(57)【要約】      （修正有）【課題】光取り出し効率向上率の波長依存性が小さく、広い波長領域で用いることが出来る光散乱層用樹脂組成物、これを用いて形成された光散乱層、並びに、この光散乱層を具備する有機ＥＬ装置を提供する。【解決手段】少なくとも１種の樹脂（Ａ）を含むバインダー材料と光散乱粒子（Ｂ）とからなり、光散乱粒子（Ｂ）は、中空粒子であり、前記光散乱層用樹脂組成物中の平均粒子径が２００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、かつ、光散乱粒子（Ｂ）の全量に対する粒子径６００ｎｍ以上の粒子の含有量が２０体積％以下であり、前記バインダー材料と光散乱粒子（Ｂ）との屈折率差が０．１以上である光散乱層用樹脂組成物、これを用いて形成された光散乱層１２、並びに、この光散乱層を具備する有機ＥＬ装置１。【選択図】図１
2015022795.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機エレクトロルミネッセンス装置の光散乱層を形成するために用いられる光散乱層用樹脂組成物であって、
少なくとも１種の樹脂（Ａ）を含むバインダー材料と光散乱粒子（Ｂ）とからなり、
光散乱粒子（Ｂ）は、中空粒子であり、前記光散乱層用樹脂組成物中の平均粒子径が２００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、かつ、光散乱粒子（Ｂ）の全量に対する粒子径６００ｎｍ以上の粒子の含有量が２０体積％以下であり、
前記バインダー材料と光散乱粒子（Ｂ）との屈折率差が０．１以上である光散乱層用樹脂組成物。
【請求項２】
前記バインダー材料の屈折率が１．６５以上である請求項１記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項３】
前記バインダー材料は、平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物微粒子（Ｃ）をさらに含有する請求項１記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項４】
金属酸化物微粒子（Ｃ）は、ＺｒＯ２およびＴｉＯ２からなる群より選択される少なくとも１種の金属酸化物微粒子を含む請求項３記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項５】
光散乱粒子（Ｂ）の変動係数が３０％以下である請求項１記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項６】
樹脂（Ａ）は４００ｇ/ｍｏｌ以上１６００ｇ/ｍｏｌ以下の二重結合当量を有する請求項１記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項７】
樹脂（Ａ）は主鎖および／または側鎖に環状骨格を含有する請求項１記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項８】
樹脂（Ａ）はアルカリ可溶性基を含有する請求項１記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項９】
前記バインダー材料は、二重結合当量が８０ｇ/ｍｏｌ以上１４０ｇ/ｍｏｌ以下であるエチレン性不飽和単量体（Ｄ）をさらに含有する請求項１記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項１０】
前記バインダー材料は、ウレタン骨格またはアミド骨格を有する下記一般式（１）で表されるシラン化合物（Ｅ）をさらに含有する請求項１記載の光散乱層用樹脂組成物。
【化３】
2015022795.tif 000032
[一般式（１）中、Ｒ１は炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜３０のアルアルキル基、または炭素数７〜３０のアルカリール基を表す。
Ｘは炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜２０のアリーレン基、または炭素数１〜２０のアルキレンオキシ基を表す。
Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は互いに独立して、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜３０のアルアルキル基、炭素数７〜３０のアルカリール基、置換基を有するシロキサン基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、または水素原子を表す。]
【請求項１１】
シラン化合物（Ｅ）は、質量平均分子量（Ｍｗ）が２００以上５０００以下であり、前記光散乱層用樹脂組成物の全固形分１００質量％中の含有量が３質量％以上５０質量％以下である請求項１１記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項１２】
前記バインダー材料は、オキシムエステル系の光重合開始剤（Ｆ）をさらに含有する請求項１記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項１３】
請求項１記載の光散乱層用樹脂組成物を用いて形成された光散乱層。
【請求項１４】
透光性基板上に、請求項１３記載の光散乱層と、透光性を有する第１の電極と、発光層を含む少なくとも１つの有機層と、光反射性を有する第２の電極とが順次積層された有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項１５】
照明装置または表示装置である請求項１４記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬともいう）装置の発光効率を高めるために用いられる光散乱層用樹脂組成物、該光散乱層用樹脂組成物から形成された光散乱層、並びに該光散乱層を具備する有機ＥＬ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、電界を印加することにより、陽極より注入された正孔と陰極より注入された電子との再結合エネルギーにより蛍光性物質などが発光する原理を利用した自発光素子である。有機ＥＬ素子は、照明装置あるいは表示装置の用途等において、近年活発な研究開発が行われている。
本明細書において、「有機ＥＬ装置」とは、有機ＥＬ照明装置および有機ＥＬ表示装置等の有機ＥＬ素子を用いた装置全般を指す。
【０００３】
例えば、有機ＥＬ表示装置は、従来のＣＲＴやＬＣＤと比較して、視認性および視野角の面で利点を有すると共に、軽量化、薄層化およびフレキシブル性といった優れた特徴を有している。しかしながら、一般に、発光層を含む有機層の屈折率が１．６〜２．１と空気より高い。そのため、発光した光の界面での全反射あるいは干渉が起こり易く、光取り出し効率は２０％に満たず、大部分の光を損失している。
【０００４】
有機ＥＬ装置の基本構造は、透光性基板上に、透光性電極、発光層を含む少なくとも１つの有機層、および背面電極を順次積層した構造である。
アクティブマトリクス型の有機ＥＬ装置では、例えば、上記有機層上に、上記背面電極をなす複数の画素電極とそのスイッチング素子であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）とがマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板が積層される。
【０００５】
有機層から発光した光は、直接、またはアルミニウムなどで形成される背面電極で反射され、透光性基板から出射する。その際、発生した光は、透光性基板側に効率的に取り出されることが好ましい。しかしながら、屈折率の異なる隣接層界面に入射する角度によっては、光は全反射を起こし、素子内部を面方向に全反射しながら進む導波光となり、内部で吸収されて減衰してしまい外部に取り出すことができない。この導波する光の割合は隣接層の相対屈折率で決まる。一般的な有機ＥＬ装置の場合、屈折率ｎの関係は例えば、空気（ｎ＝１．０）／透光性基板（ｎ＝１．５）／透光性電極（ｎ＝２．０）／有機層（ｎ＝１．７）／背面電極である。この場合、大気（空気）に放出されず素子内部を導波する光の割合は約８１％となり、発光量全体の約１９％しか有効に利用できないこととなる。
【０００６】
光の取り出し効率を向上させる手法として、光散乱層を設けることが提案されている（例えば特許文献１〜３参照）。特許文献１には、透光性電極の光取出し面側に屈折率が発光層と同等またはそれ以上の透光性層を設け、かつこの透光性層の光取り出し面側に隣接してあるいは透光性層の内部に実質的に光散乱層を形成したＥＬ素子が記載されている。また、特許文献２、３には、光散乱層の光散乱粒子の特性、光散乱粒子とバインダー材料との屈折率差、およびバインダー材料の屈折率などの特徴に関して、数多くの提案がなされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−２９６４２９  号公報
【特許文献２】特開２００５−１９０９３１  号公報
【特許文献３】特開２００９−１１０９３０  号公報
【特許文献４】特開平１１−３２９７４２  号公報
【特許文献５】特開２００７−１０９５７５  号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
有機ＥＬ装置は、照明装置あるいは表示装置等の用途に応じ、白色を発光する発光層を用いたもの、青色等の特定の色光を発光する１種の発光層を用いたもの、および三原色等の異なる色光を発光する複数種の発光層を用いたものなどが使用されている。しかしながら、一般に光散乱層による光の取り出しの向上率は波長に依存するため、上記特許文献１〜３に記載の方法では、広い波長領域で用いる場合、色調が変化してしまうという問題がある。
【０００９】
特に、有機ＥＬ素子を用いたカラー表示装置では、視野角特性および色純度を高めるために光散乱層等が設けられるが（例えば特許文献４）、この方法では各色画素で輝度が変わるためホワイトバランスが崩れるという問題が生じる。特許文献５には、ＥＬ素子の色毎に光散乱層の厚みを変えることで取り出し効率を調整する方法が開示されているが、この方法では煩雑な工程を要するため実用的なものではない。
【００１０】
本発明は、有機ＥＬ装置の光取出し効率向上のために透光性電極と透光性基板との間に設置する光散乱層として用いられ、光取り出し効率向上率の波長依存性が小さく、広い波長領域で用いることが出来る光散乱層用樹脂組成物、これを用いて形成された光散乱層、並びに、この光散乱層を具備する有機ＥＬ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、前記問題を解決するため鋭意検討した結果、本発明に達した。
本発明の光散乱層用樹脂組成物は、
有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）装置の光散乱層を形成するために用いられる光散乱層用樹脂組成物であって、
少なくとも１種の樹脂（Ａ）を含むバインダー材料と光散乱粒子（Ｂ）とからなり、
光散乱粒子（Ｂ）は、中空粒子であり、前記光散乱層用樹脂組成物中の平均粒子径が２００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、かつ、光散乱粒子（Ｂ）の全量に対する粒子径６００ｎｍ以上の粒子の含有量が２０体積％以下であり、
前記バインダー材料と光散乱粒子（Ｂ）との屈折率差が０．１以上である光散乱層用樹脂組成物である。
【００１２】
本発明の光散乱層用樹脂組成物において、前記バインダー材料の屈折率が１．６５以上であることが好ましい。
【００１３】
本発明の光散乱層用樹脂組成物において、前記バインダー材料は、平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物微粒子（Ｃ）をさらに含有することが好ましい。
【００１４】
金属酸化物微粒子（Ｃ）は、ＺｒＯ２およびＴｉＯ２からなる群より選択される少なくとも１種の金属酸化物粒子を含むことが好ましい。
【００１５】
本発明の光散乱層用樹脂組成物において、光散乱粒子（Ｂ）の変動係数が３０％以下であることが好ましい。
【００１６】
本発明の光散乱層用樹脂組成物において、樹脂（Ａ）は４００ｇ/ｍｏｌ以上１６００ｇ/ｍｏｌ以下の二重結合当量を有することが好ましい。
【００１７】
本発明の光散乱層用樹脂組成物において、樹脂（Ａ）は主鎖および／または側鎖に環状骨格を含有することが好ましい。
【００１８】
本発明の光散乱層用樹脂組成物において、樹脂（Ａ）はアルカリ可溶性基を含有することが好ましい。
【００１９】
本発明の光散乱層用樹脂組成物において、前記バインダー材料は、二重結合当量が８０ｇ/ｍｏｌ以上１４０ｇ/ｍｏｌ以下であるエチレン性不飽和単量体（Ｄ）をさらに含有することが好ましい。
【００２０】
本発明の光散乱層用樹脂組成物において、前記バインダー材料は、ウレタン骨格またはアミド骨格を有する下記一般式（１）で表されるシラン化合物（Ｅ）をさらに含有することが好ましい。
【００２１】
【化１】
2015022795.tif 000003
【００２２】
[一般式（１）中、Ｒ１は炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜３０のアルアルキル基、または炭素数７〜３０のアルカリール基を表す。
Ｘは炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜２０のアリーレン基、または炭素数１〜２０のアルキレンオキシ基を表す。
Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は互いに独立して、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜３０のアルアルキル基、炭素数７〜３０のアルカリール基、置換基を有するシロキサン基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、または水素原子を表す。]
【００２３】
シラン化合物（Ｅ）は、質量平均分子量（Ｍｗ）が２００以上５０００以下であり、前記光散乱層用樹脂組成物の全固形分１００質量％中の含有量が３質量％以上５０質量％以下であることが好ましい。
【００２４】
本発明の光散乱層用樹脂組成物において、前記バインダー材料は、オキシムエステル系の光重合開始剤（Ｆ）をさらに含有することが好ましい。
【００２５】
本発明の光散乱層は、上記の本発明の光散乱層用樹脂組成物を用いて形成されたものである。
【００２６】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）装置は、透光性基板上に、上記の本発明の光散乱層と、透光性を有する第１の電極と、発光層を含む少なくとも１つの有機層と、光反射性を有する第２の電極とが順次積層されたものである。
本発明の有機ＥＬ装置は、照明装置または表示装置等に適用できる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、有機ＥＬ装置の光取出し効率向上のために透光性電極と透光性基板との間に設置する光散乱層として用いられ、光取り出し効率向上率の波長依存性が小さく、広い波長領域で用いることが出来る光散乱層用樹脂組成物、これを用いて形成された光散乱層、並びに、この光散乱層を具備する有機ＥＬ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】ボトム・エミッション構造のＥＬ素子の模式断面図
【図２】薄膜印刷装置の模式断面図
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例（代表例）であり、本発明はその要旨を超えない限りこれらの内容に特定されない。
【００３０】
本発明の光散乱層用樹脂組成物は、
有機ＥＬ装置の光散乱層を形成するために用いられる光散乱層用樹脂組成物であって、
少なくとも１種の樹脂（Ａ）を含むバインダー材料と光散乱粒子（Ｂ）とからなり、
光散乱粒子（Ｂ）は、中空粒子であり、光散乱層用樹脂組成物中の平均粒子径が２００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、かつ、光散乱粒子（Ｂ）の全量に対する粒子径６００ｎｍ以上の粒子の含有量が２０体積％以下であり、
バインダー材料と光散乱粒子（Ｂ）との屈折率差が０．１以上である光散乱層用樹脂組成物である。
【００３１】
＜光散乱粒子（Ｂ）＞
まず、光散乱粒子（Ｂ）について説明する。
光散乱粒子（Ｂ）は、有機ＥＬ装置内で全反射により導波している光を散乱し、取り出す効果を有する中空粒子であれば特に限定されず、有機粒子であっても、無機粒子であってもよい。
有機粒子としては、ポリメタクリレートビーズ、ポリアクリレートビーズ、アクリル−スチレン共重合体ビーズ、スチレン‐ビニル共重合体ビーズ等が用いられる。無機粒子としては、アルミナ粒子、シリカ粒子等が用いられる。これらは、単独で用いても２種類以上を併用してもよい。
【００３２】
市販されている中空粒子としては、ＪＳＲ株式会社製ＳＸ８６６、ＳＸ８６８、ＳＸ８７８２、日鉄鉱業株式会社製シリナックス、積水化学社製アドバンセルＨＢ等が挙げられる。
【００３３】
光散乱粒子（Ｂ）の合成方法は、従来公知の方法を使用することができる。また、光散乱粒子（Ｂ）の内孔径、及び中空率は特に限定されず、後述する目的の屈折率に合わせて適宜選択することができる。
【００３４】
本発明の光散乱層用樹脂組成物において、光散乱粒子（Ｂ）は光散乱層用樹脂組成物中の平均粒子径が２００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、かつ、光散乱粒子（Ｂ）の全量に対する粒子径６００ｎｍ以上の粒子の含有量が２０体積％以下である。
【００３５】
光散乱粒子（Ｂ）の平均粒子径が２００ｎｍ未満であると、充分な散乱効果が現れない上に、バインダー材料の屈折率に影響を与えてしまうため、好ましくない場合がある。また、６００ｎｍより大きいと、散乱強度（ヘイズ値）が高くても散乱角度が狭くなるため、全反射に有効な散乱が得られず、取り出し効率が低くなったり、光取り出し効率の波長による変化が大きくなり色調が変化しやすく、好ましくない場合がある。より好ましくは、２５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００３６】
光散乱粒子（Ｂ）の全量に対する粒子径６００ｎｍの粒子の含有量が２０体積％より多いと、光取り出し効率の波長による変化が大きくなり、色調が変化しやすいため、好ましくない場合がある。また、光散乱層の表面粗さが大きくなるため透光性電極の膜厚ムラあるいは突起等が生じ、輝度ムラおよび寿命低下が生じるおそれがある。６００ｎｍ以上の粒子の含有量は、より好ましくは１５体積％以下である。
【００３７】
本明細書において、光散乱粒子（Ｂ）の「平均粒子径」および「粒子径」とは、後述の平均１次粒子径とは異なり、凝集による２次粒子の粒子径を加味した、光散乱層用組成物中での分散粒径のことである。これらは光学顕微鏡にて実測あるいは動的光散乱法によって求めることが出来る。ここで、平均１次粒子径と区別する理由は、同じ平均１次粒子径の散乱粒子を用いた場合であっても、光散乱層用組成物中での光散乱粒子（Ｂ）の分散状態により、平均粒子径および粒度分布は異なる場合があるためである。
「平均粒子径」は測定サンプルの５０体積％における分散粒径の値であり、粒子径が６００ｎｍ以上の粒子の含有量は、測定サンプルの分散粒径のうち、６００ｎｍ以上の粒子径の体積％である。これらは動的光散乱法では日機装（株）社製「ナノトラックＵＰＡ」で測定することができる。
【００３８】
光散乱粒子（Ｂ）の粒度分布としては、変動係数が３０％以下であることが好ましい。「変動係数」とは、粒子径の標準偏差を平均粒子径で除した値の百分率で表されるものであり、平均粒子径に対するばらつきの大きさの指標となる。
変動係数が３０％より大きいと、光取り出し効率の波長による変化が大きくなり、色調が変化しやすいため、好ましくない場合がある。より好ましくは変動係数が２０％以下である。
【００３９】
光散乱粒子（Ｂ）は、予め溶剤に分散した分散液を用いることが好ましい。
分散方法としては、光散乱粒子（Ｂ）の表面状態に合わせた分散剤を用い、分散機を用いる方法が好ましい。
分散機としては、ペイントコンディショナー（レッドデビル社製）、ボールミル、サンドミル（シンマルエンタープライゼス社製「ダイノーミル」等）、アトライター、パールミル（アイリッヒ社製「ＤＣＰミル」等）、コボールミル、ホモミキサー、ホモジナイザー（エム・テクニック社製「クレアミックス」等）、湿式ジェットミル（ジーナス社製「ジーナスＰ Ｙ 」、ナノマイザー社製「ナノマイザー」）、微小ビーズミル（寿工業（株）社製「スーパーアペックミル」および「ウルトラアペックミル」）等が使用できる。
分散機にメディアを使う場合には、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナビーズ、磁性ビーズ、およびポリスチレンビーズ等を用いることが好ましい。
分散に関しては、２種類以上の分散機、または大きさの異なる２種類以上のメディアをそれぞれ用い、段階的に実施しても差し支えない。
【００４０】
光散乱粒子（Ｂ）の平均粒子径および粒度分布は、無機粒子の場合は分散条件、例えば分散機、分散媒、分散時間、および分散剤等を適宜調整することによって好適な範囲に調整することが可能である。また、有機粒子の場合は、重合温度、および重合組成等の合成条件、あるいは、分散機、分散媒、分散時間、および分散剤等の分散条件によって調整できる。
【００４１】
光散乱粒子（Ｂ）の使用量は、光散乱層用樹脂組成物中、１〜２０質量％が好ましく、１〜１０質量％がより好ましい。１質量％未満では充分な散乱効果が現れないおそれがあり、２０質量％を超えると粒子同士が凝集しやすく、光散乱層の表面粗さが大きくなるおそれがある。
【００４２】
＜屈折率差＞
本発明の光散乱層用樹脂組成物では、  少なくとも１種の樹脂（Ａ）を含むバインダー材料と光散乱粒子（Ｂ）との屈折率差が０．１以上である。
ここでいう  少なくとも１種の樹脂（Ａ）を含むバインダー材料とは、光散乱層用樹脂組成物における光散乱粒子（Ｂ）を除く部分である。例えば、光散乱層用樹脂組成物が、成分（Ａ）：成分（Ｂ）：成分（Ｃ）：成分（Ｅ）：成分（Ｆ）＝３５：１０：４０：１０：５（質量比）の混合物組成物である場合、バインダー材料は、成分（Ａ）：成分（Ｃ）：成分（Ｅ）：成分（Ｆ）＝３５：４０：１０：５（質量比）の混合組成物である。前記屈折率差が０．１以上であると、ＥＬ素子の中で全反射により導波している光がバインダー材料と光散乱粒子（Ｂ）の界面で散乱し、光取り出し効率が向上する。屈折率差は大きくなるほど光取り出し効率は向上する。
【００４３】
透光性基板の屈折率が１．５程度であり、透光性電極の屈折率が１．８〜２．０程度であることから、バインダー材料の屈折率は１．５〜２．０であることが望ましい。透光性電極との屈折率が近くより多くの光が導入できること、光取り出し効率の波長依存性が小さいことなどの点で屈折率が１．６５以上であることが特に望ましい。
【００４４】
バインダー材料の屈折率は、使用する各構成成分の組成比によって決まる。後述する、任意に添加できる金属酸化物粒子（Ｃ）は、バインダー材料の屈折率調整剤として機能するものである。光散乱粒子（Ｂ）の屈折率は、有機粒子の場合、通常１．５〜１．８であり、無機粒子の場合、通常１．３〜２．５である。よって、バインダー材料と光散乱粒子（Ｂ）を適宜選択することでその屈折率差を０．１以上にすることが可能である。
光散乱粒子（Ｂ）を中空粒子にすることで、屈折率をより低くすることができ、バインダー材料との屈折率差がより大きな光散乱層用樹脂組成物を設計することができる。
【００４５】
以下に、屈折率値の例を記す。
樹脂（Ａ）としては例えば、エポキシ樹脂：１．５３〜１．５７、アクリレート樹脂：１．４９〜１．５９である。
金属酸化物粒子（Ｃ）としては例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）：２．５、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）：２．２、酸化亜鉛（ＺｎＯ）：１．９、および酸化スズ（ＳｎＯ２）：２．０である。
樹脂（Ａ）、及び必要に応じて金属酸化物粒子（Ｃ）を含むバインダー材料の屈折率は、好ましくは１．５〜２．０である。
光散乱粒子（Ｂ）としては例えば、ポリメタクリレートビーズ：１．２０〜１．５０、ポリアクリレートビーズ：１．２０〜１．５０、アクリル−スチレン共重合体ビーズ：１．３５〜１．５５、スチレン‐ビニル共重合体ビーズ：１．２０〜１．５５である。好ましくは、バインダー中の分散性が良く、バインダー材料との屈折率差が大きく出来るスチレン‐ジビニルベンゼン共重合体ビーズ：１．２０〜１．４７である。
本明細書において、「バインダー材料の屈折率」は、アッベ屈折計により実測した値である。
【００４６】
＜樹脂（Ａ）＞
樹脂（Ａ）は、発光層から放出される光、例えば、可視光線、近赤外線あるいは近紫外線等の所定の波長帯域の光に対して透光性を有する樹脂であれば特に制限されない。熱可塑性、熱硬化性、可視光線または紫外線または赤外線等による光（電磁波）硬化性、電子線照射による電子線硬化性等の硬化性樹脂が好適に用いられる。このような樹脂としては、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミド、フェノール− ホルムアルデヒド樹脂（フェノール樹脂）、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネート、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、メチルメタクレート・スチレン共重合体（ＭＳ樹脂）、ポリ−４−メチルペンテン、ノルボルネン系ポリマー、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、およびシリコーン樹脂等が挙げられる。これらは、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【００４７】
樹脂（Ａ）は、二重結合および/または架橋性基を含有し、質量平均分子量（Ｍｗ）が５０００以上２００００以下であることが好ましい。
有機ＥＬ装置は概略、透光性基板上に、透光性電極、発光層を含む有機層、および背面電極を順次積層して製造する。この際、各層間の密着性は、有機ＥＬ装置の性能を左右する重要なポイントである。中でも、基材と透光性電極間の密着性は特に重要である。例えば、透光性電極を形成する工程では、電極の抵抗値を下げるための高温処理、および電極パターン形成のためのエッチング処理を行い、さらに形成した透光性電極上に有機層を積層する前に、不純物除去のための溶剤等による洗浄を行う。この際、基材と透光性電極の密着性が低い場合、透光性電極に微細な亀裂あるいは剥離が生じ、結果、有機ＥＬ装置を発光させた際、ダークスポット、輝度ムラ、あるいは寿命低下を引き起こしてしまう。
樹脂（Ａ）の特性が上記範囲であると、光散乱層上に透光性電極を積層し、必要な加熱、エッチング、および溶剤洗浄等の処理を行う際、光散乱層用組成物の硬化収縮を低減し、透光性電極に生じる微細な亀裂あるいは剥離を抑制する効果がある。
【００４８】
本明細書における「質量平均分子量（Ｍｗ）」は、ゲル浸透クロマトグラフィーを用いて測定した値であり、例えば、昭和電工（株）社製のゲル浸透クロマトグラフィーＧＰＣ−１０１で測定できる。
【００４９】
樹脂（Ａ）の質量平均分子量（Ｍｗ）が５０００未満であると、光散乱層の耐薬品性が不足し、有機層を積層する前の溶剤洗浄工程で光散乱層あるいは透光性電極が剥離するおそれがある。また、質量平均分子量（Ｍｗ）が２００００を超えると、粘度が高く、光散乱粒子（Ｂ）あるいは金属酸化物微粒子（Ｃ）が凝集し、光散乱層の表面粗さが粗くなり、透光性電極を形成する際、ショートあるいは寿命低下の原因となり、微細な突起が生じるおそれがある。
【００５０】
樹脂（Ａ）の５％熱分解温度は２００℃以上が好ましい。
本明細書における「５％熱分解温度」とは、加熱により５％の質量が減少したときの温度を示し、熱重量測定で測定した値である。例えば、セイコーインスツルメンツ（株）社製の示差熱熱重量同時測定装置ＥＸＳＴＥＲ  ＴＧ／ＤＴＡ６３００で測定できる。樹脂（Ａ）の５％熱分解温度が２００℃未満であると、耐熱性が低く、透光性電極の積層工程で充分に加熱できず、電極の抵抗値が下げられないおそれがある。
【００５１】
樹脂（Ａ）は、透光性、およびエッチャント耐性の観点から、主鎖または側鎖に環状骨格を含むことが好ましい。ここで言う「環状骨格」とは、脂肪族環、芳香族環、および、Ｏ原子および/またはＮ原子を含む複素環である。
具体的には、
水添ビスフェノールＡ骨格、シクロヘキシル骨格、ノルボルネン骨格、およびアダマンタン骨格等の脂肪族環；
フェニル基、フェニレン基、インデン、ビスフェノールＡ骨格、およびフルオレン骨格等の芳香族環；
テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格、イソシアヌレート骨格、およびオキサゾリドン骨格等のＯ原子および/またはＮ原子を含む複素環から選ばれる１種または２種以上の環状骨格を有する、エステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、およびアクリル樹脂等が挙げられる。
中でも、アクリル樹脂が耐熱性、耐光性の点から好適に使用される。
【００５２】
本発明の光散乱層用樹脂組成物で用いられる樹脂（Ａ）の使用量は、光散乱層用樹脂組成物中、５〜７０質量％であるのが好ましく、１０〜６０質量％がより好ましい。５質量％未満では、光散乱層用組成物中、後述するエチレン性不飽和単量体（Ｄ）が多くなるため、硬化収縮が大きくなり、透光性電極に微細な亀裂や剥離を生じる場合がある。７０質量％を超えると充分なエッチャント耐性を保てなくなる場合がある。
【００５３】
また、樹脂（Ａ）は、二重結合および/または架橋性基を有しており、これにより、耐熱性、および耐薬品性が向上する。
二重結合としては、（メタ）アクリレート基、およびマレイミド基のような不飽和基が挙げられる。また、架橋性基としては、熱架橋性基あるいは紫外線または電子線架橋性基を有することが好ましい。熱架橋性部位としては、水酸基、エポキシ基、オキセタニル基、酸（カルボキシル）基、およびイソシアネート基が挙げられる。紫外線または電子線架橋性部位としては、エポキシ基、およびオキセタニル基などが挙げられる。これらは、１種または２種以上用いることができる。
【００５４】
樹脂（Ａ）は（メタ）アクリレート基、およびマレイミド基のような不飽和基を含有することが好ましく、その二重結合当量は４００ｇ/ｍｏｌ以上１６００ｇ/ｍｏｌ以下が好ましい。樹脂（Ａ）の二重結合当量が４００ｇ/ｍｏｌ未満であると、樹脂の硬化収縮が大きくなるため、透光性電極に微細な亀裂あるいは剥離が生じることがある。一方、二重結合当量が１６００ｇ/ｍｏｌ超であると架橋不足のため、エッチング耐性が不足したり、有機層積層前の溶剤洗浄工程で光散乱層あるいは透光性電極が剥離するおそれがある。
【００５５】
本発明の光散乱層用樹脂組成物における樹脂（Ａ）として好適なポリアクリレートを得る方法としては、特に制限はない。
例えば、水酸基、エポキシ基、酸（カルボキシル）基、およびイソシアネート基の中から選ばれる１種または２種以上の官能基を有するエチレン性不飽和単量体を含む不飽和単量体成分を重合させてなる共重合体中の官能基を、この官能基と反応可能な官能基を有するエチレン性不飽和単量体で変性する方法が挙げられる。
共重合体の官能基と、変性に使用するエチレン性不飽和単量体の官能基の組み合わせは特に制限は無いが、例えば、水酸基とイソシアネート基、水酸基とエポキシ基、およびエポキシ基と酸（カルボキシル）基等が挙げられる。
【００５６】
（水酸基を有するエチレン性不飽和単量体）
水酸基を有するエチレン性不飽和単量体としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−若しくは３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−若しくは３−若しくは４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、およびシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類が挙げられる。
【００５７】
（エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体）
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β−プロピルグリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル−α−エチルアクリレート、３−メチル−３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、４−メチル−４，５−エポキシペンチル（メタ）アクリレート、５−メチル−５，６−エポキシヘキシル（メタ）アクリレート、およびグリシジルビニルエーテルなどが挙げられる。中でも、グリシジル（メタ）アクリレートが好ましい。
【００５８】
（酸（カルボキシル）基を有するエチレン性不飽和単量体）
酸基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、
（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ｏ−、ｍ−、ｐ−ビニル安息香酸、（メタ）アクリル酸のα位ハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロ、またはシアノ置換体等のモノカルボン酸等のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（不飽和一塩基酸）；
テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、および無水マレイン酸等の多塩基酸無水物等が挙げられる。
これらの中でも特に、（メタ）アクリル酸が好ましい。
【００５９】
（イソシアネート基を有する不飽和単量体）
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和単量体としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、および１，１−ビス〔（メタ）アクリロイルオキシ〕エチルイソシアネート等が挙げられる。
【００６０】
樹脂（Ａ）を構成するその他のエチレン性不飽和単量体成分としては、エチレン性不飽和基を有するものであれば特に制限は無いが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、Ｎ−ビニルピロリドン、スチレン類、アクリルアミド類、その他のビニル化合物、およびマクロモノマー類が挙げられる。
【００６１】
中でも、前述したように、樹脂（Ａ）の主鎖または側鎖に環状骨格を導入するエチレン性不飽和単量体を共重合することが好ましい。
主鎖に環状骨格を導入するエチレン性不飽和単量体としては、
インデン、ベンゾフラン、ノルボルネン、およびシクロヘキセン等の環状ジエン類；
および、
ビニルシクロプロパン等のメタクリル酸エステル類との共重合時に分子内環化反応が進行し、主鎖に五または六員環が形成される単量体等が挙げられる。
側鎖に環状骨格を導入するエチレン性不飽和単量体としては、
イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、および１−アダマンダン（メタ）アクリレート等の脂肪族環含有（メタ）アクリレート； 
ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、およびパラクミルＥＯ変性（メタ）アクリレート等の芳香族環含有（メタ）アクリレート；
スチレンおよびその誘導体、メチルスチレン等のスチレン類；
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、環状トリメチロールプロパンフォルマル（メタ）アクリレート、（２−エチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）（メタ）アクリレート、（２−イソブチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）（メタ）アクリレート、（１，４−ジオキサスピロ[４，５]デカ−２−イル）（メタ）アクリレート、ペンタメチルピペリジル（メタ）アクリレート、およびオキサゾリドン（メタ）アクリレート等のＯ原子および/またはＮ原子を含む複素環含有（メタ）アクリレート等が挙げられる。
これらは、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【００６２】
主鎖または側鎖に環状骨格を導入するエチレン性不飽和単量体の割合は、特に制限されないが、樹脂（Ａ）を構成する単量体の合計１００質量％に対して、５〜５０質量％が好ましい。主鎖または側鎖に環状骨格を導入するエチレン性不飽和単量体の量が多すぎると重合の制御が困難になり、所望の分子量が得られ難くなるおそれがある。一方、少なすぎると、エッチャント耐性が不充分となるおそれがある。
【００６３】
主鎖または側鎖に環状骨格を含むエチレン性不飽和単量体以外の共重合可能なその他のエチレン性不飽和単量体としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、および２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類；
（メタ）アクリルアミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、アルコキシメチロール（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド類；
（メタ）アクリロニトリル、エチレン、プロピレン、ブチレン、塩化ビニル、および酢酸ビニル等のビニル化合物；
等が挙げられる。
これらは、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【００６４】
樹脂（Ａ）の５％熱分解温度、二重結合当量は、共重合および変性に使用するエチレン性不飽和単量体の種類と配合によって制御できる。質量平均分子量（Ｍｗ）は、重合開始剤の種類とその量などの重合条件によって制御することが可能である。
【００６５】
樹脂（Ａ）は、使用するエチレン性不飽和単量体の種類と配合により、任意の物性を付与することが可能である。
例えば、樹脂（Ａ）に、現像性を付与する場合、アルカリ可溶性を発現するために、カルボキシル基などの酸基を導入する。酸基の導入方法としては、特に制限されないが、上述した酸基を有するエチレン性不飽和単量体を含む共重合体を、酸基が残存するように変性を行う方法、あるいは、上述した水酸基を有するエチレン性不飽和単量体を含む共重合体を、上述した多塩基酸無水物で変性する方法等が挙げられる。
現像性を付与する場合、樹脂（Ａ）の酸価は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であると充分な現像性を確保できず、２００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると後述するシラン化合物（Ｅ）の加水分解を促進し、光散乱層の密着性が経時と共に低下するおそれがある。
本明細書で言う「光散乱層の密着性」（以下、単に「密着性」という場合もある。）とは、透光性基板および透光性電極に対する光散乱層の密着性である。
【００６６】
樹脂（Ａ）の合成では、重合開始剤の存在下、不活性ガス気流下、一般的には５０〜１５０℃で２〜１０時間かけて、前記エチレン性不飽和単量体の共重合および変性を行う。重合反応の方法としては、特に制限はなく、従来公知の各種重合方法を採用することができるが、特に、溶液重合法によることが好ましい。
重合温度および下記式で定義される重合濃度は、使用する単量体成分の種類、比率、および目標とするポリマーの分子量によって異なるが、好ましくは、重合温度４０〜１５０℃、重合濃度５〜５０％であり、さらに好ましくは、重合温度６０〜１３０℃、重合濃度１０〜４０％である。
重合濃度（％）＝［単量体成分の全質量／（単量体成分の全質量＋溶媒質量）］×１００
【００６７】
樹脂（Ａ）の合成に用いる重合開始剤としては、有機過酸化物およびアゾ化合物等が使用できる。
有機過酸化物としては、ベンゾイルパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ｔ−ブチルヒドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、ジｔ−ブチルパーオキサイド、およびｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等が例示できる。
また、アゾ化合物としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物等が挙げられる。
重合開始剤は、上記エチレン性不飽和単量体１００質量部に対して、好ましくは１〜２０質量部の範囲で使用される。
【００６８】
樹脂（Ａ）の合成に用いる溶剤としては、水、水混和性有機溶剤、酢酸エステル、ケトン類、キシレン、およびエチルベンゼンなどが挙げられる。
水混和性有機溶剤としては、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、およびｎ−プロピルアルコール等のアルコール系溶剤、および、エチレングリコールまたはジエチレングリコールのモノまたはジアルキルエーテル等が挙げられる。
酢酸エステルとしては、エチルセルソルブアセテート、およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが例示できる。
ケトン類としては、シクロヘキサノン、およびメチルイソブチルケトンなどが挙げられる。
【００６９】
＜金属酸化物微粒子（Ｃ）＞
バインダー材料は、樹脂（Ａ）の他に、金属酸化物微粒子（Ｃ）を含むことができる。これにより、バインダー材料を任意の屈折率に調整することが出来る。
本発明で用いられる金属酸化物微粒子（Ｃ）は、可視光域において１．８〜２．８の屈折率を有することが望ましい。
本明細書において、「金属酸化物微粒子（Ｃ）の屈折率」とは、金属酸化物微粒子を構成する材料のバルクの屈折率を意味する。バルク材料の屈折率は、アッベ屈折率計あるいはＶ ブロック方式の屈折率計を用いて測定することができる。
【００７０】
金属酸化物微粒子（Ｃ）としては、具体的には、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、および酸化亜鉛（ＺｎＯ）から成る群から選択された少なくとも１種の材料から成る粒子が挙げられる。
【００７１】
光散乱層の透光性を維持するため、粒子間に強い凝集がないことが好ましい。そのため、金属酸化物微粒子（Ｃ）の平均１次粒子径は１００ｎｍ以下が好ましい。平均１次粒子径を１００ｎｍ以下に規定することで、可視光域において透明なバインダー材料を得ることができる。
本明細書における「平均１次粒子径」とは凝集を加味しない個々の粒子径のことを示し、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）などを用いて実測した５０個の粒子直径の平均値である。
【００７２】
金属酸化物微粒子（Ｃ）は、粉体をそのまま用いることができる他、予め溶剤に分散した分散液を用いても構わない。中でも、平均粒子径が２００ｎｍ以下の分散状態を保つために、分散液を用いることが好ましい。
分散方法は、光散乱粒子（Ｂ）と同様、金属酸化物微粒子（Ｃ）の表面状態に合わせた分散剤を用い、分散機を用いる方法が好ましい。
【００７３】
金属酸化物微粒子（Ｃ）としては、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、および酸化スズ（ＳｎＯ２）が好ましい。酸化チタン（ＴｉＯ２）、および酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）が、透光性、分散性、耐候性、および耐光性等の観点から特に好ましい。
【００７４】
樹脂（Ａ）と金属酸化物微粒子（Ｃ）とを含有するバインダー材料は、可視光波長領域、光路長１ｍｍにおける光透過率が８０％以上が好ましく、より好ましくは８５％以上である。この光透過率は、バインダー材料における金属酸化物微粒子（Ｃ）の含有率により異なる。
【００７５】
金属酸化物微粒子（Ｃ）の屈折率は通常１．８〜２．５であるから、金属酸化物微粒子（Ｃ）をバインダー材料中に分散させることにより、樹脂（Ａ）の屈折率１．４〜１．５程度と比べて、光散乱層全体の屈折率を向上させることが可能である。
【００７６】
本発明の光散乱層用樹脂組成物で用いられる金属酸化物微粒子（Ｃ）の使用量は、光散乱層用樹脂組成物中、７０質量％以下であるのが好ましく、５０質量％以下がより好ましい。７０質量％を超えると、粒子同士が凝集したり、樹脂（Ａ）量が少なくなるため塗膜が脆くなったりするおそれがある。
【００７７】
バインダー材料は、さらに、多官能単量体を含むことができる。これを含むことで、エッチャント耐性に優れるものとなる。中でも、透過率の維持、および架橋密度と密着性のバランスなどの観点から、二重結合当量が８０ｇ／ｍｏｌ以上１４０ｇ／ｍｏｌ以下のエチレン性不飽和単量体（Ｄ）が特に好ましい。
【００７８】
＜エチレン性不飽和単量体（Ｄ）＞
二重結合当量が８０ｇ/ｍｏｌ以上１４０ｇ/ｍｏｌ以下であるエチレン性不飽和単量体（Ｄ）としては、例えば、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１．４−ブタンジオールジ（メタ） アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、およびトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート；
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ−トリメチロールプロパンテトラアクリレート、およびジペンタエリスリトール（モノヒドロキシ）ペンタアクリレート等の脂肪族多官能（メタ）アクリレート； 
ジシクロペンタジエニルジ（メタ）アクリレート等の多官能型脂環式（メタ）アクリレート；
その他、二重結合当量が８０ｇ/ｍｏｌ以上１４０ｇ/ｍｏｌ以下で２官能以上のポリウレタンエーテル（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、およびエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
これらは１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【００７９】
本発明の光散乱層用樹脂組成物で用いられエチレン性不飽和単量体（Ｄ）の使用量は、光散乱層用樹脂組成物中、１５〜４０質量％以下であるのが好ましい。１５質量％未満では充分なエッチャント耐性が得られない場合がある。４０質量％を超えると、硬化収縮が大きくなり、透光性基板あるいは透光性電極に微細な亀裂が生じたり、透光性基板あるいは透光性電極と光散乱層との密着性が低下し剥離する場合がある。
【００８０】
＜シラン化合物（Ｅ）＞
バインダー材料は、さらに、ウレタン骨格またはアミド骨格を有する下記一般式（１）で表されるシラン化合物（Ｅ）を含有することが好ましい。
【００８１】
【化２】
2015022795.tif 000004
【００８２】
[一般式（１）中、Ｒ１は炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜３０のアルアルキル基、または炭素数７〜３０のアルカリール基を表す。
Ｘは炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜２０のアリーレン基、または炭素数１〜２０のアルキレンオキシ基を表す。
Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は互いに独立して、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜３０のアルアルキル基、炭素数７〜３０のアルカリール基、置換基を有するシロキサン基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、または水素原子を表す。]
【００８３】
一般式（１）で表わされるシラン化合物（Ｅ）を含むことにより透光性基板あるいは透光性電極と光散乱層との密着性が向上する。
【００８４】
一般式（１）で表わされるシラン化合物（Ｅ）としては、例えば（３−カルバメートエチル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートエチル）プロピルトリメトキシシラン、（３−カルバメートエチル）プロピルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートプロピル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートプロピル）プロピルトリメトキシシラン、（３−カルバメートプロピル）プロピルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートブチル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートブチル)プロピルトリメトキシシラン、（３−カルバメートブチル)プロピルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートブチル)ブチルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートブチル）プロピルメチルジエトキシシラン、（３−カルバメートペンチル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、３−カルバメートオクチル）ペンチルトリブトキシシラン、（３−カルバメートエチル）プロピルシリルトリクロライド、（３−カルバメートエチル）プロピルトリメチルシラン、３−カルバメートエチル）プロピルジメチルシラン、３−カルバメートエチル）プロピルトリブチルシラン、３−カルバメートエチル）エチル-ｐ-キシレントリエトキシシラン、および３−カルバメートエチル）-ｐ-フェニレントリエトキシシランなどが挙げられる。
一般式（１）で表わされるシラン化合物（Ｅ）は、光散乱層用組成物に、加水分解物であるシラノール化合物の形態で、あるいは縮合物であるポリオルガノシロキサン化合物の形態で添加してもよい。
【００８５】
本発明で用いられるシラン化合物（Ｅ）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、２００以上５０００以下が好ましい。シラン化合物（Ｅ）の質量平均分子量（Ｍｗ）が２００未満の場合、充分な密着性が得られない場合があり、５０００を超える場合、エッチャント耐性が悪化するため好ましくない場合がある。
【００８６】
本発明の光散乱層用樹脂組成物で用いられるシラン化合物（Ｅ）の使用量は、光散乱層用樹脂組成物中、３質量％以上５０質量％以下であるのが好ましく、１０〜４０質量％がより好ましい。３質量％未満では充分な密着性が得られず、５０質量％を超えると透過率が低下する場合がある。
【００８７】
例えば３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、および３−イソシアネートプロピルトリプロパキシシラン等のイソシアネート基含有シラン化合物は、光散乱層用樹脂組成物中の溶剤、樹脂、単量体、水分と反応して白濁したり、ゲル化したりすることがある。また、その硬化塗膜は安定して密着性を発現できない場合がある。
対して、一般式（１）で表されるシラン化合物（Ｅ）は、イソシアネート基のような高い反応性部位を持たないため、熱的、および化学的に安定であり、光散乱層用樹脂組成物中でも経時安定性に優れており、安定して良好な密着性を示すことができる。
【００８８】
＜光重合開始剤＞
本発明の光散乱層用樹脂組成物は、重合開始剤を配合しなくても熱重合させることができる。しかし、ＵＶ光で短時間に硬化させたい場合、または、溶剤現像型あるいはアルカリ現像型の感光性光散乱層用樹脂組成物としてフォトリソグラフィー法により光散乱層を形成したい場合などには、バインダー材料に光重合開始剤を添加することができる。
【００８９】
光重合開始剤としては、
４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、および２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン等のアセトフェノン系光重合開始剤；
１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）、および、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル系光重合開始剤；
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、およびベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系光重合開始剤；
ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、および４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン系光重合開始剤；
チオキサンソン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、および２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系光重合開始剤；
２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリル−ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、および２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等のトリアジン系光重合開始剤；
ボレート系光重合開始剤；
カルバゾール系光重合開始剤：
およびイミダゾール系光重合開始剤等が用いられる。
これらを単独で、あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００９０】
中でも、オキシムエステル系の光重合開始剤（Ｆ）は感度が高いため添加量が少なくてよく、光散乱層の透過率が高くなることから好ましい。さらには、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）が、加熱工程時に黄変しないため、透過率が高い光散乱層を提供することができるため、より好ましい。
【００９１】
光重合開始剤は、光散乱層用樹脂組成物中、１〜３０質量％の量で用いることが好ましく、透過率の観点から１〜１０質量％の量で用いることがより好ましい。
【００９２】
バインダー材料は、さらに増感剤として、α−アシロキシエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアンスラキノン、４，４’−ジエチルイソフタロフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ジエチルチオキサントン、および４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン等を含むことができる。
増感剤は、光重合開始剤１００質量部に対して、０．１〜１５０質量部の量で用いることができる。
【００９３】
バインダー材料は、その他必要に応じて、単官能単量体、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、界面活性剤、貯蔵安定剤、レベリング剤、および光安定剤などを含むこともできる。
【００９４】
＜熱反応性化合物（Ｇ）＞
本発明の光散乱層用樹脂組成物は、塗膜耐久性を更に付与すべく、更に熱反応性化合物を添加する事が出来る。前記熱反応性化合物は、常温下では非反応性であるが、例えば、１００℃以上（好ましくは１５０℃以上）の温度で、架橋反応、重合反応、重縮合反応、又は重付加反応性を示す化合物である。熱反応性化合物の分子量は、特に限定されるものではないが、好ましくは５０〜２０００、より好ましくは１００〜１０００である。
【００９５】
熱反応性化合物（Ｇ）としては、例えば、メラミン化合物、ベンゾグアナミン化合物、カルボジイミド化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、フェノール化合物、ベンゾオキサジン化合物、ブロック化カルボン酸化合物、ブロック化イソシアネート化合物、アクリレート系モノマー、及びシランカップリング剤からなる群から選ばれる化合物１種若しくは２種以上を用いることができる。特に好ましくは、少なくともメラミン化合物もしくはベンゾグアナミン化合物を含む熱反応性化合物（Ｇ）である。
【００９６】
メラミン化合物又はベンゾグアナミン化合物としては、例えば、イミノ基、メチロール基、アルコキシメチル基を有するものが挙げられる。その中でも、アルコキシアルキル基を含有するメラミン化合物又はベンゾグアナミン化合物が好ましい。アルコキシアルキル基を含有するメラミン化合物又はベンゾグアナミン化合物を用いた場合、本発明の光散乱層用樹脂組成物の保存安定性が著しく向上する。
【００９７】
アルコキシアルキル基を含有するメラミン化合物又はベンゾグアナミン化合物としては、例えば、ヘキサメトキシメチロールメラミン、ヘキサブトキシメチロールメラミン、テトラメトキシメチロールベンゾグアナミン、テトラブトキシメチロールベンゾグアナミン等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【００９８】
メラミン化合物の市販品の具体例としては以下のものが挙げられる。但し、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【００９９】
三和ケミカル社製ニカラックＭＷ−３０Ｍ、ＭＷ−３０、ＭＷ−２２、ＭＳ−２１、ＭＳ−１１、ＭＷ−２４Ｘ、ＭＳ−００１、ＭＸ−００２、ＭＸ−７３０、ＭＸ７５０、ＭＸ−７０８、ＭＸ−７０６、ＭＸ−０４２、ＭＸ−０３５、ＭＸ−４５、ＭＸ−５００、ＭＸ−５２０、ＭＸ−４３、ＭＸ−４１７、ＭＸ−４１０、ＭＸ−３０２、日本サイテックスインダストリー社製サイメル３００、３０１、３０３、３５０、３７０、３２５、３２７、７０３、７１２、０１、２８５、２３２、２３５、２３６、２３８、２１１、２５４、２０４、２０２、２０７、マイコート５０６、５０８、２１２、７１５などが挙げられる。
【０１００】
その中でも好適なのは、アルコキシアルキル基含有のメラミン化合物である、三和ケミカル社製ニカラックＭＷ−３０Ｍ、ＭＷ−３０、ＭＷ−２２、ＭＳ−２１、ＭＸ−４５、ＭＸ−５００、ＭＸ−５２０、ＭＸ−４３、ＭＸ−３０２、日本サイテックスインダストリー社製サイメル３００、３０１、３０３、３５０、２８５、２３２、２３５、２３６、２３８、マイコート５０６、５０８である。
【０１０１】
ベンゾグアナミン化合物の市販品の具体例としては、例えば、三和ケミカル社製ニカラックＢＸ−４０００、ＳＢ−４０１、ＢＸ−３７、ＳＢ−３５５、ＳＢ−３０３、ＳＢ３０１、ＢＬ−６０、ＳＢ−２５５、ＳＢ−２０３、ＳＢ−２０１、日本サイテックスインダストリー社製サイメル１１２３、マイコート１０５、１０６、１１２８などが挙げられる。
【０１０２】
その中でも好適なのは、アルコキシアルキル基含有のベンゾグアナミン化合物である、三和ケミカル社製ニカラックＢＸ−４０００、ＳＢ−４０１、日本サイテックスインダストリー社製サイメル１１２３である。
【０１０３】
エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル、ビスクレゾールフルオレンジグリシジルエーテル、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ジグリシジルテレフタレート、ジグリシジルｏ−フタレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、及びポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等のポリオールのグリシジルエーテル、ポリグリシジルイソシアヌレート等を挙げることができるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【０１０４】
フェノール化合物としては、例えば、フェノール類とアルデヒド類を酸性触媒下で反応させたノボラック型フェノール化合物、塩基性触媒下で反応させたレゾール型フェノール化合物どちらも用いることができる。フェノール類としては、例えば、オルトクレゾール、パラクレゾール、パラフェニルフェノール、パラノニルフェノール、２，３−キシレノール、フェノール、メタクレゾール、３，５−キシレノール、レゾルシノール、カテコール、ハイドロキノン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＢ、ビスフェノールＥ、ビスフェノールＨ、ビスフェノールＳ等を挙げることができる。アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒドを挙げることができる。フェノール類とアルデヒド類は、それぞれ１種を単独で、又は２種以上を混合して用いられる。
【０１０５】
ブロック化イソシアネート化合物のイソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トルイジンイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４'−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−２，４'−ジイソシアネート、ビス（４−イソシアネートシクロヘキシル）メタン、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等のジイソシアネート、これらジイソシアネートのイソシアヌレート体、トリメチロールプロパンアダクト型、ビウレット型、イソシアネート残基を有するプレポリマー（ジイソシアネートとポリオールから得られる低重合体）及びイソシアネート残基を有するウレトジオン等を挙げることができるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【０１０６】
ブロック化イソシアネート化合物のブロック剤としては、例えば、フェノール（解離温度１８０℃以上）、ε−カプロラクタム（解離温度１６０〜１８０℃）、オキシム（解離温度１３０〜１６０℃）、又は活性メチレン（１００〜１２０℃）等を挙げることができるが、必ずしもこれに限定されるものではない。また、１種を単独で、あるいは２種以上を併用して用いられる。
【０１０７】
＜製造方法＞
本発明の光散乱層用樹脂組成物の製造方法は特に限定されるものではなく、粒子と樹脂を均一に混合するのに用いられる方法であれば良く、通常用いられる従来公知の方法で何ら構わない。
【０１０８】
例えば、本発明の光散乱層用樹脂組成物を構成する各成分をそれぞれ独立して作製し、その後に混合あるいは混練する方法、予め作成した光散乱粒子（Ｂ）および必要に応じて金属酸化物微粒子（Ｃ）が存在する条件で樹脂（Ａ）を重合し、その他の成分を混合する方法などが挙げられる。
分散安定性の観点からは、光散乱粒子（Ｂ）分散液と、必要に応じて金属酸化物微粒子（Ｃ）分散液と、樹脂（Ａ）が溶解した溶液と、その他の成分とを均一に混合する方法が好ましい。
【０１０９】
「光散乱層」
本発明の光散乱層は、上記の本発明の光散乱層用樹脂組成物を用いて形成されたものである。
本発明の光散乱層は、例えば、ガラスなどの透光性基板上に光散乱層用樹脂組成物を塗布、および乾燥し、得られた塗膜を加熱、あるいは紫外線や電子線等の照射を施し硬化させることによって得られる。
塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、
例えばロットまたはワイヤーバーなどを用いた方法；
および、マイクログラビアコーティング、グラビアコーティング、ダイコーティング、カーテンコーティング、リップコーティング、スロットコーティングまたはスピンコーティングなどの各種コーティング方法を用いることができる。
光散乱層用樹脂組成物を用いて、光散乱層を透光性基板上にパターニングする場合は、１）印刷方式により透光性基板上に直接パターニングを行う方法  と、２）フォトリソグラフィー方式によりパターニングを行う方法を用いることが出来る。
１）印刷方式では、フレキソ印刷、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷、オフセット印刷、反転オフセット印刷、スクリーン印刷、凸版印刷、インクジェット印刷等の通常の印刷方式で行うことができる。
２）フォトリソグラフィー方式では、感光性樹脂組成物の形態で使用する。その場合、２−１）本発明の光散乱層用樹脂組成物を透光性基板に直接塗布、乾燥させた後、もしくは  ２−２）フィルム基材（以下セパレートフィルムと称す）上に溶剤に溶解させた上記樹脂組成物を塗工後、溶剤を乾燥させることにより得られる感光性ドライフィルムを、透光性基板に張り合わせたのち、ラミネートや真空ラミネートによって、透光性基板への密着および気泡等の除去を行う事により光散乱層を形成した後に、溶液現像またはアルカリ現像工程によってパターン形成を行う。
光散乱層の厚みは特に限定されないが、通常、０．５〜２０μｍであることが好ましい。
【０１１０】
また、本発明の光散乱層を、有機ＥＬ装置に適用した場合、光散乱層の屈折率の波長依存性が大きいと、各色画素で輝度が変わりホワイトバランスが崩れるという問題が生じるため、当該光散乱層は、各波長での屈折率の差が少ないことが好ましい。具体的には、プリズムカプラーにより測定した波長473nm、594nm、633nmでの屈折率をそれぞれｎ(473)、ｎ(594)、ｎ(633)とするとき、ｎ(473)/ｎ(594)、ｎ(633)/ｎ(594)の値が0.2〜2.0であることが好ましく、更に好ましくは0.5〜1.5であることが好ましく、更に好ましくは0.95〜1.05であることが好ましい。
【０１１１】
「有機ＥＬ装置」
本発明の有機ＥＬ装置は、光散乱層用樹脂組成物から形成される光散乱層を具備する有機ＥＬ素子を含むものである。有機ＥＬ素子の構造は特に限定されないが、基本構造の例として、透光性基板上に、透光性電極、発光層を含む少なくとも１つの有機層（有機ＥＬ層）、背面電極、ＴＦＴ基板を順次積層し、陽極側から光を取り出すボトム・エミッションという構造が挙げられる。また、もう一つの例として、ＴＦＴ基板上に、背面電極、発光層を含む少なくとも１つの有機層（有機ＥＬ層）、透光性電極、封止層を順次積層し、陰極側から光を取り出すトップ・エミッションという構造が挙げられる。これらの方法や技術は、城戸淳二著、「有機ＥＬのすべて」、日本実業出版社（２００３年発行）に記載されている。
【０１１２】
図面を参照して、本発明に係る一実施形態の有機ＥＬ装置の構造について説明する。図１は、本実施形態の１つの例であるボトム・エミッション構造の模式断面図である。
本実施形態の有機ＥＬ装置１は、透光性基板１１上に、光散乱層１２と、透光性を有する第１の電極（陽極、透光性電極）１３と、発光層を含む少なくとも１つの有機層（有機ＥＬ層）１４と、光反射性を有する第２の電極（陰極、背面電極）１５とが順次積層されたものである。
光散乱層１２が、上記の本発明の光散乱層用樹脂組成物を用いて形成された層である。
【０１１３】
有機ＥＬ装置は、有機ＥＬ照明装置または有機ＥＬ表示装置等に利用できる。
アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置では、異なる複数の色を発光する複数の発光層がマトリクス状にアレイ形成される。また、ドットごとに第２の電極（陰極、背面電極）１５からなる画素電極とそのスイッチング素子であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）が形成されたＴＦＴ基板が備えられる。
【０１１４】
本発明の光散乱層が具備される部位として、例えば以下のような場合が考えられる。
ボトム・エミッション構造の場合、例えば以下のような場合が考えられる。
（１）透光性基板／光散乱層／透光性電極／有機ＥＬ層／背面電極
（２）光散乱層／透光性基板／透光性電極／有機ＥＬ層／背面電極
（３）光散乱層／透光性基板／光散乱層／透光性電極／有機ＥＬ層／背面電極
【０１１５】
トップ・エミッション構造の場合、例えば以下のような場合が考えられる。
（４）基板／背面電極／有機ＥＬ層／透光性または半透光性電極／光散乱層／保護基板
（５）基板／背面電極／有機ＥＬ層／透光性または半透光性電極／封止層／光散乱層／保護基板
（６）基板／背面電極／有機ＥＬ層／透光性または半透光性電極／封止層／保護基板／光散乱層
（７）基板／背面電極／有機ＥＬ層／透光性または半透光性電極／光散乱層／保護基板／光散乱層
このとき透光性基板と透光性電極との間に光散乱層を具備した有機ＥＬ素子を含むものが、光取り出し効率の観点からより好ましい。
【０１１６】
ボトム・エミッション構造の製造方法としては、上記のように透光性基板上に光散乱層を設けた後、光散乱層の上に透光性電極を形成する。透光性電極の材料としては、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材料である。
具体例としては、
酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、および酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物；
金、銀、クロム、およびニッケル等の金属；
ヨウ化銅および硫化銅などの他の無機導電性物質；
ポリアニリン、ポリチオフェン、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、およびポリピロールなどの有機導電性物質；
およびこれらの混合物または積層物などが挙げられる。
好ましくは導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、および透光性等の点からＩＴＯが好ましい。
【０１１７】
また、透光性を保ちながら有機ＥＬ層への電子あるいは正孔の注入性を制御するために、金属類とＩＴＯを積層して透光性電極とすることも可能である。ここで、極薄の金属の厚さとしては０．１ｎｍ〜２０ｎｍが透光性を保つ観点で好ましい。また、ここで言う金属類としては、
アルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、およびＫ等）およびそのフッ化物；
アルカリ土類金属（例えばＭｇ、およびＣａ等）およびそのフッ化物；
金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、およびこれらを含む混合金属；
リチウム−アルミニウム合金およびこれを含む混合金属；
ＬｉＦ／Ａｌ合金およびこれを含む混合金属；
マグネシウム−銀合金およびこれを含む混合金属；
インジウム、およびイッテリビウム等の希土類金属等が挙げられる。
この中で、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金およびそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金およびその混合金属等である。
【０１１８】
透光性電極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常５０ｎｍ 〜３００ｎｍ程度が好ましい。
透光性電極の形成方法としては、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法（ゾル−ゲル法など）、および溶解物や分散物の塗布などの方法が用いられる。
形成した透光性電極は、所望に応じて、エッチング処理を行い、パターンを形成する。さらに、洗浄その他の処理により、装置の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めることも可能である。例えばＩＴＯの場合、ＵＶ−オゾン処理などが効果的である。
【０１１９】
次に、上記のように光散乱層の表面に透光性電極を設けた後、透光性電極の表面に有機ＥＬ層を形成する。
有機ＥＬ層は発光層を含み、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、または電子輸送層などを含んでいてもよい。これらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。
【０１２０】
正孔注入層、および正孔輸送層の材料は、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれかを有しているものであればよい。その具体例としては、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（ Ｎ−ビニルカルバゾール）誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、およびポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー等が挙げられる。
【０１２１】
発光層の材料は、電界印加時に、陽極、正孔注入層または正孔輸送層から正孔を注入することができると共に、陰極、電子注入層、または電子輸送層から電子を注入することができる機能、注入された電荷を移動させる機能、および、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層を形成することができるものであれば何でもよい。
例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、および８ − キノリノール誘導体の金属錯体または希土類錯体に代表される各種金属錯体；
および、
ポリチオフェン、ポリフェニレン、およびポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物等が挙げられる。
【０１２２】
発光層となる発光材料の具体例を下記に挙げるが、以下の具体的に例示したものに限定されるものではない。
【０１２３】
青色の発光は、例えば、ペリレン、２，５，８，１１−テトラ−ｔ−ブチルペリレン（略：ＴＢＰ）、および９，１０−ジフェニルアントラセン誘導体などをゲスト材料として用いることによって得られる。また、４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル（略：ＤＰＶＢｉ）などのスチリルアリーレン誘導体、９，１０−ジ−２−ナフチルアントラセン（略：ＤＮＡ）、および９，１０−ビス（２−ナフチル）−２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラセン（略：ｔ−ＢｕＤＮＡ）などのアントラセン誘導体から得ることもできる。また、ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）等のポリマーを用いてもよい。
【０１２４】
緑色の発光は、クマリン３０、クマリン６などのクマリン系色素、ビス［２−（２，４−ジフルオロフェニル）ピリジナト］ピコリナトイリジウム（略：ＦＩｒｐｉｃ）、およびビス（２−フェニルピリジナト）アセチルアセトナトイリジウム（略：Ｉｒ（ｐｐｙ）（ａｃａｃ））などをゲスト材料として用いることによって得られる。また、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（略：Ａｌｑ３）、ＢＡｌｑ、Ｚｎ（ＢＴＺ）、およびビス（２−メチル−８−キノリノラト）クロロガリウム（略：Ｇａ（ｍｑ）2Ｃｌ）などの金属錯体からも得ることができる。また、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）等のポリマーを用いてもよい。
【０１２５】
橙色から赤色の発光は、ルブレン、４−（ジシアノメチレン）−２−［ｐ−（ジメチルアミノ）スチリル］−６−メチル−４Ｈ−ピラン（略：ＤＣＭ１）、４−（ジシアノメチレン）−２−メチル−６−（９−ジュロリジル）エチニル−４Ｈ−ピラン（略：ＤＣＭ２）、４−（ジシアノメチレン）−２，６−ビス［ｐ−（ジメチルアミノ）スチリル］−４Ｈ−ピラン（略：ＢｉｓＤＣＭ）、ビス［２−（２−チエニル）ピリジナト］アセチルアセトナトイリジウム（略：Ｉｒ（ｔｈｐ）２（ａｃａｃ））、およびビス（２−フェニルキノリナト）アセチルアセトナトイリジウム（略：Ｉｒ（ｐｑ）（ａｃａｃ））などをゲスト材料として用いることによって得られる。ビス（８−キノキリノラト）亜鉛（略：Ｚｎｑ２）、ビス［２−シンナモイル−８−キノリノラト］亜鉛（略：Ｚｎｓｑ２）などの金属錯体からも得ることができる。また、ポリ（２，５−ジアルコキシ−１，４−フェニレンビニレン）等のポリマーを用いてもよい。
【０１２６】
白色の発光は、有機ＥＬ積層構造体の各層のエネルギー準位を規定し、トンネル注入を利用して発光させるもの（欧州特許第０３９０５５１号公報）、同じくトンネル注入を利用する素子で実施例として白色発光素子が記載されているもの（特開平３−２３０５８４号公報）、二層構造の発光層が記載されているもの（特開平２−２２０３９０号公報および特開平２−２１６７９０号公報）、発光層を複数に分割してそれぞれ発光波長の異なる材料で構成されたもの（特開平４−５１４９１号公報）、青色発光体（蛍光ピ−ク３８０〜４８０ｎｍ）と緑色発光体（４８０〜５８０ｎｍ）とを積層させ、さらに赤色蛍光体を含有させた構成のもの（特開平６−２０７１７０号公報）、青色発光層が青色蛍光色素を含有し、緑色発光層が赤色蛍光色素を含有した領域を有し、さらに緑色蛍光体を含有する構成のもの（特開平７−１４２１６９号公報）等が挙げられる。
【０１２７】
電子注入層および電子輸送層の材料は、陰極から電子を注入する機能、電子を輸送する機能、または陽極から注入された正孔を障壁する機能を有しているものであればよい。
具体例としては、
トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、シロール誘導体、フタロシアニン誘導体、および８−キノリノール誘導体の金属錯体；
メタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾール、およびベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等が挙げられる。
【０１２８】
正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層および電子輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１０ｎｍ〜５００ｎｍが好ましい。各層は単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複層構造であってもよい。
これらの層の形成方法は特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、分子積層法、コーティング法（スピンコート法、キャスト法、およびディップコート法など）、およびＬＢ（Langmuir Blodgett）法などの方法が用いられる。好ましくは抵抗加熱蒸着法、およびコーティング法である。
【０１２９】
最後に、有機ＥＬ層の表面に背面電極を形成する。
負極である背面電極は、電子注入層、電子輸送層、または発光層などに電子を供給するものであり、隣接する層との密着性、イオン化ポテンシャル、および安定性等を考慮して選ばれる。
背面電極は光反射性を有することが好ましい。
背面電極の材料としては、金属、合金、導電性金属酸化物、他の導電性化合物、およびこれらの混合物を用いることができる。
具体例としては、
アルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、およびＫ等）およびそのフッ化物；
アルカリ土類金属（例えばＭｇ、およびＣａ等）およびそのフッ化物；
金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、およびこれらを含む混合金属；
リチウム−アルミニウム合金およびこれを含む混合金属；
ＬｉＦ／Ａｌ合金およびこれを含む混合金属；
マグネシウム−銀合金およびこれを含む混合金属；
インジウム、およびイッテリビウム等の希土類金属等が挙げられる。
好ましくは仕事関数が４ｅＶ以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金およびそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金およびその混合金属等である。
また、光反射性を保ちながら有機層への電子あるいは正孔の注入性を制御するために、上記の背面電極の材料とＩＴＯを積層して背面電極とすることも可能である。
【０１３０】
背面電極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１００ｎｍ〜１μｍが好ましい。背面電極の作製には、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、およびコーティング法などの方法が用いられる。金属を単体で蒸着することも、二成分以上を同時に蒸着することもできる。複数の金属を同時に蒸着して合金電極を形成することも可能であり、またあらかじめ調整した合金を蒸着させてもよい。
【０１３１】
トップ・エミッション構造の製造方法としては、ＴＦＴ等の基板上に背面電極、有機ＥＬ層、透光性電極、光散乱層を順次積層する方法が挙げられる。ここで記載する背面電極、有機ＥＬ層、透光性電極、光散乱層の材料、積層法等はボトム・エミッションの製造方法で述べたものと同じものを使用することができる。
【０１３２】
また、上記有機ＥＬ素子の温度、湿度、雰囲気等に対する安定性向上のために、素子の表面や層間に保護層を設けたり、樹脂等により素子全体を被覆や封止を施したりしても良い。特に素子全体を被覆や封止する際には、溶融ガラスや光によって硬化する光硬化性樹脂等が好適に使用される。
【０１３３】
本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子に印加する電流は通常、直流であるが、パルス電流や交流を用いてもよい。電流値、電圧値は、素子破壊しない範囲内であれば特に制限はないが、素子の消費電力や寿命を考慮すると、なるべく小さい電気エネルギーで効率良く発光させることが望ましい。
【０１３４】
本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子の駆動方法は、パッシブマトリクス法のみならず、アクティブマトリックス法での駆動も可能である。これらの方法や技術は、城戸淳二著、「有機ＥＬのすべて」、日本実業出版社（２００３年発行）に記載されている。
【０１３５】
上記のように形成される有機ＥＬ装置の透光性電極と背面電極との間に電圧を印加することによって有機ＥＬ層で発光した光は、透光性電極から、光散乱層を透過し、さらに透光性基板を透過して取り出される。有機ＥＬ層で発光した光が光散乱層を通過する際に、光が散乱されて指向性が変化し、全反射された光が導波することが抑制される。
【０１３６】
本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子は種々の形態においても適用可能である。
例えば、本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子は、フルカラー表示素子としても利用可能である。
フルカラー化方式の主な方式としては、３色塗り分け方式、色変換方式、カラーフィルター方式が挙げられる。３色塗り分け方式では、シャドウマスクを使った蒸着法や、インクジェット法や印刷法が挙げられる。また、特表２００２−５３４７８２や、Ｓ．Ｔ．Ｌｅｅ，  ｅｔ  ａｌ．，  Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ  ｏｆ  ＳＩＤ’０２，  ｐ．７８４（２００２）に記載されているレーザー熱転写法（Ｌａｓｅｒ  Ｉｎｄｕｃｅｄ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｉｍａｇｉｎｇ、ＬＩＴＩ法ともいわれる）も用いることができる。色変換方式では、色発光の発光層を使って、蛍光色素を分散した色変換（ＣＣＭ）層を通して、色より長波長の緑色と赤色に変換する方法である。カラーフィルター方式では、白色発光の有機ＥＬ発光素子を使って、液晶用カラーフィルターを通して３原色の光を取り出す方法であるが、これら３原色に加えて、一部白色光をそのまま取り出して発光に利用することで、素子全体の発光効率をあげることもできる。
【０１３７】
さらに、本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子は、マイクロキャビティ構造を採用しても構わない。これは、有機ＥＬ素子は、発光層が陽極と陰極との間に挟持された構造であり、発光した光は陽極と陰極との間で多重干渉を生じるが、陽極及び陰極の反射率、透過率などの光学的な特性と、これらに挟持された有機層の膜厚とを適当に選ぶことにより、多重干渉効果を積極的に利用し、素子より取り出される発光波長を制御するという技術である。これにより、発光色度を改善することも可能となる。この多重干渉効果のメカニズムについては、Ｊ．Ｙａｍａｄａ等によるＡＭ−ＬＣＤ  Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｐａｐｅｒｓ，ＯＤ−２，ｐ．７７〜８０（２００２）に記載されている。
【０１３８】
本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子は、マルチフォトンエミッション素子構造を採用しても良い。マルチフォトンエミッションとは、少なくとも一層の発光層を含む複数個の発光ユニットを、電荷発生層を介して直列に接続するように積層させた素子構造である（例えば、特許第３９３３５９１号公報参照）。このような素子構造によれば、１ユニット素子と同じ電流量で、複数の各発光層からの発光が同時に得られるため、発光ユニットの個数倍相当の電流効率および外部量子効率を得ることができる。
【０１３９】
以上述べたように、本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子は、壁掛けテレビ等のフラットパネルディスプレイや各種の平面発光体として、さらには、複写機やプリンター等の光源、液晶ディスプレイや計器類等の光源、表示板、標識灯等への応用が考えられる。
【実施例】
【０１４０】
以下に、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、以下の実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するものではない。特に明記しない限り、「部」は「質量部」を表し、「％」は質量％を示す。
【０１４１】
先ず、樹脂（Ａ）の５％熱分解温度、樹脂（Ａ）とシラン化合物（Ｅ）の質量平均分子量（Ｍｗ）、樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和単量体（Ｄ）の二重結合当量、樹脂（Ａ）の酸価、および、光散乱粒子（Ｂ）と金属酸化物微粒子（Ｃ）の粒子径の測定方法について説明する。
【０１４２】
（５％熱分解温度）
５％熱分解温度として、セイコーインスツルメンツ（株）社製の示差熱熱重量同時測定装置ＥＸＳＴＥＲ  ＴＧ／ＤＴＡ６３００を用い、２００ｍｌ／分の空気気流下、１０℃／分の昇温速度にて測定し、樹脂サンプルの質量が昇温前の９５％となる温度を求めた。
【０１４３】
（質量平均分子量（Ｍｗ））
質量平均分子量（Ｍｗ）は、昭和電工（株）社製のゲル浸透クロマトグラフィーＧＰＣ−１０１を用いて測定した。溶媒としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用い、ポリスチレン換算分子量を求めた。
【０１４４】
（二重結合当量）
二重結合当量とは、分子中に含まれる二重結合量の尺度となるものであり、同じ分子量の化合物であれば、二重結合当量の数値が小さいほど二重結合の導入量が多くなる。
二重結合当量は下記式により算出した。
[二重結合当量]＝[二重結合を持つモノマー成分の分子量]／[二重結合を持つモノマー成分の分子中の全モノマーに対する質量比]
【０１４５】
（酸価）
酸価（ＪＩＳ酸価）は、以下の方法により求めた。
試料１ｇをキシレンとジメチルホルムアミドとを質量比１：１で混合した滴定溶剤に溶かした。電位差滴定法により０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウム溶液（溶媒はエタノール）を用いて滴定した。滴定曲線上の変曲点を終点とし、水酸化カリウム溶液の終点までの滴定量から、下記式から酸価を算出した。
Ａ＝（Ｂ−Ｃ）×ｆ×Ｄ／Ｓ
（式中の符号は以下の通りである。
Ａ：酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、Ｂ：本試験の水酸化カリウム溶液の添加量（ｍＬ）、Ｃ：空試験（測定試料を用いないで測定）の水酸化カリウム溶液の添加量（ｍＬ）、ｆ：水酸化カリウム溶液のファクター、Ｄ：濃度換算値＝５．６１１ｍｇ/ｍＬ（０．１ｍｏｌ/Ｌの水酸化カリウム溶液１ｍＬの水酸化カリウム相当量）、Ｓ：試料（ｇ））
【０１４６】
（粒子径）
粒子径は、日機装（株）社製「ナノトラックＵＰＡ」を用いて測定した。固形分質量％濃度を２０％に調節した光散乱粒子分散液を、分散液と同じ溶媒で満たしたセル内へ数滴たらし、信号レベルが最適値になった濃度で測定を行った。
【０１４７】
[製造例１〜２１、実施例１〜１０９、比較例１〜２４]
【０１４８】
（１）樹脂（Ａ）溶液の作製
（製造例１）
工程１：
攪拌機、温度計、滴下装置、還流冷却器、およびガス導入管を備えた反応容器に、溶剤としてＰＧＭＥＡ（propyleneglycol monomethyl ether acetate）１００部を入れた。この容器内に窒素ガスを注入しながら８０℃に加熱した。この温度を保持し、スチレン（Ｓｔ）５．０部、シクロヘキシルメタクリレート（ＣＨＭＡ）１５．９部、メタクリル酸（ＭＡＡ）３１．７部、および２，２’−アゾビスイソブチロニトリル３．０部の混合物を１時間かけて滴下して重合反応を行った。滴下終了後、さらに７０℃で３時間反応させた後、アゾビスイソブチロニトリル０．５部をＰＧＭＥＡ４０部に溶解させたものを添加し、その後３時間、同じ温度で攪拌を続けて、共重合体を得た。
工程２：
次いで、反応容器内に乾燥空気を導入し、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）５０．０部、ＰＧＭＥＡ３７．０部、ジメチルベンジルアミン０．６部、およびメトキノン０．１部を仕込み、その後１０時間、同じ温度で攪拌を続けた。室温に冷却後、ＰＧＭＥＡで希釈することにより、固形分３５質量％の樹脂溶液（Ａ―１）を得た。
主な反応条件（仕込み組成と反応温度）と、得られた樹脂の評価結果を表１に示す。
【０１４９】
（製造例２〜１０）
反応条件（仕込み組成と反応温度）を表１に示すものに変更した以外は、製造例１と同様の方法で樹脂溶液（Ａ―２）〜（Ａ―１０）を得た。
【０１５０】
【表１】
2015022795.tif 000005
【０１５１】
表１中の各略号は以下のとおりである。
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
ＤＣＰＭＡ：ジシクロペンタニルメタクリレート、
ＣＨＭＡ：シクロヘキシルメタクリレート、
Ｓｔ：スチレン、
Ｍ−１１０：パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート、
ＨＥＭＡ：ヒドロキシエチルメタクリレート、
ＭＡＡ：メタクリル酸、
ＧＭＡ：グリシジルメタクリレート、
ＭＭＡ：メチルメタクリレート。
表１中の配合量の単位は、「部」である。
【０１５２】
（２）光散乱粒子（Ｂ）分散液の作製
【０１５３】
（製造例１１）
Ｎ２雰囲気下、メタノール６３ｇおよび水２０ｇの混合溶剤中で、スチレン（和光純薬社製）１４．２５ｇ、ジビニルベンゼン（和光純薬社製）０．７５ｇを、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン)ジヒドロクロリド（和光純薬社製、Ｖ−５０）０．０７ｇおよび２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル)（和光純薬社製、Ｖ−６５）０．０５ｇを用いて６０℃で８時間重合した。その後、ＰＧＭＥＡ１４０ｇを加え、ストリッピングによりメタノールおよび水を除去し、光散乱粒子分散液（Ｂ−１）（中空粒子であるアクリル樹脂粒子分散液）を作製した。
光散乱粒子分散液（Ｂ−１）の組成と、粒子の１次粒子径、分散液中の粒子径、分散液中の粒子全量に対する粒径６００ｎｍ以上の粒子含有量、および分散液中の粒子の変動係数を表２に示す。
【０１５４】
（製造例１２〜１３）
表２記載の配合組成にそれぞれ変更した以外は、製造例１１の工程と同様の方法で、光散乱粒子分散液（Ｂ−２）〜（Ｂ−３）（中空粒子であるアクリル樹脂粒子分散液）を作製した。また、それぞれの粒子の１次粒子径、分散液中の粒子径、分散液中の粒子全量に対する粒径６００ｎｍ以上の粒子含有量、および分散液中の粒子の変動係数を表２に示す。
【０１５５】
（製造例１４）
Ｎ２雰囲気下、メタノール７３ｇおよび水１０ｇの混合溶剤中で、メチルメタクリレート（和光純薬社製）７．３３ｇ、アリルメタクリレート（和光純薬社製）０．３７ｇ、スチレン（和光純薬社製）６．４５ｇおよびジビニルベンゼン（和光純薬社製）０．７５ｇを、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン)ジヒドロクロリド（和光純薬社製、Ｖ−５０）０．０２５ｇおよび２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル)（和光純薬社製、Ｖ−６５）０．３ｇを用いて６０℃で８時間重合した。その後、ＰＧＭＥＡ１６０ｇを加え、ストリッピングによりメタノールおよび水を除去し、光散乱粒子分散液（Ｂ−５）（中空粒子であるアクリル樹脂粒子分散液）を作製した。
光散乱粒子分散液（Ｂ−５）の組成と、粒子の１次粒子径、分散液中の粒子径、分散液中の粒子全量に対する粒径６００ｎｍ以上の粒子含有量、および分散液中の粒子の変動係数を表２に示す。
【０１５６】
以下に、その他に使用した光散乱粒子を示す。
・（Ｂ−４）ＪＳＲ社製ＳＸ８６８；アクリル−スチレン共重合体中空ビーズ）
【０１５７】
【表２】
2015022795.tif 000006
【０１５８】
（製造例１５）
工程１：分散剤（Ｔ−１）の製造
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、および温度計を備えた４口フラスコに、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）社製）８０．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）２５０．０部、ヒドロキノン（和光純薬工業（株）社製）０．１６部、およびシクロヘキサノン１４１．２部を仕込み、８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）社製）１．６５部を加え、８５℃で８時間撹拌した。その後、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）社製）７７．３部、およびシクロヘキサノン３３．９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬工業（株）社製）２．６５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。
得られた反応溶液は、淡黄色透明で固形分７０質量％であった。反応生成物の質量平均分子量（Ｍｗ）は約３１３０であった。
工程２：分散液の製造
平均１次粒子径が２５０ｎｍの酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子１０ｇに、分散媒としてメチルイソブチルケトン８７．２ｇ、および上記分散剤（Ｔ−１）２．８ｇを加えた。ジルコニアビーズ（１．２５ｍｍ）をメディアとして用い、ダイノミルで１時間分散処理を行い、光散乱粒子分散液（Ｂ−６）（酸化チタン粒子分散液）を作製した。
光散乱粒子分散液（Ｂ−６）の組成と、分散機、粒子の１次粒子径、分散液中の粒子径、分散液中の粒子全量に対する粒径６００ｎｍ以上の粒子含有量、および分散液中の粒子の変動係数を表２に示す。
【０１５９】
（製造例１６〜１７）
表２記載の配合組成および分散機にそれぞれ変更した以外は、製造例１１の工程２と同様の方法で、光散乱粒子分散液（Ｂ―７）〜（Ｂ−８）を作製した。
評価結果を表２に示す。
【０１６０】
表２中の各略号は以下の通りである。
酸化チタン１：石原産業社製タイペークＣＲ−９７、
酸化チタン２：石原産業社製タイペークＣＲ−６３、
シリカ：日本触媒社製シーホスターＫＥ−Ｓ３０、
メラミン樹脂：日本触媒社製エポスターＳ６、
ＢＹＫ−１１１：ビックケミー社製ＢＹＫ−１１１。
【０１６１】
（３）金属酸化物微粒子（Ｃ）分散液の作製
（製造例１８）
平均１次粒子径が１５ｎｍの酸化チタン（ＴｉＯ２）微粒子１０ｇに、分散媒としてＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）８４．３ｇ、分散剤として製造例１−１１の工程１で得られた分散剤（Ｔ１−１）５．７ｇを加えた。得られた液に対して、２段階の分散処理を行った。前分散として、ジルコニアビーズ（平均径：１．２５ｍｍ）をメディアとして用い、ペイントシェイカーで１時間分散した。本分散として、ジルコニアビーズ（平均径：０．１ｍｍ）をメディアとして用い、寿工業（株）社製分散機ＵＡＭ−０１５で７時間分散した。以上のようにして、金属酸化物微粒子分散液（Ｃ１）（酸化チタン微粒子分散液）を作製した。分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は８０ｎｍであった。
【０１６２】
（４）シラン化合物（Ｅ）の作製
（製造例１９）
反応槽として冷却管を付けたフラスコを準備し、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＥ−９００７」）１００ｇ、およびエタノール（キシダ化学社製）５０ｇをよく攪拌混合したものを準備し、窒素置換した。その後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を６０℃まで昇温した。反応槽の温度が６０℃に安定してから、さらに８時間攪拌した。ＦＴ−ＩＲスペクトルにより反応が終了したことを確認し、反応槽の温度を常温まで下げ、固形分７９質量％の（３−カルバメートエチル）プロピルトリエトキシシランのエタノール溶液１３０ｇを得た。
ジムロート式冷却凝縮器、ディーンスターク、撹拌機、および温度計を備えた１００ｍＬの四つ口フラスコを充分窒素置換したものを準備した。上記で得られた（３−カルバメートエチル）プロピルトリエトキシシランのエタノール溶液１００ｇ、エタノール２５ｍＬ、および酢酸ナトリウム０．０６ｇを仕込み、水１．３ｇをゆっくりと添加した。常圧下、３０〜４０℃で１時間熟成した後、還流下で３時間熟成した。熟成後常圧で徐々に溶媒を抜き出し、釜温が１０５℃に達した所で加熱を止め、冷却した。得られた溶液をろ過し、減圧下、１２０℃で１時間乾燥することで透明なオイル状生成物であるシラン化合物（Ｅ−１）を得た。質量平均分子量（Ｍｗ）は約５,５００であった。  
【０１６３】
（製造例２０）
反応槽として冷却管を付けたフラスコを準備し、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＥ−９００７」）１００ｇ、および２，８−エチル−１−テトラデカノール１００ｇ部をよく攪拌混合したものを準備し、窒素置換した。その後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を６０℃まで昇温した。反応槽の温度が６０℃に安定してから、さらに１０時間攪拌した。ＦＴ−ＩＲスペクトルにより反応が終了したことを確認し、反応槽の温度を常温まで下げ、窒素置換した容器に取り出し、シラン化合物（Ｅ−２）を得た。質量平均分子量（Ｍｗ）は約５２０であった。
【０１６４】
（製造例２１）
反応槽として冷却管を付けたフラスコを準備し、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＥ−９００７」）１００ｇ、およびエタノール（キシダ化学社製）１００ｇをよく攪拌混合したものを準備し、窒素置換した。その後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を６０℃まで昇温した。反応槽の温度が６０℃に安定してから、さらに６時間攪拌した。ＦＴ−ＩＲスペクトルにより反応が終了したことを確認し、反応槽の温度を常温まで下げ、窒素置換した容器に取り出し、シラン化合物（Ｅ−３）を得た。質量平均分子量（Ｍｗ）は約２８０であった。
【０１６５】
（５）光散乱層用樹脂組成物の作製
（実施例１）
上記で得られた光散乱粒子分散液（Ｂ−１）５．００ｇに対して、上記で得られた樹脂（Ａ−４）１０．３０ｇ、金属酸化物微粒子分散液（Ｃ−１）３１．８５ｇおよび有機溶剤ＰＧＭＥＡ４８．１４ｇを加え、均一になるように撹拌および混合した。メッシュ径５μｍのフィルタで濾過し、光散乱層用樹脂組成物を作製した。この組成物中の固形分の質量比は、樹脂（Ａ−４）：光散乱粒子（Ｂ−１）（光散乱粒子を分散させるための分散剤も含む）：金属酸化物微粒子（Ｃ）（光散乱粒子を分散させるための分散剤も含む）＝４０：１０：５０であった。
配合組成を表３に示す。
【０１６６】
（実施例２〜４９、比較例１〜４）
表３に示した配合組成とした以外は実施例１と同様にして、光散乱層用樹脂組成物を得た。
【０１６７】
【表３】
2015022795.tif 000007
【０１６８】
【表３】
2015022795.tif 000008
【０１６９】
表３中の各略号は以下の通りである。
Ｖ＃８０２：大阪有機化学工業社製ビスコート＃８０２、
ＤＰＣＡ６０：サートマー社製カヤラッドＤＰＣＡ６０、
Ｍ４０２：東亞合成社製アロニックスＭ４０２、
ＫＢＭ−５７３：信越シリコーン社製ＫＢＭ−５７３、
Ｉｒｇ９０７：ＢＡＳＦ社製イルガキュア９０７、
ＯＸＥ０１：ＢＡＳＦ社製イルガキュアＯＸＥ０１、
ＯＸＥ０２：ＢＡＳＦ社製イルガキュアＯＸＥ０２、
ＢＹＫ３３０：ビックケミー社製ＢＹＫ３３０。
【０１７０】
（実施例４８〜１０９、比較例６〜２４）
表４、表５、及び表６に示した配合組成とした以外は実施例１と同様にして、光散乱層用樹脂組成物を得た。
【０１７１】
【表４】
2015022795.tif 000009
【０１７２】
【表４】
2015022795.tif 000010
【０１７３】
【表５】
2015022795.tif 000011
【０１７４】
【表５】
2015022795.tif 000012
【０１７５】
【表６】
2015022795.tif 000013
【０１７６】
【表６】
2015022795.tif 000014
【０１７７】
表４、表５、及び表６中の各略号は以下の通りである。
熱反応性化合物（Ｇ）
ＭＸ−４３：三和ケミカル社製アルコキシアルキル基含有メラミン化合物  ニカラックＭＸ−４３
ＭＸ−４１７：三和ケミカル社製イミノ基・メチロール基含有メラミン化合物  ニカラックＭＸ−４１７
ＳＢ−４０１：三和ケミカル社製アルコキシアルキル基含有ベンゾグアナミン化合物  ニカラックＳＢ−４０１
ＢＬ−６０：三和ケミカル社製イミノ基・メチロール基含有ベンゾグアナミン化合物  ニカラックＢＬ−６０
ＢＬ−４２６５：バイエル社製イソシアネート化合物  デスモジュールＢＬ−４２６５
ＥＰＰＮ−２０１：日本化薬社製  エポキシ化合物ＥＰＰＮ―２０１  
【０１７８】
（６）評価
得られた光散乱層用樹脂組成物は下記の装置または方法により評価を行った。
（バインダー材料の屈折率、およびバインダー材料と光散乱粒子（Ｂ）との屈折率差）
バインダー材料をＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）フィルムにスピンコーターを用い、仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように塗布した。次に、得られた塗布基板を１１０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した後、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行った。塗布基板を２００℃で３０分加熱、放冷後、日本工業規格：ＪＩＳＫ７１４２「プラスチックの屈折率測定方法」に準拠し、アッベ屈折計によりバインダー材料の屈折率（ｎ１）を測定した。光散乱粒子の屈折率（ｎ２）は下記の値を用い、バインダー材料の屈折率（ｎ１）と光散乱粒子の屈折率（ｎ２）との差を求めた。
・無機粒子の屈折率：バルクにおける文献値の屈折率である。
・有機粒子の屈折率：下記式から算出される理論屈折率（ｎＤ）である。
理論屈折率（ｎＤ）＝Ｗ１×ｎ１＋Ｗ２×ｎ２＋・・・・＋Ｗｍ×ｎｍ
ｎ１：単量体Ａのホモポリマーの屈折率
ｎ２：単量体Ｂのホモポリマーの屈折率
ｎｍ：単量体Ｃのホモポリマーの屈折率
Ｗ１：単量体Ａの共重合比（単量体の全量を基準とする質量比）
Ｗ２：単量体Ｂの共重合比（単量体の全量を基準とする質量比）
Ｗｍ：単量体Ｃの共重合比（単量体の全量を基準とする質量比）
【０１７９】
下記基準に基づき、評価した。
・バインダー材料の屈折率
１．６５以上：良（○）、
１．６５未満：可（△）
・バインダー材料と光散乱粒子（Ｂ）との屈折率差
０．１≦｜ｎ１−ｎ２｜：「良（○）」、
０．１＞｜ｎ１−ｎ２｜：「不可（×）」
【０１８０】
（光散乱層の可視光透過率）
光散乱層用樹脂組成物を、１００ｍｍ×１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製ガラス「イーグル２０００」）に、スピンコーターを用いて２３０℃２０分加熱後の仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように塗布した。次に、得られた塗布基板を１１０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した後、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行った。塗布基板を２３０℃で２０分加熱、放冷後、顕微分光光度計（オリンパス光学社製「ＯＳＰ−ＳＰ１００」）を用い、得られた塗膜の波長４００ｎｍにおける透過率を求めた。下記基準に基づき、評価した。
透過率８０％以上：良（○）、
透過率８０％未満：可（△）
【０１８１】
（耐熱性；追加ベーク後の透過率の測定）
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た光散乱層用樹脂組成物塗布基板を３００℃２０分加熱、放冷後、顕微分光光度計（オリンパス光学社製「ＯＳＰ−ＳＰ１００」）を用いて、得られた塗膜の波長４００ｎｍにおける透過率を求めた。下記基準に基づき、評価した。
透過率８０％以上：良（○）、
透過率８０％未満：可（△）
【０１８２】
（ボトム・エミッション構造のＥＬ素子の評価（光取り出し効率、発光外観（ダークスポット、ムラ）、波長依存性））
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た光散乱層用樹脂組成物塗布基板上に、ＩＴＯセラミックターゲット（Ｉｎ２Ｏ３：ＳｎＯ２＝９０：１０（質量比））を用い、ＤＣスパッタリング法にて厚さ１５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成し、透光性電極（陽極）とした。
フォトレジストを用いて上記ＩＴＯ膜をエッチングして、発光面積が５ｍｍ×５ｍｍとなるようにパターンを形成した。超音波洗浄を行った後、低圧紫外線ランプを用いてオゾン洗浄した。ついで、ＩＴＯ面上に、真空蒸着法により、下記のように有機ＥＬ層を順次形成した。
まず、正孔注入層として、ＣｕＰｃを１５ｎｍの厚さに形成した。次に、正孔輸送層として、α−ＮＰＤを、５０ｎｍの厚さに形成した。次に、表８に示す赤色の発光層を４０ｎｍの厚さに形成し、表８に示す電子注入層を３０ｎｍの厚さに形成した。
その後、ＭｇとＡｇを共蒸着し、厚さ１００ｎｍのＭｇＡｇを形成後、ＭｇＡｇの酸化防止の観点から、さらに、その上にＡｇを５０ｎｍ形成し、背面電極（陰極）とした。
真空蒸着装置から取り出したのち、陰極電極側に紫外線硬化性エポキシ樹脂を滴下し、その上にスライドガラスを被せ、高圧紫外線ランプを用いてエポキシ樹脂を硬化させ、素子を封止した。
上記と同様にして、表７に示す発光層と電子注入層を使用し、青色、緑色、および白色の発光素子をそれぞれ作製した。
別途、評価用に、基材として光散乱層を形成していないガラス基板を用いた以外は、上記と同様の方法にてＥＬ素子を得た。
【０１８３】
【表７】
2015022795.tif 000015
【０１８４】
表７の発光体を用いて得られたそれぞれの発光素子について、室温において順方向電流を１０ｍＡ／ｃｍ２通電し、発光外観（ダークスポット、ムラ）を観察した。また、コニカミノルタセンシング（株）社製分光放射輝度計「ＣＳ−２０００」により正面輝度を測定し、光散乱層を形成していない基板で作製したＥＬ素子の正面輝度を基準とし、白色発光素子の正面輝度の向上率を算出した。また、光散乱層の波長依存性は、表４の赤・青・緑の発光層を用いた発光装置における正面輝度の違い、および、白色発光層を用いた発光装置における発光スペクトルの形状変化の有無により評価した。発光スペクトルの測定は、大塚電子（株）社製ＭＣＰＤ−９８００を用いて行なった。下記基準に基づき、評価した。
・発光外観（ダークスポット、ムラ）
ダークスポット、ムラが観察されない：良（○）、
ダークスポット、ムラが僅かに観察される：可（△）、
ダークスポット、ムラが観察される：不可（×）
・光取り出し効率
正面輝度向上率１．５倍以上：優（◎）、
正面輝度向上率１．２倍以上〜１．５倍未満：良（○）、
正面輝度向上率１．２倍未満：可（△）
・波長依存性
赤・青・緑のそれぞれの正面輝度向上率の値の差が１０％未満かつ白色のスペクトル形状が変化していない：良（○）、
赤・青・緑のそれぞれの正面輝度向上率の値の差が１０％以上２０％未満かつ白色のスペクトル形状が変化していない：可（△）、
赤・青・緑のそれぞれの正面輝度向上率の値の差が２０％以上かつ白色のスペクトル形状が変化している：不可（×）
【０１８５】
評価結果を表８に示す。
【０１８６】
【表８】
2015022795.tif 000016
【０１８７】
【表８】
2015022795.tif 000017
【０１８８】
光散乱粒子（Ｂ）として、光散乱層用樹脂組成物中の平均粒子径が２００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、かつ、光散乱粒子の全量に対する粒子径６００ｎｍ以上の粒子の含有量が２０体積％以下であるという条件を満たしていない粒子を用いた比較例１〜４では、発光外観の悪化あるいは波長依存性が見られた。
実施例１〜４７では、光取り出し効率が高く、発光外観（ダークスポット、ムラ）が良好であり、さらに光取り出し効率向上率の波長依存性が小さく、色毎の塗り分け等の煩雑な工程が必要ない、有機ＥＬ素子を実現できた。
バインダー屈折率が１．６５未満の実施例５，６に比べ、バインダー屈折率が１．６５以上の他の実施例は、非常に波長依存性が少なくなることが分かった。
【０１８９】
以下に、その他物性の評価方法を示す。
（ガラスおよびＩＴＯに対する密着性の測定）
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た光散乱層用樹脂組成物塗布基板について、ＪＩＳＫ５６００−５−６に準じた付着性（クロスカット法）試験により塗膜の密着性を評価し、碁盤目２５個中の剥離個数を数えた。
基材としては、コーニング社製ガラス「イーグル２０００」およびジオマテック社製のＩＴＯ膜を使用した。
下記基準に基づき、評価した。
碁盤目の剥離個数０個：優（◎）、
碁盤目の剥離個数１個未満（フチハガレ：碁盤目のフチが剥がれるレベル）：良（○）、
碁盤目の剥離個数１個以上３個以下：可（△）、
碁盤目の剥離個数３個より多い：不可（×）
【０１９０】
（ＩＴＯエッチャント耐性）
透過率の測定用に作製したものと同じ方法でＩＴＯ基材上に塗膜を形成した。得られた光散乱層用樹脂組成物塗布基板を硝酸／塩酸／水＝０．１／１／１（質量比）の溶液に４０℃で５分間浸漬し、純水にて洗浄後、２４時間放置した。得られた基板をＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６に準じた付着性（クロスカット法）試験により塗膜の密着性を評価し、碁盤目２５個中の剥離個数を数えた。
基材としては、ジオマテック社製のＩＴＯ膜を使用した。
下記基準に基づき、評価した。
碁盤目の剥離個数０個：優（◎）、
碁盤目の剥離個数１個未満（フチハガレ：碁盤目のフチが剥がれるレベル）：良（○）、
碁盤目の剥離個数１個以上３個以下：可（○△）、
碁盤目の剥離個数３個以上５個以下：可（△）、
碁盤目の剥離個数５個より多い：不可（×）
【０１９１】
（耐薬品性）
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た光散乱層用樹脂組成物塗布基板を、アセトンまたはイソプロピルアルコールに浸漬し、それぞれ２５℃で１０分間、超音波洗浄した。得られた基板をＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６に準じた付着性（クロスカット法）試験により塗膜の密着性を評価し、碁盤目２５個中の剥離個数を数えた。
下記基準に基づき、評価した。
碁盤目の剥離個数０個：優（◎）、
碁盤目の剥離個数１個未満（フチハガレ：碁盤目のフチが剥がれるレベル）：良（○）、
碁盤目の剥離個数１個以上３個以下：可（△）、
碁盤目の剥離個数３個より多い：不可（×）
【０１９２】
（平坦性）
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た光散乱層用樹脂組成物塗布基板について、アルバック社製の触針式膜厚計ＤＥＣＴＡＣ−３で、塗膜の表面粗さを測定した。
下記基準に基づき、評価した。
表面粗さ１００Å未満：優（◎）、
表面粗さ１００Å以上２００Å未満：良（○）、
表面粗さ２００Å以上３００Å以下：可（△）、
表面粗さ３００Åより大きい：不可（×）
【０１９３】
（現像速度）
光散乱層用樹脂組成物を、乾燥膜厚が２．０μｍとなるようにガラス基板にスピンコート法により塗布し、乾燥した。この塗布基板に対し高圧水銀灯によりマスクパターンを通して６０ｍＪ／ｃｍ２で露光した後、０．０４質量％水酸化カリウム水溶液（現像液温度２６℃）を使用して圧力０．２５ＭＰａのスプレー現像を行い、塗膜が溶解し基板面が露出するまでの時間（現像溶解時間）を測定した。
下記基準に基づき、評価した。
現像時間２０秒未満 ：優（◎）、
現像時間２０秒以上、６０秒未満：良（○）、
現像時間６０秒以上、８０秒未満：可（△）、
現像時間８０秒以上：不可（×）
【０１９４】
評価結果を表９に示す。
【０１９５】
【表９】
2015022795.tif 000018
【０１９６】
【表９】
2015022795.tif 000019
【０１９７】
表９に示されるように、シラン化合物（Ｅ）を加えた実施例２８〜４９では、密着性、エッチャント耐性、および耐薬品性に優れた塗膜が得られた。
【０１９８】
＜トップ・エミッション構造及び塗布型構造の有機ＥＬ素子の評価（光取り出し効率、発光外観（ダークスポット、ムラ））、波長依存性＞
（トップ・エミッション構造Ａ）
イソプロピルアルコールで超音波洗浄した後乾燥窒素ガスで乾燥したガラス基板の上に、厚さ１００ｎｍとなる条件でアルミニウムを真空蒸着法で成膜し、その後、ＩＴＯセラミックターゲット（Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０質量％：１０質量％）から、ＤＣスパッタリング法にて厚さが２０ｎｍのＩＴＯ膜を形成し、発光面積が５mm×５mmとなるようにパターニングして、アルミニウムとＩＴＯの積層体から成る背面電極（陽極）を形成した。次いで、真空から取り出すことなく、ＩＴＯ面上に真空蒸着法により、下記のように有機ＥＬ層を順次形成した。まず、正孔注入／正孔輸送層として、α−ＮＰＤを、４０ｎｍの厚さに形成した。次に表７記載のＨ１とＩｒ−１を蒸着速度が１００：６になるように調節し、３０ｎｍの厚さに形成した。次いで、正孔ブロック層として、ＢＡｌｑを、１０ｎｍの厚さに形成した。更に、電子輸送層として、Ａｌｑ３を、２０ｎｍの厚さに形成した。次に、マグネシウムを真空蒸着法で２ｎｍの厚さに形成し、更に、ＩＴＯセラミックターゲット（Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０質量％：１０質量％）から、ＤＣスパッタリング法にて厚さが１００ｎｍのＩＴＯ膜を形成して、マグネシウムとＩＴＯの積層体による透光性電極（陰極）とした。最後に、ガラス基板及び透過率の測定用に作製した実施例２８〜４９、比較例４の光散乱層用樹脂組成物塗布基板を封止用基板として用い、周囲にシール材としてエポキシ系光硬化型接着剤を適用し、これを前記基板の散乱膜側と密着させ、ガラス基板側からＵＶ光を照射して、硬化・封止した。ガラス基板のみで封止したものを比較例５とする。
【０１９９】
【表１０】
2015022795.tif 000020
【０２００】
（トップ・エミッション構造Ｂ）
イソプロピルアルコールで超音波洗浄した後乾燥窒素ガスで乾燥したガラス基板の上に、厚さ１００ｎｍとなる条件でアルミニウムを真空蒸着法で成膜し、その後、フッ化リチウムを真空蒸着法で成膜し、厚さが０．５ｎｍのフッ化リチウム膜を形成し、発光面積が５mm×５mmとなるようにパターニングして、アルミニウムとフッ化リチウムの積層体から成る背面電極（陰極）を形成した。次いで、真空から取り出すことなく、フッ化リチウム面上に真空蒸着法により、下記のように有機ＥＬ層を順次形成した。まず、電子輸送層として、Ａｌｑ３を、２０ｎｍの厚さに形成した。次いで、正孔ブロック層として、ＢＡｌｑを、１０ｎｍの厚さに形成した。次に表７記載のＨ１とＩｒ−１を蒸着速度が１００：６になるように調節し、３０ｎｍの厚さに形成した。次に正孔注入／正孔輸送層として、α−ＮＰＤを、４０ｎｍの厚さに形成した。次いでＩＴＯセラミックターゲット（Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０質量％：１０質量％）から、ＤＣスパッタリング法にて厚さが１５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成して、ＩＴＯの透光性電極（陽極）とした。最後に、ガラス基板及び透過率の測定用に作製した実施例２８〜４９、比較例４の光散乱層用樹脂組成物塗布基板を封止用基板として用い、周囲にシール材としてエポキシ系光硬化型接着剤を適用し、これを前記基板の散乱膜側と密着させ、ガラス基板側からＵＶ光を照射して、硬化・封止した。ガラス基板のみで封止したものを比較例５とする。
【０２０１】
（塗布型構造）
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た実施例２８〜４９、比較例４の光散乱層用樹脂組成物塗布基板上に、ＩＴＯセラミックターゲット（Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０質量％：１０質量％）から、ＤＣスパッタリング法にて厚さが１５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成し、透光性電極（陽極）とした。これとは別に、光散乱層を形成せず、ガラス基板上に、直接、上記と同様にＩＴＯ膜を形成し、透光性電極（陽極）とした。その後、この両透光性電極に対し、フォトレジストを用いてＩＴＯ膜をエッチングして、発光面積が５mm×５mmとなるようにパターンを形成した。超音波洗浄を行ったのち、低圧紫外線ランプを用いてオゾン洗浄した。洗浄したＩＴＯ電極付きガラス板上に、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ポリ(３，４−エチレンジオキシ)−２，５−チオフェン／ポリスチレンスルホン酸、Ｂａｙｅｒ社製ＢＡＹＴＲＯＮ  Ｐ  ＶＰ  ＣＨ８０００）をスピンコート法にて製膜し、膜厚４０ｎｍの正孔注入層を得た。次いで、ＰＶＫ（Ｐｏｌｙ（９−ｖｉｎｙｌｃａｒｂａｚｏｌｅ）、シグマアルドリッチ社製）を６０％および、表８記載のＩｒ−２を３％およびＥＴＭ−１の３７％の質量比で全体で２．０ｗｔ％の濃度となるようにトルエンに溶解させ、スピンコーティング法により７０ｎｍの膜厚の発光層を得た。さらにその上に、Ｃａを２０ｎｍ蒸着した後、Ａｌを２００ｎｍ蒸着して電極を形成して有機ＥＬ素子を得た。最後に、陰極電極側に紫外線硬化性エポキシ樹脂を滴下し、その上にスライドガラスを被せ、高圧紫外線ランプを用いてエポキシ樹脂を硬化させ、素子を封止した。ガラス基板を使用したものを比較例６とする。
【０２０２】
【表１１】
2015022795.tif 000021
【０２０３】
得られた発光素子の発光外観、発光効率、及び波長依存性を上記の方法で測定した。
結果を表１２に記載する。
【０２０４】
【表１２】
2015022795.tif 000022
【０２０５】
【表１２】
2015022795.tif 000023
【０２０６】
表１２に記載されるように、トップ・エミッション構造、塗布型構造の両者において、ボトム・エミッション型と同様の結果が得られた。
【０２０７】
＜感光性ドライフィルムとしての評価＞
実施例２８〜４９、比較例１、２、４で用いられた光散乱層用樹脂組成物を１２μＰＥＴフィルム（東レ・デュポン株式会社製Ｓ−１２）上に乾燥膜厚が２μｍとなるように均一塗工して１００℃で５分乾燥させた後、室温まで冷却し、二軸延伸ポリプロピレンフィルム（ＯＰＰフィルム）を光散乱層用樹脂組成物側にラミネートして感光性ドライフィルムを得た。感光性ドライフィルムからＯＰＰフィルムを剥がし、ガラス基板（コーニング社製ガラス  イーグル２０００）に真空ラミネートした。真空ラミネート条件は加熱温度６０℃、真空時間６０秒、真空到達圧２ｈＰａ、圧力０．４ＭＰａ、加圧時間６０秒でおこなった。
次に、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行った。更に、得られた基板を２３０℃で２０分加熱、放冷し光散乱層を得た。得られた光散乱層について、前記同様に素子作成及び評価を行い、光散乱層の可視光透過率、耐熱性；追加ベーク後の透過率の測定、ボトム・エミッション型ＥＬ素子の評価（光取り出し効率、発光外観（ダークスポット、ムラ）、波長依存性））、ガラスおよびＩＴＯに対する密着性の測定、ＩＴＯエッチャント耐性、耐薬品性、平坦性  を評価したところ、実施例２８〜４９、比較例１、２、４で得られた結果と同様であった。
【０２０８】
＜各種印刷プロセスによる光散乱層用樹脂組成物の評価＞
（ａ）反転オフセット印刷
（反転オフセット印刷性）
図２に示す薄膜印刷装置を用いて、ガラス基板上に、実施例５０〜６９、比較例７〜１２の光散乱層用樹脂組成物を乾燥塗膜厚が２μｍとなるように適宜アニロックスロールを交換しながら線幅１００μｍの直線の連続印刷を行い、直線形状の観察を行った。
○：連続印刷３０版以上が連続して直線パターンを印刷できる。
×：連続印刷３０版程度で直線パターンにゆがみが生じる。
【０２０９】
（平坦性）
図２に示す薄膜印刷装置を用いて、ガラス基板上に、実施例５０〜６９、比較例７〜１２の光散乱層用樹脂組成物を２３０℃２０分加熱後の仕上がり膜厚が２μｍとなるように適宜アニロックスロールを交換しながら印刷し、ガラス基板上に１００ｍｍ×１００ｍｍのスクエアの光散乱層を形成した。次に、１１０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した。その後、実施例５０〜６３及び比較例７〜９については、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行った。塗布基板を２３０℃で２０分加熱して光散乱層を得た。実施例６４〜６９、比較例１０〜１２は露光せずに、そのまま塗布基板を２３０℃で２０分加熱して光散乱層を得た。得られた光散乱層について、前記同様にボトム・エミッション型有機ＥＬ素子の作成及び評価を行った。
評価結果を表１４に記載する。
また、その他の評価結果を表１３および表１４に記載する。評価方法は、実施例１と同様にして行った。
【０２１０】
【表１３】
2015022795.tif 000024
【０２１１】
【表１４】
2015022795.tif 000025
【０２１２】
（ｂ）フレキソ印刷
（フレキソ印刷性）
ＣＩ型６色フレキソ印刷機（Ｗｉｎｄｍｏｅｌｌｅｒ＆ＨｏｅｌｓｃｈｅｒＫＧ社製「ＳＯＬＯＦＬＥＸ」（ＣＩ型６色機）の第二ユニットに１００ミクロンのラインアンドスペースパターンを有するフレキソ版（Ｄ ＳＦ版）を装着し、１６５線のアニロックスロール（セル容量２６．５ｃｍ２／ｍ３） を用いてガラス基板上に乾燥塗膜厚が２μｍとなるように実施例７０〜８９、比較例１３〜１８の光散乱層用樹脂組成物を順次印刷し、アニロックスロールから連続して版へ光散乱層用樹脂組成物が転移するか否かを目視判定した。
転移性良好：○
転移性不良：×
【０２１３】
（平坦性）
ＣＩ型６色フレキソ印刷機（Ｗｉｎｄｍｏｅｌｌｅｒ＆ＨｏｅｌｓｃｈｅｒＫＧ社製「ＳＯＬＯＦＬＥＸ」（ＣＩ型６色機）の第二ユニットに１００ｍｍ×１００ｍｍのスクエアパターンを有するフレキソ版（Ｄ ＳＦ版）を装着し、１６５線のアニロックスロール（セル容量２６．５ｃｍ２／ｍ３） を用いてガラス基板上に２３０℃２０分加熱後の仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように実施例７０〜８９、比較例１３〜１８の光散乱層用樹脂組成物を順次印刷した。次に、１１０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した。その後、実施例７０〜８３及び比較例１３〜１５の光散乱層用樹脂組成物については、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行った。塗布基板を２３０℃で２０分加熱して光散乱層を得た。実施例８４〜８９、比較例１６〜１８の光散乱層用樹脂組成物は露光せずに、そのまま塗布基板を２３０℃で２０分加熱して光散乱層を得た。得られた光散乱層について、前記同様にボトム・エミッション型有機ＥＬ素子の作成及び評価を行った。
評価結果を表１６に記載する。
また、その他の評価結果を表１５および表１６に記載する。評価方法は、実施例１と同様にして行った。
【０２１４】
【表１５】
2015022795.tif 000026
【０２１５】
【表１６】
2015022795.tif 000027
【０２１６】
（ｃ）グラビア印刷
（グラビア印刷性）
実施例７０〜８９、比較例１３〜１８の光散乱層用樹脂組成物をグラビア校正機を利用して版深３０ミクロンの腐蝕版を用い、ガラス基板上に、乾燥塗膜厚が２μｍとなるように線幅１００μｍの直線の連続印刷を行い、直線形状の観察を行った。
○：連続印刷３０版以上が連続して直線パターンを印刷できる。
×：連続印刷３０版程度で直線パターンにゆがみが生じる。
【０２１７】
（平坦性）
実施例７０〜８９、比較例１３〜１８の光散乱層用樹脂組成物をグラビア校正機を利用して版深３０ミクロンの腐蝕版を用い、ガラス基板上に２３０℃２０分加熱後の仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように順次印刷した。次に、１１０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した。その後、実施例７０〜８３及び比較例１３〜１５の光散乱層用樹脂組成物については、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行った。塗布基板を２３０℃で２０分加熱して光散乱層を得た。実施例８４〜８９、比較例１５〜１８の光散乱層用樹脂組成物は露光せずに、そのまま塗布基板を２３０℃で２０分加熱して光散乱層を得た。得られた光散乱層について、前記同様にボトム・エミッション型有機ＥＬ素子の作成及び評価を行った。
評価結果を表１８に記載する。
また、その他の評価結果を表１７および表１８に記載する。評価方法は、実施例１と同様にして行った。
【０２１８】
【表１７】
2015022795.tif 000028
【０２１９】
【表１８】
2015022795.tif 000029
【０２２０】
（ｄ）インクジェット（ＩＪ）印刷
（ＩＪ印刷性）
実施例９０〜１０９および比較例１８〜２４で得られたインキを、４〜１０ＫＨｚの周波数変化が可能なピエゾヘッドを有するインクジェットプリンターでＰＥＴ基板に吐出し、印字状態を目視で観察し、下記の基準で吐出安定性を評価した。
○：所定位置に正確に連続印字、間欠印字ができる。
×：途中に欠損を生じたり、所定位置に印字ができない。
【０２２１】
（平坦性）
実施例９０〜１０９および比較例１９〜２４で得られた光散乱層用樹脂組成物を、４〜１０ＫＨｚの周波数変化が可能なピエゾヘッドを有するインクジェットプリンターでガラス基板上に１００ｍｍ×１００ｍｍのスクエアパターンを２３０℃２０分加熱後の仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように順次印刷した。次に、１１０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した。その後、実施例９０〜１０３及び比較例１３〜１５については、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行った。塗布基板を２３０℃で２０分加熱して光散乱層を得た。実施例１０４〜１０９、比較例１６〜１８は露光せずに、そのまま塗布基板を２３０℃で２０分加熱して光散乱層を得た。得られた光散乱層について、前記同様にボトム・エミッション型有機ＥＬ素子の作成及び評価を行った。
評価結果を表２０に記載する。
また、その他の評価結果を表１９および表２０に記載する。評価方法は、実施例１と同様にして行った。
【０２２２】
【表１９】
2015022795.tif 000030
【０２２３】
【表２０】
2015022795.tif 000031
【０２２４】
実施例５０〜１０９の結果から、本発明の光散乱層用樹脂組成物で形成される光散乱層は、反転オフセット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷などの各種印刷法により形成可能であり、スピンコーターで途工、現像した場合と同様の結果が得られた。
【符号の説明】
【０２２５】
１  有機ＥＬ装置
１１  透光性基板
１２  光散乱層
１３  透光性電極
１４  発光層を含む少なくとも１つの有機層（有機ＥＬ層）
１５  背面電極
２１  ディスペンサ
２２  ドクター
２３  アニロックスロール
２４  版胴
２５  凸版
２６  シリコーンゴムブランケット胴
２７  基板
２８  印刷テーブル
２９  着色組成物
【図１】
2015022795.tif 000033
【図２】
2015022795.tif 000034