(57)【要約】【課題】FIMSシステムに固定されて開放状態にあるFOUP内部の酸化性ガスの分圧が時間の経過と共に増加することを防止する。【解決手段】FOUP開口と対向する面として、該FOUP内に支持されるウエハを挟んで該開口とは逆の側に配置され、該面に配置される複数の通気孔より開口に向けて不活性ガスを噴き出す面状パージ部を配する。面状の不活性ガス供給部よりFOUP奥側から開口に向かい且つウエハ面を沿った不活性ガス流を形成することにより、FOUP内部の不活性ガスによる均等な置換を達成する。【選択図】図２（ａ）
2015162531.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に設けられ、高さ方向に並置される平板状の被収容物が各々に載置される棚と、
外部より前記棚に対する前記被収容物の挿脱を行う開口と、
前記開口を閉鎖して前記内部を密閉する蓋と、
前記開口と対向する面、及び前記対向する面と前記開口が存在する面との間に位置する一対の側面、の少なくとも一つの面であるポッド内面又は前記ポッド内面と前記被収容物との間の面として配置され、前記高さ方向に並置される前記被収容物の平板面と平行に、前記面に配置される複数の通気孔より前記被収容物に向けて所定のガスを噴き出す面状パージ部と、を有することを特徴とするポッド。
【請求項２】
前記面状パージ部は、前記開口と対向する面として、前記収容物を挟んで前記開口とは逆の側に配置され、前記面に配置される複数の通気孔より前記開口に向けて所定のガスを噴き出すことを特徴とする請求項１に記載のポッド。
【請求項３】
前記通気孔は前記ガスの噴き出し方向から見て前記高さ方向に延びた扁平形状を有するスリットであって、前記棚に載置された前記被収容物の少なくとも二枚以上の扁平方向長さを有することを特徴とする請求項１又は２に記載のポッド。
【請求項４】
前記通気孔は、前記開口より前記ポッド内を見た場合に前記被収容物が支持される範囲に対応する領域に形成されることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載のポッド。
【請求項５】
前記通気孔は、鉛直方向における上方に位置する通気孔と下方に位置する通気孔とにおいて通気抵抗において異なることを特徴とする請求項１に記載のポッド。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか一項に記載のポッドと、
前記ポッドが載置される載置台と、
前記載置台に配置されて、前記載置台に前記ポッドが載置されることにより前記ポッド内ガス供給部と接続されて前記ポッド内ガス供給手段に前記所定のガスを供給する載置台ガス供給ポートと、を有することを特徴とするパージシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体処理装置間にて用いられる、所謂FIMS（Front-Opening Interface Mechanical Standard）システムにおいて、ウエハを収容する密閉容器たる所謂FOUP（Front-Opening Unified Pod）と呼ばれるポッドに関する。また、本発明は、該ポッド内部の清浄化を行うパージ操作を為すパージシステムとして機能するFIMSシステムにも関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明に関して、ポッドは、ウエハを収容する本体部と該本体部の開口を閉鎖する蓋とを有する。また、蓋の開閉操作とポッドに対するウエハの挿脱とは、半導体処理装置に付随する搬送用ロボットが収容される微小空間を介して行われる。ロードポート装置は、該微小空間の画定を為し且つ該微小空間に連通する開口部を有する壁、該壁の開口部に対してポッド開口を正対させるポッドの載置台、及び該開口部の開閉を行うドア部を有する。
【０００３】
ここで、通常、ウエハ等を収容した状態でのポッド内部は、高清浄に管理された乾燥窒素等によって満たされており、汚染物質、酸化性のガス等のポッド内部への侵入を防止している。しかし、ポッド内のウエハを各種処理装置に持ち込んで所定の処理を施す際には、ポッド内部と処理装置内部とが連通する状態が形成される。このため、処理装置内部或いは微小空間の気体がポッド内部に侵入し、これら気体中の酸素或いは水分がウエハ表面に付着等する恐れがあった。
【０００４】
酸素等これら酸化性の気体は、ウエハ表面或いはウエハ上に形成された各種層に極薄の酸化膜を形成する。このような酸化膜の存在により、微細素子が所望の特性を確保できない可能性が出てきている。対策として、酸化性気体である酸素等の分圧が制御された気体のポッド内部への導入による酸素分圧上昇の抑制が考えられる。具体的な方法として、特許文献１には、ポッド内にガス供給用のノズルをタワー型の形状として突き出させ、且つ多孔質焼結体を介してポッド内にガス供給することによりポッド内を不活性ガスで満たす構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−３０７６２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に開示される構成は、タワー型ノズルからの不活性ガスの供給によって酸化性気体の分圧上昇の抑制効果が認められる。しかし、ポッド内のウエハに対して実際に各種処理を施す場合、ポッドに収容されるウエハ全てに対しての処理が終了するまで、蓋を取り外した状態におかれることが一般的である。この場合、ポッドと連通する微小空間中には大きな流速にてダウンフローが形成されていることもあり、微小空間側からの酸化性気体の拡散の充分な抑制には、ある程度以上の不活性ガスの供給を行わなければならない。
【０００７】
この点について、従来は不活性ガスの供給流量が小さく、酸素分圧等が上昇しても、配線の酸化は指摘されるレベルには至らなかった。しかし、近年の半導体素子における配線の細線化等により、これまで問題とならなかった連続処理時における蓋開放状態でも、細線での酸化を抑制すべく酸素分圧の更なる低減が要求されつつある。ここで特許文献１に開示される構成に鑑みると、酸素分圧の上昇を充分に抑制し得る不活性ガスの供給流量を確保する上で、コンダクタンスの大きな多孔質焼結体の使用は避けることが好ましい。また、供給される不活性ガスは一次元的にしか拡散に頼ってしか導入できず、従ってパージの際にガスの偏在の発生、置換効率に限界が生じる等が考えられた。
【０００８】
本発明は、以上の背景に鑑みて為されたものであって、ウエハの連続処理時であっても、ポッド内部における酸素等酸化性の気体の分圧を所定の低いレベルに抑制することを可能とするポッド、及び該ポッドを用いたパージシステムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明に係るポッドは、内部に設けられ、高さ方向に並置される平板状の被収容物が各々に載置される棚と、外部より棚に対する前記被収容物の挿脱を行う開口と、開口を閉鎖して内部を密閉する蓋と、開口と対向する面、及び対向する面と開口が存在する面との間に位置する一対の側面、の少なくとも一つの面であるポッド内面又は前記ポッド内面と前記被収容物との間の面として配置され、高さ方向に並置される被収容物の平板面と平行に、該面に配置される複数の通気孔より被収容物に向けて所定のガスを噴き出す面状パージ部と、を有することを特徴とする。
【００１０】
なお、上述したポッドにおいては、該面上パージ部は、開口と対向する面として、収容物を挟んで開口とは逆の側に配置され、面に配置される複数の通気孔より開口に向けて所定のガスを噴き出すことが好ましい。また、通気孔はガスの噴き出し方向から見て高さ方向に延びた扁平形状を有するスリットであって、棚に載置された被収容物の少なくとも二枚以上の扁平方向長さを有することが好ましい。また、該通気孔は、開口よりポッド内を見た場合に被収容物が支持される範囲に対応する領域に形成されることが好ましい。更に、該通気孔は、鉛直方向における上方に位置する通気孔と下方に位置する通気孔とにおいて通気抵抗において異なることが好ましい。
【００１１】
また、上記課題を解決するために、本発明に係るパージシステムは、上述したポッドと、ポッドが載置される載置台と、載置台に配置されて、載置台にポッドが載置されることによりポッド内ガス供給部と接続されてポッド内ガス供給手段に前記所定のガスを供給する載置台ガス供給ポートと、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、蓋が開放されてポッド内部と微小空間とが連通した状態であっても、置換ガスの偏在等を生じることなく、ポッド内部に直接的に高純度の不活性ガス等の大量供給が実行される。従って、ウエハの連続処理時であっても、ポッド内部における酸素等酸化性の気体の分圧を所定の低いレベルに抑制しすることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係るポッドに関して、パージの方法を説明するための概略図である。
【図２（ａ）】本発明の一実施形態に係るポッドに用いられる面型ノズルの斜視図である。
【図２（ｂ）】本発明の一実施形態に係るポッドに用いられる面型ノズルの斜視図である。
【図２（ｃ）】本発明の一実施形態に係るポッドに用いられる面型ノズルの斜視図である。
【図２（ｄ）】本発明の一実施形態に係るポッドに用いられる面型ノズルの斜視図である。
【図３】図１に示した本発明の一実施に形態係るポッド、該ポッドが載置されたパージシステム、ポッド用の蓋およびオープナの一部に関し、これらのポッド開口に垂直な切断面の概略構成を示す図である。
【図４】図３に示すパージシステムにおける載置台について、ガス供給弁を含んだ鉛直方向の断面を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に図面を参照し、本発明の実施形態に付いて説明する。図１は本発明の一実施形態におけるポッドの構造を模式的に示す説明図であって、後述する載置台、ポッド、及びポッドの開口の断面を示す。また、同図１では更に、これらに供給される不活性ガスの供給様式を矢印により模式的に示している。なお、以降で述べるパージ操作は、ポッド内部に窒素等の不活性ガス或いは所定のガスを導入して、該ポッド内部にそれまで存在していた気体を排除する操作を示す。同図において、ポッド１の内部の空間には、被収容物たるウエハ２が、各々水平方向に延在し、且つ鉛直方向において各々平行となるように所定の保持領域の範囲にて並置して収容される。なお、この水平方向及び鉛直方向は、各々ポッド１の底面の延在方向と開口面の延在方向と一致する方向を示すものであって、実際の水平及び鉛直とされる方向とは異なることもある。
【００１５】
同図において、本発明に係るパージシステムの一部を構成するロードポート装置１００（図４参照）においてポッドが載置される載置台１３が示されている。図中ポッド１の蓋（不図示）は既に開放されており、不図示のロードポート開口部とポッド１の内部とは連通している。載置台１３上には載置台ガス供給ポート１５が配されており、ポッド内ガス供給タワー１ｂと対応し且つ面状パージ部４（図２等参照）を介してポッド１内部に所定の不活性ガスを供給可能となっている。ポッド内ガス供給タワー１ｂは、ポッド１の開口対向面１ｃの近傍であって、ポッド１に収容されるウエハ２を避けた両隅に対になって配置される。面状パージ部４は、これら一対のポッド内ガス供給タワー１ｂに間に配置され且つこれらと接続される。
【００１６】
面状パージ部４は、平面に対して複数の不活性ガス噴き出し用の通気孔を形成し、ポッド１内に対して該平面から略垂直方向に該不活性ガスを噴き出すことを可能とする。当該孔が形成された領域を、ポッドに保持されたウエハ２の全域に対応させることにより、ウエハ２を包含する空間の全域の雰囲気を同時に置換することが可能となる。ポッド内ガス供給タワー１ｂ及び面状パージ部４は、ポッド１の底面よりポッド上部に向けて突き出しており、ポッド１の開口１ａに向かうガス流れＡを形成するように指向性を付与して不活性ガスをポッド１内部に供給する。即ち、ポッド内ガス供給部たるポッド内ガス供給タワー１ｂ及び面状パージ部４は、擬似的にはポッド１の開口対向面１ｃから該ウエハ２とは平行に流れる層流を形成するように不活性ガスを開口１ａへ向けて噴き出す。
【００１７】
次に、図２（ａ）〜２（ｄ）を参照し、ポッド内ガス供給タワー１ｂと面状パージ部４とからなるポッド内ガス供給部の詳細について述べる。なお、図２（ａ）〜２（ｄ）は、ポッド１内に配置されるポッド内ガス供給部以外の構成を省略し、当該ポッド内ガス供給部とポッドとの構造上の位置関係を模式的に各々示す斜視図である。図２（ａ）は、面状パージ部４において鉛直方向に延在する扁平形状の縦長スリット５を複数本配して構成を例示している。ポッド内ガス供給タワー１ｂは載置台ガス供給ポート１５から供給される不活性ガスが流入する室をなる中空部を有し、面状パージ部４は該中空部と連通する内部室を有する薄い箱状の形態を有する。また、面状パージ部４はポッド１の開口対向面１ｄに沿って当該開口対向面１ｄに密着し、擬似的に開口対向面を形成するように長さ方向に湾曲する形状を有する。
【００１８】
面状パージ部４のポッド１の開口１ａ側の面には、ポッド内ガス供給タワー１ｂと略平行となるように、気体噴き出しのための扁平形状のスリット５が複数本形成されている。当該態様において、スリット５はポッド１内に収容される最下段のウエハ２より底面に近い位置から、最上段のウエハ２よりも天井に近い位置まで連続的に延在する扁平形状を各々有している。当該配置とすることにより、ウエハ２各々の延在面と平行な層流の形態で、各々のスリット５からの不活性ガスの供給が為される。開口対向面１ｄの略全域より開口１ａに向けて不活性ガスの供給が為されることにより、置換ガスの偏在等を生じることなく、ポッド内部に直接的に高純度の不活性ガス等の大量供給を行うことが可能となる。また、当該構成とすることにより、不活性ガスをポッド１内に導く際の流路を合計として大きくすることが可能となり、単なるタワー型のノズルから導入する場合と比較して流速を小さく保ちながらも大きな流量の不活性ガスのポッド１内への供給が可能となる。
【００１９】
なお、鉛直方向に延在するスリット５の態様としては、同一の軸線上に所定間隔を空けて配置される複数のスリット５が形成された態様とすることも可能である。但し、当該態様においても最下部のスリット５の下端、及び最上部のスリット５の上端は、図２（ａ）に示されるスリット５の上下端と同じ配置とされることが好ましい。なお、鉛直方向に扁平なスリットを複数個整列させた態様とする場合には、単一のスリット５の長さは、ポッド１内に収容されているウエハ２の少なくとも２枚の配置がその範囲内となる長さにすることを要する。また、配置は、縦方向に並ぶ上側スリット５の下端と下側のスリット５の上端とが、ウエハ２の隙間に対して共に同一の隙間と対応する位置に配置されることを要する。当該配置とすることにより、ウエハ２各々の延在面と平行な層流の形態で不活性ガスの供給が為される。
【００２０】
例えば丸孔状の噴き出し口から不活性ガスを供給する場合、供給されるガスの指向性を高めるために孔の深さを大きくとった場合であっても、ノズルから離れるに従って噴き出し方向とは垂直な方向にガスが拡散していく。特にポッド１のように容積が制限される場合、ノズル開口孔に対して高い指向性を付与する充分な深さ等の構造を確保することは難しい。そのため、この拡散する不活性ガスによってウエハ２の表面或いは裏面に対して不活性ガスが噴き付けられるという状況が生じる。ウエハ２の裏面は、ウエハ２の搬送時に搬送用ロボットに支持される等、種々の構成と接触する関係上、微細な塵等が付着している恐れがある。この拡散する不活性ガスによりこれら塵等がポッド内で巻き上げられる可能性があるが、本発明の如くポッド２の裏表面に対して平行な層流の態様にて不活性ガスの供給を為すことにより、この様な巻き上げの可能性を大きく低減することが可能となる。
【００２１】
なお、先に述べた複数スリットの形成条件は、ウエハ２各々間の空間すべてにおいて好適な層流を形成するための一要件である。或いは、個々のスリット５を各々のウエハ２に対応させても良いが、この場合には、個々のスリット５が対応するウエハ２の厚さよりも大きな長さを有し且つスリットの上部及び下部がウエハ２の表面及び裏面よりはみ出ように配置されることとしても良い。換言すれば、スリット５は、不活性ガスの噴き出し方向から見て高さ方向に延びた扁平形状を有する。そして、該スリットは、ポッド内１の棚に載置されたウエハ２の少なくとも二枚以上の扁平方向長さを有する、棚に載置されたウエハ２と対向して配置され且つ該配置において上端及び下端が各々ウエハ２の表面及び裏面よりも突き出す長さを有する、或いは、棚の最上段に載置されたウエハ２の表面よりも高い上端と棚の最下段に載置されたウエハ２の裏面よりも低い下端とを有する長さを有する、こととすれば良い。
【００２２】
なお、層流形成の条件を考慮した場合、図２（ａ）に示すような単一スリット５の形態が最も好ましい。しかし、ポッド１の内容積を考慮した場合、面状パージ部４に許容される厚さは薄く、従ってスリット５が形成される板材の厚さも薄くならざるを得ない。よって、加工の容易性、加工精度、等を勘案した場合、図２（ｂ）に示すように複数のスリット５からなる形態の方が好ましい。また、本発明如く、面より不活性ガスを供給する場合、先にも述べたようにスリット５を通過する際の不活性ガス流速が小さくとも、全体として充分な流量の不活性ガスの供給が可能である。従って、面状パージ部４を用いることにより、図２（ａ）の如く層流の形成を行わなくとも塵等の発生を生じさせずに充分な量の不活性ガスを供給することも可能である。よって、加工性、或いは面内でのより均等な不活性ガスの供給を目的とした更なる態様の構築も可能である。以下に他の態様について例示する。
【００２３】
図２（ｂ）は、一対のポッド内ガス供給タワー１ｂの一方から他方に至る面状パージ部４の長さ方向に延在するスリット５を形成した態様を示している。ここで、載置台ガス供給ポート１５からポッド内ガス供給タワー１ｂの下端に供給された不活性ガスは、該タワーの上端に達した後に面状パージ部４に方向を変える。従って、不活性ガスがその流れ方向を変える直近の上端近傍で最も流量が大きく、最も離れた下端近傍での流量が最も小さくなる。このため、例えばスリット５の幅を変える等によりスリットでの通気抵抗に相違を持たせることにより、面状パージ部４からポッド１内に供給される不活性ガスの供給量の均等化を図ることが好ましい。具体的にはスリットの幅について、下方のスリットより上方のスリットにかけて徐々に小さくすることにより、通気抵抗に変化をつけることが出来る。図２（ａ）に例示した縦方向スリットの場合には、この相違を微調整する或いは極端に大きくすることは難しい。しかし、図２（ｂ）に示す態様の場合、この調整が容易となる。
【００２４】
図２（ｃ）は、単純な孔形状の通気部５を複数個配置した態様を示している。当該態様は加工が容易であり、且つ当該通気部５を形成する板材の強度が最も小さくても良いという利点を有する。塵等の巻上げを抑制する層流の形成という点ではスリット形状の場合に劣るが、孔の個数を増加させることによって個々の孔より供給される不活性ガスの流量を抑え、これにより乱流の発生を抑制することが可能となる。また、孔の数、孔径等に変化をつけることによって、前述した上方と下方とにおける通気抵抗の相違の形成も容易である。図２（ｄ）は、図２（ｃ）と基本的には同じ構成であって、ポッド内ガス供給タワー１ｂの態様において異なっている。具体的には、ポッド内ガス供給タワー１ｂの中空部から面状パージ部４の内部室に至る経路において、間に調圧的な作用を呈する室を挟み込む、或いは通気抵抗を変化させて連通孔を配する、等により面状パージ部４の上方からと下方からとの不活性ガスの供給量の均等化を図っている。
【００２５】
なお、以上に述べた面状パージ部４の形態は、好適な態様を例示したものであって、種々の改変が可能である。例えば、図２（ａ）の場合において、例示されるスリット５の間において、長さの異なるスリットを任意に付加することも可能である。また、充分な不活性ガス流量の確保と好適な形状の構築とが可能であれば、引用文献１に開示されるように、多孔質焼結体等を面状パージ部４に用いることも可能である。
【００２６】
次に本発明の具体的実施形態について、図面を参照して説明する。図３は、本発明の一実施形態に係るロードポート装置（本発明におけるパージシステムの一構成）の要部についての概略構成を示す斜視図である。同図において、ロードポート装置１００における主たる構成物である載置台１３、ドア１６、ドアの開閉機構１７の一部、及び開口部１１ａが構成された微小空間の一部を構成する壁１１が示される。また、図３は、ロードポート１００（載置台１３）に対してポッド１を載置し、且つポッド１の蓋３がドア１６に当接した状態におけるロードポート１００及びポッド１の断面の概略構成を示す図である。ポッド１は、外部からウエハの挿脱或いは載置取出しが行われる複数の棚と、開口１ａを閉鎖して密閉する蓋３と、前述したポッド内ガス供給タワー１ｂ（ポッド内ガス供給部）と、を有する。該棚は、ウエハ２の並置方向に複数段設けられる。
【００２７】
載置台１３には、前述した載置台ガス供給ポート１５、可動プレート１９、及び位置決めピン２０が付随する。可動プレート１９に対しては、実際にポッド１が載置される。また、可動プレート１９は、載置されたポッド１を開口部１１ａ方向に向けて接近或いは離間させる動作が可能であり、ポッド１載置のための平坦面を上部に有する。可動プレート１９の平坦面表面には、位置決めピン２０が埋設されている。ポッド１の下面に設けられた位置決め凹部１ｄに当該位置決めピン２０が嵌合することにより、ポッド１と可動プレート１９との位置関係が一義的に決定される。更に、前述したように、ポッド１の載置時において、載置台ガス供給ポート１５とポッド内ガス供給タワー１ｂとが連通し、これらを介してポッ１内部への不活性ガスの供給が可能な状態が形成される。
【００２８】
ここで、載置台１３において該載置台ガス供給ポート１５を含む鉛直方向断面を示す図４を参照し、当該ポートについて述べる。載置台ガス供給ポート１５は、一方向のみのガス供給が可能なチェッキ弁により構成されるガス供給弁３５を有する。ガス供給弁３５に対しては、ガス圧力及び流量を制御して供給或いはその停止を行なう不図示の不活性ガス供給系より、ガス供給配管３７を介して供給される。また、ガス供給弁３５は、弁上下機構３８を介して載置台１３に固定されており、該弁上下機構３８によって、ポッド１に対する不活性ガス供給が可能となる供給位置と、供給はしないがポッド１の底面との接触を避ける下方の待機位置と、の間で移動される。
【００２９】
壁１１に設けられた開口部１１ａは、ポッド１が開口部１１ａに最も接近させられた際に、開口１ａを閉鎖する蓋３が嵌まり込む大きさ、即ち蓋３の矩形外形より一回り大きな矩形状とされている。なお、可動プレート１９がポッド１を停止させる位置は、ドア１６がポッド１の蓋３をポッド本体から取り外し可能な位置であれば良い。ドア１６は、ドアアームを介してドア開閉機構１７に支持されている。ドア開閉機構１７は、ドア１６を、開口部１１ａを略閉鎖する位置、及び該開口部１１ａを完全に開放し且つ不図示の搬送機構が該開口部１１ａを介してポッド１内部に対するウエハ２の挿脱が可能となる退避位置の間での移動を可能とする。
【００３０】
なお、以上述べた実施形態では、ポッド内ガス供給タワー１ｂは、ポッド１が載置される際の底面より前記ポッド１内部に突き出すように配置される場合を例示した。しかし、ポッド内ガス供給タワー１ｂに関しては、ポッドにおけるウエハの延在面と平行に延在する面である天井面或いは底面何れか一方より突き出す態様としても良い。面状パージ部４は当該ポッド内ガス供給タワー１ｂと接続され、開口１ａと対向する面として、ウエハ２を挟んで該開口１ａとは逆の側に配置されれば良い。また、面状に均等な不活性ガスの供給が可能であれば、タワーを介さず、面状パージ部４の下端に載置台ガス供給ポート１５と接続する構成を配置することも可能である。
【００３１】
ここで、ポッド１外部に排出された気体に関しては、微小空間上部に配されたファンフィルタユニット４１より供されるダウンフローＤにより微小空間の下部、更には外部空間に運ばれる。即ち、ポッド内ガス供給部からの不活性ガス供給による第一のガス流れＡとダウンフローＤとを同時に存在させることによって、処理済ウエハを包含するポッド１内部のパージをより効率的に実施することが可能となる。
【００３２】
本発明によれば、ポッド１の蓋３を開放した状態であってポッド１内部に外部気体の侵入が生じ得る場合であったとしても、ポッド内ガス供給部から多量のガス供給をポッド１内の全域において継続することが可能となる。従って、ポッド外部からの所謂大気の進入を好適に抑制し、置換ガスの偏り等を生じさせること無く、酸化性気体の分圧の上昇を抑制することが可能となる。例えば、従来であれば、ウエハ単体の処理時間が長い場合でなくとも、酸素分圧抑制のために蓋３を適宜閉鎖して一処理の終了を待つことを要した。しかし本発明によれば、待機状態が長くなった場合であって常に酸化性気体の分圧は所定値以下に維持されることとなり、ポッド内のウエハ全ての品質を均等に保つという効果が得られる。また、蓋３を開放した状態で処理工程を個々のウエハに連続的に行うことが可能となり、処理時間の短縮や装置負荷の低減が達成されるという効果も得られる。
【００３３】
なお、前述した実施形態では、載置台１３には載置台ガス供給ポート１５のみが配された構成を例示した。しかし、ポッド１に対する不活性ガスの過剰供給により、蓋３のシール能力が経時変化等により劣化した場合にはこれを考慮せねばならない場合も起こり得る。従って、ガス供給によって内圧が高くなった状態のポッド１内より気体を排出し、ポッド１内に清浄気体の流れを形成することにより、より効果的に酸化性気体の分圧を低下させても良い。この場合、載置台１３の上面に配置された載置台ガス供給ポート１５に加え、ガス排出用のポートを配することが好ましい。当該ポートにおける弁の各々は図５に例示した構造と準じた構造を有し、ポッド１の底面にもこれら弁各々に対応したポートが配置される。
【００３４】
以上述べた実施形態では、面状パージ部４が開口対向面１ｃに配置された場合について述べた。ポッド１内部には、開口１ａが形成される面と該開口対向面１ｃとを接続し、且つウエハ２を水平方向に支持する複数の棚が形成される一対の側面が存在する。面状パージ部４を配置する場合、これら棚等が存在しないことから開口対向面１ｃへの設置が最も容易である。しかし、当該面状パージ部４は開口対向面１ｃ及び一対の側面の少なくとも一つの面として配置されても良い。即ち、一方の側面、両側面、一方の側面と開口対向面、或いは両側面と開口対向面等に、面状パージ部を配置することも可能である。この場合、各々の面状パージ部は、高さ方向に並置されるウエハ２の平板面と平行に、面状パージ部の内側面に配置される複数の通気孔よりウエハ２に向けて不活性ガスを噴き出すこととすれば良い。また、面状パージ部４は平板状ではなく、ウエハ２の外周に沿った曲面状としても良い。ウエハ２の収容枚数、ポッド１の内容積、要求される酸化性気体の分圧、外部からポッド１内部に侵入する気体の酸化性気体の分圧や流量、更には加工上の容易性、等に応じ、これらは適宜変更することも可能である。
従って、面状パージ部４として不活性ガスをポッド内に供給する通気孔が二次元的に配置される面としては、開口と対向する面と、該対向する面と開口が存在する面との間に位置する一対の側面と、の少なくとも一つの面であるポッド内面又は該ポッド内面とウエハとの間の面として構成されることが可能である。即ち、該通気孔は、ポッド内面に直接形成する態様としても良く、本実施形態の如くポッド内面とウエハとの間に配置する態様としても良い。
【産業上の利用可能性】
【００３５】
なお、本実施例においては、FOUP及びFIMSを対象として述べているが、本発明の適用例はこれらに限定されない。内部に複数の被保持物を収容するフロントオープンタイプの容器と、当該容器の蓋を開閉して該容器より被保持物の挿脱を行う系であれば、本発明に係る蓋開閉システムを適用し、容器内部の酸化性雰囲気の分圧を低圧に維持することが可能である。また、容器内部を満たすガスとして、不活性ガスではなく所望の特性を有する特定のガスと用いる場合に、本発明に係る蓋開閉システムを用いて、当該容器内部の該特定のガスの分圧を高度に維持することも可能である。
【００３６】
以上述べたように、本発明は半導体処理装置に対して好適に用いるポッド及びパージ装置に関している。しかしながら、本発明の利用可能性は当該処理装置に限定されず、例えば液晶ディスプレイのパネルを扱う処理装置等、半導体に準じた各種処理が行われる種々の処理装置に用いられる所謂ポッド等に対しても適用可能である。
【符号の説明】
【００３７】
１：ポッド、  １ａ：開口、  １ｂ：ボトム内ガス供給タワー、  １ｃ：開口対向面、  １ｄ：位置決め凹部、  ２：ウエハ、  ３：蓋、  ４：面状パージ部、  ５：スリット、  １１：壁、  １１ａ：開口部、  １３：載置台、  １５：載置台ガス供給ポート、  １６：ドア、  １７：ドア開閉機構、  １９：可動プレート、  ２０：位置決めピン、  ２１：パージノズル、  ３５：ガス供給弁、    ３７：ガス供給配管、  ３８：弁上下機構、  ４１：ファンフィルタユニット、  １００：ロードポート装置、  Ａ：第一の気体流れ、  Ｄ：ダウンフロー
【図１】
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【図３】
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【図４】
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【図２（ａ）】
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【図２（ｂ）】
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【図２（ｃ）】
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【図２（ｄ）】
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