(57)【要約】【課題】搬送ロールに飛翔粒子のような薄膜材料が堆積されることを確実に防止することによって、幅の異なるフィルム基材に薄膜を形成する場合であってもフィルム基材にキズが生じることを確実に防止することができる薄膜形成装置を提供する。【解決手段】本発明の薄膜形成装置は、その中心軸周りに回転可能に設けられており、その外周面に巻回されるフィルム基材を前記中心軸周りに回転することによって搬送する搬送ロールと、前記搬送ロールに巻回された状態の前記フィルム基材に向けて薄膜を形成するための薄膜材料を供給する薄膜材料供給装置と、前記搬送ロールの外周面のうち、軸方向に見て、前記フィルム基材が巻回される巻回領域の両側各々に隣接する各領域に、取り外し可能に固定されたマスク部材と、を備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
その中心軸周りに回転可能に設けられており、その外周面に巻回されるフィルム基材を前記中心軸周りに回転することによって搬送する搬送ロールと、
前記搬送ロールに巻回された状態の前記フィルム基材に向けて薄膜を形成するための薄膜材料を供給する薄膜材料供給装置と、
前記搬送ロールの外周面のうち、軸方向に見て、前記フィルム基材が巻回される巻回領域の両側各々に隣接する各領域に、取り外し可能に固定されたマスク部材と、を備えた
ことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項２】
前記マスク部材は、円筒状部分を有する
ことを特徴とする請求項１に記載の薄膜形成装置。
【請求項３】
前記マスク部材の円筒状部分の前記巻回領域側の端部は、軸方向に沿って前記巻回領域側から離れるに従い拡径するテーパー状に形成されている
ことを特徴とする請求項２に記載の薄膜形成装置。
【請求項４】
前記マスク部材は、締結部材によって前記搬送ロールに固定されている
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の薄膜形成装置。
【請求項５】
前記マスク部材は、粘着材料によって前記搬送ロールに固定されている
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の薄膜形成装置。
【請求項６】
その中心軸周りに回転可能に設けられており、その外周面に巻回されるフィルム基材を前記中心軸周りに回転することによって搬送する搬送ロールと、
前記搬送ロールに巻回された状態の前記フィルム基材に向けて薄膜を形成するための薄膜材料を供給する薄膜材料供給装置と、
前記搬送ロールの外周側に配置されており、前記搬送ロールの外周面のうち、軸方向に見て、前記フィルム基材が巻回される巻回領域の両側各々に隣接する各領域にマスク材料を連続的に塗布するマスク材料塗布装置と、を備えた
ことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項７】
前記搬送ロールの回転方向に見て、前記薄膜材料供給装置から薄膜材料が供給される位置の上流側の位置に、前記マスク材料塗布装置が配置されており、
前記搬送ロールの外周側には、前記搬送ロールの回転方向に見て、前記薄膜材料供給装置から薄膜材料が供給される位置の下流側の位置に、前記巻回領域の両側各々に隣接する前記各領域に接触して前記マスク材料塗布装置によって塗布されたマスク材料を取り除くマスク材料除去装置が配置されている
ことを特徴とする請求項６に記載の薄膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム基材に薄膜を形成するための薄膜形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、例えば携帯電話等の携帯端末装置（モバイル機器）の入力インタフェースとしてタッチセンサが広く採用されている。モバイル機器向けのタッチセンサとしては、軽量且つ薄いタッチセンサが要望されている。当該要望を満足するタッチセンサとしては、フィルム基材にタッチセンサが形成されたフィルムタッチセンサがある。
【０００３】
フィルムタッチセンサの形成方法としては、フィルム基材に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等からなる透光性導電膜と、シリカ等からなる光学膜とを、数十ｎｍ乃至数百ｎｍの膜厚で積層させて形成し、必要に応じて各膜をパターニング加工する方法が従来から知られている。前述の各膜は、真空蒸着、ＣＶＤまたはスパッタリング等によって形成されることが一般的である。
【０００４】
例えば特許文献１（特開平５−１８２１９２号公報）には、蒸着テープ等の金属磁性薄膜上に薄膜である保護膜を形成するためのスパッタリング装置が開示されている。
【０００５】
このスパッタリング装置は、真空チャンバと、当該真空チャンバ内に、その中心軸周りに回転可能に設けられた搬送ロールと、を備えている。搬送ロールは、その外周面に巻回されるフィルム基材をその中心軸周りに回転することによって搬送するようになっている。
【０００６】
真空チャンバ内は、仕切り板によって第１室と第２室とに、区画されている。搬送ロールは、第１室と第２室とに跨がるようにして設けられており、その外周面が第１室と第２室とのそれぞれに臨む状態となっている。そして、第１室と第２室にはそれぞれ、真空排気部が設けられている。
【０００７】
第１室には、フィルム基材を搬送ロールに対して供給するための供給ロールと、搬送ロールに供給され巻回された後に繰り出されるフィルム基材を巻き取るための巻取ロールと、が設けられている。また、第１室には、供給ロールから繰り出されるフィルム基材を搬送ロールにガイドするためのガイドロールと、搬送ロールから繰り出されるフィルム基材を巻取ロールにガイドするためのガイドロールと、が設けられている。
【０００８】
一方、第２室には、薄膜材料であるターゲットが、搬送ロールと対向するように設けられている。そして、第２室においては、搬送ロールの両端縁それぞれのターゲット側の位置に、キャンマスクが配置されている。また、キャンマスクよりもターゲット側に、スパッタに基づく飛翔粒子（薄膜材料）の堆積領域を規定するための開口部を有するマスクが配置されている。
【０００９】
このようなスパッタリング装置では、ターゲットからの飛翔粒子をフィルム基材に堆積させる際に、前述のキャンマスク及びこれよりもターゲット側に配置されたマスクによって、飛翔粒子がフィルム基材上の所定の堆積領域以外の領域へ付着することを抑制することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平５−１８２１９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、前記特許文献１に開示されたスパッタリング装置では、搬送ロールとキャンマスクとの間に空間が存在しているため、当該空間に飛翔粒子が入り込んで搬送ロールに飛翔粒子が堆積してしまう場合がある。この場合、当該スパッタリング装置によって幅の小さいフィルム基材に薄膜を形成した後に、当該幅の小さいフィルム基材よりも幅の大きいフィルム基材が搬送ロールに巻回されると、当該幅の大きいフィルム基材は、搬送ロールに堆積された飛翔粒子に接触してしまう。これにより、当該幅の大きいフィルム基材に、キズが生じてしまう虞がある。
【００１２】
本発明は、以上の知見に基づいて創案されたものである。本発明の目的は、搬送ロールに飛翔粒子のような薄膜材料が堆積されることを確実に防止することによって、幅の異なるフィルム基材に薄膜を形成する場合であってもフィルム基材にキズが生じることを確実に防止することができる薄膜形成装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、その中心軸周りに回転可能に設けられており、その外周面に巻回されるフィルム基材を前記中心軸周りに回転することによって搬送する搬送ロールと、前記搬送ロールに巻回された状態の前記フィルム基材に向けて薄膜を形成するための薄膜材料を供給する薄膜材料供給装置と、前記搬送ロールの外周面のうち、軸方向に見て、前記フィルム基材が巻回される巻回領域の両側各々に隣接する各領域に、取り外し可能に固定されたマスク部材と、を備えたことを特徴とする薄膜形成装置、である。
【００１４】
本発明によれば、フィルム基材が巻回される搬送ロールの巻回領域の両側各々に隣接する各領域に、取り外し可能にマスク部材が固定されることによって、薄膜材料供給装置から供給された飛翔粒子のような薄膜材料が、搬送ロールのうちのマスク部材が固定された領域に堆積しない。そのため、その後に、搬送ロールからマスク部材が取り外されてサイズ変更されて、搬送ロールに幅の大きいフィルム基材が巻回されても、当該幅の大きいフィルム基材は搬送ロール上に堆積された薄膜材料に接触してしまうことがない。すなわち、搬送ロールに飛翔粒子のような薄膜材料が堆積されることを確実に防止することによって、幅の異なるフィルム基材に薄膜を形成する場合であっても、フィルム基材にキズが生じることを確実に防止することができる。
【００１５】
マスク部材は、例えば円筒状部分を有するように形成されている。この場合、前記マスク部材の円筒状部分の前記巻回領域側の端部は、軸方向に沿って前記巻回領域側から離れるに従い拡径するテーパー状に形成されていることが好ましい。この場合、フィルム基材が熱膨張しても、当該フィルム基材がマスク部材の端部にスムーズに乗り上がるため、フィルム基材がマスク部材の端部に干渉することによってフィルム基材に応力が生じてシワが生じることを防止することができる。
【００１６】
また、前記マスク部材は、締結部材によって前記搬送ロールに固定されていてもよい。また、前記マスク部材は、粘着材料によって前記搬送ロールに固定されていてもよい。
【００１７】
また、本発明は、その中心軸周りに回転可能に設けられており、その外周面に巻回されるフィルム基材を前記中心軸周りに回転することによって搬送する搬送ロールと、前記搬送ロールに巻回された状態の前記フィルム基材に向けて薄膜を形成するための薄膜材料を供給する薄膜材料供給装置と、前記搬送ロールの外周側に配置されており、前記搬送ロールの外周面のうち、軸方向に見て、前記フィルム基材が巻回される巻回領域の両側各々に隣接する各領域にマスク材料を連続的に塗布するマスク材料塗布装置と、を備えたことを特徴とする薄膜形成装置、である。
【００１８】
本発明によれば、マスク材料塗布装置により、フィルム基材が巻回される搬送ロールの巻回領域の両側各々に隣接する各領域にマスク材料を連続的に塗布することによって、薄膜材料供給装置から供給された薄膜材料が、搬送ロールのうちのマスク材料が塗布された領域に堆積しない。そのため、その後に、搬送ロールからマスク材料が除去されてサイズ変更されて、搬送ロールに幅の大きいフィルム基材が巻回されても、当該幅の大きいフィルム基材は搬送ロール上に堆積された薄膜材料に接触してしまうことがない。すなわち、搬送ロールに飛翔粒子のような薄膜材料が堆積されることを確実に防止することによって、幅の異なるフィルム基材に薄膜を形成する場合であっても、フィルム基材にキズが生じることを確実に防止することができる。
【００１９】
好ましくは、前記搬送ロールの回転方向に見て、前記薄膜材料供給装置から薄膜材料が供給される位置の上流側の位置に、前記マスク材料塗布装置が配置されており、前記搬送ロールの外周側には、前記搬送ロールの回転方向に見て、前記薄膜材料供給装置から薄膜材料が供給される位置の下流側の位置に、前記巻回領域の両側各々に隣接する前記各領域に接触して前記マスク材料塗布装置によって塗布されたマスク材料を取り除くマスク材料除去装置が配置されている。
【００２０】
この場合、マスク材料塗布装置によって塗布されて薄膜材料が堆積されたマスク材料がマスク材料除去装置によって除去され、マスク材料が除去された当該搬送ロールの領域に新たなマスク材料が塗布される。これにより、マスク材料に薄膜材料が堆積していることによってマスク材料の周辺が汚染されることが防止される。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、搬送ロールに飛翔粒子のような薄膜材料が堆積されることを確実に防止することによって、幅の異なるフィルム基材に薄膜を形成する場合であってもフィルム基材にキズが生じることを確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１の実施の形態の薄膜形成装置の概略構成図である。
【図２】図１に示す薄膜形成装置に設けられた搬送ロール及びマスク部材の斜視図である。
【図３】図１に示す薄膜形成装置に設けられた搬送ロール及びマスク部材の概略断面図である。
【図４】図３の要部拡大図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態の薄膜形成装置に設けられた搬送ロール及びマスク部材の概略断面図である。
【図６】本発明の第３の実施の形態の薄膜形成装置の概略構成図である。
【図７】図６に示す薄膜形成装置に設けられた搬送ロール及びマスク部材の斜視図である。
【図８】図６に示す薄膜形成装置の要部拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下に、添付の図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２４】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態の薄膜形成装置１の概略構成図である。本実施の形態では、薄膜形成装置１が真空蒸着装置として構成される例を説明するが、本発明の薄膜形成装置は、スパッタリング装置として構成されてもよいし、ＣＶＤ装置として構成されてもよい。
【００２５】
図１に示すように、本実施の形態の薄膜形成装置１は、真空チャンバ２と、当該真空チャンバ２内において、その中心軸Ｃ１周りに回転可能に設けられた搬送ロール１０と、を備えている。搬送ロール１０は、後述する供給ロール１１から繰り出されてその外周面に巻回されるフィルム基材Ｗを、その中心軸Ｃ１周りに回転することによって搬送するようになっている。
【００２６】
搬送ロール１０は、軸方向に両端部からそれぞれ突出する軸部１０Ａを有しており、当該軸部１０Ａによって真空チャンバ２の壁部に回転可能に支持されている。図１において矢印αは、搬送ロール１０の回転方向を示している。搬送ロール１０は、真空蒸着処理時において高温雰囲気下に晒されるため、耐熱性に優れるステンレス材やアルミニウム材等の金属材料から形成されている。また、巻回されるフィルム基材Ｗに関しての耐摩耗性を向上させるために、搬送ロール１０の外周面に表面処理が施されてもよい。
【００２７】
真空チャンバ１内は、仕切り板３によって、上側の第１室２Ａと下側の第２室２Ｂとに区画されており、本実施の形態では、搬送ロール１０が第２室２Ｂ内に設けられている。第１室２Ａと第２室２Ｂには、それぞれ、真空排気ポンプ４Ａ，４Ｂが設けられている。真空排気ポンプ４Ａ，４Ｂは、図示しない配管を介して第１室２Ａまたは第２室２Ｂ内の空気を排出するようになっている。
【００２８】
第１室２Ａには、フィルム基材Ｗを搬送ロール１０に対して供給するための供給ロール１１と、搬送ロール１０に供給されて巻回された後に繰り出されるフィルム基材Ｗを巻き取るための巻取ロール１２と、が設けられている。フィルム基材Ｗは、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の透光性フィルムである。
【００２９】
また、本実施の形態では、仕切り板３に、開口３Ａ，３Ｂが形成されている。開口３Ａには、供給ロール１１から繰り出されるフィルム基材Ｗを搬送ロール１０にガイドするための供給側ガイドロール１３が配置されている。開口３Ｂには、搬送ロール１０から繰り出されるフィルム基材Ｗを巻取ロール１２にガイドするための巻取側ガイドロール１４が配置されている。これにより、本実施の形態では、供給ロール１１から供給側ガイドロール１３を経て搬送ロール１０にフィルム基材Ｗが順次供給され、その後、搬送ロール１０から巻取側ガイドロール１４を経て巻取ロール１２にフィルム基材Ｗが順次巻き取られるようになっている。
【００３０】
一方、第２室２Ｂには、搬送ロール１０に巻回された状態のフィルム基材Ｗに向けて薄膜を形成するための薄膜材料を供給する薄膜材料供給装置２０が設けられている。本実施の形態においては、薄膜形成装置１が真空蒸着装置であるため、薄膜材料供給装置２０は薄膜材料を加熱して蒸発させた状態でフィルム基材Ｗに供給するようになっている。この場合の薄膜材料は、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等である。
【００３１】
図２は、薄膜形成装置１に設けられた搬送ロール１０及びマスク部材３０の斜視図であり、図３は、これら搬送ロール１０及びマスク部材３０の概略断面図である。
【００３２】
図２及び図３に示すように、本実施の形態における薄膜形成装置１は、搬送ロール１０の外周面のうち、軸方向（図２のＣ１方向）に見て、フィルム基材Ｗが巻回される巻回領域Ａ１の両側各々に隣接する各領域Ａ２，Ａ３に、取り外し可能に固定されたマスク部材３０を備えている。
【００３３】
本実施の形態において、各マスク部材３０は円筒状部分を有するように形成されている。より詳しくは、マスク部材３０は、領域Ａ２または領域Ａ３に隙間無く接して覆う円筒本体部３０Ａと、円筒本体部３０Ａの一端縁から径方向の内側に延びて搬送ロール１０の端部を覆う被覆部３０Ｂと、を有している。
【００３４】
図３に示すように、本実施の形態においては、マスク部材３０は、円筒本体部３０Ａを貫通するボルト等の締結部材３１が搬送ロール１０に固定されることで、搬送ロール１０に対して相対回転不能に固定されている。もっとも、円筒本体部３０Ａを貫通する締結部材３１がマスク部材３０を搬送ロール１０に固定することに加えて、あるいは、これに代えて、被覆部３０Ｂを貫通する締結部材３１によってマスク部材３０を搬送ロール１０に固定してもよい。
【００３５】
なお、本実施の形態において、マスク部材３０は、締結部材３１が取り外された際にあるいは緩められた際に、Ｃ１方向において搬送ロール１０に対して相対移動可能となる。そして、マスク部材３０は、締結部材３１が取り外された際にあるいは緩められた際に、Ｃ１方向における所定の範囲内で位置が変更され得て、その後に締結部材３１によって搬送ロール１０に再固定され得るようになっている。具体的には、例えばマスク部材３０の円筒本体部３０ＡにはＣ１方向に長い長穴が形成され、当該長穴を通された締結部材３１が搬送ロール１０に対して固定可能及び緩めることが可能とされることで、マスク部材３０は、Ｃ１方向における前記長穴の寸法範囲内で位置が変更され得て、その後に搬送ロール１０に再固定され得る。この場合、マスク部材３０は、締結部材３１が取り外されあるいは緩められることで、Ｃ１方向において搬送ロール１０に対して相対移動可能、すなわち位置変更可能であるため、フィルム基材Ｗの幅に応じた位置の微調整ができる。これにより、異なるマスク部材３０を多数用意しておく必要が無く、１つのマスク部材３０によってフィルム基材Ｗの異なる幅に対応できる。
【００３６】
次に、図４は、図３の要部拡大図であって、マスク部材３０の円筒本体部３０Ａの巻回領域Ａ１側の端部３０Ｃが示されている。図４に示すように、本実施の形態においては、マスク部材３０の円筒本体部３０Ａの巻回領域Ａ１側の端部３０Ｃが、軸方向に沿って巻回領域Ａ１側から離れるに従い拡径するテーパー状に形成されている。この場合、フィルム基材Ｗが熱膨張しても、図４の二点鎖線に示すように、当該フィルム基材Ｗが端部３０Ｃにスムーズに乗り上がる。
【００３７】
マスク部材３０は、薄膜形成時の高温雰囲気下において変形または変質しない材料により形成される。本実施の形態では、マスク部材３０は、ステンレス材等の金属材料で形成されている。もっとも、マスク部材３０は、ポリイミド等の高分子材料等で形成されることも好適である。ステンレスは、耐プラズマ性やプラズマ安定性（プラズマが安定する）にも優れ、ポリイミドは比較的プラズマ安定性が高いため、薄膜形成装置がプラズマＣＶＤ装置として構成される場合においても、搬送ロール３０の材料として好適である。なお、締結部材３１についても、マスク部材３０と同様に、ステンレス材等の金属材料や、ポリイミド等の高分子材料等が好適である。
【００３８】
また、マスク部材３０には、薄膜形成時において薄膜材料が堆積されるが、堆積された薄膜材料は剥離されないことが好ましい。そのため、本実施の形態のマスク部材３０には、薄膜材料の剥離を防止するために、その表面に対してＣｒ膜等が形成されている。もっとも、マスク部材３０には、凹凸形状が形成されることも好適である。
【００３９】
次に、本実施の形態の薄膜形成装置１の作用について説明する。
【００４０】
薄膜形成装置１によってフィルム基材Ｗに薄膜を形成する際には、まず、図２に示すように、搬送ロール１０における領域Ａ２，Ａ３にそれぞれマスク部材３０が装着される。
【００４１】
次いで、２つのマスク部材３０が設置された領域Ａ２，Ａ３の間に位置する巻回領域Ａ１に、フィルム基材Ｗが巻回される。この際、フィルム基材Ｗの端部とマスク部材３０の端部（円筒本体部３０Ａの端部３０Ｃ）との間に隙間が生じないようにフィルム基材Ｗが巻回される。ここで、図４の二点鎖線に示すように、フィルム部材Ｗはマスク部材３０の端部に乗り上がった状態で巻回されてもよい。
【００４２】
次いで、真空排気ポンプ４Ａ，４Ｂが駆動されることで、第１室２Ａ及び第２室２Ｂがそれぞれ真空状態とされる。
【００４３】
その後、搬送ロール１０が回転を開始し、薄膜材料供給装置２０から薄膜材料がフィルム基材Ｗに対して供給される。これにより、フィルム基材Ｗに薄膜が順次形成される。
【００４４】
そして、フィルム基材Ｗに所望の薄膜が形成された後、フィルム基材Ｗの幅が変更される際には、搬送ロール１０からマスク部材３０が取り外されてサイズ変更される。
【００４５】
以上のような本実施の形態の薄膜形成装置１によれば、フィルム基材Ｗが巻回される搬送ロール１０の巻回領域Ａ１の両側各々に隣接する各領域Ａ２，Ａ３に、取り外し可能にマスク部材３０が固定されることによって、薄膜材料供給装置２０から供給された薄膜材料が、搬送ロール１０のうちのマスク部材３０が固定された領域に堆積しない。そのため、その後に、搬送ロール１０からマスク部材３０が取り外されてサイズ変更されて、搬送ロール１０に当初のフィルム基材Ｗよりも幅の大きいフィルム基材が巻回されても、当該幅の大きいフィルム基材は搬送ロール１０上に堆積された薄膜材料に接触してしまうことがない。
【００４６】
このように、搬送ロール１０に薄膜材料が堆積されることが確実に防止されるため、幅の異なるフィルム基材に薄膜を形成する場合であっても、フィルム基材にキズが生じることを確実に防止することができる。
【００４７】
また、本実施の形態の薄膜形成装置１によれば、マスク部材３０と搬送ロール１０の外周面との間に隙間が無い。この特徴は、真空蒸着処理の代わりにプラズマＣＶＤ等のプラズマを用いた処理を採用する場合には、プラズマによる異常放電が発生し難いという効果もある。
【００４８】
また、本実施の形態の薄膜形成装置１では、マスク部材３０の巻回領域Ａ１側の端部（円筒本体部３０Ａの端部３０Ｃ）が、軸方向に沿って巻回領域Ａ１側から離れるに従い拡径するテーパー状に形成されている。これにより、フィルム基材Ｗが熱膨張しても、当該フィルム基材Ｗがマスク部材３０の端部（円筒本体部３０Ａの端部３０Ｃ）にスムーズに乗り上がる。このため、フィルム基材Ｗがマスク部材３０の端部に干渉することによってフィルム基材Ｗに応力が生じてシワが生じることを防止することができる。
【００４９】
（第２の実施の形態）
図５は、本発明の第２の実施の形態の薄膜形成装置に設けられた搬送ロール及びマスク部材の概略断面図である。本実施の形態における第１の実施の形態と同様の構成部分には同様の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００５０】
図５に示すように、本実施の形態では、締結部材３１の代わりに、マスク部材３０が粘着材料３２によって搬送ロール１０に固定されている。詳しくは、マスク部材３０は、円筒本体部３０Ａの内周面と搬送ロール１０の外周面との間に配置された粘着材料３２によって、搬送ロール１０に固定されている。粘着材料３２としては、粘着テープや塗布材料等が用いられ得る。このような本実施の形態においても、第１の実施の形態と同様の効果が得られる。
【００５１】
（第３の実施の形態）
図６は、本発明の第３の実施の形態の薄膜形成装置の概略構成図である。図７は、図６に示す薄膜形成装置に設けられた搬送ロール及びマスク部材の斜視図である。図８は、図６に示す薄膜形成装置の要部拡大図である。本実施の形態における第１の実施の形態と同様の構成部分には同様の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００５２】
図６に示すように、本実施の形態の薄膜形成装置１’では、供給ロール１１と巻取ロール１２との位置関係、及び、供給側ガイドロール１３と巻取側ガイドロール１４との位置関係が、第１の実施の形態の位置関係の反対になっている。これにより、図６の矢印βに示すように、搬送ロール１０の回転方向が、第１の実施の形態とは逆向きになっている。
【００５３】
また、図６及び図７に示すように、薄膜形成装置１’は、搬送ロール１０の外周側に配置されており、搬送ロール１０の外周面のうち、軸方向に見て、フィルム基材Ｗが巻回される巻回領域Ａ１の両側各々に隣接する各領域Ａ２，Ａ３にマスク材料Ｍを連続的に塗布するマスク材料塗布装置４０を備えている。マスク材料塗布装置４０は、搬送ロール１０の回転方向（矢印β方向）に見て、薄膜材料供給装置２０から薄膜材料が供給される位置の上流側の位置、すなわち図６における中心軸Ｃ１の右上方側に配置されている。
【００５４】
図７及び図８に示すように、本実施の形態においてマスク材料塗布装置４０は、マスク材料Ｍを噴射する噴射装置４１と、噴射装置４１から噴射されるマスク材料Ｍをその外周面で受容するコーティングロール４２と、コーティングロール４２に接触して当該コーティングロール４２に受容されたマスク材料Ｍをその外周面で受容して、当該受容されたマスク材料Ｍを搬送ロール１０に塗布する塗布ロール４３と、を有している。
【００５５】
噴射装置４１は、薄膜形成装置１’による薄膜形成時に、図示しない配管を介してマスク材料Ｍが供給され、コーティングロール４２に対して連続的にマスク材料Ｍを噴射するようになっている。マスク材料Ｍは、真空中においても蒸気圧が低いフッ素系のオイルである。マスク材料Ｍのオイルとしては、たとえば、フォンブリンオイル（キヤノンアネルバ株式会社製の高真空用Y-VAC２等）を用いることができる。また、コーティングロール４２及び塗布ロール４３は、それぞれの中心軸が搬送ロール１０の中心軸Ｃ１に平行に配置されている。なお、噴射装置４１、コーティングロール４２及び塗布ロール４３は、フィルム基材Ｗの幅に合わせて、搬送ロール１０の軸方向位置を調整可能に配置されている。
【００５６】
また、本実施の形態では、搬送ロール１０の外周側であって、搬送ロール１０の回転方向に見て、薄膜材料供給装置２０から薄膜材料が供給される位置の下流側の位置、すなわち図６における中心軸Ｃ１の左上方側に、マスク材料除去装置５０が配置され、マスク材料除去装置５０は、領域Ａ２，Ａ３に接触してマスク材料塗布装置４０によって塗布されたマスク材料Ｍを取り除く。
【００５７】
図８に示すように、本実施の形態のマスク材料除去装置５０は、ドクターブレード等であるマスク材料回収バー５１と、マスク材料回収バー５１によって回収されたマスク材料を回収するマスク材料受け部５２と、を有している。
【００５８】
本実施の形態のその他の構成は、前記した第１の実施の形態と同様である。
【００５９】
このような本実施の形態の薄膜形成装置１’によって、フィルム基材Ｗに薄膜を形成する際には、まず、巻回領域Ａ１にフィルム基材Ｗが巻回される。
【００６０】
次いで、真空排気ポンプ４Ａ，４Ｂが駆動されることで、第１室２Ａ及び第２室２Ｂがそれぞれ真空状態とされる。
【００６１】
その後、搬送ロール１０が回転を開始し、薄膜材料供給装置２０から薄膜材料がフィルム基材Ｗに対して供給される。これにより、フィルム基材Ｗに薄膜が順次形成される。
【００６２】
ここで、搬送ロール１０が回転することによって、塗布ロール４３が回転し、塗布ロール４３が回転することによって、コーティングロール４２が回転する。これにより、塗布ロール４３は、コーティングロール４２に受容されたマスク材料Ｍをその外周面に連続的に受容して、当該受容されたマスク材料Ｍを搬送ロール１０に連続的に塗布する。その後、搬送ロール１０に塗布されたマスク材料Ｍは、マスク材料除去装置５０によって除去され、マスク材料Ｍが除去された搬送ロール２０の領域Ａ２，Ａ３には、新たなマスク材料Ｍが塗布される。
【００６３】
そして、フィルム基材Ｗに所望の薄膜が形成された後、フィルム基材Ｗの幅が変更される際には、搬送ロール１０からマスク材料Ｍが除去された状態で、新たなフィルム基材の幅に合わせて、噴射装置４１、コーティングロール４２及び塗布ロール４３の搬送ロール１０の軸方向位置が調整される。
【００６４】
以上のような本実施の形態の薄膜形成装置１’によれば、マスク材料塗布装置４０により、フィルム基材Ｗが巻回される搬送ロール１０の巻回領域Ａ１の両側各々に隣接する各領域Ａ２，Ａ３にマスク材料Ｍを連続的に塗布することによって、薄膜材料供給装置２０から供給された薄膜材料が、搬送ロール１０のうちのマスク材料Ｍが塗布された領域に堆積しない。そのため、その後に、搬送ロール１０からマスク材料Ｍが除去されてサイズ変更されて、搬送ロール１０に当初のフィルム基材Ｗよりも幅の大きいフィルム基材が巻回されても、当該幅の大きいフィルム基材は搬送ロール１０上に堆積された薄膜材料に接触してしまうことがない。
【００６５】
このように、搬送ロール１０に薄膜材料が堆積されることが確実に防止されるため、幅の異なるフィルム基材に薄膜を形成する場合であっても、フィルム基材にキズが生じることを確実に防止することができる。
【００６６】
また、本実施の形態の薄膜形成装置１’では、マスク材料塗布装置４０によって塗布されて薄膜材料が堆積されたマスク材料Ｍがマスク材料除去装置５０によって除去され、マスク材料Ｍが除去された当該搬送ロール２０の領域Ａ２，Ａ３に新たなマスク材料Ｍが塗布される。これにより、マスク材料Ｍに薄膜材料が堆積し続けることによってマスク材料Ｍの周辺が汚染されることがない。
【００６７】
なお、上記の各実施の形態では、薄膜形成装置１は真空蒸着装置であったが、本発明の薄膜形成装置はスパッタリング装置として構成されてもよい。この場合、薄膜材料供給装置は、イオンが衝突されることで薄膜材料を供給するターゲットとして構成される。また、本発明の薄膜形成装置は、ＣＶＤ装置として構成されてもよい。
【符号の説明】
【００６８】
１  薄膜形成装置
２  真空チャンバ
２Ａ  第１室
２Ｂ  第２室
３  仕切り板
３Ａ，３Ｂ  開口
４Ａ，４Ｂ  真空排気ポンプ
１０  搬送ロール
１０Ａ  軸部
１１  供給ロール
１２  巻取ロール
１３  供給側ガイドロール
１４  巻取側ガイドロール
２０  薄膜材料供給装置
３０  マスク部材
３０Ａ  円筒本体部
３０Ｂ  被覆部
３１  締結部材
４０  マスク材料塗布装置
４１  噴射装置
４２  コーティングロール
４３  塗布ロール
５０  マスク材料除去装置
５１  マスク材料回収バー
５２  マスク材料受け部
Ｃ１  中心軸
Ｗ  フィルム基材
Ｍ  マスク材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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