(57)【要約】【課題】パターン化位相差フィルムの不完全領域の幅を小さくする。【解決手段】搬送されているフィルム１６の表面に形成された反応膜２５に、照射領域と非照射領域が交互に幅方向で並ぶように光照射装置１３から紫外線を照射する。反応膜２５には、紫外線の照射により酸を発生する酸発生剤が含まれている。光照射装置１３から液晶層形成装置１４に搬送している間では、拡散防止装置１５により反応膜２５の表面に乾燥気体を吹き付け、反応膜２５の表層に水が入り込むことを抑制し酸の拡散を抑える。【選択図】図１
2015064415.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特定の光の照射によって酸を発生する光酸発生剤を含む反応膜が表面に形成された長尺のフィルムをフィルムロールから送り出して搬送する搬送工程と、
光源装置から前記特定の光をマスクを通して、フィルムの幅方向に並ぶ複数本のライン状の光に整形して、前記搬送工程により搬送される前記フィルムの表面に照射する照射工程と、
液晶とこの液晶に対する配向制御能力が前記反応膜に発生した酸によって変化する配向制御剤とを含む塗布液を前記反応膜の表面に塗布することにより、前記反応膜の前記特定の光の照射領域上と非照射領域上とで前記液晶の配向が互い異なる液晶層を形成する液晶層形成工程と、
前記液晶層形成工程による前記塗布液を塗布するまでの間、前記照射工程を経て搬送される前記フィルムの前記反応膜を防湿するために湿度を調整した気体を前記反応膜の表面に接触させた状態にし、前記特定の光の照射で発生した前記反応膜中の酸の拡散を防止する拡散防止工程と、
を有することを特徴とするパターン化位相差フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記照射工程の前に前記反応膜の表面をラビングするラビング工程を有し、
前記拡散防止工程は、前記照射工程による前記特定の光の照射後から、前記気体を前記反応膜の表面に接触させた状態にすることを特徴とする請求項１記載のパターン化位相差フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記照射工程の後に前記反応膜の表面をラビングするラビング工程を有し、
前記拡散防止工程は、前記ラビング工程によるラビング後から前記気体を前記反応膜の表面に接触させた状態にすることを特徴とする請求項１記載のパターン化位相差フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記拡散防止工程は、前記照射工程を経た前記反応膜の表面に継続的に前記気体を吹き付けることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のパターン化位相差フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記拡散防止工程は、前記フィルムを搬送する搬送路を囲むチャンバ内を前記気体で満たした状態にすることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のパターン化位相差フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記気体は、温度が２２℃以上４０℃以下、かつ湿度が３３％以下であることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載のパターン化位相差フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記気体は、前記フィルムの搬送路の雰囲気よりも低い湿度に調整されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載のパターン化位相差フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記気体は、前記拡散防止工程の前工程または前記液晶層形成工程よりも低い湿度に調整されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載のパターン化位相差フィルムの製造方法。
【請求項９】
互いに遅相軸が直交した第１，第２位相差領域がフィルムの幅方向に交互に形成されることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載のパターン化位相差フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン化位相差フィルムの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
微細なパターンでパターニングしたパターンフィルムの１つとしてパターン化位相差フィルム（Ｆｉｌｍ  Ｐａｔｔｅｒｎｄ  Ｒｅｔａｒｄｅｒ、以下、ＦＰＲという）が知られている。ＦＰＲは、例えば左右で円偏光の向きが異なる偏光メガネを併用する立体画像表示装置の光学フィルタとして用いられる。このＦＰＲは、水平（左右）方向に伸びるライン状の第１，第２位相差領域を垂直方向に交互に配列したストライプパターンを持ち、各位相差領域のライン幅が２５０〜７００μｍ程度となっている。第１位相差領域と第２位相差領域には、互いに光学軸（例えば遅相軸）が直交する位相差特性を有するように、液晶を配向した液晶層が形成され、これらのライン幅は立体画像表示装置の表示画面の水平ラインを構成する画素ピッチに一致させている。そして、水平画素ラインごとに偏光方向が変調された表示光を、それぞれ対応する第１，第２位相差領域、及び偏光メガネを通して観察することにより立体画像が観察される。
【０００３】
本出願人は、特許文献１に記載のＦＰＲの製造方法を提案している。この特許文献１のＦＰＲの製造方法では、特定の光、例えば紫外線の照射により分解して酸を発生する光酸発生剤を含む反応膜（ラビング配向膜）を透明な支持体の表面に形成する反応膜形成工程、反応膜に一方向にラビング処理を行うラビング工程、反応膜に紫外線を照射する照射工程、及び液晶層（光学異方性層）を形成する液晶層形成工程を有している。液晶層形成工程では、例えば円盤状のディスコティック液晶とオニウム塩化合物からなる配向制御剤を含む塗布液を塗布することで、液晶層を形成する。
【０００４】
反応膜に上記塗布液を塗布すると、非照射領域では、反応膜界面に付近に偏在した配向制御剤により、ディスコティック液晶がその円盤面を界面に対して垂直な状態、かつ円盤面をラビング方向に直交した状態に配向される。一方、照射領域では、紫外線の照射により光酸発生剤が分解して酸が反応膜中に含まれており、この酸と配向制御剤とがアニオン交換するため、液晶層中の反応膜界面付近における配向制御剤の偏在が低下する。このため照射領域では、ディスコティック液晶がその円盤面を界面に対して垂直な状態ではあるが、円盤面をラビング方向に平行な状態に配向される。これにより、非照射領域と照射領域に対応して遅相軸が互いに直交した位相特性を有する第１，第２位相差領域が形成される。
【０００５】
また、特許文献２の方法は、ＦＰＲを製造するにあたり、スリットと遮光部とをＦＰＲの支持体の幅方向に関して入れ替えて配列した２種類のマスクプレートを用い、これらのマスクプレートをフィルムの搬送方向に並べている。さらに、この特許文献２の方法ではフィルムを搬送しながら各々のマスクプレートを通して互いに偏光方向が異なる紫外線を支持体に対して順次に照射する。これによりポリマー層は、照射された紫外線の偏光方向に応じた配向特性をもち、互いに配向特性が異なるストライプ状の領域が交互に並んだ配向膜となる。こうして得られた配向膜上に、棒状液晶（ネマチック液晶）を含む液晶層（位相層）を形成し、配向膜の各領域に対応して棒状液晶を配向させることにより、互いに光学軸が直交した位相差特性を有するストライプ状の第１，第２位相差領域を交互に配列したＦＰＲを得るようにしている。紫外線の照射時には複数のスリットを形成したマスクプレートを用いたプロキシミティ方式で露光が行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−１５３７０７号公報
【特許文献２】国際公開第２０１０／０９０４２９号Ａ２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記のように特許文献１のＦＰＲの製造方法に基づき、連続搬送中のフィルムにマスクプレートを介して紫外線をストライプパターンで照射した後に、液晶層を形成することで長尺なＦＰＲを連続的に製造する試みが本出願人によってなされている。マスクプレートは、紫外線を透過させる多数のスリットをフィルムの幅方向に並べてある。この製造方法にあっては、フィルムへの紫外線の照射が１回だけでよく、工程数を少なくすることができるという利点がある。その一方で、第１位相差領域と第２位相差領域の境界に、位相差特性が崩れたライン状の不完全領域（不良領域）が生じ、その不完全領域のライン幅が広くなることがあり、その改善が必要となっていた。なお、不完全領域は、ライン幅が十分に細い場合には、例えばカラーフィルターのブラックマトリクスで隠されるため実用上の問題は生じない。
【０００８】
マスクプレートで反応膜の非照射領域に紫外線を照射しないように遮光するが、マスクプレートのスリットを例えば斜め方向に通った紫外線が非照射領域にまで入り込み、その部分の照射量が中間レベルとなることが不完全領域の形成される原因の１つである。しかしながら、非照射領域への紫外線の入り込みによる影響以上に、不完全領域のライン幅が広くなることがあり、その改善が必要となっていた。
【０００９】
本発明は、不完全領域の幅の拡大を低減・抑止することができるパターン化位相差フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のパターン化位相差フィルムの製造方法は、特定の光の照射によって酸を発生する光酸発生剤を含む反応膜が表面に形成された長尺のフィルムをフィルムロールから送り出して搬送する搬送工程と、光源装置から特定の光をマスクを通して、フィルムの幅方向に並ぶ複数本のライン状の光に整形して、搬送工程により搬送されるフィルムの表面に照射する照射工程と、液晶とこの液晶に対する配向制御能力が反応膜に発生した酸によって変化する配向制御剤とを含む塗布液を反応膜の表面に塗布することにより、反応膜の特定の光の照射領域上と非照射領域上とで液晶の配向が互い異なる液晶層を形成する液晶層形成工程と、液晶層形成工程による前記塗布液を塗布するまでの間、照射工程を経て搬送されるフィルムの反応膜を防湿するために湿度を調整した気体を反応膜の表面に接触させた状態にし、特定の光の照射で発生した反応膜中の酸の拡散を防止する拡散防止工程とを有するものである。
【００１１】
照射工程の前に反応膜の表面をラビングするラビング工程を有し、拡散防止工程は、照射工程による特定の光の照射後から、気体を反応膜の表面に接触させた状態にすることが好ましい。
【００１２】
また、照射工程の後に反応膜の表面をラビングするラビング工程を有し、拡散防止工程は、ラビング工程によるラビング後から気体を反応膜の表面に接触させた状態にすることが好ましい。
【００１３】
また、拡散防止工程は、照射工程を経た反応膜の表面に継続的に気体を吹き付けることが好ましい。
【００１４】
また、拡散防止工程は、フィルムを搬送する搬送路を囲むチャンバ内を気体で満たした状態にすることが好ましい。
【００１５】
また、気体は、温度が２２℃以上４０℃以下、かつ湿度が３３％以下であることが好ましい。
【００１６】
また、気体は、フィルムの搬送路の雰囲気よりも低い湿度に調整されていることが好ましい。
【００１７】
また、気体は、拡散防止工程の前工程または液晶層形成工程よりも低い湿度に調整されていることが好ましい。
【００１８】
また、本発明のパターン化位相差フィルムの製造方法は、互いに遅相軸が直交した第１，第２位相差領域がフィルムの幅方向に交互に形成する場合に適している
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、特定の光の照射によって反応膜に発生した酸の拡散が防止されるから、特定の光の照射領域と非照射領域の境界部分に形成される不完全領域の幅を小さくしたパターン化位相差フィルムを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】パターン化位相差フィルム製造設備を示す説明図である。
【図２】パターン化位相差フィルムを示す説明図である。
【図３】フィルムに対する照射パターンを示す説明図である。
【図４】第２実施形態のパターン化位相差フィルム製造設備を示す説明図である。
【図５】第３実施形態のパターン化位相差フィルム製造設備を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
［第１実施形態］
図１において、パターン化位相差フィルム製造設備１０は、搬送機構部１１，ラビング装置１２，光照射装置１３，液晶層形成装置１４，及び拡散防止装置１５などで構成され、長尺のフィルム１６に各種処理を行ってパターン化位相差フィルム（以下、ＦＰＲという）１７を製造する。フィルム１６は、ロール状に巻かれたフィルムロール１８から引き出されて、パターン化位相差フィルム製造設備１０に供給される。パターン化位相差フィルム製造設備１０内では、搬送機構部１１によって一定の速度でフィルム１６が連続搬送される。
【００２２】
図２において、ＦＰＲ１７は、第１及び第２位相差領域２１，２２を有している。第１位相差領域２１と第２位相差領域２２とは、フィルム１６の搬送方向にそれぞれ延びており、その搬送方向に直交する幅方向に交互に並んでいる。図２（ａ）中に矢印Ａ１，Ａ２で示すように、第１，第２位相差領域２１，２２は、その光学軸、例えば遅相軸が互いに直交した光学異方性（複屈折性）を示す。
【００２３】
図２（ｂ）に示すように、ＦＰＲ１７は、支持体２４の一方の面に反応膜２５、液晶層２６を積層した構造である。液晶層２６の液晶の配向方向を変えることにより、第１，第２位相差領域２１，２２の遅相軸が互いに直交している。また、ＦＰＲ１７は、液晶層２６の厚みを調整することにより、第１，第２位相差領域２１，２２は、それぞれ１／４波長の位相差を有する光学異方性を示す。符号２８は、第１位相差領域２１と第２位相差領域２２の境界に形成された不完全領域（不良領域）である。この不完全領域２８は、液晶層２６の液晶が配向されていない領域であり、搬送方向に伸びている。
【００２４】
支持体２４は、透明で可撓性を有している。この支持体２４としては、例えばＴＡＣ（セルローストリアセテート）フィルムが用いられている。支持体２４は、ＴＡＣフィルム以外のセルロースアシレートフィルムや、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムなどであってよいが、ＦＰＲ１７を製造する場合には、支持体２４は、位相差が小さいものが好ましい。
【００２５】
上記パターン化位相差フィルム製造設備１０には、予め支持体２４の表面に反応膜２５を形成したフィルム１６が供給される。反応膜２５は、液晶層２６の液晶を配向する配向膜として設けられている。この反応膜２５は、特定の光、この例では紫外線の照射によって酸を発生する光酸発生剤を含むものである。例えばポリマーを主成分として光酸発生剤を含む塗布液を支持体２４の表面に塗布して乾燥することにより、一定の厚みに反応膜２５が形成されている。フィルムロール１８は、反応膜２５を十分に乾燥したフィルム１６を巻き取っている。
【００２６】
反応膜２５を構成するポリマーとしては、例えばＰＶＡ（ポリビニルアルコール）やアクリル樹脂などの各種ポリマーを用いることができる。なお、本発明は、反応膜２５の主成分のポリマーとして、ＰＶＡやアクリル樹脂など水に親和性が高い、吸湿性が高いものを用いる場合に特に有効である。
【００２７】
反応膜２５中の光酸発生剤としては、この例では紫外線の照射により分解して酸を発生するものが用いられる。光酸発生剤としては、スルホニウム塩系のもの、ピリジニウム塩系、ヨードニウム塩系のものなどを用いることができる。スルホニウム塩系の光酸発生剤の例を下記式Ａ−１〜Ａ−３に示す。なお、光酸発生剤は、紫外線以外の特定波長の光に反応するものであってもよい。
【００２８】
【化１】
2015064415.tif 000003
【００２９】
図１に示すように、パターン化位相差フィルム製造設備１０内では、フィルム１６の搬送路の上流側（フィルムロール側）から順番に上述のラビング装置１２，光照射装置１３，液晶層形成装置１４が配されており、光照射装置１３と液晶層形成装置１４との間の搬送路に拡散防止装置１５のダクト２９が配されている。
【００３０】
ラビング装置１２は、ラビングローラ１２ａや、それを回転させる駆動機構（図示省略）などを備えており、ラビング処理を行う。ラビングローラ１２ａは、その周面にベルベット等のラビング布を巻き付けてあり、一定の速度で回転する。ラビング処理では、回転中のラビングローラ１２ａにフィルム１６を密着させながら搬送することにより、ラビング布で反応膜２５の表面を擦る。これにより、液晶をラビング方向に配向する配向性が反応膜２５に付与される。ラビング方向は、ラビング布で反応膜２５の表面を擦った方向であり、フィルム１６の幅方向に対するラビングローラ１２ａの回転軸１２ｂの角度で決まる。
【００３１】
光照射装置１３は、光源部３１、マスク３２、バックアップローラ３３などで構成される。光源部３１は、反応膜２５中に酸を発生させるための紫外線を出力する。光源部３１は、光酸発生剤が紫外線以外の光に反応するものである場合には、それが反応する光を出力するものを用いる。フィルム１６は、反応膜２５を外側とする向きでバックアップローラ３３に巻き掛けられている。このバックアップローラ３３に巻き掛けられた状態のフィルム１６に対して、マスク３２を通して光源部３１からの紫外線を照射する。バックアップローラ３３は回動自在であり、フィルム１６の搬送に従動して回転する。なお、バックアップローラ３３をフィルム１６の搬送に同期してモータ等で回転させてもよい。
【００３２】
図３に示すように、マスク３２には、フィルム１６の搬送方向と直交する幅方向に一定ピッチで複数のスリット３２ａが並んだマスクパターンを有している。スリット３２ａは光（紫外線）を透過する透過部であり、スリット３２ａとスリット３２ａと間が光を遮光する遮光部である。各スリット３２ａは、フィルム１６の搬送方向に長手方向が一致している。これにより、連続搬送中のフィルム１６の表面には、照射と非照射とが幅方向に交互に並んだ照射パターンで紫外線が照射され、搬送方向にストライプ状に伸びた照射領域ＲＥと非照射領域ＲＮとが幅方向に交互に並んだ状態に形成される。照射領域ＲＥは第１位相差領域２１に、非照射領域ＲＮは第２位相差領域２２にそれぞれ対応する。
【００３３】
液晶層形成装置１４は、反応膜２５上に第１，第２位相差領域２１，２２に応じた位相差特性を発現する液晶層２６を形成する。この液晶層形成装置１４は、塗布部３６，加熱部３７、硬化部３８を有している。塗布部３６は、液晶などを含有する塗布液３９を反応膜２５の表面に塗布し塗膜を形成する。加熱部３７は、塗膜すなわち硬化前の液晶層２６を加熱することで、液晶の配向を促進する。硬化部３８は、例えば紫外線を照射して、液晶層２６を硬化する。
【００３４】
塗布液３９としては、例えば重合性基を有するディスコティック液晶、反応膜界面配向剤、空気界面配向剤、紫外線の照射によりディスコティック液晶の重合を開始させるため光重合開始剤、及び必要に応じて増感剤を溶媒に溶解したものが用いられる。塗布液３９に含まれるディスコティック液晶、反応膜界面配向剤、空気界面配向剤の組み合わせ例を下記の式Ｃ−１〜Ｅ−１に示す。また、別の組み合わせ例におけるディスコティック液晶、反応膜界面配向剤、空気界面配向剤を式Ｃ−２ａ，２ｂ〜Ｅ−２ａ，２ｂに示す。
【００３５】
【化２】
2015064415.tif 000004
【００３６】
【化３】
2015064415.tif 000005
【００３７】
【化４】
2015064415.tif 000006
【００３８】
【化５】
2015064415.tif 000007
【００３９】
反応膜界面配向剤は、通常では反応膜２５と親和性が高く、液晶層２６内における反応膜２５との界面（反応膜界面）に偏在し、反応膜界面に対してディスコティック液晶を垂直にした状態に配向する垂直配向と、反応膜界面に偏在することによってラビング方向にディスコティック液晶を直交した状態に配向する直交配向の各能力を有している。空気界面配向剤は、液晶の空気界面近傍におけるチルト角（空気界面との円盤面の角度）を増加させ、空気界面近傍においても垂直配向とする目的で添加している。
【００４０】
反応膜界面配向剤は、反応膜２５中に酸がある場合には、その酸との間でアニオン交換を行うことにより、反応膜２５との親和性が低くなって、反応膜界面における偏在が低下する。このため垂直配向の能力は保存されるが、反応膜界面配向剤の直交配向の能力が小さくなり、反応膜２５の表面に施されたラビングによる配向が支配的になってディスコティック液晶がラビング方向に平行に配向される。結果として、紫外線の照射領域ＲＥ上の液晶層２６中では垂直配向かつ平行配向となり、非照射領域ＲＮ上の液晶層２６中では垂直配向かつ直交配向となり、第１，第２位相差領域２１，２２の遅相軸が互いに直交する。この例では、反応膜界面配向剤が配向制御剤となる。
【００４１】
なお、本発明は、反応膜における紫外線の照射によって発生した酸が照射されていない領域への拡散を抑えることによって、不完全領域が幅広になることを防止するものであるから、反応膜２５の酸によって配向制御剤の配向能力が変化し、これにより特定の光の照射された領域上と照射されなかった領域上の液晶の配向が異なったものとなる各種の配向制御剤、液晶を用いることができる。
【００４２】
拡散防止装置１５は、上述のダクト２９と、エア供給部４１とを備える。エア供給部４１は、フィルムの反応膜２５を防湿できる湿度を調整した空気（以下、乾燥気体という）をダクト２９に供給する。本発明で防湿とは、反応膜２５の表面から雰囲気中の水分が吸着、拡散して膜中の水分量が増加するのを防ぐことを指す。これにより、反応膜２５中の酸の拡散を抑えることができ、不完全領域２８が幅広になることを抑制できる。乾燥気体は、湿度を低くすればするほど不完全領域の拡大を防止する効果が大きくなる。エア供給部４１は、乾燥気体の温度も調整可能にすることが好ましい。ダクト２９の下面には、複数の送風口２９ａが設けられている。各送風口２９ａからは、エア供給部４１からの乾燥気体が搬送中のフィルム１６に向けて吹き出す。この拡散防止装置１５によって、フィルム１６が光照射装置１３から送り出された直後から液晶層形成装置１４に入る直前までの間、連続的に反応膜２５の表面に乾燥気体を吹き付ける。これにより、乾燥気体を反応膜２５の表面に接触させた状態にでき、反応膜２５を防湿できる。
【００４３】
発明者らは、不完全領域２８が幅広になることの原因として、非照射領域ＲＮへの紫外線の入り込みの他に、雰囲気中の水が反応膜２５の表層に入り込んで、照射領域ＲＥに発生した酸を非照射領域ＲＮに拡散させることが原因となっていることを見出した。すなわち、雰囲気中に存在する水が反応膜２５の表層に入り込むと、反応膜２５中で発生する酸が水に対して可溶性であるため、表層で移動しやすくなる。また、反応膜２５の照射領域ＲＥでは酸の濃度が高く、非照射領域ＲＮではほとんど酸がなく濃度が低い。このため、反応膜２５の表層で移動しやすくなった照射領域ＲＥ内の一部の酸は、濃度差により非照射領域ＲＮの表層に移動し、これにより非照射領域ＲＮの照射領域ＲＥに隣接した境界部分の酸の濃度が上昇する。しかし、その境界部分は、酸の濃度が液晶を平行配向とするには低すぎ、直交配向とするには不十分であるため、液晶が直交配向とも平行配向ともならないため結果として不完全領域２８となる。
【００４４】
そこで、上記のように拡散防止装置１５を設け、フィルム１６を液晶層形成装置１４に送り込むまでの間、上述のように紫外線を照射した反応膜２５の表面に乾燥気体を吹き付けて接触した状態にし、湿度、温度がほぼ一定に保たれた乾燥気体を反応膜２５の表面に接触した状態にすると、パターン化位相差フィルム製造設備１０が置かれた室内の湿度・温度が変動するような場合であっても、不完全領域２８の変動が小さい一定の品質のＦＰＲ１７を製造できるので好ましい。
【００４５】
なお、乾燥気体が防湿の効果を有し、かつその乾燥気体の湿度を拡散防止装置１５による拡散防止工程の前工程（光照射装置１３による光照射工程）または液晶層形成装置１４による液晶層形成工程よりも低くすることも、より高い効果を得る上で好ましい。
【００４６】
乾燥気体の温度は、乾燥気体の温度が低すぎると、反応膜２５の内部での反応が遅くなる。このため、光照射装置１３から液晶層形成装置１４までフィルム１６を搬送している間に十分な酸の発生量が得られない場合がある。この場合、搬送速度を遅くしたり、紫外線を照射してからの搬送距離を長くすることで対処することができる。もちろん、搬送速度を遅くしたり、搬送距離を長くすることは、生産性の低下、設備の大幅な改造をともなう。また、乾燥気体の温度が高い場合には、反応膜２５の温度が高くなり、反応膜２５による配向性に影響を与え、あるいは反応膜２５中での酸が移動しやすくなって防湿による十分な効果が得られないことがある。このため、乾燥温度の温度は、上記の影響を考慮して適宜に設定するのがよいが、湿度を３３％以下、温度を２２℃以上４０℃以下の範囲内とすることが好ましい。
【００４７】
酸が発生した状態で反応膜２５に水が入り込めば酸が拡散し易くなるので、光照射装置１３内で紫外線の照射直後から反応膜２５の表面に乾燥気体を接触した状態にすることが好ましい。また、紫外線の照射中、あるいは照射前から反応膜２５の表面に乾燥気体を接触した状態にすることも好ましい。例えば、光照射装置１３に乾燥気体を供給して、その内部が上記のような条件を満たす乾燥気体で満たされた状態にしておくことも好ましい。ラビング装置１２と光照射装置１３との間に、反応膜２５を乾燥させる装置を設けることも好ましい。さらに、液晶層形成装置１４内で塗布液３９を塗布する直前まで乾燥気体を接触した状態にすることも好ましい。
【００４８】
なお、厳密に紫外線の照射によって酸が発生した時点から塗布液３９を塗布して反応膜２５の表面を覆う時点までの間、反応膜２５の表面に乾燥気体を接触させ続けなくても、一部区間で乾燥気体を接触させれば本発明の効果は得られる。例えば、この例のようにフィルム１６を光照射装置１３から送り出してから液晶層形成装置１４に送り込むまでとしても実用的には問題がない場合が多い。これは、反応膜２５の表面に乾燥気体が接触していない時間が短く、水の入り込みが僅かであり、非照射領域ＲＮの境界部分の酸の濃度が不完全領域となるほどに上昇しないからである。
【００４９】
なお、この例では、空気を乾燥気体としているが、空気に代えて不活性ガスなどの気体を用いてもよい。
【００５０】
上記構成の作用について説明する。フィルムロール１８からフィルム１６が引き出され、このフィルム１６がパターン化位相差フィルム製造設備１０に供給される。このフィルムロール１８から引き出されるフィルム１６の反応膜２５は十分に乾燥されている。供給されたフィルム１６は、搬送機構部１１によって一定の速度で連続的に搬送され、ラビング装置１２、光照射装置１３、液晶層形成装置１４に順次案内される。
【００５１】
ラビング装置１２に案内されたフィルム１６は、その反応膜２５にラビングローラ１２ａでラビング処理が施される。この後、フィルム１６は、光照射装置１３に送られ、バックアップローラ３３に巻き掛けられた状態で、光源部３１からの紫外線がマスク３２を通して反応膜２５に照射される。これにより、紫外線の照射領域ＲＥと非照射領域ＲＮとが幅方向に交互に並ぶストライプ状のパターン照射が連続的に行われる。照射領域ＲＥでは、紫外線により光酸発生剤が分解して酸が発生し、非照射領域ＲＮでは酸は発生しない。このように、パターン照射されたフィルム１６は、光照射装置１３から送り出されて、液晶層形成装置１４に搬送される。
【００５２】
一方、エア供給部４１らは、除湿されて湿度が、また温度が調整された乾燥気体がダクト２９に供給されており、ダクト２９の各送風口２９ａから搬送中のフィルム１６に向けて吹き出している。したがって、光照射装置１３から送り出されたフィルム１６は、乾燥気体が反応膜２５の表面に吹き付けられた状態で液晶層形成装置１４まで搬送される。
【００５３】
液晶層形成装置１４に搬送されたフィルム１６は、塗布部３６によって、その反応膜２５上に塗布液３９が塗布されて塗膜が形成され、この後に加熱部３７で加熱される。そして、加熱後に硬化部３８で紫外線を照射することで、硬化した液晶層２６が得られる。
【００５４】
反応膜２５中に酸がない非照射領域ＲＮ上の塗膜中では、反応膜界面配向剤は、反応膜２５との親和性が高い状態を維持しているので反応膜界面に偏在する。したがって、この領域では、ラビング処理による配向よりも反応膜界面配向剤の配向能力が支配的になって液晶が垂直配向かつ直交配向となる。一方、反応膜２５内の酸がある照射領域ＲＥ上の塗膜中では、発生した酸と反応膜界面配向剤との間でアニオン交換が行われ、反応膜界面配向剤と反応膜２５との親和性が低くなる。このため、反応膜界面配向剤の反応膜界面の偏在が低下し、この領域では反応膜２５の表面に行ったラビング処理による配向能力が支配的になって、液晶が垂直配向かつ平行配向となる。これにより、フィルム１６の幅方向に第１位相差領域２１と第２位相差領域２２とが交互に並んだＦＰＲ１７が得られる。
【００５５】
ところで、上記のように液晶層形成装置１４に送り込むまでの間、酸が発生している反応膜２５の表面に乾燥気体を吹き付けて、反応膜２５の表層に水が入り込むことを抑制している。これにより、反応膜２５の表層で、照射領域ＲＥで発生した酸が非照射領域ＲＮに拡散することがほとんどなくなる。したがって、得られたＦＰＲ１７の第１，第２位相差領域２１，２２の境界の各不完全領域２８の幅は、酸の拡散で広くならない。また、パターン化位相差フィルム製造設備１０が置かれた室内の湿度・温度が変動しても、乾燥気体の湿度、温度が一定に保たれていれば、不完全領域２８の変動が小さく一定の品質のＦＰＲ１７が得られる。
【００５６】
［第２実施形態］
図４に示すように、第２実施形態のパターン化位相差フィルム製造設備４０は、光照射装置１３よりも下流側にラビング装置１２を配し、拡散防止装置１５のダクト２９をラビング装置１２と液晶層形成装置１４との間に配している。なお、その他は第１実施形態と同じであり、同じ部材には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００５７】
パターン化位相差フィルム製造設備４０では、光照射装置１３によって紫外線を反応膜２５に照射してから、ラビング装置１２によるラビング処理を行っている。ラビング処理を行うと、反応膜２５は、僅かな厚みであるが削られて表面（表層）が更新される。このため、光照射装置１３とラビング装置１２との間の搬送中に、反応膜２５内の表面近傍に水が入り込んで酸が拡散しても、その表面が削られてしまうので、それにより不完全領域２８が広くなることはない。そして、ラビング処理で更新された反応膜２５の表面に乾燥気体を吹き付けて、酸の拡散を抑制し、それによって不完全領域２８が幅広になることを防止している。
【００５８】
［第３実施形態］
図５に示すように、第３実施形態のパターン化位相差フィルム製造設備５０は、光照射装置１３と液晶層形成装置１４との間にチャンバ５１を配してあり、光照射装置１３から送り出されたフィルム１６をチャンバ５１を通して液晶層形成装置１４まで搬送する。雰囲気制御部５２は、チャンバ５１の空気が、湿度が３３％以下、かつ温度が２２℃以上４０以下の範囲内となるように制御している。これには、雰囲気制御部５２で除湿と温度調整をしながらチャンバ５１内の空気を循環するなど各種の手法を用いることができる。このように、第１実施形態のように乾燥気体の吹き付けることの他にも、このように乾燥した雰囲気内を搬送することでも同様な効果が得られる。なお、その他は第１実施形態と同じであり、同じ部材には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００５９】
第１〜第３実施形態は、いずれもＦＰＲを製造する場合について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、パターンや液晶の配向が異なる各種のパターンフィルムの製造に利用できる。また、液晶の配向に限らず、特定の光で酸を発生する光酸発生剤を利用し、その特定の光の照射パターンで各種のパターンを有するパターンフィルムの製造に場合にも利用できる。
【実施例】
【００６０】
［実施例１〜２０］
上記パターン化位相差フィルム製造設備４０を用いてＦＰＲ１７を製造した実施例１〜２０について説明する。なお、実施例１〜２０は、乾燥気体の温度・湿度が異なる他は、同じ条件でＦＰＲ１７を作製した。
【００６１】
ＦＰＲ１７の支持体２４は、コア層の表裏にエア層と支持体層が形成され、さらにエア層側の表面に防眩層を形成したものを用いた。ＦＰＲ１７の支持体２４は、下記の手順により作製した。
【００６２】
（１）コア層用ドープの調製
下記組成のコア層用ドープを調製した。
＜コア層用ドープの組成＞
・セルロースアセテート（アセチル化度２．８６、数平均分子量７２０００）
１００質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                          ３２０質量部
・メタノール（第２溶媒）                                    ８３質量部
・１−ブタノール（第３溶媒）                                  ３質量部
・トリフェニルフォスフェート                              ８．３質量部
・ビフェニルジフェニルフォスフェート                      ４．２質量部
・化合物１                                              ０．９８質量部
・化合物２                                              ０．２４質量部
なお、化合物１，２は、下記の式Ｆ−１ａ，１ｂに示すものである。
【００６３】
【化６】
2015064415.tif 000008
【００６４】
具体的には、以下の方法でコア層用ドープを調製した。撹拌羽根を有する４０００Ｌのステンレス製溶解タンクに、第１溶媒、第２溶媒および第３溶媒を添加して十分に撹拌した後に、セルロースアセテート粉体（フレーク）、トリフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート、化合物１および化合物２を徐々に添加し、全体が２０００ｋｇになるように調製した。なお、溶媒は、すべてその含水率が０．５質量％以下のものを使用した。
【００６５】
溶解タンク内を撹拌剪断速度が最初は５ｍ／ｓｅｃの周速で撹拌するディゾルバータイプの偏芯撹拌軸、及び中心軸にアンカー翼を有して周速１ｍ／ｓｅｃで撹拌する条件下で３０分間分散した。分散の開始温度は２５℃であり、最終到達温度は４８℃となった。分散終了後、高速撹拌を停止し、アンカー翼の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとして、さらに１００分間撹拌し、セルロースアセテート粉末を膨潤させた。膨潤終了までは窒素ガスでタンク内を０．１２ＭＰａになるように加圧した。この際のタンク内の酸素濃度は２ｖｏｌ％未満であり、防爆上で問題のない状態を保った。またドープ中の水分量は０．５質量％以下であることを確認し、具体的には０．３質量％であった。
【００６６】
セルロースアセテート粉体が膨潤した溶液を溶解タンクからポンプでジャケット付配管に送液した。次いで、ジャケット付配管で５０℃まで加熱し、更に２ＭＰａの加圧化で９０℃まで加熱し、完全溶解した。加熱時間は１５分であった。次に、３６℃まで温度を下げ、公称孔径８μｍの濾材を通過させドープを得た。この際、濾過１次圧は１．５ＭＰａ、２次圧は１．２ＭＰａとした。なお、高温にさらされるフィルター、ハウジング、及び配管はハステロイ合金製で耐食性の優れたものを利用し保温加熱用の熱媒を流通させるジャケットを有する物を使用した。
【００６７】
このようにして得られた濃縮前ドープを８０℃で常圧に調整されているフラッシュ装置内でフラッシュさせて、蒸発した溶剤を凝縮器で回収分離した。フラッシュ後のドープの固形分濃度は、２１．８質量％となった。なお、凝縮された溶剤は調製工程の溶剤として再利用すべく回収工程に回した。フラッシュ装置のフラッシュタンクには中心軸にアンカー翼を有するものを用いて、周速０．５ｍ／ｓｅｃで撹拌して脱泡を行った。タンク内のドープの温度は２５℃であり、タンク内の平均滞留時間は５０分であった。このドープを採集して２５℃で測定した剪断粘度は剪断速度１０（ｓｅｃ−１）で４５０（Ｐａ・ｓ）であった。
【００６８】
次に、このドープに弱い超音波照射することで泡抜きを行った。その後、１．５ＭＰａに加圧した状態で、最初に公称孔径１０μｍの焼結繊維金属フィルターを通過させ、ついで同じく１０μｍの焼結繊維フィルターを通過させた。それぞれの一次圧は、１．５ＭＰａ、１．２ＭＰａであり、二次圧は１．０ＭＰａ、０．８ＭＰａであった。濾過後のドープ温度を３６℃に調整して、２０００Ｌのステンレス製のストックタンク内に貯蔵した。ストックタンクは中心軸にアンカー翼を有するものを用いて、周速０．３ｍ／ｓｅｃで常時撹拌した。このストックタンク内のものをコア層用ドープとした。
【００６９】
（２）支持体層用ドープの調製
マット剤（二酸化ケイ素（粒径２０ｎｍ））と剥離促進剤（クエン酸エチルエステル（クエン酸、モノエチルエステル、ジエチルエステル、トリエチルエステル混合物））と、上記のように調製したコア層用ドープの一部を、静止型混合器を介して混合させて支持体層用ドープとした。添加量は、全固形分濃度が２０．５質量％、マット剤濃度が０．０５質量％、剥離促進剤濃度が０．０３質量％となるように行った。
【００７０】
（３）エア層用ドープの調製
マット剤（二酸化ケイ素（粒径２０ｎｍ））を静止型混合器を介して上記のように調製したコア層用ドープの一部に混合させて、エア層用ドープとした。添加量は、全固形分濃度が２０．５質量％、マット剤濃度が０．１質量％となるように行った。
【００７１】
（４）共流延による製膜
流延ダイとして、共流延用に調整したフィードブロックを装備して、主流のほかに両面にそれぞれ積層して３層構造のフィルムを成形できるようにした装置を用いた。ドープの送液流路は、コア層用、支持体層用、エア層用の３流路を用いた。
【００７２】
上記コア層用ドープ、支持体層用ドープ、及びエア層用ドープを流延口から−５℃に冷却したドラム上に共流延した。このとき、厚みの比がエア層／コア層／支持体層＝３／５４／３となるように各ドープの流量を調整した。流延したドラム上のドープ膜を、３４℃の乾燥風を２３０ｍ３／分で当てることにより乾燥させ、残留溶剤が１５０％の状態でドラムより剥離した。剥離の際、搬送方向（長手方向）に１７％の延伸を行った。その後、フィルムの幅方向（流延方向に対して直交する方向）の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で把持しながら搬送を行なった。さらに、熱処理装置のロール間を搬送することによりさらに乾燥し、支持体２４を作製した。作製したセルロースアシレートフィルムの残留溶剤量は０．２％であり、厚みは６０μｍであった。支持体は、ロール状に巻き取った。
【００７３】
（５）防眩層用塗布液の調製
下記の組成となるように各成分をＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）とＭＥＫ（メチルエチルケトン）との混合溶媒（８９対１１（質量比））と混合した。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液を調製した。各塗布液の固形分濃度は４０質量％である。なお、塗布液の調製に際して、樹脂粒子及びスメクタイトは後述する分散液の状態で添加した。
【００７４】
＜防眩層塗布液の組成＞
・スメクタイト（ルーセンタイトＳＴＮ、コープケミカル社製）    １．００質量％
・樹脂粒子（テクポリマーＳＳＸ、積水化成品工業社製）          ８．００質量％
・アクリレートモノマー（ＮＫエステルＡ９５５０、新中村化学工業社製）
８７．７９質量％
・重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）              ３．００質量％
・レベリング剤                                                ０．１５質量％
・分散剤（ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１６４、ビックケミー・ジャパン社製）
０．０６質量％
なお、レベリング剤は、下記の式Ｇ−１に示すものである。
【００７５】
【化７】
2015064415.tif 000009
【００７６】
（６）樹脂粒子分散液の調製
撹拌しているＭＩＢＫ溶液中に、透光性樹脂粒子（テクポリマーＳＳＸ、積水化成社製）を、分散液の固形分濃度が３０質量％になるまで徐々に加え３０分間撹拌して、透光性樹脂粒子の分散液とした。
【００７７】
（７）スメクタイト分散液の調製
最終的に防眩層用塗布液に使用される全てのＭＥＫを用い、ＭＥＫ中に撹拌しながらスメクタイト（ルーセンタイトＳＴＮ、コープケミカル社製）を徐々に加え、３０分間撹拌してスメクタイトの分散液とした。
【００７８】
（８）ロールから支持体（厚さ：６０μｍ）を引き出しながら、その支持体のエア層側の表面に、防眩層用塗布液を使用して膜厚４μｍとなるように防眩層を塗設した。具体的には、特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１に記載されたスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で各塗布液を塗布し、８０℃で１５０秒乾燥の後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１８０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させて防眩層を形成した後、巻き取り、防眩層付きの支持体２４を作製した。なお、支持体層側に防眩層を形成してもよい。
【００７９】
（９）アルカリ鹸化処理
防眩層付きの支持体を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、防眩層とは反対側の面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、＃６のワイヤーバーで連続的に塗布し、１１０℃に加熱し、ノリタケカンパニーリミテド社製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。続いて、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理した支持体２４を作製した。
【００８０】
＜アルカリ溶液の組成＞
・水酸化カリウム                                                ２．０質量部
・水                                                            ６．５質量部
・イソプロパノール                                            ８５．０質量部
・界面活性剤ＳＦ−１：Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ        ０．０３５質量部
・プロピレングリコール                                          ６．５質量部
【００８１】
（１０）反応膜の形成
アルカリ鹸化処理した支持体４のアルカリ鹸化処理を施した面に、下記の組成の反応膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥することによって、支持体２４に反応膜２５を形成し、フィルム１６とした。紫外線照射前の反応膜２５の膜厚は、０．４５μｍであった。フィルム１６をロール状に巻き取ってフィルムロール１８とした。
【００８２】
＜反応膜塗布液の組成＞
・配向膜用ポリマー材料（Ｈ−１）                              ２．４質量部
・光酸発生剤（Ａ−３）                                      ０．１７質量部
・ラジカル重合開始剤
（イルガキュア２９５９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．１８質量部
・メタノール                                              １６．５質量部
・ＩＰＡ（イソプロパノール）                                  ７．２質量部
・水                                                      ７３．５５質量部
なお、配向膜用ポリマー材料は、下記式Ｈ−１で示すものである。また、光酸発生剤は、上記式Ａ−３で示したものである。
【００８３】
【化８】
2015064415.tif 000010
【００８４】
（１１）紫外線照射
フィルムロール１８から引き出したフィルム１６を光照射装置１３に送り込み、マスク３２を用いてストライプ状の照射パターンで紫外線を照射した。マスク３２は、各スリット３２ａの搬送方向の長さが３０ｍｍ、スリット３２ａの幅及びスリット３２ａとスリット３２ａの間隔がいずれも３６３μｍであり、フィルム１６との間に０．３ｍｍの間隔をあけて配した。光源部３１としては、２００ｎｍ〜４００ｎｍの波長領域における照度が５００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ  Ｈａｍｍｅｒ  １０、２４０Ｗ／ｃｍ、Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）を用いた。紫外線照射時のフィルム１６の搬送速度は、１５ｍ／分であり、室温空気下（温度２５℃、湿度３０％）にて、紫外線を０．０６秒間照射し、積算照射量（積算光量）が３０ｍＪ／ｃｍ２となるように照射した。
【００８５】
（１２）ラビング
紫外線照射後のフィルム１６をラビング装置１２に送り反応膜２５の表面にラビングを行った。ラビングは、ラビングローラ１２ａの回転軸をフィルム１６の搬送方向に対して４５°の角度を保持し。このラビングローラ１２ａを５００ｒｐｍで一方向に回転させることで行った。
【００８６】
（１３）乾燥気体の吹き付け
上部にダクト２９が配された搬送路を通してラビング装置１２から液晶層形成装置１４に支持体２５を搬送した。ラビング装置１２から液晶層形成装置１４までの搬送距離は２０ｍであり、ダクト２９は、そのうちのラビング装置１２から１ｍ下流側の地点から１９ｍの地点（液晶層形成装置１４の手前１ｍ）まで配した。ダクト２９の下面と支持体２４の表面までの距離は０．５ｃｍとし、このダクト２９の下面から２０ｋＰａの圧力で乾燥気体を吹き付けた。
【００８７】
実施例１〜実施例２０では、エア供給部４１から供給する乾燥気体の温度と湿度を調整し、その乾燥気体をダクト２９から支持体２４の表面に向けて吹きつけた。これら実施例１〜実施例２０における乾燥気体の温度・湿度は下記の表１に示すとおりである。
【００８８】
液晶層形成装置１４では、下記の組成の液晶層用の塗布液３９を、＃３．２のワイヤーバーで反応膜２５の表面に塗布した。塗布後、加熱部３７において、膜面温度１１０℃で２分間加熱熟成してから、８０℃まで冷却し、硬化部３８において、空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて紫外線を２０秒間照射して、その配向状態を固定化して、液晶層２６を形成した。これにより、第１位相差領域２１が、ラビング方向に対してディスコティック液晶（遅相軸）が平行する方向に、第２位相差領域２２が、ラビング方向に対してディスコティック液晶（遅相軸）が直交する方向に配向され、第１，２位相差領域２１，２２のいずれでもディスコティック液晶が垂直配向したＦＰＲ１７を作製した。なお、液層層２６の膜厚は、１．１５μｍであった。
【００８９】
＜液晶層塗布液の組成＞
・ディスコティック液晶（Ｃ−２ａ）                              ８０質量部
・ディスコティック液晶（Ｃ−２ｂ）                              ２０質量部
・配向膜界面配向剤（Ｄ−２ａ）                                ０．９質量部
・配向膜界面配向剤（Ｄ−２ｂ）                              ０．０８質量部
・空気界面配向剤（Ｅ−２ａ）                                  ０．２質量部
・空気界面配向剤（Ｅ−２ｂ）                                  ０．６質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）            ３．０質量部
・多官能モノマー（エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパン
トリアクリレート（ビスコート３６０、大阪有機化学社製））    １０質量部
・メチルエチルケトン                                          ２６８質量部
なお、各ディスコティック液晶、各配向膜界面配向剤、各空気界面配向剤は、上記式Ｃ−２ａ，２ｂ〜Ｅ−２ａ，２ｂに示したものである。
【００９０】
［参考例１〜１０］
参考例１〜１０では、乾燥気体の温度・湿度が異なる他は、実施例１〜２０と同じ条件でＦＰＲ１７を作製した。参考例１〜１０では、乾燥気体の温度・湿度は、表１に示す通りである。
【００９１】
【表１】
2015064415.tif 000011
【００９２】
［評価］
上記のように作製された実施例１〜実施例２０、及び比較例１〜１０のＦＰＲ１７のそれぞれについて、偏光顕微鏡を用いて、各ＦＰＲ１７について、幅方向に同じ部分の５本の不完全領域２８の幅を測定し、その平均値に基づいて評価をおこなった。測定では、各位相差領域が消光位となるようにクロスニコルとした一対の偏光板の透過軸を調節した状態で、輝線として観察される不完全領域２８の幅を測定した。また、不完全領域２８は、幅方に連続して並ぶ５本を測定対象とした。このように測定された５本の不完全領域２８の幅の平均幅を表１に示す。さらに、表１では、不完全領域２８の幅の平均幅が１０μｍ未満のものには評価Ａを、１０μｍ以上２０μｍ未満のものには評価Ｂを，２０μｍ以上５０μｍ未満のものに評価Ｃを付してある。
【符号の説明】
【００９３】
１０，４０，５０  パターン化位相差フィルム製造設備
１２  ラビング装置
１３  光照射装置
１４  液晶層形成装置
１５  拡散防止装置
１６  フィルム
１７  ＦＰＲ
２１，２２  位相差領域
２５  反応膜
２８  不完全領域
【図１】
2015064415.tif 000012
【図２】
2015064415.tif 000013
【図３】
2015064415.tif 000014
【図４】
2015064415.tif 000015
【図５】
2015064415.tif 000016