(57)【要約】【課題】高精細化または大型化に対応して分割露光を行う平面表示装置の製造方法及び製造装置において、分割した露光領域間の、露光位置のズレ量及びその方向を容易に捉えることができるとともに、基板の廃棄によるロスを防ぐことができるものを提供する。【解決手段】第1のフォトマスク５１を用いる左側の領域の露光操作、及び、第2のフォトマスク５２を用いる右側領域の露光操作の後には、レジストパターン５３に、重複露光領域の両端部に、位置ズレについて確認可能とするための矩形枠状のマーク１が形成されるようにする。このマーク１には、外側の輪郭１２が左側の領域の露光操作に由来することを示す指示突起１１を設けておく。位置ズレの量が許容範囲を超える場合、形成されたレジストパターン５３を除去するとともに、マーク１により捉えられる位置ズレの量及び向きにしたがってステージ駆動の調整を行う。【選択図】図１
2015022229.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上のパターン形成面を複数の領域に分割し、この分割領域ごとにフォトマスクを用いて露光操作を行い、この際、第1の分割露光と第2の分割露光により重ねて露光される重複露光領域を設ける分割露光工程と、露光の結果の観察または計測に基づき分割露光の位置の調整を行う工程とを含み、第1及び第2の分割露光の後には、レジストパターンに、前記重複露光領域中、画像表示領域より外側に、分割領域間の位置合わせ精度を示す矩形枠状のマークが形成され、この矩形枠状のマークにより捉えられる位置ズレが所定値より大きい場合に、レジストパターンの除去と、新たなレジスト樹脂の塗布及び前記分割露光工程とを行うものであり、前記矩形枠状のマークの内側の輪郭及び外側の輪郭のうち、一方が第1の分割露光により形成され、他方が第2の分割露光により形成され、前記矩形枠状のマークの内側及び外側の輪郭のうちの少なくとも一方には、該輪郭が第1の分割露光及び第2の分割露光のいずれによるものかを指示する突起または凹部、またはその他の指示部が形成されることを特徴とする平面表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記のレジストパターン中のマークにより一の層のパターンに形成された矩形枠状のマークを、これより後のパターン形成のための位置合わせマークとして用い、この際、第1の分割露光のためには、前記指示部による指示に基づき、矩形枠状のマークの内側または外側の輪郭との間で、位置合わせを行うか、または、レジストパターンが形成された状態での位置ズレについての確認を行うことを特徴とする請求項１に記載の平面表示装置の製造方法。
【請求項３】
基板上のパターン形成面は、その長辺が複数に分割されるとともに、短辺は分割されないかまたは2分割されるように分割されることを特徴とする請求項１または２に記載の平面表示装置の製造方法。
【請求項４】
基板上のパターン形成面を複数の領域に分割し、この分割領域ごとにフォトマスクを用いて露光操作を行い、この際、第1の分割露光と第2の分割露光により重ねて露光される重複露光領域を設ける分割露光機構と、露光の結果の観察または計測に基づき分割露光の位置の調整を行うことのできる調整機構とを含み、第1及び第2の分割露光の後には、レジストパターンに、前記重複露光領域中、画像表示領域より外側に、分割領域間の位置ズレについて確認可能とするための矩形枠状のマークが形成されるようにする第1及び第2のフォトマスクを含み、この矩形枠状のマークにより捉えられる位置ズレが所定値より大きい場合に、レジストパターンの除去と、新たなレジスト樹脂の塗布及び前記分割露光を行うことを可能にするものであり、前記矩形枠状のマークの内側の輪郭及び外側の輪郭のうち、一方が第1の分割露光により形成され、他方が第2の分割露光により形成され、前記矩形枠状のマークの内側及び外側の輪郭のうちの少なくとも一方には、該輪郭が第1の分割露光及び第2の分割露光のいずれによるものかを指示する突起または凹部、またはその他の指示部が形成されることを特徴とすることを特徴とする平面表示装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平面表示装置の製造方法及び製造装置に関する。特には、１つの平面表示装置に対応する基板上のパターン形成面を複数領域に分けてこれら領域ごとにフォトマスクを用いた露光操作を行う工程を含む製造方法及びそのための製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
最も代表的な平面表示装置であるアクティブマトリクス型の液晶表示装置は、一般に、液晶表示パネルと、その駆動系統とからなる。液晶表示パネルは、互いに組み合わされるアレイ基板及び対向基板と、これた基板間に挟持された液晶層とよりなり、アレイ基板上には、画素がマトリクス状に配列された表示領域内に、画素ドット（サブピクセル）ごとのスイッチング素子（通常はＴＦＴ）及び画素電極、及び、マトリクスの行及び列に沿ってそれぞれ配列される走査線及び信号線とを備えている。これらは、複数の導電層パターンが絶縁膜を介して積層されることで設けられている。また、対向基板上またはアレイ基板上には、ブラックマトリクスやカラーフィルターの着色層パターンが設けられている。
【０００３】
アレイ基板や対向基板上に導電層パターンまたは着色層パターンを形成するためには、ベタの導電層の形成、レジスト樹脂の塗布、フォトマスクを用いた露光、未硬化レジストの除去、洗浄、エッチングなどの一連の工程が行われる。
【０００４】
近年、携帯電話・端末などのモバイル用途、及び、乗用車その他の車両や小型の乗り物に搭載するための平面表示装置において、高精細化が進むとともに、比較的大きいサイズが要求されるようになって来ている。これに対する1つの方策は、１つの液晶表示装置を得るためのアレイ基板を作成するにあたり、1枚のフォトマスクによる1回の露光に代えて、2枚またはそれ以上のフォトマスクを用いた複数回の露光操作を行うことである。このためには、ステッパーと呼ばれる露光装置が用いられる。これは、フォトマスクのステージに対する基板のステージの位置を逐次所定距離だけシフトさせるようにする機構が付属した露光装置である。
【０００５】
特許文献１においては、アレイ基板の左半部と右半部とについて、別個のフォトマスクを用いて露光することにより配線パターンを形成するにあたり、継ぎ目の部分に形成された配線パターンの形状を観察して所定位置からのズレを計測することが提案されている。このズレの計測値に基づき、必要に応じて位置の補正を行うのである。また、特許文献１においては、継ぎ目の部分における表示領域外の箇所に矩形枠状の「計測パターン」が形成されるようにすることも提案されている。この「計測パターン」は、各辺の線幅により、位置ズレ量を計測できるようにするものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−３３７６３１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１の方法であると、配線パターンを作成した後に計測を行うものであるため、一部の基板を廃棄することになると考えられた。例えば、ステッパーを最適な状態に設定するためには、テスト用基板での配線パターンの作成を行う必要があると考えられる。
【０００８】
また、本件発明者は、特許文献１に記載の矩形枠状の「計測パターン」であると、例えば、「計測パターン」の内側の輪郭が左側領域の露光操作に由来するのか、右側領域の露光操作に由来するのか、直ちに認識できないのではないかと考えるに至った。すなわち、ズレ量を把握するだけでなく、左右のどちらの方向へずれているのか、わかりにくい場合もありうると考えるに至った。また、矩形枠状の「計測パターン」を、次の導電層パターンを形成する露光操作のための位置合わせマークとして用いようとする場合も、問題となりうると考えた。
【０００９】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、平面表示装置の製造方法及び製造装置において、分割した露光領域間の、露光位置のズレ量及びその方向を容易に捉えることができるとともに、基板を廃棄せずに済むものを提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の平面表示装置の製造方法は、基板上のパターン形成面を複数の領域に分割し、この分割領域ごとにフォトマスクを用いて露光操作を行い、この際、第1の分割露光と第2の分割露光により重ねて露光される重複露光領域を設ける分割露光工程と、露光の結果の観察または計測に基づき分割露光の位置の調整を行う工程とを含み、第1及び第2の分割露光の後には、レジストパターンに、前記重複露光領域中、画像表示領域より外側に、分割領域間の位置ズレについて確認可能とするための矩形枠状のマークが形成され、この矩形枠状のマークにより捉えられる位置ズレが所定値より大きい場合に、レジストパターンの除去と、新たなレジスト樹脂の塗布及び前記分割露光工程とを行うものであり、前記矩形枠状のマークの内側の輪郭及び外側の輪郭のうち、一方が第1の分割露光により形成され、他方が第2の分割露光により形成され、前記矩形枠状のマークの内側及び外側の輪郭のうちの少なくとも一方には、該輪郭が第1の分割露光及び第2の分割露光のいずれによるものかを指示する突起または凹部、またはその他の指示部が形成されることを特徴とする。
【００１１】
本発明の平面表示装置の製造装置は、基板上のパターン形成面を複数の領域に分割し、この分割領域ごとにフォトマスクを用いて露光操作を行い、この際、第1の分割露光と第2の分割露光により重ねて露光される重複露光領域を設ける分割露光機構と、露光の結果の観察または計測に基づき分割露光の位置の調整を行うことのできる調整機構とを含み、第1及び第2の分割露光の後には、レジストパターンに、前記重複露光領域中、画像表示領域より外側に、分割領域間の位置ズレについて確認可能とするための矩形枠状のマークが形成されるようにする第1及び第2のフォトマスクを含み、この矩形枠状のマークにより捉えられる位置ズレが所定値より大きい場合に、レジストパターンの除去と、新たなレジスト樹脂の塗布及び前記分割露光を行うことを可能にするものであり、前記矩形枠状のマークの内側の輪郭及び外側の輪郭のうち、一方が第1の分割露光により形成され、他方が第2の分割露光により形成され、前記矩形枠状のマークの内側及び外側の輪郭のうちの少なくとも一方には、該輪郭が第1の分割露光及び第2の分割露光のいずれによるものかを指示する突起または凹部、またはその他の指示部が形成されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
分割した露光領域間の、露光位置のズレ量及びその方向を容易に捉えることができるとともに、基板の廃棄によるロスを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第1の実施形態における、第1及び第2の分割露光用のそれぞれのフォトマスク上のマーク形成用パターン、及び、レジストパターンに形成された矩形枠状のマークについて示す一連の部分平面図である。
【図２】矩形枠状のマークの形成位置について説明するための模式的な平面表示装置の平面図である。
【図３】第2の実施形態における、第1及び第2の分割露光用のそれぞれのフォトマスク上のマーク形成用パターン、及び、レジストパターンに形成された矩形枠状のマークについて示す、図１と同様の一連の部分平面図である。
【図４】第3の実施形態における矩形枠状のマークの形成位置について説明するための、図２と同様の、模式的な平面表示装置の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の第1の実施形態になる平面表示装置の製造方法について、図１〜２を用いて説明する。
【００１５】
図２には、得られる液晶表示パネル４を示す。液晶表示パネル４は、アレイ基板４３と対向基板４２とが液晶層及びシール材を介して組み合わされてなり、図示の例で、矩形状の一長辺及び一短辺にて、アレイ基板４３が対向基板４２の縁から突き出して、棚状の端子接続領域をなしている。アレイ基板４３と対向基板４２とが重なり合う領域のうち、シール材の配置箇所近傍の周縁領域を除いた矩形領域が画像表示領域４４である。
【００１６】
アレイ基板４３に、信号線を含む金属層パターン、走査線を含む金属層パターン、及び画素電極を含む導電層パターンを形成するにあたり、アレイ基板４３のパターン形成面が、各長辺を2等分するように、左右の２つの露光領域４５，４６に分割される。左の露光領域４５には、第１のフォトマスク５１を用いた第1の露光操作が行われ、右の露光領域４６には、第２のフォトマスク５２を用いた第2の露光操作が行われる。但し、中央には、左右の露光領域４５，４６が重なり合う重複領域４７が設定される。この重複領域４７の両端部（図での上下）における、画像表示領域４４より外の部分に、四隅が途切れた形の矩形枠状マーク４１-1, ４１-2が残留している。
【００１７】
図１の右端には、上述の矩形枠状マーク４１と同一のレジストパターン５３上の矩形枠状のマーク１を示す。また、図１の左端には、第１のフォトマスク５１上のマーク形成用のベタパターン（ポジパターン）２を示し、図１の中央部には、第２のフォトマスク５２上のマーク形成用の抜きパターン（ネガパターン）３を示す。本実施形態において、レジストは、露光箇所が可溶化して除去されるタイプ（ポジ型）であり、第1及び第2のいずれかの露光操作により露光された部分が現像の際に全て除去される。したがって、ベタパターン（ポジパターン）２と、抜きパターン（ネガパターン）３とが、互いに同一箇所の露光に用いられるならば、これらの遮光部が重複する部分が残留することとなり、図１の右端に示す、四隅が途切れた形の矩形枠状のマーク１が形成される。
【００１８】
この矩形枠状のマーク１における内部に面した輪郭１３が、第２のフォトマスク５２上の抜きパターン（ネガパターン）３の抜き部の輪郭３３に由来しており、矩形枠状のマーク１における外部に面した輪郭１２（図中、太線で表示）が、第１のフォトマスク５１上のベタパターン（ポジパターン）２に由来する。矩形枠状のマーク１を構成する４つの短冊状部分１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄは、内側の輪郭線が、それぞれ、抜きパターン（ネガパターン）３の輪郭３３の線分３３Ａ，３３Ｂ，３３Ｃ，３３Ｄに由来しており外側の輪郭線が、それぞれ、ベタパターン（ポジパターン）２の輪郭２２の線分２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｄに由来している。また、矩形枠状のマーク１における四隅の途切れ部分１４，１５，１６，１７は、ベタパターン（ポジパターン）２の四隅の矩形状抜き部２４，２５，２６，２７に由来している。
【００１９】
図１中に示すように、矩形枠状のマーク１には、第１のフォトマスク５１上のベタパターン（ポジパターン）２中の突起部２１に由来する指示突起１１が形成される。この指示突起１１は、(1) 外部に面した輪郭１２が第１のフォトマスク５１に由来すること、及び、(2) 第１のフォトマスク５１により露光された領域が、左側の領域であることにつき、一目で捉えられるようにするためのものである。
【００２０】
レジスト樹脂の塗布後、第１のフォトマスク５１による第1の露光操作、及び、第２のフォトマスク５２による第2の露光操作を行った後、レジストパターン５３中の２つの矩形枠状のマーク１を顕微鏡で観察する。これら２つのマーク１は、液晶表示パネル４の製品に残留する２つの矩形枠状のマーク４１-1, ４１-2に対応する。図示の例のようなレジストパターン５３中のマーク１を観察するならば、まず、指示突起１１が左側を指していること、及び、指示突起１１がマーク１の外側の輪郭１２に連なっていることを確認することができる。これにより、作業者は、外側の輪郭１２が左側（第1）の露光操作に由来することを直ちに認識・確認することができる。そのため、作業者は、マークの外側の輪郭が右側（第2）の露光操作に由来する場合の操作も頻繁に行っていたとしても、作業指示書などを逐一確認する必要がない。すなわち、位置調整の向きを間違えることがなく、また、その確認のために手数を取られることがない。
【００２１】
次いで、作業者は、例えばコンピューター画面上でスケールを移動させるなどして、４つの短冊状部分１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄの幅Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを計測する。これにより、重複領域４７における第2の露光操作の位置が、第1の露光操作の位置から、許容範囲を超えてずれているかどうかを確認することができる。特には、図２により示唆されるように、マーク１が、矩形のアレイ基板４３における対向する辺の中点付近にそれぞれ設けられるので、長辺方向のズレ及び短辺方向のズレだけでなく、平面内の回転方向のズレをも容易に捉えることができる。
【００２２】
もし、許容範囲を超えてずれていた場合は、レジスト除去液により、レジストパターンを全て除去する。そして、再度、レジスト樹脂を塗布し、第1及び第2の露光操作と、矩形枠状のマーク１による確認を行う。また、上述のような、幅Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの計測結果、及び、指示突起１１を用いた第1の露光操作に対する第2の露光操作の位置ズレの方向の確認に基づき、例えば、第1の露光操作と第2の露光操作との間での、ステージの駆動・位置決め機構における設定値を適宜に変更・調整する。ここでの駆動・位置決め機構は、フォトマスクのステージ、及び、アレイ基板のステージの少なくとも一方についての駆動及び位置決めを行うものである。なお、位置ズレが許容範囲内であっても、ある所定の値以上であれば、上記設定値の変更・調整を行うというふうに作業マニュアルなどを設定可能である。
【００２３】
一方、矩形枠状のマーク１による計測で位置ズレが許容範囲内であると判断されたならば、現像後、エッチングなどにより導電層などのパターンが形成される。例えば、第1回目のパターニングにより走査線を含む金属層のパターンをアレイ基板４３上に形成する。そして、このように形成された金属層パターンには、図２に示すように、製品に残留する矩形枠状のマーク４１が含まれる。
【００２４】
この矩形枠状のマーク４１は、次の導電層パターン、例えば、信号線を含む金属層のパターンを形成する第2回目のパターニングの際に、パターン層間の位置合わせマークとして用いることもできる。この際、指示突起１１の存在により、外部の輪郭、及び内部の輪郭のいずれが、左側の露光領域に関連したものかについて、直ちに捉えることができる。
【００２５】
そのため、信号線を含む金属層のパターンを形成すべく、左側領域のための第1のフォトマスク５１の位置を、左側の露光領域４５の既存のパターンの位置に合わせる操作は、このフォトマスク５１の位置合わせ用マークの輪郭、例えば、矩形状の抜きパターン(ネガパターン)の内側の輪郭を、既存のマーク４１の外部の輪郭１２に対して位置合わせすることにより、容易に行うことができる。したがって、誤って、右側の露光領域４６のパターンによる輪郭１３に対して位置合わせすることで、位置合わせ精度が低下してしまうということを防止できる。なお、例えば、第2回目のパターニングのための矩形枠状のマーク１は、第1回目のパターニングによる既存のマーク４１を囲む位置に、より大きく設けることができる。また、例えば、第3回目のパターニングのための矩形枠状のマーク１は、第1回目のパターニングによる既存のマーク４１の内側に位置するように、より小さく設けることができる。
【００２６】
第1回目のパターニング後に残留する矩形枠状のマーク４１は、第2回目のパターニングのためのレジストの形成後に、パターン層間での位置ズレについて確認するのに用いることもできる。
【００２７】
本実施形態の液晶表示用パネル４は、例えば、画像表示領域４４の対角寸法が５〜１５インチ、特には７〜１２インチであって、ＷＸＧＡ(1280×800画素)表示またはＦＷＸＧＡ(1366×768画素)表示を行うものであり、カーナビ装置、スマートホン、タブレットPC、DVDプレーヤー、携帯情報端末などのモバイル機器に搭載される。具体例において、矩形枠状のマーク１の径（縦横の寸法）は50〜150μm、例えば約100μmであり、矩形枠状のマーク１をなす各短冊部１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄの幅の設計寸法は5〜20μm、例えば約10μmである。また、一具体例において、指示突起１１は、正方形状であり、一辺が、短冊部１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄの幅の設計寸法の0.3〜0.8倍である。なお、アレイ基板上のパターン形成などの工程は、通常、一辺が少なくとも400mm以上、特には1000mm以上のマザー基板の状態で行われ、シール材の塗布、液晶材料の滴下、及びシール材の硬化の後、個々の液晶表示パネル４が切り出される。一方、レジスト樹脂には、パターンの認識が容易になるように顔料または染料を少量添加しておくことができる。
【００２８】
次に、第2の実施形態について、図１に対応する図２を用いて説明する。第2の実施形態では、第1の実施形態から、マークの形状、及びこのためのパターンについてのみ変更した。図２の右端部に示すように、本実施形態における矩形枠状のマーク１’は、途切れ部分のない矩形リング状である。
【００２９】
外部に面した輪郭１２には、第1の実施形態のマーク１と同様に、第1のフォトマスク５１上の矩形ベタパターン２における輪郭１２の突起部２１により、指示突起１１が形成されている。また、内部に面した輪郭１３には、第2のフォトマスク５２上の矩形抜きパターン３における内側の輪郭３３の凹部３１により、指示凹部１８が形成されている。図示の例で、指示突起１１と指示凹部１８とは、矩形の一辺の両端近傍に設けられる。
【００３０】
この指示凹部１８によっても、内側の輪郭１３及び外側の輪郭１２のいずれが、第1のフォトマスク５１に由来するかにつき、直感的に捉えることができる。特には、指示突起１１と指示凹部１８とが設けられていることから、例えば、これらのうち一方が見えにくい場合も、内側及び外側の輪郭が、左右いずれの露光領域に関連したものであるかにつき、直ちに把握することができる。
【００３１】
次に、第3の実施形態について、図３に対応する図４を用いて説明する。図４に示すように、アレイ基板４３上のパターン形成面が、左上、右上、左下及び右下の４つの露光領域４５，４６，４８，４９に分割されており、それぞれ、第1〜4のフォトマスクを用いて露光操作が行われる。このような4回の分割露光操作が終了してから、アレイ基板４３の矩形の各辺の中点近傍に設けられる４つの矩形枠状マーク１を用いて、隣り合う露光領域間における露光操作の位置ズレ寸法を検出する。図３に示すように、レジストパターン上の４つの矩形枠状マーク１に対応して、液晶表示パネル４’には、導電層による４つの矩形枠状マーク４１-1〜４１-4が残留する。例えば、第1のフォトマスク５１を用いる左上（第1）の露光領域４５の露光操作と、第2のフォトマスク５２を用いる右上（第2）の露光領域４６の露光操作との間の、位置ズレ寸法の確認は、基本的には、第1の矩形枠状マーク４１-1の箇所のマーク１のみにより行うこととなる。しかし、第2〜4の矩形枠状マーク４１-2〜４１-4の箇所の３つのマークにより得られる位置ズレ値の合算値をも用いることで、位置ズレ寸法の検出精度を多少向上させることができる。なお、第3の実施形態は、上記の他は、上述の第1の実施形態または第2の実施形態と同一である。
【００３２】
上記の実施形態の説明においては、アレイ基板４３上のパターン形成面を２分割または４分割（２×２分割）するとして説明したが、例えば、３分割（１×３分割）、６分割（２×３分割）または８分割（２×４分割）するのであっても良い。すなわち、パターン形成面がなす矩形について、その長辺を２〜５の複数に分割するとともに、短辺を分割しないかまたは２分割するという形の分割（1段または2段の分割）が可能である。
【００３３】
上記の実施形態の説明においては、マーク１の外側の輪郭１２に指示突起１１が設けられ、内側の輪郭１３に場合により指示凹部１８が設けられるとして説明したが、外側の輪郭１２に、指示突起１１に代えて指示凹部が設けられるのでも良く、内側の輪郭１３に指示突起を設けることもできる。また、場合によっては、外側または内側の輪郭における突起または指示凹部に代えて、隅角の途切れ部分や、矩形状の抜き部、またはその他の抜き部を設けることもできる。例えば、図３の右端に示すマークにおいて、左上の隅角部のみ、図１の右端のマークにおけるような途切れ部分を設けることができる。
【００３４】
上記の実施形態の説明においては、アレイ基板について、液晶表示パネル用として説明したが、有機EL表示パネルに用いられるものであっても良い。また、アレイ基板上に形成されるパターンが金属層などの導電層のパターンであるとして説明したが、発光材料層やカラーフィルタの着色層などであっても良い。また、アレイ基板に代えて、対向基板に、カラーフィルタの着色層やブラックマトリクスのパターンを設けるのであっても良い。
【符号の説明】
【００３５】
１…位置ズレ確認のためのレジストパターン中の矩形枠状のマーク；  
１１…マークの指示突起（第1のフォトマスクに由来）；  
１２…第1のフォトマスクに由来する外側の輪郭（太線）；    
１３…第2のフォトマスクに由来する内側の輪郭（細線）；  
１４, １５, １６, １７…マークの隅角の抜き部；  
１８…マークの指示突起（第2のフォトマスクに由来）；  
２…第1のフォトマスクにおけるマーク形成用の矩形ベタパターン；  
２１…矩形ベタパターンの突起部；  ２２…矩形ベタパターンの輪郭；  
２４, ２５, ２６, ２７…矩形ベタパターンの隅角の抜き部；  
３…第2のフォトマスクにおけるマーク形成用の矩形抜きパターン；  
３３…矩形枠状パターンの内側の輪郭；  ４…液晶表示パネル；    
４１…残留する矩形枠状マーク；  ４２…アレイ基板；      ４３…対向基板；  
４４…画像表示領域；  ４５…第1のフォトマスクによる（左側の）露光領域；  
４６…第2のフォトマスクによる（右側の）露光領域；  ４７…重複領域；  
５１…第1のフォトマスク；  ５２…第2のフォトマスク；  ５３…レジストパターン；
【図１】
2015022229.tif 000003
【図２】
2015022229.tif 000004
【図３】
2015022229.tif 000005
【図４】
2015022229.tif 000006