(57)【要約】【課題】基板端部の表面から側面、或いは基板端部の表面から側面を経由して基板の背面に延びる配線パターンを形成するに際して、接続端子と配線の電気的な接続の信頼性を高めることができること、配線パターンの連続性を確保することができること。【解決手段】端部に複数の接続端子Ｗａが配列された基板Ｗを支持し、端部を露光して接続端子Ｗａに接続する配線パターンを形成する配線パターン露光装置１であって、端部の表面を露光する第１露光部１１と端部の側面を露光する第２露光部１２を備え、配線パターンの延設方向に沿って並列照射される複数のスポット光を端部の縁辺に沿って走査することで端部の表面と側面に連続した配線パターンを描画する露光ヘッド１０を備える。【選択図】図１
2015022033.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
端部に複数の接続端子が配列された基板を支持し、前記端部を露光して前記接続端子に接続する配線パターンを形成する露光装置であって、
前記端部の表面を露光する第１露光部と前記端部の側面を露光する第２露光部を備え、配線パターンの延設方向に沿って並列照射される複数のスポット光を前記端部の縁辺に沿って走査することで前記端部の表面と側面に連続した配線パターンを描画する露光ヘッドを備えることを特徴とする配線パターン露光装置。
【請求項２】
前記第２露光部は、前記端部の表面と側面の間に形成される面取り部を含む露光範囲を有し、前記スポット光を集光する光学系が前記面取り部の深さより大きい焦点深度を有することを特徴とする請求項１記載の配線パターン露光装置。
【請求項３】
前記第２露光部は、前記端部の表面と側面の間に形成される面取り部を含む露光範囲を有し、前記面取り部に集光するスポット光の強度を前記側面に集光するスポット光の強度に対して大きくしたことを特徴とする請求項１記載の配線パターン露光装置。
【請求項４】
前記第１露光部は、前記接続端子上の配線パターン内で微細パターンを形成することを特徴とする請求項１記載の配線パターン露光装置。
【請求項５】
前記露光ヘッドは、前記接続端子の位置を検知する端子位置検知手段を備え、該端子位置検知手段の検知出力に応じて前記配線パターンの描画を行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載された配線パターン露光装置。
【請求項６】
前記露光ヘッドは、前記端部の背面を露光する第３露光部を備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載された配線パターン露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の端部に配線パターンを形成する配線パターン露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤパネル（液晶表示パネル）などの基板の端部には、画素電極やＴＦＴから引き出された複数の接続端子が形成されており、また、この接続端子と駆動素子とを接続するための配線が形成されている。基板端部における配線は、複数の接続端子に対応した金属材料の線状パターンとして形成されており、このパターン形成には、基板端部に塗布したフォトレジストを所望のパターンを有するマスクを介して露光する露光装置が用いられる。
【０００３】
近年、基板端部の額縁領域の狭域化を図ることなどの要求に応えるために、一端が基板端部の表面に形成された接続端子に接続される配線を基板端部の側面や背面側にまで引き延ばすことが検討されている。従来技術としては、基板の側面に延びる配線パターンを形成するために、マスクを介して基板の表面と側面に斜め方向から露光ビームを照射することが知られている（下記特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００６−５００６３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来技術のように、マスクパターンを介してフォトレジストを露光する露光装置を用いて基板端部に配線パターンを形成すると、配線パターン内は、一様なベタ塗りにならざるを得ない。これに対して、基板端部に引き出される接続端子の材料と配線の材料が異なる場合には、両者の接続部は異種金属層の積層によって構成されることになるが、この接続部を一様なパターンの積層構造で形成すると層間剥離が生じ易くなり、電気的な接続を良好に確保できない場合がある。
【０００６】
また、一般に基板の表面と側面の間の角部は面取りがなされており、表面や側面と異なる角度の斜面や曲面が形成されることが多いが、従来技術のような露光装置では、表面や側面を均一に露光できたとしてもこの面取り部分の露光状態が他の部分と異なる状態で露光されてしまい、全体的に不均一な露光になって配線の連続性が確保できない問題があった。
【０００７】
本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、基板端部の表面から側面、或いは基板端部の表面から側面を経由して基板の背面に延びる配線パターンを形成するに際して、接続端子と配線の電気的な接続の信頼性を高めることができること、配線パターンの連続性を確保することができること、などが本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このような目的を達成するために、本発明は、以下の構成を少なくとも具備するものである。
端部に複数の接続端子が配列された基板を支持し、前記端部を露光して前記接続端子に接続する配線パターンを形成する露光装置であって、前記端部の表面を露光する第１露光部と前記端部の側面を露光する第２露光部を備え、配線パターンの延設方向に沿って並列照射される複数のスポット光を前記端部の縁辺に沿って走査することで前記端部の表面と側面に連続した配線パターンを描画する露光ヘッドを備えることを特徴とする配線パターン露光装置。
【発明の効果】
【０００９】
このような特徴を有する本発明の配線パターン露光装置は、基板端部の表面を露光する第１露光部と基板端部の側面を露光する第２露光部を備え、配線パターンの延設方向に沿って並列照射される複数のスポット光を基板端部の縁辺に沿って走査して基板端部の表面と側面に連続した配線パターンを描画するので、基板端部の表面から側面に延びる配線パターンを形成するに際して、配線パターン内部に微細パターンを形成することができる。これによって、基板端部の接続端子と配線が異種金属の場合にも接続端子と配線の電気的な接続の信頼性を高めることができる。
【００１０】
また、基板端部の表面と側面との間の角部に面取り部が形成されている場合であっても、第２露光部が面取り部を含む露光範囲を有するようにし、第２露光部において、スポット光を集光する光学系の焦点深度を面取り部の深さより大きくすること、或いは面取り部に集光するスポット光の強度を側面に集光するスポット光の強度に対して大きくすることなどにより、面取り部を経由して形成される配線パターンの連続性を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態に係る配線パターン露光装置を示した説明図である。
【図２】本発明の他の実施形態に係る配線パターン露光装置を示した説明図である。
【図３】光源部の構成例を示した説明図である（（ａ）が側面構造、（ｂ）平面構造を示している。）。
【図４】本発明の実施形態に係る配線パターン露光装置によって形成される配線パターンの形成例を示した説明図である。
【図５】本発明の実施形態に係る配線パターン露光装置によって形成される配線パターンの形成例を示した説明図である（（ａ）が露光状態、（ｂ）が形成された配線パターンを示している。）。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。図１は本発明の一実施形態に係る配線パターン露光装置を示した説明図である。配線パターン露光装置１は、露光ヘッド１０と基板支持部２を備えており、基板端部に複数の接続端子Ｗａが配列された基板Ｗを支持し、基板端部を露光して接続端子Ｗａに接続する配線パターンを形成するものである。ここでの配線パターンは、基板端部に塗布されたフォトレジストを選択的に露光することで、露光箇所と非露光箇所によって形成される。図においては、Ｘ方向が基板端部の縁辺方向、Ｙ方向が基板の側面に垂直な方向、Ｚ方向が基板の表面に垂直な方向を指している。
【００１３】
露光ヘッド１０は、基板端部の表面を露光する第１露光部１１と基板端部の側面を露光する第２露光部１２を備え、第１露光部１１と第２露光部１２を一体にして基板Ｗの縁辺に沿った方向（走査方向：Ｘ方向）に走査するものである。この場合の図示省略した走査機構は、露光ヘッド１０と基板支持部２とを相対的に移動するものであり、基板支持部２を固定して露光ヘッド１０を移動させる機構であっても、露光ヘッド１０を固定して基板支持部２を移動させる機構であってもよい。
【００１４】
第１露光部１１と第２露光部１２はそれぞれ、光源部１１Ａ，１２Ａ、光伝導部１１Ｂ，１２Ｂ、集光レンズ部１１Ｃ，１２Ｃなどを備えている。第１露光部１１は、光源部１１Ａで発光した光（スポット光）を光伝導部１１Ｂにて伝導して、集光レンズ部１１Ｃで集光して、基板端部の表面に照射している。第２露光部１２は、光源部１２Ａで発光した光（スポット光）を光伝導部１２Ｂにて伝導して、集光レンズ部１２Ｃで集光して、基板端部の側面に照射している。ここで例えば、集光レンズ部１１ＣはＺ方向に沿った光軸を備えており、集光レンズ部１２ＣはＹ方向に沿った光軸を備えている。
【００１５】
第１露光部１１と第２露光部１２の光源部１１Ａ，１２Ａには、制御部３から駆動信号を送られ、光源部１１Ａと光源部１２Ａは同期した駆動信号で制御される。そして、露光ヘッド１０の走査と光源部１１Ａ，１２Ａの駆動制御によって、基板端部の表面と側面に連続した配線パターンが同時形成される。
【００１６】
図２は本発明の他の実施形態に係る配線パターン露光装置を示した説明図である。図１に示した例と共通する部位は同一符号を付して重複説明を省略する。図２に示した配線パターン露光装置１は、露光ヘッド１０が第１露光部１１，第２露光部１２に加えて、基板端部の背面を露光する第３露光部１３を備えている。第３露光部１３は、第１露光部１１，第２露光部１２と同様に、光源部１３Ａと光伝導部１３Ｂと集光レンズ部１３Ｃを備えており、集光レンズ部１３ＣはＺ方向に沿った光軸を備えている。
【００１７】
また、図２に示した配線パターン露光装置１は、露光ヘッド１０が接続端子Ｗａの位置を検知する端子位置検知手段１４を備えている。端子位置検知手段１４は、照明光源１４Ａと撮像装置１４Ｂと照明又は撮像光学系１４Ｃ，１４Ｄ，１４Ｅ，１４Ｆを備えており、露光ヘッド１０の走査に伴って基板端部に複数配列される接続端子Ｗａの画像を撮像することで、その位置を検知するものである。
【００１８】
このような配線パターン露光装置１は、撮像装置１４Ｂの画像データが制御部３に送られることで、端子位置検知手段１４の検知出力に応じて光源部１１Ａ，１２Ａ，１３Ａが駆動制御され、接続端子Ｗａの位置に応じて基板端部の表面，側面，背面に連続した配線パターンが同時形成される。
【００１９】
図３は、光源部の構成例を示した説明図である（（ａ）が側面構造、（ｂ）平面構造を示している。）。前述した光源部１１Ａ（１２Ａ，１３Ａ）は、複数の発光素子（ＬＤ）２０を並列して保持する発光素子アレイバー２０Ａを複数本並べることで構成することができる。一つの発光素子アレイバー２０Ａは、複数（ｍ個）の発光素子２０を備えることで走査方向Ｓｃと交差（直交）する方向に沿ってピッチＰ１（例えば、２００μｍ）の間隔で複数のスポット光２０Ｓを照射する。一つのスポット光２０Ｓは、Ｐ０×Ｐ０（例えば、４０×４０μｍ）の出射ビームサイズを備えており、これが集光レンズ部１１Ｃ（１２Ｃ，１３Ｃ）で所定倍率に縮小（例えば１／１０に縮小）されて被露光面に照射される。
【００２０】
発光素子アレイバー２０Ａは、走査方向Ｓｃに複数本（ｎ本，例えば、５本）並列されている。一つの発光素子アレイバー２０Ａにおけるスポット光２０ＳのピッチＰ１は、出射ビームサイズＰ０×ｎに設定されており、隣接する発光素子アレイバー２０Ａ間でスポット光２０Ｓの位置を走査方向と交差（直交）する方向に出射ビームサイズＰ０だけシフトすることで、隙間の無い線状パターンが形成できるようにしている。
【００２１】
このような光源部１１Ａ（１２Ａ，１３Ａ）を用い、配線パターンの延設方向に沿って並列照射される複数のスポット光２０Ｓを基板端部の縁辺に沿って走査することで、基板端部の表面と側面、或いは基板端部の表面と側面と裏面に連続した配線パターンを描画する。配線パターンは、Ｐ０×Ｐ０の出射ビームサイズを縮小したスポット光サイズ（例えば、４×４μｍ）の解像度で微細なパターン形成を行うことができる。また、第１露光部１１の一走査で形成される配線パターンの長さＬは、Ｐ１×（ｍ−１）＋Ｐ０×（ｎ−１）となる（ｍは発光素子アレイバー２０Ａの１本内の発光素子の数）。
【００２２】
図４は、本発明の実施形態に係る配線パターン露光装置によって形成される配線パターンの形成例を示した説明図である。ここでは液晶表示パネル（ＬＣＤ）１００の基板端部に形成される配線パターンＷｐの例を示している。液晶表示パネル１００は、前述した基板Ｗを構成するＴＦＴパネル１０１とカラーフィルターパネル１０２を封止層１０３で貼り合わせた構成を備えており、封止層１０３で囲まれた表示領域１０４から引き出された接続端子Ｗａに接続される配線パターンＷｐが基板Ｗの端部表面に形成される。ここでは、露光ヘッド１０を基板端部の縁辺に沿って走査しながら制御部３から送られる制御信号によって光源部１１Ａのスポット光２０Ｓをオンオフ制御することで、接続端子Ｗａと略同幅の配線パターンＷｐを形成すると共に、接続端子Ｗａ上の配線パターンＷｐ内であって、接続端子Ｗａと重なり合う接続部分には、ストライプ状の微細パターンＷｐ１を形成している。
【００２３】
図５は、本発明の実施形態に係る配線パターン露光装置によって形成される配線パターンの形成例を示した説明図であって、液晶表示パネルの断面構造に対して形成される配線パターンを示している（図４と共通の部分には同一符号を付して重複説明を省略する。（ａ）が露光状態、（ｂ）が形成された配線パターンを示している。）。ＴＦＴパネル１０１となる基板Ｗの端部には、その表面に第１露光部１１の露光光Ｌ１が照射され、その側面に第２露光部１２の露光光Ｌ２が照射され、その裏面に第３露光部１３の露光光Ｌ３が照射されている。ここで、基板Ｗには、基板端部の表面と側面との間、側面と裏面との間にそれぞれ面取り部Ｃが形成されている。
【００２４】
このような面取り部Ｃを有する基板Ｗに対して、第２露光部１２は、面取り部Ｃを含む露光範囲を有している。そして、露光光Ｌ２を形成するスポット光２０Ｓを集光する集光レンズ部（光学系）１２Ｃが、面取り部Ｃの深さｄより大きい焦点深度を有している。このように集光レンズ部１２Ｃの焦点深度を設定することで、面取り部Ｃが存在する場合にも第２露光部１２の露光範囲全体に均一な配線パターンを形成することができる。これによって、面取り部Ｃを有する基板Ｗにおいても、基板端部の表面，側面，裏面において連続性を有する配線パターンＷｐを形成することができる。
【００２５】
このような面取り部Ｃを有する基板に対しては、前述した集光レンズ部１２Ｃにおける焦点深度の設定に換えて、露光光Ｌ２を形成するスポット光２０Ｓの強度を露光範囲内で部分的に調整することでも配線パターンＷｐの連続性を確保することができる。この場合は、面取り部Ｃに集光するスポット光（露光範囲Ｓ１に照射するスポット光）の強度を側面に集光するスポット光（露光範囲Ｓ２に照射するスポット光）の強度に対して大きくする。これによって、面取り部Ｃの深さｄによって生じる集光点のずれによる露光むらをスポット光の強度調整によって相殺することができ、面取り部Ｃが存在する場合にも第２露光部１２の露光範囲全体に均一な配線パターンを形成することができる。
【００２６】
このように、本発明の実施形態に係る配線パターン露光装置１は、露光ヘッド１０が基板端部の表面を露光する第１露光部１１と基板端部の側面を露光する第２露光部１２を備え、また、基板端部の裏面を露光する第３露光部１３を備えて、配線パターンＷｐの延設方向に沿って並列照射される複数のスポット光２０Ｓを基板端部の縁辺に沿って走査して基板端部の表面と側面に連続した配線パターンＷｐを描画するので、基板端部の表面から側面に延びる配線パターンＷｐを形成するに際して、配線パターンＷｐ内部に微細パターンＷｐ１を形成することができる。これによって、基板端部の接続端子Ｗａと配線が異種金属の場合にも接続端子Ｗａと配線の電気的な接続の信頼性を高めることができる。
【００２７】
また、基板端部の表面と側面との間或いは側面と裏面の間の角部に面取り部Ｃが形成されている場合であっても、第２露光部１２が面取り部Ｃを含む露光範囲を有し、第２露光部１２において、スポット光２０Ｓを集光する光学系（集光レンズ部１２Ｃ）の焦点深度を面取り部の深さｄより大きくすること、或いは面取り部Ｃに集光するスポット光２０Ｓの強度を側面に集光するスポット光２０Ｓの強度に対して大きくすることにより、面取り部Ｃを経由して形成される配線パターンの連続性を確保することができる。
【００２８】
以上、本発明の実施の形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。また、上述の各実施の形態は、その目的及び構成等に特に矛盾や問題がない限り、互いの技術を流用して組み合わせることが可能である。
【符号の説明】
【００２９】
１：配線パターン露光装置，２：基板支持部，３：制御部，
１０：露光ヘッド，
１１：第１露光部，１２：第２露光部，１３：第３露光部，
１１Ａ，１２Ａ，１３Ａ：光源部，
１１Ｂ，１２Ｂ，１３Ｂ：光伝導部，
１１Ｃ，１２Ｃ，１３Ｃ：集光レンズ部，
１４：端子位置検知手段，
２０：発光素子，２０Ａ：発光素子アレイバー，２０Ｓ：スポット光，
Ｗ：基板，Ｗａ：接続端子，Ｗｐ：配線パターン，Ｗｐ１：微細パターン，
Ｃ：面取り部，
１００：液晶表示パネル
【図１】
2015022033.tif 000003
【図２】
2015022033.tif 000004
【図３】
2015022033.tif 000005
【図４】
2015022033.tif 000006
【図５】
2015022033.tif 000007