(57)【要約】【課題】画像形成を繰り返した時のハーフトーン画像の濃度ムラ及び前サイクルの履歴による濃度変化の発生が抑制される電子写真感光体を提供する。【解決手段】導電性基材１と、前記導電性基材上に配置され、結着樹脂、並びに、金属酸化物粒子をアミノ基を有するシランカップリング剤により表面処理した表面処理粒子として、ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ以上１５ｍ２／ｇ以下である第１の表面処理粒子及びＢＥＴ比表面積が１８ｍ２／ｇ以上３０ｍ２／ｇ以下である第２の表面処理粒子を含む下引層２と、前記下引層上に配置された感光層３と、を有する電子写真感光体。【選択図】図１
2015184494.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基材と、
前記導電性基材上に配置され、結着樹脂、並びに、金属酸化物粒子をアミノ基を有するシランカップリング剤により表面処理した表面処理粒子として、ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ以上１５ｍ２／ｇ以下である第１の表面処理粒子及びＢＥＴ比表面積が１８ｍ２／ｇ以上３０ｍ２／ｇ以下である第２の表面処理粒子を含む下引層と、
前記下引層上に配置された感光層と、
を有する電子写真感光体。
【請求項２】
前記金属酸化物粒子は、酸化錫、酸化チタン、及び酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記第１の表面処理粒子及び前記第２の表面処理粒子は、それぞれ前記金属酸化物粒子に対する前記アミノ基を有するシランカップリング剤の表面処理量が０．０５質量％以上１．５質量％以下である請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記下引層がさらに電子受容性化合物を含んでいる請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記電子受容性化合物がアントラキノン誘導体である請求項４に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
前記アントラキノン誘導体が下記一般式（１）で表される請求項５に記載の電子写真感光体。
【化１】
2015184494.tif 000014
（一般式（１）中、ｎ１及びｎ２は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。但し、ｎ１及びｎ２の少なくとも一方は、各々独立に１以上３以下の整数を表す。ｍ１及びｍ２は、各々独立に０又は１の整数を示す。Ｒ１及びＲ２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、又は炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。）
【請求項７】
前記下引層の厚みが１５μｍ以上３０μｍ以下である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項８】
前記下引層における前記第２の表面処理粒子の含有量が、前記第１の表面処理粒子の含有量よりも多い請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項９】
請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項１０】
前記電子写真感光体に接触して該電子写真感光体の表面を帯電させる接触帯電方式の帯電手段をさらに備える請求項９に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項１１】
請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【請求項１２】
前記帯電手段が接触帯電方式の帯電手段である請求項１１に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置は高速でかつ高印字の品質が得られ、複写機およびレーザービームプリンター等の画像形成装置において利用されている。画像形成装置において用いられる感光体としては、有機の光導電性材料を用いた有機感光体が主流となっている。有機感光体を製造する場合、例えば、アルミニウム基材の上に下引層（中間層と呼ばれる場合もある）を形成し、その後、感光層、特に電荷発生層および電荷輸送層からなる感光層を形成する場合が多い。
【０００３】
例えば、特許文献１には、導電性支持体上に中間層を介して感光層を有する電子写真感光体において、該中間層が特定のポリアミド樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体が開示されている。
【０００４】
特許文献２には、感光体に形成されたトナー像を記録媒体に転写して画像を形成する画像形成装置において、前記感光体は、導電性基材と、前記導電性基材の周囲に形成された中間層と、前記中間層の周囲に形成された感光層と、を有し、前記中間層は、平均粒径が１００ｎｍ以下の金属酸化物微粒子を結着樹脂中に含有することを特徴とする画像形成装置が開示されている。
【０００５】
特許文献３には、導電性基体上に光導電層を設けた電子写真感光体において、導電性基体と光導電層との間に白色顔料と結着剤樹脂を主成分とし、かつ白色顔料と結着剤樹脂の使用割合が容量比で１／１〜３／１の範囲にある中間層を設けると共に、導電性基体と該中間層との間に結着剤樹脂による下引層を設けたことを特徴とする電子写真感光体が開示されている。
【０００６】
特許文献４には、導電性基体と、該基体上に形成された中間層と、該中間層上に形成された感光層とを備える電子写真感光体であって、前記中間層が、金属酸化物微粒子及び結着樹脂を含有し、２８℃、８５％ＲＨで１０6Ｖ／ｍの電場を印加したときの体積抵抗が１０8〜１０13Ω・ｃｍであり、且つ１５℃、１５％ＲＨで１０6Ｖ／ｍの電場を印加したときの体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨで１０6Ｖ／ｍの電場を印可したときの体積抵抗の５００倍以下であることを特徴とする電子写真感光体が開示されている。
【０００７】
特許文献５には、電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を備え、前記電子写真感光体の外周面を所定方向に移動させながら帯電、露光、現像及び転写を行う画像形成装置であって、帯電から現像までに要する時間が可変となるように、前記電子写真感光体の外周面の移動速度を制御する制御手段を更に備え、前記電子写真感光体が少なくとも下引層と感光層を有し、前記下引層が少なくとも金属酸化物微粒子と該金属酸化物微粒子と反応可能な基を有するアクセプター性化合物とを含有することを特徴とする画像形成装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平５−１１４８３号公報
【特許文献２】特開２００２−１２３０２８号公報
【特許文献３】特開平５−８０５７２号公報
【特許文献４】特開２００３−１８６２１９号公報
【特許文献５】特開２００６−３０６９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、画像形成を繰り返した時のハーフトーン画像の濃度ムラ及び前サイクルの履歴による濃度変化（以下、「ゴースト」と称する）の発生が抑制される電子写真感光体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、以下の発明が提供される。
請求項１に係る発明は、導電性基材と、前記導電性基材上に配置され、結着樹脂、並びに、金属酸化物粒子をアミノ基を有するシランカップリング剤により表面処理した表面処理粒子として、ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ以上１５ｍ２／ｇ以下である第１の表面処理粒子及びＢＥＴ比表面積が１８ｍ２／ｇ以上３０ｍ２／ｇ以下である第２の表面処理粒子を含む下引層と、前記下引層上に配置された感光層と、を有する電子写真感光体。
【００１１】
請求項２に係る発明は、前記金属酸化物粒子は、酸化錫、酸化チタン、及び酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項１に記載の電子写真感光体。
【００１２】
請求項３に係る発明は、前記第１の表面処理粒子及び前記第２の表面処理粒子は、それぞれ前記金属酸化物粒子に対する前記アミノ基を有するシランカップリング剤の表面処理量が０．０５質量％以上１．５質量％以下である請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
【００１３】
請求項４に係る発明は、前記下引層がさらに電子受容性化合物を含んでいる請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
請求項５に係る発明は、前記電子受容性化合物がアントラキノン誘導体である請求項４に記載の電子写真感光体。
請求項６に係る発明は、前記アントラキノン誘導体が下記一般式（１）で表される請求項５に記載の電子写真感光体。
【化１】
2015184494.tif 000003
【００１４】
（一般式（１）中、ｎ１及びｎ２は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。但し、ｎ１及びｎ２の少なくとも一方は、各々独立に１以上３以下の整数を表す。ｍ１及びｍ２は、各々独立に０又は１の整数を示す。Ｒ１及びＲ２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、又は炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。）
【００１５】
請求項７に係る発明は、前記下引層の厚みが１５μｍ以上３０μｍ以下である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００１６】
請求項８に係る発明は、前記下引層における前記第２の表面処理粒子の含有量が、前記第１の表面処理粒子の含有量よりも多い請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００１７】
請求項９に係る発明は、請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【００１８】
請求項１０に係る発明は、前記電子写真感光体に接触して該電子写真感光体の表面を帯電させる接触帯電方式の帯電手段をさらに備える請求項９に記載のプロセスカートリッジ。
【００１９】
請求項１１に係る発明は、請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える画像形成装置。
【００２０】
請求項１２に係る発明は、前記帯電手段が接触帯電方式の帯電手段である請求項１１に記載の画像形成装置。
【発明の効果】
【００２１】
請求項１、２に係る発明によれば、下引層が、金属酸化物粒子をアミノ基を有するシランカップリング剤により表面処理した表面処理粒子として、ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ以上１５ｍ２／ｇ以下である第１の表面処理粒子及びＢＥＴ比表面積が１８ｍ２／ｇ以上３０ｍ２／ｇ以下である第２の表面処理粒子を含まない場合に比べ、画像形成を繰り返した時のハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストの発生が抑制される電子写真感光体が提供される。
【００２２】
請求項３に係る発明によれば、金属酸化物粒子に対するアミノ基を有するシランカップリング剤の表面処理量が０．０５質量％以上１．５質量％以下の範囲外である場合に比べ、画像形成を繰り返した時の初期のゴーストの発生が抑制される電子写真感光体が提供される。
【００２３】
請求項４、５、６に係る発明によれば、下引層が電子受容性化合物を含まない場合に比べ、画像形成を繰り返した時の残留電位の上昇が抑制される電子写真感光体が提供される。
【００２４】
請求項７に係る発明によれば、下引層の厚みが１５μｍ以上３０μｍ以下の範囲外である場合に比べ、（１５μｍ未満の場合に対しては）外来異物によるリークの発生、（３０μｍ超の場合に対しては）残留電位の上昇が抑制される電子写真感光体が提供される。
【００２５】
請求項８に係る発明によれば、電子写真感光体の下引層が、金属酸化物粒子をアミノ基を有するシランカップリング剤により表面処理した表面処理粒子として、ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ以上１５ｍ２／ｇ以下である第１の表面処理粒子及びＢＥＴ比表面積が１８ｍ２／ｇ以上３０ｍ２／ｇ以下である第２の表面処理粒子を含まない場合に比べ、繰り返し使用時のハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストの発生が抑制されるプロセスカートリッジが提供される。
請求項９に係る発明によれば、画像形成を繰り返した時のハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストが発生し易い接触帯電方式の帯電手段を備えたときであっても、ハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストの発生が抑制されるプロセスカートリッジが提供される。
【００２６】
請求項１０に係る発明によれば、電子写真感光体の下引層が、金属酸化物粒子をアミノ基を有するシランカップリング剤により表面処理した表面処理粒子として、ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ以上１５ｍ２／ｇ以下である第１の表面処理粒子及びＢＥＴ比表面積が１８ｍ２／ｇ以上３０ｍ２／ｇ以下である第２の表面処理粒子を含まない場合に比べ、画像形成を繰り返した時のハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストの発生が抑制される画像形成装置が提供される。
請求項１１に係る発明によれば、画像形成を繰り返した時のハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストが発生し易い接触帯電方式の帯電手段を備えたときであっても、ハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストの発生が抑制される画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す概略図である。
【図２】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の例を示す概略図である。
【図３】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の例を示す概略図である。
【図４】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の例を示す概略図である。
【図５】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の例を示す概略図である。
【図６】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の例を示す概略図である。
【図７】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図８】本実施形態に係る画像形成装置の他の例を示す概略構成図である。
【図９】実施例において、画質評価に用いるチャートを示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体について詳細に説明する。
【００２９】
［電子写真感光体］
本実施形態に係る電子写真感光体（以下、単に「感光体」と称する場合がある）は、導電性基材と、前記導電性基材上に配置され、結着樹脂、並びに、金属酸化物粒子をアミノ基を有するシランカップリング剤により表面処理した表面処理粒子として、ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ以上１５ｍ２／ｇ以下である第１の表面処理粒子及びＢＥＴ比表面積が１８ｍ２／ｇ以上３０ｍ２／ｇ以下である第２の表面処理粒子を含む下引層と、前記下引層上に配置された感光層と、を有して構成されている。以下、単に「表面処理粒子」という場合は、第１の表面処理粒子及び第２の表面処理粒子に共通することを意味する。
【００３０】
本実施形態に係る電子写真感光体を用いて画像形成装置を行えば、画像形成を繰り返した時のハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストの発生が抑制される。この理由は定かではないが、以下に示す理由によるものと考えられる。
【００３１】
下引層を形成する塗布液中の金属酸化物粒子の分散時間が短いと循環式塗布装置のフィルターの目詰まりが生じ易く、分散時間が長いと長期間使用した場合に電気特性が変動しやすい。
一方、塗布液中の金属酸化物粒子の分散性は比表面積に依存し、比表面積が小さいと分散が速く、比表面積が大きいと分散が遅くなる傾向がある。また、金属酸化物粒子の表面処理量が少ないと分散が速く、表面処理量が多いと分散が遅くなる傾向がある。
そして、アミノ基を有するシランカップリング剤で表面処理され、それぞれ上記範囲内にあるＢＥＴ比表面積を有する２種類の金属酸化物粒子（第１の表面処理粒子及び第２の表面処理粒子）を併用した塗布液を用いることで分散性が適度な範囲となると考えられる。そのため、この塗布液を用いることにより表面処理粒子の凝集が抑制された下引層が形成され、ハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストの発生が抑制されると考えられる。
【００３２】
また、特に、接触帯電方式の帯電手段を備える画像形成装置（プロセスカートリッジ）では、局所的な放電が発生し易く、下引層の面内不均一が大きい場合異常放電が更に発生し易いと考えられる。
このため、接触帯電方式の帯電手段を備える画像形成装置（プロセスカートリッジ）では、ハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストが発生し易いが、本実施形態に係る電子写真感光体を適用すると、ハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストの発生が抑制された画像が得られ易くなる。
【００３３】
図１乃至図６は、本実施形態に係る感光体の層構成の例を示す概略図である。図１に示す感光体は、導電性基材１と、導電性基材１の上に形成された下引層２と、下引層２の上に形成された感光層３と、から構成されている。
また、図２に示すように、感光層３は電荷発生層３１と電荷輸送層３２との２層構造でもよい。さらに、図３及び図４に示すように、感光層３上又は電荷輸送層３２上に保護層５を設けてもよい。また、図５及び図６に示すように、下引層２と感光層３との間又は下引層２と電荷発生層３１との間に中間層４を設けてもよい。
【００３４】
なお、中間層４は、下引層２と感光層３との間又は下引層２と電荷発生層３１との間に設けた態様を示しているが、導電性基材１と下引層２との間に設けてもよい。無論、中間層４を設けない態様であってもよい。
【００３５】
次に、本実施形態に係る電子写真感光体の各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００３６】
（導電性基材）
導電性基材としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基材としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００３７】
導電性基材の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基材の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００３８】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基材を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００３９】
粗面化の方法としては、導電性基材の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基材の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００４０】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基材を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基材の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００４１】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００４２】
導電性基材には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００４３】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００４４】
（下引層）
下引層は、結着樹脂、並びに、金属酸化物粒子をアミノ基を有するシランカップリング剤により表面処理した表面処理粒子として、ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ以上１５ｍ２／ｇ以下である第１の表面処理粒子及びＢＥＴ比表面積が１８ｍ２／ｇ以上３０ｍ２／ｇ以下である第２の表面処理粒子を含み、好ましくはさらに電子受容性化合物を含んで構成されている。
【００４５】
なお、表面処理粒子のＢＥＴ比表面積は、アミノ基を有するシランカップリング剤によって表面処理された後の金属酸化物粒子（表面処理粒子）について、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
【００４６】
・結着樹脂
結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物等が挙げられる。また、これら樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂も挙げられる。
【００４７】
・表面処理粒子
下引層には、金属酸化物粒子をアミノ基を有するシランカップリング剤により表面処理した表面処理粒子として、ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ以上１５ｍ２／ｇ以下である第１の表面処理粒子と、ＢＥＴ比表面積が１８ｍ２／ｇ以上３０ｍ２／ｇ以下である第２の表面処理粒子が含まれる。
【００４８】
ハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストの発生を抑制する観点から、第１の表面処理粒子のＢＥＴ比表面積は好ましくは１２ｍ２／ｇ以上１４ｍ２／ｇ以下であり、第２の表面処理粒子のＢＥＴ比表面積は好ましくは１９ｍ２／ｇ以上２２ｍ２／ｇ以下である。
【００４９】
金属酸化物粒子としては、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛等の粒子が挙げられる。
これらの中でも、金属酸化物粒子としては、残留電位の上昇抑制の観点から、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛の粒子がよい。
なお、第１の表面処理粒子を構成する金属酸化物粒子（第１の金属酸化物粒子）と第２の表面処理粒子を構成する金属酸化物粒子（第２の金属酸化物粒子）の構成材料は異なってもよいが、同種の材料であることが望ましい。
【００５０】
金属酸化物粒子としては、望ましくは粒径が１００ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の導電粉が望ましく用いられる。ここでいう粒径とは、平均１次粒径を意味する。金属酸化物粒子の平均１次粒径は、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）により観察し測定される値であり、無作為に選んだ５０個の金属酸化物粒子について測定した平均値である。
【００５１】
金属酸化物粒子としては１０４Ω・ｃｍ以上１０１０Ω・ｃｍ以下の粉体抵抗とすることが望ましい。これにより、下引層は、電子写真プロセス速度に対応した周波数で適切なインピーダンスを得ることが実現され易くなる。
金属酸化物粒子の抵抗値が１０４Ω・ｃｍよりも低いと、インピーダンスの粒子添加量依存性の傾きが大きすぎて、インピーダンスの制御が難しくなる場合がある。一方、金属酸化物粒子の抵抗値が１０１０Ω・ｃｍよりも高いと残留電位の上昇を引き起こす場合がある。
【００５２】
第１の表面処理粒子及び第２の表面処理粒子を得るには、例えば各表面処理粒子に対応したＢＥＴ比表面積を有する金属酸化物粒子をそれぞれ用いて、アミノ基を有するシランカップリング剤による表面処理を行えばよい。市販されている金属酸化物粒子を用いてもよい。
第１の表面処理粒子（ＢＥＴ比表面積：１０ｍ２／ｇ以上１５ｍ２／ｇ以下）を構成する市販の金属酸化物粒子としては、テイカ社  酸化亜鉛ＭＺ−１５０、酸化チタンＭＴ−１００が挙げられる。
第２の表面処理粒子（ＢＥＴ比表面積：１８ｍ２／ｇ以上３０ｍ２／ｇ以下）を構成する市販の金属酸化物粒子としては、テイカ社  酸化亜鉛ＭＺ−２００、酸化チタンＭＴ−３００が挙げられる。
【００５３】
アミノ基を有するシランカップリング剤の例としては、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシランが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらのアミノ基を有するカップリング剤は２種以上を混合して使用することもできる。
【００５４】
表面処理粒子におけるアミノ基を有するシランカップリング剤の表面処理量は、金属酸化物粒子に対して、０．０５質量％以上１．５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１質量％以上１．０質量％以下である。金属酸化物粒子に対するアミノ基を有するシランカップリング剤の表面処理量が０．０５質量％以上１．５質量％以下であると表面処理粒子同士の凝集が抑制され、初期のゴーストの発生が抑制される。
【００５５】
なお、アミノ基を有するシランカップリング剤の処理量は、次のように測定する。
ＦＴ−ＩＲ法、２９Ｓｉ固体ＮＭＲ法、熱分析、ＸＰＳなどの分析法があるが、ＦＴ−ＩＲ法が最も簡便である。ＦＴ−ＩＲ法では通常のＫＢｒ錠剤法でも、ＡＴＲ法でもよい。少量の処理済金属酸化物粒子（表面処理粒子）をＫＢｒと混合し、ＦＴ−ＩＲを測定することで、アミノ基を有するシランカップリング剤の処理量を測定する。
【００５６】
金属酸化物粒子は、上記アミノ基を有するシランカップリング剤で表面処理後、必要に応じて抵抗値の環境依存性等の改善のために熱処理を行ってもよい。熱処理温度は、例えば、１５０℃以上３００℃以下、処理時間は３０分以上５時間以下がよい。
【００５７】
下引層における表面処理粒子の含有量（第１の表面処理粒子及び第２の表面処理粒子の合計量）は、電気特性維持の観点から、３０質量％以上６０質量％以下が望ましく、３５質量％以上５５質量％以下がより望ましい。
【００５８】
また、下引層における第２の表面処理粒子の含有量が、第１の表面処理粒子の含有量よりも多いことが望ましい。下引層に含まれる第１の表面処理粒子及び第２の表面処理粒子の合計含有量に対する第２の表面処理粒子の含有比率は、５５質量％以上８５質量％以下であることが好ましく、６０質量％以上７０質量％以下であることがより好ましい。
【００５９】
・電子受容性化合物
電子受容性化合物は、下引層に含有される、アミノ基を有するシランカップリング剤によって表面処理された金属酸化物粒子（表面処理粒子）の表面と化学反応する材料、又は表面処理粒子の表面に吸着する材料であり、表面処理粒子の表面に選択的に存在し得る。
【００６０】
電子受容性化合物としては、好ましくは酸性基を持つ電子受容性化合物が適用される。この酸性基としては、水酸基（フェノール水酸基）、カルボキシル基、スルホニル基等が挙げられる。
電子受容性化合物として具体的には、例えば、キノン系、アントラキノン系、クマリン系、フタロシアニン系、トリフェニルメタン系、アントシアニン系、フラボン系、フラーレン系、ルテニウム錯体、キサンテン系、ベンゾキサジン系、ポルフィリン系の化合物が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、ハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストの発生を抑制すると共に、材料の安全性、入手性、電子輸送能力を考慮すると、アントラキノン系の材料（アントラキノン誘導体）が望ましく、特に下記一般式（１）で表される化合物であることが望ましい。なお、アントラキノン誘導体とは、アントラキノン骨格を有する化合物を意味する。
これらの中でも、一般式（１）で表される化合物のうち、Ｒ１及びＲ２が各々独立に炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を示す化合物がよい。
【００６１】
【化２】
2015184494.tif 000004
【００６２】
一般式（１）中、ｎ１及びｎ２は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。但し、ｎ１及びｎ２の少なくとも一方は、各々独立に１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１及びｎ２が同時に０を表さない）。ｍ１及びｍ２は、各々独立に０又は１の整数を示す。Ｒ１及びＲ２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、又は炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。
【００６３】
また、電子受容性化合物としては、下記一般式（２）で表される化合物であってもよい。
【００６４】
【化３】
2015184494.tif 000005
【００６５】
一般式（２）中、ｎ１、ｎ２、ｎ３、及びｎ４は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。ｍ１及びｍ２は、各々独立に０又は１の整数を示す。ｎ１及びｎ２の少なくとも一方は、各々独立に１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１及びｎ２が同時に０を表さない）。ｎ３及びｎ４の少なくとも一方は、各々独立に１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ３及びｎ４が同時に０を表さない）。ｒは、２以上１０以下の整数を示す。Ｒ１及びＲ２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、又は炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。
【００６６】
ここで、一般式（１）及び（２）中、Ｒ１及びＲ２が表す炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、直鎖状、又は分枝状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、望ましくは１以上８以下のアルキル基、より望ましくは１以上６以下のアルキル基である。
Ｒ１及びＲ２が表す炭素数１以上１０以下のアルコキシ基（アルコキシル基）としては、直鎖状、又は分枝状のいずれでもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルコキシ基としては、望ましくは１以上８以下のアルコキシル基、より望ましくは１以上６以下のアルコキシル基である。
【００６７】
電子受容性化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
【００６８】
【化４】
2015184494.tif 000006
【００６９】
【化５】
2015184494.tif 000007
【００７０】
【化６】
2015184494.tif 000008
【００７１】
電子受容性化合物の含有量は、化学反応又は吸着する相手である金属酸化物粒子の表面積及び含有量と、各材料の電子輸送能力から決められるが、通常は０．０１質量％以上２０質量％以下の範囲がよく、より望ましくは０．１質量％以上１０質量％以下の範囲である。
電子受容性化合物の含有量が０．１質量％以上であると電子受容性化合物の効果が発現し易い。また、電子受容性化合物の含有量が２０質量％以下であると金属酸化物粒子同士の凝集が抑制され、金属酸化物粒子が下引層内で分布が均等になり易く、良好な導電路を形成し易い。そのため、残留電位の上昇を抑制し、ゴーストの発生、黒点の発生、ハーフトーン濃度の不均一が抑制される。
【００７２】
−その他添加剤−
その他添加剤としては、樹脂粒子が挙げられる。露光装置にレーザ等のコヒーレント光を用いた場合、モアレ像を防止することがよい。そのためには。下引層の表面粗さを、使用する露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）以上１／２λ以下に調整することがよい。そこで、樹脂粒子を下引層中に添加すると、表面粗さの調整が実現される。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂等が挙げられる。
また、その他添加剤としては、上記に限られず、周知の添加剤も挙げられる。
【００７３】
−下引層の形成−
下引層の形成の際には、結着樹脂、並びに、金属酸化物粒子をアミノ基を有するシランカップリング剤により表面処理した表面処理粒子あって、ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ以上１５ｍ２／ｇ以下である第１の表面処理粒子及びＢＥＴ比表面積が１８ｍ２／ｇ以上３０ｍ２／ｇ以下である第２の表面処理粒子を溶媒に加えた下引層形成用塗布液が使用される。下引層形成用塗布液は、必要に応じて、電子受容性化合物、さらにその他の添加剤を予備混合又は予備分散したものを、結着樹脂に分散させて得られる。
【００７４】
下引層形成用塗布液を得るために用いる溶剤としては前述した結着樹脂を溶解する公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系の溶剤が挙げられる。これらの溶剤は単独又は２種類以上混合して用いてもよい。
【００７５】
下引層形成用塗布液に表面処理粒子を分散させる方法としては公知の分散方法が用いられる。例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどが挙げられる。ガラスビーズを用いたサンドミルが分散性及び量産性の観点からより好ましい。
【００７６】
下引層形成用塗布液の塗布方法としては浸漬塗布法、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法など公知の塗布方法が用いられる。
【００７７】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上５０以下であることが望ましい。
【００７８】
下引層の厚みは、画像の粒状性向上の観点から、１５μｍ以上が望ましく、１５μｍ以上３０μｍ以下であることがより望ましく、２０μｍ以上２５μｍ以下が更に望ましい。
【００７９】
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００８０】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【００８１】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００８２】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【００８３】
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
【００８４】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【００８５】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。
【００８６】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。
【００８７】
４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基材からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。
【００８８】
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。ｎ−型の電荷発生材料としては、例えば、特開２０１２−１５５２８２号公報の段落［０２８８］〜［０２９１］に記載された化合物（ＣＧ−１）〜（ＣＧ−２７）が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、ｎ−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ−型とする。
【００８９】
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【００９０】
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。
【００９１】
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【００９２】
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
【００９３】
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【００９４】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【００９５】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００９６】
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００９７】
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
【００９８】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。
【００９９】
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。
【０１００】
【化７】
2015184494.tif 000009
【０１０１】
構造式（ａ−１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）を示す。ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ６、ＲＴ７、及びＲＴ８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１０２】
【化８】
2015184494.tif 000010
【０１０３】
構造式（ａ−２）中、ＲＴ９１及びＲＴ９２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。ＲＴ１０１、ＲＴ１０２、ＲＴ１１１及びＲＴ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ（ＲＴ１２）＝Ｃ（ＲＴ１３）（ＲＴ１４）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）を示し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１０４】
ここで、構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。
【０１０５】
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。
【０１０６】
電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
【０１０７】
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１０８】
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【０１０９】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【０１１０】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１１１】
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１１２】
（保護層）
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【０１１３】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【０１１４】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。
【０１１５】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。
【０１１６】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【０１１７】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。
【０１１８】
保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１１９】
保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
【０１２０】
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
【０１２１】
保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１２２】
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１２３】
（単層型感光層）
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して１０質量％以上８５質量％以下がよく、好ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。
【０１２４】
（その他）
本実施形態に係る電子写真感光体において、感光層や保護層には、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、又は光・熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤などの添加剤を添加してもよい。
また、感光層や保護層には、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも１種の電子受容性物質を添加してもよい。
また、感光層や保護層には、各層を形成する塗布液にレベリング剤としてシリコーンオイルを添加し、塗膜の平滑性向上させてもよい。
【０１２５】
［画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）］
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【０１２６】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０１２７】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１２８】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１２９】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１３０】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１３１】
図７は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図７に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１３２】
図７におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１３３】
なお、図７には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１３４】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１３５】
−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１３６】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１３７】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１３８】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０１３９】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０１４０】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１４１】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０１４２】
図８は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図８に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０１４３】
次に、本実施形態に係る画像形成装置１００の動作について説明する。まず、電子写真感光体７が回転すると同時に、帯電装置８により負に帯電する。
【０１４４】
帯電装置８によって表面が負に帯電した電子写真感光体７は、露光装置１０により露光され、表面に静電潜像が形成される。
【０１４５】
電子写真感光体７における静電潜像の形成された部分が現像装置１１に近づくと、現像装置１１により、静電潜像にトナーが付着し、トナー像が形成される。
【０１４６】
トナー像が形成された電子写真感光体７がさらに回転して、転写装置４０によりトナー像は中間転写体５０に１次転写され、さらに不図示の記録紙に２次転写される。これにより、記録紙にトナー像が形成される。
１次転写後、電子写真感光体７に残留するトナーはクリーニング装置１３によって除去される。
【０１４７】
トナー像が形成された記録紙は、不図示の定着装置によりトナー像が定着される。
【０１４８】
なお、中間転写体５０を用いずに感光体７の表面に形成されたトナー像が記録紙に直接転写されてもよい。
【実施例】
【０１４９】
以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【０１５０】
＜表面処理された金属酸化物粒子（表面処理粒子）の作製＞
［表面処理例１］
金属酸化物粒子として酸化亜鉛（商品名： ＭＺ−３００、テイカ社製）１００質量部、シランカップリング剤としてＮ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランの１０質量％のトルエン溶液を５質量部、トルエン１９５質量部を混合、攪拌を行い、２時間還流を行った。その後１０ｍｍＨｇにてトルエンを減圧留去し、１３５℃で２時間焼き付け処理を行い、表面処理粒子を得た。
【０１５１】
得られた表面処理粒子のＢＥＴ比表面積について、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定したところ、２９ｍ２／ｇであった。
【０１５２】
［表面処理例２乃至１５］
下記表１に示すように金属酸化物粒子及び表面処理剤（シランカップリング剤）を変更したこと以外は表面処理例１と同様にして表面処理された金属酸化物粒子（表面処理粒子）を作製した。
なお、表１に示す各表面処理例で用いた金属酸化物粒子は以下の通りである。
・酸化亜鉛１：テイカ社製、商品名：ＭＺ−３００
・酸化亜鉛２：テイカ社製、商品名：ＭＺ−１５０
・酸化亜鉛３：テイカ社製、商品名：ＭＺ−２００
・酸化亜鉛４：テイカ社製、商品名：ＭＺ−５００
・酸化亜鉛５：テイカ社製、商品名：ＭＺ−１００
・酸化亜鉛６：テイカ社製、商品名：特注品-１
・酸化亜鉛７：テイカ社製、商品名：特注品-２
・酸化チタン１：テイカ社製、商品名：ＭＴ−７００Ｂ  
・酸化チタン２：テイカ社製、商品名：ＭＴ−５００Ｂ 
【０１５３】
【表１】
2015184494.tif 000011
【０１５４】
［実施例１］
表面処理例１で表面処理した酸化亜鉛粒子：１０質量部と表面処理例４で表面処理した酸化亜鉛：１０質量部とを、ブロック化イソシアネート  スミジュール３１７５（住友バイエルンウレタン社製）：５質量部、前記電子受容性化合物「１−２」を０．０８質量部、メチルエチルケトン：２５質量部を３０分間混合し、その後ブチラール樹脂  エスレック  ＢＭ−１（積水化学工業社製）：５質量部を添加し、サンドミルにて１時間の分散を行い、分散液を得た。
さらにシリコーン樹脂粒子  トスパール１３０（東芝シリコーン社製）：３質量部を加えて時間撹拌し、塗布液を得た。
さらに、塗布液を浸漬塗布法にて直径８４ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１８０℃、３０分の乾燥硬化を行い、厚さ１９μｍの下引層を得た。
【０１５５】
次に、電荷発生材料として、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを用い、その１５質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイト社製）１０質量部およびｎ−ブチルアルコール３００質量部からなる混合物をサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液を、上記中間層上に浸漬塗布し、１００℃、１０分乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１５６】
また、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１、１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン  ４質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４万）６質量部とを、テトラヒドロフラン２５質量部及びクロルベンゼン５質量部を加えて溶解することで調製した塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃、４０分の乾燥を行うことにより膜厚３５μｍの電荷輸送層を形成した。これにより実施例１の感光体を得た。
【０１５７】
（画質評価）
以上のようにして得られた感光体を富士ゼロックス社製複写機「Ｄｏｃｕ  Ｃｅｎｔｒｅ  Ｃｏｌｏｒ  ５００」に搭載し、３０℃／８０％ＲＨの条件で図９に示すチャートをＡ４横送り（短手方向送り）で連続１０万枚出力した。図９に示すチャートは、画像濃度１００％の黒色のベタ画像中に白抜きの文字「Ｇ」を有する領域と画像濃度４０％のハーフトーン画像の領域と、をプリントしたチャートである。
【０１５８】
−ゴースト評価−
１枚目に出力した画像（初期画像）、１０万出力後の画像（１０万枚出力後画像）について、目視にて、Ｇの文字状の濃度変化を確認して行った。評価基準は以下の通りである。
Ａ：濃度変化なし
Ｂ：濃度変化若干あり実使用上問題ない
Ｃ：濃度変化あり実使用に耐えない
【０１５９】
−ハーフトーン画像濃度ムラ評価−
ハーフトーン画像濃度ムラの評価は、１枚目に出力した画像（初期画像）、１０万出力後の画像（１０万枚出力後画像）について、画像濃度４０％のハーフトーン画像の領域におけるランダムな濃度変化を目視にて行った。
評価基準は以下の通りである。
Ａ：濃度変化なし
Ｂ：濃度変化若干あり実使用上問題ない
Ｃ：濃度変化あり実使用に耐えない
【０１６０】
−粒状性評価−
粒状性は１枚目に出力した４０％ハーフトーン画像を細かい濃度ムラを目視にて評価した。
Ａ：問題なし
Ｂ：若干あり実使用上問題ない
Ｃ：実使用に耐えない
【０１６１】
［実施例２乃至６］
表面処理粒子を下記表２に示すように変更したこと以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を作製し、同様の評価を行った。
【０１６２】
［実施例７］
下引層の厚みを１４μｍに変更した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を作製し、同様の評価を行った。
【０１６３】
［実施例８］
表１に示す酸化チタンを用いた以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を作製し、同様の評価を行った。
【０１６４】
［実施例９］
表１に示すシランカップリング剤を用いた以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を作製し、同様の評価を行った。
【０１６５】
［実施例１０］
電子受容性化合物として、前記電子受容性化合物「１−２１」を用いた以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を作製し、同様の評価を行った。
【０１６６】
［実施例１１］
表面処理粒子を下記表２に示すように変更したこと以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を作製し、同様の評価を行った。
【０１６７】
［比較例１乃至７］
下引層に含まれる表面処理粒子を下記表２に示すように変更したこと以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を作製し、同様の評価を行った。
【０１６８】
各例で作製した電子写真感光体の下引層に含まれる表面処理粒子の構成を表２に記す。なお、実施例１以外の各例における下引層中の表面処理粒子の合計含有量は実施例１と同様であり、「含有比率」は、表面処理粒子全体の含有量に対する各表面処理粒子の含有比率である。
【０１６９】
【表２】
2015184494.tif 000012
【０１７０】
実施例及び比較例の評価結果を表３に示す。
【０１７１】
【表３】
2015184494.tif 000013
【０１７２】
上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、初期及び長期（１０万枚）出力後の画像について、ゴースト及びハーフトーン画像濃度ムラの発生が抑制されたことがわかる。
【符号の説明】
【０１７３】
１  導電性基材、２  下引層、３  感光層、４  中間層、５  保護層、７  電子写真感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑材、３１  電荷発生層、３２  電荷輸送層、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、３００  プロセスカートリッジ
【図１】
2015184494.tif 000015
【図２】
2015184494.tif 000016
【図３】
2015184494.tif 000017
【図４】
2015184494.tif 000018
【図５】
2015184494.tif 000019
【図６】
2015184494.tif 000020
【図７】
2015184494.tif 000021
【図８】
2015184494.tif 000022
【図９】
2015184494.tif 000023