(57)【要約】      （修正有）【課題】照明の存在下（特にＬＥＤ照明下）や、ＩＴＯ及びＡＴＯ等の導電性粒子を用いた場合に着色の問題を生じることがなく、かつ帯電防止性に優れた反射防止フィルム及びディスプレイを提供する。【解決手段】導電性高屈折率粒子を含有してなる高屈折率層４，５及び低屈折率層６をこの順に有する反射防止フィルムであって、波長域λ1（４５０ｎｍ≦λ1≦６８０ｎｍ）における平均分光反射率が０．０５〜０．４０％であり、かつ波長域λa（４３０≦λa＜５００ｎｍ）の分光反射率が０．０５〜１．３０％であり、かつ４３０ｎｍから５００ｎｍに向けて単調減少し、波長域λb（５００ｎｍ≦λb≦６００ｎｍ）の平均分光反射率が０．０３％以上０．１５％未満で、波長域λc（６００ｎｍ＜λc≦７３０ｎｍ）の分光反射率が０．０５〜１．５０％であり、かつ６００ｎｍから７３０ｎｍに向けて単調増加する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも一方の面に、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、該高屈折率層は導電性高屈折率粒子を含有してなり、波長域λ1（４５０ｎｍ≦λ1≦６８０ｎｍ）における該反射防止フィルム表面の平均分光反射率が０．０５〜０．４０％であり、かつ波長域λa（４３０≦λa＜５００ｎｍ）、波長域λb（５００ｎｍ≦λb≦６００ｎｍ）及び波長域λc（６００ｎｍ＜λc≦７３０ｎｍ）における該反射防止フィルム表面の分光反射率が、以下の条件（ａ）〜（ｃ）を満たす、反射防止フィルム。
（ａ）波長域λaの分光反射率が０．０５〜１．３０％であり、かつ４３０ｎｍから５００ｎｍに向けて単調減少する。
（ｂ）波長域λbの平均分光反射率が０．０３％以上０．１５％未満である。
（ｃ）波長域λcの分光反射率が０．０５〜１．５０％であり、かつ６００ｎｍから７３０ｎｍに向けて単調増加する。
【請求項２】
波長域λbの分光反射率の最大値Ｒmaxと最小値Ｒminとの比（Ｒmax／Ｒmin）が１．００〜２．９０である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記高屈折率層が、前記透明基材側に位置する高屈折率層（Ａ）、前記低屈折率層側に位置する高屈折率層（Ｂ）とからなり、かつ該高屈折率層（Ａ）の屈折率よりも該高屈折率層（Ｂ）の屈折率の方が高く、さらに、該高屈折率層（Ａ）及び該高屈折率層（Ｂ）の少なくとも一方に前記導電性高屈折率粒子を含有してなる、請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記高屈折率層（Ａ）の屈折率が１．５０〜１．７５、前記高屈折率層（Ｂ）の屈折率が１．６０〜１．８０であり、前記高屈折率層（Ａ）及び前記高屈折率層（Ｂ）の合計厚みが１００〜２００ｎｍである、請求項３に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記高屈折率層（Ａ）中に前記導電性高屈折率粒子を含有し、前記高屈折率層（Ｂ）中に非導電性高屈折率粒子を含有してなる、請求項３又は４に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記高屈折率層（Ａ）の厚みと、前記高屈折率層（Ｂ）の厚みとの比（［前記高屈折率層（Ａ）の厚み／前記高屈折率層（Ｂ）の厚み］）が０．４０〜０．９０である、請求項５に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記低屈折率層は、屈折率が１．２７〜１．３５であり、厚みが８０〜１２０ｎｍである請求項１〜６の何れか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
前記反射防止フィルムの表面抵抗率が１．０×１０12Ω／□以下である、請求項１〜７の何れか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
最表面に反射防止フィルムを有するディスプレイであって、該反射防止フィルムとして、請求項１〜８の何れか１項に記載の反射防止フィルムを用いてなるディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム及びディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイは、アナログ放送からＢＳ及び地上デジタル放送等への移行、またさらなる高解像の画像表示が可能な、いわゆる４Ｋ２Ｋ（画面：横４，０００×縦２，０００前後の解像度に対応した映像に対する総称）ディスプレイの開発、商品化等により、ますます高品質な表示が可能となってきた。
このようなディスプレイ本体の表示品質の向上にともない、ディスプレイの画像表示を高品質のまま観察するためには、観察者側に存在する光の影響が、以前より増して問題となってきている。
【０００３】
一般に、ディスプレイは、室内又は屋外等の場所に依存することなく、種々の波長、強度を有する様々な光が存在する環境下で使用される。これら様々な光がディスプレイ表面で反射することによる表示品質の低下を防止するために、ディスプレイ表面には特許文献１のような反射防止フィルムが設置されている。
【０００４】
一方、近年、室内等における照明が、従来から使用されてきた蛍光灯照明（水銀可視輝線と蛍光体発光の組み合わせ）からＬＥＤ照明（主として白色光源として使用されるものでは、青色ＬＥＤと黄色蛍光体の組み合わせからなる）へ置き換えられることもあり、これらの照明間での分光分布の違いから生じるディスプレイへの視認性への影響が、従来とは異なる場合も生じている。具体的には、照明の違いによる着色の問題が生じている。
しかし、特許文献１では、照明の違いによる色味について何ら検討していない。
【０００５】
また、ディスプレイの表面に設置した反射防止フィルムに塵や埃が付着した場合、ディスプレイの表示品質が損なわれてしまう。さらに、反射防止フィルムの製造過程で反射防止フィルムに塵や埃等の異物が付着した場合、該異物を起点として塗膜欠陥が生じ、歩留まりが低下してしまう。このため、近年、反射防止フィルムに帯電防止性を付与することも求められている。
反射防止フィルムに帯電防止性を付与するためには、反射防止フィルムにＩＴＯやＡＴＯ等の導電性粒子を添加することが考えられる。しかし、導電性粒子を用いた場合、着色により表示品質を低下させる場合があった。この点、特許文献１では、導電性粒子を用いた際の着色の問題について何ら検討していない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−１５２３１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、照明の存在下（特にＬＥＤ照明下）や、ＩＴＯ及びＡＴＯ等の導電性粒子を用いた場合に着色の問題を生じることがなく、かつ帯電防止性に優れた反射防止フィルム及びディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは鋭意検討を行い、従来の反射防止フィルムの分光反射率曲線は、人間の視感度が最も強い波長５５０ｎｍ近傍（緑色波長帯）の分光反射率の変化率が大きく、これを原因として、照明の存在下（特にＬＥＤ光源の存在下）で人間が違和感を覚えるような着色の問題を生じていることを見出した。本発明者らはさらに鋭意検討を行い、ＩＴＯやＡＴＯ等の導電性金属酸化物は、プラズマ振動数が近赤外域にある自由電子を有し、該自由電子のプラズマ振動を原因として、可視光域の光も一部吸収ないしは反射され、着色の問題を生じていることを見出した。
そして、本発明者らはさらに鋭意検討を行い、上記課題を解決するに至った。
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明は、以下の［１］〜［９］の反射防止フィルム及びディスプレイを提供する。
［１］透明基材の少なくとも一方の面に、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、該高屈折率層は導電性高屈折率粒子を含有してなり、波長域λ1（４５０ｎｍ≦λ1≦６８０ｎｍ）における該反射防止フィルム表面の平均分光反射率が０．０５〜０．４０％であり、かつ波長域λa（４３０≦λa＜５００ｎｍ）、波長域λb（５００ｎｍ≦λb≦６００ｎｍ）及び波長域λc（６００ｎｍ＜λc≦７３０ｎｍ）における該反射防止フィルム表面の分光反射率が、以下の条件（ａ）〜（ｃ）を満たす、反射防止フィルム。
（ａ）波長域λaの分光反射率が０．０５〜１．３０％であり、かつ４３０ｎｍから５００ｎｍに向けて単調減少する。
（ｂ）波長域λbの平均分光反射率が０．０３％以上０．１５％未満である。
（ｃ）波長域λcの分光反射率が０．０５〜１．５０％であり、かつ６００ｎｍから７３０ｎｍに向けて単調増加する。
［２］波長域λbの分光反射率の最大値Ｒmaxと最小値Ｒminとの比（Ｒmax／Ｒmin）が１．００〜２．９０である、上記［１］に記載の反射防止フィルム。
［３］前記高屈折率層が、前記透明基材側に位置する高屈折率層（Ａ）、前記低屈折率層側に位置する高屈折率層（Ｂ）とからなり、かつ該高屈折率層（Ａ）の屈折率よりも該高屈折率層（Ｂ）の屈折率の方が高く、さらに、該高屈折率層（Ａ）及び該高屈折率層（Ｂ）の少なくとも一方に前記導電性高屈折率粒子を含有してなる、上記［１］又は［２］に記載の反射防止フィルム。
［４］前記高屈折率層（Ａ）の屈折率が１．５０〜１．７５、前記高屈折率層（Ｂ）の屈折率が１．６０〜１．８０であり、前記高屈折率層（Ａ）及び前記高屈折率層（Ｂ）の合計厚みが１００〜２００ｎｍである、上記［３］に記載の反射防止フィルム。
【００１０】
［５］前記高屈折率層（Ａ）中に前記導電性高屈折率粒子を含有し、前記高屈折率層（Ｂ）中に非導電性高屈折率粒子を含有してなる、上記［３］又は［４］に記載の反射防止フィルム。
［６］前記高屈折率層（Ａ）の厚みと、前記高屈折率層（Ｂ）の厚みとの比（［前記高屈折率層（Ａ）の厚み／前記高屈折率層（Ｂ）の厚み］）が０．４０〜０．９０である、上記［５］に記載の反射防止フィルム。
［７］前記低屈折率層は、屈折率が１．２７〜１．３５であり、厚みが８０〜１２０ｎｍである上記［１］〜［６］の何れかに記載の反射防止フィルム。
［８］前記反射防止フィルムの表面抵抗率が１．０×１０12Ω／□以下である、上記［１］〜［７］の何れかに記載の反射防止フィルム。
［９］最表面に反射防止フィルムを有するディスプレイであって、該反射防止フィルムとして、上記［１］〜［８］の何れかに記載の反射防止フィルムを用いてなるディスプレイ。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の反射防止フィルム及びディスプレイは、照明の存在下（特にＬＥＤ照明下）や、ＩＴＯ及びＡＴＯ等の導電性粒子を用いた場合に着色の問題を生じることがなく、かつ帯電防止性に優れることにより表面に塵や埃が付着しないことから、高品位の映像を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面図である。
【図２】実施例１の反射防止フィルムの分光反射率曲線を示す図である。
【図３】実施例２の反射防止フィルムの分光反射率曲線を示す図である。
【図４】実施例３の反射防止フィルムの分光反射率曲線を示す図である。
【図５】実施例４の反射防止フィルムの分光反射率曲線を示す図である。
【図６】実施例５の反射防止フィルムの分光反射率曲線を示す図である。
【図７】比較例１の反射防止フィルムの分光反射率曲線を示す図である。
【図８】比較例２の反射防止フィルムの分光反射率曲線を示す図である。
【図９】比較例３の反射防止フィルムの分光反射率曲線を示す図である。
【図１０】比較例４の反射防止フィルムの分光反射率曲線を示す図である。
【図１１】比較例５の反射防止フィルムの分光反射率曲線を示す図である。
【図１２】比較例６の反射防止フィルムの分光反射率曲線を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
［反射防止フィルム］
本発明の反射防止フィルムは、透明基材の少なくとも一方の面に、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、該高屈折率層は導電性高屈折率粒子を含有してなり、波長域λ1（４５０ｎｍ≦λ1≦６８０ｎｍ）における該反射防止フィルム表面の平均分光反射率が０．０５〜０．４０％であり、かつ波長域λa（４３０≦λa＜５００ｎｍ）、波長域λb（５００ｎｍ≦λb≦６００ｎｍ）及び波長域λc（６００ｎｍ＜λc≦７３０ｎｍ）における該反射防止フィルム表面の分光反射率が、以下の条件（ａ）〜（ｃ）を満たす、反射防止フィルム。
（ａ）波長域λaの分光反射率が０．０５〜１．３０％であり、かつ４３０ｎｍから５００ｎｍに向けて単調減少する。
（ｂ）波長域λbの平均分光反射率が０．０３％以上０．１５％未満である。
（ｃ）波長域λcの分光反射率が０．０５〜１．５０％であり、かつ６００ｎｍから７３０ｎｍに向けて単調増加する。
分光反射率とは、分光光度計で測定した各波長の分光反射率のことをいい、例えば実施例に記載の方法で測定することができる。平均分光反射率とは、平均値を算出する対象となる波長域の各波長の分光反射率の平均のことをいい、例えば実施例に記載の方法で測定することができる。
【００１４】
（分光反射率等）
本発明の反射防止フィルムは、波長域λ1（４５０ｎｍ≦λ1≦６８０ｎｍ）における該反射防止フィルム表面（低屈折率層側の表面）の平均分光反射率が０．０５〜０．４０％であることを要する。
波長域λ1（４５０ｎｍ≦λ1≦６８０ｎｍ）は人間の視感度が高い波長域である。波長域λ1の平均分光反射率が０．０５％未満であると、後述する反射光の着色の抑制ができなくなる場合がある。また、波長域λ1の平均分光反射率が０．４０％を超えると、十分な反射防止機能が得られない。一方、波長域λ1の平均分光反射率が上記範囲内にあれば、十分な反射防止機能を有し、反射光の着色抑制につながる。
反射防止フィルム表面の波長域λ1の平均分光反射率は、０．０５〜０．３０％であることが好ましく、０．１０〜０．２５％であることがより好ましい。
【００１５】
波長域λ1における、４５０ｎｍの分光反射率（４５０ｎｍＲ）と、６８０ｎｍ（６８０ｎｍＲ）の分光反射率との比（４５０ｎｍＲ／６８０ｎｍＲ）は、０．７５〜１．５０であることが好ましく、０．８０〜１．２５であることがより好ましく、０．９０〜１．１０であることがさらに好ましい。４５０ｎｍＲ／６８０ｎｍＲがこの範囲にあれば、人間の視感度が極めて高い波長域において、反射光の着色を認識させづらくすることができる。
【００１６】
また、本発明の反射防止フィルムは、波長域λa（４３０ｎｍ≦λa＜５００ｎｍ）、波長域λb（５００ｎｍ≦λb≦６００ｎｍ）及び波長域λc（６００ｎｍ＜λc≦７３０ｎｍ）における反射防止フィルム表面（低屈折率層側の表面）の分光反射率が、条件（ａ）〜（ｃ）を満たすことを要する。
（ａ）波長域λaの分光反射率が０．０５〜１．３０％であり、かつ４３０ｎｍから５００ｎｍに向けて単調減少する。
（ｂ）波長域λbの平均分光反射率が０．０３％以上０．１５％未満である。
（ｃ）波長域λcの分光反射率が０．０５〜１．５０％であり、かつ６００ｎｍから７３０ｎｍに向けて単調増加する。
【００１７】
条件（ａ）は、波長域λa（４３０ｎｍ≦λa＜５００ｎｍ）の分光反射率が０．０５〜１．３０％であり、かつ４３０ｎｍから５００ｎｍに向けて単調減少することを要する。
波長域λaの分光反射率を０．０５％未満とすると、波長域λbにおける分光反射率を低い範囲に抑えることが困難となり、波長域λbにおける反射光の着色を抑えることが困難となる。また、波長域λaの分光反射率が１．３０％を超えると、波長域λaにおける反射光の着色を抑えることが困難となる。一方、波長域λaの分光反射率を上記範囲にすれば、反射光の着色を抑制できる。また、４３０ｎｍから５００ｎｍに向けて分光反射率が単調減少しない場合、単調減少する場合に比べて、波長域λaにおいて波長ごとの分光反射率の変化率が大きくなり、反射光の着色が目立ちやすくなる傾向がある。
波長域λaの分光反射率は、０．０５〜１．２０％であることが好ましく、０．０５〜１．００％であることがより好ましい。
また、波長域λaにおいて分光反射率が単調減少しない場合、波長域λbにおける分光反射率を低い範囲に抑えることが困難となり、波長域λbにおける反射光の着色を抑えることが困難となる。例えば、比較例３，４及び６のように、波長域λaにおいて分光反射率が単調減少した後に増加に転じる場合、波長域λbにおける分光反射率を低い範囲に抑えることが困難となり、波長域λbにおける反射光の着色を抑えることが困難となる。
【００１８】
波長域λaの平均分光反射率は、０．１０〜０．７０％であることが好ましく、０．２０〜０．５０％であることがより好ましい。
【００１９】
条件（ｂ）は、波長域λb（５００≦λb≦６００ｎｍ）の平均分光反射率が０．０３％以上０．１５％未満である。波長域λbは人間の視感度が極めて高い波長域である。
波長域λbの平均分光反射率を０．０３％未満とするためには、反射防止層を少なくとも三層以上に多層化する必要があり、タクトタイムの増加、材料費等のコストアップにつながるため好ましくない。波長域λbの平均分光反射率が０．１５％を超えると、視感度が極めて高い波長域の反射率が高くなることとなり、反射光に色味を感じてしまう。一方、波長域λbの平均分光反射率が上記範囲であれば、コストアップをきたすことなく、人間の視感度が極めて高い波長域において、分光反射率の低下、反射光の色味抑制を同時に満たすことができる。
波長域λbの平均分光反射率は、０．０３％以上０．１４％以下であることが好ましく、０．０３％以上０．１３％以下であることがより好ましい。
波長域λbの分光反射率は、０．０２〜０．３０％であることが好ましく、０．０２〜０．２５％であることがより好ましく、０．０２〜０．２０％であることがさらに好ましい。
波長域４３０〜７３０ｎｍの分光反射率の最小値は、波長域λbに位置することが好ましい。
【００２０】
波長域λbにおける、分光反射率の最大値λbＲmaxと最小値λbＲminとの比（λbＲmax／λbＲmin）は、１．００〜２．９０であることが好ましく、１．２０〜２．８０であることがより好ましく、１．４０〜２．５０であることがさらに好ましい。λbＲmax／λbＲminがこの範囲にあれば、人間の視感度が極めて高い波長域において反射光の色味を全く意識することがなく、優れた反射防止機能を有する。
また、λbＲmaxとλbＲminとの差（λbＲmax−λbＲmin）は、０．１５以下であることが好ましく、０．０１〜０．１３であることがより好ましく、０．０１〜０．１０であることがさらに好ましい。
【００２１】
条件（ｃ）は、波長域λc（６００＜λc≦７３０ｎｍ）の分光反射率が０．０５〜１．５０％であり、かつ６００ｎｍから７３０ｎｍに向けて単調増加することを要する。
波長域λcの分光反射率を０．０５％未満とすると、波長域λbにおける分光反射率を低い範囲に抑えることが困難となり、波長域λbにおける反射光の着色を抑えることが困難となる。波長域λcの分光反射率が１．５０％を超えると、波長域λcにおける反射光の着色を抑えることが困難となる。一方、波長域λcの分光反射率を上記範囲にすれば、反射光の着色を抑制できる。また、６００ｎｍから７３０ｎｍに向けて分光反射率が単調増加しない場合、波長域λcにおいて波長ごとの分光反射率の変化率が大きくなる傾向があり、反射光の着色が目立ちやすくなる。
波長域λcの分光反射率は、０．０５〜１．２０％であることが好ましく、０．０６〜１．００％であることがより好ましく、０．０７〜０．９０％であることがさらに好ましい。
【００２２】
本発明の反射防止フィルムは、［波長域λcの平均分光反射率／波長域λaの平均分光反射率］の比が、１．５０以下であることが好ましく、１．００〜１．３０であることがより好ましく、１．００〜１．２５であることがさらに好ましい。
【００２３】
本発明の反射防止フィルムの表面抵抗率（低屈折率層側の表面抵抗率）は、好ましくは１．０×１０12Ω／□以下であり、より好ましくは１．０×１０11Ω／□以下である。表面抵抗率が上記範囲であれば、反射防止フィルム表面への塵や埃の付着防止ばかりでなく、反射防止フィルム用の保護シートを剥離した際に生じる静電気による液晶の配向乱れをも抑制することができる等、帯電防止性に優れた反射防止フィルムとすることができる。
【００２４】
反射防止フィルムの表面（低屈折率層側の表面）の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１）は、１〜１０ｎｍであることが好ましく、１〜８ｎｍであることがより好ましい。また、反射防止フィルムの表面（低屈折率層側の表面）の十点平均粗さＲｚ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１）は、５０〜１６０ｎｍであることが好ましく、５５〜１５５ｎｍであることがより好ましい。
Ｒａ、Ｒｚが上記範囲であれば、平滑性を有し、耐擦傷性が向上する。
【００２５】
本発明の反射防止フィルムは、全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７）が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましい。また、本発明の反射防止フィルムは、ヘイズ（ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００）が１．０％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、０．３％以下であることがさらに好ましい。
全光線透過率及びヘイズを測定する際の光入射面は透明基材側である。
【００２６】
（基本構成）
図１は、本発明の反射防止フィルムの一実施形態を示す断面図である。図１では、反射防止フィルム１は、透明基材２の上に、ハードコート層３、高屈折率層（Ａ）４、高屈折率層（Ｂ）５及び低屈折率層６が順に積層されたものである。
ハードコート層３、高屈折率層（Ａ）４、高屈折率層（Ｂ）５及び低屈折率層６は、図１のように透明基材２の一方の面に有していてもよいし、両面に有していても良い。
【００２７】
＜透明基材＞
本発明で用いられる透明基材は、一般的に反射防止フィルムの基材として用いられる透明なものであれば特に限定されないが、材料コスト、生産性等の観点から、好ましくはプラスチックフィルム、プラスチックシート等を、用途に応じて適宜選択することができる。
【００２８】
プラスチックフィルム又はプラスチックシートとしては、各種の合成樹脂からなるものが挙げられる。合成樹脂としては、トリアセチルセルロース樹脂（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、セロファン等のセルロース樹脂；ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエステル系熱可塑性エラストマー等のポリエステル樹脂；低密度ポリエチレン樹脂（線状低密度ポリエチレン樹脂を含む）、中密度ポリエチレン樹脂、高密度ポリエチレン樹脂、エチレン−αオレフィン共重合体、ポリプロピレン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリブテン樹脂、エチレン−プロピレン共重合体、プロピレン−ブテン共重合体、オレフィン系熱可塑性エラストマーあるいは、これらの混合物等のポリオレフィン樹脂；ポリ（メタ）アクリル酸メチル樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エチル樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル樹脂等のアクリル樹脂；ナイロン６又はナイロン６６などで代表されるポリアミド樹脂；ポリスチレン樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリアリレート樹脂；又はポリイミド樹脂等が好ましく挙げられる。
【００２９】
透明基材としては、上記したプラスチックフィルム、プラスチックシートの中から単独で、又は２種以上を選んで混合物として用いることができるが、柔軟性、強靭性、透明性などの観点から、セルロース樹脂、ポリエステル樹脂がより好ましく、さらに好ましくはトリアセチルセルロース樹脂（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート樹脂である。
透明基材の厚みについては、特に制限はないが、用途に応じて適宜選択されるが、通常５〜１３０μｍであり、耐久性やハンドリング性等を考慮すると、２０〜１００μｍが好ましい。
【００３０】
＜ハードコート層＞
本発明の反射防止フィルムは、耐擦傷性を向上させる目的で、透明基材と高屈折率層との間にハードコート層を有することが好ましい。ここで、ハードコートとは、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。
ハードコート層は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、耐擦傷性をより良くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
【００３１】
熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
【００３２】
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
【００３３】
多官能性（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
【００３４】
また、多官能性（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３５】
電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、透明導電膜形成時や結晶化工程の熱により残留した光重合開始剤が昇華し、透明導電膜の低抵抗化が損なわれることを防止することができる。後述するハードコート層Ｂで光重合開始剤を用いる際も同様である。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
【００３６】
ハードコート層の厚みは、０．１〜１００μｍの範囲にあることが好ましく、０．８〜２０μｍの範囲がより好ましい。ハードコート層の厚みが上記範囲内にあれば、充分なハードコート性能が得られ、外部からの衝撃に対してクラック等の発生もなく割れにくくなる。
ハードコート層の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。後述する高屈折率層及び低屈折率層の厚みも同様にして算出できる。
【００３７】
ハードコート層の屈折率は、後述する高屈折率層の屈折率より小さくすることが好ましい。ハードコート層の屈折率は、１．４５〜１．７０の範囲内であることが好ましく、より好ましくは１．４５〜１．６０の範囲内である。ハードコート層の屈折率がこのような範囲にあれば、高屈折率層の屈折率の制御に困難性が生じない。また、干渉縞を抑制する観点からは、ハードコート層の屈折率と透明基材の屈折率との差を小さくすることが好ましい。
【００３８】
ハードコート層の屈折率は、ハードコート層の屈折率は、ハードコート層の単層を形成した後、アッベ屈折率計やエリプソメータによって測定できる。
また、透明基材上にハードコート層を形成した後に屈折率を測定する方法としては、以下の（１）、（２）が挙げられる。後述する高屈折率層及び低屈折率層の屈折率も、以下の（１）、（２）の手法により算出できる。
（１）反射光度計により測定した反射スペクトルと、フレネル係数を用いた多層薄膜の光学モデルから算出した反射スペクトルとのフィッティングにより算出する手法。なお、本算出において、３８０〜７８０ｎｍの波長域における屈折率は一定とした。
（２）ハードコート層をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、ＪＩＳ  Ｋ７１４２：２００８のＢ法（粉体または粒状の透明材料用）に従ったベッケ法により算出する手法。
［ベッケ法］
屈折率が既知のカーギル試薬を用い、粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線（ベッケ線）が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする。
【００３９】
ハードコート層は、上述した樹脂組成物、必要に応じて配合する紫外線吸収剤やレベリング剤等の添加剤及び希釈溶剤によってハードコート層形成用塗布液を調整し、当該塗布液を透明基材上に従来公知の塗布方法によって塗布、乾燥、必要に応じて電離放射線を照射して硬化することにより形成することができる。
【００４０】
＜高屈折率層＞
高屈折率層中には導電性高屈折率粒子を含有することを要する。
高屈折率層中に導電性高屈折率粒子を含有することにより、反射防止フィルムに帯電防止性が付与され、表面に塵や埃が付着することが防止でき、高品位の映像を提供することができる。また、導電性高屈折率粒子は、帯電防止剤として広く用いられている第４級アンモニウム塩のように湿度環境による影響を受けない点で好適である。
なお、ＩＴＯやＡＴＯ等の導電性高屈折率粒子は、プラズマ振動数が近赤外域にある自由電子を有し、該自由電子のプラズマ振動を原因として、可視光域の光も一部吸収ないしは反射され、着色の問題を生じる場合がある。しかし、本発明の反射防止フィルムは、上述した分光反射率の条件を満たすようにして導電性高屈折率粒子を用いることから、着色の問題を抑制できる。
【００４１】
高屈折率層は、透明基材側に位置する高屈折率層（Ａ）と、低屈折率層側に位置する高屈折率層（Ｂ）との２層構成とすることが好ましい。また、その際、高屈折率層（Ａ）の屈折率よりも高屈折率層（Ｂ）の屈折率の方を高くすることが好ましい。
高屈折率層を該構成とすることにより、反射防止フィルムに帯電防止性を付与しつつ、光学距離を調製しやすくなり、反射防止フィルムの分光反射率が上述の条件を満たしやすくすることができる。また、高屈折率層を該構成とすることにより、低屈折率層との屈折率差を大きくでき、反射率を低くできる。さらに、高屈折率層を該構成とすることにより、高屈折率層とハードコート層との屈折率差を小さくでき、干渉縞の発生を抑制できる。
【００４２】
導電性高屈折率粒子としては、五酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ5；１．７９）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ；１．８０）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ；１．９５）、ガリウムドープ酸化亜鉛(ＧＺＯ；１．９〜２．２)等が挙げられる。これらの中でも導電性に優れるアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）が好適である。 なお、上記かっこ内の数値は、各粒子の材料の屈折率を示す。
【００４３】
導電性高屈折率粒子は、高屈折率層（Ａ）及び高屈折率層（Ｂ）の少なくとも一方に含有していればよいが、導電性高屈折率粒子を多量に用いた場合、着色の度合いが増す傾向にある。このため、導電性高屈折粒子は、高屈折率粒子の添加量が少ない側の層（言い換えると、屈折率を低くする側の層）に含有させることが好ましい。より具体的には、高屈折率層（Ａ）に導電性高屈折率粒子を含有させ、高屈折率層（Ｂ）に該導電性高屈折率粒子よりも屈折率の高い非導電性の高屈折率粒子を含有させることが好ましい。該構成により、反射防止フィルムに帯電防止性を付与しつつ、反射防止フィルムの分光反射率が上述の条件を満たしやすくすることができる。
また、高屈折率層（Ａ）に非導電性高屈折率粒子を含有させ、高屈折率層（Ｂ）に該非導電性高屈折率粒子よりも屈折率の高い導電性の高屈折率粒子を含有させてもよい。該構成によっても、反射防止フィルムに帯電防止性を付与しつつ、反射防止フィルムの分光反射率が上述の条件を満たしやすくすることができる。ただし、該構成の場合、導電性高屈折粒子として屈折率の十分に高いものを用い、導電性高屈折率粒子の添加量を抑制することが好ましい。
【００４４】
なお、導電性高屈折率粒子は、導電性高屈折率粒子どうしが接触してネットワークを形成すればするほど導電性を高くできる。つまり、同一層内で導電性高屈折率粒子と非導電性高屈折率粒子とを併用した場合、ネットワークの形成が妨げられる。また、同一層内で導電性高屈折率粒子のみを用いた場合、ネットワークの形成がスムーズとなり、少ない添加量かつ少ない厚みで導電性を良好にできる。このため、導電性高屈折率粒子と、非導電性高屈折粒子とは、同一層内で併用しないことが好ましい。例えば、導電性高屈折率粒子を含む高屈折率層中には、非導電性高屈折粒子を実質的に含有しないことが好ましい。また、非導電性高屈折率粒子を含む高屈折率層中には、導電性高屈折粒子を実質的に含有しないことが好ましい。実質的に含有しないとは、高屈折率層中の全固形分の０．５質量％以下を意味し、好ましくは０．１質量％以下であり、より好ましくは０質量％である。
【００４５】
非導電性高屈折率粒子としては、酸化亜鉛（ＺｎＯ；１．９０）、酸化チタン（ＴｉＯ2；２．３〜２．７）、酸化セリウム（ＣｅＯ2；１．９５）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3；１．８７）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2；２．０）等が挙げられ、用途に応じて適宜選択することができる。なお、上記かっこ内の数値は、各粒子の材料の屈折率を示す。
【００４６】
高屈折率粒子（導電性高屈折率粒子及び非導電性高屈折率粒子）の一次粒子の平均粒子径は、５〜２００ｎｍが好ましく、５〜１００ｎｍがより好ましく、１０〜８０ｎｍがさらに好ましい。
高屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径が上記範囲内にあれば、高屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な微粒子の分散状態が得られ、また所望の屈折率が得られる。また、本発明においては、平均粒子径が上記範囲内にあれば、微粒子が鎖状に連なって形成されていてもよい。特に導電性高屈折粒子が鎖状に連なっている場合、少量で導電性を高くできる点で好適である。
なお、高屈折率粒子及び後述の低屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径は、レーザー散乱法により測定できる。また、高屈折率層中の高屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径は、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）により高屈折率層断面の写真を撮像し、画面内から凝集していない高屈折粒子を抽出し、合計２０箇所の高屈折粒子が抽出できるまで作業を繰り返し、合計２０個分の高屈折粒子の一次粒子粒子径の数平均から算出できる。低屈折率層中の低屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径も同様の手段で算出できる。
【００４７】
高屈折率粒子の含有量は、後述の屈折率を満たす範囲で調整できる。通常、高屈折率粒子の含有量は、硬化性樹脂組成物１００質量部に対して、５０〜５００質量部であることが好ましく、６０〜４００質量部であることがより好ましい。
【００４８】
高屈折率層の屈折率は、上述した分光反射率の条件を満たしやすくするために、高屈折率層（Ａ）の屈折率が１．５０〜１．７５、高屈折率層（Ｂ）の屈折率が１．６０〜１．８０であることが好ましい。また、より好ましくは、高屈折率層（Ａ）の屈折率が１．５５〜１．７３、高屈折率層（Ｂ）の屈折率が１．６１〜１．７８であり、さらに好ましくは、高屈折率層（Ａ）の屈折率が１．５７〜１．７０、高屈折率層（Ｂ）の屈折率が１．６２〜１．７５である。
なお、高屈折率層（Ａ）と高屈折率層（Ｂ）との屈折率差［高屈折率層（Ａ）の屈折率−高屈折率層（Ｂ）の屈折率］は、０．１０以下であることが好ましく、０．０１〜０．０８であることがより好ましく、０．０２〜０．０７であることがさらに好ましい。
【００４９】
高屈折率層の厚みは、上述した分光反射率の条件を満たしやすくするために、高屈折率層（Ａ）及び高屈折率層（Ｂ）の合計厚みが１００〜２００ｎｍであることが好ましく、１３０〜１９０ｎｍであることがより好ましい。
さらに、上述した分光反射率の条件を満たしやすくするために、高屈折率層（Ａ）及び高屈折率層（Ｂ）のうち、導電性高屈折率粒子を含有する層の厚みは、非導電性高屈折率粒子を含有する層の厚みよりも薄いことが好ましい。
具体的には、高屈折率層（Ａ）に導電性高屈折粒子を含有し、高屈折率層（Ｂ）に非導電性高屈折粒子を含有する場合、高屈折率層（Ａ）の厚みと、高屈折率層（Ｂ）の厚みとの比（［高屈折率層（Ａ）の厚み／高屈折率層（Ｂ）の厚み］）が０．４０〜０．９０であることが好ましく、０．５０〜０．８０であることがより好ましい。また、該比を満たす場合、高屈折率層（Ａ）よりも高屈折率層（Ｂ）の方が屈折率が高いことが好ましい。これら条件を満たすことにより、上述した分光反射率の条件を満たすとともに、帯電防止性を良好にしやすくできる。
逆に、高屈折率層（Ａ）に非導電性高屈折粒子を含有し、高屈折率層（Ｂ）に導電性高屈折粒子を含有する場合、高屈折率層（Ｂ）の厚みと、高屈折率層（Ａ）の厚みとの比（［高屈折率層（Ｂ）の厚み／高屈折率層（Ａ）の厚み］）が０．４０〜０．９０であることが好ましく、０．５０〜０．８０であることがより好ましい。また、該比を満たす場合、高屈折率層（Ａ）よりも高屈折率層（Ｂ）の方が屈折率が高いことが好ましい。
【００５０】
高屈折率層は、高屈折率粒子、硬化性樹脂組成物、必要に応じて配合する紫外線吸収剤やレベリング剤等の添加剤及び希釈溶剤によって高屈折率層形成用塗布液を調整し、当該塗布液を従来公知の塗布方法によって塗布、乾燥、必要に応じて電離放射線を照射して硬化することにより形成することができる。
高屈折率層を形成する硬化性樹脂組成物としては、ハードコート層で例示したものと同様のものを用いることができ、電離放射線硬化性樹脂組成物が好適である。
【００５１】
＜低屈折率層＞
低屈折率層は、高屈折率層上に設けられる層である。
低屈折率層を形成する手法としては、ウェット法とドライ法とに大別できる。ウェット法としては、金属アルコキシド等を用いてゾルゲル法により形成する手法、フッ素樹脂のような低屈折率の樹脂を塗工して形成する手法、樹脂組成物に低屈折率粒子を含有させた低屈折率層形成用塗布液を塗工して形成する手法が挙げられる。ドライ法としては、後述する低屈折率粒子の中から所望の屈折率を有する粒子を選び、物理気相成長法又は化学気相成長法により形成する手法が挙げられる。
ウェット法は生産効率の点で優れており、本発明においては、ウェット法の中でも、樹脂組成物に低屈折率粒子を含有させた低屈折率層形成用塗布液により形成することが好ましい。
【００５２】
低屈折率粒子は、その屈折率を低下させるため、すなわち反射防止特性を向上させる目的で好ましく用いられる。低屈折率粒子は、シリカやフッ化マグネシウムなどの無機系、又は有機系のいずれであっても制限なく用いることができるが、反射防止特性をより向上させ、かつ良好な表面硬度を確保する観点から、それ自身が空隙を有する構造の粒子が好ましく用いられる。
【００５３】
それ自身が空隙を有する構造をもつ粒子は、微細な空隙を内部に有しており、例えば、屈折率１．０の空気などの気体が充填されているので、それ自身の屈折率が低いものとなっている。このような空隙を有する粒子としては、無機系、又は有機系の多孔質粒子、中空粒子などが挙げられ、例えば、多孔質シリカ、中空シリカ粒子、又はアクリル樹脂などが用いられた多孔質ポリマー粒子や中空ポリマー粒子が挙げられる。無機系の粒子としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示される技術を用いて調製した空隙を有するシリカ粒子が、有機系の粒子としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示される技術を用いて調製した中空ポリマー粒子などが好ましい一例として挙げられる。上記のような空隙を有するシリカ、又は多孔質シリカは、それらの屈折率が１．２０〜１．４４の範囲にあり、屈折率が１．４５程度である一般的なシリカ粒子よりも屈折率が低いため、低屈折率層の低屈折率化を図る観点から好ましい。
【００５４】
中空状シリカ粒子は、低屈折率層の塗膜強度を保持しつつ、その屈折率を下げる機能を有する粒子である。本発明で用いる中空状シリカ粒子は、内部に空洞を有する構造のシリカ粒子である。中空状シリカ粒子は、シリカ粒子本来の屈折率（屈折率ｎ＝１．４６程度）に比べて、内部の空洞の占有率に反比例して屈折率が低下するシリカ粒子である。このため、中空状シリカ粒子の粒子全体としての屈折率は１．２０〜１．４５となる。
【００５５】
中空状シリカ粒子としては、特に限定されず、例えば、外殻を有し、その内部が多孔質または空洞になっている粒子であり、特開平６−３３０６０６、特開平７−０１３１３７、特開平７−１３３１０５、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ粒子が挙げられる。
【００５６】
低屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径は、５〜２００ｎｍが好ましく、５〜１００ｎｍがより好ましく、１０〜８０ｎｍがさらに好ましい。粒子の平均粒子径が上記範囲内にあれば、低屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な粒子の分散状態が得られる。また、本発明においては、平均粒子径が上記範囲内にあれば、粒子が鎖状に連なって形成されていてもよい。
【００５７】
本発明で用いられる低屈折率粒子は、表面処理されたものが好ましい。低屈折率粒子の表面処理としては、シランカップリング剤を用いた表面処理がより好ましく、この中で、（メタ）アクリロイル基を有するシランカップリング剤を用いた表面処理を行うことが好ましい。低屈折率粒子に表面処理を施すことにより、後述するバインダー樹脂との親和性が向上し、粒子の分散が均一となり、粒子同士の凝集が生じにくくなるので、凝集由来の大粒子化による低屈折率層の透明化の低下や、低屈折率層形成用組成物の塗布性、該組成物の塗膜強度の低下が抑制される。
【００５８】
また、シランカップリング剤が（メタ）アクリロイル基を有した場合、該シランカップリング剤は電離放射線硬化性を有するため、後述するバインダー樹脂と容易に反応するので、低屈折率層形成用組成物の塗膜中において、低屈折率粒子がバインダー樹脂に良好に固定される。すなわち、低屈折率粒子がバインダー樹脂中で架橋剤としての機能を有することになる。これにより、該塗膜全体の引き締め効果が得られ、バインダー樹脂が本来有する柔軟性を残したまま、低屈折率層に優れた表面硬度を付与することが可能となる。従って、低屈折率層がそれ自体の柔軟性をいかして変形することにより、外部衝撃に対する吸収力や、復元力を有するため、傷の発生が抑制されて、耐擦傷性に優れた高い表面硬度を有するものとなる。
【００５９】
低屈折率粒子の表面処理において好ましく用いられるシランカップリング剤としては、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等を例示することができる。
【００６０】
低屈折率層における低屈折率粒子の含有量は、低屈折率層の樹脂１００質量部に対して８０〜１６０質量部が好ましく、８５〜１５５質量部がより好ましく、９０〜１５０質量部がさらに好ましい。微粒子の含有量が上記範囲内にあれば、良好な反射防止特性と表面硬度とが得られる。
また、低屈折率層に含まれる全低屈折率粒子に占める中空粒子及び／又は多孔質粒子の割合は、６５〜９７質量％が好ましく、６７〜９５質量％がより好ましく、６９〜９３質量％がさらに好ましい。
【００６１】
低屈折率層形成用塗布液に含まれる樹脂組成物としては、まず硬化性樹脂組成物が挙げられる。硬化性樹脂組成物としては、ハードコート層で例示したものと同様のものを用いることができ、電離放射線硬化性樹脂組成物が好適である。
また、樹脂組成物として、それ自体が低屈折率性を示す含フッ素ポリマーも好ましく用いられる。含フッ素ポリマーは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物の重合体であり、防汚性及び滑り性を付与できる点で好適である。含フッ素ポリマーは、分子中に反応性基を有して硬化性樹脂組成物として機能するものが好ましく、電離放射線硬化性反応性基を有して電離放射線硬化性樹脂組成物として機能するものがより好ましい。
【００６２】
含フッ素ポリマーとしては、低屈折率層表面の汚れをはじくだけではなく、はじいた汚れの拭取り性を付与するために、フッ素とともにケイ素を含むものが好ましく、例えば、共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体が好ましく挙げられる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が挙げられる。なかでも、ジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
【００６３】
低屈折率層の屈折率は、上述した分光反射率の条件を満たしやすくするために、１．２７〜１．３５であることが好ましく、１．２８〜１．３３であることがより好ましく、１．２９〜１．３２であることがさらに好ましい。
【００６４】
低屈折率層の厚みは、上述した分光反射率の条件を満たしやすくするために、８０〜１２０ｎｍであることが好ましく、８５〜１１０ｎｍであることがより好ましく、９０〜１０５ｎｍであることがさらに好ましい。
【００６５】
低屈折率層は、例えば、低屈折率粒子、樹脂組成物、必要に応じて配合する紫外線吸収剤やレベリング剤等の添加剤及び希釈溶剤によって低屈折率層形成用塗布液を調整し、当該塗布液を高屈折率層上に従来公知の塗布方法によって塗布、乾燥、必要に応じて電離放射線を照射して硬化することにより形成することができる。
【００６６】
［ディスプレイ］
本発明のディスプレイは、最表面に反射防止フィルムを有するディスプレイであって、該反射防止フィルムとして、上述した本発明の反射防止フィルムを用いてなるものである。
【００６７】
ディスプレイとしては、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、無機及び有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）などのディスプレイ等が挙げられる。
本発明のディスプレイは、これらディスプレイの表面板等に、接着剤層を介して上述した本発明の反射防止フィルムを貼り合わせることにより作製することができる。
【実施例】
【００６８】
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、この例によって何ら限定されるものではない。
【００６９】
１．物性及び評価
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルムについて、以下の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。
【００７０】
（１）分光反射率
透明基材のハードコート層を形成した側とは反対側の面に、裏面反射を防止するために黒色テープを貼り付け、反射防止フィルムの低屈折率層側を光源に向けて、分光光度計（島津製作所製、型番：ＵＶ−２４５０）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍの範囲で１ｎｍ間隔で分光反射率を測定した。このときの測定条件は、Ｃ光源、２度視野、入射角５°とした。
（２）視感性
反射防止フィルムについて、観察面の正面（０度）から蛍光灯の光（３波長蛍光灯管）及び白色ＬＥＤの光をそれぞれ映りこませ、正面（０度）の反射光と、左右４５度での反射光との色味の違いを目視で評価した。
色味がほぼ同じ：○
色味に差を感じる：△
色味に大きな差がある：×
【００７１】
（３）表面抵抗率
表面抵抗計（三菱化学社製、ロレスタＭＣＰ：四端子プローブ）を用いて、ＪＩＳ  Ｒ１６３７（ファインセラミックス薄膜の抵抗率試験方法：４探針法による測定方法）に基づき、反射防止フィルムの低屈折率層側の表面の表面抵抗率（Ω／□）を測定した。
表面抵抗率１．０×１０12Ω／□以下：〇
表面抵抗率１．０×１０12Ω／□超：×
（４）干渉縞
透明基材のハードコート層を形成した側とは反対側の面に、裏面反射を防止するために黒色テープを貼り付け、低屈折率層側から三波長管蛍光灯を照射し、目視にて干渉縞の有無の評価を行った。
干渉縞が視認できない：〇
干渉縞が視認できる：×
【００７２】
２．塗布液の調製
調製例１：ハードコート層形成用塗布液の調製
下記の成分を下記の質量比で混合し、ハードコート層形成用塗布液を調製した。
＜ハードコート層形成用塗布液＞
・ウレタンアクリレート*11：１２．０質量部
・イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート*12：４．０質量部
・重合開始剤*13：０．６質量部
・メチルエチルケトン：５．６質量部
＊１１：「ＵＶ１７００Ｂ（商品名）」，日本合成化学社製
＊１２：「Ｍ３１５（商品名）」，東亞合成社製
＊１３：「イルガキュア１８４（商品名）」，ＢＡＳＦジャパン社製
【００７３】
調製例２：高屈折率層（Ａ）形成用塗布液１の調製
下記の成分を下記の質量比で混合し、高屈折率層（Ａ）形成用塗布液１を調製した。
＜高屈折率層（Ａ）形成用塗布液１＞
・ＡＴＯ粒子分散液*21：０．９７質量部
・バインダー樹脂*22：０．３１質量部
・光重合開始剤*23：０．００７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル：１３質量部
＊２１：「ＥＬＣＯＭ  Ｖ−３５６０（商品名）」，日揮触媒化成社製，ＡＴＯ粒子の一次粒子径：５〜１１ｎｍ，固形分２０％
＊２２：「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（商品名）」，日本化薬社製，ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
＊２３：「イルガキュア１２７（商品名）」，ＢＡＳＦジャパン社製
【００７４】
調製例３：高屈折率層（Ａ）形成用塗布液２の調製
下記の成分を下記の質量比で混合し、高屈折率層（Ａ）形成用塗布液２を調製した。
＜高屈折率層（Ａ）形成用塗布液２＞
・ジルコニア粒子分散液*31：０．８質量部
・バインダー樹脂*22：０．１質量部
・光重合開始剤*23：０．００７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル：１０．３質量部
＊３１：「ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％−Ｆ０４（商品名）」，ＣＩＫナノテック社製，ジルコニア粒子の一次粒子径：２０ｎｍ，固形分１５％
【００７５】
調製例４：高屈折率層（Ａ）形成用塗布液３の調製
下記の成分を下記の質量比で混合し、高屈折率層（Ａ）形成用塗布液３を調製した。
＜高屈折率層（Ａ）形成用塗布液３＞
・五酸化アンチモン粒子分散液*41：０．８４質量部
・バインダー樹脂*22：０．０８５質量部
・光重合開始剤*23：０．００７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル：１１．３質量部
＊４１：「ＥＬＣＯＭ  Ｖ−４５６４（商品名）」，日揮触媒化成社製，固形分４０％
【００７６】
調製例５：高屈折率層（Ｂ）形成用塗布液１の調製
下記の成分を下記の質量比で混合し、高屈折率層（Ｂ）形成用塗布液１を調製した。
＜高屈折率層（Ｂ）形成用塗布液１＞
・ジルコニア粒子分散液*51：０．８質量部
・バインダー樹脂*52：０．１質量部
・光重合開始剤*53：０．００７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル：１０．３質量部
＊５１：「ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％−Ｆ０４（商品名）」，ＣＩＫナノテック社製，ジルコニア粒子の一次粒子径：２０ｎｍ，固形分１５％
＊５２：「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（商品名）」，日本化薬社製，ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
＊５３：「イルガキュア１２７（商品名）」，ＢＡＳＦジャパン社製
【００７７】
調製例６：高屈折率層（Ｂ）形成用塗布液２の調製
下記の成分を下記の質量比で混合し、高屈折率層（Ｂ）形成用塗布液２を調製した。
＜高屈折率層（Ｂ）形成用塗布液２＞
・ＧＺＯ粒子分散液*61：１．２５質量部
・バインダー樹脂*52：０．３１質量部
・光重合開始剤*53：０．００７質量部
・メチルイソブチルケトン：１２．５質量部
＊６１：「ＧＺＯＭＩＢＫ１５ＷＴ％（商品名）」，ＣＩＫナノテック社製，ＧＺＯ粒子の一次粒子径：約３０ｎｍ，固形分１５％
【００７８】
調製例７：低屈折率層形成用塗布液の調製
下記の成分を下記の質量比で混合し、低屈折率層形成用塗布液を得た。
＜低屈折率層形成用塗布液＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）：０．０１５質量部
・中空シリカ粒子分散液*71：０．８質量部
・中実シリカ粒子分散液*72：０．０５質量部
・含フッ素ポリマー*73：０．６質量部
・含フッ素モノマー*74：０．０６質量部
・光重合開始剤*75：０．００８質量部
・メチルイソブチルケトン：９．０質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：１．２質量部
＊７１：分散液中の中空シリカ粒子含有量は２０．５質量％であり、溶剤（メチルイソブチルケトン）含有量は７９．５質量％である。また、中空シリカ粒子の平均粒子径は６０ｎｍであり、表面処理により光硬化性反応基を有している。
＊７２：「ＭＩＢＫ−ＳＤ（商品名）」，平均一次粒子径：１２ｎｍ，固形分：３０質量％，溶剤：メチルイソブチルケトン，シリカ粒子含有反応性官能基：メタクリロイル基
＊７３：「オプスターＴＵ２２２４（商品名）」，ＪＳＲ社製，２０質量％溶液（溶剤：メチルイソブチルケトン）
＊７４：「ＬＩＮＣ３Ａ（商品名）」：共栄社化学社製，ペンタエリスリトール骨格を有する含フッ素モノマー，２０質量％溶液（溶剤：メチルイソブチルケトン）
＊７５：「イルガキュア１２７（商品名）」：ＢＡＳＦジャパン社製
【００７９】
［実施例１］
厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂フィルム上に、調製例１で得られたハードコート層形成用塗布液をバーコーティングし、５０℃、１分の乾燥を行い、溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量３０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い硬化させて、厚さ５μｍ、屈折率１．５１のハードコート層を得た。
次いでハードコート層上に、調製例２で得られた高屈折率層（Ａ）形成用塗布液１をバーコーティングし、照射線量４０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い硬化させて、厚み６５ｎｍ、屈折率１．６１の高屈折率層（Ａ）を形成した。
次いで、高屈折率層（Ａ）上に、調製例５で得られた高屈折率層（Ｂ）形成用塗布液１をバーコーティングし、照射線量４０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い硬化させて、厚み１０５ｎｍ、屈折率１．６５の高屈折率層（Ｂ）を形成した。
さらに、高屈折率層（Ｂ）上に、調製例７で得られた低屈折率層形成用塗布液をバーコーティングし、５０℃、１分の乾燥を行い、溶剤を除去した後、照射線量２００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い硬化させて、厚さ１０２ｎｍ、屈折率１．３０の低屈折率層を形成し、透明基材／ハードコート層／高屈折率層（Ａ）／高屈折率層（Ｂ）／低屈折率層を有する反射防止フィルムを得た。
【００８０】
［実施例２］
実施例１の高屈折率層（Ａ）の厚みを７５ｎｍ、高屈折率層（Ｂ）の厚みを９５ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８１】
［実施例３］
実施例１の高屈折率層（Ａ）の厚みを６５ｍ、高屈折率層（Ｂ）の厚みを１２０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８２】
［実施例４］
実施例１の高屈折率層（Ａ）形成用塗布液１を高屈折率層（Ａ）形成用塗布液２に変更し、高屈折率層（Ｂ）形成用塗布液１を高屈折率層（Ｂ）形成用塗布液２に変更した。また、実施例１の高屈折率層（Ａ）の厚みを６８ｎｍ、高屈折率層（Ｂ）の厚みを９７ｎｍに変更した。これらの変更以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。なお、実施例４の高屈折率層（Ａ）の屈折率は１．６６、高屈折率層（Ｂ）の屈折率は１．７３であった。
【００８３】
［実施例５］
実施例１の高屈折率層（Ａ）の厚みを７０ｎｍ、高屈折率層（Ｂ）の厚みを１１０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８４】
［比較例１］
実施例１の高屈折率層（Ａ）の厚みを１１０ｎｍ、高屈折率層（Ｂ）の厚みを７０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８５】
［比較例２］
実施例１の高屈折率層（Ａ）の厚みを４５ｎｍ、高屈折率層（Ｂ）の厚みを１２５ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８６】
［比較例３］
実施例１の高屈折率層（Ａ）の厚みを１２５ｎｍ、高屈折率層（Ｂ）の厚みを４５ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８７】
［比較例４］
実施例１の高屈折率層（Ａ）形成用塗布液１を高屈折率層（Ａ）形成用塗布液３に変更し、高屈折率層（Ｂ）を形成せず、高屈折率層（Ａ）の厚みを１７０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８８】
［比較例５］
実施例１の高屈折率層（Ｂ）を形成せず、高屈折率層（Ａ）の厚みを１７０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８９】
［比較例６］
実施例１の高屈折率層（Ａ）を形成せず、高屈折率層（Ｂ）の厚みを１７０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００９０】
【表１】
2015232614.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００９１】
本発明の反射防止フィルム及びディスプレイは、照明の存在下（特にＬＥＤ照明下）や、ＩＴＯ及びＡＴＯ等の導電性粒子を用いた場合に着色の問題を生じることがなく、かつ帯電防止性に優れ、高品位の映像を提供できる点で好適である。
【符号の説明】
【００９２】
１：反射防止フィルム
２：透明基材
３：ハードコート層
４：高屈折率層（Ａ）
５：高屈折率層（Ｂ）
６：低屈折率層
【図１】
2015232614.tif 000004
【図２】
2015232614.tif 000005
【図３】
2015232614.tif 000006
【図４】
2015232614.tif 000007
【図５】
2015232614.tif 000008
【図６】
2015232614.tif 000009
【図７】
2015232614.tif 000010
【図８】
2015232614.tif 000011
【図９】
2015232614.tif 000012
【図１０】
2015232614.tif 000013
【図１１】
2015232614.tif 000014
【図１２】
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