(57)【要約】【課題】  感光性エレメントが薄層の感光層を有する場合であっても、レジストとＩＴＯフィルム基材のＩＴＯ層および屈折率調整層の密着性が良好なレジストパターンの製造方法及び電子部品を提供する。【解決手段】  フィルム基材の表面にＩＴＯを設けたＩＴＯフィルム基材上に、感光性樹脂組成物を含む感光層を設け、前記感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に前記感光層の前記所定部分以外を除去し、前記基材の一部又は全部を被覆する前記感光性樹脂組成物の硬化物からなる硬化膜を形成後、前記硬化膜を０．５〜２．０Ｊ／ｃｍ２の露光量で硬化させる、硬化膜付きＩＴＯフィルム基材の製造方法。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム基材の表面にＩＴＯを設けたＩＴＯフィルム基材上に、感光性樹脂組成物を含む感光層を設け、前記感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に前記感光層の前記所定部分以外を除去し、前記基材の一部又は全部を被覆する前記感光性樹脂組成物の硬化物からなる硬化膜を形成後、前記硬化膜を０．５〜２．０Ｊ／ｃｍ２の露光量で硬化させる、硬化膜付きＩＴＯフィルム基材の製造方法。
【請求項２】
前記感光層が、バインダーポリマーと、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する請求項１に記載の硬化膜付きＩＴＯフィルム基材の製造方法。
【請求項３】
前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項２に記載の硬化膜付きＩＴＯフィルム基材の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のＩＴＯフィルム基材の製造方法により得られる硬化膜付きＩＴＯフィルム基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物を用いた硬化膜付きＩＴＯ基材の製造方法及びそれにより得られた硬化膜付きＩＴＯフィルム基材に関する。詳しくは、本発明は、ＩＴＯフィルム基材のＩＴＯ層上および、フィルム基材とＩＴＯの間に屈折率調整層を設けＩＴＯを不可視化する屈折率調整層上に薄層の感光層を有し、これを硬化させた硬化膜付きＩＴＯフィルム基材の製造方法、及び、当該製造方法により得られる硬化膜付きＩＴＯフィルム基材に関する。
【背景技術】
【０００２】
感光性エレメントは、主にプリント配線板上に回路を形成するために用いられている。また、感光性エレメントは、絶縁膜の形成、又は、液晶表示装置における液晶層のギャップを一定に保持するためのスペーサーの形成等にも用いられている。
【０００３】
感光性エレメントは、例えば、支持フィルム、感光層、保護フィルムの３層構造を有している。感光性エレメントは、例えば、以下のようにして用いられる。まず、感光性エレメントの保護フィルムを剥離した後に、感光性樹脂組成物を含む感光層を基材上に積層（ラミネート）する（積層工程）。次に、支持フィルムを剥離除去した後、または、支持フィルムを除去せずに支持フィルムを介して感光層の所定部分に活性光線を照射して露光部を硬化させる（露光工程）。その後、支持フィルムがある場合は、これを除去して未露光部を基材上から除去（現像）することにより、感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンが基材上に形成される（現像工程）。
【０００４】
得られたレジストパターンは、絶縁膜又はスペーサー等に用いることができると共に、レジストパターンに対してめっき処理又はエッチング処理によって回路を形成するためのマスクとして用いることもできる。
【０００５】
特許文献１においては、現像工程後に必要に応じて、５×１０３〜２×１０４Ｊ／ｍ２程度の活性光線照射を行い、レジストパターンをさらに硬化することができることが示されている（硬化工程）。
後から照射する活性光線は、硬化度を高めると思われるが、これによりどのような効果をもたらすか、また、照射量の規定範囲について充分な説明がなされていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２０１３／０８４８７３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
近年、電子部品の高密度化及び高機能化に伴い、厚さが１０μｍ未満である薄層の感光層を有する感光性エレメントが求められている。このような薄層の感光層を有する感光性エレメントを用いてＩＴＯフィルム基材のＩＴＯ層および屈折率調整層にレジストパターンを形成し、このレジストパターンを絶縁膜又はスペーサ等に用いる場合、レジストとＩＴＯ層および屈折率調整層の密着性が悪くなる課題があった。
【０００８】
本発明は、上記課題を解決しようとするものであって、感光性エレメント（感光性樹脂組成物を含む感光層）が薄層の感光層を有する場合であっても、レジストとＩＴＯフィルム基材のＩＴＯ層およびＩＴＯから露出する屈折率調整層の密着性が良好な硬化膜付きＩＴＯフィルム基材の製造方法及びそれにより得られる硬化膜付きＩＴＯフィルム基材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を鋭意検討した結果、密着性が悪くなる原因は硬化工程にあり、密着性は硬化工程の活性光線露光量で制御できることを見出した。また、硬化工程が無い場合も密着性が悪くなり、硬化工程が必要であることを見出した。
【００１０】
すなわち、本発明は、［１］  フィルム基材の表面にＩＴＯを設けたＩＴＯフィルム基材上に、感光性樹脂組成物を含む感光層を設け、前記感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に前記感光層の前記所定部分以外を除去し、前記基材の一部又は全部を被覆する前記感光性樹脂組成物の硬化物からなる硬化膜を形成後、前記硬化膜を０．５〜２．０Ｊ／ｃｍ２の露光量で硬化させる、硬化膜付きＩＴＯフィルム基材の製造方法を提供する。
また、本発明は、［２］  前記感光層が、バインダーポリマーと、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する上記［１］に記載の硬化膜付きＩＴＯフィルム基材の製造方法を提供する。
また、本発明は、［３］  前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、上記［２］に記載の硬化膜付きＩＴＯフィルム基材の製造方法を提供する。
更に、本発明は、［４］  上記［１］〜［３］のいずれか一項に記載のＩＴＯフィルム基材の製造方法により得られる硬化膜付きＩＴＯフィルム基材を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、感光性樹脂組成物が薄層の感光層を有する場合であっても、感光性樹脂組成物からのレジストとＩＴＯフィルム基材のＩＴＯ層および屈折率調整層との密着性が良好なＩＴＯフィルム基材の製造方法及びそれにより得られた硬化膜付きＩＴＯフィルム基材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態に係る感光性エレメントを示す模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００１４】
本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
【００１５】
図１は、本実施形態に係る感光性エレメント１を示す模式断面図である。図１（ａ）に示される感光性エレメント１は、（Ａ）支持フィルム１０、（Ｂ）感光層（感光性樹脂組成物層）２０及び（Ｃ）保護フィルム３０が積層されてなる感光性エレメントである。感光層２０は、支持フィルム１０及び保護フィルム３０の間に配置されている。
【００１６】
支持フィルム１０は、例えば、耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体を含有している。耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、及び、ポリプロピレン等のポリオレフィンが挙げられ、透明性に優れる観点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００１７】
支持フィルム１０としては、例えば、帝人デュポンフィルム株式会社製のテトロン（商標名）フィルムＧ２シリーズ、ＨＳシリーズ、０３シリーズ、マイラーフィルムＤシリーズ；東レ株式会社製のルミラーＦＢ５０シリーズ；東洋紡績株式会社製のコスモシャインシリーズが挙げられる。
【００１８】
支持フィルム１０の厚さは、機械的強度の低下を抑制することにより塗工時に支持フィルムが破れる等の問題が発生することを抑制する観点から、１μｍ以上が好ましく、１２μｍ以上がより好ましい。支持フィルム１０の厚さは、解像度の低下を抑制すると共に価格が高くなることを抑制する観点から、１００μｍ以下が好ましく、２５μｍ以下がより好ましい。
【００１９】
感光層２０は、感光性樹脂組成物を含んでいる。感光性樹脂組成物は、感光性を有するものであれば特に制限はないが、例えば、（ａ）バインダーポリマー、（ｂ）光重合性化合物及び（ｃ）光重合開始剤を含有する組成物が挙げられる。
【００２０】
（ａ）成分としては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド系樹脂、アミドエポキシ系樹脂、アルキド系樹脂及びフェノール系樹脂が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。（ａ）成分は、例えば、光重合性単量体に由来する構成単位を有しており、光重合性単量体を重合（例えばラジカル重合）させることにより製造することができる。
【００２１】
光重合性単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等のα−位又は芳香族環において置換されている重合可能なスチレン誘導体；
ジアセトンアクリルアミド等のアクリルアミド；アクリロニトリル、ビニル−ｎ−ブチルエーテル等のビニルアルコールのエステル類；
（メタ）アクリル酸；（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸アリールエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル；α−ブロモ（メタ）アクリル酸、α−クロル（メタ）アクリル酸、β−フリル（メタ）アクリル酸、β−スチリル（メタ）アクリル酸等の（メタ）アクリル酸誘導体；
マレイン酸；マレイン酸無水物；マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピル、マレイン酸シクロヘキシル等のマレイン酸モノエステル；
フマール酸、ケイ皮酸、α−シアノケイ皮酸、イタコン酸、クロトン酸、プロピオール酸等の不飽和カルボン酸誘導体が挙げられる。
【００２２】
（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル及び（メタ）アクリル酸ベンジルが挙げられる。
【００２３】
その他の光重合性単量体としては、例えば、２官能の（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。２官能の（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びトリプロピレンジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００２４】
光重合性単量体としては、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２５】
（ａ）成分は、可とう性に優れる観点から、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を有する共重合体であることが好ましい。当該共重合体において、（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチル又は（メタ）アクリル酸エチルが好ましい。
【００２６】
光重合性単量体を重合させるための重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が挙げられる。ラジカル重合開始剤としては、可逆的付加開裂連鎖移動重合（ＲＡＦＴ重合）に用いられる重合開始剤を適宜使用することができる。
【００２７】
ラジカル重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化アセチル、過酸化ラウロイル、過酸化ジ−ｔｅｒｔ−ブチル、クメンヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ジクミルペルオキシド等の過酸化物開始剤；ＡＩＢＮ（２，２´−アゾビスイソブチロニトリル）、Ｖ−６５（アゾビスジメチルバレロニトリル）等のアゾ開始剤が挙げられる。これらのうち、低沸点の溶媒を使用できること、及び、副反応が起こりにくいこと等の観点から、アゾ開始剤が好ましく、ＡＩＢＮがより好ましい。
【００２８】
（ａ）成分の重量平均分子量は、解像度に優れる観点から、１００００以上が好ましく、１５０００以上がより好ましく、２００００以上が更に好ましく、３００００以上が特に好ましい。（ａ）成分の重量平均分子量は、解像度に優れる観点から、２０００００以下が好ましく、１５００００以下がより好ましく、１０００００以下が更に好ましい。（ａ）成分の重量平均分子量は、標準ポリスチレンの検量線を用いてゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により下記の条件で測定することができる。
［ＧＰＣ条件］
ポンプ：日立  Ｌ−６０００型（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立  Ｌ−３３００型ＲＩ（株式会社日立製作所製、製品名）
（ｂ）成分である光重合性化合物としては、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を用いることができる。エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば、一官能ビニルモノマー、二官能ビニルモノマー、及び、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーが挙げられる。
【００２９】
一官能ビニルモノマーとしては、例えば、上記（ａ）成分の好適な例である共重合体の合成に用いられる重合性単量体として例示した（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸アルキルエステル、並びに、これらと共重合可能なモノマーが挙げられる。
【００３０】
二官能ビニルモノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（エチレン基の数が２〜１４のもの）、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（プロピレン基の数が２〜１４のもの）；
ビスフェノールＡポリオキシエチレンジ（メタ）アクリレート（２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート；
多価カルボン酸（無水フタル酸等）と水酸基及びエチレン性不飽和基を有する物質（β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等）とのエステル化物が挙げられる。
【００３１】
上記のビスフェノールＡポリオキシエチレンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ビスフェノールＡジオキシエチレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡトリオキシエチレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡペンタオキシエチレンジ（メタ）アクリレート及びビスフェノールＡデカオキシエチレンジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００３２】
少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーとしては、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、及び、グリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物が挙げられる。多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。グリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００３３】
（ｃ）成分である光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ，Ｎ´，Ｎ´−テトラメチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン（別名ミヒラーケトン）、４−メトキシ−４´−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン等の芳香族ケトン；
２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナンタラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン類；
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物；
ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；
１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）等のオキシムエステル化合物；
２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド化合物；
ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体；
２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；
９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９´−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体；
Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物、オキサゾール系化合物が挙げられる。２つの２，４，５−トリアリールイミダゾールのアリール基の置換基は同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸との組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。
【００３４】
これらの中でも、形成する保護膜の透明性に優れる観点、及び、パターン形成能（例えば、厚さが１０μｍ以下であるときのパターン形成能）に優れる観点から、オキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物が好ましい。
【００３５】
感光層２０における（ａ）成分の配合量は、塗膜性に優れ、エッジフュージョン（樹脂が感光性エレメント端部から染み出す現象）が抑制される観点から、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、４０質量部以上が好ましく、５０質量部以上がより好ましい。（ａ）成分の配合量は、感度の低下が抑制されると共に機械強度が弱くなることが抑制される観点から、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、８０質量部以下が好ましく、７０質量部以下がより好ましい。
【００３６】
感光層２０における（ｂ）成分の配合量は、感度の低下が抑制されると共に機械強度が弱くなることが抑制される観点から、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、２０質量部以上が好ましく、３０質量部以上がより好ましい。（ｂ）成分の配合量は、塗膜性に優れ、エッジフュージョン（樹脂が感光性エレメント端部から染み出す現象）が抑制される観点から、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、６０質量部以下が好ましく、５０質量部以下がより好ましい。
【００３７】
感光層２０における（ｃ）成分の配合量は、充分な感度が得られる観点から、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１質量部以上が好ましく、０．２質量部以上がより好ましい。（ｃ）成分の配合量は、露光の際に組成物の表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となることを抑制する観点から、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。
【００３８】
感光層２０は、必要に応じて、マラカイトグリーン等の染料；トリブロモメチルフェニルスルホン、ロイコクリスタルバイオレット等の光発色剤；ｐ−トルエンスルホンアミド等の可塑剤；熱発色防止剤、顔料、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、密着性付与剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋剤を任意成分として含有していてもよい。当該任意成分のそれぞれの含有量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して例えば０．０１〜２０質量部である。上記任意成分は、１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００３９】
感光層２０は、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエステル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルアセトアミド等の溶剤又はこれらの混合溶剤に構成成分を溶解して得られた固形分３０〜６０質量％程度の溶液を支持フィルム１０上に塗布した後に乾燥することで形成することができる。次いで、感光層２０上に保護フィルム３０を積層することにより感光性エレメント１が得られる。
【００４０】
感光層２０の厚さ（乾燥後の厚さ）は、２０μｍ未満である。また、感光層２０の厚さは、気泡が発生することを抑制する効果が得られ易くなる観点から下記の厚さが好ましい。すなわち、感光層２０の厚さは、追従性の低下を抑制し、欠陥が発生することを抑制する観点から、１μｍ以上が好ましく、２μｍ以上がより好ましく、５μｍ以上が更に好ましい。感光層２０の厚さは、形成すべき凹凸の高さに対して余計な樹脂が多く合理的でなくなることを抑制する観点から、１５μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、９μｍ以下が更に好ましく、８μｍ以下が特に好ましく、７μｍ以下が極めて好ましい。なお、感光層２０の厚さが１０μｍを超える場合であっても、微細な凹凸を形成すること自体に不都合はない。
【００４１】
感光層２０の３０℃における粘度は、エッジフュージョン（樹脂が感光性エレメント端部から染み出す現象）が抑制される観点から、１５ＭＰａ・ｓ以上が好ましく、２５ＭＰａ・ｓ以上がより好ましい。感光層２０の３０℃における粘度は、樹脂流動の低下が抑制され、エアーボイドが発生することが抑制され易くなる観点から、５０ＭＰａ・ｓ以下が好ましく、４０ＭＰａ・ｓ以下がより好ましい。
【００４２】
保護フィルム３０は、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートからなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する。保護フィルム３０は、例えば、ポリプロピレンフィルム、又は、ポリエチレンテレフタレートフィルムである。
【００４３】
保護フィルム３０は、感光層２０側の主面（第１の面）３０ａと、主面３０ａの反対側の主面（第２の面）３０ｂと、を有しており、主面３０ａ及び主面３０ｂが平滑である（両面平滑である）。
【００４４】
本明細書において「両面平滑」とは、下記のいずれかの要件を満たす場合とする。
【００４５】
（１）主面３０ａ及び主面３０ｂの算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以下である。
【００４６】
（２）主面３０ａ及び主面３０ｂの最大高さＲｍａｘが０．５μｍ以下である。
上記要件（１）又は（２）を満たすことで、感光層に凹凸が転写することを防止することができると推察される。ラミネートに際して気泡が発生することを更に抑制する観点からは、上記要件（１）及び要件（２）を満たすことが好ましい。
【００４７】
算術平均粗さ（Ｒａ）及び最大高さ（Ｒｍａｘ）は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に準拠して測定することができる。算術平均粗さ（Ｒａ）及び最大高さ（Ｒｍａｘ）は、カットオフ値を０．０８ｍｍに設定すると共に測定長さを２．５ｍｍに設定して測定することができる。「カットオフ値」とは、日本工業規格ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に定義される粗さ曲線のカットオフ値のことであり、位相補償形高域フィルタの利得が５０％になる周波数に対応する波長を示すものである。
【００４８】
算術平均粗さ（Ｒａ）は、ラミネートに際して気泡が発生することを更に抑制する観点から、０．０４μｍ以下が好ましく、０．０３μｍ以下がより好ましく、０．０２μｍ以下が更に好ましく、０．０１μｍ以下が特に好ましい。
【００４９】
最大高さ（Ｒｍａｘ）は、ラミネートに際して気泡が発生することを更に抑制する観点から、０．４μｍ以下が好ましく、０．３μｍ以下がより好ましく、０．２μｍ以下が更に好ましく、０．１μｍ以下が特に好ましい。
【００５０】
算術平均粗さ（Ｒａ）及び最大高さ（Ｒｍａｘ）は、例えば、下記の手順により測定することができる。
（ｉ）超深度形状測定顕微鏡（ＶＫ−Ｘ２００  ＫＥＹＥＮＣＥ社製）を用いて、測定対象の主面を観察（例えば、倍率１０００倍）し、一つの測定領域を任意に選択する。
（ｉｉ）選択した測定領域について算術平均粗さ（Ｒａ）及び最大高さ（Ｒｍａｘ）を測定する。
（ｉｉｉ）上記工程（ｉ）及び工程（ｉｉ）を繰り返して測定値を計３回取得し、繰り返し３回の平均値を算術平均粗さ（Ｒａ）及び最大高さ（Ｒｍａｘ）として採用する。
【００５１】
保護フィルム３０の厚さは、保護フィルムの充分な強度が得られるため、感光層２０に保護フィルム３０を貼り合わせる際に破断することが抑制される観点から、１μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましく、１５μｍ以上が更に好ましい。保護フィルム３０の厚さは、価格が高くなることを抑制すると共に、保護フィルムをラミネートする際にシワが発生することを抑制する観点から、１００μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、３５μｍ以下が更に好ましい。
【００５２】
保護フィルム３０としては、例えば、Ｅ−２０１Ｆ（王子エフテックス社製、両面平滑ポリプロピレンフィルム）が挙げられる。
【００５３】
保護フィルム３０のヘーズ値は、ラミネートに際して気泡が発生することが更に抑制される観点から、０．５０％以下が好ましく、０．４５％以下がより好ましく、０．４０％以下が更に好ましい。ヘーズ値は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に準拠して測定することができる。ヘーズ値は、例えば、濁度計（日本電色工業株式会社製、商品名「ＮＤＨ５０００」）を用いて測定できる。
【００５４】
感光層２０と支持フィルム１０との接着強度は、感光層２０と保護フィルム３０との接着強度よりも大きいことが好ましい。感光層２０と支持フィルム１０との接着強度が感光層２０と保護フィルム３０との接着強度以上であると、ラミネート時に保護フィルム３０を除去する際、感光層２０が保護フィルム３０側に転写する傾向がある。
【００５５】
感光性エレメント１は、例えば、支持フィルム１０上に上記感光性樹脂組成物を塗布、乾燥して感光層２０を形成した後に、保護フィルム３０を感光層２０上に積層することにより得ることができる。
【００５６】
感光性エレメント１の４００〜７００ｎｍの波長域における平均光透過率は、ラミネートに際して気泡が発生することが更に抑制される観点から、８０％以上が好ましく、８５％以上がより好ましい。光透過率は、ＵＶ分光計（例えば、株式会社日立製作所製、紫外可視分光光度計（Ｕ−３３１０））、濁度計（例えば、日本電色工業株式会社製、商品名「ＮＤＨ５０００」）等により測定することができる。
【００５７】
感光性エレメント１の厚さは、ラミネート気泡の発生を更に抑制する観点から、２０μｍ以上が好ましく、３０μｍ以上がより好ましい。
【００５８】
感光性エレメント１において、感光層２０は、支持フィルム１０及び／又は保護フィルム３０と接していてもよい。一方、本実施形態に係る感光性エレメントは、支持フィルム１０及び保護フィルム３０の間に感光層２０に加えて別の層が積層されていてもよく、感光層２０は支持フィルム１０及び／又は保護フィルム３０と接していなくてもよい。例えば、図１（ｂ）に示される感光性エレメント（感光性導電フィルム）１ａは、支持フィルム１０、感光層２０及び保護フィルム３０に加えて、支持フィルム１０及び感光層２０の間に配置された（Ｄ）導電層４０を更に備えている。なお、感光性エレメント１ａにおいて、導電層４０には、感光層２０の感光性樹脂組成物中の成分が含浸されていてもよい。
【００５９】
感光性エレメント１は、例えば、そのままの平板状の形態、又は、円筒状等の巻芯にロール状に巻き取った形態で貯蔵することができる。巻芯の材質としては、従来用いられているものであれば特に限定されず、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）等のプラスチックが挙げられる。貯蔵時には、支持フィルムが最も外側になるように巻き取られることが好ましい。ロール状に巻き取られた感光性エレメント（感光性エレメントロール）の端面には、端面保護の観点から、端面セパレータを設置することが好ましい。加えて、ロール状に巻き取られた感光性エレメントの端面には、耐エッジフュージョンの観点から、防湿端面セパレータを設置することが好ましい。感光性エレメントを梱包する際には、透湿性の小さいブラックシートに包んで包装することが好ましい。
【００６０】
（レジストパターンの製造方法）
本実施形態に係るレジストパターンの製造方法（形成方法）は、積層工程と、露光工程と、現像工程と、硬化工程とをこの順に備えている。以下、感光性エレメント１を用いた方法を一例として示す。
【００６１】
積層工程では、感光性エレメント１の保護フィルム３０を剥離した後に感光層２０及び支持フィルム１０を基材上に積層する。感光層２０及び支持フィルム１０は、感光層２０、支持フィルム１０の順に基材上に配置されるように基材上に積層される。
【００６２】
感光性エレメント１が積層される基材は、ＩＴＯフィルム、ＩＴＯをパターニングしたフィルム、ＩＴＯを全面エッチングしたフィルムである。フィルムの材質に制限はない。ＩＴＯパターンを見えにくくするために、フィルムとＩＴＯ層の屈折率の差を調整することが好ましく、フィルムとＩＴＯ層の間に、屈折率調整層を入れることができる。屈折率調整層として、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｔｉ及びこれらの酸化物を使うことができ、特に制限はない。また、ＩＴＯパターンは公知のフォトリソ工程でパターニングでき、ＩＴＯのエッチング液も公知のもので良い。屈折率調整層はＩＴＯのエッチング液で溶解しないため、ＩＴＯフィルムをエッチングした表面には屈折率調整層が存在する。
【００６３】
積層工程における感光層２０の加熱温度は５０〜１３０℃が好ましく、９０〜１３０℃がより好ましい。圧着圧力は０．１〜１．０ＭＰａ（１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ２）が好ましい。但し、加熱温度及び圧着圧力は上記条件に限られるものではない。感光層２０を上記のように５０〜１３０℃に加熱する場合、微細な凹凸構造を有する基材を予め予熱処理する必要はないが、積層性を更に向上させるために基材の予熱処理を行うこともできる。
【００６４】
露光工程では、感光層２０の所定部分に活性光線を照射して感光層２０に光硬化部を形成する。感光層２０上に存在する支持フィルム１０が透明である場合には、支持フィルム１０を介して活性光線を感光層２０へ照射してもよい。支持フィルム１０が不透明の場合には、支持フィルム１０を除去する。感光層２０の保護の観点からは、支持フィルム１０は透明であることが好ましい。
【００６５】
活性光線の光源としては、公知の光源（例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線を有効に放射する光源）が用いられる。その他に、写真用フラッド電球、太陽ランプ等の可視光を有効に放射する光源を用いることもできる。
【００６６】
現像工程では、感光層２０における光硬化部以外の部分を除去してレジストパターンを得る。現像工程では、露光工程後、必要に応じて支持フィルム１０を除去する。支持フィルム１０が微細な凹凸を有する場合、硬化した樹脂（感光層２０）から支持フィルム１０を引き剥がすことで、所望の微細形状が転写された感光層２０を得ることができる。引き剥がす工程は、手で行うことが一般的であるが、何らかの治具、機械を用いることで効率的に処理が可能になる。
【００６７】
硬化工程では、活性光線を０．５〜２．０Ｊ／ｃｍ２で照射する。照射処理は、感光層２０から支持フィルム１０を引き剥がす前に行ってもよく、感光層２０から支持フィルム１０を引き剥がした後に行ってもよい。
（電子部品）
本実施形態に係る電子部品は、上記レジストパターンの製造方法により得られるレジストパターンを有している。電子部品としては、例えば、タッチパネル、プリント配線板又は電子ペーパが挙げられる。
【実施例】
【００６８】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれに制限されるものではない。
（実施例１）
＜感光性樹脂組成物の溶液の調製＞
バインダーポリマー溶液を下記のとおり作製した。まず、撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す成分（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温した。反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す成分（２）を４時間かけて均一に滴下した。成分（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量（Ｍｗ）が約８００００のバインダーポリマー溶液（固形分４５質量％）を得た。
【００６９】
【表１】
2015153936.tif 000003
【００７０】
なお、重量平均分子量は、下記条件にてゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。
［ＧＰＣ条件］
ポンプ：日立  Ｌ−６０００型（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立  Ｌ−３３００型ＲＩ（株式会社日立製作所製、製品名）
【００７１】
下記表２に示す各成分を、表２に示す配合量（質量部単位）で混合することにより、感光性樹脂組成物の溶液を調製した。なお、（ａ）成分の不揮発分の質量（固形分量）が、表２に示す配合量となるように、上記で合成したバインダーポリマー溶液を混合した。
【００７２】
【表２】
2015153936.tif 000004
【００７３】
表２の各成分の詳細は下記のとおりである。
（ａ）バインダーポリマー
ＰＭ−３００：上記で合成したバインダーポリマー
（ｂ）光重合性化合物
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート（日本化薬株式会社製）
（ｃ）光重合開始剤
ＯＸＥ−０１：１，２−オクタンジオン，１−［（４−フェニルチオ）フェニル−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ社製）
（その他の成分）
ＡＷ−５００：フェノール系重合禁止剤（ＡＮＴＡＧＥ  Ｗ−５００、２，２´−メチレン−ビス（４−エチル−６−ＴＥＲＴ−ブチルフェノール）、川口化学工業株式解社製）
ＳＨ−３０：シリコーンレベリング剤（東レ・ダウコーニング株式会社製）
【００７４】
＜感光性エレメントの作製＞
上記で得られた感光性樹脂組成物の溶液を厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績株式会社製、製品名「Ａ−１５１７」）上に均一に塗布した。７０℃及び１１０℃の熱風対流式乾燥器で順次乾燥処理して、乾燥後の厚さが５μｍである感光層を形成した。感光層と保護フィルム（王子エフテックス社製、製品名「Ｅ−２０１Ｆ」）とを貼り合わせることにより、ポリエチレンテレフタレートフィルム（支持フィルム）と、感光層と、保護フィルムとが順に積層された感光性エレメントを得た。得られた感光性エレメントを円筒状の巻芯にロール状に巻き取った。
【００７５】
＜積層工程＞
保護フィルムを剥離した後、下記ラミネート条件（９０℃、２ｍ／分）で感光性エレメントの感光層を基材に転写した。基材としては、ＩＴＯ−ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ、幅５００ｍｍ）を用いた。
［ラミネート条件］
ラミネートロール温度：９０℃（上下とも）
ラミネート速度；２．０ｍ／分
ロール線圧：０．６３ＭＰａ
【００７６】
＜露光工程＞
高圧水銀灯ランプを有する露光機（株式会社オーク製作所製、商品名「ＨＭＷ−２０１Ｂ」）の焼枠内に上記サンプルを置いて、真空引きした後、支持フィルムであるＰＥＴフィルム面に５０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で活性光線を照射した。
【００７７】
＜現像工程＞
支持フィルムであるＰＥＴフィルムをはく離し、感光層を露出した後、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を３０秒間スプレーすることにより現像した。
【００７８】
＜硬化工程＞
高圧水銀灯ランプを有するコンベア露光機（株式会社オーク製作所製、商品名「ＱＲＭ−２３１７−Ｆ」）を使用して、１Ｊ／ｃｍ２の露光量で活性光線を照射し、サンプルを作製した。
【００７９】
（実施例２〜８、比較例１〜８）
積層工程の基材として、ＩＴＯ−ＰＥＴフィルムと、ＩＴＯ−ＰＥＴフィルムのＩＴＯをエッチングした屈折率調整層（ＳｉＯ２）−ＰＥＴフィルムを使用し、硬化工程の露光量を表４のように変えてサンプルを作製した。
【００８０】
＜密着性評価＞
実施例１〜８及び比較例１〜８のサンプルの密着性をＪＩＳ  Ｋ−５６００−５−６に準じた方法で評価した。すなわち、感光層に１ｍｍ間隔にカッターで切れ目を入れ、更に直角に交差する様に切れ目を入れ、１ｍｍ角正方形を１００個作った後、ＪＩＳ  Ｋ−５６００−５−６で定義された粘着テープ（２５ｍｍ幅当たり１０±１Ｎの付着強さをもつもの）を圧着させ、６０秒経過後に粘着テープを０．５〜１秒の速さで１８０°の角度で引き剥がし、表３の判定基準で評価した。実施例１〜８及び比較例１〜８についての評価結果を表４に示す。
【００８１】
【表３】
2015153936.tif 000005
【００８２】
【表４】
2015153936.tif 000006
【００８３】
表４に示されるように、硬化工程の活性光線露光量を０．５〜２．０Ｊ／ｃｍ２にすることで、レジストとＩＴＯフィルム基材のＩＴＯ層および屈折率調整層の密着性を良好にすることができる。
【産業上の利用可能性】
【００８４】
本発明によれば、感光性エレメントが薄層の感光層を有する場合であっても、レジストとＩＴＯフィルム基材のＩＴＯ層および屈折率調整層の密着性が良好なレジストパターンの製造方法及び電子部品を提供することができる。
【符号の説明】
【００８５】
１，１ａ…感光性エレメント、１０…支持フィルム、２０…感光層、３０…保護フィルム、３０ａ…主面（第１の面）、３０ｂ…主面（第２の面）、４０…導電層。
【図１】
2015153936.tif 000007