(57)【要約】【課題】円形台上に複数、載置する場合に、電子ビームの加熱による蒸着用材料の溶融むらを防止しつつ、蒸着用材料の合計収納量を増大させることができる坩堝を提供する。【解決手段】坩堝１１は、底壁部３０と、底壁部３０の周縁から起立し、内周側に上側開放の上方視で扇形の収納空間３２が形成される周壁部３２とを有し、収納空間３２内に電子ビームにより溶解される蒸着用材料を収納可能になっている。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
底壁部と、該底壁部の周縁から起立し、内周側に上側開放の上方視で扇形の収納空間が形成される周壁部とを有し、前記収納空間内に電子ビームにより溶解される蒸着用材料を収納可能になっていることを特徴とする坩堝。
【請求項２】
請求項１に記載の坩堝において、
前記扇形の中心角は、円形台上に複数の坩堝を載置するように、円周方向に等分割された円形台上の複数の扇形区画の各々の中心角に等しく設定されていることを特徴とする坩堝。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の坩堝において、
前記扇形内の所定位置に前記電子ビームを照射して、前記所定位置の熱が前記所定位置から上方視で同心状に前記収納空間の周辺の方へ伝導するとき、最大伝導熱の部位の伝導熱と最小伝導熱の部位の伝導熱との差が許容値以内となるように前記所定位置を設定することを特徴とする坩堝。
【請求項４】
請求項３に記載の坩堝において、
前記底壁部の上面に、前記所定位置を中心とする所定半径の円形凹部が形成されていることを特徴とする坩堝。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の坩堝と、
円周方向に複数の扇形区画に等分割されて、各扇形区画に各坩堝が載置される円形台と、
前記円形台が上面側に固定され、前記円形台の中心を通る垂直軸線の回りに回転する回転テーブルと、
所定の回転位置にある１つの坩堝が収納する蒸着用材料に該１つの坩堝の上方から照射する電子ビームを生成する電子ビームガンと、
前記坩堝、前記円形台及び前記回転テーブルを収容する真空蒸着室を内側に形成した真空チャンバーとを備えることを特徴とする真空蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空蒸着に使用される坩堝及び該坩堝を備える真空蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、所定の強誘電体膜を基板上に成膜する真空蒸着装置では、強誘電体膜の材料を入れた坩堝の上方から電子ビームを照射することにより材料が加熱されて蒸発し、蒸気となって基板の方へ上昇するようになっている（例：特許文献１）。
【０００３】
従来の一般的な真空蒸着装置では、坩堝内の材料の蒸発が進み、坩堝が空になると、蒸着用材料の補給のために、真空蒸着を中断して真空蒸着室から取出した坩堝に材料を補給したり、材料入りの別の坩堝と交換したりする。その後、坩堝を入れた真空蒸着室を真空引きして、蒸着を再開する。このような坩堝の交換及び真空蒸着室の所定の真空度までの真空引きには、手間と時間を要するので、坩堝の交換回数は少なくすることが望まれる。
【０００４】
対策として、坩堝の容量を大きくすることが考えられるが、坩堝を大きくするだけでは、内部に入れた材料を電子ビームで溶融するときに、十分に溶融ができない材料部分が生じることがある。そこで、坩堝を大型化せず坩堝交換の手間を少なくする手段として、特許文献２の真空蒸着装置では、材料入りの複数の坩堝を真空蒸着室内の円形の回転テーブルに回転方向に配列して載置し、電子ビームを所定の回転位置にある１つの坩堝に照射して該坩堝が空になると、回転テーブルを回転して次の坩堝に電子ビームを照射する。こうして、複数の坩堝に順番に電子ビームを照射することが開示されている。
【０００５】
また、特許文献３の真空蒸着装置では、固体の材料の先端が、坩堝の上部開口縁の上方へ到達するように、該固体の材料を真空蒸着室の外部から内部へ水平に連続供給する。そして、該固体の材料の先端が、上方から坩堝に向かう電子ビームの縁に照射されるようにし、照射により溶解した材料を坩堝内に落下させることにより、真空蒸着室内の坩堝への材料の連続補給を実現している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平７−３１６７８４号公報
【特許文献２】特開２０１２−２２９４６２号公報
【特許文献３】特開平５−７８８２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記のように、複数の坩堝を回転テーブルにより回転させる真空蒸着装置において、円形台（坩堝は、回転テーブルに直接載置されず、円形台を介して回転テーブルに載置される。）に載置する坩堝は上方視で円形であるので、円形台上の坩堝間の隙間が増大し、円形台の面積の割に、確保できる坩堝全体の蒸着用材料の合計収納量は少ない。
【０００８】
また、真空蒸着装置では、電子ビームガンからの電子ビームが照射される円形台上の照射点は固定されている。円形の坩堝は、電子ビームの照射位置が円の中心になるように設定されている。したがって、坩堝を円以外の形状に変えると、照射位置から遠い部位と近い部位とで加熱量に差が生じ、電子ビームによる坩堝内の蒸着用材料の溶解にむらが生じてしまう。
【０００９】
また、回転テーブルに載置される円形坩堝の半径を増大するならば、円形台に載置できる坩堝の個数が減少して、全部の坩堝の蒸着用材料の合計の収納量は十分に増大しない。
【００１０】
本発明の目的は、円形台上に複数、載置する場合に、電子ビームの加熱による蒸着用材料の溶融むらを防止しつつ、蒸着用材料の合計収納量を増大させることができる坩堝及び該坩堝を装備する真空蒸着装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の坩堝は、底壁部と、該底壁部の周縁から起立し、内周側に上側開放の上方視で扇形の収納空間が形成される周壁部とを有し、前記収納空間内に電子ビームにより溶解される蒸着用材料を収納可能になっていることを特徴とする。
【００１２】
本発明の坩堝によれば、蒸着用材料の収納空間が上方視で扇形とされることにより、該坩堝を円形台に複数載置する場合に、上方視で円形である収納空間よりも、坩堝の収納空間の収納量を増大することができる。また、収納空間の上方視で扇形の収納空間は、円弧側から中心角側へ向かって、中心角の二等分線に対する直角方向の幅が狭くなっていく。したがって、上方から収納空間内に照射する加熱ビームの照射位置を、中心角の二等分線上で扇形の頂点と円弧の中央との中点に対して、中心角側よりも円弧側に偏倚した位置に設定することにより、照射位置に対して円弧側の存在する蒸着用材料の量と、中心角側に存在する蒸着用材料の量とが均衡化する。この結果、収納空間内において電子ビームの照射位置から伝導して来る加熱量に差異が生じるのが抑制され、収納空間内の蒸着用材料に溶融むらが生じるのを防止することができる。
【００１３】
本発明の坩堝において、前記扇形の中心角は、円形台上に複数の坩堝を載置するように、円周方向に等分割された円形台上の複数の扇形区画の各々の中心角に等しく設定されていることが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、坩堝を円形台に効率的に載置可能となり、円形台に載置される全部の坩堝の合計の収納量を増大することができる。
【００１５】
本発明の坩堝において、前記扇形内の所定位置に前記電子ビームを照射して、前記所定位置の熱が前記所定位置から前記収納空間の周辺の方へ伝導するとき、最大伝導熱の部位の伝導熱と最小伝導熱の部位の伝導熱との差が許容値以内となるように前記所定位置を設定することができる。
【００１６】
収納空間を上方視で扇形とすることにより、収納空間の周辺部の各部位とビーム照射点と距離に差が生じるが、この構成によれば、このような差にもかかわらず、収納空間の周辺部の各部位への伝導熱量のむらを防止することができる。
【００１７】
本発明の坩堝において、前記底壁部の上面に、前記所定位置を中心とする所定半径の円形凹部が形成されていることが好ましい。
【００１８】
この構成によれば、坩堝内の少なくなった蒸着用材料は、円形凹部に集まる。電子ビームの照射点は、円形凹部の中心に合わせられているので、坩堝内の残り切れ近くの蒸着用材料も電子ビームにより支障なく加熱することができる。
【００１９】
本発明の真空蒸着装置は、円周方向に複数の扇形区画に等分割されて、各扇形区画に各坩堝が載置される円形台と、前記円形台が上面側に固定され、前記円形台の中心を通る垂直軸線の回りに回転する回転テーブルと、所定の回転位置にある１つの坩堝が収納する蒸着用材料に該１つの坩堝の上方から照射する電子ビームを生成する電子ビームガンと、前記坩堝、前記円形台及び前記回転テーブルを収容する真空蒸着室を内側に形成した真空チャンバーとを備えることを特徴とする。
【００２０】
本発明の真空蒸着装置によれば、蒸着用材料の収納空間が上方視で扇形とされる坩堝とすることにより、収納空間が上方視で円形とされる坩堝を円形台に複数載置する場合よりも、全部の坩堝の収納空間の合計収納量を増大することができる。また、収納空間の上方視で扇形の収納空間は、円弧側から中心角側へ向かって、中心角の二等分線に対する直角方向の幅が狭くなっていく。したがって、上方から収納空間内に照射する加熱ビームの照射位置を中心角の二等分線上で扇形の頂点と円弧の中央との中点に対して、中心角側よりも円弧側に偏倚した位置に設定することにより、照射位置に対して円弧側の存在する蒸着用材料の量と、中心角側に存在する蒸着用材料の量とが均衡化する。これにより、収納空間内の蒸着用材料の溶融むらを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】真空蒸着装置の構成図。
【図２】（ａ）は坩堝の平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ１−Ａ１線断面図。
【図３】円形台を斜め上方から見た斜視図。
【図４】（ａ）は坩堝が円形台に載置された状態の平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ２−Ｏ−Ａ２線断面図。
【図５】坩堝が円形台の嵌入孔に嵌入された状態における円形台及び坩堝の位置関係等の説明図。
【図６】比較例の丸形坩堝を円形台に載設した状態の平面図。
【図７】扇形坩堝と丸形坩堝との収納量の対比説明図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
図１は本発明の実施形態の真空蒸着装置１の構成図である。真空蒸着装置１は、真空チャンバー２の内側に真空蒸着室３を画成する。真空蒸着室３には、真空蒸着装置１の主要構成要素としてのホルダ４、ヒータ５、回転テーブル９、円形台１０及び坩堝１１が収容されている。真空チャンバー２には扉（図示せず）が設けられ、該扉を介して真空蒸着室３の坩堝１１に、蒸着用材料１８を供給したり、又は真空蒸着室３内の空になった坩堝１１を、蒸着用材料１８入りの別の坩堝１１と交換したりする。
【００２３】
ホルダ４は、真空蒸着室３内の上部に配設され、上面側にはヒータ５を取付けられ、下面側には複数の基板６が、成膜側を下に向けて、取り付けられる。ホルダ４は、垂直回転軸７により垂直軸線の回りに回転し、基板６における蒸着むらを防止する。
【００２４】
回転テーブル９は、真空蒸着室３の下部に配設され、円形台１０は、それと同一半径の回転テーブル９の上面側に取り付けられる。本発明の実施例の坩堝１１は、蒸着用材料１８を収納して、円形台１０の上面側に載置される。例えば、蒸着用材料１８は鉛であり、坩堝１１はカーボン、チタン又はチタン酸化物から成り、回転テーブル９と円形台１０とは銅製である
【００２５】
垂直回転軸１４は、上端において回転テーブル９の下面に結合し、回転テーブル９及び円形台１０の垂直中心線の回りに回転させる。回転テーブル９内には、冷却水路１５が形成され、冷却水が、垂直回転軸１４内の管路（図示せず）を介して冷却水路１５に出入りし、回転テーブル９を冷却する。
【００２６】
電子ビームガン２１は、回転テーブル９の近辺に配設され、真空蒸着室３内へ電子ビーム２２を出射する。電子ビーム２２は、図示しない磁場生成器により生成された磁場により進路を曲げられて、所定の回転位置にある１つの坩堝１１に上方から照射する。
【００２７】
電子ビーム２２が照射されている坩堝１１内に収納されている蒸着用材料１８は、電子ビーム２２により加熱されて蒸発し、蒸気２３となって、真空蒸着室３内を立ち昇る。そして、基板６を成膜する。
【００２８】
図２（ａ）は坩堝１１の平面図（開口側から見た図）、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ１−Ａ１線断面図である。坩堝１１は、底壁部３０と、底壁部３０の周縁から少し外側に傾斜しつつ起立する周壁部３１とを有する。収納空間３２は、下側を底壁部３０の上面により画成され、周壁部３１の内周側に上側開放の収納空間として形成されている。
【００２９】
底壁部３０の上面の輪郭、並びに周壁部３１の内周及び外周は、共に上方視で扇形である。この結果、坩堝１１は上方視で扇形の外形になるとともに、収納空間３２の横断面、すなわち水平方向に平行な横断面は、どの高さにおいても扇形になる。
【００３０】
図２（ａ）において、Ｂは電子ビーム２２の照射点、図２（ｂ）において、Ｂ’は、坩堝１１の近辺における電子ビーム２２の進路を示している。進路Ｂ’は、坩堝１１の近辺においてほぼ鉛直に下降する。坩堝１１が、円形台１０に載置され、回転テーブル９の回転に伴い、所定の回転位置で静止したとき、電子ビーム２２は、進路Ｂ’に沿って、坩堝１１内を下降する。
【００３１】
なお、電子ビーム２２は、垂直回転軸１４の回転軸線の回りに所定の回転位置にある１つの坩堝１１に照射されることになっている。したがって、図２は、円形台１０上の複数の坩堝１１のうち、該所定の回転位置にある坩堝１１に対するビーム照射点Ｂ及び進路Ｂ’となる。
【００３２】
坩堝１１の底壁部３０の上面は、円形凹部３５が一定の深さで形成され、円の中心に前述の所定の回転位置にある坩堝１１に対するビーム照射点Ｂが位置するようになっている。
【００３３】
図３は円形台１０を斜め上方から見た斜視図である。円形台１０は、リング部５１と、円周方向に６０°間隔で配置され、リング部５１と結合する仕切り部５３とを備える。
【００３４】
リング部５１と仕切り部５３とに囲まれて扇形の凹部５４が形成され、上方において開口している。凹部５４は、坩堝１１の外面形状に一致する面形状で、かつ坩堝１１の高さよりわずかに小さい深さに形成される。したがって、坩堝１１が凹部５４に上方から出し入れ自在に嵌入したときに、坩堝１１の上端縁がリング部５１及び仕切り部５３の上面から僅かに突出する。凹部５４からの坩堝１１を取出す際は、所定の工具で、坩堝１１の上端縁を把持して、取出すことになる。
【００３５】
挿通孔５５は、円周方向に仕切り部５３と同一位置となるように、リング部５１に計６個、形成され、リング部５１を貫通している。挿通孔５５には、円形台１０を回転テーブル９に固定するねじ（図示せず）が挿入される。
【００３６】
図４（ａ）は坩堝１１が円形台１０に載置された状態の平面図、図４（ｂ）は図４（ａ）のＡ２−Ｏ−Ａ２線断面図である。Ｏは円形台１０の円周の中心である。
【００３７】
図４（ａ）において、円周線Ｂ’’は、円形台１０が回転したときに、ビーム照射点Ｂが円形台１０で移動する軌跡を示している。図４（ｂ）において、電子ビーム２２の進路Ｂ’は、図２（ｂ）の進路Ｂ’と同一であり、円形台１０の上方からの電子ビーム２２の進路を示している。真空蒸着装置１では、円形台１０の上方からの電子ビーム２２の進路は、固定されている。円形台１０の回転角度を、例えば、図４（ａ）において、図面上でＯに対して１２時の方向に引いた放射線の回転角度を０°、時計方向を回転角度の正の方向に定義すると、進路Ｂ’は、円周線Ｂ’’とは９０°の回転位置で交わるように、設定される。
【００３８】
円形台１０の凹部５４の側壁は、凹部５４に受け入れる坩堝１１のテーパ状の外面形状に合わせて、上方へ向かって凹部５４の横断面積（円形台１０の中心線に対して直角方向の断面）を広げるように、傾斜している。この傾斜は、凹部５４への坩堝１１の出し入れを円滑化させる。
【００３９】
図５は、坩堝１１が円形台１０の凹部５４に嵌入された状態における円形台１０及び坩堝１１の位置関係の説明図である。図５には、説明のために、坩堝１１の底壁部３０の下面の外形線としての下面外形線４５が破線で追加されている。また、図５には、説明補助線として、区画線４１、中心角二等分線４２及び半径延長線４７が記載されている。
【００４０】
区画線４１は、上方視で仕切り部５３（図４）の中心線となっており、Ｏからの放射線に一致する。円形台１０の上面は、区画線４１により円周方向へ６０°間隔の等分割の６つの扇形区画６１に区分される。各凹部５４（図３）は、１つの扇形区画６１に割り当てられて、その扇形区画６１に収まるように形成される。
【００４１】
坩堝１１の周壁部３１の内外周は、上方視で扇形となっている。上方視で収納空間３２の輪郭線は、坩堝１１の周壁部３１の内周に一致する。ただし、坩堝１１の各角部は丸く形成されている。
【００４２】
図５において、半径延長線４７は、坩堝１１を上方視で見たときに、坩堝１１の扇形の最外周線（周壁部３１の上面の扇形の外周線に相当）の２つの半径部分の延長線となっている。２つの半径延長線４７は位置Ｑにおいて交わる。αは、２つの半径延長線４７の交角であり、坩堝１１の上方視の扇形の中心角でもある。βは、円周方向に隣り合う２つの区画線４１の交角であり、図５の場合は６０°である。
【００４３】
前記円形台１０の凹部５４（図３）は、坩堝１１の中心角αの二等分線４２と扇形区画６１の中心角の二等分線とが一致するように、各扇形区画６１に形成される。坩堝１１は、扇形区画６１の凹部５４に嵌挿されて、円形台１０に固定される。上方視で扇形の坩堝１１を、扇形区画６１からはみ出ないようにするためには、上方視で坩堝１１の大きさを扇形区画６１の大きさより十分に小さくすれば、αは、任意の角度に選定できる。
【００４４】
しかしながら、（ａ）中心角αの中心角二等分線４２とβの二等分線とが重なること、（ｂ）上方視で坩堝１１が扇形区画６１の外へはみ出ないこと、（ｃ）上方視で仕切り部５３の強度上及び挿通孔５５の形成上、必要な仕切り部５３の許容最小幅を確保すること、（ｄ）中心角二等分線４２上でＯと上方視の坩堝１１との許容最小距離以上にすること、及び（ｅ）中心角二等分線４２上で上方視の坩堝１１と円形台１０の円周縁との許容最小距離以上にすることの５つの条件を全て満たしつつ、上方視で収納空間３２の面積を極力大きくする場合には、α＝β＝６０°とすることが好ましい。また、挿通孔５５の形成を確保するために、αを６０°より少し小さい角度にして、仕切り部５３の幅がＯから放射方向外側に向かって、漸増するようにすることもできる。
【００４５】
図５において、坩堝１１の上方視で見たときの扇形の収納空間３２は、１つの中心角部６４と、２つの円弧端角部６５とを有している。周壁部３１は、円弧部分６７と、円弧部分６７の両端から位置Ｑの方へ延び出して延び出し先の先端において結合する２つの半径部分６８とから成る。中心角部６４は、２つの半径部分６８の結合部の内面側の部位であり、円弧端角部６５は、円弧部分６７と半径部分６８との結合部の内面側の部位となる。
【００４６】
図５の坩堝１１は、ビーム照射点Ｂが円形凹部３５の中心にあるときの円形台１０の回転位置で示されている。この坩堝１１では、円形凹部３５の中心が扇形区画６１の内接円の中心（＝上方視で扇形の収納空間３２の内接円の中心）に設定されている。また。各坩堝１１が電子ビーム２２の照射位置に来た時、ビーム照射点Ｂが円形凹部３５の中心と一致するように、凹部５４（図３）が、円形台１０に形成されていて、坩堝１１を受け入れるように、製作されている。
【００４７】
円形凹部３５の中心は、中心角二等分線４２上で中心角部６４より円弧部分６７側へ偏倚している。したがって、上方視でビーム照射点Ｂ−中心角部６４間の距離は、ビーム照射点Ｂ−円弧端角部６５間の距離より長い。ビーム照射点Ｂへの電子ビーム２２の照射による熱は、ビーム照射点Ｂを中心に周囲の方へ広がっていくので、一般的には、ビーム照射点Ｂから遠い位置ほど、ビーム照射点Ｂからの熱の供給量が減る。このために、上方視で円形ではない異形の坩堝では、坩堝内に蒸着用材料１８の溶融むらが起こる可能性が高まる。
【００４８】
しかしながら、収納空間３２は、上方視が扇形であるので、中心角二等分線４２に対して直角方向の幅は、円弧部分６７から中心角部６４の方へ徐々に狭まって行く。この結果、収納空間３２において、ビーム照射点Ｂ（円形凹部３５の中心）に対して中心角部６４側に存在する蒸着用材料１８の量と、ビーム照射点Ｂに対して円弧部分６７側に存在する蒸着用材料１８の量とは、均衡化する。これにより、ビーム照射点Ｂからの中心角部６４までの距離は、ビーム照射点Ｂから円弧端角部６５までの距離より大きくなっても、ビーム照射点Ｂから中心角部６４に伝導して来る加熱量と、ビーム照射点Ｂから円弧端角部６５に伝導して来る加熱量とは、均衡化し、収納空間３２内の蒸着用材料１８の溶解むらが防止される。
【００４９】
坩堝１１からの蒸着用材料１８の蒸発に伴い、坩堝１１内の蒸着用材料１８の残量レベルは低下して、底壁部３０の上面に近付く。底壁部３０の円形凹部３５は、底壁部３０の他の部位より低くなっており、かつ中心にビーム照射点Ｂがある。したがって、坩堝１１内の少なくなった蒸着用材料１８の溶融液は、円形凹部３５に集まり、ほぼ全部が蒸気２３（図１）になって、坩堝１１から出て行く。
【００５０】
１つの坩堝１１が空になると、回転テーブル９が６０°回転する。これにより、円形台１０の円周方向に、空の坩堝１１の隣りにあって蒸着用材料１８が満たされている坩堝１１がビーム照射点Ｂの位置になって、内部の蒸着用材料１８が加熱される。これにより、全部の、すなわち６つの坩堝１１の全部が空になるまで、坩堝１１への蒸着用材料１８の供給のために、真空チャンバー２の扉を開閉しなくて済む。この結果、成膜作業が効率化される。
【００５１】
図６は、実施例の坩堝１１に対する比較例の丸形（上方視が円形の）坩堝７１を円形台７０に載設した状態を上方視で示している。円形台７０の半径は円形台１０（図４）の半径と等しい。図６において、区画線４１、挿通孔５５及び円周線Ｂ’’は、図４のそれらに対応している。二等分線８２は、Ｏと丸形坩堝７１の中心とを結ぶ放射線であり、円周方向に隣り合う区画線４１が形成する中心角を二等分している。区画線４１と二等分線８２との形成する中心角は３０°となる。
【００５２】
計６つの円形の凹部７４は、円形台７０の上面に円周方向に６０°の等間隔で形成される。蒸着用材料１８（図１）が満たされた丸形坩堝７１は、各凹部７４に出し入れ自在に嵌入される。
【００５３】
図７は、扇形坩堝（例：坩堝１１）と丸形坩堝（例：丸形坩堝７１）とを円形台１０上に円周方向に６０°の等角度間隔で計６つ載置したときに蒸着用材料１８の収納量について扇形坩堝の方が丸形坩堝（例：丸形坩堝７１）より増大することを説明する図である。図７は、図２（ａ）等と同様に、上方視で示している。図７では、要点を分かり易くするために、実線で図示した扇形輪郭線Ｌｓ（厳密には角部が丸くなった扇形輪郭線）及び破線で図示した円形輪郭線Ｌｃの大きさを坩堝１１（図４（ａ））及び丸形坩堝７１（図６）に一致させることなく、扇形区画６１において許容できる最大限の大きさで記載されている。
【００５４】
図７において、Ｏ，Ｂ，Ｂ’’は図２等に示されたものである。説明の簡易化のために、扇形輪郭線Ｌｓの２つの半径部分は、区画線４１上に存在するものとする。円形輪郭線Ｌｃは、ビーム照射点Ｂを中心として扇形輪郭線Ｌｓの内接円としている。
【００５５】
扇形輪郭線Ｌｓは、扇形区画６１から外へはみ出すことなく、円形輪郭線Ｌｃより中心角部の方と２つの円弧端角部の方へ張り出すことができる。したがって。上方視で、扇形輪郭線Ｌｓ内の面積は、円形輪郭線Ｌｃの面積よりも、図７において斜線を付した１つの中心角部側領域９２ａと２つの円弧端角部側領域９２ｂとの合計の面積分だけ増大する。この結果、前述の実施例の坩堝１１の収納量は、比較例の丸形坩堝７１の収納量よりも増大することが分かる。
【００５６】
実施形態では、扇形区画６１は円形台１０をＯの回りに６等分割したものとされ、α（図５）は、６０°になっている。本発明の坩堝は、円形台をＯの回りに３〜８のいずれかの整数で等分割して、坩堝１１の中心角を４５°〜１２０°の範囲内にすることもできる。
【００５７】
実施形態では、円形凹部３５の中心は、坩堝１１が回転テーブル９の回転に伴い電子ビーム２２の照射を受ける回転位置に来たとき、扇形区画６１の内接円の中心となる位置に設定されている。しかしながら、本発明の坩堝は、上方視で扇形となる坩堝の周壁部の内外周に対し、該扇形内の所定位置に電子ビームを照射して、所定位置の熱が所定位置から収納空間の周辺の方へ伝導するとき、最大伝導熱の部位の伝導熱と最小伝導熱の部位の伝導熱との差が許容値以内となる所定位置を電子ビームの照射点に設定する。そして、該照射点を、坩堝の底壁部の上面に形成する円形凹部の中心に設定することもできる。
【符号の説明】
【００５８】
１・・・真空蒸着装置、３・・・真空蒸着室、９・・・回転テーブル、１０・・・円形台、１１・・・坩堝、１８・・・蒸着用材料、２１・・・電子ビームガン、２２・・・電子ビーム、２３・・・蒸気、３０・・・底壁部、３１・・・周壁部、３２・・・収納空間、３５・・・円形凹部、６１・・・扇形区画。
【図１】
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【図２】
2015137409.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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