(57)【要約】【課題】装置に要するコストを大幅に抑制しつつ、成膜に係る生産効率を維持してワークの両面に成膜することができる成膜装置を提供する。【解決手段】成膜装置１００は、真空雰囲気中、減圧雰囲気中、または置換雰囲気中で加熱後の金属セパレータに成膜する装置である。成膜装置は、加熱部１２０、成膜部１３０、および回転部１６０を有している。加熱部は、収容した金属セパレータを加熱する。成膜部は、収容した金属セパレータに対して一の方向から成膜する。回転部は、金属セパレータを回転させる。ここで、成膜部は、金属セパレータの一面１０Ｍに成膜した後、回転部によって回転させた金属セパレータの他面１０Ｎに成膜する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空雰囲気中、減圧雰囲気中、または置換雰囲気中で加熱後のワークに成膜する成膜装置であって、
収容した前記ワークを加熱する加熱部と、
収容した前記ワークに対して一の方向から成膜する成膜部と、
前記ワークを回転させる回転部と、を有し、
前記成膜部は、前記ワークの一面に成膜した後、前記回転部によって回転させた前記ワークの前記一面に対向した他面に成膜する成膜装置。
【請求項２】
前記成膜部から延在し、前記一面に成膜された前記ワークを前記成膜部から退避させつつ収容し、前記ワークを回転させた後、前記ワークを前記成膜部に戻す退避部を、さらに有する請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記退避部は、開閉口によって前記成膜部と流通または隔離自在に隣接している請求項２に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記回転部の少なくとも一部は、前記成膜部の外部に配設した請求項１〜３のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項５】
前記回転部の少なくとも一部は、前記成膜部の内部において前記ワークよりも重力方向の下方の側に配設した請求項１〜４のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項６】
前記回転部は、前記ワーク同士を回転自在に連動させる連動機構を備え、
前記連動機構は、複数の前記ワークを連動して個別に回転させる請求項１〜５のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項７】
前記回転部は、前記ワークを保持するキャリアに連結して回転するシャフトと、前記シャフトを回転自在に支持する支持部材と、を含み、
前記シャフトは、部分的に突出させて形成した突起部を備え、
前記支持部材は、前記突起部に嵌合する凹部を備え、
前記シャフトを順転させつつ前記突起部と前記凹部とを嵌合させると、前記ワークの前記一面または前記他面に成膜可能な方位に対して、前記キャリアが回転し、
かつ、前記シャフトを逆転させつつ前記突起部を前記凹部から離脱させると、前記ワークの前記他面または前記一面に成膜可能な方位に対して、前記キャリアが回転する請求項１〜６のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項８】
真空雰囲気中、減圧雰囲気中、または置換雰囲気中で加熱後のワークに成膜する成膜方法であって、
加熱した前記ワークの一面に対して一の方向から成膜する第１の成膜工程と、
前記第１の成膜工程の後に、真空雰囲気、減圧雰囲気、または置換雰囲気を継続しつつ、回転させた前記ワークの前記一面に対向した他面に対して前記一の方向から成膜する第２の成膜工程と、を有する成膜方法。
【請求項９】
前記ワークを流通口から搬入し、加熱した前記ワークに成膜した後、前記ワークを前記流通口に戻して搬出するインターバック式である請求項８に記載の成膜方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜装置および成膜方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、例えば真空雰囲気中において加熱したワークに対して、ターゲットから所定の材料を飛ばして成膜する成膜装置がある。成膜装置には、例えば一方の側から搬入したワークに対して、ライン状に配設された複数の工程を経て成膜した後、そのワークを他方の側から搬出するものがある（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１３１５４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１のように、一面に成膜したワークを、装置から一旦搬出してから向きを反転させて再び装置に搬入した後、一面に対向する他面に成膜する構成では、加熱および真空引きの工程がそれぞれ２回必要になることから、ワークの成膜に係る生産効率が著しく悪化する虞がある。電子デバイス用途の薄膜形成では、ワークの両面にコーティングするニーズが少なかったことから、ワークの両面に効率良くコーティングする技術は十分に開発されていない。
【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、装置に要するコストを大幅に抑制しつつ、成膜に係る生産効率を維持してワークの両面に成膜することができる成膜方法、および成膜方法を具現化した成膜装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成する本発明に係る成膜装置は、真空雰囲気中、減圧雰囲気中、または置換雰囲気中で加熱後のワークに成膜する成膜装置である。成膜装置は、成膜部、加熱部、および回転部を有している。加熱部は、収容したワークを加熱する。成膜部は、収容したワークに対して一の方向から成膜する。回転部は、ワークを回転させる。ここで、成膜部は、ワークの一面に成膜した後、回転部によって回転させたワークの一面に対向した他面に成膜する。
【０００７】
上記目的を達成する本発明に係る成膜方法は、真空雰囲気中、減圧雰囲気中、または置換雰囲気中で加熱後のワークに成膜する成膜方法である。成膜方法は、第１の成膜工程および第２の成膜工程を有している。第１の成膜工程は、加熱したワークの一面に対して一の方向から成膜する。第２の成膜工程は、第１の成膜工程の後に、真空雰囲気、減圧雰囲気、または置換雰囲気を継続しつつ、回転させたワークの一面に対向した他面に対して一の方向から成膜する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の成膜装置および成膜方法は、一面に対して一の方向から成膜したワークを回転させてから、他面に対して一の方向から成膜する。すなわち、真空雰囲気、減圧雰囲気、または置換雰囲気を継続しつつ、かつ、再加熱を要することなく、ワークの一面に引き続きワークの他面にも成膜することができる。このように、ワークに対して一の方向のみから成膜する構成によって、装置に要するコストを大幅に抑制しつつ、成膜に係る生産効率を維持してワークの両面に成膜することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】第１実施形態に係る成膜装置を模式的に示す上面図である。
【図２】図１の成膜装置の動作を模式的に示す上面図である。
【図３】第１実施形態の変形例１に係る成膜装置の要部を示す斜視図である。
【図４】第１実施形態の変形例２に係る成膜装置の回転部の要部を示す斜視図である。
【図５】第１実施形態の変形例３に係る成膜装置の回転部の要部を示す斜視図である。
【図６】第１実施形態の変形例４に係る成膜装置の回転部の要部を示す斜視図である。
【図７】図６の回転部のさらに要部の構成部材を分解して示す分解斜視図である。
【図８】第２実施形態に係る成膜装置を模式的に示す上面図である。
【図９】図８の成膜装置の動作を模式的に示す上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付した図面を参照しながら、本発明に係る第１および第２実施形態について説明する。図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。図１〜図９の全ての図において、Ｘ、Ｙ、およびＺからなる矢印を図示している。Ｘで表す矢印は、ワーク（例えば金属セパレータ１０）の搬送方向Ｘを示している。Ｙで表す矢印は、搬送方向Ｘと交差した交差方向Ｙを示している。Ｚで表す矢印は、金属セパレータ１０の起立方向であって金属セパレータ１０の回転軸Ｚを示している。図面における部材の大きさや比率は、説明の都合上誇張され実際の大きさや比率とは異なる場合がある。例えば、図３〜図７は、各部材の構成を容易に識別できるように、互いの距離を回転軸Ｚに沿った方向に伸ばして図示している。すなわち、図３〜図７において、各部材は、互いに誇張して離間させた状態で図示している。また、図１、図２、図８、および図９は、各構成部材を大幅に簡略化して図示している。
【００１１】
（第１実施形態）
第１実施形態に係る成膜方法、およびその方法を具現化した成膜装置１００は、例えば真空雰囲気中において加熱後のワーク（例えば金属セパレータ１０）に対してターゲット１３３から飛ばした所定の材料を成膜する。以下、成膜装置１００について、図１および図２を参照しながら説明する。
【００１２】
先ず、成膜装置１００の構成について、図１を参照しながら具体的に説明する。
【００１３】
図１は、成膜装置１００を模式的に示す上面図である。
【００１４】
成膜装置１００は、加熱部１２０、成膜部１３０、および回転部１６０に加えて、搬出入部１１０、吸排気部１４０、搬送部１５０、および制御部１７０を有している。少なくとも加熱部１２０と成膜部１３０によって、成膜方法における第１の成膜工程を具現化する。第１の成膜工程は、加熱した金属セパレータ１０の一面１０Ｍに対して一の方向から成膜する。少なくとも成膜部１３０および回転部１６０によって、成膜方法における第２の成膜工程を具現化する。第２の成膜工程は、第１の成膜工程の後に、真空雰囲気、減圧雰囲気、または置換雰囲気を継続しつつ、回転させた金属セパレータ１０の一面１０Ｍに対向した他面１０Ｎに対して一の方向から成膜する。以下、成膜方法を具現化した成膜装置１００の各構成について説明する。
【００１５】
搬出入部１１０は、例えば真空雰囲気中に維持した加熱部１２０等と隔離した状態で、外部から金属セパレータ１０を搬入し、かつ外部に対して金属セパレータ１０を搬出する。
【００１６】
搬出入部１１０は、第１チャンバ１１１と第１ゲートバルブ１１２を含んでいる。第１チャンバ１１１は、いわゆる圧力チャンバに相当し、例えば、ステンレス鋼からなり、内部に空間を有した長方体形状に形成している。第１チャンバ１１１は、搬送部１５０によって搬送される金属セパレータ１０を収容する。第１ゲートバルブ１１２は、第１チャンバ１１１と外部を隔てる。搬出入部１１０は、大気雰囲気の外部から金属セパレータ１０を搬入し、または大気雰囲気の外部に対して金属セパレータ１０を搬出する際に、例えば真空雰囲気にある加熱部１２０および成膜部１３０の真空状態を維持させる。すなわち、搬出入部１１０は、金属セパレータ１０の搬出入に伴い、成膜装置１００の内部のうち大気雰囲気に戻ってしまう領域を減らす。
【００１７】
加熱部１２０は、収容した金属セパレータ１０を加熱する。
【００１８】
加熱部１２０は、搬出入部１１０と隣接している。加熱部１２０は、第２チャンバ１２１と第２ゲートバルブ１２２および加熱部材１２３を含んでいる。第２チャンバ１２１は、いわゆる圧力チャンバに相当し、例えば、ステンレス鋼からなり、内部に空間を有した長方体形状に形成している。第２チャンバ１２１は、搬送部１５０によって搬送される金属セパレータ１０を収容する。第２ゲートバルブ１２２は、第１チャンバ１１１と第２チャンバ１２１を隔てる。加熱部材１２３は、金属セパレータ１０を成膜し易い温度まで加熱する。加熱部材１２３は、ランプまたは熱電対を熱源として構成している。
【００１９】
成膜部１３０は、収容した金属セパレータ１０に対して一の方向から成膜する。特に、成膜部１３０は、金属セパレータ１０の一面１０Ｍに成膜した後、回転部１６０によって回転させた金属セパレータ１０の一面１０Ｍに対向した他面１０Ｎに成膜する。
【００２０】
成膜部１３０は、加熱部１２０と隣接している。成膜部１３０は、第３チャンバ１３１、第３ゲートバルブ１３２と、およびターゲット１３３を含んでいる。第３チャンバ１３１は、いわゆる圧力チャンバに相当し、例えば、ステンレス鋼からなり、内部に空間を有した長方体形状に形成している。第３チャンバ１３１は、搬送部１５０によって搬送される金属セパレータ１０を収容する。第３ゲートバルブ１３２は、第２チャンバ１２１と第３チャンバ１３１を隔てる。ターゲット１３３は、ワークに成膜する金属を板状に形成したものである。ターゲット１３３は、カソードに保持している。カソードに保持されたターゲット１３３は、第３チャンバ１３１において、金属セパレータ１０に対向する位置に配設している。成膜部１３０は、例えば真空雰囲気中において、高電圧を印加してイオン化させた不活性の希ガス元素をターゲット１３３に衝突させる。希ガス元素に衝突された部分のターゲット１３３は、その表面から原子が弾き飛ばされ、金属セパレータ１０の表面に成膜される。
【００２１】
吸排気部１４０は、搬出入部１１０、加熱部１２０、および成膜部１３０を、それぞれ独立して真空雰囲気、減圧雰囲気、または置換雰囲気とする。
【００２２】
吸排気部１４０は、配管１４１、切替弁１４２、およびポンプ１４３を含んでいる。配管１４１は、搬出入部１１０の第１チャンバ１１１、加熱部１２０の第２チャンバ１２１、および成膜部１３０の第３チャンバ１３１に対して、それぞれ挿通している。切替弁１４２は、配管１４１に接続し、配管１４１を介した媒体の流通を規制する。切替弁１４２は、配管１４１を介して、第１チャンバ１１１とポンプ１４３の間、第２チャンバ１２１とポンプ１４３の間、および第３チャンバ１３１とポンプ１４３の間に、それぞれ個別に配設している。ポンプ１４３は、ドライポンプとターボ分子ポンプを組み合わせて構成している。ポンプ１４３は、第１チャンバ１１１、第２チャンバ１２１、および第３チャンバ１３１を真空引きする際に、先ずドライポンプを用いてある程度減圧した後、ターボ分子ポンプを用いて高真空まで減圧する。吸排気部１４０は、ワークに対する成膜条件によって、第１チャンバ１１１、第２チャンバ１２１、および第３チャンバ１３１を、それぞれ、高真空の状態である真空雰囲気にしたり、低真空の状態である減圧雰囲気にしたり、または不活性ガスに置き換えて置換雰囲気にする。不活性ガスに置き換えて置換雰囲気にする場合にも、その前に減圧して置換効率を上げる。
【００２３】
搬送部１５０は、金属セパレータ１０を、搬出入部１１０から加熱部１２０を介して成膜部１３０まで搬送した後、成膜部１３０から加熱部１２０を介して搬出入部１１０まで搬送する。
【００２４】
搬送部１５０は、搬送機構１５１を含んでいる。搬送機構１５１は、キャリアおよび直進ステージを備えている。キャリアは、金属セパレータ１０を例えば起立させた状態で保持する。直進ステージは、キャリアを移動させる。直進ステージは、例えば、搬出入部１１０、加熱部１２０、および成膜部１３０に対してそれぞれ独立して設ける。このような構成の場合、金属セパレータ１０を保持したキャリアを、搬出入部１１０、加熱部１２０、および成膜部１３０に設けた直進ステージ間で受け渡す。また、直進ステージは、例えば、搬出入部１１０、加熱部１２０、および成膜部１３０を横断するように設ける構成としてもよい。直進ステージは、直進駆動に伴う部材間での発塵を抑制し、かつ、真空雰囲気においてアウトガスが発生し難いグリスを用いた仕様のものを選択する。
【００２５】
回転部１６０は、金属セパレータ１０を回転させる。
【００２６】
回転部１６０は、回転機構１６１を含んでいる。回転機構１６１の仕様は、様々であるが、以下に簡便な構成からなる一例を示す。回転機構１６１は、回転ステージを備えている。回転ステージは、成膜部１３０の中央に配設している。回転ステージは、搬送機構１５１の直進ステージの下部に設けている。回転ステージを回転させると、搬送機構１５１の直進ステージに取り付けたキャリアが回転する。回転ステージは、回転駆動に伴う部材間での発塵を抑制し、かつ、真空雰囲気においてアウトガスが発生し難いグリスを用いた仕様のものを選択する。
【００２７】
制御部１７０は、搬出入部１１０、加熱部１２０、成膜部１３０、吸排気部１４０、搬送部１５０、および回転部１６０をそれぞれ制御する。
【００２８】
制御部１７０は、コントローラ１７１を含んでいる。コントローラ１７１は、ＲＯＭ、ＣＰＵ、およびＲＡＭを含んでいる。ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）は、成膜装置１００に係る制御プログラムを格納している。制御プログラムは、搬出入部１１０の第１ゲートバルブ１１２、加熱部１２０の第２ゲートバルブ１２２および加熱部材１２３、成膜部１３０の第３ゲートバルブ１３２およびターゲット１３３に希ガス元素を衝突させて弾き飛ばす機構、吸排気部１４０の切替弁１４２およびポンプ１４３、搬送部１５０の搬送機構１５１、回転部１６０の回転機構１６１の制御に関するものを含んでいる。制御部１７０のＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）は、制御プログラムに基づいて成膜装置１００の各構成部材の作動を制御する。ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）は、制御中の成膜装置１００の各構成部材に係る様々なデータを一時的に記憶する。データは、例えば、回転部１６０によって回転される金属セパレータ１０の向きに関するものである。
【００２９】
次に、成膜装置１００の動作について、図２を参照しながら具体的に説明する。
【００３０】
図２は、図１の成膜装置１００の動作を模式的に示す上面図である。
【００３１】
成膜部１３０において、図２（Ａ）に示すように、搬送部１５０の搬送機構１５１は、回転部１６０の回転機構１６１に連結している。ターゲット１３３は、金属セパレータ１０の一面１０Ｍと対向している。成膜部１３０は、例えばダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ：Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ）からなる硬質炭素層を金属セパレータ１０の一面１０Ｍに成膜する。図２（Ａ）に引き続き、図２（Ｂ）に示すように、回転機構１６１によって、金属セパレータ１０を、回転軸Ｚを基準に１８０°回転させる。ターゲット１３３は、金属セパレータ１０の回転が完了すると、その金属セパレータ１０の他面１０Ｎと対向する。図２（Ｂ）に引き続き、図２（Ｃ）に示すように、成膜部１３０は、ＤＬＣを金属セパレータ１０の他面１０Ｎに対して成膜する。
【００３２】
上述した第１実施形態によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。
【００３３】
成膜装置１００は、真空雰囲気中、減圧雰囲気中、または置換雰囲気中で加熱後のワーク（例えば金属セパレータ１０）に成膜する装置である。成膜装置１００は、加熱部１２０、成膜部１３０、および回転部１６０を有している。加熱部１２０は、収容した金属セパレータ１０を加熱する。成膜部１３０は、収容した金属セパレータ１０に対して一の方向から成膜する。回転部１６０は、金属セパレータ１０を回転させる。ここで、成膜部１３０は、金属セパレータ１０の一面１０Ｍに成膜した後、回転部１６０によって回転させた金属セパレータ１０の一面１０Ｍに対向した他面１０Ｎに成膜する。
【００３４】
成膜方法は、真空雰囲気中、減圧雰囲気中、または置換雰囲気中で加熱後のワーク（例えば金属セパレータ１０）に成膜する方法である。成膜方法は、第１の成膜工程と第２の成膜工程を有している。第１の成膜工程は、加熱した金属セパレータ１０の一面１０Ｍに対して一の方向から成膜する。第２の成膜工程は、第１の成膜工程の後に、真空雰囲気、減圧雰囲気、または置換雰囲気を継続しつつ、回転させた金属セパレータ１０の一面１０Ｍに対向した他面１０Ｎに対して一の方向から成膜する。
【００３５】
このような構成によれば、一面１０Ｍに対して一の方向から成膜した金属セパレータ１０を回転させてから、他面１０Ｎに対して一の方向から成膜する。すなわち、真空雰囲気、減圧雰囲気、または置換雰囲気を継続しつつ、かつ、再加熱を要することなく、金属セパレータ１０の一面１０Ｍに引き続き金属セパレータ１０の他面１０Ｎにも成膜することができる。このように、金属セパレータ１０に対して一の方向のみから成膜する構成によって、装置に要するコストを大幅に抑制しつつ、成膜に係る生産効率を維持してワークの両面に成膜することができる。
【００３６】
すなわち、このような構成によれば、特に成膜装置１００の成膜部１３０において、金属セパレータ１０の一面１０Ｍおよび他面１０Ｎに対して一時に成膜できるように、その成膜に必要な機構を、金属セパレータ１０を介して対向して合計２つ配設する必要がない。ターゲット１３３から飛ばした所定の材料を金属セパレータ１０に成膜させるために必要な機構は、例えば、他の構成部材と比較して非常に高価である。そのような構成は、例えば、高電圧を印加してイオン化させた希ガス元素をターゲット１３３に衝突させて、ターゲット１３３の表面から原子を弾き飛ばし、金属セパレータ１０の表面に被膜させるものである。すなわち、ターゲット１３３から飛ばした所定の材料を金属セパレータ１０に成膜させるために必要な機構を２つ配設することなく、１つのみの配設に留めることによって、成膜装置１００の製造に要するコストを大幅に抑制することができる。
【００３７】
さらに、このような構成によれば、金属セパレータ１０は、金属セパレータ１０の一面１０Ｍに成膜した後であって、他面１０Ｎに成膜する前に、大気雰囲気に晒されることがない。したがって、金属セパレータ１０は、大気雰囲気中で汚染される機会を減らすことができる。
【００３８】
さらに、成膜方式は、金属セパレータ１０を第１流通口から搬入し、加熱した金属セパレータ１０に成膜した後、金属セパレータ１０を第１流通口に戻して搬出するインターバック式とすることができる。
【００３９】
このような構成において、インターバック式は、インライン式と比べて、搬入した金属セパレータ１０に成膜して搬出するまでの搬送経路が長くなる。そこで、金属セパレータ１０の両面に成膜するために、その長い搬送経路を２往復することを避けることによって、金属セパレータ１０に対する成膜に係る生産効率を効果的に向上させることができる。
【００４０】
（第１実施形態の変形例１）
第１実施形態の変形例１に係る成膜方法、およびその方法を具現化した成膜装置２００について、図３を参照しながら説明する。
【００４１】
第１実施形態の変形例１は、回転部２６０において、複数の金属セパレータ１０を一度に回転させる伝達機構２６２を備えた構成が、前述した第１実施形態に係る構成と異なる。前述した第１実施形態では、回転部１６０において、１つの金属セパレータ１０を回転させていた。第１実施形態の変形例１においては、前述した第１実施形態と同様の構成からなるものについて、同一の符号を使用し、前述した説明を省略する。
【００４２】
成膜装置２００の構成および動作について、図３を参照しながら具体的に説明する。
【００４３】
図３は、成膜装置２００の要部を示す斜視図である。
【００４４】
先ず、回転部２６０の伝達機構２６２の構成について、説明する。
【００４５】
貫通シャフト２６２Ａは、成膜部１３０の第３チャンバ１３１の挿通口１３１ａに対して回転自在に挿通している。貫通シャフト２６２Ａは、回転軸Ｚに沿った上端を、回転部２６０の回転機構１６１に接続している。第３チャンバ１３１は、挿通口１３１ａの周囲に密封機構を備えることによって、貫通シャフト２６２Ａに起因した空気の流出入等の漏洩を防止し、気密性を維持している。
【００４６】
貫通シャフト２６２Ａの上端は、例えば、搬送方向Ｘに沿って長方形状に形成している。回転機構１６１の下端は、例えば、搬送方向Ｘに沿って直線状の溝を形成している。貫通シャフト２６２Ａが回転すると、貫通シャフトの上端の長方形状の部分が、回転機構１６１の溝と干渉して、回転機構１６１が従動して回転する。一方、回転機構１６１が搬送方向Ｘに沿って移動する際には、貫通シャフト２６２Ａの上端の長方形状の部分が、回転機構１６１の溝と干渉しないことから、回転機構１６１が貫通シャフト２６２Ａから容易に離脱して移動する。貫通シャフト２６２Ａおよび回転機構１６１に係る上記の構成は、一例である。
【００４７】
ベアリング２６２Ｂは、成膜部１３０の外部に配設し、貫通シャフト２６２Ａを回転軸Ｚに沿って回転自在に挿通している。連動歯車２６２Ｃは、ベアリング２６２Ｂよりも回転軸Ｚに沿った下方において、貫通シャフト２６２Ａに挿入して接合している。歯車２６２Ｄは、連動歯車２６２Ｃよりも回転軸Ｚに沿った下方において、貫通シャフト２６２Ａの下端に接合している。歯車２６２Ｅは、歯車２６２Ｄと連動自在に交差方向Ｙに沿って配設している。モータ２６２Ｆは、その回転軸の先端部分を、歯車２６２Ｅに接合している。
【００４８】
連動歯車２６２Ｃは、搬送方向Ｘに沿って、例えば５つ連動自在に配設している。連動歯車２６２Ｃは、非貫通シャフト２６２Ｇまたは貫通シャフト２６２Ｈに挿入して接合している。貫通シャフト２６２Ａを基準として、搬送方向Ｘに沿って、非貫通シャフト２６２Ｇ、貫通シャフト２６２Ｈ、非貫通シャフト２６２Ｇ、および貫通シャフト２６２Ｈの順で、各シャフトが等間隔で並列している。非貫通シャフト２６２Ｇおよび貫通シャフト２６２Ｈは、連動歯車２６２Ｃの回転軸Ｚに沿った上方に、ベアリング２６２Ｂを回転自在に挿通している。それらのベアリング２６２Ｂは、連動歯車２６２Ｃに掛かる応力のずれを吸収する。貫通シャフト２６２Ｈは、ベアリング２６２Ｂよりも回転軸Ｚに沿った上方において、第３チャンバ１３１の挿通口１３１ａに対して気密性を保持した状態で挿通して、さらに回転部２６０の回転機構１６１に接続している。
【００４９】
貫通シャフト２６２Ｈの上端は、貫通シャフト２６２Ａの上端と同様に、例えば、搬送方向Ｘに沿って長方形状に形成している。貫通シャフト２６２Ｈが回転すると、貫通シャフトの上端の長方形状の部分が、回転機構１６１の溝と干渉して、回転機構１６１が従動して回転する。一方、回転機構１６１が搬送方向Ｘに沿って移動する際には、貫通シャフト２６２Ｈの上端の長方形状の部分が、回転機構１６１の溝と干渉しないことから、回転機構１６１が貫通シャフト２６２Ｈから容易に離脱して移動する。支持板２６２Ｌは、貫通シャフト２６２Ａを回転自在に挿通させて支持し、かつ、２つの非貫通シャフト２６２Ｇおよび２つの貫通シャフト２６２Ｈの下端を回転自在に支持している。
【００５０】
次に、回転部２６０の伝達機構２６２の動作について、説明する。
【００５１】
モータ２６２Ｆは、歯車２６２Ｅを介して、歯車２６２Ｄを回転させる。歯車２６２Ｄは、貫通シャフト２６２Ａを介して、連動歯車２６２Ｃを回転させる。互いに連動している５つの連動歯車２６２Ｃによって、１つの貫通シャフト２６２Ａと、その貫通シャフト２６２Ａに従動する２つの貫通シャフト２６２Ｈを介して、回転機構１６１に回転動力を与える。このようにして、回転部２６０の伝達機構２６２は、例えば３つの金属セパレータ１０を連動して回転させる。
【００５２】
伝達機構２６２は、構成部材を増減させて、任意の個数の金属セパレータ１０を連動して回転させることができる。さらに、搬送機構１５１において、キャリア１５２を回転軸Ｚに沿った上方に積み重ねることによって、金属セパレータ１０を縦方向に積み上げた状態で同時に成膜することができる。例えば、キャリア１５２を回転軸Ｚに沿って２段に積み重ねることができる。
【００５３】
上述した第１実施形態の変形例１によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。
【００５４】
成膜装置２００は、回転部２６０の少なくとも一部を、成膜部１３０の外部に配設した構成とすることができる。
【００５５】
このような構成によれば、回転部２６０の構成部材に対する着膜を防止できる。したがって、構成部材に着膜した付着物が剥離して飛散することに伴う成膜部１３０や金属セパレータ１０の汚染を防止できる。また、剥離した付着物に起因した金属セパレータ１０に対する成膜不良を防止できる。さらに、着膜した構成部材が可動部品であって、その着膜に起因した動作不良が生じるようなことを防止できる。
【００５６】
さらに、このような構成によれば、仮に回転部２６０を構成する駆動機構から粉塵が発生したとしても、その粉塵によって成膜部１３０の内部が汚染されることを抑制できる。同様に、仮に回転部２６０を構成する駆動機構に塗布した潤滑剤が揮発したとしても、その揮発した潤滑剤によって成膜部１３０の内部が汚染されることを抑制できる。
【００５７】
さらに、このような構成によれば、回転部２６０をメンテナンスしたり修理したりする場合に、装置の外部から作業できることから、作業効率を向上させることができる。特に、回転部２６０に不調が生じた場合、装置の外部から目視することが容易であることから、不調の箇所を初期の段階で発見して、損傷等が拡大してしまう前に修理することができる。
【００５８】
さらに、このような構成によれば、回転部２６０を大気雰囲気中において動作させることができることから、例えば真空雰囲気中において動作させる場合と比較して、駆動機構の仕様が緩和され、かつ、廉価で構成することが可能である。駆動機構を、例えば大気雰囲気中で使用する場合には、潤滑剤として使用するグリスを低揮発性のものにする必要がなく、モータのような発熱部材の放熱対策を熟慮する必要がない。
【００５９】
さらに、成膜装置２００は、回転部２６０の少なくとも一部を、成膜部１３０の内部において金属セパレータ１０よりも重力方向の下方の側に配設した構成とすることができる。
【００６０】
このような構成によれば、回転部２６０の構成部材に着膜した付着物が剥離した後、重力に従って落下する際に、成膜部１３０や金属セパレータ１０に再付着することに起因した汚染を防止できる。
【００６１】
さらに、このような構成によれば、仮に金属セパレータ１０または回転部２６０の回転に起因して粉塵が発生したとしても、そのような粉塵が重力に従って落下する際に金属セパレータ１０に付着してしまうことを防止できる。
【００６２】
さらに、成膜装置２００は、回転部２６０が、金属セパレータ１０同士を回転自在に連動させる連動機構（伝達機構）を備えた構成とすることができる。伝達機構は、複数の金属セパレータ１０を連動して個別に回転させる。
【００６３】
このような構成によれば、簡便な方法によって、複数の金属セパレータ１０に成膜する場合についても、生産効率を向上させることができる。すなわち、複数の金属セパレータ１０の一面１０Ｍに対して同時に成膜した後、連動機構によって全ての金属セパレータ１０を連動して回転させてから、複数の金属セパレータ１０の他面１０Ｎに対して同時に成膜することができる。
【００６４】
さらに、このような構成によれば、各々の金属セパレータ１０を個別に回転させるために必要な交差方向Ｙに沿った幅（奥行）は、全ての金属セパレータ１０を一体に回転させるために必要な交差方向Ｙに沿った幅（奥行）よりも短くすることができる。したがって、各々の金属セパレータ１０を個別に独立して回転させる構成によって、成膜装置２００の奥行を大幅に短縮することができる。
【００６５】
（第１実施形態の変形例２）
第１実施形態の変形例２に係る成膜方法、およびその方法を具現化した成膜装置３００について、図４を参照しながら説明する。
【００６６】
第１実施形態の変形例２は、回転部３６０において、金属セパレータ１０を保持したキャリア１５２を、そのキャリア１５２の回転軸と直交する方向から回転させる伝達機構３６２を備えた構成が、前述した第１実施形態に係る構成と異なる。第１実施形態の変形例２においては、前述した第１実施形態のいずれか（変形例を含む）と同様の構成からなるものについて、同一の符号を使用し、前述した説明を省略する。
【００６７】
成膜装置３００の構成および動作について、図４を参照しながら具体的に説明する。
【００６８】
図４は、成膜装置３００の回転部３６０の要部を示す斜視図である。
【００６９】
先ず、伝達機構３６２の構成について、説明する。
【００７０】
歯車３６２Ａは、歯車２６２Ｄに対して、連動自在に交差方向Ｙに沿って配設している。シャフト３６２Ｂは、その中央部分に歯車３６２Ａを挿入して、その歯車３６２Ａを接合している。ベアリング３６２Ｃは、シャフト３６２Ｂの下部を挿通し、そのシャフト３６２Ｂを回転自在としている。第１傘型歯車３６２Ｄは、シャフト３６２Ｂの上部に挿入し、そのシャフト３６２Ｂと接合している。第１傘型歯車３６２Ｄは、シャフト３６２Ｂを介して、ベアリング３６２Ｃと対向している。第２傘型歯車３６２Ｅは、第１傘型歯車３６２Ｄと連動自在に直交するように配設している。モータ３６２Ｆは、その回転軸の先端部分を、第２傘型歯車３６２Ｅに接合している。
【００７１】
次に、伝達機構３６２の動作について、説明する。
【００７２】
モータ３６２Ｆは、第２傘型歯車３６２Ｅを介して、第１傘型歯車３６２Ｄを回転させる。モータ３６２Ｆの回転軸と、第１傘型歯車３６２Ｄの回転軸は９０°異なる。第１傘型歯車３６２Ｄは、シャフト３６２Ｂを介して、歯車３６２Ａを回転させる。ベアリング３６２Ｃは、歯車３６２Ａに掛かる応力のずれを吸収する。歯車３６２Ａは、連結している歯車２６２Ｄを回転させる。
【００７３】
上述した第１実施形態の変形例２によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。
【００７４】
成膜装置３００は、回転部３６０において、金属セパレータ１０を保持したキャリア１５２を、そのキャリア１５２の回転軸と直交する方向から回転させる伝達機構３６２を備えた構成としている。
【００７５】
このような構成によれば、伝達機構３６２は、装置の側方に配設することができることから、装置の下方に配設する場合と比較して、メンテナンスしたり修理したりする場合の作業性を向上させることができる。すなわち、装置の側方は、装置の下方と比較して、広い作業空間を確保できることから、作業者が作業し易い。
【００７６】
さらに、このような構成によれば、伝達機構３６２に不調が生じた場合、装置の外部から目視することが容易であることから、不調の箇所を初期の段階で発見して、損傷等が拡大してしまう前に修理することができる。
【００７７】
（第１実施形態の変形例３）
第１実施形態の変形例３に係る成膜方法、およびその方法を具現化した成膜装置４００について、図５を参照しながら説明する。
【００７８】
第１実施形態の変形例３は、回転部４６０において、金属セパレータ１０を保持したキャリア１５２を、そのキャリア１５２の搬送方向Ｘに沿った方向から回転させる伝達機構４６２を備えた構成が、前述した第１実施形態に係る構成と異なる。第１実施形態の変形例３においては、前述した第１実施形態のいずれか（変形例を含む）と同様の構成からなるものについて、同一の符号を使用し、前述した説明を省略する。
【００７９】
成膜装置４００の構成および動作について、図５を参照しながら具体的に説明する。
【００８０】
図５は、成膜装置４００の回転部４６０を示す斜視図である。
【００８１】
伝達機構４６２において、直線状に構成されたラックアンドピニオン歯車４６２Ａは、歯車２６２Ｄに対して、連動自在に搬送方向Ｘに沿って設けている。直進ステージ４６２Ｂは、ラックアンドピニオン歯車４６２Ａを取り付けている。直進ステージ４６２Ｂは、ラックアンドピニオン歯車４６２Ａを搬送方向Ｘに沿った方向に往復させることによって、歯車２６２Ｄを回転させる。
【００８２】
上述した第１実施形態の変形例３によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。
【００８３】
成膜装置４００は、回転部４６０において、金属セパレータ１０を保持したキャリア１５２を、そのキャリア１５２の搬送方向Ｘに沿った方向から回転させる伝達機構４６２を備えた構成としている。
【００８４】
このような構成によれば、簡便な仕様によって具現化でき、かつ、駆動力を効率よく伝達し易い伝達機構４６２によって、金属セパレータ１０を容易に回転させることができる。
【００８５】
さらに、このような構成によれば、伝達機構４６２を装置の外部から視認することによって、装置の内部の金属セパレータ１０の向きを随時確認することができる。特に、例えば、伝達機構４６２が右端に移動していれば金属セパレータ１０の一面１０Ｍがターゲット１３３に対向し、かつ、伝達機構４６２が左端に移動していれば金属セパレータ１０の他面１０Ｎがターゲット１３３に対向するように設定しておけば、装置の運転時に金属セパレータ１０の向きを装置の外部から非常に容易に確認できる。
【００８６】
（第１実施形態の変形例４）
第１実施形態の変形例４に係る成膜方法、およびその方法を具現化した成膜装置５００について、図６を参照しながら説明する。
【００８７】
第１実施形態の変形例４は、回転部５６０において、金属セパレータ１０の向きを非常に簡便な構成によって定めることができる伝達機構５６２を備えた構成が、前述した第１実施形態に係る構成と異なる。第１実施形態の変形例４においては、前述した第１実施形態のいずれか（変形例を含む）と同様の構成からなるものについて、同一の符号を使用し、前述した説明を省略する。
【００８８】
成膜装置５００の構成および動作について、図６および図７を参照しながら具体的に説明する。
【００８９】
図６は、成膜装置５００の要部を示す斜視図である。図７は、図６の回転部５６０のさらに要部の構成部材を分解して示す分解斜視図である。
【００９０】
先ず、伝達機構５６２の構成について、説明する。
【００９１】
歯車５６２Ａは、歯車２６２Ｄに対応し、シャフト５６２Ｂに挿入して接合している。歯車５６２Ａは、歯車２６２Ｄと比較して、回転軸Ｚに沿った方向の厚みを増加させている。シャフト５６２Ｂは、貫通シャフト２６２Ａに対応している。シャフト５６２Ｂは、端部（回転軸Ｚに沿った下方）に部分的に突出させて形成した突起部５６２ＢＢを備えている。支持部材５６２Ｃは、シャフト５６２Ｂを回転自在に支持する。支持部材５６２Ｃは、シャフト５６２Ｂの突起部５６２ＢＢに嵌合する凹部５６２ＣＣを備えている。凹部５６２ＣＣは、例えば、段付きの凹部に相当し、支持部材５６２Ｃの上面に開口している。凹部５６２ＣＣは、１段目の底部から２段目の最底部の凹状部分に相当する。
【００９２】
支持部材５６２Ｃの凹部５６２ＣＣは、断面が半円状となるように、回転軸Ｚに沿って一定の深さで形成している。さらに、凹部５６２ＣＣは、断面が半円状であって、回転軸Ｚに沿って傾斜するように一定の深さで形成してもよい。このように凹部５６２ＣＣを形成すれば、特に、突起部５６２ＢＢが凹部５６２ＣＣからせり上がり易くなる。凹部５６２ＣＣは、段付きとせずに通常の凹部として構成してもよい。歯車５６２Ｄは、歯車５６２Ａに対して、連動自在に搬送方向Ｘに沿って配設している。モータ５６２Ｅは、その回転軸の先端部分を、歯車５６２Ｄに接合している。
【００９３】
次に、伝達機構５６２の動作について、説明する。
【００９４】
モータ５６２Ｅは、歯車５６２Ｄを介して、歯車５６２Ａを回転させる。歯車５６２Ａは、シャフト５６２Ｂを回転させる。ここで、シャフト５６２Ｂを順転させつつ突起部５６２ＢＢと凹部５６２ＣＣを嵌合させると、金属セパレータ１０の一面１０Ｍに成膜可能な方位に対して、キャリア１５２が回転するように構成する。この場合、シャフト５６２Ｂの突起部５６２ＢＢが、支持部材５６２Ｃの凹部５６２ＣＣに落ち込んで嵌合する。一方、シャフト５６２Ｂを逆転させつつ突起部５６２ＢＢと凹部５６２ＣＣとを嵌合させると、金属セパレータ１０の他面１０Ｎに成膜可能な方位に対して、キャリア１５２が回転するように構成する。この場合、シャフト５６２Ｂの突起部５６２ＢＢが支持部材５６２Ｃの凹部５６２ＣＣからせり上がる。
【００９５】
シャフト５６２Ｂの突起部５６２ＢＢが支持部材５６２Ｃの凹部５６２ＣＣに落ち込んで嵌合すると、金属セパレータ１０の一面１０Ｍとキャリア１５２が対向する。一方、シャフト５６２Ｂの突起部５６２ＢＢが支持部材５６２Ｃの凹部５６２ＣＣからせり上がって嵌合すると、金属セパレータ１０の他面１０Ｎとキャリア１５２が対向する。突起部５６２ＢＢが凹部５６２ＣＣに落ち込んで嵌合すると他面１０Ｎとキャリア１５２が対向し、突起部５６２ＢＢが凹部５６２ＣＣからせり上がって嵌合すると、一面１０Ｍとキャリア１５２が対向するように構成してもよい。
【００９６】
上述した第１実施形態の変形例４によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。
【００９７】
成膜装置５００は、回転部５６０が、金属セパレータ１０を保持するキャリア１５２に連結して回転するシャフト５６２Ｂと、シャフト５６２Ｂを回転自在に支持する支持部材５６２Ｃを含んでいる。シャフト５６２Ｂは、部分的に突出させて形成した突起部５６２ＢＢを備えている。支持部材５６２Ｃは、突起部５６２ＢＢに嵌合する凹部５６２ＣＣを備えている。ここで、シャフト５６２Ｂを順転させつつ突起部５６２ＢＢと凹部５６２ＣＣとを嵌合させると、金属セパレータ１０の一面１０Ｍまたは他面１０Ｎに成膜可能な方位に対して、キャリア１５２が回転する。一方、シャフト５６２Ｂを逆転させつつ突起部５６２ＢＢを凹部５６２ＣＣから離脱させると、金属セパレータ１０の他面１０Ｎまたは一面１０Ｍに成膜可能な方位に対して、キャリア１５２が回転する。
【００９８】
このような構成によれば、非常に簡単で廉価で具現化できる仕様によって、金属セパレータ１０の一面１０Ｍおよび他面１０Ｎを、ターゲット１３３が配設された位置に確実に対向させることができる。
【００９９】
さらに、このような構成によれば、一定周期毎に、シャフト５６２Ｂの突起部５６２ＢＢと支持部材５６２Ｃの凹部５６２ＣＣを嵌合させることから、シャフト５６２Ｂの順転および逆転に伴う回転量に累積誤差が生じることなく、金属セパレータ１０の位置決め精度を一定に保つことができる。
【０１００】
さらに、このような構成によれば、シャフト５６２Ｂの突起部５６２ＢＢと支持部材５６２Ｃの凹部５６２ＣＣを嵌合または離脱させる仕様であることから、外部からの電気的なノイズの影響を受けることなく、金属セパレータ１０の回転動作の信頼性を高めることができる。
【０１０１】
さらに、このような構成によれば、装置の外部からシャフト５６２Ｂの状態を視認することによって、金属セパレータ１０の向きを随時確認することができる。すなわち、シャフト５６２Ｂの突起部５６２ＢＢが支持部材５６２Ｃの凹部５６２ＣＣに落ち込むように嵌合している場合と、シャフト５６２Ｂの突起部５６２ＢＢが支持部材５６２Ｃの凹部５６２ＣＣから離脱してせり上がるように嵌合している場合では、シャフト５６２Ｂの状態が明確に異なる。すなわち、シャフト５６２Ｂの回転軸Ｚに沿った位置が上下に異なることから、金属セパレータ１０の向きを装置の外部から容易に確認することができる。
【０１０２】
（第２実施形態）
第２実施形態に係る成膜方法、およびその方法を具現化した成膜装置６００について、図８および図９を参照しながら説明する。
【０１０３】
第２実施形態は、一面１０Ｍに成膜された金属セパレータ１０を、成膜部１３０から退避させた後に反転させてから成膜部１３０に戻した上で、金属セパレータ１０の他面１０Ｎに成膜する構成が、前述した第１実施形態に係る構成と異なる。前述した第１実施形態では、一面１０Ｍに成膜された金属セパレータ１０を、その位置で反転させた後、金属セパレータ１０の他面１０Ｎに成膜していた。第２実施形態においては、前述した第１実施形態と同様の構成からなるものについて、同一の符号を使用し、前述した説明を省略する。
【０１０４】
成膜装置６００は、前述した第１実施形態と同様の搬出入部１１０、加熱部１２０、成膜部１３０、吸排気部１４０、搬送部１５０、回転部１６０、および制御部１７０に加えて、第２実施形態に特有の退避部６８０を有している。また、成膜装置６００は、退避部６８０に回転部１６０を配設している。そこで、第２実施形態では、退避部６８０を中心に説明する。
【０１０５】
先ず、成膜装置６００の構成について、図８を参照しながら具体的に説明する。
【０１０６】
図８は、成膜装置６００を模式的に示す上面図である。
【０１０７】
退避部６８０は、成膜部１３０から延在し、一面１０Ｍに成膜された金属セパレータ１０を成膜部１３０から退避させつつ収容し、金属セパレータ１０を回転させた後、金属セパレータ１０を成膜部１３０に戻す。
【０１０８】
退避部６８０は、成膜部１３０と隣接している。退避部６８０は、第４チャンバ６８１および第４ゲートバルブ６８２を含んでいる。第４チャンバ６８１は、いわゆる圧力チャンバに相当し、例えば、ステンレス鋼からなり、内部に空間を有した長方体形状に形成している。第４チャンバ６８１は、搬送部１５０によって搬送される金属セパレータ１０を収容し、回転部１６０によって金属セパレータ１０を回転させる。第４ゲートバルブ６８２は、開閉口に相当し、第３チャンバ１３１と第４チャンバ６８１を隔てる。第４チャンバ６８１は、第４ゲートバルブ６８２を開放した状態で、第３チャンバ１３１を介して真空雰囲気にする。第４チャンバ６８１に吸排気部１４０の配管１４１を取り付けて、第４チャンバ６８１を第３チャンバ１３１と独立して真空引きする構成としてもよい。
【０１０９】
次に、成膜装置６００の動作について、図９を参照しながら具体的に説明する。
【０１１０】
図９は、図８の成膜装置６００の動作を模式的に示す上面図である。
【０１１１】
退避部６８０は、図９（Ａ）に示すように、成膜部１３０によって金属セパレータ１０の一面１０Ｍに成膜した後、金属セパレータ１０を成膜部１３０から退避部６８０に移動させる。図９（Ａ）に引き続き、図９（Ｂ）に示すように、回転機構１６１によって、金属セパレータ１０を、回転軸Ｚを基準に１８０°回転させる。図９（Ｂ）に引き続き、図９（Ｃ）に示すように、金属セパレータ１０を退避部６８０から成膜部１３０に移動させた後、成膜部１３０によって金属セパレータ１０の他面１０Ｎに成膜する。
【０１１２】
上述した第２実施形態によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。
【０１１３】
成膜装置６００は、退避部６８０を有している。退避部６８０は、成膜部１３０から延在し、一面１０Ｍに成膜された金属セパレータ１０を成膜部１３０から退避させつつ収容し、金属セパレータ１０を回転させた後、金属セパレータ１０を成膜部１３０に戻す。
【０１１４】
このような構成によれば、金属セパレータ１０を成膜部１３０から退避させることによって、仮に金属セパレータ１０の回転の際に回転部１６０に付着していた膜が剥がれ落ちても、特に高い清浄度が要求される成膜部１３０の汚染を防止できる。
【０１１５】
さらに、このような構成によれば、金属セパレータ１０を成膜部１３０から退避させることによって、仮に金属セパレータ１０の回転の際に、金属セパレータ１０または回転部１６０に起因した粉塵が発生したとしても、特に高い清浄度が要求される成膜部１３０の汚染を防止できる。
【０１１６】
さらに、このような構成によれば、金属セパレータ１０を成膜部１３０から退避させることによって、仮に金属セパレータ１０の回転の際に、成膜部１３０の内部に配設しているターゲット１３３等と金属セパレータ１０が干渉して、互いの位置がずれたり損傷したりすることを防止できる。
【０１１７】
さらに、このような構成によれば、退避部６８０に回転部１６０を配設していることから、回転部１６０のメンテナンスを実施する際に、成膜部１３０の汚染を防止することができる。また、成膜部１３０のメンテナンスを実施する際に、退避部６８０に回転部１６０を配設していることから、その回転部１６０が障害とならない。
【０１１８】
さらに、このような構成によれば、例えば、金属セパレータ１０の一面１０Ｍに成膜した後であって他面１０Ｎに成膜する前に、一面１０Ｍの成膜状態を検査機器によって検査するような要望がある場合に、そのような検査機器を退避部６８０に配設することができる。すなわち、装置の拡張性を高めることができる。
【０１１９】
さらに、成膜装置６００は、退避部６８０を、開閉口（第４ゲートバルブ６８２）によって成膜部１３０と流通または隔離自在に隣接する構成とすることができる。
【０１２０】
このような構成によれば、仮に金属セパレータ１０の回転の際に回転部１６０に付着していた膜が剥がれ落ちても、その剥がれ落ちた塵を第４ゲートバルブ６８２によって効果的に遮蔽し、成膜部１３０に粉塵が侵入することを確実に防止できる。
【０１２１】
さらに、このような構成によれば、仮に金属セパレータ１０の回転に伴って粉塵が発生したとしても、その粉塵を第４ゲートバルブ６８２によって効果的に遮蔽し、成膜部１３０に粉塵が侵入することを確実に防止できる。
【０１２２】
以上、本発明における好適な実施形態を説明したが、これらは本発明を説明するための例示であり、本発明の範囲をこれらの実施形態にのみ限定する趣旨ではない。したがって、本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で、上述した実施形態とは異なる種々の態様で実施することができる。すなわち、本発明は、特許請求の範囲に記載された構成に基づき様々な改変が可能であり、それらについても本発明の範疇である。
【０１２３】
例えば、第１および第２実施形態では、ワークを、金属セパレータ１０の構成で説明したが、このような構成に限定されることはない。ワークは、例えば、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ：Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）や太陽電池用の基板としてもよい。フラットパネルディスプレイは、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）やＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）等に相当する。
【０１２４】
また、第１および第２実施形態では、成膜装置１００および２００を、真空雰囲気中においてワークに対してターゲットから飛ばした所定の材料を成膜するスパッタリング装置の構成で説明したが、このような構成に限定されることはない。成膜装置は、スパッタリング装置に加えて、真空蒸着装置、熱ＣＶＤ装置、およびＭＯＣＶＤ装置等に適用することができる。成膜方法に合わせて、真空雰囲気中、減圧雰囲気中、または置換雰囲気中のいずれかの雰囲気中において、ワークに成膜を行う。
【０１２５】
また、第１および第２実施形態では、成膜部１３０に１つのターゲット１３３を配設する構成で説明したが、必ずしも、このような構成に限定されることはない。成膜部１３０は、異なる種類の材料を成膜するために、成膜部１３０の内部に複数種類のターゲットを１つずつ並べて配設してもよい。
【符号の説明】
【０１２６】
１０        金属セパレータ（ワーク）、
１０Ｍ      一面、
１０Ｎ      他面、
１００，２００，３００，４００，５００，６００  成膜装置、
１１０      搬出入部、
１１１      第１チャンバ、
１１２      第１ゲートバルブ、
１２０      加熱部、
１２１      第２チャンバ、
１２２      第２ゲートバルブ、
１２３      加熱部材、
１３０      成膜部、
１３１      第３チャンバ、
１３１ａ    挿通口、
１３２      第３ゲートバルブ、
１３３      ターゲット、
１４０      吸排気部、
１４１      配管、
１４２      切替弁、
１４３      ポンプ、
１５０      搬送部、
１５１      搬送機構、
１５２      キャリア、
１６０      回転部、
１６１      回転機構、
１７０      制御部、
１７１      コントローラ、
２６０      回転部、
２６２      伝達機構、
３６０      回転部、
３６２      伝達機構、
４６０      回転部、
４６２      伝達機構、
５６０      回転部、
５６２      伝達機構、
５６２Ｂ    シャフト、
５６２ＢＢ  突起部、
５６２Ｃ    支持部材、
５６２ＣＣ  凹部、
６８０      退避部、
６８１      第４チャンバ、
６８２      第４ゲートバルブ（開閉口）、
Ｘ        （金属セパレータ１０の）搬送方向、
Ｙ        （搬送方向Ｘと交差した）交差方向、
Ｚ        （金属セパレータ１０の）回転軸。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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