(57)【要約】【課題】モスアイ構造の反射防止物品に関して、従来に比して一段と写り込みを低減する。【解決手段】微小突起５が密接して配置され、隣接する微小突起５の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品において、微小突起５の付け根部分を順次辿って作成される谷底の包絡面６がうねりを呈するように形成される。谷底の包絡面６は、平均間隔Ｓｍが１００μｍ以上、６００μｍ以下であり、平均傾斜角θａが０．１度以上、１．２度以下であり、１０点平均粗さＲｚが０．２μｍ超過、１．０μｍ以下である。【選択図】図２
2015184428.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品において、
前記微小突起の付け根部分を順次辿って作成される谷底の包絡面がうねりを呈するように形成され、
前記谷底の包絡面は、
平均間隔Ｓｍが１００μｍ以上、６００μｍ以下であり、
平均傾斜角θａが０．１度以上、１．２度以下であり、
１０点平均粗さＲｚが０．２μｍ超過、１．０μｍ以下である
反射防止物品。
【請求項２】
前記微小突起は、
頂点を複数有する微小突起である多峰性微小突起と、頂点が１つの微小突起である単峰性微小突起とが混在している
請求項１に記載の反射防止物品。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の反射防止物品を画像表示パネルのパネル面に配置した
画像表示装置。
【請求項４】
反射防止物品の製造に供する反射防止物品の製造用金型において、
前記反射防止物品は、
微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品であり、
前記微小突起の付け根部分を順次辿って作成される谷底の包絡面がうねりを呈するように形成され、
前記反射防止物品の製造用金型は、
前記微小突起に対応する微細穴が密接して作製され、
前記微細穴の作製された面が、前記谷底の包絡面に対応してうねりを呈する凹凸面であり、
平均間隔Ｓｍが１００μｍ以上、６００μｍ以下であり、
平均傾斜角θａが０．１度以上、１．２度以下であり、
１０点平均粗さＲｚが０．２μｍ超過、１．０μｍ以下である
反射防止物品の製造用金型。
【請求項５】
微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の製造方法において、
賦型処理用の製造用金型を作製する金型作製工程と、
前記製造用金型を使用した賦型処理により前記反射防止物品を作製する賦型処理工程とを備え、
前記金型作製工程は、
母材の表面に、うねりを呈する表面形状による下地層を作製する下地層の作製工程と、
陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、前記下地層に前記微小突起に対応する微細穴を作製する微細穴作製工程とを備え、
前記下地層の作製工程は、
前記母材の表面に、前記うねりに対応する表面形状による凹凸面層を作製する凹凸面層の作製工程と、
前記凹凸面層の表面にアルミニウム層を作製するアルミニウム層の作製工程とを備える
反射防止物品の製造方法。
【請求項６】
微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の製造方法において、
賦型処理用の製造用金型を作製する金型作製工程と、
前記製造用金型を使用した賦型処理により前記反射防止物品を作製する賦型処理工程とを備え、
前記金型作製工程は、
支持体の表面に、うねりを呈する表面形状による凹凸面層を作製する凹凸面層の作製工程と、
前記凹凸面層の表面に、転写用支持体層を作製する転写用支持体層の作製工程と、
前記転写用支持体層を前記凹凸面層より剥離する剥離工程と、
前記剥離工程で剥離した前記転写用支持体層の表面にアルミニウム層を作製するアルミニウム層の作製工程と、
陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、前記アルミニウム層の表面に前記微小突起に対応する微細穴を作製する微細穴作製工程と、
前記微細穴を作製してなるアルミニウム層と前記転写用支持体層との積層体を母材に配置する配置工程とを備える
反射防止物品の製造方法。
【請求項７】
微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の製造用金型の製造方法において、
母材の表面に、うねりを呈する表面形状による下地層を作製する下地層の作製工程と、
陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、前記下地層に前記微小突起に対応する微細穴を作製する微細穴作製工程とを備え、
前記下地層の作製工程は、
前記母材の表面に、前記うねりに対応する表面形状による凹凸面層を作製する凹凸面層の作製工程と、
前記凹凸面層の表面にアルミニウム層を作製するアルミニウム層の作製工程とを備える
反射防止物品の製造用金型の製造方法。
【請求項８】
微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の製造用金型の製造方法において、
支持体の表面に、うねりを呈する表面形状による凹凸面層を作製する凹凸面層の作製工程と、
前記凹凸面層の表面に、転写用支持体層を作製する転写用支持体層の作製工程と、
前記転写用支持体層を前記凹凸面層より剥離する剥離工程と、
前記剥離工程で剥離した前記転写用支持体層の表面にアルミニウム層を作製するアルミニウム層の作製工程と、
陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、前記アルミニウム層の表面に前記微小突起に対応する微細穴を作製する微細穴作製工程と、
前記微細穴を作製してなるアルミニウム層と前記転写用支持体層との積層体を母材に配置する配置工程とを備える
反射防止物品の製造用金型の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下の間隔で多数の微小突起を密接配置して反射防止を図る反射防止物品に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、フィルム形状の反射防止物品である反射防止フィルムに関して、透明基材（透明フィルム）の表面に多数の微小突起を密接して配置することにより、反射防止を図る方法が提案されている（特許文献１〜３参照）。この方法は、いわゆるモスアイ（ｍｏｔｈ  ｅｙｅ（蛾の目））構造の原理を利用したものであり、入射光に対する屈折率を基板の厚み方向に連続的に変化させ、これにより屈折率の不連続界面を消失させて反射防止を図るものである。
【０００３】
このモスアイ構造に係る反射防止物品では、隣接する微小突起の間隔ｄが、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長Λｍｉｎ以下（ｄ≦Λｍｉｎ）となるように、微小突起が密接して配置される。また各微小突起は、透明基材に植立するように、さらに透明基材より先端側に向かうに従って徐々に断面積が小さくなるように（先細りとなるように）作製される。
【０００４】
この種のモスアイ構造に係る反射防止フィルムでは、反射率を低くできることにより、例えば液晶表示装置等の画像表示装置に適用して、コントラストを改善し、視認性を向上することができる。しかしながらこのような画像表示装置の視認性については、一段と改善することが求められ、このためには一段と写り込みを低減することが求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開昭５０−７００４０号公報
【特許文献２】特表２００３−５３１９６２号公報
【特許文献３】特許第４６３２５８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、モスアイ構造の反射防止物品に関して、従来に比して一段と写り込みを低減することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、反射光を散乱させて反射防止を図る防眩層の表面形状にモスアイ構造に係る微小突起を作成するようにして、この防眩層に係る表面形状を適切に設定する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
【０００８】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【０００９】
（１）  微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品において、
前記微小突起の付け根部分を順次辿って作成される谷底の包絡面がうねりを呈するように形成され、
前記谷底の包絡面は、
平均間隔Ｓｍが１００μｍ以上、６００μｍ以下であり、
平均傾斜角θａが０．１度以上、１．２度以下であり、
１０点平均粗さＲｚが０．２μｍ超過、１．０μｍ以下である。
【００１０】
（１）によれば、モスアイ構造による反射防止機能に、谷底の包絡面の曲面形状により反射防止を図る機能を適切に付加し、写り込みを一段と低減することができる。
【００１１】
（２）  （１）において、
前記微小突起は、
頂点を複数有する微小突起である多峰性微小突起と、頂点が１つの微小突起である単峰性微小突起とが混在している。
【００１２】
（２）によれば、さらに耐擦傷性を向上し、さらには反射防止機能を向上することができる。
【００１３】
（３）  （１）又は（２）に記載の反射防止物品を画像表示パネルのパネル面に配置した画像表示装置。
【００１４】
（３）によれば、写り込みを一段と低減して、十分に反射防止を図るようにしてなる画像表示装置を提供することができる。
【００１５】
（４）  反射防止物品の製造に供する反射防止物品の製造用金型において、
前記反射防止物品は、
微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品であり、
前記微小突起の付け根部分を順次辿って作成される谷底の包絡面がうねりを呈するように形成され、
前記反射防止物品の製造用金型は、
前記微小突起に対応する微細穴が密接して作製され、
前記微細穴の作製された面が、前記谷底の包絡面に対応してうねりを呈する凹凸面であり、
平均間隔Ｓｍが１００μｍ以上、６００μｍ以下であり、
平均傾斜角θａが０．１度以上、１．２度以下であり、
１０点平均粗さＲｚが０．２μｍ超過、１．０μｍ以下である。
【００１６】
（４）によれば、モスアイ構造による反射防止機能に、谷底の包絡面の曲面形状により反射防止を図る機能を適切に付加し、写り込みを一段と低減することができる反射防止物品に関して、賦型処理により効率良く生産することができる。
【００１７】
（５）  微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の製造方法において、
賦型処理用の製造用金型を作製する金型作製工程と、
前記製造用金型を使用した賦型処理により前記反射防止物品を作製する賦型処理工程とを備え、
前記金型作製工程は、
母材の表面に、うねりを呈する表面形状による下地層を作製する下地層の作製工程と、
陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、前記下地層に前記微小突起に対応する微細穴を作製する微細穴作製工程とを備え、
前記下地層の作製工程は、
前記母材の表面に、前記うねりに対応する表面形状による凹凸面層を作製する凹凸面層の作製工程と、
前記凹凸面層の表面にアルミニウム層を作製するアルミニウム層の作製工程とを備える。
【００１８】
（５）によれば、反射光を散乱させて反射防止を図る防眩層の作製手法を有効に利用して凹凸面層を作製した後、この凹凸面層の表面形状による曲面に微小突起に対応する微細穴を作製することができる。
【００１９】
（６）  微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の製造方法において、
賦型処理用の製造用金型を作製する金型作製工程と、
前記製造用金型を使用した賦型処理により前記反射防止物品を作製する賦型処理工程とを備え、
前記金型作製工程は、
支持体の表面に、うねりを呈する表面形状による凹凸面層を作製する凹凸面層の作製工程と、
前記凹凸面層の表面に、転写用支持体層を作製する転写層用支持体の作製工程と、
前記転写用支持体層を前記凹凸面層より剥離する剥離工程と、
前記剥離工程で剥離した前記転写用支持体層の表面にアルミニウム層を作製するアルミニウム層の作製工程と、
陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、前記アルミニウム層の表面に前記微小突起に対応する微細穴を作製する微細穴作製工程と、
前記微細穴を作製してなるアルミニウム層と前記転写用支持体層との積層体を母材に配置する配置工程とを備える。
【００２０】
（６）によれば、反射光を散乱させて反射防止を図る防眩層の作製手法を有効に利用して凹凸面層を作製した後、この凹凸面層の表面形状による曲面に微小突起に対応する微細穴を作製することができ、これにより反射光を散乱させて反射防止を図る防眩層の作製手法を有効に利用して、写り込みを一段と低減することができる反射防止物品を効率良く生産することができる。
【００２１】
（７）  微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の製造用金型の製造方法において、
母材の表面に、うねりを呈する表面形状による下地層を作製する下地層の作製工程と、
陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、前記下地層に前記微小突起に対応する微細穴を作製する微細穴作製工程とを備え、
前記下地層の作製工程は、
前記母材の表面に、前記うねりに対応する表面形状による凹凸面層を作製する凹凸面層の作製工程と、
前記凹凸面層の表面にアルミニウム層を作製するアルミニウム層の作製工程とを備える。
【００２２】
（７）によれば、賦型処理により反射防止物品を作製する場合に、反射光を散乱させて反射防止を図る防眩層の作製手法を有効に利用して凹凸面層を作製した後、この凹凸面層の表面形状による曲面に微小突起に対応する微細穴を作製することができる。
【００２３】
（８）  微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の製造用金型の製造方法において、
支持体の表面に、うねりを呈する表面形状による凹凸面層を作製する凹凸面層の作製工程と、
前記凹凸面層の表面に、転写用支持体層を作製する転写用支持体層の作製工程と、
前記転写用支持体層を前記凹凸面層より剥離する剥離工程と、
前記剥離工程で剥離した前記転写用支持体層の表面にアルミニウム層を作製するアルミニウム層の作製工程と、
陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、前記アルミニウム層の表面に前記微小突起に対応する微細穴を作製する微細穴作製工程と、
前記微細穴を作製してなるアルミニウム層と前記転写用支持体層との積層体を母材に配置する配置工程とを備える。
【００２４】
（８）によれば、賦型処理により反射防止物品を作製する場合に、この賦型処理に供する製造用金型を、反射光を散乱させて反射防止を図る防眩層の作製手法を有効に利用して作製することができる。
【発明の効果】
【００２５】
モスアイ構造の反射防止物品に関して、従来に比して一段と写り込みを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る反射防止物品を示す概念斜視図である。
【図２】図１の反射防止物品の詳細を示す図である。
【図３】多峰性微小突起の説明に供する図である。
【図４】多峰性微小突起の写真である。
【図５】隣接突起の説明に供する図である。
【図６】極大点の説明に供する図である。
【図７】ドロネー図を示す図である。
【図８】隣接突起間距離の計測に供する度数分布図である。
【図９】微小高さの説明に供する度数分布図である。
【図１０】実施例と比較例との比較結果を示す図表である。
【図１１】図１０とは異なる検討結果を示す図表である。
【図１２】写り込みの詳細検討に供した計測系を示す図である。
【図１３】比較検討用の試料の計測結果を示す図である。
【図１４】比較例１の計測結果を示す図である。
【図１５】比較例４の計測結果を示す図である。
【図１６】実施例の計測結果を示す図である。
【図１７】図１３〜図１６の計測結果を入射角８０度についてまとめた図である。
【図１８】図１３〜図１６の計測結果を入射角１０度についてまとめた図である。
【図１９】図１の反射防止物品の製造工程を示す図である。
【図２０】図１の反射防止物品に係るロール版を示す図である。
【図２１】図２０のロール版の作製工程を示す図である。
【図２２】下地層の作製工程を示すフローチャートである。
【図２３】下地層の作製工程を示す図である。
【図２４】陽極酸化処理とエッチング処理との詳細説明に供する図である。
【図２５】本発明の第２実施形態に係る金型作製工程の説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を詳述する。なお以下において、適宜、頂点を複数有する微小突起を多峰性微小突起と呼び、頂点が１つのみの微小突起を単峰性の微小突起と呼ぶ。
【００２８】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る反射防止物品を示す図（概念斜視図）である。この反射防止物品１は、全体形状がフィルム形状により形成された反射防止フィルムである。この実施形態に係る画像表示装置では、この反射防止物品１が画像表示パネルの視聴者側面（パネル面）に貼り付けられて保持され、この反射防止物品１により日光、電燈光等の外来光の画面における反射を低減して視認性を向上する。なお反射防止物品は、その形状を平坦なフィルム形状とする場合に限らず、平坦なシート形状、平板形状（相対的に厚みの薄い順に、フィルム、シート、板と呼称する）とすることもでき、また平坦な形状に代えて、湾曲形状、立体形状を呈したフィルム形状、シート形状、板形状とすることもでき、さらには各種レンズ、各種プリズム等の立体形状のものを用途に応じて適宜採用することができる。
【００２９】
ここで反射防止物品１は、透明フィルムによる基材２の表面に多数の微小突起を密接配置して作製される。ここで基材２は、例えばＴＡＣ（Triacetylcellulose）、等のセルロース(纖維素)系樹脂、ＰＭＭＡ(ポリメチルメタクリレート)等のアクリル系樹脂、ＰＥＴ（Polyethylene  terephthalate）等のポリエステル系樹脂、ＰＰ（ポリプロピレン）等のポリオレフィン系樹脂、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）等のビニル系樹脂、ＰＣ（Polycarbonate）等の各種透明樹脂フィルムを適用することができる。なお上述したように反射防止物品の形状はフィルム形状に限らず、種々の形状を採用可能であることにより、基材２は、反射防止物品の形状に応じて、これらの材料の他に、例えばソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ＰＬＺＴ等のセラミックス、石英、螢石等の各種透明無機材料等を適用することができる。
【００３０】
反射防止物品１は、基材２上に、微小突起群からなる微細な凹凸形状の受容層となる未硬化状態の樹脂層（以下、適宜、受容層と呼ぶ）を形成し、該受容層を賦型処理して硬化せしめ、これにより基材２の表面に微小突起が密接して配置される。この実施形態では、この受容層４に、賦型処理に供する賦型用樹脂の１つであるアクリレート系紫外線硬化性樹脂が適用され、基材２上に紫外線硬化性樹脂層（４）が形成される。反射防止物品１は、この微小突起による凹凸形状により厚み方向に徐々に屈折率が変化するように作製され、モスアイ構造の原理により広い波長範囲で入射光の反射を低減する。
【００３１】
〔受容層の表面形状〕
反射防止物品１は、図２に示すように、受容層４の厚みが、面内方向で変動するように受容層４の表面形状が作製され、その結果、微小突起５の付け根部分を順次辿って作成される曲面（微小突起５の谷底に係る包絡面であり、以下、谷底の包絡面と呼ぶ）６が、所定のうねりを呈するように形成される。この実施形態において、このうねりは、谷底の包絡面６の表面形状が、反射光を散乱させて反射防止を図る防眩層の表面形状（防眩フィルムの表面形状である）と等しい形状になるように設定され、これにより従来に比して一段と写り込みを低減する。
【００３２】
すなわち微小突起の密接配置により反射防止を図る場合であっても、単に平坦面上に微小突起を密接配置して反射防止フィルムを構成した場合、例えば画像表示パネルのパネル面にこの反射防止フィルムを貼り付けて斜め方向よりパネル面を観察すると、ぼやけてはいるもの天井の蛍光管の写り込みを見て取ることができる。これによりこの種の反射防止物品では、写り込みの低減に改善の余地がある。
【００３３】
種々に検討したところ、この実施形態のように、谷底の包絡面６を、反射光を散乱させて反射防止を図る防眩層の表面形状と等しい形状とすれば、モスアイ構造に係る反射防止の効果に、防眩層による反射防止の効果を付与することができ、これによりモスアイ構造による反射防止物品に関して、従来に比して一段と写りこみを低減し、かつ広い角度でその効果を発現することができる。
【００３４】
ここで谷底の包絡面６は、凹凸の平均間隔Ｓｍ（符号Ｄにより示す間隔の平均値である）が、１００μｍ以上、６００μｍ以下に、より好ましくは、２００μｍ以上、５００μｍ以下に設定される。ここで平均間隔Ｓｍが１００μｍより小さくなると、平坦面に微小突起を密接配置した場合の状態に近づき、（ここでは凹凸形状は最表面上に現れるものとする）表面における乱反射成分が増加し、上に述べた様に十分に写り込みを低減できなくなるからである。また平均間隔Ｓｍが、６００μｍより大きくなると、表面にざらつき感、もしくは凸部において視覚的に点状のムラ感が感じられることになるからである。
【００３５】
また谷底の包絡面６は、凹凸面の平均傾斜角θａが、０．１度以上、１．２度以下に、より好ましくは０．３度以上、１．０度以下に、設定される。ここで平均傾斜角θａが、０．１度より小さくなると、平坦度の増加により平滑な状態に近づき、あるいは平坦面下に微小突起を密接配置した場合の状態に近づき、上に述べた様に十分に写り込みを低減できなくなるからである。また均傾斜角θａが１．２度より大きくなると、表面にざらつき感が感じられ易くなるからである。
【００３６】
また谷底の包絡面６は、１０点平均粗さＲｚが０．２μｍ超過、１．０μｍ以下に、より好ましくは、１０点平均粗さＲｚが０．４μｍ以上、０．８μｍ以下に設定される。ここで１０点平均粗さＲｚが小さすぎる場合には、平滑な状態に近づき、あるいは平坦面下に微小突起を密接配置した場合の状態に近づいて上に述べた様に十分に写り込みを低減できなくなるからであり、大きすぎる場合には、表面での乱反射成分の増加により画面が視認しにくくなったり、表面にざらつき感が感じられ易くなるからである。これによりこの実施形態では、谷底の包絡面６を防眩層の表面形状と等しい形状に設定して、効果的に写り込みを低減することができる。
【００３７】
なお１０点平均粗さＲｚは、谷底の包絡面６の表面形状を２次元又は３次元のプロファイルとして測定して求められる。より具体的に、表面形状は、走査型プローブ顕微鏡又は原子間力顕微鏡を用いて２次元又は３次元のプロファイルを測定し、測定により求められたプロファイル曲線データから１０点平均粗さＲｚを算出する。因みに、１０点平均粗さＲｚとは、平均値からもとめた偏差の値のうち、最大のものから上位５つの偏差の値の平均と、最小のものから下位５つの偏差の値の絶対値の平均の値の和として表される。
【００３８】
また平均間隔Ｓｍ、平均傾斜角θａは、例えば表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／（株）小坂研究所製）を使用して計測することができる。なお平均傾斜角θａは、縦横比率Δaにより傾斜を表して、θａ（度）＝tan−１Δa＝tan−１（各凹凸の極小部と極大部の差（各凸部の高さに相当）の総和/基準長さ）で求められる。「基準長さ」は、例えば２．５ｍｍである。
【００３９】
〔微小突起の形状〕
さらに反射防止物品１では、単峰性微小突起と多峰性微小突起５Ａ、５Ｂとが混在するように設定される。ここで多峰性微小突起５Ａ、５Ｂは、頂点を複数有する微小突起であり、単峰性微小突起は、頂点が１つのみの微小突起である。これによりこの実施形態では、反射防止物品の耐擦傷性を向上する。
【００４０】
すなわち図３は、この多峰性微小突起５Ａ、５Ｂ及び単峰性微小突起の説明に供する図である。なおこの図３は、理解を容易にするために模式的に示す図であり、図３（ａ）は、連続する微小突起の頂点を結ぶ折れ線により断面を取って示す図である。この図３（ｂ）及び（ｃ）において、ｘｙ方向は、基材２の面内方向であり、ｚ方向は微小突起の高さ方向である。
【００４１】
反射防止物品１において、多くの微小突起５は、基材２より離れて頂点に向かうに従って徐々に断面積（高さ方向に直交する面（図１１においてＸＹ平面と平行な面）で切断した場合の断面積）が小さくなって、頂点が１つにより作製される。しかしながら中には、複数の微小突起が結合したかのように、先端部分に溝ｇが形成され、頂点が２つになったもの（５Ａ）、頂点が３つになったもの（５Ｂ）、さらには頂点が４つ以上のもの（図示略）を存在させることができる。単峰性微小突起５の形状は、概略、回転放物面の様な頂部の丸い形状、或いは円錐の様な頂点の尖った形状で近似することができる。一方、多峰性微小突起５Ａ、５Ｂの形状は、概略、単峰性微小突起５の頂部近傍に溝状の凹部を切り込んで、頂部を複数の峰に分割したような形状で近似される。
【００４２】
このような頂点を複数有する多峰性微小突起は、単峰性微小突起に比して、頂点近傍の寸法に対する裾の部分の太さが相対的に太く、多峰性微小突起に比して周長が長い。これにより、多峰性微小突起は、単峰性微小突起に比して機械的強度が優れていると言える。これにより頂点を複数有する多峰性微小突起が存在する場合、反射防止物品では、単峰性微小突起のみによる場合に比して耐擦傷性が向上することになる。具体的に反射防止物品に外力が加わった場合、単峰性微小突起のみの場合に比して、外力をより多くの頂点で分散して受ける為、各頂点に加わる外力を低減し、微小突起が損傷し難いようにすることができ、これにより反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。また仮に微小突起が損傷した場合でも、その損傷個所の面積を低減することができる。更に、多峰性微小突起は、外力を先ず各峰部分が受止めて犠牲的に損傷することによって、該多峰性微小突起の峰より低い本体部分、及び該多峰性微小突起よりも高さの低い微小突起の損耗を防ぐことができる。これによっても反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。
【００４３】
なお多峰性微小突起は、その存在により耐擦傷性を向上できるものの、充分に存在しない場合には、この耐擦傷性を向上する効果を十分に発揮できないことは言うまでもない。係る観点より、表面に存在する全微小突起中における多峰性微小突起の個数の比率は１０％以上とすることが望まれる。特に多峰性微小突起による耐擦傷性を向上する効果を十分に奏する為には、該多峰性微小突起の比率は３０％以上、好ましくは５０％以上であることが望まれる。またこのように単峰性微小突起の存在比率を設定することにより、スティッキングを生じ難くすることができ、その結果、スティッキングによる特性の劣化を有効に回避することができる。またさらに単峰性微小突起と多峰性微小突起とを混在させる場合には、アスペクト比の異なる単峰性微小突起を混在させた場合と同様に、広い波長帯域で反射率を低減することができる。
【００４４】
図４は、頂点が複数の微小突起を示す写真であり、図４（ａ）は、ＡＦＭによるものであり、図４（ｂ）及び（ｃ）は、ＳＥＭによるものである。図４（ａ）では、溝ｇ及び３つの頂点を有する微小突起、及び溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起（２峰の多峰性微小突起）を見て取ることができ、図４（ｂ）では、溝ｇ及び４つの頂点を有する微小突起（４峰の多峰性微小突起）、及び溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起を見て取ることができ、図４（ｃ）では、溝ｇ及び３つの頂点を有する微小突起（３峰の多峰性微小突起）、溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起を見て取ることができる。
【００４５】
［隣接突起間距離］
反射防止物品１に作製される微小突起は、隣接する微小突起の間隔ｄが、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長Λｍｉｎ以下（ｄ≦Λｍｉｎ）となるように密接して配置される。この実施形態では、画像表示パネルに配置して視認性を向上させることを主目的とするため、この最短波長は、個人差、視聴条件を加味した可視光領域の最短波長（３８０ｎｍ）に設定され、間隔ｄは、ばらつきを考慮して１００〜３００ｎｍとされる。またこの間隔ｄに係る隣接する微小突起は、いわゆる隣り合う微小突起であり、基材２側の付け根部分である微小突起の裾の部分が接している突起である。反射防止物品１では微小突起が密接して配置されることにより、微小突起間の谷の部位を順次辿るようにして線分を作製すると、平面視において各微小突起を囲む多角形状領域を多数連結してなる網目状の模様が作製されることになる。間隔ｄに係る隣接する微小突起は、この網目状の模様を構成する一部の線分を共有する突起である。
【００４６】
なお微小突起に関しては、より詳細には以下のように定義される。モスアイ構造による反射防止では、透明基材表面とこれに隣接する媒質との界面における有効屈折率を、厚み方向に連続的に変化させて反射防止を図るものであることから、微小突起に関しては一定の条件を満足することが必要である。この条件のうちの１つである突起の間隔に関して、例えば特開昭５０−７００４０号公報、特許第４６３２５８９号公報等に開示のように、微小突起が一定周期で規則正しく配置されている場合、隣接する微小突起の間隔ｄは、突起配列の周期Ｐ（ｄ＝Ｐ）となる。これにより可視光線帯域の最長波長をλｍａｘ、最短波長をλｍｉｎとした場合に、最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最小限の条件は、Λｍｉｎ＝λｍａｘであるため、Ｐ≦λｍａｘとなり、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λｍｉｎ＝λｍｉｎであるため、Ｐ≦λｍｉｎとなる。
【００４７】
なお波長λｍａｘ、λｍｉｎは、観察条件、光の強度（輝度）、個人差等にも依存して多少幅を持ち得るが、標準的には、λｍａｘ＝７８０ｎｍ及びλｍｉｎ＝３８０ｎｍとされる。これらにより可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、ｄ≦３００ｎｍであり、より好ましい条件は、斜め方向（基材２表面の法線に対して４５度以上に角度をなす方向）から見た場合の白濁感を低減させる点から、ｄ≦２００ｎｍとなる。なお反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、周期ｄの下限値は、通常、ｄ≧５０ｎｍ、好ましくは、ｄ≧１００ｎｍとされる。これに対して突起の高さＨは、十分な反射防止効果を発現させる観点より、Ｈ≧０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍ（λｍａｘ＝７８０ｎｍとして）とされる。
【００４８】
しかしながらこの実施形態のように、微小突起が不規則に配置されている場合には、隣接する微小突起間の間隔ｄはばらつきを有することになる。より具体的には、図５に示すように、基材の表面又は裏面の法線方向から見て平面視した場合に、微小突起が一定周期で規則正しく配列されていない場合、突起の繰り返し周期Ｐによっては隣接突起間の間隔ｄは規定し得ず、また隣接突起の概念すら疑念が生じることになる。そこでこのような場合、以下のように算定される。
【００４９】
（１）すなわち先ず、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＡＦＭ）又は走査型電子顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：ＳＥＭ）を用いて突起の面内配列（突起配列の平面視形状）を検出する。なお図５は、実際に原子間力顕微鏡により求められた拡大写真である。
【００５０】
（２）続いてこの求められた面内配列から各突起の高さの極大点（以下、単に極大点と呼ぶ）を検出する。なお極大点を求める方法としては、（ａ）平面視形状の拡大写真上における平面座標とこれと対応する断面形状から求めた高さデータとを逐次対比して極大点を求める方法、（ｂ）ＡＦＭで得られた基材上の平面座標における高さ分布データを２次元画像化してなる平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法等、種々の手法を適用することができる。図５はＡＦＭによる拡大写真（画像濃度が高さに対応する）であり、図６は、図５に示した拡大写真に係る画像データの処理による極大点の検出結果を示す図であり、この図において黒点により示す個所がそれぞれ各突起の極大点である。なおこの処理では４．５×４．５画素のガウシアン特性によるローパスフィルタにより事前に画像データを処理し、これによりノイズによる極大点の誤検出を防止した。また８画素×８画素による最大値検出用のフィルタを順次スキャンすることにより１ｎｍ（＝１画素）単位で極大点を求めた。
【００５１】
（３）次に検出した極大点を母点とするドロネー図（Ｄｅｌａｕｎａｒｙ  Ｄｉａｇｒａｍ）を作製する。ここでドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる３角形の集合体からなる網状図形である。各３角形は、ドロネー３角形と呼ばれ、各３角形の辺（隣接母点同士を結ぶ線分）は、ドロネー線と呼ばれる。図７は、図６から求められるドロネー図（白色の線分により表される図である）を図６による原画像と重ね合わせた図である。ドロネー図は、ボロノイ図（Ｖｏｒｏｎｏｉ  ｄｉａｇｒａｍ）と双対の関係に有る。またボロノイ分割とは、各隣接母点間を結ぶ線分（ドロネー線）の垂直２等分線同士によって画成される閉多角形の集合体からなる網状図形で平面を分割することを言う。ボロノイ分割により得られる網状図形がボロノイ図であり、各閉領域がボロノイ領域である。
【００５２】
（４）次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間の距離（以下、隣接突起間距離と呼ぶ）の度数分布を求める。図８は、図７のドロネー図から作製した度数分布のヒストグラムである。なお図５において符号５Ａ及び５Ｂにより示すように、突起の頂部に溝状等の凹部が存在したり、あるいは頂部が複数の峰に分裂している場合は、求めた度数分布から、このような突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している微細構造に起因するデータを除去し、突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を作製する。
【００５３】
具体的には、突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している多峰性微小突起に係る微細構造においては、このような微細構造を備えてい無い単峰性微小突起の場合の数値範囲から、隣接極大点間距離が明らかに大きく異なることになる。これによりこの特徴を利用して対応するデータを除去することにより突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を検出する。より具体的には、例えば図５に示すような微小突起（群）の平面視の拡大写真から、５〜２０個程度の互いに隣接する単峰性微小突起を選んで、その隣接極大点間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに外れる値（通常、標本抽出して求められる隣接極大点間距離平均値に対して、値が１／２以下のデータ）を除外して度数分布を検出する。図８の例では、隣接極大点間距離が５６ｎｍ以下のデータ（矢印Ａにより示す左端の小山）を除外する。なお図６は、このような除外する処理を行う前の度数分布を示すものである。因みに上述の極大点検用のフィルタの設定により、このような除外する処理を実行してもよい。
【００５４】
（５）このようにして求めた隣接突起間距離ｄの度数分布から平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求める。ここでこのようにして得られる度数分布を正規分布とみなして平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求めると、図８の例では、平均値ｄＡＶＧ＝１５８ｎｍ、標準偏差σ＝３８ｎｍとなった。これにより隣接突起間距離ｄの最大値を、ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σとし、この例ではｄｍａｘ＝２３４ｎｍとなる。
【００５５】
なお同様の手法を適用して突起の高さを定義する。この場合、上述の（２）により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。図９は、このようにして求められる突起付け根位置を基準（高さ０）とした突起高さＨの度数分布のヒストグラムを示す図である。このヒストグラムによる度数分布から突起高さの平均値ＨＡＶＧ、標準偏差σを求める。ここでこの図９の例では、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍ、標準偏差σ＝３０ｎｍである。これによりこの例では、突起の高さは、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍとなる。なお図９に示す突起高さＨのヒストグラムにおいて、多峰性微小突起の場合は、頂点を複数有していることにより、１つの突起に対してこれら複数のデータが混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂点の中から高さの最も高い頂点を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。
【００５６】
なお上述した突起の高さを測る際の基準位置は、隣接する微小突起の間の谷底（高さの極小点）を高さ０の基準とする。但し、例えば図２について上述したように、谷底の高さが微小突起の隣接突起間距離に比べて大きな周期でウネリを有する場合において、係る谷底の高さ自体が場所によって異なる場合は、（１）先ず、基材２の表面又は裏面から測った各谷底の高さの平均値を、該平均値が收束するに足る面積の中で算出する。（２）次いで、該平均値の高さを持ち、基材２の表面又は裏面と平行な面を基準面として考える。（３）その後、該基準面を改めて高さ０として、該基準面からの各微小突起の高さを算出する。
【００５７】
突起が不規則に配置されている場合には、このようにして求められる隣接突起間距離の最大値ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σ、突起の高さの平均値ＨＡＶＧが、規則正しく配置されている場合の上述の条件を満足することが必要であることが判った。具体的には、反射防止効果を発現する微小突起間距離の条件は、ｄｍａｘ≦Λｍｉｎとなる。最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最短限の条件は、Λｍｉｎ＝λｍａｘであるため、ｄｍａｘ≦λｍａｘとなり、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λｍｉｎ＝λｍｉｎであるため、ｄｍａｘ≦λｍｉｎとなる。そして、可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、ｄｍａｘ≦３００ｎｍであり、更に好ましい条件は、ｄｍａｘ≦２００ｎｍである。また反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、通常、ｄｍａｘ≧５０ｎｍであり、好ましくは、ｄｍａｘ≧１００ｎｍとされる。また突起高さについては、十分な反射防止効果を発現する為には、ＨＡＶＧ≧０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍ（λｍａｘ＝７８０ｎｍとして）とされる。
【００５８】
因みに、図５〜図９の例により説明するとｄｍａｘ＝２３４ｎｍ≦λｍａｘ＝７８０ｎｍとなり、ｄｍａｘ≦λｍａｘの条件を満足して十分に反射防止効果を奏し得ることが判る。また可視光線帯域の最短波長λｍｉｎが３８０ｎｍであることから、可視光線の全波長帯域において反射防止効果を発現する十分条件ｄｍａｘ≦λｍｉｎも満たすことが判る。また平均突起高さＨＡＶＧ＝１７８ｎｍであることにより、平均突起高さＨＡＶＧ≧０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍとなり（可視光波長帯域の最長波長λｍax＝７８０ｎｍとして）、十分な反射防止効果を実現するための突起の高さに関する条件も満足していることが判る。なお標準偏差σ＝３０ｎｍであることから、ＨＡＶＧ−σ＝１４８ｎｍ＜０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍとの関係式が成立することから、統計学上、全突起の５０％以上、８４％以下が、突起の高さに係る条件（１７８ｎｍ以上）の条件を満足していることが判る。なおＡＦＭ及びＳＥＭによる観察結果、並びに微小突起の高さ分布の解析結果から、多峰性微小突起は相対的に高さの低い微小突起よりも高さの高い微小突起でより多く生じる傾向にあることが判明した。
【００５９】
〔計測結果〕
図１０及び図１１は、この実施形態に係る反射防止物品（実施例）と比較例とについて、画像表示パネルのパネル面に配置する場合についての評価結果を示す図表である。ここで実施例（包絡面＋微小突起）は、図８及び図９の計測に供した微小突起を備え、包絡面６における凹凸の平均間隔Ｓｍが１００μｍ、平均傾斜角θａが１．２度、１０点平均粗さＲｚが１．０μｍである。比較例１（平坦面＋微小突起）は、谷底の包絡面６の平均間隔Ｓｍ、平均傾斜角θａ、１０点平均粗さＲｚの何れもが上述した実施形態に比して平坦であり、この谷底の包絡面６に係る構成を除いて、実施例１と同一に構成されたモスアイ構造のみによる反射防止物品である。比較例２（包絡面のみ（実施形態の範囲外）＋微小突起）は、実施例１に係る谷底の包絡面と同一の表面形状による凹凸面のみにより反射防止を図る反射防止フィルムである。また比較例３（包絡面（実施形態の範囲外）＋微小突起）は、平均間隔Ｓｍが９０μｍ、平均傾斜角θａが１．５度、１０点平均粗さＲｚが１．５μｍによる凹凸面のみにより反射防止を図る反射防止フィルムであり、比較例４（包絡面（実施形態の範囲外）＋微小突起）は、この比較例３の凹凸面と同一の表面形状による谷底の包絡面６に図８、図９の計測に供した微小突起を設けたものである。
【００６０】
低反射性能は、正面方向の反射率を評価したものであり、正反射性は、斜め４５度の入射角による入射光についての、正反射率を評価したものである。ここで◎印は、画像表示パネルのパネル面に配置して十分に実用に供する低反射率であることを示し、○印は、◎印の場合程ではないものの、十分に実用に供する程度に低反射率であることを示す。また×印は、反射率が大きく、実用に供しない場合を示し、△印は、×印による場合程、反射率は大きくないものの、実用に供するには不十分と判断される場合である。
【００６１】
写り込みは、正面方向から観察した場合の写りこみの評価であり、斜め写り込みは、斜め方向から観察した場合の評価である。ここで◎印は、蛍光灯等の光源の写り込みを殆んど認識できない場合であり、○印は、実用に供する程度に十分に写り込みが低減されてはいるものの、蛍光灯の写り込みを把握することができる場合である。△印及び×印は、写り込みに改善の余地がある場合であって、この改善の余地の大小による判定である。写り込みに係る角度依存性は、見る角度の変化による写り込みの程度の変化を評価するものであり、この変化の小さい場合を「角度依存性小」とし、変化の大きい場合を「角度依存性あり」とした。
【００６２】
またつやあり黒表現は、表示画面の見え方の評価であり、○印は、表面に透明感があり、表示画面を黒色により見て取ることができる場合であり、×印は、表面に透明感が欠け、表示画面が白っぽく見える場合である。総合性能は、これらの評価を総合的に判断した評価であり、◎印は、実用に供する程度以上に十分に各種の性能が優れている場合であり、△印は一部の性能が不十分な場合であり、×印は、殆んどの性能が不十分な場合である。
【００６３】
この図１０の比較結果によれば、モスアイ構造のみによる反射防止物品（比較例１）に係る欠点を、谷底の包絡面の設定により改善し、十分に写り込みを低減することができ、また角度依存性も小さくすることができ、さらに表示画面を、透明感を有する黒色に設定できることが判る。
【００６４】
また図１１と図１０との比較により、谷底の包絡面の形状が上述した範囲より逸脱する場合には、モスアイ構造にとの組み合わせに係る場合（比較例４）でも、谷底の包絡面６の表面形状のみによる場合（比較例３）でも、十分に写り込みを低減できないことが判り、また表示画面も白味を帯びたものになることが判る。
【００６５】
〔写り込みの詳細検討〕
図１２（Ａ）は、写り込みの評価に供する計測系の説明に供する図である。この実施形態では、この図１２（Ａ）に示す計測系を使用してより詳細に写り込みを評価した。ここでこの計測系は、線状光源を使用して写り込み計測用の基準光を作成し、この基準光を試料表面に斜め入射し、この資料表面に形成される光源像を基準光の正反射方向からデジタルカメラにより撮影して評価する。
【００６６】
より具体的に、この計測系では、平行光線を出射する光源（図示せず）の前に、スリットＳ（スリット幅２ｍｍ）を有する遮光板を、このスリットＳの延長方向が試料表面と並行になるように、かつ試料に斜め入射する基準光の光軸に対して遮光板が直交するように、遮光板を配置して線状光源を形成する。このようにして基準光の正反射方向から試料表面を観察すると、図１２（Ｂ）により示すように、写り込みによる光源像が試料表面に形成され、写り込みの低減効果が高い程、この光源像を認識できなくなる。
【００６７】
この実施形態では、この基準光の入射角θを順次段階的に変化させ、各入射角θで、基準光の正反射方向から試料表面の光源像を撮影する。また符号Ｌにより示すように、光源像を横切る方向に撮影結果の諧調を順次計測して評価した。諧調は、輝度レベルを一定の判定基準値によりクリップし、このクリップした輝度レベルを２５６諧調とし、黒の輝度レベルを０諧調として表現した。
【００６８】
なおこの実施形態では、全ての試料で撮像結果より写り込みを観察可能に、デジタルカメラに係る各種パラメータ（例えば絞り、露光時間等である）を設定して撮影したことにより、この２５６諧調以上の光量については、飽和して測定困難となっており、その結果、後述する計測結果では、判定基準値以上の光量である正反射成分の光量については、計測困難となっている。
【００６９】
しかしながらこのような判定基準値以上の光量計測については、撮影方法に次の改善を加えることで、測定不能領域を低減し個々の実施形態の光源像の差をより明確にできる。すなわち（１）全ての試料の、輝度の高い光源像から輝度の低い試料表面まで写り込むように、デジタルカメラの絞り値・シャッター速度を調整する。（２）ダイナミックレンジの広いハイダイナミックレンジ撮影することで、撮影可能な輝度レベルの範囲を拡げることができ、判定基準値をより高く設定できる。これにより、試料の測定不能領域を減らし、試料同士の鏡面反射の差をより明確にできる。（３）ゴニオフォトメータを用いて試料表面の鏡面反射のエネルギーを測定する。これにより、各試料の鏡面反射の光強度を絶対値で比較することができる。
【００７０】
図１３は、比較検討用の試料の計測結果を示す図である。この試料は、表面が鏡面であるいわゆる黒アクリルであり、横軸は、光源像を横切る方向の位置である。この比較検討用の計測結果によれば、入射角θを種々に変化させた場合にあっても、光源像のエッジに対応する箇所で諧調が急激に判定基準値（上述の２５６階調であり、今回測定設定範囲では、映りこみ改善に注力したため上限を超え測定不能領域である）以上に立ち上がっており、著しい写り込みの発生を確認することができる。
【００７１】
図１４は、比較例１の計測結果を示す図である。この場合、比較検討用試料の計測結果に比して、判定基準値以上に諧調が立ち上がっている範囲が狭いことにより、図１３の例に比して、視認される光源像が細って観察されることが判る。また入射角θが小さくなるに従ってピークの諧調が徐々に低下しており、またピーク値自体も図１３の例に比して小さいことにより、写り込みの低減効果を見て取ることができる。しかしながら諧調の急激な立ち上がりが存在することにより、光源像自体、見て取ることができる。これらにより映り込みの低減については、未だ改善の余地が存在することが判る。
【００７２】
図１５は、比較例４の計測結果を示す図である。この場合、図１４の例に比して諧調の急激な変化が緩和されていることにより、光源像がぼやけていること判り、これにより谷の包絡面を凹凸形状とした効果を見て取ることができる。しかしながら各入射角θにおけるピーク値は、図１４の例に比して大差無く、これによりぼやけてはいるものの光源像の明るさに変化が無いことが判る。
【００７３】
図１６は、実施例の計測結果を示す図である。この場合、図１５の例に比して一段と諧調の急激な変化が緩和されていることにより、一段と光源像がぼやけて観察されること判り、これにより谷の包絡面を上述した曲面形状による凹凸形状とした効果を見て取ることができる。また各入射角θにおけるピーク値も、図１４、図１５の例に比して一段と低減されており、これによっても光源像が一段と判り難くなっていることが判る。なお図１３〜図１６における０諧調を基準とした相対値による計測結果と目視確認結果との比較により、別途計測した絶対値光量による比較例、実施例の計測結果（黒を０基準とした計測結果である）と目視確認結果との比較により、この実施形態に係る計測系による５０諧調以下については、目視により写り込みを視認できないことが判明した。これにより図１６では、５０諧調より大きな諧調の領域が図１３〜図１５の計測結果に比して格段的に小さいく、さらにこの５０諧調以上の諧調にあっても、５０諧調からの立ち上がりが小さいことにより、従来に比して格段的に写り込みを抑圧できることが判る。
【００７４】
図１７及び図１８は、この図１３〜図１６の計測結果を、入射角θ＝１０度及び８０度についてまとめた図である。符号Ｌ１は、実施例を示し、符号Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４は、比較例４、比較例１、比較検討用の試料による計測結果である。この図１７及び図１８によれば、実施例における写り込みの低減効果を比較例１等との比較により確認することができる
【００７５】
〔製造工程〕
図１９は、この反射防止物品１の製造工程を示す図である。この製造工程１０は、樹脂供給工程において、ダイ１２により帯状フィルム形態の基材２に微小突起形状の受容層４を構成する未硬化で液状のアクリレート系紫外線硬化性樹脂を塗布する。なお紫外線硬化性樹脂の塗布については、ダイ１２による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いてこの製造工程１０は、押圧ローラ１４により、反射防止物品の賦型用金型であるロール版１３の周側面に基材２を加圧押圧し、これにより基材２に未硬化状態で液状の紫外線硬化性樹脂を密着させると共に、ロール版１３の周側面に作製された微細な凹凸形状の凹部に紫外線硬化性樹脂を充分に充填する。この製造工程は、この状態で、紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させ、これにより基材２の表面に微小突起群を作製する。この製造工程は、続いて剥離ローラ１５を介してロール版１３から、硬化した紫外線硬化性樹脂と一体に基材２を剥離する。製造工程１０は、必要に応じてこの基材２に粘着層等を作製した後、所望の大きさに切断して反射防止物品１を作製する。これにより反射防止物品１は、ロール材による長尺の基材２に、賦型用金型であるロール版１３の周側面に作製された微細形状を順次賦型して、効率良く大量生産される。
【００７６】
〔ロール版作製工程〕
図２０は、ロール版１３の構成を示す斜視図である。ロール版１３は、円筒形状の金属材料である母材の周側面の表面形状が、谷底の包絡面６に対応する曲面形状とされた後、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにより、この曲面形状に微細な凹凸形状が作製され、この微細な凹凸形状が、谷底の包絡面６に係る曲面形状と共に基材２に賦型される。このためロール版１３は、少なくとも周側面に純度の高いアルミニウム層が設けられた円柱形状又は円筒形状の部材が母材に適用される。またこのアルミニウム層の表面形状が、谷底の包絡面６に対応する曲面形状とされる。より具体的に、この実施形態では、母材に中空のステンレスパイプが適用され、直接に又は各種の中間層を介して、純度の高いアルミニウム層が、谷底の包絡面６に対応する曲面形状により設けられる。なおステンレスパイプに代えて、銅やアルミニウム等のパイプ材等を適用してもよい。ロール版１３は、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、母材の周側面に微細穴が密に作製され、この微細穴を掘り進めると共に、開口部に近付くに従ってより大きな径となるようにこの微細穴の穴径を徐々に拡大して凹凸形状が作製される。これによりロール版１３は、深さ方向に徐々に穴径が小さくなる微細穴が密に作製され、反射防止物品１には、この微細穴に対応して、頂部に近付くに従って徐々に径が小さくなる多数の微小突起により微細な凹凸形状が作製される。
【００７７】
図２１は、ロール版１３の製造工程を示す図である。この製造工程は、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の周側面を超鏡面化する（電解研磨）。
【００７８】
続いてこの工程は、下地層作製工程により、谷底の包絡面６に対応する曲面形状を備え、さらに表面がアルミニウム層による下地層が母材の周側面に作製され、これにより母材の周側面の曲面形状が包絡面６に対応する曲面形状とされる。続いてこの工程は、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮ、エッチング工程Ｅ１、…、ＥＮを交互に繰り返して下地層に微細穴を作製し、これによりロール版１３を作製する。
【００７９】
より具体的に、この製造工程において、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮでは、陽極酸化法により母材の周側面に微細な穴を作製し、さらにこの作製した微細な穴を掘り進める。ここで陽極酸化工程では、例えば負極に炭素棒、ステンレス板材等を使用する場合のように、アルミニウムの陽極酸化に適用される各種の手法を広く適用することができる。また溶解液についても、中性、酸性の各種溶解液を使用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ（蓚）酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。この製造工程Ａ１、…、ＡＮは、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な穴をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製する。
【００８０】
続くエッチング工程Ｅ１、…、ＥＮは、母材をエッチング液に浸漬し、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮにより作製、掘り進めた微細な穴の穴径をエッチングにより拡大し、深さ方向に向かって滑らか、かつ徐々に穴径が小さくなるように、これら微細な穴を整形する。なおエッチング液については、この種の処理に適用される各種エッチング液を広く適用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。これらによりこの製造工程では、陽極酸化処理とエッチング処理とを交互にそれぞれ複数回実行することにより、賦型に供する微細穴を母材の周側面に作製する。尚、陽極酸化処理で用いたシュウ酸水溶液等の陽極酸化処理液自体は、電圧を印加することなく、母材に接触させればエッチング液として機能する。従って、陽極酸化処理液とエッチング液とを同じ液とし、同液を入れた槽中に母材を浸漬したまま、順次、所定時間所定電圧を印加することで陽極酸化処理を行い、電圧無印加で所定時間浸漬することによってエッチング処理を行うこともできる。
【００８１】
図２２は、下地層作製工程を詳細に示すフローチャートであり、図２３は、このフローチャートに係る詳細構成を示す図である。下地層作製工程は、図２３（Ａ）に示すように、始めに凹凸面作製工程により、母材２１の周側面に、谷底の包絡面に対応する曲面形状を作製する。ここで谷底の包絡面の曲面形状が、反射光を散乱させて反射防止を図る防眩層の表面形状と等しい形状であることにより、凹凸面作製工程では、この種の反射防止フィルムにおける防眩層の作製に供する手法を適用して母材２１の周側面に凹凸面層２２を作製することにより、谷底の包絡面に対応する曲面形状を作製する。
【００８２】
このような凹凸面層２２の作製手法としては、例えば特許５１７０６３４号明細書に開示されている手法である、１）樹脂に微粒子を添加した防眩性用組成物を用いて凹凸形状を有した防眩層を形成する方法、２）微粒子を添加しないで、樹脂等のみを含んだ防眩性用組成物を用いて凹凸形状を有した防眩層を形成する方法、３）凹凸形状を付与する処理を用いて防眩層を形成する方法を適用することができる。これによりこの実施形態では、塗工液をダイ等により塗工した後、硬化等の処理を実行して凹凸面層２２を作製する。なお凹凸面層２２は、厚さが０．５μｍ以上、２７μｍ以下であることが好ましいものの、より好ましくは１μｍ以上、１２μｍ以下が望ましい。
【００８３】
この凹凸面層２２は、表面形状が谷底の包絡面６に対応する形状（反転した形状）により作製されることにより、包絡面６の凹凸形状について上述したと同様、平均間隔Ｓｍが１００μｍ以上、６００μｍ以下、平均傾斜角θａが０．１度以上、１．２度以下、１０点平均粗さＲｚが０．２μｍ超過、１．０μｍ以下による表面形状により作製される。
【００８４】
続いてこの製造工程は、凹凸面層２２の表面に、電鋳処理により中間層２３を作製した後、中間層２３の表面にスパッタリングにより陽極酸化処理に供するアルミニウム層２４を作製する（図２３（Ｂ））。ここで中間層２３は、アルミニウム層２４と凹凸面層２２との密着力を強化する目的で設けられ、この種の処理に適用可能な種々の材料を適用することができるものの、この実施形態ではニッケルが適用される。なお必要に応じて電鋳処理以外のＣＶＤ(Chemical  Vapor  Deposition)等の手法により中間層を作製しても良く、実用上十分な場合には、中間層を省略してもよい。
【００８５】
これによりこの実施形態では、凹凸面層２２、中間層２３、アルミニウム層２４の積層体により下地層が作製され、この下地層に、微小突起５に対応する微細穴が作製されてロール版１３が作製される（図２３（Ｃ））。
【００８６】
〔陽極酸化処理、エッチング処理の詳細〕
図２４は、このような単峰性微小突起と多峰性微小突起とを混在させる場合について、図２１における陽極酸化処理、エッチング処理を詳細に示す図である。ここで陽極酸化処理の印加電圧と作製される微細穴のピッチとは比例関係である。しかしながら実際上、処理に供するアルミニウムの粒界等により微細穴のピッチは種々にばらつく。但し、この図２４においては、このようなばらつきが無いものとして、また微細穴が規則正しい配列により作製されるものとして説明する。なお図２４（ａ）〜（ｅ）は、それぞれ各工程により作製される微細穴を平面視した図、及びａ−ａ線により切り取って示す対応する断面図である。
【００８７】
ここで始めにこの実施形態では、低い印加電圧Ｖ１により第１の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理（以下、適宜、第１工程と呼ぶ）を実行し、これにより図２４（ａ）に示すように、この低い印加電圧Ｖ１に係る基本ピッチによる微細穴ｆ１を作製する。ここでこの第１の陽極酸化処理は、アルミニウム層の表面に、後続する陽極酸化のきっかけを作製するものである。なおこの場合、必要に応じてこの第１工程のエッチング処理を省略してもよい。
【００８８】
続いてこの実施形態では、第１の陽極酸化時より高い印加電圧Ｖ２（Ｖ２＞Ｖ１）により第２の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理を実行する（以下、適宜、第２工程と呼ぶ）。ここでこの場合、図２４（ｂ）に示すように、印加電圧を上昇させたことにより、第１の陽極酸化処理により作製された微細穴ｆ１のうち、この第２の陽極酸化処理に係る印加電圧に対応する微細穴のみ深さ方向に掘り進められ（符号ｆ２により示す）、エッチング処理されることになる。これによりこの第２の工程により、例えば２段階により印加電圧を可変すれば、深さの異なる分布を呈する微細穴を混在させることができる。
【００８９】
続いてこの実施形態では、第２の陽極酸化時より高い印加電圧Ｖ３（Ｖ３＞Ｖ２）により第３の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理を実行する（以下、適宜、第３工程と呼ぶ）（図２４（ｃ））。ここでこの第３工程は、ピッチの異なる微細穴を作製するための工程である。このためこの工程では、第２の陽極酸化工程における印加電圧Ｖ２から徐々に印加電圧を上昇させる。ここでこの印加電圧の上昇を離散的に（段階的に）実行すると、微小突起の高さ分布を離散的に設定することができ、深さの分布が異なる微細穴を混在させることができる。またこの印加電圧の上昇を連続的に変化させると、深さ分布を正規分布に設定することができる。
【００９０】
さらにこの第３の工程において、陽極酸化に係る特定電圧の印加時間、エッチング処理の時間が、第１、第２工程よりも長く設定され、これにより符号ｆ３により示すように、第１工程、第２工程で作製された微細穴ｆ１、ｆ２を飲み込むように、これら微細穴ｆ１、ｆ２と合体して底部の略平坦な微細穴が作製される。
【００９１】
続いてこの実施形態では、第３の陽極酸化時より高い印加電圧Ｖ４（Ｖ４＞Ｖ３）により第４の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理を実行する（以下、適宜、第４工程と呼ぶ）（図２４（ｄ））。ここでこの第４工程は、目的とする突起間間隔によるピッチにより微細穴を作製するための工程であり、これによりこの印加電圧Ｖ４はこのピッチに対応する電圧である。この第４工程において、印加電圧を上昇させることにより、第３工程により大きく掘り進められた微細穴の一部がさらに一段と掘り進められて、この掘り進められた微細穴が単峰性微小突起に対応する微細穴ｆ４となる。
【００９２】
続いてこの実施形態では、第１工程における印加電圧Ｖ１により第５の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理を実行する（図２４（ｅ））。ここでこの第５の工程において、第３工程により底面が平坦面とされた微細穴であって、第４の工程の陽極酸化処理の影響を受けていない微細穴について、底面に微細な穴が複数個形成され、これにより多峰突起用の微細穴ｆ５が作製される。ここでこの第５工程の印加電圧Ｖ１の大きさを調整することによって、底面に形成される微細な穴ｆ５の数を増やしたり、減らしたりすることができる。
【００９３】
ここでこの一連の工程では、第１及び第２の工程により作製された深さの異なる微細穴ｆ１、ｆ２を、第３の工程で掘り進めて底面の略平坦な微小突起ｆ３を作製し、第４の工程において、単峰性微小突起に係る微細穴を作製し、また第５の工程において、底面が平坦な微小突起ｆ３の底面を加工して単峰性微小突起に係る微細穴を作製していることにより、これら第１〜第４の工程に係る陽極酸化処理の印加電圧、処理時間、エッチング処理の処理時間等を制御して各工程で作製される微細穴の深さ等を制御することにより、微小突起の高さの分布、多峰性微小突起の高さの分布を制御することができる。なおこれら第１〜第５の工程は、必要に応じて省略したり、繰り返したり、工程を一体化してもよいことは言うまでも無い。
【００９４】
以上の構成によれば、モスアイ構造による反射防止機能に、谷底の包絡面の曲面形状により反射防止を図る機能を付加することができ、写り込みを効率良く低減することができ、その結果、モスアイ構造の反射防止物品に関して、従来に比して一段と写り込みを低減することができる。
【００９５】
また上述の構成によれば、このように谷底の包絡面の曲面形状の設定により写り込みを低減するモスアイ構造による反射防止物品の生産に適した、生産用金型（ロール版）、金型及び反射防止物品の生産方法を提供することができる。すなわちこの実施形態によれば、反射光を散乱させて反射防止を図る防眩層の生産手法を適用して、谷底の包括面にうねりを作製することができ、これにより防眩層の作製手法を有効に利用して、写り込みを効率良く低減することができる。特にこのような防眩層にあっては、その表面粗さ等の設定手法が種々に提供されており、これにより谷底の包絡面について、その曲面形状を所望の形状により作製することができる。
【００９６】
またこの実施形態では、母材に下地層を作製して微細穴を作製することにより、生産による包絡面の曲面形状の変化等を有効に回避することができ、耐久力を充分に確保してなるロール版を生産することができる。
【００９７】
〔第２実施形態〕
図２５は、本発明の第２実施形態に係るロール版の製造工程の説明に供する図である。この実施形態では、このロール版の製造工程に係る構成が異なる点を除いて、第１実施形態と同一に構成される。
【００９８】
ここでこの実施形態においては、支持体３１の表面に、第１の実施形態について上述したと同様にして凹凸面層２２を作製し、これにより支持体３１の表面に、谷底の包絡面に対応する曲面形状を作製する（図２５（Ａ））。ここでこの実施形態において、支持体３１は、後述する処理により取り除かれる部材であることにより、防眩フィルムの作製に供する透明フィルム等による各種基材を適用することができるものの、不透明なフィルム材、各種のシート材、板材等を広く適用することができる。またこのように支持体３１の表面に凹凸面層２２を作製する代わりに、同様の凹凸面が作製されてなる防眩フィルム等を適用してもよい。
【００９９】
続いてこの工程は、電鋳処理により凹凸面層２２の表面に、中間層２３を作製する（図２５（Ｂ））。ここでこの工程における中間層２３は、凹凸面層２２の表面形状の転写に供する際の支持体層であり、この実施形態では、例えばニッケルにより作製されるものの種々の材料を広く適用することができ、またさらに電鋳処理に代えてＣＶＤ等、種々の手法を適用することができる。
【０１００】
続いてこの工程は、凹凸面層２２から中間層２３を引きはがし、この引きはがしてなる凹凸面層２２側であった面に、スパッタリングによりアルミニウム層２４を作製する（図２５（Ｃ））。なおこれに代えてこれとは逆側面にアルミニウム層を作製するようにしても良く、この場合には、アルミニウム層を作製した後に、又は後述する微細穴を作製した後に、凹凸面層２２から引きはがすようにしてもよく、これらの場合においては、実用上十分な場合には、転写用支持体層を省略してもよい。
【０１０１】
続いてこの工程は、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、微小突起に対応する微細穴をアルミニウム層２４の表面に作製する（図２５（Ｄ））。続いてこのようにして作製した積層体を、別途、表面を平滑化してなる母材の表面に配置し、これによりロール版を作製する。
【０１０２】
この実施形態よれば、谷底の包絡面の形状に係る凹凸形状を転写して賦型用金型を作製することにより、既存の防眩フィルム材に係る凹凸形状を転写して製造用金型であるロール版を作製することができる。
【０１０３】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更し、さらには従来構成と組み合わせることができる。
【０１０４】
すなわち上述の実施形態では、第１実施形態では、母材の表面に下地層を作製してロール版を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、既存の防眩フィルム材にアルミニウム層を作製した後、微細穴を作製し、その後、このフィルム材を母材表面に配置するようにしても良い。またこれに代えて母材の表面に、既存の防眩フィルム材を配置した後、アルミニウム層を作製し、その後、微細穴を作製するようにしても良い。
【０１０５】
また上述の実施形態では、ロール版を使用した賦型処理によりフィルム形状による反射防止物品を生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて、例えば平板、特定の曲面形状による賦型用金型を使用した枚葉の処理により反射防止物品を作成する場合等、賦型処理に係る工程、金型は、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて適宜変更することができる。
【０１０６】
また上述の実施形態では、賦型用樹脂にアクリレート系の紫外線硬化性樹脂を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、エポキシ系、ポリエステル系等の各種紫外線硬化性樹脂、或いはアクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電子線硬化性樹脂、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂等の各種材料及び各種硬化形態の賦型用樹脂を使用する場合にも広く適用することができ、さらには例えば加熱した熱可塑性の樹脂を押圧して賦型する場合等にも広く適用することができる。
【０１０７】
また、上述の実施形態では、図１に図示の如く、基材２の一方の面上に受容層（紫外線硬化性樹脂層）４を積層してなる積層体の該受容層４上に微小突起群５、５Ａ、５Ｂ、・・を賦形し、該受容層４を硬化せしめて反射防止物品１を形成している。層構成としては２層の積層体となる。但し、本発明は、かかる形態のみに限定される訳では無い。本発明の反射防止物品１は、図示は略すが、基材２の一方の面上に、他の層を介さずに直接、微小突起群５、５Ａ、５Ｂ、・・を賦形した単層構成であっても良い。或いは、基材２の一方の面に１層以上の中間層（層間の密着性、塗工適性、表面平滑性等の基材表面性能を向上させる層。プライマー層、アンカー層等とも呼称される。）を介して受容層４を形成し、該受容層表面に微小突起群５、５Ａ、５Ｂ、・・を賦形した３層以上の積層体であっても良い。
【０１０８】
更に、上述の実施形態では、図１にも図示の如く、基材２の一方の面上にのみ（直接或いは他の層を介して）微小突起群５、５Ａ、５Ｂ、・・を形成しているが、本発明はかかる形態には限定され無い。基材２の両面上に（直接或いは他の層を介して）各々微小突起群５、５Ａ、５Ｂ、・・を形成した構成であっても良い。
また、図示は略すが、図１等に図示の如き本発明の反射防止物品１において、基材２の微小突起群形成面とは反対側の面（図１においては基材２の下側面）に各種接着剤層を形成し、更に該接着剤層表面に離型フィルム（離型紙）を剥離可能に積層してなる接着加工品の形態とすることも出来る。かかる形態においては、離型フィルムを剥離除去して接着剤層を露出せしめ、該接着剤層により所望の物品の所望の表面上に本発明の反射防止物品１を貼り合わせ、積層することが出来、簡便に所望の物品に反射防止性能を付与することが出来る。接着剤としては、粘着剤（感圧接着剤）、２液硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、熱熔融型接着剤等の公知の接着形態のものが各種使用出来る。
【０１０９】
また、図示は略すが、図１等に図示の如き本発明の反射防止物品１において、微小突起群５、５Ａ、５Ｂ、・・形成面上に剥離可能な保護フィルムを仮接着した状態で保管、搬送、売買、後加工乃至施工を行い、しかる後に適時、該保護フィルムを剥離除去する形態とすることも出来る。かかる形態においては、保管、搬送等の間に微小突起群が損傷乃至は汚染して反射防止性能が低下することを防止することが出来る。
【０１１０】
また上述の実施形態では、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより微細穴を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、フォトリソグラフィーの手法を適用して微細穴を作製する場合にも広く適用することができる。
【０１１１】
また上述の実施形態では、反射防止フィルムに係る画像表示パネルにフィルム形状による反射防止物品を配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、種々の用途に適用することができる。具体的には、画像表示パネルの画面上に間隙を介して設置されるタッチパネル、各種の窓材、各種光学フィルタ等による表面側部材の裏面（画像表示パネル側）に配置する用途に適用することができる。
【０１１２】
また店舗のショウウインドウや商品展示箱、美術館の展示物の展示窓や展示箱等に使用する硝子板表面（外界側）、或いは表面及び裏面（商品又は展示物側面）の両面に配置するようにしても良い。なおこの場合、該硝子板表面の光反射防止による商品、美術品等の顧客や観客に対する視認性を向上することができる。
【０１１３】
また眼鏡、望遠鏡、写真機、ビデオカメラ、銃砲の照準鏡（狙撃用スコープ）、双眼鏡、潜望鏡等の各種光学機器に用いるレンズ又はプリズムの表面に配置する場合にも広く適用することができる。この場合、レンズ又はプリズム表面の光反射防止による視認性を向上することができる。またさらに書籍の印刷部（文字、写真、図等）表面に配置する場合にも適用して、文字等の表面の光反射を防止し、文字等の視認性向上することができる。また看板、ポスター、其の他各種店頭、街頭、外壁等における各種表示（道案内、地図、或いは禁煙、入口、非常口、立入禁止等）の表面に配置して、これらの視認性を向上することができる。またさらに白熱電球、発光ダイオード、螢光燈、水銀燈、ＥＬ（電場発光）等を用いた照明器具の窓材（場合によっては、拡散板、集光レンズ、光学フィルタ等も兼ねる）の入光面側に配置するようにして、窓材入光面の光反射を防止し、光源光の反射損失を低減し、光利用効率を向上することができる。またさらに時計、其の他各種計測機器の表示窓表面（表示観察者側）に配置して、これら表示窓表面の光反射を防止し、視認性を向上することができる。
【０１１４】
またさらに、自動車、鉄道車両、船舶、航空機等の乗物の操縦室（運転室、操舵室）の窓の室内側、室外側、あるいはその両側の表面に配置して窓における室内外光を反射防止して、操縦者（運転者、操舵者）の外界視認性を向上することができる。またさらに、防犯等の監視、銃砲の照準、天体観測等に用いる暗視装置のレンズないしは窓材表面に配置して、夜間、暗闇での視認性を向上することができる。
【０１１５】
またさらに、住宅、店舗、事務所、学校、病院等の建築物の窓、扉、間仕切、壁面等を構成する透明基板(窓硝子等)の表面（室内側、室外側、あいはその両側）の表面に配置して、外界の視認性、あるいは採光効率を向上することができる。またさらに、温室、農業用ビニールハウスの透明シート、ないしは透明板（窓材）の表面に配置して、太陽光の採光効率を向上することができる。さらにまた、太陽電池表面に配置して、太陽光の利用効率（発電効率）を向上することができる。
【０１１６】
またさらに透明の部位以外の、不透明な部位についても、広く適用して、反射防止を図る場合に広く適用することができる。
【０１１７】
またさらに、上述の実施形態においては、反射防止を図る電磁波の波長帯域を、専ら、可視光線帯域（の全域又は一部帯域）としたが、本発明はこれに限らず、反射防止を図る電磁波の波長帯域を赤外線、紫外線等の可視光線以外の波長帯域に設定しても良い。その場合は前記の各条件式中において、電磁波の波長帯域の最短波長Λｍｉｎを、それぞれ、赤外線、紫外線等の波長帯域における反射防止効果を希望する最短波長に設定すれば良い。例えば、最短波長Λｍｉｎが８５０ｎｍの赤外線帯域の反射防止を希望する場合は、隣接突起間距離ｄ（乃至は其の最大値ｄｍａｘ）を８５０ｎｍ以下、例えば、ｄ（ｄｍａｘ）＝８００ｎｍと設計すれば良い。尚、この場合は、可視光線帯域（３８０〜７８０ｎｍ）においては反射防止効果は期待し得ず、專ら波長８５０ｎｍ以上の赤外線に対しての反射防止効果を奏する反射防止物品が得られる。
【０１１８】
以上例示の各種実施形態において、硝子板等の透明基板の表面、裏面、或いは表裏両面に本発明のフィルム状の反射防止物品を配置する場合、該透明基板の全面に亙って配置、被覆する以外に、一部分の領域にのみ配置することも出来る。かかる例としては、例えば、１枚の窓硝子について、其の中央部分の正方形領域において、室内側表面にのみフィルム状の反射防止物品を粘着剤で貼着し、その他領域には反射防止物品を貼着し無い場合を挙げることが出来る。透明基板の一部分の領域にのみ反射防止物品を配置する形態の場合は、特別な表示や衝突防止柵等の設置無しでも、該透明基板の存在を視認し易くして、人が該透明基板に衝突、負傷する危険性を低減する効果、及び室内（屋内）の覗き見防止と該透明基板の（該反射防止物品の配置領域における）透視性とが両立出来ると言う効果を奏し得る。
【符号の説明】
【０１１９】
１  反射防止物品
２  基材
４  紫外線硬化性樹脂層、受容層
５、５Ａ、５Ｂ  微小突起
６  凹凸面
１０  製造工程
１２  ダイ
１３  ロール版
１４、１５  ローラ
２１  母材
２２  凹凸面層
２３  中間層
２４  アルミニウム層
３１  支持体
ｇ  溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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