(57)【要約】【課題】油性加工油と水溶性加工油の何れに対しても優れた洗浄性能を発揮する上に、再生可能な洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】化学式Ｒ１Ｏ［Ｃ３Ｈ６Ｏ］ｎＣＯＣＨ３及び／又は、化学式Ｒ２Ｏ［Ｃ３Ｈ６Ｏ］ｍＨから選ばれる一種またはそれ以上の親油性溶剤（Ｃ３Ｈ６は、ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）又はＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、Ｒ１は炭素数１〜２のアルキル基又はアセチル基、Ｒ２は炭素数３〜６のアルキル基、ｎ及びｍは１〜３）と、化学式Ｒ３Ｏ［ＣＨ２ＣＨ２Ｏ］ｋＨの親水性溶剤（Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基、ｋは１〜３）と、０〜９０ｖｏｌ％の水とで、実質的に１００Ｖｏｌ％とした洗浄剤組成物であって、各溶剤の常圧下での沸点差は５０℃以下である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学式Ｒ１Ｏ［Ｃ３Ｈ６Ｏ］ｎＣＯＣＨ３及び／又は、化学式Ｒ２Ｏ［Ｃ３Ｈ６Ｏ］ｍＨから選ばれる一種またはそれ以上の親油性溶剤（Ｃ３Ｈ６は、ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）又はＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、Ｒ１は炭素数１〜２のアルキル基又はアセチル基、Ｒ２は炭素数３〜６のアルキル基、ｎ及びｍは１〜３）と、
化学式Ｒ３Ｏ［ＣＨ２ＣＨ２Ｏ］ｋＨの一種またはそれ以上の親水性溶剤（Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基、ｋは１〜３）と、
０〜９０ｖｏｌ％の水とで、実質的に１００Ｖｏｌ％とした洗浄剤組成物であって、
親油性溶剤と親水性溶剤の常圧下での沸点差が、５０℃以下であることを特徴とする洗浄剤組成物。
【請求項２】
親油性溶剤と親水性溶剤の引火点が、各々、７０℃以上である請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項３】
水の含有量が、１０ｖｏｌ％以上に設定されることで非引火性を有する請求項１又は２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項４】
親油性溶剤と、親水性溶剤の含有Ｖｏｌ比は、９：１〜１：９である請求項１〜３の何れかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項５】
使用後の洗浄剤が、所定の蒸留システムで処理されることで、親油性溶剤と親水性溶剤とが混合状態で蒸留再生され、これに、必要量の水が添加されることで洗浄剤として再使用される請求項１〜４の何れかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項６】
親油性溶剤と親水性溶剤の常圧下での沸点は、１８０℃〜２３０℃であり、蒸留システムにおいて、減圧下で蒸留再生されるよう構成されている請求項５に記載の洗浄剤組成物。
【請求項７】
前記蒸留システムは、
使用後の洗浄剤を受けるリボイラーと、リボイラーからの蒸気を受ける蒸留塔と、蒸留塔からの留出液を受けて、これを蒸留塔に還流可能に構成された還流槽と、蒸留塔からの缶出液を受けて、これをリボイラーに還流可能に構成された中間槽と、を有して構成されている請求項５又は６に記載の洗浄剤組成物。
【請求項８】
前記蒸留システムは、
使用後の洗浄剤を受けるリボイラーと、リボイラーからの蒸気を受ける蒸留塔と、蒸留塔からの留出液を時間順次に切り分けて貯留する第１と第２の貯留槽と、を有して構成され、蒸留塔からの缶出液がリボイラーに還流可能に構成されている請求項５又は６に記載の洗浄剤組成物。
【請求項９】
前記蒸留システムは、
所定の減圧状態と所定の加熱状態において使用後の洗浄液を加熱する蒸留器と、蒸留器から受ける蒸気を凝縮する凝縮器と、凝縮された洗浄液を貯留する貯留槽と、蒸留器及び凝縮器を所定の減圧状態に維持する減圧機構とを有して構成されている請求項５又は６に記載の洗浄剤組成物。
【請求項１０】
請求項１〜６の何れかに記載の使用後の洗浄剤を、所定の減圧状態と所定の加熱状態で蒸留再生する蒸留再生システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、油性加工油と水溶性加工油の何れに対しても優れた洗浄性能を発揮する洗浄剤組成物、及びその蒸留再生システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
洗浄剤は、炭化水素系やアルコール系など、一般に引火性を有する非水系洗浄剤と、非引火性の水系洗浄剤と、前二者の中間に位置する準水系洗浄剤と、に区分される。そして、準水系洗浄剤は、上記の関係から、可燃物型と非可燃物型とに分類することができる。
【０００３】
ここで、非可燃物型の準水系洗浄剤は、水を配合することで非引火性にしたタイプであり、一方、可燃物型の準水系洗浄剤は、グリコールエーテル系、アルコール系、ピロリドン系などの溶剤を主体成分として引火性を有している。なお、グリコールエーテル系の溶剤は、一分子中に水酸基とエーテル基とを有することで、汚れへの浸透力に優れている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−９７５９６    号公報
【特許文献２】特開平１０−２５１６９２号公報
【特許文献３】特開２０００−１９２０９０号公報
【特許文献４】特開２００１−１７２６８５号公報
【特許文献５】特開２００１−２００２９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、最近では、水溶性加工油を用いた金属加工が増加しているところ、油性加工油だけでなく、水溶性加工油にも対応可能な洗浄剤が望まれている。
【０００６】
しかし、水溶性加工油で加工された加工品を、非水系の炭化水素系溶剤で洗浄した場合には、洗浄後にシミ（水溶性加工油の固形分残渣）が発生し、特に、乾燥状態の水溶性加工油が付着した加工品に対しては、如何に洗浄力に優れた非水系の溶剤を使用しても、シミの発生が避けられないという問題がある。
【０００７】
また、非引火性など作業面での安全性と、洗浄性に優れ、且つ、再生可能な準水系洗浄剤も強く望まれるところである。
【０００８】
ここで、グリコールエーテル系の溶剤であって、非引火性のものも提案されているが（特許文献１〜特許文献５）、何れも、界面活性剤やフッ素系化合物を必須成分とするので、溶剤の再生が不可能であり、また、作業面での安全性にも問題がある。
【０００９】
本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであって、油性加工油と水溶性加工油の何れに対しても優れた洗浄性能を発揮する上に、再生可能な洗浄剤組成物、及び、そのような洗浄剤組成物の蒸留再生システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的を達成するため、本発明に係る洗浄剤組成物は、化学式Ｒ１Ｏ［Ｃ３Ｈ６Ｏ］ｎＣＯＣＨ３及び／又は、化学式Ｒ２Ｏ［Ｃ３Ｈ６Ｏ］ｍＨから選ばれる一種またはそれ以上の親油性溶剤（Ｃ３Ｈ６は、ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）又はＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、Ｒ１は炭素数１〜２のアルキル基又はアセチル基、Ｒ２は炭素数３〜６のアルキル基、ｎ及びｍは１〜３）
と、化学式Ｒ３Ｏ［ＣＨ２ＣＨ２Ｏ］ｋＨの一種またはそれ以上の親水性溶剤（Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基、ｋは１〜３）と、０〜９０ｖｏｌ％の水とで、実質的に１００Ｖｏｌ％とした洗浄剤組成物であって、親油性溶剤と親水性溶剤の常圧下での沸点差が、５０℃以下であることを特徴とする。なお、〜で示す数値範囲は、両端の数値を含んでいる。
【００１１】
本発明は、グリコールエーテル系の親水性溶剤と親油性溶剤を必須成分とし、非引火性の必要に応じて、水を含有させて構成され、界面活性剤など、追加の成分を含有しない。但し、１０〜１００ｐｐｍ程度の一又はそれ以上の添加剤の追加は何ら禁止されず、例えば、添加剤としては、５０ｐｐｍ程度の酸化防止剤などを例示することができる。
【００１２】
本発明の洗浄剤組成物は、水を含有する場合と、水を含有しない場合があるが、何れの場合でも、上記化学式の親油性溶剤と親水性溶剤とを組み合わせることで、可溶性を実現することができる。したがって、撹拌や超音波振動などを付加することなく、静止浴状態でも所定の洗浄性能を発揮することができる。しかも、上記の親油性溶剤と親水性溶剤とを組み合わせることで、油性加工油と水溶性加工油の何れの洗浄にも適用することができ、洗浄後の加工品にシミが発生することがない。
【００１３】
本発明の親油性溶剤と親水性溶剤とは、沸点範囲が同じであるので、混合液の状態で蒸留再生することできる。なお、沸点差は、好ましくは、２０℃以下、より好ましくは、１０℃以下とすべきである。
【００１４】
また、本発明を非引火性の洗浄剤組成物とするためには、好ましくは、水の含有量を１０ｖｏｌ％以上とすべきである。ここで、引火性は、ＪＩＳＫ２２６５−４に基づいて特定される引火点によって評価され、非引火性とは、引火点が測定できない場合を意味する。
【００１５】
本発明の親油性溶剤は、化学式Ｒ１Ｏ［Ｃ３Ｈ６Ｏ］ｎＣＯＣＨ３及び／又は、化学式Ｒ２Ｏ［Ｃ３Ｈ６Ｏ］ｍＨから選ばれる一種またはそれ以上の混合物であり、Ｃ３Ｈ６は、ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）又はＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、Ｒ１は炭素数１〜２のアルキル基又はアセチル基、Ｒ２は炭素数３〜６のアルキル基、ｎ及びｍは１〜３である。
【００１６】
そして、好ましくは、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテルなどを例示することができる。なお、蒸留再生の観点からは、上記の何れか一種が選択され、好ましくは、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートが選択される。
【００１７】
また、本発明の親水性溶剤は、化学式Ｒ３Ｏ［ＣＨ２ＣＨ２Ｏ］ｋＨの一種又はそれ以上の混合物であり、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基、ｋは１〜３である。そして、好ましくは、ジエチレングリコールメチルエーテル、トリエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、トリエチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールｎ−ブチルエーテルなどを例示することができる。そして、蒸留再生の観点からは、上記の何れか一種が選択される。
【００１８】
また、親油性溶剤として、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートが選択される場合には、これに沸点の近いジエチレングリコールエチルエーテルが好適に選択される。
【００１９】
親油性溶剤と、親水性溶剤の含有Ｖｏｌ比は、適宜であるが、水を含有させない場合には、９：１〜１：９であるのが好ましい。一方、水を含有させる場合には、５：１〜１：５程度（より好ましくは、２：１〜１：２程度）に設定するのが好ましい。また、親油性溶剤と親水性溶剤の引火点が、各々、７０℃以上であると、非引火性の洗浄剤Ｗを実現する上で好適である。
【００２０】
本発明の洗浄剤は、使用後、所定の蒸留システムで処理されることで、親油性溶剤と親水性溶剤とが混合状態で蒸留再生され、これに、必要量の水が添加されることで洗浄剤として再使用されるのが好適である。
【００２１】
このような場合、溶剤の沸点が低い方が有利であるが、常圧下での沸点が１８０℃〜２３０℃の溶剤の場合には、減圧下で蒸留再生するのが好適である。
【００２２】
ここで、蒸留システムは、使用後の洗浄剤を受けるリボイラーと、リボイラーからの蒸気を受ける蒸留塔と、蒸留塔からの留出液を受けて、これを蒸留塔に還流可能に構成された還流槽と、蒸留塔からの缶出液を受けて、これをリボイラーに還流可能に構成された中間槽と、を有して構成されているのが好ましい。この場合には、還流槽に水が再生され、中間槽には、二種類の溶剤の混合状態で再生される。
【００２３】
また、蒸留システムは、簡易的なバッチ式蒸留システムとして、使用後の洗浄剤を受けるリボイラーと、リボイラーからの蒸気を受ける蒸留塔と、蒸留塔からの留出液を時間順次に切り分けて貯留する第１と第２の貯留槽と、を有して構成され、蒸留塔からの缶出液がリボイラーに還流可能に構成される。この場合、常圧下で運転すると、最初に蒸発する１００℃の水蒸気が凝縮されて第１の貯留槽に回収され、蒸気温度が増加したタイミングで、第１の貯留槽を閉じて第２の貯留槽を開けることで、その後は、混合溶剤が凝縮して第２の貯留槽に回収される。
【００２４】
更に簡易的な連続式蒸留システムは、所定の減圧状態と所定の加熱状態において使用後の洗浄液を加熱する蒸留器と、蒸留器から受ける蒸気を凝縮する凝縮器と、凝縮された洗浄液を貯留する貯留槽と、蒸留器及び凝縮器を所定の減圧状態に維持する減圧機構とを有して構成される。この場合、凝縮器と貯留槽との間には、大気解放させる貯液槽を配置するのが好適である。
【００２５】
上記何れの蒸留システムでも、非引火性の洗浄液を再生するため、水を補給する必要がある場合には、例えば、再生液の比重を管理することで、水補給量を制御することができる。
【発明の効果】
【００２６】
上記の通り、本発明に係る洗浄剤組成物は、油性加工油と水溶性加工油の何れに対しても優れた洗浄性能を発揮する上に、シミの発生がなく、且つ、適宜な蒸留再生システムで再生可能である。また、本発明に係る蒸留再生システムは、上記の効果を発揮する洗浄剤組成物を高効率に再生することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】蒸留再生システムを含んだ洗浄システムの一例を図示したものである。
【図２】多重効用型バッチ蒸留システムを示す図面である。
【図３】バッチ式単蒸留システムを示す図面である。
【図４】連続式単蒸留システムを示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、実施例を説明するが、具体的な記載内容は、何ら、本発明を限定するものではない。
【００２９】
＜可溶性試験＞
化学式Ｒ１Ｏ［Ｃ３Ｈ６Ｏ］ｎＣＯＣＨ３又は、化学式Ｒ２Ｏ［Ｃ３Ｈ６Ｏ］ｍＨの親油性溶剤と、化学式Ｒ３Ｏ［ＣＨ２ＣＨ２Ｏ］ｋＨの親水性溶剤について、沸点の近いものを適宜組み合わせ、溶剤の混合比と共に、水の含有率（０〜９０Ｖｏｌ％）を変えて可溶性を確認した。なお、混合液について、５００ｒｐｍで１０分撹拌した後に、その混合液の状態を目視確認した。
【００３０】
その結果、親油性溶剤と親水性溶剤の混合Ｖｏｌ比に拘わらず、また、水の含有率に拘わらず、混合液が透明かつ相分離がないことを確認した。
【００３１】
＜非引火性試験＞
そこで、代表値として、親油性溶剤と親水性溶剤の混合比を５０ｖｏｌ％とし、この混合液に、水を加えた準水系洗浄剤について引火点の計測試験を実施した。
【００３２】
具体的には、準水系洗浄剤全体に対する水の含有率ｖｏｌ％（５、１０、１５、２０、３０、４０）を変えた６種類の洗浄液について、試験方法ＪＩＳＫ２２６５−４に基づいて引火点を計測した。
【００３３】
その結果、水の含有率が５ｖｏｌ％や１０ｖｏｌ％の洗浄液には、引火点が検出されたが、その他の洗浄液には引火点が検出されなかった。
【００３４】
ここで、この非引火性試験に供した親油性溶剤と親水性溶剤の引火点は、９０〜１００℃程度であるので、水の含有率ｖｏｌ％が１５％以上であれば、同程度の物性を有する溶剤にも非引火性が実現されるものと期待され、また、他の溶剤を使用する場合には、引火点その他の物性を考慮して水の含有比を変えれば良いと考えられる。
【００３５】
そこで、これらの諸点を考慮して、構成溶剤に拘わらず非引火性を実現するには、少なくとも、水の含有率は、１０ｖｏｌ％以上、好ましくは１５ｖｏｌ％以上であるべきであると結論した。
【００３６】
＜洗浄性能試験＞
次に、洗浄性能試験について説明する。この試験でも、代表値として、親油性溶剤と親水性溶剤の混合比を５０ｖｏｌ％とし、水を含まない引火性の洗浄剤ＮＷを第１群の実施例とした。
【００３７】
また、この引火性の洗浄剤ＮＷに、含有率３０ｖｏｌ％の水を加えた非引火性の洗浄剤Ｗを、第２群の実施例とした。そして、第１群と第２群の実施例について、油性加工油と水溶性加工油に対する洗浄性能を実験した。
【００３８】
なお、引火性の洗浄剤ＮＷとして、多種類の混合液を用意したが、非引火性の洗浄剤Ｗを実現するには、構成溶剤の引火点が高い方が有利であること、また、蒸留再生を実現するため構成溶剤の沸点が共通することが前提となるので、構成溶剤の引火点が各々７０℃以上であること、及び、構成溶剤の常圧下での沸点差が５０℃以下であることを条件に選択した。
【００３９】
具体的には、洗浄試験に供した第１群の洗浄剤ＮＷには、例えば、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートと、ジエチレングリコールエチルエーテルの混合液を含んでいる。
【００４０】
油性加工油としては、バサラＲ−２２４０（Ｒ−ＧＯＴ株式会社）と、アクアプレスＬ−１０７Ａ（アクア化学）を使用した。また、水溶性加工油としては、ハイソルＸ（ビーピー・ジャパン）を使用した。
【００４１】
これらの加工油に、四塩化炭素で清浄化したテストピース（ＳＵＳ）を各々３０分間浸漬し、液切りをした後、水溶性加工油については、更に、６０℃環境で３０分間乾燥させた。
【００４２】
このようにして加工油を付着させた３種類多数のテストピースについて、第１次超音波洗浄（５分）⇒第２次超音波洗浄（減復圧５回、５分）⇒蒸気洗浄（２分）⇒真空乾燥（１６０秒）を実行した。
【００４３】
なお、比較例として、市販のグリコールエーテル系の溶剤（ＡＱ＃２００：アクア化学）についても同様の洗浄性能を比較した。
【００４４】
その結果、油性加工油を付着させたテストピースは、第１群実施例、第２群実施例、比較例とも、シミの無い同レベルの洗浄性能が確認された。すなわち、実施例及び比較例の洗浄剤は、非水系の炭化水素溶剤と遜色のない洗浄性能を発揮することが確認された。
【００４５】
一方、水溶性加工油を付着させたテストピースについては、これを、比較例の洗浄剤で洗浄すると目視可能なシミが確認された。これに対して、第１群と第２群の実施例の洗浄剤で洗浄した場合には、何れの洗浄剤でも、テストピースが確実に洗浄され、しかもシミの発生も認めらなかった。
【００４６】
＜蒸留再生システム１＞
実施例の洗浄剤は、蒸留システムＳＹＳにおいて、バッチ処理的に蒸留再生されて再使用される。図１は、バッチ蒸留システムＳＹＳを含んだ洗浄システムの一例を図示したものであり、水を含有する非引火性の洗浄剤Ｗ（第２群の実施例）を使用する第一と第二の超音波洗浄槽１，２と、準水系の洗浄剤を使用する蒸気洗浄槽３と、が示されている。
【００４７】
油性加工油又は水溶性加工油の付着した金属加工品は、第一超音波洗浄槽１⇒第二超音波洗浄槽２⇒蒸気洗浄槽３の順番に移送され、蒸気洗浄槽３おいて、仕上げリンス処理と真空乾燥処理とが完了する。この場合、第一と第二の超音波洗浄槽１，２において、実施例の洗浄剤を使用するので、水溶性加工油の付着した金属加工品であっても、洗浄処理を終えた金属加工品にシミが生じることはない。
【００４８】
なお、蒸気洗浄槽３で使用する準水系の洗浄剤は、好適には、グリコールエーテル系の親油性溶剤と親水性溶剤で構成される。これらの溶剤は、その沸点が一致するので、蒸留再生槽６で蒸留再生されて、蒸気洗浄槽３において再利用される。なお、蒸気洗浄槽３や蒸留再生槽は、真空ポンプによって適宜に減圧される。更に、水を含有する非引火性の洗浄剤Ｗで蒸気洗浄することも可能である。
【００４９】
また、蒸留システムＳＹＳについても、不図示の真空ポンプによって適宜に減圧されて運転される。
【００５０】
図示の通り、実施例の洗浄剤Ｗは、第二超音波洗浄槽２⇒リザーブタンク５⇒循環ポンプＰ⇒異物除去フィルターＦ⇒第二超音波洗浄槽２の経路で循環すると共に、第一超音波洗浄槽１⇒リザーブタンク４⇒循環ポンプＰ⇒異物除去フィルターＦ⇒第一超音波洗浄槽１の経路でも循環している。
【００５１】
そして、使用後の洗浄剤Ｗは、バッチ処理的にリザーブタンクから蒸留システムＳＹＳに供給され、減圧下で、混合溶剤と水とに分留される。そして、汚れ分の濃縮液が全量廃棄される一方、再生された混合溶剤と水は、第二超音波洗浄槽２（又はそのリザーブタンク５）に供給され、第二超音波洗浄槽２でオーバフローした洗浄剤は、第一超音波洗浄槽に導入される。
【００５２】
そのため、第二超音波洗浄槽１や、第一超音波洗浄槽１の洗浄剤Ｗの汚染度を、常に所定レベル以下に維持することができる。なお、再生された混合溶剤や水を、第一超音波洗浄槽１（又はそのリザーブタンク４）に供給しても良いのは勿論である。
【００５３】
図２は、多重効用型バッチ蒸留システムＳＹＳをより詳細に示す図面である。図示の通り、この蒸留システムＳＹＳは、リザーブタンク４から使用後の洗浄剤Ｗを受けるリボイラー１０と、リボイラー１０からの蒸気を受ける蒸留塔１１と、２０℃程度に維持されたコンデンサ１７を経由した蒸留塔１１からの留出液を受け、これを蒸留塔１１に還流可能に構成された還流槽１２と、蒸留塔１１からの缶出液を受け、これをリボイラー１０に還流可能に構成された中間槽１３と、を中心に構成されている。そして、蒸留塔１１は、定常的には、全還流運転される。
【００５４】
この蒸留システムＳＹＳは、沸点１００℃の水と、沸点２００℃程度の混合溶剤の２成分系であり、リボイラー１０と蒸留塔１１とで２段の蒸留塔に設計されている。また、還流槽１２に、真空ポンプ１６を接続することで、１００℃〜１５０℃、０．１ａｔｍに設計された蒸留塔を構成している。
【００５５】
リボイラー１０への導入液Ｗ（洗浄劣化液）は、加熱状態のオイルタンク１４に収容された熱媒体オイルによって加熱され、リボイラー１０の濃縮液は、排出可能に構成されている。なお、オイルタンク１４には、オイル膨張タンクＴＮ１が接続されて、熱膨張した熱媒体オイルを受け止めている。
【００５６】
所定時間の全還流運転によって、還流槽１２に回収された水と、中間槽１３に回収された混合溶剤は、室温レベルまで冷却された後、例えば、リザーブタンク４（又はリザーブタンク５）に回収される。なお、このとき、洗浄剤Ｗには、補充タンクＴＮ２から、必要量の水が補充されるので非引火性を維持することができる。
【００５７】
ここで、蒸留システムＳＹＳの一連の動作を確認すると以下の通りである。先ず、リザーブタンク４との接続を閉じた状態で、系全体を０．１ａｔｍ程度に真空引きした上でリザーブタンク４との接続を開き、リザーブタンク４からリボイラー１０に、使用後の洗浄液Ｗ（劣化液）を導入する。
【００５８】
次に、リボイラー１０の加熱動作を開始し、還流槽１２や中間槽１３が所定のホールドアップ状態で全還流運転を開始する。その後、所定の運転時間が完了すればリボイラー１０の加熱動作を停止する。
【００５９】
次に、リザーブタンク４との接続を閉じ、還流槽１２と中間槽１３を室温レベルまで冷却する。その後、系全体を大気開放した上で、還流槽１２と中間槽１３に回収された再生液を、補充タンクＴＮ２からの補充液と共にリザーブタンク４に移動させる。また、リボイラー１０の濃縮液を廃棄してバッチ処理を終える。
【００６０】
なお、図２では、蒸留システムＳＹＳを超音波洗浄槽に配置したが、他の浸漬洗浄槽あるいはスプレー洗浄槽を含め、配置対象が特に限定されないことは言うまでもない。また、蒸留システムＳＹＳは、これをより簡易的に構成することもできる。
【００６１】
＜蒸留再生システム２＞
図３は、バッチ式単蒸留方式を採った蒸留システムＳＹＳを示しており、図２と同一の構成要素には同一の符号を付している。図示の通り、この蒸留システムでは、減圧ラインを省略して、常圧下で、混合液と水を蒸留再生している。
【００６２】
そして、コンデンサ１７の出力側には、水貯留槽ＴＮ３と溶剤貯留槽ＴＮ４とが並列的に配置され、接続関係が時間的に切替されることで、何れか一方だけがコンデンサ１７に接続されるよう構成されている。この接続関係は、例えば、コンデンサ入力側の蒸気温度で管理され、蒸気温度が１００℃を維持するタイミングでは、コンデンサ１７の出力が水貯留槽ＴＮ３に導入され、その後、蒸気温度が１００℃を超えた後は、コンデンサ１７の出力が溶剤貯留槽ＴＮ４に導入される。
【００６３】
例えば、溶剤の沸点が２００℃程度の場合には、蒸気温度が２００℃程度を維持した後、実質的な蒸留再生動作が完了すると、蒸気温度の降下が始まるので、蒸気温度の所定の温度降下時に蒸留再生処理を終えれば良い。
【００６４】
そして、再生された混合溶剤と水とは、必要量の水を補給した状態で、例えば、リザーブタンク４又はリザーブタンク５に供給される。なお、ここでは、常圧下での動作を説明したが、図２の場合と同様に、減圧ラインを設けて、使用後の洗浄液Ｗ（劣化液）を低温沸騰させる構成を採っても良いのは勿論である。この場合には、引火性の洗浄剤ＮＷ（第１群の実施例）について、蒸留再生することもできる。
【００６５】
＜蒸留再生システム３＞
図４は、連続式単蒸留方式を採った蒸留システムＳＹＳであり、蒸留塔１１に、使用後の洗浄液Ｗ（劣化液）を導入する機器構成を示している。この機器構成では、蒸留塔１１の劣化液は、減圧下、低温沸騰して、その蒸気が蒸留塔の充填物を通過してコンデンサ１７に導入される。なお、コンデンサ１７としては、スパイラル型のものが好適に使用される。
【００６６】
そして、コンデンサ１７で凝縮した再生液は、デカンタなどの貯液槽２０を経由して、調整タンクＴＮ５に回収される。また、調整タンクＴＮ５の再生液については、比重計測部２１によって比重が管理されており、必要量の水が補充されることで、所定の液組成が維持される。
【００６７】
なお、図４の機器構成の場合にも、引火性の洗浄剤ＮＷ（第１群の実施例）について、蒸留再生することもできるのは勿論である。
【符号の説明】
【００６８】
ＳＹＳ    蒸留システム
１０    リボイラー
１１    蒸留塔
１２    還流槽
１３    中間槽
【図１】
2015059151.tif 000002
【図２】
2015059151.tif 000003
【図３】
2015059151.tif 000004
【図４】
2015059151.tif 000005