(57)【要約】【課題】短時間に塗布ヘッドのクリーニングが可能であり、また吐出口の部位ごとにワークに供給される塗布液の量に差が発生してしまうことが抑制された塗布装置を提供する。【解決手段】塗布装置１は、塗布ヘッド２３と、スキージ４１と、塗布ヘッド２３とスキージ４１とを相対的に移動させる第１駆動機構と、当該第１駆動機構の動作を制御する制御部とを備える。塗布ヘッド２３は、塗布液を吐出するスリット状の吐出口が設けられたリップ面を下端に有し、制御部は、塗布ヘッド２３をクリーニングするに際し、スキージ４１によって塗布ヘッド２３から余剰の塗布液が掻き取られることとなるように、リップ面にスキージ４１を接触させつつ、吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けてスキージ４１を移動させるように、第１駆動機構の動作を制御する。【選択図】図１
2015039668.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに対して塗布液を塗布する塗布ヘッドと、
前記塗布ヘッドをクリーニングするスキージと、
前記塗布ヘッドと前記スキージとを相対的に移動させる第１駆動機構と、
前記第１駆動機構の動作を制御する制御部とを備え、
前記塗布ヘッドは、塗布液を吐出するスリット状の吐出口が設けられたリップ面を下端に有し、
前記制御部は、前記塗布ヘッドをクリーニングするに際し、前記スキージによって前記塗布ヘッドから余剰の塗布液が掻き取られることとなるように、前記リップ面に前記スキージを接触させつつ、前記吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けて前記スキージを移動させるように、前記第１駆動機構の動作を制御する、塗布装置。
【請求項２】
前記吐出口が延在する方向に沿った前記スキージの長さが、前記吐出口が延在する方向に沿った前記吐出口の長さよりも長い、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記スキージによって掻き取られた余剰の塗布液を溜め受ける回収容器をさらに備え、
前記スキージと前記回収容器とが、一体的に移動するように構成されている、請求項１または２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記吐出口が設けられた前記リップ面は、先細り形状を有し、
前記第１駆動機構は、前記塗布ヘッドおよび前記スキージの水平方向に沿った相対的な位置を可変に調節する第１位置調節機構と、前記塗布ヘッドおよび前記スキージの鉛直方向に沿った相対的な位置を可変に調節する第２位置調節機構とを含み、
前記制御部は、先細り形状を有する前記リップ面に沿って前記スキージを移動させるように、前記第１位置調節機構および前記第２位置調節機構の動作を制御する、請求項１から３のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項５】
前記スキージを単数備え、
前記制御部は、前記リップ面の前記吐出口に隣接して位置する一端側から前記吐出口を横断して前記リップ面の前記吐出口に隣接して位置する他端側に向けて前記単数のスキージを移動させるように、前記第１駆動機構の動作を制御する、請求項１から４のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項６】
前記スキージを一対備え、
前記制御部は、前記リップ面の前記吐出口に隣接して位置する一端側から前記吐出口に向けて前記一対のスキージの一方を移動させるとともに、前記リップ面の前記吐出口に隣接して位置する他端側から前記吐出口に向けて前記一対のスキージの他方を移動させるように、前記第１駆動機構の動作を制御する、請求項１から４のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項７】
ワークが載置されるワーク載置部と、
前記ワーク載置部と前記塗布ヘッドとを相対的に移動させる第２駆動機構とをさらに備え、
前記第２駆動機構は、前記制御部によってその動作が制御され、
前記制御部は、ワークに対して塗布液を塗布するに際し、ワークの表面上に塗布膜が形成されることとなるように、前記吐出口から塗布液が吐出された状態を維持しつつ、前記吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けて前記ワーク載置部が前記吐出口の下方を移動するように、前記第２駆動機構の動作を制御する、請求項１から６のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項８】
前記スキージと前記ワーク載置部とが、一体的に移動するように構成されている、請求項７に記載の塗布装置。
【請求項９】
ワークに対して塗布液を塗布するために前記ワーク載置部が前記吐出口の下方を移動するに際して、前記ワーク載置部が前記吐出口の下方を通過するに先だって前記塗布ヘッドがクリーニングされることとなるように、前記スキージおよび前記ワーク載置部が移動を開始する前の状態において、前記スキージが、前記ワーク載置部から見て前記塗布ヘッドが位置する側に配置されている、請求項８に記載の塗布装置。
【請求項１０】
塗布液を吐出するためのスリット状の吐出口が設けられたリップ面を下端に有する塗布ヘッドをスキージを用いてクリーニングする、塗布ヘッドのクリーニング方法であって、
前記スキージを前記リップ面に接触させつつ前記吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けて前記スキージを移動させることにより、前記スキージによって前記塗布ヘッドから余剰の塗布液が掻き取られるようにする、塗布ヘッドのクリーニング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークに対して塗布液を塗布するためのスリット状の吐出口を有する塗布ヘッドを備えた塗布装置および当該塗布装置に設けられた塗布ヘッドのクリーニング方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ワークに対して塗布液を塗布する塗布装置としては、各種のものが存在する。その一つに、スリット状の吐出口を有する塗布ヘッドを備えたスリットコータと称される塗布装置がある。
【０００３】
スリットコータは、塗布ヘッドの下方を通過するようにワークを移動させつつ、塗布ヘッドに設けられたスリット状の吐出口から塗布液をワークに向けて吐出することにより、ワークの表面に所定の厚みを有する塗布膜を形成するものである。
【０００４】
このスリットコータは、ワークとしての各種基板（たとえば半導体基板や配線基板、ガラス基板等）の表面に塗布膜（たとえばレジスト膜や着色膜、配向膜等）を形成する場合に特に好適に用いられる。
【０００５】
スリットコータを用いて複数のワークに対して塗布膜を順次形成する場合には、塗布液の塗布動作が断続的に行なわれることになる。その場合には、塗布動作を停止した後であって次の塗布動作を開始するまでの待機時間中において、塗布液が自重および残留圧力によって吐出口から徐々に垂れ下がることになり、これがワークの表面に均一な膜厚の塗布膜を形成することの障害となってしまう問題がある。
【０００６】
また、スリット状の吐出口の周囲に位置するリップ面に何らかの理由によって塗布液が付着した場合には、これが吐出口から吐出される塗布液とともにワークに供給されてしまうことにより、ワークの表面に均一な膜厚の塗布膜を形成することの障害となってしまう問題もある。
【０００７】
これらに起因してワークの表面に均一な膜厚の塗布膜が形成されなかった場合には、その後に実施される各種の工程において不具合を誘発したり、あるいは製品性能の低下を招いたりする。そのため、上述した待機時間中において塗布ヘッドのクリーニングが行なわれることが一般的である。
【０００８】
たとえば、特許文献１（特開２００２−１７７８４８号公報）には、塗布ヘッドのリップ面に合成樹脂製またはゴム製の清掃部材（スキージ）を摺接させて当該リップ面に付着した塗布液を掻き取ることにより、待機時間中において塗布ヘッドのクリーニングを行なうクリーニング方法が開示されている。より詳細には、当該特許文献１には、スキージをリップ面に接触させた状態としつつ、当該スキージをスリット状の吐出口が延在する方向（すなわち、吐出口の長手方向）に沿って移動させることにより、塗布ヘッドのクリーニングを行なうことが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−１７７８４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、上記特許文献１に開示されたクリーニング方法を採用した場合には、スキージをスリット状の吐出口が延在する方向に沿って移動させるため、塗布ヘッドのクリーニングに相当程度の時間を要し、タクトタイムが長くなってしまう問題があった。
【００１１】
加えて、上記特許文献１に開示されたクリーニング方法を採用した場合には、スリット状の吐出口が延在する方向において塗布液が掻き取られるタイミングに大きな時間差が発生するため、当該方向に沿った吐出口の部位ごとにクリーニングから塗布までの間の時間に大きな差が生じてしまう。
【００１２】
そのため、クリーニング動作後であって塗布動作までの間において、スリット状の吐出口が延在する方向において自重および残留圧力によって吐出口から垂れ下がる塗布液の量に差が発生してしまうことになり、当該方向に沿って塗布動作の初期段階においてワークに供給される塗布液の量に差が生じてしまう。
【００１３】
したがって、上記特許文献１に開示されたクリーニング方法では、ワークの表面に均一な膜厚の塗布膜を形成することが困難となってしまう問題の解決が十分には達成できていない問題があった。
【００１４】
そこで、本発明は、上述した問題を解決すべくなされたものであり、短時間に塗布ヘッドのクリーニングが可能であり、また吐出口の部位ごとにワークに供給される塗布液の量に差が発生してしまうことが抑制された塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明に基づく塗布装置は、ワークに対して塗布液を塗布する塗布ヘッドと、上記塗布ヘッドをクリーニングするスキージと、上記塗布ヘッドと上記スキージとを相対的に移動させる第１駆動機構と、上記第１駆動機構の動作を制御する制御部とを備えている。上記塗布ヘッドは、塗布液を吐出するスリット状の吐出口が設けられたリップ面を下端に有している。上記制御部は、上記塗布ヘッドをクリーニングするに際し、上記スキージによって上記塗布ヘッドから余剰の塗布液が掻き取られることとなるように、上記リップ面に上記スキージを接触させつつ、上記吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けて上記スキージを移動させるように、上記第１駆動機構の動作を制御する。
【００１６】
上記本発明に基づく塗布装置にあっては、上記吐出口が延在する方向に沿った上記スキージの長さが、上記吐出口が延在する方向に沿った上記吐出口の長さよりも長いことが好ましい。
【００１７】
上記本発明に基づく塗布装置は、さらに、上記スキージによって掻き取られた余剰の塗布液を溜め受ける回収容器を備えていることが好ましく、その場合には、上記スキージと上記回収容器とが、一体的に移動するように構成されていることが好ましい。
【００１８】
上記本発明に基づく塗布装置にあっては、上記吐出口が設けられた上記リップ面が、先細り形状を有していてもよい。その場合には、上記第１駆動機構が、上記塗布ヘッドおよび上記スキージの水平方向に沿った相対的な位置を可変に調節する第１位置調節機構と、上記塗布ヘッドおよび上記スキージの鉛直方向に沿った相対的な位置を可変に調節する第２位置調節機構とを含んでいることが好ましく、上記制御部が、先細り形状を有する上記リップ面に沿って上記スキージを移動させるように、上記第１位置調節機構および上記第２位置調節機構の動作を制御することが好ましい。
【００１９】
上記本発明に基づく塗布装置は、上記スキージを単数備えていてもよく、その場合には、上記制御部が、上記リップ面の上記吐出口に隣接して位置する一端側から上記吐出口を横断して上記リップ面の上記吐出口に隣接して位置する他端側に向けて上記単数のスキージを移動させるように、上記第１駆動機構の動作を制御することが好ましい。
【００２０】
上記本発明に基づく塗布装置は、上記スキージを一対備えていてもよく、その場合には、上記制御部が、上記リップ面の上記吐出口に隣接して位置する一端側から上記吐出口に向けて上記一対のスキージの一方を移動させるとともに、上記リップ面の上記吐出口に隣接して位置する他端側から上記吐出口に向けて上記一対のスキージの他方を移動させるように、上記第１駆動機構の動作を制御することが好ましい。
【００２１】
上記本発明に基づく塗布装置は、さらに、ワークが載置されるワーク載置部と、上記ワーク載置部と上記塗布ヘッドとを相対的に移動させる第２駆動機構とを備えていてもよい。その場合には、上記第２駆動機構が、上記制御部によってその動作が制御されることが好まく、上記制御部が、ワークに対して塗布液を塗布するに際し、ワークの表面上に塗布膜が形成されることとなるように、上記吐出口から塗布液が吐出された状態を維持しつつ、上記吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けて上記ワーク載置部が上記吐出口の下方を移動するように、上記第２駆動機構の動作を制御することが好ましい。
【００２２】
上記本発明に基づく塗布装置にあっては、上記スキージと上記ワーク載置部とが、一体的に移動するように構成されていることが好ましい。
【００２３】
上記本発明に基づく塗布装置にあっては、ワークに対して塗布液を塗布するために上記ワーク載置部が上記吐出口の下方を移動するに際して、上記ワーク載置部が上記吐出口の下方を通過するに先だって上記塗布ヘッドがクリーニングされることとなるように、上記スキージおよび上記ワーク載置部が移動を開始する前の状態において、上記スキージが、上記ワーク載置部から見て上記塗布ヘッドが位置する側に配置されていることが好ましい。
【００２４】
本発明に基づく塗布ヘッドのクリーニング方法は、塗布液を吐出するためのスリット状の吐出口が設けられたリップ面を下端に有する塗布ヘッドをスキージを用いてクリーニングする方法であって、上記スキージを上記リップ面に接触させつつ上記吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けて上記スキージを移動させることにより、上記スキージによって上記塗布ヘッドから余剰の塗布液が掻き取られるようにすることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、短時間に塗布ヘッドのクリーニングが可能であり、また吐出口の部位ごとにワークに供給される塗布液の量に差が発生してしまうことが抑制された塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施の形態１における塗布装置の概略斜視図である。
【図２】図１に示す塗布装置の駆動機構の構成を示す図である。
【図３】図１に示す塗布ヘッドの底面図である。
【図４】図１に示す塗布ヘッドの塗布液の吐出後の状態を示す模式断面図である。
【図５】図１に示す塗布装置の一連の処理の初期状態を示す模式側面図である。
【図６】図１に示す塗布装置のクリーニング動作を示す模式側面図である。
【図７】図６に示すクリーニング動作時における塗布部およびクリーニング部の状態を示す図である。
【図８】図１に示す塗布装置の塗布動作を示す模式側面図である。
【図９】図８に示す塗布動作時における塗布部およびワーク載置部の状態を示す図である。
【図１０】図１に示す塗布装置の一連の処理の終了状態を示す模式側面図である。
【図１１】本発明の実施の形態１に基づいた変形例に係る塗布装置のクリーニング動作時における塗布部およびクリーニング部の状態を示す図である。
【図１２】本発明の実施の形態２における塗布装置のクリーニング動作時における塗布部およびクリーニング部の状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明の実施の形態について、図を参照して詳細に説明する。なお、以下に示す実施の形態においては、同一のまたは共通する部分について図中同一の符号を付し、その説明は繰り返さない。
【００２８】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１における塗布装置の概略斜視図である。図２は、図１に示す塗布装置の駆動機構の構成を示す図であり、図３は、図１に示す塗布ヘッドの底面図である。また、図４は、図１に示す塗布ヘッドの塗布液の吐出後の状態を示す図であり、図３中に示したＩＶ−ＩＶ線に沿った模式断面図である。まず、これら図１ないし図４を参照して、本実施の形態における塗布装置について説明する。
【００２９】
図１に示す本実施の形態における塗布装置１は、複数のワークに対して塗布膜を順次形成するものであり、ワークに塗布液を塗布する塗布動作と、塗布ヘッドをクリーニングするクリーニング動作とが交互に繰り返し実施されるものである。より詳細には、塗布装置１においては、まずワークがセットされ、次に塗布ヘッドのクリーニングが行なわれ、つづいてワークに対して塗布液が塗布され、その後ワークが取り外されるという一連の処理が、ワークを交換して順次繰り返される。
【００３０】
図１に示すように、塗布装置１は、ベース１０と、ステージ１２と、塗布部２０と、ワーク載置部３０と、クリーニング部４０とを主として備えている。
【００３１】
ベース１０は、塗布装置１の基台となる部位であり、その上面上にステージ１２、塗布部２０、ワーク載置部３０およびクリーニング部４０が設けられている。
【００３２】
ステージ１２は、図中に示すＹ軸方向に沿って移動可能となるようにベース１０上に設けられている。より詳細には、ベース１０の上面には、Ｙ軸方向に沿って延在する一対のガイドレール１１が設けられており、ステージ１２を支持するステージ支持部１３（図５等参照）が当該ガイドレール１１上を移動することにより、ステージ１２がＹ軸方向に沿って移動する。
【００３３】
塗布部２０は、ガントリ２１と、ヘッド支持部２２と、塗布ヘッド２３とを有している。ガントリ２１は、ベース１０上に位置するステージ１２の軌道を跨ぐように設けられている。ヘッド支持部２２は、塗布ヘッド２３を支持するとともに、ガントリ２１に移動可能に組み付けられている。これにより、塗布ヘッド２３は、ステージ１２の軌道上に配置されている。
【００３４】
塗布ヘッド２３は、塗布液をワークに対して塗布するための部位であり、図中に示すＸ軸方向に沿って延在している。また、塗布ヘッド２３は、図中に示すＺ軸方向に沿って移動可能となるようにガントリ２１に設けられている。より詳細には、ガントリ２１に移動可能に組み付けられたヘッド支持部２２が昇降することにより、塗布ヘッド２３がＺ軸方向に沿って移動する。
【００３５】
図３および図４に示すように、塗布ヘッド２３は、下端に先細り形状を有するリップ面２３ａ，２３ｂを有しており、その先端部に塗布液２００（図４参照）を吐出するためのスリット状の吐出口２４を有している。吐出口２４は、Ｘ軸方向に沿って延在しており、塗布ヘッド２３の内部に形成された吐出路２５に連通している。吐出路２５は、外部に設けられた図示しない塗布液供給手段にチューブを介して接続されている。これにより、塗布液供給手段から吐出路２５に供給された塗布液２００は、吐出口２４から塗布ヘッド２３の外部に吐出される。
【００３６】
図１に示すように、ワーク載置部３０は、ワーク１００が載置される部位であり、ステージ１２上に設けられたテーブル３１によって構成されている。テーブル３１上には、図示しない位置決め機構が設けられており、ワーク１００を保持する保持板３２がテーブル３１上に載置されて当該位置決め機構によって位置決めされて固定されることにより、ワーク１００がテーブル３１上に移動不能に載置される。なお、テーブル３１に対する保持板３２の固定方法としては、たとえば真空吸着が利用できる。
【００３７】
クリーニング部４０は、単数（すなわち１つ）のスキージ４１と、スキージ支持部４２と、回収容器４３とを有している。これらクリーニング部４０を構成するスキージ４１、スキージ支持部４２および回収容器４３は、いずれもステージ１２上に設けられている。
【００３８】
スキージ４１は、塗布ヘッド２３のリップ面２３ａ，２３ｂに接触して当該リップ面２３ａ，２３ｂ上を移動することにより、塗布ヘッド２３から余剰の塗布液２００を掻き取ることで塗布ヘッド２３をクリーニングする部材であり、Ｘ軸方向に沿って延在する長尺板状の部材にて構成されている。
【００３９】
ここで、Ｘ軸方向に沿ったスキージ４１の長さは、好ましくはＸ軸方向に沿った吐出口２４の長さよりも長く構成され、より好ましくはＸ軸方向に沿ったリップ面２３ａ，２３ｂの長さと同等の長さとされる。このように構成することにより、Ｙ軸方向に沿った一度の移動で塗布ヘッド２３のクリーニングが完了することになる。
【００４０】
スキージ４１は、塗布ヘッド２３のリップ面２３ａ，２３ｂに接触した状態において適度に撓むことが望ましく、そのため弾性変形可能な部材にて構成されていることが好ましい。当該観点から、スキージ４１は、合成樹脂際またはゴム製の部材にて構成されていることが好ましく、また金属製の薄板からなる芯材の表面を合成樹脂製またはゴム製の部材によって覆ったものにてスキージ４１を構成してもよい。
【００４１】
スキージ４１は、Ｚ軸方向に沿って移動可能となるようにスキージ支持部４２によって支持されている。より詳細には、スキージ４１は、スキージ支持部４２を介してステージ１２上に設けられており、当該スキージ支持部４２が昇降することにより、スキージ４１がＺ軸方向に沿って移動する。
【００４２】
回収容器４３は、スキージ４１によって掻き取られた塗布液２００を溜め受けるものであり、スキージ４１から落下する塗布液２００を受け止めることが可能となるように、スキージ４１の下方に設置されている。
【００４３】
なお、スキージ４１は、テーブル３１とともにステージ１２上に設けられることにより、テーブル３１とともにＹ軸方向に沿って一体的に移動する。また、回収容器４３は、スキージ４１とともにステージ１２上に設けられることにより、スキージ４１とＹ軸方向に沿って一体的に移動する。
【００４４】
図２に示すように、塗布装置１は、上述したベース１０、ステージ１２、塗布部２０、ワーク載置部３０およびクリーニング部４０に加え、さらに制御部５０と、ステージ駆動機構５１と、塗布ヘッド駆動機構５２と、スキージ駆動機構５３とを備えている。
【００４５】
制御部５０は、塗布装置１の全体の動作を制御する部位であり、主として、塗布ヘッド２３の塗布動作、ステージ１２の移動動作、塗布ヘッド２３の移動動作、スキージ４１の移動動作を同期的に制御する。なお、塗布ヘッド２３をスキージ４１を用いてクリーニングするクリーニング動作は、制御部５０がステージ１２の移動動作、塗布ヘッド２３の移動動作およびスキージ４１の移動動作を同期的に制御することで行なわれる。
【００４６】
ステージ駆動機構５１は、制御部５０からの指令に基づいて駆動することにより、ステージ１２をＹ軸方向に沿って移動させるものである。塗布ヘッド駆動機構５２は、制御部５０からの指令に基づいて駆動することにより、塗布ヘッド２３をＺ軸方向に沿って移動させるものである。スキージ駆動機構５３は、制御部５０からの指令に基づいて駆動することにより、スキージ４１をＺ軸方向に沿って移動させるものである。
【００４７】
これらステージ駆動機構５１、塗布ヘッド駆動機構５２およびスキージ駆動機構５３としては、各種のものが利用できるが、たとえばサーボモータ、リニアモータ、ステッピングモータ、エアシリンダ、油圧シリンダ等を駆動源とした駆動機構が利用できる。なお、ステージ駆動機構５１および塗布ヘッド駆動機構５２としては、好適にはサーボモータとボールねじとの組み合わせが利用でき、スキージ駆動機構５３としては、好適にはエアシリンダまたは油圧シリンダを駆動源とした駆動機構が利用できる。
【００４８】
ここで、本実施の形態における塗布装置１にあっては、ステージ駆動機構５１が駆動することで塗布ヘッド２３およびスキージ４１の水平方向（すなわちＹ軸方向）に沿った相対的な位置が可変に調節されることになるため、当該ステージ駆動機構５１が第１位置調節機構に該当することになる。
【００４９】
また、本実施の形態における塗布装置１にあっては、塗布ヘッド駆動機構５２およびスキージ駆動機構５３が駆動することで塗布ヘッド２３およびスキージ４１の鉛直方向（すなわちＺ軸方向）に沿った相対的な位置が可変に調節されることになるため、これら塗布ヘッド駆動機構５２およびスキージ駆動機構５３が第２位置調節機構に該当することになる。
【００５０】
また、本実施の形態における塗布装置１にあっては、上記第１位置調節機構としてのステージ駆動機構５１と、上記第２位置調節機構としての塗布ヘッド駆動機構５２およびスキージ駆動機構５３とが駆動することにより、塗布ヘッド２３とスキージ４１とが相対的に移動させられることになるため、これらステージ駆動機構５１と、塗布ヘッド駆動機構５２およびスキージ駆動機構５３とが第１駆動機構に該当することになる。
【００５１】
また、本実施の形態における塗布装置１にあっては、ステージ駆動機構５１と塗布ヘッド駆動機構５２とが駆動することにより、ワーク載置部３０としてのステージ１２と塗布ヘッド２３とが相対的に移動させられることになるため、これらステージ駆動機構５１と塗布ヘッド駆動機構５２とが第２駆動機構に該当することになる。
【００５２】
図４に示すように、本実施の形態における塗布装置１においては、塗布動作を停止した後であって次の塗布動作を開始するまでの待機時間中において、塗布液２００が自重および残留圧力によって吐出口２４から垂れ下がった状態となる。この垂れ下がった部分の塗布液２００が、ワーク１００の表面に均一な膜厚の塗布膜を形成することの障害となる余剰部分となる。
【００５３】
また、本実施の形態における塗布装置１において何らかの理由によってリップ面２３ａ，２３ｂに塗布液２００が付着した場合には、このリップ面２３ａ，２３ｂに付着した部分の塗布液２００も、ワーク１００の表面に均一な膜厚の塗布膜を形成することの障害となる余剰部分となり得る。
【００５４】
そのため、本実施の形態における塗布装置１および塗布ヘッドのクリーニング方法においては、以下に示す態様のクリーニング動作を行なうことにより、これを短時間にかつムラなく除去し、これによりワーク１００の表面に均一な膜厚の塗布膜を形成することを可能にしている。以下、当該クリーニング動作を含め、本実施の形態における塗布装置１を用いて１つのワークに対して実施される一連の処理について、順を追って詳細に説明する。
【００５５】
図５は、図１に示す塗布装置の一連の処理の初期状態を示す模式側面図である。図６は、図１に示す塗布装置のクリーニング動作を示す模式側面図であり、図７は、図６に示すクリーニング動作時における塗布部およびクリーニング部の状態を示す図である。図８は、図１に示す塗布装置の塗布動作を示す模式側面図であり、図９は、図８に示す塗布動作時における塗布部およびワーク載置部の状態を示す図である。また、図１０は、図１に示す塗布装置の一連の処理の終了状態を示す模式側面図である。
【００５６】
図５に示すように、初期状態においては、Ｙ軸方向に沿って塗布部２０とワーク載置部３０との間にクリーニング部４０が位置した状態にあり、当該状態においてワーク載置部３０であるテーブル３１上に、保持板３２に保持されたワーク１００がセットされる。すなわち、当該初期状態においては、ワーク載置部３０から見てスキージ４１が塗布ヘッド２３が位置する側に配置されている。
【００５７】
次に、図６および図７に示すように、ステージ１２がＹ軸方向に沿って移動することにより、クリーニング部４０が塗布部２０の下方に移動し、これによりクリーニング動作が開始する。
【００５８】
ここで、制御部５０は、スキージ４１によって塗布ヘッド２３から余剰の塗布液２００が掻き取られることとなるように、リップ面２３ａ，２３ｂにスキージ４１を接触させつつ、吐出口２４が延在する方向であるＸ軸方向と直交する方向であるＹ軸方向（すなわち、吐出口２４の短手方向）に向けてスキージ４１を移動させるように、第１駆動機構としてのステージ駆動機構５１、塗布ヘッド駆動機構５２およびスキージ駆動機構５３の動作を制御する。
【００５９】
より詳細には、図７に示すように、制御部５０は、リップ面２３ａ，２３ｂのうちのＹ軸方向において吐出口２４に隣接して位置する一端側のリップ面２３ａから、吐出口２４を横断して、リップ面２３ａ，２３ｂのうちのＹ軸方向において吐出口２４に隣接して位置する他端側のリップ面２３ｂに向けてスキージ４１を移動させる。
【００６０】
このとき、制御部５０は、上述した第１駆動機構としてのステージ駆動機構５１、塗布ヘッド駆動機構５２およびスキージ駆動機構５３の動作を制御することにより、スキージ４１がリップ面２３ａ，２３ｂの表面に沿って移動するように（すなわち、スキージ４１が塗布ヘッド２３に対して相対的に図７中において矢印Ａで示す軌跡上を移動することとなるように）、スキージ４１および塗布ヘッド２３の位置を調節する。これにより、スキージ４１が適度な圧接力をもってリップ面２３ａ，２３ｂに接触しつつリップ面２３ａ，２３ｂ上を移動することになり、余剰の塗布液２００が確実にスキージ４１によって掻き取られることになる。
【００６１】
なお、スキージ４１によって掻き取られた塗布液２００は、スキージ４１を伝って移動し、スキージ４１から下方に向けて落下することで回収容器４３によって回収される。
【００６２】
その後、ステージ１２がＹ軸方向に沿ってさらに移動してクリーニング部４０が塗布部２０の下方を通過することにより、クリーニング動作が終了する。
【００６３】
次に、図８および図９に示すように、ステージ１２がＹ軸方向に沿ってさらに移動することでワーク載置部３０が塗布部２０の下方に達し、所定のタイミングで吐出口２４から塗布液２００が吐出されることにより、塗布動作が開始する。
【００６４】
ここで、図８に示すように、制御部５０は、ワーク１００の表面上に塗布膜２０１が形成されることとなるように、吐出口２４から塗布液２００が吐出された状態を維持しつつ、吐出口２４が延在する方向であるＸ軸方向と直交する方向であるＹ軸方向（すなわち、吐出口２４の短手方向）に向けてワーク載置部３０が移動するように、第２駆動機構としてのステージ駆動機構５１および塗布ヘッド駆動機構５２の動作を制御する。
【００６５】
これにより、ワーク１００の表面上に供給された塗布液２００が当該ワーク１００の表面上に付着することになり、所定の厚みの塗布膜２０１が形成されることになる。
【００６６】
その後、所定のタイミングで吐出口２４から塗布液２００が吐出されることが停止され、ステージ１２がＹ軸方向に沿ってさらに移動してワーク載置部３０が塗布部２０の下方を通過することにより、塗布動作が終了する。
【００６７】
次に、図１０に示すように、ステージ１２がＹ軸方向に沿ってさらに移動することにより、終了状態に至る。当該終了状態においては、Ｙ軸方向に沿ってクリーニング部４０と塗布部２０との間にワーク載置部３０が位置した状態にあり、当該状態においてワーク載置部３０であるテーブル３１上から保持板３２ごとワーク１００が取り外される。
【００６８】
その後、ステージ１２が、Ｙ軸方向に沿って移動して元の位置（すなわち、上記初期状態の位置）に復帰することにより、１つのワーク１００に対して実施される一連の処理が完了する。なお、塗布装置１においては、ワーク１００が交換されることで上述した一連の処理が順次繰り返される。
【００６９】
以上において説明したように、本実施の形態における塗布装置１および塗布ヘッドのクリーニング方法にあっては、スキージ４１をスリット状の吐出口２４が延在する方向と直交する方向（すなわち、吐出口２４の短手方向）に沿って移動させるため、塗布ヘッド２３のクリーニングが短時間で終了することになる。
【００７０】
加えて、本実施の形態における塗布装置１および塗布ヘッドのクリーニング方法にあっては、スキージ４１をスリット状の吐出口２４が延在する方向と直交する方向（すなわち、吐出口２４の短手方向）に沿って移動させるため、当該方向に沿って塗布液２００が掻き取られるタイミングに大きな時間差が発生しないことになり、吐出口２４の部位ごとにクリーニングから塗布までの間の時間に大きな差が生じないことになる。
【００７１】
そのため、クリーニング動作後であって塗布動作までの間において、スリット状の吐出口２４の部位ごとに自重および残留圧力によって吐出口２４から垂れ下がる塗布液２００の量に差が発生することが抑制され、塗布動作の初期段階においてワーク１００に供給される塗布液２００の量に差が生じることが低減される。
【００７２】
したがって、本実施の形態における塗布装置１および塗布ヘッドのクリーニング方法とすることにより、クリーニング動作のタクトタイムが非常に短くて済むことになるとともに、ワーク１００の表面に均一な膜厚の塗布膜２０１を形成することが可能になる。
【００７３】
さらには、本実施の形態における塗布装置１および塗布ヘッドのクリーニング方法にあっては、上述した初期状態においてスキージ４１がワーク載置部３０であるテーブル３１から見て塗布ヘッド２３が位置する側に配置される構成であるため、ワーク１００に対して塗布液２００を塗布するためにテーブル３１が吐出口２４の下方を移動するに際して、テーブル３１が吐出口２４の下方を通過するに先だって塗布ヘッド２３がクリーニングされることになる。そのため、クリーニング動作が完了した時点から塗布動作を開始する時点までの時間が短くなり、塗布動作の開始時点において吐出口２４から垂れ下がる塗布液２００の量を非常に僅少にすることができ、ワーク１００の表面により均一な膜厚の塗布膜２０１を形成することが可能になる。
【００７４】
なお、上記においては、塗布ヘッド２３のリップ面２３ａ，２３ｂが先細り形状を有している場合を例示して説明を行なったが、塗布ヘッド２３のリップ面２３ａ，２３ｂの形状は、これに限定されるものではない。図１１は、本実施の形態に基づいた変形例に係る塗布装置のクリーニング動作時における塗布部およびクリーニング部の状態を示す図である。
【００７５】
図１１に示すように、変形例にかかる塗布装置の塗布ヘッド２３は、リップ面２３ａ，２３ｂが同一平面上に位置するように、その底面が平面形状を有している。この場合においても、制御部５０が、スキージ４１によって塗布ヘッド２３から余剰の塗布液２００が掻き取られることとなるように、リップ面２３ａ，２３ｂにスキージ４１を接触させつつ、吐出口２４が延在する方向であるＸ軸方向と直交する方向であるＹ軸方向（すなわち、吐出口２４の短手方向）に向けてスキージ４１を移動させるように、第１駆動機構としてのステージ駆動機構５１、塗布ヘッド駆動機構５２およびスキージ駆動機構５３の動作を制御すればよい。
【００７６】
すなわち、制御部５０が、上述した第１駆動機構としてのステージ駆動機構５１、塗布ヘッド駆動機構５２およびスキージ駆動機構５３の動作を制御することにより、スキージ４１が同一平面上に位置するリップ面２３ａ，２３ｂの表面に沿って移動するように（すなわち、スキージ４１が塗布ヘッド２３に対して相対的に図１１中において矢印Ｂで示す軌跡上を移動することとなるように）、スキージ４１および塗布ヘッド２３の位置を調節する。これにより、スキージ４１が適度な圧接力をもってリップ面２３ａ，２３ｂに接触しつつリップ面２３ａ，２３ｂ上を移動することになり、余剰の塗布液２００が確実にスキージ４１によって掻き取られることになる。
【００７７】
このように、塗布ヘッド２３のリップ面２３ａ，２３ｂの形状は、基本的にどのような形状であってもよく、上述した第１駆動機構としてのステージ駆動機構５１、塗布ヘッド駆動機構５２およびスキージ駆動機構５３の動作を制御部５０において適切に制御することにより、スキージ４１をリップ面２３ａ，２３ｂに沿って移動させることで余剰の塗布液２００を短時間にムラなく確実に除去することができる。
【００７８】
（実施の形態２）
図１２は、本発明の実施の形態２における塗布装置のクリーニング動作時における塗布部およびクリーニング部の状態を示す図である。以下、この図１２を参照して、本実施の形態における塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法について説明する。
【００７９】
図１２に示すように、本実施の形態における塗布装置にあっては、クリーニング部が一対（すなわち２つ）のスキージ４１Ａ，４１Ｂを有している。スキージ４１Ａは、塗布ヘッド２３のリップ面２３ａに接触して当該リップ面２３ａ上を移動するものであり、スキージ４１Ｂは、塗布ヘッド２３のリップ面２３ｂに接触して当該リップ面２３ｂ上を移動するものである。なお、一対のスキージ４１Ａ，４１Ｂは、図示しない第１位置調節機構および第２位置調節機構によってそれぞれ塗布ヘッド２３に対する相対的な位置が個別に調節されるものである。
【００８０】
ここで、本実施の形態における塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法においては、クリーニング動作時において、制御部５０が、スキージ４１Ａ，４１Ｂによって塗布ヘッド２３から余剰の塗布液２００が掻き取られることとなるように、リップ面２３ａ，２３ｂにスキージ４１Ａ，４１Ｂをそれぞれ対応づけて接触させつつ、吐出口２４が延在する方向であるＸ軸方向と直交する方向であるＹ軸方向（すなわち、吐出口２４の短手方向）に向けてスキージ４１Ａ，４１Ｂをそれぞれ移動させるように、第１駆動機構としてのステージ駆動機構５１、塗布ヘッド駆動機構５２およびスキージ駆動機構５３の動作を制御する。
【００８１】
より詳細には、制御部５０は、リップ面２３ａ，２３ｂのうちのＹ軸方向において吐出口２４に隣接して位置する一端側のリップ面２３ａから吐出口２４に向けてスキージ４１Ａを移動させるとともに、リップ面２３ａ，２３ｂのうちのＹ軸方向において吐出口２４に隣接して位置する他端側のリップ面２３ｂから吐出口２４に向けてスキージ４１Ｂを移動させ、これら一対のスキージ４１Ａ，４１Ｂが最終的に吐出口２４の開口面上において突き当たるようにその移動を制御する。
【００８２】
このとき、制御部５０は、上述した第１駆動機構としてのステージ駆動機構５１、塗布ヘッド駆動機構５２およびスキージ駆動機構５３の動作を制御することにより、スキージ４１Ａ，４１Ｂがそれぞれリップ面２３ａ，２３ｂの表面に沿って移動するように（すなわち、スキージ４１Ａ，４１Ｂがそれぞれ塗布ヘッド２３に対して相対的に図１２中において矢印Ｃで示す軌跡上を移動することとなるように）、スキージ４１Ａ，４１Ｂおよび塗布ヘッド２３の位置を調節する。これにより、スキージ４１Ａ，４１Ｂが適度な圧接力をもってそれぞれリップ面２３ａ，２３ｂに接触しつつリップ面２３ａ，２３ｂ上をそれぞれ移動することになり、余剰の塗布液２００が確実にスキージ４１によって掻き取られることになる。
【００８３】
なお、スキージ４１Ａ，４１Ｂによって掻き取られた塗布液２００は、下方に向けて落下することで回収容器４３によって回収される。
【００８４】
このように、本実施の形態における塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法においても、上述した実施の形態１の場合と同様に、スキージ４１Ａ，４１Ｂをスリット状の吐出口２４が延在する方向と直交する方向（すなわち、吐出口２４の短手方向）に沿ってそれぞれ移動させるものであるため、塗布ヘッド２３のクリーニングが短時間で終了することになるとともに、クリーニング動作後であって塗布動作までの間において、スリット状の吐出口２４の部位ごとに自重および残留圧力によって吐出口２４から垂れ下がる塗布液２００の量に差が発生することが抑制され、塗布動作の初期段階においてワーク１００に供給される塗布液２００の量に差が生じることが低減される。
【００８５】
したがって、本実施の形態における塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法とすることにより、上述した実施の形態１の場合と同様に、クリーニング動作のタクトタイムが非常に短くて済むことになるとともに、ワーク１００の表面に均一な膜厚の塗布膜２０１を形成することが可能になる。
【００８６】
なお、上述した本発明の実施の形態においては、ワーク載置部とクリーニング部とがＹ軸方向に沿って一体的に移動するように構成した場合を例示したが、これに限定されるものではなく、ワーク載置部とクリーニング部とがＹ軸方向に沿って個別に移動するように構成してもよい。
【００８７】
また、上述した本発明の実施の形態においては、ワーク載置部およびクリーニング部がＹ軸方向に沿って移動するように構成するとともに、塗布部がＹ軸方向に沿って移動しないように構成した場合を例示したが、これに限定されるものではなく、塗布部がＹ軸方向に沿って移動するように構成するとともに、ワーク載置部およびクリーニング部がＹ軸方向に沿って移動しないように構成してもよい。
【００８８】
また、上述した本発明の実施の形態においては、スキージのＹ軸方向およびＺ軸方向の位置のみが可変に調節されるように構成した場合を例示したが、スキージがＸ軸方向を回転中心に回転可能に構成されていてもよい。この場合には、以下の２通りの構成が想定される。
【００８９】
第１の構成は、スキージを回転自在に支持するとともに所定の付勢力をもってこれを付勢する構成である。当該第１の構成を採用した場合には、スキージを塗布ヘッドのリップ面に接触させた状態においてスキージをリップ面にならわせることが可能になり、より安定的に余剰の塗布液を掻き取ることが可能になる。
【００９０】
第２の構成は、スキージの角度を可変に調節する角度調節機構をスキージ支持部に付設するとともに、当該角度調節機構の動作を制御部にて制御する構成である。当該第２の構成を採用した場合には、塗布ヘッドのリップ面に対して接触するスキージの角度を任意の角度に調節することが可能になるため、リップ面が非平面形状である場合等においてリップ面の形状にあわせてクリーニング動作中（すなわち、リップ面上をスキージが移動する際）にスキージの角度が変わるように制御することにより、より確実に余剰の塗布液を掻き取ることが可能になる。
【００９１】
また、上述した本発明の実施の形態においてはその詳細な説明は省略したが、クリーニング動作時においてスキージによってクリーニングされる塗布ヘッドのリップ面の領域は、吐出口から垂れ下がった余剰の塗布液およびリップ面に付着した余剰の塗布液が除去される限りにおいて、リップ面の全域であってもよいし、リップ面の一部の領域であってもよい。当該領域の設定は、余剰の塗布液がリップ面に付着する範囲を見極めて適宜設定すればよい。
【００９２】
ただし、塗布ヘッドに付着した余剰の塗布液がクリーニング動作によって確実に塗布ヘッドから除去されるようにするためには、塗布ヘッドのスキージによる掻き取り完了側の端部において、スキージが塗布ヘッドを通り越してオーバーランするように制御することが好ましい。このようにすれば、余剰の塗布液が塗布ヘッドからスキージにより確実に載り移るようになるため、繰り返しのクリーニング動作によって塗布液が塗布ヘッドの上記掻き取り完了側の端部に残留して蓄積してしまうことが防止できる。
【００９３】
また、上述した本発明の実施の形態においては、その詳細な説明は省略したが、仕様の変更等に伴って塗布ヘッドのリップ面の形状や塗布液の粘度等が変わった場合には、スキージによる掻き取りの最適条件も変わるため、スキージの塗布ヘッドに対する相対的な移動速度やスキージの塗布ヘッドに対する押し付け圧力、スキージのリップ面に対する角度等は、これらが任意に変更できる構成とすることが好ましい。また、これらを可変に調節可能に構成して最適条件に設定することにより、スキージの摩耗粉の発生を抑制したり、スキージの寿命が向上したりする効果を得ることもできる。
【００９４】
また、上述した本発明の実施の形態においては、ワーク載置部と塗布部とが相対的に移動するように構成されたスリットコータに本発明を適用した場合を例示したが、これらが相対的に移動しないように構成されたスリットタイプのディスペンサに本発明を適用することも可能である。すなわち、スリットコータは、ワークの表面に塗布液を広げることで塗布膜を形成するものであるが、スリットタイプのディスペンサは、ワークの表面に塗布液（たとえば接着剤等）を線状に塗布するものであり、当該ディスペンサにおいてもクリーニングに要するタクトタイムの短縮や塗布量を均一にする観点から、本発明の適用が可能である。
【００９５】
このように、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって画定され、また特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
【符号の説明】
【００９６】
１  塗布装置、１０  ベース、１１  ガイドレール、１２  ステージ、１３  ステージ支持部、２０  塗布部、２１  ガントリ、２２  ヘッド支持部、２３  塗布ヘッド、２３ａ，２３ｂ  リップ面、２４  吐出口、２５  吐出路、３０  ワーク載置部、３１  テーブル、３２  保持板、４０  クリーニング部、４１，４１Ａ，４１Ｂ  スキージ、４２  スキージ支持部、４３  回収容器、５０  制御部、５１  ステージ駆動機構、５２  塗布ヘッド駆動機構、５３  スキージ駆動機構、１００  ワーク、２００  塗布液、２０１  塗布膜。
【図１】
2015039668.tif 000003
【図２】
2015039668.tif 000004
【図３】
2015039668.tif 000005
【図４】
2015039668.tif 000006
【図５】
2015039668.tif 000007
【図６】
2015039668.tif 000008
【図７】
2015039668.tif 000009
【図８】
2015039668.tif 000010
【図９】
2015039668.tif 000011
【図１０】
2015039668.tif 000012
【図１１】
2015039668.tif 000013
【図１２】
2015039668.tif 000014