(57)【要約】【課題】基板間隔のばらつきを発生させることがなく、シール材が設けられる個所まで液晶材料が流動する速度を低下させることのできる構成を効率よく設けることができる液晶装置の製造方法、液晶装置、および電子機器を提供すること。【解決手段】液晶装置１００では、第１基板２０の液晶層５０側の面には、エッチングによって、シール材６０より内側かつ表示領域１０ａを含む領域に凹部２２が形成されている。このため、第１基板２０と第２基板３０との間隔は、凹部２２が形成されている領域では広く、凹部２２が形成されていない領域では狭い。従って、前駆体６５および液晶材料５０ａを挟んで第１基板２０と第２基板３０とを重ねた際、シール材６０が設けられる個所まで液晶材料５０ａが到達するのが遅い。従って、前駆体６５や硬化途中のシール材６０と液晶材料５０ａとが接触する時間を短縮することができる。【選択図】図１
2015138218.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
該第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間で表示領域を全周にわたって囲み、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、
前記第１基板と前記第２基板との間の前記シール材で囲まれた領域に設けられた液晶層と、
を有する液晶装置の製造方法であって、
前記第１基板の前記液晶層側の面において前記シール材より内側かつ前記表示領域を含む領域をエッチングして凹部を形成する凹部形成工程と、
前記第１基板の前記第２基板側の面、および前記第２基板の前記第１基板側の面の一方に前記シール材の液状の前駆体を塗布する前駆体塗布工程と、
前記第１基板の前記第２基板側の面、および前記第２基板の前記第１基板側の面の一方の前記凹部と重なる箇所に液状の液晶材料を配置する液晶材料配置工程と、
前記前駆体および前記液晶材料を挟んで前記第１基板と前記第２基板とを重ねる重ね合わせ工程と、
前記前駆体を硬化させて前記シール材を形成する硬化工程と、
を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
前記凹部形成工程では、前記シール材と前記表示領域との間で前記シール材の内縁および前記表示領域の外縁の双方から離間した位置より内側を前記凹部とすることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１基板は、第１基板本体と、該第１基板本体の前記液晶層側の面に形成された第１電極と、該第１電極に対して前記液晶層側に形成された第１配向膜と、を有し、
前記第２基板は、第２基板本体と、該第２基板本体の前記液晶層側の面に形成された第２電極と、該第２電極に対して前記液晶層側に形成された第２配向膜と、を有し、
前記凹部は、前記第１基板本体の前記液晶層側の面に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１配向膜および前記第２配向膜は、無機配向膜からなることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１電極は共通電極であり、
前記第２電極は画素電極であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項６】
第１基板と、
該第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間で表示領域を全周にわたって囲み、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、
前記第１基板と前記第２基板との間の前記シール材で囲まれた領域に設けられた液晶層と、
を有し、
前記第１基板の前記液晶層側の面において前記シール材より内側かつ前記表示領域を含む領域に、当該領域をエッチングしてなる凹部が形成されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項７】
前記シール材と前記表示領域との間で前記シール材の内縁および前記表示領域の外縁の双方から離間した位置より内側が前記凹部になっていることを特徴とする請求項６に記載の液晶装置。
【請求項８】
前記第１基板は、第１基板本体と、該第１基板本体の前記液晶層側の面に形成された第１電極と、該第１電極に対して前記液晶層側に形成された第１配向膜と、を有し、
前記第２基板は、第２基板本体と、該第２基板本体の前記液晶層側の面に形成された第２電極と、該第２電極に対して前記液晶層側に形成された第２配向膜と、を有し、
前記凹部は、前記第１基板本体の前記液晶層側の面に形成されていることを特徴とする請求項６または７に記載の液晶装置。
【請求項９】
前記第１配向膜および前記第２配向膜は、無機配向膜からなることを特徴とする請求項６乃至８の何れか一項に記載の液晶装置。
【請求項１０】
前記第１電極は共通電極であり、
前記第２電極は画素電極であることを特徴とする請求項６乃至９の何れか一項に記載の液晶装置。
【請求項１１】
請求項６乃至１０の何れか一項に記載の液晶装置を備えていることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、第１基板と第２基板との間においてシール材で囲まれた領域内に液晶層が設けられた液晶装置の製造方法、液晶装置、および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置では、第１基板と第２基板との間においてシール材で囲まれた領域内に液晶層が設けられている。かかる液晶装置を製造するにあたって、液晶滴下方式を採用した場合、第１基板の第２基板側の面または第２基板の第１基板側の面にシール材の前駆体を塗布した後、前駆体の内側に液状の液晶材料を滴下し、その後、前駆体および液晶材料を挟んで第１基板と第２基板とを重ねる。そして、前駆体を硬化させてシール材を形成する。その際、前駆体や硬化途中のシール材が液晶材料と接触すると、前駆体や硬化途中のシール材から不純物が液晶材料に溶出することがあり、かかる不純物の溶出は表示品位を低下させる原因となる。
【０００３】
そこで、ブラックマトリクスを構成する遮光層やカラーフィルターを形成する樹脂材料によって、液晶材料が滴下される個所とシール材が設けられる個所との間に凸部を形成することが提案されている。かかる構成によれば、シール材が設けられる個所まで液晶材料が流動するのを遅らせることができる。従って、前駆体や硬化途中のシール材と液晶材料とが接触する時間を短縮することができるので、前駆体や硬化途中のシール材から不純物が液晶材料に溶出することを抑制することができる（特許文献１、２、３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−００３３０５号公報
【特許文献２】特開２０１０−２６６７１１号公報
【特許文献３】特開２０１０−１６９８８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
凸部によって液晶材料が流動する速度を低下させるには、凸部を十分高く形成する必要があるが、特許文献１、２、３に記載の構成のように、基板に対して成膜した層で凸部を形成した場合、凸部の高さがばらついて凸部が他方の基板に当接してしまい、基板の間隔がばらつくという問題点がある。また、凸部を十分高く形成するには、厚い層を形成する必要があるため、生産性が低下するという問題点もある。
【０００６】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、基板間隔のばらつきを発生させることがなく、シール材が設けられる個所まで液晶材料が流動する速度を低下させることのできる構成を効率よく設けることができる液晶装置の製造方法、液晶装置、および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、第１基板と、該第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間で表示領域を全周にわたって囲み、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、前記第１基板と前記第２基板との間の前記シール材で囲まれた領域に設けられた液晶層と、を有する液晶装置の製造方法であって、前記第１基板の前記液晶層側の面において前記シール材より内側かつ前記表示領域を含む領域をエッチングして凹部を形成する凹部形成工程と、前記第１基板の前記第２基板側の面、および前記第２基板の前記第１基板側の面の一方に前記シール材の液状の前駆体を塗布する前駆体塗布工程と、前記第１基板の前記第２基板側の面、および前記第２基板の前記第１基板側の面の一方の前記凹部と重なる箇所に液状の液晶材料を配置する液晶材料配置工程と、前記前駆体および前記液晶材料を挟んで前記第１基板と前記第２基板とを重ねる重ね合わせ工程と、前記前駆体を硬化させて前記シール材を形成する硬化工程と、を有することを特徴とする。
【０００８】
また、本発明は、第１基板と、該第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間で表示領域を全周にわたって囲み、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、前記第１基板と前記第２基板との間の前記シール材で囲まれた領域に設けられた液晶層と、を有し、前記第１基板の前記液晶層側の面において前記シール材より内側かつ前記表示領域を含む領域に、当該領域をエッチングしてなる凹部が形成されていることを特徴とする。
【０００９】
本発明では、第１基板または第２基板にシール材の液状の前駆体を塗布した後、第１基板または第２基板のシール材の内側に液状の液晶材料を配置し、その後、前駆体および液晶材料を挟んで第１基板と第２基板とを重ねる。そして、前駆体を硬化させてシール材を形成する。ここで、第１基板の液晶層側の面には、シール材より内側かつ表示領域を含む領域に凹部が形成されており、第１基板と第２基板との間隔は、凹部が形成されている領域では広く、凹部が形成されていない領域では狭い。従って、前駆体および液晶材料を挟んで第１基板と第２基板とを重ねた際、シール材が設けられる個所まで液晶材料が到達するのが遅い。従って、前駆体や硬化途中のシール材と液晶材料とが接触する時間を短縮することができるので、前駆体や硬化途中のシール材から不純物が液晶材料に溶出することを抑制することができる。ここで、凹部は、第１基板に対するエッチングにより形成されてなる。従って、成膜した層によって凸部を形成する場合と違って、凸部が他方の基板に当接して基板の間隔がばらつくという事態が発生しない。また、第１基板に対するエッチングにより凹部を形成するため、成膜した層によって凸部を選択的に形成する場合と違って、層を厚く形成する必要がない等、凹部を効率よく形成することができる。
【００１０】
本発明に係る液晶装置の製造方法において、前記凹部形成工程では、前記シール材と前記表示領域との間で前記シール材の内縁および前記表示領域の外縁の双方から離間した位置より内側を前記凹部とすることが好ましい。また、本発明に係る液晶装置おいて、前記シール材と前記表示領域との間で前記シール材の内縁および前記表示領域の外縁の双方から離間した位置より内側が前記凹部になっていることが好ましい。
【００１１】
本発明において、前記第１基板は、第１基板本体と、該第１基板本体の前記液晶層側の面に形成された第１電極と、該第１電極に対して前記液晶層側に形成された第１配向膜と、を有し、前記第２基板は、第２基板本体と、該第２基板本体の前記液晶層側の面に形成された第２電極と、該第２電極に対して前記液晶層側に形成された第２配向膜と、を有し、前記凹部は、前記第１基板本体の前記液晶層側の面に形成されていることが好ましい。
【００１２】
本発明において、前記第１配向膜および前記第２配向膜は、無機配向膜からなることが好ましい。無機配向膜を用いた場合、有機配向膜を用いた場合に比して、第１基板と第２基板との間で液晶材料が流動する速度が低い。このため、前駆体および液晶材料を挟んで第１基板と第２基板とを重ねた際、シール材が設けられる個所まで液晶材料が到達するのが遅い。従って、前駆体や硬化途中のシール材と液晶材料とが接触する時間を短縮することができるので、前駆体や硬化途中のシール材から不純物が液晶材料に溶出することを抑制することができる。
【００１３】
本発明において、前記第１電極は共通電極であり、前記第２電極は画素電極であることが好ましい。かかる構成によれば、第１基板に配線等を設ける必要がないので、凹部に起因する段差によって配線が切断する等の問題が発生しない。
【００１４】
本発明に係る電気光学装置は、携帯電話機やモバイルコンピューター、投射型表示装置等の電子機器に用いることができる。これらの電子機器のうち、投射型表示装置は、電気光学装置に光を供給するための光源部と、前記電気光学装置によって光変調された光を投射する投射光学系とを備えている。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施の形態１に係る液晶装置の説明図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る液晶装置の端部を拡大して示す説明図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る液晶装置の第１基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る液晶装置の液晶パネルを製造する工程を示す工程断面図である。
【図５】本発明を適用した投射型表示装置（電子機器）の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態として、代表的な液晶装置である液晶装置を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００１７】
［実施の形態１］
（全体構成）
図１は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置の説明図であり、図１（ａ）、（ｂ）は各々、液晶装置を各構成要素と共に第１基板の側から見た平面図、およびそのＨ−Ｈ′断面図である。図２は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置の端部を拡大して示す説明図である。
【００１８】
図１（ａ）、（ｂ）および図２に示すように、本形態の液晶装置１００は液晶パネル１００ｐを有している。液晶パネル１００ｐにおいて、第１基板２０（対向基板）と第２基板３０（素子基板）とは、シール材６０によって貼り合わされており、シール材６０は第１基板２０の外縁に沿うように枠状に設けられている。本形態の液晶装置１００では液晶滴下方式が用いられている。このため、シール材６０は、表示領域１０ａの周りを全周にわたって囲む閉ループ状に形成されている。
【００１９】
液晶装置１００において、第１基板２０と第２基板３０との間には、シール材６０で囲まれた領域内に液晶層５０が設けられている。シール材６０は、第１基板２０と第２基板３０とを貼り合わせるとともに、液晶層５０を封止している。シール材６０は、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等からなる接着剤６１と、接着剤６１中に分散しているスペーサー６２とを有している。スペーサー６２は、グラスファイバーあるいはガラスビーズ等からなり、第１基板２０と第２基板３０との間隔を規定している。
【００２０】
液晶装置１００において、第１基板２０の第１基板本体２０ｗ、および第２基板３０の第２基板本体３０ｗは、ガラスや石英基板等の透光性基板である。また、第１基板２０（第１基板本体２０ｗ）および第２基板３０（第２基板本体３０ｗ）はいずれも、平面形状が四角形である。このため、第１基板２０および第１基板本体２０ｗは、Ｙ方向で対向する２つの側面２０ｅ、２０ｆと、Ｘ方向で対向する２つの側面２０ｇ、２０ｈとを備えている。第２基板３０および第２基板本体３０ｗは、Ｙ方向で対向する２つの側面３０ｅ、３０ｆと、Ｘ方向で対向する２つの側面３０ｇ、３０ｈとを備えている。液晶装置１００の略中央には、表示領域１０ａが四角形の領域として設けられている。
【００２１】
平面視において、第１基板２０の３つの側面２０ｆ、２０ｇ、２０ｈは各々、対応する第２基板３０の３つの側面３０ｆ、３０ｇ、３０ｈの各々に重なっている。これに対して、第２基板３０の側面３０ｅは、第１基板２０の側面２０ｅより大きく外側に位置し、第２基板３０は、第１基板２０の側面２０ｅより大きく張り出した張り出し部３７を有している。
【００２２】
第１基板２０の一方面２０ｓおよび他方面２０ｔのうち、第２基板３０と対向する一方面２０ｓの側には共通電極２１（第１電極）が形成されている。共通電極２１は、表示領域１０ａの略全面あるいは複数の帯状電極として複数の画素に跨って形成されている。本形態において、共通電極２１は、表示領域１０ａを含む矩形領域の全面に形成されている。また、第１基板２０の一方面２０ｓの側には、共通電極２１の下層側に遮光層２９が形成され、共通電極２１の表面には第１配向膜２６が積層されている。
【００２３】
第２基板３０の一方面３０ｓおよび他方面３０ｔのうち、第１基板２０と対向する一方面３０ｓの側では、表示領域１０ａより外側の周辺領域３０ｂに、側面３０ｅに沿うようにデータ線駆動回路３５ａおよび複数の端子３１が形成されており、端子３１は、張り出し部３７においてデータ線駆動回路３５ａより側面３０ｅの側に形成されている。また、第２基板３０において、側面３０ｅに隣接する他の側面３０ｇ、３０ｈの各々に沿って走査線駆動回路３５ｂが形成されている。端子３１には、フレキシブル配線基板（図示せず）が接続されており、第２基板３０には、フレキシブル配線基板を介して外部制御回路から各種電位や各種信号が入力される。
【００２４】
また、第２基板３０の一方面３０ｓには、表示領域１０ａに画素電極３８ａ（第２電極）や画素トランジスター（図示せず）等がマトリクス状に配列されている。また、第２基板３０の一方面３０ｓにおいて、表示領域１０ａとシール材６０とに挟まれた領域にも画素電極３８ａが形成されているとともに、画素電極３８ａが形成されている領域とシール材６０とに挟まれた領域には、画素電極３８ａと同時形成されたダミー画素電極３８ｂが形成されている。画素電極３８ａには、画素トランジスターを介して画像信号が供給される。ダミー画素電極３８ｂは、共通電位Ｖcomが印加されており、表示領域１０ａの外周側端部での液晶分子の配向の乱れを防止する。画素電極３８ａおよびダミー画素電極３８ｂの上層側には第２配向膜３６が形成されている。
【００２５】
第１配向膜２６および第２配向膜３６は、ポリイミド等の樹脂膜あるいはシリコン酸化膜等の斜方蒸着膜からなる。本形態において、第１配向膜２６および第２配向膜３６は、ＳｉＯX（ｘ＜２）、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＭｇＯ、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5等の斜方蒸着膜からなる無機配向膜である。第１配向膜２６および第２配向膜３６は、例えば、液晶層５０に用いた誘電異方性が負のネマチック液晶分子を垂直配向させ、液晶装置１００をノーマリブラックのＶＡモードとして動作させる。液晶層５０には、ビフェニル系液晶材料、フェニルシクロヘキサン系液晶材料、シクロヘキサン系液晶材料、フェニルピリジミン系液晶材料、エステル系液晶材料、ジオキサン系液晶材料等の液晶材料５０ａが用いられている。
【００２６】
第１基板２０において、遮光層２９は、表示領域１０ａの外周縁に沿って延在する額縁部分２９ａとして形成されており、額縁部分２９ａの内縁によって表示領域１０ａが規定されている。遮光層２９は、隣り合う画素電極３８ａにより挟まれた画素間領域に重なるブラックマトリクス部２９ｂとしても形成されている。
【００２７】
第１基板２０の一方面２０ｓの側の４つの角付近には基板間導通用電極２５が形成されており、第２基板３０の一方面３０ｓの側には、第１基板２０の基板間導通用電極２５と対向する位置に基板間導通用電極３９が形成されている。本形態において、基板間導通用電極２５は、共通電極２１の一部からなる。基板間導通用電極３９と基板間導通用電極２５との間には、銀等の導電粒子を含んだ基板間導通材３９ａが配置されており、第１基板２０の共通電極２１は、基板間導通用電極３９、基板間導通材３９ａおよび基板間導通用電極２５を介して、第２基板３０側と電気的に接続されている。このため、共通電極２１は、第２基板３０の側から共通電位Ｖcomが印加されている。
【００２８】
第１基板２０および第２基板３０の角付近において、シール材６０は、第１基板２０の外縁および第２基板３０の外縁より内側に形成されており、基板間導通用電極２５、３９および基板間導通材３９ａは、シール材６０より外側に位置する。
【００２９】
本形態において、液晶装置１００は透過型の液晶装置であり、画素電極３８ａおよび共通電極２１は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）膜等の透光性導電膜により形成されている。かかる透過型の液晶装置（液晶装置１００）では、例えば、第１基板２０の側から入射した光が第２基板３０の側から出射される間に変調されて画像を表示する。また、液晶装置１００が反射型の液晶装置である場合、共通電極２１は、ＩＴＯ膜やＩＺＯ膜等の透光性導電膜により形成され、画素電極３８ａは、アルミニウム膜等の反射性導電膜により形成される。かかる反射型の液晶装置（液晶装置１００）では、第１基板２０の側から入射した光が第２基板３０で反射して出射される間に変調されて画像を表示する。
【００３０】
液晶装置１００は、モバイルコンピューター、携帯電話機等といった電子機器のカラー表示装置として用いることができ、この場合、第１基板２０には、カラーフィルター（図示せず）が形成される。また、液晶装置１００は、電子ペーパーとして用いることができる。また、液晶装置１００では、使用する電気光学材料５０（液晶）の種類や、ノーマリホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じて、偏光フィルム、位相差フィルム、偏光板等が液晶パネル１００ｐに対して所定の向きに配置される。さらに、液晶装置１００は、後述する投射型表示装置（液晶プロジェクター）において、ＲＧＢ用のライトバルブとして用いることができる。この場合、ＲＧＢ用の各液晶装置１００の各々には、ＲＧＢ色分解用のダイクロイックミラーを介して分解された各色の光が投射光として各々入射されることになるので、カラーフィルターは形成されない。
【００３１】
（凹部２２の構成）
本形態の液晶装置１００では、第１基板２０の一方面２０ｓ（液晶層５０側の面）においてシール材６０より内側、かつ表示領域１０ａを含む領域には、かかる領域をエッチングしてなる凹部２２が形成されている。本形態において、凹部２２は、第１基板本体２０ｗの一方面２０ｓをエッチングしてなる。また、第１基板２０では、シール材６０と表示領域１０ａとの間でシール材６０の内縁および表示領域１０ａの外縁１０ｂの双方から離間した位置より内側が凹部２２になっている。このため、平面視において凹部２２は四角形である。また、第１基板２０において、表示領域１０ａの外縁１０ｂとダミー画素電極３８ｂが形成されている領域の内縁とに挟まれた位置より内側が凹部２２になっている。このため、ブラックマトリクス部２９ｂ、共通電極２１および第１配向膜２６のうち、表示領域１０ａに形成された部分は、凹部２２の底部２２ｓ（第１基板２０の凹部形成領域２０ａ）に形成され、シール材６０は、凹部２２の外側領域２０ｂで第１基板２０と第２基板３０とを貼り合わせている。
【００３２】
このため、図２に示すように、シール材６０が設けられている箇所における第１基板２０と第２基板３０との間隔ｇは、表示領域１０ａにおける第１基板２０と第２基板３０との間隔ｔより狭い。また、凹部２２の深さｄは、シール材６０が設けられている箇所における第１基板２０と第２基板３０との間隔ｇより深い。例えば、凹部２２の深さｄは２μｍであり、シール材６０が設けられている箇所における第１基板２０と第２基板３０との間隔ｇは１μｍであり、表示領域１０ａにおける第１基板２０と第２基板３０との間隔ｔは３μｍである。
【００３３】
（液晶装置１００の製造方法）
図３は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置１００の第１基板２０の製造方法を示す工程断面図である。図４は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置１００の液晶パネル１００ｐを製造する工程を示す工程断面図である。なお、以下に説明する工程は、第１基板２０および第２基板３０が各々、大型のマザー基板の状態で行われるが、マザー基板についても第１基板２０および第２基板３０として説明する。
【００３４】
本形態では、まず、図３（ａ）、（ｂ）に示す凹部形成工程において、第１基板２０の一方面２０ｓに対して、図１および図２に示すシール材６０より内側、かつ表示領域１０ａを含む領域をエッチングして凹部２２を形成する。より具体的には、図３（ａ）に示すように、第１基板２０の第１基板本体２０ｗの一方面２０ｓに対して、凹部２２を形成すべき領域が開口部２７ａになっているエッチングマスク２７を形成した後、開口部２７ａから第１基板２０の一方面２０ｓに対して、フッ酸系のエッチング液を用いたウエットエッチング、あるいはフッ素系ガスを用いたドライエッチングを行い、その後、エッチングマスク２７を除去する。その結果、図３（ｂ）に示すように、第１基板２０の一方面２０ｓに凹部２２が形成される。
【００３５】
次に、図３（ｃ）に示すように、遮光層２９（額縁部分２９ａおよびブラックマトリクス部２９ｂ）、共通電極２１および配向膜２６を順次形成する。
【００３６】
次に、図４（ａ）に示す前駆体塗布工程では、第１基板２０の一方面２０ｓ、および第２基板３０の一方面２０ｓの一方にシール材６０の液状の前駆体６５を塗布する。本形態では、ディスペンサーからシール材６０の液状の前駆体６５を吐出して、前駆体６５を表示領域１０ａの周りを全周にわたって囲む閉ループ状に塗布する。
【００３７】
次に、図４（ｂ）に示す液晶材料配置工程では、第１基板２０の一方面２０ｓ、および第２基板３０の一方面２０ｓの一方に対して、凹部２２と重なる箇所に液状の液晶材料５０ａを配置する。本形態では、第１基板２０の一方面２０ｓに対して、凹部２２と重なる箇所に、ディスペンサーから液状の液晶材料５０ａを滴下し、第１基板２０の一方面２０ｓに液晶材料５０ａを配置する。
【００３８】
次に、図４（ｃ）に示す重ね合わせ工程では、シール材６０の前駆体６５および液晶材料５０ａを挟んで第１基板２０と第２基板３０とを重ねる。その結果、液晶材料５０ａは、第１基板２０と第２基板３０との隙間を埋めるように流動し、液晶層５０を構成する。但し、凹部２２が形成されている領域（凹部形成領域２０ａ）では、第１基板２０と第２基板３０との間隔が広いが、凹部２２が形成されていない領域（凹部２２の外側領域２０ｂ）では、第１基板２０と第２基板３０との間隔が狭い。このため、液晶材料５０ａは、凹部２２が形成されている領域では第１基板２０と第２基板３０との間ですぐに流動するが、凹部２２が形成されていない領域では、前駆体６５が設けられている位置まではすぐに流動しない。
【００３９】
次に、硬化工程では、前駆体６５を硬化させ、図２に示すシール材６０を形成し、第１基板２０と第２基板３０とを貼り合わせる。かかる硬化工程では、前駆体６５に紫外線を照射して前駆体６５を硬化させる。ここで、前駆体６５を加熱して前駆体６５を硬化させる場合や、前駆体６５に紫外線を照射して前駆体６５を仮硬化させた後、前駆体６５を加熱して前駆体６５を完全硬化させる場合もある。
【００４０】
このような硬化工程の際、液晶材料５０ａは、凹部２２が形成されていない領域では流動速度が遅い。従って、図４（ｄ）に示すように、前駆体６５（シール材６０）が硬化する途中まで、液晶材料５０ａは、前駆体６５や硬化途中のシール材６０とが接触しない。但し、シール材６０が完全硬化した状態では、液晶材料５０ａは、シール材６０と接触する位置まで広がった状態となる。このようにして、シール材６０を硬化させた後、マザー基板を切断して液晶パネル１００ｐを得る。
【００４１】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、第１基板２０の液晶層５０側の面には、シール材６０より内側かつ表示領域１０ａを含む領域に凹部２２が形成されており、第１基板２０と第２基板３０との間隔は、凹部２２が形成されている領域（凹部形成領域２０ａ）では広く、凹部２２が形成されていない領域（凹部２２の外側領域２０ｂ）では狭い。従って、前駆体６５および液晶材料５０ａを挟んで第１基板２０と第２基板３０とを重ねた際、シール材６０が設けられる個所まで液晶材料５０ａが到達するのが遅い。従って、前駆体６５や硬化途中のシール材６０と液晶材料５０ａとが接触する時間を短縮することができるので、前駆体６５や硬化途中のシール材６０から不純物が液晶材料５０ａに溶出することを抑制することができる。ここで、凹部２２は、第１基板２０に対するエッチングにより形成されてなる。従って、成膜した層によって凸部を形成する場合と違って、凸部が他方の基板に当接して基板の間隔がばらつくという事態が発生しない。また、第１基板２０に対するエッチングにより凹部２２を形成するため、成膜した層によって凸部を選択的に形成する場合と違って、層を厚く形成する必要がない等、凹部２２を効率よく形成することができる。
【００４２】
また、シール材６０と表示領域１０ａとの間でシール材６０の内縁６０ａおよび表示領域１０ａの外縁１０ｂの双方から離間した位置より内側が凹部２２になっている。このため、表示領域１０ａより広い範囲にわたって凹部２２が形成されているので、凹部２２の形成が表示品位を低下させにくい。また、シール材６０の内縁６０ａから離間した位置より内側が凹部２２になっているため、凹部２２とシール材６０とが十分に離間している。従って、液晶材料５０ａが前駆体６５や硬化途中のシール材６０と接触するまでに十分な時間を確保することができるので、前駆体６５や硬化途中のシール材６０から不純物が液晶材料５０ａに溶出することを効果的に抑制することができる。
【００４３】
また、第１配向膜２６および第２配向膜３６は無機配向膜からなる。無機配向膜を用いた場合、有機配向膜を用いた場合に比して、第１基板２０と第２基板３０との間で液晶材料５０ａが流動する速度が低い。このため、前駆体６５および液晶材料５０ａを挟んで第１基板２０と第２基板３０とを重ねた際、シール材６０が設けられる個所まで液晶材料５０ａが到達するのが遅い。従って、前駆体６５や硬化途中のシール材６０と液晶材料５０ａとが接触する時間を短縮することができるので、前駆体６５や硬化途中のシール材６０から不純物が液晶材料５０ａに溶出することを効果的に抑制することができる。
【００４４】
また、凹部２２が共通電極（第１電極）が形成された第１基板２０に形成されており、第１基板２０には配線等を設ける必要がない。それ故、凹部２２に起因する段差によって配線が切断する等の問題が発生しない。
【００４５】
［実施の形態２］
上記実施の形態１では、第１基板２０に凹部２２を設けたが、第２基板３０に凹部２２を設けて、前駆体６５や硬化途中のシール材６０と液晶材料５０ａとが接触する時間を短縮してもよい。
【００４６】
［他の実施の形態］
上記実施の形態では、前駆体６５を第２基板３０に塗布したが、第１基板２０に前駆体６５を塗布してもよい。また、上記実施の形態では、第２基板３０に液晶材料５０ａを滴下したが、第１基板２０に液晶材料５０ａを滴下した後、第１基板２０と第２基板３０とを重ね合わせてもよい。
【００４７】
［電子機器への搭載例］
図５は、本発明を適用した液晶装置１００を用いた投射型表示装置（電子機器）の概略構成図である。なお、以下の説明では、互いに異なる波長域の光が供給される複数の液晶装置１００が用いられているが、いずれの液晶装置１００にも、本発明を適用した液晶装置１００が用いられている。
【００４８】
図５に示す投射型表示装置１１０は、透過型の液晶装置１００を用いた液晶プロジェクタであり、スクリーン等からなる被投射部材１１１に光を照射し、画像を表示する。投射型表示装置１１０は、装置光軸Ｌに沿って、照明装置１６０と、照明装置１６０から出射された光が供給される複数の液晶装置１００（液晶ライトバルブ１１５〜１１７）と、複数の液晶装置１００から出射された光を合成して出射するクロスダイクロイックプリズム１１９（光合成光学系）と、クロスダイクロイックプリズム１１９により合成された光を投射する投射光学系１１８とを有している。また、投射型表示装置１１０は、ダイクロイックミラー１１３、１１４、およびリレー系１２０を備えている。投射型表示装置１１０において、液晶装置１００およびクロスダイクロイックプリズム１１９は、光学ユニット２００を構成している。
【００４９】
照明装置１６０では、装置光軸Ｌに沿って、光源部１６１、フライアイレンズ等のレンズアレイからなる第１インテグレーターレンズ１６２、フライアイレンズ等のレンズアレイからなる第２インテグレーターレンズ１６３、偏光変換素子１６４、およびコンデンサーレンズ１６５が順に配置されている。光源部１６１は、赤色光Ｒ、緑色光Ｇおよび青色光Ｂを含む白色光を出射する光源１６８と、リフレクター１６９とを備えている。光源１６８は超高圧水銀ランプ等により構成されており、リフレクター１６９は、放物線状の断面を有している。第１インテグレーターレンズ１６２および第２インテグレーターレンズ１６３は、光源部１６１から出射された光の照度分布を均一化する。偏光変換素子１６４は、光源部１６１から出射された光を、例えばｓ偏光のような特定の振動方向を有する偏光にする。
【００５０】
ダイクロイックミラー１１３は、照明装置１６０から出射された光に含まれる赤色光Ｒを透過させるとともに、緑色光Ｇおよび青色光Ｂを反射する。ダイクロイックミラー１１４は、ダイクロイックミラー１１３で反射された緑色光Ｇおよび青色光Ｂのうち、青色光Ｂを透過させるとともに緑色光Ｇを反射する。このように、ダイクロイックミラー１１３、１１４は、照明装置１６０から出射された光を赤色光Ｒ、緑色光Ｇおよび青色光Ｂに分離する色分離光学系を構成している。
【００５１】
液晶ライトバルブ１１５は、ダイクロイックミラー１１３を透過して反射ミラー１２３で反射した赤色光Ｒを画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置である。液晶ライトバルブ１１５は、λ／２位相差板１１５ａ、第１偏光板１１５ｂ、液晶装置１００（赤色用液晶装置１００Ｒ）、および第２偏光板１１５ｄを備えている。ここで、液晶ライトバルブ１１５に入射する赤色光Ｒは、ダイクロイックミラー１１３を透過しても光の偏光は変化しないことから、ｓ偏光のままである。
【００５２】
λ／２位相差板１１５ａは、液晶ライトバルブ１１５に入射したｓ偏光をｐ偏光に変換する光学素子である。第１偏光板１１５ｂは、ｓ偏光を遮断してｐ偏光を透過させる偏光板である。液晶装置１００（赤色用液晶装置１００Ｒ）は、ｐ偏光を画像信号に応じた変調によってｓ偏光（中間調であれば円偏光又は楕円偏光）に変換する構成となっている。第２偏光板１１５ｄは、ｐ偏光を遮断してｓ偏光を透過させる偏光板である。従って、液晶ライトバルブ１１５は、画像信号に応じて赤色光Ｒを変調し、変調した赤色光Ｒをクロスダイクロイックプリズム１１９に向けて出射する。λ／２位相差板１１５ａおよび第１偏光板１１５ｂは、偏光を変換させない透光性のガラス板１１５ｅに接した状態で配置されており、λ／２位相差板１１５ａおよび第１偏光板１１５ｂが発熱によって歪むのを回避することができる。
【００５３】
液晶ライトバルブ１１６は、ダイクロイックミラー１１３で反射した後にダイクロイックミラー１１４で反射した緑色光Ｇを画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置である。液晶ライトバルブ１１６は、液晶ライトバルブ１１５と同様に、第１偏光板１１６ｂ、液晶装置１００（緑色用液晶装置１００Ｇ）、および第２偏光板１１６ｄを備えている。液晶ライトバルブ１１６に入射する緑色光Ｇは、ダイクロイックミラー１１３、１１４で反射されて入射するｓ偏光である。第１偏光板１１６ｂは、ｐ偏光を遮断してｓ偏光を透過させる偏光板である。液晶装置１００（緑色用液晶装置１００Ｇ）は、ｓ偏光を画像信号に応じた変調によってｐ偏光（中間調であれば円偏光又は楕円偏光）に変換する構成となっている。第２偏光板１１６ｄは、ｓ偏光を遮断してｐ偏光を透過させる偏光板である。従って、液晶ライトバルブ１１６は、画像信号に応じて緑色光Ｇを変調し、変調した緑色光Ｇをクロスダイクロイックプリズム１１９に向けて出射する。
【００５４】
液晶ライトバルブ１１７は、ダイクロイックミラー１１３で反射し、ダイクロイックミラー１１４を透過した後でリレー系１２０を経た青色光Ｂを画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置である。液晶ライトバルブ１１７は、液晶ライトバルブ１１５、１１６と同様に、λ／２位相差板１１７ａ、第１偏光板１１７ｂ、液晶装置１００（青色用液晶装置１００Ｂ）、および第２偏光板１１７ｄを備えている。液晶ライトバルブ１１７に入射する青色光Ｂは、ダイクロイックミラー１１３で反射してダイクロイックミラー１１４を透過した後にリレー系１２０の２つの反射ミラー１２５ａ、１２５ｂで反射することから、ｓ偏光となっている。
【００５５】
λ／２位相差板１１７ａは、液晶ライトバルブ１１７に入射したｓ偏光をｐ偏光に変換する光学素子である。第１偏光板１１７ｂは、ｓ偏光を遮断してｐ偏光を透過させる偏光板である。液晶装置１００（青色用液晶装置１００Ｂ）は、ｐ偏光を画像信号に応じた変調によってｓ偏光（中間調であれば円偏光又は楕円偏光）に変換する構成となっている。第２偏光板１１７ｄは、ｐ偏光を遮断してｓ偏光を透過させる偏光板である。従って、液晶ライトバルブ１１７は、画像信号に応じて青色光Ｂを変調し、変調した青色光Ｂをクロスダイクロイックプリズム１１９に向けて出射する。なお、λ／２位相差板１１７ａ、および第１偏光板１１７ｂは、ガラス板１１７ｅに接した状態で配置されている。
【００５６】
リレー系１２０は、リレーレンズ１２４ａ、１２４ｂと反射ミラー１２５ａ、１２５ｂとを備えている。リレーレンズ１２４ａ、１２４ｂは、青色光Ｂの光路が長いことによる光損失を防止するために設けられている。リレーレンズ１２４ａは、ダイクロイックミラー１１４と反射ミラー１２５ａとの間に配置されている。リレーレンズ１２４ｂは、反射ミラー１２５ａ、１２５ｂの間に配置されている。反射ミラー１２５ａは、ダイクロイックミラー１１４を透過してリレーレンズ１２４ａから出射した青色光Ｂをリレーレンズ１２４ｂに向けて反射する。反射ミラー１２５ｂは、リレーレンズ１２４ｂから出射した青色光Ｂを液晶ライトバルブ１１７に向けて反射する。
【００５７】
クロスダイクロイックプリズム１１９は、２つのダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂをＸ字型に直交配置した色合成光学系である。ダイクロイック膜１１９ａは青色光Ｂを反射して緑色光Ｇを透過する膜であり、ダイクロイック膜１１９ｂは赤色光Ｒを反射して緑色光Ｇを透過する膜である。従って、クロスダイクロイックプリズム１１９は、液晶ライトバルブ１１５〜１１７のそれぞれで変調された赤色光Ｒと緑色光Ｇと青色光Ｂとを合成し、投射光学系１１８に向けて出射する。
【００５８】
なお、液晶ライトバルブ１１５、１１７からクロスダイクロイックプリズム１１９に入射する光はｓ偏光であり、液晶ライトバルブ１１６からクロスダイクロイックプリズム１１９に入射する光はｐ偏光である。このようにクロスダイクロイックプリズム１１９に入射する光を異なる種類の偏光としていることにより、クロスダイクロイックプリズム１１９において各液晶ライトバルブ１１５〜１１７から入射する光を合成できる。ここで、一般に、ダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂはｓ偏光の反射特性に優れている。このため、ダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂで反射される赤色光Ｒ、および青色光Ｂをｓ偏光とし、ダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂを透過する緑色光Ｇをｐ偏光としている。投射光学系１１８は、投影レンズ（図示略）を有しており、クロスダイクロイックプリズム１１９で合成された光をスクリーン等の被投射部材１１１に投射する。
【００５９】
（他の投射型表示装置）
上記投射型表示装置においては、透過型の液晶装置１００を用いたが、反射型の液晶装置１００を用いて投射型表示装置を構成してもよい。また、投射型表示装置においては、光源部として、各色の光を出射するＬＥＤ光源等を用い、かかるＬＥＤ光源から出射された色光を各々、別の液晶装置に供給するように構成してもよい。
【００６０】
（他の電子機器）
本発明を適用した液晶装置１００については、上記の電子機器の他にも、携帯電話機、情報携帯端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants）、デジタルカメラ、液晶テレビ、カーナビゲーション装置、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等の電子機器において直視型表示装置として用いてもよい。
【符号の説明】
【００６１】
１０ａ・・表示領域、１０ｂ・・表示領域の外縁、２０・・第１基板、２０ｗ・・第１基板本体、２１・・共通電極（第１電極）、２２・・凹部、２６・・第１配向膜、３０・・第２基板、３０ｗ・・第２基板本体、３６・・第２配向膜、３８ａ・・画素電極（第２電極）、５０・・液晶層、５０ａ・・液晶材料、６０・・シール材、６０ａ・・シール材の内縁、６１・・接着剤、６２・・スペーサー、６５・・シール材の前駆体、１００・・液晶装置、１１０・・投射型表示装置（電子機器）
【図１】
2015138218.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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