(57)【要約】      （修正有）【課題】表面保護性能と良好な遠赤外線反射性能を兼ね備えた上で、表面保護層の厚みムラによる外観悪化が抑制された多層積層体の提供。【解決手段】透明基板［Ａ］１、金属層［Ｂ］２及び表面保護層［Ｄ］５が、少なくともこの順番で積層されており、以下（１）〜（３）を満足する多層積層体。（１）表面保護層［Ｄ］５の屈折率が１．３〜２．７（２）表面保護層［Ｄ］５の膜厚が０．２〜３μｍ（３）多層積層体を表面保護層［Ｄ］５から透明基板［Ａ］１の方向に光学的に測定した表面粗さＲａ（ｏ）が、０．０２〜０．３μｍ【選択図】図１
2015171815.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板［Ａ］、金属層［Ｂ］、および表面保護層［Ｄ］が
少なくともこの順番で積層されており、
以下（１）〜（３）を満足することを特徴とする多層積層体。
（１）前記表面保護層［Ｄ］の屈折率が１．３〜２．７である。
（２）前記表面保護層［Ｄ］の膜厚が０．２μｍ〜３μｍである。
（３）多層積層体を前記表面保護層［Ｄ］から前記透明基板［Ａ］の方向に光学的に測定した表面粗さＲａ（ｏ）が、０．０２μｍ〜０．３μｍである。
【請求項２】
多層積層体を前記表面保護層［Ｄ］から前記透明基板［Ａ］の方向に物理的に測定した表面粗さＲａ（ｐ）が、０．１μｍ以下であり、かつ前記Ｒａ（ｏ）と前記Ｒａ（ｐ）の関係がＲａ（ｐ）＜Ｒａ（ｏ）である請求項１に記載の多層積層体。
【請求項３】
前記金属層［Ｂ］と前記表面保護層［Ｄ］の間に、屈折率が１．７以上である高屈折率層［Ｃ１］が積層されている請求項１または２に記載の多層積層体。
【請求項４】
前記高屈折率層［Ｃ１］が、以下（４）〜（５）を満足することを特徴とする請求項３に記載の多層積層体。
（４）前記高屈折率層［Ｃ１］に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、前記高屈折率層［Ｃ１］に含まれる錫の含有質量％が５０％以上９０％以下である。
（５）前記高屈折率層［Ｃ１］に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、前記高屈折率層［Ｃ１］に含まれる亜鉛の含有質量％が１０％以上５０％以下である。
【請求項５】
前記透明基板［Ａ］と前記金属層［Ｂ］の間に、屈折率が１．７以上である高屈折率層［Ｃ２］が積層されている請求項１〜４のいずれかに記載の多層積層体。
【請求項６】
前記高屈折率層［Ｃ２］が、以下（６）〜（７）を満足することを特徴とする請求項５に記載の多層積層体。
（６）前記高屈折率層[Ｃ２］に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、前記高屈折率層[Ｃ２］に含まれる錫の含有質量％が５０％以上９０％以下である。
（７）前記高屈折率層 [Ｃ２]に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、前記高屈折率層[Ｃ２］に含まれる亜鉛の含有質量％が１０％以上５０％以下である。
【請求項７】
前記透明基板［Ａ］と前記金属層［Ｂ］の間に、内部緩衝層［Ｅ］が積層されており、
前記内部緩衝層［Ｅ］の膜厚が０．２μｍ〜１０μｍである請求項１〜６のいずれかに記載の多層積層体。
【請求項８】
前記表面保護層［Ｄ］が架橋樹脂を主成分とし、前記架橋樹脂の中にリン酸基が含有されている請求項１〜７のいずれかに記載の多層積層体。
【請求項９】
ヘーズが１％〜３０％である請求項１〜８のいずれかに記載の多層積層体。
【請求項１０】
波長５００ｎｍ〜６００ｎｍにおける各波長の光の透過率で最大のものと、波長５００ｎｍ〜６００ｎｍにおける各波長の光の透過率で最小のものとの差が、１０％以下である請求項１〜９のいずれかに記載の多層積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多層積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から窓などを通過する赤外線を制御することで温調や保冷に必要なエネルギーを低減するものとして、可視光を透過する基材に、金、銀、銅等からなる金属薄膜層および酸化チタンやＩＴＯ、酸化亜鉛などの金属酸化物層等からなる赤外線反射層を積層したフィルム（特許文献１、特許文献２参照）やガラスなどの多層積層体が知られている。これらの多層積層体は、可視光線の透過性を有しながら、近赤外線を反射する特性を備えている。このような特性を活かし、建物や乗り物の窓から入ってくる太陽エネルギーを遮断して冷房効果の向上を図ったり、冷凍冷蔵ショーケースにおいて保冷効果の向上を図ったりする用途に利用されている。
【０００３】
また、特許文献１や特許文献２において、赤外線反射層を物理的に保護する手段としてポリメタアクリル酸メチルなどのアクリル系樹脂、エチルシリケートより得られる重合体などのケイ素樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂などからなる表面保護層が記載されている。また、上記表面保護層以外にもポリオレフィン系樹脂からなるものも知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特公昭５８−０１０２２８号公報
【特許文献２】特開２００１−３１０４０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
耐キズ性に優れるアクリル系樹脂等からなる表面保護層は、厚いほど赤外線反射層の保護性能に優れたものとなる。また、表面保護層は、可視光〜近赤外線領域の光の吸収の程度は小さく上記の領域の光の透過性に優れる。しかし、その一方で、遠赤外線領域の光の吸収の程度は大きい。本来、遠赤外線領域の光は、特許文献１や特許文献２に記載されているような多層積層体における赤外線反射層で反射される必要があるが、遠赤外線が表面保護層や基板などを透過する際に吸収が起こり多層積層体の遠赤外線反射性能が大幅に低下する。また、遠赤外線反射性能の低下の程度は、遠赤外線が通過する表面保護層や基板などが厚くなるほど顕著になる。そこで、遠赤外線反射性能を高めるためには、遠赤外線反射層の表面側に設ける層の膜厚を薄くして、遠赤外線の吸収量を抑制することが考えられる。
【０００６】
しかし、表面保護層の膜厚を、優れた保護性を担保しつつ遠赤外線の吸収量を十分に抑制できる厚さとすると、表面保護層のわずかな厚みムラが色調変化として顕著に観察されることになり多層積層体の外観が悪化するとの課題が生じることを本発明者は見出した。
【０００７】
そこで、本発明は、上記の課題を解決するために、表面保護性能と良好な遠赤外線反射性能を兼ね備えた上で、表面保護層の厚みムラによる外観悪化が抑制された多層積層体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、透明基板［Ａ］、金属層［Ｂ］、表面保護層［Ｄ］が少なくともこの順番で積層されており、以下（１）〜（３）を満足することを特徴とする多層積層体である。（１）前記表面保護層［Ｄ］の屈折率が１．３〜２．７である。（２）前記表面保護層［Ｄ］の膜厚が０．２μｍ〜３μｍである。（３）多層積層体を前記表面保護層［Ｄ］から前記透明基板［Ａ］の方向に光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）が、０．０２μｍ〜０．３μｍである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、良好な表面保護性能および良好な遠赤外線反射性能を有するとともに、表面保護層の厚みムラによる外観悪化が抑制された多層積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施例１の多層積層体の断面の模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の多層積層体は、透明基板［Ａ］、金属層［Ｂ］、表面保護層［Ｄ］が少なくともこの順番で積層されてなり、前記表面保護層［Ｄ］の膜厚が０．２μｍ〜３μｍであり、前記多層積層体を表面保護層［Ｄ］から透明基板［Ａ］の方向から光学的に測定した表面粗さＲａ（ｏ）が、０．０２μｍ〜０．３μｍであるものである。
【００１２】
本発明の多層積層体における表面保護層［Ｄ］の膜厚は０．２μｍ〜３μｍであり、これにより、本発明の多層積層体は表面保護性能および遠赤外線反射性能に優れたものとなる。しかし、一方で、詳細は後述するが、上記構成をとる多層積層体においては、表面保護層［Ｄ］の屈折率と大気や多層積層体を構成する他の層の屈折率との差によって、表面保護層［Ｄ］のわずかな厚みムラが色調変化として顕著に観察されることにより外観が悪化する。そこで、本発明者は、鋭意検討を行い、上記の膜厚の表面保護層［Ｄ］を有する多層構造体であっても、上記の多層積層体を表面保護層［Ｄ］から透明基板［Ａ］の方向に光学的に測定した表面粗さＲａ（ｏ）が、０．０２μｍ〜０．３μｍの多層積層体とすることで、良好な表面保護性能および良好な遠赤外線反射性能を有するとともに、表面保護層［Ｄ］の厚みムラによる外観悪化が抑制された本発明の多層積層体に到った。
【００１３】
以下に本発明における各層の構成を説明する。
【００１４】
［透明基板］
本発明に用いる透明基板［Ａ］としては、特に限定はされないが、可視光線を透過するガラスなどの透明な金属酸化物や透明樹脂からなるものを用いることが出来る。連続加工や取り扱いを容易とするために、可撓性を有する透明樹脂フィルムであることがより好ましい。透明樹脂フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン−２，６−ナフタレートに代表される芳香族ポリエステル、ナイロン６やナイロン６６に代表される脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド；ポリエチレンやポリプロピレンに代表されるポリオレフィン、ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレートフィルムなどに代表されるアクリル等が例示される。これらの中で、コストや取り扱いの容易さ、積層体を加工する際に受ける熱に対する耐熱性といった面で、芳香族ポリエステルが好ましく、中でもポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。また、機械強度を高めた二軸延伸フィルムが好ましく、特に二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。取り扱いの容易さや、加工単位の長尺化による生産性向上といった点からは、フィルムの厚みは５μｍ〜２５０μｍの範囲が好ましく、下限は１５μｍ以上であることがより好ましく、上限は１５０μｍ以下であることがより好ましい。
【００１５】
また、透明樹脂フィルム中には、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、有機の易滑剤、顔料、染料、有機又は無機の微粒子、充填剤、耐電防止剤、核剤などが、その特性を悪化させない程度に添加されていても良い。
【００１６】
透明樹脂フィルムの接着性を改善するために、基板表面にポリエステル樹脂、アクリル樹脂やウレタン樹脂などからなる接着性向上層が設けられていることは好ましい。接着性をさらに改善するために、接着性向上層にメラミン架橋剤などを添加することは好ましい。接着性向上層の厚みは、特に限定されないが、通常は０．０１μｍ〜５μｍの範囲が好ましい。その下限は０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０５μｍ以上がさらに好ましい。一方、その上限は２μｍ以下がより好ましく、０．５μｍ以下がさらに好ましい。接着性向上層の厚みが薄すぎると接着性不良となる場合がある。
【００１７】
［金属層］
本発明に用いる金属層［Ｂ］には、良好な遠赤外線反射性能を得るために、優れた導電性を示す金属を用いることができ、そのような金属としてＡｌ、ＡｕやＡｇ等が挙げられる。中でも、可視光域の吸収が少なく、非常に優れた導電性を示すＡｇが含有されていることは好ましく、金属層［Ｂ］のＡｇ含有量は、金属層［Ｂ］を構成する全成分を１００ｗｔ％とした場合に、８０ｗｔ％〜１００ｗｔ％であることはより好ましく、下限は９０ｗｔ％以上であることがより好ましい。Ａｇが硫黄や酸素などと反応して劣化することを抑えたり、凝集などにより欠点が発生するのを防いだりするため、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｂｉ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｙ、Ｅｕ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｃａ、Ｂｅ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｃｒ、ＣｏおよびＮｉなどから選ばれる１種以上の金属とＡｇとの合金として用いることは好ましい。
【００１８】
金属層［Ｂ］の膜厚は、５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることはさらに好ましい。金属層［Ｂ］の膜厚を５ｎｍ以上とすることで、金属層［Ｂ］の厚みムラが抑制され、金属層［Ｂ］は安定した遠赤外線反射性能を発揮することができる。一方、金属層［Ｂ］の膜厚は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、２５ｎｍ以下であることはさらに好ましい。金属層［Ｂ］の膜厚を３０ｎｍ以下とすることで、多層積層体の可視光透過性能をさらに向上させることができる。
【００１９】
また、金属層［Ｂ］の製膜方法としては、各種金属や合金のターゲットを用いて、スパッタリングプロセスにより薄膜を得る方法、蒸着プロセスにより抵抗加熱、電子ビーム、レーザ、高周波誘導加熱、アークなどの方法で気化させた各種金属や合金を堆積させることによって薄膜を得る方法などが挙げられる。中でも、膜厚や膜質の制御に優れ、良好な膜密着性が得られるという観点から、スパッタリングプロセスにより薄膜を得る方法が好ましい。
【００２０】
また、金属層［Ｂ］を腐食や酸化から保護する観点から、金属層［Ｂ］の片面もしくは両面を被覆するように、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｔｂなどから選ばれた金属やその混合物からなる金属薄層［Ｂ２］をさらに設けることが好ましい。金属層［Ｂ］を腐食や酸化から十分に保護するためには、上記金属薄層［Ｂ２］の膜厚は０．５ｎｍ以上であることが好ましい。また、良好な可視光透過性能を得るためには、上記金属薄層［Ｂ２］の膜厚は１０ｎｍ以下であることが好ましい。保護性能と可視光透過性能を両立するためには、上記金属薄層［Ｂ２］の膜厚が１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。上記金属薄層［Ｂ２］は、金属層［Ｂ］を腐食から保護するために設ける保護層であり、遠赤外線反射性能などの特性に対する影響は小さい。したがって、遠赤外線反射性能などの特性に対して金属層［Ｂ］の厚みを考慮する際には、金属薄層［Ｂ２］は除外して考える。
【００２１】
［高屈折率層］
本発明の多層積層体において、金属層［Ｂ］と表面保護層［Ｄ］との間に、屈折率が１．７以上である高屈折率層［Ｃ１］が積層されていることは、金属層［Ｂ］と表面保護層［Ｄ］との界面における可視光線反射を抑制することが出来るために好ましい。
【００２２】
また、本発明の多層積層体において、透明基板［Ａ］と金属層［Ｂ］との間に、屈折率が１．７以上である高屈折率層［Ｃ２］が積層されていることは、透明基板［Ａ］と金属層［Ｂ］との界面における可視光線反射を抑制することが出来るために好ましい。
【００２３】
高屈折率層［Ｃ１］  や［Ｃ２］の材料としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化亜鉛、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化錫および酸化ビスマスといった酸化物、および、窒化ケイ素などの窒化物、ならびにそれらの混合物やそれらにアルミや銅などの金属や炭素を含有ドープしたものなどから、適宜選択して用いることができ、また、上記の材料を複数組み合わせて用いることもできる。高屈折率層［Ｃ１］や［Ｃ２］の屈折率および厚みによって、多層積層体の界面反射や反射光や透過光の色調を調整することが可能となる。高屈折率層［Ｃ１］や［Ｃ２］の屈折率が高いほど、薄い膜厚で大きな効果を得ることが出来るため、屈折率が１．７以上であることが好ましく、１．９以上であることはより好ましい。高屈折率層［Ｃ１］や［Ｃ２］は、各種金属や合金、それらの酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、亜酸窒化物などのターゲットを用いて、必要に応じて酸素や窒素などのガスと反応させるスパッタリングプロセスにより薄膜を得る方法、気化させた有機金属化合物と酸素や窒素などのガスをプラズマ等で反応させるＣＶＤプロセスによって薄膜を得る方法、溶剤に希釈した有機金属化合物を乾燥・硬化させるウエットコーティングプロセスによって薄膜を得る方法などにより製膜することができる。金属層［Ｂ］をスパッタリングプロセスで製膜する場合においては、高屈折率層［Ｃ１］や［Ｃ２］もスパッタリングプロセスで製膜することが、金属層［Ｂ］と連続して製膜するのに有利であるために好ましい。
【００２４】
多層積層体全体の可視光透過性能および赤外線反射性能を制御するためには、例えば、（高屈折率層）ｍ（／金属層／高屈折率層）ｎのように高屈折率層と金属層が連続して積層されているものが挙げられる（ここで、ｍは０または１であり、かつｎは１以上である。）。ここで、繰り返し構造であるｎの数や、高屈折率層や金属層の屈折率や膜厚を調整することは、多層積層体の可視光透過率や赤外線反射性能を調整ための有効な手段である。
【００２５】
また、本発明の多層積層体が有する（／金属層／高屈折率層）の数「ｎ」は、１以上であれば赤外線反射性能および可視光透過性能に優れた多層積層体を得ることができる。さらに、（／金属層／高屈折率層）の数「ｎ」を２以上とすることが赤外線反射性能および可視光透過性能をさらに向上することができるため好ましい。また、（／金属層／高屈折率層）の数「ｎ」の上限については特に限定はないが、製造工程の煩雑さと得られる赤外線反射性能および可視光透過性能とのバランスの観点から３以下が好ましい。赤外線反射性能および可視光透過性能の向上と積層フィルムの取り扱い性のバランスの観点から、（／金属層／高屈折率層）の数「ｎ」が２であることが特に好ましい。
【００２６】
また、多層積層体をより耐候性に優れたものとするためには、高屈折率層[Ｃ１]が、それと隣接しうる金属層［Ｂ］、または、表面保護層［Ｄ］と、強固に密着していることが好ましい。ここで、例えば、特許文献３（特表２００２−５３９００４）では、ポリマー基板と透明金属酸化物層の密着性向上を図るために、ポリマー基板と透明金属酸化物層との間にアルミニウムや銀などの金属層を密着力向上層として設ける技術が示されているが、上記の金属層は可視光線を反射・吸収してしまうために、可視光透過性能が低下するとの課題がある。そこで、本発明者は、高屈折率層[Ｃ１]に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、高屈折率層[Ｃ１]およびに含まれる錫の含有質量％を５０％以上９０％以下とし、かつ、高屈折率層[Ｃ１]に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、高屈折率層[Ｃ１]に含まれる亜鉛の含有質量％を１０％以上５０％以下とし、さらに、高屈折率層[Ｃ１]を、それに隣接しうる金属層［Ｂ］、または、表面保護層［Ｄ］に直接接するものとすることで、多層積層基板の可視光透過性を低下させずに、高屈折率層[Ｃ１]とそれに隣接しうる層との密着性を向上させることができることを見出した。上記の構成により層間の密着力が向上する原因は定かではないが、高屈折率層[Ｃ１]の組成を上記のものとすることで、製膜時に高屈折率層[Ｃ１]に生じる歪や、それに隣接しうる層に与えるダメージが少なくなるためではないかと推測される。
【００２７】
また、多層積層体をより耐候性に優れたものとするためには、高屈折率層[Ｃ２]が、それと隣接しうる透明基板[Ａ]、金属層［Ｂ］、または、内部緩衝層［Ｅ］と、強固に密着していることが好ましい。そこで、本発明者は、高屈折率層[Ｃ２]に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、高屈折率層[Ｃ２]に含まれる錫の含有質量％が５０％以上９０％以下とし、かつ、高屈折率層[Ｃ２]に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、高屈折率層[Ｃ２]に含まれる亜鉛の含有質量％が１０％以上５０％以下とし、さらに、高屈折率層[Ｃ２]を、それに隣接しうる透明基板[Ａ]、金属層［Ｂ］、または、内部緩衝層［Ｅ］に直接接するものとすることで、多層積層基板の可視光透過性を低下させずに、高屈折率層[Ｃ２]それに隣接しうる層との密着性を向上させることができることを見出した。上記の構成により層間の密着力が向上する原因は定かではないが、高屈折率層[Ｃ２]の組成を上記のものとすることで、製膜時に高屈折率層 [Ｃ２]に生じる歪や、それに隣接しうる透明基板[Ａ]、金属層［Ｂ］、または、内部緩衝層［Ｅ］に与えるダメージが少なくなるためではないかと考えている。また、金属層［Ｂ］の製膜時にも、金属層［Ｂ］に生じる歪を抑制するとともに、高屈折率層[Ｃ２]に与えるダメージが少なくなるためではないかと推測される。
【００２８】
なお、本発明において、金属元素、半金属元素および半導体元素とは、Ｈ、Ｈｅ、Ｎ、Ｏ、Ｆ、Ｎｅ、Ｓ、Ｃｌ、Ａｒ、Ａｓ、Ｂｒ、Ｋｒ、Ｉ、Ｘｅ、Ａｔ、Ｒｎを除いたものである。
【００２９】
［表面保護層］
本発明の多層積層体における表面保護層［Ｄ］は、透明基板［Ａ］や金属層［Ｂ］など多層積層体の構成に応じて、多層積層体を構成する各層や、層間の界面への応力集中を防ぐために設ける。また、多層積層体の遠赤外線反射性能ならびに可視光透過性能、多層積層体を構成する各層の層間密着性、および、表面保護層［Ｄ］自体の耐キズ性、耐湿熱性ならびに耐候性等の各種特性に対する要求に適応するように、下記の成分を適宜選択して表面保護層［Ｄ］を形成することができる。表面保護層［Ｄ］は、特に限定はされないが、金属や酸素、炭素などを主成分とする無機系ハードコート、ポリプロピレンやポリノルボルネンなどの遠赤外線の吸収が小さいポリオレフィン系樹脂やポリアクリロニトリル系樹脂を主成分とする表面保護膜、架橋性樹脂を主成分とする有機系ハードコート、、そして有機系ハードコートに無機微粒子を分散したものや、無機系ハードコートの有機変性物を用いたもの、それらの中から２種類以上を混合して用いるハイブリッド系保護膜などから適宜選択して用いることができる。  例えば、表面保護層［Ｄ］が、アクリル系、ウレタン系、メラミン系などの架橋性樹脂を主成分とする有機系ハードコートであることは、主鎖や側鎖の種類や量、含有官能基や含有粒子の種類や量によって、膜特性を比較的容易に調整することが出来るために好ましい。
【００３０】
有機系表面保護層を得る方法としては、（メタ）アクリレートを主成分とする樹脂組成物を溶剤に希釈した塗液を乾燥・硬化して得る方法などが挙げられる。
【００３１】
有機系ハードコートが（メタ）アクリレートを架橋して得られるアクリル系の架橋樹脂であることは、光重合開始剤などを配合することによって、紫外線などのエネルギー線にて表面保護層の硬化を制御することができ、表面保護層の硬化による物性制御が容易になるため好ましい。（メタ）アクリレートの例としては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、イソシアヌレートジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、各種ウレタンアクリレートやメラミンアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、１．４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、１．６−ヘキサンジオールジメタクレート、１．９−ノナンジオールジメタクリレート、１．１０−デカンジオールジメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートやエトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレートなどが挙げられる。一般的に官能基数の多いアクリレートを用いるほど表面保護層の表面硬度が高くなる。これらは単独で使用しても良いが、２種以上の多官能（メタ）アクリレートや低官能基数の不飽和基を持つ樹脂を併用して、表面保護層［Ｄ］の特性を調整することもできる。（メタ）アクリレートは、モノマーで用いてもプレポリマーで用いてもよく、複数種類のモノマーやプレポリマーを混合して使用してもよい。
【００３２】
有機系表面保護層の収縮、表面硬度、光学特性や表面形状を改質するために、無機または有機の粒子またはそれらを組み合わせて、１種または２種以上の粒子を組み合わせて用いることができる。例えば、無機粒子として、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）酸化セリウムなどを使用することができる。有機微粒子として、粒子内部架橋タイプのスチレン系樹脂、スチレン−アクリル系共重合樹脂、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、スチレン−イソプレン系樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂などを使用することができる。粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、不定形状などがあり、必要特性に合わせて適宜選択することができる。さらに、これらの粒子表面に官能基を導入するような表面処理を行なうことで、架橋性樹脂と粒子表面の間に架橋反応が起こることで、表面保護層［Ｄ］の特性を改質することができる。官能基を導入する表面処理としては、例えば、重合性不飽和基を含む有機化合物を粒子と結合させることができる。重合性不飽和基としては、特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基およびアクリルアミド基を挙げることができる。
【００３３】
使用する粒子の大きさは、必要とする特性に合わせて適宜選択することが出来る。例えば、粒子径が大きくなると、体積あたりの表面積が小さくなるため界面効果が小さくなるとともに、塗膜表面に凹凸が生じやすくなり、光の散乱効果が大きくなる。表面保護層［Ｄ］の透明性を高くするためや、平滑性を高めるためには、使用する粒子の平均一次粒子径が１００ｎｍ以下であることは好ましく、５０ｎｍ以下であることはさらに好ましい。一方、表面保護層［Ｄ］に光の散乱効果を付与するためや、表面凹凸を付与するためには、使用する粒子の平均一次粒子径が０．１μｍ〜１０μｍであることは好ましく、下限は０．２μｍ以上がより好ましく、上限は５μｍ以下であることがより好ましい。光の散乱効果が大きな粒子の濃度を低くする際に、特に観察されやすい現象としては、粒子の多い部分と粒子の少ない部分に分かれて粒子の分散状態が不均一化して外観が悪化する現象がある。その現象を防ぐためには、例えば、平均一次粒子径が０．２μｍ〜５μｍである粒子と平均一次粒子径が１００ｎｍ以下である粒子とを混合して用いるなど、平均一次粒子径の大きな粒子と粒子径の小さな粒子を混合して用いることで、総粒子濃度を高く保つことは好ましい。
【００３４】
表面保護層［Ｄ］が、架橋性樹脂を主成分とする有機系ハードコートである場合、架橋樹脂中にリン酸基が含有されていることは、表面保護層［Ｄ］と、金属層［Ｂ］または高屈折率層［Ｃ１］との密着性が良好であることから好ましい。
【００３５】
架橋樹脂にリン酸基を導入する方法としては、リン酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を、（メタ）アクリレートや重合開始剤などと混合し、熱や紫外線（以降、ＵＶと略記することもある）などの電磁波を照射することによって架橋を形成する方法などが挙げられる。
【００３６】
このような、リン酸基を有す（メタ）アクリル酸誘導体の例としては、りん酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）リン酸エステルなどが挙げられる。これらは単独で使用しても良いが、２種以上を混合することでリン酸基の効果と架橋樹脂の特性を調整して使用してもよい。
【００３７】
架橋樹脂中にリン酸基が含有されている表面保護層［Ｄ］は、
（Ｄｉ）前記リン酸基が含有されている架橋樹脂からなる単層構成、
（Ｄｉｉ）前記リン酸基が含有されている架橋樹脂からなる層、および、前記リン酸基が含有されている架橋樹脂とリン酸含有量が異なる層、前記リン酸基が含有されている架橋樹脂と組成が異なる架橋樹脂からなる層もしくは前記リン酸基が含有されている架橋樹脂とリン酸含有量および組成が異なる架橋樹脂からなる層からなる群より選ばれる１以上の層との多層構成、
（Ｄｉｉｉ）前記リン酸基が含有されている架橋樹脂と、前記リン酸基が含有されている架橋樹脂とリン酸含有量が異なる架橋樹脂、前記リン酸基が含有されている架橋樹脂と組成が異なる架橋樹脂もしくは前記リン酸基が含有されている架橋樹脂とリン酸含有量および組成が異なる架橋樹脂からなる群より選ばれる１以上の架橋樹脂とからなる層であって、リン酸含有量および／または架橋樹脂組成が厚み方向に連続的に変化している傾斜構成、
のいずれの構成であっても良い。（Ｄｉｉ）多層構成または（Ｄｉｉｉ）傾斜構成を採る場合は、金属層［Ｂ］もしくは高屈折率層［Ｃ１］と接する層（多層構成の場合）または、金属層［Ｂ］もしくは高屈折率層［Ｃ１］と接する領域（傾斜構成の場合）に前記リン酸基が含有されている架橋樹脂を含むものである。
【００３８】
表面保護層［Ｄ］におけるリン酸基の含有量は、多層積層体全体の構成や要求特性に応じて調整するものであるが、リン酸基含有量が少ないと密着性向上効果が小さくなる一方、リン酸基含有量が過剰になると、表面保護層［Ｄ］において、硬度低下や耐湿熱環境における耐久性低下などの物性変化を伴うことになる。
【００３９】
例えば、リン酸基の含有量の指標としては、セクター磁場型二次イオン質量分析装置にて得たリンに帰属される信号の強度を炭素に帰属される信号の強度で除して算出される規格化強度値を用いることができる。セクター磁場型二次イオン質量分析装置を用いた測定では、厚み方向のリンおよび炭素に帰属される信号の強度プロファイル（Ｐ［３１（Ｐ）］プロファイル，Ｃ［１３（Ｃ）］プロファイル）を得ることができる。かかるデータから着目する位置における各信号強度値を取得し、その位置での規格化強度値［Ｐ／Ｃ］を得る。（Ｄｉ）単層構成の場合、表面保護層［Ｄ］の中心部±５０ｎｍの範囲における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］の平均が、０．０１〜３０となる範囲であることが好ましく、下限は０．１以上であることがより好ましく、上限は１０以下であることがより好ましい。（Ｄｉｉ）多層構成または（Ｄｉｉｉ）傾斜構成の場合は、金属層［Ｂ］もしくは高屈折率層［Ｃ１］との境界から０〜２００ｎｍの範囲の領域を領域［Ｄ１］とし、領域［Ｄ１］の中心部±２０ｎｍの範囲における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］の平均を領域［Ｄ１］の規格化強度値  ［Ｐ／Ｃ］（Ｄ１）とすると、［Ｐ／Ｃ］（Ｄ１）が０．０１〜３０の範囲であることが好ましく、下限は０．１以上であることがより好ましく、上限は１０以下であることがより好ましい。
【００４０】
また、表面保護層［Ｄ］が（Ｄｉｉ）多層構成または（Ｄｉｉｉ）傾斜構成を採る場合は、表面保護層［Ｄ］において、金属層［Ｂ］もしくは高屈折率層［Ｃ１］の反対側（多層積層体の表面側）に位置する面から０〜２００ｎｍの範囲の領域を領域［Ｄ２］とし、透明基板［Ａ］側の界面から１００ｎｍの位置を中心に±２０ｎｍの範囲における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］の平均を領域［Ｄ２］の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｄ２）とすると、領域［Ｄ２］の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｄ２）は、領域［Ｄ１］の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｄ１）の１０％以下であることが好ましい。すなわち、領域［Ｄ２］のリン酸基含有量が、領域［Ｄ１］のリン酸基含有量と比較して、大幅に小さいことが好ましい。さらには、領域［Ｄ２］は、リン酸基を含まないことがより好ましい。この原因は、明確ではないが、金属層［Ｂ］もしくは高屈折率層［Ｃ１］との境界領域である領域［Ｄ１］に存在するリン酸基は、表面保護層［Ｄ］と金属層［Ｂ］もしくは高屈折率層［Ｃ２］との親和性向上に寄与するが、それ以外の領域に存在するリン酸基は、親和性向上に寄与せず、過剰に存在すると、むしろ表面保護層［Ｄ］自体の物性を低下させるためではないかと推測する。
【００４１】
したがって、表面保護層［Ｄ］が（Ｄｉｉ）多層構成または（Ｄｉｉｉ）傾斜構成の場合は、領域［Ｄ１］以外の領域には、前記リン酸基を含まないか、架橋樹脂自体の物性を低下させない含有量であることが好ましい。前記極性基を含まない領域の厚みが、表面保護層［Ｄ］の厚みの２０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。
【００４２】
また、例えば、表面保護層［Ｄ］が、シリカ、アルミナ、ジルコニアやＤＬＣなどの金属や酸素、炭素などを主成分とする無機系ハードコートであることは、金属層［Ｂ］や高屈折率層［Ｃ１］との親和性が良好であり、スパッタ等のドライコーティングプロセスで連続して加工することが可能であるなどプロセス適合性が高いことから好ましい。表面保護層［Ｄ］が無機系ハードコートである場合、緻密な膜を得やすいことから、高硬度が得易いなどの長所を有する一方、製膜速度が遅いことから厚膜化が困難であり、製膜時に発生する収縮応力によって多層積層体が受ける歪が大きくなり易いなどの制約が生じる場合がある。無機系ハードコートを得る方法の例としては、各種金属や合金、それらの酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、亜酸窒化物などのターゲットを用いて、必要に応じて酸素や窒素などのガスと反応させるスパッタリングプロセスによりハードコート層を得る方法などが挙げられる。
【００４３】
表面保護層［Ｄ］としては、上述した有機系ハードコートと無機系ハードコートの長所を兼ね備えるものとして、有機−無機ハイブリッド系ハードコートを用いることもできる。有機−無機ハイブリッド系ハードコートを得る方法の例としては、アルキルシリケートやアルキルチタネートなどの有機金属化合物を原料として、気化させた有機金属化合物と酸素や窒素などのガスをプラズマ等で反応させるＣＶＤプロセスによってハードコート層を得る方法、溶剤に希釈した有機金属化合物を乾燥・硬化させるウエットコーティングプロセスによってハードコート層を得る方法などがある。
【００４４】
表面保護層［Ｄ］の膜厚は、薄すぎると傷つき易くなるなど多層積層体の表面を保護する役割を果たすことが難しくなる。一方、膜厚が厚くなりすぎるとハードコート層による遠赤外線の吸収が大きくなるために遠赤外線反射性能が低下するのは上記のとおりである。以上のことから、表面保護層［Ｄ］の膜厚は、０．２μｍ〜３μｍの範囲に調整する必要がある。その下限は０．３μｍ以上であることが好ましく、その上限は２μｍ以下であることは好ましく、１．５μｍ以下であることはさらに好ましい。表面保護層［Ｄ］が、架橋性樹脂を主成分とする有機系ハードコートである場合、ハードコート膜の柔軟性が高まり変形に対する追従性が良好になるが、膜硬度は低下するため、表面保護層［Ｄ］の膜厚は０．２μｍ以上に調整する必要があり、０．５μｍ以上とすることはより好ましい。
【００４５】
以上のようにして得られる各種表面保護層［Ｄ］の屈折率は１．３〜２．７の範囲となり、多層積層体全体の光学特性や光学設計に対して大きく影響を及ぼすものである。具体的には、詳細は後述するが、上記の屈折率を有し、かつ上記の膜厚の表面保護層を有する多層積層体は、前記表面保護層のわずかな厚みムラが色調変化として顕著に観察されることにより外観を良好に保つのが困難となる。
【００４６】
［内部緩衝層］
本発明の多層積層体においては、多層積層体の有する各層の内部や層間の界面に応力が集中し破損するのを防ぎ、内部緩衝層［Ｅ］の表面形状により多層積層体の光学特性を改善することができる等の観点から、透明基板［Ａ］と金属層［Ｂ］との間に、内部緩衝層［Ｅ］を設けることが好ましい。内部緩衝層［Ｅ］の厚みは、０．２μｍ〜１０μｍの範囲で、多層積層体の構成や各層の組成、多層積層体の用途によって適宜選択することが出来る。
【００４７】
内部緩衝層［Ｅ］の材料は、透明基板［Ａ］、金属層［Ｂ］、表面保護層［Ｄ］、高屈折率層［Ｃ１］および高屈折率層［Ｃ２］との組み合わせに応じて、多層積層体の有する各層の内部や層間の界面への応力集中を防ぐためや、多層積層体の遠赤外線反射性能もしくは可視光透過性能、または、金属層［Ｂ］や高屈折率層［Ｃ２］と内部緩衝層［Ｅ］との密着力などの観点から適宜選ぶことができる。そして、密着性、耐キズ性、耐湿熱性または耐候性などの各特性に対する要求に適応するように、架橋性樹脂を主成分とする有機系膜、金属や酸素、炭素などを主成分とする無機系膜、そして有機系膜に無機微粒子を分散したものや、無機系膜素材の有機変性物を用いたもの、あるいはそれらを混合して用いたものなどの有機−無機ハイブリッド系膜などから適宜選択して用いることができる。
【００４８】
例えば、内部緩衝層［Ｅ］が、アクリル系、ウレタン系、メラミン系などの架橋性樹脂を主成分とする有機系膜であることは、主鎖や側鎖の種類や量、含有官能基や含有粒子の種類や量によって、膜特性を比較的容易に調整することが出来るために好ましい。有機系ハードコートを得る方法としては、（メタ）アクリレートを主成分とする樹脂組成物を溶剤に希釈した塗液を乾燥・硬化して得る方法などが挙げられる。
【００４９】
有機系膜が（メタ）アクリレートを架橋して得られるアクリル系の架橋樹脂であることは、光重合開始剤などを配合することによって、紫外線などのエネルギー線にて有機系膜の硬化を制御することができ、有機系膜の硬化による物性制御が容易になるため好ましい。（メタ）アクリレートの例としては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、イソシアヌレートジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、各種ウレタンアクリレートやメラミンアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、１．４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、１．６−ヘキサンジオールジメタクレート、１．９−ノナンジオールジメタクリレート、１．１０−デカンジオールジメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートやエトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレートなどが挙げられる。一般的に官能基数の多いアクリレートを用いるほど有機系膜の表面硬度が高くなる。これらは単独で使用しても良いが、２種以上の多官能（メタ）アクリレートや低官能基数の不飽和基を持つ樹脂を併用して、有機系膜の特性を調整することもできる。（メタ）アクリレートは、モノマーで用いてもプレポリマーで用いてもよく、複数種類のモノマーやプレポリマーを混合して使用してもよい。また、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂およびシリコーン樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種類を内部緩衝層［Ｅ］に添加することにより内部緩衝層［Ｅ］を改質することは、金属層や高屈折率層と内部緩衝層［Ｅ］との密着性が向上するために好ましい。特に、内部緩衝層［Ｅ］としてアクリル系の架橋樹脂を用いる際に、添加樹脂としてシリコーン樹脂を用いることは、上記の架橋樹脂やその溶媒と添加樹脂との相溶性に優れることから好ましい。添加量は多層積層体全体の組み合わせによる各物性や耐久性によって適宜選択するものであるが、十分な改質効果を得るとともに、内部緩衝層［Ｅ］の物性に及ぼす悪影響を抑えるためには、内部緩衝層［Ｅ］１００質量％に対し、添加樹脂を０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で添加することが好ましく、その上限は、１５質量％以下であることがより好ましい。
【００５０】
有機系膜の収縮、表面硬度、光学特性や表面形状を改質する他の方法として、無機または有機の粒子またはそれらを組み合わせて、１種または２種以上の粒子を組み合わせて用いることができる。例えば、無機粒子として、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）酸化セリウムなどを使用することができる。有機微粒子として、粒子内部架橋タイプのスチレン系樹脂、スチレン−アクリル系共重合樹脂、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、スチレン−イソプレン系樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂などを使用することができる。粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、不定形状などがあり、必要特性に合わせて適宜選択することができる。さらに、これらの粒子表面に官能基を導入するような表面処理を行なうことで、架橋性樹脂と粒子表面の間に架橋反応が起こることで、内部緩衝層［Ｅ］の特性を改質することができる。官能基を導入する表面処理としては、例えば、重合性不飽和基を含む有機化合物を粒子と結合させることができる。重合性不飽和基としては、特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基およびアクリルアミド基を挙げることができる。
【００５１】
使用する粒子の大きさは、必要とする特性に合わせて適宜選択することが出来る。例えば、粒子径が大きくなると、体積あたりの表面積が小さくなるため界面効果が小さくなるとともに、内部緩衝層［Ｅ］に凹凸が生じやすくなったり、光の散乱効果が大きくなる。内部緩衝層［Ｅ］の透明性を高くするためや、平滑性を高めるためには、使用する粒子の平均一次粒子径が１００ｎｍ以下であることは好ましく、５０ｎｍ以下であることはさらに好ましい。一方、内部緩衝層［Ｅ］に光の散乱効果を付与するためや、凹凸を付与するためには、使用する粒子の平均一次粒子径が０．１μｍ〜１０μｍであることは好ましく、下限は０．２μｍ以上がより好ましく、上限は５μｍ以下であることがより好ましい。光の散乱効果が大きな粒子の濃度を低くする際に、特に観察されやすい現象としては、粒子の多い部分と粒子の少ない部分とに分かれて粒子の分散状態が不均一化して外観が悪化する現象がある。その現象を防ぐためには、例えば、平均一次粒子径が０．２μｍ〜５μｍである粒子と平均一次粒子径が１００ｎｍ以下である粒子とを混合して用いるなど、平均一次粒子径の大きな粒子と粒子径の小さな粒子を混合して用いることで、総粒子濃度を高く保つことは好ましい。
【００５２】
架橋樹脂を主成分とする有機系膜である内部緩衝層［Ｅ］において、架橋樹脂中にリン酸基が含有されていることは、内部緩衝層［Ｅ］と金属層［Ｂ］もしくは高屈折率層［Ｃ２］との密着性が良好であることから好ましい。
【００５３】
架橋樹脂にリン酸基を導入する方法としては、リン酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を、（メタ）アクリレートや重合開始剤などと混合し、熱や紫外線（以降、ＵＶと略記することもある）などの電磁波を照射することによって架橋を形成する方法などが挙げられる。
【００５４】
このような、リン酸基を有す（メタ）アクリル酸誘導体の例としては、りん酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）リン酸エステルなどが挙げられる。これらは単独で使用しても良いが、２種以上を混合することでリン酸基の効果と架橋樹脂の特性を調整して使用してもよい。
【００５５】
架橋樹脂中にリン酸基が含有されている内部緩衝層［Ｅ］は、
（Ｅｉ）前記リン酸基が含有されている架橋樹脂からなる単層構成、
（Ｅｉｉ）前記リン酸基が含有されている架橋樹脂からなる層、および、前記リン酸基が含有されている架橋樹脂とリン酸含有量が異なる層、前記リン酸基が含有されている架橋樹脂と組成が異なる架橋樹脂からなる層もしくは前記リン酸基が含有されている架橋樹脂とリン酸含有量および組成が異なる架橋樹脂からなる層からなる群より選ばれる１以上の層との多層構成、
（Ｅｉｉｉ）前記リン酸基が含有されている架橋樹脂と、前記リン酸基が含有されている架橋樹脂とリン酸含有量が異なる架橋樹脂、前記リン酸基が含有されている架橋樹脂と組成が異なる架橋樹脂もしくは前記リン酸基が含有されている架橋樹脂とリン酸含有量および組成が異なる架橋樹脂からなる群より選ばれる１以上の架橋樹脂とからなる層層であって、リン酸含有量および／または架橋樹脂組成が厚み方向に連続的に変化している傾斜構成、
のいずれの構成であっても良い。（Ｅｉｉ）多層構成または（Ｅｉｉｉ）傾斜構成を採る場合は、金属層［Ｂ］もしくは高屈折率層［Ｃ２］と接する層（多層構成の場合）または、金属層［Ｂ］もしくは高屈折率層［Ｃ２］と接する領域（傾斜構成の場合）に前記リン酸基が含有されている架橋樹脂を含むものである。
【００５６】
内部緩衝層［Ｅ］におけるリン酸基の含有量は、多層積層体全体の構成や要求特性に応じて調整するものであるが、リン酸基含有量が少ないと密着性向上効果が小さくなる一方、リン酸基含有量が過剰になると、内部緩衝層［Ｅ］において、硬度低下や耐湿熱環境における耐久性低下などの物性変化を伴うことになる。
【００５７】
例えば、リン酸基の含有量の指標としては、セクター磁場型二次イオン質量分析装置にて得たリンに帰属される信号の強度を炭素に帰属される信号の強度で除して算出される規格化強度値を用いることができる。セクター磁場型二次イオン質量分析装置を用いた測定では、厚み方向のリンおよび炭素に帰属される信号の強度プロファイル（Ｐ［３１（Ｐ）］プロファイル，Ｃ［１３（Ｃ）］プロファイル）を得ることができる。かかるデータから着目する位置における各信号強度値を取得し、その位置での規格化強度値［Ｐ／Ｃ］を得る。（Ｅｉ）単層構成の場合、内部緩衝層［Ｅ］の中心部±５０ｎｍの範囲における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］の平均が、０．０１〜３０となる範囲であることが好ましく、下限は０．１以上であることがより好ましく、上限は１０以下であることがより好ましい。（Ｅｉｉ）多層構成または（Ｅｉｉｉ）傾斜構成の場合は、金属層［Ｂ］もしくは高屈折率層［Ｃ２］との境界から０〜２００ｎｍの範囲の領域を領域［Ｅ１］とし、領域［Ｅ１］の中心部±２０ｎｍの範囲における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］の平均を領域［Ｅ１］の規格化強度値  ［Ｐ／Ｃ］（Ｅ１）とすると、［Ｐ／Ｃ］（Ｅ１）が０．０１〜３０の範囲であることが好ましく、下限は０．１以上であることがより好ましく、上限は１０以下であることがより好ましい。
【００５８】
また、内部緩衝層［Ｅ］が（Ｅｉｉ）多層構成または（Ｅｉｉｉ）傾斜構成を採る場合は、透明基板［Ａ］側の界面（金属層［Ｂ］もしくは高屈折率層［Ｃ２］の反対側の界面）から０〜２００ｎｍの範囲の領域を領域［Ｅ２］とし、透明基板［Ａ］側の界面から１００ｎｍの位置を中心に±２０ｎｍの範囲における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］の平均を領域［Ｅ２］の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｅ２）とすると、領域［Ｅ２］の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｅ２）は、領域［Ｅ１］の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｅ１）の１０％以下であることが好ましい。すなわち、領域［Ｅ２］のリン酸基含有量が、領域［Ｅ１］のリン酸基含有量と比較して、大幅に小さいことが好ましい。さらには、領域［Ｅ２］は、リン酸基を含まないことがより好ましい。この原因は、明確ではないが、金属層［Ｂ］もしくは高屈折率層［Ｃ２］との境界領域である領域［Ｅ１］に存在する極性基は、内部緩衝層［Ｅ］と金属層［Ｂ］もしくは高屈折率層［Ｃ２］との親和性向上に寄与するが、それ以外の領域に存在するリン酸基は、親和性向上に寄与せず、過剰に存在すると、むしろ内部緩衝層［Ｅ］自体の物性を低下させるためではないかと推測する。
【００５９】
したがって、内部緩衝層［Ｅ］が（Ｅｉｉ）多層構成または（Ｅｉｉｉ）傾斜構成の場合は、領域［Ｅ１］以外の領域には、前記リン酸基を含まないか、架橋樹脂自体の物性を低下させない含有量であることが好ましい。前記極性基を含まない領域の厚みが、内部緩衝層［Ｅ］の厚みの２０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。
【００６０】
また、例えば、内部緩衝層［Ｅ］が、シリカ、アルミナ、ジルコニアやＤＬＣなどの金属や酸素、炭素などを主成分とする無機系ハードコートであることは、金属層［Ｂ］や高屈折率層［Ｃ２］との親和性が良好であり、スパッタ等のドライコーティングプロセスで連続して加工することが可能であるなどプロセス適合性が高いことから好ましい。内部緩衝層［Ｅ］が無機系膜である場合、緻密な膜を得やすいことから、高硬度が得易いなどの長所を有する一方、製膜速度が遅いことから厚膜化が難しかったり、製膜時に発生する収縮応力によって多層積層体が受ける歪が大きくなり易いなどの制約が生じる場合がある。無機系膜を得る方法の例としては、各種金属や合金、それらの酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、亜酸窒化物などのターゲットを用いて、必要に応じて酸素や窒素などのガスと反応させるスパッタリングプロセスにより内部緩衝層［Ｅ］を得る方法などが挙げられる。
【００６１】
内部緩衝層［Ｅ］としては、上述した有機系膜と無機系膜の長所を兼ね備えるものとして、有機−無機ハイブリッド系膜を用いることもできる。有機−無機ハイブリッド系膜を得る方法の例としては、アルキルシリケートやアルキルチタネートなどの有機金属化合物を原料として、気化させた有機金属化合物と酸素や窒素などのガスをプラズマ等で反応させるＣＶＤプロセスによって内部緩衝層［Ｅ］を得る方法、溶剤に希釈した有機金属化合物を乾燥・硬化させるウエットコーティングプロセスによって内部緩衝層［Ｅ］を得る方法などがある。
【００６２】
耐キズ性や表面硬度などの物性を得るためには内部緩衝層［Ｅ］の厚みを厚くすることが好ましく、内部緩衝層［Ｅ］の製膜時に生じる応力によるカール等の歪みを抑制するためには内部緩衝層［Ｅ］の厚みを薄くすることが好ましいことから、内部緩衝層［Ｅ］の厚みが０．１μｍ〜１０μｍであることは好ましい。その下限は０．２μｍ以上であることがより好ましく、０．４μｍ以上であることがさらに好ましい。その上限は５μｍ以下であることはより好ましく、３μｍ以下であることはさらに好ましい。
【００６３】
内部緩衝層［Ｅ］が、架橋性樹脂を主成分とする有機系膜である場合、内部緩衝層［Ｅ］の柔軟性が高まり変形に対する追従性が良好になるが、膜硬度は低下するため、内部緩衝層［Ｅ］の厚みを０．４μｍ以上に調整する必要があり、０．５μｍ以上とすることはより好ましく、１μｍ以上とすることはさらに好ましい。一方で、その上限を３μｍ以下とすることが好ましい。
【００６４】
次に、本発明の多層積層体について説明する。図１は、実施例１の多層積層体の断面の模式図を示す。本発明の多層積層体の一態様は、透明基板［Ａ］１の片面に、内部緩衝層［Ｅ］６、高屈折率層［Ｃ２］４、金属層［Ｂ］２、高屈折率層［Ｃ１］３および表面保護層［Ｄ］５がこの順に積層されてなるものである。
【００６５】
本発明の多層積層体において、屈折率が１．３〜２．７、かつ膜厚が０．２〜３μｍである表面保護層［Ｄ］を金属層［Ｂ］の透明基板［Ａ］側の面とは反対側の面に設けた多層積層体では、前記表面保護層［Ｄ］の厚みムラによる色調変化により、その外観を良好に保つのが困難となる課題が存在するのは上記のとおりである。
【００６６】
そこで、本発明者は鋭意検討を行い、表面保護層［Ｄ］の厚みムラによる色調変化を抑制し、外観悪化を抑制した多層積層体を得るためには、多層積層体の表面保護層［Ｄ］から透明基板［Ａ］の方向に光学的に測定した表面粗さＲａ（ｏ）（以下、Ｒａ（ｏ）とする。）を０．０２〜０．３μｍとすることが重要であることを見出した。
【００６７】
多層積層体の外観悪化を抑制するためには、表面粗さＲａ（ｏ）、０．０２μｍ以上とする必要があり、０．０３μｍ以上とすることは好ましい。一方、表面粗さＲａ（ｏ）が大きすぎると、光の散乱が大きくなり多層積層体を通して、もしくは反射して観察する光の像の鮮明性が低下してしまう。光の像の鮮明性を確保するためには、表面粗さＲａ（ｏ）は、０．３μｍ以下とする必要があり、０．２μｍ以下であることはより好ましく、０．１５μｍ以下であることはさらに好ましい。以上のことから、表面粗さＲａ（ｏ）は、０．０２μｍ〜０．３μｍとする必要があり、下限は０．０３μｍ以上、上限は０．１５μｍ以下とすることが好ましい。
【００６８】
また、多層積層体のヘーズを測定した場合、ヘーズが低すぎないと表面保護層［Ｄ］の厚みムラによる色調変化を抑制することができ、多層積層体の外観悪化を抑制することができる。上記の観点から、多層積層体のヘーズは１％以上であることが好ましく、１．５％以上であることはより好ましい。一方、光の散乱を抑制し、多層積層体を透過した光の像、または多層積層体により反射された光の像の鮮明性をより向上させることができる観点から、多層積層体のヘーズは３０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましく、５％以下であることがさらに好ましい。
【００６９】
Ｒａ（ｏ）を０．０２以上としたり、ヘーズを１％以上としたりすることで色調変化が抑制される理由は、明らかではないが、以下のように推測する。
【００７０】
まず、多層積層体の外観悪化が生じるメカニズムとしては、Ｒａ（ｏ）が０．０２μｍ未満やヘーズが１．０％未満である、各層が光学的に平坦な構成においては、表面保護層［Ｄ］の厚みの差が、多層積層体を透過するもしくは反射される光が表面保護層［Ｄ］を通る距離の差となるため、異なる距離を通過した光の間で波長にズレが生じて色調変化として観察されるのではないかと推測する。
【００７１】
多層積層体のＲａ（ｏ）を０．０２以上としたり、ヘーズを１．０％以上としたりする
ことで、光学的に凹凸を設けた構成においては、多層積層体を透過する光もしくは反射される光が表面保護層［Ｄ］を通る距離は、表面保護層［Ｄ］の厚みの差だけではなく、凹凸によっても差が生じることになるため、それらの光同士が平均化しあうことによって、色調変化を観察しにくくなるのではないかと推測する。
【００７２】
次に、Ｒａ（ｏ）やヘーズを調整する方法として、ここでは、透明基板［Ａ］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、高屈折率層［Ｃ２］、表面保護層［Ｄ］および内部緩衝層［Ｅ］を有する多層積層体の態様を例に説明する。上記の多層積層体を構成する透明基板［Ａ］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、高屈折率層［Ｃ２］、表面保護層［Ｄ］および内部緩衝層［Ｅ］のいずれか一つ以上の、界面もしくは表面に凹凸を設ける方法や、表面保護層［Ｄ］の内部に屈折率の異なる海島状の領域を設けるなどの方法がある。多層積層体の各層に凹凸を設ける方法としては、前記各層に粒子を分散させる方法、前記各層の表面を賦型処理する方法などがある。ここで、粒子を分散させる方法により凹凸を設けることが、簡便性や、分散させる粒子と各層主成分との間の屈折率差によっても光学特性を調整出来るなどの観点から好ましい。なお、上記の表面保護層［Ｄ］または内部緩衝層［Ｅ］に所望のＲａ（ｏ）を得るための凹凸を設ける方法としては、反射防止フィルムなどで用いられているアンチグレアタイプのコート剤を適宜選択し、必要に応じて複数選択した上記のコート剤を適宜混合したものを用いて表面保護層［Ｄ］または内部緩衝層［Ｅ］を形成することが一例として挙げられる。また、上記のコート剤は市販のものを用いることができる。さらに、透明基板［Ａ］、表面保護層［Ｄ］および内部緩衝層［Ｅ］に粒子を分散させ、上記各層の表面に凹凸を設ける場合、分散させる粒子の大きさや種類などの選定や組み合わせによって凹凸サイズや形状を調整することができ、また、分散させる粒子と架橋樹脂との密着性や分散性、屈折率などの光学特性を調整することができる点からも、粒子を分散させる方法により各層の表面に凹凸を設けることが好ましい。また、分散させる粒子のサイズや量については、表面に凹凸を設ける層の膜厚等に応じて適宜調整できる。
【００７３】
表面保護層［Ｄ］以外の各層に凹凸を設ける方法では、表面保護層［Ｄ］の表面に凹凸を設けなくても色ムラを抑制することが出来る。この場合には、表面保護層［Ｄ］の表面形状等に対する制約はなくなる。具体的には、表面保護層［Ｄ］の耐キズ性や耐湿熱性などの物性面や、表面保護層［Ｄ］表面における光の乱反射などの光学面で所望の性能に設計することが可能となる。また、多層積層体が内部緩衝層［Ｅ］を有する場合には、上記の観点およびＲａ（ｏ）やヘーズの制御容易性の観点から、多層積層体の有する各層のうち内部緩衝層［Ｅ］に粒子を分散させ、または、その表面を賦型処理し、内部緩衝層［Ｅ］に凹凸を設けることが好ましい。
【００７４】
ここで、表面保護層［Ｄ］の表面での可視光の乱反射による外観悪化を抑制する観点から、表面保護層［Ｄ］を物理的に観察した表面粗さ（以下、Ｒａ（ｐ）とする）は、好ましくは０．１μｍ以下であり、より好ましくは０．０５μｍ以下であり、さらに好ましくは０．０３μｍ以下であり、かつＲａ（ｐ）＜Ｒａ（ｏ）であることが好ましい。
【００７５】
［多層積層体の遠赤外線反射率］
本発明の多層射積層体は、透明基板［Ａ］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］や［Ｃ２］、表面保護層［Ｄ］、および内部緩衝層［Ｅ］や他の構成層について、成分、膜質、膜厚および抵抗値などの特性を調整することで、用途に合わせた遠赤外線反射率を設計することができる。遠赤外線反射積層体の遠赤外線反射率は、６０％以上であることが好ましく、７０％以上がより好ましく、８０％以上がさらに好ましい。
【００７６】
［多層積層体の可視光透過率］
本発明の多層積層体は、透明基板［Ａ］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］や［Ｃ２］、表面保護層［Ｄ］、および内部緩衝層［Ｅ］や他の構成層について、成分、膜質および膜厚を調整することで、用途に合わせた可視光透過率を設計することができる。多層積層体の可視光透過率は４０％以上が好ましく、５０％以上がより好ましく、６０％以上がさらに好ましい。
【００７７】
多層積層体の可視光領域における各波長の光の透過率に差が小さいほど、表面保護層［Ｄ］の厚みムラによる色調変化がより抑制でき、多層積層体の外観悪化をより抑制することができる。上記の観点から、波長５００ｎｍ〜６００ｎｍにおける各波長の光の透過率で最大のものと、波長５００ｎｍ〜６００ｎｍにおける各波長の光の透過率で最小のものとの差（以下、ΔＴとする）が、１０％以下であることが好ましく、８％以下であることはより好ましく、５％以下であることはさらに好ましい。ΔＴは、多層積層体のＲａ（ｏ）、またはヘーズ等を適宜調整することで、調整することができる。
【００７８】
［用途］
本発明の多層積層体は、表面保護性能と良好な遠赤外線反射性能を兼ね備えた上で、さらに表面保護層の厚みムラによる外観悪化が顕著に抑制されたものである。よって、それらの優れた特性を生かし、（Ｉ）建築物や乗り物などの窓から流出入する熱エネルギーの遮断による冷暖房効果の向上、（ＩＩ）植物育成や観賞用のケースやハウスにおける熱環境保持性の向上、（ＩＩＩ）冷凍冷蔵ショーケースにおける保冷効果の向上、および、（ＩＶ）高低温作業時に監視窓から流出入する熱輻射の低減などの用途に利用できる。また、本発明の多層積層体を壁や天井などの内装材や家具、家電製品などの表面に使用することで、遠赤外線の放射によって空間内から流出する熱エネルギーを低減することに利用することができる。さらに、本発明の多層積層体は、電磁波遮蔽性能を有することから、電磁波シールド材としての効果も有する。また、樹脂フィルム基板を用いた多層積層体は、粘着剤などを用いてガラス板などに貼り合わせて使用することで、ガラス板などが破損した場合の飛散防止やガラス板などを保護して破損を低減する効果も有する。樹脂フィルム基板が紫外線により劣化するのを防ぐためには、樹脂フィルム基板表面や粘着剤などの接着層に紫外線吸収剤を付与しておくことが好ましい。
【実施例】
【００７９】
実施例における評価方法を以下に記す。
【００８０】
《測定方法》
「光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）」
表面粗さＲａ（ｏ）は、レーザー顕微鏡を使用、付属ソフトウェアによる観察・解析を行い算出した。
・測定機器：ＶＫ−Ｘ１１０（キーエンス  社製）
・対物レンズ：標準レンズ  １００倍・光学ズーム：１．０倍
・測定サイズ：標準（１０２４×７６８ピクセル）
・測定品質：高精度
・測定ピッチ：０．０８μｍ
・傾き補正：２次曲面補正（自動）
・測定モード：表面形状・測定領域：全領域
・解析：ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１（ＩＳＯ  ４２８７：１９９７）  準拠
・測定内容：５検体を測定し、最大値を示す検体と最小値を示す検体除外した３検体の平均値をもとめた。
【００８１】
「物理的に観察した表面粗さＲａ（ｐ）」
表面粗さＲａ（ｐ）は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を使用して測定、付属ソフトウェアによる解析を行い算出した。
・測定機器：Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ  Ｉｃｏｎ（Ｂｒｕｋｅｒ  ＡＸＳ  社製）
・使用カンチレバー：ＯＴＥＳＰＡ
・測定モード：タッピングモード・測定範囲：３０μｍ×３０μｍ
・走査速度：１Ｈｚ
・画素数：５１２×５１２
・解析：ＡＳＭＥ  Ｂ４６．１  準拠
・測定内容：５検体を測定し、最大値を示す検体と最小値を示す検体除外した３検体の平均値をもとめた。
【００８２】
「ヘーズ」
ヘーズは、ヘーズメーターを使用して測定した。
・測定機器：ＮＤＨ４０００（日本電色工業社製）
・測定方法：ＪＩＳ（ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６準拠）・測定内容：５検体を測定し、最大値を示す検体と最小値を示す検体除外した３検体の平均値をもとめた。
【００８３】
「リン酸基含有量の分析」
１．測定法
下記の装置および測定条件により、多層積層体サンプルの表面保護層［Ｄ］や中間緩衝層［Ｅ］を測定し、厚み方向のＰ［３１（Ｐ）］プロファイルおよびＣ［１３（Ｃ）］プロファイルを取得し、厚み方向の各点にて、３１（Ｐ）の強度値を１３（Ｃ）の強度値で除して規格化強度［Ｐ／Ｃ］を求めた。
２．装置
セクター磁場型二次イオン質量分析装置
３．測定条件
・一次イオンには１４．５ｋＶの加速電圧で加速したＣｓ＋イオンを使用した。
・分析時には、試料の帯電補償のためＥ−ｇｕｎを使用し、試料台オフセット電位は０Ｖとした。
・二次イオンの検出にはＥＭ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｕｌｔｉｐｌｉｅｒ）を使用し、負イオンにてｍ／ｚ＝３１（Ｐ），  １３（Ｃ）を検出した。
・質量分解能には２０００以上（３１（ＳｉＨ）と３１（Ｐ）、１３（ＣＨ）と１３（Ｃ）が十分分離可能であること）が必要である。
・ＣとＰの積算時間は同一とする。
【００８４】
「屈折率」
以下の方法により波長５８９ｎｍにおける屈折率を求めた。
１．測定法
下記の装置および測定条件により、測定サンプルからの反射光の偏光状態の変化を測定し、光学定数（屈折率および消衰係数）を計算により求めた。計算は、試料で測定されたΔ（位相差）とψ（振幅反射率）のスペクトルを計算モデルから算出された（Δ、ψ）と比較し、測定値（Δ、ψ）に近づくように誘電関数を変化させてフィッティングしていく。ここで示されたフィッティング結果は、測定値と理論値がベストフィット（平均二乗誤差が最小に収束）した結果である。
２．装置
・高速分光エリプソメーター
・Ｍ−２０００（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ  社製）
・回転補償子型（ＲＣＥ：  Ｒｏｔａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒ  Ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ）
・３００ｍｍ  Ｒ−Ｔｈｅｔａ  ステージ
３．測定条件
・入射角：６５  度、７０  度、７５  度
・測定波長：  １９５ｎｍ〜１６８０ｎｍ
・解析ソフト：ＷＶＡＳＥ３２
・ビーム径：１×２ｍｍ  程度
・測定ｎ数：１。
【００８５】
「遠赤外線反射率」
遠赤外線反射率の測定は、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６（１９９８）に準拠して行い、波長５〜２５μｍの分光反射率より、２８３Ｋの熱放射に対する反射率を求めたものを遠赤外線反射率（％）とした。
・測定装置：（株）島津製作所製  ＩＲＰｒｅｓｔｉｇｅ−２１
・正反射測定ユニット：ＳＲＭ−８０００Ａ
・波数範囲：４００〜２０００ｃｍ−１
・測定モード：％Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ
・アボダイズ係数：Ｈａｐｐ−Ｇｅｎｚｅｌ
・積算回数：１０
・分解：４．０
・測定内容：５検体を測定し、最大値を示す検体と最小値を示す検体除外した３検体の平均値をもとめた。
【００８６】
「可視光透過率」
可視光透過率の測定は、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６（１９９８）に準拠して行い、波長３８０〜７８０ｎｍの分光透過率より求めたものを可視光透過率（％）とした。
・測定装置：（株）島津製作所製  ＵＶ−３１５０
・波長範囲：３８０〜７８０ｎｍ
・スリット幅：（２０）
・スキャンスピード：高速
・サンプリング：１ｎｍ
・グレーティング：７２０ｎｍ
・測定内容：５検体を測定し、最大値を示す検体と最小値を示す検体除外した３検体の平均値をもとめた。
【００８７】
「波長５００ｎｍ〜６００ｎｍにおける最大透過率と最小透過率の差ΔＴ」
ΔＴの測定は、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６（１９９８）に準拠した可視光透過率の測定と同様の方法で測定した波長５００〜６００ｎｍの分光透過率の最大値から最小値を引いて差を求めたものをΔＴ（％）とした。
・測定装置：（株）島津製作所製  ＵＶ−３１５０
・波長範囲：５００〜６００ｎｍ
・スリット幅：（２０）
・スキャンスピード：高速
・サンプリング：１ｎｍ
・グレーティング：７２０ｎｍ
・測定内容：５検体を測定し、最大値を示す検体と最小値を示す検体除外した３検体の平均値をもとめた。
【００８８】
「干渉ムラ」
目視により多層積層体の色調の変化による干渉ムラを観察した。
干渉ムラが目立たない：○
干渉ムラが顕著：×            。
【００８９】
「表面散乱光」
目視により多層積層体表面の散乱光による白化度合いを観察した。
白化が目立たない：○
白化が顕著ではあるが透明性あり：△
白化が極めて顕著で透明性なし：×                        。
【００９０】
「表面保護層、内部緩衝層の厚み」
ＳＥＭによる断面観察を行い表面保護層、内部緩衝層の厚みを算出した。
【００９１】
・測定内容：５検体を測定し、最大値を示す検体と最小値を示す検体除外した３検体の平均値をもとめた。
１．サンプル調製
（ｉ）断面面出し
・切削装置：ロータリミクロトーム  ＲＭＳ（日本ミクロトーム研究所製）
・切削刃：スチール製レザー刃（フェザー製片刃）
・スチール製レザー刃切削角度：３度
・切削量  ３０μｍ
（ｉｉ）スパッタ処理
・処理装置：イオンコーターＩＢ−３型（（株）エイコー・エンジニアリング社製）
・スパッタ金属：Ｐｔ  ８５質量％＋Ｐｄ  １５質量％
・スパッタ条件：２ｍＡ  ５分間
・スパッタ膜厚：約１０ｎｍ
２．ＳＥＭ観察
（ｉ）使用観察条件
・観察装置：ＡＢＴ−３２（（株）トプコン社製  走査型電子顕微鏡）
・加速電圧：１５ＫＶ
・スポットサイズレベル：６
・ワーキングディスタンス：２０ｍｍ
・観察角度：０度（対断面９０度）
・観察倍率：２００００倍。
（ｉｉ）厚み算出
・ＳＥＭ像上で測定した厚みと観察倍率から計算した。
・なお、計算に当たっては、標準試料としてＧｒａｔｉｎｇＳｐａｃｅ  ５００×５００ｍμ（Ｏｋｅｎ製）を測定した結果を用いて誤差補正を行った。
【００９２】
「密着性」
１．評価用試験体の作製
（１）多層積層体を５０ｍｍ角正方形にカットする。
（２）前記（１）でカットした多層積層体の金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、［Ｃ２］、または、内部緩衝層［Ｅ］が形成されている面の反対の面に粘着層を形成する。
（３）次に、（２）で形成した粘着層を介して多層積層体を、３ｍｍ厚のフロートガラスに貼合する。
２．評価用試験体の判定
（４）評価用試験体の多層積層体に、クロスカット用間隔スペーサー（コーテック株式会社製：型番ＣＲＯＳＳ  ＣＵＴ  ＧＵＩＤＥ１．０）、カッターナイフを用い、評価用試験体にタテ方向６回、ヨコ方向６回の切り込みを１ｍｍ間隔で入れる（本操作により、５×５＝２５マスの格子が作製される）。
（５）（１）で作製した格子上に透明感圧付着テープ（日東電工株式会社製：型番３１Ｂ）を圧着し、圧着したテープを約６０度の方向に引き剥がす。
（６）判定基準
「○」：２５マス全ての格子で格子全面の剥離がない。
「△」：２５マス中の格子全面の剥離が１マス以上２マス以下である。
「×」：２５マス中３マス以上の格子で格子全面の剥離がある。
【００９３】
「粒子ムラ」
目視により多層積層体の粒子ムラを観察した。
「○」：粒子が均一に分散しており、粒子ムラが目立たない。
「×」：粒子が局在しており、粒子ムラが顕著である。
【００９４】
「高屈折率層［Ｃ１］および高屈折率層［Ｃ２］の含有質量％」
電界放出型電子顕微鏡（日本電子製JEM2100F）に搭載されたＥＤＸ（検出器：日本電子製JED-2300T、ソフト：日本電子製Analysis Station）を用いて測定し、得られたＥＤＸスペクトルから、質量％を算出した。なお、質量％が１％未満となる元素については、質量％の計算において除外した。
・試料作製：ＦＩＢマイクロサンプリング法（日立製  FB-2100μ-Sampling System）
・STEM像観察条件：加速電圧  200kV、beam spot size 1nmφ程度
・観察元素：B〜Am
・測定ｎ数：１。
【００９５】
［実施例１］
凹凸を有する内部緩衝層［Ｅ］を有する透明基板［Ａ］として、アンチグレアタイプのハードコートフィルム（ルミアート  ＨＣ２００３：アイカ工業（株）製）を使用した。内部緩衝層［Ｅ］は、アクリル系樹脂を主成分とするものであり、その膜厚は、８μｍであった。
上記積層体を内部緩衝層［Ｅ］側からレーザー顕微鏡を使用して光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）は０．１１μｍ。ヘーズは７％であった。
【００９６】
該フィルムの内部緩衝層［Ｅ］の上に、スパッタ加工によって、屈折率が２．１の高屈折率層［Ｃ２］、金属層［Ｂ］、屈折率が２．１の高屈折率層［Ｃ１］として、それぞれ順番に、ＩＴＯ層（厚み４５ｎｍ）、Ａｇ合金層（ＡＰＣ合金、厚み１６ｎｍ）、ＩＴＯ層（厚み６０ｎｍ）を製膜した。
【００９７】
続いて、高屈折率層［Ｃ１］の上に、屈折率が１．５の表面保護層［Ｄ］を以下のように形成した。紫外線を照射することによって架橋を形成するアクリル系ハードコート剤（オプスターＺ７５３５：ＪＳＲ（株）製）に、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体（ＰＰＭＥ：東邦化学工業（株））を固形分中５ｗｔ％となるよう混合し、メチルエチルケトンを希釈溶剤として用いて固形分濃度２５ｗｔ％になるように調整した塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．３）を用いて、前記遠赤外線反射層上に塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ（水銀ランプ使用、６００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、塗膜を架橋させて表面保護層［Ｄ］を形成し、実施例１の多層積層体を得た。実施例１の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。実施例１の表面保護層［Ｄ］の膜厚は０．７μｍであり、表面保護層［Ｄ］の規格化強度［Ｐ／Ｃ］は３．１であった。なお、実施例１では、密着性および粒子ムラの評価を行っていない。
【００９８】
［実施例２］
透明基板［Ａ］として、厚み５０μｍのＰＥＴフィルム（ルミラー  Ｕ４８：東レ（株）製）を使用した。
【００９９】
透明基板［Ａ］の上に、凹凸を有する内部緩衝層［Ｅ］を以下のように形成した。紫外線を照射することによって架橋を形成するアンチグレアタイプのアクリル系ＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｒ：アイカ工業（株）製）を、トルエン／イソブチルアルコール＝１／１の希釈溶剤を用いて固形分濃度２０ｗｔ％になるように調整した塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて、前記遠赤外線反射層上に塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ（水銀ランプ使用、６００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、塗膜を架橋させて内部緩衝層［Ｅ］を形成した。内部緩衝層［Ｅ］の膜厚は、２μｍであった。
上記積層体を内部緩衝層［Ｅ］側からレーザー顕微鏡を使用して光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）は０．１３μｍ、ヘーズは１３％であった。
【０１００】
続いて、実施例１と同様に高屈折率層［Ｃ２］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、表面保護層［Ｄ］を形成し、実施例２の多層積層体を得た。実施例２の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。なお、実施例２では、密着性および粒子ムラの評価を行っていない。
【０１０１】
［実施例３］
透明基板［Ａ］として、厚み５０μｍのＰＥＴフィルム（ルミラー  Ｕ４８：東レ（株）製）を使用した。
【０１０２】
透明基板［Ａ］の上に、凹凸を有する内部緩衝層［Ｅ］を以下のように形成した。紫外線を照射することによって架橋を形成するアンチグレアタイプのアクリル系ＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｒ：アイカ工業（株）製）とクリアタイプのアクリル系ＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｃ：アイカ工業（株）製）を用い、Ｚ−７５３−１０Ｒを７０ｗｔ％、Ｚ−７５３−１０Ｃを３０ｗｔ％の比率で混合し、トルエン／イソブチルアルコール＝１／１の希釈溶剤を用いて固形分濃度２０ｗｔ％になるように調整した塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて、前記遠赤外線反射層上に塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ（水銀ランプ使用、６００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、塗膜を架橋させて内部緩衝層［Ｅ］を形成した。内部緩衝層［Ｅ］の膜厚は、２μｍであった。
上記積層体を内部緩衝層［Ｅ］側からレーザー顕微鏡を使用して光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）は０．０８μｍ。ヘーズは５％であった。
【０１０３】
続いて、実施例１と同様に高屈折率層［Ｃ２］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、表面保護層［Ｄ］を形成し、実施例３の多層積層体を得た。実施例３の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。なお、実施例３では、密着性および粒子ムラの評価を行っていない。
【０１０４】
［実施例４］
透明基板［Ａ］として、厚み５０μｍのＰＥＴフィルム（ルミラー  Ｕ４８：東レ（株）製）を使用した。
【０１０５】
透明基板［Ａ］の上に、凹凸を有する内部緩衝層［Ｅ］を以下のように形成した。紫外線を照射することによって架橋を形成するアンチグレアタイプのアクリル系ＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｒ：アイカ工業（株）製）とクリアタイプのＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｃ：アイカ工業（株）製）を用い、Ｚ−７５３−１０Ｒを５０ｗｔ％、Ｚ−７５３−１０Ｃを５０ｗｔ％の比率で混合し、トルエン／イソブチルアルコール＝１／１の希釈溶剤を用いて固形分濃度２０ｗｔ％になるように調整した塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて、前記遠赤外線反射層上に塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ（水銀ランプ使用、６００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、塗膜を架橋させて内部緩衝層［Ｅ］を形成した。内部緩衝層［Ｅ］の膜厚は、２μｍであった。
上記積層体を内部緩衝層［Ｅ］側からレーザー顕微鏡を使用して光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）は０．０５μｍ。ヘーズは２％であった。
【０１０６】
続いて、実施例１と同様に高屈折率層［Ｃ２］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、表面保護層［Ｄ］を形成し、実施例４の多層積層体を得た。実施例４の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。また、表面保護層［Ｄ］の形成前に密着性を評価したところ、判定は×であった。なお、実施例４では、粒子ムラの評価を行っていない。
【０１０７】
［実施例５］
表面が平滑な内部緩衝層［Ｅ］を有する透明基板［Ａ］として、ハードコートフィルム（タフトップ  ＴＨＳ：東レフィルム加工（株）製）を使用した。内部緩衝層［Ｅ］はアクリル系樹脂を主成分とするものであり、その膜厚は、２μｍであった。
上記積層体を内部緩衝層［Ｅ］側からレーザー顕微鏡を使用して光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）は０．０１μｍ、ヘーズは０．８％であった。
【０１０８】
続いて、実施例１と同様に高屈折率層［Ｃ２］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、を形成した。
【０１０９】
続いて、高屈折率層［Ｃ１］の上に、屈折率１．５の表面保護層［Ｄ］を以下のように形成した。
【０１１０】
紫外線を照射することによって架橋を形成するアンチグレアタイプのＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｒ：アイカ工業（株）製）を、トルエン／イソブチルアルコール＝１／１の希釈溶剤を用いて固形分濃度２５ｗｔ％になるように調整した塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．３）を用いて、前記遠赤外線反射層上に塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ（水銀ランプ使用、６００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、塗膜を架橋させて表面保護層［Ｄ］を形成し、実施例５の多層積層体を得た。実施例５の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。実施例５の表面保護層［Ｄ］の膜厚は１μｍであり、表面保護層［Ｄ］の規格化強度［Ｐ／Ｃ］は７×１０−４であった。なお、実施例５では、密着性および粒子ムラの評価を行っていない。
【０１１１】
［実施例６］
実施例４と同様に、透明基板［Ａ］として、厚み５０μｍのＰＥＴフィルム（ルミラー  Ｕ４８：東レ（株）製）を使用して内部緩衝層［Ｅ］を形成した。内部緩衝層［Ｅ］の膜厚は、２μｍであった。
上記積層体を内部緩衝層［Ｅ］側からレーザー顕微鏡を使用して光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）は０．０５μｍ。ヘーズは２％であった。
【０１１２】
続いて、金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、錫の含有質量％が７０％、亜鉛の含有質量％が３０％である金属酸化物ターゲットを用いて、アルゴン：酸素の圧力比を９０％／１０％とした製膜ガス条件下でスパッタ加工を行い、厚み４５ｎｍの高屈折率層［Ｃ２］を形成した。続いて金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、銀の含有質量％が９６．５％、金の含有質量％が３％、銅の含有質量％が０．５％であるＡｇ合金（ＡＡＣ）ターゲットを用いて、アルゴン１００％とした製膜ガス条件下でスパッタ加工を行い、厚み１６ｎｍの金属層［Ｂ］を形成した。続いて、金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、錫の含有質量％が７０％、亜鉛の含有質量％が３０％である金属酸化物ターゲットを用いて、アルゴン：酸素の圧力比を９８％／２％とした製膜ガス条件下で膜厚５ｎｍ相当量のスパッタ加工を行った後、アルゴン：酸素の圧力比を９０％／１０％とした製膜ガス条件下で膜厚５５ｎｍ相当量のスパッタ加工を行い、厚み６０ｎｍの高屈折率層［Ｃ１］を形成した。
実施例１と同様に表面保護層［Ｄ］を形成し、実施例６の多層積層体を得た。実施例６の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。また、表面保護層［Ｄ］の形成前に密着性を評価したところ、判定は△であった。なお、実施例６では、粒子ムラの評価を行っていない。
【０１１３】
［実施例７］
透明基板［Ａ］として、厚み５０μｍのＰＥＴフィルム（ルミラー  Ｕ４８：東レ（株）製）を使用した。
【０１１４】
透明基板［Ａ］の上に、凹凸を有する内部緩衝層［Ｅ］を以下のように形成した。紫外線を照射することによって架橋を形成するアンチグレアタイプのアクリル系ＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｒ：アイカ工業（株）製）とクリアタイプのＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｃ：アイカ工業（株）製）を用い、Ｚ−７５３−１０Ｒを５０ｗｔ％、Ｚ−７５３−１０Ｃを５０ｗｔ％の比率で混合し、トルエン／イソブチルアルコール＝１／１の希釈溶剤を用いて固形分濃度２０ｗｔ％に調整する際、固形分中の質量％が０．５％になるようにシリコーン樹脂（ＫＲ−５１３：信越化学工業（株）製）を添加した塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて、前記遠赤外線反射層上に塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ（水銀ランプ使用、６００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、塗膜を架橋させて内部緩衝層［Ｅ］を形成した。内部緩衝層［Ｅ］の膜厚は、２μｍであった。
上記積層体を内部緩衝層［Ｅ］側からレーザー顕微鏡を使用して光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）は０．０５μｍ。ヘーズは２％であった。
実施例６と同様に高屈折率層［Ｃ２］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、表面保護層［Ｄ］を形成し、実施例７の多層積層体を得た。実施例７の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。また、表面保護層［Ｄ］の形成前に密着性を評価したところ、判定は○であった。なお、実施例７では、粒子ムラの評価を行っていない。
【０１１５】
［実施例８］
透明基板［Ａ］として、厚み５０μｍのＰＥＴフィルム（ルミラー  Ｕ４８：東レ（株）製）を使用した。
【０１１６】
透明基板［Ａ］の上に、凹凸を有する内部緩衝層［Ｅ］を以下のように形成した。紫外線を照射することによって架橋を形成するアンチグレアタイプのアクリル系ＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｒ：アイカ工業（株）製）とクリアタイプのＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｃ：アイカ工業（株）製）を用い、Ｚ−７５３−１０Ｒを５０ｗｔ％、Ｚ−７５３−１０Ｃを５０ｗｔ％の比率で混合し、トルエン／イソブチルアルコール＝１／１の希釈溶剤を用いて固形分濃度２０ｗｔ％に調整する際、固形分中の質量％が２％になるようにシリコーン樹脂（ＫＲ−５１３：信越化学工業（株）製）を添加した塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて、前記遠赤外線反射層上に塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ（水銀ランプ使用、６００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、塗膜を架橋させて内部緩衝層［Ｅ］を形成した。内部緩衝層［Ｅ］の膜厚は、２μｍであった。
上記積層体を内部緩衝層［Ｅ］側からレーザー顕微鏡を使用して光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）は０．０５μｍ。ヘーズは２％であった。
実施例６と同様に高屈折率層［Ｃ２］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、表面保護層［Ｄ］を形成し、実施例８の多層積層体を得た。実施例８の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。また、表面保護層［Ｄ］の形成前に密着性を評価したところ、判定は○であった。なお、実施例８では、粒子ムラの評価を行っていない。
【０１１７】
［実施例９］
透明基板［Ａ］として、厚み５０μｍのＰＥＴフィルム（ルミラー  Ｕ４８：東レ（株）製）を使用した。
【０１１８】
透明基板［Ａ］の上に、凹凸を有する内部緩衝層［Ｅ］を以下のように形成した。紫外線を照射することによって架橋を形成するアンチグレアタイプのアクリル系ＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｒ：アイカ工業（株）製）とクリアタイプのＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｃ：アイカ工業（株）製）を用い、Ｚ−７５３−１０Ｒを５０ｗｔ％、Ｚ−７５３−１０Ｃを５０ｗｔ％の比率で混合し、トルエン／イソブチルアルコール＝１／１の希釈溶剤を用いて固形分濃度２０ｗｔ％に調整する際、固形分中の質量％が１０％になるようにシリコーン樹脂（ＫＲ−５１３：信越化学工業（株）製）を添加した塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて、前記遠赤外線反射層上に塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ（水銀ランプ使用、６００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、塗膜を架橋させて内部緩衝層［Ｅ］を形成した。内部緩衝層［Ｅ］の膜厚は、２μｍであった。
上記積層体を内部緩衝層［Ｅ］側からレーザー顕微鏡を使用して光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）は０．０５μｍ。ヘーズは２％であった。
実施例６と同様に高屈折率層［Ｃ２］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、表面保護層［Ｄ］を形成し、実施例９の多層積層体を得た。実施例９の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。また、表面保護層［Ｄ］の形成前に密着性を評価したところ、判定は○であった。なお、実施例９では、粒子ムラの評価を行っていない。
【０１１９】
［実施例１０］
透明基板［Ａ］として、厚み５０μｍのＰＥＴフィルム（ルミラー  Ｕ４８：東レ（株）製）を使用した。
【０１２０】
透明基板［Ａ］の上に、凹凸を有する内部緩衝層［Ｅ］を以下のように形成した。紫外線を照射することによって架橋を形成するアンチグレアタイプのアクリル系ＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｒ：アイカ工業（株）製）とクリアタイプのＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｃ：アイカ工業（株）製）を用い、Ｚ−７５３−１０Ｒを３５ｗｔ％、Ｚ−７５３−１０Ｃを６５ｗｔ％の比率で混合し、トルエン／イソブチルアルコール＝１／１の希釈溶剤を用いて固形分濃度２０ｗｔ％に調整する際、固形分中の質量％が１％になるようにシリコーン樹脂（ＫＲ−５１３：信越化学工業（株）製）を添加した塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて、前記遠赤外線反射層上に塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ（水銀ランプ使用、６００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、塗膜を架橋させて内部緩衝層［Ｅ］を形成した。内部緩衝層［Ｅ］の膜厚は、２μｍであった。
上記積層体を内部緩衝層［Ｅ］側からレーザー顕微鏡を使用して光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）は０．０５μｍ。ヘーズは１．５％であった。
実施例６と同様に高屈折率層［Ｃ２］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、表面保護層［Ｄ］を形成し、実施例１０の多層積層体を得た。実施例１０の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。また、表面保護層［Ｄ］の形成前に密着性を評価したところ、判定は○であった。そして、多層積層体の粒子ムラを評価したとろろ、判定は×であった。
【０１２１】
［実施例１１］
透明基板［Ａ］として、厚み５０μｍのＰＥＴフィルム（ルミラー  Ｕ４８：東レ（株）製）を使用した。
【０１２２】
透明基板［Ａ］の上に、凹凸を有する内部緩衝層［Ｅ］を以下のように形成した。紫外線を照射することによって架橋を形成するアンチグレアタイプのアクリル系ＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｒ：アイカ工業（株）製）とアンチブロッキングタイプのアクリル系ＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７３７−５：アイカ工業（株）製）およびクリアタイプのＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｃ：アイカ工業（株）製）を用い、Ｚ−７５３−１０Ｒを３５ｗｔ％、Ｚ−７３７−５を３０ｗｔ％、Ｚ−７５３−１０Ｃを３５ｗｔ％の比率で混合し、トルエン／イソブチルアルコール＝１／１の希釈溶剤を用いて固形分濃度２０ｗｔ％に調整する際、固形分中の質量％が１％になるようにシリコーン樹脂（ＫＲ−５１３：信越化学工業（株）製）を添加した塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて、前記遠赤外線反射層上に塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ（水銀ランプ使用、６００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、塗膜を架橋させて内部緩衝層［Ｅ］を形成した。内部緩衝層［Ｅ］の膜厚は、２μｍであった。
上記積層体を内部緩衝層［Ｅ］側からレーザー顕微鏡を使用して光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）は０．０５μｍ。ヘーズは１．５％であった。
実施例６と同様に高屈折率層［Ｃ２］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、表面保護層［Ｄ］を形成し、実施例１１の多層積層体を得た。実施例１１の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。また、表面保護層［Ｄ］の形成前に密着性を評価したところ、判定は○であった。そして、多層積層体の粒子ムラを評価したとろろ、判定は○であった。
【０１２３】
［比較例１］
実施例５同様に、表面が平滑な内部緩衝層［Ｅ］を有する透明基板［Ａ］として、ハードコートフィルム（タフトップ  ＴＨＳ：東レフィルム加工（株）製）を使用した。
【０１２４】
続いて、実施例１と同様に高屈折率層［Ｃ２］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、表面保護層［Ｄ］を形成し、比較例１の多層積層体を得た。比較例１の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。なお、比較例１では、密着性および粒子ムラの評価を行っていない。
【０１２５】
［比較例２］
凹凸を有する内部緩衝層［Ｅ］を有する透明基板［Ａ］として、アンチブロッキングタイプのハードコートフィルム（ルミアート  ＨＣ２１０５Ｔ−３：アイカ工業（株）製）を使用した。内部緩衝層［Ｅ］はアクリル系樹脂を主成分とするものであり、その膜厚は、６μｍであった。
上記積層体を内部緩衝層［Ｅ］側からレーザー顕微鏡を使用して光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）は０．０１μｍ、ヘーズは０．５％であった。
【０１２６】
続いて、実施例１と同様に高屈折率層［Ｃ２］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、表面保護層［Ｄ］を形成し、比較例２の多層積層体を得た。比較例２の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。なお、比較例２では、密着性および粒子ムラの評価を行っていない。
【０１２７】
［比較例３］
透明基板［Ａ］として、厚み５０μｍのＰＥＴフィルム（ルミラー  Ｕ４８：東レ（株）製）を使用した。
【０１２８】
透明基板［Ａ］の上に、表面が平滑な内部緩衝層［Ｅ］を以下のように形成した。紫外線を照射することによって架橋を形成するクリアタイプのアクリル系ＵＶコート剤（アイカアイトロン  Ｚ−７５３−１０Ｃ：アイカ工業（株）製）を、トルエン／イソブチルアルコール＝１／１の希釈溶剤を用いて固形分濃度２０ｗｔ％になるように調整した塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて、前記遠赤外線反射層上に塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ（水銀ランプ使用、６００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、塗膜を架橋させて内部緩衝層［Ｅ］を形成した。内部緩衝層［Ｅ］の膜厚は、２μｍであった。
上記積層体を内部緩衝層［Ｅ］側からレーザー顕微鏡を使用して光学的に観察した表面粗さＲａ（ｏ）は０．０１μｍ、ヘーズは０．６％であった。
【０１２９】
続いて、実施例１と同様に高屈折率層［Ｃ２］、金属層［Ｂ］、高屈折率層［Ｃ１］、表面保護層［Ｄ］を形成し、比較例３の多層積層体を得た。比較例３の多層積層体の構成および各種性能を表１、２、３および４に示す。なお、比較例３では、密着性および粒子ムラの評価を行っていない。
【０１３０】
【表１】
2015171815.tif 000003
【０１３１】
【表２】
2015171815.tif 000004
【０１３２】
【表３】
2015171815.tif 000005
【０１３３】
【表４】
2015171815.tif 000006
【産業上の利用可能性】
【０１３４】
本発明の多層積層体は、高い遠赤外線反射率を備えながら良好な外観を示すため、建築物や移動体の窓に用いることで、窓からの景観を損ねることなく、流出入する熱エネルギーを遮蔽することでエネルギーの消費を抑えながら熱環境を保持することが可能となる。
【符号の説明】
【０１３５】
１：透明基板［Ａ］
２：金属層［Ｂ］
３：高屈折率層［Ｃ１］
４：高屈折率層［Ｃ２］
５：表面保護層［Ｄ］
６：内部緩衝層［Ｅ］
【図１】
2015171815.tif 000007