(57)【要約】【課題】  生産性が高く、かつ高度に立体的な意匠が付与された、薄型で大型のセラミック建材の提供。【解決手段】  基材と、当該基材の表面の少なくとも一部に形成されてなる加飾層とを備えてなるセラミック建材であって、前記基材が大型セラミック板であり、前記加飾層がセラミック粒子とガラス質成分とを含んでなるものである、セラミック建材。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、当該基材の表面の少なくとも一部に形成されてなる加飾層とを備えてなるセラミック建材であって、
前記基材が大型セラミック板であり、
前記加飾層がセラミック粒子とガラス質成分とを含んでなるものである、セラミック建材。
【請求項２】
前記基材の長辺の長さ／基材の最小厚さが１００以上である、請求項１に記載のセラミック建材。
【請求項３】
前記セラミック粒子の粒子径が２５０μｍを超え１．７ｍｍ以下である、請求項１または２に記載のセラミック建材。
【請求項４】
前記セラミック粒子が、セルベン、セラミックサンドおよびシャモットからなる群から選択される一種または二種以上である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のセラミック建材。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のセラミック建材の製造方法であって、
（１）基材の原料調合物を用意する工程と、
（２）前記基材の原料調合物を成形して、基材の成形体を得る工程と、
（３）前記基材の成形体の表面の少なくとも一部に、セラミック粒子と熔融剤とを含んでなる加飾材を適用して、加飾層前駆体を形成する工程と、
（４）前記加飾層前駆体が形成された基材の成形体を焼成して、その焼成体を得る工程と
を少なくとも含んでなる方法。
【請求項６】
前記工程（２）と工程（３）の間に、前記基材の成形体を乾燥および／または仮焼して、基材の乾燥体および／または仮焼体を得る工程をさらに含んでなる、請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
前記工程（３）と工程（４）の間に、前記加飾層前駆体を乾燥して、加飾層前駆体の乾燥体を得る工程をさらに含んでなる、請求項５または６に記載の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のセラミック建材の製造方法であって、
（１）基材の原料調合物を用意する工程と、
（２）前記基材の原料調合物を成形して、基材の成形体を得る工程と、
（２−２）前記基材の成形体を焼成して、基材の焼成体を得る工程と、
（３）前記基材の焼成体の表面の少なくとも一部に、セラミック粒子と熔融剤とを含んでなる加飾材を適用して、加飾層前駆体を形成する工程と、
（４）前記加飾層前駆体が形成された基材の成形体を焼成して、その焼成体を得る工程と
を少なくとも含んでなる方法。
【請求項９】
前記工程（２）と工程（２−２）の間に、前記基材の成形体を乾燥および／または仮焼して、基材の乾燥体および／または仮焼体を得る工程をさらに含んでなる、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記工程（３）と工程（４）の間に、前記加飾層前駆体を乾燥して、加飾層前駆体の乾燥体を得る工程をさらに含んでなる、請求項８または９に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セラミック建材に関し、詳細には、薄型で大型のセラミック板に、高度に立体的な意匠が付与されたセラミック建材に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型セラミック板へ立体的な意匠を付与する加飾方法として、プレス成形により凸部を形成する方法が知られている。例えば、ＷＯ２０１２／０２３６３０号公報（特許文献１）には、陶磁器基材の素地表面をプレス成形することにより凸部を形成した大型陶磁器板が記載されている。この文献によれば、凸部の平均高さは０．２ｍｍを超え３ｍｍ未満であるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】ＷＯ２０１２／０２３６３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
プレス成形により大型セラミック板に凸部を形成する加飾方法では、凸部とその周囲とで素地の圧縮度が変わるため、せいぜい３ｍｍ程度の凸形状が得られるにとどまっていた。それ故、この加飾方法により大型セラミック板に高度に立体的な意匠を付与することは困難であった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、今般、基材の成形体の表面の少なくとも一部に、セラミック粒子と溶融剤とを含む加飾材を適用し、凸形状の加飾層前駆体を形成した後、これを焼成することで、凸形状の加飾層と基材との高低差が大きい意匠、すなわち高度に立体的な意匠が付与されたセラミック建材を得ることができるとの知見を得た。また、前記加飾材の成分として特定のセラミック粒子を用いることにより、基材の成形体と加飾層前駆体との焼成による収縮差を小さくすることができ、これにより、生産性も高い（乾燥割れ、焼成割れが防止でき、良好な形状安定性を有する）、高度に立体的な意匠が付与されたセラミック建材を得ることができるとの知見を得た。本発明は斯かる知見に基づくものである。
【０００６】
従って、本発明は、生産性が高く、かつ高度に立体的な意匠が付与された、薄型で大型のセラミック建材の提供をその目的としている。
【０００７】
そして、本発明によるセラミック建材は、
基材と、当該基材の表面の少なくとも一部に形成されてなる加飾層とを備えてなるセラミック建材であって、
前記基材が大型セラミック板であり、
前記加飾層が、セラミック粒子とガラス質成分とを含んでなることを特徴とする。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
セラミック建材
本発明によるセラミック建材は、基材と、当該基材の表面の少なくとも一部に形成されてなる加飾層とを備えてなる。
【０００９】
基材
本発明によるセラミック建材にあっては、基材は大型のセラミック板である。大型セラミック板は、一辺のサイズが、下限値で２００ｍｍ以上であることが好ましく、４００ｍｍ以上、５００ｍｍ以上であることがより好ましい。また、上限値は４ｍ以下であることが好ましく、３ｍ以下、２ｍ以下であることがより好ましい。具体的には、４５５ｍｍ×３０３０ｍｍのサイズや、４５５ｍｍ×１５１５ｍｍのサイズである基材が好ましい。
【００１０】
本発明の好ましい態様によれば、大型セラミック板である基材は、厚さが１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１ｍｍ以上８ｍｍ以下、さらに好ましくは１ｍｍ以上６ｍｍ以下である。
【００１１】
また、大型セラミック板である基材は、長辺の長さが基材の最小厚さの１００倍以上、好ましくは２００倍以上である薄型のものであることが好ましい。本発明にあっては、基材の形状は特に限定されないが、平物であることが好ましい。なお、基材が役物である場合、その長辺は、意匠が付与された屈曲した表面を平面に展開したときの当該平面の長辺であるとされ、前記「長辺の長さ／基材の最小厚さ」が考慮される。
【００１２】
本発明の好ましい態様によれば、大型セラミック板である基材は、ＭｇＯ換算で０．５質量％以上２質量％以下のＭｇ元素と、ＣａＯ換算で２質量％以上１５質量％以下のＣａ元素とを含んでなり、ＪＩＳ  Ａ５２０９（２００８）に規定される吸水率が１％以下であるものであることが好ましい。セラミック板のＭｇ量を減らし、Ｃａに熔融剤の役割を持たせることにより、薄く大型でありながら、吸水性が低く、かつ生産性の高い（乾燥割れ、焼成割れが防止でき、良好な形状安定性を有する）セラミック板を得ることができる。
【００１３】
本発明の好ましい態様によれば、大型セラミック板である基材はアノーサイトを含んでなることが好ましい。Ｃａを多く含む原材料（例えば、灰長石、石灰石、珪灰石等）を用いることにより、焼成後にアノーサイトを形成させることができる。その結果、形状安定性に優れたセラミック板を得ることが可能となる。
【００１４】
本発明の好ましい態様によれば、大型セラミック板である基材は、ＭｇＯ／ＣａＯが質量比で０．４未満であることが好ましい。セラミック板のＭｇの割合を小さくすることにより、焼成による割れや変形をより抑えることが可能となる。
【００１５】
本発明の好ましい態様によれば、基材の表面には釉薬層が形成されていても良い。
【００１６】
加飾層
本発明によるセラミック建材を構成する加飾層は、基材の表面の少なくとも一部に形成されてなる。
【００１７】
本発明の好ましい態様によれば、加飾層は、基材の表面に部分的に、すなわち基材の表面の独立した複数の領域に形成されてなることが好ましい。加飾層を部分的に形成することにより、基材表面の意匠と加飾層の意匠とのコントラストをつけることができ、多彩な意匠を実現可能なセラミック建材を提供することができる。
【００１８】
本発明の好ましい態様によれば、大型セラミック板である基材の表面における加飾層が部分的に形成される領域の面積が、０．１２ｍ２以上であることが好ましく、０．２５ｍ２以上であることがより好ましく、０．５ｍ２以上であることがさらにより好ましい。
【００１９】
加飾層は、その厚さが基材厚さの０．５倍以上１０倍以下であることが好ましく、１倍以上２倍以下であることがより好ましい。また、加飾層の厚さは好適には０．５ｍｍ以上４０ｍｍ以下であり、より好適には２ｍｍ以上１０ｍｍ以下である。ここで、「加飾層の厚さ」とは、基材の表面から垂直方向に加飾層の最高部位までの高さを意味する。
【００２０】
本発明によるセラミック建材を構成する加飾層は、セラミック粒子とガラス質成分とを含んでなる。これにより、本発明によるセラミック建材は、例えば、多数の小さな石材やタイルを組み合わせて立体的な意匠を対象面に付与する必要がなく、薄型で大型のセラミック板に高低差の大きい立体的な意匠を付与することができ、施工が容易となる。
【００２１】
本発明の好ましい態様によれば、加飾層が含むセラミック粒子は、その粒子径が２５０μｍを超え１．７ｍｍ以下であることが好ましい。セラミック粒子の粒子径がこの範囲であることにより、生産性が高く、高度に立体的な意匠を実現可能な加飾層、例えば高さが３ｍｍ以上４０ｍｍ以下の凸形状の加飾層を得ることができる。ここで「粒子径」とは、JIS  Z  8801-1(2006)「試験用ふるい−第１部：金属製網ふるい」で規定された平織りの金網ふるい（目開き250μｍ、1.0ｍｍ、1.7ｍｍ、枠の径200ｍｍ、深さ45ｍｍ）を用いて、JIS  Z  8815(1994)「ふるい分け試験方法通則」に記載された「乾式ふるい分け」の内の「手動ふるい分け」に準じて求められた値である。
【００２２】
本発明の好ましい態様によれば、加飾層はセラミック粒子として、セルベン、セラミックサンド、もしくはシャモット、またはこれらの混合物を含んでなることが好ましい。これらセラミック粒子を含むことにより、優れた形状安定性を有する加飾層を得ることが可能となる。
【００２３】
本発明によるセラミック建材を構成する加飾層が含むガラス質成分は、セラミック粒子のバインダーとして機能する。また、ガラス質成分は、セラミック粒子を結合するとともに、基材と加飾層とを溶着させる。
【００２４】
用途
本発明の好ましい態様によれば、本発明によるセラミック建材は、外装建材；内装建材；大型セラミック建材単品；金属板やセッコウ等の無機質板、ガラス繊維布又は合板などで裏打した複合材などに適用して用いることができる。とりわけ外装建材に適用して用いることが好ましい。
【００２５】
セラミック建材の製造方法
本発明の別の態様によれば、本発明は、生産性が高く、かつ高度に立体的な意匠が付与された、薄型で大型のセラミック建材の製造方法の提供をその目的としている。
【００２６】
そして、本発明によるセラミック建材の製造方法は、
（１）基材の原料調合物を用意する工程と、
（２）前記基材の原料調合物を成形して、基材の成形体を得る工程と、
（３）前記基材の成形体の表面の少なくとも一部に、セラミック粒子と熔融剤とを含んでなる加飾材を適用して、加飾層前駆体を形成する工程と、
（４）前記加飾層前駆体が形成された基材の成形体を焼成して、その焼成体を得る工程と
を少なくとも含んでなることを特徴とする。
【００２７】
本発明によるセラミック建材の製造方法によれば、生産性が高く、かつ高度に立体的な意匠が付与された、薄型で大型のセラミック建材を得ることができる。
【００２８】
基材の原料調合物の用意
本発明によるセラミック建材の製造方法にあっては、先ず基材の原料調合物を用意する。
【００２９】
基材の原料調合物
本発明によるセラミック建材の製造に用いられる基材の原料調合物は、例えば、粘土鉱物、粘土、ガラス質鉱物、Ｃａを含有する化合物、滑石、および骨材から選択される少なくとも１種以上の材料を含むことができる。各材料について以下に説明する。
【００３０】
粘土鉱物として好適に用いることができる材料は、例えば、陶石、カオリン、セリサイト等セラミックの骨格を形成する物質である。より好ましい材料は陶石である。粘土鉱物の含有量は原料調合物全体に対して５質量％以上６０質量％以下であることが好ましい。また、２０質量％以上６０質量％以下であることがより好ましい。
【００３１】
粘土としては、天然粘土、合成粘土を用いることができる。天然粘土の具体例としては、粘土鉱物を主体とする可塑性の強い土壌、例えば本宮粘土、木節粘土、頁岩粘土、村上粘土，蛙目粘土などを挙げることができる。合成粘土（天然粘土の合成粘土も含む）としては、各種の鉱物質粉末及び有機結合剤を主成分として人工的に作製されたものを用いることができる。粘土の含有量は原料調合物全体に対して１０質量％以上５０質量％以下であることが好ましい。また、２０質量％以上５０質量％以下であることがより好ましい。
【００３２】
ガラス質鉱物として好適に用いることができる材料は、例えば、長石および白雲母等である。より好ましい材料は長石である。ガラス質鉱物の含有量は原料調合物全体に対して５質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。また、５質量％以上１５質量％以下であることがより好ましい。
【００３３】
骨材として好適に用いることができる材料は、例えば、シャモット、珪石、セルベン等である。骨材を添加することにより、成形体の乾燥に伴う割れの発生を抑えることが可能となる。骨材の含有量は原料調合物全体に対して０質量％以上３０質量％以下であることが好ましい。また、５質量％以上３０質量％以下であることがより好ましい。また、骨材の粒径は１．７ｍｍ以下であることが好ましく、０．５ｍｍ以下であることがより好ましいい。粒径が１．７ｍｍ以下の骨材を用いることにより、大型セラミック板である基材の吸水率を低下させることができる。また、骨材の粒径は０．１ｍｍ以上であることが好ましい。これにより、乾燥時の水抜けがよくなり乾燥時間を短縮することができる。
【００３４】
滑石の含有量は原料調合物全体に対して０質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。また、０質量％以上５質量％未満であることがより好ましい。原料調合物が滑石を含んでいないか或いは微量に含んでいるようにすることにより、滑石由来のＭｇ成分を減らし、後述する珪灰石等のＣａに熔融剤の役割を持たせるようにすることができる。これにより、焼成に伴う化学変化の制御が可能となり、吸水性が低く、かつ生産性の高い焼成体（基材）を得ることが可能となる。
【００３５】
Ｃａを含有する化合物として好適に用いることができる材料は、例えば、灰長石、石灰石、珪灰石等である。これら化合物を用いることにより、セラミック中にアノーサイトを生成させることができる。これらの中でも、珪灰石をより好ましく用いることができる。針状鉱物である珪灰石を用いることにより、成形後や焼成時の割れや変形（特に、成形体の乾燥割れ、焼成時の変形）を防ぐことが可能となる。Ｃａを含有する化合物の含有量は原料調合物全体に対して１質量％以上５０質量％以下であることが好ましい。また、３質量％以上２０質量％以下であることがより好ましい。
【００３６】
本発明の好ましい態様によれば、前記珪灰石の５０％径（粒子径）が２０μｍ以上であることが好ましい。珪灰石の粒子径が２０μｍ以上であることにより、成形方法として押出成形法を用いる場合において、押し出し方向の収縮を緩和する作用が大きくなり、焼成後の焼成体の縦と横の収縮率差を小さくすることができる。その結果、焼成による収縮ひずみを抑え、焼成割れを防ぐことができる。
【００３７】
本発明の好ましい態様によれば、前記珪灰石の５０％径が５０μｍ以下であることが好ましい。本発明にあっては、珪灰石を他の原料と共融させるために、粒子径の小さい粒子を適度に含む珪灰石を用いることが好ましい。粒子径が比較的小さい珪灰石を用いることにより、セラミック板の表面に外観不良（黒点など）が発生しないようにすることが可能となる。大型セラミック板では表面に欠点が１つでもあればその損失が大きくなってしまうが、本発明によれば、外観損失が無く、商品価値の高い大型セラミックを得ることができる。また、本発明にあっては、粒子径が比較的小さい珪灰石を用いるため、珪灰石の形状を焼成後も維持するために、特別に繊維長の大きな珪灰石を用いる必要もない。長繊維の珪灰石は比較的純度が低く、大型セラミック板の表面に上記外観不良を多く発生させるおそれがある。
【００３８】
また、基材の原料調合物として、例えば特開平１０−２３６８６７号公報、特開２００３−０８９５７０号公報、特開２０１２−１８８３３１号公報に記載されたものを好適に用いることができる。
【００３９】
基材の原料調合物の成形
本発明によるセラミック建材の製造方法にあっては、次いで、基材の原料調合物を成形して、基材の成形体を得る。成形の方法は特に限定されず、公知の湿式法、乾式法を用いることができるが、湿式成形法を用いることが好ましい。これにより、以下の利点を得ることができる。すなわち、乾式成形法のように大型の金型およびプレス機を必要としないので、様々なサイズに対応でき、平板形状だけでなく、容易に中空体や異形（例えばＲ曲面）の形状を得ることが可能である。さらには、乾燥前の成形体に、表面に凹凸柄を形成したエンドレスローラーを用いて、多様な凹凸柄を付与することが可能である。つまり、立体的な面状をつけるために乾式プレスのような大掛かりな型替えが必要ない。
【００４０】
湿式成形の方法は特に限定されないが、具体的には、押出成形法、湿式プレス成形法、鋳込み成形法等の方法を好ましく用いることができる。これらの中でも押出成形法をより好ましく用いることができる。これにより、大規模なプレス成形装置を必要とすることなく、利用者のニーズに合わせて多種多様なサイズやデザインを有する大型セラミック板である基材を作製することが可能となる。
【００４１】
押出成形法を利用する場合、上記原料調合物に必要に応じて可塑剤を添加し、水分量を適宜調整した坏土を作製し、これを成形することが好ましい。これにより、可塑性と保形性のバランスを好適に保持することができる。坏土における好ましい水分量は、１０質量％以上３０質量％以下であり、より好ましくは１５質量％以上２５質量％以下である。この坏土を押出成形後に平板状に広げて圧延ローラーによってローラー圧延して、板状の生成形体を得ることができる。なお、本明細書においては、「坏土」が「原料調合物」の意味に含められる場合がある。
【００４２】
本発明の一つの態様によれば、基材の成形体は、必要に応じて乾燥（加熱を含む）および／または仮焼しても良い。乾燥および／または仮焼することによって、基材の成形体の強度が増すため、その後のハンドリングを良好に行うことができる。
【００４３】
基材の成形体を湿式法にて得た場合には、この成形体を乾燥させることが好ましい。窯入れ時に成形体が水分を含んでいると焼工程で基材が爆裂するおそれがあるが、成形体を乾燥させることでこれを防止することができる。基材の成形体を乾式法にて得た場合には、形成体を必ずしも乾燥させる必要はない。また、基材の成形体の仮焼は成形方法の別を問わず適宜行うことができる。
【００４４】
乾燥は、５０℃以上２００℃以下の温度で、３０〜９０分行うことが好ましい。また、仮焼の温度は、基材が磁器質またはせっ器質である場合は、６００℃以上１１４０℃以下であることが好ましく、８００℃以上１１００℃以下であることがより好ましい。また、基材が陶器質である場合は、６００℃以上１１００℃以下であることが好ましく、７００℃以上１１００℃以下であることがより好ましい。
【００４５】
本発明の一つの態様によれば、本発明による製造方法にあっては、基材の成形体、乾燥体または仮焼体に、任意に施釉して、釉薬層を形成することができる。施釉は仮焼の前に行なっても良い。また、施釉は、基材の成形体または仮焼体の加飾層を形成する側の面の全面に行なっても良いし、一部に行なっても良い。また、施釉を仮焼の前に行う場合は、仮焼によって釉薬スラリーの吸液性を調整することができる。
【００４６】
加飾層前駆体の形成
本発明によるセラミック建材の製造方法にあっては、次いで、基材の成形体の表面の少なくとも一部に加飾材を適用して、加飾層前駆体を形成する。
【００４７】
加飾材
本発明によるセラミック建材の製造方法にあっては、加飾層前駆体の形成に用いられる加飾材は、セラミック粒子と熔融剤とを含んでなる。
【００４８】
本発明の好ましい態様によれば、前記セラミック粒子は、その粒子径が２５０μｍを超え１．７ｍｍ以下であることが好ましい。この範囲の粒子径を有するセラミック粒子を用いることにより、基材の成形体と加飾層前駆体との焼成による収縮差を小さくすることができ、その結果、生産性が高く、高度に立体的な意匠を実現可能な加飾層、例えば高さが３ｍｍ以上４０ｍｍ以下の凸形状の加飾層を形成することが可能となる。
【００４９】
本発明の好ましい態様によれば、セラミック粒子としては、セルベン、セラミックサンド、シャモット、またはこれらの混合物を好ましく用いることができる。これらセラミック粒子を用いることにより、後工程の焼成によって、その粒子形状が保持される、すなわち焼成温度で熔融しないという利点が得られる。
【００５０】
本発明による製造方法にあっては、加飾材が含む熔融剤は、焼成することによりガラス質成分を形成する。このガラス質成分は、セラミック粒子のバインダーとして機能する。また、ガラス質成分は、セラミック粒子を結合するとともに、基材と加飾層とを溶着させる。
【００５１】
熔融剤としては、焼成によって熔融可能なガラス質成分、またはガラス質を形成する原料を好ましく用いることができる。具体的には、フリットや、焼成によってガラス質を形成する原料を挙げることができ、陶石、滑石、カオリン、長石などを複数組み合わせて用いることができる。
【００５２】
ガラス質成分としては、後工程の焼成によって粒子形状が消失するか、または粒子の少なくとも一部が熔融するような耐火度の低いセラミック粒子を使用することもできる。例えば、加飾層前駆体を１２００℃で焼成する場合、屈伏点が７００℃〜１０００℃のセラミック粒子（セルベン、セラミックサンド、シャモット等）を用いることができる。
【００５３】
本発明の好ましい態様によれば、加飾材が含むセラミック粒子と熔融剤との配合割合は、セラミック粒子１００質量部に対して熔融剤１０質量部以上１００質量部以下であることが好ましい。
【００５４】
本発明の一つの態様によれば、セラミック粒子として、焼成によって、その表面部分が熔融してガラス質成分を形成し、かつその内部では粒子形状を保持できるようなセラミック粒子を用いることもできる。このようなセラミック粒子はそれ自体が熔融剤（ガラス質成分）の機能をも兼ねることができる点で有利である。
【００５５】
また、本発明の好ましい態様によれば、加飾層前駆体の形成に用いられる加飾材は糊剤を含むことが好ましい。糊剤を加飾材に添加、混合して用いることにより、セラミック粒子に均一に溶融剤が付着することができ、その結果、加飾層を安定生産することが可能となる。また、焼成時のセラミック粒子同士の溶着を良好な状態とすることができる。糊剤として用いることができる材料については後述する。
【００５６】
加飾層前駆体の形成方法
本発明による製造方法にあっては、基材の成形体の表面に加飾材を適用して、加飾層前駆体を形成する方法として、「ふりかけ方式」と「成形方式」とを好適に用いることができる。
【００５７】
ふりかけ方式
ふりかけ方式は、比較的薄い加飾層前駆体を形成する場合に好ましく用いることができる。例えば、以下の手順を含む。すなわち、加飾層の形状に型抜きしたプレートを用意する。基材の成形体の表面にこのプレートを載せ、上方から糊剤をスプレー等で塗布する。プレートを取り外し、基材の成形体の表面の糊剤が付着した部分に加飾材をふりかける。その後、糊剤が付着していない部分にふりかかった加飾材を払い落とし、加飾層前駆体を得る。
【００５８】
成形方式
成形方式は、比較的厚い加飾層前駆体を形成する場合に好ましく用いることができる。例えば、以下の手順を含む。すなわち、加飾層の形状に型抜きした（厚さのある）プレート状の型または加飾層の形状に模った筒状の型を用意する。基材の成形体の表面にこの型を載せ、型の中に加飾材を入れる。適宜、上型を用いて加飾材を押し固める。押し固めた後、型を取り外し、加飾層前駆体を得る。
【００５９】
ふりかけ方式および成形方式のいずれにおいても、糊剤を使用することが好ましい。これにより、加飾材が含むセラミック粒子および熔融剤を基材の成形体表面に一時的につなぎ合わせることが可能となる。
【００６０】
このような糊剤としては、焼成前に一時的に、加飾材が含むセラミック粒子および熔融剤を基材の成形体表面に接着可能とする材料であれば特に制限なく用いることができる。例えば、有機系の材料を用いることができる。具体的には、天然ゴム、デンプンなどの天然高分子や、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などの合成高分子を用いることができる。また、水ガラス等の無機化合物を用いることもできる。
【００６１】
成形方式では、糊剤は加飾材が含むセラミック粒子および熔融剤と混合して用いる。この場合、糊剤はセラミック粒子および熔融剤の合計量に対して５質量％以上３０質量％以下となるように配合することが好ましい。
【００６２】
本発明の一つの態様によれば、加飾層前駆体は、必要に応じて乾燥（加熱を含む）および／または仮焼しても良い。乾燥および／または仮焼することによって、加飾層前駆体の強度が増すため、その後のハンドリングを良好に行うことができる。
【００６３】
乾燥は、５０℃以上２００℃以下の温度で、３０〜９０分行うことが好ましい。また、仮焼の温度は、一つの態様においては、６００℃以上１１４０℃以下であることが好ましく、８００℃以上１１００℃以下であることがより好ましい。また、別の態様においては、６００℃以上１１００℃以下であることが好ましく、７００℃以上１１００℃以下であることがより好ましい。
【００６４】
本発明の一つの態様によれば、本発明による製造方法にあっては、加飾層前駆体、その乾燥体または仮焼体に、任意に施釉して、釉薬層を形成することができる。焼成時に熔融可能なフリットまたは釉薬を、スラリーとして或いは粉体として、施釉面１ｍ２あたり１００ｇ以上５００ｇ以下適用することができる。施釉は仮焼の前に行なっても良い。また、施釉を仮焼の前に行う場合は、仮焼によって釉薬スラリーの吸液性を調整することができる。
【００６５】
基材の成形体および加飾層前駆体の焼成
本発明によるセラミック建材の製造方法にあっては、次いで、加飾層前駆体が形成された基材の成形体を焼成して、その焼成体を得る。焼成温度は、基材および加飾層が第Ｉ類（磁器質）または第ＩＩ類（せっ器質）である場合は、最高温度が１１００℃以上１２５０℃以下であることが好ましい。また、基材および加飾層が第ＩＩＩ類（陶器質）である場合は、最高温度が８００℃以上１１００℃以下であることが好ましい。
【００６６】
ここで、第Ｉ類とは、ＪＩＳ  Ａ  ５２０９（２００８）に規定される吸水率が３％以下であり、磁器質に区分されるものを意味する。第ＩＩ類とは、前記吸水率が３％を超え１０％以下であり、せっ器質に区分されるものを意味する。第ＩＩＩ類とは、吸水率が１０％を超え５０％以下であり、陶器質に区分されるものを意味する。
【００６７】
本発明の好ましい態様によれば、焼成は、基材の成形体と加飾層前駆体とを共焼成することが好ましい。
【００６８】
本発明の別の態様によれば、基材の成形体の焼成と加飾層前駆体の焼成とを独立に行っても良い。つまり、基材の成形体を焼成した後、加飾層前駆体の焼成を行なっても良い。すなわち、本発明によるセラミック建材の製造方法は、
（１）基材の原料調合物を用意する工程と、
（２）前記基材の原料調合物を成形して、基材の成形体を得る工程と、
（２−２）前記基材の成形体を焼成して、基材の焼成体を得る工程と、
（３）前記基材の焼成体の表面の少なくとも一部に、セラミック粒子と熔融剤とを含んでなる加飾材を適用して、加飾層前駆体を形成する工程と、
（４）前記加飾層前駆体が形成された基材の成形体を焼成して、その焼成体を得る工程と
を少なくとも含んでなることを特徴とする。
【００６９】
本発明にあっては、前記工程（２）と工程（２−２）の間に、前記基材の成形体を乾燥および／または仮焼して、基材の乾燥体および／または仮焼体を得る工程をさらに含んでもよい。また、前記工程（３）と工程（４）の間に、前記加飾層前駆体を乾燥して、加飾層前駆体の乾燥体を得る工程をさらに含んでもよい。
【実施例】
【００７０】
本発明を以下の実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００７１】
実施例１（４ｍｍ仮焼品、ふりかけ方式）
基材の原料調合物の用意
陶石を４０質量％、粘土を３０質量％、長石を１０質量％、シャモット（骨材）を１０質量％、および珪灰石を１０質量％配合し、混合して原料調合物を用意した。その後、原料調合物に水を添加し、水分量が１７質量％に調整された可塑性の坏土を得た。
【００７２】
基材の原料調合物の成形
得られた坏土を、押出成形機（特開２０１０−２３４８０２号公報に記載の押出成形機）を用いて円筒状に押出し、それを切り開き、ローラーで圧延して、幅６００ｍｍ、長さ９００ｍｍ、厚さ４ｍｍの平板状の成形体を作製した。
【００７３】
基材の成形体の乾燥および仮焼
作製された基材の成形体を３０分乾燥させて、乾燥体を得た。得られた乾燥体を、ローラーハースキルンにて最高１１００℃で仮焼して仮焼体を得た。
【００７４】
釉薬層の形成
得られた基材の仮焼体に釉薬スラリーを約１００ｇ／ｍ２で均一にスプレー掛けし、釉薬層を形成した。
【００７５】
加飾層前駆体の形成
前記釉薬層の表面に、短辺４．５ｃｍ、長辺１４．５ｃｍの長方形を、５ｍｍの間隔で馬踏目地状に複数くりぬいた木製プレートを置き、上方から糊剤として１０質量％ＣＭＣ水溶液をスプレー塗布した後、前記プレートを取り除いた。ＣＭＣ水溶液が乾燥しないうちに、下記加飾材をふりかけ、試料を立てて余分な加飾材を取り除いて、加飾層前駆体を得た。
【００７６】
加飾材
以下の３成分を混合して加飾材を調製した。
・セラミック粒子：陶器質セルベン（粒子径：２５０μｍを超え１ｍｍ未満）  １００質量部
・熔融剤：屈伏点７２７℃のフリット    ２０質量部
・糊剤：ＣＭＣ    １０質量部  
【００７７】
焼成
このようにして得られた試料を１５０℃で１０分乾燥させた後、ローラーハースキルンにて最高温度１１５０℃で焼成して、実施例１の焼成体を得た。得られた焼成体は、加飾層の高さが１ｍｍで、ＪＩＳ  Ａ  ５２０９（２００８）に規定される吸水率が１％の第Ｉ類（磁器質）に属するものであった。
【００７８】
実施例２（４ｍｍ本焼品、成形方式）
基材の仮焼体に釉薬層を形成する工程までは実施例１と同様に作製した。
【００７９】
基材の仮焼体の焼成
釉薬層を形成した基材の仮焼体を、ローラーハースキルンにて最高温度１１００℃で焼成し、基材の焼成体を得た。
【００８０】
加飾層前駆体の形成
得られた基材の焼成体の表面に、短辺３．５ｃｍ、長辺１０ｃｍの長方形のステンレス製枠を置き、上方からステンレス製枠の中に下記加飾材を押し入れて形作った。その後、ステンレス製型枠を取り除いて、加飾層前駆体を得た。試料は、焼成後の加飾層の高さが１０ｍｍ、２０ｍｍ、３０ｍｍ、および４０ｍｍとなるように、４水準で作製した。
【００８１】
加飾材
以下の３成分を混合して加飾材を調製した。
・セラミック粒子：陶器質セルベン（粒子径：２５０μｍを超え１ｍｍ未満）  １００質量部
・熔融剤：屈伏点７２７℃のフリット    ２０質量部
・糊剤：ＣＭＣ    ２０質量部
【００８２】
焼成
このようにして得られた試料を１５０℃で１０分乾燥させた後、ローラーハースキルンにて最高温度１１５０℃で焼成して、実施例２の焼成体を得た。得られた焼成体は、加飾層の高さが１０ｍｍ、２０ｍｍ、３０ｍｍ、および４０ｍｍで、いずれも吸水率が１％の第Ｉ類（磁器質）であった。
【００８３】
実施例３（２ｍｍ仮焼品、成形方式）
基材の成形体の厚みを２ｍｍとした以外は、基材の仮焼体を形成する工程までは実施例１と同様に作製した。
【００８４】
加飾層前駆体の形成
基材の仮焼体の表面に、短辺３．５ｃｍ、長辺１０ｃｍの長方形のステンレス製枠を置き、上方からステンレス製枠の中に下記加飾材を押し入れて形作った。その後ステンレス製型枠を取り除いて、加飾層前駆体を得た。
【００８５】
加飾材
以下の３成分を混合して加飾材を調製した。
・セラミック粒子：陶器質セルベン（粒子径：２５０μｍを超え１ｍｍ未満）  １００質量部
・熔融剤：屈伏点７２７℃のフリット    ２０質量部
・糊剤：ＣＭＣ    ２０質量部
【００８６】
釉薬層の形成
成形した加飾層前駆体の表面にさらにフリット（粒子径：２５０μｍ未満）を５００ｇ／ｍ２で振りかけて釉薬層を形成した。
【００８７】
焼成
このようにして得られた試料を１５０℃で１０分乾燥させた後、ローラーハースキルンにて最高温度１１５０℃で焼成して、実施例３の焼成体を得た。得られた焼成体は、加飾層の高さが１０ｍｍで、吸水率が１％の第Ｉ類（磁器質）であった。
【００８８】
実施例４（４ｍｍ仮焼品、成形方式）
基材の仮焼体に釉薬層を形成する工程までは実施例１と同様に作製した。
【００８９】
加飾層前駆体の形成
基材の仮焼体の表面に、短辺３．５ｃｍ、長辺１０ｃｍの長方形のステンレス製枠を置き、上方からステンレス製枠の中に下記加飾材を押し入れて形作った。その後、ステンレス製型枠を取り除いて、加飾層前駆体を得た。
【００９０】
加飾材
以下のセラミック粒子（４種類）、熔融剤および糊剤を混合して、セラミック粒子の粒子径の異なる４種類の加飾材を調製した。
・セラミック粒子：陶器質セルベン（粒子径：２５０μｍ未満、２５０μｍを超え１ｍｍ未満、１ｍｍを超え１．７ｍｍ未満、１．７ｍｍ超）    各１００質量部
・熔融剤：溶融点約１１００℃のセルベン（粒子径：２５０μｍを超え５００μｍ未満）２０質量部
・糊剤：ＣＭＣ    ２０質量部
【００９１】
焼成
このようにして得られた試料を１５０℃で１０分乾燥させた後、バッチ式電気炉にて最高温度１１４０℃で１時間焼成し、実施例４の焼成体を得た。得られた焼成体は４種類いずれも加飾層の高さが１０ｍｍで、吸水率が１％の第Ｉ類（磁器質）であった。
【００９２】
比較例１（４ｍｍ仮焼品、ふりかけ方式）
基材の仮焼体に釉薬層を形成する工程までは実施例１と同様に作製した。
【００９３】
加飾層前駆体の形成
基材の仮焼体の表面に、短辺４．５ｃｍ、長辺１４．５ｃｍの長方形を、５ｍｍの間隔で馬踏目地状に複数くりぬいた木製プレートを置き、上方から１０質量％ＣＭＣ水溶液をスプレー塗布した後、前記プレートを取り除いた。ＣＭＣ水溶液が乾燥しないうちに、下記加飾材をふりかけ、試料を立てて余分な加飾材を取り除いて、加飾層前駆体を得た。
【００９４】
加飾材
以下のセラミック粒子のみを含む加飾材を調製した。
セラミック粒子：陶器質セルベン（粒子径：２５０μｍを超え１ｍｍ未満）    １００質量部
熔融剤：なし
糊剤：なし
【００９５】
焼成
このようにして得られた試料をローラーハースキルンにて最高温度１１００℃で焼成し、比較例１の焼成体を得た。得られた焼成体は、加飾層の高さが１ｍｍで、吸水率が１０％の第ＩＩ類（せっ器質）であった。ガラス質成分を含まないため加飾層を手で触るとボロボロ剥がれ落ちる状態であった。