(57)【要約】【課題】ＥＦＥＭシステムにおいて、ポッド開放時にダウンフローよりポッド内に侵入する気体を抑制する。【解決手段】開口部における微小空間側の上辺に沿って、ダウンフロー開口部に沿った流れを停止させる上部庇を該微小空間内に配する。当該上部庇によって、ポッド内に配される供給ポートより供給された不活性ガスが、ポッド内循環後に開口を介して微小空間に流出する空間であって、該ダウンフローの影響を受けない空間を確保して、ダウンフローのポッド内への侵入を抑制する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被収容物を内部に収容可能であって一面に開口を有する略箱状の本体と、前記本体から分離可能であって前記開口を塞いで前記本体と共に密閉空間を形成する蓋と、前記本体の壁面に設けられた外部からの気体の供給を可能とする供給ポートと、を備える収容容器から前記蓋を取り外すことによって前記開口を開放して前記被収容物の挿脱を可能とする、前記蓋の開閉システムと、
前記収容容器が載置される載置台と、
前記載置台と隣接して配置され前記被収容物に対して処理を行う処理室に対して前記被収容物を搬送する搬送機構が内部に配置され、上部から気体を降下させるダウンフロー発生機構を有する微小空間と、
前記載置台に隣接して前記微小空間の一部を確定する壁に形成されて、前記載置台に載置された前記収容容器における前記開口と正対可能な配置に設けられた略矩形状の開口部と、
前記蓋を保持可能であると共に前記開口部を閉止可能であり、前記蓋を保持して前記開口部を開放することにより前記開口と前記開口部とを連通させるドアと、
前記供給ポートと協働して前記収容容器内部に気体を供給する供給弁と、
前記収容容器が前記載置台に載置された状態において前記供給ポート及び供給弁を介して気体供給系と、
前記微小空間側の前記開口部の上辺に沿って固定された上部庇と、を有することを特徴とするＥＦＥＭシステム。
【請求項２】
前記微小空間側の前記開口部の側辺に沿って設けられる側部庇を有することを特徴とする請求項１に記載のＥＦＥＭシステム。
【請求項３】
前記側部庇は、前記開口部の側辺に固定されていることを特徴とする請求項２に記載のＥＦＥＭシステム。
【請求項４】
前記側部庇の端部は前記上部庇と接続していることを特徴とする請求項２または３に記載のＥＦＥＭシステム。
【請求項５】
前記側部庇の前記開口部の側辺に沿った方向の長さは、前記開口部の前記側辺に沿った方向の長さの１／３以上であることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか一項に記載のＥＦＥＭシステム。
【請求項６】
前記上部庇の前記微小空間に突き出す方向の長さが、前記側部庇の前記微小空間に突き出す方向の長さよりも大きいことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか一項に記載のＥＦＥＭシステム。
【請求項７】
被収容物を内部に収容可能であって一面に開口を有する略箱状の本体と、前記本体から分離可能であって前記開口を塞いで前記本体と共に密閉空間を形成する蓋と、前記本体の壁面に設けられた外部からの気体の供給を可能とする供給ポートと、を備える収容容器から前記蓋を取り外すことによって前記開口を開放して前記被収容物の挿脱を可能とする、前記蓋の開閉方法であって、
前記収容容器を載置台上に載置する工程と、
前記載置台と隣接して配置され前記被収容物に対して処理を行う処理室に対して前記被収容物を搬送する搬送機構が内部に配置される微小空間において、上部から気体を降下させるダウンフローを発生させる工程と、
前記載置台に隣接して前記微小空間の一部を確定する壁に形成される略矩形状の開口部を閉止したドアにより前記収容容器より前記蓋を取り外して前記開口と前記開口部とを連通させる工程と、
前記供給ポートを介して前記収容容器内部に気体を供給する工程と、を有し、
前記微小空間側の前記開口部の上辺に沿って固定された上部庇によって前記ダウンフローの前記開口部に沿った流れを停止させ、前記供給ポートより供給された前記気体が前記開口を介して前記微小空間に流出する空間を確保すること、を特徴とする蓋の開閉方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造プロセス等において、ポッドと呼ばれる密閉型の搬送容器の内部に保持されたウエハを半導体処理装置に移載する、或いはウエハを該半導体処理装置より該ポッドに移載する際に用いられる所謂ＥＦＥＭ（Equipment front end module、以下ＥＦＥＭと称する。）システム及び当該システムを用いた蓋開閉方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造プロセスは、近年では各種処理装置の内部、ウエハを収容して各処理装置間でのウエハ搬送を可能とするポッド、及び該ポッドより各処理装置への基板の受け渡しを行う微小空間、の三空間のみを高清浄状態に保つことで、プロセスを通じての清浄度の管理を行う手法が一般的となっている。このようなポッドは、ウエハを内部に収容し且つ一側面にウエハ挿脱用の開口を有する本体部と、該開口を閉鎖してポッド内部を密閉空間とする蓋と、から構成される。また、該微小空間は、前述したポッドの開口と対向可能な開口部と、該開口部と向かい合い半導体処理装置側に配置される第二の開口部と、を有する。
【０００３】
この微小空間には、フィルタを用いてその外部周辺に存在する空気を清浄化し、クリーンエアとしてこれを導入することとしている。前述したポッドの蓋の開閉装置、微小空間及び該微小空間に配置されるウエハの搬送機構等はＥＦＥＭシステムとして総称される。このフィルタを介したクリーンエアの使用によって、ＥＦＥＭシステムにおいては該微小空間のクリーン度を所定のレベルとしている。しかし、近年の半導体の小型化高性能化に伴って半導体において用いられる配線パターンがより微細化し、パターンの酸化の影響をより厳密に排除することが求められている。
【０００４】
この様な要求に対応する技術として、特許文献１には、上述した微小空間に対応する基板移送チャンバ（ミニエンバイロメント）内に導入する清浄ガスを汚染除去し、更にこれを循環利用する例が開示されている。一方、特許文献２に開示されるように、ポッドの底面等から直接清浄ガスを導入する、所謂ボトムパージによってポッド内のパーティクルや酸素濃度を低減することも検討されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３１１９４０号公報
【特許文献２】特開２００７−２２７６１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述した微小空間には、ファンフィルターユニット（ＦＦＵ）を用いて清浄化された気体（大気）が導入されている。この清浄気体は、通常ポッド内に直接供給されるボトムパージ用不活性ガスよりも酸素濃度や湿度が高くなっている。ここで、前述したボトムパージによる不活性ガスの供給と微小空間内への清浄気体の供給とを同時に行う場合、微小空間内に供給される清浄気体が容器内に混入し、ボトムパージによって供給される不活性ガスと混在する可能性がある。微小空間の体積は容器に対して十分に大きいため、微小空間内に導入する清浄気体の酸素濃度等を管理したとしても、容器内に導入される不活性ガスに比べた場合にはこの酸素濃度等の値では劣ってしまう。そのため、微小空間内の清浄気体が容器内に混入してしまい、不活性ガス導入による容器内の低酸素濃度化を満足できず、ウエハの表面酸化の防止が充分に達成できない場合がある。
【０００７】
本発明は以上の状況に鑑みて為されたものであり、ボトムパージと微小空間内の清浄化を同時に行う場合において、微小空間内の雰囲気が容器内に混入するリスクを低減させるＥＦＥＭシステム及び当該システムを用いたポッドの蓋開閉方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明に係るＥＦＥＭシステムは、被収容物を内部に収容可能であって一面に開口を有する略箱状の本体と、前記本体から分離可能であって前記開口を塞いで前記本体と共に密閉空間を形成する蓋と、前記本体の壁面に設けられた外部からの気体の供給を可能とする供給ポートと、を備える収容容器から前記蓋を取り外すことによって前記開口を開放して前記被収容物の挿脱を可能とする、前記蓋の開閉システムと、
前記収容容器が載置される載置台と、
前記載置台と隣接して配置され前記被収容物に対して処理を行う処理室に対して前記被収容物を搬送する搬送機構が内部に配置され、上部から気体を降下させるダウンフロー発生機構を有する微小空間と、
前記載置台に隣接して前記微小空間の一部を確定する壁に形成されて、前記載置台に載置された前記収容容器における前記開口と正対可能な配置に設けられた略矩形状の開口部と、
前記蓋を保持可能であると共に前記開口部を閉止可能であり、前記蓋を保持して前記開口部を開放することにより前記開口と前記開口部とを連通させるドアと、
前記供給ポートと協働して前記収容容器内部に気体を供給する供給弁と、
前記収容容器が前記載置台に載置された状態において前記供給ポート及び供給弁を介して気体供給系と、
前記微小空間側の前記開口部の上辺に沿って固定された上部庇と、を有することを特徴とする。
【０００９】
なお、上述したＥＦＥＭシステムにおいて、前記微小空間側の前記開口部の側辺に沿って設けられる側部庇を有することが好ましい。また、該側部庇は、前記開口部の側辺に固定されていることが好ましい。更に、該側部庇の端部は前記上部庇と接続していることが好ましい。或いは、該側部庇の前記開口部の側辺に沿った方向の長さは、前記開口部の前記側辺に沿った方向の長さの１／３以上であることが好ましい。更には、上部庇の前記微小空間に突き出す方向の長さが、前記側部庇の前記微小空間に突き出す方向の長さよりも大きいことが好ましい。
【００１０】
また、上記課題を解決するために、本発明に係る蓋開閉方法は、被収容物を内部に収容可能であって一面に開口を有する略箱状の本体と、前記本体から分離可能であって前記開口を塞いで前記本体と共に密閉空間を形成する蓋と、前記本体の壁面に設けられた外部からの気体の供給を可能とする供給ポートと、を備える収容容器から前記蓋を取り外すことによって前記開口を開放して前記被収容物の挿脱を可能とする、前記蓋の開閉方法であって、
前記収容容器を載置台上に載置する工程と、
前記載置台と隣接して配置され前記被収容物に対して処理を行う処理室に対して前記被収容物を搬送する搬送機構が内部に配置される微小空間において、上部から気体を降下させるダウンフローを発生させる工程と、
前記載置台に隣接して前記微小空間の一部を確定する壁に形成される略矩形状の開口部を閉止したドアにより前記収容容器より前記蓋を取り外して前記開口と前記開口部とを連通させる工程と、
前記供給ポートを介して前記収容容器内部に気体を供給する工程と、を有し、
前記微小空間側の前記開口部の上辺に沿って固定された上部庇によって前記ダウンフローの前記開口部に沿った流れを停止させ、前記供給ポートより供給された前記気体が前記開口を介して前記微小空間に流出する空間を確保すること、を特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ドアを開放している状態において、微小空間内のダウンフロー発生機構から降下される気体が上部庇によってその経路が妨げられることになるため、当該気体の開口部を介しての収容容器内への侵入を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第一の実施形態に係るＥＦＥＭシステムに関し、ロードポート装置にポッドを載置した状態での概略構成を模式的に示す側面図である。
【図２】図1に示すＥＦＥＭシステムにおいて、ダウンフローの生成及びポッド内パージを実行した際の気体の流れを模式的に示す図である。
【図３】本発明の第一の実施形態を示すロードポート装置の斜視図である。
【図４】本発明の第二の実施形態を示すロードポート装置の斜視図である。
【図５】本発明の第三の実施形態を示すロードポート装置の斜視図である。
【図６】本発明の第四の実施形態を示すロードポート装置の斜視図及び各庇の寸法関係を説明するための図である。
【図７】本発明の第五の実施形態を示すロードポート装置の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の一実施形態について、以下に図面を参照して説明する。図１は、本発明の一実施形態におけるＥＦＥＭシステムを構成するロードポート１００装置に関し、ポッド１を載置台上に載置した状態を側面から見た場合の概略構成を示している。また、図２は図１に示した構成において、実際にこれら構成に対して気体の供給を行なった際の気体の流れを模式的に示している。更に図３は、該ロードポート装置１００に関して、図１に示した状態よりポッド及びドアに関する構成を除いたものの斜視図を示している。
【００１４】
本実施形態の説明に際し、被収容物のウエハを収容するポッド（密閉容器）について先に述べる。図１等に示されるポッド１は、ポッド本体２と蓋３とから構成される。ポッド本体２は内部にウエハ４等を収容する収容空間２ｂを有し、且つ側面に当該収容空間２ｂに連通する開口２ａを有している。当該開口２ａは蓋３により閉鎖される。収容空間２ｂ内にはウエハ４を水平に支持する複数の棚（不図示）が側壁等から突き出しており、当該棚により複数のウエハ４が均等な間隔を明けて該収容空間２ｂ内にて水平に保持される。また、ポッド本体２は、底面に配置されて該収容空間内の雰囲気に対して外部からの気体の供給或いは外部への気体の排出を可能とするポッド側ノズル５も有する。当該ポッド側ノズル５は、後述する載置台側のガス共有系と協働する関係からポッド本体２の底面に設けられているが、側面等ポッド本体２の種々の内壁面に配置可能である。
【００１５】
なお、本実施例において、後述するポッド本体２の駆動方向をＸ軸方向とし、該Ｘ軸に直交して該Ｘ軸と共にウエハの延在面を規定する方向（紙面に垂直な方向）をＹ軸方向とし、これら軸からなるＸＹ平面に垂直な方向をＺ軸として便宜上規定する。本実施例では鉛直方向がＺ軸方向に対応し、本明細書における上方及び下方は鉛直方向における上方及び下方に対応する。しかし、本発明におけるＺ軸の延在方向はこの鉛直方向に限定されず、必要に応じて鉛直方向から傾けて設定することも可能である。
【００１６】
次に、本実施形態におけるＥＦＥＭシステムの主要構成物であるロードポート装置の詳細について、以下に述べる。ロードポート装置１００は、サイドプレート１０５によって外部空間１０４と分離される微小空間１０３を構成し、該サイドプレート１０５に隣接して配置されるポッドの載置台１０７を有する。サイドプレート１０５は、微小空間１０３と外部空間１０４とを連通させる開口部１１１を有する。サイドプレート１０５等によって構築される微小空間１０３の上部にはダウンフロー発生機構１０９が配置される。
【００１７】
該ダウンフロー発生機構１０９は、外部空間１０４に存在する気体の清浄化した後、これを微小空間１０３内部に導入する。これにより、微小空間１０３内部に上方から下方に向かう気体の流である所謂ダウンフローを生成する。なお、当該ファンに対しては、外部空間１０４の清浄度に応じて、当該空間から導入される気体より塵埃等の汚染物質を除去するフィルタが付随している。微小空間１０３の下部にはダウンフローが流出可能となるような構造が配置されており、該微小空間１０３内部で発生する粉塵等は当該ダウンフローに運ばれて微小空間１０３の下部から外部空間１０４に排出される。
【００１８】
開口部１１１を略閉鎖するドア１２１は、ドアシステム１２０の一部を構成する。ドアシステム１２０は、ドア１２１、ドアアーム１２５及び不図示のドア駆動機構を有する。ドア１２１は、蓋３を保持可能であると共に、ポッド本体２に対する蓋３の固定及び分離の操作が可能となっている。ドア駆動機構はドアアーム１２５を介してドア１２１を支持し、ドアアーム１２５との連結部分を中心にこれを回動させることでドア１２１のポッド１に対する接近及び離間を促す。また、該ドア駆動機構は、ドア１２１及びドアアーム１２５をＺ軸下方に降下させるＺ軸駆動機構部を有し、当該Ｚ軸駆動機構部がドア１２１等を降下させることにより、開口部１１１の開閉を行う。
【００１９】
ポッド１を載置する載置台１０７は、載置されたポッド１を固定可能であると共に該ポッド１を前述した開口部１１１（より正確にはこれを閉鎖するドア１２１）に対して接近及び離間させることが可能である。載置台１０７は、不図示のテーブル駆動機構によりポッド１がドア１２１と所定の間隔になるまで或いはドア１２１と当接するまでポッド１の接近動作を行い、ポッド１の駆動が停止した状態でドア１２１は蓋３を保持する。前述したように、ドア１２１はこの状態でポッド本体２からの蓋３の分離を行い、更にドア駆動機構により開口部１１１に対して下方に移動することによってポッド１の開口部２ａを微小空間１０３に対して開放させる。
【００２０】
載置台１０７は、更に前述したポッド側ノズル５に対応するように載置台１０７上面に配置された載置台側ノズル１１３を有する。載置台側ノズル１１３は不図示の気体供給経路と接続されており、ポッド側ノズル５と協働して気体供給経路からポッド１内への気体の供給を可能とする。これら載置台側ノズル１１３及びポッド側ノズル５は本発明におけるボトムパージ機構を構成する。気体供給経路に供給される気体、本実施形態では乾燥窒素は、湿度及び純度（酸素含有量）が予め管理されており、更に温度管理装置等によりポッド１内に供給する際の温度も管理されていることが好ましい。更に、塵等に関しては載置台側ノズル１１３、ポッド側ノズル５、或いはこれら両者に特定のフィルタを配することによって管理されていることがより好ましい。これらノズルを介してポッド２の内部である収容空間２ｂに供給される不活性ガスの酸素濃度および湿度は、ダウンフロー発生機構１０９により微小空間１０３内に供給される気体の酸素濃度および湿度よりも低くなる。
【００２１】
以上の構成からなるＥＦＥＭシステムにおいて、実際にダウンフロー発生機構１０９による微小空間１０３内への清浄気体の導入と、ポッド側ノズル５からの不活性ガス供給について述べる。図２は同状態について、図１と同様の態様を用いてＥＦＥＭ部内の気体の流れを模式的に示している。同状態では、ドア１２１によりポッドの蓋３が取り外され、ポッド開口２ａが開放されて微小空間１０３と連通している。ダウンフローは矢印Ａとして示されて、ポッド側ノズル５からポッド内部の収容空間２ｂに供給された不活性ガスのポッド内２から微小空間１０３に至る流れは矢印Ｂとして示されている。
【００２２】
本実施形態に係るＥＦＥＭシステムでは、サイドプレート１０５に対して、開口部１１１の微小空間１０３側の上辺に沿って、上部庇１１５が固定されている。ダウンフローＡは、通常微小空間１０３を平面視した際の略全域において該空間の上方から下方に向かうように形成されている。該上部庇１１５を配することにより、ダウンフローＡの経路が部分的に妨げられる。従って、開口部１１１の微小空間１０３側の前面において、該ダウンフローＡが存在しない空間が形成される。このように、開口部１１１の直前の領域であって該開口部１１１に沿ったダウンフローを部分的に遮って該ダウンフローが存在しない領域を微小空間１０３内に形成することを、本発明ではダウンフローの開口部１１１に沿った流れを停止すると表現する。従来であれば、ダウンフローＡは開口部１１１の直近まで存在する。蓋３を除き開口２ａが開放された状態にある時、このダウンフローＡから収容空間２ｂに至る気体が生じ、収容空間２ｂの酸素濃度を増加させる。本実施形態によれば、ダウンフローＡの存在位置を開口部１１１から遠ざけることにより、該開口部１１１経由の収容空間２ｂへの気体の侵入の抑制が期待される。
【００２３】
また、本実施形態では、ポッド側ノズル５から収容空間２ｂへの不活性ガスの供給である所謂ボトムパージも並行して行われる。ポッド２底面から供給される不活性ガスは、例えば矢印Ｂにて示されるガス流を形成し、ポッド２内に存在した気体のより高純度な供給気体への置換えを可能とする。なお、実際には、ウエハ４各々の間の空間を抜けて開口２ａに至る不活性ガスの流れも存在する。しかし、同図では、最も大きな流れとして存在する矢印Ｂとして例示される流れを、主たる流れとして示す。上部庇１１５が存在しない場合、開口部１１１を通過した気流Ｂはその直前に存在するダウンフローＡに突き当たる。このため、該開口部１１１周辺での乱流の形成、更には流れの大きなダウンフローＡによって収容空間２ｂに向かって渦を形成する。当該上部庇１１５により、この乱流や渦は上部庇１１５の下方であって、開口部１１１よりも微小空間１０３側で生じ、よってダウンフォロー等からの収容空間２ｂへの気体の侵入は大きく抑制される。
【００２４】
従って、ポッドの蓋３がドア１２１により開放されるタイミングに応じて、ボトムパージ機構による収容空間２ｂへの不活性ガスの供給が開始されることが好ましい。以上の構成により、ダウンフローより収容空間への気体の進入による収容空間の酸素濃度および湿度の増加を抑制し、ウエハを所望の酸素濃度および湿度が保たれた空間にて維持することが可能となる。なお、図３はロードポート装置１００を微小空間１０３側から見た斜視図である。同図に示すように、上部庇１１５の延在方向長さは、開口部１１１の横方向長さよりもその両側端において均等に長く設定されることが好ましい。またこの長ささは、ダウンフローＡの流速と収容空間２ｂに供給される不活性ガスより形成されるガス流のうちの少なくとも上部壁面に沿った流れＢの流速とを勘案し、これらより生成される乱流等が開口部１１１より所定距離隔置されるように設定されることが好ましい。また、同様の理由により上部庇１１５の開口部１１１の上辺からの距離は、ダウンフローＡと流れＢとを勘案して適宜設定されることが好ましい。
【００２５】
次に、本発明の第二の実施形態について、図３と同様の様式によりこれを示した図４を用いて説明する。なお、前述した第一の実施形態で述べた構成について、同一の参照番号を用いることとしてその説明を省略する。本実施形態では、上部庇１１５に加え、開口部の側辺に沿って設けられる側部庇１１６が更に配置されている。該側部庇１１６は、開口部１１１の側辺と平行且つ該側辺に沿って、サイドプレート１０５より微小空間１０３側に突き出して配置される。なお、該側部庇１１６は所定の長さ及び幅を有する矩形状の板材より形成しているが、例えば上部幅と下部の幅とが異なっても良い。また、上部が開口部１１１の側辺内周面と同一面を形成するように側辺に近接し、下部が開口部から所定距離離間されるように固定されても良い。
【００２６】
この様な側部庇１１６を配することにより、ダウンフローＡ等に起因して気体が開口部１１１の側辺周囲より周り込んで収容空間２ｂに侵入することを抑制することができる。また、図４に示すように、当該側部庇１１６は、開口部１１１の側辺に固定されていることが好ましい。当該構成とすることにより、ドア１２１が開放された状態においても、常に開口部１１１を囲うように庇が配置されることになるため、ダウンフロー発生機構１０９からの気体の周り込みを常に抑制することができる。また、これら側部庇１１６は、図４に示すように、その端部と上部庇１１５の端部とが互いに連通していることが好ましい。当該構成とすることにより、上部庇１１５と側部庇１１６とがコの字状に連結する構成となるため、ダウンフロー発生機構１０９からの気体回り込みの影響が大きい開口部上部において、気体の周り込みを効果的に抑制することができる。
【００２７】
なお、側部庇１１６のＺ方向長さはより長いほうが好ましい。当該側部庇１１６を好適な長さまで延在させた第三の実施形態を図５に示す。前述したように、側部庇１１６は開口部１１１の両脇からの気体の侵入を抑制している。よって開口部１１１の開口範囲に対応する長さを側部庇１１６に配することが好適である。しかし、該開口部１１１を介してポッド２の内部に侵入してウエハ４の挿脱を行う不図示のロボットアームの動作を勘案した場合、当該動作に干渉する恐れを有する側部庇１１６等は存在しないほうが好適である。また、開口部１１１の下方に至るにつれて、ダウンフローの流速も低下して乱流の生成等の可能性が低下する。このため、側部庇１１６の長さが十分に長くなることでより効果的に気体の周り込みを抑制することができるが前述した干渉の影響抑えるために開口部１１１のＺ方向長さの１/３程度の長さに留めても良い。
【００２８】
また、ダウンフローが生成されている状態でポッド内のボトムパージを行った場合、最も乱流等が生じる可能性が高い場所は開口部１１１の上辺に沿った領域である。このため、上部庇１１５のみを大きくし、側部庇１１６は前述したロボットアームへの干渉を抑えるためにその機能が得られる最小限の大きさとする態様も考えられる。図６はその第四の実施形態を示したものであって、図６（ａ）は該実施形態の斜視図を、図６（ｂ）はこれら庇の寸法関係を説明するための分解図を示している。これら図にて示すように、上部庇１１５は開口部１１１の幅方向（Ｙ方向）長さであるＷと微小空間側突き出し方向（Ｘ方向）の長さＤ２とを有し、側部庇１１６は開口部１１１の縦方向（Ｚ方向）長さであるＨと微小空間側突き出し方向（Ｘ方向）の長さＤ１とを有する。ここで、本実施形態では、前述した理由により長さＤ２＞長さＤ１と設定されている。
【００２９】
以上述べた実施形態では、上部庇１１５はサイドプレート１０５に対して垂直、或いは開口部１１１の上辺内周面と平行となるように、サイドプレート１０５に固定されている。図７に示す第五の実施形態では、該上部庇をサイドプレート１０５に対して、離れるに従って上部庇１１５がＺ方向下方に位置するように、斜めに固定している。他の実施形態のように垂直に上部庇１１５を配置した場合、当該上部庇１１５に対してダウンフローは垂直に突き当たる。このため、該上部庇１１５においてダウンフローの乱れが生じてしまうが、この乱流の影響はダウンフローの流速が大きくなるにつれて顕著且つ広範囲なものとなる。本実施形態の如く上部庇１１５を斜めに傾斜させることにより、気流の乱れを抑制し、微小空間１０３内の全域において乱れの小さなダウンフローの維持を可能とする。
【００３０】
以上述べたように、本発明によれば、開口部側部から気体が周り込んで侵入することを抑制することができる。更に、ドアが開放された状態においても常に開口部を囲うように庇が配置されることになるため、ダウンフロー発生機構からの気体の周り込みを常に抑制することができる。また、上部庇と側部庇がコの字状に連結する構成となるため、ダウンフロー発生機構からの気体回り込みの影響が大きい開口部上部において、気体の周り込みを効果的に抑制することができる。或いは、側部庇の長さが十分に長くなることでより効果的に気体の周り込みを抑制することができる。更には、側部庇に対して上部庇を相対的に長くすることでダウンフロー発生機構からのガスの周り込みを効果的に低減しつつ、側部庇を相対的に短くすることで、ロボットアームを用いて収容容器から微小空間内に被収容物を運搬する際、ロボットアームの動作に支障を与えない範囲で側部からの気体周り込みを抑制することができる。
【産業上の利用可能性】
【００３１】
以上述べたように、本発明は半導体処理装置に対して好適に用いるＥＦＥＭシステムに関している。しかしながら、本発明の利用可能性は当該処理装置むけのみに限定されず、例えば液晶ディスプレイのパネルを扱う処理装置等、半導体に準じた各種処理が行われる種々の処理装置に用いられるＥＦＥＭシステムに対しても適用可能である。
【符号の説明】
【００３２】
１：ポッド、  ２：ポッド本体、  ２ａ：開口、  ２ｂ：収容空間、  ３：蓋、  ４：ウエハ、  ５：ポッド側ノズル、  １００：ロードポート装置、  １０３：微小空間、  １０４：外部空間、  １０５：サイドプレート、  １０７：載置台、  １０９：ダウンフロー発生機構、  １１１：開口部、  １１３：載置台側ノズル、  １１５：上部庇、  １１６：側部庇、  １２１：ドア、  １２５：ドアアーム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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