(57)【要約】【課題】研磨パッドからのガラス基板の取り出しを容易に行えるとともに、記録特性の低下を招く恐れの少ない情報記録媒体用ガラス基板を提供することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びガラス基板取出治具を提供する。【解決手段】ガラス基板取出治具を開いた状態で、最外点ＥＰ１，ＥＰ２を結ぶ線分上に、第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂ上の任意の点がほぼ位置するようになるため、研磨パッドＰＤ１ａの表面ＰＤ１ｂに対する応力は略均一となり、第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂが摺動することにより表面ＰＤ１ｂ上に与える損傷を極力回避し、キズなどの発生を抑制できる。【選択図】図９
2015064917.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心に孔を有するガラス基板の表面を、研磨パッドを用いて研磨する研磨工程を有する、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨工程は、
前記ガラス基板を前記研磨パッドに接触させる工程と、
前記研磨パッドにより、前記ガラス基板の表面を研磨する工程と、
前記研磨パッドから研磨後の前記ガラス基板を、ガラス基板取出治具を用いて取り外す工程と、を有し、
前記ガラス基板取出治具は、
連結軸を中心として回動可能に連結され、閉じた位置と開いた位置との間で開閉可能に可動する第１柄部および第２柄部と、
前記第１柄部の一方の先端側に設けられ、外側に向けて張り出す第１張り出し部と、前記ガラス基板の取り出し時に前記研磨パッドに対向する第１底面とを有する第１保持部と、
前記第２柄部の一方の先端側に設けられ、前記第１張り出し部とは反対方向の外側に向けて張り出す第２張り出し部と、前記ガラス基板の取り出し時に前記研磨パッドに対向する第２底面とを有する第２保持部と、を有し、
前記連結軸の軸線に直交する断面において、前記第１柄部と前記第２柄部とを前記閉じた位置に移動させた状態で、前記第１底面と前記第２底面のうち最も外側に張り出した最外点同士を結ぶ線分に対して、前記最外点よりも内側に位置する前記第１底面と前記第２底面上の任意の点が前記連結軸側に位置するようになっており、
前記研磨パッドから前記ガラス基板を、前記ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程においては、
前記第１柄部と前記第２柄部とを閉じた状態で、前記第１底面と前記第２底面とを前記研磨パッド側に向け、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部を前記ガラス基板の前記孔の表面側から裏面側に向けて挿通した後、前記第１柄部と前記第２柄部とを開いた状態にすることによって、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部の一部を、前記ガラス基板と前記研磨パッドとの間に進入させ、且つ前記ガラス基板の裏面側と前記孔の内周端面とが交差する環状角部に当接させ、この開いた状態を維持しつつ、前記ガラス基板を前記ガラス基板取出治具を用いて前記研磨パッドから引き剥がす工程を含むことを特徴とする、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記第１底面と前記第２底面とは、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部の一部が、前記環状角部に当接した状態で、前記研磨パッドと略平行となることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記第１張り出し部および前記第２張り出し部は、前記環状角部に当接した面が曲面であることを特徴とする請求項１又は２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記第１底面および前記第２底面は平滑な平面又は曲面であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記環状角部と、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部とは線接触により接していることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記環状角部と、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部とは点接触により接していることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
前記第１張り出し部および前記第２張り出し部には、前記ガラス基板の半径方向外方に向けて洗浄液を噴出する洗浄液噴出口がさらに設けられ、
前記研磨パッドから研磨後の前記ガラス基板を、前記ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程においては、前記洗浄液噴出口から洗浄液を噴出して、前記孔の前記内周端面を洗浄する工程を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記孔の前記内周端面を洗浄する工程は、前記洗浄液に超音波を印加して前記内周端面の洗浄を行なうことを特徴とする請求項７に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかの情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に用いられるガラス基板取出治具であって、
連結軸を中心として回動可能に連結され、閉じた位置と開いた位置との間で開閉可能に可動する第１柄部および第２柄部と、
前記第１柄部の一方の先端側に設けられ、外側に向けて張り出す第１張り出し部と、前記ガラス基板の取り出し時に前記研磨パッドに対向する第１底面とを有する第１保持部と、
前記第２柄部の一方の先端側に設けられ、前記第１張り出し部とは反対方向の外側に向けて張り出す第２張り出し部と、前記ガラス基板の取り出し時に前記研磨パッドに対向する第２底面とを有する第２保持部と、を有し、
前記連結軸の軸線に直交する断面において、前記第１柄部と前記第２柄部とを前記閉じた位置に移動させた状態で、前記第１底面と前記第２底面のうち最も外側に張り出した最外点同士を結ぶ線分に対して、前記最外点よりも内側に位置する前記第１底面と前記第２底面上の任意の点が前記連結軸側に位置するようになっていることを特徴とするガラス基板取出治具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びガラス基板取出治具に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータなどに用いられる情報記録媒体（磁気ディスク記録媒体）には、従来からアルミニウム基板またはガラス基板が用いられている。これらの基板上に磁気薄膜層が形成され、磁気薄膜層を磁気ヘッドで磁化することにより、磁気薄膜層に情報が記録される。
【０００３】
近年、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）装置においては、記録密度が増々高密度化されてきている。記録密度の高密度化により、情報記録媒体（メディア）と情報記録媒体上を浮上しながら記録の読み書きを行なうヘッドとのギャップ（フライングハイト）は数ｎｍ程度にまで狭小化している。
【０００４】
フライングハイトが小さくなるにつれて、情報記録媒体をハードディスクドライブ装置に用いた場合の、媒体に記録されたデータにアクセスする際のリード／ライトエラー、磁気ヘッドが媒体表面に衝突するヘッドクラッシュなどの問題が発生しやすくなっている。これらの問題を抑制するために、情報記録媒体として許容される基板表面の欠陥の大きさもより小さくなる為、情報記録媒体用ガラス基板としても、より表面平滑性の高さが追及されており、ガラス基板表面に付着する異物や、ガラス基板表面のうねりを抑制する為、製造方法に様々な工夫がなされてきた。
【０００５】
一方、近年では、ＨＤＤの記憶容量は更に向上され、現在では２．５インチの記録媒体１枚で、記録容量が５００ＧＢ（片面２５０ＧＢ）、面記録密度が６３０Ｇｂｉｔ／平方インチ以上の記録密度を有するものが開発されている。
【０００６】
情報記録媒体用ガラス基板の製造工程においては、両面研磨装置を用いて、ガラス基板の表面を研磨する工程が採用されている。たとえば特許文献１には、研磨後のガラス基板を、下側定盤上に載置された下側研磨パッドから回収するための特殊な構造を有する治具が用いられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−２３８２９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、研磨後のガラス基板を下側定盤上の下側研磨パッドから取り出す際に、ガラス基板が下側研磨パッドに強固に吸着している場合がある。下側研磨パッドによるガラス基板を吸着する吸着力が大きいと、下側研磨パッドからガラス基板を取り出す際に大きな力が必要となる。
【０００９】
その際、上記特許文献１においては、ガラス基板の孔に治具を挿入後、治具を半径方向外方に拡径して、孔の内周端面との平面的な摩擦力に基づきガラス基板を保持して、下側研磨パッドからガラス基板を取り出す方法が採用されている。
【００１０】
しかし、孔の内周端面に治具が強固に面状に押し付けられると、研磨後のスラリー等が孔の内周端面に押し付けられて内周端面に強固に付着することになる。その結果、内周端面においては、スラリー等の付着形態が、他のガラス基板の領域に比べて強固な付着形態に変化し、後の洗浄工程では完全に除去できないおそれがある。このように、スラリー等の汚れが付着したままのガラス基板を情報記録媒体（磁気ディスク）化した後には、内周端部の付着物の面内への回り込み等による記録特性の低下を招くことになる。
【００１１】
これに対し、ガラス基板取出治具の開閉する一対の柄部を、閉じた状態でガラス基板の孔内に差し入れた後、開く際に、ガラス基板の裏面側と孔の内周端面とが交差する環状角部に当接させることで、孔の内周端面に治具が強固に面状に押し付けられることを回避する試みがある。しかしながら、本発明者の検討結果によれば、柄部を開く際に、研磨パッドに対して柄部の底面が強く当接した後摺動し、研磨パッドの表面に微小なキズが生ずる恐れがあることがわかった。使用した研磨パッド自体は別のロットのガラス基板の研磨において再利用されるのであるが、研磨のたびに、このような治具を用いてガラス基板を取り外す工程が行われると、使用回数が増えるにつれて研磨パッドのキズが増加してゆくこととなる。このようにキズが増大した研磨パッドで研磨を行うと、ガラス基板の表面に無視できない程度の微小なうねりが生じ、記録特性の低下を招く恐れがある。
【００１２】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、研磨パッドからのガラス基板の取り出しを容易に行えるとともに、記録特性の低下を招く恐れの少ない情報記録媒体用ガラス基板を提供することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びガラス基板取出治具を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、中心に孔を有するガラス基板の表面を、研磨パッドを用いて研磨する研磨工程を有する、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨工程は、
前記ガラス基板を前記研磨パッドに接触させる工程と、
前記研磨パッドにより、前記ガラス基板の表面を研磨する工程と、
前記研磨パッドから研磨後の前記ガラス基板を、ガラス基板取出治具を用いて取り外す工程と、を有し、
前記ガラス基板取出治具は、
連結軸を中心として回動可能に連結され、閉じた位置と開いた位置との間で開閉可能に可動する第１柄部および第２柄部と、
前記第１柄部の一方の先端側に設けられ、外側に向けて張り出す第１張り出し部と、前記ガラス基板の取り出し時に前記研磨パッドに対向する第１底面とを有する第１保持部と、
前記第２柄部の一方の先端側に設けられ、前記第１張り出し部とは反対方向の外側に向けて張り出す第２張り出し部と、前記ガラス基板の取り出し時に前記研磨パッドに対向する第２底面とを有する第２保持部と、を有し、
前記連結軸の軸線に直交する断面において、前記第１柄部と前記第２柄部とを前記閉じた位置に移動させた状態で、前記第１底面と前記第２底面のうち最も外側に張り出した最外点同士を結ぶ線分に対して、前記最外点よりも内側に位置する前記第１底面と前記第２底面上の任意の点が前記連結軸側に位置するようになっており、
前記研磨パッドから前記ガラス基板を、前記ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程においては、
前記第１柄部と前記第２柄部とを閉じた状態で、前記第１底面と前記第２底面とを前記研磨パッド側に向け、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部を前記ガラス基板の前記孔の表面側から裏面側に向けて挿通した後、前記第１柄部と前記第２柄部とを開いた状態にすることによって、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部の一部を、前記ガラス基板と前記研磨パッドとの間に進入させ、且つ前記ガラス基板の裏面側と前記孔の内周端面とが交差する環状角部に当接させ、この開いた状態を維持しつつ、前記ガラス基板を前記ガラス基板取出治具を用いて前記研磨パッドから引き剥がす工程を含むことを特徴とする。
【００１４】
本発明によれば、前記連結軸の軸線に直交する断面において、前記第１柄部と前記第２柄部とを前記閉じた位置に移動させた状態で、前記第１底面と前記第２底面のうち最も外側に張り出した最外点同士を結ぶ線分に対して、前記最外点よりも内側に位置する前記第１底面と前記第２底面上の任意の点が前記連結軸側に位置するようになっているので、前記研磨パッドとの取り外し時に、前記第１柄部と前記第２柄部とを閉じた状態で、前記第１底面と前記第２底面とを前記研磨パッド側に向け、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部を前記ガラス基板の前記孔の表面側から裏面側に向けて挿通した後、前記第１柄部と前記第２柄部とを開いた状態にした際に、前記第１底面と前記第２底面とが前記研磨パッドに強く当接することが回避され、前記研磨パッドにキズが生じることを抑制できる。
【００１５】
更に、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部の一部を、前記ガラス基板と前記研磨パッドとの間に進入させ、且つ前記ガラス基板の裏面側と前記孔の内周端面とが交差する環状角部に当接させ、この開いた状態を維持しつつ、前記ガラス基板を前記ガラス基板取出治具を用いて前記研磨パッドから引き剥がすことにより、前記ガラス基板の孔の内周端面に前記ガラス基板取出治具が強固に面状に押し付けられることを回避することができる。
【００１６】
請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、請求項１に記載の発明において、前記第１底面と前記第２底面とは、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部の一部が、前記環状角部に当接した状態で、前記研磨パッドと略平行となることを特徴とする。
【００１７】
これにより、前記第１底面と前記第２底面とが前記研磨パッドに強く当接することがより一層回避され、前記研磨パッドにキズが生じることを抑制できる。尚、略平行とは±１０°以内を含む。
【００１８】
請求項３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、請求項１又は２に記載の発明において、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部は、前記環状角部に当接した面が曲面であることを特徴とする。
【００１９】
これにより、前記環状角部と前記第１張り出し部および前記第２張り出し部との当接時の応力を低減できる。
【００２０】
請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、請求項１〜３のいずれかに記載の発明において、前記第１底面および前記第２底面は平滑な平面又は曲面であることを特徴とする。
【００２１】
これにより、前記第１底面と前記第２底面とが前記研磨パッドに対して強く摺動することがより一層回避され、前記研磨パッドにキズが生じることを抑制できる。
【００２２】
請求項５に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、請求項１〜４のいずれかに記載の発明において、前記環状角部と、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部とは線接触により接していることを特徴とする。
【００２３】
これにより、前記ガラス基板の孔と前記ガラス基板取出治具との当接面積を抑えながらも、前記環状角部と前記第１張り出し部および前記第２張り出し部との当接時の応力を低減できる。
【００２４】
請求項６に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、請求項１〜４のいずれかに記載の発明において、前記環状角部と、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部とは点接触により接していることを特徴とする。
【００２５】
これにより、前記ガラス基板の孔と前記ガラス基板取出治具との当接面積を極力抑えることができる。
【００２６】
請求項７に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、請求項１〜６のいずれかに記載の発明において、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部には、前記ガラス基板の半径方向外方に向けて洗浄液を噴出する洗浄液噴出口がさらに設けられ、前記研磨パッドから研磨後の前記ガラス基板を、前記ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程においては、前記洗浄液噴出口から洗浄液を噴出して、前記孔の前記内周端面を洗浄する工程を有することを特徴とする。
【００２７】
前記洗浄液噴出口から洗浄液を噴出することによって、前記孔の前記内周端面を洗浄することができるので、一層の品質向上が期待される。
【００２８】
請求項８に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、請求項７に記載の発明において、前記孔の前記内周端面を洗浄する工程は、前記洗浄液に超音波を印加して前記内周端面の洗浄を行なうことを特徴とする。
【００２９】
これにより洗浄効果を更に高めることができる。
【００３０】
請求項９に記載のガラス基板取出治具は、請求項１〜８のいずれかの情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に用いられるガラス基板取出治具であって、
連結軸を中心として回動可能に連結され、閉じた位置と開いた位置との間で開閉可能に可動する第１柄部および第２柄部と、
前記第１柄部の一方の先端側に設けられ、外側に向けて張り出す第１張り出し部と、前記ガラス基板の取り出し時に前記研磨パッドに対向する第１底面とを有する第１保持部と、
前記第２柄部の一方の先端側に設けられ、前記第１張り出し部とは反対方向の外側に向けて張り出す第２張り出し部と、前記ガラス基板の取り出し時に前記研磨パッドに対向する第２底面とを有する第２保持部と、を有し、
前記連結軸の軸線に直交する断面において、前記第１柄部と前記第２柄部とを前記閉じた位置に移動させた状態で、前記第１底面と前記第２底面のうち最も外側に張り出した最外点同士を結ぶ線分に対して、前記最外点よりも内側に位置する前記第１底面と前記第２底面上の任意の点が前記連結軸側に位置するようになっていることを特徴とする。
【００３１】
本発明のガラス基板取出治具は、前記連結軸の軸線に直交する断面において、前記第１柄部と前記第２柄部とを前記閉じた位置に移動させた状態で、前記第１底面と前記第２底面のうち最も外側に張り出した最外点同士を結ぶ線分に対して、前記最外点よりも内側に位置する前記第１底面と前記第２底面上の任意の点が前記連結軸側に位置するようになっているので、前記研磨パッドとの取り外し時に、前記第１柄部と前記第２柄部とを閉じた状態で、前記第１底面と前記第２底面とを前記研磨パッド側に向け、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部を前記ガラス基板の前記孔の表面側から裏面側に向けて挿通した後、前記第１柄部と前記第２柄部とを開いた状態にした際に、前記第１底面と前記第２底面とが前記研磨パッドに強く当接することが回避され、前記研磨パッドにキズが生じることを抑制できる。
【００３２】
更に、前記第１張り出し部および前記第２張り出し部の一部を、前記ガラス基板と前記研磨パッドとの間に進入させ、且つ前記ガラス基板の裏面側と前記孔の内周端面とが交差する環状角部に当接させ、この開いた状態を維持しつつ、前記ガラス基板を前記ガラス基板取出治具を用いて前記研磨パッドから引き剥がすことにより、前記ガラス基板の孔の内周端面に前記ガラス基板取出治具が強固に面状に押し付けられることを回避することができる。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、研磨パッドからのガラス基板の取り出しを容易に行えるとともに、記録特性の低下を招く恐れの少ない情報記録媒体用ガラス基板を提供することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びガラス基板取出治具を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】磁気ディスクに用いられるガラス基板を示す斜視図である。
【図２】ガラス基板を備えた磁気ディスクを示す斜視図である。
【図３】実施の形態におけるガラス基板の製造方法を示すフローチャートである。
【図４】研磨工程に用いられる両面研磨装置の部分斜視図である。
【図５】第２ポリッシュ工程の内容を示す図である。
【図６】ガラス基板取出治具１００の全体構造を示す正面図である。
【図７】図６中のVII-VII線矢視図である。
【図８】ガラス基板取出治具１００の保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図である。
【図９】ガラス基板取出治具１００を用いたガラス基板の保持状態を示す図である。
【図１０】比較例にかかるガラス基板取出治具１００’の保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図である。
【図１１】縦軸に不良品発生率、横軸に研磨パッドの使用回数をとって示すグラフである。
【図１２】変形例にかかるガラス基板取出治具１００Ａの保持部の外観構造を示す部分拡大図である。
【図１３】の他の変形例にかかるガラス基板取出治具１００Ｂの保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図である。
【図１４】他の変形例にかかるガラス基板取出治具１００Ｂの保持部の外観構造を示す部分拡大断面図である。
【図１５】他の変形例にかかるガラス基板取出治具１００Ｂの保持部の外観構造を示す拡大斜視図である。
【図１６】さらに他の変形例にかかるガラス基板取出治具１００Ｃの保持部の外観構造を示す拡大断面図である。
【図１７】さらに他の変形例にかかるガラス基板取出治具１００Ｄの保持部の外観構造を示す拡大断面図である。
【図１８】さらに他の変形例にかかるガラス基板取出治具１００Ｄの保持部におけるガラス基板の保持状態を示す平面模式図である。
【図１９】第２の実施の形態におけるガラス基板取出治具１００Ｅの構造を示す断面図である。
【図２０】第２の実施の形態におけるガラス基板取出治具１００Ｅを用いたガラス基板の保持状態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
本発明に基づいた実施の形態および実施例について、以下、図面を参照しながら説明する。
【００３６】
（第１の実施の形態）
図１および図２を参照して、まず、本実施の形態に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板ＧＳ、およびガラス基板ＧＳを備えた磁気ディスク１について説明する。図１は、磁気ディスク１（図２参照）に用いられるガラス基板ＧＳを示す斜視図である。図２は、情報記録媒体として、ガラス基板ＧＳを備えた磁気ディスク１を示す斜視図である。
【００３７】
図１に示すように、磁気ディスク１に用いられるガラス基板ＧＳ（情報記録媒体用ガラス基板）は、中心に孔１１が形成された環状の円板形状を呈している。円形ディスク形状のガラス基板ＧＳは、表主面１４、裏主面１５、内周端面１３、および外周端面１２を有している。また、内周端面１３の表主面１４側および裏主面１５側にはそれぞれ面取りを構成する円錐面としてチャンファ面１３ａ，１３ｂが形成されている。
【００３８】
ガラス基板ＧＳの大きさは、特に制限はなく、たとえば外径０．８インチ、１．０インチ、１．８インチ、２．５インチ、または３．５インチなどがある。ガラス基板ＧＳの厚さは、破損防止の観点から、たとえば０．３０ｍｍ〜２．２ｍｍである。本実施の形態におけるガラス基板ＧＳの大きさは、外径が約６５ｍｍ、内径が約２０ｍｍ、厚さが約０．８ｍｍである。但し、ガラス基板ＧＳの厚さとは、ガラス基板ＧＳ上の点対称となる任意の複数の点で測定した値の平均によって算出される値とする。
【００３９】
図２に示すように、磁気ディスク１は、上記したガラス基板ＧＳの表主面１４上に磁性膜が成膜されて、磁気記録層を含む磁気薄膜層２３が形成される。図２中では、表主面１４上にのみ磁気薄膜層２３が形成されているが、裏主面１５上にも磁気薄膜層２３が形成されていてもよい。
【００４０】
磁気薄膜層２３は、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂をガラス基板ＧＳの表主面１４上にスピンコートすることによって形成される（スピンコート法）。磁気薄膜層２３は、ガラス基板ＧＳの表主面１４に対してスパッタリング法、または無電解めっき法等により形成されてもよい。
【００４１】
ガラス基板ＧＳの表主面１４に形成される磁気薄膜層２３の膜厚は、スピンコート法の場合は約０．３μｍ〜約１．２μｍ、スパッタリング法の場合は約０．０４μｍ〜約０．０８μｍ、無電解めっき法の場合は約０．０５μｍ〜約０．１μｍである。薄膜化および高密度化の観点からは、磁気薄膜層２３はスパッタリング法または無電解めっき法によって形成されるとよい。
【００４２】
磁気薄膜層２３に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などが好適である。また、熱アシスト記録用に好適な磁性層材料として、ＦｅＰｔ系の材料が用いられてもよい。
【００４３】
また、磁気記録ヘッドの滑りをよくするために磁気薄膜層２３の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、たとえば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
【００４４】
さらに、必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスク１における下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、たとえば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、またはＮｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。
【００４５】
また、下地層は単層とは限らず、同一または異種の層を積層した複数層構造としても構わない。たとえば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層としてもよい。
【００４６】
磁気薄膜層２３の摩耗や腐食を防止する保護層としては、たとえば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一または異種の層からなる多層構成としてもよい。
【００４７】
上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。たとえば、上記保護層に替えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を形成してもよい。
【００４８】
（ガラス基板ＧＳの製造工程）
次に、図３を参照して、本実施の形態に係るガラス基板ＧＳおよび情報記録媒体１の製造方法を説明する。図３は、ガラス基板ＧＳおよび情報記録媒体１の製造方法を示すフロー図である。
【００４９】
まず、ステップＳ１０の「ガラス溶融工程」において、ガラス基板を構成するガラス素材を溶融する。
【００５０】
次にステップＳ１１の「プレス成形工程」において、溶融させたガラス素材を上型および下型を用いたプレス（不図示）により、両主面が平坦な円形のガラス基板を作製する。使用するガラスの組成としては、例えばアルミノシリケートガラスを用いると好ましい。ガラス基板の作製方法としては成形に限らず、公知の手法である板ガラスからの切り出し等でも構わず、ガラス組成もこれに限らない。
【００５１】
更にステップＳ１２の「第１ラップ工程」において、ガラス基板の両主面をラッピング加工する。この第１ラップ工程は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置（不図示）を用いて行なう。具体的には、ガラス基板の両主面に上下からラップ定盤を押圧させ、研削液をガラス基板の主面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行なう。このラッピング加工により、おおよそ平坦な主面を有するガラス基板を得ることができる。
【００５２】
ステップＳ１３の「コアリング工程」において、ダイヤモンドドリル（不図示）を用いて、ガラス基板の中心部に円形の孔を形成し、円環状のガラス基板を作製する。更にガラス基板の内周端面、および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を実施する。
【００５３】
ステップＳ１４の「第２ラップ工程」において、ガラス基板の両主面について、上記第１ラップ工程（Ｓ１２）と同様に、ラッピング加工を行なう。この第２ラップ工程を行なうことにより、前工程のコアリングや端面加工において主面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができる。その結果、後工程での主面の研磨時間を短縮することができる。
【００５４】
ステップＳ１５の「外周／内周研磨工程」において、ガラス基板の外周端面および内周端面に回転するブラシを当接させ、鏡面研磨を行なう。このとき研磨砥粒としては、一般的な酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いる。
【００５５】
ステップＳ１６の「第１ポリッシュ工程」において、主面研磨を行なう。この第１ポリッシュ工程は、上述の第１および第２ラップ工程（ステップＳ１２，Ｓ１４）において主面に残留したキズや反りを矯正することを主目的とするものである。この第１ポリッシュ工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により主面の研磨を行なうことができる。研磨剤としては、一般的な酸化セリウム砥粒を用いると好ましい。
【００５６】
ステップＳ１７の「化学強化工程」において、ガラス基板ＧＳの主面に対して表面強化層を形成する。具体的には、３００℃に加熱された硝酸カリウム（７０％）と硝酸ナトリウム（３０％）の混合溶液中に、ガラス基板ＧＳを約３０分間接触させることによって化学強化を行なう。その結果、ガラス基板の内周端面および外周端面のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、圧縮応力層が形成されることでガラス基板の主面及び端面が強化される。
【００５７】
ステップＳ１８の「第２ポリッシュ工程」において、主面研磨工程を施す。この第２ポリッシュ工程は、上述までの工程で発生、残存している主面上の微小欠陥等を解消して鏡面状に仕上げること、反りを解消し所望の平坦度に仕上げることを目的とする。この第２ポリッシュ工程は、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により研磨を行なう。研磨剤としては、平滑面を得る為に平均粒径が約２０ｎｍのコロイダルシリカを用いることができる。
【００５８】
次いで、ステップＳ１９の「最終洗浄工程（Final  Cleaning）」において、ガラス基板の主表面、端面の最終洗浄を実施する。これによりガラス基板上に残存する付着物を除去する。なお、最終洗浄工程は、ガラス基板の製造工程の最後に行われる工程であり、適宜乾燥工程も含むものである。
【００５９】
本実施の形態におけるガラス基板の製造方法は、以上のように構成される。このガラス基板の製造方法を用いることで、図１に示すガラス基板ＧＳが得られる。その後、このようにして得られたガラス基板ＧＳを用いて、図２に示す情報記録媒体１が得られる。
【００６０】
また、情報記録媒体の製造における磁気薄膜層成膜工程としては、上述の工程を経て得られたガラス基板ＧＳの洗浄後に、ガラス基板ＧＳの両主面に、Ｃｒ合金からなる密着層、ＣｏＦｅＺｒ合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる配向制御下地層、ＣｏＣｒＰｔ合金からなる垂直磁気記録層、Ｃ系の保護層、Ｆ系からなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録方式の情報記録媒体を製造する。この構成は垂直磁気記録方式の構成の一例であり、面内情報記録媒体として磁性層等を構成してもよい。その後、熱処理工程等を実施することで、情報記録媒体１が完成する。
【００６１】
次に、図４から図９を参照して、本実施の形態における、最終研磨工程である第２ポリッシュ工程（ステップＳ１８）の、両面研磨装置から研磨後のガラス基板を取り出す工程について説明する。
【００６２】
図４は、研磨工程に用いられる両面研磨装置の部分斜視図、図５は、第２ポリッシュ工程の内容を示す図、図６は、本実施の形態におけるガラス基板取出治具の全体構造を示す正面図、図７は、図６中のVII-VII線の矢視図、図８は、本実施の形態におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図、図９は、本実施の形態におけるガラス基板取出治具を用いたガラス基板の保持状態を示す図である。
【００６３】
まず、図４を参照して、両面研磨装置ＰＤの概略構成について説明する。図４は、研磨工程に用いられる両面研磨装置ＰＤの部分斜視図である。
【００６４】
両面研磨装置ＰＤは、上定盤（上側砥石保持定盤）ＰＤ１と、下定盤（下側砥石保持定盤）ＰＤ２と、上定盤ＰＤ１の下定盤ＰＤ２に対向する側（ガラス基板側）の下面に装着された上側研磨パッドＰＤ１ａと、下定盤ＰＤ２の上定盤ＰＤ１に対向する側（ガラス基板側）の上面に装着された下側研磨パッドＰＤ２ａとを備える。
【００６５】
上側研磨パッドＰＤ１ａおよび下側研磨パッドＰＤ２ａは、ガラス基板ＧＳの両主面を研磨加工するための加工部材であって、繰り返し使用するものである。上定盤ＰＤ１と下定盤ＰＤ２とは、キャリアＣＹの公転方向に対して互いに反対方向に回転するようになっている。下定盤ＰＤ２と対向する上側研磨パッドＰＤ１ａの表面は、上側の研磨面ＰＤ１ｂを形成する。上定盤ＰＤ１と対向する下側研磨パッドＰＤ２ａの表面は、下側の研磨面ＰＤ２ｂを形成する。上定盤ＰＤ１と下定盤ＰＤ２との間に形成される隙間に、複数の穴を設けたキャリアＣＹが配置される。ディスク状のガラス基板１は、このキャリアＣＹの穴に嵌合保持される。
【００６６】
ガラス基板ＧＳは、上定盤ＰＤ１と下定盤ＰＤ２との間に挟まれ、上定盤ＰＤ１と下定盤ＰＤ２とによってガラス基板の厚み方向に圧力が加えられる。これにより、ガラス基板ＧＳの両主面は、上側研磨パッドＰＤ１ａの研磨面ＰＤ１ｂおよび下側研磨パッドＰＤ２ａの研磨面ＰＤ２ｂに押圧される。この状態で、自転するキャリアＣＹを、上定盤ＰＤ１及び下定盤ＰＤ２に対して公転させることで、ガラス基板ＧＳの一方の主面に対して上側研磨パッドＰＤ１ａの研磨面ＰＤ１ｂが相対移動することにより、当該一方の主面が研磨される。同時に、ガラス基板ＧＳの他方の主面に対して下側研磨パッドＰＤ２ａの研磨面ＰＤ２ｂが相対移動することにより、当該他方の主面が研磨される。このようにして、両面研磨装置ＰＤを使用して、ガラス基板の両主面が同時に研磨される。
【００６７】
上記両面研磨装置ＰＤを使用した精密研磨後、定盤ＰＤ１，ＰＤ２を離間させキャリアＣＹを取り外すと、上側研磨パッドＰＤ１ａの研磨面ＰＤ１ｂおよび下側研磨パッドＰＤ２ａの研磨面ＰＤ２ｂにガラス基板ＧＳが貼り付いた状態で残る。よって、後述するガラス基板取出治具１００を用いて研磨パッドから取り外す作業が必要になる。
【００６８】
図５を参照して、第２ポリッシュ工程（ステップＳ１８）を詳細に説明する。第２ポリッシュ工程は、キャリアＣＹを準備するキャリア配置工程（ステップＳ１８１）と、複数のガラス基板ＧＳを装填したキャリアＣＹを、両面研磨装置ＰＤにセットするガラス基板配置工程（ステップＳ１８２）と、両面研磨装置ＰＤとキャリアＣＹとを相対回動させることによりガラス基板ＧＳを研磨する研磨工程（ステップＳ１８３）と、研磨パッドからキャリアを取り外すキャリア取出工程（ステップＳ１８４）と、研磨パッドに貼り付いたガラス基板ＧＳを取り外すガラス基板取出工程（ステップＳ１８５）とを有している。
【００６９】
（ガラス基板取出治具１００）
図６から図９を参照して、ガラス基板取出工程に用いられるガラス基板取出治具１００の構造、および、そのガラス基板取出治具１００を用いたガラス基板取出工程について説明する。
【００７０】
図６から図８を参照して、ガラス基板取出治具１００は、連結軸Ｒ１を中心として回動可能に連結され、閉じた位置（図６に示す位置）と開いた位置（図９参照）との間を開閉可能に可動する第１柄部１１０および第２柄部１２０とを有する。第１柄部１１０および第２柄部１２０の材料は、金属が好ましいが、剛性を有する材料であればどのような材料でも構わない。
【００７１】
第１柄部１１０の一方の先端（下端）側には、樹脂材料等から構成される第１保持部１３０が取り付けられている。この第１保持部１３０は、第１柄部１１０の先端に固定される第１ベース部１３１と、この第１ベース部１３１と一体に設けられ、外側に向けて張り出す第１張り出し部１３２とを有する。第１柄部１１０の他方の側には、作業者が指を挿入するのに好適な環状のグリップ部１５０が設けられている。
【００７２】
一方、第２柄部１２０の一方の先端側には、樹脂材料等から構成される第２保持部１４０が設けられている。この第２保持部１４０は、第２柄部１２０の先端に固定される第２ベース部１４１と、この第２ベース部１４１と一体に設けられ、上述した第１張り出し部１３２とは反対方向の外側に向けて張り出す第２張り出し部１４２とを有する。第２柄部１２０の他方の側には、作業者が指を挿入するのに好適な環状のグリップ部１６０が設けられている。
【００７３】
第１ベース部１３１の外表面１３１ａは、半円錐形状を有している。第１張り出し部１３２の上面は、第２張り出し部１４２とは反対側の外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第１保持面１３２ａを有し、全体として半円錐形状を有している。第１張り出し部１３２の下面は、平滑で平坦な第１底面１３２ｂを構成し、第１張り出し部１３２の先端に向かうにつれて連結軸Ｒ１から遠ざかるように傾いている。
【００７４】
第２ベース部１４１は、第１ベース１３１と線対称な形状である。すなわち、第２ベース部１４１の外表面１４１ａは、半円錐形状を有している。第２張り出し部１４２の上面は、第１張り出し部１３２とは反対側の外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第２保持面１４２ａを有し、全体として半円錐形状を有している。第２張り出し部１４２の下面は、平滑で平坦な第２底面１４２ｂを構成し、第２張り出し部１４２の先端に向かうにつれて連結軸Ｒ１から遠ざかるように傾いている。
【００７５】
本実施の形態においては、図６〜図８に示すガラス基板取出治具１００が閉じた状態においては、第１保持部１３０の第１ベース部１３１と第２保持部１４０の第２ベース部１４１とが重ね合わされることで下方に向かうにつれて縮径する円錐形状の外観を呈し、第１張り出し部１３２と第２張り出し部１４２とが重ね合わされることで下方に向かうにつれて拡径する円錐形状の外観を呈する。
【００７６】
連結軸Ｒ１の軸線に直交する断面である図６において、第１柄部１１０と第２柄部１２０とを閉じた位置に移動させた状態で、第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂのうち最も外側に張り出した最外点ＥＰ１，ＥＰ２同士を結ぶ線分Ｌ１に対して、最外点ＥＰ１，ＥＰ２よりも内側に位置する第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂ上の任意の点（全ての点でなくても良く、少なくとも中央側の点であれば良い）が連結軸Ｒ１側に位置するようになっている。
【００７７】
次に、図９を参照して、上記構成を有するガラス基板取出治具１００を用いたガラス基板取出工程（ステップＳ１８５）について説明する。ここで、ガラス基板ＧＳの裏主面１５が、研磨パッドＰＤ１ａの表面ＰＤ１ｂに貼り付いているものとする。
【００７８】
まず、グリップ部１５０，１６０を指で把持した作業者が、ガラス基板取出治具１００を閉じた状態（図６）にして、ガラス基板ＧＳの孔１１に表主面１４側から裏主面１５側に向けて、ガラス基板取出治具１００の第１張り出し部１３２と第２張り出し部１４２を挿通させる。かかる状態では、第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂのうち最も外側に張り出した最外点ＥＰ１，ＥＰ２及びその近傍が、研磨パッドＰＤ１ａの表面ＰＤ１ｂに当たる。その後、作業者がグリップ部１５０，１６０を閉じることで、図９に示すように、ガラス基板取出治具１００をガラス基板ＧＳの半径方向の外側に開いた状態にする。
【００７９】
これにより、第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂのうち最も外側に張り出した先端（最外点ＥＰ１，ＥＰ２近傍）が、貼り付いたガラス基板ＧＳの裏主面１５と、研磨パッドＰＤ１ａの表面ＰＤ１ｂとの間に進入し、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａに、ガラス基板ＧＳの裏主面１５側と孔１１の内周端面１３とが交差する環状角部Ｐ１が当接載置された状態にする。
【００８０】
このとき、図９に示すように、最外点ＥＰ１，ＥＰ２を結ぶ線分上に、第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂ上の任意の点がほぼ位置するようになるため、研磨パッドＰＤ１ａの表面ＰＤ１ｂに対する応力は略均一となり、第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂが摺動することにより表面ＰＤ１ｂ上に与える損傷を極力回避し、キズなどの発生を抑制できる。
【００８１】
かかる状態を保持したまま、作業者がガラス基板取出治具１００を上方に引き上げることで、ガラス基板ＧＳを研磨パッドＰＤ１ａから引きはがすことができる。なお、本実施の形態におけるガラス基板ＧＳには、内周端面１３の表主面１４側および裏主面１５側にはそれぞれテーパ面としてのチャンファ面１３ａ，１３ｂが形成されている。よって、本実施の形態において、環状角部Ｐ１は、裏主面１５側と孔１１の内周端面１３に相当するチャンファ面１３ｂとが交差する領域によって規定される。
【００８２】
以上により、環状角部Ｐ１が、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａに線接触（断面で見た場合には点接触）した状態で、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａとガラス基板ＧＳとの間に大きな圧力が加えられることなく、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａとガラス基板ＧＳとの間の接触面積を低減させた状態で、ガラス基板ＧＳの上方へ引き上げが可能になる。その結果、研磨後のスラリー等が孔１１の内周端面１３に押し付けられて内周端面１３に強固に付着することを抑制することが可能となる。
【００８３】
また、このようにして得られたガラス基板ＧＳを情報記録媒体（磁気ディスク）化した場合であっても、ガラス基板ＧＳの付着物の低減を図っていることから、記録特性の低下を招くこともない。
【００８４】
なお、上記ガラス基板取出治具１００は、保持部を、第１保持部１３０と第２保持部１４０とに２分する２分割構造を採用した場合について説明したが、２分割構造に限定されず、３分割、４分割、またはそれ以上の分割構造を採用することも可能である。
【００８５】
本発明者は、本発明の効果を確認するために、図６に示すような実施例と、図１０に示すような比較例を準備した。比較例であるガラス基板取出治具１００’は、実施例であるガラス基板取出治具１００に対して、閉じた状態で、最外点ＥＰ１，ＥＰ２を結ぶ線分上に、第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂ上の任意の点がほぼ位置するになっている。それ以外の構成は、実施例と共通である。
【００８６】
図１１は、本発明者が行った比較試験結果を示している。この比較試験において、１回で１００枚のガラス基板を研磨できるように、５枚のキャリアを両面研磨装置に取り付けて研磨を行った。更にキャリアを研磨パッドから取り外した後、研磨パッドに貼り付いているガラス基板を、実施例と比較例のガラス基板取出治具で取り外す作業を繰り返し行った。研磨パッド自体は同じものを繰り返し利用した。その後、研磨されたガラス基板を検査して、主面の微小うねりが規定外となる不良品となる割合を調べた。比較例のガラス基板取出治具１００’は、第１柄部１１０と第２柄部１２０とを閉じた状態から開いた位置に移動させる際に、底面１３２ｂ、１４２ｂが、最外点ＥＰ１，ＥＰ２を結ぶ線分よりも下方に位置するようになるので、研磨パッドＰＤ１ａの表面ＰＤ１ｂを強く押圧しながら摺動することになり、この際に表面ＰＤ１ｂに傷がつく恐れがある。
【００８７】
図１１に示すように、比較例の場合、同じ研磨パッドを使用する回数が４０回以内では、不良品の発生率は０〜１％以内であるので問題ないが、５０回以上になると不良品率が２％を超えるので歩留まりが悪くなり、更に７０回を超えると急速に悪化する傾向がある。一方、実施例の場合、同じ研磨パッドを使用する回数が１００回となっても不良品率が０％であり、歩留まりが良好で本発明の効果が確認された。
【００８８】
次に、図１２を参照して、変形例としてのガラス基板取出治具１００Ａについて説明する。なお、図１２は、ガラス基板取出治具１００Ａの保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図である。
【００８９】
上述の実施の形態に対し、図１２に示すガラス基板取出治具１００Ａは、保持部を矩形形状に切り出したものであり、第１保持部１３０Ａの第１ベース部１３１と第２保持部１４０Ａの第２ベース部１４１とが重ね合わされることで略矩形形状の外観を呈し、第１保持部１３０Ａの第１張り出し部１３２と第２保持部１４０Ａの第２張り出し部１４２とが重ね合わされることで略矩形形状の外観を呈する。
【００９０】
この形状を有するガラス基板取出治具１００Ａにおいても、図９に示す実施の形態と同様に、連結軸の軸線に直交する断面において、第１柄部１１０と第２柄部１２０とを閉じた位置に移動させた状態で、第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂのうち最も外側に張り出した最外点ＥＰ１，ＥＰ２同士を結ぶ線分（図９でＬ１）に対して、最外点ＥＰ１，ＥＰ２よりも内側に位置する第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂ上の任意の点が連結軸（上方）側に位置するようになっている。
【００９１】
更に、ガラス基板取出工程において、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａに、ガラス基板ＧＳの裏主面１５側と孔１１の内周端面１３とが交差する環状角部Ｐ１（図９参照）を、線接触（断面で見た場合には点接触）した状態で載置することができる。その結果、このガラス基板取出治具１００Ａによっても、ガラス基板取出治具１００と同様の作用効果を得ることができる。
【００９２】
次に、図１３から図１５を参照して、他の変形例としてのガラス基板取出治具１００Ｂについて説明する。なお、図１３は、ガラス基板取出治具１００Ｂの保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図、図１４は、ガラス基板取出治具１００Ｂの保持部の外観構造を示す部分拡大断面図、図１５は、ガラス基板取出治具１００Ｂの保持部の外観構造を示す拡大斜視図である。
【００９３】
上記ガラス基板取出治具１００は、第１張り出し部１３２の第１保持面１３２ａは円錐面を有していたが、ガラス基板取出治具１００Ｂにおいて、第１保持部１３０Ｂの第１保持面１３２ａは、下方に向けて湾曲する凹面を有している。また、第２保持部１４０Ｂの第２保持面１４２ａも、下方に向けて湾曲する凹面を有している。
【００９４】
加えて、第１保持部１３０Ｂの第１底面１３２ｂは、下方に突出して湾曲する凸面を有しており、第２保持部１４０Ｂの第２底面１４２ｂは、下方に突出して湾曲する凸面を有している。但し、図１３に示すように、連結軸の軸線に直交する断面において、第１柄部１１０と第２柄部１２０とを閉じた位置に移動させた状態で、第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂのうち最も外側に張り出した最外点ＥＰ１，ＥＰ２同士を結ぶ線分Ｌ１に対して、最外点ＥＰ１，ＥＰ２よりも内側に位置する第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂ上の任意の点が連結軸（上方）側に位置するようになっている。その他形態は、上記実施の形態と同様である。
【００９５】
この形状を有するガラス基板取出治具１００Ｂにおいて、図１５に示すように開いた状態で、最外点ＥＰ１，ＥＰ２近傍の曲面である第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂが研磨パッドＰＤ１ａの表面ＰＤ１ｂに当接するので、過大な応力が突出して生じることがなく、第１底面１３２ｂと第２底面１４２ｂが摺動することにより表面ＰＤ１ｂ上に与える損傷を極力回避し、キズなどの発生を抑制できる。
【００９６】
また図１５に示すように、第１保持面１３２ｂおよび第２保持面１４２ｂに、ガラス基板ＧＳの裏主面１５側と孔１１の内周端面１３とが交差する環状角部Ｐ１を、線接触（断面で見た場合には点接触）した状態で載置することができる。その結果、このガラス基板取出治具１００Ｂによっても、ガラス基板取出治具１００と同様の作用効果を得ることができる。
【００９７】
なお、このガラス基板取出治具１００Ｂを、図１２に示したガラス基板取出治具１００Ａと同様の外観形態に変形することも可能である。
【００９８】
次に、図１６を参照して別の変形例としてのガラス基板取出治具１００Ｃについて説明する。なお、図１６は、ガラス基板取出治具１００Ｃの保持部の外観構造を示す拡大断面図である。
【００９９】
このガラス基板取出治具１００Ｃは、第１保持部１３０Ｃにおいて、第１保持面１３２ａを有する第１張り出し部１３２の上側に対向する領域に、第１保持面１３２ａに対向する第３保持面１３３ａを有する第３張り出し部１３３が設けられている。第３保持面１３３ａは、第２保持部１４０Ｃとは反対側の外側に向かうにしたがって上方に傾斜している。更に、第１張り出し部１３２と第３張り出し部１３３との間の第１外側面１３４は、断面凹状となっている。
【０１００】
同様に、第２保持部１４０Ｃにおいて、第２保持面１４２ａを有する第２張り出し部１４２の上側に対向する領域に、第２保持面１４２ａに対向する第４保持面１４３ａを有する第４張り出し部１４３が設けられている。第４保持面１４３ａは、第１保持部１３０Ｃとは反対側の外側に向かうにしたがって上方に傾斜している。更に、第２張り出し部１４２と第４張り出し部１４３との間の第２外側面１４４は、断面凹状となっている。それ以外の構成は、底面１３２ｂ、１４２ｂを含め上述した実施の形態と同様である。
【０１０１】
このガラス基板取出治具１００Ｃにおいて、底面１３２ｂ、１４２ｂ及び保持面１３２ａ、保持面１４２ａの機能は、上記ガラス基板取出治具１００と同じである。ここで、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａのガラス基板ＧＳを載置した場合に、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａの斜面に沿って、ガラス基板ＧＳが上方に摺り動くことが考えられる。
【０１０２】
この場合に、このガラス基板取出治具１００Ｃによれば、第３保持面１３３ａおよび第４保持面１４３ａが設けられていることから、第３保持面１３３ａおよび第４保持面１４３ａに、ガラス基板ＧＳの内周端面１３とチャンファ面１３ａとが交差する環状角部Ｐ２を、線接触（断面で見た場合には点接触）した状態で当接させることができる。
【０１０３】
この形状を有するガラス基板取出治具１００Ｃにおいても、図１６に示すように、ガラス基板取出治具１００の場合と同様に、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａに、ガラス基板ＧＳの裏主面１５側と孔１１の内周端面１３とが交差する環状角部Ｐ１を、線接触（断面で見た場合には点接触）した状態で載置することができる。その結果、このガラス基板取出治具１００Ｃによっても、上述の実施の形態と同様の作用効果を得ることができる。
【０１０４】
さらに、第３保持面１３３ａおよび第４保持面１４３ａに、ガラス基板ＧＳの内周端面１３とチャンファ面１３ａとが交差する環状角部Ｐ２を、線接触（断面で見た場合には点接触）した状態で当接させることができるため、ガラス基板取出治具１００Ｃによるガラス基板ＧＳの保持時に、ガラス基板ＧＳのがたつき等を抑制することができる。
【０１０５】
なお、ガラス基板取出治具１００Ｃにおいても、ガラス基板取出治具１００Ａおよびガラス基板取出治具１００Ｂと同様の変形を適用することが可能である。
【０１０６】
次に、図１７および図１８を参照して、更に別な変形例におけるガラス基板取出治具１００Ｄについて説明する。なお、本変形例は、上述した実施の形態に対し、第１保持部１３０Ｄおよび第２保持部１４０Ｄの構造のみが相違し、他の構成は同じであるため、ここでは、第１保持部１３０Ｄおよび第２保持部１４０Ｄの構造について詳細に説明する。図１７は、ガラス基板取出治具１００Ｄの保持部の外観構造を示す拡大斜視図、図１８は、ガラス基板取出治具１００Ｄの保持部におけるガラス基板の保持状態を示す平面模式図である。
【０１０７】
図１７を参照して、このガラス基板取出治具１００Ｄは、図１２に示したガラス基板取出治具１００Ａと近似する構造を有しているが、第１保持部１３０Ｄの第１ベース部１３１ｅ外面、および第１張り出し部１３２ｅの第１保持面１３２ｆが、平坦面形状を有している。同様に、第２保持部１４０Ｄの第２ベース部１４１ｅ外面、および第２張り出し部１４２ｅの第２保持面１４２ｆも平坦面形状を有している。
【０１０８】
その結果、図１８に示すように、このガラス基板取出治具１００Ｄを用いてガラス基板ＧＳを保持した場合には、第１保持面１３２ｆおよび第２保持面１４２ｆと、環状角部Ｐ１との接触箇所は、それぞれ２箇所の点接触状態で、第１保持面１３２ｆおよび第２保持面１４２ｆによりガラス基板ＧＳを保持することとなる。
【０１０９】
これにより、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａとガラス基板ＧＳとの間の接触面積をさらに低減させた状態で、ガラス基板ＧＳの上方へ引き上げが可能になる。その結果、研磨後のスラリー等が孔１１の内周端面１３に押し付けられて内周端面１３に強固に付着することをさらに抑制することが可能となる。
【０１１０】
（第２の実施の形態）
次に、図１９、図２０を参照して、第２の実施の形態におけるガラス基板取出治具１００Ｅについて説明する。なお、本実施の形態におけるガラス基板取出治具１００Ｅは、第１保持部および第２保持部に、ガラス基板ＧＳの半径方向外方に向けて洗浄液を噴出することができる構成を追加したものであり、ガラス基板取出治具自体の構成は、上術した実施の形態のいずれも採用できるが、ここでは図１６の構成を利用するものについて説明する。
【０１１１】
図１９は、ガラス基板取出治具１００Ｅの構造を示す断面図、図２０は、ガラス基板取出治具１００Ｅを用いて、ガラス基板ＧＳを保持しつつ内周端面を洗浄する状態を示す断面図である。
【０１１２】
図１９を参照して、このガラス基板取出治具１００Ｅには、洗浄液噴出機構２００が付加されている。この洗浄液噴出機構２００は、第１柄部１１０の内部に配置される第１管路２１０と、第１保持部１３０Ｅの内部において、一端が第１管路２１０に連結し、他端が第１外側面１３４に露出し、洗浄液噴出口を構成する複数の噴出管路２２０とを有している。
【０１１３】
同様に、第２柄部１２０の内部に配置される第１管路２１０と、第２保持部１４０Ｅの内部において、一端が第１管路２１０に連結し、他端が第２外側面１４４に露出し、洗浄液噴出口を構成する複数の噴出管路２２０とを有している。尚、噴出管路２２０を複数としても良い。
【０１１４】
本実施の形態においては、噴出管路２２０は、第１保持部１３０Ｅおよび第２保持部１４０Ｅの内部において、ガラス基板ＧＳの内周端面に洗浄液が集中するように、噴出管路２２０は、それぞれ最適な向きになるように設けられている。
【０１１５】
第１管路２１０の他端側には、第１管路２１０および噴出管路２２０に洗浄液を供給するための洗浄液供給装置２３０が連結されている。
【０１１６】
次に、図１９および図２０を参照して、上記構成を有するガラス基板取出治具１００Ｅを用いたガラス基板取出工程について説明する。
【０１１７】
図１９を参照して、ガラス基板取出治具１００Ｅを閉じた状態にして、ガラス基板ＧＳの孔１１に表主面１４側から裏主面１５側に向けて、第１保持部１３０Ｅおよび第２保持部１４０Ｅを差し入れる。次に、洗浄液供給装置２３０を駆動させて、第１管路２１０および噴出管路２２０に洗浄液を供給する。洗浄液としては、たとえば、研磨工程で用いたコロイダルシリカ研磨材を分散するポリカルボン酸を２％に希釈したものを、ガラス基板ＧＳの内周端面１３に５秒間程度噴射する。
【０１１８】
尚、図１９に点線で示すように、洗浄液噴出機構２００に超音波印加装置ＳＷを設け、洗浄液供給装置２３０を駆動させて第１管路２１０および噴出管路２２０に洗浄液を供給する際に、同時に超音波印加装置ＳＷを励起させて、洗浄液に１ＭＨｚ前後の超音波を印加するようにしても良い。これにより、上記ガラス基板取出治具１００Ｅを用いたガラス基板ＧＳの内周端面１３の洗浄効率を高めることが可能になる。
【０１１９】
図２０を参照して、ガラス基板取出治具１００Ｅをガラス基板ＧＳの半径方向の外側に開いた状態にする。
【０１２０】
これにより、ガラス基板取出工程において、ガラス基板ＧＳの内周端面１３の洗浄を行なった後に、図１６に示したガラス基板取出治具１００Ｃと同様にして、ガラス基板ＧＳの取り出し（図２０中の矢印Ｄ方向）を行なうことができる。
【０１２１】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、今回開示された実施の形態は例示にすぎないものであり、これに制限されるべきでない。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示されることが意図される。
【符号の説明】
【０１２２】
１１            孔
１２            外周端面
１３            内周端面
１３ａ            チャンファ面
１３ｂ            チャンファ面
１４            表主面
１５            裏主面
１００、１００Ａ〜１００Ｅガラス基板取出治具
１１０            第１柄部
１２０            第２柄部
１３０、１３０Ａ〜１３０Ｅ第１保持部
１３１            第１ベース部
１３１ａ          外表面
１３２            第１張り出し部
１３２ａ          第１保持面
１３２ｂ          第１底面
１３３            第３張り出し部
１３３ａ          第３保持面
１３４            第１外側面
１４０，１４０Ａ〜１４０Ｅ第２保持部
１４１            第２ベース部
１４１ａ          外表面
１４１ｅ          ベース部
１４２            第２張りだし部
１４２ａ          第２保持面
１４２ｂ          第２底面
１４３            第４張り出し部
１４３ａ          第４保持面
１４４            外側面
１５０            第１グリップ部
１６０            第２グリップ部
２００            洗浄液噴出機構
２１０            管路
２２０            噴出管路
２３０            洗浄液供給装置
ＣＹ            キャリア
ＥＰ１，ＥＰ２        最外点
ＧＳ            ガラス基板
Ｌ１            線分
Ｐ１            環状角部
Ｐ２            環状角部
ＰＤ            両面研磨装置
ＰＤ１ａ，ＰＤ２ａ    研磨パッド
ＰＤ１ｂ、ＰＤ２ｂ    表面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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