(57)【要約】【課題】ガラス基板の超音波洗浄をバッチ処理で行った場合の歩留まりを向上させる。【解決手段】複数の超音波振動子が底壁に沿って、底壁の中央部を囲む外周部において中央部よりも狭い間隔で配置された洗浄槽中に洗浄液を貯留し、複数のガラス基板を主表面が対向するように配列させたガラス基板群を、配列方向の両端部が底壁の外周部の上部に位置するように洗浄液内に浸漬し、底壁を介して洗浄槽内に超音波を発振させることで複数のガラス基板を洗浄する。【選択図】図１
2015125789.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の超音波洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記超音波洗浄処理は、
複数の超音波振動子が底壁に沿って、前記底壁の中央部を囲む外周部において中央部よりも狭い間隔で配置された洗浄槽中に洗浄液を貯留し、
複数のガラス基板を主表面が対向するように配列させたガラス基板群を、配列方向の両端部が前記底壁の前記外周部の上部に位置するように前記洗浄液内に浸漬し、
前記底壁を介して前記洗浄槽内に超音波を発振させることで前記複数のガラス基板を洗浄する、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
ガラス基板の超音波洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記超音波洗浄処理は、
複数の超音波振動子が底壁に沿って配置され、かつ、前記底壁の中央部を囲む外周部に、中央部に配置された超音波振動子の振動面より大きな振動面を有する超音波振動子が配置された洗浄槽中に洗浄液を貯留し、
複数のガラス基板を主表面が対向するように配列させたガラス基板群を、配列方向の両端部が前記底壁の前記外周部の上部に位置するように前記洗浄液内に浸漬し、
前記底壁を介して前記洗浄槽内に超音波を発振させることで前記複数のガラス基板を洗浄する、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記複数の超音波振動子のうち、前記底壁の前記外周部に配置された超音波振動子の出力を、他の超音波振動子の出力よりも大きくした状態で前記複数のガラス基板を洗浄する、請求項１又は２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、パーソナルコンピュータ、あるいはＤＶＤ（Digital Versatile Disc）記録装置等には、データ記録のためにハードディスク装置(ＨＤＤ：Hard Disk Drive)が内蔵されている。ハードディスク装置では、基板に磁性層が設けられた磁気ディスクが用いられ、磁気ディスクの面上を僅かに浮上させた磁気ヘッドで磁性層に磁気記録情報が記録され、あるいは読み取られる。この磁気ディスクの基板として、金属基板（アルミニウム基板）等に比べて塑性変形し難い性質を持つガラス基板が好適に用いられる。
【０００３】
ハードディスク装置において記憶容量を増大させるために、ＤＦＨ（Dynamic Flying Height)機構を搭載した磁気ヘッドを用いて磁気記録面からの浮上距離を極めて短くすることにより、磁気ヘッドの記録再生素子と磁気ディスクの磁気記録層との間の磁気的スペーシングを低減して情報の記録再生の精度をより高める（Ｓ／Ｎ比を向上させる）ことも行われている。この場合においても、磁気ヘッドによる磁気記録情報の読み書きを長期に亘って安定して行うために、磁気ディスクの基板の表面凹凸は可能な限り小さくすることが求められる。
【０００４】
このような磁気ディスク用ガラス基板の表面凹凸を小さくするために、ガラス基板の研磨処理を行う。ガラス基板を最終製品とするための精密な研磨に、シリカ（ＳｉＯ２）等の微細な研磨砥粒を含む研磨剤を用いる方法がある（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−３６５２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
研磨処理後のガラス基板には、研磨砥粒が付着して残存する場合がある。このため、研磨処理後のガラス基板に付着した研磨砥粒を除去するために、ガラス基板の超音波洗浄処理が行われる。具体的には、超音波振動子が底壁に沿って配列された洗浄槽に洗浄液を貯留し、この洗浄液にガラス基板を浸漬した状態で、超音波振動子から超音波を発振させる。超音波による微細は気泡の発生および破裂（キャビテーション）により、異物がガラス基板の表面から浮き上がり、除去される。
【０００７】
超音波洗浄処理では、複数のガラス基板を主表面が対向するように配列させたガラス基板群をまとめて洗浄液に浸漬するバッチ処理が行われる。しかし、複数のガラス基板の超音波洗浄をバッチ処理で行うと、洗浄後のガラス基板の表面に多くの異物が残存するガラス基板が存在する場合があり、歩留まりが低かった。
【０００８】
そこで、本発明は、ガラス基板の超音波洗浄をバッチ処理で行った場合の歩留まりを向上させることができる、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、複数のガラス基板の超音波洗浄をバッチ処理した場合に、各ガラス基板に残存する異物数を調査したところ、複数のガラス基板の配列方向の位置によって、洗浄後のガラス基板に残存する異物数にばらつきがあることがわかった。具体的には、複数のガラス基板を主表面が対向するように配列させたガラス基板群を超音波洗浄した場合、配列方向の両端部のガラス基板において、より多くの異物が表面に残存することが判明した。この原因を調べるために、超音波発振器の洗浄槽における音圧を調査したところ、洗浄槽の中央部と比較して側壁の近傍の音圧が低くなることがわかった。この原因として、超音波発振器からの超音波が洗浄槽の側壁において反射し、干渉することにより側壁の近傍の超音波が減衰することが考えられる。また、配列方向の両端部のガラス基板の外側に向いた主表面は、対向する他のガラス基板の主表面がないため、異物が付着しやすいと考えられる。
【００１０】
上記の課題を解決するため、本発明の第一の態様は、ガラス基板の超音波洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記超音波洗浄処理は、
複数の超音波振動子が底壁に沿って、前記底壁の中央部を囲む外周部において中央部よりも狭い間隔で配置された洗浄槽中に洗浄液を貯留し、
複数のガラス基板を主表面が対向するように配列させたガラス基板群を、配列方向の両端部が前記底壁の前記外周部と一致するように前記洗浄液内に浸漬し、
前記底壁を介して前記洗浄槽内に超音波を発振させることで前記複数のガラス基板を洗浄する、ことを特徴とする。
【００１１】
本発明の第二の態様は、ガラス基板の超音波洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
前記超音波洗浄処理は、
複数の超音波振動子が底壁に沿って配置され、かつ、前記底壁の中央部を囲む外周部に、中央部に配置された超音波振動子の振動面より大きな振動面を有する超音波振動子が配置された洗浄槽中に洗浄液を貯留し、
複数のガラス基板を主表面が対向するように配列させたガラス基板群を、配列方向の両端部が前記底壁の前記外周部の上部に位置するように前記洗浄液内に浸漬し、
前記底壁を介して前記洗浄槽内に超音波を発振させることで前記複数のガラス基板を洗浄する、ことを特徴とする。
【００１２】
前記複数の超音波振動子のうち、前記底壁の前記外周部に配置された超音波振動子の出力を、他の超音波振動子の出力よりも大きくした状態で前記複数のガラス基板を洗浄することが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、ガラス基板群の配列方向の両端部において超音波の音圧を高めることができ、配列された複数のガラス基板を配列の位置によらず均一に洗浄することができる。このため、ガラス基板の超音波洗浄をバッチ処理で行った場合でも、歩留まりを低下させることなく、かつ、ガラス基板の表面を傷つけるおそれがない。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態に係る超音波洗浄装置１Ａの平面図である。
【図２】図１のII−II矢視断面図である。
【図３】変形例に係る超音波洗浄装置１Ｂの平面図である。
【図４】図３のIV−IV矢視断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について詳細に説明する。
【００１６】
（磁気ディスク用ガラス基板）
まず、磁気ディスク用ガラス基板について説明する。磁気ディスク用ガラス基板は、円板形状であって、外周と同心の円形の中心孔がくり抜かれたリング状である。磁気ディスク用ガラス基板の両面の円環状領域に磁性層（記録領域）が形成されることで、磁気ディスクが形成される。
【００１７】
磁気ディスク用ガラスブランク（以降、単にガラスブランクという）は、プレス成形により作製される円形状のガラス板であって、中心孔がくり抜かれる前の形態である。
【００１８】
（磁気ディスク用ガラス基板の製造方法）
次に、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を説明する。先ず、一対の主表面を有する板状の磁気ディスク用ガラス基板の素材となるガラスブランクをプレス成形により作製する（プレス成形処理）。次に、作製されたガラスブランクの中心部分に円孔を形成しリング形状（円環状）のガラス基板とする（円孔形成処理）。次に、円孔を形成したガラス基板に対して形状加工を行う（形状加工処理）。これにより、ガラス基板が生成される。次に、形状加工されたガラス基板に対して端面研磨を行う（端面研磨処理）。端面研磨の行われたガラス基板に、固定砥粒による研削を行う（研削処理）。次に、ガラス基板の主表面に第１研磨を行う（第１研磨処理）。次に、必要に応じてガラス基板に対して化学強化を行う（化学強化処理）。次に、化学強化されたガラス基板に対して第２研磨を行う（第２研磨処理）。その後、第２研磨処理後のガラス基板に対して超音波洗浄を行う（超音波洗浄処理）。以上の処理を経て、磁気ディスク用ガラス基板が得られる。以下、各処理について、詳細に説明する。
【００１９】
（ａ）プレス成形処理
熔融ガラス流の先端部を切断器により切断し、切断された熔融ガラス塊を一対の金型のプレス成形面の間に挟みこみ、プレスしてガラスブランクを成形する。所定時間プレスを行った後、金型を開いてガラスブランクが取り出される。
【００２０】
（ｂ）円孔形成処理
ガラスブランクに対してドリル等を用いて円孔を形成することにより円形状の孔があいたディスク状のガラス基板を得ることもできる。
【００２１】
（ｃ）形状加工処理
形状加工処理では、円孔形成処理後のガラス基板の端部に対する面取り加工を行う。
【００２２】
（ｄ）端面研磨処理
端面研磨処理では、ガラス基板の内側端面及び外周側端面に対して、ブラシ研磨により鏡面仕上げを行う。このとき、酸化セリウム等の微粒子を遊離砥粒として含む砥粒スラリが用いられる。
【００２３】
（ｅ）研削処理
研削処理では、遊星歯車機構を備えた両面研削装置を用いて、ガラス基板の主表面に対して研削加工を行う。具体的には、ガラスブランクから生成されたガラス基板の外周側端面を、両面研削装置の保持部材に設けられた保持孔内に保持しながらガラス基板の両側の主表面の研削を行う。両面研削装置は、上下一対の定盤（上定盤および下定盤）を有しており、上定盤および下定盤の間にガラス基板が狭持される。そして、上定盤または下定盤のいずれか一方、または、双方を移動操作させ、ガラス基板と各定盤とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の両主表面を研削することができる。
【００２４】
（ｆ）第１研磨処理
次に、研削のガラス基板の主表面に第１研磨が施される。具体的には、ガラス基板の外周側端面を、両面研磨装置の研磨用キャリアに設けられた保持孔内に保持しながらガラス基板の両側の主表面の研磨が行われる。第１研磨は、研削処理後の主表面に残留したキズや歪みの除去、あるいは微小な表面凹凸（マイクロウェービネス、粗さ）の調整を目的とする。
【００２５】
第１研磨処理では、固定砥粒による研削処理に用いる両面研削装置と同様の構成を備えた両面研磨装置を用いて、研磨スラリを与えながらガラス基板が研磨される。第１研磨処理では、遊離砥粒を含んだ研磨スラリが用いられる。第１研磨に用いる遊離砥粒として、例えば、酸化セリウム砥粒、あるいはジルコニア砥粒などが用いられる。両面研磨装置も、両面研削装置と同様に、上下一対の定盤の間にガラス基板が狭持される。下定盤の上面及び上定盤の底面には、全体として円環形状の平板の研磨パッド（例えば、樹脂ポリッシャ）が取り付けられている。そして、上定盤または下定盤のいずれか一方、または、双方を移動操作させることで、ガラス基板と各定盤とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の両主表面を研磨する。
【００２６】
（ｇ）化学強化処理
ガラス基板を化学強化する場合、化学強化液として、例えば硝酸カリウムと硫酸ナトリウムの混合熔融液等を用い、ガラス基板を化学強化液中に浸漬する。
【００２７】
（ｈ）第２研磨（最終研磨）処理
次に、ガラス基板に第２研磨が施される。第２研磨処理は、主表面の鏡面研磨を目的とする。第２研磨においても、第１研磨に用いる両面研磨装置と同様の構成を有する両面研磨装置が用いられる。具体的には、ガラス基板の外周側端面を、両面研磨装置の研磨用キャリアに設けられた保持孔内に保持させながら、ガラス基板の両側の主表面の研磨が行われる。第２研磨処理が第１研磨処理と異なる点は、遊離砥粒の種類及び粒子サイズが異なることと、樹脂ポリッシャの硬度が異なることである。例えばコロイダルシリカを遊離砥粒として含む研磨液が両面研磨装置の研磨パッドとガラス基板の主表面との間に供給され、ガラス基板の主表面が研磨される。
【００２８】
（ｉ）超音波洗浄処理
次に、第２研磨処理後のガラス基板に超音波洗浄が施される。
図１は本実施形態に係る超音波洗浄処理に用いる超音波洗浄装置１Ａの平面図であり、図２は図１のII−II矢視断面図である。超音波洗浄装置１Ａは、洗浄槽１０と、複数の超音波振動子２０と、を備える。
【００２９】
洗浄槽１０は、矩形状の底壁１１と、底壁１１の長手方向の２辺から鉛直方向上方に立ち上がる側壁１２と、短手方向の２辺から鉛直方向上方に立ち上がる側壁１３とからなり、内部に洗浄液Ｓが貯留される。洗浄液Ｓとしては純水、イソプロピルアルコール等を用いることができる。洗浄液Ｓは、さらに中性洗剤等の界面活性剤を含んでもよい。
【００３０】
複数の超音波振動子２０は、洗浄槽１０の底壁１１に沿って設けられており、振動面を底壁１１に向けて取り付けられている。超音波振動子２０は、底壁１１に取り付けられた振動面より１５ｋＨｚ〜４５０ｋＨｚの超音波を発振する。複数の超音波振動子２０から出力される超音波は全て同一周波数帯である。
【００３１】
図１、図２に示すように、複数の超音波振動子２０は、底壁１１の中央部よりも短手方向の両端部、すなわち、中央部を囲む外周部において、狭い間隔で配置されている。底壁１１の単位面積当たりの超音波振動子２０の数（密度）は、底壁１１の外周部、特に長手方向の側壁１２に沿った領域のほうが底壁１１の中央部よりも高い。
【００３２】
図１、図２に示すように、洗浄槽１０の洗浄液Ｓには、１又は複数のガラス基板群３０が浸漬される。ガラス基板群３０は、複数のガラス基板３１と、キャリア３２とからなる。複数のガラス基板３１は、主表面が対向するように配列された状態でキャリア３２により端面を保持される。キャリア３２に複数のガラス基板３１を保持させた状態のガラス基板群３０を洗浄液Ｓに浸漬することで、超音波洗浄のバッチ処理が可能となる。
【００３３】
図１では、３つのガラス基板群３０が洗浄槽１０に収納されている。ガラス基板群３０は、複数のガラス基板３１の配列方向の両端部が、底壁１１のより狭い間隔で超音波振動子２０が配置された領域、すなわち、洗浄槽１０の端手方向の両端部と一致するように、洗浄液Ｓ内に浸漬される。このとき、ガラス基板群３０の両端の下方に配置された超音波振動子２０の間隔が、ガラス基板群３０の中央部の下方に配置された超音波振動子２０の間隔よりも狭くなるように、複数の超音波振動子２０が洗浄槽１０の底壁１１に沿って設けられている。すなわち、ガラス基板群３０の両端の下方に配置された超音波振動子２０の数が、ガラス基板群３０の中央部の下方に配置された超音波振動子２０の密度よりも多くなるように、複数の超音波振動子２０が洗浄槽１０の底壁１１に沿って設けられている。
【００３４】
一般の超音波洗浄装置の洗浄槽では、側壁による反射波との干渉により側壁の近傍の超音波が減衰するため、洗浄槽の中央部と比較して側壁の近傍の音圧が低い傾向がある。このような洗浄槽内の洗浄液にガラス基板群を浸漬して超音波洗浄を行うと、ガラス基板群の配列方向の両端部に配置されたガラス基板の洗浄が不充分となる傾向がある。この原因として、超音波発振器からの超音波が洗浄槽の側壁において反射し、干渉することにより側壁の近傍の超音波が減衰し、洗浄槽の中央部と比較して側壁の近傍の音圧が低くなることが考えられる。また、配列方向の両端部のガラス基板の外側に向いた主表面は、対向する他のガラス基板の主表面がないため、異物が付着しやすいと考えられる。
【００３５】
本実施形態においては、複数の超音波振動子２０が底壁１１に沿って、底壁１１の中央部を囲む外周部において狭い間隔で配置された洗浄槽１０中に洗浄液Ｓを貯留し、複数のガラス基板３１を主表面が対向するように配列させたガラス基板群３０を、配列方向の両端部が底壁１１の外周部の上部に位置するように洗浄液Ｓ内に浸漬し、底壁１１を介して洗浄槽１０内に超音波を発振させることで複数のガラス基板３１を洗浄する。ガラス基板群３０の配列方向の両端部の下方において超音波振動子２０が狭い間隔で配置されているため、ガラス基板群３０の配列方向の両端部において超音波の音圧を高めることができ、配列された複数のガラス基板３１を均一に洗浄することができる。このため、ガラス基板３１の超音波洗浄をバッチ処理で行った場合でも、歩留まりを低下させることがない。なお、ガラス基板群３０の配列方向の両端部の音圧を補うために、全ての超音波振動子の出力を上げることも考えられるが、この場合、配列方向の中央部のガラス基板に対する超音波の音圧が高くなりすぎ、ガラス基板が超音波ダメージにより傷ついて却って歩留まりを下げる恐れがある。
【００３６】
なお、複数の超音波振動子２０のうち、ガラス基板群３０の配列方向の両端部の下方に配置された超音波振動子２０の出力を、他の超音波振動子２０の出力よりも大きくした状態で複数のガラス基板３１を洗浄してもよい。すなわち、底板１１の外周部に配置された超音波振動子２０の出力を、他の超音波振動子２０の出力よりも大きくしてもよい。これにより、ガラス基板群３０の配列方向の両端部において超音波の音圧をさらに高めることができる。
【００３７】
＜変形例＞
図３は本実施形態の変形例に係る超音波洗浄処理に用いる超音波洗浄装置１Ｂの平面図であり、図４は図３のIV−IV矢視断面図である。超音波洗浄装置１Ｂは、洗浄槽１０と、複数の超音波振動子２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃと、を備える。
【００３８】
本変形例においても、複数の超音波振動子２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃは、洗浄槽１０の底壁１１に沿って設けられており、振動面を底壁１１に向けて取り付けられている。超音波振動子２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃは、底壁１１に取り付けられた振動面より１５ｋＨｚ〜４５０ｋＨｚの超音波を発振する。複数の超音波振動子２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃから出力される超音波は全て同一周波数帯である。
【００３９】
超音波振動子２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃは、振動面の大きさがそれぞれ異なっている。振動面の大きさが最も大きい超音波振動子２０Ａは、底壁１１の中央部よりも短手方向の両端部において、長手方向の側壁１２に沿った領域に配置されている。すなわち、超音波振動子２０Ａは、底壁１１の中央部を囲む外周部に配置されている。一方、振動面の大きさが最も小さい超音波振動子２０Ｃは、底壁１１の端手方向の中央部に配置されている。振動面の大きさが超音波振動子２０Ａと超音波振動子２０Ｃの中間の大きさである超音波振動子２０Ｂは、超音波振動子２０Ａと超音波振動子２０Ｃとの間に配置されている。
【００４０】
本変形例においては、複数の超音波振動子２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃが底壁１１に沿って配置され、かつ、底壁１１の中央部を囲む外周部に、より大きな振動面を有する超音波振動子２０Ａが配置された洗浄槽１０中に洗浄液Ｓを貯留し、複数のガラス基板３１を主表面が対向するように配列させたガラス基板群３０を、配列方向の両端部が底壁１１の外周部の上部に位置するように洗浄液Ｓ内に浸漬し、底壁１１を介して洗浄槽Ｓ内に超音波を発振させることで複数のガラス基板３１を洗浄する。このとき、ガラス基板群３０の両端の下方に配置された超音波振動子２０Ａの振動面が、ガラス基板群３０の中央部の下方に配置された超音波振動子２０Ｃの振動面よりも大きくなるように、複数の超音波振動子２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃが洗浄槽１０の底壁１１に沿って設けられている。
ガラス基板群の配列方向の両端部において、より大きな振動面を有する超音波振動子２０Ａが配置されているため、ガラス基板群３０の配列方向の両端部において超音波の音圧を高めることができ、配列された複数のガラス基板３１を均一に洗浄することができる。このため、ガラス基板３１の超音波洗浄をバッチ処理で行った場合でも、歩留まりを低下させることがない。また、ガラス基板群３０の配列方向の両端部の音圧のみを高めるため、ガラス基板群３０の配列方向の中央部のガラス基板３１が過剰に洗浄されて表面を傷つけるおそれがない。
【００４１】
なお、複数の超音波振動子２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃのうち、ガラス基板群３０の配列方向の両端部の下方に配置された超音波振動子２０Ａ、２０Ｂの出力を、他の超音波振動子２０Ｃの出力よりも大きくした状態で複数のガラス基板３１を洗浄してもよい。すなわち、底壁１１の外周部に配置された超音波振動子２０Ａ、２０Ｂの出力を、他の超音波振動子２０Ｃの出力よりも大きくしてもよい。これにより、ガラス基板群３０の配列方向の両端部において超音波の音圧をさらに高めることができる。
【００４２】
以上、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態及び実施例に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。
例えば、上記実施形態においては、第２研磨処理後に超音波洗浄処理を行ったが、本発明はこれに限らず、第１研磨処理後に超音波洗浄処理を行ってもよいし、化学強化処理後に超音波洗浄処理を行ってもよい。
【００４３】
〔実施例〕
図１に示すように、複数の超音波振動子が洗浄槽の底壁に沿って設けられた超音波洗浄装置を用いて、複数のガラス基板の超音波洗浄処理を行った。超音波洗浄装置として、図１、図２に示すように、底壁の中央部よりも短手方向の両端部において、中央部よりも狭い間隔で複数の超音波振動子が配置されているものを用いた。
２０枚のガラス基板をキャリアに保持させたガラス基板群を５群、洗浄液が貯留された洗浄槽に浸漬し、超音波振動子により４０ｋＨｚの超音波を発振し、１５分間の洗浄を行った。
【００４４】
〔比較例１〕
超音波洗浄装置として、洗浄槽の底壁に沿って均等な間隔で複数の超音波振動子が配置されているものを用いた。その他の条件は同様として、ガラス基板の超音波洗浄処理を行った。
【００４５】
〔比較例２〕
超音波洗浄装置として、洗浄槽の底壁の下面の中央部に１つの超音波振動子が設けられた超音波洗浄装置を用いた。その他の条件は同様として、ガラス基板の超音波洗浄処理を行った。
【００４６】
〔異物数の計測〕
超音波洗浄処理後のガラス基板のうち、各ガラス基板群の一方の端部から１枚目、１０枚目、２０枚目のガラス基板を１０００枚ずつ入手し、レーザー式の表面欠陥検査装置を用いてガラス基板の主表面を走査し、残存する異物を検出することで合否判定を行い、歩留まりを計測した。実施例のガラス基板群の一方の端部から１０枚目のガラス基板の歩留まりを１００（％）としたときの歩留まりの相対値を表１に示す。
ここで、合否判定は、１面において検出される欠陥が０のものを合格として行った。
【００４７】
【表１】
2015125789.tif 000003
【００４８】
表１に示すように、実施例の超音波洗浄装置を用いて洗浄処理を行うと、配列された複数のガラス基板を配列の位置によらず均一に洗浄することができ、ガラス基板群の両端部のガラス基板において歩留まりが改善したことがわかる。
【符号の説明】
【００４９】
１Ａ、１Ｂ  超音波洗浄装置
１０  洗浄槽
１１  底壁
１２、１３  側壁
２０、２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ  超音波振動子
３０  ガラス群
３１  ガラス基板
３２  キャリア
Ｓ  洗浄液
【図１】
2015125789.tif 000004
【図２】
2015125789.tif 000005
【図３】
2015125789.tif 000006
【図４】
2015125789.tif 000007