(57)【要約】【課題】吸水速度が速く、連続使用による吸水速度の低下も少なく、さらに、乾燥速度も速い足拭きマットの製造方法を提供する。【解決手段】本発明の足拭きマットの製造方法は、無機質成形板により構成される足拭きマットの製造方法であって、石灰質原料、珪酸質原料及び水を含む原料スラリーを撹拌しながら水熱反応することで珪酸カルシウム二次粒子を含む水性スラリーを得る工程１と、前記工程１で得られた水性スラリーを脱水成形することで前記無機質成形板を得る工程２、を有する。上記製造方法で得られる足拭きマットは、珪酸カルシウムの結晶の二次粒子及び／又はこの二次粒子の圧縮変形物で形成された無機質成形板を含み、前記無機質成形板の嵩密度が０．２〜０．７ｇ／ｃｍ３である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機質成形板により構成される足拭きマットの製造方法であって、少なくとも、
石灰質原料、珪酸質原料及び水を含む原料スラリーを撹拌しながら水熱反応することで珪酸カルシウム二次粒子を含む水性スラリーを得る工程１と、前記工程１で得られた水性スラリーを脱水成形することで前記無機質成形板を得る工程２、
を有することを特徴とする足拭きマットの製造方法。
【請求項２】
前記工程２において脱水成形する前の前記水性スラリーに少なくとも樹脂を添加する、請求項１記載の足拭きマットの製造方法。
【請求項３】
前記工程２において脱水成形する前の前記水性スラリーに処理剤を添加する、
及び／又は、前記工程２で得た無機質成形板の少なくとも一方の面に処理剤を塗布する、請求項１又は２記載の足拭きマットの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、浴室、プール等に敷かれて使用される足拭きマットの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、浴室、プール等で使用される足拭きマットは、タオル生地や麻製のマットが主流であるが、短時間に頻繁に使用すると吸水能力が低下し、十分に濡れた足の水分をぬぐい取れない状況が発生していた。この点を解決するため、吸水率の高い特殊繊維をタオル生地に使用した足拭きマットが開発されたが、このような足拭きマットは薄い布地で形成されるので、吸水量に限界があり依然として改善の余地が残されていた。
【０００３】
このような観点から、上記欠点を改善した足拭きマットが種々提案されている。例えば、特許文献１には、珪藻土を含む調湿材（高吸水性タイル）と支持盤からなる足拭きマットが提案されている。また、特許文献２には、珪藻土及び消石灰を主原料とした原料スラリーを抄造成形後オートクレーブ養生して得られる特定の細孔分布を有する珪酸カルシウム含有無機質板の足拭きマットが提案されている。これらの足拭きマットは、タオル生地に比べると高い吸水性能を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−３４７９７号公報
【特許文献２】特開２０１０−１８４１０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記のような足拭きマットであっても吸水速度については十分に速いものではなく、また、短時間に頻繁に使用するとその吸水速度も低下するという問題があった。さらに、乾燥速度も遅く、濡れた感触が長期間にわたって残るといった問題も有していた。
【０００６】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、吸水速度が速く、連続使用による吸水速度の低下も少なく、さらに、乾燥速度も速い実用的強度を有する足拭きマットの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の製造方法で得られる珪酸カルシウム板を使用することにより、上記課題を解決する実用的強度を有した足拭きマットが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
即ち、本発明は、下記の足拭きマットの製造方法に関する。
１．無機質成形板により構成される足拭きマットの製造方法であって、少なくとも、
石灰質原料、珪酸質原料及び水を含む原料スラリーを撹拌しながら水熱反応することで珪酸カルシウム二次粒子を含む水性スラリーを得る工程１と、前記工程１で得られた水性スラリーを脱水成形することで前記無機質成形板を得る工程２、
を有することを特徴とする足拭きマットの製造方法。
２．前記工程２において脱水成形する前の前記水性スラリーに少なくとも樹脂を添加する、上記項１記載の足拭きマットの製造方法。
３．前記工程２において脱水成形する前の前記水性スラリーに処理剤を添加する、
及び／又は、前記工程２で得た無機質成形板の少なくとも一方の面に処理剤を塗布する、上記項１又は２記載の足拭きマットの製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係る足拭きマットの製造方法によれば、珪酸カルシウムを含む材料で形成され、かつ、嵩密度が０．２〜０．７ｇ／ｃｍ３である無機質成形板で構成される足拭きマットを得ることができる。この足拭きマットによれば、濡れた足を載せても速やかに吸水され、吸水性も高く、しかも、短時間で繰り返し使用したときの吸水速度の低下も小さい。また、水分を吸収した後の足拭きマットは、短時間で乾燥するので、濡れた感触が残ることも抑制されるものである。そして、本発明に係る足拭きマットの製造方法は、上記の特徴を有する足拭きマットの製造に好適である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００１１】
＜足拭きマットの製造方法＞
上記足拭きマットは、以下の製造方法により製造することができる。
【００１２】
まず、足拭きマットの基材となる無機質成形板を得るが、具体的には、少なくとも以下の工程１及び工程２を有する方法によって製造することができる。
（１）石灰質原料、珪酸質原料及び水を含む原料スラリーを撹拌しながら水熱反応することで珪酸カルシウム二次粒子を含む水性スラリーを得る工程１、
（２）前記工程１で得られた水性スラリーを脱水成形することで無機質成形板を得る工程２。
【００１３】
工程１では、無機質成形板の主原料となる珪酸カルシウム二次粒子を含む水性スラリーを得る工程である。水性スラリーとは、少なくとも珪酸カルシウム二次粒子と水とを含むスラリーのことをいう。
【００１４】
水性スラリーは、例えば、特公昭５３−１２５２６号公報等に示されるように、少なくとも珪酸質原料、石灰質原料及び水を含む原料スラリーを、オートクレーブ等の反応器内で撹拌しながら水熱反応させて得ることができる。このような、いわゆる撹拌法によれば、結晶である一次粒子が凝集してなる集塊物（凝集物といってもよい）、すなわち二次粒子を形成した状態の珪酸カルシウムを含む水性スラリーが得られる。
【００１５】
上記珪酸質原料としては、例えば、珪石、珪砂、シリカゲル、ホワイトカーボン、珪藻土、フェロシリコンダスト、シラス、籾殻灰等のうちの一種類以上が例示される。また、石灰質原料としては、生石灰（酸化カルシウム）、消石灰（水酸化カルシウム）、カーバイド滓、塩化カルシウム等のうちの一種類以上が例示される。また、水の含有量は石灰質原料及び珪酸質原料の合計量に対して通常５重量倍以上（好ましくは１０〜７０重量倍）である。原料スラリーの水熱反応の条件は、ゾノトライト、トバモライト等の結晶質珪酸カルシウム水和物の二次粒子が生成される限り限定されないが、例えば、原料スラリーを撹拌しながらオートクレーブ中で加圧及び加熱すればよい。水熱反応時の温度、圧力については、圧力は８〜５０ｋｇｆ／ｃｍ２程度が好ましく、温度は１７０〜２６０℃程度が好ましい。
【００１６】
工程１にて得られる珪酸カルシウムは、これを得るために用いる原料の選定等により、ウォラストナイトグループに属する珪酸カルシウム、トバモライトグループに属する珪酸カルシウム、ジェナイトグループに属する珪酸カルシウム、ジャイロライトグループに属する珪酸カルシウム、γ−ダイカルシウムシリケートグループに属する珪酸カルシウム、α−ダイカルシウムシリケートハイドレート等になり得る。上記の中でも、ウォラストナイトグループに属するゾノトライト、フォシャジャイト又はウォラストナイト、トバモライトグループに属するトバモライト又はＣＳＨ（Ｉ）、あるいはジャイロライトグループに属するジャイロライト又はα−ダイカルシウムシリケートハイドレートが好ましい。上記例示列挙した珪酸カルシウムは、１種単独で存在していてもよいし、２種以上が混合されていてもよい。尚、上記ＣＳＨ（Ｉ）は、トバモライトグループの準結晶を示す。また、ジャイロライトには、例えば特公昭６０−２９６４３号公報に示されるジャイロライトと非晶質シリカが複合したものも含まれる。特に好ましい珪酸カルシウムは、機械的強度に優れ、工業的に利用されているという点で、トバモライトやゾノトライトである。
【００１７】
上記珪酸カルシウムは、珪酸カルシウムの二次粒子を形成した状態になり得る。尚、結晶である一次粒子の凝集を絡合ともいう。二次粒子を形成した状態である珪酸カルシウムとして、具体的には、特公昭５３−１２５２６号公報等に示されるように、トバモライトやゾノトライトなどの珪酸カルシウムであることが好ましい。また、珪酸カルシウムがウォラストナイト（シュウドウォラストナイトを含む）である場合は、ゾノトライト、フォシャジャイト、トバモライト、ＣＳＨ（Ｉ）やジャイロライトを加熱して得ることができ、特に、ゾノトライト、フォシャジャイト、トバモライト、ＣＳＨ（Ｉ）、ジャイロライトの二次粒子を加熱して得られるウォラストナイトであることが好ましい。
【００１８】
工程１で得られる珪酸カルシウムの二次粒子の粒径は限定的ではないが、５〜１５０μｍ程度であり、二次粒子を構成する一次粒子の長さは１〜２０μｍ程度とすることができる。
【００１９】
工程２は工程１で得られた水性スラリーを脱水成形することで無機質成形板を得る工程である。
【００２０】
水性スラリーには、必要に応じて、公知のセメント、充填剤、顔料、繊維質材料、染料、重合体（樹脂）、凝集剤、撥水剤、などの添加物を加えてもよい。例えば、上記セメントとしては、ポルトランドセメント、ホワイトセメント、アルミナセメント、高炉セメント、フライアッシュセメント、混合セメント等が例示される。上記充填剤としては、例えば、クレー、ベントナイト、タルク、炭酸カルシウム等が例示される。繊維質材料としては、例えばパルプ、ガラス繊維、木綿、セラミックファイバー、ビニロン繊維、アラミド繊維、ナイロン繊維、ポリエステル繊維、ポリエチレン繊維、ポリプロピレン繊維、スチール繊維、炭素繊維等の公知の有機繊維や無機繊維が例示される。例えば、繊維質材料の含有量は、水性スラリー（固形分換算）に対して、１０質量％以下とすることができる。水性スラリーへの上記の添加物の添加は、工程１内において実施してもよいし、工程２内において実施してもよい。尚、上記の重合体（樹脂）の具体例については、後述の＜足拭きマットの他の実施形態＞で詳述する。
【００２１】
珪酸カルシウムの含有量は限定されないが、通常は、無機質成形板の固形分中の割合で珪酸カルシウムが５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上含まれるように配合割合を調節すればよい。
【００２２】
脱水成形方法としては、特に限定されず、公知の方法を採用することができる。脱水成形方法としては、プレス脱水成形法、抄造法、ロール脱水成形法、遠心成形法等が例示される。特に、プレス脱水成形方法では、少なくともプレス面は、珪酸カルシウムの結晶の二次粒子の圧縮変形物で形成された無機質成形板が得られる。プレス時の圧力等を調節することで、無機質成形板の全体を上記圧縮変形物とすることもできるし、内部は圧縮変形物ではなく、二次粒子の状態を維持するようにすることもできる。
【００２３】
また、脱水成形後に行う乾燥方法も公知の方法を採用することができ、風乾、加熱乾燥、熱風乾燥、真空乾燥、凍結乾燥、真空凍結乾燥、調湿乾燥、雰囲気制御置換型乾燥、超臨界乾燥等の乾燥方法が例示される。乾燥温度及び乾燥度合（含水率）は成形体の組成や目的、用途に応じて適宜設定すればよい。
【００２４】
上記の脱水成形時に模様付きの押圧板を使用することにより無機質成形板の表面に模様を付けたり、各種加工装置を用いて乾燥後の無機質成形板の表面に模様を付けることができる。また、得られる足拭きマットの特性（吸水性、乾燥性等）を損なわない範囲で無機質成形板の表面に塗料等で色付けしても良い。
【００２５】
工程２で得られた無機質成形板は、足拭きマットの基材となり、例えば平面視略矩形状の板状に形成される。無機質成形板の大きさ（面積）について、足拭きマットに求められる大きさ（面積）及び厚みを有している限りは、その大きさは特に限定されない。
【００２６】
＜足拭きマット＞
以上のような工程１及び工程２を有する工程によって、無機質成形板で構成される足拭きマットを製造することができるが、この足拭きマットの特徴について詳述する。
【００２７】
上記足拭きマットは、珪酸カルシウム二次粒子及び／又はこの二次粒子の圧縮変形物で形成された無機質成形板であり、前記無機質成形板の嵩密度が０．２〜０．７ｇ／ｃｍ３であることを特徴とするものである。上記の無機質成形板を有して構成される足拭きマットは、吸水量、吸水速度及び乾燥性等に優れ、しかも、機械強度も優れるという特徴を有する。
【００２８】
嵩密度が上記範囲内であれば無機質成形板に適度な空隙が形成されるため、水分の吸収や放出が容易に行えるからである。より好ましい無機質成形板の嵩密度は、０．５〜０．７ｇ／ｃｍ３である。
【００２９】
足拭きマットは、無機質成形板を直接、床面等に敷いて用いてもよいし、無機質成形板の表面、特に足を載置させる面に所望の模様形状（例えば、凹凸形状やタイル形状）に加工してから、敷いてもよく、その態様は特に限定されない。
【００３０】
上記の無機質成形板で形成される足拭きマットは、吸水速度が速く、連続使用による吸水速度の低下も少なく、さらに、乾燥速度も速いため、浴室、プール等に使用される足拭きマットとして好適である。その他、足拭きマットは、クーラーマットやキッチンマットとしても利用できる。
【００３１】
＜足拭きマットの製造方法の他の実施形態＞
上記足拭きマットの他の実施の形態について説明する。
【００３２】
足拭きマットを構成する無機質成形板は、上記のように珪酸カルシウムを必須の成分として構成されるが、さらに、樹脂（重合体）を含有していてもよい。無機質成形板が樹脂を含有している場合、得られる足拭きマットの機械的強度を向上させることができる。また、通常、珪酸カルシウムで構成される無機質成形板は、人に対して粉っぽい感触を与える、いわゆるチョーキング性を有しているが、無機質成形板が樹脂を含有している場合は、その粉っぽさ（チョーキング性）が抑制され得る。
【００３３】
上記の樹脂の種類としては、例えば、ポリアクリル酸樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸樹脂、ポリメタクリル酸エステルアクリル樹脂、スチレンアクリル酸エステル系樹脂、スチレン系樹脂、スチレン−ブタジエン系ゴム、スチレン−ブタジエン−アクリル系ゴム、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、アクリルアミド系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニリルピロリドン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアミノ酸等が例示されるが、これらに限定されるものではない。また、樹脂は、アニオン性、カチオン性、ノニオン性のいずれであてもよい。無機質成形板に含まれる樹脂は１種単独であってもよいし、２種以上であってもよい。
【００３４】
上記樹脂の添加量は特に限定されないが、例えば、無機質成形板中に１〜３質量％程度含まれていることが好ましく、この場合、樹脂による上記効果をより発揮させやすくすることができる。なお、樹脂の添加量が多過ぎると吸水速度を低下させるなどの不具合が生じるので好ましくない。
【００３５】
樹脂は、上述の工程２において、脱水成形する前の前記水性スラリーに添加することにより、無機質成形板中に含有させることができる。水性スラリーへの樹脂の添加の方法は特に制限されないが、エマルジョン等の液状で添加する方が分散しやすく好ましい。
【００３６】
上記のような樹脂が添加された水性スラリーを用いて、上述の工程２の脱水成形を行うことで、無機質成形板中に樹脂が含まれた足拭きマットを得ることができる。
【００３７】
さらなる他の実施形態として、足拭きマットは、少なくとも一方の面が処理剤で処理されている無機質成形板で構成されていてもよい。すなわち、無機質成形板の少なくとも一方の面が処理剤で被覆（コーティング）されていてもよい。足拭きマットを構成する無機質成形板の少なくとも一方の面が処理剤で処理されている場合、上記の粉っぽさ（チョーキング性）を抑制することができる。
【００３８】
処理剤としては、足拭きマットの特性（吸水性、乾燥性等）を損なわない範囲で粉っぽさ（チョーキング性）を抑制することが可能な材料であれば特に限定されないが、例えば、透湿性コーティング剤が挙げられる。透湿性コーティング剤の具体例としては、柿渋、アマニ油、荏油、ミルクペイント等の公知の透湿性塗料であるが、これらの中でも柿渋が好ましく、この場合、粉っぽさの抑制に加えて、無機質成形板の着色もできる。
【００３９】
一方、他の処理剤として、珪酸カルシウムと反応する酸性物質を含む薬剤であってもよい。このような処理剤で無機質成形板が被覆されている場合は、珪酸カルシウムを中性化することができるので、肌への刺激も低減できる。
【００４０】
珪酸カルシウムと反応する酸性物質としては、例えば、特許第２８９９７４４号公報に開示されている銅化合物などが例示される。具体的な銅化合物としては、銅の酸化物、水酸化物、塩類、ハロゲン化物等が挙げられ、銅の塩類であれば、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩、酢酸塩、各種錯塩等が例示される。より具体的には、ＣｕＳＯ４、ＣｕＳＯ４・５Ｈ２Ｏ、Ｃｕ（ＯＨ）２、ＣｕＣｌ２、ＣｕＣｌ２・２Ｈ2Ｏ、Ｃｕ（ＮＯ３）２・３Ｈ２Ｏ、Ｃｕ（ＣＨ３ＣＯＯ）２・Ｈ２Ｏ等である。上記酸性物質を用いた場合は、中性化の他に光触媒による消臭や抗菌等の効果も得られる。
【００４１】
珪酸カルシウムと反応する酸性物質としては、上記の銅化合物の他、特公昭５７−３８５５５号公報に開示されている硫酸アルミニウムが挙げられる。この場合も、上記銅化合物と同様の効果を無機質成形板に付与できる。硫酸アルミニウムとしては、無水塩（Ａｌ２（ＳＯ４）３）、含水塩（Ａｌ２（ＳＯ４）３・ｎＨ２Ｏ、ｎ＝６〜２７）等が例示される。
【００４２】
また、珪酸カルシウムと反応する酸性物質の他例としては、リン酸、またはスルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、５−スルホサリチル酸、４−トルイジンスルファミン酸及びスルファニル酸等の群から選ばれる少なくとも１種以上の有機酸が挙げられる。
【００４３】
上記の透湿性コーティング剤を含む処理剤で無機質成形板の少なくとも一方の面が処理されれば、その処理面には透湿性コーティング剤の成分を有している。すなわち、無機質成形板の処理面は、透湿性コーティング剤の成分でコーティングされる。
【００４４】
上記の珪酸カルシウムと反応する酸性物質を含む処理剤で無機質成形板を処理する場合は、その処理面は処理剤と前記無機質成形板が反応して生成した成分でコーティングされる。例えば、銅化合物としてＣｕＳＯ４・５Ｈ２Ｏを用いた場合、珪酸カルシウムと反応してＣａＣｕ４（ＳＯ４）２（ＯＨ）６・ｘＨ２Ｏ（但し、ｘは約３）、Ｃｕ４ＳＯ４（ＯＨ）６等の生成成分で無機質成形板がコーティングされる。また、銅化合物としてＣｕＣｌ２・２Ｈ２Ｏを用いたときは、Ｃｕ４（ＯＨ）６Ｃｌ２・３Ｈ２Ｏ、Ｃｕ２（ＯＨ）３Ｃｌ等の生成成分でコーティングされ、また、Ｃｕ（ＮＯ３）２・３Ｈ２Ｏ等を用いたときは、Ｃｕ２（ＯＨ）３ＮＯ３等の生成成分でコーティングされる。また、硫酸アルミニウムを用いた場合は、珪酸ゲル、アルミナゲル、アルミノ珪酸ゲル等の混合物からなる生成成分で無機質成形板がコーティングされる。
【００４５】
処理剤は透湿性コーティング剤及び珪酸カルシウムと反応する酸性物質とを併用してもよい。この場合、無機質成形板の処理面には透湿性コーティング剤、及び、珪酸カルシウムと反応する酸性物質と無機質成形板が反応して生成した成分の両方を有する。特に、酸性物質を用いて無機質成形板の表面を処理した後、さらに、その面を柿渋で処理することが好ましく、この場合、柿渋の発色ムラが解消され、意匠性にも優れる足拭きマットが得られる。
【００４６】
無機質成形板は、その片面のみが処理剤で処理されていてもよいし、全面が処理剤で処理されていてもよいが、足拭きマットとして使用した場合に、少なくとも足を載置させる面のみが処理剤で処理されていればよい。
【００４７】
無機質成形板を処理剤で処理する方法、すなわちコーティング方法については特に制限はなく、塗布や浸漬等により実施できる（以下、これらの方法を「後処理法」と略記する）。処理剤を塗布する方法は、例えば、上述の工程１、２を経て無機質成形板を成形した後、あらかじめ準備した処理剤を用いて、刷毛塗り、スプレー、ローラー等によって実施することができる。処理剤の濃度及び塗布量は無機質成形板の吸水速度等の性能を損なわない範囲で適宜決定すればよい。また、浸漬によりコーティングする場合は、例えば、上述の工程１、２を経て無機質成形板を成形した後、この無機質成形板のコーティングする面を処理剤の溶液に浸漬させるようにしてもよいし、無機質成形板の全体を処理剤の溶液に浸漬させるようにしてもよい。
【００４８】
上記後処理法による処理方法の他、上述の工程２において、脱水成形する前に処理剤を添加しておき、脱水成形することで、処理剤で処理された無機質成形板を得ることもできる。この場合の水性スラリーへの処理剤の添加の方法は特に制限されず、また、処理剤は固体状態で添加してもよいし、溶液の状態で添加してもよい。処理剤の添加量は、足拭きマットの特性（吸水性、乾燥性等）を損なわない範囲で適宜決めれば良い。
【００４９】
上記のような処理剤が添加された水性スラリーを用いて、上述と同様の工程２の脱水成形を行うことで、無機質成形板が処理剤で処理された足拭きマットを得ることができる。
【００５０】
処理剤による無機質成形板の表面処理（表面被覆）は、上記の樹脂を含有している無機質成形板、樹脂を含有していない無機質成形板のいずれにも行うことができる。また、水性スラリーにあらかじめ処理剤を添加する場合、その水性スラリーは、樹脂を含むものであってもよいし、樹脂を含んでいないものであってもよい。
【実施例】
【００５１】
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例の態様に限定されるものではない。
【００５２】
（実施例１）
生石灰４８重量部、珪石５２重量部及び水１２００重量部を混合して原料スラリーを調製し、この原料スラリーをオートクレーブ中で１．４７ＭＰａ（１５ｋｇｆ／ｃｍ２）、温度１９７℃の条件下で４時間撹拌しながら水熱反応を行った。この水熱反応により、ゾノトライトと少量のトバモライトが混在した二次粒子を含有する水性スラリーが得られた。
【００５３】
上記水性スラリーを固形分換算で７７重量部準備し、さらに、この水性スラリーにベントナイト２重量部、普通ポルトランドセメント１６重量部、古紙パルプ２重量部及びガラス繊維３重量部を順不同に混合した。上記のように種々の材料を混合させた水性スラリーを所定量型枠内に流し込んだ後、５０ｋｇｆ／ｃｍ２の圧力下で脱水させ、得られた脱水成形体を１５０℃の雰囲気下で乾燥することで無機質成形板を得た。この無機質成形板を表面研削することで、嵩密度０．４ｇ／ｃｍ３及び嵩密度０．７ｇ／ｃｍ３の２種類の無機質成形板を得た。嵩密度０．４ｇ／ｃｍ３の無機質成形板を試料Ｎｏ．１、嵩密度０．７ｇ／ｃｍ３の無機質成形板を試料Ｎｏ．２とした。
【００５４】
（実施例２）
実施例１で得たゾノトライトと少量のトバモライトが混在した二次粒子を含有する水性スラリーを固形分換算で９０重量部準備し、さらに、この水性スラリーにホワイトセメント２重量部、ガラス繊維５重量部、スチレンアクリル酸エステル系樹脂３重量部を順不同に混合した。上記のように種々の材料を混合させた水性スラリーを型枠内に流し込んだ後、５０ｋｇｆ／ｃｍ２の圧力下で脱水させ、得られた脱水成形体を１２０℃の雰囲気下で乾燥することで無機質成形板を得た。この無機質成形板を表面研削することで、嵩密度０．６ｇ／ｃｍ３の無機質成形板を得た。この無機質成形板を試料Ｎｏ．３とした。
【００５５】
（実施例３）
実施例２と同様の方法で得られた無機質成形体を所定のサイズに裁断加工した。次いで、このように裁断加工した無機質成形体の片面に９質量％の硫酸銅水溶液（工業用硫酸銅使用）を刷毛にて１００ｇ／ｍ２の塗布量で塗布した後、１０５℃の雰囲気下、２時間乾燥させた。このようにして得られた無機質成形体（嵩密度０．６ｇ／ｃｍ３）を試料Ｎｏ．４とした。
【００５６】
（実施例４）
実施例２と同様の方法で得られた無機質成形体を所定のサイズに裁断加工した。次いで、このように裁断加工した無機質成形体全体を、Ａｌ２Ｏ３換算で２質量%の硫酸アルミニウム水溶液（工業用硫酸アルミニウム使用）に浸漬させた。無機質成形体への硫酸アルミニウム水溶液のコーティング量は、溶液量換算で３００ｇ／ｍ２であった。この後、硫酸アルミニウムがコーティングされた面全体を、水で４０倍希釈した柿渋（商品名；無臭柿渋、株式会社大杉型紙工業）に浸漬させることで、無機質成形体の片面に柿渋をコーティングし、１０５℃の雰囲気下、２時間乾燥させた。無機質成形体への柿渋のコーティング量は、上記の水で４０倍希釈した柿渋の溶液量換算で１６０ｇ／ｍ２であった。上記のように得られた無機質成形体の嵩密度は０．６ｇ／ｃｍ３であり、これを試料Ｎｏ．５とした。
【００５７】
（比較例１）
特許文献１を出願している会社から市販されている足拭きマット（商品名；ＵＢ足快バスマット，タイル柄，ホームページ上では主原料は珪藻土と記載されている，本商品を島津ＸＲＤ装置（ＸＲＤ−６１００）にて粉末Ｘ線回折した結果、成分の一つとして珪酸カルシウムを含有していることが確認された）の平坦部分から試験片を切り出して試料Ｎｏ．６とした。
【００５８】
（比較例２）
珪藻土を主成分として構成される足拭きマット（商品名；バスマットライト，ホームページ上では材質として珪藻土とパルプ繊維が記載されている）の平坦部分から試験片を切り出し試料Ｎｏ．７とした。
【００５９】
［評価試験］
上記実施例１〜４で得た無機質成形体（試料Ｎｏ．１〜５）及び比較例１、２で得た試験体（試料Ｎｏ．６、７）の試験体について、吸水速度及び繰り返し吸水性能、並びに乾燥性能について、以下の方法で評価した。
【００６０】
＜吸水速度及び繰り返し吸水性能＞
１００ｍｍ×１００ｍｍ×ｔ９．５ｍｍの試験片の表面中央部にマイクロピペットで水０．１ｍＬを滴下し、滴下した水が試験片に染み込むまでの時間を計測した。水が染み込んだことを目視で確認した後、さらに、試験片中央部の同じ箇所にマイクロピペットで水０．１ｍＬを滴下し、滴下した水が試験片に染み込むまでの時間を計測した。この操作を繰り返し行い、最大２０回行った。
【００６１】
＜乾燥性能＞
１００ｍｍ×１００ｍｍ×ｔ９．５ｍｍの試験片の４側面及び裏面をアルミテープで養生し、この試験片に水を１０００ｇ／ｍ２含ませた後、食品用ラップフィルムで密閉状態にして１時間養生した。養生後の試験片を約２０℃の室内に放置し、１２時間後又は２４時間後の試験片の質量を測定し、質量減少量から乾燥量（ｇ／ｍ２）を次式により算出した。
【００６２】
乾燥量（ｇ／ｍ２）＝所定時間後の質量減少量（ｇ）／試験片の表面積（ｍ２）
ここで、所定時間とは、２４時間であり、試験片の表面積は、０．０１ｍ２である。
【００６３】
表１には、試料Ｎｏ．１〜７の試験体の嵩密度、樹脂添加量及び表面処理の有無等について示しており、あわせて吸水速度と乾燥性能の評価結果を示している。吸水速度は、吸水速度試験１回目、２回目及び２０回目の結果をそれぞれ示している。また、乾燥性能は、２４時間乾燥させた場合における乾燥量を示している。
【００６４】
【表１】
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【００６５】
表１から明らかなように、Ｎｏ．１〜５の試験片はいずれも、足拭きマットとして重要な項目である吸水性能及び乾燥性能が優れているといえる。一方、市販品のＮｏ．６（比較例１）、Ｎｏ．７（比較例２）の足拭きマットでは、吸水性能、乾燥速度が悪いことがわかる。以上より、本発明に係る製造方法で得られた足拭きマットは、吸水速度が速く、連続使用による吸水速度の低下も少なく、さらに、乾燥速度も速いことが明らかである。