(57)【要約】【課題】水素貯蔵システムにおいて、構造の複雑化を抑えて、熱媒との熱交換効率を高めること。【解決手段】水素貯蔵システム１は、外部から給排される水素ガスを貯蔵する水素貯蔵室２と、水素貯蔵室２を画成する中空状のライナ１０と、水素貯蔵室２に水素貯蔵物質９と共に収容される複数の中空状の熱交換チューブ８０と、ライナ１０の開口端１２を塞いで水素貯蔵室２を画成するベースフランジ３と、を備える。そして、ベースフランジ３の内部には、外部から供給される熱媒を各熱交換チューブ８０に分配する分配室７と、各熱交換チューブ８０を循環した熱媒を集めて外部に排出する集合室８と、が設けられる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素貯蔵物質を用いて水素ガスを貯蔵する水素貯蔵システムであって、
外部から給排される水素ガスを貯蔵する水素貯蔵室と、
前記水素貯蔵室を画成する中空状のライナと、
前記水素貯蔵室に前記水素貯蔵物質と共に収容される複数の中空状の熱交換チューブと、
前記ライナの開口端を塞いで水素貯蔵室を画成するベースフランジと、を備え、
前記ベースフランジの内部には、
外部から供給される熱媒を前記各熱交換チューブに分配する分配室と、
前記各熱交換チューブを循環した熱媒を集めて外部に排出する集合室と、が設けられることを特徴とする水素貯蔵システム。
【請求項２】
前記ベースフランジは、
前記ライナの開口端に嵌合する隔壁本体と、
前記隔壁本体に積層される第１プレート及び第２プレートと、を備え、
前記隔壁本体と前記第１プレートの間に前記分配室及び前記集合室のいずれか一方が画成され、
前記第１プレートと前記第２プレートの間に前記分配室及び前記集合室のいずれか他方が画成されることを特徴とする請求項１に記載の水素貯蔵システム。
【請求項３】
前記隔壁本体は、
前記水素貯蔵室に面する内側の端面と、
前記内側の端面と反対側に設けられる外側の端面と、を有し、
前記外側の端面に対して前記第１プレート及び前記第２プレートが積層されることを特徴とする請求項２に記載の水素貯蔵システム。
【請求項４】
前記ライナの内側に配置されて水素貯蔵物質を収容する中空状のインナチューブをさらに備え、
前記インナチューブの端部が前記ベースフランジに支持されることを特徴とする請求項１から３のいずれか一つに記載の水素貯蔵システム。
【請求項５】
前記ライナの外面を包囲する筒状の補強チューブをさらに備え、
前記補強チューブは前記ライナの底部に沿って形成されるチューブ屈曲端部を有し、
前記ベースフランジは前記補強チューブに締結される締結力によって前記ライナの開口端を押圧する段部を有し、
前記ライナは前記チューブ屈曲端部と前記段部との間で挟持されることを特徴とする請求項１から４のいずれか一つに記載の水素貯蔵システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水素ガスを貯蔵する水素貯蔵システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
燃料電池自動車等には、燃料となる水素ガスの供給源として、水素貯蔵システムが搭載されている。
【０００３】
特許文献１には、水素ガスが導かれる一対の開口部を有する中空状のライナと、このライナの内側に配置されて水素貯蔵合金を収容する水素吸蔵ユニットと、この水素吸蔵ユニットの内部に設けられ熱媒が導かれる熱媒管と、を備える水素貯蔵システムが開示されている。
【０００４】
上記水素貯蔵システムにおいて、水素貯蔵システムへの水素ガス充填時には、高圧の水素ガスがライナ内に供給されるとともに、熱媒管に低温の熱媒（冷却媒体）が供給される。これにより、水素貯蔵合金が冷却され、水素貯蔵合金に水素ガスが貯蔵される。
【０００５】
一方、水素貯蔵システムから水素ガスが取り出されるときには、熱媒管に高温の熱媒が供給される。これにより、水素貯蔵合金が加熱され、水素貯蔵合金から水素ガスが放出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−２７０８６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、このような従来の水素貯蔵システムにあっては、水素吸蔵ユニットの内部に熱媒管が１本しか設けられないため、熱媒と水素貯蔵合金との熱交換効率を十分に高められない。
【０００８】
この対処方法として、水素吸蔵ユニットの内部に複数本の熱媒管を設けることが考えられる。しかし、この場合には、各熱媒管と外部に設けられる熱媒の供給管及び排出管との接続部の構造が複雑化するという問題がある。
【０００９】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、水素貯蔵システムにおいて、構造の複雑化を抑えて、熱媒との熱交換効率を高めることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、水素ガスを貯蔵する水素貯蔵物質を用いて水素ガスを貯蔵する水素貯蔵システムであって、外部から給排される水素ガスを貯蔵する水素貯蔵室と、
水素貯蔵室を画成する中空状のライナと、水素貯蔵室に水素貯蔵物質と共に収容される複数の中空状の熱交換チューブと、ライナの開口端を塞いで水素貯蔵室を画成するベースフランジと、を備え、ベースフランジの内部には、外部から供給される熱媒を各熱交換チューブに分配する分配室と、各熱交換チューブを循環した熱媒を集めて外部に排出する集合室と、が設けられることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明では、複数の熱交換チューブが水素貯蔵物質と共に設けられるため、熱交換チューブと水素貯蔵物質の接触面積が確保され、熱交換チューブと水素貯蔵物質の間で熱交換が効率よく行われる。
【００１２】
外部に設けられる熱媒の配管を複数本の熱交換チューブに接続する接続部は、ベースフランジの内部に設けられる分配室及び集合室によって構成されるため、複数本の熱交換チューブに対応して複数の配管を設ける必要がなく、構造の複雑化が抑えられる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態に係る水素貯蔵システムの断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る水素貯蔵システムの一部を示す断面図である。
【図３】本発明の実施形態に係るインナチューブ及びベースフランジの斜視図である。
【図４】本発明の実施形態に係るベースフランジ及びインナチューブの斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて説明する。なお、添付図面上に互いに直交するＸ、Ｙ、Ｚの３軸を設定し、Ｘ軸が略水平前後方向、Ｙ軸が略水平横方向、Ｚ軸が略鉛直方向に延びるものとする。
【００１５】
図１に示す水素貯蔵システム１は、例えば水素ガスを燃料とする車両に搭載されるものであり、高圧の水素ガスを貯蔵する水素貯蔵室２を有する。
【００１６】
水素貯蔵システム１は、水素貯蔵室２を画成する部材として、中空状のライナ（メインタンク）１０と、ライナ１０の後端部に取り付けられるエンドフランジ７０と、ライナ１０の前端部に取り付けられるベースフランジ３と、を備える。
【００１７】
ライナ１０の内部には、中空状のインナチューブ（サブタンク）６０が設けられる。インナチューブ６０の内部には、水素ガスを貯蔵する水素貯蔵物質９が収容される。なお、図１にはインナチューブ６０に収容される水素貯蔵物質９の一部が示されており、水素貯蔵物質９はインナチューブ６０内の全域に収容される。
【００１８】
水素貯蔵物質９は、例えば粉末状の水素吸蔵合金が用いられる。水素吸蔵合金は、水素を取り込む性質のあるものを合金化したものである。水素貯蔵物質９には、大気中に比べて数１００倍以上の水素ガスが貯蔵される。なお、水素貯蔵物質９は、水素吸蔵合金に限らず、水素を取り込む性質のある他の物質を用いてもよい。
【００１９】
エンドフランジ７０には、水素ガスを給排する水素ガス給排通路７１が設けられる。水素ガス給排通路７１は、エンドフランジ７０に接続される配管（図示省略）を介して水素ガスの供給源（図示省略）と、水素ガスの供給先（図示省略）に連通される。
【００２０】
インナチューブ６０の内部には、水素貯蔵物質９を冷却、加熱する３本の熱交換チューブ８０が設けられる。熱交換チューブ８０の外面は、水素貯蔵物質９に包囲される。
【００２１】
熱交換チューブ８０の内部には、熱媒（熱交換媒体）を循環させる熱媒循環通路５が設けられる。
【００２２】
ベースフランジ３の内部には、各熱媒循環通路５に熱媒を給排する熱媒給排通路４が設けられる。熱媒給排通路４は、ベースフランジ３の各ポート５６、５７に接続される２本の配管（図示省略）を介して熱媒の供給源（図示省略）に連通される。
【００２３】
熱媒給排通路４を循環する熱媒は、熱交換チューブ８０を介して水素貯蔵物質９との間で熱交換を行う。熱媒は、例えば水またはオイルが用いられる。なお、熱媒は、これに限らず、他の液体または気体を用いてもよい。
【００２４】
水素貯蔵室２への水素ガス充填時には、外部の供給源から高圧の水素ガスがエンドフランジ７０の水素ガス給排通路７１を通じてライナ１０内の水素貯蔵室２に供給されるとともに、外部の供給源からベースフランジ３の熱媒給排通路４を通じて各熱媒循環通路５に低温の熱媒（冷却媒体）が供給されて水素貯蔵物質９が冷却されることにより、水素ガスが水素貯蔵物質９に貯蔵される。
【００２５】
一方、水素貯蔵室２から水素ガスが取り出されるときには、外部の供給源からベースフランジ３の熱媒給排通路４を通じて各熱媒循環通路５に高温の熱媒が供給されることにより水素貯蔵物質９が加熱され、水素貯蔵物質９から放出される水素ガスがエンドフランジ７０の水素ガス給排通路７１を通じて取り出される。
【００２６】
次に、水素貯蔵システム１の具体的な構造を説明する。
【００２７】
ライナ１０は、Ｘ軸方向に延びる円筒状のライナ胴部１１と、ライナ胴部１１の前端に開口する前ライナ開口端（開口端）１２と、ライナ胴部１１の後端部をドーム状に絞るライナ底部１３と、ライナ底部１３の後端に開口する後ライナ開口端１４と、を有する。
【００２８】
ライナ１０は、例えばアルミニウム合金を材質として形成される。これにより、ライナ１０は、その内面が水素ガスに晒されても脆化することが防止され、耐食性が確保される。
【００２９】
水素貯蔵システム１には、ライナ１０の外面を包囲する補強チューブ２０が設けられる。補強チューブ２０は、ライナ１０より引っ張り強度が高く、熱膨張率が小さい金属として、例えば高張力鋼を材質とする。
【００３０】
補強チューブ２０は、ライナ胴部１１の外周面に嵌合する円筒状のチューブ胴部２１と、前ライナ開口端１２より前方（図１において右方向）に突出するチューブ胴部２１に開口する前チューブ開口端２２と、チューブ胴部２１の後端部を絞るチューブ屈曲端部（肩部）２３と、チューブ屈曲端部２３の後端に開口する後チューブ開口端２４と、を有する。
【００３１】
チューブ屈曲端部２３は、その断面がライナ１０のライナ底部１３に沿って屈曲する円錐筒状に形成される。
【００３２】
チューブ胴部２１の前ライナ開口端１２より前方に突出する部位の内周には、内周ネジ部２５が形成される。内周ネジ部２５にベースフランジ３が螺合される。
【００３３】
ベースフランジ３は、ライナ１０の開口端１２を塞ぐ隔壁本体３０と、隔壁本体３０に積層される第１プレート４０及び第２プレート５０と、を備える。
【００３４】
第１プレート４０と第２プレート５０は、３本のボルト９７を介して隔壁本体３０に締結される。ボルト９７は、第１プレート４０の孔及び第２プレート５０の孔を貫通し、隔壁本体３０のネジ穴に螺合する。
【００３５】
ベースフランジ３は、隔壁本体３０に第１プレート４０及び第２プレート５０が積層して固定されることにより、高圧が生じる水素貯蔵室２を画成する隔壁としての剛性が確保される。
【００３６】
図２にも示すように、隔壁本体３０は、インナチューブ６０の内周に嵌合する第１嵌合部３６と、インナチューブ６０の開口端６２に当接する第１段部３６Ａと、ライナ１０の内周に嵌合する第２嵌合部３５と、前ライナ開口端１２に当接する第２段部３５Ａと、補強チューブ２０の内周ネジ部２５に螺合する外周ネジ部３９と、補強チューブ２０の開口端２９に対峙する環状のフランジ部３３と、を有する。
【００３７】
外周ネジ部３９が補強チューブ２０の内周ネジ部２５に螺合することにより、第２段部３５Ａが前ライナ開口端１２に押圧され、ベースフランジ３が補強チューブ２０に締結される。これにより、ライナ１０は、補強チューブ２０のチューブ屈曲端部２３とベースフランジ３の段部３５Ａとの間で挟持される。
【００３８】
水素ガス充填時には、水素貯蔵室２の圧力が高まってライナ１０が膨張するが、ライナ１０を囲む補強チューブ２０によってライナ１０の膨張が抑えられ、ライナ１０に生じる内部応力が低減される。
【００３９】
なお、上述した構成に限らず、ベースフランジ３のフランジ部３３を補強チューブ２０のネジ穴に螺合する複数のボルトを設け、このボルトを介してベースフランジ３が補強チューブ２０に締結される構成としてもよい。
【００４０】
第１嵌合部３６の外周には、環状溝１６（図２参照）が形成される。環状溝１６とインナチューブ６０の間には、シールリング９２が介装される。
【００４１】
第２嵌合部３５の外周には、環状溝１５が形成される。環状溝１５とライナ１０の間には、シールリング９１が介装される。これにより、水素貯蔵室２が外部に対して密封される。
【００４２】
図１に示すように、インナチューブ６０の後端部には円盤状のインナプレート７５が取り付けられる。インナプレート７５は、インナチューブ６０の内周に嵌合する嵌合部７６を有する。嵌合部７６とインナチューブ６０の間には、シールリング８９が介装される。
【００４３】
インナプレート７５には、複数の通孔６７が開口され、通孔６７の開口部を覆うメッシュ６６が介装される。粉末状の水素貯蔵物質９は、メッシュ６６によってインナチューブ６０の内部に閉じ込められる。
【００４４】
ベースフランジ３とインナプレート７５との間には、両者を連結するロッド８５が設けられる。ロッド８５の前端部（ネジ部）は、隔壁本体３０のネジ穴３７に螺合される。ロッド８５の後端部（ネジ部）は、インナプレート７５の孔７７を貫通し、ナット８６が螺合される。ロッド８５に螺合するナット８６の締結力により、インナプレート７５がインナチューブ６０の開口端６３に押圧される。
【００４５】
これにより、インナチューブ６０は、インナプレート７５と隔壁本体３０の段部３８との間で挟持され、その前端がベースフランジ３に支持される。水素貯蔵システム１の製造時には、水素貯蔵物質９及び熱交換チューブ８０がインナチューブ６０及びベースフランジ３等を介して一体に組み付けられたサブアッシが設けられる。
【００４６】
エンドフランジ７０、ライナ１０、補強チューブ２０、インナチューブ６０、インナプレート７５、ロッド８５、ベースフランジ３等は、同軸上に配置される。インナチューブ６０及びインナプレート７５は、ライナ１０の内面との間に間隙を持って配置される。
【００４７】
ライナ１０の後端部には、内周ネジ部１９が形成される。エンドフランジ７０は、ライナ１０の内周ネジ部１９に螺合して取り付けられ、後ライナ開口端１４を閉塞する。エンドフランジ７０とライナ１０の間には、シールリング８８が介装される。これにより、水素貯蔵室２が密封される。
【００４８】
エンドフランジ７０の前端部には、Ｘ軸方向に延びる円柱状のガイド凸部７９が水素貯蔵室２内に突出するように形成される。一方、インナプレート７５の中央部には、ガイド凸部７９を摺動自在に挿入させるガイド凹部７８が形成される。
【００４９】
インナプレート７５のガイド凹部７８がエンドフランジ７０のガイド凸部７９に嵌合することにより、インナチューブ６０の後端部がＸ軸に直交する方向（Ｙ軸及びＺ軸を含む面方向）に変位することが規制される。
【００５０】
インナプレート７５のガイド凹部７８がエンドフランジ７０のガイド凸部７９に対してＸ軸方向に摺動することにより、インナチューブ６０とライナ１０の間に生じるＸ軸方向の熱膨張差が吸収される。
【００５１】
エンドフランジ７０に設けられる水素ガス給排通路７１は、図１に矢印で示すように水素ガスを給排する配管（図示省略）が接続されるポート７２と、ポート７２からＸ軸方向に延びる通孔７３と、通孔７３と交差してＺ軸方向に延びる通孔７４と、を備える。
【００５２】
水素ガス給排通路７１を通じて水素貯蔵室２内に充填された水素ガスは、インナプレート７５に開口した複数の通孔６７を通じてインナチューブ６０内に流入し、水素貯蔵物質９に貯蔵される。一方、水素貯蔵室２から水素ガスが取り出されるときには、水素貯蔵物質９から放出される水素ガスがインナプレート７５の通孔６７を通じてライナ１０内に流出し、ライナ１０内から水素ガス給排通路７１を通じて取り出される。
【００５３】
３本の熱交換チューブ８０は、ベースフランジ３からＸ軸方向に延びる入口側の管部８１と、出口側の管部８３と、管部８１と管部８３の後端どうしを結んでＵ字状に延びる管部８２と、が互いに一体形成される。なお、熱交換チューブ８０は、上述した構成に限らず、Ｘ軸方向に延びる一対の管部と、これらの管部の後端どうしを結ぶ管部と、が互いに別体で形成される構成としてもよい。
【００５４】
図２〜４にも示すように、熱交換チューブ８０の前端部は、チューブフランジ６５を介してベースフランジ３に固定される。
【００５５】
ベースフランジ３の隔壁本体３０は、チューブフランジ６５を当接させる端面３１と、端面３１に開口する６つのネジ穴９９と、を有する。チューブフランジ６５は、２つの取付孔６８を有する。２本のネジ８４（図１参照）が取付孔６８に挿通してネジ穴９９に螺合することにより、チューブフランジ６５が隔壁本体３０に締結される。
【００５６】
チューブフランジ６５の端面には、環状溝６９が形成される。環状溝６９と隔壁本体３０の端面３１の間には、シールリング（図示省略）が介装される。これにより、熱媒循環通路５と熱媒給排通路４との接続部が水素貯蔵室２に対して密封される。
【００５７】
隔壁本体３０は、外側に面する端面１７に開口する収容凹部２６と、収容凹部２６の底部に延びる外側の端面３２と、内側の端面３１と外側の端面３２の両方に開口する６つの通孔２７Ａ、２７Ｂと、外側の端面３２に開口する３つのネジ穴２８と、を有する。
【００５８】
収容凹部２６には、円盤状の第１プレート４０及び第２プレート５０が積層して収容される。隔壁本体３０と第１プレート４０の間には、供給源から供給される熱媒を各熱媒循環通路５に分配する分配室７が層状に画成される。第１プレート４０と第２プレート５０の間には、各熱媒循環通路５を循環した熱媒を集める集合室８が層状に画成される。
【００５９】
第１プレート４０は、隔壁本体３０の端面３２に当接する内側の端面４１と、第２プレート５０に当接する外側の端面４２と、内側の端面４１に開口して分配室７を画成する分配凹部４５と、内側の端面４１に開口してシールリング９３（図１参照）が介装される環状溝４９と、分配凹部４５の内面と外側の端面４２とに開口する１つの通孔４６と、分配凹部４５を避けるようにして内側の端面４１と外側の端面４２の両方に開口する３つの通孔４７と、内側の端面４１に開口して通孔４７を囲むシールリング９３が介装される環状溝４８と、３つのボルト孔４３と、を有する。
【００６０】
分配凹部４５は、Ｘ軸を中心として３方向に放射状に延びるように形成される。分配凹部４５によって画成される分配室７は、隔壁本体３０の３つ通孔２７Ａを介して、熱媒循環通路５の入口に連通される。
【００６１】
第２プレート５０は、第１プレート４０に当接する内側の端面５１と、外側に面する端面５２と、内側の端面５１に開口して集合室８を画成する集合凹部５５と、内側の端面５１に開口してシールリング９４（図１参照）が介装される環状溝５９と、供給源から供給される熱媒を導く配管（図示省略）が接続される供給ポート５７と、供給源に熱媒を戻す配管（図示省略）が接続される排出ポート５６と、内側の端面５１に開口して供給ポート５７を囲むシールリング（図示省略）が介装される環状溝５８と、３つのボルト孔５３と、を有する。
【００６２】
集合凹部５５は、Ｘ軸を中心として３方向に放射状に延びるように形成される。集合凹部５５によって画成される集合室８は、第１プレート４０の３つの通孔４７及び隔壁本体３０の３つの通孔２７Ｂを介して各熱媒循環通路５の出口に連通される。
【００６３】
次に、熱媒給排通路４及び各熱媒循環通路５における熱媒の流れを説明する。なお、図３、図４において、熱媒の流れ方向を矢印で示している。
【００６４】
供給源から供給される熱媒は、配管（図示省略）、供給ポート５７、通孔４６を通じて分配室７に流入し、分配室７から３つの通孔２７Ａを通じて各熱媒循環通路５の入口に分配される。
【００６５】
各熱媒循環通路５に流入した熱媒は、各熱交換チューブ８０にて入口側の管部８１、Ｕ字状の管部８２、出口側の管部８３を通じて各熱媒循環通路５を流れ、水素貯蔵物質９との間で熱交換を行う。前述したように、水素貯蔵室２への水素ガス充填時には、供給源から低温の熱媒が供給され、水素貯蔵物質９が冷却される。一方、水素貯蔵室２から水素ガスが取り出されるときには、供給源から高温の熱媒が供給され、水素貯蔵物質９が加熱される。
【００６６】
上記のように各熱交換チューブ８０にて熱交換を行った熱媒は、３つの通孔２７Ｂ、通孔４７を通じて集合室８に流入する。こうして集合室８に集められた熱媒は、排出ポート５６、配管（図示省略）を通じて供給源へと戻される。
【００６７】
以上の実施形態によれば、以下に示す作用効果を奏する。
【００６８】
水素貯蔵システム１は、外部から給排される水素ガスを貯蔵する水素貯蔵室２と、水素貯蔵室２を画成する中空状のライナ１０と、水素貯蔵室２に水素貯蔵物質９と共に収容される複数の中空状の熱交換チューブ８０と、ライナ１０の開口端１２を塞いで水素貯蔵室２を画成するベースフランジ３と、を備える。そして、ベースフランジ３の内部には、外部から供給される熱媒を各熱交換チューブ８０に分配する分配室７と、各熱交換チューブ８０を循環した熱媒を集めて外部に排出する集合室８と、が設けられる。
【００６９】
複数の熱交換チューブ８０が水素貯蔵物質９と共に設けられるため、熱交換チューブ８０と水素貯蔵物質９の接触面積が十分に確保され、熱交換チューブ８０と水素貯蔵物質９の間で熱交換が効率よく行われ、水素貯蔵物質９の冷却、加熱を行う熱制御性を高められる。
【００７０】
外部に設けられる熱媒の供給源から延びる配管を各熱交換チューブ８０に接続する接続部は、ベースフランジ３の内部に設けられる分配室７及び集合室８によって構成されるため、複数本の熱交換チューブ８０に対応して複数の配管を設ける必要がなく、構造の複雑化が抑えられる。
【００７１】
水素貯蔵システム１は、３本の熱交換チューブ８０を備える。これに限らず、水素貯蔵システム１に要求される熱交換量に応じて熱交換チューブ８０の本数を設定することができる。
【００７２】
ベースフランジ３は、ライナ１０の開口端１２に嵌合する隔壁本体３０と、隔壁本体３０に積層される第１プレート４０及び第２プレート５０と、を備え、隔壁本体３０と第１プレート４０の間に分配室７が画成され、第１プレート４０と第２プレート５０の間に集合室８が画成される。
【００７３】
ベースフランジ３に積層される第１プレート４０及び第２プレート５０を介して分配室７及び集合室８が層状の空間として画成されるため、分配室７及び集合室８が小さいスペースに収容され、装置の小型化が図れる。
【００７４】
ベースフランジ３は、隔壁本体３０に第１プレート４０及び第２プレート５０が積層されることにより、高圧が生じる水素貯蔵室２を画成する隔壁としての剛性が確保される。
【００７５】
また、ベースフランジ３において、熱交換を行う前の熱媒が流れる分配室７が、熱交換を行った後の熱媒が流れる集合室８の内側に配置されることにより、熱交換を行う前の熱媒が外気に放熱することが抑えられる。
【００７６】
なお、上述した構成に限らず、隔壁本体３０と第１プレート４０の間に分配室７が画成され、第１プレート４０と第２プレート５０の間に集合室８が画成される構成としてもよい。
【００７７】
隔壁本体３０は、水素貯蔵室２に面する内側の端面３１と、内側の端面３１と反対側に設けられる外側の端面３２と、を有し、外側の端面３２に対して第１プレート４０及び第２プレート５０が積層される。
【００７８】
第１プレート４０及び第２プレート５０を介して画成される分配室７、集合室８が水素貯蔵室２の外側に設けられるため、第１プレート４０及び第２プレート５０に水素貯蔵室２に生じる高圧が作用することがなく、第１プレート４０及び第２プレート５０の小型化が図れるとともに、分配室７、集合室８からガス（熱媒）洩れが生じることを防止できる。
【００７９】
〔４〕水素貯蔵システム１は、ライナ１０の内側に配置されて水素貯蔵物質９を収容する中空状のインナチューブ６０を備え、インナチューブ６０の前端部がベースフランジ３に支持される。
【００８０】
水素貯蔵物質９を収容するインナチューブ６０がベースフランジ３に支持されるため、水素貯蔵物質９と各熱交換チューブ８０がインナチューブ６０及びベースフランジ３を介して一体に組み付けられたサブアッシを設けることが可能となる。これにより、水素貯蔵システム１に対する水素貯蔵物質９及び各熱交換チューブ８０の組み付け作業、分解作業が容易に行える。
【００８１】
水素貯蔵システム１は、ライナ１０の外面を包囲する筒状の補強チューブ２０を備える。補強チューブ２０は、ライナ１０の底部１３に沿って形成されるチューブ屈曲端部２３を有する。ベースフランジ３は、補強チューブ２０に締結される締結力によってライナ１０の開口端１２を押圧する段部３５Ａを有する。
【００８２】
ライナ１０は、補強チューブ２０のチューブ屈曲端部２３とベースフランジ３の段部３５Ａとの間で挟持され、水素貯蔵室２の圧力によって膨張することが抑えられる。
【００８３】
ベースフランジ３は、補強チューブ２０の内周ネジ部２５に螺合する外周ネジ部３９を有する。
【００８４】
ベースフランジ３の外周ネジ部３９が補強チューブ２０の内周ネジ部２５に螺合する締結力によって、ベースフランジ３の段部３５Ａがライナ１０の開口端１２に押圧される。ベースフランジ３が補強チューブ２０の内側に収まるため、水素貯蔵システム１の小型化が図れる。
【００８５】
以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態は本発明の適用例の一部を示したに過ぎず、本発明の技術的範囲を上記実施形態の具体的構成に限定する趣旨ではない。
【００８６】
上記実施形態の水素貯蔵システム１は、例えば水素ガスを燃料とする車両に搭載されるものであるが、これに限らず、他の機械、設備に用いてもよい。
【符号の説明】
【００８７】
１    水素貯蔵システム
２    水素貯蔵室
３    ベースフランジ
７    分配室
８    集合室
９    水素貯蔵物質
１０    ライナ
１２    開口端
１３    底部
２０    補強チューブ
２３    チューブ屈曲端部
３０    隔壁本体
３１    端面
３２    端面
３５Ａ    段部
４０    第１プレート
５０    第２プレート
６０    インナチューブ
８０    熱交換チューブ
【図１】
2015045370.tif 000003
【図２】
2015045370.tif 000004
【図３】
2015045370.tif 000005
【図４】
2015045370.tif 000006