(57)【要約】【課題】タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムを構成する最表層の紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の耐アルカリ性の向上を図り、それによって最表層の紫外線硬化性樹脂層（Ａ）上に積層される透明導電膜のパターンの視認「骨見え」を安定的に十分に抑制する。【解決手段】基材フィルムの少なくとも一方の面に最表層として膜厚が７０ｎｍ未満の紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を有し、該紫外線硬化性樹脂層（Ａ）はオリゴマー型重合開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂組成物を硬化せしめた層であることを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの少なくとも一方の面に最表層として膜厚が７０ｎｍ未満の紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を有し、該紫外線硬化性樹脂層（Ａ）はオリゴマー型重合開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）を硬化せしめた層であることを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項２】
前記オリゴマー型重合開始剤が下記一般式（１）で表される化合物である、請求項１に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【化１】
2015039860.tif 000008
式中、Ｙは直鎖状又は分岐状の３価の炭化水素基を表し、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立的に直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、Ｒ１とＲ２は相互に結合して環を形成してもよい。ｎは２〜５０の整数を表す。
【請求項３】
前記紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の屈折率が１．３５〜１．５５である、請求項１または２に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項４】
前記基材フィルムが、屈折率が１．６１〜１．７０であるポリエチレンテレフタレートフィルムである、請求項１〜３のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項５】
前記基材フィルムが、屈折率が１．６１〜１．７０であるポリエチレンテレフタレートフィルムであり、かつ該基材フィルム上に、屈折率が１．６１〜１．７０である易接着層（Ｐ１）を介して紫外線硬化性樹脂層（Ａ）のみが設けられている、請求項１〜４のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項６】
前記基材フィルムと紫外線硬化性樹脂層（Ａ）との間に、屈折率が１．６１〜１．８０でかつ膜厚が７０ｎｍ未満の紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）を有する、請求項１〜４のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項７】
前記基材フィルムと紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）との間にハードコート層（Ｃ）を有する、請求項６に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項８】
前記基材フィルムとハードコート層（Ｃ）との間に、屈折率が１．５５〜１．６０である易接着層（Ｐ２）を有する、請求項７に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項９】
前記基材フィルムと紫外線硬化性樹脂層（Ａ）との間に、屈折率が１．６１〜１．８０であるハードコート層（Ｄ）を有する、請求項１〜４のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項１０】
前記基材フィルムとハードコート層（Ｄ）との間に、屈折率が１．６１〜１．７５である易接着層（Ｐ３）を有する、請求項９に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの紫外線硬化性樹脂層（Ａ）上に、エッチングによりパターン化された透明導電膜を有する、タッチパネル用透明導電性フィルム。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの紫外線硬化性樹脂層（Ａ）上に、エッチングによりパターン化された透明導電膜を有するタッチパネル用透明導電性フィルムの製造方法であって、（１）前記ベースフィルムの紫外線硬化性樹脂層（Ａ）上に透明導電膜を積層する工程、（２）透明導電膜上に所定パターンのエッチングレジスト膜を形成する工程、（３）透明導電膜をエッチングする工程、および（４）エッチングレジスト膜をアルカリ液で剥離する工程をこの順に有する、タッチパネル用透明導電性フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびこのベースフィルムを用いたタッチパネル用透明導電性フィルム、並びにタッチパネル用透明導電性フィルムの製造方法に関する。詳しくは、透明導電膜のパターン部の視認「骨見え」が安定的に抑制されたタッチパネル用透明導電性フィルムを製造するために用いられるベースフィルムに関する。
【０００２】
以下の説明において、「タッチパネル用透明導電性フィルム」を単に「透明導電性フィルム」と言うことがあり、また、「タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム」を単に「ベースフィルム」と言うことがある。以下の説明において「透明導電性フィルム」なる表現は断りのない限り「タッチパネル用透明導電性フィルム」を意味し、また「ベースフィルム」なる表現は断りのない限り「タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム」を意味する。
【背景技術】
【０００３】
ベースフィルムとして、基材フィルム上にハードコート層が設けられたハードコートフィルム、あるいはハードコートフィルムにさらに光学調整層が設けられたフィルムが一般に知られている。
【０００４】
透明導電膜としては酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の金属酸化物の薄膜が一般的に用いられており、ベースフィルム上にスパッタリング法や真空蒸着によって積層されている。
【０００５】
タッチパネルの動作方式として、抵抗膜式が主流であるが、近年、静電容量式が拡大している。抵抗膜式タッチパネルに用いられる透明導電性フィルムは、一般的にパターン化されていない透明導電膜（基材上を一面に覆う透明導電性膜）で構成されている。一方、静電容量式タッチパネルには、通常、パターン化された透明導電膜が積層された透明導電性フィルムが用いられている。
【０００６】
静電容量式タッチパネルに用いられる透明導電性フィルムは、通常、エッチングによって透明導電膜がパターン化されており、平面視上透明導電膜のパターン部と非パターン部が存在する。
【０００７】
このような透明導電膜がパターン化された透明導電性フィルムを用いた静電容量式タッチパネルは、透明導電膜のパターン部が視認される、いわゆる「骨見え」という現象が問題となっている。この「骨見え」現象は表示装置としての品質を低下させる。
【０００８】
透明導電膜パターンの骨見えを抑制するために、基材フィルムあるいはハードコートフィルムと透明導電膜との間に、単層もしくは複数層からなる光学調整層を設けることが知られている。これらの光学調整層として、金属酸化物層をスパッタリングによって形成することが一般的に知られている。
【０００９】
近年、生産性向上等のために光学調整層を、紫外線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し、紫外線を照射し硬化せしめて形成することが提案されている（特許文献１〜３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１１−１３４４８２号公報
【特許文献２】特開２０１２−１０３９６８号公報
【特許文献３】特開２０１３−９７５６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上記光学調整層の１層当たりの厚みは、数ｎｍ〜数十ｎｍ程度と比較的厚みが小さいため、上記したように紫外線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し、紫外線を照射し硬化せしめて形成された光学調整層は、良好な耐アルカリ性が得られないことがある。
【００１２】
透明導電膜のパターン化は、一般にエッチング法で行われる。つまり、透明導電膜の上にパターン化されたエッチングレジスト膜を形成した後、透明導電膜をエッチングする方法である。エッチング後、エッチングレジスト膜はアルカリ液で剥離される。
【００１３】
このような透明導電膜のエッチング工程において、エッチングされてパターン化された透明導電膜の非パターン部（透明導電膜が存在しない部分）は、光学調整層は露出状態となる。このような状態でエッチングレジスト膜の剥離工程でアルカリ処理されると、光学調整層の耐アルカリ性が不十分であると光学調整層の厚みが減少（膜減り）するという不都合な現象を起こすことがある。この現象は、最表層の光学調整層で顕著となる。
【００１４】
つまり光学調整層の膜減りが起こると、光学調整層の本来の機能である「骨見え」抑制が十分に発現しなくなるという問題が生じる。
【００１５】
また、この光学調整層の膜減りは剥離工程におけるアルカリ処理条件によって変動することがあり、光学調整層の最終膜厚にばらつきを生じさせることがある。この結果、安定的な「骨見え」の抑制効果が得られなくなる。
【００１６】
従って、本発明の目的は、ベースフィルムを構成する最表層の紫外線硬化性樹脂層の耐アルカリ性の向上を図り、それによって最表層の紫外線硬化性樹脂層上に積層される透明導電膜のパターンの視認「骨見え」を安定的に十分に抑制することにある。本発明の他の目的は、パターン化された透明導電膜のパターンの視認「骨見え」が安定的に抑制された透明導電性フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の上記目的は、以下の発明により基本的に達成された。
［１］基材フィルムの少なくとも一方の面に最表層として膜厚が７０ｎｍ未満の紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を有し、該紫外線硬化性樹脂層（Ａ）はオリゴマー型重合開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）を硬化せしめた層であることを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［２］前記オリゴマー型重合開始剤が下記一般式（１）で表される化合物である、［１］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【００１８】
【化１】
2015039860.tif 000002
【００１９】
式中、Ｙは直鎖状又は分岐状の３価の炭化水素基を表し、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立的に直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、Ｒ１とＲ２は相互に結合して環を形成してもよい。ｎは２〜５０の整数を表す。
［３］前記紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の屈折率が１．３５〜１．５５である、［１］または［２］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［４］前記基材フィルムが、屈折率が１．６１〜１．７０であるポリエチレンテレフタレートフィルムである、［１］〜［３］のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［５］前記基材フィルムが、屈折率が１．６１〜１．７０であるポリエチレンテレフタレートフィルムであり、かつ該基材フィルム上に、屈折率が１．６１〜１．７０である易接着層（Ｐ１）を介して紫外線硬化性樹脂層（Ａ）のみが設けられている、［１］〜［４］のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［６］前記基材フィルムと紫外線硬化性樹脂層（Ａ）との間に、屈折率が１．６１〜１．８０でかつ膜厚が７０ｎｍ未満の紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）を有する、［１］〜［４］のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［７］前記基材フィルムと紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）との間にハードコート層（Ｃ）を有する、［６］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［８］前記基材フィルムとハードコート層（Ｃ）との間に、屈折率が１．５５〜１．６０である易接着層（Ｐ２）を有する、［７］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［９］前記基材フィルムと紫外線硬化性樹脂層（Ａ）との間に、屈折率が１．６１〜１．８０であるハードコート層（Ｄ）を有する、［１］〜［４］のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［１０］前記基材フィルムとハードコート層（Ｄ）との間に、屈折率が１．６１〜１．７５である易接着層（Ｐ３）を有する、［９］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［１１］前記［１］〜［１０］のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの紫外線硬化性樹脂層（Ａ）上に、エッチングによりパターン化された透明導電膜を有する、タッチパネル用透明導電性フィルム。
［１２］前記［１］〜［１０］のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの紫外線硬化性樹脂層（Ａ）上に、エッチングによりパターン化された透明導電膜を有するタッチパネル用透明導電性フィルムの製造方法であって、（１）前記ベースフィルムの紫外線硬化性樹脂層（Ａ）上に透明導電膜を積層する工程、（２）透明導電膜上に所定パターンのエッチングレジスト膜を形成する工程、（３）透明導電膜をエッチングする工程、および（４）エッチングレジスト膜をアルカリ液で剥離する工程をこの順に有する、タッチパネル用透明導電性フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、パターン化された透明導電膜のパターンが視認される「骨見え」を安定的に抑制することができるベースフィルムを提供することができる。また、本発明のベースフィルムを用いることにより、「骨見え」が安定的に抑制された透明導電性フィルムを得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明のベースフィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面に最表層として膜厚が７０ｎｍ未満の紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を有するベースフィルムであり、前記紫外線硬化性樹脂層（Ａ）はオリゴマー型重合開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）を硬化せしめた層である。
【００２２】
紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚みは７０ｎｍ未満であることが重要である。紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚みが７０ｎｍ以上となると、透明導電膜の「骨見え」の抑制効果が十分に得られなくなる。
【００２３】
紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚みは、この層の屈折率およびこの層の上に積層される透明導電膜の厚みや組成に応じて、透明導電膜の「骨見え」の抑制効果が最適となるように設計されるが、以下の範囲で調整されることが好ましい。
【００２４】
つまり、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚みは、１０〜６０ｎｍの範囲で調整されることが好ましく、２０〜５５ｎｍの範囲で調整されることがより好ましく、特に２５〜５０ｎｍの範囲で調整されることが好ましい。
【００２５】
紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚みが１０ｎｍ未満となると、透明導電膜の「骨見え」の抑制効果が十分に得られなくなることがある。また、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）をウェットコーティング法により精度よく形成するという面からも、その厚みは１０ｎｍ以上であることが好ましい。
【００２６】
本発明のベースフィルムにおいて、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）は最表層に位置し、本発明のベースフィルムを用いて透明導電性フィルムを作製する場合、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の上に直接に透明導電膜が積層される。透明導電膜は更にエッチング工程でエッチングされてパターン化される。
【００２７】
この透明導電膜のパターン化工程は、透明導電膜上に所定パターンのエッチングレジスト膜を形成する工程、透明導電膜をエッチングする工程（エッチングにより透明導電膜をパターン化する工程）、および透明導電膜上のエッチングレジスト膜を剥離する工程が含まれる。エッチングレジスト膜の剥離工程では一般的にアルカリ液が用いられており、パターン化された透明導電膜の非パターン部（透明導電膜が存在しない部分）は紫外線硬化性樹脂層（Ａ）が露出しており、アルカリ液に晒される。
【００２８】
上記したように紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚みは比較的小さいことから、エッチングレジスト膜の剥離工程においてけるアルカリ処理に十分に耐えられない場合がある。つまり、アルカリ処理により紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の膜厚が減少する場合がある（膜減りが起こる場合がある）。この膜減りが起こると、透明導電膜の「骨見え」抑制効果が十分に得られなくなる。
【００２９】
エッチングレジスト膜の剥離工程は、使用するレジスト膜の種類や厚み、あるいはレジスト膜のパターン（透明導電膜のパターン）等により剥離条件（アルカリ処理条件）が適宜設定される。例えば、アルカリ液のアルカリ濃度、アルカリ液の温度、処理時間が適宜設定される。
【００３０】
紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の耐アルカリ性が不十分であると、剥離条件（アルカリ処理条件）の変化によって紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の膜減りの程度が変動するために、エッチング工程を経て得られた透明導電性フィルムにおいて紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚み（最終膜厚）を安定的に得ることができない。
【００３１】
紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚みは、７０ｎｍ未満の範囲内で透明導電膜の材料や厚みあるいは基材フィルムの種類等に応じて、光学的シミュレーションあるいは経験的に「骨見え」抑制に有効な厚みに予め設定される。しかし、上記したように透明導電膜のパターン化工程を経て得られた透明導電性フィルムにおいて、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚み（最終膜厚）が膜減りしたり、あるいは剥離条件によってばらつくと、「骨見え」の抑制効果が安定的に得られない。
【００３２】
従って、本発明は、厚みが７０ｎｍ未満の紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の耐アルカリ性を向上させるべき鋭意検討した結果、オリゴマー型重合開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）を硬化せしめて紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成することによって、上記課題が解決することを見出し本発明に至った。
【００３３】
［紫外線硬化性樹脂層（Ａ）］
本発明のベースフィルムにおける紫外線硬化性樹脂層（Ａ）は、オリゴマー型重合開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）を硬化せしめた層である。紫外線硬化性樹脂層（Ａ）は、基材フィルム上に上記紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）をウェットコーティング法により塗布し、乾燥した後、紫外線を照射して硬化せしめた層であることが好ましい。
【００３４】
上記のウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。
【００３５】
紫外線を照射するための光源としては、特に限定されないが、例えば、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく用いられる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。
【００３６】
紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。
【００３７】
紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）は、重合開始剤としてオリゴマー型重合開始剤を含有する。かかるオリゴマー型重合開始剤は、重合開始性能（光によりラジカルを発生させる基）を有する繰り返し単位を２〜５０有する化合物である。この繰り返し単位は、側鎖に光ラジカル発生基を有するものが好ましく、かかる光ラジカル発生基としては公知の光ラジカル発生剤に由来する官能基を用いることができる。
【００３８】
本発明に用いることができるオリゴマー型重合開始剤の代表例として、例えば、下記の一般式（１）に示す化合物が挙げられる。
【００３９】
【化２】
2015039860.tif 000003
【００４０】
式中、Ｙは直鎖状又は分岐状の３価の炭化水素基を表す。Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立的に直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、Ｒ１とＲ２は相互に結合して環を形成してもよい。ｎは２〜５０の整数を表す。
【００４１】
Ｙの直鎖状又は分岐状の３価の炭化水素基の炭素数は、特に制限されないが、２〜１０が好ましく、２〜６がより好ましく、特に２〜３が好ましい。Ｒ１及びＲ２の直鎖状又は分岐状のアルキル基の炭素数は、特に制限されないが、１〜８が好ましく、１〜５がより好ましく、特に１〜３が好ましい。ｎは２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１０が特に好ましい。
【００４２】
上記の一般式（１）の中でも、下記一般式（２）の化合物が好ましく用いられる。
【００４３】
【化３】
2015039860.tif 000004
【００４４】
式中、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ１、Ｒ２およびｎは一般式（１）と同義である。
【００４５】
また、一般式（１）、（２）において、オリゴマー型重合開始剤の繰り返し単位の連鎖部の末端は、置換基が結合されている。置換基としては、オリゴマー重合開始剤に由来する基であってもよいし、オリゴマー重合停止剤に由来する基であってもよいが、通常は水素原子、炭化水素基が挙げられる。炭化水素基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基などが挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの低級アルキル基等が挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロヘキシル、シクロへプチル基、シクロオクチル基およびこれ等のアルキル基置換体などが挙げられる。アリール基としては、フェニル基、およびそのアルキル基置換体等が挙げられる。
【００４６】
上記の一般式（１）、（２）で表されるオリゴマー型重合開始剤の具体例としては、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕ブタノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕ブタノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕ブタノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕ブタノン］等が挙げられる。
【００４７】
上記の一般式（１）、（２）で表されるオリゴマー型重合開始剤は、一般に市販されており入手することができる。例えば、ランベルティ社製の商品名「エザキュアワン」、「エザキュアＫＩＰ１５０」、「エザキュアＫＩＰ６５ＬＴ」、「エザキュアＫＩＰ１００Ｆ」、「エザキュアＫＴ３７」、「エザキュアＫＴ５５」、「エザキュアＫＴＯ４６」、「エザキュアＫＩＰ７５／Ｂ」等を挙げることができる。
【００４８】
また、オリゴマー型重合開始剤として、特開２０１１−９９９７４号公報に開示されている光ラジカル発生基を有するエチレン性不飽和化合物（同公報の式（２）〜式（７）の化合物）を重合して得られた化合物を用いることができる。
【００４９】
これらのオリゴマー型重合開始剤は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組合せて用いてもよい。
【００５０】
紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）におけるオリゴマー型重合開始剤の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が好ましく、０．３〜８質量％の範囲がより好ましく、特に０．５〜５質量％の範囲が好ましい。
【００５１】
また、オリゴマー型重合開始剤と他の重合開始剤（例えば単量体）を組み合わせて用いることができる。この場合のオリゴマー型重合開始剤の比率は、重合開始剤の総量１００質量部に対して６０質量部以上が好ましく、７０質量部以上がより好ましく、特に８０質量部以上が好ましい。上限は１００質量部である。
【００５２】
上記の他の重合開始剤（単量体）としては、例えば、セトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、２．２−ジメトキシ−１．２−ジフェニルエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−メチル−プロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチループロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−フェニル）−１−ブタン、２−（ジメチルアミノ）−２−[（４−メチルフェニル）メチル]−１−（４−フェニル）−１−ブタン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタン、２−（ジメチルアミノ）−２−[（４−メチルフェニル）メチル]−１−[４−（４−モルフォリニル）フェニル]−１−ブタン、１−シクロヒキシル−フェニルケトン、２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−[４−（２−エトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンなどのアルキルフェノン系化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物が挙げられる。
【００５３】
紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）は、紫外線硬化性樹脂を含有する。かかる紫外線硬化性樹脂としては、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物（モノマーやオリゴマー）が挙げられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アリル基、ビニル基等が挙げられる。本発明において、このようなエチレン性不飽和基を分子中に２個以上有する化合物が好ましく、特にエチレン性不飽和基を分子中に３個以上有する化合物が好ましく用いられる。
【００５４】
分子中にエチレン性不飽和基を有する化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの化合物に限定されない。尚、下記の説明において、「・・・（メタ）アクリレート」なる表現は、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」との２つの化合物を含む。
【００５５】
分子中にエチレン性不飽和基を２個有する化合物としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００５６】
分子中にエチレン性不飽和基を３個以上有する化合物としては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートトルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマーなどが挙げられる。
【００５７】
また、多官能のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとして、市販されているものを使用することができる。例えば、共栄社化学（株）製のウレタンアクリレートＡＨシリーズ、ウレタンアクリレートＡＴシリーズ、ウレタンアクリレートＵＡシリーズ、根上工業（株）製のＵＮ−３３２０シリーズ、ＵＮ−９００シリーズ、新中村化学工業（株）製のＮＫオリゴＵシリーズ、ダイセル・ユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌ１２９０シリーズなどが挙げられる。
【００５８】
紫外線硬化性樹脂として、上記したように分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物が好ましく、更に分子中にエチレン性不飽和基を３個以上有する化合物が好ましいが、分子中にエチレン性不飽和基を１個有する化合物を組み合わせて用いることができる。
【００５９】
分子中にエチレン性不飽和基を１個有する化合物としては、例えばメチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エチルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６０】
紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）における紫外線硬化性樹脂（分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物）の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）の固形分総量１００質量％に対して４０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が特に好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましく、９７質量％以下が特に好ましい。
【００６１】
紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）を硬化せしめて形成される紫外線硬化性樹脂層（Ａ）は、その上に積層される透明導電膜の「骨見え」を抑制するという観点から、その屈折率は１．３５〜１．５５の範囲が好ましく、１．４０〜１．５３の範囲がより好ましく、１．４２〜１．５０の範囲が特に好ましい。
【００６２】
なお、本発明において、上記紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の屈折率、および後述する各層の屈折率は、特に断りの無い限り、波長５８９ｎｍにおける屈折率を言う。
【００６３】
紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の屈折率を上記した範囲とするために、紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）は低屈折率無機粒子やフッ素化合物を含有することが好ましい。低屈折率無機粒子およびフッ素化合物はそれぞれ単独で使用してもよいし、組み合わせて使用してもよい。
【００６４】
低屈折率無機粒子としては、シリカやフッ化マグネシウム等の無機粒子挙げられる。さらにこれらの無機粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）における低屈折率無機粒子の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）の固形分総量１００質量％に対して１〜４５質量％の範囲が好ましく、３〜３５質量％の範囲がより好ましく、特に５〜３０質量％の範囲が好ましい。
【００６５】
含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。ここで、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーは、分子中にエチレン性不飽和基とフッ素原子とを有するモノマーやオリゴマーである。
【００６６】
含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、βー（パーフロロオクチル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類、  ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，２−トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールなどのジ−（α−フルオロアクリル酸）フルオロアルキルエステル類が挙げられる。
【００６７】
含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。
【００６８】
紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）における含フッ素化合物の含有量は紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）の固形分総量１００質量％に対して５〜５０質量％の範囲が好ましく、１０〜４５質量％の範囲がより好ましく、特に１５〜４０質量％の範囲が好ましい。
【００６９】
紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）は、低屈折率無機粒子とフッ素化合物を組み合わせて用いることができる。この場合、低屈折率無機粒子とフッ素化合物の合計の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）の固形分総量１００質量％に対して５〜６０質量％の範囲が好ましく、１０〜５５質量％の範囲がより好ましく、特に１５〜５０質量％の範囲が好ましい。また、低屈折率無機粒子とフッ素化合物との含有比率は、質量比で５：９５〜９５：５の範囲が適当であり、１０：９０〜９０：１０の範囲が好ましい。
【００７０】
紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）は、適当な有機溶媒を含有することができる。かかる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ―ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチルなどのエステル類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、トルエン、シクロヘキサン、ヘプタンなどの炭化水素類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールアルキルエーテル類が挙げられ、これらを単独もしくは２種以上併用して用いることができる。
【００７１】
［基材フィルム］
本発明における基材フィルムの材料は、特に限定されるものではないが、かかる材料として、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等が挙げられる。好ましくは、熱、溶剤、折り曲げ等の加工時の負荷に対する耐性が高く、透明性が特に高い点で、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等が挙げられ、より好ましくは、加工性に優れている点でポリエステルが使用される。ポリエステルの中でもポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００７２】
上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率は、通常１．６１〜１．７０の範囲であり、詳細には１．６２〜１．６８の範囲の範囲であり、より詳細には１．６３〜１．６７の範囲である。
【００７３】
基材フィルムの厚みは、２０〜３００μｍの範囲が適当であり、５０〜２５０μｍの範囲が好ましく、５０〜２００μｍの範囲がより好ましい。
【００７４】
［易接着層］
本発明の基材フィルムは、少なくとも紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を積層する側の面に易接着層が設けられていることが好ましい。易接着層は基材フィルムの両面に積層されていることがより好ましい。
【００７５】
易接着層は、樹脂を含有する層であることが好ましい。かかる樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましく用いられる。
【００７６】
易接着層の厚みは、５〜２００ｎｍの範囲が好ましく、１０〜１５０ｎｍの範囲がより好ましく、特に１５〜１２０ｎｍの範囲が好ましい。
【００７７】
易接着層は架橋剤を含有することが好ましい。かかる架橋剤としては、例えばメラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤が好ましく用いられる。
【００７８】
易接着層における架橋剤の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して、１〜４０質量％の範囲が好ましく、３〜３５質量％の範囲がより好ましく、５〜３０質量％の範囲が特に好ましい。
【００７９】
易接着層は、更に滑り性や耐ブロッキング性の向上のために、有機あるいは無機の粒子を含有することが好ましい。このような粒子としては特に限定されないが、例えばシリカ、炭酸カルシウム、ゼオライト粒子などの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン（登録商標）粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋重合体粒子、コアシェル粒子などの有機粒子が挙げられる。これらの粒子の中でも、シリカが好ましく、更にコロイダルシリカが好ましく用いられる。
【００８０】
粒子の平均粒子径は、滑り性や耐ブロッキング性を向上させるという観点から３０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましく、特に１００ｎｍ以上が好ましい。平均粒子径の上限は５００ｎｍ以下好ましく、４００ｎｍ以下がより好ましく、特に３００ｎｍ以下が好ましい。
【００８１】
易接着層における粒子の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜８質量％の範囲が好ましく、０．１〜５質量％の範囲がより好ましい。
【００８２】
易接着層は、基材フィルム上にウェットコーティング法により積層されていることが好ましい。特に易接着層を基材フィルムの製造工程内で積層する、いわゆる「インラインコーティング法」で積層されていることが好ましい。基材フィルム上に易接着層を塗布する際には、塗布性や密着性を向上させるための予備処理として、基材フィルム表面にコロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理等を施しておくことが好ましい。
【００８３】
上述の易接着層に関する説明は、後述の易接着層（Ｐ１）、易接着層（Ｐ２）、および易接着層（Ｐ３）に共通する。
【００８４】
［ベースフィルムの構成］
本発明のベースフィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面（つまり、片側）に紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を有する。紫外線硬化性樹脂層（Ａ）は、基材フィルムの両面（つまり、両側）に設けることができるが、基材フィルムの一方の面のみに設けることが好ましい。この場合、基材フィルムの他方の面（紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を有する面とは反対面）には、ハードコート層（Ｈ）が設けられていることが好ましい。上記の好ましい態様は、以下の態様１〜態様３においても共通する。ハードコート層（Ｈ）については後述する。
【００８５】
［態様１］
態様１は、基材フィルムの少なくとも一方の面に紫外線硬化性樹脂層（Ａ）のみが設けられたベースフィルムである。この態様において、基材フィルムとしては易接着層（Ｐ１）を有するポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく、この易接着層（Ｐ１）の上に紫外線硬化性樹脂層（Ａ）のみが設けられた構成である。
【００８６】
この態様において、透明導電膜の「骨見え」の抑制効果を高めるという観点から、易接着層（Ｐ１）の屈折率は、１．６１〜１．７０の範囲が好ましく、１．６２〜１．６８の範囲がより好ましく、特に１．６３〜１．６７の範囲が好ましい。更に、ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値は、０．０３以下が好ましく、０．０２以下がより好ましく、０．０１以下が特に好ましい。
【００８７】
ポリエチレンテレフタレートフィルムおよび紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の屈折率は、前述した通りである。
【００８８】
［易接着層（Ｐ１）］
易接着層（Ｐ１）は樹脂を含有することが好ましい。易接着層（Ｐ１）における樹脂の含有量は、易接着層（Ｐ１）の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましい。上限の含有量は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８０質量％以下が特に好ましい。
【００８９】
易接着層（Ｐ１）の屈折率（ｎｂ）は１．６１〜１．７０であり、このような比較的大きい屈折率とするために、易接着層（Ｐ１）は樹脂として高屈折率樹脂を含有することが好ましい。かかる高屈折率樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂に、芳香族環、硫黄原子、臭素原子等を導入することにより高屈折率化した樹脂を挙げることができる。
【００９０】
高屈折率樹脂としては、分子中に縮合芳香族環を有するポリエステル樹脂が好ましく用いられる。上記縮合芳香族環としては、ナフタレン環やフルオレン環が好ましい。
【００９１】
ポリエステル樹脂は、一般的にカルボン酸成分とグリコール成分から重縮合して得られる。上記の分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分として、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレン環を有するジカルボン酸を用いることによって合成することができる。分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂の屈折率は、全カルボン酸成分中のナフタレン環を有するジカルボン酸の比率を調整することによって制御することができる。
【００９２】
分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分および／またはグリコール成分として、フルオレン環を有する化合物を用いることによって合成することができる。上記フルオレン環を有する化合物の含有量を調整することによって該ポリエステル樹脂の屈折率を制御することができる。分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、例えば、国際公開第ＷＯ２００９／１４５０７５号に詳しく記載されており、それを参照して合成することができる。
【００９３】
易接着層（Ｐ１）における高屈折率樹脂の含有量は、易接着層（Ｐ１）の固形分総量１００質量％に対して５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上が特に好ましい。上限の含有量は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。
【００９４】
また、易接着層（Ｐ１）の屈折率を比較的大きくするために、易接着層（Ｐ１）は屈折率が１．６５以上の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。特に、易接着層（Ｐ１）は屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。
【００９５】
屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物微粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに易接着層（Ｐ１）の屈折率を高めることができるので好ましい。
【００９６】
易接着層（Ｐ１）が金属酸化物微粒子を含有する態様において、樹脂と金属酸化物微粒子の含有比率は、質量比で１００：１０〜１００：４００の範囲が適当であり、１００：２０〜１００：３００の範囲が好ましく、特に１００：３０〜１００：２００の範囲が好ましい。樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびウレタン樹脂からなる群の中から選ばれる少なくとも一種を用いることが好ましい。これらの樹脂の一部もしくは全部は、上記の高屈折率樹脂であってもよい。
【００９７】
易接着層（Ｐ１）は、前述したように架橋剤および粒子を含有することが好ましい。
【００９８】
［態様２］
態様２は、基材フィルムの少なくとも一方の面に、基材フィルムと紫外線硬化性樹脂層（Ａ）との間に、厚みが７０ｎｍ未満でかつ屈折率が１．６１〜１．８０である紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）が設けられたベースフィルムである。この紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）を設けることによって、更に透明導電膜の「骨見え」を抑制することができる。
【００９９】
更に透明導電膜の「骨見え」の抑制の観点から、紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）の屈折率は、１．６２〜１．７７の範囲が好ましく、１．６３〜１．７５の範囲がより好ましく、１．６４〜１．７３の範囲が特に好ましい。
【０１００】
紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）の厚みは、透明導電膜の「骨見え」の抑制の観点から、６５ｎｍ以下が好ましく、６０ｎｍ以下がより好ましく、特に５５ｎｍ以下が好ましい。下限の厚みは、透明導電膜の「骨見え」の抑制の観点から、２０ｎｍ以上が好ましく、２５ｎｍ以上がより好ましく、３０ｎｍ以上が特に好ましい。
【０１０１】
態様２は、ベースフィルムの耐擦傷性向上および基材フィルムからのオリゴマー析出抑制の観点から、更に基材フィルムと紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）との間にハードコート層（Ｃ）が設けられていることが好ましい。上記観点から、ハードコート層（Ｃ）の厚みは０．３〜５μｍの範囲が好ましく、０．５〜４μｍの範囲がより好ましく、特に１〜３μｍの範囲が好ましい。このハードコート層（Ｃ）の屈折率は、１．４８〜１．５４の範囲が適当であり、１．５０〜１．５３の範囲が好ましい。
【０１０２】
また、態様２においては、ベースフィルムの反射色むらを抑制するという観点から、基材フィルムとハードコート層（Ｃ）との間に、屈折率が１．５５〜１．６０である易接着層（Ｐ２）を有することが好ましい。
【０１０３】
態様２においては、特に、基材フィルムとして易接着層（Ｐ２）を有するポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が好ましく用いられる。
【０１０４】
態様２の特に好ましい構成は、「ＰＥＴフィルム／易接着層（Ｐ２）／ハードコート層（Ｃ）／紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）／紫外線硬化性樹脂層（Ａ）」である。この構成において、ベースフィルムの反射色むらを抑制するという観点から、易接着層（Ｐ２）の屈折率は１．５５〜１．６０の範囲が好ましく、１．５６〜１．５９の範囲がより好ましく、特に１．５７〜１．５９の範囲が好ましい。他の構成層（ＰＥＴフィルム、ハードコート層（Ｃ）、紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）および紫外線硬化性樹脂層（Ａ））の屈折率は前述した通りである。
【０１０５】
［紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）］
紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）は、紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）をウェットコーティング法により塗布し、乾燥した後、紫外線を照射して硬化せしめた層であることが好ましい。
【０１０６】
上記のウェットコーティング法および紫外線を照射するための光源としては、前述の紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するために用いられるのと同様の方法および光源を用いることができる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。
【０１０７】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）は、紫外線硬化性樹脂を含有する。ここで紫外線硬化性樹脂は、前述の紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）に用いられるのと同様の紫外線硬化性樹脂（分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物）を用いることができる。
【０１０８】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）における紫外線硬化性樹脂（分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物）の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。上限は９０質量％以下が好ましく、８０質量％以下がより好ましく、７０質量％以下が特に好ましい。
【０１０９】
紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）の屈折率は、１．６１〜１．８０と比較的大きいため、紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）は、屈折率が１．６５以上の金属酸化物微粒子を含有することが好ましく、特に屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。このような金属酸化物微粒子としては、チタン、ジルコニウム、亜鉛、錫、アンチモン、セリウム、鉄、インジウム等の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子の具体例としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物微粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）の屈折率を高めることができるので好ましい。
【０１１０】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）における金属酸化物微粒子の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましく、４５質量％以上が最も好ましい。上限は９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましく、特に８０質量％以下が好ましい。
【０１１１】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）は、重合開始剤を含有することが好ましい。このような重合開始剤の具体例としては、例えば、セトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、２．２−ジメトキシ−１．２−ジフェニルエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−メチル−プロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチループロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−フェニル）−１−ブタン、２−（ジメチルアミノ）−２−[（４−メチルフェニル）メチル]−１−（４−フェニル）−１−ブタン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタン、２−（ジメチルアミノ）−２−[（４−メチルフェニル）メチル]−１−[４−（４−モルフォリニル）フェニル]−１−ブタン、１−シクロヒキシル−フェニルケトン、２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−[４−（２−エトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンなどのアルキルフェノン系化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物が挙げられる。また、前述したオリゴマー型重合開始剤も用いることができる。これらの重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【０１１２】
上記重合開始剤の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が好ましく、０．３〜８質量％の範囲がより好ましく、特に０．５〜５質量％の範囲が好ましい。
【０１１３】
［ハードコート層（Ｃ）］
ハードコート層（Ｃ）は、鉛筆硬度がＦ以上の層であることが好ましい。ハードコート層（Ｃ）の鉛筆硬度は更にＨ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。ここで、鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）に準拠して測定されるものである。
【０１１４】
ハードコート層（Ｃ）は、紫外線硬化性樹脂組成物（ｃ）をウェットコーティング法により塗布し、乾燥した後、紫外線を照射して硬化せしめた層であることが好ましい。
【０１１５】
上記のウェットコーティング法および紫外線を照射するための光源としては、前述の紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するために用いられるのと同様の方法および光源を用いることができる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。
【０１１６】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｃ）は、紫外線硬化性樹脂を含有する。ここで紫外線硬化性樹脂は、前述の紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）に用いられるのと同様の紫外線硬化性樹脂（分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物）を用いることができる。
【０１１７】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｃ）における紫外線硬化性樹脂（分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物）の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物（ｃ）の固形分総量１００質量％に対して６０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上が特に好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましい。
【０１１８】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｃ）は、重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤は、前述の紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）に用いられるものと同様のものを用いることができる。また、重合開始剤の含有量も前述の紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）と同様である。
【０１１９】
［易接着層（Ｐ２）］
易接着層（Ｐ２）の屈折率は１．５５〜１．６０と比較的大きいことから、易接着層（Ｐ２）は、樹脂として前述の易接着層（Ｐ１）で用いられる高屈折率樹脂（分子中に縮合芳香族環を有するポリエステル樹脂）を用いることが好ましい。特に分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂が好ましい。
【０１２０】
易接着層（Ｐ２）における高屈折率樹脂の含有量は、易接着層（Ｐ２）の固形分総量１００質量％に対して５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上が特に好ましい。上限の含有量は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。
【０１２１】
易接着層（Ｐ２）は、前述したように架橋剤および粒子を含有することが好ましい。
【０１２２】
［態様３］
態様３は、基材フィルムの少なくとも一方の面に、基材フィルムと紫外線硬化性樹脂層（Ａ）との間に、屈折率が１．６１〜１．８０であるハードコート層（Ｄ）が設けられたベースフィルムである。このハードコート層（Ｄ）を設けることによって、透明導電膜の「骨見え」の抑制効果を維持しながら、ベースフィルムの耐擦傷性向上および基材フィルムからのオリゴマー析出抑制が向上する。
【０１２３】
透明導電膜の「骨見え」の抑制の観点から、ハードコート層（Ｄ）の屈折率は、１．６２〜１．７８の範囲が好ましく、１．６３〜１．７５の範囲がより好ましく、１．６４〜１．７４の範囲が特に好ましい。
【０１２４】
ハードコート層（Ｄ）の厚みは、ベースフィルムの耐擦傷性および基材フィルムからのオリゴマー析出抑制の向上の観点から、０．３〜３μｍの範囲が好ましく、０．４〜２μｍの範囲がより好ましく、特に０．５〜１．５μｍの範囲が好ましい。
【０１２５】
態様３においては、前記基材フィルムとハードコート層（Ｄ）との間に、屈折率が１．６１〜１．７５である易接着層（Ｐ３）を有することが好ましい。
【０１２６】
特に、態様３においては、基材フィルムとして易接着層（Ｐ３）を有するポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が好ましく用いられる。
【０１２７】
態様３の特に好ましい構成は、「ＰＥＴフィルム／易接着層（Ｐ３）／ハードコート層（Ｄ）／紫外線硬化性樹脂層（Ａ）」である。この構成において、透明導電膜の「骨見え」を抑制するという観点およびベースフィルムの反射色むらを抑制するという観点から、易接着層（Ｐ３）の屈折率は、１．６１〜１．７５の範囲が好ましく、１．６２〜１．７０の範囲がより好ましく、特に１．６３〜１．６８の範囲が好ましい。他の構成層（ＰＥＴフィルム、ハードコート層（Ｄ）および紫外線硬化性樹脂層（Ａ））の屈折率は前述した通りである。
【０１２８】
更に上記観点から（透明導電膜の「骨見え」を抑制するという観点およびベースフィルムの反射色むらを抑制するという観点から）、ＰＥＴフィルム、易接着層（Ｐ３）の屈折率およびハードコート層（Ｄ）の屈折率の関係は以下の範囲が好ましい。
【０１２９】
−０．０２≦（ｎｐ−ｎｆ）≦０．０５  ・・・  式１
−０．０２≦（ｎｄ−ｎｐ）≦０．０５  ・・・  式２
｜ｎｐ−｛ｎｆ＋（ｎｄ−ｎｆ）／２）｝｜≦０．０２  ・・・  式３
上記式１〜３および下記式４〜６において、ｎｆはＰＥＴフィルムの屈折率、ｎｐは易接着層（Ｐ３）の屈折率、ｎｄはハードコート層の屈折率を表す。
【０１３０】
更に、ＰＥＴフィルム、易接着層（Ｐ３）の屈折率およびハードコート層（Ｄ）の屈折率の関係は以下の範囲が特に好ましい。
【０１３１】
−０．０１≦（ｎｐ−ｎｆ）≦０．０２  ・・・  式４
−０．０１≦（ｎｄ−ｎｐ）≦０．０２  ・・・  式５
｜ｎｐ−｛ｎｆ＋（ｎｄ−ｎｆ）／２）｝｜≦０．０１  ・・・  式６
［ハードコート層（Ｄ）］
ハードコート層（Ｄ）は、鉛筆硬度がＦ以上の層であることが好ましい。ハードコート層（Ｄ）の鉛筆硬度は更にＨ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。ここで、鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）に準拠して測定されるものである。
【０１３２】
ハードコート層（Ｄ）は、紫外線硬化性樹脂組成物（ｄ）をウェットコーティング法により塗布し、乾燥した後、紫外線を照射して硬化せしめた層であることが好ましい。
【０１３３】
上記のウェットコーティング法および紫外線を照射するための光源としては、前述の紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するために用いられるのと同様の方法および光源を用いることができる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。
【０１３４】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｄ）は、紫外線硬化性樹脂を含有する。ここで紫外線硬化性樹脂は、前述の紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）に用いられるのと同様の紫外線硬化性樹脂（分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物）を用いることができる。
【０１３５】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｄ）における紫外線硬化性樹脂（分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物）の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物（ｄ）の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましい。上限は８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が特に好ましい。
【０１３６】
ハードコート層（Ｄ）の屈折率は、１．６１〜１．８０と比較的大きいため、紫外線硬化性樹脂組成物（ｄ）は、屈折率が１．６５以上の金属酸化物微粒子を含有することが好ましく、特に屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。このような金属酸化物微粒子としては、チタン、ジルコニウム、亜鉛、錫、アンチモン、セリウム、鉄、インジウム等の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子の具体例としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物微粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずにハードコート層（Ｄ）の屈折率を高めることができるので好ましい。
【０１３７】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｄ）における金属酸化物微粒子の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物（ｄ）の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましく、５０質量％以上が最も好ましい。上限は８０質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましく、特に７０質量％以下が好ましい。
【０１３８】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｄ）は、重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤は、前述の紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）に用いられるものと同様のものを用いることができる。また、重合開始剤の含有量も前述の紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）と同様である。
【０１３９】
［易接着層（Ｐ３）］
易接着層（Ｐ３）は、前述の易接着層（Ｐ２）と同様の構成を採用することができる。易接着層（Ｐ３）は、易接着層（Ｐ２）と同様の構成として、高屈折率樹脂あるいは金属酸化物微粒子の種類や含有量を調整することによって、所望の屈折率を得ることができる。
【０１４０】
易接着層（Ｐ２）は、前述したように架橋剤および粒子を含有することが好ましい。
【０１４１】
［ベースフィルムを構成する他の機能層］
前述したように、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）は基材フィルムの一方の面のみに設けることが好ましく、この場合、基材フィルムの他方の面（紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を有する面とは反対面）には、ハードコート層（Ｈ）が設けられていることが好ましい。
【０１４２】
［ハードコート層（Ｈ）］
ハードコート層（Ｈ）は、鉛筆硬度がＦ以上の層であることが好ましい。ハードコート層（Ｈ）の鉛筆硬度は更にＨ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。ここで、鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）に準拠して測定されるものである。
【０１４３】
ハードコート層（Ｈ）は、ベースフィルムおよび透明導電性フィルムに良好なすべり性や耐ブロッキング性を付与するために、粒子を含有することが好ましい。
【０１４４】
ハードコート層（Ｈ）が粒子を含有することにより、ベースフィルムのヘイズ値が大きくなり透明性が低下する傾向にあるが、ハードコート層（Ｈ）の厚み（Ｔ）に対して、粒子の平均粒子径（Ｄ）が十分に小さい粒子を用いることによってヘイズ値の上昇を抑制することができる。
【０１４５】
つまり、ヘイズ値の上昇を抑制しながら良好なすべり性や耐ブロッキング性を確保するという観点から、ハードコート層（Ｈ）の厚み（Ｔ）［μｍ］に対する粒子の平均粒子径（Ｄ）［μｍ］の比率（Ｄ／Ｔ）は、０．０１〜０．５の範囲が好ましく、０．０２〜０．３の範囲がより好ましく、特に０．０３〜０．２の範囲が好ましい。
【０１４６】
ハードコート層（Ｈ）の厚みは、良好なすべり性や耐ブロッキング性を得るという観点およびベースフィルムのカールバランスを維持するという観点から、０．５〜５μｍの範囲が好ましく、０．８〜４μｍの範囲がより好ましく、特に１〜３μｍの範囲が好ましい。
【０１４７】
粒子としては、有機粒子や無機粒子を用いることができる。有機粒子を構成する樹脂としては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、あるいは上記樹脂の合成に用いられる２種以上のモノマーの共重合樹脂が挙げられる。これらの中でもアクリル系樹脂粒子が好ましく用いられる
ここでアクリル系樹脂粒子とは、アクリル樹脂粒子、メタクリル樹脂粒子、アクリルモノマーあるいはメタクリルモノマーと他のモノマー（例えば、スチレン、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレート、シリコーンアクリレート、シリコーンメタクリレート等）との共重合樹脂粒子が含まれる。
【０１４８】
上記共重合樹脂粒子の中でも、スチレン−アクリル共重合樹脂粒子やスチレン−メタクリル共重合樹脂粒子のようなスチレン−アクリル系共重合樹脂粒子が好ましく用いられる。
【０１４９】
これらの有機粒子は乳化重合法により合成されることが好ましく、乳化重合法で合成されることによって平均粒子径が０．５μｍ未満の有機粒子を得ることができる。
【０１５０】
無機粒子としてはシリカが好ましく、特にコロイダルシリカが好ましい。
【０１５１】
ハードコート層（Ｈ）における粒子の含有量は、ハードコート層（Ｈ）の固形分総量１００質量％に対して２〜２０質量％の範囲が好ましく、３〜１５質量％の範囲がより好ましく、特に４〜１２質量％の範囲が好ましい。
【０１５２】
ハードコート層（Ｈ）は、紫外線硬化性樹脂組成物（ｈ）をウェットコーティング法により塗布し、乾燥した後、紫外線を照射して硬化せしめた層であることが好ましい。
【０１５３】
上記のウェットコーティング法および紫外線を照射するための光源としては、前述の紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するために用いられるのと同様の方法および光源を用いることができる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。
【０１５４】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｈ）は、前述の粒子と紫外線硬化性樹脂を少なくとも含有する。ここで紫外線硬化性樹脂は、前述の紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）に用いられるのと同様の紫外線硬化性樹脂（分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物）を用いることができる。
【０１５５】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｈ）における紫外線硬化性樹脂（分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物）の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物（ｃ）の固形分総量１００質量％に対して６０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、７５質量％以上が特に好ましい。上限は９７質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましい。
【０１５６】
紫外線硬化性樹脂組成物（ｈ）は、重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤は、前述の紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）に用いられるものと同様のものを用いることができる。また、重合開始剤の含有量も前述の紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）と同様である。
【０１５７】
［紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の積層］
前述したように、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）は基材フィルム上にオリゴマー型重合開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）をウェットコーティング法により塗布し、乾燥した後、紫外線を照射して硬化せしめることによって形成されることが好ましい。
【０１５８】
ここで、乾燥工程は紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）に含有する有機溶媒を蒸発させるために行われるが、乾燥温度は高い方が好ましい。
【０１５９】
本発明のベースフィルムを用いて透明導電性フィルムを製造する場合、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）上に透明導電膜が積層される。透明導電膜はその表面抵抗値を小さくするために結晶化処理（加熱処理）が施されることがある。この結晶化処理において、ベースフィルムの揮発性溶媒の含有率が高いと結晶化が十分に行われず、その結果表面抵抗値が十分に低下しないことがある。つまり、透明導電膜の結晶化においてベースフィルムの揮発性溶媒の含有率は小さいことが好ましい。
【０１６０】
ベースフィルムの揮発性溶媒の含有率を小さくするために、上記したように紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の乾燥工程における乾燥温度は高い方が好ましい。
【０１６１】
具体的には、上記乾燥工程における乾燥温度の最高温度は、１１０℃以上が好ましく、１２０℃以上がより好ましく、特に１３０℃以上が好ましい。上限は２００℃程度である。
【０１６２】
しかし、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の乾燥工程における乾燥温度を上記のように高くすると、紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）に含有する重合開始剤が昇華して紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の耐アルカリ性が低下することがある。
【０１６３】
この観点からも、オリゴマー型重合開始剤は低昇華性であるので、乾燥温度を高くしても耐アルカリ性は低下しないという利点がある。
【０１６４】
［透明導電性フィルム］
透明導電性フィルムは、前述した本発明のベースフィルムの紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の上に透明導電膜を設けることにより得られる。
【０１６５】
本発明の透明導電性フィルムは、静電容量式タッチパネルに好適である。静電容量式タッチパネルの透明導電性フィルムの透明導電膜は、通常、所定のパターンにパターン化されている。この透明導電膜のパターン化は、透明導電膜をエッチング処理することにより行われる。
【０１６６】
この透明導電膜のパターン形状は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種パターンが採用される。この透明導電膜パターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部のパターン形状としては、例えば、ストライプ状、格子状、あるいはこれらの組み合わせ等が挙げられる。具体的には、例えば、特開２００６−３４４１６３号公報、特開２０１１−１２８８９６号公報等に開示されているパターンが挙げられる。
【０１６７】
パターン化された透明導電膜を有する透明導電性フィルムは、透明導電膜のパターン部（透明導電膜がエッチングされずに残存している部分（導電部））と非パターン部（透明導電膜がエッチングされて除去された部分（非導電部））との反射率や透過率の違い、あるいはパターン部と非パターン部の色調の違いにより、パターン部が視認される、いわゆる「骨見え」が起こり、透明導電膜の視認性を低下させている。この「骨見え」の問題は、本発明のベースフィルムを用いることにより低減される。
【０１６８】
［透明導電膜］
透明導電膜の材料としては、透明導電性フィルムに用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）などの金属酸化物、銀ナノワイヤーなどの金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でもＩＴＯが好ましく用いられる。
【０１６９】
透明導電膜の厚みは、透明導電膜の視認性を向上させるという観点から小さい方が好ましく、具体的には５０ｎｍ以下が好ましく、４０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下が更に好ましく、特に２５ｎｍ以下が好ましい。透明導電膜の厚みの下限は、低抵抗の透明導電膜を確保するという観点から５ｎｍ以上が好ましく、７ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上が特に好ましい。
【０１７０】
透明導電膜の表面抵抗値は、１０００Ω／□以下が好ましく、５００Ω／□以下が好ましい。
【０１７１】
透明導電膜の屈折率１．８１以上であることが好ましい。さらに透明導電膜の屈折率は１．８５以上が好ましく、１．９０以上がより好ましい。上限は２．２０以下が好ましく、２．１０以下がより好ましい。
【０１７２】
［透明導電性フィルムの製造方法］
本発明のベースフィルムを用いた透明導電性フィルムの製造方法の好ましい態様は、下記の１）〜４）の工程をこの順に含む。
（１）ベースフィルムの紫外線硬化性樹脂層（Ａ）上に透明導電膜を積層する工程（透明導電膜積層工程）
（２）透明導電膜上に所定パターンのエッチングレジスト膜を形成する工程（エッチングレジスト膜形成工程）
（３）透明導電膜をエッチングする工程（エッチング工程）
（４）エッチングレジスト膜をアルカリ液で剥離する工程（剥離工程）。
【０１７３】
［（１）透明導電膜積層工程］
本発明のベースフィルムの紫外線硬化性樹脂層（Ａ）上に直接に透明導電膜が積層される。この透明導電膜の積層方法（製膜方法）としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。
【０１７４】
透明導電膜は、結晶化処理（加熱処理）が施されることが好ましい。この結晶化処理は、１００〜２００℃の温度で１０〜２００分程度の加熱処理が一般的である。透明導電膜を結晶化処理することにより、透明導電膜の表面抵抗値を低下させることができる。
【０１７５】
［（２）エッチングレジスト膜の形成工程］
ベースフィルムの紫外線硬化性樹脂層（Ａ）上に積層された透明導電膜をパターン化するために、先ず透明導電膜上に所定パターンのエッチングレジスト膜を形成する。
【０１７６】
所定パターンのエッチングレジスト膜は、フォトリソグラフィ法（マスク露光法およびレーザー露光法を含む）あるいは印刷法により形成する。
【０１７７】
エッチングレジスト膜は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、タルハライドランプあるいはレーザー光線などの露光で硬化しかつアルカリ溶液などで現像が可能なアクリル系フォトレジスト材料などで構成される。エッチングレジスト膜は、透明導電膜上に液状のレジスト材料を塗布によって積層してもよいし、透明導電膜上にドライレジストフィルムを貼り合わせることによって積層してもよい。エッチングレジスト膜の厚みは、０．０１〜２０μｍの範囲が適当である。
【０１７８】
透明導電膜上に積層されたエッチングレジスト膜は、所定パターン状にマスク露光（所定パターンのフォトマスクを介して、高圧水銀灯、超高圧水銀灯またはメタルハライドランプなどで露光）あるいは所定パターンにレーザー露光され、現像液で現像されて所定パターンのエッチングレジスト膜が形成される。
【０１７９】
現像液としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム等の炭酸塩を、０．１〜３質量％含有するアルカリ水溶液を用いることができる。現像温度は、一般的には２０〜４０℃の範囲である。
【０１８０】
［（３）（エッチング工程）］
透明導電膜上に形成された所定パターンのエッチングレジスト膜を介して、透明導電膜をエッチングする。エッチングレジスト膜が存在しない部分の透明導電膜がエッチングされて所定パターンの透明導電膜が形成される。
【０１８１】
エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸、塩化第二鉄／塩酸水溶液、ヨウ素酸水溶液、塩酸／硝酸水溶液（王水）等の無機酸、シュウ酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、並びにこれらの水溶液が用いられる。
【０１８２】
［（４）剥離工程］
エッチング後、エッチングレジスト膜はアルカリ処理されて剥離される。アルカリ処理に用いられるアルカリ液としては、１〜４質量％程度の水酸化ナトリウムを含有するアルカリ水溶液が一般的に用いられる。アルカリ処理時のアルカリ液の温度は、４０〜６５℃の範囲が一般的であり、処理時間は１〜５分が一般的である。
【０１８３】
剥離工程後には、通常水洗処理が行われる。
【実施例】
【０１８４】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法および評価方法を以下に示す。
【０１８５】
［測定方法および評価方法］
（１）屈折率の測定１
各層を形成するための塗布組成物または紫外線硬化性樹脂組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で５８９ｎｍの屈折率を測定した。この塗工形成した塗膜の屈折率をもって各層の屈折率とする。よって、下記の実施例および比較例における各層の屈折率の値は、ここで測定した屈折率の値（各層を形成するための塗布組成物または紫外線硬化性樹脂組成物を塗工形成した塗膜の屈折率の値）である。
【０１８６】
（２）屈折率の測定２
基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じて、アッベ屈折率計で５８９ｎｍの屈折率を測定した。
【０１８７】
（３）各層の厚みの測定
サンプルの断面を超薄切片に切り出し、透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて５万倍〜３０万倍の倍率でサンプルの断面を観察し、各層の厚みを測定した。尚、複数層構成で層の境界が明確でない場合は必要に応じて染色処理を施した。
【０１８８】
（４）ハードコート層（Ｈ）に含有する粒子の平均粒子径の測定
ハードコート層（Ｈ）の断面を電子顕微鏡（約２万〜５万倍）で観察し、その断面写真から、無作為に選択した３０個の粒子のそれぞれの最大長さを計測し、それらを平均した値を粒子の平均粒子径とした。
【０１８９】
（５）易接着層に含有される粒子の平均粒子径の測定
基材フィルムに積層された易接着層表面を、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を用いて倍率一万倍で観察し、粒子の画像（粒子によってできる光の濃淡）をイメージアナライザー（たとえばケンブリッジインストルメント製ＱＴＭ９００）に結び付け、観察箇所を変えてデータを取り込み、合計粒子数５０００個以上となったところで次の数値処理を行ない、それによって求めた数平均径ｄを平均粒径（直径）とした。
【０１９０】
ｄ＝Σｄi ／Ｎ
ここでｄi は粒子の等価円直径（粒子の断面積と同じ面積を持つ円の直径）、Ｎは個数である。
【０１９１】
（６）透明導電膜のパターンの視認「骨見え」の評価
黒い板の上に透明導電膜が上になるように置いて、目視により透明導電膜のパターン部が視認できるかどうか以下の基準で評価した。
Ａ：パターン部が視認できない。
Ｂ：パターン部が僅かに視認できる。
Ｃ：パターン部が明確に視認できる。
【０１９２】
（７）ハードコート層の鉛筆硬度の測定
ハードコート層（Ｃ）、ハードコート層（Ｄ）およびハードコート層（Ｈ）の表面について、それぞれＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９年）に準拠して測定した。荷重は７５０ｇ、速度は３０ｍｍ／ｍｉｎである。測定装置は、新東科学（株）製の表面性硬度計（ＨＥＩＤＯＮ；タイプ１４ＤＲ）を用いた。測定時の環境は、２３℃±２℃、相対湿度５５％±５％である。
【０１９３】
［原料］
＜易接着層の塗布組成物＞
（易接着層の塗布組成物１）
下記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、酸化ジルコニウムを６０質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラックＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．６５であった。
【０１９４】
＜ナフタレン環含有のポリエステル樹脂＞
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸                  ３５モル％
２，６−ナフタレンジカルボン酸  ９モル％
５−Ｎａスルホイソフタル酸    ６モル％
・グリコール成分
エチレングリコール          ４９モル％
ジエチレングリコール          １モル％。
【０１９５】
（易接着層の塗布組成物２）
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラックＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．５８であった。
【０１９６】
＜紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）＞
（紫外線硬化性樹脂組成物ａ１）
紫外線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート８４質量部、中空シリカ１４質量部、重合開始剤としてオリゴマー型重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．４６であった。
【０１９７】
（紫外線硬化性樹脂組成物ａ２）
紫外線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート８４質量部、中空シリカ１４質量部、重合開始剤としてオリゴマー型重合開始剤（エザキュアＫＩＰ１５０；ＣＡＳ−Ｎｏ．１６３７０２−０１−０）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．４６であった。
【０１９８】
（紫外線硬化性樹脂組成物ａ３）
紫外線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールペンタアクリレート６８質量部、含フッ素化合物として（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）３０質量部、重合開始剤としてオリゴマー型重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．４６であった。
【０１９９】
（紫外線硬化性樹脂組成物ａ４）
紫外線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート８４質量部、中空シリカ１４質量部、単量体の重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」；１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．４６であった。
【０２００】
（紫外線硬化性樹脂組成物ａ５）
紫外線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート８４質量部、中空シリカ１４質量部、単量体の重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１２７」；２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−メチル−プロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチループロパン−１−オン）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．４６であった。
【０２０１】
（紫外線硬化性樹脂組成物ａ６）
紫外線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールペンタアクリレート５３質量部、含フッ素化合物として（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）４５質量部、重合開始剤としてオリゴマー型重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．４３であった。
【０２０２】
（紫外線硬化性樹脂組成物ａ７）
紫外線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールペンタアクリレート５３質量部、含フッ素化合物として（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）４５質量部、重合開始剤としてオリゴマー型重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアＫＩＰ１５０；ＣＡＳ−Ｎｏ．１６３７０２−０１−０）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．４３であった。
【０２０３】
（紫外線硬化性樹脂組成物ａ８）
紫外線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールペンタアクリレート５３質量部、含フッ素化合物として（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）４５質量部、単量体の重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」；１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．４３であった。
【０２０４】
（紫外線硬化性樹脂組成物ａ９）
紫外線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールペンタアクリレート５３質量部、含フッ素化合物として（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）４５質量部、単量体の重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１２７」；２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−メチル−プロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチループロパン−１−オン）２質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．４３であった。
【０２０５】
＜紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）＞
紫外線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４７質量部、酸化ジルコニウム５０質量部、および重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．６５であった。
【０２０６】
＜ハードコート層（Ｃ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ｃ）＞
紫外線硬化性樹脂として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５８質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」；分子中にエチレン性不飽和基を９個含む）３７質量部、重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．５２であった。
【０２０７】
＜ハードコート層（Ｄ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ｄ）＞
紫外線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４７質量部、酸化ジルコニウム５０質量部、および重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．６５であった。
【０２０８】
＜ハードコート層（Ｈ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ｈ）＞
紫外線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを８７質量部、有機粒子としてスチレン−アクリル系共重合樹脂粒子（ガンツ化成（株）製の商品名「スタフィロイド ＥＡ−１１３５」；平均粒子径１３０ｎｍ）を固形分換算で８質量部、重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．５２であった。
【０２０９】
［実施例１］
下記の要領で態様１のベースフィルムを作製した。
【０２１０】
＜ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製＞
実質的に外部添加粒子を含有しないＰＥＴペレット（極限粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し２８５℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを９０℃に加熱して長手方向に３．４倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの一方の面（第１面）に易接着層塗布組成物１、他方の面（第２面）に易接着層塗布組成物２をそれぞれ塗布した。
【０２１１】
次に、両面にそれぞれの易接着層塗布組成物が塗布された１軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度７５℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて１１０℃に上げ、再度９０℃で乾燥した後、引き続き連続的に１２０℃の加熱ゾーンで幅方向に３．５倍延伸し、続いて２２０℃の加熱ゾーンで２０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸ＰＥＴフィルムを作製した。このＰＥＴフィルムは両面に易接着層を有するＰＥＴフィルムである。尚、ＰＥＴフィルムの第１面の易接着層は、易接着層（Ｐ１）である。
【０２１２】
このＰＥＴフィルムの厚みは１００μｍ、第１面に設けられた易接着層（Ｐ１）の厚みは２０ｎｍ、第２面に設けられた易接着層の厚みは８０ｎｍであった。
【０２１３】
ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６５、第１面の易接着層（Ｐ１）の屈折率は１．６５、第２面の易接着層の屈折率は１．５８であった。
【０２１４】
尚、ＰＥＴフィルムの屈折率は、両面に易接着層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したＰＥＴフィルムの屈折率を測定し、その値をＰＥＴフィルムの屈折率とした。
【０２１５】
＜ハードコート層（Ｈ）の積層＞
上記で作製したＰＥＴフィルムの第２面の易接着層上に、紫外線硬化性樹脂組成物（ｈ）をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてハードコート層（Ｈ）を形成した。このハードコート層（Ｈ）は、厚み１．０μｍ、屈折率が１．５２、鉛筆硬度がＨであった。
【０２１６】
＜紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の積層＞
上記でハードコート層（Ｈ）が積層されたＰＥＴフィルムの第１面の易接着層（Ｐ１）上に、紫外線硬化性樹脂組成物ａ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、１４０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させて紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成した。この紫外線硬化性樹脂層（Ａ）は、厚みが４３ｎｍ、屈折率が１．４６であった。
【０２１７】
［実施例２〜３、比較例１〜３］
紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）の種類および紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚みを表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にしてベースフィルムを作製した。
【０２１８】
［透明導電性フィルムの作製］
上記の実施例および比較例で作製したベースフィルムの紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の上に、透明導電膜としてＩＴＯ膜を厚みが１２ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層しし、以下のエッチング工程を実施してパターン状のＩＴＯ膜を形成した。
【０２１９】
＜エッチング工程＞
ＩＴＯ膜上に市販のアクリル系ネガ型のドライレジストフィルムを貼り合わせ、このドライレジストフィルムの上からフォトマスクを介してメタルハライドランプで露光し、１質量％の炭酸ナトリウム水溶液で現像してパターン状のエッチングレジスト膜を形成した。このパターン状のエッチングレジスト膜を介してＩＴＯ膜をエッチング処理（５％の塩酸（塩化水素水溶液）に１分間浸漬）し、続いてエッチングレジスト膜を以下の剥離条件で剥離除去した。最後に水洗してパターン状（格子パターン）のＩＴＯ膜を形成した。
【０２２０】
＜剥離条件１＞
４５℃の２％水酸化ナトリウム水溶液で４分間処理する。
【０２２１】
＜剥離条件２＞
６０℃の２％水酸化ナトリウム水溶液で３分間処理する。
【０２２２】
［評価］
上記の剥離条件１および剥離条件２で処理して得られた透明導電性フィルムについて、透明導電膜の「骨見え」状態を目視で評価した。その結果を表１に示す。
【０２２３】
【表１】
2015039860.tif 000005
【０２２４】
表１の結果から、本発明の実施例のベースフィルム（紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）がオリゴマー型重合開始剤を含む）を用いて作製された透明導電性フィルムは、透明導電膜の「骨見え」が抑制されていることが分かる。また、エッチングレジスト膜の剥離条件を変化しても「骨見え」の抑制は安定して良好である。
【０２２５】
一方、比較例１および２のベースフィルムは、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）に重合開始剤として単量体を用いているために、耐アルカリ性が十分に得られず、エッチングレジスト膜の剥離処理時に膜減りが起こり、その結果、「骨見え」の抑制が不十分となっている。
【０２２６】
比較例３は、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚みが７０ｎｍ以上であるので、「骨見え」の抑制が不十分となっている。
【０２２７】
［実施例４］
下記の要領で態様２のベースフィルムを作製した。
【０２２８】
＜ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製＞
実質的に外部添加粒子を含有しないＰＥＴペレット（極限粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し２８５℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを９０℃に加熱して長手方向に３．４倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの一方の面（第１面）に易接着層塗布組成物２、他方の面（第２面）にも易接着層塗布組成物２をそれぞれ塗布した。
【０２２９】
次に、両面にそれぞれの易接着層塗布組成物が塗布された１軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度７５℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて１１０℃に上げ、再度９０℃で乾燥した後、引き続き連続的に１２０℃の加熱ゾーンで幅方向に３．５倍延伸し、続いて２２０℃の加熱ゾーンで２０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸ＰＥＴフィルムを作製した。このＰＥＴフィルムは両面に易接着層を有するＰＥＴフィルムである。尚、ＰＥＴフィルムの第１面の易接着層は、易接着層（Ｐ２）である。
【０２３０】
このＰＥＴフィルムの厚みは１００μｍ、第１面に設けられた易接着層（Ｐ２）の厚みは８０ｎｍ、第２面に設けられた易接着層の厚みは８０ｎｍであった。
【０２３１】
ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６５、第１面の易接着層（Ｐ２）の屈折率は１．５８、第２面の易接着層の屈折率は１．５８であった。
【０２３２】
尚、ＰＥＴフィルムの屈折率は、両面に易接着層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したＰＥＴフィルムの屈折率を測定し、その値をＰＥＴフィルムの屈折率とした。
【０２３３】
＜ハードコート層（Ｈ）の積層＞
上記で作製したＰＥＴフィルムの第２面の易接着層上に、紫外線硬化性樹脂組成物（ｈ）をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてハードコート層（Ｈ）を形成した。このハードコート層は、厚み１．０μｍ、屈折率が１．５２、鉛筆硬度がＨであった。
【０２３４】
＜ハードコート層（Ｃ）と紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）の積層＞
上記でハードコート層（Ｈ）が積層されたＰＥＴフィルムの第１面の易接着層（Ｐ２）上に、ハードコート層（Ｃ）のための紫外線硬化性樹脂組成物（ｃ）をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてハードコート層（Ｃ）を形成した。このハードコート層（Ｃ）は、厚み１．５μｍ、屈折率が１．５２、鉛筆硬度がＨであった。
【０２３５】
次に、ハードコート層（Ｃ）上に、紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）のための紫外線硬化性樹脂組成物（ｂ）をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、８０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させて紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）を形成した。この紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）は、厚みが４０ｎｍ、屈折率が１．６５であった。
【０２３６】
＜紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の積層＞
次に、紫外線硬化性樹脂層（Ｂ）上に、紫外線硬化性樹脂組成物ａ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、１４０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させて紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成した。この紫外線硬化性樹脂層（Ａ）は、厚みが４０ｎｍ、屈折率が１．４６であった。
【０２３７】
［実施例５〜６、比較例４〜６］
紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）の種類および紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚みを表２に示すように変更した以外は、実施例４と同様にしてベースフィルムを作製した。
【０２３８】
［透明導電性フィルムの作製］
上記の実施例および比較例で作製したベースフィルムの紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の上に、透明導電膜としてＩＴＯ膜を厚みが２２ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層し、実施例１と同様にエッチング工程を実施した。
【０２３９】
［評価］
上記の剥離条件１および剥離条件２で処理して得られた透明導電性フィルムについて、透明導電膜の「骨見え」状態を目視で評価した。その結果を表２に示す。
【０２４０】
【表２】
2015039860.tif 000006
【０２４１】
表２の結果から、本発明の実施例のベースフィルム（紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）がオリゴマー型重合開始剤を含む）を用いて作製された透明導電性フィルムは、透明導電膜の「骨見え」が抑制されていることが分かる。また、エッチングレジスト膜の剥離条件を変化しても「骨見え」の抑制は安定して良好である。
【０２４２】
一方、比較例４および５のベースフィルムは、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）に重合開始剤として単量体を用いているために、耐アルカリ性が十分に得られず、エッチングレジスト膜の剥離処理時に膜減りが起こり、その結果、「骨見え」の抑制が不十分となっている。
【０２４３】
比較例６は、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚みが７０ｎｍ以上であるので、「骨見え」の抑制が不十分となっている。
【０２４４】
［実施例７］
下記の要領で態様３のベースフィルムを作製した。
【０２４５】
＜ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製＞
実質的に外部添加粒子を含有しないＰＥＴペレット（極限粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し２８５℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを９０℃に加熱して長手方向に３．４倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの一方の面（第１面）に易接着層塗布組成物１、他方の面（第２面）にも易接着層塗布組成物２をそれぞれ塗布した。
【０２４６】
次に、両面にそれぞれの易接着層塗布組成物が塗布された１軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度７５℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて１１０℃に上げ、再度９０℃で乾燥した後、引き続き連続的に１２０℃の加熱ゾーンで幅方向に３．５倍延伸し、続いて２２０℃の加熱ゾーンで２０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸ＰＥＴフィルムを作製した。このＰＥＴフィルムは両面に易接着層を有するＰＥＴフィルムである。尚、ＰＥＴフィルムの第１面の易接着層は、易接着層（Ｐ３）である。
【０２４７】
このＰＥＴフィルムの厚みは１００μｍ、第１面に設けられた易接着層（Ｐ３）の厚みは２０ｎｍ、第２面に設けられた易接着層の厚みは８０ｎｍであった。
【０２４８】
ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６５、第１面の易接着層（Ｐ３）の屈折率は１．６５、第２面の易接着層の屈折率は１．５８であった。
【０２４９】
尚、ＰＥＴフィルムの屈折率は、両面に易接着層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したＰＥＴフィルムの屈折率を測定し、その値をＰＥＴフィルムの屈折率とした。
【０２５０】
＜ハードコート層（Ｈ）の積層＞
上記で作製したＰＥＴフィルムの第２面の易接着層上に、紫外線硬化性樹脂組成物（ｈ）をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてハードコート層（Ｈ）を形成した。このハードコート層は、厚み１．０μｍ、屈折率が１．５２、鉛筆硬度がＨであった。
【０２５１】
＜ハードコート層（Ｄ）の積層＞
上記でハードコート層（Ｈ）が積層されたＰＥＴフィルムの第１面の易接着層（Ｐ３）上に、ハードコート層（Ｄ）のための紫外線硬化性樹脂組成物（ｄ）をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてハードコート層（Ｄ）を形成した。このハードコート層（Ｄ）は、厚み０．５μｍ、屈折率が１．６５、鉛筆硬度がＦであった。
【０２５２】
＜紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の積層＞
次に、ハードコート層（Ｄ）上に、紫外線硬化性樹脂組成物ａ６をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、１４０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させて紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成した。この紫外線硬化性樹脂層（Ａ）は、厚みが２５ｎｍ、屈折率が１．４３であった。
【０２５３】
［実施例８、比較例７〜９］
紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）の種類および紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚みを表３に示すように変更した以外は、実施例７と同様にしてベースフィルムを作製した。
【０２５４】
［透明導電性フィルムの作製］
上記の実施例および比較例で作製したベースフィルムの紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の上に、透明導電膜としてＩＴＯ膜を厚みが１８ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層し、実施例１と同様にエッチング工程を実施した。
【０２５５】
［評価］
上記の剥離条件１および剥離条件２で処理して得られた透明導電性フィルムについて、透明導電膜の「骨見え」状態を目視で評価した。その結果を表３に示す。
【０２５６】
【表３】
2015039860.tif 000007
【０２５７】
表３の結果から、本発明の実施例のベースフィルム（紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）がオリゴマー型重合開始剤を含む）を用いて作製された透明導電性フィルムは、透明導電膜の「骨見え」が抑制されていることが分かる。また、エッチングレジスト膜の剥離条件を変化しても「骨見え」の抑制は安定して良好である。
【０２５８】
一方、比較例７および８のベースフィルムは、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物（ａ）に重合開始剤として単量体を用いているために、耐アルカリ性が十分に得られず、エッチングレジスト膜の剥離処理時に膜減りが起こり、その結果、「骨見え」の抑制が不十分となっている。
【０２５９】
比較例９は、紫外線硬化性樹脂層（Ａ）の厚みが７０ｎｍ以上であるので、「骨見え」の抑制が不十分となっている。