(57)【要約】      （修正有）【課題】積層体における各層の厚みの測定精度を向上させることのできる厚み測定方法、厚み測定システム、および積層体の製造方法を提供する。【解決手段】厚み測定方法は、複数の層を有する積層体１の隣接する各層間の屈折率差を０．０２０以上に設定し、分光干渉方式を利用して積層体１の各層の厚みを測定する。厚み測定システム２００は、隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上である積層体１と、積層体１に光を照射する光源２１と、積層体１から反射された光を分光させる分光器２２と、分光器２２で分光した波形を解析する解析器２３と、を有する。積層体の製造方法は、隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上となるように複数の層を積層させる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の層を有する積層体の隣接する各層間の屈折率差を０．０２０以上に設定し、分光干渉方式を利用して前記各層の厚みを測定する厚み測定方法。 
【請求項２】
隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上である積層体と、
前記積層体に光を照射する光源と、
前記積層体から反射された光を分光させる分光器と、
前記分光器で分光した波形を解析する解析器と、を有する厚み測定システム。 
【請求項３】
隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上となるように複数の層を積層させる積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、厚み測定方法、厚み測定システム、および積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、複数の層が積層された積層体の各層の厚みを精度良く測定することが要求されている。積層体は、各層同士が、互いに異なる組成、性質、膜厚等を有する場合がある。
各層の厚みを測定する方法としては、例えば、各層を形成する度に厚みを測定し、積層後の厚みと積層前の厚みとの差に基づいて算出する方法が挙げられる。しかしながら、このような方法では、厚みの測定を複数回実施する必要があり、簡便ではない。例えば、積層体を製造するラインにおいてインラインで膜厚を測定しようとする場合、各層を形成する工程が終わる度に厚み測定を行うことになる。そのため、各層ごとに、層形成および厚み測定のための装置を設ける必要があり、製造ラインが長くなったり、製造装置が大型化したり、製造装置のコストが高くなったりして、好ましくない。
積層体の各層の厚みを測定する方法として、例えば、特許文献１には、光干渉方式の膜厚測定装置を用いて多層膜フィルムの各層の膜厚を測定する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１６１６０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、積層体に求められる性能も多様化し各層の膜厚制御が重要になってきているため、積層体における各層の厚みの測定精度を向上させることが要望されている。
【０００５】
本発明の目的は、積層体における各層の厚みの測定精度を向上させることのできる厚み測定方法、厚み測定システム、および積層体の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一実施形態に係る厚み測定方法は、複数の層を有する積層体の隣接する各層間の屈折率差を０．０２０以上に設定し、分光干渉方式を利用して前記各層の厚みを測定することを特徴とする。
【０００７】
本発明の一実施形態に係る厚み測定システムは、隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上である積層体と、前記積層体に光を照射する光源と、前記積層体から反射された光を分光させる分光器と、前記分光器で分光した波形を解析する解析器と、を有することを特徴とする。
【０００８】
本発明の一実施形態に係る積層体の製造方法は、隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上となるように複数の層を積層させることを特徴とする。
【０００９】
本発明の一実施形態に係る厚み測定方法によれば、積層体の隣接する各層間の屈折率差を０．０２０以上に設定し、分光干渉方式を利用して各層の厚みを測定するので、測定精度を向上させることができる。
【００１０】
また、本発明の一実施形態に係る厚み測定システムによれば、隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上である積層体に光源からの光を照射し、反射された光を分光器で分光させて、分光した波形を解析器で解析する。そのため、積層体の各層の厚みの測定精度を向上させることができる。
【００１１】
また、本発明の一実施形態に係る積層体の製造方法によれば、隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上となるように複数の層を積層させるため、製造される積層体の各層の厚みを分光干渉方式により測定する際の精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施形態に係る積層体の断面図である。
【図２】前記積層体を製造する方法を説明する概略図である。
【図３】本発明の実施形態に係る厚み測定システムを説明する概略図である。
【図４】本発明の変形例に係る積層体の断面図である。
【図５】屈折率差と厚み測定値のズレ率との関係を表すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明について実施形態を例に挙げて説明する。本発明は実施形態の内容に限定されるものではない。
【００１４】
・第一実施形態
図１には、本発明の実施形態に係る積層体１の断面図が示されている。
本実施形態では、２種類の粘着層が基材上に積層されている積層体１を例に挙げて説明する。ただし、本発明は、本実施形態で説明する態様に限定されない。
積層体１は、基材１０、第一の粘着層１１、および第二の粘着層１２を有する。基材１０の上に第一の粘着層１１が積層され、第一の粘着層１１の上に第二の粘着層１２が積層されている。
本実施形態において、第一の粘着層１１の屈折率と、第二の粘着層１２の屈折率との差（屈折率差）が、０．０２０以上である。第一の粘着層１１の屈折率が、第二の粘着層１２の屈折率よりも大きくてもよいし、第二の粘着層１２の屈折率が、第一の粘着層１１の屈折率よりも大きくてもよい。すなわち、本実施形態では、隣接する層同士の屈折率差の絶対値が０．０２０以上であればよい。屈折率差は、０．０２５以上であることがより好ましく、０．０３０以上であることがさらに好ましい。屈折率差の上限は、各層を構成する材料に要求される物性や特性等に応じて適宜決定される。隣接する層同士の屈折率差の絶対値が、０．０２０未満であると隣接する層の界面からの照射光による反射光が返ってこない場合があり、隣接する層の界面を認識することが出来ずに２つの層を１つの層と認識してしまうことがある。その場合には、各々の層の厚みを測定することができず、２つの層の厚みを足し合わせた１つの層としての厚みが測定される。
【００１５】
基材１０は、粘着層を支持する。基材１０の材質は、特に限定されることはないが、例えば、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレート等）、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂などの合成樹脂フィルムや、上質紙、含浸紙、グラシン紙、コート紙などの紙材や、不織布、木材や金属箔等のシート材料や板状材料を用いることができる。基材１０には必要により剥離処理を施してもよい。剥離処理に用いる剥離剤としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、長鎖アルキル樹脂などを例示することができる。これらの剥離剤のうちから１種以上を、適宜選択して用いることができる。基材１０の形状は、特に限定されることはないが、正方形や長方形などの矩形状や三角形、五角形、六角形などの多角形状、円形状、楕円形状、不定形状、長尺のロール形状など最終製品の用途により様々選択されればよい。なお、基材１０は、光源から照射される光が透過する材料であれば、同時に厚みを測定することができる。つまり、基材１０が光の透過しない不透明な材料であれば、厚みを測定することはできない。本実施形態では、長尺状の基材１０に、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２が積層された態様を例に挙げて説明する。
基材の厚さとしては、３μｍ以上５ｍｍ以下が好ましく、５μｍ以上３ｍｍ以下がさらに好ましく、１０μｍ以上１ｍｍ以下が特に好ましい。基材の厚さが３μｍ未満だと、薄いために耐熱性及び引張強度が劣り、積層加工での熱処理や張力により伸びたり切れたりするおそれがあり、さらに基材のコシが弱いために加工工程でのハンドリングに劣る場合がある。基材の厚さが５ｍｍを超えると、厚みが大きいためにロール状で巻き取る際に加工機の巻取り部のスペースにより巻取り径が制限され、必要な長さが得られなかったり、基材のコシが強く柔軟性に劣るために加工工程でのハンドリング性に支障が出たり、基材の反発によりきれいに巻き取れない場合がある。
【００１６】
第一の粘着層１１および第二の粘着層１２は、粘着剤を用いて形成された層である。
第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の材質は、特に限定されず広く適用できる。例えば、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２としては、ゴム系、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ウレタン系等の粘着剤を用いることができる。なお、粘着剤の種類は、用途や貼着される被着体の種類等を考慮して選択される。第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の材質の組み合せも、用途や貼着される被着体の種類等を考慮して選択される。例えば、被着体に対する粘着力を考慮して第二の粘着層１２の粘着剤を選択したが、第二の粘着層１２の基材１０に対する密着性が不足するような場合に、第二の粘着層１２および基材１０に対する粘着力を有する粘着剤を選択して第一の粘着層１１を形成する例を挙げることができる。
本実施形態において、第一の粘着層１１と第二の粘着層１２は所定の屈折率差を有する。この所定の屈折率差となるように設定するために、いずれかの層の屈折率を上げたり下げたりすることができる。例えば、屈折率調整剤を添加した粘着剤を用いて粘着剤の屈折率を上げたり、粘着剤を構成するポリマーに高屈折モノマーを共重合させて屈折率を上げたりすることもできる。屈折率の調整をする際に共重合させるモノマーは、環構造を有する有機化合物であることが好ましく、芳香族６員環構造を有する有機化合物であることが好ましい。粘着剤を構成するポリマーがアクリル系ポリマーである場合、屈折率の調整をするモノマーとして、フェノキシエチル（メタ）アクリレートやベンジル（メタ）アクリレートのような芳香族環を含有するアルキル（メタ）アクリレートを用いることができる。また、屈折率の調整には、例えば、フェニル骨格、ナフチル骨格、ビフェニル骨格、ピリジニル骨格、スチレン骨格、ナフタレン骨格、スルホン骨格、フルオレン骨格、ビスフェノールＡ骨格、ウレタン骨格、およびエポキシ骨格の少なくともいずれかの骨格を持つポリマー、酸化チタン、酸化ジルコニア、酸化亜鉛などの金属酸化物などから選択された一種以上の高屈折率材料を添加しても良い。また、フッ素樹脂、中空シリカ、フッ化マグネシウムなどの低屈折率材料を添加してもよい。屈折率調整剤として微粒子を用いる場合には、１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の粒子径であることが好ましく、３ｎｍ以上５００ｎｍ以下がさらに好ましく、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下が特に好ましい。
第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚さ寸法は、特に限定されないが、それぞれ、積層体１における所望の粘着性質に応じて適宜設定される。また、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚さ寸法は、それぞれ、分光干渉方式の測定限界に応じて適宜設定される。
【００１７】
図２には、積層体１を製造する方法を説明する概略図が示されている。
本実施形態では、製造装置１００を用いて積層体１を製造する。
製造装置１００は、基材１０を繰り出す第一供給手段３０と、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２を塗布する塗工手段４０と、製膜手段５０と、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚みを測定する厚み測定手段２０と、保護フィルム１５を繰り出す第二供給手段６０と、積層体１に保護フィルム１５を貼合する貼合部７０と、保護フィルム１５付き積層体１を巻き取る巻取手段８０とを備える。
【００１８】
第一供給手段３０は、駆動機器としての回動モータ３１と、回動モータ３１により回転可能に設けられた支持ローラ３２とを備える。支持ローラ３２は、ロール状に巻回した長尺状の基材１０を支持する。支持ローラ３２から繰り出された基材１０は、途中、ガイドローラによって搬送方向を案内されながら、塗工手段４０へ供給される。
【００１９】
塗工手段４０は、本実施形態では、第一の粘着層１１の構成成分及び溶媒を含んだ第一の塗工液を基材１０に塗布して第一の塗膜を形成し、次いで、その第一の塗膜の上に第二の粘着層１２の構成成分及び溶媒を含んだ第二の塗工液を塗布して第二の塗膜を形成する。塗工手段４０としては、例えば、グラビアコーター、ナイフコーター、ロールコーター、ダイコーターなどを挙げることができ、複数の層を一度に形成できるストレートダイ、クロスヘッドダイ、フラットダイ、スライドビードダイなどのダイコーターを用いることが好ましい。
【００２０】
製膜手段５０としては、乾燥炉を例示でき、塗工手段４０にて形成された第一の塗膜および第二の塗膜に含まれる溶媒を乾燥および除去する。溶媒の除去により、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２が基材１０の上に形成された積層体１が得られる。乾燥炉以外の製膜手段５０としては、紫外線照射装置、電子線照射装置、赤外線照射装置などを例示することができ、これらと乾燥炉を併用してもよい。なお、乾燥炉を用いない場合には、塗膜中に溶媒が含まれないことが好ましい。
【００２１】
厚み測定手段２０は、複数の層が積層された積層体の各層の厚みを分光干渉方式で測定する装置である。図３に示すように、厚み測定手段２０は、積層体１に光を照射する光源２１と、積層体１から反射された光を分光させる分光器２２と、分光器２２で分光した波形を解析する解析器２３とを備える。
厚み測定手段２０は、例えば、光源２１から照射される光（検出光）を、参照面および測定対象物である積層体１に照射し、これらの反射光からなる干渉反射光を分光器２２で分光させてもよい。この場合、厚み測定手段２０は、検出光を出射するセンサヘッドを備えていることが好ましい。センサヘッドは、参照面を有し、参照面からの反射光と、測定対象物からの反射光とを干渉させて分光器２２に導く構成とすることが好ましい。積層体１の場合、第二の粘着層１２の表面からの反射光、第一の粘着層１１と第二の粘着層１２との界面からの反射光、並びに第一の粘着層１１と基材１０との界面からの反射光を受光し、分光器２２および解析器２３で解析する。その結果、参照面から第二の粘着層１２の表面までの距離、参照面から第一の粘着層１１と第二の粘着層１２との界面までの距離、並びに参照面から第一の粘着層１１と基材１０との界面までの距離を測定することができる。
厚み測定手段２０としては、特に限定されないが、従来の干渉膜厚計や光学式変位計等が挙げられ、例えば、株式会社キーエンス製の分光干渉変位タイプ多層膜厚測定器ＳＩシリーズ等が挙げられる。
本実施形態において、図３に示すように厚み測定手段２０および積層体１とで厚み測定システム２００が構成される。
【００２２】
第二供給手段６０は、駆動機器としての回動モータ６１と、回動モータ６１により回転可能に設けられた支持ローラ６２とを備える。支持ローラ６２は、ロール状に巻回した長尺状の保護フィルム１５を支持する。支持ローラ６２から繰り出された保護フィルム１５は、貼合部７０へ供給される。
【００２３】
貼合部７０は、厚み測定後の積層体１が架け回された第一貼合ロール７１と、保護フィルム１５が架け回された第二貼合ロール７２と、を備える。積層体１と保護フィルム１５とは、第一貼合ロール７１および第二貼合ロール７２の間を通過することで貼り合わされて、保護フィルム１５付きの積層体１となる。保護フィルム１５付きの積層体１は、第一貼合ロール７１および第二貼合ロール７２によって、巻取手段８０が配置された下流側へと案内される。
【００２４】
巻取手段８０は、駆動機器としての回動モータ８１と、回動モータ８１により回転可能に設けられた支持ローラ８２とを備える。支持ローラ８２は、長尺状の保護フィルム１５付きの積層体１をロール状に巻回して支持する。
【００２５】
ロール状に巻回された保護フィルム１５付きの積層体１は、所定形状および所定寸法に裁断されて、例えば、保護フィルム１５付きの粘着シートとして利用できる。この粘着シートは、保護フィルム１５を剥がして第二の粘着層１２を露出させて、被着体（第一の被着体）に貼着される。基材１０は、そのまま第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の支持体としておいてもよいし、基材１０を剥がして第一の粘着層１１を露出させ、露出した第一の粘着層１１に別の被着体（第二の被着体）を貼着してもよい。
【００２６】
・積層体の製造方法
本実施形態に係る積層体１は、隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上となるように複数の層を積層させることで製造される。第一の粘着層１１と第二の粘着層１２との屈折率差が０．０２０以上、好ましくは０．０２５以上、より好ましくは０．０３０以上となるように粘着剤を選択して基材１０に積層させる。
例えば、製造装置１００を用いて積層体１を製造することができる。上述の所定屈折率差となるように第一の粘着層用の塗工液（第一の塗工液）および第二の粘着層用の塗工液（第二の塗工液）を塗工手段４０に供給する。塗工手段４０で第一の塗工液および第二の塗工液を順次塗布し、乾燥させて、積層体１を得ることができる。なお、積層体１を製造するための装置は、製造装置１００に限定されない。
【００２７】
・厚み測定方法
本実施形態では、積層体１における隣接する各層の厚みを厚み測定システム２００により測定する。積層体１において、第一の粘着層１１の屈折率と、第二の粘着層１２の屈折率との差が、０．０２０以上に設定されている。厚み測定手段２０による分光干渉方式を利用して第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚みを測定する。図２に示すように、製造装置１００を用いて積層体１を製造するラインの途中に厚み測定手段２０を配置し、インラインで積層体１における第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚みを測定する。複数台の厚み測定手段２０を用いて、積層体１の幅方向または長尺方向に渡って複数箇所の厚みを測定してもよい。なお、インラインでの測定に限らず、積層体１を製造装置１００で製造した後に、製造装置１００とは別の場所で（オフラインで）、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚みを測定してもよい。
【００２８】
本実施形態に係る厚み測定方法、厚み測定システム２００によれば、第一の粘着層１１の屈折率と、第二の粘着層１２の屈折率との差が、０．０２０以上に設定されており、分光干渉方式を利用して第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚みを測定する。そのため、積層体１における第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚みの測定精度が向上するばかりか、一度の測定で各々の層の厚みが分かるので、測定における作業の手間を軽減することができる。
【００２９】
また、本実施形態に係る厚み測定方法、および厚み測定システム２００を積層体１の製造ラインに組み込めば、インラインで正確な厚み測定が可能である。そのため、例えば、厚み測定システム２００または製造装置１００に制御手段を設け、厚み測定手段２０で測定された厚みと、予め設定された厚みの閾値とを当該制御手段にて比較させながら製造を行い、閾値を超えた場合に警報手段に警報を発せさせるなどの構成としてもよい。このような構成であれば、閾値を超えた厚みの積層体が製造されることを抑制できる。その結果、粘着層の厚みのばらつきが少ない積層体を製造することができる。
【００３０】
本実施形態に係る積層体の製造方法によれば、第一の粘着層１１と第二の粘着層１２との屈折率差が０．０２０以上となるように基材１０に積層させる。そのため、このようにして製造された積層体１を、分光干渉方式で厚み測定すれば、測定精度が向上するばかりか、各々の層の厚み測定を容易に行うことができる。
【００３１】
・第二実施形態
次に、本発明の第二実施形態について説明する。尚、以下の説明では、既に説明したものと、同一の部材、構成、手段等については、同一符号を付して説明を簡略または省略する。
本実施形態では、積層体１の基材１０の厚さも同時に測定する態様を説明する。
基材１０の屈折率と第一の粘着層１１の屈折率との差が、０．０２０以上であり、第一の粘着層１１の屈折率と、第二の粘着層１２の屈折率との差が、０．０２０以上に設定されていれば、積層体１の基材１０も含めて３つの層の厚さを測定することができる。
これらの屈折率差は、０．０２５以上であることがより好ましく、０．０３０以上であることがさらに好ましい。基材１０の屈折率が、第一の粘着層１１よりも大きくてもよいし、小さくてもよい。
本実施形態においても、分光干渉方式で測定することで、基材１０、第一の粘着層１１、および第二の粘着層１２の厚みの測定精度が向上するばかりか、各々の層の厚み測定を容易に行うことが可能となる。
【００３２】
・第三実施形態
次に、本発明の第三実施形態について説明する。尚、以下の説明では、既に説明したものと、同一の部材、構成、手段等については、同一符号を付して説明を簡略または省略する。
図４には本実施形態に係る積層体１Ａの断面概略図が示されている。
積層体１Ａは、Ｎ層（Ｎは、１以上の整数）の粘着層が積層された積層体である。積層体１Ａは、図４に示すように、基材１０側から順に、第一の粘着層１１、第二の粘着層１２、途中の層は、図示が省略され、第（Ｎ−１）の粘着層１３、および第Ｎの粘着層１４を有する。Ｎは、２以上の整数であり、本実施形態では、４以上の整数である。積層体１Ａにおいても、隣接する層同士の屈折率差が０．０２０以上に設定されている。例えば、第Ｎの粘着層１４の屈折率と、第（Ｎ−１）の粘着層１３の屈折率との差は、０．０２０以上である。途中省略された層も含めて、隣接する層同士の間では、屈折率差は、０．０２０以上である。好ましい屈折率差も前記実施形態で説明したとおりである。
本実施形態に係る積層体１Ａについても、分光干渉方式で測定することで、各層の厚みの測定精度が向上するばかりか、各々の層の厚み測定を容易に行うことが可能となる。
【００３３】
なお、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
【００３４】
前記実施形態では、積層体は、基材に粘着層が積層された態様を例に挙げて説明したが、本発明はこのような態様に何ら限定されない。積層体として、例えば、基材にインク受理層が積層された印字用シートや、粘着層を挟んでフィルムが貼り合わされた多層フィルムや、共押出法で製造された多層フィルムなどが挙げられる。
また、基材に積層される各層の形成は、上記実施形態で説明した塗工手段に限定されず、噴霧手段を用いてもよい。噴霧手段を用いる場合、各層の構成成分および溶媒を含む噴霧液を噴霧し、基材上に塗膜を形成し、次いで、溶媒を乾燥除去して、各層を成膜してもよい。また、上述のように共押出法で複数の樹脂層を積層させてもよい。また、光透過性の基材と１層の塗膜との積層体においても本発明は適用可能である。
【実施例】
【００３５】
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００３６】
（実施例１）    工程フィルム／組成物Ａ層／組成物Ｂ層
・積層体の製造
下記組成物Ａおよび下記組成物Ｂを積層させた積層体を製造した。
組成物Ａは、次のようにして製造した。アクリルポリマーＰ１（１００質量部）にメタクリロイルオキシエチルアクリレート（１６質量部）を反応させたエネルギー線硬化型ポリマーＰ２を得た。
アクリルポリマーＰ１は、ベンジルアクリレートとヒドロキシエチルアクリレートとの質量比で７２：２８の組成で構成され、質量平均分子量は５０万であった。
上記エネルギー線硬化型ポリマーＰ２（１００質量部）に、光重合開始剤（チバ・スペシャリティケミカルズ株式会社製：イルガキュア１８４、（３．５質量部））およびイソシアナート化合物（東洋インキ製造株式会社製：ＢＨＳ−８５１５、（５．３５質量部））を配合して組成物Ａを得た。配合比は、固形分換算にて行った。
【００３７】
組成物Ｂは、次のようにして製造した。アクリルポリマーＰ３（１００質量部）にメタクリロイルオキシエチルアクリレート（１６質量部）を反応させたエネルギー線硬化型ポリマーＰ４を得た。
アクリルポリマーＰ３は、ブチルアクリレートとベンジルアクリレートとヒドロキシエチルアクリレートとの質量比で６２：１０：２８の組成で構成され、質量平均分子量は５０万であった。
上記エネルギー線硬化型ポリマーＰ４（１００質量部）に、光重合開始剤（チバ・スペシャリティケミカルズ株式会社製：イルガキュア１８４、（３．５質量部））およびイソシアナート化合物（東洋インキ製造株式会社製：ＢＨＳ−８５１５、（５．３５質量部））を配合して組成物Ｂを得た。配合比は、固形分換算にて行った。
【００３８】
組成物Ａ（１００質量部）、トルエン（１７８質量部）、および酢酸エチル（５５質量部）を混合して塗工液Ａを作製した。
組成物Ｂ（１００質量部）、トルエン（１７８質量部）、および酢酸エチル（５５質量部）を混合して塗工液Ｂを作製した。
塗工液Ａを基材１０としての工程フィルム（リンテック株式会社製：ＳＰ−ＰＥＴ３８１１（Ｓ）、厚み３８μｍ）に、乾燥後の組成物Ａ層の厚みが２０μｍとなるように塗布した。塗工液Ａの塗布に続けて塗工液Ｂを、乾燥後の組成物Ｂ層の厚みが２０μｍとなるように塗布した。塗布の後、製膜手段にて乾燥させて溶媒を除去し、実施例１の積層体を得た。
【００３９】
・屈折率の測定
屈折率の測定は、ＪＩＳ  Ｋ００６２に準じ、アッベ屈折計（アタゴ株式会社製：多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２、Ｎａ光源、波長：５８９ｎｍ）により測定した。５８９ｎｍの干渉フィルターを使用した。測定環境は、２３℃および６５％ＲＨであった。積層体を構成する各層ごとに屈折率を測定した。測定結果を表１に示す。以下の実施例および比較例においても同様である。
【００４０】
・厚み測定１（断面観察）
実施例１の積層体の断面を光学顕微鏡にて観察し、各層の厚みを測定した。測定結果を表２に示す。以下の実施例および比較例においても同様である。
【００４１】
・厚み測定２（厚み測定装置）
実施例１の積層体の各層の厚みを、厚み測定装置（株式会社キーエンス製：分光干渉変位タイプ多層膜厚測定器ＳＩ−Ｔシリーズ、センサヘッド：ＳＩ−Ｔ１０、分光ユニット：ＳＩ−Ｔ１０Ｕ）を用いて測定した。測定結果を表２に示す。以下の実施例および比較例においても同様である。
【００４２】
・屈折率差
測定した積層体の隣接する層同士の屈折率差の絶対値を表２に示す。以下の実施例および比較例においても同様である。
【００４３】
・厚み実測値からのズレ率
厚み測定１（断面観察）で測定された厚み実測値Ｄ１［μｍ］と、厚み測定２（厚み測定装置）で測定された厚みＤ２［μｍ］とを用い、下記数式１により、実測値からのズレ率を算出した。結果を表２に示す。
（実測値からのズレ率）＝｛（Ｄ２−Ｄ１）／Ｄ１｝×１００      ・・・数式１
【００４４】
＜質量平均分子量（Ｍｗ）＞
ポリマーの質量平均分子量は、次のようにして測定した。サンプルを希釈している溶剤を室温にて乾燥させた後、テトラヒドロフランにて固形濃度１％に希釈した。その希釈液を、Ｍｉｌｌｅｘ  ＬＨ０．４５μｍフィルター（メルク株式会社製、品番ＳＬＬＨＨ１３ＮＬ）にてろ過した後、ゲル浸透クロマトグラフ装置（東ソー株式会社製、製品名「ＨＬＣ−８１２１ＧＰＣ／ＨＴ」）を用いて、下記の条件下で測定し、標準ポリスチレン換算にて質量平均分子量を算出した。
（測定条件）
カラム：「ＴＳＫ  ｇｕａｒｄ  ｃｏｌｕｍｎ  ＨＸＬ−Ｈ」
「ＴＳＫ  ｇｅｌ  ＧＭＨＸＬ（×２）」
「ＴＳＫ  ｇｅｌ  Ｇ２０００ＨＸＬ」
（いずれも東ソー株式会社製）
カラム温度：４０℃
展開溶媒  ：テトラヒドロフラン
流速      ：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
【００４５】
（実施例２）    工程フィルム／組成物Ａ層／組成物Ｂ層
実施例２の積層体は、第一の塗工液Ａを、乾燥後の組成物Ａ層の厚みが５μｍとなるように塗布し、第二の塗工液Ｂを、乾燥後の組成物Ｂ層の厚みが５μｍとなるように塗布したこと以外は、実施例１と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
【００４６】
（実施例３）    工程フィルム／組成物Ａ層／組成物Ｂ層
実施例３の積層体は、第一の塗工液Ａを、乾燥後の組成物Ａ層の厚みが５０μｍとなるように塗布し、第二の塗工液Ｂを、乾燥後の組成物Ｂ層の厚みが５０μｍとなるように塗布したこと以外は、実施例１と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
【００４７】
（実施例４）    工程フィルム／組成物Ａ層／組成物Ｃ層
実施例４の積層体は、実施例１における組成物Ｂを下記組成物Ｃに置き換えたこと以外は、実施例１と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
組成物Ｃは、次のようにして製造した。アクリルポリマーＰ５（１００質量部）にメタクリロイルオキシエチルアクリレート（１６質量部）を反応させたエネルギー線硬化型ポリマーＰ６を得た。
アクリルポリマーＰ５は、ブチルアクリレートとベンジルアクリレートとヒドロキシエチルアクリレートとの質量比で４２：３０：２８の組成で構成され、質量平均分子量は５０万であった。
上記エネルギー線硬化型ポリマーＰ６（１００質量部）に、光重合開始剤（チバ・スペシャリティケミカルズ株式会社製：イルガキュア１８４、（３．５質量部））およびイソシアナート化合物（東洋インキ製造株式会社製：ＢＨＳ−８５１５、（５．３５質量部））を配合して組成物Ｃを得た。配合比は、固形分換算にて行った。
組成物Ｃ（１００質量部）、トルエン（１７８質量部）、および酢酸エチル（５５質量部）を混合して塗工液Ｃを作製した。実施例１における塗工液Ｂに代えて塗工液Ｃを塗布した。
【００４８】
（実施例５）    工程フィルム／組成物Ａ層／組成物Ｄ層
実施例５の積層体は、実施例１における組成物Ｂを下記組成物Ｄに置き換えたこと以外は、実施例１と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
組成物Ｄは、次のようにして製造した。アクリルポリマーＰ７（１００質量部）にイソシアナート化合物（東洋インキ製造株式会社製：ＢＨＳ−８５１５、（５．３５質量部））を配合して組成物Ｄを得た。配合比は、固形分換算にて行った。
アクリルポリマーＰ７は、２−エチルヘキシルアクリレートと、ヒドロキシエチルアクリレートとの質量比で９５：５の組成で構成され、質量平均分子量は５０万であった。
組成物Ｄ（１００質量部）、トルエン（１７８質量部）、および酢酸エチル（５５質量部）を混合して塗工液Ｄを作製した。実施例１における塗工液Ｂに代えて塗工液Ｄを塗布した。
【００４９】
（実施例６）    工程フィルム／組成物Ａ層／フィルムＡ
実施例６の積層体は、次のように製造した。
実施例１の塗工液Ａを、工程フィルム（リンテック株式会社製：ＳＰ−ＰＥＴ３８１１（Ｓ）、厚み３８μｍ）に、乾燥後の組成物Ａ層の厚みが２０μｍとなるように塗布した。その後、製膜手段にて乾燥させて溶媒を除去した。次いで、組成物Ａ層の上に、下記フィルムＡを積層させて、実施例６の積層体を得た。
用いたフィルムＡは、テトラフルオロエチレンおよびヘキサフルオロプロピレンの共重合体を溶融押し出しして得た厚み５０μｍのフィルム（東レフィルム加工株式会社製：トヨフロンＦ＃５０）である。
各測定は実施例１と同様にして行った。
【００５０】
（実施例７）    工程フィルム／組成物Ａ層／フィルムＢ
実施例７の積層体は、実施例６におけるフィルムＡを下記フィルムＢに置き換えたこと以外は、実施例６と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
用いたフィルムＢは、ポリプロピレンを溶融押し出しして得た厚み５０μｍのフィルム（王子エフテックス株式会社製：アルファンＰＹ−００１＃５０）である。
【００５１】
（実施例８）    工程フィルム／組成物Ｄ層／フィルムＣ
実施例８の積層体は、実施例６におけるフィルムＡを下記フィルムＣに置き換え、塗工液Ａを塗工液Ｄに置き換えて塗布したこと以外は、実施例６と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
用いたフィルムＣは、ポリエチレンを溶融押し出しして得た厚み１００μｍのフィルム（株式会社アイセロ製：スズロンＬ−１００）である。
【００５２】
（実施例９）    工程フィルム／組成物Ａ層／フィルムＤ
実施例９の積層体は、実施例６におけるフィルムＡを下記フィルムＤに置き換えたこと以外は、実施例６と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
用いたフィルムＤは、ポリカーボネートを溶融押し出しして得た厚み７８μｍのフィルム（帝人化成株式会社製：パンライトＤ−７８）である。
【００５３】
（実施例１０）    工程フィルム／組成物Ａ層／フィルムＥ
実施例１０の積層体は、実施例６におけるフィルムＡを下記フィルムＥに置き換えたこと以外は、実施例６と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
用いたフィルムＥは、ポリスチレンを溶融押し出しして得た厚み５０μｍのフィルム（旭化成ケミカルズ株式会社製：ＯＰＳフィルムＧＭ＃５０）である。
【００５４】
（実施例１１）    工程フィルム／組成物Ａ層／フィルムＦ
実施例１１の積層体は、実施例６におけるフィルムＡを下記フィルムＦに置き換えたこと以外は、実施例６と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
用いたフィルムＦは、ポリエチレンテレフタレートを溶融押し出しして得た厚み７５μｍのフィルム（三菱樹脂株式会社製：ダイヤホイルＴ６００−７５）である。
【００５５】
（実施例１２）    フィルムＦ／組成物Ａ層／組成物Ｄ層
実施例１２の積層体は、実施例５における工程フィルムを、実施例１１のフィルムＦに置き換えたこと以外は、実施例５と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。なお、実施例１２では、３層（フィルムＦ／組成物Ａ層／組成物Ｄ層）の厚みを測定した。組成物Ａと組成物Ｄとの屈折率差は、０．０６６１であり、フィルムＦと組成物Ａとの屈折率差は、０．１０９３であった。
【００５６】
（比較例１）    工程フィルム／組成物Ｄ層／組成物Ｅ層
比較例１の積層体は、実施例１における組成物Ａを組成物Ｄに置き換え、組成物Ｂを下記組成物Ｅに置き換えたこと以外は、実施例１と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
組成物Ｅは、次のようにして製造した。アクリルポリマーＰ８（１００質量部）にメタクリロイルオキシエチルアクリレート（１６質量部）を反応させたエネルギー線硬化型ポリマーＰ９を得た。
アクリルポリマーＰ８は、ブチルアクリレートと、メチルメタクリレートと、ヒドロキシエチルアクリレートとの質量比で６２：１０：２８の組成で構成され、質量平均分子量は５０万であった。
上記エネルギー線硬化型ポリマーＰ９（１００質量部）に、光重合開始剤（チバ・スペシャリティケミカルズ株式会社製：イルガキュア１８４、（３．５質量部））およびイソシアナート化合物（東洋インキ製造株式会社製：ＢＨＳ−８５１５、（５．３５質量部））を配合して組成物Ｅを得た。配合比は、固形分換算にて行った。
組成物Ｅ（１００質量部）、トルエン（１７８質量部）、および酢酸エチル（５５質量部）を混合して塗工液Ｅを作製した。
実施例５で用いた塗工液Ｄを工程フィルム（リンテック株式会社製：ＳＰ−ＰＥＴ３８１１（Ｓ）、厚み３８μｍ）に、乾燥後の組成物Ｄ層の厚みが２０μｍとなるように塗布した。塗工液Ｄの塗布に続けて塗工液Ｅを、乾燥後の組成物Ｅ層の厚みが２０μｍとなるように塗布した。その後、製膜手段にて乾燥させて溶媒を除去し、比較例１の積層体を得た。
【００５７】
【表１】
2015184123.tif 000003
【００５８】
【表２】
2015184123.tif 000004
【００５９】
実施例１〜実施例１２の積層体については、隣接する層同士の屈折率差を０．０２０以上に設定し、分光干渉方式による膜厚測定を行った。その結果、表２に示すとおり、実施例１〜実施例１２では、各層の断面観察によって測定された厚みと、厚み測定装置によって測定された厚みとがほぼ一致していた。一方、比較例１の積層体においては、隣接する層同士の屈折率差が０．０２０未満であった。その結果、各層の断面観察によって測定された厚みと、厚み測定装置によって測定された厚みとが一致しなかった。おそらく、組成物Ｄ層と組成物Ｅ層の厚みの合計値が測定されたものと思われる。
これらの結果から、隣接する層同士の屈折率差を０．０２０以上に設定し、分光干渉方式による膜厚測定を行えば、積層体における各層の厚みが容易に測定できることがわかった。
【００６０】
図５は、屈折率差と実測値からのズレ率との関係を表すグラフである。図５に示されているように、０．０２０以上の屈折率差があれば、実測値からのズレ率は、０．０２０未満の屈折率差の場合とくらべて、非常に正確に厚み測定が可能である。屈折率差が大きくなるにしたがって、ズレ率も小さくなる傾向にある。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明は、厚み測定方法、厚み測定システム、および積層体の製造方法に利用できる。
【符号の説明】
【００６２】
１，１Ａ…積層体、２００…厚み測定システム、２１…光源、２２…分光器、２３…解析器。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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