(57)【要約】【課題】蓋体の着脱に係る作業性を低下することなく、真空予備室の大気側との連絡口に設けられたシール部材の擦れによる摩耗や捩じ切れを防止する。【解決手段】第一の面に着脱可能な蓋体が取り付けられ、第二の面に大気側との間で基板の搬送通路を成し、第一の面に略平行な第一の辺と第二の辺を有する略長方形状の開口部が形成された真空予備室１と、真空予備室１の開口部４を開け閉めする弁体１１と、弁体１１または真空予備室１の第二の面のいずれか一方に形成された溝Ｇに収納されていて、少なくとも弁体１１が閉じられているときに、開口部４の外周に沿って配置されるシール部材２と、溝Ｇの一部を構成し、少なくとも弁体１１が閉じられているときに、開口部４の第一の辺と第二の辺のうち蓋体３に近い辺の中央部と対向するシール部材２の部位を第一の面に略垂直となる方向から押し圧する押し圧部材１２を備えたロードロック装置Ｌ。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空処理装置で用いられるロードロック装置であって、
室内が大気圧状態と真空状態に切り替え可能で、第一の面に着脱可能な蓋体が取り付けられ、第二の面に大気側との間で基板の搬送通路を成し、前記第一の面に略平行な第一の辺と第二の辺を有する略長方形状の開口部が形成された真空予備室と、
前記真空予備室の前記開口部を開け閉めする弁体と、
前記弁体または前記真空予備室の前記第二の面のいずれか一方に形成された溝に収納されていて、少なくとも前記弁体が閉じられているときに、前記開口部の外周に沿って配置されるシール部材と、
前記溝の一部を構成し、少なくとも前記弁体が閉じられているときに、前記開口部の第一の辺と第二の辺のうち前記蓋体に近い辺の中央部と対向する前記シール部材の部位を前記第一の面に略垂直となる方向から押し圧する押し圧部材を備えたロードロック装置。
【請求項２】
前記押し圧部材は前記シール部材を前記蓋体側から押し圧している請求項２記載のロードロック装置。
【請求項３】
少なくとも前記弁体が閉じられているときに、前記第一の面に垂直な方向において、前記押し圧部材と前記弁体または前記真空予備室の壁面との間に隙間が形成されている請求項１乃至３のいずれか一項に記載のロードロック装置。
【請求項４】
前記真空予備室の前記第二の面には、略ロの字状のフランジが取り付けられており、前記フランジに前記溝が形成されている請求項１乃至４のいずれか一項に記載のロードロック装置。
【請求項５】
少なくとも前記押し圧部材によって押し圧される前記シール部材の部位には、マーキングが施されている請求項１乃至５のいずれか一項に記載のロードロック装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空処理装置で用いられるロードロック装置で、特にロードロック装置の真空予備室に着脱可能な蓋体を有するロードロック装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空中で基板を処理する真空処理装置として、半導体製造装置が知られている。このような装置では、大気側に配置された基板をロードロック装置を介して真空状態にある装置内部に搬送している。
【０００３】
ロードロック装置の構成としては、例えば、特許文献１に記載されているように、上下に２つの真空予備室を設けた構成が用いられている。
【０００４】
多段に真空予備室を設けた場合、隣接する真空予備室との圧力差により、２つの真空予備室を隔てる隔壁に歪みが生じる。隔壁に歪みが生じると、隔壁端部に設けられたＯリング等のシール部材が擦れて摩耗し、パーティクルが発生する。隔壁の歪みを抑制する為に、隔壁の剛性を高めることが考えられるが、これだとロードロック装置全体の重量が増加することや材料コストが増加することが問題となる。
【０００５】
こうした問題を解決する為に、特許文献１では隔壁中央部の歪みが隔壁端部へ伝達されるのを抑制する特別な構成を採用していた。具体的には、上下に配置された２つの真空予備室の端部を貫くようにスリットを形成し、これを塞ぐように各真空予備室内に弾性板を取り付けることで、隔壁中央部の歪みが隔壁端部に伝達されるのを抑制する構成であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−１３５５３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１では多段配置された真空予備室の隔壁の厚みが薄いことに起因して、隔壁端部に設けられたシール部材が擦れて摩擦し、ここからパーティクルが発生することを問題視していたが、壁面の厚みが薄い場所はこれ以外にも存在している。
【０００８】
例えば、ロードロック装置として、メンテナンス時、室内へのアクセスを実現する為に、真空予備室の一面に着脱可能な蓋体を備えた装置が存在している。この蓋体は、作業性等を考慮し、厚みが薄く軽量な方がよい。しかしながら、蓋体の厚みを薄くすると、真空予備室の状態が大気圧状態から真空状態に変化するのに伴って、蓋体に大きな歪みが生じてしまう。この蓋体の歪みにより、真空予備室の大気側との連絡口に設けられたシール部材が擦れて摩耗し、パーティクルが発生する。
【０００９】
真空予備室の真空側との連絡口には他の部屋（例えば、搬送室や処理室）が連結されているが、真空予備室の大気側との連絡口には何ら別の部屋は連結されていない為、この場所の剛性は比較的弱い。また、蓋体端部は真空予備室の壁面によって支持されているが、蓋体中央部は支持されていない。この為、蓋体に歪みが生じた際、真空予備室の大気側との連絡口に設けられたシール部材の中央部近傍に大きな影響が表れる。
【００１０】
図１２（Ａ）には、真空予備室１の大気側との連絡口近傍の様子が描かれている。真空予備室１の上方には蓋体３が取り付けられていて、真空予備室１の一側面には大気側との連絡口となる開口部４が形成されている。また、真空予備室１の開口部４が形成されている側面には、略ロの字状のフランジ５がボルト７により取り付けられている。フランジ５には開口部４の外周に沿って図示されない溝（例えば、蟻溝）が形成されており、この溝内にシール部材２（例えば、Ｏリング）が収納されている。開口部４は図示されない弁体により開け閉めされており、弁体によって開口部４が閉められているときに、真空予備室１の真空排気が行われる。
【００１１】
図１２（Ｂ）には、真空予備室１が真空状態にあるときの様子が描かれている。通常であれば、弁体でもって開口部４は閉ざされているが、ここでは蓋体３の歪みによるシール部材２への影響を説明する為に、便宜上、弁体の図示を省略している。
【００１２】
真空予備室１内が真空状態になると、大気圧Ｐとの圧力差により蓋体３に歪みが生じる。シール部材２の端部Ｔ上方では剛性が比較的強く、蓋体３の歪みが小さいので、シール部材２は蓋体３の歪みによる影響をほとんど受けない。換言すると、フランジ５の溝内でシール部材２の位置は、ほとんど移動せずに固定されている。
【００１３】
一方、シール部材２の中央部Ｃ上方では、蓋体３の歪みが大きいので、シール部材２にはおおよそ下方に向けて応力が発生する。ここでは真空予備室１が真空状態になったときの状態を説明したが、反対に真空予備室１を大気状態に戻したときには、蓋体３には通常の状態に戻る方向（図示されるＹ軸方向）に応力が開放される。  
【００１４】
真空予備室１の大気圧状態と真空状態との切り替えは、基板を真空処理装置内外へ搬送する度に行われるので、シール部材２の中央部Ｃにはおおよそ上下方向に繰り返し力が加わる。この力の作用により、シール部材２の中央部Ｃがフランジ５の溝内で擦れて摩耗し、パーティクルが発生する。なお、シール部材２の中央部Ｃにおおよそ上下方向に力が加わった際、シール部材２は、蓋体３の歪みによって加わる力の方向等により、単純に上下動せずに図１２（Ｂ）に図示される矢印の方向に回転することもある。こうなると、シール部材２は端部がほぼ移動しないまま固定されている為に、捩じ切れてしまい真空予備室１内を気密に保つことができなくなる。この種の問題は、取り扱う基板のサイズが大きいほど、顕著に現れる。
【００１５】
特許文献１には、上述した蓋体の歪みによるパーティクルの発生については何ら開示されていない。また、特許文献１は、真空予備室の隔壁中央部で発生する歪みが隔壁端部に伝達されないように真空予備室の隔壁中央部と端部との間にスリットを形成し、このスリットを塞ぐようにして弾性体を取り付けておく構成であったが、この構成を蓋体に転用した場合、蓋体の構造が複雑となり、蓋体の着脱に係る作業性が低下されることが懸念される。そこで本発明では、蓋体の着脱に係る作業性を低下することなく、真空予備室の大気側との連絡口に設けられたシール部材の擦れによる摩耗や捩じ切れを防止することを主たる目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
ロードロック装置は、真空処理装置で用いられるロードロック装置であって、室内が大気圧状態と真空状態に切り替え可能で、第一の面に着脱可能な蓋体が取り付けられ、第二の面に大気側との間で基板の搬送通路を成し、前記第一の面に略平行な第一の辺と第二の辺を有する略長方形状の開口部が形成された真空予備室と、前記真空予備室の前記開口部を開け閉めする弁体と、前記弁体または前記真空予備室の前記第二の面のいずれか一方に形成された溝に収納されていて、少なくとも前記弁体が閉じられているときに、前記開口部の外周に沿って配置されるシール部材と、前記溝の一部を構成し、少なくとも前記弁体が閉じられているときに、前記開口部の第一の辺と第二の辺のうち前記蓋体に近い辺の中央部と対向する前記シール部材の部位を前記第一の面に略垂直となる方向から押し圧する押し圧部材を備えている。
【００１７】
蓋体の歪みの伝達を防止する複雑な機構を設ける代わりに、押し圧部材を用いてシール部材を直接押さえつけることで、簡素な構成でシール部材の移動を抑制することができる。また、少なくとも弁体が閉じられているときに、蓋体が配置される真空予備室の第一の面に略平行な開口部の第一の辺と第二の辺のうち蓋体に近い辺の中央部と対向するシール部材の部位を第一の面に垂直となる方向から押し圧するように構成している。この部位には蓋体の歪みによる影響が大きく表れる。本発明では、ここを押し圧しているので、蓋体の歪みによる影響を効果的に抑制することができる。その結果、蓋体の着脱に係る作業性が低下することなく、シール部材の擦れによる摩擦や捩じ切れを防止することができる。
【００１８】
前記押し圧部材は前記シール部材を前記蓋体側から押し圧していることが望ましい。
【００１９】
蓋体と反対側からシール部材を押し圧するように構成すると、押し圧部材がシール部材の内側、換言すると、開口部が弁体により閉じられていて、真空予備室が真空排気された時に、押し圧部材は真空側に配置されることになる。これにより、真空側の容積が大きくなることから、真空予備室内の大気開放、真空排気にかかる時間が長くなる。また、押し圧部材を個別の部材として取り付けているので、押し圧部材が配置される近傍には多少の段差が生じ、この部分にパーティクルが溜ることが懸念される。反対に蓋体側からシール部材を押し圧するように構成しておくと、上述した問題を解決することができる。
【００２０】
少なくとも前記弁体が閉じられているときに、前記第一の面に垂直な方向において、前記押し圧部材と前記弁体または前記真空予備室の壁面との間に隙間が形成されていることが望ましい。
【００２１】
このような隙間があれば、隙間に隙間ゲージを入れて、押し圧部材の位置を調整することができる。その結果、シール部材を押し圧する力の調整が可能となる。
【００２２】
前記真空予備室の前記第二の面には、略ロの字状のフランジが取り付けられており、前記フランジに前記溝が形成されていることが望ましい。
【００２３】
基板搬送の途中で、誤動作によって溝が形成される箇所に基板が衝突することが考えれるが、フランジに溝を形成しておけば、基板との衝突により溝が変形した場合でも、フランジを交換するだけで済む。
【００２４】
少なくとも前記押し圧部材によって押し圧される前記シール部材の部位には、マーキングが施されていることが望ましい。
【００２５】
蓋体の歪みによる影響を受けやすいシール部材の部位にマーキングを施しておくことで、シール部材が移動しているかどうかを検知することが可能となる。
【発明の効果】
【００２６】
蓋体の歪みの伝達を防止する複雑な機構を設ける代わりに、押し圧部材を用いてシール部材を直接押さえつけることで、簡素な構成でシール部材の移動を抑制することができる。また、少なくとも弁体が閉じられているときに、略長方形状の開口部の蓋体側に位置する辺の中央部と対向しているシール部材の部位を押し圧するように構成している。この部位は蓋体の歪みによる影響が大きく表れる。本発明では、ここを押し圧しているので、蓋体の歪みによる影響を効果的に抑制することができる。その結果、蓋体の着脱に係る作業性が低下することなく、シール部材の擦れによる摩擦や捩じ切れを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】真空処理装置の構成例を表す模式図である。
【図２】本発明で用いられる真空予備室の一例を表す模式図である。
【図３】図２に記載のフランジと押し圧部材を分解したときの模式図である。
【図４】図２に記載のＡ−Ａ線による断面図である。
【図５】押し圧部材の配置に関する第一の変形例を示した模式図である。
【図６】押し圧部材の配置に関する第二の変形例を示した模式図である。
【図７】押し圧部材の配置に関する第三の変形例を示した模式図である。
【図８】押し圧部材の配置に関する第四の変形例を示した模式図である。
【図９】図８でフランジを備えていない場合の例を示した模式図である。
【図１０】弁体にシール部材が設けられている例を示した模式図である。
【図１１】シール部材にマーキングが施されている例を示した模式図である。
【図１２】従来の問題点についての説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
図１には、真空処理装置の構成例が描かれている。基板８は、例えば矩形状の基板でガラス基板である。図では基板８は大気側に配置されていて、矢印の方向に沿って図示されない大気搬送ロボットによって真空予備室１内に搬送される。真空予備室１の内部でハッチングされている領域には、空間Ｖが形成されており、真空予備室１の上方（図示されるＹ軸側）には蓋体３が取り付けられている。
【００２９】
真空予備室１の大気側との連絡口Ｂは、基板８が真空予備室１に搬送された後、図示されない弁体によって閉じられる。一方、真空予備室１の真空側の連絡口Ｃは図示されないシール機構を介して搬送室９と連結されている。真空予備室１に基板８が搬入される際、真空予備室１と搬送室９との間はシール機構により閉じられている。真空予備室１に基板８が搬入された後、真空予備室１を密閉し、真空ポンプで室内が真空排気される。
【００３０】
真空予備室１が真空状態となった後、真空予備室１と搬送室９との間に設けられた図示されないシール機構が開き、両部屋が連結される。この際、真空予備室１の大気側との連絡口Ｂは閉じられている。搬送室９には図示されない真空ロボットがあり、この真空ロボットにより、真空予備室１から基板８が取り出され、処理室１０に搬送される。その後、処理室１０で基板８への処理が行われる。
【００３１】
図２には本発明で用いられる真空予備室１の一例が描かれている。先に説明した従来技術の構成である図１２（Ａ）との違いは、押し圧部材１２を有している点にある。
【００３２】
この例では、押し圧部材１２はボルト７によりフランジ５に取り付けられており、シール部材２が収納される溝の一部を構成している。なお、図２には溝は明示されていないものの、シール部材２が収納されていることから、ＸＹ平面において、蓋体３が取り付けられた真空予備室１の面に対して略平行な２辺を有する略長方形状の開口部４の外周に沿って形成されている。
【００３３】
押し圧部材１２の配置としては、図２に記載されているように開口部４の蓋体３側の辺の中央部と対向するシール部材２の部位を、蓋体３が取り付けられた真空予備室１の面に垂直な方向から、押し圧するように配置されている。また、蓋体３が取り付けられた真空予備室１の面に略垂直な方向（図示されるＹ軸方向）から視たとき、押し圧部材２と真空予備室１の壁面との間には隙間Ｓが形成されている。この構成につき、図３及び図４を用いてより詳細に説明する。
【００３４】
図３には図２に記載のフランジ５と押し圧部材１２を分解したときの模式図が描かれている。フランジ５の中央には開口Ｈがあり、その外周に沿って溝Ｇが形成されている。溝Ｇの一部はＹ軸方向に延設されていて、押し圧部１２を配置する領域Ｎが形成されている。領域ＮのＹ軸方向の寸法は、ここに配置される押し圧部材１２の同方向における寸法よりも長い。この為、Ｙ軸方向から視たとき、押し圧部材１２と真空予備室１の壁面との間に図２で説明した隙間Ｓが形成される。
【００３５】
図４には、図２に記載のＡ−Ａ線による断面図が描かれている。ここではロードロック装置Ｌの全体構成につき、その概略を説明する為に弁体１１も併せて描かれている。図４のシール部材２は断面円形のＯリングであり、蓋体３と真空予備室１との間、フランジ５と弁体１１との間、真空予備室１とフランジ５との間にそれぞれ設けられている。溝Ｇは図示されているように蟻溝形状をしており、その一部が押し圧部材１２の端部で構成されている。また、押し圧部材１２は蓋体３側に配置されているシール部材２の一部を蓋体３が配置されている真空予備室１の面に対して略垂直となる方向から押し圧している。
【００３６】
弁体１１はＹ軸方向に沿って往復運動可能で、開口部４近傍に到達したときにＺ軸方向に移動するように構成されている。具体的には、Ｙ軸方向への往復運動をエアシリンダ―で行い、Ｚ軸方向への移動をリンク機構で行うような構成を用いる。もちろんこれ以外の構成を用いて、開口部４の開け閉めが行えるように構成しておいてもよい。
【００３７】
蓋体３が取り付けられる真空予備室１の面と垂直な方向（Ｙ軸方向）において、押し圧部材１２の端面と真空予備室１の壁面との間には隙間Ｓが形成されている。この隙間Ｓは押し圧部材１２によるシール部材２への押し圧力を調整する為に設けられている。具体的な調整方法としては、次のようにして行われる。
【００３８】
隙間Ｓに隙間ゲージを入れて、押し圧部材１２の位置調整を行う。押し圧部材１２の位置調整を行った後、押し圧部材１２をボルト７によりフランジ５に固定する。なお、押し圧部材１２のボルト７を挿通する穴には若干の遊び（数ｍｍ程度）があり、この遊びを利用して押し圧部材１２の位置調整が行われる。
【００３９】
このような構成にしておけば、部材の経時変化等により、押し圧部材１２による押し圧力が弱くなってしまっても、これを強めることが可能となる。
【００４０】
本発明では上述したように、蓋体３の歪みの伝達を防止する複雑な機構を設ける代わりに、押し圧部材１２を用いてシール部材２を直接押さえつけることで、簡素な構成でシール部材２の移動を抑制することができる。また、少なくとも弁体１１が閉じられているときに、略長方形状の開口部４の蓋体３側に位置する辺の中央部と対向するシール部材２の部位を押し圧するように構成している。この部位には蓋体３の歪みによる影響が大きく表れる。本発明では、ここを押し圧しているので、蓋体３の歪みによる影響を効果的に抑制することができる。その結果、蓋体３の着脱に係る作業性が低下することなく、シール部材２の擦れによる摩擦や捩じ切れを防止することができる。
【００４１】
押し圧部材１２の配置は、これまでに説明した構成に限られない。例えば、図５〜図８に記載の構成を用いてもよい。
【００４２】
図５には押し圧部材１２の配置に関する第一の変形例を示した模式図が描かれている。ここでは、２つの押し圧部材１２がシール部材２を挟み込むようにして配置されている。このような構成であっても、これまでに説明した構成と同等の効果を得ることができる。
【００４３】
しかしながら、図５の実施形態では、２つの押し圧部材１２が必要であることから部材コストが高くなる。また、押し圧部材１２の数が増えるので、押し圧部材１２の取り付けに要する時間が長くなってしまう。
【００４４】
押し圧部材１２をシール部材２のいずれの側に配置した方がいいのかについては、図２〜図４で説明した実施形態で述べられているように、蓋体３側に配置する方がいい。蓋体３と反対側からシール部材２を押し圧するように構成すると、押し圧部材１２がシール部材２の内側、換言すると、開口部４が弁体１１により閉じられていて、真空予備室１が真空排気された時に、押し圧部材１２は真空側に配置されることになる。これにより、真空側の容積が大きくなることから、真空予備室１内の大気開放、真空排気にかかる時間が長くなる。また、押し圧部材１２を個別の部材として取り付けているので、押し圧部材１２が配置される近傍には多少の段差が生じ、この部分にパーティクルが溜ることが懸念される。しかしながら、蓋体３側からシール部材２を押し圧するように構成しておくと、上述した問題を解決することができる。
【００４５】
図６には押し圧部材１２の配置に関する第二の変形例を示した模式図が描かれている。図６のように、複数の押し圧部材１２を配置するようにしてもよい。図６の場合、各々の押し圧部材１２による押し圧力を調整して、シール部材２を押し圧して固定することができる。なお、複数の押し圧部材１２間で、シール部材２が微小に移動し、これがパーティクルの発生原因となる場合には、各々の押し圧部材１２のＸ軸方向の寸法をやや大きくしておき、各部材間の隙間を小さくするようにしておけばよい。
【００４６】
これまでの実施形態では、基板８を水平状態に保ったまま真空予備室１内に搬送する構成であったが、基板８を起立させた状態で真空予備室１内に搬送する構成（縦型搬送）のロードロック装置にも本発明を適用することが可能である。
【００４７】
図７〜図１１には、この種のロードロック装置に関する実施形態が描かれている。図７に記載の真空予備室１はいわゆる基板８の縦型搬送に対応した真空予備室１で、真空予備室１のＸ軸側の面に蓋体３が取り付けられている。真空予備室１の歪みは概ね厚みの薄い蓋体３側に現れるので、略長方形状の開口部４の蓋体３側に位置する辺の中央部と対向するシール部材２の部位を押し圧部材１２で押し圧するように構成している。
【００４８】
一方、蓋体３の配置は、図８のような場合もある。図８には真空予備室１のＹ軸側の面に蓋体３が取り付けられている。このような真空予備室１であっても図示されているように、略長方形状の開口部４の蓋体３側に位置する辺の中央部と対向するシール部材２の部位を押し圧部材１２で押し圧するように構成しておけば、これまでの実施形態で説明した効果と同等の効果を奏することができる。
【００４９】
これまでの実施形態では、フランジ５に溝が形成されていたが、図９に示される実施形態のように、真空予備室１の開口部４が形成される面に溝を直接形成しておき、ここにシール部材２を収納するようにしておいてもいい。このような構成を用いれば、フランジ５を必要としないので、その分、材料費が安くなる。ただし、基板搬送の途中で、誤動作によって溝が形成される箇所に基板が衝突することが考えれる。この場合、フランジに溝を形成しておけば、基板との衝突により溝が変形した場合でも、フランジを交換するだけで済む。
【００５０】
一方で、弁体１１に溝を形成するようにしてもいい。このような構成にしてもこれまでの実施形態で説明した効果と同等の効果を奏することができる。具体的な実施形態については、図１０に描かれている。
【００５１】
また、図１１に描かれている実施形態のように、シール部材２の一部にマーキングＭを施しておくことで、シール部材２が移動しているかどうかを目視等により検知することができる。このような構成であれば、シール部材２の移動を検知した段階で、押し圧部材１２の位置を調整して、押し圧力を強くすることができる。なお、マーキングＭは、少なくとも蓋体３の歪みの影響が大きく表れるシール部材２の部位に施されていればよいが、シール部材２の全周に渡ってマーキングＭを施すようにしてもよい
【００５２】
これまでの実施形態で述べた構成を一般化すると、本発明の構成は次のようになる。真空処理装置で用いられるロードロック装置Ｌであって、室内が大気圧状態と真空状態に切り替え可能で、第一の面に着脱可能な蓋体３が取り付けられ、第二の面に大気側との間で基板８の搬送通路を成し、第一の面に略平行な第一の辺と第二の辺を有する略長方形状の開口部４が形成された真空予備室１と、真空予備室１の開口部４を開け閉めする弁体１１と、弁体１１または真空予備室１の第二の面のいずれか一方に形成された溝Ｇに収納されていて、少なくとも弁体１１が閉じられているときに、開口部４の外周に沿って配置されるシール部材２と、溝Ｇの一部を構成し、少なくとも弁体１１が閉じられているときに、開口部４の第一の辺と第二の辺のうち蓋体３に近い辺の中央部と対向するシール部材２の部位を第一の面に略垂直となる方向から押し圧する押し圧部材１２を備えている。
【００５３】
これまでの実施形態で述べられている略平行、略垂直とは、平行、垂直を含んで数度程度の範囲を指し、略長方形形状とは長方形形状から若干形の崩れたものも含む。例えば、角部に丸みを有する形状も包含している。
【００５４】
図７〜図１０に記載の実施形態では、縦型搬送のロードロック装置を例に挙げて説明したが、これらの構成は、図２〜図６、図１１に記載の実施形態で述べられた水平搬送のロードロック装置にも適用可能である。また反対に、図２〜図６、図１１で水平搬送のロードロック装置を例に挙げて説明した構成は、縦型搬送のロードロック装置にも適用可能である。
【００５５】
前述した以外に、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良および変更を行っても良いのはもちろんである。
【符号の説明】
【００５６】
１    真空予備室
２    シール部材
３    蓋体
４    開口部
６    弁体
１２  押し圧部材
Ｇ    溝
Ｓ    隙間
Ｌ    ロードロック装置
【図１】
2015073066.tif 000003
【図２】
2015073066.tif 000004
【図３】
2015073066.tif 000005
【図４】
2015073066.tif 000006
【図５】
2015073066.tif 000007
【図６】
2015073066.tif 000008
【図７】
2015073066.tif 000009
【図８】
2015073066.tif 000010
【図９】
2015073066.tif 000011
【図１０】
2015073066.tif 000012
【図１１】
2015073066.tif 000013
【図１２】
2015073066.tif 000014