(57)【要約】【課題】見やすい表示装置を提供する。【解決手段】実施形態によれば、第１基板部と第２基板部と液晶層とを含む液晶表示装置が提供される。前記第１基板部は、第１主面を有し、前記第１主面内に配置された第１画素電極と、前記第１主面内に配置され前記第１画素電極と第１方向において隣合って並ぶ光反射性の第２画素電極と、を含む。前記第２基板部は、前記第１主面と対向する第２主面を有し、前記第２主面内に設けられた光透過性の対向電極を含む。前記液晶層は、前記第１主面と前記第２主面との間に設けられる。前記第１画素電極は、光反射性の第１電極部と、少なくとも一部が前記第１電極部と前記第２画素電極との間に設けられた第２電極部と、を含む。前記第２電極部の光の反射率は、前記第１電極部の光の反射率よりも低い。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１主面を有する第１基板部であって、
前記第１主面内に配置された第１画素電極と、
前記第１主面内に配置され前記第１画素電極と第１方向において隣合って並ぶ光反射性の第２画素電極と、
を含む第１基板部と、
前記第１主面と対向する第２主面を有し、前記第２主面内に設けられた光透過性の対向電極を含む第２基板部と、
前記第１主面と前記第２主面との間に設けられた液晶層と、
を備え、
前記第１画素電極は、
光反射性の第１電極部と、
少なくとも一部が前記第１電極部と前記第２画素電極との間に設けられた第２電極部と、
を含み、
前記第２電極部の光の反射率は、前記第１電極部の光の反射率よりも低い液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１電極部は、前記第１主面に投影したときに、
第１辺と、
前記第１辺と離間し、前記第１辺と前記第２画素電極との間に設けられた第２辺と、
を有し、
前記第２電極部は、前記第１主面に投影したときに、前記第２辺に接する第１部分を含む請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第２電極部の光透過率は、前記第２電極部の光反射率よりも高く、前記第２電極部の光吸収率よりも高い請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１基板部は、
光透過性の第１基板と、
前記第１画素電極と電気的に接続された第１スイッチング素子と、
前記第１スイッチング素子と電気的に接続された第１配線と、
をさらに含み、
前記第１配線の少なくとも一部は、前記第１電極部と前記第１基板との間に位置する請求項１〜３のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第２電極部は、少なくとも前記第１電極部の第１辺を覆う第２部分をさらに含む請求項３または４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第２電極部の光吸収率は、前記第２電極部の光反射率よりも高く、前記第２電極部の光透過率よりも高い請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第２電極部は、前記第１主面と第１電極部との間に介在する第３部分をさらに備えている請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第１画素電極は、前記対向電極を基準とした第１極性の電位に設定され、
前記第２画素電極は、前記対向電極を基準とした前記第１極性とは異なる第２極性の電位に設定される請求項１〜７のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記液晶層は、
第１液晶部と、
前記第１液晶部と前記第２主面との間に設けられた第２液晶部と、
前記第１液晶部と前記第２液晶部との間に設けられた第３液晶部と、
を含み、
前記第１液晶部の前記液晶の長軸方向は、第１配向方向であり、
前記第１配向方向は、前記第１主面に対して平行で前記第１方向に対して垂直な第２方向と交差する請求項１〜８のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第１配向方向の前記第１方向に対して平行な成分は、前記第１配向方向の前記第２方向と平行な成分よりも大きい請求項９記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１配向方向と前記第１方向との間の角度は、１４０度以上１８０度以下である請求項９または１０記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第２液晶部の前記液晶層の長軸方向は、第２配向方向であり、
前記第１配向方向と前記第２配向方向との間の角度は、６０度以上８０度以下である請求項９〜１１のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
光学層をさらに備え、
前記第２基板部は、前記液晶層と前記光学層との間に設けられ、
前記光学層に第１入射方向から入射する光の前記光学層における散乱光の強度は、前記光学層に第２入射方向から入射する光の前記光学層における散乱光の強度とは異なり、
前記第１入射方向の、前記第１主面内に平行な平面上での方向成分の向きは、前記第２入射方向の、前記平面上での方向成分とは異なる請求項１〜１２のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記光学層は、前記平面内に配置された光透過性の複数の第１光学部と、前記複数の第１光学部のうちの２つの間に設けられた光透過性の第２光学部と、を含み、前記第２光学部の屈折率は、前記複数の第１光学部の屈折率とは異なり、
前記第１光学部と前記第２光学部との間の境界は、前記平面に対して傾斜している請求項１３記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記第１電極部及び前記第２画素電極は、鏡面反射性である請求項１〜１４のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置が種々の用途に用いられている。外光を用いて表示を行う反射型表示装置においては、消費電力を小さくすることができる。反射型の液晶表示装置において、見易さを向上することが求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−３０２２９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の実施形態は、見やすい表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の実施形態によれば、第１基板部と第２基板部と液晶層とを含む液晶表示装置が提供される。前記第１基板部は、第１主面を有し、前記第１主面内に配置された第１画素電極と、前記第１主面内に配置され前記第１画素電極と第１方向において隣合って並ぶ光反射性の第２画素電極と、を含む。前記第２基板部は、前記第１主面と対向する第２主面を有し、前記第２主面に設けられた光透過性の対向電極を含む。前記液晶層は、前記第１主面と前記第２主面との間に設けられる。前記第１画素電極は、光反射性の第１電極部と、少なくとも一部が前記第１電極部と前記第２画素電極との間に設けられた第２電極部と、を含む。前記第２電極部の光の反射率は、前記第１電極部の光の反射率よりも低い。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の実施形態によれば、見易い液晶表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】第１の実施形態に係る液晶表示装置を示す模式的断面図である。
【図２】図２（ａ）及び図２（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を示す模式図である。
【図３】図３（ａ）及び図３（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を示す模式的平面図である。
【図４】第１の実施形態に係る別の液晶表示装置を示す模式的断面図である。
【図５】第１の実施形態に係る別の液晶表示装置を示す模式的断面図である。
【図６】第１の実施形態に係る別の液晶表示装置を示す模式的断面図である。
【図７】第２の実施形態に係る液晶表示装置を示す模式的断面図である。
【図８】図８（ａ）〜図８（ｄ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置の一部を示す模式図である。
【図９】図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置の特性を示す模式的平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。  
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。  
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
【０００９】
（第１の実施形態）  
図１は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式的断面図である。  
図１に表したように、本実施形態に係る液晶表示装置１１０は、第１基板部１０ｕと、第２基板部２０ｕと、液晶層３０と、を含む。
【００１０】
第１基板部１０ｕから第２基板部２０ｕに向かう方向をＺ軸方向とする。Ｚ軸方向に対して垂直な１つの方向をＸ軸方向とする。Ｚ軸方向とＸ軸方向とに対して垂直な方向をＹ軸方向とする。  
なお、Ｘ軸とＹ軸は少なくとも交差していれば、これらの間のなす角は９０度以下であっても構わない。
【００１１】
第１基板部１０ｕ及び第２基板部２０ｕのそれぞれは、Ｘ−Ｙ平面に沿って延在する。
【００１２】
第１基板部１０ｕは、第１主面１０ａを有する。第１主面１０ａは、Ｚ軸方向に対して交差する。この例では、第１主面１０ａは、Ｘ−Ｙ平面に対して平行である。第１基板部１０ｕは、複数の画素電極１０ｅ（後述する第１画素電極１１及び第２画素電極１２など）を含む。複数の画素電極１０ｅは、第１主面１０ａ内に配置される。複数の画素電極１０ｅは、主として光反射性である。
【００１３】
第２画素電極１２は、第１画素電極と第１方向Ｄ１において並ぶ。第１方向Ｄ１は、Ｘ軸方向と平行である。第２画素電極１２は光反射性である。第１画素電極１１は、第１電極部１３と第２電極部１４と、を含む。第２電極部１４の少なくとも一部は、第１電極部１３と第２画素電極１２との間に設けられる。第１電極部１３は、光反射性である。第２電極部１４の光の反射率は、第１電極部１３の光の反射率よりも低い。この例では、第２電極部１４は、光透過性である。実施形態は、第２電極部１４が光吸収性である場合も含む。
【００１４】
第１基板部１０ｕは、画素間領域１５を含む。画素間領域１５は、第１画素電極１１と第２画素電極１２との間の領域である。画素間領域１５は、複数の画素電極１０ｅどうしの間の領域である。
【００１５】
第２基板部２０ｕは、第２主面２０ａを有する。第２主面２０ａは、第１主面１０ａに対向する。第２基板部２０ｕは、対向電極２１（コモン電極）を含む。対向電極２１は、第２主面２０ａに設けられる（第２主面２０ａ内に配置される）。対向電極２１は、光透過性である。
【００１６】
この例では、第２基板部２０ｕは、第２基板２０ｓをさらに含む。第２基板２０ｓは、光透過性である。第２基板２０ｓと液晶層３０との間に、対向電極２１が配置される。
【００１７】
第２基板２０ｓと対向電極２１との間には、カラーフィルタ２３が設けられている。さらに、第２基板２０ｓの上に偏光層５２（後述する第２偏光層５２）が設けられている。
【００１８】
一方、第１基板部１０ｕは、第１基板１０ｓと、配線１６（第１配線１６ａ及び第２配線１６ｂなど）と、第１スイッチング素子１７ａと、第２スイッチング素子１７ｂと、絶縁層１８と、をさらに含む。
【００１９】
複数の画素電極１０ｅは、第１基板１０ｓ上に設けられる。第１基板１０ｓは、光透過性である。
【００２０】
第１スイッチング素子１７ａは、第１画素電極１１と電気的に接続される。第１配線１６ａは、第１スイッチング素子１７ａと、電気的に接続される。第１配線１６ａは、信号線である。この信号線は、第１画素電極１１に電荷を供給する。電荷の供給が、第１スイッチング素子１７ａを介して行われる。また、第１配線１６ａは、走査線（ゲート線）でも良い。走査線には、第１スイッチング素子１７ａの動作を制御する信号が入力される。
【００２１】
第２スイッチング素子１７ｂ（トランジスタまたは非線形抵抗素子など）は、第２画素電極１２と電気的に接続される。第２配線１６ｂは、第２スイッチング素子１７ｂと、電気的に接続される。第２配線１６ｂは、信号線、または、走査線（ゲート線）である。
【００２２】
絶縁層１８は、第１配線１６ａと第１画素電極１１との間に設けられる。絶縁層１８は、第２配線１６ｂと第２画素電極１２との間にさらに設けられる。
【００２３】
第１配線１６ａは、第１画素電極１１と第１基板１０ｓとの間に位置する。第２配線１６ｂは、第２画素電極１２と第１基板１０ｓとの間に位置する。
【００２４】
第１基板部１０ｕにおいては、配線１６（及びスイッチング素子）が、絶縁層１８により覆われる。絶縁層１８の上に、画素電極１０ｅが設けられる。
【００２５】
実施形態において、光（第１光Ｌ１、第２光Ｌ２及び第３光Ｌ３など）は、可視光を含む。可視光の波長は、３８０ナノメートル（ｎｍ）以上７００ｎｍである。以下の説明においては、説明を簡単にするために、光の波長が５５０ｎｍである場合の特性について説明する。以下の説明は、可視光の他の波長の光に対しても適用できる。
【００２６】
実施形態において、第１基板１０ｓ及び第２基板２０ｓには、ガラス基板または樹脂基板が用いられる。
【００２７】
対向電極２１には、光透過性の導電材料が用いられる。対向電極２１には、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ及びＴｉよりなる群から選択された少なくともいずれかの元素を含む酸化物が用いられ、本実施形態では対向電極２１としてＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を採用している。対向電極２１には、光透過性の薄い金属層を用いても良い。
【００２８】
なお、本実施形態の光透過性の部材（第１基板１０ｓ、第２基板２０ｓ及び対向電極２１など）においては、透過率が、反射率よりも高い。光透過性の部材においては、透過率は、吸収率よりも高い。
【００２９】
画素電極１０ｅには、主として光反射性の導電材料（アルミニウムなど）が用いられる。具体的には、第１画素電極１１の第１電極部１３、及び、第２画素電極１２には、光反射性の導電材料が用いられる。光反射性の部材においては、反射率が透過率よりも高い。光反射性の部材においては、反射率は、吸収率よりも高い。
【００３０】
これら第１電極部１３及び第２画素電極１２は、鏡面反射性であることが好ましい。第１電極部１３に入射して反射する光の偏光特性は、反射により実質的に変化しない。例えば、第１電極部１３において、拡散反射性が高い場合は、反射光の偏光特性は、入射光の偏光特性から変化する場合がある。また、反射により偏光性が劣化すると、表示のコントラスト比が低下する場合がある。第１電極部１３及び第２画素電極１２が鏡面反射性の場合に、高いコントラスト比を得やすい。第１電極部１３の表面及び第２画素電極１２の表面は、比較的平坦である。これにより、鏡面反射性が得やすい。
【００３１】
第１画素電極１１の第２電極部１４には、光透過性の導電材料が用いられる。第２電極部１４の光透過率は、第２電極部１４の光反射率よりも高く、第２電極部１４の光吸収率よりも高い。本実施形態では、第２電極部１４としてＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を用いている。第２電極部１４には、光透過性の薄い金属層を用いても良い。
【００３２】
第２電極部１４には、光吸収性の導電材料を用いても良い。この場合には、第２電極部１４の光吸収率は、第２電極部１４の光反射率よりも高く、第２電極部１４光透過率よりも高い。
【００３３】
第１基板部１０ｕに設けられる配線１６（第１配線１６ａ及び第２配線１６ｂ）には、金属膜が用いられる。
【００３４】
第１スイッチング素子１７ａ及び第２スイッチング素子１７ｂに含まれる半導体層には、ポリシリコン、アモルファスシリコン、または、酸化物半導体が用いられる。酸化物半導体には、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）及び亜鉛（Ｚｎ）の少なくともいずれかを含む酸化物が用いられる。
【００３５】
絶縁層１８には、樹脂材料を用いることができる。樹脂材料として、アクリル樹脂及びポリイミド樹脂の少なくともいずれかが用いられる。絶縁層１８は、光吸収性を有していても良い。これにより、画素間領域１５における光の透過が抑制される。一方、絶縁層１８の光透過性が高い場合、絶縁層１８において、高い加工精度を得易い。絶縁層１８は、樹脂層と、無機層と、の積層膜を用いても良い。無機層として、窒化シリコン、酸窒化シリコン、及び、酸化シリコンの少なくともいずれかが用いられる。
【００３６】
第１基板部１０ｕ及び第２基板部２０ｕには、配向膜（図示しない）がさらに設けられている。配向膜は、画素電極１０ｅ及び対向電極２１のそれぞれを覆う。配向膜は、液晶層３０の液晶分子を配向させる。配向膜には、ポリイミドなどの有機膜が用いられる。配向膜の特性（異方性）により、液晶層３０の配向（初期配向状態）が定まる。かかる配向膜の配向特性は、有機膜にラビング処理を施すことによって得られる。また、配向膜には、光配向処理などにより、異方性が設けられても良い。
【００３７】
液晶層３０は、第１主面１０ａと第２主面２０ａとの間に設けられる。これにより、液晶層３０は、複数の画素電極１０ｅと対向電極２１との間、及び、第１基板部１０ｕの画素間領域１５と対向電極２１との間にも配置されるものとなっている。
【００３８】
液晶層３０は、画素部３０ｄ（第１画素部３１及び第２画素部３２など）を有する。第１画素部３１は、第１画素電極１１と第２基板部２０ｕとの間に配置される。第２画素部３２は、第２画素電極１２と第２基板部２０ｕとの間に配置される。液晶層３０は、非画素部３０ｎをさらに含む。非画素部３０ｎは、画素間領域１５と第２基板部２０ｕとの間に配置される。
【００３９】
液晶層３０には、ネマティック液晶が用いられる。液晶層３０は、カイラル剤を含んでも良い。液晶層３０の厚さｔＬＣは、画素電極１０ｅを覆う配向膜と、対向電極２１を覆う配向膜と、の間のＺ軸方向に沿った距離である。
【００４０】
液晶層３０は、第１液晶部ＬＣａと、第２液晶部ＬＣｂと、第３液晶部ＬＣｃと、を含む。対向電極２１と第１液晶部ＬＣａとの間に、第２液晶部ＬＣｂが配置される。第１液晶部ＬＣａと第２液晶部ＬＣｂとの間に第３液晶部ＬＣｃが配置される。第１液晶部ＬＣａは、液晶層３０のうちの、第１基板部１０ｕの側の部分である。第２液晶部ＬＣｂは、液晶層３０のうちの、第２基板部２０ｕの側の部分である。第３液晶部ＬＣｃは、中央部分である。
【００４１】
液晶層３０に含まれる液晶分子３５は、長軸方向３５Ｄの向きとなるダイレクタを有する。液晶分子３５のダイレクタの向きは、液晶層３０に印加される電圧に応じて変化する。すなわち、電圧に応じて液晶層３０の液晶配向が変化する。かかる液晶配向の変化に伴って、液晶層３０の実効的な複屈折率（リタデーション）が変化する。実効的な複屈折率の変化により、かかる液晶層を通過する透過光の偏光状態が変化するものとなる。これにより、当該透過光が偏光層５２を通過するものとなり、表示が行われる。液晶配向の変化に伴って、旋光性（光学活性）が変化しても良い。
【００４２】
液晶層３０の誘電率異方性は、正でも負でも良い。以下では、説明を簡単にするために、液晶層３０の誘電率異方性が正である例について説明する。
【００４３】
画素電極１０ｅに電圧が印加されない場合（初期状態）において、液晶層３０の液晶分子３５の長軸方向３５Ｄは、Ｘ−Ｙ平面に実質的に沿っている。液晶分子３５のプレチルト角（長軸方向３５ＤとＸ−Ｙ平面との間の角度）は、１０度以下であり、約５度である。  
画素電極１０ｅに電圧を印加（信号を入力する）すると、画素電極１０ｅから対向電極２１に向けて電界が発生し、当該電界の発生によって液晶分子３５は、その位置に応じて電界の強さと配向膜によるアンカリング力がバランスする方向にダイレクタの向きにツイストされる。これによって、液晶分子のチルト角が大きくなる。電圧印加時に、液晶層３０のうちの第３液晶部ＬＣｃにおいては、チルト角は約９０度になる。  
なお、液晶層３０の誘電率異方性が負のときは、プレチルト角は、７０度以上９０度以下である。
【００４４】
第１液晶部ＬＣａにおける液晶の配向方向（長軸方向３５Ｄ、液晶ダイレクタ方向）は、第１基板部１０ｕの配向膜の配向処理方向（ラビング方向）によって定まる。第２液晶部ＬＣｂにおける液晶の配向処理方向（長軸方向３５Ｄ、液晶ダイレクタ方向）は、第２基板部２０ｕの配向膜の配向方向（ラビング方向）によって定まる。
【００４５】
配向膜の配向処理方向（ラビング方向）に関する情報は、偏光を用いて配向膜を解析することで得られる。より具体的には配向膜の配向処理方向に関する情報は、配向処理の不均一性（ラビング傷など）を観察することで得られる。また、画素電極１０ｅと対向電極２１との間に直流を含む電圧を印加することで、配向処理の不均一に基づく筋が見易くなる場合がある。この筋に基づいて、配向処理方向（及び長軸方向３５Ｄ）を求めることができる。
【００４６】
第１基板部１０ｕにおける配向処理方向を求めることで、第１液晶部ＬＣａにおける液晶の配向方向（長軸方向３５Ｄ）が求められる。第１液晶部ＬＣａにおける液晶の配向方向は、第１基板部１０ｕにおける配向処理方向に沿う。同様に、第２基板部２０ｕにおける配向処理方向を求めることで、第２液晶部ＬＣｂにおける液晶の配向方向（長軸方向３５Ｄ）が求められる。
【００４７】
図２（ａ）及び図２（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式図である。  
図２（ａ）は、液晶表示装置１１０の液晶層３０における液晶の配向方向を例示している。
【００４８】
液晶層３０の第１液晶部ＬＣａにおける配向方向（第１配向方向ＬＣ１ａ）とＸ軸方向（第１方向Ｄ１）との間の角度を第１配向角θＬＣａとする。第１配向方向ＬＣ１ａは、第１主面１０ａに対して平行で第１方向Ｄ１に対して垂直な第２方向Ｄ２と交差する方向である。
【００４９】
第１配向方向ＬＣ１ａの第１方向Ｄ１に対して平行な成分は、第１配向方向ＬＣ１ａの第２方向と平行な成分よりも大きい。第１配向角θＬＣａは、１４０度以上１８０度以下の所定の角度である。
【００５０】
液晶層３０の第２液晶部ＬＣｂにおける配向方向（第２配向方向ＬＣ１ｂ）とＸ軸方向との間の角度を第２配向角θＬＣｂとする。第１配向方向ＬＣ１ａと、第２配向方向ＬＣ１ｂと、の間の角度の絶対値（ツイスト角θＬＣｔ）は、６０度以上８０度以下である。この例では、ツイスト角θＬＣｔは、７０度である。ツイスト角θＬＣｔは、液晶層３０中における液晶分子３５の長軸方向３５Ｄのツイスト角に相当する。
【００５１】
液晶層３０において、電圧を印加していない場合のリタデーション（プレチルト角は小さく無視する）は、１８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。すなわち、液晶層３０に含まれる液晶の屈折率異方性と、液晶層３０の厚さｔＬＣ（ｎｍ）との積は、１８０ｎｍ以上２６０ｎｍ以下である。
【００５２】
図２（ｂ）は、液晶表示装置１１０の画素電極に印加される電圧の極性を例示している。図２（ｂ）に表したように、第１画素電極１１は、対向電極２１を基準とした第１極性の電位に設定される。この例では、第１極性は、プラスである。第１画素電極１１には、プラスの電圧が印加される。
【００５３】
第２画素電極１２は、対向電極２１を基準とした第２極性の電位に設定される。第２極性は、第１極性とは異なる極性である。この例では、第２極性は、マイナスである。第２画素電極１２には、マイナスの電圧が印加される。
【００５４】
このように第１画素電極１１と第２画素電極１２との間に、異なる極性の電圧が印加されると、第１画素電極１１と第２画素電極１２との間に横方向（Ｘ軸方向）に沿った電界が発生する場合がある。また、図２（ａ）に表したように、第１配向方向ＬＣ１ａのＸ軸方向に沿った成分は、Ｙ軸方向に沿った成分よりも大きい。
【００５５】
このように、第１配向方向ＬＣ１ａの成分うち、液晶において生じる電界の方向に沿った成分が大きい場合に、液晶分子は比較的当該横方向の電界の作用を受けやすい。これらの要因が重なる第１画素電極１１と第２画素電極１２との間において、他の部位と比較した場合にディスクリネーションが比較的発生しやすいものとなっている。
【００５６】
詳述すると、電圧の極性と液晶の配向方向との関係が、図２（ａ）及び図２（ｂ）に例示したような関係である場合には、第１画素電極１１の第２画素電極１２側の端部に位置する液晶において、ディスクリネーションが発生しやすい。すなわち、第２電極部１４の上に位置する液晶層の一部（画素端部３０ｆ）の液晶に配向不良が生じやすい。
【００５７】
隣接する画素電極１０ｅに印加される電圧の極性が、互いに同じである場合には、隣接する画素電極１０ｅの間に対応した液晶には、配向不良が生じにくい。  
複数の画素電極１０ｅは、画素電極１０ｆをさらに含む。液晶層３０は、画素電極１０ｆに対応した画素部３３をさらに含む。画素電極１０ｆは、第１画素電極１１と隣接する画素電極である。第１画素電極１１は、画素電極１０ｆと、第２画素電極１２との間に設けられる。画素電極１０ｆに印加される電圧の極性は、第１画素電極に印加される電圧の極性と同じである。この場合、第１画素電極１１と画素電極１０ｆとの間の位置に対応した液晶には、ディスクリネーションが生じにくい。
【００５８】
実施形態においては、第２電極部１４は、光透過性である。これにより、第２電極部１４に入射した光は、液晶表示装置の表側から外部へ出射しない。これにより、見やすい表示が可能となる。
【００５９】
図３（ａ）及び図３（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式的平面図である。  
図３（ａ）及び図３（ｂ）は、液晶表示装置１１０の第１画素電極１１を例示する模式的平面図である。
【００６０】
図３（ａ）に表したように、第１画素電極１１の第１電極部１３は、Ｘ−Ｙ平面（第１主面１０ａ）に投影した平面視で見た場合、矩形状を呈して第１〜第４辺ｌ１〜ｌ４を有する。  
第１辺ｌ１と第２辺ｌ２とは第２方向に互いに平行な状態で延在して設けられており、第２辺ｌ２は、第１辺ｌ１と離間する。第２辺ｌ２は、第１辺ｌ１と第２画素電極１２との間に設けられる。
【００６１】
第３辺ｌ３は、第１辺ｌ１の一端と第２辺ｌ２の一端とを接続する。第４辺ｌ４は、第３辺ｌ３と離間する。第４辺ｌ４は、第１辺ｌ１の他端と第２辺ｌ２の他端とを接続する。
【００６２】
第２電極部１４は、第１電極部１３の少なくとも一辺に沿って設けられる。第２電極部１４は、第１部分１４ａを有し、図３（ａ）に表した例では、第２電極部１４は、第１部分１４ａからなる。第１部分１４ａは、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、第２辺ｌ２に接する矩形状を呈している。より具体的には、第１部分１４ａは、矩形状を呈しており、第１電極部１３の第２辺ｌ２側の一辺が、第２辺ｌ２の一端と、第２辺ｌ２の他端と、の間の領域において第１電極部１３の第２辺ｌ２と接する。
【００６３】
液晶表示装置１１０においては、観視者８０は、第２基板部２０ｕの側から、液晶表示装置１１０の表示を観視する。観視者８０によって観視されることとなる第２基板部２０ｕの側が、表側に対応する。第１基板部１０ｕの側が、裏側に対応する。
【００６４】
また、実施形態に係る液晶表示装置１１０は、反射型の表示装置である。  
表側から液晶表示装置１１０に入射した光（第２光Ｌ２）は、第２基板部２０ｕ、液晶層３０を通過して、画素電極１０ｅ（第１画素電極１１の第１電極部１３）に入射する。画素電極１０ｅに入射した第２光Ｌ２は、画素電極１０ｅで反射する。反射した第２光Ｌ２が、再び液晶層３０及び第２基板部２０ｕを通過して、表側から外部に出射する。
【００６５】
画素電極１０ｅに印加される電圧に応じて、画素部３０ｄ（第１画素部３１）において、液晶配向が変化し、画素部３０ｄにおける光学特性（実効的な複屈折率、リタデーション）が変化する。光学特性の変化に応じて、第２基板部２０ｕを通過して外部に出射する第２光Ｌ２の明るさが変化する。画素部３０ｄにおける明るさが、電圧に応じて変化し、表示が行われる。
【００６６】
電圧を印加していない状態において、画素部３０ｄは、暗状態である。所定の電圧を印加した状態において、画素部３０ｄは、明状態である。すなわち、画素部３０ｄにおいて、ノーマリダーク（ノーマリブラック）の構成が適用される。
【００６７】
非画素部３０ｎを通過する光（第１光Ｌ１）は、第１基板部１０ｕを通過可能である。第２基板部２０ｕ、液晶層３０（非画素部３０ｎ）、及び、画素間領域１５を通過した第１光Ｌ１の少なくとも一部は、第１基板部１０ｕを通過可能である。非画素部３０ｎ（画素間領域１５）においては、液晶層３０には、実質的には電圧が印加されない。すなわち、非画素部３０ｎにおいては、液晶配向は、初期配向が維持される。
【００６８】
第２基板部２０ｕ及び液晶層３０を通過した光の一部（第３光Ｌ３）は、第２電極部１４に入射する。この例では、第２電極部１４は、光透過性である。第３光Ｌ３の少なくとも一部は、第２電極部１４を通過する。第２基板部２０ｕ、液晶層３０及び第２電極部１４を通過した光の少なくとも一部は、第１基板部１０ｕを通過可能である。これにより、第３光Ｌ３の少なくとも一部は、表側から外部に出射しない。
【００６９】
第２電極部１４が光吸収性である場合には、第２電極部１４に入射した光の少なくとも一部は、第２電極部１４に吸収される。第２電極部１４に入射した光は、実質的に表側から外部に出射しない。
【００７０】
第１画素電極１１に印加される電圧の極性と、第２画素電極１２に印加される電圧の極性とは、異なる。また、これらの画素電極１０ｅに印加される電圧の極性は、表示装置の駆動において反転する。このような電圧によって、第１画素電極１１と第２画素電極１２との間に電界が生じる。この電界によって、第１画素電極１１と第２画素電極１２との間に位置する液晶層３０の液晶に配向不良（ディスクリネーション）が生じる場合がある。第２電極部１４の上（第２電極部１４と対向電極２１との間）に位置する液晶層３０の一部（画素端部３０ｆ）の液晶に配向不良が生じる場合がある。ディスクリネーションが発生すると、画質が低下する。具体的には、画素上にディスクリネーションが発生することにより、残像、ぼやけ、または、コントラストの低下などが発生する。
【００７１】
実施形態においては、第２電極部１４は、光透過性である。これにより、液晶層３０の画素端部３０ｆを通過する光は、反射されず、観視者８０へ向けて表側から出射されない。液晶層３０の画素端部３０ｆの液晶に配向不良が生じていても、観視者８０は、画質の低下を認識しない。これにより、見やすい表示が可能となる。
【００７２】
第２基板部２０ｕに遮光層（ブラックマトリクス）を設ける参考例がある。遮光層は、画素間領域１５の位置、及び、画素電極１０ｅの端部の位置、に対応させて設けられる。すなわち、遮光層は、液晶層３０のうち、ディスクリネーションが生じやすい部分の上に設けられる。これにより、遮光層に入射した光は、吸収される。ディスクリネーションの影響を受けた光が、表側から外部に出射されない。参考例においても、ディスクリネーションによる画質の低下が抑制される。
【００７３】
しかし、遮光層の形成において、遮光層の幅の加工精度などには限界がある。また、液晶表示装置の製造プロセスにおいて、第２基板部２０ｕに設けられた遮光層と、第１基板部１０ｕに設けられた画素電極１０ｅと、の位置合わせの精度にも限界がある。このような、加工精度及び位置合わせ精度を考慮すると、遮光層のＸ−Ｙ面内における面積が大きくなってしまう。遮光層の面積が大きくなると、Ｘ−Ｙ面内において、光を反射する面積の割合が小さくなる。液晶表示装置において、表示の明るさが低下してしまう。
【００７４】
実施形態においては、第１画素電極１１に光透過性の第２電極部１４を設ける。当該第２電極部１４は、透明であり、当該第２電極部１４の下層に入射光を反射させるものが存在しないため、当該入射光は、そのまま第１基板１０ｓ内に向けて透過することとなって反射することはなく、これにより、ディスクリネーションによる画質の低下は、観視されないものとなる。そして、導電性の第２電極部１４を第１電極部１３と連続して設けることにより、参考例のような位置合わせ精度などを考慮して遮光層を形成する必要は無く、ひいては反射領域（開口部）の面積割合を低下させる必要をなくすることができる。これにより、表示の明るさを維持することができる。
【００７５】
図３（ｂ）に表した例は、本実施形態の変形例である。この例のように、第２電極部１４は、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、第３辺ｌ３と接していても良い。第２電極部１４は、第１辺ｌ１、または、第４辺ｌ４と接していても良い。
【００７６】
光透過性の第２電極部１４は、Ｘ−Ｙ平面内において、ディスクリネーションの発生する場所に対応して、設けられることが望ましい。この例では、Ｘ−Ｙ平面内において、第１辺ｌ１に沿って設けられることが望ましい。Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、第１辺ｌ１（または第３辺ｌ３、第４辺ｌ４）と接する位置に、第２電極部１４を設けないことが望ましい。
図４、図５及び図６は、第１の実施形態に係る別の液晶表示装置を例示する模式的断面図である。  
図４は、実施形態に係る液晶表示装置１１１を例示している。図５は、実施形態に係る液晶表示装置１１２を例示している。図６は、実施形態に係る液晶表示装置１１３を例示している。
【００７７】
液晶表示装置１１１〜１１３においても、第１基板部１０ｕ、第２基板部２０ｕ及び液晶層３０が設けられる。これらには、液晶表示装置１１０について説明した構成と同様の構成を適用することができる。
【００７８】
図４に表したように、液晶表示装置１１１の第２電極部１４は、第２部分１４ｂをさらに含む。第２部分１４ｂは、第１電極部１３と液晶層３０との間に設けられる。この例では、第２部分１４ｂは、少なくとも第１電極部１３の第１辺ｌ１を覆う。第１部分１４ａと第２部分１４ｂとは、連続して設けられる。第２電極部１４は、第１電極部１３の画素間領域１５側の側面を覆うようにして設けられる。
【００７９】
図５に表したように、液晶表示装置１１２の第２電極部１４は、第３部分１４ｃをさらに含む。第３部分１４ｃは、第１主面１０ａと第１電極部１３との間に介在する。第１電極部１３は、第３部分１４ｃと、液晶層３０と、の間に設けられる。
【００８０】
図６に表したように、液晶表示装置１１３の第２電極部１４は、第１部分１４ａ、第２部分１４ｂ、及び第３部分１４ｃを含む。
【００８１】
液晶表示装置１１１〜１１３において例示したように、第２電極部１４の構成は、種々の変更が可能である。第１電極部１３または第２電極部１４に用いられる材料や画素電極１０ｅを形成するプロセスなどを考慮して、第２電極部１４の構成を適宜変更することが可能である。
【００８２】
（第２の実施形態）  
図７は、第２の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式的断面図である。  
図７は、液晶表示装置１１４を例示している。図７に表したように、液晶表示装置１１４においても第１基板部１０ｕと、第２基板部２０ｕと、液晶層３０と、が設けられる。これらには、液晶表示装置１１０について説明した構成と同様の構成を適用することができる。
【００８３】
液晶表示装置１１４は、第１偏光層５１と、第２偏光層５２と、第１位相差層６１と、第２位相差層６２と、がさらに設けられている。
【００８４】
第１偏光層５１と液晶層３０との間に第１基板部１０ｕが設けられる。第２偏光層５２と液晶層３０との間に第２基板部２０ｕが設けられる。第２偏光層５２、第２基板部２０ｕ、液晶層３０及び第１基板部１０ｕ（第２電極部１４）を通過し、第１偏光層５１に入射した第４光Ｌ４の少なくとも一部は、第１偏光層５１に吸収される。
【００８５】
液晶層３０の画素端部３０ｆ、及び、第２電極部１４を通過し、ディスクリネーションの影響を受けた光は、第１偏光層５１に入射し、吸収される。このように、ディスクリネーションの影響を受けた光は、反射されず、液晶表示装置１１４の表側から観視者８０に向けて出射されない。これにより、見やすい表示が可能となる。
第１偏光層５１及び第２偏光層５２には、偏光膜、または、偏光板などが用いられる。第１偏光層５１及び第２偏光層５２のそれぞれは、粘着層を含んでも良い。粘着層により、第１偏光層５１が第１基板部１０ｕに固定される。粘着層により、第２偏光層５２が第２基板部２０ｕに固定される。
【００８６】
第１位相差層６１は、第２位相差層６２と、第２基板部２０ｕとの間に設けられる。第２偏光層５２と、第１位相差層６１と、の間に第２位相差層６２が設けられる。
【００８７】
第１位相差層６１として、１／４波長板が用いられる。第１位相差層６１のリタデーションは、１００ナノメートル以上１５０ナノメートル以下である。
【００８８】
第２位相差層６２として、１／２波長板が用いられる。第２位相差層６２のリタデーションは、２４０ナノメートル以上２９０ナノメートル以下である。
【００８９】
第１位相差層６１及び第２位相差層６２には、延伸フィルムなどが用いられる。位相差層において、位相差層の複屈折率と、位相差層の厚さと、の積がリタデーションに対応する。リタデーションは、偏光を用いた解析により求めることができる。
【００９０】
第１位相差層６１は、入射する直線偏光を、実質的に円偏光に変化させる。第２位相差層６２は、入射する直線偏光の偏光方向を９０度変化させる。
【００９１】
これらの位相差層を用いることで、液晶層３０における光学特性（実効的な複屈折率）の変化を、光の明るさの変化に変化することが、効率的に行われる。すなわち、明るさを向上し、高いコントラスト比が得られる。波長依存性が小さくなる。
【００９２】
実施形態において、これらの位相差層は、必要に応じて設けられ、省略しても良い。第１位相差層６１を用いることで、高い明るさと、高いコントラスト比と、が得易くなる。第２位相差層６２を用いることで、光学特性の波長依存性が改善され、色づきが抑制される。
【００９３】
この例では、液晶表示装置１１４は、光学層６５をさらに含む。対向電極２１（第２基板部２０ｕ）は、液晶層３０と、光学層６５と、の間に設けられる。光学層６５は、第２偏光層５２と対向電極２１との間に設けられる。
【００９４】
光学層６５は、光学層６５に入射する光の進行方向を変更する。光学層６５は、光学層６５に入射する光を拡散（散乱）する。光学層６５は、光学層６５に入射する光の拡散光（散乱光）の強度を、光学層６５に入射する光の方向（Ｘ−Ｙ平面内の方向）に応じて変化させる。光学層６５の構成及び特性の例は、後述する。
【００９５】
光学層６５において、入射する光の偏光特性は、実質的に維持される。光学層６５を用いることで、画素電極１０ｅが比較的高い鏡面反射性を有していた場合においても、画素電極１０ｅにおける像の写り込みが抑制され、見易い表示が可能になる。
【００９６】
光学層６５のヘイズは、７０％以上９５％以下である。これにより、良好な散乱性が得られ、良好なコントラスト比の表示が提供できる。
【００９７】
図８（ａ）〜図８（ｄ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置の一部を例示する模式図である。  
これらの図は、光学層６５を例示している。図８（ａ）は、光学層６５を例示する模式的断面図である。図８（ｂ）は、光学層６５を例示する模式的平面図である。図８（ｃ）は、別の例の光学層６５を示す模式的平面図である。図８（ｄ）は、光学層６５の別の例を示す模式的断面図である。
【００９８】
図８（ａ）に例示したように、光学層６５は、複数の第１光学部６６と、第２光学部６７と、を含む。複数の第１光学部６６は、Ｘ−Ｙ平面内（第１主面１０ａに対して平行な平面内）に配置される。複数の第１光学部６６は、光透過性である。第２光学部６７は、複数の第１光学部６６のうちの任意の２つ間に設けられる。第２光学部６７も光透過性である。この例では、複数の第２光学部６７が設けられている。複数の第１光学部６６と、複数の第２光学部６７と、が交互に配置されている。複数の第１光学部６６の少なくともいずれかと、第２光学部６７との間の境界６８は、Ｘ−Ｙ平面に対して傾斜している。第２光学部６７の屈折率は、第１光学部６６の屈折率よりも高い、または、低い。
【００９９】
光学層６５に第１入射方向から入射する光（第１入射光Ｌｉ１）の光学層６５における散乱光の強度は、光学層６５に第２入射方向から入射する光（第２入射光Ｌｉ２）の光学層６５における散乱光の強度とは異なる。ここで、第１入射方向の、Ｘ−Ｙ平面内の方向は、第２入射方向の、Ｘ−Ｙ平面内の方向とは異なる。
【０１００】
第１入射光Ｌｉ１の光学層６５における散乱光の強度は、第２入射光Ｌｉ２の光学層６５における散乱光の強度よりも高い。第１入射光Ｌｉ１は光学層６５で散乱されて拡散する。一方、第２入射光Ｌｉ２においては、光学層６５における散乱（拡散）の程度が低く、透過性が高い。境界６８がＸ−Ｙ平面に対して傾斜していることで、このような散乱特性が得られる。光学層６５は、異方性散乱層である。光学層６５は、異方性前方散乱フィルムである。
【０１０１】
光学層６５においては、屈折率が高い領域と、低い領域と、が設けられている。光学層６５は、透明フィルムである。光学層６５においては、光の入射方向によって、散乱の程度が異なる。光学層６５は、「散乱中心軸」を有する。散乱中心軸は、図８（ａ）に例示した第１入射光Ｌｉ１の光軸に対応する。散乱中心軸は、最も散乱する光の入射方向に対応する。
【０１０２】
図８（ｂ）に例示したように、複数の第１光学部６６は、帯状である。第１光学部６６及び第２光学部６７のそれぞれは、Ｚ軸方向に対して交差（直交）する１つの方向に沿って延在する。この例では、光学層６５は、ルーバ構造タイプである。
【０１０３】
図８（ｃ）に例示した別の例では、複数の第１光学部６６は、互いに離間した島状である。この例では、光学層６５は、柱状構造タイプである。
【０１０４】
図８（ｄ）に例示した例では、光学層６５は、複数の層（第１層６５ａ及び第２層６５ｂなど）を含む。これらの層は、Ｚ軸方向に沿って積層されている。第１層６５ａは、Ｘ−Ｙ平面内に配置された光透過性の複数の第１光学部６６ａと、複数の第１光学部６６ａのうちの２つの間に設けられた光透過性の第２光学部６７ａと、を含む。第２光学部６７ａの屈折率は、複数の第１光学部６６ａのそれぞれの屈折率とは異なる。この場合も、複数の第１光学部６６ａの少なくともいずれかと第２光学部６７ａとの間の境界６８ａは、Ｘ−Ｙ面に対して傾斜している。
【０１０５】
第２層６５ｂは、Ｘ−Ｙ平面内に配置された光透過性の複数の第３光学部６６ｂと、複数の第３光学部６６ｂのうちの２つの間に設けられた光透過性の第４光学部６７ｂと、を含む。第４光学部６７ｂの屈折率は、複数の第３光学部６６ｂのそれぞれの屈折率とは異なる。複数の第３光学部６６ｂの少なくともいずれかと第４光学部６７ｂとの間の境界６８ｂは、Ｘ−Ｙ面に対して傾斜している。境界６８ｂの延在方向は、境界６８ａの延在方向に沿っている。境界６８ｂを含む平面と、境界６８ａを含む平面と、の間の角度は、３０度以下でも良い。光学層６５に複数の層を設けることで、拡散範囲が拡大する。光学層６５に複数の層を設けることで、着色（虹色の発生）などが抑制できる。光学層６５に設けられる層の数は、３以上でも良い。
【０１０６】
図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置の特性を例示する模式的平面図である。  
これらの図は、光学層６５の特性を例示する模式図であり、光学層６５に光が入射したときの光学層６５を通過する光の強度を模式的に例示している。図９（ａ）は、第１入射光Ｌｉ１が入射したときに対応する。この例では、第１入射光Ｌｉ１は、Ｙ−Ｚ平面に沿って光学層６５に入射している。第１入射光Ｌｉ１の入射角（Ｚ軸方向と第１入射光Ｌｉ１との間の角度）は、３０度である。図９（ａ）は、散乱中心軸に対して平行な方向から光が入射する場合に対応する。図９（ｂ）は、第３入射光Ｌｉ３が入射したときに対応する。この例では、第３入射光Ｌｉ１は、Ｘ−Ｚ平面に沿って光学層６５に入射している。第３入射光Ｌｉ３の入射角（Ｚ軸方向と第３入射光Ｌｉ３との間の角度）は、３０度である。図９（ｂ）は、散乱中心軸に対して垂直な方向から光が入射する場合に対応する。
【０１０７】
これらの図に描かれている同心円は、Ｚ軸方向を基準にした角度（等角度線）に対応する。同心円の中心は、光学層６５から、実質的にＺ軸方向に沿って出射する透過光（垂直出射光）に対応する。これらの図に描かれている明るい領域Ｂ１及びＢ２は、透過光の強度が高い領域である。
【０１０８】
図９（ａ）に表したように、Ｙ軸方向に沿った第１入射光Ｌｉ１においては、垂直出射光の強度が高い。そして、Ｙ−Ｚ平面内で傾斜する方向に出射する透過光の強度も高い。
【０１０９】
図９（ｂ）に表したように、Ｘ軸方向に沿った第３入射光Ｌｉ３においては、垂直出射光の強度が低い。そして、Ｘ−Ｚ平面内で傾斜する方向（垂直方向から傾斜した方向）において、透過光の強度が高い。
【０１１０】
このように、光学層６５においては、光学層６５に第１入射方向から入射する光（第１入射光Ｌｉ１）の光学層６５における光の強度は、光学層６５に第２入射方向から入射する光（第２入射光Ｌｉ２または第３入射光Ｌｉ３など）の光学層６５における光の強度とは異なる。
【０１１１】
実施形態によれば、見やすい表示装置が提供できる。
【０１１２】
なお、本願明細書において、「垂直」及び「平行」は、厳密な垂直及び厳密な平行だけではなく、製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に垂直及び実質的に平行であれば良い。
【０１１３】
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明の実施形態は、これらの具体例に限定されるものではない。第１基板部、第１画素電極、第２画素電極、対向電極、第２基板部、第１電極部、第２電極部、液晶層、第１〜第３液晶部、第１配向方向、第２配向方向、第１スイッチング素子、第１配線、絶縁層、偏光層、及び光学層などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。  
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
【０１１４】
その他、本発明の実施の形態として上述した液晶表示装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての液晶表示装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
【０１１５】
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
【０１１６】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【０１１７】
１０ａ…主面、  １０ｅ、１０ｆ…画素電極、  １０ｓ…第１基板、  １０ｕ…第１基板部、  １１…第１画素電極、  １２…第２画素電極、  １３…第１電極部、  １４…第２電極部、  １４ａ…第１部分、  １４ｂ…第２部分、  １４ｃ…第３部分、  １５…画素間領域、  １６…配線、  １６ａ…第１配線、  １６ｂ…第２配線、  １７ａ…第１スイッチング素子、  １７ｂ…第２スイッチング素子、  １８…絶縁層、  ２０ａ…第２主面、  ２０ｓ…第２基板、  ２０ｕ…第２基板部、  ２１…対向電極、  ２３…カラーフィルタ、  ３０…液晶層、  ３０ｄ…画素部、  ３０ｆ…画素端部、  ３０ｎ…非画素部、  ３１…第１画素部、  ３２…第２画素部、  ３３…画素部、  ３５…液晶、  ３５Ｄ…長軸方向、  ５１…第１偏光層、  ５２…第２偏光層、  ６１…第１位相差層、  ６２…第２位相差層、  ６５…光学層、  ６５ａ…第１層、  ６５ｂ…第２層、  ６６、６６ａ…第１光学部、  ６６ｂ…第３光学部、  ６７、６７ａ…第２光学部、  ６７ｂ…第４光学部、  ６８、６８ａ、６８ｂ…境界、  ８０…観視者、  θＬＣａ…第１配向角、  θＬＣｂ…第２配向角、  θＬＣｔ…ツイスト角、  １１０〜１１４…液晶表示装置、  Ｂ１、Ｂ２…領域、  Ｄ１…第１方向、  Ｄ２…第２方向、  Ｅ１…第１端部、  Ｅ２…第２端部、  Ｌ１〜Ｌ４…第１光〜第４光、  ＬＣ１ａ…第１配向方向、  ＬＣ１ｂ…第２配向方向、  ＬＣａ…第１液晶部、  ＬＣｂ…第２液晶部、  ＬＣｃ…第３液晶部、  Ｌｉ１…第１入射光、  Ｌｉ２…第２入射光、  Ｌｉ３…第３入射光、  ｌ１〜ｌ４…第１〜第４辺、  ｔＬＣ…厚さ
【図１】
2015206917.tif 000003
【図３】
2015206917.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図２】
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