(57)【要約】【課題】複数の基板を安定的に吸着することのできる基板吸着装置を提供する。【解決手段】基板吸着装置１００は、吸着部材１と、負圧発生部２とを備えている。吸着部材１は、第１吸着凹部１１、及び第２吸着凹部１２を有する。第２吸着凹部１２は、第１吸着凹部１１と隣り合うように配置されている。負圧発生部２は、第１及び第２吸着凹部１１，１２に接続されている。負圧発生部２は、第１及び第２吸着凹部１１，１２内に互いに独立して負圧を発生させるように構成されている。第１吸着凹部１１は、複数の第１補助凹部１１ａを有している。第１補助凹部１１ａは、第２吸着凹部１２に向かって突出する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を吸着するための基板吸着装置であって、
第１吸着凹部、及び前記第１吸着凹部と隣り合う第２吸着凹部、を有する吸着部材と、
前記第１及び第２吸着凹部に接続され、前記第１及び第２吸着凹部内に互いに独立して負圧を発生させるように構成された負圧発生部と、
を備え、
前記第１吸着凹部は、前記第２吸着凹部に向かって突出する少なくとも１つの第１補助凹部を有している、
基板吸着装置。
【請求項２】
前記第２吸着凹部は、前記第１吸着凹部に向かって突出する少なくとも１つの第２補助凹部を有している、
請求項１に記載の基板吸着装置。
【請求項３】
前記第１吸着凹部は、第１方向に沿って互いに間隔をあけて配置される複数の前記第１補助凹部を有し、
前記第２吸着凹部は、前記第１方向に沿って互いに間隔をあけて配置される複数の前記第２補助凹部を有し、
前記第１補助凹部と前記第２補助凹部とは、前記第１方向に沿って交互に配置される、
請求項２に記載の基板吸着装置。
【請求項４】
前記第１補助凹部の先端と前記第２補助凹部の先端とは、前記第１方向に沿う同一直線上に配置される、
請求項２又は３に記載の基板吸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を吸着するための基板吸着装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガラス、シリコン、セラミック、半導体などの脆性材料基板は、一般的に、基板加工装置によって分断され、複数の単位基板として取り出される。このように基板加工装置によって分断された複数の単位基板は、基板吸着装置によって一度に吸着されて、次の工程に搬送される。
【０００３】
特許文献１に記載された基板吸着装置は、基板のサイズによって吸着エリアを変更することができる。詳細には、基板吸着装置は、複数の吸着凹部を有している。基板を吸着するためには、基板と対向する吸着凹部の全体が基板によって覆われている必要がある。このため、特許文献１に記載された基板吸着装置は、複数の吸着凹部のうち、各基板によって覆われた各吸着凹部内を負圧にすることによって、種々のサイズの基板を安定して吸着することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２００４／０７３９４６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板吸着装置は、各吸着凹部の間において各吸着凹部を隔てるための隔壁を有している。複数ある基板のうち、ある基板がこの隔壁と対向するように配置されている場合、この基板を安定的に吸着することができない。
【０００６】
本発明の課題は、複数の基板を安定的に吸着することのできる基板吸着装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のある側面に係る基板吸着装置は、基板を吸着するための装置である。この基板吸着装置は、吸着部材と、負圧発生部とを備えている。吸着部材は、第１吸着凹部、及び第２吸着凹部を有する。第２吸着凹部は、第１吸着凹部と隣り合うように配置されている。負圧発生部は、第１及び第２吸着凹部に接続されている。負圧発生部は、第１及び第２吸着凹部内に互いに独立して負圧を発生させるように構成されている。第１吸着凹部は、少なくとも１つの第１補助凹部を有している。第１補助凹部は、第２吸着凹部に向かって突出する。
【０００８】
この構成によれば、第１吸着凹部と第２吸着凹部との間を延びる隔壁と対向する位置に、吸着対象である複数の基板のうち１つの基板が配置されていても、その基板を吸着することができる。すなわち、第２吸着凹部に向かって延びる第１補助凹部によって、上述したような基板を吸着することができる。この結果、本発明に係る基板吸着装置は、複数の基板を安定的に吸着することができる。
【０００９】
好ましくは、第２吸着凹部は、少なくとも１つの第２補助凹部を有している。第２補助凹部は、第１吸着凹部に向かって突出する。この構成によれば、隔壁と対向する位置に配置された基板を、第２補助凹部によっても吸着することができる。
【００１０】
好ましくは、第１吸着凹部は、第１方向に沿って互いに間隔をあけて配置される複数の第１補助凹部を有する。第２吸着凹部は、第１方向に沿って互いに間隔をあけて配置される複数の第２補助凹部を有する。第１補助凹部と第２補助凹部とは、第１方向に沿って交互に配置される。この構成によれば、第１補助凹部と第２補助凹部とが交互に配置されているため、安定的に基板を吸着することができる。
【００１１】
好ましくは、第１補助凹部の先端と第２補助凹部の先端とは、第１方向に沿う同一直線上に配置される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、複数の基板を安定的に吸着することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】基板吸着装置の側面断面図。
【図２】吸着部材の底面図。
【図３】吸着部材の斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明に係る基板吸着装置の実施形態について図面を参照しつつ説明する。図１は、基板吸着装置の概略を示す側面断面図である。基板吸着装置１００は、基板Ｗを吸着するための装置である。詳細には、基板吸着装置１００は、複数枚に分断された基板Ｗを一度に吸着して次の工程に搬送する。なお、本実施形態では、基板Ｗは、分断線Ｌによって２つに分断されている。
【００１５】
図１に示すように、基板吸着装置１００は、吸着部材１と、負圧発生部２とを備えている。また、基板吸着装置１００は、テーブル３をさらに備えている。このテーブル３上に、複数に分断された基板Ｗが載置されている。基板Ｗの分断線Ｌは、後述する隔壁１４と対向するように配置されている。
【００１６】
吸着部材１は、第１吸着凹部１１、及び第２吸着凹部１２を有している。第１吸着凹部１１と第２吸着凹部１２との間には、隔壁１４が形成されている。隔壁１４は、第１吸着凹部１１と第２吸着凹部１２とを隔てている。なお、吸着部材１は、第１及び第２吸着凹部１１，１２以外にも複数の吸着凹部を有している。吸着部材１は、平面視が矩形状に形成されている。吸着部材１の下面に、第１及び第２吸着凹部１１，１２を含む各吸着凹部が形成されている。
【００１７】
図２は吸着部材１の底面図、図３は吸着部材１の斜視図である。図２及び図３に示すように、第１吸着凹部１１と第２吸着凹部１２とは、互いに隣り合うように配置されている。第１吸着凹部１１は、複数の第１補助凹部１１ａを有している。
【００１８】
詳細には、第１吸着凹部１１は、第１主要凹部１１ｂと、複数の第１補助凹部１１ａとを有している。第１主要凹部１１ｂは、矩形状に形成されている。第１主要凹部１１ｂは、第１方向に延びるように形成されている。なお、第１方向とは、吸着部材１の主面（底面）に沿った方向である。本実施形態では、第１方向は、吸着部材１の底面に沿い、吸着部材１の長手方向に沿う方向である。具体的には、第１方向は、図２の左右に延びる方向である。
【００１９】
各第１補助凹部１１ａは、第２吸着凹部１２に向かって突出する。詳細には、各第１補助凹部１１ａは、第１主要凹部１１ｂから第２吸着凹部１２に向かって突出している。すなわち、各第１補助凹部１１ａは、第１主要凹部１１ｂと連通している。各第１補助凹部１１ａの突出量ｔ１は、２ｍｍ以上１０ｍｍ以下程度とすることが好ましい。
【００２０】
各第１補助凹部１１ａは、第１方向に沿って互いに間隔をあけて配置されている。なお、特に限定されるものではないが、この各第１補助凹部１１ａの間隔ｓ１は、１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下程度であることが好ましい。また、好ましくは、各第１補助凹部１１ａは、第１方向において、互いに等間隔に配置されている。
【００２１】
第２吸着凹部１２は、複数の第２補助凹部１２ａを有している。詳細には、第２吸着凹部１２は、第２主要凹部１２ｂと、複数の第２補助凹部１２ａとを有している。各第２補助凹部１２ａは、第２主要凹部１２ｂと連通している。
【００２２】
第２主要凹部１２ｂは、矩形状に形成されている。第２主要凹部１２ｂは、第１方向に延びるように形成されている。
【００２３】
各第２補助凹部１２ａは、第１吸着凹部１１に向かって突出する。詳細には、各第２補助凹部１２ａは、第２主要凹部１２ｂから第１吸着凹部１１に向かって突出している。各第２補助凹部１２ａの突出量ｔ２は、２ｍｍ以上１０ｍｍ以下程度とすることが好ましい。
【００２４】
各第２補助凹部１２ａは、第１方向に沿って互いに間隔をあけて配置されている。なお、特に限定されるものではないが、この各第２補助凹部１２ａの間隔ｓ２は、１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下程度であることが好ましい。また、好ましくは、各第２補助凹部１２ａは、第１方向において、互いに等間隔に配置されている。
【００２５】
第１補助凹部１１ａと第２補助凹部１２ａとは、第１方向に沿って交互に配置されている。第１補助凹部１１ａの先端と第２補助凹部１２ａの先端とは、第１方向に沿う同一直線上に配置されている。なお、第１補助凹部１１ａの先端とは、第２吸着凹部１２側の端部を示す。また、第２補助凹部１２ａの先端とは、第１吸着凹部１１側の端部を示す。
【００２６】
第２吸着凹部１２は、複数の第３補助凹部１２ｃをさらに有している。各第３補助凹部１２ｃは、第２補助凹部１２ａと反対方向に突出している。すなわち、各第３補助凹部１２ｃは、第１吸着凹部１１側とは反対側に突出している。
【００２７】
各第３補助凹部１２ｃは、第１方向に沿って互いに間隔をあけて配置されている。この各第３補助凹部１２ｃは、各第１補助凹部１１ａと同じ間隔で配置されていることが望ましい。また、各第３補助凹部１２ｃは、第１方向において、各第１補助凹部１１ａと同じ位置に配置されていることが好ましい。
【００２８】
吸着部材１は、第１及び第２吸着凹部１１、１２を含む各吸着凹部と連通する複数の貫通孔１３を有している。各貫通孔は、吸着部材１を厚み方向に貫通している。この各貫通孔１３には、後述する接続部２２が取り付けられる。
【００２９】
図１に示すように、負圧発生部２は、第１及び第２吸着凹部１１，１２に接続されている。負圧発生部２は、第１及び第２吸着凹部１１，１２内に互いに独立して負圧を発生させるように構成されている。すなわち、負圧発生部２は、第１吸着凹部１１内にのみ負圧を発生させたり、第２吸着凹部１２内にのみ負圧を発生させたり、第１及び第２吸着凹部１１、１２内の両方に負圧を発生させたりすることができる。
【００３０】
詳細には、負圧発生部２は、吸引ポンプ２１と、複数の接続部２２と、複数の配管２３とを有している。各接続部２２は、各吸着凹部１１，１２に形成された貫通孔１３に取り付けられている。各配管２３は、吸引ポンプ２１と、接続部２２とを接続する配管である。
【００３１】
吸引ポンプ２１を作動させることによって、第１及び第２吸着凹部１１，１２を含む各吸着凹部内に負圧を発生させることができる。なお、吸引ポンプ２１は、図示しない制御弁などによって、各吸着凹部１１，１２を含む各吸着凹部内に独立して負圧を発生させることができる。
【００３２】
基板吸着装置１００は、プレート４及び多孔質シート５をさらに備えている。プレート４は、複数の吸引孔４１が形成されている。各吸引孔４１は、プレート４を貫通している。プレート４は、例えば金属製である。
【００３３】
多孔質シート５の通気度は、２．５ｃｍ3／（ｃｍ2・ｓｅｃ）以上４．０ｃｍ3／（ｃｍ2・ｓｅｃ）以下程度とすることが好ましい。多孔質シート５は、粘着面を上面に有しており、プレート４の下面に貼り付けられている。なお、多孔質シート５は交換可能である。
【００３４】
以上説明した基板吸着装置１００によれば、第１吸着凹部１１と第２吸着凹部１２との間を延びる隔壁１４と対向する位置に、吸着対象である複数の基板Ｗのうち１つの基板ｗ１が配置されていても、その基板ｗ１を吸着することができる。すなわち、第２吸着凹部１２に向かって延びる第１補助凹部１１ａによって、上述した基板ｗ１を吸着することができる。
【００３５】
［変形例］
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。
【００３６】
例えば、基板吸着装置１００は、プレート４、及び多孔質シート５を有していなくてもよい。また、第２吸着凹部１２は、各第２補助凹部１２ａを有していなくてもよい。
【符号の説明】
【００３７】
１００    基板吸着装置
１    吸着部材
１１    第１吸着凹部
１１ａ    第１補助凹部
１２    第２吸着凹部
１２ａ    第２補助凹部
２    負圧発生部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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