(57)【要約】      （修正有）【課題】効率よく測定を繰り返すことができるＡＴＲ測定装置及びＡＴＲ測定方法を提供する。【解決手段】ＡＴＲ測定装置１は、外部から光を内部へ入力する光入力面５０ａ、光入力面５０ａを経て入力した光を全反射させるとともに試料７０を載置する試料載置面５０ｃ、および、試料載置面５０ｃで全反射した光を外部へ出力する光出力面５０ｂを有するＡＴＲプリズム５０と、測定時に測定位置に配置されたＡＴＲプリズム５０に対し、光入力面５０ａを経てＡＴＲプリズム５０の内部に入力させる光を出力する光源１０と、光源１０から出力されてＡＴＲプリズム５０の光入力面５０ａ、試料載置面５０ｃおよび光出力面５０ｂを経て到達した光を検出する検出器６０と、を備え、ＡＴＲプリズム５０が、試料載置面５０ｃを有する少なくとも一部であって測定位置に対して着脱自在である着脱自在部を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部から光を内部へ入力する光入力面、前記光入力面を経て入力した光を全反射させるとともに試料を載置する試料載置面、および、前記試料載置面で全反射した光を外部へ出力する光出力面を有するＡＴＲプリズムと、
測定時に測定位置に配置された前記ＡＴＲプリズムに対し、前記光入力面を経て前記ＡＴＲプリズムの内部に入力させる光を出力する光源と、
前記光源から出力されて前記ＡＴＲプリズムの前記光入力面、前記試料載置面および前記光出力面を経て到達した光を検出する検出器と、
を備え、
前記ＡＴＲプリズムが、前記試料載置面を有する少なくとも一部であって前記測定位置に対して着脱自在である着脱自在部を含む、
ことを特徴とするＡＴＲ測定装置。
【請求項２】
前記ＡＴＲプリズムが、
前記光入力面および前記光出力面を有するとともに、前記光入力面および前記光出力面とは別の第１接触面を有する第１プリズムと、
前記試料載置面を有するとともに、前記試料載置面とは別の第２接触面を有し、測定時に前記第１接触面と前記第２接触面とが互いに面接触して前記測定位置に配置され、前記着脱自在部である第２プリズムと、
を含むことを特徴とする請求項１に記載のＡＴＲ測定装置。
【請求項３】
前記第１プリズムと前記第２プリズムとは同じ材料からなる、ことを特徴とする請求項２に記載のＡＴＲ測定装置。
【請求項４】
前記第２プリズムは前記第１プリズムの材料よりも高屈折率の材料からなる、ことを特徴とする請求項２に記載のＡＴＲ測定装置。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか１項に記載のＡＴＲ測定装置を用いてＡＴＲ測定を行う方法であって、
第１測定時に、前記着脱自在部を前記測定位置に配置して測定を行い、
前記第１測定が終了した後に、前記第１測定時に用いた前記着脱自在部を前記測定位置から取り外し、
前記第１測定の後の第２測定時に、新たな前記着脱自在部を前記測定位置に配置して測定を行う、
ことを特徴とするＡＴＲ測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＡＴＲ測定装置及びＡＴＲ測定方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
分光測定方法は、ＦＴ（フーリエ変換）型の測定方法と高感度、高速応答の検出器の登場により、１秒以下で高速測定を行い、連続的にスペクトルを取得することが可能となっている。これにより、例えば、ＵＶ硬化樹脂にＵＶ照射した際の硬化反応について、時間を追って測定するような反応追跡測定を行うことができる。
【０００３】
分光測定方法の一つとして、ＡＴＲ（attenuated  total  reflection）測定方法が知られている（特許文献１，２参照）。ＡＴＲ測定方法は、試料をプリズムに接触させ、光がプリズム内で全反射する際に生じる光の滲み出し（エバネッセント光）を用い、試料の吸収スペクトルを取得する方法である。プリズムには、高屈折率を有し且つ測定波長領域の吸収損失が少ないダイヤモンドやゲルマニウム等の材料が用いられる。エバネッセント光の滲み出す距離は数μｍ程度であるため、試料とプリズムとの接触界面の情報のみを取得することができる。このため、例えば、非常に吸収が大きいような物質の測定に適している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−１４９１４２号公報
【特許文献２】特開２００７−２７９０２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このようなＡＴＲ測定方法により、例えば、ＵＶ硬化樹脂を試料として反応追跡測定を行う場合、硬化反応後の試料がプリズムに接着、固着してしまう。これを除去し、プリズムを測定可能な状態に戻すには、多くの時間を要し、効率よく測定を繰り返すことができない。なお、エバネッセント光の滲み出す距離は数μｍ程度と短いため、試料とプリズムとの間に保護層や剥離層を設けることができない。
【０００６】
本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、効率よく測定を繰り返すことができるＡＴＲ測定装置及びＡＴＲ測定方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のＡＴＲ測定装置は、外部から光を内部へ入力する光入力面、光入力面を経て入力した光を全反射させるとともに試料を載置する試料載置面、および、試料載置面で全反射した光を外部へ出力する光出力面を有するＡＴＲプリズムと、測定時に測定位置に配置されたＡＴＲプリズムに対し、光入力面を経てＡＴＲプリズムの内部に入力させる光を出力する光源と、光源から出力されてＡＴＲプリズムの光入力面、試料載置面および光出力面を経て到達した光を検出する検出器と、を備え、ＡＴＲプリズムが、試料載置面を有する少なくとも一部であって測定位置に対して着脱自在である着脱自在部を含むことを特徴とする。
【０００８】
ＡＴＲプリズムが、光入力面および光出力面を有するとともに、光入力面および光出力面とは別の第１接触面を有する第１プリズムと、試料載置面を有するとともに、試料載置面とは別の第２接触面を有し、測定時に第１接触面と第２接触面とが互いに面接触して測定位置に配置され、着脱自在部である第２プリズムと、を含んでいてもよい。第１プリズムと第２プリズムとは同じ材料からなっていてもよいし、第２プリズムは第１プリズムの材料よりも高屈折率の材料からなっていてもよい。
【０００９】
本発明のＡＴＲ測定方法は、上記の本発明のＡＴＲ測定装置を用いてＡＴＲ測定を行う方法であって、第１測定時に、着脱自在部を測定位置に配置して測定を行い、第１測定が終了した後に、第１測定時に用いた着脱自在部を測定位置から取り外し、第１測定の後の第２測定時に、新たな着脱自在部を測定位置に配置して測定を行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ＡＴＲ測定を効率よく繰り返すことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】ＡＴＲ測定装置１の構成を示す図である。
【図２】インターフェログラムの測定例である。
【図３】インターフェログラムをフーリエ変換して得られた吸収スペクトルの例である。
【図４】硬化反応の時間プロファイルの例である。
【図５】第１実施形態のＡＴＲ測定装置１を用いたＡＴＲ測定の際の手順を示す図である。
【図６】第２実施形態のＡＴＲ測定装置１を用いたＡＴＲ測定の際の手順を示す図である。
【図７】実施例１のＡＴＲ測定装置１を用いたＡＴＲ測定の際の手順を示す図である。
【図８】実施例３のＡＴＲ測定装置１を用いたＡＴＲ測定の際の手順を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００１３】
図１は、ＡＴＲ測定装置１の構成を示す図である。ＡＴＲ測定装置１は、光源１０、マイケルソン干渉計２０、架台３０、架台３０に位置固定される反射鏡４１〜４４、ＡＴＲプリズム５０および検出器６０を備える。
【００１４】
光源１０は、一定の波長帯域を有する測定光をマイケルソン干渉計２０に向けて出力する。光源１０が出力する測定光の波長範囲は、測定の対象である試料７０に応じて適宜選択される。光源１０は、例えば、赤外光を出力するセラミックヒーターとすることができる。
【００１５】
マイケルソン干渉計２０は、半透鏡２１、可動鏡２２および固定鏡２３から構成される。半透鏡２１は、光源１０から出力された測定光を２つの光束に分岐させる。可動鏡２２は、半透鏡２１により分岐された光束のうち一方を反射する。固定鏡２３は、半透鏡２１により分岐された光束のうちもう一方を反射する。半透鏡２１は、可動鏡２２および固定鏡２３で反射された各光束を入力して再び合成し、干渉光を出力する。可動鏡２２は、その位置を変えることによって、２つの光束の光路長差を変化させる。
【００１６】
架台３０は、反射鏡４１〜４４およびＡＴＲプリズム５０の位置を固定する。反射鏡４１、４２は、マイケルソン干渉計２０から出力された干渉光を反射させ、ＡＴＲプリズム５０に導く。反射鏡４３、４４は、ＡＴＲプリズム５０から出力された光を反射させ、検出器６０へ導く。
【００１７】
ＡＴＲプリズム５０は、光入力面５０ａ、光出力面５０ｂおよび試料載置面５０ｃを有し、例えばダイヤモンドやゲルマニウム等の透明材料からなる。光入力面５０ａは、反射鏡４１、４２で反射された光をＡＴＲプリズム５０の内部に入力する面である。光出力面５０ｂは、光をＡＴＲプリズム５０の外部に出力して、その光を反射鏡４３、４４に入力させる面である。試料載置面５０ｃは、試料７０を載置するとともに、光入力面５０ａから入力された光を光出力面５０ｂへ全反射する面である。光入力面５０ａおよび光出力面５０ｂは、平面であってもよいし、曲面であってもよい。試料載置面５０ｃは、試料が載置しやすく且つ光を光入力面５０ａから光出力面５０ｂに全反射することができれば、平面であってもよいし、曲面であってもよい。
【００１８】
ＡＴＲプリズム５０は、単一のプリズムでも、複数のプリズムを組み合わせたものでもよい。ＡＴＲプリズム５０が単一のプリズムである場合は、ＡＴＲプリズム５０全体を架台３０の測定位置に着脱自在に位置固定される着脱自在部とする。また、ＡＴＲプリズム５０が複数のプリズムを組み合わせたプリズムである場合は、少なくとも試料載置面５０ｃを有する部分を着脱自在部とする。
【００１９】
検出器６０は、反射鏡４３、４４で反射されて到達した光を入力し、その光の強度を表す電気信号を出力する。検出器６０は、例えば、フォトダイオードとすることができる。
【００２０】
光源１０から出力された測定光は、マイケルソン干渉計２０に入力され、半透鏡２１で２つに分岐され、その一方は可動鏡２２で反射されるとともに、もう一方は固定鏡２３で反射される。可動鏡２２および固定鏡２３で反射された各光束は、半透鏡２１で再び合成され、干渉光として出力される。
【００２１】
マイケルソン干渉計２０から出力された干渉光は、反射鏡４１、４２によって反射され、ＡＴＲプリズム５０の内部に光入力面５０ａを経て入力され、試料載置面５０ｃで全反射され、光出力面５０ｂを経てＡＴＲプリズム５０の外部に出力される。ＡＴＲプリズム５０から出力された光は、反射鏡４３、４４によって反射され、検出器６０に入力される。可動鏡２２の位置によって光路長差を変化させながら、検出器６０によって干渉光強度を検出することで、光路長変化に対する干渉光強度の分布（インターフェログラム）が得られる。
【００２２】
ＡＴＲ測定装置１によって、例えば、ＵＶ硬化樹脂にＵＶ照射した際の硬化反応の反応追跡測定を行う場合について説明する。試料７０は、ＵＶ硬化樹脂で、ＡＴＲプリズム５０の試料載置面５０ｃに載置される。ＵＶ光源８０は、架台３０に位置固定され、試料７０にＵＶ光を照射する。測定光がＡＴＲプリズム５０内部で試料載置面５０ｃによって全反射される際、エバネッセント光の一部が波長に応じて試料７０により吸収される。測定光として赤外光を選択すると、試料７０の分子構造の振動あるいは回転の状態が把握できるため、硬化反応で生じる分子構造の変化が追跡測定できて好ましい。測定は、まず試料載置面５０ｃに試料７０がない状態（バックグラウンド）で行う。次に、試料載置面５０ｃに試料７０を載置した状態で、試料７０にＵＶ光源８０によってＵＶ光を照射し、可動鏡２２の位置を変えながら行う。干渉光強度を検出器６０により連続的に検出し、一定時間毎にインターフェログラムを測定することを繰り返す。
【００２３】
図２は、インターフェログラムの測定例である。それぞれ一定の時間間隔を有する時刻ｔ１〜ｔ４において測定されたものである。このようなインターフェログラムをフーリエ変換することによって、吸収スペクトルを得ることができる。図３は、インターフェログラムをフーリエ変換して得られた吸収スペクトルの例である。連続測定されたインターフェログラムから、それぞれフーリエ変換により得られた吸収スペクトルが、測定時刻順に並べられている。各吸収スペクトルは、バックグラウンドで補正されている。
【００２４】
図４は、硬化反応の時間プロファイルの例である。ある特定波数における吸光度と測定時刻との関係をプロットしたものとなっている。特定波数として、硬化反応に関連する分子構造に起因して吸収される光の波数を選択することにより、硬化反応の時間プロファイルを得ることができる。
【００２５】
ＡＴＲプリズム５０を単一のプリズムとした例を第１実施形態、複数のプリズムとした例を第２実施形態とし、ＡＴＲ測定装置１を用いたＡＴＲ測定の際の手順について以下に説明する。なお、ＡＴＲ測定は２回行うものとし、１回目のＡＴＲ測定を第１測定、２回目のＡＴＲ測定を第２測定とする。
【００２６】
（第１実施形態）
図５は、第１実施形態のＡＴＲ測定装置１を用いたＡＴＲ測定の際の手順を示す図である。同図は、ＡＴＲ測定装置１の要部のみを示す。同図（ａ）は、第１測定時の状態を示す図である。架台３０の測定位置にＡＴＲプリズム５０Ａが位置固定されるとともに、ＡＴＲプリズム５０Ａの試料載置面５０ｃに試料７０が載置され、この状態で第１測定が行われる。同図（ｂ）は、第１測定が終了した後の状態を示す図である。ＡＴＲプリズム５０Ａは試料載置面５０ｃに載置された試料７０とともに架台３０から取り外される。同図（ｃ）は、第２測定前の状態を示す図である。第２測定に備えて新たにＡＴＲプリズム５０Ｂが架台３０の測定位置に配置される。ＡＴＲプリズム５０Ｂは、ＡＴＲプリズム５０Ａと同一形状且つ同一材料である。この後、第２測定が行われる。
【００２７】
（第２実施形態）
図６は、第２実施形態のＡＴＲ測定装置１を用いたＡＴＲ測定の際の手順を示す図である。同図は、ＡＴＲ測定装置１の要部のみを示す。同図（ａ）は、第１測定時の状態を示す図である。架台３０の測定位置にＡＴＲプリズム５０Ａが位置固定されるとともに、ＡＴＲプリズム５０Ａの試料載置面５０ｃに試料７０が載置され、この状態で第１測定が行われる。ＡＴＲプリズム５０Ａは、第１プリズム５１および第２プリズム５２Ａから構成される。第１プリズム５１は、光入力面５０ａ、光出力面５０ｂおよび第１接触面５０ｄを有する。第２プリズム５２Ａは、試料載置面５０ｃおよび第２接触面５０ｅを有する。第２プリズム５２Ａは、第１接触面５０ｄと第２接触面５０ｅとが互いに面接触することによって測定位置に配置される着脱自在部である。第１接触面５０ｄおよび第２接触面５０ｅは、互いの面精度が高いため大気圧で吸着する。第１プリズム５１および第２プリズム５２Ａは、例えば、ダイヤモンドやゲルマニウム等の透明材料からなり、互いに同じ材料を選択するか、第１プリズム５１より第２プリズム５２Ａの屈折率が高くなるように材料を選択する。これにより測定光を試料載置面５０ｃで全反射させることができる。
【００２８】
同図（ｂ）は、第１測定が終了した後の状態を示す図である。第２プリズム５２Ａは、試料載置面５０ｃに載置された試料７０とともに第１プリズム５１から分離して取り外される。第１プリズム５１は、架台３０の測定位置に位置固定されたままとする。同図（ｃ）は、第２測定前の状態を示す図である。ＡＴＲプリズム５０Ｂは、第１プリズム５１および第２測定に備えて新たに配置された第２プリズム５２Ｂから構成される。第２プリズム５２Ｂは、第２プリズム５２Ａと同一形状且つ同一材料である。この後、第２測定が行われる。なお、第１プリズム５１は、架台３０の測定位置に対して着脱自在としてもよい。
【実施例】
【００２９】
以下、実施例により、本発明の内容を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３０】
（実施例１）
実施例１について説明する。実施例１は第１実施形態に対応する。図７は、実施例１のＡＴＲ測定装置１を用いたＡＴＲ測定の際の手順を示す図であり、図５に対応する。図７は、ＡＴＲ測定装置１の要部のみを示す。まずバックグラウンド測定を行った後、第１測定、さらに第２測定を行った。
【００３１】
図７（ａ）は、第１測定時の状態を示す図であり、図５（ａ）に対応する。ＡＴＲプリズム５０Ａは、シリコンで構成し、断面が直角二等辺三角形である三角柱（１５×１５×１１ｍｍ）とした。試料７０Ａは、ＵＶ硬化アクリル樹脂とした。試料載置枠９０は、アルミニウムで構成し、円筒形状（内径１０ｍｍ、外径２０ｍｍ、高さ３ｍｍ）とした。試料載置枠９０は、硬化前の試料７０が液体であるため、その流出を防止する目的で用いた。試料載置枠９０は、試料７０が液体の場合でも少量であれば用いなくてもよい。
【００３２】
架台３０の測定位置にＡＴＲプリズム５０Ａを位置固定し、ＡＴＲプリズム５０Ａの試料載置面５０ｃに試料載置枠９０を載置した。この試料載置枠９０内の試料載置面５０ｃに試料７０を流し込んだ。この試料７０にＵＶ光（波長３８５ｎｍ）を照射し、第１測定としての反応追跡測定を６０秒間行った。なお、架台３０の測定位置にＡＴＲプリズム５０Ａを位置固定する際、試料載置面５０ｃに予め試料載置枠９０を載置しておいてもよい。
【００３３】
図７（ｂ）は、第１測定が終了した後の状態を示す図であり、図５（ｂ）に対応する。図７（ｃ）は、第２測定前の状態を示す図であり、図５（ｃ）に対応する。第１測定が終了後、ＡＴＲプリズム５０Ａを試料載置面５０ｃに載置された試料載置枠９０および試料７０とともに架台３０から取り外し、第２測定に備えて新たにＡＴＲプリズム５０Ｂを架台３０の測定位置に配置した。ＡＴＲプリズム５０Ｂは、ＡＴＲプリズム５０Ａと同一形状且つ同一材料で構成した。この一連の交換作業に要した時間は約３分であった。なお、第２測定に試料載置枠９０を用いる場合は、新たにＡＴＲプリズム５０Ｂを架台３０の測定位置に配置した後、試料載置面５０ｃに予め新たな試料載置枠を載置してもよい。また、新たにＡＴＲプリズム５０Ｂを架台３０の測定位置に配置する際、試料載置面５０ｃに予め新たな試料載置枠を載置しておいてもよい。
【００３４】
（実施例２）
次に実施例２について図６を用いて説明する。実施例２は第２実施形態に対応する。まずバックグラウンド測定を行った後、第１測定、さらに第２測定を行った。
【００３５】
同図（ａ）に示されるように、ＡＴＲプリズム５０Ａは、第１プリズム５１および第２プリズム５２Ａを組み合わせて構成した。第１プリズム５１は、ダイヤモンドで構成し、断面が直角二等辺三角形の三角柱（３．０×３．０×１．４ｍｍ）とした。第２プリズム５２Ａは、ゲルマニウムで構成し、円板状（直径５ｍｍ、厚さ０．０５ｍｍ）とした。第２プリズム５２Ａは、ゲルマニウムチップの両主面を光学研磨（面精度１λ）したものとした。第１接触面５０ｄと第２接触面５０ｅとを互いに面接触させることによって、第２プリズム５２Ａを測定位置に配置した。第１プリズム５１の第１接触面５０ｄおよび第２プリズム５２Ａの第２接触面５０ｅは、互いの面精度が高いため大気圧で吸着した。試料７０Ａは、ＵＶ硬化アクリル樹脂とした。
【００３６】
架台３０の測定位置にＡＴＲプリズム５０Ａを位置固定し、ＡＴＲプリズム５０Ａの試料載置面５０ｃに試料７０を滴下した。この試料７０にＵＶ光（波長３６５ｎｍ）を照射し、第１測定としての反応追跡測定を３００秒間行った。
【００３７】
同図（ｂ）に示されるように、第１測定が終了後、第２プリズム５２Ａを試料載置面５０ｃに載置された試料７０とともに第１プリズム５１からスライドさせる要領で分離して取り外した。第１プリズム５１は、架台３０の測定位置に位置固定したままとした。次に、同図（ｃ）に示されるように、第２測定に備えて新たに第２プリズム５２Ｂを第１プリズム５１上に配置し、ＡＴＲプリズム５０Ｂを構成した。第２プリズム５２Ｂは、第２プリズム５２Ａと同一形状且つ同一材料で構成した。この一連の交換作業に要した時間は約２分であった。
【００３８】
（実施例３）
次に実施例３について説明する。実施例３は第２実施形態に対応する。図８は、実施例３のＡＴＲ測定装置１を用いたＡＴＲ測定の際の手順を示す図であり、図６に対応する。図８は、ＡＴＲ測定装置１の要部のみを示す。まずバックグラウンド測定を行った後、第１測定、さらに第２測定を行った。
【００３９】
図８（ａ）は、第１測定時の状態を示す図であり、図６（ａ）に対応する。ＡＴＲプリズム５０Ａは、第１プリズム５１および第２プリズム５２Ａを組み合わせて構成した。第１プリズム５１および第２プリズム５２Ａは、ゲルマニウムで構成した。第１プリズム５１は、半円柱（直径１５ｍｍ）とし、第２プリズム５２Ａは、板状（１５×１５×０．３ｍｍ）とした。光入力面５０ａおよび光出力面５０ｂは、いずれも半円柱の曲面で構成した。第２プリズム５２Ａは、ゲルマニウム基板の両主面を光学研磨（面精度１λ）したものとした。第１接触面５０ｄと第２接触面５０ｅとを互いに面接触させることによって、第２プリズム５２Ａを測定位置に配置した。第１プリズム５１の第１接触面５０ｄおよび第２プリズム５２Ａの第２接触面５０ｅは、互いの面精度が高いため大気圧で吸着した。試料７０Ａは、ＵＶ硬化アクリル樹脂とした。
【００４０】
架台３０の測定位置にＡＴＲプリズム５０Ａを位置固定し、ＡＴＲプリズム５０Ａの試料載置面５０ｃに試料７０を滴下した。この試料７０にＵＶ光（波長３６５ｎｍ）を照射し、第１測定としての反応追跡測定を２０秒間行った。
【００４１】
図８（ｂ）は、第１測定が終了した後の状態を示す図であり、図６（ｂ）に対応する。図８（ｃ）は、第１測定が終了した後の状態を示す図であり、図６（ｃ）に対応する。第１測定が終了後、第２プリズム５２Ａを試料載置面５０ｃに載置された試料７０とともに第１プリズム５１からスライドさせる要領で分離して取り外した。第１プリズム５１は、架台３０の測定位置に位置固定したままとした。次に第２測定に備えて新たに第２プリズム５２Ｂを第１プリズム５１上に配置し、ＡＴＲプリズム５０Ｂを構成した。第２プリズム５２Ｂは、第２プリズム５２Ａと同一形状且つ同一材料で構成した。この一連の交換作業に要した時間は約５分であった。
【符号の説明】
【００４２】
１…ＡＴＲ測定装置、２０…マイケルソン干渉計、２１…半透鏡、２２…可動鏡、２３…固定鏡、３０…架台、４１〜４４…反射鏡、５０、５０Ａ、５０Ｂ…ＡＴＲプリズム、５０ａ…光入力面、５０ｂ…光出力面、５０ｃ…試料載置面、５０ｄ…第１接触面、５０ｅ…第２接触面、５１…第１プリズム、５２Ａ、５２Ｂ…第２プリズム、６０…検出器、７０…試料、８０…光源、９０…試料載置枠。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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