(57)【要約】【課題】見易い液晶表示装置を提供する。【解決手段】実施形態によれば、第１偏光層と、第２偏光層と、第１基板部と、第２基板部と、液晶層と、を含む液晶表示装置が提供される。前記１基板部は、前記第１偏光層と前記第２偏光層との間に設けられる。前記第１基板部は、前記第１偏光層から前記第２偏光層に向かう方向と交差する第１主面内に配置された光反射性の第１画素電極及び第２画素電極と、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間の画素間領域と、を含む。前記第２基板部は、前記第１基板部と前記第２偏光層との間に設けられる。前記第２基板部は、光透過性の対向電極が設けられた第２主面を有する。前記液晶層は、前記第１主面と前記第２主面との間に設けられる。前記第２偏光層、前記液晶層及び前記画素間領域を通過した第１光の少なくとも一部は、前記第１偏光層に入射可能である。【選択図】図１
2015081940.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１偏光層と、
第２偏光層と、
前記第１偏光層と前記第２偏光層との間に設けられた第１基板部であって、前記第１基板部は、前記第１偏光層から前記第２偏光層に向かう方向と交差する第１主面内に配置された光反射性の第１画素電極及び第２画素電極と、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間の画素間領域と、を含む前記第１基板部と、
前記第１基板部と前記第２偏光層との間に設けられ、光透過性の対向電極が設けられた第２主面を有する第２基板部と、
前記第１主面と前記第２主面との間に設けられた液晶層と、
を備え、
前記第２偏光層、前記液晶層及び前記画素間領域を通過した第１光の少なくとも一部は、前記第１偏光層に入射可能である液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１光の前記少なくとも一部の少なくとも一部は、前記第１偏光層に吸収される液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１画素電極と前記対向電極との間の電位差が第１電圧であるときに、前記第２偏光層と、前記液晶層のうちの前記第１画素電極と前記対向電極との間の第１画素部と、を通過して前記第１画素電極に入射して前記第１画素電極で反射し前記第１画素部及び前記第２偏光層を通過する第２光の強度は、
前記第２偏光層、前記液晶層、前記画素間領域及び前記第１偏光層を通過する光の強度よりも高い請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１画素電極と前記対向電極との間の電位差が第１電圧であるときに、前記第２偏光層と、前記液晶層のうちの前記第１画素電極と前記対向電極との間の第１画素部と、を通過して前記第１画素電極に入射して前記第１画素電極で反射し前記第１画素部及び前記第２偏光層を通過する第２光の強度は、
前記第１画素電極と前記対向電極との間の電位差が第２電圧であるときに、前記第２偏光層と、前記第１画素部と、を通過して前記第１画素電極に入射して前記第１画素電極で反射し前記第１画素部及び前記第２偏光層を通過する第４光の強度よりも高い請求項１〜３のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第２電圧の実効値は、前記第１電圧の実効値よりも大きい請求項４記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第２偏光層と前記対向電極との間に設けられた光学層をさらに備え、
前記光学層に第１入射方向から入射する光の前記光学層における散乱光の強度は、前記光学層に第２入射方向から入射する光の前記光学層における散乱光の強度とは異なり、
前記第１入射方向の、前記第１主面内に対して平行な平面内の方向は、前記第２入射方向の、前記平面内の方向とは異なる請求項１〜５のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記光学層は、前記平面内に配置された光透過性の複数の第１光学部と、前記複数の第１光学部のうちの２つの間に設けられた光透過性の第２光学部と、を含み、前記第２光学部の屈折率は、前記複数の第１光学部のそれぞれの屈折率とは異なり、
前記複数の第１光学部の少なくともいずれかと前記第２光学部との間の境界は、前記平面に対して傾斜している請求項６記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第１画素電極及び前記第２画素電極は、鏡面反射性である請求項１〜７のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第１基板部は、
前記第１偏光層と前記液晶層との間に設けられた光透過性の第１基板と、
前記第１画素電極と電気的に接続された第１スイッチング素子と、
前記第１スイッチング素子と電気的に接続された第１配線と、
前記第１配線と前記第１画素電極との間に設けられた絶縁層と、
をさらに含み、
前記第１配線の少なくとも一部は、前記第１画素電極と前記第１偏光層との間に位置する請求項１〜８のいずれか１つに記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第１偏光層の吸収軸と前記第２偏光層の吸収軸との間の角度は、４５度以上１００度以下である請求項１〜９のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記液晶層は、前記第１基板部側の第１部分と、前記第２基板部側の第２部分と、を含み、
前記第１部分における液晶ダイレクタ方向と、前記第１偏光層の吸収軸と、の間の角度は、８５度以上９５度以下である請求項１〜１０のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第１部分と前記第２部分との間における液晶ダイレクタのツイスト角度は、６０度以上８０度以下である請求項１１記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記液晶層に含まれる液晶の屈折率異方性と前記液晶層の厚さ（ナノメートル）との積は、１８０ナノメートル以上２６０ナノメートル以下である請求項１〜１２のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記液晶層と前記第２偏光層との間に設けられた第１位相差層をさらに備え、
前記第１位相差層のリタデーションは、１００ナノメートル以上１５０ナノメートル以下である請求項１〜１３のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記第１位相差層の遅延軸と前記第１偏光層の吸収軸との間の角度は、２０度以上４０度以下である請求項１４記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記第１位相差層と前記第２偏光層との間に設けられた第２位相差層をさらに備え、
前記第２位相差層のリタデーションは、２４０ナノメートル以上２９０ナノメートル以下である請求項１５記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記第２位相差層の遅延軸と前記第１偏光層の吸収軸との間の角度は、８５度以上１０５度以下である請求項１６記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記第２基板部は、着色層をさらに含み、
前記着色層は、
前記第１主面に投影したときに前記画素間領域と重なり第１色を有する第１着色部と、
前記第１主面に投影したときに前記画素間領域及び前記第１着色部と重なり前記第１色とは異なる第２色を有する第２着色部と、
を含む請求項１〜１７のいずれか１つに記載の表示装置。
【請求項１９】
前記着色層は、
前記第１画素電極と前記第２偏光層との間に設けられ前記第１色を有する第１カラーフィルタと、
前記第２画素電極と前記第２偏光層との間に設けられ前記第１色とは異なる第３色を有する第２カラーフィルタと、
をさらに含む請求項１８記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか１つに記載の液晶表示装置と、
電子部材と、
を備え、
前記電子部材と前記第２偏光層との間に、前記第１偏光層、前記第１基板部、前記液晶層及び前記第２基板部が配置され、
前記第１光の前記少なくとも一部が、前記第１偏光層に入射して、前記電子部材で反射して、前記第１偏光層、前記第１基板部、前記液晶層及び前記第２基板部を通過して前記第２偏光層から出射する光の強度は、
前記第１画素電極と前記対向電極との間の電位差が第１電圧であるときに、前記第２偏光層と、前記液晶層の前記第１画素電極及び前記対向電極との間の第１画素部と、を通過して前記第１画素電極に入射して前記第１画素電極で反射し前記第１画素部及び前記第２偏光層を通過する第２光の強度よりも高い電子装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、液晶表示装置及び電子装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置が種々の用途に用いられている。外光を用いて表示を行う反射型表示装置においては、消費電力を小さくすることができる。反射型の液晶表示装置において、見易さを向上することが求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−３０２２９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の実施形態は、見易い液晶表示装置及び電子装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の実施形態によれば、第１偏光層と、第２偏光層と、第１基板部と、第２基板部と、液晶層と、を含む液晶表示装置が提供される。前記１基板部は、前記第１偏光層と前記第２偏光層との間に設けられる。前記第１基板部は、前記第１偏光層から前記第２偏光層に向かう方向と交差する第１主面内に配置された光反射性の第１画素電極及び第２画素電極と、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間の画素間領域と、を含む。前記第２基板部は、前記第１基板部と前記第２偏光層との間に設けられる。前記第２基板部は、光透過性の対向電極が設けられた第２主面を有する。前記液晶層は、前記第１主面と前記第２主面との間に設けられる。前記第２偏光層、前記液晶層及び前記画素間領域を通過した第１光の少なくとも一部は、前記第１偏光層に入射可能である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の実施形態によれば、見易い液晶表示装置及び電子装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】第１の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式的断面図である。
【図２】第１の実施形態に係る別の液晶表示装置を例示する模式的断面図である。
【図３】図３（ａ）〜図３（ｃ）は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式図である。
【図４】図４（ａ）〜図４（ｃ）は、第１の実施形態に係る液晶表示装置の特性を例示するグラフ図である。
【図５】図５（ａ）及び図５（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶表示装置の動作を例示する模式図である。
【図６】第１の実施形態に係る液晶表示装置の特性を例示する模式図である。
【図７】第２の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式的断面図である。
【図８】図８（ａ）〜図８（ｄ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置の一部を例示する模式図である。
【図９】図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置の特性を例示する模式的平面図である。
【図１０】図１０（ａ）〜図１０（ｃ）は、液晶表示装置及び電子装置の特性を例示する模式的断面である。
【図１１】第２の実施形態に係る別の液晶表示装置を例示する模式的断面図である。
【図１２】第２の実施形態に係る別の液晶表示装置を例示する模式的断面図である。
【図１３】第３の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式的断面図である。
【図１４】第３の実施形態に係る別の液晶表示装置を例示する模式的断面図である。
【図１５】第３の実施形態に係る別の液晶表示装置を例示する模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。  
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。  
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
【０００９】
（第１の実施形態）  
図１は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式的断面図である。  
図１に表したように、本実施形態に係る液晶表示装置１１０は、第１偏光層５１と、第２偏光層５２と、第１基板部１０ｕと、第２基板部２０ｕと、液晶層３０と、を含む。
【００１０】
第１偏光層５１から第２偏光層５２に向かう方向をＺ軸方向とする。Ｚ軸方向に対して垂直な１つの方向をＸ軸方向とする。Ｚ軸方向とＸ軸方向とに対して垂直な方向をＹ軸方向とする。
【００１１】
第１偏光層５１及び第２偏光層５２のそれぞれは、例えば、Ｘ−Ｙ平面に沿って延在する。
【００１２】
第１基板部１０ｕは、第１偏光層５１と第２偏光層５２との間に設けられる。第１基板部１０ｕは、第１主面１０ａを有する。第１主面１０ａは、Ｚ軸方向に対して交差する。この例では、第１主面１０ａは、Ｘ−Ｙ平面に対して平行である。第１基板部１０ｕは、複数の画素電極１０ｅ（例えば、第１画素電極１１及び第２画素電極１２など）を含む。複数の画素電極１０ｅは、第１主面１０ａ内に配置される。複数の画素電極１０ｅは、光反射性である。
【００１３】
第１基板部１０ｕは、画素間領域１５を含む。画素間領域１５は、第１画素電極１１と第２画素電極１２との間の領域である。画素間領域１５は、複数の画素電極１０ｅどうしの間の領域である。
【００１４】
第２基板部２０ｕは、第１基板部１０ｕと第２偏光層５２との間に設けられる。第２基板部２０ｕは、第２主面２０ａを有する。第２主面２０ａは、例えば、第１主面１０ａに対向する。第２基板部２０ｕは、対向電極２１（コモン電極）を含む。対向電極２１は、第２主面２０ａ上に設けられる。対向電極２１は、光透過性である。
【００１５】
液晶層３０は、第１主面１０ａと第２主面２０ａとの間に設けられる。液晶層３０の一部は、複数の画素電極１０ｅと対向電極２１との間に配置される。液晶層３０の別の一部は、第１基板部１０ｕの画素間領域１５と、対向電極２１と、の間に配置される。
【００１６】
液晶層３０は、画素部３０ｄ（例えば、第１画素部３１及び第２画素部３２など）を有する。第１画素部３１は、第１画素電極１１と第２基板部２０ｕとの間に配置される。第２画素部３２は、第２画素電極１２と第２基板部２０ｕとの間に配置される。液晶層３０は、非画素部３０ｎをさらに含む。非画素部３０ｎは、画素間領域１５と第２基板部２０ｕとの間に配置される。
【００１７】
液晶層３０には、例えば、ネマティック液晶が用いられる。液晶層３０に含まれる液晶３５は、長軸方向３５Ｄ（ダイレクタ）を有する。液晶３５の長軸方向３５Ｄは、液晶層３０に印加される電圧に応じて変化する。すなわち、電圧に応じて液晶層３０の液晶配向が変化する。液晶配向の変化に伴って、例えば、液晶層３０の実効的な複屈折率（リタデーション）が変化する。実効的な複屈折率の変化が、偏光層により、光の明るさに変換される。これにより、表示が行われる。液晶配向の変化に伴って、旋光性（光学活性）が変化しても良い。
【００１８】
液晶表示装置１１０においては、観視者８０は、第２偏光層５２の側から、液晶表示装置１１０の表示を観視する。観視者８０と第１偏光層５１との間に、第２偏光層５２が配置される。第２偏光層５２の側が、表側に対応する。第１偏光層５１の側が、裏側に対応する。液晶表示装置１１０は、例えば、反射型の表示装置である。
【００１９】
表側から液晶表示装置１１０に入射した光（第２光Ｌ２）は、第２偏光層５２、第２基板部２０ｕ、液晶層３０を通過して、画素電極１０ｅ（例えば第１画素電極１１）に入射する。画素電極１０ｅに入射した第２光Ｌ２は、画素電極１０ｅで反射する。反射した第２光Ｌ２が、液晶層３０、第２基板部２０ｕ及び第２偏光層５２を通過して、表側から外部に出射する。
【００２０】
液晶層３０に印加される電圧に応じて、画素部３０ｄ（例えば第１画素部３１）において、液晶配向が変化し、画素部３０ｄにおける光学特性（例えば実効的な複屈折率、例えば、リタデーション）が変化する。光学特性の変化に応じて、第２偏光層５２を通過して外部に出射する第２光Ｌ２の明るさが変化する。画素部３０ｄにおける明るさが、電圧に応じて変化し、表示が行われる。
【００２１】
例えば、電圧を印加していない状態において、画素部３０ｄは、明状態である。所定の電圧を印加した状態において、画素部３０ｄは、暗状態である。例えば、液晶層３０が、しきい値を有する場合、所定の電圧は、しきい値よりも高い電圧（実効値が大きい電圧）である。例えば、画素部３０ｄにおいては、ノーマリブライト（例えば、ノーマリホワイト）の構成が適用される。後述するように、画素部３０ｄにおいて、ノーマリダーク（例えば、ノーマリブラック）の構成が適用される。
【００２２】
一方、非画素部３０ｎを通過する光（第１光Ｌ１）は、第１偏光層５１に入射可能である。例えば、第２偏光層５２、液晶層３０（非画素部３０ｎ）、及び、画素間領域１５を通過した第１光Ｌ１の少なくとも一部は、第１偏光層５１に入射可能である。そして、非画素部３０ｎを通過する光（第１光Ｌ１）の少なくとも一部は、第１偏光層５１により実質的に吸収される。すなわち、第１光Ｌ１が第１偏光層５１を通過する光（第３光Ｌ３）の強度は、非常に低い。非画素部３０ｎ（画素間領域１５）においては、例えば、液晶層３０には、実質的には電圧が印加されない。すなわち、非画素部３０ｎにおいては、液晶配向は、初期配向である。初期配向において、暗状態が形成される。すなわち、ノーマリダーク（ノーマリブラック）の構成が採用される。
【００２３】
画素間領域１５を通過した第１光Ｌ１が第１偏光層５１に吸収されることで、画素間領域１５において良好な暗状態が形成される。これにより、裏側からの光（裏側に配置された物体の像）は、表側に、実質的に通過しない。これにより、見易い表示が可能になる。後述するように、非画素部３０ｎにおいて、例えば、複数の画素電極１０ｅにより生じる斜め電界（Ｚ軸方向に対して傾斜する成分を有する電界）が印加されても良い。これにより、非画素部３０ｎにおいて、画素電極１０ｅに印加される電圧に応じて、液晶配向が変化しても良い。実施形態において、非画素部３０ｎにおける液晶配向の変化は、例えば、画素部３０ｄにおける液晶配向の変化よりも小さい。非画素部３０ｎにおける液晶配向の変化が表示に与える影響は、無視しても良い。
【００２４】
この例では、第２基板部２０ｕは、第２基板２０ｓをさらに含む。第２基板２０ｓは、光透過性である。第２基板２０ｓと液晶層３０との間に、対向電極２１が配置される。
【００２５】
一方、第１基板部１０ｕは、第１基板１０ｓと、配線１６（第１配線１６ａ及び第２配線１６ｂなど）と、第１スイッチング素子１７ａと、第２スイッチング素子１７ｂと、絶縁層１８と、をさらに含む。
【００２６】
第１基板１０ｓは、第１偏光層５１と液晶層３０との間に設けられる。第１基板１０ｓは、光透過性である。
【００２７】
第１スイッチング素子１７ａ（例えば、トランジスタまたは非線形抵抗素子など）は、第１画素電極１１と電気的に接続される。第１配線１６ａは、第１スイッチング素子１７ａと、電気的に接続される。例えば、第１配線１６ａは、信号線である。この信号線は、例えば、第１画素電極１１に電荷を供給する。電荷の供給が、第１スイッチング素子１７ａを介して行われる。または、第１配線１６ａは、走査線（ゲート線）でも良い。走査線には、第１スイッチング素子１７ａの動作を制御する信号が入力される。
【００２８】
第２スイッチング素子１７ｂ（例えば、トランジスタまたは非線形抵抗素子など）は、第２画素電極１２と電気的に接続される。第２配線１６ｂは、第２スイッチング素子１７ｂと、電気的に接続される。例えば、第２配線１６ｂは、例えば、信号線、または、走査線（ゲート線）である。
【００２９】
絶縁層１８は、第１配線１６ａと第１画素電極１１との間に設けられる。絶縁層１８は、第２配線１６ｂと第２画素電極１２との間にさらに設けられる。
【００３０】
第１配線１６ａの少なくとも一部は、第１画素電極１１と第１偏光層５１との間に位置する。第２配線１６ｂの少なくとも一部は、第２画素電極１２と第１偏光層５１との間に位置する。
【００３１】
第１基板部１０ｕにおいては、配線１６（及びスイッチング素子）が、絶縁層１８により覆われる。絶縁層１８の上に、画素電極１０ｅが設けられる。絶縁層１８により、配線１６と画素電極１０ｅとが絶縁される。これにより、画素電極１０ｅの面積率を向上できる。これにより、表示の明るさが向上できる。高いコントラスト比が得られる。
【００３２】
例えば、第１基板部１０ｕにおいて、画素間領域１５に、遮光層として、例えば配線層などを配置する第１参考例がある。この第１参考例においては、裏側からの光は、配線層で遮光されるため、裏側の像が観視されない。しかし、第１参考例においては、例えば、配線層での反射により、コントラスト比が低下する。例えば、第１光Ｌ１は、第２偏光層５２、非画素部３０ｎ及び画素間領域１５を通過し、配線層に入射する。配線層に入射した光は、配線層で反射して、第２偏光層５２に向けて進行する。この反射により、コントラスト比が低下する。
【００３３】
一方、第２基板部２０ｕに、画素間領域１５に対応させて遮光層（ブラックマトリクス）を設ける第２参考例がある。第２参考例においても、裏側の像が観視されない。しかし、第２参考例においては、遮光層の位置精度の向上には限界があるため、解像度を上げ、画素のピッチを小さくすると、画素電極１０ｅの面積比が低くなる。このため、明るさを十分に高めることが困難である。
【００３４】
本実施形態においては、画素間領域１５を通過する光（第１光Ｌ１）は、第１偏光層５１により吸収される。これにより、裏側の像は、実質的に観視されない。そして、第１光Ｌ１が配線層などによって反射して、第２偏光層５２に向けて進行することも、実質的に抑制される。実施形態においては、第２基板部２０ｕに遮光層（ブラックマトリクス）などを設けなくても良い。このため、解像度を高めた場合にも、画素電極１０ｅの、高い面積比が維持できる。
【００３５】
後述するように、実施形態において、第２基板部２０ｕに遮光層をさらに設けても良い。この例において、画素間領域１５を通過する第１光Ｌ１を第１偏光層５１で吸収させることで、第２基板部２０ｕに設けられる遮光層の、位置精度、及び、光学特性（光吸収性）に対する要求が緩和される。
【００３６】
実施形態において、光（第１光Ｌ１及び第２光Ｌ２など）は、可視光を含む。可視光の波長は、例えば、３８０ナノメートル（ｎｍ）以上７００ｎｍである。以下の説明においては、説明を簡単にするために、光の波長が５５０ｎｍである場合の特性について説明する。以下の説明は、可視光の他の波長の光に対しても適用できる。
【００３７】
実施形態において、第１基板１０ｓ及び第２基板２０ｓには、ガラス基板または樹脂基板が用いられる。
【００３８】
対向電極２１には、例えば、光透過性の導電材料が用いられる。対向電極２１には、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ及びＴｉよりなる群から選択された少なくともいずれかの元素を含む酸化物が用いられる。対向電極２１には、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などが用いられる。対向電極２１には、例えば、光透過性の薄い金属層を用いても良い。
【００３９】
対向電極２１は、光透過性である。光透過性の部材（第１基板１０ｓ、第２基板２０ｓ及び対向電極２１など）においては、透過率が、反射率よりも高い。光透過性の部材においては、透過率は、吸収率よりも高い。
【００４０】
画素電極１０ｅには、例えば、アルミニウムなどが用いられる。画素電極１０ｅは、光反射性である。光反射性の部材（画素電極１０ｅなど）においては、反射率が透過率よりも高い。光反射性の部材においては、例えば、反射率は、吸収率よりも高い。
【００４１】
例えば、画素電極１０ｅ（第１画素電極１１及び第２画素電極１２など）は、鏡面反射性であることが好ましい。例えば、画素電極１０ｅに入射して反射する光の偏光特性は、反射により実質的に変化しない。例えば、画素電極１０ｅにおいて、拡散反射性が高い場合は、反射光の偏光特性は、入射光の偏光特性から変化する場合がある。例えば、反射により偏光性が劣化すると、表示のコントラスト比が低下する場合がある。画素電極１０ｅが鏡面反射性の場合に、高いコントラスト比を得やすい。
【００４２】
画素電極１０ｅの表面は、比較的平坦である。これにより、鏡面反射性が得易い。
【００４３】
第１基板部１０ｕ及び第２基板部２０ｕのそれぞれは、配向膜（図示しない）をさらに含んでも良い。例えば、配向膜は、画素電極１０ｅ及び対向電極２１のそれぞれを覆う。配向膜は、液晶層３０の液晶を配向させる。配向膜には、例えば、ポリイミドなどの有機膜が用いられる。配向膜の特性（例えば異方性）により、液晶層３０の配向が定まる。例えば、配向膜にラビング処理が施される。配向膜には、例えば光配向処理などにより、異方性が設けられても良い。
【００４４】
液晶層３０には、例えば、ネマティック液晶が用いられる。液晶層３０は、カイラル剤を含んでも良い。液晶層３０の厚さｔＬＣは、例えば、画素電極１０ｅを覆う配向膜と、対向電極２１を覆う配向膜と、の間のＺ軸方向に沿った距離である。
【００４５】
液晶層３０は、第１部分ＬＣａと、第２部分ＬＣｂと、第３部分ＬＣｃと、を含む。対向電極２１と第１部分ＬＣａとの間に、第２部分ＬＣｂが配置される。第１部分ＬＣａと第２部分ＬＣｂとの間に第３部分ＬＣｃが配置される。第１部分ＬＣａは、液晶層３０のうちの、第１基板部１０ｕの側の部分である。第２部分ＬＣｂは、液晶層３０のうちの、第２基板部２０ｕの側の部分である。第３部分ＬＣｃは、中央部分である。
【００４６】
例えば、液晶層３０の誘電異方性は、正でも負でも良い。以下では、説明を簡単にするために、液晶層３０の誘電異方性が正である例について説明する。
【００４７】
例えば、液晶層３０に電圧が印加されない場合（初期状態）において、液晶層３０の液晶３５の長軸方向３５Ｄは、Ｘ−Ｙ平面に実質的に沿っている。例えば、液晶３５のプレチルト角（長軸方向３５ＤとＸ−Ｙ平面との間の角度）は、１０度以下であり、例えば、約５度である。液晶層３０に電圧を印加すると、液晶のチルト角が大きくなる。電圧印加時に、例えば、液晶層３０のうちの第３部分ＬＣｃにおいては、チルト角は約９０度になる。なお、液晶層３０の誘電異方性が負のときは、プレチルト角は、例えば、７０度以上９０度以下である。実施形態において、プレチルト角は任意である。
【００４８】
第１部分ＬＣａにおける液晶の配向方向（長軸方向３５Ｄ、液晶ダイレクタ方向）は、例えば、第１基板部１０ｕの配向膜の配向処理方向（例えば、ラビング方向）によって定まる。第２部分ＬＣｂにおける液晶の配向処理方向（長軸方向３５Ｄ、液晶ダイレクタ方向）は、例えば、第２基板部２０ｕの配向膜の配向方向（例えばラビング方向）によって定まる。
【００４９】
例えば、配向膜の配向処理方向（例えば、ラビング方向）に関する情報は、偏光を用いて配向膜を解析することで得られる。例えば、配向膜の配向処理方向に関する情報は、配向処理の不均一性（例えばラビング傷など）を観察することで得られる。例えば、画素電極１０ｅと対向電極２１との間に直流を含む電圧を印加することで、配向処理の不均一に基づく筋が見易くなる場合がある。この筋に基づいて、配向処理方向（及び長軸方向３５Ｄ）を求めることができる。
【００５０】
例えば、第１基板部１０ｕにおける配向処理方向を求めることで、第１部分ＬＣａにおける液晶の配向方向（長軸方向３５Ｄ）が求められる。第１部分ＬＣａにおける液晶の配向方向は、第１基板部１０ｕにおける配向処理方向に沿う。同様に、例えば、第２基板部２０ｕにおける配向処理方向を求めることで、第２部分ＬＣｂにおける液晶の配向方向（長軸方向３５Ｄ）が求められる。すなわち、第２部分ＬＣｂにおける液晶の配向方向は、第２基板部２０ｕにおける配向処理方向に沿う。
【００５１】
第１基板部１０ｕに設けられる配線１６（第１配線１６ａ及び第２配線１６ｂ）には、例えば、金属膜が用いられる。
【００５２】
第１スイッチング素子１７ａ及び第２スイッチング素子１７ｂに含まれる半導体層には、例えば、ポリシリコン、アモルファスシリコン、または、酸化物半導体が用いられる。酸化物半導体には、例えば、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）及び亜鉛（Ｚｎ）の少なくともいずれかを含む酸化物が用いられる。
【００５３】
絶縁層１８には、例えば、樹脂材料を用いることができる。樹脂材料として、例えば、アクリル樹脂及びポリイミド樹脂の少なくともいずれかが用いられる。絶縁層１８は、光吸収性を有していても良い。これにより、画素間領域１５における光の透過が抑制される。一方、絶縁層１８の光透過性が高い場合、絶縁層１８において、高い加工精度を得易い。絶縁層１８は、樹脂層と、無機層と、の積層膜を用いても良い。無機層として、例えば、窒化シリコン、酸窒化シリコン、及び、酸化シリコンの少なくともいずれかが用いられる。
【００５４】
第１偏光層５１及び第２偏光層５２には、偏光膜、または、偏光板などが用いられる。例えば、第１偏光層５１及び第２偏光層５２のそれぞれは、粘着層を含んでも良い。粘着層により、第１偏光層５１が第１基板部１０ｕに固定される。粘着層により、第２偏光層５２が第２基板部２０ｕに固定される。
【００５５】
図２は、第１の実施形態に係る別の液晶表示装置を例示する模式的断面図である。  
図２に表したように、本実施形態に係る別の液晶表示装置１１１においては、第１位相差層６１と第２位相差層６２とが、さらに設けられている。これ以外は、液晶表示装置１１０と同様なので、説明を省略する。
【００５６】
第１位相差層６１は、液晶層３０と第２偏光層５２との間に配置される。この例では、第１位相差層６１は、第２基板１０ｓと第２偏光層５２との間に配置されている。第２位相差層６２は、液晶層３０と第２偏光層５２との間に配置される。この例では、第２位相差層６２は、第１位相差層６１と第２偏光層５２との間に配置される。第１位相差層６１及び第２位相差層６２は、第２基板部２０ｕの一部とみなしても良い。第１位相差層６１及び第２位相差層６２が、第２基板部２０ｕとは別体であるとしても良い。
【００５７】
第１位相差層６１として、例えば、１／４波長板が用いられる。第１位相差層６１のリタデーションは、例えば、１００ナノメートル以上１５０ナノメートル以下である。
【００５８】
第２位相差層６２として。例えば、１／２波長板が用いられる。第２位相差層６２のリタデーションは、例えば、２４０ナノメートル以上２９０ナノメートル以下である。
【００５９】
例えば、第１位相差層６１及び第２位相差層６２には、延伸フィルムなどが用いられる。位相差層において、位相差層の複屈折率と、位相差層の厚さと、の積がリタデーションに対応する。リタデーションは、偏光を用いた解析により求めることができる。
【００６０】
第１位相差層６１は、例えば、入射する直線偏光を、実質的に円偏光に変化させる。第２位相差層６２は、例えば、入射する直線偏光の偏光方向を９０度変化させる。
【００６１】
これらの位相差層を用いることで、液晶層３０における光学特性（例えば、実効的な複屈折率）の変化を、光の明るさの変化に変化することが、効率的に行われる。すなわち、明るさを向上し、高いコントラスト比が得られる。波長依存性が小さくなる。
【００６２】
実施形態において、これらの位相差層は、必要に応じて設けられ、省略しても良い。第１位相差層６１を用いることで、例えば、高い明るさと、高いコントラスト比と、が得易くなる。第２位相差層６２を用いることで、例えば、光学特性の波長依存性が改善され、例えば、色づきが抑制される。
【００６３】
図３（ａ）〜図３（ｃ）は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式図である。  
図３（ａ）は、液晶表示装置１１１における、各光学層の光軸の配置を例示する模式的平面図である。図３（ｂ）は、非画素部３０ｎに入射する光（第１光Ｌ１）を例示している。図３（ｂ）は、画素部３０ｄに入射する光（第２光Ｌ２）を例示している。
【００６４】
図３（ａ）に例示したように、第１偏光層５１の吸収軸５１ａが、Ｘ軸方向に対して平行であるとする。以下の説明において、角度は、Ｘ軸方向を基準として、反時計回りの角度を正として説明する。
【００６５】
液晶層３０の第１部分ＬＣａにおける配向方向（第１配向方向ＬＣ１ａ）とＸ軸方向との間の角度を第１配向角θＬＣａとする。例えば、第１配向角θＬＣａは、８５度以上９５度以下である。この例では、第１配向角θＬＣａは、約９０度である。
【００６６】
液晶層３０の第２部分ＬＣｂにおける配向方向（第２配向方向ＬＣ１ｂ）とＸ軸方向との間の角度を第２配向角θＬＣｂとする。例えば、第２配向角θＬＣｂは、−１４０度以下−１８０度以上である。この例では、第２配向角θＬＣｂは、約−１６０度である。
【００６７】
第１配向方向ＬＣ１ａと、第２配向方向ＬＣ１ｂと、の間の角度の絶対値（ツイスト角θＬＣｔ）は、約６０度以上約８０度以下である。この例では、ツイスト角θＬＣｔは、７０度である。ツイスト角θＬＣｔは、液晶層３０中における液晶３５の長軸方向３５Ｄのツイスト角に相当する。
【００６８】
液晶層３０において、電圧を印加していない場合のリタデーション（プレチルト角は小さく無視する）は、例えば、１８０ｎｍ以上２６０ｎｍ以下である。すなわち、液晶層３０に含まれる液晶の屈折率異方性と、液晶層３０の厚さｔＬＣ（ｎｍ）との積は、１８０ナノメートル以上２６０ナノメートル以下である。
【００６９】
第１位相差層６１の遅延軸６１ａと、Ｘ軸方向（第１偏光層５１の吸収軸５１ａ）との間の第１位相差角度θ６１は、例えば、２０度以上４０度以下である。この例では、第１位相差角度θ６１は、２８．５度である。
【００７０】
第２位相差層６２の遅延軸６２ａと、Ｘ軸方向（第１偏光層５１の吸収軸５１ａ）との間の第２位相差角度θ６２は、例えば、８５度以上１０５度以下である。この例では、第２位相差角度θ６２は、９３．５度である。
【００７１】
第２偏光層５２の吸収軸５２ａは、第１偏光層５１の吸収軸５１ａと交差する。例えば、第１偏光層５１の吸収軸５１ａと第２偏光層５２の吸収軸５２ａとの間の角度θ５２は、４５度以上１００度以下である。角度θ５２は、７５度以上９５度以下であることがさらに好ましい。このような角度θ５２を用いることで、高いコントラスト比と、高い明るさとが得られる。この例では、角度θ５２は、７９．５度である。角度θ５２が、４５度未満の場合は、例えば、反射スペクトルが平坦でなくなり、明状態において、着色が発生し易くなり、コントラストが低下し易くなる。
【００７２】
図３（ｂ）に表したように、非画素部３０ｎ（画素間領域１５）に入射する第１光Ｌ１が第１偏光層５１で実質的に吸収されるように、上記の光学層のそれぞれの特性が設定される。
【００７３】
図３（ｃ）に表したように、画素部３０ｄに入射する第２光Ｌ２が画素電極１０ｅ（第１画素電極１１及び第２画素電極１２）で反射して、第２偏光層５２を透過するように、上記の光学層のそれぞれの特性が設定される。
【００７４】
図４（ａ）〜図４（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶表示装置の特性を例示するグラフ図である。  
図４（ａ）及び第４（ｂ）は、非画素部３０ｎを通過する光の特性のシミュレーション結果を例示している。図４（ｃ）は、画素部３０ｄを通過する光の特性のシミュレーション結果を例示している。これらの図において、横軸は、波長λ（ｎｍ）である。
【００７５】
図４（ａ）における縦軸は、透過率Ｔｒである。透過率Ｔｒは、第２偏光層５２の側から入射する光の強度に対する、第２偏光層５２、液晶層３０、画素間領域１５及び第１偏光層５１を通過して、第１偏光層５１から出射する光の強度の比である。透過率Ｔｒは、第１偏光層５１、画素間領域１５、液晶層３０及び第２偏光層５２を通過する光の透過率に対応する。
【００７６】
図４（ｂ）の縦軸は、反射率Ｒｆである。この例では、液晶表示装置の裏側に反射体が配置される場合が想定されている。この例では、反射体として、画素電極１０ｅと同じ材料の層が配置されていることが想定されている。この場合の反射率Ｒｆは、第２偏光層５２の側から入射する光の強度に対する、第２偏光層５２、液晶層３０、画素間領域１５及び第１偏光層５１を通過し、裏側の反射体で反射して、第１偏光層５１、画素間領域１５及び液晶層３０を通過して、第２偏光層５２から出射する光の強度の比である。
【００７７】
図４（ｃ）の縦軸は、反射率Ｒｆである。反射率Ｒｆは、第２偏光層５２の側から入射する光の強度に対する、画素電極１０ｅで反射して第２偏光層５２から出射する光の強度の比である。
【００７８】
これらの図において、実線は、オフ状態に対応し、破線は、オン状態に対応する。オフ状態においては、画素電極１０ｅと対向電極２１との間の電位差が、例えば０に設定される。このとき、液晶層３０には、電圧が印加されない。オン状態においては、例えば、画素電極１０ｅと対向電極２１との間にしきい値電圧よりも高い電圧（オン電圧）が印加される。このとき、液晶層３０には、オン電圧が実質的に印加される。簡単のために、配向膜による電圧降下は無視されている。
【００７９】
この例では、第１配向方向ＬＣ１ａは、９０度である。第２配向角θＬＣｂは、約−１６０度である。ツイスト角θＬＣｔは、７０度である。液晶層３０に含まれる液晶の屈折率異方性と、液晶層３０の厚さｔＬＣと、の積は、２２０ｎｍである。第１位相差層６１において、第１位相差角度θ６１は、２８．５度である。第２位相差層６２において、第２位相差角度θ６２は、９３．５度である。角度θ５２は、７９．５度である。
【００８０】
図４（ｃ）に表したように、オフ状態（実線、第２光Ｌ２）において、画素部３０ｄにおける反射率Ｒｆは、高く、例えば、約０．３５〜０．４０である。オン状態（破線、第４光Ｌ４）において、画素部３０ｄにおける反射率Ｒｆは、低い。なお、このときの波長は、５５０ｎｍである。このように、画素部３０ｄにおいては、印加電圧によって、反射率Ｒｆが大きく変化する。これにより、表示が行われる。この例では、画素部３０ｄのオフ状態が表示の明状態に対応する。画素部３０ｄのオン状態が表示の暗状態に対応する。この例では、ノーマリブライト（ノーマリホワイト）の表示が行われる。
【００８１】
一方、図４（ａ）に表したように、オフ状態（実線、第３光Ｌ３）において、非画素部３０ｎにおける透過率Ｔｒは、低い。この例では、オン状態（破線、第５光Ｌ５）において、非画素部３０ｎにおける透過率Ｔｒは、オフ状態（実線）よりも高い。オン状態（破線）において、非画素部３０ｎにおける透過率Ｔｒは、約０．１８以上０．２０以下である。例えば、オン電圧により、非画素部３０ｎに斜め電界が印加され、その結果、非画素部３０ｎの液晶配向が変化する。これにより、非画素部３０ｎにおける透過率Ｔｒがオフ状態よりも上昇する。
【００８２】
図４（ｂ）に表したように、オフ状態（実線）において、非画素部３０ｎにおける反射率Ｒｆは、低い。この例では、オン状態（破線）において、非画素部３０ｎにおける反射率Ｒｆは、オフ状態（実線）よりも高い。オン状態（破線）において、非画素部３０ｎにおける反射率Ｒｆは、約０．０７以上０．０９以下である。この場合も、オン電圧により、非画素部３０ｎに斜め電界が印加され、その結果、非画素部３０ｎの液晶配向が変化する。これにより、非画素部３０ｎにおける反射率Ｒｆがオフ状態よりも上昇する。
【００８３】
非画素部３０ｎにおいては、画素部３０ｄがオフ状態のときよりも、画素部３０ｄがオン状態のときに、相対的に透過率Ｔｒが上昇する。すなわち、非画素部３０ｎにおいては、ノーマリダーク（ノーマリブラック）である。このように、この例では、非画素部３０ｎと画素部３０ｄとにおいて、ノーマリブライトとノーマリダークとの関係が入れ替わる。
【００８４】
非画素部３０ｎにおける透過率Ｔｒは、オフ状態においてもオン状態においても、画素部３０ｄの明状態の反射率Ｒｆよりも十分に低い。これにより、裏側の像が第２偏光層５２を通過して、観視者８０に到達することが抑制される。これにより、見易い表示が実現できる。
【００８５】
図４（ｂ）に例示したように、非画素部３０ｎ（画素間領域１５）においては、オン時の透過率Ｔｒ（破線）が、オフ時（実線）よりも高くなっている。このため、オン時は、裏側の像が、表側から観視されることがある。ただし、その透過率Ｔｒが低いため、実用的には、問題にならない。オン時には、画素部３０ｄにおいて、所望の表示が行われる。画素部３０ｄにおいて表示が行われることで、非画素部３０ｎにおける光の透過は、知覚され難い。一方、オフ時には、画素部３０ｄにおいては表示が行われず、表示面の全体が均一な明るさになっている。このため、非画素部３０ｎにおける光の透過により、裏側の像が知覚され易い。本実施形態においては、オフ時において、非画素部３０ｎの光透過を抑制することで、裏側の像を知覚され難くできる。
【００８６】
画素電極１０ｅと対向電極２１との間の電位差が小さいときが、オフ状態に対応する。オフ状態において、第１画素電極１１と対向電極２１との間の電位差が第１電圧であるとする。第１電圧は、例えば、液晶層３０の配向変化のためのしきい値よりも小さい電圧である。
【００８７】
第１画素電極１１と対向電極２１との間の電位差が第１電圧であるときに、第２偏光層５２と、第１画素部３１と、を通過して第１画素電極１１に入射して第１画素電極１１で反射し第１画素部３１及び第２偏光層５２を通過する光を第２光Ｌ２とする。第２光Ｌ２の反射率が、図４（ｂ）に実線で例示された特性に対応する。
【００８８】
一方、第１画素電極１１と対向電極２１との間の電位差が第１電圧であるときに、第１光Ｌ１の少なくとも一部が第１偏光層５１に入射する。この光は、第１偏光層５１から出射して第３光Ｌ３となる。第３光Ｌ３（第２偏光層５２、液晶層３０、画素間領域１５及び第１偏光層５１を通過する光）の透過率が、図４（ａ）に実線で例示された特性に対応する。第３光Ｌ３の透過率Ｔｒは、実質的に０であり、第３光Ｌ３は非常に暗い。  
このとき（オフ状態）、第２光Ｌ２の強度は、第３光Ｌ３の強度よりも高い。
【００８９】
一方、画素電極１０ｅと対向電極２１との間の電位差が大きいときが、オン状態に対応する。オン状態において、第１画素電極１１と対向電極２１との間の電位差が第２電圧であるとする。第２電圧は、例えば、液晶層３０の配向変化のためのしきい値よりも大きい電圧である。例えば、第２電圧の実効値は、第１電圧の実効値よりも大きい。
【００９０】
オン状態において（第１画素電極１１と対向電極２１との間の電位差が第２電圧であるとき）、第２偏光層５２と、第１画素部３１と、を通過して第１画素電極１１に入射して第１画素電極１１で反射し第１画素部３１及び第２偏光層５２を通過する光を第４光Ｌ４とする。第４光Ｌ４の反射率Ｒｆが、図４（ｂ）に破線で例示された特性に対応する。  
実施形態においては、例えば、オフ状態の第２光Ｌ２の強度は、オン状態の第４光Ｌ４の強度よりも高い。
【００９１】
例えば、図４（ａ）〜図４（ｃ）に例示したように、実施形態において、画素部３０ｄと非画素部３０ｎとで、明暗の関係が入れ替わっても良い。例えば、液晶表示装置１１０（または１１１）に第２偏光層５２の側から光（照明光）を照射した場合において、以下の特性が得られる。第１画素電極１１と対向電極２１との間の電位差が第１電圧であるときに、画素部３０ｄは、第１明状態である。第１画素電極１１と対向電極２１との間の電位差が第１電圧とは異なる第２電圧であるときに、画素部３０ｄは、第１暗状態である。第１暗状態は、第１明状態よりも暗い。第１画素電極１１と対向電極２１との間の電位差が第１電圧であるときに、非画素部３０ｎは、第１暗状態である。第１画素電極１１と対向電極２１との間の電位差が第１電圧とは異なる第２電圧であるときに、非画素部３０ｎは、第２明状態である。第２暗状態は、第２明状態よりも暗い。
【００９２】
例えば、第２電圧の実効値が第１電圧の実効値よりも大きい。このとき、画素部３０ｄにおいては、ノーマリブライトの表示が行われる。一方、実施形態において、第２電圧の実効値が第１電圧の実効値よりも小さくても良い。このとき、画素部３０ｄにおいては、ノーマリダークの表示が行われる。
【００９３】
図５（ａ）及び図５（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶表示装置の動作を例示する模式図である。  
図５（ａ）は、非表示状態ＳＴ１に対応し、図５（ｂ）は、表示状態ＳＴ２に対応する。非表示状態ＳＴ１においては、画素電極１０ｅと対向電極２１との間の電圧が、しきい値よりも低い。例えば、実質的に０ボルトである。このとき、液晶層３０に印加される電圧は、実質的に０ボルトである。非表示状態ＳＴ１は、例えばオフ状態である。表示状態ＳＴ２においては、複数の画素電極１０ｅのそれぞれは、表示内容に対応して、所望の電位に設定される。複数の画素電極１０ｅのそれぞれと対向電極２１との間の電圧が、表示内容に対応して、種々の電圧に設定される。この例では、表示状態ＳＴ２においては、例として、チェッカーパターンが表示されている。
【００９４】
図５（ａ）に例示したように、非表示状態ＳＴ１においては、液晶表示装置１１０（１１１）の裏側に配置された物体７５の像は、観視され難く、実質的に知覚されない。これは、非画素部３０ｎにおける透過率Ｔｒ（及び反射率Ｒｆ）が低いことによる。
【００９５】
図５（ｂ）に例示したように、表示状態ＳＴ２においては、例えば、非画素部３０ｎの透過率Ｔｒが場合によっては、非表示状態ＳＴ１よりも上昇する場合があり、裏側の物体７５が透過して観視可能な場合がある。しかしながら、表示状態ＳＴ２においては、所望の表示内容が表示され、表示領域の明るさは均一ではない。このため、表示状態ＳＴ２において裏側の物体７５が観視されることは、実質的には問題になり難い。
【００９６】
非表示状態ＳＴ１においては、表示領域の明るさが均一であるため、もし裏側の物体７５が非画素部３０ｎを介して観視されると、物体７５の像は知覚されやすい。一方、表示状態ＳＴ２においては、裏側の物体７５が非画素部３０ｎを介して観視されても、物体７５の像は知覚され難い場合が多い。実施形態においては、例えば、オフ状態（非表示状態ＳＴ１）において、表示装置の裏側の物体７５が透過して知覚されにくいように設計される。これにより、見易い液晶表示装置が提供できる。
【００９７】
図６は、第１の実施形態に係る液晶表示装置の特性を例示する模式図である。  
図６は、液晶表示装置１１１における、光の偏光状態の例を、液晶表示装置１１１の断面と供に例示している。
【００９８】
図６に例示したように、第２偏光層５２に入射する前の光は、自然光であり、偏光していない。第２偏光層５２を通過した後に、光は、実質的に直線偏光になる。第２位相差層６２を通過した後には、光の偏光方向が、９０度回転する。第１位相差層６１を通過した後は、光は、実質的に円偏光となる。この例では、時計回りの円偏光である。液晶層３０を通過して、画素電極１０ｅに入射する直前において、光は、実質的に直線偏光となる。画素電極１０ｅで反射した光において、偏光状態が実質的に維持される。
【００９９】
画素電極１０ｅで反射した光が液晶層３０を通過した後に、実質的に円偏光になる。この円偏光は、時計回りの円偏光である。第１位相差層６１を通過した後に、光は直線偏光となる。第２位相差層６２を通過した後に、光の偏光方向が９０度回転する。この光が、第２偏光層５２に入射する。第２偏光層５２に入射する光（直線偏光）の軸方向は、第２偏光層５２の透過方向に沿っている。これにより、明状態が得られる。
【０１００】
例えば、図６に例示した状態は、液晶層３０に電圧が印加されていない状態（電位差が例えば第１電圧）である。
【０１０１】
一方、液晶層３０に電圧が印加されると、液晶層３０における実効的なリタデーションが変化し、画素電極１０ｅに入射する直前の光が、例えば、直線偏光ではなくなる。その光が、画素電極１０ｅで反射し、液晶層３０、第１位相差層６１及び第２位相差層６２を通過して第２偏光層５２に入射する。第２偏光層５２に入射する光は、第２偏光層５２の吸収軸に沿った偏光成分を有しており、第２偏光層５２で吸収される。すなわち、暗状態が得られる。
【０１０２】
一方、画素間領域１５においては、第２偏光層５２に入射し、第２位相差層６２、第１位相差層６１及び液晶層３０を通過した光が、第１偏光層５１に入射する。このとき、第１偏光層５１の吸収軸を、液晶層３０を通過した光の偏光方向に沿って配置する。これにより、画素間領域１５においては、液晶層３０を通過した光が、第１偏光層５１で吸収される。
【０１０３】
液晶層３０と第１偏光層５１との間には、位相差層が設けられないことが好ましい。液晶層３０と第１偏光層５１との間に位相差層が設けられると、例えば、画素間領域１５を通過した光が、その位相差層において、直線偏光から楕円偏光に変化する。この楕円偏光の成分の一部は、第１偏光層５１を通過する。換言すると、裏側からの光が、第２偏光層５２を透過してしまう。
【０１０４】
実施形態においては、液晶層３０と第１偏光層５１との間の領域におけるリタデーションは、例えば、５０ｎｍ以下（好ましくは２０ｎｍ以下）であることが好ましい。これにより、上記の楕円偏光が抑制できる。画素間領域１５において、透過率Ｔｒをより低くできる。より高いコントラスト比でより明るい表示が可能になる。
【０１０５】
さらに、例えば、液晶層３０と第１偏光層５１との間に位相差層を設けると、その位相差層の厚さにより、液晶表示装置が厚くなり、重くなる。このため、液晶層３０と第１偏光層５１との間には、位相差層を設けないことが、好ましい。
【０１０６】
本実施形態に係る液晶表示装置１１０及び１１１においては、表裏の両方に偏光層が配置される。既に説明したように、これらの偏光層は、例えば、粘着層により第１基板部１０ｕ及び第２基板部２０ｕのそれぞれに固定される（位相差層が設けられる場合は、位相差層を介して固定される）。表裏の両方に、同様の特性を有する偏光層（例えば偏光板）を配置することで、液晶表示装置の機械的強度が向上する。例えば、液晶表示装置における反りが抑制される。
【０１０７】
例えば、第２偏光層５２を設け、第１偏光層５１の代わりに、光吸収層を設ける第３参考例が考えられる。この場合、表裏の構成が非対称になる。このため、液晶表示装置において、大きな反りが発生し易くなる。例えば、偏光層（偏光板）は、延伸して製造される。このため、偏光層に加わる熱履歴などによって、偏光層が収縮する場合がある。表裏に同様の特性を有する偏光層を配置することで、表裏の両方で収縮が生じるため、発生する反りは小さくできる。高信頼性の液晶表示装置が提供できる。
【０１０８】
（第２の実施形態）  
図７は、第２の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式的断面図である。  
図７に表したように、本実施形態に係る液晶表示装置１２０においては、光学層６５がさらに設けられている。光学層６５は、第２偏光層５２と対向電極２１との間に設けられる。これ以外は、液晶表示装置１１０と同様なので説明を省略する。
【０１０９】
光学層６５は、第２基板部２０ｕの一部としてみなしても良い。光学層６５は、第２基板部２０ｕとは別体としても良い。
【０１１０】
光学層６５は、光学層６５に入射する光の進行方向を変更する。光学層６５は、例えば、光学層６５に入射する光を拡散（例えば散乱）する。例えば、光学層６５は、光学層６５に入射する光の拡散光（例えば散乱光）の強度を、光学層６５に入射する光の方向（Ｘ−Ｙ平面内の方向）に応じて変化させる。光学層６５の構成及び特性の例は、後述する。
【０１１１】
光学層６５において、入射する光の偏光特性は、実質的に維持される。光学層６５を用いることで、画素電極１０ｅが比較的高い鏡面反射性を有していた場合においても、画素電極１０ｅにおける像の写り込みが抑制され、見易い表示が可能になる。
【０１１２】
光学層６５のヘイズは、例えば、７０％以上９５％以下である。これにより、良好な散乱性が得られ、良好なコントラスト比の表示が提供できる。
【０１１３】
図８（ａ）〜図８（ｄ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置の一部を例示する模式図である。  
これらの図は、光学層６５を例示している。図８（ａ）は、光学層６５を例示する模式的断面図である。図８（ｂ）は、光学層６５を例示する模式的平面図である。図８（ｃ）は、別の例の光学層６５を示す模式的平面図である。図８（ｄ）は、光学層６５の別の例を示す模式的断面図である。
【０１１４】
図８（ａ）に例示したように、光学層６５は、複数の第１光学部６６と、第２光学部６７と、を含む。複数の第１光学部６６は、Ｘ−Ｙ平面内（第１主面１０ａに対して平行な平面内）に配置される。複数の第１光学部６６は、光透過性である。第２光学部６７は、複数の第１光学部６６のうちの任意の２つ間に設けられる。第２光学部６７も光透過性である。この例では、複数の第２光学部６７が設けられている。複数の第１光学部６６と、複数の第２光学部６７と、が交互に配置されている。例えば、複数の第１光学部６６の少なくともいずれかと、第２光学部６７との間の境界６８は、Ｘ−Ｙ平面に対して傾斜している。第２光学部６７の屈折率は、第１光学部６６の屈折率よりも高い、または、低い。
【０１１５】
例えば、光学層６５に第１入射方向から入射する光（第１入射光Ｌｉ１）の光学層６５における散乱光の強度は、光学層６５に第２入射方向から入射する光（第２入射光Ｌｉ２）の光学層６５における散乱光の強度とは異なる。ここで、第１入射方向の、Ｘ−Ｙ平面内の方向は、第２入射方向の、Ｘ−Ｙ平面内の方向とは異なる。
【０１１６】
例えば、第１入射光Ｌｉ１の光学層６５における散乱光の強度は、第２入射光Ｌｉ２の光学層６５における散乱光の強度よりも高い。例えば、第１入射光Ｌｉ１は光学層６５で散乱されて拡散する。一方、第２入射光Ｌｉ２においては、光学層６５における散乱（拡散）の程度が低く、透過性が高い。例えば、境界６８がＸ−Ｙ平面に対して傾斜していることで、このような散乱特性が得られる。光学層６５は、例えば、異方性散乱層である。光学層６５は、異方性前方散乱フィルムである。
【０１１７】
光学層６５においては、例えば、屈折率が高い領域と、低い領域と、が設けられている。光学層６５は、例えば、透明フィルムである。光学層６５においては、光の入射方向によって、例えば、散乱の程度が異なる。光学層６５は、「散乱中心軸」を有する。散乱中心軸は、例えば、図８（ａ）に例示した第１入射光Ｌｉ１の光軸に対応する。散乱中心軸は、例えば、最も散乱する光の入射方向に対応する。
【０１１８】
図８（ｂ）に例示したように、複数の第１光学部６６は、帯状である。例えば、第１光学部６６及び第２光学部６７のそれぞれは、Ｚ軸方向に対して交差（例えば直交）する１つの方向に沿って延在する。この例では、光学層６５は、例えば、ルーバ構造タイプである。
【０１１９】
図８（ｃ）に例示した別の例では、複数の第１光学部６６は、互いに離間した島状である。この例では、光学層６５は、例えば、柱状構造タイプである。
【０１２０】
図８（ｄ）に例示した例では、光学層６５は、複数の層（第１層６５ａ及び第２層６５ｂなど）を含む。これらの層は、Ｚ軸方向に沿って積層されている。第１層６５ａは、Ｘ−Ｙ平面内に配置された光透過性の複数の第１光学部６６ａと、複数の第１光学部６６ａのうちの２つの間に設けられた光透過性の第２光学部６７ａと、を含む。第２光学部６７ａの屈折率は、複数の第１光学部６６ａのそれぞれの屈折率とは異なる。この場合も、複数の第１光学部６６ａの少なくともいずれかと第２光学部６７ａとの間の境界６８ａは、Ｘ−Ｙ面に対して傾斜している。
【０１２１】
第２層６５ｂは、Ｘ−Ｙ平面内に配置された光透過性の複数の第３光学部６６ｂと、複数の第３光学部６６ｂのうちの２つの間に設けられた光透過性の第４光学部６７ｂと、を含む。第４光学部６７ｂの屈折率は、複数の第３光学部６６ｂのそれぞれの屈折率とは異なる。複数の第３光学部６６ｂの少なくともいずれかと第４光学部６７ｂとの間の境界６８ｂは、Ｘ−Ｙ面に対して傾斜している。例えば、境界６８ｂの延在方向は、境界６８ａの延在方向に沿っている。例えば、境界６８ｂを含む平面と、境界６８ａを含む平面と、の間の角度は、３０度以下でも良い。光学層６５に複数の層を設けることで、例えば、拡散範囲が拡大する。光学層６５に複数の層を設けることで、着色（例えば、虹色の発生）などが抑制できる。光学層６５に設けられる層の数は、３以上でも良い。
【０１２２】
図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置の特性を例示する模式的平面図である。  
これらの図は、光学層６５の特性を例示する模式図であり、光学層６５に光が入射したときの光学層６５を通過する光の強度を模式的に例示している。図９（ａ）は、第１入射光Ｌｉ１が入射したときに対応する。この例では、第１入射光Ｌｉ１は、Ｙ−Ｚ平面に沿って光学層６５に入射している。第１入射光Ｌｉ１の入射角（Ｚ軸方向と第１入射光Ｌｉ１との間の角度）は、３０度である。図９（ａ）は、例えば、散乱中心軸に対して平行な方向から光が入射する場合に対応する。図９（ｂ）は、第３入射光Ｌｉ３が入射したときに対応する。この例では、第３入射光Ｌｉ１は、Ｘ−Ｚ平面に沿って光学層６５に入射している。第３入射光Ｌｉ３の入射角（Ｚ軸方向と第３入射光Ｌｉ３との間の角度）は、３０度である。図９（ｂ）は、例えば、散乱中心軸に対して垂直な方向から光が入射する場合に対応する。
【０１２３】
こらの図に描かれている同心円は、Ｚ軸方向を基準にした角度（等角度線）に対応する。同心円の中心は、光学層６５から、実質的にＺ軸方向に沿って出射する透過光（垂直出射光）に対応する。これらの図に描かれている明るい領域Ｂ１及びＢ２は、透過光の強度が高い領域である。
【０１２４】
図９（ａ）に表したように、例えば、Ｙ軸方向に沿った第１入射光Ｌｉ１においては、垂直出射光の強度が高い。そして、Ｙ−Ｚ平面内で傾斜する方向に出射する透過光の強度も高い。
【０１２５】
図９（ｂ）に表したように、例えば、Ｘ軸方向に沿った第３入射光Ｌｉ３においては、垂直出射光の強度が低い。そして、Ｘ−Ｚ平面内で傾斜する方向（垂直方向から傾斜した方向）において、透過光の強度が高い。
【０１２６】
このように、光学層６５においては、光学層６５に第１入射方向から入射する光（例えば第１入射光Ｌｉ１）の光学層６５における光の強度は、光学層６５に第２入射方向から入射する光（第２入射光Ｌｉ２または第３入射光Ｌｉ３など）の光学層６５における光の強度とは異なる。
【０１２７】
図１０（ａ）〜図１０（ｃ）は、液晶表示装置及び電子装置の特性を例示する模式的断面である。  
図１０（ａ）は、実施形態に係る液晶表示装置１２０の特性を例示している。この図は、液晶表示装置１２０を用いた電子装置２２０の構成及び特性も例示している。図１０（ｂ）及び図１０（ｃ）は、それぞれ、第４参考例の液晶表示装置１２８及び第５参考例の液晶表示装置１２９の特性を例示している。図１０（ｂ）及び図１０（ｃ）は、それぞれ、液晶表示装置１２８及び１２９を用いた電子装置２２８及び２２９の構成及び特性も例示している。
【０１２８】
図１０（ａ）に例示したように、電子装置２２０は、液晶表示装置１２０と、電子部材７０と、を含む。液晶表示装置として、実施形態に係る任意の液晶表示装置を用いても良い。電子部材７０と第２偏光層５２との間に、第１偏光層５１、第１基板部１０ｕ、液晶層３０及び第２基板部２０ｕが配置されている。このように、液晶表示装置１２０は、電子装置２２０などに応用できる。電子装置２２０は、例えば、情報端末機器、コンピュータまたはカメラなど、表示部を有する任意の装置（例えば電子機器）を含む。
【０１２９】
この例では、電子部材７０は、基板７２と、反射部７１と、を含む。基板７２と液晶表示装置１２０との間に反射部７１が配置されている。基板７２は、例えば、電子部品が実装される基板である。反射部７１は、基板７２上に設けられる配線などである。反射部７１は、基板７２に実装される電子素子（抵抗、ダイオード、トランジスタなど）でも良い。反射部７１は、光を反射する。例えば、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、反射部７１の少なくとも一部は、画素間領域１５（例えば非画素部３０ｎ）と重なる。例えば、反射部７１の反射率は、基板７２の反射率とは異なる。
【０１３０】
例えば、光Ｌｂ１が、第２偏光層５２の側から液晶表示装置１２０に入射する。液晶表示装置１２０においては、非画素部３０ｎの透過率Ｔｒが低いため、光Ｌｂ１は、電子部材７０に実質的に入射しない。このため、電子部材７０は、実質的に観視されない。一方、光Ｌａ１は、画素電極１０ｅで反射して、光Ｌａ２として出射する。光Ｌａ１のうちで画素電極１０ｅで反射した光の一部は、光学層６５で進行方向が変更される。例えば、進行方向が正面方向（Ｚ軸方向）に沿うように変更された光Ｌａ３が、観視者８０によって、観視される。所望の表示が観視者に提供できる。
【０１３１】
一方、図１０（ｂ）に例示した第４参考例の液晶表示装置１２８においては、非画素部３０ｎの透過率Ｔｒが高い。例えば、偏光層の角度などが適切でない場合に、非画素部３０ｎの透過率Ｔｒが高くなる。すなわち、第２偏光層５２、液晶層３０及び画素間領域１５を通過した第１光Ｌ１の少なくとも一部は、第１偏光層５１に入射するが、第１光のその少なくとも一部の光は、第１偏光層５１で十分に吸収されない。この場合は、液晶表示装置１２８に入射した光Ｌｂ１は、第１偏光層５１を通過して電子部材７０に入射し、電子部材７０で反射して、液晶表示装置１２８から出射する。すなわち、光Ｌｂ２が生じる。電子部材７０で反射した光の一部の進行方向が、光学層６５で変更され、光Ｌｂ３として、液晶表示装置１２８から出射する。光Ｌｂ３は、例えば、正面方向（Ｚ軸方向）に出射する光であり、観視者８０によって観視される。すなわち、この第４参考例においては、画素間領域１５から、電子部材７０が、観視者８０によって観視される。特に、電子部材７０が反射部７１と基板７２とを有しており、反射部７１の端が画素間領域１５と重なる場合、反射部７１のパターン形状が知覚され易い。このため、光学層６５を用いた液晶表示装置においては、画素間領域１５（非画素部３０ｎ）の透過率Ｔｒ（反射率Ｒｆ）を低くすることが特に効果的である。
【０１３２】
実施形態においては、画素間領域１５（非画素部３０ｎ）の透過率Ｔｒ（反射率Ｒｆ）を低くしているため、光学層６５を用いた場合においても、電子部材７０が観視者８０によって知覚されることが抑制できる。これにより、見易い表示が提供できる。
【０１３３】
一方、図１０（ｃ）に例示したように、第５参考例の液晶表示装置１２９においては、光学層６５が設けられておらず、画素電極１０ｅが拡散反射性である。例えば、画素電極１０ｅの表面に凹凸が設けられている。画素電極１０ｅが拡散反射性であることにより、鏡面反射が抑制されている。第５参考例において、非画素部３０ｎの透過率Ｔｒが高くても、画素間領域１５を介して電子部材７０が観視者８０によって観視されることは、比較的問題になり難い。例えば、光Ｌｂ１は、画素間領域１５及び第１偏光層５１を通過して電子部材７０に入射し、電子部材７０で反射して、光Ｌｂ２として出射する。このとき、光学層６５が設けられていないため、光は正面方向に出射しない。このため、電子部材７０は、正面方向から視認する観視者８０には、知覚され難くい。反射部７１のパターン形状は、知覚され難い。
【０１３４】
このように、光学層６５を用いる場合において、画素間領域１５（非画素部３０ｎ）の透過率Ｔｒ（反射率Ｒｆ）を低くすることで、電子部材７０の知覚を効果的に抑制できる。特に、光学層６５と、鏡面反射性の画素電極１０ｅと、を組み合わせる場合において、画素間領域１５（非画素部３０ｎ）の透過率Ｔｒ（反射率Ｒｆ）を低くすることで、電子部材７０の知覚を効果的に抑制できる。
【０１３５】
例えば、電子装置２２０においては、第１光Ｌ１の少なくとも一部が、第１偏光層５１に入射して、電子部材７０で反射して、第１偏光層５１、第１基板部１０ｕ、液晶層３０及び第２基板部２０ｕを通過して第２偏光層５２から出射する光の強度は、第２光Ｌ２の強度よりも低い。第２光Ｌ２は、第１画素電極１１と対向電極２１との間の電位差が第１電圧（例えばオフ電圧）であるときに、第２偏光層５２と、第１画素部３１（液晶層３０のうちの、第１画素電極１１及び対向電極との間の部分）と、を通過して第１画素電極１１に入射して第１画素電極１１で反射し第１画素部３１及び第２偏光層５２を通過する光である。
【０１３６】
例えば、電子装置２２０においては、第１光Ｌ１の少なくとも一部が、第１偏光層５１に入射して、電子部材７０で反射して、第１偏光層５１、第１基板部１０ｕ、液晶層３０及び第２基板部２０ｕを通過して第２偏光層５２から出射する光の強度は、第４光Ｌ４の強度よりも低い。第４光Ｌ４は、第１画素電極１１と対向電極２１との間の電位差が第２電圧（例えばオン電圧）であるときに、第２偏光層５２と、第１画素部３１と、を通過して第１画素電極１１に入射して第１画素電極１１で反射し第１画素部３１及び第２偏光層５２を通過する光である。  
実施形態に係る電子装置２２０によれば、見易い表示が提供できる。
【０１３７】
図１１は、第２の実施形態に係る別の液晶表示装置を例示する模式的断面図である。  
図１１に表したように、本実施形態に係る別の液晶表示装置１２１においては、光学層６５が、第１位相差層６１と第２位相差層６２との間に配置されている。これ以外は、液晶表示装置１１１と同様である。
【０１３８】
図１２は、第２の実施形態に係る別の液晶表示装置を例示する模式的断面図である。  
図１２に表したように、本実施形態に係る別の液晶表示装置１２２においては、光学層６５が、第１位相差層６１と対向電極２１との間に配置されている。この例では、光学層６５は、第１位相差層６１と第２基板２０ｓとの間に配置されている。これ以外は、液晶表示装置１１１と同様である。  
液晶表示装置１２１及び１２２においても、見易い表示が可能になる。
【０１３９】
（第３の実施形態）  
図１３は、第３の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式的断面図である。  
図１３に表したように、本実施形態に係る液晶表示装置１３０においては、第２基板部２０ｕに、着色層２５がさらに設けられている。対向電極２１は、着色層２５と液晶層３０との間に配置される。着色層２５と対向電極２１との間に、平坦化層（オーバーコート層）が設けられても良い。これ以外は、液晶表示装置１２０と同様なので説明を省略する。
【０１４０】
着色層２５は、第１着色部２６ｂと、第２着色部２７ｂと、を含む。第１着色部２６ｂは、第１主面１０ａ（Ｘ−Ｙ平面でも良い）に投影したときに、画素間領域１５と重なる。第１着色部２６ｂは、第１色を有する。第２着色部２７ｂは、第１主面１０ａ（Ｘ−Ｙ平面でも良い）に投影したときに、画素間領域１５及び第１着色部２６ｂと重なる。第２着色部２７ｂは、第１色とは異なる第２色を有する。
【０１４１】
例えば、第１色及び第２色のいずれか一方が、赤であり、いずれか他方が、青である。第１色及び第２色のいずれか一方が、赤であり、いずれか他方が、緑でも良い。第１色及び第２色のいずれか一方が、青であり、いずれか他方が、緑でも良い。
【０１４２】
例えば、第１色及び第２色のいずれか一方が、マジェンタであり、いずれか他方が、シアンである。第１色及び第２色のいずれか一方が、マジェンタであり、いずれか他方が、イエローでも良い。第１色及び第２色のいずれか一方が、シアンであり、いずれか他方が、イエローでも良い。
【０１４３】
第１着色部２６ｂ及び第２着色部２７ｂが、画素間領域１５に重なるように設けられることで、画素間領域１５を通過する光が吸収される。これにより、画素間領域１５において、透過率がさらに低下する。これにより、裏側の像が知覚されることがさらに抑制される。第１色及び第２色のいずれか一方を赤とし、いずれか他方を青とすることで、広い波長領域で透過率を低下できる。
【０１４４】
着色層２５としては、表示のためのカラーフィルタとして用いられる層を用いても良い。  
この例では、着色層２５は、第１カラーフィルタ２６ａと、第２カラーフィルタ２７ａと、をさらに含む。第１カラーフィルタ２６ａは、第１画素電極１１と第２偏光層５２との間に設けられる。第１カラーフィルタ２６ａは、例えば、上記の第１色を有する。
【０１４５】
第２カラーフィルタ２７ａは、第２画素電極１２と第２偏光層５２との間に設けられる。第２カラーフィルタ２７ａは、第１色とは異なる第３色を有する。第３色は、第２色と同じでも良く、異なっても良い。
【０１４６】
第１着色部２６ｂは、第１カラーフィルタ２６ａと連続していても良く、分断されていても良い。第２着色部２７ｂは、第２カラーフィルタ２７ａと連続していても良く、分断されていても良い。
【０１４７】
例えば、着色層２５は、第３着色部（図示しない）をさらに含んでも良い。この第３着色部は、第１主面１０ａ（Ｘ−Ｙ平面でも良い）に投影したときに、画素間領域１５、第１着色部２６ｂ及び第２着色部２７ｂと重なる。第３着色部は、第１色とは異なり、第２色とは異なる色（例えば第３色）を有する。第３着色部を設けることで、画素間領域１５を通過する光の透過率をさらに低減できる。
【０１４８】
図１４及び図１５は、第３の実施形態に係る別の液晶表示装置を例示する模式的断面図である。  
図１４及び図１５に表したように、本実施形態に係る別の液晶表示装置１３１及び１３２においても着色層２５が設けられる。これ以外は、液晶表示装置１２１及び１２２と同様である。液晶表示装置１３１及び１３２においても、画素間領域１５を通過する光の透過率を低減できる。
【０１４９】
実施形態に係る電子装置は、上記の実施形態に係る液晶表示装置及びその変形を含む。例えば、電子装置は、実施形態に係る液晶表示装置のいずれかと、上記の電子部材と、を含む。実施形態に係る電子装置においては、見易い表示を提供することができる。
【０１５０】
実施形態によれば、見易い液晶表示装置及び電子装置が提供できる。
【０１５１】
なお、本願明細書において、「垂直」及び「平行」は、厳密な垂直及び厳密な平行だけではなく、例えば製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に垂直及び実質的に平行であれば良い。
【０１５２】
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、液晶表示装置に含まれる偏光層、画素電極、対向電極、配線、スイッチング素子、絶縁層、基板部、液晶層、位相差層及び光学層、並びに、電子装置に含まれる電子部材などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。  
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
【０１５３】
その他、本発明の実施の形態として上述した液晶表示装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての液晶表示装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
【０１５４】
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
【０１５５】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【０１５６】
１０ａ…第１主面、  １０ｅ…画素電極、  １０ｓ…第１基板、  １０ｕ…第１基板部、  １１…第１画素電極、  １２…第２画素電極、  １５…画素間領域、  １６…配線、  １６ａ、１６ｂ…第１、第２配線、  １７ａ、１７ｂ…第１、第２スイッチング素子、  １８…絶縁層、  ２０ａ…第２主面、  ２０ｓ…第２基板、  ２０ｕ…第２基板部、  ２１…対向電極、  ２５…着色層、  ２６ａ、２７ａ…第１、第２カラーフィルタ、  ２６ｂ、２７ｂ…第１、第２着色部、  ３０…液晶層、  ３０ｄ…画素部、  ３０ｎ…非画素部、  ３１…第１画素部、  ３２…第２画素部、  ３５…液晶、  ３５Ｄ…長軸方向、  ５１…第１偏光層、  ５１ａ…吸収軸、  ５２…第２偏光層、  ５２ａ…吸収軸、  ６１…第１位相差層、  ６１ａ…遅延軸、  ６２…第２位相差層、  ６２ａ…遅延軸、  ６５…光学層、  ６５ａ…第１層、  ６５ｂ…第２層、  ６６、６６ａ…第１光学部、  ６７、６７ａ…第２光学部、  ６６ｂ…第３光学部、  ６７ｂ…第４光学部、  ６８、６８ａ、６８ｂ…境界、  ７０…電子部材、  ７１…反射層、  ７２…基板、  ７５…物体、  ８０…観視者、  θ５２…角度、  θ６１…第１位相差角度、  θ６２…第２位相差角度、  θＬＣａ…第１配向角、  θＬＣｂ…第２配向角、  θＬＣｔ…ツイスト角、  λ…波長、  １１０、１１１、１２０〜１２２、１２８、１２９、１３０〜１３２…液晶表示装置、  ２２０、２２８、２２９…電子装置、  Ｂ１、Ｂ２…領域、  Ｌ１〜Ｌ５…第１〜第５光、  ＬＣ１ａ…第１配向方向、  ＬＣ１ｂ…第２配向方向、  ＬＣａ…第１部分、  ＬＣｂ…第２部分、  ＬＣｃ…第３部分、  Ｌａ１〜Ｌａ３、Ｌｂ１〜Ｌｂ３…光、  Ｌｉ１〜Ｌｉ３…第１〜第３入射光、  Ｒｆ…反射率、  ＳＴ１…非表示状態、  ＳＴ２…表示状態、  Ｔｒ…透過率、  ｔＬＣ…厚さ
【図１】
2015081940.tif 000003
【図２】
2015081940.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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