(57)【要約】【課題】小型で、大スペースに対しても効率良く脱臭できる脱臭装置を提供すること。【解決手段】流体駆動手段３と、マイクロプラズマ発生手段４と、オゾン分解除去手段５とを備えて構成され、流体駆動手段３は、面風速１〜５ｍ／秒で流通させ、マイクロプラズマ発生手段４が、一対のセラミック基板４０を備え、一対のセラミック基板４０のそれぞれに電極が内蔵されており、一対のセラミック基板４０および内蔵される電極のそれぞれに、貫通孔４１を形成し、脱臭対象の流体に対して０．１ｐｐｍ以上１０ｐｐｍ以下のオゾンを生成し、オゾン分解除去手段５は、酸化マンガンを主成分とする触媒であり、マイクロプラズマ発生手段の下流側１ｃｍ以上１ｍ以下の距離に配設され、マイクロプラズマとともにオゾンが形成される状態で、脱臭対象の流体がオゾン分解除去手段５を通過する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス流路に脱臭対象の流体を流す流体駆動手段と、前記ガス流路に配設されるマイクロプラズマ発生手段と、前記ガス流路における前記マイクロプラズマ発生手段より下流側に配設されるオゾン分解除去手段とを備えて構成され、
前記流体駆動手段は、面風速１〜５ｍ／秒の流体を前記マイクロプラズマ発生手段に流通させ、
前記マイクロプラズマ発生手段が、前記ガス流路を横断して互いに略平行に配置される電極を内蔵した一対のセラミック基板と、前記セラミック基板内の電極にプラズマ発生用の電圧を印加する電圧印加装置とを備えて構成されるとともに、一対の前記セラミック基板および内蔵される電極のそれぞれに、前記脱臭対象の流体が通過可能な貫通孔を前記セラミック基板の厚み方向に形成して構成され、
前記脱臭対象の流体に対して０．１ｐｐｍ以上１０ｐｐｍ以下のオゾンを生成し、
前記オゾン分解除去手段は、前記マイクロプラズマ発生手段の下流側１ｃｍ以上１ｍ以下の距離に配設され、
前記マイクロプラズマ発生手段により発生したマイクロプラズマとともにオゾンが形成される状態で、前記貫通孔を通過した前記脱臭対象の流体が前記オゾン分解除去手段を通過する脱臭装置。
【請求項２】
前記脱臭対象の流体が、アンモニアおよびアルデヒドおよび酢酸からなる群より選ばれる少なくとも一種の臭気成分を含有するものである請求項１記載の脱臭装置。
【請求項３】
前記脱臭対象の流体が、タバコ臭成分を含有するものである請求項１記載の脱臭装置。
【請求項４】
前記オゾン分解除去手段は、酸化マンガンを主成分とする触媒である請求項１〜３のいずれか一項に記載の脱臭装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス流路に脱臭対象の流体を流す流体駆動手段を備えた脱臭装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大気圧マイクロプラズマを用いた環境浄化技術の開発が積極的に行われている。例えば、下記の特許文献１には、大気圧マイクロプラズマを低消費電力で高効率に生成可能なマイクロプラズマ発生手段に関する技術が開示されている。具体的には、当該マイクロプラズマ発生手段は、表面に誘電体膜が形成されるとともにプラズマ処理の対象となる流体が流通可能な貫通孔が厚み方向に複数形成された一対のセラミック基板（電極板）を、数十μｍ程度の間隔をあけて互いに略平行に配置されてなるプラズマ電極を備えて構成される。そして、プラズマ電極を構成する一対のセラミック基板間に交流電圧を印加してマイクロプラズマを発生させ、当該マイクロプラズマにより生成されるオゾンや各種ラジカルを用いて流体の浄化が行われる。
【０００３】
特許文献１には、上記のようなマイクロプラズマ発生手段を用いて高効率にオゾンを生成し、セラミック基板に形成された貫通孔を通過する空気中のホルムアルデヒドを当該オゾンにより分解できることが示されている（図６）。
【０００４】
また、オゾンを利用した脱臭装置として、特許文献２に示すような冷蔵庫等に用いるものが知られており、このような脱臭装置は、ガス流路に脱臭対象の流体を流す流体駆動手段と、前記ガス流路に配設されるオゾン発生装置と、前記ガス流路における前記オゾン発生装置より下流側に配設されるオゾン分解除去手段とを備えて構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−２５０２８４号公報
【特許文献２】特開昭６１−２０９６６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献２に示される脱臭装置は、冷蔵庫のような比較的小スペース内における硫黄、アンモニア等の脱臭を目的とするものであって、住居の居室などの大スペースにおけるタバコ臭のような比較的希薄な臭気成分を脱臭する目的で使用することができないものであった。
【０００７】
すなわち、小スペースの内部で小風量で効率よく繰り返し循環される脱臭対象の流体は、オゾン発生装置により生成したオゾンと高いガス循環効率で接触させられるとともに、繰り返し接触する間に脱臭を行えればよいから、短時間で急速に脱臭する構成とはならない。また、単純に流体駆動手段によるガス流通量を、居室に適した大容量に変更しても小スペースの庫内のガス循環効率に匹敵するガス流通量を確保することは困難である。
【０００８】
そのため、大スペースで比較的希薄な臭気成分を脱臭するためには、通過する臭気成分が、脱臭装置を１度通過するだけで脱臭（１パス脱臭）されることが望ましいことになるが、臭気成分を一度接触するだけで脱臭する程度のオゾン濃度は、きわめて高くなると考えられ、居室に漏えいするオゾンによる居室空間内の人に対する安全配慮の面でも好ましいとはいえない。
【０００９】
さらに、１パス脱臭のために、十分なオゾン生成能力を有するオゾン発生装置を用いる必要性から、たとえばオゾン発生装置の放電電極等においてオゾン生成部を高密度に形成することが考えられる。しかしこのような構成とすると、オゾン発生効率は向上するものの、オゾン発生装置が抵抗となって十分なガス流通量を得にくくなるという問題が生じる。また、オゾン生成量の増加がガス流通量に比して十分以上であると、漏えいするオゾン量もオゾン生成量の増加に応じて増加することになる。すると、オゾン発生装置に応じてオゾン分解除去手段も大容量のものが必要となってくる。
【００１０】
また、オゾン発生装置で発生したオゾンによって十分に除去しきれなかった臭気成分が、オゾン分解除去手段を劣化させる懸念もあった。
【００１１】
したがって、本発明は上記実状に鑑み、大スペースに対しても効率良く脱臭できる脱臭装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
〔構成１〕
上記目的を達成するための本発明の脱臭装置の特徴構成は、
ガス流路に脱臭対象の流体を流す流体駆動手段と、前記ガス流路に配設されるマイクロプラズマ発生手段と、前記ガス流路における前記マイクロプラズマ発生手段より下流側に配設されるオゾン分解除去手段とを備えて構成され、
前記流体駆動手段は、面風速１〜５ｍ／秒の流体をマイクロプラズマ発生手段に流通させ、
前記マイクロプラズマ発生手段が、前記ガス流路を横断して互いに略平行に配置される電極を内蔵した一対のセラミック基板と、前記セラミック基板内の電極にプラズマ発生用の電圧を印加する電圧印加装置とを備えて構成されるとともに、前記一対のセラミック基板および内蔵される電極のそれぞれに、前記脱臭対象の流体が通過可能な貫通孔を前記セラミック基板の厚み方向に形成して構成され、
脱臭対象の流体に対して０．１ｐｐｍ以上１０ｐｐｍ以下のオゾンを生成し、
前記オゾン分解除去手段は、前記マイクロプラズマ発生手段の下流側１ｃｍ以上１ｍ以下の距離に配設され、
前記マイクロプラズマ発生手段により発生したマイクロプラズマとともにオゾンが生成される状態で、前記貫通孔を通過した前記脱臭対象の流体が前記オゾン分解除去手段を通過する点にある。
【００１３】
〔作用効果１〕
ガス流路に脱臭対象の流体を流す流体駆動手段と、前記ガス流路に配設されるマイクロプラズマ発生手段と、前記ガス流路における前記マイクロプラズマ発生手段より下流側に配設されるオゾン分解除去手段とを備えると、流体駆動手段によって脱臭対象の流体をガス流路に流通させることができる。また、ガス流路にマイクロプラズマ発生手段を設けてなるので、ガス流路に流通した脱臭対象の流体には、マイクロプラズマ発生手段によって、マイクロプラズマが発生させられる。すると、前記マイクロプラズマ発生手段により発生したマイクロプラズマとともにオゾンが形成される状態となり、前記貫通孔を通過した前記脱臭対象の流体が前記オゾン分解除去手段を通過することになる。すると、脱臭対象の流体に含まれる臭気成分は、オゾンや各種ラジカルによって分解される。また、前記マイクロプラズマ発生手段より下流側にオゾン分解除去手段を備えるので、前記臭気成分と反応しなかったオゾンを、そのままガス流路から放出しないように分解無害化することができる。
【００１４】
ここで、流体駆動手段が、面風速１〜５ｍ／秒の流体をマイクロプラズマ発生手段に流通させるものとすると、一般の居室空間の雰囲気を効率よくガス流路に誘導し、居室空間全体を脱臭するのに有効である。
【００１５】
また、前記マイクロプラズマ発生手段が、前記ガス流路を横断して互いに略平行に配置される電極を内蔵した一対のセラミック基板と、前記セラミック基板にプラズマ発生用の電圧を印加する電圧印加装置とを備えて構成されるとともに、前記一対のセラミック基板および内蔵される電極のそれぞれに、前記脱臭対象の流体が通過可能な貫通孔を前記セラミック基板の厚み方向に形成して構成されてあると、マイクロプラズマ発生手段が流路抵抗になりにくく、流体駆動手段の負荷増大につながりにくい。具体的には、流通する脱臭対象の流体は、前記貫通孔を通じてセラミック基板の厚み方向に通過させられ、電極間に発生するマイクロプラズマに効率的に接触することができるとともに、上記面風速１〜５ｍ／秒の大流量の流体を流通させることができる。これは、一般的な放電式のオゾン発生装置に対してガス流通可能な上限量をはるかに上回る（約１０倍）値であり、上記マイクロプラズマ発生手段特有の処理能力といえる。
【００１６】
さらに詳述すれば、上記の特徴構成によれば、脱臭対象の流体はセラミック基板に形成された貫通孔を通過するため、流体の流れを大きく阻害することなく一対のセラミック基板を厚さ方向に近接して配置することができる。よって、マイクロプラズマを発生させるために一対のセラミック基板内の電極間に印加することが必要となる電圧の大きさを低く抑えることができ、少ない消費電力で効率的にマイクロプラズマ発生手段にマイクロプラズマを発生させることができる。そして、マイクロプラズマにより生成された高速電子、各種活性ラジカル、強電界、紫外線により、ガス流路を流通する流体を脱臭することができる。
【００１７】
上記マイクロプラズマ発生手段は、脱臭対象の流体に対してマイクロプラズマを接触させつつオゾンを供給するものである。ここで、脱臭を行うためには、マイクロプラズマにより直接的に臭気成分を分解するのに加えて、同時に発生するオゾンにより臭気成分を分解することが効果的である。そこで、マイクロプラズマ発生手段により０．１ｐｐｍ以上のオゾンを生成するように設定してあれば、生成したオゾンはガス流路を流下しながら臭気成分と接触して分解することができるようになる。なお、オゾンは高濃度になりすぎると、前記オゾン分解除去手段の負荷を高めることになるとともに、オゾン分解除去手段の劣化を早めることになるので、１０ｐｐｍ以下とすることが望ましい。
【００１８】
ここで、前記オゾン分解除去手段としては、活性炭、遷移金属酸化物（例えば、酸化マンガン、酸化ニッケル、四三酸化鉄、酸化銅、炭酸コバルト、炭酸ニッケル、および炭酸銅のいずれか一種又は複数種の組み合わせからなる）を主成分とするものが用いられる。これらの材料はオゾンを分解する能力を有するとともに、わずかながらに臭気成分を吸着する能力を有する。酸化マンガンによるオゾンの分解機構としては、オゾン分解除去手段がオゾンと接触して、酸素を生成するとともに、その表面に活性酸素を生成し、その活性酸素がさらにオゾンと接触して酸素を生成することが考えられている。このことから、オゾン分解除去手段の表面に吸着した臭気成分がオゾンの分解により生成した活性酸素と反応して分解すると考えると、オゾン分解除去手段による脱臭触媒効果を説明することができる。
なお、本願で「材料Ｘを主成分とする」という場合、構成材料としての材料Ｘが主たる原料の一つとしていることをいい、必要に応じて添加剤を添加していてもよく、その材料のもつ特性が現れていれば、配合割合に特に制限はなく、材料Ｘ単独では、必ずしも、混合物中で最も多い材料である必要はなく、好ましくは５０％以上が材料Ｘから構成されることが好ましいが、それ以下であってもよい。
【００１９】
オゾン分解除去手段に対して、過剰量のオゾンおよび臭気成分が供給されると、オゾン分解除去手段の劣化を早める事になるので、マイクロプラズマ発生手段で発生したオゾンと臭気成分とが十分に反応を完了した状態で、前記オゾン分解除去手段に到達することが望まれる。そこで、前記オゾン分解除去手段は、前記マイクロプラズマ発生手段の下流側１ｃｍ以上１ｍ以下の距離に配設されることが望ましい。１ｃｍ未満とすると、前記オゾン分解除去手段と前記マイクロプラズマ発生手段との間におけるオゾンと臭気成分との分解処理が有効に機能せず、オゾン分解除去手段が早期に劣化したり、オゾンや臭気成分がガス流路から居室空間に放出される恐れがある。また、１ｍを超えると、脱臭をオゾンとの気相反応中心で行うことになり、酸化マンガンの触媒機能の有効利用を図れない。また、脱臭装置そのものの大型化につながる。
【００２０】
〔構成２〕
なお、前記脱臭対象の流体が、アンモニアおよびアルデヒドおよび酢酸からなる群より選ばれる少なくとも一種の臭気成分を含有するものとすることができる。
【００２１】
〔作用効果２〕
臭気成分として、アンモニアおよびアルデヒドおよび酢酸からなる群より選ばれる少なくとも一種を対象とする場合、オゾン分解除去手段としての酸化マンガンが特に有効に脱臭分解効果を発揮するので好ましい。
【００２２】
〔構成３〕
前記脱臭対象の流体が、タバコ臭成分を含有するものとすることができる。
【００２３】
〔作用効果３〕
先の臭気成分が含まれる典型的なにおいとしては、タバコ臭が知られており、居住空間で特に問題となりやすいものである。そのため、タバコ臭成分を対象とした脱臭装置として、上記構成を備えたものを採用すると、空気清浄効果に対する評価を簡便に改善することができ、快適な居住空間を提供するのに好適である。
【００２４】
〔構成４〕
なお、前記オゾン分解除去手段は、酸化マンガンを主成分とする触媒とすることが好ましい。
【００２５】
〔作用効果４〕
前記オゾン分解除去手段を、酸化マンガンを主成分とする触媒とすることにより、脱臭後残留するオゾンを効率よく分解することができる。本発明者らによると、前記酸化マンガンは、オゾン分解除去触媒として機能するとともに、オゾン存在下で脱臭触媒として臭気成分を分解除去しうることが見出されている。
【発明の効果】
【００２６】
したがって、上述の構成によると、居住空間のような大スペースに対しても有効な、小型で効率良く脱臭できる脱臭装置を提供することができようになった。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の脱臭装置の基本構成を示す概略図
【図２】本発明の脱臭装置の要部分解斜視図
【図３】本発明の脱臭装置のセラミック基板の模式図
【図４】放電電圧と放電電流との関係に関する試験結果を示す図
【図５】放電電圧とオゾン濃度との関係に関する試験結果を示す図
【図６】線速と圧力損失との関係に関する試験結果を示す図
【図７】本発明の実施の形態（２）に係る試験装置の概略図
【図８】本発明の実施の形態（３）に係る試験装置の概略図
【図９】臭気成分濃度の脱臭効果を示す図
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下に、本発明の脱臭装置を説明する。なお、以下に好適な実施の形態を記すが、これら実施の形態はそれぞれ、本発明をより具体的に例示するために記載されたものであって、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々変更が可能であり、本発明は、以下の記載に限定されるものではない。
【００２９】
〔脱臭装置〕
脱臭装置１は、図１に示すように、マイクロプラズマ発生装置４と、ファン３と、オゾン分解除去装置５とを備えて構成されている。本実施の形態では、マイクロプラズマ発生装置４が本発明における「マイクロプラズマ発生手段」に相当し、ファン３が本発明における「流体駆動手段」に相当し、オゾン分解除去装置５が本発明における「オゾン分解除去手段」に相当する。マイクロプラズマ発生装置４を構成する一対のセラミック基板４０は、ハウジング６０、６１により固定支持されている。具体的には、図２にも示すように、ハウジング６０、６１は、一対のセラミック基板４０を挟持した状態でボルト６２およびナット６３により互いに締結固定されている。また、ファン３はハウジング６０に固定され、オゾン分解除去装置５はハウジング６１に固定されている。
【００３０】
脱臭対象の流体は、典型的には居住空間内の空気であり、ハウジング６０、６１の内部に形成されたガス流路２を、図１に破線矢印で示す方向に流れる。そして、ファン３、マイクロプラズマ発生装置４、オゾン分解除去装置５は、このような空気の流下方向に沿って記載の順に配設されている。すなわち、ガス流路２における上流側から下流側に向かって、ファン３、マイクロプラズマ発生装置４、オゾン分解除去装置５の順に配設されている。言い換えれば、オゾン分解除去装置５は、ガス流路２におけるマイクロプラズマ発生装置４より下流側に配設されている。また、本実施の形態では、ファン３は、一例として、内部に多数の羽根を備えたシロッコファンとされている。
【００３１】
図示は省略するが、最上流側に位置するファン３の上流側および下流側の端部には開口が設けられており、上流側の開口が脱臭対象の空気を取り込む取入口とされている。一方、最下流側に位置するオゾン分解除去装置５の上流側および下流側の端部にも開口が設けられており、下流側の開口が脱臭された空気を送り出す送出口とされている。したがって、この脱臭装置１では、ガス流路２に脱臭対象の流体である空気を流す流体駆動手段としてのファン３の働きにより、取入口から取り込まれた空気は、ガス流路２を、ファン３、マイクロプラズマ発生装置４、オゾン分解除去装置５の配設箇所を順次流下し、送出口から送り出される。
【００３２】
〔マイクロプラズマ発生装置〕
マイクロプラズマ発生装置４は、図１に示すように、ガス流路２を横断して互いに略平行に配置される一対のセラミック基板４０と、セラミック基板４０内に内蔵した電極４０ａにプラズマ発生用の電圧を印加する高周波電源４２とを備えて構成されるとともに、一対のセラミック基板４０および内蔵される電極４０ａのそれぞれに、脱臭対象の流体である空気が通過可能な貫通孔４１をセラミック基板４０の厚み方向に形成して構成されている。本実施の形態では、高周波電源４２が本発明における「電圧印加装置」に相当する。また、詳細は後述するが、セラミック基板４０には電極４０ａが内蔵されている。高周波電源４２と一対のセラミック基板４０に内蔵されている電極４０ａのそれぞれとは電気配線により電気的に接続されている。そして、一対のセラミック基板４０に内蔵されている電極４０ａ間に高周波電源４２から交流電圧を印加することで、一対のセラミック基板４０間にストリーマ形式の誘電体バリア放電を生起させ、マイクロプラズマを生成することができる。このマイクロプラズマにより生成された高速電子、各種活性ラジカル（Ｎ*、Ｏ*、ＯＨ*等）、強電界、紫外線が、一対のセラミック基板４０に形成された貫通孔４１を上流側から下流側へ向かって通過する空気中の臭気成分に作用する。また、前記マイクロプラズマ発生装置４により発生したマイクロプラズマとともにオゾンが形成される状態となる。生成したオゾンは、前記貫通孔を通過した前記脱臭対象の流体が前記オゾン分解除去手段を通過することになる。
【００３３】
セラミック基板４０は、電極４０ａを内蔵して大気圧中でマイクロプラズマを発生させるために用いられるが、高電圧が印加される電極４０ａ自体はセラミックに被覆されているためプラズマと接触することが無い。したがって酸化しやすい金属である銀や銅、タングステン等を電極材料として用いることが可能である。またセラミックの材質はアルミナ、ガラスセラミックス、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、チタン酸バリウム等が誘電体バリア層として有効である。
【００３４】
図１から図３に示すように、セラミック基板４０とそれに内蔵される電極４０ａには空気が通過可能な貫通孔４１が厚み方向に複数形成されている。本実施の形態では、貫通孔４１は、断面形状が円形であり、図３に示すように、平面視で六方格子（三角格子、６０度千鳥）状に配置されている。複数の貫通孔４１は同一の孔径φ１を有しており、貫通孔４１間に位置するセラミック基板４０部分に関し、隣接して配置される貫通孔４１間の最小離間長さｓは、貫通孔４１によらず一定の値となっている。なお、複数の貫通孔４１の孔径φ１が同一でなく、孔径φ１が所定の範囲内で分布する構成としても好適である。また、複数の貫通孔４１の配置は六方格子状の配置に限られるものではなく、例えば、複数の貫通孔４１を正方格子状に配置したり、不規則に配置したりしても良い。
【００３５】
ここで、セラミック基板４０の板厚ｔ（図３参照）は、０．２ｍｍ以上とするのが好ましい。セラミック基板４０の板厚ｔが０．２ｍｍ未満の場合、セラミック基板４０自体の強度が不足し、組み付け工程中にワレてしまう恐れがある。セラミック基板４０の板厚ｔの上限値は、製造コストの抑制や製造工程の簡素化の観点から定められる。セラミック基板４０の板厚ｔの上限値としては、例えば、１．５ｍｍ、２ｍｍ、或いは３ｍｍ程度とすることができる。なお、当然ながら、本発明は、セラミック基板４０の板厚ｔが０．２ｍｍ以上である構成に限定されるものではなく、厚さｔが０．２ｍｍ未満のセラミック基板４０を備えてマイクロプラズマ発生装置４を構成してもよい。
【００３６】
また、セラミック基板４０に形成される貫通孔４１の孔径φ１は、１ｍｍ以上５ｍｍ以下とするのが好ましい。貫通孔４１の孔径φ１が１ｍｍ未満となると、脱臭対象の流体を貫通孔４１に流通させる際の圧力損失の上昇を招来するおそれがある。そこで、上記のように貫通孔４１の孔径φ１を１ｍｍ以上とすることで、圧力損失の上昇も抑制することができる。また、貫通孔４１の孔径φ１が５ｍｍを超えると、脱臭対象の流体がマイクロプラズマにより処理されずにセラミック基板４０に形成された貫通孔４１を通過する割合が高くなり、脱臭性能が低下するおそれがある。そこで、貫通孔４１の孔径φ１を５ｍｍ以下とすることで、脱臭対象の空気がマイクロプラズマにより効率よく処理され、脱臭率の向上を図ることができる。また、セラミック基板４０内の電極４０ａの孔径φ２はセラミック基板４０の孔径φ１よりも０．１〜０．８ｍｍ大きくすることが好ましい。電極４０ａの孔径φ２がセラミック基板４０の孔径φ１よりも０．１ｍｍ未満しか大きくない場合は、セラミック基板４０の貫通孔端部より電極４０ａが露出する可能性が生じ、また０．８ｍｍよりも大きくするとガス流路２となるセラミック基板４０の貫通孔端と電極４０ａの端部の距離が大きくなりガスとマイクロプラズマ放電との接触性が低下、ガス除去性能が低下する。
また、マイクロプラズマの作用を受けなかった空気についても、マイクロプラズマにより生じたオゾンによって、下流側に流出するに際して、さらに脱臭される。なお、貫通孔４１の孔径φ１の上限値を５ｍｍに替えて３ｍｍとするとさらに好ましい。また、当然ながら、本発明は、貫通孔４１の孔径φ１が１ｍｍ以上５ｍｍ以下である構成に限定されるものではなく、貫通孔４１の孔径φ１を１ｍｍ未満あるいは５ｍｍより大きな値としてもよい。
【００３７】
本実施の形態に係るマイクロプラズマ発生装置４は、一対のセラミック基板４０内の電極４０ａ間に誘電体バリア放電を生起させマイクロプラズマを発生させる。セラミック基板４０に配設される貫通孔４１間に位置する部分に関し、隣接して配設される貫通孔４１間の最小離間長さｓ（図３参照）は、少なくとも０．４ｍｍとするのが好ましい。最小離間長さｓが０．４ｍｍ未満の場合、セラミック基板４０自体の強度が低下し、ワレやすくなるおそれがある。しかし、上記のように最小離間長さｓを設定することで、セラミック基板４０強度を確保することができ、一対のセラミック基板４０間にマイクロプラズマを安定して発生させることができる。一方、最小離間長さｓが大きくなるにつれて脱臭対象の空気を貫通孔４１に流通させる際の圧力損失が大きくなるため、最小離間長さｓの上限値は、許容できる圧力損失の大きさに応じて定めると好適である。例えば、最小離間長さｓの上限値は、１．５ｍｍや２ｍｍ程度とすることができる。なお、当然ながら、本発明は、最小離間長さｓが１ｍｍ以上である構成に限定されるものではなく、最小離間長さｓが１ｍｍ未満となる構成としてもよい。
【００３８】
本実施の形態では、上記のように、電極４０ａはセラミック基板４０に内蔵されているため一対のセラミック基板４０間に誘電体バリア放電が生起、安定してマイクロプラズマを発生させることができる。またセラミックの材質はアルミナ、ガラスセラミックス、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、チタン酸バリウム等が誘電体バリア層として有効である。
【００３９】
本実施の形態では、一対のセラミック基板４０は、セラミック基板４０の周縁部に沿う形状の額縁状のスペーサ（図示せず）を間に挟持した状態で互いに固定されている。このスペーサは一様の厚みを有しており、一対のセラミック基板４０は互いに略平行になるように配置される。よって、一対のセラミック基板４０間に形成される空隙の板面に直交する方向の長さｄ（図１参照）は、このスペーサの厚みにより概ね定められる。一対のセラミック基板４０をこのように配設することで、一対のセラミック基板４０間に形成される空隙を板面に沿う方向において略均一にすることができ、誘電体バリア放電を均一に安定して発生させることが可能となっている。スペーサの厚みは、例えば、３００μｍ以下の値から選択することができる。この時、上記の長さｄも３０μｍ以下となり、一対のセラミック基板４０内の電極４０ａ間に印加する交流電圧の波高値を１０００Ｖ程度と比較的低い値としても、マイクロプラズマを発生させることができる。この場合、一対のセラミック基板４０内の電極４０ａ間に波高値が１０００Ｖ以上の交流電圧が印加される構成とすると好適である。このようなスペーサは、例えば、ポリエチレン樹脂、テフロン（登録商標）樹脂等の合成樹脂等の絶縁材料により形成することができる。
【００４０】
なお、一対のセラミック基板４０の互いに対向する面の双方に板面に直交する方向（厚み方向）に凹凸（例えば、５μｍ以上５０μｍ以下の高低差を有する凹凸）を有する場合には、上記のスペーサを介さずに一対のセラミック基板４０を積層するように互いに固定する構成としても好適である。この場合、上記の凹凸により形成される間隙において誘電体バリア放電が生じるため、一対のセラミック基板４０間にマイクロプラズマを発生させることができる。
【００４１】
なお、本実施の形態では、一対のセラミック基板４０は同じ構成のものであり、一対のセラミック基板４０は、板面に直交する方向からみて、双方のセラミック基板４０に形成された貫通孔４１同士が全体として互いに重なり合うように円周方向に位置決めされ、互いに固定されている。そのため、図１に示すように、脱臭対象の空気は貫通孔４１の間を通過することができ、脱臭対象の空気の流れを大きく阻害することなく一対のセラミック基板４０を厚さ方向に近接して配置することができる。その結果、マイクロプラズマを発生させるために一対のセラミック基板４０内の電極４０ａ間に印加することが必要となる電圧の大きさを低く抑えることができ、少ない消費電力で効率的にマイクロプラズマ発生装置４にマイクロプラズマを発生させることが可能な構成となっている。なお、当然ながら、一対のセラミック基板４０を、板面に直交する方向からみて、双方のセラミック基板４０に形成された貫通孔４１同士の一部のみが互いに重なり合うように円周方向に位置決めしたり、一対のセラミック基板４０を異なる構成の２枚のセラミック基板４０により構成してもよい。
【００４２】
〔オゾン分解除去装置〕
オゾン分解除去装置５は、本実施の形態では、オゾン分解触媒フィルタを備えて構成されている。オゾン分解は、活性炭フィルタや、種々の遷移金属酸化物を吸着材、無機材料、および金属などに担持したオゾン分解触媒フィルタを用いて行う。オゾン分解触媒フィルタは、好ましくは酸化マンガン系を主成分とする触媒が採用される。このオゾン分解触媒フィルタには、他の成分として酸化ニッケル、四三酸化鉄、酸化銅、炭酸コバルト、炭酸ニッケル、炭酸銅等の他の成分を含有してもよく、好ましくは、マンガンを７５％以上含有している二酸化マンガン系のものが用いられる。また、前記触媒は、ハニカム状に構成された構造体に担持して用いられる。そして、マイクロプラズマ発生装置４によりマイクロプラズマが形成される状態で、セラミック基板４０に形成された貫通孔４１を通過した脱臭対象の空気がオゾン分解除去装置５の配設箇所を通過するように構成されている。具体的には、脱臭対象の空気は、オゾン分解触媒フィルタを通過するように構成されている。なお、このようなオゾン分解触媒フィルタの構成は公知であるため、ここでは詳細な説明は省く。
【００４３】
詳しくは実施の形態で後述するが、発明者らは、鋭意研究の結果、一定の脱臭効果が得られる程度の電圧を一対のセラミック基板４０間に印加すると、一対のセラミック基板４０間に発生するマイクロプラズマにより環境上の観点から無視できない程度の濃度のオゾンが生成されることを見出した。そして、マイクロプラズマにより発生したオゾンは、貫通孔４１を通過した脱臭対象の空気とともにオゾン分解除去装置５に導かれる。
【００４４】
オゾン分解除去装置５に導かれたオゾンは、上記のオゾン分解触媒フィルタにより無害な酸素分子と短寿命の活性酸素に変化するため、オゾンが脱臭装置１の外部に流出することが抑制されている。しかも、オゾンが酸素分子に変化する過程では、活性酸素が存在するため、オゾン分解除去手段に導かれた臭気成分は、当該活性酸素によっても脱臭される。そのため、オゾン分解除去装置５を設けることで、マイクロプラズマ発生手段を用いて流体の脱臭を行う際に発生したオゾンを有効に利用して、空気の脱臭効果を高めることも可能となっている。
【００４５】
〔実施の形態〕
これまで説明してきたように、本発明に係る脱臭装置１は、ガス流路２を流れる空気に対して、マイクロプラズマによる脱臭とオゾンによる脱臭との双方を行うことができ、両者の働きで空気の脱臭効果を格段に高めることが可能となっている。このような本発明に係る脱臭装置１の効果を確かめるため、上記実施の形態の構成を有する脱臭装置１を用いて試験を実施した。試験内容を以下に実施の形態として説明する。
【００４６】
（１）マイクロプラズマおよびオゾンの生成試験
（１−１）試験概要
本試験では、図１〜３に示すように、貫通孔４１が形成されたセラミック基板４０を用いてマイクロプラズマ発生装置４を構成し、マイクロプラズマおよびオゾンの生成性能およびガス流通性能を評価するための試験を行った。なお、セラミック基板４０に形成された貫通孔４１の孔径φ１による脱臭性能の違いを調べるため、本試験では、孔径φ１がセラミック基板４０を備える４種類のマイクロプラズマ発生装置４により試験を行った。表１に、４種類のマイクロプラズマ発生装置４のそれぞれが備えるセラミック基板４０の仕様（孔径φ１、開口率ｒ、および厚さｔ）を示す。セラミック基板４０に内蔵される電極４０ａの孔径φ２はセラミック基板４０の孔径φ１よりも０．２ｍｍ大きいものとした。なお、試験に用いたセラミック基板４０は７ｃｍｘ７ｃｍの正方形の形状を有している。また、開口率ｒは、セラミック基板４０の厚み方向に直交する断面において、セラミック基板４０の外周により規定される円の面積に対する、複数の貫通孔４１の面積の総和の割合である。また、本試験では、一対のセラミック基板４０それぞれに内蔵される電極４０ａは、高周波電源４２との電気配線に必要な部分を除いた全ての面（貫通孔４１の内周面を含む）がセラミックで覆われている。  セラミックは、ガラスセラミックス材料（ガラス成分とアルミナより構成される）からなるものであり、電極４０ａには銀を用いた。  対向するセラミック基板４０間のスペーサーの厚みは２００μｍとした。
【００４７】
【表１】
2015070921.tif 000003
【００４８】
上記のような構成の一対のセラミック基板４０に内蔵される電極４０ａ間に、高周波電源４２により約２５ｋＨｚの交流電圧を印加し、マイクロプラズマ発生装置４の評価試験を行った。
【００４９】
（１−２）試験結果
まず初めに、マイクロプラズマ発生装置４の評価試験の結果を示す。図４は、セラミック基板４０に形成された貫通孔４１の孔径φ１が２ｍｍおよび３ｍｍの場合における、放電電圧に対する放電電流の測定結果を示す図である。図５は、セラミック基板４０に形成された貫通孔４１の孔径φ１が２ｍｍおよび３ｍｍの場合における、放電電圧に対するオゾン濃度の測定結果を示す図である。ここで、放電電圧の数値は、一対のセラミック基板４０内の電極４０ａ間に印加される交流電圧の最大値である波高値として表している。すなわち、図４および図５の横軸は、一対のセラミック基板４０内の電極４０ａ間に印加される交流電圧の振幅の１／２倍の値となっている。以下、特に断らない限り、放電電圧の数値は波高値（振幅の１／２倍の値）を示すものとする。この試験結果より、放電電流は貫通孔４１の孔径φ１にあまり依存せず、放電電圧が５００Ｖを超えるあたりから放電が発生することがわかる。一方、オゾン濃度は貫通孔４１の孔径φ１に大きく依存するが、いずれの孔径φ１の場合でも、放電電圧を大きくすると環境上の観点から無視できない程度の濃度のオゾンがマイクロプラズマにより生成されることが分かる。
【００５０】
また、脱臭対象の流体である空気を貫通孔４１に流通させる際の圧力損失の観点から貫通孔４１の孔径φ１の下限値を定めることもできる。図６は、孔径φ１が１．５ｍｍ、２．０ｍｍ、および３．０ｍｍの場合おける、空気が一対のセラミック基板４０に設けられた貫通孔４１を通過する際に生じる圧力損失の測定結果を示す図である。圧力損失は１００Ｐａ以下であることが望ましく、孔径φ１が１ｍｍ未満となると圧力損失が１００Ｐａを超える可能性がある。よって、圧力損失の観点からも、貫通孔４１の孔径φ１の下限値は１ｍｍとするのが好ましい。
【００５１】
以上のように、貫通孔４１の孔径φ１は、１ｍｍ以上５ｍｍ以下とするのが好ましいことが確認された。この結果と表１とを照らし合わせると、開口率ｒを、３０％以上６０％以下とすると、ガス処理効率を高く維持しつつ、圧力損失を小さく設定できるので好ましい。
【００５２】
また、この試験において電極４０ａの下流側において測定されるオゾン濃度は、０．１ｐｐｍ以上１０ｐｐｍ以下程度の範囲の安定した値に適宜設定できることが明らかになっている。
【００５３】
（２）アンモニア臭の脱臭試験
（２−１）試験概要
本試験では、電極４０ａを内蔵したセラミック基板４０を用いてマイクロプラズマ発生装置４を構成し、アンモニア臭除去性能の評価試験を行った。
なお、基板に形成された貫通孔４１の孔径φ１は２ｍｍ、開口率ｒは４０％、基板厚１ｍｍ、セラミック基板４０に内蔵された電極４０ａの孔径φ２は２．２ｍｍとした。また電極４０ａと放電面の間のセラミック基板４０厚は０．１ｍｍ、基板間のスペーサ厚みは０．２ｍｍとした。
上記マイクロプラズマ発生装置を用いた脱臭装置１を構成し、アンモニア臭除去性能の評価試験を行った。
【００５４】
脱臭装置１としては、図７に示すように、ガス流路２の一端部にアンモニア供給部７１を設け、ガス流路２のアンモニア供給部７１から４０ｃｍ離間した位置に上記マイクロプラズマ発生装置４のセラミック基板４０（１０ｃｍ ｘ １０ｃｍ）、を取り付け、ガス流路２の電極４０ａ下流側４０ｃｍの位置に、二酸化マンガンを主成分とするオゾン分解触媒フィルタが位置するように取り付けられた構成となっている。また、アンモニア供給部７１、セラミック基板４０、オゾン分解触媒フィルタ、ファン３それぞれの間に、処理途中のガスをサンプリングする検査部７４ａ〜７４cを設けて、ガス流路２に流通するガスの組成を分析可能に構成してある。
【００５５】
試験は、上記脱臭装置に面風速１．４ｍ／秒で所定濃度のアンモニア含有空気を供給し、セラミック基板４０とオゾン分解触媒フィルタの間の検査部７４ｂ（フィルタ上流）、オゾン分解触媒フィルタとファン３との間の検査部７４ｃ（フィルタ下流）においてアンモニアが脱臭されるプロセスをモニタして行った。なお、放電による脱臭効率を観測するために、前記セラミック基板４０の通電動作の有無（放電あり、放電なし）による脱臭効率および触媒に対する臭気成分の破過時間を調べた。また、セラミック基板４０に印加する電圧の違いによる除去効率の違いも調べた。
【００５６】
（２−２）試験結果
その結果、表２のようになった。なお、本願において、各物質の除去効率は、
除去効率［％］＝（１−時間ごとの測定濃度／初期濃度）×100
として求めた。
【００５７】
【表２】
2015070921.tif 000004
【００５８】
表２より、オゾン分解触媒は、放電なしの状態でも、ある程度のアンモニア除去性能を発揮していることが読み取れる。しかし、その除去効率は６０分以内に急激に低下しており、単に吸着によるアンモニア除去が吸着飽和による破過まで持続していることが観測されているものと考えられる。これに対し、放電ありの場合には、１８０分まで破過せず、また、高い脱臭効率が６０分間維持されていることが明らかになった。つまり、オゾン分解触媒は、オゾンとの協働により、アンモニア分解触媒として機能していることが明らかになった。
【００５９】
また、５ｐｐｍのアンモニアを用いて、脱臭運転開始初期におけるガス流路２内におけるアンモニア濃度の変化を調べたところ、放電なしでは、セラミック基板４０の上流側の検査部７４ａでのアンモニア濃度が５ｐｐｍであったが、フィルタ上流側の検査部７４ｂにおいて、５ｐｐｍのまま検知されるのに対して、放電ありではフィルタ上流側の検査部７４ｂにおいて、４．５ｐｐｍまで減少されていることがわかり、マイクロプラズマの効果のみでもアンモニア除去効果がある程度発揮されていることがわかった。
【００６０】
この結果を上記破過試験の結果を総合すると、何らかの形で触媒が臭気成分を吸着しているものの、吸着能力はあまり大きいとはいえない。しかし、オゾンとの共働により吸着した臭気成分が分解除去されている間は、触媒の吸着能力が高く維持されるとともに、臭気成分を吸着し続けるので、高い脱臭効果を発揮し続けられるものと推定される。
すなわち、マイクロプラズマとオゾン分解触媒フィルタの組み合わせにより、触媒による臭気成分の吸着と同時にオゾンによる臭気成分の分解が並行して行えるようになり、高い効率で脱臭が行えることが覗える。
【００６１】
なお、前記オゾン分解除去装置５は、前記マイクロプラズマ発生装置４の下流側４０ｃｍの位置に設けられているが、１ｃｍ以上１ｍ以下の距離に配設されていれば同様のアンモニア除去効果を発揮することが経験的に明らかである。
【００６２】
また、上記試験において放電電圧を変更してアンモニア臭の脱臭試験を行ったところ、放電電圧を上げるほどセラミック基板４０の電極４０ａにおいて発生するオゾン濃度は、大きくなるとともに、セラミック基板４０部分における除去効率も向上することが分かった。
【００６３】
すなわち、上記マイクロプラズマ発生装置４のセラミック基板４０として１０ｃｍｘ１０ｃｍの正方形、孔径φ１が２ｍｍ、開口率４０％、厚さ１ｍｍのものを取り付け、オゾン分解触媒フィルタとして繊維状活性炭フィルタを取り付けて構成した、上記脱臭装置と同様の脱臭装置を用いて、面風速１．４ｍ／ｓのアンモニアに対する除去効率を、前記セラミック基板４０の放電電圧を変更して求めたところ表３のようになった。表中、除去効率はアンモニア流通初期のもの（時間0min）を比較している。
【００６４】
【表３】
2015070921.tif 000005
【００６５】
表より電圧を上げればフィルタ上流（電極下流）におけるオゾン濃度が上昇しており、また、フィルタ上流における除去効率（電極のみによる除去効率）上昇する。さらにフィルタ下流に達した時の除去効率に差がないことを考慮すれば、アンモニアの除去は、主にフィルタの表面において行われ、０．１ｐｐｍ以上程度のオゾンによって効率よく行われることがわかる。したがって、脱臭対象の流体に対して０．１ｐｐｍ以上のオゾンを生成する条件で放電を行うことが好ましいことが読み取れる。また、エネルギー効率の面からは１０ｐｐｍを超えるオゾンを発生させても、脱臭効果が飽和するとともに、フィルタ自体がオゾンによる劣化を受けたり、居室空間内へのオゾン漏洩対策をより厳重に行わねばならなくなったりすることから１０ｐｐｍ以下のオゾンを生成する条件で放電を行うことが好ましい。
なお、フィルタに達する余剰のオゾンは、臭気成分の吸着したフィルタの再生のために消費されると考えられ、表２の結果も総合すると、フィルタが破過するまでの寿命を延ばすのに寄与していると考えられる。
【００６６】
（３）タバコ臭の脱臭試験
（３−１）試験概要
本試験では、上記マイクロプラズマ発生装置を用いた脱臭装置１を構成し、タバコ臭除去性能の評価試験を行った。
【００６７】
脱臭装置１は、図１に示すものを用い、マイクロプラズマ発生装置４としては、セラミック基板４０として２０ｃｍ×２０ｃｍの大きさとし（１０ｃｍ×１０ｃｍ×４枚）、セラミック基板４０に設けた孔を、孔径φ１  ２．０ｍｍ、開口率４０％、厚さ１ｍｍのものとした以外は、実施の形態（１）に記載に準じたものを作成した。
【００６８】
この脱臭装置１を、図８に示すように、撹拌ファン８１、タバコ吸煙機８２とともに、１ｍ3のアクリル製の測定ボックス８３に収容し、日本電機工業会規格（ＪＥＭ１４６７）の脱臭性能試験に準じた脱臭試験を行い、各臭気成分の除去効率の変化を測定した。なお、測定ボックス８３の側壁には内部雰囲気をサンプリングする検査部８４を備えている。
【００６９】
すなわち、板厚１０ｍｍの容積１ｍ3アクリル製容器からなる測定ボックス８３内に、撹拌ファン８１（風量０．７ｍ3／ｈ）、タバコ吸煙機８２、脱臭装置１を設置した。燃焼させるタバコはタール：１０ｍｇ、ニコチン：０．８ｍｇのもので、測定対象化学物質は、タバコの煙に含まれているアンモニア（ＮＨ3）、アセトアルデヒド（ＣＨ3ＣＨＯ）、酢酸（ＣＨ3ＣＯＯＨ）の３成分とした。
【００７０】
まず、タバコ５本をタバコ吸煙機８２のホルダーに差し、タバコ吸煙機８２に付いている送風機（風量０．８ｍ3／ｍｉｎ）を用いてタバコ５本を６〜８分間で燃焼させた。最も速く燃焼したタバコがフィルタに達した時点でタバコ吸煙機８２の運転を停止し、残りのタバコは自然発煙させた。タバコ燃焼時は、測定ボックス８３内の濃度が均一になるように撹拌ファン８１を運転させた。全てのタバコの燃焼が終了してから約５分後に、検査部８４から、アンモニア、アセトアルデヒド、酢酸の初期ガス濃度を測定した。測定順序は、アンモニアとアセトアルデヒドを同時測定し、次に酢酸を測定した。それぞれの対象物質の濃度測定には、ガステック製検知管［アンモニア３Ｌ（測定範囲：０．５〜７８ｐｐｍ）、アセトアルデヒド９２Ｌ（測定範囲：１〜２０ｐｐｍ）、酢酸８１Ｌ（測定範囲：０．１２５〜２５ｐｐｍ）、オゾン１８Ｌ（測定範囲：０．０５〜０．６ｐｐｍ）］を用いた。測定時間は、初期濃度測定時を０時間とし、３時間後までを測定した。電源には、ネオン電源を用い、消費電力は１１０Ｖ時１２０Ｗであった。
【００７１】
脱臭装置１の運転条件として、（Ａ）マイクロプラズマ発生装置４を稼働した場合と、（Ｂ）稼働しなかった（ファン３およびオゾン分解除去装置５は動作）場合とで各物質の除去効率を比較した。（脱臭装置を停止したもの（ファンおよびオゾン分解除去装置も停止）を（Ｃ）対照として示す。）
【００７２】
（３−２）試験結果
各物質の除去効率の経時変化を図９に示す。図より、対照（Ｃ:図中黒四角で表示）は臭気成分の除去効率が上がらず、ほとんど脱臭効果が見込めないのに対し、オゾン分解除去装置５のみが作用する場合（Ｂ：図中白抜き四角で表示）であっても、ある程度の脱臭効果を発揮することが明らかになり、マイクロプラズマ発生装置４を稼働した場合（Ａ：図中黒丸で表示）では、より短時間で効率よく脱臭効果が現れていることが読み取れる。また、脱臭後の雰囲気中のオゾン濃度は、終始０．０５ｐｐｍ以下の低水準を維持することができ、居住空間内の人に対する悪影響はほとんどないことも確認できた。
【００７３】
〔別実施の形態〕
（１）上記の実施の形態においては、流体駆動手段としてのファン３が、ガス流路２における最上流側に配置されている場合を例として説明した。しかし、本発明の実施の形態はこれに限定されるものではない。したがって、例えば、ファン３をガス流路２におけるマイクロプラズマ発生装置４とオゾン分解除去装置５との間に配置する構成としたり、ファン３をガス流路２の最下流側に配置する構成とすることも本発明の好適な実施の形態の一つである。また、当然ながら、流体駆動手段はファン３により構成されるものに限られず、ファン以外の機構により流体駆動手段を構成しても良い。
【００７４】
（２）上記の実施の形態においては、マイクロプラズマ発生装置４が電極４０ａを内蔵した一対のセラミック基板４０を備えて構成されている場合を例として説明した。しかし、本発明の実施の形態はこれに限定されるものではない。したがって、例えば、マイクロプラズマ発生装置４が複数対のセラミック基板４０を備え、脱臭対象の流体が複数回マイクロプラズマにより処理される構成とすることも本発明の好適な実施の形態の一つである。また、マイクロプラズマによる脱臭後の流体をマイクロプラズマ発生装置４の上流側に戻すリターン流路を設けることで、臭気成分がマイクロプラズマにより分解される頻度を増やす構成としても好適である。
【００７５】
（３）ガス流路２には、別途紫外線照射装置を設けてあってもよい。このような場合、紫外線によっても活性酸素を生じ、オゾン分解除去装置５による臭気成分を分解する触媒機能を補助することができるものと考えられるからである。また、さらに、他の構成を付加してマイクロプラズマ発生装置４から供給されるオゾンに加え、オゾン分解除去装置５に対する活性酸素供給量を増加安定化することも可能である。
【００７６】
（４）上記の実施の形態においては、セラミック基板４０に形成される貫通孔４１の断面形状が方形である場合を例として説明した。しかし、本発明の実施の形態はこれに限定されるものではない。したがって、例えば、貫通孔４１の断面形状を円形や楕円形状としたり、三角形等の多角形状とすることも本発明の好適な実施の形態の一つである。
【００７７】
（５）上記の実施の形態においては、脱臭対象の流体が空気であり、特に居住空間の当該脱臭中のアンモニア臭を除去する脱臭装置に好適に用いられる具体例として説明した。しかし、本発明の実施の形態はこれに限定されるものではなく、マイクロプラズマにより脱臭することが可能な臭気成分を含むあらゆるガスの脱臭を行う脱臭装置に本発明を適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明の脱臭装置は、たとえば、居住空間や喫煙室の脱臭装置あるいは空気清浄装置として利用することができる。
【符号の説明】
【００７９】
１        ：脱臭装置
２        ：ガス流路
３        ：ファン
４        ：マイクロプラズマ発生装置
５        ：オゾン分解除去装置
４０      ：セラミック基板
４０ａ    ：電極
４１      ：貫通孔
４２      ：高周波電源
６０      ：ハウジング
６１      ：ハウジング
６２      ：ボルト
６３      ：ナット
７１      ：アンモニア供給部
７４ａ    ：検査部
７４ｂ    ：検査部
７４ｃ    ：検査部
８１      ：撹拌ファン
８２      ：タバコ吸煙機
８３      ：測定ボックス
８４      ：検査部
【図１】
2015070921.tif 000006
【図２】
2015070921.tif 000007
【図３】
2015070921.tif 000008
【図４】
2015070921.tif 000009
【図５】
2015070921.tif 000010
【図６】
2015070921.tif 000011
【図７】
2015070921.tif 000012
【図８】
2015070921.tif 000013
【図９】
2015070921.tif 000014