(57)【要約】【課題】測定対象物の表面形状に凹凸が存在する場合でも、測定対象物との干渉を避けてカメラ長を設定することができるＸ線分析装置を提供する。【解決手段】本発明の背面反射Ｘ線分析装置は、試料３に向けてＸ線を出射するＸ線管１と、このＸ線を試料３に入射させたときに、試料３の表面で回折した回折Ｘ線を受光することにより、回折Ｘ線が形成する円環状の回折像を検出可能なイメージングプレート２と、Ｘ線管１から出射されるＸ線の光軸方向においてイメージングプレート２のＸ線通過孔５から試料３のレーザー照射位置Ｏまでの距離で規定されるカメラ長を設定する場合に、複数の規定距離の中からいずれか一つを選択して設定可能なカメラ長可変設定手段と、を備える。カメラ長可変設定手段は、三角測距方式の距離センサ機構１０を用いて構成されている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定対象物に向けてＸ線を出射するＸ線出射部と、
前記Ｘ線出射部から出射されたＸ線を前記測定対象物に入射させたときに、前記測定対象物で回折した回折Ｘ線を受光することにより、前記回折Ｘ線が形成する円環状の回折像を検出可能なＸ線検出器と、
前記Ｘ線出射部から出射されるＸ線の光軸方向において前記Ｘ線検出器から前記測定対象物までの距離で規定されるカメラ長を設定する場合に、第１のカメラ長に相当する第１の規定距離と、前記第１のカメラ長とは異なる第２のカメラ長に相当する第２の規定距離とを含む複数の規定距離の中から、いずれか一つを選択して設定可能なカメラ長可変設定手段と、
を備えることを特徴とする背面反射Ｘ線分析装置。
【請求項２】
前記カメラ長可変設定手段は、三角測距方式の距離センサ機構を用いて構成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の背面反射Ｘ線分析装置。
【請求項３】
前記距離センサ機構は、
前記測定対象物に照射すべき可視レーザーを出射するレーザー出射部と、
前記レーザー出射部から出射され前記測定対象物で反射した可視レーザーを受光するレーザー受光部と、を備え、
前記Ｘ線検出器から前記測定対象物までの距離に応じて、前記レーザー受光部のレーザー受光位置が変化するように構成されている
ことを特徴とする請求項２に記載の背面反射Ｘ線分析装置。
【請求項４】
前記レーザー出射部から出射される可視レーザーが前記測定対象物に照射されるときの光軸と、前記Ｘ線出射部から出射されるＸ線が前記測定対象物に照射されるときの光軸とが、同軸に設定されている
ことを特徴とする請求項３に記載の背面反射Ｘ線分析装置。
【請求項５】
前記レーザー出射部から出射される可視レーザーの光路を、当該可視レーザーの光軸が前記Ｘ線出射部から出射されるＸ線と同軸になるように、変換する光路変換手段と、
前記Ｘ線出射部から出射されるＸ線の光路に対して、前記光路変換手段を進退可能に支持する進退支持手段と、
を備えることを特徴とする請求項４に記載の背面反射Ｘ線分析装置。
【請求項６】
前記レーザー出射部から出射される可視レーザーが前記測定対象物に照射されるときの光軸と、前記Ｘ線出射部から出射されるＸ線が前記測定対象物に照射されるときの光軸とが、交差するように設定されている
ことを特徴とする請求項３に記載の背面反射Ｘ線分析装置。
【請求項７】
前記距離センサ機構を移動させることにより、前記Ｘ線と前記可視レーザーとが交差する位置を変位させるセンサ移動機構を備える
ことを特徴とする請求項６に記載の背面反射Ｘ線分析装置。
【請求項８】
前記センサ移動機構は、前記距離センサ機構を直線移動させるものである
ことを特徴とする請求項７に記載の背面反射Ｘ線分析装置。
【請求項９】
前記センサ移動機構は、前記距離センサ機構を回転移動させるものである
ことを特徴とする請求項７に記載の背面反射Ｘ線分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、測定対象物にＸ線を照射し、測定対象物で回折したＸ線を受光するＸ線検出器を備える背面反射Ｘ線分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、測定対象物にＸ線を照射し、測定対象物で回折したＸ線をＸ線検出器で受光することにより、Ｘ線検出器に形成された円環状の回折像（以下、「回折環」ともいう。）を測定する背面反射Ｘ線分析装置が知られている。ここで記述する「背面反射」とは、Ｘ線のブラッグ回折に際して、ブラック角が４５度より大きい反射をいう。背面反射Ｘ線分析装置には、回折環の形状を分析して残留応力を測定するものや、複数の回折環の強度比から結晶相の定量分析、ラウエ斑点を測定する結晶方位解析や結晶構造解析などを行うものがある。
【０００３】
一般に、背面反射Ｘ線分析装置は、装置全体が大型で持ち運びが困難であった。そこで近年においては、小型で軽量化された背面反射Ｘ線分析装置が提案されている（特許文献１を参照）。この背面反射Ｘ線分析装置においては、Ｘ線出射器やＸ線検出器などを、取手付きの筐体に収容することにより、背面反射Ｘ線分析装置の搬送を容易にしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−１１３７３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１に記載された従来の背面反射Ｘ線分析装置には、次のような欠点があった。
すなわち、一般に、背面反射Ｘ線分析装置では、Ｘ線検出器を用いてＸ線分析を行う場合に、Ｘ線検出器から測定対象物までの間の距離を、あらかじめ決められた規定の距離（以下、「カメラ長」ともいう。）に合わせる必要がある。その際、従来の反面反射Ｘ線分析装置では、Ｘ線分析に適用可能なカメラ長を一つしか持っていない、つまりカメラ長が固定で決まっているため、測定環境によっては所望のカメラ長に設定できない場合があった。具体的には、たとえば、測定対象物の表面の一部に凸部が存在する場合は、上述した筐体の一部が測定対象物の凸部に干渉（接触）するなどして、所望のカメラ長に設定できない場合があった。
【０００６】
ちなみに、背面反射Ｘ線分析装置でカメラ長を規定（既知）の距離に合わせて設定する理由は、次のような事情による。まず、Ｘ線検出器に形成される回折環の大きさ（直径）は、カメラ長に依存して変化する。具体的には、測定対象物の表面で回折するＸ線の回折角度が同じであっても、カメラ長が短い条件で測定した場合は、検出される回折環が小さくなり、カメラ長が長い条件で測定した場合は、検出される回折環が大きくなる。このため、カメラ長が規定の距離からずれている、あるいはカメラ長が不明であると、たとえ回折環を検出できたとしても、これをもとに正確なＸ線分析（応力測定など）を行うことができなくなる。
【０００７】
本発明の主な目的は、測定対象物の表面形状に凹凸が存在する場合でも、測定対象物との干渉を避けてカメラ長を設定することができるＸ線分析装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の態様は、
測定対象物に向けてＸ線を出射するＸ線出射部と、
前記Ｘ線出射部から出射されたＸ線を前記測定対象物に入射させたときに、前記測定対象物で回折した回折Ｘ線を受光することにより、前記回折Ｘ線が形成する円環状の回折像を検出可能なＸ線検出器と、
前記Ｘ線出射部から出射されるＸ線の光軸方向において前記Ｘ線検出器から前記測定対象物までの距離で規定されるカメラ長を設定する場合に、第１のカメラ長に相当する第１の規定距離と、前記第１のカメラ長とは異なる第２のカメラ長に相当する第２の規定距離とを含む複数の規定距離の中から、いずれか一つを選択して設定可能なカメラ長可変設定手段と、
を備えることを特徴とする背面反射Ｘ線分析装置である。
【０００９】
本発明の第２の態様は、
前記カメラ長可変設定手段は、三角測距方式の距離センサ機構を用いて構成されている
ことを特徴とする上記第１の態様に記載の背面反射Ｘ線分析装置である。
【００１０】
本発明の第３の態様は、
前記距離センサ機構は、
前記測定対象物に照射すべき可視レーザーを出射するレーザー出射部と、
前記レーザー出射部から出射され前記測定対象物で反射した可視レーザーを受光するレーザー受光部と、を備え、
前記Ｘ線検出器から前記測定対象物までの距離に応じて、前記レーザー受光部のレーザー受光位置が変化するように構成されている
ことを特徴とする上記第２の態様に記載の背面反射Ｘ線分析装置である。
【００１１】
本発明の第４の態様は、
前記レーザー出射部から出射される可視レーザーが前記測定対象物に照射されるときの光軸と、前記Ｘ線出射部から出射されるＸ線が前記測定対象物に照射されるときの光軸とが、同軸に設定されている
ことを特徴とする上記第３の態様に記載の背面反射Ｘ線分析装置である。
【００１２】
本発明の第５の態様は、
前記レーザー出射部から出射される可視レーザーの光路を、当該可視レーザーの光軸が前記Ｘ線出射部から出射されるＸ線と同軸になるように、変換する光路変換手段と、
前記Ｘ線出射部から出射されるＸ線の光路に対して、前記光路変換手段を進退可能に支持する進退支持手段と、
を備えることを特徴とする上記第４の態様に記載の背面反射Ｘ線分析装置である。
【００１３】
本発明の第６の態様は、
前記レーザー出射部から出射される可視レーザーが前記測定対象物に照射されるときの光軸と、前記Ｘ線出射部から出射されるＸ線が前記測定対象物に照射されるときの光軸とが、交差するように設定されている
ことを特徴とする上記第３の態様に記載の背面反射Ｘ線分析装置である。
【００１４】
本発明の第７の態様は、
前記距離センサ機構を移動させることにより、前記Ｘ線と前記可視レーザーとが交差する位置を変位させるセンサ移動機構を備える
ことを特徴とする上記第６の態様に記載の背面反射Ｘ線分析装置である。
【００１５】
本発明の第８の態様は、
前記センサ移動機構は、前記距離センサ機構を直線移動させるものである
ことを特徴とする上記第７の態様に記載の背面反射Ｘ線分析装置である。
【００１６】
本発明の第９の態様は、
前記センサ移動機構は、前記距離センサ機構を回転移動させるものである
ことを特徴とする上記第７の態様に記載の背面反射Ｘ線分析装置である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、測定対象物の表面形状に凹凸が存在する場合でも、測定対象物との干渉を避けてカメラ長を設定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明を適用可能な背面反射Ｘ線分析装置の構成の一例を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係る背面反射Ｘ線分析装置の概略構成を示す斜視図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係る背面反射Ｘ線分析装置の主要部の構成を説明する図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態において、背面反射Ｘ線分析装置を試料に近づけて設置した場合と遠ざけて設置した場合の各部の位置関係を示す図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態に係る背面反射Ｘ線分析装置の主要部の構成を説明する図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態において、背面反射Ｘ線分析装置を試料に近づけて設置した場合の各部の位置関係を示す図である。
【図７】本発明の第２の実施の形態において、背面反射Ｘ線分析装置を試料から遠ざけて設置した場合の各部の位置関係を示す図である。
【図８】本発明の第３の実施の形態に係る背面反射Ｘ線分析装置の主要部の構成を説明する図である。
【図９】センサ移動機構による距離センサ機構の回転移動前後の位置関係を示す図である。
【図１０】本発明の第３の実施の形態において、背面反射Ｘ線分析装置を試料に近づけて設置した場合の各部の位置関係を示す図である。
【図１１】本発明の第３の実施の形態において、背面反射Ｘ線分析装置を試料から遠ざけて設置した場合の各部の位置関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
ここではＸ線検出器としてイメージングプレートを使用した場合について説明する。
【００２０】
＜背面反射Ｘ線分析装置＞
（背面反射Ｘ線分析装置の構成）
図１は本発明を適用可能な背面反射Ｘ線分析装置の構成の一例を示す斜視図である。図示した背面反射Ｘ線分析装置においては、Ｘ線出射部の一例としてＸ線管１を備えるとともに、Ｘ線検出器の一例としてイメージングプレート２を備えている。Ｘ線管１は、測定対象物となる試料３に向けてＸ線を出射するものである。ここでは試料３の一例として、表面（上面）が平坦な板（金属板など）を想定している。
【００２１】
イメージングプレート２は、Ｘ線の二次元強度分布を計測する際に用いられるものである。
具体的には、イメージングプレート２は、Ｘ線管１から出射されたＸ線を試料３に入射させたときに、試料３の表面で回折した回折Ｘ線を受光することにより、この回折Ｘ線が形成する回折環（円環状の回折像）を検出可能なものである。イメージングプレート２は、たとえば、有機フィルムの片面に光輝尽性蛍光体の粉末を塗布して板状に形成したものである。このため、イメージングプレート２をＸ線で露光した後、この露光部分にレーザー光を照射すると、Ｘ線の露光量に応じた発光が得られる。したがって、Ｘ線露光後のイメージングプレート２の露光部にレーザー光を照射したときの発光量を計測することにより、Ｘ線の露光量を反映したＸ線像を得ることができる。
【００２２】
イメージングプレート２は、全体に円板状に形成されている。イメージングプレート２は、たとえば、イメージングプレート２と同じ形状の支持部材（不図示）を用いて支持されている。イメージングプレート２の中心部にはＸ線通過孔５が形成されている。Ｘ線通過孔５は、Ｘ線管１から出射されたＸ線を通過させる孔である。Ｘ線通過孔５は、イメージングプレート２を板厚方向に貫通する円形の孔になっている。イメージングプレート２の片面はＸ線受光部６となっている。Ｘ線受光部６は、Ｘ線管１からイメージングプレート２のＸ線通過孔５を通して試料３にＸ線を入射したときに、試料３の表面で回折した回折Ｘ線を受光する部分である。Ｘ線受光部６は、Ｘ線管１が配置されている側とは反対側となるイメージングプレート２の片面であって、上述した光輝尽性蛍光体の粉末を塗布した面によって構成されている。
【００２３】
（背面反射Ｘ線分析装置の動作）
上記構成からなる背面反射Ｘ線分析装置においては、Ｘ線管１から出射されたＸ線が、イメージングプレート２のＸ線通過孔５を通して試料３の表面に入射する。図は回折環の形状を分析して残留応力を測定する場合の例であり、Ｘ線管１から出射されたＸ線が斜め方向から試料３に入射するように、試料３の表面に対するＸ線の入射角度が９０度未満（たとえば、３０度程度）に設定されている。また、イメージングプレート２は、試料３の表面に対しては、Ｘ線の入射角度に合わせて斜めに配置され、Ｘ線管１から出射されたＸ線に対しては、当該Ｘ線の光軸と直交する向きに配置されている。
【００２４】
上述のように試料３に表面にＸ線を入射させると、そこでＸ線が回折する。試料３の表面で回折した回折Ｘ線は、イメージングプレート２のＸ線受光部６で受光される。これにより、Ｘ線受光部６がＸ線によって露光される。このとき、Ｘ線受光部６には、Ｘ線による露光によって円環状の回折像が潜像として形成される。その後、所定の露光時間が経過したら、Ｘ線管１からのＸ線の出射を停止する。次に、それまでＸ線受光部６に蓄積された潜像をレーザー読取器等によって読み出す。これにより、イメージングプレート２に形成された回折環を検出することができる。
【００２５】
＜第１の実施の形態＞
図２は本発明の第１の実施の形態に係る背面反射Ｘ線分析装置の概略構成を示す斜視図であり、図３は本発明の第１の実施の形態に係る背面反射Ｘ線分析装置の主要部の構成を説明する図である。なお、図３は図２を正面方向Ｆから見た図である。この図３では、測定対象となる試料３の表面が、紙面に垂直な面から傾斜した面になっている。このため、Ｘ線は上述のような斜め方向から試料３に入射することになる。
【００２６】
本発明の第１の実施の形態に係る背面反射Ｘ線分析装置は、Ｘ線分析に適用するカメラ長を設定する場合に、少なくとも２つ以上の規定距離の中から、いずれか一つを選択して設定可能なカメラ長可変設定手段を備えている。この場合、カメラ長は、Ｘ線管１から出射されるＸ線の光軸方向においてイメージングプレート２のＸ線通過孔５から試料３のレーザー照射位置Ｏまでの距離で表すことができる。レーザー照射位置Ｏとは、測定対象となる試料３の表面に対して、後述するレーザー出射部１１から出射される可視レーザーが照射される位置をいう。以下、詳しく説明する。
【００２７】
カメラ長可変設定手段は、三角測距方式の距離センサ機構１０を用いて構成されている。距離センサ機構１０は、レーザー出射部１１と、光路変換手段となるプリズム１２と、プリズム移動機構１３と、スリット１４と、レーザー受光部となるＰＳＤ（Position Sensitive Detector）１５と、を備えている。
【００２８】
レーザー出射部１１は、試料３に照射すべき可視レーザー（レーザービーム）を出射するものである。プリズム１２は、レーザー出射部１１から出射される可視レーザーの光路を変換するものである。プリズム１２は、たとえば、直角プリズムを用いて構成されている。プリズム１２は、必要に応じて、Ｘ線管１から出射されるＸ線の光路上に進出して配置される。Ｘ線の光路上に配置されたプリズム１２は、レーザー出射部１１から出射された可視レーザーの進行方向を９０度変えることより、可視レーザーの光軸がＸ線の光軸と同軸になるように、可視レーザーの光路を変換する。
【００２９】
プリズム移動機構１３は、Ｘ線管１から出射されるＸ線の光路に対して、プリズム１２を進退可能に支持する進退支持手段を構成する。プリズム移動機構１３は、Ｘ線管１からイメージングプレート２に至るＸ線の光路（光軸）と直交する方向にプリズム１２を往復移動させることにより、Ｘ線の光路に対してプリズム１２を進退移動させる。これにより、プリズム１２は、Ｘ線管１からイメージングプレート２に至るＸ線の光路上に進出した位置と、この光路から退避した位置とに選択的（交互）に配置可能となっている。
【００３０】
スリット１４は、スリット孔１４ａを有するもので、ＰＳＤ１５の手前に配置されている。スリット１４は、レーザー出射部１１から出射された可視レーザーを、プリズム１２を経由して試料３に照射したときに、試料３で反射してＰＳＤ１５に向かう可視レーザーの通過をスリット孔１４ａによって制限するものである。スリット１４のスリット孔１４ａには図示しない収束レンズが取り付けられ、この収束レンズで収束した可視レーザーがＰＳＤ１５の受光面１５ａに結像するようになっている。
【００３１】
ＰＳＤ１５は、試料３で反射した可視レーザーを受光面１５ａで受光するとともに、その受光位置を検出可能なものである。ＰＳＤ１５の受光面１５ａは、イメージングプレート２やスリット１４と平行に配置されている。受光面１５ａにおける可視レーザーの受光位置は、上述した収束レンズで収束した可視レーザーが結像する位置となる。ここでは一例として、ＰＳＤ１５の受光面１５ａの一方端側に原点が存在し、この原点を基準（ゼロ）として、可視レーザーの受光位置を原点からの距離（以下、「ＰＳＤ検出距離」という。）ｄにより検出する仕組みになっている。この仕組みにおいては、上述したカメラ長ＣＬが短くなると、それだけＰＳＤ検出距離ｄが長くなり、これと反対に、カメラ長ＣＬが長くなると、それだけＰＳＤ検出距離ｄが短くなる。このため、ＰＳＤ検出距離ｄが分かれば、これに基づいてカメラ長ＣＬを求めることができる。
【００３２】
上記構成からなる背面反射Ｘ線分析装置においては、Ｘ線管１からＸ線を出射させてＸ線分析を行う前に、カメラ長の設定を行う。カメラ長の設定は、Ｘ線管１からＸ線を出射させずに行う。カメラ長を設定するには、まず、プリズム移動機構１３によってプリズム１２をＸ線の光路上に進出させる。次に、レーザー出射部１１からプリズム１２に向けて可視レーザーを出射させる。そうすると、可視レーザーの光路がプリズム１２で直角に折れ曲がる。これにより、可視レーザーの光軸が、Ｘ線の光軸と同軸の状態になる。このため、可視レーザーは、イメージングプレート２のＸ線通過孔５を通して試料３に照射される。このとき、イメージングプレート２のＸ線通過孔５から試料３のレーザー照射位置Ｏまでの距離が、あらかじめ想定されたカメラ長の設定可能範囲にあれば、試料３のレーザー照射位置Ｏで反射した可視レーザーは、スリット１４のスリット孔１４ａを通してＰＳＤ１５の受光面１５ａに到達する。これにより、ＰＳＤ１５は、ＰＳＤ検出距離ｄに基づいてカメラ長ＣＬを検出する。以下、詳しく説明する。
【００３３】
いま、図３及び図４に示す各符号の意味を以下のとおり定義する。なお、図４は背面反射Ｘ線分析装置を試料に近づけて設置した場合と遠ざけて設置した場合の各部の位置関係を示している。
符号Ｂは、プリズム１２からイメージングプレート２のＸ線通過孔５に向かう可視レーザーの光軸に直交する方向において、この可視レーザーの光軸からスリット１４のスリット孔１４ａの中心位置までの距離を示す。このスリット孔１４ａの中心位置はＰＳＤ１５の原点となる。
符号Ｃは、イメージングプレート２のＸ線通過孔５の中心からスリット１４のスリット面までの距離を示す。
符号Ｌ（Ｌ１、Ｌ２）は、Ｘ線管１からイメージングプレート２のＸ線通過孔５を通して試料３に向かうＸ線の光軸と平行な方向において、スリット１４のスリット面と試料３の表面のレーザー照射位置Ｏ（Ｏ１、Ｏ２）との間の距離を示すものであって、Ｌ１は背面反射Ｘ線分析装置を試料に近づけて設置した場合の距離を示し、Ｌ２は背面反射Ｘ線分析装置を試料から遠ざけて設置した場合の距離を示す。
符号Ｏ（Ｏ１、Ｏ２）は、試料３の表面の測定位置（Ｘ線を入射させる位置）を示すものであって、Ｏ１は背面反射Ｘ線分析装置を試料に近づけて設置した場合の測定位置を示し、Ｏ２は背面反射Ｘ線分析装置を試料から遠ざけて設置した場合の測定位置を示す。
符号Ｓは、スリット１４のスリット孔１４ａの中心位置（レンズが存在する場合はレンズの光学中心位置）を示す。
符号ｆは、プリズム１２からイメージングプレート２のＸ線通過孔５を通して試料３に向かう可視レーザーの光軸と平行な方向において、スリット１４のスリット孔１４ａの中心とＰＳＤ１５の受光面１５ａとの間の距離を示す。
このうち、符号Ｂ，Ｃ，ｆが示す距離は、背面反射Ｘ線分析装置の機械的な構成（機構設計等）によって決まるため、いずれも既知の情報となる。これに対して、符号Ｌ（Ｌ１、Ｌ２）が示す距離は、試料３に対して背面反射Ｘ線分析装置をどの程度近づけて設置するかによって変わるため、未知の情報となる。
【００３４】
ところで、ＰＳＤ１５においてＰＳＤ検出距離ｄを計測した場合は、このＰＳＤ検出距離ｄを用いた計算を距離センサ機構１０の制御回路で行うことにより、カメラ長ＣＬを検出することができる。たとえば、レーザー出射部１１からプリズム１２を経由して試料３の表面に可視レーザーを照射したときに、ＰＳＤ１５がＰＳＤ検出距離ｄ１の位置で可視レーザーを受光した場合は、次の（１）式によってカメラ長ＣＬ１を検出することができる。
ＣＬ１＝Ｌ１+Ｃ＝Ｂ・ｆ／ｄ１+Ｃ    …（１）
【００３５】
また、レーザー出射部１１からプリズム１２を経由して試料３の表面に可視レーザーを照射したときに、ＰＳＤ１５がＰＳＤ検出距離ｄ２の位置で可視レーザーを受光した場合は、次の（２）式によってカメラ長ＣＬ２を検出することができる。
ＣＬ２＝Ｌ２+Ｃ＝Ｂ・ｆ／ｄ２+Ｃ    …（２）
【００３６】
ここで、背面反射Ｘ線分析装置を用いたＸ線分析においては、できるだけ試料３に近づけてＸ線分析装置を設置することが望ましい。その理由は、主に２つある。第１の理由は、カメラ長を短く設定した方が、イメージングプレート２のＸ線受光部６に、より強度の大きいＸ線が入射し、これによってＸ線の露光時間を短縮できるためである。第２の理由は、同一の大きさのイメージングプレート２で比較した場合、カメラ長を短く設定した方が、より大きな回折角度のＸ線をイメージングプレート２で受光できるためである。
【００３７】
ただし、試料３の表面の一部に凸部が存在する場合は、カメラ長を短く設定しようとして背面反射Ｘ線分析装置を試料３に近づけたときに、たとえば、装置の筐体の一部が試料３の凸部に干渉する場合がある。そうした場合でも、本発明の第１の実施の形態に係る背面反射Ｘ線分析装置では、Ｘ線分析に適用するカメラ長を問題なく設定することができる。具体的には、試料３の凸部と干渉しないように背面反射Ｘ線分析装置を試料３から離して設置する。そして、この設置状態のもとでカメラ長ＣＬを検出し、この検出結果に基づいて、Ｘ線分析に適用するカメラ長をＣＬに設定する。
【００３８】
こうしてカメラ長の設定を終えたら、プリズム移動機構１３によってプリズム１２をＸ線の光路から退避させる。以降は、背面反射Ｘ線分析装置と試料３との相対的な位置関係をそのまま維持しつつ、先に設定したカメラ長を適用して試料３のＸ線分析を行う。
【００３９】
（第１の実施の形態の効果）
本発明の第１の実施の形態に係る背面反射Ｘ線分析装置においては、従来のようにカメラ長が固定ではなく、複数の規定距離の中から一つを選んでカメラ長に設定することができる。このため、たとえば、試料３の表面の一部に凸部が存在する場合でも、この凸部に対して背面反射Ｘ線分析装置が干渉しないカメラ長を選んで設定することができる。したがって、Ｘ線分析の測定環境に応じた適切なカメラ長を選択して試料３のＸ線分析を行うことが可能となる。また、カメラ長ＣＬを変化させると、これに応じてＰＤＳ検出距離ｄが変化する構成になっている。このため、ＰＳＤ検出距離ｄに基づいてカメラ長ＣＬを検出することができる。したがって、カメラ長ＣＬの最大値と最小値の範囲内で、Ｘ線分析時のカメラ長を任意に選んで設定することが可能となる。
【００４０】
また、本発明の第１実施の形態においては、レーザー出射部１１から出射される可視レーザーが試料３に照射されるときの光軸と、Ｘ線管１から出射されるＸ線が試料３に照射されるときの光軸とが、同軸に設定されている。このため、試料３の表面において、カメラ長設定時の可視レーザーの照射位置と、Ｘ線分析時のＸ線の照射位置とが、常に同じ位置になる。したがって、カメラ長設定時に試料３に照射された可視レーザーのスポット位置が、Ｘ線分析時にはそのままＸ線の照射位置となる。よって、Ｘ線分析の対象となる試料３の測定位置を示す指標として、可視レーザーを有効に活用することができる。
【００４１】
また、本発明の第１の実施の形態の応用例として、Ｘ線管１やイメージングプレート２、さらには上述した距離センサ機構１０を含む、Ｘ線分析系の機構全体を、入射Ｘ線の光軸方向に移動させる分析系移動機構（不図示）を設けた構成を採用してもよい。この構成を採用した場合は、Ｘ線分析の対象となる試料３の測定位置を固定（一義的に決定）した状態で、分析系移動機構によりＸ線分析系の機構全体を移動させることにより、測定位置を一定にしたままで任意のカメラ長に設定することができる。すなわち、カメラ長の調整作業をしても測定位置の再設定をする必要がないので調整が簡単になる。
【００４２】
＜第２の実施の形態＞
図５は本発明の第２の実施の形態に係る背面反射Ｘ線分析装置の主要部の構成を説明する図である。この図５においても、図２を正面方向Ｆから見た図であって、試料３の測定表面は紙面に垂直な面から傾斜した面になっており、Ｘ線は上述のような斜め方向からの入射となる。
【００４３】
本発明の第２の実施の形態に係る背面反射Ｘ線分析装置においては、上記第１の実施の形態の場合と比較して、カメラ長可変設定手段が三角測距方式の距離センサ機構１０を用いて構成されている点は共通するものの、距離センサ機構１０の構成が異なる。
【００４４】
距離センサ機構１０は、レーザー出射部１１と、スリット１４と、ＰＳＤ１５と、を備えている。また、距離センサ機構１０は、センサ移動機構１６によって移動可能に設けられている。レーザー出射部１１、スリット１４及びＰＳＤ１５の基本的な構成は、上記第１の実施の形態と同様であるが、各々の配置は以下のとおり異なっている。
【００４５】
レーザー出射部１１は、Ｘ線管１やイメージングプレート２とは異なる角度で試料３と向かい合うように配置されている。レーザー出射部１１から出射される可視レーザーは、イメージングプレート2と干渉しないようにイメージングプレート２の外側を通って試料３に直接照射される構成になっている。また、レーザー出射部１１から出射される可視レーザーの光軸と、Ｘ線管１から出射されるＸ線の光軸とは、互いに交差するように設定されている。
【００４６】
スリット１４とＰＳＤ１５の受光面１５ａとは、イメージングプレート２の外側に、互いに平行に配置されている。センサ移動機構１６は、レーザー出射部１１、スリット１４及びＰＳＤ１５を含む距離センサ機構１０を、ＰＳＤ１５の受光面１５ａと平行な方向に直線的かつ一体的に移動させるものである。このため、センサ移動機構１６によって距離センサ機構１０を移動させると、これにしたがってレーザー出射部１１、スリット１４及びＰＳＤ１５の各部がイメージングプレート２に対して接近または離間する。
【００４７】
センサ移動機構１６は、たとえば、次のような構成を採用することが可能である。
すなわち、図示はしないが、距離センサ機構１０を構成するレーザー出射部１１、スリット１４及びＰＳＤ１５を、共通のベース部材を用いて支持する。また、このベース部材をガイドレールやガイドシャフト等のガイド部材を用いて直線移動自在に支持する。移動のための駆動系としては、モータ等を駆動源として、ボールネジ機構により、回転運動を直線運動に変換し、ベース部材を移動させる。
【００４８】
上記構成からなる背面反射Ｘ線分析装置において、カメラ長を設定する場合は、レーザー出射部１１から試料３に向けて可視レーザーを出射させる。このとき、イメージングプレート２のＸ線通過孔５から試料３のレーザー照射位置Ｏまでの距離が、あらかじめ想定されたカメラ長の設定可能範囲にあれば、試料３で反射した可視レーザーが、スリット１４のスリット孔１４ａを通してＰＳＤ１５の受光面１５ａに到達する。これにより、ＰＳＤ１５は、ＰＳＤ検出距離ｄに基づいてカメラ長ＣＬを検出する。以下、詳しく説明する。
【００４９】
いま、図５、図６及び図７に示す各符号の意味を以下のとおり定義する。なお、図６は背面反射Ｘ線分析装置を試料に近づけて設置した場合の各部の位置関係、図７は遠ざけて設置した場合の各部の位置関係をそれぞれ示している。
符号Ｂは、レーザー出射部１１から試料３に向かう可視レーザーの光軸に直交する方向において、この可視レーザーの光軸からスリット１４のスリット孔１４ａの中心位置までの距離を示す。このスリット孔１４ａの中心位置はＰＳＤ１５の原点となる。
符号Ｃは、イメージングプレート２のＸ線通過孔５の中心からスリット１４のスリット面までの距離を示す。
符号Ｌ（Ｌ１、Ｌ２）は、レーザー出射部１１から試料３に向かう可視レーザーの光軸と平行な方向において、スリット１４のスリット面と試料３の表面のレーザー照射位置Ｏ（Ｏ１、Ｏ２）との間の距離を示すものであって、Ｌ１は背面反射Ｘ線分析装置を試料に近づけて設置した場合の距離を示し、Ｌ２は背面反射Ｘ線分析装置を試料から遠ざけて設定した場合の距離を示す。
符号Ｏ（Ｏ１、Ｏ２）は、試料３の表面の測定位置（Ｘ線を入射させる位置）を示すものであって、Ｏ１は背面反射Ｘ線分析装置を試料に近づけて設置した場合の測定位置を示し、Ｏ２は背面反射Ｘ線分析装置を試料から遠ざけて設置した場合の測定位置を示す。
符号Ｓは、スリット１４のスリット孔１４ａの中心位置（レンズが存在する場合はレンズの光学中心位置）を示す。
符号ｆは、レーザー出射部１１から試料３に向かう可視レーザーの光軸と平行な方向において、スリット１４のスリット孔１４ａの中心とＰＳＤ１５の受光面１５ａとの間の距離を示す。
符号αは、Ｘ線管１からイメージングプレート２のＸ線通過孔５を通して試料３に向かうＸ線の光軸と、レーザー出射部１１から試料３に向かう可視レーザーの光軸とがなす角度を示す。
このうち、符号Ｂ，Ｃ，ｆが示す距離や、符号αが示す角度は、背面反射Ｘ線分析装置の機械的な構成によって決まるため、いずれも既知の情報となる。これに対して、符号Ｌ（Ｌ１、Ｌ２）が示す距離は、試料３に対して背面反射Ｘ線分析装置をどの程度近づけて設置するかによって変わるため、未知の情報となる。
【００５０】
そこで、ＰＳＤ１５においてＰＳＤ検出距離ｄを計測した場合は、このＰＳＤ検出距離ｄを用いた計算を距離センサ機構１０の制御回路で行うことにより、カメラ長ＣＬを検出することができる。たとえば、レーザー出射部１１から試料３の表面に可視レーザーを照射したときに、ＰＳＤ１５がＰＳＤ検出距離ｄ１の位置で可視レーザーを受光した場合は、次の（３）式によってカメラ長ＣＬ１を検出することができる。
ＣＬ１＝（Ｌ１+Ｃ）／ｃｏｓα＝（Ｂ・ｆ／ｄ１+Ｃ）／ｃｏｓα    …（３）
【００５１】
また、レーザー出射部１１から試料３の表面に可視レーザーを照射したときに、ＰＳＤ１５がＰＳＤ検出距離ｄ２の位置で可視レーザーを受光した場合は、次の（４）式によってカメラ長ＣＬ２を検出することができる。
ＣＬ２＝（Ｌ２+Ｃ）／ｃｏｓα＝（Ｂ・ｆ／ｄ２+Ｃ）／ｃｏｓα    …（４）
【００５２】
ここで、第２の実施の形態においては、Ｘ線管１から試料３に向けて出射されるＸ線の光軸と、レーザー出射部１１から試料３に向けて出射される可視レーザーの光軸とが交差する位置を、試料３の測定位置に設定する必要がある。このため、Ｘ線分析時のカメラ長の設定をカメラ長ＣＬ１からカメラ長ＣＬ２に変更する場合は、レーザー出射部１１、スリット１４及びＰＳＤ１５をセンサ移動機構１６によって移動させる必要がある。そのときの移動量は、（ＣＬ１−ＣＬ２）ｓｉｎαとなる。また、試料３の測定位置合わせは別途、目視で行う必要がある。具体的には、測定位置に可視レーザービームが当たるように試料位置を調整する。
【００５３】
センサ移動機構１６による距離センサ機構１０の移動量は、たとえば、次のような方法で制御すればよい。
まず、センサ移動機構１６によって距離センサ機構１０を直線移動させると、Ｘ線管１から出射されるＸ線の光軸方向において、このＸ線とレーザー出射部１１から出射される可視レーザーとの交差する位置が変位する。具体的には、センサ移動機構１６によって距離センサ機構１０をイメージングプレート２に接近する方向に直線移動させると、Ｘ線と可視レーザーとの交差する位置が、Ｘ線の光軸上でイメージングプレート２に近づく方向に変位する。また、センサ移動機構１６によって距離センサ機構１０をイメージングプレート２から離間する方向に直線移動させると、Ｘ線と可視レーザーとの交差する位置が、Ｘ線の光軸上でイメージングプレート２から遠ざかる方向に変位する。
【００５４】
これにより、Ｘ線分析時のカメラ長を任意に選んで設定することができる。このため、試料３の表面の一部に凸部が存在する場合でも、この凸部に対して背面反射Ｘ線分析装置が干渉しないカメラ長を選んで設定することができる。したがって、Ｘ線分析の測定環境に応じた適切なカメラ長を選択して試料３のＸ線分析を行うことが可能となる。
なお、センサ移動機構１６による距離センサ機構１０の移動方向は、必ずしもＰＳＤ１５の受光面１５ａと平行な方向でなくてもよく、図中の符号Ｓ−Ｏ方向以外であれば、いずれの方向であってもかまわない。
【００５５】
＜第３の実施の形態＞
図８は本発明の第３の実施の形態に係る背面反射Ｘ線分析装置の主要部の構成を説明する図である。この図８においても、図２を正面方向Ｆから見た図であって、試料３の測定表面は紙面に垂直な面から傾斜した面になっており、Ｘ線は上述のような斜め方向からの入射となる。
【００５６】
本発明の第３の実施の形態に係る背面反射Ｘ線分析装置においては、上記第２の実施の形態の場合と比較して、センサ移動機構１６の構成が異なる。すなわち、上記第２の実施の形態においては、センサ移動機構１６が距離センサ機構１０を直線移動させる構成になっているが、第３の実施の形態においては、センサ移動機構１６が距離センサ機構１０を回転移動させる構成になっている。以下、詳しく説明する。
【００５７】
レーザー出射部１１は、Ｘ線管１やイメージングプレート２とは異なる角度で試料３と向かい合うように配置されている。レーザー出射部１１から出射される可視レーザーは、イメージングプレート２と干渉しないようにイメージングプレート２の外側を通って試料３に直接照射される構成になっている。また、レーザー出射部１１から出射される可視レーザーの光軸と、Ｘ線管１から出射されるＸ線の光軸とは、互いに交差するように設定されている。この点は、上記第２の実施の形態と同様である。
【００５８】
センサ移動機構１６は、スリット１４のスリット孔１４ａの中心を回転中心として、距離センサ機構１０（レーザー出射部１１、スリット１４、ＰＳＤ１５）を一体的に回転移動させる。実際にセンサ移動機構１６によって距離センサ機構１０を回転移動させると、これにしたがってＸ線と可視レーザーとの交差する位置が変位する。具体的には、図９に示すように、センサ移動機構１６によって距離センサ機構１０を時計回り方向に回転移動させると、レーザー出射部１１やＰＳＤ１５等が実線から破線で示す位置に変位し、これにしたがってＸ線と可視レーザーとの交差する位置が、Ｘ線の光軸上でイメージングプレート２から遠ざかる方向に変位する。また、その状態からセンサ移動機構１６によって距離センサ機構１０を反時計回り方向に回転移動させると、レーザー出射部１１やＰＳＤ１５等が破線から実線で示す位置に変位し、これにしたがってＸ線と可視レーザーとの交差する位置が、Ｘ線の光軸上でイメージングプレート２に近づく方向に変位する。
【００５９】
センサ移動機構１６は、たとえば、次のような構成を採用することが可能である。
すなわち、図示はしないが、距離センサ機構１０を構成するレーザー出射部１１、スリット１４及びＰＳＤ１５を、共通のベース部材を用いて支持する。また、このベース部材を、枢軸を用いて回転自在に支持する。移動のための駆動系としては、モータ等を駆動源として、その駆動力を歯車機構によりベース部材に伝達し、ベース部材を回転させる。
【００６０】
上記構成からなる背面反射Ｘ線分析装置において、カメラ長を設定する場合は、レーザー出射部１１から試料３に向けて可視レーザーを出射させる。このとき、イメージングプレート２のＸ線受光部６におけるＸ線通過孔５の中心Ｃｃから試料３のレーザー照射位置Ｏまでの距離が、あらかじめ想定されたカメラ長の設定可能範囲にあれば、試料３で反射した可視レーザーが、スリット１４のスリット孔１４ａを通してＰＳＤ１５の受光面１５ａに到達する。これにより、ＰＳＤ１５は、ＰＳＤ検出距離ｄに基づいてカメラ長ＣＬを検出する。以下、詳しく説明する。
【００６１】
いま、上記図９に示すように距離センサ機構１０をセンサ移動機構１６によって角度βだけ時計回り方向に回転移動させたものとする。そうした場合、距離センサ機構１０の各部の配置状態は、図１０に示す状態から図１１に示す状態に変化する。このとき、回転移動前の状態において、距離センサ機構１０の回転中心となるスリット１４のスリット孔１４ａの中心位置Ｓを原点とした二次元座標を想定する。具体的には、図１０でレーザー出射部１１から試料３に向かう可視レーザーの光軸と平行な軸をＹ軸とし、これに直交する軸をＸ軸とするＳＸＹ座標系を想定する。そうした場合、距離センサ機構１０を回転移動させる前は、Ｘ線の光軸と可視レーザーの光軸の交点はＯ１で、それらのなす角度はα１であったものが、距離センサ機構１０を角度βだけ回転移動させた後は、図１１のようになる。すなわち、Ｘ線の光軸と可視レーザーの光軸の交点はＯ２で、それらのなす角度はα２となり、α２はα１−βとなる。また、スリット１４のスリット孔１４ａの中心位置Ｓを回転中心としたβ回転により、ＳＸＹ座標系はＳＸ’Ｙ’座標系となり、Ｘ線と可視レーザーとの交点は、Ｘ線の光軸上でイメージングプレート２から遠ざかる方向に変位する。Ｘ線分析の測定では、Ｘ線と可視レーザーとの交点に試料３の測定位置を合わせる。このため、上述のように距離センサ機構１０を時計回り方向に回転移動させる前と後では、カメラ長は近距離から遠距離に変化する。
【００６２】
ここで、上述のように距離センサ機構１０を角度βだけ回転移動させたときに、Ｘ線と可視レーザーとの交点Ｏ２に試料３の表面の測定位置を合わせる。また、イメージングプレート２のＸ線受光部６におけるＸ線通過孔５の中心Ｃｃの座標をＳＸＹ座標系で（ＸＣＣ，ＹＣＣ）とし、回転移動後におけるＳＸ’Ｙ’座標系でのＣｃの座標を（Ｘ’ＣＣ,Ｙ’ＣＣ）とする。図１０のカメラ長ＣＬ１と、β回転後の図１１のカメラ長ＣＬ２は、それぞれ下記の（５）式、（６）式から求められる。
【００６３】
ＣＬ１＝（Ｌ１ +ＹＣＣ）／ｃｏｓα１＝（Ｂ・ｆ／ｄ１+Ｃ）／ｃｏｓα１  …（５）
ＣＬ２＝（Ｌ２ +Ｙ’ＣＣ）／ｃｏｓα２＝[Ｂ・ｆ／ｄ２+{（Ｌ１+Ｃ）ｔａｎα１+Ｂ}ｓｉｎβ+Ｃｃｏｓβ]／ｃｏｓ（α１-β）  …（６）
【００６４】
上記数式及び図８〜１１において、各符号の意味は以下のとおりである。
符号Ｂは、レーザー出射部１１から試料３に向かう可視レーザーの光軸に直交する方向において、この可視レーザーの光軸からスリット１４のスリット孔１４ａの中心位置までの距離を示す。このスリット孔１４ａの中心位置はＰＳＤ１５の原点となる。
符号Ｃは、Ｘ線の光軸と可視レーザーのなす角がα１である図１０の状態でイメージングプレート２のＸ線通過孔５の中心Ｃｃからスリット１４のスリット面までの距離を示す。
符号Ｌ（Ｌ１、Ｌ２）は、レーザー出射部１１から試料３に向かう可視レーザーの光軸と平行な方向において、スリット１４のスリット面と試料３の表面のレーザー照射位置Ｏ（Ｏ１、Ｏ２）との間の距離を示すものであって、Ｌ１は背面反射Ｘ線分析装置を試料に近づけて設置した場合の距離を示し、Ｌ２は背面反射Ｘ線分析装置を試料から遠ざけて設定した場合の距離を示す。
符号Ｏ（Ｏ１、Ｏ２）は、試料３の表面の測定位置（Ｘ線を入射させる位置）を示すものであって、Ｏ１は背面反射Ｘ線分析装置を試料に近づけて設置した場合の測定位置を示し、Ｏ２は背面反射Ｘ線分析装置を試料から遠ざけて設置した場合の測定位置を示す。
符号Ｓは、スリット１４のスリット孔１４ａの中心位置（レンズが存在する場合はレンズの光学中心位置）を示す。
符号ｆは、レーザー出射部１１から試料３に向かう可視レーザーの光軸と平行な方向において、スリット１４のスリット孔１４ａの中心とＰＳＤ１５の受光面１５ａとの間の距離を示す。
符号α（α１、α２）は、Ｘ線管１からイメージングプレート２のＸ線通過孔５を通して試料３の測定位置に向かうＸ線の光軸と、レーザー出射部１１から試料３の測定位置に向かう可視レーザーの光軸とがなす角度を示すものであって、α１は背面反射Ｘ線分析装置を試料に近づけて設置した場合の角度を示し、α２は背面反射Ｘ線分析装置を試料から遠ざけて設置した場合の角度を示す。
このうち、符号Ｂ，Ｃ，ｆが示す距離や、符号α１が示す初期角度は、背面反射Ｘ線分析装置の機械的な構成によって決まるため、いずれも既知の情報となる。これに対して、符号Ｌ（Ｌ１、Ｌ２）が示す距離は、試料３に対して背面反射Ｘ線分析装置をどの程度近づけて設置するかによって変わるため、未知の情報となる。
【００６５】
センサ移動機構１６による距離センサ機構１０の移動量は、たとえば、次のような方法で制御すればよい。
まず、センサ移動機構１６によって距離センサ機構１０を回転移動させると、Ｘ線管１から出射されるＸ線の光軸方向において、このＸ線とレーザー出射部１１から出射される可視レーザーとの交差する位置が変位する。具体的には、センサ移動機構１６によって距離センサ機構１０を図の反時計回り方向に回転移動させると、Ｘ線と可視レーザーとの交差する位置が、Ｘ線の光軸上でイメージングプレート２に近づく方向に変位する。また、センサ移動機構１６によって距離センサ機構１０を図の時計回り方向に回転移動させると、Ｘ線と可視レーザーとの交差する位置が、Ｘ線の光軸上でイメージングプレート２から遠ざかる方向に変位する。
【００６６】
そこで、Ｘ線分析時のカメラ長をＣＬ１に合わせたときに、ＰＳＤ１５がＰＳＤ検出距離ｄ１の位置で可視レーザーを受光するときの移動制御位置と、Ｘ線分析時のカメラ長をＣＬ２に合わせたときに、ＰＳＤ１５がＰＳＤ検出距離ｄ２の位置で可視レーザーを受光するときの移動制御位置とを、あらかじめ実験的に求めて距離センサ機構１０の制御回路（不図示）に記憶しておく。そして、Ｘ線分析時のカメラ長をＸ線照射距離ＣＬ１又はＣＬ２に合わせたい場合は、あらかじめ制御回路に記憶してある移動制御位置に距離センサ機構１０を移動すべく、センサ移動機構１６による移動量を制御する。
【００６７】
これにより、Ｘ線分析時のカメラ長を設定する場合に、ＣＬ１及びＣＬ２といった２つの規定距離の中から、いずれか一つを選択してカメラ長に設定することができる。このため、たとえば、試料３の表面の一部に凸部が存在する場合でも、この凸部に対して背面反射Ｘ線分析装置が干渉しないカメラ長を選んで設定することができる。したがって、Ｘ線分析の測定環境に応じた適切なカメラ長を選択して試料３のＸ線分析を行うことが可能となる。また、上述した移動制御位置とＸ線照射距離との関係を更に細かく対応付けて制御回路に記憶しておくことにより、Ｘ線分析時のカメラ長を任意に選んで設定することができる。
【００６８】
（変形例等）
本発明の技術的範囲は上述した実施の形態に限定されるものではなく、発明の構成要件やその組み合わせによって得られる特定の効果を導き出せる範囲において、種々の変更や改良を加えた形態も含む。
【００６９】
たとえば、上記各実施の形態においては、三角測距方式の距離センサ機構を用いる例を示したが、本発明はこれに限らず、たとえば、タイムオブフライト方式や位相差測距方式など、他の方式の距離センサを用いてもよい。タイムオブフライト方式は、測定対象物に向けて出射した光が、測定対象物で反射して戻ってくるまでの時間に基づいて距離を測定する方式である。位相差測距方式は、測定対象物に向けて光を出射したときに、測定反射物で光が反射して戻ってくるまでに生じた位相のずれに基づいて距離を測定する方式である。
【００７０】
また、カメラ長可変設定手段は、少なくとも２つの異なる規定距離の中から任意の一つを選択し、カメラ長として設定可能な構成であればよい。このため、たとえば、２つの距離センサ機構を設けて、一方の距離センサ機構では、第１のカメラ長に相当する第１の規定距離になったことを検知し、他方の距離センサ機構では、第２のカメラ長に相当する第２の規定距離になったことを検知する構成であってもよい。
【００７１】
また、本発明に係る背面反射Ｘ線分析装置は、据え置き型、ポータブル型のどちらにも適用可能であるが、特に、ポータブル型の背面反射Ｘ線分析装置に適用した場合に有用である。
【符号の説明】
【００７２】
１…Ｘ線管
２…イメージングプレート（Ｘ線検出器）
３…試料（測定対象物）
１０…距離センサ機構
１１…レーザー出射部
１２…プリズム（光路変換手段）
１３…プリズム移動機構（進退支持手段）
１５…ＰＳＤ（レーザー受光部）
１６…センサ移動機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2015137907.tif 000011
【図１０】
2015137907.tif 000012
【図１１】
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