(57)【要約】      （修正有）【課題】廃棄する塗布液を削減する塗布装置を提供する。【解決手段】円筒状部材１の周囲に同軸に配置され、円筒状部材１の外側表面に塗布液を塗布するリング状塗布ヘッドが、相対的に移動し、相対的移動方向の前方にフロントリップ２６と後方にリアリップ２５を備え、ビード液面付近のリアリップ２５と被塗布部材との間の距離を、吐出口２４付近のリアリップ２５と被塗布部材との間の距離よりも大きく設定するテーパ形状、または、階段形状であることを特徴とする。【選択図】図４
2015116547.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状又は円柱状に支持された被塗布部材の周囲に被塗布部材の軸と同軸に配置された円環状の塗布ヘッドを前記軸方向に被塗布部材と相対的に移動させながら被塗布部材に塗布液を塗布する塗布装置であって、前記塗布ヘッドは、前記塗布ヘッドの相対的な移動方向の後方に配置されるリアリップと、前記リアリップよりも前方で前記リアリップに対向して配置されるフロントリップと、前記塗布ヘッドの全周に亘り前記リアリップと前記フロントリップとの間から被塗布部材に塗布液を吐出する吐出口と、を含み、前記フロントリップ及び前記リアリップが塗布液と接触しつつビードを形成し、前記リアリップに接触する塗布液の表面の前記軸方向の位置である第一の位置における前記リアリップと前記軸との距離が、前記フロントリップに接触する塗布液の表面の前記軸方向の位置におけるフロントリップと前記軸との距離よりも大きくなるように配置される塗布装置において、
前記第一の位置における前記リアリップと前記軸との距離は、前記軸方向で前記第一の位置より前記吐出口に近い位置における前記リアリップと前記軸との距離より大きいことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記リアリップの前記軸を通る断面形状がテーパ形状であることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記リアリップの前記軸を通る断面形状が階段形状であることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記リアリップの前記軸を通る断面において、前記軸に直交する面に対して前記リアリップの傾斜面がなす角度が３０度以上７０度以下であることを特徴とする請求項２に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被塗布部材に塗布液を塗布する塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、円筒状又は円柱状に支持された被塗布部材の周囲に被塗布部材の軸と同軸に配置された円環状の塗布ヘッドを軸方向に被塗布部材と相対的に移動させながら被塗布部材に塗布液を塗布する、いわゆるリング状塗布装置がある。
【０００３】
しかし加工精度の公差や偏心により周方向で被塗布部材と塗布ヘッド間の隙間がばらついた場合、塗布された膜厚に周方向のばらつきが生じることがある。ばらつきを減らすために塗布ヘッド間の隙間を大きく設定すると塗布ヘッドと被塗布部材の間で橋渡し状に形成される塗布液（ビード）が塗布途中で切れる、いわゆるビード切れが発生する可能性がある。
【０００４】
そこで従来次の構成が提案されている。塗布ヘッドを、塗布ヘッドの相対的な移動方向の後方に配置されるリアリップと、リアリップよりも前方でリアリップに対向して配置されるフロントリップで構成する。そして塗布ヘッドの全周に亘ってリアリップとフロントリップとの間から被塗布部材に向けて塗布液を供給する供給口を設ける。さらにフロントリップ及びリアリップが塗布液と接触しつつビードを形成するように配置する。そしてリアリップに接触する塗布液の表面の軸方向の位置におけるリアリップと軸との距離が、フロントリップに接触する塗布液の表面の軸方向の位置におけるフロントリップと軸との距離よりも大きくなるように配置する（特許文献１参照）。
【０００５】
この構成によりフロントリップ側でビード切れを抑制しつつ、リアリップ側で十分な隙間を確保することで、被塗布部材と塗布ヘッド間の隙間のばらつきによる膜厚のばらつきを減少させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−１５２８３０
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
一方リング状塗布装置では１つの被塗布部材を塗布した後次の被塗布部材の塗布に備え、塗布ヘッドに残った塗布液を一旦清掃するクリーニング工程が必要である。そして塗布後に塗布ヘッドに残った塗布液はクリーニング工程時に洗浄され廃棄されることになる。
【０００８】
特許文献１の構成では、ビード切れさせることなく隙間のばらつきによる膜厚のばらつきを減少できるが、リアリップで使用される塗布液の量が多くなるためクリーニングされる塗布液の量が増えるという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そこで本発明の塗布装置は、円筒状又は円柱状に支持された被塗布部材の周囲に被塗布部材の軸と同軸に配置された円環状の塗布ヘッドを前記軸方向に被塗布部材と相対的に移動させながら被塗布部材に塗布液を塗布する塗布装置であって、前記塗布ヘッドは、前記塗布ヘッドの相対的な移動方向の後方に配置されるリアリップと、前記リアリップよりも前方で前記リアリップに対向して配置されるフロントリップと、前記塗布ヘッドの全周に亘り前記リアリップと前記フロントリップとの間から被塗布部材に塗布液を吐出する吐出口と、を含み、前記フロントリップ及び前記リアリップが塗布液と接触しつつビードを形成し、前記リアリップに接触する塗布液の表面の前記軸方向の位置である第一の位置における前記リアリップと前記軸との距離が、前記フロントリップに接触する塗布液の表面の前記軸方向の位置におけるフロントリップと前記軸との距離よりも大きくなるように配置される塗布装置において、前記第一の位置における前記リアリップと前記軸との距離は、前記軸方向で前記第一の位置より前記吐出口に近い位置における前記リアリップと前記軸との距離より大きいことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の構成により、隙間のばらつきによる膜厚のばらつきを減少させつつ、リアリップで使用する塗布液の量を減らすことができ、塗布液の廃棄量を削減できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明によるリング状塗布装置の斜視図
【図２】本発明によるリング状塗布装置の塗布液供給手段を示す図
【図３】本発明によるリング塗布装置の詳細図
【図４】（ａ）実施例１のリング状塗布ヘッドの塗布時のビード液面を示す拡大断面図、（ｂ）実施例１のリング状塗布ヘッドのクリーニング後の液面を示す拡大断面図
【図５】本発明によるリング状塗布ヘッドによる塗布動作フロー図
【図６】実験例１によるリング状塗布ヘッドの塗布実験結果を示す図
【図７】比較例１によるリング状塗布ヘッドの塗布実験結果を示す図
【図８】比較例２によるリング状塗布ヘッドの塗布実験結果を示す図
【図９】実験例１、比較例１、２のビード量を示す図
【図１０】実施例２のリング状塗布ヘッドの拡大断面図
【図１１】（ａ）比較例１のリング状塗布ヘッドの塗布時のビード液面を示す拡大断面図、（ｂ）比較例２のリング状塗布ヘッドの塗布時のビード液面を示す拡大断面図、（ｃ）比較例２のリング状塗布ヘッドのクリーニング後の液面を示す拡大断面図
【発明を実施するための形態】
【００１２】
（実施例１）
図１は本発明の実施例１を示すリング状塗布装置の斜視図である。図中１のワーク（被塗布部材）は円筒状部材（又は円柱状部材）である。２はワークの周囲にワークの軸と同軸に配置され、ワークの外側表面に塗布液を塗布するリング状（円環状）塗布ヘッドである。リング状塗布ヘッド（塗布ヘッド）２には液供給手段（本図には図示せず）より塗料を供給する液供給チューブ１５が接続されている。
【００１３】
３はリング状塗布ヘッド２により円筒状部材１の外側表面に塗布された塗布膜である。４はリング状塗布ヘッド２を円筒状部材１と同軸調芯された状態で支持している昇降ステージで、直動ガイド５を介して支持部９に取り付けられている。昇降ステージ４はモータ６を駆動する事によりボールネジ７を回転させ、直動ガイドに添って軸方向の上下方向に任意の速度で昇降する。８は円筒状部材１を保持する保持部であり、円筒状部材１の両端を固定して保持している。尚、リング状塗布ヘッド２と円筒状部材１が相対的に移動する構成であれば良く、円筒状部材及び、円筒状部材とリング状塗布ヘッドの両方が移動する機構であってもよい。尚本実施の形態では、リング状塗布ヘッド２を上から下に移動させる事で、塗布膜３を円筒状部材１の上から下に向かって塗布するものとする。円筒状部材は、塗布前に装置外の供給手段（図示せず）により塗布装置に供給・セットされる。塗布終了後に、装置外の排出手段（図示せず）により装置外の次工程（図示せず）に搬送される。個々の部品に対して塗膜形成領域のみに断続的に塗布膜を形成する。
【００１４】
図２は図１に示したリング状塗布装置に塗布液を供給する塗布液供給手段である。１０は、例えばフェノール樹脂等の高分子材料の溶剤溶融液からなる塗布液などであり、ガラス若しくは耐溶剤樹脂製の容器１１に満たされている。容器１１は電磁スターラー１２上に載置されており、電磁スターラー１２により磁石攪拌子１６が所定の回転数で回転し、容器１１内の塗布液１０が常に攪拌され均一な状態となっている。１３は容器１１内の塗布液１０を、図１に示したリング状塗布装置に任意の流速及び流量で供給する定量ポンプである。塗布液１０は液吸入チューブ１４を介して容器１１から定量ポンプ１３に供給され、液供給チューブ１５を介して定量ポンプ１３からにリング状塗布ヘッド２に供給される。塗布液１０は、液残量がある程度以下の分量になり空気などが吸入され供給されないよう製作され、また塗布液の安定性を保持した状態で不図示の貯蔵庫に保存されており、生産量に応じて定期的に容器１１に供給される。
【００１５】
図３は図１に示したリング状塗布装置の、円筒状部材１とリング状塗布ヘッド２及び塗布膜３の詳細を示した斜視図である。尚、図３において説明を容易にするために、リング状塗布ヘッド２は一部断面図となっている。また、図３において図１と同じ部材には同じ符号を付し、その説明は省略する。
【００１６】
図中２１はリング状塗布ヘッド２の内部に円周状に形成された第１の液分配室であり、定量ポンプ１３から液供給チューブ１５を介して供給された塗布液を、リング状塗布ヘッド２の全周に供給する。２２は第２の液分配室であり、第１の液分配室２３と同様にリング状塗布ヘッド２の内部に円周状に形成されている。第１の液分配室２１と第２の液分配室２２の間には、液絞り流路２３が形成されている。液絞り流路２３もリング状塗布ヘッド２の内部に円周状に形成されているが、その幅は第１の液分配室２１及び第２の液分配室２２に比べてかなり狭くなっている。２４は塗布液１０をリング状塗布ヘッド２の外部に塗布する吐出口である。吐出口２４も液絞り流路２３と同様に、その幅が第１の液分配室２１及び第２の液分配室２２に比べてかなり狭くなっている。液絞り流路２３と吐出口２４は、その幅を狭くする事で絞りとして機能しており、塗布液の吐出量を安定化させている。３０は塗布液１０によりリング状塗布ヘッド２の吐出口２４に形成されるビードである。塗布液１０は吐出口２４から吐出した後一端ビード３０となり、その後リング状塗布ヘッド２の移動により塗布膜３となる。
【００１７】
図４（ａ）は図３において点線丸部Ａで示した、リング状塗布ヘッド２の吐出口２４の近傍を拡大して示した円筒状部材１の軸を通る断面図である。ただし図４（ａ）において塗布膜３は省略されている。図中２５はリング状塗布ヘッド２の相対的な移動方向の後方にあるリアリップであり、図中２６は相対的な移動方向の前方にあってリアリップと対向するフロントリップである。リアリップは断面形状が、円筒状部材１の軸中心からの距離が軸方向の上方（相対的な移動方向の後方）の位置ほど大きくなるテーパ形状となっている。テ―パ形状の傾斜面の軸に直交する面に対する角度はαである。リアリップの吐出口近傍の軸中心からの最小の距離はφＤ１である。フロントリップ２６の円筒状部材１の軸中心からの距離はφＤ２である。Ｄ１はＤ２以上であることが望ましい。またリアリップのテ―パ形状になっている部分の軸方向の長さをＬ、フロントリップ２６の先端の円筒状部材１と平行な部分の軸方向の長さをＭとし、リアリップ２５とフロントリップ２６とにより形成されるスリットの軸方向の間隔をＳとする。また、円筒状部材の外径はφＤ０とする。
【００１８】
リアリップが、円筒状部材１の軸中心からの距離が軸方向の上方（相対的な移動方向の後方）の位置ほど大きくなるテーパ形状となっていることで、ビードに接触しているリアリップの軸からの距離が軸方向におけるビードの液表面の位置で最大になっている。その結果、円筒部材とリング状塗布ヘッド接液部との間隔の誤差変動を緩和して膜厚の周方向均一性を保つことができる。また、ビードの量を液表面より軸方向の下方（相対的な移動方向の前方）で削減することにより膜厚の均一性を確保しながら、塗布液の使用量を抑制することができている。
【００１９】
尚、リアリップとワークとの間隔は０．１ｍｍ以上５ｍｍ以下の範囲が好ましい。０．１ｍｍよりも小さいと、ワークの表面形状等の影響により均一な膜厚の、塗布膜を形成することができない。また、５ｍｍよりも大きいと、安定したビードを形成することが困難であり、安定して塗布膜を形成する事ができない。また、フロントリップとワークとの間隔は０．１ｍｍ以上１ｍｍ以下の範囲が好ましい。０．１ｍｍよりも小さいと、ワークの表面形状等の影響により均一な膜厚の、塗布膜を形成することができない。また、１ｍｍよりも大きいと、液だれ等が発生し、安定したビードを形成することが困難である。また、リアリップとフロントリップとの間隔は０．０１ｍｍ以上５ｍｍ以下の範囲が好ましい。０．０１ｍｍよりも小さいと、塗布液をスムーズの吐出口に供給する事が困難である。また、５ｍｍよりも大きいと、塗布液の供給液の制御が困難であり、安定したビードを形成することができない。また、リアリップの先端にはテ―パ形状の斜面となる傾斜部分が形成されている。被塗布部材の軸に直交する面と傾斜部分とがなす角度は３０度以上７０度以下であることが好ましい。３０度より小さいと液面の高さの変化に対するフロントリップの先端には、ワークの表面と平行となる部分が形成されている。それぞれの長さは０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の範囲であることが好ましい。０．１ｍｍよりも小さいと、形成されるビードの大きさが小さくなってしまい、安定して塗布膜を形成する事ができない。また、１０ｍｍよりも大きいと、形成されるビードの容量が増えるため、安定したビードを形成する事が困難となり、安定して塗布膜を形成する事ができない。
【００２０】
次に、実施例１に示したリング塗布装置による円筒状部材１の外表面への塗布膜形成方法を、図５に示した動作フローを参照して説明する。
【００２１】
まずＳ１において、リング状塗布ヘッド２が待機位置である下端の保持部８の周辺に待機した状態で、円筒状部材１を搬送手段（図示せず）により保持部８により固定して保持する。次にＳ２において、リング状塗布ヘッドが上昇し上端の保持部８の周辺の塗布開始位置に停止する。
【００２２】
次にＳ３において、定量ポンプ１３によりリング状塗布ヘッド２の吐出口２４から所定の量の塗布液１０を吐出し、円筒状部材１に接液させる。これによりリング状塗布ヘッド２のリアリップ２５、フロントリップ２６と円筒状部材１とにより形成される位置にビード３０を形成する。低粘度で流動性が高い塗料の場合には、吐出速度が速すぎると塗料の慣性流動の影響により形成される塗膜にムラを生じたり、ビード形成が流動により不安定になり液漏れを生じやすくなる。そこで定量ポンプ１３によるビード形成速度は精密に制御される必要がある。一般的にビード形成時における塗料の吐出は、突発的な吐出の高まりを生じずに、定体積でより遅く供給する方がビードの安定性に寄与する。しかし塗料の流動性や塗料及び塗料内分散物の慣性重量に応じて、塗膜品質に影響を及ぼさない範囲で可能な限り高速に設定するのが生産上好ましい。
【００２３】
次にＳ４−１においてリング状塗布ヘッド２の下降が開始する同時に、Ｓ５−１において吐出口２４から塗布液１０が連続的に吐出される。円筒状部材１の外周面の塗布領域への塗布膜形成は、リング状塗布ヘッド２の下降と塗布液１０の吐出が同期して行なわれる。リング状塗布ヘッド２の下降は、Ｓ４−２においてリング状塗布ヘッドが円筒状部材１の外周面の塗布領域の下端まで到達したかどうかを判断し、到達した場合はＳ４−３においてリング状塗布ヘッド２の下降を停止する。またそれと並行して吐出口２４から塗布液１０の吐出は、Ｓ５−２において指定量の吐出が完了したかどうかを判断し、完了した場合はＳ５−３において定量ポンプ１３の動作を停止し、吐出口２４から塗布液１０の吐出を停止する。
【００２４】
また、Ｓ６において、リング状塗布ヘッド２を下降させる。Ｓ６のリング状塗布ヘッド２の下降速度は装置設定上可能な限り早い方が、残液に対するせん断速度が大きくなり液切りが容易となるので好ましい。この下降動作によりリング状塗布ヘッド２は、円筒状部材１が脱着できる円筒状部材１の保持部８の位置に移動する。
【００２５】
次にＳ７−１において塗布を終えた円筒状部材１は、保持部８が解除され次工程に搬送される。円筒状部材１が保持部８から外されると直ちに、新たな円筒状部材１が保持部８にセットされる。
【００２６】
またＳ７−１において円筒状部材１の脱着が行われている間に、Ｓ７−２においてリング状塗布ヘッド２の吐出口２４は、クリーニング機構（図示せず）により洗浄され回復される。
【００２７】
尚、リング状塗布ヘッド２と円筒状部材１の外周面との間の間隔（接液部ギャップ）は、円筒状部材１及びリング状塗布ヘッド２の加工精度の公差や組み立て公差などにより、所定の公差範囲内で変動する。本実施例では、塗布液１０の吐出口２４の形状を図４に示すように、ビードの液面の表面積がビードの液面の高さにおいて最大になる。これによりリング状塗布ヘッド２と円筒状部材１の外周面との間の間隔が公差範囲内で変動しても、円筒状部材１の周方向に膜厚差が生じる事なく、均一で高精度な塗膜を形成可能である。
【００２８】
塗布される膜厚ｔは、液中の粘性力η、塗布液の密度ｄ、重力加速度ｇ、ワークと塗布液との相対速度ｖ、係数ａとすると次式のようになる。
（数式１）  ｔ＝ａ（ηｖ／ｄｇ）＾１／２
そのため、リング状塗布ヘッド２と円筒状部材１の外周面との間の間隔が公差範囲内において変動した際にビード液面の位置が変動すると、ワークと塗布液との相対速度が変化し膜厚が変動することになる。
【００２９】
本実施例では、リアリップのビードの液面が形成される位置における円筒状部材軸中心からの距離を大きくすることによりビード液面の位置変動を抑制している。その結果、均一な膜厚を形成できる。
【００３０】
また、本実施例では、リアリップと軸中心との距離が、液面から軸方向の下方（相対的な移動方向の前方）に向かうほど小さくなるようなテーパ状に形成することで、ビードの総容量を抑制している。その結果、塗布後に行われるクリーニング機構による洗浄によって廃棄される塗布液の量を抑制できる。
【００３１】
図４（ｂ）は図４（ａ）の状態からクリーニング機構による洗浄後のビードの液面の状態を示す。ワークの塗布終了後クリーニング機構による洗浄をした後の図４（ｂ）の状態から、次のワークの塗布を開始できる図４（ａ）の状態になるまで塗布液をヘッドに補充する必要がある。すなわち図４（ｂ）の塗布液の量と図４（ａ）の塗布液の量の差が１回の塗布で廃棄する塗布液の廃棄量に相当する。
【００３２】
（実施例２）
図１０は本発明の実施例２を示すリング状塗布装置の吐出部を拡大して示した断面図である。実施例は実施例１のリアリップ２５の形状のみが異なる。リアリップは断面形状が軸中心からの距離が軸方向の上方（相対的な移動方向の後方）に向かって段差をもって大きく階段形状である。図１０では２段階であるが、３段階以上の形状でもよい。ビードの液面近傍におけるリアリップ部の円筒状部材の軸中心からの距離はφＤ３、吐出口近傍の距離はφＤ１であり、Ｄ３はＤ１以上である。吐出口からの段の高さは、ビード液面より軸方向の下方（相対的な移動方向の前方）の段の高さがＬ１、ビード液面が形成されている面を持つ段の高さがＬ２である。
【００３３】
なお、リアリップ２５の下の段と円筒状部材との距離は０．１ｍｍから２ｍｍ、下の段の高さＬ１は０．５ｍｍから５ｍｍ、上の段と円筒状部材との距離は２．５ｍｍから４ｍｍ、上の段の高さＬ２は６ｍｍから８ｍｍの範囲に設定することが好ましい。
【００３４】
リアリップがＤ３＞Ｄ１となっていることで、ビードの液面の断面積がビードの液表面近傍において最大になっている。その結果、円筒状部材とリング状塗布ヘッド接液部との間隔の誤差変動を緩和して膜厚の周方向均一性を保つことができる。また、ビードの量を削減することにより塗布液の廃棄量を削減できる。
【００３５】
実施例１、２ではワークとして円筒部材へ塗布する場合について説明したが、ワークは円筒状の部材に支持されたベルト状部材でもよい。
【００３６】
次に、本発明による効果を確認した実験を行った。
【００３７】
（実験例１）
実施例１に示すリング状塗布装置により、円筒状部材に塗布を行った。円筒状部材１は、直径φＤｏ＝２９９．８ｍｍ、長さ３２０ｍｍのものを使用した。リング状塗布ヘッド２のリアリップ２５の円筒状部材１の軸中心からの最小直径はφＤ１＝３００ｍｍである。テーパの角度α＝４５°、フロントリップ２６の円筒状部材１の軸中心からの直径はφＤ２＝３００ｍｍ、リアリップ２５の先端のテ―パ状部分の長さはＬ＝１ｍｍである。フロントリップ２６の先端の円筒状部材１と平行な部分の長さはＭ＝１ｍｍ、リアリップ２５とフロントリップ２６との間隔はＳ＝０．５ｍｍとした。従ってリアリップ２５における接液部ギャップは最大１．１ｍｍ、最小０．１ｍｍであり、フロントリップ２６における接液部ギャップは（Ｄ２−Ｄｏ）／２＝０．１ｍｍである。
【００３８】
実験は、円筒状部材１の上端を垂直軸中心に対して０．０８ｍｍ移動させることで円筒状部材を傾斜させ把持した状態で、リング状塗布ヘッド２により円筒状部材１の外周面への塗布を行なった。この際、円筒状塗布部材表面の中心軸と、リング状塗布ヘッドのリップ部との間に構成される非接触空間は、円筒状塗布部材の上端の塗布開始位置においてはリング状塗布ヘッドのリップ部と、円筒状部材表面との偏芯量が約０．０８ｍｍである。同じく円筒状塗布部材の下端の塗布終了位置においてはリング状塗布ヘッドのリップ部と、円筒状部材表面との偏芯量が約０ｍｍとなる。すなわち円筒状塗布部材上端より下端にかけて塗布膜を形成する過程において、非接触空間の偏芯量が０．０８ｍｍから０ｍｍに連続的に変化させる。これによりリング状塗布ヘッド動作軸と円筒状部材の円筒中心軸との間に意図的な変動を与えていることになる。    
【００３９】
そして塗布後の円筒状部材１が完全に固化する状態まで加熱乾燥した。この円筒状部材１の外表面の膜厚を、円筒状部材１の上端から５０ｍｍの位置（測定１）、２５０ｍｍの位置（測定２）において、円筒状部材１の全周において複数箇所で膜厚測定を行った。その測定結果を図６に示す。図６において、横軸は円筒状部材１の周方向の測定位置を示す位相であり、縦軸はその時の塗布膜３の膜厚である。
【００４０】
（比較例１）
リング状塗布ヘッドと円筒状部材との塗布中のクリアランス変動に対する本発明のリアリップ２５形状による効果について、比較のため、図１１（ａ）に示すリング状塗布ヘッド２を使用して同様の実験を行った。リアリップ２５の円筒状部材１の軸中心からの最小直径はφＤ１＝３００ｍｍであり、リアリップ先端にテーパ形状を持たずリアリップ２５における接液部ギャップが（Ｄ１−Ｄ０）／２＝０．１ｍｍである。尚比較例１においてリアリップ２５以外の寸法は、すべて実験例１と同じである。その測定結果を図７に示す。
【００４１】
図６では、円筒状部材１の全周において、ほぼ均一な膜厚となっているのに比べ、図７では、膜厚が大きく変動し均一な膜となっていないことが分かる。つまりリアリップ２５を軸方向の上方（相対的な移動方向の後方）ほど軸中心からの距離が大きくなるテーパ状とすることで、円筒状部材１の偏芯に影響されずに、周方向で均一な塗布膜が形成できる。
【００４２】
（比較例２）
リング状塗布ヘッドと円筒状部材との塗布中のクリアランス変動に対する本発明のリアリップ２５形状による効果について、比較のため、図１１（ｂ）に示すリング状塗布ヘッド２を使用して同様の実験を行った。リアリップ２５の円筒状部材１の軸中心からの直径はφＤ１＝３０２ｍｍであり、リアリップ先端にテーパ形状を持たずリアリップ２５における接液部ギャップが（Ｄ１−Ｄ０）／２＝１．１ｍｍである。尚比較例２においてリアリップ２５以外の寸法は、すべて実験例２と同じである。その測定結果を図８に示す。
【００４３】
図６と同様に、円筒状部材１の全周において、ほぼ均一な膜厚となっている。本実施の形態と同様にビード液面の表面積を大きくすることで、膜厚の変動を抑制することができている。
【００４４】
一方、図９に実験例１と比較例１と比較例２におけるビードの液量を示す。比較例２では実験例１と比較して液量が多くなっている。すなわち、塗布後の洗浄工程において廃棄される塗布液の量が多くなっている。
【００４５】
比較例２の廃棄される塗布液量が図１１（ｂ）と図１１（ｃ）の差であるのに対し、実施例１の廃棄される塗布液量は図５（ａ）と図５（ｂ）の差であり、廃棄される塗布液量が実施例１の方が比較例２に比べて少ないことがわかる。
【００４６】
本実施例１のリアリップ２５の先端を軸方向上方（相対的な移動方向の後方）ほど円筒状部材１の軸中心からの直径が大きくなるテーパ状とすることにより、周方向で均一な塗布膜保ちながら、廃棄される塗布液の量を抑制できる。
【符号の説明】
【００４７】
１  円筒状部材
２  リング状塗布ヘッド
３  塗布膜
１０  塗布液
１３  定量ポンプ
２４  吐出口
２５  リアリップ
２６  フロントリップ
３０  ビード
３１  ビード上面
３２  ビード下面
【図１】
2015116547.tif 000003
【図２】
2015116547.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2015116547.tif 000008
【図７】
2015116547.tif 000009
【図８】
2015116547.tif 000010
【図９】
2015116547.tif 000011
【図１０】
2015116547.tif 000012
【図１１】
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