(57)【要約】      （修正有）【課題】耐久性に優れ、露光部の電位上昇及び濃度ムラの発生を抑制することが可能な感光体を提供する。【解決手段】感光体１０Ａは、導電性支持体１上に、単層型感光層２及び保護層３が順次積層されており、保護層３は、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物と、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物と、耐酸化ガス性を有する特定構造の化合物と、光分解を抑制する特定構造の化合物を含む組成物を硬化して形成されている。【選択図】図１
2015045692.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に、感光層及び保護層が順次積層されており、
前記保護層は、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物と、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物と、一般式
【化１】
2015045692.tif 000045
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基、置換基により置換されていてもよい１価の脂肪族複素環基又は置換基により置換されていてもよい１価の芳香族基であり、Ｒ１及びＲ２は、互いに結合して環を形成してもよく、ｎは、１以上３以下の整数である。）
で表される化合物又は一般式
【化２】
2015045692.tif 000046
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基又は置換基により置換されていてもよい１価の芳香族基であり、Ｒ１及びＲ２は共同で環を形成してもよく、Ａｒは、置換基により置換されていてもよい２価の芳香族基であり、Ｘは、単結合又は炭素数が１以上４以下のアルキレン基である。）
で表される化合物と、一般式
【化３】
2015045692.tif 000047
（式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１以上４以下のアルキル基であり、Ｙは、ビニレン基、炭素数が６以上１４以下のアリーレン基又は２，５−チオフェンジイル基である。）
で表される化合物又は一般式
【化４】
2015045692.tif 000048
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、炭素数が６以上１４以下のアリール基であり、Ｙは、炭素数が６以上１４以下のアリーレン基であり、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。）
で表される化合物を含む組成物を硬化して形成されていることを特徴とする感光体。
【請求項２】
前記保護層は、前記一般式（１）で表される化合物又は前記一般式（２）で表される化合物の含有量が０．１質量％以上１０質量％以下であることを特徴とする請求項１に記載の感光体。
【請求項３】
前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物に対する前記一般式（３）で表される化合物又は前記一般式（４）で表される化合物の質量比が０．００５以上０．３以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の感光体。
【請求項４】
前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物は、アクリロイルオキシ基を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の感光体。
【請求項５】
前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物は、単官能であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体。
【請求項６】
電荷輸送機能を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物に対する前記電荷輸送機能を有するラジカル重合性化合物の質量比が０．５以上２．０以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の感光体。
【請求項７】
前記組成物は、無機粒子及び／又は有機粒子を含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の感光体。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の感光体と、
該感光体を帯電させる帯電手段と、
該帯電した感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段と、
該感光体に形成された静電潜像を、トナーを用いて現像してトナー像を形成する現像手段と、
該感光体に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の感光体を有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
画像形成装置を用いた画像形成方法において、画像は、感光体に帯電工程、露光工程、現像工程、転写工程等の工程を施すことにより形成される。近年では、感光体として、有機感光体が広く使用されている。
【０００３】
画像形成装置における、フルカラー化や高速化の急速な進行に伴い、有機感光体において、耐久性が求められている。
【０００４】
特許文献１には、導電性支持体上に少なくとも電荷発生層、ホール輸送層、ホール輸送性保護層を順に積層し、保護層が少なくともラジカル重合性ホール輸送性化合物を活性エネルギー線を照射することで連鎖重合させて得られる３次元架橋膜からなる電子写真感光体が開示されている。このとき、保護層中に一般式（１）又は一般式（２）で表されるオキサゾール化合物を含有する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、繰り返し使用した後に、長時間放置した場合、帯電器の近傍の感光体の表面の抵抗値が低下することがある。この場合、再稼働させた際に、帯電電位、露光後の電位が低くなり、画像の濃度ムラが発生することがある。また、露光部の電位が上昇することがある。
【０００６】
本発明の一態様は、上記従来技術が有する問題に鑑み、耐久性に優れ、露光部の電位上昇及び濃度ムラの発生を抑制することが可能な感光体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様は、感光体において、導電性支持体上に、感光層及び保護層が順次積層されており、前記保護層は、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物と、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物と、一般式
【０００８】
【化１】
2015045692.tif 000003
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基、置換基により置換されていてもよい１価の脂肪族複素環基又は置換基により置換されていてもよい１価の芳香族基であり、Ｒ１及びＲ２は、互いに結合して環を形成してもよく、ｎは、１以上３以下の整数である。）
で表される化合物又は一般式
【０００９】
【化２】
2015045692.tif 000004
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基又は置換基により置換されていてもよい１価の芳香族基であり、Ｒ１及びＲ２は共同で環を形成してもよく、Ａｒは、置換基により置換されていてもよい２価の芳香族基であり、Ｘは、単結合又は炭素数が１以上４以下のアルキレン基である。）
で表される化合物と、一般式
【００１０】
【化３】
2015045692.tif 000005
（式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１以上４以下のアルキル基であり、Ｙは、ビニレン基、炭素数が６以上１４以下のアリーレン基又は２，５−チオフェンジイル基である。）
で表される化合物又は一般式
【００１１】
【化４】
2015045692.tif 000006
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、炭素数が６以上１４以下のアリール基であり、Ｙは、炭素数が６以上１４以下のアリーレン基であり、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。）
で表される化合物を含む組成物を硬化して形成されている。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の一態様によれば、耐久性に優れ、露光部の電位上昇及び濃度ムラの発生を抑制することが可能な感光体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】感光体の一例を示す断面図である。
【図２】感光体の他の例を示す断面図である。
【図３】画像形成装置の一例を示す概略図である。
【図４】画像形成装置の他の例を示す概略図である。
【図５】プロセスカートリッジの一例を示す概略図である。
【図６】化合物（１−３３）のＬＣ−ＭＳスペクトルである。
【図７】化合物（１−３３）の赤外線吸収スペクトルである。
【図８】化合物（１−３３）の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図９】化合物（１−３６）のＬＣ−ＭＳスペクトルである。
【図１０】化合物（１−３６）の赤外線吸収スペクトルである。
【図１１】化合物（１−３６）の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１２】化合物（１−５２）のＬＣ−ＭＳスペクトルである。
【図１３】化合物（１−５２）の赤外線吸収スペクトルである。
【図１４】化合物（１−５２）の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１５】化合物（２−２）のＭＳスペクトルである。
【図１６】化合物（２−２）の赤外線吸収スペクトルである。
【図１７】化合物（２−３）のＭＳスペクトルである。
【図１８】化合物（２−３）の赤外線吸収スペクトルである。
【図１９】化合物（２−６）のＭＳスペクトルである。
【図２０】化合物（２−６）の赤外線吸収スペクトルである。
【図２１】Ｙ型チタニルフタロシアニンのＸ線回折スペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
次に、本発明を実施するための形態を説明する。
【００１５】
感光体は、導電性支持体上に、感光層及び保護層が順次積層されており、必要に応じて、その他の層がさらに形成されている。
【００１６】
保護層は、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物と、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物と、一般式（１）で表される化合物又は一般式（２）で表される化合物と、一般式（３）で表される化合物又は一般式（４）で表される化合物を含む組成物を硬化して形成されている。
【００１７】
商業印刷に要求される高画質画像を形成する場合、感光体には、連続印刷枚数経時での露光電位が一定となるような、印刷枚数間電位安定性が要求される。このためには、感光体における、保護層の膜厚、均質性、さらには、保護層中の電荷トラップの発生を抑制することが重要となる。
【００１８】
保護層は、一般に、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物と、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を含む組成物に活性エネルギー線を照射することにより、ラジカル重合させて、形成されている。このとき、活性エネルギー線を照射することにより、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の光分解物が生成し、この生成物が電荷トラップとなることにより、繰り返し経時における露光部の電位が上昇すると考えられる。
【００１９】
これに対して、一般式（３）で表される化合物又は一般式（４）で表される化合物を用いて、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の光分解を抑制することにより、保護層中の電荷トラップの発生を抑制することができ、繰り返し経時における露光部の電位の上昇を抑制できると考えられる（特許文献１参照）。
【００２０】
一般式（３）で表される化合物又は一般式（４）で表される化合物が電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の光分解を抑制するメカニズムは不明であるが、活性エネルギー線により励起状態となったラジカル重合性化合物と、一般式（３）で表される化合物又は一般式（４）で表される化合物が、分子間励起子会合体（Ｅｘｃｉｐｌｅｘ）を形成し、それが失活することで、ラジカル重合性化合物の光分解が抑制されると考えられる。
【００２１】
ところで、露光部の電位の上昇は、感光体が長期に亘って使用されると徐々に大きくなっていくことが知られている。この要因としても、電荷輸送性構造の分解物による電荷トラップの増加が考えられる。電荷輸送性構造の分解を引き起こす要因としては、帯電工程で発生する酸化性ガスや、露光工程や除電工程で照射される光エネルギーが考えられる。
【００２２】
これに対して、一般式（１）で表される化合物又は一般式（２）で表される化合物が酸化性ガスによる分解を抑制する効果を発揮し、一般式（３）で表される化合物又は一般式（４）で表される化合物が光エネルギーによる分解を抑制する効果を発揮していると考えられる。
【００２３】
一般式（１）で表される化合物又は一般式（２）で表される化合物が酸化性ガスによる電荷輸送性構造の分解を抑制するメカニズムは不明であるが、一般式
−ＮＲ１Ｒ２
で表される基が塩基性基であるため、酸化性ガスに対する中和効果が推測される。このとき、酸化性ガスは、濃度ムラの原因物質でもあると考えられる。
【００２４】
なお、一般式（１）で表される化合物におけるアントリル基及び一般式（２）で表される化合物における一般式
−Ａｒ−Ｎ＝
で表される基は、電荷輸送能が優れる機能性基であることが知られており（高橋ら、電子写真学会誌、２５巻、３号、１６頁、１９８６年参照）、一般式（１）で表される化合物又は一般式（２）で表される化合物は、電荷輸送能の高い化合物であることがわかる。
【００２５】
また、一般式（３）で表される化合物又は一般式（４）で表される化合物が光エネルギーによる電荷輸送性構造の分解を抑制するメカニズムは不明であるが、上記と同様に、電荷輸送性構造が分解に至る活性な状態が失活するためであると考えられる。
【００２６】
［一般式（１）で表される化合物］
一般式（１）で表される化合物は、丸善株式会社，第４版，実験化学講座，２０巻２８４〜２８６ページに記載されている方法により合成することができる。すなわち、ポリ（クロロメチル）アントラセンと２級アミンを、塩基の存在下、溶媒中で置換反応させることにより合成することができる。
【００２７】
【化５】
2015045692.tif 000007
ポリ（クロロメチル）アントラセンとアミンを反応させる温度は、通常、０〜１５０℃程度であり、５０〜１３０℃程度であることが好ましい。
【００２８】
塩基としては、特に限定されないが、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化セシウム、トリエチルアミン、ジアザビシクロウンデセン等が挙げられる。
【００２９】
溶媒しては、特に限定されないが、水、エタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
【００３０】
また、一般式（１）で表される化合物は、A.F.Abdel-Magid et al., J. Org. Chem., Vol. 61, No. 11, 3849-3862 (1996)に記載されている方法や、E. R. Burkhardt et al., Tetrahedron. Lett., Vol. 49, No. 35, 5152-5155 (2008)に記載されている方法により合成することもできる。すなわち、アントラセンポリカルボアルデヒドと２級アミンを、還元剤の存在下、溶媒中で反応させることにより合成することができる。
【００３１】
【化６】
2015045692.tif 000008
アントラセンポリカルボアルデヒドとアミンを反応させる温度は、通常、−５０〜１００℃程度であり、室温〜５０℃程度であることが好ましい。
【００３２】
還元剤としては、特に限定されないが、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド、ギ酸、ボラン−テトラヒドロフラン錯体、ボラン−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン錯体、メチルスルフィドボラン、５−エチル−２−メチルピリジンボラン等が挙げられる。中でも、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド、５−エチル−２−メチルピリジンボランが好ましい。
【００３３】
溶媒としては、特に限定されないが、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロロエタン、ジクロロメタン、１，４−ジオキサン、トルエン、キシレン、アニソール等が挙げられる。
【００３４】
なお、アントラセンポリカルボアルデヒドとアミンを反応させる際に、反応速度を高くするために、酸を添加してもよい。
【００３５】
酸としては、特に限定されないが、酢酸、塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
【００３６】
Ｒ１及びＲ２におけるアルキル基としては、特に限定されないが、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ウンデカニル基等が挙げられる。
【００３７】
アルキル基の置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ピリジン、キノリン、チオフェン、フラン、オキサゾール、オキサジアゾール、カルバゾール等の芳香族複素環式化合物由来の１価の芳香族複素環基、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン等の脂肪族複素環式化合物由来の１価の脂肪族複素環基等が挙げられる。
【００３８】
Ｒ１及びＲ２におけるアラルキル基としては、特に限定されないが、ベンジル基、フェネチル基、クミル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。
【００３９】
アラルキル基の置換基としては、上記のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ピリジン、キノリン、チオフェン、フラン、オキサゾール、オキサジアゾール、カルバゾール等の芳香族複素環式化合物由来の１価の芳香族複素環基、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン等の脂肪族複素環式化合物由来の１価の脂肪族複素環基等が挙げられる。
【００４０】
Ｒ１及びＲ２における１価の脂肪族複素環基としては、特に限定されないが、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン等の脂肪族複素環式化合物由来の基が挙げられる。
【００４１】
１価の脂肪族複素環基の置換基としては、上記のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ベンゼン、ビフェニル、ナフタレン、アントラセン、フルオレン、ピレン、ピリジン、キノリン、チオフェン、フラン、オキサゾール、オキサジアゾール、カルバゾール等の芳香族化合物由来の１価の芳香族基等が挙げられる。
【００４２】
Ｒ１及びＲ２における１価の芳香族基としては、特に限定されないが、ベンゼン、ビフェニル、ナフタレン、アントラセン、フルオレン、ピリジン、キノリン、チオフェン、フラン、オキサゾール、オキサジアゾール、カルバゾール等の芳香族化合物由来の基が挙げられる。
【００４３】
１価の芳香族基の置換基としては、特に限定されないが、上記のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン等の脂肪族複素環式化合物由来の１価の脂肪族複素環基等が挙げられる。
【００４４】
Ｒ１及びＲ２が互いに結合して形成される複素環基としては、特に限定されないが、ピロリジノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、モルホリル基等が挙げられる。
【００４５】
一般式（１）で表される化合物としては、特に限定されないが、化合物（１−１）〜（１−５７）等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００４６】
【表１】
2015045692.tif 000009
【００４７】
【表２】
2015045692.tif 000010
【００４８】
【表３】
2015045692.tif 000011
【００４９】
【表４】
2015045692.tif 000012
【００５０】
【表５】
2015045692.tif 000013
【００５１】
【表６】
2015045692.tif 000014
なお、表中、Ｒ１とＲ２の間に仕切りが無い場合は、Ｒ１及びＲ２が互いに結合して環を形成していることを意味する。
【００５２】
保護層中の一般式（１）で表される化合物の含有量は、通常、０．１〜１０質量％であり、０．５〜５質量％であることが好ましい。保護層中の一般式（１）で表される化合物の含有量が０．１質量％未満であると、露光部の電位が上昇することがあり、１０質量％を超えると、感光体の耐久性が低下することがある。
【００５３】
［一般式（２）で表される化合物］
一般式（２）で表される化合物は、化学式
【００５４】
【化７】
2015045692.tif 000015
で表されるピペラジンと、一般式
【００５５】
【化８】
2015045692.tif 000016
（式中、Ｚは、ハロゲン原子である。）
で表されるハロゲン化合物を、有機金属触媒及び塩基の存在下、溶媒中で反応させることにより合成することができる。
【００５６】
ピペラジンとハロゲン化合物を反応させる温度は、通常、−５０〜２５０℃程度であり、室温〜１５０℃程度であることが好ましい。
【００５７】
溶媒としては、特に限定されないが、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロロエタン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、１，４−ジオキサン、トルエン、キシレン、アニソール等が挙げられる。
【００５８】
有機金属触媒としては、特に限定されないが、銅、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）等が挙げられる。
【００５９】
塩基としては、特に限定されないが、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等が挙げられる。
【００６０】
Ｒ１及びＲ２におけるアルキル基としては、特に限定されないが、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ウンデカニル基等が挙げられる。
【００６１】
アルキル基の置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ピリジン、キノリン、チオフェン、フラン、オキサゾール、オキサジアゾール、カルバゾール等の芳香族複素環式化合物由来の１価の芳香族複素環基、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン等の脂肪族複素環式化合物由来の１価の脂肪族複素環基等が挙げられる。
【００６２】
Ｒ１及びＲ２におけるアラルキル基としては、特に限定されないが、ベンジル基、フェネチル基、クミル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。
【００６３】
アラルキル基の置換基としては、上記のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子のハロゲン原子、ピリジン、キノリン、チオフェン、フラン、オキサゾール、オキサジアゾール、カルバゾール等の芳香族複素環式化合物由来の１価の芳香族複素環基、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン等の脂肪族複素環式化合物由来の１価の脂肪族複素環基等が挙げられる。
【００６４】
Ｒ１及びＲ２における１価の芳香族基としては、特に限定されないが、ベンゼン、ビフェニル、ナフタレン、アントラセン、フルオレン、ピリジン、キノリン、チオフェン、フラン、オキサゾール、オキサジアゾール、カルバゾール等の芳香族化合物由来の基が挙げられる。
【００６５】
１価の芳香族基の置換基としては、特に限定されないが、上記のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン等の脂肪族複素環式化合物由来の１価の脂肪族複素環基等が挙げられる。
【００６６】
Ｒ１及びＲ２が互いに結合して形成される複素環基としては、特に限定されないが、ピロリジノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、モルホリル基等が挙げられる。
【００６７】
Ａｒにおける２価の芳香族基としては、特に限定されないが、ベンゼン、ビフェニル、ナフタレン、アントラセン、フルオレン、ピリジン、キノリン、チオフェン、フラン、オキサゾール、オキサジアゾール、カルバゾール等の芳香族化合物由来の基が挙げられる。
【００６８】
２価の芳香族基の置換基としては、特に限定されないが、上記のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン等の脂肪族複素環式化合物由来の１価の脂肪族複素環基等が挙げられる。
【００６９】
Ｘにおける炭素数が１〜４のアルキレン基としては、特に限定されないが、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。
【００７０】
一般式（２）で表される化合物としては、特に限定されないが、化合物（２−１）〜（２−３２）等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００７１】
【表７】
2015045692.tif 000017
【００７２】
【表８】
2015045692.tif 000018
【００７３】
【表９】
2015045692.tif 000019
【００７４】
【表１０】
2015045692.tif 000020
【００７５】
【表１１】
2015045692.tif 000021
【００７６】
【表１２】
2015045692.tif 000022
【００７７】
【表１３】
2015045692.tif 000023
保護層中の一般式（２）で表される化合物の含有量は、通常、０．１〜１０質量％であり、０．５〜５質量％であることが好ましい。保護層中の一般式（１）で表される化合物の含有量が０．１質量％未満であると、露光部の電位が上昇することがあり、１０質量％を超えると、感光体の耐久性が低下することがある。
【００７８】
［一般式（３）で表される化合物］
Ｒ３及びＲ４における炭素数が１〜４のアルキル基としては、特に限定されないが、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
【００７９】
Ｙにおける炭素数が６〜１４のアリーレン基としては、特に限定されないが、ｏ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、１，４−ナフタレンジイル基、２，６−ナフタレンジイル基、９，１０−アントラセンジイル基、１，４−アントラセンジイル基、４，４'−ビフェニルジイル基、４，４'−スチルベンジイル基等が挙げられる。
【００８０】
一般式（３）で表される化合物としては、特に限定されないが、特開２０１２−０３２６３１号公報に記載されている化合物等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、化合物（３−１）〜（３−４）が好ましい。
【００８１】
【表１４】
2015045692.tif 000024
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物に対する一般式（３）で表される化合物の質量比は、通常、０．００５〜０．３であり、０．０２〜０．１であることが好ましい。電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物に対する一般式（３）で表される化合物の質量比が０．００５未満であると、露光部の電位が上昇することがあり、０．３を超えると、感光体の耐久性が低下することがある。
【００８２】
［一般式（４）で表される化合物］
Ａｒ１及びＡｒ２における炭素数が６〜１４のアリール基としては、特に限定されないが、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基等が挙げられる。
【００８３】
Ｙにおける炭素数が６〜１４のアリーレン基としては、特に限定されないが、ｏ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、１，４−ナフタレンジイル基、２，６−ナフタレンジイル基、９，１０−アントラセンジイル基、１，４−アントラセンジイル基、４，４'−ビフェニルジイル基、４，４'−スチルベンジイル基等が挙げられる。
【００８４】
一般式（４）で表される化合物としては、特に限定されないが、特開２０１２−０３２６３１号公報に記載されている化合物等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、化合物（４−１）〜（４−２）が好ましい。
【００８５】
【表１５】
2015045692.tif 000025
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物に対する一般式（４）で表される化合物の質量比は、通常、０．００５〜０．３であり、０．０２〜０．１であることが好ましい。電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物に対する一般式（４）で表される化合物の質量比が０．００５未満であると、露光部の電位が上昇することがあり、０．３を超えると、感光体の耐久性が低下することがある。
【００８６】
［電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物］
電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物とは、トリアリールアミン構造、ヒドラゾン構造、ピラゾリン構造、カルバゾール構造等の正孔輸送性構造又は縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基、ニトロ基等の電子吸引性基により置換されている芳香族環構造等の電子輸送性構造を有しておらず、ラジカル重合性基を３個以上有する化合物を意味する。
【００８７】
ラジカル重合性基は、炭素−炭素二重結合を有し、ラジカル重合することが可能な基であるが、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることが好ましい。
【００８８】
３個以上のアクリロイルオキシ基を有する化合物は、例えば、水酸基を３個以上有する化合物と、アクリル酸塩、アクリル酸ハライド又はアクリル酸エステルを、エステル反応又はエステル交換反応させることにより合成することができる。
【００８９】
３個以上のメタクリロイルオキシ基を有する化合物も同様にして合成することができる。
【００９０】
なお、電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物が有する３個以上のラジカル重合性基は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００９１】
電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物としては、特に限定されないが、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレンオキシ変性（ＥＯ変性）トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキシ変性（ＰＯ変性）トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、グリセロールトリアクリレート、ＥＣＨ変性グリセロールトリアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、２，２，５，５，−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレート等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００９２】
［電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物］
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物とは、トリアリールアミン構造、ヒドラゾン構造、ピラゾリン構造、カルバゾール構造等の正孔輸送性構造、又は、縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基、ニトロ基等の電子吸引性基を有する芳香族環構造等の電子輸送性構造を有し、ラジカル重合性基を有する化合物を意味する。
【００９３】
ラジカル重合性基は、炭素−炭素二重結合を有し、ラジカル重合することが可能な基であるが、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることが好ましく、アクリロイルオキシ基であることがさらに好ましい。
【００９４】
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物は、静電特性の点から、ラジカル重合性基を１個有する、即ち、単官能であることが好ましい。
【００９５】
電荷輸送性構造を有する単官能のラジカル重合性化合物は、トリアリールアミン構造を有することが好ましく、一般式
【００９６】
【化９】
2015045692.tif 000026
（式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン基、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基、置換基により置換されていてもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、一般式
−ＣＯＯＲ２
（式中、Ｒ２は、水素原子、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基又は置換基により置換されていてもよいアリール基である。）
で表される基、ハロカルボニル基、又は、一般式
−ＣＯＮＲ３Ｒ４
（式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基又は置換基により置換されていてもよいアリール基である。）
で表される基であり、Ａｒ１は、置換基により置換されていてもよい二価の芳香族基であり、Ａｒ２及びＡｒ３は、それぞれ独立に、置換基により置換されていてもよい一価の芳香族基であり、Ｘは、単結合又は一般式
−Ｙ−Ａｒ４−
（式中、Ｙは、単結合、置換基により置換されていてもよいアルキレン基、置換基により置換されていてもよいシクロアルキレン基、置換基により置換されていてもよいアルキレンオキシ基、オキシ基、チオ基又はビニレン基であり、Ａｒ４は、置換基により置換されていてもよい二価の芳香族基である。）
で表される基であり、Ｚは、置換基により置換されていてもよいアルキレン基、置換基により置換されていてもよいアルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基であり、ｎは、０〜３の整数である。）
で表される化合物がさらに好ましい。
【００９７】
Ｒ１におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。また、Ｒ１におけるアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基が挙げられる。さらに、Ｒ１におけるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。また、Ｒ１におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等が挙げられる。
【００９８】
Ｒ１における置換基としては、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
【００９９】
Ｒ１は、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
【０１００】
Ａｒ２及びＡｒ３における一価の芳香族基としては、一価の縮合多環式炭化水素基、一価の非縮合環式炭化水素基、一価の複素環基等が挙げられる。
【０１０１】
一価の縮合多環式炭化水素基としては、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、ａｓ−インダセニル基、ｓ−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基等が挙げられる。一価の縮合多環式炭化水素基は、環を構成する炭素数が１８個以下であることが好ましい。
【０１０２】
一価の非縮合環式炭化水素基としては、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテル、ジフェニルチオエーテル、ジフェニルスルホン等の単環式炭化水素化合物由来の基、ビフェニル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルアルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン、１，１−ジフェニルシクロアルカン、ポリフェニルアルカン、ポリフェニルアルケン等の非縮合多環式炭化水素化合物由来の基、９，９−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合物由来の基等が挙げられる。
【０１０３】
複素環基としては、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、チアジアゾール等の芳香族複素環式化合物由来の芳香族複素環基等が挙げられる。
【０１０４】
Ａｒ２及びＡｒ３における置換基を以下に示す。
【０１０５】
〔１〕ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
〔２〕アルキル基
アルキル基の炭素数は、通常、１〜１２であり、１〜８が好ましく、１〜４がさらに好ましい。アルキル基は、フルオロ基、水酸基、シアノ基、炭素数が１〜４のアルコキシ基、フェニル基、又は、ハロゲン基、炭素数が１〜４のアルキル基若しくは炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されているフェニル基により置換されていてもよい。
【０１０６】
アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−プロピル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１０７】
〔３〕アルコキシ基
アルコキシ基におけるアルキル基は、〔２〕におけるアルキル基と同様である。
【０１０８】
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１０９】
〔４〕アリールオキシ基
アリールオキシ基におけるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。アリールオキシ基は、炭素数が１〜４のアルコキシ基、炭素数が１〜４のアルキル基又はハロゲン基により置換されていてもよい。
【０１１０】
アリールオキシ基としては、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
【０１１１】
〔５〕アルキルメルカプト基又はアリールメルカプト基
アルキルメルカプト基としては、メチルチオ基、エチルチオ基等が挙げられる。また、アリールメルカプト基としては、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【０１１２】
〔６〕置換基により置換されていてもよいアミノ基
置換基により置換されていてもよいアミノ基は、一般式
−ＮＲ１Ｒ２
［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、〔２〕におけるアルキル基又はアリール基であり、Ｒ１及びＲ２は、共同で環を形成してもよい。］
で表される。
【０１１３】
Ｒ１及びＲ２におけるアリール基としては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基等が挙げられ、アリール基は、炭素数が１〜４のアルコキシ基、炭素数が１〜４のアルキル基又はハロゲン基により置換されていてもよい。
【０１１４】
置換基により置換されていてもよいアミノ基としては、アミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が挙げられる。
【０１１５】
〔７〕アルキレンジオキシ基又はアルキレンジチオ基
アルキレンジオキシ基としては、メチレンジオキシ基等が挙げられる。また、アルキレンジチオ基としては、メチレンジチオ基等が挙げられる。
【０１１６】
〔８〕その他
置換基により置換されていてもよいスチリル基、置換基により置換されていてもよいβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基等が挙げられる。
【０１１７】
Ａｒ１及びＡｒ４における２価の芳香族基としては、Ａｒ２及びＡｒ３における一価の芳香族基から誘導される基が挙げられる。
【０１１８】
Ｙにおけるアルキレン基の炭素数は、通常、１〜１２であり、１〜８が好ましく、１〜４がさらに好ましい。アルキレン基は、フルオロ基、水酸基、シアノ基、炭素数が１〜４のアルコキシ基、フェニル基、又は、ハロゲン基、炭素数が１〜４のアルキル基若しくは炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されているフェニル基により置換されていてもよい。
【０１１９】
アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、ｎ−ブチレン基、イソプロピレン基、ｔ−ブチレン基、ｓ−ブチレン基、ｎ−プロピレン基、トリフルオロメチレン基、２−ヒドロキエチレン基、２−エトキシエチレン基、２−シアノエチレン基、２−メトキシエチレン基、ベンジリデン基、フェニルエチレン基、４−クロロフェニルエチレン基、４−メチルフェニルエチレン基、４−ビフェニリルエチレン基等が挙げられる。
【０１２０】
Ｙにおけるシクロアルキレン基の炭素数は、通常、５〜７である。シクロアルキレン基は、フルオロ基、水酸基、炭素数が１〜４のアルキル基、又は、炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されていてもよい。
【０１２１】
シクロアルキレン基としては、シクロヘキシリデン基、シクロへキシレン基、３，３−ジメチルシクロヘキシリデン基等が挙げられる。
【０１２２】
Ｙにおけるアルキレンオキシ基としては、化学式
−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−
で表される基、化学式
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−
で表される基、一般式
−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎＯ−
（式中、ｎは１〜４の整数である。）
で表される基、化学式
−（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）ｍＯ−
（式中、ｍは１〜４の整数である。）
で表される基等が挙げられる。
【０１２３】
アルキレンオキシ基は、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基等の置換基により置換されていてもよい。
【０１２４】
Ｙにおけるビニレン基としては、一般式
−（Ｃ（Ｒ１）＝ＣＨ）ｎ−
（式中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基（前述の〔２〕におけるアルキル基と同様）、又は、２価の芳香族基（前述のＡｒ２及びＡｒ３における２価の芳香族基と同じ）であり、ｎは１又は２である。）
で表される基、一般式
−Ｃ（Ｒ２）＝ＣＨ−（ＣＨ＝ＣＨ）ｍ−
（式中、Ｒ２は、水素原子、アルキル基（前述の〔２〕におけるアルキル基と同様）、又は、２価の芳香族基（前述のＡｒ２及びＡｒ３における２価の芳香族基と同じ）であり、ｍは１〜３の整数である。）
で表される基等が挙げられる。
【０１２５】
Ｚにおけるアルキレン基は、Ｙにおけるアルキレン基と同様である。
【０１２６】
Ｚにおけるアルキレンオキシ基は、Ｙにおけるアルキレンオキシ基と同様である。
【０１２７】
Ｚにおけるアルキレンオキシカルボニル基としては、カプロラクトン変性基が挙げられる。
【０１２８】
電荷輸送性構造を有する単官能のラジカル重合性化合物は、一般式
【０１２９】
【化１０】
2015045692.tif 000027
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、置換基により置換されていてもよい炭素数が１〜６のアルキル基であり、Ｚは、単結合、メチレン基、エチレン基、化学式
−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−
で表される基、化学式
−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ−
で表される基、又は、化学式
【０１３０】
【化１１】
2015045692.tif 000028
で表される基であり、ｏ、ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１であり、ｓ及びｔは、それぞれ独立に、０〜３の整数である。）
で表される化合物であることが好ましい。
【０１３１】
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基であることが好ましい。
【０１３２】
電荷輸送機能を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物に対する電荷輸送機能を有するラジカル重合性化合物の質量比は、通常、０．５〜２．０であり、０．８〜１．４であることが好ましい。電荷輸送機能を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物に対する電荷輸送機能を有するラジカル重合性化合物の質量比が０．５未満であると、感光体の静電特性が低下することがあり、２．０を超えると、感光体の耐久性が低下することがある。
【０１３３】
組成物は、硬化反応を効率よく進行させるため、必要に応じて、重合開始剤をさらに含んでいてもよい。
【０１３４】
熱重合開始剤としては、特に限定されないが、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシベンゾイル）ヘキシン−３、ジ−ｔ−ブチルベルオキサイド、ｔ−ブチルヒドロベルオキサイド、クメンヒドロベルオキサイド、ラウロイルパーオキサイド等の過酸化物系開始剤、アゾビスイソブチルニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスイソブチルアミジン塩酸塩、４，４'−アゾビス−４−シアノ吉草酸等のアゾ系開始剤が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１３５】
光重合開始剤としては、特に限定されないが、ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルフォリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等のアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼン等のベンゾフェノン系光重合開始剤、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１３６】
上記以外の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物等が挙げられる。
【０１３７】
組成物は、光重合開始剤の代わりに、又は、光重合開始剤と共に、光重合促進効果を有する化合物をさらに含んでいてもよい。
【０１３８】
光重合促進効果を有する化合物としては、特に限定されないが、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、４，４'−ジメチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１３９】
ラジカル重合性基を有する化合物の総量に対する重合開始剤の質量比は、通常、０．００５〜０．４であり、０．０１〜０．２であることが好ましい。
【０１４０】
組成物は、無機粒子及び／又は有機粒子をさらに含むことが好ましく、無機粒子をさらに含むことがさらに好ましい。これにより、感光体の耐久性を向上させることができる。
【０１４１】
有機粒子を構成する材料としては、特に限定されないが、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１４２】
無機粒子を構成する材料としては、特に限定されないが、銅、スズ、アルミニウム、インジウム等の金属、酸化ケイ素、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス等の金属酸化物、チタン酸カリウム、アモルファスカーボン等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、静電特性の点から、金属酸化物が好ましく、酸化ケイ素（コロイダルシリカ）、酸化アルミニウム（コロイダルアルミナ）、酸化チタンがさらに好ましい。
【０１４３】
無機粒子及び／又は有機粒子の平均一次粒径は、通常、０．０１〜０．５μｍである。無機粒子及び／又は有機粒子の平均一次粒径が０．０１μｍ未満であると、感光体の耐久性が低下することがあり、０．５μｍを超えると、保護層の光の透過率が低下することがある。
【０１４４】
保護層中の無機粒子及び／又は有機粒子の含有量は、通常、５〜５０質量％であり、５〜３０質量％であることが好ましい。保護層中の無機粒子及び／又は有機粒子の含有量が５質量％未満であると、感光体の耐久性が低下することがあり、３０質量％を超えると、感光体の静電特性が低下したり、保護層の光の透過率が低下したりすることがある。
【０１４５】
無機粒子は、表面処理剤により表面処理されていてもよい。これにより、保護層中の無機粒子の分散性を向上させることができる。
【０１４６】
表面処理剤としては、特に限定されないが、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤、高級脂肪酸、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、シリコーン樹脂、ステアリン酸アルミニウム等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１４７】
無機粒子に対する表面処理剤の処理量は、通常、３〜３０質量％であり、５〜２０質量％であることが好ましい。無機粒子に対する表面処理剤の処理量が３質量％未満であると、保護層中の無機粒子の分散性が低下することがあり、３０質量％を超えると、感光体の静電特性が低下することがある。
【０１４８】
保護層が無機粒子を含む場合、保護層は、界面活性剤をさらに含んでいてもよい。
【０１４９】
無機粒子に対する界面活性剤の質量比は、通常、０．００５〜０．３であり、０．０１〜０．１５であることが好ましい。無機粒子に対する界面活性剤の質量比が０．００５未満であると、保護層中の無機粒子の分散性が低下することがあり、０．３を超えると、残留電位が上昇することがある。
【０１５０】
組成物は、可塑剤、レベリング剤、電荷輸送物質等をさらに含んでいてもよい。
【０１５１】
可塑剤としては、特に限定されないが、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等が挙げられる。
【０１５２】
保護層中の可塑剤の含有量は、通常、２０質量％以下であり、１０質量％以下であることが好ましい。
【０１５３】
レベリング剤としては、特に限定されないが、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー又はオリゴマー等が挙げられる。
【０１５４】
保護層中のレベリング剤の含有量は、通常、３質量％以下である。
【０１５５】
保護層は、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物と、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物と、一般式（１）で表される化合物又は一般式（２）で表される化合物と、一般式（３）で表される化合物又は一般式（４）で表される化合物が溶媒中に溶解又は分散している塗布液を塗布し、乾燥させた後、外部エネルギーを付与して硬化させることにより形成することができる。
【０１５６】
溶媒としては、特に限定されないが、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１５７】
塗布液を塗布する方法としては、特に限定されないが、浸漬塗布法、スプレーコート法、ビードコート法、リングコート法等が挙げられる。
【０１５８】
外部エネルギーとしては、特に限定されないが、紫外線、電子線等の活性エネルギー線、熱等が挙げられる。中でも、感光体の耐久性を向上させることができるため、活性エネルギー線が好ましい。
【０１５９】
窒素ガス、希ガス等の酸素濃度が低い雰囲気下で、冷却しながら、外部エネルギーを付与することが好ましい。これにより、感光体の耐久性を向上させることができる。
【０１６０】
窒素ガス、希ガス等の酸素濃度が低い雰囲気下で、塗布液を塗布し、乾燥させることも好ましい。
【０１６１】
活性エネルギー線を照射する際に用いる光源としては、特に限定されないが、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等の紫外線を照射する光源を用いることができるが、可視光を照射する光源を用いてもよい。
【０１６２】
活性エネルギー線を照射する際の塗膜の表面の温度は、通常、４０〜１７０℃である。
【０１６３】
なお、塗膜の表面の温度は、熱媒体を用いて制御することが好ましい。
【０１６４】
活性エネルギー線の照射光量は、通常、５０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２である。活性エネルギー線の照射光量が５０ｍＷ／ｃｍ２未満であると、組成物を硬化させる時間が長くなることがあり、１０００ｍＷ／ｃｍ２を超えると、感光体が変形したり、電気特性が劣化したりすることがある。
【０１６５】
保護層の厚さは、通常、１〜３０μｍであり、２〜２０μｍであることが好ましく、４〜１５μｍであることがさらに好ましい。保護層の厚さが１μｍ未満であると、感光体の耐久性が低下することがあり、３０μｍを超えると、残留電位が上昇することがある。
【０１６６】
感光層は、積層型であってもよいし、単層型であってもよい。
【０１６７】
積層型の感光層は、電荷発生層及び電荷輸送層が順次積層されている。
【０１６８】
電荷発生層は、電荷発生物質を含み、バインダー樹脂等をさらに含んでいてもよい。
【０１６９】
電荷発生物質としては、特に限定されないが、無機材料としては、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル化合物、セレン−テルル−ハロゲン化合物、セレン−ヒ素化合物、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系顔料、多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン系顔料、ナフトキノン系顔料、シアニン系顔料、アゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１７０】
バインダー樹脂としては、特に限定されないが、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリアクリルアミド等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１７１】
電荷発生層は、電荷輸送物質をさらに含んでいてもよい。
【０１７２】
このとき、電荷輸送物質は、高分子電荷輸送物質であってもよい。
【０１７３】
電荷発生層の形成方法としては、特に限定されないが、グロー放電重合法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、加速イオンインジェクション法等の真空薄膜作製法、浸漬塗布法、スプレーコート法、ビードコート法等のキャスティング法等が挙げられる。
【０１７４】
キャスティング法を用いて電荷発生層を形成する際には、電荷発生物質が溶媒中に溶解又は分散している塗布液を用いる。
【０１７５】
溶媒としては、特に限定されないが、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロプロパン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、塗膜の乾燥性の点で、沸点が４０〜８０℃のテトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、ジクロロメタン、メタノール、エタノールが好ましい。
【０１７６】
溶媒中に電荷発生物質を溶解又は分散させる方法としては、特に限定されないが、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、振動ミル等の分散メディアを用いる方法、高速液衝突分散方法等が挙げられる。
【０１７７】
電荷発生層の厚さは、通常、０．０１〜５μｍであり、０．０５〜２μｍであることが好ましい。電荷発生層の厚さが５μｍを超えると、感光体の光感度が低下することがある。
【０１７８】
電荷輸送層は、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を含む。
【０１７９】
電荷輸送物質としては、低分子正孔輸送物質、低分子電子輸送物質等の低分子電荷輸送物質を用いることができ、必要に応じて、高分子電荷輸送物質を用いてもよい。
【０１８０】
低分子正孔輸送物質としては、特に限定されないが、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリルアントラセン）、１，１−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チオフェン誘導体、等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１８１】
高分子電荷輸送物質としては、特に限定されないが、以下に示す化合物等が挙げられる。
【０１８２】
（ａ）カルバゾール構造を有する重合体
例えば、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、特開昭５０−８２０５６号公報、特開昭５４−９６３２号公報、特開昭５４−１１７３７号公報、特開平４−１７５３３７号公報、特開平４−１８３７１９号公報、特開平６−２３４８４１号公報に記載の化合物等が例示される。
【０１８３】
（ｂ）ヒドラゾン構造を有する重合体
例えば、特開昭５７−７８４０２号公報、特開昭６１−２０９５３号公報、特開昭６１−２９６３５８号公報、特開平１−１３４４５６号公報、特開平１−１７９１６４号公報、特開平３−１８０８５１号公報、特開平３−１８０８５２号公報、特開平３−５０５５５号公報、特開平５−３１０９０４号公報、特開平６−２３４８４０号公報に記載の化合物等が例示される。
【０１８４】
（ｃ）ポリシリレン重合体
例えば、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平１−８８４６１号公報、特開平４−２６４１３０号公報、特開平４−２６４１３１号公報、特開平４−２６４１３２号公報、特開平４−２６４１３３号公報、特開平４−２８９８６７号公報に記載の化合物等が例示される。
【０１８５】
（ｄ）トリアリールアミン構造を有する重合体
例えば、Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）−４−アミノポリスチレン、特開平１−１３４４５７号公報、特開平２−２８２２６４号公報、特開平２−３０４４５６号公報、特開平４−１３３０６５号公報、特開平４−１３３０６６号公報、特開平５−４０３５０号公報、特開平５−２０２１３５号公報に記載の化合物等が例示される。
される。
【０１８６】
（ｅ）その他の重合体
例えば、ニトロピレンのホルムアルデヒド縮重合体、特開昭５１−７３８８８号公報、特開昭５６−１５０７４９号公報、特開平６−２３４８３６号公報、特開平６−２３４８３７号公報に記載の化合物等が例示される。
【０１８７】
上記以外の高分子電荷輸送物質としては、トリアリールアミン構造を有するポリカーボネート、トリアリールアミン構造を有するポリウレタン、トリアリールアミン構造を有するポリエステル、トリアリールアミン構造を有するポリエーテル等が挙げられる。
【０１８８】
このような高分子電荷輸送物質としては、例えば、特開昭６４−１７２８号公報、特開昭６４−１３０６１号公報、特開昭６４−１９０４９号公報、特開平４−１１６２７号公報、特開平４−２２５０１４号公報、特開平４−２３０７６７号公報、特開平４−３２０４２０号公報、特開平５−２３２７２７号公報、特開平７−５６３７４号公報、特開平９−１２７７１３号公報、特開平９−２２２７４０号公報、特開平９−２６５１９７号公報、特開平９−２１１８７７号公報、特開平９−３０４９５６号公報等に記載の化合物等が例示される。
【０１８９】
電子輸送性構造を有する重合体としては、特に限定されないが、電子輸送性構造を有する単量体と、公知の単量体との共重合体、ブロック重合体、グラフト重合体、スターポリマー等が挙げられる。
【０１９０】
上記以外の電子輸送性構造を有する重合体としては、特開平３−１０９４０６号公報に記載の電子輸送性構造を有する架橋重合体等が挙げられる。
【０１９１】
低分子電子輸送物質としては、特に限定されないが、フルオレン系化合物、キノン系化合物等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１９２】
バインダー樹脂としては、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、フェノキシ樹脂等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１９３】
なお、電荷輸送層は、硬化性を有するバインダー樹脂と硬化性を有する電荷輸送物質を硬化させることにより形成してもよい。
【０１９４】
電荷輸送層は、電荷輸送物質及びバインダー樹脂が溶媒中に溶解又は分散している塗布液を塗布することにより形成することができる。
【０１９５】
電荷輸送層の厚さは、通常、５〜１００μｍであり、５〜３０μｍであることが好ましい。
【０１９６】
単層型の感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を含む。
【０１９７】
単層型感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質及びバインダー樹脂が溶媒中に溶解又は分散している塗布液を塗布した後、乾燥させることにより形成することができる。
【０１９８】
単層型感光層の厚さは、通常、５〜１００μｍであり、５〜５０μｍであることが好ましい。単層型感光層の厚さが５μｍ未満であると、感光体の帯電性が低下することがあり、１００μｍを超えると、感光体の感度が低下することがある。
【０１９９】
導電性支持体としては、体積固有抵抗が１×１０１０Ω・ｃｍ以下の導電性を示すものであれば、特に限定されないが、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ等の金属及びこれらの合金、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物が、蒸着又はスパッタリングにより、被覆されているフィルム状又は円筒状のプラスチック、紙；アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス鋼等の板又はこれらを押し出し、引き抜き等の工法により素管化した後、切削、超仕上げ、研摩等の処理がされている管等が挙げられる。
【０２００】
また、導電性支持体としては、特開昭５２−３６０１６号公報に開示されているエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトを用いてもよい。
【０２０１】
さらに、導電性支持体としては、厚さが５０〜１５０μｍのニッケル箔、表面にアルミニウムを蒸着することにより導電加工されている厚さが５０〜１５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いてもよい。
【０２０２】
また、上記の導電性支持体の表面に、導電性粉体が結着樹脂中に分散している導電性層を形成してもよい。
【０２０３】
導電性粉体としては、特に限定されないが、カーボンブラック、アセチレンブラック；アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀等の金属の粉体；導電性酸化スズ、ＩＴＯ等の金属酸化物の粉体等が挙げられる。
【０２０４】
結着樹脂としては、特に限定されないが、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等が挙げられる。
【０２０５】
導電性層は、導電性粉体及び結着樹脂が溶媒中に溶解又は分散している塗布液を塗布した後、乾燥させることにより形成することができる。
【０２０６】
溶媒としては、特に限定されないが、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエン等が挙げられる。
【０２０７】
導電性支持体としては、導電性粉体を含む熱収縮チューブにより導電性層が形成されている円筒基体を用いてもよい。
【０２０８】
円筒基体を構成する材料としては、特に限定されないが、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）等が挙げられる。
【０２０９】
導電性支持体と感光層の間の接着性の向上、モアレの防止、塗布性の改良、残留電位の低減を目的として、導電性支持体と感光層の間に、下引き層がさらに形成されていてもよい。
【０２１０】
下引き層は、バインダー樹脂を含む。
【０２１１】
バインダー樹脂としては、感光層を形成する際に塗布される塗布液に対する耐性を有していれば、特に限定されないが、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。
【０２１２】
下引き層は、粉末をさらに含んでいてもよい。
【０２１３】
粉末を構成する材料としては、特に限定されないが、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物、金属硫化物、金属窒化物等が挙げられる。
【０２１４】
下引き層は、バインダー樹脂が溶媒中に溶解又は分散している塗布液を塗布した後、乾燥させることにより形成することができる。
【０２１５】
上記以外の下引き層としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を用いて、ゾル−ゲル法により形成されている金属酸化物、陽極酸化により形成されている酸化アルミニウム、ポリパラキシリレン（パリレン）、真空薄膜作製法により形成されている酸化スズ（ＩＶ）、二酸化チタン、ＩＴＯ、酸化セリウム等が挙げられる。
【０２１６】
下引き層の厚さは、通常、０．１〜１０μｍであり、１〜５μｍであることが好ましい。
【０２１７】
保護層への感光層の成分の混入の抑制又は感光層と保護層の間の接着性の向上を目的として、感光層と保護層の間に、中間層がさらに形成されていてもよい。
【０２１８】
中間層は、バインダー樹脂を含む。
【０２１９】
バインダー樹脂としては、保護層を形成する際に塗布される塗布液に対する耐性を有していれば、特に限定されないが、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール等が挙げられる。
【０２２０】
中間層は、バインダー樹脂が溶媒中に溶解又は分散している塗布液を塗布した後、乾燥させることにより形成することができる。
【０２２１】
中間層の厚さは、通常、０．０５〜２μｍである。
【０２２２】
なお、感光層、電荷輸送層、電荷発生層、下引き層、中間層の各層は、可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤等をさらに含んでいてもよい。
【０２２３】
可塑剤としては、特に限定されないが、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０２２４】
レベリング剤としては、特に限定されないが、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類；側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー又はオリゴマー等が挙げられる。
【０２２５】
酸化防止剤としては、特に限定されないが、フェノール系化合物、パラフェニレンジアミン、ハイドロキノン、有機硫黄化合物、有機リン化合物類、ヒンダードアミン等が挙げられる。
【０２２６】
図１に、感光体の層構成の一例を示す。
【０２２７】
感光体１０Ａは、導電性支持体１上に、単層型感光層２及び保護層３が順次積層されている。
【０２２８】
なお、導電性支持体１と単層型感光層２の間に、下引き層がさらに形成されていてもよい。
【０２２９】
また、単層型感光層２と保護層３の間に、中間層がさらに形成されていてもよい。
【０２３０】
図２に、感光体の層構成の他の例を示す。
【０２３１】
感光体１０Ｂは、導電性支持体１上に、積層型感光層４及び保護層３が順次積層されている。このとき、積層型感光層４は、電荷発生層４ａ及び電荷輸送層４ｂが順次積層されている。
【０２３２】
なお、導電性支持体１と電荷発生層４ａの間に、下引き層がさらに形成されていてもよい。
【０２３３】
また、電荷輸送層４ｂと保護層３の間に、中間層がさらに形成されていてもよい。
【０２３４】
さらに、積層型感光層４は、電荷発生層４ａ及び電荷輸送層４ｂを積層する順序が逆であってもよい。
【０２３５】
図３に、画像形成装置の一例を示す。
【０２３６】
感光体１０は、回転することができ、感光体１０の周りには、帯電部材１１、現像部材１３、転写部材１５、クリーニング部材１６及び除電部材１７が配置されている。
【０２３７】
なお、クリーニング部材１６及び除電部材１７は、省略してもよい。
【０２３８】
画像形成装置の動作は、基本的に以下のようになる。帯電部材１１により、感光体１０の表面が、ほぼ均一に帯電する。次に、露光部材（不図示）により、入力信号に対応するレーザー光１２が照射され、静電潜像が形成される。さらに、現像部材１３により、静電潜像が現像され、感光体１０の表面にトナー像が形成される。次に、トナー像は、搬送ローラ１４により転写部位に搬送された転写紙Ｐに、転写部材１５により、転写される。トナー像は、定着装置（不図示）により転写紙Ｐ上に定着される。転写紙Ｐに転写されなかった一部のトナーは、クリーニング部材１６によりクリーニングされる。次に、感光体１０の表面に残留した電荷は、除電部材１７により除電され、次のサイクルに移行する。
【０２３９】
感光体１０は、ドラム状であるが、シート状又はエンドレスベルト状であってもよい。
【０２４０】
帯電部材１１、転写部材１５としては、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器（ソリッド・ステート・チャージャ）、ローラ状の帯電部材、ブラシ状の帯電部材等を用いることができる。
【０２４１】
露光部材、除電部材１７の光源としては、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等を用いることができる。中でも、半導体レーザー（ＬＤ）又は発光ダイオード（ＬＥＤ）が好ましい。
【０２４２】
なお、所望の波長域の光のみを照射するために、フィルターを用いてもよい。
【０２４３】
フィルターとしては、特に限定されないが、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルター等が挙げられる。
【０２４４】
また、光照射を併用する転写工程、クリーニング工程、前露光工程等を設けてもよい。
【０２４５】
このとき、除電部材１７を省略して、帯電工程やクリーニング工程において、逆バイアスを印加することにより、除電してもよい。
【０２４６】
感光体１０を正（負）に帯電させた後、レーザー光１２を照射すると、感光体１０の表面には、正（負）の静電潜像が形成される。正（負）の静電潜像を負（正）極性のトナーで現像すれば、ポジ画像が得られるし、正（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。
【０２４７】
クリーニング部材１６としては、クリーニングブレード、クリーニングブラシ等を用いることができ、クリーニングブレード及びクリーニングブラシが併用してもよい。
【０２４８】
図４は、画像形成装置の他の例として、タンデム方式のフルカラー電子写真装置を示す。
【０２４９】
感光体１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ及び１０Ｋは、ドラム状であり、感光体１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ、１０Ｋは、図中、矢印方向に回転する。感光体１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ、１０Ｋの周りに、回転順に、帯電部材１１Ｃ、１１Ｍ、１１Ｙ、１１Ｋ、現像部材１３Ｃ、１３Ｍ、１３Ｙ、１３Ｋ、クリーニング部材１６Ｃ、１６Ｍ、１６Ｙ、１６Ｋが配置されている。
【０２５０】
現像部材１３Ｃ、１３Ｍ、１３Ｙ、１３Ｋは、それぞれＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）のトナーで現像する。
【０２５１】
感光体１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ、１０Ｋを中心とする画像形成ユニット１９Ｃ、１９Ｍ、１９Ｙ、１９Ｋが、転写搬送ベルト１８に沿って並置されている。
【０２５２】
転写搬送ベルト１８は、現像部材１３Ｃ、１３Ｍ、１３Ｙ、１３Ｋと、クリーニング部材１６Ｃ、１６Ｍ、１６Ｙ、１６Ｋの間で、感光体１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ、１０Ｋに接触している。また、転写搬送ベルト１８の感光体１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ、１０Ｋが設置されていない側には、転写バイアスを印加する転写部材１５Ｃ、１５Ｍ、１５Ｙ、１５Ｋ）が配置されている。画像形成ユニット１９Ｃ、１９Ｍ、１９Ｙ、１９Ｋは、現像部材１３Ｃ、１３Ｍ、１３Ｙ、１３Ｋのトナーの色が異なる以外は、同様の構成となっている。
【０２５３】
画像形成動作は、以下のようにして行われる。
【０２５４】
まず、画像形成ユニット１９Ｃ、１９Ｍ、１９Ｙ、１９Ｋにおいて、感光体１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ、１０Ｋが、連れ周り方向に回転する帯電部材１１Ｃ、１１Ｍ、１１Ｙ、１１Ｋにより帯電される。次に、感光体１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ、１０Ｋの外側に配置されている露光部材から、１２Ｃ、１２Ｍ、１２Ｙ、１２Ｋが照射され、感光体１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ、１０Ｋに静電潜像が形成される。さらに、現像部材１３Ｃ、１３Ｍ、１３Ｙ、１３Ｋにより静電潜像が現像されてトナー像が形成される。感光体１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ、１０Ｋに形成された各色のトナー像は、転写搬送ベルト１８上で重ねられる。
【０２５５】
転写紙Ｐは、給紙コロ２１によりトレイ２０から送り出され、一対のレジストローラ２２で一旦停止した後、転写搬送ベルト１８上で重ねられたトナー像とタイミングを合わせて、転写部材２３に搬送される。転写搬送ベルト１８上に重ねられたトナー像は、転写部材２３に印加された転写バイアスと転写搬送ベルト１８の電位差から形成される電界により、転写紙Ｐに転写される。転写紙Ｐに転写されたトナー像は、搬送されて、定着部材２４により転写紙Ｐ上に定着されて、排紙部（不図示）に排紙される。また、転写搬送ベルト１８上に転写されずに感光体１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ、１０Ｋ上に残留したトナーは、クリーニング部材１６Ｃ、１６Ｍ、１６Ｙ、１６Ｋにより回収される。
【０２５６】
なお、転写搬送ベルト１８の代わりに、ドラム状の中間転写体を用いてもよい。
【０２５７】
また、画像形成ユニット１９Ｃ、１９Ｍ、１９Ｙ、１９Ｋを配置する順序は、特に限定されない。
【０２５８】
さらに、ブラックのみの原稿を作成する際に、画像形成ユニット１９Ｃ、１９Ｍ、１９Ｙが停止するような機構を設けてもよい。
【０２５９】
また、画像形成ユニット１９Ｃ、１９Ｍ、１９Ｙ、１９Ｋは、複写装置、ファクシミリ、プリンタ等の画像形成装置内に固定して組み込まれていてもよいし、プロセスカートリッジの形態で画像形成装置内に組み込まれていてもよい。
【０２６０】
図５に、プロセスカートリッジの一例を示す。
【０２６１】
プロセスカートリッジは、感光体１０を内蔵し、帯電部材１１、現像部材１３、転写部材１５及びクリーニング部材１６を有し、画像形成装置の本体に着脱可能である。
【実施例】
【０２６２】
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明は、実施例に限定されない。なお、部は、質量部を意味する。
【０２６３】
［化合物（１−３３）の合成］
化学式
【０２６４】
【化１２】
2015045692.tif 000029
で表される９、１０−ビス（クロロメチル）アントラセン５ｇ（１８．１７ｍｍｏｌ）、ジベンジルアミン１０．７ｇ（５４．５１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム６．５ｇ（４７．２４ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍＬを、アルゴン気流下、９０℃で８時間撹拌した。次に、エバポレータを用いて濃縮した後、水１５０ｍＬ及びトルエン２００ｍＬを注ぎ、分液した。さらに、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、濃縮し、粗生成物を得た。次に、トルエン／メタノール混合溶媒（体積比７／３）を用いて、粗生成物を晶析し、化学式
【０２６５】
【化１３】
2015045692.tif 000030
で表される化合物（１−３３）の黄色結晶５．８８ｇ（９．８５ｍｍｏｌ）を得た（収率５４．２％）。
【０２６６】
ＬＣ−ＭＳを用いて、化合物（１−３３）を分析したところ、分子イオン（［Ｍ］＋）ピーク（ｍ／ｚ＝５９６．９２）が観測された（図６参照）。また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ法）（図７参照）及び１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（図８参照）から、化合物（１−３３）を同定した。
【０２６７】
［化合物（１−３６）の合成］
９、１０−ビス（クロロメチル）アントラセン５ｇ（１８．１７ｍｍｏｌ）、エチルベンジルアミン７．３７ｇ（５４．５１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム６．５ｇ（４７．２４ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍＬを、アルゴン気流下、９０℃で７時間撹拌した。次に、エバポレータを用いて濃縮した後、水５０ｍＬ及びトルエン２００ｍＬを注ぎ、分液した。さらに、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、濃縮し、粗生成物を得た。次に、トルエン／メタノール混合溶媒（体積比７／３）を用いて、粗生成物を晶析し、化学式
【０２６８】
【化１４】
2015045692.tif 000031
で表される化合物（１−３６）の黄色結晶６．６１ｇ（１３．９８ｍｍｏｌ）を得た（収率７７．０％）。
【０２６９】
ＬＣ−ＭＳを用いて、化合物（１−３６）を分析したところ、分子イオン（［Ｍ］＋）ピーク（ｍ／ｚ＝４７２．８３）が観測された（図９参照）。また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ法）（図１０参照）及び１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（図１１参照）から、化合物（１−３６）を同定した。
【０２７０】
［化合物（１−５２）の合成］
９、１０−ビス（クロロメチル）アントラセン５ｇ（１８．１７ｍｍｏｌ）、ピペリジン４．６４ｇ（５４．５１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム６．５ｇ（４７．２４ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍＬを、アルゴン気流下、９０℃で３時間撹拌した。次に、エバポレータを用いて濃縮した後、水５０ｍＬ及びトルエン２００ｍＬを注ぎ、６０℃で分液した。さらに、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、濃縮し、粗生成物を得た。次に、トルエン／メタノール混合溶媒（体積比７／３）を用いて、粗生成物を晶析し、化学式
【０２７１】
【化１５】
2015045692.tif 000032
で表される化合物（１−５２）の黄色結晶５．２０ｇ（１３．９６ｍｍｏｌ）を得た（収率７６．８％）。
【０２７２】
ＬＣ−ＭＳを用いて、化合物（１−５２）を分析したところ、分子イオン（［Ｍ］＋）ピーク（ｍ／ｚ＝３７３．０８）が観測された（図１２参照）。また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ法）（図１３参照）及び１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（図１４参照）から、化合物（１−５２）を同定した。
【０２７３】
［化合物（２−２）の合成］
Ｎ−４−ブロモベンジル−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミン３．００ｇ（８．１９ｍｍｏｌ）、ピペラジン０．３２ｇ（３．７２ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔ−ブトキサイド１．０７ｇ（１１．１６ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）３８．０ｍｇ（０．０７４ｍｍｏｌ）及びトルエン２０ｍＬを、アルゴン気流下、３時間還流撹拌した後、室温まで冷却した。次に、沈殿物をろ過した後、ろ液を回収し、濃縮した。さらに、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル混合溶媒（体積比９／１）を用いて、精製した後、濃縮した。次に、トルエン／エタノール混合溶媒（体積比７／３）を用いて、再結晶し、化合物（２−２）の白色粉末１．７８ｇ（２．７１ｍｍｏｌ）を得た（収率７２．８％）。
【０２７４】
化合物（２−２）を質量分析（イオン化法：ＡＰＣＩ）したところ、分子イオン（［Ｍ＋Ｈ］＋）ピーク（ｍ／ｚ＝６５７．８）が観測された（図１５参照）。また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ法）（図１６参照）から、化合物（２−２）を同定した。
【０２７５】
［化合物（２−３）の合成］
Ｎ−４−ブロモベンジル−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミン３．００ｇ（８．１９ｍｍｏｌ）の代わりに、Ｎ−４−ブロモベンジル−Ｎ−ベンジル−Ｎ−エチルアミン２．４９ｇ（８．１９ｍｍｏｌ）を用いた以外は、化合物（２−２）と同様にして、化合物（２−３）の白色粉末１．７６ｇ（３．３０ｍｍｏｌ）を得た（収率８８．７％）。
【０２７６】
化合物（２−３）を質量分析（イオン化法：ＡＰＣＩ）したところ、分子イオン（［Ｍ＋Ｈ］＋）ピーク（ｍ／ｚ＝５３３．７）が観測された（図１７参照）。また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ法）（図１８参照）から、化合物（２−３）を同定した。
【０２７７】
［化合物（２−６）の合成］
Ｎ−４−ブロモベンジル−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミン３．００ｇ（８．１９ｍｍｏｌ）の代わりに、Ｎ−４−ブロモベンジル−Ｎ−エチル−トルイジン２．４９ｇ（８．１９ｍｍｏｌ）を用いた以外は、化合物（２−２）と同様にして、化合物（２−６）の白色粉末１．８３ｇ（３．４３ｍｍｏｌ）を得た（収率９２．２％）。
【０２７８】
化合物（２−６）を質量分析（イオン化法：ＡＰＣＩ）したところ、分子イオン（［Ｍ＋Ｈ］＋）ピーク（ｍ／ｚ＝５３３．８）が観測された（図１９参照）。また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ法）（図２０参照）から、化合物（２−６）を同定した。
【０２７９】
［下引き層用塗布液の調製］
アルキッド樹脂溶液のベッコライト  Ｍ６４０１−５０（大日本インキ化学工業社製）１２部、メラミン樹脂溶液のスーパーベッカミン  Ｇ−８２１−６０（大日本インキ化学工業社製）８部、酸化チタンＣＲ−ＥＬ（石原産業社製）４０部及びメチルエチルケトン２００部を混合し、下引き層用塗布液を得た。
【０２８０】
［電荷発生層用塗布液の調製］
Ｙ型チタニルフタロシアニン６部、ブチラール樹脂ＢＸ−１（積水化学工業社製）４部及び２−ブタノン（関東化学社製）２００部を混合し、電荷発生層用塗布液を得た。
【０２８１】
図１８に、Ｙ型チタニルフタロシアニンのＸ線回折スペクトルを示す。なお、Ｘ線回折スペクトルは、以下の条件で測定した。
【０２８２】
Ｘ線管球：Ｃｕ
電圧：５０ｋＶ
電流：３０ｍＡ
走査速度：２°／ｍｉｎ
走査範囲：３〜４０°
時定数：２ｓ
［電荷輸送層用塗布液の調製］
ビスフェーノルＺ型ポリカーボネートのパンライトＴＳ−２０５０（帝人化成社製）１０部、化学式
【０２８３】
【化１６】
2015045692.tif 000033
で表される低分子電荷輸送物質１０部、テトラヒドロフラン８０部及びシリコーンオイルＫＦ５０−１００ＣＳ（信越化学工業社製）０．１部を混合し、電荷輸送層用塗布液を得た。
【０２８４】
（実施例１−１）
［保護層用塗布液の調製］
電荷輸送性構造を有さない３官能のラジカル重合性化合物ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート）（日本化薬社製）１０部、化学式
【０２８５】
【化１７】
2015045692.tif 000034
で表される電荷輸送性構造を有する単官能のラジカル重合性化合物１０部、化合物（１−３３）０．０２部、化合物（３−２）０．５部、光重合開始剤イルガキュア１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）１部、平均一次粒径が０．３μｍのアルミナ粒子ＡＡ−０３（住友化学工業社製）２部、固形分が５０質量％の不飽和ポリカルボン酸ポリマー溶液ＢＹＫ−Ｐ１０４（ＢＹＫケミー社製）０．０８部及びテトラヒドロフラン１００部を混合し、保護層用塗布液を得た。
【０２８６】
肉厚１．５ｍｍ、長さ３８０ｍｍ、外径１００ｍｍのアルミニウムドラムに、下引き層用塗布液、電荷発生層用塗布液及び電荷輸送層用塗布液を、順次浸漬塗布した後、乾燥させ、厚さが３．５μｍの下引き層、厚さが０．２μｍの電荷発生層及び厚さが２５μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２８７】
次に、保護層用塗布液をスプレー塗布した。このとき、スプレーガンとして、ＰＣ−ＷＩＤＥ３０８（オリンポス社製）を用い、霧化圧力２．１ｋｇｆ／ｃｍ２で、スプレーガンのノズル先端と、下引き層用、電荷発生層及び電荷輸送層が順次積層されているアルミニウムドラムの間の距離が５０ｍｍとなる位置から、保護層用塗布液を塗布した。なお、吐出量は約３ｃｃであった。さらに、酸素の濃度が２％以下となるように窒素ガスで置換したＵＶ照射ブース内で、出力が１６０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプを用いて、以下の条件で紫外線を照射した後、１３０℃で２０分間乾燥させ、厚さが３．５μｍの保護層を形成し、感光体を得た。
【０２８８】
照射距離：１２０ｍｍ
照射強度：７００ｍＷ／ｃｍ２
照射時間：１２０ｓ
（実施例１−２）
化合物（１−３３）の添加量を０．１部に変更した以外は、実施例１−１と同様にして、感光体を得た。
【０２８９】
（実施例１−３）
化合物（１−３３）の添加量を０．４部に変更した以外は、実施例１−１と同様にして、感光体を得た。
【０２９０】
（実施例１−４）
化合物（１−３３）の添加量を１．６部に変更した以外は、実施例１−１と同様にして、感光体を得た。
【０２９１】
（実施例１−５）
化合物（１−３３）の添加量を３．０部に変更した以外は、実施例１−１と同様にして、感光体を得た。
【０２９２】
（実施例１−６）
化合物（３−２）の添加量を０．０３部に変更した以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０２９３】
（実施例１−７）
化合物（３−２）の添加量を０．１部に変更した以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０２９４】
（実施例１−８）
化合物（３−２）の添加量を０．８部に変更した以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０２９５】
（実施例１−９）
化合物（３−２）の添加量を２．５部に変更した以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０２９６】
（実施例１−１０）
化合物（３−２）の添加量を３．５部に変更した以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０２９７】
（実施例１−１１）
化合物（１−３３）の代わりに、化合物（１−３６）を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０２９８】
（実施例１−１２）
化合物（１−３３）の代わりに、化合物（１−５２）を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０２９９】
（実施例１−１３）
化合物（３−２）の代わりに、化合物（３−１）を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３００】
（実施例１−１４）
化合物（３−２）の代わりに、化合物（３−３）を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３０１】
（実施例１−１５）
化合物（３−２）の代わりに、化合物（３−４）を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３０２】
（実施例１−１６）
化合物（３−２）の代わりに、化合物（４−１）を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３０３】
（実施例１−１７）
化合物（３−２）の代わりに、化合物（４−２）を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３０４】
（実施例１−１８）
アルミナ粒子ＡＡ−０３（住友化学工業社製）及び不飽和ポリカルボン酸ポリマーＢＹＫ−Ｐ１０４（ＢＹＫケミー社製）を添加しなかった以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３０５】
（実施例１−１９）
アルミナ粒子ＡＡ−０３（住友化学工業社製）の代わりに、フッ素樹脂粒子ＭＰＥ−０５６（三井・デュポンフロロケミカル社製）を用い、不飽和ポリカルボン酸ポリマーＢＹＫ−Ｐ１０４（ＢＹＫケミー社製）０．０４部の代わりに、分散助剤モディパーＦ２１０（日本油脂社製）０．２部を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３０６】
（実施例１−２０）
電荷輸送性構造を有さない３官能のラジカル重合性化合物及び電荷輸送性構造を有する単官能のラジカル重合性化合物の添加量を、それぞれ６部及び１４部に変更した以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３０７】
（実施例１−２１）
電荷輸送性構造を有さない３官能のラジカル重合性化合物及び電荷輸送性構造を有する単官能のラジカル重合性化合物の添加量を、それぞれ１４部及び６部に変更した以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３０８】
（実施例２−１〜２−１０）
化合物（１−３３）の代わりに、化合物（２−２）を用いた以外は、実施例１−１〜１−１０と同様にして、感光体を得た。
【０３０９】
（実施例２−１１）
化合物（１−３３）の代わりに、化合物（２−３）を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３１０】
（実施例２−１２）
化合物（１−３３）の代わりに、化合物（２−６）を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３１１】
（実施例２−１３〜２−２１）
化合物（１−３３）の代わりに、化合物（２−２）を用いた以外は、実施例１−１３〜１−２１と同様にして、感光体を得た。
【０３１２】
（比較例１）
化合物（１−３３）を添加しなかった以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３１３】
（比較例２）
化合物（３−２）を添加しなかった以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３１４】
（比較例３）
化合物（３−２）の代わりに、化学式
【０３１５】
【化１８】
2015045692.tif 000035
で表される化合物を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３１６】
（比較例４）
化合物（３−２）の代わりに、化学式
【０３１７】
【化１９】
2015045692.tif 000036
で表される化合物を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３１８】
（比較例５）
化合物（１−３３）の代わりに、化学式
【０３１９】
【化２０】
2015045692.tif 000037
で表される化合物を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３２０】
（比較例６）
化合物（１−３３）の代わりに、化学式
【０３２１】
【化２１】
2015045692.tif 000038
で表される化合物を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３２２】
（比較例７）
化合物（１−３３）の代わりに、化学式
【０３２３】
【化２２】
2015045692.tif 000039
で表される化合物を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３２４】
（比較例８）
化合物（１−３３）の代わりに、化学式
【０３２５】
【化２３】
2015045692.tif 000040
で表される化合物を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３２６】
（比較例９）
化合物（１−３３）の代わりに、化学式
【０３２７】
【化２４】
2015045692.tif 000041
で表される化合物を用いた以外は、実施例１−３と同様にして、感光体を得た。
【０３２８】
次に、感光体の露光部の電位上昇、濃度ムラ及び耐久性を評価した。
【０３２９】
［露光部の電位上昇］
常温常湿環境下で、フルカラープリンタ  ＲＩＣＯＨ  Ｐｒｏ  Ｃ９０１（リコー社製）の改造機のブラックステーションに感光体を搭載し、ブラック単色の画像面積率が５％のＡ４サイズのハーフトーンテストチャートを２０万枚連続出力した後、ベタ画像を５枚連続出力した。このとき、５枚連続出力した時の１枚目と５枚目の露光部、即ち、ベタ画像部の電位を測定し、露光部の電位上昇量を算出した。なお、露光部の電位上昇量が５Ｖ未満である場合を◎、５Ｖ以上１５Ｖ未満である場合を○、１５Ｖ以上である場合を×として、判定した。
【０３３０】
［濃度ムラ］
１５℃、２０％ＲＨ環境下で、フルカラープリンタ  ＲＩＣＯＨ  Ｐｒｏ  Ｃ９０１（リコー社製）の改造機（事前に２００時間以上放電させた帯電器を搭載）のブラックステーションに感光体を搭載し、ブラック単色のテストチャートを２万枚連続出力した後、電源を切り、２４時間放置した。次に、電源を入れ、１２００ｄｐｉ  ２ｂｙ２のブラック単色の全面ハーフトーン画像を出力し、帯電器の幅に相当する濃度ムラの有無を評価した。なお、濃度ムラが発生しない場合を◎、僅かに濃度ムラが発生するが、実用上許容できる場合を○、濃度ムラが顕著に発生し、許容できない場合を×として、判定した。
【０３３１】
［耐久性］
常温常湿環境下で、フルカラープリンタ  ＲＩＣＯＨ  Ｐｒｏ  Ｃ９０１（リコー社製）の改造機のブラックステーションに感光体を搭載し、ブラック単色のテストチャートを２０万枚連続出力し、その前後の感光体の厚さから、保護層の摩耗量を算出した。なお、保護層の摩耗量が２．０μｍ未満である場合を◎、２．０μｍ以上４．０μｍ未満である場合を○、４．０μｍ以上である場合を×として、判定した。
【０３３２】
表１６〜１８に、感光体の露光部の電位上昇、濃度ムラ及び耐久性の評価結果を示す。
【０３３３】
【表１６】
2015045692.tif 000042
【０３３４】
【表１７】
2015045692.tif 000043
【０３３５】
【表１８】
2015045692.tif 000044
表１６〜１８から、実施例１−１〜１−２１、２−１〜２−２１の感光体は、耐久性に優れ、露光部の電位上昇及び濃度ムラの発生を抑制できることがわかる。
【０３３６】
これに対して、比較例１の感光体は、一般式（１）又は（２）で表される化合物を含まないため、露光部の電位上昇が発生する。
【０３３７】
比較例２の感光体は、一般式（３）又は（４）で表される化合物を含まないため、濃度ムラが発生する。
【０３３８】
比較例３、４の感光体は、一般式（３）又は（４）で表される化合物を含まず、化学式（Ａ）又は（Ｂ）で表される化合物を含むため、露光部の電位上昇及び濃度ムラが発生する。
【０３３９】
比較例５〜９の感光体は、一般式（１）又は（２）で表される化合物を含まず、化学式（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）又は（Ｇ）で表される化合物を含むため、露光部の電位上昇が発生する。
【符号の説明】
【０３４０】
１    導電性支持体
２    単層型感光層
３    保護層
４    積層型感光層
４ａ    電荷発生層
４ｂ    電荷輸送層
１０    感光体
【先行技術文献】
【特許文献】
【０３４１】
【特許文献１】特開２０１２−３２６３１号公報
【図１】
2015045692.tif 000049
【図２】
2015045692.tif 000050
【図３】
2015045692.tif 000051
【図４】
2015045692.tif 000052
【図５】
2015045692.tif 000053
【図６】
2015045692.tif 000054
【図７】
2015045692.tif 000055
【図８】
2015045692.tif 000056
【図９】
2015045692.tif 000057
【図１０】
2015045692.tif 000058
【図１１】
2015045692.tif 000059
【図１２】
2015045692.tif 000060
【図１３】
2015045692.tif 000061
【図１４】
2015045692.tif 000062
【図１５】
2015045692.tif 000063
【図１６】
2015045692.tif 000064
【図１７】
2015045692.tif 000065
【図１８】
2015045692.tif 000066
【図１９】
2015045692.tif 000067
【図２０】
2015045692.tif 000068
【図２１】
2015045692.tif 000069