(57)【要約】      （修正有）【課題】可視光領域における透明性、電波透過性、赤外線遮蔽性が大幅に改善された新たな赤外線遮蔽シートを提供する。【解決手段】微粒子を含む高屈折率樹脂層と、少なくとも一層が赤外線領域で前記高屈折率樹脂層よりも相対的に低屈折率を示す微粒子（ＩＴＯ等）を含む層を塗布にて交互に積層する積層膜において、低屈折率樹脂層の少なくとも１層が５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ以上での任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以上であって、かつ、高屈層若しくは低屈層いずれかの少なくとも一層のＱＷＯＴが１．５以上である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に微粒子を含有した高屈折率樹脂層（Ａ）と微粒子を含有し、７８０ｎｍ〜２５００ｎｍの赤外線領域で層（Ａ）よりも低屈折率を示す低屈折率樹脂層（Ｂ）が交互に積層した積層膜において、低屈折率樹脂層（Ｂ）の少なくとも１層が５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ以上での任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以上であって、かつ、高屈折率樹脂層（Ａ）の少なくとも１層、及び／または低屈折率樹脂層の少なくとも１層の光学膜厚のＱＷＯＴ係数が１．５以上である事を特徴とする赤外線遮蔽シート。
【請求項２】
（Ａ）、（Ｂ）各層の表面抵抗が１ｋΩ／□以上であり、前記（Ａ）、（Ｂ）の層数の合計が４以上である請求項１に記載の赤外線遮蔽シート。
【請求項３】
可視光透過率が５０％以上、ヘイズが８％以下である請求項１または２に記載の赤外線遮蔽シート。
【請求項４】
前記高屈折率樹脂層（Ａ）に含有される微粒子が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、ダイヤモンド、酸化亜鉛、ホウ化物、窒化物からなる群より選択される少なくとも一種の微粒子である請求項１乃至３の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
【請求項５】
前記低屈折率樹脂層（Ｂ）に含有される微粒子が酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、シリカの群から選択される少なくとも一種の微粒子である請求項１乃至４の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
【請求項６】
前記低屈折率樹脂層（Ｂ）に含有される微粒子がＳｂドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、Ｓｎドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、Ｇａドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸素欠乏酸化タングステン、Ｃｓドープ酸化タングステン、中空シリカの群から選択される少なくとも一種である請求項１乃至５の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
【請求項７】
高屈折率樹脂層（Ａ）又は低屈折率樹脂層（Ｂ）に含有される微粒子の含有率が９０重量％以下である請求項１及至６の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
【請求項８】
高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層が塗布により形成されることを特徴とする請求項１及至７の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。。
【請求項９】
請求項１乃至８の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートと、７８０ｎｍ〜２０００ｎｍを選択的に反射するコレステリック液晶膜、複屈折多層膜、又は７８０ｎｍ〜２５００ｎｍを選択的に吸収する赤外線吸収色素の少なくとも１種を組み合わせて為る赤外線遮蔽シート。
【請求項１０】
請求項１乃至９の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートのいずれか一方の最外層の上に中間膜を有する合わせガラス用中間膜。
【請求項１１】
ポリビニルブチラールを含む請求項１０に記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項１２】
複数のガラス板間に、請求項１０または請求項１１に記載の合わせガラス用中間膜を挿入して得られる合わせガラス。
【請求項１３】
請求項１乃至９の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートおよび請求項１０または１１に記載の合わせガラス用中間膜、または請求項１２に記載の合わせガラスを積層して得られる窓用部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、効率的に赤外線を吸収、反射するとともに透明性に優れ、低ヘイズ性の新たな赤外線遮蔽シートならびにその用途に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、省エネルギーや地球環境問題の観点から、空調機器の負荷を軽減することが求められている。例えば、住宅や自動車の分野では太陽光からの赤外線を遮蔽できる赤外線遮蔽材料を窓ガラスへ敷設し、室内や車内の温度を制御することが求められている。
【０００３】
赤外線遮蔽性を有する材料は様々あるが、特許文献１では赤外線領域の特定波長の光線を反射させる為に高屈折率層と低屈折率層の誘電体多層膜と、ＩＴＯ等の微粒子膜を積層した断熱部材が開示されている。この断熱部材は誘電体多層膜と微粒子層を別々に製膜するため、製造コストの問題がある。
【０００４】
特許文献２では透明導電層と赤外線領域における屈折率が相対的に高い高屈折率層とが積層された断熱部材が開示されている。しかし、赤外線領域の低屈折率層として導電層が用いられているため、携帯電話、テレビ、ＧＰＳ等室内外と電波送受信を行うための電波透過性能が求められるシステムに対しては使用できないという問題がある。さらにスパッタ等の真空設備が必要なため製造コストの問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２００７／０２０７９１号パンフレット
【特許文献２】特開２０１０−２０２４６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、可視光領域における透明性、電波透過性、赤外線遮蔽性、製造コストを大幅に改善した新たな赤外線遮蔽シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、従来技術のこのような問題に対して鋭意検討した結果、微粒子を含有する高屈折率樹脂層と赤外線領域で前記高屈折率樹脂層中に含有される微粒子よりも相対的に低屈折率を示す微粒子を含有する低屈折率樹脂層を塗布にて積層する積層膜において、各層の光学膜厚を最適化することにより、透明性、電波透過性を有し、且つ製造コスト、赤外線遮蔽性が大幅に改善された新たな赤外線遮蔽シートを得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
即ち、本発明は
（１）透明支持体上に微粒子を含有した高屈折率樹脂層（Ａ）と微粒子を含有し、７８０ｎｍ〜２５００ｎｍの赤外線領域で層（Ａ）よりも低屈折率を示す低屈折率樹脂層（Ｂ）が交互に積層した積層膜において、低屈折率樹脂層（Ｂ）の少なくとも１層が５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ以上での任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以上であって、かつ、高屈折率樹脂層（Ａ）の少なくとも１層、及び／または低屈折率樹脂層の少なくとも１層の光学膜厚のＱＷＯＴ係数が１．５以上である事を特徴とする赤外線遮蔽シート、
（２）（Ａ）、（Ｂ）各層の表面抵抗が１ｋΩ／□以上であり、前記（Ａ）、（Ｂ）の層数の合計が４以上である（１）に記載の赤外線遮蔽シート、
（３）可視光透過率が５０％以上、ヘイズが８％以下である（１）または（２）に記載の赤外線遮蔽シート、
（４）前記高屈折率樹脂層（Ａ）に含有される微粒子が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、ダイヤモンド、酸化亜鉛、ホウ化物、窒化物からなる群より選択される少なくとも一種の微粒子である（１）乃至（３）の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
（５）前記低屈折率樹脂層（Ｂ）に含有される微粒子が酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、シリカの群から選択される少なくとも一種の微粒子である（１）乃至（４）の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
（６）前記低屈折率樹脂層（Ｂ）に含有される微粒子がＳｂドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、Ｓｎドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、Ｇａドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸素欠乏酸化タングステン、Ｃｓドープ酸化タングステン、中空シリカの群から選択される少なくとも一種である（１）乃至（５）の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
（７）高屈折率樹脂層又は低屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率が９０重量％以下である（１）及至（６）の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
（８）高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層が塗布により形成されることを特徴とする（１）及至（７）の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
（９）（１）乃至（８）の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートと、７８０ｎｍ〜２０００ｎｍを選択的に反射するコレステリック液晶膜、複屈折多層膜、又は７８０ｎｍ〜２５００ｎｍを選択的に吸収する赤外線吸収色素の少なくとも１種を組み合わせて為る赤外線遮蔽シート、
（１０）（１）乃至（９）の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートのいずれか一方の最外層の上に中間膜を有する合わせガラス用中間膜、
（１１）ポリビニルブチラールを含む（１０）に記載の合わせガラス用中間膜、
（１２）複数のガラス板間に、（１０）または（１１）に記載の合わせガラス用中間膜を挿入して得られる合わせガラス、
（１３）（１）乃至（９）の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートおよび（１０）または（１１）に記載の合わせガラス用中間膜、または（１２）に記載の合わせガラスを積層して得られる窓用部材、
に関する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の赤外線遮蔽シートは、赤外線の広い領域に対して良好な吸収特性に加え反射特性を有し且つ、電波透過性、透明性、製造コストに優れ、低ヘイズ性であり赤外線遮蔽性能を効果的に大幅に向上させることができ、冬季暖房費低減効果および夏期温度低減効果を両方ともに向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施例１に係る赤外線遮蔽シートの波長に対する透過率・反射率、及び地表へ到達する太陽光のエネルギーを示すグラフである。
【図２】本発明の比較例に係る赤外線遮蔽シートの波長に対する屈折率・反射率を示すグラフである。
【図３】本発明の実施形態に係る合わせガラス用中間膜の一例を模式的に示す断面図である。
【図４】図３に示す合わせガラス用中間膜を用いた合わせガラスの一例を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の赤外線遮蔽シートは、透明支持体上に微粒子を含有した高屈折率樹脂層（Ａ）と微粒子を含有し、７８０ｎｍ〜２５００ｎｍの赤外線領域で層（Ａ）よりも低屈折率を示す低屈折率樹脂層（Ｂ）が交互に積層した積層膜において、低屈折率樹脂層（Ｂ）の少なくとも１層が５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ以上での任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以上であって、かつ、高屈折率樹脂層（Ａ）の少なくとも１層、及び／または低屈折率樹脂層の少なくとも１層の光学膜厚のＱＷＯＴ係数が１．５以上である事を特徴とする。なお、本発明での赤外線領域とは７８０ｎｍ〜２５００ｎｍの事を示す。
【００１２】
本発明に用いられる透明支持体としては、種々の樹脂フィルム、ガラスを用いることができ、ポリオレフィンフィルム（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（以下、ＰＥＮ）等）、ポリカーボネート（以下、ＰＣ）、ポリ塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリアミド、ポリイミド等を用いることができる。
【００１３】
高屈折率樹脂層と低屈折率樹脂層とを交互に積層してなる赤外線遮蔽シートは、赤外線領域における両者の屈折率差と、高屈折率樹脂層の屈折率の絶対値とが赤外線反射機能を決定するのに重要となる。即ち、屈折率差、屈折率の絶対値とも大きい方が赤外線反射機能は大きくなる。
【００１４】
本発明において、少なくとも隣接した２層（高屈折率樹脂層と低屈折率樹脂層）の屈折率差が反射させる赤外線波長において０．１以上であることを特徴とする。好ましくは０．３以上であり、さらに好ましくは０．３５以上である。
【００１５】
屈折率差が０．２未満の場合は、赤外線反射率を所望の値にする為には積層数が多くなり、可視透過率が低下し、また製造コストが増加するため好ましくない。
【００１６】
反射させる赤外線波長λは一般的に式（１）で与えられる。ｎＨ、ｄＨは高屈折率樹脂層の屈折率、幾何学膜厚、ｎＬ、ｄＬは低屈折率樹脂層の屈折率、幾何学膜厚である。
式（１）
ｎＨｄＨ＋ｎＬｄＬ＝λ／２
【００１７】
ここで、図１に示すように地表に到達する太陽光の赤外線領域はエネルギーの山がいくつかあり、太陽光の赤外線領域を遮蔽したい場合は、これらエネルギーの山を効率的に遮蔽する事が重要となる。そこで鋭意検討した結果、高屈折率樹脂層又は低屈折率樹脂層いずれかの少なくとも１層の光学膜厚のＱＷＯＴ係数を１．５以上にすることで、太陽光の赤外線領域を効率的に遮断できることを見出した。ここで、ＱＷＯＴ（ｑｕａｒｔｅｒ  ｗａｖｅ  ｏｐｔｉｃａｌ  ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ）係数はｎｄ＝λ／４のときを１とする。ｎ、ｄは高屈折率樹脂層若しくは低屈折率樹脂層の屈折率、幾何学膜厚、λは反射させる赤外線波長である。
【００１８】
また、反射させる赤外線波長は７８０ｎｍ以上が好ましい。７８０ｎｍ未満の場合は、可視光領域になるため可視光透過率が低下するので好ましくない。
【００１９】
本発明の赤外線遮蔽シートの層数は、４層〜３０層であること好ましく、より好ましくは４層〜２０層、特に好ましくは４層〜１５層である。多層膜の層数が４未満であると赤外線の反射機能が不十分であり、また、３０層以上になると製造コストの増加、可視光透過率、耐久性の低下、膜応力増加によるフィルムのカールが問題となるので好ましくない。
【００２０】
赤外線遮蔽シートの光学性能としては、可視光透過率が高く、日射透過率が低いものが理想的であるが、一般的には両者は比例関係にあり、どちらの性能を重視するかにより光学性能を決定することになる。種々検討した結果、照明コスト並びに冬季の暖房コストの上昇を最小限にするためには、本発明の赤外線遮蔽シートの可視光透過率が５０％以上、好ましくは７０％以上とするが良い。さらに赤外線遮蔽シートのヘイズ値は、透明性を損なわないものとする必要があり、８％以下とするのが良く、好ましくは３％以下とするのが良い。
【００２１】
塗布による屈折率差を利用した多層膜を作製する場合、従来の技術では高屈折率樹脂層に屈折率が高い誘電体微粒子（酸化チタン等）を含有させ、低屈折率樹脂層に屈折率が低い誘電体微粒子（シリカ等）を含有させていた（例えば、特開２０１２−９３４８１）。可視光領域から赤外線領域における前記誘電体微粒子の屈折率は概ね一定である。
【００２２】
しかし、本発明者らは鋭意検討した結果、可視光領域の屈折率と赤外線領域の屈折率が異なる微粒子群を発見し、さらに赤外吸収能も有していることから、前記微粒子群と従来の誘電体微粒子群を組み合わせることで、より効率的に赤外線領域を遮蔽することが可能となることを見出した。
【００２３】
微粒子が含有された高屈折率樹脂層は５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ以上での任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以下である事が好ましい。また、少なくとも１層の低屈折率樹脂層は５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ以上での任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以上であって、かつ当該差分の波長領域において、低屈折率樹脂層の屈折率が高屈折率樹脂層より低い屈折率である事が好ましい。
【００２４】
前記条件が満たされる高屈折率樹脂層に含有される微粒子は可視光領域の吸収が少なく、赤外線領域で高屈折率を示す微粒子が適している。そのような微粒子としては酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、酸化亜鉛、ダイヤモンド等の誘電体微粒子を例示することができる。これらのうち、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、ダイヤモンドが好適である。また、前記誘電体微粒子ではないが、赤外線領域で高屈折率を示すかつ、赤外吸収能を有する電気伝導性の金属酸化物微粒子としてホウ化物、窒化物を例示することができる。具体的には六ホウ化ランタン、窒化チタンが好適である。
【００２５】
これら赤外線領域で高屈折率を示す微粒子は単独または２種類以上で用いても良く、さらに積層膜中の各々の高屈折率樹脂層において別々の微粒子を用いても構わない。
【００２６】
高屈折率樹脂層中の微粒子の含有率は４０〜９５重量％、好ましくは６０〜９０重量％、より好ましくは７０〜９０重量％である。９５重量％より多くなると、バインダー成分が少なくなる為、シート状に作製できなくなる。また、４０重量％より少なくなると、樹脂バインダーの屈折率が支配的となり、効果的に赤外領域を反射する事ができない。
【００２７】
また、少なくとも１層の低屈折率樹脂層に含有される微粒子は、可視光領域の吸収が少なく、赤外線領域で良好な吸収を有し、且つ屈折率が高屈折率樹脂層含有微粒子よりも相対的に低い屈折率を有しているものが適している。そのようなものとして、赤外線領域にプラズマ波長を持っている電気伝導性の金属酸化物微粒子が挙げられる。具体的には、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデン等を例示することができる。これらのうち、可視光領域に光吸収性の少ない酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステンが好ましく、その中でも酸化インジウムがさらに好ましい。
【００２８】
また、これらの金属酸化物微粒子の電気導電性を向上させるために第三成分をドープすることが好ましい。このためのドーパントとしては、酸化スズに対してはＳｂ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ等が挙げられ、酸化インジウムに対してはＺｎ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｇｅ等が挙げられ、酸化亜鉛に対しては、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ等が挙げられ、酸化タングステンに対してはＣｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｃｕ等が挙げられる。これらの中でも、Ｓｎドープ酸化インジウムが好ましい。また、これらの金属酸化物微粒子の電気導電性を向上させるために第三成分を酸素欠陥にすることも好ましい。このための酸素欠陥としては、酸化タングステンに対して酸素欠陥ＷＯｘ（但し、２．４５≦ｘ≦２．９９９）等が挙げられる。
【００２９】
さらに前記金属酸化物微粒子は、６０ＭＰａで圧縮した際の粉体抵抗が１００Ω・ｃｍ以下、好ましくは１０Ω・ｃｍ以下、より好ましくは１Ω・ｃｍ以下の微粒子が用いられる。粉体抵抗が１００Ω・ｃｍより高い微粒子を用いた場合、微粒子のプラズマ共鳴に由来する吸収が２５００ｎｍより大きくなり赤外線遮蔽効果が低減する。なお、紛体抵抗の測定法として、紛体抵抗測定システムＭＣＰ−ＰＤ５１型（三菱化学アナリテック製）が好ましいが、これに限定されるものではない。
【００３０】
また、電気伝導性の金属酸化物微粒子（以下、電気伝導性微粒子）の他に、低屈折率樹脂層に低屈折率の誘電体微粒子を用いる事ができる。前記誘電体微粒子としてはシリカ、フッ化マグネシウム等を用いることができる。
【００３１】
さらに低屈折率の誘電体微粒子として中空微粒子も用いる事ができる。前記中空微粒子としては中空シリカ、中空アクリルビーズ等の中空微粒子を挙げることができる。中空微粒子の空孔率は１０体積％〜９０体積％が好ましい。空孔率が１０体積％未満の場合は中空微粒子の屈折率が低下せず、低屈折率樹脂層に用いることができない。また空孔率が９０体積％より高い場合、中空粒子の機械的強度が低下し、中空を保てなくなるので好ましくない。
【００３２】
低屈折率樹脂層に用いる微粒子（電気伝導性微粒子、誘電体微粒子、中空微粒子）は単独または２種類以上で用いても良く、さらに積層膜中の各々の低屈折率樹脂層において別々の微粒子を用いても構わない。
【００３３】
低屈折率樹脂層中の微粒子の含有率は４０〜９５重量％、好ましくは６０〜９０重量％、より好ましくは７０〜９０重量％である。９５重量％より多くなると、バインダー成分が少なくなる為、シート状に作製できなくなり、かつ微粒子同士が繋がるため電波透過性能が付与できなくなる。４０重量％より少なくなると、樹脂バインダーの屈折率が支配的となり、効果的に赤外領域を反射する事ができない。
【００３４】
低屈折率樹脂層に電気伝導性微粒子と誘電体微粒子又は中空微粒子を組み合わせる場合、低屈折率樹脂層に含有される微粒子の内、電気伝導性微粒子の割合は１０重量％〜９０重量％が好ましく、より好ましくは２０重量％〜９０重量％である。電気伝導性微粒子が１０重量％未満の場合は金属酸化物による赤外線吸収能が不足するので好ましくない。９０重量％より多い場合は中空微粒子の割合が少なくなり好ましくない。
【００３５】
さらに本発明の赤外線遮蔽シートに用いる微粒子は、一次粒子径が３００ｎｍ以下、好ましくは１ｎｍ〜２００ｎｍのものが用いられる。一次粒子径が３００ｎｍより大きくなると赤外線遮蔽シートにした際、ヘイズ値が高くなり視認性が劣ってしまう。なお、粒径はＢＥＴ法で測定された比表面積より算出されたものである。
【００３６】
赤外線遮蔽シートの赤外線遮蔽性能、平滑性、低ヘイズ、電波透過性を満たす為に微粒子を適切に分散する事は重要である。分散方法として、サンドミル、アトライター、ボールミル、ホモジナイザー、ロールミル、ビーズミルを用いることが好ましい。これらの中でもビーズミルが特に好ましい。ビーズミルを用いた場合、周速は３ｍ／ｓ〜１０ｍ／ｓが好ましい。３ｍ／ｓより低くなると、微粒子を十分分散できずに、１０ｍ／ｓより高くなると特に低屈折率樹脂層に含有される電気伝導性微粒子の表面が傷つけられ、赤外線吸収性能が低下する。適正な範囲は用いる装置、バインダー、分散時の微粒子濃度等によって若干異なるが、比較的低い分散エネルギーで分散させた方が良い。さらに、粗粒子が残る場合は更に濾過、遠心分離などの処理で粗粒子を除く事が好ましい。
【００３７】
分散に使用する溶媒とは、特に限定されるものではないが、本発明では水や有機溶媒、また、各々配合し混合物として使用しても良い。有機溶媒としては、例えば炭化水素系溶媒（トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン等）、アルコール系溶媒（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール等）、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン等）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル等）、エーテル系溶媒（イソプロピルエーテル、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、１、４−ジオキサン等）、グリコール系溶媒（エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール等）、グリコールエーテル系溶媒（ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、グリコールエステル系溶媒（エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等）、グライム系溶媒（モノグライム、ジグライム等）、ハロゲン系溶媒（ジクロロメタン、クロロホルム等）、アミド系溶媒（Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン）や、ピリジン、テトラヒドロフラン、スルホラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシドが挙げられる。好ましくは、水、ケトン系溶媒、アルコール系溶媒、アミド系溶媒、炭化水素系溶媒であり、より好ましくは、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトンである。
【００３８】
分散剤としては、脂肪酸塩（石けん）、α−スルホ脂肪酸エステル塩（ＭＥＳ）、アルキルベンゼンスルホン酸塩（ＡＢＳ）、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩（ＬＡＳ）、アルキル硫酸塩（ＡＳ）、アルキルエーテル硫酸エステル塩（ＡＥＳ）、アルキル硫酸トリエタノールといった低分子陰イオン性（アニオン性）化合物、脂肪酸エタノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル（ＡＥ）、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル（ＡＰＥ）、ソルビトール、ソルビタンといった低分子非イオン系化合物、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウムクロリド、アルキルピリジニウムクロリド、といった低分子陽イオン性（カチオン性）化合物、アルキルカルボキシルベタイン、スルホベタイン、レシチンといった低分子両性系化合物や、ナフタレンスルホン酸塩のホルマリン縮合物、ポリスチレンスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩、ビニル化合物とカルボン酸系単量体の共重合体塩、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコールなどに代表される高分子水系分散剤、ポリアクリル酸部分アルキルエステル、ポリアルキレンポリアミンといった高分子非水系分散剤、ポリエチレンイミン、アミノアルキルメタクリレート共重合体といった高分子カチオン系分散剤が代表的なものであるが、本発明の粒子に好適に適用されるものであれば、ここに例示したような形態のもの以外の構造を有するものを排除しない。
【００３９】
添加する分散剤としては、具体的名称を挙げると次のようなものが知られている。フローレンＤＯＰＡ−１５Ｂ、フローレンＤＯＰＡ−１７（共栄社化学株式会社製）、ソルプラスＡＸ５、ソルプラスＴＸ５、ソルスパース９０００、ソルスパース１２０００、ソルスパース１７０００、ソルスパース２００００、ソルスパース２１０００、ソルスパース２４０００、ソルスパース２６０００、ソルスパース２７０００、ソルスパース２８０００、ソルスパース３２０００、ソルスパース３５１００、ソルスパース５４０００、ソルシックス２５０、（日本ルーブリゾール株式会社製）、ＥＦＫＡ４００８、ＥＦＫＡ４００９、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０１５、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０４７、ＥＦＫＡ４０６０、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ７４６２、ＥＦＫＡ４０２０、ＥＦＫＡ４０５０、ＥＦＫＡ４０５５、ＥＦＫＡ４４００、ＥＦＫＡ４４０１、ＥＦＫＡ４４０２、ＥＦＫＡ４４０３、ＥＦＫＡ４３００、ＥＦＫＡ４３２０、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ４３４０、ＥＦＫＡ６２２０、ＥＦＫＡ６２２５、ＥＦＫＡ６７００、ＥＦＫＡ６７８０、ＥＦＫＡ６７８２、ＥＦＫＡ８５０３（エフカアディディブズ社製）、アジスパーＰＡ１１１、アジスパーＰＢ７１１、アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＮ４１１、フェイメックスＬ−１２（味の素ファインテクノ株式会社製）、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ２１、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ６１（コグニスジャパン株式会社製）、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１３０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６７、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０００、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１６４、ＢＹＫ２２０Ｓ、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３２２、ＢＹＫ３２５、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４０、ＢＹＫ３５０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８、ＢＹＫ３８０Ｎ、ＢＹＫ４１０、ＢＹＫ４２５、ＢＹＫ４３０（ビックケミー・ジャパン株式会社製）、ディスパロン１７５１Ｎ、ディスパロン１８３１、ディスパロン１８５０、ディスパロン１８６０、ディスパロン１９３４、ディスパロンＤＡ−４００Ｎ、ディスパロンＤＡ−７０３−５０、ディスパロンＤＡ−７２５、ディスパロンＤＡ−７０５、ディスパロンＤＡ−７３０１、ディスパロンＤＮ−９００、ディスパロンＮＳ−５２１０、ディスパロンＮＶＩ−８５１４Ｌ、ヒップラードＥＤ−１５２、ヒップラードＥＤ−２１６、ヒップラードＥＤ−２５１、ヒップラードＥＤ−３６０（楠本化成株式会社）、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１２Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２２８Ｐ、ＦＴＸ−７１０ＬＬ、ＦＴＸ−７５０ＬＬ、フタージェント２１２Ｐ、フタージェント２２０Ｐ、フタージェント２２２Ｆ、フタージェント２２８Ｐ、フタージェント２４５Ｆ、フタージェント２４５Ｐ、フタージェント２５０、フタージェント２５１、フタージェント７１０ＦＭ、フタージェント７３０ＦＭ、フタージェント７３０ＬＬ、フタージェント７３０ＬＳ、フタージェント７５０ＤＭ、フタージェント７５０ＦＭ（株式会社ネオス製）、ＡＳ−１１００、ＡＳ−１８００、ＡＳ−２０００（東亞合成株式会社製）、カオーセラ２０００、カオーセラ２１００、ＫＤＨ−１５４、ＭＸ−２０４５Ｌ、ホモゲノールＬ−１８、ホモゲノールＬ−９５、レオドールＳＰ−０１０Ｖ、レオドールＳＰ−０３０Ｖ、レオドールＳＰ−Ｌ１０、レオドールＳＰ−Ｐ１０（花王株式会社製）、エバンＵ１０３、シアノールＤＣ９０２Ｂ、ノイゲンＥＡ−１６７、ブライサーフＡ２１９Ｂ、ブライサーフＡＬ（第一工業製薬株式会社製）、メガファックＦ−４７７、メガファック４８０ＳＦ、メガファックＦ−４８２、（ＤＩＣ株式会社製）、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ、ダイノール６０４（日信化学工業株式会社製）、ＳＮスパーズ２１８０、ＳＮスパーズ２１９０、ＳＮレベラーＳ−９０６（サンノプコ株式会社製）、Ｓ−３８６、Ｓ−４２０（ＡＧＣセイミケミカル株式会社製）といったものが例示できる。
【００４０】
本発明に用いる樹脂バインダーとしては微粒子を分散維持できる樹脂であれば、特に制限はなく、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等が挙げられる。
【００４１】
熱可塑性樹脂としては、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、超低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン酢酸ビニルコポリマー、アイオノマー樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、エチレンアクリル酸エチル共重合体、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ＥＰＤＭ・スチレン共重合樹脂、シリコーンゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、メタクリル樹脂、エチレン・メチルメタクリレートコポリマー樹脂、エチレン・エチルアクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ４フッ化エチレン樹脂、４フッ化エチレン・６フッ化プロピレン共重合樹脂、４フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、４フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂、ポリ３フッ化塩化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ナイロン４、６、ナイロン６、ナイロン６、６、ナイロン６、１０、ナイロン６、１２、ナイロン１２、ナイロン６、Ｔ、ナイロン９、Ｔ、芳香族ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、非晶性コポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー、ポリテトラフロロエチレン樹脂、ポリフロロアルコキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、生分解樹脂、バイオマス樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの樹脂２種以上を混合させたものであっても良い。
【００４２】
熱硬化性樹脂としては、加熱により硬化可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテルを有する硬化性化合物が挙げられる。また、光硬化性樹脂としては、光照射により硬化可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、アリル基、マレイミド基、（メタ）アクリル基等の不飽和二重結合を有する硬化性化合物を有する樹脂が挙げられる。
【００４３】
上記環状エーテルを有する熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、フラン樹脂等が挙げられる。なかでも、反応速度や汎用性の観点からエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキセタン樹脂が好適である。上記エポキシ樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビフェニルノボラック型、トリスフェノールノボラック型、ジシクロペンタジエンノボラック型等のノボラック型；ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、２、２’−ジアリルビスフェノールＡ型、水添ビスフェノール型、ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型等のビスフェノール型等が挙げられる。また、その他にグリシジルアミン等も挙げられる。
【００４４】
上記エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピクロンＮ−７４０、Ｎ−７７０、Ｎ−７７５（以上、いずれも大日本インキ化学社製）、エピコート１５２、エピコート１５４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン社製）等が挙げられる。クレゾールノボラック型としては、例えば、エピクロンＮ−６６０、Ｎ−６６５、Ｎ−６７０、Ｎ−６７３、Ｎ−６８０、Ｎ−６９５、Ｎ−６６５−ＥＸＰ、Ｎ−６７２−ＥＸＰ（以上、いずれも大日本インキ化学社製）；ビフェニルノボラック型としては、例えば、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬社製）；トリスフェノールノボラック型としては、例えば、ＥＰ１０３２Ｓ５０、ＥＰ１０３２Ｈ６０（以上、いずれもジャパンエポキシレジン社製）；ジシクロペンタジエンノボラック型としては、例えば、ＸＤ−１０００−Ｌ（日本化薬社製）、ＨＰ−７２００（大日本インキ化学社製）；ビスフェノールＡ型エポキシ化合物としては、例えば、エピコート８２８、エピコート８３４、エピコート１００１、エピコート１００４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン社製）、エピクロン８５０、エピクロン８６０、エピクロン４０５５（以上、いずれも大日本インキ化学工業社製）；ビスフェノールＦ型エポキシ化合物の市販品としては、例えば、エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン社製）、エピクロン８３０（大日本インキ化学工業社製）；２、２’−ジアリルビスフェノールＡ型としては、例えば、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬社製）；水添ビスフェノール型としては、例えば、ＳＴ−５０８０（東都化成社製）；ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型としては、例えば、ＥＰ−４０００、ＥＰ−４００５（以上、いずれも旭電化工業社製）等が挙げられる。
【００４５】
上記オキセタン化合物の市販品として、例えば、エタナコールＥＨＯ、エタナコールＯＸＢＰ、エタナコールＯＸＴＰ、エタナコールＯＸＭＡ（以上、いずれも宇部興産社製）等が挙げられる。また、上記脂環式エポキシ化合物としては特に限定されず、例えば、セロキサイド２０２１、セロキサイド２０８０、セロキサイド３０００（以上、いずれもダイセル・ユーシービー社製）等が挙げられる。これらの環状エーテル基を有する硬化性化合物は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００４６】
上記不飽和二重結合を有する光硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、アリル基、マレイミド基、（メタ）アクリル基等を有する樹脂が挙げられ、なかでも反応性や汎用性の面より（メタ）アクリル基を有する樹脂が好ましい。なお、本明細書において、（メタ）アクリル基とは、アクリル基又はメタクリル基のことをいう。
【００４７】
（メタ）アクリル基を有する樹脂としては例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１、４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、水酸基含有（メタ）アクリレートと多カルボン酸化合物の酸無水物の反応物であるハーフエステル、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、グリセリンポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリレート（例えば日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０等）、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート（例えば日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ等）、モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００４８】
モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレートに用いられるグリシジル化合物としては、特に制限はなく、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、４、４’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビスフェノールＡ、ジメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、ジメチルビスフェノールＦ、テトラメチルビスフェノールＳ、ジメチルビスフェノールＳ、テトラメチル−４、４’−ビフェノール、ジメチル−４、４’−ビフェニルフェノール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−［４−（１、１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニル］プロパン、２、２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４、４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、１、１−ジ−４−ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン、ブロム化ビスフェノールＡ、ブロム化ビスフェノールＦ、ブロム化ビスフェノールＳ、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールＳ、クロル化ビスフェノールＡ等のポリフェノール類のグリシジルエーテル化物が挙げられる。
【００４９】
これらモノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレートは、そのエポキシ基に当量の（メタ）アクリル酸をエステル化反応させる事によって得ることができる。この合成反応は一般的に知られている方法により行うことが出来る。例えば、レゾルシンジグリシジルエーテルにその当量の（メタ）アクリル酸を、触媒（例えば、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン等）及び重合防止剤（例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、フェノチアジン、ジブチルヒドロキシトルエン等）と共に添加して、例えば８０℃〜１１０℃でエステル化反応を行う。こうして得られた（メタ）アクリル化レゾルシンジグリシジルエーテルは、ラジカル重合性の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂である。
【００５０】
また、本発明の赤外線遮蔽シートの樹脂バインダーは、必要に応じて、光反応開始剤や熱硬化剤を加える事ができる。光反応開始剤としては、光照射により、硬化性樹脂中の不飽和二重結合やエポキシ基等を重合反応させるためのものであれば特に制限は無く、例えば、カチオン重合型光開始剤やラジカル重合型光開始剤が挙げられる。また、熱硬化剤としては、加熱により硬化性樹脂中の不飽和二重結合やエポキシ基等を反応させ、架橋させるためのものであれば特に制限は無く、例えば酸無水物、アミン類、フェノール類、イミダゾール類、ジヒドラジン類、ルイス酸、ブレンステッド酸塩類、ポリメルカプトン類、イソシアネート類、ブロックイソシアネート類等が挙げられる。
【００５１】
赤外線遮蔽シート中の各層の微粒子の含有率は４０重量％〜９５重量％、好ましくは５０重量％〜９０重量％、より好ましくは６０重量％〜９０重量％である。９５重量％より多くなると、バインダー成分が少なくなる為、膜が硬化しなくなり、積層することが困難となる。さらに、電気伝導性微粒子の場合、微粒子同士が繋がるため電波透過性能が付与できなくなる。また、４０重量％より少なくなると、樹脂バインダーの屈折率が支配的となり赤外反射性能を付与できなくなる。
【００５２】
本発明において高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層の表面抵抗は１０３Ω／□以上、好ましくは１０４Ω／□以上、より好ましくは１０６Ω／□以上である。１０３Ω／□より低いと、電波を透過しなくなるので好ましくない。
【００５３】
また、各層の表面の最大高低差は７０ｎｍ以下、好ましくは６０ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下である。凝集微粒子がなくなるまで分散させてから薄膜塗工をすると、好ましい微粒子層表面の最大高低差が得られる。また、７０ｎｍ以上の表面粗さがあると、膜表面で入射した近赤外光の散乱が起きてしまい、良好な反射性能を付与できなくなる。
【００５４】
本発明の赤外線遮蔽シートは、高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層を、公知の塗布方式から適宜選択して、支持体上に塗布、乾燥して製造することが好ましい。塗布方式について特に限定しないが、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター等が挙げられるが、各層の平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が良い。
【００５５】
また、赤外線遮蔽シート中若しくは新たに別の層に、必要に応じ、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤等の各種添加剤を添加することができる。さらに目的に応じて赤外線遮蔽シートの上に粘着層、ハードコート層等の機能性シートを積層させて赤外線遮蔽積層シートとしても構わない。
【００５６】
本発明の赤外線遮蔽シートでは遮蔽できない赤外領域については、赤外線吸収色素、コレステリック液晶膜、複屈折多層膜等の公知の材料を組み合わせても良い。
【００５７】
本発明の赤外線遮蔽シートと組み合わせる赤外線吸収色素としては、特に限定されるものではないが、具体的には、７００ｎｍ〜２５００ｎｍに吸収極大をもつ赤外線吸収色素、好ましく７５０〜１５００ｎｍに吸収極大をもつ赤外線吸収色素、より好ましくは７８０〜１１００ｎｍに吸収極大をもつ赤外線吸収色素である。例えば、フタロシアニン系色素、アントラキノン系色素、ジチオール系色素、ジイモニウム系色素、アンスラキノン系色素、ジチオール金属錯体系色素、スクアリリウム系色素、ナフタロシアニン系色素、アミニウム系色素、有機金属錯体系色素、シアニン系色素、アゾ色素、ポリメチン系色素、キノン系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素、メルカプトナフトール系色素を用いることができる。
【００５８】
これらの中でも、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、アントラキノン系色素が好適に用いられる。
【００５９】
赤外線吸収色素は、高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層にそれぞれ含有されても良く、また赤外線吸収色素を含有する層を新たに設けても良い。
【００６０】
本発明の赤外線遮蔽シートと組み合わせるコレステリック液晶膜は、一平面上では分子軸が一定の方向に並んでいるが、次の平面では分子軸の方向が少し角度をなしてずれ、さらに次の平面では角度がずれるという具合に、該平面の法線方向に分子軸の角度が次々にずれていく構造である。このような分子軸の方向がねじれていく構造はカイラル構造と呼ばれる。該平面の法線（カイラル軸）はコレステリック液晶層の厚み方向に略平行になっていることが好ましい。
【００６１】
コレステリック液晶材料に光が入射すると、特定波長領域の左回り及び右回りのうち一方の円偏光が反射される。カイラル構造において分子軸がねじれる時の回転軸を表すらせん軸と、コレステリック液晶材料の法線とが平行である場合、カイラル構造のピッチ長ｐと反射される円偏光の波長λｃとは下記式（２）および式（３）の関係を有する。
式（２）
2015127274.tif 000003
式（３）
2015127274.tif 000004
式（２）及び式（３）中、λｃは反射させる波長領域の中心波長、ｎｏは液晶化合物の短軸方向の屈折率、ｎｅは液晶化合物の長軸方向の屈折率、ｎは（ｎｏ＋ｎｅ）／２、θは光の入射角（面法線からの角度）を表す。
【００６２】
これより、反射させる波長領域の中心波長は、コレステリック液晶材料におけるカイラル構造のピッチ長に依存する。このカイラル構造のピッチ長を変えることにより反射させる中心波長を変えることができる。
【００６３】
コレステリック液晶材料の層数は、１層でもよく、２層以上でもよい。層数が２層以上あると、反射できる赤外線の波長帯域を広げることができるので好ましい。
【００６４】
コレステリック液晶材料を２層以上にする場合、反射させる中心波長領域をより効率的に反射させるには、分子軸のねじれ方向が異なるコレステリック液晶層を組み合わせることが好ましい。つまり右円偏光と左円偏光の両方を反射することが可能となり、効果的な反射率を実現することができる。また、コレステリック液晶材料を２層以上にする際、反射させる波長領域を広範囲にしたい場合は、ピッチ長のことなるコレステリック液晶層を組み合わせることが好ましく、さらにねじれ方向が異なるコレステリック液晶層を組み合わせることでより広範囲な近赤外波長領域を高効率に反射することが可能である。層数、右円偏光、左円偏光コレステリック液晶層等の組合せは、製造コスト、可視光透過率等を鑑みて適切な組み合わせを用いることができる。
【００６５】
コレステリック液晶材料は、硬化性の液晶組成物を用いるのが好ましい。前記液晶組成物の一例は、棒状液晶化合物、光学活性化合物（キラル化合物）及び重合開始剤を少なくとも含有する。各成分を２種以上含んでいてもよい。例えば、重合性の液晶化合物と非重合性の液晶化合物との併用が可能である。また、低分子液晶化合物と高分子液晶化合物との併用も可能である。更に、配向の均一性や塗布適性、膜強度を向上させるために、水平配向性、ムラ防止剤、ハジキ防止剤、及び重合性モノマー等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも一種を含有していてもよい。また、前記液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、色材、金属酸化物微粒子等を、光学性能を低下させない範囲で添加することができる。
【００６６】
（１）棒状液晶化合物
棒状液晶化合物としては、棒状ネマチック液晶化合物である。前記棒状ネマチック液晶化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類等の低分子液晶化合物および高分子液晶化合物が好ましく用いられる。
【００６７】
本発明に使用する棒状液晶化合物は、重合性であっても非重合性であってもよい。重合性基を有しない棒状液晶化合物については、様々な文献（例えば、Ｙ．Ｇｏｔｏ  ｅｔ．ａｌ．、  Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．  Ｌｉｑ．  Ｃｒｙｓｔ．  １９９５、  Ｖｏｌ．  ２６０、  ｐｐ．２３−２８）に記載がある。
重合性棒状液晶化合物は、重合性基を棒状液晶化合物に導入することにより得られる。重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、及びアジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。重合性基は種々の方法で、棒状液晶化合物の分子中に導入できる。重合性棒状液晶化合物が有する重合性基の個数は、好ましくは１個〜６個、より好ましくは１個〜３個である。重合性棒状液晶化合物の例は、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．、１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物が含まれる。２種類以上の重合性棒状液晶化合物を併用してもよい。２種類以上の重合性棒状液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。
【００６８】
（２）光学活性化合物（キラル剤）
前記液晶組成物は、コレステリック液晶相を示すものであり、そのためには、光学活性化合物を含有しているのが好ましい。ただし、上記棒状液晶化合物が不斉炭素原子を有する分子である場合には、光学活性化合物を添加しなくても、コレステリック液晶層を安定的に形成可能である場合もある。前記光学活性化合物は、公知の種々のキラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）から選択することができる。光学活性化合物は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が含まれる。光学活性化合物（キラル剤）は、重合性基を有していてもよい。光学活性化合物が重合性基を有するとともに、併用する棒状液晶化合物も重合性基を有する場合は、重合性光学活性化合物と重合性棒状液晶化合物との重合反応により、棒状液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、光学活性化合物から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性光学活性化合物が有する重合性基は、重合性棒状液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。したがって、光学活性化合物の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基又はアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。また、光学活性化合物は、液晶化合物であってもよい。
【００６９】
前記液晶組成物中の光学活性化合物は、併用される液晶化合物に対して、０．１モル％〜３０モル％であることが好ましい。光学活性化合物の使用量は、より少なくしたほうが液晶性に影響を及ぼさないことが多いため好まれる。したがって、キラル剤として用いられる光学活性化合物は、少量でも所望の螺旋ピッチの捻れ配向を達成可能なように、強い捩り力のある化合物が好ましい。この様な、強い捻れ力を示すキラル剤としては、例えば、特開２００３−２８７６２３号公報に記載のキラル剤が挙げられ、本発明に好ましく用いることができる。
【００７０】
（３）重合開始剤
前記光反射層の形成に用いる液晶組成物は、重合性液晶組成物であるのが好ましく、そのためには、重合開始剤を含有しているのが好ましい。本発明では、紫外線照射により硬化反応を進行させるので、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。上記光重合開始剤は特に限定されず、例えば、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー９０７」）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー１８４」）、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン（チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー２９５９」）、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュアー９５３」）、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュアー１１１６」）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー１１７３」）、ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン（チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー６５１」）等のベンゾイン化合物、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３、３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン（日本化薬社製「カヤキュアーＭＢＰ」）等のベンゾフェノン化合物、チオキサントン、２−クロルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアーＣＴＸ」）、２−メチルチオキサントン、２、４−ジメチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアーＲＴＸ」）、イソプロピルチオキサントン、２、４−ジクロオチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアーＣＴＸ」）、２、４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアーＤＥＴＸ」）、２、４−ジイソプロピルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアーＤＩＴＸ  」）等のチオキサントン化合物等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。
【００７１】
組成物中の上記光重合開始剤の含有量は特に限定されないが、上記重合性液晶化合物や（メタ）アクリレート系のモノマー組成物１００重量部に対して、好ましい下限は０．５重量部、好ましい上限は１０重量部以下であり、より好ましい下限は２重量部、より好ましい上限は８重量部である。
【００７２】
上記光重合開始剤として、上記ベンゾフェノン化合物や上記チオキサントン化合物を用いる場合には、光重合反応を促進させるために、反応助剤を併用することが好ましい。上記反応助剤としては特に限定されず、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ｎ−ブチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、ミヒラーケトン、４、４’−ジエチルアミノフェノン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等のアミン化合物が挙げられる。
【００７３】
上記重合性液晶組成物中の上記反応助剤の含有量は特に限定されないが、上記重合性液晶組成物の液晶性に影響を与えない範囲で使用することが好ましく、上記重合性液晶化合物と紫外線硬化型の重合性化合物の合計１００重量部に対して、好ましい下限は０．５重量部、好ましい上限は１０重量部以下であり、より好ましい下限は２重量部、より好ましい上限は８重量部である。また、上記反応助剤の含有量は、上記光重合開始剤の含有量に対して、０．５倍量〜２倍量であることが好ましい。
【００７４】
更に、上記組成物には必要に応じてレベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、重合禁止剤架橋剤、可塑剤、無機微粒子、フィラー等を添加し、それぞれ目的とする機能性を付与することも可能である。レベリング剤としてはフッ素系化合物、シリコーン系化合物、アクリル系化合物等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられ、光安定化剤としてはヒンダードアミン系化合物、ベンゾエート系化合物等が挙げられ、酸化防止剤としてはフェノール系化合物等が挙げられる。
重合禁止剤としては、メトキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノン等が挙げられ、架橋剤としては、前記ポリイソシアネート類、メラミン化合物等が挙げられる。
可塑剤としてはジメチルフタレートやジエチルフタレートのようなフタル酸エステル、トリス（２−エチルヘキシル）トリメリテートのようなトリメリト酸エステル、ジメチルアジペートやジブチルアジペートのような脂肪族二塩基酸エステル、トリブチルホスフェートやトリフェニルホスフェートのような正燐酸エステル、グリセルトリアセテートや２−エチルヘキシルアセテートのような酢酸エステルが挙げられる。
【００７５】
コレステリック液晶層の塗布の方法に関しては特に限定しないが、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター、等が挙げられるが、微粒子含有層表面の平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が良い。また、コレステリック液晶層中の液晶化合物の配向方向をより精密に規定するために、コレステリック液晶層を塗布する層（微粒子層、基板等）の表面を配向させてもよい。配向するためには基板の表面をラビング処理して配向面を形成するのが好ましい。
【００７６】
本発明の赤外線遮蔽シートと組み合わせる複屈折多層膜は、複屈折（好ましくは正の複屈折）を有する層（以下、複屈折層）と等方屈折または負の複屈折を有する層（以下、等方屈折層）とを交互に積層して構成されており、複屈折層と等方屈折層との間の屈折率差およびそれぞれの幾何学膜厚によって引き起こされるコヒーレント干渉に基づいている。平面内屈折率が複屈折層と等方屈折層との間で異なる時、前記２層の間の境界面は反射面を形成する。
【００７７】
複屈折とは直交ｘ、ｙおよびｚ方向の屈折率がすべて同じであるとは限らないこと意味する。ｘ軸およびｙ軸が層の平面内であり、ｚ軸が層の平面に対して直角であり、配向ポリマーの場合、ｘ軸は最大屈折率を有する平面内方向であるように選択され、その方向は光学体が配向される（例えば、延伸される）方向の一つに対応する。
【００７８】
複屈折層と等方屈折層両方の平面内屈折率は層間で異なる（すなわち、ｎ１ｘ≠ｎ２ｘ、ｎ１ｙ≠ｎ２ｙ、ここでｎ１ｘおよびｎ１ｙは、複屈折層の平面内屈折率であり、ｎ２ｘおよびｎ２ｙは等方屈折層の平面内屈折率である）。また、複屈折層、等方屈折層のｚ軸屈折率が等しい場合、ｐ偏光の反射は光の入射角に依存しない為、視角の範囲に渡って反射率が均一となるので、好ましい。
【００７９】
複屈折層の平面内屈折率を増加させるために一軸配向、好ましくは二軸配向されている複屈折ポリマー（好ましくは正の複屈折を有するポリマー）を用いることで、複屈折層と等方屈折層の屈折率差を増加させる。
【００８０】
各層の光学膜厚は反射させる波長領域の中心波長をλｃとすると、λｃ／４となるように制御されている。複屈折層材料は延伸によって（正の複屈折に）配向する材料が用いられ、例えばＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＥＴ等が用いられる。等方屈折材料は延伸によっても配向しない材料（若しくは延伸によって負に複屈折する材料）が用いられ、例えばＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）等が用いられる。また、複屈折多層構造材料は例えば特表２００８−５２８３１３の記載されている同時共押出法によって多層膜を形成し、延伸することで作製することができる。前記複屈折層と等方屈折層間の屈折率差は小さい為、多数積層する必要がある。積層数は反射させたい反射領域、製造コスト等を鑑みて３層以上、１０００層以下が好ましい。
【００８１】
「合わせガラス用中間膜」
本発明の合わせガラス用中間膜は、本発明の赤外線遮蔽シートを用いて形成され、前記赤外線遮蔽シートのいずれか一方の最外層の上に中間膜を有することを特徴とする。本発明の合わせガラス用中間膜は、中間膜を本発明の赤外線遮蔽シートの両方の最外層の上にそれぞれ含むことが、合わせガラス化の容易化の観点から好ましい。
【００８２】
本発明の合わせガラス用中間膜はさらに第二の中間膜を含むことが好ましい。通常の合わせガラスでは前記赤外線遮蔽シートの両側の前記第一及び第二の中間膜の膜厚は同じであるが、本発明はそのような態様の合わせガラス用中間膜の製造方法に限定されず、前記第一および第二の中間膜の厚さが異なるように積層体を製造することもできる。また、前記第一および第二の中間膜の組成についても、同じであっても異なっていてもよい。
【００８３】
第一および第二の中間膜の合わせガラス用中間膜を加熱しながら圧着する工程の前後における熱収縮率は、そのときの加熱温度の範囲において１〜２０％であることが好ましく、２〜１５％であることがより好ましく、２〜１０％であることが特に好ましい。第一および第二の中間膜の厚みは、１００〜１０００μｍであることが好ましく、２００〜８００μｍであることがより好ましく、３００〜５００μｍであることが特に好ましい。また、第一および第二の中間膜は複数のシートを重ねることによって厚膜化してもよい。
【００８４】
また、第一および第二の中間膜の脆性の基準としては、引張り試験による破断伸びが１００〜８００％であることが好ましく、１００〜６００％であることがより好ましく、２００〜５００％であることが特に好ましい。
【００８５】
第一および第二の中間膜は、樹脂中間膜であることが好ましい。樹脂中間膜は、主成分がポリビニルアセタール系の樹脂フィルムであることが好ましい。前記ポリビニルアセタール系の樹脂フィルムとしては特に制限はなく、例えば特開平６−０００９２６号公報や特開２００７−００８７９７号公報などに記載のものを好ましく用いることができる。前記ポリビニルアセタール系の樹脂フィルムの中でも、本発明ではポリビニルブチラール樹脂フィルムを用いることが好ましい。前記ポリビニルブチラール樹脂フィルムは、それぞれ、ポリビニルブチラールを主成分とする樹脂フィルムであれば、特に定めるものは無く、広く公知の合わせガラス用中間膜としてのポリビニルブチラール樹脂フィルムを採用できる。その中でも、本発明では、前記中間膜は、ポリビニルブチラールを主成分とする樹脂中間膜またはエチレンビニルアセテートを主成分とする樹脂中間膜であることが好ましく、ポリビニルブチラールを主成分とする樹脂中間膜であることが特に好ましい。なお、主成分である樹脂とは、前記樹脂中間膜の５０質量％以上の割合を占める樹脂のことをいう。
【００８６】
第一および第二の中間膜は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、熱線遮蔽用の微粒子および遮音用の微粒子、可塑剤を挙げることができる。熱線遮蔽用の微粒子および遮音用の微粒子としては、例えば、無機微粒子、金属微粒子を挙げることができる。このような微粒子を第一または第二の中間膜などの弾性体内に分散混在せしめることにより、遮熱の効果を得られる。同時に、このような構成により、音波の伝搬を阻害し、振動減衰効果を得ることが好ましい。また微粒子の構造は球状が望ましいが、真球でなくともよい。またその形状を変えることはしてもよい。また、微粒子は中間膜（好ましくはポリビニルブチラール「以下、ＰＶＢ」）内で分散していることが望ましく、適当なカプセルに入れることや分散剤とともに添加することもよい。この場合の添加量は、特に制限はないが、樹脂成分の０．１〜１０質量％であることも好ましい。
【００８７】
無機微粒子としては、炭酸カルシウム、アルミナ、カオリンクレー、珪酸カルシウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、炭酸マグネシウム、タルク、長石粉、マイカ、バライト、炭酸バリウム、酸化チタン、シリカ、ガラスビ−ズ等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよく、混合して用いられてもよい。
【００８８】
また、熱線遮蔽微粒子としては、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）  、錫ドープ酸化亜鉛、珪素ドープ酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛、６ホウ化ランタン、６ホウ化セリウム、金微粉、銀微粉、白金微粉、アルミニウム微粉、鉄、ニッケル、銅、ステンレス、スズ、コバルト及びこれらを含む合金粉末等が挙げられる。遮光剤としては、カーボンブラック、赤色酸化鉄等が挙げられる。顔料としては、黒色顔料カーボンブラックと赤色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔｒｅｄ）と青色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔｂｌｕｅ）と黄色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔｙｅｌｌｏｗ）の４  種を混合してなる暗赤褐色の混合顔料等が挙げられる。
【００８９】
可塑剤としては、特に限定されず、この種の中間膜用の可塑剤として一般的に用いられている公知の可塑剤を用いることができる。例えば、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート（３ＧＨ）、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエート（３Ｇ７）  、テトラエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート（４ＧＯ）  、テトラエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエート（４Ｇ７）、オリゴエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート（ＮＧＯ）などが好適に用いられる。これらの可塑剤は、一般に、前記樹脂中間膜の主成分である樹脂（好ましくは、ポリビニルアセタール樹脂）１００質量部に対して２５〜７０質量部の範囲で用いられる。
【００９０】
本発明の合わせガラス用中間膜の製造方法は、本発明の赤外線遮蔽シート／中間膜の順に積層後に前記中間膜と前記赤外線遮蔽シートを熱接着する工程を含むことが好ましい。熱接着の方法としては特に制限はなく、加熱体を押し当てる熱圧着や、レーザー照射による加熱での熱融着などを採用することができる。その中でも本発明の積層体の製造方法は、中間膜に対して赤外線遮蔽シートを熱接着する工程が熱圧着であることが好ましい。
熱圧着の方法としては特に制限はないが、例えば８０〜１４０℃の加熱体を押し当てる方法が好ましい。加熱体としては、平面でも曲面でもよく、ローラーでもよい。熱圧着には、複数の加熱ローラーや、加熱可能な平面の挟圧面などを用いることができ、これらを組み合わせて用いてもよい。また、熱圧着は前記赤外線遮蔽シート／中間膜の積層体の両方の面に対して行っても、片面のみに行なってもよく、その場合は、熱圧着に用いるローラーの一方が加熱していないローラーや挟圧面であってもよい。これらの中でも本発明の積層体の製造方法は、前記熱圧着工程で加熱ローラーを用いることが好ましく、加熱ローラーと非加熱ローラーを組み合わせて用いることがより好ましい。
【００９１】
通常、中間膜は貼着の際に空気が逃げ易いように表面がエンボス加工などにより粗面状態にされている。貼り合わせた面は被着面に倣って平滑になり、光学性能が良くなるが、もう一方の面はガラス板等に貼り合わせる為に粗面状態を保持する必要がある。従って、熱圧着ローラーのうち中間膜に接する側のローラーの表面は粗面状態にして、中間膜の粗面状態を保つようにすることが好ましい。すなわち、中間膜の少なくとも一方の表面がエンボス加工されてあり、エンボス加工された表面が本発明のシートと接するように積層することが好ましい。また、熱圧着後に中間膜の赤外線遮蔽シートと接していない面を積極的にエンボス加工してもよい。
【００９２】
なお、赤外線遮蔽シート作製時に使用した透明支持体は前記熱接着工程前後で剥離しても良いし、剥離せずに合わせガラス用中間膜の一部としても良い。
【００９３】
本発明の合わせガラス用中間膜の製造方法は第一の中間膜が積層された赤外線遮蔽シートの反対面に第二の中間膜を積層する工程を含むことが好ましい。すなわち、本発明の合わせガラス用中間膜は、第二の中間膜を有することが好ましい。赤外線遮蔽シート２と第二の中間膜３’は隣接していてもよいし、それらの間に他の構成層を含んでいてもよいが、赤外線遮蔽シート２と第二の中間膜３’は隣接していることが好ましい。
これらの積層体は、第一の中間膜と赤外線遮蔽シートの熱圧着工程と同様の方法で熱圧着されることが好ましい。
【００９４】
前記赤外線遮蔽シートと前記中間膜を含む合わせガラス用中間膜は、加工に際し刃物を用いて切断したり、レーザー、ウオータージェットや熱によって切断したりしてもよい。
【００９５】
本発明の合わせガラスの用途は、特に制限はないが、住宅や自動車等の窓ガラス用であることが好ましい。本発明の合わせガラスは、上記により得られた本発明の合わせガラス用中間膜と、少なくとも２枚のガラス板を有し、前記２枚のガラス中に前記合わせガラス用中間膜が挿入されたことを特徴とする。また、本発明の合わせガラスは任意のサイズに好ましく裁断することができる。
【００９６】
合わせガラス用中間膜を、第一のガラスまたは第二のガラスと積層する方法は、特に制限はなく、公知の方法により２枚のガラス板の間に挿入して積層することができる。
【００９７】
ガラス板に挟持された積層体は、ガラス板／中間膜／赤外線遮蔽シート／中間膜／ガラス板の順に積層された構成となる。
【００９８】
図４は、本発明の製造方法で得られる、ガラス板に挟持された合わせガラス用中間膜を含む合わせガラスの構造の一例を示す概略図である。赤外線遮蔽シート２の端部が、ガラス板５および５’端部および第一の中間膜３および第二の中間膜３’の端部よりも内側にあってもよい。また、ガラス板５および５’の端部と、第一の中間膜３および第二の中間膜３’端部は、同じ位置であっても、いずれかが突出していてもよい。
また、ガラス板に挟持された積層体は、図４に示すように赤外線遮蔽シート２の端部が、ガラス板の端部および中間膜の端部と同じ位置にあってもよい。一方、赤外線遮蔽シート２の端部は、ガラス板５および５’の端部および第一の中間膜３および第二の中間膜３’の端部よりも突出した構成であってもよい。
【００９９】
ガラス板に挟持された積層体は、赤外線遮蔽シート２と第一の中間膜３、および赤外線遮蔽シート２と第二の中間膜３’は、それぞれ隣接していてもよいし、他の構成層を有していてもよい。
【０１００】
本発明の合わせガラスの製造方法では、ガラス板が曲率を有さないガラスであっても、曲面ガラスであることが好ましい。また、合わせガラス用中間膜を挟持する２枚のガラス板は厚みが異なっていてもよく、着色されていてもよい。特に、遮熱性を目的として自動車のフロントガラス等に用いる場合は、合わせガラス状態の可視光線透過率がＪＩＳ−Ｒ３２１１で定められている７０％を下回らない程度にガラス中に金属などの着色成分を混入させてもよく、一般的にはグリーンガラスを用いることで効果的に遮熱性を向上させることができる。グリーンガラスの色濃度については、添加する金属成分の量を調整したり、厚みを調整したりすることで目的に合った濃度に調節することが好ましい。
【０１０１】
本発明の合わせガラスの製造方法は、ガラス板に挟持された本発明の合わせガラス用中間膜を加熱しながら圧着する工程を含むことが好ましい。
ガラス板に挟持された本発明の積層体とガラス板との貼りあわせは、例えば、真空
バッグなどで減圧下において、温度８０〜１２０℃、時間３０〜６０分で予備圧着した後、オートクレーブ中、１．０〜１．５ＭＰａの加圧下で１２０〜１５０℃の温度で貼り合せ、２枚のガラスに積層体が挟まれた合わせガラスとすることができる。
加熱圧着終了後、放冷の仕方については特に制限はなく、適宜圧力を開放しながら放冷して、合わせガラス体を得てもよい。本発明では、加熱圧着終了後、圧力を保持した状態で降温を行うことが、得られる合わせガラス体のシワや割れをさらに改善する観点から好ましい。
本発明では、圧力を保持した状態で降温を行った後、次いで圧力を開放する工程を含む
ことが好ましい。具体的には、圧力を保持した状態で降温を行った後、オートクレーブ内の温度が４０℃以下になった後に圧力を開放して降温することが好ましい。
【実施例】
【０１０２】
以下実施例により本発明を更に詳細に説明する。実施例において部は重量部を、％は重量％をそれぞれ意味する。
【０１０３】
（表面抵抗の測定）
表面抵抗計（三菱化学アナリテック社製  ハイレスターＵＰ、ロレスターＧＰ）を用いて測定した。
（屈折率、消衰係数の測定）
各層の波長に対する屈折率、消衰係数はＰＥＴ基材上に各々作製し、分光エリプソメータ（Ｍ−２０００、ジェー・エー・ウーラム製）にて測定した。
【０１０４】
実施例１
（高屈折率樹脂塗布液１の作製）
平均粒子径３５ｎｍである酸化チタン（ＴＴＯ−５１Ａ、石原産業製）１．４部、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ０．４部、イルガキュアー９０７  ０．０５部、アミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤０．３部をトルエン７部中に加え、ビーズミルを用いて周速１０ｍ／ｓにて分散させ、高屈折率樹脂層塗布液（高屈液１）を作製した。
【０１０５】
（低屈折率樹脂塗布液１の作製）
平均粒子径２５．６ｎｍ、粉体抵抗０．８Ω・ｃｍである錫ドープ酸化インジウム（以下、ＩＴＯ）１．４部、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ０．４部、イルガキュアー１８４  ０．０５部、アミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤０．３部をトルエン７部中に加え、ビーズミルを用いて周速１０ｍ／ｓにて分散させ、低屈折率樹脂層塗布液（低屈液１）を作製した。
【０１０６】
（低屈折率樹脂塗布液２の作製）
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（商品名、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製）０．４部、イルガキュアー１８４（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン製）０．０５部をメチルエチルケトン（以下、ＭＥＫ）４部に溶解した中に、中空シリカ（Ｖ８２１６、平均粒子径５０ｎｍ、固形分濃度２０重量％、日揮触媒化成製）３部を分散させ、低屈折率樹脂層塗布液（低屈液２）を調製した。
【０１０７】
（積層膜の作製）
反射させる波長を１０００ｎｍに設定し、ＰＥＴ基材にＱＷＯＴ係数が表１の値になるように塗布液を適宜希釈して各層を積層し、層数が８の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。なお、各層はワイヤーバーにて塗布し、１００℃、２分間乾燥させ溶媒を蒸発させた後、ＵＶ照射によって作製した。
【０１０８】
【表１】
2015127274.tif 000005
【０１０９】
実施例２
反射させる波長を１０００ｎｍに設定し、ＱＷＯＴ係数が表２の値になるように積層した以外は実施例１と同様に層数８の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。
【０１１０】
【表２】
2015127274.tif 000006
【０１１１】
実施例３
反射させる波長を１０００ｎｍに設定し、ＱＷＯＴ係数が表３の値になるように積層した以外は実施例１と同様に層数１２の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。
【０１１２】
【表３】
2015127274.tif 000007
【０１１３】
実施例４
（低屈折率樹脂塗布液３の作製）
平均粒子径２５．６ｎｍ、粉体抵抗０．８Ω・ｃｍである錫ドープ酸化インジウム（以下、ＩＴＯ）１．１部、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ０．４部、イルガキュアー１８４  ０．０５部、アミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤０．３部をトルエン７部中に加え、ビーズミルを用いて周速１０ｍ／ｓにて分散させた。前記作製したＩＴＯ分散液に中空シリカ（Ｖ８２１６、平均粒子径５０ｎｍ、固形分濃度２０重量％、日揮触媒化成製）１．５部を分散させ、低屈折率樹脂層塗布液（低屈液３）を調製した。
【０１１４】
（積層膜の作製）
反射させる波長を１０００ｎｍに設定し、ＱＷＯＴ係数が表４の値になるように積層した以外は実施例１と同様に層数６の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。
【０１１５】
【表４】
2015127274.tif 000008
【０１１６】
実施例５
（赤外吸収色素合成例）
スルホラン１２０部にナフタル酸無水物１５．９部、尿素２９部、モリブデン酸アンモニウム０．４０部及び塩化バナジル（Ｖ）３．５部加え、２００℃まで昇温し、同温度で１１時間反応させた。反応終了後６５℃まで冷却し、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１００部加え、析出固体をろ過分離した。得られた固体をＤＭＦ５０部で洗浄し、ウェットケーキ２０．３部得た。得られたウェットケーキをＤＭＦ１００部に加え、８０℃に昇温し、同温度で２時間撹拌した。析出固体をろ過分離し、水２００部で洗浄しウェットケーキを１８．９部得た。得られたウェットケーキを水１５０部に加え、９０に昇温し、同温度で２時間撹拌した。析出固体をろ過分離し、水２００部で洗浄してウェットケーキ１６．１部を得た。得られたウェットケーキを８０℃で乾燥し、赤外吸収色素を１２．３部得た。
【０１１７】
（赤外吸収色素層の作製）
前記合成した赤外吸収色素  ０．０２部、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ１部、イルガキュアー１８４  ０．０５部、アミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤０．０１部をトルエン７部中に加え、ビーズミルを用いて周速１０ｍ／ｓにて分散させ、赤外吸収色素層塗布液を作製した。
【０１１８】
ＰＥＴ基材に赤外吸収色素塗布液を幾何学膜厚が４μｍとなるようワイヤーバーにて塗布し、１００℃、２分間乾燥させ溶媒を蒸発させた後、ＵＶ照射によって赤外吸収色素層を作製した。
【０１１９】
（積層膜の作製）
前記作製した赤外吸収色素層上に実施例１と同様にして積層し、本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。
【０１２０】
実施例６
（コレステリック液晶膜作製）
ＬＣ−２４２（棒状液晶化合物、ＢＡＳＦ製）１０部、ＬＣ−７５６（キラル剤、ＢＡＳＦ製）０．２５部、ルシリンＴＰＯ（重合開始剤、ＢＡＳＦ）０．５部をシクロペンタノン２６部中に加え、液晶膜塗布液１を作製した。
また、液晶膜塗布液１中のＬＣ−７５６を０．３部に変更して液晶塗布液２を作製した。
【０１２１】
ＰＥＴ基材に液晶膜塗布液１、２を幾何学膜厚がそれぞれ４μｍとなるようワイヤーバーにて塗布し、１３０℃、２分間乾燥させ溶媒を蒸発させた後、ＵＶ照射によってコレステリック液晶層を作製した。
【０１２２】
（積層膜の作製）
前記作製したコレステリック液晶層とは反対のＰＥＴ基材面に反射させる波長を１０００ｎｍに設定し、ＱＷＯＴ係数が表５の値になるように積層した以外は実施例１と同様に層数６の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。
【０１２３】
【表５】
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【０１２４】
比較例１
（低屈折率層の作製）
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（商品名、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製）１部、イルガキュアー１８４（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン製）０．０１部をメチルエチルケトン（以下、ＭＥＫ）１０部に溶解した中に、酸化ケイ素（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒子径１５ｎｍ、日産化学製）３．８部を分散させ、低屈折率層塗布液（低屈液４）を調製した。
【０１２５】
（積層膜の作製）
反射させる波長を１０００ｎｍに設定し、ＱＷＯＴ係数が表６の値になるように積層した以外は実施例１と同様に層数８の比較用の赤外線遮蔽シートを作製した。
【０１２６】
【表６】
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【０１２７】
実施例１〜６および比較例１の赤外線遮蔽シートの可視光透過率、ヘイズ、全日射エネルギーを測定した結果を表７に示す。
（可視光透過率の測定）
分光光度計（島津製作所社製  ＵＶ−３１００）を用いて、ＪＩＳ  Ｒ３１０６に準拠して、得られた赤外線遮蔽シートの波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける上記可視光透過率を測定した。
（全日射エネルギー（Ｔｔｓ）の測定）
全日射エネルギー（Ｔｔｓ；Ｔｏｔａｌ  Ｓｏｌａｒ  Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）は太陽からの熱的エネルギーのうち、対象となる材料をどの程度透過するかという尺度であり、ＩＳＯ１３８３７に定義されている計算式にて算出した。算出された数値が小さいほど全日射エネルギーが小さいことを示し、熱線遮蔽性が高いことを示す。
（ヘイズ値の測定）
ヘーズメーター（東京電色社製  ＴＣ−ＨＩＩＩＤＰＫ）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ６７１４に準拠して、得られた赤外線遮蔽シートのヘイズ値を測定した。
【０１２８】
【表７】
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【０１２９】
図１、図２、表７より本発明の赤外線遮蔽シートは比較例に比べて、波長７８０ｎｍ〜１５００ｎｍ領域を効率的に反射していることに加え、波長１５００ｎｍ〜２５００ｎｍ領域を吸収していることで、Ｔｔｓが大幅に改善されていた。
【０１３０】
実施例５，６は本発明の赤外線遮蔽シートと組み合わせることで、透過率を維持しつつ、赤外線をより効果的に遮蔽することができた。
【０１３１】
比較例１は図２より、微粒子による近赤外吸収が無い為、Ｔｔｓが不十分であり、さらに人がジリジリ感を感じる１５００ｎｍ以降の熱線が遮蔽されていない為、不快に感じてしまう事が懸念される。
【０１３２】
実施例７
「合わせガラス用中間膜の作製」
作製した各実施例の赤外線遮蔽シート上に中間膜であるＰＶＢを重ね合わせて積層体を得た。得られた積層体の表面側と裏面側に配置された２つのラミネート用加熱ローラーで全周（４辺）の赤外線遮蔽シートの端部から１ｍｍ以下の位置を挟圧し、赤外線遮蔽シートと中間膜を熱圧着して貼り合わせた。このとき、ラミネート用加熱ローラーは中間膜の裏面のエンボスをつぶさないように中間膜側のラミネートローラーは２５℃とし、逆に中間膜の赤外線遮蔽シート側表面のエンボスを十分につぶして中間膜３と赤外線遮蔽シート２の接着性を高めるように透明支持体（ＰＥＴ）側のラミネート用加熱ローラーを１２０℃とした。その後、第二の中間膜であるＰＶＢを積層し、各実施例の合わせガラス用中間膜を作製した。
【０１３３】
「合わせガラス化」
前記作製した合わせガラス用中間膜を、ガラス／中間膜／赤外線遮蔽シート／第二の中間膜／ガラスとなるように、重ね合わせてガラス板に挟持された積層体を製造した。ここで、ガラス板の端部と中間膜の端部は同じ位置であった。また、前記ガラス板は厚さが２ｍｍのものを用いた。得られたガラス板に挟持された積層体を真空下、９５℃で３０分予備圧着をおこなった。予備圧着後、ガラス板に挟持された積層体をオートクレーブ内で１．３ＭＰａ、１２０℃  の条件で加熱しながら圧着処理し、合わせガラスを作製した。
【０１３４】
実施例７で作製した、各実施例の赤外線遮蔽シートを含む合わせガラスの性能を評価し
たところ、顕著な欠陥やスジのない良好かつ、ヘイズが０．５以下の透明な遮熱ガラスとして働くことを確認した
【産業上の利用可能性】
【０１３５】
本発明によれば微粒子の赤外線吸収能に加え屈折率差を利用した赤外線反射能を付与する事で、従来の赤外線遮蔽シートと比較して、赤外線による温度上昇を抑えることを見出した。これにより住宅や自動車の空間の温度上昇を抑え、空調機器の負荷を軽減し、省エネルギーや地球環境問題に貢献できる。さらに、赤外線領域を選択的に遮蔽できるので、建造物用の窓用部材、車両用の窓用部材、冷蔵、冷凍ショーケースの窓ガラス、ＩＲカットフィルター、偽造防止等に利用可能である。
【符号の説明】
【０１３６】
１・・・合わせガラス用中間膜
２・・・赤外線遮蔽シート（透明支持体を含んでもよい）
３、３’・・・中間膜
４・・・合わせガラス
５、５’・・・ガラス板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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