(57)【要約】【課題】リソグラフィ原版のパターン欠陥の発生を低減することが可能な基板保管ケースを提供する。【解決手段】基板保管ケースは、基板を保管するための基板保管ケースである。基板保管ケースは、赤外光ＩＲを透過させる石英ガラスで構成され、前記基板を支持する支持部が上面に設けられた台座を備える。基板保管ケースは、赤外光を透過させる石英ガラスで構成され、前記台座と接触した状態で、前記台座上で前記基板を覆う上蓋を備える。前記基板の少なくとも一部は、赤外光を吸収し発熱する吸収部材で形成されている。前記台座または前記上蓋は、前記台座上と前記上蓋とにより囲まれる空間に繋がり且つ開閉可能な吸気口、および、前記空間に繋がり且つ開閉可能な排気口を有する。【選択図】図１
2015176932.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保管するための基板保管ケースであって、
赤外光を透過させる石英ガラスで構成され、前記基板を支持する支持部が上面に設けられた台座と、
赤外光を透過させる石英ガラスで構成され、前記台座と接触した状態で、前記台座上で前記基板を覆う上蓋と、を備え、  
前記基板の少なくとも一部は、赤外光を吸収し発熱する吸収部材で構成されており、
前記台座または前記上蓋は、前記台座上と前記上蓋とにより囲まれる空間に繋がり且つ開閉可能な吸気口、および、前記空間に繋がり且つ開閉可能な排気口を有する
ことを特徴とする基板保管ケース。
【請求項２】
前記基板は、リソグラフィ原版であることを特徴とする請求項１に記載の基板保管ケース。
【請求項３】
前記基板に設けられたパターンは、前記吸収部材で構成されていることを特徴とする請求項２に記載の基板保管ケース。
【請求項４】
前記吸収部材は、クロムを含むことを特徴とする請求項３に記載の基板保管ケース。
【請求項５】
前記基板に接触又は近接して配置され、赤外光を吸収し発熱する補助吸収部材をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の基板保管ケース。
【請求項６】
前記基板に対して、赤外光を照射する内部光源をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載の基板保管ケース。
【請求項７】
前記内部光源は、前記吸収部材に対して赤外光を照射することを特徴とする請求項６に記載の基板保管ケース。
【請求項８】
前記吸収部材または前記補助吸収部材に対して、前記基板保管ケースの外部から赤外光を導引するライトガイドをさらに備える
ことを特徴とする請求項５に記載の基板保管ケース。
【請求項９】
前記基板に接触又は近接して配置され、前記基板を加熱する加熱部をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の基板保管ケース。
【請求項１０】
赤外光を透過させる石英ガラスで構成され、基板を支持する支持部が上面に設けられた台座と、赤外光を透過させる石英ガラスで構成され、前記台座と接触した状態で、前記台座上で前記基板を覆う上蓋と、を備え、前記台座または前記上蓋は、前記台座上と前記上蓋とにより囲まれる空間に繋がり且つ開閉可能な吸気口、および、前記空間に繋がり且つ開閉可能な排気口を有する基板保管ケースと、
外気をフィルタリングするフィルタ部と、
前記フィルタ部によりフィルタリングされた外気を、前記基板保管ケースの前記吸気口に導入する導入部と、
前記基板保管ケースの前記排気口から、前記基板保管ケースの前記空間の雰囲気を吸引する吸引部と、
前記基板保管ケース内に収納された前記基板の上面に赤外光が照射されるように、前記基板保管ケースに前記上蓋側から赤外光を照射する第１の光源と、を備え、
前記基板の少なくとも一部は、赤外光を吸収し発熱する吸収部材で構成されていることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１１】
前記基板保管ケース内に収納された前記基板の下面に赤外光が照射されるように、前記基板保管ケースに前記台座側から赤外光を照射する第２の光源をさらに備える
ことを特徴とする請求項１０に記載の基板洗浄装置。
【請求項１２】
赤外光を透過させる石英ガラスで構成され、基板を支持する支持部が上面に設けられた台座と、赤外光を透過させる石英ガラスで構成され、前記台座と接触した状態で、前記台座上で前記基板を覆う上蓋と、を備え、前記台座または前記上蓋は、前記台座上と前記上蓋とにより囲まれる空間に繋がり且つ開閉可能な吸気口、および、前記空間に繋がり且つ開閉可能な排気口を有する基板保管ケースと、
外気をフィルタリングするフィルタ部と、
前記フィルタ部によりフィルタリングされた外気を、前記基板保管ケースの前記吸気口に導入する導入部と、
前記基板保管ケースの前記排気口から、前記基板保管ケースの前記空間の雰囲気を吸引する吸引部と、
前記基板保管ケースの赤外光を吸収し発熱する吸収部材に赤外光が照射されるように、前記基板保管ケースに前記上蓋側から赤外光を照射する第１の光源と、を備える
ことを特徴とする基板保管ケース洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、基板保管ケース、基板洗浄装置、および基板保管ケース洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パターンの微細加工が進むに連れて、基板（リソグラフィ原版）上に発生する欠陥問題は製造コストを左右するようになっている。
【０００３】
このような基板の欠陥は、基板上に付着したパーティクルのみならず、基板が曝される環境中の不純物やナノパーティクルなどが原因となって発生することもある。
【０００４】
したがって、基板が曝される環境中の不純物の管理や基板へのナノサイズオーダーのパーティクルの管理は、非常に重要なものとなってきている。
【０００５】
例えば、基板が曝される環境の管理といえば、クリーンルーム内の環境、処理装置内の環境、ひいては基板を輸送する際の基板保管ケース内環境についても管理が必要である。
【０００６】
ここで、基板の輸送や保管を行う際に用いられる基板保管ケースについては、成型が容易、安価、アウトガスが発生しにくい、衝撃に強い、耐洗浄性等の理由から、樹脂系（ホ゜リカーホ゛ネイト）の材料にて作られていることが多い。
【０００７】
しかしながら、例えば、ホ゜リカーホ゛ネイト製の基板保管ケースを洗浄する際には、ホ゜リカーホ゛ネイトの耐熱性のため、１００度以上の高温にすることはできない。
【０００８】
このため、加熱により、樹脂からなる基板保管ケースに付着した環境中の不純物などを除去することが難しいという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平６−２５２２５４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
基板の欠陥の発生を低減することが可能な基板保管ケース、基板洗浄装置、および基板保管ケース洗浄装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
実施形態に従った基板保管ケースは、基板を保管するための基板保管ケースである。基板保管ケースは、赤外光ＩＲを透過させる石英ガラスで構成され、前記基板を支持する支持部が上面に設けられた台座を備える。基板保管ケースは、赤外光を透過させる石英ガラスで構成され、前記台座と接触した状態で、前記台座上で前記基板を覆う上蓋を備える。前記基板の少なくとも一部は、赤外光を吸収し発熱する吸収部材で形成されている。前記台座または前記上蓋は、前記台座上と前記上蓋とにより囲まれる空間に繋がり且つ開閉可能な吸気口、および、前記空間に繋がり且つ開閉可能な排気口を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、第１の実施形態に係る基板保管ケース１００の構成の一例を示す図である。
【図２】図２は、図１に示す基板保管ケース１００が適用される基板洗浄装置１０００の構成の一例を示す図である。
【図３】図３は、第２の実施形態に係る基板保管ケース２００の構成の一例を示す図である。
【図４】図４は、第３の実施形態に係る基板保管ケース３００の構成の一例を示す図である。
【図５】図５は、第４の実施形態に係る基板保管ケース４００の構成の一例を示す図である。
【図６】図６は、第５の実施形態に係る基板保管ケース５００の構成の一例を示す図である。
【図７】図７は、図６に示す基板保管ケース５００が適用される基板洗浄装置２０００の構成の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、各実施形態について図面に基づいて説明する。
【第１の実施形態】
【００１４】
図１は、第１の実施形態に係る基板保管ケース１００の構成の一例を示す図である。
【００１５】
図１に示すように、基板Ｂを保管するための基板保管ケース１００は、台座Ｘと、上蓋Ｙと、を備える。
【００１６】
台座Ｘは、赤外光ＩＲを透過させる石英ガラスで構成されている。この台座Ｘは、基板Ｂを下方から支持する支持部Ｘ１、Ｘ２が上面に設けられている。
【００１７】
上蓋Ｙは、赤外光ＩＲを透過させる石英ガラスで構成されている。この上蓋Ｙは、台座Ｘと接触した状態で、台座Ｘ上で基板Ｂを覆う。
【００１８】
基板Ｂは、基板保管ケース１００の内部に保持されることにより、外気から隔離される。
【００１９】
ここで、図１に示すように、台座Ｘは、台座Ｘ上と上蓋Ｙとにより囲まれる空間Ｓに繋がり且つ開閉可能な吸気口ＩＮ、および、空間Ｓに繋がり且つ開閉可能な排気口ＯＵＴを有する。しかし、上蓋Ｙは、台座Ｘ上と上蓋Ｙとにより囲まれる空間Ｓに繋がり且つ開閉可能な吸気口ＩＮ、および、空間Ｓに繋がり且つ開閉可能な排気口ＯＵＴを有するようにしてもよい。
【００２０】
なお、この吸気口ＩＮは、不純物を取り除いた外気を基板保管ケース１００内に導入するためのものである。また、排気口ＯＵＴは、基板保管ケース１００内の雰囲気を外部に排出するためのものである。  
そして、基板Ｂを保管（例えば、各加工工程間や、処理装置にセットされている間の保管）または移送する場合には、吸気口ＩＮおよび排気口ＯＵＴは閉じられる。
【００２１】
これにより、基板保管ケース１００の台座Ｘ上と上蓋Ｙとにより囲まれる空間Ｓが密閉される。
【００２２】
一方、後述のように、基板Ｂまたは基板保管ケース１００を洗浄する場合には、吸気口ＩＮおよび排気口ＯＵＴは開かれる。
【００２３】
これにより、不純物を取り除いた外気を基板保管ケース１００内に導入し、基板保管ケース１００内の雰囲気を外部に排出することができる状態になる。
【００２４】
なお、台座Ｘと上蓋Ｙの少なくとも一部とが離れた状態のとき、基板Ｂを基板保管ケース１００内に配置できるようになっている。
【００２５】
なお、基板Ｂの少なくとも一部は、赤外光ＩＲを吸収し発熱する吸収部材で形成されている。この基板Ｂは、例えば、リソグラフィ原版である。そして、基板Ｂに形成されたパターン（例えば、リソグラフィ原版の回路パターン等）は、該吸収部材で形成されている。該吸収部材は、クロムを含む。なお、図１の例では、リソグラフィ原版は、フォトマスクである。
【００２６】
既述のように、基板保管ケース１００を構成する台座Ｘおよび上蓋Ｙは、石英ガラスで構成されている。これにより、一般的な樹脂で基板保管ケースを構成した場合よりも、有機物などの不純物の発生を抑制することができる。
【００２７】
ここで、図１に示す基板保管ケース１００が適用される基板洗浄装置１０００の構成の一例について説明する。      
図２は、図１に示す基板保管ケース１００が適用される基板洗浄装置１０００の構成の一例を示す図である。
【００２８】
図２に示すように、基板洗浄装置１０００は、例えば、フィルタ部Ｆと、導入部ＩＮａと、吸引部ＯＵＴａと、第１の光源Ｓ１と、第２の光源Ｓ２と、を備える。
【００２９】
フィルタ部Ｆは、外気をフィルタリングする。
【００３０】
導入部ＩＮａは、フィルタ部Ｆによりフィルタリングされた外気を、基板保管ケース１００の吸気口ＩＮに導入する。
【００３１】
吸引部ＯＵＴａは、基板保管ケース１００の排気口ＯＵＴから、基板保管ケース１００の空間Ｓの雰囲気を吸引する。
【００３２】
第１の光源Ｓ１は、基板保管ケース１００内に収納された基板Ｂの上面に赤外光ＩＲが照射されるように、基板保管ケース１００に上蓋Ｙ側から赤外光ＩＲを照射する。
【００３３】
第２の光源Ｓ２は、基板保管ケース１００内に収納された基板Ｂの下面に赤外光ＩＲが照射されるように、基板保管ケース１００に台座Ｘ側から赤外光ＩＲを照射する。
【００３４】
ここで、以上のような構成を有する基板洗浄装置１０００により基板Ｂおよび基板保管ケース１００を加熱により洗浄する動作の一例について説明する。
【００３５】
まず、図２に示すように、基板Ｂを収納した基板保管ケース１００を基板洗浄装置１０００にセットする。
【００３６】
そして、第１の光源Ｓ１は、基板保管ケース１００内に収納された基板Ｂの上面に赤外光ＩＲが照射されるように、基板保管ケース１００に上蓋Ｙ側から赤外光ＩＲを照射する。
【００３７】
さらに、第２の光源Ｓ２は、基板保管ケース１００内に収納された基板Ｂの下面に赤外光ＩＲが照射されるように、基板保管ケース１００に台座Ｘ側から赤外光ＩＲを照射する。
【００３８】
これにより、基板Ｂの吸収部材、台座Ｘの吸収部材、および上蓋Ｙの吸収部材が、赤外光ＩＲを吸収して、発熱する。すなわち、基板Ｂおよび基板保管ケース１００自体が加熱される。
【００３９】
なお、台座Ｘ或いは上蓋Ｙに赤外光ＩＲを吸収する吸収部材を貼り付け、または装着させもよい。これにより、外部より赤外光ＩＲを照射することにより基板保管ケース１００が加熱されることとなる。
【００４０】
特に、台座Ｘ或いは上蓋Ｙのうち、外部から基板Ｂに照射される赤外光ＩＲを遮らない位置に吸収部材は設けられる。これにより、赤外光ＩＲにより基板Ｂを加熱しつつ、基板保管ケース１００自体を加熱することができる。
【００４１】
これにより、基板保管ケース１００内の表面や基板Ｂの表面に付着している不純物やナノパーティクルを離脱させることができる。
【００４２】
一方、吸気口ＩＮが開口して導入部ＩＮａと基板保管ケース１００の空間Ｓとが連通するとともに、排気口ＯＵＴが開口して排出部ＯＵＴａと基板保管ケース１００の空間Ｓとが連通する。
【００４３】
そして、導入部ＩＮａは、フィルタ部Ｆによりフィルタリングされた外気を、基板保管ケース１００の吸気口ＩＮに導入する。これにより、空間Ｓに不純物がフィルタリングされた外気が供給される。
【００４４】
さらに、吸引部ＯＵＴａは、基板保管ケース１００の排気口ＯＵＴから、基板保管ケース１００の空間Ｓの雰囲気（気体）を吸引する。これにより、空間Ｓから不純物を含んだ雰囲気が外部に排出される。
【００４５】
そして、基板洗浄装置１０００は、加熱により離脱させた不純物やナノパーティクルを吸引部ＯＵＴａより基板保管ケース１００の外部に排出させる。
【００４６】
これにより、基板Ｂの表面や基板保管ケース１００の内面に存在する、不純物、ナノパーティクルなどを表面から空間Ｓに離脱させ、かつ基板保管ケース１００内部の空間Ｓより除去して、フォトマスクやテンプレートのパターン欠陥や付着の発生を低減させることができる。
【００４７】
既述のような構成を有する基板洗浄装置１０００は、基板保管ケース１００に基板Ｂが格納されていない場合には、基板保管ケース１００を洗浄する基板保管ケース洗浄装置として機能する。
【００４８】
既述のように、基板保管ケース１００を石英ガラスで構成することにより、従来の基板保管ケースを一般的な樹脂でした場合よりも高温に加熱することが可能になる。これにより、不純物やナノパーティクルを効率的に離脱させることができる。
【００４９】
なお、石英ガラスを連続的に使用できる最高温度は、約900度である。したがって、基板保管ケース１００の加熱温度は、常温（２０度）〜900度の範囲に管理される。
【００５０】
また、上記の主な不純物は、例えば、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、ベンズアルデヒド、ジクロロベンゼン、エチルヘキサノール、安息香酸、ブタンジオール、トリメチルベンゼン、ノナナール、ブトキシエトキシエタノール、ターシャリーブチルヒドロキシメチルシクロヘキサジン、トリクロルホン、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、アンモニア、アミン類、有機アミン類、有機酸類、フッ素イオンとその化合物、塩素イオンと化合物、硫酸イオンとその化合物等である。
【００５１】
以上のように、基板保管ケースを開封せずに基板の加熱が可能になる。これにより、基板保管ケース内部や基板表面から発生する有機物質等の汚染物質の基板表面への付着、再付着を抑えて、基板の欠陥の発生を低減できる。
【００５２】
さらに、基板保管ケース内の雰囲気を排出する。これにより、上記の汚染物質の基板表面への付着、再付着を抑えて、基板の欠陥（例えば、リソグラフィ原版のパターン欠陥等）の発生を低減できる。
【００５３】
すなわち、第１の実施形態に係る基板保管ケースによれば、基板の欠陥の発生を低減することができる。
【第２の実施形態】
【００５４】
この第２の実施形態では、基板の下面の中央に凹部が形成されている場合の基板保管ケースの構成の一例について説明する。
【００５５】
図３は、第２の実施形態に係る基板保管ケース２００の構成の一例を示す図である。なお、この図３において、図１の符号と同じ符号は、第１の実施形態と同様の構成を示す。また、この図３に示す基板保管ケース２００は、第１の実施形態と同様に、図２に示す基板洗浄装置１０００に適用される。
【００５６】
図３に示すように、基板Ｂは、下面の中央に凹部Ｂａが形成されている。なお、この図３の例では、基板（リソグラフィ原版）Ｂは、ナノインプリント用テンプレートである。      
また、台座Ｘは、基板Ｂの凹部Ｂａに整合する凸部Ｘａが上面に形成されている。
【００５７】
そして、基板Ｂの凹部Ｂａに対して、外部より、台座Ｘの凸部Ｘａを介して、赤外光ＩＲを照射するようにしてもよい。
【００５８】
これにより、基板Ｂの吸収部材が赤外光ＩＲを吸収し発熱することとなる。
【００５９】
また、凸部Ｘａの表面に赤外線ＩＲを吸収し発熱する補助吸収部材Ｚが配置されている。すなわち、補助吸収部材Ｚは、基板Ｂに接触又は近接して配置されている。
【００６０】
そして、この補助吸収部材Ｚに対して、外部より、台座Ｘの凸部Ｘａを介して、赤外光ＩＲを照射するようにしてもよい。
【００６１】
これにより、補助吸収部材Ｚが赤外光ＩＲを吸収し発熱することとなる。
【００６２】
この基板保管ケース２００のその他の構成・機能は、第１の実施形態の基板保管ケースと同様である。
【００６３】
すなわち、基板保管ケース２００は、第１の実施形態と同様に、基板保管ケースを開封せずに基板の加熱が可能になる。これにより、基板保管ケース内部や基板表面から発生する有機物質等の汚染物質の基板表面への付着、再付着を抑えて、基板の欠陥の発生を低減できる。
【００６４】
さらに、基板保管ケース内の雰囲気を排出する。これにより、上記の汚染物質の基板表面への付着、再付着を抑えて、基板の欠陥（例えば、リソグラフィ原版のパターン欠陥等）の発生を低減できる。
【００６５】
すなわち、第２の実施形態に係る基板保管ケースによれば、基板の欠陥の発生を低減することができる。
【第３の実施形態】
【００６６】
この第３の実施形態では、基板Ｂの下面の中央に凹部Ｂａが形成されている場合の基板保管ケースの構成の他の例について説明する。
【００６７】
図４は、第３の実施形態に係る基板保管ケース３００の構成の一例を示す図である。なお、この図４において、図３の符号と同じ符号は、第２の実施形態と同様の構成を示す。また、この図４に示す基板保管ケース３００は、第２の実施形態と同様に、図２に示す基板洗浄装置１０００に適用される。
【００６８】
図４に示すように、基板Ｂは、下面の中央に凹部Ｂａが形成されている。      
また、台座Ｘは、基板Ｂの凹部Ｂａに整合するライトガイドＧが中央に設けられている。すなわち、基板保管ケース３００は、第１の実施形態と比較して、基板Ｂの吸収部材または補助吸収部材Ｚに対して、基板保管ケース３００の外部から赤外光ＩＲを導引するライトガイドＧをさらに備える。
【００６９】
ここで、基板Ｂの凹部Ｂａに対して、外部より、ライドガイドＧを介して、赤外光ＩＲを照射する。
【００７０】
これにより、基板Ｂの吸収部材が赤外光ＩＲを吸収し発熱することとなる。
【００７１】
また、ライドガイドＧの上面に赤外線ＩＲを吸収し発熱する補助吸収部材Ｚが配置されているようにしてもよい。すなわち、補助吸収部材Ｚは、基板Ｂに接触又は近接して配置されている。
【００７２】
そして、この補助吸収部材Ｚに対して、外部より、台座ＸのライドガイドＧを介して、赤外光ＩＲを照射するようにしてもよい。
【００７３】
これにより、補助吸収部材Ｚが赤外光ＩＲを吸収し発熱することとなる。
【００７４】
この基板保管ケース３００のその他の構成・機能は、第２の実施形態の基板保管ケースと同様である。
【００７５】
すなわち、第３の実施形態に係る基板保管ケースによれば、第２の実施形態と同様に、基板の欠陥の発生を低減することができる。
【第４の実施形態】
【００７６】
この第４の実施形態では、基板Ｂの下面の中央に凹部Ｂａが形成されている場合の基板保管ケースの構成のさらに他の例について説明する。
【００７７】
図５は、第４の実施形態に係る基板保管ケース４００の構成の一例を示す図である。なお、この図５において、図３の符号と同じ符号は、第２の実施形態と同様の構成を示す。また、この図５に示す基板保管ケース４００は、第２の実施形態と同様に、図２に示す基板洗浄装置１０００に適用される。
【００７８】
図５に示すように、基板Ｂは、下面の中央に凹部Ｂａが形成されている。      
また、台座Ｘは、基板Ｂの凹部Ｂａに整合する内部光源ＳＸが中央に設けられている。すなわち、基板保管ケース４００は、第１の実施形態と比較して、基板Ｂに対して、赤外光ＩＲを照射する内部光源ＳＸをさらに備える。
【００７９】
ここで、基板Ｂの凹部Ｂａに対して、内部光源ＳＸが赤外光ＩＲを照射する。これにより、基板Ｂの吸収部材が赤外光ＩＲを吸収し発熱することとなる。
【００８０】
また、内部光源ＳＸの上面に赤外線ＩＲを吸収し発熱する補助吸収部材Ｚが配置されているようにしてもよい。すなわち、補助吸収部材Ｚは、基板Ｂに接触又は近接して配置されている。
【００８１】
そして、この補助吸収部材Ｚに対して、内部光源ＳＸから赤外光ＩＲを照射するようにしてもよい。
【００８２】
これにより、補助吸収部材Ｚが赤外光ＩＲを吸収し発熱することとなる。
【００８３】
この基板保管ケース４００のその他の構成・機能は、第２の実施形態の基板保管ケースと同様である。
【００８４】
すなわち、第４の実施形態に係る基板保管ケースによれば、第２の実施形態と同様に、基板の欠陥の発生を低減することができる。
【第５の実施形態】
【００８５】
この第５の実施形態では、基板Ｂの下面の中央に凹部Ｂａが形成されている場合の基板保管ケースの構成のさらに他の例について説明する。
【００８６】
図６は、第５の実施形態に係る基板保管ケース５００の構成の一例を示す図である。なお、この図６において、図３の符号と同じ符号は、第２の実施形態と同様の構成を示す。
【００８７】
図６に示すように、基板Ｂは、下面の中央に凹部Ｂａが形成されている。
【００８８】
また、台座Ｘは、基板Ｂの凹部Ｂａに整合する加熱部Ｈが中央に設けられている。すなわち、基板保管ケース５００は、第１の実施形態と比較して、基板Ｂに接触又は近接して配置され、基板Ｂを加熱する加熱部Ｈをさらに備える。
【００８９】
この基板保管ケース５００のその他の構成・機能は、第２の実施形態の基板保管ケースと同様である。
【００９０】
ここで、図６に示す基板保管ケース５００が適用される基板洗浄装置２０００の構成の一例について説明する。
【００９１】
図７は、図６に示す基板保管ケース５００が適用される基板洗浄装置２０００の構成の一例を示す図である。
【００９２】
図７に示すように、基板洗浄装置２０００は、例えば、フィルタ部Ｆと、導入部ＩＮａと、吸引部ＯＵＴａと、第１の光源Ｓ１と、を備える。すなわち、この基板洗浄装置２０００は、第１の実施形態と比較して、第２の光源Ｓ２が省略されている。
【００９３】
フィルタ部Ｆは、外気をフィルタリングする。
【００９４】
導入部ＩＮａは、フィルタ部Ｆによりフィルタリングされた外気を、基板保管ケース５００の吸気口ＩＮに導入する。
【００９５】
吸引部ＯＵＴａは、基板保管ケース５００の排気口ＯＵＴから、基板保管ケース５００の空間Ｓの雰囲気を吸引する。
【００９６】
第１の光源Ｓ１は、基板保管ケース５００内に収納された基板Ｂの上面に赤外光ＩＲが照射されるように、基板保管ケース５００に上蓋Ｙ側から赤外光ＩＲを照射する。
【００９７】
この基板洗浄装置２０００のその他の構成・機能は、第１の実施形態と同様である。
【００９８】
ここで、以上のような構成を有する基板洗浄装置２０００により基板Ｂおよび基板保管ケース５００を加熱により洗浄する動作の一例について説明する。
【００９９】
まず、図７に示すように、基板Ｂを収納した基板保管ケース５００を基板洗浄装置２０００にセットする。
【０１００】
そして、第１の光源Ｓ１は、基板保管ケース５００内に収納された基板Ｂの上面に赤外光ＩＲが照射されるように、基板保管ケース５００に上蓋Ｙ側から赤外光ＩＲを照射する。
【０１０１】
これにより、基板Ｂの吸収部材、台座Ｘの吸収部材、および上蓋Ｙの吸収部材が、赤外光ＩＲを吸収して、発熱する。すなわち、基板Ｂおよび基板保管ケース５００自体が加熱される。
【０１０２】
さらに、加熱部Ｈは、基板保管ケース５００内に収納された基板Ｂを加熱する。
【０１０３】
これにより、基板保管ケース５００内の表面や基板Ｂの表面に付着している不純物やナノパーティクルを離脱させることができる。
【０１０４】
基板洗浄装置２０００のその他の動作は、第１の実施形態と同様である。
【０１０５】
なお、既述のような構成・機能を有する基板洗浄装置２０００は、基板保管ケース５００に基板Ｂが格納されていない場合には、基板保管ケース５００を洗浄する基板保管ケース洗浄装置として機能する。
【０１０６】
以上のように、基板保管ケースを開封せずに基板の加熱が可能になる。これにより、基板保管ケース内部や基板表面から発生する有機物質等の汚染物質の基板表面への付着、再付着を抑えて、基板の欠陥の発生を低減できる。
【０１０７】
さらに、基板保管ケース内の雰囲気を排出する。これにより、上記の汚染物質の基板表面への付着、再付着を抑えて、基板の欠陥（例えば、リソグラフィ原版のパターン欠陥等）の発生を低減できる。
【０１０８】
すなわち、第５の実施形態に係る基板保管ケースによれば、基板の欠陥の発生を低減することができる。
【０１０９】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【０１１０】
１００  基板保管ケース
１０００  基板洗浄装置
Ｂ  基板
Ｘ  台座
Ｙ  上蓋
ＩＮ  吸気口
ＯＵＴ  排気口
Ｘ１、Ｘ２  支持部
Ｆ  フィルタ部
ＩＮａ導入部
ＯＵＴａ  吸引部
Ｓ１  第１の光源
Ｓ２  第２の光源
【図１】
2015176932.tif 000003
【図２】
2015176932.tif 000004
【図３】
2015176932.tif 000005
【図４】
2015176932.tif 000006
【図５】
2015176932.tif 000007
【図６】
2015176932.tif 000008
【図７】
2015176932.tif 000009