(57)【要約】【課題】油性加工油と水溶性加工油の何れに対しても優れた洗浄性能を発揮する上に、シミの発生がなく、且つ、比重分離を経ることなく再生可能な洗浄剤組成物、及び、そのような洗浄剤組成物の蒸留再生システムを提供する。【解決手段】ナフテンを主成分とするナフテン系炭化水素溶剤に、グリコールエーテル系溶剤を添加したベース溶剤５０〜９９Ｖｏｌ％に、界面活性剤及び水を、全体で５０〜１．０Ｖｏｌ％含有させることで、実質的に１００Ｖｏｌ％とした洗浄剤組成物であって、界面活性剤のＨＬＢが１０〜１４である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナフテンを主成分とするナフテン系炭化水素溶剤に、グリコールエーテル系溶剤を添加したベース溶剤５０〜９９Ｖｏｌ％に、
界面活性剤及び水を、全体で１．０〜５０Ｖｏｌ％含有させることで、実質的に１００Ｖｏｌ％とした洗浄剤組成物であって、
前記界面活性剤のＨＬＢが１０〜１４であることを特徴とする洗浄剤組成物。
【請求項２】
前記ナフテン系炭化水素溶剤と、前記グリコールエーテル系溶剤の沸点は、常圧下２００〜２２０℃である請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項３】
前記ナフテン系炭化水素溶剤と、前記グリコールエーテル系溶剤の含有Ｖｏｌ比は、６：１〜１：１である請求項１又は２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項４】
前記界面活性剤は、エチレンオキサイド単独付加型、又はエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド付加型のノニオン界面活性剤である請求項１〜３の何れかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項５】
前記界面活性剤は、一疎水鎖一親水基型のモノメリック型であって、
界面活性剤及び水の総量に対して、界面活性剤の含有率が５０〜９０Ｖｏｌ％である請求項１〜４の何れかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項６】
前記界面活性剤は、一疎水鎖一親水基の界面活性剤をスペーサーで結合して構成されたジェミニ型であって、
界面活性剤及び水の総量Ｖｏｌに対して、界面活性剤の含有率が１０〜５０Ｖｏｌ％である請求項１〜４の何れかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項７】
使用後の洗浄剤が、所定の蒸留システムで処理されることで前記ベース溶剤が濃縮再生され、これに、必要量の界面活性剤と水が添加されることで洗浄剤として再使用される請求項１〜６の何れかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項８】
前記蒸留システムは、
使用後の洗浄剤を受けるリボイラーと、リボイラーからの蒸気を受ける蒸留塔と、蒸留塔からの留出水を受けて、これを蒸留塔に還流可能に構成された還流槽と、蒸留塔からの缶出水を受けて、これをリボイラーに還流可能に構成された中間槽と、を有して構成されている請求項７に記載の洗浄剤組成物。
【請求項９】
前記使用後の洗浄剤は、異物を除去しつつ、浸漬洗浄槽とリザーブタンクとの間を循環しつつ連続使用される一方、
前記リザーブタンクの洗浄剤の一部が、定期的に蒸留システムに供給されて再生されるよう構成されている請求項７又は８に記載の洗浄剤組成物。
【請求項１０】
前記蒸留システムの処理量は、一回当たり５０〜３００リットルであり、０．５〜３時間の蒸留処理の後、還流槽と中間槽の各濃縮再生液は、必要な構成組成物を補充した上で、リザーブタンクに供給されるよう構成されている請求項７〜９の何れかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項１１】
前記蒸留システムの処理量は、一回当たり５０〜３００リットルであり、０．５〜３時間の蒸留処理の後、還流槽と中間槽の濃縮再生液は、必要な構成組成物を補充した上で、浸漬洗浄槽に接続された調整槽に貯留されるよう構成されている請求項７〜９の何れかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項１２】
請求項１〜６の何れかに記載の洗浄剤であって使用後の洗浄剤を受けるリボイラーと、リボイラーからの蒸気を受ける蒸留塔と、蒸留塔からの留出液を受けて、これを蒸留塔に還流可能に構成された還流槽と、蒸留塔からの缶出液を受けて、これをリボイラーに還流可能に構成された中間槽と、を有して構成された蒸留システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、油性加工油と水溶性加工油の何れに対しても優れた洗浄性能を発揮する洗浄剤組成物、及びその蒸留再生システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
炭化水素溶剤は、一般に、ノルマルパラフィン系、イソパラフィン系、ナフテン系、芳香族系に区分され、何れも、金属への腐食性が少なく、蒸留再生が可能であるという利点がある。そして、ナフテン系溶剤は、パラフィン系溶剤より洗浄力が高く、鉄、銅、アルミ、ステンレスなどの金属部品の脱脂洗浄に適している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−２８３１９１号公報
【特許文献２】特開２０１０−１７４１０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、最近では、水溶性加工油を用いた金属加工が増加しているところ、油性加工油だけでなく、水溶性加工油にも対応可能な一液の洗浄剤が望まれている。
【０００５】
しかし、水溶性加工油で加工された加工品を炭化水素系溶剤で洗浄した場合には、洗浄後にシミ（水溶性加工油の固形分残渣）が発生し、特に、乾燥状態の水溶性加工油が付着した加工品に対しては、如何に洗浄力に優れた炭化水素系溶剤を使用しても、シミの発生が避けられないという問題がある。
【０００６】
そこで、かかる点を考慮して、シミの発生を防止する洗浄剤も提案されているが（特許文献１、特許文献２）、何れの発明も洗浄性能や再生処理に大きな問題がある。
【０００７】
例えば、特許文献１に記載の洗浄剤は、比重分離を前提とするので、洗浄槽において液組成の均質性に欠け、そのため洗浄性能に場所的な差異が生じるという問題がある。一方、特許文献２の洗浄剤は、Ｗ／Ｏエマルション型であり、洗浄処理後、水溶性加工油を含む水層と、炭化水素溶剤層との比重差による層分離に、８時間もの作業時間を要するという問題がある（段落００３７）。
【０００８】
本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであって、油性加工油と水溶性加工油の何れに対しても優れた洗浄性能を発揮する上に、シミの発生がなく、且つ、比重分離を経ることなく再生可能な洗浄剤組成物、及び、そのような洗浄剤組成物の蒸留再生システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するため、本発明に係る洗浄剤組成物は、ナフテンを主成分とするナフテン系炭化水素溶剤に、グリコールエーテル系溶剤を添加したベース溶剤５０〜９９Ｖｏｌ％に、界面活性剤及び水を、全体で５０〜１．０Ｖｏｌ％含有させることで、実質的に１００Ｖｏｌ％とした洗浄剤組成物であって、界面活性剤のＨＬＢが１０〜１４であることを特徴とする。なお、本明細書において、〜で示す数値範囲は、両端の数値を含む概念である。
【００１０】
本発明は、ベース溶剤と、界面活性剤及び水とで、実質的に構成されるが、これら全体で実質的に１００Ｖｏｌ％となれば良く、その他１０〜１００ｐｐｍ程度の一又はそれ以上の添加剤の追加は何ら禁止されない。添加剤としては、例えば、５０ｐｐｍ程度の酸化防止剤を例示することができる。
【００１１】
本発明では、洗浄性に優れたナフテン系炭化水素溶剤に、グリコールエーテル系溶剤を添加するので、グリコールの高い溶解力によって、炭化水素溶剤単独では落とせない重質で高粘度の油性汚れについても洗浄することができる。例えば、はんだを使用した場合に付着するフラックス残渣についても確実に除去することができる。
【００１２】
ここで、グリコールエーテル系溶剤としては、エチレングリコール類、ジエチレングリコール類、プロピレングリコール類、ジプロピレングリコール類、トリエチレングリコール類などが単独又は混合して使用される。これらのうち、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどを含むジプロピレングリコール類が好適に選択され、特に好適には、ジプロピレングリコールジメチルエーテルアセテートが使用される。
【００１３】
何れにしても、ナフテン系炭化水素溶剤と、グリコールエーテル系溶剤の沸点は、常圧下２００〜２２０℃であるのが好ましく、このようにベース溶剤の沸点範囲が共通することで、比較的簡単に、高純度のベース溶剤を蒸留再生することができる。
【００１４】
ここで、ナフテン系炭化水素溶剤と、グリコールエーテル系溶剤の含有Ｖｏｌ比は、６：１〜１：１であるのが好ましく、より好ましくは、５：１〜３：１、更に好ましくは、４±０．４：１とすべきである。
【００１５】
本発明において、界面活性のＨＬＢは１０〜１４であり、この範囲を超えると相分離が生じて透明な洗浄剤とすることができない。なお、ＨＬＢはグリフィンの式により算出される。
【００１６】
本発明の界面活性は、ＨＬＢが１０〜１４である限り、特に限定されないが、好ましくはノニオン界面活性剤が選択される。ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテルなどのアルキルフェノール系や、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルなどの高級アルコール系のエーテル型界面活性剤が好適に選択され、より好ましくは、高級アルコール系の界面活性剤が選択される。
【００１７】
高級アルコール系の界面活性剤としては、エチレンオキサイド単独付加型（ＰＯＥ系）に限定されず、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド付加型（ＰＰＯ−ＰＯＥ系）も好適に選択される。また、高級アルコールは、炭素数１０〜１５のものが好適に選択され、好ましい界面活性剤として、例えば、分子式ＲＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｍＨや、ＲＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍＨで示されるポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルや、ポリオキシエチレントリデシルエーテルＣ１３Ｈ１７Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨなどであって、いずれもＨＬＢが１０〜１４のものを例示することができる。
【００１８】
何れにしても、界面活性剤が一疎水鎖一親水基型のモノメリック型である場合には、界面活性剤及び水の総量に対して、界面活性剤の含有率を５０Ｖｏｌ％以上、好ましくは、５３〜８０Ｖｏｌ％に設定するのが好ましい。ここで、５０Ｖｏｌ％を超えて水を含有させると、ＨＬＢ１０〜１４の界面活性剤を使用しても、水と溶剤との相分離が生じて均質な洗浄性能を阻害する。
【００１９】
一方、界面活性剤が、一疎水鎖一親水基の界面活性剤をスペーサーで結合して構成されたジェミニ型である場合には、界面活性剤及び水の総量Ｖｏｌに対して、界面活性剤の含有率を大幅に低減することができる。この場合、水の含有率Ｖｏｌを、界面活性剤及び水の総量Ｖｏｌに対して、５０〜９０Ｖｏｌ％に設定することができ、必要量の水に対して、界面活性剤の使用量を大幅に抑制することができる。すなわち、界面活性剤及び水の総量Ｖｏｌに対して、界面活性剤の含有率を、５０〜１０Ｖｏｌ％とすることができる。
【００２０】
そのため、ベース溶剤を蒸留再生する場合にも、界面活性剤の廃棄量を減らすことができる。また、ジェミニ型は、モノメリック型の場合と比較して、相対的に水の量を増やすことができるので、引火性のない洗浄剤組成物を構成することができる。
【００２１】
ところで、本発明の洗浄剤は、好適には、所定の蒸留システムで処理されることでベース溶剤が濃縮再生され、これに、必要量の界面活性剤と水が補充されることで洗浄剤として再使用される。
【００２２】
ここで、蒸留システムは、使用後の洗浄剤を受けるリボイラーと、リボイラーからの蒸気を受ける蒸留塔と、蒸留塔からの留出液を受けて、これを蒸留塔に還流可能に構成された還流槽と、蒸留塔からの缶出液を受けて、これをリボイラーに還流可能に構成された中間槽と、を有して構成されているのが好ましい。
【００２３】
また、使用後の洗浄剤は、異物を除去しつつ、浸漬洗浄槽とリザーブタンクとの間を循環しつつ連続使用される一方、リザーブタンクの洗浄剤の一部が、定期的に蒸留システムに供給されて再生されるよう構成されているのが好ましい。
【００２４】
また、蒸留システムの処理量は、一回当たり５０〜３００リットルであり、０．５〜３時間の蒸留処理の後、還流槽と中間槽の各濃縮再生液は、必要な構成組成物を補充した上で、リザーブタンクに供給されるか、或いは、浸漬洗浄槽に接続された調整槽に貯留されるよう構成されているのが好ましい。
【００２５】
また、本発明は、使用後の洗浄剤を受けるリボイラーと、リボイラーからの蒸気を受ける蒸留塔と、蒸留塔からの留出液を受けて、これを蒸留塔に還流可能に構成された還流槽と、蒸留塔からの缶出液を受けて、これをリボイラーに還流可能に構成された中間槽と、を有して構成された蒸留システムでもある。
【発明の効果】
【００２６】
上記の通り、本発明に係る洗浄剤組成物は、油性加工油と水溶性加工油の何れに対しても優れた洗浄性能を発揮する上に、シミの発生がなく、且つ、比重分離を経ることなく再生可能である。また、本発明に係る蒸留再生システムは、上記の効果を発揮する洗浄剤組成物を高効率に再生することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】多重効用型バッチ蒸留システムを含んだ洗浄システムの一例を図示したものである。
【図２】多重効用型バッチ蒸留システムをより詳細に示す図面である。
【図３】図２の変型例を示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、実施例を説明するが、具体的な記載内容は、何ら、本発明を限定するものではない。
【００２９】
＜可溶性試験＞
ナフテン系炭化水素溶剤にグリコールエーテル系溶剤を添加して構成されたベース溶剤７５〜９０Ｖｏｌ％に、ポリオキシエチレントリデシルエーテル（ノイゲンＴＤＳ：第一工業製薬）及び水の総量を、２５〜１０Ｖｏｌ％に調整して洗浄剤とし、水と界面活性剤の配合率を変えて可溶性を確認した。なお、ＨＬＢが異なる各グレード（ＨＬＢ：８．０〜１６．３）のノイゲンＴＤＳについて実験をした。
【００３０】
また、同種の高級アルコール系エーテル型ノニオン界面活性剤（ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル）についても、そのＨＬＢ、ベース溶剤の含有比率、及び、水と界面活性剤との配合割合を適宜に変えて洗浄剤の可溶性を確認した。
【００３１】
その結果、ＨＬＢ１０〜１４（より好ましくは、ＨＬＢ１２〜１３．５）の界面活性剤が好適であることを発見した。また、界面活性剤の種類に限らず、界面活性剤及び水の総量に対する、界面活性剤の含有率が５０Ｖｏｌ％未満であると、相分離が発生することが確認された。相分離は、洗浄槽内部でも生じるので、洗浄性能に場所的なばらつきが生じる。一方、界面活性剤及び水の総量に対する、界面活性剤の含有率を、５０Ｖｏｌ％以上（界面活性剤によっては、５５Ｖｏｌ％以上）に設定すれば、透明な洗浄剤となり、場所的にも均質な洗浄性能が保証される。
【００３２】
また、実験室レベルのジェミニ型界面活性剤を入手して、同様の実験をしたところ、市販の界面活性剤の１／１０程度の使用量で、同様の可溶性を発揮することが確認された。
【００３３】
上記の傾向は、界面活性剤及び水と、ベース溶剤との含有比率に拘わらず共通するが、ベース溶剤の含有比率を下げて５０Ｖｏｌ％未満にすると洗浄性能が劣化する。なお、ナフテン系炭化水素溶剤と、グリコールエーテル系溶剤の含有Ｖｏｌ比が、６：１〜１：１が好適であること、より好ましくは、５：１〜３：１とすべきことは他の実験で確認している。また、各溶剤の沸点は、何れも２００〜２１０℃程度である。
【００３４】
＜洗浄性能試験＞
ベース溶剤８５Ｖｏｌ％に、ＨＬＢ１０．５の界面活性剤（ノイゲンＴＤＳ−５０：第一工業製薬）１０Ｖｏｌ％と、水５．０Ｖｏｌ％を調整して実施例の洗浄剤とし、油性加工油と水溶性加工油に対する洗浄性能を実験した。
【００３５】
油性加工油としては、低粘度のアクアプレスＦ−８５（アクア化学）と、中粘度のアクアプレスＬ−１０７Ａ（アクア化学）を使用した。また、水溶性加工油としては、ハイソルＸ（ビーピー・ジャパン）を使用した。
【００３６】
これらの加工油に、テストピース（ＳＵＳ３０４）を各々３０分間浸漬し、液切りをした後、水溶性加工油については、更に、６０℃環境で３０分間乾燥させた。
【００３７】
このようにして加工油を付着させた３種類多数のテストピースについて、第１次超音波洗浄（４分）⇒第２次超音波洗浄（減復圧５回、４分）⇒蒸気洗浄（２分）⇒真空乾燥（１６０秒）を実行した。
【００３８】
洗浄液としては、比較例１であるイソパラフィン系の炭化水素溶剤（ソルベントＧＦ：アクア化学）と、比較例２である主成分がグリコールエーテル系の溶剤（ＡＱ＃２００：アクア化学）と、実施例の洗浄剤とを使用して洗浄性能を比較した。
【００３９】
その結果、油性加工油を付着させたテストピースは、加工油の粘度に拘わらず、何れの洗浄剤を使用しても同レベルの洗浄性能が確認された。すなわち、実施例の洗浄剤は、非水系の炭化水素溶剤と遜色のない洗浄性能を発揮することが確認された。
【００４０】
一方、水溶性加工油を付着させたテストピースについては、これを、比較例１や比較例２の洗浄剤で洗浄すると目視可能なシミが確認された。これに対して、実施例の洗浄剤で洗浄した場合には、全てのテストピースが確実に洗浄され、しかもシミの発生も認めらなかった。
【００４１】
＜蒸留再生システム＞
実施例の洗浄剤は、多重効用型バッチ蒸留システムＳＹＳにおいて、蒸留再生されて再使用される。図１は、多重効用型バッチ蒸留システムＳＹＳを含んだ洗浄システムの一例を図示したものであり、実施例の準水系洗浄剤を使用する第一超音波洗浄槽１と、非水系洗浄剤を使用する第二超音波洗浄槽２と、蒸気洗浄槽３と、が示されている。
【００４２】
油性加工油又は水溶性加工油の付着した金属加工品は、第一超音波洗浄槽１⇒第二超音波洗浄槽２⇒蒸気洗浄槽３の順番に移送され、蒸気洗浄槽３おいて、仕上げリンス処理と真空乾燥処理とが完了する。この場合、第一超音波洗浄槽１において、実施例の洗浄剤を使用するので、水溶性加工油の付着した金属加工品であっても、洗浄処理を終えた金属加工品にシミが生じることはない。
【００４３】
なお、第二超音波洗浄槽２で使用する非水系の洗浄剤としては、好適には、実施例のベース溶剤が使用される。実施例のベース溶剤は、ナフテン系炭化水素溶剤とグリコールエーテル系溶剤の沸点が一致するので、蒸留再生槽６で蒸留再生されて、第二超音波洗浄槽２や蒸気洗浄槽３において再利用される。なお、蒸気洗浄槽３や蒸留再生槽は、真空ポンプによって適宜に減圧される。また、第二超音波洗浄槽２について、減圧と復圧を繰り返すことができる。
【００４４】
ところで、実施例の洗浄剤は、第一超音波洗浄槽１⇒リザーブタンク４⇒循環ポンプＰ⇒異物除去フィルターＦ⇒第一超音波洗浄槽１の経路で循環すると共に、バッチ処理的に蒸留システムＳＹＳに供給され、ベース溶剤と、水と、界面活性剤の三成分に濃縮分離される。そして、界面活性剤の濃縮液が全量廃棄される一方、ベース溶剤と水は、第一超音波洗浄槽１において再利用される。
【００４５】
そのため、汚れたベース溶剤や水を廃棄する必要がなくなるだけでなく、第一超音波洗浄槽１の洗浄剤の汚染度を、常に所定レベル以下に維持することができる。
【００４６】
図２は、多重効用型バッチ蒸留システムＳＹＳをより詳細に示す図面である。図示の通り、この蒸留再生システムＳＹＳは、リザーブタンク４から使用後の洗浄剤を受けるリボイラー１０と、リボイラー１０からの蒸気を受ける蒸留塔１１と、２０℃程度に維持されたコンデンサー１７を経由した蒸留塔１１からの留出液を受け、これを蒸留塔１１に還流可能に構成された還流槽１２と、蒸留塔１１からの缶出液を受け、これをリボイラー１０に還流可能に構成された中間槽１３と、を中心に構成されている。そして、蒸留塔１１は、定常的には、全還流運転される。
【００４７】
この蒸留システムＳＹＳは、沸点１００℃の水と、沸点２００℃程度の混合溶剤と、界面活性剤の３成分系であり、リボイラー１０と蒸留塔１１とで３段の蒸留塔に設計されている。また、還流槽１２に、真空ポンプ１６を接続することで、１００℃〜１５０℃、０．１ａｔｍに設計された蒸留塔を構成している。
【００４８】
リボイラー１０への導入液（洗浄劣化液）は、加熱状態のオイルタンク１４に収容された熱媒体オイルによって加熱され、リボイラー１０の濃縮液は、ドレインタンク１９に移送可能に構成されている。したがって、界面活性剤は、金属加工品から除去分離された加工油とともに全量廃棄されることになる。
【００４９】
なお、オイルタンク１４には、オイル膨張タンクＴＮ１が接続されて、熱膨張した熱媒体オイルを受け止めている。また、中間槽１３には、熱交換器１５が接続されている。
【００５０】
所定時間の全還流運転によって、還流槽１２に回収された水と、中間槽１３に回収された混合溶剤は、室温レベルまで冷却された後、調液槽１８に回収される。このとき、補充タンクＴＮ２から、必要量の混合溶剤と界面活性剤とが補充され、また、補充タンクＴＮ５から、必要量の水が補充されるので、調液槽１８では、所定の液組成が維持される。そして、調液槽１８の洗浄剤は、必要に応じて超音波洗浄槽１に補充される。
【００５１】
ここで、蒸留システムＳＹＳの一連の動作を確認すると以下の通りである。先ず、リザーブタンク４との接続を閉じた状態で、系全体を０．１ａｔｍ程度に真空引きした上でリザーブタンク４との接続を開き、リザーブタンク４からリボイラー１０に、使用後の洗浄液（劣化液）を導入する。
【００５２】
次に、リボイラー１０の加熱動作を開始し、還流槽１２や中間槽１３が所定のホールドアップ状態で全還流運転を開始する。その後、所定の運転時間が完了すればリボイラー１０の加熱動作を停止する。
【００５３】
次に、リザーブタンク４との接続を閉じ、還流槽１２と中間槽１３を室温レベルまで冷却する。その後、系全体を大気開放した上で、還流槽１２と中間槽１３に回収された再生液を、補充タンクＴＮ２，ＴＮ５からの補充液と共に調液槽１８に移動させる。また、リボイラー１０の濃縮液をドレイン１９に移動させてバッチ処理を終える。
【００５４】
特に限定されないが、この蒸留システムＳＹＳは、２００リットルの劣化液を、２時間程度のバッチ運転で再生するよう設計されている。
【００５５】
ところで、図２の蒸留システムＳＹＳでは、超音波洗浄槽１に接続された調液槽１８を設けたが、特に限定されない。図３は、図２の変型例であり、還流槽１２と中間槽１３に回収された再生液を、補充タンクＴＮ２，ＴＮ５からの補充液と共に、リザーブタンク４に供給する蒸留システムを示している。
【００５６】
なお、図２や図３では、蒸留システムＳＹＳを超音波洗浄槽に配置したが、他の浸漬洗浄槽を含め、配置対象が特に限定されないことは言うまでもない。
【符号の説明】
【００５７】
ＳＹＳ    蒸留システム
１０    リボイラー
１１    蒸留塔
１２    還流槽
１３    中間槽
【図２】
2015040217.tif 000002
【図３】
2015040217.tif 000003
【図１】
2015040217.tif 000004