(57)【要約】【課題】透明電極パターンが視認される問題がなく、パターニング性が良好である透明積層体を形成できる転写フィルムの提供。【解決手段】仮支持体と、第一の硬化性透明樹脂層と、第一の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層とをこの順で有し、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層のいずれか一方が水に浸漬した場合に単位膜厚あたり３分／μｍ以内の浸漬時間で完全に溶解する水溶性を示す層であり、もう一方が水に浸漬した場合に単位膜厚あたり３分／μｍ以内の浸漬時間で完全には溶解しない非水溶性を示す層であり、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６以上である転写フィルム。転写フィルムの製造方法、透明積層体及び透明積層体の製造方法、静電容量型入力装置及び画像表示装置。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮支持体と、第一の硬化性透明樹脂層と、前記第一の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層とをこの順で有し、
前記第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層のいずれか一方が水に浸漬した場合に単位膜厚あたり３分／μｍ以内の浸漬時間で完全に溶解する水溶性を示す層であり、もう一方が水に浸漬した場合に単位膜厚あたり３分／μｍ以内の浸漬時間で完全には溶解しない非水溶性を示す層であり、
前記第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が前記第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、
前記第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６以上である転写フィルム。
【請求項２】
前記第一の硬化性透明樹脂層および前記第二の硬化性透明樹脂層が、それぞれ独立にバインダー、重合性化合物および光重合性開始剤を含む請求項１に記載の転写フィルム。
【請求項３】
前記水溶性を示す層に含まれる前記バインダーの沖津法によって計算されたＳＰ値と、前記非水溶性を示す層に含まれる前記バインダーの沖津法によって計算されたＳＰ値との差が１．０２（ＭＰａ）1/2以上である請求項２に記載の転写フィルム。
【請求項４】
前記水溶性を示す層に含まれるバインダーがポリビニルアルコール誘導体である請求項２または３に記載の転写フィルム。
【請求項５】
前記ポリビニルアルコール誘導体がポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、完全鹸化ポリビニルアルコールまたはポリ酢酸ビニルを部分鹸化したポリビニルアルコールである請求項４に記載の転写フィルム。
【請求項６】
前記ポリビニルアルコール誘導体に含まれる置換または無置換の水酸基のうち、無置換の水酸基含有量が６６ｍｏｌ％以上である請求項４または５に記載の転写フィルム。
【請求項７】
前記第一の硬化性透明樹脂層の屈折率が、１．５０〜１．５３である請求項１〜６のいずれか一項に記載の転写フィルム。
【請求項８】
前記水溶性を示す層が、水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率が質量比で５８／４２〜１００／０の水または混合溶媒を含む塗布液を塗布して形成されてなり、
前記非水溶性を示す層が、有機溶媒を含む塗布液を塗布して形成されてなる請求項１〜７のいずれか一項に記載の転写フィルム。
【請求項９】
前記第二の硬化性透明樹脂層の膜厚が５００ｎｍ以下である請求項１〜８のいずれか一項に記載の転写フィルム。
【請求項１０】
前記第一の硬化性透明樹脂層の膜厚が１〜１５μｍである請求項１〜９のいずれか一項に記載の転写フィルム。
【請求項１１】
前記第二の硬化性透明樹脂層が、屈折率が１．５５以上の粒子を含有する請求項１〜１０のいずれか一項に記載の転写フィルム。
【請求項１２】
仮支持体上に、第一の硬化性透明樹脂層を形成する工程と、
前記第一の硬化性透明樹脂層の上に直接第二の硬化性透明樹脂層を形成する工程とを有し、
前記第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層のうちいずれか一方を水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率が質量比で５８／４２〜１００／０の水または混合溶媒を含む塗布液を塗布して形成し、もう一方を有機溶媒を含む塗布液を塗布して形成し、
前記第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が前記第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、
前記第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６以上である転写フィルムの製造方法。
【請求項１３】
前記第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層が、それぞれ独立にバインダー、重合性化合物および光重合性開始剤を含む請求項１２に記載の転写フィルムの製造方法。
【請求項１４】
透明電極パターン上に、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の転写フィルムの前記第二の硬化性透明樹脂層および前記第一の硬化性透明樹脂層をこの順で積層する工程を含む透明積層体の製造方法。
【請求項１５】
前記第一の硬化性透明樹脂層および前記第二の硬化性透明樹脂層を同時に硬化する工程を含む請求項１４に記載の透明積層体の製造方法。
【請求項１６】
請求項１４または１５に記載の透明積層体の製造方法で製造された透明積層体。
【請求項１７】
前記透明電極パターンの前記第二の硬化性透明樹脂層が形成された側と反対側に、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜をさらに有する請求項１６に記載の透明積層体。
【請求項１８】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の転写フィルムを用いて作製されてなる静電容量型入力装置。
【請求項１９】
請求項１６または１７に記載の透明積層体を含む静電容量型入力装置。
【請求項２０】
請求項１８または１９に記載の静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写フィルムおよび透明積層体、それらの製造方法、静電容量型入力装置ならびに画像表示装置に関するものである。詳しくは、指の接触位置を静電容量の変化として検出可能な静電容量型入力装置とそれに用いることができる透明積層体、透明積層体を製造するために用いる転写フィルムと転写フィルムの製造方法、この転写フィルムを用いた透明積層体の製造方法、並びに、この静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタブレット型の入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指またはタッチペンなどを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行えるものがある。
【０００３】
このような入力装置（タッチパネル）には、抵抗膜型、静電容量型などがある。しかし、抵抗膜型の入力装置は、フィルムとガラスとの２枚構造でフィルムを押下してショートさせる構造のため、動作温度範囲の狭さや、経時変化に弱いという欠点を有している。
【０００４】
これに対して、静電容量型の入力装置は、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。かかる静電容量型の入力装置では、例えば、互いに交差する方向に電極パターンを延在させて、指などが接触した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプのものがある（例えば、下記特許文献１〜３参照）。
【０００５】
これらの静電容量型入力装置を使用するにあたり、例えば、光源が映り込んだときの正反射近傍から少し離れた位置において、透明電極パターンが目立ち、見栄えが優れないなどの視認性の問題があった。これに対し、特許文献１では、基板上にＩＴＯパターンを形成し、ＩＴＯパターンの上側のみにＳｉＯ2等の低屈折率誘電体材料からなる層と、Ｎｂ2Ｏ5等の高屈折率誘電体材料からなる層とを交互に積層することにより、それらの各層による光干渉効果によって、透明電極パターンがステルス化し、ニュートラルな色調となると記載されている。
特許文献２では、基板上にＩＴＯパターンを形成する前に、ＩＴＯパターンの下側のみにＳｉＯ2等の低屈折率層とＮｂ2Ｏ5等の高屈折率層とを積層してからＩＴＯパターンを形成することで、透明電極パターン形状が現れることを防止できると記載されている。
特許文献３には、基板上にＩＴＯパターンを形成する前に、ＩＴＯパターンの下側のみにＳｉＯ2等の低屈折率層とＮｂ2Ｏ5等の高屈折率層とを積層してからＩＴＯパターンを形成することで、透明電極パターンパターンやパターン同士の交差部を目立たなくすることができると記載されている。
【０００６】
これらの文献に記載の透明絶縁層や透明保護膜などの透明膜の形成方法としては様々な方法が知られている。ここで、静電容量型タッチパネルを液晶や有機ＥＬディスプレイ上に備えたスマートフォンやタブレットＰＣでは前面板（直接指で接触する面）にコーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスを用いたものが開発、発表されている。また、前述の前面板の一部に、感圧（静電容量変化ではなく、押圧式のメカニカルな機構）スイッチを設置するための開口部が形成されているものが上市されている。これらの強化ガラスは強度が高く、加工が困難であるため、前述の開口部を形成するには強化処理前に開口部を形成したのち、強化処理を行うのが一般的である。
【０００７】
特許文献４や５には透明絶縁層や透明保護膜の形成方法として、有機材料を用いる場合は塗布を行う方法のみが記載されている。しかしながら、上記の開口部を有した強化処理後の基板に、特許文献４や５に記載されている塗布法によって特許文献３や４に記載の材料を用いて透明絶縁層や透明保護膜を形成しようとすると、開口部からのレジスト成分のモレやはみ出しを生じ、はみ出した部分を除去する工程が必要になってしまい、生産効率が著しく低下するという問題があった。
特許文献６には仮支持体と、その少なくとも一つの表面に形成されている微粒子積層膜とを備える薄膜転写材が開示されている。しかしながらこの薄膜転写材はフォトリソ適性を有しない。
【０００８】
一方、特許文献７および８には、カラーフィルター用転写材料が記載され、特許文献９〜１６にはプリント配線板用感光性転写シート記載されており、転写材料を基板上にラミネートすることが提案されている。しかしながら、これらの文献では液晶表示装置またはプリント配線板への利用に言及しているものの、その透明電極パターン（特にＩＴＯパターン）視認性を改善することについて検討されておらず、また、静電容量型の入力装置への転写材料の応用についても記載されていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１０−８６６８４号公報
【特許文献２】特開２０１０−１５２８０９号公報
【特許文献３】特開２０１０−２５７４９２号公報
【特許文献４】ＷＯ２０１０−０６１７４４号公報
【特許文献５】特開２０１０−０６１４２５号公報
【特許文献６】特開２０１２−８６４７７号公報
【特許文献７】特開２００７−３３４０４５号公報
【特許文献８】特開２００８−１０７７７９号公報
【特許文献９】特開２００５−２２７３９８号公報
【特許文献１０】特開２００５−２２１８５７号公報
【特許文献１１】特開２００５−２０８５５９号公報
【特許文献１２】特開２００５−７０７６５号公報
【特許文献１３】特開２００５−５５６５５号公報
【特許文献１４】特開２００５−２９２７３４号公報
【特許文献１５】特開２００５−２０８５６５号公報
【特許文献１６】特開２００５−２０２０６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
以上のべたように、透明電極パターンが視認される問題を解決するために、転写材料を用いて改良する方法、さらに詳細にはＩＴＯパターン視認性を改善するための屈折率調整層及びオーバーコート層を、フォトリソ方式を用いて透明電極パターン上に、パターンを一括形成するための転写材料及びそれを用いた製造方法に関しては、なんら開示されていない。
【００１１】
これに対し、本発明者がこれらの特許文献１〜３に記載されている層構成や、特許文献１４〜１６に記載の支持体上に第一感光層および第二感光層を有する感光性転写シートを検討したところ、透明電極パターンが視認されてしまい、依然として透明電極パターンが視認される問題は完全には解決できていないことがわかった。
【００１２】
さらに一般的に用いられる静電容量型入力装置は、画像表示領域の周囲に枠部が設けられる。そのため、転写フィルムを用いて屈折率調整層を形成する場合は、画像表示領域の上に屈折率調整層を積層して透明電極パターンが視認される問題を解決すると同時に、枠部には屈折率調整層を積層しないように所望のパターン形状に成形しやすいことが求められている。所望のパターンを形成する方法としては、転写フィルムの形状を静電容量型入力装置の枠部の形状にあわせてカットする方法（ダイカット法やハーフカット法）が考えられる。しかしながら、より生産性を高める観点からは、転写フィルムから屈折率調整層を透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できるようなパターニング性が良好である透明積層体を形成することが望まれている。
【００１３】
本発明が解決しようとする課題は、透明電極パターンが視認される問題がなく、パターニング性が良好である透明積層体を形成できる転写フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者は、仮支持体と、特定の屈折率の範囲に調整された低屈折率の第一の硬化性透明樹脂層および高屈折率の第二の硬化性透明樹脂層とを隣接して有し、第一および第二の硬化性透明樹脂層のいずれか一方が水溶性を示す層であり、もう一方が非水溶性を示す層である転写フィルムを用いることによって、透明電極パターン上に特定の屈折率の範囲の高屈折率の第二の硬化性透明樹脂層および低屈折率の第一の硬化性樹脂層を転写し、露光・現像・ベークして得られた、第二の硬化性透明樹脂層および第一硬化性透明樹脂層の積層パターンを構成の透明積層体に積層させることにより、透明電極パターンが視認される問題を解決でき、転写フィルムから屈折率調整層を透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できることを見出すに至った。
上記課題を解決するための具体的な手段である本発明は以下のとおりである。
【００１５】
［１］  仮支持体と、第一の硬化性透明樹脂層と、第一の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層とをこの順で有し、
第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層のいずれか一方が水に浸漬した場合に単位膜厚あたり３分／μｍ以内の浸漬時間で完全に溶解する水溶性を示す層であり、もう一方が水に浸漬した場合に単位膜厚あたり３分／μｍ以内の浸漬時間で完全には溶解しない非水溶性を示す層であり、
第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、
第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６以上である転写フィルム。
［２］  ［１］に記載の転写フィルムは、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層が、それぞれ独立にバインダー、重合性化合物および光重合性開始剤を含むことが好ましい。
［３］  ［２］に記載の転写フィルムは、水溶性を示す層に含まれるバインダーの沖津法によって計算されたＳＰ値と、非水溶性を示す層に含まれるバインダーの沖津法によって計算されたＳＰ値との差が１．０２（ＭＰａ）1/2以上であることが好ましい。
［４］  ［２］または［３］に記載の転写フィルムは、水溶性を示す層に含まれるバインダーがポリビニルアルコール誘導体であることが好ましい。
［５］  ［４］に記載の転写フィルムは、ポリビニルアルコール誘導体がポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、完全鹸化ポリビニルアルコールまたはポリ酢酸ビニルを部分鹸化したポリビニルアルコールであることが好ましい。
［６］  ［４］または［５］に記載の転写フィルムは、ポリビニルアルコール誘導体に含まれる置換または無置換の水酸基のうち、無置換の水酸基含有量が６６ｍｏｌ％以上であることが好ましい。
［７］  ［１］〜［６］のいずれか一つに記載の転写フィルムは、第一の硬化性透明樹脂層の屈折率が、１．５０〜１．５３であることが好ましい。
［８］  ［１］〜［７］のいずれか一つに記載の転写フィルムは、水溶性を示す層が、水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率が質量比で５８／４２〜１００／０の水または混合溶媒を含む塗布液を塗布して形成されてなり、
非水溶性を示す層が、有機溶媒を含む塗布液を塗布して形成されてなることが好ましい。
［９］  ［１］〜［８］のいずれか一つに記載の転写フィルムは、第二の硬化性透明樹脂層の膜厚が５００ｎｍ以下であることが好ましい。
［１０］  ［１］〜［９］のいずれか一つに記載の転写フィルムは、第一の硬化性透明樹脂層の膜厚が１〜１５μｍであることが好ましい。
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれか一つに記載の転写フィルムは、第二の硬化性透明樹脂層が、屈折率が１．５５以上の粒子を含有することが好ましい。
［１２］  仮支持体上に、第一の硬化性透明樹脂層を形成する工程と、
第一の硬化性透明樹脂層の上に直接第二の硬化性透明樹脂層を形成する工程とを有し、
第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層のうちいずれか一方を水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率が質量比で５８／４２〜１００／０の水または混合溶媒を含む塗布液を塗布して形成し、もう一方を有機溶媒を含む塗布液を塗布して形成し、
第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、
第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６以上である転写フィルムの製造方法。
［１３］  ［１２］に記載の転写フィルムの製造方法は、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層が、それぞれ独立にバインダー、重合性化合物および光重合性開始剤を含むことが好ましい。
［１４］  透明電極パターン上に、［１］〜［１１］のいずれか一つに記載の転写フィルムの第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層をこの順で積層する工程を含む透明積層体の製造方法。
［１５］  ［１４］に記載の透明積層体の製造方法は、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層を同時に硬化する工程を含むことが好ましい。
［１６］  ［１４］または［１５］に記載の透明積層体の製造方法で製造された透明積層体。
［１７］  ［１６］に記載の透明積層体は、透明電極パターンの第二の硬化性透明樹脂層が形成された側と反対側に、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜をさらに有することが好ましい。
［１８］  ［１］〜［１１］のいずれか一つに記載の転写フィルムを用いて作製されてなる静電容量型入力装置。
［１９］  ［１６］または［１７］に記載の透明積層体を含む静電容量型入力装置。
［２０］  ［１８］または［１９］に記載の静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、透明電極パターンが視認される問題がなく、パターニング性が良好である透明積層体を形成できる転写フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１Ａ】本発明の静電容量型入力装置の構成の一例を示す断面概略図である。
【図１Ｂ】本発明の静電容量型入力装置の構成の他の一例を示す断面概略図である。
【図２】本発明における前面板の一例を示す説明図である。
【図３】本発明における透明電極パターンと、非パターン領域の関係の一例を示す説明図である。
【図４】開口部が形成された強化処理ガラスの一例を示す上面図である。
【図５】マスク層が形成された前面板の一例を示す上面図である。
【図６】第一の透明電極パターンが形成された前面板の一例を示す上面図である。
【図７】第一および第二の透明電極パターンが形成された前面板の一例を示す上面図である。
【図８】第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素が形成された前面板の一例を示す上面図である。
【図９】金属ナノワイヤー断面を示す説明図である。
【図１０】透明電極パターンの端部のテーパー形状の一例を示す説明図である。
【図１１】本発明の透明積層体の構成の一例を示す断面概略図である。
【図１２】本発明の転写フィルムの構成の一例を示す断面概略図である。
【図１３】本発明の静電容量型入力装置の構成の他の一例を示す上面図であり、パターン露光され、第一の硬化性透明樹脂層に覆われていない、引き回し配線の端末部（末端部分）を含む態様を示す。
【図１４】第一および第二の硬化性透明樹脂層を有する本発明の転写フィルムを、静電容量型入力装置の透明電極パターンの上にラミネートにより積層し、露光等によって硬化する前の状態の一例を示す概略図である。
【図１５】第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層が硬化された所望のパターンの一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の転写フィルムとその製造方法、透明積層体とその製造方法、静電容量型入力装置および画像表示装置について説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様や具体例に限定されない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１９】
［転写フィルム］
本発明の転写フィルムは、仮支持体と、第一の硬化性透明樹脂層と、第一の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層とをこの順で有し、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層のいずれか一方が水に浸漬した場合に単位膜厚あたり３分／μｍ以内の浸漬時間で完全に溶解する水溶性を示す層であり、もう一方が水に浸漬した場合に単位膜厚あたり３分／μｍ以内の浸漬時間で完全には溶解しない非水溶性を示す層であり、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６以上である。
このような構成とすることで、透明電極パターンが視認される問題がなく、パターニング性が良好である透明積層体を形成できる。透明電極パターン（好ましくはＩＴＯ）と前述の第二の硬化性透明樹脂層との屈折率差、ならびに、前述の第二の硬化性透明樹脂層と前述の第一の硬化性透明樹脂層との屈折率差を小さくすることにより、光反射が低減して透明電極パターンが見えにくくなり、透明電極パターン視認性を改善することができる。また、第一および第二の硬化性透明樹脂層のいずれか一方が水溶性を示す層であり、もう一方が非水溶性を示す層であることにより、第一の硬化性透明樹脂層を積層した後に第一の硬化性透明樹脂層を硬化させることなく第二の硬化性透明樹脂層を積層しても、層分画が良好となって、上記のメカニズムで透明電極パターン視認性を改善することができるとともに、転写フィルムから屈折率調整層（すなわち第一および第二の硬化性透明樹脂層）を透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できる。なお、第一および第二の硬化性透明樹脂層の層分画が悪いと、上記のメカニズムによる屈折率調整の効果が不十分となりやすく、透明電極パターン視認性の改善が不十分となりやすい。
さらに本発明の転写フィルムは、層分画が良好であることが好ましい。また、本発明の転写フィルムは、ヒビわれが良好であることが好ましい。また、本発明の透明積層体は、レチキュレーションが良好であることが好ましい。
【００２０】
以下、本発明の転写フィルムの好ましい態様について説明する。
なお、本発明の転写フィルムは、静電容量型入力装置の透明絶縁層用または透明保護層用であることが好ましい。より詳しくは、本発明の転写フィルムは、透明電極パターンの上に、フォトリソ方式により、屈折率調整層およびオーバーコート層（透明保護層）の積層パターンを形成するための転写フィルムとして好ましく用いることができる。
【００２１】
〔仮支持体〕
本発明の転写フィルムは、仮支持体を有する。
仮支持体としては、可撓性を有し、加圧下または、加圧および加熱下で著しい変形、収縮もしくは伸びを生じない材料を用いることができる。このような仮支持体の例として、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられ、中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【００２２】
仮支持体の厚みには、特に制限はなく、５〜２００μｍの範囲が一般的であり、取扱い易さ、汎用性などの点で、特に１０〜１５０μｍの範囲が好ましい。
また、仮支持体は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
また、仮支持体には、特開２００５−２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。
【００２３】
〔第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層〕
本発明の転写フィルムは、第一の硬化性透明樹脂層と、第一の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層を有し、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層のいずれか一方が水に浸漬した場合に単位膜厚あたり３分／μｍ以内の浸漬時間で完全に溶解する水溶性を示す層であり、もう一方が水に浸漬した場合に単位膜厚あたり３分／μｍ以内の浸漬時間で完全には溶解しない非水溶性を示す層であり、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６以上である。
第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層は、熱硬化性であっても、光硬化性であっても、熱硬化性かつ光硬化性であってもよい。その中でも、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層は少なくとも熱硬化性透明樹脂層であることが、転写後に熱硬化して膜の信頼性を付与できる観点から好ましく、熱硬化性透明樹脂層かつ光硬化性透明樹脂層であることが、転写後に光硬化して製膜しやすく、かつ、製膜後に熱硬化して膜の信頼性を付与できる観点からより好ましい。
なお、本明細書中では説明の都合上、本発明の転写フィルムの第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層を透明電極パターン上に転写し、これらの層を光硬化した後にこれらの層が光硬化性を失った場合において、これらの層が熱硬化性を有するか否かによらずそれぞれ引き続き第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層と呼ぶ。さらに、これらの層を光硬化した後、熱硬化を行う場合もあるが、その場合もこれらの層が硬化性を有するか否かによらずそれぞれ引き続き第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層と呼ぶ。同様に、本発明の転写フィルムの第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層を透明電極パターン上に転写し、これらの層を熱硬化した後にこれらの層が熱硬化性を失った場合において、これらの層が光硬化性を有するか否かによらずそれぞれ引き続き第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層と呼ぶ。
【００２４】
＜第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層の材料＞
上述のような屈折率の範囲を満たす限りにおいて、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層の材料は特に制限されない。
本発明の転写フィルムは、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
本発明の転写フィルムがネガ型材料である場合、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層には、金属酸化物粒子、バインダー樹脂（好ましくはアルカリ可溶性樹脂）、重合性化合物、重合開始剤または重合開始系を含むことが好ましい。さらに、添加剤などが用いられるがこれに限られない。
本発明の転写フィルムは、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層が、それぞれ独立にバインダー、重合性化合物および光重合性開始剤を含むことが好ましい。
【００２５】
本発明の転写フィルムは、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層が透明樹脂膜であっても、無機膜であってもよい。
前述の無機膜としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報などに用いられている無機膜を用いることができ、これらの文献に記載されている低屈折率材料と高屈折率材料の積層構造の無機膜や、低屈折率材料と高屈折率材料の混合膜の無機膜を用いることが屈折率を制御する観点から好ましい。前述の低屈折率材料と前述の高屈折率材料は、上記の特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報に用いられている材料を好ましく用いることがでる。
前述の無機膜は、ＳｉＯ2とＮｂ2Ｏ5の混合膜であってもよく、その場合はスパッタによって形成されたＳｉＯ2とＮｂ2Ｏ5の混合膜であることがより好ましい。
【００２６】
本発明では、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層が、透明樹脂膜であることが好ましい。
第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層の屈折率を制御する方法としては特に制限はないが、所望の屈折率の透明樹脂膜を単独で用いたり、金属粒子や金属酸化物粒子などの粒子を添加した透明樹脂膜を用いたり、また金属塩と高分子の複合体を用いることができる。
【００２７】
（粒子）
第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、粒子を含有することが好ましく、金属酸化物粒子を含有することがより好ましい。特に第二の硬化性透明樹脂層が粒子を含有することが好ましく、金属酸化物粒子を含有することがより好ましい。金属酸化物粒子は、透明性が高く、光透過性を有するため、高屈折率で、透明性に優れたポジ型感光性樹脂組成物が得られる。
前述の金属酸化物粒子は、第一の硬化性透明樹脂層または第二の硬化性透明樹脂層からこの粒子を除いた材料からなる組成物の屈折率より屈折率が高いものであることが好ましい。具体的には、本発明の転写フィルムは第二の硬化性透明樹脂層が、４００〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上の粒子を含有することがより好ましく、屈折率が１．５５以上の粒子を含有することが更に好ましく、屈折率が１．７０以上の粒子を含有することが特に好ましく、１．９０以上の粒子を含有することが最も好ましい。
ここで、４００〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上であるとは、上記範囲の波長を有する光における平均屈折率が１．５０以上であることを意味し、上記範囲の波長を有する全ての光における屈折率が１．５０以上であることを要しない。また、平均屈折率は、上記範囲の波長を有する各光に対する屈折率の測定値の総和を、測定点の数で割った値である。
【００２８】
なお、前述の金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれるものとする。
光透過性で屈折率の高い金属酸化物粒子としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、インジウム／スズ酸化物、アンチモン／スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウムが特に好ましく、二酸化チタンが最も好ましい。二酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。
【００２９】
第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層の透明性の観点から、前述の金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、１〜２００ｎｍが好ましく、３〜８０ｎｍが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。
【００３０】
また、前述の金属酸化物粒子は、１種単独で使用してよいし、２種以上を併用することもできる。
第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層における金属酸化物粒子の含有量は、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層により得られる光学部材に要求される屈折率や、光透過性等を考慮して、適宜決定すればよいが、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層の全固形分に対して、５〜８０質量％とすることが好ましく、１０〜７５質量％とすることが本発明の透明積層体の基板密着性を改善する観点からより好ましく、１０〜７０質量％とすることが特に好ましい。
本発明の転写フィルムは、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層が、ＺｒＯ2粒子、Ｎｂ2Ｏ5粒子およびＴｉＯ2粒子のうち少なくとも一方を有することが、前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層の屈折率の範囲に屈折率を制御する観点から好ましく、ＺｒＯ2粒子及びＮｂ2Ｏ5粒子がより好ましい。
【００３１】
（溶媒）
第一若しくは第二の硬化性透明樹脂層が非水溶性を示す層の場合は一般的な有機溶剤が使用できる。本発明の転写フィルムは、前述の非水溶性を示す層が、有機溶媒を含む塗布液を塗布して形成されてなることが好ましい。非水溶性バインダーを溶解するための。有機溶媒の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。
【００３２】
第一若しくは第二の硬化性透明樹脂層が水溶性を示す層の場合は、水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水との混合溶媒が好ましい。本発明の転写フィルムは、水溶性を示す層が、水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水との混合溶媒を塗布して形成されてなることが好ましく、水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率が質量比で５８／４２〜１００／０の水または混合溶媒を含む塗布液を塗布して形成されてなることがより好ましい。水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率は、質量比で５９／４１〜１００／０の範囲が特に好ましく、６０／４０〜９７／３が本発明の透明積層体の着色を改善する観点からより特に好ましく、６２／３８〜９５／５が本発明の透明積層体の基板密着性を改善する観点や本発明の転写フィルムのレチキュレーションを改善する観点からさらにより特に好ましく、６２／３８〜８５／１５が最も好ましい。
水、水及びメタノールの混合溶剤、水及びエタノールの混合溶剤が好ましく、乾燥及び塗布性の観点から水及びメタノールの混合溶剤が好ましい。
特に、第二の硬化性透明樹脂層形成の際、水及びメタノールの混合溶剤を用いる場合は、水／メタノールの質量比（質量％比率）が５８／４２〜１００／０であることが好ましく、５９／４１〜１００／０の範囲がより好ましく、６０／４０〜９７／３が特に好ましく、６２／３８〜９５／５がより特に好ましく、６２／３８〜８５／１５がされにより特に好ましい。この水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率が質量比で５８／４２の範囲よりもメタノールが多くなると第一の硬化性透明樹脂層が、溶解したり、白濁したりして好ましくない。
上記範囲に制御することにより、第一の硬化性透明樹脂層と層混合なく塗布と迅速な乾燥を実現できる。
【００３３】
第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層のいずれか一方が水に浸漬した場合に単位膜厚あたり３分／μｍ以内の浸漬時間で完全に溶解する水溶性を示す層であり、もう一方が水に浸漬した場合に単位膜厚あたり３分／μｍ以内の浸漬時間で完全には溶解しない非水溶性を示す層である。
本発明において、第一及び二の硬化性透明樹脂層のいずれか一方が水溶性を示す層であるとは具体的に以下のことを示す。
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（仮支持体）の上に、スリット状ノズルを用いて、第一及び二の硬化性透明樹脂層用塗布液を所望の膜厚になるように調整して塗布する。第一または第二の硬化性透明樹脂層用塗布液が、仮支持体にはじかれて塗布できない場合は予めコロナ処理により親水化処理を行なう。第一または第二の硬化性透明樹脂層用塗布液の塗布膜を１００℃で２分間乾燥させた後、さらに１２０℃で１分間乾燥させて、第一および第二の硬化性透明樹脂層を形成する。
第一または第二の硬化性透明樹脂層を２３℃、相対湿度５５％で１時間調湿し、２５℃イオン交換水に浸漬する。浸漬時間は単位膜厚あたり３分／μｍ、すなわち第一または第二の硬化性透明樹脂層の膜厚（μｍ）÷１（μｍ）×３分間（例えば、５μｍの場合は、１５分間であり、８０ｎｍの場合は、１４．４秒間である。）とする。
浸漬した後、洗瓶に入ったイオン交換水を用いて表面を軽くすすぎ、全面きれいに完全に除去できた状態を水溶性とした。そうでない場合を非水溶性とした。
【００３４】
本発明の転写フィルムは、水溶性を示す層に含まれるバインダーの沖津法によって計算されたＳＰ値と、非水溶性を示す層に含まれるバインダーの沖津法によって計算されたＳＰ値との差が１．０２（ＭＰａ）1/2以上であることが好ましく、１．５３（ＭＰａ）1/2以上であることがより好ましく、２．０４（ＭＰａ）1/2以上であることが特に好ましい。
水溶性を示す層に含まれるバインダーの沖津法によって計算されたＳＰ値と、非水溶性を示す層に含まれるバインダーの沖津法によって計算されたＳＰ値との差は特に制限はないが、８．５（ＭＰａ）1/2以下であることが好ましく、８．０（ＭＰａ）1/2以下であることがより好ましく、７．５（ＭＰａ）1/2以下であることが特に好ましく、７．０（ＭＰａ）1/2以下であることがより特に好ましい。
なお、本発明でいうＳＰ値とは沖津法（接着３８巻６号６頁（１９９４年）高分子刊行会）によって算出される溶解性パラメータであり、単位（ＭＰａ）1/2である。ＳＰ値は、分子構造中の各ユニットにモル引力定数、モル体積を与え、得られる。
【００３５】
（バインダー）
本発明の転写フィルムでは、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層に用いるバインダーは公知のものが使用できる。
第一若しくは第二の硬化性透明樹脂層に用い、水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水の混合溶媒に対して溶解性を有するバインダーとしては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、公知のものの中から適宜選択できる。例えば、特開昭４６−２１２１号公報や特公昭５６−４０８２４号公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、水溶性ポリビニルブチラールや水溶性ポリビニルアセタールなどのポリビニルアルコール誘導体、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂等が挙げられる。
【００３６】
水溶性を示す層に含まれるバインダーは、これらポリマーの中でも、ポリビニルアルコール誘導体であることが好ましく、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、完全鹸化ポリビニルアルコールまたはポリ酢酸ビニルを部分鹸化したポリビニルアルコールであることが特に好ましい。
【００３７】
本発明では水溶性を示す層に用いられるバインダーに含まれる置換または無置換の水酸基のうち、無置換の水酸基含有量が、６６モル％以上であることが好ましく、７０モル％以上であることが溶解性の観点からより好ましい。水溶性を示す層に用いられるバインダーに含まれる置換または無置換の水酸基のうち、無置換の水酸基含有量が、９９．９モル％以下であることが好ましい。
本発明の透明積層体の着色を改善する観点からは、第一および第二の硬化性透明樹脂層のうち水溶性を示す層に用いるバインダーの、水酸基含有率を７５モル％以上とすることがより好ましい。
本発明の透明積層体のパターニング性を改善したり、本発明の転写フィルムのレチキュレーションを改善したりする観点からは、第一および第二の硬化性透明樹脂層のうち水溶性を示す層に用いるバインダーの、水酸基含有率を９７質量％以下とすることがより好ましい。
ポリビニルアルコール誘導体に含まれる水酸基のモル数は６６モル％以上９９．９モル％以下の範囲が好ましい。６６モル％以上であると溶解性が十分であり、９９．９モル％以下であると塗布液が経時により、ゲル化し難くなるので好ましい。
【００３８】
前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層に用いられ、有機溶媒に対して溶解性を有する樹脂（バインダー、ポリマーという言う）としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、公知のものの中から適宜選択でき、アルカリ可溶性樹脂が好ましく、前述のアルカリ可溶性樹脂としては、特開２０１１−９５７１６号公報の段落００２５、特開２０１０−２３７５８９号公報の段落００３３〜００５２に記載のポリマーを用いることができる。
【００３９】
第一の硬化性透明樹脂層に含有されるポリマーの水酸基価は４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが金属配線の腐食防止の観点から好ましい。
第二の硬化性透明樹脂層の場合は、第二の硬化性透明樹脂層を極めて薄くする場合は、ポリマーの水酸基価による悪影響はあまりない。
【００４０】
また第一の硬化性透明樹脂層または第二の硬化性透明樹脂層は、ポリマーラテックスを含んでいても良い。ここで言うポリマーラテックスとは、水不溶のポリマーの微粒子が水に分散したものである。ポリマーラテックスについては、例えば室井宗一著「高分子ラテックスの化学（高分子刊行会発行(昭和４８年))」に記載されている。
【００４１】
使用できるポリマー粒子としてはアクリル系、酢酸ビニル系、ゴム系(例えばスチレン−ブタジエン系、クロロプレン系)、オレフィン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリスチレン系などのポリマー、及びこれらの共重合体からなるポリマー粒子が好ましい。
ポリマー粒子を構成するポリマー鎖相互間の結合力を強くすることが好ましい。ポリマー鎖相互間の結合力を強くする手段としては水素結合による相互作用を利用するものと共有結合を生成する方法が挙げられる。水素結合力を付与する手段としてはポリマー鎖に極性基を有するモノマーを共重合、もしくはグラフト重合して導入することが好ましい。極性基としてはカルボキシル基（アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、クロトン酸、部分エステル化マレイン酸等に含有される）、一級、二級及び三級アミノ基、アンモニウム塩基、スルホン酸基（スチレンスルホン酸）などが挙げられ、カルボキシル基、スルホン酸基が特に好ましい。
これらの極性基を有するモノマーの共重合比の好ましい範囲は、ポリマー１００質量％に対し５〜３５質量％であり、より好ましくは５〜２０質量％、更に好ましくは１５〜２０質量％の範囲内である。一方、共有結合を生成させる手段としては、水酸基、カルボキシル基、一級、二級アミノ基、アセトアセチル基、スルホン酸などに、エポキシ化合物、ブロックドイソシアネート、イソシアネ−ト、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、カルボン酸無水物などを反応させる方法が挙げられる。
これらの反応を利用したポリマーの中でもポリオール類とポリイソシアネ−ト化合物の反応で得られるポリウレタン誘導体が好ましく、鎖延長剤として多価アミンを併用するのがより好ましく、さらにポリマー鎖に上記極性基を導入してアイオノマー型にしたものが特に好ましい。
ポリマーの質量平均分子量は１万以上が好ましく、さらに好ましくは２万〜１０万である。本発明に好適なポリマーとしてエチレンとメタクリル酸の共重合体であるエチレンアイオノマー、ポリウレタンアイオノマーが挙げられる。
【００４２】
本発明に用いることができるポリマーラテックスは、乳化重合によって得られるものでもよいし、乳化によって得られるものであってもよい。これらポリマーラテックスの調製方法については、例えば「エマルジョン・ラテックスハンドブック」（エマルジョン・ラテックスハンドブック編集委員会編集、（株）大成社発行（昭和５０年））に記載されている。
本発明に用いることができるポリマーラテックスとしては、例えば、ポリエチレンアイオノマーの水性ディスパージョン（商品名：ケミパールＳ１２０  三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ１００  三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ１１１  三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ２００  三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ３００  三井化学（株）製。固形分３５％）、ケミパールＳ６５０  三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ７５Ｎ  三井化学（株）製。固形分２４％）や、ポリエーテル系ポリウレタンの水性ディスパージョン（商品名：ハイドランＷＬＳ−２０１  ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ−５０℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２０２  ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ−５０℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２２１  ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ−３０℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２１０  ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ−１５℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２１３  ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ−１５℃）（商品名：ハイドランＷＬＩ−６０２  ＤＩＣ（株）製。固形分３９.５％、Ｔｇ−５０℃）（商品名：ハイドランＷＬＩ−６１１  ＤＩＣ（株）製。固形分３９.５％、Ｔｇ−１５℃）、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム（商品名：ジュリマーＡＴ−２１０  日本純薬製）、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム（商品名：ジュリマーＥＴ−４１０  日本純薬製）、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム（商品名：ジュリマーＡＴ−５１０  日本純薬製）、ポリアクリル酸（商品名：ジュリマーＡＣ−１０Ｌ  日本純薬製）をアンモニア中和し、乳化した物を挙げることができる。
【００４３】
（重合性化合物）
水溶性を示す層または非水溶性を示す層に用いられる重合性化合物としては、特許第４０９８５５０号の段落００２３〜００２４に記載の重合性化合物を用いることができる。その中でも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド（ＥＯ）付加物のテトラアクリレートを好ましく用いることができる。これらの重合性化合物は単独で用いてもよく、複数を含みあわせて用いてもよい。ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物を用いる場合、ペンタエリスリトールトリアクリレートの比率は質量比で０〜８０％であることが好ましく、１０〜６０％であることがより好ましい。
本発明では重合性化合物として、具体的には、下記構造式１で表される水溶性の重合性化合物、ペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ新中村化学工業（株）製、不純物としてトリアクリレート約１０％含有）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ３ＬＭ−Ｎ  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート３７％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート５５％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ３  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート５７％）、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド（ＥＯ）付加物のテトラアクリレート（カヤラッドＲＰ−１０４０  日本化薬（株）製）などを挙げることができる。
水溶性を示す層に用いられる重合性化合物としては、これらの中でも、本発明の転写フィルムの転写フィルムのレチキュレーションを改善する観点からは、下記構造式１で表される水溶性の重合性化合物、ペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ新中村化学工業（株）製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ３ＬＭ−Ｎ  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート３７％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート５５％）を好ましく用いることができる。
【化１】
2015196369.tif 000002
その他の水溶性を示す層に用いられる重合性化合物としては、水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水の混合溶媒に対して溶解性を有する重合性化合物としては、水酸基を有するモノマー、分子内にエチレンオキサイドやポリプロピレンオキサイド、及びリン酸基を有するモノマーが使用できる。
一方、非水溶性を示す層に用いられる重合性化合物としては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン、ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号等の各公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号等の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレートペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ新中村化学工業（株）製）、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド（ＥＯ）付加物のテトラアクリレート（カヤラッドＲＰ−１０４０  日本化薬（株）製）を好ましく用いることができる。が特に好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４４】
（光重合開始剤）
水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水の混合溶媒に対して溶解性を有する光重合性開始剤としてはＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２９５９や、下記構造式２の開始剤が使用できる。
【化２】
2015196369.tif 000003
一方、非水溶性を示す層に用いられる光重合開始剤または重合開始系としては、特開２０１１−９５７１６号公報に記載の段落００３１〜００４２に記載の光重合開始剤を用いることができる。例えば、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ製）の他、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ−０２、ＢＡＳＦ製）、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ製）、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７、ＢＡＳＦ製）、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １２７、ＢＡＳＦ製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３６９、ＢＡＳＦ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １１７３、ＢＡＳＦ製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４、ＢＡＳＦ製）、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ６５１、ＢＡＳＦ製）、オキシムエステル系の（商品名：Ｌｕｎａｒ  ６、ＤＫＳＨジャパン株式会社製  などを好ましく用いることができる。
【００４５】
水もしくは炭素原子数１乃至４の低級アルコールと水の混合溶媒に対して溶解性を有するバインダー等以外に透明樹脂膜に用いられる樹脂（バインダー、ポリマーという言う）やその他の添加剤としては、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層が積層可能であり、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、本発明の転写フィルムにおける前述の第二の硬化性透明樹脂層に用いられる樹脂やその他の添加剤を好ましく用いることができる。
【００４６】
さらに、前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層には、添加剤を用いてもよい。前述の添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９−２３７３６２号公報の段落００６０〜００７１に記載の界面活性剤や、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００−３１０７０６号公報の段落００５８〜００７１に記載のその他の添加剤が挙げられる。
【００４７】
以上、本発明の転写フィルムがネガ型材料である場合を中心に説明したが、本発明の転写フィルムは、ポジ型材料であってもよい。本発明の転写フィルムがポジ型材料である場合、前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層に、例えば特開２００５−２２１７２６号公報に記載の材料などが用いられるが、これに限られない。
【００４８】
＜第一の硬化性透明樹脂層の構成＞
本発明の転写フィルムは、前述の第一の硬化性透明樹脂層の屈折率が、１．５〜１．５３であることが好ましく、１．５〜１．５２であることがより好ましく、１．５１〜１．５２であることが特に好ましい。
【００４９】
本発明の転写フィルムは、前述の第一の硬化性透明樹脂層の層厚が、第一の硬化性透明樹脂層を用いて静電容量型入力装置の透明保護層を形成するときに十分な表面保護能を発揮させる観点から、１μｍ以上であることが好ましく、１〜１５μｍであることがより好ましく、２〜１２μｍｍであることが特に好ましく、３〜１０μｍｍであることがより特に好ましい。
【００５０】
前述の第一の硬化性透明樹脂層の材料としては任意のポリマー成分や任意の重合性化合物成分を特に制限なく用いることができるが、静電容量型入力装置の透明保護膜として用いる観点から、表面硬度、耐熱性が高いものが好ましく、前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層に含まれるアルカリ可溶性樹脂や前述の重合性化合物の中でも、公知の感光性シロキサン樹脂材料、アクリル樹脂材料などが好ましく用いられる。
【００５１】
本発明の転写フィルムは、前述の第一の硬化性透明樹脂層が、前述の重合性化合物および前述の光重合開始剤を含むことによって、第一の硬化性透明樹脂層及び前述の第二の硬化性透明樹脂層のパターンを形成しやすくすることができる。
前述の第一の硬化性透明樹脂層中、前述の第一の硬化性透明樹脂層の固形分に対して、前述の光重合開始剤は、１質量％以上含まれることが好ましく、２質量％以上含まれることがより好ましい。前述の第一の硬化性透明樹脂層中、前述の第一の硬化性透明樹脂層の固形分に対して、前述の光重合開始剤は、１０質量％以下含まれることが好ましく、５質量％以下含まれることが本発明の透明積層体のパターニング性、着色性、基板密着性を改善する観点からより好ましい。
【００５２】
前述の第一の硬化性透明樹脂層は、金属酸化物粒子を含んでいても含んでいなくてもよい。上述の範囲に前述の第一の硬化性透明樹脂層の屈折率を制御するために、使用するポリマーや重合性化合物の種類に応じて、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができる。前述の第一の硬化性透明樹脂層中、前述の第一の硬化性透明樹脂層の固形分に対して、前述の金属酸化物粒子は、０〜３５質量％含まれることが好ましく、０〜１０質量％含まれることがより好ましく、含まれないことが特に好ましい。
【００５３】
＜第二の硬化性透明樹脂層の構成＞
本発明の転写フィルムは、前述の第一の硬化性透明樹脂層に隣接して配置され、屈折率が前述の第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、屈折率が１．６以上である第二の硬化性透明樹脂層を有する。
本発明の転写フィルムは、前述の第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６０以上であることが好ましい。
一方、前述の第二の硬化性透明樹脂層の屈折率の上限値としては特に制限はないが、２．１以下であることが好ましく、１．７８以下であることがより好ましく、１．７４以下であってもよい。
【００５４】
本発明の転写フィルムは、前述の第二の硬化性透明樹脂層の膜厚が、５００ｎｍ以下であることが好ましく、１１０ｎｍ以下であることがより好ましい。前述の第二の硬化性透明樹脂層の膜厚が２０ｎｍ以上であることが好ましい。前述の第二の硬化性透明樹脂層の膜厚が５５〜１００ｎｍであることが特に好ましく、６０〜１００ｎｍであることがより特に好ましく、７０〜１００ｎｍであることがさらにより特に好ましい。
【００５５】
本発明の転写フィルムは、前述の第二の硬化性透明樹脂層が、前述の重合性化合物を含むことが、硬化させて膜の強度などを高める観点から好ましい。
【００５６】
前述の第二の硬化性透明樹脂層は、金属酸化物粒子を含んでいても含んでいなくてもよいが、金属酸化物粒子を含むことが、上述の範囲に前述の第二の硬化性透明樹脂層の屈折率を制御する観点から好ましい。前述の第二の硬化性透明樹脂層には、使用するポリマーや重合性化合物の種類に応じて、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができるが、前述の第二の硬化性透明樹脂層中、前述の第二の硬化性透明樹脂層の固形分に対して、前述の金属酸化物粒子は、４０〜９５質量％含まれることが好ましく、５５〜９５質量％含まれることがより好ましく、６２〜９０質量％含まれることが本発明の転写フィルムのヒビ割れを改善する観点から特に好ましく、６２〜７５質量％含まれることが本発明の転写フィルムのヒビ割れをより改善し、かつ、本発明の透明積層体の基板密着性を改善する観点からより特に好ましく、６２〜７０質量％含まれることがさらにより特に好ましい。
【００５７】
＜第三の硬化性透明樹脂層＞
本発明の転写フィルムは、前述の第二の硬化性透明樹脂層の上にさらに第三の硬化性透明樹脂層を設けても良い。
第二の硬化性透明樹脂層が水溶性の場合は、第三の硬化性透明樹脂層は非水溶性であることが好ましく、第二の硬化性透明樹脂層が非水溶性の場合は、第三の硬化性透明樹脂層は水溶性であることが好ましい。
前述の第三の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６０以上であることが好ましい。
一方、前述の第三の硬化性透明樹脂層の屈折率の上限値としては特に制限はないが、１．７８以下であることが実用上好ましく、１．７４以下であってもよい。
【００５８】
本発明の転写フィルムは、前述の第三の硬化性透明樹脂層の膜厚が、５００ｎｍ以下であることが好ましく、１１０ｎｍ以下であることがより好ましい。前述の第三の硬化性透明樹脂層の厚みが５５〜１００ｎｍであることが特に好ましく、６０〜１００ｎｍであることがより特に好ましく、７０〜１００ｎｍであることがさらにより特に好ましい。
【００５９】
本発明の転写フィルムは、前述の第三の硬化性透明樹脂層が、前述の重合性化合物を含むことが、硬化させて膜の強度などを高める観点から好ましい。
【００６０】
前述の第三の硬化性透明樹脂層は、金属酸化物粒子を含んでいても含んでいなくてもよいが、金属酸化物粒子を含むことが、上述の範囲に前述の第三の硬化性透明樹脂層の屈折率を制御する観点から好ましい。前述の第三の硬化性透明樹脂層には、使用するポリマーや重合性化合物の種類に応じて、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができるが、前述の第三の硬化性透明樹脂層中、前述の第三の硬化性透明樹脂層の固形分に対して、前述の金属酸化物粒子は、４０〜９５質量％含まれることが好ましく、５５〜９５質量％含まれることがより好ましく、８２〜９０質量％含まれることが特に好ましい。
【００６１】
〔熱可塑性樹脂層〕
本発明の転写フィルムは、前述の仮支持体と前述の第一の硬化性透明樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を設けることもできる。前述の熱可塑性樹脂層を有する転写フィルムを用いて、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層を転写して透明積層体を形成すると、転写して形成した各要素に気泡が発生し難くなり、画像表示装置に画像ムラなどが発生し難くなり、優れた表示特性を得ることができる。
前述の熱可塑性樹脂層はアルカリ可溶性であることが好ましい。熱可塑性樹脂層は、下地表面の凹凸（既に形成されている画像などによる凹凸等も含む。）を吸収することができるようにクッション材としての役割を担うものであり、対象面の凹凸に応じて変形しうる性質を有していることが好ましい。
【００６２】
熱可塑性樹脂層は、特開平５−７２７２４号公報に記載の有機高分子物質を成分として含む態様が好ましく、ヴィカー（Ｖｉｃａｔ）法〔具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法〕による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれる少なくとも１種を含む態様が特に好ましい。
【００６３】
具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニルまたはそのケン化物等とのエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステルまたはそのケン化物との共重合体、ポリ塩化ビニルや塩化ビニルと酢酸ビニルまたはそのケン化物等との塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステルまたはそのケン化物等とのスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステルまたはそのケン化物等とのビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロン等のポリアミド樹脂などの有機高分子が挙げられる。
【００６４】
熱可塑性樹脂層の層厚は、３〜３０μｍが好ましい。熱可塑性樹脂層の層厚が３μｍ未満の場合には、ラミネート時の追随性が不十分で、下地表面の凹凸を完全に吸収できないことがある。また、層厚が３０μｍを超える場合には、仮支持体への熱可塑性樹脂層の形成時の乾燥（溶剤除去）に負荷がかかったり、熱可塑性樹脂層の現像に時間を要したりし、プロセス適性を悪化させることがある。前述の熱可塑性樹脂層の層厚としては、４〜２５μｍが更に好ましく、５〜２０μｍが特に好ましい。
【００６５】
熱可塑性樹脂層は、熱可塑性の有機高分子を含む調製液を塗布等して形成することができ、塗布等の際に用いる調製液は溶媒を用いて調製できる。溶媒には、熱可塑性樹脂層を構成する高分子成分を溶解し得るものであれば特に制限なく、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＭＭＰＧＡｃ）、ｎ−プロパノール、２−プロパノール等が挙げられる。
【００６６】
（熱可塑性樹脂層および光硬化性樹脂層の粘度）
前述の熱可塑性樹脂層の１００℃で測定した粘度が１０００〜１００００Ｐａ・ｓｅｃの領域にあり、光硬化性樹脂層の１００℃で測定した粘度が２０００〜５００００Ｐａ・ｓｅｃの領域にあり、さらに次式（Ａ）を満たすことが好ましい。
【００６７】
〔中間層〕
本発明の転写フィルムは、前述の熱可塑性樹脂層と前述の第一の硬化性透明樹脂層との間に中間層を設けることもできる。中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている。
【００６８】
〔保護フィルム〕
本発明の転写フィルムは、前述の第二の硬化性透明樹脂層の表面に保護フィルム（以下、「保護剥離層」とも言う。）などを更に設けることが好ましい。
【００６９】
前述の保護フィルムとしては、特開２００６−２５９１３８号公報の段落００８３〜００８７および００９３に記載の保護フィルムを適宜使用することができる。
【００７０】
図１２に、本発明の転写フィルムの好ましい構成の一例を示す。図１２は、仮支持体２６、第一の硬化性透明樹脂層７、第二の硬化性透明樹脂層１２および保護剥離層（保護フィルム）２９がこの順で互いに隣接して積層された、本発明の転写フィルム３０の概略図である。
【００７１】
［転写フィルムの製造方法］
本発明の転写フィルムは、特開２００６−２５９１３８号公報の段落００９４〜００９８に記載の感光性転写材料の作製方法に準じて作製することができる。その中でも、本発明の転写フィルムは、以下の本発明の転写フィルムの製造方法によって製造されることが好ましい。
【００７２】
本発明の転写フィルムの製造方法は、仮支持体上に、第一の硬化性透明樹脂層を形成する工程と、第一の硬化性透明樹脂層の上に直接第二の硬化性透明樹脂層を形成する工程とを有し、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層のうちいずれか一方を水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率が質量比で５８／４２〜１００／０の水または混合溶媒を含む塗布液を塗布して形成し、もう一方を有機溶媒を含む塗布液を塗布して形成し、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が、１．６以上である。
このような構成により、前述の第一の硬化性透明樹脂層と前述の第二の硬化性樹脂層の界面を明確にして透明電極パターンの視認性をより改善することができる。また、第一および第二の硬化性透明樹脂層のいずれか一方を水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率が質量比で５８／４２〜１００／０の水または混合溶媒を含む塗布液を塗布して形成し、もう一方を有機溶媒を含む塗布液を塗布して形成することにより、第一の硬化性透明樹脂層を積層した後に硬化させることなく第二の硬化性透明樹脂層を積層しても層分画が良好となって透明電極パターン視認性を改善することができるとともに、転写フィルムから屈折率調整層（すなわち第一および第二の硬化性透明樹脂層）を透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できる。
【００７３】
本発明の転写フィルムの製造方法は、前述の仮支持体上に前述の第一の硬化性透明樹脂層を形成する前に、さらに熱可塑性樹脂層を形成する工程を含むことが好ましい。
【００７４】
本発明の転写フィルムの製造方法は、前述の熱可塑性樹脂層を形成する工程の後に、前述の熱可塑性樹脂層と前述の第一の硬化性透明樹脂層の間に中間層を形成する工程を含むことが好ましい。具体的に中間層を有する前述の感光性フィルムを形成する場合には、仮支持体上に、熱可塑性の有機高分子と共に添加剤を溶解した溶解液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を設けた後、この熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤に樹脂や添加剤を加えて調製した調製液（中間層用塗布液）を塗布し、乾燥させて中間層を積層し、この中間層上に更に、中間層を溶解しない溶剤を用いて調製した着色感光性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させて着色感光性樹脂層を積層することによって、好適に作製することができる。
【００７５】
［透明積層体］
本発明の透明積層体は本発明の透明積層体の製造方法で製造され、透明電極パターンと、この透明電極パターンに隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層と、この第二の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第一の硬化性透明樹脂層とを有し、前述の第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が前述の第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、前述の第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６以上であることが好ましい。
このような構成とすることにより、透明電極パターンが視認される問題を解決することができ、パターニング性が良好となる。
さらに本発明の透明積層体は、着色が良好であること、すなわち黄色味を帯びていないことが好ましい。また、本発明の透明積層体は、基板密着性が良好であることが好ましい。
【００７６】
＜透明積層体の構成＞
本発明の透明積層体は、前述の透明電極パターンの前述の第二の硬化性透明樹脂層が形成された側と反対側に、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜をさらに有することが、透明電極パターンの視認性をより改善する観点から、好ましい。なお、本明細書中、特に断りがなく「透明膜」と記載する場合は、上記の「屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜」を指す。
本発明の透明積層体は、前述の屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜の前述の透明電極パターンが形成された側と反対側に、透明基板をさらに有することが好ましい。
【００７７】
図１１に本発明の透明積層体の構成の１例を示す。
図１１では、透明基板１、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜１１を有し、さらに透明電極パターン４、第二の硬化性透明樹脂層１２および第一の硬化性透明樹脂層７がこの順に積層された領域２１を面内に有する。また、図１１では、前述の透明積層体は、上記領域に加えて、透明基板１、および異なる屈折率を有する少なくとも２種の透明薄膜を含む多層膜１１がこの順に積層された領域（図１１の構成では、第二の硬化性透明樹脂層１２と第一の硬化性透明樹脂層７がこの順に積層された領域２２（すなわち、透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２））を含むことが示されている。
換言すれば、前述の透明電極パターン付き基板は、透明基板１、異なる屈折率を有する少なくとも２種の透明薄膜を含む多層膜１１、透明電極パターン４、第二の硬化性透明樹脂層１２および第一の硬化性透明樹脂層７がこの順に積層された領域２１を面内方向に含む。
面内方向とは、透明積層体の透明基板と平行な面に対して略平行方向を意味する。したがって、透明電極パターン４、第二の硬化性透明樹脂層１２および第一の硬化性透明樹脂層７がこの順に積層された領域を面内に含むとは、透明電極パターン４、第二の硬化性透明樹脂層１２および第一の硬化性透明樹脂層７がこの順に積層された領域の、透明積層体の透明基板と平行な面への正射影が、透明積層体の透明基板と平行な面内に存在することを意味する。
ここで、本発明の透明積層体を後述する静電容量型入力装置に用いる場合、透明電極パターンは行方向と列方向の略直交する２つの方向にそれぞれ第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンとして設けられることがある（例えば、図３参照）。例えば図３の構成では、本発明の透明積層体における透明電極パターンは、第二の透明電極パターン４であっても、第一の透明電極パターン３のパッド部分３ａであってもよい。言い換えると、以下の本発明の透明積層体の説明では、透明電極パターンの符号を「４」で代表して表すことがあるが、本発明の透明積層体における透明電極パターンは、本発明の静電容量型入力装置における第二の透明電極パターン４への使用に限定されず、例えば第一の透明電極パターン３のパッド部分３ａとして使用してもよい。
【００７８】
本発明の透明積層体は、前述の透明電極パターンが形成されていない非パターン領域を含むことが好ましい。本明細書中、非パターン領域とは、透明電極パターン４が形成されていない領域を意味する。
図１１には、本発明の透明積層体が非パターン領域２２を含む態様が示されている。
本発明の透明積層体は、前述の透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２の少なくとも一部に、前述の透明基板、前述の透明膜および前述の第二の硬化性透明樹脂層がこの順に積層された領域を面内に含むことが好ましい。
本発明の透明積層体は、前述の透明基板、前述の透明膜および前述の第二の硬化性透明樹脂層がこの順に積層された領域において、前述の透明膜および前述の第二の硬化性透明樹脂層が互いに隣接していることが好ましい。
但し、前述の非パターン領域２２のその他の領域には、本発明の趣旨に反しない限りにおいてその他の部材を任意の位置に配置してもよく、例えば本発明の透明積層体を後述する静電容量型入力装置に用いる場合、図１Ａにおけるマスク層２や、絶縁層５や導電性要素６などを積層することができる。
【００７９】
本発明の透明積層体は、前述の透明基板および透明膜が互いに隣接していることが好ましい。
図１１には、前述の透明基板１の上に隣接して前述の透明膜１１が積層している態様が示されている。
但し、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、前述の透明基板および前述の透明膜の間に、第三の透明膜が積層されていてもよい。例えば、前述の透明基板および前述の透明膜の間に、屈折率１．５〜１．５２の第三の透明膜（図１１には不図示）を含むことが好ましい。
【００８０】
本発明の透明積層体は前述の透明膜の厚みが５５〜１１０ｎｍであることが好ましく、６０〜１１０ｎｍであることがより好ましく、７０〜９０ｎｍであることが特に好ましい。
ここで、前述の透明膜は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい。前述の透明膜が２層以上の積層構造である場合、前述の透明膜の膜厚とは、全層の合計膜厚を意味する。
【００８１】
本発明の透明積層体は、前述の透明膜および前述の透明電極パターンが互いに隣接していることが好ましい。
図１１には、前述の透明膜１１の一部の領域上に隣接して前述の透明電極パターン４が積層している態様が示されている。
図１１に示すように、前述の透明電極パターン４の端部は、その形状に特に制限はないがテーパー形状を有していてもよく、例えば、前述の透明基板側の面の方が、前述の透明基板と反対側の面よりも広いようなテーパー形状を有していてもよい。
ここで、前述の透明電極パターンの端部がテーパー形状であるときの透明電極パターンの端部の角度（以下、テーパー角とも言う）は、３０°以下であることが好ましく、０．１〜１５°であることがより好ましく、０．５〜５°であることが特に好ましい。
本明細書中におけるテーパー角の測定方法は、前述の透明電極パターンの端部の顕微鏡写真を撮影し、その顕微鏡写真のテーパー部分を三角形に近似し、テーパー角を直接測定して求めることができる。
図１０に透明電極パターンの端部がテーパー形状である場合の一例を示す。図１０におけるテーパー部分を近似した三角形は、底面が８００ｎｍであり、高さ（底面と略平行な上底部分における膜厚）が４０ｎｍであり、このときのテーパー角αは約３°である。テーパー部分を近似した三角形の底面は、１０〜３０００ｎｍであることが好ましく、１００〜１５００ｎｍであることがより好ましく、３００〜１０００ｎｍであることが特に好ましい。
なお、テーパー部分を近似した三角形の高さの好ましい範囲は、透明電極パターンの膜厚の好ましい範囲と同様である。
【００８２】
本発明の透明積層体は、前述の透明電極パターンおよび前述の第二の硬化性透明樹脂層が互いに隣接している領域を含むことが好ましい。
図１１には、前述の透明電極パターン、前述の第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層がこの順に積層された領域２１において、前述の透明電極パターン、前述の第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層が互いに隣接している態様が示されている。
【００８３】
また、本発明の透明積層体は、前述の透明膜および前述の第二の硬化性透明樹脂層によって、前述の透明電極パターンおよび前述の透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２の両方が連続して直接または他の層を介して被覆されたことが好ましい。
ここで、「連続して」とは、前述の透明膜および前述の第二の硬化性透明樹脂層がパターン膜ではなく、連続膜であることを意味する。すなわち、前述の透明膜および前述の第二の硬化性透明樹脂層は、開口部を有していないことが、透明電極パターンを視認されにくくする観点から好ましい。
また、前述の透明膜および前述の第二の硬化性透明樹脂層によって、前述の透明電極パターンおよび前述の非パターン領域２２が、他の層を介して被覆されるよりも、直接被覆されることが好ましい。他の層を介して被覆される場合における「他の層」としては、後述する本発明の静電容量型入力装置に含まれる絶縁層５や、後述する本発明の静電容量型入力装置のように透明電極パターンが２層以上含まれる場合は２層目の透明電極パターンなどを挙げることができる。
図１１には、前述の第二の硬化性透明樹脂層１２が積層している態様が示されている。前述の第二の硬化性透明樹脂層１２は、前述の透明膜１１上の透明電極パターン４が積層していない領域と、透明電極パターン４が積層している領域との上にまたがって積層している。すなわち、前述の第二の硬化性透明樹脂層１２は、前述の透明膜１１と隣接しており、さらに、前述の第二の硬化性透明樹脂層１２は、透明電極パターン４と隣接している。
また、透明電極パターン４の端部がテーパー形状である場合は、テーパー形状に沿って（テーパー角と同じ傾きで）前述の第二の硬化性透明樹脂層１２が積層していることが好ましい。
【００８４】
図１１では、前述の第二の硬化性透明樹脂層１２の前述の透明電極パターンが形成された表面とは反対側の表面上に、第一の硬化性透明樹脂層７が積層された態様が示されている。
【００８５】
＜透明積層体の材料＞
（透明基板）
本発明の透明積層体は、前述の透明基板が屈折率１．５〜１．５５のガラス基板であることが好ましい。前述の透明基板の屈折率は、１．５〜１．５２であることが特に好ましい。
前述の透明基板は、ガラス基板等の透光性基板で構成されており、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また、前述の透明基板としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報に用いられている材料を好ましく用いることができる。
【００８６】
（透明電極パターン）
前述の透明電極パターンの屈折率は１．７５〜２．１であることが好ましい。
前述の透明電極パターンの材料は特に制限されることはなく、公知の材料を用いることができる。例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ２等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は１０〜２００ｎｍとすることができる。また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、電気的抵抗を低減することもできる。また、前述の第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６とは、前述の導電性繊維を用いた光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて製造することもできる。その他、ＩＴＯ等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落００１４〜００１６等を参考にすることができる。その中でも、前述の透明電極パターンは、ＩＴＯ膜であることが好ましい。
本発明の透明積層体は、前述の透明電極パターンが屈折率１．７５〜２．１のＩＴＯ膜であることが好ましい。
【００８７】
（第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層）
本発明の透明積層体に含まれる第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層の好ましい範囲は、本発明の転写フィルムにおける前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層の好ましい範囲と同様である。
【００８８】
（透明膜）
本発明の透明積層体は、前述の透明膜の屈折率が１．６〜１．７８であり、１．６５〜１．７４であることが好ましい。ここで、前述の透明膜は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい。前述の透明膜が２層以上の積層構造である場合、前述の透明膜の屈折率とは、全層の屈折率を意味する。
このような屈折率の範囲を満たす限りにおいて、前述の透明膜の材料は特に制限されない。
【００８９】
前述の透明膜の材料の好ましい範囲と屈折率などの物性の好ましい範囲は、前述の第二の硬化性透明樹脂層のそれらの好ましい範囲と同様である。
本発明の透明積層体は、前述の透明膜と前述の第二の硬化性透明樹脂層が、同一材料によって構成されたことが光学的均質性の観点から好ましい。
【００９０】
本発明の透明積層体は、前述の透明膜が透明樹脂膜であることが好ましい。
透明樹脂膜に用いられる金属酸化物粒子や樹脂（バインダー）やその他の添加剤としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、本発明の転写フィルムにおける前述の第二の硬化性透明樹脂層に用いられる樹脂やその他の添加剤を好ましく用いることができる。
本発明の透明積層体は、前述の透明膜が無機膜であってもよい。無機膜に用いられる材料としては、本発明の転写フィルムにおける前述の第二の硬化性透明樹脂層に用いられる材料を好ましく用いることができる。
【００９１】
（第三の透明膜）
前述の第三の透明膜の屈折率は、１．５〜１．５５であることが前述の透明基板の屈折率に近付けて、透明電極パターンの視認性を改善する観点から好ましく、１．５〜１．５２であることがより好ましい。
【００９２】
［透明積層体の製造方法］
本発明の透明積層体の製造方法は、透明電極パターン上に、本発明の転写フィルムの前述の第二の硬化性透明樹脂層および前述の第一の硬化性透明樹脂層をこの順で積層する工程を含むことを特徴とする。
このような構成により、透明積層体の第二の硬化性透明樹脂層および前述の第一の硬化性透明樹脂層を一括して転写することができ、透明電極パターンが視認される問題がない透明積層体を容易に、生産性良く製造することができる。
なお、本発明の透明積層体の製造方法における前述の第二の硬化性透明樹脂層は、前述の透明電極パターン上と、前述の非パターン領域では前述の透明膜上に直接、または、他の層を介して、製膜される。
【００９３】
（透明基板の表面処理）
また、後の転写工程におけるラミネートによる各層の密着性を高めるために、予め透明基板（前面板）の非接触面に表面処理を施すことができる。前述の表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理（シランカップリング処理）を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性樹脂と相互作用する官能基を有するものが好ましい。例えばシランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン）０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネータの基板予備加熱でも反応を促進できる。
【００９４】
（透明電極パターンの製膜）
前述の透明電極パターンは、後述する本発明の静電容量型入力装置の説明における、第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４および別の導電性要素６の形成方法などを用いて、透明基板上または前述の屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜上に製膜することができ、感光性フィルムを用いる方法が好ましい。
【００９５】
（第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層の製膜）
前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層を形成する方法は、本発明の転写フィルムから前述の保護フィルムを除去する保護フィルム除去工程と、前述の保護フィルムが除去された本発明の転写フィルムの前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層を透明電極パターン上に転写する転写工程と、透明電極パターン上に転写された第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層を露光する露光工程と、露光された第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層を現像する現像工程と、を有する方法が挙げられる。
【００９６】
−転写工程−
前述の転写工程は、前述の保護フィルムが除去された本発明の転写フィルムの前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層を透明電極パターン上に転写する工程である。
この際、本発明の転写フィルムの前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層を透明電極パターンにラミネート後、仮支持体を取り除く工程を含む方法が好ましい。
前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層の基材表面への転写（貼り合わせ）は、前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層を透明電極パターン表面に重ね、加圧、加熱することに行われる。貼り合わせには、ラミネータ、真空ラミネータ、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネータを使用することができる。
【００９７】
−露光工程、現像工程、およびその他の工程−
前述の露光工程、現像工程、およびその他の工程の例としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落００３５〜００５１に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
【００９８】
前述の露光工程は、透明電極パターン上に転写された前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層を露光する工程である。
具体的には、前述の透明電極パターン上に形成された前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層の上方に所定のマスクを配置し、その後このマスク、仮支持体を介してマスク上方から前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層を露光する方法が挙げられる。
ここで、前述の露光の光源としては、前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５〜２００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【００９９】
前述の現像工程は、露光された光硬化性樹脂層を現像する工程である。
本発明では、前述の現像工程は、パターン露光された前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層を現像液によってパターン現像する狭義の意味の現像工程である。
前述の現像は、現像液を用いて行うことができる。前述の現像液としては、特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載の現像液など、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は光硬化性樹脂層が溶解型の現像挙動をする現像液が好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含む現像液が好ましい。一方、前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層自体はパターンを形成しない場合の現像液は前述の非アルカリ現像型着色組成物層を溶解しない型の現像挙動をする現像液が好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含む現像液が好ましい。現像液には、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
また、前述の現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
【０１００】
前述の現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等のいずれでもよい。ここで、前述のシャワー現像について説明すると、露光後の前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、熱可塑性樹脂層や中間層を設けた場合には、現像の前に光硬化性樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。
【０１０１】
前述の静電容量型入力装置の製造方法は、ポスト露光工程、ポストベーク工程等、その他の工程を有していてもよい。前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層が、熱硬化性透明樹脂層である場合は、ポストベーク工程を行うことが好ましい。
【０１０２】
尚、パターニング露光や全面露光は、仮支持体を剥離してから行ってもよいし、仮支持体を剥離する前に露光し、その後、仮支持体を剥離してもよい。マスクを介した露光でも良いし、レーザー等を用いたデジタル露光でも良い。
【０１０３】
（透明膜の製膜）
本発明の透明積層体が、前述の透明電極パターンの前述の第二の硬化性透明樹脂層が形成された側と反対側に、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜をさらに有する場合、前述の透明膜は、前述の透明電極パターンの上に直接、または、前述の第三の透明膜などの他の層を介して、製膜される。
前述の透明膜の製膜方法としては特に制限はないが、転写またはスパッタによって製膜することが好ましい。
その中でも、本発明の透明積層体は、前述の透明膜が、仮支持体上に形成された透明硬化性樹脂膜を、前述の透明基板上に転写して製膜されてなることが好ましく、転写後に硬化して製膜されてなることがより好ましい。転写および硬化の方法としては、後述する本発明の静電容量型入力装置の説明における感光性フィルムを用い、本発明の透明積層体の製造方法における前述の第一の硬化性透明樹脂層および前述の第二の硬化性透明樹脂層を転写する方法と同様に転写、露光、現像およびその他の工程を行う方法を挙げることができる。その場合は、感光性フィルム中の光硬化性樹脂層に前述の金属酸化物粒子を分散させることで、上述の範囲に前述の透明膜の屈折率を調整することが好ましい。
【０１０４】
一方、前述の透明膜が無機膜である場合は、スパッタによって形成されてなることが好ましい。すなわち、本発明の透明積層体は、前述の透明膜が、スパッタによって形成されてなることも好ましい。
スパッタの方法としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報に用いられている方法を好ましく用いることができる。
【０１０５】
（第三の透明膜の製膜）
前述の第三の透明膜の製膜方法は、透明基板上に屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜を製膜する方法と同様である。
【０１０６】
［透明積層体の製造方法］
本発明の透明積層体の製造方法は、透明電極パターン上に、本発明の転写フィルムの第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層をこの順で積層する工程を含む。
【０１０７】
本発明の透明積層体の製造方法は、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層を同時に硬化する工程を含むことが好ましく、同時にパターン硬化する工程を含むことがより好ましい。本発明の転写フィルムは、第一の硬化性透明樹脂層を積層した後に、第一の硬化性透明樹脂層を硬化させることなく、第二の硬化性透明樹脂層を積層されることが好ましい。このようにして得られた本発明の転写フィルムから転写された第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層は、同時に硬化することができる。これにより、本発明の転写フィルムから第一および第二の硬化性透明樹脂層を透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できる。
本発明の透明積層体の製造方法は、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層を同時に硬化する工程の後に、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層の未硬化部分（光硬化の場合は、未露光部分のみ、または、露光部分のみ）を現像して、取り除く工程を含むことがより好ましい。
【０１０８】
［静電容量型入力装置］
本発明の静電容量型入力装置は、本発明の転写フィルムを用いて作製されてなること、あるいは、本発明の透明積層体を有することを特徴とする。
本発明の静電容量型入力装置は、本発明の転写フィルムから第二の硬化性透明樹脂層と前述の第二の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第一の硬化性透明樹脂層とを、静電容量型入力装置の透明電極パターンの上に転写して作製されてなることが好ましい。
本発明の静電容量型入力装置は、本発明の転写フィルムから転写された第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層を同時に硬化されてなることが好ましく、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層を同時にパターン硬化されてなることがより好ましい。なお、本発明の転写フィルムから転写された第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層を同時に硬化する際、本発明の転写フィルムから保護フィルムを剥離しないことが好ましい。
本発明の静電容量型入力装置は、本発明の転写フィルムから転写され、同時にパターン硬化されてなる第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層の未硬化部分を現像し、取り除かれてなることがより好ましい。なお、本発明の転写フィルムから転写された第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層を同時に硬化した後、現像する前に本発明の転写フィルムから保護フィルムを剥離することが好ましい。本発明の静電容量型入力装置は、引き回し配線の端末部で、ポリイミドフィルム上に形成されたフレキシブル配線と接続する必要があるため、第一の硬化性透明樹脂層（および第二の硬化性透明樹脂層）に覆われていないことが好ましい。
その態様を図１３に示した。図１３は透明電極パターンの引き回し配線（別の導電性要素６）と引き回し配線の端末部３１を含む、以下の構成の静電容量型入力装置を示した。
引き回し配線の端末部３１上の第一の硬化性透明樹脂層（および第二の硬化性透明樹脂層）が未硬化部（未露光部）となっているため、現像で除去され、引き回し配線の端末部３１が露出している。
具体的な露光、現像の態様を図１４および図１５に示した。図１４は、第一および第二の硬化性透明樹脂層を有する本発明の転写フィルム３０を、静電容量型入力装置の透明電極パターンの上にラミネートにより積層し、露光等によって硬化する前の状態を示す。フォトリソグラフィを利用する場合、すなわち露光により硬化する場合は、図１５に示した形状の第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層の硬化部（露光部）３３を、マスクを用いてパターン露光および未露光部の現像をすることにより、得ることができる。具体的には、図１５では、第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層の未硬化部として引き回し配線の端末部に対応する開口部３４と、静電容量型入力装置の枠部の輪郭の外側にはみ出していた第一および第二の硬化性透明樹脂層を有する本発明の転写フィルムの端部とが取り除かれた、引き回し配線の端末部（取出配線部）を覆わないための第一および第二の硬化性透明樹脂層の硬化部（所望のパターン）が得られる。
これにより、ポリイミドフィルム上に作製されたフレキシブル配線を、引き回し配線の端末部３１に直接つなぐことができ、これにより、センサーの信号を電気回路に送ることが可能になる。
本発明の静電容量型入力装置は、透明電極パターンと、この透明電極パターンに隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層と、この第二の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第一の硬化性透明樹脂層とを有し、前述の第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が前述の第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、前述の第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６以上である、透明積層体を有することが好ましい。
以下、本発明の静電容量型入力装置の好ましい態様の詳細を説明する。
【０１０９】
本発明の静電容量型入力装置は、前面板（本発明の透明積層体における前述の透明基板に相当する）と、前述の前面板の非接触面側に少なくとも下記（３）〜（５）、（７）および（８）の要素を有し、本発明の透明積層体を有することが好ましい。
（３）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン；
（４）前述の第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前述の第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン；
（５）前述の第一の透明電極パターンと前述の第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層；
（７）  前述の（３）〜（５）の要素の全てまたは一部を覆うように形成された第二の硬化性透明樹脂層；
（８）  前述の（７）の要素を覆うように隣接して形成された第一の硬化性透明樹脂層。
ここで、前述の（７）第二の硬化性透明樹脂層が、本発明の透明積層体における前述の第二の硬化性透明樹脂層に相当する。また、前述の（８）第一の硬化性透明樹脂層が、本発明の透明積層体における前述の第一の硬化性透明樹脂層に相当する。なお、前述の第一の硬化性透明樹脂層は、通常公知の静電容量型入力装置におけるいわゆる透明保護層であることが好ましい。
【０１１０】
本発明の静電容量型入力装置は、前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであっても、透明電極パターンでなくてもよいが、透明電極パターンであることが好ましい。
本発明の静電容量型入力装置は、さらに、（６）前述の第一の透明電極パターンおよび前述の第二の電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続される、前述の第一の透明電極パターンおよび前述の第二の電極パターンとは別の導電性要素を有していてもよい。
ここで、前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンでなく、前述の（６）別の導電性要素を有さない場合は、前述の（３）第一の透明電極パターンが、本発明の透明積層体における透明電極パターンに相当する。
前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであり、前述の（６）別の導電性要素を有さない場合は、前述の（３）第一の透明電極パターンおよび前述の（４）第二の電極パターンのうち少なくとも一つが、本発明の透明積層体における透明電極パターンに相当する。
前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンでなく、前述の（６）別の導電性要素を有する場合は、前述の（３）第一の透明電極パターンおよび前述の（６）別の導電性要素のうち少なくとも一つが、本発明の透明積層体における透明電極パターンに相当する。
前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであり、前述の（６）別の導電性要素を有する場合は、前述の（３）第一の透明電極パターン、前述の（４）第二の電極パターンおよび前述の（６）別の導電性要素のうち少なくとも一つが、本発明の透明積層体における透明電極パターンに相当する。
【０１１１】
本発明の静電容量型入力装置は、さらに（２）透明膜を、前述の（３）第一の透明電極パターンと前述の前面板の間、前述の（４）第二の電極パターンと前述の前面板の間、または、前述の（６）別の導電性要素と前述の前面板の間に有することが好ましい。ここで、前述の（２）透明膜が、本発明の透明積層体における、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜に相当することが、透明電極パターンの視認性をより改善する観点から好ましい。
【０１１２】
本発明の静電容量型入力装置は、さらに必要に応じて（１）マスク層および／または加飾層を有することが好ましい。前述のマスク層は、指またはタッチペンなどで触れる領域の周囲に黒色の額縁として、透明電極パターンの引き回し配線を接触側から視認できないようにしたり、加飾をしたりするためにも設けられる。前述の加飾層は、指またはタッチペンなどで触れる領域の周囲に額縁として加飾のために設けられ、例えば白色の加飾層を設けることが好ましい。
前述の（１）マスク層および／または加飾層は、前述の（２）透明膜と前述の前面板の間、前述の（３）第一の透明電極パターンと前述の前面板の間、前述の（４）第二の透明電極パターンと前述の前面板の間、または、前述の（６）別の導電性要素と前述の前面板の間に有することが好ましい。前述の（１）マスク層および／または加飾層は、前述の前面板に隣接して設けられることがより好ましい。
【０１１３】
本発明の静電容量型入力装置は、このような様々な部材を含む場合であっても、透明電極パターンに隣接して配置された前述の第二の硬化性透明樹脂層と、前述の第二の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された前述の第一の硬化性透明樹脂層を含むことによって、透明電極パターンを目立たなくすることができ、透明電極パターンの視認性の問題を改善することができる。さらに、上述のとおり、前述の屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜と前述の第二の硬化性透明樹脂層を用いて、透明電極パターンを挟みこむ構成とすることによって、より透明電極パターンの視認性の問題を改善することができる。
【０１１４】
＜静電容量型入力装置の構成＞
まず、本発明の静電容量型入力装置の好ましい構成について、装置を構成する各部材の製造方法とあわせて説明する。図１Ａは、本発明の静電容量型入力装置の好ましい構成を示す断面図である。図１Ａにおいて静電容量型入力装置１０は、透明基板（前面板）１と、マスク層２と、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜１１と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、導電性要素６と、第二の硬化性透明樹脂層１２と、第一の硬化性透明樹脂層７と、から構成されている態様が示されている。
また、後述する図３におけるＸ−Ｘ’断面を表した図１Ｂも同様に、本発明の静電容量型入力装置の好ましい構成を示す断面図である。図１Ｂにおいて静電容量型入力装置１０は、透明基板（前面板）１と、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜１１と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、第二の硬化性透明樹脂層１２と、第一の硬化性透明樹脂層７と、から構成されている態様が示されている。
【０１１５】
透明基板（前面板）１は、本発明の透明積層体における透明電極パターンの材料として挙げた材料を用いることができ。また、図１Ａにおいて、前面板１の各要素が設けられている側を非接触面側と称する。本発明の静電容量型入力装置１０においては、前面板１の接触面（非接触面の反対の面）に指などを接触などさせて入力が行われる。
【０１１６】
また、前面板１の非接触面上にはマスク層２が設けられている。マスク層２は、タッチパネル前面板の非接触面側に形成された表示領域周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにするために形成される。
本発明の静電容量型入力装置１０には、図２に示すように、前面板１の一部の領域（図２においては入力面以外の領域）を覆うようにマスク層２が設けられている。更に、前面板１には、図２に示すように一部に開口部８を設けることができる。開口部８には、押圧式のメカニカルなスイッチを設置することができる。
【０１１７】
前面板１の接触面には、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン３と、第一の透明電極パターン３と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン４と、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４を電気的に絶縁する絶縁層５とが形成されている。前述の第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６とは、本発明の透明積層体における透明電極パターンの材料として挙げたものを用いることができ、ＩＴＯ膜であることが好ましい。
【０１１８】
また、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方は、前面板１の非接触面およびマスク層２の前面板１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置することができる。図１Ａにおいては、第二の透明電極パターンが、前面板１の非接触面およびマスク層２の前面板１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置されている図が示されている。
このように、一定の厚みが必要なマスク層と前面板裏面とにまたがって感光性フィルムをラミネートする場合でも、後述する特定の層構成を有する感光性フィルムを用いることで真空ラミネータなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程でマスク部分境界に泡の発生がないラミネートが可能になる。
【０１１９】
図３を用いて第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４について説明する。図３は、本発明における第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。図３に示すように、第一の透明電極パターン３は、パッド部分３ａが接続部分３ｂを介して第一の方向に延在して形成されている。また、第二の透明電極パターン４は、第一の透明電極パターン３と絶縁層５によって電気的に絶縁されており、第一の方向に交差する方向（図３における第二の方向）に延在して形成された複数のパッド部分によって構成されている。ここで、第一の透明電極パターン３を形成する場合、前述のパッド部分３ａと接続部分３ｂとを一体として作製してもよいし、接続部分３ｂのみを作製して、パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）してもよい。パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）する場合、図３に示すように接続部分３ｂの一部とパッド部分３ａの一部とが連結され、且つ、絶縁層５によって第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４とが電気的に絶縁されるように各層が形成される。
また、図３における第一の透明電極パターン３や第二の透明電極パターン４や後述する導電性要素６が形成されていない領域が、本発明の透明積層体における非パターン領域２２に相当する。
【０１２０】
図１Ａにおいて、マスク層２の前面板１とは逆側の面側には導電性要素６が設置されている。導電性要素６は、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方に電気的に接続され、且つ、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４とは別の要素である。
図１Ａにおいては、導電性要素６が第二の透明電極パターン４に接続されている図が示されている。
【０１２１】
また、図１Ａにおいては、各構成要素の全てを覆うように第一の硬化性透明樹脂層７が設置されている。第一の硬化性透明樹脂層７は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。絶縁層５と第一の硬化性透明樹脂層７とは、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。絶縁層５を構成する材料としては、本発明の透明積層体における第一または第二の硬化性透明樹脂層の材料として挙げたものを好ましく用いることができる。
【０１２２】
＜静電容量型入力装置の製造方法＞
本発明の静電容量型入力装置を製造する過程で形成される態様例として、図４〜８の態様を挙げることができる。図４は、開口部８が形成された強化処理ガラス１１の一例を示す上面図である。図５は、マスク層２が形成された前面板の一例を示す上面図である。図６は、第一の透明電極パターン３が形成された前面板の一例を示す上面図である。図７は、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４が形成された前面板の一例を示す上面図である。図８は、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素６が形成された前面板の一例を示す上面図である。これらは、以下の説明を具体化した例を示すものであり、本発明の範囲はこれらの図面により限定的に解釈されることはない。
【０１２３】
静電容量型入力装置の製造方法において、前述の第二の硬化性透明樹脂層１２および前述の第一の硬化性透明樹脂層７を形成する場合、本発明の転写フィルムを用いて、各要素が任意に形成された前述の前面板１の表面に前述の第二の硬化性透明樹脂層および前述の第一の硬化性透明樹脂層を転写することで形成することができる。
【０１２４】
静電容量型入力装置の製造方法においては、マスク層２と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、導電性要素６の少なくとも一要素が、仮支持体と光硬化性樹脂層とをこの順で有する前述の感光性フィルムを用いて形成されることが好ましい。
本発明の転写フィルムや前述の感光性フィルムを用いて前述の各要素を形成すると、開口部を有する基板（前面板）でも開口部分からレジスト成分のモレがなく、特に前面板の境界線直上まで遮光パターンを形成する必要のあるマスク層において、ガラス端からのレジスト成分のはみ出し（モレ）がないため前面板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層化および軽量化されたタッチパネルを製造することができる。
【０１２５】
前述のマスク層、絶縁層、導電性光硬化性樹脂層を用いた場合の第一の透明電極パターン、第二の透明電極パターンおよび導電性要素などの永久材を、前述の感光性フィルムを用いて形成する場合、感光性フィルムは、基材にラミネートされた後、必要に応じてパターン様に露光され、ネガ型材料の場合は非露光部分、ポジ型材料の場合は露光部分を現像処理して除去することでパターンを得ることができる。現像は熱可塑性樹脂層と、光硬化性樹脂層を別々の液で現像除去してもよいし、同一の液で除去してもよい。必要に応じて、ブラシや高圧ジェットなどの公知の現像設備を組み合わせてもよい。現像の後、必要に応じて、ポスト露光、ポストベークを行ってもよい。
【０１２６】
（感光性フィルム）
本発明の静電容量型入力装置を製造するときに好ましく用いられる、本発明の転写フィルム以外の前述の感光性フィルムについて説明する。前述の感光性フィルムは、仮支持体と光硬化性樹脂層を有し、仮支持体と光硬化性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を有することが好ましい。前述の熱可塑性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、マスク層等を形成すると、光硬化性樹脂層を転写して形成した要素に気泡が発生し難くなり、画像表示装置に画像ムラなどが発生し難くなり、優れた表示特性を得ることができる。
前述の感光性フィルムは、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
【０１２７】
−光硬化性樹脂層以外の層、作製方法−
前述の感光性フィルムにおける前述の仮支持体、前述の熱可塑性樹脂層としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様の熱可塑性樹脂層を用いることができる。また、前述の感光性フィルムの作製方法としても、本発明の転写フィルムの作製方法と同様の方法を用いることができる。
【０１２８】
−光硬化性樹脂層−
前述の感光性フィルムは、その用途に応じて光硬化性樹脂層に添加物を加える。即ち、マスク層の形成に前述の感光性フィルムを用いる場合には、光硬化性樹脂層に着色剤を含有させる。また、前述の感光性フィルムが導電性光硬化性樹脂層を有する場合は、前述の光硬化性樹脂層に導電性繊維等が含有される。
【０１２９】
前述の感光性フィルムがネガ型材料である場合、光硬化性樹脂層には、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、重合開始剤または重合開始系、を含むことが好ましい。さらに、導電性繊維、着色剤、その他の添加剤、などが用いられるがこれに限られない。
【０１３０】
−−アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、前述の重合開始剤または重合開始系−−
前述の感光性フィルムに含まれるアルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、前述の重合開始剤または重合開始系としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様のアルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、重合開始剤または重合開始系を用いることができる。
【０１３１】
−−導電性繊維（導電性光硬化性樹脂層として用いる場合）−−
前述の導電性光硬化性樹脂層を積層した前述の感光性フィルムを透明電極パターン、あるいは別の導電性要素の形成に用いる場合には、以下の導電性繊維などを光硬化性樹脂層に用いることができる。
【０１３２】
導電性繊維の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、中実構造および中空構造のいずれかが好ましい。
ここで、中実構造の繊維を「ワイヤー」と称することがあり、中空構造の繊維を「チューブ」と称することがある。また、平均短軸長さが１ｎｍ〜１，０００ｎｍであって、平均長軸長さが１μｍ〜１００μｍの導電性繊維を「ナノワイヤー」と称することがある。
また、平均短軸長さが１ｎｍ〜１，０００ｎｍ、平均長軸長さが０．１μｍ〜１，０００μｍであって、中空構造を持つ導電性繊維を「ナノチューブ」と称することがある。
前述の導電性繊維の材料としては、導電性を有していれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、金属およびカーボンの少なくともいずれかが好ましく、これらの中でも、前述の導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、およびカーボンナノチューブの少なくともいずれかが特に好ましい。
【０１３３】
前述の金属ナノワイヤーの材料としては、特に制限はなく、例えば、長周期律表（ＩＵＰＡＣ１９９１）の第４周期、第５周期、および第６周期からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属が好ましく、第２族〜第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属がより好ましく、第２族、第８族、第９族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、および第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属が更に好ましく、主成分として含むことが特に好ましい。
【０１３４】
前述の金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、これらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀を主に含有するもの、または銀と銀以外の金属との合金を含有するものが好ましい。
前述の銀を主に含有するとは、金属ナノワイヤー中に銀を５０質量％以上、好ましくは９０質量％以上含有することを意味する。
前述の銀との合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウムおよびイリジウムなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１３５】
前述の金属ナノワイヤーの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができるが、高い透明性が必要とされる用途では、円柱状、断面の多角形の角が丸まっている断面形状が好ましい。
前述の金属ナノワイヤーの断面形状は、基材上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより調べることができる。
前述の金属ナノワイヤーの断面の角とは、断面の各辺を延長し、隣り合う辺から降ろされた垂線と交わる点の周辺部を意味する。また、「断面の各辺」とはこれらの隣り合う角と角を結んだ直線とする。この場合、前述の「断面の各辺」の合計長さに対する前述の「断面の外周長さ」との割合を鋭利度とした。鋭利度は、例えば図９に示したような金属ナノワイヤー断面では、実線で示した断面の外周長さと点線で示した五角形の外周長さとの割合で表すことができる。この鋭利度が７５％以下の断面形状を角の丸い断面形状と定義する。前述の鋭利度は６０％以下が好ましく、５０％以下がより好ましい。前述の鋭利度が７５％を超えると、この角に電子が局在し、プラズモン吸収が増加するためか、黄色みが残るなどして透明性が悪化してしまうことがある。また、パターンのエッジ部の直線性が低下し、ガタツキが生じてしまうことがある。前述の鋭利度の下限は、３０％が好ましく、４０％がより好ましい。
【０１３６】
前述の金属ナノワイヤーの平均短軸長さ（「平均短軸径」、「平均直径」と称することがある）としては、１５０ｎｍ以下が好ましく、１ｎｍ〜４０ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜４０ｎｍが更に好ましく、１５ｎｍ〜３５ｎｍが特に好ましい。
前述の平均短軸長さが、１ｎｍ未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、１５０ｎｍを超えると、金属ナノワイヤー起因の散乱が生じ、十分な透明性を得ることができないことがある。
前述の金属ナノワイヤーの平均短軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子（株）製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さを求めた。
なお、前述の金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとした。
【０１３７】
前述の金属ナノワイヤーの平均長軸長さ（「平均長さ」と称することがある）としては、１μｍ〜４０μｍが好ましく、３μｍ〜３５μｍがより好ましく、５μｍ〜３０μｍが更に好ましい。
前述の平均長軸長さが、１μｍ未満であると、密なネットワークを形成することが難しく、十分な導電性を得ることができないことがあり、４０μｍを超えると、金属ナノワイヤーが長すぎて製造時に絡まり、製造過程で凝集物が生じてしまうことがある。
前述の金属ナノワイヤーの平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子（株）製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均長軸長さを求めた。なお、前述の金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径、および曲率から算出される値を長軸長さとした。
【０１３８】
導電性光硬化性樹脂層の層厚は、塗布液の安定性や塗布時の乾燥やパターニング時の現像時間などのプロセス適性の観点から、０．１〜２０μｍが好ましく、０．５〜１８μｍが更に好ましく、１〜１５μｍが特に好ましい。
前述の導電性光硬化性樹脂層の全固形分に対する前述の導電性繊維の含有量は、導電性と塗布液の安定性の観点から、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．０５〜３０質量％が更に好ましく、０．１〜２０質量％が特に好ましい。
【０１３９】
−−着色剤（マスク層として用いる場合）−−
また、前述の感光性フィルムをマスク層として用いる場合には、光硬化性樹脂層に着色剤を用いることができる。本発明に用いる着色剤としては、公知の着色剤（有機顔料、無機顔料、染料等）を好適に用いることができる。尚、本発明においては、黒色着色剤の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。
【０１４０】
前述の光硬化性樹脂層を黒色のマスク層として用いる場合には、光学濃度の観点から、黒色着色剤を含むことが好ましい。黒色着色剤としては、例えば、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。
【０１４１】
前述の光硬化性樹脂層を白色のマスク層として用いる場合には、特開２００５−７７６５公報の段落００１５や０１１４に記載のホワイト顔料を用いることができる。その他の色のマスク層として用いるためには、特許第４５４６２７６号公報の段落０１８３〜０１８５などに記載の顔料、あるいは染料を混合して用いてもよい。具体的には、特開２００５−１７７１６号公報の段落００３８〜００５４に記載の顔料および染料、特開２００４−３６１４４７号公報の段落００６８〜００７２に記載の顔料、特開２００５−１７５２１号公報の段落００８０〜００８８に記載の着色剤等を好適に用いることができる。
【０１４２】
前述の着色剤（好ましくは顔料、より好ましくはカーボンブラック）は、分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前述の着色剤と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（またはビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前述のビビクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前述の顔料と結合して塗膜を形成する成分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。
前述の顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル、ビーズミル等の公知の分散機が挙げられる。
更にこの文献３１０頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【０１４３】
前述の着色剤は、分散安定性の観点から、数平均粒径が０．００１μｍ〜０．１μｍの着色剤が好ましく、更に０．０１μｍ〜０．０８μｍの着色剤が好ましい。尚、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について前述のの粒径を求め、このうち、任意に選択する１００個の粒径の平均値をいう。
【０１４４】
着色剤を含む光硬化性樹脂層の層厚は、他層との厚み差の観点から、０．５〜１０μｍが好ましく、０．８〜５μｍが更に好ましく、１〜３μｍが特に好ましい。前述の着色感光性樹脂組成物の固形分中の着色剤の含有率としては、特に制限はないが、十分に現像時間を短縮する観点から、１５〜７０質量％であることが好ましく、２０〜６０質量％であることがより好ましく、２５〜５０質量％であることが更に好ましい。
本明細書でいう全固形分とは着色感光性樹脂組成物から溶剤等を除いた不揮発成分の総質量を意味する。
【０１４５】
尚、前述の感光性フィルムを用いて絶縁層を形成する場合、光硬化性樹脂層の層厚は、絶縁性の維持の観点から、０．１〜５μｍが好ましく、０．３〜３μｍが更に好ましく、０．５〜２μｍが特に好ましい。
【０１４６】
−−その他の添加剤−−
さらに、前述の光硬化性樹脂層は、その他の添加剤を用いてもよい。前述の添加剤としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様の添加剤を用いることができる。
また、前述の感光性フィルムを塗布により製造する際の溶剤としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様の溶剤を用いることができる。
【０１４７】
以上、前述の感光性フィルムがネガ型材料である場合を中心に説明したが、前述の感光性フィルムは、ポジ型材料であってもよい。前述の感光性フィルムがポジ型材料である場合、光硬化性樹脂層に、例えば特開２００５−２２１７２６号公報に記載の材料などが用いられるが、これに限られない。
【０１４８】
（感光性フィルムによるマスク層、絶縁層の形成）
前述のマスク層２、絶縁層５は、前述の感光性フィルムを用いて光硬化性樹脂層を前面板１などに転写することで形成することができる。例えば、黒色のマスク層２を形成する場合には、前述の光硬化性樹脂層として黒色光硬化性樹脂層を有する前述の感光性フィルムを用いて、前述の前面板１の表面に前述の黒色光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。絶縁層５を形成する場合には、前述の光硬化性樹脂層として絶縁性の光硬化性樹脂層を有する前述の感光性フィルムを用いて、第一の透明電極パターンが形成された前述の前面板１の表面に前述の光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。
さらに、遮光性が必要なマスク層２の形成に、光硬化性樹脂層と仮支持体との間に熱可塑性樹脂層を有する特定の層構成を有する前述の感光性フィルムを用いることで感光性フィルムラミネート時の気泡発生を防止し、光モレのない高品位なマスク層２等を形成することができる。
【０１４９】
（感光性フィルムによる第一および第二の透明電極パターン、別の導電性要素の形成）
前述の第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４および別の導電性要素６は、エッチング処理または導電性光硬化性樹脂層を有する前述の感光性フィルムを用いて、あるいは感光性フィルムをリフトオフ材として使用して形成することができる。
【０１５０】
−エッチング処理−
エッチング処理によって、前述の第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４および別の導電性要素６を形成する場合、まずマスク層２等が形成された前面板１の非接触面上にＩＴＯ等の透明電極層をスパッタリングによって形成する。次いで、前述の透明電極層上に前述の光硬化性樹脂層としてエッチング用光硬化性樹脂層を有する前述の感光性フィルムを用いて露光・現像によってエッチングパターンを形成する。その後、透明電極層をエッチングして透明電極をパターニングし、エッチングパターンを除去することで、第一の透明電極パターン３等を形成することができる。
【０１５１】
前述の感光性フィルムをエッチングレジスト（エッチングパターン）として用いる場合にも、前述の方法と同様にして、レジストパターンを得ることができる。前述のエッチングは、特開２０１０−１５２１５５公報の段落００４８〜００５４等に記載の公知の方法でエッチング、レジスト剥離を適用することができる。
【０１５２】
例えば、エッチングの方法としては、一般的に行われている、エッチング液に浸漬するウェットエッチング法が挙げられる。ウェットエッチングに用いられるエッチング液は、エッチングの対象に合わせて酸性タイプまたはアルカリ性タイプのエッチング液を適宜選択すればよい。酸性タイプのエッチング液としては、塩酸、硫酸、フッ酸、リン酸等の酸性成分単独の水溶液、酸性成分と塩化第２鉄、フッ化アンモニウム、過マンガン酸カリウム等の塩の混合水溶液等が例示される。酸性成分は、複数の酸性成分を組み合わせたものを使用してもよい。また、アルカリ性タイプのエッチング液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドのような有機アミンの塩等のアルカリ成分単独の水溶液、アルカリ成分と過マンガン酸カリウム等の塩の混合水溶液等が例示される。アルカリ成分は、複数のアルカリ成分を組み合わせたものを使用してもよい。
【０１５３】
エッチング液の温度は特に限定されないが、４５℃以下であることが好ましい。本発明でエッチングマスク（エッチングパターン）として使用される樹脂パターンは、上述した光硬化性樹脂層を使用して形成されることにより、このような温度域における酸性およびアルカリ性のエッチング液に対して特に優れた耐性を発揮する。したがって、エッチング工程中に樹脂パターンが剥離することが防止され、樹脂パターンの存在しない部分が選択的にエッチングされることになる。
前述のエッチング後、ライン汚染を防ぐために必要に応じて、洗浄工程・乾燥工程を行ってもよい。洗浄工程については、例えば常温で純水により１０〜３００秒間基材を洗浄して行い、乾燥工程については、エアブローを使用して、エアブロー圧（０．１〜５ｋｇ／ｃｍ2程度）を適宜調整し行えばよい。
【０１５４】
次いで、樹脂パターンの剥離方法としては、特に限定されないが、例えば、３０〜８０℃、好ましくは５０〜８０℃にて攪拌中の剥離液に基材を５〜３０分間浸漬する方法が挙げられる。本発明でエッチングマスクとして使用される樹脂パターンは、上述のように４５℃以下において優れた薬液耐性を示すものであるが、薬液温度が５０℃以上になるとアルカリ性の剥離液により膨潤する性質を示す。このような性質により、５０〜８０℃の剥離液を使用して剥離工程を行うと工程時間が短縮され、樹脂パターンの剥離残渣が少なくなるという利点がある。すなわち、前述のエッチング工程と剥離工程との間で薬液温度に差を設けることにより、本発明でエッチングマスクとして使用される樹脂パターンは、エッチング工程において良好な薬液耐性を発揮する一方で、剥離工程において良好な剥離性を示すことになり、薬液耐性と剥離性という、相反する特性を両方とも満足することができる。
【０１５５】
剥離液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ成分や、第３級アミン、第４級アンモニウム塩等の有機アルカリ成分を、水、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、またはこれらの混合溶液に溶解させた剥離液が挙げられる。前述のの剥離液を使用し、スプレー法、シャワー法、パドル法等により剥離してもよい。
【０１５６】
−導電性光硬化性樹脂層を有する感光性フィルム−
導電性光硬化性樹脂層を有する前述の感光性フィルムを用いて、前述の第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４および別の導電性要素６を形成する場合、前述の前面板１の表面に前述の導電性光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。
前述の第一の透明電極パターン３等を、前述の導電性光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて形成すると、開口部を有する基板（前面板）でも開口部分からレジスト成分のモレがなく、基板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層／軽量化のメリットがあるタッチパネルの製造を可能となる。
さらに、第一の透明電極パターン３等の形成に、導電性光硬化性樹脂層と仮支持体との間に熱可塑性樹脂層を有する特定の層構成を有する前述の感光性フィルムを用いることで感光性フィルムラミネート時の気泡発生を防止し、導電性に優れ抵抗の少ないに第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４および別の導電性要素６を形成することができる。
【０１５７】
−感光性フィルムのリフトオフ材としての使用−
また、前述の感光性フィルムをリフトオフ材として用いて、第一の透明電極層、第二の透明電極層およびその他の導電性部材を形成することもできる。
この場合、前述の感光性フィルムを用いてパターニングした後に、基材全面に透明導電層を形成した後、堆積した透明導電層ごと前述の光硬化性樹脂層の溶解除去を行うことにより所望の透明導電層パターンを得ることができる（リフトオフ法）。
【０１５８】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の静電容量型入力装置を備えることを特徴とする。
本発明の静電容量型入力装置、およびこの静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  ２００９  Ｆｏｒｕｍ  Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ  アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。
【実施例】
【０１５９】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
【０１６０】
［実施例１］
〔第一及び第二の硬化性透明樹脂層を備えた転写フィルムＩ１の作製〕
＜第一の硬化性透明樹脂の形成＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（仮支持体）の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方ＯＣ１からなる第一の硬化性透明樹脂層用塗布液を下記表に記載の所望の膜厚になるように調整して塗布し、１００℃で２分間乾燥させた後、さらに１２０℃で１分間乾燥させ乾燥させて第一の硬化性透明樹脂層を形成した。
【０１６１】
（第一の硬化性透明樹脂層用塗布液：処方ＯＣ１）
・重合性化合物（ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ、新中村化学工業（株）％）                                    ：８４．８質量部
・ポリマー溶液１（特開２００８−１４６０１８号公報の段落番号［００６１］に記載の構造式Ｐ−２５；シクロヘキシルメタクリレート（ａ）／メチルメタクリレート（ｂ）／メタクリル酸共重合体（ｃ）のグリシジルメタクリレート付加物（ｄ）（組成（ｍｏｌ％）：ａ／ｂ／ｃ／ｄ＝４６／２／２０／３２、重量平均分子量：３６０００、酸価６６ｍｇＫＯＨ／ｇ）の１−メトキシ−２−プロパノール、メチルエチルケトン溶液（固形分：４５％））                                                        ：２５１質量部
・光重合開始剤（１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ製）
：２．０９質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ−７８４Ｆ、大日本インキ製）：０．１１質量部
・メチルエチルケトン                                              ：３７９質量部
・ＭＭＰＧＡｃ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ダイセル化学（株）製）                                                          ：２８３質量部
処方ＯＣ１の詳細を、処方ＯＣ２、ＯＣ３、ＯＣ４、Ｔ１およびＩＭ４０の詳細とあわせて、下記表１に示した。
【０１６２】
【表１】
2015196369.tif 000004
【０１６３】
＜第二の硬化性透明樹脂層の形成＞
次に、第一の硬化性透明樹脂層上に、下記処方ＩＭ１からなる第二の硬化性透明樹脂層用塗布液を、下記表に記載の所望の膜厚になるように調整して塗布し、８０℃で１分間乾燥させた後さらに１１０℃１分乾燥させて第二の硬化性透明樹脂層を形成した。
【０１６４】
（第二の硬化性透明樹脂層用塗布液：処方ＩＭ１）
・メタノール                                                      ：３３３質量部
・ジルコニア（ＺｒＯ2）分散液（商品名：ナノユース  ＯＺ−Ｓ３０Ｍ；日産化学工業（株）製、無機粒子３０．５％、有機酸２．８％、メタノール：６６．７％）
：４８．３質量部
・イオン交換水                                                    ：５９５質量部
・下記構造式１の水溶性の重合性化合物                            ：３．１０質量部
【化３】
2015196369.tif 000005
・バインダー水溶液（アセタール化度  ９ｍｏｌ％、水酸基含有量  ９０ｍｏｌ％のポリビニルアセタール樹脂２０％水溶液、商品名：エスレックＫＷ−１、積水化学工業（株）製）                                                            ：２０．７質量部
・水溶性光重合性開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２９５９、ＢＡＳＦジャパン（株））
：０．３０５質量部
処方ＩＭ１の詳細を、処方ＩＭ１〜１４、ＩＭ２７〜２９およびＩＭ４１の詳細とあわせて下記表２に示し、処方ＩＭ１５〜２６およびＩＭ３０〜３２の詳細を下記表３に示した。
【０１６５】
【表２】
2015196369.tif 000006
【０１６６】
【表３】
2015196369.tif 000007
【０１６７】
上記ＩＭ１中のジルコニア分散液に用いたＺｒＯ2は、屈折率が２．２であり、平均粒径が約１２ｎｍの粒子である。また、塗布液に含まれるすべての固形分に対する、無機粒子の含有量（質量比）を求めて、下記表に記載した。なお、下記表中の「ｗｔ％」は「質量％」と同義である。
ジルコニア分散液中のメタノールやバインダー水溶液中の水を含む塗布液に含まれるすべての水と炭素原子数１〜３のアルコールについて、水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率（質量比）を求めて下記表に記載した。
【０１６８】
＜第一または第二の硬化性透明樹脂層の評価＞
（第一または第二の硬化性透明樹脂層の屈折率の評価）
第一または第二の硬化性透明樹脂層の４００〜７５０ｎｍの波長を有する光における平均屈折率を求め、下記表に記載した。
【０１６９】
（第一または第二の硬化性透明樹脂層の水溶性の評価）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（仮支持体）の上に、スリット状ノズルを用いて、第一または第二の硬化性透明樹脂層用塗布液を所望の膜厚になるように調整して塗布した。第一または第二の硬化性透明樹脂層用塗布液が、仮支持体にはじかれて塗布できない場合は、仮支持体に予めコロナ処理により親水化処理を行った。
第一または第二の硬化性透明樹脂層用塗布液の塗布膜を１００℃で２分間乾燥させた後、さらに１２０℃で１分間乾燥させて、第一および第二の硬化性透明樹脂層を形成した。
第一または第二の硬化性透明樹脂層を２３℃、相対湿度５５％で１時間調湿し、２５℃イオン交換水に浸漬した。浸漬時間は単位膜厚あたり３分／μｍ、すなわち第一または第二の硬化性透明樹脂層の膜厚（μｍ）÷１（μｍ）×３分間（例えば、５μｍの場合は、１５分間であり、８０ｎｍ＝０．０８μｍの場合は、０．２４分＝１４．４秒間）とした。
その後、洗瓶に入ったイオン交換水を用いて第一または第二の硬化性透明樹脂層の表面を軽くすすいだ。
《評価基準》
水溶性：単位膜厚あたり３分／μｍの浸漬時間で、仮支持体の全面から、第一または第二の硬化性透明樹脂層を完全に溶解、除去できたもの。
非水溶性：単位膜厚あたり３分／μｍの浸漬時間で、仮支持体の全面から、第一または第二の硬化性透明樹脂層を完全には溶解できなかったために完全には除去できず、第一または第二の硬化性透明樹脂層の残差が残るもの。
評価した結果を下記表に記載した。
【０１７０】
（バインダーＳＰ値差の評価）
第一または第二の硬化性透明樹脂層にそれぞれ用いたバインダーのＳＰ値の差を求め、下記表に記載した。
【０１７１】
＜保護フィルムの圧着＞
このようにして仮支持体の上に、下記表中の乾燥膜厚になるような第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層を設けた後、最後に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。
【０１７２】
こうして仮支持体と第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層と保護フィルムとが一体となった転写フィルムを作製した。得られた転写フィルムを実施例１の転写フィルムＩ１とした。
【０１７３】
＜転写フィルムの評価＞
（層分画の評価）
上記第一及び第二の硬化性透明樹脂層を備えた転写フィルムの作製において、第一の硬化性透明樹脂層上に、第二の硬化性透明樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥するまでに層混合しないか観察した。さらに乾燥させた転写フィルムの断面を電子顕微鏡で観察し、層が分画できているか評価した。ＡまたはＢが実用レベルであり、Ａであることが好ましい。
《評価基準》
Ａ：第二の硬化性透明樹脂層用塗布液の塗布乾燥過程において、第一の硬化性透明樹脂層が溶解や白濁が観察され無かった。また転写フィルムの断面を電子顕微鏡で観察した結果、層がきちんと分画されており、層分画が良好。
Ｂ：第二の硬化性透明樹脂層用塗布液の塗布乾燥過程において、第一の硬化性透明樹脂層が微かに白濁したが乾燥後は消失していた。また転写フィルムの断面を電子顕微鏡で観察した結果、層が分画されており、層分画が普通。
Ｃ：第二の硬化性透明樹脂層用塗布液の塗布乾燥過程において、第一の硬化性透明樹脂層が溶解またはやや白濁した。また転写フィルムの断面を電子顕微鏡で観察した結果、第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層がやや混合した状態若しくは波うった状態で、層分画が悪い。
Ｄ：第二の硬化性透明樹脂層用塗布液の塗布乾燥過程において、第一の硬化性透明樹脂層が溶解または白濁した。また転写フィルムの断面を電子顕微鏡で観察した結果、層が完全に混合しており、層分画が非常に悪い。
得られた結果を下記表に記載した。
【０１７４】
＜ヒビわれの評価＞
上記仮支持体上に、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層をこの順に積層させた作製した転写フィルムを、径の異なるロッドに巻きつけて折り曲げ、その箇所を、光学顕微鏡で観察することにより行った。Ａ、ＢまたはＣであることが好ましく、ＡまたはＢであることがより好ましく、Ａであることが特に好ましい。
《評価基準》
Ａ：２ｍｍΦのロッドに巻きつけて折り曲げてもヒビわれがない。
Ｂ：３ｍｍΦのロッドに巻きつけて折り曲げてもヒビわれがない。
Ｃ：４ｍｍΦのロッドに巻きつけて折り曲げてもヒビわれがない。
Ｄ：５ｍｍΦのロッドに巻きつけて折り曲げてもヒビわれがない。
Ｅ：転写フィルムを作製した時点で微かにクラック状のヒビが入っている。
得られた結果を下記表に記載した。
【０１７５】
（レチキュレーション評価）
上記仮支持体上に、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層をこの順に積層させた作製した転写フィルムを、２３℃、相対湿度５０％環境下で２４時間放置した後、反射光及び透過光を用いて第二の硬化性透明樹脂層面側から顕微鏡にて観察し、下記基準にしたがって評価を行なった。Ａ、ＢまたはＣであることが好ましく、ＡまたはＢであることがより好ましく、Ａであることが特に好ましい。
《評価基準》
Ａ：表面に細かい「しわ」の発生は、全く認められず、極めて良好。
Ｂ：フィルムのエッジ部のみに一部に極めて弱い「しわ」の発生が認められたが、その他を部分ではしわ」の発生は、全く認められず、良好。
Ｃ：表面の細かい「しわ」等の発生がわずかに認められたが、目視では認識できず、実用上問題ないレベルで、普通。
Ｄ：細かい「しわ」等の発生がかなり認められ、、悪いレベル。
Ｅ：細かい「しわ」等の発生が全面に認められ、極めて悪いレベル。
評価した結果を下記表に記載した。
【０１７６】
〔透明積層体の作製〕
上記にて得られた実施例１の転写フィルムＩ１を用いて、以下の方法で透明積層体を作製した。
【０１７７】
＜１．透明膜の形成＞
屈折率１．５１のガラス製透明基板上（ガラス基板）に、上記表１中に示すＴ１を用いた屈折率１．６０、膜厚８０ｎｍの透明膜を以下の方法で製膜した。
【０１７８】
（転写材料の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（仮支持体）の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した。次に、熱可塑性樹脂層上に、下記の処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布し、乾燥させて中間層を形成した。
更に、透明硬化性組成物用の塗布液Ｔ１を塗布し、乾燥させて透明樹脂層を形成した。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚８０ｎｍになる透明樹脂層を設けた。最後に、透明樹脂層上に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）と透明樹脂層と保護フィルムとが一体となった転写材料を作製した。
【０１７９】
（熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１）
・メタノール                                                  ：１１．１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート            ：６．３６質量部
・メチルエチルケトン                                          ：５２．４質量部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ（ガラス転移温度）≒７０℃）      ：５．８３質量部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）                                    ：１３．６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）  ：９．１質量部
・フッ素系ポリマー                                            ：０．５４質量部
上記のフッ素系ポリマーは、Ｃ6Ｆ13ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2  ４０部とＨ（ＯＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2）7ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2  ５５部とＨ（ＯＣＨＣＨ2）7ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2  ５部との共重合体で、重量平均分子量３万、メチルエチルケトン３０質量％溶液である（商品名：メガファックＦ７８０Ｆ、大日本インキ化学工業（株）製）。
【０１８０】
（中間層用塗布液：処方Ｐ１）
・ポリビニルアルコール                                        ：３２．２質量部
（商品名：ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン                                        ：１４．９質量部
（商品名：Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン（株）製）
・蒸留水                                                        ：５２４質量部
・メタノール                                                    ：４２９質量部
【０１８１】
（透明膜の形成）
保護フィルムを剥離した前述の転写材料を用いて、ガラス製透明基板上に、透明樹脂層を熱可塑性樹脂および中間層およびＰＥＴ仮支持体と共に転写したのち、ＰＥＴ仮支持体を剥離した。次に、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、熱可塑性樹脂層側からｉ線、４０ｍＪ／ｃｍ2にて全面露光した。次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍（Ｔ−ＰＤ２を１部と純水９部の割合で混合）に希釈した液）を３０Ｃで６０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂と中間層を除去した。引き続き、このガラス製透明基板の上面（透明樹脂層側）にエアを吹きかけて液きりした後、純粋をシャワーにより１０秒間吹きつけ、純粋シャワー洗浄し、エアを吹きかけてガラス製透明基板上の液だまりを減らした。次に、ガラス製透明基板を２３０℃下で６０分間加熱処理（ポストベーク）して、透明樹脂層を加熱硬化させて透明膜とし、ガラス製透明基板上に透明膜が積層された基板を得た。
【０１８２】
＜２．透明電極パターンの形成＞
上記にて得られたガラス製透明基板上に透明膜が積層された基板を、真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ2含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング（条件：基材の温度２５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）により、厚さ４０ｎｍ、屈折率１．８２のＩＴＯ薄膜を形成し、透明電極層を形成した前面板を得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は８０Ω／□であった。
【０１８３】
（エッチング用感光性フィルムＥ１の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（仮支持体）の上に、スリット状ノズルを用いて、上述の処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した。次に、熱可塑性樹脂層上に、上述の処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布し、乾燥させて中間層を形成した。
更に、エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１を塗布し、乾燥させてエッチング用光硬化性樹脂層を形成した。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、膜厚２．０μｍエッチング用光硬化性樹脂層から成る積層体を得た。最後に、エッチング用光硬化性樹脂層上に保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とエッチング用光硬化性樹脂層とが一体となった転写材料を作製した。
【０１８４】
（エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１）
・メチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸共重合体（共重合体組成（質量％）：３１／４０／２９、重量平均分子量６００００、酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
：１６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）    ：５．６質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノメタクリレート０．５モル付加物                                                            ：７質量部
・分子中に重合性基を１つ有する化合物としてのシクロヘキサンジメタノールモノアクリレート                                                              ２．８質量部
・２−クロロ−Ｎ−ブチルアクリドン                              ：０．４２質量部
・２，２−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール                                                          ：２．１７質量部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩                                  ：０．０２質量部
・ロイコクリスタルバイオレット                                  ：０．２６質量部
・フェノチアジン                                              ：０．０１３質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ−７８０Ｆ、大日本インキ（株）製）
：０．０３質量部
・メチルエチルケトン                                                ：４０質量部
・１−メトキシ−２−プロパノール                                    ：２０質量部
なお、エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１の溶剤除去後の１００℃の粘度は２５００Ｐａ・ｓｅｃであった。
【０１８５】
（透明電極パターンの形成）
透明電極層を形成した前面板を洗浄し、保護フィルムを除去したエッチング用感光性フィルムＥ１をラミネートした（基材温度：１３０℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分）。仮支持体を剥離後、露光マスク（透明電極パターンを有す石英露光マスク）面とエッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量５０ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて２５℃で１００秒間現像処理し、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間洗浄処理した。洗浄処理後の前面板を、回転ブラシで擦り、更に超高圧洗浄ノズルから、超純水を噴射することで残渣を除去した。次いで、１３０℃３０分間のポストベーク処理を行って、透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成した前面板を得た。
透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成した前面板を、ＩＴＯエッチャント（塩酸、塩化カリウム水溶液。液温３０℃）を入れたエッチング槽に浸漬し、１００秒間処理（エッチング処理）し、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極層パターン付の前面板を得た。
次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極層パターン付の前面板を、レジスト剥離液（Ｎ−メチル−２−ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤（商品名：サーフィノール４６５、エアープロダクツ製）、液温４５℃）を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、２００秒間処理（剥離処理）し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、ガラス製透明基板上に透明膜および透明電極パターンを形成した基板を得た。
【０１８６】
透明電極パターンの端部をＰｔコート（約２０ｎｍ厚）により、導電性付与及び表面保護を行った後、ＦＥＩ製Ｎｏｖａ２００型ＦＩＢ／ＳＥＭ複合機を用いて、透明電極パターン端部の形状観察（二次電子像、加速電圧２０ｋＶ）を行った。
形成したＩＴＯパターンは、図１０の様なテーパー形状となっており、テーパー角α＝約３°であった。
【０１８７】
＜３．第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層の形成＞
上記にて得られたガラス製透明基板上に透明膜および透明電極パターンを形成した基板上に、保護フィルムを除去した実施例１の転写フィルムＩ１をラミネートした（ゴムローラー温度１１０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．０ｍ／分）。露光マスク（オーバーコート形成用パターンを有す石英露光マスク）面と仮支持体との間の距離を１２５μｍに設定し、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。仮支持体を剥離後、炭酸ソーダ２％水溶液３２℃で６０秒間洗浄処理した。洗浄処理後の前面板を、回転ブラシで擦り、更に超高圧洗浄ノズルから、超純水を噴射することで残渣を除去した。引き続き、エアを吹きかけて基材上の水分を除去し、１４５℃３０分間のポストベーク処理を行って、ガラス製透明基板上に透明膜、透明電極パターン、第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層がこの順で連続された透明積層体を製膜した。
こうして、ガラス製透明基板上に透明膜、透明電極パターン、第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層をこの順に積層させた透明積層体を得た。得られた透明積層体を、実施例１の透明積層体とした。
【０１８８】
〔透明積層体の評価〕
＜透明電極パターンの視認性の評価＞
ガラス製透明基板上に、透明膜、透明電極パターン、第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層をこの順に積層させた透明積層体を、透明接着テープ（３Ｍ社製、商品名、ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ）を介して、黒色ＰＥＴ材と接着させ、基板全体を遮光した。
透明電極パターン視認性は、暗室において、蛍光灯（光源）と作成した基板を、ガラス面側から光を入射させ、ガラス表面からの反射光を、斜めから目視観察することにより行った。Ａ、ＢまたはＣが実用レベルであり、ＡまたはＢであることが好ましく、Ａであることがより好ましい。
《評価基準》
Ａ  ：透明電極パターンが全く見えない。
Ｂ  ：透明電極パターンがわずかに見えるが、ほとんど見えない。
Ｃ  ：透明電極パターンが見える（分かりにくい）。
Ｄ  ：透明電極パターンが見えるが、実用上許容できる。
Ｅ  ：透明電極パターンがはっきり見える（分かりやすい）。
得られた結果を下記表に記載した。
【０１８９】
＜着色の評価＞
ガラス製透明基板上に、透明膜、透明電極パターン、第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層をこの順に積層させた透明積層体を、目視観察することにより行った。表裏から６０人に観察させ、下記評価基準に従い白色度の評価をした。Ａ、ＢまたはＣであることが好ましく、ＡまたはＢであることがより好ましく、Ａであることが特に好ましい。
《評価基準》
Ａ：黄色味を帯びていると認識した人数    ０〜１人
Ｂ：黄色味を帯びていると認識した人数    ２〜３人
Ｃ：黄色味を帯びていると認識した人数    ４〜５人
Ｄ：黄色味を帯びていると認識した人数    ６〜１０人
Ｅ：黄色味を帯びていると認識した人数    １１人以上
得られた結果を下記表に記載した。
【０１９０】
＜パターニング性の評価＞
ガラス製透明基板上にマスク層、透明膜、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターンを形成した前面板を第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層をこの順に積層させ、露光・現像した透明積層体を、光学顕微鏡で観察することにより行った。Ａ、ＢまたはＣが実用レベルであり、ＡまたはＢであることが好ましく、Ａであることがより好ましい。。
《評価基準》
Ａ：基板の非表示部及び表示部の未露光部に残渣がなく、且つ露光部と未露光部の境界部分に欠けた部分が全くない状態で、パターニング性が非常に良い。
Ｂ：基板の非表示部の僅かな残渣がみられるが、表示部の未露光部に残渣がなく、露光部と未露光部の境界部分に欠けた部分が全くない状態で、パターニング性が良い。
Ｃ：基板の非表示部及び表示部の未露光部の僅かな残渣がみられる。もしくは露光部と未露光部の境界部分に僅かな欠けた部分が存在するが、表示に悪影響は無く、パターニング性が普通。
Ｄ：基板の非表示部及び表示部の未露光部に残渣がみられる。もしくは露光部と未露光部の境界部分に欠けた部分が存在し、表示に悪影響があり、パターニング性が悪い。
Ｅ：基板の非表示部及び表示部の未露光部が現像されず、多くの残渣がみられる。もしくは露光部の多くが欠落し、表示に悪影響があり、パターニング性が非常に悪い。
Ｆ：基板から仮支持体が剥離できず、パターニング性を評価できなかった。
評価した結果を下記表に記載した。
【０１９１】
（基板密着性の評価）
ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−６:ＩＳＯ２４０９（クロスカット法）にしたがってガラス上にマスク層、透明膜、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層をこの順に積層させた透明積層体に、１ｍｍ幅で、切り込みを入れセロハンテープで剥がして剥がれが存在するか観察した。Ａ、ＢまたはＣであることが好ましく、ＡまたはＢであることがより好ましく、Ａであることが特に好ましい。
〈評価基準〉
Ａ：第一及び第二の硬化性透明樹脂層成分が全く剥がれず、密着、非常に良いレベルであった。
Ｂ：第一及び第二の硬化性透明樹脂層切れ込みエッジにのみ微かな剥がれがあるが、枡目の部分は剥れ全くなく、良いレベルであった。
Ｃ：第一及び第二の硬化性透明樹脂層成分の枡目の剥がれが、０％以上２％未満で実用レベルであり、普通。
Ｄ：第一及び第二の硬化性透明樹脂層層成分の枡目の剥がれが、２％以上５％未満マス加飾層成分の剥がれが認められ、悪い。
Ｅ：第一及び第二の硬化性透明樹脂層層成分の５％以上マス目加飾層成分の剥がれが認められ、非常に悪い。
評価した結果を下記表に記載した。
【０１９２】
［実施例２〜６および８］
実施例１において溶媒中のメタノール含有率（炭素数１〜３のアルコール含有率）３７．５質量％のＩＭ１を用いた代わりに、溶媒中のメタノール含有率をそれぞれ４０質量％（実施例２、ＩＭ２）、２５質量％（実施例３、ＩＭ３）、１２．５質量％（実施例４、ＩＭ４）、６．５質量％（実施例５、ＩＭ５）、３．４質量％（実施例６、ＩＭ６）、及び４２質量％（実施例８、ＩＭ８）に変えた以外は実施例１と同様にして実施例２〜６および８の転写フィルムおよび透明積層体を作製して、評価を行った。評価した結果を下記表に記載した。
【０１９３】
［実施例７］
実施例１において、第二の硬化性透明樹脂層用塗布液として、ＩＭ１に用いたメタノール分散のジルコニア分散液の代わりに水分散のジルコニア分散液を用い、溶媒中のメタノール含有率を３７．５質量％から０質量％に変更したＩＭ７を用いた以外は実施例１と同様にして実施例７の転写フィルムおよび透明積層体を作製して、評価を行った。評価した結果を下記表に記載した。
【０１９４】
［実施例９〜１４および３３〜３５］
実施例１において、第二の硬化性透明樹脂層用塗布液として、ＩＭ１で用いたアセタール化度  ９ｍｏｌ％、水酸基含有量  ９０ｍｏｌ％のポリビニルアセタール樹脂２０％水溶液（積水化学工業（株）製商品名：エスレックＫＷ−１）の代わりに、それぞれ
・アセタール化度  ３０ｍｏｌ％、水酸基含有量  ７０ｍｏｌ％のポリビニルアセタール樹脂２０％水溶液（商品名：エスレックＫＷ−３、積水化学工業（株）製）（実施例９、ＩＭ９）、
アセタール化度  ８ｍｏｌ％、水酸基含有量  ９１ｍｏｌ％のポリビニルアセタール樹脂２５％水溶液（商品名：エスレックＫＷ−１０、積水化学工業（株）製）（実施例１０、ＩＭ１０）、
・残存アセチル基量１２ｍｏｌ％、鹸化度８８ｍｏｌ％、水酸基含有量８８ｍｏｌ％、重合度５５０のポリビニルアルコール樹脂（ＰＶＡ２０５Ｃ、クラレ製）の１０％水溶液（実施例１１、ＩＭ１１）、
・残存アセチル基量１２ｍｏｌ％、鹸化度８８ｍｏｌ％、水酸基含有量８８ｍｏｌ％、重合度１７５０のポリビニルアルコール樹脂（ＰＶＡ２１７Ｃ、クラレ製）の１０％水溶液（実施例１２、ＩＭ１２）、
・残存アセチル基量１．５ｍｏｌ％、鹸化度９８．５ｍｏｌ％、水酸基含有量９８．５ｍｏｌ％、重合度２４００のポリビニルアルコール樹脂（ＰＶＡ１２４Ｃ、クラレ製）の１０％水溶液（実施例１３、ＩＭ１３）、
・鹸化度９６．３ｍｏｌ％、水酸基含有量９６．３ｍｏｌ％、重合度５５０の変性ポリビニルアルコール樹脂（下記化合物Ｐ）の１０％水溶液（実施例１４、ＩＭ１４）、
【化４】
2015196369.tif 000008
・残存アセチル基量１９．５ｍｏｌ％、鹸化度８１．５ｍｏｌ％、水酸基含有量８１．５ｍｏｌ％、重合度５５０のポリビニルアルコール樹脂（ＰＶＡ４０５、クラレ製）の１０％水溶液（実施例３３、ＩＭ２７）、
・残存アセチル基量２９ｍｏｌ％、鹸化度７１ｍｏｌ％、水酸基含有量７１ｍｏｌ％のポリビニルアルコール樹脂（Ｌ８、クラレ製）の１０％水溶液（実施例３４、ＩＭ２８）、
・残存アセチル基量３４ｍｏｌ％、鹸化度６６ｍｏｌ％、水酸基含有量６６ｍｏｌ％のポリビニルアルコール樹脂の１０％水溶液（実施例３５、ＩＭ２９）
に変更した第二の硬化性透明樹脂層用塗布液を用いた以外は実施例１と同様にして実施例９〜１４および３３〜３５の転写フィルムおよび透明積層体を作製して、評価を行った。評価した結果を下記表に記載した。
【０１９５】
［実施例１５〜１７］
実施例１において、第二の硬化性透明樹脂層用塗布液として、ＩＭ１に用いた構造式１の重合性化合物をそれぞれ、
・ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ３ＬＭ−Ｎ（新中村化学工業（株）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物製、トリアクリレート５７％）（実施例１５）、
・ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ（新中村化学工業（株）製、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物、トリアクリレート５５％）（実施例１６）、
・ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ３（新中村化学工業（株）製、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物、トリアクリレート３７％）（実施例１７）
に変更したＩＭ１５〜１７を用いた以外は実施例１と同様にして実施例１５〜１７の転写フィルムおよび透明積層体を作製して、評価を行った。評価した結果を下記表に記載した。
【０１９６】
［実施例１８］
実施例１において、第二の硬化性透明樹脂層用塗布液として、ＩＭ１で用いたＩＲＧＣＵＲＥ２９５９のを下記構造式２の光重合開始剤に変更したＩＭ１８を用いた以外は実施例１と同様にして実施例１８の転写フィルムおよび透明積層体を作製して、評価を行った。評価した結果を下記表に記載した。
【化５】
2015196369.tif 000009
【０１９７】
［実施例１９〜２４］
実施例１において、固形分中のジルコニア微粒子の含有量が６６質量％のＩＭ１をそれぞれ８０質量％（実施例１９、ＩＭ１９）、７３質量％（実施例２０、ＩＭ２０）、６０．６質量％（実施例２１、ＩＭ２１）、５７．１質量％（実施例２２、ＩＭ２２）、５０質量％（実施例２３、ＩＭ２３）、４０．１質量％（実施例２４、ＩＭ２４）に変更した第二の硬化性透明樹脂層用塗布液を用いた以外は実施例１と同様して実施例１９〜２４の転写フィルムおよび透明積層体を作製して、評価を行った。評価した結果を下記表に記載した。
【０１９８】
［実施例２５、３１および３２］
実施例１において、第一の硬化性透明樹脂層用塗布液の処方を屈折率１．５１のＯＣ１から屈折率１．５３の上記表１に記載のＯＣ２（実施例２５）、ＯＣ３（実施例３１）、ＯＣ４（実施例３２）に変更した以外は実施例１と同様にして実施例２５、３１および３２の転写フィルムおよび透明積層体を作製して、評価を行った。評価した結果を下記表に記載した。
【０１９９】
［実施例２６］
実施例１において、第一の硬化性透明樹脂層の厚みを５μｍから８μｍに変更した以外は実施例１と同様にして実施例２６の転写フィルムおよび透明積層体を作製して、評価を行った。評価した結果を下記表に記載した。
【０２００】
［実施例２７］
実施例２２において、第二の硬化性透明樹脂層の厚みを７０ｎｍから１００ｎｍに変更した以外は実施例２２と同様にして実施例２７の転写フィルムおよび透明積層体を作製して、評価を行った。評価した結果を下記表に記載した。
【０２０１】
［実施例２８］
実施例１において、第二の硬化性透明樹脂層の厚みを７０ｎｍから３５ｎｍに変更し、さらに第二の硬化性透明樹脂層の上に第三の硬化性透明樹脂層としてＩＭ４０を第二の硬化性透明樹脂層と同様に３５ｎｍ形成した以外は実施例１と同様にして実施例２８の転写フィルムを作製して、評価を行った。
実施例１において、実施例１の転写フィルムの代わりに実施例２８の転写フィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、ガラス製透明基板上に透明膜、透明電極パターン、第三の硬化性透明樹脂層、第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層がこの順で連続された実施例２８の透明積層体を作製して、評価を行った。評価した結果を下記表に記載した。
【０２０２】
［実施例２９および３０］
実施例１において、第二の硬化性透明樹脂層用塗布液としてポリマー粒子を含まないＩＭ１の代わりに、ポリエチレンアイオノマーの水性ディスパージョン（商品名：ケミパールＳ１２０、三井化学製）及びポリエーテル系ポリウレタンの水性ディスパージョン（商品名：ハイドランＷＬＳ２０１  ＤＩＣ（株）製）をバインダーに対し２１.２質量％含有させたＩＭ２５およびＩＭ２６をそれぞれ用いた以外は実施例１と同様にして実施例２９および３０の転写フィルムおよび透明積層体を作製して、評価を行った。評価した結果を下記表に記載した。
【０２０３】
［比較例１および２］
実施例１において、第二の硬化性透明樹脂層用塗布液として、ＩＭ１の代わりに、上記表１に記載の処方のＩＭ４０（比較例１）および上記表３に記載のＩＭ３０（比較例２）を用いた以外は実施例１と同様にして比較例１および２の転写フィルムおよび透明積層体を作製して評価を行なった。
ＩＭ４０およびＩＭ３０は第一の硬化性透明樹脂層を溶解し、第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層が混合してしまい、透明電極パターン視認性が著しく悪化した。その他の評価結果とあわせて、評価結果を下記表に示す。なお、比較例２では転写フィルムのヒビわれの評価およびレチキュレーション評価、ならびに、透明積層体の基板密着性評価を行わなかった。
【０２０４】
［比較例３］
実施例１において、第二の硬化性透明樹脂層用塗布液としてＩＭ１の代わりに、上記表３に記載の処方のＩＭ３１を用いて転写材料を作製した以外は実施例１と同様にして比較例３の転写フィルムおよび透明積層体を作製して評価を行なった。
ＩＭ３１は第一の硬化性透明樹脂層を溶解及び白濁させることがなく、第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層は分画できていた。しかしながら、第一の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．５９のため、透明電極パターン視認性が著しく低下した。その他の評価結果とあわせて、評価結果を下記表に示す。
【０２０５】
［比較例４］
実施例１において、溶媒中のメタノールの含有量３７．５質量％のＩＭ１の代わりに、溶媒中のメタノールの含有量４５質量％のＩＭ３２を用いた以外は実施例１と同様にして比較例４の転写フィルムを作製した。
ＩＭ３２は第一の硬化性透明樹脂層を白濁させ、第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層は、層分画は不十分であった。引き続き実施例１と同様にして評価を行った結果、透明電極パターン視認性が著しく悪化した。その他の評価結果とあわせて、評価結果を下記表に示す。なお、比較例４では転写フィルムのヒビわれの評価およびレチキュレーション評価、ならびに、透明積層体のパターニング性、着色および基板密着性評価を行わなかった。
【０２０６】
［比較例５］
実施例１のエッチング用感光性フィルムＥ１の作製において、処方Ｅ１を用いる代わりにＯＣ１を用いて同様に塗布乾燥し、乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層及び乾燥膜厚が５μｍの第一の硬化性透明樹脂層を設けた。窒素雰囲気下で露光量１５０ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）で全面均一露光した。次にＩＭ４０からなる第二の硬化性透明樹脂層用塗布液を上記と同様に塗布乾燥して比較例５の転写フィルムを作製した。
上記にて得られたガラス製透明基板上に透明膜および透明電極パターンを形成した基板上に、保護フィルムを除去した比較例５の転写フィルムをラミネートした（ゴムローラー温度１１０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．０ｍ／分）。露光マスク（オーバーコート形成用パターンを有す石英露光マスク）面と仮支持体との間の距離を１２５μｍに設定し、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。仮支持体を剥離後、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で６０秒間、フラットノズル圧力０．１ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、このガラス基材の上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基材上の液だまりを減らした。
その後、炭酸ソーダ２％水溶液３２℃で６０秒間洗浄処理した。しかしながら、第一及び第二の硬化性透明樹脂層のパターン現像をすることができず、パターニング性が悪かった。洗浄処理後の前面板を、回転ブラシで擦り、更に超高圧洗浄ノズルから、超純水を噴射した。引き続き、エアを吹きかけて基材上の水分を除去し、１４５℃３０分間のポストベーク処理を行って、ガラス製透明基板上に透明膜、透明電極パターン、第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層がこの順で連続された透明積層体を製膜した。
こうして、ガラス製透明基板上に透明膜、透明電極パターン、第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層をこの順に積層させた比較例５の透明積層体を得た。
実施例１と同様にして、比較例５の転写フィルムおよび透明積層体の評価を行なった。その結果を下記表に示す。
【０２０７】
［比較例６］
実施例１において、ポリエチレンテレフタレートフィルム（仮支持体）の上にＯＣ１を用いて同様に塗布乾燥し、第一の硬化性透明樹脂層を設けた。窒素雰囲気下で、第一の硬化性透明樹脂層を露光量１５０ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）で全面均一露光した。次にＩＭ４０からなる第二の硬化性透明樹脂層用塗布液を上記と同様に塗布乾燥して比較例６の転写フィルムを作製した。
上記実施例１にて得られたガラス製透明基板上に透明膜および透明電極パターンを形成した基板上に、保護フィルムを除去した比較例６の転写フィルムをラミネートした（ゴムローラー温度１１０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．０ｍ／分）。露光マスク（オーバーコート形成用パターンを有す石英露光マスク）面と仮支持体との間の距離を１２５μｍに設定し、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。
仮支持体を剥離することを試みたが剥がすことができなかった。その理由は以下のとおりと考えられる。
実施例１のように仮支持体に直接、第一の硬化性透明樹脂層用塗布液を塗布乾燥し、第一の硬化性透明樹脂層を設けた上に、第二の硬化性透明樹脂層を塗布乾燥して転写フィルムを作製した場合、上記のように基板にラミネートし、仮支持体を介してパターン露光すると、第一の硬化性透明樹脂層が露光により収縮し、発生する残留応力で仮支持体が剥がれやすくなっていると考えられる。しかしながら、本比較例６では、第一の硬化性透明樹脂層用塗布液を塗布乾燥した後、露光して硬化させて第一の硬化性透明樹脂層を設けた上に、第二の硬化性透明樹脂層用塗布液を塗布乾燥して転写フィルムを作製している。第一の硬化性透明樹脂層を乾燥後、露光する時点で、モノマーが一部重合し、露光収縮し残留応力を蓄積するが、第二の硬化性透明樹脂層用塗布液を塗布した時点で、塗布液中の溶媒に含まれる低級アルコールにより緩和しやすくなり、上記のように基板にラミネートし、仮支持体を介してパターン露光しても、第一の硬化性透明樹脂層が露光により大きく収縮することなく、発生する残留応力も低減しているため、仮支持体が剥がれにくくなっていると考えられる。
こうして、ガラス製透明基板上に透明膜、透明電極パターン、第二の硬化性透明樹脂層、第一の硬化性透明樹脂層および仮支持体をこの順に積層させた比較例６の透明積層体を得た。実施例１と同様にして、比較例６の転写フィルムおよび透明積層体の評価を行なった。その結果を下記表に示す。なお、比較例６では転写フィルムのヒビわれの評価およびレチキュレーション評価、ならびに、透明積層体の透明電極パターン視認性、着色および基板密着性評価を行わなかった。
【０２０８】
［比較例７］
実施例１において、第二の硬化性透明樹脂層用塗布液ＩＭ１を、ＩＭ１で用いたバインダー（アセタール化度  ９ｍｏｌ％、水酸基含有量  ９０ｍｏｌ％のポリビニルアセタール樹脂２０％水溶液、積水化学工業（株）製商品名：エスレックＫＷ−１）の代わりに、鹸化度６５ｍｏｌ％、水酸基含有量６５ｍｏｌ％、重合度重合度５５０のポリビニルアルコール樹脂の１０％水溶液を用いた塗布液（ＩＭ４１）に変更した以外は実施例１と同様にして、比較例７の転写フィルムおよび透明積層体を作製して評価を行なった。
ＩＭ４１は白濁しており、第一の硬化性透明樹脂層も白濁させ、第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層の層分画は不十分であった。引き続き実施例１と同様にして評価を行った結果、透明電極パターン視認性が著しく悪化した。その他の評価結果とあわせて、評価結果を下記表に示す。
【０２０９】
［比較例８］
実施例１において、ＯＣ１及びＩＭ１の代わりにそれぞれ特開２００５−２９２７３４号公報の実施例１の第一感光性樹脂組成物溶液と、特開２００５−２９２７３４号公報の実施例１の第一感光性樹脂組成物溶液の溶剤組成比を変えずに固形分２．３質量％に希釈した第二感光性樹脂組成物溶液を用いた以外は実施例１と同様にして、第一及び第二の硬化性透明樹脂層を有する比較例８の転写フィルムおよび透明積層体を作製して、評価を行なった。
第一感光性樹脂組成物層上に、溶剤組成比を変えずに固形分２．３質量％に希釈した第二感光性樹脂組成物溶液を塗布した場合は、第一の硬化性透明樹脂層を溶解及び白濁させることがなかった。しかしながら、第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層の境界は明確でなく、層分画は不十分であった。透明電極パターン視認性も悪化した。その他の評価結果とあわせて、評価結果を下記表に示す。なお、比較例８では透明積層体の着色評価を行わなかった。
【０２１０】
【表４】
2015196369.tif 000010
【０２１１】
【表５】
2015196369.tif 000011
【０２１２】
【表６】
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【０２１３】
【表７】
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【０２１４】
【表８】
2015196369.tif 000014
【０２１５】
【表９】
2015196369.tif 000015
【０２１６】
上記表４〜９より、本発明の転写フィルムを用いて作製した本発明の透明積層体は、透明電極パターンが視認される問題がなく、パターニング性が良好であることがわかった。
一方、比較例１、２および７より、第一および第二の硬化性透明樹脂層がともに非水溶性の層である転写フィルムを用いて作製した透明積層体は、透明電極パターンが視認されてしまうことがわかった。
第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．５９であり、本発明の範囲を下回る転写フィルムを用いた比較例３では、得られた透明積層体の透明電極パターンがはっきり見えた。
比較例４より、第一および第二の硬化性透明樹脂層の層分画が不十分な転写フィルムを用いて作製した透明積層体は、透明電極パターンが視認されてしまうことがわかった。
比較例５および６より、第一の硬化性透明樹脂層を硬化したした後に、第二の硬化性透明樹脂層を積層した転写フィルムを用いて作製した透明積層体は、パターニング性が悪いことがわかった。
比較例８より、特開２００５−２９２７３４号公報の実施例１の第一感光性樹脂組成物溶液の濃度を変更して、第一および第二の硬化性透明樹脂層がともに非水溶性の層である転写フィルムを作製し、この転写フィルムを用いて透明積層体を作製した場合は、透明電極パターンが視認されてしまうことがわかった。
【０２１７】
［実施例１０１〜１３５：静電容量型入力装置の製造］
〔マスク層の形成〕
＜マスク層形成用感光性フィルムＫ１の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（仮支持体）の上に、スリット状ノズルを用いて、上述の処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した。次に、熱可塑性樹脂層上に、上述の処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布し、乾燥させて中間層を形成した。更に、下記処方Ｋ１からなる黒色光硬化性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させて黒色光硬化性樹脂層を形成した。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、光学濃度が４．０となるように乾燥膜厚が２．２μｍの黒色光硬化性樹脂層を設け、最後に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）と黒色光硬化性樹脂層とが一体となった転写材料を作製し、サンプル名をマスク層形成用感光性フィルムＫ１とした。
【０２１８】
（黒色光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｋ１）
・Ｋ顔料分散物１                                                ：３１．２質量部
・Ｒ顔料分散物１（下記の組成）                                    ：３．３質量部
・ＭＭＰＧＡｃ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ダイセル化学（株）製）                                                          ：６．２質量部
・メチルエチルケトン（東燃化学（株）製）                        ：３４．０質量部
・シクロヘキサノン（関東電化工業（株）製）                        ：８．５質量部
・バインダー２（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、重量平均分子量３．８万）                              ：１０．８質量部
・フェノチアジン（東京化成（株）製）                            ：０．０１質量部
・ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬（株）製）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（７６質量％）      ：５．５質量部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン          ：０．４質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ−７８０Ｆ、大日本インキ（株）製）
：０．１質量部
なお、上記処方Ｋ１からなる黒色光硬化性樹脂層用塗布液の溶剤除去後の１００℃の粘度は１００００Ｐａ・ｓｅｃであった。
【０２１９】
（Ｋ顔料分散物１の組成）
・カーボンブラック（商品名：Ｎｉｐｅｘ３５、デグッサ社製）      ：１３．１質量％
・下記分散剤１                                                  ：０．６５質量％
・バインダー１（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、重量平均分子量３．７万）                              ：６．７２質量％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート            ：７９．５３質量％
【０２２０】
【化６】
2015196369.tif 000016
【０２２１】
−Ｒ顔料分散物１の組成−
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７）                            ：１８質量％
・バインダー１（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、重量平均分子量３．７万）                                  ：１２質量％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ：７０質量％
【０２２２】
＜マスク層の形成＞
次いで、開口部（１５ｍｍΦ）が形成された強化処理ガラス（３００ｍｍ×４００ｍｍ×０．７ｍｍ）に、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基材を基材予備加熱装置で１４０℃２分間加熱した。
得られたシランカップリング処理ガラス基材に、上述から得られたマスク層形成用感光性フィルムＫ１から保護フィルムを除去し、除去後に露出した黒色光硬化性樹脂層の表面と前述のシランカップリング処理ガラス基材の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、前述の１４０℃で加熱した基材に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）で、基材と露光マスク（額縁パターンを有す石英露光マスク）とを垂直に立てた状態で、露光マスク面と黒色光硬化性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。
【０２２３】
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で６０秒間、フラットノズル圧力０．１ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、このガラス基材の上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基材上の液だまりを減らした。
【０２２４】
その後、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍に希釈した液）を用いて３２℃でシャワー圧を０．１ＭＰａに設定して、４５秒現像し、純水で洗浄した。
【０２２５】
引き続き、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間、コーン型ノズル圧力０．１ＭＰａにてシャワーで吹きかけ、更にやわらかいナイロン毛を有する回転ブラシにより、形成されたパターン像を擦って残渣除去を行った。さらに、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で超純水を噴射して残渣除去を行った。
【０２２６】
次いで大気下にて露光量１３００ｍＪ／ｃｍ2にてポスト露光を行い、さらに２４０℃８０分間のポストベーク処理を行って、光学濃度４．０、膜厚２．０μｍのマスク層が形成された前面板を得た。
【０２２７】
〔透明膜〕
マスク層が形成された前面板に対して、上記の積層体の形成におけるガラス製透明基板上への透明膜の製膜と同様にして、透明膜を製膜した。
【０２２８】
〔第一の透明電極パターンの形成〕
＜透明電極層の形成＞
マスク層および透明膜が形成された前面板を、真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ2含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング（条件：基材の温度２５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）により、厚さ４０ｎｍのＩＴＯ薄膜を形成し、透明電極層を形成した前面板を得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は８０Ω／□であった。
【０２２９】
＜エッチング用感光性フィルムＥ１の作製＞
前述のマスク層形成用感光性フィルムＫ１の作製において、黒色光硬化性樹脂層用塗布液を、下記処方Ｅ１からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液に代えた以外はマスク層形成用感光性フィルムＫ１の作製と同様にして、エッチング用感光性フィルムＥ１を得た（エッチング用光硬化性樹脂層の膜厚は２．０μｍであった）。
【０２３０】
（エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１）
・メチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸共重合体（共重合体組成（質量％）：３１／４０／２９、重量平均分子量６００００、酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
：１６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）    ：５．６質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノメタクリレート０．５モル付加物                                                            ：７質量部
・分子中に重合性基を１つ有する化合物としてのシクロヘキサンジメタノールモノアクリレート                                                            ：２．８質量部
・２−クロロ−Ｎ−ブチルアクリドン                              ：０．４２質量部
・２，２−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール                                                          ：２．１７質量部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩                                  ：０．０２質量部
・ロイコクリスタルバイオレット                                  ：０．２６質量部
・フェノチアジン                                              ：０．０１３質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ−７８０Ｆ、大日本インキ（株）製）
：０．０３質量部
・メチルエチルケトン                                                ：４０質量部
・１−メトキシ−２−プロパノール                                    ：２０質量部
なお、上記処方Ｅ１からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液の溶剤除去後の１００℃の粘度は２５００Ｐａ・ｓｅｃであった。
【０２３１】
＜第一の透明電極パターンの形成＞
マスク層の形成と同様にして、マスク層、透明膜、透明電極層を形成した前面板を洗浄し、次いで保護フィルムを除去したエッチング用感光性フィルムＥ１をラミネートした（基材温度：１３０℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分）。仮支持体を剥離後、露光マスク（透明電極パターンを有す石英露光マスク）面とエッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量５０ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて２５℃で１００秒間現像処理し、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間洗浄処理した。洗浄処理後の前面板を回転ブラシで擦り、更に超高圧洗浄ノズルから、超純水を噴射することで残渣を除去した。次いで１３０℃３０分間のポストベーク処理を行って、透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成した前面板を得た。
【０２３２】
透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成した前面板を、ＩＴＯエッチャント（塩酸、塩化カリウム水溶液。液温３０℃）を入れたエッチング槽に浸漬し、１００秒間処理（エッチング処理）し、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極層パターン付の前面板を得た。
【０２３３】
次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極層パターン付の前面板を、レジスト剥離液（Ｎ−メチル−２−ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤（商品名：サーフィノール４６５、エアープロダクツ製）、液温４５℃）を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、２００秒間処理し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、マスク層、透明膜および第一の透明電極パターンを形成した前面板を得た。
【０２３４】
〔絶縁層の形成〕
＜絶縁層形成用感光性フィルムＷ１の作製＞
マスク層形成用感光性フィルムＫ１の作製において、黒色光硬化性樹脂層用塗布液を、下記処方Ｗ１からなる絶縁層用塗布液に代えた以外はマスク層形成用感光性フィルムＫ１の作製と同様にして、絶縁層形成用感光性フィルムＷ１を得た（絶縁層の膜厚は１．４μｍ）。
【０２３５】
（絶縁層用塗布液：処方Ｗ１）
・バインダー３（シクロヘキシルメタクリレート（ａ）／メチルメタクリレート（ｂ）／メタクリル酸共重合体（ｃ）のグリシジルメタクリレート付加物（ｄ）（組成（質量％）：ａ／ｂ／ｃ／ｄ＝４６／１／１０／４３、重量平均分子量：３６０００、酸価６６ｍｇＫＯＨ／ｇ）の１−メトキシ−２−プロパノール、メチルエチルケトン溶液（固形分：４５％））                                                        ：１２．５質量部
・ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬（株）製）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（７６質量％）      ：１．４質量部
・ウレタン系モノマー（商品名：ＮＫオリゴＵＡ−３２Ｐ、新中村化学（株）製：不揮発分７５％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：２５％）
：０．６８質量部
・トリペンタエリスリトールオクタアクリレート（商品名：Ｖ＃８０２、大阪有機化学工業（株）製）                                                      ：１．８質量部
・ジエチルチオキサントン                                        ：０．１７質量部
・２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９、ＢＡＳＦ製）                                                            ：０．１７質量部
・分散剤（商品名：ソルスパース２００００、アビシア製）          ：０．１９質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ−７８０Ｆ、大日本インキ製）：０．０５質量部
・メチルエチルケトン                                            ：２３．３質量部
・ＭＭＰＧＡｃ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ダイセル化学（株）製）                                                        ：５９．８質量部
なお、上記処方Ｗ１からなる絶縁層形成用塗布液の溶剤除去後の１００℃の粘度は４０００Ｐａ・ｓｅｃであった。
【０２３６】
マスク層の形成と同様にして、前述のマスク層、透明膜、第一の透明電極パターン付の前面板を洗浄、シランカップリング処理し、次いで、保護フィルムを除去した絶縁層形成用感光性フィルムＷ１をラミネートした（基材温度：１００℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．３ｍ／分）。仮支持体を剥離後、露光マスク（絶縁層用パターンを有す石英露光マスク）面と絶縁層との間の距離を１００μｍに設定し、露光量３０ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。
【０２３７】
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で６０秒間現像処理し、さらに炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍に希釈した液）を用いて２５℃で５０秒間現像処理した後、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間洗浄処理した。洗浄処理後の前面板を、回転ブラシで擦り、更に超高圧洗浄ノズルから、超純水を噴射することで残渣を除去した。次いで、２３０℃６０分間のポストベーク処理を行って、マスク層、透明膜、第一の透明電極パターン、絶縁層パターンを形成した前面板を得た。
【０２３８】
〔第二の透明電極パターンの形成〕
＜透明電極層の形成＞
前述の第一の透明電極パターンの形成と同様にして、マスク層、透明膜、第一の透明電極パターン、絶縁層パターンを形成した前面板をＤＣマグネトロンスパッタリング処理し（条件：基材の温度５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）、厚さ８０ｎｍのＩＴＯ薄膜を形成し、透明電極層を形成した前面板を得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は１１０Ω／□であった。
【０２３９】
第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング用感光性フィルムＥ１を用いて、マスク層、透明膜、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、透明電極層、エッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板を得た（ポストベーク処理；１３０℃３０分間）。
さらに、第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチングし（３０℃５０秒間）、次いでエッチング用光硬化性樹脂層を除去（４５℃２００秒間）することにより、マスク層、透明膜、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターンを形成した前面板を得た。
【０２４０】
〔第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素の形成〕
前述の第一、および第二の透明電極パターンの形成と同様にして、マスク層、透明膜、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターンを形成した前面板をＤＣマグネトロンスパッタリング処理し、厚さ２００ｎｍのアルミニウム（Ａｌ）薄膜を形成した前面板を得た。
【０２４１】
前述の第一、および第二の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング用感光性フィルムＥ１を用いて、マスク層、透明膜、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、エッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板を得た（ポストベーク処理；１３０℃３０分間）。
さらに、第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチングし（３０℃５０秒間）、次いでエッチング用光硬化性樹脂層を除去（４５℃２００秒間）することにより、マスク層、透明膜、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素を形成した前面板を得た。
【０２４２】
〔第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層〕
各実施例の透明積層体の製造において、ガラス製透明基板上に、透明膜、透明電極パターンを形成した基板の代わりに、マスク層、透明膜、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素が形成された前面板を用いた以外は上記の各実施例の透明積層体の製造と同様にして、各実施例の転写フィルムから第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層を転写して製膜して、ガラス製透明基板上に、マスク層、透明膜、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素、第二の硬化性透明樹脂層ならびに第一の硬化性透明樹脂層がこの順で形成された各実施例の静電容量型入力装置（前面板）を得た。なお、第二の硬化性透明樹脂層ならびに第一の硬化性透明樹脂層は、マスク層が形成された部分および引き回し配線の端末部の上方に形成されないように、パターン露光および現像されてパターニングされた。
【０２４３】
〔画像表示装置（タッチパネル）の作製〕
特開２００９−４７９３６号公報に記載の方法で製造した液晶表示素子に、先に製造した各実施例の静電容量型入力装置（前面板）を貼り合せ、公知の方法で静電容量型入力装置を構成要素として備えた各実施例の画像表示装置を作製した。
【０２４４】
《前面板および画像表示装置の評価》
各実施例の静電容量型入力装置および画像表示装置は、透明電極パターンが視認される問題がなかった。
上述の各工程において、マスク層、透明膜、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素、第二の硬化性透明樹脂層ならびに第一の硬化性透明樹脂層を形成した前面板は、開口部、および裏面（非接触面）に汚れがなく、洗浄が容易であり、かつ、他部材の汚染の問題がなかった。
また、マスク層にはピンホールがなく、光遮蔽性に優れていた。
そして、第一の透明電極パターン、第二の透明電極パターン、およびこれらとは別の導電性要素の、各々の導電性には問題がなく、一方で、第一の透明電極パターンと第二の透明電極パターンの間では絶縁性を有していた。
さらに、第一の硬化性透明樹脂層にも気泡等の欠陥がなく、表示特性に優れた画像表示装置が得られた。
【符号の説明】
【０２４５】
１    透明基板（前面板）
２    マスク層
３    透明電極パターン（第一の透明電極パターン）
３ａ  パッド部分
３ｂ  接続部分
４    透明電極パターン（第二の透明電極パターン）
５    絶縁層
６    別の導電性要素
７    第一の硬化性透明樹脂層（オーバーコート層または透明保護層の機能を有することが好ましい）
８    開口部
１０  静電容量型入力装置
１１  透明膜
１２  第二の硬化性透明樹脂層（屈折率調整層。透明絶縁層の機能を有してもよい）
１３  透明積層体
２１  透明電極パターンと第二の硬化性透明樹脂層と第一の硬化性透明樹脂層がこの順に積層された領域
２２  非パターン領域
α    テーパー角
２６  仮支持体
２９  保護剥離層（保護フィルム）
３０  転写フィルム
３１  引き回し配線の端末部
３０  転写フィルム
３３  第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層の硬化部
３４  引き回し配線の末端部に対応する開口部（第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層の未硬化部）
【図１Ａ】
2015196369.tif 000017
【図１Ｂ】
2015196369.tif 000018
【図２】
2015196369.tif 000019
【図３】
2015196369.tif 000020
【図４】
2015196369.tif 000021
【図５】
2015196369.tif 000022
【図６】
2015196369.tif 000023
【図７】
2015196369.tif 000024
【図８】
2015196369.tif 000025
【図９】
2015196369.tif 000026
【図１０】
2015196369.tif 000027
【図１１】
2015196369.tif 000028
【図１２】
2015196369.tif 000029
【図１３】
2015196369.tif 000030
【図１４】
2015196369.tif 000031
【図１５】
2015196369.tif 000032