(57)【要約】【課題】狭ピッチの半導体素子を接続できる多層配線板の放熱性の向上。【解決手段】実施形態の多層配線板は、第１絶縁層２１と、第１絶縁層２１の上に形成される第１導体パターン２２ａと、第１絶縁層２１の上に設けられる配線構造体３０とを含む。そして、配線構造体３０は、第１導体パターン２２ａと並んで設けられる放熱部材３２および放熱部材３２の上に形成される第２導体パターンを含む。【選択図】図１Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
多層配線板であって、
第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の上に形成される第１導体パターンと、
前記第１絶縁層の上に設けられ、前記第１導体パターンと並んで設けられる放熱部材および該放熱部材の上に形成される第２導体パターンを含む配線構造体と、
を含む。
【請求項２】
請求項１記載の多層配線板であって、前記配線構造体は、前記第１絶縁層の上に形成されている導体層の上に設けられている。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載の多層配線板であって、前記第１導体パターンと前記第２導体パターンに跨って半導体素子がボンディングされている。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の多層配線板であって、前記第１導体パターンの上表面と前記第２導体パターンの上表面とは、同一の平面上に位置する。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の多層配線板であって、前記配線構造体が、さらに、前記第２導体パターンを覆うように設けられる第２絶縁層と、前記第２絶縁層を貫通して前記第２導体パターンと接続するように形成される第１ビア導体と、前記第１ビア導体と接続して形成される導体パッドとを含んでいる。
【請求項６】
請求項５記載の多層配線板であって、前記第１導体パターンの上表面と前記導体パッドの上表面とは、同一の平面上に位置する。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の多層配線板であって、さらに、前記第１絶縁層上および前記第１導体パターン上に設けられる第３絶縁層と、
前記第３絶縁層を貫通して前記第１導体パターンに接続されるように形成される第２ビア導体と、
前記第３絶縁層上に設けられ、前記第２ビア導体と接続される第３導体パターンと、
を備えており、
前記配線構造体が前記第３絶縁層に設けられる開口部内に設けられている。
【請求項８】
請求項７記載の多層配線板であって、前記第３導体パターンの上表面と前記第２導体パターンの上表面とは、同一の平面上に位置する。
【請求項９】
請求項５記載の多層配線板であって、さらに、前記第１絶縁層上および前記第１導体パターン上に設けられる第３絶縁層と、
前記第３絶縁層を貫通して前記第１導体パターンに接続されるように形成される第２ビア導体と、
前記第３絶縁層上に設けられ、前記第２ビア導体と接続される第３導体パターンと、
を備えており、
前記配線構造体が前記第３絶縁層に設けられる開口部内に設けられている。
【請求項１０】
請求項９記載の多層配線板であって、前記第３導体パターンの上表面と前記導体パッドの上表面とは、同一の平面上に位置する。
【請求項１１】
請求項７または請求項８記載の多層配線板であって、前記第２導体パターンおよび前記第３導体パターンを覆うように設けられる第４絶縁層と、前記第４絶縁層を貫通して前記第２導体パターンまたは前記第３導体パターンと接続されるように形成される第３ビア導体と、前記第３ビア導体と接続されるように前記第４絶縁層上に設けられる半導体素子を実装する実装パッドとをさらに有している。
【請求項１２】
請求項１１記載の多層配線板であって、前記実装パッドは、前記第２導体パターンに接続されている第１実装パッドと、前記第３導体パターンに接続されている第２実装パッドと、を備え、前記第１実装パッド同士の間隔は前記第２実装パッド同士の間隔よりも小さい。
【請求項１３】
請求項７〜１２のいずれか１項に記載の多層配線板であって、前記配線構造体の前記第２導体パターンは、前記第３導体パターンと、前記配線構造体よりも上方に形成される配線を介して接続され、前記第２導体パターンは、前記配線及び前記第３導体パターンを介して、外部の半導体素子と電気的に接続される。
【請求項１４】
請求項７〜１３のいずれか１項に記載の多層配線板であって、前記配線構造体は、該多層配線板の最上層に形成される絶縁層内に設けられている。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の多層配線板であって、前記第２導体パターンの幅は、前記第１導体パターンの幅よりも小さい。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の多層配線板であって、隣接する前記第２導体パターン同士の間隔は、隣接する第１導体パターン同士の間隔よりも小さい。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか１項に記載の多層配線板であって、前記放熱部材が金属板からなり、前記第２導体パターンは前記金属板表面に設けられる第５絶縁層上に形成されている。
【請求項１８】
請求項１７記載の多層配線板であって、前記金属板が、銅またはナノカーボン材料である。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか１項に記載の多層配線板であって、前記放熱部材が半導体材料よりも熱伝導率の大きい材料からなる。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか１項に記載の多層配線板であって、前記第１絶縁層または前記導体層と前記配線構造体との間には接着層が介在されている。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の多層配線板であって、さらに、前記第１絶縁層の上に形成される第４導体パターンを有し、前記第２導体パターンは、前記第１導体パターンと前記第２導体パターンとの間に接続される第１半導体素子、および前記第２導体パターンと前記第４導体パターンとの間に接続される第２半導体素子とを接続する信号線である。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか１項に記載の多層配線板であって、前記配線構造体は、前記第１絶縁層の上に形成されている導体層の上に設けられ、前記配線構造体の位置決め手段が前記放熱部材の底部、および／または、前記導体層の前記放熱部材の配置部に設けられている。
【請求項２３】
請求項２２に記載の多層配線板であって、前記位置決め手段は、前記導体層の表面に形成される凹部または凸部、および、前記放熱部材に形成され前記凹部または前記凸部に嵌合される凸部または凹部である。
【請求項２４】
請求項２、２２および２３のいずれか１項に記載の多層配線板であって、さらに、前記導体層の下方に形成される第４ビア導体またはスルーホール導体を有している。
【請求項２５】
請求項２および請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の多層配線板であって、前記導体層は、グランド層に電気的に接続されている。
【請求項２６】
請求項１〜２５のいずれか１項に記載の多層配線板であって、少なくとも２つの前記配線構造体が備えられ、該多層配線板上に配設される一つの半導体素子が少なくとも２つの前記各配線構造体を介してそれぞれ異なる半導体素子に電気的に接続される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多層配線板に関する。詳しくは、放熱部材を含む多層配線板に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＣなど半導体素子の高集積化に伴い、半導体チップの電極数が増加し、電極の配置ピッチが狭小化している。このため、半導体チップ用の実装パッドや配線パターンが狭ピッチで形成される半導体チップ実装用の多層配線板が求められている。
【０００３】
特許文献１には、ガラスなどを支持板として絶縁樹脂層上に高密度で配線パターンが形成される副配線板と、この副配線板が貼り付けられる主配線板とを有する多層配線板が開示されている。この多層配線板では、２つの半導体チップ（ＭＰＵやＤＲＡＭ）が接続される部分および、これらのチップの電極間を接続する部分に、高密度配線の形成が可能な副配線板が設けられている。このような構造とすることにより、実装パッドや配線パターンの狭ピッチ化への対応が図られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−２１４５７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に示される多層配線板では、半導体チップは、薄い金属めっき膜と樹脂絶縁層からなる副配線板および主配線板に接続されているだけなので、半導体チップが動作時に発熱する場合、半導体チップが過熱状態になる場合がある。
【０００６】
本発明の目的は、放熱性が良好で、狭ピッチの半導体素子を接続することができる多層配線板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の多層配線板は、第１絶縁層と、前記第１絶縁層の上に形成される第１導体パターンと、前記第１絶縁層の上に設けられ、前記第１導体パターンと並んで設けられる放熱部材および該放熱部材の上に形成される第２導体パターンを含む配線構造体と、を含む。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、放熱部材を含む配線構造体を含んでいることにより放熱性の良好な多層配線板が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１Ａ】本発明の一実施形態の多層配線板の断面図。
【図１Ｂ】図１の多層配線板の平面図。
【図２】図１の多層配線板の配線構造体およびその一端部の周辺部分の拡大図。
【図３】図１の多層配線板の配線構造体の配置層の変形例の断面図。
【図４】本発明の一実施形態の多層配線板に半導体素子が接続されている状態の断面図。
【図５Ａ】本発明の一実施形態の多層配線板の積層構造の変形例の断面の拡大図。
【図５Ｂ】本発明の一実施形態の多層配線板の積層構造の他の変形例の断面の拡大図。
【図５Ｃ】本発明の一実施形態の多層配線板の積層構造のさらに他の変形例の断面の拡大図。
【図６Ａ】本発明の一実施形態の配線構造体の位置決め手段の一例の説明図。
【図６Ｂ】本発明の一実施形態の配線構造体の位置決め手段の別の例の説明図。
【図７Ａ】本発明の一実施形態の配線構造体の位置決め手段の一例の平面図。
【図７Ｂ】本発明の一実施形態の配線構造体の位置決め手段の他の例の平面図。
【図７Ｃ】本発明の一実施形態の配線構造体の位置決め手段のさらに他の例の平面図。
【図８】本発明の一実施形態の多層配線板の配線構造体を２つ備えている例の断面図。
【図９Ａ】本発明の一実施形態の配線構造体の配線部の製造方法の各工程の説明図。
【図９Ｂ】本発明の一実施形態の配線構造体の配線部の製造方法の各工程の説明図。
【図９Ｃ】本発明の一実施形態の配線構造体の配線部の製造方法の各工程の説明図。
【図９Ｄ】本発明の一実施形態の配線構造体の配線部の製造方法の各工程の説明図。
【図９Ｅ】本発明の一実施形態の配線構造体の配線部の製造方法の各工程の説明図。
【図９Ｆ】本発明の一実施形態の配線構造体の配線部の製造方法の各工程の説明図。
【図９Ｇ】本発明の一実施形態の配線構造体の配線部の製造方法の各工程の説明図。
【図１０Ａ】本発明の一実施形態の配線構造体の製造方法の配線部形成後の各工程の説明図。
【図１０Ｂ】本発明の一実施形態の配線構造体の製造方法の配線部形成後の各工程の説明図。
【図１０Ｃ】本発明の一実施形態の配線構造体の製造方法の配線部形成後の各工程の説明図。
【図１１Ａ】本発明の一実施形態の多層配線板の製造方法の各工程の説明図。
【図１１Ｂ】本発明の一実施形態の多層配線板の製造方法の各工程の説明図。
【図１１Ｃ】本発明の一実施形態の多層配線板の製造方法の各工程の説明図。
【図１１Ｄ】本発明の一実施形態の多層配線板の製造方法の各工程の説明図。
【図１１Ｅ】本発明の一実施形態の多層配線板の製造方法の各工程の説明図。
【図１１Ｆ】本発明の一実施形態の多層配線板の製造方法の各工程の説明図。
【図１１Ｇ】本発明の一実施形態の多層配線板の製造方法の各工程の説明図。
【図１１Ｈ】本発明の一実施形態の多層配線板の製造方法の各工程の説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の実施形態の多層配線板が、図面を参照して以下に説明される。なお、本明細書で用いられる用語「絶縁層」には、ビルドアップ多層配線板のビルドアップ層に積層される絶縁層だけではなく、ビルドアップ多層配線板のコア基板を構成する絶縁性の基材も含まれる。以下の説明では、本発明の実施形態の多層配線板のコア基板に近い層が下層または内層と称され、コア基板から遠い層が上層または外層と称される。また、コア基板の一方の面が第１面Ｆ１、他方の面が第２面Ｆ２と称される。
【００１１】
本発明の一実施形態の多層配線板１０は、図１Ａに示されるように、主配線板２０と副配線板３０とを含んでいる。本実施形態では、主配線板２０はビルドアップ多層配線板である。主配線板２０は、第１絶縁層２１と、第１絶縁層２１の上に形成される第１導体パターン２２ａとを含んでいる。第１絶縁層２１は、図１に示されるようにコア基板１５中の絶縁層であってもよいし、ビルドアップ層中の絶縁層であってもよい。本実施形態では、図１に示されるように、第１導体パターン２２ａは第１絶縁層２１の上に設けられる第１導体層２２に形成される。副配線板３０は、図２に示されるように、第１絶縁層２１の上に第１導体パターン２２ａと並んで設けられる放熱部材３２と放熱部材３２上に形成される配線部３１とを含む配線構造体３０からなる。なお、前述のように本実施形態では、主配線板２０は、コア基板を有するビルドアップ多層配線板であるが、本発明に係る主配線板は、これに限定されず、コア基板を有しないコアレス基板であってもよい。この場合、第１絶縁層２１は、ビルドアップ層を構成する絶縁層であってよい。なお、本実施形態の多層配線板の各導体層および各導体パターンは、無電解めっき膜とその上に形成される電解めっき膜を含んで構成される。このため、各図面（断面図）では、各導体層および各導体パターンは２層構造で示されている。また、第１導体層２２および導体層８１ａは、さらにコア基板１５の銅箔も含んでいるが、図１１Ａおよび図１１Ｂを除いて、銅箔の記載は省略されている。
【００１２】
本実施形態では、図１Ａに示されるように、主配線板２０は、さらに、第１絶縁層２１上および第１導体パターン２２ａ上に設けられる第３絶縁層２３、第３絶縁層２３上に設けられる第３導体層２４、および、第３絶縁層２３を貫通し、第１導体層２２と第３導体層２４とを接続する第２ビア導体２５とを含んでいる。配線構造体（副配線板）３０は、第３絶縁層２３に設けられている開口部２８内に設けられている。第１導体層２２および第３導体層２４には、たとえば、電気回路を構成する導体パターン、面状の導体パターン（ベタパターン）、または、接続配線、パッド、もしくはランドなどを構成する導体パターンが形成される。本実施形態では、配線構造体３０の図１Ａ上、右側の第１導体層２２に、第１導体パターン２２ａが形成され、配線構造体３０の図１Ａ上、左側に第４導体パターン２２ｂがそれぞれ形成されている。また、配線構造体３０を間に挟んだ両側の第３導体層２４に、第３導体パターン２４ａ、２４ｂがそれぞれ形成されている。
【００１３】
本実施形態では、図２に示されるように、配線構造体３０の配線部３１は、放熱部材３２の表面に形成される第５絶縁層３７と、第５絶縁層３７上に形成される第２導体層３４と、第２導体層３４を覆うように設けられる第２絶縁層３３と、第２絶縁層３３を貫通して第２導体層３４と接続するように形成される第１ビア導体３５と、第１ビア導体３５と接続して形成される導体パッド３６とを含んでいる。第２導体層３４には、たとえば、面状の導体パターン、または、接続配線、パッド、もしくはランドなどを構成する第２導体パターン３４ａが形成されている。第２絶縁層３３および第５絶縁層３７の材料には、ポリイミド、フェノール系樹脂、ポリベンゾオキサゾール系樹脂などが使用される。しかしながら、これらに限定されない。
【００１４】
本実施形態では、図１Ａに示されるように、配線構造体３０上および第３導体層２４上に第４絶縁層４１が設けられている。第４絶縁層４１上には、第１実装パッド４２ａ、４２ｂおよび第２実装パッド４３ａ、４３ｂが設けられている。本実施形態では、図１Ｂに示されるように、第１実装パッド４２ａ同士の間隔および第１実装パッド４２ｂ同士の間隔は、第２実装パッド４３ａ同士の間隔および第２実装パッド４３ｂ同士の間隔よりも狭い。また、図１Ａに示されるように、第３ビア導体４４、４５が第４絶縁層４１内に設けられている。第３ビア導体４４の上層側は第１実装パッド４２ａ、４２ｂに接続される。また、図２に示されるように、第３ビア導体４４の下層側は、配線構造体３０の導体パッド３６に接続されている。同様に、第２実装パッド４３ａ、４３ｂは、第３ビア導体４５により、第３導体層２４に形成されている第３導体パターン２４ａ、２４ｂにそれぞれ接続されている。また、第２実装パッド４３ａ、４３ｂは、第３ビア導体４５、第３導体層２４および第２ビア導体２５を介して、第１導体層２２に形成されている第１導体パターン２２ａおよび第４導体パターン２２ｂにもそれぞれ電気接続されている。
【００１５】
なお、本実施形態では、配線構造体３０は、コア基板１５の基材を構成する第１絶縁層２１の上に設けられている。しかしながらこれに限定されず、図３に示されるように、配線構造体３０は、ビルドアップ層を構成する絶縁層の上に設けられてもよい。図３に示される例では、配線構造体３０は、コア基板１５の上に設けられている第１絶縁層２１の上に設けられている。また、図１Ａに示される例と同様に、第３絶縁層２３に設けられている開口部２８内に設けられる。第３絶縁層２３の上には、図１Ａに示される例と同様に、第４絶縁層４１、第２実装パッド４３ａ、第３ビア導体４５が設けられている。配線構造体３０はさらに上層の絶縁層の上に設けられてもよい。
【００１６】
本実施形態の多層配線板１０には、図４に示されるように、半導体素子１００ａ、１００ｂが接続される。半導体素子１００ａには、はんだバンプ１１０ａおよびはんだバンプ１１１ａが設けられている。はんだバンプ１１０ａは、はんだバンプ１１１ａよりも狭ピッチで配置されている。はんだバンプ１１０ａが第１実装パッド４２ａに、はんだバンプ１１１ａが第２実装パッド４３ａに、それぞれ接続される。同様に、半導体素子１００ｂには、はんだバンプ１１０ｂおよびはんだバンプ１１１ｂが設けられている。はんだバンプ１１０ｂは、はんだバンプ１１１ｂよりも狭ピッチで配置されている。はんだバンプ１１０ｂが第１実装パッド４２ｂに、はんだバンプ１１１ｂが第２実装パッド４３ｂに、それぞれ接続される。図２に示されるように、第１実装パッド４２ａ、４２ｂは、第３ビア導体４４により導体パッド３６に接続されている。また、第２導体層３４には、第１実装パッド４２ａに接続されている導体パッド３６と第１実装パッド４２ｂに接続されている導体パッド３６とを電気接続する第２導体パターン３４ａが形成されている。これにより、隣接しているはんだバンプ１１０ａとはんだバンプ１１０ｂとが電気的に接続される。図１Ｂに示されるように、配線構造体３０には、所定の第１実装パッド４２ａ、４２ｂをそれぞれ接続する複数個の第２導体パターン３４ａが設けられている。この結果、半導体素子１００ａと半導体素子１００ｂの所定の電極間が電気的に接続されることとなる。第２導体パターン３４ａにより電気的に接続される半導体素子１００ａおよび半導体素子１００ｂの電極は如何なる種類の電極でもよい。たとえば第２導体パターン３４ａにより電源電極同士が接続されてよい。また、第２導体パターン３４ａは半導体素子１００ａと半導体素子１００ｂとの間で信号を伝送する信号線であってもよい。
【００１７】
配線構造体３０の配線部３１は、図２に示されるように、放熱部材３２の直ぐ上に形成されている。このため、半導体素子１００ａ、１００ｂが導体パッド３６上の第１実装パッド４２ａ、４２ｂに接続される場合（図４参照）、半導体素子１００ａ、１００ｂで生じる熱が素早く拡散される。このため、半導体素子１００ａ、１００ｂの温度上昇が少なくなる。この結果、半導体素子１００ａ、１００ｂに取付けられるヒートスプレッダなどが不要となる場合がある。
【００１８】
放熱部材３２の材料は、比較的熱伝導性の良好なものであれば特に限定されない。たとえば、発熱源である半導体素子１００ａ、１００ｂを構成する材料よりも大きな熱伝導率を有するものが用いられてよい。また、銅やナノカーボンなどの金属が用いられてもよい。また、アルミナや窒化アルミなどの絶縁性材料が用いられてもよい。このように絶縁性材料が用いられる場合は、絶縁層３７が省略され、放熱部材３２上に直接導体層３４が形成されてもよい。放熱部材３２の厚さは特に限定されないが、厚く形成されるほど、より多くの熱が素早く拡散される。
【００１９】
配線構造体３０は、本実施形態では、図２に示されるように、絶縁層２１の上に設けられている導体層２２ｃの上に設けられている。導体層２２ｃを熱伝導性の良好な、たとえば銅などの金属で構成することにより、多層配線板１０全体の放熱性がさらに高まる。しかしながら、導体層２２ｃが用いられずに、配線構造体３０が第１絶縁層２１上に直に設けられてもよい。導体層２２ｃは、好ましくは、第１導体層２２をパターニングして形成される。しかしながら、導体層２２ｃの形成方法はこれに限定されない。たとえば、第１導体層２２と別に形成された金属板などが、第１絶縁層２１上に取付けられてもよい。
【００２０】
本実施形態では、配線構造体３０と導体層２２ｃの間に接着層２７が介在されている。前述のように、導体層２２ｃが省略される場合は、接着層２７は、配線構造体３０と第１絶縁層２１との間に介在される。配線構造体３０は接着層２７を構成する接着剤により導体層２２ｃまたは第１絶縁層２１に固着される。接着層２７を構成する接着剤は、特に限定されず、たとえば、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、シリコーン樹脂系などが用いられる。好ましくは、放熱部材３２の熱が導体層２２ｃなどにより多く伝導されるように熱伝導性の良好な接着剤が用いられる。
【００２１】
また、放熱部材３２が金属などの導電性材料により形成され、図２に示されるように導体層２２ｃ上に設けられる場合、導体層２２ｃが、多層配線板１０のグランド層に電気的に接続されることにより放熱部材３２がシールド面となり得る。これにより、配線部３１からのノイズの放射や配線部３１へのノイズの侵入が少なくなることがある。これは、配線部３１内の第２導体パターン３４ａが、前述のように半導体素子１００ａおよび半導体素子１００ｂの間の信号線である場合、特に有益となり得る。
【００２２】
図１Ａに示される実施形態では、導体層２２ｃはスルーホール導体２６により、第１絶縁層２１を挟んで反対側（コア基板１５の第２面Ｆ２側）の導体層８１ａに接続されている。このため、放熱部材３２に伝わる熱が、第１絶縁層２１の反対側の面にも多く伝導される。このため、多層配線板１０全体の放熱性が一層高まる。しかしながら、スルーホール導体２６が設けられなくてもよい。なお、図３に示されるように、配線構造体３０が、コア基板１５の基材ではなくビルドアップ層を構成する第１絶縁層２１などの上に設けられる場合は、導体層２２ｃは、第１絶縁層２１を貫く第４ビア導体４６によって下方の導体層８１ｄなどに接続され得る。これにより、図１Ａに示される例と同様に、多層配線板１０全体の放熱性が一層高まる。
【００２３】
配線構造体３０の配線部３１は、後述の製造方法に示されるように、主に、半導体素子の製造装置を用いて半導体素子の製造プロセスに沿って形成される。このため、配線構造体３０の配線部３１には、半導体素子に形成されるパッドや配線パターンの配置ピッチと同程度のピッチで導体パターンが形成され得る。したがって、配線部３１には、一般的なビルドアップ多層配線板のプロセスで製造される基板よりも狭いピッチで配線パターンが形成され得る。たとえば、一般的なビルドアップ多層配線板の製造プロセスで製造される基板の配線密度は、最小の配線幅（ライン：Ｌ）および最小の配線間ギャップ（スペース：Ｓ）で配線密度が示されるラインスペース（Ｌ／Ｓ）で、１０μｍ／１０μｍ程度が限界である。これに対して、配線構造体３０に形成される導体パターンは、たとえば、０．１μｍ／０．１μｍまでファインピッチに形成されることも可能である。具体的には、第２導体パターン３４ａは、１μｍ／１μｍ〜５μｍ／５μｍ、好ましくは、３μｍ／３μｍ〜５μｍ／５μｍのような配線密度で形成される。また、第２絶縁層３３を貫通する第１ビア導体３５の直径は、１μｍ〜１０μｍ、好ましくは、０．５μｍ〜５μｍである。
【００２４】
本実施形態では、図２に示されるように、狭ピッチで設けられているはんだバンプ１１０ａ、１１０ｂが接続される第１実装パッド４２ａ、４２ｂ、および、第１実装パッド４２ａと第１実装パッド４２ｂとを接続する第２導体パターン３４ａが配線構造体３０に形成されている。このような構成とすることにより、はんだバンプ１１０ａ、１１０ｂ（図４参照）が、一般的なビルドアップ多層配線板の製造プロセスで形成可能なピッチを超えるピッチで設けられていても、半導体素子１００ａ、１００ｂが多層配線板１０に接続され得る。また、一般的に配線密度が高くなるほど、ビルドアップ多層配線板の製造歩留りは低下する傾向にある。このため、はんだバンプ１１０ａ、１１０ｂの配置ピッチがビルドアップ多層配線板の製造プロセスで形成可能な範囲内であっても、高密度配線の部分が配線構造体３０に形成されることにより、多層配線板１０の製造歩留まりが上がる場合がある。その結果、多層配線板１０の製造コストが下がる可能性がある。
【００２５】
配線構造体３０に形成される導体パッド３６の上表面と主配線板２０の第３導体パターン２４ａの上表面は、好ましくは、図２に示されるように、略同一面に形成される。このように同一面に形成されることにより、たとえば、半導体素子１００ａが接続される第１実装パッド４２ａの上表面および第２実装パッド４３ａの上表面を同一面に形成することが容易となる。しかしながら、導体パッド３６の上表面および第３導体パターン２４ａの上表面は同一面に形成されなくてもよい。
【００２６】
図２に示される例では、配線構造体３０の配線部３１には、第２絶縁層３３、第１ビア導体３５および導体パッド３６が形成されている。しかしながら、これらが省略されてもよい。図５Ａには、第２絶縁層３３、第１ビア導体３５および導体パッド３６が省略される例における図２に示されている箇所に相当する箇所の構造が示されている。図５Ａに示される例では、第３ビア導体４４は第２導体パターン３４ａに接続される。また、第２導体層３４は第４絶縁層４１に覆われる。図５Ａに示される例では、第２導体パターン３４ａの上表面と第３導体パターン２４ａの上表面は、好ましくは、略同一面に形成される。しかしながら、第２導体パターン３４ａの上表面および第３導体パターン２４ａの上表面は同一面に形成されなくてもよい。
【００２７】
また、図１Ａおよび図２に示される例では、第１導体層２２の上に、第３絶縁層２３、第３導体層２４および第２ビア導体２５が形成されている。しかしながら、これらが省略されてもよい。図５Ｂには、第３絶縁層２３、第３導体層２４および第２ビア導体２５が省略される例における図２に示されている箇所に相当する箇所の構造が示されている。図５Ｂに示される例では、第３ビア導体４５は第１導体層２２に接続される。また、第１導体層２２は、第４絶縁層４１に覆われる。図５Ｂに示される例においても、放熱部材３２と第１導体層２２の厚さが調整されることにより導体パッド３６の上表面と第１導体パターン２２ａの上表面が略同一面に形成されてもよい。しかしながら、導体パッド３６の上表面および第１導体パターン２２ａの上表面の位置関係はこれに限定されない。
【００２８】
また、第２絶縁層３３、第１ビア導体３５および導体パッド３６、ならびに、第３絶縁層２３、第３導体層２４および第２ビア導体２５が共に省略されてもよい。図５Ｃには、そのような例における図２に示されている箇所に相当する箇所の構造が示されている。図５Ｃに示される例では、第３ビア導体４４は第２導体層３４に接続される。また、第３ビア導体４５は第１導体層２２に接続される。そして、第２導体層３４および第１導体層２２は第４絶縁層４１に覆われる。また、この場合も、放熱部材３２と第１導体層２２の厚さが調整されることにより、第２導体パターン３４ａの上表面と第１導体パターン２２ａの上表面が略同一面に形成されてもよい。しかしながら、第２導体パターン３４ａの上表面および第１導体パターン２２ａの上表面の位置関係はこれに限定されない。
【００２９】
配線構造体３０の配線部３１に形成される第２導体パターン３４ａや導体パッド３６は、前述のように、極めて高密度に形成される。そのため、第２導体パターン３４ａや導体パッド３６が、それぞれ所定の第１実装パッド４２ａ、４２ｂと確実に接続されるように、配線構造体３０が主配線板２０の所定の位置に正確に位置付けられなければならない。また、前述のように配線構造体３０が接着剤で固着される場合、接着剤が硬化する前に、配線構造体３０が接着層２７上で動いてしまうために、正しい位置に固着されないことがある。このため、たとえば、放熱部材３２の底部、および／または導体層２２ｃの放熱部材３２の配置部に、配線構造体３０の位置決め手段が設けられてよい。
【００３０】
図６Ａには、配線構造体３０の位置決め手段３９の一例が示されている。放熱部材３２の裏面に凸部３９ａが設けられている。また、導体層２２ｃの表面に、凸部３９ａに嵌合される凹部３９ｂが設けられている。凹部３９ａは、正しい位置に配線構造体３０が位置付けられたときに凸部３９ａと相対する位置に設けられる。凸部３９ａと凹部３９ｂが嵌合されることにより、配線構造体３０が正しい位置に位置付けられる。また、接着剤の硬化前の配線構造体３０の位置ずれが防がれる。この結果、配線構造体３０が正しい位置に固着され、第２導体パターン３４ａや導体パッド３６が、それぞれ所定の第１実装パッド４２ａ、４２ｂと確実に接続される。
【００３１】
図７Ａ〜７Ｃに示されるように、放熱部材３２の裏面に設けられる凸部３９ａの平面形状および数量は特に限定されない。たとえば、図７Ａに示されるように、平面形状が矩形の凸部３９ａが一対の対向する端部付近にそれぞれ設けられてもよい。また、図７Ｂに示されるように、放熱部材３２の裏面の四隅に円形の平面形状の凸部３９ａが設けられてもよい。また、図７Ｃに示されるように、放熱部材３２の裏面の中央部に、平面形状が十字形の凸部３９ａが設けられてもよい。なお、図６Ａに示される例では、凸部３９ａが放熱部材３２側に形成され、凹部３９ｂが導体層２２ｃ側に設けられているが、凸部３９ａおよび凹部３９ｂは、それぞれ逆側に設けられてもよい。
【００３２】
また、図６Ｂに示されるように、導体層２２ｃに、平面視で放熱部材３０の全体が収まる凹部３９ｃが設けられていてもよい。凹部３９ｃと放熱部材３０全体が嵌合されることにより放熱構造体３０が位置決めされる。なお、導体層２２ｃが、平面視で放熱部材３０より小さく形成され、放熱部材３２の底面に、外周部を除く底面全面を凹ませて凹部が設けられてもよい。この凹部と導体層２２ｃ全体とが嵌合されることにより放熱構造体３０が位置決めされる。図６Ａ、図６Ｂおよび図７Ａ〜７Ｃに示される凸部３９ａおよび凹部３９ｂ、３９ｃは、たとえば、放熱部材３２の裏面や導体層２２ｃの表面のエッチングにより形成され得る。
【００３３】
配線構造体３０、および半導体素子１００ａ、１００ｂは、主配線板２０を経由して、外部の電子部品などと電気的に接続されてもよい。たとえば、半導体素子１００ａは、図１Ａに示される第１導体パターン２２ａおよび／または第３導体パターン２４ａを介して、外部の半導体素子などに電気的に接続されてもよい。同様に、半導体素子１００ｂは、第４導体パターン２２ｂおよび／または第３導体パターン２４ｂを介して外部の半導体素子などに電気的に接続されてもよい。また、たとえば、図１Ａに示される第４絶縁層４１上に第１実装パッド４２ａ、４２ｂと第２実装パッド４３ａ、４３ｂとを接続する配線パターンが形成されてもよい。そうすることにより配線構造体３０内の第２導体パターン３４ａが、主配線板２０内の第１導体パターン２２ａ、第３導体パターン２４ａ、２４ｂ、および／または第４導体パターン２２ｂを介して外部の半導体素子と電気的に接続されてもよい。
【００３４】
また、図８に示されるように、半導体素子１００ｂの半導体素子１００ａと反対の側に第２配線構造体５０および半導体素子１００ｃが設けられ、半導体素子１００ｂが、配線構造体３０を介して半導体素子１００ａに電気接続されると共に、配線構造体５０を介して半導体素子１００ｃに電気接続されてもよい。
【００３５】
また、本実施形態では、図１Ａに示されるように、コア基板１５の第２面Ｆ２上にも、３つの導体層８１ａ〜８１ｃおよび２つの絶縁層８２ａ、８２ｂが交互に積層されている。また、ビア導体８３ａ、８３ｂが絶縁層８２ａ、８２ｂにそれぞれ設けられている。導体層８１ａと導体層８１ｂがビア導体８３ａにより接続されている。同様に、導体層８１ｂと導体層８１ｃがビア導体８３ｂにより接続されている。しかしながら、コア基板１５の第２面Ｆ２上には、図１Ａに示される絶縁層および導体層の数よりも少ない、または多い数の絶縁層および導体層が積層されていてもよい。
【００３６】
本実施形態では、コア基板１５を貫通するスルーホール導体２６は、コア基板１５に設けられる貫通孔２６ａが金属などの導体によって満たされることにより形成されている。本実施形態では、第１導体層２２と導体層８１ａは、スルーホール導体２６により接続されている。
【００３７】
本実施形態では、第１絶縁層２１（コア基板の基材）は、たとえば、芯材に樹脂が含浸されて形成される。第１絶縁層２１は、たとえば、ガラス繊維布からなる芯材にエポキシ樹脂が含浸されて形成されるガラスエポキシ基板である。しかしながら、これに限定されず、第１絶縁層２１には、あらゆる絶縁材料が用いられ得る。
【００３８】
第１〜第３ビア導体２５、３５、４４、４５、ならびに、ビア導体８３ａ、８３ｂは、いずれも、絶縁層に設けられるビアホールがメッキなどにより形成される銅で満たされて形成されるフィルド導体である。しかしながら、これに限定されず、各ビア導体は、いずれもコンフォーマル導体であってもよい。
【００３９】
第３および第４絶縁層２３、４１、ならびに絶縁層８２ａ、８２ｂは、本実施形態では、エポキシ樹脂からなる。ただし、これに限定されず、あらゆる材料が用いられ得る。
【００４０】
つぎに、本実施形態の多層配線板１０の製造方法の一例が説明される。本実施形態の多層配線板１０の製造方法は、配線構造体３０の製造方法と主配線板２０への配線構造体３０の取り付けを含む主配線板２０の製造方法からなる。まず、配線構造体３０の製造方法が、図９Ａ〜９Ｇおよび図１０Ａ〜１０Ｃを参照して、以下に説明される。
【００４１】
まず、図９Ａに示されるように、たとえば銅などの放熱性の良好な材料からなるウエハー３２ａが準備される。本実施形態では、１つのウエハー３２ａ上に配線構造体３０の配線部３１が複数個形成される。図９Ａ〜９Ｇには、１個の配線構造体３０に相当する部分だけが示されている。ウエハー３２ａは、配線部３１（図２参照）の形成後に分割され、それぞれ、配線構造体３０の放熱部材３２を構成する。
【００４２】
つぎに、ウエハー３２ａの上に配線部３１（図２参照）が形成される。配線部３１は、前述のように、半導体素子の製造プロセスで形成される。具体的には、図９Ｂに示されるように、まず、ウエハー３２ａ上に第５絶縁層３７が形成される。第５絶縁層３７は、予めフィルム状に成形された絶縁材がウエハー３２ａ上に積層されるか、または液状の絶縁材がウエハー３２ａ上に塗布され、加熱されることにより形成される。しかしながら、第５絶縁層３７が別の方法で形成されてもよい。続いて、スパッタリング法などにより、第５絶縁層３７上にシード層３４ｂが形成される。シード層３４ｂの材料には、たとえば、チタン、銅などが用いられる。しかしながら、シード層３４ｂの材料はこれに限定されない。
【００４３】
つぎに、図９Ｃに示されるように、シード層３４ｂ上に所定のパターンのレジストフィルム６２が形成される。具体的には、シード層３４ｂに感光性のレジストフィルム６２が積層される。続いて、所定のパターンに形成されたマスク（図示せず）を透過した光によりレジストフィルム６２が露光される。続いて、レジストフィルム６２が現像され、所定のパターンにパターニングされる。
【００４４】
つぎに、第５絶縁層３７上に導体パターンが形成される。具体的には、まず、図９Ｃに示されるレジストフィルム６２の開口部６２ａ内のシード層３４ｂ上に、たとえば、めっき法により上部導体層３４ｃが形成される。上部導体層３４ｃは、無電解銅めっき層、電解銅めっき層、または無電解銅めっき層および電解銅めっき層が積層された層であってよい。続けて、レジストフィルム６２が剥離される。レジストフィルム６２が剥離されることにより露出するシード層３４ｂがエッチングにより除去される。これにより図９Ｄに示される第２導体パターン３４ａが形成される。本実施形態では、第２導体パターン３４ａは、シード層３４ｂと上部導体層３４ｂの２との積層体により構成される。第２導体パターン３４ａは、極めてファインピッチで形成される。第２導体パターン３４ａは、たとえば、ラインスペースで、１μｍ／１μｍ〜５μｍ／５μｍ、好ましくは、３μｍ／３μｍ〜５μｍ／５μｍのような配線密度で形成される。
【００４５】
つぎに、図９Ｅに示されるように、第５絶縁層３７および第２導体パターン３４ａの上に、第２絶縁層３３が形成される。第２絶縁層３３は、第５絶縁層３７と同様の方法で形成される。第２絶縁層３３には、たとえば、感光性ポリイミドが用いられるが、これに限定されない。つづけて、所定の位置に開口を有するマスク（図示せず）を透過した光により第２絶縁層３３が露光される。続いて、第２絶縁層３３が現像されて、第２絶縁層３３の所定の位置にビアホール３３ａが設けられる。続いて、第２絶縁層３３上、ならびに、ビアホール３３ａの内壁面および底面に、スパッタリング法などにより、シード層３６ａが形成される。
【００４６】
続いて、図９Ｆに示されるように、シード層３６ａ上に、所定のパターンのレジストフィルム６３が形成される。レジストフィルム６３は、レジストフィルム６２と同様の方法で形成される。
【００４７】
つぎに、図９Ｇに示されるように、シード層３６ａ上に、導体パッド３６が形成される。導体パッド３６は、第２導体パターン３４ａと同様の方法で形成される。この後、ウエハー３２ａの裏面がエッチングまたは研削されてもよい。この結果、配線構造体３０の配線部３１が完成する。なお、配線構造体３０が、図５Ａおよび図５Ｃに示される例のような構造に製造される場合は、第２絶縁層３３の形成から導体パッド３６の形成までの工程が省略される。
【００４８】
図９Ｇに示される配線部３１は、本実施形態では、図１０Ａに示されるように、ウエハー３２ａ上に複数個並んだ状態で形成される。図１０Ａ〜１０Ｃには、そのうちの４個の配線部３１ａ〜３１ｄに相当する部分がそれぞれ示されている。なお、図１０Ａ〜１０Ｃでは、配線部３１を構成する第５絶縁層３７や第２導体パターン３４ａなどの記載は省略されている。配線部３１が形成された後の配線構造体３０の工程が、図１０Ｂおよび図１０Ｃを参照して説明される。
【００４９】
図１０Ｂに示されるように、配線部３１上に、配線構造体３０の製造中に配線部３１を保護する保護フィルム６４が積層される。続けて、ウエハー３２ａの裏面に、積層構造体３０を支持するダイシングテープ６５が積層される。ダイシングテープ６５とウエハー３２ａの間に、接着材が積層されてもよい。なお、保護フィルム６４の積層は省略されてもよい。
【００５０】
つぎに、図１０Ｃに示されるように、たとえばダイシングソーにより、所定の位置で、ウエハー３２ａ、および配線部３１に形成されている第５絶縁層３７などがカットされる。その結果、個片に分割された配線構造体３０が得られる。配線構造体３０は、主配線板２０に取付けられるときに、ダイシングテープ６５からピックアップされる。
【００５１】
つぎに、本実施形態の多層配線板１０の主配線板２０の製造方法が図１１Ａ〜１１Ｈを参照して説明される。
【００５２】
まず、図１１Ａに示されるように、基板（コア基板）１５が準備される。基板１５の基材（本実施形態では第１絶縁層２１）は、たとえば、ガラス繊維布からなる芯材にエポキシ樹脂が含浸されて形成されるガラスエポキシ材である。しかしながら、これに限定されず、基板１５には、あらゆる絶縁材が用いられ得る。基板１５の一方側の第１面Ｆ１および他方側の第２面Ｆ２には、銅箔２２１がそれぞれ設けられている。
【００５３】
つぎに、たとえばＣＯ2レーザーを用いて、基板１５の第１面Ｆ１側および第２面Ｆ２側から交互に、または同時にレーザーが基板１５に照射される。これにより、図１１Ｂに示されるように、基板１５に貫通孔２６ａが形成される。その後、好ましくは、貫通孔２６ａはデスミア処理される。デスミアにより不要な導通（ショート）が抑制される。また、レーザー光の吸収効率を高めるため、レーザー照射に先立って銅箔２２１の表面が黒化処理されてもよい。
【００５４】
続いて、たとえばパネルめっき法により、基板１５の第１面Ｆ１上、第２面Ｆ２上および貫通孔２６ａの内壁に、たとえば銅の無電解めっき膜２６ｂが形成される。続けて、無電解めっき膜２６ｂをシード層として電解めっきを行うことにより電解めっき膜２６ｃが形成される。これにより、貫通孔２６ａ内が電解めっき膜２６ｃで満たされ、スルーホール導体２６が形成される。また、基板１５上の銅箔２２１、無電解めっき膜２６ｂおよび電解めっき膜２６ｃにより、第１導体層２２が構成される。
【００５５】
続いて、電解めっき膜２６ｃ上に所定パターンのエッチングレジストを形成し、エッチングレジストで覆われていない部分の電解めっき膜２６ｃ、無電解めっき膜２６ｂおよび銅箔２２１が除去される。その後、エッチングレジストが除去されることにより、図１１Ｃに示されるように、第１導体パターン２２ａが形成される。なお、図１１Ｃ〜１１Ｈでは、銅箔２２１の記載は省略されている。また、図１１Ｃ〜１１Ｈでは、基板１５の第２面Ｆ２側の記載も省略されている。基板１５の第２面Ｆ２側は、図１１Ｅに示される工程まで第１面Ｆ１側と同様に絶縁層、導体層およびビア導体が形成される。そして、図１１Ｆ〜１１Ｈに示される工程においては、基板１５の第２面Ｆ２側には加工は施されない。
【００５６】
つぎに、図１１Ｄに示されるように、基板１５の表面上に第３絶縁層２３が配される。第３絶縁層２３は、加熱されることにより硬化する。第３絶縁層２３の材料は、特に限定されないが、好ましくは、熱硬化性エポキシ樹脂などが用いられる。
【００５７】
つぎに、図１１Ｅに示されるように、第２ビア導体２５および第３導体パターン２４ａが第３絶縁層２３の内部および第３絶縁層２３上に形成される。具体的には、たとえば、ＣＯ2レーザーを用いて、第３絶縁層２３にビアホールが形成される。続いて、第３絶縁層２３の表面およびビアホールの内壁に、たとえば銅の無電解めっき膜２５ｂが形成される。続けて、無電解めっき膜２５ｂ上に、所定パターンのめっきレジストが形成される。そして、めっきレジストで覆われていない領域に電解めっき膜２５ｃが形成される。続けて、めっきレジストが所定の剥離液により除去される。さらに、めっきレジストが除去されることにより露出する領域の無電解めっき膜２５ｂがエッチングで除去される。この結果、図１１Ｅに示されるように、第２ビア導体２５および第３導体パターン２４ａが形成される。
【００５８】
つぎに、図１１Ｆに示されるように、第３絶縁層２３に、配線構造体３０が収容される開口部２８が形成される。具体的には、開口部２８が設けられる領域の第３絶縁層２３が、ドリルで研削されるか、またはレーザー光を照射されることにより除去されることにより、開口部２８が形成される。開口部２８の形成により配線構造体３０が配置される第１導体層２２が露出されてもよい。
【００５９】
なお、本実施形態の主配線板１０が、図５Ｂおよび図５Ｃに示される例のような構造とされる場合は、前述の第３絶縁層２３の形成から開口部２８の形成までの工程が省略される。
【００６０】
また、図３に示されるように、ビルドアップ層を構成する絶縁層の上に設ける場合は、まず、前述の第１導体層２２の形成方法と同様の方法で導体層８１ｄがコア基板上に形成される。つぎに、その導体層８１ｄの上に、前述の第３絶縁層２３、第３導体パターン２４ａおよび第２ビア導体２５の形成方法と同様の方法で、第１絶縁層２１、第１導体パターン２２ａ、第４ビア導体４６が形成される。その後、第３絶縁層２３の形成などの後工程が前述の方法と同様の方法で行われる。
【００６１】
つぎに、開口部２８に、図１０Ｃに示される状態に作り上げられている配線構造体３０が取り付けられる。具体的には、個片化されている配線構造体３０が、紫外線を照射されることなどにより粘着力が弱められるダイシングテープ６５からピックアップされる。接着材などが配線構造体３０の裏面に付けられている場合は、配線構造体３０がそのまま開口部２８内の所定の位置に配置される。接着材などが付けられていない場合は、配線構造体３０の裏面または開口部２８内に接着材などが供給され、配線構造体３０が所定の位置に配置される。接着剤は加熱されることにより硬化してもよい。また、図６Ａ、図６Ｂおよび図７Ａ〜７Ｃに幾つかの例が示される位置決め手段３９が設けられていると、配線構造体３０の位置決めが容易となる。
【００６２】
つぎに、図１１Ｇに示されるように、配線構造体３０上、第３導体パターン２４ａ上および第３絶縁層２３上に、第４絶縁層４１が積層される。第４絶縁層４１は、加熱により硬化されてもよい。第４絶縁層４１の材料は特に限定されないが、ポリイミドや熱硬化性エポキシ樹脂などが用いられる。
【００６３】
つぎに、前述の第２ビア導体２５および第３導体パターン２４ａの形成方法と同様の方法で、ビアホール、無電解めっき膜および電解めっき膜が形成され、図１１Ｈに示されるように、第３ビア導体４４、４５、ならびに、第１実装パッド４２ａ、４２ｂおよび第２実装パッド４３ａ、４３ｂが形成される。この結果、図１に示される構造の多層配線板１０が完成する。
【符号の説明】
【００６４】
１０    多層配線板
１５    コア基板
２０    主配線板
２１    第１絶縁層
２２    第１導体層
２２ａ  第１導体パターン
２２ｂ  第４導体パターン
２２ｃ  導体層
２３    第３絶縁層
２４    第３導体層
２４ａ、２４ｂ  第３導体パターン
２５    第２ビア導体
２６    スルーホール導体
２７    接着層
２８    開口部
３０    配線構造体（副配線板）
３１、３１ａ〜３１ｄ  配線部
３２    放熱部材
３２ａ  ウエハー
３３    第２絶縁層
３４    第２導体層
３４ａ  第２導体パターン
３５    第１ビア導体
３６    導体パッド
３７    第５絶縁層
３９    位置決め手段
４１    第４絶縁層
４２ａ、４２ｂ  第１実装パッド
４３ａ、４３ｂ  第２実装パッド
４４、４５      第３ビア導体
４６    第４ビア導体
５０    第２配線構造体
８１ａ〜８１ｄ  導体層
８２ａ、８２ｂ  絶縁層
８３ａ、８３ｂ  ビア導体
１００ａ、１００ｂ、１００ｃ  半導体素子
１１０ａ、１１０ｂ、１１１ａ、１１１ｂ  はんだバンプ
Ｆ１    第１絶縁層の第１面
Ｆ２    第１絶縁層の第２面
【図１Ａ】
2015146346.tif 000003
【図１Ｂ】
2015146346.tif 000004
【図２】
2015146346.tif 000005
【図３】
2015146346.tif 000006
【図４】
2015146346.tif 000007
【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
2015146346.tif 000009
【図５Ｃ】
2015146346.tif 000010
【図６Ａ】
2015146346.tif 000011
【図６Ｂ】
2015146346.tif 000012
【図７Ａ】
2015146346.tif 000013
【図７Ｂ】
2015146346.tif 000014
【図７Ｃ】
2015146346.tif 000015
【図８】
2015146346.tif 000016
【図９Ａ】
2015146346.tif 000017
【図９Ｂ】
2015146346.tif 000018
【図９Ｃ】
2015146346.tif 000019
【図９Ｄ】
2015146346.tif 000020
【図９Ｅ】
2015146346.tif 000021
【図９Ｆ】
2015146346.tif 000022
【図９Ｇ】
2015146346.tif 000023
【図１０Ａ】
2015146346.tif 000024
【図１０Ｂ】
2015146346.tif 000025
【図１０Ｃ】
2015146346.tif 000026
【図１１Ａ】
2015146346.tif 000027
【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１１Ｄ】
2015146346.tif 000030
【図１１Ｅ】
2015146346.tif 000031
【図１１Ｆ】
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【図１１Ｇ】
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【図１１Ｈ】
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