(57)【要約】【課題】互いに密着した２枚の板状体を良好にかつ安定して剥離して離間させる。【解決手段】上流側吸着部で第２板状体の被吸着部位を第１板状体から剥離させて第２板状体の剥離を剥離進行方向に進行させる工程と、剥離進行方向における被吸着部位の下流側で、第２板状体のうち上流側剥離手段により剥離された剥離部位の反密着面に向けて下流側吸着部を移動させる工程と、剥離部位の反密着面に向けて移動中に第２板状体の反密着面に対する下流側吸着部の相対位置をモニターする工程と、相対位置に関する位置情報に基づき下流側吸着部による第２板状体の吸着を開始するタイミングを調整する工程と、下流側吸着部による第２板状体の吸着開始と同時または吸着開始後に、剥離部位の反密着面を下流側吸着部で吸着したまま下流側吸着部を保持手段から離間させて第２板状体の剥離を剥離進行方向に進行させる工程とを備えている。【選択図】図９
2015141992.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに密着した第１板状体と第２板状体とを剥離させる剥離装置において、
前記第１板状体を保持する保持手段と、
前記第２板状体の表面のうち前記第１板状体と密着した面とは反対側の反密着面の一部を吸着して保持する上流側吸着部を有し、前記上流側吸着部で前記第２板状体を吸着しながら前記上流側吸着部を前記保持手段から離間させて前記上流側吸着部により吸着された前記第２板状体の被吸着部位を前記第１板状体から剥離させて前記第２板状体の剥離を剥離進行方向に進行させる上流側剥離手段と、
前記剥離進行方向における前記被吸着部位の下流側で前記第２板状体の前記反密着面に臨んで設けられる下流側吸着部を有し、前記第２板状体のうち前記上流側剥離手段により剥離された剥離部位に前記下流側吸着部を移動させて前記剥離部位の前記反密着面を吸着した後で、前記第２板状体を吸着したまま前記下流側吸着部を前記保持手段から離間させて前記第２板状体の剥離を前記剥離進行方向に進行させる下流側剥離手段と、
前記第２板状体の前記反密着面に対する前記下流側吸着部の相対位置をモニターするモニター手段と、
前記モニター手段により得られる前記相対位置に関する位置情報に基づき前記下流側吸着部による前記第２板状体の吸着開始を制御する制御手段と
を備えることを特徴とする剥離装置。
【請求項２】
請求項１に記載の剥離装置であって、
前記下流側剥離手段は、前記下流側吸着部として機能する第１吸着部および第２吸着部と、前記第１吸着部への負圧供給および負圧供給停止を切り替える第１切替部と、前記第２吸着部への負圧供給および負圧供給停止を切り替える第２切替部とを有し、前記第１吸着部および前記第２吸着部が一体的に前記剥離部位に接近している間、前記第１切替部により前記第１吸着部への負圧供給を停止する一方で前記第２切替部により前記第２吸着部に負圧を供給し、
前記モニター手段は前記第２吸着部の圧力を計測する圧力計測部を有し、前記圧力計測部で計測された圧力値を前記位置情報として出力し、
前記制御手段は、前記第１吸着部および前記第２吸着部の前記剥離部位への移動中における前記圧力値の変化に応じて前記第１吸着部への負圧の供給を開始するように前記第１切替部を制御する剥離装置。
【請求項３】
請求項２に記載の剥離装置であって、
前記第１吸着部および前記第２吸着部は前記剥離進行方向と直交する前記第２板状体の幅方向に配列される剥離装置。
【請求項４】
請求項３に記載の剥離装置であって、
前記複数の下流側吸着部のうち前記幅方向の両端と中央部に位置する前記下流側吸着部が前記第２吸着部であり、残りの前記下流側吸着部が前記第１吸着部である剥離装置。
【請求項５】
請求項２に記載の剥離装置であって、
前記第２吸着部は前記剥離進行方向における前記第１吸着部の下流側に配置される剥離装置。
【請求項６】
請求項５に記載の剥離装置であって、
前記下流側剥離手段は、前記下流側吸着部として、前記剥離進行方向と直交する前記第２板状体の幅方向に配列される複数の前記第１吸着部と、前記第１吸着部よりも少ない個数の前記第２吸着部とを有する剥離装置。
【請求項７】
請求項１に記載の剥離装置であって、
前記下流側剥離手段は、前記下流側吸着部への負圧供給および負圧供給停止を切り替える下流側切替部を有し、前記下流側吸着部が前記剥離部位に接近している間、前記下流側吸着部への負圧供給を停止し、
前記モニター手段は、前記下流側吸着部の前記剥離部位への移動中における前記第２板状体の前記反密着面と前記下流側吸着部との距離を前記位置情報として計測する距離計測部を有し、
前記制御手段は、前記距離がしきい値以下となった時点で前記下流側吸着部への負圧の供給を開始するように前記下流側切替部を制御する剥離装置。
【請求項８】
請求項７に記載の剥離装置であって、
前記距離計測部は、前記下流側吸着部と一体的に移動しながら前記距離を計測する変位計である剥離装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか一項に記載の剥離装置であって、
前記被吸着部位は前記第２板状体の前記反密着面のうち前記剥離進行方向における前記第２板状体の上流端部であり、
前記上流側剥離手段は、前記上流側吸着部への負圧供給および負圧供給停止を切り替える上流側切替部を有し、
前記上流側切替部は、前記上流側吸着部が前記被吸着部位に向かって移動する間、前記上流側吸着部への負圧供給を停止させ、前記上流側吸着部が前記被吸着部位に当接すると、前記上流側吸着部への負圧供給を開始する剥離装置。
【請求項１０】
互いに密着した第１板状体と第２板状体とを剥離させる剥離方法において、
前記第１板状体を保持手段により保持する保持工程と、
前記第２板状体の表面のうち前記第１板状体と密着した面とは反対側の反密着面の一部を上流側吸着部で前記第２板状体を吸着しながら前記上流側吸着部を前記保持手段から離間させて前記上流側吸着部により吸着された前記第２板状体の被吸着部位を前記第１板状体から剥離させて前記第２板状体の剥離を剥離進行方向に進行させる第１剥離工程と、
前記剥離進行方向における前記被吸着部位の下流側で、前記第２板状体のうち前記上流側剥離手段により剥離された剥離部位の前記反密着面に向けて下流側吸着部を移動させる移動工程と、
前記剥離部位の前記反密着面に向けて移動中に前記第２板状体の前記反密着面に対する前記下流側吸着部の相対位置をモニターするモニター工程と、
前記相対位置に関する位置情報に基づき前記下流側吸着部による前記第２板状体の吸着を開始するタイミングを調整する調整工程と、
前記下流側吸着部による前記第２板状体の吸着開始と同時または吸着開始後に、前記剥離部位の前記反密着面を前記下流側吸着部で吸着したまま前記下流側吸着部を前記保持手段から離間させて前記第２板状体の剥離を前記剥離進行方向に進行させる第２剥離工程と
を備えることを特徴とする剥離方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の剥離方法であって、
前記下流側吸着部として第１吸着部および第２吸着部が設けられており、
前記移動工程では、前記第１吸着部への負圧供給を停止する一方で前記第２吸着部に負圧を供給し、
前記モニター工程では、前記第２吸着部の圧力を計測して圧力値を前記位置情報として出力し、
前記調整工程では、前記第１吸着部および前記第２吸着部の前記剥離部位への移動中における前記圧力値の変化に応じて前記第１吸着部への負圧の供給を開始する剥離方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載の剥離方法であって、
前記移動工程では前記下流側吸着部への負圧供給を停止し、
前記モニター工程では、前記第２板状体の前記反密着面と前記下流側吸着部との距離を前記位置情報として計測し、
前記調整工程では、前記距離がしきい値以下となった時点で前記下流側吸着部への負圧の供給を開始する剥離方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、互いに密着した２枚の板状体を剥離して離間させる剥離装置および剥離方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板や半導体基板などの板状体に所定のパターンや薄膜を形成する技術として、他の板状体に担持されたパターンや薄膜（以下、「パターン等」という）を基板に転写するものがある。この技術においては、２枚の板状体を密着させてパターン等を一方から他方に転写した後、パターン等を損壊させることなく２枚の板状体を剥離する必要がある。
【０００３】
この目的のために利用可能な技術として、例えば特許文献１には、有機層を介して互いに密着された素子形成用基板と転写用基板とを剥離するための装置が記載されている。この技術では、貼り合わせた２枚の基板を基板保持部により水平姿勢に保持し、上下基板それぞれを真空吸着した状態で離間方向に移動させている。上下基板は、分散配置された複数の吸着パッドによりそれぞれ吸着保持される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２８７９４９号公報（例えば図６）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
この特許文献１に記載の装置では、複数の吸着パッドを列状に設けた吸着ヘッドを基板の長手方向に所定の間隔で配置している。そして、全吸着ヘッドを基板の上面に向けて移動させ、全吸着パッドが基板の上面と接触した状態で各吸着パッドを真空引きして上側の基板を複数の吸着パッドで吸着する。その後で、剥離進行方向の最上流側の吸着ヘッドを基板保持部から離間することで基板の一部を剥離し、さらに最上流側から２番目、３番目、４番目および５番目の吸着ヘッドをこの順序で基板保持部から離間して基板剥離を行っている。したがって、最初の基板剥離、つまり最上流側の吸着ヘッドの移動による基板剥離のみならず、それ以降の吸着ヘッドを基板保持部から離間させて基板剥離を行う際にも、吸着部位においても局所的な基板間の剥離が発生する等、適切な管理下で剥離を進行させることができない場合があった。特に、２番目、３番目、４番目の吸着ヘッドの吸着パッドは、パターン等が形成された領域で当接することが多く、当該領域で強い剥離力が集中的に作用してパターン等を損壊させるおそれがある。
【０００６】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、互いに密着した２枚の板状体を良好に、かつ安定して剥離して離間させることができる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明の一態様は、互いに密着した第１板状体と第２板状体とを剥離させる剥離装置であって、第１板状体を保持する保持手段と、第２板状体の表面のうち第１板状体と密着した面とは反対側の反密着面の一部を吸着して保持する上流側吸着部を有し、上流側吸着部で第２板状体を吸着しながら上流側吸着部を保持手段から離間させて上流側吸着部により吸着された第２板状体の被吸着部位を第１板状体から剥離させて第２板状体の剥離を剥離進行方向に進行させる上流側剥離手段と、剥離進行方向における被吸着部位の下流側で第２板状体の反密着面に臨んで設けられる下流側吸着部を有し、第２板状体のうち上流側剥離手段により剥離された剥離部位に下流側吸着部を移動させて剥離部位の反密着面を吸着した後で、第２板状体を吸着したまま下流側吸着部を保持手段から離間させて第２板状体の剥離を剥離進行方向に進行させる下流側剥離手段と、第２板状体の反密着面に対する下流側吸着部の相対位置をモニターするモニター手段と、モニター手段により得られる相対位置に関する位置情報に基づき下流側吸着部による第２板状体の吸着開始を制御する制御手段とを備えることを特徴としている。
【０００８】
また、この発明の他の態様は、互いに密着した第１板状体と第２板状体とを剥離させる剥離方法であって、第１板状体を保持手段により保持する保持工程と、第２板状体の表面のうち第１板状体と密着した面とは反対側の反密着面の一部を上流側吸着部で第２板状体を吸着しながら上流側吸着部を保持手段から離間させて上流側吸着部により吸着された第２板状体の被吸着部位を第１板状体から剥離させて第２板状体の剥離を剥離進行方向に進行させる第１剥離工程と、剥離進行方向における被吸着部位の下流側で、第２板状体のうち上流側剥離手段により剥離された剥離部位の反密着面に向けて下流側吸着部を移動させる移動工程と、剥離部位の反密着面に向けて移動中に第２板状体の反密着面に対する下流側吸着部の相対位置をモニターするモニター工程と、相対位置に関する位置情報に基づき下流側吸着部による第２板状体の吸着を開始するタイミングを調整する調整工程と、下流側吸着部による第２板状体の吸着開始と同時または吸着開始後に、剥離部位の反密着面を下流側吸着部で吸着したまま下流側吸着部を保持手段から離間させて第２板状体の剥離を剥離進行方向に進行させる第２剥離工程とを備えることを特徴としている。
【０００９】
このように構成された発明では、第２板状体の一部（被吸着部位）を第１板状体から剥離させて第２板状体の剥離を剥離進行方向に進行させている。ここで、上記被吸着部位を吸着している上流側吸着部が保持手段から離れるにしたがって第２板状体の剥離は進行していくが、保持手段からの上流側吸着部の離間にしたがって上流側剥離手段の移動が剥離の進行に反映されにくくなる。そこで、本発明では、剥離進行方向における下流側で下流側剥離手段の下流側吸着部で剥離部位を吸着した後で当該下流側吸着部を保持手段から離間させて剥離進行方向への剥離を継続的に進行させている。また、上流側剥離手段による保持のみでは剥離部位の撓みを抑えることができないが、下流側剥離手段の下流側吸着部が剥離部位を保持することで、第２板状体の姿勢を制御することが可能である。このように、本発明によれば、互いに密着した第１板状体と第２板状体とを良好に剥離させることができ、良好な剥離性能を発揮することができる。
【００１０】
また、剥離部位の反り形状は一定ではなく、第１板状体と第２板状体との密着力や第２板状体の剛性などによって変化する。すなわち、保持部からの上流側吸着部の離間距離が同じであったとしても、例えば密着力が比較的高い場合には剥離進行は比較的少なく、反りが小さくなる。したがって、下流側吸着部は剥離部位と当接するまで比較的長く移動する必要がある。これに対し、密着力が比較的低い場合には、上記ケースとは逆に、剥離部位と当接するまでの下流側吸着部の移動距離は短くなる。このように、上流側吸着部の移動によって第１板状体から剥離した第２板状体の剥離部位を下流側吸着部で吸着するという構成を採用した場合、下流側吸着部による第２板状体の反密着面の吸着開始タイミングを制御することが重要となる。この点に関し、本発明では、第２板状体の反密着面に対する下流側吸着部の相対位置をモニターしており、その相対位置に関する位置情報に基づき下流側吸着部による第２板状体の吸着開始を制御している。このため、第１板状体と第２板状体との密着力や第２板状体の剛性の相違にかかわらず、常に適正なタイミングで下流側吸着部が第２板状体を吸着して剥離処理を安定的に行うことができる。
【発明の効果】
【００１１】
この発明によれば、上流側剥離手段により剥離された第２板状体の剥離部位を下流側吸着部が常に適切なタイミングで吸着した後で第２板状体を保持手段から離間させて第２板状体の剥離を進行させることで、安定的に、かつ良好に剥離を進行させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】この発明にかかる剥離装置の第１実施形態を示す斜視図である。
【図２】この剥離装置の主要構成を示す斜視図である。
【図３】初期剥離ユニットの構造および各部の位置関係を示す側面図である。
【図４】この剥離装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図５】吸着ユニットの構成を模式的に示す図である。
【図６】処理中の各段階における各部の位置関係と負圧供給部における負圧供給状態を模式的に示す図である。
【図７】処理中の各段階における各部の位置関係と負圧供給部における負圧供給状態を模式的に示す図である。
【図８】処理中の各段階における各部の位置関係と負圧供給部における負圧供給状態を模式的に示す図である。
【図９】処理中の各段階における各部の位置関係と負圧供給部における負圧供給状態を模式的に示す図である。
【図１０】処理中の各段階における各部の位置関係と負圧供給部における負圧供給状態を模式的に示す図である。
【図１１】処理中の各段階における各部の位置関係のみを模式的に示す図である。
【図１２】この発明にかかる剥離装置の第２実施形態を示す図である。
【図１３】この発明にかかる剥離装置の第３実施形態を示す図である。
【図１４】第３実施形態での処理中の各段階における各部の位置関係と負圧供給部における負圧供給状態を模式的に示す図である。
【図１５】第３実施形態での処理中の各段階における各部の位置関係と負圧供給部における負圧供給状態を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
Ａ．第１実施形態
図１はこの発明にかかる剥離装置の第１実施形態を示す斜視図である。各図における方向を統一的に示すために、図１右下に示すようにＸＹＺ直交座標軸を設定する。ここでＸＹ平面が水平面、Ｚ軸が鉛直軸を表す。より詳しくは、（＋Ｚ）方向が鉛直上向き方向を表している。
【００１４】
この剥離装置１は、主面同士が互いに密着した状態で搬入される２枚の板状体を剥離させるための装置である。例えばガラス基板や半導体基板等の基板の表面に所定のパターンを形成するパターン形成プロセスの一部において用いられる。より具体的には、このパターン形成プロセスでは、被転写体である基板に転写すべきパターンを一時的に担持する担持体としてのブランケット表面にパターン形成材料を均一に塗布し（塗布工程）、パターン形状に応じて表面加工された版をブランケット上の塗布層に押し当てることによって塗布層をパターニングし（パターニング工程）、こうしてパターンが形成されたブランケットを基板に密着させることで（転写工程）、パターンをブランケットから基板に最終転写する。
【００１５】
このとき、パターニング工程において密着された版とブランケットとの間、または転写工程において密着された基板とブランケットとの間を離間させる目的のために、本装置を好適に適用することが可能である。もちろんこれらの両方に用いられてもよく、これ以外の用途で用いられても構わない。例えば担持体に担持された薄膜を基板に転写する際の剥離プロセスにも適用することができる。
【００１６】
この剥離装置１は、筺体に取り付けられたメインフレーム１１の上にステージブロック３および上部吸着ブロック５がそれぞれ固定された構造を有している。図１では装置の内部構造を示すために筐体の図示を省略している。また、これらの各ブロックの他に、この剥離装置１は後述する制御ユニット７０（図４）を備えている。
【００１７】
ステージブロック３は、版または基板とブランケットとが密着されてなる密着体（以下、「ワーク」という）を載置するためのステージ３０を有しており、ステージ３０は、上面が略水平の平面となった水平ステージ部３１と、上面が水平面に対して数度（例えば２度程度）の傾きを有する平面となったテーパーステージ部３２とを備えている。ステージ３０のテーパーステージ部３２側、すなわち（−Ｙ）側の端部近傍には初期剥離ユニット３３が設けられている。また、水平ステージ部３１を跨ぐようにローラユニット３４が設けられる。
【００１８】
一方、上部吸着ブロック５は、メインフレーム１１から立設されるとともにステージブロック３の上部を覆うように設けられた支持フレーム５０と、該支持フレーム５０に取り付けられた第１吸着ユニット５１、第２吸着ユニット５２、第３吸着ユニット５３および第４吸着ユニット５４とを備えている。これらの吸着ユニット５１〜５４は（＋Ｙ）方向に順番に並べられている。
【００１９】
図２はこの剥離装置の主要構成を示す斜視図である。より具体的には、図２は、剥離装置１の各構成のうちステージ３０、ローラユニット３４および第２吸着ユニット５２の構造を示している。ステージ３０は、上面３１０が略水平面となった水平ステージ部３１と上面３２０がテーパー面となったテーパーステージ部３２とを備えている。水平ステージ部３１の上面３１０は載置されるワークの平面サイズより少し大きい平面サイズを有している。
【００２０】
テーパーステージ部３２は水平ステージ部３１の（−Ｙ）側端部に密着して設けられており、その平坦な上面３２０は、水平ステージ部３１と接する部分では水平ステージ部３１の上面３１０と同じ高さ（Ｚ方向位置）に位置する一方、水平ステージ部３１から（−Ｙ）方向に離れるにつれて下方、つまり（−Ｚ）方向へ後退している。したがって、ステージ３０全体では、水平ステージ部３１の上面３１０の水平面とテーパーステージ部３２の上面３２０のテーパー面とが連続しており、それらが接続する稜線部ＥはＸ方向に延びる直線状となっている。
【００２１】
また、水平ステージ部３１の上面３１０には格子状の溝が刻設されている。より具体的には、水平ステージ部３１の上面３１０の中央部に格子状の溝３１１が設けられるとともに、該溝３１１が形成された領域を取り囲むように、矩形のうちテーパーステージ部３２側の１辺を除いた概略コの字型となるように、溝３１２が水平ステージ部３１の上面３１０の周縁部に設けられている。これらの溝３１１，３１２は制御バルブを介して後述する負圧発生部７０４（図４）に接続されており、負圧が供給されることで、ステージ３０に載置されるワークを吸着保持する吸着溝としての機能を有する。２種類の溝３１１，３１２はステージ上では繋がっておらず、また互いに独立した制御バルブを介して負圧発生部７０４に接続されているので、両方の溝を使用した吸着の他に、一方の溝のみ使用した吸着も可能となっている。このように本実施形態では、ステージ３０が本発明の「保持手段」として機能している。
【００２２】
このように構成されたステージ３０を跨ぐように、ローラユニット３４が設けられる。具体的には、水平ステージ部３１のＸ方向両端部に沿って、１対のガイドレール３５１，３５２がＹ方向に延設されており、これらのガイドレール３５１，３５２はメインフレーム１１に固定されている。そして、ガイドレール３５１，３５２に対し摺動自在にローラユニット３４が取り付けられている。
【００２３】
ローラユニット３４は、ガイドレール３５１，３５２とそれぞれ摺動自在に係合するスライダ３４１，３４２を備えており、これらのスライダ３４１，３４２を繋ぐように、ステージ３０上部を跨いでＸ方向に延設された下部アングル３４３が設けられている。下部アングル３４３には両側に一対の適宜の昇降機構３４４を介して上部アングル３４５が昇降自在に取り付けられている。そして、上部アングル３４５に対して、Ｘ方向に延設された円柱状の剥離ローラ３４０が回転自在に取り付けられる。
【００２４】
上部アングル３４５が昇降機構３４４により下方、つまり（−Ｚ）方向に下降されると、ステージ３０に載置されたワークの上面に剥離ローラ３４０の下面が当接する。一方、上部アングル３４５が昇降機構３４４により上方、つまり（＋Ｚ）方向の位置に位置決めされた状態では、剥離ローラ３４０はワークの上面から上方に離間した状態となる。上部アングル３４５には、剥離ローラ３４０の撓みを抑制するためのバックアップローラ３４６が回転自在に取り付けられるとともに、上部アングル３４５自体の撓みを防止するためのリブが適宜設けられる。剥離ローラ３４０およびバックアップローラ３４６は駆動源を有しておらず、これらは自由回転する。
【００２５】
ローラユニット３４は、メインフレーム１１に取り付けられたモータ３５３によりＹ方向に移動可能となっている。より具体的には、下部アングル３４３が、モータ３５３の回転運動を直線運動に変換する変換機構としての例えばボールねじ機構３５４に連結されており、モータ３５３が回転すると下部アングル３４３がガイドレール３５１，３５２に沿ってＹ方向に移動し、これによりローラユニット３４がＹ方向に移動する。ローラユニット３４の移動に伴う剥離ローラ３４０の可動範囲は、（−Ｙ）方向には水平ステージ部３１の（−Ｙ）側端部の近傍まで、（＋Ｙ）方向には水平ステージ部３１の（＋Ｙ）側端部よりも外側、つまりさらに（＋Ｙ）側へ進んだ位置までとされる。
【００２６】
次に第２吸着ユニット５２の構成について説明する。なお、第１ないし第４吸着ユニット５１〜５４はいずれも同一構造を有しており、ここでは代表的に第２吸着ユニット５２の構造について説明する。第２吸着ユニット５２は、Ｘ方向に延設されて支持フレーム５０に固定される梁部材５２１を有しており、該梁部材５２１には鉛直下向き、つまり（−Ｚ）方向に延びる１対の柱部材５２２，５２３がＸ方向に互いに位置を異ならせて取り付けられている。柱部材５２２，５２３には図では隠れているガイドレールを介してプレート部材５２４が昇降自在に取り付けられており、プレート部材５２４はモータおよび変換機構（例えばボールねじ機構）からなる昇降機構５２５により昇降駆動される。
【００２７】
プレート部材５２４の下部にはＸ方向に延びる棒状のパッド支持部材５２６が取り付けられており、該パッド支持部材５２６の下面に複数の吸着パッド５２７がＸ方向に等間隔で配列されている。図２では第２吸着ユニット５２を実際の位置よりも上方に移動させた状態を示しているが、昇降機構５２５によりプレート部材５２４が下方へ移動されたとき、吸着パッド５２７が水平ステージ部３１の上面３１０にごく近接した位置まで下降することができ、ステージ３０にワークが載置された状態では該ワークの上面に当接する。各吸着パッド５２７には後述する負圧供給部５２８（図５）を介して負圧発生部７０４（図４）からの負圧が付与されて、ワークの上面が吸着保持される。
【００２８】
図３は初期剥離ユニットの構造および各部の位置関係を示す側面図である。まず図１および図３を参照しながら初期剥離ユニット３３の構造を説明する。初期剥離ユニット３３は、テーパーステージ部３２の上方でＸ方向に延設された棒状の押圧部材３３１を有しており、押圧部材３３１は支持アーム３３２により支持されている。支持アーム３３２は鉛直方向に延設されるガイドレール３３３を介して柱部材３３４に昇降自在に取り付けられており、昇降機構３３５の作動により、支持アーム３３２が柱部材３３４に対して上下動する。柱部材３３４はメインフレーム１１に取り付けられたベース部３３６により支持されるが、位置調整機構３３７によりベース部３３６上での柱部材３３４のＹ方向位置が所定の範囲内で調整可能となっている。
【００２９】
水平ステージ部３１およびテーパーステージ部３２により構成されるステージ３０に対して、剥離対象物たるワークＷＫが載置される。前述したパターニング工程におけるワークは版とブランケットとがパターン形成材料の薄膜を介して密着した密着体である。一方、転写工程におけるワークは基板とブランケットとがパターニングされたパターンを介して密着した密着体である。以下では転写工程における基板ＳＢとブランケットＢＬとの密着体をワークＷＫとした場合の剥離装置１の剥離動作について説明するが、版とブランケットとによる密着体をワークとする場合でも同様の方法によって剥離を行うことが可能である。
【００３０】
ワークＷＫにおいて、基板ＳＢよりもブランケットＢＬの方が大きい平面サイズを有しているものとする。基板ＳＢはブランケットＢＬの略中央部に密着される。ワークＷＫはブランケットＢＬを下、基板ＳＢを上にしてステージ３０に載置される。このとき、図３に示すように、ワークＷＫのうち基板ＳＢの（−Ｙ）側端部が水平ステージ部３１とテーパーステージ部３２との境界の稜線部Ｅの略上方、より詳しくは稜線部Ｅよりも僅かに（−Ｙ）側にずれた位置となるように、ワークＷＫがステージ３０に載置される。したがって、（−Ｙ）方向において基板ＳＢよりも外側のブランケットＢＬはテーパーステージ部３２の上にせり出すように配置され、ブランケットＢＬの下面とテーパーステージ部３２の上面３２０との間には隙間が生じる。ブランケットＢＬの下面とテーパーステージ部３２の上面３２０とがなす角θはテーパーステージ部３２のテーパー角と同じ数度（この実施形態では２度）程度である。
【００３１】
水平ステージ部３１には吸着溝３１１，３１２が設けられており、ブランケットＢＬの下面を吸着保持する。このうち吸着溝３１１は基板ＳＢの下部に当たるブランケットＢＬの下面を吸着する一方、吸着溝３１２は基板ＳＢよりも外側のブランケットＢＬの下面を吸着する。吸着溝３１１，３１２は互いに独立して吸着をオン・オフすることができ、２種類の吸着溝３１１，３１２を共に使用して強力にブランケットＢＬを吸着することができる。一方、外側の吸着溝３１２のみを使用して吸着を行い、パターンが有効に形成されたブランケットＢＬの中央部については吸着を行わないようにすることで、吸着によるブランケットＢＬの撓みに起因するパターンの損傷を防止することができる。このように、中央部の吸着溝３１１と周縁部の吸着溝３１２とへの負圧供給を独立に制御することで、ブランケットＢＬの吸着保持の態様を目的に応じて切り換えることが可能となっている。
【００３２】
このようにしてステージ３０に吸着保持されるワークＷＫの上方に、第１ないし第４吸着ユニット５１〜５４と、ローラユニット３４の剥離ローラ３４０とが配置される。前述したように第２吸着ユニット５２の下部には複数の吸着パッド５２７がＸ方向に並べて設けられている。より詳しくは、吸着パッド５２７は、例えばゴムやシリコン樹脂などの柔軟性および弾性を有する材料で一体的に形成された、下面がワークＷＫの上面（より具体的には基板ＳＢの上面）に当接してこれを吸着する吸着部位５２７Ａと、上下方向（Ｚ方向）への伸縮性を有するべローズ部位５２７Ｂとを有している。他の吸着ユニット５１，５３および５４に設けられた吸着パッドも同一構造であるが、以下ではこれらの各吸着ユニット５１，５３および５４に設けられた吸着パッドにそれぞれ符号５１７、５３７および５４７を付すことにより互いを区別することとする。
【００３３】
第１吸着ユニット５１は水平ステージ部３１の（−Ｙ）側端部の上方に設けられており、下降したときに基板ＳＢの（−Ｙ）側端部の上面を吸着する。一方、第４吸着ユニット５４は、ステージ３０に載置される基板ＳＢの（＋Ｙ）側端部の上方に設けられ、下降したときに基板ＳＢの（＋Ｙ）側端部の上面を吸着する。第２吸着ユニット５２および第３吸着ユニット５３はこれらの間に適宜分散配置され、例えば吸着パッド５１７〜５４７がＹ方向において略等間隔となるようにすることができる。これらの吸着ユニット５１〜５４の間では、上下方向への移動および吸着のオン・オフを互いに独立して実行可能となっている。なお、各吸着ユニット５１〜５４において負圧供給を制御するための構成および動作については後で詳述する。
【００３４】
剥離ローラ３４０は上下方向に移動して基板ＳＢに対し接近・離間移動するとともに、Ｙ方向に移動することで基板ＳＢに沿って水平移動する。剥離ローラ３４０が下降した状態では、基板ＳＢの上面に当接して転動しながら水平移動する。最も（−Ｙ）側に移動したときの剥離ローラ３４０の位置は、第１吸着ユニット５１の吸着パッド５１７の（＋Ｙ）側直近位置である。このような近接位置への配置を可能とするために、第１吸着ユニット５１については、図２に示す第２吸着ユニット５２と同一構造のものが、図１に示すように他の第２ないし第４吸着ユニット５２〜５４とは反対向きにして支持フレーム５０に取り付けられている。
【００３５】
初期剥離ユニット３３は、テーパーステージ部３２の上方に突き出されたブランケットＢＬの上方に押圧部材３３１が位置するように、そのＹ方向位置が調整されている。そして、支持アーム３３２が下降することにより、押圧部材３３１の下端が下降してブランケットＢＬの上面を押圧する。このとき押圧部材３３１がブランケットＢＬを傷つけることがないように、押圧部材３３１の先端は弾性部材により形成されている。
【００３６】
図４はこの剥離装置の電気的構成を示すブロック図である。装置各部は本発明の「制御手段」の一例に相当する制御ユニット７０により制御される。制御ユニット７０は、装置全体の動作を司るＣＰＵ（Central Processing Unit）７０１と、各部に設けられたモータ類を制御するモータ制御部７０２と、各部に設けられたバルブ類を制御するバルブ制御部７０３と、各部に供給する負圧を発生する負圧発生部７０４と、ユーザからの操作入力を受け付けたり装置の状態をユーザに報知するためのユーザインタフェース（ＵＩ）部７０５とを備えている。なお、工場用力など外部から供給される負圧を利用可能である場合には制御ユニット７０が負圧発生部を備えていなくてもよい。
【００３７】
モータ制御部７０２は、ステージブロック３に設けられたモータ３５３および昇降機構３３５，３４４、上部吸着ブロック５の各吸着ユニット５１〜５４にそれぞれ設けられた昇降機構５２５などのモータ群を駆動制御する。バルブ制御部７０３は、負圧発生部７０４から水平ステージ部３１に設けられた吸着溝３１１，３１２につながる配管経路上に設けられてこれらの吸着溝に対し所定の負圧を個別に供給するためのバルブ群Ｖ３、負圧発生部７０４から各吸着パッド５１７〜５４７につながる負圧供給部に設けられて各吸着パッド５１７〜５４７に所定の負圧を供給するためのバルブ群Ｖ５１、Ｖ５２１、Ｖ５２２などを制御する。
【００３８】
図５は吸着ユニットの構成を模式的に示す図である。本実施形態では、吸着ユニット５１〜５４のいずれもが２５個の吸着パッドを有している。そして、吸着ユニット５１〜５４には、負圧供給部５１８、５２８、５３８、５４８がそれぞれ設けられ、吸着パッドへの負圧供給および供給停止を切り替え可能となっている。本実施形態では、吸着ユニット５１は後述するように剥離が進行する方向、つまり剥離進行方向（＋Ｙ）において最上流側に位置しており、版または基板の上流側端部を吸着して最初にブランケットＢＬから剥離させる機構であり、その他の吸着ユニット５２〜５４の各々は当該吸着ユニットの上流側吸着ユニットにより剥離された剥離部位を吸着して剥離をさらに進行させる機構である。このように吸着ユニットの機能が異なることから、本実施形態では、吸着ユニット５１と、吸着ユニット５２〜５４とで負圧供給部の構成を相違させている。
【００３９】
吸着ユニット５１では、２５個の吸着パッド５１７がＸ方向に配列されており、図５（ｂ）に示すように、（−Ｘ）方向側から（＋Ｘ）方向側に８個、９個、８個の３つの吸着パッドグループに分けられ、負圧供給部５１８を介して負圧発生部７０４に接続されている。この負圧供給部５１８は３つのマニホールド５１８１〜５１８３を有しており、マニホールド５１８１は（−Ｘ）側の吸着パッドグループを構成する８個の吸着パッド５１７と接続され、マニホールド５１８２は中央の吸着パッドグループを構成する９個の吸着パッド５１７と接続され、さらにマニホールド５１８３は（＋Ｘ）側の吸着パッドグループを構成する８個の吸着パッド５１７と接続されている。なお、吸着パッド５１７の個数、グループの区分け態様などについては任意である。
【００４０】
各マニホールド５１８１〜５１８３は制御バルブＶ５１を介して負圧発生部７０４に接続されている。このため、制御ユニット７０のバルブ制御部７０３からの開指令に応じて制御バルブＶ５１が開成すると、マニホールド５１８１〜５１８３を介して吸着パッド５１７に負圧が与えられる。逆にバルブ制御部７０３からの閉指令に応じて制御バルブＶ５１が閉成することで、吸着パッド５１７への負圧供給が停止される。このように、本実施形態では制御バルブＶ５１が吸着パッド５１７への負圧供給と、負圧供給停止とを切り替える切替部として機能しており、本発明の「上流側切替部」の一例に相当している。そして、制御バルブＶ５１によって、全吸着パッド５１７に対して負圧を同時に供給し、また負圧供給を同時に停止することが可能となっている。なお、同図中の符号５１８４は各吸着パッド５１７内の圧力を計測する圧力計である。
【００４１】
吸着ユニット５２〜５４も吸着ユニット５１と同様にＸ方向に配列される２５個の吸着パッドを有しており、それぞれ負圧供給部５２８、５３８、５４８によって吸着パッドへの負圧供給および負圧供給停止を独立して切替可能となっている。これらの負圧供給部５２８、５３８、５４８は同一構成を有している。したがって、以下においては、負圧供給部５２８の構成について説明し、残りの負圧供給部５３８、５４８について相当符号を付して構成説明を省略する。
【００４２】
吸着ユニット５２では、２５個の吸着パッド５２７は、Ｘ方向に配列されている。なお、２５個の吸着パッド５２７を相互に区別して説明する場合には、本明細書では最も（−Ｘ）側から（＋Ｘ）側に並んでいる吸着パッド５２７をそれぞれ吸着パッド５２７ａ〜５２７ｙと称し、その他の場合には単に「吸着パッド５２７」と称する。
【００４３】
これらの吸着パッド５２７は（−Ｘ）方向側から（＋Ｘ）方向側に１個、７個、４個、１個、４個、７個、１個の７つの吸着パッドグループに分けられ、（−Ｘ）側からＮ番目（Ｎ＝１，２，３，４，５，６，７）の吸着パッドグループはそれぞれ以下のように構成されている。つまり、
第１番目の吸着パッドグループ：吸着パッド５２７ａ、
第２番目の吸着パッドグループ：吸着パッド５２７ｂ〜５２７ｈ、
第３番目の吸着パッドグループ：吸着パッド５２７ｉ〜５２７ｌ、
第４番目の吸着パッドグループ：吸着パッド５２７ｍ、
第５番目の吸着パッドグループ：吸着パッド５２７ｎ〜５２７ｑ、
第６番目の吸着パッドグループ：吸着パッド５２７ｒ〜５２７ｘ、
第７番目の吸着パッドグループ：吸着パッド５２７ｙ、
という構成で区分けされている。これらのうち第２番目、第３番目、第５番目および第６番目の吸着パッドグループは上記したように複数の吸着パッド５２７で構成されている。そこで、これに対応して負圧供給部５２８は４つのマニホールド５２８１〜５２８４を有している。これらのうちマニホールド５２８１は第２番目の吸着パッドグループを構成する吸着パッド５２７ｂ〜５２７ｈと接続され、マニホールド５２８２は第３番目の吸着パッドグループを構成する吸着パッド５２７ｉ〜５２７ｌと接続され、マニホールド５２８３は第５番目の吸着パッドグループを構成する吸着パッド５２７ｎ〜５２７ｑと接続され、マニホールド５２８４は第６番目の吸着パッドグループを構成する吸着パッド５２７ｒ〜５２７ｘと接続されている。
【００４４】
各マニホールド５２８１〜５２８４は制御バルブＶ５２１を介して負圧発生部７０４に接続されている。このため、制御ユニット７０のバルブ制御部７０３からの開指令に応じて制御バルブＶ５２１が開成すると、マニホールド５２８１〜５２８４を介して吸着パッド５２７ｂ〜５２７ｈ、５２７ｉ〜５２７ｌ、５２７ｎ〜５２７ｑ、５２７ｒ〜５２７ｘに負圧が与えられる。逆にバルブ制御部７０３からの閉指令に応じて制御バルブＶ５２１が閉成することで、吸着パッド５２７ｂ〜５２７ｈ、５２７ｉ〜５２７ｌ、５２７ｎ〜５２７ｑ、５２７ｒ〜５２７ｘへの負圧供給が停止される。このように、本実施形態では制御バルブＶ５２１が吸着パッド５２７ｂ〜５２７ｈ、５２７ｉ〜５２７ｌ、５２７ｎ〜５２７ｑ、５２７ｒ〜５２７ｘへの負圧供給と、負圧供給停止とを切り替える切替部として機能しており、吸着パッド５２７ｂ〜５２７ｈ、５２７ｉ〜５２７ｌ、５２７ｎ〜５２７ｑ、５２７ｒ〜５２７ｘに対して負圧を同時に供給し、また負圧供給を同時に停止することが可能となっている。なお、同図中の符号５２８５は各吸着パッド５２７ｂ〜５２７ｈ、５２７ｉ〜５２７ｌ、５２７ｎ〜５２７ｑ、５２７ｒ〜５２７ｘの圧力を計測する圧力計である。
【００４５】
一方、残りの吸着パッドグループはいずれも単一の吸着パッド５２７ａ、５２７ｍ、５２７ｙで構成されていることから、マニホールドを設けることなく、吸着パッド５２７ａ、５２７ｍ、５２７ｙは制御バルブＶ５２２を介して負圧発生部７０４に接続されている。このため、制御ユニット７０のバルブ制御部７０３からの開指令に応じて制御バルブＶ５２２が開成すると、吸着パッド５２７ａ、５２７ｍ、５２７ｘに負圧が与えられる。逆にバルブ制御部７０３からの閉指令に応じて制御バルブＶ５２２が閉成することで、吸着パッド５２７ａ、５２７ｍ、５２７ｘへの負圧供給が停止される。このように、本実施形態では制御バルブＶ５２２が吸着パッド５２７ａ、５２７ｍ、５２７ｘへの負圧供給と、負圧供給停止とを切り替える切替部として機能しており、吸着パッド５２７ａ、５２７ｍ、５２７ｘに対して負圧を同時に供給し、また負圧供給を同時に停止することが可能となっている。なお、同図中の符号５２８６は各吸着パッド５２７ａ、５２７ｍ、５２７ｘの圧力を計測する圧力計であり、本発明の「モニター手段」および「圧力計測部」の一例に相当する。
【００４６】
次に、上記のように構成された剥離装置の動作について図６ないし図１１を参照しつつ説明する。図６ないし図１０は処理中の各段階における各部の位置関係と負圧供給部における負圧供給状態を模式的に示す図である。また、図１１は処理中の各段階における各部の位置関係のみを模式的に示す図である。この剥離処理は、ＣＰＵ７０１が予め記憶された処理プログラムを実行して各部を制御することによりなされる。なお、ここでは、上記したように基板ＳＢとブランケットＢＬとの密着体をワークＷＫとした場合の剥離装置１の剥離動作について説明する。
【００４７】
まず、オペレータまたは外部の搬送ロボット等によってワークＷＫがステージ３０上の上記位置にロードされると、装置が初期化されて装置各部が所定の初期状態に設定される。初期状態では、ワークＷＫが吸着溝３１１，３１２の一方または両方によって吸着保持され、初期剥離ユニット３３の押圧部材３３１、ローラユニット３４の剥離ローラ３４０、第１ないし第４吸着ユニット５１〜５４の吸着パッド５１７〜５４７はいずれもワークＷＫから離間し、いずれの吸着パッド５１７〜５４７にも負圧は供給されていない。また剥離ローラ３４０はその可動範囲において最も（−Ｙ）側に寄った位置にある。
【００４８】
この状態から、図６に示すように、第１吸着ユニット５１および剥離ローラ３４０を下降させる。この移動中において、制御バルブＶ５１は負圧供給を停止した状態を維持する。そして、ワークＷＫの厚みに応じて予め設定された距離だけ下降移動すると、図７に示すように、第１吸着ユニット５１の吸着パッド５１７はそれぞれワークＷＫの上面に当接する。すると、バルブ制御部７０３からの指令により制御バルブＶ５１を開成して負圧発生部７０４からマニホールド５１８１〜５１８３を介して第１吸着ユニット５１の吸着パッド５１７に負圧を与える。これによって基板ＳＢの上面、つまりブランケットＢＬと密着している面と反対側の反密着面の（−Ｙ）側端部が吸着パッド５１７で吸着されて保持される。このように吸着パッド５１７で吸着された部位が本発明の「被吸着部位」の一例に相当する。また、剥離ローラ３４０はその（＋Ｙ）側隣接位置で基板ＳＢの上面に当接する。なお、図７（ａ）におけるハッチングは吸着パッドが負圧供給を受けていることを示すものであり、また同図（ｂ）において押圧部材３３１の近傍に付した下向き矢印は、図に示される状態から、続く工程では押圧部材３３１が当該矢印方向に移動することを意味している。これらの点については、以下の図においても同様である。
【００４９】
ここで、剥離ローラ３４０が当接する当接領域は、パターンが有効に転写されてデバイスとして機能する有効領域よりも外側、つまり有効領域から（−Ｙ）側に寄った位置とされる。したがって、有効領域の内部は第１吸着ユニット５１による吸着、剥離ローラ３４０による押圧のいずれをも受けていない。
【００５０】
次に初期剥離ユニット３３を作動させ、押圧部材３３１を下降させてブランケットＢＬ端部を押圧する。ブランケットＢＬの端部はテーパーステージ部３２の上方に突出しており、その下面とテーパーステージ部３２の上面３２０との間には隙間がある。したがって、押圧部材３３１がブランケットＢＬの端部を下方へ押圧することにより、ブランケットＢＬの端部がテーパーステージ部３２のテーパー面に沿って下方へ屈曲する。その結果、第１吸着ユニット５１により吸着保持される基板ＳＢの端部とブランケットＢＬとの間が離間し剥離が開始される。押圧部材３３１はＸ方向に延びる棒状に形成され、しかもそのＸ方向長さがブランケットＢＬよりも長く設定されている。したがって、押圧部材３３１がブランケットＢＬに当接する当接領域は、ブランケットＢＬの（−Ｘ）側端部から（＋Ｘ）側端部まで直線状に延びる。こうすることで、ブランケットＢＬを柱面状に屈曲させることができ、基板ＳＢとブランケットＢＬとが既に剥離した剥離領域と、まだ剥離していない未剥離領域との境界線（以下、「剥離境界線」という）を直線状にすることができる。
【００５１】
この状態から、第１吸着ユニット５１の上昇を開始するとともに、これと同期させて剥離ローラ３４０を（＋Ｙ）方向に向けて移動させる。具体的には、第１吸着ユニット５１の上昇により（＋Ｙ）方向に移動する剥離境界線が剥離ローラ３４０の直下に到達するタイミングで、剥離ローラ３４０の移動を開始する。これにより当接領域は（＋Ｙ）方向に移動してゆく。この後、第１吸着ユニット５１は上方、つまり（＋Ｚ）方向に、また剥離ローラ３４０は（＋Ｙ）方向に、それぞれ一定速度で移動する。
【００５２】
また、図８に示すように、基板ＳＢの端部を保持する第１吸着ユニット５１が上昇することで吸着パッド５１７で吸着された基板ＳＢの被吸着部位ＳＲが引き上げられてブランケットＢＬとの剥離が（＋Ｙ）方向に向かって進行するが、剥離ローラ３４０を当接させているため、剥離ローラ３４０による当接領域を超えて剥離が進行することはない。剥離ローラ３４０を基板ＳＢに当接させながら一定速度で（＋Ｙ）方向に移動させることで、剥離の進行速度を一定に維持することができる。すなわち、剥離境界線がローラ延設方向つまりＸ方向に沿った一直線となり、しかも一定速度で（＋Ｙ）方向に進行する。これにより、剥離の進行速度の変動による応力集中に起因するパターンの損傷を確実に防止することができる。
【００５３】
続いて、剥離ローラ３４０が第２吸着位置を通過するのを待つ。第２吸着位置は、基板ＳＢ上面のうち第２吸着ユニット５２の直下位置であり、当該第２吸着ユニット５２による吸着を受ける位置である。そして、剥離ローラ３４０が第２吸着位置を通過すると、図９に示すように第２吸着ユニット５２の下降を開始する。つまり、剥離が進行している剥離進行方向（＋Ｙ）において第２吸着ユニット５２よりも上流側に位置する第１吸着ユニット５１が上昇することでブランケットＢＬから剥離した剥離部位（基板ＳＢのうち第１吸着ユニット５１と剥離ローラ３４０との間に位置する部分）ＰＲに向けて吸着パッド５２７が移動する。
【００５４】
また、第２吸着ユニット５２の下降とともに、バルブ制御部７０３からの指令により制御バルブＶ５２２のみを開成して負圧発生部７０４から３つの吸着パッド５２７ａ、５２７ｍ、５２７ｙに負圧を供給する。なお、これら以外の２２個の吸着パッド５２７ｂ〜５２７ｌ、５２７ｎ〜５２７ｘへの負圧供給は停止されたままである。つまり、第２吸着ユニット５２では、Ｘ方向における（−Ｘ）側、中央および（＋Ｘ）側で吸引を行いながら第２吸着ユニット５２は下降する。伸縮性を有する弾性部材で構成された吸着パッド５２７の下面が基板ＳＢの剥離部位ＰＲに当接した時点で、基板ＳＢを捕捉し吸着するとともに圧力計５２８６により計測される圧力値は大きく変化する。したがって、圧力計５２８６から出力される圧力値をモニターすることで吸着パッド５２７が剥離部位ＰＲを吸着可能な位置まで第２吸着ユニット５２が下降してきたことを正確に検知することが可能である。
【００５５】
ここで、単に吸着パッド５２７により基板ＳＢの剥離部位ＰＲを吸着するためなら、第２吸着ユニット５２の下降中に全吸着パッド５２７に対して負圧を供給するように構成してもよい。しかしながら、基板ＳＢと当接するまでの間、吸着パッド５２７は大気を吸引することとなり、負圧発生部７０４に多大な負荷を掛けるとともに負圧発生部７０４から第１吸着ユニット５１に与えている負圧の値が変動して、吸着パッド５１７による基板ＳＢの保持が外れる可能性がある。これに対し、剥離部位ＰＲへの吸着パッド５２７の当接を検知するために第２吸着ユニット５２の下降中に負圧を与える吸着パッド５２７の個数を大幅に制限することで、上記問題の発生を大幅に低減させながら上記当接検知を正確に行うことができる。この点を考慮して本実施形態では、上記したように３つの吸着パッド５２７ａ、５２７ｍ、５２７ｙは単に基板ＳＢを吸着させる機能のみならず基板ＳＢの剥離部位ＰＲへの当接を確認する機能を兼ね備えており、いわゆる当接確認兼用吸着部として機能する。一方、その他の吸着パッド５２７ｂ〜５２７ｌ、５２７ｎ〜５２７ｘは専ら剥離部位ＰＲを吸着して保持するための保持専用吸着部として機能する。なお、本実施形態では、当接確認用として３つの吸着パッド５２７ａ、５２７ｍ、５２７ｙを用いているが、当接確認兼用吸着部として用いる吸着パッドの個数や配設位置はこれに限定されるものではなく、任意であるが、負圧値の変動を抑制する観点からすれば、少なくとも保持専用吸着部よりも少ない個数に設定するのが望ましい。
【００５６】
圧力値のモニタリングによって基板ＳＢの剥離部位ＰＲに吸着パッド５２７が当接したことを検知すると、図１０に示すように、バルブ制御部７０３からの指令により制御バルブＶ５２１を開成して負圧発生部７０４から残りの２２個の吸着パッド５２７ｂ〜５２７ｌ、５２７ｎ〜５２７ｘにも負圧を供給する。これにより２５個全部の吸着パッド５２７により基板ＳＢの剥離部位ＰＲを吸着して保持する。なお、全吸着パッド５２７を所定位置まで下降させた後、引き上げられてくる基板ＳＢを待機する態様であってもよい。いずれにおいても、吸着パッド５２７に柔軟性を持たせることで、吸着の失敗を防止することができる。この点に関しては後の実施形態においても同様である。
【００５７】
基板ＳＢの吸着を開始した後、第２吸着ユニット５２の移動を上昇に転じる。これにより、剥離の進行速度は依然として剥離ローラ３４０により制御されつつ、剥離のための基板ＳＢの引き上げの主体は第１吸着ユニット５１から第２吸着ユニット５２に引き継がれる。また剥離後の基板ＳＢは、第１吸着ユニット５１のみによる保持から第１吸着ユニット５１と第２吸着ユニット５２とによる保持に切り替わり、保持箇所が増加することになる。なお、各吸着ユニット５１〜５４が上昇する際、図１１（ａ）に示すように、剥離後の基板ＳＢの姿勢が略平面となるように、各吸着ユニット５１〜５４間のＺ方向における相対位置が維持される。
【００５８】
続いて、剥離ローラ３４０が第３吸着ユニット５３直下の第３吸着位置を通過した時点で第３吸着ユニット５３の下降が開始され、剥離のための基板ＳＢの引き上げの主体が第２吸着ユニット５２から第３吸着ユニット５３に移行する。この第３吸着ユニット５３の下降、吸着保持および基板引上は、第２吸着ユニットのそれらと同様にして行われる。さらに剥離ローラ３４０が第４吸着位置を通過した後に第４吸着ユニット５４が下降し、基板ＳＢを引き上げる。この際にも、第２吸着ユニット５２の下降、吸着保持および基板引上と同様の動作が実行される。
【００５９】
こうして第４吸着ユニット５４によって基板ＳＢが引き上げられることで、図１１（ｂ）に示すように、基板ＳＢの全体がブランケットＢＬから引き離される。そこで、第４吸着ユニット５４を上昇させた後、剥離ローラ３４０をステージ３０よりも（＋Ｙ）側まで移動させてその移動を停止させる。そして、図１１（ｃ）に示すように、各吸着ユニット５１〜５４を全て同じ高さまで上昇させた後に停止させる。また、初期剥離ユニット３３の押圧部材３３１をブランケットＢＬから離間させ、ブランケットＢＬの上面より上方かつブランケットＢＬの（−Ｙ）側端部よりも（−Ｙ）側の退避位置まで移動させる。その後、吸着溝によるブランケットＢＬの吸着保持を解除し、分離された基板ＳＢおよびブランケットＢＬを装置外へ搬出することで、剥離処理が完了する。
【００６０】
各吸着ユニット５１〜５４の高さを同じとするのは、剥離後の基板ＳＢとブランケットＢＬとを平行に保持することで、外部ロボットまたはオペレータにより挿入される払い出し用ハンドのアクセスと、それへのブランケットＢＬおよび基板ＳＢの受け渡しとを容易にするためである。
【００６１】
以上のように、本実施形態によれば、剥離進行方向（本実施形態では＋Ｙ方向）への基板ＳＢの剥離進行に伴って基板ＳＢの剥離部位ＰＲを下流側吸着パッドで保持し、剥離をさらに進行させている。例えば第１吸着ユニット５１の吸着パッド５１７により基板ＳＢの（−Ｙ）側端部を保持しながら剥離を進行させている間に吸着パッド５１７の下流側に位置する第２吸着ユニット５２の吸着パッド５２７で基板ＳＢの剥離部位ＰＲを保持した後で剥離をさらに進行させている。このような剥離段階では、第１吸着ユニット５１および吸着パッド５１７がそれぞれ本発明の「上流側剥離手段」および「上流側吸着部」として機能するとともに、第２吸着ユニット５２および吸着パッド５２７がそれぞれ本発明の「下流側剥離手段」および「下流側吸着部」として機能する。
【００６２】
また、上記剥離に続いて、第２吸着ユニット５２の吸着パッド５２７により基板ＳＢの被吸着部位ＳＲ（図１１（ａ）参照）を保持しながら剥離を進行させている間に吸着パッド５２７の下流側に位置する第３吸着ユニット５３の吸着パッド５３７で基板ＳＢの剥離部位ＰＲを保持した後で剥離をさらに進行させている。このような剥離段階では、第２吸着ユニット５２および吸着パッド５２７がそれぞれ本発明の「上流側剥離手段」および「上流側吸着部」として機能するとともに、第３吸着ユニット５３および吸着パッド５３７がそれぞれ本発明の「下流側剥離手段」および「下流側吸着部」として機能する。
【００６３】
また、上記剥離に続いて、第３吸着ユニット５３の吸着パッド５３７により基板ＳＢの被吸着部位ＳＲ（図１１（ｂ）参照）を保持しながら剥離を進行させている間に吸着パッド５３７の下流側に位置する第４吸着ユニット５４の吸着パッド５４７で基板ＳＢの剥離部位ＰＲを保持した後で剥離をさらに進行させている。このような剥離段階では、第３吸着ユニット５３および吸着パッド５３７がそれぞれ本発明の「上流側剥離手段」および「上流側吸着部」として機能するとともに、第４吸着ユニット５４および吸着パッド５４７がそれぞれ本発明の「下流側剥離手段」および「下流側吸着部」として機能する。
【００６４】
このように剥離の進行に伴って基板ＳＢの保持箇所を順次変化させることで基板ＳＢの保持を確実にするとともに、剥離後の基板ＳＢの姿勢を容易に維持することが可能となる。そして、上記のように安定した剥離力を与えつつ剥離を進行させることができるので、パターンの損傷も防止される。また基板ＳＢのサイズに応じて吸着ユニットを配置することにより、基板ＳＢの大型化にも柔軟に対応することが可能である。
【００６５】
また、上記した剥離部位ＰＲはブランケットＢＬから既に剥離した領域であり、剥離の進行中に新たに基板ＳＢを吸着する第２ないし第４吸着ユニット５２〜５４は剥離部位ＰＲと当接するため、この場合の吸着によって基板ＳＢに転写されたパターンを傷めることはない。
【００６６】
また、剥離進行方向Ｙに直交するＸ方向に延設された剥離ローラ３４０を基板ＳＢに当接させ、剥離ローラ３４０を剥離の進行方向に一定速度で移動させながら基板ＳＢを引き上げている。このため、剥離の進行速度を一定に保って基板ＳＢとブランケットＢＬとの間を良好に剥離させることができる。
【００６７】
さらに、第２ないし第４吸着ユニット５２〜５４では圧力計で当接確認兼用吸着部として機能する吸着パッド内の圧力をモニターし、圧力値を示す信号を基板ＳＢの反密着面に対する吸着パッドの相対位置を示す位置情報として制御ユニット７０に出力している。そして、制御ユニット７０は、吸着ユニットの下降中における圧力値の変化に基づいて当該吸着パッドの基板ＳＢへの当接を検知したときに、保持専用吸着部として機能する吸着パッドへの負圧供給を開始している。このため、次の作用効果が得られる。
【００６８】
上記のように上流側吸着部として機能する吸着パッドで基板ＳＢの一部（被吸着部位ＳＲ）を保持した状態で当該吸着パッドを水平ステージ部３１から（＋Ｚ）方向に移動させて剥離を進行させる場合、基板ＳＢの反りは不可避である。しかも、反り量は基板ＳＢとブランケットＢＬとの密着力や基板ＳＢの剛性などにより異なる。したがって、下流側吸着部として機能する吸着パッドが基板ＳＢの剥離部位ＰＲと当接するＺ方向における位置は一定ではなく、密着力などの条件に応じて変位する。そこで、本実施形態では、上記したように吸着ユニットの下降中における圧力値をモニタリングし、圧力値の変化に基づいて剥離部位ＰＲへの吸着パッドの当接を正確に検知している。そして、当該当接検知をトリガーとして保持専用の吸着パッドへの負圧供給の開始している。その結果、常に適正なタイミングで下流側吸着部に相当する吸着パッドが基板ＳＢの剥離部位を吸着して剥離処理を安定的に行うことができる。しかも、圧力モニターに用いる吸着パッドを少数（本実施形態では２５個中の３個）に制限しているため、既に基板ＳＢを吸着している吸着パッド内の圧力が大きく低下するのを防止することができ、剥離処理を安定して行うことができる。
【００６９】
Ｂ．第２実施形態
図１２はこの発明にかかる剥離装置の第２実施形態を示す図である。この第２実施形態が第１実施形態と大きく相違する点は、当接確認兼用吸着部として機能する吸着パッドが保持専用吸着部として機能する吸着パッドの下流側に設けられている点であり、その他の構成は基本的に第１実施形態と同様である。したがって、以下においては相違点を中心に説明し、同一構成については同一符号を付して説明を省略する。
【００７０】
第２実施形態の吸着ユニット５２〜５４の各々では、吸着ユニット５１と同様に２５個の吸着パッドが保持専用吸着部としてＸ方向に配列されるのみならず、２つの吸着パッドが当接確認兼用吸着部として設けられている。また、吸着ユニット５２〜５４は、それぞれ負圧供給部５２８、５３８、５４８によって吸着パッドへの負圧供給および負圧供給停止を独立して切替可能となっている。これらの負圧供給部５２８、５３８、５４８は同一構成を有している。したがって、以下においては、負圧供給部５２８の構成について説明し、残りの負圧供給部５３８、５４８について相当符号を付して構成説明を省略する。
【００７１】
吸着ユニット５２は、Ｘ方向に配列された２５個の保持専用の吸着パッド５２７と、上記吸着パッド列の下流側で（−Ｘ）側および（＋Ｘ）側に配置された２つの当接確認兼用の吸着パッド５２７ｚ１、５２７ｚ２とを有している。これらのうち上流側に位置する２５個の保持専用吸着パッド５２７は、吸着ユニット５１の吸着パッド５１７と同様に、（−Ｘ）方向側から（＋Ｘ）方向側に８個、９個、８個の３つの吸着パッドグループに分けられている。また、負圧供給部５２８は３つのマニホールド５２８１〜５２８３を有しており、マニホールド５２８１は（＋Ｘ）側の吸着パッドグループを構成する８個の吸着パッド５２７と接続され、マニホールド５１８２は中央の吸着パッドグループを構成する９個の吸着パッド５２７と接続され、さらにマニホールド５２８３は（−Ｘ）側の吸着パッドグループを構成する８個の吸着パッド５２７と接続されている。
【００７２】
各マニホールド５２８１〜５２８３は制御バルブＶ５２１を介して負圧発生部７０４に接続されている。このため、制御ユニット７０のバルブ制御部７０３からの開指令に応じて制御バルブＶ５２１が開成すると、マニホールド５２８１〜５２８３を介して保持専用吸着パッド５２７に負圧が与えられる。逆にバルブ制御部７０３からの閉指令に応じて制御バルブＶ５２１が閉成することで、保持専用吸着パッド５２７への負圧供給が停止される。このように、本実施形態では制御バルブＶ５２１が吸着パッド５２７への負圧供給と、負圧供給停止とを切り替える第１切替部として機能しており、保持専用吸着パッド５２７に対して負圧を同時に供給し、また負圧供給を同時に停止することが可能となっている。
【００７３】
また、当接確認用吸着パッド５２７ｚ１、５２７ｚ２は、連結部材５２９によってそれぞれ（＋Ｘ）側保持専用吸着パッド５２７および（−Ｘ）側保持専用吸着パッド５２７と連結され、吸着パッド５２７と一体的にＺ方向に移動自在となっている。なお、第２実施形態では、下流側に２個の当接確認用吸着パッド５２７ｚ１、５２７ｚ２を設けているが、当接確認用吸着パッドの個数は「２」に限定されるものではなく任意であるが、負圧変動を抑制する観点から保持専用吸着パッドの個数よりも少ない個数に設定するのは好適である。
【００７４】
また、負圧供給部５２８は上記制御バルブＶ５２１以外に制御バルブＶ５２２を有しており、制御バルブＶ５２２を介して当接確認用吸着パッド５２７ｚ１、５２７ｚ２が負圧発生部７０４に接続されている。このため、制御ユニット７０のバルブ制御部７０３からの開指令に応じて制御バルブＶ５２２が開成すると、当接確認用吸着パッド５２７ｚ１、５２７ｚ２に負圧が与えられる。逆にバルブ制御部７０３からの閉指令に応じて制御バルブＶ５２２が閉成することで、当接確認用吸着パッド５２７ｚ１、５２７ｚ２への負圧供給が停止される。このように、本実施形態では制御バルブＶ５２２が吸着パッド５２７ｚ１、５２７ｚ２への負圧供給と、負圧供給停止とを切り替える第２切替部として機能しており、当接確認用吸着パッド５２７ｚ１、５２７ｚ２に対して負圧を同時に供給し、また負圧供給を同時に停止することが可能となっている。
【００７５】
このように構成された第２実施形態においても、第１実施形態と同様に、基板ＳＢの上面を吸着パッド５１７で吸着して保持するとともに剥離ローラ３４０をその（＋Ｙ）側隣接位置で基板ＳＢの上面に当接させ、さらに押圧部材３３１を下降させてブランケットＢＬ端部を押圧した後、第１吸着ユニット５１の上昇を開始するとともに、これと同期させて剥離ローラ３４０を（＋Ｙ）方向に向けて移動させる。これによって、基板ＳＢの（−Ｙ）側端部（被吸着部ＳＲ）を保持する第１吸着ユニット５１が上昇することで基板ＳＢの（−Ｙ）側端部が引き上げられてブランケットＢＬとの剥離が（＋Ｙ）方向に向かって進行する。
【００７６】
そして、剥離ローラ３４０が第２吸着位置を通過すると、第２吸着ユニット５２の下降とともに、バルブ制御部７０３からの指令により制御バルブＶ５２２のみを開成して負圧発生部７０４から当接確認用吸着パッド５２７ｚ１、５２７ｚ２に負圧を供給する。なお、保持専用吸着パッド５２７への負圧供給は停止されたままである。
【００７７】
そして、第２吸着ユニット５２の下降中に圧力計５２８６により計測された当接確認用吸着パッド５２７ｚ１、５２７ｚ２内の圧力値のモニタリングによって基板ＳＢの剥離部位に吸着パッド５２７ｚ１、５２７ｚ２が当接したことを検知すると、バルブ制御部７０３からの指令により制御バルブＶ５２１を開成して負圧発生部７０４から保持専用吸着パッド５２７にも負圧を供給する。これにより全吸着パッド５２７、５２７ｚ１、５２７ｚ２により基板ＳＢの剥離部位を吸着して保持する。
【００７８】
保持専用吸着パッド５２７による基板ＳＢの吸着を開始した後、第２吸着ユニット５２の移動を上昇に転じる。これにより、剥離の進行速度は依然として剥離ローラ３４０により制御されつつ、剥離のための基板ＳＢの引き上げの主体は第１吸着ユニット５１から第２吸着ユニット５２に引き継がれる。また剥離後の基板ＳＢは、第１吸着ユニット５１のみによる保持から第１吸着ユニット５１と第２吸着ユニット５２とによる保持に切り替わり、保持箇所が増加することになる。なお、各吸着ユニット５１〜５４が上昇する際、剥離後の基板ＳＢの姿勢が略平面となるように、各吸着ユニット５１〜５４間のＺ方向における相対位置が維持される。
【００７９】
続いて、剥離ローラ３４０が第３吸着ユニット５３直下の第３吸着位置を通過した時点で第３吸着ユニット５３の下降が開始され、剥離のための基板ＳＢの引き上げの主体が第２吸着ユニット５２から第３吸着ユニット５３に移行する。この第３吸着ユニット５３の下降、吸着保持および基板引上は、第２吸着ユニットのそれらと同様にして行われる。さらに剥離ローラ３４０が第４吸着位置を通過した後に第４吸着ユニット５４が下降し、基板ＳＢを引き上げる。この際にも、第２吸着ユニット５２の下降、吸着保持および基板引上と同様の動作が実行される。
【００８０】
こうして第４吸着ユニット５４によって基板ＳＢが引き上げられることで、基板ＳＢの全体がブランケットＢＬから引き離される。その後で、第１実施形態と同様に、分離された基板ＳＢおよびブランケットＢＬを装置外へ搬出することで、剥離処理が完了する。
【００８１】
以上のように、第２実施形態では、例えば吸着パッド５１７により基板ＳＢを保持しながら剥離を進行させている間に当接確認用吸着パッド５２７ｚ１、５２７ｚ２を含め第２吸着ユニット５２に設けた吸着パッド５２７で基板ＳＢの剥離部位を保持した後、剥離をさらに進行させる。この剥離段階では、吸着パッド５１７、５２７がそれぞれ本発明の「上流側吸着部」および「下流側吸着部」として機能している。また、上記剥離に続いて、吸着パッド５２７により基板ＳＢを保持しながら剥離を進行させている間に吸着パッド５２７の下流側に位置する吸着パッド５３７（吸着パッド５３７ｚ１、５３７ｚ２を含む）で基板ＳＢの剥離部位を保持した後、剥離をさらに進行させる。この剥離段階では、吸着パッド５２７が本発明の「上流側吸着部」として機能し、吸着パッド５３７が本発明の「下流側吸着部」として機能している。さらに、上記剥離に続いて、吸着パッド５３７により基板ＳＢを保持しながら剥離を進行させている間に吸着パッド５３７の下流側に位置する吸着パッド５４７（吸着パッド５４７ｚ１、５４７ｚ２を含む）で基板ＳＢの剥離部位を保持した後、剥離をさらに進行させる。この剥離段階では、吸着パッド５３７が本発明の「上流側吸着部」として機能し、吸着パッド５４７が本発明の「下流側吸着部」として機能している。このため、第２実施形態では、第１実施形態と同様の作用効果が発揮される。
【００８２】
Ｃ．第３実施形態
図１３はこの発明にかかる剥離装置の第３実施形態を示す図である。この第３実施形態が第１実施形態や第２実施形態と大きく相違する点は、基板ＳＢの反密着面の剥離部位ＰＲ（図１４、図１５）に対する吸着パッドの相対位置を示す位置情報の取得態様である。すなわち、上記第１実施形態および第２実施形態では、当接確認兼用吸着部として機能する吸着パッド内の圧力をモニターし、圧力値を示す信号を基板ＳＢの反密着面に対する吸着パッドの相対位置を示す位置情報として制御ユニット７０に出力している。これに対し、第３実施形態にかかる剥離装置では、レーザー変位計により吸着パッドと基板ＳＢの剥離部位ＰＲとの距離をモニターし、計測した距離を示す信号を上記位置情報として制御ユニット７０に出力する。以下、図１３を参照しつつ第３実施形態にかかる剥離装置の特徴的な構成について説明し、第１実施形態と同一な構成については同一符号を付して説明を省略する。
【００８３】
第３実施形態では、吸着ユニット５１は第１実施形態および第２実施形態のそれと同一である。一方、吸着ユニット５２〜５４の各々では、吸着ユニット５１と同様に２５個の吸着パッドがＸ方向に配列されるのみならず、レーザー変位計５３０が１台設けられている。また、吸着ユニット５２〜５４は、それぞれ負圧供給部５２８、５３８、５４８によって吸着パッドへの負圧供給および負圧供給停止を独立して切替可能となっている。これらの負圧供給部５２８、５３８、５４８は同一構成を有している。したがって、以下においては、負圧供給部５２８の構成について説明し、残りの負圧供給部５３８、５４８について相当符号を付して構成説明を省略する。
【００８４】
吸着ユニット５２は、Ｘ方向に配列された２５個の保持専用の吸着パッド５２７と、上記吸着パッド列の下流側に配置されるレーザー変位計５３０とを有している。２５個の吸着パッド５２７は、上記吸着専用吸着部として機能するものであり、吸着ユニット５１の吸着パッド５１７と同様に、（−Ｘ）方向側から（＋Ｘ）方向側に８個、９個、８個の３つの吸着パッドグループに分けられている。また、負圧供給部５２８は３つのマニホールド５２８１〜５２８３を有しており、マニホールド５２８１は（−Ｘ）側の吸着パッドグループを構成する８個の吸着パッド５２７と接続され、マニホールド５１８２は中央の吸着パッドグループを構成する９個の吸着パッド５２７と接続され、さらにマニホールド５２８３は（＋Ｘ）側の吸着パッドグループを構成する８個の吸着パッド５２７と接続されている。
【００８５】
各マニホールド５２８１〜５２８３は制御バルブＶ５２を介して負圧発生部７０４に接続されている。このため、制御ユニット７０のバルブ制御部７０３からの開指令に応じて制御バルブＶ５２が開成すると、マニホールド５２８１〜５２８３を介して全吸着パッド５２７に負圧が与えられる。逆にバルブ制御部７０３からの閉指令に応じて制御バルブＶ５２が閉成することで、全吸着パッド５２７への負圧供給が停止される。このように、本実施形態では制御バルブＶ５２が吸着パッド５２７への負圧供給と、負圧供給停止とを切り替える切替部として機能しており、吸着パッド５２７に対して負圧を同時に供給し、また負圧供給を同時に停止することが可能となっている。
【００８６】
レーザー変位計５３０は２５個の吸着パッドのうちＸ方向における中央部に位置する吸着パッド５２７と連結部材５２９によって連結されており、吸着パッド５２７と一体的にＺ方向に移動可能となっている。このため、レーザー変位計５３０は、吸着パッド５２７と基板ＳＢの剥離部位ＰＲとの距離を計測し、当該距離に関連する信号を位置情報として制御ユニット７０に出力する。このようにレーザー変位計５３０は本発明の「モニター手段」および「距離計測部」の一例に相当しているが、レーザー変位計５３０の個数および配設位置はこれに限定されるものではなく任意である。また、上記距離を計測可能なものであれば、レーザー変位計以外の距離計測部を用いてもよく、例えばステージ３０の（＋Ｘ）側あるいは（−Ｘ）側から吸着パッド５２７と基板ＳＢとを一括して撮像し、その画像から上記距離を求めるようにしてもよい。
【００８７】
次に、上記のように構成された第３実施形態にかかる剥離装置の動作について図１４および図１５を参照しつつ説明する。図１４および図１５は、第３実施形態での処理中の各段階における各部の位置関係と負圧供給部における負圧供給状態を模式的に示す図である。このように構成された第３実施形態においても、第１実施形態と同様に、基板ＳＢの（−Ｙ）側端部を被吸着部位ＳＲとして吸着パッド５１７で吸着して保持するとともに剥離ローラ３４０をその（＋Ｙ）側隣接位置で基板ＳＢの上面に当接させ、さらに押圧部材３３１を下降させてブランケットＢＬ端部を押圧した後、第１吸着ユニット５１の上昇を開始するとともに、これと同期させて剥離ローラ３４０を（＋Ｙ）方向に向けて移動させる。これによって、基板ＳＢの（−Ｙ）側端部（被吸着部位ＳＲ）を保持する第１吸着ユニット５１が上昇することで基板ＳＢが引き上げられてブランケットＢＬとの剥離が（＋Ｙ）方向に向かって進行する。
【００８８】
そして、図１４に示すように、剥離ローラ３４０が第２吸着位置を通過すると、第２吸着ユニット５２の下降とともに、レーザー変位計５３０により計測される距離（吸着パッド５２７と基板ＳＢの剥離部位ＰＲとの距離）のモニターを開始する。なお、この段階では全吸着パッド５２７について負圧供給は停止されたままである。
【００８９】
そして、第２吸着ユニット５２の下降中に上記距離がしきい値以下に達して吸着パッド５２７が基板ＳＢの剥離部位ＰＲに当接したことを検知すると、図１５に示すように、バルブ制御部７０３からの指令により制御バルブＶ５２を開成して負圧発生部７０４から保持専用吸着パッド５２７にも負圧を供給する。これにより全吸着パッド５２７により基板ＳＢの剥離部位ＰＲを吸着して保持する。
【００９０】
吸着パッド５２７による基板ＳＢの吸着を開始した後、第２吸着ユニット５２の移動を上昇に転じる。それに続いて、第１実施形態と同様に、剥離ローラ３４０が第３吸着ユニット５３直下の第３吸着位置を通過した時点で第３吸着ユニット５３の下降が開始され、剥離のための基板ＳＢの引き上げの主体が第２吸着ユニット５２から第３吸着ユニット５３に移行する。この第３吸着ユニット５３の下降、吸着保持および基板引上は、第２吸着ユニットのそれらと同様にして行われる。さらに剥離ローラ３４０が第４吸着位置を通過した後に第４吸着ユニット５４が下降し、基板ＳＢを引き上げる。この際にも、第２吸着ユニット５２の下降、吸着保持および基板引上と同様の動作が実行される。
【００９１】
第４吸着ユニット５４によって基板ＳＢが引き上げられることで、基板ＳＢの全体がブランケットＢＬから引き離される。その後で、第１実施形態と同様に、分離された基板ＳＢおよびブランケットＢＬを装置外へ搬出することで、剥離処理が完了する。
【００９２】
以上のように、第３実施形態では、例えば吸着パッド５１７により基板ＳＢを保持しながら剥離を進行させている間に第２吸着ユニット５２に設けた吸着パッド５２７で基板ＳＢの剥離部位を保持した後、剥離をさらに進行させる。この剥離段階では、吸着パッド５１７、５２７がそれぞれ本発明の「上流側吸着部」および「下流側吸着部」として機能している。また、上記剥離に続いて、吸着パッド５２７により基板ＳＢを保持しながら剥離を進行させている間に吸着パッド５２７の下流側に位置する吸着パッド５３７で基板ＳＢの剥離部位を保持した後、剥離をさらに進行させる。この剥離段階では、吸着パッド５２７が本発明の「上流側吸着部」として機能し、吸着パッド５３７が本発明の「下流側吸着部」として機能している。さらに、上記剥離に続いて、吸着パッド５３７により基板ＳＢを保持しながら剥離を進行させている間に吸着パッド５３７の下流側に位置する吸着パッド５４７で基板ＳＢの剥離部位を保持した後、剥離をさらに進行させる。この剥離段階では、吸着パッド５３７が本発明の「上流側吸着部」として機能し、吸着パッド５４７が本発明の「下流側吸着部」として機能している。このため、第３実施形態では、第１実施形態と同様の作用効果が発揮される。
【００９３】
また、第３実施形態では、レーザー変位計５３０により計測された距離に基づいて吸着パッド５２７、５３７、５４７への負圧供給の開始タイミングを調整している。したがって、吸着パッドが基板ＳＢの反密着面に当接していない状態での負圧供給が回避され、負圧発生部７０４から各吸着ユニットに与えている負圧の値を変動させるのを効果的に抑制することができる。
【００９４】
Ｄ．その他
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態ではステージ３０に格子状の吸着溝３１１，３１２を設けてブランケットＢＬを吸着保持しているが、吸着溝の形状はこれに限定されない。例えば環状の吸着溝を設けてもよく、また負圧が供給される吸着孔を適宜配置してブランケットを吸着してもよい。
【００９５】
また、上記実施形態では真空吸着によって基板およびブランケットを保持しているが、保持の態様はこれに限定されない。例えば静電的または磁気的な吸着力により吸着保持するものであってもよい。特に基板の有効領域外を保持する第１剥離手段については、吸着によらず、基板周縁部を機械的に把持することにより保持してもよい。
【００９６】
また、上記実施形態では、剥離後の基板ＳＢの姿勢を平面に近い状態に維持するように各吸着ユニット５１〜５４の上昇が制御されて基板ＳＢに加わるストレスが低減されているが、基板ＳＢの引き上げの態様はこれに限定されない。例えば、剥離後の基板が略水平となるように各吸着ユニットを一定高さで停止させたり、あるいは基板が所定の曲率を持って湾曲するような姿勢に保持するようにしてもよい。これらは各吸着ユニットの上昇の態様を制御することによって自由に設定可能である。
【００９７】
また、上記実施形態では４つの吸着ユニットを基板ＳＢ上部に配置して順次基板ＳＢを吸着しているが、吸着ユニットの数はこれに限定されるものではなく任意である。基板が大型であれば吸着ユニットを多く、小型であれば少なくすればよい。
【００９８】
また、上記実施形態ではテーパーステージ部３２にブランケットＢＬを突き出させて保持し、押圧部材３３１によりブランケットＢＬを屈曲させて剥離のきっかけを作っているが、このようにすることは必須の要件ではなく、例えば第１吸着ユニットの引き上げのみで剥離を開始させるようにしてもよい。この場合、ステージにテーパーを設ける必要はなくなる。
【産業上の利用可能性】
【００９９】
この発明は、２枚の板状体を密着させてパターン等を転写させるパターン形成処理における剥離プロセスに適用することができるほか、このようなパターン転写を伴うものに限らず、互いに密着した２枚の板状体を良好に剥離する種々の目的に対して好適に適用可能である。
【符号の説明】
【０１００】
１…剥離装置
３０…ステージ（保持手段）
５１…吸着ユニット（上流側剥離手段）
５２、５３…吸着ユニット（上流側剥離手段、下流側剥離手段）
５４…吸着ユニット（下流側剥離手段）
７０…制御ユニット（制御手段）
５１７、５２７、５３７、５４７…吸着パッド
５１８、５２８、５３８、５４８…負圧供給部
５２７、５２７ａ〜５２７ｙ、５２７ｚ１、５２７ｚ２、５３７、５３７ｚ１、５３７ｚ２、５４７、５４７ｚ１、５４７ｚ２…吸着パッド
５２８６…圧力計（モニター手段、圧力計測部）
５３０…レーザー変位計（モニター手段、距離計測部）
７０１…ＣＰＵ（制御手段）
ＢＬ…ブランケット
ＰＲ…剥離部位
ＳＢ…基板
ＳＲ…被吸着部位
Ｖ５１…制御バルブ（上流側切替部）
Ｖ５２…制御バルブ（下流側切替部）
Ｖ５２１…制御バルブ（第１切替部）
Ｖ５２２…制御バルブ（第２切替部）
Ｙ…剥離進行方向
【図１】
2015141992.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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