(57)【要約】【課題】液晶組成物中の溶媒によるアクリル基材への浸透を抑制して、その配向性等の低下を防止することができる位相差フィルム及びその製造方法を提供する。【解決手段】アクリル樹脂からなる基材１１と、光配向材料を含む配向膜組成物の硬化物であるパターン配向層１２と、液晶化合物を含む位相差層１３とを有する位相差フィルム１において、配向膜組成物中に、偏光露光しても液晶化合物の配向に寄与しないアクリルモノマーを、その光配向材料１００質量部に対して２．０質量部以上８．０質量部以下の割合で含有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクリル樹脂からなる基材と、光配向材料を含む配向膜組成物の硬化物からなるパターン配向層と、液晶化合物を含む位相差層とを有する位相差フィルムであって、
前記配向膜組成物中に、偏光露光しても前記液晶化合物の配向に寄与しないアクリルモノマーを、前記光配向材料１００質量部に対して２．０質量部以上８．０質量部以下で含有する位相差フィルム。
【請求項２】
光軸測定したときの、位相差値の標準偏差（σ）で定義される光軸の面内バラツキが、１．５未満である請求項１に記載の位相差フィルム。
【請求項３】
アクリル樹脂からなる基材と、光配向材料を含む配向膜組成物の硬化物であるパターン配向層と、液晶化合物を含む位相差層とを有する位相差フィルムの製造方法であって、
前記配向膜組成物として、偏光露光しても前記液晶化合物の配向に寄与しないアクリルモノマーを、前記光配向材料１００質量部に対して２．０質量部以上８．０質量部以下で含有した組成物を用い、前記基材上に該配向膜組成物を塗工して硬化させる位相差フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクリル基材と、配向膜組成物の硬化物であるパターン配向層と、液晶化合物を含む位相差層とを有する位相差フィルム及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイが提供されている。ここで、フラットパネルディスプレイにおいて３次元表示をするには、通常、何らかの方式で右目用の画像と、左目用の画像とを、それぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することが必要である。右目用の画像と左目用の画像とを選択的に提供する方法としては、例えば、パッシブ方式が知られている。このパッシブ方式の３次元表示方式について図を参照しながら説明する。図５は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の３次元表示の一例を示す概略図である。この図５の例では、液晶表示パネルの垂直方向に連続する画素を、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分け、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。なお、これにより液晶表示パネルの画面は、例えば短辺が垂直方向で長辺が水平方向である帯状の領域により、右目用の画像を表示する領域と左目用の画像を表示する領域とに交互に区分される。
【０００３】
さらにパッシブ方式では、液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換する。このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける領域の設定に対応して、遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）が直交する２種類の帯状領域が順次交互に形成される。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。なお、ここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、＋４５°と−４５°、又は０°と＋９０°の組み合わせが採用される。なおこの図５の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。
【０００４】
このパッシブ方式は、応答速度の遅い液晶表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で３次元表示することができる。
【０００５】
このパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。このパターン位相差フィルムに関して、特許文献１には、配向規制力を制御した光配向膜をガラス基板上に形成し、この光配向膜により液晶の配列をパターニングして位相差層を作成する方法が開示されている。また特許文献２には、全面を露光処理した後、マスクを使用して露光処理することにより光配向膜を作製し、この光配向膜の配向規制力により液晶層を配向させて硬化させることにより、パターン位相差フィルムを作製する方法が開示されている。
【０００６】
ところで、パターン位相差フィルム（以下「位相差フィルム」という。）の製造過程において、基材上に配向膜（パターン配向層）を形成した後に、そのパターン配向層上に液晶組成物を塗工して位相差層を形成するに際し、その液晶組成物の塗工時に、液晶組成物中の溶媒成分が基材にまで浸透して、その基材をアタックし、基材を白濁化させることがあった。特に、基材としてアクリル樹脂かなる基材（以下「アクリル基材」ともいう。）を用いた場合には、耐溶剤性が乏しいために溶剤に対するアタックが顕著となり、このようにして白濁が生じると、その位相差フィルムの配向性や位相差性を著しく低下させるという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−０４９８６５号公報
【特許文献２】特開２０１２−０４２５３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上述したような状況に鑑みてなされたものであり、液晶組成物中の溶媒によるアクリル基材への浸透を抑制して、その配向性の低下を防止することができる位相差フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上述した課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、所定の低分子量樹脂を所定割合で配合させた配向膜組成物によりパターン配向層を構成することで、位相差層を構成する液晶組成物中の溶媒の浸透を抑制して、その位相差フィルムの配向性の低下を防止することができることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明では、以下のようなものを提供する。
【００１０】
（１）本発明は、アクリル樹脂からなる基材と、光配向材料を含む配向膜組成物の硬化物からなるパターン配向層と、液晶化合物を含む位相差層とを有する位相差フィルムであって、前記配向膜組成物中に、偏光露光しても前記液晶化合物の配向に寄与しないアクリルモノマーを、前記光配向材料１００質量部に対して２．０質量部以上８．０質量部以下で含有する位相差フィルムである。
【００１１】
（２）また本発明は、上述した（１）の発明において、光軸測定したときの、位相差値の標準偏差（σ）で定義される光軸の面内バラツキが、１．５未満である位相差フィルムである。
【００１２】
（３）また本発明は、アクリル樹脂からなる基材と、光配向材料を含む配向膜組成物の硬化物であるパターン配向層と、液晶化合物を含む位相差層とを有する位相差フィルムの製造方法であって、前記配向膜組成物として、偏光露光しても前記液晶化合物の配向に寄与しないアクリルモノマーを、前記光配向材料１００質量部に対して２．０質量部以上８．０質量部以下で含有した組成物を用い、前記基材上に該配向膜組成物を塗工して硬化させる位相差フィルムの製造方法である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、液晶組成物中の溶媒によるアクリル基材への浸透を抑制して、位相差フィルムの配向性の低下を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】位相差フィルムの一例を示す概略図である。
【図２】パターン配向膜の一例を示す概略図である。
【図３】位相差フィルムの製造工程の一例を示す概略図である。
【図４】光配向方式によって配向パターンを形成する手法を模式的に示した図である。
【図５】パッシブ方式による三次元画像表示の説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明に係る位相差フィルム及びその製造方法の具体的な実施形態（以下、「本実施の形態」という。）について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変更が可能である。
【００１６】
＜１．位相差フィルムの構成＞
図１は、本実施の形態に係る位相差フィルム１の一例を示す図である。位相差フィルム１は、基材１１と、配向パターンを有するパターン配向層１２と、液晶化合物を含む位相差層１３とを有するものである。そして、この位相差フィルム１においては、パターン配向層１２に、偏光露光しても液晶化合物の配向に寄与しないアクリルモノマーを所定の割合で含有することを特徴としている。
【００１７】
［基材］
基材１１は、透明フィルム材であり、パターン配向層１２を支持する機能を有し、長尺に形成されている。
【００１８】
基材１１は、位相差が小さいことが好ましく、面内位相差（面内レターデーション値、以下「Ｒｅ値」ともいう。）が、０ｎｍ以上１０ｎｍ以下の範囲内であることが好ましく、０ｎｍ以上５ｎｍ以下の範囲内であることがより好ましく、０ｎｍ以上３ｎｍ以下の範囲内であることがさらに好ましい。Ｒｅ値が１０ｎｍを超えると、パターン配向膜を用いたフラットパネルディスプレイの表示品質が悪くなる可能性がある点で好ましくない。
【００１９】
ここで、Ｒｅ値とは、屈折率異方体の面内方向における複屈折性の程度を示す指標をいい、面内方向において屈折率が最も大きい遅相軸方向の屈折率をＮｘ、遅相軸方向に直交する進相軸方向の屈折率をＮｙ、屈折率異方体の面内方向に垂直な方向の厚さをｄとした場合に、
Ｒｅ［ｎｍ］＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ［ｎｍ］
で表わされる値である。Ｒｅ値は、例えば位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器社製）を用い、平行ニコル回転法により測定することができる。また、本明細書においては、特に別段の記載をしない限り、Ｒｅ値は波長５８９ｎｍにおける値を意味するものとする。
【００２０】
基材１１の可視光領域における透過率は、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明フィルム基材の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００２１】
基材１１は、ロール状に巻き取ることができる可撓性を有するフレキシブル基材であることが好ましく、本実施の形態においてはＰＭＭＡなどのアクリル系ポリマー（アクリル樹脂）からなるアクリル基材を用いる。ＰＭＭＡなどのアクリル樹脂からなるアクリル基材は、その屈折率が１．４０から１．６０程度であり、基材厚さ方向に屈折率差がなく、寸法収縮率の対湿度依存性が低い材料であるので、例えばＴＡＣ（トリアセチルセルロース）に比べてフィルム厚さを薄くでき、３Ｄパネルの視野角拡大に貢献できる。
【００２２】
アクリル基材等により構成される基材１１の厚さとしては、２５μｍ以上１２５μｍ以下の範囲内であることが好ましく、４０μｍ以上１００μｍ以下の範囲内であることがより好ましく、４０μｍ以上８０μｍ以下の範囲内であることがさらに好ましい。基材１１の厚さが２５μｍ未満であると、位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できない場合があり、好ましくない。基材１１の厚さが１２５μｍを超えると、位相差フィルムが長尺状である場合、長尺状の位相差フィルムを裁断加工し、枚葉の位相差フィルムとする際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があり、好ましくない。基材１１は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。
【００２３】
ここで、上述したアクリル樹脂からなるアクリル基材では、有機溶剤等に対する耐溶剤性が乏しいという性質を有している。そのため、位相差フィルムにおいて、位相差層を構成する液晶組成物の塗工時に、その液晶組成物中の溶媒成分である有機溶剤が基材に浸透してアクリル基材をアタックし、そのアクリル基材を溶解することによって白濁化させ、位相差フィルムの配向性を低下させることがある。
【００２４】
ところが、本実施の形態に係る位相差フィルム１においては、詳しくは後述するが、基材１１上に形成するパターン配向層１２を、所定のアクリルモノマーを所定割合で含有した配向膜組成物を用いて形成させるようにしている。このアクリルモノマーは、偏光露光しても位相差層の液晶の配向性に寄与しないものであって、親水性変性されていないものである。本実施の形態においては、このようなアクリルモノマーを所定の割合で含有する硬化物をパターン配向層１２として形成させることで、その硬化物がいわゆるバリア層となって、液晶組成物の塗工時における液晶組成物中の溶剤の浸透を抑制して、その溶剤による基材１１へのアタックを防ぐことができる。これにより、位相差フィルム１の白濁化を防ぎ、配向性の低下を防ぐことができる。
【００２５】
なお、例えばＴＡＣ等からなる基材であっても、液晶組成物中の溶剤の種類によっては耐溶剤性が低いものもある。したがって、ＴＡＣ等の基材を用いた場合でも、同様にしてアクリルモノマーを所定量含有させた配向膜組成物を用いることで、位相差フィルムの配向性の低下を抑制することが可能である。
【００２６】
以下では、基材１１を「アクリル基材１１」として説明を続ける。
【００２７】
［パターン配向層］
図２は、パターン配向膜２の概略図である。パターン配向膜２は、アクリル基材１１上にパターン配向層用組成物（配向膜組成物）を塗工（塗膜）して硬化させて得られた硬化物からなり、このパターン配向膜２によりパターン配向層１２が形成される。
【００２８】
パターン配向膜２は、２種類の配向パターン（第１配向領域１２Ａ，第２配向領域１２Ｂ）を交互に有する。このパターン配向膜２における配向パターンは、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を用い光照射によって配向させる光配向方式により形成することができ、パターン配向層１２となる。なお、紫外線硬化樹脂をアクリル基材１１に塗布し、その紫外線硬化樹脂の表面に対して微細な凹凸形状からなる配向パターンが付された賦型用金型を用いて配向パターンを転写し、その後、紫外線硬化樹脂を硬化させる賦型ＵＶ方式によって形成することもできる。
【００２９】
光配向方式によってパターン配向層１２を形成する場合、パターン配向層１２は、パターン配向層用組成物（配向膜組成物）を含有し、この配向膜組成物は、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を含む。
【００３０】
（光配向材料）
ここで、光配向材料とは、偏光紫外線の照射により配向規制力を発現できる材料をいう。配向規制力とは、光配向材料を含む配向層を形成し、この配向層上に重合性液晶化合物（「棒状化合物」ともいう。）からなる層（位相差層１３）を形成したとき、その液晶化合物を所定の方向に配列させる機能をいう。
【００３１】
光配向材料としては、偏光を照射することにより配向規制力を発現するものであれば特に限定されるものではない。このような光配向材料は、シス−トランス変化によって分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。位相差フィルム１においては、上述した光異性化材料及び光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、光反応材料を用いることがより好ましい。光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能になり、配向規制力の経時安定性において優れる。
【００３２】
また、光反応材料は、光二量化反応が生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応が生じることによって配向規制力を発現する光分解型材料、光結合反応が生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、及び光分解反応と光結合反応とが生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。位相差フィルム１においては、上述した光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、光二量化型材料を用いることがより好ましい。
【００３３】
光二量化型材料としては、光二量化反応を生じることにより配向規制力を発現できる材料であれば特に限定されないが、配向規制力が良好である点から、光二量化反応を生じる光の波長が２８０ｎｍ以上であることが好ましく、２８０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲内であることがより好ましく、３００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の範囲内であることがさらに好ましい。
【００３４】
このような光二量化型材料としては、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、又はシンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマーが挙げられる。その中でも、配向規制力が良好である点で、シンナメート、クマリンの一方又は両方を有するポリマーが好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例としては、例えば特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報及びＷＯ２０１０／１５０７４８号公報に記載された化合物を挙げることができる。
【００３５】
なお、本実施の形態において用いられる光配向材料は、１種類のみであってもよく、２種類以上を用いてもよい。
【００３６】
（低分子量樹脂）
さて、本実施の形態に係る位相差フィルム１においては、配向膜組成物として、所定の低分子量樹脂を所定の割合で配合させた組成物を用い、その配向膜組成物をアクリル基材１１に塗工して硬化させて得られた硬化物からなるパターン配向層１２を形成してなることを特徴としている。位相差フィルム１においては、このように低分子量樹脂を配合した配向膜組成物をアクリル基材１１に塗工して硬化させてパターン配向層１２を形成することで、その硬化物がいわゆるバリア層として作用し、パターン配向層１２上への液晶組成物の塗工時において、液晶組成物中の溶媒がアクリル基材１１の方向に浸透することを抑制することができる。これにより、その溶媒によるアクリル基材１１へのアタックを効果的に防止して、アクリル基材１１の白濁化を防ぐことができ、位相差フィルム１の配向性や位相差性の低下を防止することができる。
【００３７】
また、このようにしてパターン配向層１２を形成することによって、そのパターン配向層１２そのものの、液晶組成物中の溶剤等に対する耐溶剤性を高めることができ、配向性を向上させることができる。
【００３８】
具体的に、本実施の形態に係る位相差フィルム１では、光軸測定によって、微小領域における光軸の面内バラツキ（光軸に垂直な面内のバラツキ）が、複数サンプルの位相差（Ｒｅ値）の標準偏差（σ）で１．５未満である、良好な配向性を示す位相差フィルム１となる。なお、光軸のバラツキは、Ｒｅ値の標準偏差で定義することができる。
【００３９】
ここで、低分子量樹脂とは、ポリマーやオリゴマー等の高分子量樹脂を除くモノマーであることを意味するものである。具体的に、この低分子量樹脂は、アクリルモノマーであり、偏光露光しても位相差層１３の液晶化合物の配向性に寄与しない、すなわち光二量化しないアクリルモノマーである。さらに、このアクリルモノマーは、エチレンオキサイド（ＥＯ）変性等の親水性変性されていないアクリルモノマーであることが好ましい。
【００４０】
このようなアクリルモノマーとしては、アクリル基材１１に塗工した配向膜組成物に対する硬化処理により硬化させることができ、液晶組成物中の溶剤の浸透を抑制できるものであれば特に限定されないが、例えば多官能アクリルモノマーを用いることが好ましい。
【００４１】
多官能アクリルモノマーとしては、特に限定されないが、例えば、ペンエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート等を挙げることができる。これらは１種単独でも、２種以上を混合させて用いてもよい。
【００４２】
また、このアクリルモノマーの添加量は、配向膜組成物中の固形分である上述の光配向材料１００質量部に対して２．０質量部以上８．０質量部以下の割合とする。また、光配向材料１００質量部に対して３．０質量部以上７．０質量部以下の割合で含有させることが好ましく、５．０質量部程度で含有させることがより好ましい。添加量が２．０質量部未満であると、液晶組成物中の溶剤のアクリル基材１１側への浸透を十分に抑制することができなくなり、配向性の著しい低下をもたらす。また、添加量が８．０質量部を超える場合においても、その配向性の影響を与えて著しい低下をもたらす。
【００４３】
（溶媒）
配向膜組成物中に用いる溶媒は、光配向材料や上述した低分子量樹脂を所望の濃度に溶解できるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール（以下「ＩＰＡ」という。）等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、溶媒は、１種類であってもよいし、２種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。
【００４４】
また、溶媒の量は、例えば光配向材料１００質量部に対して６００質量部以上３９００質量部以下であることが好ましい。６００質量部未満であると、光配向材料を均一に溶かすことができない可能性があり好ましくない。溶媒の量が３９００質量部を超えると、その溶媒の一部が残存し、アクリル基材１１上に配向膜組成物を塗工したときに残存した溶媒がアクリル基材１１に含浸して、光配向性とアクリル基材１１に対する密着性の両方が低下してしまい好ましくない。
【００４５】
［位相差層］
位相差層１３は、重合性液晶組成物を含有する。この重合性液晶組成物は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する液晶化合物（棒状化合物）を含有する。
【００４６】
（液晶化合物）
液晶化合物は、屈折率異方性を有し、配向パターンに沿って規則的に配列することにより、所望の位相差性を付与する機能を有する。液晶化合物として、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相を示す液晶化合物を用いることがより好ましい。
【００４７】
ネマチック相を示す液晶化合物としては、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶化合物は、柔軟性に優れるため、このような液晶化合物を用いることによって位相差フィルム１を透明性に優れたものにすることができる。
【００４８】
液晶化合物は、上述したように分子内に重合性官能基を有する。重合性官能基を有することにより、液晶化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくくなる。また、液晶化合物は、分子内に三次元架橋可能な重合性官能基を有することがより好ましい。三次元架橋可能な重合性官能基を有することにより、配列安定性をより一層に高めることができる。なお、「三次元架橋」とは、液晶性分子を互いに三次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることをいう。
【００４９】
重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、あるいは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、あるいはカチオン重合性官能基等が挙げられる。ラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも１つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有する若しくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。その中でも、プロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。
【００５０】
さらにまた、液晶化合物は、末端に重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような液晶化合物を用いることにより、例えば、互いに三次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた位相差フィルム１を形成することができる。
【００５１】
液晶化合物の量としては、パターン配向層１２上に塗布する塗布方法に応じて、位相差層形成用塗工液（液晶組成物）の粘度を所望の値にできるものであれば特に限定されないが、液晶組成物中の量として５質量部以上４０質量部以下の範囲内であることが好ましく、１０質量部以上３０質量部以下の範囲内であることがより好ましい。５質量部未満であると、液晶化合物が少なすぎるために、位相差層１３への入射光を適切に配向できない可能性があり好ましくない。一方で、３０質量部を超えると、位相差層形成用塗工液の粘度が高くなりすぎるため、作業性が劣るため好ましくない。
【００５２】
また、液晶化合物は、１種類のみを用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。例えば、液晶化合物として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶化合物と片末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶化合物とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）及び光学特性を任意に調整できる。また、信頼性確保の観点からは両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶化合物を用いることが好ましいが、液晶配向の観点からは両末端の重合性官能基が１つで液晶化合物を用いることが好ましい。
【００５３】
（溶媒）
上述した液晶化合物は、通常、溶媒に溶かされている。溶媒としては、液晶化合物を均一に分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール（以下「ＩＰＡ」という。）等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、溶媒は、１種類であってもよいし、２種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。
【００５４】
ここで、基材１１としてのアクリル基材は、上述した溶媒（溶剤）のほぼすべてに対して耐性がなく、それら溶媒によってアタックされやすく、結果として配向性に不具合が生じやすい。中でも、メチルエチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル等を用いた場合には、その傾向が顕著となる。ところが、本実施の形態に係る位相差フィルム１によれば、上述したように、パターン配向層に所定量のアクリルモノマーを含有させるようにしているため、液相組成物中のこれら溶媒の浸透を抑制することができ、アクリル基材１１に対するアタックを防止して、良好な配向性を発揮させることができる。
【００５５】
溶媒の量は、液晶化合物１００質量部に対して６６質量部以上９００質量部以下であることが好ましい。溶媒の量が６６質量部未満であると、液晶化合物を均一に溶かすことができない可能性があり好ましくない。一方で、９００質量部を超えると、溶媒の一部が残存し、信頼性が低下する可能性、及び均一に塗工できない可能性があり好ましくない。
【００５６】
（他の化合物）
また、液晶組成物は、必要に応じて他の化合物を含むものであってもよい。他の化合物としては、上述した液晶化合物の配列秩序を害するものでなければ特に限定されるものではなく、例えば、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤及びシランカップリング剤等を挙げることができる。
【００５７】
（位相差層の厚さ）
位相差層１３の厚さとしては、特に限定されるものでないが、適切な配向性能を得るためには、５００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００５８】
＜２．位相差フィルムの製造方法＞
次に、位相差フィルム１の製造方法について説明する。なお、以下では、光配向方式によって位相差フィルム１を形成する場合の製造方法について説明するが、位相差フィルム１は賦型ＵＶ方式によって形成されたものであってもよい。
【００５９】
図３は、位相差フィルム１の製造工程の流れを模式的に示す図である。先ず、（Ａ）ロール３１に巻き取った長尺フィルムからアクリル基材１１を提供し、このアクリル基材１１上にパターン配向層用組成物（配向膜組成物）３２を塗工する配向膜組成物塗工処理を行う。続いて、（Ｂ）その配向膜組成物を乾燥機３３で熱硬化させて薄膜状のパターン配向層形成用層１２’を形成するパターン配向層形成用層形成処理を行う。続いて、（Ｃ）パターン配向層形成用層１２’に対して紫外線照射装置３４，３５から紫外線を照射する紫外線照射処理を行う。これら（Ａ）〜（Ｃ）の処理によってパターン配向層１２が形成される。
【００６０】
続いて、（Ｄ）位相差層形成用の重合性液晶組成物を含有する位相差層形成用塗工液の供給装置３６から位相差層形成用塗工液１３’を塗工し、位相差層形成用層を形成する位相差層形成用塗工液塗工処理を行う。その後、（Ｅ）レベリング装置３７を用いて、位相差層形成用層の層厚を均一にするレベリング処理を行う。その後、（Ｆ）乾燥機３８を用いて位相差層形成用塗工液１３’の塗膜に含まれる液晶化合物を液晶相形成温度以上に加温することで、上述したパターン配向層１２が有する、右目用の領域に対応する第１配向領域１２Ａと、左目用の領域に対応する第２配向領域１２Ｂとの異なる配向方向に沿って、液晶化合物を配列させる配向処理を行う。この配向処理によって位相差層形成用層が位相差層１３となる。
【００６１】
その後、（Ｇ）冷却機３９を用いて、アクリル基材１１／パターン配向層１２／位相差層１３からなる積層体を冷却する冷却処理を行い、（Ｈ）紫外線照射装置４０を用いて、重合性液晶化合物に紫外線を照射する。そして、（Ｉ）フィルムを巻き取りリール４１に巻き取った後、所望の大きさに切り出す切断処理を行う。以上のような工程を経て位相差フィルム１が作製される。
【００６２】
［（Ａ）配向膜組成物塗工処理］
先ず、ロール３１に巻き取った長尺フィルムからアクリル基材１１を提供し、このアクリル基材１１上にパターン配向層用組成物３２を塗工する配向膜組成物塗工処理を行う。
【００６３】
〔基材の提供〕
アクリル基材１１の提供にあたっては、長尺フィルムを連続的に搬送できるものであれば、特に限定されるものではなく、一般的な搬送手段を用いる方法を用いることができる。具体的には、ロール状の長尺フィルムを供給する巻き出し機及び長尺フィルムを巻き取る巻き取り機等を用いる方法、ベルトコンベア、搬送用ロール等を用いる方法を挙げることができる。また、エアの吐出と吸引とを行うことにより、長尺配向膜形成用フィルムを浮上させた状態で搬送する浮上式搬送台を用いる方法であってもよい。また、搬送時においては、所定のテンションを加えた状態で搬送することが好ましく、これにより、より安定的に連続搬送することができる。
【００６４】
搬送手段の色としては、長尺フィルムに紫外線が照射される部位に配置される場合には、長尺フィルムを透過した紫外線を反射しない色であることが好ましい。具体的には、黒色であることが好ましい。このような黒色とする方法としては、例えば、表面をクロム処理する方法を挙げることができる。
【００６５】
ロール３１の形状としては、安定的に長尺フィルムを搬送することができるものであれば特に限定されるものではないが、長尺フィルムに紫外線が照射される部位に配置される場合には、長尺フィルムの表面と、紫外線照射装置との距離を一定に保つことができるものであることが好ましく、通常、真円形状であることが好ましい。
【００６６】
ここで、アクリル基材１１に対しては、ロール３１から引き出して、順次、防眩処理（ＡＧ処理）や反射防止処理（ＡＲ処理）等を施すことで、アクリル基材１１の表面に防眩層や反射防止層を形成することができる。
【００６７】
〔配向膜組成物３２の塗工〕
配向膜組成物３２を塗工するにあたり、塗工方法としては、ダイコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法等を用いることができる。これら塗工方法により配向膜組成物３２をアクリル基材１１に塗工することで、パターン配向層形成用層１２’を形成する。
【００６８】
ここで、本実施の形態においては、アクリル基材１１の裏面側に塗工する配向膜組成物３２として、偏光露光しても液晶化合物の配向に寄与しない、すなわち光二量化しないアクリルモノマーを、その配向膜組成物中の光配向材料１００質量部に対して２．０質量部以上８．０質量部以下の割合で含有する組成物を用いる。このような配向膜組成物３２をアクリル基材１１に塗工し、後述するように硬化させてパターン配向層１２を形成することで、位相差層１３を構成する液晶組成物の塗工時において、その液晶組成物中の溶剤がパターン配向層１２を介してアクリル基材１１にまで浸透することを抑制し、その溶剤によるアクリル基材１１に対するアタックを防止することができる。これにより、アクリル基材１１の溶解による白濁化を防ぎ、位相差フィルム１の配向性の低下を防止することができる。
【００６９】
パターン配向層形成用層１２’の厚さとしては、所望の平面性を達成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲内であることが好ましく、０．１μｍ以上５μｍ以下の範囲内であることがより好ましく、０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲内であることがさらに好ましい。
【００７０】
［（Ｂ）パターン配向層形成用層形成処理］
パターン配向層形成用層形成処理では、乾燥機３３を用いてアクリル基材１１に塗工した配向膜組成物３２を熱硬化させる。この処理では、配向膜組成物３２が塗工されたアクリル基材１１を乾燥機３３に導き、その配向膜組成物３２を熱硬化させた後、半乾きの状態で次の工程に送出する。
【００７１】
配向膜組成物３２の硬化温度としては、１００℃以上１３０℃以下であることが好ましい。硬化温度が１００℃未満であると、配向膜組成物３２を均一に熱硬化できず、薄膜が不均一になる可能性があるため好ましくない。一方で、硬化温度が１３０℃を超えると、アクリル基材１１や薄膜が収縮する可能性があるため好ましくない。
【００７２】
また、配向膜組成物３２の硬化時間としては、１分以上１０分未満であることが好ましい。硬化時間が１分未満であると、熱硬化できず、薄膜が不均一になる可能性があるため好ましくない。一方で、硬化時間が１０分以上であると、ハジキや欠点が発生する可能性や、アクリル基材１１や薄膜が収縮する可能性があるため好ましくない。
【００７３】
［（Ｃ）紫外線照射処理］
続いて、パターン配向層形成用層１２’に対して紫外線を照射する紫外線照射処理を行う。この紫外線照射処理では、先ず、図４の（Ａ）に示すように、右目用の領域に対応する第１配向準備領域１２’Ａを遮光せず、左目用の領域に対応する第２配向準備領域１２’Ｂだけを遮光したマスク２１を介して、直線偏光による紫外線（偏光紫外線）をパターン配向層形成用層１２’に向けて照射することにより、遮光されていない第１配向準備領域１２’Ａを所望の方向に配向させる。次に、図４の（Ｂ）に示すように、第１配向準備領域１２’Ａだけを遮光し、第２配向準備領域１２’Ｂを遮光しないマスク２２を介して、１回目の照射とは偏光方向が９０°異なる直線偏光により紫外線をパターン配向層形成用層１２’に向けて照射し、遮光されていない第２配向準備領域１２’Ｂを所望の方向に配向させる。これら２回の紫外線照射により、２種類の配向パターンが形成される。
【００７４】
図４の例では、まず第１配向準備領域１２’Ａに偏光紫外線を照射し、その後、第２配向準備領域１２’Ｂに偏光紫外線を照射しているが、この順番に限るものではなく、まず第２配向準備領域１２’Ｂに偏光紫外線を照射し、その後、第１配向準備領域１２’Ａに偏光紫外線を照射してもよい。また、図４では、１回目の照射及び２回目の照射の両方でマスク２１，２２を用いているが、１回目の照射だけでマスク２１を用い、２回目の照射ではマスク２２を用いない手法により行ってもよい。
【００７５】
マスクのパターン、すなわちパターン照射のパターンは、右目用の領域に対応する第１配向領域１２Ａ（図２参照）と、左目用の領域に対応する第２配向領域１２Ｂ（図２参照）とを安定的に形成できるものであれば特に限定されるものではない。例えば、帯状パターン、モザイク状パターン、千鳥配置状パターン等のパターン形状とすることができる。その中でも、帯状のパターンであることが好ましく、特に、長尺フィルムの長手方向に互いに平行な帯状のパターンであること、すなわちパターン照射が長尺フィルムの長手方向に互いに平行な帯状のパターンに偏光紫外線を照射するものであることが好ましい。
【００７６】
また、マスクのパターン幅、すなわち、偏光紫外線の照射幅及び照射間隔（非照射幅）としては、同一であってもよく、あるいは異なっていてもよいが、右目用の領域に対応する領域の幅と左目用の領域に対応する領域との幅は同一であることが好ましい。また、カラーフィルタのストライプラインと位置を合わせる場合は、右目用の領域に対応する領域及び左目用の領域に対応する領域が形成されたパターンと、そのカラーフィルタのストライプパターンとが対応関係となるような幅で照射されることが好ましい。
【００７７】
例えば、三次元表示用途の場合には、そのパターン幅は、５０μｍ以上１０００μｍ以下の範囲内であることが好ましく、１００μｍ以上８００μｍ以下の範囲内であることがより好ましい。なお、ここでいうパターン幅は、アクリル基材１１が安定収縮状態である場合の、パターン配向層１２のパターン幅を指す。
【００７８】
マスクを構成する材料としては、所望の開口部を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、紫外線による劣化がほとんどない金属や石英等を挙げることができる。具体的には、ＳＵＳ等の金属基板をエッチング加工、レーザー加工、又は電鋳加工によりパターンニングし、さらに必要に応じてニッケルメッキ等の表面処理を施したものを用いることができる。また、ソーダライムガラスや石英からなる基板上に、エマルジョン（銀塩）や、クロムからなる遮光膜を有するものとすることができる。
【００７９】
その中でも、合成石英にＣｒをパターニングしたものであることが好ましい。温度変化、湿度変化等に対する寸法安定性と紫外線透過率に優れ、パターン配向層用組成物の硬化物からなるパターン配向層形成用層１２’に精度良く紫外線を照射でき、結果として精度の高いパターン配向層１２を形成することができる。
【００８０】
合成石英マスクの厚さとしては、寸法精度良くパターンを形成できるものであれば特に限定されるものではないが、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下の範囲内であることが好ましく、５ｍｍ以上１８ｍｍ以下の範囲内であることがより好ましく、９ｍｍ以上１６ｍｍ以下の範囲内であることがさらに好ましい。厚さが上述の範囲内であることにより、撓まないものとすることができ、寸法精度の高いものとすることができる。また、フォトマスクとしてのハンドリング性の点からも好ましい。
【００８１】
偏光紫外線の偏光方向は、右目用の領域に対応する領域に対する偏光方向と、左目用の領域に対応する領域に対する偏光方向とが異なるものであれば特に限定されるものではないが、両者の間で９０°異なるものであることが好ましい。第１位相差領域１３Ａと第２位相差領域１３Ｂとの間で屈折率が最も大きくなる方向（遅相軸方向）を互いに直交する関係とすることができ、三次元表示が可能な表示装置をより好適に製造できる。
【００８２】
９０°異なる方向とは、長尺状の位相差フィルム１を切り出した位相差フィルムを用いて三次元表示が可能な表示装置を形成した際に、精度良く三次元表示を行うことができるものであれば特に限定されるものではない。通常、９０°±３°の範囲内であることが好ましく、９０°±２°程度の範囲内であることがより好ましく、９０°±１°程度の範囲内であることがさらに好ましい。
【００８３】
偏光紫外線は、集光されていてもよいし、集光されていないものであってもよいが、パターン照射が搬送用ロール上の長尺フィルムに対して行われるような場合、すなわち、偏光紫外線が照射される領域内で、偏光紫外線の光源からの距離の差が生じる場合には、搬送方向に対して集光されていることが好ましい。これにより、光源からの距離による影響を低減し、パターン精度良く配向領域を形成することができる。
【００８４】
偏光紫外線の波長は、光配向材料等に応じて適宜設定されるものであり、一般的な光配向材料に配向規制力を発現させる際に用いられる波長とすることができ、具体的には、波長が２１０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下、好ましくは２３０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下、さらに好ましくは２５０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の照射光を用いることが好ましい。
【００８５】
偏光紫外線の生成方法としては、偏光紫外線を安定的に照射できる方法であれば特に限定されるものではないが、一定方向の偏光のみが通過できる偏光子を介して紫外線照射する方法を用いることができる。このような偏光子としては、偏光光の生成に一般的に用いられるものを使用することができ、例えば、スリット状の開口部を有するワイヤーグリッド型偏光子や、石英板を複数枚積層してブリュースター角を利用して偏光分離する方法や、屈折率の異なる蒸着多層膜のブリュースター角を利用して偏光分離する方法を用いるもの等を挙げることができる。
【００８６】
偏光紫外線の照射量（積算光量）としては、所望の配向規制力を有する配向領域を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、波長３１０ｎｍである場合には、５ｍＪ／ｃｍ２以上５００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内であることが好ましく、７ｍＪ／ｃｍ２以上３００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内であることがより好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２以上１００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内であることがさらに好ましい。このような照射量とすることで、十分な配向規制力を有する配向領域を形成することができる。
【００８７】
薄膜に対して偏光紫外線を照射する際、薄膜の温度が一定となるように温度調節することが好ましい。配向領域を精度良く形成することができるからである。薄膜の温度は、１５℃以上９０℃以下であることが好ましく、１５℃以上６０℃以下であることがより好ましい。温度調節の方法としては、一般的な加熱・冷却装置等の温度調節装置を用いる方法を挙げることができる。
【００８８】
［（Ｄ）位相差層形成用塗工液塗工処理］
次に、位相差層形成用塗工液塗工処理では、形成したパターン配向層１２上に、位相差層形成用塗工液の供給装置３６から位相差層形成用塗工液を塗工する。塗工方法としては、パターン配向層１２上に位相差層形成用塗工液からなる塗膜を安定的に塗布できる方法であれば特に限定されるものではなく、（Ａ）配向膜組成物塗工処理で説明したものと同じものを例示できる。
【００８９】
位相差層１３は、液晶化合物が含有されることにより、位相差性を発現するものになっているところ、その位相差性の程度は、液晶化合物の種類及び当該位相差層１３の厚さに依存して決定される。したがって、位相差層形成用層の厚さとしては、所定の位相差性を達成できる範囲内であれば特に限定されるものではなく、位相差フィルム１の用途等に応じて適宜決定することができる。
【００９０】
［（Ｅ）レベリング処理］
続いて、レベリング装置３７を用いて、位相差層形成用層の層厚を均一にするレベリング処理を行う。位相差層形成用層は、その後に形成される位相差層１３の面内位相差がλ／４分に相当するような範囲内の厚さとなるように、位相差層形成用塗工液を塗布することが好ましい。これにより、第１位相差領域１３Ａ及び第２位相差領域１３Ｂを通過する直線偏光を、互いに直交関係にある円偏光にすることができ、結果として、より精度良く三次元映像を表示することができる。
【００９１】
位相差層１３の面内位相差がλ／４分に相当するような範囲内の距離にする場合、具体的にどの程度の距離にするかは、液晶化合物の種類により適宜決定される。一般的な液晶化合物を用いる場合、当該距離は０．５μｍ以上２μｍ以下の範囲内となるが、これに限られるものではない。
【００９２】
［（Ｆ）配向処理］
続いて、位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる液晶化合物を、パターン配向層１２に含まれる第１配向領域１２Ａ及び第２配向領域１２Ｂの異なる配向方向に沿って、液晶化合物を配列させる。液晶化合物を配列させる方法としては、所望の方向に配列させることができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、乾燥機３８を用いて液晶化合物を液晶相形成温度以上に加温する方法等が挙げられる。
【００９３】
この配向処理によって形成される位相差層１３のパターンは、パターン配向層１２のパターンと同一となり、右目用の領域に対応する第１配向領域１２Ａ上には、右目用の領域に対応する第１位相差領域１３Ａが形成され、左目用の領域に対応する第２配向領域１２Ｂ上には、左目用の領域に対応する第２位相差領域１３Ｂが形成される。
【００９４】
［（Ｇ）冷却処理］
その後、冷却機３９を用いて、アクリル基材１１／パターン配向層１２／位相差層１３からなる積層体を冷却する冷却処理を行う。この冷却処理は、例えば積層体が室温になる程度まで行えばよい。
【００９５】
［（Ｈ）硬化処理］
続いて、重合性液晶化合物を重合し硬化させる硬化処理を行う。重合性液晶化合物を重合させる方法としては、重合性液晶化合物が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよいが、適量の重合開始剤を加えて活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。その活性放射線としては、重合性液晶化合物を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光又は可視光を使用することが好ましく、具体的には、パターン配向層１２を形成する際に用いた紫外線と同様とすることができる。このような硬化処理を行うことで、液晶化合物が互いに重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができ、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた位相差層１３を形成できる。
【００９６】
［（Ｉ）位相差フィルム１の作製］
続いて、フィルムを巻き取りリール４１に巻き取る。その後、フィルムを所望の大きさに切り出す。以上のような工程を経て、位相差フィルム１が作製される。
【実施例】
【００９７】
以下、実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００９８】
≪位相差フィルム≫
［実施例１］
（配向膜組成物の調製）
ポリビニルシンナメート（ＰＶＣｉ）基を有する光配向材料１００質量部と、ＰＥＴＡ（ペンタエリスリトールトリアクリレート、商品名：ＰＥＴ−３０，日本化薬（株）製）５．０質量部とを、酢酸イソブチルを含む混合溶媒に溶解させて、固形分比率５％となる配向膜組成物を調製した。
【００９９】
（位相差フィルムの製造）
基材として、表面に防眩処理が施されたアクリルフィルムを用い、その裏面側に、硬化後の膜厚が２００ｎｍとなるように、調製した光配向膜組成物をダイコート法により塗布した。そして、１００℃で調整した乾燥機内で２分間乾燥させ、溶媒を蒸発させるとともに組成物を熱硬化させて光配向膜を形成した。
【０１００】
続いて、この光配向膜に対して、積算光量が４０ｍＪ／ｃｍ２の偏光紫外線を原反の搬送方向と平行な方向に約５００μｍ間隔のパターン状に照射して、厚さ２００ｎｍのパターン配向層を形成した。なお、偏光紫外線は、偏光軸がフィルムの搬送方向に対して±４５度の角度を持ったものとした。
【０１０１】
次に、形成したパターン配向層上に、光重合性ネマチック液晶の液晶組成物（固形分３０％、溶剤としてＭＩＢＫを使用）をダイコート法により塗布して乾燥させ、その後、紫外線照射により重合させて厚さ１μｍの位相差層を形成し、位相差フィルムを得た。
【０１０２】
［実施例２］
新中村化学工業（株）製のＰＥＴＡ（ペンタエリスリトールトリアクリレート、商品名：Ａ−ＴＭＭ−３）を配合させた光配向膜組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
【０１０３】
［実施例３］
光配向材料１００質量部に対して、ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）（商品名：Ａ−ＤＰＨ，新中村化学工業（株）製）を５．０質量部の割合で配合させた光配向膜組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
【０１０４】
［実施例４］
光配向材料１００質量部に対して、ＰＥＴＡを３．０質量部の割合で配合させた光配向膜組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
【０１０５】
［実施例５］
光配向材料１００質量部に対して、ＰＥＴＡを７．０質量部の割合で配合させた光配向膜組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
【０１０６】
［比較例１］
光配向材料１００質量部に対して、アクリルポリマー（商品名：バナレジン ＧＨ−１２０３，新中村化学工業（株）製）を５．０質量部の割合で配合させた光配向膜組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
【０１０７】
［比較例２］
光配向材料１００質量部に対して、エチレンオキサイドを導入した（ＥＯによる親水性変性した）ＰＥＴＡ（商品名：ＡＴＭ−３５Ｅ，新中村化学工業（株）製）を５．０質量部の割合で配合させた光配向膜組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
【０１０８】
［比較例３］
光配向材料１００質量部に対して、エチレンオキサイドを導入した（ＥＯによる親水性変性した）ＤＰＨＡ（商品名：Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ，新中村化学工業（株）製）を５．０質量部の割合で配合させた光配向膜組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
【０１０９】
［比較例４］
光配向材料１００質量部に対して、ウレタンアクリレート（商品名：Ｕ−１５ＨＡ，新中村化学工業（株）製）を５．０質量部の割合で配合させた光配向膜組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
【０１１０】
［比較例５］
光配向材料１００質量部に対して、ＰＥＴＡを１．０質量部の割合で配合させた光配向膜組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
【０１１１】
［比較例６］
光配向材料１００質量部に対して、ＰＥＴＡを９．０質量部の割合で配合させた光配向膜組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
【０１１２】
≪評価≫
実施例及び比較例にて得られた位相差フィルムについて、その配向性を評価した。配向性は、位相差測定装置ＡｘｏＳｔｅｐ（アクソメトリクス社製）を用いて９点の測定サンプルについての面内の位相差（Ｒｅ値）を測定し、その微小領域における光軸の面内バラツキに基づいて評価した。光軸のバラツキは、測定サンプルのＲｅ値の標準偏差（σ）で定義され、σ値（単位：ｎｍ）が１．０未満を『◎』、１．０以上１．５未満を『○』、１．５以上２．０未満を『△』、２．０以上を『×』として、『◎』及び『○』のものを配向性が良好、『△』及び『×』のものを配向性が不良と評価した。
【０１１３】
下記表１に、配向組成物中に配合させた樹脂の種類及び添加量（光配向材料１００質量部に対する添加量）と、位相差フィルムの配向性についての評価をまとめて示す。
【０１１４】
【表１】
2015052679.tif 000003
【０１１５】
表１の実施例の結果に示されるように、液晶化合物の配向性に寄与せず、親水性変性されていないアクリルモノマーを所定の割合で配合させた配向膜組成物を硬化させてパターン配向層とすることで、良好な配向性を有する位相差フィルムとなることが分かった。
【０１１６】
一方で、アクリルポリマーやアクリルオリゴマー、親水性変性したアクリルモノマーを配合させた配向膜組成物を用いた場合（比較例１〜比較例４）には、得られた位相差フィルムにおいて配向性の著しい低下がみられた。また、アクリルモノマーを配合させた場合であっても、その配合量を配向膜組成物中の光配向材料１００質量部に対して１．０質量部、９．０質量部とした場合（比較例５、比較例６）には、配向性の著しい低下がみられた。これらのことは、パターン配向層上に形成した位相差層を構成する液晶組成物中の溶剤が、そのパターン配向層を浸透しアクリル系ポリマーからなる基材をアタックして白濁させたことによって、配向性を低下させたものと考えられる。
【符号の説明】
【０１１７】
１  位相差フィルム
２  パターン配向膜
１１  基材
１２  パターン配向層
１３  位相差層
【図１】
2015052679.tif 000004
【図２】
2015052679.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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