(57)【要約】【課題】着色画素および非着色画素を効率よく形成することのできるカラーフィルター基板、電気光学装置、投射型表示装置、およびカラーフィルター基板の製造方法を提供すること。【解決手段】電気光学装置１００において、カラーフィルター基板２０は、透光性の基板２０ｄの第１面２０ｓに形成された凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）の内部に着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）を備えた赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、青色画素２（Ｂ）からなる着色画素が設けられている。また、基板２０ｄにおいて、凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）の外側で着色画素より基板２０ｄの板厚が厚い個所には、着色層が設けられていない非着色画素２（Ｗ）が設けられている。【選択図】図３
2015025835.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一方面に形成された凹部の内部に、
第１着色層が設けられた第１着色画素と、
前記第１着色層とは異なる色の第２着色層が設けられた第２着色画素と、
前記第１着色画素および前記第２着色画素より前記基板の板厚が厚い個所に、着色層が設けられていない非着色画素と、
を有することを特徴とするカラーフィルター基板。
【請求項２】
前記凹部は、前記第１着色層が内部に設けられた第１凹部と、前記第２着色層が内部に設けられた第２凹部とを有することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルター基板。
【請求項３】
前記基板に対する法線方向からみたとき、前記第１着色画素、前記第２着色画素、および前記非着色画素は、それぞれ遮光層によって囲まれていることを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルター基板。
【請求項４】
前記基板に対する法線方向からみたとき、前記第１着色画素、前記第２着色画素、および前記非着色画素は、それぞれ遮光層によって囲まれ、
前記凹部は、前記遮光層によって、前記第１着色層が内部に設けられた第１凹部と、前記第２着色層が内部に設けられた第２凹部とを有することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルター基板。
【請求項５】
前記非着色画素における前記基板の板厚は、前記基板の端部における板厚と等しく、
前記非着色画素において前記基板の前記一方面側に位置する面と、前記端部において前記基板の前記一方面側に位置する面とは、同一の平面内に位置することを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載のカラーフィルター基板。
【請求項６】
前記第１着色層および前記第２着色層は、前記基板と屈折率が相違し、
前記第１凹部の底面および前記第２凹部の底面は、マイクロレンズのレンズ面を構成する凸曲面または凹曲面になっていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載のカラーフィルター基板。
【請求項７】
前記第１凹部の側面および前記第２凹部の側面は、前記一方面側に向けて開口面積が大となるように傾いた反射面になっていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載のカラーフィルター基板。
【請求項８】
前記第１着色画素における前記基板の板厚と、前記第２着色画素における前記基板の板厚とが等しいことを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載のカラーフィルター基板。
【請求項９】
前記第１着色画素における前記基板の板厚と、前記第２着色画素における前記基板の板厚とが異なることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載のカラーフィルター基板。
【請求項１０】
前記第１着色層と前記第２着色層とは、厚さが等しいことを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載のカラーフィルター基板。
【請求項１１】
前記第１着色層と前記第２着色層とは、厚さが異なることを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載のカラーフィルター基板。
【請求項１２】
前記第１着色層の前記基板とは反対側の面と、前記第２着色層の前記基板とは反対側の面とは、前記基板からの高さ位置が等しいことを特徴とする請求項１乃至１１の何れか一項に記載のカラーフィルター基板。
【請求項１３】
前記第１着色層の前記基板とは反対側の面と、前記第２着色層の前記基板とは反対側の面とは、前記基板からの高さ位置が異なることを特徴とする請求項１乃至１１の何れか一項に記載のカラーフィルター基板。
【請求項１４】
請求項１乃至１３の何れか一項に記載のカラーフィルター基板を備えた電気光学装置であって、
前記第１着色画素、前記第２着色画素、および前記非着色画素を各々透過してきた画素毎の光を変調してなる画像光、または変調した画素毎の光を前記第１着色画素、前記第２着色画素、および前記非着色画素を透過させてなる画像光を出射することを特徴とする電気光学装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の電気光学装置を備えた投射型表示装置であって、
前記画像光を投射する投射光学系を有することを特徴とする投射型表示装置。
【請求項１６】
基板の一方面に対して、当該一方面の一部を露出させたエッチングマスクを形成するエッチングマスク形成工程と、
前記一方面のうち、前記エッチングマスクから露出している部分をエッチングして凹部を形成するエッチング工程と、
前記凹部の内部に第１着色層を形成して第１着色画素を形成するとともに、前記凹部の内部の前記第１着色層とは異なる位置に当該第１着色層と異なる色の第２着色層を形成して第２着色画素を形成する着色層形成工程と、
を行い、
前記基板において前記エッチングマスクで覆われていた個所に、着色層を有しない非着色画素を形成することを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に着色層が設けられたカラーフィルター基板、カラーフィルターを備えた電気光学装置、電気光学装置を備えた投射型表示装置、およびカラーフィルター基板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置等の電気光学装置においてカラー画像を表示するにあたっては、基板に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の着色層が設けられたカラーフィルター基板が用いられることがある。カラーフィルター基板では、例えば、赤色（Ｒ）の着色層が形成された赤色画素、緑色（Ｇ）の着色層が形成された緑色画素、および青色（Ｂ）の着色層が形成された青色画素からなる３つのサブ画素によって１つの画素が構成されている。
【０００３】
かかるカラーフィルター基板では、例えば、液晶装置においてカラーフィルター基板を対向基板として用いて素子基板と対向させた際のセルギャップ（液晶層の厚さ）の安定化や狭セルギャップ化を目的に、基板に凹部を形成し、凹部の内部に着色層を設けることが提案されている（特許文献１、２参照）。
【０００４】
また、カラーフィルター基板に関しては、白表示の光量を高めること等の目的で、１つの画素に、赤色画素（着色画素）、緑色画素（着色画素）、および青色画素（着色画素）に加えて、白色画素（非着色画素）を設けることが提案されている（特許文献３、４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−９９６１４号公報
【特許文献２】特開２０１２−１８９８６１号公報
【特許文献３】特開２００６−２５９１３５号公報
【特許文献４】特開２０１１−１７０１７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
カラーフィルター基板を製造するには、基板に対して、着色層の形成工程や着色層のパターニング工程を繰り返し行って、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の樹脂層からなる着色層を順次形成する。従って、特許文献１、２等で提案されているカラーフィルター基板の製造方法において、白色画素を追加すると、無色の樹脂層や白色顔料を含む樹脂層を形成する工程や、かかる樹脂層のパターニング工程を追加する必要があるので、カラーフィルター基板の製造コストが増大するという問題点がある。
【０００７】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、着色画素および非着色画素を効率よく形成することのできるカラーフィルター基板、カラーフィルターを備えた電気光学装置、電気光学装置を備えた投射型表示装置、およびカラーフィルター基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明に係るカラーフィルター基板は、基板の一方面に形成された凹部の内部に、第１着色層が設けられた第１着色画素と、前記第１着色層とは異なる色の第２着色層が設けられた第２着色画素と、前記第１着色画素および前記第２着色画素より前記基板の板厚が厚い個所に、着色層が設けられていない非着色画素と、を有することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明に係るカラーフィルター基板の製造方法では、基板の一方面に対して、当該一方面の一部を露出させたエッチングマスクを形成するエッチングマスク形成工程と、前記一方面のうち、前記エッチングマスクから露出している部分をエッチングして凹部を形成するエッチング工程と、前記凹部の内部に第１着色層を形成して第１着色画素を形成するとともに、前記凹部の内部の前記第１着色層とは異なる位置に当該第１着色層と異なる色の第２着色層を形成して第２着色画素を形成する着色層形成工程と、を行い、前記基板において前記エッチングマスクで覆われていた個所に、着色層を有しない非着色画素を形成することを特徴とする。
【００１０】
本発明において「基板」とは、基板全体がガラス基板や石英基板等から構成されている場合の他、ガラス基板や石英基板等の一方面側に透光性の絶縁膜が構成されている場合を含む意味である。
【００１１】
本発明に係るカラーフィルター基板では、第１着色画素および第２着色画素に加えて、非着色画素が設けられているため、白表示の光量を高めることができる等の利点がある。また、第１着色画素の第１着色層、および第２着色画素の第２着色層は、基板の凹部の内部に形成されているため、第１着色層および第２着色層が基板の一方面側から大きく突出していない。また、非着色画素を構成するにあたっては、無色の樹脂層や白色顔料を含む樹脂層を形成せず、基板が厚く残る部分を利用する。このため、非着色画素に無色の樹脂層や白色顔料を含む樹脂層を形成する工程を行う必要がない。従って、着色画素および非着色画素を効率よく形成することができる。さらに、非着色画素では、無色の樹脂層や白色顔料を含む樹脂層を形成しない代わりに基板が厚く残っているので、基板の一方面側では、非着色画素が、第１着色層および第２着色層に比して大きく凹んでいない。それ故、液晶装置においてカラーフィルター基板を対向基板として用いて素子基板と対向させた際、セルギャップ（液晶層の厚さ）の安定化を図ることができる等の利点がある。
【００１２】
本発明において、前記凹部は、前記第１着色層が内部に設けられた第１凹部と、前記第２着色層が内部に設けられた第２凹部とを有することが好ましい。かかる構成によれば、第１着色層を第１凹部によって規定される領域内に設けることができ、第２着色層を第２凹部によって規定される領域内に設けることができる。
【００１３】
本発明において、前記基板に対する法線方向からみたとき、前記第１着色画素、前記第２着色画素、および前記非着色画素は、それぞれ遮光層によって囲まれていることが好ましい。かかる構成によれば、遮光層によって、隣り合う画素の間での混色を防止するブラックマトリクスやブラックストライプを構成することができる。
【００１４】
本発明において、前記基板に対する法線方向からみたとき、前記第１着色画素、前記第２着色画素、および前記非着色画素は、それぞれ遮光層によって囲まれ、前記凹部は、前記遮光層によって、前記第１着色層が内部に設けられた第１凹部と、前記第２着色層が内部に設けられた第２凹部とを有することが好ましい。かかる構成によれば、遮光層によって、隣り合う画素の間での混色を防止するブラックマトリクスやブラックストライプを構成することができる。また、遮光層によって、第１凹部および第２凹部を構成することができるので、第１着色層を第１凹部によって規定される領域内に設けることができ、第２着色層を第２凹部によって規定される領域内に設けることができる。
【００１５】
本発明において、前記非着色画素における前記基板の板厚は、前記基板の端部における板厚と等しく、前記非着色画素において前記基板の前記一方面側に位置する面と、前記端部において前記基板の前記一方面側に位置する面とは、同一の平面内に位置することが好ましい。すなわち、凹部（第１凹部および第２凹部）をエッチングにより形成する際、非着色画素に相当する部分については、基板の端部と同様、エッチングを行わない領域として利用することが好ましい。
【００１６】
本発明において、前記第１着色層および前記第２着色層は、前記基板と屈折率が相違し、前記第１凹部の底面および前記第２凹部の底面は、マイクロレンズのレンズ面を構成する凸曲面または凹曲面になっていることが好ましい。かかる構成によれば、着色層に入射した光を所定の方向に屈折させることができる。
【００１７】
本発明において、前記第１凹部の側面および前記第２凹部の側面は、前記一方面側に向けて開口面積が大となるように傾いた反射面になっている構成を採用してもよい。かかる構成によれば、第１凹部の側面および第２凹部の側面に向かった光を所定の方向に反射させることができる。
【００１８】
本発明において、前記第１着色画素における前記基板の板厚と、前記第２着色画素における前記基板の板厚とが等しい構成を採用することができる。
【００１９】
本発明において、前記第１着色画素における前記基板の板厚と、前記第２着色画素における前記基板の板厚とが異なる構成を採用してもよい。
【００２０】
本発明において、前記第１着色層と前記第２着色層とは、厚さが等しい構成を採用することができる。
【００２１】
本発明において、前記第１着色層と前記第２着色層とは、厚さが異なる構成を採用してもよい。
【００２２】
本発明において、前記第１着色層の前記基板とは反対側の面と、前記第２着色層の前記基板とは反対側の面とは、前記基板からの高さ位置が等しい構成を採用することができる。かかる構成によれば、液晶装置においてカラーフィルター基板を対向基板として用いて素子基板と対向させた際、セルギャップ（液晶層の厚さ）の安定化を図ることができる等の利点がある。
【００２３】
本発明において、前記第１着色層の前記基板とは反対側の面と、前記第２着色層の前記基板とは反対側の面とは、前記基板からの高さ位置が異なる構成を採用してもよい。かかる構成によれば、液晶装置においてカラーフィルター基板を対向基板として用いて素子基板と対向させた際、セルギャップ（液晶層の厚さ）を第１着色画素と第２着色画素とにおいて相違させることができる。
【００２４】
本発明を適用したカラーフィルター基板を備えた電気光学装置は、前記第１着色画素、前記第２着色画素、および前記非着色画素を各々透過してきた画素毎の光を変調してなる画像光、または変調した画素毎の光を前記第１着色画素、前記第２着色画素、および前記非着色画素を透過させてなる画像光を出射する。
【００２５】
本発明を適用した電気光学装置を備えた電子機器は、例えば、前記画像光を投射する投射光学系を有することを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施の形態１に係る電気光学装置の液晶パネルの説明図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る電気光学装置の素子基板の電気的構成を示す説明図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る電気光学装置に用いたカラーフィルター基板等を模式的に示す説明図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係るカラーフィルター基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図５】本発明の実施の形態１に係るカラーフィルター基板の製造工程のうち、エッチング形成工程の説明図である。
【図６】本発明の実施の形態１に係るカラーフィルター基板の製造工程のうち、遮光層形成工程の説明図である。
【図７】本発明の実施の形態１に係るカラーフィルター基板の製造工程のうち、着色層形成工程の説明図である。
【図８】本発明の実施の形態２に係るカラーフィルター基板等の断面図である。
【図９】本発明の実施の形態３に係るカラーフィルター基板等の断面図である。
【図１０】本発明の実施の形態４に係るカラーフィルター基板等の断面図である。
【図１１】本発明の実施の形態５に係るカラーフィルター基板等の断面図である。
【図１２】本発明を適用した投射型表示装置（電気光学装置）の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明を適用したカラーフィルター基板として、代表的な電気光学装置である液晶装置に用いるカラーフィルター基板を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。また、以下の説明で参照する図においては、走査線、データ線、信号線等の配線等については、それらの数を少なく表してある。また、素子基板およびカラーフィルター基板の面に沿う方向のうち、互いに交差する方向をＸ方向およびＹ方向として説明する。
【００２８】
［実施の形態１］
図１は、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置の液晶パネルの説明図であり、図１（ａ）、（ｂ）は各々、液晶パネルを各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのＨ−Ｈ′断面図である。
【００２９】
図１（ａ）、（ｂ）に示す電気光学装置１００は、液晶装置であり、液晶パネル１００ｐを有している。液晶パネル１００ｐでは、素子基板１０と、対向基板としてのカラーフィルター基板２０とが所定の隙間を介してシール材１０７によって貼り合わされており、シール材１０７はカラーフィルター基板２０の外縁に沿って枠状に設けられている。シール材１０７は、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等からなる接着剤であり、両基板間の距離を所定値とするためのグラスファイバーあるいはガラスビーズ等のギャップ材１０７ａが配合されている。液晶パネル１００ｐにおいて、素子基板１０とカラーフィルター基板２０との間のうち、シール材１０７によって囲まれた領域内には液晶層５０（電気光学物質層）が設けられている。本形態において、シール材１０７には、液晶注入口１０７ｃとして利用される途切れ部分が形成されており、かかる液晶注入口１０７ｃは、液晶材料の注入後、封止材１０７ｄによって封止されている。
【００３０】
素子基板１０およびカラーフィルター基板２０はいずれも四角形であり、素子基板１０は、Ｙ方向で対向する２つの側面１０ｅ、１０ｆと、Ｘ方向で対向する２つの側面１０ｇ、１０ｈとを備えている。また、カラーフィルター基板２０は、Ｙ方向で対向する２つの側面２０ｅ、２０ｆと、Ｘ方向で対向する２つの側面２０ｇ、２０ｈとを備えている。液晶パネル１００ｐの略中央には、画像表示領域１０ａが四角形の領域として設けられており、画像表示領域１０ａの外側は、四角枠状の外周領域１０ｃになっている。
【００３１】
素子基板１０において、外周領域１０ｃでは、素子基板１０においてＹ方向の一方側に位置する側面１０ｅに沿ってデータ線駆動回路１０１および複数の端子１０２が形成されており、この側面１０ｅに隣接する他の側面１０ｇ、１０ｈの各々に沿って走査線駆動回路１０４が形成されている。端子１０２には、フレキシブル配線基板（図示せず）が接続されており、素子基板１０には、フレキシブル配線基板を介して外部制御回路から各種電位や各種信号が入力される。
【００３２】
素子基板１０においては、基板本体が石英基板やガラス基板等の透光性の基板１０ｄからなる。基板１０ｄの第１面１０ｓおよび第２面１０ｔのうち、カラーフィルター基板２０と対向する第１面１０ｓの側には、画像表示領域１０ａに、画素電極９ａや、図２を参照して後述する画素トランジスター３０等がマトリクス状に配列されている。従って、画像表示領域１０ａは、画素電極９ａがマトリクス状に配列された画素電極配列領域１０ｐとして構成されている。かかる構成の素子基板１０において、画素電極９ａの上層側には配向膜１６が形成されている。
【００３３】
素子基板１０の外周領域１０ｃのうち、画像表示領域１０ａとシール材１０７とに挟まれた四角枠状の周辺領域１０ｂには、画素電極９ａと同時形成されたダミー画素電極９ｂが形成されている。ダミー画素電極９ｂは、例えば、隣り合うダミー画素電極９ｂ同士が細幅の連結部（図示せず）で繋がっており、共通電位Ｖcomが印加されている。
【００３４】
カラーフィルター基板２０においては、基板本体が石英基板やガラス基板等の透光性の基板２０ｄからなる。基板２０ｄの第１面２０ｓおよび第２面２０ｔのうち、素子基板１０と対向する第１面２０ｓの側には、共通電極２１が形成されている。共通電極２１は、カラーフィルター基板２０の略全面あるいは複数の帯状電極として複数の画素１に跨って形成されている。本形態において、共通電極２１は、カラーフィルター基板２０の略全面に形成されている。また、基板２０ｄの第１面２０ｓの側において、共通電極２１の上層（素子基板１０が位置する側）には配向膜２６が形成され、共通電極２１の下層側（基板２０ｄが位置する側）には透光性のオーバーコート膜２２が形成されている。
【００３５】
また、基板２０ｄの第１面２０ｓの側において、オーバーコート膜２２の下層側（基板２０ｄが位置する側）には、後述する遮光層２９および着色層２８が形成されている。本形態において、遮光層２９は、画像表示領域１０ａの外周縁に沿って延在する額縁部分２９ａとして形成されており、遮光層２９の内周縁によって画像表示領域１０ａが規定されている。額縁部分２９ａはダミー画素電極９ｂと重なる位置に形成されており、額縁部分２９ａの外周縁は、シール材１０７の内周縁との間に隙間を隔てた位置にある。従って、額縁部分２９ａとシール材１０７とは重なっていない。また、遮光層２９は、画素電極９ａにより挟まれた画素間領域に重なる遮光部２９ｂ（ブラックマトリクス部）としても形成されている。本形態において、遮光層２９は、アルミニウム等の金属層からなる。
【００３６】
カラーフィルター基板２０の第１面２０ｓの側の４つの角部分には基板間導通用電極２３が形成されており、素子基板１０の第１面１０ｓの側には、カラーフィルター基板２０の基板間導通用電極２３と対向する位置に基板間導通用電極１９が形成されている。本形態において、基板間導通用電極２３は、共通電極２１の一部からなる。基板間導通用電極１９と基板間導通用電極２３との間には、導電粒子を含んだ基板間導通材１９ａが配置されており、カラーフィルター基板２０の共通電極２１は、基板間導通用電極１９、基板間導通材１９ａおよび基板間導通用電極２３を介して、素子基板１０側から共通電位Ｖcomが印加されている。シール材１０７は、略同一の幅寸法をもってカラーフィルター基板２０の外周縁に沿って設けられているが、カラーフィルター基板２０の角部分と重なる領域では基板間導通用電極１９、２５を避けて内側を通るように設けられている。
【００３７】
このように構成した電気光学装置１００では、使用する液晶層５０の種類や、ノーマリホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じて、偏光フィルム、位相差フィルム、偏光板等が液晶パネル１００ｐに対して所定の向きに配置される。本形態において、電気光学装置１００は透過型の液晶装置であり、画素電極９ａおよび共通電極２１は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）膜等の透光性導電膜により形成されている。かかる透過型の液晶装置（電気光学装置１００）では、例えば、カラーフィルター基板２０の側から入射した光が素子基板１０の側から出射される間に変調されて画像を表示する。この場合、カラーフィルター基板２０の後述する着色画素および非着色画素を各々透過してきた画素１毎の光を液晶層５０で変調してなる画像光によって画像を表示する。また、素子基板１０の側から入射した光がカラーフィルター基板２０の側から出射される間に変調されて画像を表示することもある。この場合、液晶層５０で変調した画素１毎の光をカラーフィルター基板２０の後述する着色画素および非着色画素を透過させてなる画像光によって画像を表示する。本形態では、矢印Ｌで示すように、カラーフィルター基板２０の側から入射した光が素子基板１０の側から出射される間に変調されて画像を表示する場合を中心に説明する。
【００３８】
また、電気光学装置１００が反射型の液晶装置である場合、共通電極２１は、ＩＴＯ膜やＩＺＯ膜等の透光性導電膜により形成され、画素電極９ａは、アルミニウム膜等の反射性導電膜により形成される。かかる反射型の液晶装置（電気光学装置１００）では、カラーフィルター基板２０の側から入射した光が素子基板１０で反射して出射される間に変調されて画像を表示する。
【００３９】
電気光学装置１００は、モバイルコンピューター、携帯電話機等といった電子機器のカラー表示装置として用いることができる。また、電気光学装置１００は、電子ペーパーとして用いることできる。また、電気光学装置１００は、後述する投射型表示装置（液晶プロジェクター）において、画像生成装置として用いることができる。
【００４０】
（素子基板１０の電気的構成）
図２は、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置１００の素子基板１０の電気的構成を示す説明図であり、図２（ａ）、（ｂ）は、素子基板１０の回路や配線の平面的なレイアウトを示す説明図、および画素の電気的構成を示す説明図である。なお、以下の説明において、端子１０２を介して素子基板１０に入力される信号名称と信号用の配線とは、同一のアルファベット記号を信号および配線Ｌの後に各々付与する。例えば、信号名称である「クロック信号ＣＬＸ」に対して、対応する信号用の配線について「クロック信号線ＬＣＬＸ」とする。また、以下の説明において、端子１０２を介して素子基板１０に入力される信号名称と信号用の端子とは、同一のアルファベット記号を信号および端子Ｔの後に各々付与する。例えば、信号名称である「クロック信号ＣＬＸ」に対して、対応する端子１０２については「端子ＴＣＬＸ」とする。
【００４１】
図２（ａ）、（ｂ）に示すように、電気光学装置１００において、素子基板１０の中央領域には複数の画素１がマトリクス状に配列された画素電極配列領域１０ｐが設けられており、かかる画素電極配列領域１０ｐのうち、図１（ｂ）に示す額縁部分２９ａの内縁で囲まれた領域が画像表示領域１０ａである。素子基板１０では、画素電極配列領域１０ｐの内側に、Ｘ方向に延在する複数本の走査線３ａと、Ｙ方向に延在する複数本のデータ線６ａとが形成されており、それらの交点に対応する位置に画素１が構成されている。複数の画素１の各々には、ＴＦＴ等からなる画素トランジスター３０（画素スイッチング素子）、および画素電極９ａが形成されている。画素トランジスター３０のソースにはデータ線６ａが電気的に接続され、画素トランジスター３０のゲートには走査線３ａが電気的に接続され、画素トランジスター３０のドレインには、画素電極９ａが電気的に接続されている。
【００４２】
素子基板１０において、画素電極配列領域１０ｐより外側の外周領域１０ｃには、走査線駆動回路１０４、データ線駆動回路１０１、サンプリング回路１０３、基板間導通用電極１９、端子１０２等が構成されており、端子１０２から走査線駆動回路１０４、データ線駆動回路１０１、サンプリング回路１０３、および基板間導通用電極１９に向けて複数の配線１０５が延在している。サンプリング回路１０３は複数本のデータ線６ａに電気的に接続しており、走査線駆動回路１０４は、複数本の走査線３ａに電気的に接続している。
【００４３】
各画素１において、画素電極９ａは、図１を参照して説明したカラーフィルター基板２０に形成された共通電極２１と液晶層５０を介して対向し、液晶容量５０ａを構成している。また、各画素１には、液晶容量５０ａで保持される画像信号の変動を防ぐために、液晶容量５０ａと並列に保持容量５５が付加されている。本形態では、保持容量５５を構成するために、複数の画素１に跨って走査線３ａと並行して延びた容量線５ａが形成され、かかる容量線５ａには電位Ｖcomが印加されている。なお、電位Ｖcomとしては、共通電極２１に印加される共通電位と同一電位を用いることができる。
【００４４】
素子基板１０の側面１０ｅに沿って設けられた端子１０２は、共通電位線用、走査線駆動回路用、画像信号用、およびデータ線駆動回路用の４つの用途に大きく分類される複数の端子群により構成されている。具体的には、端子１０２は、共通電位線ＬＶcom用として端子ＴＶcomを備え、走査線駆動回路１０４用として端子ＴＳＰＹ、端子ＴＶＳＳＹ、端子ＴＶＤＤＹ、端子ＴＣＬＹおよび端子ＴＣＬＹINVを備えている。また、端子１０２は、画像信号ＶＩＤ１〜ＶＩＤ６用として端子ＴＶＩＤ１〜ＴＶＩＤ６を備え、データ線駆動回路１０１用として、端子ＴＶＳＳＸ、端子ＴＳＰＸ、端子ＴＶＤＤＸ、端子ＴＣＬＸ、端子ＴＣＬＸINV、端子ＴＥＮＢ１〜ＴＥＮＢ４、および端子ＴＶＳＳＸを備えている。
【００４５】
データ線駆動回路１０１は、シフトレジスタ回路１０１ｃ、選択回路１０１ｂ、およびバッファー回路１０１ａを備えている。データ線駆動回路１０１において、シフトレジスタ回路１０１ｃは、外部制御回路から端子１０２（端子ＴＶＳＳＸ、ＴＶＤＤＸ）および配線１０５（配線ＬＶＳＳＸ、ＬＶＤＤＸ）を介して供給される負電源ＶＳＳＸおよび正電源ＶＤＤＸを電源として用い、外部制御回路から端子１０２（端子ＴＳＰＸ）および配線１０５（配線ＬＳＰＸ）を介して供給されるスタート信号ＳＰＸに基づいて転送動作を開始する。シフトレジスタ回路１０１ｃは、端子１０２（端子ＴＣＬＸ、ＴＣＬＸINV）、および配線１０５（配線ＬＣＬＸ、ＬＣＬＸINV）を介して供給されるクロック信号ＣＬＸおよび逆位相クロック信号ＣＬＸINVに基づき、転送信号を選択回路１０１ｂへ出力する。選択回路１０１ｂは、「イネーブル回路」とも称され、シフトレジスタ回路１０１ｃから出力される転送信号のパルス幅を、外部制御回路から端子１０２（端子ＴＥＮＢ１〜ＴＥＮＢ４）および配線１０５（配線ＬＥＮＢ１〜ＬＥＮＢ４）を介して供給されるイネーブル信号ＥＮＢ１〜ＥＮＢ４のパルス幅に制限することにより、後述のサンプリング回路１０３における各サンプリング期間を規定する。より具体的には、選択回路１０１ｂは、シフトレジスタ回路１０１ｃの各段に対応して設けられたＮＡＮＤ回路およびインバーター等により構成されており、シフトレジスタ回路１０１ｃより出力される転送信号がハイレベルとされており、かつ、イネーブル信号ＥＮＢ１〜ＥＮＢ４のいずれかがハイレベルとされているときにのみデータ線６ａが駆動されるように、時間軸上における電位の選択制御を行う。バッファー回路１０１ａは、電位の選択が行われた転送信号をバッファリングした後、サンプリング回路駆動信号として、サンプリング回路駆動信号線１０９を介してサンプリング回路１０３に供給する。
【００４６】
サンプリング回路１０３は、画像信号をサンプリングするためのスイッチング素子１０８を複数備えて構成されている。本形態において、スイッチング素子１０８は、ＴＦＴ等の電界効果型トランジスターからなる。スイッチング素子１０８のドレインには、データ線６ａが電気的に接続され、スイッチング素子１０８のソースには、配線１０６を介して配線１０５（画像信号線ＬＶＩＤ１〜ＬＶＩＤ６）が接続され、スイッチング素子１０８のゲートには、データ線駆動回路１０１に接続されたサンプリング回路駆動信号線１０９が接続されている。そして、端子１０２（端子ＴＶＩＤ１〜ＶＩＤ６）を介して配線１０５（画像信号線ＬＶＩＤ１〜ＬＶＩＤ６）に供給された画像信号ＶＩＤ１〜ＶＩＤ６は、データ線駆動回路１０１からサンプリング回路駆動信号線１０９を通じてサンプリング回路駆動信号が供給されるのに応じ、サンプリング回路１０３によりサンプリングされ、各データ線６ａに画像信号Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、・・Ｓｎとして供給される。本形態において、画像信号Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、・・Ｓｎは、６相にシリアル−パラレル展開された画像信号ＶＩＤ１〜ＶＩＤ６の各々に対応して、６本のデータ線６ａの組に対してグループ毎に供給される。なお、画像信号の相展開数に関しては、６相に限られるものでなく、例えば、９相、１２相、２４相、４８相等、複数相に展開された画像信号が、その展開数に対応した数を一組としたデータ線６ａの組に対して供給される。
【００４７】
走査線駆動回路１０４は、構成要素としてシフトレジスタ回路およびバッファー回路を備えている。走査線駆動回路１０４は、外部制御回路から端子１０２（端子ＴＶＳＳＹ、ＴＶＤＤＹ）および配線１０５（配線ＬＶＳＳＹ、ＬＶＤＤＹ）を介して供給される負電源ＶＳＳＹおよび正電源ＶＤＤＹを電源として用い、同じく外部制御回路から端子１０２（端子ＴＳＰＹ）および配線１０５（端子ＴＳＰＹ）を介して供給されるスタート信号ＳＰＹに応じて、その内蔵シフトレジスタ回路の転送動作を開始する。また、走査線駆動回路１０４は、端子１０２（端子ＴＣＬＹ、ＴＣＬＹINV）および配線１０５（配線ＬＣＬＹ、ＬＣＬＹINV）を介して供給されるクロック信号ＣＬＹおよび逆位相クロック信号ＣＬＹINVに基づいて、所定のタイミングで走査線３ａに走査信号をパルス的に線順次で印加する。
【００４８】
素子基板１０には、４つの基板間導通用電極１９を通過するように配線１０５（共通電位線ＬＶcom）が形成されており、基板間導通用電極１９には、端子１０２（端子ＴＶcom）および配線１０５（共通電位線ＬＶcom）を介して共通電位Ｖcomが供給される。
【００４９】
（カラーフィルター基板２０の構成）
図３は、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置１００に用いたカラーフィルター基板２０等を模式的に示す説明図であり、図３（ａ）、（ｂ）は、カラーフィルター基板２０の平面構成を模式的に示す説明図、およびカラーフィルター基板２０の断面構成を模式的に示す説明図である。なお、図３（ａ）では、画素１の数を減らして示してある。また、図３（ｂ）では、各色に対応する画素１を一列に並んだ状態で示してある。
【００５０】
図３に示すように、本形態の電気光学装置１００において、各画素１は各々、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に対応しており、かかる色の対応は、カラーフィルター基板２０に形成された着色層２８によって規定されている。すなわち、カラーフィルター基板２０は、赤色（Ｒ）の樹脂層からなる着色層２８（Ｒ）を備えた赤色画素２（Ｒ）と、緑色（Ｇ）の樹脂層からなる着色層２８（Ｇ）を備えた緑色画素２（Ｇ）と、青色（Ｂ）の樹脂層からなる着色層２８（Ｂ）を備えた青色画素２（Ｂ）とからなる３種類の着色画素を有している。
【００５１】
また、本形態においては、一部の画素１は白色（Ｗ）に対応しており、それ故、カラーフィルター基板２０には、非着色画素２（Ｗ）が構成されている。本形態において、非着色画素２（Ｗ）は、後述するように、無色の樹脂層や白色顔料を含む樹脂層からなる着色層２８が形成されていない。
【００５２】
電気光学装置１００では、緑色（Ｇ）の画素１に対してＸ方向で隣り合う位置に青色（Ｂ）の画素１が配置され、緑色（Ｇ）の画素１に対してＹ方向で隣り合う位置に赤色（Ｒ）の画素１が配置され、青色（Ｂ）の画素１に対してＹ方向で隣り合う位置に白色（Ｗ）の画素１が配置されている。言い換えれば、本形態のカラーフィルター基板２０では、緑色画素２（Ｇ）に対してＸ方向で隣り合う位置に青色画素２（Ｂ）が配置され、緑色画素２（Ｇ）に対してＹ方向で隣り合う位置に赤色画素２（Ｒ）が配置され、青色画素２（Ｂ）に対してＹ方向で隣り合う位置に非着色画素２（Ｗ）が配置されている。ここで、緑色（Ｇ）の画素１、青色（Ｂ）の画素１、赤色（Ｒ）の画素１、および白色（Ｗ）の画素１は、同一のタイミングで駆動されるサブ画素として用いられ、かかる４つのサブ画素によって１つの画素が構成されている。
【００５３】
（非着色画素２（Ｗ）等の詳細構成）
本形態のカラーフィルター基板２０では、赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、および青色画素２（Ｂ）を構成するにあたって、基板２０ｄの一方面に凹部２５が形成され、かかる凹部２５の内部に３種類の着色層２８（赤色（Ｒ）の着色層２８（Ｒ）、緑色（Ｇ）の着色層２８（Ｇ）、青色（Ｂ）の着色層２８（Ｂ））が設けられている。これに対して、非着色画素２（Ｗ）を構成するにあたっては、無色の樹脂層や白色顔料を含む樹脂層からなる着色層２８が形成されておらず、非着色画素２（Ｗ）には、赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、および青色画素２（Ｂ）より基板２０ｄが分厚く凸部２０ｒとして残っている。
【００５４】
本形態において、凹部２５は、基板２０ｄの一方面として、基板２０ｄにおいて素子基板１０の側に向く第１面２０ｓに形成されており、凸部２０ｒは、凹部２５の底面２５ａから素子基板１０の側に向けて突出している。本形態において、凹部２５は、基板２０ｄ（カラーフィルター基板２０）の側面２０ｅ、２０ｆ、２０ｇ、２０ｈから離間した領域に形成されている。すわなち、凹部２５は、画像形成領域１０および額縁部分２９ａを含む矩形領域に形成されているが、シール材２７が設けられている領域には形成されていない。このため、基板２０ｄの第１面２０ｓには、凹部２５と側面２０ｅ、２０ｆ、２０ｇ、２０ｈとの間に、凸部２０ｒの先端面２０ｕと同一の平面内に位置する矩形の枠状領域２０ｐ（端部）が形成されており、かかる枠状領域２０ｐに対して重なる領域にシール材２７が設けられている。本形態において、凸部２０ｒが形成されている領域と、枠状領域２０ｐとでは、基板２０ｄの厚さが等しい。
【００５５】
ここで、凹部２５は、赤色（Ｒ）の着色層２８（Ｒ）が配置される凹部２５（Ｒ）と、緑色（Ｇ）の着色層２８（Ｇ）が配置される凹部２５（Ｇ）と、青色（Ｂ）の着色層２８（Ｂ）が配置される凹部２５（Ｂ）とを含んでおり、凹部２５（Ｒ）、凹部２５（Ｇ）、および凹部２５（Ｂ）は、隣り合う凹部同士が仕切られている。
【００５６】
本形態では、遮光層２９のうち、遮光部２９ｂが、凹部２５を凹部２５（Ｒ）、凹部２５（Ｇ）および凹部２５（Ｂ）に仕切っている。より具体的には、遮光部２９ｂにおいて、赤色画素２（Ｒ）と緑色画素２（Ｇ）との間に位置する部分は、凹部２５の内部で凹部２５（Ｒ）と凹部２５（Ｇ）を仕切る隔壁として形成され、緑色画素２（Ｇ）と青色画素２（Ｂ）との間に位置する部分は、凹部２５の内部で凹部２５（Ｇ）と凹部２５（Ｂ）を仕切る隔壁として形成され、青色画素２（Ｂ）と赤色画素２（Ｒ）との間に位置する部分は、凹部２５の内部で凹部２５（Ｂ）と凹部２５（Ｒ）を仕切る隔壁として形成されている。また、遮光部２９ｂにおいて、非着色画素２（Ｗ）と赤色画素２（Ｒ）との間に位置する部分、および非着色画素２（Ｗ）と青色画素２（Ｂ）との間に位置する部分は、凸部２０ｒの側面を覆うように形成されている。なお、凹部２５（Ｒ）、凹部２５（Ｇ）および凹部２５（Ｂ）は、それぞれ基板２０ｄの一部を残して形成した格子状の凸部により離間して形成してもよい。
【００５７】
本形態では、遮光層２９のうち、額縁部分２９ａも、遮光部２９ｂと同様、凹部２５の内部に形成されており、額縁部分２９ａは、凹部２５の内部において、赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、青色画素２（Ｂ）および非着色画素２（Ｗ）が配列されている領域の周りを囲んでいる。
【００５８】
このように構成したカラーフィルター基板２０において、凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）は、深さが等しい。このため、赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、および青色画素２（Ｂ）においては、基板２０ｄの板厚が等しく、非着色画素２（Ｗ）における基板２０ｄの板厚は、赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、および青色画素２（Ｂ）における基板２０ｄの板厚より厚い。
【００５９】
また、着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）は、厚さが等しい。本形態では、着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）の厚さが、凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）の深さが等しい。このため、赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、青色画素２（Ｂ）、および非着色画素２（Ｗ）の基板２０ｄの第１面２０ｓ側の面は、基板２０ｄから略同一の高さ位置にあり、かかる赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、青色画素２（Ｂ）、および非着色画素２（Ｗ）を覆うように、シリコン酸化膜等からなるオーバーコート膜２２、共通電極２１および配向膜２６が順に積層されている。本形態では、基板２０ｄの第１面２０ｓの全面にオーバーコート膜２２を形成した後、基板２０ｄの第１面２０ｓの全面に共通電極２１を形成し、しかる後に、シール材２７が形成される領域を除く基板２０ｄの第１面２０ｓの略全面に配向膜２６を形成する。なお、配向膜２６は、シール材２７が形成される領域にも形成してもよい。その際、赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、青色画素２（Ｂ）、および非着色画素２（Ｗ）の基板２０ｄの第１面２０ｓ側の面は、基板２０ｄから略同一の高さ位置にあるため、オーバーコート膜２２、共通電極２１および配向膜２６は、平坦面な面に形成されることになる。
【００６０】
（第１着色画素および第２着色画素等の説明）
このように構成したカラーフィルター基板２０において、３種類の着色画素（赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、青色画素２（Ｂ））のうちの１つの着色画素が本発明における「第１着色画素」であり、他の１つの着色画素が本発明における「第２着色画素」である。従って、残りの着色画素が本発明における「第３着色画素」に相当する。それ故、３種類の着色層２８（赤色（Ｒ）の着色層２８（Ｒ）、緑色（Ｇ）の着色層２８（Ｇ）、青色（Ｂ）の着色層２８（Ｂ））のうち、１つの着色層２８が本発明における「第１着色層」であり、他の１つの着色層２８が本発明における「第２着色層」である。従って、残りの着色層２８が「第３着色層」に相当する。
【００６１】
例えば、赤色画素２（Ｒ）が本発明における「第１着色画素」であり、緑色画素２（Ｇ）が本発明における「第２着色画素」であり、青色画素２（Ｂ）が本発明における「第３着色画素」である。従って、赤色（Ｒ）の着色層２８（Ｒ）が本発明における「第１着色層」であり、緑色（Ｇ）の着色層２８（Ｇ）が本発明における「第２着色層」であり、青色（Ｂ）の着色層２８（Ｂ）が本発明における「第３着色層」である。また、凹部２５（Ｒ）が本発明における「第１凹部」であり、凹部２５（Ｇ）が本発明における「第２凹部」であり、凹部２５（Ｂ）が本発明における「第３凹部」である。なお、上記「第１」「第２」「第３」と各色との対応関係は、上記の対応関係以外の組み合わせであってもよい。
【００６２】
（カラーフィルター基板２０の製造方法）
図４は、本発明の実施の形態１に係るカラーフィルター基板２０の製造方法を示す工程断面図である。図５は、本発明の実施の形態１に係るカラーフィルター基板２０の製造工程のうち、エッチング形成工程の説明図であり、図５（ａ）、（ｂ）は、その平面構成を示す説明図、および断面構成等を示す説明図である。図６は、本発明の実施の形態１に係るカラーフィルター基板２０の製造工程のうち、遮光層形成工程の説明図であり、図６（ａ）、（ｂ）は、その平面構成を示す説明図、および断面構成等を示す説明図である。図７は、本発明の実施の形態１に係るカラーフィルター基板２０の製造工程のうち、着色層形成工程の説明図であり、図７（ａ）、（ｂ）は、その平面構成を示す説明図、および断面構成等を示す説明図である。
【００６３】
本形態のカラーフィルター基板２０を製造するには、まず、図４（ａ）に示すエッチングマスク形成工程において、透光性の基板２０ｄの第１面２０ｓに対して、第１面２０ｓの一部を露出させたエッチングマスク２４を形成する。より具体的には、エッチングマスク２４は、基板２０ｄの第１面２０ｓのうち、非着色画素２（Ｗ）の形成予定領域、および枠状領域２０ｐを覆い、凹部２５の形成予定領域を露出させた状態にある。かかるエッチングマスク２４としては、レジストマスクやハードマスクを用いることができる。
【００６４】
次に、図４（ｂ）に示すエッチング工程において、基板２０ｄの第１面２０ｓにおいてエッチングマスク２４から露出している部分をエッチングして凹部２５を形成した後、エッチングマスク２４を除去する。その結果、図５に示すように、基板２０ｄの第１面２０ｓには、非着色画素２（Ｗ）の形成予定領域がエッチングされずに凸部２０ｒとして残るとともに、凹部２５の周りを囲む枠状領域２０ｐもエッチングされずに残る。かかるエッチング工程では、ドライエッチングを採用する場合、エッチング液としては、フッ酸系の薬液が使用される。例えば、フッ酸液、フッ化硫酸液、ケイフッ化水素酸、フッ化アンモニウム、フッ化水素酸等のエッチング液を好適に使用することができる。より具体的には、フッ化水素酸と硝酸の混合水溶液、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合水溶液、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムと硝酸の混合水溶液、フッ化水素酸と水素ニフッ化アンモニウムの水溶液、フッ化水素酸と水素二フッ化アンモニウムと硝酸の水溶液等を使用することができる。また、エッチング速度が遅いという面はあるが、苛性ソーダ（NaOH）、水酸化カリウム（KOH）等の強アルカリ性の薬液を使用することもできる。また、エッチング方法としては、エッチングガスを用いたドライエッチング方法等も使用できる。
【００６５】
次に、図４（ｃ）に示す遮光層形成工程において、基板２０ｄの第１面２０ｓにアルミニウム膜等の金属膜を形成した後、金属膜をパターニングし、凹部２５の内部に遮光層２９を形成する。その結果、図６に示すように、凹部２５の内部には、額縁部分２９ａが形成されるとともに、遮光部２９ｂが形成され、遮光部２９ｂによって、凹部２５の内部では、凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）が仕切られる。
【００６６】
次に、図４（ｄ）に示す着色形成工程では、図７に示すように、凹部２５（Ｒ）の内部に着色層２８（Ｒ）を形成し、凹部２５（Ｇ）の内部に着色層２８（Ｇ）を形成し、凹部２５（Ｂ）の内部に着色層２８（Ｂ）を形成する。その結果、赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）および青色画素２（Ｂ）が形成される。また、凸部２０ｒが位置する部分には、着色層が形成されていない非着色画素２（Ｗ）が形成される。かかる着色形成工程では、例えば、インクジェットプリンタ方式の吐出装置から、凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）の内部に所定の色に対応する樹脂材料を吐出した後、樹脂材料を硬化させる。また、所定色の樹脂層を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いて樹脂層をパターニングする工程を繰り返し行い、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の樹脂層からなる着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）を順次形成する。
【００６７】
しかる後には、図１（ｂ）および図３（ｂ）に示すように、シリコン酸化膜等からなるオーバーコート膜２２、共通電極２１および配向膜２６が順に形成する。その結果、カラーフィルター基板２０が完成する。
【００６８】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態のカラーフィルター基板２０および電気光学装置１００では、第１着色画素としての赤色画素２（Ｒ）、第２着色画素としても緑色画素２（Ｇ）、および第３着色画素としても青色画素２（Ｂ）に加えて、非着色画素２（Ｗ）が設けられているため、白表示の光量を高めることができる等の利点がある。
【００６９】
また、着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）が基板２０ｄの凹部２５の内部に形成されているため、着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）が基板２０ｄの第１面２０ｓ側から大きく突出していない。また、非着色画素２（Ｗ）を構成するにあたっては、無色の樹脂層や白色顔料を含む樹脂層を形成せず、基板２０ｄが厚く残る部分（凸部２０ｒ）を利用する。このため、非着色画素２（Ｗ）に無色の樹脂層や白色顔料を含む樹脂層を形成する工程を行う必要がない。従って、着色画素（赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、青色画素２（Ｂ））、および非着色画素２（Ｗ）を効率よく形成することができる。
【００７０】
さらに、非着色画素２（Ｗ）では、無色の樹脂層や白色顔料を含む樹脂層を形成しない代わりに基板２０ｄが凸部２０ｒとして厚く残っているので、基板２０ｄの第１面２０ｓ側では、非着色画素２（Ｗ）が、着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）に比して大きく凹んでいない。それ故、液晶装置においてカラーフィルター基板２０を対向基板として用いて素子基板１０と対向させた際、セルギャップ（液晶層５０の厚さ）の安定化を図ることができる等の利点がある。
【００７１】
また、着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）は、凹部２５を仕切った凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）に設けられているので、着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）を凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）によって規定された領域内に設けることができる。また、着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）は、凹部２５の内部に遮光部２９ｂにより仕切られた凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）に配置されている。このため、基板２０ｄに対する法線方向からみたとき、着色画素（赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、青色画素２（Ｂ））、および非着色画素２（Ｗ）は、周りが遮光部２９ｂによって囲まれている。それ故、隣り合う画素１の間での混色を防止することができる。
【００７２】
また、着色画素（赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、青色画素２（Ｂ））では、凹部２５の深さおよび基板２０ｄの板厚が等しく、かつ、着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）の膜厚が等しい。このため、着色画素（赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、青色画素２（Ｂ））は、基板２０ｄとは反対側の面が基板２０ｄから等しい高さ位置にある。このため、セルギャップ（液晶層５０の厚さ）の安定化を図ることができる等の利点がある。また、本形態では、着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）の膜厚が凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）の深さと略等しい。このため、着色画素（赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、青色画素２（Ｂ））、および非着色画素２（Ｗ）は、基板２０ｄとは反対側の面が基板２０ｄから等しい高さ位置にある。このため、セルギャップ（液晶層５０の厚さ）の安定化を図ることができる等の利点がある。
【００７３】
［実施の形態２］
図８は、本発明の実施の形態２に係るカラーフィルター基板２０等の断面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して、それらの説明を省略する。
【００７４】
図８に示すように、本形態では、赤色画素２（Ｒ）では、緑色画素２（Ｇ）や青色画素２（Ｂ）に比して、凹部２５の深さが浅く、基板２０ｄの板厚が厚くなっている。かかる構成は、例えば、エッチングマスク形成工程およびエッチング工程を各々、２回ずつ行うことにより実現することができる。また、エッチングマスク形成工程の際、ハーフ露光等を用いて、エッチングマスク２４の厚さを、赤色画素２（Ｒ）において、緑色画素２（Ｇ）および青色画素２（Ｂ）より厚くしておくことによって実現することもできる。この場合、エッチング工程の途中でエッチングマスク２４を表面側から除去した後、エッチング工程を再開する方法や、エッチング工程の際、基板２０ｄの第１面２０ｓのエッチングと、エッチングマスク２４のエッチングとを同時に並行して行う方法を採用する。
【００７５】
また、本形態において、着色層２８（Ｒ）は、着色層２８（Ｇ）、２８（Ｂ）の膜厚が薄くなっている。このため、着色画素（赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、青色画素２（Ｂ））は、基板２０ｄとは反対側の面が基板２０ｄから等しい高さ位置にある。また、着色画素（赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）、青色画素２（Ｂ））、および非着色画素２（Ｗ）は、基板２０ｄとは反対側の面が基板２０ｄから等しい高さ位置にある。
【００７６】
このため、着色層２８（Ｒ）の膜厚を着色層２８（Ｇ）、２８（Ｂ）の膜厚より薄くしても、セルギャップ（液晶層５０の厚さ）の安定化を図ることができる等の利点があるとともに、着色層２８（Ｒ）の色度を調整することができる。
【００７７】
［実施の形態３］
図９は、本発明の実施の形態３に係るカラーフィルター基板２０等の断面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して、それらの説明を省略する。
【００７８】
図８に示すように、本形態では、赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）および青色画素２（Ｂ）では、凹部２５の深さおよび基板２０ｄの板厚が以下の関係を有している。
【００７９】
凹部２５の深さ
赤色画素２（Ｒ）＞緑色画素２（Ｇ）＞青色画素２（Ｂ）
基板２０ｄの板厚
赤色画素２（Ｒ）＜緑色画素２（Ｇ）＜青色画素２（Ｂ）
かかる構成は、例えば、エッチングマスク形成工程およびエッチング工程を各々、３回ずつ行うことにより実現することができる。また、エッチングマスク形成工程の際、ハーフ露光等を用いて、エッチングマスク２４の厚さを、赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）および青色画素２（Ｂ）で変え、かかる厚さの差を利用して、凹部２５の深さを変えてもよい。
【００８０】
また、本形態において、着色層２８（Ｒ）、（Ｇ）、２８（Ｂ）の膜厚が等しい。このため、着色層２８（Ｒ）、（Ｇ）、２８（Ｂ）の基板２０ｄとは反対側の面の基板２０ｄからの高さ位置、およびセルギャップ（液晶層５０の厚さ）は、以下の関係になっている。
【００８１】
高さ位置
赤色画素２（Ｒ）＜緑色画素２（Ｇ）＜青色画素２（Ｂ）
セルギャップ（液晶層５０の厚さ）
赤色画素２（Ｒ）＜緑色画素２（Ｇ）＜青色画素２（Ｂ）
それ故、赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）および青色画素２（Ｂ）の各画素におけるリタデーションを赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）および青色画素２（Ｂ）を通過した光の波長に適合させることができる。
【００８２】
［実施の形態４］
図１０は、本発明の実施の形態４に係るカラーフィルター基板２０等の断面図であり、図１０（ａ）、（ｂ）は、着色層２８が基板１０ｄより屈折率が大である場合の構成例を示す説明図、および着色層２８が基板１０ｄより屈折率が小である場合の構成例を示す説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して、それらの説明を省略する。
【００８３】
図１０に示すように、本形態では、着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）が基板１０ｄと屈折率が相違しており、凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）の底面２５ａは、マイクロレンズのレンズ面を構成する曲面になっている。より具体的には、図１０（ａ）に示す構成例では、着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）は、基板１０ｄより屈折率が大であり、凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）の底面２５ａは、マイクロレンズのレンズ面を構成する凹曲面になっている。これに対して、図１０（ｂ）に示す構成例では。着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）は、基板１０ｄより屈折率が小であり、凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）の底面２５ａは、マイクロレンズのレンズ面を構成する凸曲面になっている。
【００８４】
かかる構成によれば、矢印Ｌで示すように進行してきた光源からの白色光が、赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）および青色画素２（Ｂ）の着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）を通過する際、レンズ面によって画素電極９ａに向けて効率よく導かれるので、表示光量の増大や混色の防止を図ることができる。なお、遮光層２９は、凹部２５の外側に形成されることになる。
【００８５】
［実施の形態５］
図１１は、本発明の実施の形態５に係るカラーフィルター基板２０等の断面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して、それらの説明を省略する。
【００８６】
図１１に示すように、本形態では、凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）は、基板２０ｄの第２面２０ｔ（本形態における一方面）に形成されている。ここで、凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）の側面２５ｂは、第２面２０ｔに形成されている。ここで、凹部２５（Ｒ）、２５（Ｇ）、２５（Ｂ）は、第２面２０ｔの側に向けて開口面積が大となるように傾いた反射面になっている。かかる反射面を構成するにあたっては、側面２５ｂにアルミニウム膜等の反射膜を形成する構成や、着色層２８（Ｒ）、２８（Ｇ）、２８（Ｂ）と基板２０ｄとの屈折率の差に起因する全反射を利用することができる。
【００８７】
かかる形態においても、矢印Ｌで示すように進行してきた光源からの白色光が、赤色画素２（Ｒ）、緑色画素２（Ｇ）および青色画素２（Ｂ）を通過する際、側面２５ｂによって画素電極９ａに向けて効率よく反射されるので、表示光量の増大や混色の防止を図ることができる。なお、遮光層２９は、凹部２５の外側に形成されることになる。
【００８８】
［他の実施の形態］
上記実施の形態では、透光性の基板２０ｄの基板全体がガラス基板や石英基板等からなるため、ガラス基板自身や石英基板に凹部２５を形成したが、透光性の基板１０ｄがガラス基板や石英基板等の一方面側にシリコン酸化膜等の透光性の絶縁膜が構成されている場合、かかる透光性の絶縁膜に凹部２５を形成してもよい。
【００８９】
上記実施の形態では、３つの色に対応する着色画素が設けられている例であったが、第１着色画素および第２着色画素が設けられていれば、２つの色あるいは４つ以上の色に対応する着色画素が設けられているカラーフィルター基板２０に本発明を適用してもよい。
【００９０】
上記実施の形態では、非着色画素２（Ｗ）の凸部２０ｒの先端面２０ｕや、凹部２５の底面２５ａが平坦であったが、フロスト処理などによって、凸部２０ｒの先端面２０ｕや凹部２５の底面２５ａに微細な凹凸を形成することにより、光散乱性を付与してもよい。
【００９１】
［他の電気光学装置］
上記実施の形態では、電気光学装置として液晶装置を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されず、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイ、ＦＥＤ（Field Emission Display）、ＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）、電気泳動表示装置、ＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイス）を用いた電気光学装置等のカラーフィルター基板２０に本発明を適用してもよい。
【００９２】
［電子機器への搭載例］
（投射型表示装置の構成例）
図１２は、本発明を適用した投射型表示装置（電気光学装置）の説明図である。図１２において、本形態の投射型表示装置１０００は、照明装置１１００と、電気光学装置１００と、投射光学系１３００とを備えている。本形態において、投射型表示装置１０００は、電気光学装置１００を１つ備える単板式プロジェクターである。
【００９３】
照明装置１１００は、光源装置１０１０と、反射手段１０４０と、偏光変換素子１０５０とを備えている。照明装置１１００は、照明光として赤色光、緑色光、および青色光を含む光（白色光）を出射する。より具体的には、光源装置１０１０は、平行光を射出する光源装置であって、白色発光ダイオード１０２０とコリメーター光学系１０３０とを備えている。白色発光ダイオード１０２０は、例えば、蛍光層を有するランバート発光タイプの発光ダイオードであり、赤色光、緑色光および青色光を含む光を射出する。
【００９４】
コリメーター光学系１０３０は、白色発光ダイオード１０２０からの光を平行化する光学素子であり、２枚のコリメーターレンズ（第１レンズ１０３２および第２レンズ１０３４）からなる。反射手段１０４０は、光源装置１０１０と偏光変換素子１０５０との間に配置され、光源装置１０１０の光軸近傍の光を通過させ、光源装置１０１０の光軸から離れた周辺部の光を白色発光ダイオード１０２０の蛍光層に向けて反射する。より具体的には、反射手段１０４０は、透過部１０４２と、透過部１０４２を反射部１０４４とを備える。偏光変換素子１０５０は、反射手段１０４０の透過部１０４２を通過した光を偏光変換する偏光変換素子である。
【００９５】
かかる構成の投射型表示装置１０００では、光源装置１０１０から出射された光源光を電気光学装置１００で変調した後、投射光学系１３００によって、スクリーン等の被投射部材１０９０にカラー画像を拡大投射する。
【００９６】
（他の電子機器）
本発明を適用した電気光学装置１００については、上記の電子機器の他にも、携帯電話機、情報携帯端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants）、デジタルカメラ、液晶テレビ、カーナビゲーション装置、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等の電子機器において直視型表示装置として用いてもよい。
【符号の説明】
【００９７】
１・・画素、２（Ｂ）・・青色画素（第３着色画素）、２（Ｇ）・・緑色画素（第２着色画素）、２（Ｒ）・・赤色画素（第１着色画素）、２（Ｗ）・・非着色画素、９ａ・・画素電極、１０・・素子基板、２０・・カラーフィルター基板、２０ｄ・・透光性の基板、２０ｓ・・第１面、２０ｔ・・第２面、２１・・共通電極、２２・・オーバーコート膜、２４・・エッチングマスク、２５・・凹部、２５（Ｂ）・・凹部（第３凹部）、２５（Ｇ）・・凹部（第２凹部）、２５（Ｒ）・・凹部（第１凹部）、２５ａ・・底面、２５ｂ・・側面、２６・・配向膜、２７・・シール材、２８・・着色層、２８（Ｂ）・・着色層（第３着色層）、２８（Ｇ）・・着色層（第２着色層）、２８（Ｒ）・・着色層（第１着色層）、２９・・遮光層、２９ａ・・額縁部分、２９ｂ・・遮光部（ブラックマトリクス部）、３０・・画素トランジスター、１００・・電気光学装置、１０７・・シール材、５０・・液晶層、１０００・・投射型表示装置、１０１０・・光源装置、１０２０・・白色発光ダイオード、１３００・・投射光学系
【図１】
2015025835.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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