(57)【要約】【課題】積層体に対して１つの方向から照射される光を用いたパターニングを通じて、互いに対向する２つの透明電極層を形成することの可能な透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法を提供する。【解決手段】透明導電性積層体１０は、第１の透明電極層１６ａと、第１の透明電極層１６ａと対向する第２の透明電極層１６ｂと、第１の透明電極層１６ａと第２の透明電極層１６ｂとに挟まれる機能層と、を備える。機能層は、第１の透明電極層１６ａおよび第２の透明電極層１６ｂと平行な面内において、可視領域以外の波長を有する光を吸収する光吸収領域と、光を透過する光透過領域とを有し、第２の透明電極層１６ｂは、積層体の積層方向から見て、第１の透明電極層１６ａと異なる形状を有し、機能層の形状に追従する形状を含む。【選択図】図１
2015052838.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の透明電極層と、
前記第１の透明電極層と対向する第２の透明電極層と、
前記第１の透明電極層と前記第２の透明電極層とに挟まれる機能層と、を備え、
前記機能層は、前記第１の透明電極層、および、前記第２の透明電極層と平行な面内において、可視領域以外に波長を有する光を吸収する光吸収領域と、前記光を透過する光透過領域とを有し、
前記第２の透明電極層は、積層体の積層方向から見て、第１の透明電極層と異なる形状を有し、前記機能層の形状に追従する形状を含む
透明導電性積層体。
【請求項２】
前記光は、紫外線であり、
前記機能層は、樹脂層を含み、
前記樹脂層は、前記樹脂層のうち前記光吸収領域となる部分に紫外線吸収体を有する
請求項１に記載の透明導電性積層体。
【請求項３】
前記光透過領域は、積層体の積層方向から見て、前記第１の透明電極層が有する導電領域と前記第２の透明電極層が有する導電領域とが重なる部分に配置され、
前記光吸収領域は、前記積層方向から見て、前記第１の透明電極層の前記導電領域と、前記第２の透明電極層のうちの前記導電領域が配置されていない領域とが重なる部分に配置されている
請求項１または２に記載の透明導電性積層体。
【請求項４】
前記光透過領域は、積層体の積層方向から見て、前記第２の透明電極層が有する導電領域と重なる部分に配置され、
前記光吸収領域は、前記積層方向から見て、前記第２の透明電極層のうちの前記導電領域が配置されていない領域と重なる部分に配置されている
請求項１〜３のいずれか一項に記載の透明導電性積層体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の透明導電性積層体を備える
タッチパネル。
【請求項６】
積層体を形成する工程を含み、
前記積層体が、
互いに向かい合う第１の透明導電層および第２の透明導電層と、
前記第１の透明導電層と前記第２の透明導電層とに挟まれ、前記第１の透明導電層および前記第２の透明導電層と平行な面内において、可視領域以外に波長を有する露光光を吸収する光吸収領域と、前記露光光を透過する光透過領域とを有する機能層と、を備え、
前記第１の透明導電層の面上に第１のレジストを形成し、前記第２の透明導電層の面上に第２のレジストを形成する工程と、
前記第１のレジストから前記第２のレジストに向かう方向に沿って前記積層体外から前記積層体内へ露光光を照射して、前記第１のレジストと前記第２のレジストとを感光させる工程と、
感光した前記第１のレジストおよび前記第２のレジストを現像する工程と、
現像された前記第１のレジストをマスクとして前記第１の透明導電層をエッチングし、現像された前記第２のレジストをマスクとして前記第２の透明導電層をエッチングする工程と、をさらに含む
透明導電性積層体の製造方法。
【請求項７】
前記第１のレジストと前記第２のレジストとを感光させる工程では、前記積層体とは別体のマスクを用いて第１のレジストが露光され、前記機能層をマスクとして前記第２のレジストが露光される
請求項６に記載の透明導電性積層体の製造方法。
【請求項８】
前記第１のレジストの感光波長と前記第２のレジストの感光波長とは、互いに異なる領域の波長を含む
請求項６または７に記載の透明導電性積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示の技術は、互いに対向する２つの透明電極層を備える透明導電性積層体、透明導電性積層体を備えたタッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルは、静電容量の変化を検出するための２つの電極を備えている。２つの電極は、例えば特許文献１に記載のように、１枚の透明な基板を挟んで互いに対向している。これら２つの電極は、基板に成膜された透明な導電膜のパターニングによって形成され、導電膜のパターニングにはフォトリソグラフィが用いられる。
【０００３】
フォトリソグラフィにおける露光工程では、露光光を出射する露光源が、２つの導電膜上の各々に形成された２つのレジストを露光する。この際に、特許文献１に記載の技術では、２つの導電膜の間に形成された層が、露光光である紫外線を吸収する機能を有する。そして、２つの導電膜の間に形成された層は、一方のレジストを露光する光のうち、一方のレジストを透過した光を吸収する。それゆえに、露光光を出射する露光源が、２つのレジストの各々を同時に露光しても、一方のレジストに対する露光光によって、他方のレジストが感光することが抑えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第４６８３１６４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、２つのレジストを同時に露光するためには、マスクや光源等の露光に必要な照射系がレジストごとに必要である。この際に、レジストが形成された積層体を挟んで２つの照射系が配置され、かつ、２つの照射系が互いに反対の方向から光を照射するため、２つのレジストを露光する露光装置の大型化や複雑化が避けられない。
【０００６】
本開示の技術は、積層体に対して１つの方向から照射される光を用いたパターニングを通じて、互いに対向する２つの透明電極層を形成することの可能な透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための透明導電性積層体は、第１の透明電極層と、前記第１の透明電極層と対向する第２の透明電極層と、前記第１の透明電極層と前記第２の透明電極層とに挟まれる機能層と、を備える。そして、前記機能層は、前記第１の透明電極層、および、前記第２の透明電極層と平行な面内において、可視領域以外に波長を有する光を吸収する光吸収領域と、前記光を透過する光透過領域とを有し、前記第２の透明電極層は、積層体の積層方向から見て、前記第１の透明電極層と異なる形状を有し、有前記機能層の形状に追従する形状を含む。
【０００８】
上記構成によれば、可視領域以外に波長を有した光を積層体が受けるとき、機能層は、光吸収領域にて光を吸収し、かつ、光透過領域にて光を透過する。機能層が有するこうした光のフィルター機能は、透明電極層を形成するためのパターニングが行われる際に、機能層をマスクとすることを実現可能とする。そして、第１の透明電極層から第２の透明電極層に向かう方向に沿って照射される光を用いたパターニングを通じて、第１の透明電極層の形成が可能である。また、これと同じ方向に沿って第１の透明電極層、および、機能層を通した光を用いたパターニングを通じて、第２の透明電極層の形成が可能である。それゆえに、積層体に対して１つの方向から照射される光を用いたパターニングを通じて、互いに対向する２つの透明電極層を形成することが可能となる。
【０００９】
上記透明導電性積層体にて、前記光は、紫外線であり、前記機能層は、樹脂層を含み、前記樹脂層は、前記樹脂層のうち前記光吸収領域となる部分に紫外線吸収体を有することが好ましい。
【００１０】
上記構成によれば、樹脂層の一部が紫外線吸収体を有する構成によって、紫外線のフィルター機能を有する機能層が具現化され、透明電極層を形成するためのパターニングに紫外線が利用可能となる。
【００１１】
上記透明導電性積層体にて、前記光透過領域は、積層体の積層方向から見て、前記第１の透明電極層が有する導電領域と前記第２の透明電極層が有する導電領域とが重なる部分に配置され、前記光吸収領域は、前記積層方向から見て、前記第１の透明電極層の前記導電領域と、前記第２の透明電極層のうちの前記導電領域が配置されていない領域とが重なる部分に配置されていることが好ましい。
【００１２】
上記構成によれば、積層体の積層方向から見て、機能層は、第１の透明電極層が有する導電領域が配置される領域のうち、第２の透明電極層が有する導電領域が配置される領域にて、光を透過する。また、積層体の積層方向から見て、機能層は、第１の透明電極層が有する導電領域が配置される領域のうち、第２の透明電極層の導電領域が配置されない領域にて、光を吸収する。これによって、第２の透明導電層を形成するためのマスクとして機能層が機能する。
【００１３】
上記透明導電性積層体にて、前記光透過領域は、積層体の積層方向から見て、前記第２の透明電極層が有する導電領域と重なる部分に配置され、前記光吸収領域は、前記積層方向から見て、前記第２の透明電極層のうちの前記導電領域が配置されていない領域と重なる部分に配置されていることが好ましい。
【００１４】
上記構成によれば、積層体の積層方向から見て、機能層は、第２の透明電極層が有する導電領域が配置される領域にて、光を透過し、第２の透明電極層の導電領域が配置されない領域にて、光を吸収する。これによって、第２の透明導電層を形成するためのマスクとして機能層が機能する。
【００１５】
上記課題を解決するためのタッチパネルは、上記透明導電性積層体を備える。
上記構成によれば、１つの方向から照射する光を用いたパターニングを通じて互いに対向する２つの透明電極層を形成することの可能な透明導電性積層体を備えるタッチパネルが得られる。
【００１６】
上記課題を解決するための透明導電性積層体の製造方法は、積層体を形成する工程を含み、前記積層体が、互いに向かい合う第１の透明導電層および第２の透明導電層と、前記第１の透明導電層と前記第２の透明導電層とに挟まれ、前記第１の透明導電層および前記第２の透明導電層と平行な面内において、可視領域以外に波長を有する露光光を吸収する光吸収領域と、前記露光光を透過する光透過領域とを有する機能層と、を備える。そして、前記第１の透明導電層の面上に第１のレジストを形成し、前記第２の透明導電層の面上に第２のレジストを形成する工程と、前記第１のレジストから前記第２のレジストに向かう方向に沿って前記積層体外から前記積層体内へ露光光を照射して、前記第１のレジストと前記第２のレジストとを感光させる工程と、感光した前記第１のレジストおよび前記第２のレジストを現像する工程と、現像された前記第１のレジストをマスクとして前記第１の透明導電層をエッチングし、現像された前記第２のレジストをマスクとして前記第２の透明導電層をエッチングする工程と、をさらに含む。
【００１７】
上記方法によれば、可視領域以外に波長を有した露光光を積層体が受けるとき、機能層は、光吸収領域にて露光光を吸収し、かつ、光透過領域にて露光光を透過する。機能層が有するこうした光のフィルター機能は、透明導電層をパターニングして透明電極層を形成する際に、機能層をマスクとして機能させる。そして、第１の透明導電層から第２の透明導電層に向かう方向に沿って積層体に照射される光を用いたパターニングを通じて、第１の透明電極層の形成が可能である。また、これと同じ方向に沿って第１の透明導電層、および、機能層を通した光を用いたパターニングを通じて、第２の透明電極層の形成が可能である。それゆえに、互いに対向する２つの透明電極層を、積層体に対して１つの方向から照射される光を用いたパターニングを通じて形成することが可能となる。
【００１８】
上記透明導電性積層体の製造方法にて、前記第１のレジストと前記第２のレジストとを感光させる工程では、前記積層体とは別体のマスクを用いて第１のレジストが露光され、前記機能層をマスクとして前記第２のレジストが露光されることが好ましい。
【００１９】
上記方法によれば、機能層が、第２のレジストを露光するためのマスクとして利用されるため、積層体とは別体のマスクとしては、第１のレジストを露光するためのマスクのみが用いられる。
【００２０】
上記透明導電性積層体の製造方法にて、前記第１のレジストの感光波長と前記第２のレジストの感光波長とは、互いに異なる領域の波長を含むことが好ましい。
上記方法によれば、一方のレジストを感光するための光を用いて他方のレジストが誤って感光することが抑えられる。
【発明の効果】
【００２１】
本開示の技術によれば、透明導電性積層体の備える互いに対向する２つの透明電極層を、積層体に対して１つの方向から照射される光を用いたパターニングを通じて形成することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本開示の技術における第１の実施形態での透明導電性積層体の断面構造を示す断面図である。
【図２】本開示の技術における第１の実施形態でのタッチパネルの断面構造を示す断面図である。
【図３】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、第１内側樹脂層および第１外側樹脂層の形成工程を示す図である。
【図４】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、第１光学調整層および第１透明導電層の形成工程を示す図である。
【図５】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、第１基板と第２基板との貼り合わせ工程を示す図である。
【図６】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、レジストの形成工程を示す図である。
【図７】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、露光工程を示す図である。
【図８】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、露光が行われた後の透明導電性積層体を示す図である。
【図９】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、現像工程を示す図である。
【図１０】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、エッチング工程を示す図である。
【図１１】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、レジストの除去工程を示す図である。
【図１２】本開示の技術における第２の実施形態での透明導電性積層体の断面構造を示す断面図である。
【図１３】第２の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、レジストの形成工程を示す図である。
【図１４】第２の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、第２レジストの露光工程を示す図である。
【図１５】第２の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、第１レジストの露光工程を示す図である。
【図１６】第２の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、露光が行われた後の透明導電性積層体を示す図である。
【図１７】第２の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、現像工程を示す図である。
【図１８】第２の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、エッチング工程を示す図である。
【図１９】第２の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、レジストの除去工程を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
（第１の実施形態）
図１〜図１１を参照して、透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法の第１の実施形態について説明する。第１の実施形態において、透明導電性積層体は、タッチパネルの構成部材の１つである。
【００２４】
［透明導電性積層体の構成］
透明導電性積層体は、最外層として、互いに対向する２つの透明電極層を備えている。２つの透明電極層は、露光光を部分的に吸収する機能層を挟んでいる。図１を参照して、上記構成を有する透明導電性積層体の具体的な例について説明する。
【００２５】
図１に示されるように、透明導電性積層体１０は、第１基板１３ａと第２基板１３ｂとを備えている。
第１基板１３ａが有する２つの面のうち一方の面である第１面には、第１外側樹脂層１４ａと、第１光学調整層１５ａと、第１透明電極層１６ａとが、第１基板１３ａに近い方から、この順に積層されている。第１基板１３ａの他方の面である第２面には、第１内側樹脂層１２ａが形成されている。
【００２６】
第２基板１３ｂが有する２つの面のうち一方の面である第１面には、第２外側樹脂層１４ｂと、第２光学調整層１５ｂと、第２透明電極層１６ｂとが、第２基板１３ｂに近い方から、この順に積層されている。第２基板１３ｂの他方の面である第２面には、第２内側樹脂層１２ｂが形成されている。
【００２７】
第１内側樹脂層１２ａと第２内側樹脂層１２ｂとは、粘着層１１を介して貼り合わされており、これによって、第１基板１３ａに積層されている層と第２基板１３ｂに積層されている層とが、１つの積層体を構成している。
【００２８】
第１透明電極層１６ａは、複数の第１導電領域１７ａと、複数の第１非導電領域１８ａとを有している。同様に、第２透明電極層１６ｂは、複数の第２導電領域１７ｂと、複数の第２非導電領域１８ｂとを有している。
【００２９】
導電領域１７ａ，１７ｂの材料としては、透明導電性積層体１０に要求される特性や用途に応じて種々の材料が使用できる。例えば、導電領域１７ａ，１７ｂの材料としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズからなる群から選択される少なくとも１つの酸化物が用いられる。また、導電領域１７ａ，１７ｂは、上記の材料に、さらに添加物を含んでもよい。また例えば、導電領域１７ａ，１７ｂは、金属製のナノワイヤー等の繊維状の金属から形成されてもよい。
【００３０】
第１透明電極層１６ａは、例えば、Ｘ方向に沿って延びる複数の第１導電領域１７ａが、Ｘ方向と直交するＹ方向に沿って間をあけて並設されたパターンを有する。第１非導電領域１８ａは、互いに隣り合う第１導電領域１７ａの間の領域であって、互いに隣り合う第１導電領域１７ａ間を絶縁している。複数の第１導電領域１７ａの各々の形状は、任意であり、例えば、帯状や網目状を有していてもよいし、複数のひし形が一方向に沿って連結する形状を有していてもよい。
【００３１】
第２透明電極層１６ｂは、例えば、Ｙ方向に沿って延びる複数の第２導電領域１７ｂが、Ｙ方向と直交するＸ方向に沿って間をあけて並設されたパターンを有する。第２非導電領域１８ｂは、互いに隣り合う第２導電領域１７ｂの間の領域であって、互いに隣り合う第２導電領域１７ｂ間を絶縁している。複数の第２導電領域１７ｂの各々の形状は、任意であり、例えば、帯状や網目状を有していてもよいし、複数のひし形が一方向に沿って連結する形状を有していてもよい。
【００３２】
透明導電性積層体１０の積層方向から見た第１透明電極層１６ａの形状は、第１導電領域１７ａの外縁によって規定され、上記積層方向から見た第２透明電極層１６ｂの形状は、第２導電領域１７ｂの外縁によって規定される。第１透明電極層１６ａと第２透明電極層１６ｂとは、上記積層方向から見て、互いに異なる形状を有している。
【００３３】
導電領域１７ａ，１７ｂの各々は、導電領域１７ａ，１７ｂの間に形成される静電容量の変化を、電流の変化によって検出する回路に接続されている。人の指等が導電領域１７ａ，１７ｂに接近すると、静電容量が変化する。この静電容量の変化が検出されることに基づいて、人の指等の接触位置が判定される。
【００３４】
光学調整層１５ａ，１５ｂは、透明導電性積層体１０における可視光の透過特性を調整する機能を有する。光学調整層１５ａ，１５ｂが設けられることによって、透明電極層１６ａ，１６ｂに形成されたパターンが目立たなくなり、タッチパネルにおける視認性が向上する。
【００３５】
光学調整層１５ａ，１５ｂは、例えば、酸化物、硫化物、フッ化物、あるいは、窒化物等の無機化合物から形成される。上記の無機化合物からなる薄膜は、材料によって屈折率が異なる。目的とする光学特性に応じて選択された屈折率の薄膜を特定の膜厚で形成することによって、透明導電性積層体１０の光学特性を調整することが可能となる。
【００３６】
屈折率の低い材料としては、酸化マグネシウム、二酸化珪素、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化セリウム、または、フッ化アルミニウム等が挙げられる。屈折率の高い材料としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ニオブ、または、酸化タンタル等が挙げられる。
【００３７】
なお、透明導電性積層体に求められる光学特性に応じて、透明導電性積層体には複数の光学調整層が設けられてもよい。
基板１３ａ，１３ｂは、例えば、ガラス板や樹脂フィルムである。ガラス板の形成材料や樹脂フィルムの形成材料は、透明電極層の成膜工程、および、その後工程において、基板に要求される強度を満たす材料であれば、特に限定されない。樹脂フィルムの形成材料は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアリレート、環状ポリオレフィン、ポリイミドからなる群から選択される少なくとも１つである。第１基板１３ａと第２基板１３ｂとは、同じ材料から形成されてもよく、互いに異なる材料から形成されてもよい。基板１３ａ，１３ｂの厚さは、１０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましい。基板１３ａ，１３ｂの厚さがこうした範囲であれば、透明導電性積層体１０の薄型化が図られ、また、基板１３ａ，１３ｂの可撓性も得られる。
【００３８】
基板１３ａ，１３ｂは、種々の添加剤や安定剤を含んでもよい。添加剤や安定剤としては、例えば、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、または、易接着剤等が挙げられる。基板１３ａ，１３ｂに対しては、基板１３ａ，１３ｂに積層される層と基板１３ａ，１３ｂとの密着性を向上させるために、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理、または、薬品処理等が施されてもよい。
【００３９】
第２内側樹脂層１２ｂ、第１外側樹脂層１４ａ、第２外側樹脂層１４ｂは、透明導電性積層体１０の機械的強度を向上させる機能を有する。樹脂層１２ｂ，１４ａ，１４ｂとして用いられる樹脂は、透明性と適度な硬度および機械的強度を有することが好ましい。具体的には、樹脂層１２ｂ，１４ａ，１４ｂとして用いられる樹脂は、３次元架橋の期待できる３官能以上のアクリレートを主成分とするモノマーや架橋性オリゴマー等の光硬化性樹脂が好ましい。
【００４０】
３官能以上のアクリレートモノマーとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、または、ポリエステルアクリレート等を用いることが好ましい。特に、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、または、ポリエステルアクリレートを用いることが好ましい。これらのアクリレートモノマーは、単独で用いてもよいし、２種以上のモノマーを混合して用いてもよい。また、上記の３官能以上のアクリレートモノマーに、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、または、ポリオールアクリレート等のアクリル系樹脂を混合して用いてもよい。
【００４１】
架橋性オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、または、シリコーン（メタ）アクリレート等のアクリルオリゴマーを用いることが好ましい。具体例としては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート、ポリウレタンのジアクリレート、または、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４２】
各樹脂層１２ｂ，１４ａ，１４ｂは、同じ材料から形成されてもよく、互いに異なる材料から形成されてもよい。
樹脂層１２ｂ，１４ａ，１４ｂの厚みは限定されないが、０．５μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましい。樹脂層１２ｂ，１４ａ，１４ｂと基板１３ａ，１３ｂとは、屈折率が同じかもしくは近似していることが好ましい。具体的には、屈折率は、１．４５以上１．７５以下であることが好ましい。
【００４３】
樹脂層１２ｂ，１４ａ，１４ｂは、粒子や光重合開始剤等の添加剤を含んでもよい。
添加される粒子としては、有機または無機の粒子が挙げられる。透明導電性積層体１０の透明性を高めるためには、有機粒子を用いることが好ましい。有機粒子としては、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、または、フッ素樹脂等からなる粒子が挙げられる。
【００４４】
粒子の平均粒径は、樹脂層１２ｂ，１４ａ，１４ｂの厚みに応じて決定される。ヘイズ等を抑えて透明導電性積層体１０の外観を良くするためには、粒子の平均粒径は、下限として２μｍ以上、好ましくは５μｍ以上、上限として３０μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下であるとよい。粒子の含有量は、同様の理由で、樹脂に対して０．５重量％以上５重量％以下であることが好ましい。
【００４５】
光重合開始剤は、ラジカル発生型の光重合開始剤として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタール等のベンゾインとそのアルキルエーテル類や、アセトフェノン、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン類や、メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン等のアントラキノン類や、チオキサントン、２、４−ジエチルチオキサントン、２、４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類や、アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類や、ベンゾフェノン、４、４−ビスメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類や、アゾ化合物等が挙げられる。これら光重合開始剤は、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、これらの光重合開始剤は、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の第３級アミンや、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸誘導体等の光開始助剤と組み合わせて使用してもよい。
【００４６】
光重合開始剤の添加量は、主成分の樹脂に対して０．１重量％以上５重量％以下であることが好ましく、０．５重量％以上３重量％以下であることさらに好ましい。添加量が下限値以上であれば、樹脂層の硬化が促進される。添加量が上限値以下であれば、樹脂層の黄変や、耐候性の低下を抑えることができる。光硬化型樹脂を硬化させるために用いる光としては、例えば、紫外線、電子線、あるいは、ガンマ線等が挙げられる。電子線あるいはガンマ線を用いる場合には、光重合開始剤や光開始助剤は添加されなくてもよい。これらの光の線源としては、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプや加速電子等が使用できる。
【００４７】
第１内側樹脂層１２ａは、透明導電性積層体１０の機械的強度を向上させる機能と、露光光を部分的に吸収する機能とを有する。レジストを露光するための光は、レジストの種類や光源の種類によって異なるが、通常、紫外領域の波長（約２００ｎｍ〜約３８０ｎｍ）と可視領域の波長（約３８０ｎｍ〜約７８０ｎｍ）の光が用いられることが多い。したがって、第１内側樹脂層１２ａは、上記の領域の光を吸収することが好ましい。特に、第１内側樹脂層１２ａが紫外領域の波長の光を吸収すると、実用性が高められるため好ましい。以下では、第１内側樹脂層１２ａが紫外領域の波長の光である紫外線を吸収する例について説明する。
【００４８】
第１内側樹脂層１２ａは、第１透明電極層１６ａおよび第２透明電極層１６ｂと平行な面内において、複数の光吸収領域１９ａと複数の光透過領域１９ｂとを有している。光吸収領域１９ａは紫外線を吸収し、光透過領域１９ｂは紫外線を透過する。第１内側樹脂層１２ａは、パターニングされた樹脂膜からなる層であって、樹脂膜が存在する領域が光吸収領域１９ａであり、樹脂膜が存在しない領域が光透過領域１９ｂである。
【００４９】
光吸収領域１９ａは、積層体の積層方向から見て、第２透明電極層１６ｂの形状に追従した形状を含む。例えば、光吸収領域１９ａは、積層体の積層方向から見て、第２透明電極層１６ｂにおける第２非導電領域１８ｂと同じパターンを有していてもよいし、第２非導電領域１８ｂの一部と同じパターンを有していてもよい。
【００５０】
光吸収領域１９ａは、少なくとも、第１透明電極層１６ａにおける第１導電領域１７ａと対向する領域であって、かつ、第２透明電極層１６ｂにおける第２導電領域１７ｂと対向しない領域に形成されている。光吸収領域１９ａは、第１導電領域１７ａおよび第２導電領域１７ｂの双方と対向する領域には形成されていない。光吸収領域１９ａは、第１導電領域１７ａと対向しない領域であって、かつ、第２導電領域１７ｂと対向する領域、または、第１導電領域１７ａおよび第２導電領域１７ｂの双方と対向しない領域には、形成されている必要はないが、形成されていてもよい。
【００５１】
光透過領域１９ｂは、光吸収領域１９ａの形成されていない領域である。すなわち、少なくとも、第１導電領域１７ａおよび第２導電領域１７ｂの双方と対向する領域には、光透過領域１９ｂが形成されている。換言すれば、透明導電性積層体１０の積層方向から見て、第１導電領域１７ａと第２導電領域１７ｂとが重なる部分には、光透過領域１９ｂが配置され、第１導電領域１７ａと第２非導電領域１８ｂとが重なる部分には、光吸収領域１９ａが配置されている。
【００５２】
光吸収領域１９ａは、先に例示した樹脂層１２ｂ，１４ａ，１４ｂの形成材料に加えて、光吸収材料を含んでいる。紫外領域の波長の光を吸収するために用いられる光吸収材料としては、紫外線吸収剤や紫外線吸収機能を有する樹脂等の紫外線吸収体が挙げられる。光吸収材料は、光吸収領域１９ａの構成材料への紫外線吸収剤の添加や、光吸収領域１９ａに含まれる樹脂と紫外線吸収機能を有する樹脂との共重合によって、光吸収領域１９ａに付加される。
【００５３】
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、サリシレート系、トリアジン系、または、シアノアクリルレート系等の紫外線吸収剤が挙げられる。具体例としては、例えば、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤として、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等やこれらの混合物、変性物、重合物、誘導体等が挙げられる。また、例えば、トリアジン系の紫外線吸収剤としては、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−イソ−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン等やこれらの混合物、変性物、重合物、誘導体等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、単独で用いてもよいし、２種以上の紫外線吸収剤を混合して用いてもよい。
【００５４】
紫外線吸収機能を有する樹脂は、上記のベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、サリシレート系、トリアジン系、シアノアクリルレート系等の非反応性紫外線吸収剤に、ビニル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基等の重合性二重結合を有する官能基や、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、または、イソシアネート基等を導入した化合物である。これらの樹脂と、第１内側樹脂層１２ａに含有される樹脂とを共重合させることにより、紫外線吸収機能を有する第１内側樹脂層１２ａが得られる。
【００５５】
上記の光吸収材料は、単独で用いてもよいし、２種以上の材料を混合して用いてもよい。例えば、吸収できる光の波長が異なる複数の光吸収材料を用いることによって、広い波長領域で光を吸収することができる。
【００５６】
光吸収領域１９ａは、積層体を挟んで形成された２つのレジストを露光する際に、一方のレジストを露光するために照射された光のうち、レジストに吸収されずに光吸収領域１９ａに到達した光を吸収する。光吸収材料の含有量は、一方のレジストに吸収されずに光吸収領域１９ａに到達した光が他方のレジストに到達することを抑えることが可能な程度に、光の吸収機能が光吸収領域１９ａに付与される量であれば、限定されない。例えば、光吸収材料の含有量は、光吸収領域１９ａを構成する樹脂に対して、０．０１重量％以上２０重量％以下であることが好ましい。光吸収材料の含有量が０．０１重量％以上であれば、不要な露光光を十分に吸収することができる。光吸収材料の含有量が２０重量％以下であれば、光吸収領域１９ａの透明性が低下することが抑えられる。
【００５７】
粘着層１１は、粘着性を有する樹脂であって、クッション性や透明性に優れた樹脂から形成されることが好ましい。粘着層１１に用いられる樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、または、ゴム系樹脂等が挙げられる。
【００５８】
透明導電性積層体１０の積層方向から見て、第１内側樹脂層１２ａの光吸収領域１９ａが形成されている領域では、波長４００ｎｍにおける光線透過率が６０％以上であり、かつ、波長３６５ｎｍにおける光線透過率が２０％以下であることが好ましい。光線透過率が上記の範囲であると、紫外領域の波長の光によってレジストが露光される場合に、光吸収領域１９ａが形成されている領域にて、一方のレジストに吸収されなかった光が他方のレジストに達することが的確に抑えられる。また、こうした効果を高めるためには、光吸収領域１９ａの波長４００ｎｍにおける光線透過率が８０％以上であり、かつ、波長３６５ｎｍにおける光線透過率が２０％以下であることが好ましい。
【００５９】
また、透明導電性積層体１０の積層方向において、第１導電領域１７ａと第２導電領域１７ｂとが重なる部分と、第１非導電領域１８ａと第２非導電領域１８ｂとが重なる部分との全光線透過率の差が１．５％以下であり、かつ、透過色相ｂ＊差が２．０以下であることが好ましい。全光線透過率および透過色相差が上記の範囲内であれば、第１透明電極層１６ａと第２透明電極層１６ｂとが互いに異なるパターンに形成された場合でも、パターン形状が目立たなくなるため、タッチパネルにおける視認性が向上する。
【００６０】
また、透明導電性積層体１０は、１５０℃３０分間における熱収縮率が０．５％以下であることが好ましい。熱収縮率が上記の範囲内であれば、透明電極層１６ａ，１６ｂの形成工程やレジストの乾燥工程において、加えられる熱によって積層体が収縮することが抑えられる。その結果、第１透明電極層１６ａと第２透明電極層１６ｂとのパターンの位置ずれが抑えられる。
【００６１】
図２に示されるように、第１透明電極層１６ａには、接着層を介してガラス等からなるカバー層３０等が積層されて、タッチパネル３１が構成される。カバー層３０の表面が、人の指等の接触面となる。さらに、第２透明電極層１６ｂには、液晶パネル等の表示パネル３２が積層されて、タッチパネル３１と表示パネル３２とから表示装置３３が構成される。なお、第２透明電極層１６ｂ側にカバー層３０が配置され、第１透明電極層１６ａ側に表示パネル３２が配置されてもよい。
【００６２】
［透明導電性積層体の製造方法］
図３〜図１１を参照して、透明導電性積層体の製造方法について説明する。
図３に示されるように、まず、第１基板１３ａの第１面に第１外側樹脂層１４ａが形成され、第１基板１３ａの第２面に第１内側樹脂層１２ａが形成される。
【００６３】
第１外側樹脂層１４ａと第１内側樹脂層１２ａとは、主成分である樹脂等を溶剤に溶解させた溶液が第１基板１３ａに塗布されることによって形成される。  
溶剤は、上記の主成分の樹脂等を溶解するものであれば、限定されない。溶剤の具体例としては、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコール、または、モノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上の溶剤を混合して用いてもよい。
【００６４】
第１外側樹脂層１４ａの塗布方法としては、ダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター、または、マイクログラビアコーター等の公知の塗布法が用いられる。
【００６５】
第１内側樹脂層１２ａの塗布方法としては、スクリーン印刷法やグラビアオフセット印刷法等の公知の印刷法等、パターンの形成が可能な塗布方法が用いられる。溶液の塗布された部分が光吸収領域１９ａとなり、溶剤の塗布されなかった部分が光透過領域１９ｂとなる。
【００６６】
図４に示されるように、第１基板１３ａの第１面側において、第１外側樹脂層１４ａの面上に第１光学調整層１５ａが形成され、第１光学調整層１５ａの面上に第１透明導電層２０ａが形成される。
【００６７】
第１光学調整層１５ａと第１透明導電層２０ａとは、公知の成膜方法によって形成される。第１光学調整層１５ａは、例えば、真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相析出法やＣＶＤ法等の化学的気相析出法によって形成される。第１透明導電層２０ａが酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）から形成される場合には、第１透明導電層２０ａは、例えば、真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相析出法やＣＶＤ法等の化学的気相析出法等によって形成される。また、第１透明導電層２０ａが繊維状の金属から形成される場合には、繊維状の金属が分散された溶液が公知の塗布法や印刷法によって第１光学調整層１５ａに塗布されることにより、第１透明導電層２０ａが形成される。
【００６８】
同様に、第２基板１３ｂについても、第１面に第２外側樹脂層１４ｂが形成され、第２面に第２内側樹脂層１２ｂが形成される。第２内側樹脂層１２ｂは、上述の第１内側樹脂層１２ａとは異なり、樹脂が溶解された溶液が第２面の全面に塗布されることにより形成される。そして、第２基板１３ｂの第１面側において、第２外側樹脂層１４ｂの面上に第２光学調整層１５ｂが形成され、第２光学調整層１５ｂの面上に第２透明導電層２０ｂが形成される。
【００６９】
図５に示されるように、各層が形成された第１基板１３ａと第２基板１３ｂとが貼り合せられる。具体的には、第１基板１３ａに形成された第１内側樹脂層１２ａと、第２基板１３ｂに形成された第２内側樹脂層１２ｂとが粘着層１１を介して貼り合せられる。
【００７０】
なお、各層の形成の順番は、上述の順番に限られない。レジストが形成される前に、２つの透明導電層２０ａ，２０ｂの間に上述の各層が形成された積層体が形成されればよい。
【００７１】
図６に示されるように、次に、第１基板１３ａの第１面側において、第１透明導電層２０ａの面上に第１レジスト２１ａが形成され、第２基板１３ｂの第１面側において、第２透明導電層２０ｂの面上に第２レジスト２１ｂが形成される。第１の実施形態では、ネガ型のレジストが用いられる。レジスト２１ａ，２１ｂには、公知の材料が用いられ、レジスト２１ａ，２１ｂは、公知の方法によって形成される。
【００７２】
図７に示されるように、第１レジスト２１ａと向かい合う位置に、第１透明電極層１６ａのパターンに応じたパターンを有するマスク２２と、可視領域の波長の光を遮断する光学フィルター２３と、積層体に光を照射する光源２４とが配置される。光源２４は、紫外領域の波長の光と可視領域の波長の光とからなる光を発する。
【００７３】
そして、光源２４から積層体に対して光が照射されて、レジスト２１ａ，２１ｂが露光される。このとき、光学フィルター２３によって可視領域の波長の光が遮断されるため、積層体には、光源２４から発せられた光のうちの紫外領域の波長の光が、露光光として照射される。
【００７４】
レジスト２１ａ，２１ｂが感光する過程について説明する。まず、光源２４から発せられて光学フィルター２３を透過した露光光は、第１レジスト２１ａから第２レジスト２１ｂに向かう方向に沿って進行してマスク２２に到達する。マスク２２によって、積層体の面と平行な面の一部の領域で、露光光が遮断される。マスク２２によって露光光が遮断されなかった領域では、露光光が第１レジスト２１ａに到達する。これにより、露光光が到達した領域で、第１レジスト２１ａが感光する。マスク２２は、第１透明電極層１６ａの非導電領域１８ａに対応する領域の光を遮断するため、第１レジスト２１ａにて感光した領域は、第１透明電極層１６ａの第１導電領域１７ａに対応するパターンを有する。
【００７５】
第１レジスト２１ａを感光させた露光光は、第１レジスト２１ａ、第１透明導電層２０ａ、第１光学調整層１５ａ、第１外側樹脂層１４ａ、および、第１基板１３ａを透過して、第１内側樹脂層１２ａに到達する。第１内側樹脂層１２ａの光吸収領域１９ａは、紫外領域の波長の光を吸収する機能を有しているため、第１内側樹脂層１２ａのうちの光吸収領域１９ａに到達した露光光は、光吸収領域１９ａに吸収される。一方、第１内側樹脂層１２ａの光透過領域１９ｂは光を透過するため、第１内側樹脂層１２ａのうちの光透過領域１９ｂに到達した露光光は、第１内側樹脂層１２ａ、粘着層１１、第２内側樹脂層１２ｂ、第２基板１３ｂ、第２外側樹脂層１４ｂ、第２光学調整層１５ｂ、および、第２透明導電層２０ｂを透過して、第２レジスト２１ｂに到達する。これにより、露光光が到達した領域で、第２レジスト２１ｂが感光する。光透過領域１９ｂは、第２透明電極層１６ｂの第２導電領域１７ｂとなる領域と対向しているため、第２レジスト２１ｂにて感光した領域は、第２透明電極層１６ｂの第２導電領域１７ｂのうちの、第１透明電極層１６ａの第１導電領域１７ａと対向する領域に対応するパターンを有する。
【００７６】
このように、１回の露光光の照射によって、マスク２２をマスクとして第１レジスト２１ａが露光され、第１内側樹脂層１２ａをマスクとして第２レジスト２１ｂが露光される。
【００７７】
これにより、図８に示されるように、２つのレジスト２１ａ，２１ｂに、互いに異なるパターンの感光した部分が形成される。
図９に示されるように、次に、レジスト２１ａ，２１ｂの感光していない部分が現像液によって除去される。これにより、第１レジスト２１ａには、第１透明電極層１６ａの第１導電領域１７ａに対応するパターンが形成される。また、第２レジスト２１ｂには、第２透明電極層１６ｂの第２導電領域１７ｂのうちの、第１透明電極層１６ａの第１導電領域１７ａと対向する領域に対応するパターンが形成される。
【００７８】
図１０に示されるように、次に、第１レジスト２１ａをマスクとして、第１透明導電層２０ａの露出部分がエッチングされ、第２レジスト２１ｂをマスクとして、第２透明導電層２０ｂの露出部分がエッチングされる。エッチング方法は、公知の方法が用いられる。これにより、第１透明導電層２０ａがパターニングされて第１透明電極層１６ａが形成される。また、第２透明導電層２０ｂがパターニングされて第２透明電極層１６ｂが形成される。透明導電層２０ａ，２０ｂの残存部分が、透明電極層１６ａ，１６ｂにおける導電領域１７ａ，１７ｂとなり、透明導電層２０ａ，２０ｂの除去部分が、透明電極層１６ａ，１６ｂにおける非導電領域１８ａ，１８ｂとなる。
【００７９】
図１１に示されるように、レジスト２１ａ，２１ｂが除去される。これにより、透明導電性積層体１０が得られる。なお、第２透明電極層１６ｂの第２導電領域１７ｂが、第１透明電極層１６ａの第１導電領域１７ａと対向しない領域、すなわち、第１非導電領域１８ａと対向する領域にも形成される場合には、フォトリソグラフィを利用しない部分成膜によって、これらの領域に導電膜が形成される。部分成膜には、例えば、マスクを用いてＩＴＯ等からなる導電膜をスパッタリングによって形成する方法や、繊維状の金属が含まれた導電膜をスクリーン印刷法によって塗布形成する方法が用いられる。
【００８０】
なお、上記の各工程は、ロール・ツー・ロール方式によって行われることが好ましい。これによれば、透明導電性積層体を効率よく製造することができるため、透明導電性積層体１０の製造にかかる時間が短縮される。
【００８１】
［作用］
第１の実施形態の透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法がもたらす作用について説明する。
【００８２】
上述のように、第１内側樹脂層１２ａが露光光を部分的に透過するため、第１内側樹脂層１２ａが、レジストを露光するためのマスクとして機能する。すなわち、光源２４に近い方のレジストである第１レジスト２１ａを露光するためのマスクとして、積層体とは別体のマスク２２が用いられ、光源２４から遠い方のレジストである第２レジスト２１ｂを露光するためのマスクとして、第１内側樹脂層１２ａが利用される。その結果、積層体とは別体のマスクや光源をレジストごとに設ける必要がなくなり、一方向からの露光光の照射によって、２つのレジスト２１ａ，２１ｂを露光することが可能となる。そのため、簡易な装置によって２つのレジスト２１ａ，２１ｂを露光することができる。また、１つの光源を用いて片面ずつレジストを露光する方法と比較しても、積層体の向きを変えることなく、簡易な態様で２つのレジスト２１ａ，２１ｂを露光することができる。
【００８３】
また、１回の露光光の照射によって、２つのレジスト２１ａ，２１ｂを同時に露光することができるため、露光工程が簡素になり、露光にかかるエネルギーも削減される。
なお、第１の実施形態では、第１レジスト２１ａと第２レジスト２１ｂとの双方をネガ型のレジストとしたが、２つのレジストの双方がポジ型のレジストであってもよいし、一方のレジストがネガ型のレジストで、他方のレジストがポジ型のレジストであってもよい。こうした場合、第１内側樹脂層１２ａにおける光吸収領域１９ａと光透過領域１９ｂの配置は、レジストの特性に応じて決定される。
【００８４】
例えば、２つのレジストの双方がポジ型のレジストである場合は、透明導電性積層体１０の積層方向から見て、第１非導電領域１８ａと第２非導電領域１８ｂとが重なる領域には、光透過領域１９ｂが配置され、第１非導電領域１８ａと第２導電領域１７ｂとが重なる領域には、光吸収領域１９ａが配置される。
【００８５】
また例えば、第１レジスト２１ａがネガ型のレジストで、第２レジスト２１ｂがポジ型のレジストである場合は、透明導電性積層体１０の積層方向から見て、第１導電領域１７ａと第２非導電領域１８ｂとが重なる領域には、光透過領域１９ｂが配置され、第１導電領域１７ａと第２導電領域１７ｂとが重なる領域には、光吸収領域１９ａが配置される。
【００８６】
また例えば、第１レジスト２１ａがポジ型のレジストで、第２レジスト２１ｂがネガ型のレジストである場合は、透明導電性積層体１０の積層方向から見て、第１非導電領域１８ａと第２導電領域１７ｂとが重なる領域には、光透過領域１９ｂが配置され、第１非導電領域１８ａと第２非導電領域１８ｂとが重なる領域には、光吸収領域１９ａが配置される。
【００８７】
以上説明したように、第１の実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）第１内側樹脂層１２ａが露光光を部分的に透過するため、第１内側樹脂層１２ａを、一方のレジストを露光するためのマスクとして利用できる。その結果、積層体とは別体のマスクや光源をレジストごとに設ける必要がなくなり、一方向からの露光光の照射によって、２つのレジスト２１ａ，２１ｂを露光することが可能となる。
【００８８】
（２）露光光を部分的に吸収する層が、紫外線吸収剤または紫外線吸収機能を有する樹脂を含む樹脂膜からなる層であって、樹脂膜がパターニングされることによって、光吸収領域１９ａと光透過領域１９ｂとが形成されている。他の層と比較して、樹脂膜からなる層は加工が行いやすい。したがって、上記構成によれば、露光光を部分的に吸収する層を容易に形成することが可能であり、また、この層において、光吸収領域１９ａと光透過領域１９ｂとが適切に形成される。
【００８９】
（３）透明導電性積層体１０の積層方向から見て、光透過領域１９ｂは、第１導電領域１７ａと第２導電領域１７ｂとが重なる部分に配置され、光吸収領域１９ａは、第１導電領域１７ａと、第２非導電領域１８ｂとが重なる部分に配置されている。これにより、ネガ型のレジストが用いられる場合に、第１内側樹脂層１２ａが、第２透明電極層１６ｂを形成するためのマスクとして適切に機能する。
【００９０】
（４）透明導電性積層体１０の積層方向から見て、光透過領域１９ｂは、第２導電領域１７ｂと重なる部分に配置され、光吸収領域１９ａは、第２非導電領域１８ｂと重なる部分に配置されている。すなわち、光透過領域１９ｂが、第２導電領域１７ｂのパターンと同一のパターンに形成され、光吸収領域１９ａが、第２非導電領域１８ｂのパターンと同一のパターンに形成されている。これによれば、上記（３）の構成が適切に実現される。また、第１内側樹脂層１２ａのパターンとして、第２透明電極層１６ｂのパターンが利用できるため、第１内側樹脂層１２ａのパターンの設定にかかる負担が軽減される。
【００９１】
（第２の実施形態）
図１２〜図１９を参照して、透明導電性積層体の製造方法の第２の実施形態について説明する。第２の実施形態では、２つのレジストが露光される手順が、第１の実施形態と主に異なる。以下では、第１の実施形態との相違点を中心に説明し、第１の実施形態と同様の構成については同じ符号を付してその説明を省略する。
【００９２】
［透明導電性積層体の構成］
図１２に示されるように、第２の実施形態の透明導電性積層体１０は、第１の実施形態の透明導電性積層体１０と同様の構成層を有している。第２の実施形態では、第１内側樹脂層１２ａにおける光吸収領域１９ａは、第２透明電極層１６ｂにおける第２非導電領域１８ｂと同じパターンに形成されている。すなわち、光吸収領域１９ａは、透明導電性積層体１０の積層方向から見て、第２非導電領域１８ｂと重なる部分に配置され、光透過領域１９ｂは、第２導電領域１７ｂと重なる部分に配置されている。
【００９３】
［透明導電性積層体の製造方法］
図１３に示されるように、第１の実施形態と同様に、第１内側樹脂層１２ａ、第１外側樹脂層１４ａ、第１光学調整層１５ａ、および、第１透明導電層２０ａが形成された第１基板１３ａと、第２内側樹脂層１２ｂ、第２外側樹脂層１４ｂ、第２光学調整層１５ｂ、および、第２透明導電層２０ｂが形成された第２基板１３ｂとが、粘着層１１を介して貼り合せられる。そして、第１基板１３ａの第１面側において、第１透明導電層２０ａの面上に第１レジスト２１ｃが形成され、第２基板１３ｂの第１面側において、第２透明導電層２０ｂの面上に第２レジスト２１ｄが形成される。第２の実施形態では、ネガ型のレジストが用いられる。
【００９４】
第１レジスト２１ｃの感光波長と、第２レジスト２１ｄの感光波長は、互いに異なる領域の波長を含む。第１レジスト２１ｃの感光波長と第２レジスト２１ｄの感光波長とは、完全に異なってもよいし、一部が異なってもよい。すなわち、第１レジスト２１ｃの感光波長と第２レジスト２１ｄの感光波長とは、重なる領域がなくてもよいし、一部に重なる領域があってもよい。第２レジスト２１ｄの感光波長は、第１内側樹脂層１２ａの光吸収領域１９ａが吸収する波長に含まれている。
【００９５】
図１４に示されるように、第１レジスト２１ｃと向かい合う位置に、第１レジスト２１ｃの感光波長の光を遮断する光学フィルター２３ａと、積層体に光を照射する光源２４とが配置される。この状態で、第１の露光が行われる。
【００９６】
光源２４から光が発せられると、光学フィルター２３ａによって第１レジスト２１ｃの感光波長の光が遮断されるため、積層体には、光源２４から発せられた光のうちの第１レジスト２１ｃの感光波長の光を除く光が、露光光として照射される。したがって、第１レジスト２１ｃに露光光が到達しても、第１レジスト２１ｃは感光しない。そして、露光光は、第１レジスト２１ｃ、第１透明導電層２０ａ、第１光学調整層１５ａ、第１外側樹脂層１４ａ、および、第１基板１３ａを透過して、第１内側樹脂層１２ａに到達する。
【００９７】
第１内側樹脂層１２ａの光吸収領域１９ａは、第２レジスト２１ｄの感光波長の光を吸収する機能を有しているため、光吸収領域１９ａに到達した露光光のうちの第２レジスト２１ｄの感光波長の光は、光吸収領域１９ａに吸収される。一方、第１内側樹脂層１２ａの光透過領域１９ｂは光を透過するため、光透過領域１９ｂに到達した露光光は、第１内側樹脂層１２ａ、粘着層１１、第２内側樹脂層１２ｂ、第２基板１３ｂ、第２外側樹脂層１４ｂ、第２光学調整層１５ｂ、および、第２透明導電層２０ｂを透過して、第２レジスト２１ｄに到達する。
【００９８】
露光光が到達した領域では、露光光が含む第２レジスト２１ｄの感光波長の光によって、第２レジスト２１ｄが感光する。光透過領域１９ｂは、第２透明電極層１６ｂの第２導電領域１７ｂとなる領域と対向しているため、第２レジスト２１ｄにて感光した領域は、第２透明電極層１６ｂの第２導電領域１７ｂの形状に追従する形状を有したパターンを形成する。すなわち、第１の露光では、第１内側樹脂層１２ａをマスクとして、第２レジスト２１ｄが露光される。
【００９９】
図１５に示されるように、次に、第１レジスト２１ｃと光源２４との間に配置された光学フィルターが、第２レジスト２１ｄの感光波長の光を遮断する光学フィルター２３ｂに交換される。さらに、第１レジスト２１ｃと光学フィルター２３ｂとの間に、第１透明電極層１６ａのパターンに応じたパターンを有するマスク２２が配置される。この状態で、第２の露光が行われる。
【０１００】
光源２４から光が発せられると、光学フィルター２３ｂによって第２レジスト２１ｄの感光波長の光が遮断されるため、積層体には、光源２４から発せられた光のうちの第２レジスト２１ｄの感光波長の光を除く光が、露光光として照射される。光学フィルター２３ｂを透過してマスク２２に到達した露光光は、マスク２２によって、積層体の面と平行な面の一部の領域で遮断される。マスク２２によって露光光が遮断されなかった領域では、露光光が第１レジスト２１ｃに到達する。露光光が到達した領域では、露光光が含む第１レジスト２１ｃの感光波長の光によって、第１レジスト２１ｃが感光する。マスク２２は、第１透明電極層１６ａの非導電領域１８ａに対応する領域の光を遮断するため、第１レジスト２１ｃにて感光した領域は、第１透明電極層１６ａの第１導電領域１７ａの形状に追従する形状を有したパターンを形成する。
【０１０１】
露光光からは、第２レジスト２１ｄの感光波長の光が除かれているため、第１レジスト２１ｃを感光させた露光光が積層体を透過して第２レジスト２１ｄに到達しても、第２レジスト２１ｄは感光しない。すなわち、第２の露光では、マスク２２をマスクとして、第１レジスト２１ｃの露光が行われる。
【０１０２】
これにより、図１６に示されるように、２つのレジスト２１ｃ，２１ｄに、互いに異なるパターンの感光した部分が形成される。
図１７に示されるように、次に、レジスト２１ｃ，２１ｄの感光していない部分が現像液によって除去される。これにより、第１レジスト２１ｃには、第１透明電極層１６ａの第１導電領域１７ａに対応するパターンが形成される。また、第２レジスト２１ｄには、第２透明電極層１６ｂの第２導電領域１７ｂに対応するパターンが形成される。
【０１０３】
図１８に示されるように、次に、第１レジスト２１ｃをマスクとして、第１透明導電層２０ａの露出部分がエッチングされ、第２レジスト２１ｄをマスクとして、第２透明導電層２０ｂの露出部分がエッチングされる。これにより、第１透明導電層２０ａがパターニングされて第１透明電極層１６ａが形成され、第２透明導電層２０ｂがパターニングされて第２透明電極層１６ｂが形成される。
【０１０４】
図１９に示されるように、次に、レジスト２１ｃ，２１ｄが除去される。これにより、透明導電性積層体１０が得られる。
［作用］
第２の実施形態の透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法がもたらす作用について説明する。
【０１０５】
第２の実施形態においても、第１の実施形態と同様に、第１内側樹脂層１２ａが露光光を部分的に透過するため、第１内側樹脂層１２ａが、レジストを露光するためのマスクとして機能する。したがって、積層体とは別体のマスクや光源をレジストごとに設ける必要がなくなり、一方向からの露光光の照射によって、２つのレジスト２１ｃ，２１ｃを露光することが可能となる。
【０１０６】
また、第２の実施形態では、２つのレジスト２１ｃ，２１ｄの感光波長が、互いに異なる領域の波長を含む。そのため、第１レジスト２１ｃのみが感光する波長の露光光と、第２レジスト２１ｄのみが感光する波長の露光光とを、各別に、第１レジスト２１ｃから第２レジスト２１ｄに向かう方向に沿って積層体に照射することによって、互いのパターンに影響を与えることなく、２つのレジストを露光することが可能となる。したがって、第１の実施形態と比較して、第２透明電極層１６ｂの第２導電領域１７ｂに、第１透明電極層１６ａの第１非導電領域１８ａと対向する領域がある場合であっても、別に部分成膜を行うことなく、第２導電領域１７ｂを一括して形成することができる。
【０１０７】
なお、第２の実施形態では、第１レジスト２１ｃと第２レジスト２１ｄとの双方をネガ型のレジストとしたが、２つのレジストの双方がポジ型のレジストであってもよいし、一方のレジストがネガ型のレジストで、他方のレジストがポジ型のレジストであってもよい。例えば、第２レジスト２１ｄがポジ型のレジストである場合には、透明導電性積層体１０の積層方向から見て、光吸収領域１９ａは、第２導電領域１７ｂと重なる部分に配置され、光透過領域１９ｂは、第２非導電領域１８ｂと重なる部分に配置される。
【０１０８】
また、第２の実施形態では、第２レジスト２１ｄの露光を、第１レジスト２１ｃの露光よりも先に行ったが、第１レジスト２１ｃの露光を先に行ってもよい。ただし、光源２４から遠い方のレジストから露光する方が、後の露光において、露光光が先の露光によって部分的に感光したレジストを透過することがないため、透過するレジストの感光状態に露光光が影響を受けることが抑えられる。
【０１０９】
また、第２の実施形態では、光学フィルターを交換することによって、第１の露光における露光光と第２の露光における露光光の波長を調整したが、例えば、光源を変えることによって、露光光の波長を調整してもよい。
【０１１０】
以上説明したように、第２の実施形態によれば、第１の実施形態の（１），（２）の効果に加えて、以下の効果が得られる。
（５）透明導電性積層体１０の積層方向から見て、光透過領域１９ｂは、第２導電領域１７ｂと重なる部分に配置され、光吸収領域１９ａは、第２非導電領域１８ｂと重なる部分に配置されている。これにより、ネガ型のレジストが用いられる場合に、第１内側樹脂層１２ａが、第２透明電極層１６ｂを形成するためのマスクとして適切に機能する。
【０１１１】
（６）第１レジスト２１ｃの感光波長と第２レジスト２１ｄの感光波長とは、互いに異なる領域の波長を含む。そのため、第１レジスト２１ｃのみが感光する波長の露光光と、第２レジスト２１ｄのみが感光する波長の露光光とを、一方向から各別に積層体に照射することによって、２つのレジスト２１ｃ，２１ｄを互いのパターンに影響を与えることなく露光することが可能となる。
【０１１２】
上記の各実施形態は、以下のように変更して実施することが可能である。
・第１内側樹脂層１２ａにおいて、露光光を吸収する領域と露光光を透過する領域とは、樹脂膜のパターニングによって区画されていなくてもよい。例えば、第１内側樹脂層１２ａが第１基板１３ａの全面を覆う層として形成され、紫外領域の波長の光を吸収する機能が部分的に付加されてもよい。要は、第１内側樹脂層１２ａが、露光光を吸収する光吸収領域１９ａと、露光光を透過する光透過領域１９ｂとを有していればよい。ただし、光吸収領域１９ａと光透過領域１９ｂとがパターニングによって形成されている方が、露光を行う際に、マスク２２と第１内側樹脂層１２ａのパターンとの位置合わせが行いやすい。
【０１１３】
・露光光を部分的に吸収する層は第１内側樹脂層１２ａとは異なる層であってもよい。例えば、他の樹脂層１２ｂ，１４ａ，１４ｂや、粘着層１１や、光学調整層１５ａ，１５ｂのうちのいずれかが露光光を部分的に吸収する層として機能してもよい。あるいは、これらの層に加えて、露光光を部分的に吸収する層がさらに設けられてもよい。要は、第１透明電極層１６ａと第２透明電極層１６ｂとに挟まれた機能層が、露光光を部分的に吸収する層を含んでいればよい。このとき、露光光を部分的に吸収する層には、その層よりも光源から遠い方の透明電極層を形成するためのマスクとなるパターンが形成される。
【符号の説明】
【０１１４】
１０…透明導電性積層体、１１…粘着層、１２ａ，１２ｂ…内側樹脂層、１３ａ，１３ｂ…基板、１４ａ，１４ｂ…外側樹脂層、１５ａ，１５ｂ…光学調整層、１６ａ，１６ｂ…透明電極層、１７ａ，１７ｂ…導電領域、１８ａ，１８ｂ…非導電領域、１９ａ…光吸収領域、１９ｂ…光透過領域、２０ａ，２０ｂ…透明導電層、２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ…レジスト、２２…マスク、２３，２３ａ，２３ｂ…光学フィルター、２４…光源、３０…カバー層、３１…タッチパネル、３２…表示パネル、３３…表示装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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