(57)【要約】【課題】状況によって最適なピンホールを選択できる走査型レーザー検眼鏡（ＳＬＯ）を得る。【解決手段】光学系の眼底共役位置に、径の異なる複数のピンホールを備えたピンホール装置１１３を配置する。例えば、ピンホール装置１１３は、径の異なる複数のピンホールを備え、眼底からの反射光の波面収差に基づいて複数のピンホールの中ら一つのピンホールが選択され、それが光学系の眼底共役位置に配置される。【選択図】図１
2015229014.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼底に測定光を照射する測定光照射部と、
前記測定光の前記眼底からの反射光を検出する反射光検出部と、
前記反射光の光路における前記眼底と共役な位置に配置され、複数の径が選択可能なピンホールと、
前記複数の径の中の一つを選択する選択部と
を備えることを特徴とする眼科装置。
【請求項２】
前記反射光の波面収差を検出する波面収差検出部を備え、
前記選択部は、前記反射光の波面収差に基づいて前記複数の径の中の一つを選択することを特徴とする請求項１に記載の眼科装置。
【請求項３】
前記反射光の波面収差に基づいて前記反射光の点像強度分布を算出する点像強度分布算出部と、
前記点像強度分布に基づいてピンホールの径を算出するピンホール径算出部と
を備え、
前記選択部は、前記ピンホール径算出部が算出したピンホールの径に基づいて前記複数の径の中の一つを選択することを特徴とする請求項２に記載の眼科装置。
【請求項４】
前記ピンホール径算出部は、前記点像強度分布の強度に基づき前記ピンホールの径を算出することを特徴とする請求項３に記載の眼科装置。
【請求項５】
前記反射光の波面収差に基づいて前記反射光の点像強度分布を算出する点像強度分布算出部と、
前記点像強度分布に基づいて前記反射光の空間周波数特性を算出する空間周波数特性算出部と、
前記空間周波数特性に基づいて前記ピンホールの径を算出するピンホール径算出部と
を備え、
前記選択部は、前記ピンホール径算出部の算出結果に基づいて前記複数の径の中の一つを選択することを特徴とする請求項２に記載の眼科装置。
【請求項６】
前記ピンホール径算出部は、前記空間周波数の上限と見なされる値の逆数に基づき前記ピンホールの径を算出することを特徴とする請求項５に記載の眼科装置。
【請求項７】
前記反射光に基づいて前記眼底の画像を得る処理を行う画像処理部と、
前記眼底の画像をＦＦＴ画像処理し、反射強度がピークの位置の空間周波数を算出するＦＦＴ画像処理部と、
前記反射強度がピークの位置の空間周波数に基づいてピンホールの径を算出するピンホール径算出手段と
を備え、
前記選択手段は、前記ピンホール径算出手段の算出結果に基づいて前記複数の径の中の一つを選択することを特徴とする請求項１に記載の眼科装置。
【請求項８】
前記ピンホール径算出部は、前記空間周波数の逆数に基づき前記ピンホールの径を算出することを特徴とする請求項７に記載の眼科装置。
【請求項９】
前記眼底の観察対象となる層に対応させたピンホール径の情報を記憶した記憶部を備え、
前記選択手段は、前記記憶部の前記観察対象となる層に対応させたピンホール径の情報に基づいて前記複数の径の中の一つを選択することを特徴とする請求項１に記載の眼科装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼底の検査を行う眼科装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
眼底の検査を行なう装置として、走査型レーザー検眼鏡（ＳＬＯ:Scanning Laser Ophthalmoscope）が知られている（例えば、特許文献１参照）。また、眼球構造の個人差に起因する眼底反射光の波面の乱れを補償する補償光学系を備えた走査型レーザー検眼鏡も知られている。この補償光学系を備えた走査型レーザー検眼鏡は、補償光学走査型レーザー検眼鏡（ＡＯ−ＳＬＯ:Adaptive Optics Scanning Laser Ophthalmoscope）と呼ばれている。走査型レーザー検眼鏡（ＳＬＯ）では、光学系の眼底共役位置にピンホール（光学絞り）を配置し、鮮明な反射光の検出が行えるようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開昭６２−１１７５２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、本発明者らの知見によれば、状況によって最適なピンホールの径が異なることが判明している。そこで本発明では、状況によって最適なピンホールの径を選択できる走査型レーザー検眼鏡（ＳＬＯ）を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１に記載の発明は、眼底に測定光を照射する測定光照射部と、前記測定光の前記眼底からの反射光を検出する反射光検出部と、前記反射光の光路における前記眼底と共役な位置に配置され、複数の径が選択可能なピンホールと、前記複数の径の中の一つを選択する選択部とを備えることを特徴とする眼科装置である。
【０００６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記反射光の波面収差を検出する波面収差検出部を備え、前記選択部は、前記反射光の波面収差に基づいて前記複数の径の中の一つを選択することを特徴とする。
【０００７】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記反射光の波面収差に基づいて前記反射光の点像強度分布を算出する点像強度分布算出部と、前記点像強度分布に基づいてピンホールの径を算出するピンホール径算出部とを備え、前記選択部は、前記ピンホール径算出部が算出したピンホールの径に基づいて前記複数の径の中の一つを選択することを特徴とする。
【０００８】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記ピンホール径算出部は、前記点像強度分布の強度に基づき前記ピンホールの径を算出することを特徴とする。
【０００９】
請求項５に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記反射光の波面収差に基づいて前記反射光の点像強度分布を算出する点像強度分布算出部と、前記点像強度分布に基づいて前記反射光の空間周波数特性を算出する空間周波数特性算出部と、前記空間周波数特性に基づいて前記ピンホールの径を算出するピンホール径算出部とを備え、前記選択部は、前記ピンホール径算出部の算出結果に基づいて前記複数の径の中の一つを選択することを特徴とする。
【００１０】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記ピンホール径算出部は、前記空間周波数の上限と見なされる値の逆数に基づき前記ピンホールの径を算出することを特徴とする。
【００１１】
請求項７に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記反射光に基づいて前記眼底の画像を得る処理を行う画像処理部と、前記眼底の画像をＦＦＴ（高速フーリエ変換）画像処理し、反射強度がピークの位置の空間周波数を算出するＦＦＴ画像処理部と、前記反射強度がピークの位置の空間周波数に基づいてピンホールの径を算出するピンホール径算出手段とを備え、前記選択手段は、前記ピンホール径算出手段の算出結果に基づいて前記複数の径の中の一つを選択することを特徴とする。
【００１２】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の発明において、前記ピンホール径算出部は、前記空間周波数の逆数に基づき前記ピンホールの径を算出することを特徴とする。
【００１３】
請求項９に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記眼底の観察対象となる層に対応させたピンホール径の情報を記憶した記憶部を備え、前記選択手段は、前記記憶部の前記観察対象となる層に対応させたピンホール径の情報に基づいて前記複数の径の中の一つを選択することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、状況によって最適なピンホールの径を選択できる走査型レーザー検眼鏡（ＳＬＯ）が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施形態の光学系を示す概念図である。
【図２】ピンホール装置の正面図である。
【図３】実施形態のブロック図である。
【図４】処理の一例を示す概念図である。
【図５】処理の一例を示す概念図である。
【図６】処理の一例を示す概念図である。
【図７】処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【図８】処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【図９】処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【図１０】処理の一例を示す概念図である。
【図１１】ピンホール装置の他の例を示す概念図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
１．第１の実施形態
（構成）
以下、発明を利用した眼科装置の一例を説明する。図１には、検出光の波面補正を行う補償光学系を備えた補償光学走査型レーザー検眼鏡（ＡＯ−ＳＬＯ）の光学系の一例が示されている。図中の×印は、被検眼２００の眼底（網膜）２０１と共役となる位置（眼底共役位置）を示している。
【００１７】
図１には、光学系１００が示されている。光学系１００は、光源１０１を備えている。光源１０１は、例えば波長８４０ｎｍの光を発するスーパールミネッセンスダイオード（ＳＬＤ）である。光源１０１の波長としては、波長５００ｎｍ〜１５００ｎｍが採用可能である。光源１０１としては、レーザーダイオード（ＬＤ）やレーザードリブンライトソース（ＬＤＬＳ）等を用いることもできる。
【００１８】
光源１０１には、レーザー光を導く光ファイバ１０２が接続されている。光ファイバ１０２の先には、光ファイバ１０２から出射したレーザー光を平行光にするためのレンズ１０３が配置されている。レンズ１０３から出射したレーザー光は、光源１０１からの光の光量と形状を調整する照明絞り１０４を通り、偏光ビームスプリッタ１０５に入射し、そこを透過する。偏光ビームスプリッタ１０５は、眼底からの反射光を後述する波面検出部１０６に導くために配置されている。
【００１９】
波面検出部１０６は、シャックハルトマンセンサーとして機能する部分であり、ハルトマン撮像装置１０７と、その手前のレンズアレイ１０８を有している。レンズアレイ１０８は、ハルトマン板として機能する。レンズアレイ１０８は、小さなレンズを４×４や５×５等の格子状に配列したもので、入射光を多数の光束に分割しそれぞれ集光する。レンズアレイ１０８の焦点がハルトマン撮像素子１０７により撮像される。ハルトマン撮像素子１０７は、ＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサにより構成されている。ハルトマン撮像素子１０７に撮像されたレンズアレイ１０８の各レンズの集光位置を解析することで、レンズアレイ１０８に入射した光の波面収差を知ることができる。すなわち、レンズアレイ１０８を介して被検眼２００の眼底２０１からの反射光を観察することで、被検眼の波面の乱れを知ることができる。
【００２０】
ハルトマン撮像素子１０７が撮像した画像は、後述する図３の演算部２０３に送られ、そこで被検眼の波面の乱れが解析される。なお、解析された被検眼の波面の乱れに基づく制御信号（フィードバック信号）が、図３の制御部２０６から後述するデフォーマブルミラー１１１に送られる。また、演算部２０３で解析された眼底反射光の波面収差の情報に基づいて、後述するピンホール装置１１３におけるピンホールの選択動作が行われる。
【００２１】
波面検出部１０６の手前には、レンズアレイ１０８に入射する光束を整えるレンズ系１０９が配置されている。偏光ビームスプリッタ１０５の被検眼２００の側には、ハーフミラー１１０が配置されている。ハーフミラー１１０は、反射率１０％で透過率９０％の物が利用されている。
【００２２】
ハーフミラー１１０の被検眼２００の側には、波面補正素子であるデフォーマブルミラー１１１が配置されている。デフォーマブルミラー１１１は、波面補正を行うための可変形鏡である。デフォーマブルミラー１１１は、複数のアクチュエータによって表面の形状を変形させることが可能なミラーである。
【００２３】
デフォーマブルミラー１１１は、ハルトマン撮像素子１０７が撮像した画像の解析結果に基づく制御信号により駆動される。すなわち、ハルトマン撮像素子１０７が撮像した画像から被検眼に波面の収差が検出され、その収差を減少させるようにデフォーマブルミラー１１１の表面形状の変形が行なわれる。波面補正素子はデフォーマブルミラーに限定されず、空間位相変調器やバイモルフミラー等を用いることもできる。  
【００２４】
デフォーマブルミラー１１１で反射された検出光（眼底反射光）の一部は、ハーフミラー１１０を透過し、眼底反射光検出器１１２に向かう。眼底反射光検出器１１２は、被検眼２００の眼底２０１からの微弱な反射光を検出する光検出素子であり、例えば光電子増倍管やＡＰＤ（アバランシュ・フォトダイオード）により構成されている。眼底反射光検出器１１２の前には、ピンホール装置１１３が配置されている。ピンホール装置１１３の前には、ピンホール装置１１３の部分に眼底からの反射光が集光するように光を集光するレンズ１１４が配置されている。
【００２５】
図２には、ピンホール装置１１３を軸方向から見た状態が示されている。ピンホール装置１１３は、径の異なる４つのピンホール２２２ａ，２２２ｂ，２２２ｃおよび２２２ｄを備えている。各ピンホールの径（内径）は、４段階に設定されている。このピンホールの径の範囲は、予め行った予備実験で求められ、その範囲内でピンホール２２２ａ，２２２ｂ，２２２ｃおよび２２２ｄの径が４段階に設定されている。４つのピンホール２２２ａ，２２２ｂ，２２２ｃおよび２２２ｄは、複数の径が選択可能なピンホールの一例である。
【００２６】
ピンホール装置１１３は、ピンホール２２２ａ，２２２ｂ，２２２ｃおよび２２２ｄが形成されたピンホール形成板２２１を備えている。ピンホール形成板２２１は、駆動部２２５を備えた超音波モータ２２４によってＹ軸方向に駆動され移動する。超音波モータ２２４は、可動部材２２３に固定されている。可動部材２２３は、駆動部２２７を備えた超音波モータ２２６によってＸ軸方向において駆動され移動する。超音波モータ２２６は、装置の筐体に固定される支持体２２８に固定されている。この構造によれば、超音波モータ２２４および２２６によって、ピンホール形成板２２１は、光軸に垂直なＸ−Ｙ平面内の指定された位置に移動する。
【００２７】
この例では、ピンホール形成板２２１を超音波モータ２２４および２２６によって光軸に垂直な方向で動かすことで、ピンホール２２２ａ，２２２ｂ，２２２ｃおよび２２２ｄの中から選ばれた一つを光学系の光軸上に位置させることができる。例えば、ピンホール２２２ａが選択された場合、超音波モータ２２４および２２６によって、ピンホール２２２ａを光学系の光軸上に移動させ、眼底からの反射光がピンホール２２２ａを通過する状態とする。ここで、各ピンホールを光軸上に移動させた際に、そのピンホール位置が眼底共役位置となるように設定されている。
【００２８】
なお、ピンホールを選択する機構は、ピンホール板２２１を回転させる構造等であってもよい。また、ピンホール２２２ａ，２２２ｂ，２２２ｃおよび２２２ｄのいずれかを配置する位置を他の眼底共役位置とすることも可能である。
【００２９】
図１に戻り、デフォーマブルミラー１１１の被検眼２００の側には、光束を整えるためのレンズ系１３１を間において、垂直方向スキャナ１１５が配置されている。被検眼２００の眼底２０１には、光源１０１からのレーザー光が走査されながら照射される。垂直方向スキャナ１１５は、その傾きが可変可能なミラーであり、その傾きが制御されることで、上記照射光の垂直方向における走査が行なわれる。
【００３０】
垂直方向スキャナ１１５の被検眼２００の側には、レンズ系１３２を介して水平方向スキャナ１１６が配置されている。水平方向スキャナ１１６は、その傾きが可変可能なミラーであり、その傾きが制御されることで、上記照射光の水平方向における走査が行なわれる。デフォーマブルミラー１１１、垂直方向スキャナ１１５、水平方向スキャナ１１６は共に、そのミラー面が被検眼の瞳と共役関係となる位置に配置されている。
【００３１】
水平方向スキャナ１１６の被検眼２００の側には、レンズ１３３を介して、視度補正機構１１７が配置されている。視度補正機構１１７では、レーザー光が眼底２０１上に略点像として照射されるように調整が行われる。視度補正機構１１７は、くの字形状の視度補正ミラー１１８，１１９を備えている。視度補正ミラー１１９を視度補正ミラー１１８に対して相対的に遠近させることで、眼底２０１に光学系１００の焦点がくるように調整が行われる。
【００３２】
視度には、個人差や個体差があるが、この視度に違いがあっても、視度補正ミラー１１９の位置を動かすことで、眼底２０１に光学系１００の焦点がくるように、つまり眼底２０１上に照射光が略点像として集光して照射されるように調整が行われる。なお、視度補正機構１１７において、被検眼の瞳は無限遠と共役関係にある為、視度補正ミラー１１９の移動によって光学系内の瞳共役関係は変動しない。
【００３３】
視度補正機構１１７の被検眼２００の側には、レンズ系１２０を介して、ダイクロイックミラー１２１，１２２が配置され、更に対物レンズ１２３が配置されている。対物レンズ１２３は、収差を抑えるために複数のレンズを組み合わせた構造を有している（勿論、１枚のレンズで構成されていてもよい）。
【００３４】
ダイクロイックミラー１２１は、光源１０１からの光を反射し、赤外光源１２７が照射する赤外光を透過する。例えば、ダイクロイックミラー１２１は、光源１０１からの波長８４０ｎｍの光を反射し、赤外光源１２７から照射され、被検眼２００の前眼部で反射された波長９５０ｎｍの光を透過する。ダイクロイックミラー１２１を透過した前眼部反射光は、レンズ１２３を介してＣＣＤカメラやＣＭＯＳカメラによって構成された前眼部撮像素子１２４で検出される。
【００３５】
ダイクロイックミラー１２２は、光源１０１からの光および赤外光源１２７から被検眼２００の前眼部に照射され、そこで反射された赤外光を反射し、後述する固視標１２６からの光を透過する。例えば、ダイクロイックミラー１２２は、光源１０１からの波長８４０ｎｍの光および赤外光源１２７からの波長９５０ｎｍの光を反射し、後述する固視標１２６からの波長４００ｎｍ〜６００ｎｍ程度の光を透過する。
【００３６】
固視標１２６は、被検眼２００の向き（視線）を固定させるための視認目標である。固視標１２６は、被検眼２００が視認できる波長の光（４００ｎｍ〜６００ｎｍ程度）を発光するフィルムや有機ＥＬ素子により構成され、光軸に垂直な方向に提示位置を移動可能とされている。固視標１２６の提示位置を移動させることで、被検眼２００の視線の方向を意図する方向に誘導することができる。
【００３７】
固視標１２６の手前には、ディオプター調整レンズ１２５が配置されている。ディオプターレンズ調整１２５は、被検眼２００の屈折度数に対応して光軸上を移動する。ディオプターレンズ調整１２５は、主に被検眼２０１の網膜（眼底２０１）と固視標１２６とが共役な位置になるように光軸上で移動する。
【００３８】
（制御系の構成）
図３（Ａ）には、図１の眼科装置の制御系のブロック図が示されている。図３において、入力部２２０には、図示しない入力装置からの入力操作情報が入力される。入力装置は、キーボード装置、ＧＵＩ（グラフィカル・ユーザ・インターフェース）を用いたもの、タッチパネルディスプレイを用いたもの等が利用可能である。また近年、ＧＵＩを利用可能な各種の携帯型情報処理端末が利用されているが、これら携帯型情報処理端末を利用して各種の操作を行い、その操作内容を入力部２２０で受け付ける構成も可能である。
【００３９】
演算部２０３は、ＣＰＵおよびその他のハードウェアを備え、各種の演算機能およびインターフェース機能を有したマイコンにより構成されている。図３（Ｂ）には、演算部２０３を機能ブロックとして把握した場合の構成が示されている。図３（Ｂ）に示す各機能部は、ＣＰＵの演算により所定の機能を発揮するようにソフトウェア的に構成されていてもよいし、少なくとも一部が専用のハードウェアにより構成されていてもよい。
【００４０】
図３（Ｂ）において、スキャン処理部３１１は、眼底２０１への照射光（測定光）のスキャンを行うための処理を行う。ピンホール選択部３１２は、図２のピンホール２２２ａ，２２２ｂ，２２２ｃおよび２２２ｄの中から一つのピンホールを選択する処理を行う。ピンホールの算出は、眼底から反射した検出光の波面収差の解析結果に基づき行う方法、眼底画像の解析結果に基づく行う方法、更に測定対象物に合わせて選択する方法がある。ピンホールを選択する処理の詳細については後述する。ピンホール選択部３１２で特定のピンホールが選択されると、その旨が制御部２０６に送られ、さらに制御部２０６からピンホール駆動部２１１に制御信号が送られる。この制御信号に基づき、選択されたピンホールが光学系の光軸上に位置するようにピンホール形成板２２１の移動が行われる。
【００４１】
画像処理部３１５は、眼底画像の画像化に係る処理を行う。眼底反射光検出器１１２の出力は、ＡＤＣ（ＡＤコンバータ）２０２でデジタル信号に変換され、演算部２０３に送られる。ここで、眼底２０１（図１参照）へは、光源１０１からの光が走査されつつ照射されるが、この際の照射点は、垂直方向スキャナ１１５と水平方向スキャナ１１６によって決められる。ここで、スキャン動作は、スキャン処理部３１１で決められるので、ある瞬間における照射点の位置は、演算部２０３の側で判明している。そこで、ＡＤＣ２０２の出力をスキャン位置に対応させて割り当て画像の濃淡に変換することで、眼底の画像を得ることができる。この処理が画像処理部３１５で行われる。
【００４２】
波面収差検出部３１６は、ハルトマン撮像素子１０７が撮像した画像の解析（ゼルニケ解析）を行い、波面の収差の状態を検出する。波面補正処理部３１７は、波面収差検出部３１６で検出された波面収差の状態に基づき、デフォーマブルミラー１１１で行わる波面補正に必要な処理を行う。
【００４３】
点像強度分布算出部３１８は、検出光の波面収差からピンホール位置（眼底共役位置）における検出光の点像強度分布(ＰＳＦ: Point spread function)を算出する。点像強度分布は、点像分布関数とも呼ばれ、集光点における点光源に対する応答を評価する指標である。
【００４４】
例えば、眼底像の観察を行うＳＬＯにおいて、集光点である眼底と共役な位置（眼底共役位置）で、眼底像が結像するが、この結像する像には、各種の収差（例えば眼球内で生じる収差）の影響を受け、ぼやけや歪みが生じたものとなる。このぼやけや歪みの程度が点像強度分布（ＰＳＦ）により評価される。言い換えると、点像分布強度（ＰＳＦ）によりどれだけ忠実な観察像が得られているのかが評価される。
【００４５】
点像強度分布算出部３１８は、ハルトマン撮像素子１０７の出力に基づき、点像強度分布（ＰＳＦ）の算出を行う。図４の上段には、波面収差からＰＳＦを算出する過程が概念的に示されている。以下、点像強度分布（ＰＳＦ）の算出を行う処理の手順の一例を説明する。まず、ゼルニケ係数から算出される他覚的な完全矯正時の波面の状態Ｗ(x,y)は、数１で示される。ここで、(x,y)は、光軸に垂直な面内での座標である。
【００４６】
【数１】
2015229014.tif 000003
【００４７】
数１において、Ｃijは、ハルトマン撮像素子１０７から得られる。ハルトマン撮像素子１０７は４×４といった格子状の点で集光された光束を検出する。このハルトマン素子１０７からの検出情報に基づくゼルニケ解析を行うことで、Ｃijが得られる。ここで、iとjはゼルニケモードを特定する指数である。なお、ゼルニケ解析は、波面収差検出部３１６で行われた結果が用いられる（勿論、点像強度分布算出部３１８で行ってもよい）。
【００４８】
この例では、より最適な波面を求めるために、低次ゼルニケ係数Ｃij(1≦i≦2)を数１に加え、数２を得る。
【００４９】
【数２】
2015229014.tif 000004
【００５０】
数２のＷ(x,y)を用いて瞳関数f(x,y)は、数３のように表される。
【００５１】
【数３】
2015229014.tif 000005
【００５２】
ここで、iは虚数であり、kは波数ベクトル（２π／λ）（λ：波長）である。
【００５３】
瞳関数f(x,y)をフーリエ変換することにより、数４で示される点像の振幅分布U(u,v)が求まる。
【００５４】
【数４】
2015229014.tif 000006
【００５５】
数４で表されるＵ(u,v)とその複素共役Ｕ*(u,v)を掛けて点像強度分布（ＰＳＦ）Ｉ(u,v)が求められる。
【００５６】
【数５】
2015229014.tif 000007
【００５７】
点像強度分布（ＰＳＦ）を算出したら、そのｘ方向およびｙ方向、つまり光軸に垂直な直交する２方向におけるＰＳＦを算出する。図４にｘ方向およびｙ方向におけるＰＳＦの一例が示されている。こうして、点像強度分布算出部３１８は、ハルトマン撮像素子１０７の出力に基づき、点像強度分布（ＰＳＦ）を算出する。
【００５８】
また、点像強度分布算出部３１８は、空間周波数特性（ＭＴＦ:Modulation Transfer Function）の算出を行う。空間周波数特性（ＭＴＦ）は、被写体の画像において、実際の被写体の状態がどれだけ忠実に再現できているのかを評価する指標である。図５には、観察像における空間周波数特性の一例が示されている。図５の縦軸は規格化された値であり、最大値１で得られた画像の忠実性が最大であることを示し、その値が小さくなる程、忠実性が低下することを示す。後述するように必要な忠実性を決めると、対応する空間周波数の上限値から最適なピンホール径を求めることができる。
【００５９】
以下、空間周波数特性（ＭＴＦ）の算出を行うための処理の手順の一例を説明する。図５の上段には、波面収差からＭＴＦを算出する過程が概念的に示されている。まず、上述したＰＳＦを得る処理を行い、数５を得る。数５を得たら、点像強度分布（ＰＳＦ）をフーリエ変換（または自己相関）して、数６に示すＲ(r,s)を得る。ここでは空間周波数特性（MTF）を算出するのに点像強度分布（ＰＳＦ）から求めた例を挙げるが、空間周波数特性（MTF）は瞳関数の自己相関からも算出することが可能である。
【００６０】
【数６】
2015229014.tif 000008
【００６１】
Ｒ(r,s)を得たら、それを規格化し、数７に示すＯＴＦ（光学伝達関数: Optical Transfer Function）を得る。
【００６２】
【数７】
2015229014.tif 000009
【００６３】
空間周波数特性（ＭＴＦ）は、ＯＴＦの絶対値であるので、数８により空間周波数特性（ＭＴＦ）が求まる。数８で求めた空間周波数特性（ＭＴＦ）をグラフ化した一例が図５に示されている。
【００６４】
【数８】
2015229014.tif 000010
【００６５】
図３に戻り、演算部２０３は、ＦＦＴ画像処理部３２０を備えている。ＦＦＴ画像処理部３２０は、画像処理部３１５で得た眼底画像をＦＦＴ解析する。眼底画像をＦＦＴ解析すると、眼底画像の空間周波数特性マップが２次元で得られる。ここで言う空間周波数とは、単位長さあたりの明暗の変化の程度を周波数として捉えたものである。微細な画像は単位距離当たりの明暗の変化が細かくなるので空間周波数が高くなる。画像の空間周波数特性は、画像がどのような明暗の周期的な変化により構成されているかを示している。また、ＦＦＴ画像処理部３２０は、空間周波数特性マップのピークの空間周波数ｆを求める処理を行う。
【００６６】
演算部２０３は、最適ピンホール径算出部３２１を備えている。最適ピンホール径算出部３２１は、点像強度分布算出部３１８、空間周波数特性算出部３１９およびＦＦＴ画像処理部３２０の一または複数から得られた算出結果に基づき最適なピンホール径の算出を行う。最適ピンホール径算出部３２１で行われる処理の詳細については後述する。
【００６７】
その他、演算部２０３では、光源１０１のＯＮ／ＯＦＦ制御のための演算、ディオプター調整レンズ１２５の位置を決めるための演算が行われる。演算部２０３の少なくとも一部を専用のハードウェアで構成することもできる。例えば、画像処理に係る処理を専用のハードウェアで行うような構成も可能である。
【００６８】
表示部２０４は、図１の眼科装置を操作するにあたって必要な各種の表示、および演算部２０３で得られた眼底画像の表示を行う。メモリ２０５は、演算部２０３で行う演算に必要な各種の情報および演算部２０３で行う演算の手順を決めるプログラムが格納されている。また、メモリ２０５には、各種の演算結果や得られた眼底画像の画像データが格納される。
【００６９】
制御部２０６は、演算部２０３における演算の結果に基づき、スキャン動作の制御、光源１０１の制御、デフォーマブルミラー１１１の制御、視度補正ミラー１１９の位置制御、ディオプター調整レンズ１２５の位置制御、およびピンホール装置１１３におけるピンホールの位置制御を行うための制御信号を生成する。
【００７０】
垂直方向スキャン駆動部２０７は、垂直方向スキャナ１１５を動かすためのモータとその駆動回路を備えている。水平方向スキャン駆動部２０８は、水平方向スキャナ１１６を動かすためのモータとその駆動回路を備えている。視度補正ミラー駆動部２０９は、視度補正ミラー１１９の光軸上における位置を決めるモータとその駆動回路を備えている。ディオプター調整レンズ駆動部２１０は、ディオプター調整レンズ１２５の光軸上の位置を決めるモータおよびその駆動回路を備えている。
【００７１】
ピンホール駆動部２１１は、ピンホール１１３の光軸に垂直な面内での位置を決めるＸ軸モータとＹ軸駆動モータ（図２の高音波モータ２２６と２２４）、およびこれらモータの駆動回路を備えている。なお、ここでは、レンズやピンホールの位置を決める駆動源としてモータを用いる例を説明したが、モータの他に各種アクチュエータを用いることができる。
【００７２】
（ＰＳＦに基づくピンホール径の選択）
まず、点像強度分布（ＰＳＦ）に基づきピンホールの径を選択する処理について説明する。前述したように、ＰＳＦは、眼底共役位置における観察像のぼやけや歪みの程度を評価する指標である。ＰＳＦの強度の大きい部分は、対象物の像が相対的に忠実性良く得られており、収差の影響が相対的に小さい部分であると捉えることができる。逆に、ＰＳＦの強度の低い部分は、収差の影響が相対的に大きく現れている部分であると捉えることができる。この点を利用し、この処理ではＰＳＦに基づきピンホールの径の選択を行う。
【００７３】
以下、ＰＳＦに基づきピンホールの径を選択する処理の詳細について説明する。まず、上述した数１〜数５の処理が行われ、例えば図４に示す点像強度分布（ＰＳＦ）のＸ，Ｙプロファイルを得る。この処理は、点像強度分布算出部３１８において行われる。
【００７４】
ＰＳＦのＸ，Ｙプロファイルを得たら、その結果を用いて最適ピンホール径φの算出が行われる。この処理は、最適ピンホール径算出部３２１において行われる。この処理では、ＰＳＦ強度の積算値（図４のＸ，Ｙプロファイルの縦軸の値を横軸の位置で積分した値）を求め、その９０％の値が得られる範囲を計算する。図４には、ＰＳＦ強度の積算値の９０％が得られる範囲として、Ｘ方向の範囲が３．５μｍ、Ｙ方向の範囲が２．７μｍである場合が示されている。ここでは、Ｘ方向とＹ方向の寸法の平均値を採用し、最適光束径Φ１を得る。図４には、Φ１＝３．１μｍの場合が示されている。また通常は、光学系により眼底２０１に対してピンホール１１３の位置で光学倍率が設定されているので、その値αを上記のΦ１に乗じ、αΦ１を求める最適ピンホール径φとする。
【００７５】
最適ピンホール径φが得られたら、予め用意されている径の異なる４つのピンホール２２２ａ〜２２２ｄの中から、上記のφに最も近い径のピンホールが選択される。この選択は、ピンホール選択部３１２で行われる。
【００７６】
αΦ１には、以下の意味がある。上述したように、ＰＳＦの強度の大きい部分は、対象物の像が相対的に忠実性良く得られており、逆にＰＳＦの強度の低い部分は、像の忠実性が良くない。よって、ＰＳＦの強度の低い部分を切り捨てることで、対象物の像の解像度を高めることができる。しかしながら、切り捨てる成分が多すぎると検出する光量が減るので、解像度の点で有利となるが、得られる画像が暗くなり、Ｓ／Ｎ比が低下する。
【００７７】
そこで、ＰＳＦ強度の積算値の９０％が得られる範囲を算出し、この範囲に対応する最適ピンホール径αΦ１を算出する。この最適ピンホール径αΦ１を採用することで、解像度とＳ／Ｎ比のバランスが確保された画像を得ることができる。なお、ここでは、ＰＳＦ強度の積算値の９０％を閾値として、最適ピンホール径αΦ１の算出を行っているが、閾値は、８０％〜９５％の範囲から選択することができる。ちなみに、閾値の値を大きくすると、最適ピンホール径αΦ１は大きくなり、Ｓ／Ｎ比は良くなるが解像度は低下する。逆に、閾値の値を小さくすると、最適ピンホール径αΦ１は小さくなり、Ｓ／Ｎ比は低下するが解像度は向上する。
【００７８】
（波面情報から得た空間周波数に基づくピンホール径の選択）
次に、波面収差の情報から得た空間周波数を用いて最適ピンホール径を求める処理について説明する。上述したように、空間周波数特性（ＭＴＦ）は、被写体を画像としてどれだけ再現できるのかを評価する指標である。例えば、図５の例示の場合、Ｘ軸方向よりもＹ軸方向において、より高い空間周波数まで画像の忠実性が高いことが示されている。このことは、空間周波数の逆数が波長に対応することを考えると、Ｙ軸方向の方がより細かい部分まで画像として再現されていることを示している。
【００７９】
波面収差の情報から得た数８の空間周波数特性（ＭＴＦ）は、実際の画像を解析して得たものでないが、画像を得た場合にどこまで細かい部分の再現がされるかに関する情報を与えてくれる。すなわち、数８のＭＴＦの高域側の特性が良くない場合、得られる画像の解像度が相対的に低く、逆に高域側の特性が良い場合、得られる画像の解像度が相対的に高いと予想することができる。
【００８０】
ところで、眼底共役位置に配置したピンホールの径を小さくすると、Ｓ／Ｎ比は低下するが、解像度は高くなり、逆にピンホールの径を大きくすると、Ｓ／Ｎ比は高くなるが、解像度は低下する。このことから、ここでは、数８のＭＴＦの高域特性が良い場合、それだけ高解像度が期待できる波面の状態であるので、相対的に小さな径のピンホールを選択し、高解像度の画像を得るようにする。他方で、数８のＭＴＦの高域特性が悪い場合、前者の場合程高解像度を期待できないので、解像度よりＳ／Ｎ比を優先し、相対的に大きな径のピンホールを選択する。
【００８１】
具体的には、まず数８から得られるＭＴＦから、ＭＴＦ値（図５の縦軸）が最大値の１０％になる空間周波数を上限空間周波数として取得する。この上限空間周波数の逆数は、得られる画像中で最も微細な画像の寸法と捉えることができる。なお、もっと微細な画像も実際には、得られるが、その強度が小さいので、ここでは切り捨てることになる。
【００８２】
上記の上限空間周波数のＸ軸方向およびＹ軸方向のそれぞれにおける値を算出し、その平均値ｆを求める。そして、このｆの逆数（１／ｆ1）にピンホール位置における光学倍率αを乗じたもの（α／ｆ1）を最適ピンホール径とする。そして、予め用意されている複数のピンホールの中から、上記（α／ｆ1）に最も近いピンホールの選択が行われる。以上の数８のＭＴＦから最適ピンホール径（α／ｆ1）を求める処理が、最適ピンホール径算出部３２１において行われる。（α／ｆ1）から分かるように、ＭＴＦの高域特性が良い程、つまりｆが大きい程、最適ピンホール径は小さくなる。これは、より細かいところまで画像化できる可能性があることに対応して、解像度を上げるために小さな径のピンホールを選択することを意味する。
【００８３】
数８の空間周波数特性（ＭＴＦ）は、被写体を画像としてどれだけ再現できるのかを評価する指標を波面収差の情報に基づいて算出したものである。ここで、上限空間周波数に対応する分解能以下の寸法にピンホールの径を設定しても分解能の向上は頭打ちとなり、分解能の向上はそれ程期待できない。なぜなら、上限空間周波数より高い空間周波数のレベルは低く（つまりその画像情報が少なく）、その空間周波数に対応するピンホールの径を選択しても、対応する分解能の画像情報がそれ程得られないからである。また、ピンホール径を小さくすると、Ｓ／Ｎ比の低下が顕在化する。そこで、この例では、上限空間周波数の逆数を追及すべき妥当な分解能と見なし、そこから最適ピンホール径を求めている。
【００８４】
（画像のＦＦＴ解析に基づくピンホール径の選択）
図６に画像のＦＦＴ（高速フーリエ変換）解析に基づきピンホールの選択を行う処理の概要が示されている。この処理では、ＦＦＴ画像処理部３２０が求めた画像中で最も反射強度が高かった位置（ピーク位置）の空間周波数ｆ1を用い、このｆ1の逆数（１／ｆ1）にピンホール位置における眼底に対する光学倍率αを乗じたもの（α／ｆ1）を最適ピンホール径とする。そして、予め用意されている複数のピンホールの中から、（α／ｆ1）に最も近い径のピンホールの選択が行われる。以上の処理が最適ピンホール径算出部３２１において行われる。
【００８５】
例えば、画像中のある部分の空間周波数は、その部分の解像度、つまりどれ位細かく見えているか、についての指標を与える。この場合、当該空間周波数の逆数は、当該部分の分解能を示す寸法と見なすことができる。よって、眼底共役位置におかれるピンホールの径をこの分解能を示す寸法より小さくしても、解像度の向上よりＳ／Ｎ比が低下するマイナス面の方が大きくなる。ところで、眼底画像中で最も強いピークを示す周波数は、当該眼底画像の特徴部分であると見なせる。上記の手法によれば、画像の特徴部分の空間周波数を利用してピンホール径を求めることで、当該特徴部分の画像化に適したピンホール径を得ることができる。
【００８６】
（動作例１）
動作例１では、点像強度分布（ＰＳＦ）に基づきピンホールの径を選択する処理および／または波面情報から得た空間周波数に基づきピンホールの径を選択する処理の一例を説明する。図７は、動作例１の処理の手順を示すフローチャートである。図７の処理を実行するためのプログラムは、図３のメモリ２０５に格納されている。これは、他の処理を実行するためのプログラムについても同じである。
【００８７】
まず、処理を開始する前に、ピンホール装置１１３を光路から外す、あるいはピンホール装置１１３の最大径のピンホール（例えば、ピンホール２２２ａ）を光軸上に配置する。処理が開始されると、まず視度補正ミラー１１９等の可動させる部分の原点への移動が行われる（Ｓ２０１）。ここで原点は、標準被検眼模型を用いて予め基準となる位置として決められている。次に、被検眼２００（図１参照）のアライメント（位置合わせが行われる）（ステップＳ２０２）。この処理では、前眼部撮像素子１２４が撮像した被検眼２００の瞳の画像を利用して、被検眼２００の瞳中心が光軸上にくるように被検眼２００の位置および装置の被検眼に対する位置の調整が行われる。
【００８８】
次に、ステップ２０３の処理を行う。この処理では、図１の光源１０１から試験光を走査して眼底に照射し、その反射光を波面検出部１０６で検出し、被検眼２００の屈折度を測定する。この処理は、演算部２０３（図３参照）において、ハルトマン撮像素子１０７による検出データを解析することで行われる。そして、測定した屈折度に対応させてディオプター調整レンズ１２５と視度補正ミラー１１９を動かす。この処理は数回繰り返され、ディオプター調整レンズ１２５と視度補正ミラー１１９の位置が被検眼２００の屈折度に適合した位置となるようにする。
【００８９】
次に、検出光の波面収差の測定と検出光の波面補正を行う（ステップＳ２０４）。この処理では、光源１０１から眼底２０１に試験光を走査しつつ照射し、眼底２０１からの反射光を波面検出部１０６で検出し、反射光の波面収差の測定を行う。そして、測定した波面収差を抑えるようにデフォーマブルミラー１１１の制御が行われる。
【００９０】
次に、ステップＳ２０４で得た眼底２０１からの反射光の波面の測定結果に基づき、数１〜数５に係る処理を行い、点像強度分布（ＰＳＦ）に基づくピンホールを選択する処理を行う（ステップＳ２０５）。この例では、図２に示される４つのピンホール２２２ａ〜２２２ｄの中から一つが選択され、それが光軸上に配置される。ここで、ＰＳＦを得る処理は、点像強度分布算出部３１８において行われ、ＰＳＦに基づくピンホールの選択は、ピンホール選択部３１２において行われる。
【００９１】
この処理では、例えばまず図８に示すように、収差から数３の瞳関数を得（ステップＳ２１）、さらに数５のＰＳＦの算出を行う（ステップＳ２２）。そしてＰＳＦを得たら、図４に関連して説明した手法によりピンホール位置（眼底共役位置）での最適なスポットサイズ（光束径）の算出を行い（ステップＳ２３）、この最適なスポットサイズの値に基づくピンホールの選択が行われる（ステップＳ２４）。
【００９２】
ステップＳ２０５において、数１〜数８に係る処理を行い、波面情報から得た空間周波数に基づく最適ピンホール径を算出し、この最適ピンホール径に近いピンホールを選択する処理を行ってもよい。ここで、波面情報から空間周波数を得る処理は、空間周波数特性算出部３１９において行われる。
【００９３】
ピンホール装置１１３のピンホール径を決めた後、光源１０１からのレーザー光（測定光）を眼底２０１に走査しつつ照射する処理を開始する（ステップＳ２０６）。この際、垂直方向スキャナ１１５および水平方向スキャナ１１６を用いての照射光のスキャン（走査）が行われる。眼底２０１へのレーザー光の照射を開始したら、波面検出部１０６による検出光（眼底反射光）における波面収差の測定、および波面収差の測定結果に基づくデフォーマブルミラー１１１の制御を行い、検出光に対する波面補正を行う（ステップＳ２０７）。
【００９４】
反射光（検出光）を眼底反射光検出器１１２で検出したら、眼底反射光検出器１１２の出力に基づき画像処理部３１５において眼底画像の画像化が行われる（ステップＳ２０８）。眼底画像を得たら、それを表示部２０４に表示し、また当該眼底画像のデータをメモリ２０５に保存する（ステップＳ２０９）。
【００９５】
ステップＳ２０５において、点像強度分布（ＰＳＦ）に基づくピンホール径の選択処理と、波面情報から得た空間周波数に基づくピンホール径の選択処理との両方を行ってもよい。この場合、２つの選択処理を行い、結果が同じであれば、その結果に応じたピンホール径を選択する。２つの選択処理の結果が異なる場合、Ｓ２０６以下の処理をそれぞれのピンホール径において行い、得られた２つの眼底画像を表示部２０４に表示する。
【００９６】
（動作例２）
動作例２では、得られた眼底画像をＦＦＴ解析し、そこで得られたピーク位置での空間周波数に基づきピンホールの径を選択する処理を行う。図９は、動作例２の手順を示すフローチャートである。なお、図９において、図７と同じ処理の部分は、図７に関連して説明した処理の内容と同じである。
【００９７】
まず、ピンホール装置１１３において、最大径のピンホール２２２ａが選択され、それが光軸に挿入される。処理が開始されると、移動部の原点移動が行われ（ステップＳ３０１）、次いで眼のアライメントが行われ（ステップＳ３０２）、更にディオプター測定と駆動部移動が行われる（ステップＳ３０３）。
【００９８】
次に、測定光の走査を開始し（ステップＳ３０４）、更に走査の開始と共に、波面収差の測定と波面の補正を行う（ステップＳ３０５）。そして、検出光に基づく眼底画像の画像化を行う（ステップＳ３０６）。
【００９９】
眼底画像を得たら、この眼底画像に対するＦＦＴ処理を行う（ステップＳ３０７）。そして、このＦＦＴ処理により、画像中で最も強いピークを示す周波数の空間周波数ｆ1が算出される（ステップＳ３０８）。この処理は、ＦＦＴ画像処理部３２０において行われる。
【０１００】
ピーク位置での空間周波数ｆ1を得たら、それに基づきピンホール径の算出を行い、最適な径のピンホールの選択を行う（ステップＳ３０９）。この処理では、ｆ1の逆数（１／ｆ1）にピンホール位置における眼底に対する光学倍率αを乗じたもの（α／ｆ1）を最適ピンホール径とし、この最適ピンホール径に最も近いピンホールが図２のピンホール２２２ａ〜２２２ｄの中から選択される。この処理は、ピンホール選択部３１２において行われる。
【０１０１】
最適な径のピンホールを選択したら、再度測定光の走査を開始し（ステップＳ３１０）、更に走査の開始と共に、波面収差の測定と波面の補正を行う（ステップＳ３１１）。そして、検出光に基づく眼底画像の画像化を行う（ステップＳ３１２）。そして、得られた画像を表示部２０４に表示し、更にメモリ２０５に保存する（ステップＳ３１３）。
【０１０２】
２．第２の実施形態
ここでは、観察対象となる眼底の層に対応させてピンホール径を予め決めておく例を説明する。図１０に示すように眼底は、多層構造を有し、観察対象となる層は複数ある。そして経験的に各層は、その構造の違いから最適な分解能が存在し、大まかではるが、各層毎に適したピンホール径があることが判明している。この例では、観察対象となる層と最適なピンホール径との関係に基づき、ピンホールの選択を行う。
【０１０３】
この場合、図３のメモリ２０５に予め図１０に示す対象物とピンホール径との関係を規定するテーブルデータを格納しておく。また、ピンホール２２２ａ〜２２２ｄとして、径が１０μｍ、２０μｍ、３０μｍおよび５０μｍのものを用意しておく。そして、ユーザが入力部２２０から観察の対象となる層を指定するデータを入力すると、上記のテーブルデータに基づき、対応する層に適した径のピンホールが選択される。
【０１０４】
３．第３の実施形態
この例では、図２に示す異なる径のピンホールの数を更に増やす。例えば、径が１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍの計９個のピンホールを用意する。そして、動作においては、まず第２の実施形態で説明したユーザが指定する観察対象となる層の指定が行われる。この際、指定された層に対応するピンホール径が選択され、その上でさらに図７または図９の処理が行われる。この例によれば、まず観察対象に適したピンホール径が選択され、さらに波面情報または画像から得られる空間周波数の情報からピンホール径の再選択（あるいは修正選択）が行われる。
【０１０５】
４．第４の実施形態
以上の例では、ピンホールの形状を円形としたが、ピンホールの径を楕円形としてもよい。図１１には、ピンホールの径の値に加えて、その形状を選択可能な場合の例を示す。図１１には、ピンホール装置５００が示されている。ピンホール装置５００は、例えば、図４に示す例に利用することができる。
【０１０６】
ピンホール装置５００では、円形のピンホールに加えて、縦方向（Ｙ方向）に長軸を有する楕円形のピンホール、および横方向（Ｘ方向）に長軸を有する楕円形のピンホールが用意されている。ピンホール装置５００における楕円形のピンホールの径は、長軸方向の径と短軸方向の径の平均値で定義されている。また、扁平率は例えば０．３に設定されている。
【０１０７】
例えば、図４に示す例の場合のように、Ｘ方向のＰＳＦ分布とＹ方向のＰＳＦ分布が異なる場合がある。このような場合に、ピンホール装置５００におけるピンホールの中から、Ｘ方向のＰＳＦ分布とＹ方向のＰＳＦ分布にできるだけ近い寸法と形状の楕円形のピンホールを選択する。
【０１０８】
図１１には、縦方向（Ｙ方向）に長軸を有する楕円形のピンホールと横方向（Ｘ方向）に長軸を有する楕円形のピンホールを用意した場合が示されているが、斜め方向に長軸を有するピンホールを用意することもできる。また、扁平率は上述した０．３に限定されず、他の値を採用することもできる。また、複数の扁平率を採用し、更に多くのピンホールを用意しておくこともできる。また、楕円形のピンホールを光軸上に位置させた状態において、このピンホールを、光軸を中心として回転させることで、楕円形のピンホールの長軸を所望の向きに変更する構成も可能である。また、円形のピンホールを２つ軸方向で重ね、光軸に垂直な方向に２つのピンホールをずらすことで、近似的にピンホールの形状を楕円形状にする構成も可能である。
【０１０９】
以上のように、ピンホールの径の選択に加えて、楕円形のピンホールを用意し、その形状を選択する構成も可能である。
【０１１０】
５．その他１
複数の径が選択可能なピンホールとして、ピンホールの径を連続的あるいは段階的に可変できる構造を採用することもできる。これはカメラの絞り機構やシャッター機構と同様な構造を利用して得ることができる。この構成のピンホールは、第１〜第３の実施形態のピンホール装置１１３の代わりに利用することができる。例えば、連続的にピンホールの径を可変できる場合、最適ピンホール径算出部３２１が算出した最適ピンホール径と同じ値にピンホール径を設定することができる。
【０１１１】
６．その他２
図４には、ＰＳＦ強度の積算値（図４のＸ，Ｙプロファイルの縦軸の値を横軸の位置で積分した値）を用いて最適光束径Φ１を得る例が示されているが、ＰＳＦ強度に閾値を設け、この閾値を超える範囲から最適光束径Φ１を得ることもできる。また、ＰＳＦ強度分布の傾きに閾値を設け、このＰＳＦ強度の傾きが閾値以上となる範囲から最適光束径Φ１を得ることもできる。
【産業上の利用可能性】
【０１１２】
本発明は、眼底を観察する技術に利用することができる。
【符号の説明】
【０１１３】
１００…光学系、１０１…光源、１０２…光ファイバ、１０３…レンズ、１０４…照明絞り、１０５…偏光ビームスプリッタ、１０６…波面検出部、１０７…ハルトマン撮像素子、１０８…レンズアレイ、１０９…レンズ系、１１０…ハーフミラー、１１１…デフォーマブルミラー、１１２…眼底反射光検出器、１１３…ピンホール装置、１１４…レンズ、１１５…垂直方向スキャナ、１１６…水平方向スキャナ、１１７…視度補正機構、１１８…視度補正用ミラー、１１９…視度補正用ミラー、１２０…レンズ系、１２１…ダイクロイックミラー、１２２…ダイクロイックミラー、１２３…対物レンズ、１２４…前眼部撮像素子、１２５…ディオプター調整レンズ、１２６…固視標、１２７…赤外光源、１３１…レンズ系、１３２…レンズ系、１３３…レンズ、２００…被検眼、２０１…眼底、２２１…ピンホール形成板、２２３…可動部材、２２４…モータ、２２５…駆動部、２２６…モータ、２２７…駆動部、２２８…支持体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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