(57)【要約】【課題】製造工程が簡単であり、製造コストが廉価であり、軽量化も実現できる連続めっき用パターン付ロール及びその製造方法を提供する。【解決手段】表面が非導電性層とされた基材の該表面に導電性パターンが形成されたパターン形成部と、該非導電性層が露出したパターン非形成部とを有してなるようにした。前記非導電性層が、プラスチック、ＡＢＳ樹脂、エポキシ樹脂、ＦＲＰ、ＣＦＲＰからなる群から選ばれた少なくとも一種の非導電性合成樹脂材料からなるのが好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面が非導電性層とされた基材の該表面に導電性パターンが形成されたパターン形成部と、該非導電性層が露出したパターン非形成部とを有してなることを特徴とする連続めっき用パターン付ロール。
【請求項２】
前記非導電性層が、プラスチック、ＡＢＳ樹脂、エポキシ樹脂、ＦＲＰ、ＣＦＲＰからなる群から選ばれた少なくとも一種の非導電性合成樹脂材料からなることを特徴とする請求項１記載の連続めっき用パターン付ロール。
【請求項３】
前記導電性パターンが、金属又は導電性ＤＬＣから構成されることを特徴とする請求項１又は２記載の連続めっき用パターン付ロール。
【請求項４】
前記導電性パターンが、体積抵抗率１．０×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１００Ω・ｃｍの導電率を有することを特徴とする請求項１〜３いずれか１項記載の連続めっき用パターン付ロール。
【請求項５】
請求項１〜４いずれか１項記載の連続めっき用パターン付ロールによってめっきされたことを特徴とする製品。
【請求項６】
請求項１〜４いずれか１項記載の連続めっき用パターン付ロールを製造するための連続めっき用パターン付ロールの製造方法であって、
表面が非導電性層とされた基材の該表面に導電性層を形成し、該導電性層をエッチングすることにより、導電性パターンが形成されたパターン形成部と該非導電性層が露出したパターン非形成部とを形成してなることを特徴とする連続めっき用パターン付ロールの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜４いずれか１項記載の連続めっき用パターン付ロールを製造するための連続めっき用パターン付ロールの製造方法であって、
表面が非導電性層とされた基材の該表面に、感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンが形成されたレジストパターン形成部と該非導電性層が露出したレジストパターン非形成部とを形成し、該レジストパターン非形成部及びレジストパターン形成部の表面に導電性被覆膜を形成し、該レジストパターン形成部上に形成された導電性被覆膜を該レジストパターン形成部ごと剥離せしめ、非導電性層の表面に、導電性パターンが形成されたパターン形成部と該非導電性層が露出したパターン非形成部とを形成してなることを特徴とする連続めっき用パターン付ロールの製造方法。
【請求項８】
前記非導電性層が、プラスチック、ＡＢＳ樹脂、エポキシ樹脂、ＦＲＰＰ、ＣＦＲＰからなる群から選ばれた少なくとも一種の非導電性合成樹脂材料からなることを特徴とする請求項６又は７記載の連続めっき用パターン付ロールの製造方法。
【請求項９】
前記導電性パターンが、金属又は導電性ＤＬＣから構成されることを特徴とする請求項６又は７記載の連続めっき用パターン付ロールの製造方法。
【請求項１０】
前記導電性パターンが、体積抵抗率１．０×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１００Ω・ｃｍの導電率を有することを特徴とする請求項６又は７記載の連続めっき用パターン付ロールの製造方法。
【請求項１１】
前記パターン形成部の高さが、０．１μｍ〜２０μｍであることを特徴とする請求項６又は７記載の連続めっき用パターン付ロールの製造方法。
【請求項１２】
被処理ロールに対して処理を行う処理装置を複数個設け、ロボットアームで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理するようにした連続めっき用パターン付ロール全自動製造システムを用いて、連続めっき用パターン付ロールを製造してなることを特徴とする請求項６〜１１いずれか１項記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項１３】
前記連続めっき用パターン付ロール全自動製造システムが、
被処理ロールをチャックしてハンドリングする第一の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ａと、被処理ロールをチャックしてハンドリングする第二の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ｂと、を有し、前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂを連通せしめ、
前記処理室Ａの前記第一の産業ロボットのハンドリングエリアに、ロールストック装置、感光材塗布装置、電子彫刻装置、レーザ露光装置、脱脂装置、砥石研磨装置、超音波洗浄装置、金属メッキ装置、現像装置、腐食装置、レジスト剥離装置、ペーパー研磨装置、真空成膜装置、ドライエッチング装置から選ばれる処理装置の少なくとも一つを配置し、前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに、前記処理装置のうち前記処理室Ａに配置しなかった処理装置の少なくとも一つを配置し、
かつ前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂの前記処理装置は、設置及び撤去が可能とされてなり、前記第一の産業ロボット及び第二の産業ロボットで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理することにより、
連続めっき用パターン付ロールを製造してなることを特徴とする請求項１２記載の連続めっき用パターン付ロールの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面が非導電性層とされた基材の該表面に導電性材料で導電性パターンを形成した連続めっき用パターン付ロール及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
連続めっき用ロールは、連続めっき装置に用いられるもので、例えば、リールに巻き付けた鋼板等の帯状のワークを連続的に巻き取りながらめっき浴中を通すことで、連続的にめっきを行うものである。連続めっき用ロールの例としては、例えば、特許文献１や特許文献２に開示されたシンクロール等のロールがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２８３０４４号公報
【特許文献２】特開２００１−８９８３６号公報
【特許文献３】国際公開ＷＯ２０１１／１２５９２６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、製造工程が簡単であり、製造コストが廉価であり、軽量化も実現できる連続めっき用パターン付ロール及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため、本発明の連続めっき用パターン付ロールは、表面が非導電性層とされた基材の該表面に導電性パターンが形成されたパターン形成部と、該非導電性層が露出したパターン非形成部とを有してなることを特徴とする。
【０００６】
このように構成することで、製造工程が簡単であり、製造コストが廉価であり、また、非導電性の材料を使用するので軽量化も実現できる。
【０００７】
また、導電性パターンが形成されたパターン形成部と、該非導電性層が露出したパターン非形成部とを有しているため、めっきした際に導電性部分に金属が析出し、非導電性部分には金属が析出しないため、選択性に優れた連続めっき用パターン付ロールとなる。
【０００８】
前記非導電性層が、プラスチック、ＡＢＳ樹脂、エポキシ樹脂、ＦＲＰ（繊維強化プラスチック）、ＣＦＲＰ（炭素繊維強化プラスチック）からなる群から選ばれた少なくとも一種の非導電性合成樹脂材料からなることが好ましい。
【０００９】
前記導電性パターンが、金属又は導電性ＤＬＣから構成されるのが好ましい。
【００１０】
前記導電性パターンが、体積抵抗率１．０×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１００Ω・ｃｍの導電率を有するのが好適である。
【００１１】
前記導電性パターンが、導電性ＤＬＣの場合、前記パターン形成部の高さが、０．１μｍ〜２０μｍであるのが好ましく、０．１μｍ〜１０μｍがより好ましく、０．１μｍ〜５μｍがさらに好ましい。
【００１２】
本発明の製品は、連続めっき用パターン付ロールによってめっきされたことを特徴とする。
【００１３】
本発明の連続めっき用パターン付ロールの製造方法の第一の態様は、前記連続めっき用パターン付ロールを製造するための連続めっき用パターン付ロールの製造方法であって、
表面が非導電性層とされた基材の該表面に導電性層を形成し、該導電性層をエッチングすることにより、導電性パターンが形成されたパターン形成部と該非導電性層が露出したパターン非形成部とを形成してなることを特徴とする。
【００１４】
このようにすることで、製造工程が簡単であり、製造コストが廉価であり、また、非導電性の材料を使用するので軽量化も実現できる。
【００１５】
本発明の連続めっき用パターン付ロールの製造方法の第二の態様は、前記連続めっき用パターン付ロールを製造するための連続めっき用パターン付ロールの製造方法であって、表面が非導電性層とされた基材の該表面に、感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンが形成されたレジストパターン形成部と該非導電性層が露出したレジストパターン非形成部とを形成し、該レジストパターン非形成部及びレジストパターン形成部の表面に導電性被覆膜を形成し、該レジストパターン形成部上に形成された導電性被覆膜を該レジストパターン形成部ごと剥離せしめ、非導電性層の表面に、導電性パターンが形成されたパターン形成部と該非導電性層が露出したパターン非形成部とを形成してなることを特徴とする。
【００１６】
このようにすることで、製造工程が簡単であり、製造コストが廉価であり、また、非導電性の材料を使用するので軽量化も実現できる。また、表面が非導電性層とされた基材上に形成された導電性被覆膜を該レジストパターン形成部ごといわゆるリフトオフにより剥離せしめるため、パターンの凹部側面が垂直に近くなり、サイドエッチングの問題が解消される利点がある。
【００１７】
前記非導電性層が、プラスチック、ＡＢＳ樹脂、エポキシ樹脂、ＦＲＰ、ＣＦＲＰからなる群から選ばれた少なくとも一種の非導電性合成樹脂材料からなるのが好ましい。
【００１８】
前記導電性パターンが、金属又は導電性ＤＬＣから構成されるのが好ましい。
【００１９】
前記導電性パターンが、体積抵抗率１．０×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１００Ω・ｃｍの導電率を有するのが好ましい。
【００２０】
前記パターン形成部の高さが、０．１μｍ〜２０μｍであるのが好ましく、０．１μｍ〜１０μｍがより好ましく、０．１μｍ〜５μｍがさらに好ましい。本発明の連続めっき用パターン付ロールの製造方法の第二の態様の場合、前記パターン形成部の高さは、前記導電性被覆膜の厚さと同じとなる。
【００２１】
前記導電性層や導電性被覆膜の形成にあたっては、めっき、蒸着、ＣＶＤ、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）、スパッタリングなど、公知の手法がいずれも適用可能である。但し、蒸着、ＣＶＤ、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）、スパッタリングなど、成膜温度が高くなる処理については、前記非導電性層を、耐熱性の高い非導電性合成樹脂材料（例えば耐熱性のエンジニアリングプラスチック）で形成するなど、融点の高いものを選択する必要がある。また、導電性層のエッチングは、ウェットエッチングやドライエッチングなどの公知の手法がいずれも適用できるが、導電性ＤＬＣ層のエッチングは、ドライエッチングが好ましい。ドライエッチングの場合、前記非導電性層を、耐熱性の高い非導電性合成樹脂材料（例えば耐熱性のエンジニアリングプラスチック）で形成するなど、融点の高いものを選択する必要がある。
【００２２】
また、被処理ロールに対して処理を行う処理装置を複数個設け、ロボットアームで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理するようにした連続めっき用パターン付ロール全自動製造システムを用いて、連続めっき用パターン付ロールを製造してなるのが好適である。
【００２３】
前記パターン付ロール全自動製造システムが、被処理ロールをチャックしてハンドリングする第一の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ａと、被処理ロールをチャックしてハンドリングする第二の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ｂと、を有し、前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂを連通せしめ、前記処理室Ａの前記第一の産業ロボットのハンドリングエリアに、ロールストック装置、感光材塗布装置、電子彫刻装置、レーザ露光装置、脱脂装置、砥石研磨装置、超音波洗浄装置、金属メッキ装置、現像装置、腐食装置、レジスト剥離装置、ペーパー研磨装置、真空成膜装置、ドライエッチング装置から選ばれる処理装置の少なくとも一つを配置し、前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに、前記処理装置のうち前記処理室Ａに配置しなかった処理装置の少なくとも一つを配置し、かつ前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂの前記処理装置は、設置及び撤去が可能とされてなり、前記第一の産業ロボット及び第二の産業ロボットで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理することにより、連続めっき用パターン付ロールを製造してなるのが好適である。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、製造工程が簡単であり、製造コストが廉価であり、軽量化も実現できる連続めっき用パターン付ロール及びその製造方法を提供することができるという著大な効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の連続めっき用パターン付ロールの製造方法の第一の態様を模式的に示す説明図であり、（ａ）は表面が非導電性層とされた基材の該表面に導電性層を形成した状態の要部断面図、（ｂ）は導電性層の表面に感光材を塗布した状態の要部断面図、（ｃ）は露光・現像せしめてレジストパターンを形成した状態の要部断面図、（ｄ）は導電性層をエッチングした状態の要部断面図、（ｅ）はレジストパターンを除去し、連続めっき用パターン付ロールとした状態を示す要部断面図である。
【図２】図１に示した連続めっき用パターン付ロールの製造方法の工程順を示すフローチャートである。
【図３】本発明の連続めっき用パターン付ロールの製造方法の第二の態様を模式的に示す説明図であり、（ａ）は表面が非導電性層とされた基材の該表面に、感光材を塗布した状態の要部断面図、（ｂ）は、露光・現像せしめてレジストパターンが形成されたレジストパターン形成部と該非導電性層が露出したレジストパターン非形成部とを形成した状態の要部断面図、（ｃ）は露光・現像せしめてレジストパターンを形成した状態の要部断面図、（ｄ）はレジストパターン非形成部及びレジストパターン形成部の表面に導電性被覆膜を形成した状態の要部断面図、（ｅ）は該レジストパターン形成部上に形成された導電性被覆膜を該レジストパターン形成部ごと剥離せしめ、連続めっき用パターン付ロールとした状態を示す要部断面図である。
【図４】図３に示した連続めっき用パターン付ロールの製造方法の工程順を示すフローチャートである。
【図５】本発明の連続めっき用パターン付ロールの製造方法に用いられるパターン付ロールの全自動製造システムの一つの実施の形態を示す概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下に本発明の実施の形態を説明するが、これら実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。なお、同一部材は同一符号で表される。
【００２７】
本発明の連続めっき用パターン付ロールの製造方法の第一の態様を図１及び図２に基づいて説明する。図１において、符号１０Ａは連続めっき用パターン付ロールを示す。符号１２は表面が非導電性層１１とされた基材を示し、非導電性のプラスチック、ＡＢＳ樹脂、エポキシ樹脂、ＦＲＰ、ＣＦＲＰからなる群から選ばれた少なくとも一種の非導電性合成樹脂材料からなるものを用いることができる。基材１２は円筒状のものが用いられる。なお、表面が非導電性層とされていればよいものであるから、金属などの導電性材料の表面に非導電性層を形成したものでもよい。
【００２８】
まず、表面が非導電性層１１とされた基材１２の該表面に導電性層１４を形成する（図１（ａ）及び図２のステップ１００）。導電性層１４の形成にあたっては、金属の場合は、めっき、蒸着、ＣＶＤ、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）、スパッタリングなど、公知の手法がいずれも適用可能である。導電性ＤＬＣ層の場合は、ＣＶＤ法やスパッタ法など、公知の手法がいずれも適用可能である。
【００２９】
次いで、導電性層１４の表面に感光材１６を塗布する（図１（ｂ）及び図２のステップ１０２）。露光・現像せしめてレジストパターン１８を形成する（図１（ｃ）及び図２のステップ１０４）。感光材として用いる感光性組成物はネガ型及びポジ型のいずれでも使用可能である。このようにして、レジストパターン１８が形成されていない部分は導電性層１４が露出する。
【００３０】
次に、露出した導電性層１４をエッチングし、導電性パターン２０を形成する（図１（ｄ）及び図２のステップ１０６）。導電性層１４のエッチングは、ウェットエッチングやドライエッチングなどの公知の手法がいずれも適用できるが、導電性ＤＬＣ層のエッチングは、ドライエッチングが好ましい。
【００３１】
次いで、レジストパターン１８を除去し、導電性パターン２０が形成されたパターン形成部２２と該非導電性層１１が露出したパターン非形成部２４とが形成された連続めっき用パターン付ロール１０Ａとなる（図１（ｅ）及び図２のステップ１０８）。
【００３２】
本発明の連続めっき用パターン付ロールの製造方法の第二の態様を図３及び図４に基づいて説明する。図３において、符号１０Ｂは連続めっき用パターン付ロールを示す。符号１２は表面が非導電性層１１とされた基材を示し、非導電性のプラスチック、ＡＢＳ樹脂、エポキシ樹脂、ＦＲＰ、ＣＦＲＰからなる群から選ばれた少なくとも一種の非導電性合成樹脂材料からなるものを用いることができる。基材１２は円筒状のものが用いられる。なお、表面が非導電性層とされていればよいものであるから、金属などの導電性材料の表面に非導電性層を形成したものでもよい。
【００３３】
まず、表面が非導電性層１１とされた基材１２の該表面に、感光材１６を塗布する（図３（ａ）及び図４のステップ２００）。露光・現像せしめてレジストパターン１８が形成されたレジストパターン形成部２６と該非導電性層１１が露出したレジストパターン非形成部２８とを形成する（図３（ｂ）及び図４のステップ２０２）。
【００３４】
次に、レジストパターン形成部２６及びレジストパターン非形成部２８の表面に導電性被覆膜３０を形成する（図３（ｃ）及び図４のステップ２０４）。そして、該レジストパターン形成部２６上に形成された導電性被覆膜３０を該レジストパターン形成部２６ごと剥離せしめ、導電性パターン３２を形成する（図３（ｄ）及び図４のステップ２０６）。このようにして、導電性パターン３２が形成されたパターン形成部３４と該非導電性層１１が露出したパターン非形成部３６とが形成された連続めっき用パターン付ロール１０Ｂとなる。
【００３５】
また、本発明の連続めっき用パターン付ロールの製造方法は、被処理ロールに対して処理を行う処理装置を複数個設け、ロボットアームで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理するようにした連続めっき用パターン付ロール全自動製造システムを用いて、連続めっき用パターン付ロールを製造してなるのが好ましい。
【００３６】
本発明の連続めっき用パターン付ロールの製造方法に用いられる、このような連続めっき用パターン付ロール全自動製造システムの一つの実施の形態を図５に示す。
【００３７】
図５において、符号４０は連続めっき用パターン付ロール全自動製造システムを示す。
【００３８】
全自動製造システム４０は、大きく分けて処理室Ａと処理室Ｂに分けられている。そして、処理室Ａは、さらに処理室Ｃに分けられている。前記処理室Ａと処理室Ｂ、前記処理室Ａと処理室Ｃとは壁４２，４３で分け隔てられており、かつ開閉自在なシャッター４４を介して連通せしめられている。
【００３９】
処理室Ａの構成について説明する。処理室Ａにおいて、符号４６は第一の産業ロボットであり、旋回自在な多軸のロボットアーム４８を有している。
【００４０】
符号５０は被処理ロールであり、前記被処理ロール５０が上述した基材１２となる。符号５２ａ，５２ｂはそれぞれターンテーブルが回転式とされているロールストック装置である。ロールストック装置としては、例えば特許文献３に記載の全自動グラビア製版用処理システムのロールストック装置が適用できる。
【００４１】
ロボットアーム４８の先端には、チャック手段９２が設けられており、前記チャック手段９２により、被処理ロール５０を着脱自在にチャック可能とされている。
【００４２】
次に、処理室Ｂの構成について説明する。処理室Ｂにおいて、符号６０は第二の産業ロボットであり、旋回自在な多軸のロボットアーム６２を有している。
【００４３】
ロボットアーム６２の先端には、チャック手段９４が設けられており、前記チャック手段９４により、被処理ロール５０を着脱自在にチャック可能とされている。
【００４４】
符号５４は感光材塗布装置であり、符号５６はレーザ露光装置である。図示例では、レーザ露光装置５６の上に感光材塗布装置５４が設けられている。これらの装置には従来公知の装置を適用することができ、例えば特許文献３に開示されたような感光材塗布装置及びレーザ露光装置を用いることができる。
【００４５】
符号８４は腐食装置であり、符号８６はレジスト剥離装置である。図示例では、腐食装置８４の上にレジスト剥離装置８６が設けられている。これらの装置には従来公知の装置を適用することができ、例えば特許文献３に開示されたような腐食装置及びレジスト剥離装置を用いることができる。
【００４６】
符号６６，６８は真空成膜装置及びドライエッチング装置であり、真空成膜装置は、金属層又は導電性ＤＬＣ層等の導電性層や導電性被覆膜の形成処理が可能であればよく、スパッタリング、ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、真空蒸着法、などを行うための真空成膜装置がいずれも含まれる。図示例では、前記真空成膜装置６８として、気相状態にある原料を用いて成膜を行う気相成膜装置の例を示した。
【００４７】
ドライエッチング装置６８は、金属層又は導電性ＤＬＣ層等の導電性層をドライエッチングできるものであればよく、公知のドライエッチング装置が使用できる。例えば、イオンミリング装置、反応性イオンビームエッチング（ＲＩＢＥ）装置、リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）装置、磁性が向上された反応性イオンエッチング（ＭＥＲＩＥ）装置、バレル型・平行平板型・ダウンフロー型のプラズマエッチング装置、ケミカルドライエッチング装置、などのドライエッチング装置が使用できる。
【００４８】
前記真空成膜装置６６及びドライエッチング装置６８は複数本の被処理ロール５０を立てた状態で内部に収容でき、複数本の被処理ロール５０に対して同時に処理が可能とされている。
【００４９】
符号７０は中継のために被処理ロール５０を置くためのロール中継載置台であり、前記第一の産業ロボット４６のハンドリングエリアと第二の産業ロボット６０のハンドリングエリアとが重複する位置に設けられている。符号９０は被処理ロール５０に対し、超音波洗浄処理及び乾燥処理を行うための乾燥機能付超音波洗浄装置であり、前記ロール中継載置台７０に前記乾燥機能付超音波洗浄装置９０が近接して設けられている。
【００５０】
乾燥機能付超音波洗浄装置９０は、洗浄水を溜めるための貯留槽と前記貯留槽の下部に設けられた超音波振動子とを有しており、前記超音波振動子の超音波振動で洗浄水を振動させて洗浄を行うことができる装置である。乾燥機能付超音波洗浄装置９０には、さらに乾燥機能が設けられている。乾燥機能付超音波洗浄装置９０により、各処理毎に必要に応じて、超音波洗浄及び乾燥が行えるようになっている。
【００５１】
また、連続めっき用パターン付ロール全自動製造システム４０は、コンピュータ５８で電気的に制御されており、第一の産業ロボット４６及び第二の産業ロボット６０もコンピュータ５８により制御されている。
【００５２】
符号７２は現像装置であり、例えば特許文献３に開示されたような現像装置を用いることができる。
【００５３】
符号５７は脱脂装置であり、符号５９は金属メッキ装置である。図示例では、金属メッキ装置５９の上に脱脂装置５７が設けられている。これらの装置には従来公知の装置を適用することができ、例えば特許文献３に開示されたような電解脱脂装置及び銅メッキ装置を用いることができる。
【００５４】
また、図示例では省略したが、必要に応じて、第二の産業ロボット６０のハンドリングエリア内に超音波洗浄装置を設けるようにしてもよい。前記超音波洗浄装置は、洗浄水を溜めるための貯留槽と前記貯留槽の下部に設けられた超音波振動子とを有しており、前記超音波振動子の超音波振動で洗浄水を振動させて洗浄を行うことができる装置である。
【００５５】
次に、処理室Ｃの構成について説明する。処理室Ｃにおいて、符号５１はペーパー研磨を行うためのペーパー研磨装置であり、符号６４は砥石研磨装置である。砥石研磨装置６４には従来公知の装置を適用することができ、例えば特許文献３に開示されたような砥石研磨装置を用いることができる。図示例では、砥石研磨装置６４の上にペーパー研磨装置５１が設けられている。ペーパー研磨装置５１としては、例えば特許文献３に開示されているようなペーパー研磨装置を用いることが可能である。
【００５６】
処理室Ａと処理室Ｃとはシャッター４４を介して連通せしめられており、砥石研磨装置６４及びペーパー研磨装置５１は、前記第一の産業ロボット４６のハンドリングエリアに配置されている。
【００５７】
図示の例では前記処理室Ａがクリーンルームとされている。前記処理室Ａ及び処理室Ｂは、必要に応じてそれぞれクリーンルームとすることが可能である。
【００５８】
処理室Ａの壁７６には扉７８，８０が設けられており、製造された連続めっき用パターン付ロール１０Ａ，１０Ｂを取り出したり、新たな被処理ロール（円筒形基材）を入れたりする。製造されたパターン付ロール１０Ａ，１０Ｂはロールストック装置５２ａ，５２ｂのいずれか一方に載置された後、搬出される。一方、これから処理が行われる被処理ロールは他方のロールストック装置に載置される。処理室Ａの外側には、コンピュータ５８が置かれており、種々の情報をチェックしたり管理したり、種々のプログラムの設定などが行われると共に、パターン付ロールの全自動製造システム４０の制御を行う。
【００５９】
図示例では、ロールストック装置５２ａに被処理ロール５０を載置し、ロールストック装置５２ｂに製造されたパターン付ロール１０Ａを載置した例を示した。
【００６０】
このようにして、本発明の連続めっき用パターン付ロールの製造方法に用いられる連続めっき用パターン付ロールの全自動製造システム４０は、被処理ロール５０をチャックしてハンドリングする第一の産業ロボット４６のハンドリングエリアを有する処理室Ａと、被処理ロールをチャックしてハンドリングする第二の産業ロボット６０のハンドリングエリアを有する処理室Ｂと、を有し、前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂを連通せしめ、前記処理室Ａの前記第一の産業ロボット４６のハンドリングエリアに、ロールストック装置５２ａ，５２ｂ、感光材塗布装置５４、レーザ露光装置５６、脱脂装置５７、砥石研磨装置６４、超音波洗浄装置９０、ペーパー研磨装置５１、を配置し、前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに、前記処理装置のうち前記処理室Ａに配置しなかった処理装置の脱脂装置５７、金属メッキ装置５９、現像装置７２、腐食装置８４、レジスト剥離装置８６、真空成膜装置６６、ドライエッチング装置６８を配置し、かつ前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂの前記処理装置は、設置及び撤去が可能とされてなる。
【００６１】
そして前記第一の産業ロボット４６及び第二の産業ロボット６０で該被処理ロール５０を該処理装置に順次移載して図１〜図４に示すように処理することにより、表面が非導電性層とされた基材の該表面に導電性パターンが形成されたパターン形成部と、該非導電性層が露出したパターン非形成部とを有してなる連続めっき用パターン付ロールが製造される。
【実施例】
【００６２】
以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。
【００６３】
（実施例１）
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍであり、厚さ１ｍｍのＡＢＳ樹脂製の円筒形基材を準備し、ＮｅｗＦＸ（株式会社シンク・ラボラトリー製全自動レーザ製版システム）を用いて、図５に示した連続めっき用パターン付ロール全自動製造システムと同様に処理装置を配置し、下記するパターン付ロールの製造を行った。まず、被処理ロールである円筒形基材（ＡＢＳ樹脂製ロール）を、前処理装置に装着し、基材の表面を粗面化し、パラジウム触媒を吸着させて１μｍのニッケルメッキ層を形成した。その後、銅メッキ槽に装着し、中空ロールをメッキ液に全没させて２Ａ／ｄｍ2、６．０Ｖで４０μｍの銅メッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、基材となる均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を２ヘッド型研磨機（株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機）を用いて研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。
【００６４】
次いで、上記形成した銅メッキ層の表面に感光膜（サーマルレジスト：ＴＳＥＲ２１０４ Ｅ４（株式会社シンク・ラボラトリー製））を塗布（ファウンテンコーター）、乾燥した。得られた感光膜の膜厚は膜厚計（ＦＩＬＬＭＥＴＲＩＣＳ社製Ｆ２０、松下テクノトレーデイング社販売）で計ったところ、４μｍであった。ついで、画像をレーザ露光し現像した。上記レーザ露光は、Ｌａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸを用い露光条件５００ｍＪ／ｃｍ2で所定のパターン露光を行った。また、上記現像は、ＴＬＤ現像液（株式会社シンク・ラボラトリー製現像液）を用い、現像液希釈比率（原液１：水７）で、２４℃９０秒間行い、所定のレジストパターンを形成した。次いで、上記形成したレジストパターンをエッチングマスクとして、銅メッキ層及びニッケルメッキ層を腐食し、レジストパターンがないところはＡＢＳ樹脂表面が露出された。腐食液には塩化第二銅液を用い、３５℃１００秒間スプレーにて行いた。次いで、水酸化ナトリウムを用い、希釈比率２０ｇ／Ｌで４０℃１８０秒間行い、レジストパターンのレジスト剥離を行った。
【００６５】
このようにして、表面が非導電性層とされた基材の該表面に導電性パターンが形成されたパターン形成部と、該非導電性層が露出したパターン非形成部とを有する連続めっき用パターン付ロールを得た。該導電性パターンの体積抵抗率は、５．０×１０−２Ω・ｃｍであった。
【００６６】
得られた連続めっき用パターン付ロールを銅メッキ槽に装着し、該パターン付ロールをメッキ液に全没させて２Ａ／ｄｍ2、６．０Ｖで２０μｍの銅の連続めっきを行ない、連続めっきができることを確認した。
【００６７】
（実施例２）
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍであり、厚さ１ｍｍのＡＢＳ樹脂製の円筒形基材を準備し、ＮｅｗＦＸ（株式会社シンク・ラボラトリー製全自動レーザ製版システム）を用いて、図５に示した連続めっき用パターン付ロール全自動製造システムと同様に処理装置を配置し、下記するパターン付ロールの製造を行った。まず、被処理ロールである円筒形基材（ＡＢＳ樹脂製ロール）の表面に感光膜（サーマルレジスト：ＴＳＥＲ２１０４ Ｅ４（株式会社シンク・ラボラトリー製））を塗布（ファウンテンコーター）、乾燥した。得られた感光膜の膜厚は膜厚計（ＦＩＬＬＭＥＴＲＩＣＳ社製Ｆ２０、松下テクノトレーデイング社販売）で計ったところ、４μｍであった。ついで、画像をレーザ露光し現像した。上記レーザ露光は、Ｌａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸを用い露光条件５００ｍＪ／ｃｍ2で所定のパターン露光を行った。また、上記現像は、ＴＬＤ現像液（株式会社シンク・ラボラトリー製現像液）を用い、現像液希釈比率（原液１：水７）で、２４℃９０秒間行い、所定のレジストパターンを形成した。レジストパターンのないところは、ＡＢＳ樹脂表面が露出された。
【００６８】
レジストパターン形成部とレジストパターン非形成部の表面に導電性ＤＬＣ被覆膜をＣＶＤ法で形成した。ＣＶＤ条件は次の通りである。原料ガスにトルエン／アセチレン、成膜温度１００℃、成膜時間６０分で膜厚２μｍの導電性ＤＬＣ被覆膜を成膜した。該導電性ＤＬＣ被覆膜の体積抵抗率は、５．０×１０−２Ω・ｃｍであった。
【００６９】
次いで、該被処理ロールを水酸化ナトリウム水溶液中で超音波処理を３０分行った。そして、該レジストパターン上に形成された導電性ＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、ＡＢＳ樹脂製表面に導電性ＤＬＣの導電性パターンが形成されたパターン形成部と、該ＡＢＳ樹脂製表面が露出したパターン非形成部とを有する連続めっき用パターン付ロールを得た。
【００７０】
得られた連続めっき用パターン付ロールを銅メッキ槽に装着し、該パターン付ロールをメッキ液に全没させて２Ａ／ｄｍ2、６．０Ｖで２０μｍの銅の連続めっきを行ない、連続めっきができることを確認した。
【００７１】
（実施例３）
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍであり、厚さ１ｍｍのＦＲＰ製の円筒形基材を使用した以外は実施例１と同様にして連続めっき用パターン付ロールを製造し、連続めっきができることを確認した。
【００７２】
（実施例４）
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍであり、厚さ１ｍｍのＦＲＰ製の円筒形基材を使用した以外は実施例２と同様にして連続めっき用パターン付ロールを製造し、連続めっきができることを確認した。
【００７３】
（実施例５）
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍであり、厚さ１ｍｍのガラス繊維強化エポキシ樹脂製の円筒形基材を使用した以外は実施例１と同様にして連続めっき用パターン付ロールを製造し、連続めっきができることを確認した。
【００７４】
（実施例６）
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍであり、厚さ１ｍｍのガラス繊維強化エポキシ樹脂製の円筒形基材を使用した以外は実施例２と同様にして連続めっき用パターン付ロールを製造し、連続めっきができることを確認した。
【００７５】
（実施例７）
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍであり、厚さ１ｍｍのＣＦＲＰ製の円筒形基材を使用した以外は実施例１と同様にして連続めっき用パターン付ロールを製造し、連続めっきができることを確認した。
【００７６】
（実施例８）
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍであり、厚さ１ｍｍのＣＦＲＰ製の円筒形基材を使用した以外は実施例２と同様にして連続めっき用パターン付ロールを製造し、連続めっきができることを確認した。
【符号の説明】
【００７７】
１０Ａ，１０Ｂ：本発明の連続めっき用パターン付ロール、１１：非導電性層、１２：基材、１４：導電性層、１６：感光材、１８：レジストパターン、２０，３２：導電性パターン、２２，３４：パターン形成部、２４，３６：パターン非形成部、２６：レジストパターン形成部、２８：レジストパターン非形成部、３０：導電性被覆膜、４０：連続めっき用パターン付ロール全自動製造システム、４２，４３，７６：壁、４４：シャッター、４６：第一の産業ロボット、４８，６２：ロボットアーム、５０：被処理ロール、５１：ペーパー研磨装置、５２ａ，５２ｂ：ロールストック装置、５４：感光材塗布装置、５６：レーザ露光装置、５７：脱脂装置、５８：コンピュータ、５９：金属メッキ装置、６０：第二の産業ロボット、６４：砥石研磨装置、６６：真空成膜装置、６８：ドライエッチング装置、７０：ロール中継載置台、７２：現像装置、７８，８０：扉、８４：腐食装置、８６：レジスト剥離装置、９０：乾燥機能付超音波洗浄装置、９２：チャック手段、９４：チャック手段、Ａ，Ｂ，Ｃ：処理室。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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