(57)【要約】【課題】反射防止特性に優れた反射防止膜を有する光学素子、光学系、および光学機器を提供すること【解決手段】使用波長域の光に対して透明な基板１１０と、基板に形成された反射防止膜１２０と、を有し、波長５５０ｎｍの光に対する、前記基板の屈折率をＮｋ、第１層、第３層、第５層、第７層の屈折率をＮｍ、第２層、第４層、第６層、第８層の屈折率をＮｈ、第１０層の屈折率をＮｓとし、第１層から第５層までの光学膜厚の和をＤａ、第６層の光学膜厚をＤ６、第７層から前記第９層までの光学膜厚の和をＤｂ、第１０層の光学膜厚をＤ１０、とするとき、以下の条件式を満足する。  １．４０≦Ｎｋ≦２．１０  ０．４０≦｜Ｎｍ−Ｎｈ｜≦０．５９  １．１５≦Ｎｓ≦１．３０  ２００ｎｍ≦Ｄ６≦３５０ｎｍ  １８０ｎｍ≦Ｄａ≦３１０ｎｍ  １００ｎｍ≦Ｄｂ≦２２０ｎｍ  １００ｎｍ≦Ｄ１０≦１５０ｎｍ【選択図】図１
2015052657.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用波長域の光に対して透明な基板と、該基板に形成された反射防止膜と、を有し、
前記反射防止膜は、前記基板に接する層を第１層として、該第１層から順に第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７層、第８層、第９層、第１０層、が積層されて構成され、
波長５５０ｎｍの光に対する、前記基板の屈折率をＮｋ、前記第１層、前記第３層、前記第５層、前記第７層の屈折率をＮｍ、前記第２層、前記第４層、前記第６層、前記第８層の屈折率をＮｈ、第１０層の屈折率をＮｓ、とし、波長５５０ｎｍの光に対する、前記第１層から前記第５層までの光学膜厚の和をＤａ、前記第６層の光学膜厚をＤ６、前記第７層から前記第９層までの光学膜厚の和をＤｂ、前記第１０層の光学膜厚をＤ１０、とするとき、以下の条件を満足することを特徴とする光学素子。
１．４０≦Ｎｋ≦２．１０
０．４０≦｜Ｎｍ−Ｎｈ｜≦０．５９
１．１５≦Ｎｓ≦１．３０
２００ｎｍ≦Ｄ６≦３５０ｎｍ
１８０ｎｍ≦Ｄａ≦３１０ｎｍ
１００ｎｍ≦Ｄｂ≦２２０ｎｍ
１００ｎｍ≦Ｄ１０≦１５０ｎｍ
【請求項２】
前記第１０層は、ＳｉＯ２またはＭｇＦ２を主成分とし、中空微粒子を有することを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
前記反射防止膜は、屈折率および材料が互いに異なる少なくとも３種類の層で構成されることを特徴とする請求項１または２に記載の光学素子。
【請求項４】
前記少なくとも３種類の層は、
チタン、タンタル、ジルコニア、クロム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、イットリウムの酸化物の単体またはそれを含む混合物からなる、屈折率が２．００から２．４０の高屈折率層と、
酸化アルミナの単体またはそれを含む混合物からなる、屈折率が１．５５から１．７０の中屈折率層と、
シリコンの酸化物の単体またはそれを含む混合物からなる、屈折率が１．１０から１．３０または１．４０から１．５０の低屈折率層と、
を含むことを特徴とする請求項３に記載の光学素子。
【請求項５】
前記第１層、前記第３層、前記第５層、前記第７層はフッ化ランタン、フッ化セリウム、フッ化ネオジウム、アルミニウム酸化物の単体またはそれを含む混合物からなることを特徴とする請求項４に記載の光学素子。
【請求項６】
前記第１層はＡｉ２Ｏ３単体またはそれを含む化合物からなることを特徴とする請求項５に記載の光学素子。
【請求項７】
前記第２層、前記第４層、前記第６層、前記第８層はスズ、チタン、タンタル、ジルコニア、クロム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、イットリウムの酸化物の単体またはそれを含む混合物からなることを特徴とする請求項４に記載の光学素子。
【請求項８】
前記第９層は、ＳｉＯ２の単体またはそれを含む混合物からなることを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項９】
前記第１０層はゾルゲル法で形成され、前記第１層から前記第９層は真空蒸着法またはスパッタ法により形成されることを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項１０】
請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の光学素子を有することを特徴とする光学系。
【請求項１１】
請求項１０に記載の光学系を有することを特徴とする光学機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止膜を有する光学素子、光学系、および光学機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学素子の不要な反射に起因するゴーストやフレアを防止する反射防止膜には、広い波長帯域に対して反射防止効果を維持することが要求されている。従来、この要求を満足する構成として薄膜の誘電体膜を複数層重ねた多層膜の反射防止膜が知られている。一般に、層数が多いほど反射防止効果が高く、反射防止波長帯域も広くなる。また、蒸着膜に使用される屈折率１．３８のフッ化マグネシウムよりも低い屈折率をもつ材料を反射防止膜の最表層に使用すれば高性能な反射防止機能を得ることができる。屈折率の低い材料として、シリカやフッ化マグネシウム等の無機系材料、シリコン樹脂や非晶質のフッ素樹脂などの有機材料を用いることが知られている。これらの材料は層内に空隙を形成することにより屈折率を下げることができる。特許文献１は、屈折率を１．３程度まで下げたフッソ系樹脂及び屈折率を１．２程度まで下げたフッ化マグネシウム膜を最上層とした１０層構造の反射防止膜を提案している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１４１５９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１の反射防止膜を有する光学素子は、可視波長域の光に対する反射率が最大で０．４％程度残存しているため、反射防止特性を改良する余地がある。
【０００５】
本発明は、反射防止特性に優れた反射防止膜を有する光学素子およびその製造方法を提供することを例示的な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の光学素子は、使用波長域の光に対して透明な基板と、該基板に形成された反射防止膜と、を有し、前記反射防止膜は、前記基板に接する層を第１層として、該第１層から順に第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７層、第８層、第９層、第１０層、が積層されて構成され、波長５５０ｎｍの光に対する、前記基板の屈折率をＮｋ、前記第１層、前記第３層、前記第５層、前記第７層の屈折率をＮｍ、前記第２層、前記第４層、前記第６層、前記第８層の屈折率をＮｈ、第１０層の屈折率をＮｓ、とし、波長５５０ｎｍの光に対する、前記第１層から前記第５層までの光学膜厚の和をＤａ、前記第６層の光学膜厚をＤ６、前記第７層から前記第９層までの光学膜厚の和をＤｂ、前記第１０層の光学膜厚をＤ１０、とするとき、以下の条件を満足することを特徴とする。
【０００７】
１．４０≦Ｎｋ≦２．１０
０．４０≦｜Ｎｍ−Ｎｈ｜≦０．５９
１．１５≦Ｎｓ≦１．３０
２００ｎｍ≦Ｄ６≦３５０ｎｍ
１８０ｎｍ≦Ｄａ≦３１０ｎｍ
１００ｎｍ≦Ｄｂ≦２２０ｎｍ
１００ｎｍ≦Ｄ１０≦１５０ｎｍ
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、反射防止特性に優れた反射防止膜を有する光学素子、光学系、および光学機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本実施形態の光学素子と光学系の概略断面図である。（実施例１、２、３、４、５、６）
【図２】本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例１）
【図３】本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例２）
【図４】本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例３）
【図５】本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例４）
【図６】本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例５）
【図７】本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例６）
【図８】比較例１の光学素子の反射率特性である。
【図９】比較例２の光学素子の反射率特性である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１（ａ）は、本実施形態に係る反射防止膜を有する光学素子１００の概略断面図である。使用波長域（可視波長域）の光に対して透明な基板１１０上に、多層膜の反射防止膜１２０が形成されている。反射防止膜１２０は１０層からなり、第１層１２１から第１０層１３０までの薄膜を基板１１０に積層して構成したものである。反射防止膜１２０において第１層１２１は基板１１０に接する層（膜）であり、空気（Ａｉｒ）に接する最上層は第１０層である。屈折率と光学膜厚の基準波長λを５５０ｎｍとする。
【００１１】
基板１１０の屈折率Ｎｋとすると、本実施形態はＮｋを以下の範囲に設定している。
【００１２】
１．４０≦Ｎｋ≦２．１０                    （１）
第１層１２１、第３層１２３、第５層１２５、第７層１２７の屈折率をＮｍとすると、本実施形態はＮｍを以下の範囲に設定している。但し、第１層１２１、第３層１２３、第５層１２５、第７層１２７は必ずしも同一材料から構成される必要はない。
【００１３】
１．５５≦Ｎｍ≦１．７０                    （２）
数式２は、好ましくは、次式のようになる。
【００１４】
１．６０≦Ｎｍ≦１．６６                    （２’）
第２層１２２、第４層１２４、第６層１２６、第８層１２８の屈折率をＮｈとすると、本実施形態はＮｈを以下の範囲に設定している。但し、第２層１２２、第４層１２４、第６層１２６、第８層１２８は必ずしも同一材料から構成される必要はない。
【００１５】
１．９０≦Ｎｈ≦２．３０                    （３）
数式３は、好ましくは、次式のようになる。
【００１６】
２．００≦Ｎｈ≦２．２０                    （３’）
また、｜Ｎｍ−Ｎｈ｜の屈折率差が大きくなると、干渉波が大きくなり、リップルが出やすくなってしまう。そのため、｜Ｎｍ−Ｎｈ｜の屈折率差が小さい方が好ましいが、小さ過ぎると層数が増え過ぎてしまう。そのため、以下の条件式が満足されることが好ましい。
【００１７】
０．４０≦｜Ｎｍ−Ｎｈ｜≦０．５９          （４）
数式４は、より好ましくは、次式のようになる。
【００１８】
０．４５≦｜Ｎｍ−Ｎｈ｜≦０．５５          （４’）
第９層１２９の屈折率をＮｌとする。
【００１９】
第１０層１３０の屈折率をＮｓとすると、本実施形態はＮｓを以下の範囲に設定している。
【００２０】
１．１５≦Ｎｓ≦１．３０                    （５）
Ｎｓをこの範囲に収めることによって、製造プロセス上必要な膜強度を確保しつつ高い入射角度での反射を抑えることができる。最表層の屈折率Ｎｓが１．３０よりも高いと、広範囲な屈折率基板において広帯域で高性能な反射率特性を同時に良好に抑えることが難しくなる。最表層の屈折率Ｎｓが１．１５よりも小さいと、低屈折率化に伴う膜密度低下（または体積占有率低下）により膜強度が低下し、製造工程における洗浄やハンドリングが困難になる。
【００２１】
第１層１２１の光学膜厚をＤ１（ｎｍ）、第２層１２２の光学膜厚をＤ２（ｎｍ）、第３層１２３の光学膜厚をＤ３（ｎｍ）、第４層１２４の光学膜厚をＤ４（ｎｍ）、第５層１２５の光学膜厚をＤ５（ｎｍ）、第６層１２６の光学膜厚をＤ６（ｎｍ）とする。また、第７層１２７の光学膜厚をＤ７（ｎｍ）、第８層１２８の光学膜厚をＤ８（ｎｍ）、第９層１２９の光学膜厚をＤ９（ｎｍ）、第１０層１３０の光学膜厚をＤ１０（ｎｍ）とする。
【００２２】
本実施形態はＤ６を以下の範囲に設定している。
【００２３】
２００ｎｍ≦Ｄ６≦３５０ｎｍ                （６）
第６層１２６の光学膜厚Ｄ６を可視波長域のλ／２の膜厚に設定することにより、波長帯域の広い反射防止効果の高い特性が実現できる。この範囲を外れると、波長帯域が狭くなる、リップルの高さが大きくなるなど、反射防止性能の劣化や角度特性の悪化につながる。
【００２４】
第１層１２１の光学膜厚Ｄ１から第５層１２５の光学膜厚Ｄ５までの光学膜厚の和をＤａ、第７層１２７の光学膜厚Ｄ７から第９層１２９の光学膜厚Ｄ９までの光学膜厚の和をＤｂとする。この時、本実施形態はＤａ、Ｄｂを以下の範囲に設定している。
【００２５】
１８０ｎｍ≦Ｄａ≦３１０ｎｍ                （７）
１００ｎｍ≦Ｄｂ≦２２０ｎｍ                （８）
また、一般に反射防止膜１２０の最上層の膜厚は、１／４λ近傍に設定される。よって、本実施形態はＤ１０を以下の範囲に設定している。
【００２６】
１００ｎｍ≦Ｄ１０≦１５０ｎｍ              （９）
数式６〜９によって数式１を満足する基板１１０において、安定した反射防止特性を有する反射防止膜が実現できる。
【００２７】
第１０層１３０は、屈折率を下げるため、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２のような屈折率の低い材料を含有することが好ましい。また、第１０層１３０の主成分が中空微粒子であることが好ましい。中空微粒子はバインダーにより結合する。内部に空隙を有するため、空隙に含まれる空気（屈折率１．０）によって屈折率を下げることができる。さらに、中空微粒子の内部に空隙があることで、空隙に水分や不純物の吸着を防ぐことができる。このため、耐環境性が良くなり、環境変化による屈折率変化の少ない安定した特性を得ることができる。
【００２８】
中空微粒子はバインダーにより結合する必要があるため、ゾルゲル法で形成することが好ましい。塗工方法としては特に限定されることはなく、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法など液状塗工液の一般的な塗工方法を用いることができる。レンズのような曲面を有する基材へ膜厚を均一に成膜できる観点から、塗料をスピンコートで成膜することが好ましい。塗工後は乾燥を行う。乾燥は乾燥機、ホットプレート、電気炉などを用いることができる。乾燥条件は、基材に影響を与えず且つ中空粒子内の有機溶媒を蒸発できる程度の温度と時間とする。一般的には３００℃以下の温度を用いることが好ましい。塗工回数は通常１回が好ましいが、乾燥と塗工を複数回繰り返してもよい。
【００２９】
第１層１２１から第９層１２９は無機系膜からなり、成膜の簡便さから、ドライ成膜で形成する真空蒸着法乃至はスパッタ法により成膜されることが望ましい。また、第９層１２９はＳｉＯ２を主成分とすることが望ましい。即ち、第９層１２９はＳｉＯ２単体ないしはそれを含む化合物からなることが好ましい。最上層をゾルゲル法で形成する場合、その下層（第９層）を濡れ性の高いシリカにすることで密着性を高めることができる。
【００３０】
反射防止膜１２０は屈折率および材料が互いに異なる少なくとも３種類の層で構成されることが好ましく、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を含むとなお好ましい。高屈折率層は、例えば、チタン、タンタル、ジルコニア、クロム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、イットリウムの酸化物の単体または混合物からなり、屈折率が２．００から２．４０である。中屈折率層は、例えば、酸化アルミナの単体またはそれを含む混合物からなり、屈折率が１．５５から１．７０である。低屈折率層は、例えば、シリコンの酸化物の単体またはそれを含む混合物からなり、屈折率が１．１０から１．３０または１．４０から１．５０である。
【００３１】
第１層１２１、第３層１２３、第５層１２５、第７層１２７はフッ化ランタン、フッ化セリウム、フッ化ネオジウム、アルミニウム酸化物の単体またはそれを含む混合物からなる。特に、第１層１２１は、Ａｉ２Ｏ３単体またはそれを含む化合物からなることが好ましい。
【００３２】
第２層１２２、第４層１２４、第６層１２６、第８層１２８はスズ、チタン、タンタル、ジルコニア、クロム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、イットリウムの酸化物の単体またはそれを含む混合物からなる。
【００３３】
本実施形態の光学素子は、カメラの撮影光学系や液晶プロジェクタの投射光学系を構成する光学素子（レンズ、平行平板、プリズムなど）に適用することができる。図１（ｂ）は、本実施形態の光学素子を有する撮像光学系（結像光学系）２００を示す。撮像光学系２００は、デジタルカメラ、ビデオカメラおよび交換レンズなどの光学機器に用いられる。図１（ｂ）において、２４０は撮像面であり、ＣＣＤセンサ又はＣＭＯＳセンサ等の固体撮像素子（光電変換素子）が配置される。２３０は絞りである。Ｇ２０１からＧ２１１は光学素子としてのレンズである。これらのレンズのうち、少なくとも一面に、本発明の反射防止膜が付与されている。
【００３４】
以下に、本発明の具体的な実施例を示す。但し、これらの実施例は単なる例示であり、本発明を限定するものではない。
【実施例１】
【００３５】
実施例１では、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が１．４３から２．０５のガラス基板上に、図１（ａ）に示す１０層構成の反射防止膜１２０を表１、表２に示した膜構成及び膜厚で形成した。表の数値は光学膜厚（ｎｍ）で基準波長は５５０ｎｍとしている。第１層目から９層目までは真空蒸着法により成膜し、第１０層は、屈折率が１．２５になるように調整した中空ＳｉＯ２の混合調整液をスピンコーターで塗工後、１時間の焼成により成膜した。
【００３６】
【表１】
2015052657.tif 000003
【００３７】
【表２】
2015052657.tif 000004
【００３８】
図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に波長４００ｎｍから１０００ｎｍの範囲での、０度入射における反射率特性を示す。図２の横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。図２（ａ）は実施例１−１〜１−３を示し、図２（ｂ）は実施例１−４〜１−６を示し、図２（ｃ）は実施例１−７、１−８を示している。実施例１−１から１−８の反射防止膜は、４００ｎｍから９００ｎｍの波長範囲で、０度入射における反射率は０．２％以下であり、１０００ｎｍの波長においてもすべて１．５％以下である。よって、実施例１の反射防止膜は、広帯域で反射防止効果が高い、高性能な反射防止膜であることが分かる。
【実施例２】
【００３９】
実施例２では、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が１．８０のガラス基板上に、図１（ａ）に示す１０層構成の反射防止膜１２０を表３に示す膜構成で形成した。表の数値は光学膜厚（ｎｍ）で基準波長は５５０ｎｍとしている。第１層から第９層までは真空蒸着法により成膜し、第１０層は、λ＝５５０ｎｍでの屈折率が１．２７になるように調整した中空ＳｉＯ２の混合調整液をスピンコーターで塗工後、１時間の焼成により成膜した。
【００４０】
図３に波長４００ｎｍから９００ｎｍの範囲での、０度、４５度入射における反射率特性を示す。図３の横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。実施例２の反射防止膜は、４００ｎｍから９００ｎｍの範囲で、０度入射における反射率は０．２％以下であり、４５度入射であっても１．４％以下である。よって、実施例２の反射防止膜は、広帯域で反射防止効果が高い、高性能な反射防止膜であることが分かる。
【００４１】
【表３】
2015052657.tif 000005
【実施例３】
【００４２】
実施例３では、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が１．４０のガラス基板上に、図１（ａ）に示す１０層構成の反射防止膜１２０を表４に示す膜構成で形成した。表の数値は光学膜厚（ｎｍ）で基準波長は５５０ｎｍとしている。第１層から第９層までは真空蒸着法により成膜し、第１０層は、λ＝５５０ｎｍでの屈折率が１．１５になるように調整した中空ＳｉＯ２の混合調整液をスピンコーターで塗工後、１時間の焼成により成膜した。
【００４３】
図４に波長４００ｎｍから９００ｎｍの範囲での、０度、４５度入射における反射率特性を示す。図４の横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。実施例３の反射防止膜は、４００ｎｍから９００ｎｍの範囲で、０度入射における反射率は０．２％以下である。４５度入射であっても４００ｎｍから９００ｎｍの範囲で、１．２％以下である。よって、実施例３の反射防止膜は、広帯域で反射防止効果が高い、高性能な反射防止膜であることが分かる。
【００４４】
【表４】
2015052657.tif 000006
【実施例４】
【００４５】
実施例４では、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が２．０５のガラス基板上に、図１（ａ）に示す１０層構成の反射防止膜１２０を表５に示す膜構成で形成した。表の数値は光学膜厚（ｎｍ）で基準波長は５５０ｎｍとしている。第１層から第９層目までは真空蒸着法により成膜し、第１０層は、λ＝５５０ｎｍでの屈折率が１．１５になるように調整した中空ＳｉＯ２の混合調整液をスピンコーターで塗工後、１時間の焼成により成膜した。
【００４６】
図５に波長４００ｎｍから９００ｎｍの範囲での、０度、４５度入射における反射率特性を示す。図５の横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。実施例４の反射防止膜は、４００ｎｍから９００ｎｍの範囲で、０度入射における反射率は０．２％以下である。４５度入射であっても４００ｎｍから９００ｎｍの範囲で、１．０％以下である。よって、実施例４の反射防止膜は、広帯域で反射防止効果が高い、高性能な反射防止膜であることが分かる。
【００４７】
【表５】
2015052657.tif 000007
【実施例５】
【００４８】
実施例５では、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が１．４３のガラス基板上に、図１（ａ）に示す１０層構成の反射防止膜１２０を表５に示す膜構成で形成した。表の数値は光学膜厚（ｎｍ）で基準波長は５５０ｎｍとしている。第１層から第９層までは真空蒸着法により成膜し、第１０層は、λ＝５５０ｎｍでの屈折率が１．２７になるように調整した中空ＳｉＯ２の混合調整液をスピンコーターで塗工後、１時間の焼成により成膜した。
【００４９】
図６に波長４００ｎｍから９００ｎｍの範囲での、０度、４５度入射における反射率特性を示す。図６の横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。実施例５の反射防止膜は、４００ｎｍから９００ｎｍの範囲で、０度入射における反射率は０．２％以下であり、４５度入射であっても４００ｎｍから９００ｎｍの範囲で、１．６％以下である。よって、実施例５の反射防止膜は、広帯域で反射防止効果が高い、高性能な反射防止膜であることが分かる。
【００５０】
【表６】
2015052657.tif 000008
【実施例６】
【００５１】
実施例６では、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が２．０４のガラス基板上に、図１（ａ）に示す１０層構成の反射防止膜１２０を表７に示す膜構成で形成した。表の数値は光学膜厚（ｎｍ）で基準波長は５５０ｎｍとしている。第１層から第９層までは真空蒸着法により成膜し、第１０層は、λ＝５５０ｎｍでの屈折率が１．２９になるように調整した中空ＳｉＯ２の混合調整液をスピンコーターで塗工後、１時間の焼成により成膜した。
【００５２】
図７に波長４００ｎｍから９００ｎｍの範囲での、０度、４５度入射における反射率特性を示す。図７の横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。実施例６の反射防止膜は、４００ｎｍから９００ｎｍの範囲で、０度入射における反射率は０．２％以下であり、４５度入射であっても４００ｎｍから９００ｎｍの範囲で、１．７％以下である。よって、実施例６の反射防止膜は、広帯域で反射防止効果が高い、高性能な反射防止膜であることが分かる。
【００５３】
【表７】
2015052657.tif 000009
【００５４】
（比較例１）
以下、比較例１として、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が１．４０のガラス基板上に、１０層構成の反射防止膜を表８に示す膜構成で形成した。表の数値は光学膜厚（ｎｍ）で基準波長は５５０ｎｍとしている。第１層から第９層までは真空蒸着法により成膜し、第１０層は、λ＝５５０ｎｍでの屈折率が１．３１になるように調整した中空ＳｉＯ２の混合調整液をスピンコーターで塗工後、１時間の焼成により成膜した。
【００５５】
図８に波長４００ｎｍから９００ｎｍの範囲での、０度、４５度入射における反射率特性を示す。図８の横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。比較例１の反射防止膜は、４００ｎｍから９００ｎｍの範囲で、０度入射における反射率は０．２％以上であり、リップルも大きくなっている。よって、比較例１の反射防止膜は本実施形態の反射防止膜に比べて反射防止性能が劣っていることが分かる。
【００５６】
【表８】
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【００５７】
（比較例２）
以下、比較例２として、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が１．４０のガラス基板上に、１０層構成の反射防止膜を表９に示す膜構成で形成した。表の数値は光学膜厚（ｎｍ）で基準波長は５５０ｎｍとしている。第１層から第９層までは真空蒸着法により成膜し、第１０層は、λ＝５５０ｎｍでの屈折率が１．３１になるように調整した中空ＳｉＯ２の混合調整液をスピンコーターで塗工後、１時間の焼成により成膜した。
【００５８】
図９に波長４００ｎｍから９００ｎｍの範囲での、０度、４５度入射における反射率特性を示す。図９の横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。比較例２の反射防止膜は、４００ｎｍから９００ｎｍの範囲で、０度入射における反射率は０．２％以上であり、９００ｎｍで０．７％と高く、波長帯域も狭くなっている。よって、比較例２の反射防止膜は本実施形態の反射防止膜に比べて反射防止性能が劣っていることが分かる。
【００５９】
【表９】
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【００６０】
以上、本実施形態について説明したが、本発明は本実施例に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明の光学素子は、カメラの撮影レンズや液晶プロジェクタの投射レンズに適用することができる。
【符号の説明】
【００６２】
１００…光学素子、１１０…基板、１２０…反射防止膜
【図３】
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【図８】
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【図１】
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【図２】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図９】
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