(57)【要約】      （修正有）【課題】アブレーション電極と周囲組織との間の接触度合いを評価し測定するように適合された灌注式遠位先端アブレーション電極を備えるカテーテルを提供する。【解決手段】細長いカテーテル本体１２と、制御ハンドル１６と、中空先端電極と、を具備する。組織と相互作用する光は収集のために反射されて空洞内に戻るのに対し、血液等の流体と相互作用する光は吸収される。空洞内に収集された光を分析することによって、先端電極と組織との間の接触量が示される。組織及び血液は様々な波長において異なる蛍光特性を有するため、代替として、螢光（光が１つの波長にて放出され、１つ又は複数の異なる波長において検出される）を同様に利用することができる。統合型アブレーション及び分光法システムは、ＲＦ発生器と、光源と、空洞内に収集された光を分析するように適合された光分析装置と、を更に備える。【選択図】図１
2015128586.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カテーテルであって、
細長いカテーテル本体と、
空洞を画定するシェルを有する遠位先端電極であって、前記シェルが１つ又は複数の開口部を有して形成される、遠位先端電極と、
前記カテーテル本体を貫通して延び、前記空洞内に位置付けられた遠位エミッタ端部を有する少なくとも１つのエミッタ光導波路であって、前記空洞内に光を送達するように構成されていて、前記光の少なくとも第１の部分が前記１つ又は複数の開口部を出る、少なくとも１つのエミッタ光導波路と、
前記カテーテル本体を貫通して延び、前記空洞内に位置付けられた遠位集光器端部を有する少なくとも１つの集光器光導波路であって、光を収集するように構成されている、少なくとも１つの集光器光導波路と、を具備する、カテーテル。
【請求項２】
前記シェルが、前記空洞内の所定位置に対して半径方向に対称的な構成を有する遠位部分を有する、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項３】
前記所定位置が前記空洞内の中心位置である、請求項２に記載のカテーテル。
【請求項４】
前記空洞の前記半径方向に対称的な構成が半球状の構成である、請求項２に記載のカテーテル。
【請求項５】
前記半球状の構成が、約１８０度に及ぶ半径方向角度Φに対する半径によって画定される、請求項４に記載のカテーテル。
【請求項６】
前記半径方向に対称的な構成が、最大約３６０度に及ぶ半径方向角度に対する半径によって画定される、請求項４に記載のカテーテル。
【請求項７】
前記半径方向に対称的な構成が、最大約２７０度に及ぶ半径方向角度によって画定される、請求項４に記載のカテーテル。
【請求項８】
前記遠位先端電極が、凹面を備えた遠位表面を有するプラグ部材を更に具備する、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項９】
前記エミッタ光導波路が第１の強度の光を放出するように適合されていて、前記集光器光導波路が第２の強度の光を収集するように適合されている、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項１０】
前記エミッタ光導波路が第１の波長の光を放出するように適合されていて、前記集光器光導波路が第２の波長の光を収集するように適合されている、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項１１】
前記シェルが、反射コーティングを有する内表面を有する、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項１２】
アブレーション用及び分光法用のシステムであって、
請求項１に記載のカテーテルと、
前記遠位先端電極にＲＦエネルギーを供給するように適合されたＲＦ発生器と、
前記光を供給するように適合された光源と、
前記少なくとも１つの集光器光導波路によって収集された前記光を分析するように適合された分光計と、を具備する、システム。
【請求項１３】
患者インターフェイスユニットと、
通信ユニットと、
プロセッサと、
ディスプレイと、
を更に具備し、
前記患者インターフェイスユニットが前記ＲＦ発生器からの信号を前記通信ユニットに送受信するように適合されており、
前記通信ユニットが、前記患者インターフェイスユニットからの信号を送受信するように適合されており、
前記プロセッサが、前記通信ユニットからの信号を送受信するように適合されており、
前記ディスプレイが、前記プロセッサからの信号を受信するように適合されている、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
カテーテルであって、
細長いカテーテル本体と、
プラグ部材と空洞を画定するシェルとを有する遠位先端電極であって、前記シェルが半径方向に対称的な構成を有し、かつ１つ又は複数の開口部を有して形成される、遠位先端電極と、
前記カテーテル本体及び前記プラグ部材を貫通して延び、前記半径方向に対称的な構成に対して前記空洞内の中心位置内に位置付けられた遠位エミッタ端部を有する少なくとも１つのエミッタ光導波路であって、前記空洞内に光を送達するように構成されていて、前記光の少なくとも第１の部分が前記１つ又は複数の開口部を出る、少なくとも１つのエミッタ光導波路と、
前記カテーテル本体を貫通して延び、前記空洞内に位置付けられた遠位集光器端部を有する少なくとも１つの集光器光導波路であって、光を収集するように構成されている、少なくとも１つの集光器光導波路と、を具備する、カテーテル。
【請求項１５】
前記シェルが、前記空洞内の所定の中心位置に対して半径方向に対称的な構成を有する遠位部分を有する、請求項１４に記載のカテーテル。
【請求項１６】
前記空洞の前記半径方向に対称的な構成が半球状の構成である、請求項１５に記載のカテーテル。
【請求項１７】
前記半球状の構成が、約１８０度に及ぶ半径方向角度Φに対する半径によって画定される、請求項１６に記載のカテーテル。
【請求項１８】
前記半径方向に対称的な構成が、最大約３６０度に及ぶ半径方向角度に対する半径によって画定される、請求項１５に記載のカテーテル。
【請求項１９】
前記半径方向に対称的な構成が、最大約２７０度に及ぶ半径方向角度によって画定される、請求項１５に記載のカテーテル。
【請求項２０】
アブレーション用及び分光法用のシステムであって、
請求項１６に記載のカテーテルと、
前記遠位先端電極にＲＦエネルギーを供給するように適合されたＲＦ発生器と、
前記光を供給するように適合された光源と、
前記少なくとも１つの集光器光導波路によって収集された前記光を分析するように適合された分光計と、を具備する、システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カテーテルに関し、特に、アブレーション及び組織診断用の心臓カテーテルに関する。
【背景技術】
【０００２】
心臓及び他の組織の高周波（ＲＦ）アブレーションは、電極の先端において熱傷損傷部を生成する周知の方法である。高周波電流は、皮膚（アース）パッチと電極との間で送達される。電極と組織の境界面における電気抵抗は、小さい面積の直接抵抗加熱をもたらし、そのサイズは、電極のサイズ、電極と組織の接触、及び電流（密度）に応じて決まる。更なる組織加熱は、組織内の熱をより大きい範囲へと伝導することによってもたらされる。約５０〜５５℃の閾値を超えて加熱された組織は不可逆的に損傷を受ける（アブレーションされる）。
【０００３】
抵抗加熱は、電気抵抗によるエネルギー吸収によって起こる。エネルギー吸収は、電流密度の二乗に相関し、組織の導電性と逆相関する。電流密度は、接触部位の導電性及び電圧と共に変動し、アブレーション用電極からの半径の二乗に反比例して変化する。したがって、エネルギー吸収は、導電性、印加電圧の二乗と共に変動し、また、電極からの半径の四乗に反比例して変動する。したがって、抵抗加熱は、半径による影響を最も強く受け、アブレーション電極からの非常に短い距離に浸透する。損傷の停止部は、抵抗加熱の範囲からの熱伝導によって生成される。これにより、表面電極から送達することができるアブレーション損傷部のサイズに対して制限が与えられる。
【０００４】
損傷部のサイズを増加させる理論上の方法は、電極の直径を増加させることと、組織と接触する電極の面積を増加させることと、組織の導電性を増加させ、組織に浸透してより深い深さを達成し、接触面積を増加させることと、最大損傷部サイズが達成されるまで（完全成熟の場合、６０〜９０秒）ＲＦを送達することとを含む。
【０００５】
電極は、対象の組織に直接的（浅層／皮膚組織の場合）、外科的、内視鏡的、腹腔鏡的、又は経皮経管的（カテーテルを用いた）アクセスを使用して、導入することができる。カテーテルアブレーションは、十分に説明され一般に行われている方法であり、それによって多くの心臓不整脈が治療されている。
【０００６】
カテーテルアブレーションは、不十分な損傷部サイズによって制限される場合がある。内視鏡的アプローチによる組織のアブレーションによって、組織が加熱されるだけでなく、電極も加熱される。電極が臨界温度に達すると、血液タンパク質の変性によって凝塊が形成される。その結果、インピーダンスが上昇し、電流の送達が制限される可能性がある。組織内において、過熱が蒸気泡の形成を引き起こす（蒸気が「発泡する（pops）」）と共に、制御されない組織の破壊又は身体構造の望ましくない穿孔のリスクを伴う可能性がある。心臓アブレーションでは、臨床的成功は、先端の積極的冷却を伴うカテーテルを使用した場合であっても、不十分な損傷部の深さ及び横断直径によって妨げられる場合がある。理論上の解決策には、電極サイズを増加させる（接触面を増加させ、血流による対流冷却を増加させる）こと、電極・組織間の接触を改善すること、流体注入によって電極を積極的に冷却すること、電極の材料組成を変更して組織への電流送達を改善すること、及び電流の送達をパルス化して断続的な冷却を可能にすることが含まれている。
【０００７】
電極と組織の接触を改善する目的から、現在のカテーテルは、遠位先端にて圧力センサーが設けてあり、先端電極が組織と接触しているかどうかの検出を可能にしている。しかしながら、接触を検出するだけでは、先端電極が組織、又は流体及び血液で取り囲まれている実際の度合いが示されない。通電した電極を心臓腔に導入すると、簡易な抵抗回路が形成され、電極からの電流が、周囲の血液及び接触する組織を経由し、２つの並列抵抗器を通って流れる。これらの各経路の相対的な表面面積を把握することで、各経路のそれぞれの抵抗、従って電流流量の概算が可能になる。そのような情報が、アブレーションで生じた損傷のサイズ及び形状の推測を向上させるのに有効であることは、損傷のサイズ及び形状が、電力、時間、並びに電極及び組織の接触部位のサイズに応じている可能性がるためである。
【０００８】
組織属性を判定するための光学分光法を用いる方法及び装置が知られている。例えば、米国特許第７，６２３，９０６号は、組織から反射した拡散反射光を分光分析器で受光できるようにする鏡面反射デバイスを含む、拡散反射分光法のための方法及び装置を開示している。米国特許第７９５２７１９号は、ラマン分光法を光ファイバーに基づく低コヒーレンス反射率測定法と組み合わせた、光学カテーテル構成を開示している。米国特許第６，３７７，８４１号は、脳腫瘍の境界画定に対する光学分光法の使用を開示している。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
故に、カテーテルを用い、アブレーション電極と組織との接触量を、血液のような流体との接触量と対照して評価し測定できるようにし、損傷のサイズ及び深さが改善されるようにすることが所望される。また、カテーテルが、正確な測定を可能し、かつ先端電極の作用を中断することなしに先端電極の中への収まりを可能にするにする光学手段によってそのような評価及び測定を実現することも所望される。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、アブレーション電極と周囲組織との間の接触度合いを評価し測定するように適合された灌注式遠位先端アブレーション電極を備えるカテーテルに関する。本カテーテルは、細長いカテーテルシャフトと、制御ハンドルと、空洞を画定する半径方向に対称な部分を有する薄肉シェルを有する遠位先端電極と、を具備する。先端電極は、空洞内の第１の所定位置から光を放出するように構成された１つ又は複数の光エミッタと、空洞内の第２の所定位置から光を収集するように構成された１つ又は複数の光検出器と、を具備し、第２の所定位置は、第１の所定位置とほぼ同一であってもよいし、又はそうでなくでもよい。本発明の特徴に従い、光は第１の所定位置からシェルに向かって放射され、シェルの内表面に反射するか、又はシェル内に形成された開口部を通過して、先端電極の外部の物質（単数又は複数）と相互作用する。開口部の外部で光と衝突した物質（単数又は複数）との相互作用に応じて、１つ又は複数の集光器導波路で収集される空洞の内部の光を分析することにより、衝突した物質（単数又は複数）に関する指標が得られる。その指標には、例えば、物質（単数又は複数）の性質、物質（単数又は複数）の量、及び／又は先端電極に対する物質（単数又は複数）の位置若しくは配向が包含され、物質（単数又は複数）は、例えば、組織、及び血液のような流体を含み得る。その指標を用いることにより、組織をアブレーションするための先端電極の選択的通電が可能になる。一実施形態においては、光検出器が受け取った光を分析することによって、組織よって反射された光と、流体によって吸収された光との比率に関して測定し分析することにより、先端電極と組織との間の接触量が示めされる。
【００１１】
あるいは、基本光反射率の代わりに蛍光を採用してもよい。蛍光発光中に、光がカテーテルによって１つの波長にて放出され、組織又は血液によって吸収され得る。次いで、エネルギーが吸収された結果として、組織又は血液は、光がそれぞれ異なる波長にて放出して返されると、この他の波長における光の量又は強度がカテーテルによって検出される。組織及び血液は、様々な波長にて異なる蛍光特性を有し、またこの差異を利用することにより、先端部と組織との接触度を血液との接触度と対照した比率を、決定することが可能になる。例えば、３５０〜５５０ｎｍの範囲内で約３９０ｎｍにてピーク差異を有するとき、励起波長３３０ｎｍにて心筋（心臓組織中）がヘモグロビン（血液中）より多くの蛍光を発することが明らかにされてきた（図８を参照）。Ｖｅｎｉｕｓ，Ｊ．，ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｂｉｏｍｅｄ．Ｏｐｔ．１６（１０）２０１１。
【００１２】
本発明は、上述のカテーテルと、先端電極アセンブリにＲＦエネルギーを供給するＲＦ発生器と、光エネルギーを供給する光源と、１つ又は複数の集光器導波路によって収集された光学データを検出し分析する光学分析器（例えば分光計）と、を有する、統合されたカテーテルベースのアブレーション及び分光法システムを含む。その点において、分光計は、電磁スペクトルのその部分の、一般的にはその波長、周波数、又はエネルギーの関数として、光の性質を調査するのに使用される、任意の計器であることが理解される。測定される性質は、光の強度である場合が多いがそれに限定されず、偏光のような他の変数も測定することができる。技術的には、分光計は光の任意の範囲にわたって機能することができるが、ほとんどは電磁スペクトルの特定の領域で動作する。
【００１３】
本システムはまた、患者インターフェイスユニットと、通信（ＣＯＭ）ユニットと、プロセッサと、ディスプレイと、を具備していてもよく、ここでＣＯＭユニットは、カテーテル遠位先端のＥＣＧ用、電位図収集用、増幅用、フィルタリング用、及びリアルタイム追跡用のエレクトロニクスを提供している。ＰＩＵは、信号発生器、記録デバイスなどを含むシステムの様々な構成要素との通信を可能にしている。本システムは、患者の身体内に磁場を生成するための磁場発生器（例えば、コイル）を有する位置パッドを含むことができる。カテーテルに収容されたセンサーによって検出された、磁場に応答した信号は、カテーテル遠位端の位置（ロケーション及び／又は配向）座標を決定するために、プロセッサによって処理される。カテーテルからの他の信号、例えば組織の電気的活動及び温度はまた、カテーテルによって収集され、ＰＩＵを介して、処理及び分析のためにＣＯＭユニット及びプロセッサに伝達される。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
本発明のこれらの及び他の特徴及び利点は、添付図面と合わせて考察するときに、以下の発明を実施するための形態を参照することにより、より十分に理解されるであろう。
【図１】一実施形態による、本発明のカテーテルの斜視図である。
【図２Ａ】カテーテル本体と偏向可能な中間区画との間の接合部を含む、第１の直径に沿った、図１のカテーテルの側断面図である。
【図２Ｂ】カテーテル本体と偏向可能な中間区画との間の接合部を含む、図２Ａの第１の直径に対してほぼ垂直な第２の直径に沿った、図１のカテーテルの側断面図である。
【図２Ｃ】図２Ａ及び２Ｂの偏向可能な中間区画を線Ｃ−Ｃに沿ってとった端面断面図である。
【図３】一実施形態による、本発明のコネクタ部材及び遠位先端電極を含む、遠位区画の側断面図である。
【図３Ａ】線Ａ−Ａに沿ってとった、図３のコネクタ部材の端面断面図である。
【図３Ｂ】線Ｂ−Ｂに沿ってとった、図３の遠位先端電極の端面断面図である。
【図４Ａ】一実施形態による、偏向可能な中間区画とコネクタ部材との間の接合部を、第１の直径に沿ってとった側断面図である。
【図４Ｂ】一実施形態による、偏向可能な中間区画とコネクタ部材との間の接合部を、第１の直径に対してほぼ垂直な第２の直径に沿ってとった側断面図である。
【図５Ａ】本発明の代替実施形態による、遠位先端電極側断面図である。
【図５Ｂ】本発明の代替実施形態による、遠位先端電極側断面図である。
【図５Ｃ】本発明の代替実施形態による、遠位先端電極側断面図である。
【図５Ｄ】本発明の代替実施形態による、遠位先端電極側断面図である。
【図６】組織と接触した遠位先端電極の詳細側断面図である。
【図７Ａ】一実施形態による、本発明のシステムの概略図である。
【図７Ｂ】図７Ａのシステムのブロック図である。
【図８】ＨＣＳ（心臓刺激伝導系）、ＣＴ（結合組織）、及びＭＣ（心筋）の蛍光スペクトルを第１の帯域（３９０ｎｍにて）に正規化したものである。酸素ヘモグロビンＨｂＯ２及びヘモグロビンＨｂの正規化吸収スペクトルもまた追加されている。Ｖｅｎｉｕｓ，Ｊ．，ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｂｉｏｍｅｄ．Ｏｐｔ．１６（１０）２０１１。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図１に示すように、カテーテル１０は、細長いカテーテル本体１２と、偏向可能な中間区画１４と、遠位先端電極１５と、カテーテル本体１２の近位端に取り付けられた偏向制御ハンドル１６と、を備える。以下更に説明するように、遠位先端電極１５は、先端電極を取り囲む物質の光学ベースの指標（例えば、先端電極が軟組織に取り囲まれている度合い又は接触している度合いを、血液のような流体に取り囲まれている度合い又は接触している度合いと対照することを含む）を提供するように適合されている。
【００１６】
図２Ａ及び２Ｂを参照すると、カテーテル本体１２は、１本の中央又は軸方向ルーメン１８を有している。カテーテル本体１２は、可撓性、即ち屈曲可能であるが、その全長に沿って実質的に非圧縮性である。カテーテル本体１２は、任意の適当な構造のものであってよく、任意の適当な材料で作製することができる。本発明における好ましい構造は、ポリウレタン又はナイロンで作られた外壁２２を備える。外壁２２は、ステンレス鋼などの埋め込まれた編組メッシュを含みカテーテル本体１２の捻り剛性が増強されており、その結果、偏向制御ハンドル１６が回転すると、カテーテル１０の中間区画１４が対応する様式にて回転する。
【００１７】
カテーテル本体１２の外径は重要ではないが、好ましくは約８フレンチ以下である。同様に、外壁２２の厚さもさほど重要ではない。図示される実施形態では、外壁２２の内表面は、任意の好適な材料、好ましくはポリイミドで作製することができる、強化チューブ２０で裏打ちされている。強化チューブ２０は、編組された外壁２２とともに高い捻れ安定性を与えると同時にカテーテルの壁厚を最小化することで単一のルーメンの直径を最大化する。強化チューブ２０の外径は、外壁２２の内径とほぼ同じか、又はそれよりも僅かに小さい。
【００１８】
図２Ａ、２Ｂ及び２Ｃに示すように、中間区画１４は、例えば、少なくとも４つのルーメン（即ち、第１のルーメン３０、第２のルーメン３１、第３のルーメン３２、一方向偏向用の第４の軸外牽引ワイヤルーメン３３、及び二方向偏向用のルーメン３３とは反対側の第５の軸外ルーメン３４）を有する、多重ルーメンチューブ１９の短区画を備える。チューブ１９は、好ましくはカテーテル本体１２よりも可撓性である、適切な非毒性材料で作製される。チューブ１９に適した材料は、編組ポリウレタン、即ち編組のステンレス鋼などのメッシュが埋め込まれたポリウレタンである。カテーテル本体１２の外径と同様に、中間区画１４の外径は、好ましくは、約８フレンチ以下である。
【００１９】
カテーテル本体１２を中間区画１４に取り付けるための好適な手段は、図２Ａ及び２Ｂに例示されている。中間区画１４の近位端は、補強材２０の外表面を受容する内側座ぐり穴２４を備える。中間区画１４及びカテーテル本体１２は、接着剤等により取り付けられる。本発明により他の取り付け方法も使用できる。
【００２０】
強化チューブ２０は、カテーテル本体１２における外壁２２に対する適所に保持されている。カテーテル本体１２の好適な構造では、強化チューブ２０の近位端に力が印加され、それによって強化チューブ２０の遠位端が座ぐり穴２４を確実に押圧する。圧縮下に置かれている間、速乾性接着剤、例えば、Ｓｕｐｅｒ  Ｇｌｕｅ（登録商標）によって、強化チューブ２０と外壁２２との間に、第１の接着部が作製される。その後、遅乾性である反面で強度の大きい接着剤、例えば、ポリウレタンを使用して、強化チューブ２０と外壁２２の近位端との間に、第２の接着部が形成される。
【００２１】
制御ハンドル１６から延び、カテーテル本体１２の中央ルーメン１８及びチューブ１９の第１のルーメン３０を貫通して延びているのは、先端電極１５用のリードワイヤ２９と、先端電極の温度を感知するための熱電対ワイヤ対５０及び５１、並びに先端電極１５付近に収容された電磁位置センサー５４用のケーブル５２である。制御ハンドル１６から延び、中央ルーメン１８及び第２のルーメン３１を貫通して延びているのは、流体（例えば、生理食塩水）を制御ハンドル１６からカテーテルの全長に沿って先端電極１５まで通過させるための灌注チューブ５６である。制御ハンドル１６から延び、中央ルーメン１８及び第３のルーメン３２を貫通して延びているのは、少なくとも２つの光導波路、例えば、エミッタ導波路６０Ｅ及び集光器導波路６０Ｃである。開示された実施形態においては、１つのエミッタ導波路、及び３つの集光器導波路が存在している。
【００２２】
図示されるカテーテルは、カテーテル本体１２を偏向させるメカニズムを含む。図示されている実施形態において、カテーテルは、牽引ワイヤルーメン３３内へと延在する第１の牽引ワイヤ４３、及び牽引ワイヤルーメン３４内へと延在する第２の牽引ワイヤ４４を用いて、二方向偏向するように適合されている。牽引ワイヤ４３及び４４は、その近位端において偏向制御ハンドル１６内に係留され、その遠位端において中間区画１４の遠位端又はその付近に係留されている。牽引ワイヤは、ステンレス鋼又はニチノールなど任意の好適な金属で作製され、好ましくはテフロン（登録商標）などでコーティングされる。コーティングによって牽引ワイヤに潤滑性が付与される。各牽引ワイヤの直径は、好ましくは、約０．０１５〜約０．０２５ｃｍ（約０．００６〜約０．０１０インチ）の範囲である。
【００２３】
中間区画１４の偏向を実施するため、各牽引ワイヤは、カテーテル本体１２の近位端から延出して中間区画１４の近位端にて又はその付近で終端する、それぞれの圧縮コイル４５で取り囲まれている。各圧縮コイル４５は、任意の好適な金属、好ましくはステンレス鋼で作られる。圧縮コイル４５は、可撓性（即ち、撓み）をもたらすが、圧縮には抵抗するように、それ自体の上に緊密に巻き付けられている。圧縮コイル４５の内径は、好ましくは牽引ワイヤの直径よりも僅かに大きい。例えば、牽引ワイヤの直径が約０．０１８ｃｍ（０．００７インチ）のとき、圧縮コイルの内径は、好ましくは約０．０２０ｃｍ（０．００８インチ）である。牽引ワイヤ上にテフロン（登録商標）コーティングを施すことにより、この牽引ワイヤが圧縮コイル４５内で自在に摺動することが可能になる。各圧縮コイル４５の外表面は、その長さに沿って、それぞれの可撓性、かつ非導電性のシース２６によって被覆されているため、圧縮コイルとカテーテル本体１２内部にある他の任意の構成要素との間の接触が防止されている。非導電性シース２６はポリイミドチューブで作製することができる。各圧縮コイル４５は、その近位端において、接着剤（不図示）によってカテーテル本体１２内の強化チューブ２０の近位端に係留されている。各圧縮コイルは、その遠位端において、接着接合部４６（図２Ｂ）によってそれぞれの牽引ワイヤルーメン３３及び３４内に係留される。中間区画１４内で、牽引ワイヤ４３及び４４は、例えばテフロン（登録商標）製の、それぞれの保護シース８１を貫通して延び、区画１４を偏向させるときに牽引ワイヤがチューブ１９の壁の中に食い込むのを防ぐ。
【００２４】
図４Ｂに示すように、牽引ワイヤはその遠位端において、中間区画のシャフト１４のチューブ１９の側部に係留されている。この実施形態では、各牽引ワイヤに対してＴ形アンカー２３が使用される。アンカー２３は、管状ステンレス鋼２５の短片、例えば皮下材料（hypodermic stock）を備え、この短片は、各牽引ワイヤの遠位端に嵌め込まれ、牽引ワイヤにしっかり固定するように圧着されている。管状ステンレス鋼２５の遠位端は、例えば溶接によって、ステンレス鋼リボンなどのステンレス鋼横材２７にしっかりと取り付けられる。横材２７は、チューブ１９の壁部にある切欠き２８内にはめ置かれている。ステンレス鋼横材２７は切欠き２８よりも大きく、したがって、切欠きを通して引っ張ることはできない。横材２７で充填されていない切欠き２８の部分は、中間区画１４のチューブ１９の材料よりも硬質の接着剤２１又はそれに類するもの、好ましくはポリウレタン接着剤で充填される。横材２７の粗い縁部がある場合、平滑で遠位軸１４の外表面と連続する表面を提供するように研磨される。
【００２５】
また、牽引ワイヤを中間区画１４内に係留するための、他の任意の好適な技法も使用することができる。あるいは、その開示を参照により本明細書に援用する米国特許第５，５３７，６８６号に記載されている偏向メカニズムなど、遠位側領域を偏向させる他の手段を提供することができる。
【００２６】
牽引ワイヤがカテーテル本体１２に対して長手方向に動くと、結果として、中間区画１４が偏向する。これは、制御ハンドル１６上の偏向制御ノブ１７（図１）の適切な操作によって達成される。単一の牽引ワイヤを操作して一方向で偏向させる好適な制御ハンドルの例は、例えば、米国特許Ｒｅ第３４，５０２号、同第５，８９７，５２９号、及び同第６，５７５，９３１号に開示されており、それらの開示全体を参照により本明細書に援用する。少なくとも２つの牽引ワイヤを操作して二方向で偏向させる好適な制御ハンドルは、米国特許第６，１２３，６９９号、同第６，１７１，２７７号、及び同第６，１８３，４６３号に記載されており、それらの開示を参照により本明細書に援用する。
【００２７】
図３、４Ａ及び４Ｂに示すように、中間区画１４の遠位は、チューブ１９の遠位端にコネクタチューブ７１で接続されている先端電極７０を備える遠位区画である。チューブ７１は、区画１４と先端電極７０との間に延在する構成要素が、必要に応じて再配置／再整列することを可能にする単一の中央ルーメン７２を有する。また、チューブ７１には電磁位置センサー５４が収容される。位置センサーは、患者の身体における先端電極の座標を決定する目的に用いられる。対応するセンサーケーブル５２は、制御ハンドル１６から延出し、カテーテル本体１２のルーメン１８、中間区画のルーメン３０を通って、コネクタチューブ７１のルーメン７２に入る。制御ハンドル１６内で、センサーケーブル５２は、回路基板（図示せず）に接続される。回路基板からの信号は、コンピュータ及びモニターに伝送される。医師は、電磁センサー５４を使用して、心内腔の視覚的描写を生成することも、センサーの位置、従ってその腔内部のカテーテル先端を調べることもできる。センサーケーブル５２は、プラスチック被覆シースの内部に収納された複数のワイヤを具備する。回路基板は、位置センサー５４から受け取った信号を増幅して、コンピュータに理解可能な形式でコンピュータに伝送する。また、カテーテルは単回使用専用に設計されているため、カテーテルが使用されてから約２４時間後に回路基板を遮断するＥＰＲＯＭチップが、回路基板に含まれてもよく、そうすることによって、カテーテル又は少なくとも位置センサー５４の二回使用が防止される。好適な制御ハンドル１６は、その開示内容全体が本明細書において参照により援用されている米国特許第６，０２４，７３９号に記載されている。
【００２８】
位置センサー５４は、米国特許第５，３９１，１９９号に記載されているような磁場感応性コイルを具備していてもよい。複数のコイルにより、位置センサー７７の六次元座標（即ち、３つの位置座標及び３つの配向座標）を判定することが可能になる。別の方法としては、電気、磁気、又は音響センサーなど、当該分野において既知の任意の好適な位置センサーが使用されてもよい。本発明による使用に好適な位置センサーは、例えば、米国特許第５，５５８，０９１号、同第５，４４３，４８９号、同第５，４８０，４２２号、同第５，５４６，９５１号、及び同第５，５６８，８０９号、国際公開第９５／０２９９５号、同第９７／２４９８３号、及び同第９８／２９０３３号、並びに「Ｐｏｓｉｔｉｏｎ  Ｓｅｎｓｏｒ  Ｈａｖｉｎｇ  Ｃｏｒｅ  ｗｉｔｈ  Ｈｉｇｈ  Ｐｅｒｍｅａｂｉｌｉｔｙ  Ｍａｔｅｒｉａｌ」と題した米国特許出願第０９／８８２，１２５号（２００１年６月１５日出願）にも記載されており、その開示内容が本明細書において参照により援用される。
【００２９】
図３に示すように、先端電極７０は、薄肉シェル部材７４とプラグ部材７６とを有する。中空シェル部材７４は、空洞又は空洞室８０を画定する遠位部分と、開口を有する近位の管状首部分７４Ｐとを有し、管状首部分は円盤状プラグ部材８２を受容しかつこのプラグ部材で密閉されている。
【００３０】
プラグ部材７６は、光導波路６０Ｅ及び６０Ｃを受容する中央軸線方向通路８４を有して形成されており、これらの光導波路は、中間区画１４のルーメン３１から通路８４を貫通して延び、コネクタチューブ７１のルーメン７２を介して、通路８４を通って空洞８０内に入る。後ほど詳述するように、光導波路の遠位端は、中心位置Ｃに位置付けられていて、導波路によって送達された光が、中心位置Ｃから空洞８０全体にわたって外方へ放射されるようになっている。
【００３１】
プラグ部材７６はまた、灌注チューブ５６を受容する中心軸外の軸方向通路８６を有し、この灌注チューブは、中間区画１４のルーメン３５から延出し、コネクタチューブ７１のルーメン７２を通って、通路８６に入る。
【００３２】
プラグ部材７６の近位表面には、先端電極１５に通電するためのリードワイヤ２９の遠位端を受容する盲穴８８が設けてある。また、プラグ部材７６の近位表面には、熱電対ワイヤ５０及び５１の遠位端を受容する盲穴９０も設けてある。それらのワイヤは、先端電極１５を取り囲む組織の温度を測定する目的に提供されている。任意の従来の温度センサー、例えば熱電対又はサーミスタが使用されてもよい。図示されている実施形態において、熱電対は、エナメルを被せたワイヤ対で形成されている。ワイヤ対の一方のワイヤは銅線５０、例えば４６ＡＷＧの銅線である。ワイヤ対の他方のワイヤはコンスタンタンワイヤ５１、例えば４６ＡＷＧのコンスタンタンワイヤである。ワイヤ対のワイヤ５０及び５１は、遠位端が一体に半田付けされ、プラスチックチューブ９１（例えばポリイミドの短片）で被覆され、かつポリウレタンで被覆されている。ただし、遠位端以外は相互に電気的に絶縁されている。プラスチックチューブ９１は、その上、盲穴８８内に接着されているか又はさもなければ係留されている。
【００３３】
制御ハンドル１６の近位、熱電対ワイヤ対５０及び５１、並びにリードワイヤ２９は、好適な温度モニターに接続可能な適切なコネクタ７９（図１）に取り付けられている。カテーテル本体１２及び偏向制御ハンドル１６の内部では、熱電対のワイヤ５０及び５１、並びにリードワイヤ２９が、保護管（不図示）を貫通して延びることができるが、所望される場合は、この保護管を除外してもよい。代替実施形態において、熱電対の銅線５０はまた、先端電極１５用のリードワイヤとしても使用できる。
【００３４】
本発明の特徴に従い、先端電極１５のシェル部材７４は、空洞８０内の所定位置に対して半径方向に対照的な構成を備える遠位部分を有する。つまり、空洞を取り囲むシェル部材の部分は、該位置から距離Ｒだけ均等に離隔されている。図３に例示されている実施形態において、位置は中心位置Ｃであり、空洞の半径方向に対照的な構成は、約１８０度に及ぶ半径方向角度Φに対する半径Ｒによって画定された半球形である。本発明は、他の構成を含む。図５Ａに例示されている実施形態において、半径方向に対照的な構成は、最大約３６０度に及ぶ半径方向角度Φ１、又は代わりに、最大約２７０度に及ぶ半径方向角度Φ２に対する半径Ｒ２によって画定されている。とりわけ、Φの半径方向角度が大きい場合、プラグ部材７６の遠位表面は、球形の空洞の輪郭線に追従する凹状であり得る。図５Ｂに例示されている実施形態において、半径方向に対照的な構成は、最大約９０度に及ぶ半径方向角度Φに対する半径Ｒ３によって画定されている。本発明の特徴に従い、コネクタチューブ７１の直径をＤとした場合、シェル部材７４の半径方向に対照的な構成が、最大約９０〜３６０に及ぶ、好ましくは最大約１８０〜２７０度に及ぶ半径方向角度Φに対して約Ｄ及び２Ｄの範囲の半径を有し得る。
【００３５】
先端電極１５内に光を送達するエミッタ導波路６０Ｅ、及び空洞８０内の光を集める集光器導波路６０Ｃ（単数又は複数）は相互に、カテーテル全体にわたってほぼ並んで延在し、カテーテル本体１２のルーメン１８、中間区画１４のルーメン３１、コネクタチューブ７１のルーメン７２、及びプラグ部材７６の通路８４を通って相互に結合され得る。導波路６０Ｅを介して先端電極１５に送達された光は、中心位置Ｃから空洞８０内に放出され、シェル部材７４に向かって外方へ放射される。空洞８０を取り囲むシェル部材７４の遠位部分は、複数の開口部８２と、空洞８０を取り囲むシェル部材７４の遠位部分の内表面と、を有して形成されており、プラグ部材の遠位表面の内表面は、反射コーティング９２でコーティングされている。図６に例示されているように、組織と接触しているシェル部材７４の如何なる部分７４Ａについても、その部分にある開口部８２Ａは組織Ｔで被覆されている。組織と接触していないシェル部材７４の如何なる部分７４Ｂについても、その部分にある開口部８２Ｂは、血液のような流体Ｆで被覆されている。故に、或る様式で光と相互作用する周囲組織Ｔと、又は別の様式で光と相互作用する血液のような流体Ｆと、光が相互作用するものとした場合、エミッタ導波路６０Ｅの遠位端から空洞８０に入ってくる光は、空洞内部のコーティング９２に衝突して反射することもあれば、又は開口部８２を通過することもあり得る。それ故、集光器導波路によって収集され空洞８０内に存在する光であって組織Ｔ又は流体Ｆ（又は他の任意の物質）のいずれかと相互作用したその光に関する１つ又は複数の検出可能な特徴又はパラメータを、当初にエミッタ導波路によって放出された空洞内の光と比較した際の差異又は変化に基づき、組織と相互作用した光の量、及び流体と相互作用した光の量に関する指標が得られるはずである。そのような指標によって、更なる指標（空洞８０を取り囲むシェル部材であって組織に囲まれている又は接触しているそのシェル部材に関する、開口部の数、及び表面の量又は百分率とを、流体に囲まれている又は接触しているものとを対照したものを含む）を得ることができる。当然のことながら、１つ又は複数の検出可能なパラメータには、量、強度、又は蛍光が包含される。例えば、検出可能なパラメータを光の量又は強度とした場合、当然のことながら、組織は一般に光を反射するのに対して、流体は一般に光を吸収する。空洞内に存在する光（収集用の導波路で収集された光）の強度が、当初に放出用導波路によって放出された空洞内の光の強度に等しいほど、光を吸収する流体で被覆されている開口部８２の数が少なくなると推測され、その結果、おそらく、シェル部材のうちのより多くの外表面がアブレーション中に良好な損傷に向けて組織と接触している。それ故、空洞内に集められた光の量又は強度を分析することによって、例えば、反射された光と吸収された光との比率を定量することによって、空洞を取り囲むシェル部材の部分と組織との接触度が求められる。
【００３６】
例えば、検出可能なパラメータを蛍光とした場合、当然のことながら、組織及び血液は異なる波長において異なる蛍光特性を有するため、放出された光の波長と集められた光の波長との間の差異を基準とすることで、先端電極と組織との接触度を、血液との接触度と対照した比率を決定する助けになる。
【００３７】
図３、５Ａ及び５Ｂに例示されている実施形態において、エミッタ導波路６０Ｅ及び集光器導波路６０Ｃの両方の遠位端は、ほぼ中心位置Ｃに位置付けられていて、光が外方へ放射される位置は、反射された光が空洞８０内に集光される位置とほぼ同一である。しかしながら、当然のことながら、エミッタ導波路及び集光器導波路の一方又は両方の遠位端は、空洞８０内のどこか他の所に位置付けられる。例えば、エミッタ導波路及び集光器導波路の遠位端は、相互にそれぞれ異なる所定位置に（即ち、一方が中心位置に、他方（単数又は複数）が先端電極の中央長手方向軸ＬＡに沿った別の位置Ｃ２に）位置付けられ得る。代わりに、１つ又は複数のエミッタ導波路及び集光器導波路の遠位端は、１つ又は複数の中心軸外の位置Ｄ１及びＤ２（図５Ｄ）に位置付けられ得る。事実上、導波路の遠位端は、空洞内の任意の好適な位置（単数又は複数）に位置付けられ得る。そのような構成では、空洞の幾何学的形状に対して相対的に複雑度の高い分析が必要とされる場合もあるが、にもかかわらず、収集されたデータから、光と先端電極を取り囲む物質（単数又は複数）の相互作用に関する指標（シェル部材と組織との接触度を、流体との接触度と対照した指標を含む）が、得られる。
【００３８】
当然のことながら、複数のエミッタ導波路及び集光器導波路の総数は、要求及びニーズに応じて異なる可能性があるなお、複数のエミッタ導波路（単数又は複数）及び複数の集光器導波路（単数又は複数）は、相互に等しい場合もあれば又は等しくない場合もある。例えば、その複数の各々は、１つの中央エミッタ導波路、及び２つの隣接する集光器導波路、又は他の任意の組み合わせを含む、約１〜３の範囲であり得る。
【００３９】
図（７Ａ）に示すように、偏向制御ハンドル１６の近位、ルアーコネクタ７７に接続されている灌注チューブ５６の近位端は、灌注ポンプ又は他の好適な輸液供給源１１９に接続されている。制御ハンドル１６において、電極リードワイヤ２９、並びに熱電対ワイヤ５０及び５１は、１０ピンの電気コネクタなどの好適なコネクタ７９に接続されていて、電極リードワイヤをアブレーションエネルギー供給源に接続し、熱電対ワイヤを好適なモニター用システムに接続するようになっている。図７Ａに示すように、エミッタ導波路６０Ｅは、制御ハンドル１６の近位端から外部へ延出し、保護シース３５内に入り、好適な光源、例えば、ランプ又は複数のレーザーと通信するようになっている。図７Ａに示すように、集光器導波路６０Ｃ（単数又は複数）は、制御ハンドル１６の近位端から外部へ延出し、保護シース３７内に入り、好適な光分析装置（例えば、分光計）と通信して、集められた光を処理するようになっている。
【００４０】
図及び７Ａ及び７Ｂに示すように、カテーテル１０は、統合されたアブレーション及び分光法システム２００と共に使用できる。図示される実施形態では、システムは、ＲＦ発生器２０２と、患者インターフェイスユニット２０３と、通信（ＣＯＭ）ユニット２０４と、位置パッド２０６と、プロセッサ２０７と、入力デバイス（例えば、キーボード）２１１と、ディスプレイ２０８とを含む。ＣＯＭユニット２０４は、ＥＣＧ、電位図収集、増幅、フィルタ処理、及びカテーテル遠位先端のリアルタイム追跡のための電子機器を提供する。ＰＩＵ２０３は、システム２００の様々な構成要素（信号発生器、記録デバイスなどを含む）との通信を可能にしている。位置パッド２０６は、磁場発生器（例えば、コイル）を具備し、典型的には、この位置パッドを患者の身体の下部に位置付けることによって患者の身体内に磁場が生成される。これらの磁場に応答して、カテーテルの遠位端に収容された位置センサー５４は電気信号を発生させ、電気信号が、カテーテル遠位端の位置（位置及び／又は配向）座標を決定するために、ＰＩＵ  ２０３によって受信され、ＣＯＭユニット２０４に送信され、プロセッサ２０７によって処理される。プロセッサ２０７は、ディスプレイ２０８を駆動する際に座標を使用して、カテーテルの位置及び状態を示す。カテーテル１０からの他の信号、例えば組織の電気的活動及び温度も、ディスプレイ２０８上に示される患者の心臓の３Ｄマッピングを含む処理及び分析のため、ＰＩＵ  ２０３を介してＣＯＭユニット２０４及びプロセッサ２０７に送信される。この位置感知及び処理の方法は、例えば、その開示全体を参照により本明細書に援用される、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ  ９６／０５７６８号に詳細に記載されており、Ｂｉｏｓｅｎｓｅ  Ｗｅｂｓｔｅｒ  Ｉｎｃ．（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｂａｒ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）製のＣＡＲＴＯシステム内に実装されている。
【００４１】
アブレーションの場合、ＲＦ発生器２０２は、ＰＩＵ  ２０３を介してカテーテル１０の先端電極１５にＲＦアブレーションエネルギーを供給する。分光法に対応するため、システム２００は、エミッタ導波路６０Ｅを介して入射光エネルギーをカテーテル１０に供給する光源２０９を更に含む。集光器導波路６０Ｃによって収集された光は分光計２１０に伝達され、分光計が、信号を処理するプロセッサ２０７に対して代表的信号を提供して、照明される標的組織の様々なパラメータ及び／又は特性が決定される。システムは、カテーテル位置点を獲得するのに使用されるＰＩＵ  ２０３に接続された第１のフットペダル２０５Ａと、ＲＦ発生器２０２の活性化／非活性化のためにＲＦ発生器２０２に接続された第２のフットペダル２０５Ｂとを含むことができる。
【００４２】
本発明のカテーテルを使用するため、電気生理学医は、当該分野において一般に知られているように、ガイド用シース及び拡張器を患者の体内に導入してもよい。かかる使用に適合されたカテーテルのため、ガイドワイヤも導入することができる。例えば、カテーテルは、下大動脈（ＩＶＣ）を経由して右心房（ＲＡ）に導入することができる。左心房（ＬＡ）に達するために、カテーテルは隔膜を通り抜ける。ガイド用シースを通して、カテーテルの全長が患者の脈管系を通り抜けて所望の位置に至り得る。いったんカテーテルの遠位端が所望される位置（例えば、右心房ＲＡ）に到達すると、ガイド用シースが取り除かれ、先端電極１５及び中間区画１４が曝露される。必要に応じて、制御ハンドル１６を操作して、中間区画１４を所定位置に偏向させてもよい。カテーテル本体の遠位端１２が標的組織上に位置付けられて接触した後、光はエミッタ導波路６０Ｅによって伝達され、先端電極１５の空洞８０内に入る。図６に示すように、光は空洞内の第１の所定の位置からシェル部材７４に向かって外方へ放射され、反射コーティング９２に衝突して空洞の内部にリダイレクトされるか、又は開口部８２を通過して空洞の外部に至り、或る様式にて組織Ｔ又は流体Ｆと相互作用し、別の様式にてそのような相互作用が１つ又は複数の光の特徴若しくはパラメータに影響及び／又は変更を及ぼす。そのような影響又は変更を受けた光は、集光器導波路６０Ｃによって収集され、分析のためにカテーテルを介して分光計まで近位に伝送される。分析に応じて、アブレーション用先端電極への通電をはじめとする、選択された対処（単数又は複数）が講じることができる。ここで、先端電極が組織に十分接触していることが指標となる。
【００４３】
アブレーション用先端電極１５にＲＦエネルギーを印加してもよい。また、アブレーション中には、灌注用チューブ５６を通して輸液を供給する流体供給源及びポンプ１１９を介して、先端電極に灌注流体が供給される。流体は、灌注チューブ５６を経由して空洞に入り、開口部８２を経由して空洞から出る。
【００４４】
上記の説明文は、現時点における本発明の好ましい実施形態に基づいて示したものである。本発明が関係する分野及び技術の当業者であれば、本発明の原理、趣旨及び範囲を著しく逸脱することなく、説明された構造の改変及び変更が実施することができることを理解するであろう。当業者に理解されるように、図面は必ずしも一定の縮尺ではない。また、必要に応じて、又は適切であれば、異なる実施形態の異なる特徴が組み合わされてもよい。更に、本明細書に記載したカテーテルは、マイクロ波、レーザー、ＲＦ、及び／又は凍結材を含む、様々なエネルギー形態を適用するように適合されてもよい。したがって、上記の説明は、説明され添付図面に示される厳密な構造のみに関係するものとして読み取るべきではなく、むしろ、最も完全で公正な範囲を有するであろう以下の特許請求の範囲と符合し、かつ特許請求の範囲を支持するものとして読み取るべきである。
【００４５】
〔実施の態様〕
（１）  カテーテルであって、
細長いカテーテル本体と、
空洞を画定するシェルを有する遠位先端電極であって、前記シェルが１つ又は複数の開口部を有して形成される、遠位先端電極と、
前記カテーテル本体を貫通して延び、前記空洞内に位置付けられた遠位エミッタ端部を有する少なくとも１つのエミッタ光導波路であって、前記空洞内に光を送達するように構成されていて、前記光の少なくとも第１の部分が前記１つ又は複数の開口部を出る、少なくとも１つのエミッタ光導波路と、
前記カテーテル本体を貫通して延び、前記空洞内に位置付けられた遠位集光器端部を有する少なくとも１つの集光器光導波路であって、光を収集するように構成されている、少なくとも１つの集光器光導波路と、を具備する、カテーテル。
（２）  前記シェルが、前記空洞内の所定位置に対して半径方向に対称的な構成を有する遠位部分を有する、実施態様１に記載のカテーテル。
（３）  前記所定位置が前記空洞内の中心位置である、実施態様２に記載のカテーテル。
（４）  前記空洞の前記半径方向に対称的な構成が半球状の構成である、実施態様２に記載のカテーテル。
（５）  前記半球状の構成が、約１８０度に及ぶ半径方向角度Φに対する半径によって画定される、実施態様４に記載のカテーテル。
【００４６】
（６）  前記半径方向に対称的な構成が、最大約３６０度に及ぶ半径方向角度に対する半径によって画定される、実施態様４に記載のカテーテル。
（７）  前記半径方向に対称的な構成が、最大約２７０度に及ぶ半径方向角度によって画定される、実施態様４に記載のカテーテル。
（８）  前記遠位先端電極が、凹面を備えた遠位表面を有するプラグ部材を更に具備する、実施態様１に記載のカテーテル。
（９）  前記エミッタ光導波路が第１の強度の光を放出するように適合されていて、前記集光器光導波路が第２の強度の光を収集するように適合されている、実施態様１に記載のカテーテル。
（１０）  前記エミッタ光導波路が第１の波長の光を放出するように適合されていて、前記集光器光導波路が第２の波長の光を収集するように適合されている、実施態様１に記載のカテーテル。
【００４７】
（１１）  前記シェルが、反射コーティングを有する内表面を有する、実施態様１に記載のカテーテル。
（１２）  アブレーション用及び分光法用のシステムであって、
実施態様１に記載のカテーテルと、
前記遠位先端電極にＲＦエネルギーを供給するように適合されたＲＦ発生器と、
前記光を供給するように適合された光源と、
前記少なくとも１つの集光器光導波路によって収集された前記光を分析するように適合された分光計と、を具備する、システム。
（１３）  患者インターフェイスユニットと、
通信ユニットと、
プロセッサと、
ディスプレイと、
を更に具備し、
前記患者インターフェイスユニットが前記ＲＦ発生器からの信号を前記通信ユニットに送受信するように適合されており、
前記通信ユニットが、前記患者インターフェイスユニットからの信号を送受信するように適合されており、
前記プロセッサが、前記通信ユニットからの信号を送受信するように適合されており、
前記ディスプレイが、前記プロセッサからの信号を受信するように適合されている、実施態様１２に記載のシステム。
（１４）  カテーテルであって、
細長いカテーテル本体と、
プラグ部材と空洞を画定するシェルとを有する遠位先端電極であって、前記シェルが半径方向に対称的な構成を有し、かつ１つ又は複数の開口部を有して形成される、遠位先端電極と、
前記カテーテル本体及び前記プラグ部材を貫通して延び、前記半径方向に対称的な構成に対して前記空洞内の中心位置内に位置付けられた遠位エミッタ端部を有する少なくとも１つのエミッタ光導波路であって、前記空洞内に光を送達するように構成されていて、前記光の少なくとも第１の部分が前記１つ又は複数の開口部を出る、少なくとも１つのエミッタ光導波路と、
前記カテーテル本体を貫通して延び、前記空洞内に位置付けられた遠位集光器端部を有する少なくとも１つの集光器光導波路であって、光を収集するように構成されている、少なくとも１つの集光器光導波路と、を具備する、カテーテル。
（１５）  前記シェルが、前記空洞内の所定の中心位置に対して半径方向に対称的な構成を有する遠位部分を有する、実施態様１４に記載のカテーテル。
【００４８】
（１６）  前記空洞の前記半径方向に対称的な構成が半球状の構成である、実施態様１５に記載のカテーテル。
（１７）  前記半球状の構成が、約１８０度に及ぶ半径方向角度Φに対する半径によって画定される、実施態様１６に記載のカテーテル。
（１８）  前記半径方向に対称的な構成が、最大約３６０度に及ぶ半径方向角度に対する半径によって画定される、実施態様１５に記載のカテーテル。
（１９）  前記半径方向に対称的な構成が、最大約２７０度に及ぶ半径方向角度によって画定される、実施態様１５に記載のカテーテル。
（２０）  アブレーション用及び分光法用のシステムであって、
実施態様１６に記載のカテーテルと、
前記遠位先端電極にＲＦエネルギーを供給するように適合されたＲＦ発生器と、
前記光を供給するように適合された光源と、
前記少なくとも１つの集光器光導波路によって収集された前記光を分析するように適合された分光計と、を具備する、システム。
【図１】
2015128586.tif 000003
【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
2015128586.tif 000006
【図３】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
2015128586.tif 000009
【図４Ａ】
2015128586.tif 000010
【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
2015128586.tif 000012
【図５Ｂ】
2015128586.tif 000013
【図５Ｃ】
2015128586.tif 000014
【図５Ｄ】
2015128586.tif 000015
【図６】
2015128586.tif 000016
【図７Ａ】
2015128586.tif 000017
【図７Ｂ】
2015128586.tif 000018
【図８】
2015128586.tif 000019
【外国語明細書】
2015128586000001.pdf