(57)【要約】【課題】狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶表示装置において、額縁部２２０には、ＴＦＴ基板とＣＦ基板により狭持され、シール４００で封止された液晶３００が配置され、ＣＦ基板はＢＭ１０２と色レジスト膜１０７とＯＣ膜１０３と配向膜１０４と配向膜が外側に拡がるのを抑制するための壁１０６とを有し、壁１０６が配置されている領域において、ＣＦ基板上のＢＭ１０２と色レジスト膜１０７が除去されている。【選択図】図５Ａ
2015040879.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する液晶表示装置において、
前記額縁部には、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板により狭持され、シールにより封止された液晶とが配置され、
前記第２の基板は、ブラックマトリクス（ＢＭ）、色レジスト膜、オーバーコート（ＯＣ）膜が順次積層された積層膜と、前記ＯＣ膜の前記液晶側に配置された配向膜と、前記配向膜が前記有効表示領域に対して外側に拡がるのを抑制するための壁とを有し、
前記シールは、前記壁を跨いで配置され、
前記壁が配置されている領域において、前記第２の基板上の前記ＢＭ、前記色レジスト膜、前記ＯＣ膜の少なくとも１層が部分的に除去されており、除去された層の厚さに応じて前記壁から前記第１の基板までの距離が広がっていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記除去された層は、前記ＢＭと前記色レジスト膜であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項２記載の液晶表示装置において、
前記第１の基板は、除去された前記ＢＭの領域を覆うように形成された遮光メタル膜を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記除去された層は、前記ＢＭと前記色レジスト膜と前記ＯＣ膜であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項４記載の液晶表示装置において、
前記第１の基板は、除去された前記ＢＭの領域を覆うように形成された遮光メタル膜を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記除去された層は、前記色レジスト膜と前記ＯＣ膜であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記除去された層は、前記色レジスト膜であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記壁は、前記有効表示領域に形成され、前記第１の基板と前記第２の基板との距離を決めるための複数の柱と同一材料で形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する液晶表示装置において、
前記額縁部には、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板により狭持され、シールにより封止された液晶とが配置され、
前記第２の基板は、ブラックマトリクス（ＢＭ）、オーバーコート（ＯＣ）膜が順次積層された積層膜と、前記ＯＣ膜の前記液晶側に配置された配向膜と、前記配向膜が前記有効表示領域に対して外側に拡がるのを抑制するための壁とを有し、
前記シールは、前記壁を跨いで配置され、
前記壁が配置されている領域において、前記第２の基板上の前記ＢＭ又は前記ＯＣ膜が部分的に除去されており、除去された層の厚さに応じて前記壁から前記第１の基板までの距離が広がっていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】
請求項９記載の液晶表示装置において、
前記除去された層は、前記ＢＭであることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の液晶表示装置において、
前記第１の基板は、除去された前記ＢＭの領域を覆うように形成された遮光メタル膜を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
請求項９記載の液晶表示装置において、
前記除去された層は、前記ＯＣ膜であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１３】
請求項９記載の液晶表示装置において、
前記壁は、前記有効表示領域に形成され、前記第１の基板と前記第２の基板との距離を決めるための複数の柱と同一材料で形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、狭額縁の液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置では、画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して、ＴＦＴ基板の画素電極と対応する場所にカラーフィルタ等が形成された対向基板（ＣＦ基板）が配置され、基板周辺には液晶組成物を封止するシール材が設けられている。また、表示領域に対して周辺部（額縁）を小さくする、所謂狭額縁化の要求により配向膜とシール材とが近接して設けられている。シール材の形成領域にまで配向膜が形成された液晶表示装置は、例えば特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−３０４４５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
発明者等は、表示領域に対する周辺部（額縁）において、配向膜が所定の位置より外側に出ないよう抑制するための壁を設けた液晶表示装置について試作し、検討を行った。なお、額縁に配置される前記壁は、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間の距離を調整するための柱状スペーサ（有効表示領域に配置）を形成する際に合わせて形成した。額縁が広い場合には、特に液晶表示装置の特性に異常は認められなかったが、狭額縁の液晶表示装置では周辺表示領域で色ムラの発生が見られた。
【０００５】
本発明の目的は、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するための一実施形態として、有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する液晶表示装置において、
前記額縁部には、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板により狭持され、シールにより封止された液晶とが配置され、
前記第２の基板は、ブラックマトリクス（ＢＭ）、カラーフィルタ（色レジスト膜）、オーバーコート（ＯＣ）膜が順次積層された積層膜と、前記ＯＣ膜の前記液晶側に配置された配向膜と、前記配向膜が前記有効表示領域に対して外側に拡がることを抑制するための壁とを有し、
前記シールは、前記壁を跨いで配置され、
前記壁が配置されている領域において、前記第２の基板上の前記ＢＭ、前記色レジスト膜、前記ＯＣ膜の少なくとも１層が部分的に除去されており、除去された層の厚さに応じて前記壁から前記第１の基板までの距離が広がっていることを特徴とする液晶表示装置とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】発明者等が検討した、又本発明の各実施例に係る液晶表示装置の概略平面図である。
【図２】発明者等が検討した液晶表示装置における額縁部の概略断面図である。
【図３】発明者等が検討した液晶表示装置（額縁が広い場合）における配向膜及びシール材の流れを説明するための額縁部の平面図である。
【図４】発明者等が検討した液晶表示装置（狭額縁の場合）における配向膜及びシール材の流れを説明するための額縁部の平面図である。
【図５Ａ】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図である。
【図５Ｂ】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はＣＦ基板、下図はＴＦＴ基板を示す。
【図６Ａ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図である。
【図６Ｂ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はＣＦ基板、下図はＴＦＴ基板を示す。
【図７Ａ】本発明の第３の実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図である。
【図７Ｂ】本発明の第３の実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はＣＦ基板、下図はＴＦＴ基板を示す。
【図８Ａ】本発明の第４の実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図である。
【図８Ｂ】本発明の第４の実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はＣＦ基板、下図はＴＦＴ基板を示す。
【図９Ａ】本発明の第５の実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図である。
【図９Ｂ】本発明の第５の実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はＣＦ基板、下図はＴＦＴ基板を示す。
【図１０Ａ】本発明の第６の実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図である。
【図１０Ｂ】本発明の第６の実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はＣＦ基板、下図はＴＦＴ基板を示す。
【図１１Ａ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（ガラス基板準備）。
【図１１Ｂ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（ＢＭ塗布）。
【図１１Ｃ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置を製造工程を説明するための概略断面図である（ＢＭ用フォトマスクでＵＶ照射）。
【図１１Ｄ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（余分なＢＭ除去）。
【図１１Ｅ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（色レジスト（赤Ｒ）塗布）。
【図１１Ｆ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（赤色レジスト用フォトマスクでＵＶ照射）。
【図１１Ｇ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（不要な色レジスト除去）。
【図１１Ｈ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（色レジスト（緑Ｇ）塗布）。
【図１１Ｉ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（緑色レジスト用フォトマスクでＵＶ照射）。
【図１１Ｊ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（不要な色レジスト除去）。
【図１１Ｋ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（色レジスト（青Ｂ）塗布）。
【図１１Ｌ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（青色レジスト用フォトマスクでＵＶ照射）。
【図１１Ｍ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（不要な色レジスト除去）。
【図１１Ｎ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（ＯＣ膜塗布）。
【図１１Ｏ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（ＳＯＣ膜塗布及びＳＯＣ膜用フォトレジストマスクでＵＶ照射）。
【図１１Ｐ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（不要なＳＯＣ膜除去：壁及び柱状スペーサ形成）。
【図１１Ｑ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（配向膜塗布）。
【図１１Ｒ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（シール材塗布）。
【図１１Ｓ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（ＣＦ基板とＴＦＴ基板とを張り合わせ）。
【図１１Ｔ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程を説明するための概略断面図である（シールが拡がり、完成）。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
発明者等は、狭額縁の液晶表示装置で発生した周辺表示領域での色ムラの原因を調べた。図１に発明者等が検討した液晶表示装置１００の概略平面図を示す。中央部に有効表示領域２１０が配置されており、その周辺が、配向膜を堰き止めるための壁１０６及びシール４００が形成された額縁２２０となっている。符号２３０は端子部を示す。この図のＡ−Ａ’ライン（額縁部）での概略断面図を図２に示す。ＴＦＴ基板とＣＦ基板（対向基板）とが張り合わさった構成を有しており、ＴＦＴ基板はガラス基板２０１と有機絶縁膜や無機絶縁膜、金属配線、半導体層等からなる積層膜（ＴＦＴ膜）２０２を有し、ＣＦ基板はガラス基板１０１とブラックマトリクス（ＢＭ）１０２、オーバーコート（ＯＣ）膜１０３、配向膜を堰き止めるための壁１０６、配向膜１０４とを有する。ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間には液晶３００と液晶を封止するためのシール４００が設けられている。図２中の破線は、狭額縁の場合のシールの先端（有効表示領域側の端部）を模式的に示す。また、記号ａ０は、壁１０６とＴＦＴ基板との間の間隔を示す。図１のＡ−Ａ’ライン（額縁部）付近での平面図を図３と図４に示す。符号２１０は有効表示領域、符号２２１は広額縁、符号２２２は狭額縁である。図３は額縁が広い場合であり、配向膜１０４は矢印１０５の方向に拡がり、壁１０６で停止する。シール４００は、ＴＦＴ基板とＣＦ基板とで挟まれることにより矢印４０１の方向に拡がり、壁１０６の手前で停止する。一方、図４は狭額縁の場合であり、配向膜１０４は矢印１０５の方向に拡がり、壁１０６で停止するが、シール４００は壁１０６を越えて壁の反対側の領域にまで浸入する（破線部）ことが困難となる。つまり、シール４００は壁１０６により堰止められ、十分に拡がる（潰れる）ことができず、特にシール形成領域においてＴＦＴ基板とＣＦ基板との間のギャップが広がり所定値より大となってしまうこと、これにより色シフトが生じてしまうことが分かった。本発明はこの知見により生まれたものであり、配向膜は堰き止めつつ、壁１０６とＴＦＴ基板との間の間隔（図２に示すａ０）を広げ、シールの通り道を確保するものである。
以下、本発明について実施例を用いて説明する。なお、図中において同一符号は同一構成要素を示す。
【実施例１】
【００１０】
本発明の第１の実施例について図５Ａ、図５Ｂ、図１１Ａ〜図１１Ｔを用いて説明する。図５Ａは本実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図であり、図５Ｂは本実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はＣＦ基板、下図はＴＦＴ基板を示す。
【００１１】
本実施例では、配向膜１０４の拡がりを停止するための壁１０６とＴＦＴ基板の最表面との間の距離ａ１を、図２で示したａ０よりも大きくするために、壁１０６を形成する領域において、ＣＦ基板上のブラックマトリクス（ＢＭ）１０２と色レジスト膜（カラーフィルタ）１０７を除去する構成とした。これにより、距離ａ１はＢＭ１０２と色レジスト膜１０７の合計の厚さ分だけ距離ａ０よりも広く確保できる。これにより、シール４００が壁１０６を越えて拡がり易くなり、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間の距離の変動を低減できる。これにより、周辺表示領域における色ムラの発生を抑制することができる。また、配向膜１０４は壁１０６で堰きとめられ、拡がりを抑制できる。これにより、信頼性寿命を確保することができる。また、ＢＭ１０２及び色レジスト膜１０７は有効表示領域では加工されて用いられるため、額縁の壁部分におけるこれらの膜の除去は工程数を増やすことなく行うことができる。但し、本実施例ではＢＭ１０２を除去するため、光抜けが懸念される。光抜けの影響がある場合の対策としては、例えば、ＴＦＴ基板側に遮光メタル膜２０３を設置すればよい。他の実施例でも同様であるが、ＢＭと色レジスト膜等のＣＦ基板側の膜を壁の部分で除去する場合、完全に除去することなく、膜厚を薄くすることでもある程度の効果を得ることができる。更に、ＢＭと色レジスト膜等のＣＦ基板側の膜を壁の部分で除去することにより、それら膜を介して外部から侵入する水分を防ぐことが可能となる。
【００１２】
次に、本実施例で示した液晶表示装置の製造方法について、図１１Ａ〜図１１Ｔを用いて説明する。先ず、ＢＭや色レジスト、壁等が形成されるガラス基板１０１を準備する（図１１Ａ）。なお、説明図において、中心から右側が有効表示領域を、左側が額縁を示す。次に、遮光のためのＢＭを塗布して１．５μｍの厚さのＢＭ膜１０２とする（図１１Ｂ）。次いで、ＢＭ用のフォトマスク１１１ａを用いて紫外線（ＵＶ）露光照射１１２を行う（図１１Ｃ）。引き続き、余分なＢＭを除去し、所望のパターンを有するＢＭ膜１０２を形成する（図１１Ｄ）。この際、有効表示領域におけるＢＭ除去だけでなく、額縁の壁形成領域におけるＢＭも除去される。この領域の幅は５０μｍとした。
【００１３】
次に、色レジスト（仮に、赤色Ｒ）を塗布して２μｍの色レジスト膜１０７Ｒとする（図１１Ｅ）。次いで、赤色レジスト用フォトマスク１１１ｂを用いてＵＶ照射１１２を行う（図１１Ｆ）。引き続き、余分な赤色レジスト膜を除去し、所望のパターンを有する赤色レジスト膜１０７Ｒを形成する（図１１Ｇ）。
【００１４】
次に、緑色レジストを塗布して２μｍの色レジスト膜１０７Ｇとする（図１１Ｈ）。次いで、緑色レジスト用フォトマスク１１１ｃを用いてＵＶ照射１１２を行う（図１１Ｉ）。引き続き、余分な緑色レジスト膜を除去し、所望のパターンを有する緑色レジスト膜１０７Ｇを形成する（図１１Ｊ）。
【００１５】
次に、青色レジストを塗布して２μｍの色レジスト膜１０７Ｂとする（図１１Ｋ）。次いで、青色レジスト用フォトマスク１１１ｄを用いてＵＶ照射１１２を行う（図１１Ｌ）。引き続き、余分な青色レジスト膜を除去し、所望のパターンを有する青色レジスト膜１０７Ｂを形成する（図１１Ｍ）。この際、有効表示領域における青レジスト膜除去だけでなく、額縁の壁形成領域における青色レジスト膜も除去される。
【００１６】
次に、オーバーコート（ＯＣ）を塗布して２μｍのＯＣ膜１０３とする（図１１Ｎ）。次いで、ＯＣ膜上にＳＯＣ（Space On Color filter）レジストを塗布して３μｍのＳＯＣレジスト膜とし、ＳＯＣレジスト膜用フォトマスク１１１ｅを用いてＵＶ照射１１２を行う（図１１Ｏ）。引き続き、余分なＳＯＣレジスト膜を除去し、所望のパターンを有するＳＯＣレジスト膜１０６を形成する（図１１Ｐ）。この際、有効表示領域にはＴＦＴ基板とＣＦ基板との間の距離を規定するための柱１０６が形成され、額縁においては配向膜の拡がりを抑制するための壁１０６が形成される。なお、本図では柱１０６が１本しか記載されていないが、実際には複数本の柱が形成される。
【００１７】
次に、配向膜を有効表示領域に塗布する。この配向膜の一部は有効表示領域から額縁まで拡がり、ＢＭ１０２と色レジスト膜１０７を除去することにより形成された凹部に浸入し、凹部に形成されたＳＯＣレジスト膜の壁１０６で停止する（図１１Ｑ）。なお、配向膜の厚さは０．１μｍ程度である。次いで、液晶を封止するためのシール４００を額縁の所定の箇所に塗布する（図１１Ｒ）。引き続き、この基板（ＣＦ基板）と別途作製した１０μｍの積層膜２０２を有するＴＦＴ基板とを重ね合わせ（図１１Ｓ）、貼り合わせることにより図５Ａに示した液晶表示装置の構成が完成する（図１１Ｔ）。ＢＭや色レジスト膜が部分的に除去された壁形成領域の凹（溝）部は配向膜溜まりとして使用可能であり、配向膜の堰き止め効果が向上する。なお、図１１Ｓ及び図１１Ｔでは、図５Ａと異なって基板の上下が反転しており、上側がＴＦＴ基板、下側がＣＦ基板となっている。また、遮光メタル膜２０３は、ＢＬ１０２が除去された領域（幅５０μｍ）を覆うように、幅７０μｍとした。また、ＴＦＴ基板に設ける遮光メタル膜はゲート電極形成時に合わせて形成することができるため、工程数の増加はない。
【００１８】
上記製造方法により図１に示す液晶表示装置１００を作製したところ、周辺液晶表示部での色ムラは認められなかった。
【００１９】
以上、本実施例によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。また、通常の製造工程では含まれないＯＣ膜の除去は含まれておらず、通常の製造工程で含まれている加工工程でＳＯＣレジスト膜の壁を形成する部分におけるＢＬと色レジスト膜を除去しており、製造工程を増加させることなく、前記壁１０６と前記ＴＦＴ基板との間の距離を広げることができる。尚、本実施例では、壁はＳＯＣと同時に形成されているが、表示装置によっては高さが２種類のＳＯＣ（メインＳＯＣ、メインＳＯＣよりも高さの低いサブＳＯＣ）を形成する場合がある。この場合、壁をサブＳＯＣで形成した場合、シールが壁をより乗り越えやすくなる。
【実施例２】
【００２０】
本発明の第２の実施例について、図６Ａ及び図６Ｂを用いて説明する。なお、実施例１に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用することができる。図６Ａは本実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図であり、図６Ｂは本実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はＣＦ基板、下図はＴＦＴ基板を示す。
【００２１】
本実施例では、配向膜１０４の拡がりを停止するための壁１０６とＴＦＴ基板の最表面との間の距離ａ２を、図２で示したａ０よりも大きくするために、壁１０６を形成する領域において、ＣＦ基板上のブラックマトリクス（ＢＭ）１０２と色レジスト膜１０７、オーバーコート（ＯＣ）膜１０３を除去する構成とした。これにより、距離ａ２はＢＭ１０２と色レジスト膜１０７、ＯＣ膜１０３の合計の厚さ分だけ距離ａ０よりも広く確保できる。これにより、シール４００が壁１０６を越えて実施例１で示した構成よりも拡がり易くなり、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間の距離の変動を低減できる。これにより、周辺表示領域における色ムラの発生を抑制することができる。また、配向膜１０４は壁１０６で堰きとめられ、拡がりを抑制できる。これにより、信頼性寿命を確保することができる。但し、本実施例ではＢＭ１０２を除去するため、光抜けが懸念される。光抜けの影響がある場合の対策としては、例えば、ＴＦＴ基板側に遮光メタル膜２０３を設置すればよい。
【００２２】
図１１Ａ〜図１１Ｔに示す製造方法に倣い、図１に示す液晶表示装置１００を作製した。なお、実施例１と製造方法の違いは、ＳＯＣレジスト膜の壁１０６を形成する領域のＯＣ膜を除去する工程が追加される点である。この液晶表示装置を評価した結果、周辺液晶表示部での色ムラは認められなかった。
【００２３】
以上、本実施例によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。また、ＳＯＣレジスト膜の壁１０６を形成する領域において、ＢＭと色レジスト膜の他ＯＣ膜も除去することから、前記壁とＴＦＴ基板のＴＦＴ膜(絶縁膜)との間の距離を実施例１に示す構成よりも大きくすることができる。
【実施例３】
【００２４】
本発明の第３の実施例について、図７Ａ及び図７Ｂを用いて説明する。なお、実施例１に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用することができる。図７Ａは本実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図であり、図７Ｂは本実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はＣＦ基板、下図はＴＦＴ基板を示す。
【００２５】
本実施例では、配向膜１０４の拡がりを停止するための壁１０６とＴＦＴ基板の最表面との間の距離ａ３を、図２で示したａ０よりも大きくするために、壁１０６を形成する領域において、ＣＦ基板上の色レジスト膜１０７とオーバーコート（ＯＣ）膜１０３を除去する構成とした。これにより、距離ａ３は色レジスト膜１０７とＯＣ膜１０３の合計の厚さ分だけ距離ａ０よりも広く確保できる。これにより、シール４００が壁１０６を越えて拡がり易くなり、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間の距離の変動を低減できる。これにより、周辺表示領域における色ムラの発生を抑制することができる。また、配向膜１０４は壁１０６で堰きとめられ、拡がりを抑制できる。これにより、信頼性寿命を確保することができる。また、本実施例ではＢＭ１０２を除去しないため、光抜けの懸念がなく光抜け対策は不要である。
【００２６】
図１１Ａ〜図１１Ｔに示す製造方法に倣い、図１に示す液晶表示装置１００を作製した。なお、実施例２との製造方法の違いは、ＳＯＣレジスト膜の壁１０６を形成する領域のＢＭを除去する工程が不要な点である。この液晶表示装置を評価した結果、周辺液晶表示部での色ムラは認められなかった。
【００２７】
以上、本実施例によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。また、ＳＯＣレジスト膜の壁１０６を形成する領域において、ＢＭを除去しないため、光抜け対策が不要である。
【実施例４】
【００２８】
本発明の第４の実施例について、図８Ａ及び図８Ｂを用いて説明する。なお、実施例１に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用することができる。図８Ａは本実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図であり、図８Ｂは本実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はＣＦ基板、下図はＴＦＴ基板を示す。
【００２９】
本実施例では、配向膜１０４の拡がりを停止するための壁１０６とＴＦＴ基板の最表面との間の距離ａ４を、図２で示したａ０よりも大きくするために、壁１０６を形成する領域において、ＣＦ基板上の色レジスト膜１０７を除去する構成とした。これにより、距離ａ４は色レジスト膜１０７の厚さ分だけ距離ａ０よりも広く確保できる。これにより、シール４００が壁１０６を越えて拡がり易くなり、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間の距離の変動を低減できる。これにより、周辺表示領域における色ムラの発生を抑制することができる。また、配向膜１０４は壁１０６で堰きとめられ、拡がりを抑制できる。これにより、信頼性寿命を確保することができる。また、色レジスト膜１０７は有効表示領域では加工されて用いられるため、額縁の壁部分におけるこの膜の除去は工程数を増やすことなく行うことができる。また、本実施例ではＢＭ１０２を除去しないため、光抜けの懸念がなく光抜け対策は不要である。
【００３０】
図１１Ａ〜図１１Ｔに示す製造方法に倣い、図１に示す液晶表示装置１００を作製した。なお、実施例１との製造方法の違いは、ＳＯＣレジスト膜の壁１０６を形成する領域のＢＭを除去する工程が不要な点である。この液晶表示装置を評価した結果、周辺液晶表示部での色ムラは認められなかった。
【００３１】
以上、本実施例によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。また、通常の製造工程では含まれないＯＣ膜の除去は含まれておらず、通常の製造工程で含まれている加工工程でＳＯＣレジスト膜の壁を形成する部分における色レジスト膜を除去しており、製造工程を増加させることなく、前記壁１０６と前記ＴＦＴ基板との間の距離を広げることができる。また、ＳＯＣレジスト膜の壁１０６を形成する領域において、ＢＭを除去しないため、光抜け対策が不要である。
【実施例５】
【００３２】
本発明の第５の実施例について、図９Ａ及び図９Ｂを用いて説明する。なお、実施例１に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用することができる。図９Ａは本実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図であり、図９Ｂは本実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はＣＦ基板、下図はＴＦＴ基板を示す。本実施例は額縁に色レジスト膜がない場合の例である。
【００３３】
本実施例では、配向膜１０４の拡がりを停止するための壁１０６とＴＦＴ基板の最表面との間の距離ａ５を、図２で示したａ０（図２において色レジスト膜がない場合を想定）よりも大きくするために、壁１０６を形成する領域において、ＣＦ基板上のブラックマトリクス（ＢＭ）１０２を除去する構成とした。これにより、距離ａ５はＢＭ１０２の厚さ分だけ距離ａ０よりも広く確保できる。これにより、シール４００が壁１０６を越えて拡がり易くなり、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間の距離の変動を低減できる。これにより、周辺表示領域における色ムラの発生を抑制することができる。また、配向膜１０４は壁１０６で堰きとめられ、拡がりを抑制できる。これにより、信頼性寿命を確保することができる。また、ＢＭ１０２は有効表示領域では加工されて用いられるため、額縁の壁部分におけるこの膜の除去は工程数を増やすことなく行うことができる。但し、本実施例ではＢＭ１０２を除去するため、光抜けが懸念される。光抜けの影響がある場合の対策としては、例えば、ＴＦＴ基板側に遮光メタル膜２０３を設置すればよい。
【００３４】
図１１Ａ〜図１１Ｔに示す製造方法に倣い、図１に示す液晶表示装置１００を作製した。なお、実施例１との製造方法の違いは、額縁に色レジスト膜を残さない点である。この液晶表示装置を評価した結果、周辺液晶表示部での色ムラは認められなかった。
【００３５】
以上、本実施例によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。また、通常の製造工程では含まれないＯＣ膜の除去は含まれておらず、通常の製造工程で含まれている加工工程でＳＯＣレジスト膜の壁を形成する部分におけるＢＭを除去しており、製造工程を増加させることなく、前記壁１０６と前記ＴＦＴ基板との間の距離を広げることができる。
【実施例６】
【００３６】
本発明の第６の実施例について、図１０Ａ及び図１０Ｂを用いて説明する。なお、実施例１に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用することができる。図１０Ａは本実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図であり、図１０Ｂは本実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はＣＦ基板、下図はＴＦＴ基板を示す。本実施例は額縁に色レジスト膜がない場合の例である。
【００３７】
本実施例では、配向膜１０４の拡がりを停止するための壁１０６とＴＦＴ基板の最表面との間の距離ａ６を、図２で示したａ０（図２において色レジスト膜がない場合を想定）よりも大きくするために、壁１０６を形成する領域において、ＣＦ基板上のオーバーコート（ＯＣ）膜１０３を除去する構成とした。これにより、距離ａ６はＯＣ膜１０３の厚さ分だけ距離ａ０よりも広く確保できる。これにより、シール４００が壁１０６を越えて拡がり易くなり、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間の距離の変動を低減できる。これにより、周辺表示領域における色ムラの発生を抑制することができる。また、配向膜１０４は壁１０６で堰きとめられ、拡がりを抑制できる。これにより、信頼性寿命を確保することができる。
【００３８】
図１１Ａ〜図１１Ｔに示す製造方法に倣い、図１に示す液晶表示装置１００を作製した。なお、実施例５との製造方法の違いは、壁１０６を形成する領域において、ＣＦ基板上のＢＭ１０２は除去せず、ＯＣ膜１０３を除去する点にある。この液晶表示装置を評価した結果、周辺液晶表示部での色ムラは認められなかった。
【００３９】
以上、本実施例によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。また、ＳＯＣレジスト膜の壁１０６を形成する領域において、ＢＭを除去しないため、光抜け対策が不要である。
【００４０】
なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、カラーフィルタをＴＦＴ基板側に形成する構成であったとしても、ＢＭやＯＣ膜を除去することで本願発明を実現することが可能となる。また、ＳＯＣをＣＦ基板側に設けず、ＴＦＴ基板側にスペーサを形成する構成とし、壁をＴＦＴ基板側のスペーサと同時に形成することも可能である。その場合、壁が形成される箇所のＴＦＴ基板側に形成される膜の一部を除去することも可能である。もちろん、壁に対向する対向基板側の膜を除去してもよい。もちろん、ＣＦ基板側に壁が形成される場合であっても、壁に対向するＴＦＴ基板側の何かしらの膜を除去することで本願発明の効果を得ることができる。また、壁は、表示領域の周辺全体を閉塞する形状で設けているが、額縁に余裕のある箇所、例えば図1の端子部２３０側に設けない構成であってもよい。また、上述の実施形態では、液晶表示装置について記載しているが、有機ＥＬであっても、防湿やタッチパネル一体化の目的等で、有機ＥＬ素子が形成されるＴＦＴ基板に対向する基板を設け、ＴＦＴ基板と対向基板とをシールで接着する場合が考えられるが、そのような構成の有機ＥＬ型表示装置であっても本願発明を適用することが可能となる。その場合、カラーフィルタを使用する有機ＥＬ型表示装置であれば、本願のカラーフィルタが対応させることが出来るが、他の有機膜や無機膜であっても本願発明を適用することが可能となる。上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることも可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
【００４１】
以上、本願発明を詳細に説明したが、以下に列挙する発明の形態も含まれる。  
（１）有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する表示装置において、
前記額縁部には、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間を封止するシールとが配置され、
前記第２の基板は、前記シールが跨って配置される壁を有し、
前記壁が形成される領域における前記第２の基板から前記壁が形成される領域に対向する前記第１の基板の表面迄の距離は、前記壁が形成される領域の周辺からの距離よりも大きいことを特徴とする表示装置。  
（２）有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する表示装置において、
前記額縁部には、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間を封止するシールとが配置され、
前記第２の基板は、前記シールが跨って配置される壁を有し、
前記壁の高さは、前記有効表示領域に形成され、前記第１の基板と前記第２の基板との距離を決めるための複数の柱の高さよりも低く、前記複数の柱に対する前記壁の低さに応じて前記壁から前記第１の基板までの距離が広がっていることを特徴とする表示装置。  
（３）有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する液晶表示装置において、
前記額縁部には、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板により狭持され、シールにより封止された液晶とが配置され、
前記第２の基板は、配向膜と、前記配向膜が前記有効表示領域に対して外側に拡がるのを抑制するための壁とを有し、
前記シールは、前記壁を跨いで配置され、
前記壁が形成される領域における前記第２の基板から前記壁が形成される領域に対向する前記第１の基板の表面迄の距離は、前記壁が形成される領域の周辺からの距離よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。  
（４）有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する液晶表示装置において、
前記額縁部には、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板により狭持され、シールにより封止された液晶とが配置され、
前記第２の基板は、配向膜と、前記配向膜が前記有効表示領域に対して外側に拡がるのを抑制するための壁とを有し、
前記シールは、前記壁を跨いで配置され、
前記壁の高さは、前記有効表示領域に形成され、前記第１の基板と前記第２の基板との距離を決めるための複数の柱の高さよりも低く、前記複数の柱に対する前記壁の低さに応じて前記壁から前記第１の基板までの距離が広がっていることを特徴とする液晶表示装置。
【符号の説明】
【００４２】
１００…液晶表示装置、１０１…ＣＦガラス基板、１０２…ブラックマトリクス（ＢＭ）、１０３…オーバーコート（ＯＣ）膜、１０４…配向膜、１０５…配向膜の広がり方向、１０６…柱（壁）、１０７…色レジスト膜、１０７Ｒ…赤色レジスト膜、１０７Ｂ…青色レジスト膜、１０７Ｇ…緑色レジスト膜、１１１ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ…フォトマスク、１１２…紫外線（ＵＶ）露光光照射、２０１…ＴＦＴガラス基板、２０２…ＴＦＴ膜（有機絶縁膜や無機絶縁膜、金属配線、半導体層等からなる積層膜）、２０３…遮光メタル膜、２１０…有効表示領域、２２０…額縁（部）、２２１…広額縁、２２２…狭額縁、２３０…端子部、３００…液晶、４００…シール、４０１…シールの広がり方向。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１１Ｄ】
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【図１１Ｅ】
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【図１１Ｆ】
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【図１１Ｇ】
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【図１１Ｈ】
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【図１１Ｉ】
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【図１１Ｊ】
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【図１１Ｋ】
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【図１１Ｌ】
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【図１１Ｍ】
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【図１１Ｎ】
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【図１１Ｏ】
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【図１１Ｐ】
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【図１１Ｑ】
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【図１１Ｒ】
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【図１１Ｓ】
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【図１１Ｔ】
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