(57)【要約】【課題】稼働率の高い真空処理システム、真空処理装置、並びに真空処理装置の稼働率を向上させることができる潤滑剤供給装置および潤滑剤供給方法を提供する。【解決手段】搬送システムは、真空中に設置される搬送装置１０１と、大気中に設置され、搬送装置に潤滑剤を供給する潤滑剤供給装置とを備える真空処理システムである。搬送装置１０１は、潤滑対象部位へ注入するグリスの通路である潤滑剤流通路を有する。潤滑剤供給装置１は、大気中で潤滑剤を貯留するグリスサーバ１１と、グリスサーバ１１と潤滑剤流通路とに接続され、グリスサーバ１１に貯留されたグリスを潤滑剤流通路に導く通路である潤滑剤供給管Ｐ１と、潤滑剤供給管Ｐ１内を排気する排気ポンプ１２と、を有する。【選択図】図１
2015211152.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空中に設置される少なくとも１つの真空処理装置と、大気中に設置され、前記真空処理装置に潤滑剤を供給する潤滑剤供給装置とを備える真空処理システムであって、
前記真空処理装置は、潤滑対象部位へ注入する潤滑剤の通路である潤滑剤流通路を有し、
前記潤滑剤供給装置は、
大気中で潤滑剤を貯留する潤滑剤貯留部と、
前記潤滑剤貯留部と前記潤滑剤流通路とに接続され、前記潤滑剤貯留部に貯留された潤滑剤を前記潤滑剤流通路に導く通路である潤滑剤供給路と、
前記潤滑剤供給路内を排気する排気部と、を有する
ことを特徴とする真空処理システム。
【請求項２】
前記真空処理装置は、
ガイドレールと、
前記ガイドレール上を、前記ガイドレールに沿って移動可能な可動体と、を有し、
前記潤滑対象部位は、前記ガイドレールにおける予め定められた領域を覆う位置に配置された前記可動体の前記ガイドレールに接触する部位である
ことを特徴とする請求項１記載の真空処理システム。
【請求項３】
制御装置を更に備え、
前記潤滑剤流通路には、前記制御装置から入力される制御信号により制御される開閉バルブが介挿され、
前記潤滑剤供給装置は、更に、
前記潤滑剤供給路と前記排気部とを接続する排気管と、
前記排気管に介挿され、前記制御装置から入力される制御信号により制御される排気バルブと、を有し、
前記制御装置は、前記排気バルブを開状態にした後、前記排気部により前記潤滑剤供給路内が排気されて前記潤滑剤供給路が真空状態になると、前記開閉バルブを開状態にする
ことを特徴とする請求項１または２に記載の真空処理システム。
【請求項４】
前記真空処理装置は、更に、前記潤滑剤流通路に設けられた第１接続部を有し、
前記潤滑剤供給装置は、更に、前記潤滑剤供給路に設けられ、前記第１接続部に着脱可能且つ気密に接続可能な第２接続部を有する
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の真空処理システム。
【請求項５】
真空中に設置され、大気中に設置された潤滑剤供給装置から潤滑剤の供給を受けることが可能な真空処理装置であって、
ガイドレールと、
前記ガイドレール上を、前記ガイドレールに沿って移動可能な可動体と、
前記ガイドレールにおける予め定められた領域を覆う位置に配置された前記可動体の前記ガイドレールに接触する部位に注入される潤滑剤の通路である潤滑剤流通路と、を備え、
前記ガイドレールは、その延伸方向に沿って設けられた軌道溝を有し、
前記ガイドレールに接触する部位は、前記軌道溝に転動しつつ接触する転動体の少なくとも一部である
ことを特徴とする真空処理装置。
【請求項６】
前記軌道溝は、前記ガイドレールの幅方向の両端のそれぞれに一対ずつ形成され、前記一対の軌道溝は、前記幅方向とガイドレールの延伸方向とに直交する方向に予め定められた距離だけ離隔して形成され、
前記潤滑剤流通路は、前記ガイドレールに形成され、前記ガイドレールの前記予め定められた領域の幅方向の両端それぞれに形成された前記一対の軌道溝の間の部位に開口した潤滑剤流通孔と、前記潤滑剤流通孔と前記潤滑剤供給装置との間を結ぶ潤滑剤中継路とから構成される
ことを特徴とする請求項５に記載の真空処理装置。
【請求項７】
潤滑対象部位へ注入する潤滑剤の通路である潤滑剤流通路を有する真空処理装置の前記潤滑剤流通路に潤滑剤を供給する潤滑剤供給装置であって、
大気中で潤滑剤を貯留する潤滑剤貯留部と、
前記潤滑剤貯留部と前記潤滑剤流通路とに接続され、前記潤滑剤貯留部に貯留された潤滑剤を前記潤滑剤流通路に導く通路である潤滑剤供給路と、
前記潤滑剤供給路内を排気する排気部と、を備える
ことを特徴とする潤滑剤供給装置。
【請求項８】
前記潤滑剤流通路には、制御装置から入力される制御信号により制御される開閉バルブが介挿され、
前記潤滑剤供給装置は、更に、
前記潤滑剤供給路と前記排気部とを接続する排気管と、
前記排気管に介挿され、前記制御装置から入力される制御信号により制御される排気バルブと、を有し、
前記制御装置は、前記排気バルブを開状態にした後、前記排気部により前記潤滑剤供給路内が排気されて前記潤滑剤供給路に真空状態なると、前記開閉バルブを開状態にする
ことを特徴とする請求項７に記載の潤滑剤供給装置。
【請求項９】
前記潤滑剤流通路に接続するために前記潤滑剤供給路に設けられた第２接続部と、
前記潤滑剤供給路の一部を構成し、前記潤滑剤貯留部に貯留された前記潤滑剤を、前記第２接続部に向かって送り出す潤滑剤送出部と、を備える
ことを特徴とする請求項７または８に記載の潤滑剤供給装置。
【請求項１０】
前記潤滑剤供給路と前記排気部との間に配置され、前記潤滑剤供給路から前記排気部に向かう気体中に含まれる前記潤滑剤を捕捉する潤滑剤捕捉部を備える
ことを特徴とする請求項７から９のいずれか１項に記載の潤滑剤供給装置。
【請求項１１】
真空中に設置される少なくとも１つの真空処理装置の潤滑対象部位へ潤滑剤を供給する潤滑剤供給方法であって、
大気中に設置され、潤滑剤を貯留する潤滑剤貯留部から前記潤滑対象部位までの潤滑剤供給路のうち、少なくとも大気中に位置している部位に残留する気体を排気するステップと、
前記潤滑剤貯留部に貯留された潤滑剤を、前記真空処理装置の前記潤滑対象部位に、前記潤滑剤供給路を介して送出するステップと、を含む
ことを特徴とする潤滑剤供給方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空処理システム、真空処理装置、潤滑剤供給装置および潤滑剤供給方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造工程では、通常、真空環境でウェハ等の被処理物を搬送しつつ、各種の処理を行う。被処理物の搬送に使用される搬送装置には、その可動部位の摩擦を低減するために、グリス等の潤滑剤が使用されている。
【０００３】
真空環境では、大気中に比べて潤滑剤が蒸発し易くなり、潤滑剤の消費量が大きくなる。従って、真空環境に設置された搬送装置では、大気中に設置された搬送装置に比べて、潤滑剤を頻繁に補給する必要がある。
【０００４】
特許文献１には、真空チャンバ内に搬送機構とグリス収容部とグリス供給機構とを備えるとともに、グリス収容部に収容されているグリスを、グリス供給機構を介して、搬送機構に供給する真空処理装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４５８８６２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に開示された真空処理装置では、グリス収容部に収容されたグリスが枯渇すると、真空チャンバを大気に開放してグリス収容部にグリスを補給する必要がある。グリスの補給後、処理を再開するためには、大気に開放された真空チャンバ内を再び真空状態にする必要がある。しかし、真空引きには、相当の時間を要し、この間、半導体装置を製造することができない。すなわち、グリスの補給処理により、真空処理装置の稼働率が低下してしまう。
【０００７】
また、特許文献１の構成では、搬送機構を構成する可動部にグリス供給管が接続されている。このため、グリス供給管及び接続部の構成が複雑になってしまう。
【０００８】
更に、グリスは、真空中に放置されている場合、その一部の成分が揮発して劣化してしまう。特許文献１の構成では、グリス収容部が真空チャンバ内に配置されているため、グリス収容部に収容されたグリスが未使用のまま劣化してしまう。
【０００９】
同様の問題は、半導体装置製造用の真空処理装置に限らず、真空環境で処理を行い、大気に開放した状態で潤滑剤を供給する種類の装置、及び、可動部に潤滑剤を供給する装置に共通に存在する。
【００１０】
本発明は、上記事由に鑑みてなされたものであり、稼働率の高い真空処理システム、真空処理装置、並びに真空処理装置の稼働率を向上させることができる潤滑剤供給装置および潤滑剤供給方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、簡単な構成の潤滑剤供給機構を備える真空処理システム、真空処理装置を提供することを他の目的とする。
更に、本発明は、潤滑剤貯留部に貯留された潤滑剤の劣化を抑制することができる潤滑剤供給装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明に係る真空処理システムは、
真空中に設置される少なくとも１つの真空処理装置と、大気中に設置され、前記真空処理装置に潤滑剤を供給する潤滑剤供給装置とを備える真空処理システムであって、
前記真空処理装置は、潤滑対象部位へ注入する潤滑剤の通路である潤滑剤流通路を有し、
前記潤滑剤供給装置は、
大気中で潤滑剤を貯留する潤滑剤貯留部と、
前記潤滑剤貯留部と前記潤滑剤流通路とに接続され、前記潤滑剤貯留部に貯留された潤滑剤を前記潤滑剤流通路に導く通路である潤滑剤供給路と、
前記潤滑剤供給路内を排気する排気部と、を有する。
【００１２】
また、本発明に係る真空処理システムでは、
前記真空処理装置は、
ガイドレールと、
前記ガイドレール上を、前記ガイドレールに沿って移動可能な可動体と、を有し、
前記潤滑対象部位は、前記ガイドレールにおける予め定められた領域を覆う位置に配置された前記可動体の前記ガイドレールに接触する部位であってもよい。
【００１３】
また、本発明に係る真空処理システムでは、
制御装置を更に備え、
前記潤滑剤流通路には、前記制御装置から入力される制御信号により制御される開閉バルブが介挿され、
前記潤滑剤供給装置は、更に、
前記潤滑剤供給路と前記排気部とを接続する排気管と、
前記排気管に介挿され、前記制御装置から入力される制御信号により制御される排気バルブと、を有し、
前記制御装置は、前記排気バルブを開状態にした後、前記排気部により前記潤滑剤供給路内が排気されて前記潤滑剤供給路が真空状態になると、前記開閉バルブを開状態にしてもよい。
【００１４】
また、本発明に係る真空処理システムでは、
前記真空処理装置は、更に、前記潤滑剤流通路に設けられた第１接続部を有し、
前記潤滑剤供給装置は、更に、前記潤滑剤供給路に設けられ、前記第１接続部に着脱可能且つ気密に接続可能な第２接続部を有していてもよい。
【００１５】
また、本発明に係る真空処理装置は、
真空中に設置され、大気中に設置された潤滑剤供給装置から潤滑剤の供給を受けることが可能な真空処理装置であって、
ガイドレールと、
前記ガイドレール上を、前記ガイドレールに沿って移動可能な可動体と、
前記ガイドレールにおける予め定められた領域を覆う位置に配置された前記可動体の前記ガイドレールに接触する部位に注入される潤滑剤の通路である潤滑剤流通路と、を備え、
前記ガイドレールは、その延伸方向に沿って設けられた軌道溝を有し、
前記ガイドレールに接触する部位は、前記軌道溝に転動しつつ接触する転動体の少なくとも一部である。
【００１６】
また、本発明に係る真空処理装置は、
前記軌道溝は、前記ガイドレールの幅方向の両端のそれぞれに一対ずつ形成され、前記一対の軌道溝は、前記幅方向とガイドレールの延伸方向とに直交する方向に予め定められた距離だけ離隔して形成され、
前記潤滑剤流通路は、前記ガイドレールに形成され、前記ガイドレールの前記予め定められた領域の幅方向の両端それぞれに形成された前記一対の軌道溝の間の部位に開口した潤滑剤流通孔と、前記潤滑剤流通孔と前記潤滑剤供給装置との間を結ぶ潤滑剤中継路とから構成されてもよい。
【００１７】
また、本発明に係る潤滑剤供給装置は、
潤滑対象部位へ注入する潤滑剤の通路である潤滑剤流通路を有する真空処理装置の前記潤滑剤流通路に潤滑剤を供給する潤滑剤供給装置であって、
大気中で潤滑剤を貯留する潤滑剤貯留部と、
前記潤滑剤貯留部と前記潤滑剤流通路とに接続され、前記潤滑剤貯留部に貯留された潤滑剤を前記潤滑剤流通路に導く通路である潤滑剤供給路と、
前記潤滑剤供給路内を排気する排気部と、を備える。
【００１８】
また、本発明に係る潤滑剤供給装置は、
前記潤滑剤流通路には、制御装置から入力される制御信号により制御される開閉バルブが介挿され、
前記潤滑剤供給装置は、更に、
前記潤滑剤供給路と前記排気部とを接続する排気管と、
前記排気管に介挿され、前記制御装置から入力される制御信号により制御される排気バルブと、を有し、
前記制御装置は、前記排気バルブを開状態にした後、前記排気部により前記潤滑剤供給路内が排気されて前記潤滑剤供給路に真空状態なると、前記開閉バルブを開状態にするものであってもよい。
【００１９】
また、本発明に係る潤滑剤供給装置は、
前記潤滑剤流通路に接続するために前記潤滑剤供給路に設けられた第２接続部と、
前記潤滑剤供給路の一部を構成し、前記潤滑剤貯留部に貯留された前記潤滑剤を、前記第２接続部に向かって送り出す潤滑剤送出部と、を備えるものであってもよい。
【００２０】
また、本発明に係る潤滑剤供給装置は、
前記潤滑剤供給路と前記排気部との間に配置され、前記潤滑剤供給路から前記排気部に向かう気体中に含まれる前記潤滑剤を捕捉する潤滑剤捕捉部を備えるものであってもよい。
【００２１】
また、本発明に係る潤滑剤供給方法は、
真空中に設置される少なくとも１つの真空処理装置の潤滑対象部位へ潤滑剤を供給する潤滑剤供給方法であって、
大気中に設置され、潤滑剤を貯留する潤滑剤貯留部から前記潤滑対象部位までの潤滑剤供給路のうち、少なくとも大気中に位置している部位に残留する気体を排気するステップと、
前記潤滑剤貯留部に貯留された潤滑剤を、前記真空処理装置の前記潤滑対象部位に、前記潤滑剤供給路を介して送出するステップと、を含む。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、稼働率の高い真空処理システム、真空処理装置、並びに真空処理装置の稼働率を向上させることができる潤滑剤供給装置および潤滑剤供給方法を提供することができる。
また、本発明によれば、簡単な構成の潤滑剤供給機構を備える真空処理システム、真空処理装置を提供する。
更に、本発明によれば、潤滑剤貯留部に貯留された潤滑剤の劣化を抑制することができる潤滑剤供給装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】実施の形態に係る搬送システムを含む真空処理システムの概略構成図である。
【図２】（ａ）実施の形態に係る搬送システム中の搬送装置について、ガイドレールにおける予め定められた領域を覆う位置にある可動体とガイドレールとを示す斜視図である。（ｂ）（ａ）に示す搬送装置のＡ−Ａ断面図である。
【図３】実施の形態に係る搬送装置の図２（ｂ）のＢ−Ｂ線断面図である。
【図４】実施の形態に係る搬送システム中の潤滑剤供給装置に含まれる一軸偏心ネジポンプから構成されるグリス吐出ポンプの一例の概略断面図である。
【図５】実施の形態に係る制御装置のブロック図である。
【図６】実施の形態に係る制御装置が実行する制御動作を示すフローチャートである。
【図７】（ａ）実施の形態の第１の変形例に係る搬送装置の概略平面図である。（ｂ）第１の変形例に係る搬送装置の概略側面図である。
【図８】図７（ａ）に示す搬送装置のＣ−Ｃ断面図である。
【図９】実施の形態の第２の変形例に係る搬送システムの概略構成図である。
【図１０】実施の形態の第３の変形例に係る搬送システムの概略構成図である。
【図１１】実施の形態の第４の変形例に係る搬送システムの概略平面図である。
【図１２】実施の形態の第４の変形例に係る搬送装置について、可動体がガイドレールの予め定められた領域を覆う位置に配置された状態における図１１のＤ−Ｄ断面図である。
【図１３】実施の形態のその他の変形例に係る搬送システム中の潤滑剤供給装置に含まれる潤滑剤供給装置の使用例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の実施の形態に係る、真空処理システム、真空処理装置、及び潤滑剤補給装置を、半導体ウェハを搬送する搬送装置とこの搬送装置に潤滑剤を供給する潤滑剤供給装置を備える搬送システムを例に説明する。
【００２５】
この実施の形態に係る搬送システムは、真空チャンバ１００と、半導体ウェハを搬送する搬送装置１０１、１０２と、搬送装置１０１、１０２に潤滑剤であるグリスを供給する潤滑剤供給装置１と、これらを制御する制御装置２と、を備える。以下、各部の構成を順に説明する。
【００２６】
［真空チャンバ］
真空チャンバ１００は、その内部空間を真空状態に維持する。真空チャンバ１００には、内部空間を排気するためのチャンバ内排気用ポンプ（図示せず）が接続されるとともに、真空チャンバ１００内の圧力を検出する圧力ゲージＰＤ１が設けられている。真空チャンバ１００内には、半導体ウェハを処理する様々な真空処理装置が配置され、半導体ウェハに処理を施す。
【００２７】
［搬送装置］
搬送装置１０１は、真空チャンバ１００内に配置され、被処理体である半導体ウェハを搬送する真空処理装置である。搬送装置１０１は、ガイドレール１０１ａと、ガイドレール１０１ａに沿って移動可能な可動体１０１ｂと、可動体１０１ｂを搬送する搬送機構（図示せず）と、搬送機構が有する可動体駆動用モータのトルクを検出するトルク検出器１０３と、を備える。搬送装置１０１の具体例としては、例えばＬＭガイド（登録商標）が挙げられる。可動体１０１ｂは、ガイドレール１０１ａに沿って、図１中の矢印ＡＲ１１の方向に、移動可能な状態でガイドレール１０１ａに取り付けられている。
【００２８】
ガイドレール１０１ａは、図２（ａ）に示すように、軌道溝１１１、１１２と、可動体１０１ｂとガイドレール１０１ａとが接触する部位に注入されるグリス（潤滑剤）の通路である潤滑剤流通孔１４１とを有する。
【００２９】
軌道溝１１１、１１２は、ガイドレール１０１ａの延伸方向（図示するＸ方向）に沿って、ガイドレール１０１ａの幅方向（図示するＹ方向）の両端それぞれに一対ずつ形成されている。
一対の軌道溝１１１、１１２は、図２（ｂ）に示すように、ガイドレール１０１ａの幅方向と延伸方向とに直交する方向（図示するＺ方向）に予め定められた距離だけ離隔して形成されている。軌道溝１１１、１１２は、Ｙ−Ｚ断面が円弧状で且つＸ−Ｙ面に対して互いに鏡面対称となる形状に形成されている。
【００３０】
潤滑剤流通孔１４１は、図２（ｂ）に示すように、第１の孔１４１ａと第２の孔１４１ｂとから構成される。第１の孔１４１ａは、ガイドレール１０１ａ内をＺ方向に延伸し、一端がガイドレール１０１ａの下面に開口し他端が第２の孔１４１ｂに連通している。第２の孔１４１ｂは、ガイドレール１０１ａを、その幅方向（Ｙ方向）に貫通し、図２（ａ）に示すように、ガイドレール１０１ａの予め定められた領域Ａ１の軌道溝１１１、１１２の間の部位１１５に開口している。潤滑剤流通孔１４１の開口部は、ガイドレール１０１ａの両側部に、それぞれ、図１および図２（ａ）に示すように複数（図１、図２（ａ）では３つ）形成されている。潤滑剤は、図２（ｂ）に矢印ＡＲ２１、ＡＲ２２，ＡＲ２３、で示すように、第１の孔１４１ａの下端から供給され、第２の孔１４１ｂを通って、可動体１０１ｂとガイドレール１０１ａとの接触部位に注入される。
【００３１】
潤滑剤流通孔１４１の第１の孔１４１ａの下端の開口部は、図１に示すように、チャンバ内供給管Ｐ１１およびチャンバ外供給管Ｐ２１を介してチャンバ側接続部（第１接続部）Ｃ１に接続されている。チャンバ内供給管Ｐ１１とチャンバ外供給管Ｐ２１との間には、開閉バルブＶ１１が介挿されている。開閉バルブＶ１１は、制御装置２から供給される制御信号によりその開閉が制御される。
【００３２】
チャンバ内供給管Ｐ１１と、開閉バルブＶ１１と、チャンバ外供給管Ｐ２１とから、潤滑剤流通孔１４１とチャンバ側接続部Ｃ１との間を結ぶ潤滑剤中継路が構成されている。そして、この潤滑剤中継路と潤滑剤流通孔１４１とから、潤滑剤供給装置１から供給された潤滑剤を可動体１０１ｂとガイドレール１０１ａとの接触部位に導く潤滑剤流通路が構成されている。
【００３３】
可動体１０１ｂは、図１に示すように、ガイドレール１０１ａ上を、矢印ＡＲ１１で示すようにガイドレール１０１ａに沿って移動可能である。可動体１０１ｂは、図２（ｂ）および図３に示すように、ボールベアリング等の複数の転動体１２１、１２２と、複数の転動体１２１、１２２をそれぞれ回転可能に保持する保持器１１４、１１６とを備える。
【００３４】
転動体１２１、１２２は、金属等から形成された球体であり、それぞれ軌道溝１１１、１１２に転動しつつ接触する。転動体１２１、１２２の軌道溝１１１、１１２に接触する部位が、ガイドレール１０１ａに接触する部位に相当する。
【００３５】
保持器１１４は、例えば樹脂等から形成され、略環状の形状を有し、フレキシブルに形状を変えることができるよう構成されている。保持器１１４は、転動体１２１の外径よりも小さい厚みを有し、その周方向に転動体１２１よりもわずかに大きい孔１１４ａを複数備える。複数の転動体１２１は、図３に示すように、保持器１１４に設けられた複数の孔１１４ａそれぞれに回転可能に嵌め込まれた状態で、保持器１１４に保持される。保持器１１６の形状も保持器１１４の形状と同様である。
【００３６】
保持器１１４に保持された複数の転動体１２１は、図３に示すように、可動体１０１ｂ内にループ状に形成されたキャビティ１３１内に配置されている。
【００３７】
複数の転動体１２１は、可動体１０１ｂの移動に伴って、保持器１１４自体が動くことにより、図３の矢印ＡＲ１４で示すようにキャビティ１３１内を移動するとともに、矢印ＡＲ１５に示すように回転する。
【００３８】
可動体１０１ｂをガイドレール１０１ａ上で搬送するための駆動機構は、例えば可動体駆動用モータ（図示せず）と、長尺のボールネジ（図示せず）と、ボールナット（図示せず）と、２つの支持部材（図示せず）と、から構成される。ボールナットは、可動体１０１ｂに固定されている。ボールネジは、その長手方向がガイドレール１０１ａの延伸方向と略一致するように配置されており、長手方向における一端が可動体駆動用モータの回転軸に連結されている。また、ボールネジは、その長手方向に沿った中心軸周りに回転可能な形でその長手方向おける両端部それぞれで支持部材により支持されている。可動体駆動用モータがボールネジを回転させると、可動体１０１ｂがガイドレール１０１ａに沿って移動する。
【００３９】
トルク検出器１０３は、可動体駆動用モータがボールネジに加える回転トルクの大きさを検出し、検出した大きさを示すトルク情報を出力する。蒸発等により可動体１０１ｂのガイドレール１０１ａに接触する部位、即ち、転動体１２１、１２２に注入されたグリスが少なくなってくると、ガイドレール１０１ａと可動体１０１ｂとの間の摩擦が大きくなる。この場合、可動体駆動用モータが可動体１０１ｂを搬送するためにボールネジに加える回転トルクは、大きくなる。トルク検出器１０３は、検出した回転トルクの大きさに基づいて搬送装置１０１にグリスを供給するタイミングを判定するために使用される。
【００４０】
図１に示す、搬送装置１０２も、搬送装置１０１と同様の構成を有し、ガイドレール１０２ａと、可動体１０２ｂと、搬送機構（図示せず）と、トルク検出器１０４と、チャンバ側接続部（第１接続部）Ｃ２と、を備える。そして、潤滑剤流通孔１４２が、ガイドレール１０２ａの領域Ａ２に設けられている。
【００４１】
［潤滑剤供給装置］
潤滑剤供給装置１は、図１に示すように、グリスサーバ（潤滑剤貯留部）１１、グリス吐出ポンプ（潤滑剤送出部）１３、グリストラップタンク（潤滑剤捕捉部）１４、供給側接続部（第２接続部）Ｃ０、潤滑剤供給管Ｐ１および排気ポンプ１２を備える。
【００４２】
グリスサーバ１１は、真空チャンバ１００外の大気中でグリスを貯留する。グリスサーバ１１は、その底面に形成された供給孔より、グリス吐出ポンプ１３内へのグリスの供給状態を切り替えるためのグリス供給バルブＶ３を介してグリス吐出ポンプ１３に接続されている。
【００４３】
グリス吐出ポンプ１３は、グリスサーバ１１から供給されるグリスを、供給側接続部Ｃ０に向かって送り出す。グリス吐出ポンプ１３は、その吐出口が潤滑剤供給管Ｐ１を介して供給側接続部（第２接続部）Ｃ０に接続されている。グリス吐出ポンプ１３と潤滑剤供給管Ｐ１とから、グリスサーバ１１に貯留されるグリスを搬送装置１０１，１０２に供給するための通路である潤滑剤供給路が構成される。グリス吐出ポンプ１３は、モーノポンプ等の一軸偏心ネジポンプまたは渦巻ポンプ等から構成されている。
【００４４】
グリス吐出ポンプ１３は、図４に示すように、ステータ１５１、ロータ１５２、ユニバーサルジョイント１５３、筐体１５４、ポンプ用モータ１５５、ドライブシャフト１５６、軸封装置１５７および軸受１５８を備える。
【００４５】
筐体１５４の内部は、軸封装置１５７により密閉された状態となっている。また、第３排気管Ｐ５が、第２排気バルブＶ２２を介して筐体１５４に接続されている。
【００４６】
グリス供給バルブＶ３が開状態となると、グリスサーバ１１から筐体１５４の内部にグリスが導入される（図４中の矢印ＡＲ３１参照）。また、第２排気バルブＶ２２が開状態になると、筐体１５４の内部の残留気体が筐体１５４外へ排出される。
【００４７】
ドライブシャフト１５６は、筐体１５４に固定された軸受１５８により支持されており、長手方向の一端部がポンプ用モータ１５５の回転軸に連結されるとともに、他端部がユニバーサルジョイント１５３を介してロータ１５２に接続されている。
【００４８】
ロータ１５２は、雄ネジ状に形成されており、ステータ１５１は、雌ネジ状に形成されている。そして、ステータ１５１の中にロータ１５２が差し込まれた状態において、ステータ１５１とロータ１５２との間には、グリスが入り込むことができる互いに独立した複数の領域が形成されている。ポンプ用モータ１５５がドライブシャフト１５６を軸Ｊ１周りに回転させると、これらの複数の領域が筐体１５４側から潤滑剤供給管Ｐ１側に向かって移動する（図４中の矢印ＡＲ３３参照）。このとき、複数の領域それぞれに入り込んだグリスが、当該複数の領域とともに筐体１５４側から潤滑剤供給管Ｐ１側に向かって移動する。つまり、筐体１５４内部から上記複数の領域それぞれに入り込んだグリスが、ロータ１５２の回転とともに潤滑剤供給管Ｐ１側へ押し出される。
【００４９】
グリス吐出ポンプ１３から吐出されるグリスの量は、ロータ１５２の回転数に依存している。従って、ロータ１５２の回転数を調整することにより吐出されるグリスの量を調節することができる。
【００５０】
供給側接続部Ｃ０は、搬送装置１０１、１０２が備えるチャンバ側接続部Ｃ１、Ｃ２に着脱可能に接続されている。チャンバ側接続部Ｃ１および供給側接続部Ｃ０は、例えば、Ｏリング等のシール材を介して互いに気密に接続される管継手から構成される。
【００５１】
潤滑剤供給管Ｐ１は、グリス吐出ポンプ１３の吐出口から供給側接続部Ｃ０へのグリスの通路を構成する。潤滑剤供給管Ｐ１には、グリス吐出ポンプ１３から供給側接続部Ｃ０へのグリスの供給状態を切り替えるための供給側開閉バルブＶ２３が介挿されている。また、潤滑剤供給管Ｐ１には、潤滑剤供給管Ｐ１の内部の圧力を検出する圧力ゲージＰＤ２が設けられている。
【００５２】
図１に示す排気ポンプ１２は、潤滑剤供給管Ｐ１およびグリス吐出ポンプ１３内を排気する。排気ポンプ１２は、例えばドライポンプ等の周知の真空ポンプから構成される。潤滑剤供給管Ｐ１内の残留気体は、第１排気管Ｐ２、グリストラップタンク１４および第２排気管Ｐ４を通じて、排気ポンプ１２に吸入される。また、グリス吐出ポンプ１３内の残留気体は、第３排気管Ｐ５、グリストラップタンク１４および第２排気管Ｐ４を通じて、排気ポンプ１２に吸入される。また、第１排気管Ｐ２には第１排気バルブＶ２１が介挿され、第３排気管Ｐ５には第２排気バルブＶ２２が介挿されている。第１排気バルブＶ２１および第２排気バルブＶ２２は、制御装置２から入力される制御信号により開閉が制御される。第１排気バルブＶ２１および第２排気バルブＶ２２は、排気ポンプ１２停止時に閉じて、潤滑剤供給管Ｐ１内およびグリス吐出ポンプ１３内の真空状態を保持するために使用される。
【００５３】
グリストラップタンク１４は、潤滑剤供給管Ｐ１およびグリス吐出ポンプ１３から排気ポンプ１２に向かう気体中に含まれるグリスを捕捉する。グリストラップタンク１４は、潤滑剤供給管Ｐ１およびグリス吐出ポンプ１３と、排気ポンプ１２との間に配置されている。
【００５４】
［制御装置］
制御装置２は、真空チャンバ１００内に設置された搬送装置１０１、１０２の動作を制御する。また、制御装置２は、搬送装置１０１、１０２へのグリス供給の制御を行う。具体的には、制御装置２は、トルク検出器１０３からトルク情報を取得し、取得したトルク情報に基づいてグリス供給開始を判断する。次に、制御装置２は、排気ポンプ１２の動作制御および排気バルブＶ２１、Ｖ２２の開閉制御を行うことにより、潤滑剤供給管Ｐ１およびグリス吐出ポンプ１３内を真空状態にする。次に、制御装置２は、グリス吐出ポンプ１３の動作制御を行うことにより、グリス供給とともにその供給量の制御を行う。
【００５５】
この制御装置２は、例えば図５に示すように、ＣＰＵ２０１と、記憶部２０２と、入出力部（Ｉ／Ｆ）２０３と、これらを接続するバス２０４とを備えたコンピュータから構成される。記憶部２０２は、ＣＰＵ２０１が実行する制御プログラム等を記憶する。
【００５６】
入出力部２０３は、トルク検出器１０３、１０４および圧力ゲージＰＤ１、ＰＤ２に検出信号線（図１の破線矢印参照。）で接続されている。また、入出力部２０３は、排気ポンプ１２、グリス吐出ポンプ１３および各バルブＶ１１、Ｖ１２、Ｖ２１、Ｖ２２、Ｖ２３、Ｖ３と制御信号線（図１の破線矢印参照。）を介して接続されている。
【００５７】
ＣＰＵ２０１は、記憶部２０２に記憶されている制御プログラムを実行し、入出力部２０３と検出信号線を介して、トルク検出器１０３、１０４からトルク情報を取得するとともに、圧力ゲージＰＤ１、ＰＤ２から圧力情報を取得する。
【００５８】
ＣＰＵ２０１は、制御プログラムを実行し、取得したトルク情報と圧力情報に基づいて、排気ポンプ１２およびグリス吐出ポンプ１３に制御信号を送信して始動または停止させ、また、バルブＶ１１、Ｖ１２、Ｖ２１、Ｖ２２、Ｖ２３、Ｖ３に制御信号を送信することにより、これらの開閉状態を制御する。
【００５９】
次に、本実施の形態に係る真空処理システムの動作について説明する。
制御装置２は、搬送装置１０１，１０２を制御して、被処理体であるが半導体ウェハを搬送しつつ、図示せぬ他の真空処理装置を制御して、半導体ウェハに各種処理を施す。
この一般的な制御動作とし並行して、制御装置２は、図６に示す潤滑剤供給処理を実行し、搬送装置１０１，１０２に潤滑剤を供給する。
【００６０】
この潤滑剤供給処理を詳細に説明する。
なお、ここでは、図１に示すように、チャンバ側接続部Ｃ１は供給側接続部Ｃ０に連結されているとする。また、排気ポンプ１２は、動作し続けているものとする。
【００６１】
制御装置２は、搬送装置１０１の起動と共に図６に示す潤滑剤供給処理を開始し、まず、トルク検出器１０３からトルク情報を取得する（ステップＳ１）。
【００６２】
次に、制御装置２は、トルク情報が示すトルク値がトルク閾値を超えているか否かを判定する（ステップＳ２）。制御装置２は、トルク値が予め定められたトルク閾値を超えている場合（ステップＳ２：Ｙｅｓ）、ガイドレール１０１ａの軌道溝１１１、１１２にグリスが不足しており、グリスを注入する必要があるため、グリス注入動作（ステップＳ３〜Ｓ１０）に移行する。トルク閾値は、可動体駆動用モータからボールネジに加えるトルクの基準値よりも、例えば１０％程度大きい値に設定される。
【００６３】
制御装置２は、トルク値がトルク閾値を超えていないと判定すると（ステップＳ２：Ｎｏ）、再びステップＳ１の処理を行う。つまり、制御装置２は、トルク値がトルク閾値を超えない限り、ステップＳ１の処理を繰り返す。
【００６４】
一方、制御装置２は、トルク値がトルク閾値を超えていると判定すると（ステップＳ２：Ｙｅｓ）、可動体１０１ｂを、グリスの注入が可能な、領域Ａ１を覆う位置まで移動させる（ステップＳ３）。
【００６５】
次に、制御装置２は、第１排気バルブＶ２１、供給側開閉バルブＶ２３および第２排気バルブＶ２２を開状態にする（ステップＳ４）。これにより、排気ポンプ１２が、第１排気管Ｐ２、第２排気管Ｐ４および第３排気管Ｐ５を通じて、潤滑剤供給管Ｐ１、チャンバ外供給管Ｐ２１およびグリス吐出ポンプ１３内を排気する。このとき、排出される気体に含まれるグリスが、グリストラップタンク１４に捕捉される。
【００６６】
続いて、制御装置２は、圧力ゲージＰＤ１、ＰＤ２の検出値を取得し、取得した圧力ゲージＰＤ１、ＰＤ２の検出値の差分が所定値よりも小さいか否かを判定する（ステップＳ５）。この判別処理は、制御装置２は、潤滑剤流通孔１４１と潤滑剤供給管Ｐ１とについて、これらの内部圧力の差圧がこれらを接続できる程度に十分小さいか否かを判定することに相当する。
【００６７】
制御装置２は、圧力ゲージＰＤ１、ＰＤ２の検出値の差分が所定値を超えると判定されると（ステップＳ５：Ｎｏ）、排気ポンプ１２による排気を継続する。
【００６８】
一方、制御装置２は、圧力ゲージＰＤ１、ＰＤ２の検出値の差分が所定値以下と判定すると（ステップＳ５：Ｙｅｓ）、開閉バルブＶ１１を開状態とする（ステップＳ６）。
【００６９】
次に、制御装置２は、グリス供給バルブＶ３を開状態にする（ステップＳ７）。これにより、グリスサーバ１１に貯留されているグリスが、その底面に形成された供給孔より、グリス吐出ポンプ１３内へ供給される。
【００７０】
また、ステップＳ７の実行と略同時に、制御装置２は、グリス吐出ポンプ１３を動作させる（ステップＳ８）。これにより、グリス吐出ポンプ１３内のグリスが、供給側接続部Ｃ０へ向かって送り出される。ここで、グリス吐出ポンプ１３から送り出されるグリスの量は、グリス吐出ポンプ１３のロータ１５２の回転数に依存する。
【００７１】
潤滑剤供給管Ｐ１、チャンバ外供給管Ｐ２１、チャンバ内供給管Ｐ１１および潤滑剤流通孔１４１には、従前の潤滑剤供給処理で供給したグリスが充填されている。このため、グリス吐出ポンプ１３が送り出したグリスにより、充填されていたグリスが圧送され、潤滑剤流通孔１４１から、図２（ｂ）に示す可動体１０１ｂと転動体１２１、１２２とで囲まれた領域ＳＰ１へグリスが注入される。
【００７２】
即ち、チャンバ内供給管Ｐ１１内のグリスは、第１の孔１４１ａを通って矢印ＡＲ２１の方向へ押し出される。その後、グリスは、矢印ＡＲ２２、ＡＲ２３に示すように、第２の孔１４１ｂおよび第３の孔１４１ｃそれぞれに分割して押し出され、領域ＳＰ１へ注入される。
【００７３】
領域ＳＰ１へ注入されたグリスは、当該領域ＳＰ１に近接した転動体１２１、１２２における軌道溝１１１、１１２に接触する部位に注入される。
【００７４】
制御装置２は、予め設定された回転数だけ、ロータ１５２を回転して、基準量のグリスを供給すると、グリス吐出ポンプ１３を停止させる。
その後、通常の半導体ウェハ搬送処理において、可動体１０１ｂがガイドレール１０１ａに沿って移動すると、転動体１２１、１２２が軌道溝１１１、１１２内で転動し、領域ＳＰ１に注入されたグリスが、転動体１２１、１２２における軌道溝１１１、１１２に接触する部位を介して軌道溝１１１、１１２の略全体に行き渡る。その結果、可動体１０１ｂがガイドレール１０１ａ上を移動するときの摩擦、即ち、転動体１２１、１２２と軌道溝１１１、１１２との間の摩擦が低減される。
【００７５】
なお、ステップＳ８において、制御装置２は、可動体駆動用モータがボールネジに加える回転トルクの大きさに応じて再度グリス吐出ポンプ１３を動作させるようにしてもよい。具体的には、制御装置２は、グリス吐出ポンプ１３からグリスを吐出させた後、可動体１０１ｂをガイドレール１０１ａに沿って移動させる。そして、制御装置２は、グリスがガイドレール１０１ａに馴染んだ状態で、トルク検出器１０３により検出されるトルク値を取得する。そして、制御装置２が、取得した検出値がトルク閾値よりも高い場合には、再度グリス吐出ポンプ１３を動作させるようにすればよい。
【００７６】
ステップＳ８の実行後、制御装置２は、グリス供給バルブＶ３を閉状態にする（ステップＳ９）。これにより、グリスサーバ１１からグリス吐出ポンプ１３内部へのグリスの供給が停止される。
【００７７】
次に、制御装置２は、開閉バルブＶ１１、第１排気バルブＶ２１、供給側開閉バルブＶ２３および第２排気バルブＶ２２を閉状態とする（ステップＳ１０）。これにより、チャンバ内供給管Ｐ１１および潤滑剤流通孔１４１の内部を真空状態で維持することができる。
【００７８】
その後、制御装置２は、電源オフ指示を受け付けたか否かを判定する（ステップＳ１０）。例えばユーザが制御装置２に接続された入力装置において潤滑剤供給装置１或いは搬送装置１０１、１０２の電源をオフするための所定の操作を行ったときに、制御装置２が電源オフ指示を受け付ける。
【００７９】
制御装置２は、電源オフ指示を受け付けていないと判定すると（ステップＳ１０：Ｎｏ）、再びステップＳ１の処理を行う。
一方、制御装置２は、電源オフ指示を受け付けたと判定すると（ステップＳ１０：Ｙｅｓ）、処理を終了する。
【００８０】
本実施の形態に係る搬送システムによれば、グリスサーバ１１が大気中に設置されており、グリスサーバ１１にグリスを継ぎ足すだけで、搬送装置１０１、１０２へグリスを略永続的に供給することができる。これにより、従来構成（例えば特許文献１に記載された構成）のように、真空チャンバ内に設置されたグリス収容部内に収容されているグリスが枯渇する度に真空チャンバを大気開放する必要がない。従って、真空チャンバ１００を大気開放することに伴う真空処理装置の稼働率の低下を無くすことができる。
【００８１】
また、本実施の形態に係る搬送装置１０１では、潤滑剤流通孔１４１がガイドレール１０１ａに固定設置されている。これにより、上記従来構成のように、真空中において可動体１０１ｂとグリス収容部とを着脱自在に接続する構造を設ける必要がない。従って、従来構成に比べて構造を簡素化することができる。
【００８２】
更に、本実施形態に係る搬送システムでは、グリスサーバ１１が真空チャンバ１００外部の大気中に配置されている。従って、グリスサーバ１１に貯留されているグリスについて、グリスの一部の成分が揮発することにより当該グリスが劣化してしまうのを抑制できる。
【００８３】
＜第１の変形例＞
実施の形態では、潤滑剤流通路がガイドレール１０１ａに設けられた潤滑剤流通孔１４１を含んで構成される例について説明したが、潤滑剤流通路の構成は、その一部がガイドレール１０１ａに設けられるものに限定されるものではない。例えば、潤滑剤流通路の一部が可動体に設けられていてもよい。
【００８４】
図７（ａ）に示すように、第１の変形例に係る搬送装置５０１は、ガイドレール５０１ａと、可動体５０１ｂと、潤滑剤中継部５４２と、を備える。なお、実施の形態と同様の構成については同一の符号を付す。
【００８５】
潤滑剤中継部５４２は、ガイドレール５０１ａ上のガイドレール５０１ａの延伸方向における一端部に配設されている。潤滑剤中継部５４２は、中継部側接続部Ｃ５０２を有する。潤滑剤中継部５４２は、チャンバ内供給管Ｐ５１、開閉バルブＶ１１およびチャンバ外供給管Ｐ２１を介してチャンバ側接続部Ｃ１に接続されている。ここで、チャンバ内供給管Ｐ５１、開閉バルブＶ１１およびチャンバ外供給管Ｐ２１で、グリスの通路である潤滑剤中継路を構成している。
【００８６】
可動体５０１ｂは、可動体側流通路５４１と、可動体側接続部Ｃ５０３と、を有する。可動体側接続部Ｃ５０３は、可動体５０１ｂがガイドレール５０１ａ上を移動することにより、中継部側接続部Ｃ５０２に対して着脱可能となっている。可動体側流通路５４１は、可動体側接続部Ｃ５０３と可動体５０１ｂのガイドレール５０１ａに接触する部位近傍との間を結ぶグリスの通路である。ここで、上記潤滑剤中継路と、潤滑剤中継部５４２と、可動体側接続部Ｃ５０３と、可動体側流通路５４１とから潤滑剤流通路が構成されている。
図７（ｂ）および図８に示すように、可動体側流通路５４１は、可動体側接続部Ｃ５０３から、可動体５０１ｂの内側における、ガイドレール５０１ａの軌道溝５１１、５１２の間の部位に対向する部位に延びている。
【００８７】
ここにおいて、可動体５０１ｂが、矢印ＡＲ５に示すように、潤滑剤中継部５４２に近づく方向へ移動して予め定められた領域に到達すると、中継部側接続部Ｃ５０２と可動体側接続部Ｃ５０３とが連結された状態となる。このとき、可動体側流通路５４１とチャンバ外供給管Ｐ２１および潤滑剤供給管Ｐ１とが、潤滑剤中継部５４２およびチャンバ内供給管Ｐ５１を介して接続される。
【００８８】
本構成によれば、潤滑剤中継部５４２の配置を変更するだけで、可動体側流通路５４１へのグリス供給が可能となるグリス供給位置を変更することができる。従って、ガイドレール側に潤滑剤流通孔を設ける場合に比べて、グリス供給位置の変更が容易であるという利点がある。
【００８９】
＜第２の変形例＞
実施の形態では、搬送装置１０１、１０２それぞれに対して１個ずつチャンバ側接続部Ｃ１、Ｃ２が設けられ、搬送装置１０１、１０２に対して個別にグリスを供給する構成について説明した。但し、チャンバ側接続部が複数の搬送装置１０１、１０２それぞれに対して１個ずつ設けられる構成に限定されるものではない。例えば、チャンバ側接続部（第１接続部）が、複数の搬送装置（例えば搬送装置１０１、１０２）に対する共通の１つの接続部であってもよい。そして、複数の搬送装置それぞれに対応する潤滑剤注入管が、当該１つの接続部に接続されるものであってもよい。
【００９０】
図９に示すように、第２の変形例に係る搬送システムは、マニホールド２１１を備える。なお、実施の形態と同様の構成については同一の符号を付す。
マニホールド２１１には、第１チャンバ内供給管Ｐ２１１、第２チャンバ内供給管Ｐ２１２および第３チャンバ内供給管Ｐ２１３が接続されている。第１チャンバ内供給管Ｐ２１１は、搬送装置１０１への潤滑剤供給路の一部を構成し、第２チャンバ内供給管Ｐ２１２は、搬送装置１０２への潤滑剤供給路の一部を構成している。第３チャンバ内供給管Ｐ２１３は、開閉バルブＶ１１を介してチャンバ外供給管Ｐ２１に接続されている。
【００９１】
本構成によれば、複数の搬送装置１０１、１０２に対して同時にグリスを供給することができるので、グリス供給作業の効率化を図ることができる。
【００９２】
なお、第１チャンバ内供給管Ｐ２１１および第２チャンバ内供給管２１２それぞれに、バルブ（図示せず）を介挿し、制御装置２が当該各バルブを個別に開閉制御するようにしてもよい。例えば、搬送装置１０１、１０２で使用頻度に差異がある場合、搬送装置１０１、１０２に要求されるグリス供給頻度に差異が生じる。例えば、搬送装置１０１へのグリス供給頻度が、搬送装置１０２へのグリス供給頻度に比べて小さくなったりする。これに対して、本構成によれば、例えば第１チャンバ内供給管Ｐ２１１に介挿されたバルブを開状態とし、第２チャンバ内供給管Ｐ２１２に介挿されたバルブを閉状態とすることにより、搬送装置１０１のみにグリスを供給することができる。
【００９３】
更に、図１０に示す構成において、マニホールド２１１に代えて三方バルブ（供給路切り替え部）を設けてもよい。この構成によれば、複数の搬送装置の中からグリス供給先を選択する構成としながらも、チャンバ側接続部を１つだけ設ければよいので、その分構造の簡素化を図ることができる。
【００９４】
＜第３の変形例＞
実施の形態では、供給側接続部Ｃ０が１個だけ設けられる例について説明したが、供給側接続部Ｃ０の個数は１個に限定されるものではない。例えば、複数の搬送装置を備える構成において、潤滑剤供給装置が、複数の供給側接続部（第２接続部）を備えるものであってもよい。そして、潤滑剤供給管（潤滑剤供給路）に、供給先を複数の供給側接続部のいずれに切り替える三方バルブ（供給路切り替え部）が設けられているものであってもよい。
【００９５】
図１０に示すように、第３の変形例に係る潤滑剤供給装置４０１は、２つの供給側接続部Ｃ４０２、Ｃ４０３と、２つの供給側接続部Ｃ４０２、Ｃ４０３に接続された副潤滑剤供給管Ｐ４０１、Ｐ４０２と、副潤滑剤供給管Ｐ４０１、Ｐ４０２および潤滑剤供給管Ｐ１に接続された三方バルブ（供給路切り替え部）Ｖ４０５と、を備える。なお、実施の形態と同様の構成については同一の符号を付す。
【００９６】
三方バルブＶ４０５は、潤滑剤供給管Ｐ１が接続される共通ポートＰｏｃｏｍと、副潤滑剤供給管Ｐ４０１が接続される第１ポートＰｏ１と、副潤滑剤供給管Ｐ４０２が接続される第２ポートＰｏ２と、を有する。
供給側接続部Ｃ４０２、Ｃ４０３それぞれは、チャンバ側接続部Ｃ１、Ｃ２に接続可能である。三方バルブＶ４０５は、制御装置２から送信される制御信号によって、共通ポートＰｏｃｏｍに連通するポートを、第１ポートＰｏ１または第２ポートＰｏ２のいずれかに切り替える。このように、三方バルブＶ４０５を切り替えることによりグリスの供給先を搬送装置１０１または搬送装置１０２に切り替えることができる。
【００９７】
本構成によれば、グリス供給先の切り替え作業を簡略化することができる。
【００９８】
なお、図１０に示す構成において、三方バルブＶ４０５に代えて、潤滑剤供給管Ｐ１と供給側接続部Ｃ４０１、Ｃ４０２それぞれとを接続するマニホールド（図示せず）を設けてもよい。この場合、潤滑剤供給管Ｐ１から供給されるグリスを供給側接続部Ｃ４０１、Ｃ４０２に同時に供給することができる。
【００９９】
＜第４の変形例＞
実施の形態では、ガイドレール１０１ａ、１０２ａが直線状である例について説明したが、ガイドレールの形状は直線状に限定されるものではない。例えば、ガイドレールが曲線状の部位を有するものであってもよい。この場合、可動体は、ガイドレールに沿って曲線状の軌跡を描くように移動可能である。
【０１００】
図１１および図１２に示すように、第４の変形例に係る搬送装置３０１は、ガイドレール３０１ａと、可動体３０１ｂと、を備える。なお、実施の形態と同様の構成については同一の符号を付す。
ガイドレール３０１ａは平面視略円弧状に延伸している。可動体３０１ｂは、図１１中の矢印ＡＲ４に示すように、ガイドレール３０１ａに沿って略円弧状の軌跡を描くように移動することができる。ガイドレール３０１ａには、潤滑剤流通孔３４１が設けられている。この潤滑剤流通孔３４１は、第１の孔３４１ａと、第２の孔３４２ｂと、第３の孔３４２ｃとから構成される。そして、第１の孔３４１ａは、チャンバ内供給管Ｐ３１１およびチャンバ外供給管Ｐ３２１を介してチャンバ側接続部Ｃ３０１が接続されている。チャンバ内供給管Ｐ３１１とチャンバ外供給管Ｐ３２１との間には、開閉バルブＶ３１１が介挿されている。そして、可動体３０１ｂがガイドレール３０１ａにおける潤滑剤流通孔３４１が開口する部位を覆う予め定められた領域（図１１の領域Ａ３参照）に配置された状態で、潤滑剤流通孔３４１から軌道溝３１１ａ、３１１ｂへのグリス注入を行うことができる。
【０１０１】
ところで、軌道溝３１１ａの長さＬ１は、軌道溝３１１ｂの長さＬ２に比べて短い。この場合、軌道溝３１１ａの内側領域の体積は軌道溝３１１ｂの内側領域の体積に比べて小さくなる。すると、２つの軌道溝３１１ａ、３１１ｂのいずれか一方の体積に基づいて、２つの軌道溝３１１ａ、３１１ｂの両方に同じ量のグリスを供給すると、いずれか一方のグリスの量が多すぎたり或いは少なすぎたりすることになる。この場合、軌道溝３１１ａへの転動体接触部位に供給するグリスの量を、軌道溝３１１ｂへの転動体接触部位に供給するグリスの量に比べて減らす必要がある。
【０１０２】
これに対して、図１２に示すように、搬送装置３０１では、潤滑剤流通孔３４１の第２の孔３４１ｂの内径と第３の孔３４１ｃの内径とを異ならせることにより、２つの軌道溝３１１ａ、３１１ｂに供給するグリスの量を異ならせている。具体的には、第２の孔３４１ｂの内径Ｒ１および第３の孔３４１ｃの内径Ｒ２は、軌道溝３１１ａ、３１１ｂそれぞれの長さＬ１、Ｌ２との間に下記式（１）の関係式が成立するように設定されている。
Ｒ１２／Ｒ２２＝Ｌ１／Ｌ２・・・式（１）
【０１０３】
本構成によれば、平面視略円弧状のガイドレール３０１ａを備える搬送装置３０１において、ガイドレール３０１ａの幅方向における両側に設けられた２つの軌道溝３１１ａ、３１１ｂそれぞれに各軌道溝３１１ａ、３１１ｂの長さに応じた適量のグリスを供給することができる。
【０１０４】
なお、ガイドレール３０１ａの内側と外側において、潤滑剤流通孔３４１の開口部の数を異ならせることにより、各軌道溝３１１ａ、３１１ｂへ供給するグリスの量を異ならせるようにしてもよい。
【０１０５】
また、本変形例では、ガイドレール３０１ａが略平面視円弧状である例について説明したが、例えば、ガイドレールが、曲線状部分と直線状部分との両方を組み合わせて形状を有するものであってもよい。この場合、可動体として、曲線状部分および曲線状部分それぞれに合わせて変形するようものを採用すればよい。例えば、曲線状部分を移動できる複数の小型の可動体を、ユニバーサルジョイント等を介して連結したものを採用してもよい。
【０１０６】
＜その他の変形例＞
実施の形態に係る搬送システムにおいて、制御装置２が、ユーザに対して搬送装置１０１、１０２へのグリス供給が必要な旨を通知するアラームを発報するようにしてもよい。ここで、制御装置２は、トルク検出器１０３，１０４から入力されるトルク情報に基づいて、トルク値が所定の閾値を超えるとアラームを発報するようにすればよい。
【０１０７】
例えば、供給側接続部Ｃ０がチャンバ側接続部Ｃ１に接続されている場合に、制御装置２が、搬送装置１０２へのグリス供給が必要な旨を通知するアラームを発報したとする。この場合、図１３に示すように、ユーザが供給側接続部Ｃ０をチャンバ側接続部Ｃ１からチャンバ側接続部Ｃ２に繋ぎかえれば、搬送装置１０２へグリス供給を行うことができる。
【０１０８】
実施の形態では、ガイドレール１０１ａに形成された第２の孔１４１ｂが、ガイドレール１０１ａをＹ方向に略一直線に貫通している例について説明した。但し、第２の孔１４１ｂの形状はこれに限定されるものではない。例えば、第２の孔が、第１の孔に連続する部分からガイドレール１０１ａのＹ方向に直交する両端面に近づくにつれて軌道溝１１１側に近づくように傾斜していてもよい。即ち、第１の孔と第２の孔とが、略Ｙ字状の潤滑剤流通路を構成するように形成されていてもよい。
【０１０９】
また、実施の形態では、Ｘ方向に直交する所定の断面で見た場合に、第２の孔１４１ｂのＹ方向における一方と他方とが現れる例について説明した。但し、Ｘ方向に直交し且つ第２の孔１４１ｂのＹ方向における一方が現れる断面と、Ｘ方向に直交し且つ第２の孔１４１ｂのＹ方向における他方が現れる断面とが異なっていてもよい。即ち、ガイドレール１０１ａのＹ方向における一方の側面と他方の側面とで第２の孔１４１ｂが開口する位置が異なっていてもよい。
【０１１０】
実施の形態では、グリス吐出ポンプ１３を使用する例について説明したが、グリスサーバ１１から潤滑剤流通孔１４１およびチャンバ内供給管Ｐ１１へグリスを流動させる方法はこれに限定されるものではない。例えば、潤滑剤流通孔１４１や潤滑剤供給管Ｐ１の内圧と大気圧との圧力差を利用してグリスサーバ１１から潤滑剤流通孔１４１およびチャンバ内供給管Ｐ１１へグリスを流動させる構成であってもよい。
具体的には、グリスサーバ１１が、グリス供給バルブを介して潤滑剤供給管Ｐ１に直接接続されたものであってもよい。この場合、グリス供給バルブが開状態となると、グリスサーバ１１内のグリスにおける、グリス供給バルブ側とは反対側に加わる大気圧により、グリスサーバ１１内のグリスが潤滑剤供給管Ｐ１内に押し出される。
或いは、グリスサーバ１１内のグリスにおける、グリス導入バルブ側とは反対側に気体を導入し、導入した気体の気圧を利用してグリスを潤滑剤供給管Ｐ１内へ押し出す構成であってもよい。
【０１１１】
本構成によれば、グリス吐出ポンプ１３を省略することができるので、潤滑剤供給装置の構造の簡素化を図ることができる。
【０１１２】
実施の形態では、グリスサーバ１１を備える構成について説明したが、グリス吐出ポンプ１３が例えばモーノポンプ等のように内部にグリスを貯留することが可能である場合、グリスサーバ１１を省略した構成としてもよい。この構成では、モーノポンプ１３が潤滑剤貯留部として機能する。
この場合、ユーザは、グリス供給バルブＶ３を開いて、グリスを収容したチューブやグリスガン等を用いて、グリス吐出ポンプ１３内にグリスを供給すればよい。なお、上記チューブやグリスガン等は、グリス供給バルブＶ３に常時接続しておいてもよい。
【０１１３】
本構成によれば、グリスサーバ１１を省略できる分、潤滑剤供給装置の小型化を図ることができる。
【０１１４】
実施の形態では、搬送装置１０１、１０２を備える搬送システムの例について説明したが、定期的にグリスを注入する必要がある真空処理装置を備える他の種類の真空処理システムであってもよい。例えば、軸受を利用した搬送装置について、軸受の転動体が軌道溝に接触する部位にグリスを注入する構成であってもよい。また、実施の形態では、可動体を搬送する搬送機構がボールネジとボールナットを用いたものである例について説明したが、搬送機構の種類はこれに限定されるものではない。例えば、搬送機構が、リニアモータを利用したものであってもよい。
【０１１５】
実施の形態では、ガイドレール１０１ａにおける領域Ａ１を覆う位置に配置された可動体１０１ｂのガイドレール１０１ａに接触する部位にグリスを注入する例について説明したが、グリスを注入する潤滑対象部位は、これに限定されるものではない。例えば、潤滑対象部位が、ボールネジにおけるボールナットと接触する部位であってもよい。
【０１１６】
実施の形態では、潤滑剤として半固形状のグリスを使用する例について説明したが、潤滑剤の種類はこれに限定されるものではなく、潤滑剤として液体状の潤滑油を使用するものであってもよい。
【０１１７】
転動体１２１は、球体に限定されるものではなく、例えばころ等の他の種類の転動体から構成されていてもよい。この場合、軌道溝１１１の形状を、転動体の形状に適合した形状（例えば転動体が円柱状のころであれば軌道溝１１１の形状を断面略矩形状）にすればよい。
【０１１８】
本実施形態では、搬送システムにおいて、開閉バルブＶ１１、Ｖ１２、Ｖ３１１並びに供給側開閉バルブＶ２３を備える例について説明したが、バルブの種類は開閉バルブに限定されず、これに代えて他の種類のバルブを用いてもよい。
【符号の説明】
【０１１９】
１：潤滑剤供給装置
２：制御装置
１１：グリスサーバ（潤滑剤貯留部）
１２：排気ポンプ（排気部）
１３：グリス吐出ポンプ（潤滑剤送出部）
１４：グリストラップタンク（潤滑剤捕捉部）
１００：真空チャンバ
１０１、１０２、３０１、５０１：搬送装置（搬送装置）
１０１ａ、１０２ａ、３０１ａ、５０１ａ：ガイドレール
１０１ｂ、１０２ｂ、３０１ｂ、５０１ｂ：可動体
１０３、１０４：トルク検出器
１１１、１１２、３１１ａ、３１１ｂ：軌道溝
１４１、１４２、３４１：潤滑剤流通孔（潤滑剤流通路）
２１１：マニホールド
５４１：可動体側流通路
５４２：潤滑剤中継部
Ｃ０、Ｃ４０１、Ｃ４０２：供給側接続部（第２接続部）
Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３０１：チャンバ側接続部（第１接続部）
Ｐ１：潤滑剤供給管
Ｐ２：第１排気管
Ｐ４：第２排気管
Ｐ５：第３排気管
Ｐ１１、Ｐ５１、Ｐ３１１：チャンバ内供給管
Ｐ２１、Ｐ３２１：チャンバ外供給管
Ｐ２１１：第１チャンバ内供給管
Ｐ２１２：第２チャンバ内供給管
Ｐ２１３：第３チャンバ内供給管
Ｖ３：グリス供給バルブ
Ｖ１１、Ｖ１２、Ｖ３１１：開閉バルブ
Ｖ２１：第１排気バルブ
Ｖ２２：第２排気バルブ
Ｖ２３：供給側開閉バルブ
Ｖ４０５：三方バルブ（供給路切り替え部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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