(57)【要約】【課題】容器内の気体を高濃度の置換ガスに置換できるパージ装置、ロードポートを提供する。【解決手段】パージ装置２０は、基板搬送路５よりも右側Ｘ２の領域に配置され、容器１００内に置換ガスを流出することにより、容器１００内の気体を奥壁１０５に沿った方向に移動した後、開口部１０３側に移動させる主流出口２１ａと、基板搬送路５よりも左側Ｘ１の領域に配置され、主流出口２１ａからの置換ガスの流出によって開口部１０３側に移動している気体の一部を、容器１００内で周回させる方向に置換ガスを流出する補助流出口２２ａと、を備える。【選択図】図４
2015204400.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部の気体がダウンフローされた部屋に設置され、曲面状の奥壁を有し基板を収容する容器の蓋部材が取り外された状態で前記容器内の気体を前記容器から前記部屋内に移動させて置換するパージ装置において、
前記容器の開口部に設けられ、上側から見ると基板搬送路よりも基板搬送方向に直交する方向の一方側の領域に配置され、前記容器内に置換ガスを流出することにより、前記容器内の気体を前記奥壁に沿った方向に移動させた後、開口部側に移動させる主流出部と、
前記容器の開口部に設けられ、上側から見ると基板搬送路よりも基板搬送方向に直交する方向の他方側の領域に配置され、前記主流出部からの置換ガスの流出によって開口部側に移動している気体を、前記容器内で周回させる方向に置換ガスを流出する補助流出部と、
を備えるパージ装置。
【請求項２】
請求項１に記載のパージ装置おいて、
前記補助流出部の置換ガス流出量は、前記主流出部の置換ガス流出量よりも少ないこと、
を特徴とするパージ装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のパージ装置おいて、
前記主流出部、前記補助流出部の少なくとも１つを、前記容器の開口部の縁部内側に移動する駆動部を備えること、
を特徴とするパージ装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載のパージ装置おいて、
前記主流出部、前記補助流出部の少なくとも１つは、上側の流出量よりも下側のガス流出量が多いこと、
を特徴とするパージ装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載のパージ装置を備えるロードポート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、容器内の気体を置換するパージ装置、ロードポートに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板を収容する容器がＥＦＥＭに開口した状態で、容器内の空気を置換するロードポートがあった（例えば特許文献１）。
しかし、容器が開口しているので、置換ガスは、容器開口部から出てきてしまう。このため、従来のロードポートは、容器内にもともとあった空気を、置換ガスに高濃度に置換できなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第４５７７６６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、容器内の気体を高濃度の置換ガスに置換できるパージ装置、ロードポートを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、以下のような解決手段により、課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。また、符号を付して説明した構成は、適宜改良してもよく、また、少なくとも一部を他の構成物に代替してもよい。
【０００６】
・第１の発明は、内部の気体がダウンフローされた部屋（Ｒ２）に設置され、曲面状の奥壁（１０５）を有し基板（Ｗ）を収容する容器（１００）の蓋部材（１０２）が取り外された状態で前記容器内の気体を前記容器から前記部屋内に移動させて置換するパージ装置において、前記容器の開口部（１０３）に設けられ、上側から見ると基板搬送路（５）よりも基板搬送方向（Ｙ）に直交する方向（Ｘ）の一方側（Ｘ２）の領域に配置され、前記容器内に置換ガスを流出することにより、前記容器内の気体を前記奥壁に沿った方向に移動させた後、開口部側に移動させる主流出部（２１ａ）と、前記容器の開口部に設けられ、上側から見ると基板搬送路よりも基板搬送方向に直交する方向の他方側（Ｘ１）の領域に配置され、前記主流出部からの置換ガスの流出によって開口部側に移動している気体を、前記容器内で周回させる方向に置換ガスを流出する補助流出部（２２ａ）と、を備えるパージ装置である。
・第２の発明は、第１の発明のパージ装置おいて、前記補助流出部（２２ａ）の置換ガス流出量は、前記主流出部（２１ａ）の置換ガス流出量よりも少ないこと、を特徴とするパージ装置である。
・第３の発明は、第１又は第２の発明のパージ装置おいて、前記主流出部（２１ａ）、前記補助流出部（２２ａ）の少なくとも１つを、前記容器（１００）の開口部（１０３）の縁部内側に移動する駆動部（２１ｂ，２２ｂ）を備えること、を特徴とするパージ装置である。
・第４の発明は、第１から第３のいずれかの発明のパージ装置おいて、前記主流出部（２１ａ）、前記補助流出部（２２ａ）の少なくとも１つは、上側（Ｚ２）の流出量よりも下側（Ｚ１）のガス流出量が多いこと、を特徴とするパージ装置である。
・第５の発明は、第１から第４のいずれかの発明のパージ装置（１０）を備えるロードポートである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、容器内の気体を高濃度の置換ガスに置換できるパージ装置、ロードポートを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施形態のロードポート１の置換動作状態を下側Ｚ１から見た斜視図である。
【図２】実施形態のロードポート１の縦断面図である。
【図３】実施形態のロードポート１の扉１２を閉じた状態の横断面図である。
【図４】実施形態のロードポート１の置換動作状態の横断面図である。
【図５】実施形態のロードポート１の置換動作状態の縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
（実施形態）
以下、図面等を参照して、本発明の実施形態について説明する。
図１は、実施形態のロードポート１の置換動作状態を下側Ｚ１から見た斜視図である。
図２は、実施形態のロードポート１の縦断面図である。
図３は、実施形態のロードポート１の扉１２を閉じた状態の横断面図である。
図４は、実施形態のロードポート１の置換動作状態の横断面図である。
図５は、実施形態のロードポート１の置換動作状態の縦断面図である。
実施形態及び図面では、便宜上、直交座標系を設けた。この直交座標系は、図１に状態を基準に、左右方向Ｘ、奥行方向Ｙ、鉛直方向Ｚを示す。左右方向Ｘ、奥行方向Ｙは、水平面上の軸であり、奥行方向Ｙは、基板搬送方向であり、左右方向Ｘは、奥行方向Ｙに直交する。
【００１０】
図１、図２に示すように、ロードポート１は、容器１００の蓋１０２を取り外し、その蓋１０２を取り外した状態で、容器１００内の気体を置換ガスに置換する装置である。
ロードポート１は、壁部２に設けられている。壁部２は、部屋Ｒ２と、クリーンルーム等の外部空間Ｒ１とを仕切る部材である。
部屋Ｒ２は、半導体の製造工程において、外部空間Ｒ１と、実際にパターン形成をする処理室等との間において、基板Ｗ（ウエハ）を搬送する空間である。部屋Ｒ２は、例えばＥＦＥＭ（Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ  Ｆｒｏｎｔ  Ｅｎｄ  Ｍｏｄｕｌｅ）等である。
部屋Ｒ２は、部屋Ｒ２内の気体（空気）をダウンフローするファン３が設けられている。このため、部屋Ｒ２内の気体は、常時、上側Ｚ２から下側Ｚ１へ向けて下降している（矢印Ａ３参照）。
なお、部屋Ｒ２の気圧は、外部空間Ｒ１の気圧よりも、高い状態を維持される。この理由は、外部空間Ｒ１の空気を、隙間等から部屋Ｒ２内に流入させないためである。
【００１１】
容器１００は、基板Ｗを収納する容器１００であって、例えば、ＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎｔ  Ｏｐｅｎｉｎｇ  Ｕｎｉｆｉｅｄ  Ｐｏｄ）、ＦＯＳＢ（Ｆｒｏｎｔ  Ｏｐｅｎｉｎｇ  Ｓｈｉｐｐｉｎｇ  Ｂｏｘ）等である。容器１００の内部には、複数枚の基板Ｗが鉛直方向Ｚに所定間隔（１０ｍｍ程度）に、収容されている。
【００１２】
図１、図２に示すように、ロードポート１は、蓋部材着脱装置１０、パージ装置２０、制御部３０を備える。
蓋部材着脱装置１０は、容器１００の蓋１０２を着脱する装置である。
蓋部材着脱装置１０は、テーブル１１、扉１２、扉昇降駆動部１３を備える。
テーブル１１は、上面に載置された容器１００を壁部２に向けて移動する装置である。テーブル１１は、容器１００の底部に係合する係合ピン１１ａ等を備える。
扉昇降駆動部１３は、蓋１０２を保持した扉１２を昇降（移動）する装置である（矢印Ａ１３参照）。扉昇降駆動部１３は、送りねじ１３ｂ、パルスモータ１３ｃ等を備える。
【００１３】
パージ装置２０について詳細に説明する。
図１に示すように、パージ装置２０は、主流出装置２１、補助流出装置２２、上流出装置２３、下流出装置２４を備える。
主流出装置２１、補助流出装置２２、上流出装置２３、下流出装置２４は、ガス供給装置（図示せず）から供給された置換ガスを、流出する装置である。主流出装置２１、補助流出装置２２、上流出装置２３、下流出装置２４は、それぞれ、ロードポート１の開口外縁１ａの右側Ｘ２、左側Ｘ１、上側Ｚ２、下側Ｚ１に配置されている。
【００１４】
本実施形態では、パージ装置２０は、基板Ｗの化学反応を抑制するために、置換ガスとして窒素を用いているが、これに限定されない。例えば、部屋Ｒ２で処理済みの基板Ｗを容器１００に収容する場合に、基板Ｗに付着した水分等を除去する必要があるときは、窒素の代わりに乾燥した空気（ドライエア）を流出してもよい。
【００１５】
図３、図４に示すように、主流出装置２１は、主流出口２１ａ（主流出部）、駆動部２１ｂを備える。
主流出口２１ａは、置換ガスを実際に流出する流出孔である。主流出口２１ａは、例えば、板材に複数の孔を加工することにより、複数形成される。
【００１６】
駆動部２１ｂは、主流出装置２１を、鉛直方向Ｚの軸回りに回転駆動することにより、主流出口２１ａを退避位置Ｐ１ａ（図３に示す位置）及びパージ位置Ｐ１ｂ（図４に示す位置）間で移動する装置である。駆動部２１ｂは、モータ等を備える。
図３に示すように、退避位置Ｐ１ａは、部屋Ｒ２内であって、蓋１０２及び扉１２の移動範囲４外の位置である。
【００１７】
図４に示すように、パージ位置Ｐ１ｂは、容器１００の開口部１０３の縁部内側であって、かつ、容器１００と、壁１５との隙間１５ａよりも、容器１００側の位置である。つまり、パージ位置Ｐ１ｂは、容器１００内部に入り込んだ位置である。
パージ位置Ｐ１ｂに配置された状態において、主流出口２１ａは、上側Ｚ２から見ると、基板搬送路５（基板搬出時に基板Ｗが通過する範囲）よりも右側Ｘ２に配置されている。つまり、主流出口２１ａは、基板搬送路５外に配置されている。
【００１８】
パージ位置Ｐ１ｂに配置された状態において、主流出口２１ａの置換ガスの流出方向Ａ２１は、容器１００内の右側Ｘ２かつ開口部１０３側の空間Ｓ２１に向けた方向である。この流出方向Ａ２１は、流出した置換ガスの大部分が、容器１００内に到達できるような方向である。流出方向Ａ２１の中心軸と、奥行方向Ｙの軸とのなす角θ２１は、例えば３０°程度である。
なお、鉛直方向Ｚにおいて、主流出口２１ａの流出量は、下側Ｚ１に至る程多くなる（図１参照）。つまり、この流出量は、下側Ｚ１の方が上側Ｚ２よりも多い。
【００１９】
補助流出装置２２は、補助流出口２２ａ（補助流出部）、駆動部２１ｂを備える。
補助流出口２２ａは、置換ガスを実際に流出する流出孔である。補助流出口２２ａは、主流出口２１ａと同様にして形成される。
【００２０】
駆動部２２ｂは、補助流出装置２２を鉛直方向Ｚの軸回りに回転駆動することにより、補助流出口２２ａを退避位置Ｐ２ａ（図３に示す位置）及びパージ位置Ｐ２ｂ（図４に示す位置）間で移動する装置である。駆動部２２ｂと上記駆動部２１ｂとは、左右対称な構成である。
図３に示すように、退避位置Ｐ２ａは、退避位置Ｐ１ａと同様に、部屋Ｒ２内であって、蓋１０２及び扉１２の移動範囲４外の位置である。
【００２１】
図４に示すように、パージ位置Ｐ２ｂは、パージ位置Ｐ１ｂと同様に、開口部１０３の縁部内側であり、かつ、隙間１５ａよりも容器１００側の位置である。
また、パージ位置Ｐ２ｂに配置された状態において、補助流出口２２ａは、上側Ｚ２から見ると、基板搬送路５よりも左側Ｘ１（基板搬送方向に直交する方向の他方側）の領域に配置されている。つまり、補助流出口２２ａは、基板搬送路５外であって、基板搬送路５を介して主流出口２１ａとは反対側の位置に配置されている。
【００２２】
パージ位置Ｐ２ｂに配置された状態において、補助流出口２２ａの置換ガスの流出方向Ａ２２は、容器１００の開口部１０３の左側Ｘ１の空間Ｓ２２に向けた方向である。この流出方向Ａ２２は、流出した置換ガスの大部分が左右方向Ｘに平行に移動できるような方向であり、つまり、主流出口２１ａのような積極的に容器１００内に到達できるような方向とは異なる。流出方向Ａ２３の中心軸と、奥行方向Ｙとのなす角θ２１は、例えば７５°程度である。
【００２３】
主流出口２１ａと同様に、鉛直方向Ｚにおいて、補助流出口２２ａの流出量は、下側Ｚ１に至る程多く（図１参照）、つまり、下側Ｚ１の方が上側Ｚ２よりも多い。
また、補助流出口２２ａの置換ガス流出量は、主流出口２１ａの置換ガス流出量よりも少なく、主流出口２１ａの置換ガス流出量の半分程度である。
【００２４】
図５に示すように、上流出装置２３、下流出装置２４は、回転駆動等されない固定された装置である。なお、上流出装置２３、下流出装置２４は、主流出装置２１等と同様に、回転駆動する駆動部を備えていてもよい。
上流出装置２３は、置換ガスを、開口部１０３の外側（部屋Ｒ２側）の上側付近Ｓ２３に対して、上側Ｚ２から下側Ｚ１に向けて流出する。
下流出装置２４は、置換ガスを、開口部１０３の外側の（部屋Ｒ２側）下側付近Ｓ２４に対して、下側Ｚ１から上側Ｚ２に向けて流出する。
【００２５】
図２に示すように、制御部３０は、ロードポート１を統括的に制御する装置であり、例えば、ＣＰＵ（中央処理装置）等から構成される。制御部３０は、記憶装置（図示せず）に記憶された各種プログラムを適宜読み出して実行することにより、前述したハードウェアと協働し、本発明に係る各種機能を実現している。制御部３０は、蓋部材着脱装置１０、パージ装置２０の制御等を行う。
【００２６】
次に、本実施形態のロードポート１の動作を説明する。
ロードポート１は、以下の順序に従って動作する。
（♯１）蓋保持工程
図２に示すように、テーブル１１上に容器１００が載置されると、制御部３０は、扉１２を制御して、蓋１０２を保持する。そして、制御部３０は、扉昇降駆動部１３を制御して、蓋１０２を保持した扉１２を、奥側Ｙ２に移動する。
（♯２）蓋退避工程
制御部３０は、蓋１０２を保持した扉１２を、下側Ｚ１に移動する。
これによって、ロードポート１は、蓋１０２を開口部１０３から下側Ｚ１に退避させる。
【００２７】
（♯３）流出部回転移動工程
図３、図４に示すように、制御部３０は、駆動部２１ｂ，２２ｂを制御することにより、主流出口２１ａ、補助流出口２２ａを回転移動させて、退避位置Ｐ１ａ，Ｐ２ａからパージ位置Ｐ１ｂ，Ｐ２ｂに配置する。
（♯４）置換工程
図１に示すように、制御部３０は、置換ガスを、４つの流出装置２１〜２４から流出して、容器１００内にもともと存在していた気体（空気）を、置換ガスに置換する。置換工程における気体の流れは、後述する。
なお、基板搬出装置（図示せず）は、蓋１０２を退避させ、かつ、上記置換工程を行っている間に、容器１００内の基板Ｗを、基板搬送路５を経由しながら、部屋Ｒ２に搬出する。
（♯５）流出部退避工程
図３に示すように、基板搬出が終了すると、制御部３０は、駆動部２１ｂ，２２ｂを制御することにより、主流出口２１ａ、補助流出口２２ａをパージ位置Ｐ１ｂ，Ｐ２ｂから退避位置Ｐ１ａ，Ｐ２ａに配置する。
（♯６）蓋装着工程
制御部３０は、主流出口２１ａ、補助流出口２２ａの退避が終了すると、上記（♯１）、（♯２）とは逆の工程に行って、蓋１０２を容器１００に装着する。
【００２８】
（気体の流れ）
置換工程における気体の流れについて、詳細に説明する。
図４に示すように、容器１００内の気体は、以下の作用によって、横断面において容器１００内を周囲する。
（１）前述したように、主流出口２１ａの流出方向Ａ２１と、奥行方向Ｙとのなす角θ２１は、例えば３０°程度である。
このため、主流出口２１ａから流出した置換ガスは、容器１００内の右半分を、奥壁１０５に向かって、奥行方向Ｙにほぼ真っ直ぐに向かって進む（矢印Ｂ１参照）。
なお、主流出口２１ａは、隙間１５ａよりも容器１００内部側に入り込んでいる。このため、部屋Ｒ２の気圧よりも外部空間Ｒ１の気圧が低い状態が維持される。このため、外部空間Ｒ１の気体は、主流出口２１ａからの置換ガスに流出にともない部屋Ｒ２内に流入することはない。
【００２９】
（２）奥壁１０５に向かった置換ガスは、容器１００の湾曲した奥壁１０５に衝突し、奥壁１０５に沿った方向に移動する（矢印Ｂ２参照）。置換ガスは、奥壁１０５に対して、直角ではなく、ある程度の角度を有して衝突するので、傾斜面に衝突するような状態になる。このため、奥壁１０５は、置換ガスに対して、大きな抵抗を与えることなく、自然に迂回するように作用する。
そして、置換ガスは、内部空間の左空間を、開口部１０３側に進む（矢印Ｂ３参照）。
このように、主流出口２１ａは、容器１００内に置換ガスを流出することにより、置換ガスを奥壁１０５に沿った方向に移動させた後、開口部１０３側に移動させる。
【００３０】
（３）前述したように、補助流出口２２ａの流出方向Ａ２２と奥行方向Ｙとのなす角θ２２は、例えば７５°程度である。この方向は、主流出口２１ａからの置換ガスの流出によって開口部１０３側に移動している気体の一部を、容器１００内で周回させる方向である。つまり、この方向は、気体が周回する円周の最外周の接線方向に近い方向である。
【００３１】
このため、開口部１０３側に進んだ置換ガスの一部は、開口部１０３から部屋Ｒ２に入らずに、右側Ｘ２に進む（矢印Ｂ４参照）。つまり、補助流出口２２ａからの置換ガスは、矢印Ｂ３方向に進んできた置換ガスの一部を、開口部１０３から部屋Ｒ２に入ることを防ぎ、かつ、置換ガスの一部を周回する方向に勢い付ける。
そのため、置換ガスの一部は、再度、主流出口２１ａの置換ガスの流れに乗って（矢印Ｂ５参照）、再度、奥壁１０５側に進む。
なお、主流出口２１ａと同様に、補助流出口２２ａは、容器１００内部に入り込んでいるので、外部空間Ｒ１の気体は、部屋Ｒ２内に流入しない。
【００３２】
上記（１）〜（３）によって、置換ガスは、容器１００内にもともと存在した気体（空気）と混ざり合いながら、容器１００内のほぼ全領域内で、基板Ｗの積層間を、一方向の回転方向（図中左回り）に周回する。
【００３３】
（４）周回する気体は、遠心力の作用により、内周側から外周側に移動する。補助流出口２２ａは、主流出口２１ａよりも流量が少ないので、容器１００内の気体は、周回しながら開口部１０３から、部屋Ｒ２に徐々に移動する（矢印Ｂ６参照）。部屋Ｒ２に移動した気体は、ダウンフローによって、部屋Ｒ２内を降下する。
【００３４】
以上の作用によって、パージ装置２０は、容器１００内にもともと存在した気体及び置換ガスを混ざり合わせた気体を周回させながら、部屋Ｒ２に徐々に移動させることにより、置換ガスの濃度を徐々に向上させる。つまり、パージ装置２０は、混ざり合わせた気体の一部を部屋Ｒ２に流出しないように押さえて周回させ、かつ、その他の一部を部屋Ｒ２に徐々に移動させる。このように、パージ装置２０は、容器１００内の置換ガスの濃度を徐々に向上し、置換ガスに置換する。
【００３５】
また、パージ装置２０は、容器１００内で気体を周回させて置換するので、流出口２１ａ，２２ａからの置換ガスの流速は、容器１００内で気体が周回する程度、ゆっくりしたものでよい。このため、パージ装置２０は、層流域で安定した気体の流れを形成できる。そのため、実施形態とは異なり容器１００内に存在した気体を置換ガスによって直接追い出すような形態に比べると、パージ装置２０は、流出口２１ａ，２２ａからの置換ガスの流速を、極端に小さくすることができるし、また、置換に必要な置換ガスの流量を少なくできる。
また、パージ装置２０は、容器１００内で気体を周回させて置換するので、容器１００内の置換ガスの濃度を、均一にすることができる。一方、上記直接追い出すような形態では、流速の速い置換ガスを容器１００内に流入させる必要があるため、もともと存在した気体を不規則に拡散し、置換ガスの濃度が不均一になってしまう。
【００３６】
図５を参照して、縦断面における気体の流れを説明する。
置換ガス（窒素）は、空気よりも軽い。このため、容器１００内の気体は、上側Ｚ２に移動し、さらに、開口部１０３から部屋Ｒ２に移動しようとする（矢印Ｃ１参照）。これにより、開口部１０３の下側付近Ｓ２４の気体は、開口部１０３の下側Ｚ１から容器１００内部に入ろうとする現象がある（矢印Ｃ２参照）。
開口部１０３の下側付近Ｓ２４には、下流出装置２４から置換ガスが流出しているので、置換ガスの濃度が高い。また、前述したように、主流出口２１ａ及び補助流出口２２ａの流出量は、下側Ｚ１の方が、上側Ｚ２よりも多い。
このため、開口部１０３の下側付近Ｓ２４の気体が下側Ｚ１から容器１００内部に入っても、容器１００内部は、置換ガスの濃度を高い状態を維持できる。
【００３７】
ここで、通常は、上記現象によって、容器１００内の置換ガスの濃度は、下側Ｚ１の方が上側Ｚ２よりも低くなってしまうという問題がある。
パージ装置２０は、下流出装置２４を設け、かつ、主流出口２１ａ及び補助流出口２２ａの置換ガスの流出量を下側Ｚ１の方が上側Ｚ２よりも多くすることにより、問題を解決し、容器１００内の置換ガスの濃度を均一にすることができる。
【００３８】
なお、上流出装置２３は、下流出装置２４と同様に、開口部１０３の上側付近Ｓ２３の置換ガスの濃度を高くすることができる。このため、開口部１０３は、全体が、置換ガスの濃度が高い状態が維持される。そのため、仮に、下側付近Ｓ２４以外の気体が容器１００内部に入っても、容器１００内部は、置換ガスの濃度を高い状態を、安定して維持できる。
また、上流出装置２３は、開口部１０３の上側付近Ｓ２３に置換ガスを流出することにより、開口部１０３から上側付近Ｓ２３に気体が移動しないように、押さえる効果も有する。
【００３９】
以上説明したように、本実施形態のロードポート１は、容器１００内の気体を周回させることによって、容器１００内の気体を、高濃度の置換ガスに置換できる。
なお、試作機において、基板Ｗが直径３００ｍｍのウエハの容器１００を用いて、主流出口２１ａの流量８０Ｌ／分、補助流出口２２ａの流量４０Ｌ／分とした場合に、容器１００の全領域において、酸素濃度を１３％未満にできることを確認した。
【００４０】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、後述する変形形態等のように種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の技術的範囲内である。また、実施形態に記載した効果は、本発明から生じる最も好適な効果を列挙したに過ぎず、本発明による効果は、実施形態に記載したものに限定されない。なお、前述した実施形態及び後述する変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。
【００４１】
（変形形態）
（１）実施形態において、駆動部は、主流出装置、補助流出装置の両方に設けられた例を示したが、これに限定されない。駆動部は、設けなくてもよいし、又は、主流出装置、補助流出装置のいずれかに設けてもよい。
駆動部を設けない流出装置は、流出口を基板搬送路の外側に、固定して配置すればよい。この形態でも、流出口からの置換ガスを流出し、容器内で置換ガスを周回させることにより、実施形態と同様な効果を奏する。
【００４２】
（２）実施形態において、ガス流出量は、主流出口、補助流出口の両方が、上側の流出量よりも下側が多い例を示したが、これに限定されない。ガス流出量は、主流出口、補助流出口のいずれかが、上側の流出量よりも下側が多い形態でもよい。
【００４３】
（３）実施形態において、ロードポートの制御部が、蓋部材着脱装置、パージ装置等を制御する例を示したが、これに限定されない。パージ装置が、パージ装置自体を制御する制御部を備えていてもよい。この場合には、既存のロードポートに対して、パージ装置を追加することにより、実施形態と同様な効果を奏する。
【符号の説明】
【００４４】
１  ロードポート
５  基板搬送路
２０  パージ装置
２１ａ  主流出口
２１ｂ，２２ｂ  駆動部
２２ａ  補助流出口
２３  上流出装置
２４  下流出装置
１００  容器
１０２  蓋
１０３  開口部
１０５  奥壁
Ｗ  基板
【図１】
2015204400.tif 000003
【図２】
2015204400.tif 000004
【図３】
2015204400.tif 000005
【図４】
2015204400.tif 000006
【図５】
2015204400.tif 000007