(57)【要約】      （修正有）【課題】圧入時に発生する金属屑の外部排出および内部侵入を抑制した気密信頼性の高いベースおよび圧電振動子を提供する。【解決手段】水晶振動子において、ベース２の外周部（外側面２００）の下端側であってキャップ４のベース２への圧入後の状態でキャップ４に覆われる位置には溝５が形成されている。溝５はベース２の上端側に傾斜面５ａを有し、当該傾斜面５ａと連続するベース２の外周部（外側面２００）と、傾斜面５ａとの成す角αは鈍角になっている。【選択図】図３
2015142182.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リード端子が貫通するように固着された圧電振動子用のベースであって、
前記ベースの外周部に、一方端が開口した筒状のキャップが圧入されることにより、当該キャップの内部に前記リード端子の一端側に保持された圧電振動片が気密に封止され、
前記ベースの外周部の下端側であって前記キャップのベースへの圧入後の状態においてキャップに覆われる位置に溝が形成されてなり、
前記溝は少なくともベースの上端側に傾斜面または曲面を有し、当該傾斜面または曲面と連続するベースの外周部と、前記傾斜面または前記曲面の接線との成す角が鈍角となっていることを特徴とするベース。
【請求項２】
請求項１に記載のベースの、前記リード端子の一端側に圧電振動片が保持され、前記ベースの外周部に一方端が開口した筒状のキャップが圧入された圧電振動子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は圧電振動子用のベースおよび当該ベースを用いた圧電振動子に関する。
【背景技術】
【０００２】
圧電振動子は移動体通信機器等、様々な分野において基準発振源として用いられている。例えばシリンダー形状の水晶振動子は、図９に示すようにベース１０に固定されたリード端子２１，２２の一端側に水晶振動片３を保持した状態で、円筒状のキャップ１１をベース１０に圧入することによって水晶振動片３を気密封止した構成となっている。このような構成の水晶振動子は例えば特許文献１乃至２に開示されている。
【０００３】
図１０に示すようにベース１０は、金属製で円筒状のシェル１００に絶縁ガラスＧが充填され、絶縁ガラスＧの内部を貫通するようにリード端子２１，２２が固着された構成となっている。シェル１００やリード端子２１，２２等の表面には電界メッキ法によってメッキ被膜Ｍが形成されている。そしてキャップ１１の内径は気密性を確保するためにシェル１００の内径よりも小さく設定されており、キャップのベースへの圧入時にはキャップの内周面がシェルの外周面のメッキ被膜に接触しながら押し込まれる。
【０００４】
シェル１００の外周面のメッキ被膜Ｍは、キャップの表面（外周面および内周面を含む）に施されるメッキ被膜（図示省略）よりも軟質の金属となっている。このため図１１に示すように、ベース１０へのキャップ１１の押し込み時にはシェル１００の外周面のメッキ被膜Ｍが、キャップの開口端部によって削られなから矢印の方向に押し出され、金属屑ＭＦ（メッキカス）が発生して水晶振動子の外部に脱落することがあった。このように金属屑が水晶振動子の外部に脱落すると、脱落した金属屑が圧入工程で用いられる治工具等に付着し、水晶振動子の特性悪化や絶縁不良等に至ることがある。また、前記金属屑がキャップの内部（水晶振動子の内部）に侵入することもあり、当該金属屑が水晶振動片等に付着すると水晶振動子の特性悪化や絶縁不良等の不具合が発生する虞がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−１０９４０９号
【特許文献２】特開２００５−２２９５１６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献２には、前記シェル（プラグ）の上端側（水晶振動片が取り付けられる側）の肩部にスペーサなる溝を形成した構成が開示されている。特許文献２における実施形態では、圧入工程終了後において前述の金属屑がケース（キャップ）内にできるだけ残らないようにする工夫が開示されている（［００３０］参照）。
【０００７】
しかしながら特許文献２におけるシェルは、溝はシェルの先端側の肩部に形成されているため圧入によって発生した金属屑が溝の内部に収まりきらずにケース内に残存する虞がある。ケース内に金属屑が残存した場合、リード端子間への金属屑の付着による絶縁不良や圧電振動片に形成された各種電極への金属屑の付着による発振不良や直列抵抗値の悪化等といった不具合が発生する虞がある。また、特許文献２におけるシェルでは、圧入によって発生した金属屑が圧電デバイスの外部に脱落する虞がある。
【０００８】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、圧入時に発生する金属屑の外部排出および内部侵入を抑制した気密信頼性の高いベースおよび圧電振動子を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために請求項１に係る発明は、リード端子が貫通するように固着された圧電振動子用のベースであって、前記ベースの外周部に、一方端が開口した筒状のキャップが圧入されることにより、当該キャップの内部に前記リード端子の一端側に保持された圧電振動片が気密に封止され、前記ベースの外周部の下端側であって前記キャップのベースへの圧入後の状態においてキャップに覆われる位置に溝が形成されてなり、前記溝は少なくともベースの上端側に傾斜面または曲面を有し、当該傾斜面または曲面と連続するベースの外周部と、前記傾斜面または前記曲面の接線との成す角が鈍角となっている。
【００１０】
上記発明によれば、ベースへのキャップの圧入時に発生した金属屑の圧電振動子の外部への排出を抑制することができる。これは前記溝が少なくともベースの上端側に傾斜面または曲面を有しており、当該傾斜面または曲面と連続するベースの外周部と、前記傾斜面または前記曲面の接線との成す角が鈍角となっていることによる。つまり当該構成の溝により、圧入時にベース外周部とキャップとの摩擦によってベースの下端側へ削り出されてきた金属屑が溝の内部にスムーズに入り込みやすくなる。これより、ベース外周面に対して垂直方向に掘り込まれた壁面のみで構成される溝に比べて、より確実に溝の内部に金属屑を誘導することができる。そして前記溝はキャップで覆われる位置に形成されているため、溝の内部に侵入した金属屑が圧入工程終了時において圧電振動子の外部へ排出されるのを抑制することができる。
【００１１】
また、前記溝はベースの外周部の下端側であってキャップのベースへの圧入後の状態においてキャップに覆われる位置に形成されているため、圧入によって発生した金属屑が溝の内部に収まりきらずにキャップの内部空間に侵入するのを抑制することができる。これにより、絶縁不良や発振不良や直列抵抗値の悪化等の不具合を防止することができる。
【００１２】
なお前記溝の深さがベースの下端側に向かって漸次深くなっていてもよい。このような構成の場合、ベースへのキャップの圧入時に発生した金属屑の圧電振動子の内部および外部への排出を抑制することができる。一般に圧入工程において、キャップがベースに押し込まれるに従ってキャップとベースとの摩擦によって削り出される金属屑の発生量が累積的に増加していく。これに対して前記構成の溝は請求項１の構成に加え、溝の深さがベースの下端側に向かって漸次深くなっているため、金属屑の発生量の増加に対応した形状となる。これによって、より溝の奥側まで前記金属屑を入り込ませることができる。
【００１３】
また、前記溝がベースの外周方向において不連続に複数形成されるとともに、当該複数の溝はベースの幅方向に対して同一の方向に傾斜し、かつ隣接する溝同士の一部がベースの外周方向と直交する方向において重畳するように所定の間隔を空けて形成されていてもよい。
【００１４】
前記構成の場合、前記金属屑をより確実に溝の内部に入り込ませることができる。これは１つの溝の内部に金属屑が圧入方向において確実に収まらなかった場合であっても、当該溝から溢出した金属屑をキャップの開口端による押し出しによって隣接する溝の内部に収めることができるためである。すなわち、前記複数の溝がベースの幅方向に対して同一の方向に傾斜し、かつ隣接する溝同士の一部がベースの外周方向と直交する方向において重畳するように所定の間隔を空けて形成されているため、隣接する溝のうち前記重畳する領域または当該領域とその近傍領域によって２次的に金属屑を溝内に収容することができるためである。
【００１５】
また、上記目的を達成するために請求項２に係る発明は、請求項１に記載のベースの、前記リード端子の一端側に圧電振動片が保持され、前記ベースの外周部に一方端が開口した筒状のキャップが圧入された圧電振動子となっている。
【００１６】
上記発明によれば、前述の作用効果を奏するベースを用いているため、ベースへのキャップの圧入時に発生した金属屑の圧電振動子の外部への排出を抑制できるとともに、前記金属屑がキャップの内部空間に侵入するのも抑制した圧電振動子を得ることができる。
【発明の効果】
【００１７】
以上のように本発明によれば、圧入時に発生する金属屑の外部排出および内部侵入を抑制した気密信頼性の高いベースおよび圧電振動子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る水晶振動子の透視斜視図
【図２】本発明の第１の実施形態に係るベースの斜視図
【図３】本発明の第１の実施形態に係る水晶振動子の圧入前における断面模式図
【図４】本発明の第１の実施形態に係る水晶振動子の圧入開始後における部分拡大図
【図５】本発明の第１の実施形態に係る水晶振動子の圧入後における部分拡大図
【図６】本発明の第１の実施形態の変形例を係るベースの部分拡大図
【図７】本発明の第２の実施形態に係るベースの側面模式図
【図８】本発明の第２の実施形態に係るベースの溝の拡大図
【図９】従来の水晶振動子の分解斜視図
【図１０】従来の水晶振動子の圧入前における断面模式図
【図１１】従来の水晶振動子の圧入開始後における断面模式図
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の第１の実施形態として音叉型水晶振動子を例に挙げて図面を参照しながら説明する。まず本実施形態において音叉型水晶振動子を構成する主要部材について図１乃至３を参照しながら説明する。
【００２０】
−第１の実施形態−
図１に示す音叉型水晶振動子１は、リード端子２１，２２を有するベース２と、リード端子２１，２２の一端側２１ａ，２２ａに接合される音叉型水晶振動片３と、ベース２の外周部を覆うように圧入されるキャップ４とが主な構成部材となっている。音叉型水晶振動片３は、はんだ材（図示省略）を介してリード端子２１，２２と接合される。
【００２１】
図２に示すベース２は、金属製のシェル２０と、当該シェルの内側に充填された絶縁ガラスＧと、当該絶縁ガラスを貫通するように固定された一対のリード端子２１，２２とで構成されている。シェル２０は例えば４２アロイを基体としており、上下方向に貫通した略円筒形状となっている。なお、このシェルの材料として４２アロイ以外にコバールあるいは鉄ニッケル系合金を用いてもよい。
【００２２】
リード端子２１，２２はコバールを基体とし、線状に加工されている。これらのリード端子はシェル２０の内部に所定の間隔を以って貫通配置されている。シェル２０の内側に充填される絶縁ガラスＧは例えばホウケイ酸ガラスからなり、この絶縁ガラスＧによってシェル２０とリード端子２１，２２とが各々電気的に独立した状態で固定されている。
【００２３】
図２では図示していないが、シェル２０の基体表面およびリード端子２１，２２の基体表面にはそれぞれ金属膜Ｍ１が形成されている。金属膜Ｍ１は、Ｃｕ層からなる下地金属層の上面に、Ｓｎ−Ｃｕ層が積層された２層構成となっている。前記Ｃｕ層は例えば２〜５μｍの厚みで形成され、前記Ｓｎ−Ｃｕ層は９〜１５μｍの厚みでメッキ法によって形成されている。これらの層厚は一例であり、実施形態により適宜調整変更してもよい。なお、下地金属層としてＮｉ層を使用してもよい。このようなＳｎ−Ｃｕ層によって鉛フリー（無鉛）対応が可能となる。また耐熱性も確保することができる。
【００２４】
ベース２のリード端子のインナー側２１ａ，２２ａには音叉型水晶振動片３がはんだ材を用いたろう付け等により、電気的機械的に接合される。本実施形態では前記はんだ材として９０％以上の鉛（Ｐｂ）を含有した高温はんだ材が用いられている。なお、前記はんだ材として鉛フリーはんだ材を使用してもよい。
【００２５】
図２に示すように、ベース２の外周部（外側面２００）の下端側（リード端子のアウター側２１ｂ，２２ｂ）であってキャップのベースへの圧入後の状態においてキャップに覆われる位置に、一条の溝５が形成されている。具体的には溝５は、シェル２０の外側面２００のうちシェルの下端部２０Ｂに近い位置に、シェルの外周全体にわたって形成されている。
【００２６】
図３において溝５はシェル２０の基体に形成されており、溝の表面には前述したように金属膜Ｍ１が形成されている。この金属膜Ｍ１は溝５の内部を埋めるように形成されておらず、金属膜Ｍ１の成膜後の状態においてシェルの基体に設けられた溝の断面形状に対応した形状となっている。溝５は図３に示す断面形状となっており、傾斜面５ａと、当該傾斜面に連続する底面５ｂと、底面５ｂに略直角に交差する壁面５ｃとを有している。そして溝５の開口端面に連続するシェル２０の外周部（外側面２００）と、傾斜面５ａとの成す角αは鈍角となっている。なお溝５の開口寸法および深さは、ベースへのキャップの圧入工程における金属屑の発生量を考慮して設定される。前記形状の溝５は予め所定の形状に成形された金型を用いてプレス加工することによって形成することができる。
【００２７】
図３に示すように、ベース２のシェル２０の上端部２０Ａは曲面状になっている。このような形状とすることにより、圧入の際にキャップの開口端面とシェルの上端部（稜部）との鋭利な接触を防止することができる。これにより、圧入開始時にキャップとシェルとの摩擦によって発生する金属屑の発生量を抑制することができる。
【００２８】
本実施形態において音叉型水晶振動片３は、ＸＹカットやＮＴカットなどの屈曲振動を行う切断角度で切断された水晶であり、基部（３３）と当該基部の一端側から同一方向に平行に伸長する一対の脚部（３１，３２）を備えている。基部は一対の脚部とつながる２つの主面と２つの側面とを有している（図９参照）。
【００２９】
一対の脚部（３１，３２）には、異極の励振電極である第１励振電極（図示省略）と第２励振電極（図示省略）とが形成されている。一方の脚部（３１）には表裏主面に一対の第１励振電極と、両側面に一対の第２励振電極が形成されている。そして他方の脚部（３２）には表裏主面に一対の第２励振電極と両側面に一対の第１励振電極が形成されている。このうち、前記一方の脚部（３１）の表裏主面の一対の第１励振電極と、他方の脚部（３２）の両側面の一対の第１励振電とは、引き回し電極（図示省略）によって同極で共通接続されている。そして前記他方の脚部（３２）の表裏主面の一対の第２励振電極と、前記一方の脚部（３１）の両側面の一対の第２励振電極とは、引き回し電極（図示省略）によって同極で共通接続されている。
【００３０】
前記基部（３３）の表裏主面には、ベース２のリード端子２１，２２と鉛フリーはんだ材（図示省略）を用いて導電接合されるとともに、前記第１励振電極と前記第２励振電極とを個別に導出する電極パッド（図示省略）が形成されている。前記電極パッドは具体的には基部（３３）の表裏主面のうち、基部の他端側（脚部の付け根と反対側）の端部近傍（基部他端部付近）のみに形成されている。
【００３１】
前述の各励振電極と各電極パッドとは、互いに離間した状態で複数の引き回し電極と接続電極により共通接続されている。また図９に示す音叉型水晶振動片３の基部３３を下側に配置した状態から表裏反転した状態に配置される裏面側の各電極は、表面側の各電極と同様の配置や同様の形状で構成されている。
【００３２】
前述の各励振電極や各引き回し電極、電極パッドは、フォトリソグラフィー技術およびエッチング等による手法で、例えば、クロム（Ｃｒ）の下地電極層に銀（Ａｇ）や金（Ａｕ）の上部電極から構成された金属薄膜であり、真空蒸着法やスパッタリング法等によって形成されている。なお前記各励振電極や各引き回し電極、電極パッドは、所定形状の開口パターンを有するマスクを用いて蒸着法によって形成してもよい。
【００３３】
図１においてキャップ４は、一方端が開口した有底の円筒状の容器である。本実施形態ではキャップ４は洋白（Ｃｕ−Ｎｉ−Ｚｎ系合金）で構成されている。キャップ４の外周面および内周面にはＮｉ層が３〜９μｍの厚みでメッキ等の手段によって形成されている（図１参照）。なおベースの表面に施される金属膜は、キャップ４の前記Ｎｉ層よりも軟質な金属となっている。
【００３４】
キャップ４の内径は、ベース２のシェル２０の外径よりも僅かに小さく設計されている。本実施形態ではキャップ４の内径は、シェル２０の外径よりも例えば２〜５％小さく設定されている。このようなキャップ４を、真空雰囲気中で音叉型水晶振動片３を覆うようにベース２のシェル部分に被せ、キャップ開口部をベース２に圧入することによってベース２とキャップ４とが強固に密着する。これにより、キャップ４とベース２とで形成される内部空間が真空状態に保たれた気密封止を行うことができる。
【００３５】
キャップ４の筒部４０のうち開口端側の端部は、キャップ内周側に湾曲する曲面形状となっている（図３において曲部４１で表示）。具体的には図３で示すようにキャップ開口端側を下側に位置させた状態で、筒部４０の開口端側の端部は略テーパー状の曲面となっている。換言するとキャップ４の内径は、キャップの有底部分から開口端近傍までは略一定であり、当該開口端近傍から開口端に近づくにつれて漸次拡大することになる。このような形状の開口端とすることによって、ベースのシェルの上端部２０Ａの曲部４１の曲面と略対応するようになり、圧入開始時のキャップ内周端とシェル上端部との鋭利な接触を抑制することができる。これにより、圧入開始時にキャップとシェルとの摩擦によって発生する金属屑の発生量を抑制することができる。その結果、圧入完了までの間で発生する金属屑の総発生量を抑制することができる。
【００３６】
次に圧入工程について図４乃至５を参照しながら説明する。図４は第１の実施形態に係る水晶振動子の圧入過程を示す部分拡大図であり、圧入工程においてキャップがシェルに押し込まれ始めた状態を示す部分断面図となっている。圧入開始時には、キャップ４の筒部４０とベースのシェル２０の外周表面に形成された金属膜Ｍ１とが当接した状態となる。そして、この状態からキャップ４がベースの下端側（シェルの下端部２０Ｂ）の方向に押し込まれて行くことにより、金属膜Ｍ１が筒部４０の端面によって削り出され続け、その発生量は累積的に増加していく。なお図４においては、この削り出された金属屑をＭＦとして表示している。
【００３７】
図４ではキャップの表面に施されるＮｉ層の記載は省略しているが、当該Ｎｉ層はベースの表面に施される金属膜Ｍ１よりも硬質であるため、圧入時には前記Ｎｉ層は削り出されず、ベース側の金属膜Ｍ１だけが削り出される。
【００３８】
そして図４の状態からさらに圧入方向（図４において左向き矢印で示す方向）にキャップを押し込んで行くと、溝５の開口端付近の金属膜Ｍ１も削り出され、当該開口端をキャップが通過すると、当該開口端に連続する傾斜面５ａ上に金属屑ＭＦが押し出される。そして最終的に図５に示すように、溝５の内部に金属屑ＭＦが埋入した状態でキャップの筒部４０が溝を完全に覆うまでキャップ４が押し込まれて圧入完了となる。
【００３９】
前記ベースによれば、圧入時に発生した金属屑ＭＦの水晶振動子１の外部への排出を抑制することができる。これは溝５がベースの上端側（シェルの上端部２０Ａ方向）に傾斜面５ａを有しており、当該傾斜面５ａと連続するベースの外周部（外側面２００）と、傾斜面５ａとの成す角αが鈍角となっていることによる。つまり当該構成の溝５により、圧入時にベース外周部とキャップとの摩擦によってベースの下端側（シェルの下端部２０Ｂ方向）へ削り出されてきた金属屑ＭＦが溝５の内部にスムーズに入り込みやすくなる。これより、ベース外周面に対して垂直方向に掘り込まれた壁面のみで構成される溝に比べて、より確実に溝の内部に金属屑を誘導することができる。その結果、圧入工程終了時において金属屑が水晶振動子の外部へ排出されるのを抑制することができる。
【００４０】
圧入工程において、キャップがベースに押し込まれるに従ってキャップ４とベース２との摩擦によって削り出される金属屑ＭＦの発生量が累積的に増加していく。本実施形態における溝５はその深さがベースの下端側（シェル２０の下端部方向）に向かって漸次深くなっており、前記金属屑の発生量の増加に対応した形状となっている。当該形状によって、より溝の奥側まで金属屑を入り込ませることができる。その結果、圧入時に発生した金属屑の水晶振動子の外部への排出を抑制することができる。
【００４１】
本発明の第１の実施形態の変形例として、溝の断面形状を図６に示すように半円状としてもよい。当該実施形態の変形例において、溝７はシェルの外周部の全周にわたって形成されている。当該形状の溝の場合、内周面は曲面（７０）であり、溝７の開口端に連続するベースの外周部（外側面６００のうち溝に対してインナー側）と、曲面７０の開口端における接線ＴＬとの成す角βは鈍角となっている。なお図６においては簡略化のためシェル基体表面に形成されるメッキ層の記載は省略している。
【００４２】
図６における溝形状であっても、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。これは溝７がベースの上端側に曲面７０を有しており、当該曲面と連続するベースの外周部６００と、曲面７０の接線ＴＬとの成す角βが鈍角となっていることによって、ベースの下端側へ削り出されてきた金属屑が溝７の内部にスムーズに入り込みやすくなるためである。
【００４３】
本発明におけるベースに形成される溝の構成は、第１の実施形態および第１の実施形態の変形例における構成に限定されるものではない。すなわち、少なくともベースの上端側に傾斜面または曲面を有し、当該傾斜面または曲面と連続するベースの外周部と、前記傾斜面または前記曲面の接線との成す角が鈍角となっているものであればよく、例えば断面視形状が逆台形や半楕円であってもよい。また、溝はベースのシェルの外周方向に連続した形態に限定されるものではなく、不連続であってもよい。
【００４４】
―第２の実施形態―
次に本発明の第２の実施形態について図７乃至８を参照しながら説明する。
なお本発明の第１の実施形態と同様の構成については説明を割愛するとともに、同様の作用効果を奏する。以下、第１の実施形態との相違点を中心に説明する。
【００４５】
本実施形態におけるベース８では、図７に示すように溝９が円筒状のシェル８０の外周方向において不連続に複数形成されている。そしてこれら複数の溝９，９，・・・，９はベース（シェル）の幅方向に対して同一の方向に傾斜しているとともに、隣接する溝同士の一部がベース（シェル）の外周方向と直交する方向において重畳するように所定の間隔を空けて形成されている。すなわち複数の溝９は、隣接する溝同士の一部が図７において矢印で示すシェルの軸方向から見たときにオーバーラップ（符号Ｒで示す領域）するように配置されている。
【００４６】
溝９は図８に示すベースの部分拡大図のように、ベースの幅方向（シェルの直径方向）に対して角度γだけ傾斜した状態となっており、平面視では平行四辺形となっている。そして溝９の断面形状は半円状となっている。つまり、前述した本発明の第１の実施形態の変形例と同様に、溝９の内周面は曲面であり、溝９の開口端に連続するベースの外周部（図８において溝の上方側のシェル領域）と、前記曲面の開口端における接線との成す角は鈍角となっている（図示省略）。
【００４７】
このような溝形状によれば、前述の第１の実施形態と同様にベースの下端側へ削り出されてきた金属屑が溝９の内部にスムーズに入り込みやすくなる。
【００４８】
また本実施形態における溝構成によれば、前記金属屑をより確実に溝の内部に入り込ませることができる。これは図８に示すように、１つの溝９ａの内部に金属屑ＭＦが圧入方向（矢印）において確実に収まらなかった場合であっても、溝９ａから溢出した金属屑をキャップの開口端による押し出しによって隣接する溝９ｂの内部に収めることができるためである。すなわち、複数の溝９，９，・・・，９がベースの幅方向に対して同一の方向に傾斜し、かつ隣接する溝同士の一部がベースの外周方向と直交する方向において重畳するように所定の間隔を空けて形成されているため、隣接する溝のうち前記重畳する領域Ｒあるいは領域Ｒの近傍の領域によって２次的に金属屑を溝内に収容することができるためである。つまり、圧入によって最初に金属屑が入り込んだ溝から溢出した金属屑を別の溝で捕捉する機能を有している。なお予め金属屑の発生量を想定して、複数の溝全体での容積を前記発生量よりも大きめに設定し、１単位当たりの溝の容積を決定することにより、前記捕捉機能を高めることができる。
【００４９】
本発明の第２の実施形態では、溝の平面視の形状は平行四辺形としたが、本発明の適用は当該形状に限定されるものではない。例えばベースの幅方向に対して同一の方向に傾斜し、かつ隣接する溝同士の一部がベースの外周方向と直交する方向において重畳するように所定の間隔を空けて形成されているものであれば、楕円状や弓状のもの等であってもよい。また、溝の断面形状は半円だけでなく、逆台形や半楕円などの形状であってもよい。
【００５０】
また、図７ではシェルの外周部の全周にわたって不連続な溝が同一円周上に形成されているが、必ずしも同一円周上に形成されていなくてもよい。例えば図７において溝９の上方側に、隣接する溝同士の一部がベースの外周方向と直交する方向において重畳するように所定の間隔を空けるとともに、溝９とベースの外周方向と直交する方向において重畳しないように不連続な第２の溝を形成するようにしてもよい。つまりベースの外周方向と直交する方向において溝９と互い違いの位置となるように前記第２の溝を形成してもよい。このような構成により、前述した捕捉機能をより高めることができる。
【００５１】
また、前記溝の内面の表面粗さを粗くすることによって、キャップの押し込み時に加わる応力によって、一旦、溝の内部に入り込んだ金属屑が溝の外部へ排出されるのを抑制することができる。これは溝の内面の表面粗さが粗くなることによって、溝の内面上の微小な突起が、溝内に入り込んだ金属屑が圧入方向に引っ張られる際に抵抗として働くためである。
【００５２】
前述した本発明の第１の実施形態では、シェルの外周部の全周にわたる溝が１箇所のみに形成されているが、溝はシェルの外周部に複数形成されていてもよい。例えば、図２において溝５の上方にもう１本の溝を溝５と略平行になるようにシェルの全周に形成してもよい。
【００５３】
このような構成の場合、２本の溝の深さは図２における１本のみの溝の場合に比べて相対的に浅くすることができる。これは上側の溝は下側の溝よりもシェルの上端側に近い位置であるため、キャップの圧入によって累積的に発生する金属屑の発生量は、上側の溝の方が下側の溝よりも少ないことによる。さらにキャップがシェルの上端部から上側の溝まで押し込まれることによって発生した金属屑は一旦、上側の溝に入り込むため、当該上側の溝からシェルの下端部近傍までさらにキャップが押し込まれることによって発生する金属屑の発生量は、図２における溝の場合に比べて相対的に少なくなる。これにより、下側の溝の深さも浅くすることができる。このように溝の形成深さを浅くすることができることにより、シェルの剛性低下を抑制することができる。
【００５４】
本発明の第１の実施形態ではベースの上端側のみに傾斜面を有する溝となっているが、ベースの上端側に加え、ベースの下端側にも傾斜面を有する構成であってもよい。つまり断面視でアルファベットの「Ｖ」字状であってもよい。
【００５５】
本発明は、その精神または主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形で実施することができる。そのため、上述の実施の形態はあらゆる点で単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には、なんら拘束されない。さらに、特許請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、全て本発明の範囲内のものである。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
圧電振動子の量産に適用できる。
【符号の説明】
【００５７】
１    音叉型水晶振動子
２    ベース
３    音叉型水晶振動片
４    キャップ
５、７、９    溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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