(57)【要約】【課題】  生産性を低下させること無くガラス端面の強度に優れたカバーガラスおよびカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板と、それを搭載した座標検出機能付き画像表示装置の提供を目的とする。【解決手段】  表裏に化学強化処理層を有し、且つ、その端部断面に電離放射線硬化性樹脂組成物からなる保護膜２が施され、また、前記端部断面の水平方向の前記保護膜の膜厚２ａが３０〜１５０μｍの範囲であることを特徴とするガラス基板である。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表裏に化学強化処理層を有し、且つ、その端部断面に電離放射線硬化性樹脂組成物からなる保護膜が施されてなることを特徴とするガラス基板。
【請求項２】
前記端部断面の水平方向の前記保護膜の膜厚が３０〜１５０μｍであることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板。
【請求項３】
前記保護膜の鉛筆硬度が、ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−４に準拠する鉛筆硬度試験で５Ｂ〜ＨＢであることを特徴とする請求項１または２に記載のガラス基板。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のガラス基板上に形成されたことを特徴とするタッチパネルセンサー基板。
【請求項５】
請求項４に記載のタッチパネルセンサー基板を具備したことを特徴とする座標検出機能付き画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子機器用のガラス基板や電子機器用画像表示装置、電子機器、および電子機器用のカバーガラス一体型のタッチパネルセンサー基板に用いるガラス基板の強化方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話機や、携帯情報端末などの電子機器の操作部にはタッチパネルが採用されている。位置検出を行うタッチパネルセンサー基板には、フィルムタイプとガラスタイプがある。フィルムタイプには、軽量・割れにくい、製造コストが安い、柔軟性があるので他の表示装置やカバーガラスと貼り合せる際に気泡を除去し易く貼り合せ易いというメリットがある。
【０００３】
しかしながら、フィルムの光透過率がガラスに比べて低いことや、フィルム上に形成された配線パターンの位置精度がガラスに比べて劣るので、配線を覆う額縁部が大きくなり、表示エリアが狭くなるという問題、表面の平滑性の差により、ガラスタイプより見栄えが悪いという問題がある。そのため、高精細で低消費電力が要求されるスマートフォンやタブレットコンピュータ等の携帯端末等の小型品では、ガラスタイプが多く使用されている。（特許文献１参照）
【０００４】
携帯電話などで使用されているタッチパネルセンサー基板は、一般的に大型ガラス基板上に額縁部、金属配線、Ｘ方向用及びＹ方向用の２層の透明電極、２層の透明電極間の層間絶縁層、表面の保護層が多面付けで形成された後、１ピースごとの個片基板に断裁されている。なおタッチパネルセンサー基板には周辺部の配線などを隠すための遮光性の高い材料からなる額縁部が形成される。この額縁部には、機器のデザインに応じて様々な色や模様を施すことができる。白や黒色などの色や模様を施した額縁部を形成することが一般的である。
【０００５】
しかしながら、これらの方法で額縁部を形成しても断裁時に額縁部の外周部を断裁する場合や、断裁により額縁部のハガレが発生し、バックライトからの光漏れが発生する。そのため、断裁後の個片基板に遮光性を有するインキで遮光層を再度形成している。個片に断裁されたタッチパネルセンサー基板は、破損防止のためのカバーガラスと、透明粘着シート（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ；ＯＣＡ）等を介して貼り合わせて使用するのが一般的である。なおカバーガラスには、デザイン性や周辺部の配線などを隠すために遮光性の高い材料からなる額縁部６が形成することができる。
【０００６】
カバーガラスはタッチパネルセンサー基板の最表面に配置される前面板であり、ＳｉＯ２と、Ａｌ２Ｏ３と、Ｌｉ２ＯおよびＮａ２Ｏから選択される少なくとも１種類のアルカリ金属酸化物を含むアルミノシリケートガラスを強化処理したものが一般的に用いられる。
【０００７】
ガラスの強化処理には、ガラス表面を軟化点付近まで加熱した後に急冷する物理強化（風冷強化）とガラス内部のアルカリイオンをより粒径の大きいアルカリイオンに交換する化学強化とがあるが、携帯電話に使用される１ｍｍ以下の薄板では表面と内部の温度差がつきにくいために物理強化は不適であり、化学強化が一般的に利用されている。
【０００８】
ガラスの化学強化は、ガラス転移点以下の溶融塩にガラスを浸漬することにより、ガラ
ス内部のアルカリイオンをよりイオン半径の大きなアルカリイオンと交換することにより、イオン半径の違いで圧縮応力をガラス表面に発生させる方法である。ガラス表面に圧縮応力を発生させることにより、ガラス表面に発生したキズに引っ張り応力が集中することを防ぐためにガラスの強度が向上する。
【０００９】
しかしながら化学強化されたガラスは、断裁の際に強度から断裁しにくいこと、及び大きな圧縮応力に起因して不規則に割れてしまうために断裁が困難であるという問題点がある。そのため、強化処理前の大型ガラス基板を小型のガラス基板に切断した後、強化処理を行ない、焼成後、小型の強化ガラス基板を得るという方法が提案されている（特許文献２）。
【００１０】
近年、薄膜・軽量化のためにカバーガラス自体にタッチパネルセンサー基板を形成する所謂カバーガラス一体型タッチパネルが広がりつつある。しかしながらカバーガラス一体型タッチパネルにおいて、強化ガラスを用いたカバーガラスを断裁する必要があるために歩留りが低下するという問題がある。
【００１１】
また、特許文献２に記載の方法を用いても、額縁部や配線材料などが強化処理液（溶融塩）に対する耐薬品性及び約３００℃以上の耐熱性が必要となるため、カバーガラス一体型タッチパネルへの適用は困難である。そのため、カバーガラスを断裁、化学強化後に額縁部や配線材料を形成する方法も提案されているが、個片基板上にタッチパネルセンサー基板を形成するための新規の設備投資が必要であることや生産性が低下する問題がある。
【００１２】
また、別の対策としてフッ酸を含む１種以上の混合液で大型強化ガラスをエッチングによって切断することが提案されている。エッチングで断裁することで切断時の破損やカレットが生じることはない。しかし、化学強化されているのはガラスの表裏のみのため、切断後の個片基板の端面が化学強化されていない。そのため切断後の個片基板の端面は、ガラス強度が低いため端面を基点にガラス破損が生じてしまう。（特許文献３、４、５参照）
【００１３】
特許文献６には、ガラス端面にポリシラザンを含む保護膜を形成することにより緻密なシリカ層を形成してガラス強度を向上させる提案がなされている。しかし、ガラス端部への傷が入ってしまえば強度低下を引き起こす状況に変わりなく、ガラス端面への衝撃や加傷に対する保護膜としては不十分であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開２００９−６９３２１号公報
【特許文献２】特開２００１−２７４４４１号公報
【特許文献３】特開２０１１−１６４５０８号公報
【特許文献４】特開２００６−２８２４９２号公報
【特許文献５】特開２０１２−１４８９５７号公報
【特許文献６】特開平１１−３２２３６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明は、生産性を低下させること無くガラス端面の強度に優れたカバーガラスおよびカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板と、それを搭載した座標検出機能付き画像表示装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、請求項１に係る発明は、表裏に化学強化処理層を有し、且つ、その端部断面に電離放射線硬化性樹脂組成物からなる保護膜が施されてなることを特徴とするガラス基板である。
【００１７】
請求項２に係る発明は、前記端部断面の水平方向の前記保護膜の膜厚が３０〜１５０μｍであることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板である。
【００１８】
請求項３に係る発明は、前記保護膜の鉛筆硬度が、ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−４に準拠する鉛筆硬度試験で５Ｂ〜ＨＢであることを特徴とする請求項１または２に記載のガラス基板である。
【００１９】
請求項４に係る発明は、請求項１〜３のいずれかに記載のガラス基板上に形成されたことを特徴とするタッチパネルセンサー基板である。
【００２０】
請求項５に係る発明は、請求項４に記載のタッチパネルセンサー基板を具備したことを特徴とする座標検出機能付き画像表示装置である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の請求項１に係る発明によれば、表裏に化学強化処理層を有し、且つ、その端部断面に保護膜を施すことにより、ガラス基板の表裏の強度に加えて、その端部断面の強度を向上させることができる。特に前記保護層の形成として、電離放射線硬化性樹脂組成物を用いることで、紫外線や電子線などの電離放射線の照射で、瞬時に架橋密度の高い膜を硬化、形成することができる。すなわち生産性が高く、強度に優れたガラス基板を提供することができる。
【００２２】
また、請求項２に係る発明によれば、前記端部断面の水平方向の前記保護膜の膜厚を３０〜１５０μｍとすることで、端部断面に耐加傷性と密着性に優れた特性を付与することができる。
【００２３】
また、請求項３に係る発明によれば、前記保護膜の鉛筆硬度を５Ｂ〜ＨＢの範囲にすることで、端部断面に耐加傷性、耐衝撃性および密着性に優れた特性を付与することができる。
【００２４】
上記で説明したように、本発明によれば生産性を低下させること無くガラス端面の強度に優れたカバーガラスおよびカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板を提供することができる。また、そのタッチパネルセンサーを搭載する座標検出機能付き画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明に係る断裁されたガラス基板端部の断面図。
【図２】本発明に係る座標検出機能付き画像表示装置の一実施形態を示す断面図。
【図３】本発明に係る座標検出機能付き画像表示装置の一実施形態を示す断面図。
【図４】本発明に係るタッチパネルセンサー基板の一実施形態を示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、図に基づき本発明を詳細に説明する。
【００２７】
本発明は、図１示すように、切断端部が電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化してなる保護膜で強化されたガラス基板に関し、図４に示すような、前記ガラス基板の一方の面に、少なくともＸ軸方向及びＹ軸方向の透明電極を有する表示領域と、前記表示領域の外周を
遮光する加飾額縁領域とを形成してなるタッチパネルセンサー基板やその上に積層するカバーガラスとして用いることが好ましい。
【００２８】
また、前記タッチパネルセンサー基板を、ＬＣＤ、ＰＤＰ、無機及び有機ＥＬディスプレイ、ＦＥＤなど、画面が平坦なディスプレイに具備し、特に小型の携帯電話などの座標検出機能付き画像表示装置として提供することができる。
【００２９】
本発明に係るガラス基板は、フロート法、スリットダウンドロー法、フュージョンダウンドロー法、リドロー法などの方法により作製される。ガラス基材を構成する材料としては、イオン交換処理が可能なアルカリ金属酸化物を含むガラス材料であれば如何様なガラス材料でも利用できる。例えば、ＳｉＯ２と、Ａｌ２Ｏ３と、Ｌｉ２ＯおよびＮａ２Ｏから選択される少なくとも１種類のアルカリ金属酸化物を含むアルミノシリケートガラス、もしくは、フロート法等を利用したガラス基板の作製に用いられるソーダライムガラスなど、公知のガラス材料を用いることが好適である。
【００３０】
次に、本発明のガラス基板上にタッチパネルセンサーを形成する方法について具体的に説明する。
【００３１】
図４は本発明に係るタッチパネルセンサー基板の平面図を示している。この構成はタッチパネルセンサー基板のガラス基板がカバーガラスを兼ねた形態であり、いわゆるカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板である。
【００３２】
上記タッチパネルセンサー基板は、前記ガラス基板の一方の面に、少なくともＸ軸方向及びＹ軸方向の透明電極を有する表示領域と、前記表示領域の外周を遮光する加飾額縁領域とに区分されている。より具体的には、ガラス基板１にＸ軸方向の透明電極１１及びＹ軸方向の透明電極１２、それぞれの交差点１３、１４でのジャンパ配線と絶縁層１５、前記透明電極からの引き出し配線１６が形成され、前記透明電極からなる表示領域５と、その外周（特に引き出し配線部）を遮光する加飾額縁領域６が区分された構成からなる。
【００３３】
タッチパネルセンサー基板１は、液晶パネルや有機ＥＬパネル等の表示デバイス８と組み合わせて用いられ、座標検出機能付き表示装置を構成する部材の一つである。タッチパネルセンサー基板１は、Ｘ方向に延びる複数の電極及びＹ方向に延びる複数の電極を有し、指が接触または近接した電極の静電容量変化を検出することによって、指の接触位置の座標を特定する。
【００３４】
図３は前記ガラス基板１をカバーガラスとして用いた場合のタッチパネルセンサー基板４の断面概略図を示している。具体的には、ガラスまたは樹脂からなる透明基板１´の一方の面上に、少なくともＸ軸方向及びＹ軸方向の透明電極を有する表示領域と、前記表示領域の外周を遮光する加飾額縁領域とが形成されたタッチパネルセンサー基板４の上に、さらに前記ガラス基板１を積層してカバーガラスとして用いることができる。この場合、加飾額縁領域をカバーガラスに形成することもできる。
【００３５】
前記加飾額縁領域は１層以上の層から形成され、タッチパネルセンサー基板１にデザイン性を付与すると共に、タッチパネルセンサー基板１の周縁部に設けられる引き出し配線１６を隠す役割を果たす。センサーの断線を回避するため、形状は順テーパーが好ましい。順テーパーとは、テーパー部の角度が０°〜９０°の範囲のことを示す。形成方法としては、フォトリソ、スクリーン印刷などから選択できる。
【００３６】
なお、前記加飾額縁領域の平面形状は、本実施形態のような矩形枠状に限定されず、ハート型、たまご型、丸型など、任意である。また、額縁部の外周縁形状（外形）と内周縁形状（表示領域の形状）とは相似であっても良いし、非相似でも良い。
【００３７】
前記加飾額縁領域を形成するための材料としては、隠蔽性（遮光性）を有する着色材を含む感光性樹脂組成物が好ましい。前記着色材としては、染料や有機顔料、無機顔料を好適に使用することができる。以下、感光性樹脂組成物についてより詳細に説明する。
【００３８】
前記着色材としては、カーボンブラック、チタンブラック、アニリンブラック、アントラキノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、具体的にはＣ．Ｉ．ピグメントブラック１、６、７、１２、２０、３１、３２などを用いることができるが、価格、遮光性の点からカーボンブラックが好ましい。また、カーボンブラックは、樹脂などで表面処理されていても構わない。ここで、黒色顔料系レジストとは、溶媒に溶解させた樹脂中にカーボンブラックやチタンブラックなどの黒色顔料を分散させたものをいい、黒色顔料系レジストの光硬化物とは、当該黒色顔料系レジストをフォトリソグラフィー法の露光処理を行うことによって硬化させたものをいう。
【００３９】
黒色顔料系レジストに含有されるカーボンブラックとしては、例えば、三菱化学社製＃２６０、＃２５、＃３０、＃３２、＃３３、＃４０、＃４４、＃４５、＃４５Ｌ、＃４７、＃５０、＃５２、ＭＡ７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ１００、ＭＡ１００Ｒ、ＭＡ１００Ｓ、ＭＡ２２０、ＭＡ２３０、ＤＥＧＵＳＳＡ社製  Ｐｒｉｎｔｅｘ  Ａ、Ｐｒｉｎｔｅｘ  Ｌ、Ｐｒｉｎｔｅｘ  Ｐ、Ｐｒｉｎｔｅｘ  ３０、Ｐｒｉｎｔｅｘ  ３５、Ｐｒｉｎｔｅｘ  ４０、Ｐｒｉｎｔｅｘ  ４５、Ｐｒｉｎｔｅｘ  ５５、Ｐｒｉｎｔｅｘ  ６０、Ｐｒｉｎｔｅｘ  ３００、Ｐｒｉｎｔｅｘ  ３５０、Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ  ４、Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ  ３５０、Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ  ５５０等が挙げられる。また、公知の方法にて表面を樹脂等で修飾しているカーボンブラックを使用しても構わない。カーボンブラックは、１種を単独で使用しても、２種以上を混合して使用してもよい。カーボンブラックとしては、感度の点から、フタル酸ジブチル（以下、「ＤＢＰ」という。）の吸油量が１２０ｍｌ／１００ｇ以下のものが好ましく、ＤＢＰ吸油量は少ないほど好ましい。
【００４０】
さらに、カーボンブラックの平均１次粒子径は、２０〜３００ｎｍであることが好ましい。平均１次粒子径が２０ｎｍ未満のカーボンブラックは、高濃度に分散させることが困難であり、経時安定性の良好な感光性黒色色材が得られ難く、３００ｎｍより大きいカーボンブラックを用いると、ブラックマトリックスの形状不良を招く恐れがあるためである。
【００４１】
黒色色材中のカーボンブラックの含有量は、組成物の固形分を基準として０．５〜６０重量％であることが好ましく、１０〜５０重量％であることがより好ましい。カーボンブラックの含有量が６０重量％より多い場合はアライメント光源が透過せず露光時のアライメントが不可能になるだけでなく、分散安定性が得られ難く、感度の低下を招き、ブラックマトリックスの形成が困難になる可能性がある。カーボンブラックの含有量が０．５重量％より少ない場合は可視光の隠蔽性が低くなり、前面板の黒色の額縁部として用いた場合に、配線部分などの遮光性が低く、透けて見えてしまう。酸化チタンとしては公知のものを使用でき、また酸化チタンの他に窒化チタン、窒酸化チタンも好適に用いられる。
【００４２】
また、本実施形態の遮光材料に用いられる顔料は、黒色顔料以外の２種類以上の顔料の混合物を用いても良い。例として、カラーフィルタの着色透明層を形成する際に用いられる顔料で、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１４、４１、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、５７：１、８１、８１：１、８１：２、８１：３、８１：４、９７、１２２、１２３、１４６、１４９、１６６、１６８、１６９、１７６、１７７、１７８、１７９、１８０、１８４、１８５、１８７、１９２、２００、２０２、２０８、２１０、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２４２、２４６、２５４、２５５、２６４、２７０、２７２、２７３、２７４，２７６、２７７、２７８、２７９、２８０、２８１、２８２、２８３、２８４、２８５、２８６、２８７などに代表される赤色（ＲＥＤ）系顔料と、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、６０、６４、８０などに代表される青色（ＢＬＵＥ）系顔料とを少なくとも混合することにより、擬似的に黒色としたものが挙げられる。また赤色および紫色を呈する塩基性染料、酸性染料やそれら染料の造塩化合物を用いることもできる。
【００４３】
また、本実施形態では、赤色系顔料と青色系顔料とに加え、さらに黄色（ＹＥＬＬＯＷ）系顔料を加えてもよい。黄色系顔料は可視光の低波長領域、すなわち波長５００ｎｍ以下の光を吸収することが知られている（例えば、塩治孜著（昭和４０年）「印刷インキ教室」（日本印刷新聞社）Ｐ１７０〜１７３）。赤色系顔料と青色系顔料とに黄色系顔料を加えることにより、黄色系顔料が低波長可視光を吸収し、より黒色に近くすることができる。
【００４４】
黄色（ＹＥＬＬＯＷ）系顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、２、３、４、５、６、１０、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、２０、２４、３１、３２、３４、３５、３５：１、３６、３６：１、３７、３７：１、４０、４２、４３、５３、５５、６０、６１、６２、６３、６５、７３、７４、７７、８１、８３、８６、９３、９４、９５、９７、９８、１００、１０１、１０４、１０６、１０８、１０９、１１０、１１３、１１４、１１５、１１６、１１７、１１８、１１９、１２０、１２３、１２５、１２６、１２７、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４４、１４６、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１５５、１５６、１６１、１６２、１６４、１６６、１６７、１６８、１６９、１７０、１７１、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１７７、１７９、１８０、１８１、１８２、１８５、１８７、１８８、１９３、１９４、１９８、１９９、２１３、２１４、２１８、２１９、２２０、２２１が挙げられる。また黄色を呈する塩基性染料、酸性染料やそれら染料の造塩化合物を併用することもできる。
【００４５】
また、紫色（Ｖｉｏｌｅｔ）系顔料を加えてもよく、紫色系顔料を加えることにより、波長５５０ｎｍ付近の光を吸収し易く、より光学濃度（ＯＤ値）の高い黒色とすることができる。
【００４６】
紫色（Ｖｉｏｌｅｔ）系顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、１９、２３、２７、２９、３０、３２、３７、４０、４２、５０が挙げられる。
【００４７】
さらに橙色（Ｏｒａｎｇｅ）系顔料や緑色（Ｇｒｅｅｎ）系顔料等の顔料を加えてもよい。橙色顔料としては、例えばＣ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６、４３、５１、５５、５９、６１、７１、７３等が挙げられる。緑色顔料としては、例えばＣ．Ｉ．ピグメントグリーン７、１０、３６、３７、５８等の緑色顔料が挙げられる。
【００４８】
黒色の額縁以外にも白、ピンク、青などどんな色を用いても良い。例として酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、キナクリドン、ピランスロン、ペリレン、ウルトラマリンブルー、プルシアンブルー、コバルトブルー、スマルトブルー、セルリアンブルー、コバルトクロムブルー、アズライト、インディゴブルー、インダンスレンブルーなど好適に用いられる。
【００４９】
前記感光性樹脂組成物を作製するために、顔料を分散させるための分散剤、界面活性剤を用いてもよい。分散剤としては、界面活性剤、顔料の中間体、染料の中間体、ソルスパース等が使用され、顔料に吸着する性質を有する顔料親和性部位と、顔料担体と相溶性のある部位とを有し、顔料に吸着して顔料担体への分散を安定化する働きをするものである。
【００５０】
具体的には、ポリウレタン、ポリアクリレートなどのポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸（部分）アミン塩、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸アルキルアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアマイドリン酸塩、水酸基含有ポリカルボン酸エステルや、これらの変性物、ポリ（低級アルキレンイミン）と遊離のカルボキシル基を有するポリエステルとの反応により形成されたアミドやその塩などの油性分散剤、（メタ）アクリル酸−スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどの水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート系、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド付加化合物、燐酸エステル系等が用いられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。
【００５１】
分散剤の添加量は特に限定されるものではないが、顔料の配合量１００重量％に対して、１〜１０重量％とすることが好ましい。また、着色組成物は、遠心分離、焼結フィルター、メンブレンフィルタ等の手段にて、５μｍ以上の粗大粒子、好ましくは１μｍ以上の粗大粒子、さらに好ましくは０．５μｍ以上の粗大粒子および混入した塵の除去を行うことが好ましい。
【００５２】
前記界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のアルカリ塩、アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステルなどのアニオン性界面活性剤；ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレングリコールモノラウレートなどのノニオン性界面活性剤；アルキル４級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物などのカオチン性界面活性剤；アルキルジメチルアミノ酢酸ベタインなどのアルキルベタイン、アルキルイミダゾリンなどの両性界面活性剤が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。
【００５３】
前記感光性樹脂組成物には、以下に例示するような、光重合モノマー、光重合開始剤、増感剤、多官能チオール、紫外線吸収剤および重合禁止剤をさらに含んでもよい。
【００５４】
光重合性モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の各種アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル等が挙げられる。
【００５５】
光重合開始剤としては、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン等のアセトフェノン系化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、チオキサントン、２−クロルチオキサントン、２−メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリル−ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等のトリアジン系化合物、１，２−オクタンジオン，１−〔４−（フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）〕、Ｏ−（アセチル）−Ｎ−（１−フェニル−２−オキソ−２−（４’−メトキシ−ナフチル）エチリデン）ヒドロキシルアミン等のオキシムエステル系化合物、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物、２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−メチルフェニル）ビイミダゾール、等のイミダゾール系化合物、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物���ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、チタノセン系化合物等が挙げられる。
【００５６】
これらの中でも、アセトフェノン系化合物、ホスフィン系化合物、及びオキシムエステル系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種類以上の光重合開始剤を含むことがより好ましい。
【００５７】
これらの光重合開始剤は１種または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。光重合開始剤の含有量は、着色剤１００重量部に対して、１．０〜２００重量部、好ましくは１．０〜１５０重量部の量で用いることができる。
【００５８】
また、増感剤としては、例えばカルコン誘導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される１，２−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ−ル誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジ
ン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体、ミヒラーケトン誘導体等が挙げられる。なお、本発明において誘導体とは、もとの化合物に対して、その化合物の一部を他の原子や官能基で置換、あるいは、酸化、還元するなどの改変がなされた化合物を意味する。誘導体は、構造上、もとの化合物の骨格の大部分を含有していればよく、もとの化合物の構造が類似しているだけで、全く異なる性質を示すものであってもよい。
【００５９】
さらに具体例には、大河原信ら編、「色素ハンドブック」（１９８６年、講談社）、大河原信ら編、「機能性色素の化学」（１９８１年、シーエムシー）、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」（１９８６年、シーエムシー）に記載の増感剤が挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸収を示す増感剤を含有させることもできる。
【００６０】
上記増感剤の中で、特に好適な増感剤としては、チオキサントン誘導体、ミヒラーケトン誘導体、カルバゾール誘導体が挙げられる。さらに具体的には、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノン、Ｎ−エチルカルバゾール、３−ベンゾイル−Ｎ−エチルカルバゾール、３，６−ジベンゾイル−Ｎ−エチルカルバゾール等が用いられる。増感剤は、任意の比率で２種以上の増感剤を含んでいてもかまわない。増感剤の含有量は、光重合開始剤１００重量部に対して、１．０〜１００重量部の量で用いることができる。
【００６１】
そのほか、シランカップリング剤、消泡剤、シリカ、重合禁止剤。紫外線吸収剤など前記に記載した材料以外も添加して用いることができる。
【００６２】
次に、表示領域を形成するＸ，Ｙ軸方向の透明電極１１，１２、ジャンパ配線、引き出し配線１６、絶縁保護層について説明する。
【００６３】
透明電極１１は、Ｘ座標を検出するためのものである。透明電極は、電気伝導性と透明性とを有する材料を用いて、表示領域５内に形成されている。透明電極は、Ｘ方向及びＹ方向に間欠的かつ行列状に配列され、Ｘ方向に隣接するジャンパ配線に電気的に接続されている。透明電極１１は、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）によって形成される。
【００６４】
透明電極１２は、Ｙ座標を検出するためのものであり、透明電極１１と同一材料を用いて形成される。透明電極１２は、Ｙ方向に整列する透明電極の各列間をＹ方向に延び、第１１の絶縁膜１５上でジャンパ配線と立体交差している。
【００６５】
ジャンパ配線は、導電性を有する材料を用いて形成され、表示領域６内に、表示領域６の一辺と平行なＸ方向及びこれと直交するＹ方向に間欠的かつ行列状に配列されている。ジャンパ配線は、Ｘ方向に整列する透明電極１１を接続するためのものである。
【００６６】
また、引き出し配線１６は、加飾額縁領域６上に形成され、表示領域５の周縁部に位置するＸ軸及びＹ軸方向の透明電極に電気的に接続されている。前記引き出し配線１６は一般に金属材料で形成され、例えば、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ（モリブデン／アルミニウム／モリブデン）の積層体等からなり、これ以外にＡｕ（金）やＡｇ（銀）、Ａｇ合金等によって
形成されても良い。
【００６７】
次に、大型ガラス基板に形成された複数の単位タッチパネルセンサーを個々に切断する方法について説明する。
【００６８】
断裁をエッチングで行う場合、耐エッチング膜を形成する必要がある。耐エッチング膜形成工程では、タッチパネルセンサーが形成された少なくとも一方の面上、もしくは両面に耐エッチング膜を形成する。この耐エッチング膜は、通常、イオン交換処理済みの板状ガラスの両面に形成されるが、切断工程において、片面のみをエッチング溶液に接触させる場合には、当該片面にのみ耐エッチング膜が形成されていればよい。
【００６９】
このような耐エッチング膜としては、少なくともフッ酸水溶液に対して難溶性または不溶性を示すフォトリソを用いて保護膜を形成するか、剥離可能な保護シートを用いることが好ましい。耐エッチング膜としては、パターニング工程において、パターニング処理により部分的に除去可能であり、かつ、切断工程において用いるエッチング溶液に対しては溶解・除去されない性質を有するものであれば、適宜選択できる。この場合、パターニング工程においては、レジスト膜をフォトマスクによって露光処理と現像液による現像処理とによってパターニング処理し、切断工程においてエッチング溶液を利用して切断を行うことができる。
【００７０】
かかる断裁には、ブレーク法、レーザーカット法、水ジェット流法を採用することができる。強化ガラスの切断方法として、より好ましくはイオン交換処理済みの板状ガラスのパターニングされた耐エッチング膜が設けられた面を、エッチング溶液に接触させてエッチングすることで、イオン交換処理済みの板状ガラスを小片に切断する。
【００７１】
エッチング処理は、通常、板状ガラスをエッチング溶液に浸漬させて行う。エッチング溶液としては、少なくともフッ酸を含むものであれば特に限定されないが、必要に応じて、塩酸等のその他の酸や、界面活性剤等の各種の添加剤が添加されていてもよい。例えば、エッチング液として、フッ酸、フッ酸を主成分とする酸性溶液、フッ酸に硫酸、塩酸、リン酸、硝酸、ケイフッ酸のうちの少なくとも１つの酸を含む混酸の他、苛性ソーダや苛性カリ等のアルカリ類を使用することができる。また、エッチング温度は通常１０℃〜８０℃であり、好ましくは２０℃〜４０℃である。さらに、エッチング時間は、通常３０秒〜３０分であり、好ましくは１分〜１０分である。これらのエッチングの条件は、使用するガラス基板の材質などに応じて、反応物が析出することのないように、適宜選択できるものである。
【００７２】
エッチングのみで断裁されない場合、エッチング後、大型強化ガラス基板にブレークバーを当てて応力を加える。その結果、大型強化ガラス基板は、単品サイズの個片に切断される。耐エッチング膜を除去する前に個片基板の外周端部に研磨を行ない、突部を除去した後、エッチングを行なう。また、エッチングには、エッチング工程と同様、フッ酸系エッチング液を用いたウエットエッチングを実施する。
【００７３】
次に、本発明に係る切断面への保護膜形成について、以下に説明する。
【００７４】
ガラス切断後、個片となったタッチパネルの端面には、保護膜形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を塗布し、電子線や紫外線などの電離放射線を照射して硬化させ、保護膜を施すことができる。前記電離放射線硬化性樹脂組成物には、ラジカル重合性樹脂、光重合開始剤を含み、必要に応じて溶剤、帯電防止剤、防眩剤、その他添加剤を含有してなる。
【００７５】
より具体的には、前記組成物を切断したガラス端面に公知の方法、例えばフェルト塗布
法やディッピング法、ディスペンス法、ロールコート法で塗布し、保護膜には不要となる溶剤などを乾燥した後、電子線や紫外線などの電離放射線を照射して硬化させ、さらに焼成することで保護膜が形成される。なお、端面の塗布方法としては、端面が十分に被覆されていれば任意の方法を用いて問題ない。
【００７６】
ガラス基板の切断端部に施される前記保護膜は、図１に示すような形状となる。この時、前記端部断面の水平方向の前記保護膜の膜厚２ａに対して、前記端部断面のセンターから±９０°以内の範囲の膜厚を肩部膜厚２ｂとすると、水平方向の前記保護膜の膜厚２ａは３０〜１５０μｍが好ましい。前記水平方向の前記保護膜の膜厚２ａが３０μｍより薄いと十分な耐加傷性を得ることが出来ず、１５０μｍより厚いと密着性が低下する。
【００７７】
一方、水平方向の前記保護膜の膜厚２ａに対する肩部膜厚２ｂの比は、０．１〜１の範囲が好ましい。この比が０．１より小さいと十分な耐加傷性を得ることが出来ず、１よりも大きいと外観不良となる。なお、保護膜２とガラス基板１の間に密着性を向上させるためにプライマー層を形成しても良い。
【００７８】
前記保護膜の鉛筆硬度は、ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−４に準拠する鉛筆硬度試験で５Ｂ〜ＨＢの範囲が好ましく、３Ｂ〜Ｂの範囲がより好ましい。鉛筆硬度が５Ｂより柔らかいと十分な耐加傷性が得ることが出来ず、ＨＢよりも硬いと十分な耐衝撃性や密着性が得られない。
【００７９】
本発明の保護膜を形成するための電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるラジカル重合性樹脂としては、例えば、電離放射線の一つである紫外線によりラジカルを発生する光重合開始剤の存在下、化学放射線照射により高分子化または架橋反応するラジカル重合性を有する化合物である。例えば、構造単位中にエチレン性の不飽和結合を少なくとも１個以上含むものであり、１官能であるビニルモノマーの他に二官能、三官能以上の（メタ）アクリレートモノマーかウレタンアクリレートを含むものであり、またこれらの混合物であってもよい。
【００８０】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００８１】
また、前記二官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。  
【００８２】
また、前記三官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００８３】
一方、前記ウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。
【００８４】
本発明に係る前記光重合開始剤としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンジルメチルケタール類、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のα−ヒドロキシケトン類、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１等のα−アミノケトン類、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等のビスアシルフォスフィンオキサイド類、２，２‘−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４‘，５，５‘−テトラフェニル−１，１‘−ビイミダゾール、ビス（２，４，５−トリフェニル）イミダゾール等のビスイミダゾール類、Ｎ−フェニルグリシン等のＮ−アリールグリシン類、４，４‘−ジアジドカルコン等の有機アジド類、３，３‘，４，４‘−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボキシル）ベンゾフェノン等の有機過酸化物類をはじめ、Ｊ．Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，２，２８３（１９８７）．に記載される化合物、具体的には鉄アレーン錯体、トリハロゲノメチル置換ｓ−トリアジン、スルフォニウム塩、ジアゾニウム塩、フォスフォニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩、ヨードニウム塩等が挙げられる。また、ヨードニウム塩としては、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、１０、１３０７（１９７７）．に記載の化合物、例えば、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、フェニル（ｐ−アニシル）ヨードニウム、ビス（ｍ−ニトロフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムなどのヨードニウムのクロリド、ブロミド、あるいはホウフッ化塩、ヘキサフルオロフォスフェート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩、芳香族スルホン酸塩等や、ジフェニルフェナシルスルホニウム（ｎ−ブチル）トリフェニルボレート等のスルホニウム有機ホウ素錯体類を挙げることが出来る。
【００８５】
本発明に係る保護膜を形成するための前記組成物には、上記（メタ）アクリル系樹脂のほかに、他の樹脂を含有していてもよい。例えば、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂からなる群から選択される一種または二種以上の樹脂を含むことができる。
【００８６】
さらには公知の添加剤、例えば、シランカップリング剤、レベリング剤、帯電防止剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加し、機能を付与させたものも使用できる。
【００８７】
またさらには、個片となったタッチパネルセンサー基板は、保護膜の上に黒色顔料を含む樹脂組成物を用いて、例えば印刷法により遮光性を付与することができ、ガラス基板の切断端部と加飾層の隙間からのバックライトからの光漏れを防止することができる。
【００８８】
尚、前記組成物に用いられる溶剤は、上記光硬化性樹脂の固形分を溶解もしくは分散させることができる溶媒であれば特に限定されるものではない。
【実施例】
【００８９】
以下に、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【００９０】
＜実施例１＞
ガラス基板として、ダウンドロー法により成形した後に切断して得た縦４００ｍｍ×横５００ｍｍ×厚さ１．０ｍｍの平板ガラスを用いた。使用した平板ガラスの組成は、酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２：６５％、Ａｌ２Ｏ３：１０％、ＭｇＯ：１０％、Ｎａ２Ｏ：１４．５％、ＺｒＯ２：０．５％であった。さらにガラス基板を、４００℃のＫＮＯ３溶融塩に４時間浸漬した後、室温付近まで冷却して、表裏に化学強化処理層を施したガラス基板を得た。
【００９１】
次に、前記ガラス基板を用いて、以下の手順でタッチパネルセンサー基板を作製した。
【００９２】
（１．加飾額縁領域の形成）
前記ガラス基板の一方面の上に、後述する感光性加飾材料を仕上がり２．５μｍとなるようにスピンコートにより塗布した。次に、減圧乾燥機にて溶剤分を除去したのち、プロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）にて露光した。ここで、露光用フォトマスクとしては石英ガラスにＣｒ（クロム）でパターンを施したものを用いた。次に、アルカリ性現像液にて現像した。そして、２３０°Ｃ×２０分の熱処理を行い、加飾層を形成した。
【００９３】
［アルカリ可溶性樹脂Ａの合成］
反応容器に１−メトキシ−２−プロピルアセテート８００重量部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら加熱して、下記モノマーおよび熱重合開始剤の混合物を滴下して重合反応を行った。以下、重量部を部と記す。
スチレン                                                      ４０部
メタクリル酸                                                  ６０部
メチルメタクリレート                                          ５５部
ベンジルメタクリレート                                        ４５部
アゾビスイソブチロニトリル                                    １０部
１，４−ジメチルメルカプトベンゼン                              ３部
【００９４】
滴下後十分に加熱した後、アゾビスイソブチロニトリル２部を１−メトキシ−２−プロピルアセテート５０部で溶解させたものを添加し、さらに反応を続けてアクリル樹脂の溶液を得た。この樹脂溶液に固形分が３０重量％になるように１−メトキシ−２−プロピルアセテートを添加してアクリル樹脂溶液を調製し、アルカリ可溶性樹脂Ａを合成した。アクリル樹脂の重量平均分子量は、約２００００であった。５μｍフィルターで濾過後、感光性加飾材料に用いた。
【００９５】
［感光性加飾材料］
下記組成の混合物を均一に拡販混合した後、直径１ｍｍのガラスビーズを用いて、サンドミルで５時間分散した後、５μｍのフィルターで濾過して遮光剤の分散体を得た。
赤色顔料：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４                      ５０部
（ＢＡＳＦ社製：イルガーフォーレッド  Ｂ−ＣＦ）
青色顔料：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６                    ５０部
（東洋インキ社製：ＬＩＯＮＯＧＥＮ  ＢＬＵＥ  ７７０６）
分散剤：                                                    ３．３部
（味の素ファインテクノ社製：アジスパー  ＰＢ８２１）
アルカリ可溶性樹脂Ａ                                        １８３部
【００９６】
その後、下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、５μｍのフィルターで濾過して感光性加飾材料を得た。
上記分散体：                                                ２３３部
アルカリ可溶性樹脂Ａ：                                      １７３部
多官能重合性モノマー：                                        ５０部
（東亜合成社製：アロニックス  Ｍ−４００）
光開始剤：                                                    ２５部
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：イルガキュアー３６９）
増感剤：  ４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン        ５部
（保土ヶ谷化学工業社製：ＥＡＢ−Ｆ）
シクロヘキサノン                                            １８６部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート            ３３３部
【００９７】
（２．ジャンパ配線の形成）
ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、１７０°Ｃにて加熱しながらスパッタする加熱スパッタによってＩＴＯ膜を形成した。次に、一般的なノボラック系ポジレジストをスピンコートし、プレベーク後、露光したのち、アルカリ性現像液にてポジ現像を行った。ここで、露光はプロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し、露光用フォトマスクとしてはソーダガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。そして、シュウ酸（（ＣＯＯＨ）２）を主成分としたエッチング液を用いてエッチングし、ポジレジストを全面露光したのち、アルカリ性剥離液にてポジレジストを剥離して、ＩＴＯ膜によりジャンパ配線を形成した。
【００９８】
（３．絶縁膜の形成）
前記ジャンパ配線を形成したガラス基板面に、アクリル系絶縁材料をスピンコートにより塗布した。次に、プレベークして溶剤分を除去し、プロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）にて露光した。ここで、露光用フォトマスクとしては石英ガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。次に、アルカリ性現像液にて現像し、熱処理を行った。このようにして、ジャンパ配線上に絶縁膜を形成した。
【００９９】
（４．引き出し配線の形成）
前記ガラス基板上に、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、真空中でＭｏの層、Ａｌの層、Ｍｏの層を順次形成し、３層積層構造のＭｏ／Ａｌ／Ｍｏ積層体を形成した。
【０１００】
次に、ノボラック系ポジレジストをスピンコートし、プレベーク後、露光したのち、アルカリ性現像液にてポジ現像を行った。ここで、露光はプロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し、露光用フォトマスクとしてはソーダガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。そして、燐酸・硝酸・酢酸の３成分系のエッチャント（エッチング液）にてエッチングし、ポジレジストを全面露光したのち、アルカリ性剥離液にてポジレジストを剥離して、金属材料からなる引き出し配線を形成した。
【０１０１】
（５．透明電極の形成）
まず、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、１７０°Ｃにて加熱しながらスパッタする加熱スパッタによってＩＴＯ膜を形成した。次に、一般的なノボラック系ポジレジストをスピンコートし、プレベーク後、露光したのち、アルカリ性現像液にてポジ現像を行った。ここで、露光はプロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し、露光用フォトマスクとしては石英ガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。そして、シュウ酸を主成分としたエッチング液を用いてエッチングし、ポジレジストを全面露光したのち、アルカリ性剥離液にてポジレジストを剥離した。このようにして、ＩＴＯ膜によりＸ軸及びＹ軸方向の透明電極を形成した。
【０１０２】
（６．絶縁保護膜の形成）
まず、アクリル系オーバーコート材料をスピンコートにより塗布した。次に、プレベークして溶剤分を除去し、プロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）にて露光した。ここで、露光用フォトマスクとしてはソーダライムガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。次に、アルカリ性現像液にて現像し、熱処理を行った。このようにして、絶縁保護膜９を形成して、タッチパネルセンサーを製造し完成させた。
【０１０３】
（７．ガラス基板の断裁・研磨）
耐エッチング性を有するフッ素系シートに弱粘着性を付与した耐エッチング膜シートををタッチパネルセンサーが形成されている面とタッチパネルセンサーと対向のガラス面の両面に貼り合わせた。
【０１０４】
次に、上記貼り合わせ基板を、６重量％のフッ酸、４重量％の硫酸、１２重量％の塩酸
を含有するエッチング液に１０分浸漬させてエッチングを終了し、断裁位置に切断用の溝を形成した。
【０１０５】
その後、上記ガラス基板にブレークバーを当てて応力を加え、単品サイズの個片に断裁した。さらに、個片基板の外周端部に研磨を行ない、突部を除去した後、前記エッチング工程と同様のエッチング液を用いて残渣をエッチングした。
【０１０６】
（８．保護膜の形成）
個片に断裁されたガラス基板の端部に、下記組成の保護膜形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて、ディスペンス法により、水平方向の前記保護膜の膜厚２ａが１００μｍ、この膜厚２ａに対して肩部膜厚２ｂの比が０．４となるように保護膜を施した。なお、硬化には高圧水銀ＵＶランプ（１２０ｗ／ｃｍ２）の紫外線を積算光量約３００ｍＪ／ｃｍ２の条件で照射し、さらに硬化後、１２０℃で熱処理して保護膜を得た。
【０１０７】
［保護膜形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物］
二官能ウレタンアクリレート：ＵＶ６６３０−Ｂ                    ６０部
（日本合成化学社製）
単官能モノマー：２−ヒドロキシエチルアクリレート                ３０部
（共栄社化学社製）
光重合開始剤：イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）                  ５部
シランカップリング剤：ＫＢＭ−５１０３（信越化学工業社製）        ５部
【０１０８】
（９．個片印刷による遮光層形成）
次に、保護膜を施した基板端面と前記加飾額縁領域に、遮光性を有する下記組成物を用いて、スクリーン印刷にて遮光層を形成してタッチパネルセンサー基板を作製した。なお、下記組成物は３本ロールにて３回の分散を行ってから印刷を実施した。
［個片印刷用遮光材料］
カーボンブラック：                                              ４０部
アクリル分散樹脂：ＺＦＲ−１１２４（日本化薬社製）              ３０部
消泡剤：ＢＹＫ−０６６Ｎ（ビックケミ社製）                        １部
溶剤：１−メトキシ−２−プロピルアセテート                      １９部
【０１０９】
＜実施例２＞
保護膜の水平方向の膜厚２ａを３０μｍとし、保護膜形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を下記とすること以外は、実施例１と同様にしてタッチパネルセンサー基板を作製した。
［保護膜形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物］
二官能ウレタンアクリレート：ＵＶ６６３０−Ｂ                    ３０部
（日本合成化学社製）
単官能モノマー：２−ヒドロキシエチルアクリレート                ６０部
（共栄社化学社製）
光重合開始剤：イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）                  ５部
シランカップリング剤：ＫＢＭ−５１０３（信越化学工業社製）        ５部
【０１１０】
＜実施例３＞
保護膜の水平方向の膜厚２ａを１５０μｍとすること以外は、実施例２と同様にしてタッチパネルセンサーを作製した。
【０１１１】
＜実施例４＞
保護膜の水平方向の膜厚２ａを３０μｍとし、保護膜形成用の電離放射線硬化性樹脂組
成物を下記とすること以外は、実施例１と同様にしてタッチパネルセンサー基板を作製した。
［保護膜形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物］
二官能ウレタンアクリレート：ＵＶ６６３０−Ｂ                    ７５部
（日本合成化学社製）
単官能モノマー：２−ヒドロキシエチルアクリレート                １５部
（共栄社化学社製）
光重合開始剤：イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）                  ５部
シランカップリング剤：ＫＢＭ−５１０３（信越化学工業社製）        ５部
【０１１２】
＜実施例５＞
保護膜の水平方向の膜厚２ａを１５０μｍとすること以外は、実施例４と同様にしてタッチパネルセンサー基板を作製した。
【０１１３】
＜実施例６＞
保護膜の水平方向の膜厚２ａを２０μｍとすること以外は、実施例２と同様にしてタッチパネルセンサー基板を作製した。
【０１１４】
＜実施例７＞
保護膜の水平方向の膜厚２ａを１７０μｍとすること以外は、実施例４と同様にしてタッチパネルセンサー基板を作製した。
【０１１５】
＜実施例８＞
保護膜の水平方向の膜厚２ａを１５０μｍとし、保護膜形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を下記とすること以外は、実施例１と同様にしてタッチパネルセンサー基板を作製した。
［保護膜形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物］
二官能ウレタンアクリレート：ＵＶ６６３０−Ｂ                  １０部
（日本合成化学社製）
単官能モノマー：２−ヒドロキシエチルアクリレート              ８０部
（共栄社化学社製）
光重合開始剤：イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）                ５部
シランカップリング剤：ＫＢＭ−５１０３（信越化学工業社製）      ５部
【０１１６】
＜実施例９＞
保護膜の水平方向の膜厚２ａの膜厚を３０μｍとし、保護膜形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を下記とすること以外は、実施例１と同様にしてタッチパネルセンサー基板を作製した。
［保護膜形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物］
二官能ウレタンアクリレート：ＵＶ６６３０−Ｂ                  ８５部
（日本合成化学社製）
単官能モノマー：２−ヒドロキシエチルアクリレート                ５部
（共栄社化学社製）
光重合開始剤：イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）                ５部
シランカップリング剤：ＫＢＭ−５１０３（信越化学工業社製）      ５部
【０１１７】
＜比較例１＞
保護膜を設置しないこと以外は、実施例１と同様にしてタッチパネルセンサー基板を作製した。
【０１１８】
＜評価及びその方法＞
実勢例１〜９及び比較例１で得られたタッチパネルセンサー基板について、耐衝撃性、保護膜の機械強度を以下の方法で行った。結果を以下の表１に示す。
【０１１９】
（耐衝撃性）
［４点曲げ評価］
タッチパネルセンサー基板のガラス端面部にサンドペーパー（＃１８０）にて２５０ｇ加重で加傷試験を行った後、「ＪＩＳ  Ｒ  １６０１  ファインセラミックスの曲げ強さ試験方法」に準じて、４点曲げ試験によってガラス強度を測定した。加圧子を降下させる速度は１０ｍｍ／分とした。このような強度測定をガラス基材２０枚について行い、平均値を求めた。その結果、６００Ｍｐａ以上：○、４００Ｍｐａ以上６００Ｍｐａ未満：△、４００Ｍｐａ未満：×とした。
【０１２０】
［振り子試験］
高さ３０ｃｍから重量３０ｇの鋼球をつけた振り子を作製し、カバーガラスの端面に接触するように角度４５度及び９０度から落下させ、ガラス端面の外観を観察した。その結果、外観異常なし：○、外観異常あり：×とした。
【０１２１】
（保護膜の機械強度）
「鉛筆硬度試験」
ハンディ鉛筆引掻き硬度試験機（テスター産業社製：ＨＡ−３０１−Ｐ）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−４：１９９９に従い、硬度６Ｂから２Ｈの鉛筆を用い、試験を行い、キズによる外観の変化を目視で確認した。その結果、外観の変化が確認することが出来ない：○、外観の変化が目立つ：×とした。○であった時に使用した鉛筆の硬度について結果に記載した。
【０１２２】
「密着試験」
カバーガラスの端面にセロハンテープを貼り付け、テープ剥離後の外観を確認した。その結果、外観異常なし：○、外観異常あり：×とした。
【０１２３】
【表１】
2015214444.tif 000003
【０１２４】
＜比較結果＞
表１よりいずれの実施例においても、比較例１に対して４点曲げ試験におけるガラス強度及び振り子試験強度が向上した。しかし、実施例６においては保護膜の鉛筆硬度、膜厚が十分でないために、４点曲げ試験におけるガラス強度および振り子試験耐性が他の実施例に比べ劣る結果となった。実施例７では、保護膜の膜厚が厚いことにより密着性が他の実施例に比べ劣る結果となった。実施例８では、保護膜の鉛筆硬度が十分でないために、４点曲げ試験におけるガラス強度および振り子試験耐性が他の実施例に比べ劣る結果となった。実施例９では、保護膜の鉛筆硬度が高いことにより密着性、振り子試験耐性が他の実施例に比べ劣る結果となった。
【産業上の利用可能性】
【０１２５】
本発明は、携帯電話機や、携帯情報端末などの電子機器用の座標検出機能付き画像表示装置として利用することができる。
【符号の説明】
【０１２６】
１：ガラス基板
２：保護膜
２ａ：端部断面の水平方向の保護膜の膜厚
２ｂ：端部断面のセンターから±９０°以内の範囲の膜厚（肩部膜厚）
３：カバーガラス
４：タッチパネルセンサー基板
５：表示領域
６：加飾額縁領域
７：Ｘ，Ｙ軸方向の透明電極
８：液晶パネル
９：筐体
１０：座標検出機能付き画像表示装置
１１：Ｘ軸方向の透明電極
１２：Ｙ軸方向の透明電極
１３：Ｘ軸方向の透明電極の接続部
１４：Ｙ軸方向の透明電極の接続部
１５：絶縁層
１６：引き出し配線
【図１】
2015214444.tif 000004
【図２】
2015214444.tif 000005
【図３】
2015214444.tif 000006
【図４】
2015214444.tif 000007