(57)【要約】【課題】磁気シールドを備えて地絡箇所の特定と絶縁状態の回復が容易な荷電粒子ビーム描画装置を提供する。【解決手段】荷電粒子ビーム描画装置である電子ビーム描画装置１は、ステージ２１が設けられた描画室１１と、荷電粒子ビームである電子ビームＢを照射する電子銃３２を有して電子ビームＢをステージ２１上に収束する光学鏡筒３１と、描画室１１の外部に絶縁体４２を介して設けられて描画室１１を覆う磁気シールド４１とを有して構成される。磁気シールド４１は、複数のシールド部４１−１〜４１−５に分割されるとともに、シールド部間が導通可能となるように構成される。【選択図】図１
2015023064.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージが設けられた描画室と、
荷電粒子ビームを照射するビーム照射手段を有して前記荷電粒子ビームを前記ステージ上に収束する光学鏡筒と、
前記描画室の外部に絶縁体を介して設けられ、前記描画室を覆う磁気シールドとを有する荷電粒子ビーム描画装置であって、
前記磁気シールドは、複数のシールド部に分割されるとともに、前記シールド部間が導通可能となるように構成されることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項２】
前記磁気シールドは、隣接する前記シールド部の対向する端部同士が、前記絶縁体を介して重畳するように構成されることを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項３】
前記磁気シールドは、隣接する前記シールド部同士がスイッチを介して配線接続されるように構成され、前記スイッチによって該シールド部間が導通可能となるように構成されることを特徴とする請求項１または２に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項４】
前記磁気シールドは、前記複数のシールド部がそれぞれ独立に配線接続する１つのスイッチを有し、前記スイッチによって前記複数のシールド部の全てが導通するように構成されることを特徴とする請求項１または２に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項５】
前記磁気シールドには１つの基本電位が設けられ、前記複数のシールド部がそれぞれ独立に前記基本電位となるように構成されることを特徴とする請求項１または２に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、荷電粒子ビーム描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大規模集積回路（ＬＳＩ：Ｌａｒｇｅ  Ｓｃａｌｅ  Iｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ）の高集積化および大容量化に伴い、半導体素子に要求される回路線幅は益々狭くなっている。
【０００３】
半導体素子は、回路パターンが形成された原画パターン（マスクまたはレチクルを指す。以下では、マスクと総称する。）を用い、いわゆるステッパと呼ばれる縮小投影露光装置でウェハ上にパターンを露光転写して回路形成することにより製造される。ここで、微細な回路パターンをウェハに転写するためのマスクの製造には、電子ビーム描画装置等の荷電粒子ビーム描画装置が用いられる（例えば、特許文献１および特許文献２を参照。）。
【０００４】
図９は、従来の電子ビーム描画装置の構成を説明する模式的な断面図である。
【０００５】
図９に示す電子ビーム描画装置１００１は、荷電粒子ビームである電子ビームＢを用いて描画を行う。電子ビーム描画装置１００１は、描画室１０１１と、描画室１０１１内に設けられてマスク１０２２が載置されるステージ１０２１と、描画室１０１１の天井部に配置された光学鏡筒１０３１とを有する。光学鏡筒１０３１内には、電子銃１０３２と、偏向器１０３３、１０３５と、アパーチャ１０３４とが設けられている。電子銃１０３２から発せられた電子ビームＢは、偏向器１０３３、１０３５とアパーチャ１０３４によって、形状と寸法を調節され、また、マスク１０２２への照射位置を決められる。
【０００６】
図９において、マスク１０２２が載置されるステージ１０２１は、描画室１０１１の底部に取り付けられている。また、ステージ１０２１は、駆動部１０２５によって、互いに直交するＸ方向とＹ方向に移動自在に構成されている。描画室１０１１の側壁には、レーザ干渉計１０２３が固定されている。レーザ干渉計１０２３によって、ステージ１０２１の端部近傍に設けられたミラー１０２４の位置を測定することで、ステージ１０２１の位置が把握される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平５−１４４７１１号公報
【特許文献２】実開昭５３−１３０７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
以上の構造を有する従来の電子ビーム描画装置は、所望とする精度で描画が可能となるように、電子ビームの軌道に対する外部の磁場の影響を排除することが重要となる。問題となる外部の磁場とは、例えば、電子ビーム描画装置の周囲に配置された交流機器から発生する交流磁場や、地磁気等の直流磁場がある。そのため、磁性材料からなる磁気シールドを用いて電子ビーム描画装置を外部磁場から遮蔽する技術、すなわち、磁気シールド技術が検討されている。
【０００９】
電子ビーム描画装置における磁気シールド技術としては、描画対象のマスクが置かれる描画室を箱状の磁気シールド内に収納し、外部磁場の影響を遮断する方法が可能である。また、別の方法として、描画室に対して外部側から磁気シールドを直貼りし、電子ビーム描画装置に外部磁場が侵入することを抑える磁気シールド技術が可能である。
【００１０】
図１０は、磁気シールドを描画室に直貼りする磁気シールド技術を模式的に説明する図である。
尚、図１０では、図９に示した従来の電子ビーム描画装置１００１を用いて磁気シールド１１０１を直貼りする技術を説明し、共通する構成要素については同一の符号を付して重複する説明は省略する。
【００１１】
図１０に示すように、電子ビーム描画装置１００１では、箱状に一体的に形成された磁気シールド１１０１を、絶縁体１１０２を介して、描画室１０１１の外側から直貼りすることが可能である。このような配置構造とすることで、電子ビーム描画装置１００１は、磁気シールド１１０１により、外部からの磁場の侵入を抑えることができる。
【００１２】
さらに、図１０に示す磁気シールド１１０１を描画室１０１１に直貼りする技術では、磁気シールド１１０１の小型化や、磁気シールド１１０１における開口部分を小さくすること等も可能となって、より有効な技術となる。
【００１３】
しかし一方で、磁気シールドを直貼りする磁気シールド技術の場合、地絡箇所を特定することが難しいという問題を有している。ここで、地絡とは電子ビーム描画装置と磁気シールドが電気的に導通してしまうことを言う。すなわち、磁気シールドを直貼りする磁気シールド技術の場合、磁気シールドと描画室との間は、絶縁体を介することにより電気的絶縁性が保持されるはずであるが、まれに地絡を生じることがあってその発生箇所の特定は難しい。
【００１４】
磁気シールドを備えた電子ビーム描画装置において、電子ビーム描画装置本体と磁気シールドの間に地絡が生じて導通してしまうと、磁気シールドにおける磁気の遮蔽効果は低下する。その結果、電子ビーム描画装置において、所望とする磁気シールドの機能が低下するおそれがある。そのため、磁気シールドを有する電子ビーム描画装置では、地絡が発生した場合、その電気的導通箇所を素早く探し出し、電気的な絶縁状態を回復させることが求められる。
【００１５】
しかしながら、磁気シールドを直貼りする磁気シールド技術の場合、磁気シールドを電子ビーム描画装置から取り外すことが容易ではなく、上述したように、地絡が発生しても地絡箇所を特定することは難しい。例えば、地絡箇所が１箇所なのか複数箇所なのかを推定することや、どの位置に地絡が生じているかを推定することが難しい。
【００１６】
そのため、磁気シールドを電子ビーム描画装置から取り外し、さらに、地絡箇所を特定して必要な電気的絶縁状態を回復することは、磁気シールドを直貼りする磁気シールド技術にとって、非常に煩雑な作業となる。
【００１７】
したがって、磁気シールドを描画室に直貼りする磁気シールド技術においては、地絡箇所の特定と電気的絶縁状態の回復作業を容易にできるようにすることが求められている。
【００１８】
本発明は、こうした問題に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、磁気シールドを備えて地絡箇所の特定と絶縁状態の回復が容易な荷電粒子ビーム描画装置を提供することにある。
【００１９】
本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明の一態様は、ステージが設けられた描画室と、
荷電粒子ビームを照射するビーム照射手段を有して荷電粒子ビームをステージ上に収束する光学鏡筒と、
描画室の外部に絶縁体を介して設けられ、描画室を覆う磁気シールドとを有する荷電粒子ビーム描画装置であって、
磁気シールドは、複数のシールド部に分割されるとともに、シールド部間が導通可能となるように構成されることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置に関する。
【００２１】
本発明の一態様において、磁気シールドは、隣接するシールド部の対向する端部同士が、絶縁体を介して重畳するように構成されることが好ましい。
【００２２】
本発明の一態様において、磁気シールドは、隣接するシールド部同士がスイッチを介して配線接続されるように構成され、スイッチによってそのシールド部間が導通可能となるように構成されることが好ましい。
【００２３】
本発明の一態様において、磁気シールドは、複数のシールド部がそれぞれ独立に配線接続する１つのスイッチを有し、そのスイッチによって複数のシールド部の全てが導通するように構成されることが好ましい。
【００２４】
本発明の一態様において、磁気シールドには１つの基本電位が設けられ、複数のシールド部がそれぞれ独立に基本電位となるように構成されることが好ましい。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、磁気シールドを備えて地絡箇所の特定と絶縁状態の回復が容易な荷電粒子ビーム描画装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の第１実施形態の電子ビーム描画装置の構成を説明する模式的な断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態の電子ビーム描画装置の磁気シールドの構造を説明する模式的な断面図である。
【図３】本発明の第１実施形態の電子ビーム描画装置の磁気シールドの構成図である。
【図４】本発明の第１実施形態の電子ビーム描画装置の別の例の磁気シールドの構造を説明する模式的な断面図である。
【図５】本発明の第２実施形態の電子ビーム描画装置の磁気シールドの構造を説明する模式的な断面図である。
【図６】本発明の第２実施形態の電子ビーム描画装置の磁気シールドの構成図である。
【図７】本発明の第３実施形態の電子ビーム描画装置の磁気シールドの構造を説明する模式的な断面図である。
【図８】本発明の第３実施形態の電子ビーム描画装置の磁気シールドの構成図である。
【図９】従来の電子ビーム描画装置の構成を説明する模式的な断面図である。
【図１０】磁気シールドを描画室に直貼りする磁気シールド技術を模式的に説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
上述したように、荷電粒子ビームの一例として電子ビームを用いる電子ビーム描画装置は、電子ビームに対する外部磁場の影響を避けることが求められる。したがって、本発明の電子ビーム描画装置は磁気シールドを有して構成される。
【００２８】
そして、本発明の電子ビーム描画装置は、磁気シールドを設けるために専用のフレームを準備すること等が不要で簡便に装置製造を行うことができ、さらに、小型化や、開口する部分を小さくすることができる直貼り方式の磁気シールドを有して構成される。
【００２９】
また、本発明の電子ビーム描画装置は、直貼りされる磁気シールドを分割し、磁気シールドを複数のシールド部から構成する。磁気シールドが複数のシールド部からなる構造とすることにより、地絡しているシールド部と地絡の発生していない正常なシールド部との見極めが可能となる。また、地絡しているシールド部について、重点的な検査が可能となって、電子ビーム描画装置において地絡箇所の特定が容易となる。さらに、地絡箇所が特定されて取り外されるのは、磁気シールド全体ではなく、地絡したシールド部のみとすることができ、地絡箇所を特定して必要な電気的絶縁状態を回復するための作業が容易となる。
【００３０】
その一方で、１つの磁気シールドを電気的に絶縁された複数のシールド部に分割する場合、各シールド部間に電位差が発生し、ノイズを発生させるおそれがある。そのため、本発明の電子ビーム描画装置は、磁気シールドを複数のシールド部に分割するとともに、そのシールド部間で、必要に応じて電気的な接続が可能となるように構成する。すなわち、本発明の電子ビーム描画装置は、直貼り方式の磁気シールドを有するとともに、その磁気シールドが複数のシールド部に分割され、各シールド部はその他のシールド部と間の電気的な接続と絶縁が選択可能となるように構成される。
【００３１】
このような構成の磁気シールドを有することにより、本発明の電子ビーム描画装置は、磁気シールドを構成する全てのシールド部を互いに電気的に接続することができ、ノイズの発生を抑えて安定した電子ビーム描画を行うことができる。一方で、本発明の電子ビーム描画装置は、磁気シールドを構成する各シールド部をその他のシールド部から電気的に絶縁することができ、地絡が発生した場合にその発生個所の特定が容易となる。
【００３２】
以下、本発明の実施形態である電子ビーム描画装置について、図面を用いてより詳細に説明する。
【００３３】
実施の形態１．
図１は、本発明の第１実施形態の電子ビーム描画装置の構成を説明する模式的な断面図である。
【００３４】
図１に示す電子ビーム描画装置１は、荷電粒子ビームである電子ビームＢを用いて描画を行う。電子ビーム描画装置１は、描画室１１と、描画室１１内に設けられて描画対象であるマスク２２が載置されるステージ２１と、描画室１１の天井部に配置された光学鏡筒３１とを有する。光学鏡筒３１内には、ビーム照射手段である電子銃３２と、偏向器３３、３５と、アパーチャ３４とが設けられている。電子銃３２から発せられた電子ビームＢは、偏向器３３、３５とアパーチャ３４によって、形状と寸法を調節され、また、マスク２２への照射位置が決められる。
【００３５】
図１において、マスク２２が載置されるステージ２１は、描画室１１の底部に取り付けられている。また、ステージ２１は、駆動部２５によって、互いに直交するＸ方向とＹ方向に移動自在に構成されている。描画室１１の側壁には、レーザ干渉計２３が固定されている。レーザ干渉計２３によって、ステージ２１の端部近傍に設けられたミラー２４の位置を測定することで、ステージ２１の位置が把握される。
【００３６】
図１に示すように、電子ビーム描画装置１は、絶縁体４２を介して、描画室１１の外部に設けられた磁気シールド４１を有する。磁気シールド４１は、絶縁体４２を介し、描画室１１の外側から直貼りされて配置されている。磁気シールド４１を直貼りする方法としては、磁気シールド４１を絶縁体４２にねじ止めする方法が可能である。したがって、絶縁体４２は、磁気シールド４１のねじ止めが可能な強度を有する部材からなることが好ましい。
【００３７】
磁気シールド４１は、複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５に分割されている。すなわち、磁気シールド４１は、互いに離間配置された複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５によって構成されている。尚、図１に示す電子ビーム描画装置１において、磁気シールド４１は５つのシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５に分割されてなるが、分割数は５つに限られるわけではなく２個以上の分割数を選択し、磁気シールド４１を構成することができる。
【００３８】
図２は、本発明の第１実施形態の電子ビーム描画装置の磁気シールドの構造を説明する模式的な断面図である。
【００３９】
図２に示すように、本発明の第１実施形態の電子ビーム描画装置１の磁気シールド４１は、互いに離間配置された複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５からなる。複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５のうち、シールド部４１−１とシールド部４１−２とはスイッチ４３−１を介して配線接続されて、互いの導通と絶縁を自由に操作できるように構成されている。同様に、シールド部４１−２とシールド部４１−３とはスイッチ４３−２を介して配線接続されて、互いの導通と絶縁を自由に操作できるように構成されている。同様に、シールド部４１−３とシールド部４１−４とはスイッチ４３−３を介して配線接続されて、互いの導通と絶縁を自由に操作できるように構成されている。同様に、シールド部４１−４とシールド部４１−５とはスイッチ４３−４を介して配線接続されて、互いの導通と絶縁を自由に操作できるように構成されている。同様に、シールド部４１−５とシールド部４１−１とはスイッチ４３−５を介して配線接続されて、互いの導通と絶縁を自由に操作できるように構成されている。
【００４０】
すなわち、磁気シールド４１は、複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５に分割されるとともに、シールド部間が導通可能となるように構成されている。
【００４１】
図３は、本発明の第１実施形態の電子ビーム描画装置の磁気シールドの構成図である。
【００４２】
図３に模式的に示されるように、電子ビーム描画装置１の磁気シールド４１においては、シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５のうちの隣接間同士がスイッチ４３−１、４３−２、４３−３、４３−４、４３−５を介して配線接続され、全部がループ状にひと繋ぎとなるように構成されている。
【００４３】
その結果、電子ビーム描画装置１において、磁気シールド４１は、スイッチ４３−１、４３−２、４３−３、４３−４、４３−５を操作して、複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５の全てを電気的に接続して導通させることができる。その結果、電子ビーム描画装置１においては、シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５の間に電位差が発生することが防止され、ノイズの発生を抑えて安定した電子ビームによる描画が可能となる。
【００４４】
また、電子ビーム描画装置１は、磁気シールド４１が図３に示す構成を有することにより、例えば、スイッチ４３−１およびスイッチ４３−２を操作し、シールド部４１−２のみを他のシールド部４１−１、４１−３、４１−４、４１−５から絶縁することができる。同様に、各シールド部４１−１、４１−３、４１−４、４１−５を、残余のシールド部から独立に絶縁することができる。
【００４５】
その結果、電子ビーム描画装置１は、地絡が生じた場合、いずれのシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５において地絡が生じているかを特定することができる。具体的には、シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５のうち、１つずつを選択して、残余のシールド部から絶縁させ、地絡の有無を検査する。そのような検査を各シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５のそれぞれに対して順次行い、地絡の生じているシールド部を特定することができる。
【００４６】
そして、地絡しているシールド部について、重点的な検査が可能となって、地絡箇所の特定が容易となる。さらに、地絡箇所が特定されて取り外されるのは、磁気シールド４１全体ではなく、シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５のうちの地絡したもののみとすることができ、地絡箇所を特定して必要な電気的絶縁状態を回復するための作業が容易となる。
【００４７】
尚、図１〜図３に示す本発明の第１実施形態の電子ビーム描画装置１において、地絡しているシールド部を特定する方法として、シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５のそれぞれを、残余のシールド部から、順次、絶縁して行う方法を示したが、そのような方法のみに限られるわけではない。
【００４８】
例えば、図１〜図３に示す本発明の第１実施形態の電子ビーム描画装置１においては、磁気シールド４１のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５を、複数のシールド部を含む複数のシールド群に分割することができる。そして、この第１回目の分割により形成された複数のシールド群から、地絡するシールド部を含むシールド群を特定することができる。次いで、その特定されたシールド群について、必要な場合、再度、２回目となるシールド群への分割を行い、そうした分割を繰り返して地絡するシールド部を特定することができる。または、第１回目または適当な回数のシールド群への分割が行われた後、シールド群に含まれるシールド部のそれぞれを、残余のシールド部から、順次、絶縁して地絡するシールド部の特定を行うことが可能である。
【００４９】
例えば、図３に示す磁気シールド４１において、スイッチ４３−２、４３−５を操作し、シールド部４１−２とシールド部４１−３との間、並びに、シールド部４１−５とシールド部４１−１との間を絶縁する。その結果、磁気シールドのシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５は、電気的に接続されたシールド部４１−１、４１−２を含むシールド群と、シールド部４１−３、４１−４、４１−５を含むシールド群の２つに分割される。
【００５０】
上述の２つのシールド群への第１回目の分割の後、検査を行って地絡の生じているシールド群を特定する。例えば、シールド部４１−３、４１−４、４１−５を含むシールド群において地絡していることが判明した場合、次に、そのシールド群において、シールド部４１−３とシールド部４１−４との間を絶縁し、第２回目の分割を行う。第２回目の分割の後、検査を行って、地絡しているのがシールド部４１−３であるのか、または、シールド部４１−４、４１−５を含むシールド群であるのかの特定を行う。
【００５１】
そして、シールド部４１−４、４１−５を含むシールド群において地絡していることが判明した場合、次に、そのシールド群において、シールド部４１−４とシールド部４１−５との間を絶縁する。次いで、検査を行い、地絡しているシールド部がシールド部４１−４およびシールド部４１−５のいずれであるかを特定し、地絡するシールド部の特定を行う。
【００５２】
このように、磁気シールド４１のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５を、複数のシールド部を含むシールド群に分割する方法を採用することにより、本発明の第１実施形態の電子ビーム描画装置１において、地絡するシールド部の特定がより効率良く行えるようになる。
【００５３】
また、図１および図２に示す本発明の第１実施形態の電子ビーム描画装置１では、磁気シールド４１を構成するシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５において、隣接するシールド部の対向する端部同士が、重畳することなく、離間して配置されている。
【００５４】
このような構造の場合、スイッチ４３−１、４３−２、４３−３、４３−４、４３−５の操作によって、隣接するシールド部間の絶縁が容易であるが、一方で、隣接するシールド部間に磁気シールド４１の開口する部分が形成されてしまう。すなわち、磁気シールド４１の分割部分で、外部からの磁場の侵入が起こりやすくなる。したがって、このような開口する部分形成は、磁気シールド４１のシールド効果を低下させるおそれがある。
【００５５】
このような磁気シールド４１の開口部の形成が低減されるよう、隣接するシールド部の対向する端部同士を、絶縁体を挟んで重畳させ、外部からの磁場の侵入を抑え、磁場のシールド効果を向上させることが可能である。
【００５６】
図４は、本発明の第１実施形態の電子ビーム描画装置の別の例の磁気シールドの構造を説明する模式的な断面図である。
【００５７】
図４に示す本発明の第１実施形態の別の例である電子ビーム描画装置１０１は、磁気シールド１４１を構成するシールド部１４１−１、１４１−２、１４１−３、１４１−４、１４１−５の構造が、図２に示す電子ビーム描画装置１と異なる以外は、同様の構造を有する。したがって、共通する構成要素については同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【００５８】
図４に示すように、電子ビーム描画装置１０１は、絶縁体４２を介して、描画室１１の外側から直貼りされた磁気シールド１４１を有する。磁気シールド１４１を直貼りする方法としては、絶縁体４２にねじ止めする方法が可能である。
【００５９】
磁気シールド１４１は、複数のシールド部１４１−１、１４１−２、１４１−３、１４１−４、１４１−５に分割されている。すなわち、磁気シールド１４１は、互いに離間配置された複数のシールド部１４１−１、１４１−２、１４１−３、１４１−４、１４１−５によって構成されている。尚、図４に示す電子ビーム描画装置１０１において、磁気シールド１４１は５つのシールド部１４１−１、１４１−２、１４１−３、１４１−４、１４１−５に分割されてなるが、分割数は５つに限られるわけではなく２個以上の分割数を選択し、磁気シールド１４１を構成することができる。
【００６０】
そして、複数のシールド部１４１−１、１４１−２、１４１−３、１４１−４、１４１−５のうち、シールド部１４１−１とシールド部１４１−２とはスイッチ４３−１を介して配線接続されて、互いの導通と絶縁を自由に操作できるように構成されている。同様に、シールド部１４１−２とシールド部１４１−３とはスイッチ４３−２を介して配線接続されて、互いの導通と絶縁を自由に操作できるように構成されている。同様に、シールド部１４１−３とシールド部１４１−４とはスイッチ４３−３を介して配線接続されて、互いの導通と絶縁を自由に操作できるように構成されている。同様に、シールド部１４１−４とシールド部１４１−５とはスイッチ４３−４を介して配線接続されて、互いの導通と絶縁を自由に操作できるように構成されている。同様に、シールド部１４１−５とシールド部１４１−１とはスイッチ４３−５を介して配線接続されて、互いの導通と絶縁を自由に操作できるように構成されている。
【００６１】
すなわち、電子ビーム描画装置１０１の磁気シールド１４１は、複数のシールド部１４１−１、１４１−２、１４１−３、１４１−４、１４１−５に分割されるとともに、シールド部間が導通可能となるように構成されている。より具体的には、磁気シールド１４１においては、上述した電子ビーム描画装置１と同様、シールド部１４１−１、１４１−２、１４１−３、１４１−４、１４１−５のうちの隣接間同士がスイッチ４３−１、４３−２、４３−３、４３−４、４３−５を介して配線接続され、全部がループ状にひと繋ぎとなるように構成されている。
【００６２】
したがって、上述した電子ビーム描画装置１と同様に、電子ビームによる安定した描画が可能であり、また、地絡が発生した場合、地絡する箇所の特定を容易に行うことができる。
【００６３】
またさらに、図４に示す電子ビーム描画装置１０１の磁気シールド１４１は、例えば、シールド部１４１−２とシールド部１４１−３との間のように、隣接するシールド部の対向する端部同士を、絶縁体４２を挟んで重畳させる構造を有する。
【００６４】
電子ビーム描画装置１０１は、このようなシールド部１４１−１、１４１−２、１４１−３、１４１−４、１４１−５間の重畳構造を有することにより、隣接するシールド部間の絶縁を確保しながら、磁気シールド１４１における開口部の形成を低減し、外部からの磁場の侵入を抑制して、磁場のシールド効果をより向上させることができる。
【００６５】
尚、本発明の第１実施形態の別の例である電子ビーム描画装置１０１の磁気シールド１４１において、隣接するシールド部１４１−１、１４１−２、１４１−３、１４１−４、１４１−５間の重畳構造は、図４に示す例に限られるわけではない。
【００６６】
例えば、図２に示した電子ビーム描画装置１において、隣接するシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５の対向する端部の間に形成される磁気シールド４１の開口部に対して、磁気シールドの補強板を設けることが可能である。より具体的には、絶縁体４２を介して絶縁性を保持しながら、磁気シールド４１の開口する部分を覆うように、適当な大きさの補強板を外部側から配置することができる。そして、磁気シールド４１の開口部を補強板によりカバーして、そこから磁場が侵入することを低減するように構成することも可能である。
【００６７】
実施の形態２．
本発明の第２実施形態の電子ビーム描画装置は、磁気シールドを構成する複数のシールド部の配線接続の方法が、図１等に示す電子ビーム描画装置１と異なる以外は、同様の構造を有する。したがって、共通する構成要素については同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【００６８】
図５は、本発明の第２実施形態の電子ビーム描画装置の磁気シールドの構造を説明する模式的な断面図である。
【００６９】
図５に示すように、電子ビーム描画装置２０１は、電子ビーム描画装置１と同様に、絶縁体４２を介して、描画室１１の外側から直貼りされた磁気シールド２４１を有する。磁気シールド２４１を直貼りする方法としては、絶縁体４２にねじ止めする方法が可能である。
【００７０】
磁気シールド２４１は分割され、互いに離間配置された複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５からなる。尚、図５に示す電子ビーム描画装置２０１において、磁気シールド２４１は５つのシールド部４１−１、４１−２、４１−３、
４１−４、４１−５に分割されてなるが、分割数は５つに限られるわけではなく２個以上の分割数を選択し、磁気シールド２４１を構成することができる。
【００７１】
そして、複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５はそれぞれ独立に、同様の配線２４３により引き回されて、１つのスイッチにそれぞれ独立に接続されている。すなわち、シールド部４１−１は他とは独立にスイッチ２４４に配線接続され、シールド部４１−２は他とは独立にスイッチ２４４に配線接続され、シールド部４１−３は他とは独立にスイッチ２４４に配線接続され、シールド部４１−４は他とは独立にスイッチ２４４に配線接続され、シールド部４１−５は他とは独立にスイッチ２４４に配線接続されている。
【００７２】
図６は、本発明の第２実施形態の電子ビーム描画装置の磁気シールドの構成図である。
【００７３】
図６に模式的に示されるように、電子ビーム描画装置２０１の磁気シールド２４１においては、複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５が、それぞれ独立に、１つのスイッチ２４４に配線接続されるように構成されている。
【００７４】
その結果、磁気シールド２４１は、１つのスイッチ２４４の操作により、全てのシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５を一括して相互に導通させることが可能である。また一方で、磁気シールド２４１は、１つのスイッチ２４４の操作により、全てのシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５を一括して相互に絶縁させることが可能である。すなわち、１つのスイッチ２４４の操作により、シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５のそれぞれを、他のから電気的に独立させることができる。電子ビーム描画装置２０１においては、磁気シールド２４１を構成する複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５の導通と絶縁の管理が１つのスイッチ２４４の操作により実現されて容易化することができる。
【００７５】
そして、電子ビーム描画装置２０１は、磁気シールド２４１のスイッチ２４４を操作して、複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５の全てを電気的に接続し、シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５の間に電位差が発生することを防止することができる。したがって、電子ビーム描画装置２０１は、ノイズの発生を抑えて安定した電子ビームによる描画が可能となる。
【００７６】
また、電子ビーム描画装置２０１は、磁気シールド２４１のスイッチ２４４を操作し、全てのシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５を一括して相互に絶縁させ、その状態で、各シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５を順次検査し、地絡の生じているシールド部を特定することができる。
【００７７】
そして、地絡しているシールド部について、重点的な検査が可能となって、地絡箇所の特定が容易となる。さらに、地絡箇所が特定されて取り外されるのは、磁気シールド２４１全体ではなく、シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５のうちの地絡したもののみとすることができ、地絡箇所を特定して必要な電気的絶縁状態を回復するための作業が容易となる。
【００７８】
実施の形態３．
本発明の第３実施形態の電子ビーム描画装置は、磁気シールドを構成する複数のシールド部の配線接続の方法が、図１等に示す電子ビーム描画装置１と異なる以外は、同様の構造を有する。したがって、共通する構成要素については同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【００７９】
図７は、本発明の第３実施形態の電子ビーム描画装置の磁気シールドの構造を説明する模式的な断面図である。
【００８０】
図７に示すように、電子ビーム描画装置３０１は、電子ビーム描画装置１と同様に、絶縁体４２を介して、描画室１１の外側から直貼りされた磁気シールド３４１を有する。磁気シールド３４１を直貼りする方法としては、絶縁体４２にねじ止めする方法が可能である。
【００８１】
磁気シールド３４１は分割され、互いに離間配置された複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５からなる。尚、図７に示す電子ビーム描画装置３０１において、磁気シールド３４１は５つのシールド部４１−１、４１−２、４１−３、
４１−４、４１−５に分割されてなるが、分割数は５つに限られるわけではなく２個以上の分割数を選択し、磁気シールド３４１を構成することができる。
【００８２】
そして、電子ビーム描画装置３０１の磁気シールド３４１においては、基本電位が設けられ、複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５が、それぞれ独立に、基本電位となるように構成されている。
【００８３】
すなわち、電子ビーム描画装置３０１の磁気シールド３４１においては、銅板等から構成されて基本電位に設定される大スイッチ３４４が設けられている。大スイッチ３４４には、複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５のそれぞれに対応するように、複数の小スイッチ３４５が設けられている。磁気シールド３４１のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５はそれぞれ独立に、同様の配線３４３により引き回されて、対応する各小スイッチ３４５にそれぞれ独立に接続されている。
【００８４】
図８は、本発明の第３実施形態の電子ビーム描画装置の磁気シールドの構成図である。
【００８５】
図８に模式的に示されるように、電子ビーム描画装置３０１の磁気シールド３４１においては、複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５が、それぞれ独立に、基本電位に設定された大スイッチ３４４の対応する小スイッチ３４５に配線接続されるように構成されている。
【００８６】
その結果、磁気シールド３４１は、大スイッチ３４４に設けられた各小スイッチ３４５の操作により、シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５のそれぞれを個別に基本電位に設定すること、および、基本電位から切り離すことが可能である。
【００８７】
そして、電子ビーム描画装置３０１は、磁気シールド３４１の大スイッチ３４４に設けられた各小スイッチ３４５を操作して、複数のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５の全てを基本電位に設定し、シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５の間に電位差が発生することを防止することができる。したがって、電子ビーム描画装置３０１は、ノイズの発生を抑えて安定した電子ビームによる描画が可能となる。
【００８８】
また、電子ビーム描画装置３０１は、磁気シールド３４１の大スイッチ３４４の各小スイッチ３４５を操作し、シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５のうちの１つを基本電位から切り離し、その状態で、そのシールド部を検査することができる。そしてそのような操作をシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５の数だけ繰り返し、地絡の生じているシールド部を特定することができる。
【００８９】
そして、地絡しているシールド部について、重点的な検査が可能となって、地絡箇所の特定が容易となる。さらに、地絡箇所が特定されて取り外されるのは、磁気シールド３４１全体ではなく、シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５のうちの地絡したもののみとすることができ、地絡箇所を特定して必要な電気的絶縁状態を回復するための作業が容易となる。
【００９０】
尚、図７および図８に示す本発明の第３実施形態の電子ビーム描画装置３０１において、地絡しているシールド部を特定する方法として、シールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５のそれぞれを、基本電位から、順次、切り離して検査を行う方法を示したが、そのような方法のみに限られるわけではない。
【００９１】
例えば、図７および図８に示す本発明の第３実施形態の電子ビーム描画装置３０１においては、磁気シールド３４１のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５を、複数のシールド部を含む複数のシールド群に分割することができる。そして、この第１回目の分割により形成された複数のシールド群から、地絡するシールド部を含むシールド群を特定することができる。次いで、その特定されたシールド群について、必要な場合、再度、２回目となるシールド群への分割を行い、そうした分割を繰り返して地絡するシールド部を特定することができる。または、第１回目または適当な回数のシールド群への分割が行われた後、シールド群に含まれるシールド部のそれぞれを、残余のシールド部から、順次、絶縁して地絡するシールド部の特定を行うことが可能である。
【００９２】
このように、磁気シールド３４１のシールド部４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５を、複数のシールド部を含むシールド群に分割する方法を採用することにより、本発明の第３実施形態の電子ビーム描画装置３０１において、地絡するシールド部の特定がより効率良く行えるようになる。
【００９３】
以上述べたように、実施の形態１〜３によれば、磁気シールドを備えて地絡箇所の特定と絶縁状態の回復が容易な電子ビーム描画装置が提供される。
【００９４】
尚、本発明は、上記各実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、種々変形して実施することができる。例えば、上記各実施の形態では、電子ビームを用いたが、イオンビーム等の他の荷電粒子ビームを用いた場合にも適用可能である。
【符号の説明】
【００９５】
１、１０１、２０１、３０１、１００１    電子ビーム描画装置
１１、１０１１    描画室
２１、１０２１    ステージ
２２、１０２２    マスク
２３、１０２３    レーザ干渉計
２４、１０２４    ミラー
２５、１０２５    駆動部
３１、１０３１    光学鏡筒
３２、１０３２    電子銃
３３、３５、１０３３、１０３５    偏向器
３４、１０３４    アパーチャ
４１、１４１、２４１、３４１、１１０１    磁気シールド
４１−１、４１−２、４１−３、４１−４、４１−５、１４１−１、１４１−２、１４１−３、１４１−４、１４１−５    シールド部
４２、１１０２    絶縁体
４３−１、４３−２、４３−３、４３−４、４３−５、２４４    スイッチ
２４３、３４３    配線
３４４    大スイッチ
３４５    小スイッチ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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