(57)【要約】【課題】タッチパネルセンサーの前面板の額縁部に表示されるロゴマークを、簡単な構成で厚さを薄くし、ゴールド系の金属（メタリック）色で表示することを実現する。【解決手段】タッチパネル付き表示装置に用いられる一体型タッチセンサー基板において、ジャンパ配線と、ロゴマークを表示する金属酸化物膜層とを同一の工程により同一の金属酸化物膜層で形成するようにし、額縁部に設けた金属配線と、ロゴマークを表示する表示膜とを同一の工程により同一の金属で形成するようにした。また、金属酸化物膜層および金属膜層からなる表示膜にストライプ状のスリットを形成し金属配線として構成することで、ロゴマークを表示する領域にも金属配線を配置して、額縁部の限られたスペースを有効に使用して配線を設けることができるようにした。【選択図】図１２
2015064748.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面板とタッチパネルセンサーとの一体型タッチセンサー基板であって、
透明な前面板と、
前記前面板の裏面の周縁部に形成され、所定の形状の表示領域を区画する額縁層と、
前記額縁層の所定の位置を、所定の形状で抜いて形成されたマーク抜き部と、
前記額縁層の裏面側に形成された金属配線と、
前記マーク抜き部の裏面側に形成された金属酸化物膜層および金属膜層と、
前記表示領域に形成され、前記金属配線と結線されるセンサー層とを備え、
前記金属配線と前記金属膜層とが同一の金属で形成されていることを特徴とする、一体型タッチセンサー基板。
【請求項２】
前記金属酸化物膜層および金属膜層は、スリットにより分離されることにより、前記金属配線の一部として形成されることを特徴とする、請求項１に記載の一体型タッチセンサー基板。
【請求項３】
表示装置であって、
複数の画素が行列状に配列された画素領域を有し、入力信号に基づいて前記画素領域に画像を表示する表示パネルと、
前記画素領域を覆うように取り付けられる、請求項１または２に記載の一体型タッチセンサー基板とを備えることを特徴とする、表示装置。
【請求項４】
透明な前面板と、
前記前面板の裏面の周縁部に形成され、所定の形状の表示領域を区画する額縁層と、
前記額縁層の所定の位置を、所定の形状で抜いて形成されたマーク抜き部と、
前記額縁層の裏面側に形成された金属配線と、
前記マーク抜き部の裏面側に形成された金属酸化物膜層および金属膜層と、
前記表示領域に形成され、前記金属配線と結線されるセンサー層とを備える前面板とタッチパネルセンサーとの一体型タッチセンサー基板の製造方法であって、
前記前面板の裏面に前記マーク抜き部を備える前記額縁層を形成する工程と、
ジャンパ配線を形成する工程と、
前記金属配線を形成する工程と、
前記金属酸化物膜層を形成する工程と、
前記金属膜層を形成する工程と、
前記センサー層を形成する工程とを備え、
前記ジャンパ配線を形成する工程と前記金属酸化物膜層を形成する工程とを、および、前記金属配線を形成する工程と前記金属膜層を形成する工程とを、同一の材料を用いて同一工程で行うことを特徴とする、一体型タッチセンサー基板の製造方法。
【請求項５】
前記金属酸化物膜層および前記金属膜層にスリットを設けて分離することにより、当該金属膜層を前記金属配線の一部として形成する工程をさらに含むことを特徴とする、請求項４に記載の一体型タッチセンサー基板の製造方法。
【請求項６】
前記金属酸化物膜層は酸化インジウムスズによりなることを特徴とし、その膜厚が１００Å〜２０００Åであることを特徴とする、請求項４に記載の一体型タッチセンサー基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はタッチパネル付き表示装置に用いられる一体型タッチセンサー基板に関し、さらに詳細には周縁部にロゴマークが表示された一体型タッチセンサー基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話や、携帯情報端末、カーナビゲーションシステムを始め、様々な電子機器の操作部にタッチパネルが採用されている。タッチパネルは、液晶パネルや有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ-Ｌｕｍｉｎｅｓｅｎｃｅ）などの表示デバイスの表示画面上に、指などの接触位置を検出可能な位置入力装置を貼り合わせて構成される。タッチパネルの方式としては、抵抗膜式、静電容量式、光学式、超音波式に大別されるが、それぞれメリット／デメリットがあるため用途に応じて使い分けられている。静電容量式には、さらに、表面型と投影型とがある。投影型静電容量式タッチパネルは、Ｘ方向およびＹ方向にグリッド上に配列された複数の電極を備え、マルチタッチが可能であり、現在急速に普及しつつある。
【０００３】
投影型静電容量式タッチパネルセンサー基板は、一般的に５層構造、すなわち、金属配線、Ｘ方向用およびＹ方向用の２層の透明電極、２層の透明電極間の層間絶縁層、および表面の保護層からなる。層間絶縁層を有機膜で形成することによってガラス基板の片面に２層の透明電極層を形成した片面構造と、ガラス基板を層間絶縁層としても使用し、２層の透明電極層をガラスの両面に分けて形成した両面構造の２つに大別される。（例えば、特許文献１参照）
【０００４】
ここで、携帯電話機などのタッチパネル付きディスプレイには、最表面には前面板（カバーガラス）を設けた構造を採用することが一般的である。このカバーガラスには周辺部の配線などを隠すための遮光性の高い材料からなる額縁部が形成される。この額縁部には、機器のデザインに応じて様々な色や模様を施すことができる。額縁部に色や模様を施す場合、スクリーン印刷で額縁部を形成することが一般的である。ただし、額縁部に色々な色や模様を施すとコストアップに繋がるため、額縁部は黒色とするのが主流である。
【０００５】
また、この黒色の額縁部を形成するときに使用するインキやレジストとしては、一般的には、遮光性の高い顔料であるカーボンやチタンを分散させた材料が使用される。カーボンやチタンを分散させた材料は比抵抗値が低く、誘電率も高い。また、カーボンを樹脂で被覆させることで、比抵抗値が１×１０１１Ω／ｃｍまで高抵抗化した材料も採用されている。
【０００６】
ここで、このようなタッチパネル付きディスプレイでは、画面の周辺の部分に、ハウスマークやファミリーネーム、ペットネームと呼ばれる会社名や商品名、図案などをロゴマークとして表示することが多い。このようなロゴマークは、カバーガラスの裏面に印刷によって形成される。
【０００７】
ロゴマークは、金属色（メタリック）や白色、あるいは所定の色によって表示される。ロゴマークの所定の形に抜いた形のマーク抜き部を所定の位置に備える額縁部を例えば黒色で前面板の裏面に形成し、次に、マーク抜き部の裏面側からスクリーン印刷等で所定の色で重ね塗りすることにより、この表示を形成する。（例えば、特許文献２参照）
【０００８】
図２１に、従来の携帯電話などに使われるタッチパネル付きディスプレイのカバーガラスの一例を示す。図２１（ａ）、（ｂ）に示すように、カバーガラス１０２上には矩形枠状の額縁部１０３が形成され、額縁部１０３の内側が表示領域１１０となっている。額縁部１０３は遮光性材料により形成され、マーク抜き部１１３と自分撮りカメラ用窓１１４を備えている。そして、マーク抜き部１１３に裏面側から所定の色のインク等による表示膜層１１２を塗り、ロゴマーク表示部１１１を形成していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１０−１８２２７７号公報
【特許文献２】特開２０１０−２５６６８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、図２１のようにしてロゴマーク表示部１１１を形成した場合には、額縁部１０３に表示膜層１１２を形成するためインク等を重ね塗りする必要があるので、工程数および製造コストが増加してしまうという不都合があった。また、額縁部１０３を抜きにして金属配線にて形成するロゴでは、金属配線がシルバー系色のメタリックカラーであり、カラーバリエーションに乏しい。そこで、シルバー系のロゴに代わり、ゴールド系色のロゴの要望がある。本発明では、スパッタにより従来ではできなったゴールド系色のロゴの形成を可能とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の目的は、上記ゴールド系色のロゴの形成を可能とするために、以下の構成を採用した。
【００１２】
本発明は、前面板とタッチパネルセンサーとの一体型タッチセンサー基板に関する。そして、透明な前面板と、前面板の裏面の周縁部に形成され所定の形状の表示領域を区画する額縁層と、額縁層の所定の位置を所定の形状で抜いて形成されたマーク抜き部と、額縁層の裏面側に形成された金属配線と、マーク抜き部の裏面側に形成された金属酸化物膜層および金属膜層と、表示領域に形成され、金属配線と結線されるセンサー層とを備えていることを特徴とする。
【００１３】
また、表示装置であって、複数の画素が行列状に配列された画素領域を有し、入力信号に基づいて画素領域に画像を表示する表示パネルと、画素領域を覆うように取り付けられる一体型タッチセンサー基板とを備えることを特徴とする。
【００１４】
また、透明な前面板と、前面板の裏面の周縁部に形成され、所定の形状の表示領域を区画する額縁層と、額縁層の所定の位置を所定の形状で抜いて形成されたマーク抜き部と、額縁層の裏面側に形成された金属配線と、マーク抜き部の裏面側に形成された金属酸化物膜層および金属膜層と、表示領域に形成され、金属配線と結線されるセンサー層とを備える前面板とタッチパネルセンサーとの一体型タッチセンサー基板の製造方法であって、前面板の裏面にマーク抜き部を備える額縁層を形成する工程と、ジャンパ配線を形成する工程と、金属配線を形成する工程と、金属酸化物膜層を形成する工程と、金属膜層を形成する工程と、金属酸化物を用いてセンサー層を形成する工程とを備え、金属酸化物を用いてセンサー層を形成する工程および金属配線を形成する工程と、金属酸化物層および金属膜層を形成する工程とを、同金属および同金属酸化物材料を用いて行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、上述の特徴を有することから、以下の効果が得られる。
すなわち、前面板とタッチパネルセンサーとの一体型タッチセンサー基板であって、透明な前面板と、前面板の裏面の周縁部に形成され所定の形状の表示領域を区画する額縁層と、額縁層の所定の位置を所定の形状で抜いて形成されたマーク抜き部と、額縁層の裏面側に形成された金属配線と、マーク抜き部の裏面側に形成された金属酸化物層および金属膜層と、表示領域に形成され、金属配線と結線されるセンサー層とを備え、額縁層の所定の位置を所定の形状で抜いて形成されたマーク抜き部が、同一金属の金属酸化物および金属膜層により形成されているので、別のインクでスクリーン印刷する場合と比較して、構成が簡単になり、薄い厚さで形成できる。また、ゴールド系金属色で意匠性に優れたロゴマーク表示をすることができる。
【００１６】
また、表示装置であって、複数の画素が行列状に配列された画素領域を有し、入力信号に基づいて画素領域に画像を表示する表示パネルと、画素領域を覆うように取り付けられる一体型タッチセンサー基板とを備えるので、別のインクでスクリーン印刷する場合と比較して、構成が簡単になり、薄い厚さで形成できる。また、ゴールド系金属色で意匠性に優れたロゴマーク表示をすることができる。
【００１７】
また、透明な前面板と、前面板の裏面の周縁部に形成され、所定の形状の表示領域を区画する額縁層と、額縁層の所定の位置を所定の形状で抜いて形成されたマーク抜き部と、額縁層の裏面側に形成された金属配線と、マーク抜き部の裏面側に形成された金属酸化物膜層および金属膜層と、表示領域に形成された金属配線と結線されるセンサー層とを備える前面板とタッチパネルセンサーとの一体型タッチセンサー基板の製造方法であって、前面板の裏面にマーク抜き部を備える額縁層を形成する工程と、ジャンパ配線を形成する工程と、金属配線を形成する工程と、金属酸化物膜層を形成する工程と、金属膜層を形成する工程と、センサー層を形成する工程とを備え、ジャンパ配線を形成する工程と金属酸化物膜層を形成する工程とを、および、金属配線を形成する工程と金属膜層を形成する工程とを、同一の材料を用いて同一工程で行うので、別のインクでスクリーン印刷する場合と比較して、構成が簡単になり、薄い厚さで形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板を備える表示装置の一例を示す斜視図
【図２】第１の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板を示す表面側から見た概略平面図
【図３】第１の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板を示す裏面側から見た概略平面図
【図４】第１の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板の要部構造を示す概略平面図
【図５】第１の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板の構造を示す概略断面図
【図６】第１の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板の構造を示す概略断面図
【図７】第１の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板の要部の構造を示す概略断面図
【図８】第２の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板を示す表面側から見た概略平面図
【図９】第２の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板の要部構造を示す概略平面図
【図１０】第２の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板の要部の構造を示す概略断面図
【図１１】第３の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板を示す表面側から見た概略平面図
【図１２】第３の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板の要部構造を示す概略平面図
【図１３】第３の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板の要部の構造を示す概略断面図
【図１４】第４の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板の要部の構造を示す概略断面図
【図１５】本発明の実施例に係る一体型タッチセンサー基板を示す概略図
【図１６】本発明の実施例に係る一体型タッチセンサー基板を示す概略図
【図１７】本発明の実施例に係る一体型タッチセンサー基板を示す概略図
【図１８】本発明の実施例に係る一体型タッチセンサー基板を示す概略図
【図１９】本発明の実施例に係る一体型タッチセンサー基板を示す概略図
【図２０】本発明の実施例に係る一体型タッチセンサー基板を示す概略図
【図２１】従来の一体型タッチセンサー基板の前面板の構造を示す概略図
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について、詳細に説明する。
（第１の実施形態）
図１乃至図７を参照して、本発明の第１の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板について説明する。本実施形態に係る一体型タッチセンサー基板は、カバーガラスとタッチセンサーとが一体に直接形成されている。また、金属配線を額縁部に設ける構成となっている。以後、指などが接触される面を表面、その反対面を裏面と呼ぶこととする。
【００２０】
図１は、本実施形態に係る一体型タッチセンサー基板１を備える表示装置の一例である携帯電話を示す斜視図である。図２は、本実施形態に係る一体型タッチセンサー基板１を表面側から見た平面図である。図３は、この一体型タッチセンサー基板１を裏面側から見た平面図である。図４は、図３に示した一体型タッチセンサー基板１の積層構造の詳細を示す平面図であって、図３の絶縁保護膜９の形成前の状態を示す。図５は、図３に示したＰ−Ｐ線矢視方向の断面図、図６は、図３に示したＱ−Ｑ線矢視方向の断面図、図７（ａ）は、図３に示したＲ−Ｒ線矢視方向の断面図であり、図７（ｂ）は、図７（ａ）のＡ部を示す拡大断面図である。
【００２１】
まず、図１を用いて、本実施形態に係る一体型タッチセンサー基板１を備える表示装置５０について説明する。この表示装置５０はスマートフォンと呼ばれる携帯電話であり、外筐を構成するケース５１を有している。ケース５１は扁平で上下（Ｙ方向）に長い矩形形状をしており、一方の主面の中央に一体型タッチセンサー基板１、下部に操作ボタン５２が配設されている。
【００２２】
図１に示すように、一体型タッチセンサー基板１は上下（Ｙ方向）に長い矩形形状をしており、周縁部には所定の幅の枠状の額縁部３を備えている。額縁部３で区画される内側の領域が表示領域１０である。額縁部３の下部にはロゴマークを表示するロゴマーク表示部１１、上部には自分撮りカメラ用窓１４が設けられている。自分撮りカメラ用窓１４の下方（ケース５１の内側）には、図示しない自分撮りカメラが設けられ、自分撮りカメラ用窓１４を通して携帯電話の通話者などの自分撮り撮影を、一体型タッチセンサー基板１や操作ボタン５２を操作して行う。
【００２３】
図２は、図１に示した表示装置５０の一体型タッチセンサー基板１を表面側から見た平面図である。形状は簡略化されて示されている。ここで、このロゴマーク表示部１１の各文字の表示は、均一な金属色の面から構成される。
【００２４】
図３〜７を用いて一体型タッチセンサー基板１の構成を説明する。図３〜６では、図示を簡略化するために、Ｘ方向およびＹ方向のそれぞれに２ラインの電極パターンが模式的に示されているが、実際には、Ｘ方向およびＹ方向にさらに多くの電極が設けられる。
【００２５】
一体型タッチセンサー基板１は、図示しない液晶パネルや有機ＥＬパネルなどの表示デバイスと組み合わせて用いられる位置入力装置である。一体型タッチセンサー基板１は、Ｘ方向に延びる複数の電極およびＹ方向に延びる複数の電極を有し、指が接触または近接した電極の静電容量変化を検出することによって、指の接触位置の座標を特定する。
【００２６】
具体的には、一体型タッチセンサー基板１は、カバーガラス２と、額縁部３と、複数のジャンパ配線４と、絶縁膜５と、金属配線６と、複数の透明電極７および８と、絶縁保護膜９とを備える。
【００２７】
カバーガラス２は、一体型タッチセンサー基板１の最表面となる透明な前面板であり、使用者によってタッチされる部材である。本実施形態では、前面板としてカバーガラス２を使用した例を説明するが、ガラスに代えて、耐熱性透明樹脂材料を前面板として使用してもよい。また、ガラス表面に樹脂材料からなる透明板を貼ったりして、複数の層から形成してもよい。
【００２８】
額縁部３は、光を吸収し遮光する遮光性材料を用いてカバーガラス２の裏面上に形成される。額縁部３は、中央の窓部分に所定形状の表示領域１０を区画し、一体型タッチセンサー基板１の周縁部に設けられる配線を隠す役割を果たす。
【００２９】
額縁部３は、カバーガラス２の周縁部に表示領域１０を区画するよう枠状に形成されている。なお、額縁部３の平面形状は、本実施形態のような矩形環状に限定されず、ハート型、たまご型、丸型など、任意である。また、額縁部３の外周縁形状（外形）と内周縁形状（表示領域１０の形状）とは相似であってもよいし、非相似でもよい。
【００３０】
額縁部３は、可視光を吸収する顔料系レジストの光硬化物からなる。ここで、顔料系レジストとは、溶媒に溶解させた樹脂中に顔料を分散させたものをいい、顔料系レジストの光硬化物とは、当該顔料系レジストをフォトリソグラフィー法の露光処理を行うことによって硬化させたものをいう。
【００３１】
本実施形態では、顔料系レジストは、カーボンブラックおよび酸化チタン以外の少なくとも２種類以上の顔料の混合物を含む疑似ブラックレジストである。例として、カラーフィルタの着色透明層を形成する際に用いられる顔料で、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２ 、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４ 、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド６ 、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８ 、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１０ 、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２ 、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４などに代表される赤色（ＲＥＤ）系顔料と、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５ 、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３ 、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６ 、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０などに代表される青色（ＢＬＵＥ）系顔料とを少なくとも混合することにより、擬似的に黒色としたものが挙げられる。
【００３２】
また、本実施形態では、赤色系顔料と青色系顔料とに加え、さらに黄色（ＹＥＬＬＯＷ）系顔料を加えてもよい。黄色系顔料は可視光の低波長領域、すなわち波長５００ｎｍ以下の光を吸収することが知られている（例えば、塩治孜著（昭和４０年）「印刷インキ教室」（日本印刷新聞社）Ｐ１７０〜１７３）。赤色系顔料と青色系顔料とに黄色系顔料を加えることにより、黄色系顔料が低波長可視光を吸収し、より黒色に近くすることができる。
【００３３】
ここで、顔料系レジストの光硬化物の誘電率は、好ましくは１０以下、より好ましくは４．０以下とする必要がある。静電容量結合方式のタッチパネルの応答性を確保するためである。また、誘電率を４．０以下とすると、顔料系レジストの静電容量の形成を抑えることができる。
【００３４】
また、本実施形態の額縁部３上には、金属配線６および透明電極７、８が形成されるため、電気的な絶縁性を確保する必要がある。すなわち、従来のカーボンを樹脂で被覆させた顔料系レジストの比抵抗値が１×１０１１Ω／ｃｍでも不十分であり、顔料系レジストの光硬化物の比抵抗値は、１×１０１４Ω／ｃｍ以上が好ましい。顔料系レジストの光硬化物の比抵抗値が、１×１０１４Ω／ｃｍ未満の場合、顔料系レジストの光硬化物である額縁上に形成された金属配線および透明電極配線が短絡（ショート）することとなり、一体型タッチセンサー基板が正常に動作しなくなるためである。
【００３５】
ジャンパ配線４は、導電性を有する材料を用いて形成され、表示領域１０内のカバー上に、表示領域１０の一辺と平行なＸ方向およびこれと直交するＹ方向に間欠的かつ行列状に配列されている。ジャンパ配線４は、Ｘ方向に整列する透明電極７を接続するためのものである。ジャンパ配線４は、例えば、ＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎ Ｏｘｉｄｅ；酸化インジウムスズ）やＩＺＯ（ＩｎｄｉｕｍＺｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ；酸化インジウム亜鉛）等の金属酸化物によって形成される。
【００３６】
複数の絶縁膜５は、ジャンパ配線４の各々に対応して設けられる。絶縁膜５の各々は、対応するジャンパ配線４と交差してＸ方向に延びるように形成され、Ｙ方向におけるジャンパ配線４の中央部と部分的に重なっている。絶縁膜５は、ジャンパ配線４と透明電極８との間の層間絶縁膜として機能する。ジャンパ配線４と透明電極７とのＹ方向の接続を可能とするため、絶縁膜５はジャンパ配線４の両端部とは重なっていない。
【００３７】
金属配線６は、額縁部３上に直接形成され、表示領域１０の周縁部に位置する透明電極７および８に電気的に接続されている。本実施形態では、金属配線６は、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ（モリブデン／アルミニウム／モリブデン）の積層体からなるが、これ以外にＡｕ（金）やＡｇ（銀）、Ａｇ合金などによって形成されてもよい。
【００３８】
透明電極７は、Ｘ座標を検出するためのものである。透明電極７は、電気伝導性と透明性とを有する材料を用いて、表示領域１０内のカバーガラス２上に形成されている。透明電極７は、Ｘ方向およびＹ方向に間欠的かつ行列状に配列され、Ｙ方向に隣接するジャンパ配線４に電気的に接続されている。透明電極７は、例えば、ＩＴＯによって形成される。
【００３９】
透明電極８は、Ｙ座標を検出するためのものである。本実施形態では、透明電極８は、透明電極７と同一材料を用いて、透明電極７と同一工程で形成される。透明電極８は、Ｘ方向に整列する透明電極７の各列間をＹ方向に延び、図５および６に示すように、絶縁膜５上でジャンパ配線４と立体交差している。
【００４０】
絶縁保護膜９は、ジャンパ配線４と、金属配線６と、透明電極７および８と、額縁部３とを覆うように、金属配線６の引き出し配線に当たる部分を除きカバーガラス２のほぼ全面に形成されている。絶縁保護膜９は、カバーガラス２上に形成された各構成要素を保護する保護膜として機能する。
【００４１】
なお、本実施形態に係る一体型タッチセンサー基板１においては、ジャンパ配線４と、絶縁膜５と、透明電極７および８と、絶縁保護膜９とがセンサー層に相当する。
【００４２】
本実施形態で用いる顔料系レジストの光硬化物は、従来のカラーフィルタ用のブラックレジスト材料の光硬化物と比べて、誘電率が低く、かつ、比抵抗値が高いため、額縁部３の絶縁が不要となり、額縁部３上に直接センサー層や金属配線６を形成することができる。また、額縁部３を覆う絶縁膜が不要であることによって工程数が減少するので、コストダウンおよび歩留まりの向上を実現できる。
【００４３】
また、本実施形態では額縁部３の材料をフォトリソグラフィー法の露光処理を行った。スクリーン印刷で額縁部３を形成した場合には額縁部３の表面の凹凸が粗くなるが、フォトリソグラフィー法によって額縁部３を形成すると、額縁部３の表面が平滑になる。そこで、金属配線６を額縁部３上に直接、安定して形成することができる。
【００４４】
ここで、図４および図７（ａ）、（ｂ）を用いて、本実施形態に係る一体型タッチセンサー基板１におけるロゴマーク表示部１１の形成について説明する。
図７（ｂ）に示すように、ロゴマークが表示されるロゴマーク表示部１１に位置する額縁部３には、ロゴマークの形に抜いたマーク抜き部１３が形成されている。すなわち、マーク抜き部１３は額縁部３に抜き文字状に形成された凹部であって、額縁部３をロゴマークの形にくり抜いた内壁と、ロゴマークの形をしたカバーガラス２の裏面からなる底部とを備える。
【００４５】
上述した通り、本実施形態では金属配線６を額縁部３上に直接形成している。また、ジャンパ配線４および金属配線６と同一の材料を用いて、ジャンパ配線４および金属配線６を形成するそれぞれの同一の工程で、図４に示すように、マーク抜き部１３とその近傍の領域に金属酸化物膜層１２ａおよび金属膜層１２ｂからなる表示膜層１２を形成する。図７（ｂ）に示すように、マーク抜き部１３の内面には表示膜層１２が隙間なく形成される。表側から見たときに額縁部１０３のロゴマーク表示部１１のロゴマークの各文字は、ゴールド系の金属色の均一な面により表示される。
【００４６】
このように、ロゴマーク表示部１１の内面を、ジャンパ配線４および金属配線６を形成する金属酸化物膜および金属膜と同一の膜で覆うことで、別のインクでスクリーン印刷する工程が不要となり、工程数および製造コストを減少することができる。
また、別のインクでスクリーン印刷する場合と比較して、構成が簡単になり、金属酸化物膜および金属膜と同等の薄い厚さで形成することが可能となる。また、金属色（ゴールド系メタリック）で意匠性に優れたロゴマークを表示することができる。
【００４７】
ロゴマーク部のゴールド系金属色の表現においては、金属酸化物膜層１２ａであるＩＴＯの膜厚により、その色調を調整することができる。なお、ジャンパ配線４のＩＴＯ等の膜厚と、表現したいロゴマーク部の色が異なる場合は、工程が増えるが、ジャンパ配線４とマーク抜き部１３の押さえ金属酸化物膜層１２ａとを別々に作ることもできる。
【００４８】
なお、図４に示すように、表示膜層１２と連続して金属配線６が形成されていて、図示しない表示装置の電気回路に結線されている。このようにして、表示膜層１２をアース（接地）するようにしてもよい。金属膜からなる表示膜層１２に静電気が貯まることによるタッチパネルや表示装置の電気回路等に不具合が生ずることを防止したり、表示装置の不要輻射対策をしたりするためである。
【００４９】
（第２の実施形態）
図８乃至図１０を参照して、本発明の第２の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板について説明する。第２の実施形態において、第１の実施形態と同じ部分は同一符号を付し、説明を省略し、異なった部分だけを説明する。
【００５０】
図８（ａ）は、本実施形態に係る一体型タッチセンサー基板１を表面側から見た平面図であり、図８（ｂ）は、図８（ａ）のＢ部を示す拡大断面図である。図９は、裏面側から見たときの一体型タッチセンサー基板１の積層構造の詳細を示す平面図であって、絶縁保護膜９の形成前の状態を示す（第１の実施形態の図４に相当する図面である）。図１０（ａ）は、図９に示したＳ−Ｓ線矢視方向の一体型タッチセンサー基板１の断面図であり、図１０（ｂ）は、図１０（ａ）のＣ部を示す拡大断面図である。
【００５１】
本実施形態に係る一体型タッチセンサー基板１は、表示膜層１２の金属酸化物膜層１２ａおよび金属膜層１２ｂを、ジャンパ配線４および金属配線６と同一の材料を用いて、同一工程で形成している点は第１の実施形態と同一であるが、表示膜層１２の少なくとも一部に金属配線６が含まれている構成となっている点が異なる。すなわち、本実施形態では、ロゴマーク表示部１１の各文字を表示する表示膜層１２の一部に、金属配線６が配置されている。金属配線６の下層にはロゴマークの色相をそろえるため、表示膜層１２と同様の金属酸化物膜層１２ａを有する。
【００５２】
図８（ａ）に示すように、本実施形態を表面側から見たとき、第１の実施形態とほぼ同様の構成となっているが、図８（ｂ）のＢ部拡大図に示すように、ロゴマーク表示部１１のロゴマークの各文字は、均一の面ではなくて、縦方向のスリット１５が略等間隔に入った縦ストライプ状の表示面により構成される。
【００５３】
図９および図１０に示すように、ロゴマーク表示部１１の裏面側の、マーク抜き部１３とその近傍の領域は、ジャンパ配線４と同材料の金属酸化物膜層１２ａおよび金属配線６と同材料からなる金属膜層１２ｂである、表示膜層１２で覆われている。この領域の中央には幅広の表示膜層１２、その両脇に金属配線６、さらにその両脇に幅の狭い表示膜層１２が形成され、それぞれの間にはスリット１５が設けられ互いにショート（短絡）しないように構成されている。中央と右側の表示膜層１２の上部には櫛歯型のスリット１５を有している。金属配線６の下層には、ジャンパ配線４と同様の金属酸化物膜層１２ａが設けられている。表示膜層１２と金属配線６との間に設けられたスリット１５とこの櫛歯型のスリット１５とにより、図９に示すように略等間隔に並んだ縦ストライプが構成される。
【００５４】
前述したように、ロゴマーク表示部１１の各文字は、略等間隔の縦ストライプの入った表示面により構成されているが、このようにすることで、表示膜層１２を構成する金属酸化物膜層１２ａおよび金属膜層１２ｂと金属配線６との間に形成されたスリット１５が目立たなくなるという効果がある。表示膜層１２に櫛歯型のスリット１５を設けなくてもよい。表示膜層１２を構成する金属酸化物膜層１２ａおよび金属膜層１２ｂと金属配線６との間に形成されたスリット１５の幅を狭くすることにより、目立たなくすることもできるからである。
【００５５】
文字の大きさにもよるが、例えば携帯電話では、スリット１５を２５μｍ以下に形成することにより、人間の視覚では認識しにくくなる。
例えば、スリット１５を１５μｍ以下、隣接するスリット１５の間のライン状の金属酸化物膜層１２ａおよび金属膜層１２ｂの幅を３０μｍ以上とすれば、細かなストライプのほぼ均質な面となる。
【００５６】
このようにロゴマーク表示部１１の表示面を同一の工程で同一の金属酸化物および金属を用いて覆うので、工程数および製造コストを減少し、簡単な構成で厚さが薄く、ゴールド系の金属色（メタリック）で意匠性に優れたロゴマーク表示をすることが可能となる。また、ロゴマーク表示部１１の領域にもこの金属配線６およびその下層に金属酸化物膜層１２ａを配置して、額縁部の限られたスペースを有効に使用して配線を設けることができる。
【００５７】
（第３の実施形態）
図１１乃至図１３を参照して、本発明の第３の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板について説明する。第３の実施形態において、前述した実施形態と同じ部分は同一符号を付し、説明を省略し、異なった部分だけを説明する。
【００５８】
図１１（ａ）は、本実施形態に係る一体型タッチセンサー基板１を表面側から見た平面図であり、図１１（ｂ）は、図１１（ａ）のＤ部を示す拡大断面図である。図１２は、裏面側から見たときの一体型タッチセンサー基板１の積層構造の詳細を示す平面図であって、絶縁保護膜９の形成前の状態を示す（第１の実施形態の図４に相当する図面である）。図１３（ａ）は、図１２に示したＴ−Ｔ線矢視方向の一体型タッチセンサー基板１の断面図であり、図１３（ｂ）は、図１３（ａ）のＥ部を示す拡大断面図である。
【００５９】
本実施形態に係る一体型タッチセンサー基板１は、表示膜層１２である金属酸化物膜層１２ａおよび金属膜層１２ｂを、ジャンパ配線４および金属配線６と同一の金属酸化物および金属を用いて、同一工程で形成している点と、ロゴマーク表示部１１の各文字を表示する表示膜層１２の一部に、金属配線６が配置されている点は第２の実施形態と同一である。しかし、図１１（ｂ）に示すように、ロゴマーク表示部１１のロゴマークの各文字は、縦ストライプ状の表示面ではなくて、略等間隔に横方向のスリット１５が入った横ストライプ状の表示面により構成されている点が異なる。
【００６０】
図１２および図１３に示すように、ロゴマーク表示部１１の裏面側の、マーク抜き部１３内面とその近傍の領域には、横長に細長い形状をした表示膜層１２を構成する金属酸化物膜層１２ａおよび金属配線６が形成される。表示膜層１２である金属酸化物膜層１２ａと金属配線６との間には、互いにショート（短絡）しないようにスリット１５が設けられている。これらのスリット１５により、図１２に示すように略等間隔に並んだ横ストライプが構成される。
【００６１】
このようにスリット１５を、複数のストライプ状とすることにより、スリット１５を目立たなくする効果がある。
なお、図１２において、横長に細長い形状をした表示膜層１２を構成する金属酸化物膜層１２ａと金属配線６とを一つ置きに配置したが、表示膜層１２を一つにまとめ、櫛歯型のスリット１５を入れるようにしてもよい。
【００６２】
このようにロゴマーク表示部１１の表示面を同一の工程で同一の金属酸化物および金属を用いて覆うので、工程数および製造コストを減少し、簡単な構成で厚さが薄く、ゴールド系の金属色（メタリック）で意匠性に優れたロゴマーク表示をすることが可能となる。また、ロゴマーク表示部１１の領域にも金属配線６を配置して、額縁部の限られたスペースを有効に使用して配線を設けることができる。
【００６３】
（第４の実施形態）
図１４を参照して、本発明の第４の実施形態に係る一体型タッチセンサー基板について説明する。第４の実施形態において、前述した実施形態と同じ部分は同一符号を付し、説明を省略し、異なった部分だけを説明する。
【００６４】
本実施形態に係る一体型タッチセンサー基板１は、第３の実施形態で説明した構成の一部を変更したものであり、表面側から見た平面図は、図１１（ａ）、（ｂ）と同一である。また、裏面側から見たときの一体型タッチセンサー基板１の積層構造の詳細を示す平面図は、図１２と同一である。図１４（ａ）は、図１２に示したＴ−Ｔ線矢視方向の一体型タッチセンサー基板１の断面図であり、図１４（ｂ）は、図１４（ａ）のＦ部を示す拡大断面図である。
【００６５】
前述した実施形態では金属配線６を額縁部３上に直接形成しているが、額縁部３を構成する材料の比抵抗値が所定値より低く、または、スクリーン印刷で額縁部３を形成して表面の凹凸が粗い場合などの場合では、額縁部３の上に金属酸化物膜層１２ａおよび金属配線６を直接形成することは難しい。本実施形態においては、このような金属酸化物膜層１２ａおよび金属配線６を額縁部３上に直接形成できない場合においても、本発明の技術的思想が実施可能であることを以下に説明するものである。
【００６６】
図１４（ａ）に示すように、本実施形態に係る一体型タッチセンサー基板１においては、額縁部３の上にカバーガラス２の裏面全体を覆う絶縁層１６を形成する。このように構成することにより、例えば、額縁部３にカーボンブラックが多く含まれ比抵抗値が低く、金属酸化物膜層１２ａおよび金属配線６を額縁部３の上に直接形成できない場合でも、金属酸化物膜層１２ａおよび金属配線６は絶縁層１６の上に形成することができる。
【００６７】
本実施形態を表面側から見たとき、第３の実施形態と同様、ロゴマーク表示部１１のロゴマークの各文字は、横ストライプ状の表示面で形成される。ここで、図１４（ｂ）に示すように、この横ストライプ状の表示面は、第３の実施形態のようにマーク抜き部１３の内面に形成されたものではなく、絶縁層１６上に形成されていて、絶縁層１６を介して表示面が視認される。
【００６８】
このようにロゴマーク表示部１１の表示面を同一の工程で同一の金属酸化物および金属を用いて覆うので、工程数および製造コストを減少し、簡単な構成で厚さが薄く、ゴールド系の金属色（メタリック）で意匠性に優れたロゴマーク表示をすることが可能となる。また、ロゴマーク表示部１１の領域に、金属配線６を配置して、額縁部３の限られたスペースを有効に使用して配線を設けることができる。
【００６９】
なお、本発明の一体型タッチセンサー基板は、その細部が上述した実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。上述の実施形態では、表示装置として携帯電話を用いて説明したが、これらに限定されるわけではない。例えば、携帯情報端末、カーナビゲーションシステム、コンピュータ・ディスプレイ、または液晶テレビなど、周縁部にロゴマークが表示された表示装置にも応用することができる。
【００７０】
また、上述した実施形態では、一体型タッチセンサー基板として投影型静電容量式タッチパネルを用いて説明したが、静電容量式に限定されるわけではなく、額縁部を有する種々の方式のタッチパネルに応用することができる。
【実施例】
【００７１】
本発明をさらに詳しく説明するために以下に２つの実施例を上げるが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、これらの実施例では、前述の第２の実施形態で説明したものと同様の構成の一体型タッチセンサー基板１の製造方法について、詳説する。
【００７２】
図１５〜２０は、本実施例に係る一体型タッチセンサー基板１の製造工程を示す図である。図１５〜２０において、（ａ）は断面図であり、（ｂ）は平面図である。また、図１５〜２０の（ｂ）に示す二点鎖線Ｘ−ＸおよびＹ−Ｙは、（ａ）の断面図のそれぞれの切断位置を表す。
【００７３】
［実施例１］
＜１．額縁部３の形成＞
まず、カバーガラス２の裏面の上に、後述する顔料系レジストを、スピンコートにより塗布した。
次に、減圧乾燥機にて溶剤分を除去したのち、プロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）にて２００ｍＪにて露光した。ここで、露光用フォトマスクとしてはソーダガラスにＣｒ（クロム）でパターンを施したものを用いた。
次に、Ｎａ２ＣＯ３（炭酸ナトリウム）、ＮａＨＣＯ３（炭酸水素ナトリウム）を混合したアルカリ水溶液にて現像した。
そして、２３５°Ｃ×２０分の熱処理を行い、図１５に示す所定のロゴマークの形をしたマーク抜き部１３を備えた額縁部３を形成した。
【００７４】
＜２．ジャンパ配線４および金属酸化物膜層１２ａの形成＞
まず、図１５に示す形成物の上に、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、１７０°Ｃにて加熱しながらスパッタする加熱スパッタによって膜厚２００ÅのＩＴＯ膜を形成した。
次に、一般的なノボラック系ポジレジストをスピンコートし、１０５°Ｃにてプレベークして、その後、１００ｍＪにて露光したのち、ＮａＯＨ（水酸化ナトリウム）、Ｎａ２ＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にてポジ現像を行った。ここで、露光はプロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し、露光用フォトマスクとしてはソーダガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。
そして、シュウ酸（（ＣＯＯＨ）２）を用いてエッチングし、ポジレジストを全面露光したのち、ＮａＯＨ、Ｎａ２ＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にてポジレジストを剥離して、図１６に示すように、ＩＴＯ膜によりジャンパ配線４および金属酸化物膜層１２ａを形成した。
【００７５】
＜３．絶縁膜５の形成＞
まず、図１６に示す形成物の上に、絶縁材料（ＪＳＲ製、製品番号：ＮＮ９０１）をスピンコートにより塗布した。
次に、８０°Ｃにてプレベークして溶剤分を除去し、プロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し２５０ｍＪにて露光した。ここで、露光用フォトマスクとしてはクオーツガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。
次に、Ｎａ２ＣＯ３、ＮａＨＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にて現像した。
そして、２３５°Ｃ×２０分の熱処理を行った。
このようにして、図１７に示すように、ジャンパ配線４上の絶縁膜５を形成した。
【００７６】
＜４．金属配線６および金属膜層１２ｂの形成＞
まず、図１７に示す形成物の上に、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、真空中でＭｏの層、Ａｌの層、Ｍｏの層を順次形成し、３層積層構造のＭｏ／Ａｌ／Ｍｏ積層体を形成した。
次に、一般的なノボラック系ポジレジストをスピンコートし、１０５°Ｃにてプレベークして、その後、１００ｍＪにて露光したのち、ＮａＯＨ、Ｎａ２ＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にてポジ現像を行った。ここで、露光はプロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し、露光用フォトマスクとしてはソーダガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。
そして、燐酸・硝酸・水の３成分系のエッチャント（エッチング液）にてエッチングし、ポジレジストを全面露光したのち、珪酸塩を含む水溶性のアルカリ剥離液にてポジレジストを剥離した。
このようにして、図１８に示すように、額縁部３上に金属配線６および表示膜層１２を形成する金属膜層１２ｂを形成した。ここで、金属膜層１２ｂとその両脇の金属配線６によるＭｏ／Ａｌ／Ｍｏ積層体の膜により、マーク抜き部１３の内面は覆われる。
【００７７】
＜５．透明電極７および８の形成＞
まず、図１８に示す形成物の上に、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、１７０°Ｃにて加熱しながらスパッタする加熱スパッタによってＩＴＯ膜を形成した。
次に、一般的なノボラック系ポジレジストをスピンコートし、１０５°Ｃにてプレベークして、その後、１００ｍＪにて露光したのち、ＮａＯＨ、Ｎａ２ＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にてポジ現像を行った。ここで、露光はプロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し、露光用フォトマスクとしてはソーダガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。
そして、シュウ酸を用いてエッチングし、ポジレジストを全面露光したのち、ＮａＯＨ、Ｎａ２ＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にてポジレジストを剥離した。
このようにして、図１９に示すように、ＩＴＯ膜により透明電極７、８を形成した。
また、ポジレジストを剥離する際のアルカリ水溶液にて、金属膜層１２ｂのアルカリ耐性が乏しい場合、必要に応じて透明電極７、８の形成と同時に金属膜層１２ｂ上にＩＴＯ膜層を被覆させてもよい。
【００７８】
＜６．絶縁保護膜９の形成＞
まず、図１９に示す形成物の上に、オーバーコート材料（ＪＳＲ製、製品番号：ＮＮ９０１）をスピンコートにより塗布した。
次に、８０°Ｃにてプレベークして溶剤分を除去し、プロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し１５０ｍＪにて露光した。ここで、露光用フォトマスクとしてはクオーツガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。
次に、Ｎａ２ＣＯ３、ＮａＨＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にて現像した。
そして、２３５°Ｃ×２０分の熱処理を行った。
このようにして、図２０に示すように、絶縁保護膜９を形成して、一体型タッチセンサー基板１を製造し完成させた。
【００７９】
＜７．顔料系レジストについて＞
以上の実施例で使用した顔料系レジストは、溶媒に溶解させた樹脂中に黒色顔料を分散させたものである。この黒色顔料としては、ピグメントレッド（ＰＲ２５４）とピグメントブルー（ＰＢ１５：３）とを１：１の比率で混合したものを用いた。また、固形物中の顔料比率は４０パーセントである。この材料を用いて３μｍの厚さに額縁部３を形成した。このように形成した額縁部３の比抵抗値は１×１０１４Ω／ｃｍ未満となり、誘電率は４．０以下となった。
【００８０】
＜ロゴマーク部の色調について＞
実施例１において、ロゴマーク部の押さえである金属酸化物膜層１２ａ（ＩＴＯ）の膜厚を２００Åとし、その上層に、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ＝５００Å／２０００Å／５００Åである金属膜層１２ｂを設けた場合、表面側よりロゴマーク部を観察した際、Ｌ＊：６２．５３、ａ＊：０．３６、ｂ＊：９．２５（ＳＣＩ  Ｄ６５光源）の色調のゴールド系金属色が得られた。
【００８１】
［実施例２］
＜１．額縁部３の形成＞
まず、カバーガラス２の裏面の上に、後述する顔料系レジストを、スピンコートにより塗布した。
次に、減圧乾燥機にて溶剤分を除去したのち、プロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）にて２００ｍＪにて露光した。ここで、露光用フォトマスクとしてはソーダガラスにＣｒ（クロム）でパターンを施したものを用いた。
次に、Ｎａ２ＣＯ３（炭酸ナトリウム）、ＮａＨＣＯ３（炭酸水素ナトリウム）を混合したアルカリ水溶液にて現像した。
そして、２３５°Ｃ×２０分の熱処理を行い、図１５に示す所定のロゴマークの形をしたマーク抜き部１３を備えた額縁部３を形成した。
【００８２】
＜２．ジャンパ配線４および金属酸化物膜層１２ａの形成＞
まず、図１５に示す形成物の上に、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、１７０°Ｃにて加熱しながらスパッタする加熱スパッタによって膜厚１４００ÅのＩＴＯ膜を形成した。
次に、一般的なノボラック系ポジレジストをスピンコートし、１０５°Ｃにてプレベークして、その後、１００ｍＪにて露光したのち、ＮａＯＨ（水酸化ナトリウム）、Ｎａ２ＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にてポジ現像を行った。ここで、露光はプロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し、露光用フォトマスクとしてはソーダガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。
そして、シュウ酸（（ＣＯＯＨ）２）を用いてエッチングし、ポジレジストを全面露光したのち、ＮａＯＨ、Ｎａ２ＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にてポジレジストを剥離して、図１６に示すように、ＩＴＯ膜によりジャンパ配線４および金属酸化物膜層１２ａを形成した。
【００８３】
＜３．絶縁膜５の形成＞
まず、図１６に示す形成物の上に、絶縁材料（ＪＳＲ製、製品番号：ＮＮ９０１）をスピンコートにより塗布した。
次に、８０°Ｃにてプレベークして溶剤分を除去し、プロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し２５０ｍＪにて露光した。ここで、露光用フォトマスクとしてはクオーツガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。
次に、Ｎａ２ＣＯ３、ＮａＨＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にて現像した。
そして、２３５°Ｃ×２０分の熱処理を行った。
このようにして、図１７に示すように、ジャンパ配線４上の絶縁膜５を形成した。
【００８４】
＜４．金属配線６および金属膜層１２ｂの形成＞
まず、図１７に示す形成物の上に、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、真空中でＭｏの層、Ａｌの層、Ｍｏの層を順次形成し、３層積層構造のＭｏ／Ａｌ／Ｍｏ積層体を形成した。
次に、一般的なノボラック系ポジレジストをスピンコートし、１０５°Ｃにてプレベークして、その後、１００ｍＪにて露光したのち、ＮａＯＨ、Ｎａ２ＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にてポジ現像を行った。ここで、露光はプロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し、露光用フォトマスクとしてはソーダガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。
そして、燐酸・硝酸・水の３成分系のエッチャント（エッチング液）にてエッチングし、ポジレジストを全面露光したのち、珪酸塩を含む水溶性のアルカリ剥離液にてポジレジストを剥離した。
このようにして、図１８に示すように、額縁部３上に金属配線６および表示膜層１２を形成する金属膜層１２ｂを形成した。ここで、金属膜層１２ｂとその両脇の金属配線６によるＭｏ／Ａｌ／Ｍｏ積層体の膜により、マーク抜き部１３の内面は覆われる。
【００８５】
＜５．透明電極７および８の形成＞
まず、図１８に示す形成物の上に、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、１７０°Ｃにて加熱しながらスパッタする加熱スパッタによってＩＴＯ膜を形成した。
次に、一般的なノボラック系ポジレジストをスピンコートし、１０５°Ｃにてプレベークして、その後、１００ｍＪにて露光したのち、ＮａＯＨ、Ｎａ２ＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にてポジ現像を行った。ここで、露光はプロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し、露光用フォトマスクとしてはソーダガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。
そして、シュウ酸を用いてエッチングし、ポジレジストを全面露光したのち、ＮａＯＨ、Ｎａ２ＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にてポジレジストを剥離した。
このようにして、図１９に示すように、ＩＴＯ膜により透明電極７、８を形成した。
また、ポジレジストを剥離する際のアルカリ水溶液にて、金属膜層１２ｂのアルカリ耐性が乏しい場合、必要に応じて透明電極７、８の形成と同時に金属膜層１２ｂ上にＩＴＯ膜層を被覆させてもよい。
【００８６】
＜６．絶縁保護膜９の形成＞
まず、図１９に示す形成物の上に、オーバーコート材料（ＪＳＲ製、製品番号：ＮＮ９０１）をスピンコートにより塗布した。
次に、８０°Ｃにてプレベークして溶剤分を除去し、プロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し１５０ｍＪにて露光した。ここで、露光用フォトマスクとしてはクオーツガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。
次に、Ｎａ２ＣＯ３、ＮａＨＣＯ３を混合したアルカリ水溶液にて現像した。
そして、２３５°Ｃ×２０分の熱処理を行った。
このようにして、図２０に示すように、絶縁保護膜９を形成して、一体型タッチセンサー基板１を製造し完成させた。
【００８７】
＜７．顔料系レジストについて＞
以上の実施例で使用した顔料系レジストは、溶媒に溶解させた樹脂中に黒色顔料を分散させたものである。この黒色顔料としては、ピグメントレッド（ＰＲ２５４）とピグメントブルー（ＰＢ１５：３）とを１：１の比率で混合したものを用いた。また、固形物中の顔料比率は４０パーセントである。この材料を用いて３μｍの厚さに額縁部３を形成した。このように形成した額縁部３の比抵抗値は１×１０１４Ω／ｃｍ未満となり、誘電率は４．０以下となった。
【００８８】
＜ロゴマーク部の色調について＞
実施例２において、ロゴマーク部の押さえである金属酸化物膜層１２ａ（ＩＴＯ）の膜厚を１４００Åとし、その上層に、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ＝５００Å／２０００Å／５００Åである金属膜層１２ｂを設けた場合、表面側よりロゴマーク部を観察した際、Ｌ＊：６３．８６、ａ＊：−３．２９、ｂ＊：３０．３８（ＳＣＩ  Ｄ６５光源）の色調のゴールド系金属色が得られた。
【産業上の利用可能性】
【００８９】
本発明は、携帯電話機や、携帯情報端末などの電子機器用の位置入力装置として利用することができる。
【符号の説明】
【００９０】
１    一体型タッチセンサー基板
２、１０２    カバーガラス
３、１０３    額縁部
４    ジャンパ配線
５    絶縁膜
６    金属配線
７、８    透明電極
９    絶縁保護膜
１０、１１０    表示領域
１１、１１１    ロゴマーク表示部
１２、１１２    表示膜層
１２ａ    金属酸化物膜層
１２ｂ    金属膜層
１３、１１３    マーク抜き部
１４、１１４    自分撮りカメラ用窓
１５    スリット
１６    絶縁層
５０    表示装置
５１    ケース
５２    操作ボタン
【図１】
2015064748.tif 000003
【図２】
2015064748.tif 000004
【図３】
2015064748.tif 000005
【図４】
2015064748.tif 000006
【図５】
2015064748.tif 000007
【図６】
2015064748.tif 000008
【図７】
2015064748.tif 000009
【図８】
2015064748.tif 000010
【図９】
2015064748.tif 000011
【図１０】
2015064748.tif 000012
【図１１】
2015064748.tif 000013
【図１２】
2015064748.tif 000014
【図１３】
2015064748.tif 000015
【図１４】
2015064748.tif 000016
【図１５】
2015064748.tif 000017
【図１６】
2015064748.tif 000018
【図１７】
2015064748.tif 000019
【図１８】
2015064748.tif 000020
【図１９】
2015064748.tif 000021
【図２０】
2015064748.tif 000022
【図２１】
2015064748.tif 000023