(57)【要約】【課題】蒸着材料の利用効率を高める。【解決手段】インライン式の真空蒸着装置用マニホールドであって、単一のマニホールド１１の基板１２に対向する基板対向面１１ａに、ノズル口を有する複数の放出用ノズル１３を、基板１２の幅方向に所定のノズルピッチＰをあけて突設したノズル列１４Ｆ，１４Ｒを設けるとともに、ノズル列１４Ｆ，１４Ｒを基板１２の移動方向に所定のノズル列ピッチＬｐをあけて配置し、基板１２の移動方向の前方のノズル列１４Ｆの放出用ノズル１３に対して、後方のノズル列１４Ｒの放出用ノズル１３を、基板の移動方向に対向して配置した。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定速度で移動される被蒸着基材に対向して配置され、対向面に設けられた複数のノズル口から蒸着材料を放出して、被蒸着基材の表面に被着させるインライン式の真空蒸着装置用マニホールドであって、
単一のマニホールドの被蒸着基材の対向面に、前記ノズル口を有する複数の放出用ノズルを、被蒸着基材の幅方向に所定のノズルピッチをあけて突設したノズル列を設けるとともに、当該ノズル列を被蒸着基材の移動方向に所定間隔をあけて複数列配置し、
被蒸着基材の移動方向の前方のノズル列の放出用ノズル及び後方のノズル列の放出用ノズルを、被蒸着基材の移動方向に対向して配置した
ことを特徴とする真空蒸着装置用マニホールド。
【請求項２】
一定速度で移動される被蒸着基材に対向して配置され、対向面に設けられた複数のノズル口から蒸着材料を放出して、被蒸着基材の表面に被着させるインライン式の真空蒸着装置用マニホールドであって、
単一のマニホールドの被蒸着基材の対向面に、ノズル口を有する複数の放出用ノズルを、被蒸着基材の幅方向に所定のノズルピッチをあけて突設したノズル列を設けるとともに、当該ノズル列を被蒸着基材の移動方向に所定間隔をあけて複数列配置し、
被蒸着基材の移動方向の前方のノズル列の放出用ノズルに対して、後方のノズル列の放出用ノズル位置を、ノズルピッチの1／２ずらした千鳥位置に配置した
ことを特徴とする真空蒸着装置用マニホールド。
【請求項３】
各ノズル列における放出用ノズルのノズルピッチ：Ｐ、ノズル口の口径：Ｄ’、ノズル口と被蒸着基材との蒸着距離：Ｓとすると、
Ｄ’＜Ｐ＜１．１１×Ｓとした
ことを特徴とする請求項１または２記載の真空蒸着装置用マニホールド。
【請求項４】
放出用ノズルは、ノズル内径：Ｄ（ｍｍ）、ノズル長さ：Ｌ（ｍｍ）、ノズル口の口径：Ｄ’（ｍｍ）とすると、
Ｌ≧９×Ｄの場合に、Ｄ’≦２．７×Ｄ2／Ｌを満足し、
Ｌ＜９×Ｄの場合に、Ｄ’≦Ｄ／３を満足する
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の真空蒸着装置用マニホールド。
【請求項５】
被蒸着基材の幅に対応して、複数のノズル列のうちの少なくとも１つのノズル列で、端部側の放出用ノズルのノズル口を閉鎖する閉鎖プラグを取り付けた
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の真空蒸着装置用マニホールド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リニアソースを使用してインライン蒸着を行う、有機ＥＬ素子の製造に適した真空蒸着装置用マニホールドに関する。
【背景技術】
【０００２】
インライン蒸着方式は、一定速度で移動される被蒸着基材に対向して、被蒸着材のリニアソースとなるマニホールドを幅方向に沿って配置し、このマニホールドに設けられた放出用ノズルから蒸発材料を放出して、被蒸着基材の表面に被着させるものである。
【０００３】
インライン蒸着方式の真空蒸着装置において、特許文献１には、リニアソース用マニホールドを、蒸着材料を加熱気化させるためのるつぼとし、るつぼの上面に、複数の放出用ノズルをるつぼの長手方向に沿って形成し、各放出用ノズルに蒸着材料を放出するためのノズル口をそれぞれ形成したものが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第４３８０３１９号公報（図１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、高価な有機ＥＬなどの蒸着材料は、その利用効率（蒸発量に対する被着量の割合）を高める必要がある。このため、被蒸着基材と放出用ノズルとを接近させ、オリフィスであるノズル口と被蒸着基材との蒸着距離を短くすることが考えられる。蒸着距離を短くした場合、被着膜厚の均一性を確保するために、ノズル口を多くする必要が生じ、放出用ノズルが互いに接近してしまう。また放出用ノズルは、放出量を調整するために、ノズル口が出口を絞るオリフィスとなっているが、ノズル口の口径／放出用ノズル内径の比を一定以上確保しないと、１つの放出用ノズルから放出される蒸着材料の膜厚分布が一定にならない。したがって、ノズル口を接近して設置することは困難である。
【０００６】
この対策として、ノズル口の口径を小さくすることが考えられるが、ノズル口の口径が小さくなると、放出流路のコンダクタンスが小さくなる。したがって、所定の蒸着レートを確保するために、るつぼ内の蒸着材料の蒸発温度（加熱温度）を上げなければならず、蒸発温度が上がると、蒸着材料によっては劣化しやすくなり、またランニングコストの増加につながるおそれがある。
【０００７】
本発明は上記問題点を解決して、蒸着材料の利用効率を高めることができる真空蒸着装置用マニホールドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１記載の発明は、
一定速度で移動される被蒸着基材に対向して配置され、対向面に設けられた複数のノズル口から蒸着材料を放出して、被蒸着基材の表面に被着させるインライン式の真空蒸着装置用マニホールドであって、
単一のマニホールドの被蒸着基材の対向面に、前記ノズル口を有する複数の放出用ノズルを、被蒸着基材の幅方向に所定のノズルピッチをあけて突設したノズル列を設けるとともに、当該ノズル列を被蒸着基材の移動方向に所定間隔をあけて複数列配置し、
被蒸着基材の移動方向の前方のノズル列の放出用ノズルに対して、後方のノズル列の放出用ノズルを、被蒸着基材の移動方向に対向して配置したことを特徴とする。
【０００９】
請求項２記載の発明は、
一定速度で移動される被蒸着基材に対向してマニホールドを配置し、当該マニホールドに設けられた複数のノズル口から蒸着材料を放出して、被蒸着基材の表面に被着させるインライン式の真空蒸着装置用マニホールドであって、
単一のマニホールドの被蒸着基材の対向面に、ノズル口を有する複数の放出用ノズルを、被蒸着基材の幅方向に所定のノズルピッチをあけて突設したノズル列を設けるとともに、当該ノズル列を被蒸着基材の移動方向に所定間隔をあけて複数列配置し、
被蒸着基材の移動方向前方のノズル列の放出用ノズルに対して、後方のノズル列の放出用ノズル位置を、ノズルピッチの1／２をずらした千鳥位置に配置したことを特徴とする。
【００１０】
請求項３記載の発明は、請求項１または２に記載の構成において、
各ノズル列における放出用ノズルのノズルピッチ：Ｐ、ノズル口の口径：Ｄ’、ノズル口と被蒸着基材との蒸着距離：Ｓとすると、
Ｄ’＜Ｐ＜１．１１×Ｓとしたことを特徴とする。
【００１１】
請求項４記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の構成において、
放出用ノズルは、ノズル内径：Ｄ（ｍｍ）、ノズル長さ：Ｌ（ｍｍ）、ノズル口の口径：Ｄ’（ｍｍ）とすると、
Ｌ≧９×Ｄの場合に、Ｄ’≦２．７×Ｄ2／Ｌを満足し、
Ｌ＜９×Ｄの場合に、Ｄ’≦Ｄ／３を満足することを特徴とする。
【００１２】
請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の構成において、
被蒸着基材の幅に対応して、複数のノズル列のうちの少なくとも１つのノズル列で、端部側の放出用ノズルのノズル口を閉鎖する閉鎖プラグを取り付けることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１記載の発明によれば、前方および後方のノズル列の各放出用ノズルを、被蒸着基材の移動方向に対向して配置することにより、ノズル列を一列に配置するときと比較して、蒸着レートを向上させることができる。これにより、ノズル口の口径を小さくすることで、放出流路のコンダクタンスが小さくなることがあっても、複数列配置にすることにより、所定の蒸着レートを確保することができる。
【００１４】
請求項２記載の発明によれば、前方および後方のノズル列の各放出用ノズルを千鳥位置に配置することにより、各ノズル列において、放出用ノズルに十分なノズルピッチを確保しても、被蒸着基材の正面視における放出用ノズルを互いに接近して配置することができ、被着膜厚の均一性を向上させることができる。これにより、放出用ノズルと被蒸着基材との蒸着距離を短くすることができ、かつ被着膜厚の均一性を悪化させることなく材料の利用効率を向上させることができる。
【００１５】
請求項３記載の発明によれば、蒸着距離：Ｓとすると、各ノズル列における放出用ノズルのノズルピッチ：Ｐを、ノズル口の口径を超えてＳ×１．１１倍以下とすることにより、製品として必要な±５％以内の膜厚均一性を実現して蒸着することができる。
【００１６】
請求項４記載の発明によれば、放出用ノズルは、Ｌ≧９×Ｄの場合に、Ｄ’≦２．７×Ｄ2／Ｌが満足され、Ｌ＜９×Ｄの場合に、Ｄ’≦Ｄ／３が満足された放出用ノズルを使用することにより、ノズル口から放出される蒸発材料の拡散状態が、ｃｏｓｎθ則に従って均一になり、被着膜厚の均一性を向上させることができる。
【００１７】
請求項５記載の発明によれば、被蒸着基材の幅が狭くなる場合に、ノズル列の端部側の放出用ノズルのノズル口に、閉鎖プラグを取り付けて閉鎖することにより、無駄な蒸発材料の放出を抑制でき、ランニングコストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】（ａ）〜（ｃ）は、本発明に係る真空蒸着装置用マニホールドの実施例１を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は正面図である。
【図２】放出用ノズルを示す縦断面図である。
【図３】（ａ），（ｂ）は、インライン蒸着方式による蒸着膜厚の説明図で、（ａ）は放出用ノズルの配置を示す概略平面図、（ｂ）は膜厚を示す正面図である。
【図４】放出用ノズルのノズルピッチによる膜厚の変化を示す正面図で、（ａ）は狭いノズルピッチの場合、（ｂ）は広いノズルピッチの場合を示す。
【図５】蒸着距離に対するノズルピッチにおいて、膜厚均一性が±５％未満の範囲を示すグラフである。
【図６】放出用ノズルにおいて、（放出用ノズルの長さ：Ｌ）×（ノズル口の口径：Ｄ’）／（放出用ノズル内径：Ｄ）と、ｃｏｓｎθ則のｎ値との関係を示すグラフである。
【図７】放出用ノズルにおいて、（ノズル口の口径：Ｄ’）／（放出用ノズル内径：Ｄ）と、ｃｏｓｎθ則のｎ値との関係を示すグラフである。
【図８】本発明に係る真空蒸着装置用マニホールドの第２実施例を示す平面図である。
【図９】（ａ）〜（ｃ）は、基板の幅が変更された時のマニホールドの使用状態を示し、（ａ）は基板がセンターラインに沿って移動される場合、（ｂ）は基板がサイドラインに沿って移動される場合、（ｃ）は閉鎖プラグ装着状態の放出用ノズルの縦断面を示す。
【図１０】本発明に係る真空蒸着装置用マニホールドの第３実施例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
［実施例１］
以下、本発明に係るインライン蒸着方式の真空蒸着装置用マニホールドの実施例１を図１〜図４に基づいて説明する。
【００２０】
図１，図２に示すように、このマニホールド１１は、真空状態に保持された真空蒸着室内で、一定速度で移動される基板（被蒸着基材）１２の被蒸着面に対向して配置されるものである。マニホールド１２の対向面１１ａに、複数の放出用ノズル１３が幅方向に所定のノズルピッチＰで突設されたノズル列１４Ｆ，１４Ｒが、基板１２の移動方向の前方および後方にそれぞれ設けられている。ここで、ノズルピッチＰは、図２に示すように、各ノズル列１４Ｆ，１４Ｒで隣接する放出用ノズル１３のノズル口１５とノズル口１５との距離をいう。
【００２１】
前方および後方のノズル列１４Ｆ，１４Ｒの放出用ノズル１３は、基板１２の移動方向に対向して配置されている。これら放出用ノズル１３の先端面にノズル口１５がそれぞれ形成されている。また、るつぼ（図示せず）で蒸着材料を加熱蒸発して得られた蒸発材料を、マニホールド１１内に導入するために、マニホールド１１の反対向面に材料導入口１６が形成され、内径ｄの材料導入管１７が接続されている。
【００２２】
前方および後方のノズル列１４Ｆ，１４Ｒは、材料導入口１６に対して所定の距離をあけて配置されており、さらに基板１２の移動方向にノズル列間隔Ｌｐをあけて配置されている。前後のノズル列１４Ｆ，１４Ｒと材料導入口１６との距離は、材料導入口１６から供給された蒸発材料が不均一に放出用ノズル１３に導入されないためのものである。また前後のノズル列１４Ｆ，１４Ｒで両端部の放出用ノズル１３は、幅：Ｗｓの基板１２の両縁部に対応する位置に配置されている。
【００２３】
マニホールド１１は、材料導入口１６から導入された蒸発材料が均一に拡散可能な内部空間を有し、前後長さＬｍ、幅Ｗｍ、高さＨｍの直方体に形成され、基板対向面１１ａには、基板１２からの輻射熱を遮る冷却板（図示せず）が設置され、左右側面および前後側面に、蒸発材料の付着を防止する加熱ヒータ（図示せず）が設けられている。そして、ノズル口１５に対して基板１２が所定の蒸着距離Ｓをあけて移動される。１８はマニホールド１１の前側面に設けられた圧力検出用ポート、１９はマニホールド１１の後側面に設けられた蒸着レート検出用ポートである。
【００２４】
放出用ノズル１３は、図２に示すように、マニホールド１１の基板対向面１１ａに円筒状のノズル本体１３ａが立設され、ノズル本体１３ａの先端面に、オリフィスを形成するためにノズル口１５を有する端板１３ｂが取り付けられている。
【００２５】
各ノズル列１４Ｆ，１４Ｒにおける前記放出用ノズル１３のノズルピッチＰは、ノズル口１５の口径：Ｄ’（ｍｍ）とすると、下記の（１）式を満足するように構成されている。
【００２６】
Ｄ’＜Ｐ＜1．１１×Ｓ  …（１）式
すなわち、インライン式のマニホールド１１の放出用ノズル１３配置が、図３（ａ）に示すように、任意の基板幅をもつ被蒸着基板１２に対して（理論上）無限個数の列を成し、全ての放出用ノズル１３からの噴出流量が一定であると仮定するとき、この被蒸着基板１２の膜厚均一性は放出用ノズル１３のノズルピッチＰに依存する。図３（ｂ）に示すように、被蒸着基板１２に対する放出用ノズル１３の配列直上の膜厚分布は、放出用ノズル１３の直上に蒸着される積算膜厚が最も厚く、隣接する放出用ノズル１３との中間点（１／２Ｐ）の直上が最も薄くなる。なお、ここでＤ’＜Ｐであることから、スリット状のノズル口は含まない。そして、図４（ａ）に示すように、ノズルピッチＰが小さいと、最大膜厚と最小膜厚との膜厚差が小さくなり、図４（ｂ）に示すように、ノズルピッチＰが大きいと、最大膜厚と最小膜厚との膜厚差が大きくなる。膜厚均一性は、最大膜厚：ｄmax、最小膜厚：ｄminとした場合、下記の（２）式で表される。
【００２７】
膜厚均一性＝［（ｄmax−ｄmin）／（ｄmax＋ｄmin）］×１００（％）
…（２）式
【００２８】
このように膜厚均一性は、最大膜厚と最小膜厚に依存するため、ノズルピッチＰに依存する。そして、この膜厚均一性を±５％以内とすることで製品の品質を保持することができる。
【００２９】
図５は、放出用ノズル１３の個数を無制限、すべての放出用ノズル１３から同一量の蒸着材料を放出した場合、蒸着距離Ｓで、膜厚均一性が±５％未満となるノズルピッチＰの最大値を、シミュレーションにより表したグラフを示す。
【００３０】
図５によれば、（１）式に示すように、ノズルピッチＰを、Ｄ‘を超えて蒸着距離Ｓの１．１１倍未満とすることにより、膜厚均一性を、製品として実用性のある±５％以内とすることができる。
【００３１】
ここで、ノズルピッチＰは小さいほど膜厚の均一性は向上されるが、材料の利用効率が低下する。このため、Ｐ≦Ｄ‘となる連続状、すなわちスリット状の放出用ノズル１３は含まない。また各ノズル列１４Ｆ，１４Ｒでは、機械構造上、ノズルピッチＰは、２０ｍｍ以下は望ましくない。なお、後述する実施例２のように、ノズル列１４Ｆ，１４Ｒの放出用ノズル１３を千鳥配置とした場合、被蒸着基板１２を正面視で見た場合、限りなく０に接近させることができ、これにより膜厚均一性と材料の利用効率を両立させることができる。
【００３２】
このように、ノズルピッチＰが小さいほど、膜厚の均一性は向上するが、材料の利用効率が低下する。膜厚の均一性を±５％以内の近傍とするのであれば、ノズルピッチＰは広くして材料の利用効率を高めることができる。
【００３３】
ここで、放出用ノズル１３を、ノズル本体１３ａの内径：Ｄ（ｍｍ）、ノズル長さ：Ｌ（ｍｍ）、ノズル口１５の口径：Ｄ’（ｍｍ）とした場合、下記（３）式を満足するように構成されている。
【００３４】
Ｌ≧９×Ｄの場合、Ｄ’≦２．７×Ｄ2／Ｌ
Ｌ＜９×Ｄの場合、Ｄ’≦Ｄ／３    …（３）式
上記（３）式は、有機ＥＬ膜を形成する有機材料に対して得られる。上記（３）式を満たす場合［図６（Ｌ≧９×Ｄの場合）でＬＤ’／Ｄ2が０を超え２．７以下の領域、または図７（Ｌ＜９×Ｄの場合）でＤ’／Ｄが０を超え１／３以下の領域］において、各放出用ノズル１３のノズル口１５から基板１２に放出される蒸発材料は、cosｎθ則に従う、すなわちcosｎθ曲線に近似される。この場合、放出用ノズル１３のノズル口１５から放出された蒸発材料は、基板１２の表面（被蒸着面）に十分な広がりを持って蒸着されるので、膜厚の均一性を高めることができる。
【００３５】
図６に示すように、Ｌ≧９×Ｄの場合、Ｄ’×Ｌ／Ｄ2が０を超え２．７以下の領域では、ｎ値は約４．００〜４．２５である。また図７に示すように、Ｌ＜９×Ｄの場合、Ｄ’／Ｄが０を超え１／３以下の領域では、ｎ値は約４．０５〜４．２５である。ｃｏｓｎθ則でｎ値が小さいほど、蒸発材料は基板１２の表面に広がって蒸着し、膜厚の均一性が高められる。さらに最適には、ｎ値が約４．０５〜４．１０が好ましく、この場合、図６に示すＬ≧９×Ｄの場合、Ｄ’×Ｌ／Ｄ2が１．１を超え１．８の領域であり、図７に示すＬ＜９×Ｄの場合、Ｄ’／Ｄが０を超え０．１８の領域である。
【００３６】
ここで、図６に示すように、Ｌ≧９×Ｄの場合、Ｄ’×Ｌ／Ｄ2が２．７を超えると、または図７に示すように、Ｌ＜９×Ｄの場合、Ｄ’／Ｄが１／３を超えると、各放出用ノズル１３のノズル口１５から基板１２に放出される蒸発材料は、ｃｏｓnθ則に従わず、基板１２に均一に蒸着されない。その結果、基板１２のノズル口１５に対向する部分の膜厚が過度に厚くなり、均一性が阻害されることになる。なお、ここでノズル口１５の口径Ｄ’は、加工精度の観点から、たとえば１ｍｍ以上に設定される。
【００３７】
上記実施例１によれば、基板１２の移動方向の前方および後方に、所定のノズルピッチＰで放出用ノズル１３を配置したノズル列１４Ｆ，１４Ｒを設け、各放出用ノズル１３を、基板１２の移動方向に対向して配置することにより、蒸着速度を向上させることができる。これにより、ノズル口１５の口径を小さくし、放出流路のコンダクタンスが小さくなったとしても、複数列配置にすることで所定の蒸着レートを確保することができる。
【００３８】
また、各ノズル列１４Ｆ，１４Ｒにおける放出用ノズル１３のノズルピッチＰを、ノズル口１５の口径Ｄ’を超えて蒸着距離Ｓの１．１１倍未満とすることにより、膜厚均一性を、製品として必要な±５％以内とすることができる。
【００３９】
さらに、各放出用ノズル１３において、Ｌ≧９×Ｄの場合に、Ｄ’≦２．７×Ｄ2／Ｌが満足され、Ｌ＜９×Ｄの場合に、Ｄ’≦Ｄ／３が満足された放出用ノズルを使用することにより、ノズル口１５から放出される蒸発材料の拡散状態が、ｃｏｓnθ則に従って均一になり、被着膜厚の均一性を向上させることができる。
【００４０】
［実施例２］
図８，図９は、真空蒸着装置用マニホールドの実施例２を示している。この実施例２では、実施例１と同一部材には同一符号を付して、説明を省略する。
【００４１】
単一のマニホールド１１の基板１２の対向面に、ノズル口１５を有する複数の放出用ノズル１３が幅方向に所定のノズルピッチＰで突設されたノズル列１４Ｆ，１４Ｒが、基板１２の移動方向の前方および後方にそれぞれ設けられている。これら前方および後方のノズル列１４Ｆ，１４Ｒの放出用ノズル１３は、前方のノズル列１４Ｆの放出用ノズル１３に対して後方のノズル列１４Ｆの放出用ノズル１３が、１／２Ｐ位置ずれした千鳥位置に配置されている。
【００４２】
放出用ノズル１３の構成は、実施例１と同様である。
図９は、実施例２において、通常時の幅：Ｗｓの基板１２に対して、狭い幅Ｗｎの基板１２ｓを成膜する時の使用状態を示す。このような場合、ノズル列１４Ｆ，１４Ｒの端部の放出用ノズル１３Ｅから放出される蒸発材料が無駄に放出されるため、図９（ｃ）に示すように、端部の放出用ノズル１３Ｅに閉鎖プラグ２１を装着し、蒸発材料を放出しないで蒸着を行う。
【００４３】
この実施例２では、前方のノズル列１４Ｆの放出用ノズル１３の設置数に対して、後方のノズル列１４Ｆの放出用ノズル１３が１個少ない。たとえば図９（ａ）に示すように、センターラインＣＬを基準として基板１２ｓを移動させる場合には、放出用ノズル１３の設置数が多い前方のノズル列１４Ｆで両端側の放出用ノズル１３Ｅに閉鎖プラグ２１を装着し、蒸発材料を放出させないで、蒸着を行う。またサイドラインＳＬを基準として基板１２ｓを移動させる場合には、前方のノズル列１４ＦでサイドラインＳＬと反対側の２個の放出用ノズル１３Ｅと、後方のノズル列１４ＦでサイドラインＳＬと反対側の１個の放出用ノズル１３Ｅに閉鎖プラグ２１を装着し、蒸発材料を放出させないで、蒸着を行う。これにより、幅の狭い基板１２ｓを蒸着する場合であっても、無駄な蒸発材料の放出を無くして、蒸着材料の利用効率を向上させることができる。もちろん、この閉鎖プラグ２１を実施例１の放出用ノズル１３に装着することもできる。
【００４４】
上記実施例２によれば、基板１２の移動方向の前方および後方に、所定のノズルピッチＰで放出用ノズル１３を配置したノズル列１４Ｆ，１４Ｒを設け、各放出用ノズル１３を、幅方向に位置ずれした千鳥状に配置することにより、放出用ノズル１３を互いに近接させることなく多くのノズル口１５を設けることができる。これにより、ノズル口１５と基板１２との蒸着距離を短くすることができ、かつ被着膜厚の均一性を保持できて材料の利用効率を向上させることができる。
【００４５】
また、幅の狭い基板１２ｓを蒸着する場合には、ノズル列１４Ｆ，１４Ｒの端部側の放出用ノズル１３Ｅに閉鎖プラグ２１を装着することで、蒸発材料の無駄な放出を無くして、蒸発材料の利用効率を向上させることができる。
【００４６】
［実施例３］
図１０は、真空蒸着装置用マニホールドの実施例３を示す。先の実施例１，２と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００４７】
このマニホールド１１の基板対向面１１ａに、前方および後方のノズル列１４Ｆ，１４Ｒを配置するとともに、これらノズル列１４Ｆ，１４Ｒをそれぞれ前後２列１４Ｆｆ，１４Ｆｒとしたものである。そして、各前列１４Ｆｆの放出用ノズル１３は、後列１４Ｆｒの放出用ノズル１３に対して、基板１２の移動方向に１／２Ｐずらして千鳥位置に配置されている。
【００４８】
上記実施例３によれば、実施例１および実施例２と同様の作用効果を奏することができる。
【符号の説明】
【００４９】
１１    マニホールド
１１ａ  基板対向面
１２    基板（被蒸着基材）
１３    放出用ノズル
１３ａ  ノズル本体
１３ｂ  端板
１４Ｆ    前方のノズル列
１４Ｒ    後方のノズル列
１５    ノズル口
１６    材料導入口
１７    材料導入管
１８    圧力検出ポート
１９    蒸着レート検出用ポート
２１    閉鎖プラグ
Ｌｐ  ノズル列ピッチ
Ｄ    ノズル本体の内径
Ｄ’  ノズル口の口径
Ｌ    ノズル本体の長さ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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