(57)【要約】【課題】脱臭処理後の戻り臭を抑制し得る脱臭方法を提供する。【解決手段】多孔質からなる悪臭発生部に、酸化剤が混入された洗浄水を用いて脱臭を行う洗浄水脱臭工程（Ｓ１）と、光触媒スラリーを上記悪臭発生部に滴下する光触媒スラリー滴下工程（Ｓ２）と、光触媒スラリーの滴下部に光照射処理を行う光照射工程（Ｓ３）とをこの順に含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔質からなる悪臭発生部に、酸化剤が混入された洗浄水を用いて脱臭を行う洗浄水脱臭工程と、
光触媒スラリーを上記悪臭発生部に滴下する光触媒スラリー滴下工程と、
上記光触媒スラリーの滴下部に光照射処理を行う光照射工程とをこの順に含むことを特徴とする脱臭方法。
【請求項２】
前記悪臭発生部は、多孔質からなるモルタル材から構成されることを特徴とする請求項１記載の脱臭方法。
【請求項３】
前記悪臭発生部は、多孔質からなる接着剤から構成されることを特徴とする請求項１記載の脱臭方法。
【請求項４】
前記悪臭発生部は、汚垂石が敷設されている場合には、該汚垂石は脱臭処理対象から除かれることを特徴とする請求項２記載の脱臭方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばトイレ等で発生する悪臭を抑制する脱臭方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
トイレの大便器及び小便器等は、定期的な清掃を行っている場合にも関わらず、使用時間の経過に伴って悪臭が発生し、利用者に不快感を与えることが多い。この現象は、水洗式トイレにおいても発生し、家庭用トイレは基より、特に使用頻度の高い駅、乗り物、ホテル、レストラン、学校、病院等のトイレにおいて課題として認識されている。このため、その対策が強く求められている。
【０００３】
悪臭の代表例として、尿素分解菌や一般細菌等の細菌が尿素（ＣＯ（ＮＨ２）２）を分解するときに発生するアンモニア（ＮＨ３）が挙げられる。便器内に正常に排出された尿は、水洗式の便器であれば洗浄水により洗い流すことが容易であるが、意図せずに便器外に飛散した尿飛沫や便器直下の床へ滴下した尿は、定常的に洗い流すことができず、悪臭発生箇所になっている。この現象は、大便器、小便器、和洋式トイレに関わらず発生することがあるが、便器外への飛散を鑑みると小便器において一番影響が大きいといえる。
【０００４】
ところで、公共施設用トイレの床面は一般的に床タイルや汚垂石で構成されているが、各々のタイルやブロックは、モルタルからなる目地にて固定されていることが多い。しかし、目地として用いられているモルタル材は多孔質材であり、多孔質の内部では尿素分解菌や一般細菌等の細菌の温床になっている。したがって、目地はアンモニア（ＮＨ３）発生の主要箇所である。
【０００５】
このような課題を解決するための、大がかりな設備が不要な脱臭方法として、従来、芳香性物質をトイレに配置し、その芳香物質から発散する芳香によってアンモニア（ＮＨ３）による悪臭を打ち消す、いわゆるマスキング法と、吸着剤により悪臭成分を吸着する方法とが知られている。
【０００６】
マスキング法は、適用する場所に応じて一部での採用はある。しかし、この方法においてはアンモニア（ＮＨ３）発生の要因である尿素分解菌を抑制することができない。このため、新たに飛散又は滴下した尿により、断続的にアンモニア（ＮＨ３）が発生するといった問題があると共に、次のような個別の問題もある。すなわち、マスキング法では、悪臭成分が周辺環境中に飛散したままであるため、芳香性物質の発散量が減少するとアンモニア（ＮＨ３）による悪臭が優勢となり不快感を味わうことになるという問題を有している。これらの問題のため、マスキング法は、悪臭が強い公共施設用トイレ等の戻り臭つまり脱臭処理後の再度の悪臭の発生の抑制目的には適していない。
【０００７】
次に、吸着剤により悪臭成分を吸着する方法は、吸着剤に飽和吸着量があり、吸着剤が飽和状態に達する毎に交換する必要があるのでコスト高となる。その上、使用当初は所定の吸着力を有していても、吸着力が次第に低下し、最終的には飽和に達してしまい効果がなくなってしまう。
【０００８】
一方、設備設置を伴う脱臭方法としては、従来、トイレ内に脱臭器を設置し、悪臭の吸収・分解により脱臭する方法、又は特許文献１に開示されているように、小便器直下の床面へ下方防汚床体を設置し、飛散尿滴若しくは尿の滴下の受け皿として直接床面を汚さない方法が知られている。
【０００９】
しかしながら、前者のトイレ内に脱臭器を設置し、悪臭の吸収・分解により脱臭する方法においても、適用する場所に応じて一部での採用はあるものの、アンモニア（ＮＨ３）発生の要因である尿素分解菌を抑制できず、断続的にアンモニア（ＮＨ３）が発生するといった問題を有している。その上、設備設置に高額の費用が発生すると共に、清掃後長時間放置され尿素分解菌が固着したような悪臭が強い公共施設用トイレ等の戻り臭の抑制目的には適していない。
【００１０】
次に、後者の小便器直下の床面へ下方防汚床体を設置する方法は、防汚床体の設置面には新たに尿の飛散又は滴下が発生しても尿素分解菌による尿素の分解は生じない点で評価できる。しかし、設置面以外への飛散尿や滴下尿が床面を伝って、設置面下等の尿素分解菌に尿が供給され、アンモニア（ＮＨ３）が発生するため、戻り臭を抑制できないという問題を有している。
【００１１】
ところで、上述した方法では、アンモニア（ＮＨ３）を発生させる尿素分解菌を除去していない。そこで、従来、尿素分解菌を分解しながら洗い流す脱臭作業も知られている。
【００１２】
この方法は、例えば、日常清掃とは別に、飛散、滴下した床面に洗浄力の強い気体のオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）又は固体の次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）が混入された洗浄水を用いて尿素分解菌を分解しながら洗い流す脱臭／洗浄方法である。
【００１３】
この脱臭／洗浄方法は、アンモニア（ＮＨ３）発生の要因である尿素分解菌を直接抑制することが可能であり、清掃直後にはアンモニア（ＮＨ３）による悪臭の抑制をすることができるものとなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開２０１３−１２６５１５号公報（２０１３年６月２７日公開）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
しかしながら、従来の脱臭／洗浄方法では、一般的な公衆トイレで見られるような床面のタイル目地として使用されているモルタル材においては、モルタル材自体が多孔質であるために、多孔質内部に存在する尿素分解菌の全てを上記洗浄方式では死滅させることはできず、清掃後に新たな尿の供給がない場合においても、清掃から時間が経てば再び戻り臭が発生するといった問題点を有している。
【００１６】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、脱臭処理後の戻り臭を抑制し得る脱臭方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の一態様における脱臭方法は、上記課題を解決するために、有機汚染物質を含む悪臭発生部に、気体のオゾン若しくは過酸化水素、又は固体の次亜塩素酸ナトリウムが混入された洗浄水を用いて脱臭を行う洗浄水脱臭工程と、光触媒スラリーを上記悪臭発生部に滴下する光触媒スラリー滴下工程と、上記光触媒スラリーの滴下部に光照射処理を一定時間行う光照射工程とをこの順に含むことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の一態様によれば、脱臭処理後の戻り臭を抑制し得る脱臭方法を提供するという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施形態１における脱臭方法の各工程を示すフローチャートである。
【図２】（ａ）は上記脱臭方法が適用されるトイレの構成を示す側面図であり、（ｂ）は上記脱臭方法が適用されるトイレの構成を示す平面図である。
【図３】（ａ）は本発明の実施形態２における脱臭方法を示すものであって、上記脱臭方法が適用されるトイレの構成を示す側面図であり、（ｂ）は上記脱臭方法が適用されるトイレの構成を示す平面図である。
【図４】本発明の実施形態３における脱臭方法を示すものであって、上記脱臭方法が適用されるトイレの構成を示す平面図である。
【図５】本発明の実施形態４における脱臭方法を示すものであって、上記脱臭方法が適用されるトイレの構成を示す側面図である。
【図６】本発明の実施例における脱臭方法の簡易評価モデルの構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
〔実施の形態１〕
本発明の一実施形態について図１及び図２に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
【００２１】
本実施の形態の脱臭方法は、例えば、家庭用トイレ、又は駅、乗り物、ホテル、レストラン、学校若しくは病院等の公共用トイレで発生する悪臭の脱臭に適応可能である。また、家庭用トイレ及び公共用トイレ等のトイレに限らず、例えば汚水処理場、焼却場、廃棄物置き場等の悪臭の戻り臭抑制にも適応可能である。
【００２２】
以下では、本実施の形態の脱臭方法を、トイレ１Ａの小便器３Ａに適用する場合について、図２の（ａ）（ｂ）に基づいて説明する。図２の（ａ）は、本実施の形態の脱臭方法が適用されるトイレ１Ａの構成を示す側面図であり、図２の（ｂ）は、本実施の形態の脱臭方法が適用されるトイレ１Ａの構成を示す平面図である。
【００２３】
本実施の形態の脱臭方法が適用されるトイレ１Ａは、図２の（ａ）（ｂ）に示すように、壁面２に小便器３Ａが取り付けられている。小便器３Ａの下側には間隔を有して床面１０が在り、この床面１０には多数のタイル１１が敷設されている。これらタイル１１の目地１２には多孔質材料であるモルタルが使用されている。尚、モルタルとは、細骨材としての砂とセメントと水とを練り混ぜたものである。また、本明細書では、多孔質材料とは、尿及び尿酸分解菌が侵入し得る程度の多孔質を意味している。
【００２４】
本実施の形態のトイレ１Ａは一般的なものであるが、このようなトイレ１Ａでは、小便器３Ａに衝突した尿が、床面１０の飛散／滴下部１３上に飛散又は直接滴下する。この飛散／滴下部１３における特に悪臭発生部としての目地１２には尿素分解菌や一般細菌等の細菌（以下、「尿素分解菌等」という）が多く存在し、悪臭の発生源になっていると考えられる。すなわち、悪臭の代表的な臭気として挙げられるアンモニア（ＮＨ３）は、尿に含まれる尿素（ＣＯ（ＮＨ２）２）を尿素分解菌等が分解することにより発生する。
【００２５】
このような目地１２の悪臭を脱臭するために、例えば、日常清掃とは別に、飛散、滴下した床面１０に洗浄力の強い気体のオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）又は固体の次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）等の酸化剤が混入された洗浄水を用いて尿素分解菌等を分解しながら洗い流す脱臭／洗浄方法による清掃が行われる。
【００２６】
しかしながら、この清掃だけでは、目地１２に存在する尿素分解菌等の全てを死滅させることはできない。したがって、清掃後に新たな尿の供給がないときにおいても、清掃から時間が経てば残存する尿素分解菌等がこの尿素（ＣＯ（ＮＨ２）２）を再び分解して戻り臭としてのアンモニア（ＮＨ３）臭が発生するといった問題点を有している。
【００２７】
そこで、本実施の形態の脱臭方法では、このような脱臭処理後の戻り臭を抑制し得る脱臭方法を提供することを目的としている。
【００２８】
本実施の形態の脱臭方法について、図１に基づいて説明する。図１は本実施の形態の脱臭方法を示すフローチャートである。
【００２９】
本実施の形態の脱臭方法は、図１に示すように、尿素分解菌等の有機汚染物質を含む悪臭発生部としての目地１２に、例えば気体のオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）、又は固体の次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）等の酸化剤が混入された洗浄水を用いて脱臭を行う洗浄水脱臭工程を行う（Ｓ１）。次いで、有機汚染物質分解速度定数が一定値としての例えば２．０［ｈ−１］以上の光触媒スラリーを目地１２に滴下する光触媒スラリー滴下工程を行う（Ｓ２）。続いて、光触媒スラリーの滴下部に光照射処理を一定時間としての例えば２時間行う光照射工程を行う（Ｓ３）。
【００３０】
ここで、本実施の形態では、光触媒スラリー滴下工程（Ｓ２）及び光照射工程（Ｓ３）において、光触媒は、可視光応答型光触媒材料又は紫外線応答型光触媒材料のいずれかを用いることができる。そして、可視光応答型光触媒材料としては、例えば酸化タングステン（ＷＯ３）又は酸化チタン（ＴｉＯ２）を用いることができる。この酸化タングステン（ＷＯ３）又は酸化チタン（ＴｉＯ２）は、例えば気体のオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）、又は固体の次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）が混入された洗浄水を用いて洗浄した後に、該酸化タングステン（ＷＯ３）又は酸化チタン（ＴｉＯ２）のスラリーを滴下し、光照射を行うことによって、環境親和性酸化剤であるオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）、又は次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）の有機汚染物質分解作用を活性化するという光触媒作用を有している。
【００３１】
したがって、本実施の形態では、環境親和性酸化剤として例えばオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）、又は次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）等の酸化剤を用いているが、必ずしもこれに限らず、他の酸化剤を適用することが可能である。例えば、硝酸カリウム、次亜塩素酸、過塩素酸、過マンガン酸塩等の酸化剤を用いることができる。このうち、例えば、次亜塩素酸ナトリウムは、家庭用に販売されている液体の塩素系漂白剤、殺菌剤等に使用されており、入手が容易であるので好ましい。また、過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）についても薬局にて市販されているので、入手容易であり、好ましい。
【００３２】
ところで、光触媒は、上述した酸化分解の活性化作用だけでなく、それ自体が酸化／還元作用を有し、有機汚染物質分解作用を有している。すなわち、例えば酸化チタン（ＴｉＯ２）の価電子帯の電子が紫外光にて伝導帯に励起されると、その電子は比較的還元力の強いものとなる。他方、非常に酸化力の強い正孔も生成される。したがって、酸化チタン（ＴｉＯ２）に適切な助触媒を組み合わせれば、水（Ｈ２Ｏ）を酸素（Ｏ２）と水素イオン（Ｈ＋）に酸化すると共に、同時に水（Ｈ２Ｏ）を水素（Ｈ２）と水酸化物イオン（ＯＨ−）に還元するほどの酸化還元能を示す。
【００３３】
ここで、本実施の形態では、可視光応答型光触媒材料は、有機汚染物質の分解能力の高い材料を用いており、分解能力の指標である有機汚染物質分解速度定数２．０［ｈ−１］以上の材料を用いている。その結果、可視光である４６０ｎｍの発光波長を有し、かつ発光強度が７（ｍＷ／ｃｍ２）の青色光を用いた場合、照射時間が２時間で２０時間後の戻り臭を抑制することができる。しかし、一般的な能力の可視光応答型光触媒材料は有機汚染物質分解速度定数が１．７［ｈ−１］程度であり、この一般的な能力の可視光応答型光触媒材料を用いた場合には、上記青色光の照射を２時間行っただけでは２０時間後の戻り臭を十分に抑制することができない。
【００３４】
尚、上記有機汚染物質分解速度定数２．０［ｈ−１］以上の可視光応答型光触媒材料を用いた場合においても、気体のオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）、又は固体の次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）が混入された洗浄水を用いた洗浄を事前に行わない場合では、光照射だけでは、多孔質内部に存在する尿素分解菌等を全て死滅させることが困難である。
【００３５】
その理由は、触媒は反応を助けるものであり、気体のオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）、又は固体の次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）が混入された洗浄水を用いた洗浄を事前に行うことによって、オゾン（Ｏ３）、過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）又は次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）による酸化反応を活性化して、多孔質表面の尿素分解菌等を除去することができるが、これらを行わない場合には、酸化剤が存在しない場合には、触媒としての機能が十分に発揮されず、多孔質内部に存在する尿素分解菌等を十分に除去することはできないと考えられるからである。
【００３６】
また、他の考え方として、上述したように、光触媒は、それ自体が酸化／還元作用を有し、有機汚染物質分解作用を有している。そして、水処理のみの後に光触媒処理を実施すると、戻り臭の改善効果が若干見られるという実験結果もある。しかし、光触媒だけでは、多孔質内部に存在する尿素分解菌等を全て死滅させるためには、光触媒自体の分解能力不足であるということが考えられるためである。
【００３７】
そのため、仮に順序を逆にして、光照射の後に、気体のオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）、又は固体の次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）が混入された洗浄水を用いた洗浄を行ったとしても、多孔質内部に存在する細菌を全て死滅させることは困難である。
【００３８】
この結果、多孔質内部に潜む尿素分解菌等を全て死滅させる方法としては、気体のオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）、又は固体の次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）等の酸化剤が混入された洗浄水を用いて洗浄した後に、光触媒材料のスラリー滴下を行い、その後、光照射するのが有効である。すなわち、脱臭処理後の戻り臭が官能検査で認められないレベルに抑制することが可能である。
【００３９】
また、本実施の形態では、光触媒をスラリー（懸濁液）として、用いている。この場合、光触媒スラリーに含まれる光触媒の量は、例えば、５〜３０重量％が好ましい。
【００４０】
次に、本実施の形態では、光照射工程（Ｓ３）において、光照射処理の範囲は、図２の（ｂ）に示すように、床面１０における小便器３Ａの周囲において、尿の飛散／滴下部１３よりも広い光照射領域１４Ａにて行う。また、光照射工程（Ｓ３）における光照射の波長は、可視光波長帯又は紫外線波長帯であればよい。尚、光触媒スラリーの滴下部を照射する光源が外部に漏れない構造、又は外部に漏れても問題にならない場合には、光触媒材料は可視光応答型を用いる必要がなく、可視光応答型光触媒材料よりも安価に入手可能な紫外光応答型光触媒材料からなる光触媒スラリーを滴下し、紫外光を照射することも可能である。
【００４１】
また、光照射時間について、後述する〔実施例〕に示すように、脱臭評価実験では光照射を２時間行ったが、例えば光触媒スラリーの滴下部と照射光との距離を接近させて滴下部に照射される照射エネルギーを高めることが可能である場合には、照射時間を短縮することが可能である。
【００４２】
これら３つの工程を順次実施することにより、目地１２は、光触媒スラリーが光照射されることによって光触媒作用を発揮する。すなわち、洗浄水脱臭工程（Ｓ１）後に、光触媒スラリー滴下工程（Ｓ２）及び光照射工程（Ｓ３）を行うことによって、環境親和性酸化剤である例えばオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）又は次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）の有機汚染物質分解作用を活性化するという光触媒作用のために、尿素分解菌等の分解が促進される。
【００４３】
この結果、尿素分解菌等を殆ど死滅させることができるので、洗浄水脱臭工程（Ｓ１）による清掃後に新たな尿の供給がないときにおいても、清掃から時間が経てばアンモニア（ＮＨ３）臭が再発生するということがない。
【００４４】
したがって、脱臭処理後の戻り臭を抑制し得る脱臭方法を提供することができる。また、洗浄水脱臭工程だけでは全ての尿素分解菌等が死滅しない多孔質からなるモルタル材において、脱臭処理後の戻り臭の抑制効果が大きい。
【００４５】
すなわち、後述する〔実施例〕に記載しているように、比較例１及び比較例２で示す、オゾン（Ｏ３）水又は過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）水を用いて洗浄する方法は、悪臭を大幅に減少させることは可能である。しかし、悪臭の発生要因であるモルタル材の多孔質内部に存在する尿素分解菌等を全て死滅させることはできないので、時間の経過に伴って、戻り臭が発生する。
【００４６】
そこで、本実施の形態では、気体のオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）、又は固体の次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）が混入された洗浄水を用いて洗浄して、大幅に尿素分解菌等を減少させた後に、さらに、可視光応答型光触媒スラリーを滴下し、光照射を行う。これによって、後述する〔実施例〕において実施例１及び実施例２として記載しているように、多孔質内部に存在する尿素分解菌等を全て死滅させることが可能になると考えられる。
【００４７】
〔実施の形態２〕
本発明の他の実施の形態について図３に基づいて説明すれば、以下のとおりである。尚、本実施の形態において説明すること以外の構成は、前記実施の形態１と同じである。また、説明の便宜上、前記の実施の形態１の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００４８】
前記実施の形態１の脱臭方法では、悪臭発生部としての多孔質の目地１２での脱臭方法について説明した。本実施の形態の脱臭方法では、悪臭発生部としての多孔質の接着剤での脱臭方法について説明する。
【００４９】
最初に、本実施の形態の脱臭方法が適用されるトイレ１Ｂの構成について図３の（ａ）（ｂ）に基づいて説明する。図３の（ａ）は、本実施の形態の脱臭方法が適用されるトイレ１Ｂの小便器３Ｂを示す側面図であり、図３の（ｂ）は、本実施の形態の脱臭方法が適用されるトイレ１Ｂの小便器３Ｂを示す平面図である。
【００５０】
本実施の形態の脱臭方法が適用されるトイレ１Ｂは、図３の（ａ）（ｂ）に示すように、壁面２に小便器３Ｂが取り付けられている。この小便器３Ｂは、床面１０に直接接触しており、小便器３Ｂと床面１０との間には、接着剤１５が塗布されている。また、床面１０には、実施の形態１と同様に、多数のタイル１１が敷設されている。そして、これらタイル１１の目地１２には多孔質材料であるモルタルが使用されている。
【００５１】
すなわち、小便器３Ｂを取り付けるときには、壁面２や床面１０への固着のために、接着剤１５が使用されることが多い。しかし、多孔質のモルタルからなる目地１２と同様に、この接着剤１５も、陶器からなるタイル１１に比べて多孔質となっている。このため、尿が飛散してこの多孔質の接着剤１５に侵入すると、洗浄水脱臭工程だけでは、飛散／滴下部１３における接着剤１５に存在する尿素分解菌等の全てを死滅させることはできない。その結果、残存する尿素分解菌等によって、戻り臭が発生する。
【００５２】
そこで、本実施の形態では、実施の形態１の説明図である図１に示すように、最初に、洗浄水脱臭工程において、接着剤１５に対して、例えば気体のオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）、又は固体の次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）等の酸化剤が混入された洗浄水を用いて脱臭を行う洗浄水脱臭工程を行う（Ｓ１）。次いで、有機汚染物質分解速度定数が一定値以上の光触媒スラリーを接着剤１５に滴下する光触媒スラリー滴下工程を行う（Ｓ２）。続いて、光触媒スラリーの滴下部に光照射処理を一定時間行う光照射工程を行う（Ｓ３）。
【００５３】
ここで、本実施の形態では、光照射処理の範囲は、図３の（ｂ）に示すように、床面１０における小便器３Ｂの周囲において、尿の飛散／滴下部１３よりも広く、かつ接着剤１５の塗布領域を含む光照射領域１４Ｂにて行う。
【００５４】
これにより、多孔質の接着剤１５に侵入している尿素分解菌等についても死滅及び除去することができる。したがって、洗浄水脱臭工程だけでは全ての尿素分解菌等が死滅しない多孔質からなる接着剤１５において、脱臭処理後の戻り臭の抑制効果が大きい。
【００５５】
〔実施の形態３〕
本発明のさらに他の実施の形態について図４に基づいて説明すれば、以下のとおりである。尚、本実施の形態において説明すること以外の構成は、前記実施の形態１及び実施の形態２と同じである。また、説明の便宜上、前記の実施の形態１及び実施の形態２の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００５６】
前記実施の形態１の脱臭方法では、悪臭発生部としての多孔質の目地１２での脱臭方法について説明した。本実施の形態の脱臭方法では、トイレ１Ａの床面１０において、小便器３Ａの直下に汚垂石１６が設置されている場合について説明する。
【００５７】
最初に、本実施の形態の脱臭方法が適用されるトイレ１Ｃの構成について図４に基づいて説明する。図４は、本実施の形態の脱臭方法が適用されるトイレ１Ｃの構成を示す平面図である。
【００５８】
本実施の形態の脱臭方法が適用されるトイレ１Ｃは、図４に示すように、壁面２に小便器３Ａが取り付けられている。小便器３Ａの下側には間隔を有して床面１０が在り、この床面１０における小便器３Ａの直下には、汚垂石１６が設置されている。また、汚垂石１６の周りには、多数のタイル１１が敷設されており、これらタイル１１の目地１２には多孔質材料であるモルタルが使用されている。
【００５９】
ここで、汚垂石１６は、小便器３Ａの直下おいて、例えば６０×５０ｃｍの１枚の石からなっている。この汚垂石１６は、一般的に、小便器３Ａの下に張る石であり、アンモニア（ＮＨ３）や酸に強い石が使用される。例えば、汚れや臭いが染み込み難い御影石が多く使用される。また、汚垂石１６には表面が防汚処理されていることが多い。
【００６０】
この汚垂石１６は、表面が防汚処理されている等のため、多孔質材料の目地１２とは異なり、尿素分解菌等が材料内部に侵入し難い。このため、汚垂石１６自体は、悪臭の要因になり難いものである。
【００６１】
そこで、本実施の形態の脱臭方法では、汚垂石１６は脱臭処理対象から除かれる。これにより、脱臭処理対象を多孔質からなるモルタル材からなる目地１２、特に汚垂石１６の周囲の目地１２に限定する。この結果、脱臭処理後の戻り臭を抑制する際に、光触媒スラリー滴下量の削減を図り、照射機構の小型化を図ることが可能になる。
【００６２】
〔実施の形態４〕
本発明のさらに他の実施の形態について図５に基づいて説明すれば、以下のとおりである。尚、本実施の形態において説明すること以外の構成は、前記実施の形態１〜実施の形態３と同じである。また、説明の便宜上、前記の実施の形態１〜実施の形態３の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００６３】
前記実施の形態１〜実施の形態３の脱臭方法では、トイレ１Ａ〜トイレ１Ｃにおいて、小便器３Ａ・３Ｂが設けられている場合について説明した。本実施の形態では、大便器３Ｃが設けられている場合について説明する。
【００６４】
最初に、本実施の形態の脱臭方法が適用されるトイレ１Ｄの構成について図４に基づいて説明する。図４は、本実施の形態の脱臭方法が適用されるトイレ１Ｄの構成を示す側面図である。
【００６５】
本実施の形態の脱臭方法が適用されるトイレ１Ｄは、図４に示すように、床面１０に大便器３Ｃが設置されている。床面１０には多数のタイル１１が敷設されており、タイル１１の目地１２には多孔質材料であるモルタルが使用されている。
【００６６】
このように、床面１０に大便器３Ｃが設置されているトイレ１Ｄにおいても、実施の形態１〜実施の形態３の小便器３Ａ・３Ｂと同様に、大便器３Ｃの直下に、尿の飛散／滴下部１３が存在し、この飛散／滴下部１３の目地１２には尿素分解菌等が多く存在し、目地１２は、悪臭の発生源になり得る。
【００６７】
そこで、本実施の形態の脱臭方法では、このような大便器３Ｃを有するトイレ１Ｄについても、実施の形態１で説明した脱臭方法が適用される。これによって、本実施の形態の脱臭方法では、小便器３Ａ・３Ｂだけでなく、大便器３Ｃについても戻り臭を改善することが可能である。
【００６８】
尚、本実施の形態では、大便器３Ｃを有するトイレ１Ｄについて、本実施の形態の脱臭方法を適用することについて説明した。しかし、本発明においては、必ずしもこれに限らず、例えば、和式の小便器、大便器についても適用が可能である。
【００６９】
さらに、実施の形態１〜３及び本実施の形態４では、家庭用トイレについての適用例について説明したが、本発明においては、駅、乗り物、ホテル、レストラン、学校、病院等の公共用トイレで発生する悪臭の脱臭方法についても適用することが可能である。また、トイレだけでなく、例えば汚水処理場、焼却場、廃棄物置き場等の悪臭の戻り臭抑制に適応可能である。
【００７０】
〔検証実験結果〕
本実施例では、実施の形態１の脱臭方法についての検証実験について説明する。
【００７１】
検証実験においては、実在する公共のトイレ等では、脱臭処理後の追加の処理を検討することが困難であるため、図６に示す簡易評価モデル３０にて、脱臭評価実験を行った。
【００７２】
上記簡易評価モデル３０は、図６に示すように、上部にガス検知管測定口３１を有する密閉容器３２内にシャーレ３３を設け、このシャーレ３３内に悪臭の発生源である目地１２を模したモルタル材の試験片３４を載置したものからなっている。
【００７３】
脱臭評価実験に用いる悪臭発生源である試験片３４の作製方法は以下の通りである。
【００７４】
まず、モルタル材からなる試験片３４を５ｇの大きさに個片化し、該個片化した試験片３４を体外に排出して間もない尿に３０分間室温環境で浸す。次いで、尿を一旦除去した後に、トイレで採取した尿素分解菌等を添加し、２時間室温環境で細菌の培養を行った。
【００７５】
そして、脱臭評価としては、以下の従来例、比較例１、実施例１、比較例２、実施例２について行った。
【００７６】
まず、従来例は、リファレンスとして未処理のものであり、洗浄水脱臭工程（Ｓ１）、光触媒スラリー滴下工程（Ｓ２）及び光照射工程（Ｓ３）の全てがないものである。
【００７７】
比較例１は、濃度２．５ｐｐｍのオゾン（Ｏ３）水を用い、試験片３４を２分間流水処理したものであり、光触媒スラリー滴下工程（Ｓ２）及び光照射工程（Ｓ３）のないものである。
【００７８】
実施例１は、比較例１と同じく、濃度２．５ｐｐｍのオゾン（Ｏ３）水で２分間流水処理した後に、光触媒スラリー滴下工程（Ｓ２）として可視光応答型光触媒材料を含むスラリーを試験片３４に滴下し、その後に光照射工程（Ｓ３）として４６０ｎｍの発光波長で発光強度が７（ｍＷ／ｃｍ２）の青色光を２時間照射したものである。
【００７９】
比較例２は、３５％過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）水を試験片３４に滴下したものであり、光触媒スラリー滴下工程（Ｓ２）及び光照射工程（Ｓ３）のないものである。
【００８０】
実施例２は、比較例２と同じく、３５％過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）水を試験片３４に滴下した後、実施例１と同じく光触媒スラリー滴下工程（Ｓ２）として可視光応答型光触媒材料を含むスラリーを試験片３４に滴下し、その後に光照射工程（Ｓ３）として４６０ｎｍの発光波長で発光強度が７（ｍＷ／ｃｍ２）の青色光を２時間照射したものである。
【００８１】
評価実験に際しては、図６に示すように、脱臭処理を行った各試験片３４をシャーレ３３上に載せ、各々容積が５Ｌの密閉容器３２内に個別に密封し、密閉容器３２内の試験片３４に培養した尿素分解菌等が２０時間の放置期間内に発生させたアンモニア（ＮＨ３）を戻り臭として評価を行った。
【００８２】
また、光触媒スラリーは、有機汚染物質分解速度定数２．０［ｈ−１］の酸化タングステン（ＷＯ３）を使用した。光触媒スラリーは、酸化タングステン（ＷＯ３）を水に懸濁したものであり、光触媒スラリーに含まれる酸化タングステン（ＷＯ３）の量は、例えば、１０重量％とした。
【００８３】
濃度測定方法としては、アンモニア（ＮＨ３）用ガス検知管を密閉容器３２のガス検知管測定口３１に接続してアンモニア（ＮＨ３）濃度の測定を行った。
【００８４】
その結果を、表１に示す。尚、表１に示す２０時間後の戻り臭評価の官能試験に関しては、試験片３４を密閉容器３２から取り出し、直後の試験片３４の臭いを嗅いだ結果を示している。
【００８５】
【表１】
2015077268.tif 000003
【００８６】
表１に示すように、比較例１のオゾン（Ｏ３）水、及び比較例２の過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）水を用いた洗浄水脱臭工程（Ｓ１）を実施することにより、従来例と比較して２０時間後の戻り臭は劇的に改善していることが分かる。しかし、光触媒スラリー滴下工程（Ｓ２）及び光照射工程（Ｓ３）を実施していないので、試験片３４自体は官能試験においてはアンモニア（ＮＨ３）臭が確認できるレベルの戻り臭が発生していることが確認された。
【００８７】
一方、実施例１及び実施例２では、オゾン（Ｏ３）水、過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）水を用いて洗浄及び脱臭した後に、可視光応答型光触媒スラリーを滴下し、光照射を行うことにより、官能試験において戻り臭の抑制ができていることが確認できた。
【００８８】
〔まとめ〕
本発明の態様１における脱臭方法は、多孔質からなる悪臭発生部（目地１２、接着剤１５）に、酸化剤が混入された洗浄水を用いて脱臭を行う洗浄水脱臭工程（Ｓ１）と、光触媒スラリーを上記悪臭発生部に滴下する光触媒スラリー滴下工程（Ｓ２）と、上記光触媒スラリーの滴下部に光照射処理を行う光照射工程（Ｓ３）とをこの順に含むことを特徴としている。
【００８９】
例えば、便器近傍においては、飛散した尿に含まれる尿素（ＣＯ（ＮＨ２）２）が飛散箇所である悪臭発生部に残っている。この悪臭発生部では、尿素分解菌等がこの尿素（ＣＯ（ＮＨ２）２）を分解してアンモニア（ＮＨ３）を発生するので、悪臭発生部は、尿素分解菌等の有機汚染物質によって、悪臭であるアンモニア（ＮＨ３）臭の発生原となっている。
【００９０】
このような悪臭発生部の悪臭を脱臭するために、一般的にはそして本発明においても、まず、悪臭発生部に、洗浄力の強い酸化剤が混入された洗浄水を用いて脱臭を行う洗浄水脱臭工程が行われる。
【００９１】
しかしながら、この洗浄水脱臭工程だけでは、多孔質からなる悪臭発生部に存在する尿素分解菌等の全てを上記の洗浄水脱臭工程では死滅させることはできない。このため、洗浄水脱臭工程による清掃後に新たな尿の供給がないときにおいても、清掃から時間が経てば残存する尿素分解菌等がこの尿素（ＣＯ（ＮＨ２）２）を再び分解して戻り臭としてのアンモニア（ＮＨ３）臭が発生するといった問題点を有している。
【００９２】
そこで、本発明では、洗浄水脱臭工程の後、例えば有機汚染物質分解速度定数が一定値である２．０［ｈ−１］以上の光触媒スラリーを上記悪臭発生部に滴下する光触媒スラリー滴下工程と、上記光触媒スラリーの滴下部に光照射処理を例えば一定時間しての２時間行う光照射工程とをこの順に行う。
【００９３】
これにより、多孔質からなる悪臭発生部では、光触媒スラリーが、光照射によって光触媒作用を発揮する。すなわち、有機汚染物質を含む悪臭発生部に、例えば気体のオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水（Ｈ２Ｏ２）素、又は固体の次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）等の酸化剤が混入された洗浄水を用いて脱臭を行うときに、環境親和性酸化剤であるオゾン（Ｏ３）若しくは過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）又は次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）の有機汚染物質分解作用を活性化するという光触媒作用を有している。このため、尿素分解菌等の分解が促進される。
【００９４】
この結果、尿素分解菌等を殆ど死滅させることができるので、洗浄水脱臭工程による清掃後に新たな尿の供給がないときにおいても、清掃から時間が経てばアンモニア（ＮＨ３）臭が再発生するということがない。
【００９５】
したがって、脱臭処理後の戻り臭を抑制し得る脱臭方法を提供することができる。
【００９６】
本発明の態様２における脱臭方法は、態様１における脱臭方法において、前記悪臭発生部（目地１２）は、多孔質からなるモルタル材から構成されるとすることができる。
【００９７】
前述したように、例えば、便器近傍においては、飛散した尿に含まれる尿素（ＣＯ（ＮＨ２）２）が飛散箇所である悪臭発生部に残っている。この悪臭発生部では、尿素分解菌等が尿素（ＣＯ（ＮＨ２）２）を分解してアンモニア（ＮＨ３）を発生する。このため、悪臭発生部は、尿素分解菌等の有機汚染物質によって、悪臭であるアンモニア（ＮＨ３）臭の発生原となっている。
【００９８】
ここで、便器近傍は、一般的に、タイルにて施工されている場合が多いが、タイルには目地が設けられており、この目地は多孔質のモルタル材からなっていることが多い。このため、尿がこの多孔質のモルタル材に飛散して該モルタル材に侵入すると、洗浄水脱臭工程だけでは、悪臭発生部に存在する尿素分解菌等の全てを死滅させることはできない。その結果、残存する尿素分解菌等によって、戻り臭が発生することが多い。
【００９９】
そこで、本発明では、多孔質のモルタル材に対して、洗浄水脱臭工程の後に、光触媒スラリーを上記悪臭発生部に滴下する光触媒スラリー滴下工程と、光触媒スラリーの滴下部に光照射処理を一定時間行う光照射工程とをこの順に行う。
【０１００】
これにより、多孔質のモルタル材に侵入している尿素分解菌等についても死滅及び除去することができる。
【０１０１】
したがって、洗浄水脱臭工程だけでは全ての尿素分解菌等が死滅しない多孔質からなるモルタル材において、脱臭処理後の戻り臭の抑制効果が大きい。
【０１０２】
本発明の態様３における脱臭方法は、態様１における脱臭方法において、前記悪臭発生部は、多孔質からなる接着剤１５から構成されるとすることができる。
【０１０３】
すなわち、便器を取り付けるときには、壁や床への固着のために、接着剤が使用されることも多い。しかし、この接着剤は、陶器からなるタイルに比べて多孔質となっている。このため、尿がこの多孔質の接着剤に飛散して該接着剤に侵入すると、洗浄水脱臭工程だけでは、悪臭発生部に存在する尿素分解菌等の全てを死滅させることはできない。その結果、残存する尿素分解菌等によって、戻り臭が発生することが多い。
【０１０４】
そこで、本発明では、洗浄水脱臭工程の後に、光触媒スラリーを上記悪臭発生部に滴下する光触媒スラリー滴下工程と、光触媒スラリーの滴下部に光照射処理を一定時間行う光照射工程とをこの順に行う。
【０１０５】
これにより、多孔質の接着剤に侵入している尿素分解菌等についても死滅及び除去することができる。
【０１０６】
したがって、洗浄水脱臭工程だけでは全ての尿素分解菌等が死滅しない多孔質からなる接着剤において、脱臭処理後の戻り臭の抑制効果が大きい。
【０１０７】
本発明の態様４における脱臭方法は、態様２における脱臭方法において、前記悪臭発生部は、汚垂石１６が敷設されている場合には、該汚垂石１６は脱臭処理対象から除かれることが好ましい。
【０１０８】
すなわち、例えば、小便器の直下には汚垂石が設置される場合がある。この汚垂石は、汚れや臭いが染み込み難いので、悪臭の要因にはなり難い。
【０１０９】
したがって、多孔質からなるモルタル材から構成される悪臭発生部を脱臭処理する場合に、汚垂石が敷設されている場合には、該汚垂石は脱臭処理対象から除かれる。
【０１１０】
これにより、脱臭処理対象を多孔質からなるモルタル材、つまり汚垂石を除く周囲の例えば目地に限定することにより、光触媒スラリー滴下量の削減を図り、照射機構の小型化を図ることが可能になる。
【０１１１】
尚、本発明は、上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１１２】
本発明は、例えば、家庭用トイレ、又は駅、乗り物、ホテル、レストラン、学校若しくは病院等の公共用トイレで発生する悪臭の脱臭に適応可能である。また、家庭用トイレ及び公共用トイレ等のトイレに限らず、例えば汚水処理場、焼却場、廃棄物置き場等の悪臭の戻り臭抑制にも適応可能である。
【符号の説明】
【０１１３】
１Ａ      トイレ
１Ｂ      トイレ
１Ｃ      トイレ
１Ｄ      トイレ
２        壁面
３Ａ      小便器
３Ｂ      小便器
３Ｃ      大便器
１０        床面
１１        タイル
１２        目地
１３        飛散／滴下部
１４Ａ      光照射領域
１４Ｂ      光照射領域
１５        接着剤
１６        汚垂石
３０        簡易評価モデル
３１        ガス検知管測定口
３２        密閉容器
３３        シャーレ
３４        試験片
【図１】
2015077268.tif 000004
【図２】
2015077268.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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