(57)【要約】【課題】良好な光反射性を示すとともに、耐剥離性や耐湿性にも優れた光反射部材を提供する。【解決手段】基材１と、銀を含み、厚さ２０ｎｍ以上の反射層３と、基材１と反射層３との間に形成される第一保護層２（第一の層）と、反射層３の、第一保護層２（第一の層）とは反対側に形成される第二保護層４（第二の層）と、を備え、第一保護層２（第一の層）及び第二保護層４（第二の層）のうちの少なくとも一方は、アモルファスの硫化亜鉛を含んでいることを特徴とする、光反射部材１０。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
銀を含み、厚さ２０ｎｍ以上の反射層と、
前記基材と前記反射層との間に形成される第一の層と、
前記反射層の、前記第一の層とは反対側に形成される第二の層と、を備え、
前記第一の層及び前記第二の層のうちの少なくとも一方は、アモルファスの硫化亜鉛を含んでいることを特徴とする、光反射部材。
【請求項２】
前記アモルファスの硫化亜鉛を含んでいる層は、
硫化亜鉛と、
金属酸化物、金属フッ化物及び金属窒化物からなる群より選ばれる少なくとも一種の金属材料と、
を含んでいることを特徴とする、請求項１に記載の光反射部材。
【請求項３】
前記第一の層及び前記第二の層のうちの少なくとも一方における、前記アモルファスの硫化亜鉛を含む層の厚さが４０ｎｍ以上であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の光反射部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光反射部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
光の反射性に優れる銀は、光反射部材の材料として使用されている。このような反射部材は、例えば、太陽電池近傍に設置され、太陽光を効率的に集光する集光用の用途や、自動車のヘッドライト等の近傍に設置され、ライトから発せられる光を反射させて外部に放出させる用途等に用いられている。また、フィルム状の基材を用いて構成された光反射部材は、所謂フィルムミラーとしても用いられている。
【０００３】
銀を用いた光反射部材に関する技術として、例えば特許文献１に記載の技術が知られている。特許文献１には、銀層、遮蔽層及び硫化亜鉛層を備える光反射部材が記載されている。また、特許文献２及び非特許文献１には、銀層を含む透明導電性フィルムにおいて、硫化亜鉛に二酸化ケイ素を含有させた層（ＺｎＳ−ＳｉＯ２）を形成することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平０６−３１３８０３号公報
【特許文献２】中国特許出願公開第１０２６７７０１２号
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Applied Surface Science, 263, p.546-552 (2012)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
銀を用いて光反射部材を作製する際、銀を含む反射層による光反射性を十分に確保する観点から、反射層の厚みは十分に厚いことが好ましい。しかしながら、反射層の厚みを厚くすればするほど、特に、反射層に接触している層が反射層から剥離し易くなる傾向にある。中でも、光反射部材は振動が発生し易い場所に設置されることがあり、振動によって層の剥離が生じることで、光反射部材の性能低下の原因となる。また、フィルム状の光反射部材（フィルムミラー）は折り曲げ可能であるが、フィルムミラーの折り曲げを繰り返すことでも、このような剥離が生じることがある。即ち、従来の技術では、耐剥離性（密着性）に課題があり、例えばフィルムミラーの寿命が短くなり易いという課題がある。
【０００７】
また、例えば高温多湿な場所で光反射部材を使用する場合の水分や、大気中及び光反射部材を構成する層に含まれうる硫化物や酸素、ハロゲン等によって、銀を含む反射層が劣化し易い。即ち、銀を含む反射層は、使用環境や光反射部材の層構成によっては、耐久性に課題がある。
【０００８】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、良好な光反射性を示すとともに、耐剥離性や耐久性にも優れた光反射部材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは前記課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、以下の知見を見出した。即ち、本発明の要旨は、以下の通りである。
【００１０】
１．基材と、
銀を含み、厚さ２０ｎｍ以上の反射層と、
前記基材と前記反射層との間に形成される第一の層と、
前記反射層の、前記第一の層とは反対側に形成される第二の層と、を備え、
前記第一の層及び前記第二の層のうちの少なくとも一方は、アモルファスの硫化亜鉛を含んでいることを特徴とする、光反射部材。
【００１１】
２．前記アモルファスの硫化亜鉛を含んでいる層は、
硫化亜鉛と、
金属酸化物、金属フッ化物及び金属窒化物からなる群より選ばれる少なくとも一種の金属材料と、
を含んでいることを特徴とする、前記１に記載の光反射部材。
【００１２】
３．前記第一の層及び前記第二の層のうちの少なくとも一方における、前記アモルファスの硫化亜鉛を含む層の厚さが４０ｎｍ以上であることを特徴とする、前記１又は２に記載の光反射部材。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、良好な光反射性を示すとともに、耐剥離性や耐久性にも優れた光反射部材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態の光反射部材を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を実施するための形態（本実施形態）を説明する。ただし、本実施形態は以下の内容に何ら制限されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で任意に変更して実施可能である。
【００１６】
［１．光反射部材］
本実施形態の光反射部材１０は、図１に示すように、基材１と、銀を含み、厚さ２０ｎｍ以上の反射層３と、基材１と反射層３との間に形成される第一保護層２（第一の層）と、反射層３の、第一保護層２（第一の層）とは反対側に形成される第二保護層４（第二の層）と、を備えるものである。なお、本実施形態では、第一保護層２（第一の層）及び第二保護層４（第二の層）の双方が、アモルファスの硫化亜鉛を含んでいる。ただし、詳細は後記するが、第一保護層２（第一の層）及び第二保護層４（第二の層）の双方にアモルファスの硫化亜鉛が含まれる必要はなく、少なくともいずれか一方にアモルファスの硫化亜鉛が含まれていればよい。
【００１７】
（基材１）
基材１は、第一保護層２、反射層３、第二保護層４等を支持するものである。基材１は、これらの各層を支持できるものであれば、どのような形状であってもよく、また、どのような材料で構成されてもよい。基材１の形状としては、例えば板状、フィルム状、レンズ状等が挙げられるほか、任意の構造物が挙げられる。また、基材１を構成する材料としては、例えばガラスや樹脂等が挙げられる。これらの中でも、取扱い性や汎用性の観点から、基材１は樹脂フィルムであることが好ましい。
【００１８】
樹脂フィルムとしては、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等が挙げられる。これらは一種が単独で用いられてもよく、二種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。
【００１９】
これらの中でも、基材１としては、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、セルロースエステル系フィルム及びアクリルフィルムが好ましく、ポリエステル系フィルム及びアクリルフィルムがより好ましい。なお、樹脂フィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【００２０】
基材１の厚さは特に制限されない。従って、基材１の厚さは、光反射部材１０の用途等に応じて、適宜設定すればよい。基材１の厚さとしては、例えば、通常１０μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上、より好ましくは３０μｍ以上、また、通常３００μｍ以下、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下である。
【００２１】
（第一保護層２）
第一保護層２は、基材１の表面に形成され、アモルファスの硫化亜鉛を含んでいるものである。これにより、基材１を透過した、又は基材１自体に含まれる水分等が反射層３に到達することをより確実に防止することができ、より高い耐久性を得ることができる。また、基材１と反射層３とを連結する役割を第一保護層２に担わせることで、光反射部材１０の耐剥離性をより向上させることができる。
【００２２】
ただし、第一保護層２及び第二保護層４（後記する）の双方がアモルファスの酸化亜鉛を含むことが好ましいものの、第一保護層２及び第二保護層４のうちの少なくとも一方がアモルファスの硫化亜鉛を含んでいればよく、必ずしも第一保護層２にアモルファスの硫化亜鉛が含まれている必要はない。従って、後記する第二保護層４がアモルファスの硫化亜鉛を含んでいれば、第一保護層２にアモルファスの硫化亜鉛が必ずしも含まれている必要はない。
【００２３】
第一保護層２に含まれる硫化亜鉛は、どのような方法でアモルファスにしてもよい。例えば、結晶性の硫化亜鉛に対し、任意の酸化物やフッ化物、窒化物からなる材料を含有させ（ドープし）、硫化亜鉛の結晶性を破壊することで、アモルファスの硫化亜鉛とすることができる。このような酸化物、フッ化物及び窒化物材料としては、特に制限はないが、金属（半金属（ケイ素等）を含む。以下同じ）の酸化物（金属酸化物）、フッ化物（金属フッ化物）及び窒化物（金属窒化物）が好ましい。以下、「金属酸化物、金属フッ化物及び金属窒化物」のことをまとめて、適宜「アモルファス化金属材料」という。
【００２４】
ここで、アモルファス化金属材料を用いることで、硫化亜鉛をアモルファス化することができる理由について説明する。と結晶性の硫化亜鉛とアモルファス化材料とを含む材料が成膜されると、成膜された膜において、同種の材料同士（硫化亜鉛同士、アモルファス化材料同士）で集合する傾向にある。成膜された膜において硫化亜鉛が結晶化する（結晶成長する）ためには、硫化亜鉛同士の結合が長周期連続して存在することが好ましい。しかし、本実施形態では、膜中にアモルファス化材料も含まれているため、硫化亜鉛結合は、アモルファス化材料が存在する領域との界面で切断される。その結果、硫化亜鉛の長周期の連続結合が分断され、非結晶質、つまりアモルファス化された硫化亜鉛の膜が生成する。
【００２５】
特に、本実施形態では、アモルファス化材料として、金属酸化物、金属フッ化物及び金属窒化物が用いられている。これらの含まれる酸素やフッ素、窒素のような元素は、水素や塩素と比較して、硫化亜鉛に含まれる亜鉛と化学結合し易い。さらには、酸素や窒素、フッ素の電気陰性度は、ホウ素やリン等の電気陰性度よりも大きいため、硫化亜鉛に含まれる亜鉛に対していっそう化学結合し易い。従って、アモルファス化材料として金属酸化物、金属フッ化物及び金属窒化物を用いることで、硫化亜鉛に含まれる亜鉛と、アモルファス化材料に含まれる酸素やフッ素、窒素との間での橋渡しが特に促される。その結果、前記のアモルファス化材料を用いることで、硫化亜鉛の結晶中にアモルファス化材料が侵入し、硫化亜鉛の結晶構造がより切断され易くなり、硫化亜鉛のアモルファス化が特に促進されることになる。
【００２６】
アモルファス化金属材料を用いてアモルファスにした硫化亜鉛は、より良好な光透過性を有する。そのため、第一保護層２を設けることによる反射率の低下を、十分に抑制することができる。第一保護層２中のアモルファス化金属材料の含有量は、適宜変更可能であり、これにより、光の屈折率が変更可能である。そのため、光の透過度を所望のものにすることができる。具体的には例えば、第一保護層２に例えば硫化亜鉛よりも屈折率の高い透明材料であるＴｉＯ２やＮｂ２Ｏ５を含有させることで、アモルファス化していない（即ち結晶性の）硫化亜鉛単体からなる保護層と比べて、反射帯域を拡げることができる。これにより、光反射部材１０の光学特性の調整が容易になる。
【００２７】
さらには、これらを用いてアモルファスにした硫化亜鉛はより良好な耐久性を有する。そのため、後記する反射層３の保護をより確実に行うことができる。また、Ｓｉ３Ｎ４やＡｌ２Ｏ３などを含有させることで、本実施形態の光反射部材１０の擦傷性を改善させることが可能になる。
【００２８】
金属酸化物の具体例としては、ＴｉＯ２、Ｉｎ２Ｏ5、ＺｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＣｅＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｔｉ３Ｏ５、Ｔｉ４Ｏ７、Ｔｉ２Ｏ３、ＴｉＯ、ＳｎＯ２、Ｌａ２Ｔｉ２Ｏ７、ＩＴＯ（ＩｎＳｎＯ）、ＩＧＺＯ（ＩｎＧａＺｎＯ）、ＩＺＯ（ＩｎＺｎＯ）、ＡＺＯ（ＡｌＺｎＯ）、ＧＺＯ（ＧａＺｎＯ）、ＡＴＯ（ＡｌＳｎＯ）、ＩＣＯ（ＩｎＣｅＯ）、Ｂｉ２Ｏ３、ａ−ＧＩＯ（ＧａＩｎＯ）、Ｇａ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＳｉＯ、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＷＯ３等が挙げられる。
【００２９】
これらの中でも、ＳｉＯ２及びＴｉＯ２が好ましい。ＳｉＯ２を用いる場合、その含有量が少量でも、硫化亜鉛のアモルファス化が可能である。そのため、ＳｉＯ２を含有させることで、硫化亜鉛のアモルファス化後に、高い密着性（耐剥離性）や高い耐久性（例えば耐湿性等）を特に良好に奏させることができる。また、ＴｉＯ２は透明材料の中でも特に高屈折率を示すため、ＴｉＯ２を用いることで、反射帯域を広くして反射率を高め、反射特性を向上させることができる。
【００３０】
また、金属フッ化物の具体例としては、ＬａＦ３、ＢａＦ２、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、Ｎａ３ＡｌＦ６、ＡｌＦ３、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＣｅＦ３、ＮｄＦ３、ＹＦ３等が挙げられる。
【００３１】
さらに、金属窒化物の具体例としては、Ｓｉ３Ｎ４、ＡｌＮ等が挙げられる。これらの中でも、Ｓｉ３Ｎ４が好ましい。Ｓｉ３Ｎ４は硬度が高いため、Ｓｉ３Ｎ４を用いることで、第一保護層２の耐擦傷性を向上させることができる。
【００３２】
なお、これらは一種が単独で用いられてもよく、二種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。
【００３３】
アモルファスの硫化亜鉛を得るために、結晶性の硫化亜鉛に対して含有させるアモルファス化金属材料の量に特に制限はない。例えば、アモルファス化金属材料の種類によっても異なるため一概にはいえないものの、アモルファス化金属材料として二酸化ケイ素を用いる場合、結晶性の硫化亜鉛に対して、通常１質量％以上、好ましくは５質量％以上、また、通常９９質量％以下、好ましくは９５質量％以下の二酸化ケイ素を含有させることで、アモルファスの硫化亜鉛とすることができる。
【００３４】
第一保護層２に含まれるアモルファスの硫化亜鉛の量に特に制限はないが、第一保護層２がアモルファスの硫化亜鉛からなることが好ましい。即ち、第一保護層２を構成する材料の全てがアモルファスの硫化亜鉛であることが好ましい。これにより、耐久性や耐剥離性等をよりいっそう向上させることができる。
【００３５】
第一保護層２の厚さは、特に制限は無いものの、できるだけ厚いことが好ましい。具体的には、２０ｎｍ以上とすることが好ましく、４０ｎｍ以上とすることがより好ましく、８５ｎｍ以上とすることがよりさらに好ましい。第一保護層２の厚さをこの範囲とすることで、特に耐剥離性をより向上させることができる。
【００３６】
（反射層３）
反射層３は、第一保護層２の、基材１とは反対側表面に形成され、外部から入射した光を反射させて、外部に放出するものである。反射層３は銀を含む。反射層３に銀が含まれることにより、３７０ｎｍ以上の波長の光（可視光や赤外線等）について、特に高い反射率を得ることができる。
【００３７】
反射層３には、本発明の効果を著しく損なわない範囲で、銀以外の材料が含まれていてもよい。また、その含有量も、本発明の効果を著しく損なわない範囲で任意に設定可能である。含まれていてもよい材料としては、例えば、ビスマス、パラジウム、銅、金、ニッケル、アルミニウム、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウム、ネオジウム、等の金属が挙げられる。これらは一種が単独で含まれていてもよく、二種以上が任意の比率及び組み合わせで含まれていてもよい。
【００３８】
これらの中でも、反射層３には、銀に加えて、ビスマス、パラジウム及び銅からなる少なくとも一種が含まれることが好ましい。このとき、反射層３には、銀の単体又は化合物と、ビスマスやパラジウム、銅の単体又は化合物とが併存する形態でもよく、銀とこれらの金属のうちの少なくとも一種との合金の形態で含まれていてもよい。中でも、反射層３には、銀とこれらの金属のうちの少なくとも一種との合金が含まれていることが好ましく、反射層３が銀とこれらの金属のうちの少なくとも一種との合金からなることが好ましい。即ち、反射層３を構成する材料の全てが、銀とこれらの金属のうちの少なくとも一種との合金であることが好ましい。反射層３にこれらの金属のうちの少なくとも一種が含まれることで、光反射部材１０の耐久性や耐剥離性等をよりいっそう向上させることができる
【００３９】
反射層３の厚さは２０ｎｍ以上であるが、より良好な反射率を得る観点から、できるだけ厚いことが好ましい。具体的には、好ましくは８０ｎｍ以上である。ただし、フィルム状の光反射部材としたときに良好なフレキシブル性能を得る観点から、好ましくは４００ｎｍ以下、より好ましくは３００ｎｍ以下、よりさらに好ましくは２５０ｎｍ以下である。
【００４０】
（第二保護層４）
第二保護層４は、反射層３の、第一保護層２とは反対側表面に形成されているものである。第二保護層４は、本実施形態では前記の第一保護層２と同様の構成（組成や厚さ等）を有するものであるため、その説明は省略する。ただし、前記のように、第一保護層２及び第二保護層４のうちの少なくとも一方がアモルファスの硫化亜鉛を含んでいればよい。従って、前記の第一保護層２がアモルファスの硫化亜鉛を含んでいれば、第二保護層４にアモルファスの硫化亜鉛が必ずしも含まれている必要はない。
【００４１】
また、前記のように第一保護層２の厚さは４０ｎｍ以上が好ましく、第二保護層４の厚さも４０ｎｍ以上が好ましい。ただし、第一保護層２及び第二保護層４の双方の厚さが４０ｎｍ以上である必要は必ずしもなく、これらのうちの少なくとも一方の厚さが４０ｎｍ以上であることで、十分に良好な性能が得られる。
【００４２】
（その他の層）
本実施形態の光反射部材１０においては、図１に示すように、前記の基材１表面に３つの層（第一保護層２、反射層３及び第二保護層４）が形成されているが、光反射部材１０には、これらの層以外にも、本発明の効果を著しく損なわない範囲で、任意の層が形成されていてもよい。
【００４３】
即ち、反射層３の両面側にそれぞれ少なくとも一層（第一の層及び第二の層。本実施形態では第一保護層２及び第二保護層４）が形成されていればよく、他の層は任意である。また、前記のように、第一の層及び第二の層のうちの少なくとも一方が、アモルファスの硫化亜鉛を含んで構成されていればよく、これらの層のうちのアモルファスの硫化亜鉛を含まない層の構成も任意である。従って、光反射部材１０に形成される他の層、及び、第一の層及び第二の層のうちのアモルファスの硫化亜鉛を含まない層として、例えば以下の層が挙げられる。
【００４４】
例えば、第一保護層２と反射層３との間や、反射層３と第二保護層４との間に、中間層を形成することができる。中間層は、第一保護層２や第二保護層４と反射層３とが直接接触することを避けるために形成される。これにより、第一保護層２や第二保護層４に含まれる硫黄と反射層３に含まれる銀とが化学反応して黒色の硫化銀になることによる光反射性低下を、より確実に防止できる。
【００４５】
中間層を構成する材料は特に制限されない。例えば、このような材料としては、第一保護層２や第二保護層４と密着性が高く、反射層３と化学的に反応しないものが好ましい。具合的には例えば、ＺｎＯ、ＩＴＯ、ＩＧＺＯ、Ｇａ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＳｎＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｍ３（登録商標、メルクジャパン社製、酸化アルミニウムと酸化ランタンとの混合物）、ＴｉＯ２、Ｉｎ２Ｏ5、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＣｅＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｔｉ３Ｏ５、Ｔｉ４Ｏ７、Ｔｉ２Ｏ３、ＴｉＯ、Ｌａ２Ｔｉ２Ｏ７、ＩＺＯ、ＡＺＯ、ＧＺＯ、ＡＴＯ、ＩＣＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ａ−ＧＩＯ、ＧｅＯ２、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＳｉＯ、ＭｇＯ、ＷＯ３、等の金属酸化物、ＬａＦ３、ＢａＦ２、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、Ｎａ３ＡｌＦ６、ＡｌＦ３、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＣｅＦ３、ＮｄＦ３、ＹＦ３等の金属フッ化物、Ｓｉ３Ｎ４、ＡｌＮ等の金属窒化物が挙げられる。これらは一種が単独で用いられてもよく、二種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。
【００４６】
これらの中でも、中間層を構成する材料としては、金属酸化物が好ましく、中でも、ＺｎＯ、ＩＴＯ、ＩＧＺＯ、Ｇａ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＳｎＯ２、Ｙ２Ｏ３及びＭ３が好ましい。これらにより構成される中間層を形成することで、第一保護層２や第二保護層４に含まれる、硫化亜鉛との密着性をより高め、耐久性をより向上させることができる。
【００４７】
中間層の厚さは特に制限されないものの、他の層の層構成によっても異なるため一概にはいえないが、例えば通常０．１ｎｍ以上、好ましくは１ｎｍ以上、また、通常１０ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以下とすることができる。この程度の厚さとすることで、第一保護層２や第二保護層４と反射層３とが直接接触することをより確実に防止することができる。
【００４８】
中間層の他にも、以下のような層の形成が可能である。例えば、光反射部材１０のガスバリア性を向上させる観点から、例えば無機酸化物（酸化チタンや酸化インジウム錫等）を含むガスバリア層が形成されていてもよい。また、例えば、光反射部材１０に防汚性及びハードコート性を付与する観点から、例えばアクリル樹脂を含む防汚ハードコート層が形成されてもよい。さらに、例えば、反射率をよりいっそう向上させるために、二酸化ケイ素の層と酸化チタンの層とを組み合わせた増反射層が形成されてもよい。この増反射層に含まれる酸化チタンは、例えば硫化亜鉛を含む酸化チタンに代えられてもよく、硫化亜鉛を含む窒化ケイ素に代えられてもよい。また、例えば、光反射部材１０の耐候性を向上させる観点から、紫外線吸収剤を含む紫外線吸収層が形成されていてもよい。
【００４９】
［２．光反射部材の製造方法］
光反射部材１０は、任意の方法により製造することができる。例えば、基材１表面に形成される各層は、例えば湿式法及び乾式法のどちらでも形成することができる。湿式法とは、メッキ法及び塗布法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法や金属を含有する溶媒を塗布し、乾燥、焼結することで膜を形成する方法である。具体的には、例えば銀からなる反射層３を形成するときには、銀鏡反応や銀微粒子塗布が利用可能である。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称である。具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンビームアシスト真空蒸着法等の蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等が挙げられる。これらは二種以上を適宜組み合わせて行ってもよい。また、使用する形成装置や形成条件は、所望の形成方法に応じて適宜決定すればよい。
【００５０】
これらの中でも、スパッタ法や蒸着法等の乾式法が好ましく、中でもスパッタ法が好ましい。スパッタ法は粒子の運動エネルギが蒸着法に比べて高いため、各層同士がより密着し、耐久性や耐剥離性等をより向上させることができる。従って、例えばスパッタ法を用いて図１に示す光反射部材１０を製造する場合、基材１表面に第一保護層２をスパッタリングにより形成した後、次いで、反射層３及び第二保護層４をこの順でスパッタリングにより順次形成することで、図１に示す光反射部材１０を製造することができる。
【００５１】
［３．光反射部材の用途］
本実施形態の光反射部材１０は、任意の用途に適用可能である。特に、本実施形態の光反射部材１０は、良好な光の反射性や耐久性を示す。従って、本実施形態の光反射部材１０は、これらの性能が利用される用途に好適である。具体的には例えば、本実施形態の光反射部材１０は、太陽光集光鏡や太陽光発電用反射装置等の、太陽光を集光する用途に好適である。
【００５２】
さらには、本実施形態の光反射部材１０は、耐剥離性にも優れている。従って、例えば時間に応じて太陽電池の方向が変化する装置に装着される場合等、振動が発生して剥離がし易い場所でも剥離することなく設置が可能である。また、本実施形態の光反射部材１０は、振動に晒される装置を構成する部品（例えば車載用光学部品）としても良好に使用可能である。
【実施例】
【００５３】
以下、実施例を挙げて、本実施形態をより具体的に説明する。
【００５４】
実施例１〜１０並びに比較例１及び２の光反射部材を作製した。そして、それぞれの光反射部材について、各性能評価を行った。
【００５５】
［１．光反射部材の作製］
＜実施例１＞
図１に示す基材１として、厚み１５μｍのＰＥＴフィルムを用いた。そして、基材１上に、ＡＮＥＬＶＡ社製Ｌ−４３０Ｓ−ＦＨＳのマグネトロンスパッタ装置を用いたスパッタ法により、アモルファスの硫化亜鉛からなる第一保護層２を形成した。具体的には、二酸化ケイ素を２０質量％含有した合金をターゲットとして用いて、アルゴン雰囲気で真空度２．５×１０−１Ｐａとし、室温でターゲット側電力２００ＷのＤＣスパッタを行った。成膜は、０．５ｎｍ／秒の成膜レートで行った。これにより、第一保護層２を形成した。第一保護層２の厚さは２０ｎｍとした。
【００５６】
形成された第一保護層２の表面に、第一保護層２の形成と同様にして、銀からなる反射層３を形成した。反射層３の厚さは２０ｎｍとした。さらに、反射層３の表面に、第一保護層２の形成と同様にして、前記の第一保護層２と同様の組成を有する第二保護層４を形成した。第二保護層４の厚さは２０ｎｍとした。これらのようにして、実施例１の光反射部材を作製した。
【００５７】
＜実施例２＞
実施例１の第二保護層４の厚さを４０ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、実施例２の光反射部材を作製した。
【００５８】
＜実施例３＞
実施例１の第一保護層４の厚さを４０ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、実施例３の光反射部材を作製した。
【００５９】
＜実施例４＞
実施例１の反射層３の厚さを８０ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、実施例４の光反射部材を作製した。
【００６０】
＜実施例５＞
実施例４の第一保護層２の厚さを４０ｎｍとし、第二保護層４の厚さを８５ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、実施例５の光反射部材を作製した。
【００６１】
＜実施例６＞
実施例４と同様にして、基材１表面にアモルファスの硫化亜鉛からなる第一保護層２及び反射層３を形成した。ただし、第一保護層２の厚さは４０ｎｍとし、反射層３の厚さは８０ｎｍとした。次いで、反射層３の表面に、第一保護層２の形成と同様にして、酸化チタンからなる層を形成した。この層の厚さは１００ｎｍとした。そして、酸化チタンからなる層の表面に、厚さ１０μｍの防汚ハードコート層を形成した。
【００６２】
以上のようにして、実施例６の光反射部材を作製した。即ち、実施例６の光反射部材は、前記の実施例１の光反射部材における第二保護層４が形成されず、代わりに酸化チタンからなる層が形成されている。
【００６３】
＜実施例７＞
まず、実施例６と同様にして、基材１表面に酸化チタンからなる層を形成した。この層の厚さは１００ｎｍとした。次いで、実施例６と同様にして反射層３（厚さ８０ｎｍ）を形成した。最後に、実施例６と同様にして、アモルファスの硫化亜鉛からなる第二保護層４を形成した。第二保護層４の厚さは４０ｎｍとした。
【００６４】
＜実施例８＞
実施例５の光反射部材において、第一保護層２と反射層３との間に第一中間層（中間層）を、また、反射層３と第二保護層４との間に第二中間層（中間層）を形成したこと以外は実施例５と同様にして、実施例７の光反射部材を作製した。
【００６５】
即ち、実施例５と同様にして基材１表面に第一保護層２を形成した。次いで、形成された第一保護層２表面に、第一保護層２の形成と同様にして、酸化亜鉛からなる第一中間層を形成した。第一中間層の厚さは３ｎｍとした。そして、形成された第一中間層の表面に、実施例５と同様にして反射層３を形成し、その後、第一中間層と同様にして、酸化亜鉛からなる第二中間層を形成した。第二中間層の厚さは３ｎｍとした。最後に、実施例５と同様にして、第二保護層４を形成した。
【００６６】
＜実施例９＞
実施例５の銀に代えて、銀−ビスマス合金（ビスマスの構成比率として１質量％）を用いたこと以外は実施例５と同様にして、実施例８の光反射部材を作製した。
【００６７】
＜実施例１０＞
実施例８の銀に代えて、銀−ビスマス合金（実施例９で用いた組成と同様）を用いたこと以外は実施例８と同様にして、実施例９の光反射部材を作製した。
【００６８】
＜実施例１１＞
前記の実施例１０の光反射部材において、形成された第二保護層４の表面に、厚さ２ｎｍの二酸化ケイ素からなる層、厚さ１６ｎｍの酸化チタンからなる層、厚さ８０ｎｍの二酸化ケイ素からなる層、及び、厚さ７８ｎｍの酸化チタンからなる層（これらは増反射層である）をこの順でさらに形成したこと以外は実施例１０と同様にして、実施例１１の光反射部材を作製した。なお、二酸化ケイ素からなる層、及び、酸化チタンからなる層は、いずれも、第一保護層と同様にして形成した。
【００６９】
＜実施例１２＞
実施例４の光反射部材と同様の層構成の光反射部材を、スパッタ法に代えて、オプトラン社製の蒸着装置Ｇｅｎｅｒを用いた蒸着法により作製した。具体的には、真空度１×１０−３Ｐａ、導入ガスなしの状態で２１０Ａ、レート２．５ｎｍ／秒の条件で抵抗加熱を用いて成膜を行った。これにより、実施例１２の光反射部材を作製した。なお、膜厚は水晶振動子を用いて測定を行った。
【００７０】
＜実施例１３＞
実施例５の光反射部材と同様の層構成の光反射部材を、スパッタ法に代えて、蒸着法により作製した。具体的には、前記の実施例１２の装置を用いて各層を形成し、実施例１３の光反射部材を作製した。
【００７１】
＜実施例１４＞
実施例８の光反射部材と同様の層構成の光反射部材を、スパッタ法に代えて、蒸着法により作製した。具体的には、前記の実施例１２の装置を用いて各層を形成し、実施例１４の光反射部材を作製した。
【００７２】
＜実施例１５＞
実施例９の銀−ビスマス合金に代えて、フルヤ金属社製ＡＰＣ（銀−パラジウム−銅合金）を用いたこと以外は実施例９と同様にして、実施例１５の光反射部材を作製した。
【００７３】
＜実施例１６＞
実施例１０の銀−ビスマス合金に代えて、フルヤ金属社製ＡＰＣ（銀−パラジウム−銅合金）を用いたこと以外は実施例１０と同様にして、実施例１６の光反射部材を作製した。
【００７４】
＜実施例１７＞
実施例１０の銀−ビスマス合金に代えて、フルヤ金属社製ＡＰＣ（銀−パラジウム−銅合金）を用いたこと以外は実施例１１と同様にして、実施例１７の光反射部材を作製した。
【００７５】
＜実施例１８＞
実施例５の二酸化ケイ素に代えて、酸化チタンを用いたこと以外は実施例５と同様にして、実施例１８の光反射部材を作製した。
【００７６】
＜実施例１９＞
実施例８の二酸化ケイ素に代えて、酸化チタンを用いたこと以外は実施例８と同様にして、実施例１９の光反射部材を作製した。
【００７７】
＜実施例２０＞
実施例１１の第一保護層２及び第二保護層４の形成時に用いた二酸化ケイ素に代えて酸化チタンを用い、反射層３を構成する銀−ビスマス合金に代えて銀を用い、さらには、第二保護層４の外側に形成された酸化チタンの層に代えて酸化チタンが添加された硫化亜鉛を用いたこと以外は実施例１１と同様にして、実施例２０の光反射部材を作製した。
【００７８】
＜実施例２１＞
実施例５の二酸化ケイ素に代えて、窒化ケイ素を用いたこと以外は実施例５と同様にして、実施例２１の光反射部材を作製した。
【００７９】
＜実施例２２＞
実施例８の二酸化ケイ素に代えて、窒化ケイ素を用いたこと以外は実施例８と同様にして、実施例２２の光反射部材を作製した。
【００８０】
＜実施例２３＞
実施例２０の酸化チタンに代えて窒化ケイ素を用いたこと以外は実施例２０と同様にして、実施例２３の光反射部材を作製した。
【００８１】
＜実施例２４＞
実施例８の酸化亜鉛に代えてＩＴＯを用いたこと以外は実施例８と同様にして、実施例２４の光反射部材を作製した。
【００８２】
＜実施例２５＞
実施例８の酸化亜鉛に代えてＩＧＺＯを用いたこと以外は実施例８と同様にして、実施例２５の光反射部材を作製した。
【００８３】
＜実施例２６＞
実施例８の酸化亜鉛に代えてＧａ２Ｏ３を用いたこと以外は実施例８と同様にして、実施例２６の光反射部材を作製した。
【００８４】
＜実施例２７＞
実施例８の酸化亜鉛に代えてＮｂ２Ｏ５を用いたこと以外は実施例８と同様にして、実施例２７の光反射部材を作製した。
【００８５】
＜実施例２８＞
実施例８の酸化亜鉛に代えてＳｎＯ２を用いたこと以外は実施例８と同様にして、実施例２８の光反射部材を作製した。
【００８６】
＜実施例２９＞
実施例８の酸化亜鉛に代えてＹ２Ｏ３を用い、実施例１２と同様の蒸着法により各層を形成したこと以外は実施例８と同様にして、実施例２９の光反射部材を作製した。
【００８７】
＜実施例３０＞
実施例８の酸化亜鉛に代えてＭ３（登録商標、メルクジャパン社製、酸化アルミニウムと酸化ランタンとの混合物）を用い、実施例１２と同様の蒸着法により各層を形成したこと以外は実施例８と同様にして、実施例３０の光反射部材を作製した。
【００８８】
＜比較例１＞
実施例１で用いた基材１の表面に、実施例１で用いた装置により、酸化イットリウムからなる層を形成した。この層の厚さは１４０ｎｍとした。次いで、結晶性の硫化亜鉛からなる層（厚さ５５ｎｍ）、銀からなる反射層３（厚さ１２０ｎｍ）、フッ化マグネシウムからなる層（厚さ５５ｎｍ）、酸化イットリウムからなる層（厚さ２０ｎｍ）及び結晶性の硫化亜鉛からなる層（厚さ４０ｎｍ）をこの順で、同様にして形成した。これにより、比較例１の光反射部材を作製した。
【００８９】
＜比較例２＞
第一保護層２及び第二保護層４を結晶性の硫化亜鉛により形成したこと以外は実施例５と同様にして、比較例２の光反射部材を作製した。
【００９０】
＜比較例３＞
比較例２の光反射部材と同様の層構成の光反射部材を、スパッタ法に代えて、蒸着法により作製した。具体的には、前記の実施例１２で用いた装置により各層を形成し、比較例３の光反射部材を作製した。
【００９１】
［２．性能評価の方法］
＜光反射性評価＞
光反射部材がどの程度光を反射するのかを調べるために、光反射部材の光反射性の評価を行った。光反射性の評価は、以下のようにして行った。即ち、作製した光反射部材について、日立ハイテクノロジーズ社製Ｕ４１００を用いてＶ−Ｗ法を使用し、５°の入射角度の際の光反射部材の反射率を測定した。そして、測定された反射率について、９８％以上の反射率を「◎◎」、９５％以上９８％未満の反射率を「◎」、９０％以上９５％未満の反射率を「○」、１０％以上９０％未満の反射率を「△」、１０％未満の反射率を「×」として、光反射性評価した。
【００９２】
＜耐湿性評価＞
光反射部材の耐久性を評価するために、耐久性の一種である耐湿性（光反射部材がどの程度の湿度に耐えられるか）を評価した。耐湿性の評価は、以下のようにして行った。即ち、作製した光反射部材を６５℃９５％（相対湿度）で１００時間静置し、その後、光反射部材を目視することにより評価した。評価は、クラックや変色等が認められないものを「◎」、クラックや変色等が殆ど認められないものを「○」、クラックや変色等が少し認められるものを「△」、クラックや変色等が多数認められるものを「×」とした。
【００９３】
＜耐剥離性評価＞
光反射部材が経時劣化によりどの程度剥離しにくいかを調べるために、耐剥離性の評価を行った。耐剥離性の評価は、以下のようにして行った。即ち、作製した光反射部材を６５℃９５％（相対湿度）で１２時間静置した。その後、粘着テープを光反射部材の端部に接着させて垂直方向に引っ張り上げたときの剥離の程度により、耐剥離性を評価した。評価は、全く剥離しなかったものを「◎」、殆ど剥離しなかったものを「○」、接着部分の周辺や一部で目立つ剥離が生じたものを「△」、全体的に目立つ剥離が生じたものを「×」とした。
【００９４】
［３．評価結果及び検討］
実施例１〜３０及び比較例１〜３の光反射部材についての各評価の結果を、層構成とともに表１に示す。なお、表１の層構成の項目において、括弧内の数字は、厚さ（ｎｍ）を表す。
【００９５】
【表１】
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【００９６】
（１）光反射性について
実施例１〜実施例３０に示すように、反射層３が銀単体で構成されていても、銀合金（銀−ビスマス合金、銀−パラジウム−銅合金）で構成されていても、反射層３の厚さが２０ｎｍ以上であることで、良好な光反射性を示した。従って、反射層３が銀を含み、反射層３の厚さが２０ｎｍ以上であることで、良好な光反射性を示す光反射部材とすることができる。また、実施例８、実施例１０、実施例１１、実施例１４、実施例１６、実施例１７、実施例１９、実施例２０、実施例２２及び実施例２３に示すように、中間層（酸化亜鉛からなる層）を形成することで、反射層３の銀が硫化することを防止することができた。これにより、銀の高い光反射性を維持して、より良好な光反射性とすることができた。
【００９７】
また、実施例５及び実施例１３等に示すように、蒸着法（実施例１３等）で各層を形成することで、スパッタ法で形成した場合（実施例５等）と比較して、より良好な光反射性を得ることができた。これは、層形成法の違いに拠るものと考えられる。即ち、蒸着法においては、スパッタ法と比較して、粒子の運動エネルギが小さい。そのため、蒸着によって反射層３の表面に第二保護層４を形成するとき、蒸着される第二保護層４を構成する粒子の拡散を抑制することができ、硫化銀等の生成を特に抑えることができたためと考えられる。
【００９８】
さらには、実施例１１及び実施例１７に示すように、二酸化ケイ素からなる層及び酸化チタンからなる増反射層を形成することで光の光反射性が向上した。従って、これらの層を設けることで、光反射性をよりいっそう良好なものにすることができた。また、増反射層は、実施例２０及び実施例２３に示すように、二酸化ケイ素からなる層及び硫化亜鉛を含む酸化チタンからなるものでも（実施例２０）、二酸化ケイ素からなる層及び硫化亜鉛を含む窒化ケイ素からなるものでも（実施例２３）、同様に良好な光反射性を示した。
【００９９】
これらの結果から、本実施形態の光反射部材はいずれも良好な光反射性を示すことがわかった。特に、中間層を形成したり（実施例８、実施例１０、実施例１１、実施例１４、実施例１７、実施例１９、実施例２０、実施例２２及び実施例２３）、増反射層（実施例１１、実施例１７、実施例２０及び実施例２３）を形成したりすることで、光反射性がよりいっそう良好なものになることがわかった。
【０１００】
（２）耐湿性について
第一保護層２及び第二保護層４のうちの少なくとも一方（実施例６では第一保護層２のみ、実施例７では第二保護層４のみ、実施例６及び実施例７以外では双方）が形成されることで、良好な耐湿性を示した。即ち、アモルファスの硫化亜鉛を用いて第一保護層２及び第二保護層４を形成することで、比較例１〜比較例３と比べて、耐湿性が向上した（実施例１〜実施例３０）。
【０１０１】
この理由は、第一保護層２や第二保護層４がアモルファス化することにより、ピンホール、柱上成長による層の低密度化が抑制され、層全体の密度が増加したためであると考えられる。そして、これにより、水が層を透過することが抑制され、耐湿性が向上したと考えられる。さらには、第一保護層２や第二保護層４がアモルファス化することにより、層の弾性率が増加し、光反射部材の屈曲に層が追従することが可能になったためであると考えられる。即ち、従来は光反射部材が屈曲すると層にクラックが生じ、水がこのクラックから入り込む（透水性）ことがあったが、層が屈曲に追従できた結果、クラックの発生を抑制し、水の入り込みを抑制することができたためと考えられる。
【０１０２】
一方で、第一保護層２及び第二保護層４のいずれも形成されていない比較例１〜比較例３においては、光反射部材にクラックが発生していた。従って、このクラックから水が層内に入り込み易くなったため、耐湿性が低下したためと考えられる。
【０１０３】
また、第一保護層２及び第二保護層４のうちの少なくとも一方が形成されている実施例１〜実施例３０の中でも、アモルファスの硫化亜鉛を含む第一保護層２及び／又は第二保護層４の厚さを４０ｎｍ以上とし、スパッタ法で各層を形成することで、耐湿性がより向上した（実施例２、実施例３、実施例５〜実施例１１、実施例１５〜実施例３０）。この理由は、第一保護層２及び／又は第二保護層４の厚さを厚くすることで反射層３の保護効果をより高めることができたためと考えられる。さらには、スパッタ法では蒸着法に比べ堆積粒子の運動エネルギが高く、基材１上で広く拡散することから膜密度が上昇し、その結果透水性を抑えることができるためであるためと考えられる。
【０１０４】
そして、形成される第一保護層２及び第二保護層４の厚さは、耐湿性の観点からは、実施例１及び実施例４に示すように２０ｎｍ以上とすることが好ましい。ただし、第一保護層２及び第二保護層４の厚さとしては、前記のように、それらのうちの少なくとも一方（アモルファスの硫化亜鉛を含む層）が４０ｎｍ以上であることがより好ましい。
【０１０５】
さらには、耐湿性をよりいっそう向上させる観点からは、実施例９〜実施例１１に示すように、反射層３を銀とビスマスとの合金により形成することが好ましい。これは、ビスマスが反射層３表面に酸化不動態を形成することで、水等の反応粒子を遮断するためであるためであると考えられる。また、実施例１５〜実施例１７に示すように、反射層３を銀とパラジウムと銅との合金により形成することも好ましい。これは、パラジウムがガスによる反応劣化を抑え、銅が銀の拡散（マイグレーション）を抑制するため、層の耐湿性が向上したためと考えられる。
【０１０６】
これらの結果から、本実施形態の光反射部材はいずれも良好な耐湿性を示すことがわかった。特に、第一保護層２や第二保護層４の厚さを４０ｎｍ以上としつつスパッタ法を用いて各層を形成したり（実施例２、実施例３、実施例５〜実施例１１、実施例１５〜実施例３０）、反射層３にビスマスやパラジウム、銅を含有させたりする（実施例９〜実施例１１、実施例１５〜実施例１７）ことで、より良好な耐久性となることがわかった。
【０１０７】
また、本実施例では、耐久性として耐湿性を例に挙げて評価したが、本実施形態の光反射部材は、前記の理由と同様の理由により、水分に対してだけでなく、硫化物や酸素、ハロゲン等に対しても良好な耐性があることが考えられる。従って、本実施形態の光反射部材によれば、耐湿性のほかにも様々な成分に対して良好な耐久性があるといえる。
【０１０８】
（３）耐剥離性について
第一保護層２及び第二保護層４のうちの少なくとも一方（実施例６では第一保護層２のみ、実施例７では第二保護層４のみ、実施例６及び実施例７以外では双方）が形成されることで、光反射部材の耐剥離性が向上した（実施例１〜実施例３０）。即ち、実施例１〜３０においては、光反射部材を構成する各層の剥離が生じにくくなっていた。一方で、第一保護層２や第二保護層４が形成されていない比較例１〜比較例３では目立つ剥離が発生していた。特に、比較例３では、全体的に目立つ剥離が発生していた。
【０１０９】
また、剥離しにくい層構成とするためには、実施例１〜実施例１１及び実施例１５〜実施例２８に示すように、スパッタ法で形成することが好ましいといえる。これは、蒸着法と比較し粒子の運動エネルギの高いスパッタ法では、上下層との粒子の拡散及び界面での空乏の減少により層同士の密着性を高めることができ、過酷な環境下であっても剥離しにくくさせることができるためと考えられる。ただし、蒸着法で形成した場合でも、実施例１３等に示すように第一保護層２及び第二保護層４の厚さを４０ｎｍ以上とすることで、耐剥離性を向上させることができた。これは、厚さを厚くすることで、特に反射層３の密着性を高めることができ、耐剥離性が向上したためと考えられる。
【０１１０】
さらに、形成される第一保護層２及び第二保護層４の厚さはできるだけ厚いことが好ましい。具体的には、耐剥離性の観点からは、実施例１及び実施例４に示すように、これらの厚さは２０ｎｍ以上とすることが好ましい。また、実施例２や実施例３等に示すように、これらの厚さは４０ｎｍ以上とすることがより好ましい。４０ｎｍ以上の厚さとすることで、例えば実施例１と実施例２とを比較したときに、耐剥離性の評価を○から◎に向上させることができる。また、例えば実施例１２と実施例１３とを比較したときに、耐剥離性の評価を△から○に向上させることができる。
【０１１１】
これらの結果から、本実施形態の光反射部材においては、層同士が剥離しにくい構成となっていることがわかった。特に、従って、前記の耐湿性と同様に、第一保護層２や第二保護層４の厚さを４０ｎｍ以上としたり、スパッタ法を用いたりして各層を形成することで、この効果をいっそう得ることができることがわかった。
【０１１２】
（４）まとめ
以上の結果より、本実施形態の光反射部材は、優れた光反射性及び耐久性を示し、さらには耐剥離性にも優れるものである。従って、本実施形態の光反射部材によれば、例えば湿度の高い場所や振動の多い場所等の過酷な環境下や、様々な層構成を有する光反射部材を構成したとしても、良好な耐久性や耐剥離性が示される。しかも、本実施形態の光反射部材は光反射性も良好であるため、光反射部材として様々な用途への応用が期待される。
【０１１３】
また、本実施例においては、結晶性の硫化亜鉛をアモルファス化させる材料として二酸化ケイ素（金属酸化物）及び窒化ケイ素（金属窒化物）を用いたが、前記したように、金属フッ化物を用いても、同様に結晶性の硫化亜鉛をアモルファス化させることができると考えられる。ただし、前記したように、結晶性の硫化亜鉛をアモルファス化させることができれば、アモルファス化に用いる材料はこれらに限られるものではない。
【０１１４】
さらに、第一保護層２及び第二保護層４のうち、アモルファスの硫化亜鉛を含む層の厚さは４０ｎｍ以上であることが好ましい。これにより、特に耐剥離性を向上させることができる。また、第一保護層２及び第二保護層４のうち、アモルファスの硫化亜鉛を含む層の厚さは４０ｎｍ以上としつつ、各層をスパッタ法で形成することで、特に耐湿性を向上させることができる。従って、本実施形態の光反射部材は、優れた光反射性、耐湿性及び耐剥離性を示すものであるが、これらの中でも特に所望する性能に応じて光反射部材の層構成を決定することで、特に所望する性能を得ることができる。
【符号の説明】
【０１１５】
１  基材
２  第一保護層（第一の層）
３  反射層
４  第二保護層（第二の層）
１０  光反射部材
【図１】
2015108790.tif 000004