(57)【要約】【課題】  透光性電極パターンの検出感度を高く維持した状態で、透光性電極パターンの存在が目立つことを抑制すること。【解決手段】  透光性基板11aの上面の第１の透光性絶縁層30と、第１の透光性絶縁層30の上面に第１の方向（Ｘ方向）に形成された複数の第１の透光性電極パターン１と、第１の透光性絶縁層30の上面に第２の方向（Ｙ方向）に形成された複数の第２の透光性電極パターン２と、第１の透光性絶縁層30の上面における第１及び第２の透光性電極パターン２の隙間に形成された第２の透光性絶縁層４と、を有しており、第１の透光性絶縁層30の屈折率をn1、第１及び第２の透光性電極パターン１，２の屈折率をn2、第２の透光性絶縁層４の屈折率をn3としたとき、n1≦n3＜n2であり、第２の透光性絶縁層４の厚みが第１及び第２の透光性電極パターン１，２の厚みよりも厚い。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板と、その透光性基板の上面に形成された第１の透光性絶縁層と、その第１の透光性絶縁層の上面に第１の方向に伸びるように形成された複数の第１の透光性電極パターンと、前記第１の透光性絶縁層の上面に前記第１の方向に交差する第２の方向に伸びるように形成された複数の第２の透光性電極パターンと、前記第１の透光性絶縁層の上面における前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとの間の隙間に形成された第２の透光性絶縁層と、を有しており、前記第１の透光性絶縁層の屈折率をｎ１、前記第１の透光性電極パターン及び前記第２の透光性電極パターンの屈折率をｎ２、前記第２の透光性絶縁層の屈折率をｎ３としたとき、ｎ１≦ｎ３＜ｎ２であり、前記第２の透光性絶縁層の厚みが前記第１の透光性電極パターン及び前記第２の透光性電極パターンの厚みよりも厚い静電容量型タッチパネル。
【請求項２】
前記第２の透光性絶縁層は、前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとの間の隙間を充填するように形成されている請求項１記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項３】
前記第２の透光性絶縁層は、その屈折率ｎ３が１．６５乃至１．９５である請求項１または請求項２に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項４】
前記第２の透光性絶縁層は窒化珪素から成る請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の静電容量型タッチパネルを表示面に有する表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、人の指等の静電的な導電体の近接を静電容量の変化として検出する静電容量型タッチパネル、及びその静電容量型タッチパネルを用いた液晶表示装置等の表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の静電容量型タッチパネルを用いた液晶表示装置の１例の基本構成を図３に示す。液晶表示パネル１１の表示面にオンセル方式で形成された静電容量型タッチパネル１２が搭載されており、その静電容量型タッチパネル１２の上面にガラスから成る保護用の透光性基板１３（カバーガラス）が載置され固定されている。オンセル方式とは、液晶表示パネル１１の表示面における外部に露出した側の表面に直接的に静電容量型タッチパネル１２を形成するものである。
【０００３】
投影型静電容量方式の静電容量型タッチパネル１２は、指等による接触部の多点検出が可能である。図４は、投影型静電容量方式の静電容量型タッチパネル１２の動作原理を説明するためのものであり、その基本構成の平面図である。また、図５は、図４の第１及び第２の透光性電極パターンの具体的な構成を示す部分拡大平面図である。例えば、静電容量型タッチパネル１２における静電容量検出部２４は、透光性絶縁層、その下の透光性電極層を有し、制御ＩＣ、制御ＬＳＩ等の駆動回路を搭載したガラス基板等の透光性基板を含んで成る。その透光性基板は、例えば、液晶表示パネル１１の表示面を有するガラス基板に相当する。
【０００４】
透光性電極層は、所定の方向（例えば、Ｘ方向）に伸びるように形成された、ダイヤモンド状あるいは菱形の電極部が繋がった形状（モザイク状）のインジウム錫酸化物（Indium  Tin  Oxide：ＩＴＯ）等から成る第１の透光性電極パターン２０と、前記所定の方向と直交する方向（例えば、Ｙ方向）に伸びるように形成された、ダイヤモンド状あるいは菱形の電極部が繋がった形状（モザイク状）のＩＴＯ等から成る第２の透光性電極パターン２１と、を含む。第２の透光性電極パターン２１は、ＩＴＯ等から成る透光性のブリッジ電極２５によって電極部同士が電気的に接続されている。なお、図４において、２２は第１及び第２の透光性電極パターン２０，２１のそれぞれに接続される金属配線、２３は金属配線の出力端に形成された端子電極である。
【０００５】
人の指等の静電的な導電体が静電容量検出部２４の表面に触れると、その付近の第１及び第２の透光性電極パターン２０，２１における約１ｐＦの静電容量の変化を検出することによって、接触部の位置を２次元的に高精度に検出できる。第１及び第２の透光性電極パターン２０，２１に接続される端子電極２３の数が多いために、製造コストが高くなる傾向がある。また、ＩＴＯ等から成る第１及び第２の透光性電極パターン２０，２１は、長くなると電気的な抵抗が大きくなるため、金属配線２２に接続することによって抵抗を小さくし、大型化に対応できる。この投影型静電容量方式のタッチパネルは、接触部の位置検出を行う制御ＩＣ、制御ＬＳＩ等によって多点検出が可能であり、実用性が高いので、タブレット型携帯端末等に好適に用いられる。
【０００６】
また、投影型静電容量方式の静電容量型タッチパネル１２は、第１及び第２の透光性電極パターン２０，２１における静電容量の変化を検出するので、人の指等の静電的な導電体が静電容量検出部２４の表面に直接触れずに近接した場合であっても、近接部の位置を２次元的に高精度に検出できる。なお、図５において、２６は第１の透光性電極パターン２０と第２の透光性電極パターン２１との間の隙間である。
【０００７】
図６（ａ）は、図５のＡ１部を拡大した部分拡大平面図であり、図６（ｂ）は、（ａ）のＢ１−Ｂ２線における断面図である。図６（ｂ）に示すように、液晶表示パネル１１を構成するガラス基板11aと、ガラス基板11aの上面に形成された窒化珪素等から成る第１の透光性絶縁層３０と、第１の透光性絶縁層３０の上面に第１の方向（Ｘ方向）に伸びるように形成された複数の第１の透光性電極パターン２０と、第１の透光性絶縁層３０の上面に第１の方向に交差する第２の方向（Ｙ方向）に伸びるように形成された複数の第２の透光性電極パターン２１と、第１の透光性絶縁層３０の上面、第１の透光性電極パターン２０及び第２の透光性電極パターン２１を覆う透光性保護絶縁層３１と、を有する構成である。透光性保護絶縁層３１は、フッ素樹脂の１種であるＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルコキシエチレン共重合体）等から成る。そして、第１の透光性電極パターン２０と第２の透光性電極パターン２１との間に隙間２６がある。
【０００８】
図７は他の従来例を示すものであり、隙間２６にＩＴＯ等から成るダミー透光性膜２７を形成した構成である。図７（ａ）は、図５のＡ１部に相当する部分を拡大した部分拡大平面図であり、図７（ｂ）は、（ａ）のＣ１−Ｃ２線における断面図である。この構成により、第１の透光性電極パターン２０及び第２の透光性電極パターン２１が形成されている領域と、それらが形成されていない領域との間で反射率に差が生じ、第１の透光性電極パターン２０及び第２の透光性電極パターン２１の存在が目立つことを抑えることができる（特許文献１，２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１０−２９５８号公報
【特許文献２】特開２０１０−６１４２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、図７に示した従来例においては、第１の透光性電極パターン２０及び第２の透光性電極パターン２１と、ダミー透光性膜２７との間には、依然として隙間２６が存在しているために、第１の透光性電極パターン２０及び第２の透光性電極パターン２１の存在が目立つことを抑えることが不十分であった。この問題点を解消するためには、ダミー透光性膜２７の幅を大きくして隙間２６をより狭くすることが考えられる。しかし、隙間２５が数μｍ以下になると、第１の透光性電極パターン２０と第２の透光性電極パターン２１とがダミー透光性膜２７を介して静電容量結合しやすくなるため、第１の透光性電極パターン２０及び第２の透光性電極パターン２１の検出感度が低下するという問題点があった。
【００１１】
従って、本発明は上記従来の問題点に鑑みて完成されたものであり、その目的は、第１の透光性電極パターン及び第２の透光性電極パターンの検出感度を高く維持した状態で、第１の透光性電極パターン及び第２の透光性電極パターンの存在が目立つことを効果的に抑えることができる静電容量型タッチパネルとすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の静電容量型タッチパネルは、透光性基板と、その透光性基板の上面に形成された第１の透光性絶縁層と、その第１の透光性絶縁層の上面に第１の方向に伸びるように形成された複数の第１の透光性電極パターンと、前記第１の透光性絶縁層の上面に前記第１の方向に交差する第２の方向に伸びるように形成された複数の第２の透光性電極パターンと、前記第１の透光性絶縁層の上面における前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとの間の隙間に形成された第２の透光性絶縁層と、を有しており、前記第１の透光性絶縁層の屈折率をｎ１、前記第１の透光性電極パターン及び前記第２の透光性電極パターンの屈折率をｎ２、前記第２の透光性絶縁層の屈折率をｎ３としたとき、ｎ１≦ｎ３＜ｎ２であり、前記第２の透光性絶縁層の厚みが前記第１の透光性電極パターン及び前記第２の透光性電極パターンの厚みよりも厚い構成である。
【００１３】
また本発明の静電容量型タッチパネルは、好ましくは、前記第２の透光性絶縁層は、前記第１の透光性電極パターンと前記第２の透光性電極パターンとの間の隙間を充填するように形成されている。
【００１４】
また本発明の静電容量型タッチパネルは、好ましくは、前記第２の透光性絶縁層は、その屈折率ｎ３が１．６５乃至１．９５である。
【００１５】
また本発明の静電容量型タッチパネルは、好ましくは、前記第２の透光性絶縁層は窒化珪素から成る。
【００１６】
本発明の表示装置は、上記本発明の構成の静電容量型タッチパネルを表示面に有するものである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の静電容量型タッチパネルは、透光性基板と、その透光性基板の上面に形成された第１の透光性絶縁層と、その第１の透光性絶縁層の上面に第１の方向に伸びるように形成された複数の第１の透光性電極パターンと、第１の透光性絶縁層の上面に第１の方向に交差する第２の方向に伸びるように形成された複数の第２の透光性電極パターンと、第１の透光性絶縁層の上面における第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとの間の隙間に形成された第２の透光性絶縁層と、を有しており、第１の透光性絶縁層の屈折率をｎ１、第１の透光性電極パターン及び第２の透光性電極パターンの屈折率をｎ２、第２の透光性絶縁層の屈折率をｎ３としたとき、ｎ１≦ｎ３＜ｎ２であり、第２の透光性絶縁層の厚みが第１の透光性電極パターン及び第２の透光性電極パターンの厚みよりも厚いことから、第１の透光性電極パターン及び第２の透光性電極パターンの光反射特性と第２の透光性絶縁層の光反射特性とが同じになる。その結果、第１の透光性電極パターン及び第２の透光性電極パターンの存在が目立つことを効果的に抑えることができる。
【００１８】
また、第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとの間の隙間には第２の透光性絶縁層があるために、第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとが静電容量結合することがなく、第１の透光性電極パターン及び第２の透光性電極パターンの検出感度を高く維持することができる。
【００１９】
また本発明の静電容量型タッチパネルは、好ましくは、第２の透光性絶縁層は、第１の透光性電極パターンと第２の透光性電極パターンとの間の隙間を充填するように形成されていることから、第１の透光性電極パターン及び第２の透光性電極パターンの輪郭が視認者から認識されにくくなり、第１の透光性電極パターン及び第２の透光性電極パターンの存在が目立つことをより効果的に抑えることができる。
【００２０】
また本発明の静電容量型タッチパネルは、好ましくは、第２の透光性絶縁層は、その屈折率ｎ３が１．６５乃至１．９５であることから、例えば屈折率が約２〜約２．２のＩＴＯ等から成る第１の透光性電極パターン及び第２の透光性電極パターンよりも屈折率が低い材料の選択の幅が広がり、その結果、製造の容易性が向上する。
【００２１】
また本発明の静電容量型タッチパネルは、好ましくは、第２の透光性絶縁層は窒化珪素から成ることから、第２の透光性絶縁層が非常に硬質なものとなり、また優れた機械的特性、耐衝撃性を持つものとなる。また例えば、ガラスから成る透光性基板の屈折率が約１．４〜約１．８、ＩＴＯから成る透光性電極パターンの屈折率が約２〜約２．２、窒化珪素から成る第２の透光性絶縁層の屈折率が約１．９であることから、第２の透光性絶縁層の厚みを第１及び第２の透光性電極パターンの厚みよりも厚くすることによって、多層干渉効果によって第１の透光性電極パターン及び第２の透光性電極パターンの光反射特性と第２の透光性絶縁層の光反射特性とを同じにすることができる。
【００２２】
本発明の表示装置は、上記本発明の構成の静電容量型タッチパネルを表示面に有するものであることから、透光性電極パターンの存在が目立ちにくいために、使用者にとって見栄えが良好であり、また検出感度の高い静電容量型タッチパネルを有する表示装置となる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１は、本発明の静電容量型タッチパネルについて実施の形態の１例を示す図であり、第１及び第２の透光性電極パターンの具体的な構成を示す部分拡大平面図である。
【図２】図２（ａ）は、図１のＡ部を拡大した部分拡大平面図であり、図２（ｂ）は、（ａ）のＤ１−Ｄ２線における断面図である。
【図３】図３は、従来の静電容量型タッチパネルを用いた液晶表示装置の１例の基本構成を示す斜視図である。
【図４】図４は、従来の投影型静電容量方式の静電容量型タッチパネルの動作原理を説明するための図であり、静電容量型タッチパネルの基本構成の平面図である。
【図５】図５は、図４の第１及び第２の透光性電極パターンの具体的な構成を示す部分拡大平面図である。
【図６】図６（ａ）は、図５のＡ１部を拡大した部分拡大平面図であり、図６（ｂ）は、（ａ）のＢ１−Ｂ２線における断面図である。
【図７】図７は他の従来例を示す図であり、隙間にダミー透光性膜を形成した構成であり、（ａ）は図５のＡ１部に相当する部分を拡大した部分拡大平面図、（ｂ）は（ａ）のＣ１−Ｃ２線における断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の静電容量型タッチパネルの実施の形態について、図面を参照しながら説明する。但し、以下で参照する各図は、本発明の静電容量型タッチパネルの実施の形態における構成部材のうち、本発明の静電容量型タッチパネルを説明するための主要部を示している。従って、本発明に係る静電容量型タッチパネルは、図に示されていない回路基板、配線導体、制御ＩＣ，ＬＳＩ等の周知の構成部材を備えていてもよい。
【００２５】
本発明の静電容量型タッチパネルは、図１及び図２に示すように、透光性基板11aと、その透光性基板11aの上面に形成された第１の透光性絶縁層３０と、その第１の透光性絶縁層３０の上面に第１の方向（例えば、Ｘ方向）に伸びるように形成された複数の第１の透光性電極パターン１と、第１の透光性絶縁層３０の上面に第１の方向に交差する第２の方向（例えば、Ｙ方向）に伸びるように形成された複数の第２の透光性電極パターン２と、第１の透光性絶縁層３０の上面における第１の透光性電極パターン１と第２の透光性電極パターン２との間の隙間に形成された第２の透光性絶縁層４と、を有している。そして、第１の透光性絶縁層３０の屈折率をｎ１、第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２の屈折率をｎ２、第２の透光性絶縁層４の屈折率をｎ３としたとき、ｎ１≦ｎ３＜ｎ２であり、第２の透光性絶縁層４の厚みが第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２の厚みよりも厚い構成である。この構成により、第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２の光反射特性と第２の透光性絶縁層４の光反射特性とが同じになる。その結果、第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２の存在が目立つことを効果的に抑えることができる。なお、第１の透光性電極パターン１、第２の透光性電極パターン２及び第２の透光性絶縁層４を覆う透光性保護絶縁層３１を有していてもよい。
【００２６】
また、第１の透光性電極パターン１と第２の透光性電極パターン２との間の隙間には第２の透光性絶縁層４があるために、第１の透光性電極パターン１と第２の透光性電極パターン２とが静電容量結合することがなく、第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２の検出感度を高く維持することができる。なお、図１、図２において、第２の透光性電極パターン２は、ＩＴＯ等から成る透光性のブリッジ電極３によって、菱形、ダイヤモンド形の電極部同士が電気的に接続されている。
【００２７】
透光性基板11aは、液晶表示装置の表示面の外表面に静電容量型タッチパネルが直接形成されるオンセル方式のものである場合、液晶表示装置における表示面を成す視認者側のガラス基板、プラスチック基板である透光性基板に相当する。あるいは、液晶表示装置における表示面を成す視認者側の透光性基板と別個のガラス基板、プラスチック基板等の透光性基板11aの上面に静電容量型タッチパネルを構成してもよい。
【００２８】
一般的に、空気層から薄膜に垂直入射された光の反射光は、光波長をλ、薄膜の屈折率をｎ、薄膜の厚みをｄとすると、
反射光が明るくなる条件は  ２ｄ＝（ｍ＋１／２）×λ／ｎ  （ｍ：０以上の整数）
反射光が暗くなる条件は  ２ｄ＝ｍ×λ／ｎ
となることが知られている。第１の透光性絶縁層３０は、アクリル系有機樹脂から成る場合にその屈折率ｎ１は約１．５、窒化珪素（ＳｉＮｘ）から成る場合にその屈折率ｎ１は約１．９であり、第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２は、ＩＴＯから成る場合にそれらの屈折率ｎ２は約２〜２．２であり、第２の透光性絶縁層４は、窒化珪素から成る場合にその屈折率は約１．９である。また、第２の透光性絶縁層４の厚みについて、第１の透光性絶縁層３０の屈折率をｎ１、厚みをｄ１、第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２の屈折率をｎ２、厚みをｄ２、第２の透光性絶縁層４の屈折率をｎ３、厚みをｄ３としたとき、ｎ１≦ｎ３＜ｎ２であるので、第２の透光性絶縁層４の厚みｄ３は、ｄ１≧ｄ３＞ｄ２となる。これにより、多層干渉効果により第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２の光反射特性と第２の透光性絶縁層４の光反射特性とを同じにすることができる。
【００２９】
第１の透光性絶縁層３０の材料としては、無機材料から成る場合、窒化珪素、酸化珪素等を用いることができる。有機樹脂材料から成る場合、アクリル樹脂、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド、ベンゾシクロブテン、ポリシロキサン、ポリシラザン等を用いることができる。ポリシロキサンは、シリコン（Ｓｉ）と酸素（Ｏ）との結合で骨格構造が構成される。酸素の置換基として、少なくとも水素を含む有機基（例えばアルキル基、芳香族炭化水素）が用いられる。また、酸素の置換基として、フルオロ基を用いてもよい。または酸素の置換基として、少なくとも水素を含む有機基とフルオロ基とを用いてもよい。ポリシラザンは、珪素（Ｓｉ）と窒素（Ｎ）の結合を有するポリマー材料を出発原料として形成される材料である。第１の透光性絶縁層３０の材料として無機材料を用いると、透光性基板11aの表面形状に沿うような表面を有し、厚膜化することにより平坦性を有するものとなる。第１の透光性絶縁層３０の材料として有機樹脂材料を用いると、その表面の平坦性を高めることができる。また、第１の透光性絶縁層３０の厚みは、有機樹脂材料から成る場合、１μｍ〜４μｍ程度である。なお、透光性基板11aと第１の透光性絶縁層３０との密着力を高めるために、それらの間に酸化珪素（ＳｉＯ2）層（屈折率１．４６）を形成してもよい。
【００３０】
第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化珪素を添加したインジウム錫酸化物（ＩＴＳＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、リンやボロンを含むシリコン（Ｓｉ）等の導電性材料であって、かつ透光性を有する材料から形成する。また、第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２の厚みは２０〜１６０ｎｍ程度である。
【００３１】
透光性保護絶縁層３１の材料としては、アクリル樹脂、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド、ベンゾシクロブテン、ポリシロキサン、ポリシラザン等を用いることができる。また、透光性保護絶縁層３１の厚みは１μｍ〜４μｍ程度である。
【００３２】
第２の透光性絶縁層４は、第１の透光性絶縁層３０と同等以上の屈折率を有する。第２の透光性絶縁層４の屈折率が第１の透光性絶縁層３０の屈折率と同じである場合、第２の透光性絶縁層４の材料と第１の透光性絶縁層３０の材料を同じとすることができる。また、図２（ｂ）に示すように、第２の透光性絶縁層４は、第１の透光性電極パターン１と第２の透光性電極パターン２との間の隙間を充填するように形成されていることが好ましい。この場合、第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２の輪郭が視認者から認識されにくくなり、第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２の存在が目立つことをより効果的に抑えることができる。また、第２の透光性絶縁層４は、第１の透光性電極パターン１の上面の端部と第２の透光性電極パターン２の上面の端部を１μｍ〜５μｍ程度の幅で覆っていてもよい。その場合、第２の透光性絶縁層４が、第１の透光性電極パターン１と第２の透光性電極パターン２との間の隙間を確実に充填するものとなり、第２の透光性絶縁層４と第１の透光性電極パターン１の側面及び第２の透光性電極パターン２の側面との間等に細かな隙間、気泡等が発生することを抑えることができる。
【００３３】
また第２の透光性絶縁層４は、その屈折率ｎ３と第１の透光性絶縁層３０の屈折率ｎ１との差が小さい方がよく、あるいはほぼ同じ(ｎ１≒ｎ３)であってもよい。この場合、光の反射を抑えることができるので好ましい。即ち、第１の透光性絶縁層３０と第２の透光性絶縁層４との界面における光の反射も抑えることができる。但し、それらの材料が屈折率が高い材料から成る場合、屈折率の波長分散が大きくなり、反射光の色の変化が大きくなりやすい。光の反射が抑えられたとしても反射光の色が無彩色とならない場合があったり、製造による厚みのバラツキにより反射光の色が大きく変わりやすいことがある。そのため、反射光の色変化が小さいこと及び反射光の色の無彩色化が重要視される場合には、ｎ１＜ｎ３であることが好ましい。第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２の屈折率ｎ２との関係では、ｎ１＜ｎ３＜ｎ２であることが好ましい。
【００３４】
一方、第１の透光性絶縁層３０及び第２の透光性絶縁層４は窒化珪素から成ることが好ましい。この場合、第１の透光性絶縁層３０及び第２の透光性絶縁層４が非常に硬質なものとなり、また優れた機械的特性、耐衝撃性を持つものとなる。また例えば、ガラスから成る透光性基板11aの屈折率が約１．４〜約１．８、ＩＴＯから成る第１及び第２の透光性電極パターン１，２の屈折率が約２〜約２．２、窒化珪素から成る第２の透光性絶縁層４の屈折率が約１．９であることから、第２の透光性絶縁層４の厚みを第１及び第２の透光性電極パターン１，２よりも厚くすることによって、第１の透光性電極パターン１及び第２の透光性電極パターン２の光反射特性と第２の透光性絶縁層４の光反射特性とが同じになる。また、第１の透光性絶縁層３０及び第２の透光性絶縁層４が同じ窒化珪素から成ることから、第１の透光性絶縁層３０と第２の透光性絶縁層４との界面で光の反射が生じることがないので、第１の透光性絶縁層３０と第２の透光性絶縁層４との界面が視認されることがない。
【００３５】
本発明の表示装置は、上記本発明の構成の静電容量型タッチパネルを表示面に有するものである。このことから、第１及び第２の透光性電極パターン１，２の存在が目立ちにくいために、使用者にとって見栄えが良好であり、また検出感度の高い静電容量型タッチパネルを有する表示装置となる。表示装置としては、液晶表示装置（Liquid  Crystal  Display：ＬＣＤ）、有機ＥＬ（Electro  Luminescence）装置、無機ＥＬ装置、ＦＥＤ（Field  Emitting  Display）、ＳＥＤ（Surface-conduction  Electron-emitter  Display）、ＧＬＶ（Grating  Light  Valve）装置、ＰＤＰ（Plasma  Display）装置、電子ペーパーディスプレイ装置、ＤＭＤ（Digital  micro  Mirror  Device）、圧電セラミックディスプレイなどの表示装置を用いることができる。
【００３６】
表示装置が液晶表示装置（ＬＣＤ）から成る場合、例えば、薄膜トランジスタ（Thin  Film  Transistor：ＴＦＴ）素子を含む画素電極部が多数形成されたＴＦＴアレイ側基板と、カラーフィルタ及びブラックマトリクスが形成されたカラーフィルタ側基板とを互いに対向させて、それらの基板を所定の間隔でもって貼り合わせ、それらの基板間に液晶を充填、封入させることによって作製される。また、一般的に、カラーフィルタ側基板は、ＴＦＴ素子及び画素電極に対向する側の主面（主面ａとする）の全面に、画素電極との間で液晶に印加する垂直電界を形成するための共通電極(基準電極)が形成されている。また、カラーフィルタ側基板における主面ａには、それぞれの画素に対応する赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタが形成されており、それぞれの画素を通過する光が相互に干渉することを防ぐブラックマトリクスがカラーフィルタの外周を囲むように形成されている。また、液晶表示装置は、ＩＰＳ（In-Plane  Switching）方式のもの、ＦＦＳ（Fringe  Field  Switching）方式のものであってもよい。
【００３７】
本発明の静電容量型タッチパネルは以下のように動作する。人の指等の静電的な導電体が静電容量検出部の表面に触れると、その付近の第１及び第２の透光性電極パターン１，２における約１ｐＦの静電容量の変化を検出することによって、接触部の位置を２次元的に高精度に検出できる。この投影型の静電容量型タッチパネルは、接触部の位置検出を行う制御ＩＣ，制御ＬＳＩ等によって多点検出が可能であり、実用性が高いので、タブレット型携帯端末等に好適に用いられる。
【００３８】
また、投影型の静電容量型タッチパネルは、第１及び第２の透光性電極パターン１，２における静電容量の変化を検出するので、人の指等の静電的な導電体が静電容量検出部の表面に直接触れずに近接した場合であっても、近接部の位置を２次元的に高精度に検出できる。
【実施例】
【００３９】
（実施例１）
図２に示す本発明の静電容量型タッチパネル（CTP1）及びＬＣＤを以下のように構成した。ＬＣＤにおける表示面を成す視認者側のガラス基板に相当する、屈折率１．５３のガラスから成る透光性基板11aの上面に、塗布法（スリット法、スピン法）によって、屈折率が１．５で厚みが１．５μｍのアクリル系樹脂から成る第１の透光性絶縁層３０を形成し、第１の透光性絶縁層３０の上面に、スパッタリング法及びフォトリソグラフィー法によって、屈折率が２．０５で厚みが４０ｎｍのＩＴＯから成る第１及び第２の透光性電極パターン１，２を形成した。その後、第１の透光性電極パターン１と第２の透光性電極パターン２との間の隙間（幅３０μｍ）に、ＣＶＤ（Chemical  Vapor  Deposition）法及びフォトリソグラフィー法によって、屈折率が１．９で厚みが２２０ｎｍの窒化珪素（ＳｉＮx）から成る第２の透光性絶縁層４を形成した。
【００４０】
次に、第１の透光性電極パターン１、第２の透光性電極パターン２及び第２の透光性絶縁層４を覆って、塗布法（スリット法、スピン法）によって、屈折率が１．５で厚みが２．５μｍのアクリル系樹脂から成る透光性保護絶縁層３１を形成した。次に、透光性保護絶縁層３１上に偏光板を貼り付け、偏光板の上面に高透明性接着剤転写テープ（Optically  Clear  Adhesive  Tape：ＯＣＡ）を介在させて、防眩反射防止（Anti-Glare  Anti-Reflection：ＡＧＡＲ）処理が施されたカバーガラスを積層した。これにより、静電容量型タッチパネル（CTP1）オンセル方式のＬＣＤを作製した。
【００４１】
可視光（光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）において、第１及び第２の透光性電極パターン１，２の部位の光反射率（Ｒa1とする）と第２の透光性絶縁層４の部位の光反射率（Ｒb1とする）を、コンピュータシミュレーションによって算出した(但し、偏光板、ＯＣＡ、カバーガラスの部分は除く)。Ｒa1が８．６％、Ｒb1が８．４％であった。さらに、作製した静電容量型タッチパネル（CTP1）オンセル方式のＬＣＤを目視で確認したところ、第１及び第２の透光性電極パターン１，２の存在が視認者にとって目立たなくなり、静電容量型タッチパネル（CTP1）の見栄えが改善された。
【００４２】
（実施例２）
本発明の静電容量型タッチパネル（CTP2）及びＬＣＤを以下のように構成した。第１及び第２の透光性電極パターン１，２として、屈折率が２．０５で厚みが１４０ｎｍのＩＴＯから成るものを形成し、第２の透光性絶縁層４として、屈折率が１．９で厚みが２９０ｎｍの窒化珪素（ＳｉＮx）から成るものを形成した。それ以外の構成は実施例１と同様とした。可視光（光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）において、第１及び第２の透光性電極パターン１，２の部位の光反射率（Ｒa2とする）と第２の透光性絶縁層４の部位の光反射率（Ｒb2とする）を、コンピュータシミュレーションによって算出した(但し、偏光板、ＯＣＡ、カバーガラスの部分は除く)。Ｒa2が４．６％、Ｒb2が４．８％であった。さらに、作製した静電容量型タッチパネル（CTP2）オンセル方式のＬＣＤを目視で確認したところ、第１及び第２の透光性電極パターン１，２の存在が視認者にとって目立たなくなり、静電容量型タッチパネル（CTP2）の見栄えが改善された。
【００４３】
（比較例）
図６に示す比較例の静電容量型タッチパネル（CTP3）及びＬＣＤを以下のように構成した。第２の透光性絶縁層４がない以外は実施例１と同様の構成とした。これについて、可視光（光波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）において、第１及び第２の透光性電極パターン１，２の部位の光反射率（Ｒa3とする）と第２の透光性絶縁層４の部位の光反射率（Ｒb3とする）を、コンピュータシミュレーションによって算出した(但し、偏光板、ＯＣＡ、カバーガラスの部分は除く)。Ｒa3が８．６％、Ｒb3が４．０％であった。さらに、作製した静電容量型タッチパネル（CTP3）オンセル方式のＬＣＤを目視で確認したところ、第１及び第２の透光性電極パターン２０，２１の存在が視認者にとって目立つものとなり、静電容量型タッチパネル（CTP3）の見栄えが劣化した。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明の表示装置は各種の電子機器に適用できる。その電子機器としては、自動車経路誘導システム（カーナビゲーションシステム）、船舶経路誘導システム、航空機経路誘導システム、スマートフォン端末、携帯電話、タブレット端末、パーソナルデジタルアシスタント（ＰＤＡ）、ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、電子手帳、電子書籍、電子辞書、パーソナルコンピュータ、複写機、ゲーム機器の端末装置、テレビジョン、商品表示タグ、価格表示タグ、産業用のプログラマブル表示装置、カーオーディオ、デジタルオーディオプレイヤー、ファクシミリ、プリンター、現金自動預け入れ払い機（ＡＴＭ）、自動販売機、ヘッドアップディスプレイ、デジタル表示式腕時計などがある。
【符号の説明】
【００４５】
１  第１の透光性電極パターン
２  第２の透光性電極パターン
３  ブリッジ電極
４  第２の透光性絶縁層
１１ａ  透光性基板
３０  第１の透光性絶縁層
３１  透光性保護絶縁層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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