(57)【要約】      （修正有）【課題】高い耐プラズマ性を有し、かつ温度変化に対する耐久性も高い耐プラズマ部材を提供する。【解決手段】特定ガスのプラズマに晒されて用いられる耐プラズマ部材であって、基体１２と、前記基体１２Ａの表面の少なくとも一部に被着された、前記プラズマに晒される保護層１４とを備え、前記保護層１４は、ガラスを主成分とするガラス領域２２と、前記基体の主成分に比べて前記プラズマに対する耐食性が高い物質を主成分とする複数の粒状体２４とを有するとともに、前記プラズマに晒される側の第１表面１４Ａから前記基体に被着した側の第２表面１４Ｂまで貫通した開気孔３２を複数備えていることを特徴とする耐プラズマ部材を提供する。【選択図】図２
2015048273.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特定ガスのプラズマに晒されて用いられる耐プラズマ部材であって、
基体と、
前記基体の表面の少なくとも一部に被着された、前記プラズマに晒される保護層とを備え、
前記保護層は、ガラスを主成分とするガラス領域と、前記基体の主成分に比べて前記プラズマに対する耐食性が高い物質を主成分とする複数の粒状体とを有するとともに、前記プラズマに晒される側の第１表面から前記基体に被着した側の第２表面まで貫通した開気孔を複数備えていることを特徴とする耐プラズマ部材。
【請求項２】
複数の前記粒状体のうち少なくとも一部の粒状体が、前記第１表面に露出していることを特徴とする請求項１記載の耐プラズマ部材。
【請求項３】
前記第１表面に配置された複数の前記開気孔の開口の面積の合計が、前記第２表面に配置された複数の前記開気孔の開口の面積の合計に比べて小さいことを特徴とする請求項１または２記載の耐プラズマ部材。
【請求項４】
複数の前記粒状体のうち少なくとも一部の粒状体が、前記開気孔の内面に露出していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の耐プラズマ部材。
【請求項５】
前記ガラス領域は複数の気泡を内部に有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の耐プラズマ部材。
【請求項６】
特定ガスのプラズマに晒されて用いられる耐プラズマ部材の製造方法であって、
基体を準備する工程と、
前記基体の主成分に比べて前記プラズマに対する耐食性が高い物質を主成分とする複数の粒状体を含む粉末と、ガラス粒子を含む粉末とを溶媒に含有させたペーストを準備する工程と、
スプレー装置を用いて前記ペーストを前記基体の表面に連続噴射して、複数の気泡を含有する前記ペーストの層を前記基体の表面に形成する工程と、
前記基体と前記ペーストの層とを含む集合体を加熱した後に降温させることで、前記ペーストに含まれる前記ガラス粒子を溶融させて前記ガラス粒子のガラス成分同士を結合させることで、ガラスを主成分とするガラス領域と前記粒状体とを有する保護層を形成する工程とを有することを特徴とする耐プラズマ部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐プラズマ部材、および耐プラズマ部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば材料の切断加工や各種測定に用いるレーザーを発振する装置として、ガスレーザーを発振させるガスレーザー装置が広く用いられている。ガスレーザー装置では円筒状のガスレーザー管の管路内に、ヘリウム―ネオン（Ｈｅ−Ｎｅ）ガスやアルゴン（Ａｒ）ガス等の希ガスと例えば炭酸ガス（ＣＯ２ガス）等とを封入し、この管路内に希ガスのプラズマを生成する。そして、このプラズマのエネルギーによって例えば炭酸ガス分子（ＣＯ２分子）は励起することで、この炭酸ガス分子（ＣＯ２分子）から特定波長の光を発光させる。このようなガスレーザー管に用いる材料として、気密性が高く、かつプラズマを生成するための高周波電力の透過性も高いことが要求されており、例えば石英ガラス等の材料が広く用いられている。
【０００３】
プラズマは電子やイオンなどの荷電粒子、励起した分子や原子などが複雑に運動しながら反応し合うので、物理的なエネルギーも高く、化学的にも反応性の高い状態になっている。このためプラズマに曝されるガスレーザー管の管路内面は、曝されるプラズマのエネルギーによる物理的ダメージを受けやすく、かつ化学的反応による変化も受けやすい（以降、物理的ダメージや化学的変化をまとめて腐食とも表現する）。プラズマによるレーザー管の腐食は、ガスレーザー管の使用寿命を低減させ、ひいてはガスレーザー装置の耐久性を低下させる原因となっていた。
【０００４】
例えば下記特許文献１には、ガスレーザー管の使用寿命ひいてはガスレーザー装置の耐久性の向上を目的とした、プラズマによるレーザー管の腐食を抑制するための構成が提案されている。具体的には下記特許文献１では、例えば窒化アルミニウムからなるレーザー管本体の内周面に、タングステンやモリブテンなどの金属や炭化硼素等からなる保護層を形成した構造が提案されている。下記特許文献１では、イオンプレーティング法やＣＶＤ法等によって、このような保護層を形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開昭６３―２５８０８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
例えば特許文献１のように、従来から広く利用されているイオンプレーティング法やＣＶＤ法等の一般的な層形成方法で形成される保護層は、材質が均等に分散した比較的強固な緻密質の層である。このような保護層は、保護層自体の耐プラズマ性は高い一方で、プラズマ生成にともなう温度変化によって、ヒビや割れ等が発生し易いといった課題があった。ガスレーザー装置におけるプラズマは数百℃まで温度が上昇するので、保護層やプラズマ管は、室温から数百℃までの温度上昇および下降を繰り返すことになる。この温度上昇および下降の温度変化の際、保護層自体の熱膨張にともなう内部応力や、レーザー管本体と保護層との熱膨張係数の違いに起因した応力が保護層内に発生し、緻密質の保護層内にはこの応力による歪が局所的に蓄積されていき、比較的早い段階で（温度変化の回数が少ない段階で）保護層にヒビや割れ等が発生していた。すなわち従来の保護層付きレーザー管（耐プラズマ部材）は、温度変化に対する耐久性が比較的低かった。本願は、かかる課題を解決することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために本願発明は、特定ガスのプラズマに晒されて用いられる耐プラズマ部材であって、基体と、前記基体の表面の少なくとも一部に被着された、前記プラズマに晒される保護層とを備え、前記保護層は、ガラスを主成分とするガラス領域と、前記基体の主成分に比べて前記プラズマに対する耐食性が高い物質を主成分とする複数の粒状体とを有するとともに、前記プラズマに晒される側の第１表面から前記基体に被着した側の第２表面まで貫通した開気孔を複数備えていることを特徴とする耐プラズマ部材を提供する。また、特定ガスのプラズマに晒されて用いられる耐プラズマ部材の製造方法であって、基体を準備する工程と、前記基体の主成分に比べて前記プラズマに対する耐食性が高い物質を主成分とする複数の粒状体を含む粉末と、ガラス粒子を含む粉末とを溶媒に含有させたペーストを準備する工程と、スプレー装置を用いて前記ペーストを前記基体の表面に連続噴射して、複数の気泡を含有する前記ペーストの層を前記基体の表面に形成する工程と、前記基体と前記ペーストの層とを含む集合体を加熱した後に降温させることで、前記ペーストに含まれる前記ガラス粒子を溶融させて前記ガラス粒子のガラス成分同士を結合させることで、ガラスを主成分とするガラス領域と前記粒状体とを有する保護層を形成する工程とを有することを特徴とする耐プラズマ部材の製造方法を併せて提供する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の耐プラズマ部材は、高い耐プラズマ性を有し、かつ温度変化に対する耐久性も高く、プラズマ生成にともなう温度変化を繰り返しても割れやヒビ等が発生し難い。また、本発明の耐プラズマ部材の製造方法によれば、高い耐プラズマ性を有し、かつ温度変化に対する耐久性も高い耐プラズマ部材を、短時間かつ比較的安価に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の耐プラズマ部材の一実施形態である、ガスレーザー発振装置用ガスレーザー管を示した図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は断面図である。
【図２】図１（ｂ）の部分拡大図である。
【図３】図１および図２に示すレーザー管を備えて構成されたガスレーザー装置の一実施形態の断面図である。
【図４】本発明の耐プラズマ部材の製造方法の一実施形態を示す断面図であり、（ａ）は製造方法の一部を示す断面図、（ｂ）は（ａ）の部分拡大図である。
【図５】（ａ）および（ｂ）は、レーザー管の電子顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の耐プラズマ部材および耐プラズマ部材の製造方法について、図面を参照しつつ詳細に説明する。図１はおよび図２は、本発明の耐プラズマ部材の一実施形態であり、ガスレーザー発振装置用のレーザー管１０を示した図である、図１（ａ）はガスレーザー管１０の斜視図であり、（ｂ）は断面図である。また図２は、図１（ｂ）の一部を拡大して示した図である。
【００１１】
レーザー管１０は、特定ガスのプラズマに晒されて用いられる耐プラズマ部材であって、基体１２と、基体１２の表面の少なくとも一部（内周面１２Ａ）に被着された、特定ガスのプラズマに晒される保護層１４とを備えている。保護層１４は、ガラスを主成分とするガラス領域２２と、基体１２の主成分に比べて上記特定ガスのプラズマに対する耐食性が高い物質を主成分とする複数の粒状体２４とを有する。また保護層１４は、プラズマに晒される側の第１表面１４Ａから基体１２に被着した側の第２表面１４Ｂまで貫通した開気孔３２を複数備えている。保護層１４は、基体１２の内周面１２Ａに約２０μｍの厚さで形成されている。
【００１２】
レーザー管１０は、管路１１を備える円筒状の部材であって、この管路１１内にヘリウム―ネオン（Ｈｅ−Ｎｅ）ガスやアルゴン（Ａｒ）ガス等の希ガスと例えば炭酸ガス（ＣＯ２ガス）等とを封入して、この管路内に希ガスのプラズマを生成して例えば炭酸ガス分子（ＣＯ２分子）を励起して特定波長の光を発光させるために用いられる。本実施形態において特定ガスとは、ヘリウム―ネオン（Ｈｅ−Ｎｅ）ガスやアルゴン（Ａｒ）ガス等の希ガスのことを指す。
【００１３】
基体１２は例えば石英からなる円筒状の部材であり、基体１２に形成されている管路の内周面１２Ａに保護層１４が被着している。石英は気密性が高くプラズマを生成するための高周波電力の透過性も高いので、ガスレーザー装置のガスレーザー管として用いることで、比較的低い消費電力で高エネルギーのプラズマを生成することができる。
【００１４】
保護層１４のガラス領域２２はガラスを主成分とする層である。本明細書において主成分とは、５０質量％以上含まれている成分のことをいう。ガラス成分とは、昇温によりガラス転移現象を示す非晶質固体全般のことをいい、ケイ酸ガラス、アクリルガラス、カルコゲンガラス、金属ガラスおよび有機ガラスなどを含む。本実施形態のガラス領域２２は、酸化ビスマスを主成分とし酸化ホウ素を含有するホウケイ酸ガラスからなる。具体的にはガラス領域２２は、三酸化ビスマスを約７０〜９０質量％、酸化ホウ素を約８〜１５質量％、二酸化ケイ素を約２．０〜１５質量％含むガラスからなる。このようなガラスからなるガラス領域２２は熱膨張係数が約３．２×１０６／℃と比較的小さいので、基体１２の主成分である石英との熱膨張係数の差が比較的小さい。
【００１５】
粒状体２４は純度９９質量％以上のイットリアからなる。粒状体２４の主成分であるイットリアは基体１２の主成分である石英に比べて特定ガスのプラズマ（すなわち希ガスのプラズマ）に対してより高い耐食性を有している。粒状体２４の平均粒径は約７μｍとなっている。保護層１４は、基体１２よりも希ガスプラズマに対してより高い耐食性を有している粒状体２４を複数有しているので、基体１２のみでガスレーザー管を構成した場合に比べて、ガスレーザー管１０は希ガスプラズマに対してより高い耐食性を有している。また、イットリアの熱膨張係数は７．３×１０６／℃であり、ガラス領域２２と同程度であって、ガラス領域２２と粒状体２４との熱膨張係数の差は小さい。
【００１６】
本実施形態のレーザー管１０の保護層１４は、プラズマに晒される側の第１表面１４Ａから基体１２に被着した側の第２表面１４Ｂまで貫通した開気孔３２を複数備えている。このため、管路１１内に希ガスプラズマが生成されて保護層１４が熱膨張した場合も、複数の開気孔３２の部分で熱膨張にともなう内部応力が緩和されるので、熱膨張に起因した応力にともなう保護層１４の劣化が小さい。すなわち、保護層１４が熱膨張した場合も、複数の開気孔３２の径が収縮するように開気孔３２の周囲の熱膨張が進行するので、開気孔３２が無い場合に比べて開気孔３２の周囲の内部応力は小さくなる（緩和される）。また、基体１２と保護層１４との熱膨張係数の違いに起因した応力も同様に緩和される。このように本実施形態のレーザー管１０では、内部応力に起因した保護層１４の劣化を抑制することができる。また本実施形態では、ガラス領域２２と粒状体２４との熱膨張係数の差も小さいので、このガラス領域２２と粒状体２４との熱膨張係数の差にともなう熱応力も抑制されている。本実施形態のプラズマ管１０は、高い耐プラズマ性を有し、かつ温度変化に対する耐久性も高く、プラズマ生成にともなう温度変化を繰り返しても割れやヒビ等が発生し難い。
【００１７】
また保護層１４では、複数の粒状体２４のうち少なくとも一部の粒状体２４が、第１表面１４に露出している。これにより、プラズマに晒される側の第１表面１４Ａが、全てガラス領域２２の表面からなる場合に比べて第１表面１４Ａの希ガスプラズマに対する耐久
性がより高くなっている。
【００１８】
保護層１４はまた、第１表面１４Ａに配置された複数の開気孔３２の開口３２Ａの面積の合計が、第２表面１４Ｂに配置された複数の開気孔３２の開口３２Ｂの面積の合計に比べて小さい。本明細書において、開口３２Ａの面積は、図２に示すような断面で計測できる直線距離の値を代用することができる。具体的には、レーザー管１０を管路１１の中心軸Ｃ（図１に示す）を含む任意の平面で切断し、管路１１の中心軸Ｃに沿って１００μｍの長さを含む断面を観察した画像から、開口３２Ａおよび開口３２Ｂの径の長さを求め、この値を面積を表す値として代用すればよい。開口３２Ｂの面積は、この断面から測定した、開気孔３２の基体１２の表面１２Ａの側の各開口３２Ｂの長さ（図１に示すＬｂ１およびＬｂ２）の合計の値を用いればよい。また開口３２Ａの面積は、以下のように求めればよい。まず観察した画像（１００μｍ範囲の断面）に、基体１２の表面１２Ａに平行で保護層１４の第１表面１４Ａに接する直線ＭＨをひく。次に、各開口３２毎に、この直線ＭＨに垂直でかつ開気孔３２の内面部分に接する直線を２本ひいてこの直線間長さ（図１に示すＬａ１およびＬａ２）を、対応する開口３２Ａの面積とすればよい。開基口３２の形状によっては、複数種類の直線をひくことができるが、この場合は２本の直線間の長さが最も短い直線を選べばよい。
【００１９】
本実施形態のレーザー管１０では、第１表面１４Ａに配置された複数の開気孔３２の開口３２Ａの面積の合計が、第２表面１４Ｂに配置された複数の開気孔３２の開口３２Ｂの面積の合計に比べて小さいので、プラズマに曝される第１表面１４Ａの側は、粒状体２４またはガラス領域２２の表面で覆われている部分を大きくして耐プラズマ性を高く維持しつつ、第２表面１４Ｂの側には比較的大きな空間部分（すなわち開気孔３２の内部領域）を確保して、保護層１４の膨張にともなう応力をこの空間部分で十分に緩和することを可能としている。また、第２表面１４Ｂの側の開口３２Ｂの面積が大きいので、保護層１４を構成するガラス領域２２や粒状体２４と基体１２との接合（または接触）面積は比較的小さく、これら接合部分（または接触部分）で発生する、保護層１４と基体１２との熱膨張係数の違いに起因した熱応力の発生は比較的小さくなっている。
【００２０】
また本実施形態のレーザー管１０では、複数の粒状体２４のうち少なくとも一部の粒状体２４が、開気孔３２の内面に露出している。これにより、開気孔３２の内面自体の耐プラズマ性が高くなっており、たとえプラズマが開気孔３２に侵入してきた場合も開気孔３２の内面が腐食され難い。
【００２１】
また、ガラス領域２２は複数の気泡３４を内部に有する。気泡３４を内部に有するので、開気孔３２の場合と同様、保護層１４が熱膨張した場合も、複数の気泡３４の径が収縮するように気泡３４の周囲の熱膨張が進行するので、気泡３４が無い場合に比べて気泡３４の周囲の内部応力は小さくなり、保護層１４の耐性はより向上している。
【００２２】
図３は、レーザー管１０を備えて構成されたガスレーザー装置の一実施形態である、ガスレーザー装置１の断面図である。ガスレーザー装置１は、レーザー管１０と、レーザー管１０の両端に配置された外囲器７と、外囲器７の内部に配置した反射鏡８と電極（陰極５および陽極６）を備えている。レーザー管１０内は図示しない真空ポンプやガス供給気孔と接続しており、レーザー管１０内へのガス流量や真空度を調整することができる構成となっている。ガスレーザー装置１では、レーザー管１０内に例えばアルゴン等の希ガスと炭酸ガス等を流入させつつ真空度を高めた状態で、陰極５と陽極６の間に電圧を印加してアルゴンガスのプラズマを生成させて炭酸ガスを励起し、この励起に起因して発生した特定波長の光を反射鏡８の間を往復させることにより増幅させ、増幅したレーザー光を発振することができる。レーザー管１０をこのようなガスレーザー装置１に用いた場合、管路１１において希ガスプラズマ生成した際も、保護層１４が高い耐プラズマ性を有するの
でプラズマによるレーザー管１０の腐食は少ない。しかもレーザー管１０は温度変化に対する耐久性も高いので、レーザー発振を繰り返しても、すなわちプラズマ生成にともなう温度変化を繰り返してもレーザー管１０には割れやヒビ等が発生し難いので、レーザー管１０およびガスレーザー装置１を、長期間にわたって繰り返し使用することができる。
【００２３】
次に、本発明の耐プラズマ部材の製造方法の一例について、レーザー管１０の製造方法を一実施形態として説明する。図４はレーザー管１０の製造方法における、後述するスプレー工程について説明する断面図であり、（ａ）は部分拡大図、（ｂ）は（ａ）の一部を更に拡大して示す図である。
【００２４】
本実施形態の製造方法は、基体１２を準備する工程（基体準備工程）と、基体１２の主成分に比べて希ガスプラズマに対する耐食性が高い物質（本実施形態ではイットリア）を主成分とする複数の粒状体２４を含む粉末と、ガラス粒子５２を含む粉末とを溶媒５６に含有させたペーストを準備する工程（ペースト準備工程）と、スプレー装置を用いてペーストを基体１２の内周面１２Ａに連続噴射して、複数の気泡４４を含有するペーストの層（ペースト層４６）を基体１２の内周面１２Ａに形成する工程（スプレー工程）と、基体１２とペースト層４６とを含む集合体を加熱した後に降温させることで、ペースト層４６に含まれるガラス粒子５２を溶融させて複数のガラス粒子５２のガラス成分同士を結合させることで、ガラスを主成分とするガラス領域２２と粒状体２４とを有する保護層１４を形成する工程（溶融工程）とを有する。
【００２５】
基体準備工程では、石英からなる管状の部材である基体１２を準備する。ペースト準備工程では、イットリアを主成分とする粒状体２４を含む粉末と、酸化ビスマスを主成分とし酸化ホウ素を含有するホウケイ酸ガラスからなるガラス粒子５２を含む粉末とを、酢酸ブチルとブチルカルビトールとを主成分とする溶媒に混ぜたペーストを準備する。
【００２６】
例えば粒状体２４を含む粉末として、平均径が約７μｍで純度が９９％以上のイットリアの粒状体を含む粉末を準備する。また、ガラス粒子５２として、例えば二酸化ケイ素を２．０質量％〜１５質量％、三酸化ビスマスを７０質量％〜９０質量％、酸化ホウ素を５〜１５質量％、酸化亜鉛を１．０質量％〜１０質量％、酸化アルミニウムを１．０質量％〜１０質量％、酸化チタンを１．０質量％〜１０質量％含むものを用い、このガラス粒子５２が複数含まれる粉末を準備する。溶媒には、エチルセルロースや硝化綿バインダ等のバインダ等も合わせて混合しておけばよい。
【００２７】
スプレー工程では、図４（ａ）に示されているように、基体１２の内面１２Ａに、スプレーガンを用いてペースト準備工程で準備したペーストを塗布していく。具体的には、スプレーガンのノズル５０を基体１２の管路１１内に挿入し、スプレーガンのノズル５０からペーストを噴射する。スプレーガンのノズル５０からは、液滴状のペーストが霧状に噴射されて、液滴状のペーストが基体１２の内面１２Ａに付着していく。このスプレー工程でペースト層４６が形成される。スプレーガンのノズル５０からペーストが噴射されると、液滴状のペーストが空気とともに基体１２の内面１２Ａに付着していくので、ペースト層４６には複数の気泡４４が取り込まれる。なお、ペースト層４６の図４（ｂ）中の上側の表面（上面）に近いほど、気泡４４がペースト層４６の上面に届いて気泡が消滅し易いので、気泡４４の占める体積は基体１２の内面１２Ａに近い側の方が、ペースト層４６の上面に近い側よりも大きくなっている。
【００２８】
溶融工程では、基体１２とペースト層４６とを含む集合体を大気炉の中に配置し、この集合体を例えば約５５０℃で４時間〜６時間加熱して降温させる。この加熱によって、溶媒は蒸発するとともに、ペースト層４６に含まれるガラス粒子５２が溶融して複数のガラス粒子５２のガラス成分同士が結合することで、ガラスを主成分とするガラス領域２２と
粒状体２４とを有する保護層１４が形成される。スプレー工程で形成されるペースト層４６には、多くの気泡４４が含まれているので、形成された保護層１４には複数の開気孔３２が形成され、ガラス領域２２も複数の気泡３４が含まれる。また、ペースト層４６では、気泡４４の占める体積が、基体１２の内面１２Ａに近い側の方が、ペースト層４６の上面に近い側よりも大きくなっているので、このままガラス粒子５２を溶融させて固化した保護層１４では、第１表面１４Ａに配置された複数の開気孔３２の開口３２Ａの面積の合計が、第２表面１４Ｂに配置された複数の開気孔３２の開口３２Ｂの面積の合計に比べて小さくなっている。レーザー管１０は、このように製造することができる。本実施形態の製造方法によれば、スパッタ装置等の大掛かりな成膜装置を用いることなく、高い耐プラズマ性を有し、かつ温度変化に対する耐久性も高い耐プラズマ部材を、短時間かつ比較的安価に製造することができる。
【００２９】
図５は、上記実施形態のレーザー管１０の電子顕微鏡写真である。図５に示す写真のレーザー管１０は、上述の実施形態の製造方法によって製造されたものである。図５（ａ）は保護層１４を第１表面１４Ａの側から撮影した写真であり、図５（ｂ）は管路１１の中心軸Ｃを含む平面で切断した断面の写真である。図５では、図１および図２に符号を付けて示している部位に対応する各部位について、図１および図２に付けた符号と同じ符号を用いて示している。本実施形態の製造方法を用いて製造されたレーザー管１０は、基体１２と、基体１２の表面の少なくとも一部（内周面１２Ａ）に被着された、特定ガスのプラズマに晒される保護層１４とを備えている。図５（ｂ）に示す保護層１４のうち、白っぽく見える部分がガラス領域２２、黒く見える部分が気泡３４、白と黒の中間のグレーに見える部分がイットリアからなる粒状体２４である。保護層１４は、ガラスを主成分とするガラス領域２２と複数の粒状体２４とを有し、プラズマに晒される側の第１表面１４Ａから基体１２に被着した側の第２表面１４Ｂまで貫通した開気孔３２を複数備えていることが確認できる。
【００３０】
以上、本発明の実施形態および実施例について説明したが、本発明は上述の実施形態や実施例に限定されない。例えば粒状体はイットリアに限定されず、基体の主成分に比べて特定ガスのプラズマに対する耐食性が高い物質を主成分とする粒状体であればよい。例えば特定ガスが上述のように希ガスの場合は、粒状体としてアルミナ等を用いてもよい。また、本発明の耐プラズマ部材は、ガスレーザー装置のレーザー管に用いるのみでなく、ハロゲンガス等の腐食性ガスのプラズマを用いて半導体材料をエッチングするエッチング装置などの半導体製造装置においてプラズマに曝される部分に用いてもよい。この場合特定ガスはハロゲンガスとなるが、この場合の粒状体はイットリアを用いることが好ましい。また、上述のレーザー管部材であっても、特定ガスとしてハロゲンガスを用いる可能性がある場合などは、本実施形態のように、希ガスに対してもハロゲンガスに対しても高い耐食性を有するイットリアを粒状体として用いることが好ましい。このように本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良および変更を行なってもよいのはもちろんである。
【符号の説明】
【００３１】
５  陰極
６  陽極
７  外囲器
８  反射鏡
１０  ガスレーザー管
１１  管路
１２  基体
１２Ａ  内周面
１４  保護層
１４Ａ  第１表面
１４Ｂ  第２表面
２２  ガラス領域
２４  粒状体
３２  開気孔
３２Ａ、３２Ｂ  開口
３４、４４  気泡
４６  ペースト層
５０  ノズル
５２  ガラス粒子
【図１】
2015048273.tif 000003
【図２】
2015048273.tif 000004
【図３】
2015048273.tif 000005
【図４】
2015048273.tif 000006
【図５】
2015048273.tif 000007