(57)【要約】【課題】薄膜の内部応力を小さくすることのできるマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、ガラス基板の一方の主表面にケイ素又は金属を含有する材料からなる薄膜を備えたマスクブランクの製造方法であって、ガラス基板を準備する基板準備工程と、前記ガラス基板の一方の主表面に前記薄膜を形成する薄膜形成工程と、前記薄膜が形成されたガラス基板に対して加熱処理または光照射処理を行う加熱等処理工程とを有し、前記基板準備工程は、ガラス基板の水素含有量と前記加熱処理または光照射処理の前後で生じるガラス基板における前記薄膜を備えていない状態での一方の主表面の平坦度変化量との対応関係を基に、前記加熱等処理工程後における前記薄膜を備えていない状態での前記一方の主表面の平坦度が所定値以下となるガラス基板を準備する工程であることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する１組の主表面を有するガラス基板の一方の主表面にケイ素又は金属を含有する材料からなる薄膜を備えたマスクブランクの製造方法であって、
前記ガラス基板を準備する基板準備工程と、
前記ガラス基板の一方の主表面に前記薄膜を形成する薄膜形成工程と、
前記薄膜が形成されたガラス基板に対して加熱処理または光照射処理を行う加熱等処理工程とを有し、
前記基板準備工程は、ガラス基板の水素含有量と、前記加熱処理または光照射処理の前後で生じるガラス基板における前記薄膜を備えていない状態での一方の主表面の平坦度変化量との対応関係を基に、前記加熱等処理工程後における前記薄膜を備えていない状態での前記一方の主表面の平坦度が所定値以下となるガラス基板を準備する工程である
ことを特徴とするマスクブランクの製造方法。
【請求項２】
測定用ガラス基板を用い、前記加熱処理または光照射処理の前における前記薄膜を備えていない状態での前記測定用ガラス基板の一方の主表面の形状と前記加熱処理または光照射処理の後における前記薄膜を備えていない状態での前記測定用ガラス基板の一方の主表面の形状とから求められる一方の主表面の平坦度変化量と、前記測定用ガラス基板の水素含有量との対応関係をあらかじめ取得しておき、
前記基板準備工程は、一方の主表面を測定して得られた平坦度に前記対応関係から求められた平坦度変化量を加算した平坦度が前記所定値以下となるガラス基板を準備する工程であることを特徴とする請求項１記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項３】
前記ガラス基板中の水素含有量は、２．０×１０１７分子数／ｃｍ３以上であることを特徴とする請求項１または２に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項４】
前記ガラス基板における他方の主表面には、薄膜が形成されていないことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項５】
前記薄膜形成工程は、前記ガラス基板の一方の主表面に対してスパッタ法を用いて前記薄膜を形成する工程であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項６】
前記加熱処理の加熱温度は、３００℃以上であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項７】
前記ガラス基板は、合成石英ガラスからなることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項８】
前記平坦度の所定値は、前記薄膜に転写パターンを形成する領域内において、絶対値で２００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項９】
前記加熱等処理工程後における前記薄膜を備えるガラス基板は、前記薄膜に転写パターンを形成する領域内における平坦度が、絶対値で３００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１０】
前記転写パターンを形成する領域は、前記ガラス基板の主表面の中心を基準とした一辺が１３２ｍｍの四角形の内側の領域であることを特徴とする請求項８または９に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１１】
前記薄膜は、遷移金属とケイ素を含有する材料からなることを特徴とする請求項１から１０のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１２】
前記薄膜は、膜応力が４００ＭＰａ以下であることを特徴とする請求項１から１１のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれかに記載の製造方法で製造されたマスクブランクに対し、前記薄膜に転写パターンを形成する工程を有することを特徴とする転写用マスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体装置の製造工程では、フォトリソグラフィー法を用いて微細パターンの形成が行われている。この微細パターンの形成には、通常、何枚ものフォトマスク（以下、「転写用マスク」という。）が使用されている。この転写用マスクは、一般に、透光性のガラス基板上に、金属薄膜等からなる微細パターンを設けたものであり、この転写用マスクの製造においてもフォトリソグラフィー法が用いられている。
【０００３】
フォトリソグラフィー法による転写用マスクの製造には、マスクブランクが用いられる。マスクブランクは、一般に、合成石英ガラス等からなるガラス基板の主表面上に、スパッタリング法で薄膜を形成することによって製造される。このマスクブランクの薄膜は、内部応力を有した状態で基板の主表面上に形成される傾向がある。
【０００４】
マスクブランクの主表面には、高い平坦度が求められる。マスクブランク用基板として用いられるガラス基板の主表面にも、高い平坦度が求められる。そのため、マスクブランク用基板の主表面には、研削や研磨等の加工が施される。しかし、そのような平坦度の高い主表面を有するガラス基板上に、内部応力が大きい薄膜を形成した場合、ガラス基板の主表面が変形してしまい、ガラス基板の主表面の平坦度が悪化するという問題があった。
【０００５】
他方、薄膜が転写パターンを形成するためのものである場合、エッチング等によって薄膜の一部（光透過部）が除去されてパターンが形成される。薄膜が大きな内部応力を有する場合、エッチング等によって薄膜の一部（光透過部となる部分）が除去されたときに、薄膜が内部応力から解放されることにより、ガラス基板上でのパターンの位置が移動してしまうことがある（パターンの位置ずれ）。
【０００６】
以上のような問題があることから、以前より、マスクブランクの薄膜の内部応力を小さくするための技術については研究されていた。
【０００７】
例えば、薄膜の内部応力を低減する方法として、特許文献１には、ガラス基板上にスパッタリング法で薄膜を形成した後、その薄膜に対して１５０℃以上の温度で熱処理を行う方法が記載されている。特許文献２には、ガラス基板上に形成された薄膜に対して、閃光ランプを用いて高エネルギー線を照射する方法が記載されている。
【０００８】
しかし、特許文献３に記載されている通り、閃光ランプを用いて高エネルギー線を薄膜に照射する方法の場合、高エネルギー線の照射量によっては、ガラス基板に大きな影響を与えてしまい、合成石英ガラス基板の主表面形状が変形してしまう問題があることが判明している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−１６２７２６号公報
【特許文献２】特開２００４−１９９０３５号公報
【特許文献３】特開２０１０−２３７５０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
従来のように、ガラス基板の一方の主表面にスパッタリング法等で薄膜を形成し、薄膜が形成されたガラス基板に対し、薄膜の内部応力を低減すること等を目的とする加熱処理を行うことによってマスクブランクを製造した場合においても、出来上がったマスクブランクのガラス基板における一方の主表面形状が変形してしまうことがあることが本発明者の鋭意研究の結果、判明した。すなわち、薄膜を形成する前におけるガラス基板の一方の主表面の形状を測定した結果と、加熱処理を行った後、薄膜を除去したガラス基板の一方の主表面の形状を測定した結果に大きな差が生じていることから明らかとなった。
【００１１】
ガラス基板の一方の主表面に薄膜を形成する工程の前後では、ガラス基板の一方の主表面の形状に明確な差は生じなかった。薄膜が形成されたガラス基板に対して加熱処理を行う前後で、ガラス基板の主表面の形状が大きく変化していることが確認された。一方、ガラス基板の２つの主表面に薄膜等が設けられていない状態で前記の加熱処理を行った場合は、２つの主表面とも表面形状に大きな変化はなかった。これらのことから、一方の主表面に薄膜が設けられた状態のガラス基板に対して加熱処理を行った場合にのみ、ガラス基板の一方の主表面の形状に変化が生じることが明らかとなった。
【００１２】
しかし、ガラス基板の一方の主表面に同じ成膜条件で薄膜を形成し、かつ同じ処理条件で加熱処理を行った場合であっても、異なるガラス基板の間で加熱処理前後における一方の主表面形状の変化量に明確な差が生じることが判明した。また、一方の主表面に薄膜が形成されたガラス基板に対して加熱処理を行う場合だけに限らず、閃光ランプによって高エネルギー線を照射する処理（光照射処理）を行う場合であっても、同様の現象が発生することが判明した。準備したガラス基板によって、加熱処理や光照射処理の前後における一方の主表面形状の変化量が異なってしまうと、加熱処理後のガラス基板における主表面の形状が高い平坦度となるマスクブランクを安定供給することが難しく、問題となっていた。
【００１３】
そこで、本発明は、一方の主表面に薄膜が形成されたガラス基板に対して加熱処理または光照射処理を行う工程を有する場合であっても、出来上がったマスクブランクのガラス基板における一方の主表面の平坦度が高い状態となるマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
そして、本発明者は、このような現象が発生する要因について、さらなる検証を行った。その結果、ガラス基板中に水素が含まれていることによって、一方の主表面に薄膜が形成された薄膜付のガラス基板に対して加熱処理または光照射処理を行ったときに、ガラス基板の主表面形状が変形することを突き止めた。また、ガラス基板中の水素含有量と、加熱処理または光照射処理の前後におけるガラス基板の主表面の変形量との間に相関性があることも見出した。
【００１５】
さらに、この相関性に基づいて、一方の主表面に薄膜が形成された状態のガラス基板に対して加熱処理または光照射処理を行った後における一方の主表面の平坦度が所定値以下になるようなガラス基板を予め準備すれば、加熱処理または光照射処理後における一方の主表面の平坦度が所定値以下であるマスクブランクを得ることができるという結論に至った。本発明は、それぞれ以下の構成を備える。
【００１６】
（構成１）
対向する１組の主表面を有するガラス基板の一方の主表面にケイ素又は金属を含有する材料からなる薄膜を備えたマスクブランクの製造方法であって、
前記ガラス基板を準備する基板準備工程と、
前記ガラス基板の一方の主表面に前記薄膜を形成する薄膜形成工程と、
前記薄膜が形成されたガラス基板に対して加熱処理または光照射処理を行う加熱等処理工程とを有し、
前記基板準備工程は、ガラス基板の水素含有量と、前記加熱処理または光照射処理の前後で生じるガラス基板における前記薄膜を備えていない状態での一方の主表面の平坦度変化量との対応関係を基に、前記加熱等処理工程後における前記薄膜を備えていない状態での前記一方の主表面の平坦度が所定値以下となるガラス基板を準備する工程である
ことを特徴とするマスクブランクの製造方法。
【００１７】
（構成２）
測定用ガラス基板を用い、前記加熱処理または光照射処理の前における前記薄膜を備えていない状態での前記測定用ガラス基板の一方の主表面の形状と前記加熱処理または光照射処理の後における前記薄膜を備えていない状態での前記測定用ガラス基板の一方の主表面の形状とから求められる一方の主表面の平坦度変化量と、前記測定用ガラス基板の水素含有量との対応関係をあらかじめ取得しておき、
前記基板準備工程は、一方の主表面を測定して得られた平坦度に前記対応関係から求められた平坦度変化量を加算した平坦度が前記所定値以下となるガラス基板を準備する工程であることを特徴とする構成１記載のマスクブランクの製造方法。
【００１８】
（構成３）
前記ガラス基板中の水素含有量は、２．０×１０１７分子数／ｃｍ３以上であることを特徴とする構成１または２に記載のマスクブランクの製造方法。
【００１９】
（構成４）
前記ガラス基板における他方の主表面には、薄膜が形成されていないことを特徴とする構成１から３のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【００２０】
（構成５）
前記薄膜形成工程は、前記ガラス基板の一方の主表面に対してスパッタ法を用いて前記薄膜を形成する工程であることを特徴とする構成１から４のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【００２１】
（構成６）
前記加熱処理の加熱温度は、３００℃以上であることを特徴とする構成１から５のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【００２２】
（構成７）
前記ガラス基板は、合成石英ガラスからなることを特徴とする構成１から６のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【００２３】
（構成８）
前記平坦度の所定値は、前記薄膜に転写パターンを形成する領域内において、絶対値で２００ｎｍ以下であることを特徴とする構成１から７のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【００２４】
（構成９）
前記加熱等処理工程後における前記薄膜を備えるガラス基板は、前記薄膜に転写パターンを形成する領域内における平坦度が、絶対値で３００ｎｍ以下であることを特徴とする構成１から８のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【００２５】
（構成１０）
前記転写パターンを形成する領域は、前記ガラス基板の主表面の中心を基準とした一辺が１３２ｍｍの四角形の内側の領域であることを特徴とする構成８または９に記載のマスクブランクの製造方法。
【００２６】
（構成１１）
前記薄膜は、遷移金属とケイ素を含有する材料からなることを特徴とする構成１から１０のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【００２７】
（構成１２）
前記薄膜は、膜応力が４００ＭＰａ以下であることを特徴とする構成１から１１のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【００２８】
（構成１３）
構成１から１２のいずれかに記載の製造方法で製造されたマスクブランクに対し、前記薄膜に転写パターンを形成する工程を有することを特徴とする転写用マスクの製造方法。
【発明の効果】
【００２９】
本発明のマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法によれば、一方の主表面に薄膜が形成されたガラス基板に対して加熱処理または光照射処理を行う工程を有する場合であっても、出来上がったマスクブランクのガラス基板における一方の主表面の平坦度が高い状態にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】ガラス基板の水素含有量と加熱処理前後におけるガラス基板の主表面の平坦度変化量との間の相関性を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
本発明は、対向する１組の主表面を有するガラス基板の一方の主表面にケイ素又は金属を含有する材料からなる薄膜を備えたマスクブランクの製造方法であって、
前記ガラス基板を準備する基板準備工程と、
前記ガラス基板の一方の主表面に前記薄膜を形成する薄膜形成工程と、
前記薄膜が形成されたガラス基板に対して加熱処理または光照射処理を行う加熱等処理工程とを有し、
前記基板準備工程は、ガラス基板の水素含有量と、前記加熱処理または光照射処理の前後で生じるガラス基板における前記薄膜を備えていない状態での一方の主表面の平坦度変化量との対応関係を基に、前記加熱等処理工程後における前記薄膜を備えていない状態での前記一方の主表面の平坦度が所定値以下となるガラス基板を準備する工程である
ことを特徴とするマスクブランクの製造方法である。
【００３２】
本発明のマスクブランクの製造方法は、露光光を透過させる透過型マスクを作製するための透過型マスクブランク、あるいは、露光光を反射する反射型マスクを作製するための反射型マスクブランクに適用することが可能である。また、本発明のマスクブランクの製造方法は、位相シフトマスクを作製するための位相シフトマスクブランクに適用することが可能である。さらに、本発明のマスクブランクの製造方法は、ダブルパターニング技術が適用される転写用マスクを作製するためのマスクブランクに好ましく適用することが可能である。
【００３３】
ガラス基板の材料としては、例えば、合成石英ガラス、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、低熱膨張ガラス（例えばＳｉＯ２−ＴｉＯ２系ガラス）、β石英固溶体を析出させた結晶化ガラス等のガラス材料を用いることが可能である。ガラス基板の材料としては、合成石英ガラスを用いることが好ましい。
【００３４】
本発明のマスクブランクの製造方法は、ガラス基板の一方の主表面に、ケイ素又は金属を含有する材料からなる薄膜を形成する工程を有している。なお、ここでいう「主表面」とは、ガラス基板の側面及び面取面を除く一対の主表面のことを意味する。なお、この薄膜は、一方の主表面のみに形成されている構成、一方の主表面およびその主表面に隣接する面取面にまで連続的に形成されている構成、さらにそれらの面取面に隣接する側面の一部にまで連続的に形成されている構成を含む。
【００３５】
ガラス基板の一方の主表面へ形成する薄膜としては、例えば、遮光膜、多層反射膜、位相シフト膜（ハーフトーン型位相シフト膜）、光半透過膜等を挙げることができる。
【００３６】
ガラス基板の一方の主表面への薄膜の形成には、公知の方法を用いることが可能であるが、スパッタリング法を用いることが好ましく、反応性スパッタリング法を用いることが特に好ましい。スパッタリング法を用いることで、形成される薄膜をアモルファス構造や微結晶構造とすることができる。また、スパッタリング法で形成される薄膜は膜応力が高くなる傾向があるため、本発明のマスクブランクの製造方法を好適に用いることができる。
【００３７】
薄膜の材料である「ケイ素又は金属を含有する材料」としては、例えば、ケイ素を含む材料、ケイ素以外の金属を含む材料、ケイ素とケイ素以外の金属とを含む材料、更にはこれらに酸素、窒素、及び炭素のうちいずれか１種以上を含む材料等を挙げることができる。ケイ素以外の金属としては、遷移金属、例えば、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｖ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｎｉ等を例として挙げることができる。このような材料としては、例えば、モリブデンシリサイド酸化物（ＭｏＳｉＯ）、モリブデンシリサイド窒化物（ＭｏＳｉＮ）、モリブデンシリサイド炭化物（ＭｏＳｉＣ）、モリブデンシリサイド酸化窒化物（ＭｏＳｉＯＮ）、モリブデンシリサイド酸化炭化物（ＭｏＳｉＯＣ）、モリブデンシリサイド酸化窒化炭化物（ＭｏＳｉＯＮＣ）等を挙げることができる。薄膜に対しては、ガラス基板から水素が脱離する現象が起こるような条件での加熱処理または光照射処理が行われる。これらの条件での加熱処理や光照射処理を行ったときに大きく劣化してしまうような材料は、本発明の薄膜では適用しがたい。このような材料としては、クロム金属、クロム酸化物（ＣｒＯ）、クロム窒化物（ＣｒＮ）、クロム炭化物（ＣｒＣ）、クロム酸窒化物（ＣｒＯＮ）、クロム酸化炭化物（ＣｒＯＣ）、クロム炭化窒化物（ＣｒＣＮ）、クロム酸窒化炭化物（ＣｒＯＣＮ）などが挙げられる。
【００３８】
本発明のマスクブランクの製造方法は、薄膜が形成されたガラス基板（薄膜付ガラス基板）に対して「加熱処理」または「光照射処理」を行う加熱等処理工程を有している。加熱等処理工程は、その処理の目的について特に制約はない。加熱等処理工程は、薄膜の膜応力を低減する目的や、薄膜の表層に酸化膜等の被膜を形成する目的で行われることが好ましい。以下、膜応力を低減することを目的とする場合を中心に述べる。なお、ここでいう「膜応力」とは、薄膜の内部応力を意味している。薄膜の内部応力は、圧縮応力の場合もあるし、引張応力の場合もある。
【００３９】
まず、加熱処理について説明する。加熱処理のための手段としては、例えば、電気加熱炉、ヒータ、ハロゲンランプ、赤外線ランプ等を用いることが可能であるが、この中では電気加熱炉を用いることが好ましい。薄膜付基板に対して加熱処理を行うことによって、薄膜の内部応力を低減することができる。
【００４０】
加熱処理は、薄膜付基板の周囲に、水素が極力排除された気体が存在する状態で行われることが好ましい。空気中における水素の存在量は少ないが、水蒸気は多く存在する。クリーンルーム内の空気でも湿度がコントロールされてはいるが、水蒸気は比較的多く存在する。ガラス基板に対する加熱処理をドライエア中で行うことで、水蒸気に起因する水素のガラス基板への侵入を抑制することができる。さらに、水素や水蒸気を含まない気体（窒素等の不活性ガスや希ガスなど）中で薄膜付基板を加熱処理することがより好ましい。また、薄膜付基板の加熱処理は、真空中で行うこともできる。
【００４１】
加熱処理における薄膜付基板の加熱温度は、３００℃以上、好ましくは４００℃以上、より好ましくは４５０℃以上である。主表面に薄膜が形成されたガラス基板を、このような温度範囲で加熱することが好ましい。ガラス基板は３００℃以上の温度になると、ガラス基板中の水素が内部を移動し始める傾向がある。このため、上記の加熱温度以上の温度で薄膜付基板を加熱処理する場合、本発明のマスクブランクの製造方法はより高い効果が得られる。また、上記の加熱温度で加熱処理することにより、薄膜の内部応力を十分に低減することができる。
【００４２】
つぎに、光照射処理について説明する。
光照射処理では、薄膜付基板に対して、閃光ランプから発せられる光（高エネルギー線）を照射する処理を行う。
【００４３】
閃光ランプは、連続した幅の広い波長領域をもつ光を発することのできる光源である。閃光ランプとしては、例えば、キセノン等のガスをガラス等の光を通す材料でできた管に封入し、これに高電圧をパルス状に印加することによって光を発することができるランプを用いることができる。
【００４４】
閃光ランプの照射強度は、薄膜の種類や組成によって異なるが、０．１〜１００Ｊ／ｃｍ２、好ましくは１〜５０Ｊ／ｃｍ２、より好ましくは１０〜５０Ｊ／ｃｍ２である。照射強度がこの範囲よりも大きいと、膜が飛散したり、表面あれが生じたりするおそれがある。照射強度がこの範囲よりも小さいと、膜応力を低減する効果が小さくなるおそれがある。
【００４５】
閃光ランプによる光の照射時間は、１秒以下、好ましくは０．１秒以下、更に好ましくは０．０１秒以下である。閃光ランプから発せられる光の照射時間を短くすることによって、ガラス基板をあまり加熱せずに膜応力を低減することができる。これにより、ガラス基板にダメージを与えることを防止することができる。
【００４６】
本発明において、ガラス基板の主表面に形成された薄膜に閃光ランプから発せられる光を照射する場合、１回で照射が完了するように照射しても、複数回に分けて照射してもよい。また、膜を多層構造にする場合には、膜を成膜する毎に照射することも、複数の膜を成膜してからまとめて照射することもできる。また、閃光ランプからの光は、膜面から照射しても、基板が光を通すときは基板面から照射してもよい。また、閃光ランプによって光を照射する際にガラス基板が置かれる場所の周囲の雰囲気は、アルゴン等の不活性ガス、窒素、酸素、あるいはこれらのうち２種以上の混合ガス、真空中、大気中など、どのような雰囲気であってもよい。
【００４７】
閃光ランプから発せられる光を照射する光照射処理は、薄膜付ガラス基板の周囲に水素が極力排除された気体が存在する状態で行われることが好ましい。空気中には水素自体の存在量は少ないが、水蒸気は多く存在する。クリーンルーム内の空気でも湿度がコントロールされてはいるが、水蒸気は比較的多く存在する。薄膜付ガラス基板に対する光照射処理をドライエア中で行うことで、水蒸気に起因する水素のガラス基板への侵入を抑制することができる。さらに、水素及び水蒸気を含まない気体（窒素等の不活性ガス及び希ガスなど）中で薄膜付基板に対して光を照射することが好ましい。光照射処理は、大気圧の気体中又は真空中で行うこともできる。
【００４８】
本発明のマスクブランクの製造方法は、測定用ガラス基板を用い、前記加熱処理または光照射処理の前における前記薄膜を備えていない状態での前記測定用ガラス基板の一方の主表面の形状と前記加熱処理または光照射処理の後における前記薄膜を備えていない状態での前記測定用ガラス基板の一方の主表面の形状とから求められる一方の主表面の平坦度変化量と、前記測定用ガラス基板の水素含有量との対応関係をあらかじめ取得しておき、前記基板準備工程は、一方の主表面を測定して得られた平坦度に前記対応関係から求められた平坦度変化量を加算した平坦度が前記所定値以下となるガラス基板を準備することを特徴としている。
【００４９】
ガラス基板中の水素含有量が多くなるにつれて、薄膜付ガラス基板に対して加熱処理または光照射処理（以下、これらの処理を加熱等処理という。）を行う前後における、薄膜を備えない状態（薄膜の膜応力の影響がない状態）でのガラス基板の主表面の平坦度変化量が大きくなる傾向がある。平坦度変化量は、加熱等処理を行う前後における、ガラス基板の主表面の差分形状から算出される。従来、加熱等処理を行った後におけるガラス基板の、薄膜が形成されている側である一方の主表面の形状は、薄膜の膜応力の影響がない場合、加熱等処理の前の形状からほとんど変化しないものと考えられていた。このため、マスクブランクを製造するために準備されるガラス基板は、薄膜を形成する側である一方の主表面の平坦度が高いものが好ましいとされていた。しかし、ガラス基板中の水素含有量によっては、加熱等処理で薄膜付基板のガラス基板の主表面形状が変化してしまう。これらのことから、加熱等処理が行われる薄膜付基板のガラス基板は、従来とは異なる指標で選定することが必要であることを本発明者は見出した。
【００５０】
そして、本発明のマスクブランクの製造方法では、ほぼ同じ外形寸法の測定用ガラス基板を準備し、その測定用ガラス基板の一方の主表面に薄膜を形成してから加熱等処理を行い、加熱等処理の前後における薄膜を備えない状態での測定用ガラス基板の一方の主表面の平坦度変化量と測定用ガラス基板の水素含有量との対応関係を予め取得することとした。さらに、マスクブランクの製造に用いられるガラス基板は、準備する時点で測定された一方の主表面の平坦度に、上記の対応関係から予測された加熱等処理によってそのガラス基板に生じる平坦度変化量を加算した平坦度が所定値以下（従来のマスクブランク用ガラス基板に求められている平坦度の水準以上）となるものを選定することとした。本発明のマスクブランクの製造方法は、従来のような、準備する時点で測定された一方の主表面の平坦度が所定値以下のガラス基板をマスクブランクの製造に用いるものではない。このようなガラス基板をマスクブランクの製造のために準備することにより、一方の主表面に薄膜を形成した後に加熱等処理を行っても、ガラス基板の一方の主表面の平坦度を所定値以下とすることができる。
【００５１】
上記の対応関係の取得は、具体的には例えば以下の手順で行われる。まず、水素含有量が既知である測定用ガラス基板を準備し、一方の主表面の表面形状（加熱等処理前の主表面形状）を測定する。次に、測定用ガラス基板の一方の主表面にマスクブランクを製造する際に行われる場合と同じ条件で薄膜を形成する。続いて、薄膜付の測定用ガラス基板に対して、マスクブランクを製造する際に行われる場合と同じ条件で加熱等処理を行う。さらに、測定用ガラス基板の一方の主表面から薄膜を除去する。薄膜が除去された測定用ガラス基板の一方の主表面の表面形状（加熱等処理後の主表面形状）を測定する。そして、加熱等処理後の主表面形状と加熱等処理前の主表面形状との差分形状を算出し、その差分形状からその測定用ガラス基板に生じた平坦度変化量を取得する。
【００５２】
また、この場合における本発明のマスクブランクの製造方法では、加熱等処理の前後における薄膜を備えない状態での測定用ガラス基板の主表面の平坦度変化量、および前記測定用ガラス基板の水素含有量のほかに、薄膜付の測定用ガラス基板に対して行った加熱処理または光照射処理の処理条件を含めた対応関係も取得すると好ましい。平坦度変化量は、加熱等処理の前における薄膜を備えない状態での測定用ガラス基板の主表面形状と、加熱等処理の後における薄膜を備えない状態での測定用ガラス基板の主表面形状との差分形状から得られる。
【００５３】
上記の対応関係の取得は、薄膜付ガラス基板に対して加熱等処理工程を行う前であれば、どの段階で行ってもよい。上記の対応関係は、水素含有量が異なる測定用ガラス基板を複数枚準備し、各測定用ガラス基板の平坦度変化量を取得し、水素含有量と平坦度変化量の相関を求めることで得てもよい。
【００５４】
上記の対応関係の取得は、それぞれ水素含有量が異なる複数の測定用ガラス基板を準備し、前記と同様の手順で、それぞれ主表面の平坦度変化量を取得し、測定用ガラス基板の水素含有量と、その基板の平坦度変化量との間の相関関数（相関グラフ）を算出し、これを対応関係としてガラス基板の平坦度変化量の予測に使用してもよい。また、このような測定用ガラス基板の水素含有量と測定用ガラス基板の平坦度変化量との間の相関関数を、薄膜付の測定用ガラス基板への加熱処理または光照射処理の処理条件を変更し、処理条件ごとに相関関数を算出して、これらを対応関係として薄膜を備えない状態でのガラス基板の平坦度変化量の予測に使用してもよい。さらに、測定用ガラス基板の水素含有量を固定し、薄膜付の測定用ガラス基板への加熱処理または光照射処理の処理条件とその基板の平坦度変化量との間の相関関数を算出し、これを対応関係として薄膜を備えない状態でのガラス基板の平坦度変化量の予測に使用してもよい。そして、薄膜付の測定用ガラス基板への加熱処理または光照射処理の処理条件と測定用ガラス基板の平坦度変化量との間の相関関数を、測定用ガラス基板の水素含有量を変更し、水素含有量ごとに相関関数を算出して、これらを対応関係として薄膜を備えない状態でのガラス基板の平坦度変化量の予測に使用してもよい。
【００５５】
ガラス基板中に含まれる水素含有量は、レーザーラマン散乱分光法によって測定することが可能である。例えば、日本分光社製  ＨＱＳ−１０００を用い、フォトンカウント法によって測定することができる。なお、ガラス基板中の水素含有量は、外形寸法等が整えられたガラス基板の状態で測定してもよく、ガラス基板の形状に切り出す前のインゴットの状態で測定してもよい。
【００５６】
ガラス基板における主表面形状の測定は、表面形状解析装置（表面形状測定装置）を用いて行うことができる。薄膜付基板における薄膜の表面形状の測定も、表面形状解析装置（表面形状測定装置）を用いて行うことができる。また、加熱等処理後における薄膜が除去された状態でのガラス基板の主表面の形状と、薄膜の形成前におけるガラス基板の主表面の形状との差分形状の算出、および差分形状に基づく平坦度変化量の算出も、表面形状解析装置を用いて行うことができる。表面形状解析装置としては、例えば、ＵｌｔｒａＦＬＡＴ  ２００Ｍ（Ｃｏｒｎｉｎｇ  ＴＲＯＰＥＬ社製）を用いることができる。なお、差分形状に基づく平坦度変化量の算出は、公知の方法を用いて行うことが可能であり、例えば特開２０１０−２３７５０２号公報に開示された方法を用いて行うことが可能である。
【００５７】
差分形状に基づく平坦度変化量を算出する領域は、少なくとも薄膜で転写パターンを形成する領域を含む必要がある。一辺が約１５２ｍｍの四角形の主表面を有するガラス基板の場合、転写パターンを形成する領域は、一般に、ガラス基板の主表面の中心を基準とした一辺が１３２ｍｍの四角形の内側領域（以下、この領域を「１３２ｍｍ四方の内側領域」という。）である。また、差分形状に基づく平坦度変化量を算出する領域は、一辺が１４２ｍｍの四角形の内側領域（以下、この領域を「１４２ｍｍ四方の内側領域」という。）であると好ましい。また、ガラス基板の主表面形状や薄膜の表面形状を表面形状測定装置で測定する領域も、少なくとも薄膜に転写パターンを形成する領域を含む必要がある。なお、ガラス基板の水素含有量から予測されるガラス基板自体の変形（薄膜の応力等の外力に起因しないガラス基板の変形）に伴う主表面の平坦度変化量を算出する領域や、差分形状から算出される平坦度変化量からガラス基板自体の変形に伴う平坦度変化量を差し引いて得られる平坦度についても、差分形状に基づく平坦度変化量を算出する領域の場合と同様である。
【００５８】
本発明のマスクブランクの製造方法は、加熱等処理工程後における薄膜を備えていない状態（薄膜が除去された状態）でのガラス基板の一方の主表面の平坦度の所定値は、薄膜に転写パターンを形成する領域内において、絶対値で２００ｎｍ以下であることが好ましい。前記一方の主表面の平坦度の所定値は、１００ｎｍ以下であるとより好ましく、８０ｎｍ以下であるとさらに好ましく、５０ｎｍ以下であるとなお好ましい。なお、加熱等処理工程後における薄膜を備えていない状態でのガラス基板の一方の主表面は、主表面の高さが中央側で相対的に高くなる凸形状の傾向であることが好ましい。
【００５９】
対応関係取得工程で行われる薄膜付基板からの薄膜の除去は、薄膜にパターンを形成するときに用いられるドライエッチングと同様の方法で行うことができる。例えば、薄膜がケイ素（Ｓｉ）及び遷移金属（例えばＭｏ）を含む材料からなる場合には、フッ素系ガスを含むエッチングガスを用いたドライエッチングによって薄膜を除去することが可能である。また、薄膜を構成する材料の組成によっては、酸素を含有しない塩素系ガスを含むエッチングガスを用いたドライエッチングや、塩素系ガスと酸素ガスを含むエッチングガスを用いたドライエッチングによって薄膜を除去することも可能である。また、薄膜を構成する材料の組成によっては、薄膜の除去にウェットエッチングを適用してもよい。
【００６０】
ガラス基板の水素含有量が主表面の形状変化に影響を与える原因は以下のように推測される。なお、以下の考察は、出願時点における本発明者らの推測に基づくものであり、本発明の範囲を何ら制限するものではない。
【００６１】
水素を含有するガラス材料からなるガラス基板を加熱処理すると、表面（特に表面積の大きい２つの主表面）から水素が脱離していく。水素が脱離していく前までその水素と結合していたＳｉ等の元素は別の元素と結合しようとする。このとき、水素が脱離して生じた内部空間の隙間が縮まることで、内部構造が縮まる方向に働く応力（引張応力）が生じる。すべての表面に薄膜を全く設けてない状態（すべての表面が大気中に露出した状態）のガラス基板の場合、基板の内部に比べ表面近傍の表層の方が水素含有量は少なく、表層に引張応力が生じやすい。しかし、この場合、２つの主表面近傍の表層の両方ともに、水素含有量は同程度に低下しており、表層に生じる引張応力も同程度になり、バランスが保たれ、どちらかの主表面の形状が顕著に変化するようなことにはなりにくい。
【００６２】
一方、水素を含有するガラス材料からなるガラス基板に対して、一方の主表面にのみ薄膜が形成されている状態で加熱処理を行った場合、薄膜が形成された主表面側では、薄膜によって水素の大気中への脱離が抑制される。このため、薄膜が形成された主表面側の表層の水素含有量は、薄膜が形成されていない他方の主表面（表面が大気中に露出した状態の主表面）側の表層の水素含有量よりも多くなる傾向が生じる。同時に、薄膜が形成された主表面側の表層の引張応力は、薄膜が形成されていない他方の主表面側の表層の引張応力よりも小さくなる傾向が生じる。この結果、薄膜が形成された側の主表面が凸形状（主表面の高さが中央側で相対的に高くなる形状）の傾向に変形し、薄膜が形成されていない側の主表面が凹形状の傾向に変形する。
【００６３】
ガラス基板を形成するガラス材料中に存在していた水素の含有量が多くなるほど、加熱処理で脱離する水素の量も多くなる。この結果、ガラス基板の主表面側の表層に生じる引張応力も大きくなる。薄膜が形成された一方の主表面に生じる引張応力と、薄膜が形成されていない他方の主表面に生じる引張応力との差も、ガラス材料の水素含有量が多くなるほど大きくなる。
【００６４】
一方、加熱処理の場合と同様に、閃光ランプから発せられる光を照射する光照射処理を適用する場合の検証を行った。光照射処理の前後でガラス基板における一方の主表面の形状自体が変化することは、加熱処理の場合と同様であった。しかし、光照射処理の場合、ガラス基板における一方の主表面の形状が、凹形状（主表面の高さが中央側で相対的に低くなる形状）に変化する傾向がある点が、加熱処理の場合と大きく異なる。これは、以下のように推測される。なお、以下の考察も、出願時点における本発明者らの推測に基づくものであり、本発明の範囲を何ら制限するものではない。
【００６５】
閃光ランプから発せられる光を照射する光照射処理を行う時間は、加熱処理を行う時間に比べて大幅に短い（光照射処理が秒単位であるのに対し、加熱処理は、数十分〜数時間。）。薄膜が形成されたガラス基板に対して光照射処理を行ったときに、水素が脱離する温度まで加熱されるのは薄膜とその薄膜が形成されている側である一方の主表面側の表層までである。閃光ランプの光が照射されない他方の主表面は、水素が脱離する温度までには加熱されない。ガラス基板の薄膜が形成されている一方の主表面側の表層からは水素が脱離し、それによって引張応力が強くなる傾向が生じるが、水素が脱離しない他方の主表面の内部応力には実質的な変化は生じない。この結果、薄膜が形成されている側の主表面は、その引張応力の影響で凹形状の傾向に変形し、それに伴い、薄膜が形成されていない側の他方の主表面は凸形状の傾向に変形する。
【００６６】
なお、上記の検証や考察では、ガラス基板における他方の主表面が露出した状態で加熱処理や光照射処理を行う場合について述べた。しかし、他方の主表面にも薄膜が形成されている場合であっても、ガラス基板中の水素含有量によっては一方の主表面に大きな形状変化が生じる場合もある。たとえば、一方の主表面に形成された薄膜に比べ、他方の主表面に形成された薄膜が水素を大幅に通過させやすい特性を有してしまっている場合（薄膜を形成する材料の相違、膜厚の大幅な相違、薄膜の積層構造の大幅な相違等）があげられる。
【００６７】
本発明のマスクブランクの製造方法では、前記の対応関係を用いることで、加熱処理後又は光照射処理後の薄膜を備えていない状態（薄膜の膜応力の影響のない状態）でのガラス基板における一方の主表面の平坦度を予測できる。このため、加熱処理又は光照射処理の前後で薄膜の膜応力の影響のない状態におけるガラス基板の主表面の平坦度が変化しても、薄膜の内部応力を高い精度で求めることができる。
【００６８】
本発明のマスクブランクの製造方法は、加熱処理後又は光照射処理後のガラス基板の一方の主表面に形成された薄膜の内部応力（膜応力）が、４００ＭＰａ以下であることが好ましい。薄膜の内部応力をこの範囲とすることにより、ガラス基板の主表面における転写パターンを形成する領域内で算出される薄膜の内部応力に起因する平坦度変化量を絶対値で１００ｎｍ以下とすることができる。また、前記薄膜の内部応力は、３２０ＭＰａ以下であるとより好ましく、２００ＭＰａ以下であるとさらに好ましい。薄膜の内部応力を３２０ＭＰａ以下または２００ＭＰａ以下とすることにより、ガラス基板の主表面における転写パターンを形成する領域内で算出される薄膜の内部応力に起因する平坦度変化量を絶対値で８０ｎｍ以下または５０ｎｍ以下とすることができる。
【００６９】
本発明のマスクブランクの製造方法では、前記加熱等処理工程後における前記薄膜を備えるガラス基板は、前記薄膜に転写パターンを形成する領域内における平坦度が、絶対値で３００ｎｍ以下であることが好ましい。加熱等処理工程後における薄膜を備えていない状態でのガラス基板の一方の主表面の平坦度の所定値が、薄膜に転写パターンを形成する領域内において絶対値で２００ｎｍ以下であり、かつ薄膜の内部応力が絶対値で４００ＭＰａ以下であるマスクブランクは、前記の平坦度を満たすことが可能である。
【００７０】
短波長のパルスレーザー光であるＫｒＦエキシマレーザーやＡｒＦエキシマレーザーが露光光として適用される転写用マスクに用いるガラス基板は、ガラス材料にある程度の水素が含有されたものを使用することが一般的である。これは、特にエネルギーの高い光であるＡｒＦエキシマレーザーは、ガラス材料中を透過する際にガラスの内部構造にダメージを与えることがあり、水素がそのダメージを修復する役割を持つためである。この点を考慮する場合、ガラス基板の水素含有量は、２．０×１０１７分子数／ｃｍ３以上、より好ましくは３．０×１０１７分子数／ｃｍ３以上、さらに好ましくは５．０×１０１７分子数／ｃｍ３以上、とするとよい。
【００７１】
本発明のマスクブランクの製造方法は、例えば、以下の（１）〜（３）に示すマスクブランクに適用することができる。
（１）遷移金属を含む材料からなる遮光膜を備えたバイナリマスクブランク
かかるバイナリマスクブランクは、ガラス基板上に遮光膜（薄膜）を有する形態のものであり、この遮光膜は、クロム、タンタル、ルテニウム、タングステン、チタン、ハフニウム、モリブデン、ニッケル、バナジウム、ジルコニウム、ニオブ、パラジウム、ロジウム等の遷移金属単体あるいはその化合物を含む材料からなる。例えば、タンタルに、酸素、窒素、ホウ素などの元素から選ばれる１種以上の元素を添加したタンタル化合物で構成した遮光膜が挙げられる。
かかるバイナリマスクブランクは、遮光膜を、遮光層と表面反射防止層の２層構造や、さらに遮光層と基板との間に裏面反射防止層を加えた３層構造としたものなどがある。
また、遮光膜の膜厚方向における組成が連続的又は段階的に異なる組成傾斜膜としてもよい。
【００７２】
（２）ケイ素の化合物を含む材料、または遷移金属及びケイ素（遷移金属シリサイド、特にモリブデンシリサイドを含む）の化合物を含む材料からなる光半透過膜を備えた位相シフトマスクブランク
かかる位相シフトマスクブランクとしては、ガラス基板上に光半透過膜（薄膜）を有する形態のハーフトーン型位相シフトマスクブランクが挙げられる。該ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの光半透過膜をパターニングしてシフタ部を設けることによって、ハーフトーン型位相シフトマスクが作製される。かかる位相シフトマスクにおいては、光半透過膜を透過した光に基づき転写領域に形成される光半透過膜パターンによる被転写基板のパターン不良を防止するために、ガラス基板上に光半透過膜とその上の遮光膜（遮光帯）とを有する形態とするものが挙げられる。また、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクのほかに、ガラス基板をエッチング等により掘り込んでシフタ部を設ける基板掘り込みタイプであるレベンソン型位相シフトマスク用やエンハンサー型位相シフトマスク用のマスクブランクが挙げられる。
【００７３】
前記ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの光半透過膜は、実質的に露光に寄与しない強度の光（例えば、露光波長に対して１％〜３０％）を透過させるものであって、所定の位相差（例えば１８０度）を生じさせるものである。この光半透過膜をパターニングした光半透過部と、光半透過膜が形成されていない実質的に露光に寄与する強度の光を透過させる光透過部とによって、光半透過部を透過した光の位相が光透過部を透過した光の位相に対して実質的に反転した関係になるようにすることによって、光半透過部と光透過部との境界部近傍を通過し回折現象によって互いに相手の領域に回り込んだ光が互いに打ち消しあうようにし、境界部における光強度をほぼゼロとし境界部のコントラスト即ち解像度を向上させるものである。
【００７４】
この光半透過膜は、例えば遷移金属及びケイ素（遷移金属シリサイドを含む）の化合物を含む材料からなり、これらの遷移金属及びケイ素と、酸素及び／又は窒素を主たる構成要素とする材料が挙げられる。遷移金属には、モリブデン、タンタル、タングステン、チタン、ハフニウム、ニッケル、バナジウム、ジルコニウム、ニオブ、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、クロム等が適用可能である。また、光半透過膜は、ケイ素と窒素を含有する材料で形成してもよい。この場合、窒素含有量の比較的少ない低透過層と窒素含有層が比較的多い高透過層との組合せが１組以上積層した構造を有する光半透過膜とすることが好ましい。
【００７５】
光半透過膜上に遮光膜を有する形態の場合、上記光半透過膜の材料が遷移金属及びケイ素を含むので、遮光膜の材料としては、光半透過膜に対してエッチング選択性を有する（エッチング耐性を有する）特にクロムや、クロムに酸素、窒素、炭素などの元素を添加したクロム化合物で構成することが好ましい。
【００７６】
レベンソン型位相シフトマスクは、バイナリマスクブランクと同様の構成のマスクブランクから作製されるため、パターン形成用の薄膜の構成については、バイナリマスクブランクの遮光膜と同様である。エンハンサー型位相シフトマスク用のマスクブランクの光半透過膜は、実質的に露光に寄与しない強度の光（例えば、露光波長に対して１％〜３０％）を透過させるものではあるが、透過する露光光に生じさせる位相差が小さい膜（例えば、位相差が３０度以下。好ましくは０度。）であり、この点が、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの光半透過膜とは異なる。この光半透過膜の材料は、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの光半透過膜と同様の元素を含むが、各元素の組成比や膜厚は、露光光に対して所定の透過率と所定の小さな位相差となるように調整される。
【００７７】
（３）遷移金属、遷移金属及びケイ素（遷移金属シリサイド、特にモリブデンシリサイドを含む）の化合物を含む材料からなる遮光膜を備えたバイナリマスクブランク
この遮光膜（薄膜）は、遷移金属及びケイ素の化合物を含む材料からなる。あるいは、この遮光膜（薄膜）は、遷移金属及びケイ素と、酸素及び／又は窒素を主たる構成要素とする材料からなる。あるいは、この遮光膜は、遷移金属と、酸素、窒素及び／又はホウ素を主たる構成要素とする材料からなる。遷移金属には、モリブデン、タンタル、タングステン、チタン、ハフニウム、ニッケル、バナジウム、ジルコニウム、ニオブ、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、クロム等が適用可能である。
特に、遮光膜をモリブデンシリサイドの化合物で形成する場合であって、遮光層（ＭｏＳｉ等）と表面反射防止層（ＭｏＳｉＯＮ等）の２層構造や、さらに遮光層と基板との間に裏面反射防止層（ＭｏＳｉＯＮ等）を加えた３層構造がある。
また、遮光膜の膜厚方向における組成が連続的又は段階的に異なる組成傾斜膜としてもよい。
【００７８】
また、レジスト膜の膜厚を薄膜化して微細パターンを形成するために、遮光膜上にエッチングマスク膜を有する構成としてもよい。このエッチングマスク膜は、遷移金属シリサイドを含む遮光膜のエッチングに対してエッチング選択性を有する（エッチング耐性を有する）特にクロムや、クロムに酸素、窒素、炭素などの元素を添加したクロム化合物からなる材料で構成することが好ましい。このとき、エッチングマスク膜に反射防止機能を持たせることにより、遮光膜上にエッチングマスク膜を残した状態で転写用マスクを作製してもよい。
【００７９】
本発明のマスクブランクの製造方法によって製造されたマスクブランクの薄膜に転写パターンを形成することによって、転写用マスクを製造することができる。薄膜への転写パターンの形成は、公知の方法を用いて行うことが可能である。
【実施例】
【００８０】
以下、実施例により、本発明の実施の形態を更に具体的に説明する。併せて、実施例に対する比較例についても説明する。
【００８１】
［実施例１］
バイナリマスクブランクを製造するにあたり、最初に、ガラス基板の水素含有量と、そのガラス基板の一方の主表面に薄膜（遮光膜）が形成された状態で膜応力を低減する加熱処理を行った後におけるガラス基板の主表面（薄膜の膜応力の影響を受けない状態、すなわち薄膜を備えていない状態）の平坦度変化量との相関を求めた。具体的には、まず、主表面の寸法が約１５２ｍｍ×約１５２ｍｍで、厚さが約６．３５ｍｍであり、材料中の水素含有量が異なる合成石英ガラスからなる３枚の測定用ガラス基板（基板Ａ，基板Ｂ，基板Ｃ）を準備した。各測定用ガラス基板は、主表面を所定の平坦度および表面粗さに研磨され、その後、所定の洗浄処理および乾燥処理を施されたものであった。各測定用ガラス基板中の水素含有量をレーザーラマン分光光度法によって測定したところ、基板Ａが３．４×１０１７［分子数／ｃｍ３］、基板Ｂが２．１×１０１８［分子数／ｃｍ３］、基板Ｃが３．９×１０１８［分子数／ｃｍ３］であった。
【００８２】
次に、各測定用ガラス基板の薄膜が形成される側の主表面（一方の主表面）の表面形状を、表面形状解析装置（ＵｌｔｒａＦＬＡＴ  ２００Ｍ（Ｃｏｒｎｉｎｇ  ＴＲＯＰＥＬ社製））を用いて測定した（測定領域は、測定用ガラス基板の中心を基準とした一辺が１４２ｍｍの四角形の内側領域。以降、表面形状解析装置で測定している表面形状の測定領域は同じ。）。いずれの測定用ガラス基板も、薄膜が形成される側の主表面（一方の主表面）の１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度は、０．２μｍ以下であり、表面形状は凸形状であった。
【００８３】
次に、各測定用ガラス基板の主表面（一方の主表面）上に、実際のバイナリマスクブランクの遮光膜と同じ成膜条件で遮光膜をそれぞれ形成した。具体的には、測定用ガラス基板の上に、枚葉式スパッタ装置を用いて、スパッタターゲットにモリブデン（Ｍｏ）とシリコン（Ｓｉ）との混合ターゲット（原子％比  Ｍｏ：Ｓｉ＝１３：８７）を用い、アルゴンと窒素の混合ガス雰囲気（ガス圧  ０．１Ｐａ，ガス流量比  Ａｒ：Ｎ２＝５１：４９）で、ＤＣ電源の電力を１．９ｋＷとし、反応性スパッタリング（ＤＣスパッタリング）により、遮光膜の下層であるＭｏＳｉＮ膜を４７ｎｍの厚さで形成した。続いて、同じモリブデン（Ｍｏ）とシリコン（Ｓｉ）との混合ターゲットを用い、アルゴンと窒素とヘリウムの混合ガス雰囲気（ガス圧  ０．１Ｐａ，ガス流量比  Ａｒ：Ｎ２：Ｈｅ＝３３：５６：１１）で、ＤＣ電源の電力を１．９ｋＷとし、反応性スパッタリング（ＤＣスパッタリング）により、遮光膜の上層であるＭｏＳｉＮ膜を１３ｎｍの厚さで形成した。
【００８４】
以上の工程により、各測定用ガラス基板上にＭｏＳｉＮからなる下層とＭｏＳｉＮからなる上層の積層構造からなるＡｒＦエキシマレーザー（波長：１９３ｎｍ）用の遮光膜をそれぞれ形成し、３種類の薄膜付基板（薄膜付基板Ａ，薄膜付基板Ｂ，薄膜付基板Ｃ）を取得した。なお、この遮光膜は、ＡｒＦエキシマレーザーの露光光に対する光学濃度は３．０以上であった。
【００８５】
次に、各薄膜付基板に対して４５０℃で３０分間の加熱処理（アニール処理）を行い、遮光膜の膜応力を低減させる処理を行った。加熱処理後の遮光膜の表面形状を、上記と同一の表面形状解析装置を用いて測定した。続いて、エッチングガスにＳＦ６とＨｅの混合ガスを用い、ドライエッチングにより、各薄膜付基板の遮光膜を全面除去した。遮光膜を全面除去した後の測定用ガラス基板の遮光膜が形成されていた側の主表面の表面形状を、上記と同一の表面形状解析装置を用いて測定した。
【００８６】
そして、各測定用ガラス基板について、遮光膜を除去した後に測定した測定用ガラス基板の主表面形状から、遮光膜を形成する前に測定した測定用ガラス基板の主表面形状を差し引いた差分形状を算出した。さらに、算出した各差分形状から１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度変化量をそれぞれ算出した。各測定用ガラス基板の平坦度変化量は、基板Ａが０．０４５μｍ、基板Ｂが０．０９５μｍ、基板Ｃが０．１４６μｍであった。各測定用ガラス基板の水素含有量と加熱処理前後で生じた主表面の平坦度変化量には、図１に示すような相関性があった。測定用ガラス基板の水素含有量をｘ、加熱処理前後で生じた測定用ガラス基板の主表面の平坦度変化量をｙとした場合、概ね、ｙ＝２．８３×１０−２０ｘ＋０．０３５２の相関関数の関係にあることがわかった。
【００８７】
次に、同じ合成石英インゴットから切り出された複数枚のガラス基板を準備した。ガラス基板中の水素含有量は、レーザーラマン分光光度法によって測定したところ、いずれも３．２×１０１８［分子数／ｃｍ３］であった。これらのガラス基板は、測定用ガラス基板の場合と同条件で加熱処理を行ったときに生じるガラス基板の遮光膜が形成される側の主表面（一方の主表面）の１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度変化量が０．１２６μｍ（凸方向に変形）となるものと先に求めた相関関数から予測された。
【００８８】
最終的に出来上がるバイナリマスクブランクにおける遮光膜が設けられていない状態でのガラス基板の主表面の平坦度の目標値を、１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度で０．２μｍ以下に設定した。そして、準備した複数枚のガラス基板に対し、遮光膜が形成される側の主表面の平坦度が−０．３２６μｍ以上０．０７４μｍ以下の範囲内となることを目標に、２つの主表面に対して両面研磨を行い、所定の洗浄処理を施した。次に、洗浄処理後の複数のガラス基板のそれぞれに対し、一方の主表面の形状を上記と同一の表面形状解析装置によってそれぞれ測定した。そして、複数のガラス基板の中から、一方の主表面形状の測定結果から算出される１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度が−０．３２６μｍ以上０．０７４μｍ以下の範囲内となるものを選定し、これをバイナリマスクブランクの製造に用いるガラス基板とした。この選定されたガラス基板は、一方の主表面の１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度が−０．１０８μｍの凹形状であった。
【００８９】
次にこのガラス基板の主表面（一方の主表面）上に、測定用ガラス基板の場合と同じ成膜条件で、ＭｏＳｉＮからなる下層とＭｏＳｉＮからなる上層の積層構造からなるＡｒＦエキシマレーザー用の遮光膜を形成した。
【００９０】
次に、遮光膜が形成されたガラス基板に対して４５０℃で３０分間の加熱処理（アニール処理）を行うことで遮光膜の膜応力を低減させる処理を行った。加熱処理後の遮光膜の表面形状を、上記と同一の表面形状解析装置を用いて測定した。その結果、遮光膜の表面の１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度は０．０９８μｍの凸形状であった。
【００９１】
次に、加熱処理後の遮光膜が設けられたガラス基板に対し、遮光膜をドライエッチングによって全面除去する処理を行った。エッチング除去後に残されたガラス基板の遮光膜が形成されていた側の主表面（一方の主表面）に対し、上記と同一の表面形状測定装置で測定を行った。その結果、このガラス基板は、一方の主表面の１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度が０．０２１μｍの凸形状に変形していた。しかし、ガラス基板の主表面の１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度が０．２μｍ以下という当初の目標値を十分に満たしていた。また、先に測定していた加熱処理後における遮光膜の表面形状と加熱処理後におけるガラス基板の主表面形状との差分形状から算出された１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度変化量は０．０７１μｍであった。この平坦度変化量から算出された遮光膜の膜応力は、２４４ＭＰａと低応力であった。
【００９２】
先のガラス基板の選定の段階で、選定していたガラス基板（一方の主表面の１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度が０．０６３μの凸形状）の一方の主表面上に、測定用ガラス基板の場合と同じ成膜条件で、ＭｏＳｉＮからなる下層とＭｏＳｉＮからなる上層の積層構造からなるＡｒＦエキシマレーザー用の遮光膜を形成した。さらに、遮光膜が形成されたガラス基板に対して４５０℃で３０分間の加熱処理（アニール処理）を行うことで遮光膜の膜応力を低減させる処理を行った。加熱処理後の遮光膜の表面形状を、上記と同一の表面形状解析装置を用いて測定した。その結果、遮光膜の表面の１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度は０．２５８μｍの凸形状であった。
【００９３】
次に、この遮光膜（薄膜）の上に、クロム系材料からなるエッチングマスク膜（ＣｒＮ膜であり、膜厚が５ｎｍ。）を形成し、ガラス基板上に遮光膜とエッチングマスク膜が積層したマスクブランクを製造した。続いて、エッチングマスク膜上にレジスト膜をスピン塗布法によって形成した。次に、レジスト膜にテストパターンを描画露光し、現像処理等を行い、レジストパターンを形成した。テストパターンが形成されたレジスト膜に対し、パターン位置測定装置（ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ社製  ＬＭＳ  ＩＰＲＯ  Ｓｅｒｉｅｓ）を用いてテストパターンの測定を行った。このレジストパターンをマスクとし、エッチングガスにＣｌ２とＯ２の混合ガスを用いたドライエッチングを行い、エッチングマスク膜にテストパターンを形成した。
【００９４】
続いて、レジスト膜を剥離し、テストパターンが形成されたエッチングマスク膜をマスクとし、エッチングガスにＳＦ６とＨｅの混合ガスを用いたドライエッチングを行い、遮光膜にテストパターンを形成した。さらに、エッチングガスにＣｌ２とＯ２の混合ガスを用いたドライエッチングを行い、エッチングマスク膜を除去した。これらの工程により、ガラス基板上にテストパターンが形成された遮光膜を有するパターンテスト用の転写用マスクを作製した。この転写用マスクのテストパターンが形成された遮光膜に対し、パターン位置測定装置を用いてテストパターンの測定を行った。
【００９５】
そして、パターン位置測定装置で、レジスト膜に形成されたテストパターンと遮光膜に形成されたテストパターンを比較させ、遮光膜に形成されたテストパターンの位置ずれ量を求めたところ、最大で１．３ｎｍであった。この位置ずれ量は、ダブルパターニング技術が適用される転写用マスクであっても、十分許容できる範囲内であった。これにより、遮光膜の膜応力が低減されていることが確認できた。
【００９６】
［比較例１］
比較例１では、実施例１で使用したガラス基板と水素含有量が同じガラス基板（水素含有量が３．２×１０１８［分子数／ｃｍ３］）を準備した。しかし、その準備したガラス基板の一方の主表面の形状は、１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度が０．１３３μｍの凸形状であった。この平坦度を有するガラス基板は、従来の指標でみた場合、十分な水準のものといえる。
【００９７】
次に、この比較例１のガラス基板の一方の主表面上に、測定用ガラス基板の場合と同じ成膜条件で、ＭｏＳｉＮからなる下層とＭｏＳｉＮからなる上層の積層構造からなるＡｒＦエキシマレーザー用の遮光膜を形成した。さらに、遮光膜が形成されたガラス基板に対して４５０℃で３０分間の加熱処理（アニール処理）を行うことで遮光膜の膜応力を低減させる処理を行った。加熱処理後の遮光膜の表面形状を、上記と同一の表面形状解析装置を用いて測定した。その結果、遮光膜の表面の１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度は０．３２８μｍの凸形状であった。この比較例１の遮光膜を備えるガラス基板は、平坦度が０．３００μｍを上回ってしまっていた。
【００９８】
次に、加熱処理後の遮光膜が設けられた比較例１のガラス基板に対し、遮光膜をドライエッチングによって全面除去する処理を行った。エッチング除去後に残されたガラス基板の遮光膜が形成されていた側の主表面（一方の主表面）に対し、上記と同一の表面形状測定装置で測定を行った。その結果、このガラス基板は、一方の主表面の１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度が０．２５３μｍの凸形状に変形していた。ガラス基板の主表面の１４２ｍｍ四方の内側領域における平坦度が０．２μｍ以下という目標値を満たせていなかった。
【図１】
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