(57)【要約】【課題】ＥＬ素子用基板において、発光構造体からの光取り出し効率を向上することができるようにする。【解決手段】対向電極２と透明電極４とに挟まれた発光層３とを有する発光構造体５を配置して、ＥＬ素子１１を形成するＥＬ素子用基板８であって、透光性基板７と、透光性基板７の表面に形成され発光構造体５の透明電極４を配置する光散乱層６と、を備え、光散乱層６は、屈折率調整用粒子６ｂとバインダー６ａとが配合されることにより、屈折率が透光性基板７の屈折率よりも高い一定値に調整された母材部６Ｂと、母材部６Ｂの屈折率とは異なる屈折率を有する透明材料で形成され、母材部６Ｂの内部に分散された散乱粒子６Ａと、を有し、バインダー６ａに対する屈折率調整用粒子６ｂの重量比が、バインダー６ａに対する散乱粒子６Ａの重量比の２倍以上９倍以下である構成とする。【選択図】図１
2015176734.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方が透明電極からなる電極対と該電極対に挟まれた発光層とを有する発光構造体を配置して、ＥＬ素子を形成するＥＬ素子用基板であって、
透光性基板と、
該透光性基板の一方の表面に形成され、前記発光構造体の前記透明電極を配置する光散乱層と、
を備え、
前記光散乱層は、
光透過性を有する屈折率調整用粒子と光透過性を有するバインダーとが配合されることにより、屈折率が前記透光性基板の屈折率よりも高い一定値に調整された母材部と、
該母材部の屈折率とは異なる屈折率を有する透明材料で形成され、前記母材部の内部に分散された散乱粒子と、
を有し、
前記バインダーに対する前記屈折率調整用粒子の重量比ＷＨと、前記バインダーに対する前記散乱粒子の重量比ＷＡとが、下記式（１）を満足する、ＥＬ素子用基板。
２≦ＷＨ／ＷＡ≦９                                              ・・・（１）
【請求項２】
前記散乱粒子の屈折率をｎＡ、前記母材部の屈折率をｎＢＨとするとき、下記式（２）を満足する
ことを特徴とする請求項１に記載のＥＬ素子用基板。
０．０５≦｜ｎＢＨ−ｎＡ｜≦０．５                              ・・・（２）
【請求項３】
前記屈折率調整用粒子は、
粒径が１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲に分布する多分散粒子であり、
前記散乱粒子は、
その平均粒径をＲＡ、前記光散乱層の膜厚をＨとするとき、下記式（３）を満足する単分散粒子である
ことを特徴とする請求項１または２に記載のＥＬ素子用基板。
１．５≦Ｈ／ＲＡ≦２０                                            ・・・（３）
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のＥＬ素子用基板と、
少なくとも一方が透明電極からなる電極対と該電極対に挟まれた発光層とを有する発光構造体と
を備え、
前記ＥＬ素子用基板の前記透光性基板は、前記透明電極の屈折率よりも低い屈折率を有し、
前記発光構造体の前記透明電極は、前記ＥＬ素子用基板の前記光散乱層を挟んで、前記透光性基板と対向する位置に配置された、ＥＬ素子。
【請求項５】
前記発光構造体は、
独立に駆動可能な複数の画素を形成している
ことを特徴とする請求項４に記載のＥＬ素子。
【請求項６】
請求項４または５に記載のＥＬ素子を照明光源として備える、照明装置。
【請求項７】
請求項４または５に記載のＥＬ素子を表示部として備える、ディスプレイ装置。
【請求項８】
液晶を用いた画像表示素子と、
該画像表示素子の背面に照明光源として配置された、請求項４または５に記載のＥＬ素子と
を備える、液晶ディスプレイ装置。
【請求項９】
液晶を用いた画像表示素子と、
該画像表示素子の背面に配置された、請求項６に記載の照明装置と
を備える、液晶ディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＥＬ素子用基板、ＥＬ素子、照明装置、ディスプレイ装置、および液晶ディスプレイ装置に関する。なお「ＥＬ」は「エレクトロルミネッセンス」を表す。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、照明装置、ディスプレイ装置、および液晶ディスプレイ装置等の光源や表示部として、ＥＬ素子が用いられている。
ＥＬ素子は、例えば、蛍光有機化合物を含む発光層を陽極と陰極とで挟んだ発光構造体を、透光性基板の片面上に設けて構成される。
このような発光構造体は、陽極と陰極の間に直流電圧を印加し、発光層に電子及び正孔を注入して再結合させることにより、励起子を生成し、この励起子が失活する際の光の放出を利用して発光する。このため、発光構造体の電極は、少なくとも光取り出し側の電極が透明電極で構成される。一般には、透光性基板上に設けられた陽極が透明電極で形成され、発光層からの光は、この透明電極と透光性基板とを通して外部に出射される。
このようなＥＬ素子においては、発光層から放出された光が透光性基板から出射される際に、一部の光が透光性基板と透明電極との界面で全反射することにより、外部に出射されず、光量損失が生じるという問題があった。このような光量損失が発生するＥＬ素子における光の外部取り出し効率は、一般に２０％程度と言われている。
このようなＥＬ素子を高輝度で発光させると、高駆動電流を要するため、ＥＬ素子に対する負荷が増大する結果、ＥＬ素子自体が劣化してしまうおそれがあった。
このため、電極、ＥＬ層、高屈折率層、および透光体がこの順に配置されてなるＥＬ素子において、高屈折率層および透光体のそれぞれの光取り出し面側に、光散乱機能を有する層を設けることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
特許文献１には、高屈折率層の光取り出し面側の光散乱機能を有する層として、透明樹脂マトリックスに屈折率差を有する透明粒子を分散させた構成が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２８６６１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記のような従来技術には、以下のような問題があった。
発光構造体に用いられる透明電極の屈折率は、一般的な透明樹脂やガラスなどの屈折率に比べて高い。このため、透明電極と隣接する光散乱機能を有する層（以下、光散乱層という）の透明樹脂マトリックスは、透明電極との界面での全反射を抑制するために、透明電極の屈折率に近い高屈折率材料を用いる必要がある。しかし、透明粒子を分散できるような樹脂材料の屈折率は高い物でも透明電極ほどではないため、全反射を低減しにくいという問題がある。
また、光取り出し効率を高めるには、光散乱層における透明粒子の大きさや分布密度を適切に設定する必要がある。しかし散乱に用いる透明粒子は、透明樹脂マトリックスの内部で凝集を起こしやすく、凝集が起こると光散乱性能や透過率に悪影響を与えるため、配合量に制限がある。
このため、光散乱層を用いて、光取り出し効率をより向上させる技術が強く望まれていた。
【０００５】
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、発光構造体からの光取り出し効率を向上することができるＥＬ素子用基板およびＥＬ素子を提供することを目的とする。
また、本発明は、このようなＥＬ素子を備えることにより、電力消費を低減することができる照明装置、ディスプレイ装置、および液晶ディスプレイ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明の第１の態様のＥＬ素子用基板は、少なくとも一方が透明電極からなる電極対と該電極対に挟まれた発光層とを有する発光構造体を配置して、ＥＬ素子を形成するＥＬ素子用基板であって、透光性基板と、該透光性基板の一方の表面に形成され、前記発光構造体の前記透明電極を配置する光散乱層と、を備え、前記光散乱層は、光透過性を有する屈折率調整用粒子と光透過性を有するバインダーとが配合されることにより、屈折率が前記透光性基板の屈折率よりも高い一定値に調整された母材部と、該母材部の屈折率とは異なる屈折率を有する透明材料で形成され、前記母材部の内部に分散された散乱粒子と、を有し、前記バインダーに対する前記屈折率調整用粒子の重量比ＷＨと、前記バインダーに対する前記散乱粒子の重量比ＷＡとが、下記式（１）を満足する構成とする。
２≦ＷＨ／ＷＡ≦９                                              ・・・（１）
【０００７】
上記ＥＬ素子用基板では、前記散乱粒子の屈折率をｎＡ、前記母材部の屈折率をｎＢＨとするとき、下記式（２）を満足することが好ましい。
０．０５≦｜ｎＢＨ−ｎＡ｜≦０．５                              ・・・（２）
【０００８】
上記ＥＬ素子用基板では、前記屈折率調整用粒子は、粒径が１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲に分布する多分散粒子であり、前記散乱粒子は、その平均粒径をＲＡ、前記光散乱層の膜厚をＨとするとき、下記式（３）を満足する単分散粒子であることが好ましい。
１．５≦Ｈ／ＲＡ≦２０                                          ・・・（３）
【０００９】
本発明の第２の態様のＥＬ素子は、上記ＥＬ素子用基板と、少なくとも一方が透明電極からなる電極対と該電極対に挟まれた発光層とを有する発光構造体とを備え、前記ＥＬ素子用基板の前記透光性基板は、前記透明電極の屈折率よりも低い屈折率を有し、前記発光構造体の前記透明電極は、前記ＥＬ素子用基板の前記光散乱層を挟んで、前記透光性基板と対向する位置に配置された構成とする。
【００１０】
上記ＥＬ素子では、前記発光構造体は、独立に駆動可能な複数の画素を形成していることが好ましい。
【００１１】
本発明の第３の態様の照明装置は、上記ＥＬ素子を照明光源として備える構成とする。
【００１２】
本発明の第４の態様のディスプレイ装置は、上記ＥＬ素子を表示部として備える構成とする。
【００１３】
本発明の第５の態様の液晶ディスプレイ装置は、液晶を用いた画像表示素子と、該画像表示素子の背面に照明光源として配置された、上記ＥＬ素子とを備える構成とする。
【００１４】
本発明の第６の態様の液晶ディスプレイ装置は、液晶を用いた画像表示素子と、該画像表示素子の背面に配置された、上記照明装置とを備える構成とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のＥＬ素子用基板およびＥＬ素子によれば、光散乱層が、屈折率調整用粒子とバインダーとが配合された透光性基板よりも高い屈折率に調整された母材部と散乱粒子とを有し、バインダーに対する屈折率調整用粒子の重量比ＷＨを、散乱粒子の重量比ＷＡの２倍以上９倍以下にするため、ＥＬ素子の発光構造体入射する光の光取り出し効率を向上することができるという効果を奏する。
また、本発明の照明装置、ディスプレイ装置、および液晶ディスプレイ装置によれば、本発明のＥＬ素子を備えることにより電力消費を低減することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態の液晶ディスプレイ装置の構成を示す模式的な断面図、およびそのＡ部の模式的な拡大図である。
【図２】本発明の実施形態の第１変形例の液晶ディスプレイ装置の構成を示す模式的な断面図である。
【図３】本発明の実施形態の第２変形例のＥＬ素子の構成を示す模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下では、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。
まず、本発明の実施形態のＥＬ素子用基板、ＥＬ素子、照明装置、および液晶ディスプレイ装置について説明する。
図１（ａ）は、本発明の実施形態の液晶ディスプレイ装置の構成を示す模式的な断面図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）におけるＡ部の模式的な拡大図である。
なお、各図は模式図のため、形状や寸法は誇張されている（以下の図面も同様）。
【００１８】
図１（ａ）に示すように、本実施形態の液晶ディスプレイ装置５０は、液晶パネル１３（液晶を用いた画像表示素子）と、本実施形態の照明装置１２と、を備える。
【００１９】
液晶パネル１３は、図示略の信号源から入力される画像信号に基づいて、画素に対応する液晶シャッターの駆動を行って、透過光を制御することにより画像表示を行う画像表示素子である。
【００２０】
照明装置１２は、液晶パネル１３の背面に配置され、液晶パネル１３を照射する照明光を供給するバックライトを構成する装置部分であり、本実施形態では、独立に発光可能な複数の画素を有している。これらの画素は、図示略の駆動部に送出された画像信号等の制御信号に基づいて画素駆動され、駆動された画素が発光する。
このような画素駆動により、照明装置１２では、例えば、制御信号に基づいて照明範囲を変化させたり、照明光の色を変えたりすることができる。
【００２１】
照明装置１２の主要部の構成は、ＥＬ素子１１およびガラス基板１０を備え、これらがこの順に積層されている。
ＥＬ素子１１は、照明装置１２において照明光源を構成する装置部分であり、ガラス基板１０と反対側から、対向基板１、発光構造体５、およびＥＬ素子用基板８がこの順に積層された構成を有する。
【００２２】
対向基板１は、後述するＥＬ素子用基板８に対向して配置され、後述する発光構造体５をＥＬ素子用基板８との間に挟持する板状またはシート状の部材である。
対向基板１の材質は、適度な機械的強度を有して発光構造体５を支持することができ、例えば、水分や外気などから発光構造体５を保護することができるものであれば、特に限定されない。
対向基板１に好適に用いることができる材料の例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等のフィルムを挙げることができる。
これらの材料は、それぞれ適度な機械的強度、屈折率を有している点で好適である。
また、対向基板１は、厚さ方向のいずれかの表面に、発光構造体５で発生した光をＥＬ素子用基板８に向けて反射する光反射層を備えることが好ましい。
また、対向基板１は、光反射性を有する金属材料で形成することも可能であり、この場合には、対向基板１自体が光反射層を構成している。
【００２３】
発光構造体５は、対向基板１上に配置された対向電極２と、対向基板１に対向するＥＬ素子用基板８の表面に配置された透明電極４と、対向電極２および透明電極４の間に挟持された発光層３とで構成される。
発光構造体５は、電極対を構成する透明電極４と対向電極２とに電圧を印加することにより発光層３がＥＬ発光するものであり、従来公知のさまざまな構成を採用することができる。
【００２４】
対向電極２および透明電極４の極性は特に限定されないが、本実施形態では、発光層３で発生した光をＥＬ素子用基板８側に出射するため、少なくとも透明電極４は良好な透光性を有する電極とする必要がある。
透明電極４に好適な材料の例としては、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ、屈折率１．７〜２．３）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛、屈折率１．９〜２．４）などの例を挙げることができる。透明電極４の材料としてＩＴＯを用いる場合には、透明電極４は陽極とすることが好ましい。
なお、本明細書において、屈折率、透過率等の測定波長に依存する物理量の数値例を挙げる場合、特に断らない限り、波長５５０ｎｍに対する物理量を表すものとする。
【００２５】
対向電極２の材料としては、対向電極２では透光性の有無や程度が問われないため、導電性が良好な適宜の金属材料、例えば、アルミニウム、銀、銅などを採用することができる。
ＥＬ素子用基板８側に向かう光を増大させるためには、対向電極２の材料は、反射率が高い材料を用いることが好ましい。ただし、対向基板１が良好な光反射性を有する場合や、対向基板１に光反射層を設けられている場合には、対向電極２の材料として、透明電極４と同様な材料を採用することも可能である。
【００２６】
発光層３は、例えば、白色発光層とすることができる。この場合には、透明電極４をＩＴＯ、対向電極２をアルミニウムとし、透明電極４側から対向電極２に向かって、ＣｕＰｃ（銅フタロシアニン）／α−ＮＰＤにルブレン１％ドープ／ジナクチルアントラセンにペリレン１％ドープ／Ａｌｑ3／フッ化リチウムが、この順に積層された構成を採用することができる。
ただし、発光層３の構成は、これに限定されるものではなく、発光層３から射出する光線の波長をＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）とすることのできる適宜材料を用いた任意の構成を採用することが可能である。
【００２７】
また、本実施形態では、照明装置１２は画素駆動されるため、発光構造体５は、各画素に対応して形成され、各画素の透明電極４、対向電極２が図示略の駆動部に配線されている。すなわち、図１（ａ）では、１画素の構成のみが記載されているが、対向基板１とＥＬ素子用基板８との間には、図示の発光構造体５に隣り合って、他の画素を構成する複数の発光構造体５が配置されている。
これら複数の発光構造体５の配置パターンは、特に限定されないが、例えば、平面視矩形格子状などの配置パターンが可能である。
【００２８】
ＥＬ素子用基板８は、発光構造体５を対向基板１と反対側から覆うことにより、発光構造体５を保護するとともに、発光層３で発生して透明電極４を透過した光を、外部に取り出すための透光性の板状部材である。
本実施形態では、ＥＬ素子用基板８は、透明電極４の屈折率ｎＥよりも低い屈折率ｎＴを有する透光性基板７と、透光性基板７上に積層して形成され、発光層３と反対側の透明電極４の表面に密着して配置された光散乱層６とを備える。
【００２９】
光散乱層６は、透明電極４との界面における全反射と、透光性基板７との界面における全反射とを起こりにくくすることにより、発光構造体５で発生した光に関して、透明電極４から透光性基板７への光透過率を向上するために設けられた光透過性の層状部である。
光散乱層６は、図１（ｂ）に模式的に示すように、母材部６Ｂと、散乱粒子６Ａとを備える。
【００３０】
母材部６Ｂは、光透過性を有する屈折率調整用粒子６ｂとバインダー６ａとが配合されることにより、屈折率が一定値ｎＢＨに調整された部分である。
屈折率ｎＢＨの大きさは、発光構造体５で発生した光が、透明電極４との界面および透光性基板７との界面の少なくとも一方において、全反射しにくくなる（全反射しない場合も含む）適宜値に設定する。
ただし、屈折率ｎＢＨは、透光性基板７の屈折率ｎＴ以下であると、透光性基板７の界面では、全反射は発生しないが、透明電極４との界面においては、光散乱層６を有しない場合よりも全反射が起こりやすくなってしまう。
このため、屈折率ｎＢＨは、少なくとも透光性基板７の屈折率よりも高い屈折率に設定する必要がある。
【００３１】
例えば、屈折率ｎＢＨを、透明電極４の屈折率ｎＥと、透光性基板７の屈折率ｎＴとの中間の大きさに設定することが可能である。
具体的には、例えば、透光性基板７の屈折率ｎＴが、１．６０であって、透明電極４が、ｎＥ＝１．９０のＩＴＯの場合、ｎＢＨは、１．６０より大きく１．９０未満が好ましく、１．７０以上１．９０未満がより好ましい。
ただし、本実施形態では、透光性基板７との界面における全反射は、後述する散乱粒子６Ａの作用により散乱粒子６Ａを有しない場合に比べて低減されている。このため、屈折率ｎＢＨは、透明電極４の屈折率ｎＥに近くなるように、屈折率差（ｎＥ−ｎＢＨ）が小さいことがより好ましい。例えば、屈折率差（ｎＥ−ｎＢＨ）は、０より大きく、０．１５以下の範囲とすることがより好ましい。
【００３２】
バインダー６ａおよび屈折率調整用粒子６ｂの材質は、屈折率ｎＢＨの層状部が形成できれば、特に限定されない。ただし、母材部６Ｂを低コストとするには、バインダー６ａとして低屈折率材料を採用し、より高屈折率の材料からなる屈折率調整用粒子６ｂの配合量を調整して、屈折率ｎＢＨを調整することが好ましい。
【００３３】
バインダー６ａに好適な材料の例としては、電離放射線硬化樹脂、熱硬化樹脂のどちらでもよく、樹脂材料の種類としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル／スチレン系の共重合樹脂などを挙げることができる。
硬化させる際に、電離放射線として紫外線を用いる場合、ハードコート層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。
光重合開始剤は、公知の光重合開始剤を用いることができるが、バインダー６ａを形成する材料（以下、バインダーマトリックス形成材料）にあったものを用いることが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類等を用いることができる。
光重合開始剤の使用量は、バインダーマトリックス形成材料に対して０．５重量部以上２０重量部以下が好ましく、１重量部以上５重量部以下がより好ましい。
【００３４】
屈折率調整用粒子６ｂに好適な材料の例としては、例えば、酸化ジルコニア（屈折率２．４）、酸化チタン（屈折率２．５２、２．７１）、酸化亜鉛（屈折率１．９５）等の金属酸化物を挙げることができる。
中でも、酸化ジルコニア、酸化チタンは、屈折率の高さ、化学的安定性、可視光域における光の吸収の少なさ、粒径の点で、屈折率調整用粒子６ｂの材料として特に好ましい。
屈折率調整用粒子６ｂは、これらの粒子のうちの１種を用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００３５】
散乱粒子６Ａは、母材部６Ｂに入射する光を散乱する部材であり、母材部６Ｂの屈折率ｎＢＨとは異なる屈折率ｎＡを有する透明材料で形成され、母材部６Ｂの内部に分散されている。
散乱粒子６Ａとして好適な材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化チタン等の無機系粒子や、シリコーン、メラミン、アクリル・スチレン共重合粒子等の有機系粒子の例を挙げることができる。
母材部６Ｂ中に分散される散乱粒子６Ａは、１種類の材料の粒子を用いてもよいし、２種類以上の材料の粒子を混合して用いてもよい。
【００３６】
光散乱層６の組成は、バインダー６ａに対する屈折率調整用粒子６ｂの重量比ＷＨと、バインダー６ａーに対する散乱粒子６Ａの重量比ＷＡとが、下記式（１）を満足する組成とする。
【００３７】
２≦ＷＨ／ＷＡ≦９                                              ・・・（１）
【００３８】
ＷＨ／ＷＡが２未満の場合、散乱粒子６Ａに対する屈折率調整用粒子６ｂの含有量が少なすぎる。このため、母材部６Ｂの屈折率を高めるために、屈折率調整用粒子６ｂを増やすと、散乱粒子６Ａの量が多くなりすぎ、散乱粒子６Ａの間隔が狭くなる。この結果、散乱粒子６Ａにより透明電極４側に反射される光成分が増大して、光散乱層６における透過率が低下してしまう。
これに対して、光散乱層６の透過率が低くなりすぎないように、十分な間隔をおいて散乱粒子６Ａが分散されるような含有量を設定する場合、母材部６Ｂ内の屈折率調整用粒子６ｂの含有量が少なくなりすぎるため、母材部６Ｂとして好適な屈折率ｎＢＨが得られなくなる。この結果、母材部６Ｂの屈折率ｎＢＨと透明電極４の屈折率との差が大きくなりすぎて、透明電極４との界面での全反射を低減することができなくなる。
ＷＨ／ＷＡが９を超える場合、散乱粒子６Ａに対する屈折率調整用粒子６ｂの含有量が過大となり、散乱粒子６Ａ同士の凝集が強くなる。このため、散乱粒子６Ａが凝集して塊状の状態で、母材部６Ｂ中に分散することになる。このように凝集して塊状になった散乱粒子６Ａは、断面積が多くなることにより、透明電極４側に反射される光成分が増大する結果、光散乱層６の透過率が低下してしまう。
また、この場合、ＷＨ／ＷＡが大きくなればなるほど、散乱粒子６Ａの絶対数が少なくなったり、上記のように散乱粒子６Ａの凝集により塊状の散乱粒子６Ａ間の距離が開いたりする。すると、光散乱層６への入射光は、散乱されずに透光性基板７との界面に到達するものが増えるため、透光性基板７との界面における全反射を低減しにくくなる。
なお、ＷＨ／ＷＡは、式（１）の範囲より狭い範囲にあることがより好ましい。例えば、ＷＨ／ＷＡのより好ましい範囲は、４以上７以下である。
【００３９】
また、光散乱層６において、散乱粒子６Ａの屈折率ｎＡと母材部６Ｂの屈折率ｎＢＨは、下記式（２）を満足することが好ましい。
【００４０】
０．０５≦｜ｎＢＨ−ｎＡ｜≦０．５                                  ・・・（２）
【００４１】
｜ｎＢＨ−ｎＡ｜が０．０５未満の場合、母材部６Ｂと散乱粒子６Ａとの屈折率が近すぎるため、散乱粒子６Ａの散乱性能が弱くなる。このため、透光性基板７との界面での全反射をあまり低減できなくなるため、ＥＬ素子１１からの光取り出し効率が低下しやすくなる。
｜ｎＢＨ−ｎＡ｜が０．５を超える場合、散乱粒子６Ａによる散乱が強くなり、光散乱層６としての透過率が低下しやすくなる。
【００４２】
また、光散乱層６において、屈折率調整用粒子６ｂは、粒径ＲＨが１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲に分布する多分散粒子であり、かつ、散乱粒子６Ａは、光散乱層６の膜厚をＨとするとき、平均粒径ＲＡが下記式（２）を満足する単分散粒子であることが好ましい。
ここで、「単分散粒子」とは、粒径分布が、ある一定サイズに揃っていて粒径分布が狭いである粒子群を言う。典型的には、粒子の粒子径が平均粒径ＲＡ±１μｍの粒径範囲内にあるものである。
【００４３】
１．５≦Ｈ／ＲＡ≦２０                                            ・・・（３）
【００４４】
Ｈ／ＲＡが１．５未満の場合、光散乱層６の膜厚の割に、散乱粒子６Ａが大きいため、散乱性が強くなる。このため、光散乱層６としての透過率が低下しやすくなる。
Ｈ／ＲＡが２０を超える場合、光散乱層６の膜厚の割に、散乱粒子６Ａが小さいため、散乱性が弱くなる。このため、ＥＬ素子１１としての光取り出し効率が低下しやすくなる。
【００４５】
また、光散乱層６は、透明電極４との界面をなす側に、散乱粒子６Ａの突出を防止し、界面を平坦化するオーバーコート層を設けてもよい。
透明電極４との界面において、散乱粒子６Ａが露出し凹凸が生じてしまうと、例えば、光散乱層６上に、透明電極４を形成する場合に、透明電極４の表面が光散乱層６の表面の凹凸に追随した形状で形成されたり、透明電極４の膜厚が不均一になったりするおそれがある。この場合、透明電極４の電気特性に問題が生じたり、ショートが発生したりするおそれがある。
オーバーコート層を設けておくと、このような不具合を確実に防止することができるため、好ましい。
オーバーコート層を形成する材料は、屈折率が透明電極４および光散乱層６のそれぞれの屈折率に近い樹脂材料を採用することができる。特に好ましい材料は、光散乱層６の母材部６Ｂと同じ材料である。
【００４６】
図１（ａ）に示すように、透光性基板７は、発光構造体５の方から光散乱層６を透過した光を、ガラス基板１０に向けて透過する板状またはシート状の部材である。
透光性基板７の材質は、透過率が良好な適宜の透光性材料を採用することができる。
透光性基板７の透過率としては、８５％以上であることが好ましい。
透光性基板７に好適に用いることができる材料の例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等のフィルムを挙げることができる。
これらの材料は、それぞれ適度な透明性、機械的強度、屈折率を有している点で好適である。
【００４７】
ガラス基板１０は、照明装置１２としての光出射側の表面を形成する透光性部材である。
ガラス基板１０は、光散乱層６と反対側の透光性基板７の表面に、透明の接着剤や粘着剤などからなる貼合層９を介して、貼り合わせられている。
貼合層９の材質としては、例えば、アクリル系の接着剤や粘着剤などを採用することができる。
【００４８】
このような照明装置１２を製造するには、例えば、光散乱層６を形成するため、未硬化のバインダー６ａに、屈折率調整用粒子６ｂおよび散乱粒子６Ａを分散させた塗液を調製して、透光性基板７の表面に塗布する。
次に、バインダー６ａの硬化タイプに応じて、例えば、電離放射線の照射や加熱を行って硬化させ、透光性基板７の表面に光散乱層６を形成する。これにより、ＥＬ素子用基板８が得られる。
次に、ＥＬ素子用基板８の光散乱層６上に、透明電極４を形成し、順次、発光層３、対向電極２を形成して、複数の発光構造体５を形成する。
その後、ＥＬ素子用基板８との間に、発光構造体５を挟んだ状態で対向基板１を配置して、例えば、ラミネートなどして、対向基板１上に密着させる。これにより、ＥＬ素子１１が形成される。
次に、ＥＬ素子１１の透光性基板７上に、貼合層９を介して、ガラス基板１０を貼り合わせる。これにより、照明装置１２が形成される。
液晶ディスプレイ装置５０は、このような照明装置１２のガラス基板１０を液晶パネル１３に向けて、液晶パネル１３の背面に配置することにより、製造することができる。
【００４９】
次に、液晶ディスプレイ装置５０および照明装置１２の動作および作用について、ＥＬ素子１１の動作および作用を中心として説明する。
図示略の駆動部から透明電極４および対向電極２の間に直流電圧が印加されると、本実施形態では、透明電極４からは正孔が、対向電極２からは電子が、それぞれ注入される。注入された電子および正孔は再結合して励起子を生成し、この励起子の失活する際に光が放出される。
発光層３において発生した光は、透明電極４に向かう光は、透明電極４に入射し、対向電極２に向かう光は、対向電極２もしくは対向基板１で反射された後に、透明電極４に入射する。
【００５０】
透明電極４に入射した光は、入射角に応じて光散乱層６側に透過する。
光散乱層６は、屈折率調整用粒子６ｂによって屈折率ｎＢＨに調整された母材部６Ｂ中に散乱粒子６Ａが分散している。
本実施形態では、母材部６Ｂの屈折率ｎＢＨが、透光性基板７の屈折率ｎＴよりも高いため、透光性基板７が透明電極４に直接積層されている場合に比べて、より多くの光が、光散乱層６に入射し、ＥＬ素子用基板８と透明電極４との界面での全反射が低減される。
【００５１】
光散乱層６に入射した光は、散乱粒子６Ａに到達すると、散乱粒子６Ａと母材部６Ｂとの屈折率差に応じて屈折して、散乱粒子６Ａを透過するか、または散乱粒子６Ａ内で内部反射を繰り返した後に散乱粒子６Ａから出射される。
これにより、散乱粒子６Ａに入射する光は、入射方向の周りに散乱される。
本実施形態では、ＷＨ／ＷＡが上記式（１）を満足するため、屈折率ｎＢＨが良好に調整された状態では、散乱粒子６Ａが凝集を起こすことなく、母材部６Ｂ中で、透明電極４の電極面に沿う方向に適宜離間して分散している。
このため、光散乱層６に入射後、透光性基板７との界面に臨界角未満の入射角となる方向に進む光は、散乱粒子６Ａの間を通過する確率が高くなり、透光性基板７の界面で全反射を起こすことなく透光性基板７に入射する。また、散乱粒子６Ａに入射した光も、散乱粒子６Ａが凝集を起こしていないため、散乱における断面積が小さく、透明電極４側に反射される成分よりも、透光性基板７側に散乱される成分が多くなる。
一方、光散乱層６に入射後、透光性基板７との界面に臨界角を超える入射角となる方向に進む光は、光散乱層６内の行程が長くなるため、より小さな入射角で入射する光に比べて、散乱粒子６Ａに入射する確率が増大する。散乱粒子６Ａに入射した光は、散乱粒子６Ａによって散乱されるため、透光性基板７との界面に対して、より小さな入射角で入射する光成分が格段に増大する。
【００５２】
このようにして、上記式（１）を満足する光散乱層６によれば、ＥＬ素子用基板８が透光性基板７のみからなる場合に比べて、透明電極４から透光性基板７に入射する光量を増大する。透光性基板７に入射した光は、ＥＬ素子１１の外部に出射される。
このため、ＥＬ素子１１によれば、光散乱層６を有するＥＬ素子用基板８を備えるため、発光構造体５から入射する光の光取り出し効率を向上することができる。
本実施形態の照明装置１２は、このような光取り出し効率が高いＥＬ素子１１を備えるため、照明光を形成する際の電力消費を低減することができる。
【００５３】
本実施形態のＥＬ素子１１は、さらに、上記式（２）、または上記式（３）を満足することによって、より良好な光取り出し効率が得られる。
【００５４】
［第１変形例］
次に、上記実施形態の第１変形例の液晶ディスプレイ装置について説明する。
図２は、本発明の本発明の実施形態の第１変形例の液晶ディスプレイ装置の構成を示す模式的な断面図である。
【００５５】
図２に示すように、本変形例の液晶ディスプレイ装置５１は、上記実施形態の液晶ディスプレイ装置５０において、照明装置１２に代えて、上記実施形態と同様のＥＬ素子１１を備える。
すなわち、液晶ディスプレイ装置５１は、上記実施形態の液晶ディスプレイ装置５０において、貼合層９およびガラス基板１０を削除した構成になっている。
本変形例のＥＬ素子１１は、液晶パネル１３の背面に配置され、液晶パネル１３を照射する照明光を供給するバックライトを構成している。このため、本変形例は、ＥＬ素子１１自体を照明装置として用いた場合の例になっている。
【００５６】
液晶ディスプレイ装置５１は、上記実施形態と同様に照明光源として、ＥＬ素子１１を備えるため、上記実施形態と同様の効果を奏する。
【００５７】
［第２変形例］
次に、上記実施形態の第２変形例のＥＬ素子およびディスプレイ装置について説明する。
図３は、本発明の実施形態の第２変形例のＥＬ素子の構成を示す模式的な断面図である。
【００５８】
図３に示すように、本変形例のＥＬ素子２１は、上記実施形態と同様な対向基板１、発光構造体５、およびＥＬ素子用基板８がこの順に積層され、さらに透光性基板７に貼合層９を介してバリアフィルム２０が積層されたものである。すなわち、ＥＬ素子２１は、上記実施形態の照明装置１２のガラス基板１０に代えて、バリアフィルム２０を備えたのと同様な構成を有している。
本変形例のＥＬ素子２１は、バックライトなどの照明装置として用いることも可能であり、例えば、上記実施形態の液晶ディスプレイ装置５０において、照明装置１２に代えて用いることができる。
また、ＥＬ素子２１は、ＥＬ素子１１と同様に画素駆動可能になっているため、ＥＬ素子２１自体を表示部とするディスプレイ装置として用いることができる。
以下、上記実施形態と異なる点を中心に説明する。
【００５９】
バリアフィルム２０は、対向基板１と反対側のＥＬ素子２１の表面を構成し、水分や外気などから発光構造体５を保護するシート状部材であり、適度な機械的強度、可撓性、および透光性を備える。
バリアフィルム２０の透過率は、８５％以上であることが好ましく、バリアフィルム２０の屈折率は、光散乱層６の屈折率に近くなっていることが好ましい。
バリアフィルム２０として、例えば、ＰＥＴ等の基材に酸化ケイ素、アルミナなどを蒸着、スパッタ等により製膜したものを挙げることができる。
【００６０】
このような構成のＥＬ素子２１によれば、ＥＬ素子用基板８を備えるため、上記実施形態のＥＬ素子１１と同様に、光取り出し効率を向上することができる。
また、ＥＬ素子２１は、対向基板１、透光性基板７を、バリアフィルム２０と同様に可能性を有する材料で構成することにより、ＥＬ素子２１全体として、可撓性を備えることができる。このようなＥＬ素子２１によれば、湾曲した表示面や、照明面を形成することができる。
【００６１】
なお、上記実施形態の説明では、照明装置１２の光出射側の表面が平板上のガラス基板１０で構成される場合の例で説明したが、ガラス基板１０は、平板ガラスに限定されず、例えば、集光や光拡散を行うための、適宜のレンズ、拡散層などが形成された光学シートに代えたり、このような光学シートをガラス基板１０に積層したりして用いることができる。
【００６２】
また、上記に説明したすべての構成要素は、本発明の技術的思想の範囲で適宜組み合わせを代えたり、削除したりして実施することができる。
例えば、上記実施形態のＥＬ素子１１は、第２変形例のＥＬ素子２１と同様に、ＥＬ素子１１自体を表示部とするディスプレイ装置として用いることができる。
また、上記実施形態の照明装置１２も、ＥＬ素子１１を画素駆動することにより、画像等を表示するディスプレイ装置として用いることができる。
【実施例】
【００６３】
以下では、上記実施形態のＥＬ素子１１に対応する実施例１〜６について、比較例１〜３とともに説明する。
実施例１〜６、比較例１〜３は、いずれも、対向基板１、発光構造体５、および透光性基板７の構成は同一であり、光散乱層６および光散乱層６に相当する層状部（以下、これらを単に光散乱層という場合がある）の構成のみが異なる。
下記［表１］に、実施例１〜６、比較例１〜３の光散乱層の製作条件を示す。
【００６４】
【表１】
2015176734.tif 000003
【００６５】
［実施例１］
実施例１のＥＬ素子１１は、以下のようにして製作した。
透光性基板７として、厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムであるＡ４３００（商品名；東洋紡績株式会社製）を用いた。Ａ４３００の透過率は、９２．３％、屈折率ｎＴは、１．６０である。
光散乱層６の母材部６Ｂを形成するバインダーマトリックス形成材料として、硬化時にバインダー６ａとなる屈折率１．５２のアクリル系のＵＶ硬化型樹脂（共栄社化学株式会社製）と、光重合開始剤（ＢＡＳＦ製）と、屈折率調整用粒子６ｂとして高屈折率微粒子であるジルコニア分散体（株式会社ソーラー製）と、散乱粒子６Ａとしてアクリル／スチレン共重合体（綜研化学株式会社製）とを用意した。
これらを適宜配合して、塗液＃１を形成した。塗液＃１における諸元は、［表１］に示す通りである。
すなわち、屈折率調整用粒子６ｂ、散乱粒子６Ａは、それぞれバインダー６ａに対する重量比が、ＷＨ＝１８０、ＷＡ＝３０になるように配合した。
【００６６】
散乱粒子６Ａの平均粒径ＲＡは、ＭＥＫ溶媒に散乱粒子６Ａを分散させ、ナノ粒子径分布測定装置ＳＡＬＤ−７１００（商品名；島津製作所製）を用いて測定したところ、単分散であり、ＲＡ＝２（μｍ）であった。
また、屈折率調整用粒子６ｂの粒径ＲＨは、屈折率調整用粒子６ｂの分散液を希釈して同様に測定したところ、多分散であり、ＲＨは、２８ｎｍであった。
【００６７】
散乱粒子６Ａの屈折率は、液浸法により求めたところ、ｎＡ＝１．４９であった。
液浸法は、屈折率を変えた分散液に、被測定微粒子を浸漬し、光を照射して分散液中の微粒子による散乱光が目視により見えなくなった時の屈折率を微粒子の屈折率とする測定方法である。
【００６８】
次に、塗液＃１を、スロットダイコータで透光性基板７の表面に塗工し、塗液＃１に含まれる溶剤を蒸発させた。その後、高圧水銀灯を用いて酸素濃度が０．０３％以下の雰囲気下で４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、塗液＃１を硬化させた。これにより、膜厚Ｈが７μｍの光散乱層６を形成された。このようにして実施例１のＥＬ素子用基板８を得た。
また、ＥＬ素子１１としての評価を行うため、得られたＥＬ素子用基板８の光散乱層６に透明電極４として、屈折率ｎＥ＝１．９０のＩＴＯを製膜し、さらに発光層３、対向電極２を形成して、対向基板１を貼り合わせて、実施例１のＥＬ素子１１を得た。
【００６９】
ここで、光散乱層６の膜厚Ｈは、電子マイクロメーター（ニコン製  デジマイクロＭＵ−５０１Ａ）を用いＪＩＳ−Ｋ５６００−１９９９に準じて、有効表面領域全体に一様に分布させた規定箇所の局所膜厚測定を行い、平均膜厚を求めた。なお、有効表面領域は０．１ｍ四方とし、規定箇所数は１０点とした。
【００７０】
この母材部６Ｂの屈折率ｎＢＨを測定するため、バインダー６ａに対して重量比ＷＨの配合した測定用の塗液を調製し、これを成膜して硬化させた屈折率測定用サンプルを作製した。
そして、反射分光膜厚計ＦＥ−３０００（商品名；大塚電子製）を用いて、この屈折率測定用サンプルの屈折率を測定したところ、ｎＢＨ＝１．７０であった。
【００７１】
［実施例２〜６］
実施例２〜６は、上記実施例１と、バインダー６ａ、屈折率調整用粒子６ｂの種類は共通とし、散乱粒子６Ａは屈折率、粒径のみ変更したものでそれぞれ配合量を変えて異なる塗液＃２〜＃６を調製し、必要に応じて光散乱層６の膜厚を変えて、ＥＬ素子用基板８およびＥＬ素子１１を作製したものである。
【００７２】
実施例２は、散乱粒子６ＡをｎＡ＝１．４９、ＲＡ＝０．８（μｍ）として、ＷＨ＝３５０、ＷＡ＝４０の配合で、塗液＃２を調製し、透光性基板７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝６（μｍ）の光散乱層６を形成した点が、実施例１と異なる。本実施例では、ｎＢＨ＝１．７８であった。
【００７３】
実施例３は、散乱粒子６ＡをｎＡ＝１．５２、ＲＡ＝１．０（μｍ）として、ＷＨ＝４０、ＷＡ＝２０の配合で、塗液＃３を調製し、透光性基板７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝７（μｍ）の光散乱層６を形成した点が、実施例１と異なる。本実施例では、ｎＢＨ＝１．６０であった。
【００７４】
実施例４は、散乱粒子６ＡをｎＡ＝１．４９、ＲＡ＝２．５（μｍ）として、ＷＨ＝４５、ＷＡ＝２０の配合で、塗液＃４を調製し、透光性基板７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝３（μｍ）の光散乱層６を形成した点が、実施例１と異なる。本実施例では、ｎＢＨ＝１．６０であった。
【００７５】
実施例５は、散乱粒子６ＡをｎＡ＝１．５３、ＲＡ＝０．７（μｍ）として、ＷＨ＝６０、ＷＡ＝２５の配合で、塗液＃５を調製し、透光性基板７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝１５．０（μｍ）の光散乱層６を形成した点が、実施例１と異なる。本実施例では、ｎＢＨ＝１．６２であった。
【００７６】
実施例６は、散乱粒子６ＡをｎＡ＝１．５２、ＲＡ＝２．０（μｍ）として、ＷＨ＝３５０、ＷＡ＝４０の配合で、塗液＃６を調製し、透光性基板７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝４（μｍ）の光散乱層６を形成した点が、実施例１と異なる。本実施例では、ｎＢＨ＝１．７１であった。
【００７７】
［比較例１〜４］
比較例１〜４は、上記実施例１と、バインダー６ａ、屈折率調整用粒子６ｂの種類は共通とし、散乱粒子６Ａは屈折率、粒径のみ変更したものでそれぞれ配合量を変えて異なる塗液＃７〜＃１０を調製し、光散乱層の膜厚を変えて、比較例のＥＬ素子用基板およびＥＬ素子を作製したものである。
【００７８】
比較例１は、散乱粒子６ＡをｎＡ＝１．５２、ＲＡ＝１．５（μｍ）として、ＷＨ＝３０、ＷＡ＝３０の配合で、塗液＃７を調製し、透光性基板７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝６（μｍ）の光散乱層を形成した点が、実施例１と異なる。本比較例では、ｎＢＨ＝１．５８であった。
【００７９】
比較例２は、散乱粒子６ＡをｎＡ＝１．５２、ＲＡ＝２．０（μｍ）として、ＷＨ＝３００、ＷＡ＝３０の配合で、塗液＃８を調製し、透光性基板７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝１０（μｍ）の光散乱層を形成した点が、実施例１と異なる。本比較例では、ｎＢＨ＝１．７８であった。
【００８０】
比較例３は、散乱粒子６ＡをｎＡ＝１．５４、ＲＡ＝１．０（μｍ）として、ＷＨ＝２０、ＷＡ＝２５の配合で、塗液＃９を調製し、透光性基板７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝１（μｍ）の光散乱層を形成した点が、実施例１と異なる。本比較例では、ｎＢＨ＝１．５５であった。
【００８１】
比較例４は、散乱粒子６ＡをｎＡ＝１．４９、ＲＡ＝２．５（μｍ）として、ＷＨ＝０、ＷＡ＝２５の配合で、塗液＃１０を調製し、透光性基板７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝５（μｍ）の光散乱層を形成した点が、実施例１と異なる。本比較例では、ｎＢＨ＝１．５２であった。
【００８２】
［評価］
上記実施例１〜６、比較例１〜４について、それぞれのＥＬ素子の光取り出し効率、光散乱層の透過率、光散乱層における散乱粒子の凝集状態、総合評価、上記式（１）〜（３）に関する数値を、それぞれ評価した。それらの結果を下記［表２］に示す。
【００８３】
【表２】
2015176734.tif 000004
【００８４】
光取り出し効率の評価は、各実施例、各比較例のＥＬ素子を発光させた際の全光束と、光散乱層を削除した比較用のＥＬ素子の全光束とを測定し、比較用のＥＬ素子の全光束に対する光束の増加率による相対評価を行った。
全光束の測定は、積分球を用いた全光束測定器であるＬＭＳ−４００（商品名；ｌａｂｓｐｈｅｒｅ社製）を用いて行った。
評価結果は、［表２］の「効率」欄に、光束の増加率が２０％以上の場合には「◎」（ｖｅｒｙ  ｇｏｏｄ））、５％以上２０未満の場合には「○」（ｇｏｏｄ）、５％未満の場合には「×」（ｎｏ  ｇｏｏｄ）と記載した。
【００８５】
光散乱層の透過率は、各実施例、各比較例のＥＬ素子用基板の透過率と、透光性基板７の透過率との差によって求めた。透過率の測定には、分光光度計Ｕ−４１００（商品名；株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いた。
評価結果は、［表２］の「透過率」欄に、透過率が８０％以上の場合には「○」（ｇｏｏｄ）、８０％未満の場合には「×」（ｎｏ  ｇｏｏｄ）と記載した。
【００８６】
光散乱層における散乱粒子の凝集状態の評価は、各実施例、各比較例のＥＬ素子用基板の光散乱層を光学顕微鏡ＭＸ５０Ｔ−８７７ＭＤ（商品名；オリンパス製）を用いた観察により評価した。
評価結果は、［表２］の「凝集」欄に、凝集が確認されない場合には「○」（ｇｏｏｄ）、凝集が確認された場合には「×」（ｎｏ  ｇｏｏｄ）と記載した。
【００８７】
総合評価は、主に光取り出し効率によって三段階の判定を行い、判定結果を、「◎」（ｖｅｒｙ  ｇｏｏｄ））、「○」（ｇｏｏｄ）、「×」（ｎｏ  ｇｏｏｄ）と記載した。
【００８８】
また、［表２］には、上記式（１）〜（３）に対応する諸量の計算値を示し、各実施例、各比較例が上記式（１）〜（３）を満足する場合には、「○」、満足しない場合には「×」と記載した。
［表２］によれば、実施例１〜３、６は、上記式（１）〜（３）をすべて満足している例になっている。実施例４、５は、上記式（１）、（２）を満足している例になっている。比較例１、２、４は、上記式（１）を満足しない例になっている。比較例３は、式（１）、（２）を満足しない例になっている。
【００８９】
［表２］に示すように、上記式（１）を満足する実施例１〜６は、いずれも、光取り出し効率が良好であり、総合評価は「◎」または「○」であった。
これに対して、比較例１〜４は、上記式（１）を満足しないため、光取り出し効率が悪く、総合評価は、「×」（ｎｏ  ｇｏｏｄ）であった。
ただし、実施例４、５は、上記式（３）を満足しないため、実施例１〜３、６に比べると光取り出し効率が劣る結果になった。
【符号の説明】
【００９０】
１  対向基板
２  対向電極
３  発光層
４  透明電極
５  発光構造体
６  光散乱層
６Ａ  散乱粒子
６Ｂ  母材部
６ａ  バインダー
６ｂ  屈折率調整用粒子
７  透光性基板
８  ＥＬ素子用基板
１０  ガラス基板
１１、２１  ＥＬ素子（照明装置、ディスプレイ装置）
１２  照明装置
１３  液晶パネル（液晶を用いた画像表示素子）
２０  バリアフィルム
５０、５１  液晶ディスプレイ装置
【図１】
2015176734.tif 000005
【図２】
2015176734.tif 000006
【図３】
2015176734.tif 000007