(57)【要約】【課題】光配向膜によるパターン位相差フィルムに関して、従来に比して一段と精度を向上する。【解決手段】光配向膜の作製工程ＳＰ２、ＳＰ３は、基材に光配向膜の塗工液を塗布する塗工工程ＳＰ２−１と、基材に塗布した塗工液を乾燥させて光配向材料膜を作製する乾燥工程ＳＰ２−２と、パターン位相差フィルムの右目用領域及び左目用領域にそれぞれ対応する第１及び第２の露光処理（ＳＰ３−１）及び（ＳＰ３−２）を順次実行して光配向材料膜を露光することにより、光配向膜を作製する露光工程ＳＰ３とを備える。記第１及び第２の露光処理の少なくとも１方がマスクを使用した露光処理であり、パターン位相差フィルムの製造工程は、マスクを使用した露光処理における基材の温度及び又は含水率を可変とする調整工程ＳＰ１１を備える。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺の透明フィルム材による基材を搬送しながら順次処理してパターン位相差フィルムを作製するパターン位相差フィルムの製造方法において、
前記基材に光配向膜を作製する光配向膜の作製工程と、
前記光配向膜の上に位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
前記光配向膜の作製工程は、
前記基材に光配向膜の塗工液を塗布する塗工工程と、
前記基材に塗布した塗工液を乾燥させて光配向材料膜を作製する乾燥工程と、
前記パターン位相差フィルムの右目用領域及び左目用領域にそれぞれ対応する第１及び第２の露光処理を順次実行して前記光配向材料膜を露光することにより、前記光配向膜を作製する露光工程とを備え、
前記第１及び第２の露光処理の少なくとも１方がマスクを使用した露光処理であり、
前記パターン位相差フィルムの製造工程は、
前記マスクを使用した露光処理における前記基材の温度及び又は含水率を可変とする調整工程を備える
パターン位相差フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記第１及び又は第２の露光処理が、マスクを使用した露光処理であり、
前記調整工程が、
前記第１及び又は第２の露光処理の直前に設けられた
請求項１に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記第１及び第２の露光処理がマスクを使用した露光処理であり、
前記調整工程が、
少なくとも前記第２の露光処理の直前に設けられた
請求項１に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記基材の温度及び又は含水率を直接に又は間接的に計測する計測工程を備え、
前記調整工程は、
前記計測工程における計測結果に基づいて、前記基材の温度及び又は含水率を調整する
請求項１、請求項２、請求項３の何れかに記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばパッシブ方式による３次元画像表示装置に係るパターン位相差フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、パッシブ方式により３次元画像を表示する画像表示装置が提供されている。ここで図１０は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の画像表示装置を示す概略図である。パッシブ方式の画像表示装置は、垂直方向又は水平方向（この図１０の例では、垂直方向）に連続する液晶表示パネルの画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。また液晶表示パネルのパネル面（視聴者側面）にパターン位相差フィルムを配置し、右目用の画素及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換する。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供し、３次元画像を表示する。
【０００３】
このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける画素の設定に対応して、遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）が直交する２種類の帯状領域が順次交互に形成される。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、＋４５度と−４５度の組み合わせ、又は０度と＋９０度の組み合わせが採用される。なおこの図１０の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。
【０００４】
このパッシブ方式は、応答速度の遅い画像表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で３次元表示することができる。なおパッシブ方式の画像表示装置では、図１０の例による垂直方向に代えて、水平方向に連続する画素を順次交互に右目用及び左目用に振り分ける方法も採用される。
【０００５】
このパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。光配向の手法により光配向膜を作製するパターン位相差フィルムでは、このパターン状の位相差層に対応するように、右目用の領域と左目用の領域とで偏光方向が直交する直線偏光による紫外線の照射により光配向膜が作製される。またこの光配向膜により位相差層の液晶を配向させた状態で硬化させることにより、位相差層が作製される。このパターン位相差フィルムに関して、特許文献１には、配向規制力を制御した光配向膜をガラス基板上に形成し、この光配向膜により液晶の配列をパターンニングして位相差層を作製する方法が開示されている。また特許文献２には、光配向膜の作成に係る工夫が提案されている。
【０００６】
このようなパターン位相差フィルムは、高い精度により効率良く量産できることが望まれる。特に、順次交互に形成される帯状領域にあっては、その幅の作成精度が低下すると、クロストークが発生し、右目及び左目にそれぞれ供給すべき画像表示パネルからの出射光が、これとは逆に左目及び右目に漏れ込むことになり、著しく画質が劣化することになる。また画像表示パネルに配置する際のマージンが低下することになり、作業効率が低下することになる。なおパターン位相差フィルムでは、表示画面の上下端に対応する所定本数の帯状領域の幅によりトータルピッチが定義されており、このトータルピッチにより帯状領域の幅方向の寸法が規定されている。特許文献３には、含水率の制御によりパターン位相差フィルムのトータルピッチを補正する工夫が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−４９８６５号公報
【特許文献２】特開２０１３−９７２０４号公報
【特許文献３】特開２０１３-４４７６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パッシブ方式に係るパターン位相差フィルム等に関して、従来に比して一段と寸法精度を向上することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、光配向膜によるパターン位相差フィルムに関して、マスクを使用した露光の直前における基材の温度、含水率を管理するとの着想に至り、本発明を完成するに至った。
【００１０】
（１）  長尺の透明フィルム材による基材を搬送しながら順次処理してパターン位相差フィルムを作製するパターン位相差フィルムの製造方法において、
前記基材に光配向膜を作製する光配向膜の作製工程と、
前記光配向膜の上に位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
前記光配向膜の作製工程は、
前記基材に光配向膜の塗工液を塗布する塗工工程と、
前記基材に塗布した塗工液を乾燥させて光配向材料膜を作製する乾燥工程と、
前記パターン位相差フィルムの右目用領域及び左目用領域にそれぞれ対応する第１及び第２の露光処理を順次実行して前記光配向材料膜を露光することにより、前記光配向膜を作製する露光工程とを備え、
前記第１及び第２の露光処理の少なくとも１方がマスクを使用した露光処理であり、
前記パターン位相差フィルムの製造工程は、
前記マスクを使用した露光処理における前記基材の温度及び又は含水率を可変とする調整工程を備える。
【００１１】
（１）によれば、マスクを使用した露光処理により右目用領域又は左目用領域に係る領域を露光処理する場合には、基材の温度及び又は含水率を意図的に変化させることができる。これにより基材の伸縮を温度および又は含水率制御により操作することができ、結果として、露光工程内、もしくは露光工程直後の状態におけるトータルピッチを操作することができ、その結果、従来に比して一段と寸法精度を向上することができる。
【００１２】
（２）  （１）において、
前記第１及び又は第２の露光処理が、マスクを使用した露光処理であり、
前記調整工程が、
前記第１及び又は第２の露光処理の直前に設けられた。
【００１３】
（２）によれば、マスクによる露光処理により右目用領域及び又は左目用領域に係る領域を露光処理する場合の基材の温度及び又は含水率を、効率良く操作することができ、高い精度によりパターン位相差フィルムを作製することができる。
【００１４】
（３）  （１）において、
前記第１及び第２の露光処理がマスクを使用した露光処理であり、
前記調整工程が、
少なくとも前記第２の露光処理の直前に設けられた。
【００１５】
（３）によれば、１回目の露光処理時に対する２回目の露光処理時における基材の伸縮を低減することができ、その結果、さらに一段と高い精度によりパターン位相差フィルムを作製することができる。
【００１６】
（４）  （１）、（２）、又は（３）において、
前記基材の温度及び又は含水率を直接に又は間接的に計測する計測工程を備え、
前記調整工程は、
前記計測工程における計測結果に基づいて、前記基材の温度及び又は含水率を調整する。
【００１７】
（４）によれば、オンラインによるフィードバック制御により温度及び又は含水率を管理、制御することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明は、光配向膜によるパターン位相差フィルムに関して、従来に比して一段と精度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムの説明に供する図である。
【図２】図１のパターン位相差フィルムの製造工程を示すフローチャートである。
【図３】図２の露光工程の説明に供する図である。
【図４】調整工程の説明に供する図である。
【図５】本発明の第２実施形態に係るパターン位相差フィルムの露光工程の説明に供する図である。
【図６】図５のパターン位相差フィルムに係る調整工程の説明に供する図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係るパターン位相差フィルムの露光工程の説明に供する図である。
【図８】図７のパターン位相差フィルムに係る調整工程の説明に供する図である。
【図９】マスクを使用した露光直前の温度とトータルピッチとの関係を示す図である。
【図１０】パッシブ方式による３次元画像表示の説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。この第１実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向（図１においては左右方向）に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の画像を表示する帯状の領域と、左目用の画像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、この図１に示すパターン位相差フィルム１が配置され、このパターン位相差フィルム１により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
【００２１】
パターン位相差フィルム１は、例えばトリアセチルセルロース等の透明フィルム材による基材２に配向膜３、位相差層４が順次作製される。パターン位相差フィルム１は、位相差層４が液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜３の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図１では細長い楕円により示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Ａと、左目用の領域Ｂとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
【００２２】
パターン位相差フィルム１は、光配向材料による光配向材料膜が作製された後、いわゆる光配向の手法によりこの光配向材料膜に直線偏光による紫外線を照射して配向膜３が形成される。ここでこの光配向材料膜に照射する紫外線は、その偏光の方向が右目用の領域Ａと左目用の領域Ｂとで９０度異なるように設定され、これにより位相差層４に設けられる液晶材料に関して、右目用の領域Ａ及び左目用の領域Ｂとで対応する向きに液晶分子を配向させ、透過光に対応する位相差を与える。
【００２３】
図２は、このパターン位相差フィルム１の製造工程を示すフローチャートである。パターン位相差フィルム１の製造工程は、ロールに巻き取った長尺透明フィルム材により基材２が提供され、この基材２をローラより送り出して光配向材料膜が順次作製される（ＳＰ１−ＳＰ２）。ここで光配向材料膜は、各種の製造方法を適用することができるものの、この実施の形態では、光配向材料をベンゼン等の溶媒に分散させた成膜用液体をダイにより塗布した後、乾燥して作製される。なお光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を適用することができるものの、この実施形態では、例えば光２量化型の材料を使用する。なおこの光２量化型の材料については、「Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ，Ｋ．Ｓｃｈｍｉｔｔ，Ｖ．Ｋｏｚｉｎｋｏｖ  ａｎｄ  Ｖ．Ｃｈｉｇｒｉｎｏｖ：Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，３１，２１５５（１９９２）」、「Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ，Ｈ．Ｓｅｉｂｅｒｌｅ  ａｎｄ  Ａ．Ｓｃｈｕｓｔｅｒ：Ｎａｔｕｒｅ，３８１，２１２（１９９６）」等に開示されており、例えば「ROP-103」の商品名により既に市販されている。
【００２４】
続いてこの製造工程は、露光工程により紫外線を照射して光配向膜が作製される（ＳＰ３）。続いてこの製造工程は、位相差層作製工程において、ダイ等により液晶材料を塗布した後、紫外線の照射によりこの液晶材料を硬化させ、位相差層４が作製される（ＳＰ４）。続いてこの製造工程は、必要に応じて反射防止膜の作製処理や保護フィルムの貼合処理、粘着層の作製処理等を実行した後、切断工程において、所望の大きさに切り出してパターン位相差フィルム１が作製される（ＳＰ５−ＳＰ６）。
【００２５】
図３は、この露光工程の詳細を示す図である。この製造工程は、右目用の領域Ａ又は左目用の領域Ｂに対応する部位を遮光したマスク１６を介して、直線偏光による紫外線（偏光紫外線）を照射することにより、遮光されていない側の、左目用の領域Ｂ又は右目用の領域Ａについて、光配向材料膜を所望の方向に配向させる（図３（Ａ））。これによりこの製造工程は、１回目の露光処理を実行する。続いてこの製造工程は、１回目の露光処理とは偏光方向が９０度異なる直線偏光により全面に紫外線を照射し、これにより１回目の露光処理で未露光の右目用領域Ａ又は左目用領域Ｂを露光処理し、右目用の領域Ａ又は左目用の領域Ｂについて、光配向材料膜を所望の方向に配向させる（図４（Ｂ））。これによりこの製造工程では、マスクを使用した１回目の露光処理と、マスクを使用しない２回目の露光処理とによる２回の露光処理により、右目用の領域Ａと左目用の領域Ｂとを順次露光処理して配向膜３を作製する。
【００２６】
〔基材の管理〕
ところで基材２適用されるトリアセチルセルロースは、温度、含水率により伸縮する。これによりマスクを使用した露光処理の後に、基材２の温度、含水率が変化していると、露光処理後の基材２の伸縮によりパターン位相差フィルム１における右目用領域Ａ及び左目用領域Ｂの幅が変化してトータルピッチが変化し、これによりパターン位相差フィルムの精度が低下し、著しい場合はクロストークが発生することになる。従って各製造工程では基材の温度、含水率の管理による基材２の伸縮の管理が必要と考えらえるものの、このように各工程で基材２の伸縮を管理する場合、トータルピッチは、各製造工程における温度、湿度の管理値、及び露光時のマスクにより決定されることになり、結局、種々に変化する基材２の伸縮に柔軟に対応することが困難になる。なおこの問題を解決する１つの方法として、作製された帯状領域の幅を計測し、計測結果によりマスクを変更する方法も考えられる。しかしながらこの方法の場合、寸法の異なるマスクを多数用意することが必要になり、工程管理が著しく煩雑になり、実用的では無い。そこでこの実施形態では、マスクを使用した露光以前の工程で基材の温度、含水率を可変して制御する。このようにすれば、露光によって得られるトータルピッチを操作することができる。
【００２７】
なお露光以降の工程における基材の温度、含水率は、管理されていれば良く、露光直前の基材の温度、含水率と異なっていても良い。すなわちこの場合、露光工程直後からの温度、含水率の変動量が予め把握された量であることにより、マスクを使用した露光処理により設定されたトータルピッチに対する露光工程以降の工程におけるトータルピッチの変動量は事前に予測された値となり、その結果、最終的な製品形状におけるパターン位相差フィルムのトータルピッチを所望する値に設定することができる。
【００２８】
ここで、図９に、露光直前に設けた調整工程における温度設定とトータルピッチとの関係を示す。露光工程は、各温度で同一のマスクを使用しており、湿度環境は５５％で同一とした。トータルピッチの測定は、位相差層作製工程を実施した後、２０℃の環境で実施した。トータルピッチの変化量は、測定との環境が同一である、２０℃での露光条件を基準とし、この基準からの変化量である。２０℃で露光された基材２に対し、３０℃で露光された基材２は、２０℃で露光する場合とマスクが同一であることから、露光直後においては２０℃で露光する場合と同じトータルピッチを有していることになる。しかしながら露光時点で基材は２０℃で露光する場合に比して膨張していることになる。２０℃で露光処理する場合と３０℃で露光処理する場合とで、露光以後の工程は同一環境下であることから、３０℃で露光された基材２は、最終的に２０℃で露光された基材２より大きな収縮が生じ、その結果、２０℃で露光した場合に比してトータルピッチが短くなる。この結果から、露光時における基材２の温度の操作が、最終的に得られるトータルピッチを変化させ得ることが分かる。なお含水量に関しても同様である。
【００２９】
なお工程が短い等の製造工程の都合上、露光工程以前の製造工程に、温度、含水率の調整工程を設けることが困難な場合、製造工程に投入する前の時点で、事前に基材２の含水率を調整するようにしてもよい。
【００３０】
なおロールにより提供される基材２において、ロールの各部で含水率がばらついている場合であっても、さらにはロール間で含水率がばらついている場合であっても、このようにマスクを使用した露光工程以前の工程により含水率等を調整することにより、ロールの各部での含水率のばらつき、ロール間の含水率のばらつきを抑制し、パターン位相差フィルムにおけるトータルピッチのばらつきを抑制することができる。これらによりトータルピッチが一定範囲になるようにパターン位相差フィルムを作製してパターン位相差フィルム１の作製精度を向上する。
【００３１】
図４は、この含水率、温度の管理に関する工程を詳細に示す図である。この製造工程は、光配向材料膜の成膜工程（ＳＰ２）の塗工工程（ＳＰ２−１）において、光配向材料膜に係る塗工液を塗工した後、乾燥工程（ＳＰ２−２）において、乾燥炉により塗布した塗工液を乾燥させる。この製造工程は、続いて計測工程（ＳＰ１０）が設けられ、ここで基材２の温度及び含水率を計測する。なお含水率の計測は、例えば赤外波長の吸光度により実行することができる。また温度及び含水率を計測する代わりに、温度及び含水率により変化する基材２の幅を計測するようにして、間接的に温度及び含水率を計測するようにしても良い。また計測の箇所にあっては、光配向材料膜の製膜工程の直後に限らず、光配向材料膜の製膜工程の前に設けるようにしても良く、また後述する調整工程（ＳＰ１１）の直後、第１露光工程の直後、第２露光工程の直後、切断工程の後等に設けるようにしてもよい。
【００３２】
続いて製造工程は、調整工程（ＳＰ１１）が設けられ、ここで基材２の温度及び含水率が調整される。ここで調整工程は、調温、調湿可能な一定の長さを有する調整室で、乾燥工程（ＳＰ２−２）から送出される基材２を搬送することにより、基材２の温度及び含水率を調整する。なお含水率の調整にあっては、調温、調湿した空気流を吹き付けて実行するようにしてもよい。製造工程は、この調整工程における温度及び湿度を、計測工程（ＳＰ１０）の計測結果に基づいて設定することにより、続く露光工程（ＳＰ３）のマスクを使用した第１露光工程（ＳＰ３−１）に温度及び含水率が一定範囲に保持された基材２を供給する。なお要は続くマスクを使用した第１露光工程（ＳＰ３−１）に一定の温度及び含水率により基材２を供給できるようにすればよく、調整工程にあっては、例えば塗工工程の直前又は直後に設けるようにしてもよい。
【００３３】
しかしてこの工程では、続く露光工程（ＳＰ３）において、第１露光工程（ＳＰ３−１）でマスクを使用して露光処理した後、続く第２露光工程で全面に紫外線を照射して光配向膜３が作製される。なお計測工程（ＳＰ１０）に代えて、又は計測工程（ＳＰ１０）に加えて、破線により示すように、露光工程（ＳＰ３）の後に計測工程を設けようにして、調整工程の温度及び湿度を調整するようにしてもよい。また露光工程（ＳＰ３）の後に設ける代わりに、位相差層作製工程（ＳＰ４）の後に計測工程を設けようにしても良く、切断工程（ＳＰ１３）の後に計測工程を設けるようにしてもよく、複数個所で計測するようにしてもよい。なおこのように位相差層作製工程（ＳＰ４）又は切断工程（ＳＰ５）の後に計測工程を設ける場合には、トータルピッチを計測して、間接的に露光処理直前における基材２の温度及び含水率を計測するようにしても良い。
【００３４】
以上の構成によれば、マスクを使用した露光の直前における基材の温度及び含水率を管理することにより、トータルピッチが一定範囲になるようにパターン位相差フィルムを作製してパターン位相差フィルム１の作製精度を向上することができる。
【００３５】
また第１露光工程でマスクを使用して露光処理するようにして、この第１露光工程の直前に調整工程を設けることにより、右目用領域及び左目用領域の設定に係る露光処理において、基材の温度及び又は含水率を効率良く一定範囲の値に保持することができる。
【００３６】
〔第２実施形態〕
図５は、図３との対比により本発明の第２実施形態に係るパターン位相差フィルムの露光工程の説明に供する図である。この実施形態では、１回目の露光処理により全面を露光処理する（図５（Ａ））。また続く２回目の露光処理において、マスク１６を使用して右目用領域Ａ又は左目用領域Ｂを露光し直す。
【００３７】
図６は、図４との対比によりこの第２実施形態に係る工程の説明に供する図である。この実施形態では、マスクを使用した露光処理である第２露光処理工程の直前に、計測工程（ＳＰ３−３）、調整工程（ＳＰ３−４）が設けられる。この実施形態では、この図５及び図６に係る構成が異なる点を除いて第１実施形態と同一に構成される。なおこの場合、破線により示すように、第１露光工程の前に、計測工程、調整工程を設けるようにしてもよい。また計測工程にあっては、後工程に設けるようにしてもよい。
【００３８】
この実施形態によれば、第２露光処理がマスクを使用した露光処理の場合であっても、パターン位相差フィルムの作製精度を向上することができる。
【００３９】
〔第３実施形態〕
図７は、図３及び図５との対比により本発明の第３実施形態に係るパターン位相差フィルムの露光工程の説明に供する図である。この実施形態では、１回目の露光処理よりマスク１６Ａを使用して右目用領域Ａ又は左目用領域Ｂを露光処理した後（図７（Ａ））、続く２回目の露光処理において、マスク１６Ｂを使用して左目用領域Ｂ又は右目用領域Ａを露光する（図７（Ｂ））。
【００４０】
図８は、図４及び図６との対比により、第２実施形態に係る工程の説明に供する図である。この実施形態では、マスクを使用した露光処理である第１露光処理工程の直前に、計測工程（ＳＰ１０）、調整工程（ＳＰ１１）が設けられ、また第２露光工程の直前に、計測工程（ＳＰ３−３）、調整工程（ＳＰ３−４）が設けられる。なお第２露光の直前における計測工程（ＳＰ３−２）、調整工程（ＳＰ３−３）は、実用上十分な精度を確保できる場合には、何れか１方又は双方を省略してもよい。
【００４１】
これによりこの実施形態では、上述の実施形態と同様にしてパターン位相差フィルムの作製精度を向上する。特にこの実施形態では、マスクを使用した露光処理の繰り返しにより光配向膜を作製することにより、この２回の露光処理時における基材２の温度、含水率が異なると、この２回の露光処理による露光パターンにずれが生じ、パターン位相差フィルムの精度が著しく劣化することになる。しかしながらこの実施形態のように、この２回の露光処理のそれぞれに調整工程を設けることにより、このような露光パターンのずれを防止することができ、作製精度の劣化を有効に回避することができる。
【００４２】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に組み合わせたり、変更したりすることができる。
【００４３】
すなわち上述の実施形態では、温度及び含水率を調整する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、実用上十分な精度を確保できる場合には、温度及び含水率の一方のみを調整するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００４４】
１  パターン位相差フィルム
２  基材
３  配向膜
４  位相差層
１６  マスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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