(57)【要約】【課題】水分が入り込むことを抑制することができるカラーフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】カラーフィルタの製造方法は、非画素部上に突起部を形成する工程と、蒸着法またはスパッタリング法を用いて、画素部、非画素部および突起部上に透明電極層を形成する透明電極層成膜工程と、を備えている。突起部および透明電極層により、カラーフィルタの透明電極層を、カラーフィルタに対向するよう配置される基板に形成されている電極に導通させるための突起電極が構成される。ここで、透明電極層成膜工程は、透明電極層の厚みが５０ｎｍ以下となるよう実施される。【選択図】図１
2015162310.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタの製造方法において、
画素部と、前記画素部の周囲に形成された非画素部と、が形成された基材を準備する工程と、
前記非画素部上に突起部を形成する工程と、
蒸着法またはスパッタリング法を用いて、前記画素部、前記非画素部および前記突起部上に透明電極層を形成する透明電極層成膜工程と、を備え、
前記突起部および前記透明電極層により、前記カラーフィルタの前記透明電極層を、前記カラーフィルタに対向するよう配置される基板に形成されている電極に導通させるための突起電極が構成され、
前記透明電極層成膜工程は、前記透明電極層の厚みが５０ｎｍ以下となるよう実施される、カラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記透明電極層を所定のアニール温度でアニールするアニール工程をさらに備える、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記アニール温度は、１５０℃〜２３０℃の範囲内である、請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
少なくとも前記突起部の頂部および側部、並びに前記突起部の周囲の前記非画素部上に前記透明電極層が残るよう前記透明電極層をパターニングするパターニング工程をさらに備える、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記パターニング工程において、前記透明電極層は、前記画素部を覆わないようパターニングされる、請求項４に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記パターニング工程において、前記透明電極層は、前記画素部を少なくとも部分的に覆うようパターニングされる、請求項４に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記画素部は、第１の色の光を選択的に透過させる第１着色部と、第２の色の光を選択的に透過させる第２着色部と、を少なくとも有し、
前記第１着色部のうち前記透明電極層によって覆われている領域の比率が、前記第２着色部のうち前記透明電極層によって覆われている領域の比率と異なっている、請求項６に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
前記透明電極層は、インジウム錫酸化物またはインジウム亜鉛酸化物からなる、請求項１乃至７のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタにおいて、
基材と、
前記基材上に形成された画素部と、
前記画素部の周囲に形成された非画素部と、
前記非画素部上に形成された突起部と、
前記突起部の頂部および側部、並びに前記突起部の周囲の前記非画素部を少なくとも部分的に覆うよう設けられた透明電極層と、を備え、
前記突起部および前記透明電極層により、前記カラーフィルタの前記透明電極層を、前記カラーフィルタに対向するよう配置される基板の電極に導通させるための突起電極が構成され、
前記透明電極層の厚みが５０ｎｍ以下である、カラーフィルタ。
【請求項１０】
基板と、前記基板上に設けられた有機ＥＬ素子とを有する有機ＥＬ素子基板と、
前記有機ＥＬ素子基板に対向するよう配置されたカラーフィルタと、を備え、
前記有機ＥＬ素子基板の前記有機ＥＬ素子は、第１電極と、前記第１電極よりも前記カラーフィルタ側に配置された第２電極と、前記第１電極と前記第２電極の間に設けられた有機発光層とを有し、
前記カラーフィルタは、基材と、前記基材上に形成された画素部と、前記画素部の周囲に形成された非画素部と、前記非画素部上に形成された突起部と、前記突起部の頂部および側部、並びに前記突起部の周囲の前記非画素部を少なくとも部分的に覆うよう設けられた透明電極層と、を有し、
前記突起部および前記透明電極層により、前記カラーフィルタの前記透明電極層を前記有機ＥＬ素子の前記第２電極に導通させるための突起電極が構成され、
前記透明電極層の厚みが５０ｎｍ以下である、有機ＥＬ表示装置。
【請求項１１】
有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタの製造方法において、
画素部と、前記画素部の周囲に形成された非画素部と、が形成された基材を準備する工程と、
前記非画素部上に突起部を形成する工程と、
蒸着法またはスパッタリング法を用いて、前記画素部、前記非画素部および前記突起部上に透明電極層を形成する透明電極層成膜工程と、
少なくとも前記突起部の頂部および側部、並びに前記非画素部上に前記透明電極層が残るよう前記透明電極層をパターニングするパターニング工程を備え、
前記突起部および前記透明電極層により、前記カラーフィルタの前記透明電極層を、前記カラーフィルタに対向するよう配置される基板に形成されている電極に導通させるための突起電極が構成され、
前記透明電極層成膜工程は、前記透明電極層の厚みが５０ｎｍ超かつ１５０ｎｍ以下となるよう実施される、カラーフィルタの製造方法。
【請求項１２】
有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタにおいて、
基材と、
前記基材上に形成された画素部と、
前記画素部の周囲に形成された非画素部と、
前記非画素部上に形成された突起部と、
前記突起部の頂部および側部、並びに前記突起部の周囲の前記非画素部を少なくとも部分的に覆うよう設けられた透明電極層と、を備え、
前記突起部および前記透明電極層により、前記カラーフィルタの前記透明電極層を、前記カラーフィルタに対向するよう配置される基板の電極に導通させるための突起電極が構成され、
前記透明電極層は、前記画素部を全く覆わないよう設けられており、若しくは、前記画素部を部分的に覆うよう設けられており、
前記透明電極層の厚みが５０ｎｍ超かつ１５０ｎｍ以下である、カラーフィルタ。
【請求項１３】
基板と、前記基板上に設けられた有機ＥＬ素子とを有する有機ＥＬ素子基板と、
前記有機ＥＬ素子基板に対向するよう配置されたカラーフィルタと、を備え、
前記有機ＥＬ素子基板の前記有機ＥＬ素子は、第１電極と、前記第１電極よりも前記カラーフィルタ側に配置された第２電極と、前記第１電極と前記第２電極の間に設けられた有機発光層とを有し、
前記カラーフィルタは、基材と、前記基材上に形成された画素部と、前記画素部の周囲に形成された非画素部と、前記非画素部上に形成された突起部と、前記突起部の頂部および側部、並びに前記突起部の周囲の前記非画素部を少なくとも部分的に覆うよう設けられた透明電極層と、を有し、
前記突起部および前記透明電極層により、前記カラーフィルタの前記透明電極層を前記有機ＥＬ素子の前記第２電極に導通させるための突起電極が構成され、
前記透明電極層は、前記画素部を全く覆わないよう設けられており、若しくは、前記画素部を部分的に覆うよう設けられており、
前記透明電極層の厚みが５０ｎｍ超かつ１５０ｎｍ以下である、有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタおよびその製造方法に関する。また本発明は、当該カラーフィルタを備えた有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、平面ディスプレイ等の分野において、有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ表示装置が提案されており、その応用研究が盛んに行われている。しかしながら有機ＥＬ素子は、周囲に存在する水分および酸素の影響を受けやすく、このため有機ＥＬ表示装置内に水分および酸素が入り込むと、有機ＥＬ表示装置の発光性能が劣化するという問題がある。このような問題を解決するため、有機ＥＬ表示装置を封止するための様々な方法が提案されている。例えば特許文献１において、基板ガラスとカバーガラスの間に硬化性樹脂を充填し、これによって基板ガラスとカバーガラスの間を封止する方法が提案されている。
【０００３】
ところで有機ＥＬ表示装置は、装置自身が発光する自発光型の表示装置である。すなわち有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬ素子は、各々が発光可能な単位画素を構成するための多数の単位有機ＥＬ素子を有している。各単位有機ＥＬ素子を駆動する方式としては、特に大型の、例えば２０インチ以上の有機ＥＬ表示装置においては、単位有機ＥＬ素子ごとに駆動回路を設けて各単位有機ＥＬ素子を駆動するアクティブマトリクス方式が一般に採用されている。
【０００４】
有機ＥＬ素子は、基板上に設けられた陽極および陰極と、陽極と陰極の間に設けられた有機発光層と、を含んでいる。このような有機ＥＬ素子においては、陽極から陰極に向かって駆動電流が流れるよう駆動回路が制御を行うとき、有機発光層から光が放出される。ところで、各単位有機ＥＬ素子の陽極および陰極は通常、共通の電圧源または電流源に接続されている。このため、単位有機ＥＬ素子と電圧源または電流源との間の距離に応じて、各単位有機ＥＬ素子の陽極および陰極における電圧降下の程度が異なることになる。一般には、基板の中央部に配置された単位有機ＥＬ素子の方が、基板の外周部に配置された単位有機ＥＬ素子に比べて配線長が長くなるため、電圧降下の程度が大きくなる傾向がある。
【０００５】
各単位有機ＥＬ素子間での電圧降下の差が大きいと、輝度ムラや応答時間のばらつきが生じてしまう。このような課題を解決するため、例えば特許文献２において、有機ＥＬ素子基板と対向するよう配置されるカラーフィルタに突起電極を形成し、この突起電極を有機ＥＬ素子の陽極または陰極に導通させることが提案されている。突起電極は、カラーフィルタの非画素部上に形成された突起部と、突起部の頂部および側部、並びに突起部の周囲の非画素部を少なくとも部分的に覆うよう設けられた透明電極層と、を含んでいる。このような突起電極を有機ＥＬ素子の陽極または陰極に導通させることにより、有機ＥＬ素子に供給される駆動電流が、有機ＥＬ素子の陽極および陰極だけでなくカラーフィルタの透明電極層にも流れるようになる。このため、単位有機ＥＬ素子において生じる電圧降下の程度を軽減することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−３０２４０１号公報
【特許文献２】国際公開第２０１３／０６２０５９号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
カラーフィルタの突起電極を構成するための透明電極層としては、インジウム錫酸化物などの無機物が用いられる。このような無機物の層を形成するための方法としては一般に、蒸着法やスパッタリング法など、無機物の層を形成する構成元素をカラーフィルタの基材に向けて飛翔させる方法が用いられる。この場合、ターゲットから構成元素を飛び出させるため、または構成元素を基材に向けて飛翔させるために、カラーフィルタの基材の周辺にプラズマ雰囲気が形成されることがある。ところで、カラーフィルタの画素部や非画素部は、所定の色の顔料や黒色顔料が添加された樹脂から構成されている。このため、プラズマ雰囲気が存在していると、カラーフィルタの画素部や非画素部を構成する樹脂の表面が荒らされ、この結果、樹脂の表面に水分が付着し易くなってしまう。カラーフィルタと有機ＥＬ素子基板とが組み合わされた後に、カラーフィルタに付着した水分が有機ＥＬ素子に向けて放出されると、有機発光層の発光性能が水分によって劣化してしまう。
【０００８】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、単位有機ＥＬ素子における電圧降下の程度を軽減することができ、かつ水分が入り込むことを抑制することができるカラーフィルタおよびその製造方法、並びに当該カラーフィルタを備えた有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタの製造方法において、画素部と、前記画素部の周囲に形成された非画素部と、が形成された基材を準備する工程と、前記非画素部上に突起部を形成する工程と、蒸着法またはスパッタリング法を用いて、前記画素部、前記非画素部および前記突起部上に透明電極層を形成する透明電極層成膜工程と、を備え、前記突起部および前記透明電極層により、前記カラーフィルタの前記透明電極層を、前記カラーフィルタに対向するよう配置される基板に形成されている電極に導通させるための突起電極が構成され、前記透明電極層成膜工程は、前記透明電極層の厚みが５０ｎｍ以下となるよう実施される、カラーフィルタの製造方法である。
【００１０】
本発明によるカラーフィルタの製造方法は、前記透明電極層を所定のアニール温度でアニールするアニール工程をさらに備えていてもよい。前記アニール温度は、好ましくは１５０℃〜２３０℃の範囲内である。
【００１１】
本発明によるカラーフィルタの製造方法は、少なくとも前記突起部の頂部および側部、並びに前記突起部の周囲の前記非画素部上に前記透明電極層が残るよう前記透明電極層をパターニングするパターニング工程をさらに備えていてもよい。
【００１２】
本発明によるカラーフィルタの製造方法の前記パターニング工程において、前記透明電極層は、前記画素部を覆わないようパターニングされてもよい。
【００１３】
本発明によるカラーフィルタの製造方法の前記パターニング工程において、前記透明電極層は、前記画素部を少なくとも部分的に覆うようパターニングされてもよい。この場合、前記画素部は、第１の色の光を選択的に透過させる第１着色部と、第２の色の光を選択的に透過させる第２着色部と、を少なくとも有し、前記第１着色部のうち前記透明電極層によって覆われている領域の比率が、前記第２着色部のうち前記透明電極層によって覆われている領域の比率と異なっていてもよい。
【００１４】
本発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記透明電極層は、インジウム錫酸化物またはインジウム亜鉛酸化物からなっていてもよい。
【００１５】
本発明は、有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタにおいて、基材と、前記基材上に形成された画素部と、前記画素部の周囲に形成された非画素部と、前記非画素部上に形成された突起部と、前記突起部の頂部および側部、並びに前記突起部の周囲の前記非画素部を少なくとも部分的に覆うよう設けられた透明電極層と、を備え、前記突起部および前記透明電極層により、前記カラーフィルタの前記透明電極層を、前記カラーフィルタに対向するよう配置される基板の電極に導通させるための突起電極が構成され、前記透明電極層の厚みが５０ｎｍ以下である、カラーフィルタである。
【００１６】
本発明は、基板と、前記基板上に設けられた有機ＥＬ素子とを有する有機ＥＬ素子基板と、前記有機ＥＬ素子基板に対向するよう配置されたカラーフィルタと、を備え、前記有機ＥＬ素子基板の前記有機ＥＬ素子は、第１電極と、前記第１電極よりも前記カラーフィルタ側に配置された第２電極と、前記第１電極と前記第２電極の間に設けられた有機発光層とを有し、前記カラーフィルタは、基材と、前記基材上に形成された画素部と、前記画素部の周囲に形成された非画素部と、前記非画素部上に形成された突起部と、前記突起部の頂部および側部、並びに前記突起部の周囲の前記非画素部を少なくとも部分的に覆うよう設けられた透明電極層と、を有し、前記突起部および前記透明電極層により、前記カラーフィルタの前記透明電極層を前記有機ＥＬ素子の前記第２電極に導通させるための突起電極が構成され、前記透明電極層の厚みが５０ｎｍ以下である、有機ＥＬ表示装置である。
【００１７】
第２の技術的思想に基づく本発明は、有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタの製造方法において、画素部と、前記画素部の周囲に形成された非画素部と、が形成された基材を準備する工程と、前記非画素部上に突起部を形成する工程と、蒸着法またはスパッタリング法を用いて、前記画素部、前記非画素部および前記突起部上に透明電極層を形成する透明電極層成膜工程と、少なくとも前記突起部の頂部および側部、並びに前記非画素部上に前記透明電極層が残るよう前記透明電極層をパターニングするパターニング工程を備え、前記突起部および前記透明電極層により、前記カラーフィルタの前記透明電極層を、前記カラーフィルタに対向するよう配置される基板に形成されている電極に導通させるための突起電極が構成され、前記透明電極層成膜工程は、前記透明電極層の厚みが５０ｎｍ超かつ１５０ｎｍ以下となるよう実施される、カラーフィルタの製造方法である。
【００１８】
第２の技術的思想に基づく本発明は、第２の技術的思想に基づく本発明は、有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタにおいて、基材と、前記基材上に形成された画素部と、前記画素部の周囲に形成された非画素部と、前記非画素部上に形成された突起部と、前記突起部の頂部および側部、並びに前記突起部の周囲の前記非画素部を少なくとも部分的に覆うよう設けられた透明電極層と、を備え、前記突起部および前記透明電極層により、前記カラーフィルタの前記透明電極層を、前記カラーフィルタに対向するよう配置される基板の電極に導通させるための突起電極が構成され、前記透明電極層は、前記画素部を全く覆わないよう設けられており、若しくは、前記画素部を部分的に覆うよう設けられており、前記透明電極層の厚みが５０ｎｍ超かつ１５０ｎｍ以下である、カラーフィルタである。
【００１９】
第２の技術的思想に基づく本発明は、基板と、前記基板上に設けられた有機ＥＬ素子とを有する有機ＥＬ素子基板と、前記有機ＥＬ素子基板に対向するよう配置されたカラーフィルタと、を備え、前記有機ＥＬ素子基板の前記有機ＥＬ素子は、第１電極と、前記第１電極よりも前記カラーフィルタ側に配置された第２電極と、前記第１電極と前記第２電極の間に設けられた有機発光層とを有し、前記カラーフィルタは、基材と、前記基材上に形成された画素部と、前記画素部の周囲に形成された非画素部と、前記非画素部上に形成された突起部と、前記突起部の頂部および側部、並びに前記突起部の周囲の前記非画素部を少なくとも部分的に覆うよう設けられた透明電極層と、を有し、前記突起部および前記透明電極層により、前記カラーフィルタの前記透明電極層を前記有機ＥＬ素子の前記第２電極に導通させるための突起電極が構成され、前記透明電極層は、前記画素部を全く覆わないよう設けられており、若しくは、前記画素部を部分的に覆うよう設けられており、前記透明電極層の厚みが５０ｎｍ超かつ１５０ｎｍ以下である、有機ＥＬ表示装置である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、カラーフィルタの突起電極を構成する透明電極層の厚みが、５０ｎｍ以下となっている。このため、透明電極層を成膜する工程に要する時間を短くすることができる。これによって、カラーフィルタの画素部や非画素部を構成する樹脂の表面が荒らされてしまうことを抑制することができる。このことにより、透明電極層を成膜する工程の際にカラーフィルタに付着する水分の量を低減することができる。また、透明電極層の厚みが小さいので、透明電極層を形成する工程の後にカラーフィルタを加熱することによって、樹脂の表面の水分が容易に透明電極層を通って外部へ放出され得るようになる。このことによっても、カラーフィルタに付着している水分の量を低減することができる。このため本発明によれば、有機発光層の発光性能が水分によって劣化してしまうことを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、本発明の実施の形態における有機ＥＬ表示装置を示す断面図。
【図２Ａ】図２Ａは、図１の有機ＥＬ表示装置のカラーフィルタを矢印ＩＩＡ−ＩＩＡ方向から見た図。
【図２Ｂ】図２Ｂは、図１の有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬ素子を矢印ＩＩＢ−ＩＩＢ方向から見た図。
【図３Ａ】図３Ａは、ブラックマトリクス層からなる非画素部を基材上に形成する工程を示す図。
【図３Ｂ】図３Ｂは、複数色の着色部を含む画素部を基材上に形成する工程を示す図。
【図３Ｃ】図３Ｃは、非画素部上に補助電極層を形成する工程を示す図。
【図３Ｄ】図３Ｄは、補助電極層に接続されるように、非画素部に突起部を形成する工程を示す図。
【図３Ｅ】図３Ｅは、画素部、非画素部および突起部上に透明電極層を形成する工程を示す図。
【図４】図４は、第１の変形例によるカラーフィルタを示す断面図。
【図５】図５は、第２の変形例によるカラーフィルタを示す断面図。
【図６Ａ】図６Ａは、第３の変形例によるカラーフィルタを示す断面図。
【図６Ｂ】図６Ｂは、第３の変形例によるカラーフィルタを示す平面図。
【図７】図７は、各実施例および各比較例によるカラーフィルタを加熱した際にカラーフィルタから脱離した水分子の個数を、カラーフィルタの透明電極層の厚みに対してプロットした結果を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図１乃至図３Ｅを参照して、本発明の実施の形態について説明する。まず図１乃至図２Ｂにより、本実施の形態における有機ＥＬ表示装置５０全体について説明する。
【００２３】
有機ＥＬ表示装置
図１に示すように、有機ＥＬ表示装置５０は、光を放射する有機ＥＬ素子基板４０と、有機ＥＬ素子基板４０に対向するよう配置されたカラーフィルタ１０と、を備えている。カラーフィルタ１０は、有機ＥＬ素子基板４０からの光が放射される側、すなわち観察者側（ユーザー側）に配置されている。
【００２４】
有機ＥＬ素子
はじめに有機ＥＬ素子基板４０について説明する。図１に示すように、有機ＥＬ素子基板４０は、基板４７と、基板４７上に設けられ、光を放射する有機ＥＬ素子４４と、を有している。なお図示はしないが、基板４７上には、有機ＥＬ素子４４を駆動するためのトランジスタなどの駆動素子を含む駆動回路が形成されている。すなわち基板４７は、有機ＥＬ素子４４を駆動するための基板、いわゆるＴＦＴ基板となっている。
【００２５】
有機ＥＬ素子基板４０の有機ＥＬ素子４４において発光した光は、基板４７が位置する側とは反対の側へ取り出される。すなわち、有機ＥＬ素子４４からの光は、ＴＦＴ基板を構成する基板４７の上方から取り出される。このように本実施の形態における有機ＥＬ表示装置５０は、いわゆるトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置となっている。
【００２６】
基板４７は、有機ＥＬ素子４４を支持するとともに、外気を遮断することができるものであれば特に限定されるものではないが、安定性、耐久性等が良好なことから、ガラスや透明ポリマーであることが好ましい。
【００２７】
図１に示すように、有機ＥＬ素子４４は、各々が有機ＥＬ素子基板４０の単位画素に対応する複数の単位有機ＥＬ素子４４ａからなっている。各単位有機ＥＬ素子４４ａは、第１電極４１と、第１電極４１よりもカラーフィルタ１０側に配置された第２電極４３と、第１電極４１と第２電極４３の間に設けられた有機発光層４２とを有している。ここでは、第１電極４１が陽極を構成し、第２電極４３が陰極を構成する例について説明する。しかしながら、第１電極４１および第２電極４３の極性が特に限られることはない。
【００２８】
図１に示すように、各単位有機ＥＬ素子４４ａの第２電極４３は互いに接続されていてもよい。すなわち、第２電極４３が共通電極となっていてもよい。この場合、図１に示すように、第２電極４３と基板４７との間には、第１電極４１と第２電極４３とがショートしてしまうことを防ぐための絶縁層４５が形成されていてもよい。
【００２９】
第１電極４１としては、効率良く正孔を注入できる材料であれば特に限定されるものではないが、例えば、アルミニウム、クロム、モリブデン、タングステン、銅、銀または金およびそれらの合金等を使用することが好ましい。一方、第２電極４３としては、電子を注入しやすく、かつ光透過性の良好な材料が用いられており、例えば酸化リチウム、炭酸セシウム等が用いられる。有機発光層４２としては、所定の電圧を印加することにより白色光を発光するよう構成された蛍光性有機物質を含有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、キノリノール錯体、オキサゾール錯体、各種レーザー色素、ポリパラフェニレンビニレン等が挙げられる。
【００３０】
なお、第１電極４１から注入された正孔を有機発光層４２に効率的に輸送するため、第１電極４１と有機発光層４２との間に正孔輸送層（図示せず）が設けられていてもよい。正孔輸送層の構成材料として、例えばテトラフェニルベンジジンが挙げられる。さらに、第１電極４１と正孔輸送層との間に正孔注入層（図示せず）が設けられていてもよい。また、有機発光層４２と第２電極４３との間に、電子注入層（図示せず）や電子輸送層（図示せず）が設けられていてもよい。また、水分を遮蔽するバリア膜（図示せず）が有機ＥＬ素子４４上に設けられていてもよい。
【００３１】
カラーフィルタ
次に、カラーフィルタ１０について説明する。図１に示すように、カラーフィルタ１０は、観察者側の面１１ａおよび有機ＥＬ素子側の面１１ｂを有する基材１１と、基材１１の面１１ｂ上に形成された画素部１７と、画素部１７の周囲に形成された非画素部１８と、を備えている。
【００３２】
（非画素部）
非画素部１８は、基材１１の面１１ｂ上に設けられたブラックマトリクス層１２を有している。ブラックマトリクス層１２は、光を遮蔽する層となっている。ブラックマトリクス層１２の材料としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック等の黒色着色材を含有する樹脂組成物等が挙げられる。この樹脂組成物に用いられる樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が使用され得る。
【００３３】
（画素部）
画素部１７は、非画素部１８のブラックマトリクス層１２間に設けられた第１着色部１３、第２着色部１４、第３着色部１５および透過率調整部１６と、を備えている。ここでは、第１着色部１３が、第１の色、例えば赤色の光を選択的に透過させる赤色着色部であり、第２着色部１４が、第２の色、例えば緑色の光を選択的に透過させる緑色着色部であり、第３着色部１５が、第３の色、例えば青色の光を選択的に透過させる青色着色部である例について説明する。各着色部１３，１４，１５は、各色の顔料や染料等の着色材を感光性樹脂中に分散または溶解させることにより形成されている。
【００３４】
赤色用の着色材としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
緑色用の着色材としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
青色用の着色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
なお、着色部の色が上記の赤色、緑色および青色に限られることは無く、その他の色の着色部、例えば黄色着色部が含まれていてもよい。
【００３５】
透過率調整部１６は、可視光域の光を広域にわたって適切に透過させるよう構成されている。例えば透過率調整部１６は、透過率調整部１６の透過スペクトルＳＡにおける、波長３８０〜７８０ｎｍの範囲内での平均透過率が、３０％以上となるよう構成されている。この場合、透過率調整部１６からはほぼ白色の光が観察者に向けて放射される。このように本実施の形態において、有機ＥＬ表示装置５０は、赤色、緑色、青色に白色を加えた４色の副画素を有する画素群で構成されている。すなわち、いわゆるペンタイル方式が採用されている。ペンタイル方式を採用することにより、カラーフィルタ１０全体としての透過率を向上させることができる。このことにより、有機ＥＬ素子基板４０の発光強度を過度に高めることなく有機ＥＬ表示装置５０の輝度を増加させることができる。
【００３６】
（突起電極）
また図１に示すように、カラーフィルタ１０は、非画素部１８上に設けられた突起部２１と、突起部２１の頂部および側部、並びに画素部１７および非画素部１８を覆うよう設けられた透明電極層２２と、をさらに備えている。これら突起部２１および透明電極層２２により、カラーフィルタ１０の透明電極層２２を有機ＥＬ素子基板４０の第２電極４３に導通させるための突起電極２０が構成されている。これによって、有機ＥＬ素子４４に供給される駆動電流が、有機ＥＬ素子４４の第１電極４１および第２電極４３だけでなくカラーフィルタ１０の透明電極層２２にも流れるようになる。このことにより、単位有機ＥＬ素子４４ａにおいて生じる電圧降下の程度を軽減することができる。
【００３７】
カラーフィルタ１０の透明電極層２２を有機ＥＬ素子基板４０の第２電極４３に電気的に接続させることができる限りにおいて、突起部２１の形状が特に限られることはない。例えば、突起部２１の形状として、円錐台、円柱、三角錐台、四角錐台などを挙げることができる。突起部２１を構成する材料としては例えば、絶縁性を有する樹脂材料を用いることができる。また、突起部２１自体に導電性を付与するため、突起部２１が導電性材料を含んでいてもよい。
【００３８】
透明電極層２２を構成する材料としては、透明性を有するとともに、所要の導電性を有する材料が用いられる。例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物を用いることができる。また、これらの金属酸化物が２種以上複合されてもよい。
【００３９】
ところで、ＩＴＯなどの金属酸化物の導電性は一般に、銀や銅などの金属材料の導電性に比べて低い。従って、透明電極層２２のみでは、各単位有機ＥＬ素子４４ａにおける電圧降下の程度を十分に軽減できないことがある。この点を考慮し、図１に示すように、カラーフィルタ１０は、非画素部１８上で線状に延びるよう設けられるとともに透明電極層２２に電気的に接続された補助電極層２３をさらに備えていてもよい。図１においては、補助電極層２３が透明電極層２２によって覆われるよう補助電極層２３が配置される例が示されている。補助電極層２３は非画素部１８上に設けられるので、補助電極層２３が透明性を有する必要はない。従って、補助電極層２３を構成する材料として、高い導電性を有する銀や銅などの金属材料を用いることができる。これによって、各単位有機ＥＬ素子４４ａにおける電圧降下をより効果的に軽減することができる。
【００４０】
図１に示すように、突起部２１は補助電極層２３上に設けられてもよい。この場合、突起部２１の周囲において透明電極層２２が補助電極層２３に確実に電気的に接続されるようにするため、線状に延びる補助電極層２３の幅を、突起部２１の底部の幅よりも大きくしてもよい。
【００４１】
（光学弾性樹脂）
図１に示すように、有機ＥＬ表示装置５０は、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子基板４０との間の隙間を埋めるための光学弾性樹脂４９をさらに備えていてもよい。これによって、有機ＥＬ素子基板４０から放出された光をより高い透過率でカラーフィルタ１０の面１１ａ側から取り出すことができるようになる。また、有機ＥＬ素子基板４０の有機ＥＬ素子４４を外部雰囲気から強固に封止することができるので、水分や酸素によって有機ＥＬ素子４４の有機発光層４２の性能が劣化してしまうことを抑制することができる。光学弾性樹脂４９を構成する材料としては、例えばエポキシ樹脂を含む樹脂材料を用いることができる。
【００４２】
次に、平面視におけるカラーフィルタ１０および有機ＥＬ素子基板４０の構成について説明する。図２Ａおよび図２Ｂは、基材１１の法線方向に沿って見た場合のカラーフィルタ１０を示す平面図である。具体的には、図２Ａは、図１の有機ＥＬ表示装置５０のカラーフィルタ１０を矢印ＩＩＡ−ＩＩＡ方向から見た図であり、図２Ｂは、図１の有機ＥＬ表示装置５０の有機ＥＬ素子基板４０を矢印ＩＩＢ−ＩＩＢ方向から見た図である。なお図が煩雑になるのを防ぐため、図２Ａにおいては、透明電極層２２を省略している。
【００４３】
図２Ｂに示すように、有機ＥＬ素子４４の各単位有機ＥＬ素子４４ａには駆動用配線４８が接続されている。駆動用配線４８は、各単位有機ＥＬ素子４４ａの第１電極４１や第２電極４３と電流源または電圧源とを接続する配線や、各単位有機ＥＬ素子４４ａに対応して設けられた駆動回路を制御するための配線などを含む。また図２Ａに示すように、非画素部１８のブラックマトリクス層１２は、複数の開口部１２ａを区画するよう、マトリックス状のパターンを有している。ブラックマトリクス層１２によって画定される複数の開口部がそれぞれ、有機ＥＬ素子基板４０の単位画素に対応している。また、上述の画素部１７の着色部１３，１４，１５および透過率調整部１６は、基材１１の法線方向に沿って見た場合にブラックマトリクス層１２の開口部と重なるよう設けられている。
【００４４】
突起部２１が配置される位置や配置密度が特に限られることはなく、有機ＥＬ素子基板４０の各単位有機ＥＬ素子４４ａにおいて生じる電圧降下の程度に応じて適宜決定される。例えば、有機ＥＬ素子基板４０の中央部に配置された単位有機ＥＬ素子４４ａの方が、有機ＥＬ素子４４の外周部に配置された単位有機ＥＬ素子４４ａに比べて大きな電圧降下が発生する場合、カラーフィルタ１０の中央部に優先的に突起部２１が配置される。例えば図２Ａに示すように、カラーフィルタ１０の中央部における突起部２１の配置密度が、カラーフィルタ１０の外周部における突起部２１の配置密度よりも高くなるよう、突起部２１が設けられる。
【００４５】
次に、このような構成からなるカラーフィルタ１０および有機ＥＬ表示装置５０を製造する方法について説明する。
【００４６】
カラーフィルタの製造方法
はじめに、図３Ａ乃至図３Ｅを参照して、カラーフィルタ１０の製造方法について説明する。
【００４７】
（準備工程）
まず基材１１を準備する。次に、基材１１の面１１ｂ上に、黒色着色材を含む感光性樹脂層を形成する。その後、感光性樹脂層等をパターニングすることにより、図３Ａに示すように、基材１１の面１１ｂ上に、ブラックマトリックス層１２からなる非画素部１８を形成する。感光性樹脂層の形成方法が特に限定されることはなく、スピンコート法等を適宜用いることができる。また、感光性樹脂層のパターニング方法が特に限定されることもなく、フォトリソグラフィー法等を適宜用いることができる。
【００４８】
次に、図３Ｂに示すように、ブラックマトリクス層１２間に、第１着色部１３、第２着色部１４、第３着色部１５および透過率調整部１６を含む画素部１７を形成する。各着色部１３，１４，１５および透過率調整部１６を形成する方法が特に限られることはない。例えば上述のブラックマトリクス層１２の場合と同様に、はじめに、着色材を含む感光性樹脂層を面１１ｂおよびブラックマトリクス層１２上に設け、その後、感光性樹脂層をパターニングすることにより、各着色部１３，１４，１５および透過率調整部１６を得ることができる。若しくは、インクジェット法などの、高い位置精度で樹脂材料を塗布することができる方法を用いて、ブラックマトリクス層１２間に各着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６を形成してもよい。この場合、感光性樹脂層をパターニングする工程を不要にすることができる。
このようにして、画素部１７と、画素部１７の周囲に形成された非画素部１８と、が形成された基材１１を準備することができる。
【００４９】
図３Ｂに示すように、画素部１７および非画素部１８の全体を覆うオーバーコート層１９をさらに設けてもよい。これによって、後の工程で形成される透明電極層２２や補助電極層２３の形成面を平坦化することができる。また、画素部１７や非画素部１８を保護することができる。オーバーコート層１９を構成する材料や、その形成方法としては、オーバーコート層として従来から一般に用いられている材料や形成方法を適宜用いることができる。
【００５０】
（補助電極層形成工程）
次に、図３Ｃに示すように、非画素部１８上、すなわちブラックマトリクス層１２上に補助電極層２３を形成する補助電極層形成工程を実施する。なお図３Ｃに示す例においては、補助電極層２３はブラックマトリクス層１２の面上ではなくオーバーコート層１９の面上に設けられている。このような場合であっても、本願においては、基材１１の法線方向に沿って見た場合にブラックマトリクス層１２とオーバーコート層１９とが重なっている場合、「ブラックマトリクス層１２上に補助電極層２３を形成する」というように表現することがある。「画素部１７上」、「非画素部１８上」などの類似の表現についても同様である。
【００５１】
補助電極層形成工程においては、はじめに、画素部１７および非画素部１８上の全域にわたって補助電極層２３を成膜する補助電極層成膜工程を実施する。成膜方法としては、蒸着法やスパッタリング法などの物理的な成膜法を用いることができる。その後、線状の補助電極層２３が非画素部１８のブラックマトリクス層１２上に残るよう、補助電極層２３をパターニングする。パターニング方法としては、フォトリソグラフィー法等を適宜用いることができる。
【００５２】
ところで、蒸着法やスパッタリング法などの物理的な成膜法においては、上述のようにカラーフィルタ１０の周辺にプラズマ雰囲気が形成されることがある。プラズマ雰囲気によってオーバーコート層１９の表面が荒らされてしまうことを抑制するため、蒸着法やスパッタリング法による補助電極層成膜工程が実施される時間が可能な限り短いことが好ましい。通常は、補助電極層２３の厚みが小さいほど、補助電極層２３を成膜するために要する時間を短くすることができ、これによってオーバーコート層１９の表面が荒らされる程度を小さくすることができる。この点を考慮し、好ましくは、補助電極層成膜工程は、補助電極層２３の厚みが５００ｎｍ以下となるよう実施される。
【００５３】
（突起部形成工程）
次に、図３Ｄに示すように、非画素部１８のブラックマトリクス層１２上に突起部２１を形成する突起部形成工程を実施する。ここでは、突起部２１は補助電極層２３上に形成される。突起部２１を形成する方法が特に限られることはない。例えばブラックマトリクス層１２の場合と同様に、はじめに、感光性樹脂層をオーバーコート層１９および補助電極層２３上に設け、その後、感光性樹脂層をパターニングすることにより、突起部２１を得ることができる。
【００５４】
（透明電極層形成工程）
次に、図３Ｅに示すように、画素部１７、非画素部１８および突起部２１上に透明電極層２２を形成する透明電極層形成工程を実施する。はじめに、画素部１７および非画素部１８上の全域にわたって透明電極層２２を成膜する透明電極層成膜工程を実施する。成膜方法としては、補助電極層２３の場合と同様に、蒸着法やスパッタリング法などの物理的な成膜法を用いることができる。
【００５５】
透明電極層成膜工程においても、補助電極層成膜工程の場合と同様に、カラーフィルタ１０の周辺にプラズマ雰囲気が形成されることがある。従って、プラズマ雰囲気によってオーバーコート層１９の表面が荒らされてしまうことを抑制するため、透明電極層成膜工程が実施される時間が可能な限り短いことが好ましい。この点を考慮し、好ましくは、透明電極層成膜工程は、透明電極層２２の厚みｔが５０ｎｍ以下となるよう実施される。
【００５６】
透明電極層形成工程においては、その後、透明電極層２２を所定のアニール温度でアニールするアニール工程を実施してもよい。これによって、透明電極層２２を構成する材料の結晶化を促進することができ、このことにより、透明電極層２２を硬化させることができる。この結果、後の工程において透明電極層２２の硬化収縮が生じることを抑制することができ、これによって、透明電極層２２と、透明電極層２２に接している層（オーバーコート層１９や、オーバーコート層１９が設けられていない場合はブラックマトリクス層１２や着色部１３，１４，１５などの層）との間の密着性を維持することができる。また、結晶性を高めることにより、透明電極層２２の透過率や導電性を高めることができる。
【００５７】
またアニール工程を実施することにより、透明電極層２２に付着している水分子が脱離するという効果を期待することもできる。さらに、透明電極層２２の厚みが、水分子が通過可能な程度の厚みである場合、アニール工程を実施することにより、オーバーコート層１９、ブラックマトリクス層１２や各着色部１３，１４，１５および透過率調整部１６の表面に付着している水分子が脱離するという効果を期待することもできる。ここで本実施の形態によれば、上述のように透明電極層２２の厚みが５０ｎｍ以下となっている。従って、オーバーコート層１９、ブラックマトリクス層１２や各着色部１３，１４，１５および透過率調整部１６の表面に付着している水分子は、透明電極層２２を通過可能であると考えられる。このように本実施の形態によれば、透明電極層２２の厚みを小さくすることにより、オーバーコート層１９など透明電極層２２に先行して形成される要素の表面が荒れてしまうことを抑制するだけでなく、透明電極層２２に先行して形成される要素の表面に付着した水分子の脱離のし易さを向上させることもできる。
ところで補助電極層２３の厚みは、通常は透明電極層２２よりも大きい厚みに設定され、例えば上述のように５００ｎｍ以下に設定されている。一方、補助電極層２３が設けられる範囲は、透明電極層２２が設けられる範囲よりも狭い。例えば補助電極層２３は、図２Ａに示すように、非画素部１８の一部にのみ設けられる。このため、仮に補助電極層２３の厚みが、水分子が補助電極層２３を通過できない程度に大きい場合であっても、アニール工程の際に生じる水分子の脱離が補助電極層２３によって妨げられる程度はわずかであると言える。
【００５８】
アニール工程におけるアニール温度は、透明電極層２２を構成する材料の結晶特性や、カラーフィルタ１０のその他の構成要素の耐熱特性などに応じて適宜設定される。好ましくは、後述する実施例において支持されるように、アニール温度は１５０℃〜２３０℃の範囲内に設定される。
【００５９】
なお上述の例では、透明電極層２２を構成する材料の結晶化を促進するようカラーフィルタ１０を加熱する工程と、水分子を脱離させるためにカラーフィルタ１０を加熱させる工程とを、同一のアニール工程として実施する例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、水分子を脱離させるためにカラーフィルタ１０を加熱させる工程を、透明電極層２２を構成する材料の結晶化を促進するようカラーフィルタ１０を加熱する工程とは別の工程として、異なる条件で実施してもよい。例えば、水分子を脱離させるためにカラーフィルタ１０を加熱させるため、１５０℃で３０分間にわたってカラーフィルタ１０を加熱してもよい。
【００６０】
有機ＥＬ表示装置の製造方法
次に、上述のようにして得られたカラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子基板４０とを組み合わせて、有機ＥＬ表示装置５０を作製する。この際、カラーフィルタ１０の突起電極２０が有機ＥＬ素子基板４０の第２電極４３に接するよう、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子基板４０とを組み合わせる。なお図１に示すように、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子基板４０との間に光学弾性樹脂４９が設けられていてもよい。光学弾性樹脂４９は、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子基板４０とを組み合わせた後にカラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子基板４０との間に設けられてもよく、若しくは、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子基板４０とを組み合わせる前にカラーフィルタ１０に設けられてもよい。
【００６１】
ところで、光学弾性樹脂４９は有機ＥＬ素子４４に直接的に触れるものである。この点を考慮すると、光学弾性樹脂４９が溶媒を極力含まないことが好ましい。例えば、光学弾性樹脂４９として、溶媒が用いられない場合であってもカラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子基板４０との間の空間を埋めることができる程度の粘性を有するものを用いることが好ましい。この場合、空間を可能な限り隙間無く埋めるためには、カラーフィルタ１０に対する光学弾性樹脂４９のぬれ性が高いことが好ましい。ここで本実施の形態によれば、画素部１７および非画素部１８上の全域にわたって透明電極層２２が形成されている。無機物によって構成される透明電極層２２に対する光学弾性樹脂４９のぬれ性は一般に、アクリル樹脂などを含む着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６などに対する光学弾性樹脂４９のぬれ性よりも高い。従って本実施の形態によれば、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子基板４０との間の空間をより隙間無く埋めることができる。
【００６２】
本実施の形態によれば、上述のように、カラーフィルタ１０の突起電極２０を構成する透明電極層２２の厚みが、５０ｎｍ以下となっている。このため、透明電極層２２を成膜する工程に要する時間を短くすることができる。これによって、カラーフィルタ１０の画素部１７や非画素部１８を構成する樹脂の表面が荒らされてしまうことを抑制することができる。このことにより、透明電極層２２を成膜する工程の際にカラーフィルタ１０に付着する水分の量を低減することができる。また、透明電極層２２の厚みが小さいので、透明電極層２２を形成する工程の後にカラーフィルタ１０を加熱することによって、樹脂の表面の水分が容易に透明電極層２２を通って外部へ放出され得るようになる。このことによっても、カラーフィルタ１０に付着している水分の量を低減することができる。このため本実施の形態によれば、有機ＥＬ素子基板４０の有機発光層４２の発光性能が水分によって劣化してしまうことを抑制することができる。
【００６３】
なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
【００６４】
（第１の変形例）
上述の本実施の形態においては、画素部１７および非画素部１８の全体を覆うオーバーコート層１９が設けられ、このオーバーコート層１９の上に透明電極層２２が設けられる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図４に示すように、画素部１７を構成するブラックマトリクス層１２や、非画素部１８を構成する着色部１３，１４，１５および透過率調整部１６の上に直接的に透明電極層２２を設けてもよい。
【００６５】
（第２の変形例）
上述の本実施の形態においては、画素部１７および非画素部１８の全域を覆うよう透明電極層２２が設けられる例を示した。しかしながら、少なくとも突起部２１の頂部および側部、並びに突起部２１の周囲の非画素部１８上に透明電極層２２が設けられており、これによって有機ＥＬ素子基板４０の第２電極４３と透明電極層２２とが導通可能である限りにおいて、透明電極層２２の具体的なパターンが特に限られることはない。例えば図５に示すように、透明電極層２２は、着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６などの画素部１７を覆わないように設けられていてもよい。この場合、着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６を透過して観察者側に到達する光の強度が、透明電極層２２が存在しない分だけ高くなる。
【００６６】
なお透明電極層２２が画素部１７および非画素部１８の全域を覆わない場合、カラーフィルタ１０の製造方法は、少なくとも突起部２１の頂部および側部、並びに突起部２１の周囲の非画素部１８上に透明電極層２２が残るよう、透明電極層２２をパターニングするパターニング工程をさらに備えることになる。本変形例によるパターニング工程においては、透明電極層２２は、画素部１７を覆わないようパターニングされることになる。透明電極層２２をパターニングする方法としては、補助電極層２３の場合と同様に、フォトリソグラフィー法等を適宜用いることができる。
【００６７】
（第３の変形例）
上述の第２の変形例においては、透明電極層２２が画素部１７を覆わないように透明電極層２２がパターニングされる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、透明電極層２２は、着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６などの画素部１７を部分的に覆うようパターニングされてもよい。図６Ａおよび図６Ｂは、画素部１７を部分的に覆うよう設けられた透明電極層２２を備えるカラーフィルタ１０を示す断面図および平面図である。なお図６Ｂにおいては、図が煩雑になるのを防ぐため、補助電極層２３を省略している。
【００６８】
上述のように、アクリル樹脂などを含む着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６などに対する光学弾性樹脂４９は、無機物によって構成される透明電極層２２に対する光学弾性樹脂４９のぬれ性よりも一般に低い。ここで本変形例によれば、着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６上に透明電極層２２を部分的に設けることにより、カラーフィルタ１０に対する光学弾性樹脂４９のぬれ性を高めることができる。また、光学弾性樹脂４９に接する着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６の表面積が透明電極層２２によって細分化されるので、光学弾性樹脂４９が着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６の表面に密着し易くなる。これらのことにより、本変形例によれば、着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６を透過して観察者側に到達する光の強度を高めるとともに、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子基板４０との間の空間をより隙間無く埋めることができる。
【００６９】
なお、第１着色部１３、第２着色部１４、第３着色部１５および透過率調整部１６において、光学弾性樹脂４９との間のぬれ性が異なることがある。この場合、各々におけるぬれ性の程度に応じて、透明電極層２２の被覆率が異なっていてもよい。例えば、図示はしないが、第１着色部１３のうち透明電極層２２によって覆われている領域の比率が、第２着色部１４のうち透明電極層２２によって覆われている領域の比率と異なっていてもよい。なぜなら、例えば第１着色部１３に対する光学弾性樹脂４９のぬれ性が、第２着色部１４に対する光学弾性樹脂４９のぬれ性よりも高い場合、第１着色部１３上に透明電極層２２が設けられていなくても、または第１着色部１３のうち透明電極層２２によって覆われている領域の比率が第２着色部１４に比べて小さくても、光学弾性樹脂４９を十分に第１着色部１３に密着させることが可能だからである。
【００７０】
上述の第２および第３の比較例のように、着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６を含む画素部１７を透明電極層２２が完全には覆わない場合、画素部１７に付着した水分を、カラーフィルタ１０を加熱することによって容易に脱離させることができる。このため、透明電極層２２が画素部１７を完全には覆わないことは、カラーフィルタ１０の透過率を高める点だけでなく、カラーフィルタ１０に付着する水分の量を低減する点でも有利である。従って、画素部１７上に透明電極層２２が部分的に設けられている場合は、透明電極層２２の厚みを上述のように５０ｎｍ以下になっていなくても、有機ＥＬ素子基板４０と組み合わせる際にカラーフィルタ１０に付着している水分の量を十分に低減することができる可能性がある。例えば後述する実施例によって支持されるように、透明電極層２２の厚みが１５０ｎｍの場合であっても、着色部１３，１４，１５上に透明電極層２２を設けないことにより、カラーフィルタ１０の水分の量を十分に低減することができる。
【００７１】
（その他の変形例）
また上述の本実施の形態および各変形例においては、ブラックマトリクス層１２がマトリックス状のパターンを有する例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、ブラックマトリクス層１２がその他のパターンを有していてもよい。例えばブラックマトリクス層１２がストライプ状のパターンを有していてもよい。この場合、ブラックマトリクス層１２間に設けられる着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６もストライプ状に形成される。
また着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６のパターンが上述のマトリックス状やストライプ状に限られることはなく、様々なパターンが採用され得る。着色部１３，１４，１５や透過率調整部１６の並び順や相対的な位置関係が特に限られることはなく、様々な形態が採用され得る。
【００７２】
また上述の本実施の形態および各変形例においては、突起部２１の頂部および側部が全域にわたって透明電極層２２によって覆われる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、有機ＥＬ素子基板４０の第２電極４３をカラーフィルタ１０の非画素部１８上に設けられている透明電極層２２に導通させることができる限りにおいて、突起部２１の頂部および側部における透明電極層２２の具体的なパターンが特に限られることはない。例えば、図示はしないが、線状に延びる透明電極層２２が突起部２１の頂部および側部上に設けられていてもよい。
【００７３】
また上述の本実施の形態および各変形例においては、有機ＥＬ素子４４の有機発光層４２が白色光を発光するよう構成される例を示したが、これに限られることはない。例えば有機発光層４２は、単位画素ごとに様々な色の光、例えば三原色の光を発光するよう構成されていてもよい。
【００７４】
また上述の本実施の形態および各変形例においては、金属材料からなる補助電極層２３が設けられる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、透明電極層２２によって有機ＥＬ素子４４における電圧降下を十分に軽減できる場合、補助電極層２３が設けられていなくてもよい。
【００７５】
また上述の本実施の形態および各変形例においては、有機ＥＬ表示装置５０がトップエミッション型である例を示した。すなわち、有機ＥＬ層４４からの光が、基板４７の上方から取り出される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図示はしないが、有機ＥＬ表示装置５０は、有機ＥＬ層４４から放射される光が基板４７を透過してカラーフィルタ１０に到達するよう、構成されていてもよい。すなわち有機ＥＬ表示装置５０は、いわゆるボトムエミッション型であってもよい。
【００７６】
なお、上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【実施例】
【００７７】
以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
【００７８】
＜アニール温度に関する評価＞
（実施例１）
はじめに基材１１として、大きさが１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚みが０．７ｍｍのガラス基材を準備した。
【００７９】
次に、以下のようにして、ブラックマトリクス層１２を形成した。
【００８０】
まず、重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３質量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２質量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８質量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２、２’ーアゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７質量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７質量部、トリエチルアミンを０．４質量部、及びハイドロキノンを０．２質量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
【００８１】
次に、下記の材料を室温で攪拌、混合して下記組成の硬化性樹脂組成物Ａを調製した。
［硬化性樹脂組成物Ａの組成］
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％）                        …１６質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社  ＳＲ３９９）                                                      
…２４質量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社  エピコート１８０Ｓ７０）                                                  …４質量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                                            …４質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル                      …５２質量部
【００８２】
次いで、下記分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調製した。
［黒色顔料分散液の組成］
・黒色顔料(三菱化学社製  ＃２６００）                       …２０質量部
・高分子分散材（ビックケミー・ジャパン株式会社  Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ  １１１）                                                                …１６質量部
・溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル）              …６４質量部
【００８３】
その後、下記分量の成分を十分混合して、ブラックマトリクス層１２用の材料を得た。
［ブラックマトリクス層１２用の材料の組成］
・上記黒色顔料分散液                                        …５０質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                    …２０質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル                      …３０質量部
【００８４】
次に、得られたブラックマトリクス層１２用の材料を基材１１上に塗布し、フォトリソグラフィー法によりパターニングし、その後焼成してブラックマトリクス層１２を形成した。
【００８５】
次に、以下のようにして着色部１３，１４，１５および透過率調整部１６を形成した。
【００８６】
まず、下記組成の第１着色部１３用の材料、第２着色部１４用の材料、第３着色部１５用の材料および透過率調整部１６用の材料を調製した。
【００８７】
［第１着色部１３用の材料］
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４                            …１０質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤                              …８質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                    …１５質量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                  …６７質量部
【００８８】
［第２着色部１４用の材料］
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８                            …１０質量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８                          …３質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤                              …８質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                    …１２質量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                  …６７質量部
【００８９】
［第３着色部１５用の材料］
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１                                …５質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤                              …３質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                    …２５質量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                  …６７質量部
【００９０】
［透過率調整部１６用の材料］
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６                          …１質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤                              …３質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                    …２９質量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                  …６７質量部
【００９１】
次に、基材１１上のブラックマトリクス層１２を覆うように第１着色部１３用の材料をスピンコート法により塗布し、フォトリソグラフィー法によりパターニングした後、焼成して第１着色部１３を形成した。
その後、同様の工程により、第２着色部１４、第３着色部１５および透過率調整部１６を形成した。
【００９２】
次に、ブラックマトリクス層１２を含む非画素部１８上、並びに、着色部１３，１４，１５および透過率調整部１６を含む画素部１７上に、蒸着法によって、厚み０．５μｍのＡｇ薄膜を形成した。その後、フォトリソグラフィー法によってＡｇ薄膜をパターニングして、非画素部１８上に補助電極層２３を形成した。
【００９３】
その後、非画素部１８上に形成された補助電極層２３の所定の箇所に、NN780(JSR社製)からなる突起部２１を形成した。形成方法としてはフォトリソグラフィー法を用いた。得られた突起部２１の基部の幅は４０μｍ、頂部の幅は２０μｍ、高さは２０μｍであり、基部側から頂部に至るテーパー角度は７０°であった。
【００９４】
次に、画素部１７上および非画素部１８上に、スパッタリング法によって、厚み５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。その後、フォトリソグラフィー法によってＩＴＯ膜をパターニングして、突起部２１の頂部および側部、並びに非画素部１８を覆う透明電極層２２を形成した。このようにして、突起部２１および透明電極層２２から構成される突起電極２０を備えたカラーフィルタ１０を作製した。
【００９５】
その後、１５０℃のアニール温度で４０分間にわたってカラーフィルタ１０を加熱するアニール工程を行った。
【００９６】
（実施例２）
アニール温度を１７０℃に設定したこと以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルタ１０を作製した。
【００９７】
（実施例３）
アニール温度を１９０℃に設定したこと以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルタ１０を作製した。
【００９８】
（実施例４）
アニール温度を２００℃に設定したこと以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルタ１０を作製した。
【００９９】
（実施例５）
アニール温度を２３０℃に設定したこと以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルタ１０を作製した。
【０１００】
（比較例１）
アニール温度を０℃に設定したこと以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルタ１０を作製した。
【０１０１】
（比較例２）
アニール温度を２６０℃に設定したこと以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルタ１０を作製した。
【０１０２】
実施例１〜５および比較例１，２のカラーフィルタ１０の補助電極層２３の、補助電極層２３の下の層に対する密着性を、ＪＩＳ−Ｋ５４００に準拠して試験した。試験結果を表１に示す。表１においては、試験後の補助電極層２３の面積が５０％以上残っている場合が◎、３０％以下である場合が○、１０％以下である場合が×で表されている。
また、補助電極層２３の場合と同様にして、透明電極層２２の密着性を評価した。試験結果を表１に示す。
さらに、透明電極層２２の透過率について、島津製作所製の紫外可視光分光光度計ＵＶ−３６００を用いて評価した。試験結果を表１に示す。なお、ここでの透過率とは、光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内における平均透過率を指す。
【表１】
2015162310.tif 000003
【０１０３】
表１に示すように、アニール温度が１５０℃〜２３０℃の範囲内である実施例１〜５では、アニール温度が０℃および２６０℃である比較例１および２と比較して、補助電極層２３の密着性、透明電極層２２の密着性、および透明電極層２２の透過率のいずれにおいても良好な結果が得られた。中でも、透明電極層のアニール温度が１７０℃〜２００℃の実施例２〜４では、より良好な結果が得られた。
【０１０４】
＜残留水分量に関する評価＞
（実施例１１）
まず、上述の実施例１と同様にして、カラーフィルタ１０を作製した。次に、アニール工程を経た後のカラーフィルタ１０を切断して、１０ｍｍ×１０ｍｍ角の試験片を取り出した。その後、当該試験片に付着している水分の量を、昇温脱離ガス分光法（ＴＤＳ  thermal desorption spectrometry）を用いて測定した。測定器としては、電子科学製のEDS-WA1000S/Wを用いた。結果、検出された水分子は３．５×１０１６（個／１００ｍｇ）であった。
【０１０５】
なおＴＤＳ法は、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子基板４０とを組み合わせる工程と同様に真空環境下で実施される。このため、ＴＤＳ法が実施される環境は、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子基板４０とを組み合わせる工程が実施される環境と同等であると言える。従って、ＴＤＳ法によって検出される水分子の個数は、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子基板４０とを組み合わせる工程においてカラーフィルタ１０から放出されて有機ＥＬ素子基板４０に入り込み得る水分子の個数に相当していると言える。
【０１０６】
（実施例１２）
着色部１３，１４，１５および透過率調整部１６上には透明電極層２２を設けず、かつ透明電極層２２の厚みを１５０ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルタ１０を作製した。基材１１の法線方向に沿ってカラーフィルタ１０を見た場合の、透明電極層２２の面積率は４０％であった。
【０１０７】
実施例１１の場合と同様にして、ＴＤＳ法を用いて水分量を測定した。結果、検出された水分子は７．１×１０１６（個／１００ｍｇ）であった。
【０１０８】
（比較例１１）
透明電極層２２の厚みを１００ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルタ１０を作製した。また、実施例１１の場合と同様にして、ＴＤＳ法を用いて水分量を測定した。結果、検出された水分子は１．４×１０１７（個／１００ｍｇ）であった。
【０１０９】
（比較例１２）
透明電極層２２の厚みを１５０ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルタ１０を作製した。また、実施例１１の場合と同様にして、ＴＤＳ法を用いて水分量を測定した。結果、検出された水分子は２．２×１０１７（個／１００ｍｇ）であった。
【０１１０】
（比較例１３）
透明電極層２２を設けなかったこと以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルタ１０を作製した。また、実施例１１の場合と同様にして、ＴＤＳ法を用いて水分量を測定した。結果、検出された水分子は９．７×１０１５（個／１００ｍｇ）であった。
【０１１１】
実施例１１および比較例１１〜１３について、検出した水分の量を透明電極層２２の厚みに対してプロットした結果を図７に示す。図７に示すように、透明電極層２２の厚みが５０ｎｍ以下である場合、検出された水分子の個数が１．０×１０１７（個／１００ｍｇ）よりも小さくなっていた。また図７に示すように、透明電極層２２の厚みが５０ｎｍを超えると、透明電極層２２の厚みの増加に対する水分量の増加の割合が顕著に大きくなっていた。具体的には、透明電極層２２の厚みが５０〜１５０ｎｍの範囲内における測定点に対する近似直線Ｌ２の傾きが、透明電極層２２の厚みが０〜５０ｎｍの範囲内における測定点に対する近似直線Ｌ１の傾きに比べて顕著に大きくなっていた。このことから、透明電極層２２の厚みを５０ｎｍ以下にすることにより、カラーフィルタ１０に付着する水分の量を効果的に低減することができると言える。
【０１１２】
また、着色部１３，１４，１５および透過率調整部１６上に透明電極層２２を設けない場合は、透明電極層２２の厚みが５０ｎｍを超えている場合、例えば実施例１２のように１５０ｎｍの場合であっても、検出された水分子の個数が１．０×１０１７（個／１００ｍｇ）よりも小さくなっていた。このことから、透明電極層２２がパターニングされている場合は、透明電極層２２の厚みを１５０ｎｍ以下にすれば、カラーフィルタ１０に付着する水分の量を十分に低減することができると考えられる。また実施例１２においては、ブラックマトリクス層１２を含む非画素部１８上に、１５０ｎｍという比較的大きな厚みを有する透明電極層２２が設けられている。このため、スパッタリングの際に受けたダメージに起因して非画素部１８に水分が付着していたとしても、そのような水分が透明電極層２２によって閉じ込められ、このことによっても、ＴＤＳ法で検出される水分の量が低減したと考えられる。
【符号の説明】
【０１１３】
１０  カラーフィルタ
１１  基材
１１ａ  観察者側の面
１１ｂ  有機ＥＬ素子側の面
１２  ブラックマトリクス層
１３  第１着色部
１４  第２着色部
１５  第３着色部
１６  透過率調整部
１７  画素部
１８  非画素部
２０  突起電極
２１  突起部
２２  透明電極層
２３  補助電極層
４０  有機ＥＬ素子基板
４１  第１電極
４２  有機発光層
４３  第２電極
４４  有機ＥＬ素子
４４ａ  単位有機ＥＬ素子
４７  基板
４８  駆動用配線
４９  光学弾性樹脂
５０  有機ＥＬ表示装置
【図１】
2015162310.tif 000004
【図２Ａ】
2015162310.tif 000005
【図２Ｂ】
2015162310.tif 000006
【図３Ａ】
2015162310.tif 000007
【図３Ｂ】
2015162310.tif 000008
【図３Ｃ】
2015162310.tif 000009
【図３Ｄ】
2015162310.tif 000010
【図３Ｅ】
2015162310.tif 000011
【図４】
2015162310.tif 000012
【図５】
2015162310.tif 000013
【図６Ａ】
2015162310.tif 000014
【図６Ｂ】
2015162310.tif 000015
【図７】
2015162310.tif 000016