(57)【要約】【課題】反転機の傾き調整に要する時間を短縮する。【解決手段】反転機は、ウェハＷの周縁部を把持するための一対のアームと、一対のアームに取り付けられ一対のアーム間を延伸するシャフトと、シャフトをシャフトの延伸方向に伸縮可能な駆動機構と、駆動機構、シャフト、及び、一対のアームを、一対のアーム間を一対のアームの延伸方向に沿って延伸する回転軸周りに回転可能な回転機構と、を備える。また、反転機は、アーム３１０−１とシャフトのフランジ３１４ａを貫通して設けられ、アーム３１０−１がシャフトのフランジ３１４ａ周りに回転するのを規制する棒状の規制ピン３１５を備える。【選択図】図４
2015204405.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を把持して反転させる反転機であって、
前記基板の周縁部を把持するための一対のアームと、
前記一対のアームに取り付けられ前記一対のアーム間を延伸するシャフトと、
前記一対のアームの少なくとも一方と前記シャフトを貫通して設けられ、前記一対のアームの少なくとも一方が前記シャフト周りに回転するのを規制する棒状の規制ピンと、
を備えることを特徴とする反転機。
【請求項２】
請求項１の反転機において、
前記シャフトを該シャフトの延伸方向に移動させて前記一対のアーム間の距離を調整可能な駆動機構と、
前記一対のアームの中央を前記一対のアームの延伸方向に沿って延伸する回転軸周りに、前記駆動機構、前記シャフト、及び、前記一対のアームを回転可能な回転機構と、
をさらに備える、
反転機。
【請求項３】
請求項１又は２の反転機において、
前記一対のアームにはそれぞれ、前記基板の周縁部を把持する少なくとも２つのチャック部が設けられる、
ことを特徴とする反転機。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項の反転機において、
前記一対のアームの少なくとも一方は、前記規制ピンによって前記シャフト周りに回転するのを規制され、かつ、複数のボルトによって前記シャフトに固定される、
ことを特徴とする反転機。
【請求項５】
基板の研磨処理を行うための研磨ユニットと、
前記基板の洗浄処理及び乾燥処理を行うための洗浄ユニットと、
前記研磨ユニットへ基板を受け渡すとともに前記洗浄ユニットによって洗浄処理及び乾燥処理された基板を受け取るロード／アンロードユニットと、
前記研磨ユニット、又は、前記洗浄ユニットにおいて前記基板を反転する、請求項１〜４のいずれか１項の反転機と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
基板の周縁部を把持するための一対のアームと、
前記一対のアームに取り付けられ前記一対のアーム間を延伸するシャフトと、を備え、前記基板を反転させる反転機、の傾きを調整する方法であって、
前記一対のアームの少なくとも一方と前記シャフトに棒状の規制ピンを貫通させて前記一対のアームの少なくとも一方が前記シャフト周りに回転するのを規制する工程と、
前記規制ピンが前記一対のアームの少なくとも一方と前記シャフトに貫通した状態で、前記一対のアームの少なくとも一方を複数のボルトによって前記シャフトに固定する工程と、
を備える、ことを特徴とする反転機の傾き調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反転機、基板処理装置、及び、反転機の傾き調整方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体ウェハなどの基板に対して各種処理を行うために基板処理装置が用いられている。基板処理装置の一例としては、基板の研磨処理を行うためのＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）装置が挙げられる。
【０００３】
ＣＭＰ装置は、基板の研磨処理を行うための研磨ユニット、基板の洗浄処理及び乾燥処理を行うための洗浄ユニット、及び、研磨ユニットへ基板を受け渡すとともに洗浄ユニットによって洗浄処理及び乾燥処理された基板を受け取るロード／アンロードユニットなどを備える。また、ＣＭＰ装置は、研磨ユニット、洗浄ユニット、及びロード／アンロードユニット内で基板の搬送を行う搬送ユニットを備える。ＣＭＰ装置は、搬送ユニットによって基板を搬送しながら研磨、洗浄、及び乾燥の各種処理を順次行う。
【０００４】
また、ＣＭＰ装置は、ＣＭＰ装置内において基板を反転するために反転機を備えている。反転機は、基板の周縁を両側から把持するために水平に延伸する一対のアームと、アームに取り付けられたシャフトと、シャフトをその軸方向に移動させ一対のアームを開閉させる駆動機構と、を備えている。また、反転機は、駆動機構に取り付けられ、水平方向に延伸する回転軸と、回転軸を回転駆動する反転機構と、を備えている。反転機構が駆動されると、回転軸を中心として駆動機構、シャフト、及び、アームが回転し、その結果、アームに把持した基板が反転される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開２００７−０９９９７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来技術は、反転機の傾き調整に要する時間を短縮することは考慮されていない。
【０００７】
すなわち、反転機は、例えば基板の搬送ロボットなどの他の部品との間で基板の受け渡しが適切に行われるように、アームの角度を調整する場合がある。従来技術では、一対のアームはそれぞれ、シャフトに対して４点のボルトによって固定されていた。この場合、アームを固定する際にボルトを締め付けると、アームがシャフト周りに回転し、アームが所望の角度からずれるおそれがあった。特に、一対のアームでは、ボルトの締め付け方向が相反するので、一対のアームを所望の角度に調整するのに長時間を要していた。その結果、反転機の傾き調整に長時間を要していた。
【０００８】
そこで、本願発明は、反転機の傾き調整に要する時間を短縮することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願発明の反転機の一形態は、上記課題に鑑みなされたもので、基板を把持して反転させる反転機であって、前記基板の周縁部を把持するための一対のアームと、前記一対のアームに取り付けられ前記一対のアーム間を延伸するシャフトと、前記一対のアームの少なくとも一方と前記シャフトを貫通して設けられ、前記一対のアームの少なくとも一方が前記シャフト周りに回転するのを規制する棒状の規制ピンと、を備えることを特徴とする。
【００１０】
また、反転機の一形態において、前記シャフトを該シャフトの延伸方向に移動させて前記一対のアーム間の距離を調整可能な駆動機構と、前記一対のアームの中央を前記一対のアームの延伸方向に沿って延伸する回転軸周りに、前記駆動機構、前記シャフト、及び、前記一対のアームを回転可能な回転機構と、をさらに備える、ことができる。
【００１１】
また、反転機の一形態において、前記一対のアームにはそれぞれ、前記基板の周縁部を把持する少なくとも２つのチャック部が設けられていてもよい。
【００１２】
また、反転機の一形態において、前記一対のアームの少なくとも一方は、前記規制ピンによって前記シャフト周りに回転するのを規制され、かつ、複数のボルトによって前記シャフトに固定されていてもよい。
【００１３】
また、本願発明の基板処理装置の一形態は、基板の研磨処理を行うための研磨ユニットと、前記基板の洗浄処理及び乾燥処理を行うための洗浄ユニットと、前記研磨ユニットへ基板を受け渡すとともに前記洗浄ユニットによって洗浄処理及び乾燥処理された基板を受け取るロード／アンロードユニットと、前記研磨ユニット、又は、前記洗浄ユニットにおいて前記基板を反転する、上記のいずれかの反転機と、を備えることを特徴とする。
【００１４】
また、本願発明の反転機の傾き調整方法は、基板の周縁部を把持するための一対のアームと、前記一対のアームに取り付けられ前記一対のアーム間を延伸するシャフトと、を備え、前記基板を反転させる反転機、の傾きを調整する方法であって、前記一対のアームの少なくとも一方と前記シャフトに棒状の規制ピンを貫通させて前記一対のアームの少なくとも一方が前記シャフト周りに回転するのを規制する工程と、前記規制ピンが前記一対のアームの少なくとも一方と前記シャフトに貫通した状態で、前記一対のアームの少なくとも一方を複数のボルトによって前記シャフトに固定する工程と、を備える、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
かかる本願発明によれば、反転機の傾き調整に要する時間を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】図２は、反転機の斜視図である。
【図３】図３は、反転機の平面図である。
【図４】図４は、アームの固定構造を示す図である。
【図５】図５は、アームの固定構造を示す図である。
【図６】図６は、アームの固定構造を示す図である。
【図７】図７は、反転機構の構成を示す図である。
【図８】図８は、反転機の傾き調整方法の作業工程を示すフローチャートである。
【図９】図９は、レベル調整板の傾き調整を説明するための図である。
【図１０】図１０は、アームの傾き調整、回転軸の傾き調整、及び、回転調整機構の高さ調整を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本願発明の一実施形態に係る反転機、基板処理装置、及び、反転機の傾き調整方法を図面に基づいて説明する。以下では、基板処理装置の一例として、ＣＭＰ装置を説明するが、これには限られない。また、以下では、ロード／アンロードユニット２と、研磨ユニット３と、洗浄ユニット４と、を備える基板処理装置について説明するが、これには
限られない。
【００１８】
＜基板処理装置＞
図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置の全体構成を示す平面図である。図１に示すように、本実施形態における研磨装置は、略矩形状のハウジング１を備えている。ハウジング１の内部は、隔壁１ａ，１ｂ，１ｃによって、ロード／アンロードユニット２と、研磨ユニット３（３ａ，３ｂ）と、洗浄ユニット４と、に区画されている。ロード／アンロードユニット２、研磨ユニット３、及び洗浄ユニット４は、それぞれ独立に組み立てられ、独立に排気されるものである。
【００１９】
＜ロード／アンロードユニット＞
ロード／アンロードユニット２は、多数の半導体ウェハ（基板）Ｗをストックするウェハカセットを載置する２つ以上（本実施形態では４つ）のフロントロード部２０を備えている。フロントロード部２０は、研磨装置の幅方向（長手方向と垂直な方向）に隣接して配列されている。フロントロード部２０には、オープンカセット、ＳＭＩＦ（Standard Manufacturing Interface）ポッド、またはＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）を搭載することができる。ここで、ＳＭＩＦ、ＦＯＵＰは、内部にウェハカセットを収納し、隔壁で覆うことにより、外部空間とは独立した環境を保つことができる密閉容器である。なお、本実施形態では、基板の一例として半導体ウェハを挙げているが、これには限定されない。研磨ユニット３の研磨対象となる基板であれば、本実施形態を適用することができる。
【００２０】
また、ロード／アンロードユニット２には、フロントロード部２０の並びに沿って走行機構２１が敷設されており、この走行機構２１上にウェハカセットの配列方向に沿って移動可能な搬送ロボット２２が設置されている。搬送ロボット２２は走行機構２１上を移動することによってフロントロード部２０に搭載されたウェハカセットにアクセスできるようになっている。搬送ロボット２２は上下に２つのハンドを備えており、例えば、上側のハンドをウェハカセットに半導体ウェハＷを戻すときに使用し、下側のハンドを研磨前の半導体ウェハＷを搬送するときに使用して、上下のハンドを使い分けることができるようになっている。
【００２１】
ロード／アンロードユニット２は、最もクリーンな状態を保つ必要がある領域である。このため、ロード／アンロードユニット２の内部は、装置外部、研磨ユニット３、及び洗浄ユニット４のいずれよりも高い圧力に常時維持されている。また、搬送ロボット２２の走行機構２１の上部には、ＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタなどのクリーンエアフィルタを有するフィルタファンユニット（図示せず）が設けられており、このフィルタファンユニットによりパーティクルや有毒蒸気、ガスが除去されたクリーンエアが常時下方に向かって吹き出している。
【００２２】
＜研磨ユニット＞
研磨ユニット３は、半導体ウェハＷの研磨が行われる領域であり、第１研磨部３０Ａと第２研磨部３０Ｂとを内部に有する第１研磨ユニット３ａと、第３研磨部３０Ｃと第４研磨部３０Ｄとを内部に有する第２研磨ユニット３ｂと、を備えている。第１研磨部３０Ａ、第２研磨部３０Ｂ、第３研磨部３０Ｃ、及び第４研磨部３０Ｄは、図１に示すように、装置の長手方向に沿って配列されている。
【００２３】
第１研磨部３０Ａは、半導体ウェハＷを研磨するための研磨パッドが貼り付けられた研磨テーブル３００Ａと、研磨テーブル３００Ａを回転駆動する図示していない第１のモータ（第１の回転駆動部）と、を備える。また、第１研磨部３０Ａは、半導体ウェハＷを保持しかつ半導体ウェハＷを研磨テーブル３００Ａに貼り付けられた研磨パッド上に対して
押圧しながら研磨するためのトップリング３０１Ａと、トップリング３０１Ａを回転駆動する図示していない第２のモータ（第２の回転駆動部）と、を備える。また、第１研磨部３０Ａは、研磨テーブル３００Ａに貼り付けられた研磨パッド上に研磨液（スラリ）やドレッシング液（例えば、水）を供給するための研磨液供給ノズル３０２Ａと、研磨テーブル３００Ａのドレッシングを行うためのドレッサ３０３Ａと、を備える。また、第１研磨部３０Ａは、液体（例えば純水）と気体（例えば窒素）の混合流体または液体（例えば純水）を霧状にして、１または複数のノズルから研磨面に噴射するアトマイザ３０４Ａを備える。
【００２４】
また、同様に、第２研磨部３０Ｂは、研磨テーブル３００Ｂと、第１のモータと、トップリング３０１Ｂと、第２のモータと、研磨液供給ノズル３０２Ｂと、ドレッサ３０３Ｂと、アトマイザ３０４Ｂと、を備える。また、第３研磨部３０Ｃは、研磨テーブル３００Ｃと、第１のモータと、トップリング３０１Ｃと、第２のモータと、研磨液供給ノズル３０２Ｃと、ドレッサ３０３Ｃと、アトマイザ３０４Ｃと、を備える。また、第４研磨部３０Ｄは、研磨テーブル３００Ｄと、第１のモータと、トップリング３０１Ｄと、第２のモータと、研磨液供給ノズル３０２Ｄと、ドレッサ３０３Ｄと、アトマイザ３０４Ｄと、を備える。
【００２５】
第１研磨ユニット３ａの第１研磨部３０Ａ及び第２研磨部３０Ｂと、洗浄ユニット４と、の間には、長手方向に沿った４つの搬送位置（ロード／アンロードユニット２側から順番に第１搬送位置ＴＰ１、第２搬送位置ＴＰ２、第３搬送位置ＴＰ３、第４搬送位置ＴＰ４とする）の間でウェハＷを搬送する第１リニアトランスポータ５が配置されている。第１リニアトランスポータ５の第１搬送位置ＴＰ１の上方には、ロード／アンロードユニット２の搬送ロボット２２から受け取ったウェハＷを反転する反転機３１が配置されており、その下方には上下に昇降可能なリフタ３２が配置されている。また、第２搬送位置ＴＰ２の下方には上下に昇降可能なプッシャ３３が、第３搬送位置ＴＰ３の下方には上下に昇降可能なプッシャ３４がそれぞれ配置されている。なお、第３搬送位置ＴＰ３と第４搬送位置ＴＰ４との間にはシャッタ１２が設けられている。また、図１に示すように、反転機３１と搬送ロボット２２との間にはシャッタ１０が設置されており、ウェハＷの搬送時にはシャッタ１０を開いて搬送ロボット２２と反転機３１との間でウェハＷの受け渡しが行われる。
【００２６】
第２研磨ユニット３ｂには、第１リニアトランスポータ５に隣接して、長手方向に沿った３つの搬送位置（ロード／アンロードユニット２側から順番に第５搬送位置ＴＰ５、第６搬送位置ＴＰ６、第７搬送位置ＴＰ７とする）の間でウェハＷを搬送する第２リニアトランスポータ６が配置されている。第２リニアトランスポータ６の第６搬送位置ＴＰ６の下方にはプッシャ３７が、第７搬送位置ＴＰ７の下方にはプッシャ３８が配置されている。なお、第５搬送位置ＴＰ５と第６搬送位置ＴＰ６との間にはシャッタ１３が設けられている。
【００２７】
研磨時にはスラリを使用することを考えるとわかるように、研磨ユニット３は最もダーティな（汚れた）領域である。したがって、本実施形態では、研磨ユニット３内のパーティクルが外部に飛散しないように、各研磨テーブルの周囲から排気が行われており、研磨ユニット３の内部の圧力を、装置外部、周囲の洗浄ユニット４、ロード／アンロードユニット２よりも負圧にすることでパーティクルの飛散を防止している。また、通常、研磨テーブルの下方には排気ダクト（図示せず）が、上方にはフィルタ（図示せず）がそれぞれ設けられ、これらの排気ダクトおよびフィルタを介して清浄化された空気が噴出され、ダウンフローが形成される。
【００２８】
各研磨部３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃ，３０Ｄは、それぞれ隔壁で仕切られて密閉されてお
り、密閉されたそれぞれの研磨部３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃ，３０Ｄから個別に排気が行われている。したがって、半導体ウェハＷは、密閉された研磨部３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃ，３０Ｄ内で処理され、スラリの雰囲気の影響を受けないため、良好な研磨を実現することができる。各研磨部３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃ，３０Ｄ間の隔壁には、図１に示すように、リニアトランスポータ５，６が通るための開口が開けられている。この開口にはそれぞれシャッタを設けて、ウェハＷが通過する時だけシャッタを開けるようにしてもよい。
【００２９】
＜洗浄ユニット＞
洗浄ユニット４は、研磨後の半導体ウェハＷを洗浄する領域であり、ウェハＷを反転する反転機４１と、研磨後の半導体ウェハＷを洗浄する４つの洗浄機４２〜４５と、反転機４１及び洗浄機４２〜４５の間でウェハＷを搬送する搬送ユニット４６と、を備えている。反転機４１及び洗浄機４２〜４５は、長手方向に沿って直列に配置されている。また、洗浄機４２〜４５の上部には、クリーンエアフィルタを有するフィルタファンユニット（図示せず）が設けられており、このフィルタファンユニットによりパーティクルが除去されたクリーンエアが常時下方に向かって吹き出している。また、洗浄ユニット４の内部は、研磨ユニット３からのパーティクルの流入を防止するために研磨ユニット３よりも高い圧力に常時維持されている。洗浄ユニット４の反転機４１は、把持部１１４の下方に仮置部１３０を有している。
【００３０】
図１に示すように、第１リニアトランスポータ５と第２リニアトランスポータ６との間には、第１リニアトランスポータ５、第２リニアトランスポータ６、および洗浄ユニット４の反転機４１の間でウェハＷを搬送するスイングトランスポータ（ウェハ搬送機構）７が配置されている。このスイングトランスポータ７は、第１リニアトランスポータ５の第４搬送位置ＴＰ４から第２リニアトランスポータ６の第５搬送位置ＴＰ５へ、第２リニアトランスポータ６の第５搬送位置ＴＰ５から反転機４１へ、第１リニアトランスポータ５の第４搬送位置ＴＰ４から反転機４１にそれぞれウェハＷを搬送できるようになっている。反転機４１及び洗浄機４２〜４５は、洗浄中に外部に使用流体が飛散しないようにチャンバによって区画されている。これらのチャンバ間には搬送ユニット４６のチャッキングユニットを通過させるための開口が形成されている。これらの開口には、それぞれシャッタ４１１，４２１，４３１，４４１，４５１が設けられている。
【００３１】
＜反転機＞
ここで、反転機３１の構成を説明する。図２は、反転機３１の斜視図である。図３は、反転機３１の平面図である。なお、反転機４１は、反転機３１と同様の構成であるので説明を省略する。
【００３２】
図２，図３に示すように、反転機３１は、ウェハＷの周縁を両側から把持する一対のアーム３１０−１，３１０−２と、アーム３１０−１，３１０−２に取り付けられアーム３１０間を延伸するシャフト３１４と、シャフト３１４をその軸方向に移動させて一対のアーム３１０−１，３１０−２間の距離を調整（アーム３１０−１，３１０−２を開閉）可能な駆動機構３１２と、を備える。駆動機構３１２は、例えば、アーム３１０−１，３１０−２それぞれに取り付けられた一対のシャフト３１４を、エアシリンダと圧縮ばねなどによって駆動することにより、アーム３１０−１，３１０−２を開閉することができる。また、これに限らず、駆動機構３１２は、アーム３１０−１，３１０−２間を例えばテレスコピック構造の１本のシャフト３１４で連結し、シャフト３１４を伸縮させることもできる。
【００３３】
一対のアーム３１０−１，３１０−２は、ウェハＷの中心を挟んで互いに対向するように配置されており、水平方向に延伸している。アーム３１０−１，３１０−２にはそれぞれ、ウェハＷの外周部に線接触するチャック部３１１が２つ設けられている。なお、本実
施形態では、アーム３１０−１，３１０−２に２つのチャック部３１１を設けた例を説明するが、これに限られるものではなく、アーム３１０−１，３１０−２に３つ以上のチャック部３１１を設けてもよい。
【００３４】
また、図２，図３に示すように、駆動機構３１２には、ウェハＷの中心軸と直交する方向（水平方向）に延伸する回転軸３１６が取り付けられている。回転軸３１６は、駆動機構３１２から、アーム３１０−１，３１０−２が延伸する方向とは反対側に延伸する。回転軸３１６は、反転機構（回転機構）３１８に連結されており、反転機構３１８により回転されるようになっている。したがって、反転機構３１８が駆動されると、回転軸３１６を中心として駆動機構３１２、シャフト３１４、及び、一対のアーム３１０−１，３１０−２が一体に回転し、その結果、アーム３１０−１，３１０−２に把持したウェハＷが反転されるようになっている。すなわち、反転機構３１８は、一対のアーム３１０−１，３１０−２間（アーム３１０−１，３１０−２の中央）を一対のアーム３１０−１，３１０−２の延伸方向に沿って延伸する回転軸周りに、駆動機構３１２、シャフト３１４、及び、一対のアーム３１０−１，３１０−２を一体的に回転可能になっている。
【００３５】
図４〜図６は、アーム３１０−１，３１０−２の固定構造を示す図である。図６は、図５のＡ−Ａ線における断面図である。本実施形態において、一対のアーム３１０−１，３１０−２はそれぞれ、シャフト３１４の端部に形成されたフランジ３１４ａに取り付けられる。具体的には、アーム３１０−１，３１０−２は、アーム３１０−１，３１０−２とフランジ３１４ａを貫通する固定軸３２１によってシャフト３１４に支持されている。また、アーム３１０−１，３１０−２は、固定軸３２１の周囲の４点のボルト３１７によってシャフト３１４に固定される。
【００３６】
また、本実施形態においては、図４〜図６に示すように、一対のアームのうちの一方のアーム３１０−１は、固定軸３２１とは異なる位置に設けられた規制ピン３１５によって、シャフト３１４周りの回転が規制されている。規制ピン３１５は、アーム３１０−１に形成された穴とフランジ３１４ａに形成された穴とを貫通する棒状の部材である。規制ピン３１５が設けられていることによって、アーム３１０−１は、固定軸３２１周りの回転が規制される。なお、本実施形態では、他方のアーム３１０−２には、規制ピン３１５が設けられていないため、アーム３１０−２は、固定軸３２１と４点のボルト３１７によってシャフト３１４に固定される。しかしながら、これに限らず、一対のアーム３１０−１，３１０−２の両方に規制ピン３１５を設けることもできる。
【００３７】
続いて、反転機構３１８について説明する。図７は、反転機構３１８の構成を示す図である。図７に示すように、反転機構３１８は、土台４５０と、土台４５０上に設置されるレベル調整板４６０と、レベル調整板４６０上に設けられた高さ調整板４７０と、高さ調整板４７０に取り付けられた回転調整機構４８０と、を備える。
【００３８】
レベル調整板４６０は、土台４５０に対して調整ボルト４６２，４６４によって固定されている。調整ボルト４６２，４６４の締め具合の調整によって、土台４５０に対するレベル調整板４６０の傾きを調整可能になっている。ここで、鉛直方向をＺ軸、回転軸３１６と平行な軸をＹ軸、Ｚ軸及びＹ軸に直交する軸をＸ軸とする。レベル調整板４６０は、調整ボルト４６２，４６４の締め具合の調整によって、土台４５０に対するレベル調整板４６０のＸ軸周りの傾きを調整可能になっている。
【００３９】
また、高さ調整板４７０と回転調整機構４８０とは、高さ調整ボルト４７２、及び、クランピングボルト４８２によって固定されている。高さ調整ボルト４７２、及び、クランピングボルト４８２の調整によって、高さ調整板４７０に対する回転調整機構４８０の高さ（Ｚ軸方向の高さ）を調整可能になっている。また、回転調整機構４８０には、回転軸
３１６の回転角度（Ｙ軸周りの回転角度）を調整するための傾き調整ショックアブソーバ４８４が取り付けられている。
【００４０】
＜反転機の傾き調整方法＞
次に、反転機３１の傾き調整方法について説明する。図８は、反転機３１の傾き調整方法の作業工程を示すフローチャートである。図８に示すように、反転機３１の傾き調整方法は、まず、レベル調整板４６０のＸ軸周りの傾き調整を行う（ステップＳ１０１）。レベル調整板４６０の傾き調整は、調整ボルト４６２，４６４の締め具合を調整することによって行われる。
【００４１】
図９は、レベル調整板の傾き調整を説明するための図である。図９に示すように、定盤４１０上には傾き調整用治具４４０が設置される。反転機構３１８は、傾き調整用治具４４０上に設置される。また、図９に示すように、回転軸３１６には、棒状の傾き調整用治具４３０が水平方向（Ｙ軸方向）に延伸するように取り付けられる。ここで、棒状の傾き調整用治具４３０の根本部分から定盤４１０までの鉛直方向（Ｚ軸方向）距離をＡ、棒状の傾き調整用治具４３０の先端部分から定盤４１０までの鉛直方向（Ｚ軸方向）距離をＢとする。
【００４２】
この場合、反転機３１の傾き調整方法は、鉛直方向距離Ａと鉛直方向距離Ｂとの差が、０．２ｍｍ以下になっているか否かを判定する（ステップＳ１０２）。反転機３１の傾き調整方法は、鉛直方向距離Ａと鉛直方向距離Ｂとの差が０．２ｍｍ以下になっていないと判定されたら（ステップＳ１０２，Ｎｏ）、ステップＳ１０１へ戻り、再度、調整ボルト４６２，４６４の締め具合を調整する。一方、反転機３１の傾き調整方法は、鉛直方向距離Ａと鉛直方向距離Ｂとの差が０．２ｍｍ以下になったと判定されたら（ステップＳ１０２，Ｙｅｓ）、次のステップ１０３へ進む。なお、鉛直方向距離Ａと鉛直方向距離Ｂとの差の閾値は０．２ｍｍに限らず、適宜設定することができる。
【００４３】
続いて、反転機３１の傾き調整方法は、アーム３１０−１，３１０−２の傾き調整を行う（ステップＳ１０３）。アーム３１０−１，３１０−２の傾き調整は、規制ピン３１５が設けられた側のアーム３１０−１に関しては、まず、アーム３１０−１に形成された穴とシャフト３１４（フランジ３１４ａ）に形成された穴に規制ピン３１５を貫通させる。続いて、規制ピン３１５がアーム３１０−１とシャフト３１４に貫通した状態で、アーム３１０−１を４点のボルト３１７によってシャフト３１４（フランジ３１４ａ）に固定する。一方、規制ピン３１５が設けられていない側のアーム３１０−２に関しては、アーム３１０−２を４点のボルト３１７によってシャフト３１４（フランジ３１４ａ）に固定する。
【００４４】
次に、反転機３１の傾き調整方法は、回転軸３１６の傾き調整を行う（ステップＳ１０４）。具体的には、回転軸３１６の傾き調整は、傾き調整ショックアブソーバ４８４を用いて行われる。
【００４５】
次に、反転機３１の傾き調整方法は、回転調整機構４８０の高さ調整を行う（ステップＳ１０５）。具体的には、回転調整機構４８０の高さ調整は、高さ調整ボルト４７２、及び、クランピングボルト４８２の締め具合を調整することによって行われる。なお、ステップＳ１０３，Ｓ１０４，Ｓ１０５については、説明の便宜上順序をつけて記載したが、この順序にこだわらずＳ１０３〜Ｓ１０５を順不同で行うことができる。また、必ずしもステップＳ１０３〜Ｓ１０５の全てを実行する必要はなく、一部のみを実行してステップＳ１０６へ進むこともできる。
【００４６】
図１０は、アーム３１０の傾き調整、回転軸３１６の傾き調整、及び、回転調整機構４
８０の高さ調整を説明するための図である。図１０に示すように、定盤４１０上には傾き調整用治具４２０が設置される。アーム３１０は、傾き調整用治具４２０上に配置される。なお、傾き調整用治具４２０は、アーム３１０−１，３１０−２のそれぞれの下部に配置される。
【００４７】
ここで、アーム３１０−１，３１０−２の先端から傾き調整用治具４２０までの鉛直方向（Ｚ軸方向）距離をＣとする。反転機３１の傾き調整方法は、鉛直方向距離Ｃが０．２ｍｍ以下になっており、かつ、４点のチャック部３１１の平面度（最も高い位置のチャック部３１１と最も低い位置のチャック部３１１との高さの差）が０．５ｍｍ以内になっているか否かを判定する（ステップＳ１０６）。なお、鉛直方向距離Ｃの閾値は０．２ｍｍに限らず、適宜設定することができる。また、４点のチャック部３１１の平面度は０．５ｍｍに限らず、適宜設定することができる。
【００４８】
反転機３１の傾き調整方法は、鉛直方向距離Ｃが０．２ｍｍ以下になっており、かつ、４点のチャック部３１１の平面度が０．５ｍｍ以内になっていないと判定した場合には（ステップＳ１０６，Ｎｏ）、ステップＳ１０３へ戻り、再度、ステップＳ１０３，１０４，１０５を実行する。
【００４９】
一方、反転機３１の傾き調整方法は、鉛直方向距離Ｃが０．２ｍｍ以下になっており、かつ、４点のチャック部３１１の平面度が０．５ｍｍ以内になっていると判定した場合には（ステップＳ１０６，Ｙｅｓ）、反転機３１の傾き調整を終了する。
【００５０】
すなわち、反転機３１の傾き調整方法は、鉛直方向距離Ｃが０．２ｍｍ以下になり、かつ、４点のチャック部３１１の平面度が０．５ｍｍ以内になるように、アーム３１０の傾き調整、回転軸３１６の傾き調整、及び、回転調整機構４８０の高さ調整を繰り返し行うということである。
【００５１】
本実施形態によれば、反転機３１の傾き調整に要する時間を短縮することができる。すなわち、従来技術では、一対のアーム３１０−１，３１０−２はそれぞれ、シャフト３１４に対して４点のボルト３１７によって固定されるだけであった。この場合、アーム３１０−１，３１０−２を固定する際にボルト３１７を締め付けると、アーム３１０−１，３１０−２がシャフト３１４周りに回転し、アーム３１０−１，３１０−２が所望の角度からずれるおそれがあった。特に、一対のアーム３１０−１，３１０−２では、ボルトの締め付け方向が相反するので、アーム３１０−１，３１０−２を所望の角度に調整するのに長時間を要する。また、アーム３１０−１，３１０−２それぞれの傾き調整、回転軸３１６の傾き調整、及び、回転調整機構４８０の高さ調整を複合的に行う場合には、これらのうち１箇所を調整したら他の箇所の傾き／高さもずれるので、何度も繰り返し調整する必要が生じる。その結果、反転機３１の傾き調整に長時間（例えば６０分程度）を要していた。
【００５２】
これに対して本実施形態では、反転機３１は、一対のアーム３１０−１とシャフト３１４を貫通して設けられ、アーム３１０−１がシャフト３１４周りに回転するのを規制する棒状の規制ピン３１５を備える。また、本実施形態では、アーム３１０−１とシャフト３１４に棒状の規制ピン３１５を貫通させてアーム３１０−１がシャフト３１４周りに回転するのを規制し、規制ピン３１５によってアーム３１０−１の回転を規制した状態で、アーム３１０−１を複数のボルト３１７によってシャフト３１４（フランジ３１４ａ）に固定する。
【００５３】
したがって、本実施形態によれば、アーム３１０−１がシャフト３１４周りに回転することを規制ピン３１５によって規制することができる。アーム３１０−１の傾きが固定化
されることによって、アーム３１０−１の傾き調整が不要となる。その結果、複数の調整対象のうち１箇所が固定化され、残るアーム３１０−２の傾き調整、回転軸３１６の傾き調整、及び、回転調整機構４８０を調整すればよいので、反転機３１の傾き調整に要する時間を、例えば３０分程度に短縮することができる。なお、本実施形態では、アーム３１０−１にのみ規制ピン３１５を設ける例を示したが、これに限らず、アーム３１０−１，３１０−２の両方に規制ピン３１５を設けることによって、より一層反転機３１の傾き調整に要する時間の短縮化を図ることができる。
【符号の説明】
【００５４】
３１，４１  反転機
３１０−１，３１０−２  アーム
３１１  チャック部
３１２  駆動機構
３１４  シャフト
３１４ａ  フランジ
３１５  規制ピン
３１６  回転軸
３１７  ボルト
３１８  反転機構
３２１  固定軸
４１０  定盤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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