(57)【要約】【課題】透過率が高く反射率が低い記録再生層を有する光記録媒体を提供する。【解決手段】本発明の一実施形態に係る光記録媒体は、ガイド層１１２と、１以上の記録膜１３０と、第１の光学調整膜１３１と、バッファ層１１６と、第２の光学調整膜１３２とを具備する。記録膜１３０は、有機色素材料で構成される。第１の光学調整膜１３１は、波長４０５ｎｍの光に対して、屈折率が１．５以上２．４５以下かつ消衰係数が０以上０．０３以下であり、１５ｎｍ以上９０ｎｍ以下の膜厚を有する。第２の光学調整膜１３２は、波長４０５ｎｍの光に対して、屈折率が１．４以上２．２以下かつ消衰係数が０以上０．０３以下であり、１５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の膜厚を有する。【選択図】図５
2015035239.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トラッキング制御用のガイドトラックと、前記ガイドトラックを被覆する金属材料で構成された反射膜とを有するガイド層と、
有機色素材料で構成される１以上の記録膜と、
前記反射膜と前記記録膜との間に前記記録膜に隣接して配置され、波長４０５ｎｍの光に対して、屈折率が１．５以上２．４５以下かつ消衰係数が０以上０．０３以下であり、１５ｎｍ以上９０ｎｍ以下の膜厚を有する第１の光学調整膜と、
前記反射膜と前記第１の光学調整膜との間に配置され、前記ガイドトラックの深さよりも大きい厚みを有するバッファ層と、
前記第１の光学調整膜の反対側に前記記録膜に隣接して配置され、波長４０５ｎｍの光に対して、屈折率が１．４以上２．２以下かつ消衰係数が０以上０．０３以下であり、１５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の膜厚を有する第２の光学調整膜と
を具備する光記録媒体。
【請求項２】
請求項１に記載の光記録媒体であって、
前記記録膜は、波長４０５ｎｍの光に対して、屈折率が１．３以上２．２以下かつ消衰係数が０．０３以上０．５以下であり、５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の膜厚を有する
光記録媒体。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光記録媒体であって、
前記記録膜は、波長４０５ｎｍの光に対する屈折率が１．４以上２．０以下であり、１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の膜厚を有し、
前記第１の光学調整膜は、波長４０５ｎｍの光に対する屈折率が１．６以上２．２以下であり、２５ｎｍ以上８０ｎｍ以下の膜厚を有し、
前記第２の光学調整膜は、波長４０５ｎｍの光に対する屈折率が１．５以上２．０以下であり、２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下の膜厚を有する
光記録媒体。
【請求項４】
請求項１に記載の光記録媒体であって、
前記記録膜は、０．０５［Ｗ／ｍ・Ｋ］以上１．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］以下の熱伝導率を有する
光記録媒体。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１つに記載の光記録媒体であって、
前記第１及び第２の光学調整膜は、金属酸化物材料を含む
光記録媒体。
【請求項６】
請求項１から６のいずれか１つに記載の光記録媒体であって、
前記記録膜は、複数の記録膜を含む
光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多層化に適したガイド層分離型の光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＤＶＤ（Digital Versatile Disk）、ブルーレイディスク（登録商標）などの光ディスクの大容量化を目的として、記録層を多層化することが行われる。記録層の多層化に伴い、記録層へのデータの記録または再生時のトラッキング制御を、記録層とは別に設けられたガイド層を用いて行うガイド層分離型の光記録媒体が知られている。
【０００３】
例えば下記特許文献１には、トラッキング制御用の凹凸を有するサーボ層と記録再生層とがスペーサ層を介して別々に設けられ、上記記録再生層がＢｉ−Ｇｅ−Ｏ系記録膜とその両外側に積層した誘電体膜（ＴｉＯ2膜）との３層構造で構成された光記録媒体が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−１７０９３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、多層光記録媒体においては、更なる高密度化、高容量化が求められており、そのためには記録層の更なる多層化が必須となっている。一方、記録層が多層になるほど、レーザ光の入射面から最も遠い奥側の記録層に十分なパワーのレーザ光が到達しにくくなる。したがって、記録層の更なる多層化を実現するには、各層のレーザ光の透過率を高めつつ、反射率を低減させる必要がある。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、透過率が高く反射率が低い記録再生層を有する光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る光記録媒体は、ガイド層と、１以上の記録膜と、第１の光学調整膜と、バッファ層と、第２の光学調整膜とを具備する。
前記ガイド層は、トラッキング制御用のガイドトラックと、前記ガイドトラックを被覆する金属材料で構成された反射膜とを有する。
前記１以上の記録膜は、有機色素材料で構成される。
前記第１の光学調整膜は、前記反射膜と前記記録膜との間に前記記録膜に隣接して配置され、波長４０５ｎｍの光に対して、屈折率が１．５以上２．４５以下かつ消衰係数が０以上０．０３以下であり、１５ｎｍ以上９０ｎｍ以下の膜厚を有する。
前記バッファ層は、前記反射膜と前記第１の光学調整膜との間に配置され、前記ガイドトラックの深さよりも大きい厚みを有する。
前記第２の光学調整膜は、前記第１の光学調整膜の反対側に前記記録膜に隣接して配置され、波長４０５ｎｍの光に対して、屈折率が１．４以上２．２以下かつ消衰係数が０以上０．０３以下であり、１５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の膜厚を有する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の一実施形態に係る光記録媒体を示す概略断面図である。
【図２】上記光記録媒体のガイド層の構成を示す概略断面図である。
【図３】上記ガイド層のガイドトラックを示す模式図である。
【図４】上記光記録媒体の記録再生層の層構造を示す概略断面図である。
【図５】本発明の実験例を説明する光記録媒体の概略断面図である。
【図６】本発明の一実験例において説明する光吸収層の熱分布測定のシミュレーション結果であり、（Ａ）は熱伝導率が２．５Ｗ／ｍ・Ｋの光吸収層の例を示し、（Ｂ）は熱伝導率が０．１Ｗ／ｍ・Ｋの光吸収層の例を示す。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の一実施形態に係る光記録媒体は、ガイド層と、１以上の記録膜と、第１の光学調整膜と、バッファ層と、第２の光学調整膜とを具備する。
前記ガイド層は、トラッキング制御用のガイドトラックと、前記ガイドトラックを被覆する金属材料で構成された反射膜とを有する。
前記１以上の記録膜は、有機色素材料で構成される。
前記第１の光学調整膜は、前記反射膜と前記記録膜との間に前記記録膜に隣接して配置され、波長４０５ｎｍの光に対して、屈折率が１．５以上２．４５以下かつ消衰係数が０以上０．０３以下であり、１５ｎｍ以上９０ｎｍ以下の膜厚を有する。
前記バッファ層は、前記反射膜と前記第１の光学調整膜との間に配置され、前記ガイドトラックの深さよりも大きい厚みを有する。
前記第２の光学調整膜は、前記第１の光学調整膜の反対側に前記記録膜に隣接して配置され、波長４０５ｎｍの光に対して、屈折率が１．４以上２．２以下かつ消衰係数が０以上０．０３以下であり、１５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の膜厚を有する。
【００１０】
上記光記録媒体は、記録膜と第１及び第２の光学調整膜との積層体で構成された記録再生層を有する。第１の光学調整膜は記録膜の光出射側に配置され、第２の光学調整膜は記録膜の光入射側に配置される。そして、第１の光学調整膜及び第２の光学調整膜をそれぞれ上記の光学特性及び膜厚で構成することにより、例えば、透過率が８５％以上、かつ未記録時の反射率が５％以下という光学特性を備えた積層体を得ることができる。
【００１１】
したがって上記光記録媒体によれば、上記のような高透過率かつ低反射率特性を備えた記録再生層を構成することができるので、当該記録再生層を多層化したときに最奥側の記録再生層にも十分なパワーでレーザ光を到達させることが可能となる。
【００１２】
前記記録膜は、波長４０５ｎｍの光に対して、屈折率が１．３以上２．２以下かつ消衰係数が０．０３以上０．５以下であり、５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の膜厚を有するように構成されてもよい。
これにより透過率の更なる向上、あるいは反射率の更なる低下を実現することができる。
【００１３】
前記記録膜は、波長４０５ｎｍの光に対する屈折率が１．４以上２．０以下であり、１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の膜厚を有するように構成されてもよい。
この場合、前記第１の光学調整膜は、波長４０５ｎｍの光に対する屈折率が１．６以上２．２以下であり、２５ｎｍ以上８０ｎｍ以下の膜厚を有する。また前記第２の光学調整膜は、波長４０５ｎｍの光に対する屈折率が１．５以上２．０以下であり、２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下の膜厚を有する。
これにより、透過率が９０％以上、かつ未記録時の反射率が２％以下という光学特性を得ることができる。
【００１４】
前記記録膜は、０．０５［Ｗ／ｍ・Ｋ］以上１．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］以下の熱伝導率を有するように構成されてもよい。
記録膜の熱伝導率が０．０５［Ｗ／ｍ・Ｋ］未満であると、記録感度が劣ってしまい記録マークを形成することが困難となる。また、記録膜の熱伝導率が１．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］を超えると、放熱により十分な蓄熱性を確保できずに記録マークを形成することが困難となる。記録膜の熱伝導率を０．０５［Ｗ／ｍ・Ｋ］以上１．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］以下とすることで、記録マークを安定に形成することが可能となる。
【００１５】
前記第１及び第２の光学調整膜は、典型的には、金属酸化物材料を含む材料で構成される。材料の種類は特に限定されず、例えば、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、Ｎｂ2Ｏ5、Ａｌ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ3等のいずれか１つ又は２種以上の混合物が適用可能である。
【００１６】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。
【００１７】
図１は、本発明の一実施形態に係る光記録媒体を示す概略断面図である。
【００１８】
［光記録媒体の構成］
本実施形態の光記録媒体１１は、ガイド層１１２と複数の記録再生層１１３とを有する、ガイド層分離型の多層光ディスクで構成される。図示する光記録媒体１１は、４層の記録再生層１１３を有するが、これに限られず、１層〜３層あるいは５層以上の記録再生層を有してもよい。光記録媒体１１は、円盤状をなし、中央部分にはセンターホールが形成されている。
【００１９】
光記録媒体１１において、ガイド層１１２とこれに最も近い記録再生層１１３との間、及び、隣り合う記録再生層１１３の間には、光透過性を有するバッファ層１１６及び中間層１１４がそれぞれ介層されている。これらの層は、図示しない記録再生装置内の光ピックアップからの記録再生光Ｒ１およびガイド光Ｒ２が入射される側から、保護層（カバー層）１１５、記録再生層１１３（Ｌ３）、中間層１１４、記録再生層１１３（Ｌ２）、中間層１１４、記録再生層１１３（Ｌ１）、中間層１１４、記録再生層１１３（Ｌ０）、バッファ層１１６、ガイド層１１２の順に積層される。
【００２０】
記録再生光Ｒ１及びガイド光Ｒ２は、対物レンズ６０を介して目的とする記録再生層１１３及びガイド層１１２に焦点を結ぶように制御される。記録再生光Ｒ１及びガイド光Ｒ２には相互に異なる波長のレーザ光が用いられ、典型的には、記録再生光Ｒ１には波長４０５ｎｍの青色レーザ光が用いられ、ガイド光Ｒ２には波長６５０ｎｍの赤色レーザ光が用いられる。
【００２１】
（ガイド層）
図２はガイド層１１２の構成を示す概略断面図であり、図３はガイド層１１２のガイドトラックを示す模式図である。
【００２２】
図２に示すようにガイド層１１２は、一方の面に渦巻き状の凹凸部１１１を有する円盤形状のポリカーボネート等のプラスチック基材１１０と、凹凸部１１１の凹凸形状にならって凹凸部１１１を被覆する反射膜１２０との積層構造を有する。
【００２３】
基材１１０は、典型的にはスタンパ等の成形金型を用いて成形され、外径は１２０ｍｍ、厚さは１．１ｍｍで形成される。反射膜１２０は、例えば銀（Ａｇ）やその合金等のように赤色レーザ光に対して反射率の高い金属材料のスパッタ膜で形成される。反射膜１２０の厚みは特に限定されず、例えば２０ｎｍ〜１００ｎｍであり、本実施形態では８０ｎｍである。
【００２４】
ガイド層１１２において記録再生層１１３に対向する側の面には、図２及び図３に示すようにトラッキング制御用のガイドトラック１２１が形成される。ガイドトラック１２１は、渦巻き状に形成されたランド・グルーブ構造を有する。ランドはグルーブ間に形成され、グルーブはランド間に形成される。以下の説明では、ガイドトラック１２１において、レーザ光源（光ピックアップ）に近い方のトラックを「グルーブ」あるいは「オングルーブ（On-Groove）部」と称し、レーザ光源から遠い方のトラックを「ランド」あるいは「イングルーブ（In-Groove）部」と称する。
【００２５】
ガイドトラック１２１は、ランドによるガイドトラック（イングルーブ部１２１Ｌ）とグルーブによるガイドトラック（オングルーブ部１２１Ｇ）とからなり、一周毎にランドトラックとグルーブトラックを切り替える手段が用いられる。いわゆる「ダブルスパイラルトラック」を構成してもよい。本実施形態では、イングルーブ部１２１Ｌおよびオングルーブ部１２１Ｇは光記録媒体１１の内周側から外周側にかけてそれぞれ渦巻き状に連続的に形成されているが、これに限定されない。例えば、イングルーブ部１２１Ｌおよびオングルーブ部１２１Ｇは、光記録媒体１１の内周側から外周側にかけて所定周期で（例えば周ごとに）交互に入れ替わるように渦巻き状に連続的に形成されてもよい。また例えばイングルーブ部１２１Ｌおよびオングルーブ部１２１Ｇは複数の円環状のグルーブを同心状に配列したものであってもよい。
【００２６】
イングルーブ部１２１Ｌは、オングルーブ部１２１Ｇとの境界を形成する一対の側壁１２１ｓに囲まれている。側壁１２１ｓは、典型的にはテーパ面で形成されるが、基材１１０の表面に垂直な面で形成されてもよい。側壁１２１ｓのテーパ角は特に限定されず、スタンパ金型の抜き勾配や凹凸部１１１の凹凸高さ、反射膜１２０の厚さ等に応じて適宜設定される。
【００２７】
ガイドトラック１２１には、側壁面のウォブリングあるいはピット列などによって物理アドレス情報が形成されている。イングルーブ部１２１Ｌおよびオングルーブ部１２１Ｇは、例えばＤＶＤ（Digital Versatile Disk）の記録再生に用いられる赤色レーザ光に対応するトラックピッチ（０．６４μｍ）で形成される。ランドとグルーブ間のピッチの平均は０．３２μｍであり、これはガイドトラック１２１のトラックピッチに相当する。以後、赤色レーザ光のレーザ光を「ガイド光」と呼ぶ。
【００２８】
光記録媒体１１を駆動する記録再生装置では、ガイドトラック１２１のランドとグルーブのそれぞれにおいて、例えば、プッシュプル法（ＰＰ：Push-Pull）、差動プッシュプル法（ＤＰＰ：Differential Push-Pull）、３ビーム法などによるトラッキング制御が行われる。ガイドトラック１２１のランドとグルーブのそれぞれにおいてトラッキング制御が行われることで、記録再生層１１３に対する情報の記録は０．３２μｍのトラックピッチで行うことが可能である。
【００２９】
（記録再生層）
図４は、記録再生層の層構造を示す概略断面図である。
【００３０】
各層の記録再生層１１３（Ｌ０〜Ｌ３）はそれぞれ同一の層構造を有し、中間層１１４を挟んで相互に積層されている。ガイド層１１２に最も近い記録再生層１１３（Ｌ０）は、反射膜１２０で被覆されたガイドトラック１２１の深さよりも大きな厚みで形成されたバッファ層１１６の上に成膜される。したがってバッファ層１１６上に成膜される記録再生層１１３及び中間層１１４は、溝（ガイドトラック）のない平坦な平面上に順次積層される。
【００３１】
各々の記録再生層１１３は、記録膜１３０と、第１の光学調整膜１３１と、第２の光学調整膜１３２との積層構造を有する。
【００３２】
記録膜１３０には、例えばブルーレイディスク（登録商標）の記録再生に用いられる波長３８０〜４５０ｎｍ（本例では４０５ｎｍ）の青色レーザ光に対応するトラックピッチ（０．３２μｍ）で情報が記録される。以後、この青色レーザ光を「記録再生光」または「記録光」と呼ぶ。
【００３３】
記録膜１３０は、記録光の照射により記録マークを形成可能な材料で構成され、本実施形態では有機色素材料で構成される。記録膜１３０は、記録前後の屈折率、消衰係数（または減衰係数）を変化させることで再生用レーザ光の回折を発生させ、その明暗によりピットあるいはランドを形成する。すなわち記録膜１３０は、未記録領域と記録領域の反射率変化を利用して情報の再生を可能とする。
【００３４】
記録膜１３０を構成する有機色素材料は特に限定されず、シアニン系色素やアゾ系色素などの適宜の材料が用いられる。本実施形態では、例えば、下記［化１］〜［化１７］の構造式で表される色素のうち何れか一種の色素が用いられる。
【００３５】
【化１】
2015035239.tif 000003
【００３６】
【化２】
2015035239.tif 000004
【００３７】
【化３】
2015035239.tif 000005
【００３８】
【化４】
2015035239.tif 000006
【００３９】
【化５】
2015035239.tif 000007
【００４０】
【化６】
2015035239.tif 000008
【００４１】
【化７】
2015035239.tif 000009
【００４２】
【化８】
2015035239.tif 000010
【００４３】
【化９】
2015035239.tif 000011
【００４４】
【化１０】
2015035239.tif 000012
【００４５】
【化１１】
2015035239.tif 000013
【００４６】
【化１２】
2015035239.tif 000014
【００４７】
【化１３】
2015035239.tif 000015
【００４８】
【化１４】
2015035239.tif 000016
【００４９】
【化１５】
2015035239.tif 000017
【００５０】
【化１６】
2015035239.tif 000018
【００５１】
【化１７】
2015035239.tif 000019
【００５２】
好ましくは、記録膜１３０は、記録光（波長４０５ｎｍの光）に対して、屈折率が１．３以上２．２以下かつ消衰係数が０．０３以上０．５以下であり、５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の膜厚を有する。これにより、後述する第１及び第２の光学調整膜１３１，１３２との積層体の波長４０５ｎｍにおける光の透過率を８５％以上確保でき、さらに当該光の反射率を５％以下に抑えることができる。
【００５３】
なお、記録光（波長４０５ｎｍの光）に対して、屈折率が１．３以上２．２以下かつ消衰係数が０．０３以上０．５以下である有機色素としては、例えば、上記［化１］〜［化４］、［化６］、［化８］〜［化１３］、［化１５］〜［化１７］で表される構造式のものが挙げられる。
【００５４】
一方、記録膜１３０を構成する有機色素材料としては、０．０５［Ｗ／ｍ・Ｋ］以上１．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］以下の熱伝導率を有する材料を用いてもよい。熱伝導率が０．０５［Ｗ／ｍ・Ｋ］未満であると、蓄熱性が高くなりすぎて記録マークが肥大化する等して記録マークを適切に形成することが困難となる。また、熱伝導率が１．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］を超えると、放熱により十分な蓄熱性を確保できずに記録感度の低下の要因となり得る。記録膜１３０の熱伝導率を０．０５［Ｗ／ｍ・Ｋ］以上１．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］以下とすることで、記録マークを安定に形成することが可能となる。
【００５５】
熱伝導率が０．０５［Ｗ／ｍ・Ｋ］以上１．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］以下である有機色素材料としては、下記［化１８］〜［化３８］の構造式で表される色素が挙げられる。
【００５６】
【化１８】
2015035239.tif 000020
【００５７】
【化１９】
2015035239.tif 000021
【００５８】
【化２０】
2015035239.tif 000022
【００５９】
【化２１】
2015035239.tif 000023
【００６０】
【化２２】
2015035239.tif 000024
【００６１】
【化２３】
2015035239.tif 000025
【００６２】
【化２４】
2015035239.tif 000026
【００６３】
【化２５】
2015035239.tif 000027
【００６４】
【化２６】
2015035239.tif 000028
【００６５】
【化２７】
2015035239.tif 000029
【００６６】
【化２８】
2015035239.tif 000030
【００６７】
【化２９】
2015035239.tif 000031
【００６８】
【化３０】
2015035239.tif 000032
【００６９】
【化３１】
2015035239.tif 000033
【００７０】
【化３２】
2015035239.tif 000034
【００７１】
【化３３】
2015035239.tif 000035
【００７２】
【化３４】
2015035239.tif 000036
【００７３】
【化３５】
2015035239.tif 000037
【００７４】
【化３６】
2015035239.tif 000038
【００７５】
【化３７】
2015035239.tif 000039
【００７６】
【化３８】
2015035239.tif 000040
【００７７】
各々の記録再生層１１３は、記録膜１３０を第１及び第２の光学調整膜１３１，１３２で挟み込んだ構造を有する。第１及び第２の光学調整膜１３１，１３２は、記録再生層１１３の透過率及び記録再生光に対する反射率を調整するためのものであり、それぞれ以下のような光学特性及び膜厚を有する。
【００７８】
第１の光学調整膜１３１は、反射膜１２０と記録膜１３０との間に、記録膜１３０に隣接して配置される。すなわち第１の光学調整膜１３１は、記録膜１３０の光出射面に隣接して配置される。第１の光学調整膜１３１は、波長４０５ｎｍの光に対して、屈折率が１．５以上２．４５以下かつ消衰係数が０以上０．０３以下であり、１５ｎｍ以上９０ｎｍ以下の膜厚を有する。
【００７９】
第２の光学調整膜１３２は、第１の光学調整膜１３１の反対側に記録膜１３０に隣接して配置される。すなわち第２の光学調整膜１３２は、記録膜１３０の光入射面に隣接して配置される。第２の光学調整膜１３２は、波長４０５ｎｍの光に対して、屈折率が１．４以上２．２以下かつ消衰係数が０以上０．０３以下であり、１５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の膜厚を有する。
【００８０】
第１及び第２の光学調整膜１３１，１３２を上記のように構成することにより、透過率が８５％以上、かつ未記録時の反射率が５％以下という光学特性を備えた積層体を得ることができる。したがって上記光記録媒体によれば、上記のような高透過率かつ低反射率特性を備えた記録再生層を構成することができるので、当該記録再生層を多層化したときに最奥側の記録再生層にも十分なパワーでレーザ光を到達させることが可能となる。
【００８１】
また、記録膜１３０は、波長４０５ｎｍの光に対する屈折率が１．４以上２．０以下であり、１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の膜厚を有するように構成されてもよい。この場合、第１の光学調整膜１３１は、波長４０５ｎｍの光に対する屈折率が１．６以上２．２以下であり、２５ｎｍ以上８０ｎｍ以下の膜厚を有するように構成される。また第２の光学調整膜１３２は、波長４０５ｎｍの光に対する屈折率が１．５以上２．０以下であり、２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下の膜厚を有するように構成される。これにより透過率が９０％以上、かつ未記録時の反射率が２％以下という光学特性を得ることができる。
【００８２】
本実施形態において第１及び第２の光学調整膜１３１，１３２は、それぞれセラミクス材料あるいはガラス系材料で構成される。第１及び第２の光学調整膜１３１，１３２は、各々同種の材料で構成されてもよいし、各々異種の材料で構成されてもよい。
【００８３】
第１及び第２の光学調整膜１３１，１３２を構成する材料としては、例えば、ＺｎＳ−ＳｉＯ2系、ＴｉＯ2系、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2系、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｉＯ2系、ＺｎＯ−ＳｉＯ2系、ＺｎＯ−ＳｉＯ2系、Ｎｂ2Ｏ5−Ａｌ2Ｏ3系、Ｎｂ2Ｏ5−Ｔａ2Ｏ5系等の種々のガラス材料が適用可能である。
【００８４】
中間層１１４、保護層１１５及びバッファ層１１６は、ガイド光及び記録再生光に対して透明な樹脂材料、例えば紫外線硬化型の樹脂材料で構成される。中間層１１４、保護層１１５及びバッファ層１１６は、典型的にはスピンコート法等の塗布法によって成膜される。中間層１１４、保護層１１５及びバッファ層１１６の厚みは特に限定されず、目的とする透過率等の光学特性に応じて適宜設定される。
【００８５】
［光記録媒体の作用］
次に、以上のように構成される本実施形態の光記録媒体１１の作用を説明する。
【００８６】
光記録媒体１１は、図示しない記録再生装置において、ＣＬＶ方式またはＣＡＶ方式において適切な速度で回転駆動され、ガイド層１１２のガイドトラック１２１へのガイド光Ｒ２の照射を受けつつ、所定の記録再生層１１３に記録再生光（あるいは記録光）Ｒ１が照射される。これにより記録再生層１１３は、ガイドトラック１２１のイングルーブ部１２１Ｌ及びオングルーブ部１２１Ｇに対応する領域に情報が記録される。
【００８７】
記録再生層１１３において、記録膜１３０は、記録再生光Ｒ１の照射領域が所要の相変態が起きることで記録マークを形成する。記録マークの形成部位と非形成部位との間に一定以上の反射率差が確保されて情報の読取りが可能となる。
【００８８】
本実施形態の光記録媒体１１においては、ガイド層１１２の反射膜１２０と記録膜１３０とがバッファ層１１６を介して積層された、ガイド層分離型の光記録媒体として構成される。そして記録膜１３０は、バッファ層１１６によって放熱性の高い反射膜１２０から隔てて配置されているため、記録マークの形成に必要な蓄熱性を確保することができる。
［実験例］
【００８９】
以下、本発明らが行った実験例について説明する。なお勿論、本発明は以下の実験例に限定されない。
【００９０】
（実験例１−１）
図５は、実施例１に係る光記録媒体１０の構成を示す概略断面図である。光記録媒体１０は単一の記録再生層１１３を有するガイド層分離型記録媒体であり、その作製手順は以下のとおりである。
【００９１】
トラックピッチ０．６４μｍのガイドトラック形成用の溝を有するスタンパを成形金型に装着し、外径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍの円盤状のポリカーボネート製基板（基材）１１０を射出成形により作製した。本例では、基板の半径２３．５ｍｍの位置から半径５８．０ｍｍまでの環状領域を上記ガイドトラックが形成されるガイド領域とした。このガイドトラックの表面に、Ａｇ−０．２ｗｔ％Ｉｎ合金からなる反射膜１２０を８０ｎｍの厚さでスパッタ成膜した。次に、反射膜上にＵＶ硬化樹脂を膜厚２００μｍになるようにスピンコート法にて塗布し、硬化させて、バッファ層１１６を形成した。
【００９２】
次に、バッファ層１１６上に、以下のように記録再生層１１３を作製した。
【００９３】
まず、Ｎｂ2Ｏ5−Ａｌ2Ｏ3系のガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ２．００及び０．００）をスパッタ成膜することで、厚さ５２．５ｎｍの第１の光学調整膜１３１を形成した。
【００９４】
続いて、上記［化１］の構造式で表される色素をＴＦＰ（テトラフルオロプロパノール）溶剤に溶かした色素溶液を作製し、その色素溶液を第１の光学調整層１３１の上にスピンコート法で塗布して、波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ１．８５及び０．３２の記録膜１３０を形成した。色素膜厚は、２５ｎｍとした。
【００９５】
次に、記録膜１３０上に、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｉＯ2系のガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ１．８０及び０．００）をスパッタ成膜することで、厚さ１５ｎｍの第２の光学調整膜１３２を形成した。
【００９６】
最後に、以上のようにして作製された記録再生層１１３の上に、ＵＶ硬化樹脂を膜厚１００μｍになるようにスピンコート法にて塗布し、硬化させて、保護層（カバー層）１１５を形成した。
【００９７】
以上のようにして作製された光記録媒体１０の記録再生特性をパルステック工業（株）製の光ディスクドライブユニット「ODU-1000」を用いて評価した。具体的には、光記録媒体を線速度７．６８ｍ／ｓで回転させ、波長６５０ｎｍ、出力０．３ｍＷのレーザ光（ガイド光）をイングルーブ部に集光してトラッキング追従制御を実行しながら、当該イングルーブ部に対応する記録膜の領域に波長４０５ｎｍのレーザ光（記録光）を集光して記録マークを形成した。そして、波長４０５ｎｍ、出力１．１ｍＷのレーザ光（再生光）で再生したときのｉＭＬＳＥが最小となる記録光のパワー（出力）における反射率（ＲＦ反射率）を評価した。
【００９８】
なお、ｉＭＬＳＥ（Maximum likelihood sequence error）は、ＰＲＭＬ（Partial Response Maximum Likelihood）によるビット検出方式を採用する再生システムで用いられるエラーレート相関の評価値である。
【００９９】
反射率の測定には、以下のように基準ディスクを用いた。基準ディスクの作製に際しては、厚さ１．１ｍｍの溝を有しない基板のＡｇ−０．２ｗｔ％Ｉｎ合金からなる反射膜を１５０ｎｍの厚さでスパッタ成膜した後、上述と同様な方法で厚さ１００μｍの保護層（カバー層）１１５を形成した。当該反射膜は波長４０５ｎｍの光に対して９４．５％の反射率を有することが確認された。そこで上記光ディスクドライブユニット「ODU-1000」にて基準ディスクによる反射率測定時の電圧を基準電圧として、光記録媒体１０からの戻り光量（電圧）を計測し、反射率を測定した。
【０１００】
さらに、以上のようにして作製された光記録媒体１０における記録再生層１１３の透過率を測定した。透過率の測定には、反射膜を形成せずに上記の記録再生層及び保護層（カバー層）を形成した評価用ディスクを作製した。そして、波長４０５ｎｍの光（記録再生光Ｒ１）を第１の光学調整膜１３１に垂直入射させ、記録膜１３０を介して第２の光学調整膜１３１から出射する光の透過率を測定した。透過率の測定には、日立分光光度計「U-4100」（株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いた。
【０１０１】
測定の結果、反射率は５％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１０２】
（実験例１−２）
第２の光学調整膜１３１の膜厚を２５ｎｍとした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は２％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１０３】
（実験例１−３）
第２の光学調整膜１３１の膜厚を３５ｎｍとした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は２％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１０４】
（実験例１−４）
第２の光学調整膜１３１の膜厚を４５ｎｍとした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は２％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１０５】
（実験例１−５）
第２の光学調整膜１３１の膜厚を５５ｎｍとした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は５％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１０６】
（実験例１−６）
第２の光学調整膜１３１の膜厚を１０ｎｍとした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、透過率は９０％以上であったが、反射率は５％を超えた。
【０１０７】
（実験例１−７）
第２の光学調整膜１３１の膜厚を６０ｎｍとした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、透過率は９０％以上であったが、反射率は５％を超えた。
【０１０８】
（実験例１−８）
第２の光学調整膜１３１の材料をＺｎＯ−ＳｉＯ2系ガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ１．５０及び０．００）とした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は２％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１０９】
なお、当該第２の光学調整膜の膜厚を１０ｎｍ〜６０ｎｍに変えて同様な測定を行ったところ、膜厚が２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下の場合に反射率が２％以下、透過率が９０％以上であった。また、膜厚が１５ｎｍ及び５５ｎｍの場合に反射率が５％以下、透過率が９０％以上であり、膜厚が１０ｎｍ及び６０ｎｍの場合、透過率は９０％以上であったが、反射率が５％を超える結果が得られた。
【０１１０】
（実施例１−９）
第２の光学調整膜１３１の材料をＮｂ2Ｏ3−Ｔａ2Ｏ5系ガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ１．４２及び０．０３）とした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は５％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１１１】
なお、当該第２の光学調整膜の膜厚を１０ｎｍ〜６０ｎｍに変えて同様な測定を行ったところ、膜厚が１５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の場合に反射率が５％以下、透過率が９０％以上であり、膜厚が１０ｎｍ及び６０ｎｍの場合、透過率は９０％以上であったが、に反射率が５％を超える結果が得られた。
【０１１２】
（実験例１−１０）
第２の光学調整膜１３１の材料をＺｎＯ−ＳｉＯ2系ガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ２．００及び０．００）とした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は２％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１１３】
なお、当該第２の光学調整膜の膜厚を１０ｎｍ〜６０ｎｍに変えて同様な測定を行ったところ、膜厚が２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下の場合に反射率が２％以下、透過率が９０％以上であった。また、膜厚が１５ｎｍ及び５５ｎｍの場合に反射率が５％以下、透過率が９０％以上であり、膜厚が１０ｎｍ及び６０ｎｍの場合、透過率は９０％以上であったが、に反射率が５％を超える結果が得られた。
【０１１４】
（実験例１−１１）
第２の光学調整膜１３１の材料をＴｉＯ2系ガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ２．４２及び０．００）とした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、透過率は９０％以上であったが、反射率は５％を超えた。
【０１１５】
（実施例１−１２）
第２の光学調整膜１３１の材料をＺｎＳ−ＳｉＯ2系ガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ２．２及び０．０２）とした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は５％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１１６】
なお、当該第２の光学調整膜の膜厚を１０ｎｍ〜６０ｎｍに変えて同様な測定を行ったところ、膜厚が１５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の場合に反射率が５％以下、透過率が９０％以上であり、膜厚が１０ｎｍ及び６０ｎｍの場合、透過率は９０％以上であったが、反射率が５％を超える結果が得られた。
【０１１７】
（実験例２−１）
第２の光学調整膜１３２の膜厚を３５ｎｍとし、記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化１７］の構造式で表される色素（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ１．３１及び０．４１）を用いた以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は５％以下、透過率は８５％以上であった。
【０１１８】
なお、当該記録膜の膜厚を３ｎｍ〜６０ｎｍに変えて同様な測定を行ったところ、膜厚が５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の場合に反射率が５％以下、透過率が８５％以上であり、膜厚が３ｎｍの場合に反射率が５％を超え、膜厚が６０ｎｍの場合に透過率が８５％未満であった。
【０１１９】
（実験例２−２）
第２の光学調整膜１３２の膜厚を３５ｎｍとし、記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化１０］の構造式で表される色素（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ２．１８及び０．２５）を用いた以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は５％以下、透過率は８５％以上であった。
【０１２０】
なお、当該記録膜の膜厚を３ｎｍ〜６０ｎｍに変えて同様な測定を行ったところ、膜厚が５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の場合に反射率が５％以下、透過率が８５％以上であり、膜厚が３ｎｍの場合に反射率が５％を超え、膜厚が６０ｎｍの場合に透過率が８５％未満であった。
【０１２１】
（実験例２−３）
第２の光学調整膜１３２の膜厚を３５ｎｍとし、記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化１３］の構造式で表される色素（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ１．４２及び０．２２）を用いた以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は２％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１２２】
なお、当該記録膜の膜厚を３ｎｍ〜６０ｎｍに変えて同様な測定を行ったところ、膜厚が１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の場合に反射率が２％以下、透過率が９０％以上であった。また、膜厚が５ｎｍ及び５５ｎｍの場合に反射率が５％以下、透過率が８５％以上であり、膜厚が３ｎｍの場合に反射率が５％を超え、膜厚が６０ｎｍの場合に透過率が８５％未満であった。
【０１２３】
（実験例２−４）
第２の光学調整膜１３２の膜厚を３５ｎｍとし、記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化４］の構造式で表される色素（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ１．９５及び０．３９）を用いた以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は２％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１２４】
なお、当該記録膜の膜厚を３ｎｍ〜６０ｎｍに変えて同様な測定を行ったところ、膜厚が１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の場合に反射率が２％以下、透過率が９０％以上であった。また、膜厚が５ｎｍ及び５５ｎｍの場合に反射率が５％以下、透過率が８５％以上であり、膜厚が３ｎｍの場合に反射率が５％を超え、膜厚が６０ｎｍの場合に透過率が８５％未満であった。
【０１２５】
（実験例２−５）
第２の光学調整膜１３２の膜厚を３５ｎｍとし、記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化１４］の構造式で表される色素（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ１．４３及び０．５９）を用いた以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は５％以下であったが、８５％以上の透過率は得られなかった。
【０１２６】
（実験例３−１）
第２の光学調整膜１３２の膜厚を３５ｎｍとし、第１の光学調整膜１３１の材料をＺｎＯ−ＳｉＯ2系ガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ１．５０及び０．００）とした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は５％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１２７】
なお、当該第１の光学調整膜の膜厚を１０ｎｍ〜９５ｎｍに変えて同様な測定を行ったところ、膜厚が１５ｎｍ以上９０ｎｍ以下の場合に反射率が５％以下、透過率が９０％以上であり、膜厚が１０ｎｍ及び９５ｎｍの場合に反射率が５％を超える結果が得られた。
【０１２８】
（実験例３−２）
第２の光学調整膜１３２の膜厚を３５ｎｍとし、第１の光学調整膜１３１の材料をＴｉＯ2系ガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ２．４２及び０．００）とした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は５％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１２９】
なお、当該第１の光学調整膜の膜厚を１０ｎｍ〜９５ｎｍに変えて同様な測定を行ったところ、膜厚が１５ｎｍ以上９０ｎｍ以下の場合に反射率が５％以下、透過率が９０％以上であり、膜厚が１０ｎｍ及び９５ｎｍの場合に反射率が５％を超える結果が得られた。
【０１３０】
（実験例３−３）
第２の光学調整膜１３２の膜厚を３５ｎｍとし、第１の光学調整膜１３１の材料をＩｎ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ１．６０及び０．００）とした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は２％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１３１】
なお、当該第１の光学調整膜の膜厚を１０ｎｍ〜９５ｎｍに変えて同様な測定を行ったところ、膜厚が２５ｎｍ以上８０ｎｍ以下の場合に反射率が２％以下、透過率が９０％以上であった。また、膜厚が１５ｎｍ及び９０ｎｍの場合に反射率が５％以下、透過率が９０％以上であり、膜厚が１０ｎｍ及び９５ｎｍの場合には透過率は９０％以上であったが反射率が５％を超える結果が得られた。
【０１３２】
（実験例３−４）
第２の光学調整膜１３２の膜厚を３５ｎｍとし、第１の光学調整膜１３１の材料をＺｎＳ−ＳｉＯ2系ガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ２．２及び０．０２）とした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、反射率は２％以下、透過率は９０％以上であった。
【０１３３】
なお、当該第１の光学調整膜の膜厚を１０ｎｍ〜９５ｎｍに変えて同様な測定を行ったところ、膜厚が２５ｎｍ以上８０ｎｍ以下の場合に反射率が２％以下、透過率が９０％以上であった。また、膜厚が１５ｎｍ及び９０ｎｍの場合に反射率が５％以下、透過率が９０％以上であり、膜厚が１０ｎｍ及び９５ｎｍの場合には透過率は９０％以上であったが反射率が５％を超える結果が得られた。
【０１３４】
（実験例３−５）
第２の光学調整膜１３２の膜厚を３５ｎｍとし、第１の光学調整膜１３１の材料をＮｂ2Ｏ5−Ｔａ2Ｏ5系ガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ１．４２及び０．０３）とした以外は、実験例１−１と同一の条件で記録再生層１１３を作製し、その反射率及び透過率を測定した。その結果、透過率は９０％以上であったが反射率は５％以下にならなかった。
【０１３５】
なお、当該第１の光学調整膜の膜厚を１０ｎｍ〜９５ｎｍに変えて同様な測定を行ったところ、膜厚がいずれの大きさにおいても反射率は５％以下にならなかった。
【０１３６】
以上の実験例の結果を表１にまとめて示す。上記各実験例から、第１の光学調整膜１３１に関しては屈折率が１．５以上２．４５以下、消衰係数が０以上０．０３以下、膜厚が１５ｎｍ以上９０ｎｍ以下であり、第２の光学調整膜１３２に関しては屈折率が１．４以上２．２以下、消衰係数が０以上０．０３以下、膜厚が１５ｎｍ以上５５ｎｍ以下であり、記録膜１３０に関しては屈折率が１．３以上２．２以下、消衰係数が０．０３以上０．５以下、膜厚が５ｎｍ以上５５ｎｍ以下である場合は、反射率が５％以下、透過率が８５％以上であることが確認された。
【０１３７】
【表１】
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【０１３８】
また上記範囲において、第１の光学調整膜１３１に関しては屈折率が１．６以上２．２以下、膜厚が２５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、第２の光学調整膜１３２に関しては屈折率が１．５以上２．０以下、膜厚が２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下であり、記録膜１３０に関しては屈折率が１．４以上２．０以下、消衰係数が０．０３以上０．４以下、膜厚が１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下である場合は、反射率が２％以下、透過率が９０％以上であることが確認された。
【０１３９】
なお、波長４０５ｎｍの光に対して屈折率が１．３未満及び２．２を超える色素は、入手困難であったため、評価できなかった。
また、第１の光学調整膜は波長４０５ｎｍの光に対して屈折率が２．４５を超えたもの及び消衰係数が０．０３を超えたものは、入手困難であったため、評価できなかった。
さらに、第２の光学調整膜は波長４０５ｎｍの光に対して屈折率が１．４０未満のもの及び消衰係数が０．０３を超えたものは、入手困難であったため、評価できなかった。
【０１４０】
以上のように本実施形態によれば、上記のような高透過率かつ低反射率特性を備えた記録再生層を構成することができるので、当該記録再生層を多層化したときに最奥側の記録再生層にも十分なパワーでレーザ光を到達させることが可能となる。
【０１４１】
（実験例４−１）
以下の手順で、図５に示す光記録媒体１０を作製した。
【０１４２】
トラックピッチ０．６４μｍのガイドトラック形成用の溝を有するスタンパを成形金型に装着し、外径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍの円盤状のポリカーボネート製基板（基材）１１０を射出成形により作製した。本例では、基板の半径２３．５ｍｍの位置から半径５８．０ｍｍまでの環状領域を上記ガイドトラックが形成されるガイド領域とした。このガイドトラックの表面に、Ａｇ−０．２ｗｔ％Ｉｎ合金からなる反射膜１２０を８０ｎｍの厚さでスパッタ成膜した。次に、反射膜上にＵＶ硬化樹脂を膜厚２００μｍになるようにスピンコート法にて塗布し、硬化させて、バッファ層１１６を形成した。そしてバッファ層１１６上に、Ｎｂ2Ｏ5−Ａｌ2Ｏ3系のガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ２．００及び０．００）スパッタ成膜することで、厚さ５３ｎｍの第１の光学調整膜１３１を形成した。
【０１４３】
続いて、上記［化１８］の構造式で表される色素をＴＦＰ（テトラフルオロプロパノール）溶剤に溶かした色素溶液を作製し、その色素溶液を第１の光学調整膜１３１の上にスピンコート法で塗布して、記録膜１３０としての色素膜を形成した。色素膜厚は、吸収最大波長（λmax＝４４４ｎｍ）での光学密度（ＯＤ値）が０．０１となるように設定した。なおＯＤ値は、基板のみの吸光度をベースライン（ＯＤ値がゼロ）として、基板上に反射膜を形成せずに直接、色素膜を形成したときの吸光度をいう。
【０１４４】
次に、記録膜１３０の上に、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス材料（波長４０５ｎｍの光に対する屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）がそれぞれ１．８０及び０．００）をスパッタ成膜することで、厚さ３５ｎｍの第２の光学調整膜１３２を形成した。最後に、第２の光学調整膜１３２上にＵＶ硬化樹脂を膜厚１００μｍになるようにスピンコート法にて塗布し、硬化させて、保護層（カバー層）１１５を形成した。
【０１４５】
続いて、以上のようにして作製された光記録媒体１０の記録再生特性をパルステック工業（株）製の光ディスクドライブユニット「ODU-1000」を用いて評価した。具体的には、光記録媒体を線速度７．６８ｍ／ｓで回転させ、波長６５０ｎｍ、出力０．３ｍＷのレーザ光（ガイド光）をイングルーブ部に集光してトラッキング追従制御を実行しながら、当該イングルーブ部に対応する無機記録層の領域に波長４０５ｎｍのレーザ光（記録光）を集光して記録マークを形成した。そして、波長４０５ｎｍ、出力１．１ｍＷのレーザ光（再生光）で再生したときのｉＭＬＳＥが最小となる記録光のパワー（出力）とそのときの反射率を評価した。
【０１４６】
測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１６．０ｍＷ、反射率は０．９１％であった。
【０１４７】
（実験例４−２）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化１９］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１５．５ｍＷ、反射率は０．８８％であった。
【０１４８】
（実験例４−３）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化２０］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１７．５ｍＷ、反射率は０．９３％であった。
【０１４９】
（実験例４−４）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化２１］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１７．０ｍＷ、反射率は０．８７％であった。
【０１５０】
（実験例４−５）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化２２］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１８．０ｍＷ、反射率は０．９８％であった。
【０１５１】
（実験例４−６）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化２３］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１６．５ｍＷ、反射率は０．９１％であった。
【０１５２】
（実験例４−７）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化２４］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１８．５ｍＷ、反射率は０．９２％であった。
【０１５３】
（実験例４−８）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化２５］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１７．５ｍＷ、反射率は０．８８％であった。
【０１５４】
（実験例４−９）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化２６］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１８．０ｍＷ、反射率は０．８４％であった。
【０１５５】
（実験例４−１０）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化２７］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１７．０ｍＷ、反射率は０．９６％であった。
【０１５６】
（実験例４−１１）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化２８］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１７．５ｍＷ、反射率は０．９４％であった。
【０１５７】
（実験例４−１２）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化２９］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１７．５ｍＷ、反射率は０．８２％であった。
【０１５８】
（実験例４−１３）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化３０］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１５．５ｍＷ、反射率は０．９２％であった。
【０１５９】
（実験例４−１４）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化３１］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１８．０ｍＷ、反射率は０．８９％であった。
【０１６０】
（実験例４−１５）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化３２］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１７．０ｍＷ、反射率は０．８８％であった。
【０１６１】
（実験例４−１６）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化３３］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１８．０ｍＷ、反射率は０．９１％であった。
【０１６２】
（実験例４−１７）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化３４］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１８．０ｍＷ、反射率は０．８９％であった。
【０１６３】
（実験例４−１８）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化３５］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１６．０ｍＷ、反射率は０．８８％であった。
【０１６４】
（実験例４−１９）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化３６］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１６．０ｍＷ、反射率は０．９３％であった。
【０１６５】
（実験例４−２０）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化３７］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１６．０ｍＷ、反射率は０．８９％であった。
【０１６６】
（実験例４−２１）
記録膜１３０を構成する有機色素材料に上記［化３８］の構造式で表される色素を用いた以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは１８．５ｍＷ、反射率は０．９１％であった。
【０１６７】
（実験例４−２２）
記録膜１３０として２層の無機材料膜を用い、第１の光学調整膜１３１の厚みを３０ｎｍ、第２の光学調整膜１３２の厚みを５５ｎｍとした以外は、実験例４−１と同一の条件で光記録媒体を作製し、その記録再生特性を評価した。無機材料膜は、厚さ２ｎｍのＦｅ3Ｏ4膜と、厚さ３５ｎｍのＧｅＢｉ−Ｏ膜とし、ＧｅＢｉ−Ｏ膜を光入射側に配置した。測定の結果、ｉＭＬＳＥが最小となる記録パワーは２６．０ｍＷ、反射率は０．９１％であった。
【０１６８】
実験例４−１〜４−２２の結果を表２にまとめて示す。
【０１６９】
【表２】
2015035239.tif 000042
【０１７０】
表２に示すように、記録膜が有機色素材料で構成された実験例４−１〜４−２１に係る光記録媒体と、記録膜が無機材料で構成された実験例４−２２に係る光記録媒体とを比較すると、反射率がいずれも０．８〜１．０％の範囲にあることが確認された。反射率を１％弱にすることで、記録マークを安定に形成することができる。
【０１７１】
一方、実験例４−１〜４−２１のｉＭＬＳＥ最小記録パワーは、実験例４−２２のｉＭＬＳＥ最小記録パワーよりも小さいことが確認された。すなわち、記録膜を有機色素材料で構成した場合、記録膜を無機材料で構成した場合と比較して、低パワーで記録マークを形成することが可能である。このことから、記録膜が有機色素材料で構成された光記録媒体は、記録光に対して高感度である（記録感度が高い）ことが確認された。
【０１７２】
また本発明者らは、実験例４−１〜４−２１と実験例４−２２との間で記録感度に違いが生じる理由が光吸収層の蓄熱性にあることに着目し、これらの熱伝導率を比較した。ここでは、実験例４−１，４−２，４−２０，４−２１及び４−２２で用いた色素膜及び無機膜（Ｆｅ3Ｏ4）の熱伝導率を測定した。
【０１７３】
熱伝導率は、周期加熱法により測定した。測定サンプルは光記録媒体から削り落としたものを使ってもよいし、原材料から測定用に成膜したものを使ってもよい。測定の結果、実験例４−１，４−２，４−２０，４−２１及び４−２２に係るサンプルの熱伝導率は、それぞれ、０．１［Ｗ／ｍ・Ｋ］、０．０５［Ｗ／ｍ・Ｋ］、０．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］、１．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］及び、２．５［Ｗ／ｍ・Ｋ］（Ｆｅ3Ｏ4）（２．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］（ＧｅＢｉ−Ｏ））であった（表２）
【０１７４】
また図６は、所定の記録条件で記録層を加熱したときの熱分布を示すシミュレーション結果であり、（Ａ）は実験例４−２２に係る媒体構造を、（Ｂ）は実験例４−１に係る媒体構造をそれぞれ示している。ここでは、記録層にガイドトラック用の溝（凹凸）や金属反射膜がないことを前提とし、記録パワーを１０ｍＷ、１／ｅ2強度点で測ったガウシアンビームのスポット径を４００ｎｍとした。評価の結果、実験例４−１のサンプル（図６（Ｂ））の方が、実験例４−２２のサンプル（図６（Ａ））よりも、約１８０℃高温であることが確認された。
【０１７５】
以上のように、実験例１のサンプルは実験例２２のサンプルと比較して、記録膜の蓄熱性が高いため、記録膜の記録感度を向上させることが可能となる。記録膜の熱伝導率は、０．０５［Ｗ／ｍ・Ｋ］以上１．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］以下であることが好ましい。０．０５［Ｗ／ｍ・Ｋ］未満であると、蓄熱性が高くなりすぎて記録マークが肥大化する等して記録マークを適切に形成することが困難となる。また、１．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］を超えると、放熱により十分な蓄熱性を確保できずに記録感度の低下の要因となり得る。記録膜の熱伝導率を０．０５［Ｗ／ｍ・Ｋ］以上１．２［Ｗ／ｍ・Ｋ］以下とすることで、記録マークを安定に形成することが可能となる。
【０１７６】
また本発明者らは、記録膜にガイドトラック用の溝（凹凸）の有無、記録膜に隣接する金属反射膜の有無、及び、記録膜の熱伝導率の大きさに応じた蓄熱性を評価するため、同一レーザエネルギーが照射された場合の記録膜の最高到達温度を計算した。その結果を表３に示す。温度の計算には、下記［数１］で示される熱拡散方程式を用いた。
【０１７７】
【数１】
2015035239.tif 000043
【０１７８】
上記［数１］において、Ｃ（ｘ）は比熱、ρ（ｘ）は密度、Ｔ（ｘ，ｔ）は温度、Ｋ（ｘ）は熱伝導率を表す。
【０１７９】
【表３】
2015035239.tif 000044
【０１８０】
表３に示すように、記録膜の熱伝導率が２．５Ｗ／ｍ・Ｋのサンプル４では、比較的低い温度であることが確認された。一方、記録膜の熱伝導率が同じ０．１Ｗ／ｍ・Ｋであるサンプル１，５，６に関しては、反射膜及び溝のいずれもがないサンプル１で最も高い光吸収層の最高到達温度が得られた。このことから、反射膜及び溝の存在が光吸収層の放熱性を高め、蓄熱性を大きく低下させる要因となることが確認された。
【０１８１】
以上のように本実施形態によれば、記録マークの形成に必要な蓄熱性と記録再生光の検出に必要な反射率特性とを兼ね備える光記録媒体を提供することができる。また上記各実験例は、単一の記録再生層１１３を有する光記録媒体を例に挙げて説明したが、多層の記録再生層１１３を有する光記録媒体についても同様な作用効果が得られる。特にレーザ入射側から最も遠い記録再生層の記録感度の向上を図ることができるため、多層化したときの記録感度の低下や記録再生特性の低下を抑制することができ、例えば６層以上の多層光記録媒体を構成することも可能となる。
【０１８２】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
【０１８３】
例えば以上の実施形態において説明した記録膜１３０、第１の光学調整膜１３１及び第２の光学調整膜１３２各々の屈折率、消衰係数及び膜厚の数値、これらの組み合わせ等はあくまでも例示であり、要求される光学特性に応じて適宜選択することが可能である。
【符号の説明】
【０１８４】
１０，１１…光記録媒体
１１０…基材
１１２…ガイド層
１１３…記録再生層
１１４…中間層
１１５…保護層
１１６…バッファ層
１２０…反射膜
１２１…ガイドトラック
１３０…記録膜
１３１…第１の光学長成膜
１３２…第２の光学調整膜
【図１】
2015035239.tif 000045
【図２】
2015035239.tif 000046
【図３】
2015035239.tif 000047
【図４】
2015035239.tif 000048
【図５】
2015035239.tif 000049
【図６】
2015035239.tif 000050