(57)【要約】【課題】隣接色画素からの混色を防ぎ、色度視野角および色再現性を向上させることが可能な表示装置および電子機器を提供する。【解決手段】本開示の表示装置は、隔壁を間にして複数の画素を有する駆動基板と、隔壁上に設けられた第１遮光膜とを備える。【選択図】図１
2015128003.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
隔壁を間にして複数の画素を有する駆動基板と、
前記隔壁上に設けられた第１遮光膜と
を備えた表示装置。
【請求項２】
前記画素は、発光層を含むと共に、少なくとも一部が前記複数配置された画素間における共通層として設けられた有機層を有し、
前記第１遮光膜は前記隔壁と前記有機層との間に設けられている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記隔壁は上面に平面を、側面に傾斜面を有し、
前記第１遮光膜は前記隔壁の前記平面上に設けられている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記隔壁は上面に平面を、側面に傾斜面を有し、
前記第１遮光膜は前記隔壁の前記平面および前記傾斜面に設けられている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記画素に対応する位置に開口を有すると共に、前記駆動基板に対向配置された対向基板側に設けられたブラックマトリクスを備え、
前記第１遮光膜は表示面から見て前記ブラックマトリクスの前記開口の端面よりも画素側に端面を有する、請求項１に記載の表示装置
【請求項６】
前記第１遮光膜と前記ブラックマトリクスの間に第２遮光膜を有する、請求項５に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１遮光膜は光吸収性を有する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第１遮光膜はカーボン（Ｃ），酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）およびサマリウム（Ｓｍ）と銀（Ａｇ）との合金あるいは有機材料によって形成されている、請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記第１遮光膜は光反射性を有する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第１遮光膜はアルミニウム（Ａｌ），クロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）のうちの少なくとも１種を含む、請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記発光層の発光光は画素ごとに異なる、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記発光層の発光光は白色光である、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１３】
表示装置を備え、
前記表示装置は、
隔壁を間にして複数の画素を有する駆動基板と、
前記隔壁上に設けられた第１遮光膜と
を備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ；Electro Luminescence）現象を利用して発光する表示装置およびこれを備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報通信産業の発達が加速するにつれて、高度な性能を有する表示素子が要求されている。その中で、次世代表示素子として注目されている有機ＥＬ素子は、自発発光型表示素子として視野角が広くてコントラストが優秀なだけでなく応答時間が速いという長所がある。
【０００３】
有機ＥＬ素子（発光素子）を備えた表示装置では、表示領域に複数の画素が配置されており、各画素には、例えば赤色光（赤画素Ｒ），緑色光（緑画素Ｇ）あるいは青色光（青画素Ｂ）を発する有機ＥＬ素子がそれぞれ配設されている。また、各有機ＥＬ素子の対向面には、例えば各色画素ごとに対応する色要素（カラーフィルタ）が配設されており、これによって表示装置から取り出される光の色純度を向上させている。
【０００４】
一般的に、色要素と色要素との間には、隣接する色画素からの混色を防ぐためにブラックマトリクスが設けられているが、発光素子から斜め方向に射出された光（斜め射出光）はブラックマトリクスを超えて隣接配置された色画素（隣接色画素）へ入り色純度の低下を引き起こす。このため、例えば特許文献１，２では、ブラックマトリクスをカラーフィルタよりも厚く形成して斜め入射光を遮光する表示装置が開示されている。また、例えば特許文献３，４では、カラーフィルタ上にブラックマトリクスを形成して発光面との距離を縮めることで混色を抑制する表示装置が開示されている。一方、特許文献５では、遮光性樹脂膜（ブラックマトリクス）を、着色材（カラーフィルタに相当）覆う薄膜上に形成することで混色を抑制する液晶表示装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−２９４０５７号公報
【特許文献２】特開２００５−２９３９４６号公報
【特許文献３】特開２００７−２２０３９５号公報
【特許文献４】特開２００９−１０４９６９号公報
【特許文献５】特開２００６−２４３１７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、カラーフィルタに対してブラックマトリクスのみを大幅に厚く形成することは技術的に困難であった。また、カラーフィルタ上にブラックマトリクスを形成しても、発光面とブラックマトリクスとの距離はカラーフィルタの膜厚分しか近づかないため十分な混色防止効果は得られなかった。更に、カラーフィルタは各色画素によって膜厚が異なるため、色毎に色度視野角にばらつきが生じるという問題があった。
【０００７】
本技術はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、隣接色画素への混色を防ぎ、色再現性および色度視野角を向上させることが可能な表示装置および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本技術の表示装置は、隔壁を間にして複数の画素を有する駆動基板と、隔壁上に設けられた第１遮光膜とを備えたものである。
【０００９】
本技術の電子機器は、上記表示装置を備えたものである。
【００１０】
本技術の表示装置および電子機器では、画素間に設けられた隔壁上に第１遮光膜を設けることにより、隣接画素（具体的には、隣接配さされている色画素）へ入射しうる射出角度の大きな発光光（斜め射出光）の隣接色画素への入射が抑制される。
【発明の効果】
【００１１】
本技術の表示装置および電子機器によれば、画素間に設けられた隔壁上に第１遮光膜を設けるようにしたので、斜め射出光を遮光して隣接色画素における混色の発生を防ぐことが可能となる。よって、高い色度視野角および高い色再現性を有する表示装置および電子機器の提供が可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図２】図１に示した表示装置の遮光膜の形状を表す平面図である。
【図３】図１に示した表示装置における効果を説明する模式図である。
【図４】図１に示した表示装置の全体構成を表す図である。
【図５】図４に示した画素駆動回路の一例を表す平面図である。
【図６】本開示の第２の実施の形態に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図７】図６に示した表示装置における効果を説明する模式図である。
【図８】本開示の第１の実施の形態の変形例に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図９】本開示の第２の実施の形態の変形例に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図１０】本開示の第３の実施の形態に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図１１Ａ】上記実施の形態等の表示装置の適用例１の表側の外観を表す斜視図である。
【図１１Ｂ】図１１Ａに示した適用例１の裏側の外観を表す斜視図である。
【図１２】適用例２の外観を表す斜視図である。
【図１３Ａ】適用例３の閉じた状態の正面図、左側面図、右側面図、上面図および下面図である。
【図１３Ｂ】図１３Ａに示した適用例３の開いた状態の正面図および側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本開示の実施の形態，変形例および適用例について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（隔壁の上面に遮光膜を形成した例）
１−１．基本構成
１−２．表示装置の全体構成
１−３．製造方法
１−４．作用・効果
２．第２の実施の形態（隔壁上の遮光膜とＢＭとの間に第２の遮光膜を追加した例）
３．変形例（隔壁の上面および傾斜面に遮光膜を形成した例）
４．第３の実施の形態（隔壁上に反射性遮光膜を形成した例）
５．適用例（電子機器の例）
【００１４】
＜１．第１の実施の形態＞
図１は、本開示の第１の実施の形態に係る表示装置（表示装置１）の断面構成の一例を表したものである。この表示装置１は、例えばテレビジョン装置等として用いられるものであり、図４に示したように、駆動基板１１上には表示領域１１０Ａおよびその周縁に周辺領域１１０Ｂが設けられている。表示装置１は、表示領域１１０Ａ内にそれぞれがマトリクス状に配置された複数の画素２（例えば、赤色画素２Ｒ，緑色画素２Ｇ，青色画素２Ｂ）を有する。各画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂには、それぞれ対応する単色光（赤色光ＬＲ，緑色光ＬＧ，青色光ＬＢ）を発する発光素子１０（赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇ，青色発光素子１０Ｂ）が設けられている。表示装置１は、これら発光素子１０の発光光を上面（駆動基板１１とは反対側の面）側から取り出す上面発光型（所謂、トップエミッション型）の表示装置である。周辺領域１１０Ｂには、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。
【００１５】
（１−２．基本構成）
表示装置１では、図１に示したように、各画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂは駆動基板１１上に設けられた隔壁１３によって区画されている。駆動基板１１と対向配置された対向基板２０の対向面には、各画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂに対応する位置（発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ上）にカラーフィルタ（ＣＦ）２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂがそれぞれ設けられている。各ＣＦ２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの間には隣接色画素からの混色を抑制するブラックマトリクス（ＢＭ）２１がそれぞれ設けられている。本実施の形態では、表示装置１は、隔壁１３の上面（具体的には、ＢＭ２１に対向する位置）に遮光膜１４（第１遮光膜）が設けられた構成を有する。
【００１６】
発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、それぞれ、画素駆動回路１４０（図４，５参照）の駆動トランジスタＴｒ１等が設けられた駆動基板１１の側から、陽極としての画素電極１２、発光層１５Ｂを含む有機層１５、および陰極としての対向電極１６がこの順に積層されている。各発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの間には隔壁１３が設けられており、この隔壁１３上且つ発光素子１０を構成する有機層１５との間に上記遮光膜１４が設けられている。
【００１７】
このような発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、保護膜１７および平坦化膜１８により被覆され、更にこの平坦化膜１８上には接着層（図示せず）を介して、対向基板２０が全面にわたって貼り合わされている。なお、対向基板２０は駆動基板１１の対向面側にＢＭ２１およびＣＦ２２を有し、ＣＦ２２上にはオーバーコート（ＯＣ）２３が設けられている。
【００１８】
画素電極１２は、反射層としての機能も兼ねており、できるだけ高い反射率を有することが発光効率を高める上で望ましい。特に、画素電極１２が陽極として使われる場合には、画素電極１２は正孔注入性の高い材料により構成されていることが望ましい。このような画素電極１２としては、例えば、積層方向（Ｘ軸方向）の厚み（以下、単に厚みと言う）が１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、クロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）等の金属元素の単体またはこれら金属元素のいずれかを含む合金が挙げられる。画素電極１２の表面には、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）等の透明導電膜が設けられていてもよい。なお、アルミニウム（Ａｌ）合金のように、反射率が高くても、表面の酸化皮膜の存在や、仕事関数が大きくないことによる正孔注入障壁が問題となる材料においても、適切な正孔注入層を設けることによって画素電極１２として使用することが可能である。
【００１９】
隔壁１３は、上記のように各画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂを区画すると共に、各発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを電気的に分離するものである。隔壁１３には各画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂにおける発光領域となる開口部１３Ａが設けられている。この開口部１３Ａには、詳細は後述するが、それぞれ対応する発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを構成する発光層１５Ｂ（赤色発光層１５ＢＲ，緑色発光層１５ＢＧ，青色発光層１５ＢＢ）を含む有機層１５が設けられている。隔壁１３の材料としては、例えばポリイミド、ノボラック樹脂あるいはアクリル樹脂等の有機材料が挙げられるがこれに限らず、例えば有機材料と無機材料とを組み合わせて用いてもよい。無機材料としては、例えばＳｉＯ２，ＳｉＯ，ＳｉＣ，ＳｉＮが挙げられる。隔壁１３は、例えば上記有機材料による単層膜として形成してもよいが、有機材料と無機材料とを組み合わせ場合には、有機膜と無機膜との積層構造としてもよい。なお、有機層１５および対向電極１６は、隔壁１３の上にも設けられているが、発光が生じるのは発光領域だけである。
【００２０】
本実施の形態では、隔壁１３は駆動基板１１と平行な平面を有する上面と順テーパ状に傾斜を有する側面（傾斜面）を備えており、上面には遮光膜１４が設けられている。
【００２１】
遮光膜１４は、上記のように隔壁１３の上面に設けられており、図２に示したように、平面から見て各画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂを区画する格子形状を有する。遮光膜１４は、図３に示したように、発光層１５Ｂにおける発光光のうち、隣接色画素において混色を起こす虞のある斜め射出光（例えばＬｍ２）の隣接色画素への入射を防ぐものである。遮光膜１４の幅（Ｄ２）は、後述するＢＭ２１の幅（Ｄ１）よりも広いことが好ましい。換言すると、遮光膜１４は表示面から見てＢＭ２１の開口の端面よりも画素側に端面がくるように形成されていることが好ましい。これにより、隣接色画素への入射しうる斜め射出光に対する高い遮光効果が得られる。遮光膜１４の厚みは、例えば０．１μｍ以上１μｍ以下である。遮光膜１４の材料としては、光吸収性を有する材料を用いることが好ましく、例えばＢＭ２１と同種の材料を用いることができる。具体的には、カーボン（Ｃ），酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）およびサマリウム（Ｓｍ）と銀（Ａｇ）との合金あるいは有機材料等が挙げられる。遮光膜１４は、これら材料からなる単層膜あるいは積層膜として構成される。具体的な積層膜としては、例えば酸化バナジウム（ＶＯ）／Ａｇ等の金属積層膜あるいは、Ａｌ／銅フタロシアンとＡｌとの混合物（ＣｕＰｃ：Ａｌ）／Ａｌ，Ａｌ／ＤＣＪＴＢ／Ａｌ，Ａｌ／ＤＣＪＴＢ：ＣｕＰｃ：Ａｌ／Ａｌ等の有機材料と金属材料との積層膜が挙げられる。
【００２２】
なお、遮光膜１４を光吸収性の材料によって構成することによって外光反射を減少させ、コントを向上させることができる。また、遮光膜１４を、導電性材料を用いて構成し、この遮光膜１４とカソード電極（ここでは対向電極１６）と同電位とする（例えばＧＮＤに接続する）ことによって隣接色画素への電流のリークを防ぐことができる。これにより、リーク電流によって意図しない隣接色画素が発光することによって生じる混色を低減することが可能となる。
【００２３】
有機層１５は、例えば、画素電極１２の側から順に、正孔供給層１５Ａ，発光層１５Ｂおよび電子供給層１５Ｃを積層した構成を有する。これらのうち発光層１５Ｂ以外の層は必要に応じて設ければよい。有機層１５は、発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの発光色によってそれぞれ構成が異なっていてもよい。正孔供給層１５Ａは、例えば、正孔注入性を有する層（正孔注入層）および正孔輸送性を有する層（正孔輸送層）が画素電極１２側から正孔注入層，正孔輸送層の順に積層された構成を有する。正孔注入層は、発光層１５Ｂへの正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔輸送層は、発光層１５Ｂへの正孔輸送効率を高めるためのものである。発光層１５Ｂは、電界を印加することにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。電子供給層１５Ｃは、例えば電子注入性を有する層（電子注入層）および電子輸送性を有する層（電子輸送層）が、発光層１５Ｂ側から電子輸送層，電子注入層の順に積層された構成を有する。電子輸送層は、発光層１５Ｂへの電子輸送効率を高めるためのものである。電子注入層は、電子注入効率を高めるためのものである。
【００２４】
正孔供給層１５Ａのうち、正孔注入層は、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、例えばヘキサアザトリフェニレン誘導体により構成されている。正孔輸送層は、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、ビス［（Ｎ−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）により構成されている。発光層１５Ｂは、例えば、厚みが１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、例えば、赤色発光層１５ＢＲとしては、８−キノリノールアルミニウム錯体（Ａｌｑ３）に２，６−ビス［４−［Ｎ−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニル］アミノスチリル］ナフタレン−１，５−ジカルボニトリル（ＢＳＮ−ＢＣＮ）を４０体積％混合したものにより構成されている。電子供給層１５Ｃのうち、電子輸送層は、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、Ａｌｑ３ により構成されている。電子注入層は、例えば、厚みが０．３ｎｍ程度であり、ＬｉＦ，Ｌｉ2Ｏ等により構成されている。
【００２５】
対向電極１６は、例えば、厚みが１０ｎｍ程度であり、Ａｌ，マグネシウム（Ｍｇ），カルシウム（Ｃａ）またはＡｇの合金により構成されている。中でも、ＭｇとＡｇとの合金（Ｍｇ−Ａｇ合金）は、薄膜での導電性と吸収の小ささとを兼ね備えているので好ましい。Ｍｇ−Ａｇ合金におけるＭｇとＡｇとの比率は特に限定されないが、膜厚比でＭｇ：Ａｇ＝２０：１〜１：１の範囲であることが望ましい。また、対向電極１６の材料は、Ａｌとリチウム（Ｌｉ）との合金（Ａｌ−Ｌｉ合金）でもよい。
【００２６】
対向電極１６は、また、半透過性反射層としての機能を兼ねていてもよい。対向電極１６が半透過性反射層としての機能を備えている場合には、発光素子１０は共振器構造を有し、この共振器構造により発光層１５Ｂで発生した光を画素電極１２と対向電極１６との間で共振させるようになっている。
【００２７】
保護膜１７は、対向電極１６上に形成されるものであり、例えば酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＮｘＯｙ）、酸化チタン（ＴｉＯｘ）または酸化アルミニウム（ＡｌｘＯｙ）等の無機材料からにより構成されている。
【００２８】
平坦化膜１８は、保護膜１７上にほぼ一様に形成されるものである。平坦化膜１８は、上記接着層を兼ねていてもよく、例えばエポキシ樹脂またはアクリル樹脂等からなる。
【００２９】
対向基板２０は、発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを封止するものであり、発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した光に対して透過性を有するガラス等の材料によって構成されている。対向基板２０の駆動基板１１側の面（対向面）上には、例えば、ＢＭ２１およびＣＦ２２が設けられている。ＢＭ２１およびＣＦ２２は、赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇおよび青色発光素子１０Ｂで発生した各光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢを取り出すと共に、各発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂならびにその間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。
【００３０】
ＢＭ２１は，対向基板２０とＣＦ２２との間の、各画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂの間（具体的には隔壁１３）に対応する位置に設けられている。ＢＭ２１は、例えば黒色の着色剤を混入した光学濃度が１以上の黒色の樹脂膜、または薄膜の干渉を利用した薄膜フィルタにより構成されている。このうち黒色の樹脂膜により構成するようにすれば、安価で容易に形成することができるので好ましい。薄膜フィルタは、例えば、金属，金属窒化物あるいは金属酸化物よりなる薄膜を１層以上積層し、薄膜の干渉を利用して光を減衰させるものである。薄膜フィルタとしては、具体的には、ＣやＣｒとＣｒ２Ｏ３とを交互に積層したものが挙げられる。
【００３１】
ＣＦ２２は、例えば赤色フィルタ２２Ｒ，緑色フィルタ２２Ｇおよび青色フィルタ２２Ｂを有しており、各発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに対応して順に配置されている。赤色フィルタ２２Ｒ，緑色フィルタお２２Ｇよび青色フィルタ２２Ｂは、それぞれ例えば矩形形状で隙間なく形成されている。これら赤色フィルタ２２Ｒ，緑色フィルタ２２Ｇおよび青色フィルタ２２Ｂは、顔料を混入した樹脂によりそれぞれ構成されており、顔料を選択することにより、目的とする赤，緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。
【００３２】
ＢＭ２１およびＣＦ２２上には、透明性を有する絶縁材料あるいは導電材料からなるオーバーコート（ＯＣ）膜２３が設けられている。絶縁材料としては、例えば、ポリミイド，アクリル等の有機材料、酸化シリコン（ＳｉＯｘ），窒化シリコン（ＳｉＮｘ），酸化窒化シリコン（ＳｉＮｘＯｙ），酸化チタン（ＴｉＯｘ）または酸化アルミニウム（ＡｌｘＯｙ）等の無機材料が挙げられる。導電材料としては、例えば、ＩＴＯやＩＺＯ等が挙げられる。なお、ＯＣ２３は必ずしも形成する必要はなく、省略してもかまわない。
【００３３】
（１−２．表示装置の全体構成）
図４は、表示装置１の全体構成を表したものである。この表示装置１は、上記のように、表示領域１１０Ａの周縁の周辺領域１１０Ｂに、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０を有している。表示領域１１０Ａ内には画素駆動回路１４０が設けられている。
【００３４】
図５は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。画素駆動回路１４０は、画素電極１２の下層に形成されたアクティブ型の駆動回路である。即ち、この画素駆動回路１４０は、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、これらトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された発光素子１０Ｒ（または１０Ｇ，１０Ｂ）とを有する。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタにより構成され、その構成は例えば逆スタガ構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガ構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。
【００３５】
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれか一つ（画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂ）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００３６】
（１−３．製造方法）
本実施の形態の表示装置１は以下の方法を用いて製造される。
【００３７】
まず、上述した材料よりなる駆動基板１１に画素電極１２および駆動トランジスタＴｒ１を含む画素駆動回路１４０を形成したのち、全面に感光性樹脂を塗布することにより平坦化絶縁膜（図示せず）を形成する。次いで、例えばスパッタ法により、上述した材料よりなる画素電極１２を形成し、ウェットエッチングにより画素電極１２を選択的に除去して発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂごとに分離する。
【００３８】
続いて、駆動基板１１の全面にわたり隔壁１３となる、例えば感光性樹脂を塗布し、例えばフォトリソグラフィ法により発光領域に対応する開口部１３Ａを設け、焼成することにより、隔壁１３を形成する。次に、例えば蒸着法により、上述した厚みおよび材料よりなる有機層１５の正孔供給層１５Ａ，発光層１５Ｂおよび電子供給層１５Ｃを形成する。次に、例えば蒸着法により、上述した厚みおよび材料よりなる対向電極１６を成膜する。これにより、図１に示したような発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂが形成される。
【００３９】
続いて、例えばＣＶＤ法またはスパッタ法により、発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの上に上述した材料よりなる保護膜１７を形成する。次に、保護膜１７の上に、平坦化膜１８を形成し、この平坦化膜１８（あるいは接着層）を間にしてＯＣ２３によって被覆されたＣＦ２２およびＢＭ２１を備えた対向基板２０を貼り合わせる。以上により、図１および図４に示した表示装置１が完成する。
【００４０】
この表示装置１では、各画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂに対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。即ち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢは、例えば、画素電極１２と対向電極１６との間で多重反射し、または、画素電極１２における反射光と発光層１５Ｂで発生した光とが干渉により強め合い、対向電極１６，カラーフィルタ２３および対向基板２０を透過して取り出される。
【００４１】
（１−４．作用・効果）
一般的な表示装置では、隣接色画素からの斜入射光は対向基板側に設けられたブラックマトリクス（例えば、表示装置１におけるＢＭ２１）によって遮光され、混色の発生を抑制している。しかしながら、発光部（具体的には発光層）と発光光の取り出し部（例えば、ブラックマトリクスの開口）との距離（具体的には、発光素子を構成する各層や平坦化膜等の厚み）によっては隣接色画素からの斜入射光を十分に遮光することは難しく、混色によって色度視野角が低下するという問題があった。
【００４２】
ブラックマトリクスによる遮光効果を向上させる方法としては、ブラックマトリクスの平面方向の幅を大きくしたり、あるいは、前述のように、ブラックマトリクスの膜厚を大きくする方法が挙げられる。しかしながら、このような方法では開口率が下がることで輝度が低下したり、製造が困難である等の問題があった。
【００４３】
これに対して、本実施の形態の表示装置１では、各画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂを区画する隔壁１３上に遮光膜１４を設けるようにした。これにより、斜め射出光の隣接色画素への入射をより低減することが可能となる。具体的には、図３に示したように、発光素子１０Ｇの発光層１５ＢＧから発せられる光ＬＧのうち、隣接色画素へ入射しうる、Ｘ軸方向に対して射出角度の大きな光Ｌｍのうち、例えば発光層１５ＢＧの中央部で発光する斜め射出光Ｌｍ１は、対向基板２０側に設けられたＢＭ２１では遮光できるものの、例えば発光層１５ＢＧの中央部よりも外側で発光する斜め射出光Ｌｍ２は、対向基板２０側に設けられたＢＭ２１では遮蔽できない。しかしながら、本実施の形態のように、隔壁１３上に遮光膜１４を形成することによって、斜め射出光Ｌｍ２は、この遮光膜１４によって遮光されるようになる。
【００４４】
以上のことから、本実施の形態における表示装置１では、各画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂを区画する隔壁１４上に遮光膜１４を設けるようにしたので、斜め射出光による混色の発生を低減することができる。よって、色度視野角特性の高い表示装置を提供することが可能となる。
【００４５】
また、本実施の形態では、遮光膜１４を光吸収性の材料によって構成することによって外光反射を減少させ、コントを向上させることができる。あるいは、遮光膜１４を、導電性材料を用いて構成することによって隣接色画素への電流のリークを防ぐことができる。これにより、電気的リークによる隣接色画素の発光が低減される。よって高い色再現性を有する表示装置を提供することが可能となる。
【００４６】
次に、第２の実施の形態および変形例について説明する。以下では、上記第１の実施の形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、適宜その説明を省略する。
【００４７】
＜２．第２の実施の形態＞
図６は、本開示の第２の実施の形態に係る表示装置３の断面構成を表したものである。この表示装置３は、上記第１の実施の形態と同様に、例えばテレビジョン装置等として用いられるものであり、発光光を上面側から取り出すトップエミッション型の表示装置である。本実施の形態の表示装置３は、対向基板２０側に設けられたＢＭ２１と、上記第１の実施の形態において設けられた隔壁１３上に設けられた遮光膜１４との間に遮光膜２４（第２遮光膜）を形成した点が上記第１の実施の形態とは異なる。
【００４８】
遮光膜２４は、上記のように隔壁１３上に設けられた遮光膜１４と、対向基板２０側に設けられたＢＭ２１との対向領域に設けられたものである。具体的には、例えばＯＣ２３の駆動基板１１側の面に設けられており、遮光膜１４およびＢＭ２１と同様に、例えば各画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂを区画するように格子形状を有する。遮光膜２４の幅（Ｄ３）は、ＢＭ２１の幅（Ｄ１）よりも広く形成することで、隣接色画素へ入射し得る斜め射出光を効果的に遮光することができる（図７参照）。なお、ＢＭ２１によるケラレが発生する視野角を維持するために、遮光膜２４の幅（Ｄ３）は、例えば（ｄ２×Ｄ４＋ｄ１×Ｄ１）／（ｄ１＋ｄ２）以下とすることが好ましい。遮光膜２４の膜厚は、例えば０．１μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。遮光膜２４の材料としては、遮光膜１４およびＢＭ２１と同種の材料を用いることができる。
【００４９】
以上のように、本実施の形態では、隔壁１３上の遮光膜１４と対向基板２０上のＢＭ２１とが対向する領域内に遮光膜２４を設けるようにした。これにより、図７に示したように、発光層１５Ｂから射出される斜め射出光Ｌｍのうち、遮光膜１４およびＢＭ２１によって遮蔽されない光（例えば、Ｌｍ２とＬｍ１）を遮蔽することが可能となる。よって、隣接色画素への入射する虞のある射出角度の大きな発光光（斜め射出光）による混色の発生を低減することができ、より色度視野角特性の高い表示装置を提供することが可能となる。
【００５０】
＜３．変形例＞
図８は、上記第１の実施の形態の変形例に係る表示装置４の断面構成を表したものである。本変形例における表示装置４では、隔壁１３上に形成された遮光膜３４が、上記第１の実施の形態における遮光膜１４よりも広い範囲、具体的には、隔壁１３の上面および傾斜面の全面に形成されている点が上記第１の実施の形態とは異なる。
【００５１】
このように、本変形例の表示装置４では、隔壁１３上の遮光膜３４を上面および傾斜面の全面に設けてもよい。これにより、上記第１の実施の形態の効果に加えて、外光反射を更に抑制することができるという効果を奏する。
【００５２】
また、発光層１５Ｂの端面近傍で発光した光は、隔壁１３を透過して隣接色画素に入り、その隣接画素を区画する隔壁１３の側面（傾斜面）で反射あるいは散乱して混色を発生させ得る。本変形例では、隔壁１３の傾斜面も遮光膜３４で覆うようにしたので、この端面近傍で発光した光の隣接色画素への侵入（漏れ）を防ぐことができる。よって、より混色の発生を低減することが可能となる。隔壁１３全体を遮光膜３４で被覆することで、隔壁１３から有機層１５への水分や酸素等のガスの侵入を低減することが可能となる。よって、発光素子１０およびこれを備えた表示装置の信頼性を向上させることができる。
【００５３】
なお、本変形は図９に示した表示装置５のように、上記第２の実施の形態にも適用することができる。
【００５４】
＜４．第３の実施の形態＞
図１０は、本開示の第３の実施の形態に係る表示装置６の断面構成を表したものである。この表示装置６は、上記第１の実施の形態等と同様に、発光光を上面側から取り出すトップエミッション型の表示装置である。本実施の形態の表示装置６では、隔壁１３上に光反射性を有する遮光膜４４を設けると共に、通常、対向基板２０側に設けられるブラックマトリクスが省略された点が上記第１の実施の形態とは異なる。このような構成とすることにより、表示装置６は、非表示時には鏡として利用可能な、所謂ミラーディスプレイとして用いることができる。
【００５５】
遮光膜４４は、上記のように隔壁１３上に設けられたものである。具体的には、遮光膜４４は、隔壁１３の上面および傾斜面に設けられている。遮光膜４４は、光反射性を有する材料によって形成することができ、例えば、Ａｌ，Ｃｒ，金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），Ｃｕ，タングステン（Ｗ）あるいはＡｇ等の金属元素の単体またはこれら金属元素を含む合金等を用いることができる。遮光膜４４の厚みは、少なくとも、例えば外部から入射した光（外光）を反射可能な厚みであればよく、例えば０．１μｍ以上１μｍ以下である。
【００５６】
なお、遮光膜４４の材料として導電性を有する材料を用いる場合には、遮光膜４４の端面が画素電極１２とは接しないように形成することが好ましい。また、対向基板２０側の構成は、ブラックマトリクスを省略するため、図１０に示したような構成とすることが好ましい。具体的には、ＣＦ４２は対向基板２０上に、隔壁１３に対応する位置に間隙が形成されるように、ＣＦ４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂはそれぞれ独立して形成されることが好ましい。また、ＣＦ４２上には、対向基板２０とＣＦ４２との密着性を向上させるためにオーバーコート（ＯＣ）４３を各ＣＦ４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂの間隙を埋めるように設けられている。
【００５７】
以上のように、本実施の形態の表示装置６では、隔壁１３上に光反射性を有する遮光膜４４を設けるようにした。これにより、上記第１の実施の形態等と同様に、隣接色画素へ入射する虞のある斜め射出光を遮蔽することが可能となり、色度視野角特性の高く、非表示時にはミラーとして利用可能な表示装置を提供することが可能となる。
【００５８】
＜５．適用例＞
上記第１〜第３の実施の形態および変形例において説明した表示装置１，３〜６の適用例について説明する。表示装置１，３〜６は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータおよび携帯電話等の携帯端末あるいはビデオカメラ等のあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。このように、上記実施の形態等の表示装置は、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。
【００５９】
なお、本技術は以下に示したような、高精細且つ大型のテレビジョン装置や、医療用ディスプレイあるいはスマートフォンや携帯電話等のハイピッチな表示パネルを有する電子機器でより高い効果を示すものである。
【００６０】
（適用例１）
図１１Ａは、スマートフォンの外観を表側から、図１１Ｂは裏側から表したものである。このスマートフォンは、例えば、表示部１１０（表示装置１（あるいは表示装置３〜６））および非表示部（筐体）１２０と、操作部１３０とを備えている。操作部１３０は、図１１Ａに示したように非表示部１２０の前面に設けられていてもよいし、図１１Ｂに示したように上面に設けられていてもよい。
【００６１】
（適用例２）
図１２は、適用例２に係るテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル２１０およびフィルターガラス２２０を含む映像表示画面部２００を有しており、映像表示画面２００が、上記表示装置１，３〜６に相当する。
【００６２】
（適用例３）
図１３Ａは、適用例３に係る携帯電話機の閉じた状態における正面図、左側面図、右側面図、上面図および下面図を表したものである。図１３Ｂは、携帯電話機の開いた状態における正面図および側面図を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体３１０と下側筐体３２０とを連結部（ヒンジ部）３３０で連結したものであり、ディスプレイ３４０，サブディスプレイ３５０，ピクチャーライト３６０およびカメラ３７０を有している。ディスプレイ３４０またはサブディスプレイ３５０が、上記表示装置１，３〜６に相当する。
【００６３】
以上、第１〜第３の実施の形態および変形例を挙げて本技術を説明したが、本技術は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態等において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件等は限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。
【００６４】
更に、上記実施の形態等において説明した各層は必ずしも全て設ける必要はなく、適宜省略してもよい。また、上記実施の形態等において説明した層以外の層を追加しても構わない。更にまた、上記実施の形態等では、色画素として赤色画素２Ｒ，緑色画素２Ｇおよび青色画素２Ｂの３色画素を備えた表示装置を例に説明したが、これら３色画素に白色画素あるいは黄色画素を組み合わせてもよい。
【００６５】
また、上記実施の形態等では、発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの発光光を各画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂに対応する単色光を発する構成としたが、白色光を発するような構成としてもよい。更に、上記実施の形態等では、発光素子１０として有機ＥＬ素子を用いて説明したが、この他、無機ＥＬ素子，半導体レーザ，ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等を用いてもよい。
【００６６】
なお、本明細書中に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、また、他の効果があってもよい。
【００６７】
なお、本技術は以下のような構成もとることができる。
（１）隔壁を間にして複数の画素を有する駆動基板と、前記隔壁上に設けられた第１遮光膜とを備えた表示装置。
（２）前記画素は、発光層を含むと共に、少なくとも一部が前記複数配置された画素間における共通層として設けられた有機層を有し、前記第１遮光膜は前記隔壁と前記有機層との間に設けられている、前記（１）に記載の表示装置。
（３）前記隔壁は上面に平面を、側面に傾斜面を有し、前記第１遮光膜は前記隔壁の前記平面上に設けられている、前記（１）または（２）に記載の表示装置。
（４）前記隔壁は上面に平面を、側面に傾斜面を有し、前記第１遮光膜は前記隔壁の前記平面および前記傾斜面に設けられている、前記（１）または（２）に記載の表示装置。
（５）前記画素に対応する位置に開口を有すると共に、前記駆動基板に対向配置された対向基板側に設けられたブラックマトリクスを備え、前記第１遮光膜は表示面から見て前記ブラックマトリクスの前記開口の端面よりも画素側に端面を有する、前記（１）乃至（４）のうちのいずれかに記載の表示装置。
（６）前記第１遮光膜と前記ブラックマトリクスの間に第２遮光膜を有する、前記（５）に記載の表示装置。
（７）前記第１遮光膜は光吸収性を有する、前記（６）に記載の表示装置。
（８）前記第１遮光膜はカーボン（Ｃ），酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）およびサマリウム（Ｓｍ）と銀（Ａｇ）との合金あるいは有機材料によって形成されているによって形成されている、前記（７）に記載の表示装置。
（９）前記第１遮光膜は光反射性を有する、前記（１）乃至（８）のいずれかに記載の表示装置。
（１０）前記第１遮光膜はアルミニウム（Ａｌ），クロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）のうちの少なくとも１種を含む、前記（９）に記載の表示装置。
（１１）前記発光層の発光光は画素ごとに異なる、前記（１）乃至（１０）のうちのいずれかに記載の表示装置。
（１２）前記発光層の発光光は白色光である、前記（（１）乃至（１０）に記載の表示装置。
（１３）表示装置を備え、前記表示装置は、隔壁を間にして複数の画素を有する駆動基板と、前記隔壁上に設けられた第１遮光膜とを備えた電子機器。
【符号の説明】
【００６８】
１，３〜６…表示装置、２…画素、１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…発光素子、１１…駆動基板、１２…画素電極、１３…隔壁、１４…遮光膜、１５…有機層、１５Ａ…正孔供給層、１５Ｂ…発光層、１５Ｃ…電子供給層、１６…対向電極、１７…保護膜、１８…平坦化膜、２０…対向基板、２１…ブラックマトリクス（ＢＭ）、２２…カラーフィルタ（ＣＦ）、２３…オーバーコート（ＯＣ）。
【図１】
2015128003.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１２】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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