(57)【要約】【課題】透明導電膜の視認性が良好でヘイズ値が小さく、かつ滑り性が良好なタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムを提供する。【解決手段】基材フィルムの少なくとも一方の面に最表層として樹脂層（Ａ）を備えたタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、ベースフィルムはヘイズ値が０．５０％以下であり、樹脂層（Ａ）は、屈折率が１．５５以下、厚みが７０ｎｍ未満で、かつ下記粒子（ａ）を樹脂層（Ａ）の固形分総量１００質量％に対して０．５〜２０質量％含有することを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。［粒子（ａ）］樹脂層（Ａ）の厚み（ｄ１：ｎｍ）に対する平均粒子径（ｒ１：ｎｍ）の比率（ｒ１／ｄ１）が０．７〜１．８である粒子。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの少なくとも一方の面に最表層として樹脂層（Ａ）を備えたタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、ベースフィルムはヘイズ値が０．５０％以下であり、樹脂層（Ａ）は、屈折率が１．５５以下、厚みが７０ｎｍ未満で、かつ下記粒子（ａ）を樹脂層（Ａ）の固形分総量１００質量％に対して０．５〜２０質量％含有することを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［粒子（ａ）］
樹脂層（Ａ）の厚み（ｄ１：ｎｍ）に対する平均粒子径（ｒ１：ｎｍ）の比率（ｒ１／ｄ１）が０．７〜１．８である粒子。
【請求項２】
基材フィルムの樹脂層（Ａ）が設けられた面とは反対面にハードコート層（Ｂ）を備え、ハードコート層（Ｂ）は下記粒子（ｂ）を含有し、ハードコート層（Ｂ）の表面に粒子（ｂ）による突起が形成されている、請求項１に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［粒子（ｂ）］
ハードコート層（Ｂ）の厚み（ｄ２：μｍ）に対する平均粒子径（ｒ２：μｍ）の比率（ｒ２／ｄ２）が０．５０以下である粒子。
【請求項３】
基材フィルムと樹脂層（Ａ）との間に、屈折率が１．６１〜１．８０である高屈折率層（Ｃ）を有する、請求項１または２に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項４】
基材フィルムと高屈折率層（Ｃ）との間に、厚みが０．３〜５μｍであるハードコート層（Ｄ）を有する、請求項３に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項５】
基材フィルムと樹脂層（Ａ）との間に、屈折率が１．６１〜１．７０である高屈折率ハードコート層（Ｅ）を有する、請求項１または２に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの樹脂層（Ａ）の上に透明導電膜を有する、タッチパネル用透明導電性フィルム。
【請求項７】
前記透明導電膜がパターン化されている、請求項６に記載のタッチパネル用透明導電性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびこのベースフィルムを用いたタッチパネル用透明導電性フィルムに関する。詳しくは、透明導電膜の視認性が良好でかつ滑り性が改良されたタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムに関する。
【０００２】
以下の説明において、「タッチパネル用透明導電性フィルム」を単に「透明導電性フィルム」と言うことがあり、また、「タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム」を単に「ベースフィルム」と言うことがある。以下の説明において「透明導電性フィルム」なる表現は断りのない限り「タッチパネル用透明導電性フィルム」を意味し、また「ベースフィルム」なる表現は断りのない限り「タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム」を意味する。
【背景技術】
【０００３】
透明導電性フィルムの透明導電膜の色調（色味）を調整するため、あるいはパターン化された透明導電膜のパターンが視認される現象（いわゆる「骨見え」）を抑制するために、最表層に屈折率が比較的小さい薄膜層（例えば低屈折率層）が設けられたベースフィルムが知られている（特許文献１〜５）。
【０００４】
透明導電膜としては、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の金属酸化物の薄膜が一般的に用いられており、上記したベースフィルムの最表層（例えば低屈折率層）上にスパッタリング法や真空蒸着によって製膜、積層されている。
【０００５】
透明導電膜の製膜工程は、一般に、ロール・ツー・ロール方式（ベースフィルムのロール状物を巻き出して連続搬送させながら透明導電膜を製膜し、ロール状に巻き取る方式）で行われており、製膜工程におけるベースフィルムの搬送は搬送ローラによって行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−８０６２４号公報
【特許文献２】特開２００４−３４５２７８号公報
【特許文献３】特開２０１１−９８５６３号公報
【特許文献４】特開２０１３−９７５６２号公報
【特許文献５】特開２０１３−１８４４３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記のような透明導電膜の製膜工程において、ベースフィルムの最表層（例えば低屈折率層）の面が搬送ローラに支持（接触）されながら搬送される場合、最表層の滑り性が悪いと、最表層に傷が入ったり、ベースフィルムにシワが入ったりすることがある。
【０００８】
ベースフィルムやハードコートフィルム等のフィルム製品に滑り性を付与するために、フィルム製品の一方の面の最表面に凹凸を設けることが知られている。
【０００９】
一方、ベースフィルムはヘイズ値が小さいことが求められている。しかし、上記したように、ベースフィルムの滑り性を向上させるために、ベースフィルムの最表面に単に凹凸を設けるとヘイズ値が大きくなるという問題がある。
【００１０】
透明導電膜の視認性を向上させるためには、ベースフィルムの最表層の厚みを比較的小さくすること（例えば、最表層の厚みを７０ｎｍ未満にすること）が好ましいことを確認している。しかし、このような極薄膜である最表層に粒子を含有させて滑り性を向上させるとヘイズ値が上昇し、逆にヘイズ値の上昇を抑制すると滑り性が向上しないことがあり、ベースフィルムのヘイズ値の上昇を抑制しながら滑り性を向上させるという技術提案は未だなされていない。
【００１１】
従って、本発明の目的は、透明導電膜の視認性が良好でヘイズ値が小さく、かつ滑り性が良好なベースフィルムを提供することにある。本発明の他の目的は、このベースフィルムを用いた透明導電性フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記目的は、以下の発明により基本的に達成された。
［１］基材フィルムの少なくとも一方の面に最表層として樹脂層（Ａ）を備えたタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、ベースフィルムはヘイズ値が０．５０％以下であり、樹脂層（Ａ）は、屈折率が１．５５以下、厚みが７０ｎｍ未満で、かつ下記粒子（ａ）を樹脂層（Ａ）の固形分総量１００質量％に対して０．５〜２０質量％含有することを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［粒子（ａ）］  樹脂層（Ａ）の厚み（ｄ１：ｎｍ）に対する平均粒子径（ｒ１：ｎｍ）の比率（ｒ１／ｄ１）が０．７〜１．８である粒子。
［２］基材フィルムの樹脂層（Ａ）が設けられた面とは反対面にハードコート層（Ｂ）を備え、ハードコート層（Ｂ）は下記粒子（ｂ）を含有し、ハードコート層（Ｂ）の表面に粒子（ｂ）による突起が形成されている、［１］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［粒子（ｂ）］  ハードコート層（Ｂ）の厚み（ｄ２：μｍ）に対する平均粒子径（ｒ２：μｍ）の比率（ｒ２／ｄ２）が０．５０以下である粒子。
［３］基材フィルムと樹脂層（Ａ）との間に、屈折率が１．６１〜１．８０である高屈折率層（Ｃ）を有する、［１］または［２］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［４］基材フィルムと高屈折率層（Ｃ）との間に、厚みが０．３〜５μｍであるハードコート層（Ｄ）を有する、［３］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［５］基材フィルムと樹脂層（Ａ）との間に、屈折率が１．６１〜１．７０である高屈折率ハードコート層（Ｅ）を有する、［１］または［２］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［６］［１］〜［５］のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの樹脂層（Ａ）の上に透明導電膜を有する、タッチパネル用透明導電性フィルム。
［７］前記透明導電膜がパターン化されている、［６］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルム。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、透明導電膜の視認性が良好でヘイズ値が小さく、かつ滑り性が良好なベースフィルムを提供することができる。また、本発明のベースフィルムを用いることにより、透明導電膜の視認性が良好でヘイズ値の小さい（透明性が良好）透明導電性フィルムを安定的に製造することができる（透明導電膜を安定的に製膜することができる）。
【００１４】
ここで、視認性が良好であるとは、透明導電性フィルムの透明導電膜に起因する色味（例えば、ＩＴＯ膜の黄色味）が抑制されて無彩色に近づくこと、あるいはパターン化された透明導電膜のパターン部が視認される、いわゆる「骨見え」が抑制されることを意味する。
【００１５】
特に、本発明のベースフィルムを用いることにより、後者の「骨見え」が有効に抑制される。つまり、本発明のベースフィルムを用い、このベースフィルム上にパターン化された透明導電膜を形成することによって製造された透明導電性フィルム（例えば、静電容量式タッチパネル用透明導電性フィルム）は、「骨見え」が抑制され、視認性が向上する。
【００１６】
また、本発明の好ましい態様（基材フィルムに対して樹脂層（Ａ）を有する面とは反対面にハードコート層（Ｂ）を有するベースフィルム）によれば、ベースフィルムのヘイズ値の上昇が抑制され、かつ樹脂層（Ａ）とハードコート層（Ｂ）の表裏両面の相乗効果により耐ブロッキング性が一段と向上する。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明のベースフィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面に最表層として樹脂層（Ａ）を有する。かかる樹脂層（Ａ）は、屈折率が１．５５以下で、厚みが７０ｎｍ未満であり、かつ下記粒子（ａ）を樹脂層（Ａ）の固形分総量１００質量％に対して０．５〜２０質量％含有する。
［粒子（ａ）］樹脂層（Ａ）の厚み（ｄ１：ｎｍ）に対する平均粒子径（ｒ１：ｎｍ）の比率（ｒ１／ｄ１）が０．７〜１．８である粒子。
【００１８】
つまり、本発明は、厚みが７０ｎｍ未満である樹脂層（Ａ）に、かかる粒子（ａ）を樹脂層（Ａ）の固形分総量１００質量％に対して０．５〜２０質量％含有させることにより、ベースフィルムのヘイズ値の上昇を抑えながら滑り性を向上させることができるものである。すなわち、ヘイズ値が０．５０％以下でかつ滑り性が良好なベースフィルムを実現することができる。
【００１９】
本発明では、ベースフィルムのヘイズ値の上昇を抑えながら樹脂層（Ａ）の滑り性を向上させるという観点から、上記比率（ｒ１／ｄ１）は０．８〜１．７の範囲が好ましく、０．９〜１．６の範囲がより好ましく、０．９〜１．５の範囲が特に好ましい。
【００２０】
一方、本発明において、樹脂層（Ａ）は、厚みが７０ｎｍ未満という極薄膜であることから、上記比率（ｒ１／ｄ１）が１．８より大きい粒子を樹脂層（Ａ）に含有させると、ベースフィルムのヘイズ値が上昇したり、樹脂層（Ａ）の膜強度が低下したり、あるいは樹脂層（Ａ）から粒子が脱落するなどの不都合が生じる。また、上記比率（ｒ１／ｄ１）が０．７より小さい粒子を樹脂層（Ａ）に含有させた場合は、滑り性が十分に向上しない。
【００２１】
尚、上記比率（ｒ１／ｄ１）は、小数点以下２桁目を四捨五入して得られた値を採用する。
【００２２】
また、ベースフィルムのヘイズ値の上昇を抑えながら樹脂層（Ａ）の滑り性を向上させるという観点から、樹脂層（Ａ）における粒子（ａ）の含有量は、樹脂層（Ａ）の固形分総量１００質量％に対して１〜１７質量％の範囲が好ましく、２〜１５質量％の範囲がより好ましく、３〜１３質量％の範囲が特に好ましい。
【００２３】
一方、樹脂層（Ａ）における粒子（ａ）の含有量が、樹脂層（Ａ）の固形分総量１００質量％に対して０．５質量％未満では、樹脂層（Ａ）の滑り性が十分に向上せず、一方、粒子（ａ）の含有量が２０質量％を超えるとベースフィルムのヘイズ値が高くなる。
【００２４】
本発明のベースフィルムのヘイズ値は、０．５０％以下である。このようなヘイズ値の小さいベースフィルムを用いることにより、透過率の高い透明導電性フィルムが得られる。
【００２５】
本発明のベースフィルムのヘイズ値は、更に０．４５％以下が好ましく、０．４０％以下がより好ましい。ベースフィルムのヘイズ値は小さいほど好ましく、ヘイズ値の下限は特に限定されないが、現実的な下限は０．０５％程度である。
【００２６】
樹脂層（Ａ）は、粒子（ａ）を含有させることによりベースフィルムの滑り性を向上させるが、一方では、ベースフィルムのヘイズ値を小さくするという観点から樹脂層（Ａ）の表面は比較的平滑であることが好ましい。即ち、樹脂層（Ａ）表面における中心線平均粗さＲａは２０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２７】
樹脂層（Ａ）表面における中心線平均粗さＲａは、粒子（ａ）の平均粒子径（ｒ１）と樹脂層（Ａ）の厚み（ｄ）との比率（ｒ１／ｄ１）や粒子（ａ）の含有量を上記した範囲内で調整することにより、樹脂層（Ａ）表面の中心線平均粗さＲａを２０ｎｍ以下に制御することができる。
【００２８】
樹脂層（Ａ）表面の中心線平均粗さＲａは、更に１５ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましく、８ｎｍ以下が特に好ましい。一方、樹脂層（Ａ）表面の中心線平均粗さＲａが小さくなりすぎると滑り性が低下することがあるので、下限の中心線平均粗さＲａは１ｎｍ以上が好ましく、２ｎｍ以上がより好ましい。
【００２９】
樹脂層（Ａ）に含有させる粒子（ａ）としては、有機粒子や無機粒子が挙げられる。有機粒子としては、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、ポリアミド粒子、ポリエステル粒子、ポリスチレン粒子等が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、炭酸カルシウム、アルミナ、タルク、ゼオライト等が挙げられる。
【００３０】
粒子（ａ）としては、無機粒子が好ましく、更にシリカ粒子が好ましく、特にコロイダルシリカが好ましく用いられる。更に、コロイダルシリカの中でも中実のコロイダルシリカが好ましい。中実のコロイダルシリカとしては、例えば、日産化学工業（株）の「オルガノシリカゾル」などがある。
【００３１】
粒子（ａ）の平均粒子径（ｒ１：ｎｍ）は、上記比率（ｒ１／ｄ１＝０．７〜１．８）を満足する範囲内で具体的には、１０〜１００ｎｍの範囲が好ましく、２０〜８０ｎｍの範囲がより好ましく、３０〜５０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【００３２】
樹脂層（Ａ）は、ベースフィルムの少なくとも一方の面の最表層として配置される層であって、屈折率が１．５５以下でかつ厚みが７０ｎｍ未満である。このような構成の樹脂層（Ａ）を最表層に有するベースフィルムを用いた透明導電性フィルム（即ち、ベースフィルムの樹脂層（Ａ）上に透明導電膜が積層された透明導電性フィルム）は、透明導電膜の視認性が向上する。
【００３３】
ここで、透明導電膜の視認性が向上するとは、例えば、透明導電膜の色味が無彩色に近づくこと、あるいはパターン化透明導電膜のパターンが視認される、いわゆる「骨見え」現象が抑制されることを意味する。特に、本発明のベースフィルムは後者の「骨見え」の抑制に効果的である。
【００３４】
樹脂層（Ａ）の屈折率は、透明導電膜の視認性を向上させるという観点から、１．５４以下が好ましく、１．５３以下がより好ましい。樹脂層（Ａ）の屈折率の下限は、１．４０以上が好ましく、１．４３以上がより好ましく、１．４５以上が特に好ましい。
【００３５】
樹脂層（Ａ）の屈折率を小さくするには、樹脂層（Ａ）に低屈折率材料（中空シリカ等の低屈折率粒子や含フッ素化合物）を比較的多量に含有させる必要があり、その結果、樹脂層（Ａ）の透明性が低下したり、膜物性（強度）が低下するなどの不都合が生じることがあるので、樹脂層（Ａ）の屈折率の下限は、上記したように１．４０以上が好ましく、１．４３以上がより好ましく、１．４５以上が特に好ましい。
【００３６】
なお、本発明において、上記樹脂層（Ａ）の屈折率、および後述する各層の屈折率は、特に断りの無い限り、波長５８９ｎｍにおける屈折率を言う。
【００３７】
樹脂層（Ａ）の厚みは、７０ｎｍ未満であることが重要である。樹脂層（Ａ）の厚みが７０ｎｍ以上となると、透明導電膜の視認性を十分に向上させることができなくなる（特に、「骨見え」を抑制することができなくなる）。
【００３８】
樹脂層（Ａ）の厚みは、透明導電膜の視認性を向上させるという観点から、更に６０ｎｍ未満が好ましく、５０ｎｍ未満がより好ましく、４５ｎｍ未満が特に好ましい。樹脂層（Ａ）の厚みの下限は、透明導電膜の視認性を向上させるという観点から、１５ｎｍ以上が好ましく、２０ｎｍ以上がより好ましい。
【００３９】
樹脂層（Ａ）は、樹脂を含有する。かかる樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。これらの樹脂の中でも、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。また、樹脂層（Ａ）は、樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂と熱硬化性樹脂を併用することができる。この場合の活性エネルギー線硬化性樹脂と熱硬化性樹脂の併用比率（質量比）は、９５：５〜５０：５０の範囲が適当である。
【００４０】
上記熱硬化性樹脂としては、熱によって重合又は架橋する、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂等が挙げられる。
【００４１】
上記活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線や電子線などの活性エネルギー線によって重合されて硬化する樹脂であり、かかる活性エネルギー線硬化性樹脂としては、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物（モノマーやオリゴマー）が挙げられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アリル基、ビニル基等が挙げられる。
【００４２】
尚、以下の説明において、「・・・（メタ）アクリレート」とは、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」の総称である。
【００４３】
分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物として、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エチルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート−トルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート−イソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマーなどが挙げられる。
【００４４】
また、多官能のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとして、市販されているものを使用することができる。例えば、共栄社化学（株）製のウレタンアクリレートＡＨシリーズ、ウレタンアクリレートＡＴシリーズ、ウレタンアクリレートＵＡシリーズ、根上工業（株）製のＵＮ−３３２０シリーズ、ＵＮ−９００シリーズ、新中村化学工業（株）製のＮＫオリゴＵシリーズ、ダイセル・ユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌ１２９０シリーズなどが挙げられる。
【００４５】
活性エネルギー線硬化性樹脂として、分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物が好ましく、更に分子中にエチレン性不飽和基を３個以上有する化合物が好ましく用いられる。
【００４６】
樹脂層（Ａ）における樹脂の含有量は、樹脂層（Ａ）の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が特に好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましい。
【００４７】
樹脂層（Ａ）は、屈折率を１．５５以下に調整するために、含フッ素化合物を含有することができる。
【００４８】
含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。ここで、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーは、分子中にエチレン性不飽和基とフッ素原子とを有するモノマーやオリゴマーである。
【００４９】
含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、βー（パーフロロオクチル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類、  ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，２−トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールなどのジ−（α−フルオロアクリル酸）フルオロアルキルエステル類が挙げられる。
【００５０】
含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。
【００５１】
樹脂層（Ａ）が含フッ素化合物を含有する場合の含有量は、樹脂層（Ａ）の固形分総量１００質量％に対して１〜５０質量％の範囲が好ましく、５〜４５質量％の範囲がより好ましく、特に１０〜４０質量％の範囲が好ましい。
【００５２】
樹脂層（Ａ）が樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、樹脂層（Ａ）は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【００５３】
また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３等、日本シイベルヘグナー（株）製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６等、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＣＴＸ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＭＢＩ等が挙げられる。
【００５４】
樹脂層（Ａ）における光重合開始剤の含有量は、樹脂層（Ａ）の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。
【００５５】
樹脂層（Ａ）の好ましい一つの態様として、光重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤を含有する態様が挙げられる。かかるオリゴマー型光重合開始剤は、光重合開始性能（光によりラジカルを発生させる基）を有する繰り返し単位を２〜５０有する化合物である。この繰り返し単位は、側鎖に光ラジカル発生基を有するものが好ましく、かかる光ラジカル発生基としては公知の光ラジカル発生剤に由来する官能基を用いることができる。
【００５６】
本発明に用いることができるオリゴマー型光重合開始剤の代表例として、例えば、下記の一般式（１）に示す化合物が挙げられる。
【００５７】
【化１】
2015176466.tif 000002
【００５８】
式中、Ｙは直鎖状又は分岐状の３価の炭化水素基を表す。Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立的に直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、Ｒ１とＲ２は相互に結合して環を形成してもよい。ｎは２〜５０の整数を表す。
【００５９】
Ｙの直鎖状又は分岐状の３価の炭化水素基の炭素数は、特に制限されないが、２〜１０が好ましく、２〜６がより好ましく、特に２〜３が好ましい。Ｒ１及びＲ２の直鎖状又は分岐状のアルキル基の炭素数は、特に制限されないが、１〜８が好ましく、１〜５がより好ましく、特に１〜３が好ましい。ｎは２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１０が特に好ましい。
【００６０】
上記の一般式（１）の中でも、下記一般式（２）の化合物が好ましく用いられる。
【００６１】
【化２】
2015176466.tif 000003
【００６２】
式中、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ１、Ｒ２およびｎは一般式（１）と同義である。
【００６３】
また、一般式（１）、（２）において、オリゴマー型光重合開始剤の繰り返し単位の連鎖部の末端は、置換基が結合されている。置換基としては、オリゴマー重合開始剤に由来する基であってもよいし、オリゴマー重合停止剤に由来する基であってもよいが、通常は水素原子、炭化水素基が挙げられる。炭化水素基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基などが挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの低級アルキル基等が挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロヘキシル、シクロへプチル基、シクロオクチル基およびこれ等のアルキル基置換体などが挙げられる。アリール基としては、フェニル基、およびそのアルキル基置換体等が挙げられる。
【００６４】
上記の一般式（１）、（２）で表されるオリゴマー型光重合開始剤の具体例としては、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕ブタノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕ブタノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕ブタノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕ブタノン］等が挙げられる。
【００６５】
上記の一般式（１）、（２）で表されるオリゴマー型光重合開始剤は、一般に市販されており入手することができる。例えば、ランベルティ社製の商品名「エザキュアワン」、「エザキュアＫＩＰ１５０」、「エザキュアＫＩＰ６５ＬＴ」、「エザキュアＫＩＰ１００Ｆ」、「エザキュアＫＴ３７」、「エザキュアＫＴ５５」、「エザキュアＫＴＯ４６」、「エザキュアＫＩＰ７５／Ｂ」等を挙げることができる。
【００６６】
また、オリゴマー型光重合開始剤として、特開２０１１−９９９７４号公報に開示されている光ラジカル発生基を有するエチレン性不飽和化合物（同公報の式（２）〜式（７）の化合物）を重合して得られた化合物を用いることができる。
【００６７】
樹脂層（Ａ）におけるオリゴマー型光重合開始剤の含有量は、樹脂層（Ａ）の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。
【００６８】
樹脂層（Ａ）がオリゴマー型光重合開始剤を含有することの効果として以下の点が挙げられる。
【００６９】
オリゴマー型光重合開始剤は、前述した光重合開始剤（単量体）に比べて昇華性が低いので、樹脂層（Ａ）を塗布した後の乾燥工程（溶剤を加熱蒸発させる工程）の乾燥温度（加熱温度）を高くすることができる。
【００７０】
活性エネルギー線硬化性樹脂と光重合開始剤を含有する樹脂層（Ａ）は、一般に基材フィルム上に塗布され、乾燥工程で乾燥された後、活性エネルギー線が照射されて硬化されることによって形成される。この製造過程の中で、乾燥工程での乾燥温度を高くすると、樹脂層（Ａ）中の光重合開始剤が昇華し減少することにより硬化が十分に行われないことがある。しかし、光重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤を用いることによって、上記課題が軽減される。
【００７１】
樹脂層（Ａ）の乾燥工程での乾燥温度を高くすることによって、後工程（透明導電膜の製膜工程）に不利となる揮発成分（水分、有機溶剤、低分子量成分等）を、樹脂層（Ａ）あるいは基材フィルムと樹脂層（Ａ）の間に配置される他の層（例えば、後述する高屈折率層（Ｃ）やハードコート層（Ｄ）等）から蒸発させることができる。
【００７２】
このような揮発成分がベースフィルムに比較的多く存在すると、透明導電膜の製膜工程において真空度の調整に必要以上の時間を要したり、あるいは透明導電膜の結晶化が安定的に行われないなどの不都合な問題が起こることがある。
【００７３】
［樹脂層（Ａ）の形成］
樹脂層（Ａ）の形成にかかる好ましい方法は、少なくとも、活性エネルギー線硬化性樹脂、粒子、光重合開始剤および有機溶媒を含有する塗布組成物（樹脂層（Ａ）の塗布液）を基材フィルム上にウェットコーティング法により塗布し、乾燥し、硬化する方法が挙げられる。
【００７４】
塗布組成物を基材フィルム上に塗布するためのウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。これらの塗布方法の中でも、厚みが７０ｎｍ未満の薄膜を均一に塗布するという観点から、グラビアコート法が好ましく用いられる。
【００７５】
基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、該組成物中に含有する有機溶媒を蒸発させるために乾燥される。乾燥方法としては、熱風乾燥や赤外線乾燥等が挙げられる。乾燥温度は、５０〜１２０℃の範囲が一般的である。
【００７６】
塗布組成物に含有される光重合開始剤として前述のオリゴマー型光重合開始剤を用いた場合は、乾燥温度（乾燥工程における最高乾燥温度）を１３０℃以上とすることが好ましい。このように、乾燥温度を高くすることにより、前述したように揮発成分（水分、有機溶剤、低分子量成分）を、樹脂層（Ａ）あるいは基材フィルムと樹脂層（Ａ）の間に配置される他の層（例えば、後述する高屈折率層（Ｃ）やハードコート層（Ｄ）等）から蒸発させることができる。
【００７７】
塗布組成物がオリゴマー型光重合開始剤を含有する場合の乾燥温度（乾燥工程における最高乾燥温度）は、上記したように揮発成分を蒸発させると言う観点から、更に１４０℃以上が好ましく、特に１５０℃以上が好ましい。乾燥温度（乾燥工程における最高乾燥温度）の上限は２００℃以下が好ましく、１９０℃以下がより好ましい。
【００７８】
基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、乾燥された後、活性エネルギー線が照射されて硬化し、樹脂層（Ａ）が形成される。
【００７９】
活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。
【００８０】
紫外線を照射するための光源としては、特に限定されないが、例えば、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく用いられる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。
【００８１】
紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。
【００８２】
［基材フィルム］
本発明における基材フィルムの材料は、特に限定されるものではないが、かかる材料として、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」と称することがある。）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等が挙げられる。好ましくは、熱、溶剤、折り曲げ等の加工時の負荷に対する耐性が高く、透明性が特に高い点で、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等が挙げられ、より好ましくは、加工性に優れている点でポリエステルが使用される。このポリエステルの中でもポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
【００８３】
上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率は、通常１．６１〜１．７０の範囲であり、このような屈折率を有するポリエチレンテレフタレートフィルム上に樹脂層（Ａ）が設けられたベースフィルムは、透明導電膜の視認性向上に有効である。更に、透明導電膜の視認性向上の観点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率は、１．６２〜１．６９の範囲が好ましく、１．６３〜１．６８の範囲がより好ましく、１．６４〜１．６７の範囲が特に好ましい。
【００８４】
基材フィルムの厚みは、２０〜３００μｍの範囲が適当であり、２５〜２５０μｍの範囲が好ましく、５０〜２００μｍの範囲がより好ましい。
【００８５】
基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる場合は、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に積層される層との密着性を向上させるために、予め易接着層が積層されたポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく用いられる。
【００８６】
［ベースフィルムの構成］
本発明のベースフィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面（つまり、片側）に樹脂層（Ａ）を有する。樹脂層（Ａ）は、基材フィルムの両面（つまり、両側）に設けることができる。
【００８７】
本発明のベースフィルムは、樹脂層（Ａ）を基材フィルムの一方の面のみに設けることが好ましい。この場合、基材フィルムの他方の面（樹脂層（Ａ）を有する面とは反対面）には、ハードコート層（Ｂ）が設けられていることが好ましい。ハードコート層（Ｂ）の詳細は後述する。
【００８８】
ハードコート層（Ｂ）を設けることによって、ベースフィルムのヘイズ値を０．５０％以下に保ちながら、ベースフィルムの滑り性と耐ブロッキング性を向上させることができる。
【００８９】
また、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルム用い、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）の一方の面に樹脂層（Ａ）を設け、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）の他方の面（樹脂層（Ａ）を有する面とは反対面）にハードコート層（Ｂ）を設ける場合は、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）とハードコート層（Ｂ）との間に後述の易接着層（Ｐ１）が配置されていることが好ましい。これによって、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）とハードコート層（Ｂ）との密着性が向上し、かつハードコート層（Ｂ）側から見た反射色をニュートラルな無彩色に近づけることができる。
【００９０】
［ベースフィルムの好ましい態様１］
透明導電膜の視認性を更に向上（特に「骨見え」を更に抑制する）させるためのベースフィルムの好ましい態様として、基材フィルムと樹脂層（Ａ）との間に高屈折率層（Ｃ）が配置されている態様（かかる態様を以下「態様１」と称することがある。）が挙げられる。高屈折率層（Ｃ）の詳細は後述する。
【００９１】
高屈折率層（Ｃ）と樹脂層（Ａ）は、基材フィルムの一方の面のみ（片面のみ）に設けられていることが好ましい。また、この場合、基材フィルムの他方の面（高屈折率層（Ｃ）および樹脂層（Ａ）を有する面とは反対面）に、前述のようにハードコート層（Ｂ）が設けられていることが特に好ましい。
【００９２】
態様１は、更に、基材フィルムと高屈折率層（Ｃ）との間にハードコート層（Ｄ）が設けられていることが好ましい。ハードコート層（Ｄ）を設けることにより、基材フィルムからのオリゴマー析出が抑制され、またベースフィルムの耐擦傷性が向上する。ハードコート層（Ｄ）の詳細は後述する。
【００９３】
つまり、態様１は、「ハードコート層（Ｂ）／基材フィルム／高屈折率層（Ｃ）／樹脂層（Ａ）」の構成であることが好ましく、更に、「ハードコート層（Ｂ）／基材フィルム／ハードコート層（Ｄ）／高屈折率層（Ｃ）／樹脂層（Ａ）」の構成であることがより好ましい。
【００９４】
態様１は、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることが好ましく、更に両面に易接着層が積層されたポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることがより好ましい。この場合、ポリエチレンテレフタレートフィルムの両面に積層される易接着層は、それぞれ易接着層（Ｐ１）であることが好ましい。
【００９５】
つまり、態様１の最も好ましい構成は、「ハードコート層（Ｂ）／易接着層（Ｐ１）／基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）／易接着層（Ｐ１）／ハードコート層（Ｄ）／高屈折率層（Ｃ）／樹脂層（Ａ）」である。
【００９６】
基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）とハードコート層（Ｄ）との間に易接着層（Ｐ１）が配置されることによって、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）とハードコート層（Ｄ）との密着性が向上し、かつハードコート層（Ｄ）側から見た反射色をニュートラルな無彩色に近づけることができる。
【００９７】
［ベースフィルムの好ましい態様２］
透明導電膜の視認性を更に向上（特に「骨見え」を更に抑制する）させるためのベースフィルムの他の好ましい態様として、基材フィルムと樹脂層（Ａ）との間に高屈折率ハードコート層（Ｅ）が配置されている態様（かかる態様を以下「態様２」と称することがある。）が挙げられる。高屈折率ハードコート層（Ｅ）の詳細は後述する。
【００９８】
高屈折率ハードコート層（Ｅ）は、基材フィルムからのオリゴマー析出の抑制やベースフィルムの耐擦傷性の向上にも寄与する。
【００９９】
高屈折率ハードコート層（Ｅ）と樹脂層（Ａ）は、基材フィルムの一方の面のみ（片面のみ）に設けられていることが好ましい。また、この場合、基材フィルムの他方の面（高屈折率ハードコート層（Ｅ）および樹脂層（Ａ）を有する面とは反対面）に、前述のようにハードコート層（Ｂ）が設けられていることが特に好ましい。
【０１００】
つまり、態様２は、「ハードコート層（Ｂ）／基材フィルム／高屈折率ハードコート層（Ｅ）／樹脂層（Ａ）」の構成であることが好ましい。
【０１０１】
態様２は、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることが好ましく、更に両面に易接着層が積層されたポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることがより好ましい。この場合、ポリエチレンテレフタレートフィルムの高屈折率ハードコート層（Ｅ）側に積層される易接着層は後述の易接着層（Ｐ２）であり、ハードコート層（Ｂ）側に積層される易接着層は易接着層（Ｐ１）であることが好ましい。
【０１０２】
つまり、態様２の最も好ましい構成は、「ハードコート層（Ｂ）／易接着層（Ｐ１）／基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）／易接着層（Ｐ２）／高屈折率ハードコート層（Ｅ）／樹脂層（Ａ）」である。
【０１０３】
上記構成において、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）の屈折率と易接着層（Ｐ２）の屈折率との差の絶対値、および易接着層（Ｐ２）と高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率との差の絶対値は、それぞれ０．０３以下が好ましく、０．０２以下がより好ましく、特に０．０１以下が好ましい。これによって、更に透明導電膜の視認性が向上し（「骨見え」が抑制され）、高屈折率ハードコート層（Ｅ）側から見た反射色をニュートラルな無彩色に近づけることができる。
【０１０４】
以下、ハードコート層（Ｂ）、易接着層（Ｐ１）、高屈折率層（Ｃ）、ハードコート層（Ｄ）、高屈折率ハードコート層（Ｅ）および易接着層（Ｐ２）について詳細に説明する。
【０１０５】
［ハードコート層（Ｂ）］
ハードコート層（Ｂ）は、基材フィルムに対して樹脂層（Ａ）が設けられた面とは反対面に設けられるハードコート層であって、このハードコート層（Ｂ）は、ベースフィルムに良好な滑り性や耐ブロッキング性を付与する機能を有する。また、ハードコート層（Ｂ）は、ベースフィルムの耐擦傷性を向上させる機能、基材フィルムからのオリゴマー析出を抑制する機能、およびベースフィルムのカールバランスを調整する機能も併せ持つ。
【０１０６】
一般に、ハードコート層に粒子を含有させることによってベースフィルムの滑り性や耐ブロッキング性が向上するが、一方でベースフィルムのヘイズ値が大きくなり透明性が低下する傾向にある。
【０１０７】
そこで、ベースフィルムのヘイズ値の上昇を抑制しながらベースフィルムに良好な滑り性と耐ブロッキング性を付与するために、ハードコート層（Ｂ）は、下記粒子（ｂ）を含有し、ハードコート層（Ｂ）の表面に粒子（ｂ）による突起が形成されていることが好ましい。
【０１０８】
＜粒子（ｂ）＞
ハードコート層（Ｂ）の厚み（ｄ２：μｍ）に対する平均粒子径（ｒ２：μｍ）の比率（ｒ２／ｄ２）が０．５０以下である粒子。
【０１０９】
ハードコート層（Ｂ）の表面に形成される粒子（ｂ）による突起は、個々の粒子が独立して個々に突起を形成してもよいし、複数個の粒子が集合あるいは凝集した状態で突起を形成してもよい。
【０１１０】
ハードコート層（Ｂ）の表面における突起の個数は、ベースフィルムに良好なすべり性と耐ブロッキング性を付与するという観点から、ハードコート層（Ｂ）表面の単位面積（１００μｍ２）当たり２００個以上であることが好ましく、３００個以上であることがより好ましく、４００個以上であることが特に好ましい。突起個数の上限は、ベースフィルムのヘイズ値の上昇を抑制するという観点から、単位面積（１００μｍ２）当たり１００００個以下が好ましく、７０００個以下がより好ましく、４０００個以下が特に好ましい。
【０１１１】
ここで、ハードコート層（Ｂ）の表面における粒子（ｂ）による突起の個数は、粒子１個によって形成された突起の個数を意味する。複数個の粒子が集合あるいは凝集した状態で突起を形成している場合であっても、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による表面観察の倍率を調整することにより突起を形成している個々の粒子を判別することが可能であり、突起を形成している粒子の個数を計測することができる。
【０１１２】
突起の平均高さは、０．０１〜０．３μｍの範囲が好ましく、０．０２〜０．２μｍの範囲がより好ましく、０．０３〜０．１μｍの範囲が特に好ましい。突起の平均高さが０．０１μｍ未満であると良好な滑り性と耐ブロッキング性が得られないことがある。また、突起の平均高さが０．３μｍを超えるとヘイズ値が大きくなり透明性が低下することがある。
【０１１３】
ハードコート層（Ｂ）に含有させる粒子（ｂ）の平均粒子径（ｒ２：μｍ）とハードコート層（Ｂ）の厚み（ｄ２：μｍ）の比率（ｒ２／ｄ２）は、上記したように０．５０以下であることが好ましく、この比率（ｒ２／ｄ２）が０．５０を超えて大きくなると、ベースフィルムのヘイズ値が大きくなり、透明性が低下することがある。
【０１１４】
上記比率（ｒ２／ｄ２）は、ベースフィルムのヘイズ値の上昇を抑制するという観点から、更に０．４０以下が好ましく、０．３０以下がより好ましく、０．２０以下が特に好ましい。上記比率（ｒ２／ｄ２）の下限は、ベースフィルムに良好なすべり性と耐ブロッキング性を付与するという観点から、０．０１以上が好ましく、０．０２以上がより好ましく、０．０３以上が特に好ましい。
【０１１５】
尚、上記比率（ｒ２／ｄ２）は、小数点以下３桁目を四捨五入して得られた値を採用する。
【０１１６】
ハードコート層（Ｂ）の厚み（ｄ２：μｍ）は、良好なすべり性と耐ブロッキング性を得るという観点、良好な耐擦傷性を確保するという観点、基材フィルムからのオリゴマー析出を抑制するという観点およびベースフィルムのカールバランスを調整するという観点から、０．３〜５μｍの範囲が好ましく、０．５〜３μｍの範囲がより好ましく、特に０．７〜２μｍの範囲が好ましい。
【０１１７】
粒子（ｂ）の平均粒子径（ｒ２：μｍ）は、上記比率（ｒ２／ｄ２）が０．５以下を満足する範囲内で、具体的には、０．０１〜０．４μｍの範囲が好ましく、０．０２〜０．３μｍの範囲がより好ましく、０．０３〜０．２μｍの範囲が特に好ましい。
【０１１８】
前述したように、ハードコート層（Ｂ）の表面には粒子（ｂ）による突起が形成されていることが好ましい。しかし、一方では、ベースフィルムのヘイズ値を小さくするという観点からハードコート層（Ｂ）の表面は比較的平滑であることが好ましい。即ち、ハードコート層（Ｂ）表面の中心線平均粗さＲａは２５ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１１９】
ハードコート層（Ｂ）表面の中心線平均粗さＲａは、ハードコート層（Ｂ）表面における突起の単位面積当たりの個数、あるいは突起の平均高さを前述の好ましい範囲内で調整することにより、ハードコート層（Ｂ）表面の中心線平均粗さＲａを２５ｎｍ以下に制御することができる。
【０１２０】
ハードコート層（Ｂ）表面の中心線平均粗さＲａは、更に２０ｎｍ以下が好ましく、１８ｎｍ以下がより好ましく、１５ｎｍ以下が特に好ましい。一方、ハードコート層（Ｂ）表面の中心線平均粗さＲａが小さくなりすぎると滑り性や耐ブロッキング性が低下することがあるので、下限の中心線平均粗さＲａは３ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましい。
【０１２１】
ハードコート層（Ｂ）に含有させる粒子（ｂ）としては、有機粒子や無機粒子が挙げられる。有機粒子としては、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、ポリアミド粒子、ポリエステル粒子、ポリスチレン粒子等が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、炭酸カルシウム、アルミナ、タルク、ゼオライト等が挙げられる。これらの粒子の中でも、無機粒子が好ましく、無機粒子の中でも更にシリカ粒子が好ましく、特にコロイダルシリカが好ましい。
【０１２２】
ハードコート層（Ｂ）における粒子（ｂ）の含有量は、ハードコート層（Ｂ）の固形分総量１００質量％に対して３〜２５質量％の範囲が好ましい。粒子（ｂ）の含有量が３質量％未満では十分な滑り性や耐ブロッキング性が得られないことがあり、一方粒子（ｂ）の含有量が２５質量％を超えるとベースフィルムのヘイズ値が高くなり透明性が低下することがある。
【０１２３】
上記観点（ヘイズ値の上昇を抑制しながらベースフィルムの滑り性と耐ブロッキング性を向上させるという観点）から、ハードコート層（Ｂ）における粒子（ｂ）の含有量は、ハードコート層（Ｂ）の固形分総量１００質量％に対して、更に４〜２０質量％の範囲が好ましく、５〜１７質量％の範囲が特に好ましい。
【０１２４】
ハードコート層（Ｂ）の厚み（ｄ２：μｍ）に対する平均粒子径（ｒ２：μｍ）の比率（ｒ／ｄ）が０．５以下である粒子（ｂ）によって、ハードコート層（Ｂ）の表面に突起を形成するには、粒子（ｂ）をハードコート層（Ｂ）の表面近傍に比較的多く存在させること（偏在させること）が好ましい。
【０１２５】
ハードコート層（Ｂ）の表面近傍に粒子（ｂ）を偏在させるには、ハードコート層（Ｂ）の形成過程（ハードコート層（Ｂ）を基材フィルム上に塗布してから乾燥完了までの過程）で、粒子（ｂ）を表面近傍に移動（浮上）させることが効果的である。
【０１２６】
これは、例えば、粒子（ｂ）に表面自由エネルギーを小さくするための表面処理を施すことによって可能になる。
【０１２７】
上記の粒子の表面自由エネルギーを小さくするための表面処理としては、下記の一般式（３）で示されるフッ素原子を有するオルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、および該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物からなる群の中から選ばれる少なくとも１つの化合物で表面処理する方法が挙げられる。
【０１２８】
ＣｎＦ２ｎ＋１−（ＣＨ２）ｍ−Ｓｉ（Ｑ）３
・・・・一般式（３）
（一般式（３）において、ｎは１〜１０の整数、ｍは１〜５の整数を表す。Ｑは炭素数１〜５のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。）。
【０１２９】
一般式（３）の化合物として、具体的には下記の化合物を例示することができる。
【０１３０】
Ｃ４Ｆ９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ８Ｆ１７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｃ８Ｆ１７ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＢｒ３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）Ｃｌ２。
【０１３１】
また、粒子の表面自由エネルギーを小さくするための他の表面処理として、下記一般式（４）で示される化合物で処理し、更に下記一般式（５）で示されるフッ素化合物で表面処理する方法が挙げられる。
【０１３２】
Ｂ−Ｒ４−ＳｉＲ５ｎ（ＯＲ６）３−ｎ
・・・・一般式（４）。
【０１３３】
Ｄ−Ｒ７−Ｒｆ２
・・・・一般式（５）。
【０１３４】
（一般式（４）および（５）において、ＢおよびＤはそれぞれ独立に反応性部位を表し、Ｒ４およびＲ７はそれぞれ独立に炭素数１から３のアルキレン基、あるいは前記アルキレン基から導出されるエステル構造を表し、Ｒ５およびＲ６はそれぞれ独立に水素あるいは炭素数が１から４のアルキル基を表し、Ｒｆ２はフルオロアルキル基を表し、ｎは０から２の整数を表す。）。
【０１３５】
ＢおよびＤで表される反応性部位としては、例えばビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基などが挙げられる。
【０１３６】
一般式（４）の具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基あるいは水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。
【０１３７】
一般式（５）の具体例としては、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフロオロプロピルアクリレート、２−パーフルオロブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、パーフルオロオクチルメチルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロデシルエチルアクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−３−メトキシブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、２−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、パーフルオロオクチルメチルメタクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、１−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。
【０１３８】
ハードコート層（Ｂ）は、樹脂として熱硬化性樹脂あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましく、特に活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましい。熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂は、前述の樹脂層（Ａ）に記載した樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
【０１３９】
樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合は、前述の樹脂層（Ａ）と同様に光重合開始剤を用いることが好ましい。
【０１４０】
本発明のベースフィルムは、基材フィルムの一方の面に樹脂層（Ａ）を備え、基材フィルムの他方の面（基材フィルムに対して樹脂層（Ａ）が設けられている面とは反対面）にハードコート層（Ｂ）を備える構成とすることによって、ベースフィルムのヘイズ値の上昇が抑制され、かつ樹脂層（Ａ）とハードコート層（Ｂ）の表裏両面の相乗効果によりベースフィルムの耐ブロッキング性が一段と向上する。
【０１４１】
ハードコート層（Ｂ）の屈折率は、１．４８〜１．５４の範囲が適当であり、１．５０〜１．５３の範囲が好ましい。
【０１４２】
ハードコート層（Ｂ）は、上述した組成を採用することにより、屈折率を１．４８〜１．５４の範囲に調整することができる。
【０１４３】
［易接着層（Ｐ１）］
易接着層（Ｐ１）は、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）とハードコート層（Ｂ）との間に配置され、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）とハードコート層（Ｂ）との密着性を向上させる機能を有する。
【０１４４】
易接着層（Ｐ１）は、屈折率が１．５５〜１．６０の範囲が好ましく、１．５６〜１．５９の範囲がより好ましく、特に１．５７〜１．５９の範囲が好ましい。
【０１４５】
このような屈折率の易接着層（Ｐ１）上にハードコート層（Ｂ）を設けることにより、ハードコート層（Ｂ）側から見た反射色をニュートラルな無彩色に近づけることができる。
【０１４６】
つまり、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム；屈折率が１．６１〜１．７０）上に、屈折率が１．５５〜１．６０である易接着層（Ｐ１）を介して、屈折率が１．４８〜１．５４であるハードコート層（Ｂ）を積層することにより、ハードコート層（Ｂ）側から見た反射色をニュートラルな無彩色に近づけることができる。
【０１４７】
上記の反射色をニュートラルな無色に近づけるという観点から、易接着層（Ｐ１）の厚みは、５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、６０〜１５０ｎｍの範囲がより好ましく、６５〜１２５ｎｍの範囲が特に好ましい。
【０１４８】
易接着層（Ｐ１）は、少なくとも樹脂を含有する層であることが好ましい。樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。これらの樹脂の中でも、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましい。
【０１４９】
易接着層（Ｐ１）における樹脂の含有量は、易接着層（Ｐ１）の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。上限の含有量は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。
【０１５０】
易接着層（Ｐ１）の屈折率を１．５５〜１．６０の範囲に調整するには、樹脂として分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂を用いることが好ましい。
【０１５１】
ポリエステル樹脂は、一般的にカルボン酸成分とグリコール成分から重縮合して得られる。上記の分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分として、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレン環を有するジカルボン酸を用いることによって合成することができる。
【０１５２】
易接着層（Ｐ１）は、さらに架橋剤を含有することが好ましい。易接着層（Ｐ１）は少なくとも上述の樹脂と架橋剤を含有する熱硬化層であることが好ましい。易接着層（Ｐ１）をこのような熱硬化層とすることにより、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）とハードコート層（Ｄ）あるいはハードコート層（Ｂ）との密着性をさらに向上させることができる。易接着層（Ｐ１）を熱硬化するときの条件（加熱温度、時間）は特に限定されないが、加熱温度は７０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましく、１５０℃以上が特に好ましく、２００℃以上が最も好ましい。上限は３００℃以下が好ましい。加熱時間は５〜３００秒の範囲が好ましく、１０〜２００秒の範囲がより好ましい。
【０１５３】
易接着層（Ｐ１）に含有させる架橋剤としては、例えばメラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤が好ましく用いられる。
【０１５４】
易接着層（Ｐ１）における架橋剤の含有量は、易接着層（Ｐ１）の固形分総量１００質量％に対して、１〜４０質量の範囲が好ましく、３〜３５質量％の範囲がより好ましく、５〜３０質量％の範囲が特に好ましい。
【０１５５】
易接着層（Ｐ１）は、更に滑り性の向上のために、有機あるいは無機の粒子を含有することが好ましい。このような粒子としては特に限定されないが、例えばシリカ、炭酸カルシウム、ゼオライト粒子などの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン（登録商標）粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋重合体粒子、コアシェル粒子などの有機粒子が挙げられる。これらの粒子の中でも、シリカが好ましく、更にコロイダルシリカが好ましく用いられる。
【０１５６】
粒子の平均粒子径は、滑り性を向上させるという観点から３０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましく、特に１００ｎｍ以上が好ましい。平均粒子径の上限は５００ｎｍ以下好ましく、４００ｎｍ以下がより好ましく、特に３００ｎｍ以下が好ましい。
【０１５７】
易接着層（Ｐ１）における粒子の含有量は、易接着層（Ｐ１）の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜８質量％の範囲が好ましく、０．１〜５質量％の範囲がより好ましい。
【０１５８】
易接着層（Ｐ１）は、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）上にウェットコーティング法により積層されていることが好ましい。特に、易接着層（Ｐ１）を基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）の製造工程内で積層する、いわゆる「インラインコーティング法」で積層されていることが好ましい。基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）上に易接着層（Ｐ１）を塗布する際には、塗布性や密着性を向上させるための予備処理として、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）表面にコロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理等を施しておくことが好ましい。
【０１５９】
上記のウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。
【０１６０】
［高屈折率層（Ｃ）］
高屈折率層（Ｃ）は、前述のベースフィルムの好ましい態様１において、基材フィルムと樹脂層（Ａ）との間に設けられる層である。高屈折率層（Ｃ）の屈折率は、透明導電膜の視認性を向上させるという観点（特に「骨見え」を抑制するという観点）から、１．６１〜１．８０の範囲が好ましく、１．６５〜１．７８の範囲がより好ましく、１．６８〜１．７５の範囲が特に好ましい。
【０１６１】
高屈折率層（Ｃ）の厚みは、透明導電膜の視認性を向上させるという観点（特に「骨見え」を抑制するという観点）から、６０ｎｍ未満が好ましく、５０ｎｍ未満がより好ましく、特に４０ｎｍ未満が好ましい。下限の厚みは、透明導電膜の視認性を向上させるという観点（特に「骨見え」を抑制するという観点）から、２０ｎｍ以上が好ましく、２５ｎｍ以上が特に好ましい。
【０１６２】
高屈折率層（Ｃ）は、その屈折率を１．６１〜１．８０に調整するために、屈折率が１．７以上の金属酸化物微粒子を含有することが好ましく、特に屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。このような金属酸化物微粒子としては、チタン、ジルコニウム、亜鉛、錫、アンチモン、セリウム、鉄、インジウム等の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子の具体例としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物微粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに高屈折率層（Ｃ）の屈折率を高めることができるので好ましい。
【０１６３】
高屈折率層（Ｃ）における金属酸化物微粒子の含有量は、高屈折率層（Ｃ）の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましく、４５質量％以上が最も好ましい。上限は９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましく、特に８０質量％以下が好ましい。
【０１６４】
高屈折率層（Ｃ）は、樹脂として熱硬化性樹脂あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましく、特に活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましい。熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂は、前述の樹脂層（Ａ）に記載した樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
【０１６５】
樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合は、前述の樹脂層（Ａ）と同様に光重合開始剤を用いることが好ましい。
【０１６６】
［ハードコート層（Ｄ）］
ハードコート層（Ｄ）は、前述のベースフィルムの好ましい態様１において、基材フィルムと高屈折率層（Ｃ）との間に設けられる層である。
【０１６７】
ハードコート層（Ｄ）の厚みは、ベースフィルムの耐擦傷性向上および基材フィルムからのオリゴマー析出抑制の観点、並びにベースフィルムのカールバランスを調整するという観点から、０．３〜５μｍの範囲が好ましく、０．５〜３μｍの範囲がより好ましく、特に０．７〜２μｍの範囲が好ましい。
【０１６８】
ハードコート層（Ｄ）の屈折率は、１．４８〜１．５４の範囲が適当であり、１．５０〜１．５３の範囲が好ましい。
【０１６９】
ハードコート層（Ｄ）は、樹脂として熱硬化性樹脂あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましく、特に活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましい。熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂は、前述の樹脂層（Ａ）に記載した樹脂と同様の樹脂を用いることができる。このような樹脂を用いることにより、ハードコート層（Ｄ）の屈折率を１．４８〜１．５４の範囲に調整することができる。
【０１７０】
樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合は、前述の樹脂層（Ａ）と同様に光重合開始剤を用いることが好ましい。
【０１７１】
前述したベースフィルムの好ましい態様１は、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることが好ましく、この場合、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）とハードコート層（Ｄ）との間に前述の易接着層（Ｐ１）を設けることが好ましい。これによって、ハードコート層（Ｄ）側から見た反射色をニュートラルな無彩色に近づけることができる。
【０１７２】
つまり、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム；屈折率が１．６１〜１．７０）上に、屈折率が１．５５〜１．６０である易接着層（Ｐ１）を介して、屈折率が１．４８〜１．５４であるハードコート層（Ｄ）を積層することにより、ハードコート層（Ｄ）側から見た反射色をニュートラルな無彩色に近づけることができる。
【０１７３】
［高屈折率ハードコート層（Ｅ）］
高屈折率ハードコート層（Ｅ）は、前述のベースフィルムの好ましい態様２において、基材フィルムと樹脂層（Ａ）との間に設けられる層である。
【０１７４】
高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率は、透明導電膜の視認性を向上させるという観点（特に「骨見え」を抑制するという観点）から、１．６１〜１．７０の範囲が好ましく、１．６３〜１．６８の範囲がより好ましく、１．６４〜１．６７の範囲が特に好ましい。
【０１７５】
高屈折率ハードコート層（Ｅ）の厚みは、ベースフィルムの耐擦傷性向上および基材フィルムからのオリゴマー析出抑制の観点、並びにベースフィルムのカールバランスを調整するという観点から、０．３〜５μｍの範囲が好ましく、０．５〜３μｍの範囲がより好ましく、特に０．７〜２μｍの範囲が好ましい。
【０１７６】
高屈折率ハードコート層（Ｅ）は、その屈折率を１．６１〜１．７０に調整するために、屈折率が１．７以上の金属酸化物微粒子を含有することが好ましく、特に屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。このような金属酸化物微粒子としては、チタン、ジルコニウム、亜鉛、錫、アンチモン、セリウム、鉄、インジウム等の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子の具体例としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物微粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率を高めることができるので好ましい。
【０１７７】
高屈折率ハードコート層（Ｅ）における金属酸化物微粒子の含有量は、高屈折率ハードコート層（Ｅ）の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましく、４５質量％以上が最も好ましい。上限は９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましく、特に８０質量％以下が好ましい。
【０１７８】
高屈折率ハードコート層（Ｅ）は、樹脂として熱硬化性樹脂あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましく、特に活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましい。熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂は、前述の樹脂層（Ａ）に記載した樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
【０１７９】
樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合は、前述の樹脂層（Ａ）と同様に光重合開始剤を用いることが好ましい。
【０１８０】
［易接着層（Ｐ２）］
易接着層（Ｐ２）は、前述のベースフィルムの好ましい態様２において、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）と高屈折率ハードコート層（Ｅ）との間に配置され、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）と高屈折率ハードコート層（Ｅ）との密着性を向上させる機能を有する。
【０１８１】
易接着層（Ｐ２）の屈折率は、１．６１〜１．７０の範囲が好ましく、１．６２〜１．６９の範囲がより好ましく、更に１．６３〜１．６８の範囲が好ましく、特に１．６４〜１．６７の範囲が好ましい。
【０１８２】
前述したベースフィルムの好ましい態様２は、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム；屈折率が１．６１〜１．７０）上に、屈折率が１．６１〜１．７０である易接着層（Ｐ２）を介して、屈折率が１．６１〜１．７０である高屈折率ハードコート層（Ｅ）が積層されていることが好ましい。
【０１８３】
上記構成において、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）の屈折率と易接着層（Ｐ２）の屈折率との差の絶対値、および易接着層（Ｐ２）と高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率との差の絶対値は、それぞれ０．０３以下が好ましく、０．０２以下がより好ましく、特に０．０１以下が好ましい。これによって、更に透明導電膜の視認性が向上し（「骨見え」が抑制され）、高屈折率ハードコート層（Ｅ）側から見た反射色をニュートラルな無彩色に近づけることができる。
【０１８４】
易接着層（Ｐ２）は、基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）と高屈折率ハードコート層（Ｅ）との密着性を向上させるという機能を有する。この観点から、易接着層（Ｐ２）の厚みは、５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましく、特に１５ｎｍ以上が好ましい。上限の厚みは、滑り性あるいは塗工性等の観点から３００ｎｍ未満が好ましく、２００ｎｍ以下がより好ましく、１５０ｎｍ以下が更に好ましく、特に１００ｎｍ以下が好ましい。
【０１８５】
易接着層（Ｐ２）は、少なくとも樹脂を含有する層であることが好ましい。かかる樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。これらの樹脂の中でも、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましい。
【０１８６】
易接着層（Ｐ２）における樹脂の含有量は、易接着層（Ｐ２）の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましい。上限の含有量は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８０質量％以下が特に好ましい。
【０１８７】
易接着層（Ｐ２）の屈折率は１．６１〜１．７０であり、このような比較的大きい屈折率とするために、易接着層（Ｐ２）は樹脂として高屈折率樹脂を含有することが好ましい。かかる高屈折率樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂に、芳香族環、硫黄原子、臭素原子等を導入することにより高屈折率化した樹脂を挙げることができる。
【０１８８】
高屈折率樹脂としては、分子中に縮合芳香族環を有するポリエステル樹脂が好ましく用いられる。上記縮合芳香族環としては、ナフタレン環やフルオレン環が好ましい。
【０１８９】
ポリエステル樹脂は、一般的にカルボン酸成分とグリコール成分から重縮合して得られる。上記の分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分として、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレン環を有するジカルボン酸を用いることによって合成することができる。分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂の屈折率は、全カルボン酸成分中のナフタレン環を有するジカルボン酸の比率を調整することによって制御することができる。
【０１９０】
分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分および／またはグリコール成分として、フルオレン環を有する化合物を用いることによって合成することができる。上記フルオレン環を有する化合物の含有量を調整することによって該ポリエステル樹脂の屈折率を制御することができる。分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、例えば、国際公開第ＷＯ２００９／１４５０７５号に詳しく記載されており、それを参照して合成することができる。
【０１９１】
また、易接着層（Ｐ２）の屈折率を１．６１〜１．７０の範囲に調整するために、易接着層（Ｐ２）は屈折率が１．７以上の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。特に、易接着層（Ｐ２）は屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。
【０１９２】
屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物微粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに易接着層（Ｐ２）の屈折率を高めることができるので好ましい。
【０１９３】
易接着層（Ｐ２）が金属酸化物微粒子を含有する態様において、樹脂と金属酸化物微粒子の含有比率は、質量比で１００：１０〜１００：４００の範囲が適当であり、１００：２０〜１００：３００の範囲が好ましく、特に１００：３０〜１００：２００の範囲が好ましい。
【０１９４】
また、易接着層（Ｐ２）が金属酸化物微粒子を含有する態様において、樹脂として上記の高屈折率樹脂を用いることができる。
【０１９５】
易接着層（Ｐ２）は、さらに架橋剤を含有することが好ましい。易接着層（Ｐ２）は少なくとも上述の樹脂と架橋剤を含有する熱硬化層であることが好ましい。易接着層（Ｐ２）をこのような熱硬化層とすることにより、基材フィルムと高屈折率ハードコート層（Ｅ）との密着性をさらに向上させることができる。易接着層（Ｐ２）を熱硬化するときの条件（加熱温度、時間）は特に限定されないが、加熱温度は７０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましく、１５０℃以上が特に好ましく、２００℃以上が最も好ましい。上限は３００℃以下が好ましい。加熱時間は５〜３００秒の範囲が好ましく、１０〜２００秒の範囲がより好ましい。
【０１９６】
易接着層（Ｐ２）に含有させる架橋剤としては、前述の易接着層（Ｐ１）に含有させることができる架橋剤と同様のものを用いることができる。
【０１９７】
易接着層（Ｐ２）における架橋剤の含有量は、易接着層（Ｐ２）の固形分総量１００質量％に対して、１〜４０質量％の範囲が好ましく、３〜３５質量％の範囲がより好ましく、５〜３０質量％の範囲が特に好ましい。
【０１９８】
易接着層（Ｐ２）は、さらに滑り性の向上のために、有機あるいは無機の粒子を含有することが好ましい。このような粒子としては前述の易接着層（Ｐ１）に含有させることができる粒子と同様のものを用いることができる。
【０１９９】
易接着層（Ｐ２）における粒子の含有量は、易接着層（Ｐ２）の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜８質量％の範囲が好ましく、０．１〜５質量％の範囲がより好ましい。
【０２００】
易接着層（Ｐ２）は、易接着層（Ｐ１）と同様に、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にウェットコーティング法により積層されていることが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートフィルムの製造工程内で易接着層（Ｐ２）を積層する、いわゆる「インラインコーティング法」で積層されていることが好ましい。
【０２０１】
［透明導電性フィルム］
透明導電性フィルムは、前述した本発明のベースフィルムの樹脂層（Ａ）の上に透明導電膜を設けることにより得られる。
【０２０２】
本発明の透明導電性フィルムは、抵抗膜式タッチパネルや静電容量式タッチパネルに好適であり、特に静電容量式タッチパネルに好適である。静電容量式タッチパネルの透明導電性フィルムの透明導電膜は、通常、所定のパターンにパターン化されている。この透明導電膜のパターン化は、透明導電膜をエッチング処理することにより行われる。
【０２０３】
この透明導電膜のパターン形状は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種パターンが採用される。この透明導電膜パターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部のパターン形状としては、例えば、ストライプ状、格子状、あるいはこれらの組み合わせ等が挙げられる。具体的には、例えば、特開２００６−３４４１６３号公報、特開２０１１−１２８８９６号公報等に開示されているパターンが挙げられる。
【０２０４】
パターン化された透明導電膜を有する透明導電性フィルムは、透明導電膜のパターン部（透明導電膜がエッチングされずに残存している部分（導電部））と非パターン部（透明導電膜がエッチングされて除去された部分（非導電部））との反射率や透過率の違い、あるいはパターン部と非パターン部の色調の違いにより、パターン部が視認される、いわゆる「骨見え」が起こり、透明導電膜の視認性を低下させている。この「骨見え」の問題は、本発明のベースフィルムを用いることにより低減される。
【０２０５】
本発明にかかる透明導電性フィルムは、タッチパネル用途であることから液晶表示装置等からの画像が明確に視認できる程度に透明であることが求められる。従って、透明導電性フィルムの透明度は特に限定されないが、例えば、全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることが特に好ましい。上限の全光線透過率は９９％程度である。
【０２０６】
［透明導電膜］
透明導電膜の材料としては、透明導電性フィルムに用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）などの金属酸化物、銀ナノワイヤーなどの金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でもＩＴＯが好ましく用いられる。
【０２０７】
透明導電膜の厚みは、透明導電膜の視認性を向上させるという観点から小さい方が好ましく、具体的には５０ｎｍ以下が好ましく、４０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下が更に好ましく、特に２５ｎｍ以下が好ましい。透明導電膜の厚みの下限は、低抵抗の透明導電膜を確保するという観点から５ｎｍ以上が好ましく、７ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上が特に好ましい。
【０２０８】
透明導電膜の表面抵抗値は、１０００Ω／□以下が好ましく、５００Ω／□以下が好ましい。
【０２０９】
透明導電膜は、本発明のベースフィルムの樹脂層（Ａ）上に直接に積層される。この透明導電膜の積層方法（製膜方法）としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。透明導電膜の製膜は、通常真空状態で行われる。
【０２１０】
透明導電膜は、結晶化処理（加熱処理）が施されることが好ましい。この結晶化処理は、１００〜２００℃の温度で１０〜２００分程度の加熱処理が一般的である。透明導電膜を結晶化処理することにより、透明導電膜の表面抵抗値を低下させることができる。
【０２１１】
透明導電膜の製膜工程は、一般に、ロール・ツー・ロール方式（ベースフィルムのロール状物を巻き出して連続搬送しながら透明導電膜を製膜し、ロール状に巻き取る方式）で行われており、ベースフィルムの搬送は搬送ローラによって行われている。
【０２１２】
このような透明導電膜の製膜工程において、ベースフィルムの最表層（例えば低屈折率層）の面が搬送ローラに支持されながら搬送される場合、最表層の滑り性が悪いと、最表層に傷が入ったり、ベースフィルムにシワが入ったりすることがある。
【０２１３】
本発明のベースフィルム、即ち、最表層として樹脂層（Ａ）を備えるベースフィルムを用いることによって、透明導電膜の製膜工程における上記課題を解消することができる。
【実施例】
【０２１４】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法および評価方法を以下に示す。
【０２１５】
［測定方法および評価方法］
（１）ベースフィルムのヘイズ値の測定
ＪＩＳ  Ｋ７１３６（２０００）に基づき、日本電色工業（株）製の濁度計「ＮＤＨ−２０００」を用いて測定した。測定に際し、ベースフィルムの樹脂層（Ａ）の表面に光が入射するように配置する。
【０２１６】
（２）透明導電性フィルムの全光線透過率の測定
ＪＩＳ  Ｋ７３６１（１９９７年）に基づき、濁度計ＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。
【０２１７】
（３）樹脂層（Ａ）およびハードコート層（Ｂ）の表面の中心線平均粗さＲａの測定
ＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９８２）に基づき、触針式表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）を用いて測定した。
【０２１８】
＜測定条件＞
送り速さ；０．５ｍｍ／ｓ
評価長さ；８ｍｍ
カットオフ値λｃ；０．０８ｍｍ。
【０２１９】
（４）屈折率の測定１
各層を形成するための塗布組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で５８９ｎｍの屈折率を測定した。この塗工形成した塗膜の屈折率をもって各層の屈折率とする。よって、下記の実施例および比較例における各層の屈折率の値は、ここで測定した屈折率の値（各層を形成するための塗布組成物を塗工形成した塗膜の屈折率の値）である。
【０２２０】
（５）屈折率の測定２
基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の屈折率は、ＪＩＳ  Ｋ７１０５（１９８１）に準じて、アッベ屈折率計で５８９ｎｍの屈折率を測定した。
【０２２１】
（６）易接着層（Ｐ１）および易接着層（Ｐ２）の厚みの測定
易接着層（Ｐ１）および易接着層（Ｐ２）が積層された基材フィルムの断面を超薄切片に切り出し、ＲｕＯ４ 染色、ＯｓＯ４ 染色、あるいは両者の二重染色による染色超薄切片法により、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で断面構造が目視可能な以下の条件にて観察し、その断面写真から易接着層の厚みを測定する。尚、測定個所は粒子が存在しない部分である。なお、５箇所を測定して、その平均値を易接着層の厚みとした。
・測定装置：透過型電子顕微鏡（日立（株）製  Ｈ−７１００ＦＡ型）
・測定条件：加速電圧  １００ｋＶ
・試料調整：凍結超薄切片法
・倍率：３０万倍。
【０２２２】
（７）樹脂層（Ａ）、ハードコート層（Ｂ）、高屈折率層（Ｃ）、ハードコート層（Ｄ）および高屈折率ハードコート層（Ｅ）の厚みの測定
ベースフィルムの断面を超薄切片に切り出し、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で加速電圧１００ｋＶにて観察（１〜３０万倍の倍率で観察）し、その断面写真から厚みを測定する。尚、樹脂層（Ａ）やハードコート層（Ｂ）のように表面に粒子による突起が存在する場合は、突起が存在しない部分における厚みである。厚みの測定は５箇所で行い、その平均値を厚みとした。
【０２２３】
（８）樹脂層（Ａ）に含有される粒子（ａ）およびハードコート層（Ｂ）に含有される粒子（ｂ）の平均粒子径の測定
樹脂層（Ａ）およびハードコート層（Ｂ）の断面をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で加速電圧１００ｋＶにて観察（１〜３０万倍の倍率で観察）し、その断面写真から、無作為に選択した３０個の粒子のそれぞれの最大長さを計測し、それらを相加平均した値を粒子の平均粒子径とした。
【０２２４】
（９）易接着層に含有される粒子の平均粒子径の測定
基材フィルムに積層された易接着層表面を、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を用いて倍率一万倍で観察し、粒子の画像（粒子によってできる光の濃淡）をイメージアナライザー（たとえばケンブリッジインストルメント製ＱＴＭ９００）に結び付け、観察箇所を変えてデータを取り込み、合計粒子数５０００個以上となったところで次の数値処理を行ない、それによって求めた数平均径ｄを平均粒径（直径）とした。
【０２２５】
ｄ＝Σｄi ／Ｎ
ここでｄi は粒子の等価円直径（粒子の断面積と同じ面積を持つ円の直径）、Ｎは個数である。
【０２２６】
（１０）ハードコート層（Ｂ）の表面における突起個数の計測
ベースフィルムのカットサンプル（２０ｃｍ×１５ｃｍ）を用意し、このカットサンプルのハードコート層（Ｂ）の表面をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）にて５箇所撮影（約１万〜１０万倍）し、５つの画像（表面写真）を作製する。次に、５つの画像それぞれについて、画像の１μｍ四方（面積１μｍ２）もしくは２μｍ四方（面積４μｍ２）の範囲に存在する突起の個数を計測し、面積１００μｍ２当たりの個数に換算し、平均した。尚、突起個数を計測する面積は、撮影倍率に応じて適宜変更する。
【０２２７】
（１１）ハードコート層（Ｂ）の表面における突起の平均高さの測定
ベースフィルムのカットサンプル（２０ｃｍ×１５ｃｍ）を用意し、このカットサンプルのハードコート層（Ｂ）の断面をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）にて５箇所撮影（約１万〜１０万倍）し、５つの断面写真を作製する。次に、５つの断面写真に存在する全ての突起の高さを測定し、平均した。
【０２２８】
（１２）透明導電膜のパターンの視認性「骨見え」の評価
黒い板の上に透明導電膜が上になるように置いて、目視により透明導電膜のパターン部が視認できるかどうか以下の基準で評価した。
○（最良）：パターン部が視認できない。
△（良）：パターン部が僅かに視認できる。
×（不良）：パターン部が明確に視認できる。
【０２２９】
（１３）滑り性
ベースフィルムを切断して２枚のシート片（２０ｃｍ×１５ｃｍ）を作製する。この２枚のシート片の樹脂層（Ａ）同士が向き合うように２枚のシート片を僅かにずらして重ね合わせて平滑な台上の置き、下方のシート片を指で台上に固定し、上方のシート片を手で滑らせる方法で滑り性の良否判定を行った。測定環境は２３℃、５５％ＲＨである。
○（最良）：上方のシート片の滑り性が良好である。
△（良）：上方のシート片の滑り性は劣るが比較的良好である。
×（不良）：上方のシート片が滑らない。
【０２３０】
（１４）耐ブロッキング性
ベースフィルムを切断して２枚のシート片（２０ｃｍ×１５ｃｍ）を作製する。この２枚のシート片を樹脂層（Ａ）とハードコート層（Ｂ）とが向き合うようにして重ね合わせる。次に、２枚のシート片を重ね合わせた試料をガラス板で挟み込み、約４ｋｇの重りを載せて、５０℃、９０％（ＲＨ）の雰囲気下に４８時間放置する。次に、重ね合わせ面を目視により観察しニュートンリングの発生状況を確認した後、両者を剥離し、以下の基準で評価した。
○（最良）：剥離前はニュートンリングが発生しておらず、剥離時には剥離音を立てずに軽く剥離される。
△（良）：剥離前は一部ニュートンリングが発生しており、剥離時には小さな剥離音を立てながら剥離される。
×（不良）：剥離前は全面にニュートンリングが発生しており、剥離時には大きな剥離音を立てて剥離される。
【０２３１】
（１５）ベースフィルムの反射色の目視評価
ベースフィルムのハードコート層（Ｂ）の面に黒粘着テープ（日東電工製“ビニルテープＮｏ．２１  トクハバ  黒”）を貼り付け、樹脂層（Ａ）の面側から見た反射色を暗室三波長蛍光灯下にて目視にて観察し、以下の基準で行った。
【０２３２】
同様に、ベースフィルムの樹脂層（Ａ）の面に黒粘着テープ（日東電工製“ビニルテープＮｏ．２１  トクハバ  黒”）を貼り付け、ハードコート層（Ｂ）の面側から見た反射色を暗室三波長蛍光灯下にて目視にて観察し、以下の基準で行った。
○（良）：反射色がニュートラルでほぼ無色である。
×（不良）：反射色が着色を呈している。
【０２３３】
［原料］
（易接着層（Ｐ１）の塗布組成物）
下記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂ａを１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、コロイダルシリカ（日産化学工業（株）の「スノーテックス」、平均粒子径１９０ｎｍ）を固形分換算で１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．５８であった。
【０２３４】
＜ナフタレン環含有のポリエステル樹脂ａ＞
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸                  ３５モル％
２，６−ナフタレンジカルボン酸  ９モル％
５−Ｎａスルホイソフタル酸    ６モル％
・グリコール成分
エチレングリコール          ４９モル％
ジエチレングリコール          １モル％。
【０２３５】
（易接着層（Ｐ２）の塗布組成物）
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂ａを１００質量部、酸化ジルコニウムを６０質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、コロイダルシリカ（日産化学工業（株）の「スノーテックス」、平均粒子径１９０ｎｍ）を固形分換算で１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率（塗布組成物を塗工形成した塗膜の屈折率の値。以下の他の塗布組成物についても同様である。）は１．６５であった。
【０２３６】
＜樹脂層（Ａ）を形成するための塗布組成物（ａ）＞
（塗布組成物ａ０）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを６７質量部、含フッ素化合物（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を３０質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４６であった。
【０２３７】
（塗布組成物ａ１）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを６７質量部、含フッ素化合物（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を３０質量部、粒子（ａ）としてコロイダルシリカ（日産化学工業（株）のオルガノシリカゾル「ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ」、平均粒子径４５ｎｍ）を固形分換算で１質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４６であった。
【０２３８】
（塗布組成物ａ２）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを６３質量部、含フッ素化合物（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を３０質量部、粒子（ａ）としてコロイダルシリカ（日産化学工業（株）のオルガノシリカゾル「ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ」、平均粒子径４５ｎｍ）を固形分換算で５質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４６であった。
【０２３９】
（塗布組成物ａ３）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５８質量部、含フッ素化合物（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を３０質量部、粒子（ａ）としてコロイダルシリカ（日産化学工業（株）のオルガノシリカゾル「ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ」、平均粒子径４５ｎｍ）を固形分換算で１０質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４６であった。
【０２４０】
（塗布組成物ａ４）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５３質量部、含フッ素化合物（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を３０質量部、粒子（ａ）としてコロイダルシリカ（日産化学工業（株）のオルガノシリカゾル「ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ」、平均粒子径４５ｎｍ）を固形分換算で１５質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４６であった。
【０２４１】
（塗布組成物ａ５）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４３質量部、含フッ素化合物（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を３０質量部、粒子（ａ）としてコロイダルシリカ（日産化学工業（株）のオルガノシリカゾル「ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ」、平均粒子径４５ｎｍ）を固形分換算で２５質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４６であった。
【０２４２】
（塗布組成物ａ６）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５８質量部、含フッ素化合物（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を３０質量部、粒子（ａ）としてコロイダルシリカ（日産化学工業（株）のオルガノシリカゾル「ＭＩＢＫ−ＳＤ」、平均粒子径１２ｎｍ）を固形分換算で１０質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４６であった。
【０２４３】
（塗布組成物ａ７）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３８質量部、含フッ素化合物（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を３０質量部、粒子（ａ）としてコロイダルシリカ（日産化学工業（株）のオルガノシリカゾル「ＭＩＢＫ−ＳＤ」、平均粒子径１２ｎｍ）を固形分換算で３０質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４６であった。
【０２４４】
（塗布組成物ａ８）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを８８質量部、粒子（ａ）としてコロイダルシリカ（日産化学工業（株）のオルガノシリカゾル「ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ」、平均粒子径４５ｎｍ）を固形分換算で１０質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．５１であった。
【０２４５】
（塗布組成物ａ９）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５８質量部、含フッ素化合物（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を３０質量部、粒子（ａ）としてコロイダルシリカ（日産化学工業（株）のオルガノシリカゾル「ＩＰＡ−ＳＴ−ＭＳ」、平均粒子径２０ｎｍ）を固形分換算で１０質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４６であった。
【０２４６】
＜ハードコート層（Ｂ）を形成するための塗布組成物＞
（塗布組成物ｂ１）
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」；分子中にエチレン性不飽和基を９個含む）４５質量部）８５質量部、粒子（ｂ）として下記の表面処理シリカ粒子分散液Ａを固形分換算で１０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．５１であった。
【０２４７】
（表面処理シリカ粒子分散液Ａ）
コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製のオルガノシリカゾル「ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ」、平均粒子径０．１３μｍ）１５０質量部に、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１３．７質量部と１０質量％蟻酸水溶液１．７質量部を混合し、７０℃にて１時間撹拌した。次いで、フッ素化合物（Ｈ２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ２−（ＣＦ２）８Ｆ）１３．８質量部および２，２−アゾビスイソブチロニトリル０．５７質量部を加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌して分散液を得た。
【０２４８】
＜高屈折率層（Ｃ）の塗布組成物＞
（塗布組成物ｃ１）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３７質量部、酸化ジルコニウム６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．７０であった。
【０２４９】
（塗布組成物ｃ２）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４１質量部、酸化ジルコニウム５６質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６８であった。
【０２５０】
（塗布組成物ｃ３）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３７質量部、酸化チタン６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．７５であった。
【０２５１】
＜ハードコート層（Ｄ）を形成するための塗布組成物＞
（塗布組成物ｄ１）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５８質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」；分子中にエチレン性不飽和基を９個含む）３７質量部、重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．５２であった。
【０２５２】
＜高屈折率ハードコート層（Ｅ）を形成するための塗布組成物＞
（塗布組成物ｅ１）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４７質量部、酸化ジルコニウム５０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６５であった。
【０２５３】
［実施例１］
下記の要領で態様１のベースフィルムを作製した。即ち、ハードコート層（Ｂ）／易接着層（Ｐ１）／基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）／易接着層（Ｐ１）／ハードコート層（Ｄ）／高屈折率層（Ｃ）／樹脂層（Ａ）からなるベースフィルムを作製した。
【０２５４】
＜ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製＞
実質的に外部添加粒子を含有しないＰＥＴペレット（極限粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し２８５℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを９０℃に加熱して長手方向に３．４倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの両面に易接着層（Ｐ１）の塗布組成物をそれぞれ塗布した。
【０２５５】
次に、両面にそれぞれ塗布組成物が塗布された一軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度７５℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて１１０℃に上げ、再度９０℃で乾燥した後、引き続き連続的に１２０℃の加熱ゾーンで幅方向に３．５倍延伸し、続いて２２０℃の加熱ゾーンで２０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸ＰＥＴフィルムを作製した。このＰＥＴフィルムは両面に易接着層（Ｐ１）を有するＰＥＴフィルムである。
【０２５６】
このＰＥＴフィルムの厚みは１００μｍ、両面に設けられた易接着層（Ｐ１）の厚みはそれぞれ８０ｎｍであった。
【０２５７】
ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６５、両面に設けられた易接着層（Ｐ１）の屈折率はそれぞれ１．５８であった。
【０２５８】
尚、ＰＥＴフィルムの屈折率は、両面に易接着層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したＰＥＴフィルムの屈折率を測定し、その値をＰＥＴフィルムの屈折率とした。
【０２５９】
＜ハードコート層（Ｂ）の積層＞
上記で作製したＰＥＴフィルムの一方の面（第２面）の易接着層（Ｐ１）上に、塗布組成物ｂ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてハードコート層（Ｂ）を形成した。このハードコート層（Ｂ）は、厚み（ｄ２）１．０μｍ、屈折率が１．５１であった。
【０２６０】
なお、ハードコート層（Ｂ）に含まれるシリカ粒子の平均粒子径（ｒ２：μｍ）は０．１３μｍで、シリカ粒子の含有量はハードコート層（Ｂ）の固形分総量１００質量％に対して１０質量％である。ハードコート層（Ｂ）の膜厚（ｄ２：μｍ）に対するシリカ粒子の平均粒子径（ｒ２：μｍ）の比率（ｒ２／ｄ２）は、０．１３である。
【０２６１】
ハードコート層（Ｂ）の表面における粒子（ｂ）による突起個数は、１３００個／１００μｍ２、突起の平均高さは０．０６μｍ、ハードコート層（Ｂ）表面の中心線平均粗さＲａは１４ｎｍであった。
【０２６２】
＜ハードコート層（Ｄ）の積層＞
上記でハードコート層（Ｂ）が積層されたＰＥＴフィルムの他方の面（第１面）の易接着層（Ｐ１）上に、塗布組成物（ｄ１）をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてハードコート層（Ｄ）を形成した。このハードコート層（Ｄ）は、厚み１．０μｍ、屈折率が１．５２であった。
【０２６３】
＜高屈折率層（Ｃ）の積層＞
上記で積層したハードコート層（Ｄ）の上に、塗布組成物ｃ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させて高屈折率層（Ｃ）を形成した。この高屈折率層（Ｃ）は、厚みが３０ｎｍ、屈折率が１．７０であった。
【０２６４】
＜樹脂層（Ａ）の積層＞
上記で積層した高屈折率層（Ｃ）の上に、塗布組成物ａ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、１５０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させて樹脂層（Ａ）を形成した。この樹脂層（Ａ）は、厚みが３５ｎｍ、屈折率が１．４６であった。
【０２６５】
［実施例２〜１６および比較例１〜６］
樹脂層（Ａ）を形成するための塗布組成物の種類および樹脂層（Ａ）の厚み、並びに高屈折率層（Ｃ）を形成するための塗布組成物の種類および高屈折率層（Ｃ）の厚みを表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にしてベースフィルムを作製した。
【０２６６】
［透明導電性フィルムの作製］
上記の実施例１〜１６および比較例１〜６で作製したベースフィルムの樹脂層（Ａ）の上に、透明導電膜としてＩＴＯ膜を厚みが２０ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層し、次にこのＩＴＯ膜のみをストライプ状にパターン加工（エッチング処理）して、透明導電性フィルムを得た。
【０２６７】
［評価］
上記で作製したそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムについて、ベースフィルムのヘイズ値、滑り性、耐ブロッキング性、中心線平均粗さＲａ、反射色および透明導電膜の視認性（「骨見え」）を評価した。ベースフィルムの樹脂層（Ａ）および高屈折率層（Ｃ）の構成および特性を表１に、ベースフィルムおよび透明導電性フィルムの特性の評価結果を表２に示す。
【０２６８】
尚、実施例１〜１６よび比較例１〜６の全光線透過率は、いずれも８８〜９１％であった。
【０２６９】
【表１】
2015176466.tif 000004
【０２７０】
【表２】
2015176466.tif 000005
【０２７１】
本発明の実施例１〜１６のベースフィルムはいずれも、ヘイズ値が０．５０％以下であり、滑り性、耐ブロッキング性および反射色が良好である。そして、本発明の実施例１〜１６のベースフィルムを用いた透明導電性フィルムは、いずれも透明導電膜の視認性（「骨見え」）が良好である。
【０２７２】
一方、比較例１は、樹脂層（Ａ）は粒子（ａ）を含有していないので、ベースフィルムの滑り性が低下している。
比較例２は、樹脂層（Ａ）における粒子（ａ）の含有量が２０質量％を超えているので、ベースフィルムのヘイズ値が０．５０％より高くなっている。
【０２７３】
比較例３は、樹脂層（Ａ）に含有される粒子（ａ）の比率（ｒ１／ｄ１）が１．８を超えているので、ベースフィルムのヘイズ値が０．５０％より高くなっている。
【０２７４】
比較例４は、樹脂層（Ａ）に含有される粒子（ａ）の比率（ｒ１／ｄ１）が０．７より小さくなっているので、ベースフィルムの滑り性が低下している。また、比較例４のベースフィルムにおける樹脂層（Ａ）の厚み（ｄ１：ｎｍ）が７０ｎｍ以上であるので、このベースフィルムを用いた透明導電性フィルムは視認性（「骨見え」）が低下している。
【０２７５】
比較例５および６は、樹脂層（Ａ）に含有される粒子（ａ）の比率（ｒ１／ｄ１）が０．７より小さくなっているので、ベースフィルムの滑り性が低下している。
【０２７６】
［実施例１７］
下記の要領で態様２のベースフィルムを作製した。即ち、ハードコート層（Ｂ）／易接着層（Ｐ１）／基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）／易接着層（Ｐ２）／高屈折率ハードコート層（Ｅ）／樹脂層（Ａ）の構成からなるベースフィルムを作製した。
【０２７７】
＜ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製＞
実質的に外部添加粒子を含有しないＰＥＴペレット（極限粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し２８５℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを９０℃に加熱して長手方向に３．４倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの一方の面（第１面）に易接着層（Ｐ２）の塗布組成物、他方の面（第２面）に易接着層（Ｐ１）の塗布組成物をそれぞれ塗布した。
【０２７８】
次に、両面にそれぞれの易接着層塗布組成物が塗布された一軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度７５℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて１１０℃に上げ、再度９０℃で乾燥した後、引き続き連続的に１２０℃の加熱ゾーンで幅方向に３．５倍延伸し、続いて２２０℃の加熱ゾーンで２０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸ＰＥＴフィルムを作製した。このＰＥＴフィルムは両面に易接着層を有するＰＥＴフィルムである。
【０２７９】
このＰＥＴフィルムの厚みは１００μｍ、第１面に設けられた易接着層（Ｐ２）の厚みは２０ｎｍ、第２面に設けられた易接着層（Ｐ１）の厚みは８０ｎｍであった。
【０２８０】
ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６５、第１面の易接着層（Ｐ２）の屈折率は１．６５、第２面の易接着層（Ｐ１）の屈折率は１．５８であった。
【０２８１】
尚、ＰＥＴフィルムの屈折率は、両面に易接着層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したＰＥＴフィルムの屈折率を測定し、その値をＰＥＴフィルムの屈折率とした。
【０２８２】
＜ハードコート層（Ｂ）の積層＞
上記で作製したＰＥＴフィルムの一方の面（第２面）の易接着層（Ｐ１）上に、塗布組成物ｂ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてハードコート層（Ｂ）を形成した。このハードコート層（Ｂ）は、厚み（ｄ２）１．０μｍ、屈折率が１．５１であった。
【０２８３】
なお、ハードコート層（Ｂ）に含まれるシリカ粒子の平均粒子径（ｒ２：μｍ）は０．１３μｍで、シリカ粒子の含有量はハードコート層（Ｂ）の固形分総量１００質量％に対して１０質量％である。ハードコート層（Ｂ）の膜厚（ｄ２：μｍ）に対するシリカ粒子の平均粒子径（ｒ２：μｍ）の比率（ｒ２／ｄ２）は、０．１３である。
【０２８４】
ハードコート層（Ｂ）の表面における粒子（ｂ）による突起個数は、１３００個／１００μｍ２、突起の平均高さは０．０６μｍ、ハードコート層（Ｂ）表面の中心線平均粗さＲａは１４ｎｍであった。
【０２８５】
＜高屈折率ハードコート層（Ｅ）の積層＞
上記でハードコート層（Ｂ）が積層されたＰＥＴフィルムの他方の面（第１面）の易接着層（Ｐ２）上に、塗布組成物（ｅ１）をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させて高屈折率ハードコート層（Ｅ）を形成した。この高屈折率ハードコート層（Ｅ）は、厚み１．０μｍ、屈折率が１．６５であった。
【０２８６】
＜樹脂層（Ａ）の積層＞
上記で積層した高屈折率ハードコート層（Ｅ）の上に、塗布組成物ａ８をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、１５０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させて樹脂層（Ａ）を形成した。この樹脂層（Ａ）は、厚みが２０ｎｍ、屈折率が１．４６であった。
【０２８７】
［比較例７〜９］
樹脂層（Ａ）を形成するための塗布組成物の種類および樹脂層（Ａ）の厚みを表３に示すように変更した以外は、実施例１７と同様にしてベースフィルムを作製した。
【０２８８】
［透明導電性フィルムの作製］
上記の実施例１７および比較例７〜９で作製したベースフィルムの樹脂層（Ａ）の上に、透明導電膜としてＩＴＯ膜を厚みが１３ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層し、次にこのＩＴＯ膜のみをストライプ状にパターン加工（エッチング処理）して、透明導電性フィルムを得た。
【０２８９】
［評価］
上記で作製したそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムについて、ベースフィルムのヘイズ値、滑り性、耐ブロッキング性、中心線平均粗さＲａ、反射色および透明導電膜の視認性（「骨見え」）を評価した。ベースフィルムの樹脂層（Ａ）および高屈折率ハードコート層（Ｅ）の構成および特性を表３に、ベースフィルムおよび透明導電性フィルムの特性の評価結果を表４に示す。
【０２９０】
尚、実施例１７よび比較例７〜９の全光線透過率は、いずれも８８〜９１％であった。
【０２９１】
【表３】
2015176466.tif 000006
【０２９２】
【表４】
2015176466.tif 000007
【０２９３】
本発明の実施例１７のベースフィルムは、ヘイズ値が０．５０％以下であり、滑り性、耐ブロッキング性および反射色が良好である。そして、本発明の実施例１７のベースフィルムを用いた透明導電性フィルムは、透明導電膜の視認性（「骨見え」）が良好である。
【０２９４】
一方、比較例７は、樹脂層（Ａ）に含有される粒子（ａ）の比率（ｒ１／ｄ１）が０．７より小さくなっているので、ベースフィルムの滑り性が低下している。
【０２９５】
比較例８は、樹脂層（Ａ）に含有される粒子（ａ）の比率（ｒ１／ｄ１）が１．８を超えているので、ベースフィルムのヘイズ値が０．５０％より高くなっている。
【０２９６】
比較例９は、樹脂層（Ａ）に含有される粒子（ａ）の比率（ｒ１／ｄ１）が０．７より小さくなっているので、ベースフィルムの滑り性が低下している。また、比較例９のベースフィルムにおける樹脂層（Ａ）の厚み（ｄ１：ｎｍ）が７０ｎｍ以上であるので、このベースフィルムを用いた透明導電性フィルムは視認性（「骨見え」）が低下している。