(57)【要約】【課題】  低温・短時間の後加熱条件でも高い導電性が得られ、かつ密着性、塗工適性にも優れる光硬化型導電性ペーストを提供する。【解決手段】  ラジカル重合性化合物（Ａ）、導電性フィラー（Ｂ）、ラジカル開始剤（Ｃ）、並びに酸発生剤（Ｄ）及び／又は塩基発生剤（Ｅ）を含有し、（Ｃ）の含有量が（Ａ）１００重量部に対して１０〜３０重量部であり、（Ｄ）及び（Ｅ）の合計含有量が（Ｃ）１００重量部に対して５〜５０重量部であることを特徴とする光硬化型導電性ペースト。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラジカル重合性化合物（Ａ）、導電性フィラー（Ｂ）、ラジカル開始剤（Ｃ）、並びに酸発生剤（Ｄ）及び／又は塩基発生剤（Ｅ）を含有し、（Ｃ）の含有量が（Ａ）１００重量部に対して１０〜３０重量部であり、（Ｄ）及び（Ｅ）の合計含有量が（Ｃ）１００重量部に対して５〜５０重量部であることを特徴とする光硬化型導電性ペースト。
【請求項２】
ラジカル重合性化合物（Ａ）が、（メタ）アクリレート（Ａ１）を含有する請求項１記載の光硬化型導電性ペースト。  
【請求項３】
（メタ）アクリレート（Ａ１）が、３官能（メタ）アクリレート（Ａ１３）及び／若しくは４官能（メタ）アクリレート（Ａ１４）並びに単官能（メタ）アクリレート（Ａ１１）を含有する請求項２記載の光硬化型導電性ペースト。
【請求項４】
導電性フィラー(Ｂ)が、金属粉末または炭素材料である請求項１〜３のいずれか記載の光硬化型導電性ペースト。
【請求項５】
酸発生剤（Ｄ）のアニオン部がフッ素原子を含有するホスフェートアニオンまたはボレートアニオンである請求項１〜４のいずれか記載の光硬化型導電性ペースト。
【請求項６】
ラジカル開始剤（Ｃ）が、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ｃ１）、又は酸及び／若しくは塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ｃ２）であり、酸発生剤（Ｄ）が、活性光線により酸を発生する酸発生剤（Ｄ１）、又はラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により酸を発生する酸発生剤（Ｄ２）であり、塩基発生剤（Ｅ）が、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤（Ｅ１）、又はラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により塩基を発生する塩基発生剤（Ｅ２）であって、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｅ１）、又は（Ｅ２）を以下の（１）〜（４）のいずれかの組合せで含有する請求項１〜５のいずれか記載の光硬化型導電性ペースト。
（１）（Ｃ１）、並びに（Ｄ２）及び／又は（Ｅ２）を含有する。
（２）（Ｄ１）と（Ｃ２）を含有する。
（３）（Ｅ１）と（Ｃ２）を含有する。
（４）上記（１）〜（３）の２種類以上の組合せ。
【請求項７】
ラジカル重合性化合物（Ａ）以外の重合性化合物（Ｆ）を含有しない請求項１〜６のいずれか記載の光硬化型導電性ペースト。
【請求項８】
重合性化合物（Ｆ）が熱硬化性化合物（Ｆ１）又はイオン性重合化合物（Ｆ２）である請求項１〜７のいずれか記載の光硬化型導電性ペースト。
【請求項９】
フラットパネルディスプレイ、タッチパネル、または電子部品製造の配線形成用である請求項１〜８のいずれか記載の光硬化型導電性ペースト。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネルディスプレイやタッチパネル、電子部品製造等の配線形成用に好適な光硬化型導電性ペーストに関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、フラットパネルディスプレイやタッチパネル、電子部品製造等の配線形成において、導電性ペーストを用いる方法が主流となっている。導電性ペーストとしては、熱硬化型のものに加え、熱処理温度の低下および工程時間の短縮を可能にする光硬化型のものが用いられている。
【０００３】
光硬化型の導電性ペーストでは、導電性を向上させるため、光硬化後の加熱処理により有機物を分解除去する。この加熱処理は通常１５０℃以上の高温で少なくとも１時間以上の処理時間を要するため、耐熱性の低いＰＥＴなどのプラスチックや紙などを基材には適用できないという課題があった。この課題を解決するために、特定の形状の導電性フィラーを一定量以上使用することが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
一方、導電性ペーストとして用いられるために重要な基本性能として、基材との密着性があげられる。一般的に、バインダーとなる有機物の割合を増加させることにより良好な基材密着性が得られるが、そうすると導電性フィラーの含有量が減少することになり、導電性が低下してしまうという課題があった。このため、良好な基材密着性と導電性を両立する導電性ペーストの開発が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２１９８２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、低温・短時間の後加熱条件でも高い導電性が得られ、かつ密着性、塗工適性にも優れる光硬化型導電性ペーストを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記の目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、本発明に到達した。即ち、本発明は、ラジカル重合性化合物（Ａ）、導電性フィラー（Ｂ）、ラジカル開始剤（Ｃ）、並びに酸発生剤（Ｄ）及び／又は塩基発生剤（Ｅ）を含有し、（Ｃ）の含有量が（Ａ）１００重量部に対して１０〜３０重量部であり、（Ｄ）及び（Ｅ）の合計含有量が（Ｃ）１００重量部に対して５〜５０重量部であることを特徴とする光硬化型導電性ペーストである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光硬化型導電性ペーストは、低温・短時間の後加熱条件でも高い導電性が得られ、かつ密着性、塗工適性にも優れる。このため、フラットパネルディスプレイやタッチパネル、電子部品製造等の配線形成用に好適に用いることができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の光硬化型導電性ペーストは、下記（１）〜（４）を含有することを特徴とする。
（１）ラジカル重合性化合物（Ａ）
（２）導電性フィラー（Ｂ）
（３）ラジカル開始剤（Ｃ）
（４）酸発生剤（Ｄ）及び／又は塩基発生剤（Ｅ）
【００１０】
以下に、本発明の光硬化型導電性ペーストの必須構成成分である（Ａ）〜（Ｅ）について、順に説明する。
【００１１】
本発明におけるラジカル重合性化合物（Ａ）としては、エチレン性不飽和結合を含有する公知の化合物を用いることができる。エチレン性不飽和結合とは、ビニル基、プロペニル基、（メタ）アクリロイル基などがあげられる。これらのうち活性エネルギー線硬化性という観点で、（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（Ａ１）を含有するのが好ましい。尚、上記及び以下において、「アクリロイル」、「メタクリロイル」の双方又はいずれかを指す場合「（メタ）アクリロイル」と、「アクリレート」、「メタクリレート」の双方又はいずれかを指す場合「（メタ）アクリレート」と、「アクリル」、「メタクリル」の双方又はいずれかを指す場合「（メタ）アクリル」と、それぞれ記載する。
【００１２】
また、ラジカル重合性化合物（Ａ）と共に、必要により、ハイドロキノン類等の重合禁止剤を用いてもよい。
【００１３】
（メタ）アクリレート（Ａ１）〔後述するウレタン（メタ）アクリレート（Ａ５）およびポリエステル（メタ）アクリレート（Ａ６）を除く。〕としては、炭素数が４〜５０のものが好ましく、例えば単官能（メタ）アクリレート（Ａ１１）、２官能（メタ）アクリレート（Ａ１２）、３官能（メタ）アクリレート（Ａ１３）、４官能（メタ）アクリレート（Ａ１４）、５官能以上の（メタ）アクリレート（Ａ１５）が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１４】
単官能（メタ）アクリレート（Ａ１１）としては、エチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−オクチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ｎ−ブチルシクロへキシル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルジグリコール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−クロロエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモブチル（メタ）アクリレート、シアノエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシメチル（メタ）アクリレート、メトキシプロピレンモノ（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、アルコキシメチル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシルカルビトール（メタ）アクリレート、アルコキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２，２，２−テトラフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシル（メタ）アクリレート、４−ブチルフェニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２，４，５−テトラメチルフェニル（メタ）アクリレート、４−クロロフェニル（メタ）アクリレート、フェノキシメチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノビニルエーテルモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシシリルプロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシシリルプロピル（メタ）アクリレート、トリメチルシリルプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキサイドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイド（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキサイド（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、オリゴプロピレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸、２−メタクリロイロキシヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（以下、ＥＯと略記）（１〜４０モル、以下同様）付加フェノール（メタ）アクリレート、ＥＯ付加クレゾール（メタ）アクリレート、ＥＯ付加ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（以下、ＰＯと略記）（１〜４０モル、以下同様）付加ノニルフェノール（メタ）アクリレート及びＥＯ付加２−エチルヘキシルアルコール（メタ）アクリレート等が挙げられる。
これらのうち、導電性の観点から好ましいのは、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、およびベンジル（メタ）アクリレートである。
【００１５】
２官能（メタ）アクリレート（Ａ１２）としては、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２，４−ジメチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ブチルエチルプロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンメタノールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、オリゴエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ＥＯ付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦポリエトキシジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、オリゴプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート及びトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００１６】
３官能の（メタ）アクリレート（Ａ１３）としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド（ＥＯ、ＰＯ等、以下のアルキレンオキサイドも同じ）（１〜４０モル、以下同様）付加物トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスルトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（（メタ）アクリロイルオキシプロピル）エーテル、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド付加物トリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート及びエトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらのうち、導電性の観点から好ましいのは、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド付加物トリ（メタ）アクリレートおよびイソシアヌル酸アルキレンオキサイド付加物トリ（メタ）アクリレートである。
【００１７】
４官能の（メタ）アクリレート（Ａ１４）としては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールのＥＯ付加物テトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらのうち、導電性の観点から好ましいのは、ペンタエリスリトールのＥＯ付加物テトラ（メタ）アクリレートである。
【００１８】
５官能以上の（メタ）アクリレート（Ａ１５）としては、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド付加物ヘキサ（メタ）アクリレート及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００１９】
これらのうち、導電性と基材密着性、塗工性の観点から特に好ましいのは、単官能（メタ）アクリレート（Ａ１１）と、３官能（メタ）アクリレート（Ａ１３）および／または４官能（メタ）アクリレート（Ａ１４）〔特に（Ａ１３）〕との併用であり、ラジカル重合性化合物（Ａ）全体に占める（Ａ１１）の割合が、１０〜４０重量％であることがさらに好ましい。
【００２０】
ラジカル重合性化合物（Ａ）としては、前記（メタ）アクリレート（Ａ１）以外に、アクリルアミド化合物（Ａ２）、芳香族ビニル化合物（Ａ３）、ビニルエーテル化合物（Ａ４）、２官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（Ａ５）、２官能以上のポリエステル（メタ）アクリレート（Ａ６）及び、その他のラジカル重合性化合物（Ａ７）を用いることができる。
【００２１】
（メタ）アクリルアミド化合物（Ａ２）としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド及び（メタ）アクリロイルモルフォリンが挙げられる。
【００２２】
芳香族ビニル化合物（Ａ３）としては、ビニルチオフェン、ビニルフラン、ビニルピリジン、スチレン、メチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、３−エチルスチレン、４−エチルスチレン、３−プロピルスチレン、４−プロピルスチレン、３−ブチルスチレン、４−ブチルスチレン、３−ヘキシルスチレン、４−ヘキシルスチレン、３−オクチルスチレン、４−オクチルスチレン、３−（２−エチルヘキシル）スチレン、４−（２−エチルヘキシル）スチレン、アリルスチレン、イソプロペニルスチレン、ブテニルスチレン、オクテニルスチレン、４−ｔ−ブトキシカルボニルスチレン、４−メトキシスチレン及び４−ｔ−ブトキシスチレン等が挙げられる。
【００２３】
ビニルエーテル化合物（Ａ４）としては、例えば以下の単官能又は多官能ビニルエーテルが挙げられる。
単官能ビニルエーテルとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフリフリルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル及びフェノキシポリエチレングリコールビニルエーテルが挙げられる。
【００２４】
多官能ビニルエーテルとしては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイドジビニルエーテル等のジビニルエーテル類；トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、ＥＯ付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ＰＯ付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ＥＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ＰＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ＥＯ付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ＰＯ付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ＥＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル及びＰＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテルが挙げられる。
【００２５】
２官能以上（好ましくは２〜８官能）のウレタン（メタ）アクリレート（Ａ５）は、イソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られる化合物であれば特に限定されず、例えば、例えば、２つのイソシアネート基を有する化合物１当量に対して水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体２当量を触媒としてスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。
【００２６】
２官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（Ａ５）の原料となるイソシアネートとしては特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、水添ＭＤＩ、ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート（ＸＤＩ）、水添ＸＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、１，６，１０−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。
【００２７】
また、上記イソシアネートとしては、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、（ポリ）プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も用いることができる。
【００２８】
２官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（Ａ５）の原料となる水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体としては特に限定されず、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の市販品やエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノ（メタ）アクリレート又はジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ変性エポキシ（メタ）アクリレート等のエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２９】
２官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（Ａ５）の市販品としては、例えば、Ｍ−１１００、Ｍ−１２００、Ｍ−１２１０、Ｍ−１６００（いずれも東亞合成社製）、エベクリル２３０、エベクリル２７０、エベクリル４８５８、エベクリル８４０２、エベクリル８８０４、エベクリル８８０３、エベクリル８８０７、エベクリル９２６０、エベクリル１２９０、エベクリル５１２９、エベクリル４８４２、エベクリル２１０、エベクリル４８２７、エベクリル６７００、エベクリル２２０、エベクリル２２２０（いずれもダイセルユーシービー社製）、アートレジンＵＮ−９０００Ｈ、アートレジンＵＮ−９０００Ａ、アートレジンＵＮ−７１００、アートレジンＵＮ−１２５５、アートレジンＵＮ−３３０、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ−１２００ＴＰＫ、アートレジンＳＨ−５００Ｂ（いずれも根上工業社製）、Ｕ−１２２Ｐ、Ｕ−１０８Ａ、Ｕ−３４０Ｐ、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−３２４Ａ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−５２０１Ｐ、ＵＡ−Ｗ２Ａ、Ｕ−１０８４Ａ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−２ＨＡ、Ｕ−２ＰＨＡ、ＵＡ−４１００、ＵＡ−７１００、ＵＡ−４２００、ＵＡ−４４００、ＵＡ−３４０Ｐ、Ｕ−３ＨＡ、ＵＡ−７２００、Ｕ−２０６１ＢＡ、Ｕ−１０Ｈ、Ｕ−１２２Ａ、Ｕ−３４０Ａ、Ｕ−１０８、Ｕ−６Ｈ、ＵＡ−４０００、ＡＨ−６００、ＡＴ−６００、ＵＡ−３０６Ｈ、ＡＩ−６００、ＵＡ−１０１Ｔ、ＵＡ−１０１Ｉ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、Ｕー２００ＰＡ、Ｕ−６ＬＰＡ（いずれも新中村化学工業社製）等が挙げられる。
【００３０】
２官能以上（好ましくは２〜８官能）のポリエステル（メタ）アクリレート（Ａ６）は、多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの両末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。
【００３１】
２官能以上のポリエステル（メタ）アクリレート（Ａ６）の構成単位である２価のアルコールとしては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオ−ル、ネオペンチルグリコール、１，４−ブテンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等のアルキレングリコール類；ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のアルキレンエーテルグリコール類；１，４−シクロヘキサンジメタノール、水素添加ビスフェノールＡ等の脂環式ジオール類；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール類；ビスフェノール類のアルキレンオキサイド［ＥＯ、ＰＯ、ブチレンオキサイド等］２〜８モル付加物等が挙げられる。
【００３２】
２官能以上のポリエステル（メタ）アクリレート（Ａ６）の構成単位である２価のカルボン酸としては、例えば、マレイン酸、フマール酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバンチン酸、アゼライン酸、マロン酸、ｎ−ドデセニルコハク酸、イソドデセニルコハク酸、ｎ−ドデシルコハク酸、イソドデシルコハク酸、ｎ−オクテニルコハク酸、イソオクテニルコハク酸、ｎ−オクチルコハク酸、イソオクチルコハク酸等、またはこれらの酸の無水物もしくは低級アルキルエステル等が挙げられる。
【００３３】
２官能以上のポリエステル（メタ）アクリレート（Ａ６）の市販品としては、例えばＣＮ２２０３、ＣＮ２２５４、ＣＮ２２７０、ＣＮ２２７１、ＣＮ２２７３、ＣＮ２２７４（いずれもサートマー社製）、アロニックスＭ６５００、アロニックスＭ６１００、アロニックスＭ６２００、アロニックスＭ６２５０（いずれも東亞合成社製）等が挙げられる。
【００３４】
その他のラジカル重合性化合物（Ａ７）としては、アクリロニトリル、ビニルエステル化合物（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル及びバーサチック酸ビニル等）、アリルエステル化合物（酢酸アリル等）、ハロゲン含有単量体（塩化ビニリデン及び塩化ビニル等）及びオレフィン化合物（エチレン及びプロピレン等）等が挙げられる。
【００３５】
また、導電性と基材密着性の両立の観点から、光硬化型導電性ペースト中のラジカル重合性化合物（Ａ）の含有量は、１〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％、特に好ましくは３〜２０重量％である。
【００３６】
本発明における導電性フィラー（Ｂ）としては、例えば、金属粉末および炭素材料等が使用できる。導電性フィラー（Ｂ）の平均粒子径は、０．１μｍ〜２０μｍであることが好ましい。
【００３７】
金属粉末としては、銀粉末、銅粉末、金粉末、パラジウム粉末、白金粉末、ニッケル粉末、アルミニウム粉末及び酸化インジウムスズ粉末、表面に金属をコーティングしたガラス球体等が挙げられる。
【００３８】
これらのうち、導電性の観点から好ましいのは、銀粉末であり、球状、鱗片状、箔状、あるいはフレーク状等、さまざまな形状のものが使用できる。また、これらの金属粉末は、バインダー樹脂や添加剤等と混合したのちに使用してもよい。
【００３９】
炭素材料としては、カーボンブラック、炭素繊維、黒鉛及びカーボンナノチューブ等が挙げられる。
【００４０】
これらのうち、塗工性の観点から好ましいのは、カーボンブラックであり、アセチレンブラック、ファーネスブラック、チャンネルブラック等、公知の方法で製造されたものが使用できる。
【００４１】
また、導電性と基材密着性、塗工性の観点から、光硬化型導電性ペースト中の導電性フィラー（Ｂ）の含有量は、３５〜９８重量％、好ましくは４０〜９７重量％である。
【００４２】
本発明においてラジカル開始剤（Ｃ）とは、活性光線、酸及び塩基のうちの少なくとも１種によりラジカルを発生する化合物を意味し、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ｃ１）、並びに酸及び／若しくは塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ｃ２）等の公知の化合物を用いることができる。
例えば、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ｃ１２１）、α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ｃ１２２）、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤（Ｃ１２３）、α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ｃ１２４）、ベンゾイン誘導体系重合開始剤（Ｃ１２５）、オキシムエステル誘導体系重合開始剤（Ｃ１２６）及びチタノセン誘導体系重合開始剤（Ｃ１２７）等は活性光線、酸及び塩基いずれによってもラジカルを発生させることが可能で（Ｃ１）、（Ｃ２）のいずれとしても適用できる。
また、有機過酸化物系重合開始剤（Ｃ２１）、アゾ化合物系重合開始剤（Ｃ２２）、その他のラジカル開始剤（Ｃ２３）等は、酸及び／又は塩基によってラジカルを発生させることが可能である。
（Ｃ）は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
尚、（Ｃ１２１）は、（Ｃ１）、（Ｃ２）のいずれとしても適用できる化合物（Ｃ１２）の１番目の例であることを示す。
【００４３】
アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ｃ１２１）としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド［ＢＡＳＦジャパン社製（ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ）］及びビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９）］等が挙げられる。
【００４４】
α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ｃ１２２）としては、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７）］、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３６９）］及び１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３７９）］等が挙げられる。
【００４５】
ベンジルケタール誘導体系重合開始剤（Ｃ１２３）としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ６５１）］等が挙げられる。
【００４６】
α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ｃ１２４）としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４）］、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＤＡＲＯＣＵＲ  １１７３）］、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２９５９）］及び２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １２７）］等が挙げられる。
【００４７】
ベンゾイン誘導体系重合開始剤（Ｃ１２５）としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテル等が挙げられる。
【００４８】
オキシムエステル誘導体系重合開始剤（Ｃ１２６）としては、１，２−オクタンジオン−１−（４−［フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１）］及びエタノン−１−（９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（０−アセチルオキシム）［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０２）］等が挙げられる。
【００４９】
チタノセン誘導体系重合開始剤（Ｃ１２７）としては、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ７８４）］等が挙げられる。
【００５０】
有機過酸化物系重合開始剤（Ｃ２１）としては、ベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、２，２−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｎ−ブチル４，４−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、ジ−（２−ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ヘキシルパーオキサイド、２，５，−ジメチル−２，５，−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３，−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド及びｔ−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド等が挙げられる。
【００５１】
アゾ化合物系重合開始剤（Ｃ２２）としては、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）及び２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等が挙げられる。
【００５２】
その他の重合開始剤（Ｃ２３）としては、２，３−ジメチル−２，３−ジフェニルブタン等が挙げられる。
【００５３】
酸及び／又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ｃ２）としては、有機過酸化物系重合開始剤（Ｃ２１）及び／又はアゾ化合物系重合開始剤（Ｃ２２）が好ましい。
【００５４】
これらのラジカル開始剤（Ｃ）の中では、光硬化型導電性ペーストの貯蔵安定性の観点から、熱によってもラジカルが発生する有機過酸化物系重合開始剤（Ｃ２１）やアゾ化合物系重合開始剤（Ｃ２２）以外のもの、即ち活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ｃ１）〔（Ｃ１２）を含む〕が好ましい。特に光硬化型導電性ペースト中に活性光線により塩基を発生する塩基発生剤（Ｅ１）を含む場合は、（Ｅ１）から発生した塩基によるラジカル発生がより促進されることから、（Ｃ１２）を用いるのが好ましい。
【００５５】
本発明の光硬化型導電性ペースト中のラジカル開始剤（Ｃ）の含有量は、０．１〜１５重量％、好ましくは０．３〜６重量％である。
さらに、ラジカル開始剤（Ｃ）の含有量は、導電性の観点から、ラジカル重合性化合物（Ａ）１００重量部に対して１０〜３０重量部であり、好ましくは１５〜３０重量部、更に好ましくは１５〜２５重量部である。
ラジカル開始剤（Ｃ）の含有量を（Ａ）１００重量部に対して１０重量部以上にすることにより、良好な導電性が得られ、また光硬化性も良好となる。また３０重量部以下にすることにより、基材への塗工性が良好となる。
【００５６】
本発明において酸発生剤（Ｄ）とは、活性光線、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくとも１種により酸を発生する化合物を意味し、活性光線により酸を発生する酸発生剤（Ｄ１）、並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により酸を発生する酸発生剤（Ｄ２）等の公知の化合物が挙げられる。
例えば、スルホニウム塩誘導体（Ｄ１２１）及びヨードニウム塩誘導体（Ｄ１２２）等は活性光線又はラジカルによって酸を発生させることが可能で、（Ｄ１）又は（Ｄ２）として適用できる。
また、スルホン酸エステル誘導体（Ｄ２１）、酢酸エステル誘導体（Ｄ２２）及びホスホン酸エステル（Ｄ２３）等は酸及び／又は塩基によって酸を発生させることが可能で、（Ｄ２）として適用できる。
（Ｄ）は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
尚、（Ｄ１２１）は、（Ｄ１）、（Ｄ２）のいずれとしても適用できる化合物（Ｄ１２）の１番目の例であることを示す。
これら（Ｄ）の中では、活性光線により酸を発生する酸発生剤（Ｄ１）〔（Ｄ１２）を含む〕が好ましい。
【００５７】
本発明におけるスルホニウム塩誘導体（Ｄ１２１）としては、下記一般式（１）又は下記一般式（２）で示される化合物等が挙げられる。
【００５８】
【化１】
2015195190.tif 000002
【００５９】
一般式（１）又は（２）において、Ａ１は下記一般式（３）〜（１０）のいずれかで表される２価又は３価の基であり、Ａｒ１〜Ａｒ７はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも１個有し、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の原子又は置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であってＡｒ１〜Ａｒ４、Ａｒ６及びＡｒ７は１価の基、Ａｒ５は２価の基であり、（Ｘ１）−及び（Ｘ２）−は陰イオンを表し、ａは０〜２の整数、ｂは１〜３の整数で、かつａ＋ｂは２又は３でＡ１の価数と同じ整数である。
【００６０】
【化２】
2015195190.tif 000003
【００６１】
一般式（５）〜（８）におけるＲ１〜Ｒ７は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、又は、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の原子又は置換基で置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ１とＲ２、Ｒ４とＲ５、及びＲ６とＲ７は互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【００６２】
一般式（２）におけるＡ１として、酸発生効率の観点から好ましいのは、一般式（５）及び一般式（７）〜（１０）で表される基であり、一般式（５）及び（８）〜（１０）で表される基が更に好ましい。
【００６３】
一般式（１）及び一般式（２）におけるＡｒ１〜Ａｒ７は、一般式（１）又は一般式（２）で表される化合物が紫外〜可視光領域に吸収をもつようになる基である。
Ａｒ１〜Ａｒ７におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは１〜５、更に好ましくは１〜４である。
ベンゼン環骨格を１個有する場合の例としては、例えばベンゼン、又はベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、キノリン、クマリン等の複素環化合物から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を２個有する場合の例としては、例えばナフタレン、ビフェニル、フルオレン、又はジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、キサントン、キサンテン、チオキサントン、アクリジン、フェノチアジン及びチアントレン等の複素環化合物から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を３個有する場合の例としては、例えば、アントラセン、フェナントレン、ターフェニル、ｐ−（チオキサンチルメルカプト）ベンゼン及びナフトベンゾチオフェン等の複素環化合物から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を４個有する場合の例としては、例えばナフタセン、ピレン、ベンゾアントラセン及びトリフェニレン等から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。
【００６４】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられ、フッ素及び塩素が好ましい。
【００６５】
炭素数１〜２０のアシル基としては、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、バレリル基及びシクロヘキシルカルボニル基等が挙げられる。
【００６６】
炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−又はｉｓｏ−プロピル基、ｎ−、ｓｅｃ−又はｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−、ｉｓｏ−又はｎｅｏ−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等が挙げられる。
【００６７】
炭素数１〜２０のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−又はｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−、ｓｅｃ−又はｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−、ｉｓｏ−、又はｎｅｏ−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基及びオクチルオキシ基等が挙げられる。
【００６８】
炭素数１〜２０のアルキルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−又はｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−、ｓｅｃ−又はｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ｎ−、ｉｓｏ−又はｎｅｏ−ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基及びオクチルチオ基等が挙げられる。
【００６９】
炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、例えばトリメチルシリル基及びトリイソプロピルシリル基等のトリアルキルシリル基等が挙げられる。ここでアルキルは直鎖構造でも分岐構造でも構わない。
【００７０】
Ａｒ１〜Ａｒ７の置換する原子又は置換基として、酸発生効率の観点から好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアシル基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基、炭素数１〜１５のアルキルチオ基及び炭素数１〜１５のアシル基、特に好ましいのは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキルチオ基及び炭素数１〜１０のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
【００７１】
Ａｒ１〜Ａｒ４、Ａｒ６及びＡｒ７として、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、ｐ−（チオキサンチルメルカプト）フェニル基及びｍ−クロロフェニル基である。
【００７２】
Ａｒ５として、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニレン基、２−又は３−メチルフェニレン基、２−又は３−メトキシフェニレン基、２−又は３−ブチルフェニレン基及び２−又は３−クロロフェニレン基である。
【００７３】
一般式（１）又は（２）において（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−で表される陰イオンとしては、ハロゲン化物アニオン、水酸化物アニオン、チオシアナートアニオン、炭素数１〜４のジアルキルジチオカルバメートアニオン、炭酸アニオン、炭酸水素アニオン、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族カルボキシアニオン（安息香酸アニオン、トリフルオロ酢酸アニオン、パーフルオロアルキル酢酸アニオン、及びフェニルグリオキシル酸アニオン等）、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族スルホキシアニオン（トリフルオロメタンスルホン酸アニオン等）、６フッ化アンチモネートアニオン（ＳｂＦ６−）、リンアニオン［６フッ化リンアニオン（ＰＦ６−）及び３フッ化トリス（パーフルオロエチル）リンアニオン（ＰＦ３（Ｃ２Ｆ５）３−）等］及びボレートアニオン（テトラフェニルボレート、テトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート及びブチルトリフェニルボレートアニオン等）等が挙げられ、酸発生効率の観点から、フッ素原子を含有するホスフェートアニオンまたはボレートアニオンが好ましい。さらに好ましくは、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェートアニオン及びテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレートアニオンであり、特に好ましくは、トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェートアニオン及びテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレートアニオンである。
【００７４】
スルホニウム塩誘導体（Ｄ１２１）として、酸発生効率の観点から好ましいのは、トリフェニルスルホニウムカチオン、トリ−ｐ−トリルスルホニウムカチオン又は［ｐ−（フェニルメルカプト）フェニル］ジフェニルスルホニウムカチオンをカチオン骨格として有する化合物及び下記一般式（１１）〜（１４）で示される化合物であり、更に好ましいのは下記一般式（１１）〜（１４）で示される化合物である。
【００７５】
【化３】
2015195190.tif 000004
【００７６】
一般式（１１）〜（１４）における（Ｘ３）−〜（Ｘ６）−は陰イオンを表し、具体的には一般式（１）又は（２）における（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【００７７】
本発明におけるヨードニウム塩誘導体（Ｄ１２２）としては、下記一般式（１５）又は下記一般式（１６）で示される化合物等が挙げられる。
【００７８】
【化４】
2015195190.tif 000005
【００７９】
式中、Ａ２は前記一般式（３）〜（１０）のいずれかで表される２価又は３価の基であり、Ａｒ８〜Ａｒ１２はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも１個有し、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であって、Ａｒ８〜Ａｒ１０及びＡｒ１２は１価の基、Ａｒ１１は２価の基であり、（Ｘ７）−及び（Ｘ８）−は陰イオンを表し、ｃは０〜２の整数、ｄは１〜３の整数で、かつｃ＋ｄは２又は３でＡ２の価数と同じ整数である。
【００８０】
ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、一般式（１）及び一般式（２）の説明で記載したものと同様のものが例示される。
【００８１】
一般式（１６）におけるＡ２として、酸を発生する効率の観点から好ましいのは、前記一般式（５）及び一般式（７）〜（１０）で表される基であり、一般式（５）及び（８）〜（１０）で表される基が更に好ましい。
【００８２】
一般式（１５）又は一般式（１６）におけるＡｒ８〜Ａｒ１２は、一般式（１５）又は一般式（１６）で表される化合物が紫外〜可視光領域に吸収をもつようになる基である。
Ａｒ８〜Ａｒ１２におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは１〜５、更に好ましくは１〜４であり、Ａｒ８〜Ａｒ１２の具体例としては、一般式（１）又は一般式（２）のＡｒ１〜Ａｒ７として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【００８３】
（Ｘ７）−及び（Ｘ８）−としては、一般式（１）又は（２）における（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【００８４】
ヨードニウム塩誘導体（Ｄ１２２）として、酸発生効率の観点から好ましいのは、（４−メチルフェニル）｛４−（２−メチルプロピル）フェニル｝ヨードニウムカチオン、［ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）］ヨードニウムカチオン、［ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）］トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ヨードニウムカチオン及び［ビス（４−メトキシフェニル）］ヨードニウムカチオンをカチオン骨格として有する化合物、並びにこれら以外の下記一般式（１７）〜（２０）で示される化合物であり、更に好ましいのは下記一般式（１７）〜（２０）で示される化合物（例示した化合物を含む）である。
【００８５】
【化５】
2015195190.tif 000006
【００８６】
一般式（１７）〜（２０）において、Ｒ８〜Ｒ１３は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基であり、（Ｘ９）−〜（Ｘ１２）−は陰イオンを表す。
【００８７】
ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、一般式（１）及び一般式（２）の説明で記載したものと同様のものが例示される。
【００８８】
Ｒ８〜Ｒ１３として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数１〜２０のアルキル基及び炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基及び炭素数１〜１５のアシル基、特に好ましいのは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及び炭素数１〜１０のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
【００８９】
一般式（１７）〜（２０）における（Ｘ９）−〜（Ｘ１２）−としては一般式（１）又は（２）における（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【００９０】
一般に可視光領域（３６０ｎｍ〜８３０ｎｍ；ＪＩＳ−Ｚ８１２０参照）での硬化に使用可能な光重合開始剤は、可視光を吸収するため開始剤自体が着色しており、硬化膜の色相に悪影響を与るが、一般式（２）又は一般式（１６）で示される化合物を使用することにより硬化膜の色相への悪影響を抑止することができる。
【００９１】
スルホン酸エステル誘導体（Ｄ２１）としては、メタンスルホン酸シクロヘキシルエステル、エタンスルホン酸イソプロピルエステル、ベンゼンスルホン酸−ｔ−ブチルエステル、ｐ−トルエンスルホン酸シクロヘキシルエステル及びナフタレンスルホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。
【００９２】
酢酸エステル誘導体（Ｄ２２）としては、ジクロロ酢酸シクロヘキシルエステル及びトリクロロ酢酸イソプロピルエステル等が挙げられる。
【００９３】
ホスホン酸エステル（Ｄ２３）としては、トリフェニルホスホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。
【００９４】
本発明において塩基発生剤（Ｅ）とは、活性光線、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくとも１種により塩基を発生する化合物を意味し、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤（Ｅ１）、並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により塩基を発生する塩基発生剤（Ｅ２）等の公知の化合物を用いることができる。
例えば、オキシム誘導体（Ｅ１２１）、４級アンモニウム塩誘導体（Ｅ１２２）及び４級アミジン塩誘導体（Ｅ１２３）等は活性光線又はラジカルによって塩基を発生させることが可能で、（Ｅ１）又は（Ｅ２）として適用できる。
また、カルバメート誘導体（Ｅ２１）は塩基によって塩基を発生させることが可能で、（Ｅ２）として適用できる。
（Ｅ）は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
尚、（Ｅ１２１）は、（Ｅ１）、（Ｅ２）のいずれとしても適用できる化合物（Ｅ１２）の１番目の例であることを示す。
これら（Ｅ）の中では、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤（Ｅ１）〔（Ｅ１２）を含む〕が好ましい。
【００９５】
オキシム誘導体（Ｅ１２１）としては、例えばＯ−アシロキシム等が挙げられる。
【００９６】
カルバメート誘導体（Ｅ２１）としては、例えば１−Ｆｍｏｃ−４−ピペリドン、ｏ−ニトロベンゾイルカルバメート等が挙げられる。
【００９７】
４級アンモニウム塩誘導体（Ｅ１２２）及び４級アミジン塩誘導体（Ｅ１２３）としては、例えば下記一般式（２１）〜（２３）のいずれかで示される化合物が挙げられる。
【００９８】
【化６】
2015195190.tif 000007
【００９９】
一般式（２１）〜（２３）におけるＲ１４〜Ｒ４１は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、一般式（２４）で表される置換基及び一般式（２５）で表される置換基からなる群から選ばれる原子又は置換基であって、Ｒ１４〜Ｒ２３のいずれか１つは一般式（２４）又は一般式（２５）で表される置換基であり、Ｒ２４〜Ｒ３１のいずれか１つは一般式（２４）又は一般式（２５）で表される置換基であり、Ｒ３２〜Ｒ４１のいずれか１つは一般式（２４）又は一般式（２５）で表される置換基である。
【０１００】
【化７】
2015195190.tif 000008
【０１０１】
一般式（２４）及び（２５）におけるＲ４２〜Ｒ４５は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ４６〜Ｒ４８は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、（Ｘ１３）−及び（Ｘ１４）−は、陰イオンを表し、ｅは２〜４の整数である。
【０１０２】
一般式（２１）〜（２３）におけるハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、一般式（１）及び一般式（２）の説明で記載したものと同様のものが例示される。
【０１０３】
一般式（２１）で示される化合物はアントラセン骨格、一般式（２２）で示される化合物はチオキサントン骨格、一般式（２３）で示される化合物はベンゾフェノン骨格を有する化合物であり、それぞれｉ線（３６５ｎｍ）付近に最大吸収波長を有する化合物の一例である。Ｒ１４〜Ｒ２３は吸収波長の調整、感度の調整、熱安定性、反応性、分解性等を考慮して変性させるものであり、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、炭素数１〜２０のアシル基、アミノ基、シアノ基、炭素数１〜２０のアルキル基、フェニル基、ナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基で目的に応じて変性される。但し、Ｒ１４〜Ｒ２３のいずれか１つは一般式（２４）又は一般式（２５）で表される置換基である。
【０１０４】
Ｒ１４〜Ｒ２３として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数１〜２０のアルキル基及び炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基及び炭素数１〜１５のアシル基、特に好ましいのは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及び炭素数１〜１０のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
【０１０５】
上記のＲ１４〜Ｒ２３の具体例としては、一般式（１７）〜（１９）のＲ８〜Ｒ１３の説明で記載した化合物が例示される。
【０１０６】
一般式（２４）で示される置換基はカチオン化したアミジン骨格を有する置換基であり、ｅは２〜４の整数である。この置換基としては、ｅが４である１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンがカチオン化した構造を有する置換基及びｅが２である１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネンがカチオン化した構造を有する置換基が好ましい。Ｒ４２とＲ４３は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、好ましいのは水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基、更に好ましいのは水素原子及び炭素数１〜５のアルキル基である。
【０１０７】
一般式（２５）は４級アンモニウム構造を有しており、Ｒ４４とＲ４５は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基、更に好ましくは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である。また、Ｒ４６〜Ｒ４８は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表し、直鎖でも分岐でも環状でもよい。Ｒ４６〜Ｒ４８は好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、特に好ましくは炭素数１〜５のアルキル基である。
【０１０８】
一般式（２４）及び（２５）における（Ｘ１３）−及び（Ｘ１４）−は陰イオンを表し、具体的には一般式（１）又は（２）における（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−として例示したものと同様のものが挙げられる。これらの内、光分解性の観点から、脂肪族又は芳香族カルボキシイオン及びボレートアニオンが好ましい。
【０１０９】
一般式（２４）で示される化合物は活性光線の照射により、Ｒ４２とＲ４３が結合した炭素と窒素の間の結合が解裂してアミジン骨格を有する塩基性化合物を生成し、一般式（２５）で示される化合物は活性光線の照射により、Ｒ４４とＲ４５が結合した炭素と窒素の間の結合が解裂して３級アミンが生成する。
【０１１０】
カルバメート誘導体（Ｅ２１）としては、例えば１−Ｚ−４−ピペリドン等が挙げられる。
【０１１１】
本発明の光硬化型導電性ペースト中に、酸発生剤（Ｄ）と塩基発生剤（Ｅ）のいずれを用いても、各種基材への密着性に優れる硬化物が得られるが、光硬化性と導電性の観点からは、酸発生剤（Ｄ）を用いるのが好ましい。
【０１１２】
本発明においては、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｅ１）、又は（Ｅ２）を、以下の（１）〜（４）のいずれかの組合せで含有することが好ましい。
（１）（Ｃ１）、並びに（Ｄ２）及び／又は（Ｅ２）を含有する。
（２）（Ｄ１）と（Ｃ２）を含有する。
（３）（Ｅ１）と（Ｃ２）を含有する。
（４）上記（１）〜（３）の２種類以上の組合せ。
なお、（２）ではさらに（Ｅ２）も含有してもいいし、（３）ではさらに（Ｄ２）も含有してもよい。
【０１１３】
上記（１）においては、活性光線の照射により活性種（Ｈ）としてラジカルが発生し、活性種（Ｉ）として酸及び／又は塩基が発生する。
上記（２）においては、活性光線の照射により活性種（Ｈ）として酸が発生し、活性種（Ｉ）としてラジカル及び必要により塩基が発生する。
上記（３）においては、活性光線の照射により活性種（Ｈ）として塩基が発生し、活性種（Ｉ）としてラジカル及び必要により酸が発生する。
【０１１４】
これらの組合せの中で更に好ましいものは、（１）の内（Ｃ１）及び（Ｄ２）を含有するもの、（２）の内（Ｄ１）及び（Ｃ２）の内前記（Ｃ１）、（Ｃ２）のいずれとしても適用できる前記化合物（Ｃ１２）を含有するもの、並びに（３）の内（Ｅ１）及び（Ｃ２）の内前記（Ｃ１）、（Ｃ２）のいずれとしても適用できる前記化合物（Ｃ１２）を含有するものであり、特に好ましいものは、（Ｃ１）及び（Ｄ２）を含有するもの、並びに（Ｄ１）及び（Ｃ１２）を含有するものである。
【０１１５】
本発明の光硬化型導電性ペーストは、酸発生剤（Ｄ）と塩基発生剤（Ｅ）の両方を同時に含有する必要はない。
そこで（Ｄ）のみの場合の（Ｄ）の含有量、（Ｅ）のみの場合の（Ｅ）の含有量、または（Ｄ）と（Ｅ）を併用した場合の（Ｄ）と（Ｅ）の合計の本発明の光硬化型導電性ペースト中の含有量は、０．００５〜７．５重量％、好ましくは０．０５〜３重量％である。
さらに、（Ｄ）のみの場合の（Ｄ）の含有量、（Ｅ）のみの場合の（Ｅ）の含有量、または（Ｄ）と（Ｅ）を併用した場合の（Ｄ）と（Ｅ）の合計の含有量は、導電性の観点から、ラジカル開始剤（Ｃ）の重量１００重量部に対して、好ましくは５〜５０重量部、さらに好ましくは１０〜４５重量部である。
ラジカル開始剤（Ｃ）に対する酸発生剤（Ｄ）及び／又は塩基発生剤（Ｅ）の含有量が５重量部以上であると導電性が優れる。これは、高感度化され、マクロ的な反応率分布が抑制できるため、導電性フィラー（Ｂ）の近傍においても硬化収縮が効果的に起こり、導電性フィラー間の距離が短くなることにより良好な導電性が得られると考えられる。
一方、５０重量部を超えると、発生する酸又は塩基の量が多すぎて、硬化後の加熱処理時に硬化塗膜の強度が低下することがある。
また、（Ｄ）も（Ｅ）も使用しない場合に比べて基材密着性が向上するため、ラジカル重合性化合物（Ａ）の含有量が比較的少ない場合でも十分な基材密着性を確保できる。すなわち、光硬化性導電性ペースト中の導電性フィラー（Ｂ）の含有量を大きくすることができるため、従来では難しかった、良好な導電性と基材密着性との両立が実現可能となる。
【０１１６】
本発明の光硬化性導電性ペーストは、（ラジカル重合性化合物（Ａ）以外の重合性化合物（Ｆ））熱硬化性化合物（Ｆ１）又はイオン性重合化合物（Ｆ２）を含有しないことが望ましい。
本発明の光硬化性導電性ペーストは、導電性フィラーを配合した後に、配合直後の粘度と室温保管した後の粘度との変化が少なく、貯蔵安定性が良いため、冷暗所で保管する必要がない特長を有する。また、本発明の光硬化性導電性ペーストを硬化して得られる硬化物は基材への密着性が良好である。
しかし、本発明の光硬化性導電性ペーストにラジカル重合性化合物（Ａ）以外の重合性化合物（Ｆ）をさらに含有させると、配合直後の粘度に対して、室温保管した後の粘度が著しく上昇したり、基材に対する密着性が低下したりすることもあるので、好ましくない。
ここで、併用が好ましくないラジカル重合性化合物（Ａ）以外の重合性化合物（Ｆ）としては、例えば、粘度安定性を阻害する重合性化合物として熱硬化性化合物（Ｆ１）、密着性を阻害する重合性化合物としてイオン性重合化合物（Ｆ２）などが挙げられる。
【０１１７】
粘度安定性を阻害する熱硬化性化合物（Ｆ１）としては、熱硬化して樹脂を形成する原料となり得る化合物を意味し、具体的には、前記エポキシ化合物、アミン化合物、多価フェノール、カルボン酸無水物などの化合物であって、分子内にラジカル重合性基を有さないものが挙げられる。これらの熱硬化性化合物を含有しない光硬化型導電性ペーストは、熱硬化性化合物を含む光硬化型導電性ペーストに比べて室温での貯蔵安定性が良いため、冷暗所で保管する必要がない。
一方、例えば、熱硬化性化合物（Ｆ１）であるビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（エピコート８２８ＥＬ、三菱化学社製）を含有させた場合は、２５℃で２週間放置すると粘度が約１．５倍に増粘することもある。
【０１１８】
上記アミン化合物としては、１分子中に１個以上の１〜３級のアミノ基を有する化合物が挙げられる。具体的には、例えば、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン等の芳香族アミン、２−メチルイミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物、２−メチルイミダゾリン等のイミダゾリン化合物、セバチン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド等のジヒドラジド化合物、アミキュアＰＮ−２３、アミキュアＭＹ−２４、アミキュアＶＤＨ（いずれも味の素ファインテクノ社製）等のアミンアダクト類、ジシアンジアミド等が挙げられる。
【０１１９】
上記多価フェノールとしては特に限定されず、例えば、エピキュア１７０、エピキュアＹＬ６０６５（いずれも三菱化学社製）等のポリフェノール化合物、エピキュアＭＰ４０２ＦＰＩ（三菱化学社製）等のノボラック型フェノール樹脂が挙げられる。
【０１２０】
上記カルボン酸無水物としては特に限定されず、例えば、例えばエピキュアＹＨ−３０６、ＹＨ−３０７（いずれも三菱化学社製）等が挙げられる。
【０１２１】
イオン重合性化合物（Ｆ２）としては、炭素数３〜２０のエポキシ化合物及び炭素数４〜２０のオキセタン化合物等が挙げられる。本発明の光硬化型導電性ペースト中には、これらの化合物のいずれもを含有しない。イオン重合性化合物を混合した場合、硬化物の基材に対する密着性が低下することがある。
【０１２２】
上記炭素数３〜２０のエポキシ化合物としては、例えば以下の単官能又は多官能エポキシ化合物が挙げられる。
単官能エポキシ化合物としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ―ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブタジエンモノオキサイド、１，２−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、１，２−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、３−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド及び３−ビニルシクロヘキセンオキサイドが挙げられる。
【０１２３】
多官能エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類、１，１，３−テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、１，２，７，８−ジエポキシオクタン及び１，２，５，６−ジエポキシシクロオクタンが挙げられる。
【０１２４】
炭素数４〜２０のオキセタン化合物としては、オキセタン環を１個〜６個有する化合物等が挙げられる。
【０１２５】
オキセタン環を１個有する化合物としては、例えば、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−（メタ）アリルオキシメチル−３−エチルオキセタン、（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチルベンゼン、４−フルオロ−［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、４−メトキシ−［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）エチル］フェニルエーテル、イソブトキシメチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、イソボルニルオキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、イソボルニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−エチルヘキシル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、エチルジエチレングリコール（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンタジエン（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラヒドロフルフリル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−テトラブロモフェノキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−トリブロモフェノキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−ヒドロキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−ヒドロキシプロピル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ブトキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタクロロフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル及びボルニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテルが挙げられる。
【０１２６】
オキセタン環を２〜６個有する化合物としては、例えば、３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサ−ノナン、３，３’−（１，３−（２−メチレニル）プロパンジイルビス（オキシメチレン））ビス−（３−エチルオキセタン）、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、１，２−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレン（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリメチロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ポリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル及びＥＯ変性ビスフェノールＦ（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテルが挙げられる。
【０１２７】
本発明の光硬化型導電性ペーストは、必要により、溶剤、増感剤、レベリング剤、等を含有することができる。
但し、上述した熱硬化性化合物（Ｆ１）、イオン性重合化合物（Ｆ２）に該当するものは含有させない方がよいし、配合する場合も最小限の量にとどめるべきである。
【０１２８】
溶剤としては、グリコールエーテル類（エチレングリコールモノアルキルエーテル及びプロピレングリコールモノアルキルエーテル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン等）、エステル類（エチルアセテート、ブチルアセテート、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート及びプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、メシチレン及びリモネン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ゲラニオール、リナロール及びシトロネロール等）及びエーテル類（テトラヒドロフラン及び１，８−シネオール等）が挙げられる。これらは、単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
溶剤の含有量は、光硬化型導電性ペーストに対して０〜９９重量％であることが好ましく、更に好ましくは３〜９５重量％、特に好ましくは５〜９０重量％である。
【０１２９】
増感剤としては、ケトクマリン、フルオレン、チオキサントン、アントラキノン、ナフチアゾリン、ビアセチル、ベンジル及びこれらの誘導体、ペリレン並びに置換アントラセン等が挙げられる。増感剤の含有量は、光硬化型導電性ペーストに対して０〜１０重量％が好ましく、さらに好ましくは０〜１重量％である。
【０１３０】
レベリング剤としては、フッ素系のレベリング剤（パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物等）、シリコーン系のレベリング剤（アミノポリエーテル変性シリコーン、メトキシ変性シリコーン及びポリエーテル変性シリコーン等）が挙げられる。また、ラジカル重合性を有するもの、有さないもののいずれも用いることができる。レベリング剤の含有量は、光硬化型導電性ペーストに対して、添加効果及び透明性の観点から好ましくは２重量％以下、更に好ましくは０．５重量％以下である。
【０１３１】
本発明の光硬化型導電性ペーストは、更に、使用目的に合わせて、密着性付与剤（シランカップリング剤等）、分散剤、消泡剤、チクソトロピー性付与剤、スリップ剤、難燃剤、帯電防止剤、酸化防止剤及び紫外線吸収剤等を含有することができる。
【０１３２】
本発明の光硬化型導電性ペーストは、ラジカル重合性化合物（Ａ）、導電性フィラー（Ｂ）、ラジカル開始剤（Ｃ）、酸発生剤（Ｄ）及び／又は塩基発生剤（Ｅ）と、必要によりその他の成分等とを自転公転式攪拌装置、プラネタリーミキサー、ボールミル又は３本ロールミル等で混練することで得られる。混練温度は好ましくは１０℃〜４０℃、更に好ましくは２０℃〜３０℃である。
【０１３３】
本発明の光硬化型導電性ペーストの２５℃における粘度は、導電性フィラーの分散性および塗工性の観点から、０．００１〜５０Ｐａ・ｓであることが好ましく、０．０１〜３０Ｐａ・ｓであることがさらに好ましい。
【０１３４】
本発明の光硬化型導電性ペーストの基材への塗布方法としては、スピンコート、ロールコート及びスプレーコート等の公知のコーティング法並びに平版印刷、カルトン印刷、金属印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷及びグラビア印刷といった公知の印刷法を適用できる。また、微細液滴を連続して吐出するインクジェット方式の塗布も適用できる。
【０１３５】
本発明の光硬化型導電性ペーストが溶剤を含有する場合は、塗工後に乾燥するのが好ましい。乾燥方法としては、例えば熱風乾燥（循風乾燥機、ドライヤー等）が挙げられる。乾燥温度は、通常１０〜２００℃、塗膜の平滑性及び外観の観点から好ましい上限は１５０℃、乾燥速度の観点から好ましい下限は３５℃である。
【０１３６】
本発明の光硬化型導電性ペーストを硬化するのに用いる活性光線としては、可視光線、紫外線等が挙げられる。
本発明の光硬化型導電性ペーストは、３６０ｎｍ〜８３０ｎｍの活性光線の照射で光硬化できるため、一般的に使用されている高圧水銀灯の他、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びハイパワーメタルハライドランプ等（ＵＶ・ＥＢ硬化技術の最新動向、ラドテック研究会編、シーエムシー出版、１３８頁、２００６）が使用できる。また、ＬＥＤ光源を使用した照射装置も好適に使用できる。さらに、太陽光、低圧水銀灯、半導体レーザー等も使用できる。活性光線の照射時及び／又は照射後に酸発生剤（Ｄ）及び／又は塩基発生剤（Ｅ）から発生した酸及び／又は塩基を拡散させる目的で、加熱を行ってもよい。加熱温度は、好ましくは３０℃〜２００℃であり、更に好ましくは３５℃〜１５０℃である。
【実施例】
【０１３７】
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に規定しない限り、％は重量％、部は重量部を示す。
【０１３８】
［酸発生剤（Ｄ）の製造］
製造例１
［活性光線により酸を発生するスルホニウム塩誘導体（Ｄ１２１−１）｛化学式（２６）で表される化合物｝の合成］
【０１３９】
【化８】
2015195190.tif 000009
【０１４０】
（１）２−（フェニルチオ）チオキサントン［中間体（Ｄ１２１−１−１）］の合成：
２−クロロチオキサントン１１．０部、チオフェノール４．９部、水酸化カリウム２．５部及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１６２部を均一混合し、１３０℃で９時間反応させた後、反応溶液を室温（約２５℃）まで冷却し、蒸留水２００部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のｐＨが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー（溶離液：トルエン／ヘキサン＝１／１：容量比）で精製し、中間体（Ｄ１２１−１−１）（黄色固体）３．１部を得た。
【０１４１】
（２）２−［（フェニル）スルフィニル］チオキサントン［中間体（Ｄ１２１−１−２）］の合成：
中間体（Ｄ１２１−１−１）１１．２部、アセトニトリル２１５部及び硫酸０．０２部を４０℃で撹拌しながら、これに３０％過酸化水素水溶液４．０部を徐々に滴下し、４０〜４５℃で１４時間反応させた後、反応溶液を室温（約２５℃）まで冷却し、蒸留水２００部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のｐＨが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／トルエン＝１／３：容量比）にて生成物を精製して、中間体（Ｄ１２１−１−２）（黄色固体）１３．２部を得た。
【０１４２】
（３）スルホニウム塩誘導体（Ｄ１２１−１）の合成：
中間体（Ｄ１２１−１−２）４．３部、無水酢酸４．１部及びアセトニトリル１１０部を４０℃で撹拌しながら、これにトリフルオロメタンスルホン酸２．４部を徐々に滴下し、４０〜４５℃で１時間反応させた後、反応溶液を室温（約２５℃）まで冷却し、蒸留水１５０部中に投入し、クロロホルムで抽出し、水相のｐＨが中性になるまで水で洗浄した。クロロホルム相をロータリーエバポレーターに移して溶媒を留去した後、トルエン５０部を加えて超音波洗浄器でトルエン中に分散し約１５分間静置してから上澄みを除く操作を３回繰り返して、生成した固体を洗浄した後、残渣を減圧乾燥した。この残渣をジクロロメタン２１２部に溶かし、１０％カリウム｛トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェート｝水溶液６５部中に投入してから、室温（約２５℃）で２時間撹拌し、ジクロロメタン層を分液操作にて水で３回洗浄した後、有機溶媒を減圧留去することにより、スルホニウム塩誘導体（Ｄ１２１−１）（黄色固体）５．５部を得た。
【０１４３】
製造例２
［活性光線により酸を発生するヨードニウム塩誘導体（Ｄ１２２−１）｛化学式（２７）で表される化合物｝の合成］
【０１４４】
【化９】
2015195190.tif 000010
【０１４５】
トルエン［東京化成工業（株）製］６．５部、イソプロピルベンゼン［東京化成工業（株）製］８．１部、ヨウ化カリウム［東京化成工業（株）製］５．３５部及び無水酢酸２０部を酢酸７０部に溶解させ、１０℃まで冷却し、温度を１０±２℃に保ちながら、濃硫酸１２部と酢酸１５部の混合溶液を１時間かけて滴下した。２５℃まで昇温し、２４時間攪拌した。その後、反応溶液にジエチルエーテル５０部を加え、水で３回洗浄し、ジエチルエーテルを減圧留去した。残渣にカリウム｛トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェート｝１１８部を水１００部に溶解させた水溶液を加え、２５℃で２０時間攪拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル５００部を加え、水で３回洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで目的とするヨードニウム塩誘導体（Ｄ１２２−１）（淡黄色液体）１４．０部を得た。
【０１４６】
［塩基発生剤（Ｅ）の製造］
製造例３
［塩基発生剤（Ｅ１２２−１）｛化学式（２８）で表される化合物｝の合成］
【０１４７】
【化１０】
2015195190.tif 000011
【０１４８】
９−クロロメチルアントラセン（アルドリッチ社製）２．０部をクロロホルムに溶解させ、そこへ、トリオクチルアミン［和光純薬工業（株）製］３．１部を少量ずつ加え（添加後若干の発熱が見られた。）、このまま室温（約２５℃）で１時間攪拌して反応液を得た。ナトリウムテトラフェニルボレート塩４．０部及び水４０部からなる水溶液に、反応液を少しずつ滴下し、更に１時間室温（約２５℃）で攪拌した後、水層を分液操作により除き、有機層を水で３回洗浄した。有機溶剤を減圧留去することで、白色固体７．１部を得た。この白色固体をアセトニトリルで再結晶させて、塩基発生剤（Ｅ１２２−１）（白色固体）６．２部を得た。
【０１４９】
製造例４
［塩基発生剤（Ｅ１２３−１）｛化学式（２９）で表される化合物｝の合成］
【０１５０】
【化１１】
2015195190.tif 000012
【０１５１】
「トリオクチルアミン［和光純薬工業（株）製］３．１部」を「１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン［サンアプロ（株）製「ＤＢＵ」］１．３部」に変更したこと以外、製造例３と同様にして、塩基発生剤（Ｅ１２３−１）（白色固体）４．７部を得た。
【０１５２】
実施例１〜１０
表１に示す部数のラジカル重合性化合物（Ａ）と、導電性フィラー（Ｂ）と、ラジカル開始剤（Ｃ）と、酸発生剤（Ｄ）又は塩基発生剤（Ｅ）と、その他成分とを表１に記載の部数配合し、自転公転式攪拌装置を用いて２５℃で１０分混合して、本発明の光硬化型導電性ペースト（Ｑ−１）〜（Ｑ−１０）を製造した。
【０１５３】
比較例１〜５
表１に示す部数のラジカル重合性化合物（Ａ）と、導電性フィラー（Ｂ）と、ラジカル開始剤（Ｃ）と、酸発生剤（Ｄ）と、（Ａ）以外の重合性化合物（Ｆ）と、その他成分とを表１に記載の部数配合し、自転公転式攪拌装置を用いて２５℃で１０分混合して、比較用の光硬化型導電性ペースト（Ｑ’−１）〜（Ｑ’−５）を製造した。
【０１５４】
【表１】
2015195190.tif 000013
【０１５５】
なお、表中の表中の記号が示す内容は以下のとおりである。
＜ラジカル重合性化合物（Ａ）＞
「ライトアクリレートＰＯ−Ａ」：共栄社化学社製  フェノキシエチルアクリレート
「ＮＫエステルＡ−２００」：新中村化学社製  ポリエチレングリコールジアクリレート
「アロニックスＭ−３５０」：東亞合成社製  トリメチロールプロパンのＥＯ付加物トリアクリレート
「ＳＲ−４９４」：サートマー社製  ペンタエリスリトールのＥＯ付加物テトラアクリレート
「ネオマーＤＡ−６００」：三洋化成工業社製  ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
＜導電性フィラー（Ｂ）＞
「ＣＡ−４０５ＮＬ」：大研化学工業社製  銀微粒子含有ペースト
＜ラジカル開始剤（Ｃ）＞
「ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ」：ＢＡＳＦジャパン社製  ２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド
「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９」：ＢＡＳＦジャパン社製  ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド
＜添加剤＞
「ＫＦ−６１５Ａ」：信越化学社製  シリコーン系レベリング剤
【０１５６】
［性能評価］
実施例１〜１１で作成した本発明の光硬化型導電性ペーストおよび比較例１〜５で作成した比較のための光硬化型導電性ペーストの、２５℃での粘度、粘度変化率、塗工性、硬化性、および硬化塗膜の基材密着性、導電性（体積抵抗値）を以下の方法で評価した。
【０１５７】
［粘度］
実施例１〜１１及び比較例１〜５で得た光硬化型導電性ペーストの２５℃での粘度（ｐ）をＥ型粘度計［東機産業（株）製、ＴＶＥ−２５型粘度計］を用いて測定した。
【０１５８】
［塗工性］
実施例１〜１１及び比較例１〜５で得た光硬化型導電性ペースト約１ｇを表面処理を施した厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製、ルミラー♯１００−Ｕ４８）を１０ｃｍ角に切ったものにのせ、アプリケーターを用いて膜厚１０μｍとなるように塗布した。塗布直後の塗膜の状態を目視で観察し、以下の評価基準で評価した。
○：フィルム全面に塗工でき、凝集物や膜厚ぶれがほとんどない。
△：フィルム全面に塗工できるが、凝集物が見られる。または、膜厚ぶれがやや大きい。
×：十分に塗れ広がらず、フィルム全面に塗工できない。
【０１５９】
［硬化性］
実施例１〜１１及び比較例１〜５で得た光硬化型導電性ペーストを、表面処理を施した上記のＰＥＴフィルムに、アプリケーターを用いて膜厚１０μｍとなるように塗布した。次に、ベルトコンベア式ＵＶ照射装置（フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン社製、「ＣＶ−１１００−Ｇ」）を使用して露光を行った。露光量は３６５ｎｍとして３０００ｍＪ／ｃｍ２であった。
硬化後塗膜の光照射直後の硬化性を、指触及び爪で強く引っ掻くことにより、以下の評価基準で評価した。
◎：表面にタックがなく爪で傷つかない。
○：表面にタックはないが、爪で傷つく。
△：表面にタックがあり、爪で傷つく。
×：未硬化。
【０１６０】
［密着性］
実施例１〜１１及び比較例１〜５で得た光硬化型導電性ペーストを、表面処理を施した上記のＰＥＴフィルム及び表面未処理の厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製、ルミラー♯１００−Ｔ６０）に、アプリケーターを用いて膜厚１０μｍとなるように塗布し、上記ベルトコンベア式ＵＶ照射装置を使用して露光を行った。露光量は３６５ｎｍとして３０００ｍＪ／ｃｍ２であった。
各試料について、基材に対する密着性を、セロテープＣＴ−１８（登録商標、ニチバン（株）製）を用いた剥離試験にて評価した。この際、セロテープを塗膜に完全に付着させてから１分後に、テープの一方の端を持って基材に対して９０°の角度を保ちながら一気に引き剥がすことによって、剥離試験を行った。評価基準としては、全く剥離しなかった場合を○、面積で１／５未満が剥離した場合を△、１／５以上剥離した場合を×とした。
【０１６１】
［導電性（体積抵抗率）］
実施例１〜１１及び比較例１〜５で得た光硬化型導電性ペーストを、表面処理を施した上記のＰＥＴフィルム及び表面未処理の厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製、ルミラー♯１００−Ｔ６０）に、アプリケーターを用いて膜厚１０μｍとなるように塗布し、上記ベルトコンベア式ＵＶ照射装置を使用して露光を行った。露光量は３６５ｎｍとして３０００ｍＪ／ｃｍ２であった。次いで、循風乾燥機を用いて１２０℃で１時間加熱した。
各試料について、抵抗率計（三菱化学アナリテック（株）製、「ＭＣＰ−Ｔ６００」）を用いて、試料の５箇所の体積抵抗率を測定し、その平均値を導電性（体積抵抗率）とした。
これらの評価結果を表１に示す。
【０１６２】
本発明の実施例１〜１１の光硬化型導電性ペーストはいずれの性能評価項目においても良好であった。
一方、比較例１は樹脂が硬化せず、密着性および体積抵抗率の評価できなかった。比較例２は密着性が不十分で、体積抵抗率が高くなった。比較例３は塗工性が悪いため、硬化はしたが、均一な膜とならず基材に密着しなかった。比較例４は光硬化後の基材密着性は良好であったが、導電性試験時の加熱処理により膜強度が低下して密着性が悪化するため、導電性も悪かった。比較例５は未処理ＰＥＴに対する密着性が不十分であった。また、体積抵抗率が若干高かった。
【産業上の利用可能性】
【０１６３】
本発明の光硬化型導電性ペーストは、塗工適性および室温での保存安定性に優れ、硬化塗膜の基材密着性も良好である。また、１２０℃、１時間という低温・短時間の後加熱条件でも高い導電性が得られるため、フラットパネルディスプレイ、タッチパネル、または電子部品製造の配線形成用として極めて有用である。