(57)【要約】【課題】ブース内のプロセス装置から発生する臭気性ガスや有害ガスがブース内からの漏れ出すことを抑制することができ、かつ、当該ブース内のクリーン度を維持することができるクリーンルーム設備を提供する。【解決手段】クリーンルーム１０と、クリーンルーム１０内に設置された第１ブース２１と、クリーンルーム１０内に設置され、かつ、クリーンルーム１０及び第１ブース２１と通気可能な第２ブース２２と、第１ブース２１には、臭気性ガス及び有害ガスの少なくとも一方が発生するプロセス装置１００が設置されており、クリーンルーム１０内の圧力をＰｃとし、第１ブース２１内の圧力をＰ１とし、第２ブース２２内の圧力をＰ２とすると、Ｐ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たす。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
クリーンルームと、
前記クリーンルーム内に設置された第１ブースと、
前記クリーンルーム内に設置され、かつ、前記クリーンルーム及び前記第１ブースと通気可能な第２ブースとを備え、
前記第１ブースには、臭気性ガス及び有害ガスの少なくとも一方が発生するプロセス装置が設置されており、
前記クリーンルーム内の圧力をＰｃとし、前記第１ブース内の圧力をＰ１とし、前記第２ブース内の圧力をＰ２とすると、Ｐ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たす
クリーンルーム設備。
【請求項２】
さらに、前記関係式を満たすように、前記第１ブース内に給気する給気量、前記第１ブース内から排気する第１排気量及び前記第２ブース内から排気する第２排気量の少なくとも一つを制御する制御部を備える
請求項１に記載のクリーンルーム設備。
【請求項３】
前記第１排気量及び前記第２排気量は、一定であり、
前記制御部は、前記関係式を満たすように前記給気量のみを制御する
請求項２に記載のクリーンルーム設備。
【請求項４】
前記制御部は、前記関係式を満たすように、前記給気量、前記第１排気量及び前記第２排気量を制御する
請求項２に記載のクリーンルーム設備。
【請求項５】
さらに、
前記クリーンルーム外から前記第１ブース内に給気するための給気ダクトと、
前記第１ブース内から前記クリーンルーム外に排気するための第１排気ダクトと、
前記第２ブース内から前記クリーンルーム外に排気するための第２排気ダクトとを備える
請求項２〜４のいずれか１項に記載のクリーンルーム設備。
【請求項６】
さらに、
前記給気ダクト内に流れる気体の流速を調整する給気ファンと、
前記第１排気ダクト内に流れる気体の流速を調整する第１排気ファンと、
前記第２排気ダクト内に流れる気体の流速を調整する第２排気ファンとを備える
請求項５に記載のクリーンルーム設備。
【請求項７】
さらに、前記給気ダクト内に流れる気体の流量を計測するための流量計を備える
請求項５又は６に記載のクリーンルーム設備。
【請求項８】
前記第２ブースは、複数設置されている
請求項１〜７のいずれか１項に記載のクリーンルーム設備。
【請求項９】
クリーンルームと、
前記クリーンルーム内に設置された第１ブースと、
前記クリーンルーム内に設置され、かつ、前記クリーンルーム及び前記第１ブースと通気可能な第２ブースとを備えるクリーンルーム設備の圧力制御システムであって、
前記第１ブースには、臭気性ガス及び有害ガスの少なくとも一方が発生するプロセス装置が設置されており、
前記クリーンルーム内の圧力をＰｃとし、前記第１ブース内の圧力をＰ１とし、前記第２ブース内の圧力をＰ２とすると、
Ｐ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係を満たす
クリーンルーム設備の圧力制御システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、クリーンルーム設備及びクリーンルーム設備の圧力制御システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
表示パネルや半導体デバイス等を製造する工場設備等には、室内の空気清浄度（クリーン度）が確保されたクリーンルームが設置されている。
【０００３】
この種のクリーンルームとして、特許文献１には、ケミカル物質の侵入を防止するとともに外気に対する区画性能及び気密性能を高めるために室内の壁面及び天井を内壁と外壁との二重構造にしたクリーンルームが開示されている。
【０００４】
ところで、表示パネルや半導体デバイス等を製造する製造工程には、クリーンルーム内で揮発性溶剤を使用するプロセス装置が用いられることがある。例えば、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネルの製造工程には、インク（有機材料）を印刷により塗布することで有機ＥＬ層を形成する工程があるが、この工程では揮発性有機溶剤を含む有機材料を印刷する印刷装置が用いられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１３−５０２４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
揮発性溶剤は気化すると、臭気性ガス（臭気）や有害ガスが発生する。プロセス装置から発生した臭気性ガスや有害ガスをプロセス装置外に排除する方法として、プロセス装置をブースで囲ってブースから臭気性ガスや有害ガスを排気することが考えられる。
【０００７】
しかしながら、この方法では、ブース内が負圧（陰圧）となることから、微細な異物がブース内に入り込んでブース内のクリーン度を保つことができなくなるという問題がある。
【０００８】
一方、プロセス装置を囲ったブース内を正圧（陽圧）にすると、プロセス装置から発生した臭気性ガスや有害ガスがブースからクリーンルーム内に漏れ出すおそれがある。
【０００９】
このように、従来のクリーンルームでは、ブース内のプロセス装置から発生する臭気性ガスや有害ガスが当該ブース内からの漏れ出し対策と当該ブース内のクリーン度の維持との両立を図ることが難しかった。
【００１０】
本開示は、このような課題に鑑みてなされたものであり、ブース内のプロセス装置から発生する臭気性ガスや有害ガスがブース内からの漏れ出すことを抑制することができ、かつ、当該ブース内のクリーン度を維持することができるクリーンルーム設備及びその圧力制御システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために、クリーンルーム設備の一態様は、クリーンルームと、前記クリーンルーム内に設置された第１ブースと、前記クリーンルーム内に設置され、かつ、前記クリーンルーム及び前記第１ブースと通気可能な第２ブースとを備え、前記第１ブースには、臭気性ガス及び有害ガスの少なくとも一方が発生するプロセス装置が設置されており、前記クリーンルーム内の圧力をＰｃとし、前記第１ブース内の圧力をＰ１とし、前記第２ブース内の圧力をＰ２とすると、Ｐ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たす。
【発明の効果】
【００１２】
ブース内のプロセス装置から発生する臭気性ガスや有害ガスがブース内からの漏れ出すことを抑制することができ、かつ、当該ブース内のクリーン度を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施の形態に係るクリーンルーム設備の概略断面図である。
【図２】実施の形態に係るクリーンルーム設備における差圧制御部の構成を示す図である。
【図３】実施の形態の変形例１に係るクリーンルーム設備における差圧制御部の構成を示す図である。
【図４】実施の形態の変形例２に係るクリーンルーム設備における差圧制御部の構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、いずれも本開示の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される、数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態などは、一例であって本開示の内容を限定する主旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。
【００１５】
なお、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。
【００１６】
図１は、実施の形態に係るクリーンルーム設備の概略断面図である。
【００１７】
図１に示すように、クリーンルーム設備１は、クリーンルーム１０と、クリーンルーム１０内に設置された第１ブース２１及び第２ブース２２の２つのブースとを備える。クリーンルーム設備１は、例えば、有機ＥＬ表示パネルを製造するための工場設備である。
【００１８】
クリーンルーム１０（メインルーム）は、壁及び天井等で仕切られた空間であり、室内が所定のクリーン度（例えばクラス１０００）に保たれるように設計された部屋である。なお、図示しないが、クリーンルーム１０の出入口には、作業者がクリーンルーム１０に入退室する際に衣服に付着した塵埃を除去するためのエアシャワールームが設けられている。
【００１９】
第１ブース２１（サブルーム）は、クリーンルーム１０内においてさらに壁及び天井等で仕切られた空間であり、作業者が所定の装置を用いて作業をするための部屋（装置ブース）である。第１ブース２１内についても所定のクリーン度に保たれるように設計されており、本実施の形態では、クリーンルーム１０と同じクリーン度又はそれ以上のクリーン度に保たれている。
【００２０】
第１ブース２１には、作業対象の装置として所定のプロセス装置１００が設置されている。プロセス装置１００は、例えば、有機ＥＬ表示パネルを製造する工程で用いられる装置であり、一例として、インク（有機材料）を印刷により塗布することによって有機ＥＬ層を形成する工程で用いられる印刷装置である。印刷装置に用いられるインクには揮発性有機溶剤が含まれているので、印刷装置からは揮発性有機溶剤の気化ガスが自然発生する。この揮発性有機溶剤の気化ガスは、臭気性ガスであり、かつ、有害ガスである。
【００２１】
第２ブース２２（サブルーム）は、クリーンルーム１０内においてさらに壁及び天井等で仕切られた空間であり、クリーンルーム１０と第１ブース２１との間に設けられた部屋である。したがって、プロセス装置１００の作業者は、クリーンルーム１０と第１ブース２１とを行き来する際に第２ブース２２を通ることになる。つまり、第２ブース２２は、第１ブース２１へのアクセスブースであり、第１ブース２１の前段ブースとなっている。このように、本実施の形態におけるプロセス装置１００は、第１ブース２１及び第２ブース２２によって二重ブース化されている。第２ブース２２内についても所定のクリーン度に保たれるように設計されており、本実施の形態では、クリーンルーム１０と同じクリーン度に保たれている。
【００２２】
なお、第２ブース２２は、プロセス装置１００に用いられる材料や部品等を保管するための保管室又はプロセス装置１００の作業前の準備室として利用してもよい。例えば、第２ブース２２には、印刷装置に用いられる交換用インクを保管してもよい。特に、気化して臭気性ガス又は有害ガスを発生させる材料等は、第２ブース２２内に保管しておくとよい。
【００２３】
本実施の形態において、第２ブース２２は、１つの第１ブース２１に対して２つ設置されている。第１ブース２１に入室する際、２つの第２ブース２２のいずれからも入室することができる。２つの第２ブース２２には色毎の交換用インクを保管することができ、例えば、一方の第２ブース２２には青色ＥＬ層用の青色交換用インク、他方の第２ブースには赤色ＥＬ層の赤色交換用インク及び緑色ＥＬ層の緑色交換用インクを保管することができる。
【００２４】
また、第２ブース２２は、クリーンルーム１０及び第１ブース２１の両方と通気可能となっている。例えば、クリーンルーム１０、第１ブース２１及び第２ブース２２の各ブース内の気体（ガス）は、クリーンルーム１０、第１ブース２１及び第２ブース２２の各部屋を仕切る壁に設けられた通気口を介して各部屋を行き来することができる。
【００２５】
本実施の形態では、クリーンルーム１０と第２ブース２２とを仕切る壁には、通気用のダンパー３１（第１のダンパー）が設けられている。これにより、クリーンルーム１０内の気体と第２ブース２２内の気体とは、ダンパー３１を介してクリーンルーム１０と第２ブース２２とを行き来することができる。
【００２６】
同様に、第１ブース２１と第２ブース２２とを仕切る壁には、通気用のダンパー３２（第２のダンパー）が設けられている。これにより、第１ブース２１内の気体と第２ブース２２内の気体とは、ダンパー３２を介して第１ブース２１と第２ブース２２とを内行き来することができる。
【００２７】
ダンパー３１は、例えば、第２ブース２２とクリーンルーム１０とを仕切る壁に設けられた通気口を開閉可能とする構造を有し、通常は開状態となっている。同様に、ダンパー３２は、例えば、第２ブース２２と第１ブース２１とを仕切る壁に設けられた通気口を開閉可能とする構造を有し、通常は開状態となっている。
【００２８】
なお、図示しないが、クリーンルーム１０と第２ブース２２とを仕切る壁には、作業者がクリーンルーム１０と第２ブース２２との間を入退室するための入退室扉が設けられている。同様に、第１ブース２１と第２ブース２２とを仕切る壁には、作業者が第１ブース２１と第２ブース２２との間を入退室するための入退室扉が設けられている。作業者がクリーンルーム１０と第１ブース２１と第２ブース２２との間を行き来することでも、クリーンルーム１０、第１ブース２１及び第２ブース２２の各部屋内の気体は各部屋の気圧差に応じて各部屋間を通気する。
【００２９】
本実施の形態におけるクリーンルーム設備１は、さらに、給気ダクト４０及び排気ダクト５０を備える。
【００３０】
給気ダクト４０は、クリーンルーム１０外から第１ブース２１内に給気するためのダクトである。クリーンルーム１０外の気体は、給気ダクト４０を通って第１ブース２１に給気される。なお、給気ダクト４０を通って第１ブース２１に給気され気体は、予め所定のクリーン度に保たれているとよい。
【００３１】
排気ダクト５０は、第１ブース２１内及び第２ブース２２内からクリーンルーム１０外に排気するためのダクトであり、第１排気ダクト５１と第２排気ダクト５２と第３排気ダクト５３とを有する。
【００３２】
第１排気ダクト５１は、第１ブース２１内からクリーンルーム１０外に排気するためのダクトである。第１ブース２１内の気体は、第１排気ダクト５１を通ってクリーンルーム１０外に排気される。
【００３３】
第２排気ダクト５２は、第２ブース２２内からクリーンルーム１０外に排気するためのダクトである。第２ブース２２内の気体は、第２排気ダクト５２を通ってクリーンルーム１０外に排気される。なお、第２排気ダクト５２は、２つの第２ブース２２の各々に設けられている。
【００３４】
第３排気ダクト５３は、第１排気ダクト５１及び第２排気ダクト５２とクリーンルーム１０外とを繋ぐダクトである。つまり、第１排気ダクト５１及び第２排気ダクト５２の排気ガスは、第３排気ダクト５３で合流してクリーンルーム１０外に排気される。
【００３５】
なお、第１ブース２１内の気体及び第２ブース２２内の気体が直接クリーンルーム１０外に排気されるように、第３排気ダクト５３を設けずに、第１排気ダクト５１及び第２排気ダクト５２が直接クリーンルーム１０外に繋がるように配管されていてもよい。
【００３６】
また、クリーンルーム設備１は、さらに、給気ダクト４０内に流れる気体の流速を調整する給気ファン６０と、第１排気ダクト５１内に流れる気体の流速を調整する第１排気ファン７１と、第２排気ダクト５２内に流れる気体の流速を調整する第２排気ファン７２とを備える。
【００３７】
給気ファン６０は、給気ダクト４０内に設けられており、クリーンルーム１０外から第１ブース２１内に気体が給気されるように回転する。給気ファン６０は、例えば、ＡＣモータによって駆動される。
【００３８】
第１排気ファン７１は、第１排気ダクト５１内に設けられており、第１ブース２１内の気体がクリーンルーム１０外に排気されるようにファンが回転する。また、第２排気ファン７２は、第２排気ダクト５２内に設けられており、第２ブース２２内の気体がクリーンルーム１０外に排気されるようにファンが回転する。第１排気ファン７１及び第２排気ファン７２は、例えば、ＡＣモータによって駆動される。
【００３９】
本実施の形態におけるクリーンルーム設備１は、さらに、圧力計８１（圧力計１）と、圧力計８２（圧力計２）と、圧力計８３（圧力計３）とを備える。
【００４０】
圧力計８１は、第１ブース２１内の大気の圧力（室内気圧）を計測するための気圧計であり、第１ブース２１内に設置される。圧力計８２は、第２ブース２２内の大気の圧力（室内気圧）を計測するための気圧計であり、第２ブース２２内に設置される。圧力計８３は、クリーンルーム１０内の大気の圧力（室内気圧）を計測するための気圧計であり、クリーンルーム１０内に設置される。
【００４１】
このように構成されたクリーンルーム設備１では、クリーンルーム１０と第１ブース２１と第２ブース２２との各部屋の間に所定の圧力差（気圧差）が設けられている。具体的には、クリーンルーム１０内の圧力をＰｃとし、第１ブース２１内の圧力をＰ１とし、第２ブース２２内の圧力をＰ２とすると、Ｐ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たすように圧力制御されている。
【００４２】
ここで、図２を用いて、クリーンルーム設備１の圧力制御システムについて説明する。図２は、実施の形態に係るクリーンルーム設備における制御部の構成を示す図である。
【００４３】
図２に示すように、クリーンルーム設備１は、さらに、制御部９０を有している。制御部９０は、差圧制御部としての機能を有し、クリーンルーム１０、第１ブース２１及び第２ブース２２の各部屋の圧力に上記関係式を満たす差（圧力差）が生じるように各部屋の圧力を制御している。
【００４４】
本実施の形態において、制御部９０は、上記関係式を満たすように、第１ブース２１及び第２ブース２２の給排気を制御している。例えば、制御部９０は、各部屋の圧力が上記関係式を満たすように、第１ブース２１内に給気する給気量、第１ブース２１内から排気する第１排気量及び第２ブース２２内から排気する第２排気量の少なくとも一つ制御している。つまり、空調（吸排気）によって差圧制御を行っている。
【００４５】
図２に示すように、本実施の形態では、第１ブース２１内から排気する第１排気量及び第２ブース２２内から排気する第２排気量が一定となるように、第１排気ファン７１及び第２排気ファン７２の回転を一定にしている。したがって、制御部９０は、上記関係式を満たすように、第１ブース２１内に給気する給気量のみを制御している。この場合、給気ファン６０のオン／オフ及び回転速度等を制御することによって、第１ブース２１内に給気する給気量を制御することができる。
【００４６】
さらに、本実施の形態では、クリーンルーム１０、第１ブース２１及び第２ブース２２の各部屋の圧力を監視して、常にＰ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たすように、第１ブース２１内に給気する給気量を制御している。
【００４７】
具体的には、クリーンルーム１０、第１ブース２１及び第２ブース２２の各部屋の圧力を圧力計８１〜８３によって常時又は定期的に計測する。計測した各部屋の圧力は制御部９０に送信される。そして、制御部９０は、その計測した圧力の値に応じて給気ファン６０を制御して、常にＰ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たすような差圧が生じるように第１ブース２１内に給気する給気量を調整している。
【００４８】
このように、クリーンルーム設備１では、クリーンルーム１０、第１ブース２１及び第２ブース２２における計測した各部屋の圧力をフィードバックして、Ｐ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たすように第１ブース２１及び第２ブース２２の給排気が制御されている。
【００４９】
この場合、本実施の形態では、上述のように、第１ブース２１内から排気する第１排気量及び第２ブース２２内から排気する第２排気量を一定とし、第１ブース２１内に給気する給気量のみを制御しているので、クリーンルーム１０の圧力を補助的に監視し、第１ブース２１及び第２ブース２２の圧力の監視によって差圧制御を行うことができる。つまり、圧力計８１及び８２で計測した圧力を用いて第１ブース２１内に給気する給気量を制御することによって差圧制御を行うことができる。但し、この場合であっても、さらに圧力計８３で計測した圧力を監視することによって精度良く差圧制御を行うことができる。
【００５０】
さらに、本実施の形態では、クリーンルーム１０、第１ブース２１及び第２ブース２２について計測した各部屋の圧力の差が一定となるように、第１ブース２１及び第２ブース２２の給排気を制御している。
【００５１】
具体的には、第１ブース２１内の圧力Ｐ１とクリーンルーム１０内の圧力Ｐｃとの差（Ｐ１−Ｐｃ）、第１ブース２１内の圧力Ｐ１と第２ブース２２内の圧力Ｐ２との差（Ｐ１−Ｐ２）、及び、クリーンルーム１０内の圧力Ｐｃと第２ブース２２内の圧力Ｐ２との差（Ｐｃ−Ｐ２）が、いずれも一定となるように第１ブース２１内に給気する給気量を調整している。
【００５２】
ここで、クリーンルーム１０、第１ブース２１及び第２ブース２２における相対的な給排気量の一例について、図１を用いて説明する。
【００５３】
例えば、クリーンルーム１０、第１ブース２１及び第２ブース２２における相対的な給排気量が図１に示される数値関係となるように第１ブース２１及び第２ブース２２の給排気を制御することによって、Ｐ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たすことができる。
【００５４】
具体的には、図１に示すように、ダンパー３１によるクリーンルーム１０と第２ブース２２との間のガス移動量を０．１とし、ダンパー３２による第１ブース２１と第２ブース２２との間のガス移動量を０．１とし、第１ブース２１と第１ブース２１内に給気する給気量を１．０とした場合、第１ブース２１内から排気する第１排気量を０．８、２つの第２ブース２２内から排気する第２排気量の各々を０．２とすることによって、上記関係式を満たすことができる。なお、この場合、第１ブース２１と２つの第２ブース２２とを合計した排気量（総排気量）は、１．２となる。
【００５５】
次に、本実施の形態に係るクリーンルーム設備１及びクリーンルーム設備１の圧力制御システムの作用効果について説明する。
【００５６】
本実施の形態では、クリーンルーム１０内の圧力Ｐｃと、第１ブース２１内の圧力Ｐ１と、第２ブース２２内の圧力Ｐ２とが、Ｐ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たすように制御されている。
【００５７】
このように、Ｐ１＞Ｐ２の関係を満たすことによって、プロセス装置１００が設置された第１ブース２１内は、第２ブース２２に対して正圧（陽圧）となる。言い換えると、第２ブース２２内は、第１ブース２１に対して負圧（陰圧）となる。これにより、第２ブース２２内の塵埃が第１ブース２１内に流入することを抑制できるので、第１ブース２１内のクリーン度を保つことができる。
【００５８】
この場合、第１ブース２１内のプロセス装置１００で発生したガス（臭気性ガス及び有害ガス）は第２ブース２２内に流入することになるが、Ｐｃ＞Ｐ２の関係を満たしているので、第２ブース２２内はクリーンルーム１０に対して負圧（クリーンルーム１０内は第２ブース２２に対して正圧）になっている。これにより、第２ブース２２内に流入した臭気性ガス及び有害ガスがクリーンルーム１０に漏れ出すことがない。
【００５９】
このとき、Ｐｃ＞Ｐ２の関係により、クリーンルーム１０内の気体が第２ブース２２内に流入することになるが、上記のようにＰ１＞Ｐ２の関係により、クリーンルーム１０から第２ブース２２に流入した気体は第１ブース２１に流入しない。
【００６０】
また、第２ブース２２内に流入した第１ブース２１からの気体（臭気性ガス及び有害ガス）及び第２ブース２２内に流入したクリーンルーム１０からの気体は、第２排気ダクト５２及び第３排気ダクト５３を通ってクリーンルーム設備１の外に排気される。なお、第２ブース２２内を通って第１ブース２１内に入室する作業者は、前段の第２ブース２２内に臭気性ガス及び有害ガスが存在することが分かっているので、臭気性ガス及び有害ガスを吸引しないように第２ブース２２に入室する際にマスク等を着用するとよい。
【００６１】
このように、本実施の形態では、第１ブース２１内で発生した臭気性ガス及び有害ガスを第２ブース２２に流入させてクリーンルーム１０に漏れ出させることなくクリーンルーム設備１の外に排気している。
【００６２】
以上、本実施の形態に係るクリーンルーム設備１及びクリーンルーム設備１の圧力制御システムによれば、第１ブース２１内のプロセス装置１００から発生する臭気性ガスや有害ガスが第１ブース２１内からの漏れ出すことを抑制することができ、かつ、当該第１ブース２１内のクリーン度を維持することができる。つまり、クリーンルーム設備１内に設置されるプロセス装置１００に対して、揮発性溶剤による臭気性ガス及び有害ガスのガス対策とクリーン度維持との両立を図ることができる。
【００６３】
また、本実施の形態において、Ｐ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たすように、第１ブース２１内に給気する給気量、第１ブース２１内から排気する第１排気量及び第２ブース２２内から排気する第２排気量の少なくとも一つを制御している。
【００６４】
このように、給排気（空調）によって差圧制御を行うことによって、容易にＰ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たすように制御することができる。
【００６５】
この場合、本実施の形態では、第１ブース２１からの第１排気量及び第２ブース２２からの第２排気量を一定とし、Ｐ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たすように、第１ブース２１への給気量のみを制御している。
【００６６】
このように、第１ブース２１への給気量のみを制御することによって、容易に差圧制御を行うことができる。
【００６７】
また、本実施の形態において、第１ブース２１には給気ダクト４０及び第１排気ダクト５１が設けられており、第２ブース２２には第２排気ダクト５２が設けられている。
【００６８】
これにより、第１ブース２１の給排気を行うことができるとともに第２ブース２２の排気を行うことができるので、給排気（空調）による差圧制御を簡便に行うことができる。
【００６９】
また、本実施の形態において、給気ダクト４０内には給気ファン６０が設けられており、第１排気ダクト５１には第１排気ファン７１が設けられており、第２排気ダクト５２には第２排気ファン７２が設けられている。
【００７０】
これにより、第１ブース２１への給気量と第１ブース２１からの第１排気量と第２ブース２２からの第２排気量とを容易に制御することができるので、吸排気（空調）による差圧制御を容易に行うことができる。
【００７１】
また、本実施の形態において、第２ブース２２は２つ設置されている。
【００７２】
これにより、第１ブース２１で発生した臭気性ガス及び有害ガスを２つの第２ブース２２に分流して排気することができる。したがって、例えば臭気性ガス及び有害ガスの発生量が急増しても、臭気性ガス及び有害ガスが第２ブース２２からクリーンルーム１０に漏れ出してしまうことを抑制できる。
【００７３】
（変形例１）
図３は、実施の形態の変形例１に係るクリーンルーム設備における差圧制御部の構成を示す図である。
【００７４】
図３に示すように、本変形例におけるクリーンルーム設備は、図１及び図２に示される上記実施の形態におけるクリーンルーム設備１に、さらに、流量計８５が設けられた構成となっている。
【００７５】
流量計８５は、給気ダクト４０内に流れる気体の流量を計測するための流量計であり、本変形例では、給気ダクト４０内に設けられている。これにより、第１ブース２１内に給気する給気量を計測することができる。また、計測した給気量は、制御部９０に送信される。制御部９０は、その給気量がＰ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たすような所望の値となるように給気ファン６０を制御する。
【００７６】
以上、本変形例によれば、流量計８５によって第１ブース２１内に給気する給気量を計測できる。これにより、圧力計８１〜８３による各部屋の圧力を監視することなく、空調制御によって差圧制御を行うことが可能となる。
【００７７】
さらに、クリーンルーム１０、第１ブース２１及び第２ブース２２の各部屋の圧力を監視することで、精度良く精度良く差圧制御を行うことができる。
【００７８】
（変形例２）
図４は、実施の形態の変形例２に係るクリーンルーム設備における差圧制御部の構成を示す図である。
【００７９】
上記実施の形態では、第１ブース２１内から排気する第１排気量及び第２ブース２２内から排気する第２排気量を一定とし、第１ブース２１内に給気する給気量のみを制御してＰ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たすように差圧制御を行っていた。
【００８０】
これに対して、本変形例におけるクリーンルーム設備では、図４に示すように、第１ブース２１内に給気する給気量だけではなく、第１ブース２１内から排気する第１排気量及び第２ブース２２内から排気する第２排気量を制御することによって、Ｐ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たすように差圧制御を行っている。
【００８１】
これにより、上記実施の形態におけるクリーンルーム設備１と比べて、クリーンルーム１０、第１ブース２１及び第２ブース２２の各部屋の圧力の差を簡単に微調整することができるので、給排気（空調）による差圧制御を精度良く行うことができる。例えば、クリーンルーム１０、第１ブース２１及び第２ブース２２について計測した各部屋の圧力の差が一定となるように差圧制御する場合、精度良く行うことができる。
【００８２】
（その他の変形例等）
以上、実施の形態に基づいてクリーンルーム設備及びクリーンルーム設備の圧力制御システムの一態様を説明したが、本開示は、これらの実施の形態に限定されるものではない。
【００８３】
例えば、上記実施の形態において、プロセス装置１００から発生するガスは、臭気性ガス及び有害ガスの両方としたが、プロセス装置１００から発生するガスは、臭気性ガス及び有害ガスの少なくとも一方であればよい。なお、有害ガスは、人体に悪影響を及ぼすガスであり、例えば二酸化炭素も含まれる。
【００８４】
また、上記実施の形態において、揮発性有機溶剤を用いるプロセス装置１００として印刷装置を例示したが、これに限るものではない。例えば、揮発性有機溶剤を用いるプロセス装置１００は、コータ装置やデベロッパ装置等のその他の装置であってもよい。
【００８５】
また、上記実施の形態では、第１ブース２１内から排気する第１排気量及び第２ブース２２内から排気する第２排気量を一定とし、第１ブース２１内に給気する給気量のみを制御したが、この逆であってもよい。つまり、第１ブース２１内に給気する給気量を一定とし、第１ブース２１内から排気する第１排気量及び第２ブース２２内から排気する第２排気量を制御することによってＰ１＞Ｐｃ＞Ｐ２の関係式を満たすように差圧制御を行ってもよい。
【００８６】
また、上記実施の形態において、第２ブース２２は１つの第１ブース２１に対して２つ設置したが、これに限らない。例えば、第２ブース２２は１つの第１ブース２１に対して１つ設置してもよいし、３つ以上設置してもよい。例えば、３つの第２ブース２２を設置することで、ＲＧＢ３色の色毎に交換用インクを別個に保管することができる。
【００８７】
その他、各実施の形態及び変形例に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態、又は、本開示の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態及び変形例における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本開示に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００８８】
本開示は、表示パネルや半導体デバイス等を製造する工場設備等において広く利用することができる。
【符号の説明】
【００８９】
１  クリーンルーム設備
１０  クリーンルーム
２１  第１ブース
２２  第２ブース
３１、３２  ダンパー
４０  給気ダクト
５０  排気ダクト
５１  第１排気ダクト
５２  第２排気ダクト
５３  第３排気ダクト
６０  給気ファン
７１  第１排気ファン
７２  第２排気ファン
８１、８２、８３  圧力計
８５  流量計
９０  制御部
１００  プロセス装置
【図１】
2015206549.tif 000003
【図２】
2015206549.tif 000004
【図３】
2015206549.tif 000005
【図４】
2015206549.tif 000006