(57)【要約】【課題】照射される電子線量をリアルタイムに測定し、弾性ローラの軸方向の電子線量ムラを小さく制御することにより、高品質な弾性ローラを安定して、より簡便な製造工程で製造できる弾性ローラの製造方法、及び電子線照射装置を提供すること。【解決手段】表面改質されたゴム弾性層を有する弾性ローラの製造方法であって、芯金と該芯金の周囲に形成されたゴム弾性層とを有するゴムローラのゴム弾性層の表面において、該ゴム弾性層の軸方向の幅全体に同時に、該ゴム弾性層の表面と電子線を透過可能な箔との間を不活性ガス雰囲気とした状態で、該電子線を該箔を介して照射し、該不活性ガスから励起光を発生させる工程と、該励起光を検出することによって、該軸方向における該ゴム弾性層に対する電子線の照射状態をインラインでリアルタイムにモニターする工程とを含む弾性ローラの製造方法。その方法に用いることのできる電子線照射装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
芯金と、該芯金の周囲に形成されたゴム弾性層とを有し、該ゴム弾性層の表面が改質されている弾性ローラの製造方法であって、
芯金の周囲を被覆しているゴム弾性層の表面に、電子線源からの電子線を、該電子線を透過可能な箔を介して、該芯金の軸方向の所定の幅で照射する電子線照射工程を有し、
該電子線照射工程は、
該ゴム弾性層の表面と該箔との間を不活性ガス雰囲気とした状態で該電子線の照射を行うことによって、該不活性ガスからの励起光を該ゴム弾性層の軸方向の該所定の幅で発生させ、該励起光の該軸方向における強度分布をモニターする工程を含むことを特徴とする弾性ローラの製造方法。
【請求項２】
前記電子線照射工程が、前記ゴム弾性層の軸方向の所定の幅以上の長さを有するスリット形状のガス供給口を、該軸方向と平行となるように前記弾性ローラに対向して配置せしめ、該スリット形状のガス供給口から不活性ガスを噴出することによって、前記箔と該ゴム弾性層との間を不活性ガス雰囲気とする工程を含む請求項１に記載の弾性ローラの製造方法。
【請求項３】
前記不活性ガスが窒素ガスである請求項１または２に記載の弾性ローラの製造方法。
【請求項４】
電子線源と、
被処理物が配置される領域、および、該領域と該電子線源との間に配置されかつ該電子線源からの電子線を透過可能な箔を有するチャンバーと、
該領域と該箔との間の空間を不活性ガス雰囲気とするための不活性ガス供給手段と、
該領域と該箔との間の不活性ガスからの該電子線による励起光を検知する検出手段と、
を有することを特徴とする電子線照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真画像形成装置に用いることのできる弾性ローラの製造方法、及びその方法に用いることのできる電子線照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ゴム弾性層を有する弾性ローラの該ゴム弾性層の表面に電子線を照射することで、該ゴム弾性層の表面側を架橋させ、ゴム弾性層の表面改質を行う方法が知られている（特許文献１）。
【０００３】
一方、電子線量を簡便に測定する方法として、電子線の照射により着色する透明フィルムを用い、透明フィルムの着色の程度によって照射された電子線量を求める方法が知られている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−２５６６１７号公報
【特許文献２】実開昭６３−１７４０８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、所定の長さのフィラメントを有する電子線照射装置を用いて、芯金の周面を被覆してなるゴム弾性層の表面に対して、芯金の軸方向の所定の幅で電子線を同時に照射することによって、ゴム弾性層の表面を効率的に改質することについて検討してきた。その過程において、電子線を照射したゴム弾性層の表面に、芯金の軸方向における硬度ムラが生じる場合があった。そこで、本発明者らは、かかる硬度ムラを生じさせる原因について究明した。その結果、電子線照射装置のフィラメントの経時的な劣化等により、当該フィラメントからの電子線量が、その長手方向において不均一となる場合があり、それによって、ゴム弾性層の表面改質の程度にムラが生じ、上記の硬度ムラがもたらされたことが分かった。
【０００６】
電子線を用いて表面改質を施した電子写真用の弾性ローラの品質向上のためには、上記の硬度ムラの発生を抑制することが必要である。そして、そのためには、ゴム弾性層に照射される電子線量をリアルタイムで観察することが重要であると本発明者らは認識した。
【０００７】
ここで、電子線量を測定する方法として、特許文献２のように電子線を照射により着色する透明フィルムを用いる方法が知られている。このフィルムの着色の程度から電子線量を算出することは可能である。しかしながら、上記特許文献２に係るフィルム型の線量計は、電子線が照射されたフィルムの着色が安定するまでに５分程度を要し、リアルタイムでの電子線量の測定には適さない。
【０００８】
そこで、本発明の目的は、ゴム弾性層の軸方向の所定の幅に対して電子線を同時に照射してゴム弾性層表面の硬化処理を行う際にゴム弾性層表面の軸方向における硬度ムラの発生を抑制し、高品質な弾性ローラを製造することのできる方法を提供することにある。本発明の更なる目的は、この弾性ローラの製造方法に用いることのできる電子線照射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明によれば、芯金と、該芯金の周囲に形成されたゴム弾性層とを有し、該ゴム弾性層の表面が改質されている弾性ローラの製造方法であって、
芯金の周囲を被覆しているゴム弾性層の表面に、電子線源からの電子線を、該電子線を透過可能な箔を介して、該芯金の軸方向の所定の幅で照射する電子線照射工程を有し、
該電子線照射工程は、
該ゴム弾性層の表面と該箔との間を不活性ガス雰囲気とした状態で該電子線の照射を行うことによって、該不活性ガスからの励起光を該ゴム弾性層の軸方向の所定の幅で発生させ、該励起光の該軸方向における強度分布をモニターする工程を含む、
ことを特徴とする弾性ローラの製造方法が提供される。
【００１０】
また、本発明によれば、電子線源と、被処理物が配置される領域、および、該領域と該電子線源との間に配置されかつ該電子線源からの電子線を透過可能な箔を有するチャンバーと、該領域と該箔との間の空間を不活性ガス雰囲気とするための不活性ガス供給手段と、該領域と該箔との間の不活性ガスからの該電子線による励起光を検知する検出手段と、
を有することを特徴とする電子線照射装置が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、照射される電子線量をリアルタイムに測定した結果を利用して、弾性ローラの軸方向の電子線量ムラを小さく制御することにより、高品質な弾性ローラを安定して、より簡便な製造工程で製造できる弾性ローラの製造方法、及び電子線照射装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の弾性ローラの製造方法を説明するための模式図である。
【図２】本発明の製造方法に用いることのできる電子線照射装置の構成の一例を示す概略図である。
【図３】本発明の製造方法に用いることのできる電子線照射装置の構成の他の例を示す概略図である。
【図４】（ｂ）及び（ｃ）は、（ａ）に示すゴムローラの測定領域における不活性ガス発光強度分布例を表すグラフであり、（ｄ）はこの測定領域の箇所ａにおける発光強度の経時変化を表すグラフである。
【図５】検知した発光強度分布を電子線量分布へ変換する方法を説明するための模式図である。
【図６】比較例１に示す弾性ローラの製造方法を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明者らは、上記の課題に対し鋭意検討を重ねた結果、電子線照射源と被照射物であるゴムローラとの間の空間を不活性ガスで満たし、電子線の照射による不活性ガスからの励起光を観察することで、ゴムローラの軸方向の所定の幅での電子線の強度分布をリアルタイムでモニターできることを見出し、本発明に至った。
【００１４】
すなわち、本発明に係る電子写真用の弾性ローラの製造方法は、芯金の周囲を被覆しているゴム弾性層の表面に、電子線源からの電子線を、該電子線を透過可能な箔を介して、該芯金の軸方向の所定の幅の表面に照射する電子線照射工程を有する。そして、該電子線照射工程において、該ゴム弾性層の表面と該箔との間を不活性ガス雰囲気とした状態で該電子線の照射を行うことによって、該不活性ガスからの励起光を該ゴム弾性層の軸方向の所定の幅で発生させ、該励起光の該軸方向における強度分布をモニターする。これにより、例えば、モニター結果を、弾性ローラの軸方向の電子線の強度の調整に反映させることで、ゴム弾性層表面の、軸方向の所定の幅における表面改質の程度のバラつきを小さく抑えることができるようになる。その結果として、高品質な弾性ローラを安定して、効率よく製造することができる。
【００１５】
＜弾性ローラ＞
本発明により得られる弾性ローラは、芯金と、ゴム弾性層とを有し、そのゴム弾性層の表面（外周面）が電子線の照射による硬化によって改質されている。この弾性ローラは、例えば、電子写真画像形成装置に用いる電子写真用の弾性ローラとして使用することができる。なお、本明細書では、芯金とゴム弾性層とを有する電子線照射前のローラをゴムローラと称し、芯金と表面改質されたゴム弾性層とを有する電子線照射後のローラを弾性ローラと称する。
【００１６】
（ゴムローラ）
本発明に用いるゴムローラは、芯金上にゴム弾性層が形成されていれば、芯金の外周面に直接ゴム弾性層が形成されていても良いし、芯金とゴム弾性層との間に他の層（例えば、接着層）が形成されていても良い。
・芯金
ゴムローラの芯金は、電子写真用弾性ローラに用いられる公知の芯金から適宜選択して使用することができるが、その中でも、ニッケルメッキしたＳＵＭ材等の鋼材を含むステンレススチール棒、リン青銅棒、アルミニウム棒、耐熱樹脂棒が好ましい。
・ゴム弾性層
ゴムローラのゴム弾性層には、通常、原料ゴムに硫黄等の架橋剤を配合した熱硬化性のゴム材料や、熱可塑性エラストマー等のポリマーから選択された材料からなるバインダー樹脂に、導電性粒子を分散及び複合し、所望の電気抵抗に調整したものが用いられる。
【００１７】
バインダー樹脂に用いる原料ゴムとしては、天然ゴム（ＮＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）、エチレン−プロピレン−ジエン３元共重合体ゴム（ＥＰＤＭ）、エピクロルヒドリンホモポリマー（ＣＨＣ）、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド共重合体（ＣＨＲ）、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（ＣＨＲ−ＡＧＥ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体の水添物（Ｈ−ＮＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、アクリルゴム（ＡＣＭ、ＡＮＭ）等を挙げることができる。
【００１８】
熱可塑性エラストマーとしては、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマー、ポリスチレン系熱可塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー等を挙げることができる。
【００１９】
バインダー樹脂用の材料は、１種を単独で用いても良いし、また２種類以上をブレンドして用いても良い。
【００２０】
ゴム弾性層中に分散させる導電性粒子としては、ケッチェンブラックＥＣ、アセチレンブラック等の導電性カーボン；ＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＨＡＦ、ＦＥＦ、ＧＰＦ、ＳＲＦ、ＦＴ、ＭＴ等のゴム用カーボン；酸化処理を施したカラー（インク）用カーボン、熱分解カーボン、天然グラファイト、人造グラファイト；酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、銅、銀、酸化スズ等の金属及び金属酸化物等、更にこれらの混合物が挙げられる。
【００２１】
これらの導電性粒子の充填量（使用量）は、バインダー樹脂、導電性粒子、及びその他配合剤の種類に応じて適宜調整することができ、それによって、ゴム弾性層の電気抵抗を所望の値に調整することができる。導電性粒子の使用量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、例えば、０．５質量部以上１００質量部以下とすることができ、さらに、バインダー樹脂１００質量部に対して１０質量部以上７０質量部以下とすることが好ましい。
【００２２】
＜電子線照射装置＞
本発明の製造方法に用いることのできる電子線照射装置について図を用いて説明する。図１は、本発明の弾性ローラの製造方法を説明するための模式図であり、図２及び図３は、本発明の製造方法に用いることができる電子線照射装置の概略構成図である。
本発明の製造方法に用いることのできる電子線照射装置は、電子線源と、チャンバーと、不活性ガス供給手段と、検出手段とを備えることができる。
・電子線源
図２及び図３に示す電子線照射装置では、電子線を発生する電子線源としてのフィラメント１１を、電子線発生部１４内に有しており、この電子線発生部１４は、さらに、このフィラメント１１で発生した電子線５を真空空間（加速空間）で加速する加速管１２を有している。また、この電子線発生部１４の内部は、電子が気体分子と衝突してエネルギーを失うことを防ぐため、不図示の真空ポンプ等により、通常、１０−６Ｐａ以上１０−７Ｐａ以下の真空に保たれている。
・チャンバー
これらの電子線照射装置は、チャンバーとして、芯金２とゴム弾性層３とからなるゴムローラ１に対して電子線５による表面処理を行うための処理室４を有している。この処理室４は、被処理物が配置される領域と、フィラメント１１からの電子線５を透過可能な箔（出射口箔１３）とを有する。なお、この箔は、被処理物が配置される領域と、フィラメント１１との間、具体的には、処理室４の壁面の一部である、図１に示す出射口８部分に配置されている。また、図２及び図３の装置では、被処理物が配置される領域を有し、この領域に被処理物としてのゴムローラ１が配置されている。
【００２３】
出射口箔１３は通常金属箔からなり、電子線発生部１４内の真空雰囲気と、処理室４内の雰囲気とを仕切るものであり、また出射口箔１３を介して処理室４内に電子線５を取り出すものである。よって、電子線発生部１４と処理室４との境界に設ける出射口箔１３は、ピンホールがなく目的とする気密性を確保でき、電子線発生部１４内の真空雰囲気を十分維持できる機械的強度があり、電子線５が透過しやすいことが望ましい。その為、出射口箔１３は比重が小さく、肉厚の薄い金属が望ましく、通常、アルミニウム箔やチタン箔、ベリリウム箔が使用される。例えば、厚さ５μｍ以上１５μｍ以下程度のチタン箔が使用される。
【００２４】
被処理物となるゴムローラ１は、例えば、図１に示すように一対の保持軸６により保持され、回転機構７により回転させた状態で処理室４内を不図示の搬送手段により、図２及び３の装置において左側から右側（図１では、図奥方向（紙面垂直下方向））に向かって搬送される。なお、電子線発生部１４及び処理室４の周囲は電子線５の照射時に二次的に発生するＸ線が外部へ漏出しないように、通常、不図示の鉛遮蔽が施されている。
【００２５】
・不活性ガス供給手段
次に、電子線照射装置の不活性ガス供給手段について説明する。不活性ガス供給手段は、チャンバー内の被処理物（被処理物が配置される領域）と箔との間、具体的には、ゴム弾性層の表面と、箔との間の空間を不活性ガス雰囲気にするものである。本発明に用いる不活性ガス供給手段は、上記空間を不活性ガス雰囲気にすることができるものであれば使用することができる。不活性ガス供給手段（不活性ガス供給機構９）は、例えば図２に示すように、処理室４の壁面（例えば天井面）の一部にガス供給口を１箇所以上設ける構成とすることができる。また、不活性ガス供給手段は、例えば図３に示すように、電子線５の出射口箔１３の直下（紙面下側）の位置であって、かつ、フィラメント１１から照射される電子線５を挟み対向する位置から不活性ガスを供給する構成とすることもできる。
【００２６】
本発明においては、図３に示す構成の不活性ガス供給機構９を用いることがより好ましい。図２に示す不活性ガス供給機構９では、ガス供給口から噴出される不活性ガスは、出射口箔１３とゴムローラ１との間の空間に直に供給はされず、この不活性ガスが移動（図２では、紙面右側に移動）することで間接的にこの空間を不活性ガス雰囲気にしている。一方、図３に示す不活性ガス供給機構９では、不活性ガスが、出射口箔１３とゴムローラ１との間の空間に直に供給されるため、移動することなく直接的にこの空間を不活性ガス雰囲気にすることができる。即ち、図３に示す不活性ガス供給機構を用いれば、図２に示す不活性ガス供給機構と比較して、処理室内の不活性ガス濃度が後述する検出手段（モニター機構１０）により測定可能となる濃度範囲になるまでの待機時間を、短くすることができる。その結果、長い待機時間による、ゴム弾性層に対する電子線照射のタクトへの影響を一層減らすことができる。
【００２７】
また、図３に示す不活性ガス供給手段では、ガス供給口から供給される不活性ガスは、噴出直後にゴム弾性層３表面に向かって下降する流れとなり、ゴムローラ１のゴム弾性層上部に位置する電子線測定範囲１５における不活性ガス濃度のブレをより小さくすることができる。電子線測定範囲１５における不活性ガスの濃度変化が小さくなる事で、ゴムローラ１のゴム弾性層３に照射される電子線量をゴムローラの軸方向に亘って精度よく常時モニタリングすることが可能となる。なお、本発明では、図３に示す不活性ガス供給手段だけでなく、電子線測定範囲１５での不活性ガス濃度ムラが小さくなる構成の不活性ガス供給手段であればいずれも好適に用いることができる。
【００２８】
なお、不活性ガスを噴出するガス供給口の形状や寸法は適宜選択することができる。ガス供給口の形状としては、例えば円形状スポットやスリット形状を挙げることができるが、供給する不活性ガスの流速の観点から、スリット形状のガス供給口とすることが好ましい。また、このスリット形状のガス供給口は、不活性ガスから発生する励起光の均一性の観点から、ゴムローラ１におけるゴム弾性層の軸方向の幅以上の長さを有することが好ましく、さらに、ゴム弾性層の軸方向と平行（略平行の場合を含む）に配置することが好ましい。
【００２９】
以上より、本発明では、ゴム弾性層の軸方向の幅以上の長さを有しかつこの軸方向と平行に配されるスリット形状のガス供給口から不活性ガスを噴出することによって、上記不活性ガス雰囲気を形成することが好ましい。なお、図３では、このガス供給口が２箇所配置されている。
【００３０】
・不活性ガス
不活性ガス雰囲気を形成する不活性ガスは、電子線５により測定可能な発光（励起光を発生）するものであれば適宜用いることができる。具体例としては、例えば、窒素、ネオン、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、及びキセノン等が挙げられる。これらの中で、窒素及びネオンは電子線によって可視光域において発光する。また、ヘリウム、アルゴン、クリプトン及びキセノンは電子線によって深紫外光域において発光する。本発明では、これらの不活性ガスのうちの１種を選定し、使用する。上記不活性ガス種の中でも、ハンドリングの容易性、ランニングコスト面から、窒素が好ましい。
【００３１】
本発明においては、芯金の軸方向の所定の幅で照射される電子線５による不活性ガスからの励起光の強度を安定させ、励起子の強度分布と電子線量の分布との一致度を高める為に、処理室４内の不活性ガス濃度を常に監視しておくことが好ましい。更に、この監視結果に基づいて処理室４内での不活性ガスを所定濃度に制御するための制御機構を電子線照射装置に設けてもよい。
【００３２】
処理室４内の不活性ガス濃度を測定する方法としては、使用する不活性ガス濃度を測定する代わりに酸素濃度計により酸素濃度を測定する方法、及び、不活性ガス濃度を直接測定する方法等を挙げることができるが、通常、酸素濃度計による方法が使用される。
【００３３】
不活性ガス濃度の測定方法の一例として、不活性ガスとして窒素を用い、酸素濃度計を使用して不活性ガス濃度を把握する方法について以下に記載する。処理室内に窒素をパージした場合、大気中の成分の大半を窒素と酸素が占めることから、酸素濃度計において、酸素濃度が１０００体積ｐｐｍと測定されれば、窒素濃度はおおよそ９９．９体積％であると言える。また、処理室４内に酸素が多く存在すると、電子線５を照射した際に電子線５のエネルギーにより酸素が分解、結合しオゾンを発生すると考えられる。このオゾンは、装置内の酸化劣化を促進するほか、またゴムローラ１におけるゴム弾性層３の最表面を酸化する場合があり、弾性ローラの所望の硬度等の性能を低下させることがある。
【００３４】
そこで、本発明では、処理室における不活性ガス濃度の変化が、ゴムローラ１におけるゴム弾性層３の改質度合に与える影響を小さくするという観点から、処理室内の酸素濃度を１０００体積ｐｐｍ以下とすることが望ましい。また、この処理室内の酸素濃度は低ければ低いほど、即ち不活性ガス濃度は高ければ高いほど好ましい。
【００３５】
ここで、不活性ガス供給手段からチャンバー内に供給する不活性ガスの流量は、ゴム弾性層３における最表面の改質度合や、電子線５の照射状態をモニターするモニター機構１０の精度に応じて適宜選択することができる。この不活性ガスの流量は、例えば、室温（２３℃）、圧力（標準大気圧１０１．３２５ｋＰａ）の条件下で、２０Ｌ／ｍｉｎ以上１００Ｌ／ｍｉｎ以下とすることができる。
【００３６】
・励起光の検出手段
不活性ガスからの励起光の検出手段は、被処理物（被処理物が配置される領域）と箔との間の不活性ガスからの電子線による励起光をリアルタイムに検知するものであり、これにより例えば軸方向におけるゴム弾性層に対する電子線の照射状態をリアルタイムでモニターすることができる。図２及び図３に示す電子線照射装置では、この検出手段として、電子線測定範囲１５における発光強度分布をモニターする発光強度分布モニター機構１０を備えている。この電子線測定範囲１５は、電子線５の出射口箔１３と、ゴムローラ１におけるゴム弾性層３との間の空間部分に設定される。この電子線測定範囲１５の長手方向（図２では紙面に対して垂直な方向）及び短手方向（図２では紙面左右方向）の長さ、並びにこの範囲１５の厚さは、ゴムローラ１に照射される電子線５の照射範囲に応じて適宜設定することができる。例えば、電子線測定範囲１５の長手方向の長さは、図１に示すように、電子線が照射されるゴム弾性層の軸方向の幅と同じ長さ、またはそれよりも長く設定することができる。
【００３７】
即ち、このモニター機構１０では、電子線による不活性ガスの励起光をゴム弾性層の軸方向において、電子線が照射されたゴム弾性層の軸方向の幅全体を含む範囲、例えば、軸方向の長さ２００〜３５０ｍｍで検出することができる。そして、それによって、軸方向におけるゴム弾性層に対する電子線の照射状態、具体的には、ゴムローラ１に対して照射される電子線量を、例えば、このゴム弾性層の軸方向の発光強度分布（輝度分布）としてインラインでリアルタイムに観察できる。なお、電子線の照射状態をインラインで観察（モニター）するとは、製造過程（途中）において電子線の照射状態を自動で観察することを意味し、必要に応じて、その結果を製造操作にリアルタイムでフィードバックすることができる。このインラインのモニター機構では、電子線の照射状態を常時または定期的または断続的に観察することができる。
【００３８】
なお、モニター機構１０は、図２及び図３に示すように、例えば、ゴムローラ１の搬送方向側（紙面右側）に配置することができる。
【００３９】
＜弾性ローラの製造方法＞
本発明に係る、表面改質されたゴム弾性層を有する弾性ローラの製造方法は、ゴムローラのゴム弾性層の表面において、このゴム弾性層の軸方向の所定の幅の領域に電子線源からの電子線を、この電子線を透過可能な箔を介して照射する工程（電子線照射工程）を有する。
そしてこの工程は、ゴムローラのゴム弾性層の表面と、前記箔との間を不活性ガス雰囲気とした状態で、ゴム弾性層の表面におけるゴム弾性層の軸方向の幅全体に同時に、前記電子線を前記箔を介して照射し、前記不活性ガスから励起光を該ゴム弾性層の軸方向の所定の幅で発生させ、該ゴム弾性層の軸方向の所定の幅で該励起光の強度分布をモニターする。
【００４０】
また、本発明においては、強度分布のモニター結果を電子線の照射条件にフィードバックする工程を有してもよい。
【００４１】
以下に、図を用いて、本発明の製造方法を詳細に説明する。
【００４２】
（表面改質ゴムローラの作製工程）
芯金２の周囲（図１では芯金２の外周面）にゴム弾性層３を有するゴムローラ１は、例えば、公知の成形方法によって芯金２の外周にゴム弾性層を形成し、必要に応じてこのゴム弾性層を加熱及び研磨することで作製することができる。ゴムローラの成形方法は、特に限定されるものではなく、例えば、射出成形、押出成形、トランスファー成形、プレス成形等を用いることができる。ゴムローラの加熱方法も特に限定されるものではなく、熱風炉、加硫缶、熱盤、遠・近赤外線、誘導加熱等のいずれの方法を用いても良く、更に、加熱状態の円筒状または平面状の部材にゴム弾性層を回転させながら押し当てる方法を用いても良い。また、得られたゴムローラを所望のローラ形状、ローラ表面粗さにするために、このゴムローラに回転砥石を用いた乾式研磨を行う場合もある。なお、研磨手段としては、特に限定しないが、砥石が移動して研磨する所謂トラバース方式や、より幅の広い砥石により移動することなしに一括で研磨するプランジ方式がある。
【００４３】
（工程ａ：電子線照射及び不活性ガス励起工程）
上記より得られたゴムローラ１のゴム弾性層３の表面において、このゴム弾性層の軸方向の表面硬化処理が必要とする所定の幅の領域、例えば軸方向のゴム弾性層の全幅に対して、電子線源から発生した電子線５を箔（出射口箔１３）を透過させて照射する。この電子線の照射によってゴム弾性層３に表面改質を施す。本発明では、この際、ゴム弾性層３の表面と、出射口箔１３との間を不活性ガス雰囲気とした状態で、ゴム弾性層の表面に電子線を照射し、ゴム弾性層の表面の改質を行うとともに、ゴム弾性層と箔との間の不活性ガスから励起光を発生させる。電子線を、ゴム弾性層の表面（具体的には外周面）全体に照射することよって目的とするゴム弾性層の表面改質を行うことができる。その際、ゴム弾性層の表面全体に同時に電子線を照射しても良いし、図１〜３に示すように、ゴム弾性層の周方向の一部かつゴム弾性層の軸方向の幅全体に電子線を照射しながらゴムローラを回転させることで、ゴム弾性層の表面全体に電子線を照射しても良い。また、このゴム弾性層の表面改質は、ゴム弾性層の表面からその近傍領域にまで及んでいても良い。
【００４４】
図２及び図３に示す電子線照射装置では、まず、不図示の電源により、フィラメント１１に電流を通じて加熱し、このフィラメントから熱電子を放出し、電子線５として有効に取り出す。そして、電子線５の加速電圧により、真空状態に保たれた加速管１２内の加速空間で加速した後、電子線発生部１４から放出され、出射口箔１３を突き抜け（透過し）、出射口８の下方の処理室４内を搬送されるゴムローラ１に照射される。これによって、ゴムローラ１のゴム弾性層３が表面硬化されるとともに、不活性ガス供給機構９により供給された不活性ガスが、この電子線５により励起光を発生する。
【００４５】
なお、電子線５の照射条件は、電子線５の加速電圧と線量によって調整することができる。電子線の加速電圧は、ゴム弾性層３の表面硬化深さに関係し、本発明における加速電圧の条件としては、低エネルギー領域である４０ｋＶ以上３００ｋＶ以下の範囲が好ましい。４０ｋＶ以上であれば、本発明の効果を容易に得る為の充分な硬化厚みを得ることができる。また、３００ｋＶ以下であれば、電子線照射装置が大型化して装置コストが増大することを容易に抑えることができる。より好ましい電子線の加速電圧の条件としては７０ｋＶ以上１５０ｋＶ以下の範囲である。
【００４６】
電子線照射における電子線５の線量は、下記式（１）で定義することができる。
Ｄ＝（Ｋ・Ｉ）／Ｖ・・・・・・（１）
ここで、Ｄは線量（ｋＧｙ）、Ｋは装置定数、Ｉは電子電流（ｍＡ）、Ｖは搬送スピード（ｍ／ｍｉｎ）である。装置定数Ｋは、装置個々の効率を表す定数であって、装置の性能の指標である。装置定数Ｋは一定の加速電圧の条件で、電子電流と搬送スピードを変えて線量を測定することによって求めることができる。
【００４７】
なお、電子線５の線量は、弾性ローラのゴム弾性層表面の望みの硬度に応じて適宜選択することができる。電子線量の調節は、電子電流、及び処理スピードのいずれでも行うことが可能であり、所望の線量が得られるように決めればよい。電子線量は、ゴムローラの性能、例えば表面硬度の観点から１００ｋＧｙ以上、５０００ｋＧｙ以下が好ましい。なお、従来の電子線量測定方法では困難とされてきた、電子線量が２００ｋＧｙより多く５０００ｋＧｙ以下の範囲であれば本発明の効果をより一層認識することができる。
【００４８】
（工程ｂ：モニター工程）
工程ｂでは、ゴムローラ１のゴム弾性層３上部の電子線測定範囲１５における励起光をゴムローラ１の軸方向に渡ってモニター機構１０により測定する。モニター機構１０はゴム弾性層の軸方向の励起光の発光強度分布の測定を行う構成を有する。モニター機構１０において、発光強度を観察あるいは計測するための受光部としては、例えば、モノクロまたはカラーのＣＣＤカメラを使用することができる。測定した発光強度分布を電子線量分布へと変換することで、ゴムローラ１に照射された電子線量や、ゴムローラ１の軸方向における電子線量分布（ムラ）をモニターすることが出来る。
【００４９】
ここで、モニター方法としては、例えば、ゴムローラの電子線量分布を定期的にリアルタイムで測定する方法、１本のゴムローラにつき１回のみ画像を取得し電子線量分布をリアルタイムに測定する方法、及び、ゴムローラの電子線量分布を常時リアルタイムで測定する方法を挙げることができる。これらのモニター方法から、目的とする品質管理方法等に適したモニター方法を選択して用いることができる。これらの中でも、本発明では、ゴムローラの電子線量分布を常時リアルタイムに測定する方法が有効であり、これにより、ゴムローラのゴム弾性層の外周面全てについて電子線量分布をリアルタイムで測定することができる。この電子線量分布を常時リアルタイムで測定する方法であれば、突発的な異常時、例えば、フィラメントの劣化による電子線の停止などの発生時に即座に対応することができる。この方法によれば、非測定期間がないため上述した間隔を開けて電子線量分布を定期的に測定する方法と比較して、例えば全てのゴムローラにおいて電子線での照射処理がなされたことを直接確認することができる。また、この電子線量分布を常時リアルタイムで測定する方法であれば、１本のゴムローラにつき１枚の画像を取得する方法と比較して、非測定期間がないため、全てのゴムローラにおいて照射不良が発生の有無や、１本の弾性ローラ内での周方向の電子線量ムラの有無を確認することができる。
【００５０】
発光強度を電子線量に変換する変換式を導く方法としては、例えば、フィルム型の線量計を用いる方法や、熱の変化から導くカロリーメーターを用いる方法等がある。
【００５１】
以下に、検出手段で検知した発光強度（輝度）分布を、電子線線量分布へ変換する方法の一例を、図５を用いて説明する。なお、図５では、平板状の線量測定フィルム１６が記載されているが、このフィルム１６をゴムローラの外周面に貼り付けて使用する。フィルム型の線量計としては、電子線の分野で一般的に使用されている、商品名「ＦＷＴ−６０」（Ｆａｒ  Ｗｅｓｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）を用いることができる。この際、フィルム型の線量計は、フィルム厚さのバラツキの影響を含む各種の要因から高い測定精度が得られにくい傾向がある。その為、使用するフィルムの厚さを予め測定しておくことにより、測定精度を高めることができる。例えば、フィルムの厚さの分布を予め測定して１０μｍ±２μｍの厚さ分布を有するシートを選択して用いることによって、より一層の測定精度を図ることができる。
【００５２】
具体的には、この厚みを測定したフィルム１６を貼り付けたゴムローラの外周面に、電子線源（フィラメント１１）から発生する電子線５を照射する。そして、電子線５を照射後、電子線５のエネルギーを吸収したフィルム１６の着色度合が安定するまで、５分から１０分間ほどエージングし、フィルムの着色濃度を不図示の測定器（商品名：ＦＷＴ−９２Ｄ型、Ｆａｒ  Ｗｅｓｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）により測定する。これにより、用いる電子線照射装置側で設定される電子電流の値と、フィルムに照射された電子線量との関係を導出することができる。更に、電子照射装置側で設定される電子電流の値を変えて、フィルムに照射された対応する電子線量を求める。なお、上述したように、このフィルム型の線量計は、測定可能な電子線量範囲が２００ｋＧｙ以下であるが、この電子線照射装置側で設定された電子電流と、フィルムに照射された電子線量との関係とは、電子線量が２００ｋＧｙを超える場合に対しても成立する。このため、導出した関係から、本発明におけるゴムローラの表面硬化に使用する所望の線量範囲内（例えば、５００ｋＧｙ以上５０００ｋＧｙ以下）になる電子電流値を算出することができる。
【００５３】
次に、前記手法により導かれた電子線照射装置の初期における電子電流と電子線量の関係から、ゴムローラに対して電子線５を照射する際の不活性ガスの発光強度をモニター機構により観察する。その際、不活性ガスとして例えば窒素を供給し、処理室内の酸素濃度を例えば２００体積ｐｐｍとする。そして、処理室内の不活性ガス濃度が安定したのを確認した後に、電子線をゴム弾性層に照射し、ゴムローラの軸方向における発光強度の平均値を算出する。そして、この平均値を用いることで、使用した電子線照射装置側で設定された電子電流の値に対応して上述のフィルムを用いて求めた電子線量と、発光強度との関係を導出することができる。その際、モニター機構による観察（測定）と並行して、電子線を照射したゴムローラのゴム弾性層の硬度を軸方向に３点（両端部と中央部）測定しておくとよい。この硬度測定の結果に基づいて、ゴム弾性層の表面が電子写真用の弾性ローラとして要望される硬度となるように、ゴムローラの軸方向における発光強度の分布、即ち、電子線量の分布を設定して置くことが好ましい。
【００５４】
なお、得られた弾性ローラのゴム弾性層表面の硬度分布を測定することによって、弾性ローラにおける表面改質の均一性を評価することができる。表面硬度を測定する装置の一例として、ＭＤ−１硬度計を挙げることができる。ＭＤ−１硬度計は、マイクロゴム硬度計であり、バネの力で針を試料表面に押し付けて変形を与え、試料の抵抗力とバネの力とが安定となった状態での針の押し込み深さを測定する装置である。
【００５５】
ここで、不活性ガスから発生する励起光の強度は不活性ガス濃度に依存する為、ゴム弾性層の軸方向に平行に配されかつゴム弾性層の軸方向の幅以上の長さを有するスリット形状のガス供給口を有する図３に示す電子線照射装置を用いることがより好ましい。即ち、図３に示す構造の電子線照射装置によれば、電子線測定範囲１５における不活性ガスの濃度変化が小さく、ゴムローラ１のゴム弾性層３に照射される電子線量をゴムローラの軸方向に渡って精度よく常時モニタリングすることが可能となる。従って、ゴムローラの軸方向において電子線による改質度合が均一であり、製造の経時におけるローラの硬度変化の小さい、高品質な弾性ローラを安定して容易に製造することができる。
【００５６】
なお、上述したように、本発明では、前記モニター機構１０により測定されるゴムローラ１のゴム弾性層３の軸方向に対して照射される電子線量分布を常時リアルタイムに測定出来ることから、例えば電子線照射の有無や、フィラメントの劣化による電子線量の低下等の電子線照射装置の状態を容易に判断することが可能である。
【００５７】
更には、これらの測定結果を、電子線照射装置にフィードバックすることにより、ゴムローラ１に照射される電子線量が安定するように制御することも可能である。例えば、電子線照射装置としては多数のフィラメントを並列して配置した構成を有する装置や、単一のフィラメントにより発生する電子線を走査する構成を有する装置を用いることができる。このような構成の電子線照射装置において、電子線量の低下や弾性ローラにおける軸方向の電子線量ムラを検知した際に電子線量ムラのない照射を行うことを指示する電子線照射装置の制御系を更に設けて電子線量のフィードバック制御を行うことができる。このフィードバック制御方法としては、フィラメントに入力する電子電流を大きくする方法、ローラの搬送スピードを遅くする方法等、目的とするフィードバック制御を行うことのできる方法の１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。これにより、フィラメントの劣化に伴う電子線量の低下から生じる弾性ローラの表面改質ムラを、低減することが可能となる。しかし、弾性ローラの搬送スピードは、生産タクトに直接影響する為、フィラメントに入力する電子電流の値による電子線量制御が好ましい。また、フィラメントの寿命など突発的に電子線量に異常が生じた場合には装置を停止させることも考えられ、これらにより、電子写真用のゴムローラの軸方向における電子線による改質度合のバラツキが小さく、高品質な弾性ローラを安定して製造することが可能である。
【実施例】
【００５８】
以下、実施例、比較例を示して、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５９】
〔実施例１〕
まず、外径φ５ｍｍ、長さ２５０ｍｍのステンレス製の芯金の外周面に、この芯金の両端をそれぞれ１１ｍｍ残して、厚さ１．２５ｍｍのゴム弾性層が配されたゴムローラに対して、電子線による表面硬化を施した。
【００６０】
このゴムローラに対する電子線の照射には、図３に示す電子線照射装置（商品名：「ＥＣ１５０／４５／４０ｍＡ」、岩崎電気株式会社製）を用いた。なお、この電子線照射装置は、不活性ガス供給機構９として、２つのスリット状のガス供給口が、電子線の出射口直下の位置にゴム弾性層の軸方向に対向した位置に有している。そして、電子線照射条件を、加速電圧８０ｋＶ、電子電流を４０ｍＡ、ゴムローラの搬送速度を１０ｍｍ／ｓとすることで電子線の線量を１３５０ｋＧｙとした。この時、処理室内に、電子線により青から紫外光域において発光する窒素ガスを、このガス供給口から、流量＝２０Ｌ／ｍｉｎ（温度２３℃、圧力（標準大気圧１０１．３２５ｋＰａにおける値）でパージした。そして、その際、窒素ガス濃度として酸素濃度計による酸素濃度の値を代用し、酸素濃度を５００体積ｐｐｍ、即ち、窒素ガス濃度約９９．９５体積％とした。
【００６１】
そして、このゴムローラ両端を保持軸により保持し、回転数１００ｒｐｍで回転させて、ゴム弾性層の軸方向の幅全体に電子線を出射口箔を介して照射し、ゴム弾性層の表面全体に電子線による改質を行った。そして、ゴムローラを前記搬送速度により搬送し、電子線照射と同時にモニター機構としてカラーＣＣＤカメラを用いて電子線の作用による窒素の発光（励起光）をゴムローラにおけるゴム弾性層の軸方向に渡って発光強度分布として測定した。その際の観察範囲は、ゴム弾性層の軸方向に沿って２２８ｍｍとし、芯金の中心軸から半径方向の長さ（距離）３．７５ｍｍ以上４．２５ｍｍ以下の範囲とした。また、上記カラーＣＣＤカメラによって測定した発光強度分布は、先に実施の形態中に記載した所定のフィルム厚分布精度を有するフィルム型線量計により算出した値を利用した換算方法により電子線量分布へと変換した。ここで、モニター機構によりインライン、すなわち製造装置の稼働中において常時モニタリングし、ゴムローラに対して照射される電子線量をフィラメントに入力する電子電流を調整することで制御しながら、弾性ローラを１０００本製造した。
【００６２】
（表面改質の均一性の評価）
得られた１０００本の弾性ローラをそれぞれ、室温２３℃、相対湿度４５％の環境下に１日放置した後、各弾性ローラの軸方向でのゴム弾性層表面の硬度を測定した。その際、各弾性ローラについて、周方向に等間隔に測定した４点の平均値を各弾性ローラの軸方向でのある点における硬度として、ゴム弾性層における端部より軸方向に２０ｍｍ間隔で計１０点測定した（即ち、各弾性ローラについて合計４０点の硬度測定を行った）。なお、硬度の測定には、ＭＤ−１硬度計（商品名：マイクロゴム硬度計ＭＤ−１型、ＴｙｐｅＡ、高分子設計社製）を用いた。
【００６３】
具体的には、得られた１０００本のうちの１００本の弾性ローラの平均硬度、即ち、各弾性ローラの硬度測定値（４０点）×弾性ローラ本数（１００本）の平均値を求め、基準硬度とした。実施例１の場合、基準硬度は７３°であった。なお、この４０点の硬度測定位置は、ゴムローラの周方向に測定目的に応じた間隔で４点の測定位置を設け、かつ、かかる周方向４点測定位置をゴムローラの軸方向に測定目的に応じた間隔で１０点とることにより設定した。
【００６４】
また、各弾性ローラにおける上記４０点の硬度平均値を、１０００本の弾性ローラについて比較し、その硬度平均値のバラつきを算出し、生産安定性を評価した。
【００６５】
さらに、以下の表１に示す基準に従い、この１０００本の弾性ローラについて改質度合の均一性を評価した。これらの結果を表２に示す。
【００６６】
【表１】
2015127736.tif 000003
【００６７】
実施例１で製造した総数１０００本の弾性ローラに対して、上記硬度測定を行った結果、弾性ローラの軸方向の硬度のバラツキが小さく、フィルム型線量計を用いた比較例１に比べて安定していることが確認できた。
【００６８】
このように、前記モニター機構１０により導かれるゴムローラの軸方向に渡って照射される電子線量分布を常時リアルタイムに測定出来ることから、例えば、電子線照射の有無や、フィラメントの劣化による電子線量の低下を判断することも可能と考えられる。そして、これらの測定結果を前記電子線照射装置にフィードバックすることよって、ゴムローラに照射される電子線量が安定するように制御し、弾性ローラの軸方向における硬度のバラツキが小さく、高品質な弾性ローラを安定して製造することが可能である。
【００６９】
〔実施例２〕
電子線照射条件を加速電圧８０ｋＶ、電子電流を２０ｍＡ、ゴムローラの搬送速度を１０ｍｍ／ｓとすることで電子線の線量を６７５ｋＧｙとした以外は、実施例１と同様にして弾性ローラを製造し、評価した。なお、実施例２で得られた１０００本のうちの１００本の弾性ローラの平均硬度（基準硬度）は、７１．５°であった。これらの結果を表２に示す。
【００７０】
〔実施例３〕
電子線照射条件を加速電圧８０ｋＶ、電子電流を４０ｍＡ、ゴムローラの搬送速度を２．５ｍｍ／ｓとすることで電子線の線量を５４００ｋＧｙとした以外は、実施例１と同様にして弾性ローラを製造し、評価した。なお、実施例３で得られた１０００本のうちの１００本の弾性ローラの平均硬度（基準硬度）は、８０°であった。これらの結果を表２に示す。
【００７１】
〔実施例４〕
電子線照射装置の処理室内に供給する窒素ガスの流量を２０Ｌ／ｍｉｎ（温度２３℃、圧力（標準大気圧１０１．３２５ｋＰａ）における値）とし、処理室内の酸素濃度を１０００体積ｐｐｍ（即ち、窒素ガス濃度約９９．９体積％）とした以外は、実施例１と同様にして弾性ローラを製造し、評価した。なお、実施例４で得られた１０００本のうちの１００本の弾性ローラの平均硬度（基準硬度）は、実施例１と同様に７３°であった。これらの結果を表２に示す。
【００７２】
〔実施例５〕
電子線照射装置の処理室内に供給する窒素ガスの流量を、２０Ｌ／ｍｉｎ（温度２３℃、標準大気圧１０１．３２５ｋＰａにおける値）とし、処理室内の酸素濃度を２０００体積ｐｐｍ、即ち、窒素ガス濃度約９９．８体積％とした以外は、実施例１と同様にして弾性ローラを製造し、評価した。なお、実施例５で得られた１０００本のうちの１００本の弾性ローラの平均硬度（基準硬度）は、実施例１と同様に７３°であった。これらの結果を表２に示す。
【００７３】
〔実施例６〕
電子線により発光する特性を有する不活性ガスとしてネオンガスを用い、処理室内にこのネオンガスを２０Ｌ／ｍｉｎで供給し、処理室内の酸素濃度を５００体積ｐｐｍとすることでネオンガス濃度を約９９．９５体積％とした。また、モニター機構としてゴムローラの全体を観察出来るカラーのＣＣＤカメラを使用した。これら以外は、実施例１と同様にして弾性ローラを製造した。なお、実施例６で得られた１０００本のうちの１００本の弾性ローラの平均硬度（基準硬度）は、７３°であった。これらの結果を表２に示す。
なお、ネオンガスは電子線により赤色域における光を発する。そのため、使用したＣＣＤカメラにおいて十分な輝度変化を取得することが出来る。
【００７４】
〔実施例７〕
処理室内の窒素濃度変化による弾性ローラへの影響と、モニター機構による観察精度を向上させるため、以下の不活性ガス供給機構を有する図３に示す電子線照射装置を使用し、処理室内に供給する窒素ガスの流量を２０Ｌ／ｍｉｎとし、処理室内の酸素濃度を２００体積ｐｐｍ（即ち、窒素ガス濃度約９９．９８体積％）とした。それら以外は、実施例１と同様にして弾性ローラを製造した。なお、実施例７で得られた１０００本のうちの１００本の弾性ローラの平均硬度（基準硬度）は、実施例１と同様に７３°であった。これらの結果を表２に示す。
【００７５】
実施例７で用いた電子線照射装置の不活性ガス供給機構９は、ゴムローラにおけるゴム弾性層の軸方向の幅と同じ長さ２２８ｍｍのスリット形状のガス供給口をゴム弾性層の軸方向と平行に２箇所有する。また、この２箇所のガス供給口は、電子線の出射口の直下の位置であって、かつ、電子線源から発生される電子線を挟み対向する位置に配されている。この電子線照射装置によって、ゴムローラに対する電子線処理を行った場合、２箇所のスリット（ガス供給口）から供給される窒素ガスは、図３に示すように噴出直後にゴム弾性層表面に向かって下降する流れとなる。このため、この電子線照射装置では、モニター機構による測定範囲において不活性ガス濃度のフレが非常に小さくなる。
【００７６】
ここで、実施例１〜６で製造されるゴムローラの一例の軸方向発光強度分布を図４（ｂ）に示し、実施例７で製造されるゴムローラの一例の軸方向発光強度分布を図４（ｃ）に示す。これらのグラフの横軸（ｘ軸）は、ゴムローラの軸方向における位置（例えば、ｄ０やｄ１）を表し、縦軸（ｙ軸）は、発光強度を表す。これらのグラフからも実施例７に用いた不活性ガス供給手段を用いることで、発光強度のフレ、即ち、不活性ガス濃度のフレを小さくできることがわかる。
【００７７】
また、実施例７について、図４（ａ）に示すモニター機構における測定範囲１５内の箇所ａにおける発光強度（発光輝度）の一例の時系列変化を図４（ｄ）に示す。この図４（ｄ）より、経時的にも発光強度のフレ、即ち、不活性ガス濃度のフレが抑制できていることがわかる。
【００７８】
〔比較例１〕
実施例１で用いた電子線照射装置において、モニター機構を使用せず、図６に示す電子線照射によるエネルギーによって着色する線量測定フィルム１６を使用した線量測定法で、ゴムローラ１に照射される電子線量を測定した。そして、この方法によって、軸方向の硬度分布にバラツキのない弾性ローラを安定して製造できるかを確認した。具体的には、実施例１のモニター機構に代わり、１００本毎に１回の割合でフィルム型の線量計を用い、その都度、電子線照射装置の調整を行うことで弾性ローラの軸方向の硬度にどれだけバラツキが生じたか確認した。この結果を表２に示す。電子線量の測定方法は、図６に示したようにゴムローラ１の表面にフィルム型の線量計を貼り付ける方法で、ゴムローラの周方向に２枚、軸方向に５枚（図６に示す枚数と異なる）貼り付け、回転数１００ｒｐｍで回転させて電子線照射を行った。そして、測定した電子線量に基づき、設定した電子線量になるように電子電流を操作することで、電子線量を調整した。なお、弾性ローラを作製する際の電子線量は、実施例１と同様に、１３５０ｋＧｙであるが、フィルム型の線量計の測定可能な電子線量範囲が２００ｋＧｙ以下である為、フィルム型線量計による測定の際には、電子線照射条件を加速電圧８０ｋＶ、電子電流５ｍＡ、搬送速度１０ｍｍ／ｓとすることでゴムローラに照射される電子線量を１６８ｋＧｙとした。そして、得られた結果を、実施例１の電子線量である１３５０ｋＧｙに換算し、それに基づき、電子線照射装置の調整を行った。その結果、フィルムの厚さや換算による誤差等によるフィルム型線量計の電子線量値のバラツキから、電子線照射装置を電子電流４０ｍＡ±２ｍＡの範囲で調整する必要があった。その影響から表２に示すように、製造した総数１０００本の弾性ローラに対して測定を行った結果、弾性ローラの軸方向の硬度のバラツキは、±１．２であった。
このように、フィルム型の線量計を用いた場合、測定のばらつきが大きいことだけでなく、照射、現像から数値化までに時間を必要とし、即座に電子線量を算出出来ない為、本発明の目的には適用困難であると考える。
【００７９】
一方、実施例１〜７では、軸方向での硬度が均一で安定した高品質な弾性ローラを得ることができた。
【００８０】
以上より、本発明によって、ゴムローラ１におけるゴム弾性層３の軸方向での電子線５による改質ムラが小さく、高品質な弾性ローラを安定して、より簡便な製造工程で製造できる弾性ローラの製造方法を提供することができることが確認できた。
【００８１】
【表２】
2015127736.tif 000004
【００８２】
なお、表２における硬度平均値のバラツキは、各弾性ローラにおける全測定硬度の平均に対する各測定点での硬度の±の両方向への振れの最大値として示した。また、軸方向の硬度バラツキは、軸方向の１０点の測定位置の全測定硬度の平均に対する各測定点での硬度の±の両方向への振れの最大値として示した。
【符号の説明】
【００８３】
１・・・ゴムローラ（電子線照射前のローラ）
２・・・芯金
３・・・ゴム弾性層
４・・・処理室
５・・・電子線
６・・・保持軸
７・・・回転機構
８・・・出射口
９・・・不活性ガス供給機構
１０・・モニター機構
１１・・フィラメント
１２・・加速管
１３・・出射口箔
１４・・電子線発生部
１５・・電子線測定範囲
１６・・線量測定フィルム
【図１】
2015127736.tif 000005
【図２】
2015127736.tif 000006
【図３】
2015127736.tif 000007
【図４】
2015127736.tif 000008
【図５】
2015127736.tif 000009
【図６】
2015127736.tif 000010