(57)【要約】      （修正有）【課題】位置合せと真空処理とが繰り返し行われる位置合対象物と基板との間の位置合せ精度を向上させる装置を提供する。【解決手段】位置合対象物７毎に最適な照明強度と、撮像装置１３との間の位置合距離を求め、位置合対象物７の識別標識と対応づけて記憶しておく。位置合せの際に識別標識から照明強度と位置合距離を求めて記憶しておき、求めた照明強度と位置合距離で撮像装置１３によって、対象物アラインメントマークを撮像し、位置合せを行う。位置合対象物７毎に、最適な条件で位置合せを行うことができるから、位置合せ精度が向上する。【選択図】図１
2015111081.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板アラインメントマークが設けられた基板と、対象物アラインメントマークが設けられた位置合対象物とを位置合せする位置合せ工程を行う位置合装置であって、
各前記位置合対象物には、前記位置合対象物と一対一に対応した識別標識がそれぞれ設けられており、
当該位置合装置は、
前記位置合装置に配置された前記基板の前記基板アラインメントマークと、複数の前記位置合対象物の中から前記位置合装置に配置された前記位置合対象物の前記対象物アラインメントマークとを撮像する撮像装置と、
撮像された前記基板アラインメントマークの画像である基板マーク像と、撮像された前記対象物アラインメントマークの画像である対象物マーク像との間の相対位置から、前記基板と前記位置合対象物とを相対的に移動させて前記位置合せ工程を行う制御装置と、
前記位置合せ工程の際に前記対象物アラインメントマークを照明する照明装置と、
前記識別標識を検出する検出装置と、
を有し、
予め、前記照明装置が発光して前記対象物アラインメントマークを照明して前記位置合せ工程を行う際に、前記位置合対象物が前記照明装置によって照明されるべき照明強度の値が前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記照明強度が求められる照明関係が設けられており、
前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、前記位置合せ工程が行われる前記位置合対象物の前記識別標識を検出し、検出した前記識別標識から前記照明強度を求め、
求めた前記照明強度で前記照明装置を発光させて、前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置。
【請求項２】
予め、前記位置合せ工程を行うときに、前記撮像装置と前記位置合対象物とが離間すべき距離である位置合距離の大きさが、前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記位置合距離を求められる距離関係が設けられており、
前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、検出された前記識別標識から前記位置合距離を求め、前記撮像装置と前記位置合対象物とを求められた前記位置合距離離間させて前記位置合せ工程を行うように構成された請求項１記載の位置合装置。
【請求項３】
基板アラインメントマークが設けられた基板と、対象物アラインメントマークが設けられた位置合対象物とを位置合せする位置合せ工程を行う位置合装置であって、
各前記位置合対象物には、前記位置合対象物と一対一に対応した識別標識がそれぞれ設けられており、
当該位置合装置は、
前記位置合装置に配置された前記基板の前記基板アラインメントマークと、複数の前記位置合対象物の中から前記位置合装置に配置された前記位置合対象物の前記対象物アラインメントマークとを撮像する撮像装置と、
撮像された前記基板アラインメントマークの画像である基板マーク像と、撮像された前記対象物アラインメントマークの画像である対象物マーク像との間の相対位置から、前記基板と前記位置合対象物とを相対的に移動させて前記位置合せ工程を行う制御装置と、
前記位置合せ工程の際に前記対象物アラインメントマークを照明する照明装置と、
前記識別標識を検出する検出装置と、
を有し、
予め、前記位置合せ工程を行うときに、前記撮像装置と前記位置合対象物とが離間すべき距離である位置合距離の大きさが、前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記位置合距離を求められる距離関係が設けられており、
前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、前記位置合せ工程が行われる前記位置合対象物の前記識別標識を検出し、検出した前記識別標識から前記位置合距離を求め、
前記撮像装置と前記位置合対象物とを求めた前記位置合距離離間させて前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置。
【請求項４】
前記識別標識は、前記撮像装置によって撮像できる位置に設けられ、
前記検出装置は前記撮像装置で構成され、
撮像された前記識別標識の画像である識別像から、前記識別標識が求められるように構成された請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の位置合装置。
【請求項５】
前記位置合対象物は、前記基板が配置されるトレイである請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の位置合装置。
【請求項６】
前記位置合対象物は、貫通孔から成る窓部を有し、前記基板の表面に配置されるマスクである請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の位置合装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の位置合装置と、
真空槽内に配置され、薄膜材料の微粒子を放出する成膜源と、
前記位置合せ工程が行われた前記基板と前記位置合対象物とから成る搬送対象物を移動させる搬送装置とを有し、
前記位置合対象物は前記成膜源と対面され、前記搬送対象物中の前記基板に前記微粒子が到達し、前記基板に薄膜が形成される薄膜形成工程が行われる薄膜形成装置。
【請求項８】
前記位置合対象物を前記位置合装置に搬送する第二例の搬送装置を有し、
前記薄膜形成工程が行われた前記搬送対象物は、前記基板と前記位置合対象物に分離され、
分離された前記位置合対象物は、前記第二例の搬送装置によって前記位置合装置に戻され、
前記薄膜形成工程が行われていない前記基板と、戻された前記位置合対象物とに、前記位置合せ工程が行われるように構成された請求項７記載の薄膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位置合装置の技術分野にかかり、特に、基板と位置合せする位置合対象物を繰り返し使用する位置合装置と、その位置合装置が設けられた薄膜形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
複数の搬送トレイにそれぞれ基板を配置し、搬送トレイを搬送して基板表面に薄膜を形成するインライン方式では、基板と搬送トレイとを位置合せする際に、照明装置で搬送トレイやマスクと基板とを照明し、撮像装置でアラインメントマークを撮像し、画像解析によって基板と搬送トレイやマスクとの間の相対的な位置合せが行われている。
【０００３】
しかしながら、搬送トレイやマスクは繰り返し使用されるため、表面粗さや表面の色等の表面状態が、搬送トレイやマスク毎に異なってしまう。
また、搬送トレイやマスク毎に、厚さや歪み方等の作成時の機械的精度が異なってしまう。
【０００４】
そのため、搬送トレイやマスクを撮像装置によって観察したときに位置、高さ、マスクの見え方、明るさが違うため、撮像装置によって得られる画像の鮮明さが異なり、搬送トレイやマスク毎に、位置合精度が異なってしまう。
【０００５】
下記引用特許文献のように、位置合せの際に、照度や距離を測定し、基準値となるように制御する技術は見られるが、位置合せの度に照度や距離を測定することは処理時間が長くなり、望ましいものと言うことはできない。
搬送トレイやマスク等、基板との間で位置合せが繰り返し行われる位置合対象物と基板との位置合せを精度良く行うことができる技術が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−２５６６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記従来技術の課題を解決するために創作されたものであり、位置合せと真空処理とが繰り返し行われる位置合対象物と基板との位置合せ精度を向上させる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明は、基板アラインメントマークが設けられた基板と、対象物アラインメントマークが設けられた位置合対象物とを位置合せする位置合せ工程を行う位置合装置であって、各前記位置合対象物には、前記位置合対象物と一対一に対応した識別標識がそれぞれ設けられており、当該位置合装置は、前記位置合装置に配置された前記基板の前記基板アラインメントマークと、複数の前記位置合対象物の中から前記位置合装置に配置された前記位置合対象物の前記対象物アラインメントマークとを撮像する撮像装置と、撮像された前記基板アラインメントマークの画像である基板マーク像と、撮像された前記対象物アラインメントマークの画像である対象物マーク像との間の相対位置から、前記基板と前記位置合対象物とを相対的に移動させて前記位置合せ工程を行う制御装置と、前記位置合せ工程の際に前記対象物アラインメントマークを照明する照明装置と、前記識別標識を検出する検出装置と、を有し、予め、前記照明装置が発光して前記対象物アラインメントマークを照明して前記位置合せ工程を行う際に、前記位置合対象物が前記照明装置によって照明されるべき照明強度の値が前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記照明強度が求められる照明関係が設けられており、前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、前記位置合せ工程が行われる前記位置合対象物の前記識別標識を検出し、検出した前記識別標識から前記照明強度を求め、求めた前記照明強度で前記照明装置を発光させて、前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置である。
本発明は、予め、前記位置合せ工程を行うときに、前記撮像装置と前記位置合対象物とが離間すべき距離である位置合距離の大きさが、前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記位置合距離を求められる距離関係が設けられており、前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、検出された前記識別標識から前記位置合距離を求め、前記撮像装置と前記位置合対象物とを求められた前記位置合距離離間させて前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置である。
本発明は、基板アラインメントマークが設けられた基板と、対象物アラインメントマークが設けられた位置合対象物とを位置合せする位置合せ工程を行う位置合装置であって、各前記位置合対象物には、前記位置合対象物と一対一に対応した識別標識がそれぞれ設けられており、当該位置合装置は、前記位置合装置に配置された前記基板の前記基板アラインメントマークと、複数の前記位置合対象物の中から前記位置合装置に配置された前記位置合対象物の前記対象物アラインメントマークとを撮像する撮像装置と、撮像された前記基板アラインメントマークの画像である基板マーク像と、撮像された前記対象物アラインメントマークの画像である対象物マーク像との間の相対位置から、前記基板と前記位置合対象物とを相対的に移動させて前記位置合せ工程を行う制御装置と、前記位置合せ工程の際に前記対象物アラインメントマークを照明する照明装置と、前記識別標識を検出する検出装置と、を有し、予め、前記位置合せ工程を行うときに、前記撮像装置と前記位置合対象物とが離間すべき距離である位置合距離の大きさが、前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記位置合距離を求められる距離関係が設けられており、前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、前記位置合せ工程が行われる前記位置合対象物の前記識別標識を検出し、検出した前記識別標識から前記位置合距離を求め、前記撮像装置と前記位置合対象物とを求めた前記位置合距離離間させて前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置である。
本発明は、前記識別標識は、前記撮像装置によって撮像できる位置に設けられ、前記検出装置は前記撮像装置で構成され、撮像された前記識別標識の画像である識別像から、前記識別標識が求められるように構成された位置合装置である。
本発明は、前記位置合対象物は、前記基板が配置されるトレイである位置合装置である。
本発明は、前記位置合対象物は、貫通孔から成る窓部を有し、前記基板の表面に配置されるマスクである位置合装置である。
本発明は、上記記載の位置合装置と、真空槽内に配置され、薄膜材料の微粒子を放出する成膜源と、前記位置合せ工程が行われた前記基板と前記位置合対象物とから成る搬送対象物を移動させる搬送装置とを有し、前記位置合対象物は前記成膜源と対面され、前記搬送対象物中の前記基板に前記微粒子が到達し、前記基板に薄膜が形成される薄膜形成工程が行われる薄膜形成装置である。
本発明は、前記位置合対象物を前記位置合装置に搬送する第二例の搬送装置を有し、前記薄膜形成工程が行われた前記搬送対象物は、前記基板と前記位置合対象物に分離され、分離された前記位置合対象物は、前記第二例の搬送装置によって前記位置合装置に戻され、前記薄膜形成工程が行われていない前記基板と、戻された前記位置合対象物とに、前記位置合せ工程が行われるように構成された薄膜形成装置である。
【発明の効果】
【０００９】
表面状態が異なる複数の位置合対象物について、鮮明な画像が得られる最適な発光強度を求めておき、位置合せの際に各位置合対象物に対応した照度で照明すると、撮像装置の撮像結果から各位置合対象物と基板とを正確に位置合せをすることができる。
【００１０】
また、厚みや歪み方等の機械的な状態が異なる複数の位置合対象物について、鮮明な画像が得られる位置合対象物と撮像装置との間の撮像位置を求めておき、位置合せの際に、各位置合対象物に対応された撮像位置で撮像すると、各位置合対象物と基板とを正確に位置合せをすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の位置合装置と、薄膜形成装置を説明するための図
【図２】その薄膜形成装置の平面図
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図１、２の符号３は、本発明の薄膜形成装置を示している。
図１は内部を示す断面図、図２は真空槽間の接続を示す平面図である。
この薄膜形成装置３は、複数の真空槽１１1〜１１5を有している。
各真空槽１１1〜１１5には、真空排気装置４２が接続されており、各真空槽１１1〜１１5の内部は真空雰囲気にされている。
この薄膜形成装置３の前段には、他の真空処理装置の真空槽１１Ａが配置されており、その前段の真空槽１１Ａの内部も真空雰囲気にされている。
【００１３】
複数の真空槽１１1〜１１5は直列に接続されており、前段の真空槽１１Ａと、薄膜形成装置３の先頭の真空槽１１1との間には、ゲートバルブ４１Ａが設けられており、ゲートバルブ４１Ａを開け、前段の真空槽１１Ａの内部に配置された基板に、ゲートバルブ４１Ａを通過させて、薄膜形成装置３の先頭の真空槽１１1の内部に搬入する。
【００１４】
先頭の真空槽１１1には、位置合装置２８が設けられており、搬入された基板は、先ず、位置合装置２８に配置される。
薄膜形成装置３の位置合装置２８では、真空槽１１1の内部に、基板保持装置２２が設けられており、搬入された基板は、基板保持装置２２に配置される。図１の符号４は、基板保持装置２２に配置された基板を示している。
【００１５】
先頭の真空槽１１1の内部又は外部には先頭の真空槽１１1の内部を照明する照明装置１２が配置されている。ここでは、照明装置１２は、先頭の真空槽１１1の内部に設けられている。
薄膜形成装置３には、基板４との間で位置合せがされる位置合対象物７が配置されている。
【００１６】
薄膜形成装置３では、基板保持装置２２の下方位置に、載置台２４が配置されており、載置台２４上には、基板４が配置される搬送トレイが配置されている。この薄膜形成装置３では、符号６が搬送トレイを示しており、基板保持装置２２の上方位置に、マスク保持装置２６が配置されており、マスク保持装置２６上には、基板４にパターニングされた薄膜を形成するマスクが配置されている。この薄膜形成装置３では、マスクが位置合対象物７になっている。
【００１７】
薄膜形成装置３に用いられる位置合対象物７には、対象物アラインメントマークがそれぞれ設けられており、また、基板保持装置２２に配置される基板４には、基板アラインメントマークが設けられている。
位置合装置２８には、一台又は複数台の撮像装置(カメラ)１３と、カメラ移動装置２３とが設けられており、先頭の真空槽１１1の外部には、コンピュータ等の制御装置１０が設けられている。
【００１８】
撮像装置１３は、カメラ移動装置２３に取り付けられており、撮像装置１３はカメラ移動装置２３の動作によって、先頭の真空槽１１1に対して移動できるようにされている。
撮像装置１３とカメラ移動装置２３とは、制御装置１０に接続されており、カメラ移動装置２３は、制御装置１０から入力される信号によって、撮像装置１３を移動させ、撮像装置１３は、移動された位置で撮像された画像を制御装置１０に出力するようにされている。
【００１９】
ここでは、撮像装置１３は先頭の真空槽１１1の外部に配置されており、撮像装置１３は、カメラ移動装置２３によって移動された位置で、先頭の真空槽１１1に設けられた透明な窓１８を介して、位置合装置２８に配置された位置合対象物７と基板４とに設けられた対象物アラインメントマークと基板アラインメントマークとを撮像できるように配置されている。
【００２０】
撮像装置１３によって撮像される画像には、基板４のうちの基板アラインメントマークを含む部分と、位置合対象物７の対象物アラインメントマークを含む部分とが含まれており、撮像された画像には、対象物アラインメントマークの画像である対象物マーク像と、基板アラインメントマークの画像である基板マーク像とが含まれている。
【００２１】
制御装置１０に、撮像装置１３から出力された対象物マーク像と基板マーク像とを含む画像が入力されると、制御装置１０は、撮像した際の実際の位置合対象物７と基板４との間の相対位置を求める。
制御装置１０には、基板４と位置合対象物７との間の予め設定された相対位置である基準位置が記憶されており、求められた相対位置と記憶された基準位置とを比較し、基準位置に対する相対位置の誤差角度、誤差量、誤差方向等の位置誤差を求める。
【００２２】
位置合対象物７と、基板４との間の相対位置は変更できるように構成されている。
位置合装置２８では、マスク保持装置２６が位置合対象物(マスク)７を水平面内での平行移動及び回転移動と、上下方向での昇降移動とをさせるようにされており、位置合対象物７と基板４との間の水平面内での相対関係と、上下方向の距離とを変更できるようにされている。
【００２３】
制御装置１０は、位置合対象物７と基板４との間を離間させた状態で、求めた位置誤差を無くすように、相対移動装置によって位置合対象物７と基板４とを相対移動させ、位置合せを行う。
図１の符号２９は、相対移動装置を模式的に示しており、薄膜形成装置３では、相対移動装置２９は、マスク保持装置２６を移動させることで、マスクである位置合対象物７を水平面内で直線移動と回転移動をさせ、位置合対象物７を先頭の真空室１１1内で移動させている。
【００２４】
各真空槽１１1〜１１5の間には、ゲートバルブ４１1〜４１4が設けられており、真空槽１１1〜１１5間で位置合対象物７を移動させる際には、ゲートバルブ４１1〜４１4は空けられる。
位置合せ後、基板４と位置合対象物７とは二番目以降の真空槽１１2〜１１5を順番に移動して、基板４や、位置合対象物７の表面に薄膜が形成された後、位置合対象物７は、形成された薄膜が剥離されない状態で位置合装置２８に戻され、再度の位置合せが行われる。
【００２５】
このように位置合せと移動がされる基板４は、先頭の真空槽１１1の外部から一枚ずつ搬入される。それに対し、位置合対象物７は、真空槽１１1〜１１5以外の場所に複数個準備されており、撮像装置１３によって得られる対象物マーク像の画像は、鮮明度が位置合対象物７毎に異なる。
【００２６】
そのため、各位置合対象物７毎に撮像装置１３によって鮮明な対象物マーク像が得られる条件を求めるために、先ず、各位置合対象物７は、基板４との間で位置合せが行われる前に、各位置合対象物７は位置合装置２８に配置され、位置合対象物(マスク)７は、基板４との位置合せの際に配置されるマスク保持装置２６に配置される。
【００２７】
そして、その状態で照明装置１２に通電して発光させ、生成された照射光によって位置合対象物７を照明しながら、撮像装置１３によって対象物アラインメントマークを撮像し、対象物マーク像を得る。
【００２８】
対象物マーク像の鮮明さは、位置合対象物７が照明装置１２によって照明される強さによって変化するため、制御装置１０は、照明装置１２によって位置合対象物７が照明される光の強さである照明強度を変化させて各位置合対象物７を撮像し、対象物マーク像が鮮明に得られるときの照明装置１２による光の強さである照明強度を、各位置合対象物７毎に求める。ここでは、対象物マーク像が最も鮮明に得られたときの照明強度を求める。
【００２９】
照明装置１２は、通電量によって発光強度を変更することで、照明強度を変更できるときは、照明強度に代え、通電量を照明強度として記憶してもよいし、照明装置１２に設けられたシャッター等によって、照明装置１２の発光強度を一定にしたまま、位置合対象物７の照明強度が変更できるときは、照明強度に代え、シャッターの開度等を照明強度として記憶してもよい。
【００３０】
各位置合対象物７には、位置合対象物７毎に異なる識別標識が撮像装置１３によって撮像できる位置に設けられている。
各位置合対象物７毎に、照明強度を求める際には、照明強度を求める位置合対象物７の識別標識も撮像され、撮像された識別標識の画像である識別像が求められている。
【００３１】
制御装置１０には、記憶装置１７が接続されており、位置合対象物７毎に求められた照明強度は、識別像から得られた識別標識と対応付け、識別標識から、識別標識で特定される位置合対象物７の照明強度を求める照明関係を作成して、記憶装置１７に記憶させる。
【００３２】
また、対象物マーク像の鮮明さは、撮像される際の位置合対象物７と撮像装置１３との間の距離によって変化する。
位置合装置２８は、撮像装置１３と、位置合対象物７との間の上下方向の距離を、移動装置によって変更できるように構成されており、ここではカメラ移動装置２３が、撮像装置１３と位置合対象物７との間の距離を変更する移動装置となり、対象物アラインメントマークを撮像する際に、撮像装置１３と位置合対象物７との間の距離を変更することができる。
【００３３】
各位置合対象物７毎に撮像装置１３によって鮮明な対象物マーク像が得られる条件を求めるために、位置合装置２８に配置された位置合対象物７と撮像装置１３と間の距離を変更しながら撮像装置１３によって対象物アラインメントマークを撮像し、鮮明な対象物マーク像が得られたときの距離を位置合距離として求める。
【００３４】
ここでは、最も鮮明な対象物マーク像が得られたときの距離を位置合距離とし、識別像から得られた識別標識に対応付け、識別標識から、識別標識で特定される位置合対象物７の位置合距離を求められる距離関係を作成して記憶装置１７に記憶させる。
【００３５】
載置台２４を上下方向に移動可能に構成し、載置台２４を移動装置として、基板４を位置合対象物７とし、移動装置によって位置合対象物７を上下方向に移動させ、撮像装置１３と位置合対象物７との間の距離を変更し、位置合距離を求めるようにしてもよい。
【００３６】
各位置合対象物７に対して、照明強度と位置合距離の両方を求めるときには、先ず、照明強度を求め、次に、その照明強度で各位置合対象物７が照明されるようにして、位置合距離を求めることができるし、先に位置合距離を求めた後、照明強度を求めてもよい。
【００３７】
また、先ず、設定された位置合距離で照明強度を求めた後、求めた照明強度で位置合距離を求めることと、求めた位置合距離で照明強度を求めることとを繰り返し行って、正確な照明強度と位置合距離を求めることができる。
【００３８】
この場合、先ず、設定された照明強度で位置合距離を求めた後、求めた位置合距離で照明強度を求めることと、求めた照明強度で位置合距離を求めることとを繰り返し行って正確な照明強度と位置合距離を求めることができる。
【００３９】
基板４へ薄膜を形成する際には、先ず、先頭の真空槽１１1内に搬入された基板４と、先頭の真空槽１１1内に位置する位置合対象物７を位置合装置２８に配置し、撮像装置１３によって対象物マーク像を求め、求めた照明強度で位置合対象物７が照明されるように照明装置１２を設定し、撮像装置１３と位置合対象物７との間の距離を位置合距離にし、撮像装置１３で基板アラインメントマークと対象物アラインメントマークとを撮像し、距離誤差が所定値よりも小さくなるように、基板４と位置合対象物７との間の位置合せを行う。
【００４０】
位置合せの際には、基板４の下方に位置する載置台２４上に、搬送トレイ６が配置されており、位置合対象物７であるマスクと基板４とが位置合せされると、水平方向の相対位置を維持しながら密着され、搬送トレイ６に配置され、反転室である二番目の真空槽１１2に移動されて、互いに固定されて搬送対象物３６が構成された後、上下が反転され、成膜室である三番目の真空槽１１3に移動され、搬送装置４３上に配置される。符号３７、４Ａは、反転されて搬送装置４３に配置された搬送対象物と基板とを示している。
【００４１】
この状態の搬送対象物３７は、位置合対象物７が下端に位置し、基板４Ａと搬送トレイ６とが、この順序で位置合対象物７上に配置されており、搬送対象物３７は搬送装置４３によって搬送され、位置合対象物７が成膜源２５と対面すると、薄膜材料微粒子は、位置合対象物７の開口を通過し、基板４Ａ表面にパターニングされた薄膜を形成する。
【００４２】
次いで、搬送対象物３７は、出口側反転室である四番目の真空槽１１4内に搬入され、反転されて分離され、分離された基板４Ｂは五番目の真空槽１１5から次段の真空槽１１Ｂに移動される。
【００４３】
先頭〜五番目の真空槽１１1〜１１5の側方には、細長の搬送室である六番目の真空槽１１6が配置されており、六番目の真空槽１１6の一端と、他端は、ゲートバルブ４１5、４１6によって、五番目の真空槽１１5と先頭の真空槽１１1にそれぞれ接続されている。
このゲートバルブ４１5、４１6は開けられており、分離された位置合対象物７と搬送トレイ６は、六番目の真空槽１１6内に搬入され、移動される。
【００４４】
六番目の真空槽１１6の途中には、ゲートバルブ４１7を介してマスクストッカー室４５が接続されており、そのゲートバルブ４１7は開けた状態で、六番目の真空槽１１6内を搬送中の位置合対象物７の一部をマスクストッカー室４５に搬入させると共に、表面が洗浄された位置合対象物７をマスクストッカー室４５から六番目の真空槽１１6内に搬入し、六番目の真空槽１１6内に配置された第二の搬送装置によって搬送トレイ６と共に、位置合対象物７を六番目の真空槽１１6の内部を移動させ、先頭の真空槽１１1内に戻して搬入すると、位置合対象物７と搬送トレイ６とは、位置合装置２８に戻され、位置合装置２８に配置される。
【００４５】
位置合装置２８に配置された位置合対象物７は、識別標識が撮像され、識別像から求められた識別標識が照明関係と位置関係とに照合され、照明強度と位置合距離とが求められ、搬入された基板４との間で位置合せが行われる。
このように、薄膜形成装置３の位置合装置２８では、最適な照明強度と位置合距離によって位置合対象物７の対象物アラインメントマークが撮像されるから、鮮明な対象物マーク像が得られる。
【００４６】
制御装置１０は、撮像装置１３から入力された対象物マーク像と基板マーク像との相対的位置から、撮像した際の実際の基板４と位置合対象物７との相対的位置と、予め設定された基板４と位置合対象物７との相対的位置との間の誤差角度、誤差量、誤差方向等の位置合誤差を正確に求めることができる。
【００４７】
なお、上記薄膜形成装置３では、撮像装置１３によって識別標識の形状を撮像して得られた識別像から、識別標識を検出して位置合対象物を区別していたが、異なる磁気パターンによって識別標識を構成させ、識別標識の磁気パターンを認識して、識別標識を検出すること等、識別標識を撮像せずに、識別標識を検出することもできる。但し、コストの面からは、識別像から識別標識を検出することが望ましい。
なお、上記例では、マスクを位置合対象物７としたが、搬送トレイ６を、位置合対象物７として、基板４との間で位置合せを行う装置も本発明に含まれる。
【符号の説明】
【００４８】
３‥‥薄膜形成装置
４、４Ａ、４Ｂ‥‥基板
７‥‥位置合対象物(マスク)
６‥‥搬送トレイ
１０‥‥制御装置
１１1〜１１6‥‥真空槽
１２‥‥照明装置
１３‥‥撮像装置
１７‥‥記憶装置
２５‥‥成膜源
２８‥‥位置合装置
２９‥‥相対移動装置
【図１】
2015111081.tif 000003
【図２】
2015111081.tif 000004