(57)【要約】【課題】基体に浸漬塗布された塗液の自重によって基体の上部で生じる液だれを抑制する。【解決手段】回転体の製造方法は、円筒状又は円柱状の基体を下降させて塗液に浸漬し、該下降を該基体の上部が該塗液から露出する状態で停止する第１工程と、該第１工程の停止位置で該基体を予め定められた時間保持する第２工程と、該第２工程の後、該基体をさらに下降させる第３工程と、該第３工程の後、該基体を該塗液から引き上げる第４工程と、を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状又は円柱状の基体を下降させて塗液に浸漬し、該下降を該基体の上部が該塗液から露出する状態で停止する第１工程と、
該第１工程の停止位置で該基体を予め定められた時間保持する第２工程と、
該第２工程の後、該基体をさらに下降させる第３工程と、
該第３工程の後、該基体を該塗液から引き上げる第４工程と、
を有する回転体の製造方法。
【請求項２】
前記第３工程で下降される位置まで途中で停止せずに前記基体を下降させた後に該基体を引き上げて、前記基体の上部で前記塗液の自重によって液だれが生じる範囲を予め測定し、
前記第１工程は、該範囲内に前記塗液の液面が位置するように、前記下降を停止する
請求項１に記載の回転体の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２の製造方法によって前記基体の外周に感光層が形成される感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回転体の製造方法、感光体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、感光体ドラムの基体に塗液（感光層）を塗工する塗工方法が開示されている。この塗工方法では、塗工槽に浸漬させた基体を、その基体の塗工域上部が液面上の空気に所定時間露出するように、一旦引き上げてから再浸漬させ、その後、基体の全体を塗工槽から引き上げる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−８２４５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、基体に浸漬塗布された塗液の自重によって基体の上部で生じる液だれを抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１の発明は、円筒状又は円柱状の基体を下降させて塗液に浸漬し、該下降を該基体の上部が該塗液から露出する状態で停止する第１工程と、該第１工程の停止位置で該基体を予め定められた時間保持する第２工程と、該第２工程の後、該基体をさらに下降させる第３工程と、該第３工程の後、該基体を該塗液から引き上げる第４工程と、を有する。
【０００６】
請求項２の発明では、前記第３工程で下降される位置まで途中で停止せずに前記基体を下降させた後に該基体を引き上げて、前記基体の上部で前記塗液の自重によって液だれが生じる範囲を予め測定し、前記第１工程は、該範囲内に前記塗液の液面が位置するように、前記下降を停止する。
【０００７】
請求項３の発明は、請求項１又は２の製造方法によって前記基体の外周に感光層が形成される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の請求項１の製造方法によれば、第３工程で下降される位置まで途中で停止せずに基体を下降させた後に該基体を引き上げる比較例に比べ、基体に浸漬塗布された塗液の自重によって基体の上部で生じる液だれを抑制できる。
【０００９】
本発明の請求項２の製造方法によれば、本製造方法における範囲の範囲外に塗液の液面が位置するように、基体の下降を停止する比較例に比べ、基体に浸漬塗布された塗液の自重によって基体の上部で生じる液だれを抑制できる。
【００１０】
本発明の請求項３の製造方法によれば、第３工程で下降される位置まで途中で停止せずに基体を下降させた後に該基体を引き上げる比較例に比べ、基体の軸方向端部における感光層の薄膜化を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施形態に係る浸漬塗布装置の構成を示す概略図である。
【図２】本実施形態に係る感光体の構成を示す概略図である。
【図３】本実施形態に係る製造方法を示す概略図である。
【図４】本実施形態に係る製造方法を示す概略図である。
【図５】本実施形態に係る製造方法において、粘度が上昇した塗液の動作を示す概略図である。
【図６】本実施形態及び比較例に係る製造方法における液だれを示す概略図である。
【図７】実施例及び比較例の評価結果を示す表である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に、本発明に係る実施形態の一例を図面に基づき説明する。
【００１３】
（浸漬塗布装置１０）
まず、後述の製造方法に用いられる浸漬塗布装置１０について説明する。図１は、浸漬塗布装置の構成を示す概略図である。
【００１４】
浸漬塗布装置１０は、図１に示されるように、基体３２が浸漬される塗液Ｌ（塗布液）が収容された塗液槽１２と、塗液Ｌが貯留された貯留部１４と、貯留部１４の塗液Ｌを塗液槽１２に供給する供給ポンプ１６と、塗液槽１２の上部から溢れ出た塗液Ｌを受ける受け部１８と、基体３２が塗液槽１２の塗液Ｌに浸漬されるように基体３２を昇降させる昇降装置２０と、を備えている。
【００１５】
この浸漬塗布装置１０では、塗液Ｌが、供給ポンプ１６により、塗液槽１２の下部の供給口１２Ａを通じて、貯留部１４から塗液槽１２に供給されるようになっている。さらに、塗液槽１２の開放された上部から溢れ出た塗液Ｌを受け部１８が受け、受け部１８が受けた塗液Ｌが貯留部１４に戻るようになっている。このように、塗液Ｌが循環するようになっている。
【００１６】
さらに、浸漬塗布装置１０では、昇降装置２０の支持部２２で基体３２の上部（軸方向端部）を支持し、昇降装置２０の昇降運動により、基体３２が、塗液槽１２の塗液Ｌに対して浸漬されると共に塗液Ｌから引き上げられて、塗液Ｌが基体３２の外周に塗布されるようになっている。
【００１７】
（感光体の構成及びその構成材料）
次に、後述の製造方法の製造対象である感光体（回転体の一例）の構成及びその構成材料について説明する。図２は、感光体の構成を示す概略図である。
【００１８】
感光体３０は、帯電、露光、現像、転写、定着などの工程を経て画像を形成する電子写真式の画像形成装置（レーザプリンタ等）に用いられる感光体（感光体ドラム）である。感光体３０は、具体的には、図２に示されるように、円筒状の基体３２と、感光層５０と、を有している。感光層５０は、下引層３４と、電荷発生層３６と、電荷輸送層３８と、表面層４０（オーバーコート層）と、を有して構成されている。下引層３４、電荷発生層３６、電荷輸送層３８及び表面層４０は、この順で、基体３２の外周面に積層されている。以下、各部（各層）の構成材料について説明する。
【００１９】
（基体３２）
基体３２としては、例えば、導電性を有する材料が用いられる。基体３２としては、具体的には、例えば、アルミニウム、銅、ステンレス、クロム、ニッケル等の金属材料が挙げられる。なお、「導電性」とは、例えば、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００２０】
（下引層３４）
下引層３４は、例えば、結着樹脂に無機粒子を含有した層として構成される。なお、下引層３４には、公知の添加剤が含まれていてもよい。
【００２１】
無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子（導電性金属酸化物）が挙げられる。
【００２２】
結着樹脂としては、例えばポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等が挙げられる。
【００２３】
下引層３４の膜厚は、例えば、１５μｍ以上５０μｍ以下に設定される。
【００２４】
（電荷発生層３６）
電荷発生層３６は、例えば、結着樹脂に電荷発生材料を含有する層として構成される。なお、電荷発生層３６には、公知の添加剤が含まれていてもよい。
【００２５】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。
【００２６】
結着樹脂としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。
【００２７】
電荷発生層３６の膜厚は、例えば、０．１μｍ以上５．０μｍ以下に設定される。
【００２８】
（電荷輸送層３８）
電荷輸送層３８は、例えば、結着樹脂に電荷輸送材料を含有する層として構成される。なお、電荷輸送層３８には、公知の添加剤が含まれていてもよい。
【００２９】
電荷輸送材料としては、公知のものが挙げられ、例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリス［４−（４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエニル）フェニル］アミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ′−ジフェニルベンジジン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４′−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４′−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質が挙げられる。
【００３０】
結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂（例えば、ビスフェノールＡ若しくはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂）、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられる。
【００３１】
電荷輸送層３８の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下に設定される。
【００３２】
（表面層４０）
表面層４０は、例えば、結着樹脂及びフッ素系粒子を含んで構成されている。耐摩耗性の観点から、結着樹脂として硬化性の樹脂が用いられ、トナーの転写性向上の観点から、フッ素系粒子が配合されている。なお、表面層４０には、公知の添加剤が含まれていてもよい。
【００３３】
結着樹脂としては、例えば、架橋性の電荷輸送材料が架橋した架橋物が挙げられる。
【００３４】
フッ素系粒子を構成する材料としては、フッ素原子を含有する樹脂であれば特に限定されるものではないが、例えば、４フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂、及びそれらの共重合体の中から選ばれる１種又は２種以上から構成される。
【００３５】
（感光体の製造方法）
次に、感光体（回転体の一例）の製造方法について説明する。感光体の製造方法は、下引層形成工程、電荷発生層形成工程、電荷輸送層形成工程、表面層形成工程を有している。
【００３６】
（下引層形成工程）
下引層形成工程では、基体３２の外周に下引層３４を形成する。具体的には、例えば、下引層３４の前述の構成材料を溶媒（分散媒）に加えた塗液を基体３２に塗布して、当該塗液による塗膜を乾燥させることで、基体３２に下引層３４を形成する。
【００３７】
塗液を基体３２に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の公知の方法が用いられる。
【００３８】
また、塗液を調製するための溶媒（分散媒）としては、公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から選択される。溶媒としては、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の有機溶剤が用いられる。また、これらの溶剤は、単独または２種以上混合して用いてもよい。
【００３９】
また、液中に下引層３４の構成材料を分散させる場合の方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機を用いた公知の分散方法が挙げられる。
【００４０】
（電荷発生層形成工程）
電荷発生層形成工程では、基体３２に形成された下引層３４の表面上に電荷発生層３６を形成する。具体的には、例えば、電荷発生層３６の前述の構成材料を溶媒（分散媒）に加えた塗液を、基体３２に形成された下引層３４の表面上に塗布して、当該塗液による塗膜を乾燥させることで、下引層３４の表面上に電荷発生層３６を形成する。
【００４１】
塗液を下引層３４の表面上に塗布する方法としては、下引層３４を形成する場合と同様に、公知の塗布方法が用いられる。塗液を調製するための溶媒（分散媒）としては、下引層３４を形成するための塗液と同様に、例えば、公知の有機溶剤が用いられる。液中に電荷発生層３６の構成材料を分散させる場合の方法としては、下引層３４を形成するための塗液の場合と同様に、公知の分散方法が挙げられる。
【００４２】
（電荷輸送層形成工程）
電荷輸送層形成工程では、図１に示す浸漬塗布装置１０を用いた浸漬塗布方法により、下引層３４（図２参照）及び電荷発生層３６（図２参照）が形成された基体３２の外周に、電荷輸送層３８（図２参照）の前述の構成材料を溶媒（分散媒）に加えた塗液（塗布液）を塗布し、電荷輸送層３８を形成する。
【００４３】
なお、塗液を調製するための溶媒（分散媒）としては、下引層３４を形成するための塗液と同様に、例えば、公知の有機溶剤が用いられる。液中に電荷輸送層３８の構成材料を分散させる場合の方法としては、下引層３４を形成するための塗液の場合と同様に、公知の分散方法が挙げられる。
【００４４】
電荷輸送層形成工程は、具体的には、停止工程（第１工程の一例）、保持工程（第２工程の一例）、下降工程（第３工程の一例）及び引上工程（第４工程の一例）を有している。なお、少なくとも、保持工程において、浸漬塗布装置１０の供給ポンプ１６が停止し、貯留部１４から塗液槽１２への塗液Ｌの供給が停止している。
【００４５】
停止工程では、図３（Ａ）に示されるように、下引層３４及び電荷発生層３６が形成された基体３２を下降させて、該基体３２を塗液Ｌに浸漬する。具体的には、基体３２の上部を浸漬塗布装置１０の支持部２２で支持し、その基体３２を、昇降装置２０（図１参照）により、塗液Ｌが収容された塗液槽１２の中へ下降させる。そして、図３（Ｂ）に示されるように、基体３２の上部が塗液Ｌから露出する状態で、基体３２の下降を停止する。
【００４６】
保持工程では、停止工程における停止位置（図３（Ｂ）に示す位置）で、該基体３２を予め定められた規定時間保持する。このとき、基体３２は、図中の二点鎖線Ａで示される第１浸漬位置（浸漬部分）まで浸漬されている。
【００４７】
この第１浸漬位置は、例えば、以下のように設定される。すなわち、下降途中で停止することなく（停止位置（図３（Ｂ）に示す位置）での停止を行わずに）、下降工程における後述の最下位置（図４（Ａ）に示す位置）に基体３２を下降させた後に基体３２を引き上げる第１比較例の場合（図６（Ａ）参照）において、基体３２の上部で塗液Ｌの自重によって液だれが生じる範囲（図６（Ａ）のＤの範囲）を予め測定し、その範囲内に、第１浸漬位置を設定する。すなわち、当該範囲内に塗液Ｌの液面（上面）が位置するように、停止工程において、基体３２の下降を停止するようになっている。
【００４８】
第１比較例における液だれは、塗液Ｌによる塗膜の上端から特定の範囲で生じるものであり、基体３２の軸方向中央部における膜厚よりも、膜厚が薄くなった範囲を、液だれが生じた範囲とする。なお、例えば、渦電流膜厚測定装置にて、基体３２の９０°毎の周方向の４か所で測定した測定値の平均値を、膜厚とする。
【００４９】
当該範囲（図６（Ａ）のＤの範囲）の上下長さは、基体３２の上下方向長さが３００〜３５０ｍｍである場合において、例えば、２０ｍｍとされる。なお、塗液Ｌの粘度によって液だれの程度は変化するため、当該範囲（図６（Ａ）のＤの範囲）の上下長さは、塗液Ｌの粘度によって、変化しうる。
【００５０】
また、保持工程において、基体３２を規定時間保持するのは、塗液Ｌの液面（気液界面）における溶媒の蒸発によって塗液Ｌの粘度を、塗液Ｌの液面（気液界面）で局所的に上昇させるためであり、前記規定時間は、例えば、２秒以上２０秒以下の範囲で設定される。
【００５１】
規定時間の下限は、保持工程において塗液Ｌの溶媒が蒸発して、要求される液だれの抑制効果を発揮するのに必要な粘度に上昇するのに必要な時間によって設定される。塗液Ｌの粘度がほとんど上昇していない状態では、自重による液だれが生じてしまうためである。
【００５２】
一方、規定時間の上限は、基体３２が塗液Ｌから引き上げられた際に（引上工程）、溶媒の蒸発による気泡の塗液Ｌからの排出が確保できる粘度となるように設定される。塗液Ｌの粘度が上昇すれば、気泡の移動が制限されると共に、塗液Ｌが流れにくく厚膜化されるため、塗液Ｌの粘度が高すぎると、気泡の塗液Ｌからの排出が阻害される。
【００５３】
なお、塗液Ｌの溶媒の沸点（揮発性）によって、経過時間当たりの粘度の上昇度は変化するため、規定時間は、塗液Ｌの溶媒の沸点（揮発性）によって変化しうるが、溶媒として公知の有機溶剤を用いた塗液Ｌでは、２秒以上２０秒以下の範囲であれば、要求される液だれの抑制効果を発揮すると共に、気泡の排出が確保できる粘度に上昇する。
【００５４】
保持工程の後に、下降工程が実施される。下降工程では、図４（Ａ）に示されるように、基体３２における保持工程で露出していた上部の一部が、塗液Ｌに浸漬するまで基体３２を下降させる。これにより、基体３２は、図中の二点鎖線Ｂで示される第２浸漬位置まで浸漬される。基体３２の第２浸漬位置まで浸漬されたとき、基体３２が電荷輸送層形成工程において最も下方の位置（最下位置）に位置する。
【００５５】
下降工程の後に、引上工程が実施される。引上工程では、図４（Ｂ）に示されるように、下降工程で塗液Ｌに浸漬された基体３２を塗液Ｌから引き上げる。これにより、電荷発生層３６上に塗液Ｌが塗布される。
【００５６】
そして、塗液槽１２から引き上げた基体３２の下端部分に付着した塗液Ｌを拭き取り、塗液Ｌによる塗膜を乾燥（溶媒を蒸発により除去）させることで、電荷輸送層３８を形成する。
【００５７】
（表面層形成工程）
表面層形成工程では、基体３２に形成された電荷輸送層３８の表面上に表面層４０を形成する。具体的には、例えば、表面層４０の前述の構成材料を溶媒（分散媒）に加えた塗液を、基体３２に形成された電荷輸送層３８の表面上に塗布して、当該塗液による塗膜を乾燥させることで、電荷輸送層３８の表面上に表面層４０を形成する。
【００５８】
塗液を電荷輸送層３８の表面上に塗布する方法としては、下引層３４を形成する場合と同様に、公知の塗布方法が用いられる。表面層４０を形成するための塗液を調製するための溶媒（分散媒）としては、下引層３４を形成するための塗液と同様に、例えば、公知の有機溶剤が用いられる。液中に表面層４０の構成材料を分散させる場合の方法としては、下引層３４を形成するための塗液の場合と同様に、公知の分散方法が挙げられる。
【００５９】
以上のように、前述の下引層形成工程、電荷発生層形成工程、電荷輸送層形成工程、表面層形成工程を経て、電子写真式の画像形成装置に用いられる感光体（回転体の一例）が製造される。
【００６０】
（本実施形態に係る作用）
本実施形態の製造方法における電荷輸送層形成工程では、図３（Ｂ）に示されるように、基体３２の第１浸漬位置（二点鎖線Ａの位置）まで浸漬するように、基体３２の下降を停止し、この停止位置で該基体３２を予め定められた規定時間保持する。このように、基体３２が停止位置（図３（Ｂ）に示す位置）に規定時間とどまることで、塗液Ｌの流れ（溢れ出る動作）が滞り、図５（Ａ）に示されるように、当該塗液Ｌの液面（気液界面）において、塗液Ｌの溶媒が蒸発して、塗液Ｌの粘度が上昇する。基体３２の周囲で粘度が上昇した塗液ＬＡが、基体３２の第１浸漬位置（二点鎖線Ａの位置）に付着する。なお、図５（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）において、粘度が上昇した塗液を符号ＬＡにて示している。
【００６１】
一方、下降工程における最下位置（図４（Ａ）に示す位置）まで途中で停止せずに基体３２を下降させた後に基体３２を引き上げる第１比較例では、塗液Ｌの液面（気液界面）において、塗液Ｌが流動した状態が維持されるので、塗液Ｌの粘度が局所的に上昇しない。従って、粘度が上昇した塗液ＬＡの基体３２への付着も生じない。このため、図６（Ａ）に示されるように、基体３２の上部において、符号Ｄの範囲で、塗液Ｌの重力による液だれが生じる。
【００６２】
このため、形成される電荷輸送層の膜厚が、基体３２の軸方向一端部において、軸方向中央部よりも薄くなり、電荷輸送層の膜厚が基体３２の軸方向でばらつくことになる。電荷輸送層の膜厚が基体３２の軸方向でばらつくと、帯電ムラが生じて画像の濃度ムラが発生すると共に、感光層の摩耗による寿命が電荷輸送層の膜厚の薄い部分に応じた寿命となることで、感光体の寿命が短くなる。
【００６３】
従って、電荷輸送層の膜厚が薄い部分については、画像エリアとして使用できず、基体３２において、画像エリアとして使用できる範囲Ｒが狭くなる。よって、要求される画像エリアを確保するためには、基体３２を長くする必要がある。
【００６４】
また、下降工程における最下位置（図４（Ａ）に示す位置）まで途中で停止せずに基体３２を下降させて、予め定められた時間保持した後に、基体３２を引き上げる第２比較例では、粘度が上昇した塗液が、基体３２の第２浸漬位置（二点鎖線Ｂの位置）に付着する。このため、図６（Ｂ）に示されるように、基体３２の第２浸漬位置（二点鎖線Ｂの位置）、すなわち、基体３２に塗布された塗液Ｌの上端において、塗液Ｌが下方に流れにくくなり、塗液Ｌの重力による液だれが抑制される。しかしながら、基体３２の上端よりも下側では、塗液Ｌの重力による液だれが生じる。従って、第１比較例と同様に、画像エリアとして使用できる範囲Ｒが狭くなり、要求される画像エリアを確保するためには、基体３２を長くする必要がある。
【００６５】
これに対して、本実施形態では、図５（Ａ）に示されるように、粘度が上昇した塗液ＬＡが基体３２の第１浸漬位置（二点鎖線Ａの位置）に付着し、付着した塗液ＬＡが、下降工程（図５（Ｂ）参照）及び引上工程（図５（Ｃ）参照）において、基体３２の昇降動作に追従する。
【００６６】
そして、基体３２を引き上げた際に（引上工程）、基体３２の第１浸漬位置（二点鎖線Ａの位置）において、基体３２に塗布された塗液Ｌ、ＬＡが下方に流れにくくなる。このため、図６（Ｃ）に示されるように、基体３２の上部において、基体３２に塗布された塗液Ｌの上端よりも下側で生じる液だれが抑制される。
【００６７】
このため、塗液Ｌによる塗膜が基体３２の上部で厚膜化し、膜厚のバラつきに起因する画像の濃度ムラや、感光層の摩耗による感光体の短寿命等の前述の問題が解消され、画像領域として使用できる範囲Ｒが拡大される。これにより、要求される長さの画像領域を得るのに必要な基体３２の軸方向長さを縮められ、感光体の製造費を抑えられる。
【００６８】
なお、基体３２の第１浸漬位置の上方においては、塗液Ｌの粘度が上昇していないため、液だれが生じるものの、粘度が上昇した塗液ＬＡが、基体３２の第１浸漬位置で、粘度が上昇していない塗液Ｌを支持することになり、塗液Ｌの液だれが抑制される。また、図６（Ｃ）では、第１比較例（図６（Ａ）参照）において生じる液だれを二点鎖線ＤＡにて示している。
【００６９】
特に、本実施形態では、保持工程において、第１比較例の場合に基体３２の上部で塗液の自重によって液だれが生じる範囲内（図６（Ａ）のＤの範囲）に、塗液Ｌの液面が位置するように、基体３２の下降を停止する。このため、第１比較例及び第２比較例において液だれを生じる範囲Ｄで、塗膜が厚膜化される。このため、画像領域として使用できる領域Ｒが、より効果的に拡大される。
【００７０】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００７１】
［実施例１］
−電荷輸送層の形成−
４フッ化エチレン樹脂粒子８質量部（平均粒径：０．２μｍ）と、フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマー（重量平均分子量３００００）０．０１質量部とを、テトラヒドロフラン４質量部、トルエン１質量部とともに２０℃の液温に保ち、４８時間攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液Ａを得た。
【００７２】
次に、電荷輸送物質として、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部と、ビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：４０，０００）６質量部、酸化防止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．１質量部を混合して、テトラヒドロフラン２４質量部及びトルエン１１質量部を混合溶解して、混合溶解液Ｂを得た。
【００７３】
このＢ液に前記Ａ液を加えて攪拌混合した後、微細な流路を持つ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興行株式会社製）を用いて、５００ｋｇｆ／ｃｍ２まで昇圧しての分散処理を６回繰り返した液に、フッ素変性シリコーンオイル（商品名：ＦＬ−１００ 信越化学工業社製）を５ｐｐｍ添加し、十分に撹拌して電荷輸送層形成用塗液を得た。
【００７４】
この塗液を温度２４℃、粘度４４０ｍＰａ・ｓに調整し、外径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍのアルミパイプ基体上に、前述の電荷輸送層形成工程に基づき塗布を行った。基体を下降中、最下位置より６ｍｍ浅い停止位置にて５秒停止後、最下位置まで浸漬し、引上げ速度１７０ｍｍ／ｍｉｎにて中心部の膜厚３０．０μｍになるように引き上げ、塗膜を乾燥させて、実施例１の電荷輸送層を作成した。
【００７５】
［実施例２］
実施例１に記載の停止時間を２秒とした以外は、同様の条件で電荷輸送層を作成した。
【００７６】
［実施例３］
実施例１に記載の停止時間を１０秒とした以外は、同様の条件で電荷輸送層を作成した。
【００７７】
［実施例４］
実施例１に記載の停止時間を１５秒とした以外は、同様の条件で電荷輸送層を作成した。
【００７８】
［実施例５］
実施例１に記載の停止時間を２０秒とした以外は、同様の条件で電荷輸送層を作成した。
【００７９】
［実施例６］
実施例１に記載の塗液をテトラヒドロフランの代わりに、1，4-ジオキサン（沸点が、テトラヒドロフランより高い）を用いた以外は、同様の条件で塗液を得た。その後、実施例１に記載の同様の条件で電荷輸送層を作成した。
【００８０】
［実施例７］
実施例１に記載の塗液をテトラヒドロフランの代わりに、1，4-ジオキサンを用いた以外は、同様の条件で塗液を得た。実施例１に記載の停止時間を２０秒とした以外は同様の条件で電荷輸送層を作成した。
【００８１】
［比較例１］
実施例１に記載の最下位置まで途中で停止せずに基体を下降させた後に基体を引き上げて、電荷輸送層を作成した。他の条件は、実施例１と同様である。
【００８２】
（評価）
実施例１〜７及び比較例１で作成した電荷輸送層の膜厚を、渦電流膜厚測定装置（自社製）にて、電荷輸送層の上端（上端側の塗布開始位置）より５０ｍｍ以上３１０ｍｍ以下の間を２０ｍｍ間隔に、９０°毎の周方向の４か所で測定し、その平均値を平均膜厚Ａ（μｍ）とした。
【００８３】
電荷輸送層の上端より１０ｍｍにおいて、９０°毎の周方向の４か所で測定し、その平均値を膜厚Ｂ（μｍ）とし、Ａ−Ｂの値を、基体の上部だれ量とした。
【００８４】
また、作成された電荷輸送層に気泡による塗膜不良があるか否かを目視にて確認した。図７に示される評価結果では、塗膜不良がなかった場合を「○」とし、気泡が確認されたが画質に影響がない程度である場合を「△」とした。
【００８５】
さらに、実施例１から６及び比較例１で作成された電荷輸送層を有する感光体ドラムを、電子写真式の画像形成装置に組み込んで、画質評価を行った。画質評価では、単色のハーフトーン画像を用紙に出力し、当該ハーフトーン画像上の濃度ムラを目視することにより評価した。図７に示される評価結果では、ハーフトーン画像に濃度ムラが見られない場合を「○」とし、ハーフトーン画像に濃度ムラが少し見られるが画質に問題ない場合を「△」とし、ハーフトーン画像に濃度ムラが見られ画質に問題ある場合を「×」とした。
【００８６】
この結果、図７に示されるように、実施例１〜７において、比較例１に比べ、上部液だれ量が低減された。また、画質濃度ムラも、実施例１〜７において、比較例１よりも良好となった。なお、実施例５では、気泡による塗膜不良が確認されたものの、画質濃度ムラには影響がなかった。
【００８７】
（変形例）
前述の下降工程では、停止工程及び保持工程において基体３２における露出していた上部の一部が、塗液に浸漬するまで該基体を下降させていたが、これに限られず、基体３２における保持工程で露出していた上部の全部が、塗液に浸漬するまで該基体を下降させてもよい。
【００８８】
また、製造される回転体としては、感光体（感光体ドラム）に限られず、例えば、定着ロール等のロール状の部材であってもよい。
【００８９】
また、塗液Ｌに浸漬される基体３２の形状としては、円筒状に限られず、例えば、円柱状に形成されていてもよい。
【００９０】
また、本実施形態では、電荷輸送層形成工程において、停止工程、保持工程、下降工程及び引上工程を含む浸漬塗布方法により、電荷輸送層３８を形成していたが、これに限られない。例えば、下引層３４、電荷発生層３６及び表面層４０を形成する場合に、当該浸漬塗布方法を用いて、浸漬塗布を行う構成であってもよい。
【００９１】
また、前述の停止工程では、第１比較例の場合（図６（Ａ）参照）において、基体３２の上部で塗液Ｌの自重によって液だれが生じる範囲内（図６（Ａ）のＤの範囲）に塗液Ｌの液面が位置するように、基体３２の下降を停止していたがこれに限られない。例えば、図６（Ａ）のＤの範囲の下側（当該範囲の若干下側）で停止してもよく、基体３２の上部が露出する状態で停止すればよい。
【００９２】
本発明は、上記の実施形態に限るものではなく、その主旨を逸脱しない範囲内において種々の変形、変更、改良が可能である。例えば、上記に示した変形例は、適宜、複数を組み合わせて構成しても良い。
【符号の説明】
【００９３】
３０   感光体（回転体の一例）
３２   基体
５０   感光層
Ｌ     塗液
【図１】
2015221402.tif 000003
【図２】
2015221402.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図６】
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【図７】
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【図５】
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