(57)【要約】【課題】パターン形成を行われた基板をその搬入順序とは異なる順序で搬出するのに有利なリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】このリソグラフィ装置は、パターン形成を基板に行うリソグラフィ装置であって、第１外部装置１０１から順次搬入された複数の基板のそれぞれに、その搬入順序を示す順序情報を対応付ける処理を行う処理手段１１５と、複数の基板に対してそれぞれが並行してパターン形成を行う複数のユニット１０２と、複数のユニットのいずれかでパターン形成が行われて搬出される複数の基板のうちの基板に対応する順序情報を第２外部装置１０４に送信する送信手段１０８と、を有する。【選択図】図１
2015204401.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン形成を基板に行うリソグラフィ装置であって、
第１外部装置から順次搬入された複数の基板のそれぞれに、その搬入順序を示す順序情報を対応付ける処理を行う処理手段と、
前記複数の基板に対してそれぞれが並行してパターン形成を行う複数のユニットと、
前記複数のユニットのいずれかでパターン形成が行われて搬出される前記複数の基板のうちの基板に対応する前記順序情報を第２外部装置に送信する送信手段と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記処理手段は、前記複数の基板のそれぞれに、それを含むロットを示すロット情報をさらに対応付ける処理を行い、
前記送信手段は、前記順序情報に対応する前記ロット情報をも前記第２外部装置に送信する、
ことを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記第１外部装置は、前記パターン形成の前処理を行う前処理装置である、ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記第２外部装置は、前記パターン形成の後処理を行う後処理装置である、ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記第１外部装置および前記第２外部装置は、同一の装置である、ことを特徴とする請求項１ないし請求項４のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記第１外部装置および前記第２外部装置は、塗布現像装置である、ことを特徴とする請求項５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記第２外部装置は、リソグラフィを管理する情報処理装置である、ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記情報処理装置は、前記パターン形成の後処理を行う後処理装置を管理する、ことを特徴とする請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記複数のユニットのそれぞれは、光、荷電粒子、および型のうち少なくとも一つを用いてパターン形成を基板に行う、ことを特徴とする請求項１ないし請求項８のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項９のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターン形成を基板に行う工程と、
前記工程で前記パターン形成を行われた基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置、および物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、露光装置等のリソグラフィ装置は、レジスト塗布現像装置（コータ・デベロッパ）と接続（インライン接続）して用いられうる。その場合、レジスト塗布現像装置から順次搬入された基板に対して順次リソグラフィ処理（パターニング）を行う。そして、処理の行われた基板は、搬入された順序のままでレジスト塗布現像装置に対して搬出される。リソグラフィ装置は、基板に所定の処理を行えなかった（基板のロスト（喪失）ともいう）ためにレジスト塗布現像装置に基板を搬出しない場合、その旨をレジスト塗布現像装置に通知する。このように、従来のリソグラフィ装置は、一部の基板をレジスト塗布現像装置に搬出しないことはあっても、搬入された基板の順序を替えずに基板をレジスト塗布現像装置に搬出していた。また、従来は、１台のリソグラフィ装置に対して１台のレジスト塗布現像装置がインライン接続されていた。このため、基板のロットの切り替えに関する情報を送信する手段および基板のロストに関する情報を受信する手段を備え、基板の搬入順序と搬出順序との間に相違がないことが保証されていれば、レジスト塗布現像装置は処理を行うことができた。
【０００３】
ここで、特許文献１は、装置内に複数の処理ユニットを備え、複数の基板を並行して処理し、各基板の処理が終わる時刻によらずに、投入順序にしたがって下流側に基板を払い出す基板処理装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３９３８４０９号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、複数のリソグラフィユニットから構成されるクラスター型のリソグラフィ装置では、基板の搬入順序で基板を外部装置に搬出する構成では不都合な場合がある。ここで、外部装置とは、例えば、前処理および後処理の少なくとも一方を行う装置のことである。搬入された順序で外部装置に基板を搬出するためには、例えば、複数のリソグラフィユニットのそれぞれが１枚の基板を処理するのに要する時間が変動し得るため、処理が完了した基板を直ちに搬出せずに待機させる必要が生じうる。クラスター型のリソグラフィ装置では、処理内容（原版またはレシピ等）が互いに異なる複数のロットの基板を複数のリソグラフィユニットで並行処理することがありうる。その場合にも、各ユニットが１枚の基板の処理に要する時間は異なりうるものである。
【０００６】
一方、レジストによっては、リソグラフィ処理を行ってから現像処理までの時間をできるだけ短くしたいという要求や、リソグラフィ処理から現像処理までの時間をできるだけ一定に保ちたいという要求がある。このような要求にこたえるためには、リソグラフィ装置での不必要な基板の待機時間を減らし、現像装置に直ちに基板を搬送するのが有用でありうる。クラスター型のリソグラフィ装置においては、個々のリソグラフィユニットの処理時間に差が生じやすいため、搬入された基板の順序を替えずに搬出しようとすれば、上記のような要求を満足し難くなる。
【０００７】
本発明は、例えば、パターン形成を行われた基板をその搬入順序とは異なる順序で搬出するのに有利なリソグラフィ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明は、パターン形成を基板に行うリソグラフィ装置であって、第１外部装置から順次搬入された複数の基板のそれぞれに、その搬入順序を示す順序情報を対応付ける処理を行う処理手段と、複数の基板に対してそれぞれが並行してパターン形成を行う複数のユニットと、複数のユニットのいずれかでパターン形成が行われて搬出される複数の基板のうちの基板に対応する順序情報を第２外部装置に送信する送信手段と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、例えば、パターン形成を行われた基板をその搬入順序とは異なる順序で搬出するのに有利なリソグラフィ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本実施形態に係るリソグラフィ装置を適用可能な装置の構成を示すブロック図である。
【図２】本実施形態におけるリソグラフィユニットの処理部の構成図である。
【図３】本実施形態に係る処理の流れを示すフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。
【００１２】
まず、本発明の実施形態に係るリソグラフィ装置を適用可能な装置の具体例について説明する。図１は、本発明の実施形態に係るリソグラフィ装置を適用した装置の構成を示すブロック図である。装置は、レジスト塗布装置１０１（前処理装置、第１外部装置）と、複数のリソグラフィユニット１０２（ユニット）から成るクラスター型のリソグラフィ装置１０３と、現像装置１０４（後処理装置、第２外部装置）と、レジスト塗布装置１０１および現像装置１０４とリソグラフィ装置１０３との間を中継する中継ステーション１０５とを備える。リソグラフィ装置１０３から見たとき、レジスト塗布装置１０１は基板のリソグラフィ処理前の前処理をおこなう外部装置であり、現像装置１０４は基板のリソグラフィ処理後の後処理を行う外部装置である。リソグラフィ装置１０３には、中継ステーション１０５とリソグラフィユニット１０２との間で基板を搬送する基板搬送機構１１４が含まれている。また、リソグラフィ装置１０３は、各リソグラフィユニットの制御および状態監視を行う情報処理装置であるクラスタコントローラ１１５（処理手段）を備えている。クラスタコントローラ１１５は、複数のリソグラフィユニットが並行して処理を行う際に、協調関係、情報の共有を行うことができる。
【００１３】
レジスト塗布装置１０１は、基板に前処理として感光材を塗布する等リソグラフィ装置に搬入するための一連の前処理を行うための装置である。レジスト塗布装置１０１は、リソグラフィ装置１０３に基板を搬出すべく基板を中継ステーション１０５に渡す基板搬出部１０９と、基板の搬出順序を記録している基板搬出順序記録部１１０とを有する。リソグラフィ装置１０３とレジスト塗布装置１０１との間には、レジスト塗布装置１０１の基板搬出部１０９から搬出された基板をリソグラフィ装置１０３に中継する中継ステーション１０５がある。基板は、中継ステーション１０５から基板搬送機構１１４によっていずれかのリソグラフィユニット１０２の基板搬入部１０６に搬入される。
【００１４】
現像装置１０４は、リソグラフィ処理の後処理として基板に現像処理やベーク処理等を行うための装置であり、基板搬入部１１１と、基板搬出情報受信部１１３を有する。基板搬入部１１１は、リソグラフィ装置１０３のいずれかのリソグラフィユニット１０２の基板搬出部１０７から基板搬送機構１１４を用い中継ステーション１０５を中継して搬出されてきた基板を現像装置１０４に搬送する。また、基板搬出情報受信部１１３は、リソグラフィユニット１０２から通信ネットワーク１１２を用いて送信された基板搬出の順序情報を受信する。
【００１５】
リソグラフィユニット１０２は、パターン形成を基板に行うユニットであり、例えば、露光装置、描画装置、インプリント装置として具現化されうる。露光装置は、例えば、（極端）紫外光を用いて基板（上のレジスト）に（潜像）パターンを形成する。また、描画装置は、例えば、荷電粒子線（電子線等）を用いて基板（上のレジスト）に（潜像）パターンを形成する。また、インプリント装置は、基板上のインプリント材を成型して基板上にパターンを形成する。図１に示すように、リソグラフィユニット１０２は、基板搬入部１０６と基板搬出部１０７と順序情報送信部１０８（送信手段）を有する。基板搬入部１０６は、レジスト塗布装置１０１から中継ステーション１０５を経由して基板搬送機構１１４によって搬送されてくる基板を受け取る。基板搬出部１０７は、リソグラフィユニット１０２で露光もしくは描画した基板を現像装置１０４に搬出すべく基板搬送機構１１４に渡す。順序情報送信部１０８は、現像装置１０４へ通信ネットワーク１１２を介して基板の搬入されたときの順序情報を搬出する基板に対応付けて送信する。また、リソグラフィユニット１０２は、パターン形成を行う処理部１０を有する。処理部１０の具体的な構成については、以下で説明する。
【００１６】
図２は、上述したようなリソグラフィユニット１０２に含まれる処理部１０の構成図である。ここでは、リソグラフィユニットとして、電子線を用いる描画装置を例示する。なお、電子線は、イオン線等の他の荷電粒子線であってもよい。リソグラフィユニット１０２の処理部１０は、真空チャンバ５と、当該真空チャンバ５内に収容された電子光学系３および駆動装置４とを含み、真空中で電子線を用いて基板２に描画を行うものである。ステージ（保持部）１は、基板２を保持する。
【００１７】
次に、本実施形態に係る処理の流れについて説明する。図３は、本実施形態に係る処理の流れを示すフロー図である。まず、レジスト塗布装置１０１は、基板にレジストを塗布すると（ステップ１）、リソグラフィ処理を施すためにリソグラフィ装置１０３に基板を搬出する（ステップ２）。通常、レジスト塗布装置１０１は、レジストの塗布は複数枚の基板に対して同一の条件で行い、どの基板にどの条件でレジストを塗布したのかを示す情報を管理している。次に、レジスト塗布装置１０１から順次搬入された基板は、中継ステーション１０５を中継して、いずれかのリソグラフィユニット１０２に振り分けられ搬送される。振り分ける方法としては幾通りもの方法が考えられるが、例えば、リソグラフィ装置１０３の状態を管理しているクラスタコントローラ１１５が行う。クラスタコントローラ１１５は、各リソグラフィユニット１０２の負荷状況から判断して、トータルとしてスループットが高くなるように基板を振り分ける。続いて、リソグラフィユニット１０２は基板を受け取り（ステップ３）、クラスタコントローラ１１５は、その基板がレジスト塗布装置が何番目に搬出したものであるかを識別することが可能となる順序情報（搬入順序）を記録する（ステップ４）。順序情報の生成方法としては、例えば、中継ステーション１０５において順序情報を生成し基板に対応付け、搬送先のリソグラフィユニットにその順序情報も同時に伝える。また、中継ステーションで順序情報を生成しない場合は、他のリソグラフィユニット１０２に搬入された基板との前後関係がそのままでは分からない。そこで、例えば、クラスター型リソグラフィ装置１０３に順次搬入された基板の順序を識別するために、各リソグラフィユニット１０２は、基板が搬入された時間を記録する。さらに、リソグラフィユニット１０２ごとにレジスト塗布装置からの異なる搬送時間を加味して標準化した時間を算出し、その時間を基板の搬送順序を示す順序情報とする。クラスタコントローラ１１５が順序情報を記録すると（ステップ４）、リソグラフィユニット１０２は基板をアライメントし、露光や電子線描画などのリソグラフィ処理を行う（ステップ５）。その後基板は、基板搬出部１０７に置かれ、基板搬出部１０７から基板搬送機構１１４により中継ステーション１０５へと搬送される（ステップ６）。このとき同時に、送信手段としての順序情報送信部１０８は、基板の搬入時に記録した基板の順序を示す順序情報を中継ステーション１０５に伝える（ステップ７）。ここでは、基板の搬出に関して従来のように、先に他のリソグラフィユニット１０２に搬入された基板の処理が終わっていないがために個々のリソグラフィユニット１０２で処理の終わった基板の搬出を見合わせるというようなことはしない。個々のリソグラフィユニット１０２は、処理の終わった基板を搬出する。基板は、中継ステーション１０５から現像装置１０４の基板搬入部１１１に搬入される（ステップ８）。現像装置１０４は、中継ステーション１０５から搬入された基板の順序情報を受け取る（ステップ９）。基板は、順序が先の基板がまだ入ってきていなければ待機し、基板が入ってきたら順番を入れ替える（ステップ１０）。現像およびベーク等の処理をおこない（ステップ１１）、ストッカーへ収納する（ステップ１２）。なお、ステップ１０の基板の順番の入れ替えは、現像およびベーク処理を行った後、すなわちステップ１２の後で行ってもよい。
【００１８】
なお、ステップ７およびステップ９で、順序情報に加えて基板の露光処理単位を表すロット情報を付加して送受信してもよい。複数の基板のそれぞれに、それを含むロットを示すロット情報を対応付ける処理は、処理手段としてのクラスタコントローラ１１５が行う。クラスター型のリソグラフィ装置１０３においてはロットが混在して基板が処理されることがあるため、順序情報だけでは現像装置１０４が基板毎の順序の入れ替えを含む処理内容を決定できない場合がある。そのため、順序情報にロット情報を付加（例えば、ユニークなロット名とロット毎の通し番号とするなど）して送信し、現像装置１０４の処理内容決定に必要な情報を提供する。また、ステップ７およびステップ９では、現像装置１０４は、中継ステーション１０５を介して順序情報の送受信を行ったが、リソグラフィユニット１０２と直接通信ネットワーク１１２を介して順序情報の送受信をおこなってもよい。さらに、リソグラフィ装置とレジスト塗布装置１０１および現像装置１０４との間で情報を共有・管理するための情報処理装置がある場合には、ステップ７およびステップ９で、基板の順序情報の送受信はこの情報処理装置を介して行ってもよい。具体的には、リソグラフィを管理する情報処理装置に順序情報を送信してもよく、その情報により後処理装置としての現像装置１０４を管理しうる。
【００１９】
また、本実施形態ではレジスト塗布装置１０１と現像装置１０４を独立した装置として記述したが、これに限られるものではなく、レジスト塗布装置１０１と現像装置１０４とが一体の塗布現像装置であっても、本発明のリソグラフィ装置は適用できる。このような場合には、リソグラフィ装置１０３に向けて搬出した基板が戻ってきた際に、どのように順番が入れ替わったかが分かればよい。レジスト塗布装置１０１・現像装置１０４側は、基板に合わせての処理内容の調整や、基板の順番の入れ替えを自由に行うことができる。例えば、露光処理単位を表すロット名が同じ基板同士の順番が入れ替わっただけならばそのまま処理を続けるが、ロットをまたいで順番が入れ替わってしまったような場合は、順番を入れ替えるというような判断をしてもよい。
【００２０】
また、本実施形態では、一例としてリソグラフィユニットに電子線を用いる描画装置の場合について説明し、前処理装置にはレジスト塗布装置を用い、後処理装置には現像装置を用いたが、これに限られるものではない。例えば、リソグラフィユニットとしてインプリント装置を用いるリソグラフィ装置の場合には、前処理装置をレジスト塗布装置とし、後処理装置をエッチング装置とする構成でもよい。
【００２１】
また、本実施形態では順序情報を中継ステーション１０５で生成し、基板と順序情報とを対応付ける処理を行う処理手段としてクラスタコントローラ１１５を用い、送信手段として順序情報送信部を用いる場合について説明したが、これに限られるものではない。例えば、基板搬送機構１１４が順序情報を生成して搬出まで管理してもよい。この場合、基板搬送機構１１４が処理手段および送信手段（の少なくとも一部）を兼ねうる。また、基板搬送機構１１４が順序情報を生成してリソグラフィユニット１０２に当該情報を伝達してもよい。
【００２２】
以上のように、本実施形態によれば、クラスター型のリソグラフィ装置における各リソグラフィユニットが処理した基板が前処理をおこなう外部装置から何番目に搬出した基板であるかを受け取った外部装置において判断することが可能となる。このため、例えば、各リソグラフィユニットは、他のリソグラフィユニットの基板の処理にかかる時間および搬出を気にすることなく、パターン形成を行われた基板をその搬入順序とは異なる順序で搬出することができる。したがって、リソグラフィ処理から現像処理までのプロセスの要求に応えることができ、ひいては生産性を向上させることができる。
【００２３】
（物品の製造方法）
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイスなどのマイクロデバイスや微細構造を有する素子などの物品を製造するのに好適である。当該製造方法は、物体（例えば、感光材を表面に有する基板）上に上記のリソグラフィ装置を用いてパターン（例えば潜像パターン）を形成する工程と、該工程でパターンを形成された物体を処理する工程（例えば、現像工程）とを含みうる。さらに、該製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど）を含み得る。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００２４】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００２５】
１０１    レジスト塗布装置（第１外部装置）
１０２    リソグラフィユニット
１０３    リソグラフィ装置
１０４    現像装置（第２外部装置）
１０８    順序情報送信部（送信手段）
１１５    クラスタコントローラ（処理手段）
【図１】
2015204401.tif 000003
【図２】
2015204401.tif 000004
【図３】
2015204401.tif 000005