(57)【要約】【課題】ガラスを含むタッチパネルディスプレイの上部電極の割れによるガラス破片の飛散を抑制できるとともに、ウォーターマークの発生を防止し、かつ高精細表示装置であってもギラツキを抑制できる透明積層フィルムを提供する。【解決手段】透明樹脂層の一方の面に、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及び平均一次粒径１〜１００ｎｍの金属酸化物粒子を含む硬化性組成物の硬化物で形成されたアンチウォーターマーク層を積層し、アンチウォーターマーク層の表面に、算術平均粗さＲａが０．００５以上０．０３μｍ未満、凹凸の平均間隔Ｓｍが５０〜３００μｍ、算術平均傾斜Δａが０．１°未満、十点平均粗さＲｚが０．２未満の凹凸構造を形成して、透明積層フィルムを調製する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂層と、この透明樹脂層の一方の面に積層され、かつ硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及び平均一次粒径１〜１００ｎｍの金属酸化物粒子を含む硬化性組成物の硬化物で形成されたアンチウォーターマーク層とを含む透明積層フィルムであって、前記アンチウォーターマーク層の表面に、算術平均粗さＲａが０．００５以上０．０３μｍ未満、凹凸の平均間隔Ｓｍが５０〜３００μｍ、算術平均傾斜Δａが０．１°未満、十点平均粗さＲｚが０．２未満の凹凸構造を有する透明積層フィルム。
【請求項２】
硬化性樹脂が、３官能以上の重合性基を有する請求項１記載の透明積層フィルム。
【請求項３】
硬化性樹脂が、４官能以下の重合性基を有する硬化性樹脂と、５官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂とを含む請求項１又は２記載の透明積層フィルム。
【請求項４】
熱可塑性樹脂がセルロース誘導体であり、金属酸化物微粒子が、アンチモン含有酸化錫、酸化アンチモン、酸化錫及び酸化亜鉛からなる群から選択された少なくとも一種の微粒子である請求項１〜３のいずれかに記載の透明積層フィルム。
【請求項５】
金属酸化物粒子の割合が、硬化性樹脂１００重量部に対して０．１〜１．５重量部である請求項１〜４のいずれかに記載の透明積層フィルム。
【請求項６】
硬化性組成物がさらにレベリング剤を含む請求項１〜５のいずれかに記載の透明積層フィルム。
【請求項７】
ヘイズが０．２〜１％である請求項１〜６のいずれかに記載の透明積層フィルム。
【請求項８】
アンチウォーターマーク層の上に、さらに低屈折率層が積層されている請求項１〜７のいずれかに記載の透明積層フィルム。
【請求項９】
他方の面に、さらに接着層が積層されている請求項１〜８のいずれかに記載の透明積層フィルム。
【請求項１０】
ガラスを含むタッチパネルディスプレイの上部電極基板の内側に配設され、前記ガラスの割れによる破片の飛散を抑制するための飛散防止フィルムである請求項１〜９のいずれかに記載の透明積層フィルム。
【請求項１１】
透明導電層とガラス基板とが積層された透明電極基板と、請求項９又は１０記載の透明積層フィルムとを含み、前記透明積層フィルムの接着層と前記透明電極基板の透明導電層とを対向させて両者が積層されているタッチパネル用上部透明電極。
【請求項１２】
静電容量方式のタッチパネル用上部透明電極である請求項１１記載のタッチパネル用上部透明電極。
【請求項１３】
透明樹脂層の一方の面に、硬化性組成物を塗布する塗布工程、塗布した硬化性組成物を乾燥後、活性エネルギー線を照射して硬化する硬化工程を含む請求項１〜１０のいずれかに記載の透明積層フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラスを含むタッチパネルディスプレイの上部電極（視認側の透明電極）の内側に配設され、割れによるガラス破片の飛散を防止するための透明積層フィルム及びその製造方法並びにタッチパネル用電極に関する。
【背景技術】
【０００２】
マンマシンインターフェースとしての電子ディスプレイの進歩に伴い、対話型の入力システムが普及し、なかでもタッチパネル（座標入力装置）をディスプレイと一体化した装置がＡＴＭ（現金自動受払機）、商品管理、アウトワーク（外交、セールス）、案内表示、娯楽機器などで広く使用されている。液晶ディスプレイなどの軽量・薄型ディスプレイでは、キーボードレスにでき、その特長が生きることから、モバイル機器にもタッチパネルが使用されるケースが増えている。タッチパネルは、指やペンなどの入力手段によって所定位置を押圧することにより、コンピュータなどに所定の情報等を入力する装置であり、位置検出の方法により、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などに分類できる。
【０００３】
これらの方式のうち、静電容量方式は、静電容量の変化を利用し、位置の検出を行う方式であるが、近年、機能性に優れる点から、ＩＴＯグリッド方式を採用する投影型静電容量方式タッチパネルが、スマートフォン、携帯電話、電子ペーパー、タブレット型パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ペンタブレット、遊戯機器などのモバイル機器で採用されて脚光を浴びている。特に、スマートフォンやタブレット型ＰＣなどでは、高精細な表示装置も普及し始めており、これらのデバイスでは、高度な透明性や防眩性などの光学特性も要求される。また、表示パネルの画素数がフルハイビジョンテレビの４倍ある高解像度のテレビ（４Ｋテレビ）のディスプレイにタッチパネルを搭載したテレビや、建築分野や医療分野で利用される高解像度のペン入力デバイスも開発されている。このようなデバイスのタッチパネルディスプレイの表示面（上部透明電極）としては透明材料が使用されるが、透明材料としては、透明性や耐熱性に優れる点から、ガラス材料が汎用されている。しかし、ガラス材料は、割れ易く、落下などにより砕けて破片が飛散し易いため、割れても破片が飛散しないための対策を採る必要がある。そこで、ガラス材料で形成された上部電極（カバーガラス）の割れによる破片の飛散を防止する方法として、割れ難いプラスチックで形成されたフィルム（ガラス破片の飛散防止フィルム）をカバーガラスの内側（裏側又は内層）に貼付する方法が知られている。
【０００４】
飛散防止フィルムは、通常、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムなどの透明樹脂層と、この透明樹脂層の一方の面に積層され、かつカバーガラスと一体化するための粘着層［ＯＣＡ（オプティカル・クリア・アドヒーシブ）フィルムなど］と、前記透明樹脂層の他方の面に積層され、かつ生産工程や流通工程における傷の発生を防止するためのクリアハードコート（ＣＨＣ）層とで形成されている。例えば、ＩＴＯグリッド方式を採用する静電容量方式タッチパネルでは、最表面に配設されたカバーガラスの内側（裏側又は内層面）にＩＴＯ（酸化インジウム−酸化錫系複合酸化物）膜が積層されているが、このＩＴＯ膜に対して、前記飛散防止フィルムの粘着層が貼付され、ＣＨＣ層側が液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）や有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ（ＯＬＥＤ）などの表示素子（表示ユニット）に配設される。ＣＨＣ層と表示素子とは、透明粘着層などを介して一体化されることもあるが、生産性などの点から、ＣＨＣ層及び表示素子の端部（周縁部又は外枠部）間に接着層（スペーサ）を介在させて一体化し、ハードコート層と液晶層との間には空隙（空間層）を形成する方法が普及している。しかし、このような空間層（空間部）を設けたＩＴＯグリッド方式の静電容量方式タッチパネルでは、指やペンなどで表示面に接触すると、ＣＨＣ層と表示素子の表面（ＬＣＤにおける偏光層など）とが密着して離れずに、黒くなる現象（黒点）が発生する。この現象はウォーターマーク（ＷＭ）と称されるが、この現象に対して、従来のタッチパネルでは、ハードコート層にミクロンオーダーの粒子を配合し、表面にミクロンオーダーの凹凸構造を形成し、アンチウォーターマーク（ＡＷＭ）層とすることにより、ＡＷＭ層と表示素子表面との密着を抑制し、ＷＭの発生を防止していた。しかし、近年のタッチパネルディスプレイの高精細化に伴い、粒子を含むＡＷＭ層を有する飛散防止フィルムでは、ギラツキが発生し、視認性が低下していた。特に、凸部の高さを大きくすれば、ＡＷＭ特性は向上する反面、ギラツキは発生し易くなり、ＡＷＭ性と光学特性とは両立困難なトレードオフの関係にある。
【０００５】
なお、ＬＣＤなどの表示素子に配設する機能層として、表面に凹凸構造を形成した機能層が提案されており、特許第５１７０６３５号公報（特許文献１）には、光透過性基材と、この光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、前記防眩層に、凹凸の平均間隔Ｓｍが１００〜６００μｍ、平均傾斜角θａが０．１〜１．２°、十点平均粗さＲｚが０．２μｍを超えて１μｍ以下の凹凸形状を形成する製造方法が開示されている。この文献には、陰極管表示装置（ＣＲＴ）やＬＣＤなど高精細ディスプレイにおいて、ギラツキ防止とコントラスト向上とを両立させることを目的としており、凹凸形状が最表面に位置するように光学積層体が配設される。
【０００６】
しかし、この文献には、タッチパネルは記載されておらず、ガラス基板の割れによる飛散についても記載されていない。また、この光学積層体を飛散防止フィルムとして利用しても、高精細表示装置ではギラツキが発生する。
【０００７】
ＷＯ２０１１−１０８３９４号パンフレット（特許文献２）には、透明フィルムと、この透明フィルムの上に形成されたハードコート層とを含む光学フィルムであって、前記ハードコート層が、硬化した硬化性樹脂前駆体と、熱可塑性樹脂と、平均一次粒径が１〜６０ｎｍである金属酸化物微粒子とを含む光学フィルムが開示されている。この文献には、前記ハードコート層の表面に、算術平均粗さＲａが０．０３〜０．１５μｍ、凹凸の平均間隔Ｓｍが５０〜３００μｍの凹凸構造を有することが記載されている。この文献では、抵抗膜方式のタッチパネルに利用することが記載されており、アンチニュートンリング性を向上させることを目的としている。そのため、この文献の実施例では、算術平均粗さＲａが０．０３μｍ未満のハードコート層は、アンチニュートンリング性を発現しないため、比較例として記載されている。
【０００８】
しかし、この文献にも、ハードコート層とガラス材料の割れとの関係は記載されていない。さらに、この光学フィルムを飛散防止フィルムとして利用しても、高精細表示装置ではギラツキが発生する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特許第５１７０６３５号公報（請求項１、段落［０００６］［００１１］）
【特許文献２】ＷＯ２０１１−１０８３９４号パンフレット（請求項１及び７、段落［０００５］［００１０］、実施例）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
従って、本発明の目的は、ガラスを含むタッチパネルディスプレイの上部電極の割れによるガラス破片の飛散を抑制できるとともに、ウォーターマークの発生を防止し、かつ高精細表示装置であってもギラツキを抑制できる透明積層フィルム及びその製造方法並びにタッチパネル用電極を提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、低ヘイズであり、透明性に優れるとともに、耐擦傷性も有する透明積層フィルム及びその製造方法並びにタッチパネル用電極を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討の結果、透明樹脂層の一方の面に、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及び平均一次粒径１〜１００ｎｍの金属酸化物粒子を含む硬化性組成物の硬化物で形成されたアンチウォーターマーク層を積層し、アンチウォーターマーク層の表面に、算術平均粗さＲａが０．００５以上０．０３μｍ未満、凹凸の平均間隔Ｓｍが５０〜３００μｍ、算術平均傾斜Δａが０．１°未満、十点平均粗さＲｚが０．２未満の凹凸構造を形成することにより、ガラスを含むタッチパネルディスプレイの上部電極の割れによるガラス破片の飛散を抑制できるとともに、ウォーターマークの発生を防止し、かつ高精細表示装置であってもギラツキを抑制できることを見出し、本発明を完成した。
【００１３】
すなわち、本発明の透明積層フィルムは、透明樹脂層と、この透明樹脂層の一方の面に積層され、かつ硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及び平均一次粒径１〜１００ｎｍの金属酸化物粒子を含む硬化性組成物の硬化物で形成されたアンチウォーターマーク層とを含む透明積層フィルムであって、前記アンチウォーターマーク層の表面に、算術平均粗さＲａが０．００５以上０．０３μｍ未満、凹凸の平均間隔Ｓｍが５０〜３００μｍ、算術平均傾斜Δａが０．１°未満、十点平均粗さＲｚが０．２未満の凹凸構造を有する。前記硬化性樹脂は、３官能以上の重合性基を有していてもよく、特に、３官能以下の重合性基を有する硬化性樹脂と、４官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂とを含んでいいてもよい。前記熱可塑性樹脂がセルロース誘導体であってもよい。前記金属酸化物微粒子が、アンチモン含有酸化錫、酸化アンチモン、酸化錫及び酸化亜鉛からなる群から選択された少なくとも一種の微粒子であってもよい。前記金属酸化物粒子の割合は、硬化性樹脂１００重量部に対して０．０５〜２．５重量部程度であってもよい。前記硬化性組成物は、さらにレベリング剤を含んでいてもよい。本発明の透明積層フィルムのヘイズは０．２〜１％程度である。本発明の透明積層フィルムは、アンチウォーターマーク層の上に、さらに低屈折率層が積層されていてもよい。本発明の透明積層フィルムは、他方の面に、さらに接着層が積層されていてもよい。本発明の透明積層フィルムは、ガラスを含むタッチパネルディスプレイの上部電極基板の内側に配設され、前記ガラスの割れによる破片の飛散を抑制するための飛散防止フィルムであってもよい。
【００１４】
本発明には、透明導電層とガラス基板とが積層された透明電極基板と、前記透明積層フィルムとを含み、前記透明積層フィルムの接着層と前記透明電極基板の透明導電層とを対向させて両者が積層されているタッチパネル用上部透明電極も含まれる。この電極は、静電容量方式のタッチパネル用上部透明電極であってもよい。
【００１５】
本発明には、透明樹脂層の一方の面に、硬化性組成物を塗布する塗布工程、塗布した硬化性組成物を乾燥後、活性エネルギー線を照射して硬化する硬化工程を含む前記透明積層フィルムの製造方法も含まれる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明では、透明樹脂層の一方の面に、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及び平均一次粒径１〜１００ｎｍの金属酸化物粒子を含む硬化性組成物の硬化物で形成されたアンチウォーターマーク層が積層され、アンチウォーターマーク層の表面に、傾斜角がなだらかで高さが低い特定の凹凸構造が形成されているため、ガラスを含むタッチパネルディスプレイの上部電極の割れによるガラス破片の飛散を抑制できるとともに、ウォーターマークの発生を防止でき、かつ前記凹凸構造のピッチが高精細表示装置の画素サイズよりも大きいため、高精細表示装置であってもギラツキを抑制できる。また、この透明積層フィルムは、低ヘイズであり、透明性にも優れており、タッチパネルディスプレイに用いると鮮明な画質を視認できる。さらに、特定の硬化性組成物で形成することにより、耐擦傷性も向上できる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
［アンチウォーターマーク層］
本発明の透明積層フィルムは、透明樹脂層の一方の面に積層されたアンチウォーターマーク（ＡＷＭ）層を含む。このＡＷＭ層は、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及び平均一次粒径１〜１００ｎｍの金属酸化物粒子を含む硬化性組成物の硬化物で形成されている。
【００１８】
（硬化性樹脂）
硬化性樹脂（硬化性モノマー又は硬化性樹脂前駆体）としては、熱や活性エネルギー線（紫外線や電子線など）などにより反応する官能基を有する化合物であり、熱や活性エネルギー線などにより硬化又は架橋して樹脂（特に硬化又は架橋樹脂）を形成可能な種々の硬化性化合物が使用できる。前記硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性化合物又は樹脂［エポキシ基、重合性基、イソシアネート基、アルコキシシリル基、シラノール基などを有する低分子量化合物（例えば、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂など）］、活性光線（紫外線など）により硬化可能な光硬化性化合物（光硬化性モノマー、オリゴマーなどの紫外線硬化性化合物など）などが例示でき、光硬化性化合物は、ＥＢ（電子線）硬化性化合物などであってもよい。なお、光硬化性モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい光硬化性樹脂などの光硬化性化合物を、単に「光硬化性樹脂」という場合がある。
【００１９】
光硬化性化合物には、例えば、単量体、オリゴマー（又は樹脂、特に低分子量樹脂）が含まれる。単量体は、例えば、１つの重合性基を有する単官能単量体と、少なくとも２つの重合性基を有する多官能単量体とに分類できる。
【００２０】
単官能単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステルなどの（メタ）アクリル系単量体、ビニルピロリドンなどのビニル系単量体、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレートなどの橋架環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２１】
多官能単量体には、２〜８程度の重合性基を有する多官能単量体が含まれ、２官能単量体としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートなどのアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリオキシテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレートなどの（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、アダマンタンジ（メタ）アクリレートなどの橋架環式炭化水素基を有するジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２２】
３〜８官能単量体としては、例えば、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２３】
オリゴマー又は樹脂としては、ビスフェノールＡ−アルキレンオキサイド付加体の（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート（ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ノボラック型エポキシ（メタ）アクリレートなど）、ポリエステル（メタ）アクリレート（例えば、脂肪族ポリエステル型（メタ）アクリレート、芳香族ポリエステル型（メタ）アクリレートなど）、（ポリ）ウレタン（メタ）アクリレート（ポリエステル型ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル型ウレタン（メタ）アクリレートなど）、シリコーン（メタ）アクリレートなどが例示できる。これらの（メタ）アクリレートオリゴマー又は樹脂には、前記ポリマー成分における（メタ）アクリル系樹脂の項で例示された共重合性単量体が含まれていてもよい。これらの光硬化性化合物は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００２４】
さらに、硬化性樹脂は、ＡＷＭ層の強度を向上する点などから、フッ素原子や無機粒子を含有していてもよい。フッ素含有硬化性化合物としては、前記単量体及びオリゴマーのフッ化物、例えば、フッ化アルキル（メタ）アクリレート［例えば、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレートやトリフルオロエチル（メタ）アクリレートなど］、フッ化（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート［例えば、フルオロエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、フルオロプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなど］、フッ素含有エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂などが挙げられる。無機粒子を含有する硬化性化合物としては、例えば、表面に重合性基を有する無機粒子（例えば、重合性基を有するシランカップリング剤で表面を修飾したシリカ粒子など）などが例示できる。表面に重合性基を有するナノサイズのシリカ粒子としては、例えば、ＪＳＲ（株）製から、多官能ハイブリッド系ＵＶ硬化剤（Ｚ７５０１）が市販されている。
【００２５】
好ましい硬化性樹脂は、短時間で硬化できる光硬化性化合物、例えば、紫外線硬化性化合物（モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい樹脂など）、ＥＢ硬化性化合物である。特に、実用的に有利な硬化性樹脂は、紫外線硬化性樹脂である。
【００２６】
また、本発明では、ＡＷＭ層の耐擦傷性を向上させるため、硬化性樹脂は、２官能以上（例えば、２〜１０官能程度）、好ましくは３官能以上（例えば、３〜８官能程度）の重合性基を有する硬化性樹脂、特に、多官能（メタ）アクリレート、例えば、３官能以上（特に４〜８官能）の（メタ）アクリレート（例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなど）を含むのが好ましい。
【００２７】
さらに、本発明では、ＡＷＭ層の表面に特定の表面凹凸構造を形成するため、４官能以下（好ましくは２〜４官能、さらに好ましくは３〜４官能程度）の重合性基を有する硬化性樹脂と、５官能以上（例えば、５〜１０官能、好ましくは５〜８官能、さらに好ましくは５〜７官能程度）の重合性基を有する硬化性樹脂とを組み合わせるのが好ましい。特に、２〜４官能（メタ）アクリレート［特に、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３〜４官能（メタ）アクリレート］と、５〜８官能（メタ）アクリレート［特に、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの５〜７官能（メタ）アクリレート］とを組み合わせてもよい。
【００２８】
４官能以下の重合性基を有する硬化性樹脂（例えば、２〜４官能（メタ）アクリレート）と、４官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂（例えば、）との重量割合は、前者／後者＝９９／１〜１／９９、好ましくは９０／１０〜１０／９０、さらに好ましくは７０／３０〜３０／７０（特に６０／４０〜４０／６０）程度である。本発明では、官能基数の硬化性樹脂をこのような割合で組み合わせることにより、機械的特性を損なうことなく、ＡＷＭ層の表面に特定の凹凸構造を形成できる。
【００２９】
硬化性樹脂の分子量としては、後述する熱可塑性樹脂との相溶性を考慮して５０００以下（例えば、１００〜５０００）、好ましくは２０００以下（例えば、２００〜２０００）、さらに好ましくは１０００以下（例えば、３００〜１０００）程度である。分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）において、ポリスチレン換算で測定した重量平均分子量であり、低分子は分子式から算出できる。
【００３０】
硬化性組成物は、硬化性樹脂の種類に応じて、硬化剤を含んでいてもよい。例えば、熱硬化性樹脂では、アミン類、多価カルボン酸類などの硬化剤を含んでいてもよく、光硬化性樹脂では光重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤としては、慣用の成分、例えば、アセトフェノン類又はプロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、アシルホスフィンオキシド類などが例示できる。光硬化剤などの硬化剤の含有量は、硬化性樹脂１００重量部に対して０．１〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部、さらに好ましくは１〜８重量部（特に１〜５重量部）程度であり、３〜８重量部程度であってもよい。
【００３１】
さらに、硬化性樹脂は硬化促進剤を含んでいてもよい。例えば、光硬化性樹脂は、光硬化促進剤、例えば、第三級アミン類（ジアルキルアミノ安息香酸エステルなど）、ホスフィン系光重合促進剤などを含んでいてもよい。
【００３２】
（熱可塑性樹脂）
熱可塑性樹脂は、ＡＷＭ層に対して、柔軟性などの機械的特性を向上させるために配合され、硬化性樹脂の硬化反応に関与する反応性基（特にエチレン性不飽和結合などの重合性基）を有さない樹脂が好ましい。
【００３３】
このような熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂［ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル系単量体との共重合体、ＡＳ樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体など］、（メタ）アクリル系樹脂［ポリメタクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸エステル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂など）、（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸イソボルニルなど］、有機酸ビニルエステル系樹脂［エチレン−酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアセタール樹脂など］、ビニルエーテル系樹脂（ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルプロピルエーテル、ポリビニルｔ−ブチルエーテルなど）、ハロゲン含有樹脂［ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニリデン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体など］、オレフィン系樹脂［ポリエチレン、ポリプロピレンなどのオレフィンの単独重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、脂環式オレフィン系樹脂など］、ポリカーボネート系樹脂（ビスフェノールＡ型ポリカーボネートなど）、ポリエステル系樹脂（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリＣ２−４アルキレンアリレート、Ｃ２−４アルキレンアリレート系コポリエステルなどの非晶性ポリエステルなど）、ポリアミド系樹脂（ポリアミド４６、ポリアミド６、ポリアミド６６、ポリアミド６１０、ポリアミド６１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２などの脂肪族ポリアミドなど）、熱可塑性ポリウレタン樹脂（ポリエステル型ウレタン系樹脂など）、ポリスルホン系樹脂（ポリエーテルスルホン、ポリスルホンなど）、ポリフェニレンエーテル系樹脂（２，６−キシレノールの重合体など）、セルロース誘導体（セルロースエステルなど）、シリコーン樹脂（ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサンなど）、ゴム又はエラストマー（ポリブタジエン、ポリイソプレンなどのジエン系ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴムなど）などが例示できる。これらの熱可塑性樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００３４】
これらの熱可塑性樹脂のうち、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体などが汎用されるが、透明性及び耐熱性に優れるとともに、柔軟性などの機械的特性も向上できる点から、セルロース誘導体が好ましい。
【００３５】
セルロース誘導体には、セルロースエステル類、セルロースエーテル類、セルロースカーバメート類が含まれる。
【００３６】
セルロースエステル類としては、例えば、脂肪族有機酸エステル（セルロースジアセテート、セルローストリアセテートなどのセルロースアセテート；セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのＣ２−６アシレートなど）、芳香族有機酸エステル（セルロースフタレート、セルロースベンゾエートなどのＣ７−１２芳香族カルボン酸エステル）、無機酸エステル類（例えば、リン酸セルロース、硫酸セルロースなど）などが例示できる。セルロースエステル類は、酢酸・硝酸セルロースエステルなどの混合酸エステルであってもよい。
【００３７】
セルロースエーテル類としては、例えば、シアノエチルセルロース；ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどのヒドロキシＣ２−４アルキルセルロース；メチルセルロース、エチルセルロースなどのＣ１−６アルキルセルロース；カルボキシメチルセルロース又はその塩、ベンジルセルロース、アセチルアルキルセルロースなどが例示できる。セルロースカーバメート類としては、例えば、セルロースフェニルカーバメートなどが例示できる。
【００３８】
これらのセルロース誘導体は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのセルロース誘導体のうち、セルロースエステル類、特に、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースＣ２−６アシレートが好ましい。なかでも、溶剤への溶解性が高く、塗工液の調製がし易い上に、少量の添加によって塗工液の粘度調節が容易にできるとともに、塗工液での微粒子の過度の凝集を抑制し、保存安定性を高めるため、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースＣ２−４アシレート（特に、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースアセテートＣ３−４アシレート）が好ましい。
【００３９】
熱可塑性樹脂の割合は、硬化性樹脂１００重量部に対して、例えば、０．１〜３０重量部、好ましくは０．１〜１０重量部（例えば、０．３〜５重量部）、さらに好ましくは０．５〜３重量部（特に０．８〜２重量部）程度である。熱可塑性樹脂の割合は、金属酸化物微粒子１００重量部に対して、例えば、１００〜１０００重量部、好ましくは１５０〜５００重量部、さらに好ましくは２００〜４００重量部程度である。本発明では、熱可塑性樹脂の割合を調整することにより、耐擦傷性と、衝撃吸収性やクッション性などの機械的特性とのバランスを調整でき、この範囲にあると、両者のバランスに優れる。
【００４０】
（金属酸化物微粒子）
本発明では、ＡＷＭ層に金属酸化物微粒子を配合することにより、金属酸化物微粒子を核として樹脂成分と共に対流を発生して隆起するためか、ＡＷＭ層の表面において、ウォーターマークの発生を抑制でき、かつギラツキの発生を抑制できる適度な凹凸構造を形成できる。この金属酸化物微粒子は、透明性及び耐擦傷性に優れる上に、その上に低屈折率層を形成する場合、低屈折率層との密着性も向上できる。
【００４１】
金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物としては、例えば、周期表第４Ａ族金属酸化物（例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウムなど）、第５Ａ族金属酸化物（酸化バナジウムなど）、第６Ａ族金属酸化物（酸化モリブデン、酸化タングステンなど）、第７Ａ族金属酸化物（酸化マンガンなど）、第８族金属酸化物（酸化ニッケル、酸化鉄など）、第１Ｂ族金属酸化物（酸化銅など）、第２Ｂ族金属酸化物（酸化亜鉛など）、第３Ｂ族金属酸化物（酸化アルミニウム、酸化インジウムなど）、第４Ｂ族金属酸化物（酸化錫など）、第５Ｂ族金属酸化物（酸化アンチモンなど）などが挙げられる。
【００４２】
これらの金属酸化物微粒子は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの金属酸化物微粒子のうち、アンチモン、錫、亜鉛を含む金属酸化物、例えば、三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモン、アンチモン含有酸化錫（アンチモンドープ酸化錫）、酸化錫、酸化亜鉛などが好ましく、アンチモン含有酸化錫、酸化アンチモン、酸化錫及び酸化亜鉛からなる群から選択された少なくとも一種で構成された微粒子（特にアンチモン含有酸化錫粒子（ＡＴＯ粒子））が特に好ましい。
【００４３】
金属酸化物微粒子は、溶媒中に分散された分散液の形態であってもよい。溶媒としては、例えば、水、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなどの低級アルコールなど）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、ギ酸メチル、ギ酸エチルなど）、エーテル類（ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（ベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタンなど）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの溶媒のうち、エタノールやイソプロパノールなどの低級アルコール（例えば、重量比で、エタノール／イソプロパノール＝９０／１０〜５０／５０（特に８０／２０〜６０／４０）程度の混合溶媒）が汎用される。分散液中の金属酸化物微粒子の濃度は、例えば、０．１〜５０重量％、好ましくは１〜４０重量％、さらに好ましくは５〜３０重量％程度である。金属酸化物微粒子の表面は、これらの溶媒に分散させるために、慣用の表面処理がされていてもよい。
【００４４】
金属酸化物微粒子の形状は、特に限定されず、球状、楕円体状、多角体形（多角錘状、正方体状、直方体状など）、板状、棒状、不定形などが挙げられるが、表面に均一な凹凸構造を形成する点から、略球状などの等方形状が好ましい。
【００４５】
金属酸化物微粒子の平均一次粒径は、１〜１００ｎｍ（例えば、１〜６０ｎｍ）、好ましくは１．５〜５０ｎｍ（例えば、２〜３０ｎｍ）、さらに好ましくは３〜１５ｎｍ（特に５〜１０ｎｍ）程度である。一次粒径が小さすぎると、ＡＷＭ層の表面に凹凸構造を形成するのが困難となり易く、大きすぎると、傾斜角がなだらかで高さの低い凹凸構造を形成するのが困難となる上に、光の波長よりも大きくなり、ギラツキの発生原因となる虞がある。本発明では、粒径の大きな粒子を用いることなく、ナノメータサイズの粒子を用いて特定の条件で製造することにより、なだらかな凹凸構造を形成できるため、薄肉のハードコート層に対しても前記凹凸構造を形成できる。さらに、粒径の大きな粒子を用いると、なだらかな凹凸構造を形成するのが困難であるが、ナノ粒子を用いることにより、容易になだらかな凹凸構造を形成できる。
【００４６】
金属酸化物微粒子の割合は、硬化性樹脂１００重量部に対して、例えば、０．０５〜２．５重量部、好ましくは０．１〜２重量部、さらに好ましくは０．２〜１．５重量部（特に０．３〜１．２重量部）程度である。微粒子の割合が少なすぎると、ＡＷＭ層の表面に凹凸構造を形成するのが困難となり易く、多すぎると、傾斜角がなだらかで高さの低い凹凸構造を形成するのが困難となる。本発明では、微粒子の割合が少なくても、ＡＷＭ性を実現できる凹凸構造を形成できる。
【００４７】
（レベリング剤）
レベリング剤としては、表面張力低下能を有していればよく、慣用のレベリング剤（アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加体など）を使用できるが、表面張力低下能に優れる点から、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤が好ましい。本発明では、前記樹脂成分とレベリング剤とを組み合わせることにより、表面での凹凸構造の形状を制御でき、急峻な傾斜角を有する凹凸構造が成長するのを抑制できるとともに、凹凸構造のうち、凸部の底部を平坦な形状に調整でき、ギラツキの発生を抑制できる。さらに、特定のレベリング剤を用いることにより、硬度や耐擦傷性を維持できるだけでなく、配合割合を制御することにより向上させることもできる。
【００４８】
シリコーン系レベリング剤としては、ポリオルガノシロキサン骨格を有するレベリング剤であればよい。ポリオルガノシロキサン骨格としては、単官能性のＭ単位（一般的にＲ３ＳｉＯ１／２で表される単位）、二官能性のＤ単位（一般的にＲ２ＳｉＯ２／２で表される単位）、三官能性のＴ単位（一般的にＲＳｉＯ３／２で表される単位）、四官能性のＱ単位（一般的にＳｉＯ４／２で表される単位）で形成されたポリオルガノシロキサンであればよいが、通常、Ｄ単位で形成されたポリオルガノシロキサンが使用される。ポリオルガノシロキサンの有機基（Ｒ）としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基などの炭化水素基の中から選択できるが、通常、Ｃ１−４アルキル基、アリール基が使用され、メチル基、フェニル基（特にメチル基）が汎用される。シロキサン単位の繰り返し数（重合度）は、例えば２〜３０００、好ましくは３〜２０００、好ましくは５〜１０００程度である。
【００４９】
フッ素系レベリング剤としては、フルオロ脂肪族炭化水素骨格を有するレベリング剤であればよい。フルオロ脂肪族炭化水素骨格としては、例えば、フルオロメタン、フルオロエタン、フルオロプロパン、フルオロイソプロパン、フルオロブタン、フルオロイソブタン、フルオロｔ−ブタン、フルオロペンタン、フルオロヘキサンなどのフルオロＣ１−１０アルカンなどが挙げられる。
【００５０】
これらのフルオロ脂肪族炭化水素骨格は、少なくとも一部の水素原子がフッ素原子に置換されていればよいが、表面の凹凸構造を制御し易い点から、全ての水素原子がフッ素原子で置換されたパーフルオロ脂肪族炭化水素骨格が好ましい。
【００５１】
さらに、フルオロ脂肪族炭化水素骨格は、エーテル結合を介した繰り返し単位であるポリフルオロアルキレンエーテル骨格を形成していてもよい。繰り返し単位としてのフルオロ脂肪族炭化水素基は、フルオロメチレン、フルオロエチレン、フルオロプロピレン、フルオロイソプロピレンなどのフルオロＣ１−４アルキレン基からなる群より選択された少なくとも１種であってもよい。これらのフルオロ脂肪族炭化水素基は、同一であってもよく、複数種の組み合わせであってもよい。フルオロアルキレンエーテル単位の繰り返し数（重合度）は、例えば１０〜３０００、好ましくは３０〜１０００、さらに好ましくは５０〜５００程度であってもよい。
【００５２】
これらの骨格のうち、表面張力低下能に優れ、ＡＷＭ層の表面になだらかで高さの低い凹凸構造を形成し易い点から、ポリオルガノシロキサン骨格、ポリフルオロアルキレンエーテル骨格などが好ましい。
【００５３】
このような骨格を有するレベリング剤は、各種の機能性を付与するために、加水分解縮合性基、極性基、ラジカル重合性基、ポリエーテル基、ポリエステル基、ポリウレタン基などを有していてもよい。また、シリコーン系レベリング剤がフルオロ脂肪族炭化水素基を有していてもよく、フッ素系レベリング剤がポリオルガノシロキサン基を有していてもよい。
【００５４】
加水分解性基としては、例えば、ヒドロキシシリル基；トリクロロシリルなどのトリハロシリル基；ジクロロメチルシリルなどのジハロＣ１−４アルキルシリル基；ジクロロフェニルシリルなどのジハロアリール基；クロロジメチルシリルなどのクロロジＣ１−４アルキルシリルなどのハロジＣ１−４アルキルシリル基；トリメトキシシリル、トリエトキシシリルなどのトリＣ１−４アルコキシシリル基；ジメトキシメチルシリル、ジエトキシメチルシリルなどのジＣ１−４アルコキシＣ１−４アルキルシリル基；ジメトキシフェニルシリル、ジエトキシフェニルシリルなどのジＣ１−４アルコキシアリールシリル基；メトキシジメチルシリル、エトキシジメチルシリルなどのＣ１−４アルコキシジＣ１−４アルキルシリル基；メトキシジフェニルシリル、エトキシジフェニルシリルなどのＣ１−４アルコキシジアリールシリル基；メトキシメチルフェニルシリル、エトキシメチルフェニルシリルなどのＣ１−４アルコキシＣ１−４アルキルアリールシリル基などが挙げられる。
【００５５】
極性基としては、例えば、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、酸無水物基（無水マレイン酸基など）、イソシアネート基などが挙げられる。
【００５６】
ラジカル重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基などが挙げられる。
【００５７】
ポリエーテル基としては、例えば、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、ポリオキシブチレン、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン基などのポリオキシＣ２−４アルキレン基などが挙げられる。ポリエーテル基において、オキシアルキレン基の繰り返し数（付加モル数）は、例えば２〜１０００、好ましくは３〜１００、好ましくは５〜５０程度である。
【００５８】
ポリエステル基としては、例えば、ジカルボン酸（テレフタル酸などの芳香族カルボン酸やアジピン酸などの脂肪族カルボン酸など）とジオール（エチレングリコールなどの脂肪族ジオールなど）との反応により形成されるポリエステル基、環状エステル（例えば、カプロラクトンなどのラクトン類）の開環重合により形成されるポリエステル基などが挙げられる。
【００５９】
ポリウレタン基としては、例えば、慣用のポリエステル型ポリウレタン基、ポリエーテル型ポリウレタン基などが挙げられる。
【００６０】
これらの機能性基は、ポリオルガノシロキサン骨格又はフルオロ脂肪族炭化水素骨格に対して、直接結合で導入されていてもよく、連結基（例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、エーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、又はこれらを組み合わせた連結基など）を介して導入されていてもよい。
【００６１】
これらの機能性基のうち、表面張力の低下能に優れる点から、ポリエーテル基が好ましく、樹脂成分と反応して、ＡＷＭ層の硬度を向上できる点から、重合性基が好ましく、ポリエーテル基及び重合性基の双方の基を同時に有するのが特に好ましい。
【００６２】
シリコーン系レベリング剤としては、市販のシリコーン系レベリング剤を使用できる。市販のシリコーン系レベリング剤としては、例えば、ダイセル・オルネクス（株）製ＥＢＥＣＲＹＬシリーズのレベリング剤（「ＥＢＥＣＲＹＬ１３６０」など）、ビックケミー・ジャパン（株）製ＢＹＫシリーズのレベリング剤（「ＢＹＫ−３００」、「ＢＹＫ−３０１／３０２」、「ＢＹＫ−３０６」、「ＢＹＫ−３０７」、「ＢＹＫ−３１０」、「ＢＹＫ−３１５」、「ＢＹＫ−３１３」、「ＢＹＫ−３２０」、「ＢＹＫ−３２２」、「ＢＹＫ−３２３」、「ＢＹＫ−３２５」、「ＢＹＫ−３３０」、「ＢＹＫ−３３１」、「ＢＹＫ−３３３」、「ＢＹＫ−３３７」、「ＢＹＫ−３４１」、「ＢＹＫ−３４４」、「ＢＹＫ−３４５／３４６」、「ＢＹＫ−３４７」、「ＢＹＫ−３４８」、「ＢＹＫ−３４９」、「ＢＹＫ−３７０」、「ＢＹＫ−３７５」、「ＢＹＫ−３７７」、「ＢＹＫ−３７８」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５００」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５１０」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５７０」、「ＢＹＫ−３５５０」、「ＢＹＫ−ＳＩＬＣＬＥＡＮ３７００」、「ＢＹＫ−ＳＩＬＣＬＥＡＮ３７２０」など）、Ａｌｇｉｎ  Ｃｈｅｍｉｅ社製ＡＣシリーズのレベリング剤（「ＡＣ  ＦＳ１８０」、「ＡＣ  ＦＳ３６０」、「ＡＣ  Ｓ２０」など）、共栄社化学（株）製ポリフローシリーズのレベリング剤（「ポリフローＫＬ−４００Ｘ」、「ポリフローＫＬ−４００ＨＦ」、「ポリフローＫＬ−４０１」、「ポリフローＫＬ−４０２」、「ポリフローＫＬ−４０３」、「ポリフローＫＬ−４０４」など）、信越化学工業（株）製ＫＰシリーズのレベリング剤（「ＫＰ−３２３」、「ＫＰ−３２６」、「ＫＰ−３４１」、「ＫＰ−１０４」、「ＫＰ−１１０」、「ＫＰ−１１２」など）、東レ・ダウコーニング（株）製レベリング剤（「ＬＰ−７００１」、「ＬＰ−７００２」、「８０３２ＡＤＤＩＴＩＶＥ」、「５７ＡＤＤＩＴＩＶＥ」、「Ｌ−７６０４」、「ＦＺ−２１１０」、「ＦＺ−２１０５」、「６７ＡＤＤＩＴＩＶＥ」、「８６１８ＡＤＤＩＴＩＶＥ」、「３ＡＤＤＩＴＩＶＥ」、「５６ＡＤＤＩＴＩＶＥ」など）などが挙げられる。
【００６３】
フッ素系レベリング剤としては、市販のフッ素系レベリング剤を使用できる。市販のフッ素系レベリング剤としては、例えば、北村化学産業（株）製ＰｏｌｙＦｏｘシリーズのレベリング剤（「ＰＦ−１３６Ａ」、「ＰＦ−１５６Ａ」、「ＰＦ−１５１Ｎ」、「ＰＦ−６３６」、「ＰＦ−６３２０」、「ＰＦ−６５６」、「ＰＦ−６５２０」、「ＰＦ−６５１」、「ＰＦ−６５２」など）、ダイキン工業（株）製オプツールシリーズのレベリング剤（「ＤＳＸ」、「ＤＡＣ−ＨＰ」）、ＡＧＣセイミケミカル（株）製サーフロンシリーズのレベリング剤（「Ｓ−２４２」、「Ｓ−２４３」、「Ｓ−４２０」、「Ｓ−６１１」、「Ｓ−６５１」、「Ｓ−３８６」など）、ビックケミー・ジャパン（株）製ＢＹＫシリーズのレベリング剤（「ＢＹＫ−３４０」など）、Ａｌｇｉｎ  Ｃｈｅｍｉｅ社製ＡＣシリーズのレベリング剤（「ＡＣ  １１０ａ」、「ＡＣ  １００ａ」など）、ＤＩＣ（株）製メガファックシリーズのレベリング剤（「メガファックＦ−１１４」、「メガファックＦ−４１０」、「メガファックＦ−４４４」、「メガファックＥＸＰ  ＴＰ−２０６６」、「メガファックＦ−４３０」、「メガファックＦ−４７２ＳＦ」、「メガファックＦ−４７７」、「メガファックＦ−５５２」、「メガファックＦ−５５３」、「メガファックＦ−５５４」、「メガファックＦ−５５５」、「メガファックＦ−５５６」、「メガファックＲ−９４」、「メガファックＲＳ−７２−Ｋ」、「メガファックＲＳ−７５」、「メガファックＦ−５５６」、「メガファックＥＸＰ  ＴＦ−１３６７」、「メガファックＥＸＰ  ＴＦ−１４３７」、「メガファックＦ−５５８」、「メガファックＥＸＰ  ＴＦ−１５３７」など）、住友スリーエム（株）製ＦＣシリーズのレベリング剤（「ＦＣ−４４３０」、「ＦＣ−４４３２」など）、（株）ネオス製フタージェントシリーズのレベリング剤（「フタージェント１００」、「フタージェント１００Ｃ」、「フタージェント１１０」、「フタージェント１５０」、「フタージェント１５０ＣＨ」、「フタージェントＡ−Ｋ」、「フタージェント５０１」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２５１」、「フタージェント２２２Ｆ」、「フタージェント２０８Ｇ」、「フタージェント３００」、「フタージェント３１０」、「フタージェント４００ＳＷ」など）などが挙げられる。
【００６４】
これらのレベリング剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。好ましいレベリング剤は、ポリオルガノシロキサン骨格の主鎖又は側鎖に（ポリ）オキシエチレン基などの（ポリ）オキシＣ２−３アルキレン基が導入されたシリコーン系レベリング剤（ポリジメチルシロキサンポリオキシエチレンなど）、（メタ）アクリロイルオキシ基をポリオルガノシロキサン骨格の主鎖の末端又は側鎖に有するシリコーン系レベリング剤（（メタ）アクリル系樹脂にポリオルガノシロキサンを導入したシリコーン変性（メタ）アクリル系樹脂など）、（ポリ）オキシエチレンなどの（ポリ）オキシＣ２−３アルキレン骨格の側鎖にフルオロ脂肪族炭化水素基が導入されたフッ素系レベリング剤（フルオロアルキルポリオキシエチレンなど）、（ポリ）オキシプロピレンなどの（ポリ）オキシＣ２−６アルキレン骨格の側鎖にフルオロ脂肪族炭化水素基が導入され、かつ両末端に（メタ）アクリロイルオキシ基が導入されたフッ素系レベリング剤などであってもよい。
【００６５】
レベリング剤の割合は、硬化性樹脂１００重量部に対して０．００１〜１０重量部程度の範囲から選択でき、例えば０．００３〜１重量部、好ましくは０．００５〜０．５重量部、さらに好ましくは０．０１〜０．１重量部（特に０．０１５〜０．０５重量部）程度である。レベリング剤の割合が少なすぎると、凹凸構造を制御する機能が発現せず、多すぎると、凹凸構造の形成が困難となる上に、機械的特性が低下し易い。
【００６６】
（他の添加剤）
ＡＷＭ層は、金属酸化物微粒子による効果を損なわない範囲で、他の微粒子を含んでいてもよい。他の微粒子には、有機微粒子、無機微粒子が含まれる。
【００６７】
有機微粒子としては、耐擦傷性などの点から、架橋樹脂微粒子が好ましい。微粒子を構成する架橋樹脂としては、架橋熱可塑性樹脂［例えば、架橋オレフィン系樹脂（例えば、架橋ポリエチレン、架橋ポリプロピレンなど）、架橋スチレン系樹脂（例えば、架橋ポリスチレン、架橋ポリジビニルベンゼン、架橋ポリビニルトルエン、架橋スチレン−メタクリル酸メチル共重合体など）、架橋アクリル系樹脂（例えば、架橋ポリメタクリル酸メチルなど）など］、熱硬化性樹脂（メラミン樹脂、尿素樹脂、アミノベンゾグアナミン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタンなど）などが例示できる。これらの有機微粒子は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００６８】
無機微粒子を構成する無機化合物としては、金属酸化物を除く無機化合物、例えば、金属単体、金属硫酸塩（硫酸カルシウム、硫酸バリウムなど）、金属珪酸塩（珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、アルミノ珪酸マグネシウムなど）、金属リン酸塩（リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム等）、金属炭酸塩（炭酸マグネシウム、重質炭酸カルシウム、軽質炭酸カルシウムなど）、金属水酸化物（水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなど）、ケイ素化合物（シリカ、ホワイトカーボン、ガラスなど）、天然鉱物（ゼオライト、ケイソウ土、焼成珪成土、アルミナ、タルク、マイカ、カオリン、セリサイト、ベントナイト、モンモリロナイト、スメクタイト、クレーなど）などが挙げられる。
【００６９】
これらの微粒子も金属酸化物微粒子と同様に１〜１００ｎｍ（特に１．５〜５０ｎｍ）程度の平均一次粒径であるのが好ましい。
【００７０】
これらの微粒子の割合は、例えば、金属酸化物微粒子１００重量部に対して５０重量部以下、好ましくは３０重量部以下（例えば、０．０１〜３０重量部）、さらに好ましくは１０重量部以下（例えば、０．１〜１０重量部）程度である。
【００７１】
ＡＷＭ層には、種々の添加剤、例えば、安定剤（酸化防止剤、紫外線吸収剤など）、界面活性剤、水溶性高分子、充填剤、架橋剤、カップリング剤、着色剤、難燃剤、滑剤、ワックス、防腐剤、粘度調整剤、増粘剤、消泡剤などが含まれていてもよい。添加剤の割合は、例えば、ＡＷＭ層全体に対して０．０１〜１０重量％（特に０．１〜５重量％）程度である。
【００７２】
本発明では、理由は定かではないが、微粒子の凝集剤（例えば、特開２００９−２６５１４３号公報に記載の凝集剤など）を使用することなく、少量の金属酸化物微粒子がＡＷＭ層中で適度に凝集して核となり、乾燥工程で対流作用により金属酸化物微粒子と硬化前の樹脂成分とが一緒になってＡＷＭ層の表面で凝集して凸部を形成するようである。そのためか、ＡＷＭ性を有し、かつギラツキを抑制でき、かつＡＷＭ性を有するなだらかで高さの低い凹凸構造を形成できる。従って、ＡＷＭ層は、実質的に凝集剤を含有しない。なお、このような本発明における作用には、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及び溶媒の種類、配合割合なども関与していると推定される。
【００７３】
ＡＷＭ層の厚み（平均厚み）は、例えば、０．５〜３０μｍ、好ましくは１〜２０μｍ、さらに好ましくは１．５〜１０μｍ（特に２〜５μｍ）程度である。
【００７４】
［透明樹脂層］
透明樹脂層（又は基材層）としては、可撓性が高く、ガラスよりも耐割れ性に優れる透明樹脂で形成されたプラスチックフィルム又はシート（未延伸又は延伸プラスチックフィルム）を利用できる。透明樹脂としては、前記ＡＷＭ層で例示された熱可塑性樹脂と同様の樹脂を使用できる。好ましい透明樹脂としては、例えば、セルロース誘導体［セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースジアセテートなどのセルロースアセテートなど］、ポリエステル系樹脂［ＰＥＴ、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリアリレート系樹脂など］、ポリスルホン系樹脂［ポリスルホン、ポリエーテルスルホンなど］、ポリエーテルケトン系樹脂［ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトンなど］、ポリカーボネート系樹脂（ビスフェノールＡ型ポリカーボネートなど）、ポリオレフィン系樹脂（ポリエチレン、ポリプロピレンなど）、環状ポリオレフィン系樹脂［トパス（ＴＯＰＡＳ）（登録商標）、アートン（ＡＲＴＯＮ）（登録商標）、ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）（登録商標）など］、ハロゲン含有樹脂（ポリ塩化ビニリデンなど）、（メタ）アクリル系樹脂（ポリメタクリル酸メチル系樹脂など）、スチレン系樹脂（ポリスチレンなど）、酢酸ビニル又はビニルアルコール系樹脂（ポリビニルアルコールなど）などが挙げられる。これらの透明樹脂で形成されたプラスチックフィルムは１軸又は２軸延伸されていてもよい。
【００７５】
光学的に等方性の透明プラスチックフィルムには、例えば、ポリエステル、セルロース誘導体類などが含まれ、特に、耐熱性や透明性などのバランスに優れる点から、ＰＥＴやＰＥＮなどのポリＣ２−４アルキレンアリレートで形成されたフィルムが好ましい。さらに、透明樹脂層は、二軸延伸したフィルムであってもよい。
【００７６】
透明樹脂層は、前記ＡＷＭ層の項で例示された慣用の添加剤（例えば、紫外線吸収剤など）を含んでいてもよい。添加剤の割合は、例えば、透明樹脂層全体に対して０．０１〜１０重量％（特に０．１〜５重量％）程度である。
【００７７】
透明樹脂層の厚み（平均厚み）は、例えば、５〜１０００μｍ、好ましくは１５〜５００μｍ、さらに好ましくは２０〜３００μｍ（特に３０〜１００μｍ）程度の範囲から選択できる。
【００７８】
［接着層］
本発明の透明積層フィルムは、透明樹脂層の他方の面にさらに接着層が積層されていてもよい。接着層としては、タッチパネルの上部電極と一体化可能な透明バインダー樹脂で形成されていればよい。透明バインダー樹脂としては、例えば、慣用の接着性樹脂又は粘着性樹脂などが例示できる。
【００７９】
接着性樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂（ポリオレフィン、環状ポリオレフィン、アクリル樹脂、スチレン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリエステル、ポリアミド、熱可塑性ポリウレタンなど）、熱硬化性樹脂（エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、不飽和ポリエステル、ビニルエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、多官能（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂、アミノ樹脂、セルロース誘導体など）などが挙げられる。これらの接着性樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００８０】
粘着性樹脂としては、例えば、テルペン樹脂、ロジン系樹脂、石油樹脂、ゴム系粘着剤、変性ポリオレフィン、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤などが挙げられる。これらの粘着性樹脂は、架橋性基（イソシアネート基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、メチロール基、アルコキシシリル基など）を有していてもよい。これらの粘着性樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００８１】
これらの透明バインダー樹脂のうち、光学特性及び取り扱い性に優れる点から、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤（特にアクリル系粘着剤）が好ましい。
【００８２】
アクリル系粘着剤としては、例えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレートなどのアクリル酸Ｃ２−１０アルキルエステルを主成分とするアクリル系共重合体で構成された粘着剤を使用できる。アクリル系共重合体の共重合性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル系単量体［例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミドなど］、重合性ニトリル化合物［例えば、（メタ）アクリロニトリルなど］、不飽和ジカルボン酸又はその誘導体（例えば、無水マレイン酸、イタコン酸など）、ビニルエステル類（例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなど）、芳香族ビニル類（例えば、スチレンなど）などが挙げられる。
【００８３】
シリコーン系粘着剤としては、例えば、シリコーンゴム成分［一官能のＲ３ＳｉＯ１／２（式中、Ｒは、メチル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基などを示す。以下、同じ）と四官能のＳｉＯ２からなるＭＱレジンなど］及びシリコーンレジン成分（二官能のＲ２ＳｉＯ単独、又は二官能のＲ２ＳｉＯと一官能のＲ３ＳｉＯ１／２とを組み合わせたオイル状又はガム状成分など）を有機溶媒に溶解した粘着剤などを使用できる。前記シリコーンゴム成分は架橋されていてもよい。
【００８４】
接着層は、前記ＡＷＭ層の項で例示された慣用の添加剤（例えば、紫外線吸収剤など）を含んでいてもよい。添加剤の割合は、例えば、接着層全体に対して０．０１〜１０重量％（特に０．１〜５重量％）程度である。
【００８５】
接着層の厚み（平均厚み）は、例えば、１〜１００μｍ、好ましくは２〜８０μｍ、さらに好ましくは３〜７０μｍ（特に５〜５０μｍ）程度である。
【００８６】
［低屈折率層］
本発明の透明積層フィルムは、ＡＷＭ層の上に、ＡＷＭ層表面での反射率を下げて、外部への出射光の透過率を向上させるために、さらに低屈折率層を積層してもよい。さらに、詳しいメカニズムは不明であるが、低屈折率性を積層することにより、ＡＷＭ性も向上できる。
【００８７】
低屈折率層は、慣用の低屈折率層、例えば、特開２００１−１００００６号公報、特開２００８−５８７２３号公報に記載の低屈折率層などが使用できる。低屈折率層は、通常、低屈折率樹脂で構成されている。低屈折率樹脂としては、例えば、メチルペンテン樹脂、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）樹脂、ポリビニリデンフルオライド（ＰＶＤＦ）、ポリビニルフルオライド（ＰＶＦ）などのフッ素樹脂などが挙げられる。また、低屈折率層は、通常、フッ素含有化合物を含有するのが好ましく、フッ素含有化合物を用いると、低屈折率層の屈折率を所望に応じて低減できる。
【００８８】
前記フッ素含有化合物としては、フッ素原子と、熱や活性エネルギー線（紫外線や電子線など）などにより反応する官能基（架橋性基又は重合性基などの硬化性基など）とを有し、熱や活性エネルギー線などにより硬化又は架橋してフッ素含有樹脂（特に硬化又は架橋樹脂）を形成可能なフッ素含有樹脂前駆体が挙げられる。
【００８９】
このようなフッ素含有樹脂前駆体としては、例えば、フッ素原子含有熱硬化性化合物又は樹脂［フッ素原子とともに、反応性基（エポキシ基、イソシアネート基、カルボキシル基、ヒドロキシル基など）、重合性基（ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基など）などを有する低分子量化合物］、活性光線（紫外線など）により硬化可能なフッ素原子含有光硬化性化合物又は樹脂（光硬化性フッ素含有モノマー又はオリゴマーなどの紫外線硬化性化合物など）などが例示できる。
【００９０】
前記熱硬化性化合物又は樹脂としては、例えば、少なくともフッ素含有モノマーを用いて得られる低分子量樹脂、例えば、構成モノマーとしてのポリオール成分の一部又は全部に代えてフッ素含有ポリオール（特にジオール）を用いて得られるエポキシ系フッ素含有樹脂；同様に、ポリオール及び／又はポリカルボン酸成分の一部又は全部に代えて、フッ素原子含有ポリオール及び／又はフッ素原子含有ポリカルボン酸成分を用いて得られる不飽和ポリエステル系フッ素含有樹脂；ポリオール及び／又はポリイソシアネート成分の一部又は全部に代えて、フッ素原子含有ポリオール及び／又はポリイソシアネート成分を用いて得られるウレタン系フッ素含有樹脂などが例示できる。これらの熱硬化性化合物又は樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００９１】
前記光硬化性化合物には、例えば、単量体、オリゴマー（又は樹脂、特に低分子量樹脂）が含まれ、単量体としては、例えば、前記ＡＷＭ層の項で例示の単官能性単量体及び多官能性単量体に対応するフッ素原子含有単量体［（メタ）アクリル酸のフッ化アルキルエステルなどのフッ素原子含有（メタ）アクリル系単量体、フルオロオレフィン類などのビニル系単量体などの単官能性単量体；１−フルオロ−１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシエチレンなどのフッ化アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレートなど］が例示できる。また、オリゴマー又は樹脂としては、前記防眩層の項で例示のオリゴマー又は樹脂に対応するフッ素原子含有オリゴマー又は樹脂などが使用できる。これらの光硬化性化合物は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００９２】
さらに、低屈折率層は、塗膜強度を向上させるために、無機フィラーを含んでもよい。無機フィラーとしては、例えば、前記特開２００１−１００００６号公報に記載のフィラーなどが使用できるが、シリカやフッ化マグネシウムなどの低屈折率のフィラー、特にシリカが好ましい。シリカは、特開２００１−２３３６１１号公報、特開２００３−１９２９９４号公報などに記載されている中空シリカであってもよい。中空シリカは、透過率の向上効果が大きいだけでなく、ＡＷＭ性の向上効果も優れている。
【００９３】
無機フィラーの平均粒径は１００ｎｍ以下、好ましくは８０ｎｍ以下（例えば、１０〜８ｎｍ）、さらに好ましくは２０〜７０ｎｍ程度である。
【００９４】
低屈折率層中における無機フィラーの割合は、例えば、低屈折率層全体に対して１重量％以上であってもよく、例えば、５〜９０重量％程度である。また、無機フィラーは、カップリング剤（チタンカップリング剤、シランカップリング剤）により表面改質されていてもよい。
【００９５】
低屈折率層の屈折率としては、例えば、１．３〜１．５、好ましくは１．３５〜１．４５程度である。
【００９６】
低屈折率層の厚みは、例えば、５０〜１０００ｎｍ、好ましくは６０〜５００ｎｍ、さらに好ましくは７０〜３００ｎｍ（特に８０〜２００ｎｍ）程度である。
【００９７】
［透明積層フィルムの特性］
本発明の透明積層フィルムのＡＷＭ層は、表面に傾斜角がなだらかで高さの低い（山形状の）凹凸構造が形成されているため、上部電極基板にガラスを含むタッチパネルディスプレイの飛散防止フィルムとして利用してもＷＭの発生を抑制でき、ＬＣＤやＯＬＥＤなどの高精細表示装置であってもギラツキを抑制できる。
【００９８】
具体的な凹凸構造としては、本発明では、算術平均粗さＲａが比較的小さく、高さの低い凹凸構造を有するという特色がある。算術平均粗さＲａは０．００５以上０．０３μｍ未満（例えば、０．０１〜０．０２９５）であり、好ましくは０．０１２〜０．０２９（例えば、０．０１３〜０．０２８５）、さらに好ましくは０．０１５〜０．０２８（特に０．０１７〜０．０２５）程度である。さらに、低屈折率層を形成した場合など、算術平均粗さＲａは０．００６〜０．０２９（特に０．００７〜０．０２８）程度であってもよい。Ｒａが小さすぎると、ＡＷＭ性が低下し、大きすぎると、高精細ディスプレイでギラツキが発生し易い。
【００９９】
また、本発明では、凹凸の平均間隔Ｓｍは比較的大きく、高精細ディスプレイの画素サイズよりも大きく、ギラツキの発生を有効に抑制できるという特色がある。凹凸の平均間隔Ｓｍは５０〜３００μｍであり、好ましくは６０〜２８０μｍ（例えば、８０〜２５０μｍ）、さらに好ましくは１００〜２００μｍ（特に１２０〜１８０μｍ）程度である。Ｓｍが小さすぎると、高精細ディスプレイの画素のサイズに近似するため、干渉してギラツキが発生する虞がある。一方、Ｓｍが大きすぎると、ＡＷＭ性が低下する上に、ギラツキも発生する虞がある。本発明では、Ｓｍをディスプレイの画素サイズよりも大きくすることにより、ギラツキの発生を効果的に抑制できる。
【０１００】
また、本発明では、凹凸構造の算術平均傾斜Δａが小さく、凹凸構造が傾斜角のなだらかな構造であり、出射光の散乱を抑制でき、ギラツキの発生を有効に抑制できるという特色がある。凹凸構造の算術平均傾斜Δａは０．１°未満（例えば、０．０１〜０．０９°）であり、好ましくは０．０２１〜０．０８５°（例えば、０．０２２〜０．０８°）、さらに好ましくは０．０２５〜０．０７５°（特に０．０３〜０．０７°）程度である。さらに、低屈折率層を形成した場合など、算術平均傾斜Δａは０．０１〜０．０３°（特に０．０１０５〜０．０２°）程度であってもよい。Δａが大きすぎると、高精細ディスプレイでギラツキが発生し易く、小さすぎると、ＡＷＭ性が低下する虞がある。
【０１０１】
さらに、凹凸構造の十点平均粗さＲｚは０．２未満（例えば、０．０２２〜０．１９５）、好ましくは０．０２５〜０．１８）、さらに好ましくは０．０３〜０．１７（特に０．０４〜０．１５）程度である。さらに、低屈折率層を形成した場合など、十点平均粗さＲｚは０．０２〜０．１９（特に０．０２１〜０．１８５）程度であってもよい。Ｒｚが小さすぎると、ＡＷＭ性が低下し、大きすぎると、高精細ディスプレイでギラツキが発生し易い。
【０１０２】
本発明では、Ｓｍが比較的大きく、比較的大きなＲａ及びＲｚを有するとともに、小さい傾斜角を有しているため、高精細ディスプレイの画素とも干渉を起こさず、急峻な傾斜面により発生し易いギラツキも抑制できる。しかも、なだらかな傾斜であるにも拘わらず、適度な間隔で形成された凹凸構造であるため、ＬＣＤやＯＬＥＤなどのデバイスとの密着も抑制でき、ＷＭの発生を抑制できる。
【０１０３】
なお、本発明では、これらのＲａ，Ｓｍ，Δａ及びＲｚは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠した方法で測定できる。
【０１０４】
本発明の透明積層フィルムは、透明性などの光学特性に優れており、厚み１００μｍにおいて、ＪＩＳ  Ｋ７３６１に準拠した全光線透過率が、例えば７０〜１００％、好ましくは８０〜１００％、さらに好ましくは８５〜９９％（特に、９０〜９５％）程度である。
【０１０５】
本発明の透明積層フィルムは、金属酸化物微粒子がナノサイズであり、凹凸構造の傾斜面もなだらかであるため、ヘイズも小さく、厚み１００μｍにおいて、ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準拠したヘイズ率が、例えば、０．２〜１％、好ましくは０．２５〜０．８％、さらに好ましくは０．３〜０．６％（特に０．４〜０．５％）程度である。本発明では、このような低いヘイズ値を有することにより、高精細ディスプレイでもギラツキを抑制でき、視認性を向上できる。
【０１０６】
本発明の透明積層フィルムの透過像鮮明度は、０．５ｍｍ幅の光学櫛を使用した場合、例えば、８０〜ｌ００％、好ましくは８５〜９９％、さらに好ましくは８８〜９８％（特に９０〜９７％）程度である。透過像鮮明度が前記範囲にあると、直進透過光の散乱が少ないため、透明積層フィルムを高精細表示装置に配設した場合であっても、各々の画素からの散乱が少なくなり、ギラツキを防止できる。
【０１０７】
透過像鮮明度とは、膜を透過した光のボケや歪みを定量化する尺度である。透過像鮮明度は、膜からの透過光を移動する光学櫛を通して測定し、光学櫛の明暗部の光量により値を算出する。すなわち、膜が透過光をぼやかす場合、光学櫛上に結像されるスリットの像は太くなるため、透過部での光量は１００％以下となり、一方、不透過部では光が漏れるため０％以上となる。透過像鮮明度の値Ｃは光学櫛の透明部の透過光最大値Ｍと不透明部の透過光最小値ｍから次式により定義される。
【０１０８】
Ｃ（％）＝［(Ｍ−ｍ)／(Ｍ＋ｍ)］×１００
すなわち、Ｃの値が１００％に近づく程、透明積層フィルムによる像のボケが小さい［参考文献；須賀、三田村，塗装技術，１９８５年７月号］。
【０１０９】
本発明の透明積層フィルムは、反射率も低く、１０％以下であってもよく、例えば、０．１〜８％、好ましくは０．５〜６％、さらに好ましくは１〜５％程度である。
【０１１０】
本発明の透明積層フィルムは、ＡＷＭ特性を有しているため、ガラスを含むタッチパネルディスプレイの上部電極基板の内側に配設され、前記ガラスの割れによる破片の飛散を抑制するための飛散防止フィルムとして利用できる。
【０１１１】
［透明積層フィルムの製造方法］
本発明の透明積層フィルムは、透明樹脂層の一方の面に、硬化性組成物を塗布する塗布工程、塗布した硬化性組成物を乾燥後、活性エネルギー線を照射して硬化する硬化工程を経て製造できる。
【０１１２】
塗布工程において、硬化性組成物は、通常、前記硬化性樹脂と熱可塑性樹脂と金属酸化物微粒子と溶媒とを含む混合液（特に均一溶液などの液状組成物）で構成されている。好ましい態様では、前記混合液として、光硬化性樹脂と、熱可塑性樹脂と、金属酸化物微粒子と、光重合開始剤と、前記光硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂を可溶な溶媒とを含む組成物が使用される。
【０１１３】
溶媒は、前記硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂の種類及び溶解性に応じて選択でき、少なくとも固形分（硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、反応開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶媒であればよい。そのような溶媒としては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレンなど）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタンなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、１−メトキシ−２−プロパノールなど）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）などが例示できる。これらの溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用でき、混合溶媒であってもよい。これらの溶媒のうち、メチルエチルケトンなどのケトン類、ブタノールや１−メトキシ−２−プロパノールなどのアルコール類が好ましく、これらを混合してもよい。例えば、前記ケトン類と前記アルコール類とを、前者／後者＝９０／１０〜１０／９０、好ましくは８０／２０〜２０／８０、さらに好ましくは７０／３０〜３０／７０程度の割合（重量比）で混合してもよい。本発明では、溶媒を適宜組み合わせることにより、金属酸化物微粒子の凝集の程度を制御してもよい。
【０１１４】
混合液中の溶質（硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、金属酸化物微粒子、反応開始剤、その他添加剤）の濃度は、流延性やコーティング性などを損なわない範囲で選択でき、例えば、１〜８０重量％、好ましくは５〜６０重量％、さらに好ましくは１５〜４０重量％（特に２０〜４０重量％）程度である。
【０１１５】
塗布方法としては、慣用の方法、例えば、スプレー、ロールコーター、エアナイフコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、リバースコーター、バーコーター、コンマコーター、ディップ・スクイズコーター、ダイコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、シルクスクリーンコーター法、ディップ法、スプレー法、スピナー法などが挙げられる。これらの方法のうち、バーコーター法やグラビアコーター法などが汎用される。なお、必要であれば、塗布液は複数回に亘り塗布してもよい。
【０１１６】
塗布工程では、さらに前記混合液を流延又は塗布した後、溶媒を蒸発させる。溶媒の蒸発は、通常、例えば、溶媒の沸点に応じて、４０〜１５０℃、好ましくは５０〜１２０℃、さらに好ましくは６０〜１００℃程度の温度で行ってもよい。
【０１１７】
本発明では、塗工液が凝集剤を含有していないにも拘わらず、ナノサイズの金属酸化物微粒子が塗工液中で適度に凝集し核となり、溶媒の蒸発に伴って起こる対流作用により金属酸化物微粒子と硬化前の樹脂成分とが一緒になって表面で凝集して凸部を形成していると推定できる。
【０１１８】
硬化工程では、塗布した硬化性組成物を、活性光線（紫外線、電子線など）や熱などにより最終的に硬化し、ＡＷＭ層を形成する。硬化性樹脂の硬化は、硬化性樹脂の種類に応じて、加熱、光照射などを組合せてもよい。
【０１１９】
加熱温度は、適当な範囲、例えば、５０〜１５０℃程度から選択できる。光照射は、光硬化成分などの種類に応じて選択でき、通常、紫外線、電子線などが利用できる。汎用的な露光源は、通常、紫外線照射装置である。
【０１２０】
光源としては、例えば、紫外線の場合は、Ｄｅｅｐ  ＵＶ  ランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、レーザー光源（ヘリウム−カドミウムレーザー、エキシマレーザーなどの光源）などを用いることができる。照射光量（照射エネルギー）は、塗膜の厚みにより異なり１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２（例えば、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２）程度の範囲から選択でき、例えば、１０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは３０〜３０００ｍＪ／ｃｍ２、さらに好ましくは５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２程度であってもよい。
【０１２１】
なお、光照射は、必要であれば、不活性ガス雰囲気中で行ってもよい。特に、光硬化を利用した場合、硬化性樹脂を硬化させることにより直ちに固定化できるだけでなく、透明樹脂層の内部から熱によりオリゴマーなどの低分子成分が析出することも抑制できる。さらに、ＡＷＭ層に耐擦傷性を付与できる。
【０１２２】
ＡＷＭ層の上に、さらに低屈折率層を形成する場合も、通常、前記ＡＷＭ層と同様の方法で、塗工液を塗布又は流延した後、活性光線や熱などを用いて硬化することにより形成できる。
【０１２３】
本発明では、ＡＷＭ層に対する他の層（例えば、低屈折率層や透明導電層など）の密着性を向上させるために、ＡＷＭ層を表面処理に供してもよい。表面処理としては、慣用の表面処理、例えば、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、オゾンや紫外線照射処理などが挙げられる。
【０１２４】
［タッチパネル用透明電極］
本発明の透明電極は、ガラスを含む透明電極基板と、前記透明積層フィルムとを含んでいればよく、例えば、抵抗膜方式や静電容量方式などのタッチパネルの視認側に配設される上部透明電極であってもよい。
【０１２５】
このタッチパネル用上部透明電極は、透明導電層とガラス基板とが積層された透明電極基板と、前記透明積層フィルムとを含み、前記透明積層フィルムの接着層と前記透明電極基板の透明導電層とを対向させて両者が積層されていてもよい。
【０１２６】
ガラス基板としては、例えば、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、クラウンガラス、バリウム含有ガラス、ストロンチウム含有ガラス、ホウ素含有ガラス、低アルカリガラス、無アルカリガラス、結晶化透明ガラス、シリカガラス、石英ガラス、耐熱ガラスなどで形成された基板を利用できる。ガラス基板の厚み（平均厚み）は、例えば、５０〜３０００μｍ、好ましくは１００〜２０００μｍ、さらに好ましくは２００〜１５００μｍ程度である。
【０１２７】
透明導電層としては、例えば、酸化インジウム−酸化錫系複合酸化物（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、ＩｎＯ２、ＳｎＯ２、ＺｎＯなどの金属酸化物や、金、銀、白金、パラジウムなどの金属で構成された層（特に、ＩＴＯ膜などの金属酸化物層）で構成されている。このような透明導電層は、慣用の方法、例えば、スパッタリング、蒸着、化学的気相成長法など（通常、スパッタリング）により形成できる。透明導電層の厚み（平均厚み）は、例えば、０．０１〜０．０５μｍ、好ましくは０．０１５〜０．０３μｍ、さらに好ましくは０．０１５〜０．０２５μｍ程度である。
【０１２８】
ガラス基板の上に形成される透明導電層は、タッチパネルの種類に応じて、通常、アナログ方式では面状に形成され、デジタル方式ではストライプ状に形成される。透明導電層を面状又はストライプ状に形成する方法としては、例えば、ガラス基板の全面に透明導電層を形成した後、エッチングにより面状又はストライプ状にパターン化する方法、予めパターン状に形成する方法などが挙げられる。
【０１２９】
本発明の透明電極は、さらに他の光学要素（例えば、偏光板、位相差板、導光板などの光路内に配設される種々の光学要素）と組み合わせてもよい。
【０１３０】
本発明の透明電極は、抵抗膜方式、静電容量方式のいずれの方式のタッチパネルディスプレイにも利用できるが、高精細ディスプレイのギラツキも抑制できるため、近年、高精細なＬＣＤやＯＬＥＤを装備したデバイスが普及している静電容量方式タッチパネルディスプレイに特に適している。
【実施例】
【０１３１】
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。実施例及び比較例で得られた透明積層フィルムを以下の項目で評価した。
【０１３２】
［ＡＷＭ層の耐擦傷性］
♯００００のスチールウールを９．５Ｎ／ｃｍ２の荷重でハードコート層の表面を１０往復回擦り、傷の本数に基づいて、以下の基準で評価した。
【０１３３】
◎：０本
○：１〜３本
△：４〜６本
×：７本以上。
【０１３４】
［低屈折率層の耐擦傷性］
♯００００のスチールウールを２．４５Ｎ／ｃｍ２の荷重で低屈折率層の表面を１０往復回擦り、傷の本数に基づいて、以下の基準で評価した。
【０１３５】
◎：０〜３本
○：４〜６本
△：７〜９本
×：１０本以上。
【０１３６】
［鉛筆硬度］
ＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠し、荷重７．４Ｎで鉛筆硬度を測定した。
【０１３７】
［全光線透過率及びヘイズ］
ヘイズメーター（日本電色（株）製、商品名「ＮＤＨ−５０００Ｗ」）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７３６１に準拠して、全光線透過率を測定し、ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準拠して、ヘイズを測定した。
【０１３８】
［反射率］
透明積層フィルムの透明樹脂層側に黒フィルムを貼り合わせ、積分球反射強度測定装置（（株）日立ハイテクノロジーズ製、Ｕ−３３００）を用いて、積分反射率（視感度換算）を測定した。
【０１３９】
［透過像（写像）鮮明度］
光学フィルムの写像鮮明度を、写像測定器（スガ試験機（株）製、商品名「ＩＣＭ−１Ｔ」）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に基づき、フィルムの製膜方向と光学櫛の櫛歯の方向とが平行になるようにフィルムを設置して測定を行った。写像測定器の光学櫛のうち、０．５ｍｍ幅の光学櫛における写像鮮明度を測定した。
【０１４０】
［算術平均粗さＲａ、凹凸の平均間隔Ｓｍ、算術平均傾斜Δａ、十点平均粗さＲｚ］
ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠して、非接触表面形状測定システム（（株）菱化システム製「ＶｅｒｔＳｃａｎ２．０」）を用いて、算術平均粗さＲａ、凹凸の平均間隔Ｓｍ、算術平均傾斜Δａ、十点平均粗さＲｚを測定した。
【０１４１】
［ギラツキの評価］
表示面におけるギラツキの判定は、厚み３ｍｍの透明ガラス板に得られた透明積層フィルムを貼り、５インチサイズのＬＣＤモニター（画素数１９２０×１０８０、解像度４４０ｐｐｉ）上に、透明積層フィルム面とモニターとが対向するように載置し、モニターを緑表示としてモニター正面から目視で観察したときのギラツキを以下の基準で評価した。
【０１４２】
◎：ギラツキが感じられない
○：ギラツキが僅かに感じられる
△：ギラツキが感じられる
×：強いギラツキが感じられる。
【０１４３】
［アンチウォーターマーク（ＡＷＭ）性］
以下の手順で評価を実施した。
【０１４４】
１．実施例で得られた透明積層フィルムのＡＷＭ層が積層されていない面に厚み２５μｍの粘着層を介して０．７ｍｍの透明ガラスを貼り合わせる。
【０１４５】
２．外周に１ｃｍ幅で０．２ｍｍのギャップを設けた１０インチサイズ偏向板を前記透明積層フィルムのＡＷＭ層と対向させて重ね合わせる。
【０１４６】
３．前記透明ガラスの中心部を２０Ｎ／ｃｍ２の荷重で１０秒間押し、離して１０秒後の状態を以下の基準で評価した。
【０１４７】
◎：透明積層フィルムとガラスとが密着していない
○：透明積層フィルムとガラスとが僅かな部分で密着している
×：両者の全体が密着している。
【０１４８】
［塗工液の調製］
（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−１）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ダイセル・オルネクス（株）製「ＤＰＨＡ」）５０重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ダイセル・オルネクス（株）製「ＰＥＴＲＡ」）５０重量部、セルロースアセテートプロピオネート（イーストマン社製「ＣＡＰ」）１．２重量部を、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）１４５重量部、１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＭＰＧ）７２重量部及び１−ブタノール（ＢｕＯＨ）２５重量部の混合溶媒に溶解した。この溶液に、光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア１８４」）２重量部及び光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア９０７」）１重量部を加えて溶解した。さらに、この溶液に、ＡＴＯ粒子（日揮触媒化成（株）製、「ＥＬＣＯＭ  ＳＨ−１２１２ＡＴＶ」、粒径８ｎｍ、２０重量％のアルコール（エタノール／イソプロパノール＝８０／２０（重量比）の混合溶媒）分散液）２重量部を加えて、１時間攪拌し、ＡＷＭ層塗工液：ＡＷＭ−１を調製した。
【０１４９】
（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−２）
ＡＴＯ粒子の代わりに、酸化錫（ＳｎＯ２）粒子（ＣＩＫナノテック（株）製、粒径１９ｎｍ、１０重量％のメチルイソブチルケトン分散液）を４重量部使用する以外は、ＡＷＭ−１と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−２を調製した。
【０１５０】
（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−３）
ＡＴＯ粒子の代わりに、酸化亜鉛（ＺｎＯ）粒子（ＣＩＫナノテック（株）製、粒径５２ｎｍ、１０重量％のＭＭＰＧ分散液）を４重量部使用する以外は、ＡＷＭ−１と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−３を調製した。
【０１５１】
（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−４）
ＡＴＯ粒子の添加量を１．５重量部に変更する以外は、ＡＷＭ−１と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−４を調製した。
【０１５２】
（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−５）
ＡＴＯ粒子の添加量を３重量部に変更する以外は、ＡＷＭ−１と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−５を調製した。
【０１５３】
（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−６）
ＡＴＯ粒子の添加量を６重量部に変更する以外は、ＡＷＭ−１と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−６を調製した。
【０１５４】
（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−７）
レベリング剤（北村化学産業（株）製「ＰｏｌｙＦｏｘ３３２０」）を０．０１７５重量部配合する以外はＡＷＭ−４と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−７を調製した。
【０１５５】
（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−８）
レベリング剤（北村化学産業（株）製「ＰｏｌｙＦｏｘ３３２０」）を０．０１７５重量部配合する以外はＡＷＭ−５と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−８を調製した。
【０１５６】
（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−９）
レベリング剤（北村化学産業（株）製「ＰｏｌｙＦｏｘ３３２０」）を０．０１７５重量部配合する以外はＡＷＭ−６と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−９を調製した。
【０１５７】
（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−１０）
ＡＴＯ粒子の添加量を０．０５重量部に変更する以外は、ＡＷＭ−１と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−１０を調製した。
【０１５８】
（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−１１）
ＡＴＯ粒子の添加量を１５重量部に変更する以外は、ＡＷＭ−１と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−１１を調製した。
【０１５９】
（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−１２）
ＡＴＯ粒子の添加量を０．０５重量部に変更する以外は、ＡＷＭ−７と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−１２を調製した。
【０１６０】
（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−１３）
ＡＴＯ粒子の添加量を１５重量部に変更する以外は、ＡＷＭ−７と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ−１３を調製した。
【０１６１】
（低屈折率層塗工液：ＬＣ）
市販の中空シリカ微粒子分散液（日揮触媒化成（株）製、「ＥＬＣＯＭ  Ｐ−５０６３」、固形分３重量％）を用いた。
【０１６２】
実施例１
透明樹脂層として、ＰＥＴフィルム（三菱樹脂（株）製、ＰＥＴ、厚み７５μｍ）を用い、このフィルムの上に、ＡＷＭ層塗工液ＡＷＭ−１をバーコーター♯１０を用いて塗工した後、８０℃で１分間乾燥した。塗工フィルムを紫外線照射装置（ウシオ電機（株）製、高圧水銀ランプ、紫外線照射量：１００ｍＪ／ｃｍ２）に通して、紫外線硬化処理を行い、表面凹凸構造を有するＡＷＭ層を形成した。得られた透明積層フィルムにおけるＡＷＭ層の厚みは約３μｍであった。
【０１６３】
実施例２〜９及び比較例１〜４
ＡＷＭ層塗工液として、ＡＷＭ−１の代わりに、ＡＷＭ−２〜１３をそれぞれ用いる以外は実施例１と同様にして透明積層フィルムを作製した。
【０１６４】
実施例１〜９及び比較例１〜４で得られた透明積層フィルムを評価した結果を表１に示す。
【０１６５】
【表１】
2015196347.tif 000002
【０１６６】
実施例１０
実施例４で得られた透明積層フィルムのＡＷＭ層の上に、低屈折率層塗工液ＬＣ−１をバーコーター♯４を用いて塗工し、７０℃で１分間乾燥した。その後、塗工フィルムを紫外線照射装置（ウシオ電機（株）製、高圧水銀ランプ、紫外線照射量：１００ｍＪ／ｃｍ２）に通して、紫外線硬化処理を行い、低屈折率層を形成した。得られた低反射透明積層フィルムにおける低屈折率層の厚みは約１００ｎｍであった。
【０１６７】
実施例１１〜１５及び比較例５〜８
実施例４で得られた透明積層フィルムの代わりに、実施例５〜９及び比較例１〜４で得られた透明積層フィルムをそれぞれ用いる以外は実施例１０と同様にして透明積層フィルムを作製した。
【０１６８】
実施例１０〜１５及び比較例５〜８で得られた透明積層フィルムを評価した結果を表２に示す。
【０１６９】
【表２】
2015196347.tif 000003
【０１７０】
表１及び２の結果から明らかなように、実施例の透明積層フィルムは、耐擦傷性及び光学特性に優れる上に、高精細ディスプレイであっても、ギラツキの発生を抑制でき、ＡＷＭ性も有している。これに対して、比較例の透明積層フィルムは、ギラツキの抑制とＡＷＭ性とを両立できない。
【産業上の利用可能性】
【０１７１】
本発明の透明積層フィルムは、ガラスを含む上部透明電極を含むタッチパネルディスプレイのガラスの割れによる破片の飛散を防止するフィルムとして利用できる。タッチパネルディスプレイとしては、例えば、ＰＣ、テレビ、携帯電話（スマートフォン）、電子ペーパー、遊技機器、モバイル機器、時計、電卓などの電気・電子又は精密機器の表示部において、表示装置（ＬＣＤ、プラズマディスプレイ装置、有機又は無機ＥＬ表示装置など）と組み合わせて用いられるタッチパネル（抵抗膜方式タッチパネル、静電容量方式タッチパネルなど）などに利用できる。特に、優れた視認性から、ＰＣ、４Ｋテレビ、スマートフォン、タブレット型ＰＣ、ペンタブレット、遊戯機器などのＩＴＯグリッド方式を採用する投影型静電容量方式タッチパネル（例えば、ＬＣＤやＯＬＥＤなどの高精細ディスプレイのタッチパネル）の上部透明電極の飛散防止フィルムとして有用である。