(57)【要約】【課題】  減殺エリアの外端縁でも凹凸状シボパターンを良好に形成して補修箇所をより目立たせないようにすることを可能とする凹凸状シボパターン補修用マスキングシートを提供する。【解決手段】  開口部３を形成したシート材２からなる凹凸状シボパターン補修用マスキングシート１において、開口部３は、多数の線状構造４で多数の透孔５に区画されており、多数の線状構造４は、多数の独立した凸部７と個々の凸部７の周囲に形成される凹部８とを所定のパターンで備えて構成される凹凸状シボパターン６における凹部８の形成パターンに対応するようにパターン形成され、多数の透孔５は、前記凹凸状シボパターン６の凸部７の形成パターンに対応するようにパターン形成されている。【選択図】  図１
2015009217.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部を形成したシート材からなるマスキングシートであって、
開口部は、多数の線状構造で多数の透孔に区画されており、
多数の線状構造は、多数の独立した凸部と個々の凸部の周囲に形成される凹部とを所定のパターンで備えて構成される凹凸状シボパターンにおける凹部の形成パターンに対応するようにパターン形成され、
多数の透孔は、前記凹凸状シボパターンの凸部の形成パターンに対応するようにパターン形成されている、ことを特徴とする凹凸状シボパターン補修用マスキングシート。
【請求項２】
補修対象における凹凸状シボパターン地に形成された凹凸状シボパターンの減殺エリアを補修する補修方法であって、
請求項１に記載のマスキングシートを介して前記減殺エリアに塗料を吹き付けて固化して前記減殺エリアに凹凸状シボパターンを形成する、ことを特徴とする凹凸状シボパターン補修方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹凸状シボパターン補修用マスキングシート、及び、凹凸状シボパターン補修方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
車のシートやテレビのキャビネットなどといった様々な物や場所に凹凸状シボパターンが施されて、凹凸状シボパターン地が形成されている。凹凸状シボパターンを有する物や場所における割れや傷や欠けなどによって凹凸状シボパターン地に損傷が生じて、その損傷箇所を補修しようとする場合、一般的に、その損傷部位にパテ等の補修剤を埋め込むことや、サンディング等により損傷箇所を部分的に取り除いてしまうことなどといった方法が適用される。このような場合、凹凸状シボパターン地における損傷箇所には、シボパターンの減殺されたエリア（減殺エリア）が形成される。また、凹凸状シボパターン地においては、摩擦などの影響で徐々に凹凸状シボパターンが削られ磨り減っていき、部分的に凹凸状シボパターンの磨り減った減殺エリアが徐々に形成されてくることがある。
【０００３】
こうして減殺エリアが形成されてしまった場合、減殺エリアに対して凹凸状シボパターン補修方法を施すことが有効とされている。
【０００４】
凹凸状シボパターン補修方法としては、次のような微細凹凸パターン補修方法が一般的に採用されている。すなわち、凹凸状シボパターン地における凹凸状シボパターンのような微細凹凸パターンに対して凹凸状態を逆転させたパターンを表面に凹凸形成した補修具を準備しておき、減殺エリアをやや削って陥没部を形成するとともにその陥没部を埋めるように硬化性の補修コンパウンドを塗工して塗工層を形成する。次に、塗工層の表面に対して、補修具をその凹凸形成面側を塗工層に向けつつ押し当て、塗工層の表面に凹凸状シボパターンを形成する。そして、その状態にて塗工層を硬化させることで、塗工層の表面に凹凸状シボパターンを形成した状態を安定させる（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−１１２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記したような凹凸状シボパターン補修方法では、補修具を押し当てた際に、塗工層が凹凸状シボパターン地の表面に沿って陥没部のやや外側に広がってしまい、塗工層の外端縁付近で凹凸状シボパターンが良好に形成されず、塗工層の外端縁付近と塗工層の外側とで凹凸状シボパターンに目視上認識可能なほどの大きな相違を生じてしまい、減殺エリアの補修後にあっても補修箇所が目立ってしまうという問題がある。
【０００７】
本発明は、減殺エリアの外端縁でも凹凸状シボパターンを良好に形成して補修箇所をより目立たせないようにすることを可能とする凹凸状シボパターン補修用マスキングシート及び凹凸状シボパターン補修方法を提供する、ことを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、（１）開口部を形成したシート材からなるマスキングシートであって、
開口部は、多数の線状構造で多数の透孔に区画されており、
多数の線状構造は、多数の独立した凸部と個々の凸部の周囲に形成される凹部とを所定のパターンで備えて構成される凹凸状シボパターンにおける凹部の形成パターンに対応するようにパターン形成され、
多数の透孔は、前記凹凸状シボパターンの凸部の形成パターンに対応するようにパターン形成されている、ことを特徴とする凹凸状シボパターン補修用マスキングシート、
（２）補修対象における凹凸状シボパターン地に形成された凹凸状シボパターンの減殺エリアを補修する補修方法であって、
上記（１）に記載のマスキングシートを介して前記減殺エリアに塗料を吹き付けて固化して前記減殺エリアに凹凸状シボパターンを形成する、ことを特徴とする凹凸状シボパターン補修方法、を要旨とする。
【０００９】
また、本発明は、（３）シート材は、電鋳法で形成されたものである、上記（１）に記載の凹凸状シボパターン補修用マスキングシート、とされていてもよい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、減殺エリアの外端縁でも凹凸状シボパターンを良好に形成して補修箇所をより目立たせないようにすることを可能とする凹凸状シボパターン補修用マスキングシート及び凹凸状シボパターン補修方法を提供することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１Ａは、本発明の凹凸状シボパターン補修用マスキングシートの一実施例を模式的に示す概略平面模式図である。図１Ｂは、図１Ａの破線囲み領域Ｘの部分を拡大した状態を模式的に示す概略部分拡大模式図である。
【図２】図２Ａ、図２Ｂ、図２Ｃ、図２Ｄ、図２Ｅ、図２Ｆは、いずれも凹凸状シボパターン補修用マスキングシートの製造工程の一例を示す概略工程断面図である。図２Ｇは、凹凸状シボパターン補修用マスキングシートが、析出金属体で形成される場合の一例における、マスキングシートの断面の状態を模式的に示す概略断面模式図である。図２Ｈは、凹凸状シボパターン補修用マスキングシートが、表面にメッキ層を形成されたものである場合の一例における、マスキングシートの断面の状態を模式的に示す概略断面模式図である。
【図３】図３Ａ、図３Ｂ、図３Ｃは、いずれも本発明の凹凸状シボパターン補修方法の一実施例を模式的に示す概略工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の凹凸状シボパターン補修用マスキングシート１（単に、マスキングシートということがある）について、図面を参照しつつ詳細に説明する。
【００１３】
［マスキングシート１］
本発明のマスキングシート１は、図１Ａ、図１Ｂに示すように、開口部３を形成したシート材２からなる。
【００１４】
（シート材２）
シート材２は特に限定されず、紙製シート、樹脂製シート、金属製シートなどであってよいし、これらを適宜積層したものであってもよい。ただし、後述する補修対象１１の凹凸状シボパターン地１０が湾曲面をなしているような場合にも、その湾曲面に追従するようにシート材２自体を適宜繰り返し湾曲させることが容易である点では、シート材２は、紙製シート、樹脂製シート、金属製シートまたはそれらの積層シートが好ましく、耐久性の点では、金属製シートが好ましい。また、後述する凹凸状シボパターン補修方法の実施後にマスキングシート１を構成するシート材２に付着した塗料（付着塗料２９）をより容易に洗浄できることで再使用可能なマスキングシート１を提供する点でも、シート材２は、金属製シートであることがより好ましい。金属製シートで形成されたマスキングシート１は、例えば、後述するような電鋳法にて具体的に調製できる。また、マスキングシート１が金属製シートで構成されている場合は、角張った部分の形成を抑制する点で、金属製シートは表面にメッキ層を形成されているものであることが好ましい。なお、補修対象１１とは、マスキングシート１を用いて補修しようとする対象を示し、その対象には、自動車や家具などといった物や、家や車庫などの場所などが含まれる。また、補修対象１１は、凹凸状シボパターン６を形成されて凹凸状シボパターン地１０を形成している。
【００１５】
シート材２は、その外輪郭形状を図１の例では矩形状に形成されているが、これに限定されず、３角形状でも、５角形以上の多角形状、円形状など適宜選択可能である。
【００１６】
（開口部３）
開口部３は、図１Ａ，図１Ｂに示すように、多数の線状構造４で区画されて多数の透孔５を形成して構成されている。
【００１７】
（線状構造４）
線状構造４は開口部３にはりめぐらされて多数の透孔５を区画形成している。このとき、開口部３を多数の透孔５に区画する多数の線状構造４は、凹凸状シボパターン６における凹部８の形成パターンに対応するようにパターン形成されている。ここに、凹凸状シボパターン６は、図３を参照しつつ後述する凹凸状シボパターン補修方法における補修対象１１に応じて適宜規定され、多数の独立した凸部７と個々の凸部７の周囲に形成される凹部８とを所定のパターンで備えて構成されるパターンである。凹部８は、平面視上個々の凸部７の周囲を取り囲むように溝状に形成される。
【００１８】
（透孔５）
透孔５は、多数の線状構造４で開口部３を区画して形成される個々の区画部分にてなり、多数形成される。開口部３を構成する多数の透孔５は、凹凸状シボパターン６の凸部７の形成パターンにおおよそ対応するようにパターン形成されている。本発明のマスキングシートによれば、開口部３を構成する多数の透孔５が、このようにパターン形成されていることで、凹凸状シボパターン補修方法を実施して補修対象１１の減殺エリア１２の補修を行った際に、減殺エリア１２に補修された凹凸状シボパターンがその周囲の凹凸状シボパターン６になじんで、補修箇所（補修方法実施直前まで減殺エリアであった箇所）をより目立たせないようにすることが可能となる。以下、減殺エリア１２に補修された凹凸状シボパターンを補修シボパターン６ａと呼ぶことがある。
【００１９】
（開口部３の輪郭９の形状）
開口部３の輪郭９の形状は、特に限定されるものではないが、ギザギザ形状となっていることが好ましい。開口部３の輪郭９の形状がギザギザ形状である場合、輪郭９の形状は、凹凸状シボパターン６の凹部８の形成パターンにおおよそ対応した形状となっていることがより好ましい。
【００２０】
輪郭９の形状が、凹凸状シボパターン６の凹部８の形成パターンにおおよそ対応したギザギザ形状であると、減殺エリア１２に比べて小さい寸法のマスキングシート１を用いて後述する凹凸状シボパターン補修方法が実施された際に、開口部３の輪郭９の位置まで塗料３０を吹き付けて減殺エリア１２に補修シボパターン６ａが形成されても、補修箇所をより目立たせないように補修シボパターン６ａを形成することができる。
【００２１】
すなわち例えば、マスキングシート１として減殺エリア１２よりも小さなものを用いて後述する凹凸状シボパターン補修方法が実施された場合には、減殺エリア１２全域に効率よく補修シボパターン６ａを形成するには、できるだけマスキングシート１の開口部３全体を補修シボパターン６ａの形成に使用することが好適である。そのためには、開口部３の中央付近の領域のみならず輪郭９の位置付近の領域まで塗料３０を吹き付けて補修シボパターン６ａを形成することが望ましい。このとき、輪郭９の形状が、凹凸状シボパターン６の凹部８の形成パターンに対応したギザギザ形状であると、補修シボパターン６ａを構成する部７ａと凸部８ｂのパターンのうち、輪郭９の位置付近への塗料３０の吹き付けにて形成された凹部７ａと凸部８ｂのパターンについても、その周囲の凹凸状シボパターン６になじみやすくなって、補修箇所をより目立たせないように補修シボパターン６ａを形成することができる。したがって、補修箇所をより目立たせないように補修シボパターン６ａを形成する効果を維持しつつマスキングシート１を小型化することを実現することができる。
【００２２】
本発明のマスキングシート１は、例えば次のように具体的に調製することができる。
【００２３】
［マスキングシート１の製造方法］
マスキングシート１が、金属製シートをシート材２として用いて構成されている場合であって、電鋳法にて形成された場合を例として説明する。
【００２４】
マスキングシート１の製造方法は、次に示す（Ａ）から（Ｆ）の工程を備えて構成される。
【００２５】
（Ａ）：電鋳用基材の表面にレジスト層を設ける工程（レジスト形成工程）。
（Ｂ）：レジスト層に露光を施す工程（露光工程）。
（Ｃ）：レジスト層を現像してマスキングシートの構造に応じた電鋳用型を形成する工程（現像工程）。
（Ｄ）：電鋳用型に離型膜形成処理を行う工程（離型膜形成工程）。
（Ｅ）：電鋳を行い電鋳用型の内部に金属を析出させる工程（電鋳工程）。
（Ｆ）：析出させた金属を型から剥離する工程（剥離工程）。
【００２６】
上記（Ａ）から（Ｆ）のそれぞれの工程について説明する。
【００２７】
（Ａ：レジスト形成工程）
図２Ａに示すように、電導性を有し表面が平滑な電鋳用基材２１を準備して表面にレジスト層２２を形成してレジスト積層体２０を得る。レジスト層２２を形成するレジスト材料は塗布型レジスト、ドライフィルムレジスト等各種のレジスト材料を用いることができる。なかでもレジスト材料としては、３０μｍ〜５０μｍ程度の厚みを形成するのが容易であるドライフィルムレジスト及び３０μｍ〜５０μｍ程度の厚みを形成することが出来る塗布型レジストを使用することが好ましい。レジスト層２２の厚みは形成しようとするマスキングシート１の厚みと同じ厚みにするのが好ましいが、マスキングシート１の厚みよりレジスト層２２の厚みが薄くても良い。また、レジスト材料はポジ型、ネガ型のいずれでもよい。
【００２８】
電鋳用基材２１としては、例えば、ＳＵＳ３０４等のステンレス鋼、黄銅、リン青銅、ベリリウム−銅等の板が用いられる。
【００２９】
（Ｂ：露光工程）
図２Ｂに示すようにマスキングシート１に対応して定められる所望のパターンにてマスクパターンを形成したフォトマスク３３をレジスト積層体２０のレジスト層２２の上にセットし紫外線を照射して露光を行う。露光は一般の超高圧水銀灯等の紫外線ランプを用いることができる。なお、図２Ｂ中、矢印Ｌは、露光工程における紫外線の照射方向を示す。
【００３０】
（Ｃ：現像工程）
上記露光工程の後、現像処理を行い、図２Ｃに示すようにレジスト層２２のうち未感光部のレジスト材料を除去してレジスト積層体２０に凹部２３を形成して電鋳用の型パターン形成体２５とする。
【００３１】
なお、上記Ｂ，Ｃの各工程の説明では、レジスト層２２がネガ型（光硬化型）のレジスト材料で構成された場合を例とした。これに対して、レジスト層２２がポジ型（光分解型）のレジスト材料で構成された場合には、マスキングシート１に対応する所望のパターンの透過と遮蔽を図２Ｂに示すのとは逆パターンに形成したフォトマスク３３を用い、これを図２Ｂに示すのと同様にレジスト層２２の上にセットして紫外線照射して露光工程を実施する。その後、さらに現像工程を実施することで、レジスト層２２のうち感光部のレジスト材料を除去して電鋳用の型パターン形成体２５が形成される。
【００３２】
（Ｄ：離型膜形成工程）
離型膜形成工程は、後述する電鋳工程の実施の際に析出した金属で構成される析出金属体２６の剥離（剥離工程）を容易にする準備工程である。この工程では、図２Ｄに示すように、電鋳用の型パターン形成体２５において電鋳用基材２１の表面が露出した凹部２３の部分に、はくり皮膜２４が形成される。
【００３３】
はくり皮膜２４の形成方法は、電鋳用基材２１の材質に応じて適宜選択されてよい。例えば、例えば、電鋳用基材２１がステンレス鋼である場合、はくり皮膜２４は、電鋳用の型パターン形成体２５をクロム酸溶液に浸漬することで形成できる。また、電鋳用基材２１の材質が黄銅、リン青銅、又はベリリウム−銅である場合、はくり皮膜２４は、電鋳用の型パターン形成体２５を５％亜セレン酸溶液等に浸漬することで形成できる。なお、電鋳用基材２１の材質が黄銅、リン青銅、又はベリリウム−銅である場合に、はくり皮膜２４は、電鋳用の型パターン形成体２５にニッケルメッキを施した後、さらにクロム酸溶液に浸漬することで形成されてもよい。こうした浸漬を実施することで、凹部２３において電鋳用基材２１の表面が露出した部分に、はくり皮膜２４が形成される。これにより電鋳用の型パターン形成体２５から電鋳型２７が形成される。
【００３４】
（Ｅ：電鋳工程）
図２Ｅに示すように、前記した離型工程を行って調製された電鋳型２７を用いて電鋳法を行い、電鋳型２７において、凹部２３に金属を析出させて析出金属体２６を得る。このとき析出金属体２６は、露出面側をやや丸みを帯びた形状とするように形成されうる。電鋳用金属としてはニッケル、ニッケル−コバルト合金、銅等を用いることができる。電鋳用金属は、特に強度の点からニッケル、ニッケル−コバルト合金が好ましい。
【００３５】
電鋳法で使用される電鋳液の組成としては次のような組成が挙げられる。
【００３６】
（電鋳液の組成例）
硫酸ニッケル  ：  ２００ｇ／Ｌ〜４００ｇ／Ｌ
塩化ニッケル  ：  ２０ｇ／Ｌ〜５０ｇ／Ｌ
ほう酸        ：  ２９ｇ／Ｌ〜４０ｇ／Ｌ
ナフタレンジスルホン酸ナトリウム  ：  ０．５０ｇ／Ｌ〜２．５ｇ／Ｌ
１，４ブチンジオール  ：  ０．０１ｇ／Ｌ〜０．１ｇ／Ｌ
【００３７】
なお、電鋳法に使用される電鋳液の組成は、一例でありこれに限定されない。電鋳液として、上記電鋳液の組成例に示す硫酸ニッケルをスルファミンニッケルに替えたものや、上記電鋳液の組成例に示すナフタレンジスルホン酸ナトリウムを１，３，６−ナフタレントリスルホン酸ナトリウムに替えたものが用いられてよい。また、電鋳液には、界面活性剤などの添加剤が適宜添加されてよい。ただし、電鋳液については、１，４ブチンジオールが適量配合されて、ストレスの少ない電鋳液とすることが重要である。
【００３８】
電鋳法において、電鋳液を使用した電鋳の実施条件は、電鋳液の内容等の諸条件に応じて適宜選択可能であるが、上記の電鋳液の組成例に例示されるような電鋳液で電鋳法を実施する場合を例とすると、通常、液温が３５℃〜５５℃、陰極電流密度が０．１〜５Ａ／ｄｍ２程度である。
【００３９】
（Ｆ：剥離工程）
所望の厚みになるように電鋳を行って析出金属体２６を得たならば、析出形成された析出金属体２６を電鋳型２７から剥離して本発明のマスキングシート１が得られる。マスキングシート１は、電鋳用基材２１上に、その電鋳用基材２１の面方向に沿った方向に概ね平滑に形成される。電鋳用基材２１と析出金属体２６とのはくりは、温水中に入れて温水との温度差により部分的に剥離した部分をナイフ等の刃物の刃先を使用してめくりあげることで、図２Ｆに示すように、容易に実現することができる。
【００４０】
こうして、図２Ｇに示すようにマスキングシート１が製造できる。
【００４１】
ところで、マスキングシート１が電鋳法で形成される場合、上記したように析出金属体２６の表面には、メッキ層２８が形成されていることが好ましい。この場合、メッキ層２８は、上記（Ｆ：剥離工程）を実施した後、次のようにメッキ工程（工程（Ｇ）とする）を実施することで具体的に形成可能である。また、この場合、図２Ｈに示すように、マスキングシート１は、析出金属体２６の表面にメッキ層２８を形成した構造を備えることとなる。
【００４２】
（Ｇ：メッキ工程）
メッキ工程では、析出金属体２６の上に更にメッキを施してメッキ層２８が設けられる。このようにメッキ層２８を設ける工程が実施されることで、強度が向上するとともに、析出金属体２６に角があってもそうした角のエッジが効果的に被覆されて角部にやや丸みを帯びたマスキングシート１を得ることができるようになり、マスキングシート１を補修対象に配置した際に、補修対象に傷がつきにくく、また、塗料を吹き付けられた部分の輪郭をぼかすことができ、なめらかな凹凸状シボパターンを形成することが容易となるという効果が得られる。
【００４３】
メッキ層２８を形成する手段やメッキの種類等は特に限定されないが、ニッケルやニッケルを主成分とする電解メッキ（例えば、ニッケル−コバルト合金など）によりメッキ層２８を設けるのが好ましい。メッキ層２８の厚みは、適宜選択可能であるが、強度を向上させる点、マスキングシート１の角部に丸みを効果的に持たせる点を考慮して、５μｍ〜５０μｍであることが好ましい。
【００４４】
メッキ層２８を形成するにあたり使用されるメッキ液について、電鋳液をそのままメッキ液として用いてもよいし、次のメッキ液の組成例に示すような組成を有する液体がメッキ液として用いられてもよい。
【００４５】
（メッキ液の組成例）
硫酸ニッケル：２００ｇ／Ｌ〜４００ｇ／Ｌ
塩化ニッケル：２０ｇ／Ｌ〜５０ｇ／Ｌ
ほう酸      ：２９ｇ／Ｌ〜４０ｇ／Ｌ
サッカリン  ：０．５０ｇ／Ｌ〜２．５ｇ／Ｌ
【００４６】
メッキ液を使用した電解メッキの条件は、適宜選択可能であるが、上記のメッキ液の組成例に例示した組成を有するメッキ液が使用される場合、電解メッキの条件は、通常、液温が３５℃〜５５℃、陰極電流密度が０．１〜５Ａ／ｄｍ２程度である。
【００４７】
なお、上記のメッキ液の組成例は、一例であり、これに限定されない。メッキ液としては、例えば、メッキ液の組成例においてサッカリンの代わりにナフタレンジスルホン酸ナトリウムや、１−３−５ナフタレントリスルホン酸ナトリウム等を使用したものなどが用いられもよいし、上記のほかに界面活性剤などの添加剤が適宜添加されていてもよい。また、メッキ液を使用した電解メッキの条件についても、メッキ液の内容等の諸条件に応じて適宜選択可能である。
【００４８】
マスキングシート１が上記したような電鋳法にて形成されたものである場合、抗張力と硬さに優れたマスキングシート１を得ることができる。すなわち、マスキングシート１に曲げ応力が負荷された場合に、その応力によってもマスキングシート１に折れを生じにくく、またマスキングシート１に引張り応力が負荷された場合に、その応力によってもマスキングシート１の線状構造４に破断を生じくい。
【００４９】
具体的に、マスキングシート１が上記したような電鋳法にて形成されたものである場合、マスキングシート１として、その抗張力が、１００ｋｇ／ｍｍ２〜１２０ｋｇ／ｍｍ２程度であり、マスキングシート１の硬さが、ビッカース硬さ（Ｈｖ）で、Ｈｖ４８０〜６２０程度のものを得ることができる。
【００５０】
［マスキングシート１の他の製造方法］
なお、マスキングシート１の製造方法は、上記に限定されない。例えば、マスキングシート１が、紙製シートで構成されているものである場合には、原紙を準備するとともに、その原紙を、開口部３を構成する透孔５の形成部分に対応した部分を切り抜くことで、マスキングシート１を製造することができる。
【００５１】
本発明のマスキングシート１は、例えば、次のように凹凸状シボパターン補修方法に具体的に使用されることができる。
【００５２】
［凹凸状シボパターン補修方法］
（マスキングシート１の配置位置決め）
本発明のマスキングシート１を、補修対象１１の所定位置に配置する。このとき、マスキングシート１の開口部３の少なくとも一部が、補修対象１１の凹凸状シボパターン地１０に形成された凹凸状シボパターン６の減殺エリア１２上に重なるように位置決めされて配置される。また、このとき、マスキングシート１は、補修対象１１にテープなどで一時的に固定されてもよい。こうすることでマスキングシート１が補修作業中に、所定位置から位置ずれしてしまう虞を抑制できる。
【００５３】
（塗料３０の吹き付け）
補修対象１１に対して所定の位置にマスキングシート１が配置された後、その状態を維持しつつ、マスキングシート１を介して減殺エリア１２に向けて塗料３０が吹き付けられる。このとき、透孔５に向かう塗料３０は、透孔５を通って補修対象１１の減殺エリア１２上に付着して凸状構造部７０を形成し、線状構造４に向かう塗料３０は、線状構造４上に付着して付着塗料２９をなす。なお、塗料３０の拭き付けの実施方法は特に限定されず、スプレーガンなどの吹き付け手段３１を用いて吹き付ける方法等を適宜採用されてよい。また、補修対象１１に対して所定の位置にマスキングシート１が配置された後、マスキングシート１は補修対象１１に適宜押し当てられてもよい。この場合、補修対象１１の減殺エリア１２が湾曲面を形成しているような場合、その湾曲面に追従するようにマスキングシート１を湾曲させることができ、補修箇所をより目立たせないように補修シボパターン６ａを形成することができる。
【００５４】
（塗料３０の固化）
減殺エリア１２に向けて塗料３０が吹き付けられた後、マスキングシート１を補修対象１１の所定位置に配置した状態を解除して、塗料３０で構成される凸状構造部７０を固化する。このとき減殺エリア１２上に付着した凸状構造部７０の固化構造が、補修シボパターン６ａの凸部７ａをなす。そして、個々の凸部７ａの周囲には凹部８ａが形成される。こうして減殺エリア１２に凹凸状シボパターンとして補修シボパターン６ａが形成される。なお、塗料３０の固化は、塗料３０の吹き付けを実施した後、例えば、所定時間放置すること等により実現可能である。
【００５５】
こうして凹凸状シボパターン補修方法にて、減殺エリア１２に補修シボパターン６ａが形成され、補修対象１１における凹凸状シボパターン地１０に形成された凹凸状シボパターン６の減殺エリア１２が補修されることとなる。このとき、マスキングシート１を用いた凹凸状シボパターン補修方法にて形成された補修シボパターン６ａは、凹凸状シボパターン６になじむように形成されうるものであり、補修箇所をより目立たせないように補修シボパターン６ａが形成されるのである。
【００５６】
（塗料３０の吹き付けと塗料３０の固化の実施回数）
なお、上記では、塗料３０の吹き付けと塗料３０の固化が一回実施されているが、この回数は、特に限定されず、必要に応じて複数回繰り返し実施されてよい。例えば、塗料３０の吹き付けが一回実施された場合に、塗料３０の吹き付け量の不足などにより、補修シボパターン６ａをなす凸部７ａが十分には形成されなかったような場合、上記した塗料３０の吹き付けと塗料３０で構成される凸状構造部７０の固化は、複数回繰り返し実施されてよい。
【００５７】
［マスキングシート１の洗浄］
凹凸状シボパターン補修方法が実施されると、マスキングシート１の線状構造４の部分に付着塗料２９が存在する。付着塗料２９を有するマスキングシート１は、そのまま使い捨てにしてもよいが、マスキングシート１が金属製シートから構成されている場合、マスキングシート１に付着した塗料３０は、塗料剥離剤（例えば、ナトコ株式会社製  スケルトン（登録商標）Ｍ−２０１など）で適宜洗浄されることができることから、マスキングシート１は、繰り返し利用可能なものとなる。
【００５８】
［凹凸状シボパターン補修方法の他の例］
なお、本発明のマスキングシート１を用いた凹凸状シボパターン補修方法は、上記方法に限定されない。例えば、補修対象１１の凹凸状シボパターン地１０に形成された凹凸状シボパターン６の減殺エリア１２をやや削って陥没部を形成するとともにその陥没部を埋めるように硬化性の補修コンパウンドを塗工して塗工層を形成する。マスキングシート１の開口部３が、塗工層上に重なるように位置決めされるとともに、マスキングシート１を塗工層に押し付ける。このとき、塗工層は、多数の透孔５に対応する部分が凸状となり、線状構造４に対応する部分が凹状となって、塗工層の表面にマスキングシート１の透孔５と線状構造４の形成パターンに応じた多数の凹凸パターンが賦形される。そしてその状態で塗工層を固化する。こうして補修対象１１における凹凸状シボパターン地１０に形成された凹凸状シボパターン６の減殺エリア１２が補修される。
【００５９】
次に、マスキングシート１が電鋳法で調製されたものである場合の実施例を用いて、本発明のマスキングシート１をより詳細に説明する。
【実施例】
【００６０】
実施例１．
電鋳用基材をなす黄銅板の表面にドライフィルムレジスト（レジスト膜厚３０μｍ、光硬化型）を積層してレジスト積層体を調製し（レジスト形成工程）、図１に示すマスキングシートのパターンに形成したマスクを用い、そのマスクをレジスト積層体のドライフィルムレジスト形成面上に配置して、超高圧水銀燈で露光して現像処理を行い、マスキングシートのパターンに対応した凹部を形成した（露光工程、現像工程）。次に、メッキ液にてニッケルメッキをした後、５％クロム酸に浸積して凹部内の黄銅板露出部分に、はくり皮膜を形成して電鋳型が得られた（離型膜形成工程）。離型膜形成工程の後、電鋳工程を実施し、電鋳型の凹部に厚さが５０μｍになるように金属を析出させて析出金属体となし、電鋳型と析出金属体の複合体を得た。電鋳工程の実施条件、電鋳工程で使用された電鋳液の組成は下記のとおりである。
【００６１】
（電鋳工程の実施条件）
電鋳液の液温：４０〜５０℃
電流密度：０．３〜２Ａ／ｄｍ２
【００６２】
（電鋳液の組成）
硫酸ニッケル・６水和物：３００ｇ／Ｌ
塩化ニッケル・６水和物：３０ｇ／Ｌ
ほう酸                ：３０ｇ／Ｌ
１−３−５ナフタリントリスルホン酸ナトリウム：２．５ｇ／Ｌ
ブチンジオール：１０〜６０ｍｇ／Ｌ
界面活性剤（ステアリン酸スルフォン酸ナトリウム）：０．５〜２．０ｇ／Ｌ
【００６３】
電鋳工程にて凹部に金属を析出させた後、電鋳型と析出金属体の複合体を温水に浸漬した後、析出金属体を複合体から剥離して剥離物を得た（剥離工程）。剥離工程で得られた剥離物である析出金属体をマスキングシート形成芯材として用い、メッキ工程を実施した。メッキ工程は、さらにこのマスキングシート形成芯材の表面に厚さ２０μｍのニッケルメッキ層を形成することで実施された。こうして、マスキングシートが得られた。なお、メッキ工程におけるニッケルメッキは電鋳工程の電鋳液と同じ組成のものを用いて実施され、メッキの実施条件についても電鋳工程の実施条件と同じ条件が採用された。実施例１で得られたマスキングシートは、その抗張力と硬さともに、電鋳法にて形成されたマスキングシートに関して上記したような範囲を満たすものであった。
【符号の説明】
【００６４】
１  マスキングシート
２  シート材
３  開口部
４  線状構造
５  透孔
６  凹凸状シボパターン
６ａ  補修シボパターン
７、７ａ  凸部
８、８ａ  凹部
９  開口部の輪郭
１０  凹凸状シボパターン地
１１  補修対象
１２  減殺エリア
２０  レジスト積層体
２１  電鋳用基材
２２  レジスト層
２３  レジスト積層体の凹部
２４  はくり皮膜
２５  電鋳用の型パターン形成体
２６  析出金属体
２７  電鋳型
２８  メッキ層
２９  付着塗料
３０  塗料
３１  吹き付け手段
７０  凸状構造部
【図２】
2015009217.tif 000003
【図３】
2015009217.tif 000004
【図１】
2015009217.tif 000005