
真空ラミネータを用いて、１２８℃で３分間の真空引き後、２分間加圧して仮接着した。その後、ドライオーブンにて１５０℃で３０分間、本接着処理を施した。
以上のようにして、結晶系の太陽電池セルを用いて実施例８８の太陽電池発電モジュール（以下、適宜、「太陽電池モジュール」と称することがある）を作製した。
作製された太陽電池モジュールを１２０℃、相対湿度１００％の環境条件下に７０時間放置した後、発電運転させたところ、実施例３６の太陽電池用バックシートは、耐候性に優れるため、実施例３６の太陽電池発電モジュールは、発電性能を長期に亘って安定的に得ることができた。
【０３２８】
〔実施例９３〜９５〕
＜太陽電池発電モジュールの作製＞
実施例９２で用いた結晶系太陽電池セルと、実施例３６の太陽電池用バックシートとを用い、図１（Ａ）に示すように、平面視による太陽電池用バックシートの露出部分の面積が３９％となるように結晶系太陽電池セルを配置させた以外は、実施例９２と同様にして、実施例９３の太陽電池発電モジュールを作製した。
太陽電池用バックシートの露出部分の面積が２５％となるように結晶系太陽電池セルを配置させた以外は、実施例９３と同様にして、実施例９４の太陽電池発電モジュールを作製した。
太陽電池用バックシートの露出部分の面積が５％となるように結晶系太陽電池セルを配置させた以外は、実施例９３と同様にして、実施例９５の太陽電池発電モジュールを作製した。
図１（Ａ）は、太陽電池用バックシートの露出部分の面積が３９％の太陽電池モジュールを示す平面図であり、図１（Ｂ）は、太陽電池用バックシートの露出部分の面積が２５％の太陽電池モジュールを示す平面図であり、図１（Ｃ）は、太陽電池用バックシートの露出部分の面積が５％の太陽電池モジュールを示す平面図である。図１（Ａ）〜（Ｃ）中、斜線にて表示した領域が太陽電池用バックシートの露出部分を示す。
作製された太陽電池モジュールを実施例９２と同様に発電運転させたところ、実施例３６の太陽電池用バックシートは、耐候性に優れるため、実施例９３〜９５の太陽電池発電モジュールは、発電性能を長期に亘って安定的に得ることができた。
【０３２９】
〔実施例９６〜９８〕
＜太陽電池発電モジュールの作製＞
実施例３６の太陽電池用バックシートに換えて、実施例３７の太陽電池用バックシートを用いた以外は、実施例９３〜実施例９５と同様にして、実施例９６〜実施例９８の太陽電池発電モジュールを作製した。実施例９６の太陽電池モジュールは、太陽電池用バックシートの露出部分の面積が３９％であり（図１（Ａ）参照）、実施例９７は、太陽電池用バックシートの露出部分の面積が２５％であり（図１（Ｂ）参照）、実施例９７は、太陽電池用バックシートの露出部分の面積が５％である（図１（Ｃ）参照）。
作製された太陽電池モジュールを実施例９２と同様に発電運転させたところ、実施例３７の太陽電池用バックシートは、耐候性に優れるため、実施例９６〜実施例９８の太陽電池発電モジュールは、発電性能を長期に亘って安定的に得ることができた。
【０３３０】
〔実施例９９〜１０１〕
＜太陽電池発電モジュールの作製＞
実施例３６の太陽電池用バックシートに換えて、実施例８５の太陽電池用バックシートを用いた以外は、実施例９３〜実施例９５と同様にして、実施例９９〜実施例１０１の太陽電池発電モジュールを作製した。実施例９９の太陽電池モジュールは、太陽電池用バックシートの露出部分の面積が３９％であり（図１（Ａ）参照）、実施例１００は、太陽電池用バックシートの露出部分の面積が２５％であり（図１（Ｂ）参照）、実施例１０１は、太陽電池用バックシートの露出部分の面積が５％である（図１（Ｃ）参照）。
作製された太陽電池モジュールを実施例９２と同様に発電運転させたところ、実施例３７の太陽電池用バックシートは、耐候性に優れるため、実施例９９〜１０１の太陽電池発電モジュールは、発電性能を長期に亘って安定的に得ることができた。
【０３３１】
本発明の具体的態様の上記の記述は、記述と説明の目的で提供するものである。開示された、まさにその形態に本発明を限定することを企図するものでもなく、或いは網羅的なものを企図するものでもない。明らかに、当業者が多くの修飾や変形をすることができることは自明である。該態様は、本発明の概念やその実際の応用を最もよく説明するために選定されたものであって、それによって、当業者の他者が企図する特定の用途に適合させるべく種々の態様や種々の変形をなすことができるように、当業者の他者に本発明を理解せしめるためのものである。
【図１】
2015057814.tif 000027