(57)【要約】【課題】製造工程の流れを簡素にすることのできる透明導電性積層体の製造方法を提供する。【解決手段】透明導電性積層体の製造方法は、第１のレジスト１４ａと第２のレジスト１４ｂとを露光する露光工程と、感光した第１のレジスト１４ａおよび第２のレジスト１４ｂを現像する現像工程と、現像された第１のレジスト１４ａをマスクとして第１の透明導電層１３ａをエッチングし、現像された第２のレジスト１４ｂをマスクとして第２の透明導電層１３ｂをエッチングするエッチング工程と、を含む。そして、第１のレジスト１４ａは、第１のレジスト１４ａに対する露光光によって第２のレジスト１４ｂが感光することを抑える機能を有し、第２のレジスト１４ｂは、第２のレジスト１４ｂに対する露光光によって第１のレジスト１４ａが感光することを抑える機能を有する。【選択図】図４
2015052836.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板を挟んで互いに対向する２つの透明導電層である第１の透明導電層および第２の透明導電層と、を含む積層体を形成する積層体形成工程と、
前記第１の透明導電層の面上に第１のレジストを形成し、前記第２の透明導電層の面上に第２のレジストを形成するレジスト形成工程と、
前記第１のレジストと前記第２のレジストとを露光する露光工程と、
感光した前記第１のレジストおよび前記第２のレジストを現像する現像工程と、
現像された前記第１のレジストをマスクとして前記第１の透明導電層をエッチングし、現像された前記第２のレジストをマスクとして前記第２の透明導電層をエッチングするエッチング工程と、を含み、
前記第１のレジストは、前記第１のレジストに対する露光光によって前記第２のレジストが感光することを抑える機能を有し、
前記第２のレジストは、前記第２のレジストに対する露光光によって前記第１のレジストが感光することを抑える機能を有する
透明導電性積層体の製造方法。
【請求項２】
前記第１のレジストは、前記第１のレジストに対する露光光を吸収して、前記露光光が前記第２のレジストに到達することを抑え、
前記第２のレジストは、前記第２のレジストに対する露光光を吸収して、前記露光光が前記第１のレジストに到達することを抑える
請求項１に記載の透明導電性積層体の製造方法。
【請求項３】
前記露光工程では、露光光として紫外領域の波長の光が、前記第１のレジストおよび前記第２のレジストに照射され、
前記第１のレジストおよび前記第２のレジストは、前記露光光である紫外領域の波長の光を吸収する
請求項２に記載の透明導電性積層体の製造方法。
【請求項４】
前記第１のレジストおよび前記第２のレジストは、紫外線吸収剤、または、紫外線吸収機能を有する樹脂を含む
請求項３に記載の透明導電性積層体の製造方法。
【請求項５】
前記露光工程では、露光光として紫外領域の波長の光と可視領域の波長の光とが、前記第１のレジストおよび前記第２のレジストに照射され、
前記第１のレジストおよび前記第２のレジストの各々は、前記露光光に含まれる可視領域の波長の光を吸収し、
前記積層体は、前記露光光に含まれる紫外領域の波長の光を吸収する機能層を前記第１のレジストと前記第２のレジストとの間に含む
請求項２に記載の透明導電性積層体の製造方法。
【請求項６】
前記第１のレジストおよび前記第２のレジストの各々は、可視光吸収剤または可視光吸収機能を有する樹脂を含み、
前記積層体は、紫外線吸収剤、または、紫外線吸収機能を有する樹脂を前記機能層に含む
請求項５に記載の透明導電性積層体の製造方法。
【請求項７】
前記第１のレジストの感光波長と前記第２のレジストの感光波長とは、互いに異なる領域の波長を含む
請求項１に記載の透明導電性積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示の技術は、タッチパネルに用いられる透明導電性積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の入力デバイスとして、静電容量方式のタッチパネルが広く用いられている。投影型静電容量方式のタッチパネルは、静電容量の変化を検出するための２つの電極を備えている。２つの電極は、例えば特許文献１に記載のように、１枚の透明な基板を挟んで互いに対向している。これら２つの電極の各々は、基板に成膜された透明な導電膜のパターニングによって形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−１９４６７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、基板に成膜された導電膜をパターニングする方法として、フォトリソグラフィを用いる方法が普及している。フォトリソグラフィを用いる方法において、まず、導電膜の上に形成されたレジストは、露光、および、現像を経て、電極を覆う形状にパターニングされる。次いで、パターニングされたレジストをマスクとして導電膜がエッチングされ、これによって、導電膜から電極が形成される。
【０００５】
ここで、互いに対向する２つの導電膜が、互いに異なる形状にパターニングされるとき、まず、一方の導電膜の上にレジストが形成されて、そのレジストがパターニングされる。次いで、他方の導電膜の上に他のレジストが形成されて、他のレジストがパターニングされる。こうしたパターニングの繰り返しでは、互いに異なる工程である露光と現像とが交互に繰り返されるため、透明導電性積層体の製造の煩雑さを増している。
【０００６】
本開示の技術は、製造工程の流れを簡素にすることのできる透明導電性積層体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための透明導電性積層体の製造方法は、基板と、前記基板を挟んで互いに対向する２つの透明導電層である第１の透明導電層および第２の透明導電層と、を含む積層体を形成する積層体形成工程と、前記第１の透明導電層の面上に第１のレジストを形成し、前記第２の透明導電層の面上に第２のレジストを形成するレジスト形成工程と、前記第１のレジストと前記第２のレジストとを露光する露光工程と、感光した前記第１のレジストおよび前記第２のレジストを現像する現像工程と、現像された前記第１のレジストをマスクとして前記第１の透明導電層をエッチングし、現像された前記第２のレジストをマスクとして前記第２の透明導電層をエッチングするエッチング工程と、を含む。そして、前記第１のレジストは、前記第１のレジストに対する露光光によって前記第２のレジストが感光することを抑える機能を有し、前記第２のレジストは、前記第２のレジストに対する露光光によって前記第１のレジストが感光することを抑える機能を有する。
【０００８】
上記方法によれば、２つのレジストが露光される際に、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストを感光させることが抑えられる。したがって、２つの透明導電層に互いに異なるパターンが形成される場合であっても、一方のレジストに形成されるパターンが他方のレジストに形成されるパターンに影響を与えることが抑えられる。そして、２つのレジストの現像前に、２つのレジストの露光がまとめて可能となる結果、レジストの形成、露光、および、現像を、透明導電層が形成される面ごとにこの順に繰り返す製造方法と比較して、透明導電性積層体の製造工程の流れを簡素にすることができる。
【０００９】
上記透明導電性積層体の製造方法にて、前記第１のレジストは、前記第１のレジストに対する露光光を吸収して、前記露光光が前記第２のレジストに到達することを抑え、前記第２のレジストは、前記第２のレジストに対する露光光を吸収して、前記露光光が前記第１のレジストに到達することを抑えることが好ましい。
【００１０】
上記方法によれば、２つのレジストの各々は、そのレジストに対する露光光を吸収して、その露光光が他のレジストに到達することを抑える。その結果、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストを感光させることを抑えることが、露光光を直接受けるレジストによって実現される。
【００１１】
上記透明導電性積層体の製造方法にて、前記露光工程では、露光光として紫外領域の波長の光が、前記第１のレジストおよび前記第２のレジストに照射され、前記第１のレジストおよび前記第２のレジストは、前記露光光である紫外領域の波長の光を吸収することが好ましい。
【００１２】
上記方法によれば、第１のレジストに対する露光光と、第２のレジストに対する露光光とが、互いに共通する紫外領域の波長の光であっても、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストを感光させることが抑えられる。
【００１３】
上記透明導電性積層体の製造方法にて、前記第１のレジストおよび前記第２のレジストは、紫外線吸収剤、または、紫外線吸収機能を有する樹脂を含むことが好ましい。
上記方法によれば、感光機能を有する材料とは異なる紫外線吸収剤、または、紫外線吸収機能を有する樹脂を別途レジストが含むため、紫外領域の波長の光の吸収に際し、その機能の調整がレジストにおいて容易である。
【００１４】
上記透明導電性積層体の製造方法にて、前記露光工程では、露光光として紫外領域の波長の光と可視領域の波長の光とが、前記第１のレジストおよび前記第２のレジストに照射され、そして、前記第１のレジストおよび前記第２のレジストの各々は、前記露光光に含まれる可視領域の波長の光を吸収し、前記積層体は、前記露光光に含まれる紫外領域の波長の光を吸収する機能層を前記第１のレジストと前記第２のレジストとの間に含むことが好ましい。
【００１５】
上記方法によれば、レジストが可視領域の波長の光を吸収し、積層体が紫外領域の波長の光を吸収するため、露光光として紫外領域の波長の光と可視領域の波長の光とがレジストに照射される場合に、一方のレジストに対する露光光が積層体を透過して他方のレジストに到達することが抑えられる。その結果、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストを感光させることが抑えられる。また、露光光として、可視領域の波長の光と紫外領域の波長の光を含む光が利用できるため、光源の選択やフィルターによる露光光の選別等、露光光の調整にかかる負担が軽減される。
【００１６】
上記透明導電性積層体の製造方法にて、前記第１のレジストおよび前記第２のレジストの各々は、可視光吸収剤、または、可視光吸収機能を有する樹脂を含み、前記積層体は、紫外線吸収剤、または、紫外線吸収機能を有する樹脂を前記機能層に含むことが好ましい。
【００１７】
上記方法によれば、可視領域の波長の光を吸収する機能をレジストに付加することができ、紫外領域の波長の光を吸収する機能を積層体に付加することができる。
上記透明導電性積層体の製造方法にて、前記第１のレジストの感光波長と前記第２のレジストの感光波長とは、互いに異なる領域の波長を含むことが好ましい。
【００１８】
上記方法によれば、２つのレジストの感光波長が互いに異なる領域の波長を含むため、一方のレジストのみを感光させる波長の光が積層体を透過して他方のレジストに到達しても、他方のレジストを感光させることが抑えられる。したがって、露光光の波長や積層体を透過する光の波長を調整することによって、２つの透明導電層に互いに異なるパターンが形成される場合であっても、一方のレジストに形成されるパターンが他方のレジストに形成されるパターンに影響を与えることが抑えられる。そして、２つのレジストの両方をこれら両方のレジストの現像前にまとめて露光できる。結果として、レジストの形成、露光、および、現像を、透明導電層が形成される面ごとにこの順に繰り返す製造方法と比較して、透明導電性積層体の製造工程の流れを簡素にすることができる。
【発明の効果】
【００１９】
本開示の技術によれば、第１のレジストに対する露光と、第２のレジストに対する露光とが、これらレジストの現像前にまとめて実施できるため、透明導電性積層体の製造工程が簡素である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本開示の技術における各実施形態での透明導電性積層体の断面構造を示す断面図である。
【図２】本開示の技術における第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、透明導電層の形成工程を示す図である。
【図３】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、レジストの形成工程を示す図である。
【図４】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、露光工程を示す図である。
【図５】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、露光が行われた後の透明導電性積層体を示す図である。
【図６】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、現像工程を示す図である。
【図７】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、エッチング工程を示す図である。
【図８】第１の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、レジストの除去工程を示す図である。
【図９】変形例での透明導電性積層体の断面構造を示す断面図である。
【図１０】本開示の技術における第２の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、露光工程を示す図である。
【図１１】本開示の技術における第３の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、透明導電層の形成工程を示す図である。
【図１２】第３の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、レジストの形成工程を示す図である。
【図１３】第３の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、露光工程を示す図である。
【図１４】第３の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、露光が行われた後の透明導電性積層体を示す図である。
【図１５】第３の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、現像工程を示す図である。
【図１６】第３の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、エッチング工程を示す図である。
【図１７】第３の実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、レジストの除去工程を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
（第１の実施形態）
図１〜図８を参照して、透明導電性積層体の製造方法の第１の実施形態について説明する。
【００２２】
［透明導電性積層体の構成］
図１を参照して、第１の実施形態の製造方法によって製造される透明導電性積層体の構成について説明する。なお、以下では、透明導電性積層体がタッチパネルの構成部材の１つに適用された例を説明する。
【００２３】
図１に示されるように、透明導電性積層体１０は、透明な基板１１と、基板１１の表面に形成された第１透明電極層１２ａと、基板１１の裏面に形成された第２透明電極層１２ｂとを備えている。２つの透明電極層１２ａ，１２ｂは、基板１１を挟んで互いに対向している。
【００２４】
基板１１は、例えば、ガラス板や樹脂フィルムである。ガラス板の形成材料や樹脂フィルムの形成材料は、透明電極層の成膜工程、および、その後工程において、基板に要求される強度を満たす材料であれば、特に限定されない。樹脂フィルムの形成材料は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアリレート、環状ポリオレフィン、ポリイミドからなる群から選択される少なくとも１つである。基板１１の厚さは、１０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましい。基板１１の厚さがこうした範囲であれば、透明導電性積層体１０の薄型化が図られ、かつ、基板１１の可撓性が得られる。
【００２５】
基板１１は、種々の添加剤や安定剤を含んでもよい。添加剤や安定剤としては、例えば、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、または、易接着剤等が挙げられる。基板１１に対しては、基板１１に積層される層と基板１１との密着性を向上させるために、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理、または、薬品処理等が施されてもよい。
【００２６】
透明電極層１２ａ，１２ｂの材料としては、透明導電性積層体１０に要求される特性や用途に応じて種々の材料が使用できる。例えば、透明電極層１２ａ，１２ｂの材料としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、および、酸化スズのいずれか１つ、または、それらの２種類もしくは３種類の混合酸化物が挙げられる。また、上記の材料に、さらに添加物が加えられてもよい。また例えば、透明電極層１２ａ，１２ｂは、金属製のナノワイヤー等の繊維状の金属から形成されてもよい。なお、透明電極層１２ａ，１２ｂが繊維状の金属を含むとき、繊維状の金属は樹脂などのマトリックスによって支持されることが好ましい。
【００２７】
透明電極層１２ａ，１２ｂは、所定の形状にパターニングされている。例えば、第１透明電極層１２ａは、Ｘ方向に延びる複数の導電領域が、Ｘ方向と直交するＹ方向に間をあけて並設されたパターンを有する。そして、第１透明電極層１２ａと対向する第２透明電極層１２ｂは、Ｙ方向に延びる複数の導電領域が、Ｘ方向に間をあけて並設されたパターンを有する。導電領域は、例えば、直線形状や、複数のひし形が一方向に繋げられた形状に形成される。隣接する導電領域の間の領域は、導電領域と絶縁された非導電領域となる。導電領域の各々は、導電領域に形成される静電容量の変化を、電流の変化によって検出する回路に接続されている。人の指等が導電領域に接近すると、静電容量が変化する。この静電容量の変化が検出されることに基づいて、人の指等の接触位置が判定される。
【００２８】
基板１１の表面側の第１透明電極層１２ａには、接着層を介してガラス等からなるカバー層等が積層されて、タッチパネルが構成される。さらに、基板１１の裏面側の第２透明電極層１２ｂには、液晶パネル等の表示パネルが積層されて、タッチパネルと表示パネルとから表示装置が構成される。
【００２９】
なお、透明導電性積層体１０は、基板１１と第１透明電極層１２ａとの間や、基板１１と第２透明電極層１２ｂとの間に、他の機能層を備えていてもよい。他の機能層は、例えば、基板１１と透明電極層１２ａ，１２ｂとの密着性を高める密着層や、透明導電性積層体の機械的強度を補強する樹脂層や、透明導電性積層体の光学的な特性を調整する光学調整層等である。
【００３０】
［透明導電性積層体の製造方法］
図２〜図８を参照して、透明導電性積層体の製造方法について説明する。
図２に示されるように、まず、積層体形成工程として、基板１１の表面に第１透明導電層１３ａが形成され、基板１１の裏面に第２透明導電層１３ｂが形成される。透明導電層１３ａ，１３ｂは、公知の成膜方法によって形成される。例えば、透明導電層１３ａ，１３ｂが酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）から形成される場合には、透明導電層１３ａ，１３ｂは、真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相析出法やＣＶＤ法等の化学的気相析出法等によって形成される。また、透明導電層１３ａ，１３ｂが繊維状の金属を含むとき、繊維状の金属が分散した溶液が公知の塗布法や印刷法によって基板１１に塗布されることによって、透明導電層１３ａ，１３ｂが形成される。
【００３１】
図３に示されるように、次に、レジスト形成工程として、基板１１の表面側において、第１透明導電層１３ａの面上に第１レジスト１４ａが形成され、基板１１の裏面側において、第２透明導電層１３ｂの面上に第２レジスト１４ｂが形成される。
【００３２】
レジスト１４ａ，１４ｂは、ネガ型のレジストであってもよいし、ポジ型のレジストであってもよい。レジスト１４ａ，１４ｂは、公知の塗布方法によって形成され、紫外領域の波長をピーク波長とする露光光に感光する。
【００３３】
ここで、レジスト１４ａ，１４ｂの機能と構成材料について詳しく説明する。
レジスト１４ａ，１４ｂの各々は、通常のフォトレジストとしての機能に加えて、そのレジストに対する露光光が、他方のレジストを感光させることを抑える機能を有する。具体的には、レジスト１４ａ，１４ｂの各々は、そのレジストを露光するために照射された光を、その光が他方のレジストに到達しない程度にまで吸収する機能を有する。レジストを露光するための光の波長は、レジストの種類や光源の種類によって異なるが、紫外領域の波長（約２００ｎｍ〜約３８０ｎｍ）、および、可視領域の波長（約３８０ｎｍ〜約７８０ｎｍ）の少なくとも一方であることが好ましい。特に、レジスト１４ａ，１４ｂの加工形状や加工寸法の精度が得られる観点では、レジスト１４ａ，１４ｂにおいて、露光光の波長は紫外領域であることが好ましく、レジスト１４ａ，１４ｂが紫外領域の波長の光を吸収することが好ましい。以下では、レジスト１４ａ，１４ｂが紫外領域の波長の光を吸収する例について説明する。
【００３４】
上記の機能を発現するために、レジスト１４ａ，１４ｂは、光吸収材料を含んでいる。光吸収材料は、レジスト１４ａ，１４ｂに照射される露光光の一部を吸収し、かつ、吸収した光を熱などの他のエネルギーに変換して放出する。紫外領域の波長の光を吸収するために用いられる光吸収材料は、例えば、紫外線吸収剤や紫外線吸収機能を有する樹脂等である。光吸収材料は、感光機能を有する材料との混合、あるいは、感光機能を有する材料と光吸収材料との共重合によって、レジスト１４ａ，１４ｂに含まれている。
【００３５】
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、サリシレート系、トリアジン系、または、シアノアクリルレート系等の紫外線吸収剤が挙げられる。具体例としては、例えば、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤として、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等やこれらの混合物、変性物、重合物、誘導体等が挙げられる。また、例えば、トリアジン系の紫外線吸収剤としては、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−イソ−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン等やこれらの混合物、変性物、重合物、誘導体等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、単独で用いてもよいし、２種以上の紫外線吸収剤を混合して用いてもよい。
【００３６】
紫外線吸収機能を有する樹脂は、上記のベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、サリシレート系、トリアジン系、シアノアクリルレート系等の非反応性紫外線吸収剤に、ビニル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基等の重合性二重結合を有する官能基や、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、または、イソシアネート基等を導入した化合物である。紫外線吸収機能を有する樹脂は、感光機能を有する材料と、紫外線吸収機能を有する樹脂との共重合によって、レジスト１４ａ，１４ｂに含まれる。
【００３７】
光吸収材料は、単独で用いてもよいし、２種以上の材料を混合して用いてもよい。例えば、吸収できる光の波長が互いに異なる複数の光吸収材料をレジスト１４ａ，１４ｂが含むことによって、レジスト１４ａ，１４ｂは、それの吸収できる光の波長の範囲を広げられる。
【００３８】
レジスト１４ａ，１４ｂの各々において光吸収材料の含有量は、そのレジストに対する露光、および、現像によって、そのレジストにパターンが形成され、かつ、そのレジストに対する露光光が積層体を透過して他方のレジストに到達しない程度に、露光光を吸収する量である。具体的な例として、レジスト１４ａ，１４ｂは、レジスト１４ａ，１４ｂの波長３６５ｎｍにおける光線透過率が１％以下となる量の光吸収材料を含むことが好ましい。なお、レジスト１４ａ，１４ｂのパターニングは、所望のパターンに対応する段差をレジスト１４ａ，１４ｂに形成すればよく、例えば、透明導電層１３ａ，１３ｂの全体にレジスト１４ａ，１４ｂを残してもよい。
【００３９】
図４に示されるように、次に、露光工程として、レジスト１４ａ，１４ｂに光を照射する２つの光源１７ａ，１７ｂの間に、レジスト１４ａ，１４ｂが形成された積層体が配置される。光源１７ａ，１７ｂは、紫外領域の波長の光と可視領域の波長の光とからなる光を発する。基板１１の表面側において、第１レジスト１４ａと第１光源１７ａとの間には、第１レジスト１４ａに近い方から、第１透明電極層１２ａのパターンに応じたパターンを有する第１マスク１５ａと、特定の波長の光を遮断する第１光学フィルター１６ａとが、この順に配置される。基板１１の裏面側において、第２レジスト１４ｂと第２光源１７ｂとの間には、第２レジスト１４ｂに近い方から、第２透明電極層１２ｂのパターンに応じたパターンを有する第２マスク１５ｂと、特定の波長の光を遮断する第２光学フィルター１６ｂとが、この順に配置される。第１の実施形態では、光学フィルター１６ａ，１６ｂは、可視領域の波長の光を遮断する。
【００４０】
そして、第１光源１７ａから第１レジスト１４ａに対して光が照射されて第１レジスト１４ａが露光されるとともに、第２光源１７ｂから第２レジスト１４ｂに対して光が照射されて第２レジスト１４ｂが露光される。第１レジスト１４ａの露光と、第２レジスト１４ｂの露光とは、同時に行われる。あるいは、第１レジスト１４ａの露光と、第２レジスト１４ｂの露光とは、第１レジスト１４ａの現像前、かつ、第２レジスト１４ｂの現像前であれば、各別に行われてもよい。このとき、光学フィルター１６ａ，１６ｂによって可視領域の波長の光が遮断されるため、レジスト１４ａ，１４ｂは、光源１７ａ，１７ｂから発せられた光のうちの紫外領域の波長の光によって露光される。
【００４１】
ここで、第１レジスト１４ａは、第１光源１７ａから第１光学フィルター１６ａを通じて第１レジスト１４ａに照射された紫外領域の波長の光である露光光によって感光し、露光光が積層体を透過して第２レジスト１４ｂに到達しない程度にまで、露光光を吸収する。したがって、第１光源１７ａから第１レジスト１４ａに照射された光が積層体を透過して第２レジスト１４ｂを感光させることが抑えられる。
【００４２】
また、第２レジスト１４ｂは、第２光源１７ｂから第２光学フィルター１６ｂを介して第２レジスト１４ｂに照射された露光光によって感光し、露光光が積層体を透過して第１レジスト１４ａに到達しない程度にまで、露光光を吸収する。したがって、第２光源１７ｂから第２レジスト１４ｂに照射された光が積層体を透過して第１レジスト１４ａを感光させることが抑えられる。そのため、一方のレジストを露光するための光が積層体を透過して他方のレジストを感光させることが抑えられる。
【００４３】
また、光学フィルター１６ａ，１６ｂによって遮断される光の波長と、レジスト１４ａ，１４ｂが吸収する光の波長とが調整されることによって、露光光とレジスト１４ａ，１４ｂが吸収する光との波長が合わせられるため、レジスト１４ａ，１４ｂの露光と不要な露光光の吸収とが的確に行われる。
【００４４】
上述のように、光学フィルター１６ａ，１６ｂが可視領域の波長の光を遮断し、レジスト１４ａ，１４ｂが紫外領域の波長の光を吸収する場合、光学フィルター１６ａ，１６ｂの波長３６５ｎｍにおける光線透過率は、８０％以上であることが好ましい。光学フィルター１６ａ，１６ｂの光線透過率が上記の範囲であれば、レジスト１４ａ，１４ｂが紫外領域の波長の光によって露光される。したがって、一方のレジストに照射された露光光が、そのレジストに適切に吸収されて、他方のレジストに到達することが抑えられる。
【００４５】
また、レジスト１４ａ，１４ｂの特性によって、光学フィルター１６ａ，１６ｂを通過した光によってレジスト１４ａ，１４ｂが十分に感光しない場合には、光学フィルター１６ａ，１６ｂの波長４００ｎｍにおける光線透過率が、０．１％以上３０％以下の範囲で調整されることが好ましい。
【００４６】
図５に示されるように、レジスト１４ａ，１４ｂが露光されることによって、レジスト１４ａ，１４ｂの一部が感光する。
図６に示されるように、次に、現像工程として、レジスト１４ａ，１４ｂがネガ型の場合には、レジスト１４ａ，１４ｂの感光していない部分が現像液によって除去される。あるいは、レジスト１４ａ，１４ｂがポジ型の場合には、レジスト１４ａ，１４ｂの感光した部分が現像液によって除去される。これにより、レジスト１４ａ，１４ｂに、マスク１５ａ，１５ｂに応じたパターンが形成される。すなわち、透明電極層１２ａ，１２ｂにおける導電領域を覆うパターンが、レジスト１４ａ，１４ｂによって形成される。
【００４７】
図７に示されるように、次に、エッチング工程として、パターニングされた第１レジスト１４ａをマスクとして第１透明導電層１３ａがエッチングされ、パターニングされた第２レジスト１４ｂをマスクとして第２透明導電層１３ｂがエッチングされる。エッチング方法は、公知の方法が用いられる。これにより、第１透明導電層１３ａがパターニングされて第１透明電極層１２ａが形成される。また、第２透明導電層１３ｂがパターニングされて第２透明電極層１２ｂが形成される。透明導電層１３ａ，１３ｂの残存部分が、透明電極層１２ａ，１２ｂにおける導電領域となり、透明導電層１３ａ，１３ｂの除去部分が、透明電極層１２ａ，１２ｂにおける非導電領域となる。
【００４８】
図８に示されるように、次に、レジスト１４ａ，１４ｂが除去される。これにより、透明導電性積層体１０が得られる。
なお、上記の各工程は、ロール・ツー・ロール方式によって行われることが好ましい。これによれば、透明導電性積層体を効率よく製造することができるため、透明導電性積層体１０の製造にかかる時間が短縮される。
【００４９】
［作用］
第１の実施形態の透明導電性積層体の製造方法がもたらす作用について説明する。
上述のように、一方のレジストは、それに対する露光光が積層体を透過して他方のレジストに到達しない程度にまで、露光光を吸収する。したがって、２つの透明電極層１２ａ，１２ｂが互いに異なるパターンを有する場合であっても、互い対向する２つのレジスト１４ａ，１４ｂの両方を、これら両方の現像前にまとめて露光できる。結果として、レジストの形成、露光、および、現像を、透明導電層１３ａ，１３ｂが形成された面ごとにこの順に繰り返す製造方法と比較して、透明導電性積層体の製造工程の流れが簡素である。
【００５０】
また、２つのレジスト１４ａ，１４ｂがほぼ同時に露光されるため、第１レジスト１４ａ用の露光マスクの位置と、第２レジスト１４ｂ用の露光マスクの位置との整合によって、第１レジスト１４ａのパターンと、第２レジスト１４ｂのパターンとの位置合わせが可能になる。それゆえに、例えば、先行して形成された一方のレジストの微細なパターンの位置を検出し、その検出結果と、他方のレジスト用の露光マスクの位置とを整合させる位置合わせと比較して、２つのレジスト１４ａ，１４ｂに形成されるパターンの位置合わせが容易になる。したがって、透明電極層１２ａ，１２ｂを微細なパターンに形成することも可能となり、ひいては、タッチパネルにおける接触位置の検出の感度や精度が向上される。また、透明電極層１２ａ，１２ｂが微細なパターンに形成されることによって、パターン形状が目立たなくなるため、タッチパネルの視認性が向上する。
【００５１】
また、第１の実施形態では、透明導電性積層体１０の構成層ではなく、透明導電性積層体１０の製造にて最後には取り除かれるレジスト１４ａ，１４ｂが、露光光を吸収する機能を有している。したがって、透明導電性積層体１０の構成に与える影響が抑えられる。
【００５２】
なお、図９に示されるように、基板１１が複数の層を有していてもよい。図９に示される透明導電性積層体２０では、基板１１が２つの副基板１１ａ，１１ｂと、副基板１１ａと副基板１１ｂとを貼り合わせる粘着層２１とから構成される。粘着層２１に用いられる樹脂としては、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、または、ゴム系樹脂等が挙げられる。粘着層２１には、クッション性や透明性に優れた樹脂を用いることが好ましい。
【００５３】
こうした透明導電性積層体の製造方法では、副基板１１ａの表面に第１透明導電層１３ａが形成され、副基板１１ｂの表面に第２透明導電層１３ｂが形成される。そして、副基板１１ａの裏面と副基板１１ｂの裏面とが粘着層２１によって貼り合わせられる。以後、先の図３〜図８に示される工程と同様の工程を経て透明導電性積層体２０が製造される。すなわち、この場合も、互いに対向する２つのレジスト１４ａ，１４ｂの両方を、これら両方の現像前にまとめて露光できるため、製造工程の流れが簡素である。
【００５４】
以上説明したように、第１の実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）レジスト１４ａ，１４ｂの各々は、そのレジストに対する露光光が他方のレジストを感光させることを抑える機能を有するため、２つのレジストの両方を、これら両方の現像前にまとめて露光できる。その結果、製造工程の流れを簡素にすることができる。
【００５５】
（２）レジスト１４ａ，１４ｂの各々は、そのレジストに対する露光光を吸収して、そのレジストに対する露光光が積層体を透過して他方のレジストに到達することを抑える。その結果、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストを感光させることを抑えることが、露光光を直接受けるレジストによって実現される。
【００５６】
（３）光源１７ａ，１７ｂから照射された光の一部が、光学フィルター１６ａ，１６ｂによって遮断されることによって、露光光として紫外領域の波長の光が、レジストに照射される。そして、レジスト１４ａ，１４ｂが紫外領域の波長の光を吸収する。したがって、一方のレジストに対する露光光が積層体を透過して他方のレジストに到達することが抑えられる。その結果、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストを感光させることが適切に抑えられる。
【００５７】
（４）感光機能を有する材料とは異なる紫外線吸収剤、または、紫外線吸収機能を有する樹脂を別途レジスト１４ａ，１４ｂが含むため、紫外領域の波長の光の吸収に際し、その機能の調整がレジスト１４ａ，１４ｂにおいて容易である。
【００５８】
（第２の実施形態）
図１０を参照して、透明導電性積層体の製造方法の第２の実施形態について説明する。第２の実施形態では、透明導電性積層体の構成層が紫外領域の波長の光を吸収する機能層を有している点と、透明導電性積層体の製造工程にて用いられるレジストが可視領域の波長の光を吸収する機能を有している点が、第１の実施形態と主に異なる。以下では、第１の実施形態との相違点を中心に説明し、第１の実施形態と同様の構成については同じ符号を付してその説明を省略する。
【００５９】
［透明導電性積層体の構成］
以下では、本開示の技術における一例として、基板１１が紫外領域の波長（約２００ｎｍ〜約３８０ｎｍ）の光を吸収する機能を有する場合について説明する。
【００６０】
機能層の一例である基板１１は、紫外線吸収材料を含んでいる。紫外線吸収材料としては、第１の実施形態にて例示した紫外線吸収剤や紫外線吸収機能を有する樹脂等が挙げられる。基板１１に含められる紫外線吸収材料の形態は、基板１１を形成する主たる材料と紫外線吸収剤との混合や、基板１１を形成する樹脂と紫外線吸収機能を有する樹脂との共重合である。
【００６１】
紫外線吸収材料の含有量は、露光光のうち、一方のレジストに吸収されなかった紫外領域の波長の光が他方のレジストに到達することを抑えることが可能な程度に、紫外線の吸収機能が基板１１に付与される量であれば、特に限定されない。例えば、基板１１は、基板１１を構成する樹脂に対して、紫外線吸収材料を０．０１重量％以上２０重量％以下の範囲内で含有することが好ましい。紫外線吸収材料の含有量が下限値以上であれば、一方のレジストに吸収されなかった紫外領域の波長の光が他方のレジストに到達することを抑えることが可能な程度に、レジスト１４ａ，１４ｂに対する露光光を吸収することができる。紫外線吸収材料の含有量が上限値以下であれば、基板１１の透明性の低下が抑えられる。
【００６２】
なお、紫外領域の波長の光を吸収する機能層は、基板１１と第１透明電極層１２ａとの間や、基板１１と第２透明電極層１２ｂとの間に位置する、密着層や樹脂層や光学調整層であってもよいし、これらと基板１１との組合わせであってもよい。また、先の図９に示されるように、透明導電性積層体１０が副基板１１ａと副基板１１ｂとを貼り合せる粘着層２１を備える場合には、粘着層２１が紫外領域の波長の光を吸収する機能を有していてもよい。また、透明電極層１２ａ，１２ｂが繊維状の金属を含み、透明電極層１２ａ，１２ｂにマトリックスとしての樹脂が塗布される場合には、透明電極層１２ａ，１２ｂに塗布された樹脂部分が紫外領域の波長の光を吸収する機能を有していてもよい。要は、透明導電性積層体１０の構成層のうちの少なくとも１つの層が、紫外領域の波長の光を吸収する機能層であればよい。これらの層は、基板１１が機能層である上述の形態と同様に、紫外線吸収材料を含有することによって、紫外領域の波長の光を吸収する。
【００６３】
［透明導電性積層体の製造方法］
まず、第２の実施形態の透明導電性積層体の製造方法に用いられるレジストの機能と構成材料について説明する。
【００６４】
レジスト１４ａ，１４ｂは、通常のフォトレジストとしての機能に加えて、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストを感光させることを抑える機能を有する。具体的には、レジスト１４ａ，１４ｂは、可視領域の波長（約３８０ｎｍ〜約７８０ｎｍ）の光を吸収する機能を有する。上記の機能を実現するために、レジスト１４ａ，１４ｂは、可視光吸収材料を含んでいる。可視光吸収材料としては、可視光吸収剤や可視光吸収機能を有する樹脂等が挙げられる。
【００６５】
可視光吸収剤としては、可視領域に吸収波長の極大値を有する色素や染料、共役二重結合を含む有機化合物が利用できる。有機化合物は、複数種類を混ぜて用いてもよい。また、塗料や染料として使用されるような酸化チタン等の金属酸化物や金属錯体、カーボン等の黒色粒子等も、可視光吸収剤として用いることができる。
【００６６】
可視光吸収機能を有する樹脂としては、例えば、上記の有機化合物を含む樹脂が挙げられる。
可視光吸収材料の含有量は、そのレジストに照射された露光光のうちの可視領域の波長の光が積層体を透過して他方のレジストに到達しない程度にまで、可視光の吸収機能がレジスト１４ａ，１４ｂに付与される量であることが好ましい。
【００６７】
第２の実施形態の透明導電性積層体の製造方法について説明する。
まず、先の図２および図３に示される第１の実施形態と同様に、基板１１の表面に第１透明導電層１３ａが形成され、基板１１の裏面に第２透明導電層１３ｂが形成される。そして、第１透明導電層１３ａの面上に第１レジスト１４ａが形成され、第２透明導電層１３ｂの面上に第２レジスト１４ｂが形成される。
【００６８】
図１０に示されるように、次に、レジスト１４ａ，１４ｂに光を照射する２つの光源１７ａ，１７ｂの間に、レジスト１４ａ，１４ｂが形成された積層体が配置される。基板１１の表面側にて、第１レジスト１４ａと第１光源１７ａとの間には、第１マスク１５ａが配置され、基板１１の裏面側にて、第２レジスト１４ｂと第２光源１７ｂとの間には、第２マスク１５ｂが配置される。第２の実施形態では、光学フィルターは用いられない。
【００６９】
そして、第１光源１７ａから第１レジスト１４ａに対して光が照射されて第１レジスト１４ａが露光されるとともに、第２光源１７ｂから第２レジスト１４ｂに対して光が照射されて第２レジスト１４ｂが露光される。第１レジスト１４ａの露光と第２レジスト１４ｂの露光とは同時であってもよいし、第１レジスト１４ａと第２レジスト１４ｂの両方の現像前にまとめて実施されるのであれば、各別であってもよい。このとき、光学フィルターが割愛されているため、レジスト１４ａ，１４ｂは、光源１７ａ，１７ｂから発せられた紫外領域の波長の光と可視領域の波長の光とを含む光によって露光される。
【００７０】
ここで、第１レジスト１４ａは、第１光源１７ａから第１レジスト１４ａに照射された露光光によって感光するとともに、露光光のうちの可視領域の波長の光が積層体を透過して第２レジスト１４ｂに到達しない程度にまで、可視領域の波長の光を吸収する。また、基板１１は、露光光のうちの第１レジスト１４ａに吸収されなかった紫外領域の波長の光を吸収する。したがって、第１光源１７ａから第１レジスト１４ａに照射された光が積層体を透過して第２レジスト１４ｂを感光させることが抑えられる。
【００７１】
また、第２レジスト１４ｂは、第２光源１７ｂから第２レジスト１４ｂに照射された露光光によって感光するとともに、露光光のうちの可視領域の波長の光が積層体を透過して第１レジスト１４ａに到達しない程度にまで、可視領域の波長の光を吸収する。また、基板１１は、露光光のうちの第２レジスト１４ｂに吸収されなかった紫外領域の波長の光を吸収する。したがって、第２光源１７ｂから第２レジスト１４ｂに照射された光が積層体を透過して第１レジスト１４ａを感光させることが抑えられる。そのため、２つのレジストの露光が、２つのレジストの現像前にまとめて行われても、一方のレジストを露光するための光が積層体を透過して他方のレジストを感光させることが抑えられる。
【００７２】
レジスト１４ａ，１４ｂの露光が行われた後には、先の図５〜図８に示される第１の実施形態と同様に、レジスト１４ａ，１４ｂの現像、透明導電層１３ａ，１３ｂのエッチング、レジスト１４ａ，１４ｂの除去が順に行われて、透明導電性積層体１０が製造される。
【００７３】
［作用］
第２の実施形態の透明導電性積層体の製造方法がもたらす作用について説明する。
第２の実施形態では、レジスト１４ａ，１４ｂが、露光光のうちの可視領域の波長の光を吸収し、透明導電性積層体１０の機能層が、露光光のうちの紫外領域の波長の光を吸収する。これにより、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストに到達することが抑えられる。したがって、互いに対向する２つのレジスト１４ａ，１４ｂの両方を、これら両方の現像前にまとめて露光できるため、透明導電性積層体１０の製造工程の流れが簡素である。
【００７４】
また、紫外領域の波長の光と可視領域の波長の光とからなる露光光が、レジスト１４ａ，１４ｂと透明導電性積層体１０の機能層とによって吸収されるため、露光光を選別するための光学フィルターは、その一部、もしくは、全てが不要となる。したがって、透明導電性積層体１０を製造するための装置の構成が簡易になる。
【００７５】
以上説明したように、第２の実施形態によれば、第１の実施形態の（１），（２）の効果に加えて、以下の効果が得られる。
（５）上記方法によれば、レジスト１４ａ，１４ｂが、可視領域の波長の光を吸収し、透明導電性積層体１０の機能層が、紫外領域の波長の光を吸収するため、露光光として紫外領域の波長の光と可視領域の波長の光がレジストに照射される場合に、一方のレジストに対する露光光が積層体を透過して他方のレジストに到達することが抑えられる。その結果、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストを感光させることが適切に抑えられる。また、露光光として、可視領域の波長の光と紫外領域の波長の光を含む光が利用できるため、光源の選択やフィルターによる露光光の選別等、露光光の調整にかかる負担が軽減される。
【００７６】
（６）レジスト１４ａ，１４ｂが、可視光吸収剤、または、可視光吸収機能を有する樹脂を含有することによって、可視領域の波長の光を吸収する機能が、レジスト１４ａ，１４ｂに付加される。また、透明導電性積層体１０の機能層が、紫外線吸収剤、または、紫外線吸収機能を有する樹脂を含有することによって、紫外領域の波長の光を吸収する機能が、透明導電性積層体１０の機能層に付加される。
【００７７】
（第３の実施形態）
図１１〜図１７を参照して、透明導電性積層体の製造方法の第３の実施形態について説明する。第３の実施形態では、２つのレジストの感光波長が互いに異なる点が、第１の実施形態と主に異なる。以下では、第１の実施形態との相違点を中心に説明し、第１の実施形態と同様の構成については同じ符号を付してその説明を省略する。
【００７８】
［透明導電性積層体の製造方法］
図１１に示されるように、まず、基板１１の表面に第１透明導電層１３ａが形成され、基板１１の裏面に第２透明導電層１３ｂが形成される。
【００７９】
図１２に示されるように、次に、基板１１の表面側において、第１透明導電層１３ａの面上に第１レジスト１４ｃが形成され、基板１１の裏面側において、第２透明導電層１３ｂの面上に第２レジスト１４ｄが形成される。
【００８０】
レジスト１４ｃ，１４ｄは、通常のフォトレジストとしての機能に加えて、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストを感光させることを抑える機能を有する。具体的には、第１レジスト１４ｃの感光波長と、第２レジスト１４ｄの感光波長は、互いに異なる領域の波長を含む。第１レジスト１４ｃの感光波長と第２レジスト１４ｄの感光波長とは、完全に異なってもよいし、一部が異なってもよい。すなわち、第１レジスト１４ｃの感光波長と第２レジスト１４ｄの感光波長とは、重なる領域がなくてもよいし、一部に重なる領域があってもよい。
【００８１】
レジストは感光性樹脂であるため、レジストの感光波長は、重合開始剤の吸収波長に依存する。したがって、第１レジスト１４ｃと第２レジスト１４ｄとが、互いに吸収波長の異なる重合開始剤を含有すれば、第１レジスト１４ｃと第２レジスト１４ｄとの感光波長は互いに異なる。重合開始剤の種類は特に限られないが、例えば、紫外領域の中でもより低波長側（３００ｎｍ以下）に吸収波長を有する重合開始剤として、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系の重合開始剤が挙げられる。また、例えば、より高波長側（３００ｎｍ以上）に吸収波長を有する重合開始剤として、ベンゾインエーテル系、オキシムエステル系、アシルフォスフィンオキサイド系、チタノセン系等の重合開始剤が挙げられる。
【００８２】
図１３に示されるように、次に、２つの光源１７ａ，１７ｂの間に、レジスト１４ｃ，１４ｄが形成された積層体が配置される。基板１１の表面側において、第１レジスト１４ｃと第１光源１７ａとの間には、第１レジスト１４ｃに近い方から、第１マスク１５ａと第１光学フィルター１６ｃとが、この順に配置される。基板１１の裏面側において、第２レジスト１４ｄと第２光源１７ｂとの間には、第２レジスト１４ｄに近い方から、第２マスク１５ｂと第２光学フィルター１６ｄとが、この順に配置される。
【００８３】
ここで、２つの光学フィルター１６ｃ，１６ｄは、遮断する光の波長が互いに異なる。第１レジスト１４ｃに照射される光の一部を遮断する第１光学フィルター１６ｃは、少なくとも第２レジスト１４ｄの感光波長の光を遮断する。第２レジスト１４ｄに照射される光の一部を遮断する第２光学フィルター１６ｄは、少なくとも第１レジスト１４ｃの感光波長の光を遮断する。
【００８４】
このように、光学フィルター１６ｃ，１６ｄのカット波長は、第１レジスト１４ｃと第２レジスト１４ｄに含まれる重合開始剤の吸収波長に合わせて選択される。光学フィルター１６ｃ，１６ｄとしては、例えば、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）を選択的に遮断する光学フィルターや、任意の波長以上の紫外領域および可視領域全体の波長の光を遮断する光学フィルター等が適宜選択される。
【００８５】
そして、第１光源１７ａから第１レジスト１４ｃに対して光が照射されて第１レジスト１４ｃが露光されるとともに、第２光源１７ｂから第２レジスト１４ｄに対して光が照射されて第２レジスト１４ｄが露光される。第１レジスト１４ｃの露光と第２レジスト１４ｄの露光とは同時に行われてもよいし、第１レジスト１４ｃと第２レジスト１４ｄの両方の現像前にまとめて実施されるのであれば、各別であってもよい。
【００８６】
このとき、第１レジスト１４ｃに照射される光からは、第１光学フィルター１６ｃによって、第２レジスト１４ｄの感光波長の光が除かれる。そのため、第１レジスト１４ｃに対する露光光が積層体を透過して第２レジスト１４ｄに到達したとしても、第２レジスト１４ｄが感光することが抑えられる。
【００８７】
また、第２レジスト１４ｄに照射される光からは、第２光学フィルター１６ｄによって、第１レジスト１４ｃの感光波長の光が除かれる。そのため、第２レジスト１４ｄに対する露光光が積層体を透過して第１レジスト１４ｃに到達したとしても、第１レジスト１４ｃが感光することが抑えられる。結果として、２つのレジストの露光が、２つのレジストの現像前にまとめて行われても、一方のレジストを露光するための光が他方のレジストを感光させることが抑えられる。
【００８８】
図１４に示されるように、レジスト１４ｃ，１４ｄが露光されることによって、レジスト１４ｃ，１４ｄの一部が感光する。
続いて、図１５に示されるように、レジスト１４ｃ，１４ｄが現像され、図１６に示されるように、透明導電層１３ａ，１３ｂがエッチングされて、透明電極層１２ａ，１２ｂが形成される。そして、図１７に示されるように、次に、レジスト１４ｃ，１４ｄが除去されて、透明導電性積層体１０が得られる。
【００８９】
なお、光学フィルター１６ｃ，１６ｄによる露光光の選別に代えて、あるいは、光学フィルター１６ｃ，１６ｄによる露光光の選別に加えて、第１の実施形態や第２の実施形態と同様に、レジスト１４ｃ，１４ｄや透明導電性積層体１０の機能層が露光光を吸収してもよい。要は、第１光源１７ａから第１レジスト１４ｃに向けて発せられた光のうち、第２レジスト１４ｄの感光波長の光が第２レジスト１４ｄに到達することが抑えられ、第２光源１７ｂから第２レジスト１４ｄに向けて発せられた光のうち、第１レジスト１４ｃの感光波長の光が第１レジスト１４ｃに到達することが抑えられればよい。第１レジスト１４ｃの感光波長と第２レジスト１４ｄの感光波長との重なる領域が大きい場合には、光学フィルター１６ｃ，１６ｄによって露光光の波長を制限するよりも、レジスト１４ｃ，１４ｄや透明導電性積層体１０の機能層によって露光光を吸収する方が、レジスト１４ｃ，１４ｄに対する露光光が少なくなりすぎることが抑えられる。
【００９０】
［作用］
第３の実施形態の透明導電性積層体の製造方法がもたらす作用について説明する。
２つのレジスト１４ｃ，１４ｄの感光波長が互いに異なる領域の波長を含むため、一方のレジストのみを感光させる波長の光が積層体を透過して他方のレジストに到達しても、他方のレジストを感光させることが抑えられる。したがって、光学フィルター１６ｃ，１６ｄが、各レジスト１４ｃ，１４ｄに対する露光光の波長を調整したり、レジスト１４ｃ，１４ｄや透明導電性積層体１０の機能層が、露光光の一部を吸収したりすることによって、互いに対向する２つのレジスト１４ｃ，１４ｄの両方を、これら両方の現像前にまとめて露光できる。その結果、透明導電性積層体１０の製造工程の流れが簡素である。
【００９１】
以上説明したように、第３の実施形態によれば、第１の実施形態の（１），（２）の効果に加えて、以下の効果が得られる。
（７）２つのレジスト１４ｃ，１４ｄの感光波長が互いに異なる領域の波長を含み、第１光源１７ａから発せられた光のうち、第２レジスト１４ｄの感光波長の光が第２レジスト１４ｄに到達することが抑えられ、第２光源１７ｂから発せられた光のうち、第１レジスト１４ｃの感光波長の光が第１レジスト１４ｃに到達することが抑えられる。したがって、一方のレジストに対する露光光が積層体を透過して他方のレジストを感光させることが抑えられる。
【００９２】
上記の各実施形態は、以下のように変更して実施することが可能である。
・第１の実施形態および第３の実施形態において、光学フィルターによって露光光の波長を選別することに代えて、特定の波長の光を発する光源が用いられてもよい。
【００９３】
・第２の実施形態において、レジスト１４ａ，１４ｂが、可視領域の波長の光に加えて、紫外領域の波長の光を吸収してもよい。この場合、透明導電性積層体１０の機能層が吸収する紫外線の波長とレジスト１４ａ，１４ｂが吸収する紫外線の波長とを異ならせることによって、より広い波長の光を吸収することができる。また、レジスト１４ａ，１４ｂが、可視領域の波長の光と紫外領域の波長の光とを吸収する場合には、透明導電性積層体１０の機能層は紫外領域の波長の光を吸収しなくてもよい。
【符号の説明】
【００９４】
１０，２０…透明導電性積層体、１１…基板、１１ａ，１１ｂ…副基板、１２ａ，１２ｂ…透明電極層、１３ａ，１３ｂ…透明導電層、１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ…レジスト、１５ａ，１５ｂ…マスク、１６ａ，１６ｂ，１６ｃ，１６ｄ…光学フィルター、１７ａ，１７ｂ…光源、２１…粘着層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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