(57)【要約】【課題】帯状ワークに形成されたパターンとマスクに形成されたパターンとの位置ずれの低減に有利な技術を提供する。【解決手段】帯状ワークにパターンを形成するリソグラフィ装置であって、前記帯状ワークを保持するとともに、前記帯状ワークを搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送されている前記帯状ワークに対して前記パターンを形成する処理を行う処理部と、を有し、前記搬送機構は、前記帯状ワークの面内において、前記帯状ワークの搬送方向に直交する第１方向、及び、前記搬送方向と平行な第２方向のうち少なくとも１つの方向に前記帯状ワークを変形させるための変形部を含むことを特徴とするリソグラフィ装置を提供する。【選択図】図１
2015138261.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状ワークにパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記帯状ワークを保持するとともに、前記帯状ワークを搬送する搬送機構と、
前記搬送機構によって搬送されている前記帯状ワークに対して前記パターンを形成する処理を行う処理部と、を有し、
前記搬送機構は、前記帯状ワークの面内において、前記帯状ワークの搬送方向に直交する第１方向、及び、前記搬送方向と平行な第２方向のうち少なくとも１つの方向に前記帯状ワークを変形させるための変形部を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記変形部は、
前記第１方向に沿って配置された回転軸と、
前記回転軸に配置され、前記帯状ワークに接触する第１回転ローラと、
前記回転軸に配置され、前記帯状ワークに接触する第２回転ローラと、
前記第１回転ローラを前記回転軸に沿って前記第１方向に移動させる移動部と、
を含み、
前記第２回転ローラは、前記回転軸における前記第１方向の位置が固定され、
前記移動部によって前記第１回転ローラを前記第１方向に移動させることで前記第１方向に前記帯状ワークを変形させることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記変形部は、
前記第１方向に沿って配置された第１回転軸と、
前記第１方向に沿って配置された第２回転軸と、
前記第１回転軸に配置され、前記帯状ワークに接触する第１回転ローラと、
前記第２回転軸に配置され、前記帯状ワークに接触する第２回転ローラと、
前記第１回転ローラの回転速度と前記第２回転ローラの回転速度との間に回転速度差が発生するように、前記第１回転軸及び前記第２回転軸の回転を制御する回転制御部と、
を含み、
前記回転速度差によって前記第２方向に前記帯状ワークを変形させることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記変形部は、
前記第１方向に沿って配置された第１回転軸と、
前記第１方向に沿って配置された第２回転軸と、
前記第１回転軸に配置され、前記帯状ワークに接触する第１回転ローラと、
前記第２回転軸に配置され、前記帯状ワークに接触する第２回転ローラと、
前記第１回転ローラを前記第１回転軸に沿って前記第１方向に移動させる移動部と、
前記第１回転ローラの回転速度と前記第２回転ローラの回転速度との間に回転速度差が発生するように、前記第１回転軸及び前記第２回転軸の回転を制御する回転制御部と、
を含み、
前記第２回転ローラは、前記回転軸における前記第１方向の位置が固定され、
前記移動部によって前記第１回転ローラを前記第１方向に移動させることで前記第１方向に前記帯状ワークを変形させ、
前記回転速度差によって前記第２方向に前記帯状ワークを変形させることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記第１回転軸と前記第２回転軸とは、同軸上に配置されていることを特徴とする請求項３又は４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記帯状ワークに対する前記第１回転ローラの保持力は、前記帯状ワークに対する前記第２回転ローラの保持力よりも大きいことを特徴とする請求項２乃至５のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記帯状ワークに形成されている下地パターンの位置ずれを取得する取得部と、
前記取得部によって取得された位置ずれに基づいて、前記処理部によって前記処理を行うときの前記下地パターンの形状が目標形状となるように、前記変形部による前記帯状ワークの変形を制御する制御部と、
を更に有することを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記取得部は、前記下地パターンに対応して前記帯状ワークに形成されているアライメントマークを検出することで前記下地パターンの位置ずれを計測する計測部を含むことを特徴とする請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記取得部は、前記リソグラフィ装置の外部で計測された前記下地パターンの位置ずれが入力される入力部を含むことを特徴とする請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記処理部は、前記パターンに対応する像を前記帯状ワークに投影する投影光学系を含むことを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを帯状ワークに形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記帯状ワークを処理する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
テレビなどの表示素子として液晶ディスプレイが使用されている。液晶ディスプレイは、一般的に、ガラス素材を表面に用いているため、重量が重く、破損しやすいという問題がある。そこで、近年では、高分子シートや薄型耐圧ガラスを用いたディスプレイ（「フレキシブルディスプレイ」と称する）が注目されている。このようなフレキシブルディスプレイを製造するフォトリソグラフィ工程では、ロール・ツー・ロールと呼ばれる製造方法が採用されている。
【０００３】
また、フレキシブルディスプレイには、従来の液晶ディスプレイと同様な表示性能が要求され、かかる要求を実現するためには、ロール・ツー・ロールにおいても高精細なパターンを形成する露光装置が必要となる。高精細な露光を実現するためには、非常に高精度なパターンの絶対位置精度及び重ね合わせ精度が求められ、パターンの絶対位置精度及び重ね合わせ精度の低下は、パネル化工程における不良の原因となる。
【０００４】
露光装置に関する技術ではないが、画像が形成される記録紙などのシート（ワーク）を、その位置ずれを補正（低減）しながら搬送する技術が提案されている（特許文献１及び２参照）。特許文献１の技術では、ワークの搬送方向に直交する方向の同軸線上に配置された複数のワーク先端検出部によって、ワークの斜行を検出する。そして、ワーク先端検出部と平行に配置され、独立して速度制御可能な複数の搬送回転体（の速度差）によって、ワークの斜行を補正する。
【０００５】
また、特許文献２の技術では、ワークの斜行に加えて、ワークの搬送方向に直交する方向のワークの位置ずれを補正することができる。具体的には、ワークの搬送方向に平行な方向に配置された複数のワーク側端検出部によって、ワークの側端（の有無）を検出する。そして、ワーク側端検出部と平行に配置され、ワークの搬送方向に直交する方向に独立して駆動可能な複数のワーク搬送部によって、ワークの斜行及びワークの搬送方向に直交する方向のワークの位置ずれを補正する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−６９７８４号公報
【特許文献２】特開２００１−２４０２７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１及び２の技術を露光装置に適用したとしても、ロール・ツー・ロールで必要とされる高精細な露光を実現することができない。特許文献１及び２の技術は、上述したように、ワーク全体の斜行や位置ずれを補正することはできるが、ワークに形成（転写）されているパターンとこれから形成するパターンとの位置ずれ（重ね合わせのずれ）を補正することはできないからである。
【０００８】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、帯状ワークに形成されたパターンとマスクに形成されたパターンとの位置ずれの低減に有利な技術を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのリソグラフィ装置は、帯状ワークにパターンを形成するリソグラフィ装置であって、前記帯状ワークを保持するとともに、前記帯状ワークを搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送されている前記帯状ワークに対して前記パターンを形成する処理を行う処理部と、を有し、前記搬送機構は、前記帯状ワークの面内において、前記帯状ワークの搬送方向に直交する第１方向、及び、前記搬送方向と平行な第２方向のうち少なくとも１つの方向に前記帯状ワークを変形させるための変形部を含むことを特徴とする。
【００１０】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、例えば、帯状ワークに形成されたパターンとマスクに形成されたパターンとの位置ずれの低減に有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略ブロック図である。
【図２】帯状ワークに形成されるパターンの位置ずれの一例を示す図である。
【図３】図１に示す露光装置におけるワーク搬送機構の基本的な構成を示す図である。
【図４】第１の実施形態における変形部の構成を示す斜視図である。
【図５】第１の実施形態における変形部の構成をＹ軸方向から示す正面図である。
【図６】第２の実施形態における変形部の構成を示す斜視図である。
【図７】第２の実施形態における変形部の構成をＹ軸方向から示す正面図である。
【図８】第３の実施形態における変形部の構成を示す斜視図である。
【図９】第３の実施形態における変形部の構成をＹ軸方向から示す正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１４】
図１は、本発明の一側面としての露光装置１の構成を示す概略ブロック図である。露光装置１は、基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、本実施形態では、マスク（原版）のパターンを、可撓性を有する帯状ワーク（基板）に投影（転写）するロール・ツー・ロール型の露光装置である。
【００１５】
露光装置１は、図１に示すように、帯状ワークに形成すべきパターンが形成されたマスクを保持するとともに、マスクを搬送するマスク搬送機構１０と、パターンが形成される帯状ワークを保持するとともに、帯状ワークを搬送するワーク搬送機構２０とを有する。また、露光装置１は、光源からの光でマスク搬送機構１０に保持されたマスクを照明する照明光学系３０と、照明光学系３０によって照明されたマスクのパターンの像を帯状ワークに投影する投影光学系４０と、制御部５０とを有する。
【００１６】
露光装置１において、照明光学系３０や投影光学系４０は、ワーク搬送機構２０によって搬送されている帯状ワークに対してパターンを形成する処理を行う処理部として機能する。また、制御部５０は、ＣＰＵやメモリなどを含み、露光装置１の全体（動作）を制御する。
【００１７】
投影光学系４０は、等倍結像光学系、拡大結像光学系又は縮小結像光学系で構成されるが、本実施形態では、等倍結像光学系で構成されている。照明光学系３０によって照明されるマスクのパターンの像は、投影光学系４０を介して、ワーク搬送機構２０の上の帯状ワークに結像する。かかる状態において、マスク搬送機構１０及びワーク搬送機構２０によって、マスクと帯状ワークとを同期した速度で搬送することで、マスクのパターンを帯状ワークに転写する。
【００１８】
帯状ワークに対してパターンを形成する際には、様々な要因によって、図２（ａ）乃至図２（ｔ）に示すようなパターンの位置ずれが生じる。そのため、帯状ワークに形成されているパターン（下地パターン）とこれから形成するパターンとの位置ずれ（重ね合わせのずれ）が発生してしまう。パターンの位置ずれの要因としては、マスクや帯状ワークの走査精度、投影光学系４０の位置変化、投影光学系４０の歪（収差）、帯状ワークの歪、空間や物体の温度ゆらぎ、物体（露光装置や帯状ワーク）の振動、アライメント誤差などがある。
【００１９】
図３は、ロール・ツー・ロール型の露光装置１におけるワーク搬送機構２０の基本的な構成を示す図である。ワーク搬送機構２０は、供給ローラ２１０と、巻取ローラ２２０と、計測部２３０と、変形部２４０とを含む。ここで、帯状ワークの面内において、帯状ワークの搬送方向に直交する方向（第１方向）をＸ軸方向とし、帯状ワークの搬送方向と平行な方向（第２方向）をＹ軸方向とする。また、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する方向（高さ方向）をＺ軸方向とする。Ｘ軸まわりの回転方向をθｚ方向とする。
【００２０】
計測部２３０は、帯状ワークに形成されている下地パターンの位置ずれを取得する取得部として機能する。計測部２３０は、本実施形態では、下地パターンに対応して帯状ワークに形成されているアライメントマークを検出することで下地パターンのＸ軸方向及びＹ軸方向の位置ずれを計測する。また、計測部２３０でアライメントマークを検出することで、帯状ワークに形成されている下地パターンの位置を計測してもよい。変形部２４０は、後述するように、投影光学系４０による露光領域において、Ｘ軸方向及びＹ軸方向（装置水平方向）のうち少なくとも１つの方向に帯状ワークを変形させる。
【００２１】
図３を参照するに、可撓性を有する帯状ワークは、供給ローラ２１０から巻取ローラ２２０に向かって搬送され、投影光学系４０による露光領域において露光される（パターンが転写される）。露光領域において帯状ワークは＋Ｙ軸方向へ向かって搬送される。供給ローラ２１０及び巻取ローラ２２０のそれぞれで帯状ワークを引き合うことによって、帯状ワークは、供給ローラ２１０、巻取ローラ２２０及び変形部２４０に予圧で押し付けられている。従って、帯状ワークが変形部２４０に接する際には、変形部２４０を構成する各回転ローラの駆動にならって帯状ワークが変形することになる。
【００２２】
また、変形部２４０を構成する複数の回転ローラのうち、帯状ワークを変形させるための回転ローラ（回転ローラと帯状ワークとの接触面）の保持力は強く設定されている。これは、かかる回転ローラの駆動によって、帯状ワークを拡張させたり収縮させたりする（即ち、変形させる）必要があるからである。一方、変形部２４０を構成する複数の回転ローラのうち、帯状ワークを保持するための回転ローラの保持力は弱く設定されている。これは、かかる回転ローラは、帯状ワークの変形には関与せず、帯状ワークの撓みなどを防止するために設けられているからである。
【００２３】
以下の各実施形態では、変形部２４０を、帯状ワークとの接触面における保持力が強い回転ローラと、帯状ワークとの接触面における保持力が弱い回転ローラとを組み合わせて構成している。但し、帯状ワークとの接触面における保持力が強い回転ローラのみで変形部２４０を構成することも可能である。ここで、回転ローラの保持力とは、例えば、摩擦力や静電気力などで規定され、帯状ワークの保持に必要な力のことを意味する。以下では、一例として、回転ローラの保持力を摩擦力とする。
【００２４】
また、以下の各実施形態では、変形部２４０として、図３に示すように、回転軸及び回転ローラで構成される変形機構が２つ配置されているが、これに限定されるものではない。例えば、変形部２４０として、回転軸及び回転ローラで構成される変形機構を、露光領域に対して１つだけ配置してもよいし、露光領域の両端に２つ、且つ、露光領域の中央に１つ配置してもよい。
【００２５】
以下、第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態において、変形部２４０の具体的な構成を詳細に説明する。
【００２６】
＜第１の実施形態＞
図４は、第１の実施形態における変形部２４０の構成を示す斜視図である。図５は、第１の実施形態における変形部２４０の構成をＹ軸方向から示す正面図である。変形部２４０は、本実施形態では、Ｘ軸方向に沿って配置された回転軸２４１と、回転軸２４１に配置され、帯状ワークと接触する複数の回転ローラ２４２と、回転ローラ移動部２４３と、変位検出部２４４とを有する。
【００２７】
複数の回転ローラ２４２は、帯状ワークをＸ軸方向に変形させるための第１回転ローラ２４２ａと、帯状ワークを保持するための第２回転ローラ２４２ｂと、帯状ワークのＸ軸方向の撓みを防止するための第３回転ローラ２４２ｃとを含む。また、上述したように、各回転ローラ２４２の帯状ワークに対する摩擦力（保持力）には差（強弱）がつけられている。具体的には、第１回転ローラ２４２ａの帯状ワークに対する摩擦力は、第２回転ローラ２４２ｂの帯状ワークに対する摩擦力及び第３回転ローラ２４２ｃの帯状ワークに対する摩擦力よりも大きい。また、第２回転ローラ２４２ｂの帯状ワークに対する摩擦力は、第３回転ローラ２４２ｃの帯状ワークに対する摩擦力よりも大きい。
【００２８】
回転ローラ移動部２４３は、アクチュエータ２４３ａと、移動機構２４３ｂとを含み、第１回転ローラ２４２ａを回転軸２４１に沿ってＸ軸方向に移動させる。アクチュエータ２４３ａは、第１回転ローラ２４２ａを移動させるための力を発生させる。移動機構２４３ｂは、力伝達機構やＸ軸方向に沿ったガイドなどを含み、第１回転ローラ２４２ａを移動させるために、アクチュエータ２４３ａからの力を第１回転ローラ２４２ａ（を保持する保持部）に伝達する。このように、本実施形態では、第１回転ローラ２４２ａに関しては、回転ローラ移動部２４３によって、回転軸２４１におけるＸ軸方向の位置が変更可能である。一方、第２回転ローラ２４２ｂ及び第３回転ローラ２４２ｃに関しては、回転軸２４１におけるＸ軸方向の位置が固定されている。
【００２９】
変位検出部２４４は、例えば、干渉計などを含み、回転ローラ移動部２４３によってＸ軸方向に移動した第１回転ローラ２４２ａの変位（即ち、第１回転ローラ２４２ａのＸ軸方向への変位）を検出する。変位検出部２４４によって検出される第１回転ローラ２４２ａの変位に基づいて、回転ローラ移動部２４３による第１回転ローラ２４２ａの移動が制御される。
【００３０】
本実施形態の変形部２４０による帯状ワークの変形について説明する。まず、計測部２３０において、供給ローラ２１０から供給される（即ち、搬送中の）帯状ワークに形成されている下地パターン（アライメントマーク）を、帯状ワークの搬送方向（Ｙ軸方向）に直交する方向（Ｘ軸方向）で一列ずつ計測する。計測部２３０は、本実施形態では、帯状ワークに形成されている下地パターンのＸ軸方向の位置ずれを計測する。計測部２３０によって計測された下地パターンのＸ軸方向の位置ずれは制御部５０に入力される。また、制御部５０において、計測部２３０の計測結果に基づいて、下地パターンのＸ軸方向の位置ずれを補正するための帯状ワークの変形量を求める。また、露光領域に対して帯状ワークがＸ軸方向に全体にシフトしているような場合には、必ずしも帯状ワークを変形させる必要はない。帯状ワークに形成された下地パターンが目標位置に位置合わせするように、変形部２４０の駆動量を求める。換言すれば、制御部５０において、下地パターンとこれから帯状ワークに形成するパターンとの位置ずれ（重ね合わせのずれ）を生じさせないために（即ち、下地パターンの形状を目標形状にするために）必要となる帯状ワークの変形量を求める。そして、計測部２３０によって位置ずれが計測された下地パターンが露光領域に位置した（搬送された）ときに、帯状ワークが目標形状となるように、変形部２４０によって帯状ワークを変形させる。具体的には、制御部５０によって求められた変形量に基づいて、回転ローラ移動部２４３によって第１回転ローラ２４２ａをＸ軸方向に移動させることで、Ｘ軸方向に帯状ワークを変形させる。このように、制御部５０は、計測部２３０によって計測された下地パターンの位置ずれに基づいて、帯状パターンにマスクのパターンを転写する処理を行うときの下地パターンの形状が目標形状となるように、変形部２４０による帯状ワークの変形を制御する。これにより、帯状ワークに形成されている下地パターンに対して、マスクのパターンを位置ずれなく、即ち、高精度に重ね合わせた状態で形成（転写）することができる。
【００３１】
本実施形態では、回転軸２４１の両端に第１回転ローラ２４２ａが配置され、回転軸２４１の中央に第２回転ローラ２４２ｂが配置されているが、これらの配置に限定するものではない。例えば、回転軸２４１に配置される第１回転ローラ２４２ａの数を増やすことで、Ｘ軸方向に関して、より細かい間隔で帯状ワークを変形させることができる。
【００３２】
また、本実施形態では、搬送される帯状ワークに形成されている下地パターンの位置ずれを計測部２３０によってリアルタイムに計測し、計測部２３０の計測結果に基づいて、変形部２４０によって帯状ワークをＸ軸方向に変形させている。但し、例えば、露光装置１の外部で帯状ワークに形成された下地パターンの位置ずれを予め計測し、かかる計測結果に基づいて、変形部２４０によって帯状ワークをＸ軸方向に変形させてもよい。この場合、露光装置１は、露光装置１の外部で計測された下地パターンのＸ軸方向の位置ずれが入力される入力部を有することになる。
【００３３】
本実施形態における変形部２４０によって補正可能な下地パターンの位置ずれは、下地パターンのＸ軸方向の位置ずれである。具体的には、図２（ａ）、図２（ｃ）、図２（ｅ）、図２（ｇ）、図２（ｉ）、図２（ｋ）、図２（ｍ）、図２（ｏ）、図２（ｑ）及び図２（ｓ）に示すような位置ずれは、本実施形態における変形部２４０によって補正可能である。例えば、図２（ａ）、図２（ｃ）、図２（ｇ）及び図２（ｍ）に示す位置ずれに関しては、第１回転ローラ２４２ａを所定のＸ軸方向の位置に移動させ、露光中は、第１回転ローラ２４２ａを固定した状態で補正を行うことが可能である。また、図２（ｅ）、図２（ｉ）、図２（ｋ）、図２（ｏ）、図２（ｑ）及び図２（ｓ）に示す位置ずれに関しては、露光中、第１回転ローラ２４２ａをリアルタイムでＸ軸方向に移動させることで補正を行うことが可能である。
【００３４】
＜第２の実施形態＞
図６は、第２の実施形態における変形部２４０の構成を示す斜視図である。図７は、第２の実施形態における変形部２４０の構成をＹ軸方向から示す正面図である。変形部２４０は、本実施形態では、Ｘ軸方向に沿って配置された第１回転軸２４５及び第２回転軸２４６と、第１回転軸２４５及び第２回転軸２４６に配置され、帯状ワークと接触する複数の回転ローラ２４７と、回転制御部２４８とを含む。
【００３５】
複数の回転ローラ２４７は、帯状ワークをＹ軸方向及びθｚ方向に変形させるための第１回転ローラ２４７ａと、帯状ワークを保持するための第２回転ローラ２４７ｂと、帯状ワークのＸ軸方向の撓みを防止するための第３回転ローラ２４７ｃとを含む。また、上述したように、各回転ローラ２４７の帯状ワークに対する摩擦力（保持力）には差（強弱）がつけられている。具体的には、第１回転ローラ２４７ａの帯状ワークに対する摩擦力は、第２回転ローラ２４７ｂの帯状ワークに対する摩擦力及び第３回転ローラ２４７ｃの帯状ワークに対する摩擦力よりも大きい。また、第２回転ローラ２４７ｂの帯状ワークに対する摩擦力は、第３回転ローラ２４７ｃの帯状ワークに対する摩擦力よりも大きい。
【００３６】
回転制御部２４８は、第１回転軸２４５及び第２回転軸２４６を回転させるための力を発生するアクチュエータや回転ローラ２４７の回転速度を計測する回転速度計などを含む。回転制御部２４８は、第１回転ローラ２４７ａの回転速度と第２回転ローラ２４７ｂ及び第３回転ローラ２４７ｃの回転速度との間に回転速度差が発生するように、第１回転軸２４５及び第２回転軸２４６の回転を制御する。
【００３７】
本実施形態では、複数の回転ローラのうち、回転速度を可変にする第１回転ローラ２４７ａと、回転速度を可変としない第２回転ローラ２４７ｂ及び第３回転ローラ２４７ｃとで、回転軸が分離された構成となっている。具体的には、第１回転ローラ２４７ａは、第１回転軸２４５に配置され、第２回転ローラ２４７ｂ及び第３回転ローラ２４７ｃは、第２回転軸２４６に配置されている。また、本実施形態では、第１回転軸２４５と第２回転軸２４６とが同軸上に配置されているが、これに限定するものではない。
【００３８】
本実施形態の変形部２４０による帯状ワークの変形について説明する。まず、計測部２３０において、供給ローラ２１０から供給される（即ち、搬送中の）帯状ワークに形成されている下地パターンを、帯状ワークの搬送方向（Ｙ軸方向）に直交する方向（Ｘ軸方向）で一列ずつ計測する。計測部２３０は、本実施形態では、帯状ワークに形成されている下地パターンのＹ軸方向及びθｚ方向の位置ずれを計測する。計測部２３０によって計測された下地パターンのＹ軸方向及びθｚ方向の位置ずれは制御部５０に入力される。また、制御部５０において、計測部２３０の計測結果に基づいて、下地パターンのＹ軸方向及びθｚ方向の位置ずれを補正するために必要となる各回転ローラ２４７の回転速度を求める。換言すれば、制御部５０において、下地パターンとこれから帯状ワークに形成するパターンとの位置ずれ（重ね合わせのずれ）を生じさせないために（即ち、下地パターンの形状を目標形状にするために）必要となる回転速度差を求める。かかる回転速度差は、本実施形態では、上述したように、第１回転ローラ２４７ａと第２回転ローラ２４７ｂ及び第３回転ローラ２４７ｃとの間に形成すべき回転速度差である。そして、計測部２３０によって位置ずれが計測された下地パターンが露光領域に位置した（搬送された）ときに、帯状ワークが目標形状となるように、変形部２４０によって帯状ワークを変形させる。具体的には、制御部５０によって求められた回転速度差が第１回転ローラ２４２ａと第２回転ローラ２４７ｂ及び第３回転ローラ２４７ｃとの間に形成されるように、回転制御部２４８によって第１回転軸２４５及び第２回転軸２４６の回転を制御する。本実施形態では、第１回転ローラ２４２ａと第２回転ローラ２４７ｂ及び第３回転ローラ２４７ｃとの間に形成された回転速度差によって、帯状ワークをＹ軸方向及びθｚ方向に変形させる。これにより、帯状ワークに形成されている下地パターンに対して、マスクのパターンを位置ずれなく、即ち、高精度に重ね合わせた状態で形成（転写）することができる。
【００３９】
本実施形態では、第１回転軸２４５と第２回転軸２４６とを１つの回転軸とみなすと、かかる回転軸の両端に第１回転ローラ２４７ａが配置され、かかる回転軸の中央に第２回転ローラ２４７ｂが配置されているが、これらの配置に限定するものではない。例えば、第１回転ローラ２４２ａの数を増やすことで、Ｙ軸方向及びθｚ方向に関して、より細かい間隔で帯状ワークを変形させることができる。
【００４０】
また、本実施形態では、搬送される帯状ワークに形成されている下地パターンの位置ずれを計測部２３０によってリアルタイムに計測し、計測部２３０の計測結果に基づいて、変形部２４０によって帯状ワークをＹ軸方向及びθｚ方向に変形させている。但し、例えば、露光装置１の外部で帯状ワークに形成された下地パターンの位置ずれを予め計測し、かかる計測結果に基づいて、変形部２４０によって帯状ワークをＹ軸方向及びθｚ方向に変形させてもよい。この場合、露光装置１は、露光装置１の外部で計測された下地パターンのＹ軸方向及びθｚ方向の位置ずれが入力される入力部を有することになる。
【００４１】
本実施形態における変形部２４０によって補正可能な下地パターンの位置ずれは、下地パターンのＹ軸方向及びθｚ方向の位置ずれである。具体的には、図２（ｂ）、図２（ｄ）、図２（ｆ）、図２（ｈ）、図２（ｊ）、図２（ｌ）、図２（ｎ）、図２（ｐ）、図２（ｒ）及び図２（ｔ）に示すような位置ずれは、本実施形態における変形部２４０によって補正可能である。例えば、図２（ｂ）、図２（ｄ）、図２（ｈ）及び図２（ｎ）に示す位置ずれ（Ｙ軸方向の位置ずれ）に関しては、全ての第１回転ローラ２４７ａの回転速度を一律で変化させることで補正を行うことが可能である。また、図２（ｆ）、図２（ｊ）、図２（ｌ）、図２（ｐ）、図２（ｒ）及び図２（ｔ）に示す位置ずれ（θｚ方向の位置ずれ）に関しては、第１回転ローラ２４７ａのそれぞれに回転速度差を与えることで補正を行うことが可能である。更に、図２（ｄ）、図２（ｈ）、図２（ｊ）、図２（ｎ）、図２（ｐ）及び図２（ｒ）に示す位置ずれに関しては、露光中、第１回転ローラ２４２ａの回転速度をリアルタイムで変化させることで補正を行うことが可能である。
【００４２】
＜第３の実施形態＞
第１の実施形態では、帯状ワークに形成された下地パターンのＸ軸方向の位置ずれを補正することが可能な変形部２４０の構成について説明した。また、第２の実施形態では、帯状ワークに形成された下地パターンのＹ軸方向及びθｚ方向の位置ずれを補正することが可能な変形部２４０の構成について説明した。本実施形態では、第１の実施形態で説明した変形部２４０の構成と第２の実施形態で説明した変形部２４０の構成とを組み合わせ、下地パターンのＺ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向の位置ずれを補正することが可能な変形部２４０の構成について説明する。
【００４３】
図８は、第３の実施形態における変形部２４０の構成を示す斜視図である。図９は、第３の実施形態における変形部２４０の構成をＹ軸方向から示す正面図である。変形部２４０は、本実施形態では、Ｘ軸方向に沿って配置された第１回転軸２４５及び第２回転軸２４６と、第１回転軸２４５及び第２回転軸２４６に配置され、帯状ワークと接触する複数の回転ローラ２４９とを含む。また、変形部２４０は、回転ローラ移動部２４３と、変位検出部２４４と、回転制御部２４８とを含む。
【００４４】
複数の回転ローラ２４９は、帯状ワークをＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向に変形させるための第１回転ローラ２４９ａと、帯状ワークを保持するための第２回転ローラ２４９ｂと、帯状ワークのＸ軸方向の撓みを防止するための第３回転ローラ２４９ｃとを含む。また、上述したように、各回転ローラ２４９の帯状ワークに対する摩擦力（保持力）には差（強弱）がつけられている。具体的には、第１回転ローラ２４９ａの帯状ワークに対する摩擦力は、第２回転ローラ２４９ｂの帯状ワークに対する摩擦力及び第３回転ローラ２４９ｃの帯状ワークに対する摩擦力よりも大きい。また、第２回転ローラ２４９ｂの帯状ワークに対する摩擦力は、第３回転ローラ２４９ｃの帯状ワークに対する摩擦力よりも大きい。
【００４５】
本実施形態では、第１回転ローラ２４９ａに関しては、回転ローラ移動部２４３によって、第１回転軸２４５におけるＸ軸方向の位置が変更可能である。一方、第２回転ローラ２４９ｂ及び第３回転ローラ２４９ｃに関しては、第２回転軸２４６におけるＸ軸方向の位置が固定されている。
【００４６】
また、本実施形態では、複数の回転ローラのうち、回転速度を可変にする第１回転ローラ２４９ａと、回転速度を可変としない第２回転ローラ２４９ｂ及び第３回転ローラ２４９ｃとで、回転軸が分離された構成となっている。具体的には、第１回転ローラ２４９ａは、第１回転軸２４５に配置され、第２回転ローラ２４９ｂ及び第３回転ローラ２４９ｃは、第２回転軸２４６に配置されている。
【００４７】
本実施形態の変形部２４０による帯状ワークの変形について説明する。まず、計測部２３０において、供給ローラ２１０から供給される（即ち、搬送中の）帯状ワークに形成されている下地パターンを、帯状ワークの搬送方向（Ｙ軸方向）に直交する方向（Ｘ軸方向）で一列ずつ計測する。計測部２３０は、本実施形態では、帯状ワークに形成されている下地パターンのＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向の位置ずれを計測する。帯状ワークに形成されている下地パターンのアライメントマークを検出することで、下地パターンの形状を計測している。計測部２３０によって計測された下地パターンのＺ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向の位置ずれは制御部５０に入力される。制御部５０では、計測部２３０の計測結果に基づいて、下地パターンのＸ軸方向の位置ずれを補正するための帯状ワークの変形量を求める。換言すれば、制御部５０において、下地パターンとこれから帯状ワークに形成するパターンとの位置ずれ（重ね合わせのずれ）を生じさせないために（即ち、下地パターンの形状を目標形状にするために）必要となる帯状ワークの変形量を求める。更に、制御部５０では、計測部２３０の計測結果に基づいて、下地パターンのＹ軸方向及びθｚ方向の位置ずれを補正するために必要となる各回転ローラ２４９の回転速度を求める。換言すれば、制御部５０において、下地パターンとこれから帯状ワークに形成するパターンとの位置ずれ（重ね合わせのずれ）を生じさせないために（即ち、下地パターンの形状を目標形状にするために）必要となる回転速度差を求める。かかる回転速度差は、本実施形態では、上述したように、第１回転ローラ２４９ａと第２回転ローラ２４９ｂ及び第３回転ローラ２４９ｃとの間に形成すべき回転速度差である。そして、計測部２３０によって位置ずれが計測された下地パターンが露光領域に位置した（搬送された）ときに、帯状ワークが目標形状となるように、変形部２４０によって帯状ワークを変形させる。具体的には、制御部５０によって求められた変形量に基づいて、回転ローラ移動部２４３によって第１回転ローラ２４９ａをＸ軸方向に移動させることで、Ｘ軸方向に帯状ワークを変形させる。また、求められた下地パターンの位置に基づいて、Ｘ軸方向に帯状ワークを全体にシフトさせることもできる。更に、制御部５０によって求められた回転速度差が第１回転ローラ２４９ａと第２回転ローラ２４９ｂ及び第３回転ローラ２４９ｃとの間に形成されるように、回転制御部２４８によって第１回転軸２４５及び第２回転軸２４６の回転を制御する。これにより、帯状ワークに形成されている下地パターンのＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向の位置ずれが補正され、かかる下地パターンに対して、マスクのパターンを位置ずれなく、即ち、高精度に重ね合わせた状態で形成（転写）することができる。
【００４８】
本実施形態では、第１回転軸２４５と第２回転軸２４６とを１つの回転軸とみなすと、かかる回転軸の両端に第１回転ローラ２４９ａが配置され、かかる回転軸の中央に第２回転ローラ２４９ｂが配置されているが、これらの配置に限定するものではない。例えば、第１回転ローラ２４９ａの数を増やすことで、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向に関して、より細かい間隔で帯状ワークを変形させることができる。
【００４９】
また、本実施形態では、搬送される帯状ワークに形成されている下地パターンの位置ずれを計測部２３０によってリアルタイムに計測し、計測部２３０の計測結果に基づいて、変形部２４０によって帯状ワークをＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向に変形させている。但し、例えば、露光装置１の外部で帯状ワークに形成された下地パターンの位置ずれを予め計測し、かかる計測結果に基づいて、変形部２４０によって帯状ワークをＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向に変形させてもよい。この場合、露光装置１は、露光装置１の外部で計測された下地パターンのＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向の位置ずれが入力される入力部を有することになる。
【００５０】
本実施形態における変形部２４０によって補正可能な下地パターンの位置ずれは、下地パターンのＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向の位置ずれである。具体的には、図２（ａ）乃至図２（ｔ）に示すような位置ずれは、本実施形態における変形部２４０によって補正可能である。更に、本実施形態では、下地パターンのＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向の位置ずれを同時に補正することが可能であるため、図２（ａ）乃至図２（ｔ）のいずれかを組み合わせたような複雑な位置ずれに対しても補正が可能となる。
【００５１】
露光装置１による露光処理について説明する。光源から発せられた光は、照明光学系３０を介して、マスクを照明する。マスクを通過してパターンを反映する光は、投影光学系４０を介して、ワーク搬送機構２０によって搬送（保持）されている帯状ワークに結像される。ワーク搬送機構２０は、上述したように、帯状ワークを変形させるための変形部２４０を含み、帯状ワークを変形させることで下地パターンの位置ずれを補正することができる。従って、露光装置１は、下地パターンに対して、マスクのパターンを位置ずれなく、即ち、高精度に重ね合わせた状態で形成（転写）することができ、高いスループットで経済性よく高品位なデバイスななどの物品を提供することができる。かかる製造方法は、露光装置１を用いて、感光剤が塗布された帯状ワークにパターンを形成する工程と、パターンを形成された帯状ワークを処理（例えば、現像）する工程を含む。また、上記形成工程につづけて、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００５２】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、リソグラフィ装置は、露光装置に限定されるものではなく、荷電粒子光学系を介して荷電粒子線（電子線やイオンビームなど）で帯状ワークに描画を行ってパターンを基板に形成する描画装置であってもよい。
【図１】
2015138261.tif 000003
【図３】
2015138261.tif 000004
【図４】
2015138261.tif 000005
【図５】
2015138261.tif 000006
【図６】
2015138261.tif 000007
【図７】
2015138261.tif 000008
【図８】
2015138261.tif 000009
【図９】
2015138261.tif 000010
【図２】
2015138261.tif 000011