(57)【要約】【課題】予め液体を高圧にすることなく、液体を勢いよく噴射する。【解決手段】液体噴射装置２０では、レーザ４２からレーザ光を貯留部２４に貯留された液体に照射して液体中にブレイクダウンを発生させ、液体中に気泡を発生させると共に発生させた気泡を破壊する衝撃波を発生させる。すると、液体に圧力の局所的な上昇が発生し、ノズル２２から液体が勢いよく噴射する。これにより、液体を高圧にすることなく、液体を勢いよく噴射することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルから液体を噴射する液体噴射装置であって、
前記ノズル近傍に設けられ前記ノズルに連通すると共に液体を貯留する貯留部と、
電磁波の照射により前記貯留部に貯留された液体中に気泡と衝撃波とを発生させる気泡衝撃波発生手段と、
を備える液体噴射装置。
【請求項２】
請求項１記載の液体噴射装置であって、
前記気泡衝撃波発生手段は、電磁波の照射により前記貯留部に貯留された液体中に気泡を発生させると共に前記発生させた気泡を破壊する衝撃波を発生させる手段である
液体噴射装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の液体噴射装置であって、
前記気泡衝撃波発生手段は、電磁波としてレーザ光またはマイクロ波を照射する手段である
液体噴射装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１つの請求項に記載の液体噴射装置であって、
前記気泡衝撃波発生手段は、前記貯留部に貯留された液体に電磁波を集波して照射する手段である
液体噴射装置。
【請求項５】
請求項１または２記載の液体噴射装置であって、
前記気泡衝撃波発生手段は、前記貯留部の内側に突出するよう挿入された第１電極と、前記貯留部の内側で前記第１電極と対向するよう配置された第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に高電圧を印加する高電圧印加回路と、を有する手段である
液体噴射装置。
【請求項６】
ノズルと、前記ノズル近傍に設けられ前記ノズルに連通すると共に液体を貯留する貯留部と、を備える液体噴射装置における前記ノズルから液体を噴射する際の液体噴射方法であって、
電磁波の照射により前記貯留部に貯留された液体中に気泡と衝撃波とを発生させて前記ノズルから液体を噴射する
ことを特徴とする液体噴射方法。
【請求項７】
請求項６記載の液体噴射方法であって、
電磁波の照射により前記貯留部に貯留された液体中に気泡を発生させると共に前記発生させた気泡を破壊する衝撃波を発生させて前記ノズルから液体を噴射する
液体噴射方法。
【請求項８】
請求項６または７記載の液体噴射方法であって、
電磁波として、レーザ光，マイクロ波，高電圧のいずれかを照射する
ことを特徴とする液体噴射方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体噴射装置および液体噴射方法に関し、詳しくは、ノズルから液体を噴射する液体噴射装置およびノズルから液体を噴射する際の液体噴射方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の液体噴射装置としては、直列４気筒のディーゼルエンジンの燃料噴射装置において、インジェクタに接続されたコモンレールに蓄えられた燃料を十分に加圧し、この加圧燃料をインジェクタから噴射するものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。この装置では、爆発燃焼効率を良好にする必要から、噴射された燃料を微粒化するためにコモンレールの圧力を高圧（例えば、２００ＭＰａ）にしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１０８４０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ディーゼルエンジンの燃料噴射装置に限らず、インクジェットプリンタや生体内に薬物を注入するための薬物注入装置，表面を洗浄するための洗浄装置など、燃料やインク，薬液、水などの液体を噴射する装置では、液体の十分な噴射速度を得る必要がある。十分な噴射速度を得る手法として、上述した燃料噴射装置のように液体を高圧にする手法がある。しかしながら、液体を高圧にする手法では、装置を構成する各部品の耐圧を図る必要があり各部品の体格や重量が大きくなると共にコストが増大してしまう。
【０００５】
本発明の液体噴射装置は、液体を高圧にすることなく、液体を勢いよく噴射することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の液体噴射装置は、上述の主目的を達成するために以下の手段を採った。
【０００７】
本発明の液体噴射装置は、
ノズルから液体を噴射する液体噴射装置であって、
前記ノズル近傍に設けられ前記ノズルに連通すると共に液体を貯留する貯留部と、
電磁波の照射により前記貯留部に貯留された液体中に気泡と衝撃波とを発生させる気泡衝撃波発生手段と、
を備えることを要旨とする。
【０００８】
この本発明の液体噴射装置では、電磁波の照射により貯留部に貯留された液体中に気泡と衝撃波とを発生させる。電磁波の照射によってブレイクダウンが発生し、ブレイクダウンにより貯留部に気泡と衝撃波とが発生すると、気泡発生に伴う液体の体積変化と衝撃波により液体がノズルから噴射する。これにより、貯留部の液体を高圧にすることなく、液体を勢いよく噴射することができる。なお、液体の噴射速度は、電磁波の強度などによって定まる。
【０００９】
こうした本発明の液体噴射装置において、前記気泡衝撃波発生手段は、電磁波の照射により前記貯留部に貯留された液体中に気泡を発生させると共に前記発生させた気泡を破壊する衝撃波を発生させる手段であるものとすることもできる。電磁波の照射によりブレイクダウンが発生し、ブレイクダウンにより貯留部に気泡と衝撃波とが発生すると、気泡発生に伴う液体の体積変化によってノズルから液体が噴射し始める。発生した気泡に衝撃波が衝突すると、気泡と衝撃波とが干渉して気泡が変形して流れ場が生じ、この流れ場と気泡との衝突付近で気泡が崩壊し、新たに比較的強い衝撃波が発生する。そして、この衝撃波により液体がジェット流としてノズルから噴射する。したがって、電磁波を照射して貯留部の液体中に気泡を発生させると共に発生させた気泡を破壊する衝撃波を発生させることにより、液体をより勢いよく噴射することができる。
【００１０】
また、本発明の液体噴射装置において、前記気泡衝撃波発生手段は、電磁波としてレーザ光またはマイクロ波を照射する手段であるものとすることもできる。こうすれば、レーザ光またはマイクロ波を照射することにより液体中に気泡と衝撃波とを発生させて、ノズルから液体を勢いよく噴射することができる。
【００１１】
さらに、本発明の液体噴射装置において、前記気泡衝撃波発生手段は、前記貯留部に貯留された液体に電磁波を集波して照射する手段であるものとすることもできる。こうすれば、液体中の所望の位置に気泡と衝撃波とを発生させることができる。ここで、「集波」とは、電磁波を所定位置に集めることをいい、例えば、電磁波がレーザ光である場合にはレンズによる集光をいうものとし、電磁波がマイクロ波である場合にはアンテナによるマイクロ波の集中をいうものとする。
【００１２】
そして、本発明の液体噴射装置において、前記気泡衝撃波発生手段は、前記貯留部の内側に突出するよう挿入された第１電極と、前記貯留部の内側で前記第１電極と対向するよう配置された第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に高電圧を印加する高電圧印加回路と、を有する手段であるものとすることもできる。高電圧印加回路により第１電極と第２電極との間に高電圧を印加することにより、第１電極と第２電極との間に放電を発生させて、放電によって気泡と衝撃波とを発生させる。これにより、ノズルから液体を勢いよく噴射することができる。
【００１３】
本発明の液体噴射方法は、
ノズルと、前記ノズル近傍に設けられ前記ノズルに連通すると共に液体を貯留する貯留部と、を備える液体噴射装置における前記ノズルから液体を噴射する際の液体噴射方法であって、
電磁波の照射により前記貯留部に貯留された液体中に気泡と衝撃波とを発生させて前記ノズルから液体を噴射する
ことを特徴とする。
【００１４】
この本発明の液体噴射方法では、電磁波の照射により貯留部に貯留された液体中に気泡と衝撃波とを発生させる。電磁波の照射によりブレイクダウンが発生し、ブレイクダウンにより貯留部に気泡と衝撃波とが発生すると、気泡発生に伴う液体の体積変化と衝撃波により液体がノズルから噴射する。これにより、貯留部の液体を高圧にすることなく、液体を勢いよく噴射することができる。なお、液体の噴射速度は、電磁波の強度などによって定まる。
【００１５】
こうした本発明の液体噴射方法において、電磁波の照射により前記貯留部に貯留された液体中に気泡を発生させると共に前記発生させた気泡を破壊する衝撃波を発生させて前記ノズルから液体を噴射するものとすることもできる。 電磁波の照射によりブレイクダウンが発生し、ブレイクダウンにより貯留部に気泡と衝撃波とが発生すると、気泡発生に伴う液体の体積変化によってノズルから液体が噴射し始める。発生した気泡に衝撃波が衝突すると、 気泡と衝撃波とが干渉して気泡が変形して流れ場が生じ、この流れ場と気泡との衝突付近で気泡が崩壊し、新たに比較的強い衝撃波が発生する。そして、この衝撃波により液体がジェット流としてノズルから噴射する。したがって、電磁波を照射して貯留部の液体中に気泡を発生させると共に発生させた気泡を破壊する衝撃波を発生させることにより、液体をより勢いよく噴射することができる。
【００１６】
また、本発明の液体噴射方法において、電磁波として、レーザ光，マイクロ波，高電圧のいずれかを照射するものとすることもできる。こうすれば、レーザ光、マイクロ波のいずれかを用いて貯留部に貯留された液体中に気泡と衝撃波とを発生させて、ノズルから液体を勢いよく噴射することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の第１実施例としての液体噴射装置２０の構成の概略を示す構成図である。
【図２】貯留部２４に液体として水を貯留し、レーザ４２からエネルギ４０ｍＪのレーザ光を貯留部２４の水中であって噴孔２２ａから１２．５ｍｍの位置に照射したときの水中の様子の一例を示す連続写真である。
【図３】レーザ光の照射によりノズル２２から水が噴射される様子の一例を示す連続写真である。
【図４】水が噴射されるメカニズムを説明するための説明図である。
【図５】本発明の第２実施例としての液体噴射装置１２０の構成の概略を示す構成図である。
【図６】貯留部２４に液体として水を貯留し、高電圧印加回路１４４によりプラグ１４０とプラグ１４２との間に高電圧を印加したときの水中の様子の一例を示す連続写真である。
【図７】プラグ１４０，１４２間の高電圧の印加によりノズル２２から水が噴射される様子の一例を示す連続写真である。
【図８】変形例の液体噴射装置２２０の構成の概略を示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
次に、本発明を実施するための形態を実施例を用いて説明する。
【実施例１】
【００１９】
図１は、本発明の第１実施例としての液体噴射装置２０の構成の概略を示す構成図である。実施例の液体噴射装置２０は、ノズル２２から液体を噴射する液体噴射装置であり、図示するように、ノズル２２に連通し液体を貯留する貯留部２４と、貯留部２４に液体を供給する液体タンク３０と、貯留部２４にレーザ光を照射する光学系４０とを備える。ノズル２２には、液体噴射のための噴孔２２ａ（第１実施例では、直径０．１ｍｍ）が形成されている。また、貯留部２４の上部には、光学系４０からの光を透過可能なガラスから形成されたリッド２６が載置されている。
【００２０】
光学系４０は、レーザ４２と、レーザ４２からの光を曲げるためのプリズム４４と、プリズム４４からの光を貯留部２４の液体中に集光させる凸レンズ４６とから構成されている。第１実施例では、レーザ４２として、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ（ＬＯＴＩＳ  ＴＩＩ社製：製品名ＬＳ−２１３１Ｍ）を用いるものとし、レーザ光としては第２高調波（発振波長５３２ｎｍ）を用いるものとした。プリズム４４と凸レンズ４６とは、レーザ４２からのレーザ光がノズル２２からの噴射と同軸方向から貯留部２４の液体へ入射し、且つ、噴孔２２ａから予め定められた距離に集光するよう配置するものとした。光学系４０では、プリズム４４や凸レンズ４６の位置を調整することにより、任意の位置に設置されたレーザ４２からのレーザ光を液体に照射することができる。
【００２１】
こうして構成された第１実施例の液体噴射装置２０では、レーザ４２からレーザ光を発生させ、レーザ光を貯留部２４に照射することにより、ノズル２２から液体を勢いよく噴射する。
【００２２】
図２は、貯留部２４に液体として水を貯留し、レーザ４２からエネルギ４０ｍＪのレーザ光を貯留部２４の水中であって噴孔２２ａから１２．５ｍｍの位置に照射したときの水中の様子の一例を示す連続写真であり、図３は、レーザ光の照射によりノズル２２から水が噴射される様子の一例を示す連続写真である。図２，３では、上から下に向かって時間が経過するよう配置されている。図２は、上から順に、レーザ光を照射したとき、レーザ光を照射してから６．７μｓ，４０μｓ，７３．３μｓ，１４０μｓ経過したときの写真であり、図に向かって左側から右側に向かってレーザ光が照射されている。図３は、上から順に、レーザ光を照射したとき、レーザ光を照射してから１５０μｓ，３００μｓ，４５０μｓ，６００μｓ，９００μｓ経過したときの写真であり、図に向かって左側の黒い部分がノズル２２である。
【００２３】
レーザ４２からのレーザ光を貯留部２４に貯留されている液体に照射すると、図２に示すように、液体中に高温高圧の気泡（図中、球状のもの）が発生すると共に衝撃波（図中、帯状のもの）が発生する。このとき、気泡は、レーザ光の集光位置付近だけでなく、レーザ光の光路に沿って列なって発生している。こうして気泡と衝撃波とが発生すると、液体の体積変化により、ノズル２２から液体が噴射し始め、レーザ光が照射されて１５０μｓ後に、図３に示すように、ノズル２２から糸状に液体が勢いよくジェット流として噴射され、噴射された液体の衝突によって水が微粒化される。このように、レーザ光を貯留部２４に貯留されている液体に照射することにより、ノズル２２から液体が勢いよく噴射される。液体の噴射速度は、レーザ光のエネルギが高いほど速くなる。
【００２４】
図４は、液体が噴射されるメカニズムを説明するための説明図である。レーザ光を液体に照射し液体中にブレイクダウンが発生すると、気泡と衝撃波とが発生し（ステップ１）、液体の体積変化によってノズルから液体が噴射し始める。発生した気泡に衝撃波が衝突すると（ステップ２）、気泡と衝撃波とが干渉して気泡が変形し（ステップ３）、気泡の変形に伴って流れ場が生じる（ステップ４）。この流れ場と気泡との衝突付近で気泡が崩壊し、新たに比較的強い衝撃波が発生し（ステップ５）、この衝撃波でジェット流が生じ（ステップ６）、こうして生じたジェット流で液体がノズル２２から勢いよく噴射されると考えられる。このようなジェット流は、主として、レーザ光の光路に沿って発生することから、液体の圧力の上昇は、液体全体ではなく、レーザ光の光路を中心として局所的に生じると考えられる。このように、液体噴射装置２０では、レーザ４２から照射したレーザ光により貯留部２４に貯留された液体中にブレイクダウンを発生させ、気泡を発生させると共に衝撃波を発生させて気泡を破壊することにより、圧力の局所的な上昇でノズル２２から液体を噴射する。これにより、液体を高圧にすることなく、液体を勢いよく噴射することができる。なお、液体噴射装置として、ノズルの噴孔近くにキャビテーションを発生させて、キャビテーションによる気泡が噴孔付近に流れて崩壊することによって噴孔から噴射する液体の微粒化を促進するものがあるが、実施例の液体噴射装置２０のようにブレイクダウンを発生させて気泡を発生させると共に衝撃波を発生させることにより、キャビテーションを発生させるものに比してより勢いよく液体を噴射することができる。
【００２５】
以上説明した第１実施例の液体噴射装置２０によれば、レーザ４２からレーザ光を貯留部２４に貯留された液体に照射して、液体中に気泡を発生させると共に発生させた気泡を破壊する衝撃波を発生させることにより、液体に圧力の局所的な上昇を発生させてノズル２２から液体を噴射する。これにより、液体を高圧にすることなく、液体を勢いよく噴射することができる。
【００２６】
第１実施例の液体噴射装置２０では、光学系４０は、レーザ４２からの光をプリズム４４で曲げて凸レンズ４６で貯留部２４の液体中に集光させるものとしたが、プリズム４４，凸レンズ４６を設定せずに、レーザ４２からの光を直接貯留部２４に照射するものとしてもよいし、レーザ４２からのレーザ光を光ファイバで貯留部２４内の所望の位置まで伝搬させるものとしてもよい。
【００２７】
第１実施例の液体噴射装置２０では、光学系４０では光源としてＮｄ：ＹＡＧレーザを用いるものとしたが、Ｎｄ：ＹＡＧレーザに限定したものではなく、他の種類のレーザを用いてもよい。
【実施例２】
【００２８】
図５は、本発明の第２実施例としての液体噴射装置１２０の構成の概略を示す構成図である。液体噴射装置１２０は、第１実施例の液体噴射装置２０の光学系４０に代えてプラグ１４０，１４２，高電圧印加回路１４４を備えている点を除いて、第１実施例の液体噴射装置２０と同一の構成になっている。したがって、第１実施例の液体噴射装置２０と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
【００２９】
第２実施例の液体噴射装置１２０は、貯留部２４の内側に突出するよう挿入された棒状のプラグ１４０と、貯留部２４の内側でプラグ１４０と対向するよう配置された棒状のプラグ１４２と、プラグ１４０とプラグ１４２との間に高電圧を印加する高電圧印加回路１４４を備える。
【００３０】
プラグ１４０，１４２は、実施例では、貯留部２４の内側に挿入された端部が６０度の角度を持つよう研磨されており、噴孔２２ａから８ｍｍの位置で先端が０．５ｍｍの距離を持つように固定されている。
【００３１】
高電圧印加回路１４４は、例えば、ダイオードとコンデンサとから構成される周知のコッククロフト・ウォルトン回路と、この回路の出力側に取り付けられたキャパシタと、このキャパシタにスイッチを介して一次側が接続されると共に二次側がプラグ１４０およびプラグ１４２に接続された昇圧コイルとにより構成されている。高電圧印加回路１４４では、１００Ｖの交流電源からの電圧をコッククロフト・ウォルトン回路で昇圧し、昇圧した電圧をキャパシタに印加してスイッチをオンし、キャパシタに蓄電された電荷を放出して昇圧コイルの一次側に急激な電流変化を生じさせて昇圧コイルの二次側に高圧電流を発生させる。昇圧コイルの二次側は、プラグ１４０，１４２に接続されているから、プラグ１４０とプラグ１４２との間に高電圧が印加される。
【００３２】
こうして構成された第２実施例の液体噴射装置１２０では、高電圧印加回路１４４からの高電圧をプラグ１４０およびプラグ１４２に印加することにより、ノズル２２から液体を勢いよく噴射する。
【００３３】
図６は、貯留部２４に液体として水を貯留し、高電圧印加回路１４４によりプラグ１４０とプラグ１４２との間に高電圧を印加したときの水中の様子の一例を示す連続写真であり、図７は、プラグ１４０，１４２間の高電圧の印加によりノズル２２から水が噴射される様子の一例を示す連続写真である。図６，７では、上から下に向かって時間が経過するよう配置されている。図６は、上から順に、プラグ１４０とプラグ１４２との間に高電圧を印加したとき、電圧を印加してから６．７μｓ，４０μｓ，７３．３μｓ，１４０μｓ経過したときの写真である。図７は、上から順に、プラグ１４０とプラグ１４２との間に高電圧を印加したとき、電圧印加してから１５０μｓ，３００μｓ，１ｍｓ，１．３５ｍｓ経過したときの写真であり、図に向かって左側の黒い部分がノズル２２である。
【００３４】
図６に示すように、プラグ１４０とプラグ１４２との間に高電圧を印加すると、液体中にブレイクダウンが生じてプラグ１４０とプラグ１４２との間に放電が生じ、放電によってプラグ１４０とプラグ１４２との間の液体中に高温高圧の気泡（図中、球状のもの）が発生すると共に衝撃波（図中、帯状のもの）が発生する。このとき、第１実施例の液体噴射装置２０により大きな気泡が形成される。こうして気泡と衝撃波とが発生すると、図７に示すように、プラグ１４０とプラグ１４２との間に高電圧を印加されて１５０μｓ後に糸状に液体が噴射される。第２実施例の液体噴射装置２０では、第１実施例の液体噴射装置２０のように噴射された液体の微粒化は観察されなかった。これは、上述した気泡と衝撃波との発生で気泡が破壊される際に生じるジェット流の速さが比較的遅く、液体の噴射速度が遅くなるためであると考えられる。水の噴射速度は、プラグ１４０とプラグ１４２との間に印加する高電圧が高くなるほど高くなる。
【００３５】
このように、プラグ１４０とプラグ１４２との間に高電圧を印加することにより、プラグ１４０とプラグ１４２との間に放電を発生させ、気泡を発生させると共に衝撃波を発生させて気泡を破壊する衝撃波を発生させる。これにより、圧力の局所的な上昇でノズル２２から液体を噴射するから、液体を高圧にすることなく、液体を勢いよく噴射することができる。
【００３６】
以上説明した第２実施例の液体噴射装置１２０によれば、プラグ１４０とプラグ１４２との間に高電圧を印加し、プラグ１４０とプラグ１４２との間に放電を生じさせることにより、気泡を発生させると共に発生させた気泡を破壊する衝撃波を発生させて、液体に圧力の局所的な上昇を発生させてノズル２２から液体を噴射する。これにより、液体を高圧にすることなく、液体を勢いよく噴射することができる。
【００３７】
第２実施例の液体噴射装置１２０では、プラグ１４０，１４２を端部が６０度の角度を持つと共に、噴孔２２ａから８ｍｍの位置で先端が０．５ｍｍの距離を持つように固定されているものとしたが、プラグ１４０，１４２の形状や位置、先端間の距離は、プラグ１４０とプラグ１４２との間に生じさせる放電の程度によって適宜変更するものとしてもよい。
【００３８】
第２実施例の液体噴射装置１２０では、高電圧印加回路１４４として、コッククロフト・ウォルトン回路とキャパシタと昇圧コイルとを有するものを用いるものとしたが、プラグ１４０とプラグ１４２との間に高電圧を印加できるものであれば、如何なるものを用いても構わない。
【００３９】
第１，第２実施例の液体噴射装置２０，１２０では、噴孔２２ａの直径を０，１ｍｍであるものとしたが、噴孔２２ａの直径は所望する液体の噴射速度等に応じて適宜調整するものとしてもよい。
【００４０】
第１，第２実施例の液体噴射装置２０，１２０では、ノズル２２は１個の噴孔２２ａを有するものとしたが、複数の噴孔を持つものとしてもよい。
【００４１】
第１，第２実施例の液体噴射装置２０，１２０では、レーザ光や放電により液体中に気泡と衝撃波とを発生させて気泡を破壊するものとしたが、図８の変形例の液体噴射装置２２０に例示するように、第１，第２実施例の液体噴射装置２０，１２０にマイクロ波を発生させるマイクロ波発生回路２５５と発生したマイクロ波をレーザ光の照射付近に集める同軸のアンテナ２６０とから構成されるマイクロ波照射装置２５０を設け、レーザ光や放電により液体中に気泡と衝撃波とを発生させた後にアンテナ２６０から液体にマイクロ波を照射するものとしてもよい。こうすれば、気泡の発生を継続させることができ、より長い期間ノズル２２から液体を噴射することができると考えられる。また、第１，第２実施例の液体噴射装置２０，１２０において、光学系４０や高電圧印加回路１４４に代えてマイクロ波照射装置２５０を備えているものとし、マイクロ波照射装置２５０から照射されたマイクロ波で気泡と衝撃波とを発生させるものとしてもよい。
【００４２】
第１，第２実施例の液体噴射装置２０，１２０では、液体を加圧することなくレーザ光を照射したり放電を発生させるものとしたが、液体に数ＭＰａ〜数１０ＭＰａ程度の比較的低い圧力を与圧として加えたうえでレーザ光を照射したり放電を発生させるものとしてもよい。
【００４３】
第１，第２実施例の液体噴射装置２０，１２０、或いは、これらの変形例の液体噴射装置では、レーザ光や放電により液体中に気泡と衝撃波とを発生させて気泡と衝撃波との干渉で気泡を破壊するものとしたが、第１，第２実施例の液体噴射装置２０，１２０、或いは、これらの変形例の液体噴射装置において、レーザ光のエネルギをより低くしたり、プラグ１４０とプラグ１４２との間に印加する電圧をより低くしたり、照射するマイクロ波のエネルギをより低くして、気泡と衝撃波との干渉や気泡の破壊を行なわずに単に気泡と衝撃波とを発生させるものとしてもよい。こうすれば、気泡と衝撃波との干渉で気泡を破壊することによるジェット流により液体を噴射する第１，第２実施例の液体噴射装置２０，１２０、或いは、これらの変形例の液体噴射装置に比べて液体の噴射速度は低くなるが、ある程度の噴射速度で液体を噴射することができる。
【００４４】
なお、上述した第１，第２実施例の液体噴射装置２０，１２０、或いは、これらの変形例は、内燃機関の燃料噴射装置や生体組織の切除や切開のための液体ジェットメスに用いる液体噴射装置、細胞内へ薬物を注入するための薬物注入装置、生体内で組織に液体を噴射して組織を切除するための液体噴射装置、生体内で薬物の噴霧を行なうための薬物噴霧装置、インクの滴下により画像や文字を紙などの印刷媒体に印刷するインクジェットプリンタ、半導体の表面加工または洗浄に用いる液体を半導体に噴射するための液体噴射装置、半導体に薄膜や配線，電極などを印刷するための印刷装置などに用いることができる。
【００４５】
第１，第２実施例では、本発明を液体噴射装置の形態とした場合について説明したが、本発明を液体の噴射方法の形態としてもよい。
【００４６】
実施例の主要な要素と課題を解決するための手段の欄に記載した発明の主要な要素との対応関係について説明する。実施例では、ノズル２２が「ノズル」に相当し、貯留部２４が「貯留部」に相当し、第１実施例の光学系４０や第２実施例のプラグ１４０，１４２，高電圧印加回路１４４が「気泡衝撃波発生手段」に相当する。
【００４７】
なお、実施例の主要な要素と課題を解決するための手段の欄に記載した発明の主要な要素との対応関係は、実施例が課題を解決するための手段の欄に記載した発明を実施するための形態を具体的に説明するための一例であることから、課題を解決するための手段の欄に記載した発明の要素を限定するものではない。即ち、課題を解決するための手段の欄に記載した発明についての解釈はその欄の記載に基づいて行なわれるべきものであり、実施例は課題を解決するための手段の欄に記載した発明の具体的な一例に過ぎないものである。
【００４８】
以上、本発明を実施するための形態について実施例を用いて説明したが、本発明はこうした実施例に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において、種々なる形態で実施し得ることは勿論である。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
本発明は、液体噴射装置の製造産業などに利用可能である。
【符号の説明】
【００５０】
２０，１２０，２２０  液体噴射装置、２２  ノズル、２２ａ  噴孔、２４  貯留部、２６  リッド、３０  液体タンク、４０  光学系、４２  レーザ、４４  プリズム、４６  凸レンズ、１４０，１４２  プラグ、１４４  高電圧印加回路、２５０  マイクロ波照射装置、２５５  マイクロ波発生回路、２６０  アンテナ。
【図１】
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【図４】
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【図５】
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【図８】
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【図２】
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【図３】
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【図６】
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【図７】
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