(57)【要約】【課題】静電チャックのレチクル吸着面から確実に異物を取り除く。【解決手段】実施形態の静電チャッククリーナは、レチクルを吸着することが可能な静電チャックの吸着面に粘着層を押し当て、前記吸着面をクリーニングする静電チャッククリーナである。静電チャッククリーナは、複数の基板と、前記複数の基板のそれぞれの主面上に設けられた前記粘着層と、前記複数の基板のそれぞれの前記主面上に設けられ、前記粘着層が設けられた領域以外に設けられた導電層と、を備える。前記複数の基板のそれぞれの前記主面に設けられた前記粘着層は、それぞれ異なる領域に配置され、前記複数の基板のそれぞれについて、前記粘着層の側を前記吸着面に押し付けた場合、前記吸着面のすべてが前記粘着層によって押し付けられる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルを吸着することが可能な静電チャックの吸着面に粘着層を押し当て、前記吸着面をクリーニングする静電チャッククリーナであって、
複数の基板と、
前記複数の基板のそれぞれの主面上に設けられた前記粘着層と、
前記複数の基板のそれぞれの前記主面上に設けられ、前記粘着層が設けられた領域以外に設けられた導電層と、
を備え、
前記複数の基板のそれぞれの前記主面に設けられた前記粘着層は、それぞれ異なる領域に配置され、
前記複数の基板のそれぞれについて、前記粘着層の側を前記吸着面に押し付けた場合、前記吸着面のすべてが前記粘着層によって押し付けられる静電チャッククリーナ。
【請求項２】
前記複数の基板は、一対の基板からなり、
前記一対の基板の一方の基板の主面の第１領域に設けられた第１粘着層部と、
前記一対の基板の一方の前記基板の前記主面の前記第１領域以外の第２領域に設けられた第１導電層部と、
前記一対の基板の他方の基板の主面の第１領域に設けられた第２導電層部と、
前記一対の基板の他方の前記基板の前記主面の前記第１領域以外の第２領域に設けられた第２粘着層部と、
を有する請求項１に記載の静電チャッククリーナ。
【請求項３】
前記主面に対して垂直な方向から前記主面を見て、
前記第１粘着層部と前記第１導電層部とは、第１方向に延在し、
前記第１粘着層部と前記第１導電層部とが前記第１方向に交差する第２方向に交互に配列され、
前記第２粘着層部と前記第２導電層部とは、前記第１方向に延在し、
前記第２粘着層部と前記第２導電層部とが前記第１方向に交差する第２方向に交互に配列された請求項１または２に記載の静電チャッククリーナ。
【請求項４】
前記主面に対して垂直な方向から前記主面を見て、
前記第１粘着層部と前記第１導電層部とは、第１方向に交互に配列され、
前記第１粘着層部と前記第１導電層部とが前記第１方向に交差する第２方向に交互に配列され、
前記第２粘着層部と前記第２導電層部とは、前記第１方向に交互に配列され、
前記第２粘着層部と前記第２導電層部とが前記第１方向に交差する第２方向に交互に配列された請求項１または２に記載の静電チャッククリーナ。
【請求項５】
前記第１粘着層部の表面および前記第２粘着層部の表面に凹凸が形成されている請求項２〜４のいずれか１つに記載の静電チャッククリーナ。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載された静電チャッククリーナを、レチクルを吸着することが可能な静電チャックの吸着面に押し当て、前記吸着面をクリーニングするクリーニング方法。
【請求項７】
露光光を発光する光源と、
レチクルもしくは請求項１〜５のいずれかに記載された静電チャッククリーナを吸着することが可能な静電チャックと、
前記露光光を前記レチクルに照明する照明光学系と、
前記レチクルから反射された反射光を半導体ウェーハに投影する投影光学系と、
を備えた露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、静電チャッククリーナ、クリーニング方法、および露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＥＵＶ光を用いた露光装置では、その波長が１３．５ｎｍと短く大気中では減衰するため、真空中で露光光学系を組んでいる。この場合、レチクルステージが真空中に置かれるため、ＥＵＶマスク、すなわちレチクルのチャック機構には真空チャックは使用できず、静電チャック方式が採用されている。
【０００３】
しかし、レチクルを静電チャックに吸着させた際、レチクルと静電チャックとの間に、異物が存在していると、レチクルが変形し、ウェーハ上に転写されたパターンが歪んでしまうという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−０３３５６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、静電チャックのレチクル吸着面から確実に異物を取り除くことが可能な静電チャッククリーナ、クリーニング方法、および露光装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
実施形態の静電チャッククリーナは、レチクルを吸着することが可能な静電チャックの吸着面に粘着層を押し当て、前記吸着面をクリーニングする静電チャッククリーナである。静電チャッククリーナは、複数の基板と、前記複数の基板のそれぞれの主面上に設けられた前記粘着層と、前記複数の基板のそれぞれの前記主面上に設けられ、前記粘着層が設けられた領域以外に設けられた導電層と、を備える。前記複数の基板のそれぞれの前記主面に設けられた前記粘着層は、それぞれ異なる領域に配置され、前記複数の基板のそれぞれについて、前記粘着層の側を前記吸着面に押し付けた場合、前記吸着面のすべてが前記粘着層によって押し付けられる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、第１実施形態に係る静電チャッククリーナを表す模式的平面図および模式的断面図である。
【図２】図２（ａ）〜図２（ｈ）は、第１実施形態に係るクリーニング方法を表す模式的断面図である。
【図３】図３（ａ）〜図３（ｃ）は、第１実施形態に係るクリーニング方法において静電チャック吸着面から異物が除去される様子を表す模式的断面図である。
【図４】図４（ａ）〜図４（ｃ）には、参考例に係るクリーニング方法を表す模式的断面図である。
【図５】図５（ａ）〜図５（ｃ）は、第１実施形態に係るクリーニング方法において静電チャック吸着面から異物が除去される様子を表す模式的断面図である。
【図６】図６（ａ）〜図６（ｃ）は、第１実施形態の変形例に係るクリーニング方法を表す模式的断面図である。
【図７】図７は、第２実施形態に係る静電チャッククリーナを表す模式的平面図である。
【図８】図８は、第３実施形態に係る露光装置を表す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、図面を参照しつつ、実施形態について説明する。以下の説明では、同一の部材には同一の符号を付し、一度説明した部材については適宜その説明を省略する。
【０００９】
（第１実施形態）  
図１は、第１実施形態に係る静電チャッククリーナを表す模式的平面図および模式的断面図である。
【００１０】
図１には、１対の静電チャッククリーナ１（１Ａ、１Ｂ）が表されている。図１では、上段に静電チャッククリーナ１の模式的平面が表され、下段に静電チャッククリーナ１の模式的断面が表されている。断面図は、平面図のＡ−Ｂ線に沿った位置での断面が表されている。
【００１１】
静電チャッククリーナ１は、静電チャックの吸着面をクリーニングすることができるクリーナである。静電チャッククリーナ１は、静電チャックの吸着面に付着した異物、ダスト等に粘着層を押し当て、静電チャックの吸着面から異物、ダスト等を取り除くことができる。ここで、静電チャックは、露光プロセスで用いられるレチクルを吸着することが可能な静電チャックである。
【００１２】
図１に表すように、静電チャッククリーナ１は、一対の静電チャッククリーナ１Ａ、１Ｂを有する。例えば、静電チャッククリーナ１は、一対の基板１０（１０ａ、１０ｂ）を有している。基板１０は、例えば、実際に露光装置内に搬送され使用されるレチクルと同じ基板である。
【００１３】
静電チャッククリーナ１の一方の静電チャッククリーナ１Ａについて説明する。  
一対の基板１０の一方の基板１０ａにおいては、その主面１０ａｓの第１領域１ａｒに第１粘着層部２０ａが設けられている。また、その主面１０ａｓの第１領域１ａｒ以外の第２領域１ｂｒには、第１導電層部３０ａが設けられている。
【００１４】
基板１０ａの主面１０ａｓに対して垂直な方向（Ｚ方向）から主面１０ａｓを見た場合、第１粘着層部２０ａと第１導電層部３０ａとは、Ｘ方向（第１方向）に延在している。また、第１粘着層部２０ａと第１導電層部３０ａとは、Ｘ方向に交差するＹ方向（第２方向）に交互に配列されている。
【００１５】
静電チャッククリーナ１の他方の静電チャッククリーナ１Ｂについて説明する。  
一対の基板１０の他方の基板１０ｂにおいては、その主面１０ｂｓの第１領域１ａｒに第２導電層部３０ｂが設けられている。また、その主面１０ｂｓの第１領域１ａｒ以外の第２領域１ｂｒには、第２粘着層部２０ｂが設けられている。
【００１６】
基板１０ｂの主面１０ｂｓに対して垂直な方向から主面１０ｂｓを見た場合、第２粘着層部２０ｂと第２導電層部３０ｂとは、Ｘ方向に延在している。また、第２粘着層部２０ｂと第２導電層部３０ｂとは、Ｙ方向に交互に配列されている。
【００１７】
基板１０は、例えば、石英、ガラス、セラミック、金属等を含む。また、第１導電層部３０ａおよび第２導電層部３０ｂは、例えば、クロム（Ｃｒ）を含む。第１導電層部３０ａおよび第２導電層部３０ｂは、例えば、レチクルの遮光膜（Ｃｒ含有膜）を形成するときに、形成してもよい。第１粘着層部２０ａおよび第２粘着層部２０ｂは、一例として、アクリル酸エステル共重合体を含んでいるが、この例に限らない。第１粘着層部２０ａと第２粘着層部２０ｂとは、例えば、スクリーン印刷によって形成される。
【００１８】
また、実施形態では、第１粘着層部２０ａおよび第２粘着層部２０ｂを総称的に粘着層２０とする。また、第１導電層部３０ａおよび第２導電層部３０ｂを総称的に導電層３０とする。
【００１９】
上述したように、基板１０は、実際に露光装置内に搬送され使用されるレチクルと同じ基板である。このため、露光装置の静電チャックシーケンスで、この静電チャックに対しても、静電チャッククリーナ１を吸着させることができる。
【００２０】
露光装置の静電チャックシーケンスに則り、静電チャッククリーナ１を用いて静電チャックの吸着面をクリーニングする方法を以下に説明する。
【００２１】
図２（ａ）〜図２（ｈ）は、第１実施形態に係るクリーニング方法を表す模式的断面図である。
【００２２】
図２（ａ）〜図２（ｈ）には、露光装置（ＥＵＶ露光装置）の内部の状態が表されている。
【００２３】
最初に、静電チャッククリーナ１のうち、静電チャッククリーナ１Ａを用いて、静電チャックの吸着面をクリーニングする。
【００２４】
静電チャッククリーナ１のうち、静電チャッククリーナ１Ａは、予め、露光装置の搬送用ポッドに収納され、後述するベースプレート上に載せられ露光装置内に搬送される。
【００２５】
まず、図２（ａ）に表すように、静電チャッククリーナ１Ａを支持したベースプレート１００を静電チャック１０１下に位置させる。ここで、静電チャッククリーナ１Ａとベースプレート１００との間には、間隙１００ｓｐがある。これは、ベースプレート１００は、静電チャッククリーナ１のほか、実際のレチクルも支持するからである。つまり、実際のレチクルには、ベースプレート１００側の主面にパターンが形成されている。このパターンとベースプレート１００との直接接触を避けるために、間隙１００ｓｐが設けられている。
【００２６】
また、静電チャック１０１は、ステージ１０２に支持されている。そして、静電チャック１０１のベースプレート１００側の面がレチクルを吸着する吸着面１０１ａｂになっている。
【００２７】
次に、図２（ｂ）に表すように、ベースプレート１００を静電チャック１０１に向けて上昇させる。静電チャック１０１と静電チャッククリーナ１Ａとの接触を感知する圧力センサが一定値に達したらベースプレート１００の上昇を静止する。
【００２８】
次に、図２（ｃ）に表すように、静電チャック１０１に電圧を印加し、静電チャッククリーナ１Ａの第１導電層部３０ａを吸引する。この吸引とともに、静電チャッククリーナ１Ａの第１粘着層部２０ａが静電チャック１０１の吸着面１０１ａｂに押し当てられる。
【００２９】
次に、図２（ｄ）に表すように、ベースプレート１００を降下させる。この状態では、静電チャック１０１によって静電チャッククリーナ１Ａが吸着されている。
【００３０】
次に、図２（ｅ）に表すように、ベースプレート１００を静電チャッククリーナ１Ａの下に位置させる。
【００３１】
次に、図２（ｆ）に表すように、ベースプレート１００を静電チャック１０１に向けて上昇させ、ベースプレート１００と静電チャッククリーナ１Ａとの接触を感知する圧力センサが一定値に達したらベースプレート１００の上昇を静止する。
【００３２】
次に、図２（ｇ）に表すように、静電チャック１０１に印加した電圧を停止する。
【００３３】
次に、図２（ｈ）に表すように、ベースプレート１００を降下させる。この際、静電チャッククリーナ１Ａは、その自重によって静電チャック１０１から離れる。そして、静電チャッククリーナ１Ａは、ベースプレート１００に支持されながら、ベースプレート１００とともに降下する。
【００３４】
この後、ベースプレート１００によって支持された静電チャッククリーナ１Ａは、露光装置から搬出され、露光装置の搬送用ポッドに収納される。
【００３５】
続いて、図２（ａ）〜図２（ｈ）に表した静電チャックシーケンスを、静電チャッククリーナ１Ｂを用いて再度行う。
【００３６】
図３（ａ）〜図３（ｃ）は、第１実施形態に係るクリーニング方法において静電チャック吸着面から異物が除去される様子を表す模式的断面図である。
【００３７】
図３（ａ）に表すように、クリーニング前においては、静電チャック１０１の吸着面１０１ａｂに、複数の異物１１０が付着している。
【００３８】
このような吸着面１０１ａｂに対し、静電チャッククリーナ１Ａの押し付けと離脱とをすることにより、図３（ｂ）に表すように、静電チャッククリーナ１Ａの第１粘着層部２０ａによって、複数の異物１１０の一部が除去される。
【００３９】
次に、吸着面１０１ａｂに対し、静電チャッククリーナ１Ｂの押し付けと離脱とをすることにより、図３（ｃ）に表すように、静電チャッククリーナ１Ｂの第２粘着層部２０ｂによって、残りの全ての異物１１０が除去される。
【００４０】
このように、粘着層２０の形成領域がそれぞれ異なる静電チャッククリーナ１Ａ、１Ｂを用い、静電チャック１０１の吸着面１０１ａｂに静電チャッククリーナ１Ａ、１Ｂのそれぞれを吸着させる。静電チャッククリーナ１Ａと静電チャッククリーナ１ＢとをＺ方向において重ねた場合、静電チャック１０１の吸着面１０１ａｂの全域が第１粘着層部２０ａと第２粘着層部２０ｂとにより網羅されている。従って、静電チャック１０１の吸着面１０１ａｂに付着した異物１１０が吸着面１０１ａｂの全域にわたり、効率よく除去される。
【００４１】
なお、静電チャックの吸着面全体が複数の静電チャッククリーナのそれぞれの粘着層により網羅されていれば、静電チャッククリーナは、１対である必要はない。例えば、静電チャッククリーナは、３つ以上の複数の基板１０を有してもよい。この場合、静電チャッククリーナは、複数の基板１０のそれぞれの主面上に設けられた粘着層２０と、複数の基板１０のそれぞれの主面上に設けられ、粘着層２０が設けられた領域以外に設けられた導電層３０と、を備える。
【００４２】
ここで、複数の基板１０のそれぞれの主面に設けられた粘着層２０は、それぞれ異なる領域に配置されている。複数の基板１０のそれぞれについて、粘着層２０の側を吸着面１０１ａｂに押し付けた場合、吸着面１０１ａｂのすべてが粘着層２０によって押し付けられる。つまり、複数の基板１０のそれぞれの粘着層２０を、一枚ずつ、静電チャックの吸着面に押し当てた場合、吸着面のすべてが粘着層に接触する。
【００４３】
上述したように、ＥＵＶ露光では、レチクルのチャック機構に静電チャック方式が採用されている。静電チャック方式で、真空チャック方式と同じ保持力を得るには、より広い面積の静電チャック域が必要となる。
【００４４】
このため、ＥＵＶ用レチクルでは、その裏面の大半を静電チャック域とする場合がある。このような場合、ＥＵＶ用レチクルが静電チャックに吸着される度に、その静電チャック域の全域が静電チャック１０１の吸着面１０１ａｂに接触する。このため、吸着面１０１ａｂに異物１１０が付着し易くなる。
【００４５】
また、静電チャック機構は、真空中にある。このため、異物を除去するには露光装置を大気圧に解放し、クリーニング作業をする必要がある。この大気解放によって、ＥＵＶ露光の稼働率が低下する。
【００４６】
これを防ぐために、一枚の静電チャッククリーナの裏面全域に粘着層を付け、露光装置を大気にさらすことなく、静電チャックの吸着面をクリーニングする方法があるが、この方法では、以下に説明する不具合が生じている。この不具合を参考例として次に説明する。
【００４７】
図４（ａ）〜図４（ｃ）には、参考例に係るクリーニング方法を表す模式的断面図である。
【００４８】
図４（ａ）〜図４（ｃ）の各図の左右には、吸着面の領域が異なる領域Ａと領域Ｂとが表されている。
【００４９】
参考例では、静電チャッククリーナの裏面全域に粘着層２０を設け、導電層３０がないために、静電チャッククリーナが静電チャック１０１によって吸着されない。このため、参考例では、ベースプレート１００によって静電チャッククリーナを静電チャック１０１の吸着面１０１ａｂに押し当て、粘着層２０と吸着面１０１ａｂとの接触を試みている。
【００５０】
しかし、ベースプレート１００と静電チャッククリーナとの間には、間隙１００ｓｐがある。このため、吸着面１０１ａｂに静電チャッククリーナが均等の押圧力で押し付けられない。つまり、基板１０の自重によって、基板１０が撓み、粘着層２０が吸着面１０１ａｂに接触する領域Ａと、粘着層２０が吸着面１０１ａｂに接触しない領域ｂと、が現れることになる。
【００５１】
領域Ａにおいては、吸着面１０１ａｂに付着した異物１１０（図４（ａ））が吸着面１０１ａｂに粘着層２０が触れ（図４（ｂ））、吸着面１０１ａｂに付着した異物１１０が粘着層２０によって取り除かれる（図４（ｃ））。
【００５２】
しかし、領域Ｂにおいては、吸着面１０１ａｂに付着した異物１１０（図４（ａ））は、吸着面１０１ａｂに粘着層２０が触れないまま（図４（ｂ））、吸着面１０１ａｂに付着した異物１１０が吸着面１０１ａｂにそのまま残ってしまう（図４（ｃ））。
【００５３】
このように、参考例では、静電チャック１０１の吸着面１０１ａｂの一部に付着した異物１１０を除去できずにいる。
【００５４】
これに対し、図５（ａ）〜図５（ｃ）は、第１実施形態に係るクリーニング方法において静電チャック吸着面から異物が除去される様子を表す模式的断面図である。
【００５５】
静電チャッククリーナ１においては、その主面１０ａｓ、１０ｂｓに導電層３０が設けられている。従って、間隙１００ｓｐがあったとしても、吸着面１０１ａｂに静電チャッククリーナ１が均等の力で押し付けられる。つまり、基板１０の自重による基板１０が撓みが抑制される。従って、任意の２つの領域Ａ、Ｂにおいて、粘着層２０が吸着面１０１ａｂに接触する。
【００５６】
これにより、領域Ａ、Ｂにおいて、吸着面１０１ａｂに付着した異物１１０（図５（ａ））が吸着面１０１ａｂに粘着層２０が触れ（図５（ｂ））、吸着面１０１ａｂに付着した異物１１０が粘着層２０によって取り除かれる（図５（ｃ））。
【００５７】
また、静電チャッククリーナ１を用いれば、露光装置を大気圧に解放することを要しない。従って、ＥＵＶ露光の稼働率が低下することもない。
【００５８】
（第１実施形態の変形例）  
粘着層２０が静電チャック１０１の吸着面１０１ａｂに接触する面は、必ずしも平坦である必要はない。
【００５９】
図６（ａ）〜図６（ｃ）は、第１実施形態の変形例に係るクリーニング方法を表す模式的断面図である。
【００６０】
粘着層２０（第１粘着層部２０ａ、第２粘着層部２０ｂ）の表面には、凹凸を形成してもよい。
【００６１】
例えば、図６（ａ）に表すように、粘着層２０の表面には、複数の凸部２０ｔが設けられている。また、静電チャック１０１が静電チャッククリーナ１に対向する面には凹凸が形成されている場合がある。図６（ａ）では、静電チャック１０１の凸部１０１ｔが静電チャック１０１の吸着面１０１ａｂである様子が表されている。
【００６２】
ここで、粘着層２０の凸部２０ｔの表面面積Ｓａは、静電チャック１０１の凸部１０１ｔの表面面積Ｓａ’よりも小さい。凸部２０ｔの高さｈは、例えば、１０μｍ以下である。凸部２０ｔの高さｈは、粘着層２０が吸着面１０１ａｂに押し付けられたとき、若干低くなる。凸部１０１ｔの高さｈ’は、例えば、１０μｍである。なお、図中の「ａ」は、吸着面１０１ａｂからの異物１１０の高さを意味している。
【００６３】
次に、図６（ｂ）に表すように、粘着層２０を静電チャック１０１に接触させる。この際、複数の凸部２０ｔのそれぞれの表面面積Ｓａは、静電チャック１０１の凸部１０１ｔの表面面積Ｓａ’よりも小さいので、静電チャック１０１の凸部１０１ｔの吸着面１０１ａｂには粘着層２０の凸部２０ｔが接触することになる。
【００６４】
また、凸部２０ｔの高さｈが１０μｍ以下であるために、吸着面１０１ａｂからの高さａが１０μｍ以上の異物１１０は、粘着層２０に触れることになる。従って、吸着面１０１ａｂからの高さａが１０μｍ以上の異物１１０については、図６（ｃ）に表すように確実に粘着層２０によって除去される。
【００６５】
このような静電チャッククリーナ１よれば、例えば、図２（ｇ）に表す静電チャック１０１への電圧印加を停止した場合、静電チャッククリーナ１Ａ（１Ｂ）の自重によって静電チャッククリーナ１Ａ（１Ｂ）が静電チャック１０１から離れ易くなる。これは、表面凹凸の形成によって、粘着層２０と吸着面１０１ａｂとの接触面積が低減したためである。
【００６６】
第１実施形態の変形例では、粘着層２０と吸着面１０１ａｂとの接触面積もしくは粘着層２０の粘着力を調整することにより、粘着層２０の粘着力が静電チャッククリーナ１Ａ（１Ｂ）の自重よりも小さくなるよう調整されている。
【００６７】
また、吸着面１０１ａｂからの高さａが１０μｍより小さい異物１１０については、微小異物であり、この微小異物１１０が静電チャック１０１の吸着面１０１ａｂに残ったとしても、静電チャッククリーナ１Ａ（１Ｂ）の撓みに影響を与えるレベルではない。
【００６８】
（第２実施形態）  
粘着層が形成される領域については任意の形状でいい。例えば、他の例を図７に示す。
【００６９】
図７は、第２実施形態に係る静電チャッククリーナを表す模式的平面図である。
【００７０】
図７には、１対の静電チャッククリーナ２（２Ａ、２Ｂ）のＺ方向から見た主面が表されている。
【００７１】
静電チャッククリーナ２Ａでは、第１粘着層部２０ａと第１導電層部３０ａとがＸ方向に交互に配列され、第１粘着層部２０ａと第１導電層部３０ａとがＹ方向に交互に配列されている。
【００７２】
また、静電チャッククリーナ２Ｂでは、第２粘着層部２０ｂと第２導電層部３０ｂとがＸ１方向に交互に配列され、第２粘着層部２０ｂと第２導電層部３０ｂとがＹ方向に交互に配列されている。
【００７３】
このような粘着層部と導電層部との配置であっても、静電チャッククリーナ２Ａ、２Ｂを一枚ずつ、静電チャックの吸着面に押し当てた場合、吸着面のすべてが粘着層に接触する。
【００７４】
（第３実施形態）  
図８は、第３実施形態に係る露光装置を表す模式図である。  
上述した静電チャッククリーナ１、２は、図８に表す露光装置２００の中にレチクルと同様に搬送されて、静電チャック１０１の吸着面１０１ａｂに接触し、静電チャック１０１の吸着面１０１ａｂのクリーニングが施される。図中には、レチクル２０１が表されているが、このレチクル２０１が静電チャッククリーナ１、２に置き換えられる。
【００７５】
露光装置２００は、露光光２５０として波長が３〜５０ｎｍ程度（１００ｎｍ程度以下）のＥＵＶ光を用いている。露光装置２００は、露光光を発光する光源２０２と、レチクル２０１を照明する照明光学系２０３（２０３ａ、２０３ｂ、２０３ｃ）と、静電チャック１０１を支持し、レチクル２０１を移動するステージ１０２と、レチクル２０１から反射されたパターン像（反射光）をレジストが塗布された半導体ウェーハ２１０上に投影する投影光学系２０４（２０４ａ、２０４ｂ）と、を備えている。
【００７６】
露光装置２００は、半導体ウェーハ２１０を移動するウエハステージ２１１と、装置の動作を統括的に制御する制御装置２２０等とを備える。  
また、ＥＵＶ光の大気による吸収を防止するため、露光装置２００は真空槽２３０内に収容されている。真空槽２３０内は、排気系２３１により、真空状態が維持される。
【００７７】
このように、粘着層の形成領域がそれぞれ異なる複数のクリーナーマスクに対して静電チャックシーケンスを行うことにより、通常のレチクルと同じ静電チャックシーケンスで露光装置のレチクルチャックにクリーナを吸着させることができる。このため、静電チャック面から効率よく異物が除去できる。さらに粘着層の表面を凹凸形状にすることにより、静電チャックからの離脱においてレチクルチャッククリーナの静電チャックからの脱離性能を高めることができる。
【００７８】
以上、具体例を参照しつつ実施形態について説明した。しかし、実施形態はこれらの具体例に限定されるものではない。すなわち、これら具体例に、当業者が適宜設計変更を加えたものも、実施形態の特徴を備えている限り、実施形態の範囲に包含される。前述した各具体例が備える各要素およびその配置、材料、条件、形状、サイズなどは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。
【００７９】
また、前述した各実施形態が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて複合させることができ、これらを組み合わせたものも実施形態の特徴を含む限り実施形態の範囲に包含される。その他、実施形態の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例および修正例に想到し得るものであり、それら変更例および修正例についても実施形態の範囲に属するものと了解される。
【００８０】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００８１】
１、１Ａ、１Ｂ  静電チャッククリーナ、  １ａｒ  第１領域、  １ｂｒ  第２領域、
１０、１０ａ、１０ｂ  基板、  １０ａｓ、１０ｂｓ  主面、  ２０  粘着層、  ２０ａ  第１粘着層部、  ２０ｂ  第２粘着層部、  ２０ｔ  凸部、  ３０  導電層、  ３０ａ  第１導電層部、  ３０ｂ  第２導電層部、  １００  ベースプレート、  １００ｓｐ  間隙、  １０１  静電チャック、  １０１ａｂ  吸着面、  １０１ｔ  凸部、  １０２  ステージ、  １１０  異物、  ２００  露光装置、  ２０１  レチクル、  ２０２  光源、  ２０３  照明光学系、  ２０４  投影光学系、  ２１０  半導体ウェーハ、  ２１１  ウエハステージ、  ２２０  制御装置、  ２３０  真空槽、  ２３１  排気系、  ２５０  露光光
【図１】
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【図２】
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【図７】
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【図８】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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