(57)【要約】【課題】カラークロストーク（ｃｏｌｏｒ  ｃｒｏｓｓ−ｔａｌｋ）を防止できる表示装置を提供する。【解決手段】本発明の一実施形態による表示装置は、基板と、前記基板の上に形成された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタの上に形成された画素電極と、前記画素電極の上に、前記画素電極と微細空間を間に置いて離隔するように形成された共通電極と、前記微細空間の一部を露出させる注入口と、前記微細空間を満たす液晶層と、少なくとも前記微細空間の前記注入口を覆う蓋膜と、を含み、前記蓋膜は、前記微細空間と重なる部分に開口部を有することを特徴とする。【選択図】図２
2015127792.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の上に形成された薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタの上に形成された画素電極と、
前記画素電極の上に、前記画素電極と微細空間を間に置いて離隔するように形成された共通電極と、
前記微細空間の一部を露出させる注入口と、
前記微細空間を満たす液晶層と、
少なくとも前記微細空間の前記注入口を覆う蓋膜と、を含み、
前記蓋膜は、前記微細空間と重なる部分に開口部を有する、表示装置。
【請求項２】
前記微細空間は、マトリックス状に配置されており、
列方向に隣接した前記微細空間の間に第１谷間が形成され、
行方向に隣接した前記微細空間の間に第２谷間が形成されている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記蓋膜は、前記第１谷間及び前記第２谷間に形成されている、請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記蓋膜は、前記第１谷間のみに形成されている、請求項２に記載の表示装置。
【請求項５】
前記微細空間は、マトリックス状に配置されており、
前記蓋膜は、隣接する前記微細空間の間に形成されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記蓋膜の上に形成された遮光部材をさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記遮光部材は、前記蓋膜と同一の平面形状を有する、請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記共通電極の上に形成されたカラーフィルタをさらに含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項９】
前記カラーフィルタは、前記遮光部材及び前記蓋膜によって取り囲まれている、請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記蓋膜は、列方向に隣接した前記微細空間の間のみに形成されている、請求項１〜９のいずれか一項に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置に関し、より詳しくは、カラークロストーク（ｃｏｌｏｒ  ｃｒｏｓｓ−ｔａｌｋ）を防止できる表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、現在、最も幅広く使用されている平板表示装置の一つであって、画素電極と共通電極など電界生成電極が形成されている二枚の表示板と、その間に挿入されている液晶層とからなり、電界生成電極に電圧を印加して液晶層に電界を生成し、これを通じて液晶層の液晶分子の配向を決定し、入射光の偏光を制御することによって画像を表示する。
【０００３】
液晶表示装置を構成する二枚の表示板は、薄膜トランジスタ表示板と対向表示板で形成される。薄膜トランジスタ表示板には、ゲート信号を伝送するゲート線と、データ信号を伝送するデータ線とが互いに交差して形成され、ゲート線及びデータ線と接続されている薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタと接続されている画素電極などが形成される。対向表示板には遮光部材、カラーフィルタ、及び共通電極などが形成される。場合によって遮光部材、カラーフィルタ、及び共通電極が薄膜トランジスタ表示板に形成されてもよい。
【０００４】
しかし、従来の液晶表示装置においては、二枚の基板が必ず使用されて、二枚の基板の上にそれぞれの構成要素を形成することにより、表示装置が重くて厚く、費用が高くなり、工程時間が長くかかるなどの問題点があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであって、一つの基板を利用して表示装置を製造することにより、重量、厚さ、費用、及び工程時間を減らすことができる表示装置を提供することにある。
【０００６】
また、本発明の他の目的は、カラークロストークを防止できる表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的を達成するために、本発明の一実施形態による表示装置は、基板と、前記基板の上に形成された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタの上に形成された画素電極と、前記画素電極の上に、前記画素電極と微細空間を間に置いて離隔するように形成された共通電極と、前記微細空間の一部を露出させる注入口と、前記微細空間を満たす液晶層と、少なくとも前記微細空間の前記注入口を覆う蓋膜と、を含み、前記蓋膜は、前記微細空間と重なる部分に開口部を有することを特徴とする。
【０００８】
前記微細空間は、マトリックス状に配置されており、列方向に隣接した前記微細空間の間に第１谷間が形成され、行方向に隣接した前記微細空間の間に第２谷間が形成されていてもよい。
【０００９】
前記蓋膜は、前記第１谷間及び前記第２谷間に形成されていてもよい。
【００１０】
前記蓋膜は、前記第１谷間のみに形成されていてもよい。
【００１１】
前記微細空間は、マトリックス状に配置されており、前記蓋膜は、隣接する前記微細空間の間に形成されていてもよい。
【００１２】
前記蓋膜の上に形成された遮光部材をさらに含んでいてもよい。
【００１３】
前記遮光部材は、前記蓋膜と同一の平面形状を有していてもよい。
【００１４】
前記共通電極の上に形成されたカラーフィルタをさらに含んでいてもよい。
【００１５】
前記カラーフィルタは、前記遮光部材及び前記蓋膜によって取り囲まれていてもよい。
【００１６】
前記遮光部材は、前記第１谷間及び前記第２谷間に形成されていてもよい。
【００１７】
前記微細空間は、マトリックス状に配置されており、前記遮光部材は、隣接する前記微細空間の間に形成されていてもよい。
【００１８】
前記遮光部材は前記第１谷間にのみ形成されていてもよい。
【００１９】
前記共通電極の上に形成されたカラーフィルタをさらに含み、前記カラーフィルタは第１カラーフィルタ及び第２カラーフィルタを含み、前記第１カラーフィルタと前記第２カラーフィルタは前記第２谷間で互いに重なっていてもよい。
【００２０】
前記蓋膜は遮光性物質で形成されていてもよい。
【００２１】
前記蓋膜は、感光性有機物質が添加されている物質で形成されていてもよい。
【発明の効果】
【００２２】
上記のような本発明の一実施形態による表示装置は、次のような効果がある。
【００２３】
本発明の一実施形態による表示装置は、一つの基板を利用して表示装置を製造することにより、重量、厚さ、費用、及び工程時間を減らすことができる。
【００２４】
また、蓋膜をパターニングしてカラーフィルタと微細空間との間の距離を減らすことにより、カラークロストークを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の一実施形態による表示装置を示す平面図である。
【図２】本発明の一実施形態による表示装置を示す分離斜視図である。
【図３】本発明の一実施形態による表示装置の一画素の等価回路図である。
【図４】本発明の一実施形態による表示装置の一部を示す平面図である。
【図５】図４のＶ−Ｖ線に沿って示す本発明の一実施形態による表示装置の断面図である。
【図６】図４のＶＩ−ＶＩ線に沿って示す本発明の一実施形態による表示装置の断面図である。
【図７】本発明の一実施形態による表示装置を示す平面図である。
【図８】本発明の一実施形態による表示装置を示す分離斜視図である。
【図９】本発明の一実施形態による表示装置の一部を示す平面図である。
【図１０】図９のＸ−Ｘ線に沿って示す本発明の一実施形態による表示装置の断面図である。
【図１１】本発明の一実施形態による表示装置を示す分離斜視図である。
【図１２】本発明の一実施形態による表示装置の断面図である。
【図１３】本発明の一実施形態による表示装置を示す分離斜視図である。
【図１４】本発明の一実施形態による表示装置の断面図である。
【図１５】本発明の一実施形態による表示装置の断面図である。
【図１６】本発明の一実施形態による表示装置を示す分離斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、添付した図面を参照しながら、本発明の実施形態について、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。しかし、本発明は種々の異なる形態に実現でき、ここで説明する実施形態に限られない。
【００２７】
図面において、種々の層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。明細書の全体にわたって類似する部分に対しては同一の図面符号を付けた。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上」にあるというとき、これは他の部分の「すぐ上」にある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も含む。一方、ある部分が他の部分の「すぐ上」にあるというときには、中間に他の部分がないことを意味する。
【００２８】
最初に、図１及び図２を参照して、本発明の一実施形態による表示装置について概略的に説明する。
【００２９】
図１は、本発明の一実施形態による表示装置を示す平面図であり、図２は、本発明の一実施形態による表示装置を示す分離斜視図である。
【００３０】
本発明の一実施形態による表示装置は、ガラスまたはプラスチックなどのような材料からなる基板１１０を含む。
【００３１】
基板１１０の上には共通電極２７０によって覆われている微細空間（ｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ）３０５が形成されている。共通電極２７０は行方向に延在しており、一つの共通電極２７０の下には複数の微細空間３０５が形成されている。
【００３２】
微細空間３０５はマトリックス状に配置されてもよく、列方向に隣接した微細空間３０５の間には第１谷間Ｖ１が位置しており、行方向に隣接した微細空間３０５の間には第２谷間Ｖ２が位置している。
【００３３】
複数の共通電極２７０は第１谷間Ｖ１を間に置いて分離されている。つまり、共通電極２７０は第１谷間Ｖ１には形成されていない。微細空間３０５の周縁のうちの一部は、共通電極２７０によって覆われておらず、外部に露出している。例えば、第１谷間Ｖ１と隣接する微細空間３０５の側面が露出していてもよい。つまり、微細空間３０５の互いに対向する二つの周縁の側面が露出していてもよい。このように微細空間３０５が露出している部分を注入口３０７ａ、３０７ｂという。一つの微細空間３０５には二つの注入口３０７ａ、３０７ｂが形成されてもよい。ただし、本発明はこれに限定されず、一つの微細空間３０５に一つの注入口が形成されてもよく、三つ以上の注入口が形成されてもよい。
【００３４】
各共通電極２７０は、隣接した第２谷間Ｖ２の間で基板１１０から離隔するように形成されて、微細空間３０５を形成する。つまり、共通電極２７０は、注入口３０７ａ、３０７ｂが形成されている微細空間３０５の側面を除いたそれ以外の側面を覆うように形成されている。例えば、共通電極２７０が微細空間３０５の左側周縁の側面及び右側周縁の側面を覆うように形成されてもよい。
【００３５】
第１谷間Ｖ１及び第２谷間Ｖ２には蓋膜（ｅｎｃａｐｓｕｌａｔｉｏｎ  ｌａｙｅｒ）３９０が形成され、蓋膜３９０は注入口３０７ａ、３０７ｂを覆って微細空間３０５を密封する。蓋膜３９０は網状（ｍｅｓｈ  ｔｙｐｅ）に形成されてもよい。
【００３６】
蓋膜３９０には微細空間３０５と重なる部分に開口部３９５が形成されている。蓋膜３９０は基板１１０の上の全体領域に形成されず、微細空間３０５と重なる部分が除去されるようにパターニングされる。開口部３９５は、微細空間３０５と類似する平面形状に形成されてもよい。
【００３７】
蓋膜３９０は共通電極２７０と一部が重なってもよい。例えば、蓋膜３９０は第２谷間Ｖ２で共通電極２７０と重なってもよい。蓋膜３９０は微細空間３０５の周縁と重なってもよい。蓋膜３９０は微細空間３０５の周縁を除いては、微細空間３０５と重ならない。
【００３８】
蓋膜３９０の上には遮光部材２２０が形成される。遮光部材２２０は第１谷間Ｖ１及び第２谷間Ｖ２に形成されてもよく、網状に形成されてもよい。遮光部材２２０は蓋膜３９０と実質的に同一の平面形状を有してもよい。
【００３９】
共通電極２７０の上にはカラーフィルタ２３０が形成される。カラーフィルタ２３０は微細空間３０５と重なるように形成される。複数のカラーフィルタ２３０は各微細空間３０５の上に独立的に形成されており、互いに重ならない。カラーフィルタ２３０は遮光部材２２０及び蓋膜３９０によって取り囲まれている。
【００４０】
上述した本発明の一実施形態による表示装置の構造は例示に過ぎず、多様に変更することができる。例えば、微細空間３０５、第１谷間Ｖ１、及び第２谷間Ｖ２の配置形態の変更が可能であり、複数の共通電極２７０が第１谷間Ｖ１で互いに接続してもよく、各共通電極２７０の一部が第２谷間Ｖ２で基板１１０から離隔するように形成されて、隣接した微細空間３０５が互いに接続してもよい。
【００４１】
以下、図３を参照して、本発明の一実施形態による表示装置の一画素について概略的に説明する。
【００４２】
図３は、本発明の一実施形態による表示装置の一画素の等価回路図である。
【００４３】
本発明の一実施形態による表示装置は、複数の信号線１２１、１７１ｈ、１７１ｌ、及びこれに接続されている複数の画素ＰＸを含む。図示は省略したが、複数の画素ＰＸは、複数の画素行と複数の画素列を含むマトリックス状に配置されてもよい。
【００４４】
各画素ＰＸは、第１副画素ＰＸａ及び第２副画素ＰＸｂを含んでもよい。第１副画素ＰＸａ及び第２副画素ＰＸｂは上下に配置されてもよい。このとき、第１副画素ＰＸａと第２副画素ＰＸｂの間には画素行の方向に沿って第１谷間Ｖ１が位置してもよく、複数の画素列の間には第２谷間Ｖ２が位置してもよい。
【００４５】
信号線１２１、１７１ｈ、１７１ｌは、ゲート信号を伝達するゲート線１２１、互いに異なるデータ電圧を伝達する第１データ線１７１ｈ及び第２データ線１７１ｌを含む。
【００４６】
ゲート線１２１及び第１データ線１７１ｈには第１スイッチング素子Ｑｈが接続されており、ゲート線１２１及び第２データ線１７１ｌには第２スイッチング素子Ｑｌが接続されている。
【００４７】
第１副画素ＰＸａには第１スイッチング素子Ｑｈと接続されている第１液晶キャパシタＣｌｃｈが形成されており、第２副画素ＰＸｂには第２スイッチング素子Ｑｌと接続されている第２液晶キャパシタＣｌｃｌが形成されている。
【００４８】
第１スイッチング素子Ｑｈの第１端子はゲート線１２１に接続されており、第２端子は第１データ線１７１ｈに接続されており、第３端子は第１液晶キャパシタＣｌｃｈに接続されている。
【００４９】
第２スイッチング素子Ｑｌの第１端子はゲート線１２１に接続されており、第２端子は第２データ線１７１ｌに接続されており、第３端子は第２液晶キャパシタＣｌｃｌに接続されている。
【００５０】
本発明の一実施形態による液晶表示装置の動作について説明すると、ゲート線１２１にゲートオン電圧が印加されると、これに接続された第１スイッチング素子Ｑｈと第２スイッチング素子Ｑｌがターンオンの状態になり、第１データ線１７１ｈ及び第２データ線１７１ｌを通じて伝達された互いに異なるデータ電圧によって第１液晶キャパシタＣｌｃｈ及び第２液晶キャパシタＣｌｃｌが充電される。第２データ線１７１ｌによって伝達されるデータ電圧は、第１データ線１７１ｈによって伝達されるデータ電圧より低い。したがって、第２液晶キャパシタＣｌｃｌは第１液晶キャパシタＣｌｃｈより低い電圧で充電されるようにして、側面視認性を向上させることができる。
【００５１】
以下、図４乃至図６を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置の一画素の構造について説明する。
【００５２】
図４は、本発明の一実施形態による表示装置の一部を示す平面図であり、図５は、図４のＶ−Ｖ線に沿って示す本発明の一実施形態による表示装置の断面図であり、図６は、図４のＶＩ−ＶＩ線に沿って示す本発明の一実施形態による表示装置の断面図である。
【００５３】
図４乃至図６を参照すれば、基板１１０の上にゲート線（ｇａｔｅ  ｌｉｎｅ）１２１、及びゲート線１２１から突出する第１ゲート電極（ｆｉｒｓｔ  ｇａｔｅ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１２４ｈと第２ゲート電極（ｓｅｃｏｎｄ  ｇａｔｅ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１２４ｌが形成されている。
【００５４】
ゲート線１２１は、第１方向に延在して、ゲート信号を伝達する。ゲート線１２１は、列方向に隣接する二つの微細空間３０５の間に位置する。つまり、ゲート線１２１は第１谷間Ｖ１に位置する。第１ゲート電極１２４ｈ及び第２ゲート電極１２４ｌは、平面図上でゲート線１２１の上側に突出している。第１ゲート電極１２４ｈ及び第２ゲート電極１２４ｌは互いに接続して、一つの突出部を形成してもよい。ただし、本発明はこれに限定されず、第１ゲート電極１２４ｈ及び第２ゲート電極１２４ｌの突出形態は多様に変更される。
【００５５】
基板１１０の上には、容量電極線（ｓｔｏｒａｇｅ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ  ｌｉｎｅ）１３１、及び容量電極線１３１から突出する容量電極（ｓｔｏｒａｇｅ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１３３、１３５をさらに形成してもよい。
【００５６】
容量電極線１３１は、ゲート線１２１と平行な方向に延在しており、ゲート線１２１と離隔するように形成される。容量電極線１３１は、ゲート線１２１と同一層に、同一物質で形成されてもよい。容量電極線１３１から上に突出する容量電極１３３は、第１副画素領域ＰＸａの周縁を取り囲むように形成される。容量電極線１３１から下に突出する容量電極１３５は、第１ゲート電極１２４ｈ及び第２ゲート電極１２４ｌと隣接するように形成される。容量電極線１３１には一定の電圧を印加することができる。
【００５７】
ゲート線１２１、第１ゲート電極１２４ｈ、第２ゲート電極１２４ｌ、容量電極線１３１、及び容量電極１３３、１３５の上には、ゲート絶縁膜（ｇａｔｅ  ｉｎｓｕｌａｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）１４０が形成されている。ゲート絶縁膜１４０は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）などのような無機絶縁物質で形成されてもよい。また、ゲート絶縁膜１４０は、単一膜または多重膜に形成されてもよい。
【００５８】
ゲート絶縁膜１４０の上には第１半導体（ｆｉｒｓｔ  ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）１５４ｈ及び第２半導体（ｓｅｃｏｎｄ  ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）１５４ｌが形成されている。第１半導体１５４ｈは、第１ゲート電極１２４ｈの上に位置してもよく、第２半導体１５４ｌは第２ゲート電極１２４ｌの上に位置してもよい。第１半導体１５４ｈは第１データ線１７１ｈの下に形成されてもよく、第２半導体１５４ｌは第２データ線１７１ｌの下に形成されてもよい。第１半導体１５４ｈ及び第２半導体１５４ｌは、非晶質シリコン（ａｍｏｒｐｈｏｕｓ  ｓｉｌｉｃｏｎ）、多結晶シリコン（ｐｏｌｙｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ  ｓｉｌｉｃｏｎ）、及び金属酸化物（ｍｅｔａｌｏｘｉｄｅ）などで形成されてもよい。
【００５９】
第１半導体１５４ｈ及び第２半導体１５４ｌの上には、それぞれオーミックコンタクト部材（ｏｈｍｉｃ  ｃｏｎｔａｃｔ  ｍｅｍｂｅｒ）（図示せず）がさらに形成されてもよい。オーミックコンタクト部材は、シリサイド（ｓｉｌｉｃｉｄｅ）またはｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ＋水素化非晶質シリコンなどの物質で形成されてもよい。
【００６０】
第１半導体１５４ｈ、第２半導体１５４ｌ、及びゲート絶縁膜１４０の上には、第１データ線（ｆｉｒｓｔ  ｄａｔａ  ｌｉｎｅ）１７１ｈ、第２データ線（ｓｅｃｏｎｄ  ｄａｔａ  ｌｉｎｅ）１７１ｌ、第１ソース電極（ｆｉｒｓｔ  ｓｏｕｒｃｅ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１７３ｈ、第１ドレイン電極（ｆｉｒｓｔ  ｄｒａｉｎ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１７５ｈ、第２ソース電極（ｓｅｃｏｎｄ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１７３ｌ、及び第２ドレイン電極（ｓｅｃｏｎｄ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１７５ｌが形成されている。
【００６１】
第１データ線１７１ｈ及び第２データ線１７１ｌは、データ信号を伝達し、第２方向に延在してゲート線１２１及び容量電極線１３１と交差する。データ線１７１は、行方向に隣接する二つの微細空間３０５の間に位置する。つまり、データ線１７１は第２谷間Ｖ２に位置する。
【００６２】
第１データ線１７１ｈと第２データ線１７１ｌは、互いに異なるデータ電圧を伝達する。第２データ線１７１ｌによって伝達されるデータ電圧は、第１データ線１７１ｈによって伝達されるデータ電圧より低くてもよい。これとは反対に、第２データ線１７１ｌによって伝達されるデータ電圧が、第１データ線１７１ｈによって伝達されるデータ電圧より高くてもよい。
【００６３】
第１ソース電極１７３ｈは、第１データ線１７１ｈから第１ゲート電極１２４ｈの上に突出するように形成され、第２ソース電極１７３ｌは、第２データ線１７１ｌから第２ゲート電極１２４ｌの上に突出するように形成されている。第１ドレイン電極１７５ｈ及び第２ドレイン電極１７５ｌは、広い一端部と、棒状の他端部とを含む。第１ドレイン電極１７５ｈ及び第２ドレイン電極１７５ｌの広い端部は、容量電極線１３１から下に突出している容量電極１３５と重なっている。第１ドレイン電極１７５ｈ及び第２ドレイン電極１７５ｌの棒状の端部は、それぞれ第１ソース電極１７３ｈ及び第２ソース電極１７３ｌによって一部が取り囲まれている。
【００６４】
第１ゲート電極１２４ｈ及び第２ゲート電極１２４ｌ、第１ソース電極１７３ｈ及び第２ソース電極１７３ｌ、第１ドレイン電極１７５ｈ及び第２ドレイン電極１７５ｌは、第１半導体１５４ｈ及び第２半導体１５４ｌと共にそれぞれ第１薄膜トランジスタＱｈ及び第２薄膜トランジスタＱｌを形成し、薄膜トランジスタ（ｔｈｉｎ  ｆｉｌｍ  ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）のチャネル（ｃｈａｎｎｅｌ）は、各ソース電極１７３ｈ、１７３ｌと各ドレイン電極１７５ｈ、１７５ｌの間の各半導体１５４ｈ、１５４ｌに形成されている。
【００６５】
第１データ線１７１ｈ、第２データ線１７１ｌ、第１ソース電極１７３ｈ、第１ドレイン電極１７５ｈ、第１ソース電極１７３ｈと第１ドレイン電極１７５ｈの間に露出されている第１半導体１５４ｈ、第２ソース電極１７３ｌ、第２ドレイン電極１７５ｌ、第２ソース電極１７３ｌと第２ドレイン電極１７５ｌの間に露出されている第２半導体１５４ｌの上には、保護膜１８０が形成されている。
【００６６】
保護膜１８０は、下部保護膜１８０ａ、及び下部保護膜１８０ａの上に形成されている上部保護膜１８０ｂで形成されてもよい。下部保護膜１８０ａは有機絶縁物質からなり、薄膜トランジスタＱｈ、Ｑｌが形成された基板１１０の上部面を平坦化させる役割を果たす。上部保護膜１８０ｂは無機絶縁物質からなり、下部保護膜１８０ａを保護する役割を果たす。
【００６７】
上記で保護膜１８０が二重層である構造について説明したが、本発明はこれに限られない。保護膜１８０は単一層で形成されてもよく、三重層以上の多重層で形成されてもよい。
【００６８】
保護膜１８０には、第１ドレイン電極１７５ｈの広い端部を露出する第１コンタクトホール１８１ｈ、及び第２ドレイン電極１７５ｌの広い端部を露出する第２コンタクトホール１８１ｌが形成されている。
【００６９】
保護膜１８０の上には画素電極１９１が形成されている。画素電極１９１は、インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ、Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、インジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ、Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）などのような透明な金属物質で形成されてもよい。
【００７０】
画素電極１９１は、ゲート線１２１及び容量電極線１３１を介して互いに分離されている第１副画素電極１９１ｈ及び第２副画素電極１９１ｌを含む。第１副画素電極１９１ｈ及び第２副画素電極１９１ｌは、ゲート線１２１及び維持電極線１３１を中心に画素ＰＸの上と下に配置されている。つまり、第１副画素電極１９１ｈと第２副画素電極１９１ｌとは第１谷間Ｖ１を間に置いて分離されており、第１副画素電極１９１ｈは第１副画素ＰＸａに位置し、第２副画素電極１９１ｌは第２副画素ＰＸｂに位置する。ただし、第１副画素電極１９１ｈと第２副画素電極１９１ｌの配置形態はこれに限定されず、多様に変更される。
【００７１】
第１副画素電極１９１ｈは、第１コンタクトホール１８１ｈによって第１ドレイン電極１７５ｈと接続されており、第２副画素電極１９１ｌは、第２コンタクトホール１８１ｌによって第２ドレイン電極１７５ｌと接続されている。したがって、第１薄膜トランジスタＱｈ及び第２薄膜トランジスタＱｌがオンの状態のとき、第１副画素電極１９１ｈ及び第２副画素電極１９１ｌそれぞれは、第１ドレイン電極１７５ｈ及び第２ドレイン電極１７５ｌから互いに異なるデータ電圧の印加を受けるようになる。画素電極１９１と共通電極２７０の間には電界が形成されてもよい。
【００７２】
第１副画素電極１９１ｈ及び第２副画素電極１９１ｌそれぞれの全体的な形状は四角形であってもよく、第１副画素電極１９１ｈ及び第２副画素電極１９１ｌそれぞれは、横幹部（ｈｏｒｉｚｏｎｔａｌ  ｓｔｅｍ  ｐｏｒｔｉｏｎ）１９３ｈ、１９３ｌ、及び横幹部１９３ｈ、１９３ｌと交差する縦幹部（ｖｅｒｔｉｃａｌ  ｓｔｅｍ  ｐｏｒｔｉｏｎ）１９２ｈ、１９２ｌからなる十字状幹部（ｃｒｏｓｓ−ｓｈａｐｅｄ  ｓｔｅｍ  ｐｏｒｔｉｏｎ）を含む。また、第１副画素電極１９１ｈ及び第２副画素電極１９１ｌはそれぞれ複数の微細枝部（ｍｉｎｕｔｅ  ｂｒａｎｃｈ  ｐｏｒｔｉｏｎ）１９４ｈ、１９４ｌを含む。
【００７３】
画素電極１９１は、横幹部１９３ｈ、１９３ｌと縦幹部１９２ｈ、１９２ｌによって四つの副領域に分かれる。微細枝部１９４ｈ、１９４ｌは、横幹部１９３ｈ、１９３ｌ及び縦幹部１９２ｈ、１９２ｌから斜めに延在しており、その延在する方向は、ゲート線１２１または横幹部１９３ｈ、１９３ｌとほぼ４５度または１３５度の角をなしてもよい。また、隣接する二つの副領域の微細枝部１９４ｈ、１９４ｌが延在している方向は互いに直交してもよい。
【００７４】
本実施形態において、第１副画素電極１９１ｈ及び第２副画素電極１９１ｌそれぞれは、第１副画素ＰＸａ及び第２副画素ＰＸｂの外郭を取り囲む外郭幹部（ｏｕｔｅｒ  ｓｔｅｍ  ｐｏｒｔｉｏｎ）をさらに含んでもよい。
【００７５】
上述した画素の配置形態、薄膜トランジスタの構造、及び画素電極の形状は一例に過ぎず、本発明はこれに限定されず、多様な変形が可能である。
【００７６】
画素電極１９１の上には画素電極１９１から一定の距離を有して離隔するように共通電極２７０が形成されている。画素電極１９１と共通電極２７０の間には微細空間（ｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ）３０５が形成されている。つまり、微細空間３０５は画素電極１９１及び共通電極２７０によって取り囲まれている。
【００７７】
共通電極２７０は、行方向に形成されており、微細空間３０５の上と第２谷間Ｖ２に形成されている。共通電極２７０は、微細空間３０５の上部面と側面を覆うように形成されて、微細空間３０５の形状を維持させる役割を果たす。したがって、微細空間３０５の形状は共通電極２７０によって決定される。微細空間３０５の横及び縦の幅と高さは、表示装置のサイズ及び解像度によって多様に変更される。
【００７８】
共通電極２７０は、インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ、Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、インジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ、Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）などのような透明な金属物質で形成されてもよい。共通電極２７０には一定の電圧を印加することができ、画素電極１９１と共通電極２７０の間に電界が形成されてもよい。
【００７９】
画素電極１９１の上には第１配向膜１１が形成されている。第１配向膜１１は、画素電極１９１によって覆われていない保護膜１８０のすぐ上に形成されてもよい。
【００８０】
第１配向膜１１と対向するように共通電極２７０の下には第２配向膜２１が形成されている。
【００８１】
第１配向膜１１と第２配向膜２１は垂直配向膜で形成されてもよく、ポリアミド酸（Ｐｏｌｙａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリシロキサン（Ｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）などの配向物質で形成されてもよい。第１配向膜１１及び第２配向膜２１は、微細空間３０５の周縁の側壁で接続されてもよい。
【００８２】
画素電極１９１と共通電極２７０の間に位置した微細空間３０５内には液晶分子３１０からなる液晶層が形成されている。液晶分子３１０は、負の誘電率異方性を有し、電界が印加されない状態で基板１１０に対して垂直方向に立っていてもよい。つまり、垂直配向が行われてもよい。
【００８３】
データ電圧が印加された第１副画素電極１９１ｈ及び第２副画素電極１９１ｌは共通電極２７０と共に電界を生成することにより、二つの電極１９１、２７０の間の微細空間３０５内に位置した液晶分子３１０の方向を決定する。このように決定された液晶分子３１０の方向によって液晶層を通過する光の輝度が変化する。
【００８４】
共通電極２７０の上には保護層として屋根層（ｒｏｏｆ  ｌａｙｅｒ）３６０をさらに形成してもよい。屋根層３６０は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）などのような無機絶縁物質で形成されてもよい。屋根層３６０は行方向に形成されており、微細空間３０５の上と第２谷間Ｖ２に形成されている。屋根層３６０は、共通電極２７０と実質的に同一の平面形状を有してもよい。
【００８５】
共通電極２７０及び屋根層３６０は、微細空間３０５の周縁の側面を露出させるように形成され、微細空間３０５が共通電極２７０及び屋根層３６０によって覆われていない部分を注入口３０７ａ、３０７ｂという。注入口３０７ａ、３０７ｂは、微細空間３０５の第１周縁の側面を露出させる第１注入口３０７ａ、及び微細空間３０５の第２周縁の側面の露出させる第２注入口３０７ｂを含む。第１周縁と第２周縁は互いに対向する周縁であって、例えば平面図上で、第１周縁が微細空間３０５の上側周縁であり、第２周縁が微細空間３０５の下側周縁であってもよい。注入口３０７ａ、３０７ｂによって微細空間３０５が露出しているので、注入口３０７ａ、３０７ｂを通じて微細空間３０５の内部に配向液または液晶物質などを注入することができる。
【００８６】
屋根層３６０の上には蓋膜３９０が形成されている。蓋膜３９０は、微細空間３０５の一部を外部に露出させる注入口３０７ａ、３０７ｂを覆うように形成される。つまり、蓋膜３９０は、微細空間３０５の内部に形成されている液晶分子３１０が外部に出ないように、微細空間３０５を密封することができる。
【００８７】
蓋膜３９０は、第１谷間Ｖ１及び第２谷間Ｖ２に形成され、微細空間３０５の周縁と重なるように形成されてもよい。蓋膜３９０は、微細空間３０５の四つの周縁と全て重なってもよい。蓋膜３９０は、微細空間３０５の周縁を除いては、微細空間３０５と重ならない。蓋膜３９０は微細空間３０５の中心部と重ならない。蓋膜３９０は網状（マトリックス状）になって、微細空間３０５の周縁を取り囲む形態になる。
【００８８】
蓋膜３９０は液晶分子３１０と接触するようになるので、液晶分子３１０と反応しない物質からなるのが好ましい。また、蓋膜３９０は感光性有機物質が添加されている物質で形成されてもよい。このとき、蓋膜３９０の上にマスクを対応させて、光を照射すると、感光性有機物質が光に反応するようになるので、フォト工程だけで蓋膜３９０をパターニングすることができる。また、蓋膜３９０が感光性物質を含んでいなくてもパターニングすることができる。蓋膜３９０の上に感光膜を別途に形成して、感光膜をフォト工程によってパターニングした後、パターニングされた感光膜を利用して蓋膜３９０をエッチングすることができる。
【００８９】
蓋膜３９０は、二重膜、三重膜などのように多重膜で形成されてもよい。二重膜は、互いに異なる物質からなる二つの層で形成されている。三重膜は三つの層で形成され、互いに隣接する層の物質が互いに異なる。例えば、蓋膜３９０は有機絶縁物質からなる層と無機絶縁物質からなる層とを含んでもよい。
【００９０】
蓋膜３９０の上には遮光部材２２０が形成されている。遮光部材２２０は遮光性物質からなり、光漏れを防止する役割を果たす。遮光部材２２０は、第１谷間Ｖ１及び第２谷間Ｖ２で形成されてもよく、網状になってもよい。遮光部材２２０は、蓋膜３９０と実質的に同一の平面形状を有してもよい。
【００９１】
第１谷間Ｖ１には薄膜トランジスタＱｈ、Ｑｌが位置して、遮光部材２２０は薄膜トランジスタＱｈ、Ｑｌと重なるように形成されている。なお、遮光部材２２０は、ゲート線１２１及び容量電極線１３１とさらに重なるように形成されてもよい。遮光部材２２０は、金属材質からなる部材に反射光が発生して視認されるのを防止することができる。
【００９２】
屋根層３６０の上には各微細空間３０５と重なるようにカラーフィルタ２３０が形成されている。カラーフィルタ２３０は、第１カラーフィルタ２３０Ｒ、第２カラーフィルタ２３０Ｇ、及び第３カラーフィルタ２３０Ｂを含んでもよい。このとき、第１カラーフィルタ２３０Ｒ、第２カラーフィルタ２３０Ｇ、及び第３カラーフィルタ２３０Ｂはそれぞれ赤色、緑色、及び青色の三原色を表示することができる。複数のカラーフィルタ２３０は互いに重ならない。
【００９３】
本発明の一実施形態においては蓋膜３９０がパターニングされて微細空間３０５と重なる部分が除去されている。したがって、蓋膜３９０が基板１１０の上の全面に形成される場合と比較して、カラーフィルタ２３０と微細空間３０５の間の距離をさらに近くすることができる。カラーフィルタ２３０と微細空間３０５の間の距離が遠い場合、緑色フィルタを側面で見るとき、青色と視認されることがある。本発明の一実施形態ではカラーフィルタ２３０と微細空間３０５との間の距離を近くすることにより、このようなカラークロストークを防止することができる。
【００９４】
カラーフィルタ２３０は、遮光部材２２０及び蓋膜３９０によって取り囲まれている。カラーフィルタ２３０が遮光部材２２０及び蓋膜３９０の側面と接するように示されており、遮光部材２２０とほとんど重ならないように示されている。本発明は図示されたものに限定されず、カラーフィルタ２３０の周縁と遮光部材２２０の周縁は互いに重なってもよい。カラーフィルタ２３０は第１谷間Ｖ１には形成されなくてもよい。
【００９５】
上記でカラーフィルタ２３０が赤色、緑色、青色を示すカラーフィルタ２３０で構成されることを説明したが、本発明はこれに限定されず、他の色を示すカラーフィルタ２３０を含むこともできる。例えば、カラーフィルタ２３０は、青緑色（ｃｙａｎ）、紫紅色（ｍａｇｅｎｔａ）、黄色（ｙｅｌｌｏｗ）、白色系の色などを示してもよい。
【００９６】
図示は省略したが、表示装置の上下部面には偏光板をさらに形成してもよい。偏光板は、第１偏光板及び第２偏光板で構成されてもよい。第１偏光板は基板１１０の下部面に設けてもよく、第２偏光板はカラーフィルタ２３０及び遮光部材２２０の上部面に設けてもよい。
【００９７】
次に、図７乃至図１０を参照して、本発明の一実施形態による表示装置について説明する。
【００９８】
図７乃至図１０に示した本発明の一実施形態による表示装置は、図１乃至図６に示した本発明の一実施形態による表示装置と大部分同様なので、これに対する説明は省略する。本実施形態においては蓋膜が棒状になっている点で上述した実施形態と異なる。以下、さらに詳細に説明する。
【００９９】
図７は、本発明の一実施形態による表示装置を示す平面図であり、図８は、本発明の一実施形態による表示装置を示す分離斜視図である。図９は、本発明の一実施形態による表示装置の一部を示す平面図であり、図１０は、図９のＸ−Ｘ線に沿って示す本発明の一実施形態による表示装置の断面図である。
【０１００】
上述した実施形態において蓋膜３９０は、行方向及び列方向に交差形成されている網状になっている反面、本実施形態において蓋膜３９０は、行方向に延在している棒状になっている。
【０１０１】
蓋膜３９０は第１谷間Ｖ１に形成され、微細空間３０５の周縁と重なるように形成されてもよい。蓋膜３９０は、注入口３０７ａ、３０７ｂが形成されている微細空間３０５の周縁と重なってもよい。蓋膜３９０は、微細空間３０５の周縁を除いては、微細空間３０５と重ならない。蓋膜３９０は微細空間３０５の中心部と重ならない。蓋膜３９０には、微細空間３０５と重なる部分及び第２谷間Ｖ２に開口部３９５が形成されている。蓋膜３９０が基板１１０の上の全体領域に形成されず、微細空間３０５と重なる部分が除去されるようにパターニングされる。
【０１０２】
蓋膜３９０の上には遮光部材２２０が形成されている。遮光部材２２０は、第１谷間Ｖ１及び第２谷間Ｖ２に形成されてもよく、網状（マトリックス状）に形成されてもよい。本実施形態で蓋膜３９０は第１谷間Ｖ１にだけ形成されているので、遮光部材２２０は蓋膜３９０と異なる平面形状を有するようになる。
【０１０３】
屋根層３６０の上には各微細空間３０５と重なるようにカラーフィルタ２３０が形成されている。複数のカラーフィルタ２３０は互いに重ならない。カラーフィルタ２３０は遮光部材２２０によって取り囲まれており、カラーフィルタ２３０の周縁と遮光部材２２０の周縁は互いに重なってもよい。
【０１０４】
次に、図１１及び図１２を参照して、本発明の一実施形態による表示装置について説明する。
【０１０５】
図１１及び図１２に示した本発明の一実施形態による表示装置は、図７乃至図１０に示した本発明の一実施形態と大部分同様なので、これに対する説明は省略する。本実施形態では遮光部材が棒状になっている点で上述した実施形態と異なる。以下、さらに詳細に説明する。
【０１０６】
図１１は、本発明の一実施形態による表示装置を示す分離斜視図であり、図１２は、本発明の一実施形態による表示装置の断面図である。
【０１０７】
蓋膜３９０は第１谷間Ｖ１に形成され、棒状になっていてもよい。
【０１０８】
蓋膜３９０の上には遮光部材２２０が形成されている。遮光部材２２０は第１谷間Ｖ１に形成され、棒状になっていてもよい。遮光部材２２０は、蓋膜３９０と実質的に同一の平面形状を有してもよい。
【０１０９】
屋根層３６０の上には各微細空間３０５と重なるようにカラーフィルタ２３０が形成されている。カラーフィルタ２３０は、第１カラーフィルタ２３０Ｒ、第２カラーフィルタ２３０Ｇ、及び第３カラーフィルタ２３０Ｂを含んでもよい。
【０１１０】
第１カラーフィルタ２３０Ｒと第２カラーフィルタ２３０Ｇは互いに重なる。第１カラーフィルタ２３０Ｒの周縁と第２カラーフィルタ２３０Ｇの周縁が互いに重なるようになる。第１カラーフィルタ２３０Ｒと第２カラーフィルタ２３０Ｇは第２谷間Ｖ２で互いに重なる。第１カラーフィルタ２３０Ｒと第２カラーフィルタ２３０Ｇが重なることにより、第１カラーフィルタ２３０Ｒと第２カラーフィルタ２３０Ｇの間に空の空間（隙間）が形成されないようにすることができ、第２谷間Ｖ２に大きな段差が生じることを防止できる。
【０１１１】
同様に、第２カラーフィルタ２３０Ｇと第３カラーフィルタ２３０Ｂは第２谷間Ｖ２で互いに重なる。また、第３カラーフィルタ２３０Ｂと第１カラーフィルタ２３０Ｒは第２谷間Ｖ２で互いに重なる。
【０１１２】
次に、図１３乃至図１５を参照して、本発明の一実施形態による表示装置について説明する。
【０１１３】
図１３乃至図１５に示した本発明の一実施形態による表示装置は、図１乃至図６に示した本発明の一実施形態による表示装置と大部分同様なので、これに対する説明は省略する。本実施形態では遮光部材が形成されない点で上述した実施形態と異なる。以下、さらに詳細に説明する。
【０１１４】
図１３は、本発明の一実施形態による表示装置を示す分離斜視図であり、図１４及び図１５は、本発明の一実施形態による表示装置の断面図である。図１４と図１５は本発明の一実施形態による表示装置の平面図（図示せず）において、互いに異なる線（例えば図４のＸ−Ｘ線とＹ−Ｙ線と同じ線）に沿って示す断面図である。
【０１１５】
蓋膜３９０は、第１谷間Ｖ１及び第２谷間Ｖ２に形成され、網状（マトリックス状）に形成されてもよい。
【０１１６】
蓋膜３９０は遮光性物質（例えば、黒色顔料を含む樹脂層等）からなり、光漏れを防止する役割を果たす。蓋膜３９０が光漏れを防止することができるので、本実施形態では別途の遮光部材が形成されない。
【０１１７】
図２に示した上述した実施形態においては、蓋膜３９０が第１谷間Ｖ１及び第２谷間Ｖ２に形成され、蓋膜３９０の上に遮光部材が形成されている。しかし、本実施形態では蓋膜３９０が遮光性物質からなることにより、遮光部材を形成することなく、光漏れを防止することができる。
【０１１８】
屋根層３６０の上には各微細空間３０５と重なるようにカラーフィルタ２３０が形成されている。複数のカラーフィルタ２３０は互いに重ならない。カラーフィルタ２３０は蓋膜３９０によって取り囲まれており、カラーフィルタ２３０の周縁と蓋膜３９０の周縁は互いに重なってもよい。
【０１１９】
次に、図１６を参照して、本発明の一実施形態による表示装置について説明する。
【０１２０】
図１６に示した本発明の一実施形態による表示装置は、図１３乃至図１５に示した本発明の一実施形態による表示装置と大部分同様なので、これに対する説明は省略する。本実施形態では蓋膜が棒状になっている点で上述した実施形態と異なる。以下、さらに詳細に説明する。
【０１２１】
図１６は、本発明の一実施形態による表示装置を示す分離斜視図である。
【０１２２】
上述した実施形態において蓋膜３９０は、行方向及び列方向に交差形成されている網状（マトリックス状）になっているが、本実施形態において蓋膜３９０は、行方向に延在している棒状になっている。
【０１２３】
蓋膜３９０は、第１谷間Ｖ１に形成されている。蓋膜３９０は遮光性物質（例えば、黒色顔料を含む樹脂層等）からなり、光漏れを防止する役割を果たす。蓋膜３９０が光漏れを防止することができるので、本実施形態では別途の遮光部材が形成されない。
【０１２４】
屋根層３６０の上には各微細空間３０５と重なるようにカラーフィルタ２３０が形成されている。カラーフィルタ２３０は、第１カラーフィルタ２３０Ｒ、第２カラーフィルタ２３０Ｇ、及び第３カラーフィルタ２３０Ｂを含んでもよい。
【０１２５】
第１カラーフィルタ２３０Ｒと第２カラーフィルタ２３０Ｇは第２谷間Ｖ２で互いに重なってもよく、第２カラーフィルタ２３０Ｇと第３カラーフィルタ２３０Ｇは第２谷間Ｖ２で互いに重なってもよく、第３カラーフィルタ２３０Ｇと第１カラーフィルタ２３０Ｒは第２谷間Ｖ２で互いに重なってもよい。
【０１２６】
以上、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の種々の変形及び改良形態も本発明の権利範囲に属するものである。
【符号の説明】
【０１２７】
１１  第１配向膜
２１  第２配向膜
１１０  基板
１２１  ゲート線
１２４ｈ  第１ゲート電極
１２４ｌ  第２ゲート電極
１３１  容量電極線
１３３、１３５  容量電極
１５４ｈ  第１半導体
１５４ｌ  第２半導体
１７１  データ線
１７３ｈ  第１ソース電極
１７３ｌ  第２ソース電極
１７５ｈ  第１ドレイン電極
１７５ｌ  第２ドレイン電極
１８０  保護膜
１８１ｈ  第１コンタクトホール
１８１ｌ  第２コンタクトホール
１９１  画素電極
２２０  遮光部材
２３０  カラーフィルタ
２７０  共通電極
３０５  微細空間
３０７ａ  第１注入口
３０７ｂ  第２注入口
３１０  液晶分子
３６０  屋根層
３９０  蓋膜
３９５  開口部
【図１】
2015127792.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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