(57)【要約】      （修正有）【課題】金属含有量の少ないスルホン酸基含有化合物及び該化合物を効率的に得る製造方法の提供。【解決手段】ビニル基及びスルホン酸基を有するビニルスルホン酸類と、少なくとも２つの反応性官能基を有し、該反応性官能基の少なくとも１つがアミノ基であるアミノ基含有化合物とを水溶媒中、加熱反応させた後、溶媒等を除去して得られたアミノエタンスルホン酸で金属含有量が、０〜５．０ｐｐｍであるスルホン酸基含有化合物。前記反応性官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基並びにフラーレンとカーボンナノチューブとグラフェンと及びそれらの炭素化合物の誘導体の表面上の共役基から選ばれる基と反応する官能基であるスルホン酸基含有化合物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
スルホン酸基と、２級又は３級アミノ基と、を有し、
金属含有量が、０〜５．０ｐｐｍである、スルホン酸基含有化合物。
【請求項２】
反応性官能基をさらに有し、
前記反応性官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基と反応する官能基である、請求項１に記載のスルホン酸基含有化合物。
【請求項３】
スルホエチルアミノ基を有する、請求項１又は２に記載のスルホン酸基含有化合物。
【請求項４】
ビニル基及びスルホン酸基を有するビニルスルホン酸類（Ａ）の前記ビニル基と、少なくとも２つの反応性官能基を有し、該反応性官能基の少なくとも１つがアミノ基であるアミノ基含有化合物（Ｂ）の前記アミノ基と、を反応させて、前記反応性官能基及び前記スルホン酸基を有する、請求項２又は３に記載のスルホン酸基含有化合物（Ｃ）を得る第１の反応工程を有し、
前記反応性官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基と反応する官能基である、
スルホン酸基含有化合物の製造方法。
【請求項５】
前記スルホン酸基含有化合物（Ｃ）の前記反応性官能基と、該反応性官能基と反応する官能基を有する化合物（Ｄ）の前記官能基と、を反応させて、請求項１又は３に記載のスルホン酸基含有化合物（Ｅ）を得る第２の反応工程を有し、
前記反応性官能基と反応する官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基である、
請求項４に記載のスルホン酸基含有化合物の製造方法。
【請求項６】
少なくとも２つの反応性官能基を有し、該反応性官能基の少なくとも１つがアミノ基であるアミノ基含有化合物（Ｂ）の前記反応性官能基と、該反応性官能基と反応する官能基を有する化合物（Ｄ）の前記官能基と、を反応させて、前記アミノ基を有するアミノ基含有化合物（Ｆ）を得る第３の反応工程と、
ビニル基及びスルホン酸基を有するビニルスルホン酸類（Ａ）の前記ビニル基と、前記アミノ基含有化合物（Ｆ）の前記アミノ基と、を反応させて、前記スルホン酸基を有する、請求項１又は３に記載のスルホン酸基含有化合物（Ｃ）を得る第４の反応工程と、を有し、
前記反応性官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基と反応する官能基であり、
前記反応性官能基と反応する官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基である、
スルホン酸基含有化合物の製造方法。
【請求項７】
前記ビニルスルホン酸類（Ａ）が、ビニルスルホン酸である、請求項４〜６のいずれか１項に記載のスルホン酸基含有化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スルホン酸基含有化合物及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
種々の化合物、モノマー、又はポリマーにスルホン酸基を導入し、酸性、プロトン移動性、親水性、又は水溶性を付与することは様々な技術分野で求められている。
【０００３】
スルホン酸基を導入する方法としては、官能基としてチオール基を導入し、酸化する方法が使用されている。この方法では、予め、チオール基を有する特殊な化合物を準備し、該化合物にスルホン酸基を導入するということが求められ、汎用的な材料への応用は困難である。
【０００４】
簡便なスルホン酸基導入方法としては、ビニルスルホン酸ナトリウムへのアミノ基の付加反応が利用される。例えば、引用文献１には、ｐＨ緩衝剤として用いるビス（環状ジアミン）化合物の製造において、環状ジアミン二量体にアルキレンスルホン酸のアルカリ金属塩を反応させ、ついで、イオン交換樹脂、又は電気透析により脱塩し、環状ジアミン二量体の二級アミノ基にアルキルスルホン酸基を導入した化合物を得ることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平７−２０３９５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ビニルスルホン酸ナトリウム等のビニルスルホン酸金属塩を用いた反応では、得られる生成物に金属原子が含まれる。そのため、ビニルスルホン酸金属塩を用いた反応により得られるスルホン酸基含有化合物は、電池材料やレジスト材料など、金属原子が悪影響を及ぼす用途の材料としては、実質上使用が制限される。
【０００７】
また、ビニルスルホン酸金属塩を用いた反応により得られるスルホン酸基含有化合物を、イオン交換樹脂、又は電気透析により脱塩したとしても、低減できる金属含有量には限界がある。
【０００８】
さらに、イオン交換樹脂、又は電気透析による脱塩工程を行えば、製造工程全体が複雑となり、製造コストが増大するばかりか、最終的に得られるスルホン酸基含有化合物の収率も低下する。
【０００９】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、金属含有量の少ないスルホン酸基含有化合物及び該スルホン酸基含有化合物を効率的に得ることのできる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記問題点を解決するために鋭意検討した結果、ビニルスルホン酸類を用いることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
【００１１】
すなわち、本発明は以下のとおりである。
〔１〕
スルホン酸基と、２級又は３級アミノ基と、を有し、
金属含有量が、０〜５．０ｐｐｍである、スルホン酸基含有化合物。
〔２〕
反応性官能基をさらに有し、
前記反応性官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基と反応する官能基である、前項〔１〕に記載のスルホン酸基含有化合物。
〔３〕
スルホエチルアミノ基を有する、前項〔１〕又は〔２〕に記載のスルホン酸基含有化合物。
〔４〕
ビニル基及びスルホン酸基を有するビニルスルホン酸類（Ａ）の前記ビニル基と、少なくとも２つの反応性官能基を有し、該反応性官能基の少なくとも１つがアミノ基であるアミノ基含有化合物（Ｂ）の前記アミノ基と、を反応させて、前記反応性官能基及び前記スルホン酸基を有する、前項〔２〕又は〔３〕に記載のスルホン酸基含有化合物（Ｃ）を得る第１の反応工程を有し、
前記反応性官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基と反応する官能基である、
スルホン酸基含有化合物の製造方法。
〔５〕
前記スルホン酸基含有化合物（Ｃ）の前記反応性官能基と、該反応性官能基と反応する官能基を有する化合物（Ｄ）の前記官能基と、を反応させて、前項〔１〕又は〔３〕に記載のスルホン酸基含有化合物（Ｅ）を得る第２の反応工程を有し、
前記反応性官能基と反応する官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基である、
前項〔４〕に記載のスルホン酸基含有化合物の製造方法。
〔６〕
少なくとも２つの反応性官能基を有し、該反応性官能基の少なくとも１つがアミノ基であるアミノ基含有化合物（Ｂ）の前記反応性官能基と、該反応性官能基と反応する官能基を有する化合物（Ｄ）の前記官能基と、を反応させて、前記アミノ基を有するアミノ基含有化合物（Ｆ）を得る第３の反応工程と、
ビニル基及びスルホン酸基を有するビニルスルホン酸類（Ａ）の前記ビニル基と、前記アミノ基含有化合物（Ｆ）の前記アミノ基と、を反応させて、前記スルホン酸基を有する、前項〔１〕又は〔３〕に記載のスルホン酸基含有化合物（Ｃ）を得る第４の反応工程と、を有し、
前記反応性官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基と反応する官能基であり、
前記反応性官能基と反応する官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基である、
スルホン酸基含有化合物の製造方法。
〔７〕
前記ビニルスルホン酸類（Ａ）が、ビニルスルホン酸である、前項〔４〕〜〔６〕のいずれか１項に記載のスルホン酸基含有化合物の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、金属含有量の少ないスルホン酸基含有化合物及び該スルホン酸基含有化合物を効率的に得ることのできる製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」という。）について詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【００１４】
〔スルホン酸基含有化合物〕
本実施形態のスルホン酸基含有化合物は、スルホン酸基と、２級又は３級アミノ基と、を有し、金属含有量が、０〜５．０ｐｐｍである。
【００１５】
本実施形態のスルホン酸基含有化合物は、反応性官能基をさらに有してもよい。反応性官能基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基と反応する官能基が挙げられる。
【００１６】
また、本実施形態のスルホン酸基含有化合物は、スルホエチルアミノ基を有してもよい。ここで、スルホエチルアミノ基は、スルホン酸基及び２級又は３級アミノ基をともに含む基として用いることができる。
【００１７】
本実施形態のスルホン酸基含有化合物は、下記第１の実施形態又は第２の実施形態のスルホン酸基含有化合物の製造方法で製造することができる。下スルホン酸基含有化合物（Ｃ）は、アミノ基含有化合物（Ｂ）に由来する反応性官能基、及び、ビニルスルホン酸類（Ａ）に由来するスルホン酸基を有する。また、下スルホン酸基含有化合物（Ｅ）及び（Ｇ）は、アミノ基含有化合物（Ｂ）及び化合物（Ｄ）に由来する構成単位、及び、ビニルスルホン酸類（Ａ）に由来するスルホン酸基を有する。
【００１８】
本実施形態のスルホン酸基含有化合物は、スルホン酸基を有さない化合物（例えば、後述するアミノ基含有化合物（Ｂ）又は化合物（Ｄ））の物性と比較して、水溶性、親水性、プロトン移動性、又は酸性度がより向上したものとなる。
【００１９】
スルホン酸基含有化合物に含まれる金属含有量は、好ましくは０〜５．０ｐｐｍであり、より好ましくは０〜１．０ｐｐｍであり、さらに好ましくは０〜０．１０ｐｐｍである。スルホン酸基含有化合物（Ｅ）に含まれる金属含有量が５．０ｐｐｍ以下であることにより、電池材料やレジスト材料など、金属原子が悪影響を及ぼす用途の材料の原材料として、スルホン酸基含有化合物を好適に用いることができる。なお、スルホン酸基含有化合物に含まれる金属含有量は、実施例に記載の方法により測定することができる。
【００２０】
〔第１の実施形態のスルホン酸基含有化合物の製造方法〕
第１の実施形態のスルホン酸基含有化合物の製造方法は、
ビニル基及びスルホン酸基を有するビニルスルホン酸類（Ａ）の前記ビニル基と、少なくとも２つの反応性官能基を有し、該反応性官能基の少なくとも１つがアミノ基であるアミノ基含有化合物（Ｂ）の前記アミノ基と、を反応させて、前記反応性官能基及び前記スルホン酸基を有するスルホン酸基含有化合物（Ｃ）を得る第１の反応工程を有し、
前記反応性官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基と反応する官能基である。
【００２１】
〔第１の反応工程〕
第１の反応工程は、ビニル基及びスルホン酸基を有するビニルスルホン酸類（Ａ）の前記ビニル基と、少なくとも２つの反応性官能基を有し、該反応性官能基の少なくとも１つがアミノ基であるアミノ基含有化合物（Ｂ）の前記アミノ基と、を反応させて、前記反応性官能基及び前記スルホン酸基を有するスルホン酸基含有化合物（Ｃ）を得る工程である。
【００２２】
第１の反応工程は、溶媒中で行なっても、有機溶媒と水との二相状態で行なっても、無溶媒で行なってもよい。使用し得る溶媒としては、特に限定されないが、例えば、エタノール、１−ブタノール、Ｎ，Ｎジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの有機溶媒、水、イオン性流体等が挙げられる。使用する有機溶媒の沸点は、好ましくは８０℃以上であり、より好ましくは、１００℃以上であり、さらに好ましくは、１５０℃以上である。
【００２３】
第１の反応工程における反応液のｐＨは、好ましくは７以上である。反応液のｐＨを７以上とすることにより、ビニルスルホン酸類（Ａ）のビニル基と、アミノ基含有化合物（Ｂ）のアミノ基と、の付加反応速度がより向上する傾向にある。
【００２４】
第１の反応工程において、ビニルスルホン酸類（Ａ）の添加量に対するアミノ基含有化合物（Ｂ）の添加量は、好ましくは１〜５倍であり、より好ましくは１．５〜３．０倍であり、さらに好ましくは２．０〜２．５倍である。ビニルスルホン酸類（Ａ）の添加量に対するアミノ基含有化合物（Ｂ）の添加量が上記範囲内であることにより、反応効率がより向上する傾向にある。
【００２５】
第１の反応工程における反応温度は、特に限定されないが、好ましくは６０℃以上反応液の沸点以下であり、より好ましくは７０℃以上反応液の沸点以下であり、さらに好ましくは８０℃以上反応液の沸点以下である。特に、溶媒として水、エタノール、又は１−ブタノールなどを用いた還流条件で第１の反応工程を行なうことが好ましい。第１の反応工程における反応温度が６０℃以上であることにより、ビニルスルホン酸類（Ａ）のビニル基と、アミノ基含有化合物（Ｂ）のアミノ基と、の付加反応速度がより向上する傾向にある。
【００２６】
第１の反応工程により、アミノ基含有化合物（Ｂ）にスルホン酸基を導入することができる。その結果得られるスルホン酸基含有化合物（Ｃ）は、酸性、プロトン移動性、親水性、水溶性がより向上したものとなる。
【００２７】
〔ビニルスルホン酸類（Ａ）〕
ビニルスルホン酸類（Ａ）は、ビニル基及びスルホン酸基を有する限り、特に限定されない。スルホン酸基は、−ＳＯ3Ｈで表される基である。このようなビニルスルホン酸類（Ａ）を用いることにより、ビニルスルホン酸塩を原料として用いる場合と比較して、得られるスルホン酸基含有化合物中に不純物として含まれる金属の含有量を低減することができる。また、イオン交換樹脂又は電気透析による脱塩工程が不要となるため、製造コストを抑えることができ、イオン交換樹脂又は電気透析によるスルホン酸基含有化合物の収率の低下も抑えることができる。
【００２８】
ビニルスルホン酸類（Ａ）としては、特に限定されないが、下記式（１）で表されるビニルスルホン酸類が好ましく、このなかでも反応性の観点からビニルスルホン酸がより好ましい。このようなビニルスルホン酸類（Ａ）を用いることにより、スルホン酸密度の高いスルホン酸基含有化合物（Ｃ）を得ることができる。また、ビニルスルホン酸を用いることによりスルホエチルアミノ基を有するスルホン酸基含有化合物（Ｃ）を得ることができる。なお、ビニルスルホン酸類（Ａ）は、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【化１】
2015140312.tif 000002
（上記式（１）中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜１５のアルキル基、又は炭素数１〜１５のアルキレン基である。）
【００２９】
上記式（１）中のＲ1、Ｒ2及びＲ3において、炭素数１〜１５のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基等が挙げられる。
【００３０】
また、上記式（１）中のＲ1、Ｒ2及びＲ3において、炭素数１〜１５のアルキレン基としては、特に限定されないが、例えば、エチレン基、ｎ−プロピレン基、ｎ−ブチレン基、ｎ−へキシレン基、ｎ−ヘプチレン基、ｎ−オクチレン基、ｎ−ドデシレン基等が挙げられる。
【００３１】
〔アミノ基含有化合物（Ｂ）〕
アミノ基含有化合物（Ｂ）は、少なくとも２つの反応性官能基を有し、該反応性官能基の少なくとも１つがアミノ基である限り、特に限定されない。アミノ基は、ビニルスルホン酸類（Ａ）のビニル基に付加反応を生じる。なお、アミノ基含有化合物（Ｂ）は、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００３２】
反応性官能基は、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基と反応する官能基である限り、特に限定されない。このような反応性官能基としては、特に限定されないが、例えば、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基が挙げられる。なお、アミノ基含有化合物（Ｂ）は、同一又は異なる反応性官能基を２以上有していてもよい。
【００３３】
アミノ基含有化合物（Ｂ）は、上記以外の官能基を有してもよい。上記以外の官能基としては、特に限定されないが、例えば、アルコキシシラン基が挙げられる。以下、アミノ基含有化合物（Ｂ）についてその具体例を説明するが、アミノ基含有化合物（Ｂ）は以下に限定されない。
【００３４】
（カルボキシル基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ））
カルボキシル基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、下記式（２）で示される化合物、アミノ基とカルボキシル基が不飽和炭化水素結合を有する２価の炭化水素基を介して結合されている化合物が挙げられる。
【化２】
2015140312.tif 000003
（上記式（２）中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、及びＲ7は、各々独立して、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルデヒド基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は置換基を有してもよい炭素数６〜２０のアリール基であり、ｎは０〜２０の整数である。）
【００３５】
上記式（２）中、Ｒ6及びＲ7が、カルボニル基である場合、該カルボニル基としては、特に限定されないが、例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等の各種保護基が挙げられる。
【００３６】
上記式（２）中、アルキル基、アルキレン基、アルコキシ基、及びアリール基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、又はアルデヒド基が挙げられる。
【００３７】
上記式（２）中のｎが０である化合物としては、特に限定されないが、例えば、カルバミン酸、メチルカルバミン酸、ジメチルカルバミン酸、エチルカルバミン酸、ジエチルカルバミン酸、プロピルカルバミン酸、ジプロピルカルバミン酸が挙げられる。
【００３８】
上記式（２）中のｎが１であり、Ｒ4及びＲ5の少なくとも一つが水素原子である化合物としては、特に限定されないが、例えば、アラニン、アルギニン、アスパラギン、アスパラギン酸、システイン、グルタミン、グルタミン酸、グリシン、ヒスチジン、イソロイシン、ロイシン、リジン、メチオニン、フェニルアラニン、プロリン、セリン、スレオニン、トリプトファン、チロシン、バリン、又はセレノシステインに代表されるアミノ酸類及び式（２）中のアミノ基が２〜３級化されたアミノ酸類等が挙げられる。
【００３９】
上記式（２）中のｎが１であり、Ｒ4及びＲ5の両方が水素原子ではない化合物としては、特に限定されないが、例えば、２−アミノ−２−メチルプロピオン酸、２−メチル−２−メチルアミノプロピオン酸、２−（ジメチルアミノ）−２−メチルプロピオン酸、２−（エチルアミノ）−２−メチルプロピオン酸、２−（ジエチルアミノ）−２−メチルプロピオン酸、２−アミノ−２−メチルブタン酸、２−メチル−２−メチルアミノブタン酸、２−（ジメチルアミノ）−２−メチルブタン酸等が挙げられる。
【００４０】
上記式（２）中のｎが２以上である化合物としては、特に限定されないが、例えば、３−アミノプロピオン酸、３−（メチルアミノ）プロピオン酸、３−（ジメチルアミノ）プロピオン酸、３−（エチルアミノ）プロピオン酸、３−（ジエチルアミノ）プロピオン酸、３−アミノ−２−メチルプロピオン酸、３−（メチルアミノ）−２−メチルプロピオン酸、３−（ジメチルアミノ）−２−メチルプロピオン酸、３−（エチルアミノ）−２−メチルプロピオン酸、３−（ジエチルアミノ）−２−メチルプロピオン酸、３−アミノ−３−メチルプロピオン酸、３−（メチルアミノ）−３−メチルプロピオン酸、３−（ジメチルアミノ）−３−メチルプロピオン酸、３−（エチルアミノ）−３−メチルプロピオン酸、３−（ジエチルアミノ）−３−メチルプロピオン酸、３−アミノ−２，２−ジメチルプロピオン酸、３−（メチルアミノ）−２，２−ジメチルプロピオン酸、３−（ジメチルアミノ）−２，２−ジメチルプロピオン酸、３−（エチルアミノ）−２，２−ジメチルプロピオン酸、３−（ジエチルアミノ）−２，２−ジメチルプロピオン酸、３−アミノ−３，３−ジメチルプロピオン酸、３−（メチルアミノ）−３，３−ジメチルプロピオン酸、３−（ジメチルアミノ）−３，３−ジメチルプロピオン酸、３−（エチルアミノ）−３，３−ジメチルプロピオン酸、３−（ジエチルアミノ）−３，３−ジメチルプロピオン酸等が挙げられる。
【００４１】
アミノ基とカルボキシル基が不飽和炭化水素結合を有する２価の炭化水素基を介して結合されている化合物としては、特に限定されないが、例えば、２−アミノ安息香酸、３−アミノ安息香酸、４−アミノ安息香酸、２−（メチルアミノ）安息香酸、３−（メチルアミノ）安息香酸、４−（メチルアミノ）安息香酸、２−（ジメチルアミノ）安息香酸、３−（ジメチルアミノ）安息香酸、４−（ジメチルアミノ）安息香酸、２−アミノイソフタル酸、４−アミノイソフタル酸、５−アミノイソフタル酸、４−アミノフタル酸、３−アミノフタル酸、２−（メチルアミノ）イソフタル酸、２−（ジメチルアミノ）イソフタル酸、４−（メチルアミノ）イソフタル酸、４−（ジメチルアミノ）イソフタル酸、５−（メチルアミノ）イソフタル酸、５−（ジメチルアミノ）イソフタル酸、４−（メチルアミノ）フタル酸、４−（ジメチルアミノ）フタル酸、３−（メチルアミノ）フタル酸、３−（ジメチルアミノ）フタル酸等が挙げられる。
【００４２】
（エステル基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ））
エステル基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ）特に限定されないが、例えば、上記式（２）で示される化合物のカルボキシル基がエステル基に置換された化合物、アミノ基とエステル基が不飽和炭化水素結合を有する２価の炭化水素基を介して結合されている化合物が挙げられる。
【００４３】
（ヒドロキシ基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ））
ヒドロキシ基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシルアミン、下記式（３）で表される化合物、ヒドロキシ基を有し、窒素原子を含む芳香環を有する複素芳香族化合物、又は、ヒドロキシ基を有し、窒素原子を含む複素環を有する複素環式化合物が挙げられる。
【化３】
2015140312.tif 000004
（上記式（３）中、Ｒ10、Ｒ11及びＲ12は、各々独立して、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルデヒド基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は置換基を有してもよい炭素数６〜２０のアリール基である。）
【００４４】
上記式（３）中、Ｒ11及びＲ12が、カルボニル基である場合、該カルボニル基としては、特に限定されないが、例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等の各種保護基が挙げられる。
【００４５】
上記式（３）中、アルキル基、アルキレン基、アルコキシ基、及びアリール基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、又はアルデヒド基が挙げられる。
【００４６】
上記式（３）で表される化合物としては、特に限定されないが、例えば、アミノメタノール、２−アミノエタノール、３−アミノプロパノール、４−アミノブタノール、５−アミノペンタノール、６−アミノヘキサノール、７−アミノヘプタノール、８−アミノオクタノール、（メチルアミノ）メタノール、（ジメチルアミノ）メタノール、２−（メチルアミノ）エタノール、２−（ジメチルアミノ）エタノール、３−（メチルアミノ）プロパノール、３−（ジメチルアミノ）プロパノール、４−（メチルアミノ）ブタノール、４−（ジメチルアミノ）ブタノール、５−（メチルアミノ）ペンタノール、５−（ジメチルアミノ）ペンタノール、６−（メチルアミノ）ヘキサノール、６−（ジメチルアミノ）ヘキサノール、７−（メチルアミノ）ヘプタノール、７−（ジメチルアミノ）ヘプタノール、８−（メチルアミノ）オクタノール、８−（ジメチルアミノ）オクタノール、２−アミノフェノール、３−アミノフェノール、４−アミノフェノール、アザンジイルジメタノール、メチルアザンジイルジメタノール、ニトリロトリメタノール、２，２’−アザンジイルジエタノール、２，２’−（メチルアザンジイル）ジエタノール、２，２’，２’’−ニトリロトリエタノール、３，３’−アザンジイルビス（プロパン−１−オール）、３，３’−（メチルアザンジイル）ビス（プロパン−１−オール）、３，３’，３’’−ニトリロトリス（プロパン−１−オール）、（４−アミノフェニル）メタノール，（３−アミノフェニル）メタノール、（２−アミノフェニル）メタノール，（４−（メチルアミノ）フェニル）メタノール、（４−（ジメチルアミノ）フェニル）メタノール、（３−（メチルアミノ）フェニル）メタノール、（３−（ジメチルアミノ）フェニル）メタノール、（２−（メチルアミノ）フェニル）メタノール、（２−（ジメチルアミノ）フェニル）メタノール、ピペリジノール、ピロリジノール等が挙げられる。
【００４７】
ヒドロキシ基を有し、窒素原子を含む芳香環を有する複素芳香族化合物としては、特に限定されないが、例えば、ピリジン−４−オール、ピリジン−３−オール、ピリジン−２−オール、１Ｈ−ピロール−３−オール、１Ｈ−ピロール−２−オールが挙げられる。
【００４８】
ヒドロキシ基を有し、窒素原子を含む複素環を有する複素環式化合物としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシピロリジン、ヒドロキシピペリジン、ヒドロキシピペラジンが挙げられる。
【００４９】
（アミノ基を２以上有するアミノ基含有化合物（Ｂ））
アミノ基を２以上有するアミノ基含有化合物（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、下記式（４）で表される化合物、窒素原子を含む芳香環を有する複素芳香族化合物、又は窒素原子を含む複素環を有する複素環式化合物が挙げられる。
【化４】
2015140312.tif 000005
（上記式（４）中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、及びＲ15は、各々独立して、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルデヒド基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は置換基を有してもよい炭素数６〜２０のアリール基である。）
【００５０】
上記式（４）中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ14、及びＲ15が、カルボニル基である場合、該カルボニル基としては、特に限定されないが、例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等の各種保護基が挙げられる。
【００５１】
上記式（４）中、アルキル基、アルキレン基、アルコキシ基、及びアリール基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、又はアルデヒド基が挙げられる。
【００５２】
上記式（４）で表される化合物としては、特に限定されないが、例えば、エチレンジアミン、１，３−プロパンジアミン、１，４−ブタンジアミン、１，６−ヘキサンジアミン、１，２−プロパンジアミン、２，３−ブタンジアミン、１，３−ペンタンジアミン等の直鎖アミン；１，４−シクロヘキサンジアミン等の環構造を有するアミンが挙げられる。
【００５３】
窒素原子を含む芳香環を有する複素芳香族化合物としては、特に限定されないが、例えば、２−ピリジンアミン、３−ピリジンアミン、４−ピリジンアミン、１Ｈ−ピロール−２−アミン、１Ｈ−ピロール−３−アミン、Ｎ−メチル−１Ｈ−ピロール−３−アミン、トリアジン等が挙げられる。
【００５４】
窒素原子を含む複素環を有する複素環式化合物としては、特に限定されないが、例えば、２−ピロリジンアミン、３−ピロリジンアミン、ピペラジンが挙げられる。
【００５５】
（チオール基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ））
チオール基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、下記式（５）で表される化合物が挙げられる。
【化５】
2015140312.tif 000006
（上記式（５）中、Ｒ16、Ｒ17、及びＲ18は、各々独立して、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルデヒド基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は置換基を有してもよい炭素数６〜２０のアリール基である。）
【００５６】
上記式（５）中、Ｒ17及びＲ18が、カルボニル基である場合、該カルボニル基としては、特に限定されないが、例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等の各種保護基が挙げられる。
【００５７】
上記式（５）中、アルキル基、アルキレン基、アルコキシ基、及びアリール基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、又はアルデヒド基が挙げられる。
【００５８】
上記式（５）で表される化合物としては、特に限定されないが、例えば、２−アミノエタンチオール、３−アミノ−１−プロパンチオール、１−アミノ−２−プロパンチオール、１−アミノ−２−ブタンチオール、３−アミノ−２ブタンチオール、４−アミノ−２−ブタンチオール、２−アミノ−１−ペンタンチオール、１−アミノ−２−オクタンチオール、２−アミノ−１−オクタンチオール、２−アミノ−３−メチル−３−プロパンチオール、２−アミノ−３−エチル−３−ペンタンチオール、３−アミノ−２−メチル−２−ブタンチオール、４−アミノ−２−メチル−２−ペンタンチオール、３−（ブチルアミノ）−１−プロパンチオール、３−アミノ−３−メチル−１−ブタンチオール、２−［（１−メチルプロピル）アミノ］エタンチオール、２−（プロピルアミノ）エタンチオール、２−（デシルアミノ）−エタンチオール、２−（ブチルアミノ）―エタンチオール、２−（２−プロペン−１−イルアミノ）−エタンチオール、２−（ヘキシルアミノ）―エタンチオール、２−（オクチルアミノ）―エタンチオール、３−（プロピルアミノ）−１−プロパンチオール、２−（シクロヘキシルアミノ）−エタンチオール、３−（シクロヘキシルアミノ）−１−プロパンチオール、２−［（９−アミノノニル）アミノ］エタンチオール、１−アミノ−３−［（２−メルカプトエチル）アミノ］−２−プロパノール、２−［（２−メルカプトエチル）アミノ］エタノール、２−（フェニルアミノ）−エタンチオール、２−（エチルアミノ）−エタンチオール、２−［（４−メチルフェニル）アミノ］−エタンチオール、２−［（４−クロロフェニルアミノ）］―エタンチオール、２−（エトキシアミノ）―エタンチオール、３−（エトキシアミノ）−１−プロパンチオール等が挙げられる。
【００５９】
（イソシアネート基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ））
イソシアネート基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、下記式（６）で表される化合物が挙げられる。
【化６】
2015140312.tif 000007
（上記式（６）中、Ｒ16、Ｒ17、及びＲ18は、各々独立して、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルデヒド基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は置換基を有してもよい炭素数６〜２０のアリール基である。）
【００６０】
上記式（６）中、Ｒ17及びＲ18が、カルボニル基である場合、該カルボニル基としては、特に限定されないが、例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等の各種保護基が挙げられる。
【００６１】
上記式（６）中、アルキル基、アルキレン基、アルコキシ基、及びアリール基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、又はアルデヒド基が挙げられる。
【００６２】
（イソチオシアネート基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ））
イソチオシアネート基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、下記式（７）で表される化合物が挙げられる。
【化７】
2015140312.tif 000008
（上記式（７）中、Ｒ16、Ｒ17、及びＲ18は、各々独立して、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルデヒド基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は置換基を有してもよい炭素数６〜２０のアリール基である。）
【００６３】
上記式（７）中、Ｒ17及びＲ18が、カルボニル基である場合、該カルボニル基としては、特に限定されないが、例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等の各種保護基が挙げられる。
【００６４】
上記式（７）中、アルキル基、アルキレン基、アルコキシ基、及びアリール基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、又はアルデヒド基が挙げられる。
【００６５】
（ハロゲン原子を有するアミノ基含有化合物（Ｂ））
ハロゲン原子を有するアミノ基含有化合物（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、下記式（８）で表される化合物が挙げられる。
【化８】
2015140312.tif 000009
（上記式（８）中、Ｒ16、Ｒ17、及びＲ18は、各々独立して、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルデヒド基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は置換基を有してもよい炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｘはハロゲン原子である。）
【００６６】
上記式（８）中、Ｒ17及びＲ18が、カルボニル基である場合、該カルボニル基としては、特に限定されないが、例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等の各種保護基が挙げられる。
【００６７】
上記式（８）中、アルキル基、アルキレン基、アルコキシ基、及びアリール基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、又はアルデヒド基が挙げられる。
【００６８】
（酸無水物基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ））
酸無水物基を有するアミノ基含有化合物（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、下記式（９）で表される化合物が挙げられる。
【化９】
2015140312.tif 000010
（上記式（９）中、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は、各々独立して、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルデヒド基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は置換基を有してもよい炭素数６〜２０のアリール基である。）
【００６９】
上記式（９）中、Ｒ17及びＲ18が、カルボニル基である場合、該カルボニル基としては、特に限定されないが、例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等の各種保護基が挙げられる。
【００７０】
上記式（９）中、アルキル基、アルキレン基、アルコキシ基、及びアリール基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボニル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、アゾ基、アジ基、チオール基、スルホ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アシル基、又はアルデヒド基が挙げられる。
【００７１】
（その他のアミノ基含有化合物（Ｂ））
その他のアミノ基含有化合物（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、アミノ基を有するフラーレン及びその誘導体、アミノ基を有するカーボンナノチューブ及びその誘導体、アミノ基を有するグラフェン及びその誘導体が挙げられる。これらその他のアミノ基含有化合物（Ｂ）は、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基と反応する官能基を有する。
【００７２】
〔第２の反応工程〕
本実施形態のスルホン酸基含有化合物の製造方法は、スルホン酸基含有化合物（Ｃ）の反応性官能基と、該反応性官能基と反応する官能基を有する化合物（Ｄ）の前記官能基と、を反応させて、スルホン酸基含有化合物（Ｅ）を得る第２の反応工程を有してもよい。
【００７３】
第１の反応工程及び第２の反応工程を行うことにより、ビニルスルホン酸類（Ａ）と、該ビニルスルホン酸類（Ａ）のビニル基と通常反応しない化合物（Ｄ）とをアミノ基含有化合物（Ｂ）を介して、結合させることができる。具体的には、アミノ基含有化合物（Ｂ）のアミノ基がビニルスルホン酸類（Ａ）のビニル基に付加し、アミノ基含有化合物（Ｂ）の反応性官能基が化合物（Ｄ）の官能基と結合する。
【００７４】
第１の反応工程により、アミノ基含有化合物（Ｂ）を介して、化合物（Ｄ）にスルホン酸基を導入することができる。その結果得られるスルホン酸基含有化合物（Ｅ）は、酸性、プロトン移動性、親水性、水溶性がより向上したものとなる。具体的には、本来親油性である化合物（Ｄ）に対し酸性、プロトン移動性、親水性、水溶性を付与することなどが可能となる。
【００７５】
第２の反応工程は、溶媒中で行なっても、有機溶媒と水との二相状態で行なっても、化合物（Ｄ）を溶媒として他の溶媒を用いない条件で行なってもよい。使用し得る溶媒としては、特に限定されないが、例えば、有機溶媒、水、イオン性流体等が挙げられる。
【００７６】
第２の反応工程における反応温度は、特に限定されないが、好ましくは９０℃以上反応液の沸点以下であり、より好ましくは１００℃以上反応液の沸点以下であり、さらに好ましくは１１０℃以上反応液の沸点以下である。第２の反応工程における反応温度が９０℃以上であることにより、スルホン酸基含有化合物（Ｃ）の反応性官能基と、該反応性官能基と反応する官能基を有する化合物（Ｄ）の官能基と、の反応速度がより向上する傾向にある。
【００７７】
〔化合物（Ｄ）〕
化合物（Ｄ）は、スルホン酸基含有化合物（Ｃ）の有する反応性官能基と反応する官能基を有する。反応性官能基と反応する官能基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基が挙げられる。なお、化合物（Ｄ）は、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００７８】
（ヒドロキシ基を有する化合物（Ｄ））
ヒドロキシ基を有する化合物（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロパノール、イソプロパノール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、ブタノール、１，４−ブタンジオール、グリセリン、ネオペンチルグリコール、メタンテトラオール等のアルコール類；ポリビニルアルコール、ビニルアルコールが共重合された水酸基含有ポリマー等が挙げられる。
【００７９】
（カルボキシル基を有する化合物（Ｄ））
カルボキシル基を有する化合物（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、アクリル酸、メタクリル酸、安息香酸等の低分子；ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、並びに、アクリル酸及び／又はメタクリル酸の共重合体等の高分子が挙げられる。
【００８０】
（エステル基を有する化合物（Ｄ））
エステル基を有する化合物（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等の低分子；ポリエチレンテレフタレート、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、アクリル酸エステル及び／又はメタクリル酸エステルの共重合体等の高分子が挙げられる。
【００８１】
（アミノ基を有する化合物（Ｄ））
アミノ基を有する化合物（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、メチルアミン、エチルアミン、エチレンジアミン、１，２，３-プロパントリアミン、２−メチル−１，２，３−プロパントリアミン、２−エチル−１，２，３−プロパントリアミン、Ｎ−（２−アミノエチル）−１，２−エタンジアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、１，２−プロパンジアミン、１，３−プロパンジアミン、ブチルアミン、１，４−ブタンジアミン、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジアミン、メタンテトラミン等の低分子；ポリビニルアミン、ビニルアミン及び／又はビニルホルムアミドの共重合体を加水分解したアミノ基含有ポリマー等の高分子が挙げられる。
【００８２】
（チオール基を有する化合物（Ｄ））
チオール基を有する化合物（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、メタンチオール、エタンチオール、１，２−エタンジチオール、１，２，３-プロパントリチオール、チオジメタンチオール、２−メチル−１，２，３−プロパントリチオール、２−エチル−１，２，３−プロパントリチオール、２，２’−チオビス−エタンチオール、プロパンチオール、イソプロパンチオール、１，２−プロパンジチオール、１，３−プロパンジチオール、ブタンチオール、ベンジルメルカプタン、チオフェノール、１，４−ブタンジチオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジチオール、メタントリチオール、メタンテトラミン等の低分子；ポリビニルチオール、ビニルチオールの共重合体等の高分子が挙げられる。
【００８３】
（イソシアネート基を有する化合物（Ｄ））
イソシアネート基を有する化合物（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、イソシアネートメタン、イソシアネートエタン、イソシアネートエテン、１−イソシアネートプロパン、１−イソシアネートブタン、１−イソシアネートデカン、１−イソシアネートヘキサン、１−イソシアネートオクタデカン、２−イソシアネートペンタン、１−イソシアネート−２，２，５−トリメチルヘキサン、３−イソシアネート−１−プロペン、１−イソシアネート−２−メチループロパン、３−イソシアネート−３−メチル−１−ブテン、３−イソシアネート−１−ブチン、１２−イソシアネート−２，７−ドデカジイン、１−イソシアネート−２，２−ジメチルプロパン、イソシアン酸メチルエステル、イソシアン酸イソプロピルエステル、３−イソシアネート−３，７，１１，１５−テトラメチル−（６E,１０E）−１，６，１０，１４−ヘキサデカテトラエン、（イソシアネートメチル）トリメトキシシラン、ジエトキシエチル（イソシアネートメチル）−シラン、（イソシアネートメチル）トリス（１−メチルエトキシ）−シラン、（N-カルボニル）−O−（トリメトキシシリル）−ハイドロキシルアミン、（イソシアネートメチル）メトキシジメチルシラン、１，２−ジイソシアネート−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１−フルオロ−４−[（イソシアネートメチル）ジメチルシリル]−ベンゼン等の低分子；これらを構成要素とする高分子が挙げられる。
【００８４】
（イソチオシアネート基を有する化合物（Ｄ））
イソチオシアネート基を有する化合物（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、
イソチオシアネートを含有する化合物としては、イソチオシアネートメタン、イソチオシアネートエタン、イソチオシアネートエテン、１−イソチオシアネートプロパン、１−イソチオシアネートブタン、１−イソチオシアネートデカン、１−イソチオシアネートヘキサン、１−イソチオシアネートオクタデカン、２−イソチオシアネートペンタン、１−イソチオシアネート−２，２，５−トリメチルヘキサン、３−イソチオシアネート−１−プロペン、１−イソチオシアネート−２−メチループロパン、３−イソチオシアネート−３−メチル−１−ブテン、３−イソチオシアネート−１−ブチン、１２−イソチオシアネート−２，７−ドデカジイン、１−イソチオシアネート−２，２−ジメチルプロパン、イソチオシアン酸メチルエステル、イソチオシアン酸イソプロピルエステル、３−イソチオシアネート−３，７，１１，１５−テトラメチル−（６Ｅ，１０Ｅ）−１，６，１０，１４−ヘキサデカテトラエン、（イソチオシアネートメチル）トリメトキシシラン、ジエトキシエチル（イソチオシアネートメチル）−シラン、（イソチオシアネートメチル）トリス（１−メチルエトキシ）−シラン、（Ｎ−カルボニル）−Ｏ−（トリメトキシシリル）−ハイドロキシルアミン、（イソチオシアネートメチル）メトキシジメチルシラン、１，２−ジイソチオシアネート−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１−フルオロ−４−[（イソチオシアネートメチル）ジメチルシリル]−ベンゼン、フェニルイソチオシアネート等の低分子；これらを構成要素とする高分子が挙げられる。
【００８５】
（ハロゲン原子を有する化合物（Ｄ））
ハロゲン原子を有する化合物（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、酸ハロゲン化剤であるフッ化アセチル、塩化アセチル、ブタン酸クロリド、シクロヘキサン酸クロリド、塩化ピバロイル、メタクリル酸クロリド、トリフルオロ酢酸クロリド、ペンタフルオロプロピオン酸クロリド、ベンゾイルフルオリド、ベンゾイルクロリド、フェニル酢酸クロリド、３−トリフルオロメチル安息香酸クロリド、３，５−ビス（トリフルオロメチル）安息香酸クロリド、２−クロロ−３，５−ビス（トリフルオロメチル）安息香酸クロリド、トリフルオロメタンスルホニルフルオリド、ｐ−トルエンスルホン酸クロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルフィニルクロリド、ビニルスルホン酸クロリド、塩化チオニル、及び塩化オキサリル等；三塩化リン、及び五塩化リン等のリン酸塩化物類；クロロ蟻酸エチル、及びクロロ蟻酸イソブチル等のクロロ蟻酸エステル類；ジクロロトリフェニルホスホラン、及びジブロモトリフェニルホスホラン等のホスホラン類；これらを構成要素とする高分子が挙げられる。
【００８６】
（酸無水物基を有する化合物（Ｄ））
酸無水物基を有する化合物（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水トリフルオロ酢酸等の同一種類のカルボン酸二分子が分子間で酸無水物結合を形成してなるカルボン酸無水物；酢酸プロピオン酸無水物、酢酸トリフルオロ酢酸無水物等の異なる種類のカルボン酸二分子が分子間で酸無水物結合を形成してなるカルボン酸無水物；無水フタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、１，２−ナフタル酸無水物、１，８−ナフタル酸無水物等のジカルボン酸が同一分子内で酸無水物結合を形成してなるカルボン酸無水物；メタンスルホン酸無水物、ベンゼンスルホン酸無水物等の同一又は異なる種類のスルホン酸二分子が分子間で酸無水物結合を形成してなるスルホン酸無水物；ベンゼンスルフィン酸無水物等の同一又は異なる種類のスルフィン酸二分子が分子間で酸無水物結合を形成してなるスルフィン酸無水物；ベンゼンスルホン酸ベンゼンスルフィン酸無水物、環状無水スルホ酢酸の同一又は異なる種類の有機酸二分子が分子間で酸無水物結合を形成してなる鎖状若しくは環状の有機酸無水物等が挙げられる。
【００８７】
（その他の化合物（Ｄ））
その他の化合物（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、又は酸無水物基を有する、フラーレン及びその誘導体、カーボンナノチューブ及びその誘導体、グラフェン及びその誘導体が挙げられる。また、反応性官能基と反応する官能基として、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基を有する、フラーレン及びその誘導体、カーボンナノチューブ及びその誘導体、グラフェン及びその誘導体も挙げられる。フラーレン、カーボンナノチューブ、グラフェン、及びこれらの誘導体は、２次元又は３次元に共役結合が広がった表面を有する。ここで、フラーレン、カーボンナノチューブ、グラフェン、及びこれらの誘導体の表面上の共役基とは、これら表面を構成する共役結合をいう。
【００８８】
〔第２の実施形態のスルホン酸基含有化合物の製造方法〕
第２の実施形態のスルホン酸基含有化合物の製造方法は、
少なくとも２つの反応性官能基を有し、該反応性官能基の少なくとも１つがアミノ基であるアミノ基含有化合物（Ｂ）の前記反応性官能基と、該反応性官能基と反応する官能基を有する化合物（Ｄ）の前記官能基と、を反応させて、前記アミノ基を有するアミノ基含有化合物（Ｆ）を得る第３の反応工程と、
ビニル基及びスルホン酸基を有するビニルスルホン酸類（Ａ）の前記ビニル基と、前記アミノ基含有化合物（Ｆ）の前記アミノ基と、を反応させて、前記スルホン酸基を有するスルホン酸基含有化合物（Ｇ）を得る第４の反応工程と、を有し、
前記反応性官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基と反応する官能基であり、
前記反応性官能基と反応する官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン原子、酸無水物基、フラーレン及びその誘導体の表面上の共役基、カーボンナノチューブ及びその誘導体の表面上の共役基、並びに、グラフェン及びその誘導体の表面上の共役基からなる群より選ばれる基である。
【００８９】
ビニルスルホン酸類（Ａ）、アミノ基含有化合物（Ｂ）、化合物（Ｄ）としては、特に限定されず、第１の実施形態で述べたものと同様のものを挙げることができる。なお、ビニルスルホン酸類（Ａ）としてビニルスルホン酸を用いることによりスルホエチルアミノ基を有するスルホン酸基含有化合物（Ｇ）を得ることができる。
【００９０】
〔第３の反応工程〕
第３の反応工程は、少なくとも２つの反応性官能基を有し、該反応性官能基の少なくとも１つがアミノ基であるアミノ基含有化合物（Ｂ）の前記反応性官能基と、該反応性官能基と反応する官能基を有する化合物（Ｄ）の前記官能基と、を反応させて、前記アミノ基を有するアミノ基含有化合物（Ｆ）を得る工程である。
【００９１】
第３の反応工程は、溶媒中で行なっても、有機溶媒と水との二相状態で行なっても、無溶媒で行なってもよい。使用し得る溶媒としては、特に限定されないが、例えば、有機溶媒、水、イオン性流体等が挙げられる。
【００９２】
第３の反応工程における反応温度は、特に限定されないが、好ましくは９０℃以上反応液の沸点以下であり、より好ましくは１００℃以上反応液の沸点以下であり、さらに好ましくは１１０℃以上反応液の沸点以下である。第３の反応工程における反応温度が９０℃以上であることにより、アミノ基含有化合物（Ｂ）の反応性官能基と、化合物（Ｄ）の官能基と、の反応速度がより向上する傾向にある。
【００９３】
〔アミノ基含有化合物（Ｆ）〕
アミノ基含有化合物（Ｆ）は、アミノ基含有化合物（Ｂ）及び化合物（Ｄ）に由来する構成単位、及び、アミノ基含有化合物（Ｂ）に由来するアミノ基を有する。
【００９４】
〔第４の反応工程〕
第４の反応工程は、ビニル基及びスルホン酸基を有するビニルスルホン酸類（Ａ）の前記ビニル基と、前記アミノ基含有化合物（Ｆ）の前記アミノ基と、を反応させて、前記スルホン酸基を有するスルホン酸基含有化合物（Ｇ）を得る工程である。
【００９５】
第４の反応工程は、溶媒中で行なっても、有機溶媒と水との二相状態で行なっても、無溶媒で行なってもよい。使用し得る溶媒としては、特に限定されないが、例えば、水中又はブタノール等の有機溶媒、水、イオン性流体等が挙げられる。
【００９６】
第４の反応工程における反応液のｐＨは、好ましくは７以上である。反応液のｐＨを７以上とすることにより、ビニルスルホン酸類（Ａ）のビニル基とアミノ基含有化合物（Ｆ）のアミノ基と、の付加反応速度がより向上する傾向にある。
【００９７】
第４の反応工程において、ビニルスルホン酸類（Ａ）の添加量に対するアミノ基含有化合物（Ｆ）の添加量は、好ましくは１〜５倍であり、より好ましくは１．５〜３．０倍であり、さらに好ましくは２．０〜２．５倍である。ビニルスルホン酸類（Ａ）の添加量に対するアミノ基含有化合物（Ｆ）の添加量が上記範囲内であることにより、反応効率がより向上する傾向にある。
【００９８】
第４の反応工程における反応温度は、特に限定されないが、好ましくは９０℃以上反応液の沸点以下であり、より好ましくは１００℃以上反応液の沸点以下であり、さらに好ましくは１１０℃以上反応液の沸点以下である。特に、溶媒として水又は１−ブタノールなどを用いた還流条件で第４の反応工程を行なうことが好ましい。第４の反応工程における反応温度が９０℃以上であることにより、ビニルスルホン酸類（Ａ）のビニル基とアミノ基含有化合物（Ｆ）のアミノ基と、の付加反応速度がより向上する傾向にある。
【００９９】
上記第１の実施形態又は第２の実施形態のスルホン酸基含有化合物の製造方法は、ビニルスルホン酸類（Ａ）とアミノ基含有化合物（Ｂ）とを先に反応させるか、化合物（Ｄ）とアミノ基含有化合物（Ｂ）とを先に反応させるかという点で異なる。上記第１の実施形態又は第２の実施形態のスルホン酸基含有化合物の製造方法のいずれを用いるかは、用いるビニルスルホン酸類（Ａ）、アミノ基含有化合物（Ｂ）、及び化合物（Ｄ）の性質、生成する中間体の性質により、適宜決定することができる。
【０１００】
第１の実施形態又は第２の実施形態のスルホン酸基含有化合物の製造方法の具体的態様としては、ビニルスルホン酸類（Ａ）、アミノ基含有化合物（Ｂ）、及び化合物（Ｄ）の三成分を混合して反応する方法、ビニルスルホン酸類（Ａ）及びアミノ基含有化合物（Ｂ）の反応後に、その反応液に直接化合物（Ｄ）を添加する方法、又は、アミノ基含有化合物（Ｂ）、及び化合物（Ｄ）の反応後に、その反応液に直接ビニルスルホン酸類（Ａ）を添加する方法が挙げられる。これらの方法によれば、中間体を精製単離する必要がないため、各ステップを個々に行う場合に比べて、最終生成物を高収率、短時間で得ることも可能となる。
【０１０１】
〔用途〕
本実施形態のスルホン酸基含有化合物は、電池材料やレジスト材料など、金属原子が悪影響を及ぼす用途の材料の原材料として好適に用いることができる。また、表面コート材の原料として、本実施形態のスルホン酸基含有化合物を用いることにより、防曇性、防汚性を向上させたコート材を得ることができる。
【０１０２】
さらに、アミノ基含有化合物（Ｂ）又は化合物（Ｄ）が重合性モノマーである場合、重合性を有するスルホン酸基含有化合物を得ることができる。このような重合性を有するスルホン酸基含有化合物を重合した（共）重合体を膜状に成形することで、プロトン移動性が著しく向上し、イオン交換性のある安定な膜を製造することができる。
【０１０３】
またさらに、アミノ基含有化合物（Ｂ）又は化合物（Ｄ）が疎水性重合性モノマーである場合、重合性を有するスルホン酸基含有化合物を得ることができる。このような重合性を有するスルホン酸基含有化合物をモノマーとして用いることにより、親水性がコントロールされた（共）重合体を得ることができる。
【０１０４】
その他、本実施形態のスルホン酸基含有化合物は、自動車、建材、電子部品等のコーティング剤、粘着性に優れたシート、塗料添加剤、各種オイル、ゴム製品の添加材、シランカップリング剤、ガラス製品、シリカや金属を含む非水性粒子、又は金属等の各種材料又はこれらの親水化剤として好適に用いることができる。
【実施例】
【０１０５】
以下、本発明を実施例及び比較例を用いてより具体的に説明する。本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。
【０１０６】
〔核磁気共鳴スペクトル解析〕
下記実施例で得られた各化合物を、核磁気共鳴スペクトル解析（ＮＭＲ）により、下記の条件で測定した。
（測定条件）
測定機器      ：ＤＥＬＴＡ２（ＪＥＯＬ製）または、ＡＶＡＮＣＥ  ＩＩＩ  ４００（Ｂｒｕｋｅｒ製）
溶媒          ：重水
化学シフト基準：溶媒により設定
【０１０７】
〔質量分析〕
安息香酸２−（２−スルホエチルアミノ）エチル、２−（２−スルホエチルアミノ）エチルアミノ安息香酸アミドを、質量分析により、下記の条件で測定した。
（測定条件）
測定機器      ：フローインジェクション−質量分析計（ＦＩＡ−ＭＳ）（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ製ＬＣ／ＭＳＤシステム）
移動相        ：アセトニトリル
検出          ：ＥＳＩ−Ｐｏｓｉｔｉｖｅ、ＥＳＩ−Ｎｅｇａｔｉｖｅ
【０１０８】
〔金属含有量〕
下記実施例で得られた各化合物中の金属含有量は、イオンクロマトグラフ法により測定した。具体的には、試料１０ｍｇを超純水１０ｍＬに溶解して、ＩＣ用サンプルを調製した。予め、濃度が分かっている標準液３点を用いて検量線を作成し、この検量線に基づいて絶対検量線法により、スルホン酸基を有する化合物に含まれる金属含有量（ナトリウムカチオン）を算出した。
測定装置
装置            ：島津製作所製、製品名「ＬＣ−２０ＡＤｓｐ、ＳＩＬ−１０Ａｉ、ＣＴＯ−２０ＡＣ、ＣＤＤ−１０Ａｓｐ、ＣＢＭ−２０Ａ」
ガードカラム    ：島津製作所製、製品名「Ｓｈｉｍ−ｐａｃ  ＩＣ−ＧＣ４」
メインカラム    ：島津製作所製、製品名「Ｓｈｉｍ−ｐａｃ  ＩＣ−Ｃ４」
測定条件
注入量          ：５０μＬ
移動相          ：２．５ｍＭシュウ酸水溶液
流量            ：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
オーブン温度    ：４０℃
検出器温度      ：４３℃
【０１０９】
〔実施例１：２−（２−ヒドロキシエチルアミノ）エタンスルホン酸〕
茄子型フラスコ中、ビニルスルホン酸２．５１ｇを２３．２ｍＬの蒸留水に溶解させ、ビニルスルホン酸に対して２等量のエタノールアミン２．８３ｇを添加した。２４時間還流させた後、溶媒及び過剰量のエタノールアミンをエバポレーターにて除去し、オイルポンプで減圧乾燥することにより、２−（２−ヒドロキシエチルアミノ）エタンスルホン酸を含む淡黄色固体４．２７ｇを得た。得られた２−（２−ヒドロキシエチルアミノ）エタンスルホン酸のＮＭＲデータを以下に示す。ＮＭＲ分析によりエタノールアミンのアミノ基がビニルスルホン酸の二重結合部に付加したことが確認された。なお、イオンクロマトグラフィー分析によると、金属含有量（Ｎａカチオン）は検出限界である０．１ｐｐｍ以下であった。
３．５−３．７ｐｐｍ（２Ｈ、−ＣＨ2−ＯＨ）
３．２−３．３、３．０８−３．１５ｐｐｍ（２Ｈ＆２Ｈ、−（ＣＨ2）2−ＳＯ3Ｈ）
２．９−３．０５ｐｐｍ（２Ｈ、−ＣＨ2−ＮＨ−（ＣＨ2）2−ＳＯ3Ｈ）
【０１１０】
〔実施例２：安息香酸２−（２−スルホエチルアミノ）エチル〕
茄子型フラスコに実施例１で得られた２−（２−ヒドロキシエチルアミノ）エタンスルホン酸を含む淡黄色固体４．１９ｇを取り、過剰量の安息香酸エチル１２．３０ｇを添加し、１５０℃で２４時間加熱した後、水相とクロロホルム相に分配した。水相からエバポレーターにより溶媒及び残存する安息香酸エチルを除去後、オイルポンプで減圧乾燥することにより、エタノールアミンを架橋材とした、安息香酸２−（２−スルホエチルアミノ）エチルを含む薄茶色固体を４．０９ｇ得た。得られた安息香酸２−（２−スルホエチルアミノ）エチルのＮＭＲデータを以下に示す。なお、イオンクロマトグラフィー分析によると、金属含有量（Ｎａカチオン）は検出限界である０．１ｐｐｍ以下であった。
ＥＳＩ−Ｐｏｓｉｔｉｖｅ：ｍ/ｚ２７４  [Ｍ＋Ｈ]+
ＥＳＩ−Ｎｅｇａｔｉｖｅ：ｍ/ｚ２７２  [Ｍ−Ｈ]-
【０１１１】
〔比較例１：２−（２−ヒドロキシエチルアミノ）エタンスルホン酸ナトリウム〕
茄子型フラスコ中、１ｍｏｌ／Ｌビニルスルホン酸ナトリウム水溶液１０．０７ｍＬに、２等量のエタノールアミン１．２４ｇを添加し、溶解させた。２４時間還流させた後、溶媒及び過剰量のエタノールアミンをエバポレーターにて除去し、オイルポンプで減圧乾燥することにより、２−（２−ヒドロキシエチルアミノ）エタンスルホン酸ナトリウムを含む淡黄色固体１．０４ｇを得た。得られた２−（２−ヒドロキシエチルアミノ）エタンスルホン酸のＮＭＲデータを以下に示す。ＮＭＲ分析によりエタノールアミンのアミノ基がビニルスルホン酸ナトリウムの二重結合部に付加したことが確認された。なお、イオンクロマトグラフィー分析によると、陽イオン交換処理後における金属含有量（Ｎａカチオン）は６９３３３ｐｐｍであった。
３．４−３．６ｐｐｍ（２Ｈ、−ＣＨ2−ＯＨ）
２．９−３．０、２．８−２．９ｐｐｍ（２Ｈ＆２Ｈ、−（ＣＨ2）2−ＳＯ3Ｎａ）
２．５−２．７ｐｐｍ（２Ｈ、−ＮＨ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＨ）
【０１１２】
〔比較例２：安息香酸２−（２−スルホエチルアミノ）エチル〕
茄子型フラスコに比較例１で得た２−（２−ヒドロキシエチルアミノ）エタンスルホン酸ナトリウムを含む淡黄色固体１．００ｇを取り、過剰量の安息香酸エチル２．５２ｇを添加し、１５０℃で２４時間加熱した後、水相とクロロホルム相に分配した。水相を陽イオン交換処理後、エバポレーターにより溶媒及び残存する安息香酸エチルを除去し、オイルポンプで減圧乾燥することにより、エタノールアミンを架橋材とした、安息香酸２−（２−スルホエチルアミノ）エチルを含む薄茶色固体１．３０ｇを得た。なお、イオンクロマトグラフィー分析によると、陽イオン交換処理後における金属含有量（Ｎａカチオン）は、５００ｐｐｍであった。
ＥＳＩ−Ｐｏｓｉｔｉｖｅ：ｍ/ｚ２７４  [Ｍ＋Ｈ]+
ＥＳＩ−Ｎｅｇａｔｉｖｅ：ｍ/ｚ２７２  [Ｍ−Ｈ]-
【０１１３】
〔実施例３：２−（２−アミノエチルアミノ）エタンスルホン酸〕
茄子型フラスコ中、ビニルスルホン酸２．５１ｇを２３．１ｍＬの蒸留水に溶解させ、ビニルスルホン酸に対して１等量のエチレンジアミン１．４１ｇを添加した。２４時間還流させた後、その溶媒をエバポレーターにて除去し、オイルポンプで減圧乾燥することにより、２−（２−アミノエチルアミノ）エタンスルホン酸を含む黄色固体３．６５ｇを得た。得られた２−（２−アミノエチルアミノ）エタンスルホン酸のＮＭＲデータを以下に示す。ＮＭＲ分析によりエチレンジアミンのアミノ基がビニルスルホン酸の二重結合部に付加したことが確認された。なお、イオンクロマトグラフィー分析によると、金属含有量（Ｎａカチオン）は検出限界である０．１ｐｐｍ以下であった。
２．９５−３．０、２．７−２．９５ｐｐｍ（２Ｈ＆２Ｈ、−ＮＨ−（ＣＨ2）2−ＳＯ3Ｈ）
２．８３−２．８９、２．６９−２．７５ｐｐｍ（２Ｈ＆２Ｈ、Ｈ2Ｎ−（ＣＨ2）2ＮＨ−）
【０１１４】
〔実施例４：２−（２−スルホエチルアミノ）エチルアミノ安息香酸アミド〕
茄子型フラスコに実施例３で得た２−（２−アミノエチルアミノ）エタンスルホン酸を含む黄色固体３．６７ｇを取り、過剰量の安息香酸エチル１０．７２ｇを添加し、１５０℃で２４時間加熱した後、水相とクロロホルム相に分配した。水相から、エバポレーターにより溶媒及び残存する安息香酸エチルを除去後、オイルポンプで減圧乾燥することにより、エチレンジアミンを架橋材とした、２−（２−スルホエチルアミノ）エチルアミノ安息香酸アミドを含む茶褐色固体を３．６７ｇ得た。イオンクロマトグラフィー分析によると、金属含有量（Ｎａカチオン）は検出限界である０．１ｐｐｍ以下であった。
ＥＳＩ−Ｐｏｓｉｔｉｖｅ：ｍ/ｚ２７３  [Ｍ＋Ｈ]+
ＥＳＩ−Ｎｅｇａｔｉｖｅ：ｍ/ｚ２７１  [Ｍ−Ｈ]-
【０１１５】
〔比較例３：２−（２−アミノエチルアミノ）エタンスルホン酸ナトリウム〕
茄子型フラスコ中、１ｍｏｌ／Ｌビニルスルホン酸ナトリウム水溶液１０．０５ｍＬに、１等量のエチレンジアミン０．６２ｇを添加し、溶解させた。２４時間還流させた後、溶媒をエバポレーターにて除去し、オイルポンプで減圧乾燥することにより、２−（２−アミノエチルアミノ）エタンスルホン酸ナトリウムを含む淡黄色固体０．９１ｇを得た。得られた２−（２−アミノエチルアミノ）エタンスルホン酸ナトリウムのＮＭＲデータを以下に示す。ＮＭＲ分析によりエタノールアミンのアミノ基がビニルスルホン酸ナトリウムの二重結合部に付加したことが確認された。なお、イオンクロマトグラフィー分析によると、陽イオン交換処理後における金属含有量（Ｎａカチオン）は２９３４７ｐｐｍであった。
２．９−３．０、２．８−２．９ｐｐｍ（２Ｈ＆２Ｈ、−（ＣＨ2）2−ＳＯ3Ｎａ）
２．５７−２．６５、２．５−２．５７ｐｐｍ（２Ｈ＆２Ｈ、Ｈ2Ｎ−（ＣＨ2）2−）
【０１１６】
〔比較例４：２−（２−スルホエチルアミノ）エチルアミノ安息香酸アミド〕
茄子型フラスコに比較例３で得た２−（２−アミノエチルアミノ）エタンスルホン酸ナトリウムを含む淡黄色固体０．８９ｇを取り、過剰量の安息香酸エチル２．３７ｇを添加し、１５０℃で２４時間加熱した後、水相とクロロホルム相に分配した。水相を陽イオン交換処理後、エバポレーターにより溶媒及び残存する安息香酸エチルを除去し、オイルポンプで減圧乾燥することにより、エチレンジアミンを架橋材とした、２−（２−スルホエチルアミノ）エチルアミノ安息香酸アミドを含む茶褐色固体を１．１６ｇ得た。イオンクロマトグラフィー分析により、陽イオン交換処理後における金属含有量（Ｎａカチオン）は、１，３００ｐｐｍであった。
ＥＳＩ−Ｐｏｓｉｔｉｖｅ：ｍ/ｚ２７３  [Ｍ＋Ｈ]+
ＥＳＩ−Ｎｅｇａｔｉｖｅ：ｍ/ｚ２７１  [Ｍ−Ｈ]-
【０１１７】
以上の実施例及び比較例より、本発明の方法によれば、得られる化合物の金属含有量が低いため陽イオン交換処理等脱金属処理が不要となる。そのためより効率的にスルホン酸基含有化合物を得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【０１１８】
本実施形態の製造方法により得られるスルホン酸基含有化合物は、自動車、建材、電子部品等のコーティング剤、粘着性に優れたシート、塗料添加剤、各種オイル、ゴム製品の添加材、シランカップリング剤、ガラス製品、シリカや金属を含む非水性粒子、又は金属等の各種材料又はこれらの親水化剤として産業上の利用可能性を有する。