(57)【要約】【課題】ＨＡＴＣＮの成膜性を向上させ、かつ、電気特性の低下を抑制することができる化合物をＨＡＴＣＮに混合して塗布成膜された有機膜及びこれを用いた有機電子デバイスを提供する。【解決手段】下記に示すＨＡＴＣＮに、キノキサリン骨格又は２，３−ジシアノピラジン骨格を含む化合物が添加された塗布膜を、有機エレクトロルミネッセンス素子の電子アクセプタ層としてホール注入層又は電荷発生層や、有機薄膜太陽電池等の有機電子デバイスに適用する。2015153864.tif 000018【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（化１）に示すＨＡＴＣＮに、下記（化２）に示すキノキサリン骨格又は下記（化３）に示す２，３−ジシアノピラジン骨格を含む化合物が添加された塗布膜であることを特徴とする有機膜。
【化１】
2015153864.tif 000015
【化２】
2015153864.tif 000016
【化３】
2015153864.tif 000017
【請求項２】
請求項１記載の有機膜が用いられていることを特徴とする有機電子デバイス。
【請求項３】
前記有機電子デバイスが有機エレクトロルミネッセンス素子又は有機薄膜太陽電池であることを特徴とする請求項２記載の有機電子デバイス。
【請求項４】
前記有機電子デバイスが有機エレクトロルミネッセンス素子であり、前記有機膜が電子アクセプタ層としてホール注入層に用いられていることを特徴とする請求項２記載の有機電子デバイス。
【請求項５】
前記有機電子デバイスが、複数の発光ユニットが電荷発生層を介して直列式に積層されたマルチフォトンエミッション型有機エレクトロルミネッセンス素子であり、前記有機膜が電子アクセプタ層として電荷発生層に用いられていることを特徴とする請求項２記載の有機電子デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布成膜可能な電子アクセプタ性有機材料による有機膜及びこれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と略称する）や有機薄膜太陽電池、有機トランジスタ等の有機電子デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
下記（化１）に示す１，４，５，８，９，１１−ヘキサアザトリフェニレンヘキサカルボニトリル（ＨＡＴＣＮ）は、マルチフォトンエミッション型有機ＥＬ素子における電荷発生層における電子アクセプタ材料として広く知られている。
【０００３】
【化１】
2015153864.tif 000002
【０００４】
しかしながら、ＨＡＴＣＮは、電子アクセプタとしての電気特性には優れているものの、塗布成膜性に劣るものであった。このため、本発明者らは、バインダを添加することによって成膜性を向上させることができると考え、これまでに、いくつかの適用可能なバインダを報告してきた。
【０００５】
例えば、特許文献１において、下記（化２）に示すようなＮ，Ｎ’−ジ［（１−ナフタレニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル］−１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（ＮＰＤ）等の低分子アリールアミン誘導体やポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等をバインダとしてＨＡＴＣＮと混合させることを提案している。
【０００６】
【化２】
2015153864.tif 000003
【０００７】
また、下記（化３）に示すようなＡＤ−ＴＭＰ等の多官能性アクリレートモノマーを混合し、熱処理により架橋させ、成膜性及び不溶性を向上させ、上層の塗布積層を可能とすることも提案している（特願２０１３−１７２１９７）。
【０００８】
【化３】
2015153864.tif 000004
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２０１３／１２２１８２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、ＨＡＴＣＮに対して、上記のようなバインダや架橋性化合物を添加し、熱処理等を施すことは、成膜性の向上を図ることができる一方で、電気特性の低下を招くという課題を有していた。
【００１１】
したがって、ＨＡＴＣＮに対して、その成膜性を向上させ、かつ、電気特性の低下を抑制することができる化合物が求められている。
【００１２】
本発明は、上記技術課題を解決するためになされたものであり、ＨＡＴＣＮの成膜性を向上させ、かつ、電気特性の低下を抑制することができる化合物をＨＡＴＣＮに混合して塗布成膜された有機膜及びこれを用いた有機電子デバイスを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係る有機膜は、上記（化１）に示すＨＡＴＣＮに、下記（化４）に示すキノキサリン骨格又は下記（化５）に示す２，３−ジシアノピラジン骨格を含む化合物が添加された塗布膜であることを特徴とする。
【００１４】
【化４】
2015153864.tif 000005
【００１５】
【化５】
2015153864.tif 000006
【００１６】
上記のような化合物をＨＡＴＣＮに混合することにより、ＨＡＴＣＮの成膜性を向上させると同時に、電気特性の低下を抑制することができる。
【００１７】
本発明によれば、前記有機膜が用いられていることを特徴とする有機電子デバイスが提供される。前記有機電子デバイスとしては、具体的には、有機ＥＬ素子又は有機薄膜太陽電池に好適に適用することができる。
【００１８】
特に、前記有機電子デバイスは、有機ＥＬ素子であり、前記有機膜が電子アクセプタ層としてホール注入層に用いられていることが好ましい。
前記有機膜は、有機ＥＬ素子におけるホール注入層において、良好に機能し得る。
【００１９】
また、本発明によれば、複数の発光ユニットが電荷発生層を介して直列式に積層されたマルチフォトンエミッション型有機ＥＬ素子であり、前記有機膜が、電子アクセプタ層として電荷発生層に用いられていることを特徴とする有機電子デバイスが提供される。
前記有機膜は、マルチフォトンエミッション型有機ＥＬ素子における電荷発生層において良好に機能し得る。
【発明の効果】
【００２０】
本発明に係る有機膜によれば、ＨＡＴＣＮの成膜性を向上させ、かつ、電気特性の低下を抑制することができる。
また、前記有機膜を用いることにより、該有機膜に隣接する上層の塗布積層が可能となり、有機ＥＬ素子又は有機薄膜太陽電池等の有機電子デバイス、特に、マルチフォトンエミッション型有機ＥＬ素子を塗布プロセスにて作製することが可能となり、これらのデバイス特性の向上にも寄与し得る。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】有機ＥＬ素子の層構造の一例を模式的に示した概略断面図である。
【図２】実施例の耐溶媒性試験における吸光度測定結果を示したグラフである。
【図３】実施例１及び比較例１の有機ＥＬ素子の電流密度−電圧特性を示したグラフである。
【図４】実施例２及び比較例２の有機ＥＬ素子の電流密度−電圧特性を示したグラフである。
【図５】実施例３及び比較例３の有機ＥＬ素子の電流密度−電圧特性を示したグラフである。
【図６】実施例３及び比較例３の有機ＥＬ素子の外部量子効率−電流密度特性を示したグラフである。
【図７】実施例４の有機ＥＬ素子の電流効率−電流密度特性を示したグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明について、より詳細に説明する。
本発明に係る有機膜は、上記（化１）に示すＨＡＴＣＮに、上記（化４）に示すキノキサリン骨格又は上記（化５）に示す２，３−ジシアノピラジン骨格を含む化合物が添加された塗布膜である。
キノキサリン及び２，３−ジシアノピラジンは、いずれも、ＨＡＴＣＮの骨格に類似する化合物であり、本発明においては、このような類似骨格を含む化合物をＨＡＴＣＮと混合することにより、良好な塗布膜を形成することができる。
【００２３】
強い電子アクセプタ性を示す有機材料であるＨＡＴＣＮは、ヘキサアザトリフェニレン（ＨＡＴ）骨格にシアノ基が６つ付いた構造であり、平面性が高く、キシレンやクロロホルムには不溶である一方で、アセトニトニルやＴＨＦ等の極性溶媒には溶解性を示す。
しかしながら、ＨＡＴＣＮの塗布溶媒としてアセトニトリルを用いた場合、ＨＡＴＣＮ単膜では結晶化が起きる。
これに対して、本発明においては、ＨＡＴＣＮにこれと類似の骨格を含む上記のような化合物を混合することにより、ＨＡＴＣＮの成膜性を向上させると同時に、電気特性の低下を抑制することを可能とした。
また、上記のようなＨＡＴＣＮに類似する骨格を含む化合物を混合することにより、上述したＡＤ−ＴＭＰのように加熱等により架橋させることなく、成膜性の向上を図ることができ、かつ、上層の塗布に用いられる溶媒に対する耐溶媒性が得られる。
【００２４】
本発明に係る有機膜に用いられる上記のようなＨＡＴＣＮに類似する骨格を有する化合物の例を下記に示す。
【００２５】
【化６】
2015153864.tif 000007
【００２６】
【化７】
2015153864.tif 000008
【００２７】
【化８】
2015153864.tif 000009
【００２８】
【化９】
2015153864.tif 000010
【００２９】
【化１０】
2015153864.tif 000011
【００３０】
本発明に係る有機膜においては、上記のような化合物を添加してＨＡＴＣＮの溶解性を制御することにより、ＨＡＴＣＮを含む該有機膜に隣接する上層の塗布積層が可能となり、有機ＥＬ素子や有機薄膜太陽電池等の有機電子デバイス、特に、マルチフォトンエミッション型有機ＥＬ素子を塗布プロセスにて作製することが可能となる。
【００３１】
図１に、上記のような有機膜を有する本発明に係る有機電子デバイスの層構造は、１対の電極間に少なくとも１層の有機層を備えた構造からなる。有機ＥＬ素子を例として、これらの層構造を具体的に示すと、例えば、図１に示すように、陽極１／有機膜２／ホール輸送層３／発光層４／電子注入層５／陰極６の順に積層された層構成が挙げられる。このような層構成において、有機膜２は電子アクセプタ性を発揮し、ホール注入層として機能する。
このように、本発明に係る有機膜は、有機ＥＬ素子において、電子アクセプタ層としてホール注入層に好適に適用することができる。
【００３２】
また、本発明に係る有機電子デバイスは、複数の発光ユニットが電荷発生層を介して直列式に積層されたマルチフォトンエミッション型有機ＥＬ素子であってもよく、例えば、陽極／発光ユニット／電荷発生層／発光ユニット／陰極等の層構造が挙げられる。このような有機ＥＬ素子においては、本発明に係る有機膜は、前記電荷発生層における電子アクセプタ層として機能し得る。
すなわち、本発明に係る有機膜は、電子アクセプタ層として電荷発生層にも好適に適用することができる。
また、有機薄膜太陽電池にも、同様にして適用することが可能である。
【００３３】
なお、本発明に係る有機膜が適用される有機ＥＬ素子は、上記層構造に限定されるものではなく、電子輸送層、ホール輸送発光層、電子輸送発光層等をも含む公知の積層構造であってもよい。
また、前記有機ＥＬ素子の構成層のうち、本発明に係る有機膜以外の層に用いられる成膜材料は、特に限定されるものではなく、公知のものから適宜選択して用いることができ、低分子系又は高分子系のいずれであってもよい。
また、前記有機ＥＬ素子の各構成層の膜厚は、各層同士の適応性や求められる全体の層厚さ等を考慮して、適宜状況に応じて定められるが、通常、０．５ｎｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。
【００３４】
上記各層の形成方法は、蒸着法、スパッタリング法等などのドライプロセスでもよいが、本発明は、特に、塗布プロセスにより形成可能である点に利点を有しており、スピンコート法、インクジェット法、キャスティング法、ディップコート法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、ナノパーティクル分散液を用いる方法等のウェットプロセスを好適に適用することができる。
これにより、簡便で効率的な塗布成膜による有機電子デバイスの作製が可能となる。
【００３５】
また、電極は、公知の材料及び構成でよく、特に限定されるものではない。例えば、有機ＥＬ素子の場合には、ガラスやポリマーからなる透明基板上に透明導電性薄膜が形成されたものが用いられ、ガラス基板に陽極として酸化インジウム錫（ＩＴＯ）電極が形成された、いわゆるＩＴＯ基板が一般的である。一方、陰極は、Ａｌ等の仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属や合金、導電性化合物により構成される。
【実施例】
【００３６】
以下、本発明を実施例に基づきさらに具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。なお、下記実施例においては、ＨＡＴＣＮに対する混合物としてＰＰＤＮを代表例として用いたものを示す。
【００３７】
（溶解性試験）
ＰＰＤＮ１ｍｇにＴＨＦ、アセトニトリル、クロロベンゼン、ｐ−キシレン各１ｍｌを加え、４０℃で５時間加熱撹拌を行い、溶解性を調べた。
なお、比較のため、架橋性化合物であるＡＤ−ＴＭＰについても同様にして溶解性を調べた。
【００３８】
その結果、いずれも、各溶媒に対して溶解性を示した。ＨＡＴＣＮは、クロロベンゼンやｐ−キシレンに対して溶解性を示さないため、ＨＡＴＣＮとＰＰＤＮは、ＴＨＦ又はアセトニトリル溶液として混合可能であると言える。
【００３９】
（耐溶媒性試験）
石英基板上に９０ｗｔ％ＨＡＴＣＮと１０ｗｔ％ＰＰＤＮの混合物のアセトニトリル溶液を塗布し、１８０℃で１０分間熱処理して成膜した。その上に、ドナー層（ホール輸送層）の塗布溶媒として用いられるｐ−キシレンをスピンコート（空スピンコート）し、その前後における吸光度を測定することにより、塗布膜の耐溶媒性を評価した。
【００４０】
図２に、吸光度の測定結果のグラフを示す。
図２から分かるように、空スピンコートの前後で吸光度の変化は見られなかった。このことから、塗布膜への溶媒の浸透は抑制され、ｐ−キシレンに対する耐溶媒性が認められた。
【００４１】
（塗布型有機ＥＬ素子の作製１）
［実施例１］
図１に示すような層構成からなる有機ＥＬ素子を作製した。ガラス基板上にＩＴＯを備えた透明電極（陽極）１の上に、電子アクセプタＨＡＴＣＮ（９０ｗｔ％）とＰＰＤＮ（１０％）の混合物からなる有機膜２と、ホール輸送層３としてインターレイヤー（ＩＬ）（住友化学株式会社製ＨＴ−１２）と、発光層４として緑色蛍光ポリマーＦ８ＢＴ（住友化学株式会社製）、電子注入層５としてリチウム−８−キノリノラート（Ｌｉｑ）を順にスピンコートにより成膜した。その上に、陰極６としてＡｌを真空蒸着した。
なお、スピンコートに用いた溶液における溶媒は、ＨＡＴＣＮ（９０ｗｔ％）とＰＰＤＮ（１０％）の混合物はＴＨＦ、ＩＬ及びＦ８ＢＴはｐ−キシレン、Ｌｉｑは２−エトキシエタノールを用いた。
上記のようにして作製した有機ＥＬ素子の層構成を簡略化して表すと、ＩＴＯ（１３０ｎｍ）／ＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ（１０ｎｍ）／ＩＬ（２０ｎｍ）／Ｆ８ＢＴ（８０ｎｍ）／Ｌｉｑ（１ｎｍ）／Ａｌ（１００ｎｍ）である。
【００４２】
［比較例１］
上記実施例１におけるＰＰＤＮに代えて、ＡＤ−ＴＭＰを用い、それ以外については実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子を作製した。
上記のようにして作製した有機ＥＬ素子の層構成を簡略化して表すと、ＩＴＯ（１３０ｎｍ）／ＨＡＴＣＮ：ＡＤ−ＴＭＰ（１０ｎｍ）／ＩＬ（２０ｎｍ）／Ｆ８ＢＴ（８０ｎｍ）／Ｌｉｑ（１ｎｍ）／Ａｌ（１００ｎｍ）である。
【００４３】
図３に、上記実施例１（ＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ）及び比較例１（ＨＡＴＣＮ：ＡＤ−ＴＭＰ）の電流密度−電圧特性のグラフを示す。
図３に示したグラフからも分かるように、ＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ混合物からなる有機膜を用いた素子（実施例１）は、ＨＡＴＣＮ：ＡＤ−ＴＭＰ混合塗布膜を用いた素子（比較例１）と比較して、より低電圧化を示すことが認められた。また、ＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ混合物からなる有機膜上に、ｐ−キシレン溶液により塗布積層した場合においても、良好な電荷発生特性を発現していると言える。
【００４４】
（塗布型有機ＥＬ素子の作製２）
［実施例２］
図１に示すような層構成からなる有機ＥＬ素子を作製した。ガラス基板上にＩＴＯを備えた透明電極（陽極）１の上に、電子アクセプタＨＡＴＣＮ（９０ｗｔ％）とＰＰＤＮ（１０％）の混合物からなる有機膜２と、ホール輸送層３としてｐｏｌｙＴＰＤと、発光層４として青色蛍光ポリマーＢｌｕｅ１（住友化学株式会社製）、電子注入層５として炭酸セシウム（Ｃｓ2ＣＯ3）を順にスピンコートにより成膜した。その上に、陰極６としてＡｌを真空蒸着した。
なお、スピンコートに用いた溶液における溶媒は、ＨＡＴＣＮ（９０ｗｔ％）とＰＰＤＮ（１０％）の混合物はＴＨＦ、ｐｏｌｙＴＰＤはクロロベンゼン、Ｂｌｕｅ１はｐ−キシレン、Ｃｓ2ＣＯ3は２−エトキシエタノールを用いた。
上記のようにして作製した有機ＥＬ素子の層構成を簡略化して表すと、ＩＴＯ（１３０ｎｍ）／ＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ（１０ｎｍ）／ｐｏｌｙＴＰＤ（２０ｎｍ）／Ｂｌｕｅ１（７０ｎｍ）／Ｃｓ2ＣＯ3（１ｎｍ）／Ａｌ（１００ｎｍ）である。
なお、ｐｏｌｙＴＰＤの構造式を下記に示す。
【００４５】
【化１１】
2015153864.tif 000012
【００４６】
［比較例２］
上記実施例１におけるＰＰＤＮに代えて、ＡＤ−ＴＭＰを用い、それ以外については実施例２と同様にして、有機ＥＬ素子を作製した。
上記のようにして作製した有機ＥＬ素子の層構成を簡略化して表すと、ＩＴＯ（１３０ｎｍ）／ＨＡＴＣＮ：ＡＤ−ＴＭＰ（１０ｎｍ）／ｐｏｌｙＴＰＤ（２０ｎｍ）／Ｂｌｕｅ１（７０ｎｍ）／Ｃｓ2ＣＯ3（１ｎｍ）／Ａｌ（１００ｎｍ）である。
【００４７】
図４に、上記実施例２（ＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ）及び比較例２（ＨＡＴＣＮ：ＡＤ−ＴＭＰ）の電流密度−電圧特性のグラフを示す。
図４に示したグラフからも分かるように、ＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ混合物からなる有機膜を用いた素子（実施例２）は、ＨＡＴＣＮ：ＡＤ−ＴＭＰ混合塗布膜を用いた素子（比較例２）と比較して、より低電圧化を示すことが認められた。また、ＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ混合物からなる有機膜上に、クロロベンゼン溶液により塗布積層した場合においても、良好な電荷発生特性を発現していると言える。
【００４８】
（塗布型有機ＥＬ素子の作製３）
［実施例３］
ガラス基板上にＩＴＯを備えた透明電極（陽極）の上に、電子アクセプタＨＡＴＣＮ（９０ｗｔ％）とＰＰＤＮ（１０％）の混合物からなる有機膜と、ホール輸送層としてｐｏｌｙＴＰＤと、発光層として青色低分子蛍光材料ＤＰＡＶＢｉ（１０ｗｔ％）：ＴＰＴ１（４５ｗｔ％）：ＴｒｉｓＰＣｚ（４５ｗｔ％）、電子輸送層としてＴＰＢｉを順にスピンコートにより成膜した。その上に、ＬｉｑとＡｌを真空蒸着した。
なお、スピンコートに用いた溶液における溶媒は、ＨＡＴＣＮ（９０ｗｔ％）とＰＰＤＮ（１０％）の混合物はアセトニトリル、ｐｏｌｙＴＰＤはクロロベンゼン、ＤＰＡＶＢｉ：ＴＰＴ１：ＴｒｉｓＰＣｚは酢酸ブチル、ＴＰＢｉはメタノールを用いた。
上記のようにして作製した有機ＥＬ素子の層構成を簡略化して表すと、ＩＴＯ（４５ｎｍ）／ＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ（１０ｎｍ）／ｐｏｌｙＴＰＤ（４０ｎｍ）／ＤＰＡＶＢｉ：ＴＰＴ１：ＴｒｉｓＰＣｚ（３０ｎｍ）／ＴＰＢｉ（５０ｎｍ）／Ｌｉｑ（３ｎｍ）／Ａｌ（１００ｎｍ）である。
なお、ＴＰＢｉの構造式を下記に示す。
【００４９】
【化１２】
2015153864.tif 000013
【００５０】
［比較例３］
上記実施例３におけるＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮに代えて、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ（ヘレウス株式会社製CleviousTM Ｐ ＶＰ ＣＨ８０００）を用い、それ以外については実施例３と同様にして、有機ＥＬ素子を作製した。
上記のようにして作製した有機ＥＬ素子の層構成を簡略化して表すと、ＩＴＯ（４５ｎｍ）／ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ（３０ｎｍ）／ＰｏｌｙＴＰＤ（４０ｎｍ）／ＤＰＡＶＢｉ：ＴＰＴ１：ＴｒｉｓＰＣｚ（３０ｎｍ）／ＴＰＢｉ（５０ｎｍ）／Ｌｉｑ（３ｎｍ）／Ａｌ（１００ｎｍ）である。
【００５１】
図５，６に、上記実施例３（ＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ）及び比較例３（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）の電流密度−電圧特性及び外部量子効率−電流密度特性のグラフをそれぞれ示す。
図５，６に示したグラフからも分かるように、ＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ混合物からなる有機膜を用いた素子（実施例３）は、汎用的なホール注入材料であるＰＥＤＯＴ：ＰＳＳを用いた素子（比較例３）と比較して、より低電圧化を示し、効率も向上することが認められた。
【００５２】
（塗布型有機ＥＬ素子の作製４）
［実施例４］
２つの発光ユニットを備えたマルチフォトンエミッション型有機ＥＬ素子を作製した。ガラス基板上にＩＴＯを備えた透明電極（陽極）の上に、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ、ホール輸送ポリマー（ＩＬ）、緑色蛍光ポリマーＦ８ＢＴ、ＺｎＯ微粒子、ＰＥＩＥ（重量平均分子量約７０，０００）、ＨＡＴＣＮ（９０ｗｔ％）とＰＰＤＮ（１０％）の混合物からなる有機膜、ホール輸送ポリマー（ｐｏｌｙＴＰＤ）、緑色蛍光ポリマーＦ８ＢＴ、Ｌｉｑを順にスピンコートにより成膜した。その上に、Ａｌを真空蒸着した。
なお、スピンコートに用いた溶液における溶媒は、ＨＡＴＣＮ（９０ｗｔ％）とＰＰＤＮ（１０％）の混合物はアセトニトリル、ＩＬ及びＦ８ＢＴはｐ−キシレン、ＺｎＯは２−エトキシエタノール：クロロホルム＝４：１、ＰＥＩＥ及びＬｉｑは２−エトキシエタノールを用いた。
上記のようにして作製した有機ＥＬ素子の層構成を簡略化して表すと、ＩＴＯ（１３０ｎｍ）／ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ（３０ｎｍ）／ＩＬ（２０ｎｍ）／Ｆ８ＢＴ（１２０ｎｍ）／ＺｎＯ（１０ｎｍ）／ＰＥＩＥ（２０ｎｍ）／ＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ（１０ｎｍ）／ｐｏｌｙＴＰＤ（２０ｎｍ）／Ｆ８ＢＴ（８０ｎｍ）／Ｌｉｑ（１ｎｍ）／Ａｌ（１００ｎｍ）である。
なお、ＰＥＩＥの構造式を下記に示す。
【００５３】
【化１３】
2015153864.tif 000014
【００５４】
図７に、上記実施例４の電流効率−電流密度特性のグラフを示す。図７のグラフに示したように、ＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ混合物からなる有機膜を中間の電荷発生層に用いて、２つのＥＬユニットを塗布積層したマルチフォトンエミッション型有機ＥＬ素子は、積層した２つのＥＬユニットからの発光により高い電流効率が得られることが認められた。
このことから、塗布成膜したＨＡＴＣＮ：ＰＰＤＮ混合物からなる有機膜は、マルチフォトンエミッション型有機ＥＬ素子における中間の電荷発生層における電子アクセプタ層として良好に機能し得ると言える。
【符号の説明】
【００５５】
１  陽極
２  有機膜
３  ホール輸送層
４  発光層
５  電子注入層
６  陰極
【図１】
2015153864.tif 000019
【図２】
2015153864.tif 000020
【図３】
2015153864.tif 000021
【図４】
2015153864.tif 000022
【図５】
2015153864.tif 000023
【図６】
2015153864.tif 000024
【図７】
2015153864.tif 000025