(57)【要約】【課題】電解された溶液の気液分離に際し、装置の高さを抑え、効果的にミスト除去を行うことを可能にする。【解決手段】電解された溶液が導入されて気液分離され、分離された溶液が排出される開口部と分離されたガスを排出する分離ガス排出部とを有するサイクロン式気液分離部と、  前記溶液が貯留される貯留部を有し、サイクロン式気液分離部は、分離された溶液が前記貯留部の溶液溜め部の高さ範囲内で前記開口部を通じて前記溶液溜め部に排出されるように少なくとも下方側の一部が前記貯留部内に設置されており、電解された溶液を貯留部に設置されたサイクロン式気液分離部で気液分離し、分離された溶液をそのまま貯留部内に落下させて貯留し、サイクロン式気液分離部で分離されたガスをガス希釈し、貯留部に接続された貯留部排気ラインを通してガスを移送して排ガス処理を行う。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電解された溶液が導入されて気液分離され、分離された溶液が排出される開口部と分離されたガスを排出する分離ガス排出部とを有するサイクロン式気液分離部と、
前記溶液が貯留される貯留部と、を有し、
前記サイクロン式気液分離部は、分離された溶液が前記貯留部の溶液溜め部の高さ範囲内で前記開口部を通じて前記溶液溜め部に排出されるように少なくとも下方側の一部が前記貯留部内に設置されていることを特徴とする気液分離溶液貯留装置。
【請求項２】
前記分離ガス排出部に接続され、前記分離ガス排出部から排出された分離ガスを前記貯留部内に送る分離ガス貯留部導入ラインを有することを特徴とする請求項１に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項３】
前記サイクロン式気液分離部にパージガスを導入するパージガス導入ラインが設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項４】
前記パージガス導入ラインが筒状に形成されて前記サイクロン式気液分離部内に突出しており、前記分離ガス貯留部導入ラインの外側に間隔を置いて外筒状の前記分離ガス排出部が設けられていることを特徴とする請求項３記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項５】
前記開口部が、前記貯留部の溶液溜め部の溶液設定高さ位置よりも低い箇所に位置し、前記分離ガス排出部が前記貯留部よりも高い箇所に位置していることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項６】
前記サイクロン式気液分離部は、分離部本体内部が直胴形状を有していることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項７】
前記貯留部は、前記貯留部内のガスを排気する貯留部排気ラインと前記貯留部内に希釈ガスを送る貯留部用希釈ガス供給ラインとが接続されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項８】
前記貯留部は、ガス移動用および液移動用を除いて封止されていることを特徴とする請求項７記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項９】
前記分離ガス排出部に接続され、前記分離ガス排出部から排出された分離ガスを前記貯留部排気ラインに送る分離部排気ラインを有することを特徴とする請求項７または８に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１０】
前記貯留部排気ラインに対する前記分離部排気ラインの接続地点よりも上流側で前記貯留部排気ラインに希釈ガスを導入する排気ライン用希釈ガス供給ラインが接続されていることを特徴とする請求項９に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１１】
前記貯留部排気ラインと前記貯留部との間に第２のサイクロン式気液分離部が介設されており、前記第２のサイクロン式気液分離部では、分離された溶液が排出される開口部を有し、前記開口部を通して、分離された溶液が前記貯留部の溶液溜め部に排出されるように設置されていることを特徴とする請求項７〜１０のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１２】
前記分離ガス排出部に接続され、前記分離ガス排出部から排出された分離ガスを前記第２のサイクロン式気液分離部に導入する分離ガス分離部導入ラインを有することを特徴とする請求項１１記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１３】
前記分離ガス分離部導入ライン内に前記第２のサイクロン式気液分離部に供給されるパージガスを導入する第２分離部用パージガス導入部が設けられていることを特徴とする請求項１２記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１４】
前記第２のサイクロン式分離部は、分離部本体内部が下方側において内径を絞った絞り部を有することを特徴とする請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１５】
前記貯留部排気ラインにミスト除去用分離部としてミストエリミネーターまたはデミスターが介設されていることを特徴とする請求項７〜１４のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１６】
前記ミストエリミネーターまたはデミスターの上流側と下流側に位置する貯留部排気ラインの一方または両方に希釈ガスを導入するミスト除去用分離部側希釈ガス導入ラインを有することを特徴とする請求項１５に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１７】
前記貯留部排気ラインにミスト除去用サイクロン式気液分離部が介設されていることを特徴とする７〜１６のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１８】
前記ミスト除去用サイクロン式気液分離部が、前記貯留部排気ラインに多段に介設されていることを特徴とする請求項１７記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１９】
前記ミスト除去用のサイクロン式気液分離部の上流側と下流側に位置する貯留部排気ラインの一方または両方に、希釈ガスを導入するミスト除去用分離部側希釈ガス導入ラインを有することを特徴とする請求項１７または１８に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項２０】
前記ミスト除去用サイクロン式気液分離部は、分離部本体内部が下方側において内径を絞った絞り部を有することを特徴とする請求項１７〜１９のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項２１】
硫酸を含む溶液を電解する電解装置と、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置と、前記電解装置から前記気液分離溶液貯留装置のサイクロン式気液分離部に電解後の溶液を送る送りラインと、前記気液分離溶液貯留装置の貯留部内の溶液を電解用に前記電解装置に送る戻りラインとを有することを特徴とする過硫酸生成システム。
【請求項２２】
電解されて生成された電解生成ガスを含む溶液を少なくとも下方側が貯留部内に設置されたサイクロン式気液分離部で気液分離し、分離された溶液はそのまま貯留部内に落下させて貯留し、分離されたガスは不活性ガスで希釈し、希釈されたガスに対して排ガス処理を行うことを特徴とする電解溶液の気液分離方法。
【請求項２３】
サイクロン式気液分離部で分離されたガスを前記貯留部内、前記貯留部排気ライン内もしくは前記貯留部排気ラインに設けられた第２のサイクロン式気液分離部に導入することを特徴とする請求項２２記載の電解溶液の気液分離方法。
【請求項２４】
前記排ガス処理では、分離ガスからミスト除去を行うことを特徴とする請求項２２または２３に記載の電解溶液の電解溶液の気液分離方法。
【請求項２５】
前記排ガス処理では、分離ガスのオゾン分解を行うことを特徴とする請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の電解溶液の気液分離方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、電解した溶液を気液分離して溶液を貯留する気液分離溶液貯留装置、過硫酸生成システムおよび電解溶液の気液分離方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電解された溶液を気液分離する従来技術として特許文献１に開示された装置がある。同文献に示された装置と同等の装置として図１７に示す装置が挙げられる。重力分離式気液分離器の上部側にはサイクロン式ミスト分離機構が設けられている。なお、同図では、洗浄機への液供給機構、例えばポンプ、フィルターなどは図示していない。
【０００３】
以下に、図１７に示す装置について説明する。
電解セル１００を出た電解液を気液分離器１０１に導入し、電解液を重力分離する。分離ガスの主成分は水素と酸素であり、その比率はほぼ２対１なので、爆発の危険性があり、これを直ちに窒素で希釈することが必要である。希釈用窒素供給源の圧力を利用して、気液分離器１０１で分離ガス中のミストを旋回流で遠心分離してから排ガス処理工程へ送る。気液分離器１０１で貯留されて貯留槽１０２へ送られる液中には少量の水素／酸素混合ガスが同伴するので、貯留槽１０２内に爆発性ガスが充満する可能性があり、これを窒素ガスでパージする。パージ後のガスは、気液分離器からのガスとともに排ガス処理工程へ送られる。貯留槽１０２内の溶液はポンプ１０３で電解セルに戻し、さらに電解を行うことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２６２５３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、前記した従来技術には次の課題がある。
（１）気液分離器から貯留槽へ液が重力流下するための落差が必要であり、電解硫酸装置を収納する筐体の所要高さを押し上げる要因の一つになっている。
（２）流下配管での圧力損失のため、電解セル循環液量が多いと、気液分離器内の液面が上昇する。（例えばΔｈが３０〜１００ｍｍ）。このため、液面上昇分を見込んで気液分離器を設計しなければならない。これもシステム全体の高さを押し上げる要因の一つになっている。
（３）電解液の循環を停止すると、液面上昇分の液が貯留槽に落ちるため、貯留槽の液面が上昇する。（例えばΔｈが１５〜５０ｍｍ）。このため、貯留槽内の液位がオーバーフローしないように貯留槽を設計しなければならない。
（４）気液分離器上部の窒素ガスサイクロンだけでは厳密には完全にミスト分離ができないことがあり、その場合、排ガス処理工程へ微量の硫酸を含むミストを同伴し、長時間運転に伴いダクト内での液垂れなどのトラブルが懸念される。
【０００６】
本発明は、上記事情を背景としてなされたものであり、装置構造（高さなど）の制約を解消し、オーバーフローや液垂れなどの弊害を防止することができる気液分離溶液貯留装置、過硫酸生成システムおよび電解溶液の気液分離方法を提供することを目的の一つとしている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち本発明の気液分離溶液貯留装置のうち、第１の本発明は、電解された溶液が導入されて気液分離され、分離された溶液が排出される開口部と分離されたガスを排出する分離ガス排出部とを有するサイクロン式気液分離部と、
前記溶液が貯留される貯留部と、を有し、
前記サイクロン式気液分離部は、分離された溶液が前記貯留部の溶液溜め部の高さ範囲内で前記開口部を通じて前記溶液溜め部に排出されるように少なくとも下方側の一部が前記貯留部内に設置されていることを特徴とする。
第２の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１の本発明において、前記分離ガス排出部に接続され、前記分離ガス排出部から排出された分離ガスを前記貯留部内に送る分離ガス貯留部導入ラインを有することを特徴とする。
第３の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１または第２の本発明において、前記サイクロン式気液分離部にパージガスを導入するパージガス導入ラインが設けられていることを特徴とする。
第４の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第３の本発明において、前記パージガス導入ラインが筒状に形成されて前記サイクロン式気液分離部内に突出しており、前記分離ガス導入ラインの外側に間隔を置いて外筒状の前記分離ガス排出部が設けられていることを特徴とする。
第５の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１〜第４の本発明のいずれかにおいて、前記開口部が、前記貯留部の溶液溜め部の溶液設定高さ位置よりも低い箇所に位置し、前記分離ガス排出部が前記貯留部よりも高い箇所に位置していることを特徴とする。
第６の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１〜第５の本発明のいずれかにおいて、前記サイクロン式気液分離部は、分離部本体内部が直胴形状を有していることを特徴とする。
第７の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１〜第６の本発明のいずれかにおいて、前記貯留部は、前記貯留部内のガスを排気する貯留部排気ラインと前記貯留部内に希釈ガスを送る貯留部用希釈ガス供給ラインとが接続されていることを特徴とする。
第８の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第７の本発明において、前記貯留部は、ガス移動用および液移動用を除いて封止されていることを特徴とする。
第９の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第７または第８の本発明において、前記分離ガス排出部に接続され、前記分離ガス排出部から排出された分離ガスを前記貯留部排気ラインに送る分離部排気ラインを有することを特徴とする。
第１０の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第９の本発明において、前記貯留部排気ラインに対する前記分離部排気ラインの接続地点よりも上流側で前記貯留部排気ラインに希釈ガスを導入する排気ライン用希釈ガス供給ラインが接続されていることを特徴とする。
第１１の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第７〜第１０の本発明のいずれかにおいて、前記貯留部排気ラインと前記貯留部との間に第２のサイクロン式気液分離部が介設されており、前記第２のサイクロン式気液分離部では、分離された溶液が排出される開口部を有し、前記開口部を通して、分離された溶液が前記貯留部の溶液溜め部に排出されるように設置されていることを特徴とする。
第１２の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１１の本発明において、前記分離ガス排出部に接続され、前記分離ガス排出部から排出された分離ガスを前記第２のサイクロン式気液分離部に導入する分離ガス分離部導入ラインを有することを特徴とする。
第１３の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１２の本発明において、前記分離ガス分離部導入ライン内に前記第２のサイクロン式気液分離部に供給されるパージガスを導入する第２分離部用パージガス導入部が設けられていることを特徴とする。
第１４の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１１〜第１３の本発明のいずれかにおいて、前記第２のサイクロン式気液分離部は、分離部本体内部が下方側において内径を絞った絞り部を有することを特徴とする。
第１５の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第７〜第１４の本発明のいずれかにおいて、前記貯留部排気ラインにミスト除去用分離部としてミストエリミネーターまたはデミスターが介設されていることを特徴とする。
第１６の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１５の本発明において、前記ミストエリミネーターまたはデミスターの上流側と下流側に位置する貯留部排気ラインの一方または両方に希釈ガスを導入するミスト除去用分離部側希釈ガス導入ラインを有することを特徴とする。
第１７の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第７〜第１６の本発明のいずれかにおいて、前記貯留部排気ラインにミスト除去用サイクロン式気液分離部が介設されていることを特徴とする。
第１８の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１７の本発明において、前記ミスト除去用サイクロン式気液分離部が、前記貯留部排気ラインに多段に介設されていることを特徴とする。
第１９の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１７または第１８の本発明において、前記ミスト除去用のサイクロン式気液分離部の上流側と下流側に位置する貯留部排気ラインの一方または両方に、希釈ガスを導入するミスト除去用分離部側希釈ガス導入ラインを有することを特徴とする。
第２０の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１７〜第１９の本発明のいずれかにおいて、前記ミスト除去用サイクロン式気液分離部は、分離部本体内部が下方側において内径を絞った絞り部を有することを特徴とする。
【０００８】
第２１の本発明の過硫酸生成システムは、硫酸を含む溶液を電解する電解装置と、第１〜第２０の本発明のいずれかに記載の気液分離溶液貯留装置と、前記電解装置から前記気液分離溶液貯留装置のサイクロン式気液分離部に電解後の溶液を送る送りラインと、前記気液分離溶液貯留装置の貯留部内の溶液を電解用に前記電解装置に送る戻りラインとを有することを特徴とする。
【０００９】
第２２の本発明の電解溶液の気液分離方法は、電解されて生成された電解生成ガスを含む溶液を少なくとも下方側が貯留部内に設置されたサイクロン式気液分離部で気液分離し、分離された溶液はそのまま貯留部内に落下させて貯留し、分離されたガスは不活性ガスで希釈し、希釈されたガスに対して排ガス処理を行うことを特徴とする。
第２３の本発明の電解溶液の気液分離方法は、前記第２２の本発明において、サイクロン式気液分離部で分離されたガスを前記貯留部内、前記貯留部排気ライン内もしくは前記貯留部排気ラインに設けられた第２のサイクロン式気液分離部に導入することを特徴とする。
第２４の本発明の電解溶液の気液分離方法は、前記第２２または第２３の本発明において、前記排ガス処理では、分離ガスからミスト除去を行うことを特徴とする。
第２５の本発明の電解溶液の気液分離方法は、前記第２２〜第２４の本発明のいずれかにおいて、前記排ガス処理では、分離ガスのオゾン分解を行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
以上説明したように、本発明によれば、装置構造の制約を小さくして気液分離機構による装置のスペース増大を回避でき、電解された溶液を同伴ミストや気泡の発生を極力抑えた状態で相分離して溶液を貯留することができる。
また、本発明の過硫酸生成システムでは、前記溶液を電解装置へ循環させて過硫酸濃度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態のシステムを示す図である。
【図２】同じく、気液分離器の変更例を示す図である。
【図３】他の実施形態のシステムを示す図である。
【図４】さらに他の実施形態のシステムを示す図である。
【図５】本発明の一実施形態における排ガス処理工程に使用するシステムを示す図である。
【図６】同じく、排ガス処理工程に使用する他のシステムを示す図である。
【図７】同じく、排ガス処理工程に使用する他のシステムを示す図である。
【図８】同じく、排ガス処理工程に使用する他のシステムを示す図である。
【図９】同じく、排ガス処理工程に使用する他のシステムを示す図である。
【図１０】従来のシステムを示す図である。
【図１１】本発明の一実施例に使用されるシステムを示す図である。
【図１２】本発明の他の実施例に使用されるシステムを示す図である。
【図１３】本発明の他の実施例に使用されるシステムを示す図である。
【図１４】本発明の他の実施例に使用されるシステムを示す図である。
【図１５】本発明の他の実施例に使用されるシステムを示す図である。
【図１６】本発明の他の実施例に使用されるシステムを示す図である。
【図１７】従来のシステムを示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
（実施形態１）
以下に、本発明の一実施形態のシステムを図１に基づいて説明する。
気液分離溶液貯留装置１には、槽状とした貯留部２を有し、該貯留部２には、サイクロン式気液分離器３が取り付けられている。貯留部２は、サイクロン式気液分離器３の取り付け位置とガス用および溶液用の移動箇所を除いて封止されている。
サイクロン式気液分離器３は、筒状の分離部本体内部が直胴形状３Ｃを有しており、その下端側側面部に、サイクロン式気液分離器３で分離された溶液が排出される開口部３Ａが形成されている。分離された溶液は分離部本体内に滞留することなく開口部３Ａから分離部本体外に流出する。サイクロン式気液分離器３は、貯留部２の天板に取り付けられ、開口部３Ａが貯留部の溶液溜め部２Ａ内に位置しており、開口部３Ａの高さは、貯留部の溶液溜め部２Ａに貯留される溶液の設定高さよりも低い箇所に位置付けられている。
【００１３】
サイクロン式気液分離器３は、分離部本体内部が直胴形状３Ｃを有することで、圧損を生じることなく溶液を移動させることができる。通常のサイクロン式気液分離器では、下方側に絞り部分を有したものが多く使用されているが、絞り部分で圧損を生じるので、液流量が変化するとサイクロン内部の気液界面が上下に変化することになる。（例えばΔｈが３０〜１００ｍｍ）。直胴形状の構造では、微細な気泡の同伴があっても貯留部（貯留槽）内で重力分離されるので、液面変化が少ないという点で直胴型を採用するのが妥当である。
【００１４】
また、サイクロン式気液分離器３の開口部３Ａの上端の高さを溶液の設定高さよりも低くすることで、サイクロン式気液分離器３内のガスを封止し、液のみを貯留部２内に流入させるという効果がある。なお開口部３Ａの上端を貯留部２の底面から５〜２０ｍｍ程度の高さになるように構成するのが好ましい。これによりサイクロン内部の気液界面が下がってもサイクロン内部のガスの液封が切れることを防止できる。
【００１５】
サイクロン式気液分離器３の上部は、分離ガス排出部３Ｂが設けられており、分離ガス排出部３Ｂを除いて上部側が封止されている。分離ガス排出部３Ｂは、貯留部２の天板よりも高い位置に突き出している。これにより気液分離のための高さを貯留部２内部の高さも利用して確保することができ、装置の高さを低く抑えることができる。
【００１６】
貯留部２の外部には電解装置７を有しており、電解装置７で電解された溶液が送り出される出液側には溶液送りライン８Ａが接続されており、溶液送りライン８Ａの先端側はサイクロン式気液分離器３の上部側に、分離部本体の断面の接線方向に沿って接続されている。これにより溶液送りライン８Ａで送られる溶液がサイクロン式気液分離器３の分離部本体内に、胴部に沿って旋回しながら導入される。
貯留部２の溶液溜め部２Ａには、溶液溜め部２Ａの溶液を排出して電解装置７に送る溶液戻りライン８Ｂが接続されている。溶液戻りライン８Ｂには、送液ポンプ９が介設されており、溶液戻りライン８Ｂの先端側は電解装置７の入液側に接続されており、溶液戻りライン８Ｂで送られる溶液を電解に供することができる。溶液送りライン８Ａは本発明の送りラインに相当し、溶液戻りライン８Ｂは本発明の戻りラインに相当する。
【００１７】
電解装置７では、電極構成が特に限定されるものではないが、少なくとも陽極にはダイヤモンド電極を用いるのが望ましい。また、バイポーラ電極を有するものであってもよい。
気液分離溶液貯留装置１、電解装置７、送りライン８Ａおよび戻りライン８Ｂは、本発明の過硫酸生成システムの主構成になっている。
【００１８】
また、気液分離溶液貯留装置１では、サイクロン式気液分離器３の分離ガス排出部３Ｂに、分離ガス貯留部導入ライン４が接続されており、分離ガス貯留部導入ライン４の先端側は貯留部２の天板に接続されて貯留部２内空間に連通している。
貯留部２では、貯留部２内に希釈ガス（この実施形態では窒素ガス）を導入する貯留部用希釈ガス供給ライン５が接続されており、さらに貯留部２には、貯留部２内のガスを排気する貯留部排気ライン６が接続されている。貯留部排気ライン６で送られるガスは、排ガス処理工程２００に移送される。
【００１９】
次に、本実施形態におけるシステムの動作について説明する。
予め貯留部２内に設定高さの硫酸溶液を貯留し溶液溜め部２Ａを形成し、送液ポンプ９で溶液戻りライン８Ｂを通じて硫酸溶液を電解装置７に送り、電解装置７で電極に対し通電を行う。硫酸溶液の濃度は本発明として特に限定されるものではないが、例えば硫酸濃度が７０質量％以上のものを用いることができる。
【００２０】
硫酸溶液は、電解装置７内で電解されつつ通液され、溶液送りライン８Ａを通じてサイクロン式気液分離器３を介して貯留部２の溶液溜め部２Ａに送られて循環する。電解装置７で通液される溶液の通液線速度は、特に限定されるものではないが、例えば電極面と平行な方向で１〜１０，０００ｍ／ｈｒ．とすることができる。電解装置７では、電極表面での電流密度が１０〜１００，０００Ａ／ｍ２となるように通電するのが望ましく、硫酸溶液中に過硫酸が効率的に生成される。なお、電解に際し溶液の温度は特に限定されるものではないが、電解効率や電解液中酸化剤の自己分解を防ぐなどの理由で１０〜９０℃の温度で電解されるのが望ましい。
【００２１】
電解装置７では、電解によって溶液の温度が上がり、５〜２０℃程度高くなる。また、貯留部２に貯留された溶液の温度は特に限定されるものではないが、例えば５０〜８０℃に設定することができる。貯留部２内の溶液温度が高い場合、溶液戻りライン８Ｂに冷却器を設けて電解に適した温度にして電解装置７に送るようにしてもよい。
電解装置７では、電解によって主として水素と酸素とが発生し、さらに少量のオゾンや硫酸蒸気や水蒸気などが溶液に同伴されて溶液送りライン８Ａに送られる。
【００２２】
電解された溶液は溶液送りライン８Ａによって送られ、サイクロン式気液分離器３の上部側に導入される。サイクロン式気液分離器３では、導入された溶液は分離部本体内で旋回流を生じ、ガスが分離するとともに気液分離された溶液は、自重によって落下し、開口部３Ａを通じて溶液溜め部２Ａに流入する。なお、気液分離後も溶液中には少量の水素および酸素が残存して貯留部２内で滞留するため、貯留部用希釈ガス供給ライン５を通じて希釈ガス（不活性ガス、ここでは窒素ガス）を投入する。貯留部２内のガスは、貯留部用希釈ガス供給ライン５を通じて送られる希釈用窒素ガスによって貯留部排気ライン６へとパージされ、貯留部排気ライン６を通じて移送され、排ガス処理工程２００で所定の排ガス処理がなされる。
【００２３】
本実施形態では、貯留部２内に希釈用窒素ガスを投入するため、貯留部２から排出されるパージガスに硫酸蒸気や水蒸気が同伴される。送液ポンプ９と電解装置７との間に冷却器が設置されるなどして、電解装置７の入口温度は例えば５０℃に調整される。電解装置７では発熱があるので、電解装置７の出口温度は、例えば約６５℃になる。よって、貯留部２内の溶液温度は６０〜６５℃となる。このため貯留部２の上部側に投入された窒素ガスは６０〜６５℃に相当する硫酸蒸気や水蒸気を同伴して排ガス処理工程へ通気されることになる。  
なお、この実施形態では、貯留部２内に分離ガスが分離ガス貯留部導入ライン４を通じて貯留部２の上方側から導入されることで、分離ガスに同伴しているミストの一部を貯留部２内で重力分離することができる。
【００２４】
本実施形態によれば、半導体製造装置向け過硫酸溶液を製造する過硫酸生成ユニットにおいて、電解装置を出た気液混相流体を、同伴ミストや気泡の発生を極力抑えた状態で相分離するとともに、相分離された電解溶液を貯留することができる。貯留された電解溶液は、電解装置へ循環して過硫酸濃度を高めることができ、半導体ウエハ洗浄機などの要求に応じて洗浄機へ供給され、ウエハ処理に用いることができる。以下の各実施形態も同様である。
【００２５】
（気液分離器変更例１）
なお、サイクロン式気液分離器３では、下端部側面に開口部３Ａを有するものとして説明したが、開口部の形状は特に限定されるものではなく、開口部の形状を丸孔、三角形状、方形状などの各種形状の切り欠き（ノッチ構造）により構成することができる。また、開口部の下端を気液分離器の下端部よりも高い位置に設けるものであってもよく、複数の高さ位置に開口部を有するものであってもよい。開口部は、一つのみが形成されているものでもよく、またサイクロン式気液分離器３の周囲側壁に間隔をおいて複数が形成されているものであってもよい。気液分離器の下端部側面に開口部を有する場合、底面は有底でも無底でもよく、また孔空き底板で部分的に開口している構造でもよい。
【００２６】
また、サイクロン式気液分離器３の下端側の側面に開口部を設けず、貯留部２の底部に台座を設置して、台座上にサイクロン式気液分離器を、サイクロン式気液分離器３の底部と貯留部２の底面との間に開口構造を形成するように載置することで、サイクロン式気液分離器３から溶液溜め部２Ａの液移動が確実になされるようにしてもよい。この際の台座の形状は特に限定されるものではなく、サイクロン式気液分離器３の下端の一部または全部を支持するものであってもよい。
同様に、サイクロン式気液分離器３の下端側の側面に開口部を設けず、サイクロン式気液分離器３の下端が貯留部２の底面よりも上方に位置するように、サイクロン式気液分離器３を支持材で宙吊り支持することで気液分離器３の底部と貯留部２の底面との間に開口構造を形成して、サイクロン式気液分離器３から溶液溜め部２Ａの液移動がなされるようにしてもよい。サイクロン式気液分離器３は、貯留部２の天板に取り付けられているが、天板に取り付けるだけでは気液分離器３の重みで天板がたわんでしまうので支持材による支持が必要になる。支持材はサイクロン式気液分離器３の底部を支持してもよく、また、側面を支持するようにしてもよく、支持構造、支持位置などは特に限定されるものではない。
【００２７】
なお、貯留部２内の気液分離溶液の使用部への供給等により溶液溜め部２Ａの液面が下がることがあり、このとき、サイクロン式気液分離器３内の液面もこれに追随して下がる。気液分離器３内は加圧されているため図示していないが厳密にはサイクロン式気液分離器３内の液面の高さは溶液溜め部２Ａの液面の高さより若干低い状態で維持されている。ここで、サイクロン式気液分離器３内の液面が開口部３Ａの上端より低い位置まで下がると気液分離器３内のガスが開口部３Ａを通じて溶液溜め部２Ａに流出して液封が切れてしまう。よって、液封が切れないように開口部３Ａの高さを設定する必要があり、開口部３Ａの上端を貯留部２の底面から５〜２０ｍｍ程度の高さになるように構成するのが好ましい。
【００２８】
（気液分離器変更例２）
上記実施形態１では、サイクロン式気液分離器として分離部本体内が直胴型のものを用いたが、分離部本体内に絞り部を設けたものであってもよい。
図２のサイクロン式気液分離器３０は、分離部本体内の下方側に絞り部３０Ｃを有しており、絞り部３０Ｃの下部は気液分離した溶液が排出されるよう開口している。
分離部本体外の上部には、筒状のパージガス導入部３２が取り付けられており、パージガス導入部３２はさらに分離部本体内の上部側で下方に向けて突出している。
【００２９】
分離部本体内のパージガス導入部３２の周囲には、間隔を置いて筒状に形成した分離ガス排出部３０Ｂが設けられており、分離ガス排出部３０Ｂに分離ガス移送ライン３３が接続されて分離ガスの排出が可能になっている。分離ガス移送ライン３３は、貯留部２内に接続される場合、分離ガス貯留部導入ラインに相当する。分離ガス移送ライン３３は、貯留部排気ライン６に接続されるものであってもよく、貯留部排気ライン６に介設された、後述する第２のサイクロン式気液分離器に接続されるものであってもよい。
【００３０】
本変更例では、分離部本体に設けた溶液導入部３１を通じて分離部本体内に導入された溶液は、分離部本体内で旋回流を生じ、さらに絞り部３０Ｃで回転半径が小さくなることで、角速度を大きくして遠心力を大きくし、溶液に同伴する気泡をより効率的に分離することができる。絞り部３０Ｃは、一部または全部で下方に向けて次第に径が小さくなるテーパー形状とすることができる。絞り部３０Ｃの形状は特に限定されるものではないが、テーパー部の絞り角度３０〜４５°を好適な絞りとして示すことができる。
なお、本変更例のサイクロン式気液分離器３０では、絞り部分で圧損を生じるので、液流量が変化するとサイクロン内部の気液界面が上下に変化することになり（例えばΔｈが３０〜１００ｍｍ）、この点では不利である。
【００３１】
サイクロン式気液分離器３０の分離部本体内で気液分離された分離ガスは、分離ガス排出部３０Ｂから分離ガス移送ライン３３を通じて排出され、以降に排ガス処理がなされる。
また、サイクロン式気液分離器３０では、分離部本体内にパージガス導入部３２を通じてパージ用ガス（本変更例では窒素ガス）が導入される。パージ用ガスは小流量でサイクロン式気液分離器３０に供給される（例えば５〜１５ＮＬ／ｍｉｎ）。この目的は、電解液の循環を停止したときに水素／酸素混合ガスがサイクロン式気液分離器３０内部に滞留することを防ぐためである。パージガス流量が多いと窒素ガス消費量や排ガス処理風量が増えるので好ましくない。パージガス流量は、分解ガスの１／４〜１／３が目安である。
【００３２】
（実施形態２）
上記実施形態１では、貯留部２で分解ガス中のミストの重力分離を行っているが、これを採用しない構成とすることもできる。以下に、気液分離溶液貯留装置１Ａを有するシステムを図３に基づいて説明する。なお、実施形態１と同様の構成については、同一の符号を付し、一部においてその構成および作用の説明を省略または簡略化する。
貯留部２に取り付けられたサイクロン式気液分離器３では、分離ガス排出部３Ｂに分離部排気ライン１０が接続されており、分離部排気ライン１０の下流側は、貯留部排気ライン６に合流している。貯留部排気ライン６では、分離部排気ライン１０が合流する位置近傍の上流側で排気ライン用希釈ガス供給ライン１１が接続されている。
【００３３】
次に、本実施形態２の作用について説明する。
サイクロン式気液分離器３で気液分離された分離ガスは、分離ガス排出部３Ｂから分離部排気ライン１０を通して貯留部排気ライン６に送られる。貯留部排気ライン６では、排気ライン用希釈ガス供給ライン１１から希釈用ガス（本実施形態では窒素ガス）が導入され、分離部排気ライン１０から導入されるガスを希釈する。貯留部排気ライン６内のガスは排ガス処理工程２００で排ガス処理される。
【００３４】
なお、大半の希釈用ガスは、貯留部２に接続された貯留部排気ライン６に繋げて、サイクロン式気液分離器３で分離された分離ガスに合流させる。残りの少量の希釈ガスはパージ用として貯留部用希釈ガス供給ライン５を通して貯留部２内に導入する。希釈ガスの供給温度は２０〜２５℃で完全に乾燥している。貯留部用希釈ガス供給ライン５から導入されるガス量は少ないので、排ガス処理工程２００へ向かうガスが同伴する硫酸蒸気や水蒸気は大幅に少なくなる。
【００３５】
（実施形態３）
サイクロン式気液分離器３から排出された分離ガス中のミストをさらに分離するため、第２のサイクロン式気液分離器を設けることができる。この構成を図４に基づいて説明する。
なお、実施形態１と同様の構成については、同一の符号を付し、一部においてその構成および作用の説明を省略または簡略化する。
【００３６】
この実施形態の気液分離溶液貯留装置１Ｂでは、サイクロン式気液分離器３の分離ガス排出部３Ｂに分離ガス分離部導入ライン１３が接続されており、分離ガス分離部導入ライン１３の下流端は第２のサイクロン式気液分離器１４の上部側に分離部本体の断面の接線方向に沿って接続されている。また、分離ガス分離部導入ライン１３には、第２分離部用パージガス導入ライン１５が合流しており、希釈用ガス（この実施形態では窒素ガス）を分離ガス分離部導入ライン１３内に供給可能になっている。
【００３７】
第２のサイクロン式気液分離器１４は、分離部本体が筒状に形成され、分離部本体内部が下方側で絞られた絞り部１４Ｃを有している。分離部本体の下端には、分離された溶液が排出される開口部１４Ａが形成されており、該開口部１４Ａは、貯留部２の天板が開口されて形成されている。第２のサイクロン式気液分離器１４では、分離された溶液は分離部本体内に滞留させることなく開口部１４Ａから落下する。
【００３８】
第２のサイクロン式気液分離器１４では、分離部本体上部に分離ガス排出部１４Ｂが設けられており、分離ガス排出部１４Ｂに貯留部排気ライン６が接続されている。すなわち、貯留部２には、第２のサイクロン式気液分離器１４を介して貯留部排気ライン６が接続されている。
【００３９】
この実施形態では、サイクロン式気液分離器３で気液分離された分離ガスは、分離ガス排出部３Ｂ、分離ガス分離部導入ライン１３を通り、また第２分離部用パージガス導入ライン１５を通じて窒素ガスが供給される。分離ガス分離部導入ライン１３を通るガスは希釈用ガスとともに第２のサイクロン式気液分離器１４の上部側で分離部本体内に導入されて分離部本体内で旋回流が生じる。旋回流は、絞り部１４Ｃで回転半径が小さくなることで、角速度を大きくして遠心力を大きくし、ガスに同伴する気泡を効果的に分離することができる。絞り部１４Ｃは、一部または全部で下方に向けて次第に径が小さくなるテーパー形状とすることができる。気液分離された液分は、開口部１４Ａを通じて溶液溜め部２Ａに流下する。
【００４０】
なお、第２分離部用パージガス導入ライン１５で供給される希釈用ガスの流量を多く（例えば２００〜３００ＮＬ／ｍｉｎ）することで、これを動力源として第２のサイクロン式気液分離器１４で旋回流が生じ、サイクロン式気液分離器３から排出された分離ガスに同伴するミストを第２のサイクロン式気液分離器１４で効率よく分離することができる。第２分離部用パージガス導入ライン１５から導入されるパージガスの流量（２００〜３００ＮＬ／ｍｉｎ）は、水素ガス濃度を爆発下限界以下にするのに十分な量である必要がある。
サイクロン式気液分離器３における分離ガスは、硫酸蒸気および水蒸気の分圧は高くなっているが、これに２０〜２５℃の窒素ガスを混ぜるので、合流点において硫酸蒸気および水蒸気が凝縮してミストが発生し、これを第２のサイクロン式気液分離器１４において効果的に分離することができる。
【００４１】
なお、第２のサイクロン式気液分離器１４では、サイクロン式気液分離器３とは異なり、絞り部１４Ｃを設けるのが望ましい。第２のサイクロン式気液分離器１４から貯留部２に流下する液量は極めて少量なので圧損を考慮する必要はなく、絞りを与えて旋回の角速度を高めるのが有利である。絞りの程度は本発明としては特に限定されるものではないが、例えば絞り角度３０〜４５°を好適な絞りとして示すことができる。第２のサイクロン式気液分離器１４でミストが除去されたガスは、分離ガス排出部１４Ｂを通じて貯留部排気ライン６に送られる。
貯留部排気ライン６で送られたガスは排ガス処理工程２００で排ガス処理がなされる。
【００４２】
（実施形態Ａ）
次に、排ガス処理工程に用いる装置の例を図５に基づいて説明する。なお、前記各実施形態と同様の構成については、同一の符号を付し、一部においてその構成および作用の説明を省略または簡略化する。
なお、気液分離溶液貯留装置では、貯留部２に貯留部排気ライン６が接続され、貯留部２には、貯留部用希釈ガス供給ライン５が接続されて貯留部２内に希釈用ガス（ここでは窒素ガス）の供給が可能になっている。なお、この例では、気液分離溶液貯留装置が簡略に示されており、貯留部排気ライン６に第２のサイクロン式気液分離器などが介設されたものであってもよく、貯留部排気ライン６以降の構成を説明するためのものである。
【００４３】
貯留部排気ライン６には、ミストエミリネーター２０が介設されており、ミストエミリネーター２０の上下流の貯留部排気ライン６には、それぞれ配管状で希釈用ガス（この例では空気）を供給するエリミネーター側希釈ガス導入ライン１６、１７が合流している。エリミネーター側希釈ガス導入ライン１７が合流している地点よりも下流側の貯留部排気ライン６には、オゾン分解器５０が介設されており、オゾン分解器５０の下流側の貯留部排気ライン６は、排気ダクト２０１に接続されている。なお、オゾン分解器の代わりに水素ガス触媒酸化反応器を設けても良い。
【００４４】
上記実施形態では、貯留部２を出たガスにエリミネーター側希釈ガス導入ライン１６、１７によって乾燥空気を混ぜて、混合後の水素濃度が１ｖｏｌ％以下になるようにするのが望ましい。これは、空気中における水素の爆発限界濃度４ｖｏｌ％の４分の１を安全の目安としたものである。乾燥空気の水分量は０．７ＭＰａ（Ｇ）で露点１０℃の乾燥度（０．１６ｖｏｌ％）、あるいはそれ以下が望ましい。
【００４５】
乾燥空気として計装空気を用いると、通常０．１〜０．２ｖｏｌ％の水分を含んでいる。このため、貯留部出口ガス中に含まれる硫酸蒸気が水分と結合して硫酸ミストとして凝縮する。これを除くために、ミストエリミネーター２０を設ける。除去された液分は、ドレイン管２１よりドレインとして排出され、ドレインポットに回収される。気相から凝縮して生成する硫酸ミストは、粒子径が１〜２μｍ以下あるいはサブミクロンであり、ブラウン運動をするため、通過線速度の遅いタイプのミストエリミネーターが望ましい。これは慣性衝突によるミストエリミネーターよりも大型になる。そこで、乾燥空気全量を一度に混ぜてミストエリミネーターに通すとミストエリミネーターの容量が大きくなり過ぎるので、図８の装置は、これを２段に分け、間にミストエリミネーターを設置したものである。水素濃度とミストエリミネーター所要寸法との兼ね合いでエリミネーター側希釈ガス導入ライン１６によるＡｉｒとエリミネーター側希釈ガス導入ライン１７によるＡｉｒの分配を決める。
なお、本発明としてはミストエリミネーターの構成が特定のものに限定されるものではなく、既知のものを用いることができる。特には、ブラウン運動をする粒子をも捕捉できる原理のエリミネーターが好適に使用される。
【００４６】
なお、電解装置出口のガスはオゾンを高濃度で含む。窒素や空気で希釈してもなお濃度が高いので、オゾン分解器５０のオゾン分解触媒で分解した後、排気ダクト２０１より排気する。水素ガス触媒酸化反応器では反応温度が２００℃付近まで上昇するので、オゾンも同時に分解される。
実施形態１の装置では、希釈用窒素を全量貯留部に通しているので、貯留部２出口のガス中には比較的高濃度（例えば５〜１５ｍｇ／ｍ３）の硫酸蒸気が含まれることになる。これを空気希釈したときに発生するミストを除去するためにミストエリミネーターが必要になる。
【００４７】
ただし、前述の通り硫酸ミストの粒径はサブミクロン〜数ミクロン程度と小さく、また本装置で発生する硫酸ミストの大半（重量ベース）は数ミクロン以上と考えて、図６のように数ミクロン以上の粒子を衝突原理により除去可能であるデミスター２０Ａをミストエリミネーター２０に替えて用いることができる。ミストエリミネーターより小型であるデミスターを用いることにより装置の小型化を図ることができる。なお、デミスターのろ材は例えばＰＦＡ（ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂）のメッシュ構造のものを用いることができる。
あるいは、図７のように、ミストエリミネーターをサイクロン式気液分離器に置き換えて、省スペース、コストダウンを図ることもできる。この場合、図８のようにサイクロン式気液分離器を多段に設置しても良い。
さらに実施形態２および実施形態３の装置では、貯留部２に通す窒素量が少量なので、貯留部２の出口ガスが持ち出す硫酸蒸気は少ない。したがって、ミストエリミネーターやデミスターを省いて、図９に示すように、簡略化した排ガス処理工程にすることもできる。
【００４８】
（実施形態Ｂ）
図９に示す排ガス処理工程用のシステムを説明する。なお、前記各実施形態と同様の構成については、同一の符号を付し、一部においてその構成および作用の説明を省略または簡略化する。
この実施形態では、貯留部排気ライン６にデミスター２０Ａが介設されており、デミスター２０Ａの上流側、下流側の貯留部排気ライン６には、それぞれ希釈用ガス（この例では空気）を供給するミスト除去用分離部側希釈ガス導入ライン１６、１７が合流している。ミスト除去用分離部側希釈ガス導入ライン１７が合流している地点よりも下流側の貯留部排気ライン６には、オゾン分解器５０が介設されており、オゾン分解器５０の下流側では、貯留部排気ライン６は排気ダクト２０１に接続されている。
【００４９】
デミスター２０Ａの上流側の貯留部排気ライン６にはミスト除去用分離部側希釈ガス導入ライン１６を通じて乾燥空気が導入されてガスが希釈される。デミスター２０Ａでは、分離された液分は、ドレイン管２１を通じてドレインとして排出され、ドレインポットに回収される。液分を除去したガスはオゾン分解器５０でオゾン分解した後、貯留部排気ライン６を通じて排気ダクト２０１に移送される。希釈用の空気は、温度が２０〜２５℃で、水分量が０．１６ｖｏｌ％以下、すなわち、露点が大気圧下で−１７℃程度であるのが望ましい。
【００５０】
（実施形態Ｃ）
図７に示す排ガス処理工程用のシステムを説明する。なお、前記各実施形態と同様の構成については、同一の符号を付し、一部においてその構成および作用の説明を省略または簡略化する。
貯留部排気ライン６にミスト除去用サイクロン式気液分離部４０が介設されており、ミスト除去用サイクロン式気液分離部４０の上流側、下流側の貯留部排気ライン６には、それぞれ希釈用ガス（この例では空気）を供給するミスト除去用分離部側希釈ガス導入ライン２５、２６が合流している。ミスト除去用分離部側希釈ガス導入ライン２６が合流している地点よりも下流側の貯留部排気ライン６には、オゾン分解器５０が介設されており、オゾン分解器５０の下流側では、貯留部排気ライン６は排気ダクト２０１に接続されている。
【００５１】
ミスト除去用サイクロン式気液分離部４０の上流側の貯留部排気ライン６にはミスト除去用分離部側希釈ガス導入ライン２５を通じて乾燥空気が導入されてガスが希釈される。ミスト除去用サイクロン式気液分離部４０は分離部本体内に絞り部を設けて分離機能を高めることができ、分離された液分は、ドレイン管４１を通じてドレインとして排出され、ドレインポットに回収される。液分を除去したガスはオゾン分解器５０でオゾン分解した後、貯留部排気ライン６を通じて排気ダクト２０１に移送される。希釈用の空気は、温度が２０〜２５℃で、水分量が相対湿度５０％以下であるのが望ましい。
【００５２】
（実施形態Ｄ）
なお、ミスト除去用サイクロン式気液分離部は、前述したように貯留部排気ライン６に多段に設けることができ、各段のミスト除去用サイクロン式気液分離部の上下流における貯留部排気ライン６の一方または両方には、ミスト除去用分離部側希釈ガス導入部を合流させることができる。該構成の排ガス処理工程の装置を図８に示す。なお、前記各実施形態と同様の構成については、同一の符号を付し、一部においてその構成および作用の説明を省略または簡略化する。
【００５３】
貯留部排気ライン６にミスト除去用サイクロン式気液分離部４０、４２が多段に介設されており、ミスト除去用サイクロン式気液分離部４０の上流側の貯留部排気ライン６には希釈用ガス（この例では空気）を供給するミスト除去用分離部側希釈ガス導入ライン２５が合流し、ミスト除去用サイクロン式気液分離部４０の下流側およびミスト除去用サイクロン式気液分離部４２の上流側の貯留部排気ライン６には希釈用ガス（この例では空気）を供給するミスト除去用分離部側希釈ガス導入ライン２６が合流している。
ミスト除去用サイクロン式気液分離部４２の下流側の貯留部排気ライン６には、オゾン分解器５０が介設されており、オゾン分解器５０の下流側で、貯留部排気ライン６は排気ダクト２０１に接続されている。
【００５４】
貯留部排気ライン６では、ミスト除去用サイクロン式気液分離部４０の上流側でミスト除去用分離部側希釈ガス導入ライン２５を通じて乾燥空気が導入されてガスが希釈される。ミスト除去用サイクロン式気液分離部４０は分離部本体内に絞り部を設けて分離機能を高めることができ、分離された液分は、ドレイン管４１を通じてドレインとして排出され、ドレインポットに回収される。
液分を除去したガスは貯留部排気ライン６で送られ、ミスト除去用サイクロン式気液分離部４２の上流側でミスト除去用分離部側希釈ガス導入ライン２６を通じて乾燥空気が導入されてガスが希釈される。ミスト除去用サイクロン式気液分離部４２は分離部本体内に絞り部を設けて分離機能を高めることができ、分離された液分は、ドレイン管４３を通してドレインとして排出され、ドレインポットに回収される。液分を除去したガスはオゾン分解器５０でオゾン分解した後、貯留部排気ライン６を通じて排気ダクト２０１に移送される。
上記乾燥空気は、温度を２０〜２５℃、水分量を相対湿度５０％以下とするのが望ましい。
【００５５】
（実施形態Ｅ）
以下、図９に示す排ガス処理工程用のシステムを説明する。なお、前記各実施形態と同様の構成については、同一の符号を付し、一部においてその構成および作用の説明を省略または簡略化する。
貯留部２に接続された貯留部排気ライン６には、希釈ガス供給ライン２３によって希釈用ガス（この例では窒素ガス）が導入される。貯留部排気ライン６では、第２のサイクロン式気液分離器１４の有無は問わない。第２のサイクロン式気液分離器１４を有する場合、希釈ガス供給ライン２３の希釈用ガスは、第２のサイクロン式気液分離器１４に供給される。
貯留部排気ライン６では、下流側で希釈ガス供給ライン２４が合流しており、希釈ガス供給ライン２４から希釈用ガス（この例では空気）が貯留部排気ライン６内に導入されてガスの希釈がなされる。その下流側でオゾン分解器５０が介設され、オゾン分解器５０の下流側で貯留部排気ライン６は排気ダクト２０１に接続されている。
【実施例】
【００５６】
以下に、本発明の実施例および本発明の範囲外となる比較例とを説明する。
（比較例１）
比較例１では、図１０に示す従来のシステムを用いた。このシステムは、図１７に示すシステムにオゾン分解器５０を設けたものである。
上記従来装置を図１０に基づいて説明する。従来装置は、図１７に示す装置を主構成とするものであり、なお、図１７に示す装置と同様の構成については、同一の符号を付し、一部においてその構成および作用の説明を省略または簡略化する。
【００５７】
電解セル１００を出た電解液は、送りライン１１０を通じて気液分離器１０１に導入され、気液を重力分離する。気液分離器１０１には、希釈ガス供給ライン１０５を通じて希釈用ガス（この例では窒素ガス）が導入される。気液分離器１０１では、溶液溜め部１０１Ａに溶液を溜め、送りライン１１１によって貯留部１０２内に溶液を移送する。貯留部１０２へ流下する液中には少量の水素／酸素混合ガスが同伴するので、貯留部１０２内に貯留部用希釈ガス供給ライン１２１によって希釈用ガス（ここでは窒素ガス）を供給し、貯留部１０２内からガスをパージし貯留部排気ライン１２２に送る。
また、気液分離部１０１には気液分離したガスを排出する分離ガス排出部１０１Ｂが設けられており、分離ガス排出部１０１Ｂには、分離部排気ライン１２３が接続されており、分離部排気ライン１２３は貯留部排気ライン１２２に合流している。
貯留部排気ライン１２２では、分離部排気ライン１２３が合流した地点の下流側で希釈用ガス供給ライン１２４が合流しており、貯留部排気ライン１２２内に希釈用ガス（この例では空気）を導入することができる。貯留部排気ライン１２２のさらに下流側にはオゾン分解器５０が介設されており、その下流側で貯留部排気ライン１２２は排気ダクト２０１に接続されている。
【００５８】
上記装置を用いた比較例１における運転条件を以下に示す。
（運転条件）
硫酸溶液濃度＝８５ｗｔ％
電解セル出口温度＝６５℃
貯留槽（部）溶液温度＝６０℃
電解セル出口ガス流量＝１６．５ＮＬ／ｍｉｎ  組成＝Ｈ２／Ｏ２＝２／１
希釈用Ｎ２（気液分離器投入）＝２６６ＮＬ／ｍｉｎ
パージ用Ｎ２（貯留槽投入）＝１０ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用空気流量＝８４９ＮＬ／ｍｉｎ、空気温度＝２５℃、含有水分＝０．１５６    ｖｏｌ％  （含有水分は、７ｋｇｆ／ｃｍ２（Ｇ）で露点１０℃に相当）
【００５９】
この時、ミスト濃度およびミスト量は表１のようになった。
オゾン分解器入口のミスト量は２４．１ｍｇ／ｈであった。また、装置設置高さは、３．０ｍであった。
【００６０】
【表１】
2015167921.tif 000003
【００６１】
（実施例１）
実施例１では、図１１に示すシステムを用意した。該システムは、図１に示した実施形態１のシステムに、図５に示す実施形態Ａの排ガス処理工程用のシステムを接続したものであり、装置の説明は省略する。
【００６２】
実施例１の運転条件は下記の通りとして試験を行った。
（運転条件）
硫酸溶液濃度＝８５ｗｔ％
電解セル出口温度＝６５℃
貯留槽（部）溶液温度＝６０℃
電解セル出口ガス流量＝１６．５ＮＬ／ｍｉｎ  組成＝Ｈ２／Ｏ２＝２／１
希釈用Ｎ２（貯留槽投入）＝２６６ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用一次空気（ミストエリミネーター手前）＝３００ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用二次空気（ミストエリミネーター後側）＝５４９ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用空気温度＝２５℃、含有水分＝０．１５６ｖｏｌ％
（含有水分は、７ｋｇｆ／ｃｍ２（Ｇ）で露点１０℃に相当）
【００６３】
試験の結果、ミスト濃度およびミスト量は表２のようになった。  オゾン分解器入口のミスト量は１．３ｍｇ／ｈであった。また、装置設置高さは、２．０ｍであった。
【００６４】
【表２】
2015167921.tif 000004
【００６５】
（実施例２）
実施例２では、図１２に示すシステムを用意した。該システムは、図３に示した実施形態２のシステムに図９に示した実施形態Ｂの排ガス処理工程用のシステムを接続したものであり、排ガス処理工程用のシステムの一部構成の図示は省略し、装置の説明は省略する。
【００６６】
実施例の運転条件は下記の通りとして試験を行った。
（運転条件）
硫酸溶液濃度＝８５ｗｔ％
電解セル出口温度＝６５℃
貯留槽（部）溶液温度＝６０℃
電解セル出口ガス流量＝１６．５ＮＬ／ｍｉｎ  組成＝Ｈ２／Ｏ２＝２／１
希釈用Ｎ２（Ｎ２（２））＝２６６ＮＬ／ｍｉｎ
貯留槽パージ用Ｎ２（Ｎ２（１））＝１０ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用空気（オゾン分解器手前）＝８４９ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用空気温度＝２５℃、含有水分＝０．１５６ｖｏｌ％
（含有水分は、７ｋｇｆ／ｃｍ２（Ｇ）で露点１０℃に相当）
【００６７】
試験の結果、ミスト濃度およびミスト量は表３のようになった。オゾン分解器入口のミスト量は１３．０ｍｇ／ｈであった。また、装置設置高さは、２．０ｍであった。
【００６８】
【表３】
2015167921.tif 000005
【００６９】
（実施例３）
実施例３では、図１３に示すシステムを用意した。該システムは、図４に示した実施形態３のシステムに図９に示した実施形態Ｂの排ガス処理工程用のシステムを接続したものであり、排ガス処理工程用のシステムの一部構成の図示は省略し、装置の説明は省略する。
【００７０】
実施例の運転条件は下記の通りとして試験を行った。
（運転条件）
硫酸溶液濃度＝８５ｗｔ％
電解セル出口温度＝６５℃
貯留槽（部）溶液温度＝６０℃
電解セル出口ガス流量＝１６．５ＮＬ／ｍｉｎ  組成＝Ｈ２／Ｏ２＝２／１
希釈用Ｎ２（Ｎ２（２））＝２６６ＮＬ／ｍｉｎ
貯留槽パージ用Ｎ２（Ｎ２（１））＝１０ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用空気（オゾン分解器手前）＝８４９ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用空気温度＝２５℃、含有水分＝０．１５６ｖｏｌ％
（含有水分は、７ｋｇｆ／ｃｍ２（Ｇ）で露点１０℃に相当）
【００７１】
試験の結果、ミスト濃度およびミスト量は表４のようになった。オゾン分解器入口のミスト量は０．７２ｍｇ／ｈであった。また、装置設置高さは、２．２ｍであった。
【００７２】
【表４】
2015167921.tif 000006
【００７３】
（実施例４）
実施例４では、図１４に示すシステムを用意した。該システムは、図３に示した実施形態２のシステムに図５に示した実施形態Ａの排ガス処理工程用のシステムを接続したものであり、装置の説明は省略する。
【００７４】
実施例の運転条件は下記の通りとして試験を行った。
（運転条件）
硫酸溶液濃度＝８５ｗｔ％
電解セル出口温度＝６５℃
貯留槽（部）溶液温度＝６０℃
電解セル出口ガス流量＝１６．５ＮＬ／ｍｉｎ  組成＝Ｈ２／Ｏ２＝２／１
希釈用Ｎ２（Ｎ２（２））＝２６６ＮＬ／ｍｉｎ
貯留槽パージ用Ｎ２（Ｎ２（１））＝１０ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用一次空気（ミストエリミネーター手前）＝３００ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用二次空気（オゾン分解器手前）＝５４９ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用空気温度＝２５℃、含有水分＝０．１５６ｖｏｌ％
（含有水分は、７ｋｇｆ／ｃｍ２（Ｇ）で露点１０℃に相当）
【００７５】
試験の結果、ミスト濃度およびミスト量は表５のようになった。オゾン分解器入口のミスト量は、０．０２５ｍｇ／ｈであった。また、装置設置高さは、２．２ｍであった。
【００７６】
【表５】
2015167921.tif 000007
【００７７】
（実施例５）
実施例５では、図１５に示すシステムを用意した。該システムは、図３に示した実施形態２のシステムに図７に示した実施形態Ｃの排ガス処理工程用のシステムを接続したものであり、装置の説明は省略する。なお、実施例４に述べたシステムでは、ミストエリミネーターの寸法が大きく（フランジ外径＝３５０ｍｍ）、価格も高いので、この実施形態５ではミストエリミネーターをサイクロンに置き換えたものである。
【００７８】
実施例の運転条件は下記の通りとして試験を行った。
（運転条件）
硫酸溶液濃度＝８５ｗｔ％
電解セル出口温度＝６５℃
貯留槽（部）溶液温度＝６０℃
電解セル出口ガス流量＝１６．５ＮＬ／ｍｉｎ  組成＝Ｈ２／Ｏ２＝２／１
希釈用Ｎ２（Ｎ２（２））＝２６６ＮＬ／ｍｉｎ
貯留槽パージ用Ｎ２（Ｎ２（１））＝１０ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用一次空気（ミスト除去用分離部手前）＝３００ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用二次空気（オゾン分解器手前）＝５４９ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用空気温度＝２５℃、含有水分＝０．１５６ｖｏｌ％
（含有水分は、７ｋｇｆ／ｃｍ２（Ｇ）で露点１０℃に相当）
【００７９】
試験の結果、ミスト濃度およびミスト量は表６のようになった。オゾン分解器入口のミスト量は、１．３０ｍｇ／ｈであった。また、装置設置高さは、２．０ｍであった。
【００８０】
【表６】
2015167921.tif 000008
【００８１】
（実施例６）
実施例６では、図１６に示すシステムを用意した。該システムは、図３に示した実施形態２のシステムに図８に示した実施形態Ｄの排ガス処理工程用のシステムを接続したものであり、装置の説明は省略する。この実施例６ではミスト除去性能を上げるためミスト除去用サイクロン式気液分離器を２段に配置したものである。
【００８２】
実施例の運転条件は下記の通りとして試験を行った。
（運転条件）
硫酸溶液濃度＝８５ｗｔ％
電解セル出口温度＝６５℃
貯留槽（部）溶液温度＝６０℃
電解セル出口ガス流量＝１６．５ＮＬ／ｍｉｎ  組成＝Ｈ２／Ｏ２＝２／１
希釈用Ｎ２（Ｎ２（２））＝２６６ＮＬ／ｍｉｎ
貯留槽パージ用Ｎ２（Ｎ２（１））＝１０ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用一次空気（ミスト除去用サイクロン式気液分離部４０手前）＝３００ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用二次空気（ミスト除去用サイクロン式気液分離部４２手前）＝５４９ＮＬ／ｍｉｎ
希釈用空気温度＝２５℃、含有水分＝０．１５６ｖｏｌ％
（含有水分は、７ｋｇｆ／ｃｍ２（Ｇ）で露点１０℃に相当）
【００８３】
試験の結果、ミスト濃度およびミスト量は表７のようになった。オゾン分解器入口のミスト量は、０．１３ｍｇ／ｈであった。また、装置設置高さは、２．０ｍであった。
【００８４】
【表７】
2015167921.tif 000009
【００８５】
以上の実施例および比較例の試験結果から次のことがいえる。
（１）実施形態１〜３の方法により、従来技術よりも排気ガスに同伴するミスト量を大幅に減らすことができる。また、装置設置高さを低く抑えることができる。
（２）実施形態２または３の方法のようにミストエリミネーターやデミスターを組み合わせることによりミスト除去効率を極めて高くすることができる。
（３）特に、実施形態３の方法によれば、ミストエリミネーターを用いなくても、サイクロンによりかなりのミスト低減効果が得られる。
【００８６】
以上、本発明について上記実施形態および実施例に基づいて発明の説明を行ったが、本発明は上記説明の内容に限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱しない限りは適宜の変更が可能であって、この範囲の変更は本発明の範囲内となるものである。
【符号の説明】
【００８７】
１    気液分離溶液貯留装置
２    貯留部
２Ａ  溶液溜め部
３    サイクロン式気液分離器
３Ａ  開口部
３Ｂ  分離ガス排出部
４    分離ガス貯留部導入ライン
５    貯留部用希釈ガス供給ライン
６    貯留部排気ライン
７    電解装置
８Ａ  送りライン
８Ｂ  戻りライン
１１    排気ライン用希釈ガス供給ライン
１３    分離ガス分離部導入ライン
１４    第２のサイクロン式気液分離器
１４Ａ  開口部
１４Ｂ  分離ガス排出部
１５    第２分離部用パージガス導入ライン
１６    エリミネーター側希釈ガス導入ライン
１７    エリミネーター側希釈ガス導入ライン
２５    ミスト除去用分離部側希釈ガス導入ライン
２６    ミスト除去用分離部側希釈ガス導入ライン
４０    ミスト除去用サイクロン式気液分離部
４２    ミスト除去用サイクロン式気液分離部
【図１】
2015167921.tif 000010
【図２】
2015167921.tif 000011
【図３】
2015167921.tif 000012
【図４】
2015167921.tif 000013
【図５】
2015167921.tif 000014
【図６】
2015167921.tif 000015
【図７】
2015167921.tif 000016
【図８】
2015167921.tif 000017
【図９】
2015167921.tif 000018
【図１０】
2015167921.tif 000019
【図１１】
2015167921.tif 000020
【図１２】
2015167921.tif 000021
【図１３】
2015167921.tif 000022
【図１４】
2015167921.tif 000023
【図１５】
2015167921.tif 000024
【図１６】
2015167921.tif 000025
【図１７】
2015167921.tif 000026
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月15日(2015.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電解された溶液が導入されて気液分離され、分離された溶液が排出される開口部と分離されたガスを排出する分離ガス排出部とを有するサイクロン式気液分離部と、
前記溶液が貯留される貯留部と、を有し、
前記サイクロン式気液分離部は、分離された溶液が前記貯留部の溶液溜め部の高さ範囲内で前記開口部を通じて前記溶液溜め部に排出されるように少なくとも下方側の一部が前記貯留部内に設置され、
前記サイクロン式気液分離部にパージガスを導入するパージガス導入ラインが設けられ、
前記パージガス導入ラインが筒状に形成されて前記サイクロン式気液分離部内に突出しており、前記分離ガス貯留部導入ラインの外側に間隔を置いて外筒状の前記分離ガス排出部が設けられていることを特徴とする気液分離溶液貯留装置。
【請求項２】
電解された溶液が導入されて気液分離され、分離された溶液が排出される開口部と分離されたガスを排出する分離ガス排出部とを有するサイクロン式気液分離部と、
前記溶液が貯留される貯留部と、を有し、
前記サイクロン式気液分離部は、分離された溶液が前記貯留部の溶液溜め部の高さ範囲内で前記開口部を通じて前記溶液溜め部に排出されるように少なくとも下方側の一部が前記貯留部内に設置され、
前記貯留部は、前記貯留部内のガスを排気する貯留部排気ラインと前記貯留部内に希釈ガスを送る貯留部用希釈ガス供給ラインとが接続されていることを特徴とする気液分離溶液貯留装置。
【請求項３】
前記貯留部は、ガス移動用および液移動用を除いて封止されていることを特徴とする請求項２に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項４】
前記分離ガス排出部に接続され、前記分離ガス排出部から排出された分離ガスを前記貯留部排気ラインに送る分離部排気ラインを有することを特徴とする請求項２または３に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項５】
前記貯留部排気ラインに対する前記分離部排気ラインの接続地点よりも上流側で前記貯留部排気ラインに希釈ガスを導入する排気ライン用希釈ガス供給ラインが接続されていることを特徴とする請求項４に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項６】
前記貯留部排気ラインと前記貯留部との間に第２のサイクロン式気液分離部が介設されており、前記第２のサイクロン式気液分離部では、分離された溶液が排出される開口部を有し、前記開口部を通して、分離された溶液が前記貯留部の溶液溜め部に排出されるように設置されていることを特徴とする請求項２〜５のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項７】
前記分離ガス排出部に接続され、前記分離ガス排出部から排出された分離ガスを前記第２のサイクロン式気液分離部に導入する分離ガス分離部導入ラインを有することを特徴とする請求項６記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項８】
前記分離ガス分離部導入ライン内に前記第２のサイクロン式気液分離部に供給されるパージガスを導入する第２分離部用パージガス導入部が設けられていることを特徴とする請求項７記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項９】
前記第２のサイクロン式分離部は、分離部本体内部が下方側において内径を絞った絞り部を有することを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１０】
前記貯留部排気ラインにミスト除去用分離部としてミストエリミネーターまたはデミスターが介設されていることを特徴とする請求項２〜９のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１１】
前記ミストエリミネーターまたはデミスターの上流側と下流側に位置する貯留部排気ラインの一方または両方に希釈ガスを導入するミスト除去用分離部側希釈ガス導入ラインを有することを特徴とする請求項１０に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１２】
前記貯留部排気ラインにミスト除去用サイクロン式気液分離部が介設されていることを特徴とする２〜１１のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１３】
前記ミスト除去用サイクロン式気液分離部が、前記貯留部排気ラインに多段に介設されていることを特徴とする請求項１２記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１４】
前記ミスト除去用のサイクロン式気液分離部の上流側と下流側に位置する貯留部排気ラインの一方または両方に、希釈ガスを導入するミスト除去用分離部側希釈ガス導入ラインを有することを特徴とする請求項１２または１３に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１５】
前記ミスト除去用サイクロン式気液分離部は、分離部本体内部が下方側において内径を絞った絞り部を有することを特徴とする請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１６】
前記分離ガス排出部に接続され、前記分離ガス排出部から排出された分離ガスを前記貯留部内に送る分離ガス貯留部導入ラインを有することを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１７】
前記開口部が、前記貯留部の溶液溜め部の溶液設定高さ位置よりも低い箇所に位置し、前記分離ガス排出部が前記貯留部よりも高い箇所に位置していることを特徴とする請求項１〜１６のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１８】
前記サイクロン式気液分離部は、分離部本体内部が直胴形状を有していることを特徴とする請求項１〜１７のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項１９】
前記サイクロン式気液分離部にパージガスを導入するパージガス導入ラインが設けられていることを特徴とする請求項２〜１５のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項２０】
前記パージガス導入ラインが筒状に形成されて前記サイクロン式気液分離部内に突出しており、前記分離ガス貯留部導入ラインの外側に間隔を置いて外筒状の前記分離ガス排出部が設けられていることを特徴とする請求項１９記載の気液分離溶液貯留装置。
【請求項２１】
硫酸を含む溶液を電解する電解装置と、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の気液分離溶液貯留装置と、前記電解装置から前記気液分離溶液貯留装置のサイクロン式気液分離部に電解後の溶液を送る送りラインと、前記気液分離溶液貯留装置の貯留部内の溶液を電解用に前記電解装置に送る戻りラインとを有することを特徴とする過硫酸生成システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち本発明の気液分離溶液貯留装置のうち、第１の本発明は、電解された溶液が導入されて気液分離され、分離された溶液が排出される開口部と分離されたガスを排出する分離ガス排出部とを有するサイクロン式気液分離部と、
前記溶液が貯留される貯留部と、を有し、
前記サイクロン式気液分離部は、分離された溶液が前記貯留部の溶液溜め部の高さ範囲内で前記開口部を通じて前記溶液溜め部に排出されるように少なくとも下方側の一部が前記貯留部内に設置され、
前記サイクロン式気液分離部にパージガスを導入するパージガス導入ラインが設けられ、
前記パージガス導入ラインが筒状に形成されて前記サイクロン式気液分離部内に突出しており、前記分離ガス貯留部導入ラインの外側に間隔を置いて外筒状の前記分離ガス排出部が設けられていることを特徴とする。
第２の本発明の気液分離溶液貯留装置は、電解された溶液が導入されて気液分離され、分離された溶液が排出される開口部と分離されたガスを排出する分離ガス排出部とを有するサイクロン式気液分離部と、
前記溶液が貯留される貯留部と、を有し、
前記サイクロン式気液分離部は、分離された溶液が前記貯留部の溶液溜め部の高さ範囲内で前記開口部を通じて前記溶液溜め部に排出されるように少なくとも下方側の一部が前記貯留部内に設置され、
前記貯留部は、前記貯留部内のガスを排気する貯留部排気ラインと前記貯留部内に希釈ガスを送る貯留部用希釈ガス供給ラインとが接続されていることを特徴とする。
第３の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第２の本発明において、前記貯留部は、ガス移動用および液移動用を除いて封止されていることを特徴とする。
第４の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第２または第３の本発明において、前記分離ガス排出部に接続され、前記分離ガス排出部から排出された分離ガスを前記貯留部排気ラインに送る分離部排気ラインを有することを特徴とする。
第５の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第４の本発明において、前記貯留部排気ラインに対する前記分離部排気ラインの接続地点よりも上流側で前記貯留部排気ラインに希釈ガスを導入する排気ライン用希釈ガス供給ラインが接続されていることを特徴とする。
第６の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第２〜第５の本発明のいずれかにおいて、前記貯留部排気ラインと前記貯留部との間に第２のサイクロン式気液分離部が介設されており、前記第２のサイクロン式気液分離部では、分離された溶液が排出される開口部を有し、前記開口部を通して、分離された溶液が前記貯留部の溶液溜め部に排出されるように設置されていることを特徴とする。
第７の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第６の本発明において、前記分離ガス排出部に接続され、前記分離ガス排出部から排出された分離ガスを前記第２のサイクロン式気液分離部に導入する分離ガス分離部導入ラインを有することを特徴とする。
第８の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第７の本発明において、前記分離ガス分離部導入ライン内に前記第２のサイクロン式気液分離部に供給されるパージガスを導入する第２分離部用パージガス導入部が設けられていることを特徴とする。
第９の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第６〜第８の本発明のいずれかにおいて、前記第２のサイクロン式気液分離部は、分離部本体内部が下方側において内径を絞った絞り部を有することを特徴とする。
第１０の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第２〜第９の本発明において、前記貯留部排気ラインにミスト除去用分離部としてミストエリミネーターまたはデミスターが介設されていることを特徴とする。
第１１の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１０の本発明において、前記ミストエリミネーターまたはデミスターの上流側と下流側に位置する貯留部排気ラインの一方または両方に希釈ガスを導入するミスト除去用分離部側希釈ガス導入ラインを有することを特徴とする。
第１２の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第２〜第１１の本発明のいずれかにおいて、前記貯留部排気ラインにミスト除去用サイクロン式気液分離部が介設されていることを特徴とする。
第１３の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１２の本発明のいずれかにおいて、前記ミスト除去用サイクロン式気液分離部が、前記貯留部排気ラインに多段に介設されていることを特徴とする。
第１４の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１２または第１３の本発明において、前記ミスト除去用のサイクロン式気液分離部の上流側と下流側に位置する貯留部排気ラインの一方または両方に、希釈ガスを導入するミスト除去用分離部側希釈ガス導入ラインを有することを特徴とする。
第１５の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１２〜第１４の本発明のいずれかにおいて、前記ミスト除去用サイクロン式気液分離部は、分離部本体内部が下方側において内径を絞った絞り部を有することを特徴とする。
第１６の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１〜第１５の本発明のいずれかにおいて、前記分離ガス排出部に接続され、前記分離ガス排出部から排出された分離ガスを前記貯留部内に送る分離ガス貯留部導入ラインを有することを特徴とする。
第１７の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１〜第１６の本発明のいずれかにおいて、前記開口部が、前記貯留部の溶液溜め部の溶液設定高さ位置よりも低い箇所に位置し、前記分離ガス排出部が前記貯留部よりも高い箇所に位置していることを特徴とする。
第１８の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１〜第１７の本発明のいずれかにおいて、前記サイクロン式気液分離部は、分離部本体内部が直胴形状を有していることを特徴とする。
第１９の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第２〜第１５の本発明のいずれかにおいて、前記サイクロン式気液分離部にパージガスを導入するパージガス導入ラインが設けられていることを特徴とする。
第２０の本発明の気液分離溶液貯留装置は、前記第１９の本発明において、前記パージガス導入ラインが筒状に形成されて前記サイクロン式気液分離部内に突出しており、前記分離ガス導入ラインの外側に間隔を置いて外筒状の前記分離ガス排出部が設けられていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】