(57)【要約】【課題】クリア系反射防止層を備えるパターン位相差フィルムにおいて、クリア系反射防止層に含有されるフッ素系又はシリコーン系レベリング剤の裏移りによる配向不良を低減する。【解決手段】透明基材の一方の面上に、ＪＩＳＫ７１０５によるヘイズ値が０．５％以下であって、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を含有するクリア系反射防止層を形成する反射防止層形成工程と、前記透明基材の他方の面上に配向膜を形成する配向膜形成工程と、前記配向膜上に位相差層を形成する位相差層形成工程と、を含み、少なくとも前記反射防止層形成工程後の積層体を長尺フィルムの巻取体として巻き取る工程を有しており、前記巻取体から前記長尺フィルムを引き出して、前記透明基材の他方の面上にコロナ処理又はプラズマ処理を行った後に、前記配向膜形成工程を行うパターン位相差フィルムの製造方法である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面上に、ＪＩＳＫ７１０５によるヘイズ値が０．５％以下であって、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を含有するクリア系反射防止層を形成する反射防止層形成工程と、
前記透明基材の他方の面上に、配向膜を形成する配向膜形成工程と、
前記配向膜上に、位相差層を形成する位相差層形成工程と、を含むパターン位相差フィルムの製造方法であって、
少なくとも前記反射防止層形成工程後の積層体を長尺フィルムの巻取体として巻き取る工程を有しており、
前記巻取体から前記長尺フィルムを引き出して、前記透明基材の他方の面上にコロナ処理又はプラズマ処理を行った後に、前記配向膜形成工程を行うことを特徴とするパターン位相差フィルムの製造方法。
【請求項２】
４０Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２以上１００Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２以下の強度で前記コロナ処理を行う、請求項１に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記透明基材がトリアセチルセルロースである請求項１又は２に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
【請求項４】
透明基材の一方の面上に、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を含有するクリア系反射防止層が形成されており、
前記透明基材の他方の面は、水の接触角が５５度以下であり、
ＪＩＳＫ７１０５によるヘイズ値が０．５％以下であるパターン位相差フィルム用の表面材フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイが提供されている。ここでフラットパネルディスプレイにおいて３次元表示をするには、通常、何らかの方式で右目用の画像と、左目用の画像とを、それぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することが必要である。右目用の画像と左目用の画像とを選択的に提供する方法としては、例えば、パッシブ方式が知られている。このパッシブ方式の３次元表示方式について図を参照しながら説明する。図３は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の３次元表示の一例を示す概略図である。この図３の例では、液晶表示パネルの垂直方向に連続する画素を、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分け、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。なおこれにより液晶表示パネルの画面は、例えば短辺が垂直方向で長辺が水平方向である帯状の領域により、右目用の画像を表示する領域と左目用の画像を表示する領域とに交互に区分される。
【０００３】
さらにパッシブ方式では、液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換する。このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける領域の設定に対応して、遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）が直交する２種類の帯状領域が順次交互に形成される。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、＋４５度と−４５度、又は０度と＋９０度の組み合わせが採用される。なおこの図３の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。
【０００４】
このパッシブ方式は、応答速度の遅い液晶表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で３次元表示することができる。
【０００５】
このパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。このパターン位相差フィルムに関して、特許文献１には、配向規制力を制御した光配向層をガラス基板上に形成し、この光配向層により液晶の配列をパターニングして位相差層を作成する方法が開示されている。また特許文献２には、全面を露光処理した後、マスクを使用して露光処理することにより光配向層を作製し、この光配向層の配向規制力により液晶層を配向させて硬化させることにより、パターン位相差フィルムを作製する方法が開示されている。
【０００６】
また各種ディスプレイの表面に使用されるいわゆる偏光板用表面材では、種々の光反射防止方法が採用されており、その反射防止方法の１つに、低屈折率の材料（アクリル系などのいわゆるクリア系反射防止表面材である）を透明基材の一方の面に形成することにより、０．５％以下の低ヘイズ（曇り度）のクリア系反射防止層を形成し、透明感を確保して反射率を低減する方法が採用されている。このクリア系反射防止表面材による反射防止に関しては、特許文献３等に種々の工夫が提案されている。このクリア系の表面材料による反射防止は、低屈折率の材料による表面膜を反射防止対象の表面に作製することにより、この表面層の表側面で反射する反射光と、この表面層の下層側面で反射する反射光との干渉により反射光の光量を低減して反射防止を図るものである。
【０００７】
ところでパターン位相差フィルム等の光学フィルムにおいても、透明基材上の一方の側の面へのクリア系反射防止層の形成により反射防止を図るようにすれば、画像表示パネルに配置して高品位の画像を表示できると考えられる。しかしながら、パターン位相差フィルム等の光学フィルムにクリア系反射防止層を適用して反射防止を図る場合、反射防止層中には耐擦傷性のためにフッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を含有しており、このフッ素系又はシリコーン系のレベリング剤が次工程において巻き取られる際に配向膜上に裏移りすることで、配向膜の配向性に悪影響を与え、結果として位相差層の性能が低下するという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−０４９８６５号公報
【特許文献２】特開２０１２−０４２５３０号公報
【特許文献３】特開２００７−２７２１３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パターン位相差フィルム等の光学フィルムに関して、クリア系反射防止層を形成して反射防止を図る場合にあっても、クリア系反射防止層中に含有されるフッ素系又はシリコーン系のレベリング剤の配向膜への裏移りを防止して位相差層の配向性を維持することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、クリア系反射防止層を形成後、配向膜を形成する前に、クリア系反射防止層の表面にコロナ処理又はプラズマ処理を行うことで、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤の配向膜上への裏移りを抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【００１２】
（１）  透明基材の一方の面上に、ＪＩＳＫ７１０５によるヘイズ値が０．５％以下であって、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を含有するクリア系反射防止層を形成する反射防止層形成工程と、
前記透明基材の他方の面上に、配向膜を形成する配向膜形成工程と、
前記配向膜上に、位相差層を形成する位相差層形成工程と、を含むパターン位相差フィルムの製造方法であって、
少なくとも前記反射防止層形成工程後の積層体を長尺フィルムの巻取体として巻き取る工程を有しており、
前記巻取体から前記長尺フィルムを引き出して、前記透明基材の他方の面上にコロナ処理又はプラズマ処理を行った後に、前記配向膜形成工程を行うことを特徴とするパターン位相差フィルムの製造方法である。
【００１３】
（１）によれば、配向層形成面となる透明基材の他方の面上にコロナ処理又はプラズマ処理を行うことで、レベリング剤を透明基材の他方の面上に化学的に固定することができ、その結果、配向膜へのレベリング剤の移行を抑えることができる。これにより、配向膜の配向性や位相差層の膜厚ムラ抑制を図ることができる。
【００１４】
（２）  （１）において、
４０Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２以上１００Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２以下の強度で前記コロナ処理を行うパターン位相差フィルムの製造方法である。
【００１５】
（２）によれば、透明基材へのダメージを少なくして配向膜へのレベリング剤の移行を効果的に抑えることができる。
【００１６】
（３）  （１）又は（２）において、
前記透明基材がトリアセチルセルロースであるパターン位相差フィルムの製造方法である。
【００１７】
（３）によれば、透明基材がトリアセチルセルロースの場合に特にレベリング剤の移行が問題となりやすいので本発明が効果的に使用される。
【００１８】
（４）  透明基材の一方の面上に、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を含有するクリア系反射防止層が形成されており、
前記透明基材の他方の面は、水の接触角が５５度以下であり、
ＪＩＳＫ７１０５によるヘイズ値が０．５％以下であるパターン位相差フィルム用の表面材フィルム。
【００１９】
（４）の表面材フィルムを用いることで、配向膜の配向性や位相差層の膜厚ムラ抑制に優れるパターン位相差フィルムを提供できる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、クリア系反射防止層を形成して反射防止を図る場合にあっても、クリア系反射防止層中に含有されるシリコーン系のレベリング剤が、透明基材の他方の面を介して配向層側へ裏移りするのを防止し、配向膜の配向性や位相差層の膜厚ムラ抑制を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す斜視図である。
【図２】図１のパターン位相差フィルムの製造工程を示す図である。
【図３】パターン位相差フィルムの説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００２３】
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す図である。この第１実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向（図１においては左右方向が対応する方向である）に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の画像を表示する帯状の領域と、左目用の画像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面（視聴者側面）に、パターン位相差フィルム１が配置され、このパターン位相差フィルム１により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
【００２４】
ここでパターン位相差フィルム１は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）、アクリル、シクロオレフィンポリマー等の透明フィルムからなる透明基材２の一方の面上に、配向層３、位相差層４が順次設けられる。図示しないが、必要に応じてさらに感圧接着剤層、セパレータフィルムが積層されていてもよい。この場合、パターン位相差フィルム１は、セパレータフィルムを引き剥がして感圧接着剤層が露出され、感圧接着剤層により画像表示パネルのパネル面に貼り付けられて保持される。
【００２５】
透明基材２として、本発明においては、ＴＡＣが好ましく用いられる基材フィルムの厚さは、好ましくは１２０μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下、特に好ましくは８０μｍ以下である。
【００２６】
パターン位相差フィルム１は、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により位相差層４が形成され、この液晶材料の配向を配向層３の配向規制力によりパターニングする。なおこの液晶分子の配向を図１では細長い楕円により誇張して示す。このパターニングにより、パターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域（第１の領域）Ａと左目用の領域（第２の領域）Ｂとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
【００２７】
パターン位相差フィルム１は、たとえば、光配向材料により光配向材料層が作製された後、いわゆる光配向の手法によりこの光配向材料層に直線偏光による紫外線を照射し、これにより光配向の手法を適用して配向層３が形成される。ここでこの光配向材料層に照射する紫外線は、その偏光の方向が右目用の領域Ａと左目用の領域Ｂとで９０度異なるように設定され、これにより位相差層４に設けられる液晶材料に関して、右目用の領域Ａ及び左目用の領域Ｂとで対応する向きに液晶分子を配向させ、透過光に対応する位相差を与える。なお光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を適用することができるものの、この実施形態では、一旦配向した後には、紫外線の照射によって配向が変化しない、例えば光２量化型の材料を使用する。なおこの光２量化型の材料については、「M.Schadt,  K.Schmitt,  V.  Kozinkov  and  V.  Chigrinov  :  Jpn.  J.  Appl.Phys.,  31,  2155  (1992)」、「M.  Schadt,  H.  Seiberle  and  A.  Schuster  :  Nature,  381,  212  (1996)」等に開示されており、例えば「ROP-103」（Rolic  technologies  Ltd.社製）の商品名により既に市販されている。
【００２８】
位相差層４を構成する材料としては、光重合性ネマチック液晶などの重合性液晶材料が使用でき特に限定されない。
【００２９】
さらにこの実施形態において、パターン位相差フィルム１は、基材２の他方の面に、反射防止層５が順次設けられる。なお、図示しないが、必要に応じて、反射防止層５上に保護フィルムが形成されていてもよい。保護フィルムは、生産過程において、この反射防止層５の他の部位への張り付きを防止し、さらには生産過程、搬送過程において、パターン位相差フィルム１の傷つきを防止するために配置される。保護フィルムは、その後の工程である光学特性（欠陥）の検査の妨げにならないように、透明であって、かつ配向性の小さなフィルムが適用される。より具体的に、ポリエチレンフィルム、ＰＥＴ（Polyethylene  terephthalate）フィルム等を適用することができる。
【００３０】
本発明における反射防止層５は、ＪＩＳＫ７１０５によるヘイズ値が０．５％以下のクリア系反射防止層である。反射率（Ｙ値）としては２％以下であることが好ましい。なお、ハードコート層などが更に積層されていてもよい。クリア系反射防止層とは、上記のように、反射防止層の他の例である防眩層（アンチグレア：ＡＧともいう。一般にヘイズが１％以上）とは異なり、クリア系反射防止層は低ヘイズである。なお、本発明におけるヘイズ値は、透明基材上に反射防止層を積層した状態（表面材フィルムの状態）で測定した値であり、ここで、一般に透明基材自体のヘイズは０．５％以下程度である。
【００３１】
クリア系反射防止層としては、上記の特許文献３や４に記載されているものでヘイズ値が０．５％以下であるものを選択すればよく特に限定されない。市販品としては、ＴＡＣ基材ベースのクリアＬＲ  ＣＶ−ＬＣ（富士フイルム社製）や、ＲｅａＬｏｏｋ（日油社製）などが使用できる。
【００３２】
本発明においては、このクリア系反射防止層中にシリコーン系のレベリング剤を含有している。フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤としては、特開２０１３−１３７５５９号公報や特開２００５−２８３６１１号公報に記載されているような公知の一般的なレベリング剤が使用できる。レベリング剤を添加した反射防止層は、塗布又は乾燥時に塗膜表面に対して塗工安定性、滑り性、防汚染性、及び耐擦傷性を付与することができる。反射防止層のレベリング剤の添加量としては、組成物の全固形分に対して１０重量％以下が好ましく、０〜９重量％がより好ましく、０．０１〜８重量％がさらに好ましい。
【００３３】
レベリング剤としては、電離放射線硬化基を有しても、有さなくてもよい。レベリング剤として市販のものを使用することもできる。本発明において使用することができる市販のレベリング剤としては、例えば以下のものが挙げられる。
【００３４】
電離放射線硬化基を有しない市販のレベリング剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックシリーズ（ＭＣＦ３５０−５、Ｆ４７２、Ｆ４７６、Ｆ４４５、Ｆ４４４、Ｆ４４３、Ｆ１７８、Ｆ４７０、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４７７、Ｆ４８２、Ｆ４８６、ＴＦ１０２５、Ｆ４７８、Ｆ１７８Ｋ等）；信越化学工業（株）製のＸ２２−３７１０、Ｘ２２−１６２Ｃ、Ｘ２２−３７０１Ｅ、Ｘ２２１６０ＡＳ、Ｘ２２１７０ＤＸ、Ｘ２２４０１５、Ｘ２２１７６ＤＸ、Ｘ２２−１７６Ｆ、Ｘ２２４２７２、ＫＦ８００１、Ｘ２２−２０００等；チッソ（株）製のＦＭ４４２１、ＦＭ０４２５、ＦＭＤＡ２６、ＦＳ１２６５等；東レ・ダウコーニング（株）製のＢＹ１６−７５０、ＢＹ１６８８０、ＢＹ１６８４８、ＳＦ８４２７、ＳＦ８４２１、ＳＨ３７４６、ＳＨ８４００、ＳＦ３７７１、ＳＨ３７４９、ＳＨ３７４８、ＳＨ８４１０等；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＴＳＦシリーズ（ＴＳＦ４４６０、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４７３０、ＴＳＦ４７７０等）、ＦＧＦ５０２、ＳＩＬＷＥＴシリーズ（ＳＩＬＷＥＴＬ７７、ＳＩＬＷＥＴＬ２７８０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０８、ＳＩＬＷＥＴＬ７００１、ＳＩＬＷＥＴＬ７００２、ＳＩＬＷＥＴＬ７０８７、ＳＩＬＷＥＴＬ７２００、ＳＩＬＷＥＴＬ７２１０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２２０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２３０、ＳＩＬＷＥＴＬ７５００、ＳＩＬＷＥＴＬ７５１０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６００、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０２、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０５、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０７、ＳＩＬＷＥＴＬ７６２２、ＳＩＬＷＥＴＬ７６４４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６５０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６５７、ＳＩＬＷＥＴＬ８５００、ＳＩＬＷＥＴＬ８６００、ＳＩＬＷＥＴＬ８６１０、ＳＩＬＷＥＴＬ８６２０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２０）等を挙げることができる。また（株）ネオス製のフタ―ジェントシリーズ（ＦＴＸ２１８、２５０、２４５Ｍ、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２４５Ｆ、２０８Ｇ、２１８Ｇ、２４０Ｇ、２０６Ｄ、２４０Ｄ等）やＫＢシリーズ等、ビックケミー・ジャパン（株）製のＢＹＫ３３３、３００等、共栄社化学（株）製のＫＬ６００等も挙げられる。
【００３５】
電離放射線硬化基を有するものとして、信越化学工業（株）製のＸ２２−１６３Ａ、Ｘ２２−１７３ＤＸ、Ｘ２２−１６３Ｃ、ＫＦ１０１、Ｘ２２１６４Ａ、Ｘ２４−８２０１、Ｘ２２１７４ＤＸ、Ｘ２２１６４Ｃ、Ｘ２２２４２６、Ｘ２２２４４５、Ｘ２２２４５７、Ｘ２２２４５９、Ｘ２２２４５、Ｘ２２１６０２、Ｘ２２１６０３、Ｘ２２１６４Ｅ、Ｘ２２１６４Ｂ、Ｘ２２１６４Ｃ、Ｘ２２１６４Ｄ、ＴＭ０７０１等；チッソ（株）製のサイラプレーンシリーズ（ＦＭ０７２５、ＦＭ０７２１、ＦＭ７７２５、ＦＭ７７２１、ＦＭ７７２６、ＦＭ７７２７等）；東レ・ダウコーニング（株）製のＳＦ８４１１、ＳＦ８４１３、ＢＹ１６−１５２Ｄ、ＢＹ１６−１５２、ＢＹ１６−１５２Ｃ、８３８８Ａ等；新中村化学工業（株）製のＳＵＡ１９００Ｌ１０、ＳＵＡ１９００Ｌ６等；ダイセル・サイテック（株）製のＥｂｅｃｒｙｌ１３６０、Ｅｂｅｃｒｙｌ３５０、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７７３４等；エボニック  デグサ  ジャパン（株）製のＴＥＧＯ  Ｒａｄ２１００、２２００Ｎ、２５００、２６００，２７００等；出光興産（株）製のＡＦ１００；三菱化学（株）製のＨ５１２Ｘ、Ｈ５１３Ｘ、Ｈ５１４Ｘ等；ダイキン工業（株）製のオプツールＤＡＣ；日本合成社製のＵＴ３９７１、ＵＴ４３１５、ＵＴ４３１３；ＤＩＣ（株）製のデイフェンサシリーズ（ＴＦ３００１、ＴＦ３０００、ＴＦ３００４、ＴＦ３０２８、ＴＦ３０２７、ＴＦ３０２６、ＴＦ３０２５等）、ＲＳシリーズ（ＲＳ７１、ＲＳ１０１、ＲＳ１０２、ＲＳ１０３、ＲＳ１０４、ＲＳ１０５等）；ビックケミー・ジャパン（株）製のＢＹＫ３５００；共栄社化学（株）製のライトプロコートＡＦＣ３０００；信越シリコーン社製のＫＮＳ５３００；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＵＶＨＣ１１０５、ＵＶＨＣ８５５０；日本ペイント（株）製のＡＣＳ−１１２２、リペルコートシリーズ等を挙げることができる。
【００３６】
＜パターン位相差フィルムの製造方法＞
次に、本発明のパターン位相差フィルムの製造方法について説明する。図２は、このパターン位相差フィルム１の製造工程を示すフローチャートである。パターン位相差フィルム１の製造工程は、ロールに巻き取った長尺フィルムにより基材２が提供され、この基材２をロールより引き出して順次クリア系反射防止処理することによりクリア系反射防止層５が作製される（ＳＰ１−ＳＰ２）。続いてこの製造工程は、一旦、基材２をロールに巻き取って光配向層の成層工程に基材２を搬送し、又は直接に基材２を光配向層（配向膜）の成層工程に搬送し、光配向材料層が順次作製される（ＳＰ３）。ここで光配向材料層は、各種の製造方法を適用することができるものの、この実施の形態では、光配向材料をベンゼン等の溶媒に分散させた塗工液をダイ等により塗工した後、乾燥して作製される。
【００３７】
続いてこの製造工程は、露光工程により紫外線を照射して光配向層が作製される（ＳＰ４）。ここで露光工程では、マスクを使用した直線偏光による紫外線の照射により、右目用領域又は左目用領域に対応する領域を選択的に露光処理した後、偏光方向が直交する直線偏光による紫外線を全面に照射することにより、実行される。
【００３８】
続いてこの製造工程は、位相差層作製工程において、ダイ等により液晶材料の塗工液を塗工した後、紫外線の照射によりこの液晶材料を硬化させ、位相差層４が作製される（ＳＰ５）。続いて巻き取り工程（ＳＰ６）において、クリア系反射防止層５、配向層３、位相差層４を作製してなる基材２をロールに巻き取る。これにより光学フィルムであるパターン位相差フィルムの中間製品が完成する。
【００３９】
この製造工程は、この中間製品であるロールを切断工程に搬送し、所望の大きさに切り出してパターン位相差フィルム１が作製される（ＳＰ７）。なおパターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルの出射面側に配置される直線偏光板と一体化して液晶表示パネルの製造工程に供給される場合もあり、この場合は、ロールから引き出された基材２に直線偏光板に係る光学機能層が設けられた後、切断工程により所望の大きさに切断される。また液晶表示パネルのパネル面への配置に係る粘着層等を設ける場合もあり、この場合もロールから引き出された基材２に粘着層、セパレータフィルムが設けられた後、切断工程により所望の大きさに切断される。この製造工程は、このようにして生産したパターン位相差フィルム１が、製品検査工程により検査されて出荷される（ステップＳＰ８−ＳＰ９）。
【００４０】
＜コロナ処理又はプラズマ処理＞
ここで、本発明においては、クリア系反射防止処理することによりクリア系反射防止層５を形成する工程（ＳＰ２）と、光配向材料層（配向膜）を形成する工程（ＳＰ３）との間に、クリア系反射防止層の表面にコロナ処理又はプラズマ処理工程（ＳＰ１０）を行うことを特徴としている。
【００４１】
具体的には、クリア系反射防止層５を形成する工程（ＳＰ２）の後、一旦、クリア系反射防止層５が積層された基材２をロールに巻き取る。このとき、クリア系反射防止層５に含有されるフッ素系又はシリコーン系のレベリング剤は、巻き取り時に、基材２のクリア系反射防止層５とは反対側の面（本発明における透明基材の他方の面である）に裏移りする。そして、次工程では巻取体から長尺フィルムを再度引き出して、配向膜３や位相差層４を形成する。この際に、レベリング剤は配向膜３又は位相差層４に移行し、これにより配向膜３の配向性や位相差層４の膜厚を乱す。
【００４２】
このため、本発明においては、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤が配向膜３又は位相差層４上に移行する前、すなわち配向膜形成工程前に、基材２のクリア系反射防止層５とは反対側の面（透明基材の他方の面）に対して、コロナ処理又はプラズマ処理工程（ＳＰ１０）を行うことで、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を基材２上にグラフトなどによって化学的に固定する。これによりレベリング剤が配向膜３又は位相差層４上に移行するのを抑制するものである。コロナ処理又はプラズマ処理は従来公知の処理装置が適宜使用でき特に限定されない。
【００４３】
処理強度は固定化が行われて遊離を抑制できればよく、かつ、基材のダメージが少ない強度であることが好ましい。具体的には、４０Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２以上１００Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２以下の強度でコロナ処理を行うことが好ましい。４０Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２未満であると固定化が不十分であるので好ましくなく、１００Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２を超えると透明基材へのダメージが大きくなり、かえって外観不良となるので好ましくない。また、処理後の表面における水の接触角は５５度以下であることが好ましく、好ましくは１０度以上５０度以下である。
【００４４】
なお、このコロナ処理又はプラズマ処理工程が行われた段階における表面材フィルム、すなわち、透明基材の一方の面上にフッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を含有するクリア系反射防止層が形成されており、前記透明基材の他方の面は、水の接触角が５５度以下であり、ＪＩＳＫ７１０５によるヘイズ値が０．５％以下であるパターン位相差フィルム用の表面材フィルムも本発明の一つである。
【００４５】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
【００４６】
すなわち上述の実施形態では、垂直方向に順次右目用及び左目用の画素を設定して第１及び第２の領域を帯状に作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、右目用及び左目用の画素の割り当てを垂直方向及び水平方向に実行して、画素単位の市松模様の配置により第１及び第２の領域を設定する場合にも広く適用することができる。
【００４７】
また上述の実施形態では、光配向の手法により配向層を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、賦型処理により微細な凹凸形状を作製して配向層を作製する場合にも広く適用することができる。
【００４８】
また上述の実施形態では液晶表示パネルによる画像表示パネルに配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ＥＬ素子による画像表示パネル、プラズマディスプレイによる画像表示パネルに配置する場合等にも広く適用することができる。
【実施例】
【００４９】
以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの記載に何ら制限を受けるものではない。
【００５０】
＜実施例１＞
図２の製造方法によって図１の構成のパターン位相差フィルムを作成した。まず、基材２上に反射防止層５が形成されたフィルムとして、ＴＡＣフィルム８０μｍ（ＴＤ８０ＵＬ：フジフィルム社製）上に、１０μｍのクリアーハードコート層（クリア系反射防止層）が形成されている表面材フィルムを巻取体として用意した（ヘイズ０．３％）。なお、当該フィルムの反射防止層中にはシリコーンのレベリング剤（Ｘ２２−１６２Ｃ：信越化学社製）が約４質量％（固形分比）含有されている。
【００５１】
次に、巻取体から長尺フィルムを引き出すと共に、表面材フィルムにおける基材２のクリア系反射防止層５とは反対側の面（透明基材の他方の面）に対して、４０Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２の強度でコロナ処理を行い、その後に、この処理面上に、配向層３としてＷＯ２０１０／１５０７４８記載の（Ａ）光二量化部位及び熱架橋化部位を有するアクリル共重合体と（Ｂ）架橋剤とを含む塗工液をダイコーティングにより塗布乾燥した後、２０ｍＪ／ｃｍ２の光量による直線偏光による紫外線をパターン照射して厚さ０．１μｍ程度の配向層３を作成して巻き取り体を得た。このときの直線偏光光は、搬送方向ＭＤに対して±４５度の角度を持った光とした。
【００５２】
次に、位相差層４として、光重合性ネマチック液晶（重合液晶単独の屈折率１．６０）の液晶層組成物（溶剤としてＭＩＢＫ使用）を、ダイコーティングにより配向膜３上に塗布して乾燥させ、その後ＵＶ照射により重合させて厚さ１μｍの位相差層を形成してパターン位相差フィルムを得た。
【００５３】
＜実施例２＞
実施例１において、コロナ処理の強度を６０Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２とした以外は実施例１と同様にしてパターン位相差フィルムを得た。
＜実施例３＞
実施例１において、コロナ処理の強度を８０Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２とした以外は実施例１と同様にしてパターン位相差フィルムを得た。
＜比較例１＞
実施例１において、コロナ処理を行わなかった以外は実施例１と同様にしてパターン位相差フィルムを得た。
＜比較例２＞
実施例１において、コロナ処理の強度を１０Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２とした以外は実施例１と同様にしてパターン位相差フィルムを得た。
＜比較例３＞
実施例１において、コロナ処理の強度を２００Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２とした以外は実施例１と同様にしてパターン位相差フィルムを得た。
【００５４】
＜外観＞
実施例及び比較例のパターン位相差フィルムについて、クロスニコル下にて外観（配向性）を評価した。
＜接触角＞
コロナ処理実施後、水の接触角を接触角計（ＤＭ−３０１：協和界面科学社製）で配向膜を塗布する前の塗工面を測定した。
＜表面の元素割合＞
コロナ処理実施後、配向膜まで塗布した状態でＸＰＳ(ＡＸＩＳ  Ｎｏｖａ  ：ＫＲＡＴＯＳ社製）測定し、配向膜表面までブリードしたＳｉの元素割合（％）を定量した。
それぞれの結果を表１に示す。
【００５５】
【表１】
2015025969.tif 000003
【００５６】
表１の結果から、コロナ処理を行った実施例においては、クロスニコル評価における配向性が良好であり、適度なコロナ処理によってレベリング剤の裏移りによる外観不良が抑制されていることが理解できる。
【符号の説明】
【００５７】
１  パターン位相差フィルム
２  透明基材
３  配向膜
４  位相差層
５  反射防止層
ＳＰ１０  コロナ処理又はプラズマ処理
【図１】
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【図２】
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【図３】
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