(57)【要約】      （修正有）【課題】画像における焼付きの発生を抑制することができる電子写真感光体を提供する。【解決手段】導電性基体１と、下引層４と、結着樹脂を含有し、且つヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を層中において４７体積％以上６０体積％以下含有する電荷発生層２Ａと、特定の構造式で表されるトリアリールアミン化合物を含有し、且つ平均膜厚が３０μｍ以上４０μｍ以下である電荷輸送層２Ｂと、をこの順に有する電子写真感光体。【選択図】図１
2015184571.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、
下引層と、
結着樹脂を含有し、且つヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を層中において４７体積％以上６０体積％以下含有する電荷発生層と、
下記式（Ａ）で表されるトリアリールアミン化合物を含有し、且つ平均膜厚が３０μｍ以上４０μｍ以下である電荷輸送層と、
をこの順に有する電子写真感光体。
【化１】
2015184571.tif 000013
【請求項２】
前記下引層が、金属酸化物粒子および下記一般式（１）で表されるアントラキノン誘導体を含有する請求項１に記載の電子写真感光体。
【化２】
2015184571.tif 000014
（一般式（１）中、ｎ１およびｎ２は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。但し、ｎ１およびｎ２の少なくとも一方は、１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１およびｎ２が同時に０を表さない）。ｍ１およびｍ２は、各々独立に０または１の整数を表す。Ｒ１およびＲ２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、または炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。）
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置において用いられる感光体としては、有機の光導電性材料を用いた有機感光体が主流となっている。有機感光体を製造する場合、例えば、導電性基体の上に下引層を形成し、その後感光層、特に電荷発生層および電荷輸送層を備えた感光層を形成したものが用いられている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、導電性基体上に中間層を介して感光層を有する電子写真感光体において、該中間層が特定のポリアミド樹脂を含有する電子写真感光体が開示されている。
【０００４】
特許文献２には、感光体に形成されたトナー像を記録媒体に転写して画像を形成する画像形成装置において、前記感光体は、導電性基体と、前記導電性基体の周囲に形成された中間層と、前記中間層の周囲に形成された感光層と、を有し、前記中間層は、平均粒径が１００ｎｍ以下の金属酸化物粒子を結着樹脂中に含有する画像形成装置が開示されている。
【０００５】
特許文献３には、電荷発生材料とバインダー高分子との重量比が２：１から１：１０の範囲にある単層型感光体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平５−１１４８３号公報
【特許文献２】特開２００２−１２３０２８号公報
【特許文献３】特開平３−２７４５６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、画像における焼付きの発生が抑制された電子写真感光体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
導電性基体と、
下引層と、
結着樹脂を含有し、且つヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を層中において４７体積％以上６０体積％以下含有する電荷発生層と、
下記式（Ａ）で表されるトリアリールアミン化合物を含有し、且つ平均膜厚が３０μｍ以上４０μｍ以下である電荷輸送層と、
をこの順に有する電子写真感光体である。
【０００９】
【化１】
2015184571.tif 000003
【００１０】
請求項２に係る発明は、
前記下引層が、金属酸化物粒子および下記一般式（１）で表されるアントラキノン誘導体を含有する請求項１に記載の電子写真感光体である。
【００１１】
【化２】
2015184571.tif 000004
【００１２】
（一般式（１）中、ｎ１およびｎ２は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。但し、ｎ１およびｎ２の少なくとも一方は、１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１およびｎ２が同時に０を表さない）。ｍ１およびｍ２は、各々独立に０または１の整数を表す。Ｒ１およびＲ２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、または炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。）
【００１３】
請求項３に係る発明は、
請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジである。
【００１４】
請求項４に係る発明は、
請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置である。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１に記載の発明によれば、電荷発生層でのヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の含有量が４７体積％未満である場合に比べ、画像における焼付きの発生が抑制された電子写真感光体が提供される。
請求項２に記載の発明によれば、一般式（１）で表されるアントラキノン誘導体以外のアクセプター化合物のみを用いる場合に比べ、画像における焼付きの発生が抑制された電子写真感光体が提供される。
【００１６】
請求項３、又は４に係る発明によれば、電荷発生層でのヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の含有量が４７体積％未満である電子写真感光体を備える場合に比べ、画像における焼付きの発生が抑制された画像形成装置又はプロセスカートリッジが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成を示す概略断面図である。
【図２】本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図３】本実施形態に係る画像形成装置の他の態様を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００１９】
［電子写真感光体］
本実施形態に係る電子写真感光体（以下単に「感光体」とも称す）は、導電性基体と、下引層と、電荷発生層と、電荷輸送層と、をこの順に有する。
前記電荷発生層は、結着樹脂を含有し、且つヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を電荷発生層中において４７体積％以上６０体積％以下含有する。
前記電荷輸送層は、下記式（Ａ）で表されるトリアリールアミン化合物を含有し、且つ平均膜厚が３０μｍ以上４０μｍ以下である。
【００２０】
【化３】
2015184571.tif 000005
【００２１】
従来から、感光体の使用を継続するうちに電荷輸送層の摩耗が生じ、非露光部においても導電性基体から電荷輸送層表面にまで電荷が移動し、そのために色点が発生することがあり、この色点抑制の観点で電荷輸送層の膜厚を厚くすることがあった。また、電荷輸送層が感光体の最表面層でない場合であっても、やはり電荷輸送層の膜厚を厚くすることがあった。
【００２２】
但し、電荷輸送層の膜厚を３０μｍ以上の厚さとした場合、露光部に該当する電荷輸送層中を移動する電荷が、層中の深さ方向にだけでなく横方向にも拡散することで静電潜像にぼやけが生じ、そのため形成される画像において粒状性の悪化が発生していた。
【００２３】
尚、画像における上記の粒状性を改善するためには電荷輸送層中における電荷の移動度を速めることが求められ、具体的には電荷輸送層中に含まれる電荷輸送材料として前記式（Ａ）で表されるトリアリールアミン化合物を用いることで、粒状性を改善し得る。
【００２４】
しかしながら、電荷輸送層に式（Ａ）で表されるトリアリールアミン化合物を含有させて電荷の移動度を速めることで、同一の画像を連続出力した際に、露光部の電荷発生層と電荷輸送層の界面に電荷が蓄積しやすくなる。その結果、露光部の帯電電位が低下することで、同一画像の連続出力後に更に全面ハーフトーン画像を出力した際、連続露光された部分の表面電位が低下し、「焼付き」と称するポジゴーストが連続して発生することがあった。
【００２５】
これに対し本実施形態では、電荷発生層において電荷発生材料として含まれるヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の含有量を上記の範囲とすることで、上記焼付きの発生が抑制される。
これは、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を上記下限値以上含有することによって、界面での電荷の蓄積が抑制され、その結果露光部の帯電電位の低下が抑制される為と推察される。
【００２６】
次いで、本実施形態に係る感光体の構成について図１を参照して説明するが、本実施形態は図１によって限定されるものではない。
【００２７】
図１は、本実施形態に係る感光体の層構成を示す模式断面図である。
図１に示す感光体は、導電性基体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂがこの順に積層された層構成を有し、感光層２は電荷発生層２Ａおよび電荷輸送層２Ｂの２層から構成される。図１に示す感光体においては電荷輸送層２Ｂが最外表面を構成する最表面層である。
尚、図１では電荷輸送層２Ｂが最表面層である態様を示したが、更に電荷輸送層２Ｂの外周面側に保護層等の他の層を設けた態様であってもよい。また、図１では導電性基体１上に下引層４を介して電荷発生層２Ａを設けた態様を示したが、下引層４がない態様であってもよい。
【００２８】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体の各層について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００２９】
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００３０】
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００３１】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００３２】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００３３】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００３４】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００３５】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００３６】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００３７】
（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
【００３８】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００３９】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００４０】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００４１】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００４２】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましい、アミノ基を有するシランカップリング剤が好ましい。
【００４３】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４４】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４５】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００４６】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００４７】
・金属酸化物粒子
無機粒子の中でも特に金属酸化物粒子がよい。金属酸化物粒子としては、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛等の粒子が挙げられる。
これらの中でも、金属酸化物粒子としては、残留電位の上昇抑制の観点から、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛の粒子がよい。
【００４８】
金属酸化物粒子としては、望ましくは粒径が１００ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の導電粉が望ましく用いられる。ここでいう粒径とは、平均１次粒径を意味する。金属酸化物粒子の平均１次粒径は、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）により観察し測定される値である。
金属酸化物粒子の粒径が１０ｎｍ以上であることにより、金属酸化物粒子の表面積が大きくなり過ぎず、分散液におけるムラの発生が抑制される。一方、金属酸化物粒子の粒径が１００ｎｍ以下であることにより、２次粒子、またはそれ以上の高次粒子が１μｍ程度の粒径になることが効果的に抑制され、下引層内で金属酸化物粒子の存在する部分と存在しない部分、いわゆる海島構造となることが抑制され、ハーフトーン濃度のムラなどの画質欠陥の発生が抑制される。
【００４９】
金属酸化物粒子としては１０４Ω・ｃｍ以上１０１０Ω・ｃｍ以下の粉体抵抗とすることが望ましい。これにより、下引層は、電子写真プロセス速度に対応した周波数で適切なインピーダンスを得ることが実現され易くなる。
【００５０】
金属酸化物粒子は、分散性等の諸特性の改善の目的で、前記無機粒子についても説明したごとく表面処理されていることが好ましく、少なくとも１種のカップリング剤で表面処理されていることがよい。
カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、およびアルミネート系カップリング剤から選ばれる少なくとも１種であることがよい。
具体的なカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等のアルミネート系カップリング剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ビス（ジオクチルピロホスフェート）、イソプロピルトリ（Ｎ―アミノエチルーアミノエチル）チタネート等のチタネート系カップリング剤等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらのカップリング剤は２種以上を混合して使用してもよい。
【００５１】
カップリング剤の処理量は、金属酸化物粒子に対して、０．１質量％以上３質量％以下であることがよく、望ましくは０．３質量％以上２．０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上１．５質量％以下である。
【００５２】
なお、カップリング剤の処理量は、次のように測定する。
ＦＴ−ＩＲ法、２９Ｓｉ固体ＮＭＲ法、熱分析、ＸＰＳなどの分析法があるが、ＦＴ−ＩＲ法が最も簡便である。ＦＴ−ＩＲ法では通常のＫＢｒ錠剤法でも、ＡＴＲ法でもよい。少量の処理済金属酸化物粒子をＫＢｒと混合し、ＦＴ−ＩＲを測定することで、カップリング剤の処理量を測定する。
【００５３】
金属酸化物粒子は、上記カップリング剤で表面処理後、抵抗値の環境依存性等の改善のために熱処理を行ってもよい。熱処理温度は、例えば、１５０℃以上３００℃以下、処理時間は３０分以上５時間以下がよい。
【００５４】
金属酸化物粒子の含有量は、電気特性維持の観点から、下引層中において３０質量％以上６０質量％以下が望ましく、３５質量％以上５５質量％以下がより望ましい。
【００５５】
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【００５６】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【００５７】
・アントラキノン誘導体
前記電子受容性化合物（アクセプター化合物）の中でも好ましい、アントラキノン誘導体（アントラキノン構造を有する化合物）は、下引層に含有される金属酸化物の表面と化学反応する材料、または金属酸化物の表面に吸着する材料であり、金属酸化物の表面に選択的に存在し得る。
アントラキノン誘導体としては、残留電位の上昇抑制の観点から、下記一般式（１）で示される化合物が望ましい。
【００５８】
【化４】
2015184571.tif 000006
【００５９】
一般式（１）中、ｎ１およびｎ２は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。但し、ｎ１およびｎ２の少なくとも一方は、１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１およびｎ２が同時に０を表さない）。ｍ１およびｍ２は、各々独立に０または１の整数を表す。Ｒ１およびＲ２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、または炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。
【００６０】
一般式（１）で示されるアントラキノン誘導体の中でも、残留電位の上昇抑制の観点から、Ｒ１およびＲ２の少なくとも一方が炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を示す化合物がよい。尚、ｍ１およびｍ２の少なくとも一方が１であることがよい。
【００６１】
ここで、一般式（１）中、Ｒ１およびＲ２が表す炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、直鎖状、または分鎖状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、望ましくは炭素数１以上８以下のアルキル基、より望ましくは炭素数１以上６以下のアルキル基である。
Ｒ１およびＲ２が表す炭素数１以上１０以下のアルコキシ基（アルコキシル基）としては、直鎖状、または分鎖状のいずれでもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、オクトキシ基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルコキシ基としては、望ましくは炭素数１以上８以下のアルコキシル基、より望ましくは炭素数１以上６以下のアルコキシル基である。
【００６２】
また、アントラキノン誘導体としては、下記一般式（２）で表される化合物であってもよい。
【００６３】
【化５】
2015184571.tif 000007
【００６４】
一般式（２）中、ｎ１、ｎ２、ｎ３、およびｎ４は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。但し、ｎ１およびｎ２の少なくとも一方は、１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１およびｎ２が同時に０を表さない）。また、ｎ３およびｎ４の少なくとも一方は、１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ３およびｎ４が同時に０を表さない）。ｍ１およびｍ２は、各々０または１の整数を示す。Ｒ１およびＲ２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、または炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。ｒは、１以上１０以上の整数を表す。
【００６５】
ここで、一般式（２）中、Ｒ１およびＲ２が表す炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、直鎖状、または分鎖状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、望ましくは炭素数１以上８以下のアルキル基、より望ましくは炭素数１以上６以下のアルキル基である。
Ｒ１およびＲ２が表す炭素数１以上１０以下のアルコキシ基（アルコキシル基）としては、直鎖状、または分鎖状のいずれでもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、オクトキシ基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルコキシ基としては、望ましくは炭素数１以上８以下のアルコキシル基、より望ましくは炭素数１以上６以下のアルコキシル基である。
ｒは、更に２以上１０以下であることが好ましい。
【００６６】
ここで、アントラキノン誘導体の具体例を下記に示す。但し、これらに限定されるものではない。
尚、下記具体例化合物を以下においては「例示化合物」と称し、例えば下記（１−１）の化合物であれば「例示化合物（１−１）」と称す。
【００６７】
【化６】
2015184571.tif 000008
【００６８】
【化７】
2015184571.tif 000009
【００６９】
本実施形態においては、特に電荷の蓄積を抑制し、その結果焼付きの発生より効果的に抑制し得るとの観点から、前記例示化合物（１−９）がより好ましい。
【００７０】
アントラキノン誘導体の含有量は、化学反応または吸着する相手である金属酸化物の表面積および含有量と、各材料の電子輸送能力から決められるが、通常は下引層中において０．０１質量％以上２０質量％以下の範囲がよく、より望ましくは０．１質量％以上１０質量％以下の範囲である。
アントラキノン誘導体の含有量が０．１質量％以上であることにより、アクセプター物質の効果が効率的に発現される。また、アントラキノン誘導体の含有量が２０質量％以下であることにより、金属酸化物粒子同士の凝集が抑制され、金属酸化物粒子の下引層内での分布のムラが抑制され、良好な導電路が形成される。
【００７１】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【００７２】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着せる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【００７３】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００７４】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００７５】
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００７６】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【００７７】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００７８】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００７９】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【００８０】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００８１】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００８２】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００８３】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００８４】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００８５】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００８６】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【００８７】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００８８】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００８９】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００９０】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００９１】
（中間層）
図示は省略するが、下引き層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００９２】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【００９３】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００９４】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【００９５】
（電荷発生層）
電荷発生層は、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。尚、本実施形態では、少なくとも上記電荷発生材料としてヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を含有する。
【００９６】
・ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料
ヒドロキガリウムシフタロシアニン顔料の含有量は、電荷発生層に対して４７体積％以上６０体積％以下である。
含有率が４７体積％より少ない場合は、電荷の蓄積が抑制されず焼付きの抑制効果が得られない。また、電荷発生機能の低下により求められる光感度が得られない。一方、６０体積％を超えると、電荷発生層内部に存在する内因電荷が増加し、電子写真感光体表面の電荷を打ち消すことにより、非画像領域に色点が発生する。
【００９７】
尚、ヒドロキガリウムシフタロシアニン顔料の含有量は、電荷発生層に対して更に４８体積％以上５８体積％以下であることが好ましく、さらには４９体積％以上５７体積％以下であることがより好ましい。
【００９８】
尚、電荷発生層中におけるヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の含有量は、以下の方法により測定される。
まず、電子写真感光体の感光層の内、電荷発生層より上層を溶剤などで除去することで、電荷発生層を表出させる。その後、電荷発生層をスパチュラ等の金属片により物理的に削り取り、電荷発生層単層の分析用試料を得る。得られた電荷発生層単層の分析用試料を、ＮＭＲ、ガスクロマトグラフィー、液クロマトグラフィー等で分析し、結着樹脂構造を特定する。次に、特定された結着樹脂を別途用意し、この結着樹脂を溶解し得る溶剤に溶解し、得られた結着樹脂液２μＬを１５ｍｇのＫＢｒ粉末に混合させ、メノウ鉢で十分にすりつぶして、粉末試料を得る。得られた粉末試料を用いて、圧縮成型を行い、ＦＴ−ＩＲ測定用サンプルを得る。得られた測定用サンプルでＦＴ−ＩＲ分析を行い、結着樹脂に固有のピーク波数を特定する。
次に、特定された結着樹脂にヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を、それぞれ４０体積％、４５体積％、５０体積％、５５体積％、６０体積％、６５体積％、７０体積％となるよう混合したものに、結着樹脂が溶解する溶剤を選択して分散を行う。分散方法については特に制限はなく、ペイントシェイカーやボールミル、ロールミルなどの公知の手段が用いられる。得られた各ヒドロキシガリウムフタロシアニンの樹脂分散液を、それぞれ２μＬを１５ｍｇのＫＢｒ粉末に混合させ、メノウ鉢で十分にすりつぶして、各ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料含有率ごとの粉末試料を得る。得られた粉末試料を用いて、圧縮成型を行い、ＦＴ−ＩＲ測定用サンプルを得る。得られた測定用サンプルでＦＴ−ＩＲ分析を行い、各ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料含有率ごとのＦＴ−ＩＲ波形を得る。
得られた結果から、結着樹脂の固有ピークの面積と、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料固有ピーク（１４５４ｃｍ−１から１５１９ｃｍ−１）の面積を計算し、横軸にヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料含有率を、縦軸に結着樹脂固有ピークの面積とヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料固有ピークの面積の比をとったグラフを作成し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料含有率の検量線を得る。
さらに、最初に電子写真感光体から物理的に削り取った電荷発生層粉末２μＬを１５ｍｇのＫＢｒ粉末に混合させ、メノウ鉢で十分にすりつぶした後、圧縮成型を行い電荷発生層分析用試料を得る。得られた分析用試料をＦＴ−ＩＲで分析し、得られた結果から、結着樹脂の固有ピークの面積と、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料固有ピーク（１４５４ｃｍ−１から１５１９ｃｍ−１）の面積を計算し、さらに両者の面積比を計算し、先に作成しておいたヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料含有率の検量線に当てはめて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の含有率を確定する。
【００９９】
電荷発生層に含有される電荷発生材料は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料単独であっても、また他の電荷発生材料を併用してもよい。
但し、電荷発生層に含まれる電荷発生材料の内、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が占める割合は、４７体積％上であることが好ましく、更に４８体積％以上であることがより好ましく、５０体積％以上であることが更に好ましい。
【０１００】
併用される電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等、公知の電荷発生材料が挙げられる。
【０１０１】
結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択される。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂や、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーが挙げられる。
これらの中でも、ポリビニルアセタール樹脂及び塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が好ましく用いられる。
ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。これらの結着樹脂は１種を単独あるいは２種以上を混合して用いられる。
【０１０２】
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１０３】
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【０１０４】
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【０１０５】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【０１０６】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１０７】
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１０８】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料をはじめとする電荷発生材料は、分散性を向上させるため、表面処理を施してもよい。表面処理剤としてはカップリング剤などが用いられるが、これに限定されるものではない。カップリング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、１−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロルプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤が挙げられる。これらの中でも、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランが好ましい。
【０１０９】
また、カップリング剤の他に、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどの有機ジルコニウム化合物を配合してもよい。また、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどの有機チタン化合物、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)などの有機アルミニウム化合物も用いてもよい。
【０１１０】
（電荷輸送層）
・膜厚
電荷輸送層は、平均膜厚が３０μｍ以上４０μｍ以下に制御される。尚、電荷輸送層の平均膜厚は、好ましくは３０μｍ以上３８μｍ以下であり、より好ましくは３０μｍ以上３７μｍ以下である。
電荷輸送層の平均膜厚が３０μｍより薄いと、長期に渡る使用において電荷輸送層が摩耗し、非画像領域において帯電電位を維持し得なくなり、色点が発生する。また、平均膜厚が４０μｍを超えると、露光による静電潜像形成時に、電荷輸送層中を電荷が移動する際に、横方向へも電荷が移動することにより潜像のぼやけが発生し、結果として出力画像においてトナーのドットがぼやけ、粒状性の悪化を引き起こす。
【０１１１】
尚、電荷輸送層の平均膜厚は、以下の方法により測定される。測定装置として渦電流式膜厚測定機ＦＩＳＣＨＥＲＳＣＯＰＥ社製、ＭＵＬＴＩＭＥＡＳＵＲＩＮＧ  ＳＹＳＴＭを用い、電荷輸送層の任意の１２箇所について測定を行い、その平均値を上記平均膜厚とする。
【０１１２】
・電荷輸送材料
また、電荷輸送層には、電荷輸送材料として前述の式（Ａ）で表されるトリアリールアミン化合物が含有される。
【０１１３】
尚、電荷輸送層に含有される電荷輸送材料は、上記式（Ａ）で表されるトリアリールアミン化合物単独であっても、また他の電荷輸送材料を併用してもよい。
但し、電荷輸送層に含まれる電荷輸送材料の内、上記式（Ａ）で表されるトリアリールアミン化合物が占める割合は、１０質量％以上であることが好ましく、更に２０質量％以上であることがより好ましく、２３質量％以上であることが更に好ましい。
【０１１４】
他の電荷輸送材料としては、具体的には、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニルピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルＮ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミンなどの芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］−（１−ナフチル）−フェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリルキナゾリンなどのキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリンなどのα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体等の正孔輸送物質が挙げられる。また、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送物質も使用し得る。さらに、上記化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体を用いてもよい。
【０１１５】
電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
【０１１６】
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１１７】
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【０１１８】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【０１１９】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１２０】
（保護層）
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【０１２１】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【０１２２】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。
【０１２３】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。
【０１２４】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【０１２５】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。
【０１２６】
保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１２７】
保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
【０１２８】
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
【０１２９】
保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１３０】
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１３１】
［画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）］
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【０１３２】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０１３３】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１３４】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１３５】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１３６】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主用部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１３７】
図２は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図２に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１３８】
図２におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１３９】
なお、図２には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１４０】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１４１】
−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１４２】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１４３】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１４４】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０１４５】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０１４６】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１４７】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０１４８】
図３は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【実施例】
【０１４９】
以下、本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明は下記実施例により限定されるものではない。なお、特に断りがない限り「部」および「％」は質量基準を意味する。
【０１５０】
〔実施例１〕
・下引層の形成
酸化亜鉛（商品名：ＭＺ３００、テイカ株式会社製）１００部、シランカップリング剤としてＮ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシランの１０％のトルエン溶液を１０部、トルエン２００部を混合して攪拌を行い、２時間還流を行った。その後１０ｍｍＨｇにてトルエンを減圧留去し、１３５℃で２時間焼き付け表面処理を行った。
表面処理した酸化亜鉛：３３部、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）：６部、前述の例示化合物（１−９）：１部、メチルエチルケトン：２５部を３０分間混合し、その後ブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−１、積水化学社製）：５部、シリコーンボール（商品名：トスパール１２０、東芝シリコーン社製）：３部、レベリング剤としてシリコーンオイル（商品名：ＳＨ２９ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１部を添加し、サンドミルにて３時間の分散を行い、下引層形成用塗布液を得た。
さらに、この塗布液を浸漬塗布法にて直径４０ｍｍ、長さ３５７ｍｍ、肉厚２ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１８０℃、３０分の乾燥硬化を行い、厚さ２５μｍの下引層を得た。
【０１５１】
・電荷発生層の形成
次に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料、結着樹脂としての塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）、およびｎ−酢酸ブチルからなる混合物を、容量１００ｍＬガラス瓶中に、１．０ｍｍφガラスビーズ（充填率５０％）と共に入れてペイントシェーカーを用いて２．５時間分散処理し、電荷発生層形成用塗布液を得た。
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂の混合物に対して、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の含有率を４７．０体積％とし、分散液の固形分は６．０％とした。尚、含有率は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の比重を１．６０６ｇ／ｃｍ３、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂の比重を１．３５ｇ／ｃｍ３として計算した。
得られた電荷発生層形成用塗布液を、上記の下引層上に浸漬塗布し、１００℃で５分間乾燥して、膜厚０．２０μｍの電荷発生層を形成した。
【０１５２】
・電荷輸送層の形成
さらに、下記式（Ａ）で表されるトリアリールアミン化合物２部、下記式（Ｂ）で表される化合物２部、およびビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４万）６部をテトラヒドロフラン６０部に加えて溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
この電荷輸送層形成用塗布液を前記の電荷発生層上に浸漬塗布し、１５０℃で３０分の乾燥を行うことにより膜厚３４μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１５３】
【化８】
2015184571.tif 000010
【０１５４】
【化９】
2015184571.tif 000011
【０１５５】
−評価−
得られた電子写真感光体を、電子写真式画像形成装置（富士ゼロックス社製：７００  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｃｏｌｏｒ  Ｐｒｅｓｓ）に搭載し、画質評価を行った。
画質評価は、Ａ３サイズの用紙に格子パターンを１０００枚連続して出力した後、２０％濃度の全面ハーフトーン画像（Ｃｙａｎ）を１枚出力し、焼付きと粒状性の評価を行った。さらにその後、全面白色画像を１枚出力し、色点の評価を行った。
画質評価後、さらに２０％濃度の全面ハーフトーン画像（Ｃｙａｎ）を１万枚連続出力した後、Ａ３サイズの用紙に格子パターンを１０００枚連続して出力し、２０％濃度の全面ハーフトーン画像（Ｃｙａｎ）を１枚出力し、焼付きと粒状性の評価を行った。さらにその後、全面白色画像を１枚出力し、色点の評価を行った。
【０１５６】
焼付きと色点の評価は目視にて行い、グレード（Ｇ）判定を行った。粒状性の評価はルーペでドットを観察し、グレード（Ｇ）判定を行った。
グレード判定はＧ０乃至Ｇ５をＧ０．５刻みで行い、Ｇの数値が小さい方が評価結果が良好であることを示す。また、焼付き、粒状性および色点の許容Ｇ範囲はＧ３．５以下である。結果を表１に示す。
【０１５７】
〔実施例２〜１９、比較例１〜１０〕
実施例１において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の含有率と電荷輸送層の膜厚を、表１に示す値とした以外は、実施例１と同様に電子写真感光体を作製し評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５８】
【表１】
2015184571.tif 000012
【符号の説明】
【０１５９】
１  導電性基体、２  感光層、２Ａ  電荷発生層、２Ｂ  電荷輸送層、４  下引層、７  電子写真感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑材、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置
【図２】
2015184571.tif 000015
【図１】
2015184571.tif 000016
【図３】
2015184571.tif 000017