(57)【要約】【課題】釉薬の塗布ムラが発生を防いで成形体の排水路内に釉薬を確実に塗布することができ、釉薬の使用量を減らすことができる施釉装置及び衛生陶器の製造方法を提供する。【解決手段】施釉装置１は、焼成前の衛生陶器の成形体の中空の排水路の内面に対して釉薬を塗布する施釉装置であり、成形体Ｍ（ＭＳ、ＭＰ）を保持する保持部としての転回機５０と、排水路ＴＲ内に排水路ＴＲの空間容積とほぼ同量の釉薬Ｄを、排水路ＴＲの排水口から排水路ＴＲ内に充填して排水路ＴＲの内面に釉薬を塗布する釉薬供給部７を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
焼成前の衛生陶器の成形体の中空の排水路の内面に対して釉薬を塗布する施釉装置であって、
前記成形体を保持する保持部と、
前記排水路内に前記排水路の空間容積とほぼ同量の前記釉薬を、前記排水路の排水口から前記排水路内に充填して前記排水路の内面に前記釉薬を塗布する釉薬供給部と、
を備えることを特徴とする施釉装置。
【請求項２】
前記排水路への前記釉薬の充填は、前記排水路の最下流側の前記排水口から行われ、前記排水路内に充填された前記釉薬は、前記排水口から排出されることを特徴とする請求項１に記載の施釉装置。
【請求項３】
前記成形体の品番を識別する識別部と、
前記識別部により前記成形体の品番を識別した情報に基づいて、識別された前記成形体の前記排水路の空間容積とほぼ同量の前記釉薬を、前記釉薬供給部から前記排水路内に充填させる制御部と、を備えることを特徴とする請求項１または２に記載の施釉装置。
【請求項４】
前記排水路内に充填された前記釉薬を、前記排水路内から前記排水口を通じて排出して回収する釉薬回収部を有することを特徴とする請求項１または２に記載の施釉装置。
【請求項５】
前記保持部は、前記成形体の品番を識別した情報に基づいて、保持している前記成形体をインデックスして前記成形体の保持姿勢を変える転回機であることを特徴とする請求項２に記載の施釉装置。
【請求項６】
焼成前の衛生陶器の成形体の中空の排水路の内面に対して釉薬を塗布する際に、
保持部が前記成形体を保持している状態で、
釉薬供給部から、前記排水路内に前記排水路の空間容積とほぼ同量の前記釉薬を、前記排水路の排水口から前記排水路内に充填して前記排水路の内面に前記釉薬を塗布することを特徴とする衛生陶器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、焼成前の衛生陶器の成形体内に釉薬を塗布するための施釉装置及び衛生陶器の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
焼成前の衛生陶器の生素地成形体内に釉薬を塗布する方法が、特許文献１と特許文献２に開示されている。特許文献１に開示されている方法では、この生素地成形体の上から釉薬吐出ノズルを近づけて、この釉薬吐出ノズルは、成形体のリムのボール部へ釉薬を吐出してボール部内に釉薬をいったん滞留させる。そして、この生素地成形体を揺動することで、ボール部に溜まった釉薬は、排水路（トラップ）内に釉薬を流し込まれて排水路の内壁に釉薬が塗布される。
【０００３】
また、特許文献２に開示されている方法では、釉薬噴射ノズルは、成形体のリムのボール部（トラップの蓋となる「水たまり」を形成する部分）へ釉薬を噴射してボール部内に釉薬をいったん滞留させる。そして、この排水口から釉薬を吸引することで、ボール部に溜まった釉薬は、排水路（トラップ）内に釉薬を流し込まれて排水路の内壁に釉薬が塗布される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平０３−１２２０７６号公報
【特許文献２】特開平０３−１７０３８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、特許文献１に記載の技術では、生素地成形体を揺動することにより釉薬が揺れてしまうので、排水路の内面には釉薬の塗布ムラが発生するおそれがある。しかも、釉薬は、生素地成形体のボール部にいったん滞留させるので、ボール部にも釉薬が付着してしまう。しかも、排水路だけでなく、ボール部に対しても釉薬が付着してしまうので、釉薬の使用量が増大してしまう。
また、特許文献２に記載の技術では、釉薬は、生素地成形体のボール部にいったん滞留させた後に、釉薬は排水路の排水口から吸引することで排水路の内面に釉薬を塗布させるのであるが、やはり排水路の内面において釉薬の塗布ムラが発生するおそれがある。しかも、排水路だけでなく、ボール部に対しても釉薬が付着してしまうので、釉薬の使用量が増大してしまう。
そこで、本発明は、釉薬の塗布ムラが発生を防いで成形体の排水路内に釉薬を確実に塗布することができ、釉薬の使用量を減らすことができる施釉装置及び衛生陶器の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の施釉装置は、焼成前の衛生陶器の成形体の中空の排水路の内面に対して釉薬を塗布する施釉装置であって、前記成形体を保持する保持部と、前記排水路内に前記排水路の空間容積とほぼ同量の前記釉薬を、前記排水路の排水口から前記排水路内に充填して前記排水路の内面に前記釉薬を塗布する釉薬供給部と、を備えることを特徴とする。
上記構成によれば、釉薬は、排水路の排水口から充填することで、施釉の必要な排水路の内面に釉薬を直接塗布するようになっているので、釉薬の塗布ムラが発生を防いで成形体の排水路内に釉薬を確実に塗布することができる。しかも、釉薬は、施釉の必要な成形体の排水路内だけに付着して、従来とは異なり、成形体の水たまり(ボール部）には全く付着することがないので、釉薬の使用量を減らすことができる。
【０００７】
好ましくは、前記排水路への前記釉薬の充填は、前記排水路の最下流側の前記排水口から行われ、前記排水路内に充填された前記釉薬は、前記排水口から排出されることを特徴とする。
上記構成によれば、釉薬は、排水路の最下流側の排水口を用いて充填され、その後余った釉薬は、排水口から排出されるので、釉薬は、施釉の必要な成形体の排水路内だけに付着して、従来のように成形体の水たまり(ボール部）には全く付着することがないので、釉薬の使用量を減らすことができる。
【０００８】
好ましくは、前記成形体の品番を識別する識別部と、前記識別部により前記成形体の品番を識別した情報に基づいて、識別された前記成形体の前記排水路の空間容積とほぼ同量の前記釉薬を、前記釉薬供給部から前記排水路内に充填させる制御部と、を備えることを特徴とする。
上記構成によれば、排水路の空間容積とほぼ同量の釉薬を、釉薬供給部から排水路内に充填させることができるので、排水路の内面の全領域にムラなく塗布できる。
【０００９】
好ましくは、前記排水路内に充填された前記釉薬を、前記排水路内から前記排水口を通じて排出して回収する釉薬回収部を有することを特徴とする。
上記構成によれば、釉薬回収部は、排水路の内面に塗布された以外の釉薬を、回収して再利用できる。
【００１０】
好ましくは、前記保持部は、前記成形体の品番を識別した情報に基づいて、保持している前記成形体をインデックスして前記成形体の保持姿勢を変える転回機であることを特徴とする。
上記構成によれば、保持部は、前記成形体の品番に応じて、適切な保持姿勢を得ることができるので、各種の形状の成形体に対応できる。
【００１１】
本発明の衛生陶器の製造方法は、焼成前の衛生陶器の成形体の中空の排水路の内面に対して釉薬を塗布する際に、保持部が前記成形体を保持している状態で、釉薬供給部から、前記排水路内に前記排水路の空間容積とほぼ同量の前記釉薬を、前記排水路の排水口から前記排水路内に充填して前記排水路の内面に前記釉薬を塗布することを特徴とする。
上記構成によれば、釉薬は、排水路の排水口から充填することで、施釉の必要な排水路の内面に釉薬を塗布するようになっているので、釉薬の塗布ムラが発生を防いで成形体の排水路内に釉薬を確実に塗布することができる。しかも、釉薬は、施釉の必要な成形体の排水路内だけに付着して、従来とは異なり、成形体の水たまり(ボール部）には全く付着することがないので、釉薬の使用量を減らすことができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は、釉薬の塗布ムラが発生を防いで成形体の排水路内に釉薬を確実に塗布することができ、釉薬の使用量を減らすことができる施釉装置及び衛生陶器の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の施釉装置の好ましい実施形態を示すシステム構成図。
【図２】転回機と、パレットＰＬに載置された大便器の成形体Ｍの例を示す図。
【図３】Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰを転回機において保持して転回し、釉薬を塗布した後、Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰを取り外すまでの様子の例を示す図。
【図４】図３（Ｃ）において説明した釉薬がトラップＴＲ内に供給された状態を、拡大して示を示す図。
【図５】釉薬タンク内の釉薬Ｄが、Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰのトラップＴＲ内に供給される様子を示す図。
【図６】釉薬Ｄが、Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰのトラップＴＲ内に供給されて塗布された後に、トラップＴＲ内から余分な釉薬Ｄを釉薬タンク内に回収する様子を示す図。
【図７】釉薬タンク内に釉薬Ｄを戻す（リターン）様子を示す図。
【図８】図８は、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳを転回機において保持して転回し、釉薬を塗布した後、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳを取り外すまでの様子の例を示す図。
【図９】図８（Ｃ）において説明した釉薬が、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳのトラップＴＲ内に供給された状態を、拡大して示す図。
【図１０】釉薬タンク内の釉薬Ｄが、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳのトラップＴＲ内に供給される様子を示す図。
【図１１】釉薬Ｄが、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳのトラップＴＲ内に供給されて塗布された後に、トラップＴＲ内から余分な釉薬Ｄを釉薬タンク２内に回収する様子を示す図。
【図１２】釉薬タンク２内に釉薬Ｄを戻す（リターン）様子を示す図。
【図１３】本発明の別の実施形態を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に、本発明の好ましい実施形態を、図面を参照して詳しく説明する。
尚、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。
図１は、本発明の施釉装置の好ましい実施形態を示すシステム構成図である。
図１に示す施釉装置１は、焼成前の衛生陶器である大便器の生素地成形体（以下、単に成形体という）Ｍの中空の排水トラップ(排水路ともいう)ＴＲの内面（内壁部）に対して、少ない釉薬の使用量で、釉薬をムラなく確実に塗布するための装置である。
【００１５】
大便器の成形体Ｍ（ＭＳ）の構造例について説明すると、図１に例示するＳ排水タイプの大便器の成形体ＭＳは、水たまりＷＴと、排水トラップＴＲを有している。水たまりＷＴには、下水管とトイレ内を遮断し、臭気が上がってくるのを防ぐ役割と、便器への汚物付着を防ぐ役割がある。排水トラップＴＲは、汚物を洗浄水とともに排出させる便器内の通路であり、図１に示すＳ排水タイプの成形体ＭＳでは、最下流側に排水口７９が設けられている。
大便器の成形体Ｍとしては、上述したＳ排水タイプの成形体ＭＳと、Ｐ排水タイプの成形体ＭＰがある。Ｓ排水タイプの成形体ＭＳとＰ排水タイプの成形体ＭＰの構造例については、後で説明する。
【００１６】
図１に示すシステム構成図に示すように、施釉装置１は、概略的には、釉薬タンク２と、釉薬供給用定量ポンプ３と、釉薬回収用エアードポンプ４と、釉薬受皿５と、釉薬廃棄皿６と、釉薬供給部７と、釉薬排出部８と、転回機５０と、制御部１００を有する。
この転回機５０は、釉薬を大便器の成形体Ｍの排水トラップＴＲに通して、排水トラップＴＲの内面(内壁部）だけに塗布する釉通し転回機である。転回機５０は、成形体Ｍを保持して、成形体Ｍの保持姿勢を成形体の種類(品番)に応じて、変えることができる保持部の一例である。すなわち、転回機５０は、成形体Ｍの排水トラップＴＲの形状と排水口７９が設けられている位置に応じて、すなわち成形体の種類(品番)に応じて、成形体Ｍをインデックスして、成形体Ｍの保持姿勢を適宜変えることができるようになっている。
なお、図１において、制御部１００は、施釉装置１を構成する各制御対象要素を制御するが、図１の図面の簡単化のために、制御部１００から各制御対象要素に接続されている信号線の図示は、省略している。
【００１７】
まず、図１に示す釉薬タンク２とその周囲の配管系について説明する。
図１の釉薬タンク２は、釉薬Ｄを収容しており、釉薬タンク２は攪拌機２Ａを有している。この攪拌機２Ａは、制御部１００の指令により、釉薬タンク２内の釉薬Ｄを撹拌する。釉薬タンク２の底部から出ている配管２Ｂは、バルブ２Ｃを介して釉薬廃棄皿６に達している。釉薬タンク２の上部から出ている配管２Ｄは、バルブ２Ｅを介して配管２Ｇに接続されており、配管２Ｇは、バルブ２Ｆと配管２Ｂを介して、釉薬廃棄皿６に達している。
【００１８】
次に、図１に示す釉薬供給部７について説明する。
図１に示す釉薬供給部７は、釉薬タンク２から釉薬Ｄを、転回機５０に配置されている大便器の成形体Ｍの排水トラップＴＲの内面だけに対して、釉薬Ｄをムラなく確実に塗布するための釉薬Ｄの供給部である。
釉薬供給部７は、釉薬タンク２と、転回機５０の間に配置されている。この釉薬供給部７は、配管９Ａ，９Ｂ，９Ｃと、バルブ１０Ａ，１０Ｂと、Ｓ−Ｐ切替バルブ１１と、Ｓ系切替バルブ１２，１３と、Ｐ系切替バルブ１４，１５を有している。ここで、「Ｓ」とは、Ｓ排水タイプの成形体ＭＳのことを指し、「Ｐ」とは、Ｐ排水タイプの成形体ＭＰのことを指す。
【００１９】
この配管９Ａの一端部は、釉薬タンク２に接続され、配管９Ａの他端部は、Ｓ−Ｐ切替バルブ１１に接続されている。この配管９Ａには、バルブ１０Ａ，１０Ｂと、釉薬供給用定量ポンプ３が配置されている。配管９Ｂの一端部と配管９Ｃの一端部は、Ｓ−Ｐ切替バルブ１１に接続されている。配管９Ｂの他端部は、Ｓ排水用の押えパット２０に接続されており、配管９Ｂの途中にはＳ系切替バルブ１２，１３が配置されている。同様にして、配管９Ｃの他端部は、Ｐ排水用の押えパット２１に接続されており、配管９Ｃの途中にはＰ系切替バルブ１４，１５が配置されている。
Ｓ系切替バルブ１２，１３と、Ｐ系切替バルブ１４，１５と、押えパット２０，２１は、転回機５０の内部に配置されており、Ｓ系切替バルブ１２，１３と、Ｐ系切替バルブ１４，１５と、押えパット２０，２１は、転回機５０が時計方向Ｒ１と反時計方向Ｒ２に沿って回転すると、一体となって回転するようになっている。
【００２０】
次に、図１に示す釉薬回収部８について説明する。
図１に示す釉薬回収部８は、転回機５０に配置されている大便器の成形体Ｍの排水トラップＴＲの内面に対して釉薬を塗布した後に、余った釉薬Ｄを成形体Ｍの排水トラップＴＲ内から排出して、釉薬タンク２側に回収するための回収部である。
釉薬回収部８は、配管２３Ａ，２３Ｂ，２４Ａ，２４Ｂと、釉薬回収３方バルブ１６と、配管２５，２６，２７，２８，２９と、釉薬回収バルブ１７，１８と、バルブ１９Ａ，１９Ｂ，１９Ｃ，１９Ｄを有している。
【００２１】
配管２３Ａ，２３Ｂは、Ｓ系切替バルブ１２，１３を釉薬回収３方バルブ１６にそれぞれ接続している。また、配管２４Ａ，２４Ｂは、Ｐ系切替バルブ１４，１５を釉薬回収３方バルブ１６にそれぞれ接続している。配管２５の一端部は、釉薬回収３方バルブ１６に接続され、配管２５の他端部は、配管２６と配管２９と配管２７の各一端部に接続されている。
【００２２】
配管２９にはバルブ１９Ａが配置され、配管２９の他端部は、釉薬受け皿５に接続されている。配管２６と配管２７は、配管２５に対して並列に接続されている。配管２６には、釉薬回収バルブ１７と、バルブ１９Ｄと、バルブ２Ｅが配置されており、配管２６の他端部は、配管２Ｄを介して、釉薬タンク２の上部に接続されている。配管２７には、バルブ１９Ｂ、１９Ｃと、釉薬回収バルブ１８と、そして釉薬回収用エアードポンプ４が配置されている。釉薬受皿５は、転回機５０の下部に配置されており、転回機５０側から釉薬が落下した場合には、この釉薬Ｄを受けて収容するようになっている。
【００２３】
図１に示す転回機５０は、例えば図１に例示するような大便器の成形体Ｍを保持して、大便器の成形体Ｍの形式に応じて必要な角度だけ回転するようになっている。すなわち、転回機５０の駆動部５１が、制御部１００の指令により駆動されることで、転回機５０は、時計方向Ｒ１あるいは反時計方向Ｒ２に沿って、インデックス可能である。大便器の成形体Ｍは、大便器の乾燥素地体であり、保持プレートＰＬに載せた状態で、後で説明するようにして保持される。
【００２４】
大便器の成形体Ｍの形式は、大きく言って２通りあり、Ｐ排水タイプと、Ｓ排水タイプがある。
Ｐ排水タイプの大便器の成形体Ｍ（以下ＭＰという）は、大便器の排水トラップの排水口が大便器を設置するトイレの床面側に向けてではなく、トイレの壁側に向けて設けられているものである。これに対して、Ｓ排水タイプの大便器の成形体Ｍ（以下ＭＳという）は、大便器の排水トラップの排水口が、大便器を設置する床面側に設けられているものである。
このように、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳと、Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰとは、排水口の位置が異なり、排水トラップの形状が大きく異なる。
そこで、円盤状のＳ排水用の押えパット２０は、Ｘ−Ｙ平面に配置され、円盤状のＰ排水用の押えパット２１は、Ｙ−Ｚ平面に配置されていて、向きが９０度異なっている。
【００２５】
ところで、図１に示す制御部１００は、上述した各制御対象要素である各種のバルブや、撹拌機２Ａ、釉薬供給用定量ポンプ３、釉薬回収用エアードポンプ４、そして転回機５０の駆動部５１の駆動の制御の指令を行うようになっている。上述したように、図１の簡単化のために、制御部１００から各制御対象要素に接続されている信号線の図示は、省略している。
【００２６】
図２は、転回機５０と、パレットＰＬに載置された大便器の成形体Ｍの例を示している。
図２に示すように、大便器の成形体Ｍは、パレットＰＬに載置されている。このパレットＰＬは、矢印Ｔで示すように転回機５０の中に自動的に挿入され、パレットＰＬは転回機５０内において保持されるようになっている。
【００２７】
このパレットＰＬは、この大便器の成形体Ｍの種類（品番）を認識するための例えばＲＦ―ＩＤ（電波による個体識別）の信号を処理する集積回路（ＩＣ）等の識別手段４９が設けられている。制御部１００は、識別手段４９からの無線信号を受けるための受信部４８を有しており、パレットＰＬが、転回機５０内に挿入される前に、受信部４８は識別手段４９からの識別信号を受けるので、制御部１００は、このパレットＰＬに載っている大便器の成形体Ｍの種類（品番）を認識することができる。
これにより、制御部１００は、図１に示す駆動部５１に制御信号を与えることで、大便器の成形体Ｍの種類（品番）に合わせて、転回機５０を時計方向Ｒ１あるいは反時計方向Ｒ２に必要な角度だけ、インデックスできるようになっている。従って、転回機５０は、大便器の成形体Ｍの種類（品番）に合わせた保持角度で保持した状態を維持することができる。
【００２８】
大便器の成形体Ｍの種類（品番）としては、後で説明するＰ排水タイプの大便器の成形体ＭＰの各種品番や、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳの各種品番である。制御部１００は、この成形体Ｍの種類（品番）、すなわち成形体ＭＳの品番と成形体ＭＰの品番に対応して、それぞれの排水トラップＴＲの空間容量の値を、予め記憶している参照テーブルＴＢを有している。
ただし、識別手段としては、上述したＲＦ―ＩＤに限らず、機械的な認識方式であっても良い。例えば、パレットＰＬには、大便器の成形体Ｍの種類（品番）に対応したドグを設けて、このドグが、制御部１００側のタッチセンサに触れることで、制御部１００は、大便器の成形体Ｍの種類（品番）を識別できるようにしても良い。
【００２９】
（１）（Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰへの釉薬Ｄの供給と排出について）
図３は、Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰを転回機５０において保持して転回し、釉薬を塗布した後、Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰを取り外すまでの様子の例を示している。Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰは、大便器の排水トラップの排水口が大便器を設置するトイレの床面側に向けてではなく、トイレの壁側に向けて設けられているものである。
図３（Ａ）に示すように、転回機５０内には、パレットＰＬが搬入されて水平に置かれ、図３（Ｂ）に示すように、アクチュエータ９９がＰ排水タイプの大便器の成形体ＭＰの上部を押える。しかも、押えパッド２１が、排水トラップＴＲの排水口７７を押える。
【００３０】
そして、図３（Ｃ）に示すように、転回機５０は、９０度反時計方向Ｒ２にインデックスされる。図３（Ｃ）では、Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰは垂直に立てた状態になっており、この状態で、釉薬Ｄが押えパッド２１と排水口７７を通じて、排水トラップＴＲ内に供給される。これにより、排水トラップＴＲには釉薬Ｄが充填されるので、釉薬Ｄは排水トラップＴＲの内壁面に均等にムラなく確実に塗布できる。その後、排水トラップＴＲ内に充填された釉薬Ｄは、排水口７７と押えパッド２１から排出される。
その後、転回機５０は、９０度時計方向Ｒ１にインデックスされることで、図３（Ｄ）に示すように元の状態に戻る。そして、図３（Ｄ）から図３（Ｅ）に示すようにアクチュエータ９９がＰ排水タイプの大便器の成形体ＭＰの上部から離れるとともに、押えパッド２１が、排水トラップＴＲの排水口７７から離れる。
【００３１】
図４は、図３（Ｃ）において説明したように、釉薬Ｄが、Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰの排水トラップＴＲ内に供給されて充填された状態を、拡大して示している。
図４に示すように、Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰの排水トラップＴＲは、排水口７７を有しており、押えパッド２１は排水口７７に突き当てられている。この押えパッド７７は、制御部１００の指令によりアクチュエータＡ１とアクチュエータＡ２を動作させることにより、排水口７７に対して位置決めして押し付けることができるようになっている。釉薬Ｄは、この押えパッド２１を通じて排水トラップＴＲ内に供給することができる。釉薬Ｄの供給量は、排水トラップＴＲ内において、釉薬Ｄの液面ＬＬが予め定めた位置に達するまで供給されることで、釉薬Ｄは排水トラップＴＲ内に充填される。
【００３２】
次に、図５を参照して、釉薬タンク２内の釉薬Ｄが、Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰの排水トラップＴＲ内に直接供給される様子を、説明する。
図５は、釉薬タンク２内の釉薬Ｄが、Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰの排水トラップＴＲ内に直接供給される様子を示している。
図５において、釉薬タンク２内の釉薬Ｄは、制御部１００が釉薬供給用定量ポンプ３を動作させることで、バルブ１０Ａ，１０Ｂと配管９Ａを通り、Ｓ−Ｐ切替バルブ１１を経て、配管９Ｃに至る。このように配管９Ｃに達した釉薬Ｄは、Ｐ系切替バルブ１４，１５を通過して、図５と図４に示す押えパッド２１を通じて排水トラップＴＲ内に直接供給することができる。
【００３３】
排水トラップＴＲの排水口にパッド２１を当てて、排水口側から成形体ＭＰの排水路に釉薬Ｄを直接注入する。図２に示すように、制御部１００の受信部４８は、成形体ＭＰを載せたパレットＰＬを、転回機５０内に挿入する前に、識別手段４９からの識別信号を受けるので、制御部１００は、このパレットＰＬに載っている大便器の成形体Ｍの種類（品番）を認識する。
【００３４】
上述したように、制御部１００は、この成形体Ｍの種類（品番）、すなわち成形体ＭＳの品番と成形体ＭＰの品番に対応して、それぞれの排水トラップＴＲの収容容量の容量値を記憶している参照テーブルＴＢを有している。そして、制御部１００は、図５に示す釉薬供給用定量ポンプ３を動作させることで、認識した大便器の成形体ＭＰの種類（品番）に対応する釉薬の注入量をこの参照テーブルＴＢから呼び出して、釉薬タンク２内から大便器ＭＰの排水トラップＴＲ内に、予め定めた液面ＬＬの位置まで的確に直接注入することができる。
【００３５】
このようにして、排水トラップＴＲ内に排水トラップＴＲの空間容積とほぼ同量の予め定めた量の釉薬Ｄを、排水ストラップＴＲの排水口７７を通じて排水トラップＴＲ内に充填する。すなわち、釉薬Ｄは、大便器の成形体ＭＰの排水トラップＴＲ内に予め定めた液面ＬＬまで充填（ディッピング）されるので、排水トラップＴＲの内面にはムラなく均一に確実に塗布（塗着）することができる。
しかも、釉薬Ｄは、大便器の成形体ＭＰの排水トラップＴＲだけに充填され、水たまり部には全く付着されないので、釉薬Ｄの使用量を削減することができる。
【００３６】
次に、図６を参照して、釉薬Ｄが、Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰの排水トラップＴＲ内に供給されて塗布された後に、排水トラップＴＲ内から余分な釉薬Ｄを排出して、釉薬タンク２内に回収する様子を、説明する。
図６は、釉薬Ｄが、Ｐ排水タイプの大便器の成形体ＭＰの排水トラップＴＲ内に供給されて塗布された後に、排水トラップＴＲ内から余分な釉薬Ｄを釉薬タンク２内に回収する様子を示している。
【００３７】
図４に示すように、釉薬Ｄの液面ＬＬが、排水トラップＴＲ内において、予め定めた位置に達するまで釉薬Ｄが供給されると、排水トラップＴＲの内壁面には、釉薬Ｄがムラなく均一に塗布される。その後、制御部１００が、釉薬回収用エアードポンプ４を動作させると、排水トラップＴＲ内にある余分な釉薬Ｄは、図６に示すように、Ｐ系切替バルブ１５と、配管２４Ｂと、釉薬回収３方バルブ１６と、配管２５，２７を通り、バルブ１９Ｂと、釉薬回収用エアードポンプ４と、バルブ１９Ｃと、釉薬回収バルブ１と、バルブ１９Ｄと、配管２８と、バルブ２Ｅと、配管２Ｄを通過して、釉薬タンク２内に回収することができる。これにより、排水トラップＴＲ内にある余分な釉薬Ｄは、排水トラップＴＲ内には残らずに、釉薬タンク２内に回収して再利用することができる。
【００３８】
図７を参照して、例えばメンテナンス時に、釉薬タンク２内に釉薬Ｄを戻す（リターン）様子を、説明する。
図７は、メンテナンス時に、釉薬タンク２内に釉薬Ｄを戻す（リターン）様子を示している。図７に示すように、釉薬タンク２内の釉薬Ｄは、制御部１００が釉薬供給用定量ポンプ３と釉薬回収用エアードポンプ４を動作させることで、バルブ１０Ａ，１０Ｂと配管９Ａを通り、Ｓ−Ｐ切替バルブ１１を経て、配管９Ｃに至る。このように配管９Ｃに達した釉薬Ｄは、Ｐ系切替バルブ１４と配管２４Ａを通過して、釉薬回収３方バルブ１６に達する。その後、釉薬Ｄは、配管２５，２７を通り、バルブ１９Ｂと、釉薬回収用エアードポンプ４と、バルブ１９Ｃと、釉薬回収バルブ１と、バルブ１９Ｄと、配管２８と、バルブ２Ｅと、配管２Ｄを通過して、釉薬タンク２内に回収することができる。これにより、釉薬Ｄの供給と回収が終了した後にメンテナンスを行う場合に、この釉薬Ｄが通った経路を、釉薬タンク２内の釉薬Ｄを用いてきれいにすることができる。
【００３９】
（２）（Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳへの釉薬Ｄの供給と排出について）
図８は、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳを転回機５０において保持して転回し、釉薬を塗布した後、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳを取り外すまでの様子の例を示している。Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳは、大便器の排水トラップの排水口が大便器を設置するトイレの床面側に向けて設けられているものである。
図８（Ａ）に示すように、転回機５０内には、パレットＳＬが搬入されて水平に置かれ、図８（Ｂ）に示すように、アクチュエータ９９がＳ排水タイプの大便器の成形体ＭＳの上部を押える。しかも、押えパッド２０が、排水トラップＴＲの排水口を押える。
【００４０】
そして、図８（Ｃ）に示すように、転回機５０は、９０度未満の角度だけ反時計方向Ｒ２にインデックスされる。図８（Ｃ）では、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳは斜めに立てた状態になっており、この状態で、釉薬Ｄが押えパッド２０と排水口７９を通じて、排水トラップＴＲ内に直接供給される。これにより、排水トラップＴＲには釉薬Ｄが充填されるので、釉薬Ｄは排水トラップＴＲの内壁面に均等にムラなく確実に塗布される。その後、排水トラップＴＲ内に充填された釉薬Ｄは、排水口７９と押えパッド２０から排出される。
そして、転回機５０は、時計方向Ｒ１にインデックスされることで、図８（Ｄ）に示すように元の状態に戻る。その後、図８（Ｄ）から図８（Ｅ）に示すようにアクチュエータ９９がＳ排水タイプの大便器の成形体ＭＳの上部から離れるとともに、押えパッド２０が、排水トラップＴＲの排水口７９から離れる。
【００４１】
図９は、図８（Ｃ）において説明した釉薬が、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳの排水トラップＴＲ内に供給されて充填された状態を、拡大して示している。
図４に示すように、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳの排水トラップＴＲは、排水口７９を有しており、押えパッド２０は排水口７９に突き当てられている。この押えパッド７９は、制御部１００の指令によりアクチュエータＡ３とアクチュエータＡ４を動作させることにより、排水口７９に対して位置決めして押し付けることができるようになっている。釉薬Ｄは、この押えパッド２０を通じて排水トラップＴＲ内に直接供給することができる。釉薬Ｄの供給量は、排水トラップＴＲ内において、釉薬Ｄの液面ＬＬが予め定めた位置に達するまで供給されることで、釉薬Ｄは排水トラップＴＲ内に充填される。
【００４２】
次に、図１０を参照して、釉薬タンク２内の釉薬Ｄが、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳの排水トラップＴＲ内に直接供給される様子を、説明する。
図１０は、釉薬タンク２内の釉薬Ｄが、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳの排水トラップＴＲ内に直接供給される様子を示している。
図１０において、釉薬タンク２内の釉薬Ｄは、制御部１００が釉薬供給用定量ポンプ３を動作させることで、バルブ１０Ａ，１０Ｂと、Ｓ−Ｓ切替バルブ１１と、配管９Ｂに至る。このように配管９Ｂに達した釉薬Ｄは、Ｓ系切替バルブ１２，１３を通過して、図１０と図９に示す押えパッド２０を通じて排水トラップＴＲ内に直接供給することができる。
【００４３】
排水トラップＴＲの排水口にパッド２０を当てて、排水口側から成形体ＭＳの排水路に釉薬Ｄを注入する。図２に示すように、制御部１００の受信部４８は、成形体ＭＳを載せたパレットＰＬを、転回機５０内に挿入する前に、識別手段４９からの識別信号を受けるので、制御部１００は、このパレットＰＬに載っている大便器の成形体Ｍの種類（品番）を認識する。
上述したように、制御部１００は、この成形体Ｍの種類（品番）、すなわち成形体ＭＳの品番と成形体ＭＰの品番に対応して、それぞれの排水トラップＴＲの収容容量の容量値を記憶している参照テーブルＴＢを有している。そして、制御部１００は、図５に示す釉薬供給用定量ポンプ３を動作させることで、認識した大便器の成形体ＭＳの種類（品番）に対応する釉薬の注入量をこの参照テーブルＴＢから呼び出して、釉薬タンク２内から大便器ＭＳの排水トラップＴＲ内に、予め定めた液面ＬＬの位置まで的確に注入することができる。
【００４４】
このようにして、排水トラップＴＲ内に排水トラップＴＲの空間容積とほぼ同量の釉薬Ｄを、排水ストラップＴＲの排水口７９を通じて排水トラップＴＲ内に充填する。すなわち、釉薬Ｄは、大便器の成形体ＭＰの排水トラップＴＲ内に予め定めた液面ＬＬまで充填（ディッピング）されるので、排水トラップＴＲの内面にはムラなく均一に確実に塗布（塗着）することができる。
【００４５】
次に、図１１を参照して、釉薬Ｄが、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳの排水トラップＴＲ内に供給されて塗布された後に、排水トラップＴＲ内から余分な釉薬Ｄを排出して釉薬タンク２内に回収する様子を、説明する。
図１１は、釉薬Ｄが、Ｓ排水タイプの大便器の成形体ＭＳの排水トラップＴＲ内に供給されて塗布された後に、排水トラップＴＲ内から余分な釉薬Ｄを排出して釉薬タンク２内に回収する様子を示している。
【００４６】
図９に示すように、釉薬Ｄの液面ＬＬが、排水トラップＴＲ内において、予め定めた位置に達するまで釉薬Ｄが供給されると、排水トラップＴＲの内壁面には、釉薬Ｄがムラなく均一に塗布される。その後、制御部１００が、釉薬回収用エアードポンプ４を動作させると、排水トラップＴＲ内にある余分な釉薬Ｄは、図１１に示すように、Ｓ系切替バルブ１３と、配管２３Ｂと、釉薬回収３方バルブ１６と、配管２５，２７を通り、バルブ１９Ｂと、釉薬回収用エアードポンプ４と、バルブ１９Ｃと、釉薬回収バルブ１と、バルブ１９Ｄと、配管２８と、バルブ２Ｅと、配管２Ｄを通過して、釉薬タンク２内に回収することができる。これにより、排水トラップＴＲ内にある余分な釉薬Ｄは、排水トラップＴＲ内には残らずに、釉薬タンク２内に回収して再利用することができる。
【００４７】
図１２を参照して、メンテナンス時に、釉薬タンク２内に釉薬Ｄを戻す（リターン）様子を、説明する。
図１２は、メンテナンス時に、釉薬タンク２内に釉薬Ｄを戻す（リターン）様子を示している。図７に示すように、釉薬タンク２内の釉薬Ｄは、制御部１００が釉薬供給用定量ポンプ３を動作させることで、バルブ１０Ａ，１０Ｂと配管９Ａを通り、Ｓ−Ｓ切替バルブ１１を経て、配管９Ｂに至る。このように配管９Ｂに達した釉薬Ｄは、Ｓ系切替バルブ１２と配管２３Ａを通過して、釉薬回収３方バルブ１６に達する。その後、釉薬Ｄは、配管２５，２７を通り、バルブ１９Ｂと、釉薬回収用エアードポンプ４と、バルブ１９Ｃと、釉薬回収バルブ１と、バルブ１９Ｄと、配管２８と、バルブ２Ｅと、配管２Ｄを通過して、釉薬タンク２内に回収することができる。これにより、釉薬Ｄの供給と回収が終了した後にメンテナンスを行う場合に、この釉薬Ｄが通った経路を、釉薬タンク２内の釉薬Ｄを用いてきれいにすることができる。
【００４８】
図１３は、本発明の別の実施形態を示している。
図３と図８に示す本発明の実施形態では、大便器の成形体Ｍ（ＭＳ、ＭＰ）の下部は、パレットＰＬに保持されているが、大便器の成形体Ｍ（ＭＳ、ＭＰ）の上部は、アクチュエータ９９により保持されることで、転回機５０内において姿勢を維持することができる。
これに対して、図１３に示す本発明の別の実施形態では、例えば大便器の成形体Ｍ（ＭＳ、ＭＰ）の上部がパレットＰＬに保持され、大便器の成形体Ｍ（ＭＳ、ＭＰ）の下部が別の転回受板ＰＲにより保持される。これにより、大便器の成形体Ｍ（ＭＳ、ＭＰ）のパレットＰＬと転回受板ＰＲを用いて転回機５０内で姿勢を維持することができる。
【００４９】
本発明の実施形態では、図３（Ｃ）と図８（Ｃ）に例示するように、水トラップＴＲの排水口（７７，７９）にパッド（２１，２０）を当てて、排水口（７７，７９）側から成形体Ｍ（ＭＳ、ＭＰ）の排水路ＴＲに釉薬Ｄを注入する。図２に示すように、制御部１００の受信部４８は、成形体Ｍ（ＭＳ、ＭＰ）を載せたパレットＰＬを、転回機５０内に挿入する前に、識別手段４９からの識別信号を受けるので、制御部１００は、このパレットＰＬに載っている大便器の成形体Ｍの種類（品番）を認識できる。
そして、制御部１００は、図５に示す釉薬供給用定量ポンプ３を動作させることで、認識した大便器Ｍの種類（品番）に対応する釉薬Ｄの注入量を、釉薬タンク２内からパッド２１，２０を通じて、大便器Ｍの排水トラップＴＲ内に注入することができる。これにより、図１に示すような成形体Ｍの水たまりＷＴには、釉薬Ｄは付着することが無く、釉薬Ｄは、排水トラップＴＲの内面(内壁部)だけに確実に塗布できるので、釉薬Ｄの使用量を削減できる。
【００５０】
本発明の実施形態の施釉装置１は、焼成前の衛生陶器の成形体の中空の排水路の内面に対して釉薬を塗布する施釉装置であり、成形体Ｍ（ＭＳ、ＭＰ）を保持する保持部としての転回機５０と、排水路ＴＲ内に排水路ＴＲの空間容積とほぼ同量の釉薬Ｄを、排水路ＴＲの排水口から排水路ＴＲ内に充填して排水路ＴＲの内面に釉薬を塗布する釉薬供給部７と、を備える。これにより、釉薬は、排水路の排水口から充填することで、施釉の必要な排水路の内面に釉薬を直接塗布するようになっているので、釉薬の塗布ムラが発生を防いで成形体の排水路内に釉薬を確実に塗布することができる。しかも、釉薬は、施釉の必要な成形体の排水路内だけに付着して、従来とは異なり、成形体の水たまり(ボール部）には全く付着することがないので、釉薬の使用量を減らすことができる。
【００５１】
排水路ＴＲへの釉薬Ｄの充填は、排水路ＴＲの最下流側の排水口（７７，７９）から行われ、排水路ＴＲ内に充填された釉薬Ｄは、排水口（７７，７９）から排出される。これにより、釉薬は、排水路の最下流側の排水口を用いて充填され、その後余った釉薬は、排水口から排出されるので、釉薬は、施釉の必要な成形体の排水路内だけに付着して、従来のように成形体の水たまり(ボール部）には付着しないので、釉薬の使用量を減らすことができる。
【００５２】
成形体Ｍ（ＭＳ、ＭＰ）の品番を識別する識別部４９と、識別部４９により成形体の品番を識別した情報に基づいて、識別された成形体の排水路ＴＲの空間容積とほぼ同量の釉薬Ｄを、釉薬供給部７から排水路ＴＲ内に充填させる制御部１００を備える。これにより、排水路の空間容積とほぼ同量の釉薬を、釉薬供給部から排水路内に充填させることができるので、排水路の内面の全領域にムラなく塗布できる。
【００５３】
排水路ＴＲ内に充填された釉薬Ｄを、排水路ＴＲ内から排水口７７，７９を通じて排出して回収する釉薬回収部８を有するので、釉薬回収部は、排水路の内面に塗布された以外の釉薬を、回収して再利用できる。
保持部である転回機５０は、成形体の品番を識別した情報に基づいて、保持している成形体をインデックスして成形体の保持姿勢を変える転回機である。これにより、保持部は、成形体の品番に応じて、適切な保持姿勢を得ることができるので、各種の形状の成形体に対応できる。
【００５４】
本発明の衛生陶器の製造方法は、焼成前の衛生陶器の成形体の中空の排水路の内面に対して釉薬を塗布する際に、保持部である転回機５０が成形体を保持している状態で、釉薬供給部７から、排水路ＴＲ内に排水路ＴＲの空間容積とほぼ同量の釉薬Ｄを、排水路ＴＲの排水口７７，７９から排水路ＴＲ内に充填して排水路ＴＲの内面に釉薬Ｄを塗布する。
これにより、釉薬は、排水路の排水口から充填することで、施釉の必要な排水路の内面に釉薬を塗布するようになっているので、釉薬の塗布ムラが発生を防いで成形体の排水路内に釉薬を確実に塗布することができる。しかも、釉薬は、施釉の必要な成形体の排水路内だけに付着して、従来とは異なり、成形体の水たまり(ボール部）には全く付着することがないので、釉薬の使用量を減らすことができる。
保持部は、図示した転回機５０に限らず、各種の構造の物が採用できる。
【００５５】
ところで、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明は様々な修正と変更が可能であり、特許請求の範囲に記載された範囲で種々の変形が可能である。
上述した各実施形態については、一部の構成についてこれを省略し、あるいは互いに組み合わせたり、各実施形態の説明では触れていない他の構成と組み合わせて実施することも可能であり、このような技術も本発明の範囲に包含される。
【符号の説明】
【００５６】
１・・・施釉装置
２・・・釉薬タンク
３・・・釉薬供給用定量ポンプ
７・・・釉薬供給部
８・・・釉薬回収部
４９・・識別部
５０・・転回機(保持部の一例)
７７，７９・・排水口
Ｄ・・・釉薬
Ｍ・・・大便器の成形体
ＭＳ・・Ｓ排水タイプの成形体
ＭＰ・・Ｐ排水タイプの成形体
ＴＲ・・排水路(排水トラップ)
ＰＬ・・パレット
【図１】
2015196310.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
2015196310.tif 000006
【図５】
2015196310.tif 000007
【図６】
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【図７】
2015196310.tif 000009
【図８】
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【図９】
2015196310.tif 000011
【図１０】
2015196310.tif 000012
【図１１】
2015196310.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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