(57)【要約】【課題】赤外線カットガラスにおいて、可視光透過率を十分高く保ちながら近赤外領域の透過率を低く抑える。【解決手段】２元同時スパッタにより、ガラス基板上にＷxＶ1-xＯ2ナノ粒子（ｘは０．００７〜０．０２８）が分散した膜を形成し、コーティングガラスとした。次に、コーティングガラスに熱処理を施した。すなわち、成膜後のガラス基板を加熱炉に入れ、温度６００℃、酸素圧６Ｐａで１時間熱処理し、熱処理済みコーティングガラスを得た。得られた熱処理済みコーティングガラスの波長と透過率との関係は、波長５００ｎｍでの透過率が５０％以上で、且つ、波長８００ｎｍから１５００ｎｍに向かって透過率が低下する傾向を示した。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
近赤外領域の透過率が低い赤外線カットガラスであって、
ガラス基板上にＭxＶ1-xＯ2ナノ粒子（ＭはＷ，Ｔｉ，Ｒｅ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ又はＭｇであり、ｘは０．００７〜０．０２８である）が分散した膜を有し、
前記赤外線カットガラスの波長と透過率との関係は、波長５００ｎｍでの透過率が５０％以上で、且つ、波長８００ｎｍから１５００ｎｍに向かって透過率が低下する傾向を示す、
赤外線カットガラス。
【請求項２】
前記膜は、前記ナノ粒子の一次粒子（平均粒径が５００ｎｍ以下）が分散しているか、前記ナノ粒子の一次粒子が凝集して二次粒子を形成してその二次粒子（平均粒径が５００ｎｍ以下）が分散しているか、又は、前記一次粒子及び前記二次粒子が混在しそれぞれが分散している、
請求項１に記載の赤外線カットガラス。
【請求項３】
ＭxＶ1-xＯ2 は、ＷxＶ1-xＯ2 である、
請求項１又は２に記載の赤外線カットガラス。
【請求項４】
（ａ）ガラス基板上に、ＶとＭ（ＭはＷ，Ｔｉ，Ｒｅ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ又はＭｇである）とを、酸素含有不活性ガス中で２元同時スパッタを行うことにより成膜する工程と、
（ｂ）成膜後の前記ガラス基板を、酸素圧２〜２０Ｐａ、温度６００〜７００℃でアニール処理する工程と、
を含む赤外線カットガラスの製法。
【請求項５】
前記工程（ａ）では、２元同時スパッタを行うにあたり、前記ガラス基板の法線に対してＶターゲットの軸線が一致するようにＶターゲットを配置すると共に、前記ガラス基板の法線に対してＭターゲットの軸線が角度θとなるようにＭターゲットを配置し、Ｖターゲットへの投入電力をＷv、Ｍターゲットへの投入電力をＷMとしたとき、ＷM’（＝ＷM・ｃｏｓθ）がＷVの５．１〜１０．３％となるようにＷVとＷMを設定する、
請求項４に記載の赤外線カットガラスの製法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、赤外線カットガラス及びその製法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、赤外線カットガラスとして、ガラス板上にＷxＶ1-xＯ2の膜を形成したものが知られている（特許文献１，２参照）。特許文献１では、赤外線カットガラスを、ＷxＶ1-xＯ2の超微粒子粉末に重クロム酸塩とポリビニルアルコールを加えた混合液をバーコーターによりガラス板上に成膜し、紫外線照射して膜を不溶化させることにより、製造している。ここでは、ＷxＶ1-xＯ2の超微粒子粉末は、ＶＯ2粉末とＷＯ3粉末との混合粉を加圧成形したあと溶融し、その後ビーズミルで粉砕することにより製造している。また、特許文献２では、赤外線カットガラスを、バナジウムターゲットとタングステンターゲットを酸素を含むアルゴンガス中にて基板温度４００℃、全圧１．５Ｐａで２元同時スパッタを行うことでガラス基板上にＷ0.014Ｖ0.986Ｏ2の膜を形成することにより、製造している。このときのＲＦ電力は、バナジウムターゲットに２００Ｗ、タングステンターゲットに４Ｗ印加している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−２３３９２９号公報
【特許文献２】特開平７−３３１４３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１の赤外線カットガラスは、使用するＷxＶ1-xＯ2の超微粒子粉末を溶融後に粉砕して製造しているため、粒子の凝集を避けることができないという問題があった。実際、特許文献１の図４にはビーズミル粉砕粉のＴＥＭ像が示されているが、微粒子が凝集して粒径が５００ｎｍを超える二次粒子になっている。このため、特許文献１の赤外線カットガラスは、可視光透過率が低くなりすぎると予測される。一方、特許文献２の赤外線カットガラスは、透過率スペクトルを見ると（特許文献２の図２）、可視光透過率が４０％程度しかなく、十分な透明度が得られていない。
【０００５】
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、赤外線カットガラスにおいて、可視光透過率を十分高く保ちながら近赤外領域の透過率を低く抑えることを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（ａ）ガラス基板上に、ＶとＭ（ＭはＷ，Ｔｉ，Ｒｅ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ又はＭｇである）とを、酸素含有不活性ガス中で２元同時スパッタを行うことにより成膜する工程と、
上述した目的を達成するために、本発明者は、バナジウムターゲットとタングステンターゲットを酸素を含むアルゴンガス中にて２元同時スパッタを行うことでガラス基板上にＷxＶ1-xＯ2の膜を作製し、成膜後のガラス基板を適切な酸素圧及び温度で熱処理したところ、可視光透過率が十分高く近赤外領域の透過率が低い赤外線カットガラスが得られることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００７】
即ち、本発明の赤外線カットガラスは、
近赤外領域の透過率が低い赤外線カットガラスであって、
ガラス基板上にＭxＶ1-xＯ2ナノ粒子（ＭはＷ，Ｔｉ，Ｒｅ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ又はＭｇであり、ｘは０．００７〜０．０２８である）が分散した膜を有し、
前記赤外線カットガラスの波長と透過率との関係は、波長５００ｎｍでの透過率が５０％以上で、且つ、波長８００ｎｍから１５００ｎｍに向かって透過率が低下する傾向を示すものである。
【０００８】
本発明の赤外線カットガラスの製法は、
（ａ）ガラス基板上に、ＶとＭ（ＭはＷ，Ｔｉ，Ｒｅ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ又はＭｇである）とを、酸素含有不活性ガス中で２元同時スパッタを行うことにより成膜する工程と、
（ｂ）成膜後の前記ガラス基板を、酸素圧２〜２０Ｐａ、温度６００〜７００℃でアニール処理する工程と、
を含むものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の赤外線カットガラスは、可視光透過率が十分高く、それに比べて近赤外領域の透過率が低いものである。このような性質が得られる理由は定かではないが、以下のように考えられる。すなわち、ナノ粒子化されたＭxＶ1-xＯ2は、プラズモン共鳴によって近赤外領域に吸収を持つようになり、近赤外領域の透過率が低下したと考えられる。また、ガラス基板上にナノ粒子化されたＭxＶ1-xＯ2が分散した状態で付着することにより、平坦な膜に比べて、可視光の透過率が向上したと考えられる。本発明の赤外線カットガラスによれば、可視光透過率が高いためガラスを通じて物を見たときの視認性がよく、近赤外領域の透過率が低いためガラスから室内に入る赤外線によって室温が上昇するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】２元同時スパッタの装置構成の概略説明図。
【図２】実験例１のＳＥＭ像の写真。
【図３】実験例２のＳＥＭ像の写真。
【図４】実験例３のＳＥＭ像の写真。
【図５】実験例４のＳＥＭ像の写真。
【図６】実験例５のＳＥＭ像の写真。
【図７】実験例１〜５の波長と透過率との関係を表すグラフ。
【図８】図７の縦軸を拡大したグラフ。
【図９】実験例６のＳＥＭ像の写真。
【図１０】実験例６の波長と透過率との関係を表すグラフ。
【図１１】実験例７のＳＥＭ像の写真。
【図１２】実験例８のＳＥＭ像の写真。
【図１３】実験例９のＳＥＭ像の写真。
【図１４】実験例２，７〜９の波長と透過率との関係を表すグラフ。
【図１５】図１４の縦軸を拡大したグラフ。
【図１６】実験例１０のＳＥＭ像の写真。
【図１７】実験例１１のＳＥＭ像の写真。
【図１８】実験例１２のＳＥＭ像の写真。
【図１９】実験例１３のＳＥＭ像の写真。
【図２０】実験例１４のＳＥＭ像の写真。
【図２１】実験例１０〜１４の波長と透過率との関係を表すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の赤外線カットガラスは、ガラス基板上にＭxＶ1-xＯ2ナノ粒子（ＭはＷ，Ｔｉ，Ｒｅ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ又はＭｇであり、ｘは０．００７〜０．０２８である）が分散した膜を有する。
【００１２】
近赤外領域のプラズモン吸収は、ＶＯ2ナノ粒子の金属状態を利用することで発現している。ノンドープのＶＯ2 は転移温度（約７０℃）以上で金属状態、転移温度未満で絶縁体になる。ＷをドープしたＶＯ2 の転移温度はＶＯ2の転移温度に比べて低下する。今回、室温でプラズモン吸収を発現させるため、実施例の欄に示すようにＷドープのＶＯ2ナノ粒子を作製した。ＶＯ2の転移温度を低下させるドーピング元素としては、Ｗ以外にも発見されており、例えば、Ｔｉ，Ｒｅ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ（J. Solid State Chem., 3, 490-500(1971)の４９５頁の表Ｉ（Table I）でｄＴ／ｄｘが負の値になっている材料）やＭｇ（App. Phys. Lett., 95, 171909(2009)）などが知られている。こうしたことから、本発明の赤外線カットガラスにおいて、ＭとしてＷの代わりに、Ｔｉ，Ｒｅ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｍｇなどが使用可能であることがわかる。
【００１３】
ｘの値は０．００７〜０．０２８である。ｘの値が０．００７未満や０．０２８を超える場合には、波長領域２００ｎｍ〜２５００ｎｍにおける赤外線カットガラスの波長と透過率との関係をみたとき、波長８００ｎｍから１５００ｎｍに向かって透過率が低下せず一定であるか上昇する傾向を示す。
【００１４】
本発明の赤外線カットガラスの波長と透過率との関係は、波長５００ｎｍでの透過率が５０％以上で、且つ、波長８００ｎｍから１５００ｎｍに向かって透過率が低下する傾向を示すものである。波長５００ｎｍでの透過率が５０％以上であるため、可視光領域（４００ｎｍ〜８００ｎｍ）の透過率が比較的高くなる。また、波長８００ｎｍから１５００ｎｍに向かって透過率が低下する傾向を示すため、近赤外領域の透過率が低くなる。ここで、「波長８００ｎｍから１５００ｎｍに向かって透過率が低下する傾向を示す」とは、波長８００ｎｍから１５００ｎｍにおける瞬間的な変動（ノイズやピークなど）を除いたあとの全体の形状をみたときに波長８００ｎｍから１５００ｎｍに向かって透過率が低下していることを意味する。
【００１５】
本発明の赤外線カットガラスにおいて、前記膜は、前記ナノ粒子の一次粒子（平均粒径が５００ｎｍ以下）が分散していてもよいし、前記ナノ粒子の一次粒子が凝集して二次粒子を形成してその二次粒子（平均粒径が５００ｎｍ以下）が分散していてもよいし、こうした一次粒子や二次粒子が混在しそれぞれが分散していてもよい。こうすれば、プラズモン吸収による近赤外領域での透過率低下を実現しやすい。また、波長５００ｎｍでの透過率を５０％以上に維持しやすい。なお、「分散している」とは、粒子同士が５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上、より好ましくは５０ｎｍ以上離れていることをいう。
【００１６】
本発明の赤外線カットガラスの製法は、上述した工程（ａ）と工程（ｂ）とを含むものである。
【００１７】
工程（ａ）では、ガラス基板上に、ＶとＭ（ＭはＷ，Ｔｉ，Ｒｅ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ又はＭｇである）とを、酸素含有不活性ガス中で２元同時スパッタを行うことにより成膜する。２元同時スパッタで用いる不活性ガスとしては、Ｈｅガス、Ｎｅガス、Ａｒガス、Ｘｅガス、Ｎ2ガスなどが挙げられるが、このうちＡｒガスが好ましい。２元同時スパッタの条件は、後述するアニール処理後のガラス基板上の膜がＭxＶ1-xＯ2ナノ粒子が分散した状態になり、且つ、ｘの値が０．００７〜０．０２８となるように、設定する。２元同時スパッタの条件としては、Ｖターゲットへの投入電力、Ｍターゲットへの投入電力、成膜時間などが挙げられる。２元同時スパッタでは、例えば、図１に示すように、基板ホルダに保持されたガラス基板の法線に対してＶターゲットの軸線が一致するようにＶターゲットを配置し、ガラス基板の法線に対してＭターゲットの軸線が角度θとなるようにＭターゲットを配置してもよい。この場合、Ｍターゲットへの投入電力をＷMとすると、ガラス基板の法線に一致する方向に配置した場合のターゲットへの投入電力ＷM’はＷM’＝ＷM・ｃｏｓθとなる。図１のようにＭターゲットを配置することにより、ｘの値を上述の数値範囲のように僅かにドープする場合でも、投入電力ＷMを比較的大きく設定することができるため、プラズマが安定し、ドープ量も安定する。例えばθ＝７０°の場合、ｘの値を上述の数値範囲にするためには、Ｍターゲットへの投入電力ＷMをＶターゲットへの投入電力ＷVの１５〜３０％に設定すればよい。このとき、投入電力ＷM’は投入電力ＷVの５．１〜１０．３％となる。
【００１８】
工程（ｂ）では、成膜後の前記ガラス基板を、酸素圧２〜２０Ｐａ、温度６００〜７００℃でアニール処理する。酸素圧が２Ｐａ未満の場合や温度が６００℃未満の場合には、波長５００ｎｍ（可視光）での透過率が５０％未満になるため、好ましくない。また、酸素圧が２０Ｐａを超える場合や温度が７００℃を超える場合には、赤外線カットガラスの近赤外線の吸収が低下し、近赤外線の透過率が上昇するため、好ましくない。このようなアニール処理を施すことにより、ガラス基板上の膜はＭxＶ1-xＯ2ナノ粒子が分散した状態になる。
【００１９】
本発明の赤外線カットガラスは、例えば、自動車用やオフィスビル用、住宅用の窓ガラスなどに使用可能である。
【００２０】
なお、本発明は上述した実施形態に何ら限定されることはなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の態様で実施し得ることはいうまでもない。
【実施例】
【００２１】
［実験例１〜５］
（熱処理済みコーティングガラスの作製）
（ａ）図１に示す装置構成を採用した２元同時スパッタ（θ＝７０°）により、ガラス基板上にＷxＶ1-xＯ2ナノ粒子が分散した膜を形成し、コーティングガラスとした。具体的な手順を以下に示す。ＲＦマグネトロンスパッタ成膜装置に、バナジウムターゲットとタングステンターゲットを、それぞれガラス基板との距離が１２０ｍｍになるように設置した。そして、バナジウムターゲットへの投入電力ＷVが１００Ｗ、タングステンターゲットへの投入電力ＷMが１０〜４０Ｗ（上述のＷM’に換算すると３．４〜１３．７Ｗ)となるように制御して、２元同時スパッタにより、ガラス基板上にＷxＶ1-xＯ2ナノ粒子が分散した膜を形成した。スパッタガスとしては、アルゴンと酸素との混合ガス（酸素０．５体積％）を使用し、スパッタガス圧を５ｍＴｏｒｒとした。成膜時間は２分とした。各実験例の２元同時スパッタの条件を表１に示す。
【００２２】
（ｂ）次に、コーティングガラスに熱処理を施した。具体的には、工程（ａ）で得たコーティングガラスを加熱炉に入れ、温度６００℃、酸素圧６Ｐａで１時間熱処理し、熱処理済みコーティングガラスを得た。各実験例の熱処理の条件を表１に示す。
【００２３】
【表１】
2015137184.tif 000002
【００２４】
（評価）
実験例１〜５の熱処理済みコーティングガラスのそれぞれについて、ガラス基板上のＷxＶ1-xＯ2 のＳＥＭ像を撮影すると共に波長２００〜２５００ｎｍにおける波長と透過率との関係を測定した。図２〜６は実験例１〜５のＳＥＭ像の写真である。図７は実験例１〜５の波長２００〜２５００ｎｍにおける波長と透過率との関係を表すグラフ、図８は図７の縦軸を拡大したグラフである。
【００２５】
図２〜６のスケールは、右下のフルスケールで５００ｎｍ、ひと目盛りが５０ｎｍである。図２〜６から明らかなように、実験例１〜５のＷxＶ1-xＯ2ナノ粒子（ｘ＝０．００４〜０．０４５）は、いずれも概ね独立した一次粒子として存在しており、一部、一次粒子が数個繋がって二次粒子を形成していたが、一次粒子、二次粒子とも分散していた。粒子サイズは、一次粒子も二次粒子も５００ｎｍ以下であった。なお、表１には、一次粒子の平均粒径を示した。平均粒径は、以下のようにして求めた。すなわち、ＳＥＭ像の写真に含まれる各粒子の面積を算出したあと粒子１つあたりの平均面積を算出し、その平均面積を持つ円の直径を算出し、その値を平均粒径とした。
【００２６】
図７及び図８から、実験例１〜５の熱処理済みコーティングガラスは、いずれも波長５００ｎｍ（可視光）の透過率が５０％以上であった。可視光の透過率は、ナノ粒子を分散したことにより平坦な膜（ナノ粒子が隙間なく付着した膜）に比べて向上したと考えられる。また、実験例２〜４（ｘ＝０．００７〜０．０２８、ＷM’＝５．１〜１０．３Ｗ）の熱処理済みコーティングガラスでは、波長８００ｎｍから１５００ｎｍに向かって透過率が低下する傾向が見られたが、実験例１（ｘ＝０．００４）と実験例５（ｘ＝０．０４５）の熱処理済みコーティングガラスでは、そうした傾向は見られなかった。また、実験例１〜５の熱処理済みコーティングガラスは、波長４００ｎｍ以下の紫外光を吸収した。これは、ＷxＶ1-xＯ2ナノ粒子の酸素２ｐ軌道からＶ３ｄ軌道へのバンド間遷移によるものである。このように紫外光を吸収することによって、紫外線による皮膚へのダメージを低減させることができる。以上のことから、実験例１，５は評価を不良と判定し、実験例２〜４は評価を良好と判定した。なお、実験例１，５が比較例に相当し、実験例２〜４が実施例に相当する。
【００２７】
［実験例６］
実験例６では、表２に示すように、成膜時間を１０分にした以外は、実験例２と同様にして熱処理済みコーティングガラスを作製した。実験例６についても、ガラス基板上のＷxＶ1-xＯ2 のＳＥＭ像を撮影すると共に波長２００〜２５００ｎｍにおける波長と透過率との関係を測定した。図９は実験例６のＳＥＭ像の写真、図１０は実験例６の波長２００〜２５００ｎｍにおける波長と透過率との関係を表すグラフである。図９から、実験例６の熱処理済みコーティングガラスは、ＷxＶ1-xＯ2 粒子がガラス基板の表面に隙間なくぎっしりと凝集していた。凝集した二次粒子の粒径は５００ｎｍを超えていた。また、波長５００ｎｍ（可視光）の透過率は２０％以下ときわめて低く、透明性が損なわれていた。以上のことから、実験例６は評価を不良と判定した。なお、実験例６は比較例に相当する。
【００２８】
【表２】
2015137184.tif 000003
【００２９】
［実験例７〜９］
実験例７〜９では、表３に示すように、工程（ｂ）の熱処理温度を変更した以外は、実験例２と同様にして熱処理済みコーティングガラスを作製した。熱処理温度は、実験例７では５００℃、実験例８では７００℃、実験例９では８００℃に設定した。なお、表３には、実験例２（熱処理温度６００℃）も併せて示した。
【００３０】
【表３】
2015137184.tif 000004
【００３１】
実験例７〜９について、ガラス基板上のＷxＶ1-xＯ2 のＳＥＭ像を撮影すると共に波長２００〜２５００ｎｍにおける波長と透過率との関係を測定した。図１１〜１３は実験例７〜９のＳＥＭ像の写真、図１４は実験例２，７〜９の波長２００〜２５００ｎｍにおける波長と透過率との関係を表すグラフ、図１５は図１４の縦軸を拡大したグラフである。
【００３２】
図１１に示した実験例７（熱処理温度５００℃）の熱処理済みコーティングガラスは、ＷxＶ1-xＯ2粒子がガラス基板の表面にほぼ隙間なくぎっしりと凝集していた。凝集した二次粒子の粒径は５００ｎｍを超えていた。図３に示した実験例２（熱処理温度６００℃）の熱処理済みコーティングガラスは、ＷxＶ1-xＯ2ナノ粒子がいずれも概ね独立した一次粒子として存在しており、一部、一次粒子が数個繋がって二次粒子を形成していたが、一次粒子、二次粒子とも分散していた。粒子サイズは、一次粒子も二次粒子も５００ｎｍ以下であった。図１２に示した実験例８（熱処理温度７００℃）の熱処理済みコーティングガラスは、白色円形部分がナノ粒子であるが、平均粒径５００ｎｍ以下の一次粒子が分散していた。図１３に示した実験例９（熱処理温度が８００℃）の熱処理済みコーティングガラスは、粒子の形成が見られなかった。この実験例９では、ガラス基板からナノ粒子が飛散したと考えられる。なお、表３には、一次粒子の平均粒径を示した。
【００３３】
図１４及び図１５から、実験例７（熱処理温度５００℃）の熱処理済みコーティングガラスは、波長５００ｎｍ（可視光）の透過率が５０％未満であった。また、実験例９（熱処理温度８００℃）の熱処理済みコーティングガラスでは、波長８００ｎｍから１５００ｎｍに向かって透過率が低下する傾向は見られなかった。これに対して、実験例２，８（熱処理温度６００〜７００℃）の熱処理済みコーティングガラスでは、波長５００ｎｍ（可視光）の透過率が５０％以上で、且つ、波長８００ｎｍから１５００ｎｍに向かって透過率が低下する傾向が見られた。また、実験例７〜９の熱処理済みコーティングガラスは、波長４００ｎｍ以下の紫外光を吸収した。これにより、紫外線による皮膚へのダメージを低減させることができる。以上のことから、実験例７，９は評価を不良と判定し、実験例８は評価を良好と判定した。なお、実験例７，９が比較例に相当し、実験例８が実施例に相当する。
【００３４】
［実験例１０〜１４］
実験例１０〜１４では、表４に示すように、工程（ｂ）の酸素圧を変更した以外は、実験例２と同様にして熱処理済みコーティングガラスを作製した。酸素圧は、実験例１０では０．２Ｐａ、実験例１１では２Ｐａ、実験例１２では３Ｐａ、実験例１３では１６Ｐａ、実験例１４では２０Ｐａに設定した。なお、表４には、実験例２（酸素圧６Ｐａ）も併せて示した。
【００３５】
【表４】
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【００３６】
実験例１０〜１４について、ガラス基板上のＷxＶ1-xＯ2 のＳＥＭ像を撮影すると共に波長２００〜２５００ｎｍにおける波長と透過率との関係を測定した。図１６〜２０は実験例１０〜１４のＳＥＭ像の写真、図２１は実験例１０〜１４の波長２００〜２５００ｎｍにおける波長と透過率との関係を表すグラフである。
【００３７】
図１６〜２０から明らかなように、実験例１０（酸素圧０．２Ｐａ）の熱処理済みコーティングガラスは、ＷxＶ1-xＯ2粒子がガラス基板の表面にほぼ隙間なくぎっしりと凝集していた。凝集した二次粒子の粒径は５００ｎｍを超えていた。実験例１１〜１４（酸素圧２〜２０Ｐａ）の熱処理済みコーティングガラスでは、ＷxＶ1-xＯ2ナノ粒子がいずれも概ね独立した一次粒子として存在しており、一部、一次粒子が数個繋がって二次粒子を形成していたが、一次粒子、二次粒子とも分散していた。粒子サイズは、一次粒子も二次粒子も５００ｎｍ以下であった。なお、表４には、一次粒子の平均粒径を示した。
【００３８】
図２１から、実験例１０（酸素圧０．２Ｐａ）の熱処理済みコーティングガラスは、波長５００ｎｍ（可視光）の透過率が５０％未満であった。また、実験例１４（酸素圧２０Ｐａ）の熱処理済みコーティングガラスでは、波長８００ｎｍから１５００ｎｍに向かって透過率が低下する傾向は見られなかった。これに対して、実験例１１〜１３（酸素圧２〜１６Ｐａ）の熱処理済みコーティングガラスは、波長５００ｎｍ（可視光）の透過率が５０％以上で、且つ、波長８００ｎｍから１５００ｎｍに向かって透過率が低下する傾向が見られた。また、実験例１０〜１４の熱処理済みコーティングガラスは、波長４００ｎｍ以下の紫外光を吸収した。これにより、紫外線による皮膚へのダメージを低減させることができる。以上のことから、実験例１０，１４は評価を不良と判定し、実験例１１〜１３は評価を良好と判定した。なお、実験例１０，１４が比較例に相当し、実験例１１〜１３が実施例に相当する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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