(57)【要約】【課題】被洗浄体の輪郭が真円でない場合でもその周端側面を確実に洗浄できる洗浄装置を提供する。【解決手段】本発明の洗浄装置１は、被洗浄体１０を支持する支持体２０と、支持体２０上に支持された被洗浄体１０の主表面１０ａに接触して回転することにより主表面１０ａを洗浄する主表面ブラシ３０と、被洗浄体１０の周端側面１０ｂに接触して側面１０ｂを洗浄する側面ブラシ３５と、側面ブラシ３５を被洗浄体１０の中心Ｏへ向けて常時付勢する付勢機構５０とを備える。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被洗浄体を位置規制しつつ回転可能に支持する支持体と、前記支持体上に支持された前記被洗浄体の主表面に接触して回転することにより前記主表面をスクラブ洗浄する主表面ブラシと、前記被洗浄体の周端側面に接触して該側面を洗浄する回転可能な側面ブラシとを備える洗浄装置であって、
前記支持体上に支持される前記被洗浄体の周端側面と接触する前記側面ブラシを前記被洗浄体の中心へ向けて常時付勢する付勢機構を備えることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記付勢機構は、前記側面ブラシに結合される錘に作用する重力を付勢力として利用することを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記主表面ブラシと前記側面ブラシとの間には前記被洗浄体の主表面と接触して回転する補助ローラが更に設けられることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記主表面ブラシは、前記被洗浄体の周端縁から前記被洗浄体の中心を越える長さにわたって前記被洗浄体の径方向に延び、前記補助ローラは、前記被洗浄体の周端縁から前記主表面ブラシの長さよりも短い長さにわたって前記被洗浄体の径方向に延びることを特徴とする請求項３に記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記主表面ブラシの回転速度が前記側面ブラシの回転速度よりも大きく、前記側面ブラシの回転速度が前記補助ローラの回転速度以上であることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の洗浄装置。
【請求項６】
前記被洗浄体に対する前記主表面ブラシの接触圧力が前記被洗浄体に対する前記側面ブラシの接触圧力よりも大きく、前記被洗浄体に対する前記側面ブラシの接触圧力が前記被洗浄体に対する前記補助ローラの接触圧力よりも大きいことを特徴とする請求項３から５のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造工程等に用いる洗浄装置に関し、より具体的には、ブラシを用いてシリコンウエハ等の被洗浄体の主表面および周端側面を洗浄するブラシスクラブ洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体デバイスの微細化に伴い、エッチング、洗浄といったウェット処理における歩留まりの向上が重要な課題となっている。特に、洗浄装置においては、被洗浄体としての例えば半導体ウエハ（以下、単にウエハという）の表面に付着した汚染物やパーティクルを除去するため、水平方向（横方向）または垂直方向（縦方向）に配置されたウエハに円筒形ブラシをその円筒側面を接触面として接触させつつ回転させることにより、ブラシの回転に伴って回転するウエハの主表面および周端側面をブラシで擦って汚れを一方向に掻き出すブラシスクラブ装置が従来から知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−１８３０２０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、ウエハには、一般に、その結晶軸の方向が分かるように、ノッチまたは平坦面状の切り欠きであるオリエンテーションフラット（Orientation Flat；以下、オリフラと略称する）が設けられることがある。
【０００５】
しかしながら、前記オリフラが設けられていると、前述したブラシスクラブ装置において、回転するウエハの周端側面に接触して洗浄するサイドブラシがオリフラの部位でウエハに十分に接触できす、そのため、このオリフラの部位でウエハの洗浄が不十分となる或いは不可能となる場合がある。特に高集積半導体素子製造プロセスにおいては、高清浄な超精密洗浄が求められ、そのようなオリフラ部位の確実な洗浄が早急な課題である。
【０００６】
本発明は、上記した問題に着目してなされたものであり、被洗浄体の輪郭が真円でない場合でも、その主表面、及び周端側面を確実に洗浄できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記した目的を達成するために、本発明は、被洗浄体を位置規制しつつ回転可能に支持する支持体と、前記支持体上に支持された前記被洗浄体の主表面に接触して回転することにより前記主表面をスクラブ洗浄する主表面ブラシと、前記被洗浄体の周端側面に接触して該側面を洗浄する回転可能な側面ブラシとを備える洗浄装置であって、前記支持体上に支持される前記被洗浄体の周端側面と接触する前記側面ブラシを前記被洗浄体の中心へ向けて常時付勢する付勢機構を備えることを特徴とする。
【０００８】
上記した構成によれば、被洗浄体の周端側面に接触して該側面を洗浄する側面ブラシが付勢機構によって被洗浄体の中心へ向けて常時付勢される。そのため、側面ブラシは、被洗浄体が真円でない場合でも、被洗浄体の外周の輪郭に追従するように径方向に移動して被洗浄体の全周にわたって被洗浄体の周端側面に所望の圧力で常時接触できる。このため上記した構成によれば、被洗浄体の輪郭が真円でない場合でもその周端側面を確実に洗浄することが可能となる。
【０００９】
なお、上記構成において、「主表面」とは、被洗浄体を構成する面のうち面積が最も広い表および裏を含む面のことであり、例えば被洗浄体が半導体ウエハの場合には、トランジスタや配線等からなる回路、パターン等の機能層が堆積されるウエハの表面および裏面のことである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、被洗浄体の輪郭が真円でない場合でも、その主表面及び周端側面を確実に洗浄できる洗浄装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態に係る洗浄装置の要部構成（補助ローラを含む）を示す概略平面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る洗浄装置の要部構成（補助ローラを含まず）を示す概略平面図である。
【図３】支持体上に支持される被洗浄体の主表面に主表面ブラシが接触されていない洗浄待機状態の図１の洗浄装置の概略側面図である。
【図４】支持体上に支持される被洗浄体の主表面に主表面ブラシが接触された洗浄状態の図１の洗浄装置の概略側面図である。
【図５】支持体上に支持される被洗浄体の周端側面と接触する側面ブラシを被洗浄体の中心へ向けて常時付勢する付勢機構の概略構成図である。
【図６】乾燥装置を用いた乾燥工程時に被洗浄体に対して吹き付けられる乾燥用の気体の流れを示す側面図である。
【図７】乾燥装置を用いた乾燥工程時に被洗浄体に対して吹き付けられる乾燥用の気体の流れを示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照しながら本発明に係る洗浄装置の実施形態について説明する。
なお、以下の実施形態では、洗浄される被洗浄体として、オリフラ１０ｃを有する輪郭が真円でない半導体ウエハ１０（図１参照）を例に挙げて説明するが、被洗浄体は、そのようなウエハ１０でなくてもよく、また、輪郭が真円であっても構わない。
【００１３】
図１は、本発明の一実施形態に係る洗浄装置１の要部構成を示す概略平面図である。この洗浄装置１は、例えば、いわゆるインライン洗浄処理装置、すなわち、洗浄されるべき被洗浄体としてのウエハ１０が搬入されて収容されるローダ部と、ウエハ１０を回転させた状態でブラシ洗浄するブラシスクラブ洗浄部と、洗浄済みのウエハ１０を乾燥するための乾燥部と、洗浄乾燥後のウエハを搬出のために収容するアンローダ部とを有し、内部の各種搬送ロボットが各部間でウエハ１０を搬出入する洗浄処理装置内に設けられてもよく、あるいは、それ単独の洗浄装置として設けられてもよく、その構造配置形態は任意である。いずれにしても、この洗浄装置１に対しては、手動で或いは搬送ロボットを介して自動で、洗浄されるべきウエハ１０が搬出入される。
【００１４】
また、本実施形態では、洗浄装置１内でウエハ１０が水平方向に配置された状態で洗浄される例について説明するが、本発明は、ウエハ１０を任意の角度（水平方向から垂直方向に至る様々な角度）に配置した状態で洗浄する場合にも適用可能である。
【００１５】
図１に概略的に示されるように、本実施形態の洗浄装置１は、ウエハ１０を位置規制しつつ回転可能に支持する支持体２０と、支持体２０上に支持されたウエハ１０の主表面１０ａに接触して回転することにより主表面１０ａをスクラブ洗浄する主表面ブラシ３０と、ウエハ１０の周端側面１０ｂに接触してこの側面１０ｂを洗浄する回転可能な側面（端面）ブラシ（以下、サイドブラシとも称する）３５とを備える。また、図示しないが、洗浄装置１は、支持体２０に支持されるウエハ１０に対してその周囲から洗浄液（例えば、アルカリ性洗浄液）を吹き付ける噴射ノズルを備えていてもよいし、ブラシ３０，３５を通じて洗浄液をウエハ１０に対して供給できるようになっていてもよい。
【００１６】
支持体２０は、支持すべきウエハ１０の大きさに合わせて円形状に配置される複数（図１では６個）の支持ローラ２０ａ〜２０ｆとして構成され、ウエハ１０の周縁部をその裏面（裏側の主表面）から支持するようになっている。なお、設置される支持体２０の数は任意（例えば、４個、８個など偶数個であることが好ましい）であり、また、支持体２０の位置を調整できるようになっていてもよい。この場合、支持体２０（２０ａ〜２０ｆ）は、ウエハ１０を脱落させない（ウエハ１０が外れない）ように安定して支持する配置、構成となっている。また、支持体２０は、ブラシ３０，３５の最適な設置を妨げないように配設されるのが好ましく、更には、図示しない搬送ロボットの保持部（例えば、ウエハ保持用のアーム等）、搬送経路を遮断しないように配置されることが好ましい。
【００１７】
また、各支持体２０（２０ａ〜２０ｆ）は、図３および図４に示されるように、ウエハ１０の厚さ寸法よりも十分に大きい高さ寸法を有してウエハ１０の径方向の動きを規制する（位置規制する）支柱部２１と、支柱部２１の外周面から径方向に環状に張り出してウエハ１０の裏側の主表面１０ａの外周縁部を受ける鍔状（フランジ状）の受け面２２とを有する。この場合、受け面２２は、ウエハ１０と線接触して（線当たりして）これを支持できるように、支柱部２１から下向きに傾斜されている。このように、ウエハ１０と支持体２０との接触面積を小さくすれば、ウエハ１０の裏面の汚染を防止できるとともに、洗浄時のウエハ１０の回転抵抗を減らすことができる。
【００１８】
なお、本実施形態において、各支持体２０は、ウエハ１０の回転に従動して自由に回転する支持ローラとして構成されているが、モータによって駆動制御されてもよい。また、いずれの場合にも、支柱部２１内にベアリングを内蔵することにより、ウエハ１０の回転時の接触抵抗および摩耗抵抗を減らすようにしてもよい。
【００１９】
洗浄装置１を構成する主表面ブラシ３０は、本実施形態の場合、円筒状のロールブラシとして形成されており、ウエハ１０の表裏の主表面１０ａを確実に且つ効率的に洗浄できるように所定の位置に設置される。また、本実施形態では、主平面ブラシ（以下、ロールブラシとも称する）３０は、支持体２０上に支持されるウエハ１０の所定の周方向位置で、ウエハ１０の周端縁からウエハ１０の中心Ｏを越える長さにわたって（ウエハ１０の半径よりも長く）ウエハ１０の径方向に延びている。この場合、本実施形態では、ウエハ１０の表裏に１つずつ合計２つのロールブラシ３０が設けられる（図３および図４参照）が、設置されるべきロールブラシ３０の数は任意である。
【００２０】
前記ロールブラシ３０は、図示しない駆動モータの駆動力を受けて回転されるようになっており、ウエハ１０の主表面１０ａと接触することによりウエハ１０に回転力を与えるようになっている。また、前記ロールブラシ３０は、例えばエアシリンダを使用して、ウエハ１０の主表面１０ａに対して離接自在に移動可能となっている。
【００２１】
さらに、ウエハ１０に対するロールブラシ３０の接触面積は、ロールブラシ３０の接触圧や接触位置等をセンサからの信号に基づきエアシリンダ等により上下（表裏）同時に或いは別々に調整することにより自在に設定可能である。この場合、ウエハ１０の回転ブレや洗浄ムラを防止するため、ロールブラシ３０の回転軸が傾かないようにすることが好ましい。
【００２２】
なお、主平面ブラシについては、本実施形態のような円筒状のロールブラシ以外にも、例えば、円板状に構成されたブラシ（ディスク型のブラシ；ディスクブラシ）として構成されていても良い。このようなディスクブラシは、洗浄面がウエハの表面と平行となるように配設され、ウエハに対して垂直となる回転軸を中心として回転駆動され、ウエハの表面を洗浄する。そして、このようなディスクブラシは、その直径が、ウエハの半径よりも大きい構成であることが好ましく、これにより、ウエハ表面を万遍なく、均一に洗浄することが可能となる。また、ディスクブラシについては、例えば回転軸部分に輪帯状の任意の錘を付加して、ウエハに向けて荷重を付与する（ディスクブラシをウエハの面に押し付ける）ように構成しても良く、これにより、ウエハに対する押圧力を調整して均一に万遍なく洗浄することが可能となる。
【００２３】
また、洗浄装置１を構成するサイドブラシ３５は、ウエハ１０の厚さ寸法よりも大きい高さ寸法を有する円板状のブラシ（ディスクブラシ）として形成されている。前記サイドブラシ３５は、支持体２０上に支持されるウエハ１０の周端側面１０ｂと接触して該側面１０ｂを洗浄できるように、ウエハ１０の所定の周方向位置（本実施形態では、主平面ブラシ３０と径方向でほぼ対向する位置）に設けられる。なお、本実施形態では、サイドブラシ３５がウエハ１０の周端側面１０ｂと対向して１つ設けられるが、設置されるべきサイドブラシ３５の数は任意である。
【００２４】
また、サイドブラシ３５は、図１に示されないが図５に示される駆動モータ６０の駆動力を受けて回転されるようになっており、ウエハ１０の周端側面１０ｂと接触して回転することによりロールブラシ３０によるウエハ１０の回転の速度を調整できるようになっている。特に、本実施形態において、サイドブラシ３５は、ウエハ１０の回転にブレーキをかけるように回転することにより、すなわち、ロールブラシ３０によるウエハ１０の回転の速度よりも遅く回転することにより、その速度差に伴う摩擦でウエハ１０の周端側面１０ｂを洗浄するようになっている。
【００２５】
なお、サイドブラシ３５は、例えばエアシリンダを使用して、ウエハ１０の周端側面１０ｂに対して離接自在に径方向に移動できるようにしてもよい。また、サイドブラシ３５は、ウエハ１０を支持体２０に押し付けるようにウエハ１０の周端側面１０ｂに所定の接触圧で当て付くことによりウエハ１０の回転時のブレ（径方向外側への振れ）を抑制するようにしてもよい。また、本実施形態において、サイドブラシ３５は、モータ駆動により回転されるが、ウエハ１０の回転に従動して自由に回転する構成であっても構わない。さらに、ロールブラシ３０及びサイドブラシ３５の回転方向については限定されることはない。
【００２６】
また、本実施形態の洗浄装置１は、所定数の補助ローラ４０を更に備える。本実施形態では、ウエハ１０の表裏に２つずつ合計４つの補助ローラ４０が設けられるが、設置されるべき補助ローラ４０の数は任意であり、ウエハ１０の表側、又は、裏面側のみに配設されていてもよい。
【００２７】
これらの補助ローラ４０は、円筒状のロールブラシとして形成されており、前記ロールブラシ３０とサイドブラシ３５との間のウエハ１０の周方向位置で（好ましくは、サイドブラシ３５の近傍で）、ウエハ１０の周端縁からロールブラシ３０の長さよりも短い長さにわたってウエハ１０の径方向に延びている。このような補助ローラ４０は、ウエハ１０の主表面１０ａと接触して回転することにより、ウエハ１０の回転洗浄時にウエハ１０が波打たないように（特にウエハ１０の撓み（径方向に対して垂直な方向の撓み）が２００μｍ以下となるように）安定させる撓み防止機能を果たす。
【００２８】
なお、補助ローラ４０は、図示しない駆動モータの駆動力を受けて回転されるようになっており、また、例えばエアシリンダを使用してウエハ１０の主表面１０ａに対して離接自在に移動するようにしてもよい。また、補助ローラ４０は、ロールブラシ３０の回転方向と同じ方向に回転してもよいが、逆方向に回転してもよい。逆方向に回転することにより、ウエハ１０の主表面１０ａにこびり付いた汚れを落ち易くすることができる。あるいは、図２に示されるように、洗浄装置１Ａは、補助ローラ４０が設けられない構成であってもよい。
【００２９】
また、本実施形態の洗浄装置１は、支持体２０上に支持されるウエハ１０の周端側面１０ｂと接触するサイドブラシ３５をウエハ１０の中心Ｏへ向けて常時付勢する付勢機構を備える。特に、本実施形態において、この付勢機構は、サイドブラシ３５に結合される錘に作用する重力を付勢力として利用することを特徴とする。具体的には、付勢機構は、図５に示されるように、一端がサイドブラシ３５に直接的に或いは間接的に結合されるワイヤ（網糸）などの細い屈曲自在の線条体５０と、線条体５０に結合されるサイドブラシ３５をウエハ１０の中心Ｏへ向けて移動させる牽引方向（図５に矢印で示される方向；図１の破線矢印も参照）で線条体５０を案内する案内手段と、線条体５０の他端に結合されて鉛直方向に吊り下げられる錘５５とを備える。
【００３０】
前記案内手段については、例えば、線条体５０を所定の方向に導くレールや線条体５０が掛け渡される滑車５８などを備え、これらはモータ６０を支持するハウジング７０やその他の支持部に支持されて設けられる。
【００３１】
このような簡易な構成の付勢機構によれば、洗浄する部分の構造を簡易な構成にできるとともに、力の方向を変える滑車または滑りのある支点によって付勢力を得る位置を任意の位置に設定することができる。また、付勢力として錘５５の重力を利用することにより、安定した付勢力を精度良く得ることができる。このように、本発明では、サイドブラシ３５を保持する部分（本実施形態ではモータ６０とされる）が、重力の作用によって、サイドブラシ３５をウエハの端面に付勢するような構造となっていればよい。換言すれば、サイドブラシ３５の回転中心軸が、ウエハの端面に向けて、重力の作用によって牽引されるような構造となっていればよい。このため、モータ６０については、サイドブラシ３５の下方に設置されていてもよいし、それ以外にも、例えば、ハウジング７０に保持されて、ギヤトレイン等の動力伝達部材を介してサイドブラシの回転中心軸に連結されていてもよい。
【００３２】
また、前記滑車５８については、回転する案内ローラとして構成されたり、或いは非回転の湾曲面を有する案内部材として構成されていても良い。また、線条体５０については、重量が作用する方向（軸方向）に伸縮しない構成であることが好ましく、これにより、錘５５の負荷によって、サイドブラシ３５が変位する（バラつく）ようなことがなく、安定して均一な洗浄をすることが可能となる。
【００３３】
さらに、前記錘５５については、線条体５０に着脱可能であってもよく、錘５５は増減可能であってもよい。また、本実施形態では、付勢機構は、錘５５に作用する重力を付勢力として利用したが、コイルバネ等のバネ力、ゴム材料等の材料の引張り弾性力を付勢力として利用するようにしてもよい。
【００３４】
また、本実施形態の洗浄装置１では、各ブラシ３０，３５および補助ローラ４０の回転速度および接触圧力において一定の関係を保つように構成されている。例えば、ロールブラシ３０の回転速度Ｖ１がサイドブラシ３５の回転速度Ｖ２よりも大きく、サイドブラシ３５の回転速度Ｖ２が補助ローラ４０の回転速度Ｖ３以上に設定されている（Ｖ１＞Ｖ２≧Ｖ３）ことが好ましい。具体的には、ロールブラシ３０の回転速度Ｖ１が１００〜３００ｒｐｍ（例えば２００ｒｐｍ）に設定され、サイドブラシ３５の回転速度Ｖ２が１０〜５０ｒｐｍ（例えば２０ｒｐｍ）に設定され、補助ローラ４０の回転速度Ｖ３が６〜８ｒｐｍに設定される。
【００３５】
また、接触圧力に関しては、ウエハ１０に対するロールブラシ３０の接触圧力Ｐ１がウエハ１０に対するサイドブラシ３５の接触圧力Ｐ２よりも大きく、ウエハ１０に対するサイドブラシ３５の接触圧力Ｐ２がウエハ１０に対する補助ローラ４０の接触圧力Ｐ３よりも大きく設定されていることが好ましい。
【００３６】
回転速度および接触圧力の関係を、上記のように設定することにより、ウエハ１０に対する洗浄効果を高めつつウエハ１０の回転時の径方向の振れを抑制または防止できる。すなわち、ウエハ１０の回転時の径方向外側への振れが５．０ｍｍ程度あっても良好な洗浄効果を得ることができ、更には、肉厚の薄いウエハ（被洗浄体）であっても安定した状態で確実に洗浄することが可能となる。
【００３７】
次に、上記構成の洗浄装置１によってウエハ１０を洗浄する動作について簡単に説明する。
まず、洗浄されるべきウエハ１０がオペレータによって手動で或いは搬送ロボットにより自動で洗浄装置１内に搬入される。このとき、支持体２０（２０ａ〜２０ｆ）によって取り囲まれる円形の支持領域内に障害なくウエハ１０を搬入できるように、各ブラシ３０，３５および補助ローラ４０は、前述したエアシリンダなどの移動機構により所定の待機位置に待避される。
【００３８】
支持体２０（２０ａ〜２０ｆ）によって取り囲まれる円形の支持領域内にウエハ１０が搬入されて支持体２０上にウエハ１０が支持されると、続いて各ブラシ３０，３５および補助ローラ４０が所定の洗浄位置へと移動される。このとき、各ブラシ３０，３５および補助ローラ４０は前述した所定の接触圧力関係をもってウエハ１０の主表面１０ａおよび周端側面１０ｂに接触するとともに、好ましくは、ウエハ１０を上下から挟持するロールブラシ３０によってウエハ１０を支持体２０の受け面２２上から若干浮き上がらせる。このようにすることで、ウエハ１０の回転時の支持体２０による摩擦抵抗を無くすことができる。
【００３９】
そして、この状態で、今度は、モータによって各ブラシ３０，３５および補助ローラ４０が前述した所定の回転速度関係をもって回転駆動される。このときの回転方向が図１，３，４に矢印で示されている（上下のロールブラシ３０は、ウエハ１０を一定方向に抵抗なく回転させるために、互いに逆方向に回転される）。この回転により、ウエハ１０が回転されるとともに、支持体２０もウエハ１０の回転に追従して回転する。そして、このような回転状態で、図示しない噴射ノズルにより洗浄液がウエハ１０の周囲から吹き付けられるとともに、必要に応じてブラシ３０，３５からも洗浄液が供給され、ロールブラシ３０によってウエハ１０の主表面１０ａが洗浄される。また、これとともに、サイドブラシ３５によってウエハ１０の周端側面１０ｂが洗浄され、さらに、補助ローラ４０の例えば逆向きの回転によってウエハ１０の主表面１０ａにこびり付いた汚れの剥離が促進される。
【００４０】
そして、この洗浄工程では、前述した付勢機構が設けられていることにより、ウエハ１０の周端側面１０ｂに接触して側面１０ｂを洗浄するサイドブラシ３５がウエハ１０の中心Ｏへ向けて常時付勢されるため、サイドブラシ３５は、ウエハ１０のオリフラ１０ｃと対向した場合でも、ウエハ１０の外周の輪郭に追従するように径方向内側に移動してオリフラ１０ｃと所望の圧力で接触できる。この結果、ウエハ１０は、オリフラ１０ｃも含め、全周にわたって周端側面１０ｂが確実に洗浄される。
【００４１】
以上のようにして、洗浄装置１内での洗浄が完了すると、続いて、乾燥工程へと移行する。具体的には、この乾燥工程では、図６および図７に示される乾燥装置９０内へウエハ１０が手動または自動で搬入される。図６および図７に示されるように、乾燥装置９０は、ハウジング９１内にターンテーブル９２が回転可能に配置された形態を成しており、円形の配置形態を成してターンテーブル９２上に設けられる複数の支持体９３によってウエハ１０を支持するようになっている。また、乾燥装置９０は、ターンテーブル９２によって回転されるウエハ１０に対して乾燥ガスを吹き付けるための上下面用の噴射ノズル９４を備えている。この場合、下面（裏面用）の噴射ノズルについては、回転軸内に設置される構成であってもよい。
【００４２】
ここで、この乾燥装置９０は、ウエハ１０を支持体９３に対して固定するための従来のチャックを不要にするガス吹き付け形態を特徴としている。従来のチャックは、例えば、ターンテーブル９２の回転時にその回転遠心力によって振り子のように傾動してウエハ１０の周縁をチャックするようになっているが、洗浄時にウエハ１０上に残存した洗浄液がターンテーブル９２の回転による遠心力でウエハ１０の外周方向に移動してチャック部分に溜まり、この溜まった洗浄時の異物を含んだ洗浄液が空気中の異物も吸着しつつ乾燥ガスによって乾燥固化し易い。そして、このような乾燥固化物はウエハ不良（歩留まり低下）の原因となり好ましくない。
【００４３】
そのため、この乾燥装置９０では、支持体９３により周縁が支持されるウエハ１０の主表面１０ａを全体的に開放した状態で噴射ノズル９４からウエハ１０の主表面１０ａに対して乾燥ガスを吹き付ける際、上方から下方へ向かう吹き付け量をその他の方向への吹き付け量に対して多くするとともに、図示しない吸引口を通じて乾燥ガスを下方へ吸引することにより、その吸引力で同時にウエハ１０をターンテーブル９２側（支持体９３）に押し付けて保持する（ウエハ１０の浮き上がりを防止する）ようにしている。そのため、前述した問題を来す従来のチャックが不要となる。
【００４４】
なお、図６および図７には、噴射ノズル９４からの乾燥ガスの流れが矢印で示されている。このように、乾燥ガスの大部分は、ウエハ１０の外周縁を支持体９３に対して押し付けるように流れて、支持体９３間の隙間を抜けるように下方へと吸引される。
【００４５】
なお、支持体９３の支柱部９３ａに上下に貫通するスリット（図示せず）を形成することが好ましい。このようなスリットは、乾燥時に洗浄液を逃がして、支持体９３に洗浄液が残存付着することを防止し、洗浄液と共に汚れや異物が支持体９３付近に残留することを防止できる。
【００４６】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は、上述した実施形態に限定されることなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能である。例えば、前述した付勢機構は、サイドブラシ３５の任意の位置で付勢力をサイドブラシ３５に与えてもよいが、少なくともサイドブラシ３５がウエハ１０の周端側面１０ｂと接触する接触位置で付勢力をサイドブラシ３５に与えればよい。
【符号の説明】
【００４７】
１  洗浄装置
１０  ウエハ（被洗浄体）
１０ａ  主表面
１０ｂ  周端側面
２０  支持体
３０  主表面ブラシ（ロールブラシ）
３５  側面（端面）ブラシ（サイドブラシ）
４０  補助ローラ
５０  線条体（付勢機構）
５５  錘（付勢機構）
５８  滑車（付勢機構）
【図１】
2015225945.tif 000003
【図２】
2015225945.tif 000004
【図３】
2015225945.tif 000005
【図４】
2015225945.tif 000006
【図５】
2015225945.tif 000007
【図６】
2015225945.tif 000008
【図７】
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