(57)【要約】      （修正有）【課題】防汚性および耐擦傷性に優れ、屋外での長期使用においても正反射率が持続するフィルムミラーを提供する。【解決手段】樹脂基材１と、樹脂基材１の少なくとも一方の面側に設けられる光反射層２と、最も光入射側に位置し、光入射側の表面における空孔径が１０〜２００ｎｍであってかつ撥水剤を有する空孔を有し、空孔がない部分を一部に有する撥水性ガラス層３と、を含む。４は粘着層である。空孔の深さが２００〜５００ｎｍであることが好ましい。撥水性ガラス層３がホウケイ酸ガラスを含むことが好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材と、
前記樹脂基材の少なくとも一方の面側に設けられる光反射層と、
最も光入射側に位置し、光入射側の表面における空孔径が１０〜２００ｎｍであってかつ撥水剤を有する空孔を有し、前記空孔がない部分を一部に有する撥水性ガラス層と、
を含む、フィルムミラー。
【請求項２】
前記空孔の深さが２００〜５００ｎｍである、請求項１に記載のフィルムミラー。
【請求項３】
前記撥水性ガラス層がホウケイ酸ガラスを含む、請求項１または２に記載のフィルムミラー。
【請求項４】
前記樹脂基材が、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー、およびポリ塩化ビニルからなる群より選択される少なくとも１種の樹脂を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項５】
前記光反射層が銀からなる、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項６】
樹脂フィルム上に光反射層を形成する工程と、
樹脂基材上に相分離可能なガラス層を形成する工程と、
前記相分離可能なガラス層の少なくとも光入射側の表面を局所加熱する工程と、
前記局所加熱後の前記相分離可能なガラス層をエッチング処理し空孔を形成する工程と、
前記空孔に撥水剤を付与する工程と、
前記光反射層と前記樹脂基材とを貼合する工程と、
を含む、フィルムミラーの製造方法。
【請求項７】
前記局所加熱する工程は、パルス光を繰り返し照射することにより行う、請求項６に記載のフィルムミラーの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルムミラー、または請求項６もしくは７に記載の製造方法により得られるフィルムミラーと、
支持体と、
を有する、太陽熱発電用光反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムミラーおよびその製造方法、ならびに太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の地球温暖化は一層深刻な事態に発展し、将来の人類の生存すら脅かされる可能性がでてきている。その主原因は、２０世紀に入りエネルギー源として多量に使用されてきた化石燃料から放出された大気中の二酸化炭素（ＣＯ２）であると考えられている。したがって近い将来、化石燃料をこのまま使い続けることは許されなくなると考えられる。また、他方で、中国、インド、ブラジル等のいわゆる発展途上国の急激な経済成長に伴うエネルギー需用の増大により、かつては無尽蔵と考えられていた石油、天然ガスの枯渇が現実味を帯びてきている。
【０００３】
化石燃料の代替エネルギーとして、安定しておりかつ量の多い自然エネルギーの一つとして、太陽エネルギーが考えられる。特に世界のサンベルト地帯と呼ばれている赤道近くには、広大な砂漠が広がっており、ここに降りそそぐ太陽エネルギーは正に無尽蔵と言える。これに関して、米国南西部に拡がる砂漠のわずか数％を使えば、実に７，０００ＧＷものエネルギーを得ることが可能であると考えられている。また、アラビア半島、北アフリカの砂漠のわずか数％を使えば、全人類の使うエネルギーを全て賄うことができるとも考えられている。
【０００４】
このように、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを社会活動の中で活用するためには、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに（２）太陽エネルギーの貯蔵および移送が困難であることが、問題となると考えられる。これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な集光装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。
【０００５】
当該集光装置は太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、従来、当該集光装置にはガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損するという問題や、重量が重いことからミラーを設置する架台の強度を持たせるということを行うために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。
【０００６】
一方、樹脂製反射シートは液晶ディスプレイのバックライトユニットの反射シートとして実用化されており、太陽光反射ミラーに適用すれば、ガラス製ミラーの欠点である外圧による破損や質量の重さといった問題が解消できる。しかしながら、屋外に設置していると、表面に汚れが付着し、経時と共に反射率が低下するなどの問題が生じることが知られていた。
【０００７】
この問題に対して、球状または略球状の微粒子の表面に該微粒子よりも小さな球状または略半球状の複数の突起が形成された金平糖状の構造を有する複合微粒子と、該複合微粒子の表面の少なくとも一部を被うように結合形成された撥水撥油防汚性薄膜とを有する、太陽エネルギー利用装置に用いられる超撥水性防汚性透光性フィルムが提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１２−２１９２４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１に記載の技術では、表面に微小な三次元の凹凸構造を設けることにより、表表面の防汚性や撥水性を高めている。しかしながら、この微小な凹凸構造を有する表面は、耐擦傷性が低く、屋外での長期使用において、防汚性や撥水性が低下し、正反射率が低下するという問題があった。
【００１０】
そこで、本発明は、防汚性および耐擦傷性に優れ、屋外での長期使用においても正反射率が持続するフィルムミラーを提供することを目的とする。
【００１１】
また、本発明は、該フィルムミラーの製造方法、および該フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は鋭意研究を行った。その結果、樹脂基材と、光反射層と、最も光入射側に位置し、光入射側の表面における空孔径が１０〜２００ｎｍであってかつ撥水剤を有する空孔を有し、前記空孔がない部分を一部に有する撥水性ガラス層と、を備えるフィルムミラーにより、上記課題が解決することを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１３】
本発明の上記課題は、以下の手段により達成される。
【００１４】
１．樹脂基材と、前記樹脂基材の少なくとも一方の面側に設けられる光反射層と、最も光入射側に位置し、光入射側の表面における空孔径が１０〜２００ｎｍであってかつ撥水剤を有する空孔を有し、前記空孔がない部分を一部に有する撥水性ガラス層と、を含む、フィルムミラー。
【００１５】
２．前記空孔の深さが２００〜５００ｎｍである、上記１．に記載のフィルムミラー。
【００１６】
３．前記撥水性ガラス層がホウケイ酸ガラスを含む、上記１．または２．に記載のフィルムミラー。
【００１７】
４．前記樹脂基材が、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー、およびポリ塩化ビニルからなる群より選択される少なくとも１種の樹脂を含む、上記１．〜３．のいずれか１つに記載のフィルムミラー。
【００１８】
５．前記光反射層が銀からなる、上記１．〜４．のいずれか１つに記載のフィルムミラー。
【００１９】
６．樹脂フィルム上に光反射層を形成する工程と、樹脂基材上に相分離可能なガラス層を形成する工程と、前記相分離可能なガラス層の少なくとも光入射側の表面を局所加熱する工程と、前記局所加熱後の前記相分離可能なガラス層をエッチング処理し空孔を形成する工程と、前記空孔に撥水剤を付与する工程と、前記光反射層と前記樹脂基材とを貼合する工程と、を含む、フィルムミラーの製造方法。
【００２０】
７．前記局所加熱する工程は、パルス光を繰り返し照射することにより行う、上記６．に記載のフィルムミラーの製造方法。
【００２１】
８．上記１．〜５．のいずれか１つに記載のフィルムミラー、または上記６．もしくは７．に記載の製造方法により得られるフィルムミラーと、支持体と、を有する、太陽熱発電用光反射装置。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、防汚性および耐擦傷性に優れ、屋外での長期使用においても正反射率が持続するフィルムミラーが提供される。また、本発明によれば、該フィルムミラーの製造方法、および該フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明のフィルムミラーの構成の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明のフィルムミラーの構成の他の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明は、樹脂基材と、前記樹脂基材の少なくとも一方の面側に設けられる光反射層と、最も光入射側に位置し、光入射側の表面における空孔径が１０〜２００ｎｍであってかつ撥水剤を有する空孔を有し、前記空孔がない部分を一部に有する撥水性ガラス層と、を含む、フィルムミラーである。このような構成とすることにより、防汚性（撥水性）および耐擦傷性に優れ、屋外での長期使用においても正反射率が持続するフィルムミラーが得られる。
【００２５】
特許文献１に記載のフィルムにおいては、撥水性、撥油性、防汚性等を高める目的で、表面に、球状または略球状の微粒子の表面に該微粒子よりも小さな球状または略半球状の複数の突起が形成された金平糖状の構造を有する複合微粒子と、該複合微粒子の表面の少なくとも一部を被うように結合形成された撥水撥油防汚性薄膜とを有する、微小な凹凸構造が形成されている。しかしながら、この微小な凹凸構造を有する表面は、耐擦傷性が低く、屋外での長期使用において、防汚性や撥水性が低下し、正反射率が低下するという問題があった。
【００２６】
これに対し、本発明のフィルムミラーは、光入射側の表面における空孔径が１０〜２００ｎｍであって撥水剤を有する空孔を有し、かつ前記空孔がない部分を一部に有する撥水性ガラス層を、最も光入射側に備える。これにより、防汚性および耐擦傷性に優れ、正反射率が長期間持続する、すなわち耐久性に優れるフィルムミラーとなる。
【００２７】
本発明に係る撥水性ガラス層は空孔を有するが、その空孔の光入射側の表面における空孔径は１０〜２００ｎｍである。この範囲の空孔径であれば、撥水剤が空孔内に入り込むことが容易になり、安定して撥水性や防汚性が発現すると考えられる。
【００２８】
また、本発明のフィルムミラーは耐擦傷性に優れる。このメカニズムの詳細は不明であるが、砂粒等が撥水性ガラス層の表面にぶつかった際、撥水性ガラス層の空孔間の壁が板バネのように変形してその力を吸収すると考えられ、さらに、空孔がない部分は、撥水性ガラス層の表面の空孔を有する部分と一様の組成を形成している。空孔がない部分は空孔を有する部分のいわば土台となっており、これにより、砂粒等が撥水性ガラス層の表面にぶつかったとしても、該空孔間の壁が壊れにくく、耐擦傷性が向上すると考えられる。
【００２９】
したがって、本発明のフィルムミラーは、屋外での長期使用においても正反射率が持続する、すなわち優れた耐久性を有する。
【００３０】
加えて、本発明のフィルムミラーは、いわば細孔構造を有する撥水性ガラス層を最も光入射側に備えることから、入射光の表面反射を抑えることができ、初期の正反射率に優れる。
【００３１】
以下、本発明の好ましい実施形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施形態のみには限定されない。
【００３２】
また、本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味し、「重量」と「質量」、「重量％」と「質量％」および「重量部」と「質量部」は同義語として扱う。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％ＲＨの条件で測定する。
【００３３】
［フィルムミラーの構成］
図１は、本発明のフィルムミラーの構成の一例を示す概略断面図である。図１に示すフィルムミラー１０ａは、光入射側から順に、撥水性ガラス層３、樹脂基材１、光反射層２、および粘着層４を有している。また、図２は、本発明のフィルムミラーの構成の他の一例を示す概略断面図である。図２に示すフィルムミラー１０ｂは、光入射側から順に、撥水性ガラス層３、光反射層２、樹脂基材１、および粘着層４を有している。
【００３４】
なお、これらの層の間には、他の層が存在していてもよいし、それぞれの層が隣接していてもよい。また、粘着層４の上にさらに別の層を有していてもよい。
【００３５】
以下、本発明のフィルムミラーの構成について、詳細に説明する。
【００３６】
［樹脂基材］
樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂を含むフィルムを用いることができる。樹脂の例としては、例えば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステル等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリスチレン、シンジオタクティックポリスチレン、シクロオレフィンポリマー、ポリノルボルネン、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等を挙げることができる。これら樹脂は、１種でもよいしまたは２種以上組み合わせて用いてもよい。また、樹脂基材は単層構造でもよいし２層以上の多層構造であってもよい。多層構造の場合、それぞれの層に含まれる樹脂は、同じでもよいし異なっていてもよい。
【００３７】
これらの中でも、耐熱性や耐湿性、および撥水性ガラス層との密着性等の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー、およびポリ塩化ビニルからなる群より選択される少なくとも１種の樹脂を含むことが好ましい。該樹脂基材は、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。また、該樹脂基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。
【００３８】
樹脂基材が、光反射層よりも光入射側から遠い位置にある場合、紫外線が樹脂基材に到達しにくい。特に、樹脂基材よりも光入射側にある層等に紫外線吸収剤を含有させたりする場合は、紫外線が樹脂基材により到達しにくい。したがって、樹脂基材は、紫外線に対して劣化しやすい樹脂であっても用いることが可能となる。このような観点から、樹脂基材として、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを用いることが可能となる。
【００３９】
無論、該樹脂基材は紫外線吸収剤を含んでいてもよい。このような紫外線吸収剤としては、特に制限されず、有機系として、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系、ベンゾエート系等の紫外線吸収剤が挙げられ、また無機系としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等が挙げられる。なお、紫外線吸収剤を多量に含有させた際にブリードアウトしてしまうという問題を低減するためには、分子量の１０００以上の高分子の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。好ましくは、分子量１０００以上３０００以下である。該紫外線吸収剤は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。
【００４０】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００４１】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］（分子量６５９；市販品の例としては株式会社ＡＤＥＫＡのＬＡ３１）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（分子量４４７．６；市販品の例としてはチバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社のチヌビン（登録商標）２３４）などが挙げられる。
【００４２】
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤の例としては、例えば、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
【００４３】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、〔２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−（ヘキシル）オキシフェノール〕（チヌビン（登録商標）１５７７ＦＦ、商品名、チバ・スペシャルティーケミカルズ製）、〔２−［４，６−ビス（２，４ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−５−（オクチルオキシ）フェノール〕（ＣＹＡＳＯＲＢ（登録商標）  ＵＶ−１１６４、商品名、サイテックインダストリーズ製）等が挙げられる。
【００４４】
また、上記ベンゾエート系紫外線吸収剤の例としては、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート（分子量４３８．７；市販品の例としては住友化学株式会社のＳｕｍｉｓｏｒｂ（登録商標）４００）などが挙げられる。
【００４５】
樹脂基材の厚さは、樹脂の種類および目的等に応じて適宜選択することができる。例えば、一般的には１０〜２５０μｍの範囲であり、好ましくは２０〜２００μｍである。
【００４６】
［光反射層］
本発明に係る光反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。反射層の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。反射層は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、ロジウム（Ｒｈ）、白金（Ｐｔ）および金（Ａｕ）からなる元素群の中から選ばれる少なくとも１種の元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率、耐食性の観点からアルミニウム（Ａｌ）または銀（Ａｇ）を主成分としていることが好ましく、アルミニウムまたは銀からなることがさらに好ましく、銀からなることが特に好ましい。
【００４７】
このような金属の薄膜を２層以上形成するようにしてもよい。また、反射層上にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物からなる層をこの順に設けてさらに反射率を向上させてもよい。
【００４８】
例えば、本発明に係る光反射層の形成方法としては、湿式法および乾式法のどちらも使用することができる。
【００４９】
湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると銀鏡反応等がある。
【００５０】
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。本発明のフィルムミラーの製造方法としては、光反射層を蒸着法により形成することが好ましい。
【００５１】
乾式法を使用する場合、光反射層は樹脂フィルム上に形成することが好ましい。該樹脂フィルムの例としては、例えば、例えば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリスチレン、シンジオタクティックポリスチレン、シクロオレフィンポリマー、ポリノルボルネン、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等の樹脂を含むフィルムを挙げることができる。これら樹脂は、１種でもよいしまたは２種以上組み合わせて用いてもよい。また、樹脂フィルムは単層構造でもよいし２層以上の多層構造であってもよい。多層構造の場合、それぞれの層に含まれる樹脂は、同じでもよいし異なっていてもよい。また、該樹脂フィルムは、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。
【００５２】
光反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、３０〜１５０ｎｍがより好ましい。
【００５３】
光反射層が銀からなる場合、光反射層を形成する際に、配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより、光反射層を形成するようにしてもよい。
【００５４】
「気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物」とは、溶液中では銀が安定に溶解するための配位子を有するが、溶媒を除去し、加熱焼成することによって、配位子が熱分解し、ＣＯ２や低分子量のアミン化合物となり、気化・脱離し、金属銀のみが残存することのできる銀錯体化合物のことをいう。
【００５５】
このような錯体の例は、公知である特表２００９−５３５６６１号公報、特表２０１０−５００４７５号公報等の各公報等に記載されている。また、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「００８０」〜「０１００」に記載されている製造方法により得られる錯体を用いることができる。
【００５６】
銀錯体化合物を用いる場合、該銀錯体化合物は銀コーティング液組成物に含有され、これを塗布することにより樹脂フィルム上に本発明に係る錯体を含有する塗布膜が形成される。すなわち、銀錯体化合物を用いて樹脂フィルム上に塗布膜を形成した後に、塗布膜を８０〜２５０℃の範囲内の温度において加熱焼成することにより銀反射層を形成することが好ましい。より好ましくは１００〜２２０℃の範囲内、さらに好ましくは１２０〜２００℃の範囲内である。加熱焼成手段としては、特に制限は無く、一般的に用いられる加熱手段はいかなるものでも適用できる。
【００５７】
光反射層は、樹脂基材に対して、光入射側にあってもよいし、光入射側とは反対の側にあってもよい。
【００５８】
［撥水性ガラス層］
本発明に係る撥水性ガラス層は、本発明のフィルムミラーの最も光入射側に設けられる。そして、該撥水性ガラス層は、空孔径が１０〜２００ｎｍであって撥水剤を有する空孔を有し、かつ前記空孔がない部分を一部に有する。かような撥水性ガラス層を備える本発明のフィルムミラーは、防汚性および耐擦傷性に優れ、屋外での長期使用においても正反射率が持続し、初期の正反射率にも優れる。
【００５９】
該撥水性ガラス層の形成方法は、特に制限されないが、（ａ）支持基材（樹脂基材）上に相分離可能なガラス層を形成し、（ｂ）該相分離可能なガラス層の表面を局所加熱し、（ｃ）局所加熱後の相分離可能なガラス層をエッチング処理して空孔を形成し、（ｄ）該空孔に撥水剤を付与する、ことを含む形成方法が好ましい。
【００６０】
〔相分離可能なガラス層〕
本発明で用いられる相分離可能なガラス層の材料の具体例としては、酸化ケイ素−酸化ホウ素−アルカリ金属酸化物、酸化ケイ素−酸化ホウ素−アルカリ金属酸化物−（アルカリ土類金属酸化物、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム）、酸化ケイ素−リン酸塩−アルカリ金属酸化物、酸化ケイ素−酸化ホウ素−酸化カルシウム−酸化マグネシウム−酸化アルミニウム−酸化チタン、酸化ホウ素−アルカリ金属酸化物−（酸化セリウム，酸化トリウム，酸化ハフニウム，酸化ランタン））などを挙げることができる。中でも、比較的広い組成領域で相分離し、安定して相分離を起こしやすいことから、また、局所加熱に紫外光を用いる際は、紫外域に吸収を持つために効率的に表層から紫外光を吸収して熱に変換できることから、酸化ケイ素−酸化ホウ素−アルカリ金属酸化物、酸化ケイ素−酸化ホウ素−アルカリ金属酸化物−（アルカリ土類金属酸化物、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム）等のホウケイ酸塩ガラスを含むことが好ましい。
【００６１】
特に好ましくは、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）；６０〜８５質量％、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）；１０〜３０質量％、Ｎａ２Ｏ；３〜１０質量％、および他の組成を５質量％未満で含むホウケイ酸塩ガラスである。
【００６２】
上記の材料は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。
【００６３】
相分離可能なガラス層の製造方法は、特に制限されないが、樹脂を含むフィルム等の支持基材上に原料を蒸着させる蒸着法が好ましい。蒸着法としては、特に限定されず、公知の薄膜堆積技術を利用することが出来る。例えば、蒸着法、反応性蒸着法、スパッタ法、反応性スパッタ法、化学気相堆積法などが挙げられる。
【００６４】
組成の均一性からスパッタ法が好ましい。例えば、所望する組成のガラスを用いてターゲットを作製し、マグネトロンスパッタ装置で成膜することができる。
【００６５】
上記支持基材として用いられる樹脂を含むフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、変性ポリエステル等の二軸延伸ポリエステル系フィルム、ポリエチレン（ＰＥ）フィルム、ポリプロピレン（ＰＰ）フィルム、ポリスチレンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム等のポリオレフィン類樹脂フィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム等のビニル系樹脂フィルム、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）フィルム、ポリスルホン（ＰＳＦ）フィルム、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム等を用いることができる。
【００６６】
これら樹脂を含むフィルムは、１種でもよいしまたは２種以上組み合わせて用いてもよい。中でも、高強度、高透明性、低熱膨張等の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）であることが好ましい。特に、１５０℃、３０分の熱収縮を０．５％以下に抑えたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）は局所加熱処理による寸法変化の影響を受けにくいことから好ましい。なお、上記支持基材として用いられる樹脂を含むフィルムは、本発明に係る樹脂基材となり得る。また、上記支持基材として用いられる樹脂を含むフィルムが紫外線吸収剤を含む場合、該樹脂を含むフィルムは、後述の透光性樹脂層となり得る。
【００６７】
相分離可能なガラス層の厚さは、本発明に係る撥水性ガラス層の好ましい厚さとなるように設定すればよい。すなわち、相分離可能なガラス層の厚さは、１００ｎｍ〜２μｍであることが好ましく、２００ｎｍ〜１μｍであることがより好ましい。
【００６８】
〔スピノーダル型多孔構造〕
本発明に係る撥水性ガラス層は、相分離可能なガラス層の少なくとも光入射側の表面に、スピノーダル型多孔構造を有することが好ましい。
【００６９】
ガラスの相分離は、スピノーダル型とバイノーダル型とに分類される。バイノーダル型は母相と異なる第２ガラス相が球状組織を形成するのに対して、スピノーダル型は組成の異なる２つのガラス相が絡み合い３次元網目状組織を形成する。本発明において、スピノーダル型多孔構造とは、このスピノーダル型３次元網目状組織を、酸溶液等と接触させることにより酸可溶成分を溶出除去して形成した多孔構造を表している。酸化ケイ素、酸化ホウ素、アルカリ金属を有する酸化物を含むホウケイ酸塩ガラスを用いた場合は、アルカリ金属を有する酸化物と酸化ホウ素を相分離前の組成より多く含有する相（非シリカリッチ相）が酸により溶出除去できる。
【００７０】
スピノーダル型の相分離由来の空孔とバイノーダル型の相分離由来の空孔とは、電子顕微鏡による形態観察結果より判断され区別されうる。主に、ガラスの組成で、スピノーダル型の相分離かバイノーダル型の相分離かが決まる。
【００７１】
本発明に係る撥水性ガラス層においては、その製造の際、相分離可能なガラス層の少なくとも光入射側の表面に対して、後に説明する局所加熱を行う。これにより、撥水性ガラス層の光入射側の表面における空孔径が、すなわちスピノーダル型多孔構造の表面における空孔径が１０〜２００ｎｍの範囲となる。
【００７２】
本発明に係る撥水性ガラス層の光入射側の表面における空孔径は、１０〜２００ｎｍである。空孔径が１０ｎｍ未満では、撥水剤を空孔内部まで浸透させることができなくなり、防汚性（撥水性）が低下する。一方、２００ｎｍを超えると、表面ヘイズや初期の正反射率が低下し、耐擦傷性や長期使用時の正反射率も低下する。該空孔径は、好ましくは３０〜１８０ｎｍであり、より好ましくは４０〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは５０〜１００ｎｍである。なお、本明細書において、該空孔径は、撥水性ガラス層の超薄切片を作製し、その透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の断面写真から、最表面の突起構造の距離を５０個測定し、その平均を算出した値とする。
【００７３】
本発明に係る撥水性ガラス層の空孔の深さは、１００〜６００ｎｍであることが好ましく、２００〜５００ｎｍであることがより好ましい。空孔の深さがこの範囲であれば、撥水性のこすれに対する耐久性が向上し、主に微小な砂粒が高速でぶつかることが原因で生じる傷に対する耐性が向上する。該空孔の深さは、さらに好ましくは２５０〜４８０ｎｍであり、特に好ましくは２７０〜４７０ｎｍであり、さらに特に好ましくは３００〜４５０ｎｍである。なお、本明細書において、該空孔の深さは、撥水性ガラスの超薄切片を作製し、その透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の断面写真から、空孔が見られなくなる深さを５０個の空孔について測定し、その平均を算出した値とする。
【００７４】
また、本発明に係る撥水性ガラス層の空孔の形は、表面から撥水性ガラス層の厚さ方向に向かって空孔径が減少する構造となっていてもよい。このような構造であれば、さらに安定して防汚性（撥水性）が発現し、耐擦傷性や耐久性がさらに向上したフィルムミラーとなる。
【００７５】
このような空孔径の減少は、段階的であってもよいし連続的であってもよく、特に制限されない。なお、空孔の形は、撥水性ガラス層の超薄切片を作製し、その透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の断面写真から、空孔の深さの５０ｎｍおきに、空孔径を５０個測定し、その平均をその深さにおける空孔径とする。そして、表面から深さ方向に空孔径が減少しているかどうかを調べることにより、確認することができる。
【００７６】
該スピノーダル型多孔構造は、上記の相分離可能なガラス層の少なくとも光入射側の表面に有していればよく、両表面に有していてもよい。
【００７７】
本発明に係る撥水性ガラス層は、空孔がない部分を一部に有する。このような構造を有することにより、安定して耐擦傷性が発現し、耐久性に優れた撥水性ガラス層となる。この空孔がない部分においては、相分離が生じていてもよいし相分離が生じていなくてもよい。相分離が生じていない場合は、相分離が生じている部分に起因する光の散乱が抑制されることから、正反射率がより向上する。また、相分離が生じていない部分を有していれば、撥水性ガラス層の強度がより向上する。加えて、相分離が生じている部分は不連続面を有することになるため、表面のスピノーダル型多孔構造に砂粒等がぶつかった場合、その不連続面に応力が集中して、いわば空孔の壁となっている表面の突起構造が壊れやすくなる場合がある。撥水性ガラス層の空孔がない部分が、相分離を生じていなければ、上記のような現象を抑えることができ、耐擦傷性がより向上すると考えられる。なお、空孔がない部分の厚さ、大きさ等は特に制限されない。
【００７８】
空孔がない部分において相分離が生じているかどうかは、撥水性ガラス層のＴＥＭの画像の目視による色の濃淡から判断することができる。濃淡がない部分があれば、その空孔がない部分は、相分離していない構造を有すると判断することができる。
【００７９】
上記のような撥水性ガラス層の空孔の空孔径、空孔の深さ、空孔の形、空孔がない部分の構造の制御、および相分離が生じていない構造の制御は、相分離可能なガラスの構成材料の選択、局所加熱の条件の制御、エッチング処理の条件の制御等により制御することができる。
【００８０】
撥水性ガラス層の形成方法として採用される相分離可能なガラス層の表面を局所加熱する方法や、局所加熱後の相分離可能なガラス層をエッチング処理する方法の詳細については、後の［フィルムミラーの製造方法］の項で述べる。
【００８１】
〔撥水剤〕
本発明に係る撥水性ガラス層は、上記空孔に撥水剤を有する。撥水剤としては、特に制限されないが、単分子膜を形成する化合物であることが好ましい。単分子膜とは、自己組織化単分子膜（Ｓｅｌｆ−Ａｓｓｅｍｂｌｅｄ  Ｍｏｎｏｌａｙｅｒ（ＳＡＭ））に代表されるような物質であり、分子中の一官能基が基板と化学結合を形成し，その他の部分は分子間で化学結合を形成せず、一分子分の厚さの膜しか形成されないものである。
【００８２】
単分子膜を形成する化合物としては、シリコーン化合物、フッ素含有化合物であることが好ましく、フッ素含有化合物であることがより好ましい。
【００８３】
単分子膜を形成するフッ素含有化合物としては、フッ素結合基を有するとともに末端にはアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤であり、シランカップリング反応を経て、シラノール結合を形成することができる化合物であることがより好ましい。また、その化合物（シランカップリング剤）の中でも、シラン化合物中のフルオロアルキル基が、Ｓｉ原子１つに対し、１つ以下の割合でＳｉ原子と結合されており、残りは加水分解性基もしくはシロキサン結合基であるシラン化合物が好ましい。ここでいう加水分解性基としては、例えばアルコキシ基等であり、加水分解によってヒドロキシル基となり、それに応じてシラン化合物は重縮合物を形成する。
【００８４】
該撥水剤は、市販品を用いてもよいし、合成品を用いてもよい。例えば、上記したシラン化合物を、室温（２５℃）〜１００℃の範囲で副生するアルコールを留去しながら、水と（必要なら酸触媒の存在下）反応させる。これにより、アルコキシシランは（部分的に）加水分解し、一部縮合反応が起こり、ヒドロキシル基を有する加水分解物として得ることができる。加水分解、縮合の程度は、反応させる水の量により適宜調節することができる。本発明においては、シラン化合物溶液に積極的には水を添加せず、調製後、主として乾燥時に、空気中の水分等により加水分解反応を起こさせるため、溶液の固形分濃度を薄く希釈して用いることが好ましい。
【００８５】
用いられる撥水剤の具体例としては、例えば、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）（ＯＣ３Ｈ７）２、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＣ３Ｈ７、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２ＳｉＣＨ３（ＯＣ２Ｈ５）２、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２ＳｉＣＨ３（ＯＣ３Ｈ７）２、（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、Ｃ７Ｆ１５ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｃ８Ｆ１７（ＣＨ２）２ＯＣＯＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣ２Ｈ５）２、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣ３Ｈ７）２、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）（ＯＣ３Ｈ７）２、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣ２Ｈ５）２、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣ３Ｈ７）２、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣ３Ｈ７）２、ＣＦ３（ＣＦ２）２Ｏ（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）、Ｃ７Ｆ１５ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｃ８Ｆ１７（ＣＨ２）２ＯＣＨＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３などが挙げられるが、これらに制限されるものではない。
【００８６】
また、アルコキシ基を有するパーフルオロアルキルシラン（信越化学工業株式会社製：ＫＢＭ−７８０３（化学式はＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３））、塩素原子を有するパーフルオロアルキルシラン（東芝シリコーン株式会社製：ＴＳＬ８２３２、化学式はＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３）、オプツールシリーズ（ダイキン工業株式会社製）、ＦＧ−５０２０（株式会社フロロテクノロジー製）などを、市販品の例として挙げることができる。
【００８７】
これら撥水剤は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。中でも、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３が好ましい。
【００８８】
上記空孔に撥水剤を付与する方法としては、例えば、真空蒸着法に代表される乾式プロセスや、撥水剤を含む液を用いディップコート法やスピンコート法により塗布したり、含浸させたりする湿式プロセスがある。この空孔に撥水剤を付与する方法については、後述の［フィルムミラーの製造方法］の項で詳述する。
【００８９】
撥水性ガラス層の厚さは、１００ｎｍ〜２μｍであることが好ましく、２００ｎｍ〜１μｍであることがより好ましい。
【００９０】
本発明のフィルムミラーは、必要に応じて、透光性樹脂層、接着層、樹脂コート層、透明ハードコート層、ガスバリア層、アンカー層、粘着層、剥離層等の各層を有していてもよい。以下、これらの層について説明する。
【００９１】
［透光性樹脂層］
透光性樹脂層は、光透過性を有する樹脂材料からなり、紫外線吸収剤を含有している樹脂層である。
【００９２】
透光性樹脂層に用いる樹脂材料には特に制限はないが、薄膜を形成した際に透明性を維持しうる、従来公知の種々の樹脂を用いることができる。例えば、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「００２７」〜「００３５」に記載の材料を用いることができる。
【００９３】
この透光性樹脂層の形成方法としては、例えば溶融流涎、押し出し成形による成膜方法や、塗布による方法を挙げることができる。溶融流涎や押し出し成形といった方法により製造される透光性樹脂層は、従来公知の樹脂フィルムとして市販されるものを使用することができる。塗布方式で透光性樹脂層となる塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができる。そして、反射層の光入射側の面上、または反射層よりも光入射側に設けられた構成層（例えば、腐食防止層）の面上に、透光性樹脂層となる材料を直接塗布することによって、透光性樹脂層を形成することができる。
【００９４】
こうした塗布方式で透光性樹脂層を形成することによって、透光性樹脂層の平滑性を高めることができる。具体的には、塗布方式で形成した透光性樹脂層の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下にすることができる。換言すれば、中心線平均粗さがこの値を満たせば、溶融製膜によって製造された透光性樹脂フィルムを接着剤層で貼り合わせて設けられた透光性樹脂層ではなく、その透光性樹脂層が塗布によって設けられたものとみなすことができる。
【００９５】
透光性樹脂層の厚さは、１０〜１５０μｍであることが好ましく、２０〜１００μｍであることがより好ましく、４０〜１００μｍであることがさらに好ましい。
【００９６】
透光性樹脂層の平滑性の指標となる中心線平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９８２に基づく測定方法により求めることができる。
【００９７】
該透光性樹脂層に含まれる紫外線吸収剤の具体例としては、上記［樹脂基材］の項で説明した紫外線吸収剤が挙げられる。
【００９８】
また、紫外線吸収剤としては上記した以外に、紫外線の保有するエネルギーを分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物を用いることもできる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用により効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。通常の紫外線吸収剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
【００９９】
上記紫外線吸収剤は、単独でもまたは２種以上を組み合わせて用いることもできる。また、必要により、上記紫外線吸収剤以外の紫外線吸収剤、例えば、サリチル酸誘導体、置換アクリロニトリル、ニッケル錯体などを含有させることもできる。
【０１００】
透光性樹脂層への紫外線吸収剤の含有量は、好ましくは０．１〜２０質量％、より好ましくは１〜１５質量％、さらに好ましくは３〜１０質量％である。また、紫外線吸収剤の透光性樹脂層への含有量は、フィルム単位面積当たりの含有量が好ましくは０．１７〜２．２８ｇ／ｍ２であり、より好ましくは単位面積当たりの含有量が０．４〜２．２８ｇ／ｍ２である。含有量を上記の範囲にすることによって、耐候性能を十分発揮しつつ、紫外線吸収剤のブリードアウトによるロールやフィルムの汚れを起こすことを防止できる。
【０１０１】
また、紫外線吸収剤が含まれている透光性樹脂層の劣化を防止するために、透光性樹脂層にさらに酸化防止剤を含有させてもよい。酸化防止剤の具体例としては、フェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤などが挙げられる。より具体的には、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「００４８」〜「００５２」に記載の化合物が使用できる。
【０１０２】
また、該酸化防止剤と光安定剤とを併用してもよい。光安定剤としてはニッケル系紫外線安定剤が挙げられ、より具体的には、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「００５３」に記載の化合物が使用できる。
【０１０３】
透光性樹脂層に帯電防止剤を加えて、帯電防止性能を付与することも可能である。また、透光性樹脂層にリン系難燃剤を加えてもよい。
【０１０４】
［接着層］
接着層は、層同士の接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。接着であっても粘着であってもよい。好ましくは、透光性樹脂層と樹脂コート層とを接着させる層である。接着層は、層同士を密着する密着性、光反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、および光反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性を有することが好ましい。
【０１０５】
接着層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは３〜８μｍである。
【０１０６】
接着層が樹脂からなる場合、材料としては特に制限はなく、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂等が使用できる。耐候性の点からポリエステル樹脂とメラミン樹脂との混合樹脂またはポリエステル樹脂とウレタン樹脂との混合樹脂が好ましく、さらにアクリル樹脂にイソシアネートを混合させるような、イソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【０１０７】
また、接着層が金属酸化物からなる場合、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等、各種真空製膜法により製膜することができる。例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。
【０１０８】
［樹脂コート層］
透光性樹脂層を設ける場合、該透光性樹脂層と光反射層との間に樹脂コート層を設けてもよい。樹脂コート層が光反射層に隣接している場合、樹脂コート層が光反射層の腐食を防止するように、腐食防止剤を含有していることが好ましい。
【０１０９】
樹脂コート層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。樹脂コート層の厚さは、好ましくは１〜１０μｍ、より好ましくは２〜８μｍである。
【０１１０】
樹脂コート層のバインダーとしては、例えば、セルロースエステル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ポリノルボルネン、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、またはアクリル樹脂等を挙げることができる。中でも、アクリル樹脂が好ましい。
【０１１１】
腐食防止剤としては、光反射層を構成する金属に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属がそれをとり囲む環境物質によって、化学的もしくは電気化学的に浸食されるかまたは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３：２００４参照）。なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【０１１２】
金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、例えば、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系化合物の少なくとも１種またはこれらの２種以上の混合物から選ばれることが好ましい。ベンゾトリアゾール等の化合物においては、紫外線吸収剤が腐食防止剤を兼ねる場合もある。また、シリコーン変性樹脂を用いることも可能である。さらに具体的には、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「００６３」〜「００７２」に記載の腐食防止剤を使用することができる。
【０１１３】
［透明ハードコート層］
光入射側から２層目または３層目に透明ハードコート層を設けてもよい。透明ハードコート層は、フィルムミラー表面の傷つきや汚れの付着を防止する目的で設けられる。なお、ハードコート層の厚みは、十分な耐傷性を得つつ、フィルムミラーにそりが発生するのを防止するという観点から、０．０５〜１０μｍであることが好ましく、１〜１０μｍであることがより好ましい。
【０１１４】
透明ハードコート層を形成する材料としては、透明性、耐候性、硬度、機械的強度等が得られるものであれば、特に限定されるものではない。具体的には、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン樹脂等の樹脂材料；酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン、ポリシラザン等の無機材料などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン樹脂やアクリル樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル樹脂、または熱硬化型のアクリル樹脂からなるものが好ましい。
【０１１５】
活性エネルギー線硬化型のアクリル樹脂または熱硬化型のアクリル樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマー、または反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
【０１１６】
透明ハードコート層に用いられる材料や透明ハードコート層の形成方法については、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「０１２５」〜「０１６８」に記載の材料や形成方法を適宜採用することができる。
【０１１７】
［ガスバリア層］
銀反射層よりも光入射側にガスバリア層を設けてもよい。ガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材および樹脂基材に支持される各構成層等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであってもよく、上記劣化防止機能を有する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。
【０１１８】
ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることがより好ましく、０．２ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることがさらに好ましい。また、ガスバリア層の酸素透過度としては、測定温度２３℃、９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
【０１１９】
ガスバリア層の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング、イオンビームアシスト、化学気相成長法等の方法により無機酸化物を形成する方法が挙げられるが、ゾル−ゲル法による無機酸化物の前駆体を塗布した後に、その塗布膜に加熱処理および／または紫外線照射処理を施して、無機酸化物膜を形成する方法も好ましく用いられる。
【０１２０】
無機酸化物は、有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものである。例えば、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であり、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等である。これらのうち、好ましくは酸化ケイ素である。
【０１２１】
無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル−ゲル法またはポリシラザン法を用いることが好ましい。ゾル−ゲル法は無機酸化物の前駆体である有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法であり、ポリシラザン法は無機酸化物の前駆体であるポリシラザンから無機酸化物を形成する方法である。ゾル−ゲル法に用いられる化合物や詳細については、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「０１７４」〜「０１９１」に記載の化合物や方法を適宜採用することができる。
【０１２２】
［アンカー層］
アンカー層は樹脂からなり、樹脂基材および光反射層、または光反射層の支持基材（樹脂フィルム）および光反射層を密着させるために設けられる層である。したがって、アンカー層は、樹脂基材（支持基材）と光反射層とを密着させる密着性、光反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、および光反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性を有することが好ましい。
【０１２３】
アンカー層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、および平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂等が使用できる。耐候性の点からポリエステル樹脂とメラミン樹脂との混合樹脂またはポリエステル樹脂とウレタン樹脂との混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【０１２４】
アンカー層の厚さは、好ましくは０．０１〜３μｍ、より好ましくは０．１〜２μｍである。この範囲を満たすことにより、密着性を保ちつつ、樹脂基材表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性を良好にでき、アンカー層の硬化も十分に行えるため、結果としてフィルムミラーの反射率を高めることが可能となる。
【０１２５】
また、アンカー層には、上述の［樹脂コート層］の項に記載の腐食防止剤を含有させることができる。
【０１２６】
アンカー層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【０１２７】
［粘着層］
フィルムミラーの粘着層は、当該粘着層によってフィルムミラーを支持体に貼り付けて、太陽光発電用反射装置を形成するための層である。なお、フィルムミラーは粘着層の光入射側とは逆側に剥離層を有していてもよい。フィルムミラーが剥離層を有する場合、剥離層を粘着層から剥離した後、粘着層を介してフィルムミラーを支持体に貼り付けることができる。
【０１２８】
粘着層としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。粘着剤としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。ラミネート法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行うのが経済性および生産性の点から好ましい。また、粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜１００μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１２９】
［剥離層］
本発明のフィルムミラーは、粘着層の光入射側と逆側に剥離層を有していてもよい。例えば、フィルムミラーの出荷時には剥離層が粘着層に張り付いた状態で出荷し、剥離層から粘着層を有するフィルムミラーを剥離し、他の基材に貼り合わせて太陽光反射用ミラーを形成することができる。
【０１３０】
剥離層としては、光反射層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルムもしくはシート、ポリカーボネートフィルムもしくはシート、ポリアリレートフィルムもしくはシート、ポリエチレンナフタレートフィルムもしくはシート、ポリエチレンテレフタレートフィルムもしくはシート、フッ素樹脂フィルムなどのプラスチックフィルムもしくはシート、または酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルムもしくはシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたりアルミニウム等の金属を金属蒸着などの表面加工を施したりした樹脂フィルムもしくはシートが用いられる。
【０１３１】
剥離層の厚さは、特に制限はないが通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１３２】
また、これらの剥離層をフィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよい。
【０１３３】
［フィルムミラーの製造方法］
本発明に係るフィルムミラーの製造方法は、特に制限されないが、樹脂フィルム上に光反射層を形成する工程と、樹脂基材上に相分離可能なガラス層を形成する工程と、前記相分離可能なガラス層の少なくとも光入射側の表面を局所加熱する工程と、前記局所加熱後の前記相分離可能なガラス層をエッチング処理しスピノーダル型多孔構造を形成する工程と、前記スピノーダル型多孔構造の空孔に撥水剤を付与する工程と、前記光反射層と前記樹脂基材とを貼合する工程と、を含む製造方法が好適に用いられる。以下、かような製造方法について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１３４】
〔樹脂フィルム上に光反射層を形成する工程〕
本工程では、樹脂フィルム上に光反射層を形成する。光反射層の形成方法は上記［光反射層］の項で説明した通りであるので、ここでは説明を省略する。
【０１３５】
〔樹脂基材上に相分離可能なガラス層を形成する工程〕
本工程では、本発明に係る樹脂基材上に、相分離可能なガラス層を形成する。相分離可能なガラス層の形成方法は、上記［撥水性ガラス層］の項で説明した通りであるので、ここでは説明を省略する。
【０１３６】
〔局所加熱する工程〕
本工程では、相分離可能なガラス層の少なくとも光入射側の表面を局所加熱する。局所加熱された部分は、スピノーダル型の相分離が生じる。
【０１３７】
従来のような、ガラス全体を一定の温度に加熱する方法では、ガラス全体が相分離してしまうために、本発明の撥水性ガラス層の構造は得られない。本発明においては、相分離可能なガラス層の表面のみを局所加熱することにより、表層ほどスピノーダル型の相分離が進み、空孔径が大きくすることができる。また、撥水性ガラス層の厚さ方向の内部になるにつれ、加熱による温度の上昇が低く抑えられる。そのため、空孔がない部分を一部に有する構造とすることができる。
【０１３８】
また、局所加熱を利用することにより、加熱する表面近傍のみしか高温にならないことから、高温には耐えられないような樹脂基材上に相分離可能なガラス層を形成することが可能となる。
【０１３９】
局所加熱の方法としては、特に制限されないが、スピノーダル型多孔構造を形成させる表面の側から、パルス光を繰り返し照射する方法、マイクロ波を照射する方法、プラズマを照射する方法等を挙げることができる。中でも、光の吸収により加熱範囲を制御しやすいことから、パルス光を繰り返し照射することが好ましく、効率の点からレーザー光源から出射されるパルス光を用いることがより好ましい。
【０１４０】
用いることができる活性エネルギー線としては、ＫｒＦエキシマレーザー（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマレーザー（波長：１５７ｎｍ）、ＸｅＣｌレーザー（波長：３０８ｎｍ）、ＸｅＦレーザー（波長：３５１ｎｍ）もしくは固体ＵＶレーザー（波長：３５５ｎｍ）等のレーザー光源から発せられる光、またはｇ線（波長：４３６ｎｍ）、ｈ線（波長：４０５ｎｍ）、もしくはｉ線（波長：３６５ｎｍ）などが挙げられる。
【０１４１】
レーザー光による照射処理の場合、用いるレーザー光の波長は、効率、素材の光吸収波長の観点から、１５０〜４００ｎｍの範囲が好ましい。また、レーザー光のエネルギー密度（照射強度）は１０〜２００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、レーザー光のパルス幅は５〜３０ｎｓｅｃが好ましく、レーザー光のパルスの繰り返し周波数は１〜１００Ｈｚが好ましい。また、レーザー光の照射時間は１０〜６０ｓｅｃが好ましく、照射回数は１０〜３００回が好ましい、更に好ましくは３０〜２００回である。
【０１４２】
また、可視光域の波長を主体とするフラッシュ光照射を用いることもできる。フラッシュ光照射で用いられるフラッシュランプの放電管としては、キセノン、ヘリウム、ネオン、アルゴン等の放電管を用いることが出来るが、キセノンランプを用いることが好ましい。
【０１４３】
フラッシュランプの好ましいスペクトル帯域としては、２４０ｎｍ〜２０００ｎｍでフラッシュランプの光照射条件は任意であるが、光照射エネルギーの総計が０．１〜５０Ｊ／ｃｍ２であるのが好ましく、０．５〜１０Ｊ／ｃｍ２であるのがより好ましい。光照射時間は１０μ秒〜１００ｍ秒が好ましく、１００μ秒〜１０ｍ秒で行うのがより好ましい。光照射回数は１回でも複数回でも良く、１〜１０００回の範囲で行うのが好ましい。
【０１４４】
なお、この局所加熱は、相分離可能なガラス層の光入射側とは反対側の表面に施されてもよい。
【０１４５】
〔光熱変換層〕
本発明の製造方法においては、上記の局所加熱する工程の前に、局所加熱を施す撥水性ガラス層の表面上に光熱変換層を形成する工程をさらに含んでもよい。局所加熱の際、ガラスが吸収できる波長の光源を利用する場合は、ガラス自身が光のエネルギーを吸収可能であり、かつ、表面に近いほど吸収する光の量が多くなるため、特に光熱変換層を設けなくてもよい。例えば、酸化ケイ素、酸化ホウ素、およびアルカリ金属を有する酸化物を含むホウケイ酸塩ガラスを撥水性ガラス層の材料として用いた場合、２７０ｎｍよりも短波長の光はある程度吸収するので、２７０ｎｍよりも短波長の光源を用いる場合は、特に光熱変換層を設けなくてもよい。
【０１４６】
しかしながら、ガラスが吸収できない波長の光源を利用する、またはガラスの吸収が弱い場合は、光熱変換層を設けることが好ましい。また、ガラスが吸収できる波長の光源を利用する場合でも、効率的に光を熱に変換する、加熱領域をより表面に制限する、またはガラスへのダメージを軽減する等の目的から、光熱変換層を設けることが好ましい。
【０１４７】
光熱変換層は、光エネルギーを熱に変換する機能を有する層であり、局所加熱を行う前に、好ましくは相分離可能なガラス層の局所加熱を施す表面上に形成される。光熱変換層の層厚は、特に制限されないが、５〜１０００ｎｍであることが好ましく、１０〜５００ｎｍであることがより好ましい。
【０１４８】
光熱変換層の材料としては、光エネルギーを熱に変換する機能を光熱変換層に付与することができる限りにおいて、従来公知の任意の材料を用いることができる。光熱変換層の材料は、光照射によって効率よく発熱させることができるという観点から、バンドギャップが１．０ｅＶ以上４．０ｅＶ以下であることが好ましく、バンドギャップが２．０ｅＶ以上３．５ｅＶ以下であることがより好ましい。
【０１４９】
このような性質の材料としては、金属材料や半導体材料を挙げることができる。金属材料としては、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物等を挙げることができる。金属酸化物としては、ＴｉＯ２（３．１ｅＶ）（カッコ内はバンドギャップを表す、以下同様）、ＳｒＴｉＯ３（３．２７ｅＶ）、ＺｎＯ（３．３７ｅＶ）、ＷＯ３（２．５ｅＶ）、Ｂｉ２Ｏ３（２．８ｅＶ）、ＣｅＯ２（３．４ｅＶ）、ＢａＴｉＯ３（３．３ｅＶ）、ＰｂＴｉＯ３（２．５−３．２ｅＶ）、ＣｄＯ（２．４２ｅＶ）、Ｉｎ２Ｏ３（２．５ｅＶ）、ＩＴＯ（３．７５ｅＶ）、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３（ＡＺＯ）（３．４−３．８ｅＶ）等を用いることができる。また、金属窒化物としては、ＧａＮ（３．４５ｅＶ）、ＡｌＮ（６．２ｅＶ）、ＳｉＮ（５．１７ｅＶ）等を用いることができ、金属炭化物としては、ＴｉＣ（４．６２ｅＶ）、ＡｌＣ（３．７ｅＶ）、ＳｉＣ（３．０ｅＶ）等を用いることができる。なお、金属材料は、例えば、ＧａＡｓＯ、ＧａＳｂＯ，ＧａＰＯ，ＩｎＧａＯ３など、金属元素を２種以上含んでいてもよい。
【０１５０】
半導体材料としては、ＣｄＳ（２．４２ｅＶ）、ＧａＰ（２．２５ｅＶ）、ＩｎＰ（１．３５ｅＶ）、ＺｎＳｅ（２．６ｅＶ）、Ｓｉ（１．２ｅＶ）、ＧａＡｓ（１．４３ｅＶ）、ＧａＳｂ（０．６７ｅＶ）、等を用いることができる。
【０１５１】
好ましくは、光熱変換層の材料は、Ｔｉ、Ｇａ、Ａｓ、ＰおよびＳからなる群より選択される少なくとも１種の元素を含む。
【０１５２】
光熱変換層の形成方法は、特に制限されず、電子ビーム蒸着法（ＥＢ蒸着法）による方法、蒸着法、反応性蒸着法、スパッタ法、反応性スパッタ法、化学気相堆積法等が挙げられる。中でも、成膜速度の速さから、電子ビーム蒸着法（ＥＢ蒸着法）による方法を好ましく利用できる。
【０１５３】
フラッシュ光照射を用いる場合は、その波長に吸収を有する物質若しくはカーボンブラックのように広い吸収領域を有する物質が好ましい。中でも、カーボンブラックは熱分解温度が高く、広い吸収領域を有することから好ましく利用できる。
【０１５４】
〔エッチング処理し空孔を形成する工程〕
本工程では、上記局所加熱を行った後の撥水性ガラス層に対しエッチング処理を行う。これにより、撥水性ガラス層の少なくとも光入射側の表面にスピノーダル型の多孔構造が形成される。
【０１５５】
エッチング処理は、局所加熱した撥水性ガラス層を酸溶液と接触（浸漬）させて、酸可溶成分（ホウケイ酸塩ガラスの場合は非シリカリッチ相）を溶出除去する。上記酸溶液としては、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸等を単独または２種以上組み合わせて用いることができる。酸溶液の濃度は、好ましくは０．１〜５ｍｏｌ／Ｌ（０．１〜５規定）であり、より好ましくは０．５〜２ｍｏｌ／Ｌ（０．５〜２規定）である。浸漬の場合の酸溶液の温度は２０〜１００℃の範囲が好ましく、浸漬時間は５分〜１２時間の範囲が好ましい。
【０１５６】
ガラス組成によっては、ガラス表面にエッチングを阻害するシリカ層が数百ｎｍ程度の厚さで発生する場合がある。このシリカ層は、研磨やアルカリ処理などで除去することができる。また、ガラス組成によっては、シリカ骨格にシリカゲルが堆積する場合がある。必要であれば、酸性度が異なる酸エッチング液または水を用い、多段階でエッチングする方法を用いることもできる。また、必要であれば、エッチング処理中に超音波を印加して本工程を行うこともできる。
【０１５７】
酸溶液との接触処理の後、ガラス中に付着した酸や溶出せずに残った酸可溶成分を除去する目的で、水によるリンスを行うのが一般的である。
【０１５８】
なお、上記の光熱変換層を設けた場合は、このエッチング処理により光熱変換層も除去される。
【０１５９】
〔空孔に撥水剤を付与する工程〕
本工程では、空孔に撥水剤を付与する。空孔に撥水剤を付与する方法としては、真空蒸着法に代表される乾式プロセスや、スピンコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、エアナイフコート法等の湿式プロセスが挙げられ、特に制限されない。しかしながら、空孔の内部まで撥水剤を存在させる簡便な方法であるという観点から、湿式プロセスが好ましく、撥水剤を溶剤中に溶解または分散させ、その中にエッチング処理後の相分離可能なガラス層を浸漬して塗布するディップコート法がより好ましい。以下、ディップコート法について説明する。
【０１６０】
上記の撥水剤を溶解または分散させる有機溶剤としては、特に制限されず、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；ヘプタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類等が挙げられる。これら有機溶剤は、単独でもまたは２種以上混合しても用いることができる。
【０１６１】
また、撥水剤としてフルオロアルキルシランを用いる場合は、上記有機溶剤に溶解させた上で、必要に応じて水を添加して加水分解させ、さらに縮合させたものを用いてもよい。水の添加量はフルオロアルキルシランに対して３〜５倍当量であることが好ましい。必要に応じて、フルオロアルキルシランの加水分解のための触媒として、適宜酸触媒やアルカリ触媒などを含有させてもよい。酸触媒としては塩酸、アルカリ触媒としてはアンモニア等が挙げられる。
【０１６２】
上記撥水剤を溶解または分散させた液中の撥水剤の含有量は、特に制限されないが、０．００１〜１０質量％であることが好ましく、０．０１〜５質量％であることがより好ましく、０．０５〜１質量％であることがさらに好ましい。この含有量であれば、撥水効果が十分発揮され、ガラスにクラックが発生したり、失透したりするのを抑制することができる。また、液の調製が容易となり、液の安定性が向上する。このような撥水剤を含む液中に、空孔を形成した相分離可能なガラス層を含浸させ、必要に応じて加熱、還流し、１分〜４８時間含浸させておく。含浸後は撥水性ガラス層を液から引上げ、６０〜２００℃で、３０分から数時間程度乾燥または熱処理する。このようにして、空孔に撥水剤が付与される。
【０１６３】
空孔に付与された撥水剤は、空孔表面に存在する官能基（シラノール基など）と静電的相互作用により吸着していてもよいし、または乾燥や熱処理により空孔表面の官能基と化学結合を形成して存在していてもよい。
【０１６４】
このようにして、本発明に係る撥水性ガラス層が形成される。
【０１６５】
〔光反射層と樹脂基材とを貼合する工程〕
本工程では、光反射層と、上部に撥水性ガラス層が形成された樹脂基材とを貼り合わせ、フィルムミラーを完成させる。貼り合わせの方法としては、特に制限されず、ドライラミネート等、従来公知の方法が適宜採用される。
【０１６６】
［太陽熱発電用反射装置］
本発明の太陽熱発電用反射装置は、本発明のフィルムミラーと、自己支持性の支持体とを有し、粘着層を介してフィルムミラーが支持体に接合されている。すなわち、本発明は、本発明のフィルムミラーまたは本発明の製造方法により得られるフィルムミラーと、支持体とを有する太陽熱発電用反射装置をも提供する。
【０１６７】
自己支持性の支持体は、以下のＡおよびＢのいずれかの構成を有することが好ましい。
【０１６８】
Ａ：一対の金属平板と、当該金属平板の間に設けられた中間層とを有し、当該中間層は中空構造を有する層または樹脂材料から構成される層である。
【０１６９】
Ｂ：中空構造を有する樹脂材料層からなる。
【０１７０】
「自己支持性の支持体」という場合の、「自己支持性」とは、太陽熱発電用反射装置の支持体として用いられる大きさに断裁された場合において、その対向する端縁部分を支持することで、支持体を担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。太陽熱発電用反射装置の支持体が自己支持性を有することで、太陽熱発電用反射装置を設置する際に取り扱い性に優れるとともに、太陽熱発電用反射装置を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、反射装置を軽量化することが可能となり、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。
【０１７１】
構成Ａのように、自己支持性の支持体を、一対の金属平板と、当該金属平板の間に設けられた中間層からなる構成とし、中間層は中空構造を有する層か樹脂材料から構成される層とすることにより、金属平板による高い平面性を有する。それとともに、中間層が中空構造を有する層か、樹脂材料から構成される層とされていることにより、金属平板のみで支持体を構成する場合に比べて、支持体を大幅に軽量化することが可能となるとともに、比較的軽量な中間層により剛性を上げることができるため、軽量かつ自己支持性を有する支持体とすることが可能となる。中間層として樹脂材料から構成される層を用いる場合においても、中空構造を有する樹脂材料の層とすることでさらに軽量化が可能である。
【０１７２】
また、中間層を中空構造とした場合には、中間層が断熱材としての機能を果たすため、裏面の金属平板の温度変化がフィルムミラーへ伝わることを抑制し、結露の防止や、熱による劣化を抑制することが可能となる。
【０１７３】
構成Ａの表面層を形成する、金属平板としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料が好ましく用いることができる。本発明においては、特に、耐腐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。
【０１７４】
構成Ａの中間層を中空構造とする場合、金属、無機材料（ガラス等）、樹脂等の素材を用いることができる。中空構造としては、発泡樹脂からなる気泡構造、金属、無機材料または樹脂材料からなる壁面を有する立体構造（ハニカム構造等）や、中空微粒子を添加した樹脂材料等を用いることができる。発泡樹脂の気泡構造は、樹脂材料中にガスを細かく分散させ、発泡状または多孔質形状に形成されたものを指し、材料としては、公知の発泡樹脂材料を使用可能であるが、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリスチレン等が好ましく用いられる。ハニカム構造とは、空間が側壁で囲まれた複数の小空間で構成される立体構造全般を表すものとする。中空構造を樹脂材料からなる壁面を有する立体構造とする場合、壁面を構成する樹脂材料としては、エチレン、プロピレン、ブテン、イソプレンペンテン、メチルペンテン等のオレフィン類の単独重合体あるいは共重合体であるポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン、高密度ポリエチレン）、ポリアミド、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、エチレン−エチルアクリレート共重合体等のアクリル誘導体、ポリカーボネート、エチレン−酢酸ビニル共重合体等の酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、エチレン−プロピレン−ジエン類等のターポリマー、ＡＢＳ樹脂、ポリオレフィンオキサイド、ポリアセタール等の熱可塑性樹脂が好ましく用いられる。なお、これらは１種を単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。特に、熱可塑性樹脂のなかでもポリオレフィン樹脂またはポリオレフィン樹脂を主体にした樹脂、ポリプロピレン樹脂またはポリプロピレン樹脂を主体にした樹脂が、機械的強度および成形性のバランスに優れている点で好ましい。樹脂材料には、添加剤が含まれていてもよく、その添加剤としては、シリカ、マイカ、タルク、炭酸カルシウム、ガラス繊維、カーボン繊維等の無機フィラー、可塑剤、安定剤、着色剤、帯電防止剤、難燃剤、発泡剤等が挙げられる。
【０１７５】
また、中間層を樹脂プレートからなる層とすることも可能であり、この場合に中間層を構成する樹脂材料としては、前述のフィルムミラーの支持体を構成する材料と同様のものを好ましく用いることができる。
【０１７６】
中間層は、基材の全ての領域に設けられる必要はなく、金属平板の平面性および支持体としての自己支持性を担保できる範囲であれば、一部の領域に設けられていてもよい。中間層を上述の立体構造とする場合、金属平板の面積に対して、９０〜９５％程度の領域に立体構造を設けることが好ましく、発泡樹脂を用いる場合は、３０〜４０％程度の領域に設けることが好ましい。
【０１７７】
上記の構成Ｂのように、自己支持性の支持体を、中空構造を有する樹脂材料からなる層とすることも可能である。支持体を樹脂のみからなる層とした場合、自己支持性を持たせる程度の剛性を得るために必要な厚さが大きくなり、結果として支持体の質量が重くなるが、樹脂基材に中空構造を持たせることにより、自己支持性を持たせながら軽量化が可能となる。中空構造を有する樹脂材料からなる層とする場合、表面層として平滑な面を有する樹脂シートを設け、中空構造を有する樹脂材料を中間層として用いることが、フィルムミラーの正反射率を高める観点で好ましい。この樹脂シートの材料としては、前述のフィルムミラーの樹脂基材を構成する材料と同様のものを好ましく用いることができ、中空構造を構成する樹脂材料としては、上述の発泡材料や、立体構造に用いられるものと同様の樹脂材料を好ましく用いることができる。
【０１７８】
〔保持部材〕
本発明の太陽熱発電用反射装置は、保持部材を有してもよい。保持部材は、フィルムミラーおよび支持体を、太陽を追尾可能な状態で保持することが好ましい。保持部材の形態としては、特に制限はないが、例えば、フィルムミラーおよび支持体が所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態でフィルムミラーおよび支持体を保持する構成を有するが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよい。
【実施例】
【０１７９】
本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。また、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。また、下記操作において、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％ＲＨの条件で行う。
【０１８０】
《フィルムミラーの作製》
〔比較例１：フィルムミラーＡの作製〕
（１）樹脂基材の準備
膜厚５０μｍの紫外線吸収剤入り二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムＡ（帝人デュポン株式会社製、以下、紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルムＡとも称する）を準備した。
【０１８１】
（２）無機層形成フィルムＡの形成
紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルムＡ上に、下記のエタノール、水、テトラエトキシシラン、およびリン酸から構成される塗布液組成物１を調製し、室温（２５℃）で２４時間攪拌した。その後、バーコーターを用いて塗布し、１００℃で１０分間の加熱乾燥をして、無機層ａを形成することにより、無機層形成フィルムＡを作製した。
【０１８２】
〈塗布液組成物１〉
テトラエトキシシラン（架橋剤）                              ０．９０ｇ
エタノール                                                  ３．７０ｇ
純水                                                        ８．７０ｇ
リン酸水溶液（０．８５質量％水溶液）                        １．３０ｇ。
【０１８３】
（３）撥水処理：撥水性フィルムＡの作製
上記で作製した無機層形成フィルムＡを、０．１質量％の１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシラン・ヘキサン溶液に、１０分間浸漬した後、引き上げ、加熱乾燥（１００℃、３０分間）することにより、撥水処理層を形成した撥水性フィルムＡを作製した。なお、形成された撥水処理層と無機層ａとの総膜厚は、１μｍであった。
【０１８４】
（４）アルミ蒸着フィルムＡの作製
二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）の片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター（登録商標）ＳＰ−１８１  日本合成化学工業株式会社製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミン（登録商標）Ｊ−８２０  ＤＩＣ株式会社製）、２，４−トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）を固形分比率で２０：１：１：２（質量比）となるように、さらに固形分濃度１０質量％となるようにトルエン中で混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングし乾燥して、厚さ０．１μｍのアンカー層を形成した。該アンカー層上に、真空蒸着法により厚さ１００ｎｍのアルミニウムからなる光反射層（以下、アルミ反射層とも称する）を形成し、アルミ蒸着フィルムＡを作製した。
【０１８５】
（５）フィルムミラーＡの作製
次に、アルミ蒸着フィルムＡのアルミ反射層上に、ドライラミネーションプロセスにより撥水性フィルムＡを、ラミネート温度６０℃にて無機層ａが外側になるように貼合した。さらに、重量平均分子量５０万の付加反応型シリコーン系粘着剤１００質量部に白金系触媒（ＣＡＴ−ＰＬ−５０Ｔ、信越化学工業株式会社製）１質量部を加えて３５質量％トルエン溶液としたものを、剥離層である厚さ２５μｍのポリエステル製セパレートフィルムの片面に塗布し、１３０℃で５分間加熱して厚さ２５μｍのシリコーン系粘着層を形成した。その後、上記ポリエチレンテレフタレートフィルムのアンカー層およびアルミ反射層とは反対側の面と、上記粘着層とが貼付されるようにラミネートし（粘着加工）、比較例１のフィルムミラーＡ（サンプルＮｏ．１）を得た。
【０１８６】
〔比較例２：フィルムミラーＢの作製〕
上記比較例１の製造方法において、（２）無機層形成フィルムＡの形成の際の塗布液組成物１を下記塗布液組成物２に替えて無機層形成フィルムＢを形成したこと以外は、比較例１と同様の方法により、比較例２のフィルムミラーＢ（サンプルＮｏ．２）を作製した。
【０１８７】
〈塗布液組成物２〉
テトラエトキシシラン（架橋剤）                              ０．９０ｇ
エタノール                                                  ３．７０ｇ
純水                                                        ８．７０ｇ
リン酸水溶液（０．８５質量％水溶液）                        １．３０ｇ
コロイダルシリカ分散液：日産化学工業株式会社製  スノーテックス（登録商標）ＵＰ
１．４０ｇ。
【０１８８】
〔比較例３：フィルムミラーＣの作製〕
（１）スパッタターゲットＡの作製
ガラス原料として、炭酸ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）、ホウ酸（Ｂ２Ｏ３）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、およびアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を、Ｎａ２Ｏ：Ｂ２Ｏ３：ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３＝６：２８：６３：３（質量比）で均一に混合し、１３５０〜１４５０℃で加熱溶融し、その後板状に成形した状態で自然冷却し、厚さ約１ｍｍの板状ガラスを得た。この板状ガラスから直径１５ｃｍ、厚さ０．５ｃｍのターゲットＡを作製した。
【０１８９】
（２）撥水性ガラス層形成フィルムＣの形成
紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルムＡ上に、マグネトロンスパッタ装置により、スパッタターゲットＡを用いて厚さ３００ｎｍのスパッタ膜（相分離可能なガラス層）を形成し、次いで電子ビーム蒸着法（ＥＢ蒸着法）により、スパッタ膜上に層厚１００ｎｍの酸化チタン（ＴｉＯ２）からなる光熱変換層を形成した。さらにＫｒＦエキシマレーザー（波長：２４８ｎｍ、パルス幅：２０ｎｓｅｃ、照射強度：５０ｍＪ／ｃｍ２、周波数：５０Ｈｚ、照射時間：１５ｓｅｃ）により、光熱変換層の局所加熱を１００回行った。その後、８０℃の１ｍｏｌ／Ｌ（１規定）の硝酸水溶液中に６０分間浸漬し（エッチング）、流水で洗浄エッチングし、比較例１の（３）撥水処理と同様の方法により撥水剤の付与を行い、撥水性ガラス層形成フィルムＣを作製した。
【０１９０】
（３）フィルムミラーＣの作製
比較例１と同様の方法により、ドライラミネーションプロセスおよび粘着加工を行い、フィルムミラーＣ（サンプルＮｏ．３）を作製した。
【０１９１】
〔比較例４：フィルムミラーＤの作製〕
比較例３の製造条件において、ＫｒＦエキシマレーザーの照射強度を１０ｍＪ／ｃｍ２に、照射時間を１０秒に、照射回数を７０回にそれぞれ変更し、エッチング浸漬時間を１０分に変更したこと以外は、比較例３と同様の方法により、比較例４のフィルムミラーＤ（サンプルＮｏ．４）を作製した。
【０１９２】
〔比較例５：フィルムミラーＥの作製〕
比較例３の製造条件において、スパッタ膜の厚さを１μｍに、ＫｒＦエキシマレーザーの照射強度を１００ｍＪ／ｃｍ２に、照射回数を２００回にそれぞれ変更したこと以外は、比較例３と同様の方法により、フィルムミラーＥ（サンプルＮｏ．５）を作製した。
【０１９３】
〔実施例１：フィルムミラーＦの作製〕
比較例３の製造条件において、照射回数を５０回に変更し、硝酸水溶液中でのエッチング浸漬時間を１０分に変更したこと以外は、比較例３と同様の方法により、本発明のフィルムミラーＦ（サンプルＮｏ．６）を作製した。
【０１９４】
〔実施例２：フィルムミラーＧの作製〕
実施例１の製造条件において、スパッタ膜の厚さを８００ｎｍに、照射回数を１５０回にそれぞれ変更し、硝酸水溶液中でのエッチング浸漬時間を４０分に変更したこと以外は、実施例１と同様の方法により、本発明のフィルムミラーＧ（サンプルＮｏ．７）を作製した。
【０１９５】
〔実施例３：フィルムミラーＨの作製〕
実施例１の製造条件において、スパッタ膜の厚さを５００ｎｍに、照射回数を１００回にそれぞれ変更し、硝酸水溶液中でのエッチング浸漬時間を２０分に変更したこと以外は、実施例１と同様の方法により、本発明のフィルムミラーＨ（サンプルＮｏ．８）を作製した。
【０１９６】
〔実施例４：フィルムミラーＩの作製〕
実施例３の製造条件において、アルミ蒸着フィルムＡを下記銀蒸着フィルムＡに替えたこと以外は、実施例３と同様の方法により、本発明のフィルムミラーＩ（サンプルＮｏ．９）を作製した。
【０１９７】
・銀蒸着フィルムＡの作製
二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）の片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター（登録商標）ＳＰ−１８１  日本合成化学工業株式会社製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミン（登録商標）Ｊ−８２０  ＤＩＣ株式会社製）、２，４−トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、および１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）を固形分比率で２０：１：１：２（質量比）となるように、さらに固形分濃度１０質量％となるようにトルエン中に混合した混合物を、グラビアコート法によりコーティングし乾燥して、厚さ０．１μｍのアンカー層を形成した。該アンカー層上に、真空蒸着法により厚さ１００ｎｍの銀からなる光反射層を形成し、銀蒸着フィルムＡを作製した。
【０１９８】
〔実施例５：フィルムミラーＪの作製〕
実施例４の製造条件において、紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルムＡを、膜厚５０μｍの紫外線吸収剤入りＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）フィルム（帝人デュポン株式会社製）に替えたこと以外は、実施例４と同様の方法により、本発明のフィルムミラーＪ（サンプルＮｏ．１０）を作製した。
【０１９９】
〔実施例６：フィルムミラーＫの作製〕
実施例４の製造条件において、紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルムＡを膜厚５０μｍの紫外線吸収剤入りＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルム（コニカミノルタ株式会社製）に替えたこと以外は、実施例４と同様の方法により、本発明のフィルムミラーＫ（サンプルＮｏ．１１）を作製した。
【０２００】
〔実施例７：フィルムミラーＬの作製〕
実施例４の製造条件において、紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルムＡを膜厚５０μｍの紫外線吸収剤入りＰＣ（ポリカーボネート）フィルム（帝人株式会社製）に替えたこと以外は、実施例４と同様の方法により、本発明のフィルムミラーＬ（サンプルＮｏ．１２）を作製した。
【０２０１】
〔実施例８：フィルムミラーＭの作製〕
実施例４の製造条件において、紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルムＡを膜厚５０μｍの紫外線吸収剤入りＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）フィルム（三菱樹脂株式会社製）に替えたこと以外は、実施例４と同様の方法により、本発明のフィルムミラーＭ（サンプルＮｏ．１３）を作製した。
【０２０２】
〔実施例９：フィルムミラーＮの作製〕
実施例４の製造条件において、紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルムＡを膜厚５０μｍの紫外線吸収剤入りＣＯＰ（シクロヘキサンポリマー）フィルム（三井化学株式会社製）に替えたこと以外は、実施例４と同様の方法により、本発明のフィルムミラーＮ（サンプルＮｏ．１４）を作製した。
【０２０３】
〔実施例１０：フィルムミラーＯの作製〕
実施例４の製造条件において、紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルムＡを膜厚５０μｍの紫外線吸収剤入りアクリル樹脂フィルム（三菱レイヨン株式会社製）に替えたこと以外は、実施例４と同様の方法により、本発明のフィルムミラーＯ（サンプルＮｏ．１５）を作製した。
【０２０４】
〔実施例１１：フィルムミラーＰの作製〕
実施例４の製造条件において、照射回数を１２０回に変更したこと以外は、実施例４と同様の方法により、本発明１１のフィルムミラーＰ（サンプルＮｏ．１６）を作製した。
【０２０５】
［評価］
＜空孔の測定、観察＞
上記で作製したフィルムミラーについて、空孔径、空孔の深さ、および空孔がない部分の有無について測定、観察を行った。
【０２０６】
空孔の空孔径は、超薄切片を作製し、その透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の断面写真から、最表面の突起構造の距離を５０個測定し、その平均を空孔の空孔径とした。
【０２０７】
空孔の深さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の断面写真から、空孔が見られなくなる深さを５０個の空孔について測定し、その平均を空孔の深さとした。
【０２０８】
空孔がない部分の有無については、ＴＥＭの画像の目視により判断した。
【０２０９】
＜正反射率の測定＞
株式会社島津製作所製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。
【０２１０】
＜屋外曝露後の正反射率の測定＞
得られたサンプルを屋外にて１ヶ月間曝露した後に、上記正反射率の測定を行った。
【０２１１】
＜水接触角＞
ＪＩＳ  Ｒ３２５７：１９９９に基づき、水を３μＬ滴下して各フィルムミラーの表面の接触角を、接触角計ＤＭ３００（協和界面科学株式会社製）を用いて測定した。
【０２１２】
＜耐擦傷性＞
得られたサンプルを、往復摩耗試験機（新東科学株式会社製、ＨＥＩＤＯＮ  １４ＤＲ）に不織布を取り付け、荷重３００ｇ／ｃｍ２の条件で各フィルムミラーの表面を速度１０ｍｍ／ｓｅｃで１０００回往復させて、付いた傷を５段階で目視評価した。５段階評価の３以上であれば、実用可能なレベルである。
【０２１３】
５：全く傷が見られない
４：ごく僅かな傷が見られる
３：傷は見られるが使用可能なレベル
２：傷が多く、使用できないレベル
１：著しく多くの傷が見られる。
【０２１４】
＜耐湿熱性＞
得られたサンプルを８５℃、９０％ＲＨの恒温恒湿試験機に５００時間投入した後正反射率を測定し、初期の正反射率との差を評価した。５段階評価の３以上であれば、実用可能なレベルである。
【０２１５】
５：初期反射率との差が２％未満
４：初期反射率との差が２％以上５％未満
３：初期反射率との差が５％以上１０％未満
２：初期反射率との差が１０％以上２０％未満
１：初期反射率との差が２０％以上。
【０２１６】
＜密着性＞
得られたフィルムミラーの表面からカッターナイフを用いて１０×１０マスの切り込みを入れ、その上から市販のセロハンテープを貼って剥がすことにより、残ったマスの数をカウントし、樹脂基材と撥水性ガラス層との界面の密着性を評価した。５段階評価の３以上であれば、実用可能なレベルである。
【０２１７】
５：１００マス中剥がれ無し
４：１００マス中１〜５マスが剥がれた
３：１００マス中６〜１０マスが剥がれた
２：１００マス中１１〜２０マスが剥がれた
１：１００マス中２１マス以上が剥がれた。
【０２１８】
各実施例および比較例の構成を下記表１に、評価結果を下記表２に、それぞれ示す。
【０２１９】
【表１】
2015125167.tif 000003
【０２２０】
【表２】
2015125167.tif 000004
【０２２１】
上記表２から明らかなように、本発明のフィルムミラーは、防汚性（撥水性）および耐擦傷性に優れ、耐久性にも優れる。また、本発明のフィルムミラーは、樹脂基材と撥水性ガラス層との密着性にも優れる。
【０２２２】
一方、空孔を有さない無機層を有する比較例１のフィルムミラーは、防汚性（撥水性）および耐久性（屋外曝露後の正反射率）が低下する。表面に凹凸構造を有する比較例２のフィルムミラーは、耐擦傷性および密着性が低下する。空孔がない部分を有さない撥水性ガラス層を有する比較例３のフィルムミラーは、撥水性ガラス層のヘイズが上昇することにより、正反射率および屋外曝露後の正反射率が低下する。空孔径が本発明の範囲より小さい比較例４のフィルムミラーは、防汚性（撥水性）が低下する。空孔径が本発明の範囲より大きい比較例５のフィルムミラーは、防汚性（撥水性）、耐擦傷性、耐久性、密着性が低下する。さらに、比較例２および比較例５のフィルムミラーは、樹脂基材と撥水性ガラス層との密着性に劣るものであった。
【符号の説明】
【０２２３】
１    樹脂基材、
２    光反射層、
３    撥水性ガラス層、
４    粘着層、
１０ａ、１０ｂ  フィルムミラー。
【図１】
2015125167.tif 000005
【図２】
2015125167.tif 000006