(57)【要約】【課題】高精細にパターニングされた色変換層を有する色変換基板およびそれを用いた表示装置、並びに、色変換層を高精細にパターニングすることを可能とする色変換基板の製造方法を提供する。【解決手段】透明基板１１と、透明基板１１上に設けられたカラーフィルター層１２と、カラーフィルター層１２上に設けられ、蛍光体と感光性材料から構成され、感光性材料が感光してなる色変換層１３と、を備えた色変換基板１０。【選択図】図１
2015162280.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、該透明基板上に設けられたカラーフィルター層と、該カラーフィルター層上に設けられ、蛍光体と感光性材料から構成され、該感光性材料が感光してなる色変換層と、を備えたことを特徴とする色変換基板。
【請求項２】
請求項１に記載の色変換基板と、励起光源と、を備えたことを特徴とする表示装置。
【請求項３】
透明基板上に形成されたカラーフィルター層上に、蛍光体を含む感光性材料を塗布する工程と、
前記カラーフィルター層を介して、前記感光性材料に光を照射して、前記感光性材料を露光する工程と、を有することを特徴とする色変換基板の製造方法。
【請求項４】
透明基板上に形成されたカラーフィルター層上に、赤色蛍光体を塗布する工程と、
前記赤色蛍光体上に、緑色の波長域の光または青色の波長域の光によって感光する第１のポジ型レジストを塗布する工程と、
前記カラーフィルター層を介して、前記第１のポジ型レジストに白色の波長域の光または青緑の波長域の色光を照射して、前記第１のポジ型レジストを露光する工程と、
前記第１のポジ型レジストを現像して、青色カラーフィルター層および緑色カラーフィルター層上の前記第１のポジ型レジストを除去する工程と、
前記青色カラーフィルター層および前記緑色カラーフィルター層上の前記赤色蛍光体を除去する工程と、
前記カラーフィルター層および前記赤色蛍光体上に、緑色蛍光体を塗布する工程と、
前記緑色蛍光体上に、青色の波長域の光によって感光する第２のポジ型レジストを塗布する工程と、
前記カラーフィルター層を介して、前記第２のポジ型レジストに白色の波長域の光または青色の波長域の光を照射して、前記第２のポジ型レジストを露光する工程と、
前記第２のポジ型レジストを現像して、前記青色カラーフィルター層上の前記第２のポジ型レジストを除去する工程と、
前記青色カラーフィルター層上の前記緑色蛍光体を除去する工程と、を有することを特徴とする色変換基板の製造方法。
【請求項５】
透明基板上に形成されたカラーフィルター層上に、緑色の波長域の光または青色の波長域の光によって感光する第１のネガ型レジストを塗布する工程と、
前記カラーフィルター層を介して、前記第１のネガジ型レジストに白色の波長域の光または青緑色の波長域の光を照射して、前記第１のネガ型レジストを露光する工程と、
前記第１のネガ型レジストを現像して、赤色カラーフィルター層上の前記第１のネガ型レジストを除去する工程と、
前記第１のネガ型レジストおよび前記赤色カラーフィルター層上に、赤色蛍光体を塗布する工程と、
露光した前記第１のネガ型レジストを除去する工程と、
青色カラーフィルター層、緑色カラーフィルター層および前記赤色蛍光体上に、青色の波長域の光によって感光する第２のネガ型レジストを塗布する工程と、
前記カラーフィルター層を介して、前記第２のネガ型レジストに白色の波長域の光または青緑の波長域の色光を照射して、前記第２のネガ型レジストを露光する工程と、
前記第２のネガ型レジストを現像して、前記赤色カラーフィルター層および前記緑色カラーフィルター層上の前記第２のネガ型レジストを除去する工程と、
前記第２のネガ型レジスト、前記赤色カラーフィルター層および前記緑色カラーフィルター層上に、緑色蛍光体を塗布する工程と、
露光した前記第２のネガ型レジストを除去する工程と、を有することを特徴とする色変換基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、色変換基板およびそれを用いた表示装置、色変換基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子を用いて多色発光を実現する方法の１つとして、色変換方式がある（例えば、特許文献１、２参照）。色変換方式は、有機ＥＬ素子の発光を吸収して波長分布変換を行い、異なる波長分布を有する光を放射する色変換層を、有機ＥＬ素子の前面に配設して多色を実現する方法である。色変換方式では、必要とされる有機ＥＬ素子が１種（単色）であるため、製造が容易であり、ディスプレイへの展開が積極的に検討されている。また、色変換方式は、特定の波長域の光を透過させるカラーフィルター層をさらに組み合わせることによって、良好な色再現性が得られるなどの有利な特徴を有する。
【０００３】
色変換方式をディスプレイに適用させる場合に必要な色変換層のパターニングの方法としては、無機蛍光体の場合と同様に、蛍光色素を液状のレジスト（光反応性ポリマー）中に分散させ、これをスピンコート法などで成膜した後、フォトリソグラフィー法でパターニングする方法（例えば、特許文献３、４参照）や、塩基性のバインダーに蛍光色素または蛍光顔料を分散させ、これを酸性水溶液でエッチングする方法（例えば、特許文献５参照）などが挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−２７９３９４号公報
【特許文献２】特開平８−２８６０３３号公報
【特許文献３】特開平５−１９８９２１号公報
【特許文献４】特開平５−２５８８６０号公報
【特許文献５】特開平９−２０８９４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
色変換方式によるマルチカラーまたはフルカラーのディスプレイを高精細化する場合、色変換層を高精細にパターニングする必要がある。通常のフォトリソグラフィー法によるパターニングを行う場合、塗布工程、マスクの位置合わせを伴う露光工程、現像工程が、各色の色変換層毎に必要となる。
マスクを用いた露光工程では、マスクの位置合わせの精度が十分に高いことが要求される。マスクの位置合わせの精度は、マスクの仕上がり精度および露光装置の位置合わせの精度で決まるため、高精度のマスクと位置合わせ精度の高い露光装置が必要となる。したがって、マスクおよび露光装置は高価なものとなる。また、マスクの位置合わせが必要なため、露光工程のスループットは低くなり、その結果、製造コストが高くなるといった課題がある。
塩基性のバインダーに蛍光色素または蛍光顔料を分散させ、これを酸性水溶液でエッチングする方法においても、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィーによるパターニング工程が含まれているため、フォトリソグラフィー法と同様の課題がある。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、高精細にパターニングされた色変換層を有する色変換基板およびそれを用いた表示装置、並びに、色変換層を高精細にパターニングすることを可能とする色変換基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の色変換基板は、透明基板と、該透明基板上に設けられたカラーフィルター層と、該カラーフィルター層上に設けられ、蛍光体と感光性材料から構成され、該感光性材料が感光してなる色変換層と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
本発明の表示装置は、本発明の色変換基板と、励起光源と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
本発明の色変換基板の製造方法は、透明基板上に形成されたカラーフィルター層上に、蛍光体を含む感光性材料を塗布する工程と、前記カラーフィルター層を介して、前記感光性材料に光を照射して、前記感光性材料を露光する工程と、を有することを特徴とする。
【００１０】
本発明の色変換基板の製造方法は、透明基板上に形成されたカラーフィルター層上に、赤色蛍光体を塗布する工程と、前記赤色蛍光体上に、緑色の波長域の光または青色の波長域の光によって感光する第１のポジ型レジストを塗布する工程と、前記カラーフィルター層を介して、前記第１のポジ型レジストに白色の波長域の光または青緑の波長域の色光を照射して、前記第１のポジ型レジストを露光する工程と、前記第１のポジ型レジストを現像して、青色カラーフィルター層および緑色カラーフィルター層上の前記第１のポジ型レジストを除去する工程と、前記青色カラーフィルター層および前記緑色カラーフィルター層上の前記赤色蛍光体を除去する工程と、前記カラーフィルター層および前記赤色蛍光体上に、緑色蛍光体を塗布する工程と、前記緑色蛍光体上に、青色の波長域の光によって感光する第２のポジ型レジストを塗布する工程と、前記カラーフィルター層を介して、前記第２のポジ型レジストに白色の波長域の光または青色の波長域の光を照射して、前記第２のポジ型レジストを露光する工程と、前記第２のポジ型レジストを現像して、前記青色カラーフィルター層上の前記第２のポジ型レジストを除去する工程と、前記青色カラーフィルター層上の前記緑色蛍光体を除去する工程と、を有することを特徴とする。
【００１１】
本発明の色変換基板の製造方法は、透明基板上に形成されたカラーフィルター層上に、緑色の波長域の光または青色の波長域の光によって感光する第１のネガ型レジストを塗布する工程と、前記カラーフィルター層を介して、前記第１のネガジ型レジストに白色の波長域の光または青緑色の波長域の光を照射して、前記第１のネガ型レジストを露光する工程と、前記第１のネガ型レジストを現像して、赤色カラーフィルター層上の前記第１のネガ型レジストを除去する工程と、前記第１のネガ型レジストおよび前記赤色カラーフィルター層上に、赤色蛍光体を塗布する工程と、露光した前記第１のネガ型レジストを除去する工程と、青色カラーフィルター層、緑色カラーフィルター層および前記赤色蛍光体上に、青色の波長域の光によって感光する第２のネガ型レジストを塗布する工程と、前記カラーフィルター層を介して、前記第２のネガ型レジストに白色の波長域の光または青緑の波長域の色光を照射して、前記第２のネガ型レジストを露光する工程と、前記第２のネガ型レジストを現像して、前記赤色カラーフィルター層および前記緑色カラーフィルター層上の前記第２のネガ型レジストを除去する工程と、前記第２のネガ型レジスト、前記赤色カラーフィルター層および前記緑色カラーフィルター層上に、緑色蛍光体を塗布する工程と、露光した前記第２のネガ型レジストを除去する工程と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、カラーフィルター層上に、高精細にパターニングされた色変換層を有する色変換基板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】色変換基板の一実施形態を示す概略断面図である。
【図２】色変換基板の製造方法の第一実施形態を示す概略断面図である。
【図３】色変換基板の製造方法の第一実施形態を示す概略断面図である。
【図４】色変換基板の製造方法の第一実施形態を示す概略断面図である。
【図５】色変換基板の製造方法の第一実施形態を示す概略断面図である。
【図６】色変換基板の製造方法の第一実施形態を示す概略断面図である。
【図７】色変換基板の製造方法の第一実施形態を示す概略断面図である。
【図８】色変換基板の製造方法の第二実施形態を示す概略断面図である。
【図９】色変換基板の製造方法の第二実施形態を示す概略断面図である。
【図１０】色変換基板の製造方法の第二実施形態を示す概略断面図である。
【図１１】色変換基板の製造方法の第二実施形態を示す概略断面図である。
【図１２】色変換基板の製造方法の第二実施形態を示す概略断面図である。
【図１３】色変換基板の製造方法の第二実施形態を示す概略断面図である。
【図１４】色変換基板の製造方法の第二実施形態を示す概略断面図である。
【図１５】色変換基板の製造方法の第二実施形態を示す概略断面図である。
【図１６】色変換基板の製造方法の第二実施形態を示す概略断面図である。
【図１７】色変換基板の製造方法の第二実施形態を示す概略断面図である。
【図１８】色変換基板の製造方法の第三実施形態を示す概略断面図である。
【図１９】色変換基板の製造方法の第三実施形態を示す概略断面図である。
【図２０】色変換基板の製造方法の第三実施形態を示す概略断面図である。
【図２１】色変換基板の製造方法の第三実施形態を示す概略断面図である。
【図２２】色変換基板の製造方法の第三実施形態を示す概略断面図である。
【図２３】色変換基板の製造方法の第三実施形態を示す概略断面図である。
【図２４】表示装置の一実施形態を示す概略断面図である。
【図２５】表示装置の一適用例である携帯電話を示す外観図である。
【図２６】表示装置の一適用例である薄型テレビを示す外観図である。
【図２７】表示装置の一適用例である携帯型ゲーム機を示す外観図である。
【図２８】表示装置の一適用例であるノートパソコンを示す外観図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の色変換基板およびそれを用いた表示装置、色変換基板の製造方法の実施の形態について説明する。
なお、本実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００１５】
「色変換基板」
図１は、色変換基板の一実施形態を示す概略断面図である。
本実施形態の色変換基板１０は、透明基板１１と、透明基板１１の一方の面１１ａ上に設けられたカラーフィルター層１２と、カラーフィルター層１２上に設けられた色変換層１３と、カラーフィルター層１２および色変換層１３からなる画素（赤色画素２１、緑色画素２２、青色画素２３）を区画する隔壁１４とから概略構成されている。
【００１６】
カラーフィルター層１２のうち赤色画素２１を構成する領域のものは、赤色カラーフィルター層３１である。また、カラーフィルター層１２のうち緑色画素２２を構成する領域のものは、緑色カラーフィルター層３２である。また、カラーフィルター層１２のうち青色画素２３を構成する領域のものは、青色カラーフィルター層３３である。
【００１７】
色変換層１３のうち赤色画素２１を構成する領域のものは、赤色色変換層４１である。また、色変換層１３のうち緑色画素２２を構成する領域のものは、緑色色変換層４２である。また、色変換層１３のうち青色画素２３を構成する領域のものは、青色色変換層４３である。
色変換層１３は、励起光源となる近紫外光、青色光、青緑色光または白色光を吸収し、波長分布変換を行って可視光域の光を発光する。
【００１８】
透明基板１１は、後述する励起光源から発する光を射出する側の基板をなし、光透過性を有する必要がある。透明基板１１としては、例えば、ガラス、石英等からなる無機材料基板、ポリエチレンテレフタレート、ポリカルバゾール、ポリイミド等からなる透明なプラスチック基板等が挙げられるが、これらの基板に限定されるものではない。
透明基板１１の具体例としては、例えば、液晶ディスプレイ等に一般的に用いられる、厚さ０．７ｍｍのガラス基板が挙げられる。
【００１９】
また、色変換基板１０に湾曲部、折り曲げ部を形成する必要がある場合、透明基板１１としては、上記のプラスチック基板を用いることが好ましい。
また、ガスバリア性を向上させる必要がある場合、透明基板１１としては、プラスチック基板に無機材料をコーティングした基板を用いることがさらに好ましい。これにより、透明基板１１としてプラスチック基板を用いた場合に最大の問題となる、水分の透過による波長変換材料の劣化を防止することができる。
【００２０】
赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２および青色カラーフィルター層３３は、外光のうち、色変換層１３に含まれる各蛍光体を励起する励起光（励起光源から発する光）を吸収するため、外光による色変換層１３の発光を低減・防止することができ、色変換基板１０による表示のコントラストの低下を低減・防止することができる。一方、赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２および青色カラーフィルター層３３によって、色変換層１３に吸収されず、色変換層１３を透過した励起光が外部に漏れ出すことを防止できるので、色変換層１３からの発光と励起光の混色による発光の色純度の低下を防止することができる。
【００２１】
赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２および青色カラーフィルター層３３としては、例えば、染料、顔料および樹脂からなるもの、または、染料、顔料のみからなるものが挙げられる。
染料、顔料および樹脂からなるカラーフィルター層としては、染料、顔料をバインダー樹脂中に溶解または分散させた固形状態のものが挙げられる。
カラーフィルター層に用いられる染料、顔料としては、ペリレン、イソインドリン、シアニン、アゾ、オキサジン、フタロシアニン、キナクリドン、アントラキノン、ジケトピロロピロールなどが挙げられる。
【００２２】
色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）は、蛍光体が分散されてなるものであり、蛍光体材料のみから構成されていてもよく、任意に添加剤などを含んで構成されてもよく、これらの材料が高分子材料（透明樹脂）または無機材料中に分散して構成されてもよい。
また、赤色色変換層４１と、緑色色変換層４２と、青色色変換層４３との間には、隔壁１４が形成されていなくてもよいが、赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３からの発光が混色することを防止するために、隔壁１４が形成されていることが好ましい。
【００２３】
赤色色変換層４１は、紫外の波長域から青緑色の波長域の励起光（以下、単に「励起光」と言うこともある。）のうち、紫外の波長域の光（紫外光）、青色の波長域の光、緑色の波長域の光を吸収し、赤色の波長域の光を発光する。
緑色色変換層４２は、励起光のうち、紫外の波長域の光（紫外光）、青色の波長域の光を吸収し、緑色の波長域の光を発光する。
青色色変換層４３は、励起光のうち、紫外の波長域の光（紫外光）を吸収し、青色の波長域の光を発光する。
【００２４】
また、色変換基板１０では、励起光源からの光を画素の光として直接用いてもよい。例えば、励起光として青色の波長域の光を用いた場合、その光を青色画素２３の光として直接用いてもよい。
【００２５】
色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）の厚さは、通常１００ｎｍ〜１００μｍであるが、１μｍ〜１００μｍであることが好ましい。
色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）の厚さが１００ｎｍ未満であれば、色変換層１３が励起光源から照射される青色の波長域の光を十分吸収することが不可能であるため、色変換効率の低下や、変換光に青色の透過光が混ざることによる発光の色純度の低下といった問題が生じることがある。さらに、励起光源から照射される青色の波長域の光の吸収量を高め、色純度を低下させない程度に、変換光に青色の透過光が混ざること低減するためには、色変換層１３の厚さは、１μｍ以上であることが好ましい。一方、色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）の厚さが１００μｍを超えても、励起光源から照射される青色の波長域の光は、厚さが１００μｍ以下（１００ｎｍ以上）の場合でも十分に吸収されるため、色変換効率の上昇にはつながらない。そのため、単に材料を消費するのみであり、材料コストの増加につながる。
【００２６】
赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３を形成する蛍光体材料としては、公知の蛍光体材料を用いることができる。このような蛍光体材料は、有機系蛍光体材料と無機系蛍光体材料に分類される。
【００２７】
赤色蛍光体に用いられる有機系蛍光体材料としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチルリル）−４Ｈ−ピラン（ Ｄ Ｃ Ｍ ）などのシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジニウム−パークロレートなどのピリジン系色素、および、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、ベーシックバイオレット１１などのローダミン系色素、スルホローダミン１０１など、オキサジン系色素などが挙げられる。
赤色蛍光体に用いられる無機系蛍光体材料としては、Ｙ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ３＋、ＹＡｌＯ３：Ｅｕ３＋、Ｃａ２Ｙ２（ＳｉＯ４）６：Ｅｕ３＋、ＬｉＹ９（ＳｉＯ４）６Ｏ２：Ｅｕ３＋、ＹＶＯ４：Ｅｕ３＋、ＣａＳ：Ｅｕ３＋、Ｇｄ２Ｏ３：Ｅｕ３＋、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ３＋、Ｙ（Ｐ，Ｖ）Ｏ４：Ｅｕ３＋、Ｍｇ４ＧｅＯ５．５Ｆ：Ｍｎ４＋、Ｍｇ４ＧｅＯ６：Ｍｎ４＋、Ｋ５Ｅｕ２．５（ＷＯ４）６．２５、Ｎａ５Ｅｕ２．５（ＷＯ４）６．２５、Ｋ５Ｅｕ２．５（ＭｏＯ４）６．２５、および、Ｎａ５Ｅｕ２．５（ＭｏＯ４）６．２５などが挙げられる。
【００２８】
緑色蛍光体に用いられる有機系蛍光体材料としては、２，３，５，６−１Ｈ、４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフロメチルキノリジン（９，９ａ、１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）、３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２’−ベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）などのクマリン色素、および、ベーシックイエロー５１、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。
緑色蛍光体に用いられる無機系蛍光体材料としては、（ＢａＭｇ）Ａｌ１６Ｏ２７：Ｅｕ２＋，Ｍｎ２＋、Ｓｒ４Ａｌ１４Ｏ２５：Ｅｕ２＋、（ＳｒＢａ）Ａｌ１２Ｓｉ２Ｏ８：Ｅｕ２＋、（ＢａＭｇ）２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋、Ｙ２ＳｉＯ５：Ｃｅ３＋，Ｔｂ３＋、Ｓｒ２Ｐ２Ｏ７−Ｓｒ２Ｂ２Ｏ５：Ｅｕ２＋、（ＢａＣａＭｇ）５（ＰＯ４）３Ｃｌ：Ｅｕ２＋、Ｓｒ２Ｓｉ３Ｏ８−２ＳｒＣｌ２：Ｅｕ２＋、Ｚｒ２ＳｉＯ４、ＭｇＡｌ１１Ｏ１９：Ｃｅ３＋，Ｔｂ３＋、Ｂａ２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋、Ｓｒ２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋、および、（ＢａＳｒ）ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋などが挙げられる。
【００２９】
青色蛍光体に用いられる有機系蛍光体材料としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン（Ｂｉｓ−ＭＳＢ）、トランス−４，４’−ジフェニルスチルベン（ＤＰＳ）などのスチルベン系色素、７−ヒドロキシ−４−メチルクマリン（クマリン４）などのクマリン系色素、ＢＯＱＰ、ＰＢＢＯ、ＢＯＴ、ＰＯＰＯＰなどが挙げられる。
青色蛍光体に用いられる無機系蛍光体材料としては、ＢａＭｇ２Ａｌ１６Ｏ２７：Ｅｕ２＋、Ｓｒ２Ｐ２Ｏ７：Ｓｎ４＋、Ｓｒ４Ａｌ１４Ｏ２５：Ｅｕ２＋、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ２＋、ＳｒＧａ２Ｓ４：Ｃｅ３＋、ＣａＧａ２Ｓ４：Ｃｅ３＋、（Ｂａ、Ｓｒ）（Ｍｇ、Ｍｎ）Ａｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ２＋、（Ｓｒ、Ｃａ、Ｂａ２、Ｍｇ）１０（ＰＯ４）６Ｃｌ２：Ｅｕ２＋、ＢａＡｌ２ＳｉＯ８：Ｅｕ２＋、Ｓｒ２Ｐ２Ｏ７：Ｅｕ２＋、Ｓｒ5（ＰＯ4）3Ｃｌ：Ｅｕ２＋、（Ｓｒ，Ｃａ，Ｂａ）5（ＰＯ4）3Ｃｌ：Ｅｕ２＋、（Ｂａ，Ｃａ）５（ＰＯ４）３Ｃｌ：Ｅｕ２＋、Ｂａ３ＭｇＳｉ２Ｏ８：Ｅｕ２＋、Ｓｒ３ＭｇＳｉ２Ｏ８：Ｅｕ２＋などが挙げられる。
【００３０】
色変換層１３を構成する高分子材料（透明樹脂）としては、可視光領域の４００〜７００ｎｍの全波長領域において透過率が８０％以上のものが好ましく、９５％以上のものがより好ましい。
透明樹脂には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂および感光性樹脂が含まれる。また、これらの透明樹脂の前駆体には、放射線照射により硬化して透明樹脂を生成する反応性モノマーまたは反応性オリゴマーが含まれる。これらの反応性モノマーまたは反応性オリゴマーは、１種が用いられるか、または、２種以上が混合されて用いられる。
【００３１】
色変換層１３を構成する高分子材料（透明樹脂）は、反応性モノマーまたは反応性オリゴマーと、透過光に光吸収領域を有する光重合開始剤とから構成されている。
【００３２】
（反応性モノマー、反応性オリゴマー）
反応性モノマーおよび反応性オリゴマーとは、後述する光重合開始剤が光を吸収することにより発生するラジカルによって重合が誘発されるモノマーおよびオリゴマーのことをいい、本発明においては当該性質を有するモノマーおよびオリゴマーであれば、いかなるモノマーおよびオリゴマーも使用可能である。反応性モノマーおよび反応性オリゴマーとしては、少なくとも１つの重合可能な炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を用いることができる。反応性モノマーおよび反応性オリゴマーとしては、例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、フルオレン系、シクロオレフィン系、イミド系、シリコーン系、有機・無機ハイブリッド系、ポリカーボネート系、ＴＡＣ系、ポリスチレン系、フッ素系、ポリエチレンテレフタレート系、ＭＳ系、ポリビニルアルコール系、ポバール系、アルキド系、環ゴム系などの反応性ビニル基を有する光硬化型材料が用いられる。
【００３３】
反応性モノマーおよび反応性オリゴマーとしては、具体的には、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３−プロパンジオールアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリアクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレート、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、および、前記のアクリレート基をメタクリレート基に置換したもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドン、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、テトラヒドロフルフリールアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、３−ブタンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクレリート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、フェノール−エチレンオキサイド変性アクリレート、フェノール−プロピレンオキサイド変性アクリレート、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビスフェノールＡ−エチレンオキサイド変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリストールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等のアクリレートモノマー、および、これらのアクリレート基をメタクリレート基に置換したもの、ポリウレタン構���を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたウレタンアクリレートオリゴマー、ポリエステル構造を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたポリエステルアクリレートオリゴマー、エポキシ基を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたエポキシアクリレートオリゴマー、ポリウレタン構造を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたウレタンメタクリレートオリゴマー、ポリエステル構造を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたポリエステルメタクリレートオリゴマー、エポキシ基を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたエポキシメタクリレートオリゴマー、アクリレート基を有するポリウレタンアクリレート、アクリレート基を有するポリエステルアクリレート、アクリレート基を有するエポキシアクリレート樹脂、メタクリレート基を有するポリウレタンメタクリレート、メタクリレート基を有するポリエステルメタクリレート、メタクリレート基を有するエポキシメタクリレート樹脂などが挙げられる。
【００３４】
上記の反応性モノマーおよび反応性オリゴマーは、本発明に使用することができる反応性モノマーおよび反応性オリゴマーの一例であり、これらに限定されるものではない。
また、このような反応性モノマーおよび反応性オリゴマーの含有量は、色変換層１３を構成する高分子材料（透明樹脂）の不揮発成分の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であることがより好ましい。
【００３５】
反応性モノマーおよび反応性オリゴマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
また、反応性モノマーおよび反応性オリゴマーの中でも、３官能以上の多官能アクリレートモノマーは、特に好適に用いられる。
【００３６】
（光重合開始剤）
光重合開始剤とは、光を吸収することによりラジカルを発生し、上記の反応性モノマーおよび反応性オリゴマーの重合反応を開始させるためのものである。
光重合開始剤としては、ラジカル発生型の光重合開始剤、酸発生型の光重合開始剤、塩基発生型の光重合開始剤、可視光重合開始剤などが用いられる。
酸発生型の光重合開始剤は、紫外線などを照射することで、酸が発生し、ビニル基、エポキシ基などのカチオン重合性官能基を有する物質の重合を開始させる。
【００３７】
可視光重合開始剤としては、例えば、アシルホスフィンオキシド化合物、α−アミノアルキルフェノン化合物、α−ヒドロキシアルキルフェノン化合物、チタノセン型光重合開始剤、水素引抜型のラジカル型光重合開始剤、オキシムエステル型光重合開始剤、カチオン型光重合開始剤および酸発生剤などが挙げられる。これらの可視光重合開始剤の中でも、アシルホスフィンオキシド化合物が特に好ましい。
【００３８】
アシルホスフィンオキシド化合物としては、例えば、モノアシルホスフィンオキシドおよびビスアシルホスフィンオキシドなどが挙げられる。
アシルホスフィンオキシド化合物としては、具体的には、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、Ｎ，Ｎ’テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−エチルアントラキノン、フェナントレンなどの芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル類、メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどのベンゾイン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−フェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール２量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２，４，５−トリアリールイミダゾール２量体、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−シアノスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾールなどのハロメチルチアゾール化合物、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ｐ−メトキシスチリル−Ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（１−ｐ−ジメチルアミノフェニル−１，３−ブタジエニル）−Ｓ−トリアジン、２−トリクロロメチル−４−アミノ−６−ｐ−メトキシスチリル−Ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−ブトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−Ｓ−トリアジンなどのハロメチル−Ｓ−トリアジン系化合物、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパノン、１，２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、イルガキュア−３６９（チバスペシャルティケミカルズ社製）、イルガキュア−６５１（チバスペシャルティケミカルズ社製）、イルガキュア−９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製）などの光重合開始剤が挙げられる。
これらの光重合開始剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００３９】
光硬化型材料の硬化に使用する光としては、例えば、紫外光、可視光、近赤外線光、白熱灯、蛍光灯および太陽光などが挙げられる。このような光を照射できる光源としては、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、可視光レーザー、発光ダイオード（ＬＥＤ）などが挙げられる。
光源の具体例としては、例えば、放射波長３６０〜６００ｎｍの範囲内のある領域の近紫外光または可視光を照射することができ、軽量かつ小型の半導体レーザーおよびＬＥＤなどが挙げられる。
半導体レーザーとしては、例えば、半導体バイオレットレーザー、半導体ブルーバイオレットレーザー、半導体ブルーレーザーなどが挙げられる。
ＬＥＤとしては、例えば、青色ＬＥＤが挙げられる。
また、上記以外に、光硬化型材料の硬化に使用する光としては、長波長の可視光、赤外線および近赤外線レーザー照射機も用いることができる。
さらに、これらの光源とモノクロメータやカットフィルターを用い、特定波長の光のみ用いてもよい。
【００４０】
また、光硬化型材料の硬化に用いられる光としては、透明基板１１側から入射させ、カラーフィルター層１２（赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２、青色カラーフィルター層３３）を透過した光を用いてもよい。
このとき、赤色カラーフィルター層３１上に配設された赤色色変換層４１を構成する光硬化型材料を重合（硬化）させるとき、赤色カラーフィルター層３１を透過した赤色の波長域の光を、光硬化型材料を硬化させる光として用いる。
また、緑色カラーフィルター層３２上に配設された緑色色変換層４２を構成する光硬化型材料を重合（硬化）させるとき、緑色カラーフィルター層３２を透過した緑色の波長域の光を、光硬化型材料を硬化させる光として用いる。
また、青色カラーフィルター層３３上に配設された青色色変換層４３を構成する光硬化型材料を重合（硬化）させるとき、青色カラーフィルター層３３を透過した青色の波長域の光を、光硬化型材料を硬化させる光として用いる。
【００４１】
このとき、赤色色変換層４１を構成する光硬化型材料としては、赤色カラーフィルター層３１を透過した赤色の波長域の光で重合（硬化）するものが用いられる。
また、緑色色変換層４２を構成する光硬化型材料としては、緑色カラーフィルター層３２を透過した緑色の波長域の光で重合（硬化）するものが用いられる。
また、青色色変換層４３を構成する光硬化型材料としては、青色カラーフィルター層３３を透過した青色の波長域の光で重合（硬化）するものが用いられる。
【００４２】
上記の青色色変換層４３を構成する光硬化型材料に含まれる光重合開始剤としては、上記の光重合開始剤のうち、芳香族ケトン類、ベンゾインエーテル類、ベンゾイン類、イミダゾール２量体類、ハロメチルチアゾール化合物、ハロメチル−Ｓ−トリアジン系化合物、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、エチルアントラキノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、メチルベンゾインホルメート、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン、２−［（２−ジメチルアミノエチル）アミノ］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン−ジメチル硫酸塩、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、Ｏｃｔｅｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製のＱＵＡＮＴＡＣＵＲＥ  ＩＴＸ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＢＭＳ，ＥＰＤ，ＤＭＢ，ＭＣＡ，ＥＨＡ、みどり化学製のＴＡＺ−１００，１０１，１０２，１０４，１０６，１０７，１０８、などが用いられる。
【００４３】
上記の緑色色変換層４２を構成する光硬化型材料に含まれる光重合開始剤としては、上記の青色色変換層４３を構成する光硬化型材料に含まれる光重合開始剤、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイドやビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド、Ｏｃｔｅｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製のＱＵＡＮＴＡＣＵＲＥ  ＱＴＸ、みどり化学製のＴＡＺ−１１０，１１３，１１８，１２０，１２１，１２２，１２３、Ｌａｍｂｅｒｔｉ製のＥＳＡ  ＣＵＲＥ  ＫＴＯ４６などが用いられる。
【００４４】
上記の赤色色変換層４１を構成する光硬化型材料に含まれる光重合開始剤としては、上記の青色色変換層４３を構成する光硬化型材料に含まれる光重合開始剤、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムやη５−シクロペンタジエニル−η６−クメニル−アイアン（１＋）−ヘキサフルオロフォスフェイト（１−）などのメタロセン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、みどり化学社製のＴＡＺ−１１４などが用いられる。
【００４５】
色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）には、光散乱層を適用してもよい。
光散乱層を形成する材料としては、樹脂中に光散乱性粒子を分散したものを用いることが好ましい。
光散乱性粒子としては、有機材料により構成された粒子（有機微粒子）、無機材料または無機材料により構成された粒子（無機微粒子）が用いられるが、無機微粒子が好ましい。光散乱層を形成する材料として光散乱性粒子を用いることにより、外部（例えば、発光素子）からの指向性を有する光を、より等方的かつ効果的に拡散または散乱させることができる。特に、無機微粒子を用いることにより、光および熱に安定な光散乱層を形成することができる。
また、光散乱性粒子としては、透明度が高いものであることが好ましい。
また、光散乱性粒子としては、母材となる樹脂よりも高屈折率のものであることが好ましい。
また、励起光が光散乱層によって効果的に散乱するためには、光散乱性粒子の粒径がミー散乱の領域にあることが必要であるので、光散乱性粒子の粒径は１００ｎｍ〜５００ｎｍ程度が好ましい。
【００４６】
光散乱性粒子として、有機微粒子を用いる場合には、例えば、ポリメチルメタクリレートビーズ（屈折率：１．４９）、アクリルビーズ（屈折率：１．５０）、アクリル−スチレン共重合体ビーズ（屈折率：１．５４）、メラミンビーズ（屈折率：１．５７）、高屈折率メラミンビーズ（屈折率：１．６５）、ポリカーボネートビーズ（屈折率：１．５７）、スチレンビーズ（屈折率：１．６０）、架橋ポリスチレンビーズ（屈折率：１．６１）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率：１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ（屈折率：１．６８）、シリコーンビーズ（屈折率：１．５０）などが挙げられる。
【００４７】
光散乱性粒子として、無機材料を用いる場合には、例えば、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫およびアンチモンからなる群より選択される少なくとも１種の金属の酸化物を主成分とした粒子（微粒子）などが挙げられる。
また、光散乱性粒子として、無機微粒子を用いる場合には、例えば、シリカビーズ（屈折率：１．４４）、アルミナビーズ（屈折率：１．６３）、酸化チタンビーズ（屈折率  アナタース型：２．５０、ルチル型：２．７０）、酸化ジルコニアビーズ（屈折率：２．０５）、酸化亜鉛ビーズ（屈折率：２．００）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）（屈折率：２.４）などが挙げられる。
【００４８】
光散乱性粒子と混合して用いられ、光散乱層を形成する樹脂材料としては、透光性の樹脂であることが好ましい。樹脂材料としては、例えば、アクリル樹脂（屈折率：１．４９）、メラミン樹脂（屈折率：１．５７）、ナイロン（屈折率：１．５３）、ポリスチレン（屈折率：１．６０）、メラミンビーズ（屈折率：１．５７）、ポリカーボネート（屈折率：１．５７）、ポリ塩化ビニル（屈折率：１．６０）、ポリ塩化ビニリデン（屈折率：１．６１）、ポリ酢酸ビニル（屈折率：１．４６）、ポリエチレン（屈折率：１．５３）、ポリメタクリル酸メチル（屈折率：１．４９）、ポリＭＢＳ（屈折率：１．５４）、中密度ポリエチレン（屈折率：１．５３）、高密度ポリエチレン（屈折率：１．５４）、テトラフルオロエチレン（屈折率：１．３５）、ポリ三フッ化塩化エチレン（屈折率：１．４２）、ポリテトラフルオロエチレン（屈折率：１．３５）などが挙げられる。
【００４９】
また、色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）における透明基板１１とは反対側の面（以下、「一方の面」と言うこともある。）１３ａを覆うように、封止膜が設けられていてもよい。
封止膜は、スピンコート法、ＯＤＦ、ラミレート法を用いて、色変換層１３の一方の面１３ａに樹脂を塗布することによって形成される。あるいは、色変換層１３の一方の面１３ａを覆うように、プラズマＣＶＤ法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、スパッタリング法などにより、ＳｉＯ、ＳｉＯＮ、ＳｉＮなどからなる無機膜を形成した後、さらに、その無機膜を覆うように、スピンコート法、ＯＤＦ、ラミレート法などを用いて樹脂を塗布するか、または、無機膜を覆うように樹脂膜を貼り合わせることによって、封止膜を形成することもできる。
【００５０】
この封止膜により、色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）に、外部からの酸素や水分が混入するのを防止することができ、ひいては、色変換層１３の劣化を低減することができる。さらに、色変換基板１０を表示装置に適用したとき、色変換層１３に含まれる酸素や水分が液晶層、無機ＥＬ素子、有機ＥＬ素子などに到達し、液晶層、無機ＥＬ素子、有機ＥＬ素子などを劣化させることを防止することができる。
【００５１】
さらに、封止膜における色変換層１３と接する面とは反対側の面を覆うように、平坦化膜が設けられていてもよい。
平坦化膜は、公知の材料を用いて形成することができる。平坦化膜の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化タンタルなどの無機材料、ポリイミド、アクリル樹脂、レジスト材料などの有機材料などが挙げられる。
平坦化膜の形成方法としては、例えば、ＣＶＤ法、真空蒸着法などのドライプロセス、スピンコート法などのウエットプロセスなどが挙げられるが、本実施形態はこれらの材料および形成方法に限定されるものではない。
また、平坦化膜は、単層構造または多層構造のいずれであってもよい。
この平坦化膜により、色変換基板１０を、有機光源または液晶層と組み合わせた場合に、色変換基板１０と、有機光源または液晶層との間に空隙が生じることを防止でき、かつ、色変換基板１０と、有機光源または液晶層との密着性を向上することができる。
【００５２】
透明基板１１の一方の面１１ａにおいて、色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）からなる各画素（赤色画素２１、緑色画素２２、青色画素２３）間には、光吸収性の隔壁１４が設けられている。この隔壁１４により、色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）の蛍光体が発光した光を吸収し、色変換基板１０の隣接する画素間において、発光色のコントラストを向上することができる。
隔壁１４の膜厚は、通常、１００ｎｍ〜１００μｍ程度であるが、１００ｎｍ〜１０μｍであることが好ましい。
【００５３】
また、隔壁１４は、光反射性または光散乱性のバンクをなしていることが好ましい。これにより、色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）からの等方発光のうち、側面方向へ発光（色変換層１３を通しての導波成分）して、透明基板１１側に取り出すことができない発光の損失成分を、光反射性または光散乱性のバンクにより、所望の画素内に反射、散乱させることで、発光を有効利用することができるようになり、所望の画素以外への発光の漏れによる色純度の低下を防止することができる。また、色変換層１３からの発光を、各画素内に反射させることができるようになり、色変換層１３からの発光を有効利用できるので、発光効率を向上することができるとともに、消費電力を低下させることができる。
さらに、光反射性または光散乱性のバンクの膜厚は、色変換層１３の総膜厚より厚いことが好ましい。これにより、色変換層１３内を導波し、側面方向へ発光して、透明基板１１側に取り出すことができない発光の損失成分を有効利用することができるようになる。
【００５４】
光反射性または光散乱性のバンクを形成する材料としては、特に限定されるものではないが、例えば、金、銀、アルミニウムなどの金属などの反射膜、酸化チタンなどの散乱膜が挙げられる。
【００５５】
隔壁１４の材料としては、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ２）、窒化シリコン（ＳｉＮ、または、Ｓｉ２Ｎ４）、酸化タンタル（ＴａＯ、または、Ｔａ２Ｏ５）などの無機材料、または、アクリル樹脂、レジスト材料などの有機材料、金、銀、アルミニウムなどの金属などが挙げられる。
隔壁１４の材料として、金属を用いることにより、色変換層１３に含まれる蛍光体からの発光を反射させ、所望の方向にのみ、発光させることが可能となり、ひいては、発光効率を向上させることができるため好ましい。また、隔壁１４自体が反射性でない場合、隔壁１４上に金属からなる反射膜を形成すれば、色変換層１３に含まれる蛍光体からの発光を所望の方向に反射させることが可能となる。また、隔壁１４上に金属からなる反射膜を形成する方法としては、例えば、化学気相成長（ＣＶＤ）法、真空蒸着法などのドライプロセス、スピンコート法などのウエットプロセスが挙げられる。また、隔壁１４のパターニング方法としては、従来のフォトリソグラフィー法などが挙げられる。
【００５６】
「色変換基板の製造方法」
（第一実施形態）
次に、図１〜７を参照して、色変換基板の製造方法の第一実施形態を説明する。
図２〜７において、図１に示した構成要素と同じ構成要素には同一符号を付して、その説明を省略する。
透明基板１１の一方の面１１ａに、所定の間隔を置いて、各画素１２（赤色画素２１、緑色画素２２、青色画素２３）間に対応した位置に隔壁１４を形成する（図２参照）。
【００５７】
次いで、透明基板１１の一方の面１１ａにおいて、隔壁１４同士の間に、各色に対応する染料、顔料を溶解または分散させたバインダー樹脂を塗布し、そのバインダー樹脂を硬化させて、カラーフィルター層１２（赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２、青色カラーフィルター層３３）を形成する（図２参照）。
【００５８】
次いで、透明基板１１の一方の面１１ａに形成されたカラーフィルター層１２（赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２、青色カラーフィルター層３３）上に、赤色蛍光体を含む感光性材料５１を塗布する（図２参照）。
【００５９】
赤色蛍光体としては、上記のものが用いられる。
感光性材料５１としては、上記の赤色カラーフィルター層３１を透過した赤色の波長域の光で重合（硬化）する光硬化型材料が用いられる。
【００６０】
感光性材料５１を塗布する方法としては、公知のウエットプロセス、公知のドライプロセス、または、レーザー転写法などが挙げられる。
公知のウエットプロセスとしては、スピンコーティング法、ディッピング法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法などの塗布法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法などの印刷法などが挙げられる。
公知のドライプロセスとしては、抵抗加熱蒸着法、電子線（ＥＢ）蒸着法、分子線エピタキシー（ＭＢＥ）法、スパッタリング法、有機気相蒸着（ＯＶＰＤ）法などが挙げられる。
【００６１】
次いで、カラーフィルター層１２を介して、感光性材料５１に赤色の波長域の光αを照射して、感光性材料５１を露光する（図３参照）。ここで、赤色の波長域の光αは、赤色カラーフィルター層３１のみを透過し、緑色カラーフィルター層３２および青色カラーフィルター層３３を透過しないため、赤色カラーフィルター層３１上に塗布された感光性材料５１のみが、赤色カラーフィルター層３１を透過した赤色の波長域の光αによって露光される。これにより、赤色カラーフィルター層３１上の感光性材料５１のみが重合（硬化）する。
【００６２】
次いで、上述の露光により重合（硬化）しなかった、緑色カラーフィルター層３２および青色カラーフィルター層３３上の感光性材料５１を除去し、赤色カラーフィルター層３１上に、赤色蛍光体と感光性材料５１から構成される赤色色変換層４１を形成する（図４参照）。
【００６３】
感光性材料５１の除去方法としては、物理的手法または化学的手法が用いられる。
物理的手法としては、ドライアイス洗浄、温風、冷風およびブラシによる洗浄などが挙げられる。
化学的手法としては、例えば、アッシング処理（酸素プラズマアッシング）、溶剤（例えば、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートおよびシクロヘキサノンなど）による溶解除去法およびアルカリ現像法などが挙げられる。これらの中でも、アッシング処理が好ましい。
また、これらの処理を行った後、さらに、化学的手法、例えば、水洗、アルカリ水溶液（アルカリ性現像液、例えば、１０〜５０％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）水溶液および１〜５０％水酸化ナトリウム水溶液）、酸性水溶液（酸性現像液）、アルコールなどの有機溶媒、および、水溶性化合物などによる洗浄、または、物理学的手法、例えば、ドライアイス洗浄、温風、冷風およびブラシによる洗浄などを施してもよい。
【００６４】
アルカリ性現像液としては、例えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、モノブチルアミン、ジブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、ジエチルアミノエタノール、アンモニア、苛性ソーダー、苛性カリ、メタ珪酸ソーダー、メタ珪酸カリ、炭酸ソーダー、テトラエチルアンモニウムヒドロキシドなどの水性液が挙げられる。
【００６５】
酸性現像液としては、例えば、ギ酸、クロトン酸、酢酸、プロピオン酸、乳酸、塩酸、硫酸、硝酸、燐酸などの水性液が挙げられる。
【００６６】
有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレンなどの炭化水素系、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、エチルビニルエーテル、ジオキサン、プロピレンオキシド、テトラヒドロフラン、セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ジエチレングルコールモノエチルエーテルなどのエーテル系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどのエステル系、ピリジン、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのその他の溶剤などが挙げられる。
【００６７】
次いで、上述の露光により重合（硬化）しなかった、緑色カラーフィルター層３２および青色カラーフィルター層３３上の感光性材料５１を除去し、赤色カラーフィルター層３１上に、赤色蛍光体と感光性材料５１から構成される赤色色変換層４１を形成する（図４参照）。
【００６８】
次いで、緑色カラーフィルター層３２、青色カラーフィルター層３３、および、赤色カラーフィルター層３１上に形成された赤色色変換層４１上に、緑色蛍光体を含む感光性材料５２を塗布する（図５参照）。
【００６９】
緑色蛍光体としては、上記のものが用いられる。
感光性材料５２としては、上記の緑色カラーフィルター層３２を透過した緑色の波長域の光で重合（硬化）する光硬化型材料が用いられる。
【００７０】
感光性材料５２を塗布する方法としては、感光性材料５１を塗布する方法と同様の方法が用いられる。
【００７１】
次いで、カラーフィルター層１２を介して、感光性材料５２に緑色の波長域の光βを照射して、感光性材料５２を露光する（図６参照）。ここで、緑色の波長域の光βは、緑色カラーフィルター層３２のみを透過し、赤色カラーフィルター層３１および青色カラーフィルター層３３を透過しないため、緑色カラーフィルター層３２上に塗布された感光性材料５２のみが、緑色カラーフィルター層３２を透過した緑色の波長域の光βによって露光される。これにより、緑色カラーフィルター層３２上の感光性材料５２のみが重合（硬化）する。
【００７２】
次いで、上述の露光により重合（硬化）しなかった、赤色カラーフィルター層３１および青色カラーフィルター層３３上の感光性材料５２を除去し、緑色カラーフィルター層３２上に、緑色蛍光体と感光性材料５２から構成される緑色色変換層４２を形成する（図７参照）。
【００７３】
感光性材料５２の除去方法としては、感光性材料５１を除去する方法と同様の方法が用いられる。
【００７４】
次いで、緑色カラーフィルター層３２上に形成された緑色色変換層４２、青色カラーフィルター層３３、および、赤色カラーフィルター層３１上に形成された赤色色変換層４１上に、青色蛍光体を含む感光性材料を塗布する。
【００７５】
青色蛍光体としては、上記のものが用いられる。
感光性材料としては、上記の青色カラーフィルター層３３を透過した青色の波長域の光で重合（硬化）する光硬化型材料が用いられる。
【００７６】
感光性材料を塗布する方法としては、感光性材料５１を塗布する方法と同様の方法が用いられる。
【００７７】
次いで、カラーフィルター層１２を介して、感光性材料に青色の波長域の光を照射して、感光性材料を露光する。ここで、青色の波長域の光は、青色カラーフィルター層３３のみを透過し、赤色カラーフィルター層３１および緑色カラーフィルター層３２を透過しないため、青色カラーフィルター層３３上に塗布された感光性材料のみが、青色カラーフィルター層３３を透過した青色の波長域の光によって露光される。これにより、青色カラーフィルター層３３上の感光性材料のみが重合（硬化）する。
【００７８】
次いで、上述の露光により重合（硬化）しなかった、赤色カラーフィルター層３１および緑色カラーフィルター層３２上の感光性材料を除去し、青色カラーフィルター層３３上に、青色蛍光体と感光性材料から構成される青色色変換層４３を形成する（図１参照）。
これにより、図１に示す色変換基板１０が得られる。
【００７９】
感光性材料の除去方法としては、感光性材料５１を除去する方法と同様の方法が用いられる。
【００８０】
本実施形態の色変換基板の製造方法によれば、カラーフィルター層１２（赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２、青色カラーフィルター層３３）上に、高精細にパターニングされた色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）を有する色変換基板１０が得られる。
【００８１】
なお、本実施形態では、青色カラーフィルター層３３上に青色色変換層４３を形成する場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されるものではない。本実施形態にあっては、青色カラーフィルター層３３上に青色色変換層４３を形成しなくてもよい。
【００８２】
（第二実施形態）
次に、図１および図８〜１７を参照して、色変換基板の製造方法の第二実施形態を説明する。
図８〜１７において、図１に示した構成要素と同じ構成要素には同一符号を付して、その説明を省略する。
透明基板１１の一方の面１１ａに、所定の間隔を置いて、各画素１２（赤色画素２１、緑色画素２２、青色画素２３）間に対応した位置に隔壁１４を形成する（図２参照）。
透明基板１１の一方の面１１ａに、所定の間隔を置いて、各画素１２（赤色画素２１、緑色画素２２、青色画素２３）間に対応した位置に隔壁１４を形成する（図８参照）。
【００８３】
次いで、透明基板１１の一方の面１１ａにおいて、隔壁１４同士の間に、各色に対応する染料、顔料を溶解または分散させたバインダー樹脂を塗布し、そのバインダー樹脂を硬化させて、カラーフィルター層１２（赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２、青色カラーフィルター層３３）を形成する（図８参照）。
【００８４】
次いで、透明基板１１の一方の面１１ａに形成されたカラーフィルター層１２（赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２、青色カラーフィルター層３３）上に、赤色蛍光体を含むポジ型の感光性樹脂６１を塗布する（図８参照）。
【００８５】
感光性樹脂６１としては、上記のものが用いられる。
この工程では、赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２および青色カラーフィルター層３３の全ての上に、感光性樹脂６１を塗布する。
感光性樹脂６１を塗布する方法としては、公知のウエットプロセス、公知のドライプロセス、または、レーザー転写法などが挙げられる。
公知のウエットプロセスとしては、スピンコーティング法、ディッピング法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法などの塗布法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法などの印刷法などが挙げられる。
公知のドライプロセスとしては、抵抗加熱蒸着法、電子線（ＥＢ）蒸着法、分子線エピタキシー（ＭＢＥ）法、スパッタリング法、有機気相蒸着（ＯＶＰＤ）法などが挙げられる。
【００８６】
ポジ型の感光性樹脂６１を構成するポジ型の感光性樹脂としては、従来から公知のポジ型感光性レジストを用いることができる。ポジ型感光性レジストとしては、例えば、ナフトキノンアジド系ポジ型レジストとして、東京応化工業社製のＯＦＰＲシリーズ、クラリアントジャパン社製のＡＺシリーズ、富士フィルムオーリン社製のＨＰＲ、ＭＰＲの各シリーズなどが挙げられる。
【００８７】
ポジ型の感光性樹脂は、（Ａ）可溶性樹脂、（Ｂ）光酸発生剤および（Ｃ）有機溶剤を含む。
ポジ型の感光性樹脂は、照射する光の波長に合わせて、従来から公知の光増感剤を必要に応じて含んでもよい。
光増感剤としては、具体的には、例えば、４００〜７００ｎｍの波長領域の光（可視光）を吸収することにより励起され、（Ａ）可溶性樹脂や（Ｂ）光酸発生剤と相互作用性を有する化合物であり、チオキサンテン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、３−置換クマリン系、３，４−置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ペリレン系、メロシアニン系、ケトクマリン系、クマリン系、ボレート系などの色素が挙げられる。
これらの光増感剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお、ここでいう「相互作用」には、励起された光増感剤から他の成分へのエネルギー移動や電子移動などが包含される。
【００８８】
（Ａ）可溶性樹脂としては、（Ａ１）アルカリ可溶性樹脂、（Ａ２）酸の存在下でアルカリ可溶性に変性する樹脂が挙げられる。
（Ａ１）アルカリ可溶性樹脂としては、フェノールノボラック樹脂、アクリル樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、ヒドロキシスチレン共重合体、ポリビニルフェノール、ポリα−メチルビニルフェノールなどが挙げられるが、特に、フェノールノボラック樹脂が好ましい。
（Ａ２）酸の存在下でアルカリ可溶性に変性する樹脂としては、水酸基を保護基で保護したポリビニルフェノールや、スチレン−マレイミド共重合体などの樹脂が挙げられる。
【００８９】
（Ｂ）光酸発生剤としては、キノンジアジド基含有化合物などが挙げられる。
キノンジアジド基含有化合物としては、オルトベンゾキノンジアジド、オルトナフトキノンジアジド、オルトアントラキノンジアジドなどのキノンジアジド類のスルホン酸と、フェノール性水酸基またはアミノ基を含有する化合物のポリヒドロキシベンゾフェノン、没食子酸アルキルフェノール樹脂、ジメチルフェノール、ヒドロキノン、ポリヒドロキシジフェニルアルカン、ポリヒドロキシジフェニルアルケン、ビスフェノールＡ、トリス（ヒドロキシフェニル）メタンおよびそのメチル置換体、ナフトール、ピロカテコール、ピロガロール、アニリン、ｐ−アミノジフェニルアミン、ｐ−アミノジフェニルアミンの一部をエステル化したものまたは完全にエステル化したもの、ｐ−アミノジフェニルアミンの一部をアミド化したものまたは完全にアミド化したものなどが挙げられる。
【００９０】
次いで、赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２および青色カラーフィルター層３３に塗布した感光性樹脂６１上に、緑色の波長域の光または青色の波長域の光によって感光する第１のポジ型レジスト７１を塗布する（図９参照）。
【００９１】
第１のポジ型レジスト７１としては、上記のポジ型の感光性樹脂が用いられる。
第１のポジ型レジスト７１に含まれる光増感剤としては、青色、緑色の波長域の光によって感光する、４−置換−３−ベンゾチアゾイルクマリン化合物が用いられる。
【００９２】
第１のポジ型レジスト７１を塗布する方法としては、公知のウエットプロセスのスピンコーティング法、ディッピング法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法などの塗布法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法、ローラーを用いた印刷法、ロールコーターを用いた印刷法、カーテンロールコーターを用いた印刷法、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷、スピン塗装などの印刷法などが挙げられる。
【００９３】
次いで、カラーフィルター層１２を介して、第１のポジ型レジスト７１に白色の波長域または青緑色の波長域の光γ１を照射して、第１のポジ型レジスト７１を露光する（図１０参照）。
ここで、白色の波長域または青緑色の波長域の光γ１は、赤色カラーフィルター層３１を透過すると赤色の波長域の光となり、緑色カラーフィルター層３２を透過すると緑色の波長域の光となり、青色カラーフィルター層３３を透過すると青色の波長域の光となるため、緑色カラーフィルター層３２および青色カラーフィルター層３３上に塗布された、緑色の波長域の光または青色の波長域の光によって感光する第１のポジ型レジスト７１が、緑色カラーフィルター層３２を透過した緑色の波長域の光、および、青色カラーフィルター層３３を透過した青色の波長域の光によって露光される。
【００９４】
次いで、第１のポジ型レジスト７１を現像して、上述の露光により溶解性が増した、緑色カラーフィルター層３２上および青色カラーフィルター層３３上の第１のポジ型レジスト７１を除去する（図１１参照）。この際、赤色カラーフィルター層３１上にのみ、第１のポジ型レジスト７１が残る。
【００９５】
次いで、エッチングにより、緑色カラーフィルター層３２上および青色カラーフィルター層３３上の感光性樹脂６１を除去する（図１２参照）。さらに、エッチングにより、赤色カラーフィルター層３１上の第１のポジ型レジスト７１を除去し、赤色カラーフィルター層３１上に、感光性樹脂６１から構成される赤色色変換層４１を形成する。
【００９６】
この工程において、エッチング法としては、公知のウェットエッチング法や、公知のドライエッチング法が用いられる。
【００９７】
次いで、透明基板１１の一方の面１１ａに形成された緑色カラーフィルター層３２上および青色カラーフィルター層３３上、並びに、赤色カラーフィルター層３１上に塗布された感光性樹脂６１上に、緑色蛍光体を含むポジ型の感光性樹脂６２を塗布する（図１３参照）。
【００９８】
感光性樹脂６２としては、上記のものが用いられる。
感光性樹脂６２を塗布する方法としては、感光性樹脂６１を塗布する方法と同様の方法が用いられる。
【００９９】
次いで、赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２および青色カラーフィルター層３３に塗布した感光性樹脂６２上に、青色の波長域の光によって感光する第２のポジ型レジスト７２を塗布する（図１４参照）。
【０１００】
第２のポジ型レジスト７２としては、上記のポジ型の感光性樹脂が用いられる。
第２のポジ型レジスト７２に含まれる光増感剤としては、青色の波長域の光によって感光する、７−ジエチルアミノ−３−ベンゾチアゾイルクマリン（慣用名：クマリン−６）、あるいは、ビス〔３−（７−ジエチルアミノクマリル）〕ケトン（慣用名：ケトクマリン）が用いられる。
【０１０１】
第２のポジ型レジスト７２を塗布する方法としては、第１のポジ型レジスト７１を塗布する方法と同様の方法が用いられる。
【０１０２】
次いで、カラーフィルター層１２を介して、第２のポジ型レジスト７２に白色の波長域または青色の波長域の光δ１を照射して、第２のポジ型レジスト７２を露光する（図１５参照）。
ここで、白色の波長域または青色の波長域の光δ１は、赤色カラーフィルター層３１を透過すると赤色の波長域の光となり、緑色カラーフィルター層３２を透過すると緑色の波長域の光となり、青色カラーフィルター層３３を透過すると青色の波長域の光となるため、青色カラーフィルター層３３上に塗布された、青色の波長域の光によって感光する第２のポジ型レジスト７２が、青色カラーフィルター層３３を透過した青色の波長域の光によって露光される。
【０１０３】
次いで、第２のポジ型レジスト７２を現像して、上述の露光により溶解性が増した、青色カラーフィルター層３３上の第２のポジ型レジスト７２を除去する（図１６参照）。この際、赤色カラーフィルター層３１および緑色カラーフィルター層３２上に、第２のポジ型レジスト７２が残る。
【０１０４】
次いで、エッチングにより、緑色カラーフィルター層３２上の感光性樹脂６２を除去する。また、エッチングにより、赤色カラーフィルター層３１上および緑色カラーフィルター層３２上の第２のポジ型レジスト７２を除去し、緑色カラーフィルター層３２上に、感光性樹脂６２から構成される緑色色変換層４２を形成する。さらに、赤色カラーフィルター層３１上の感光性樹脂６２を除去する（図１７参照）。
【０１０５】
この工程において、エッチング法としては、公知のウェットエッチング法や、公知のドライエッチング法が用いられる。
【０１０６】
次いで、透明基板１１の一方の面１１ａに形成された青色カラーフィルター層３３上に、青色蛍光体を塗布し、青色色変換層４３を形成する。
これにより、図１に示す色変換基板１０が得られる。
【０１０７】
青色蛍光体としては、上記のものが用いられる。
青色蛍光体を塗布する方法としては、感光性樹脂６１を塗布する方法と同様の方法が用いられる。
【０１０８】
本実施形態の色変換基板の製造方法によれば、カラーフィルター層１２（赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２、青色カラーフィルター層３３）上に、高精細にパターニングされた色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）を有する色変換基板１０が得られる。
【０１０９】
なお、本実施形態では、青色カラーフィルター層３３上に青色色変換層４３を形成する場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されるものではない。本実施形態にあっては、青色カラーフィルター層３３上に青色色変換層４３を形成しなくてもよい。
【０１１０】
（第三実施形態）
次に、図１および図１８〜２３を参照して、色変換基板の製造方法の第三実施形態を説明する。
図１８〜２３において、図１に示した構成要素と同じ構成要素には同一符号を付して、その説明を省略する。
透明基板１１の一方の面１１ａに、所定の間隔を置いて、各画素１２（赤色画素２１、緑色画素２２、青色画素２３）間に対応した位置に隔壁１４を形成する（図１８参照）。
透明基板１１の一方の面１１ａに、所定の間隔を置いて、各画素１２（赤色画素２１、緑色画素２２、青色画素２３）間に対応した位置に隔壁１４を形成する（図１８参照）。
【０１１１】
次いで、透明基板１１の一方の面１１ａにおいて、隔壁１４同士の間に、各色に対応する染料、顔料を溶解または分散させたバインダー樹脂を塗布し、そのバインダー樹脂を硬化させて、カラーフィルター層１２（赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２、青色カラーフィルター層３３）を形成する（図１８参照）。
【０１１２】
次いで、透明基板１１の一方の面１１ａに形成されたカラーフィルター層１２（赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２、青色カラーフィルター層３３）上に、緑色の波長域の光または青色の波長域の光によって感光する第１のネガ型レジスト８１を塗布する（図１８参照）。
【０１１３】
第１のネガ型レジスト８１は、反応性モノマーと、透過光に光吸収領域を有する光重合開始剤とから構成されるネガ型の感光性樹脂である。
【０１１４】
（反応性モノマー）
反応性モノマーとは、後述する光重合開始剤が光を吸収することにより発生するラジカルによって重合が誘発されるモノマーのことをいい、本発明においては当該性質を有するモノマーであれば、いかなるモノマーも使用可能である。反応性モノマーとしては、少なくとも１つの重合可能な炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を用いることができる。
【０１１５】
反応性モノマーとしては、具体的には、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３−プロパンジオールアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリアクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレート、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、および、前記のアクリレート基をメタクリレート基に置換したもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドン、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、テトラヒドロフルフリールアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、３−ブタンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクレリート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、フェノール−エチレンオキサイド変性アクリレート、フェノール−プロピレンオキサイド変性アクリレート、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビスフェノールＡ−エチレンオキサイド変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリストールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどのアクリレートモノマー、および、これらのアクリレート基をメタクリレート基に置換したもの、ポリウレタン構造を有するオリゴマー���アクリレート基を結合させたウレタンアクリレートオリゴマー、ポリエステル構造を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたポリエステルアクリレートオリゴマー、エポキシ基を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたエポキシアクリレートオリゴマー、ポリウレタン構造を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたウレタンメタクリレートオリゴマー、ポリエステル構造を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたポリエステルメタクリレートオリゴマー、エポキシ基を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたエポキシメタクリレートオリゴマー、アクリレート基を有するポリウレタンアクリレート、アクリレート基を有するポリエステルアクリレート、アクリレート基を有するエポキシアクリレート樹脂、メタクリレート基を有するポリウレタンメタクリレート、メタクリレート基を有するポリエステルメタクリレート、メタクリレート基を有するエポキシメタクリレート樹脂などが挙げられる。
【０１１６】
上記の反応性モノマーは、本発明に使用することができる反応性モノマーの一例であり、これらに限定されるものではない。
また、このような反応性モノマーの含有量は、第１のネガ型レジスト８１の不揮発成分の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であることがより好ましい。
【０１１７】
反応性モノマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
また、反応性モノマーの中でも、３官能以上の多官能アクリレートモノマーは、特に好適に用いられる。
【０１１８】
（光重合開始剤）
光重合開始剤とは、光を吸収することによりラジカルを発生し、上記の反応性モノマーの重合反応を開始させるためのものである。
【０１１９】
光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、Ｎ，Ｎ’テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−エチルアントラキノン、フェナントレンなどの芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル類、メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどのベンゾイン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−フェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール２量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２，４，５−トリアリールイミダゾール２量体、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−シアノスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾールなどのハロメチルチアゾール化合物、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ｐ−メトキシスチリル−Ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（１−ｐ−ジメチルアミノフェニル−１，３−ブタジエニル）−Ｓ−トリアジン、２−トリクロロメチル−４−アミノ−６−ｐ−メトキシスチリル−Ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−ブトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−Ｓ−トリアジンなどのハロメチル−Ｓ−トリアジン系化合物、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパノン、１，２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、イルガキュア−３６９（チバスペシャルティケミカルズ社製）、イルガキュア−６５１（チバスペシャルティケミカルズ社製）、イルガキュア−９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製）などの光重合開始剤が挙げられる。
これらの光重合開始剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１２０】
第１のネガ型レジスト８１に含まれる光重合開始剤としては、上記の光重合開始剤のうち、青色の波長域の光によって感光する光重合開始剤、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイドやビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド、Ｏｃｔｅｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製のＱＵＡＮＴＡＣＵＲＥ  ＱＴＸ、みどり化学社製のＴＡＺ−１１０，１１３，１１８，１２０，１２１，１２２，１２３、Ｌａｍｂｅｒｔｉ製のＥＳＡ  ＣＵＲＥ  ＫＴＯ４６などが用いられる。
【０１２１】
第１のネガ型レジスト８１を塗布する方法としては、公知のウエットプロセスのスピンコーティング法、ディッピング法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法などの塗布法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法、ローラーを用いた印刷法、ロールコーターを用いた印刷法、カーテンロールコーターを用いた印刷法、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷、スピン塗装などの印刷法などが挙げられる。
【０１２２】
次いで、カラーフィルター層１２を介して、第１のネガ型レジスト８１に白色の波長域または青緑色の波長域の光γ２を照射して、第１のネガ型レジスト８１を露光する（図１９参照）。
ここで、白色の波長域または青緑色の波長域の光γ２は、赤色カラーフィルター層３１を透過すると赤色の波長域の光となり、緑色カラーフィルター層３２を透過すると緑色の波長域の光となり、青色カラーフィルター層３３を透過すると青色の波長域の光となるため、緑色カラーフィルター層３２および青色カラーフィルター層３３上に塗布された、緑色の波長域の光または青色の波長域の光によって感光する第１のネガ型レジスト８１が、緑色カラーフィルター層３２を透過した緑色の波長域の光、および、青色カラーフィルター層３３を透過した青色の波長域の光によって露光される。
【０１２３】
次いで、第１のネガ型レジスト８１を現像して、上述の露光により感光されなかった、赤色カラーフィルター層３１上の第１のネガ型レジスト８１を除去する（図２０参照）。この際、緑色カラーフィルター層３２上および青色カラーフィルター層３３上に、第１のネガ型レジスト８１が残る。
【０１２４】
次いで、透明基板１１の一方の面１１ａに形成された赤色カラーフィルター層３１上、並びに、緑色カラーフィルター層３２上および青色カラーフィルター層３３上に塗布された第１のネガ型レジスト８１上に、赤色蛍光体９１を塗布する（図２０参照）。
【０１２５】
赤色蛍光体９１としては、上記のものが用いられる。
この工程では、赤色カラーフィルター層３１、並びに、緑色カラーフィルター層３２上および青色カラーフィルター層３３上に塗布された第１のネガ型レジスト８１の全ての上に、赤色蛍光体９１を塗布する。
赤色蛍光体９１を塗布する方法としては、公知のウエットプロセス、公知のドライプロセス、または、レーザー転写法などが挙げられる。
公知のウエットプロセスとしては、スピンコーティング法、ディッピング法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法などの塗布法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法などの印刷法などが挙げられる。
公知のドライプロセスとしては、抵抗加熱蒸着法、電子線（ＥＢ）蒸着法、分子線エピタキシー（ＭＢＥ）法、スパッタリング法、有機気相蒸着（ＯＶＰＤ）法などが挙げられる。
【０１２６】
次いで、エッチングにより、緑色カラーフィルター層３２上および青色カラーフィルター層３３上にある、赤色蛍光体９１および第１のネガ型レジスト８１を除去し、赤色カラーフィルター層３１上に、赤色蛍光体９１から構成される赤色色変換層４１を形成する（図２１参照）。
【０１２７】
この工程において、エッチング法としては、公知のウェットエッチング法や、公知のドライエッチング法が用いられる。
【０１２８】
次いで、透明基板１１の一方の面１１ａに形成された緑色カラーフィルター層３２上および青色カラーフィルター層３３上、並びに、赤色カラーフィルター層３１上に塗布された赤色蛍光体９１上に、青色の波長域の光によって感光する第２のネガ型レジスト８２を塗布する（図２２参照）。
【０１２９】
第２のネガ型レジスト８２としては、上記のネガ型の感光性樹脂が用いられる。
第２のネガ型レジスト８２に含まれる光重合開始剤としては、上記の光重合開始剤のうち、青色の波長域の光によって感光する芳香族ケトン類、ベンゾインエーテル類、ベンゾイン類、イミダゾール２量体類、ハロメチルチアゾール化合物、ハロメチル−Ｓ−トリアジン系化合物、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、エチルアントラキノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、メチルベンゾインホルメート、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン、２−［（２−ジメチルアミノエチル）アミノ］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン−ジメチル硫酸塩、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、Ｏｃｔｅｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製のＱＵＡＮＴＡＣＵＲＥ  ＩＴＸ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＢＭＳ，ＥＰＤ，ＤＭＢ，ＭＣＡ，ＥＨＡ、みどり化学社製のＴＡＺ−１００，１０１，１０２，１０４，１０６，１０７，１０８などが用いられる。
【０１３０】
第２のネガ型レジスト８２を塗布する方法としては、第１のネガ型レジスト８１を塗布する方法と同様の方法が用いられる。
【０１３１】
次いで、カラーフィルター層１２を介して、第２のネガ型レジスト８２に白色の波長域または青色の波長域の光δ２を照射して、第２のネガ型レジスト８２を露光する（図２２参照）。
ここで、白色の波長域または青色の波長域の光δ２は、赤色カラーフィルター層３１を透過すると赤色の波長域の光となり、緑色カラーフィルター層３２を透過すると緑色の波長域の光となり、青色カラーフィルター層３３を透過すると青色の波長域の光となるため、青色カラーフィルター層３３上に塗布された、青色の波長域の光によって感光する第２のネガ型レジスト８２が、青色カラーフィルター層３３を透過した青色の波長域の光によって露光される。
【０１３２】
次いで、第２のネガ型レジスト８２を現像して、上述の露光により感光されなかった、赤色カラーフィルター層３１上および緑色カラーフィルター層３２上の第２のネガ型レジスト８２を除去する。この際、青色カラーフィルター層３３上に、第２のネガ型レジスト８２が残る。
【０１３３】
次いで、透明基板１１の一方の面１１ａに形成された緑色カラーフィルター層３２上、赤色カラーフィルター層３１上に塗布された赤色蛍光体９１上、および、青色カラーフィルター層３３上に塗布された第２のネガ型レジスト８２上に、緑色蛍光体９２を塗布する（図２３参照）。
【０１３４】
緑色蛍光体９２としては、上記のものが用いられる。
緑色蛍光体９２を塗布する方法としては、赤色蛍光体９１を塗布する方法と同様の方法が用いられる。
【０１３５】
次いで、エッチングにより、青色カラーフィルター層３３上の緑色蛍光体９２および第２のネガ型レジスト８２を除去する。さらに、赤色カラーフィルター層３１上に塗布された赤色蛍光体９１上の緑色蛍光体９２を除去、青色カラーフィルター層３３上に、緑色蛍光体９２から構成される緑色色変換層４２を形成する。
【０１３６】
この工程において、エッチング法としては、公知のウェットエッチング法や、公知のドライエッチング法が用いられる。
【０１３７】
次いで、透明基板１１の一方の面１１ａに形成された青色カラーフィルター層３３上に、青色蛍光体を塗布し、青色色変換層４３を形成する。
これにより、図１に示す色変換基板１０が得られる。
【０１３８】
青色蛍光体としては、上記のものが用いられる。
青色蛍光体を塗布する方法としては、赤色蛍光体９１を塗布する方法と同様の方法が用いられる。
【０１３９】
本実施形態の色変換基板の製造方法によれば、カラーフィルター層１２（赤色カラーフィルター層３１、緑色カラーフィルター層３２、青色カラーフィルター層３３）上に、高精細にパターニングされた色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）を有する色変換基板１０が得られる。
【０１４０】
なお、本実施形態では、青色カラーフィルター層３３上に青色色変換層４３を形成する場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されるものではない。本実施形態にあっては、青色カラーフィルター層３３上に青色色変換層４３を形成しなくてもよい。
【０１４１】
「表示装置」
図２４は、表示装置の一実施形態を示す概略断面図である。
図２４において、図１に示した構成要素と同じ構成要素には同一符号を付して、その説明を省略する。
本実施形態の表示装置１００は、上述の色変換基板１０と、励起光源１１０とから概略構成されている。
【０１４２】
励起光源１１０としては、発光波長が、色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）の発光波長より短いものが用いられる。赤色色変換層４１と緑色色変換層４２における色変換を実現するためには、励起光源１１０の発光波長は、通常、紫外の波長域から青色の波長域である。
励起光源１１０としては、特に限定されるものではないが、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ（紫外発光ＬＥＤ、青色ＬＥＤ））、有機エレクトロルミネセンス素子（有機ＥＬ素子（紫外発光有機ＥＬ素子、青色発光有機ＥＬ素子））、無機エレクトロルミネセンス素子（無機ＥＬ素子（紫外発光無機ＥＬ素子、青色発光無機ＥＬ素子））、蛍光灯、電球、蛍光表示管（ＶＦＤ）などが挙げられる。
【０１４３】
色変換基板１０と励起光源１１０とを接着するには、これらの間に、従来の紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂などからなる接着層を設け、その接着層を介して、色変換基板１０と励起光源１１０とを接着する。例えば、色変換基板１０における励起光源１１０と対向させる面に、硬化性の接着剤を塗布し、この接着剤を介して、色変換基板１０と励起光源１１０とを密着させた後、接着剤を硬化させて、色変換基板１０と励起光源１１０とを接着する。
【０１４４】
また、色変換基板１０と励起光源１１０との間には、例えば、窒素ガス、アルゴンガスなどの不活性ガスを封入してもよい。
さらに、封入した不活性ガス中に、酸化バリウムなどの吸湿剤などを混入することが好ましい。このようにすれば、励起光源１１０が有機ＥＬ素子である場合、水分による有機ＥＬ素子の劣化を効果的に低減できる。
【０１４５】
また、色変換基板１０と励起光源１１０との間には、透明基板１１の屈折率および色変換層１３（赤色色変換層４１、緑色色変換層４２、青色色変換層４３）の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層を設けることが好ましい。これにより、色変換層１３からの発光が、光取出し側の透明基板１１を導波して、透明基板１１の側面に導波する発光の損失を、透明基板１１および色変換層１３と、低屈折率層との屈折率差を利用し、光取出し側の透明基板１１から空気層へ取出すことが出来ない臨界角以上の光を、色変換層１３と低屈層の間の屈折率差で反射させて、光取出し側と反対側に形成されている反射部材（色変換層１３と励起光源１１０との間に設けられた、励起光を透過し、色変換層１３からの発光を反射させる反射層（誘電体多層膜、バンドパスフィルター、金属の超薄膜など）、無機ＥＬ部、有機ＥＬ部に設けられた半透明電極もしくは反射電極）で反射させて、再度、光取出し方向に出射させること事で、光取出し側の透明基板１１を導波する発光の損失を低減することが可能となる。ひいては、表示装置１００の消費電力を低減することができるとともに、輝度を向上させることができる。
【０１４６】
低屈折率層に用いることができる材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、フッ素系樹脂（Ｐｏｌｙ（１，１，１，３，３，３−ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏｉｓｏｐｒｏｐｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ）：ｎ＝１．３７５、Ｐｏｌｙ（２，２，３，３，４，４，４−ｈｅｐｔａｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）：ｎ＝１．３８３、Ｐｏｌｙ（２，２，３，３，３−ｐｅｎｔａｆｌｕｏｒｏｐｒｏｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）：ｎ＝１．３９５、Ｐｏｌｙ（２，２，２−ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）：ｎ＝１．４１８、メソポーラスシリカ（ｎ＝１．２）、エアロゲル（ｎ＝１．０５）などの膜で形成されていてもよく、色変換基板１０と励起光源１１０との間の空間に導入されたドライエアー、窒素などの気体で形成されていてもよく、前記の空間を減圧状態にして形成されていてもよい。
【０１４７】
「電子機器」
上記の表示装置は、各種電子機器に適用することができる。
以下、上記の表示装置を備えた電子機器について、図２５〜２８を用いて説明する。
上記の表示装置は、例えば、図２５に示す携帯電話に適用できる。
図２５に示す携帯電話１２０は、音声入力部１２１、音声出力部１２２、アンテナ１２３、操作スイッチ１２４、表示部１２５および筐体１２６などを備えている。
そして、表示部１２５として上記の表示装置を好適に適用できる。上記の表示装置を携帯電話１２０の表示部１２５に適用することによって、良好な発光効率で映像を表示することができる。
【０１４８】
また、上記の表示装置は、例えば、図２６に示す薄型テレビに適用できる。
図２６に示す薄型テレビ１３０は、表示部１３１、スピーカ１３２、キャビネット１３３およびスタンド１３４などを備えている。
そして、表示部１３１として上記の表示装置を好適に適用できる。上記の表示装置を薄型テレビ１３０の表示部１３１に適用することによって、良好な発光効率で映像を表示することができる。
【０１４９】
また、上記の表示装置は、例えば、図２７に示す携帯型ゲーム機に適用できる。
図２７に示す携帯型ゲーム機１４０は、操作ボタン１４１、１４２、外部接続端子１４３、表示部１４４および筐体１４５などを備えている。
そして、表示部１４４として上記の表示装置を好適に適用できる。上記の表示装置を携帯型ゲーム機１４０の表示部１４４に適用することによって、良好な発光効率で映像を表示することができる。
【０１５０】
また、上記の表示装置は、例えば、図２８に示すノートパソコンに適用できる。
図２８に示すノートパソコン１５０は、表示部１５１、キーボード１５２、タッチパッド１５３、メインスイッチ１５４、カメラ１５５、記録媒体スロット１５６および筐体１５７などを備えている。
そして、表示部１５１として上記の表示装置を好適に適用できる。上記の表示装置をノートパソコン１５０の表示部１５１に適用することによって、良好な発光効率で映像を表示することができる。
【０１５１】
以上、図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されないことは言うまでもない。上記の実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせなどは一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求などに基づき種々変更可能である。
例えば、上述の実施形態で説明した表示装置には、偏光板を設けることが好ましい。偏光板としては、従来の直線偏光板とλ／４板とを組み合わせたものを用いることができる。このような偏光板を設けることによって、表示装置の電極からの外光反射、または、基板や封止基板の表面での外光反射を防止することができ、表示装置のコントラストを向上させることができる。
その他、色変換基板、表示装置、電子機器の各構成要素の形状、数、配置、材料、形成方法などに関する具体的な記載は、上記の実施形態に限定されることなく、適宜変更が可能である。
【０１５２】
上述の実施形態で説明した色変換基板の製造方法は、上述の実施形態に限定されることなく、液晶表示装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（ＳＥＤ）などの電子表示装置にも適宜使用できる。
【符号の説明】
【０１５３】
１０・・・色変換基板、１１・・・透明基板、１２・・・カラーフィルター層、１３・・・色変換層、１４・・・隔壁、２１・・・赤色画素、２２・・・緑色画素、２３・・・青色画素、３１・・・赤色カラーフィルター層、３２・・・緑色カラーフィルター層、３３・・・青色カラーフィルター層、４１・・・赤色色変換層、４２・・・緑色色変換層、４３・・・青色色変換層、５１，５２・・・感光性材料、６１，６２・・・感光性樹脂、７１・・・第１のポジ型レジスト、７２・・・第２のポジ型レジスト、８１・・・第１のネガ型レジスト、８２・・・第２のネガ型レジスト、９１・・・赤色蛍光体、９２・・・緑色蛍光体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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