(57)【要約】      （修正有）【課題】キャリアトラップ層として機能させる多結晶シリコン層を充分に厚く堆積しても、ベースウェーハの反りの増大を抑制し、多結晶シリコンの単結晶化も防ぐ貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法を提供する。【解決手段】ベースウェーハの貼り合わせ面側に多結晶シリコン層を堆積し、多結晶シリコン層の表面を研磨し、ボンドウェーハの貼り合わせ面に絶縁膜を形成し、絶縁膜を介してベースウェーハの多結晶シリコン層の研磨面とボンドウェーハとを貼り合わせ、貼り合わせられたボンドウェーハを薄膜化してＳＯＩ層を形成する工程を有し、ベースウェーハとして抵抗率が１００Ω・ｃｍ以上のものを用い、ベースウェーハの多結晶シリコン層を堆積する表面に予め酸化膜を形成する段階をさらに含み、多結晶シリコン層の堆積は、１０１０℃以下の第１温度で行い、第１温度よりも高温の第２温度で第１成長よりも厚く堆積を行う第２成長の２段階に分けて行う。【選択図】図１
2015211061.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
いずれもシリコン単結晶からなるボンドウェーハとベースウェーハとを絶縁膜を介して貼り合わせて貼り合わせＳＯＩウェーハを製造する方法であって、
前記ベースウェーハの貼り合わせ面側に多結晶シリコン層を堆積する工程と、
該多結晶シリコン層の表面を研磨する工程と、
前記ボンドウェーハの貼り合わせ面に前記絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜を介して前記ベースウェーハの前記多結晶シリコン層の研磨面と前記ボンドウェーハとを貼り合わせる工程と、
貼り合わせられた前記ボンドウェーハを薄膜化してＳＯＩ層を形成する工程と
を有し、
前記ベースウェーハとして抵抗率が１００Ω・ｃｍ以上のシリコン単結晶ウェーハを用い、
前記多結晶シリコン層を堆積する工程は、ベースウェーハの前記多結晶シリコン層を堆積する表面に予め酸化膜を形成する段階をさらに含み、
前記多結晶シリコン層の堆積は、１０１０℃以下の第１温度で行う第１成長と、前記第１温度よりも高温の第２温度で前記第１成長よりも厚く堆積を行う第２成長の２段階に分けて行うことを特徴とする貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法。
【請求項２】
前記酸化膜を、ウェット洗浄によって形成することを特徴とする請求項１に記載された貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法。
【請求項３】
前記第１温度を９００℃以上とし、前記第２温度を１１００℃以上とすることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載された貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法。
【請求項４】
前記多結晶シリコン層の貼り合わせ時の厚さを２μｍ以上とすることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載された貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＲＦ（Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ：高周波）デバイス対応のＳＯＩウェーハとして、ベースウェーハの抵抗率を高抵抗化することで対処してきた。しかしながら、更なる高速化に対応するためにより高い周波数に対応することが必要になってきており、従来の高抵抗ウェーハの使用のみでは対処できなくなってきている。
【０００３】
そこで、対応策としてＳＯＩウェーハの埋め込み酸化膜層（ＢＯＸ層）直下に、発生したキャリアを消滅させる効果を持つ層（キャリアトラップ層）を加えることが提案されており、高抵抗ウェーハ中に発生したキャリアを再結合させるための高抵抗の多結晶シリコン層をベースウェーハ上に形成することが必要となってきている。
【０００４】
特許文献１には、ＢＯＸ層とベースウェーハの界面に、キャリアトラップ層としての多結晶シリコン層や非晶質シリコン層を形成することが記載されている。
一方、特許文献２にも、ＢＯＸ層とベースウェーハの界面に、キャリアトラップ層としての多結晶層を形成することが記載されており、更に、多結晶シリコン層の再結晶化を防止するため、多結晶シリコン層形成後の熱処理温度を制限している。
また、特許文献３には、キャリアトラップ層としての多結晶シリコン層や非晶質シリコン層を形成することは記載されていないが、ボンドウェーハと貼り合わせる側のベースウェーハ表面の表面粗さを大きくすることによって、キャリアトラップ層と同様の効果を得ることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２００７−５０７０９３号公報
【特許文献２】特表２０１３−５１３２３４号公報
【特許文献３】特開２０１０−２７８１６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述したように、より高い周波数に対応するデバイスを作製するため、ＳＯＩウェーハのＢＯＸ層下にキャリアトラップ層を形成することが必要になってきている。
さらに、キャリアトラップ層として機能させるための多結晶シリコン層の厚さは、例えば、０．５μｍ以上と比較的厚いため、できるだけ高速で片面のみに成長することが好適である。しかしながら、発明者らが検討した結果、多結晶シリコン層を片面のみに厚く堆積すると、厚さの増加に伴いウェーハの反りが大きくなり、貼り合わせ不良の原因となることがわかった。
一方、できるだけ高速で多結晶シリコン層を堆積するためには成長温度を高くすることが必要とされるが、成長温度が高くなると、ベースウェーハ表面の自然酸化膜の一部が消失し、その部分では多結晶シリコンが成長せず、単結晶化してしまうという問題もあることがわかった。
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであって、キャリアトラップ層として機能させるための多結晶シリコン層の厚さを充分に厚く堆積した場合でも、ベースウェーハの反りの増大を抑制しながら、多結晶シリコンの単結晶化も防ぐことができる貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明は、いずれもシリコン単結晶からなるボンドウェーハとベースウェーハとを絶縁膜を介して貼り合わせて貼り合わせＳＯＩウェーハを製造する方法であって、少なくとも、前記ベースウェーハの貼り合わせ面側に多結晶シリコン層を堆積する工程と、該多結晶シリコン層の表面を研磨する工程と、前記ボンドウェーハの貼り合わせ面に前記絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜を介して前記ベースウェーハの前記多結晶シリコン層の研磨面と前記ボンドウェーハとを貼り合わせる工程と、貼り合わせられた前記ボンドウェーハを薄膜化してＳＯＩ層を形成する工程とを有し、前記ベースウェーハとして抵抗率が１００Ω・ｃｍ以上のシリコン単結晶ウェーハを用い、前記多結晶シリコン層を堆積する工程は、ベースウェーハの前記多結晶シリコン層を堆積する表面に予め酸化膜を形成する段階をさらに含み、前記多結晶シリコン層の堆積は、１０１０℃以下の第１温度で行う第１成長と、前記第１温度よりも高温の第２温度で前記第１成長よりも厚く堆積を行う第２成長の２段階に分けて行うことを特徴とする貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法を提供する。
【０００９】
このように、ベースウェーハのシリコン単結晶の表面に予め酸化膜を形成しておき、多結晶シリコン層の堆積温度を１０１０℃以下とすることによって、ベースウェーハ表面の酸化膜の一部が消失することを防止することができ、これにより多結晶シリコン層の単結晶化が起きることを防止でき、キャリアトラップ層としての効果を維持することができる。
さらに、１０１０℃以下の低温で多結晶シリコン層を堆積した後、それよりも高温で、かつ、それよりも厚く多結晶シリコン層を堆積することで、多結晶シリコン層を高速で効率よく、充分な厚さに堆積しつつ、ウェーハの反りを抑制することができる。
【００１０】
このとき、前記酸化膜を、ウェット洗浄によって形成することが好ましい。
ベースウェーハと多結晶シリコン層との間に酸化膜を介在させることでＲＦデバイスの特性に影響する可能性があるので、形成する酸化膜厚さは薄くすることが好ましく、例えば１０ｎｍ以下の厚さとすることが好ましい。このような厚さの酸化膜を形成する方法としては、ウェット洗浄が最も簡便な方法として挙げることができる。
【００１１】
このとき、前記第１温度を９００℃以上とし、前記第２温度を１１００℃以上とすることが好ましい。
第１温度を９００℃以上とすれば、堆積速度が遅くなりすぎて生産性が低下することを防止できる。
また、第２温度を１１００℃以上とすれば、充分に高い堆積速度が得られ生産性が向上するのと同時に、多結晶シリコン層堆積後のウェーハの反りを充分に抑制することができる。
さらに、ＳＯＩウェーハ製造工程の熱処理工程やデバイス製造工程の熱処理が比較的高温（例えば、１０００〜１２００℃程度）であったとしても、それと同等の温度で多結晶シリコン層の堆積が行われるため、多結晶シリコン層の粒界成長が充分に抑制され、キャリアトラップ層としての効果を維持することができる。
【００１２】
このとき、前記多結晶シリコン層の貼り合わせ時の厚さを２μｍ以上とすることが好ましい。
多結晶シリコン層の貼り合わせ時の厚さを２μｍ以上とすることでウェーハの反りの影響により貼り合わせ不良の頻度が高まるが、多結晶シリコン層の貼り合わせ時の厚さが２μｍ以上であっても多結晶シリコン層の堆積において第１成長よりも高温の第２成長を行ってあれば、ウェーハの反りを低減することができるので、キャリアトラップ層としての効果を高めつつ、貼り合わせ不良の低減を図ることができる。
【発明の効果】
【００１３】
以上のように、本発明によれば、ベースウェーハのシリコン単結晶の表面に予め酸化膜を形成しておき、多結晶シリコン層の堆積温度を１０１０℃以下とすることによって、ベースウェーハ表面の酸化膜の一部が消失することを防止することができ、多結晶シリコン層の単結晶化が起きることを防止でき、キャリアトラップ層としての効果を維持することができる。
さらに、１０１０℃以下の低温で多結晶シリコン層を堆積した後、それよりも高温で、かつ、それよりも厚く多結晶シリコン層を堆積することで、多結晶シリコン層を高速で効率よく、充分な厚さに堆積しつつ、ウェーハの反りを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法の実施態様の一例を示す製造フローである。
【図２】本発明の貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法の実施態様の一例を示す工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明について、実施態様の一例として、図を参照しながら詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
前述のように、より高い周波数に対応するデバイスを作製するためにＳＯＩウェーハのＢＯＸ層下にキャリアトラップ層を形成することが必要になってきているが、キャリアトラップ層として機能させるためには多結晶シリコン層は比較的厚い膜厚が要求されるため、できるだけ高速で片面のみに成長することが好適である。しかしながら、多結晶シリコン層を片面のみに厚く堆積すると、厚さの増加に伴いウェーハの反りが大きくなり、貼り合わせ不良の原因となるという問題があった。さらに、できるだけ高速で多結晶シリコン層を堆積するためには成長温度を高くすることが必要とされ、成長温度が高くなると、ベースウェーハ表面の自然酸化膜の一部が消失し、その部分では多結晶シリコンが成長せず、単結晶化してしまうという問題があった。
【００１６】
そこで、発明者らは、キャリアトラップ層として機能させるための多結晶シリコン層の厚さを充分に厚く堆積した場合でも、ベースウェーハの反りの増大を抑制しながら、多結晶シリコンの単結晶化も防ぐことができる貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法について鋭意検討を重ねた。
その結果、ベースウェーハのシリコン単結晶の表面に予め酸化膜を形成しておき、その後に行う多結晶シリコン層の堆積温度を１０１０℃以下とすることによって、ベースウェーハ表面の酸化膜の一部が消失することを防止することができ、多結晶シリコン層の単結晶化が起きることを防止でき、キャリアトラップ層としての効果を維持することができ、さらに、１０１０℃以下の低温で多結晶シリコン層を堆積した後、それよりも高温で、かつ、それよりも厚く多結晶シリコン層を堆積することで、多結晶シリコン層を高速で効率よく、充分な厚さに堆積しつつ、ウェーハの反りを抑制することができることを見出し、本発明をなすに至った。
【００１７】
以下、図１−２を参照しながら、本発明の貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法の実施態様の一例を説明する。
まず、シリコン単結晶からなるボンドウェーハ１０を準備する（図１のステップＳ１１、図２（ａ）参照）。
【００１８】
次に、例えば熱酸化やＣＶＤ等によって、ボンドウェーハ１０に、埋め込み酸化膜層（ＢＯＸ層）１６となる絶縁膜（例えば、酸化膜）１３を成長させる（図１のステップＳ１２、図２（ｂ）参照）。
【００１９】
次に、その絶縁膜１３の上からイオン注入機により、水素イオンと希ガスイオンのうちの少なくとも一種類のガスイオンを注入して、ボンドウェーハ１０内にイオン注入層１７を形成する（図１のステップＳ１３、図２（ｃ）参照）。この際、目標とするＳＯＩ層１５の厚さを得ることができるように、イオン注入加速電圧を選択する。
【００２０】
次に、ボンドウェーハ１０の貼り合わせ面のパーティクルを除去するために、貼り合わせ前洗浄を行う（図１のステップＳ１４参照）。
【００２１】
一方、上記とは別に、シリコン単結晶からなるベースウェーハ１１を準備する（図１のステップＳ２１、図２（ｄ）参照）。
【００２２】
次に、ベースウェーハ１１上に、酸化膜（ベース酸化膜）２０を形成する（図１のステップＳ２２、図２（ｅ）参照）。酸化膜２０の厚さは特に限定されないが、ベースウェーハ１１と多結晶シリコン層１２との間に酸化膜２０が介在することによってＲＦデバイスの特性に影響する可能性があるので、形成する酸化膜厚さは薄くすることが好ましく、例えば、０．３ｎｍ以上、１０ｎｍ以下の厚さとすることが好ましい。
このような厚さの酸化膜を形成する方法としては、ウェット洗浄が最も簡便な方法として挙げることができる。具体的には、ＳＣ１（ＮＨ４ＯＨとＨ２Ｏ２の混合水溶液）、ＳＣ２（ＨＣｌとＨ２Ｏ２の混合水溶液）、硫酸過水（Ｈ２ＳＯ４とＨ２Ｏ２の混合水溶液）、オゾン水などを用いた洗浄や、これらを組み合わせた洗浄を行うことにより、厚さ０．５〜３ｎｍ程度の均一な酸化膜を形成することができる。
【００２３】
次に、酸化膜（ベース酸化膜）２０上に多結晶シリコン層１２を堆積させる（図１のステップＳ２３、図２（ｆ）参照）。ここで、多結晶シリコン層１２の堆積は、１０１０℃以下の第１温度で行う第１成長と、第１温度よりも高温の第２温度で第１成長よりも厚く堆積を行う第２成長（第１成長の後に行われる）の２段階に分けて行う。
ベースウェーハのシリコン単結晶の表面と堆積する多結晶シリコン層との間に、予め酸化膜を形成しておき、その後に行われる第１成長時の堆積温度を１０１０℃以下とすることによって、ベースウェーハ表面の酸化膜の一部が消失することを防止することができる。さらに、１０１０℃以下の低温で所定の膜厚（０．５μｍ程度）を堆積した後、第２成長において第１成長よりも高温で、かつ、第１成長よりも厚く多結晶シリコン層を堆積することで、多結晶シリコン層１２を高速で効率よく、充分な厚さに堆積しつつ、ウェーハの反りを抑制することができる。
なお、この２段階の成長は連続して行ってもよいし、一旦成長炉から取り出して、その後第２成長を行うようにしてもよい。
【００２４】
次に、ベースウェーハ１１に堆積された多結晶シリコン層１２の表面を研磨により平坦化する（図１のステップＳ２４、図２（ｇ）参照）。高温で堆積した多結晶シリコン層１２の表面粗さは大きく、そのまま貼り合わせることが困難であるため、多結晶シリコン層１２の表面を研磨により平坦化する必要がある。
【００２５】
次に、研磨された多結晶シリコン層１２の表面のパーティクルを除去するために、貼り合わせ前洗浄を行う（図１のステップＳ２５参照）。
なお、図１のステップＳ１１〜Ｓ１４と、図１のステップＳ２１〜Ｓ２５とは並行してすすめることができる。
【００２６】
次に、多結晶シリコン層１２が形成されたベースウェーハ１１を、ベースウェーハ１１の多結晶シリコン層１２が形成された面とボンドウェーハ１０の注入面とが接するように、絶縁膜１３を形成したボンドウェーハ１０と密着させて貼り合わせる（図１のステップＳ３１、図２（ｈ）参照）。
【００２７】
次に、イオン注入層１７に微小気泡層を発生させる熱処理（剥離熱処理）を貼り合わせたウェーハに施し、発生した微小気泡層にて剥離して、ベースウェーハ１１上に埋め込み酸化膜層１６とＳＯＩ層１５が形成された貼り合わせウェーハ１４を作製する（図１のステップＳ３２、図２（ｉ）参照）。なお、このときに、剥離面１９を有する剥離ウェーハ１８が派生する。
【００２８】
次に、貼り合わせ界面の結合強度を増加させるために、貼り合わせウェーハ１４に結合熱処理を施す（図１のステップＳ３３参照）。
上記のようにして貼り合わせＳＯＩウェーハを製造することができる。
【００２９】
上記で説明した本発明の貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法において、多結晶シリコン層１２の堆積の第１成長時の第１温度は９００℃以上とすることが好ましい。第１温度を９００℃以上とすれば、堆積速度が遅くなりすぎて生産性が低下することを防止できる。
また、多結晶シリコン層１２の堆積の第２成長時の第２温度は１１００℃以上とすることが好ましい。第２温度を１１００℃以上とすれば、充分に高い堆積速度が得られ生産性が向上するのと同時に、多結晶シリコン層堆積後のウェーハの反りを充分に抑制することができる。さらに、ＳＯＩウェーハ製造工程の熱処理工程やデバイス製造工程の熱処理が比較的高温（例えば、１０００〜１２００℃程度）であったとしても、それと同等の温度で多結晶シリコン層の堆積が行われるため、多結晶シリコン層の粒界成長が充分に抑制され、キャリアトラップ層としての効果を維持することができる。
なお、第２温度の上限は特に限定されないが、ＳＯＩウェーハ製造工程やデバイス製造工程の最高温度よりも高くする必要はない（高くしすぎるとスリップ転位や金属汚染が発生しやすくなる）ので、その最高温度以下、例えば１２００℃以下にすることが好ましい。
【００３０】
また、上記で説明した本発明の貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法において、多結晶シリコン層１２の貼り合わせ時の厚さを２μｍ以上とすることが好ましい。
多結晶シリコン層の貼り合わせ時の厚さを２μｍ以上とすることでウェーハの反りの影響により貼り合わせ不良の頻度が高まるが、多結晶シリコン層の貼り合わせ時の厚さが２μｍ以上であっても多結晶シリコン層堆積において第１成長よりも高温の第２成長を行ってあればウェーハの反りを低減することができるので、キャリアトラップ層としての効果を高めつつ、貼り合わせ不良の低減を図ることができる。
なお、多結晶シリコン層の貼り合わせ時の厚さは１０μｍ以下とすることが好ましい。
また、ベースウェーハ１１の抵抗率は、１００Ω・ｃｍ以上であれば高周波デバイス製造用に好適に用いることができ、１０００Ω・ｃｍ以上であることがより好ましく、３０００Ω・ｃｍ以上であることが特に好ましい。抵抗率の上限は特に限定されないが、例えば、５００００Ω・ｃｍとすることができる。
【実施例】
【００３１】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３２】
（実施例１）
図１−２で説明した製造方法を用いて貼り合わせＳＯＩウェーハを作製した。ただし、ベースウェーハとして、直径２００ｍｍ、結晶方位＜１００＞、抵抗率７００Ω・ｃｍ、ｐ型の単結晶シリコンを用い、ベース酸化膜形成、多結晶シリコン層堆積（トリクロロシランを原料ガスとして使用）、ＢＯＸ酸化、水素イオン注入、剥離熱処理、結合熱処理は、以下の条件で行った。
ベース酸化膜形成    ：ＳＣ１＋ＳＣ２洗浄  酸化膜厚約１ｎｍ
多結晶シリコン層堆積：９００℃  常圧  膜厚０．３μｍ  ＋  １１３０℃  常圧  
膜厚２．７μｍ（研磨後の総厚２．２μｍ）
ＢＯＸ酸化          ：１０５０℃  酸化膜厚４００ｎｍ
水素イオン注入      ：１０５ｋｅＶ  ７．５×１０１６／ｃｍ２
剥離熱処理          ：５００℃  ３０分  １００％Ａｒ雰囲気
結合熱処理          ：９００℃パイロジェニック酸化  ＋  １１００℃１２０分の
Ａｒアニール
また、多結晶シリコン層研磨後のウェーハの反りを測定し、結合熱処理後の多結晶シリコン層の単結晶化の状況を調べた（断面ＳＥＭ観察により確認）。その結果を表１に示す。
【００３３】
（実施例２）
実施例１と同様にして貼り合わせＳＯＩウェーハを作製した。ただし、多結晶シリコン層堆積は、９５０℃  常圧  膜厚０．３μｍ  ＋  １０８０℃  常圧  膜厚２．７μｍ（研磨後の総厚２．２μｍ）の条件で行った。
実施例１と同様にして多結晶シリコン層研磨後のウェーハの反りを測定し、結合熱処理後の多結晶シリコン層の単結晶化の状況を調べた。その結果を表１に示す。
【００３４】
（実施例３）
実施例１と同様にして貼り合わせＳＯＩウェーハを作製した。ただし、多結晶シリコン層堆積は、１０１０℃  常圧  膜厚０．３μｍ  ＋  １１３０℃  常圧  膜厚２．７μｍ（研磨後の総厚２．２μｍ）の条件で行った。
実施例１と同様にして多結晶シリコン層研磨後のウェーハの反りを測定し、結合熱処理後の多結晶シリコン層の単結晶化の状況を調べた。その結果を表１に示す。
【００３５】
（実施例４）
実施例１と同様にして貼り合わせＳＯＩウェーハを作製した。ただし、ベース酸化膜形成は、８００℃  ｄｒｙＯ２酸化  酸化膜厚３０ｎｍの条件で行い、多結晶シリコン層堆積は、９８０℃  常圧  膜厚０．３μｍ  ＋  １１００℃  常圧  膜厚２．７μｍ（研磨後の総厚２．２μｍ）の条件で行った。
実施例１と同様にして多結晶シリコン層研磨後のウェーハの反りを測定し、結合熱処理後の多結晶シリコン層の単結晶化の状況を調べた。その結果を表１に示す。
【００３６】
（比較例１）
実施例１と同様にして貼り合わせＳＯＩウェーハを作製した。ただし、多結晶シリコン層堆積は第１成長と第２成長の２段階に分けずに、１０００℃  常圧  膜厚３μｍ（研磨後２．２μｍ）の１段階の条件で行った。
実施例１と同様にして多結晶シリコン層研磨後のウェーハの反りを測定し、結合熱処理後の多結晶シリコン層の単結晶化の状況を調べた。その結果を表１に示す。
【００３７】
（比較例２）
実施例１と同様にして貼り合わせＳＯＩウェーハを作製した。ただし、多結晶シリコン層堆積は第１成長と第２成長の２段階に分けずに、１０２０℃  常圧  膜厚３μｍの１段階の条件で行った。
なお、比較例２においては、多結晶シリコン層堆積後のＳＥＭ観察で単結晶の堆積が確認され、多結晶シリコン層の堆積とはならなかったので、後の工程は実施しなかった。
【００３８】
【表１】
2015211061.tif 000003
【００３９】
表１からわかるように、多結晶シリコン層堆積を、１０１０℃以下で行う第１成長と、第１成長時の温度より高い温度で行い第１成長より厚く堆積を行う第２成長に分けて行った実施例１−４では、ウェーハの反りの増大を抑制しながら、多結晶シリコンの単結晶化も防ぐことができた。特に、第２成長を１１００℃以上で行った実施例１、３−４では、第２成長を１１００℃未満で行った実施例２と比較して、ウェーハの反りをより小さくすることができた。
一方、多結晶シリコン層堆積を第１成長と第２成長とに分けずに１０００℃で行った比較例１では、多結晶シリコンの単結晶化は防ぐことができたが、実施例１−４と比較してウェーハの反りが大きくなっていた。
さらに、多結晶シリコン層堆積を第１成長と第２成長とに分けずに１０２０℃で行った比較例２では、多結晶シリコン層堆積が完了した時点で多結晶シリコンの単結晶化が起こっていた。
【００４０】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【符号の説明】
【００４１】
１０…ボンドウェーハ、  １１…ベースウェーハ、  １２…多結晶シリコン層、
１３…絶縁膜（酸化膜）、  １４…貼り合わせウェーハ、
１５…ＳＯＩ層、  １６…埋め込み酸化膜層（ＢＯＸ層、絶縁膜）、
１７…イオン注入層、  １８…剥離ウェーハ、  １９…剥離面、
２０…酸化膜（ベース酸化膜）。
【図１】
2015211061.tif 000004
【図２】
2015211061.tif 000005