(57)【要約】【課題】低コストで発塵を抑制することができる搬出入口の開閉機構及び洗浄装置を提供すること。【解決手段】洗浄装置は側壁に搬出入口が形成された筐体と搬出入口の開閉機構１００とを備える。搬出入口の開閉機構１００は搬出入口を開閉する。搬出入口の開閉機構１００は搬出入口を遮蔽可能な扉プレート１０１と側壁に固定され扉プレート１０１を上下動させる上下動手段１１０を備える。上下動手段１１０は上下動するスライダ１１１とスライダ１１１に固定され扉プレート１０１を支持する基台プレート１１２を有している。基台プレート１１２は扉プレート１０１をスライド可能な状態で吊り下げて支持するバネ部材１１６と一端が扉プレート１０１に回動可能にピン接合され回動すると扉プレート１０１を搬出入口に押圧するリンクアーム１１７を備える。【選択図】図４
2015204416.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体の側壁に開口した搬出入口を上下動する扉で開閉する搬出入口の開閉機構であって、
該搬出入口を遮蔽可能な扉プレートと、
該側壁に固定され、該扉プレートを上下動させる上下動手段と、を備え、
該上下動手段は、
上下動するスライダと、
該スライダに固定され、該扉プレートを支持する基台プレートと、を有し、
該基台プレートは、
該扉プレートをスライド可能な状態で吊り下げて支持するバネ部材と、
一端が該扉プレートに回動可能にピン接合され、回動すると該扉プレートを該搬出入口に押圧するリンクアームと、を備え、
該搬出入口を遮蔽する際は、
該搬出入口から僅かに離間した該扉プレートが該上下動手段による移動で規制手段に突き当たった後に、該バネ部材のバネ力に抗して更に該基台プレートを移動させると、該リンクアームが回動して該基台プレートから離間して該搬出入口を押圧する方向に案内された該扉プレートが該搬出入口に接触して密閉することを特徴とする搬出入口の開閉機構。
【請求項２】
板状物を保持する保持手段と、該保持手段に保持された板状物を洗浄する洗浄手段と、上壁と底壁と側壁とを有し該保持手段及び洗浄手段とを収容する筐体と、を備えた洗浄装置であって、
該筐体の側壁には板状物が通過可能な搬出入口が形成され、該搬出入口は請求項１記載の開閉機構で開閉されることを特徴とする洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬出入口の開閉機構及び洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエーハ等の洗浄装置は、研削や研磨、切削加工が行われたウエーハ等を洗浄する。洗浄装置の加工室には洗浄によって飛び散った加工屑を含むミストや、洗浄に用いる薬液のミストが雰囲気中に含まれているため、他の領域（例えば、隣接する搬送領域や研削領域等）にミストが流出するのを防ぐ必要がある（特許文献１参照）。よって、特許文献１に示された洗浄装置は、必要最低限の搬出入口で搬出入し、搬出入口は扉プレートで密閉する構造が用いられてきた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１７５６８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、特許文献１に示された洗浄装置は、扉プレートが通常省スペースでの開閉を実現するためスライド式の開閉扉になっているが、搬出入口を密閉するために扉プレートを搬出入口に摺動させて移動させると摺動によって発塵してしまうので、搬出入口と僅かに離れた位置を上下動して搬出入口を覆った後、扉プレートを搬出入口に向かって押圧する方法が検討される。しかし、この場合、扉プレートの移動方向が２方向であるため構造的に複雑でコストもかかるという課題があった。
【０００５】
本発明は、上記問題にかんがみなされたもので、その目的は、低コストで発塵を抑制することができる搬出入口の開閉機構及び洗浄装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の搬出入口の開閉機構は、筐体の側壁に開口した搬出入口を上下動する扉で開閉する搬出入口の開閉機構であって、該搬出入口を遮蔽可能な扉プレートと、該側壁に固定され、該扉プレートを上下動させる上下動手段と、を備え、該上下動手段は、上下動するスライダと、該スライダに固定され、該扉プレートを支持する基台プレートと、を有し、該基台プレートは、該扉プレートをスライド可能な状態で吊り下げて支持するバネ部材と、一端が該扉プレートに回動可能にピン接合され、回動すると該扉プレートを該搬出入口に押圧するリンクアームと、を備え、該搬出入口を遮蔽する際は、該搬出入口から僅かに離間した該扉プレートが該上下動手段による移動で規制手段に突き当たった後に、該バネ部材のバネ力に抗して更に該基台プレートを移動させると、該リンクアームが回動して該基台プレートから離間して該搬出入口を押圧する方向に案内された該扉プレートが該搬出入口に接触して密閉することを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の洗浄装置は、板状物を保持する保持手段と、該保持手段に保持された板状物を洗浄する洗浄手段と、上壁と底壁と側壁とを有し該保持手段及び洗浄手段とを収容する筐体と、を備えた洗浄装置であって、該筐体の側壁には板状物が通過可能な搬出入口が形成され、該搬出入口は請求項１記載の開閉機構で開閉されることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
そこで、本願発明の搬出入口の開閉機構を用いることで、上下動の駆動軸のみで扉プレートの開閉（上下動）と扉プレートの搬出入口への密着（搬出入口への近接離間方向への移動）が可能になり、簡便な構成で扉プレートの２方向への移動を可能にすることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、実施形態に係る洗浄装置の構成例の斜視図である。
【図２】図２は、実施形態に係る洗浄装置から搬出入口の開閉機構を取り外した状態を示す斜視図である。
【図３】図３は、実施形態に係る洗浄装置の構成例の断面図である。
【図４】図４は、実施形態に係る搬出入口の開閉機構の構成例を示す斜視図である。
【図５】図５は、図４に示された搬出入口の開閉機構の扉プレートが搬出入口を開いた状態を示す斜視図である。
【図６】図６（ａ）は、図５に示された搬出入口の開閉機構の扉プレートが搬出入口を閉じる方向に移動している状態を示す側断面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）に示された搬出入口の開閉機構の扉プレートが規制用壁に突き当たった状態を示す側断面図、図６（ｃ）は、図６（ｂ）に示された搬出入口の開閉機構の扉プレートが搬出入口に接触して密閉した状態を示す側断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明を実施するための形態（実施形態）につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。
【００１１】
〔実施形態〕
本発明の実施形態に係る搬出入口の開閉機構及び洗浄装置を図面に基いて説明する。図１は、実施形態に係る洗浄装置の構成例の斜視図である。図２は、実施形態に係る洗浄装置から搬出入口の開閉機構を取り外した状態を示す斜視図である。図３は、実施形態に係る洗浄装置の構成例の断面図である。
【００１２】
実施形態にかかる搬出入口の開閉機構１００（以下、単に開閉機構と記す）は、図１、図２及び図３に示す洗浄装置１を構成する。洗浄装置１は、例えば、化学機械研磨加工が施されたウエーハＷ（図３に示し、板状物に相当する）の表面ＷＳを洗浄するものである。化学機械研磨加工（ＣＭＰ：Chemical Mechanical Polishing）では、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）や水酸化カリウム（ＫＯＨ）などのアルカリ水溶液中にコロイド状のシリカを含んだ研磨剤が主に使用される。従って、研磨後のウエーハの表面に残留した研磨剤には、半導体デバイスにおいて可動イオンとして悪影響を及ぼすナトリウム（Ｎａ）やカリウム（Ｋ）が含まれることになる。洗浄装置１は、重金属汚染やパーティクルの発生を防止することを目的として、アンモニア水、過酸化水素水の混合液等の洗浄液で研磨剤が残留したウエーハを洗浄するものである。
【００１３】
なお、洗浄装置１により表面ＷＳが洗浄されるウエーハＷは、本実施形態では、シリコン、サファイア、ガリウムなどを母材とする円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハであり、化学機械研磨加工が施された後に洗浄装置１により洗浄される。ウエーハＷは、例えば、裏面ＷＲに複数の分割予定ラインによって区画された各領域にデバイスが形成され、分割予定ラインに沿って切削されて、個々のデバイスに分割される。
【００１４】
洗浄装置１は、ウエーハＷを回転させながら洗浄液を噴射することで、ウエーハＷの表面ＷＳを洗浄する、所謂、スピンナ洗浄装置である。洗浄装置１は、図１、図２及び図３に示すように、ウエーハＷを保持する保持手段１０（図３のみに示す）と、保持手段１０に保持されたウエーハＷを洗浄する洗浄手段２０（図３のみに示す）と、保持手段１０及び洗浄手段２０とを収容する筐体３０と、ファン手段４０と、排気手段５０（図３のみに示す）と、開閉機構１００と、制御手段６０などを備えている。
【００１５】
保持手段１０は、ウエーハＷの裏面ＷＲ側を保持して、鉛直方向と平行な軸心回りに回転可能なものである。保持手段１０は、表面を構成する部分がポーラスセラミック等から形成された円盤形状であり、図示しない真空吸引経路を介して図示しない真空吸引源と接続され、表面に載置されたウエーハＷを吸引することで保持するものである。なお、保持手段１０は、テーブル駆動手段１１と連結されている。
【００１６】
テーブル駆動手段１１は、保持手段１０を回転させるとともに、保持手段１０を筐体３０内で昇降させるものである。テーブル駆動手段１１は、一端に保持手段１０が連結される回転軸１２を有している。回転軸１２は、回転自在および昇降自在に設けられ、図示しないテーブル回転駆動源およびテーブル上下駆動源に連結されており、テーブル回転駆動源が発生する回転力およびテーブル上下駆動源が発生する駆動力により回転駆動および昇降駆動を行う。
【００１７】
洗浄手段２０は、保持手段１０に保持されたウエーハＷの表面ＷＳに洗浄液を噴射して洗浄するものである。洗浄手段２０は、ウエーハＷの表面ＷＳと対向する面に図示しない噴射口が形成された噴射ノズル２１を備えている。噴射ノズル２１は、その基端部を中心として、噴射口がウエーハＷの表面ＷＳと対向する位置と、表面ＷＳ上から退避する位置とに亘って、揺動自在に設けられている。噴射ノズル２１は、図示しないタンクと連結されている。噴射ノズル２１は、タンクから加圧された洗浄液が供給され、噴射口からウエーハＷの表面に向けて噴射する。ここで、洗浄液は、搬入されるウエーハＷの表面ＷＳの状態に応じて複数種類があり、例えばオゾン水、希フッ酸、ＳＣ−１（アンモニア過酸化水素水）、純水などが用いられる。
【００１８】
筐体３０は、ウエーハＷの洗浄処理を外部と隔離した状態で行うためのものである。筐体３０は、本実施形態では、直方体の形状であり、上壁３１と、上壁３１と対向する底壁３２と、上壁３１と底壁３２とに連なる複数の側壁３３とを有している。一つの側壁３３（以下、符号３３ａで記す）には、ウエーハＷが通過可能な搬出入口３４が形成されている。搬出入口３４は、矩形状に形成され、かつ側壁３３ａに開口した孔である。
【００１９】
ファン手段４０は、図示しないファンと、フィルタ４１とを含んで構成されたファンフィルタ装置であり、筐体３０の上壁３１に配設されている。ファンは、制御手段６０により吐出流量が制御されるものであり、吸引側にフィルタ４１が設けられ、吐出側が筐体３０の内側に配置されている。ファン手段４０は、ファンが駆動することで、フィルタ４１により粉塵が除去された筐体３０の外部の雰囲気を吸引し、筐体３０内に吐出する。吐出された気体は、筐体３０内において下向きの流れ、すなわちダウンフローを生成する。
【００２０】
排気手段５０は、筐体３０内の排気を行うものであり、筐体３０の下方側から排気を行うものである。排気手段５０は、図３に示すように、筐体３０の他の側壁３３の下端部に設けられた排気口５１と、排気口５１と図示しない吸引ポンプに接続された排気配管５２を備えている。排気手段５０は、吸引ポンプにより排気配管５２、排気口５１を介して筐体３０内の雰囲気、すなわち内部雰囲気を吸引し、図示しない排気処理部により内部雰囲気に含まれている不純物（ウエーハＷに付着していた物質や洗浄液に含まれている物質など）を除去した後、外部に排気する。
【００２１】
次に、開閉機構１００を図面に基づいて説明する。図４は、実施形態に係る搬出入口の開閉機構の構成例を示す斜視図である。図５は、図４に示された搬出入口の開閉機構の扉プレートが搬出入口を開いた状態を示す斜視図である。図６（ａ）は、図５に示された搬出入口の開閉機構の扉プレートが搬出入口を閉じる方向に移動している状態を示す側断面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）に示された搬出入口の開閉機構の扉プレートが規制用壁に突き当たった状態を示す側断面図、図６（ｃ）は、図６（ｂ）に示された搬出入口の開閉機構の扉プレートが搬出入口に接触して密閉した状態を示す側断面図である。
【００２２】
開閉機構１００は、筐体３０の側壁３３ａに形成された搬出入口３４を開閉するものである。即ち、開閉機構１００は、筐体３０の側壁３３ａに開口した搬出入口３４を上下動する扉１０２で開閉するものである。なお、側壁３３ａの搬出入口３４の上方には、規制手段としての規制用壁３５が設けられている。規制用壁３５は、側壁３３の外面から凸でかつ搬出入口３４の幅方向の全長に亘って設けられている。規制用壁３５には、搬出入口３４を開閉する扉プレート１０１の上端が接触可能である。
【００２３】
開閉機構１００は、図４及び図５に示すように、扉プレート１０１と、上下動手段１１０とを備えている。扉プレート１０１は、搬出入口３４を遮蔽可能な大きさの板状に形成されている。上下動手段１１０は、搬出入口３４が形成された側壁３３ａに固定され、扉プレート１０１を上下動させるものである。上下動手段１１０は、上下動するスライダ１１１と、スライダ１１１に固定され、扉プレート１０１を支持する基台プレート１１２とを有している。スライダ１１１は、側壁３３ａに設けられた搬出入口３４の一側に配置されたスライドシリンダ１１３により上下動される。スライダ１１１は、スライドシリンダ１１３のロッド１１４に沿って移動自在に設けられている。
【００２４】
基台プレート１１２は、プレート本体１１５と、バネ部材１１６と、リンクアーム１１７とを備えている。プレート本体１１５は、長手方向の一端部がスライダ１１１に固定された板状に形成されている。プレート本体１１５の長手方向は、搬出入口３４と平行である。また、本実施形態では、プレート本体１１５は、固定用プレート１１８を介してスライダ１１１に固定されている。なお、扉プレート１０１と基台プレート１１２とで前述した扉１０２を構成する。
【００２５】
バネ部材１１６は、プレート本体１１５に対して扉プレート１０１をスライド可能な状態で吊り下げて支持するものである。バネ部材１１６は、コイルばねで構成され、かつ一端がプレート本体１１５の開口部１１５ａの端面１１５ｂに設けられかつ幅方向に延びた支持ピン１１９に回転自在に取り付けられている。また、バネ部材１１６は、他端が扉プレート１０１に取り付けられている。バネ部材１１６の長手方向は、プレート本体１１５から下方でかつ側壁３３に向かって鉛直方向と水平方向との双方に交差する方向に延びている。
【００２６】
また、バネ部材１１６は、搬出入口３４の幅方向に間隔をあけて複数設けられている。バネ部材１１６は、プレート本体１１５即ち基台プレート１１２の長手方向と扉プレート１０１の長手方向とが平行で、かつプレート本体１１５即ち基台プレート１１２の表面と扉プレート１０１の表面とが平行な状態で、基台プレート１１２に対して扉プレート１０１を吊り下げて支持する。また、バネ部材１１６は、伸縮することと一端が支持ピン１１９に対して回転することによって、プレート本体１１５即ち基台プレート１１２に対して、扉プレート１０１を側壁３３に近付いたり離れる方向にスライド可能な状態で支持することとなる。さらに、バネ部材１１６は、そのバネ力によりプレート本体１１５即ち基台プレート１１２に扉プレート１０１が近づく方向に付勢し、扉プレート１０１に外力が作用しない状態では、本実施形態では、プレート本体１１５即ち基台プレート１１２に扉プレート１０１が接触して重なる状態に維持する。
【００２７】
リンクアーム１１７は、一端が扉プレート１０１に回動可能にピン接合され、回動すると扉プレート１０１を搬出入口３４に押圧するものである。リンクアーム１１７は、棒状に形成され、一端が扉プレート１０１の梁１０１ａや端面１０１ｂに設けられかつ幅方向に延びたピン１２０に回動可能にピン接合されている。リンクアーム１１７は、他端がプレート本体１１５に設けられた支持ピン１１９に回動可能にピン接合されている。リンクアーム１１７の長手方向は、扉プレート１０１に外力が作用しない状態では、バネ部材１１６のバネ力により、プレート本体１１５から上方でかつ側壁３３に向かって鉛直方向と水平方向との双方に交差する方向に延びている。
【００２８】
また、リンクアーム１１７は、搬出入口３４の幅方向に間隔をあけて複数設けられている。リンクアーム１１７は、一端が扉プレート１０１に対して回動し、他端がプレート本体１１５に対して回動することで、プレート本体１１５即ち基台プレート１１２に対して、扉プレート１０１を側壁３３ａに近付いたり離れる方向にスライド可能な状態で支持することとなる。
【００２９】
また、扉プレート１０１と側壁３３ａとには、扉プレート１０１が搬出入口３４を開放しているか、遮蔽しているかを検出可能なマグネット式のセンサ１２１ａ，１２１ｂ（図６に示す）が取り付けられている。また、洗浄装置１の筐体３０には、洗浄液などを排出するための図示しない排出口と、筐体３０の内外の気圧差を検出する図示しない差圧計測手段が設けられている。
【００３０】
制御手段６０は、洗浄装置１を構成する構成要素をそれぞれ制御するものである。制御手段６０は、本実施形態では、特に、図示しない差圧計測手段により計測された筐体３０内外の気圧差が０となるように、ファン手段４０を制御するものである。また、制御手段６０は、開閉機構１００による搬出入口３４の開閉動作等を制御するものでもある。制御手段６０は、例えばＣＰＵ等で構成された演算処理装置やＲＯＭ、ＲＡＭ等を備える図示しないマイクロプロセッサを主体として構成されており、洗浄装置１の洗浄処理の状態を表示する表示手段や、オペレータが洗浄処理情報などを登録する際に用いる操作手段と接続されている。
【００３１】
次に、実施形態に係る洗浄装置１を使用した洗浄方法、即ち、洗浄装置１を使用したウエーハＷの洗浄処理を行うウエーハの処理方法を説明する。ウエーハの処理方法としての洗浄方法は、オペレータが洗浄処理情報を登録し、洗浄処理の開始指示があった場合に、開始する。
【００３２】
洗浄動作において、まず、制御手段６０は、開閉機構１００の扉プレート１０１が下降されて搬出入口３４を開放する。そして、制御手段６０は、図３に示すように、搬出入手段１４０に保持されたウエーハＷを筐体３０内に搬入し、テーブル駆動手段１１により予め上昇していた保持手段１０まで搬送する。制御手段６０は、搬出入手段１４０にウエーハＷを解放させ、保持手段１０に載置した後、保持手段１０にウエーハＷを保持させる。
【００３３】
そして、制御手段６０は、搬出入手段１４０を筐体３０外に移動させ、図６（ａ）に示すように、扉プレート１０１を上昇させる。図６（ａ）に示す状態では、扉プレート１０１に外力が作用していないために、扉プレート１０１が基台プレート１１２に重なり、側壁３３ａから間隔をあけている。そして、開閉機構１００は、搬出入口３４を遮蔽する際は、搬出入口３４から僅かに離間した扉プレート１０１が上下動手段１１０による上昇移動する。そして、図６（ｂ）に示すように、扉プレート１０１が規制用壁３５に突き当たる。そして、扉プレート１０１が規制用壁３５に突き当たった後に、基台プレート１１２をさらに上昇移動させる。すると、リンクアーム１１７が基台プレート１１２から上方でかつ側壁３３ａに向かって延びているので、バネ部材１１６のバネ力に抗して更に基台プレート１１２を上昇移動させると、一端が基台プレート１１２に対して相対的に下降し、かつ他端が扉プレート１０１に対して相対的に上昇するように、リンクアーム１１７が回動する。そして、扉プレート１０１が基台プレート１１２から離間して搬出入口３４に近付く。そして、搬出入口３４を押圧する方向に案内された扉プレート１０１が搬出入口３４に接触して、筐体３０内を密閉する。そして、センサ１２１ａ，１２１ｂが扉プレート１０１が搬出入口３４を遮蔽したことを検出すると、基台プレート１１２の上昇移動を停止する。
【００３４】
また、制御手段６０は、ウエーハＷを保持した保持手段１０をテーブル駆動手段１１により下降させて、テーブル駆動手段１１により軸心回りに回転する。制御手段６０は、ウエーハＷを保持した保持手段１０を下降させると、退避していた洗浄手段２０の噴射ノズル２１をウエーハＷの表面ＷＳと対向する位置まで移動させ、洗浄液を回転するウエーハＷの表面ＷＳに噴射させて、ウエーハＷの表面ＷＳを洗浄する。ウエーハＷの洗浄が終了すると、制御手段６０は、洗浄手段２０の噴射ノズル２１の退避後に、保持手段１０をテーブル駆動手段１１により上昇させ、洗浄後のウエーハＷの保持手段１０による保持を解放し、筐体３０内に進入した搬出入手段１４０が再び保持し、筐体３０の外部に搬出する。
【００３５】
以上のように、実施形態に係る開閉機構１００及び洗浄装置１によれば、扉プレート１０１と基台プレート１１２のプレート本体１１５とをこれらに回動可能に取り付けられたリンクアーム１１７により連結している。このために、開閉機構１００及び洗浄装置１によれば、扉プレート１０１を規制用壁３５に突き当てた後も基台プレート１１２を上昇させることで、扉プレート１０１を側壁３３ａに押圧する方向に案内でき搬出入口３４を密閉することができる。したがって、基台プレート１１２を上下動させるスライドシリンダ１１３を一つ設けることで、扉プレート１０１の上下動と側壁３３ａに近付いたり離れる方向の移動を行うことができ、簡便な構成で、扉プレート１０１の２方向への移動を可能にすることができる。よって、開閉機構１００及び洗浄装置１によれば、低コストで発塵を抑制することができる。
【００３６】
さらに、基台プレート１１２のプレート本体１１５に扉プレート１０１を近づける方向に付勢するバネ部材１１６を備えている。このために、開閉機構１００及び洗浄装置１によれば、扉プレート１０１に外力が作用していない、即ち、扉プレート１０１が規制用壁３５に突き当たっていない状態では、扉プレート１０１が基台プレート１１２に近付いて側壁３３ａから確実に離間する。よって、開閉機構１００及び洗浄装置１によれば、扉プレート１０１が側壁３３ａ上を摺動することを抑制でき、扉プレート１０１の発塵を抑制しながらも搬出入口３４を開閉することができる。
【００３７】
また、リンクアーム１１７が基台プレート１１２のプレート本体１１５から上方でかつ側壁３３ａに向かって鉛直方向と水平方向との双方に交差する方向に延び、バネ部材１１６が、基台プレート１１２のプレート本体１１５から上方でかつ側壁３３ａに向かって鉛直方向と水平方向との双方に交差する方向に延び、バネ部材１１６の一端がリンクアーム１１７の他端が取り付けられた支持ピン１１９に取り付けられている。このために、開閉機構１００及び洗浄装置１によれば、扉プレート１０１に外力が作用していない、即ち、扉プレート１０１が規制用壁３５に突き当たっていない状態では、扉プレート１０１を基台プレート１１２に近付けて側壁３３ａから確実に離間させることができる。さらに、開閉機構１００及び洗浄装置１によれば、扉プレート１０１が規制用壁３５に突き当たって、基台プレート１１２をさらに上昇させると、扉プレート１０１を側壁３３ａに押圧する方向に確実に案内することができる。
【００３８】
前述した実施形態では、化学機械研磨加工が施されたウエーハＷを洗浄しているが、本発明では、これに限定することなく、ウエーハＷの表面ＷＳに保護膜を塗布した後に保護膜を除去する保護膜形成兼洗浄装置などの種々の洗浄装置に適用してもよい。また、上記実施形態では、洗浄装置１が単独に使用される場合について説明したが、本発明に係る洗浄装置１は、切削装置、研削装置、化学機械研磨装置などにユニットとして組み込まれていてもよい。
【００３９】
なお、本発明は上記実施形態、変形例に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
【符号の説明】
【００４０】
１  洗浄装置
１０  保持手段
２０  洗浄手段
３０  筐体
３１  上壁
３２  底壁
３３，３３ａ  側壁
３４  搬出入口
３５  規制用壁（規制手段）
１００  搬出入口の開閉機構
１０１  扉プレート
１０２  扉
１１０  上下動手段
１１１  スライダ
１１２  基台プレート
１１６  バネ部材
１１７  リンクアーム
Ｗ  ウエーハ（板状物）
【図１】
2015204416.tif 000003
【図２】
2015204416.tif 000004
【図３】
2015204416.tif 000005
【図４】
2015204416.tif 000006
【図５】
2015204416.tif 000007
【図６】
2015204416.tif 000008