(57)【要約】【課題】機械研磨による仕上げを行わずにディンプルや傷を見えなくすることを目的とする。【解決手段】表示パネルの製造方法は、外表面に窪み１６を有するガラス基板１０の外表面に、少なくとも窪み１６を埋めるようにケイ素含有化合物を揮発性溶媒に溶かした溶液１８を設けて、シリコン酸化物からなるコーティング膜２０を形成する工程を含む。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
外表面に窪みを有するガラス基板の前記外表面に、少なくとも前記窪みを埋めるようにケイ素含有化合物を揮発性溶媒に溶かした溶液を設けて、シリコン酸化物からなるコーティング膜を形成する工程を含むことを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載された表示パネルの製造方法において、
前記ケイ素含有化合物は、ポリシラザン又は金属アルコキシドであることを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された表示パネルの製造方法において、
前記溶液を、前記窪みのみに設けることを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項４】
請求項１又は２に記載された表示パネルの製造方法において、
前記溶液を、前記外表面の全体に設けることを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載された表示パネルの製造方法において、
前記コーティング膜に光学フィルムを積層する工程をさらに有することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項６】
外表面に窪みを有するガラス基板と、
少なくとも前記窪みを埋めるように前記ガラス基板の前記外表面に設けられたシリコン酸化物からなるコーティング膜と、
を有し、
前記コーティング膜は、ポリシラザン又は金属アルコキシドを揮発性溶媒に溶かした溶液から形成されていることを特徴とする表示パネル。
【請求項７】
請求項６に記載された表示パネルにおいて、
前記コーティング膜は、前記窪みのみに設けられていることを特徴とする表示パネル。
【請求項８】
請求項６に記載された表示パネルにおいて、
前記コーティング膜は、前記外表面の全体に設けられていることを特徴とする表示パネル。
【請求項９】
請求項８に記載された表示パネルにおいて、
前記コーティング膜に重ねられた光学フィルムをさらに有することを特徴とする表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯端末の小型化・軽量化のために、薄型の表示パネルが求められている。表示パネルを薄型化するためには、表示パネルのガラス基板の外表面を研磨することが一般的である。研磨前のガラス基板にディンプル・傷があった場合、化学研磨を行うとエッチング液が溜まって、ディンプル・傷がより大きく、深くなる可能性がある。研磨後の検査では、ディンプル・傷の限度見本を設定し、良品の選別検査を行っており、良品以外のものは、不良として破棄せざるを得ない。
【０００３】
従来、化学研磨と併用して機械研磨を行うことが一般的であった。しかし、機械研磨はコストがかかるため、機械研磨のみで仕上げることはコストアップとなる。また、表示パネルが液晶表示パネルであれば、機械研磨時の物理的振動により、配向膜が剥離してその破片が液晶材料中に浮遊し、これにより微小輝点が発生するおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１６２９６８号公報
【特許文献２】特開２００１−４２３０１号公報
【特許文献３】特開２００１−４２３０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１には、透明な樹脂材を基板に塗布してディンプルを埋め、樹脂材を硬化させた後に樹脂材を研磨することが開示されている。しかし、この方法では、機械研磨による仕上げが依然として必要である。
【０００６】
特許文献２には、ディンプルを埋めるように透明樹脂層を形成し、その樹脂層との屈折率差が０．０５以下の粘着層を介して、光学部材を基板に接着することが開示されている。しかし、この方法では、液状の透明樹脂を塗布することに加えて、透明樹脂層の硬化工程が必要になる。
【０００７】
特許文献３には、ディンプルを、光学部材を貼り付けるための粘着層で埋めることが開示されているが、粘着層ではディンプルを埋めることは難しい。
【０００８】
本発明は、機械研磨による仕上げを行わずにディンプルや傷などの窪みを見えなくすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）本発明に係る表示パネルの製造方法は、外表面に窪みを有するガラス基板の前記外表面に、少なくとも前記窪みを埋めるようにケイ素含有化合物を揮発性溶媒に溶かした溶液を設けて、シリコン酸化物からなるコーティング膜を形成する工程を含むことを特徴とする。本発明によれば、揮発性溶媒が揮発することで、コーティング膜を盛り上がらないように形成することができるので、機械研磨による仕上げを行わずに窪みを見えなくすることができる。また、コーティング膜は、シリコン酸化物からなるので、ガラス基板と屈折率が近いため、不可視化が可能である。
【００１０】
（２）（１）に記載された表示パネルの製造方法において、前記ケイ素含有化合物は、ポリシラザン又は金属アルコキシドであることを特徴としてもよい。
【００１１】
（３）（１）又は（２）に記載された表示パネルの製造方法において、前記溶液を、前記窪みのみに設けることを特徴としてもよい。
【００１２】
（４）（１）又は（２）に記載された表示パネルの製造方法において、前記溶液を、前記外表面の全体に設けることを特徴としてもよい。
【００１３】
（５）（４）に記載された表示パネルの製造方法において、前記コーティング膜に光学フィルムを積層する工程をさらに有することを特徴としてもよい。
【００１４】
（６）本発明に係る表示パネルは、外表面に窪みを有するガラス基板と、少なくとも前記窪みを埋めるように前記ガラス基板の前記外表面に設けられたシリコン酸化物からなるコーティング膜と、を有し、前記コーティング膜は、ポリシラザン又は金属アルコキシドを揮発性溶媒に溶かした溶液から形成されていることを特徴とする。本発明によれば、揮発性溶媒が揮発することで、コーティング膜を盛り上がらないように形成することができるので、機械研磨による仕上げを行わずに窪みを見えなくすることができる。また、コーティング膜は、シリコン酸化物からなるので、ガラス基板と屈折率が近いため、不可視化が可能である。
【００１５】
（７）（６）に記載された表示パネルにおいて、前記コーティング膜は、前記窪みのみに設けられていることを特徴としてもよい。
【００１６】
（８）（６）に記載された表示パネルにおいて、前記コーティング膜は、前記外表面の全体に設けられていることを特徴としてもよい。
【００１７】
（９）（８）に記載された表示パネルにおいて、前記コーティング膜に重ねられた光学フィルムをさらに有することを特徴としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の実施形態に係る表示パネルの製造方法を示す図である。
【図２】本発明の実施形態に係る表示パネルの製造方法を示す図である。
【図３】本発明の実施形態に係る表示パネルの製造方法を示す図である。
【図４】本発明の実施形態に係る表示パネルを示す図である。
【図５】本発明の実施形態の変形例に係る表示パネルの製造方法を示す図である。
【図６】本発明の実施形態の変形例に係る表示パネルを示す図である。
【図７】本発明の実施形態の変形例に係る表示パネルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
【００２０】
図１〜図４は、本発明の実施形態に係る表示パネルの製造方法を示す図である。図１に示すように、本実施形態では、２枚の対向するガラス基板１０，１２の間に、液晶材料または有機エレクトロルミネッセンス材料を含む層１４を設け、これらを図示しないシール材等で封止する。すなわち、本実施形態で製造する表示パネルは、液晶パネル又は有機エレクトロルミネッセンスパネルである。少なくとも一方（画像を表示する側）のガラス基板１０の外表面には窪み１６（ディンプル・傷）がある。
【００２１】
図２に示すように、ガラス基板１０を薄くするために研磨を行う。主として化学研磨を行う。化学研磨により、窪み１６（ディンプル・傷）が拡大する。
【００２２】
図３に示すように、ガラス基板１０の外表面に、少なくとも窪み１６を埋めるように、ケイ素含有化合物を揮発性溶媒に溶かした溶液１８を設ける。ケイ素含有化合物は、ポリシラザン又は金属アルコキシドである。ポリシラザンは、ケイ素（Ｓｉ）、窒素（Ｎ）、水素（Ｈ）のみから構成される化合物で、炭素（Ｃ）などの有機成分を含まない無機ポリマーである。ポリシラザンを主原料として（有機溶剤に溶かして）ガラスコーティング膜（シリコン酸化膜）を形成することができる。金属アルコキシドは、アルコール分子の水酸基の水素を金属原子で置換した化合物で、金属有機化合物の一種である。金属アルコキシド溶液を用いてセラミックコーティング膜（金属酸化膜）を形成することができる。
【００２３】
本実施形態では、ケイ素含有化合物を揮発性溶媒に溶かした溶液１８は、窪み１６のみに設ける。揮発性溶媒は液体であり、窪み１６（ディンプル・傷）に入り込み易いため、盛り上がらずに平坦化する。そのため、平坦化するための研磨工程は不要であり、一般的に行われている化学研磨後の機械研磨は不要となる。また、溶液１８は、常温にて硬化するため、加熱硬化、ＵＶ硬化等の特別な硬化工程は不要である。
【００２４】
ケイ素含有化合物を揮発性溶媒に溶かした溶液１８から、図４に示すように、シリコン酸化物からなるコーティング膜２０を形成する。コーティング膜２０の屈折率は、１．３〜１．４である。なお、ガラス基板１０の屈折率は、１．２程度である。
【００２５】
本実施形態によれば、揮発性溶媒が揮発することで、コーティング膜２０を盛り上がらないように形成することができるので、機械研磨による仕上げを行わずに窪み１６を見えなくすることができる。また、コーティング膜２０は、シリコン酸化物からなるので、ガラス基板１０と屈折率が近いため、不可視化が可能である。
【００２６】
本実施形態によって製造された表示パネルは、外表面に窪み１６を有するガラス基板１０を有する。表示パネルは、少なくとも窪み１６を埋めるようにガラス基板１０の外表面に設けられたシリコン酸化物からなるコーティング膜２０を有する。コーティング膜２０は、ポリシラザン又は金属アルコキシドを揮発性溶媒に溶かした溶液１８から形成されている。コーティング膜２０は、窪み１６のみに設けられている。
【００２７】
図５〜図７は、実施形態の変形例に係る表示パネルの製造方法を示す図である。この例では、図５に示すように、ケイ素含有化合物を揮発性溶媒に溶かした溶液１１８は、ガラス基板１１０の外表面の全体に設ける。そして、図６に示すように、コーティング膜１２０をガラス基板１１０の外表面の全体に形成する。さらに、図７に示すように、コーティング膜１２０に光学フィルム１２２（例えば偏光板）を重ねてもよい。両者は粘着層１２４によって貼り合わせる。その他の内容は、上記実施形態で説明した内容が該当する。
【００２８】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００２９】
１０  ガラス基板、１２  ガラス基板、１４  層、１６  窪み、１８  溶液、２０  コーティング膜、１１０  ガラス基板、１１８  溶液、１２０  コーティング膜、１２２  光学フィルム、１２４  粘着層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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