(57)【要約】      （修正有）【課題】生産性に優れ、廃棄物の副生が少なく、安価で、環境に優しい３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の製造方法を提供する【解決手段】一般式（１）で示されるｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物を2015013843.tif 000009（ただし、Ｒは、水素、水酸基、または、メトキシ基である。）金属触媒存在下、側鎖二重結合を接触水素化還元することにより一般式（２）で示される３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物を製造する方法。2015013843.tif 000010【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示されるｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物を、
【化１】
2015013843.tif 000006
（ただし、Ｒは、水素、水酸基、または、メトキシ基である。）
金属触媒存在下、側鎖二重結合を接触水素化還元することによる下記一般式（２）で示される３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の製造方法
【化２】
2015013843.tif 000007
（ただし、Ｒは、水素、水酸基、または、メトキシ基である。）
【請求項２】
金属触媒が、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウムから選ばれる少なくとも１つである請求項１記載の３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の製造方法。
【請求項３】
ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物が、セルロースを含有するバイオマスのアンモニア処理物から取得されたものである、請求項１または２のいずれかに記載の３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の製造方法。
【請求項４】
前記請求項１〜５のいずれかの方法で製造された３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物を加水分解して、下記一般式（３）で示される３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸化合物を製造する３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸化合物の製造方法。
【化３】
2015013843.tif 000008
（ただし、Ｒは、水素、水酸基、または、メトキシ基である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の製造方法に関する。さらには、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物を用いた３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物は、有機化学・高分子化学分野で広く用いられる化合物であり、ファインケミカル、医農薬原料、樹脂・プラスチック原料、電子情報材料、光学材料など、工業用途として多岐にわたる分野で有用な化合物である。特に抗酸化作用を有することから化粧品の成分として利用されている(特許文献１参照)。
【０００３】
３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の製造方法としては、非特許文献１に示されたｐ−ヒドロキシベンズアルデヒドを無水酢酸またはマロン酸とを酢酸ナトリウム、ピリジンなどの塩基性触媒存在下で縮合し、生成させたｐ−ヒドロキシ桂皮酸の側鎖を水素化した３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸を経由する方法が知られている。ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒドは、これまで石油由来の原料から化学合成されてきた。石油は、将来、枯渇する可能性があり、また、石油由来の原料から製造される化学品の大量使用は、地球温暖化を引き起こす炭酸ガス排出の点で、課題があった。また、原料であるｐ−ヒドロキシベンズアルデヒドは、必ずしも安価ではなかった。また、反応によって得られたｐ−ヒドロキシ桂皮酸から塩基性触媒を分離・除去するためには、煩雑な操作が必要であった。
【０００４】
さらに、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の製造方法としては、特許文献１には、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸から得られる３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸エチルエステルを無水メタノール中で、高温下、オートクレーブでアンモニウムと反応させる方法が開示されている。しかし、この方法では、アンモニアとの反応の際、不純物である３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸が副生する。また、高圧下での反応のため、特別な装置を必要とする等、種々の問題があった。
【０００５】
また、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の製造方法としては、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸とｐ−ニトロフェノールをＮ，Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）の脱水縮合剤存在下で、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸−４−ニトロフェニルエステル生成させ、これを室温でアンモニアと反応させることが開示されている（特許文献１参照）。しかし、ＤＣＣを脱水縮合剤として用いると、ジシクロへキシル尿素が副生してしまい、これを除去する操作や廃棄物処理が必要となる。また、ＤＣＣは、強力なアレルギー誘発物質および感作性物質であり、皮膚の発疹を引き起こすため、その安全性に課題があった。
【０００６】
すなわち、前述した方法には、工業的使用に問題があることから、生産性に優れ、廃棄物の副生が少なく、安価で、環境に優しい製造方法が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許第７，９３２，５７８号明細書
【特許文献２】特開２００７−１３１６２２号公報
【非特許文献１】「ファインケミカル２００９年７月号」、vol.３８  No.７，ｐ．７６−７７
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、生産性に優れ、廃棄物の副生が少なく、安価で、環境に優しい３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物および３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸化合物の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の製造方法は、下記一般式（１）で示されるp-ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物を
【００１０】
【化１】
2015013843.tif 000002
【００１１】
（ただし、Ｒは、水素、水酸基、または、メトキシ基である。）
金属触媒存在下、側鎖二重結合を接触水素化還元することによる下記一般式（２）で示される３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の製造方法である。
【００１２】
【化２】
2015013843.tif 000003
【００１３】
（ただし、Ｒは、水素、水酸基、または、メトキシ基である。）
【発明の効果】
【００１４】
本発明の３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物および３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸化合物の製造方法は、環境に優しく、廃棄物の副生が少なく、かつ高収率であることから、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物および３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸化合物を安価に製造することができる。
【００１５】
本発明により得られる３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物を原料にして、医薬原料や化粧品原料として有用な３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸化合物を高収率で製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下に本発明の詳細を記載する。
【００１７】
本発明の３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の製造方法は、下記一般式（１）で示されるｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物を
【００１８】
【化３】
2015013843.tif 000004
【００１９】
（ただし、Ｒは、水素、水酸基、または、メトキシ基である。）
金属触媒存在下、側鎖二重結合を接触水素化還元する。
【００２０】
本発明において、好ましくは、バイオマスを処理したものから得られたものを原料として使用することができる。バイオマスは、再生可能な資源であり、カーボンニュートラルといわれるように炭酸ガス排出量削減の点からも好ましい。さらには、バイオマスをアンモニアなどで前処理後、糖化反応し、エタノール発酵で製造されるバイオエタノールを製造する途中の工程から副生物として得られるｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物が使用可能である。すなわち、石油系原料から製造したｐ−ヒドロキシベンズアルデヒドやｐ−ヒドロキシ桂皮酸から製造される３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物と比較し、バイオマスを処理して得られるｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミドを原料とした場合、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物を、安価に製造することができる可能性が高い。
【００２１】
本発明において、原料として使用されるｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物は、好ましくは、セルロース系バイオマスのアンモニア処理物より抽出されたものを用いることができる。
【００２２】
本明細書において、セルロース系バイオマスとは、バガス、スイッチグラス、ネピアグラス、エリアンサス、コーンコブ（トウモロコシ穂軸）、コーンストーバー（トウモロコシの茎葉）、稲わら、麦わらなどの草本系バイオマス、また樹木、廃建材などの木質系バイオマスなどのことである。また、本明細書においてアンモニア処理とは、セルロース系バイオマスを、アンモニアを含む処理剤と接触させる処理のことである。アンモニアを含む処理剤としては、アンモニア以外に、アミノ基を含む化合物、その他の化合物を複数組み合わせて使用してもよい。また、アンモニアを含む処理剤は、液体、気体、気液混合相のいずれであってもよく、さらに超臨界アンモニア流体又は亜臨界アンモニア流体であってもよい。本明細書において、前記アンモニア処理を施した前記セルロース系バイオマスをアンモニア処理バイオマスと呼ぶこととする。
【００２３】
アンモニア処理バイオマスに含まれるｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物の抽出方法は、溶媒浸漬が好ましく用いられる。抽出に用いる溶媒は特に限定されないが、例えば水、メタノール、エタノール、アセトニトリルまたはこれらの混合物が使用できる。
【００２４】
アンモニア処理バイオマスの溶媒への浸漬方法は、例えば、攪拌混合を行う方法と、静置する方法などが挙げられるが、攪拌混合を行うほうがより効率よくp−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物を抽出することができるため、好ましい。
【００２５】
アンモニア処理バイオマスの水への浸漬時間は、1分から６０分が好ましい。
【００２６】
アンモニア処理バイオマスを水に浸漬し、ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物を抽出する際の温度としては、４０〜８０℃が好ましい。４０℃以上においてp-ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物が格段に効率よく抽出されるためである。
【００２７】
ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物の抽出に使用する水の量は、アンモニア処理バイオマス乾燥重量１ｋｇに対して、２〜３０ｋｇの水を使用することが好ましい。抽出に使用する水の量がアンモニア処理バイオマス乾燥重量１ｋｇに対して２〜３０ｋｇの範囲内であれば、アンモニア処理バイオマス中のp-ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物を十分に抽出することができる。
【００２８】
溶媒により抽出したｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物は、抽出溶媒をそのまま後述の反応溶媒として使用し、後述の反応をおこなってもよいが、晶析により精製することが好ましい。一般に晶析とは、溶質濃度を高めるか、溶質の溶解度を低下させるか、あるいはこれらを組み合わせることなどにより、溶質が溶解度以上に溶けた溶液状態、すなわち過飽和状態とすることにより、溶質を結晶として析出・成長させ、回収する方法を指す。本発明における晶析方法は、好ましくは、溶質濃度を高める方法として、加熱蒸発、減圧乾燥、凍結乾燥であり、溶解度を低下させる方法として、冷却、化学反応、加圧である。
【００２９】
ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物溶液には固形物が多量に含まれているため、ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物の晶析に先立ってこれらの固形物を除去しておくことが好ましい。固形物の除去方法は、遠心分離、フィルタープレス、ベルトフィルター、精密ろ過、メッシュスクリーンによるろ過、不織布によるろ過およびその組み合わせが好ましく、精密ろ過はミクロンオーダーの粒子を除去することができ、晶析時のｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物純度を高めることができるので、固形物除去の最終段は精密ろ過とすることが好ましい。
【００３０】
本発明では、ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物を、金属触媒存在下、側鎖二重結合を接触水素化還元する。
【００３１】
本発明は、好ましくは、金属触媒を不均一系触媒として接触水素化還元を行う。
【００３２】
使用される金属触媒としては、炭素−炭素多重結合を水素化する能力をもつ金属が使用でき、例えば、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウムなどを使用することができる。工業的にはニッケル、パラジウムまたは白金触媒を使用することが好ましい。
【００３３】
金属触媒の形態としては、表面積が大きくなるようにコロイド状、スポンジ状の形態にした金属、あるいは系内での水素ガスによる還元でそのようになるようにした金属酸化物や金属水酸化物が使用される。また、
活性炭、アルミナなどの不溶性物質を担体として、その表面上に微細な金属を還元的に析出させた金属担体触媒も用いられる。金属担体触媒は金属触媒の表面積が高くかつ経時的な触媒活性の低下が少ないことが多いことから、好ましく用いられる。
【００３４】
本発明の製造方法で用いられる触媒量は、好ましくは、原料のｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物に対して、金属換算で、０．００１〜１重量％であり、より好ましくは、０．０５〜０．５重量％である。０．００１重量％より少ない場合には、触媒による還元反応の促進を十分に果たすことができなくなる。一方、１重量％より多い場合には、高価な金属を多量に使用するため、製造プロセスとして経済的に好ましくない。
【００３５】
本発明の製造方法において、接触還元反応液から金属触媒を沈降あるいは濾別することにより、分離・回収を行ってもよい。回収した金属触媒は、再度使用することが好ましい。
【００３６】
本発明は、好ましくは、水素は、分子状水素を用いる。
【００３７】
本発明の３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の製造方法の反応溶媒は、反応に不活性なものが好ましい。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルセソルブ等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、テロラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類およびＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド等も使用できる。本発明の好ましい溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールの低級アルコール、酢酸エチル、テトラヒドロフランが挙げられる。
【００３８】
溶媒の使用量は、原料を懸濁させるか、あるいは完全に溶解させるに足りる量で充分であり、通常、原料のｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物に対して、１．０〜３０重量である。
【００３９】
反応温度は、一般的には５〜１００℃であり、好ましくは、２０〜８０℃である。還元反応の反応時間としては、基質の種類、反応条件などによって適宜定められるが、１〜４８時間が好ましく、３〜２４時間がより好ましい。
【００４０】
反応時の水素圧は、常圧でもよいが、好ましくは０．１〜１５ＭＰａ、さらに好ましくは、０．３〜２ＭＰａの加圧下で行う。水素加圧下で行うことりより、反応を完結させ易くなるが、１５ＭＰａ以上では装置上の制約が多くなり経済的ではない場合がある。
【００４１】
本発明において、触媒と分離された３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物を含有する反応液から、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物を単離する方法として、晶析法により、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物を単離する方法が好ましく用いられる。
【００４２】
晶析法としては、反応溶媒を留去することにより、濃縮晶析し、得られた結晶を固液分離する方法、あるいは、反応溶液に貧溶媒を添加し、晶析させ、得られた結晶を固液分離する方法があるが、いずれの方法でも良い。
【００４３】
さらに高純度化や着色低減のために、得られた結晶を有機溶媒に再溶解し、再結晶により精製させてもよい。再結晶溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルセソルブ等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、テロラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類およびＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド等も使用できる。本発明の好ましい再結晶溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールの低級アルコール、酢酸エチル、テトラヒドロフランが挙げられる。
【００４４】
再結晶溶媒の使用量は、通常、粗結晶の３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物を溶解させる量が基質や条件によって選択されるが、通常、粗結晶の３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物に対し、１．０〜３０重量部である。
【００４５】
さらに、本発明で得られた３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物のアミドを加水分解すると、下記一般式（３）で示される３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸化合物が得られる。
【００４６】
【化４】
2015013843.tif 000005
【００４７】
（ただし、Ｒは、水素、水酸基、または、メトキシ基である。）
本発明において用いられるアミドの加水分解は、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸、ギ酸、酢酸、パラトルエンスルフォン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、フルオロスルフォン酸などの有機酸、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機塩基、ピリジン、トリエチルアミン、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、ターシャリーブトキシカリウムなどの有機塩基の存在下で行われる。
【００４８】
アミドの加水分解で用いられる塩基または酸の量は、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物に対し、２〜５０モル倍であり、好ましくは、３〜１０モル倍である。
【００４９】
３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の加水分解において用いられる溶媒は、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物を溶解させるものであれば良く、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルセソルブ等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、テロラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類およびＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等も使用できる。本発明の好ましい再結晶溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールの低級アルコール、酢酸エチル、テトラヒドロフランが挙げられる。
【００５０】
３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物の加水分解反応の反応温度は、一般的には５〜１５０℃であり、好ましくは、２０〜８０℃である。加水分解反応の反応時間としては、基質の種類、反応条件などによって適宜定められるが、１〜４８時間が好ましく、３〜２４時間がより好ましい。
【００５１】
加水分解反応後の３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸化合物を含有する反応液から、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸化合物を単離する方法として、晶析法により、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸化合物を単離する方法が好ましく用いられる。晶析法としては、反応溶媒を留去することにより、濃縮晶析し、得られた結晶を固液分離する方法、反応溶液に貧溶媒を添加し、晶析させ、得られた結晶を固液分離する方法、塩基存在下で加水分解し、無機酸を添加することにより、酸析する方法があるが、いずれの方法でも良いが、酸析方法が好ましく用いられる。
【００５２】
本発明の製造方法により得られた３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド化合物および３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸化合物は、医薬品や化粧品の用途として使用できる。また本発明の製造方法は、安価かつ効率よく、さらには、再生可能な非石化原料をできる意義は大きい。
【実施例】
【００５３】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。なお、特に記載がない限り、ここで用いている試薬類のメーカーグレードは、いずれも１級レベル以上に相当するものである。
【００５４】
参考例１  ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物結晶の製造
１．アンモニア処理工程
セルロース系バイオマスとしてコーンコブ（トウモロコシ穂軸）を用いた。前記コーンコブをカッターミルにより長さ１０ｍｍ以下のチップ状に裁断した後、乾燥機内で５０℃にて約３日間乾燥させた。乾燥後のコーンコブの含水率は、１質量％未満であった。得られた乾燥コーンコブチップ５０ｇに対し、１５質量％濃度のアンモニア水２００ｇを添加し良く混合した。得られた混合物を、テフロン（登録商標）内筒型耐圧密閉容器（ＴＡＦ−ＳＲ３００、耐圧硝子工業社製）に投入して蓋を閉めた後、前期テフロン（登録商標）内筒型耐圧密閉容器ごと、１７０℃に保持した乾熱滅菌装置内に３０分間静置した。
【００５５】
その後、前記テフロン（登録商標）内筒型耐圧密閉容器ごと氷水に投入して１０分間冷却を行い、アンモニア処理コーンコブを得た。アンモニア処理コーンコブの含水率は、約８０％であった。
【００５６】
以上の工程を繰返し実施し、必要量のアンモニア処理コーンコブを得た。
【００５７】
２．抽出工程
前記アンモニア処理コーンコブ１ｋｇに対して水９ｋｇを添加し、５０℃で１０分間攪拌を行った。得られた懸濁液に含まれる固形物をフィルタープレス処理（藪田産業製、ＭＯ−４）により除去し、更に、細孔径０．２２μｍの精密ろ過膜に供することにより、ミクロンオーダーの不溶性粒子を除去した。得られたろ液をp-ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物抽出液とし以下の工程に使用した。
【００５８】
３．晶析工程
前記ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物精製液を、ロータリーエバポレータを用いて８０℃、減圧下にて液量がおよそ半分になるまで濃縮した。得られた濃縮液を、ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物精製・濃縮液として以下の工程に使用した。前記ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物精製・濃縮液を１５℃に冷却して１日間放置したところ、結晶の析出が確認された。前記結晶を、目開き５００μｍの篩にて分離した。このようにして得られた結晶に、１Ｌの水を加え、常温にて懸濁した後、再度目開き５００μｍの篩にて分離した。得られた結晶を、５０℃にて一昼夜乾燥させ、更に１０ｋＰａにて約６時間減圧乾燥を行い、ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物乾燥結晶を得た。得られたp-ヒドロキシ桂皮酸アミド化合物乾燥結晶のＨＰＬＣ純度は９７．８area％であった。
【００５９】
実施例１
p−ヒドロキシ桂皮酸アミド（ＨＰＬＣ純度９７．８area％）８．３g、イソプロパノール７５．０g、水８．３g、エヌイーケムキャット製５％Ｐｄ／Ｃ（AER-TYPE：５０％含水品)０．５ｇ（金属換算０．１５重量％/ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド）をコンデンサー付き３００ｍｌ四つ口フラスコに投入した。フラスコ内を窒素でパージしながら、攪拌した。十分パージを行った後、水素を充填した３Ｌバルーンから系内へ水素を供給し、３回水素で系内を置換した。フラスコ内を水素で封止した後、反応温度５０℃へ昇温し、水素が吸収されることを確認し、反応を開始した。水素吸収が停止後、２．５時間熟成し、反応を終了した。反応液から濾過により触媒を除去し、濾液を減圧下、５０℃で濃縮晶析し、水１０ｇを加えて、室温へ冷却した。析出した結晶を濾別し、水１０ｇでリンスすることにより、付着した濾液を結晶から除去した。得られた結晶を真空乾燥機で７０℃、３時間乾燥させることにより、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド５．５ｇ（収率  ６５．６％）を取得した。得られた３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミドのＨＰＬＣ純度は、９８．５％であった。
【００６０】
実施例２
実施例１において、反応温度を７０℃にした以外、実施例１と同様におこなった。３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド５．９ｇ（収率６９．５％）を取得した。得られた３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミドのＨＰＬＣ純度は、９７．８％であった。
【００６１】
実施例３
ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド（ＨＰＬＣ純度９７．８area％）８．３ｇ、イソプロパノール７５．０ｇ、水８．３ｇ、エヌイーケムキャット製５％Ｐｄ／Ｃ(AER-TYPE：５０％含水品)０．５ｇ（金属換算０．１５重量％／ｐ−ヒドロキシ桂皮酸アミド）を３００ｍｌのオートクレーブに投入した。オートクレーブ内を窒素でパージしながら、攪拌した。十分パージを行った後、水素ボンベから系内へ水素を供給し、３回水素で系内を置換した。オートクレーブ内に水素０．３ＭＰａを加圧し、反応温度５０℃へ昇温した。水素が吸収されることを確認し、反応を開始した。系内を水素圧０．３ＭＰａに保ち、水素吸収停止後、２．５時間熟成し、反応を終了した。反応液から濾過により触媒を除去し、濾液を減圧下５０℃で濃縮晶析し、水１０ｇを加えて、室温へ冷却した。析出した結晶を濾別し、水１０ｇでリンスすることにより、付着した濾液を結晶から除去した。得られた結晶を真空乾燥機で７０℃、３時間乾燥させることにより、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド６．１ｇ（収率７２．６％）を取得した。得られた３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミドのＨＰＬＣ純度は、９９．２％であった。  
【００６２】
実施例４
実施例２で取得した３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸アミド８．１ｇ、４８％水酸化ナトリウム水溶液５０．５ｇと水２００．３ｇをコンデンサー付き５００ｍｌ四つ口フラスコに投入した。攪拌しながら、８０℃に昇温し、４時間反応させた。室温に冷却し、３５％塩酸水溶液１１９．０ｇを滴下ロートからゆっくり滴下し、酸析した。その後一晩攪拌したのち、スラリーを濾過し、ケークを水１００ｍｌで２回洗浄した。取得した含水ケークを真空乾燥機で７０℃、３時間乾燥させることにより、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸７．４６ｇ（収率９１．５％）を取得した。得られた３−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸のＨＰＬＣ純度は、９９．５％であった。