(57)【要約】【課題】流路内の洗浄を容易かつ確実に、しかも低コストで実施する。【解決手段】回転機械は、流体が流通する流路６０を画成するケーシングと、前記ケーシング内に中心軸回りに回転自在に設けられた回転軸３０と、前記ケーシング内に設けられて、前記回転軸３０と一体に回転することで前記流体を前記流路６０で圧縮又は圧送するインペラ４０と、前記流路６０内に設けられ、前記流路６０内にオゾンを発生させるとともに、発生した前記オゾンから活性酸素を生成する活性酸素発生源１００と、を備える。【選択図】図２
2015140704.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体が流通する流路を画成するケーシングと、
前記ケーシング内に中心軸回りに回転自在に設けられた回転軸と、
前記ケーシング内に設けられて、前記回転軸と一体に回転することで前記流体を前記流路で圧縮又は圧送するインペラと、
前記流路内に設けられ、前記流路内にオゾンを発生させるとともに、発生した前記オゾンから活性酸素を生成する活性酸素発生源と、
を備える回転機械。
【請求項２】
前記活性酸素発生源は、前記流路内の雰囲気に含まれる酸素と反応して前記オゾンを発生する第一波長の光と、前記オゾンと反応して前記活性酸素を生成する第二波長の光と、を照射する紫外線光源である請求項１に記載の回転機械。
【請求項３】
前記活性酸素発生源は、前記流路の断面積が縮小した部位に設けられている請求項１または２に記載の回転機械。
【請求項４】
前記活性酸素発生源は、前記流路が湾曲している部位に設けられている請求項１から３のいずれか一項に記載の回転機械。
【請求項５】
前記流路が湾曲している部位の湾曲方向内周側に凹部が形成され、前記凹部に前記活性酸素発生源が設けられている請求項４に記載の回転機械。
【請求項６】
前記凹部に、前記流路の内壁面に連続し、前記活性酸素発生源を覆うカバーが設けられている請求項５に記載の回転機械。
【請求項７】
前記インペラは、前記回転軸の軸方向に沿って複数段に設けられ、
前記活性酸素発生源は、少なくとも、前記流路の流れ方向最上段に位置する前記インペラの上流側に設けられている請求項１から６のいずれか一項に記載の回転機械。
【請求項８】
前記流路内に前記流体を供給する流体供給部と、
前記流路内に酸素を含む気体を供給する気体供給部と、
前記流体供給部と前記気体供給部を前記流路に対して選択的に接続する接続切替部と、をさらに備える請求項１から７のいずれか一項に記載の回転機械。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載の回転機械の流路洗浄方法であって、
前記流路内に酸素を含む気体を送り込み、前記回転軸を回転させることで、前記気体を前記流路に流通させる工程と、
前記活性酸素発生源により、前記流路内の前記気体からオゾンを発生させるとともに、発生した前記オゾンから活性酸素を生成し、生成された前記活性酸素により前記流路の内壁面に付着した有機物を酸化させて除去する工程と、を含む回転機械の流路洗浄方法。
【請求項１０】
前記回転機械の前記流路内の流体を排出した後、前記流路内に前記酸素を含む前記気体を送り込み、前記活性酸素発生源により前記流路の内壁面に付着した前記有機物を除去する請求項９に記載の回転機械の流路洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遠心圧縮機、軸流圧縮機等の回転機械、回転機械の流路洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
流体を圧縮するため、遠心圧縮機、軸流圧縮機等の回転機械が用いられている。このような回転機械において、内部に形成されている流路を流れる流体に含まれる成分により、流路の内壁面に、汚れや、圧縮時に生じる熱による熱反応等によって生成される有機物等の生成物が付着・堆積することがある。これらの汚れや生成物により、流路内における流体の流れが阻害され、回転機械の性能が低下してしまう。
【０００３】
そこで、流路内に洗浄液を噴射し、汚れや付着を除去するものがある。例えば特許文献１には、圧縮機のインペラとケーシングとの間に形成される流路に、洗浄液を噴射するノズルを備えた構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−１５３５６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、洗浄液を用いて洗浄した場合、流路全体を洗浄するには大量の洗浄液が必要となり、コストがかかる。
また、回転機械で取り扱う流体の種類によっては、流路内に洗浄液が残存しないようにする必要があり、手間がかかる。
そこでなされた本発明の目的は、流路内の洗浄を容易に、しかも低コストで実施することのできる回転機械、回転機械の流路洗浄方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するため、以下の手段を採用する。
この発明に係る回転機械は、流体が流通する流路を画成するケーシングと、前記ケーシング内に中心軸回りに回転自在に設けられた回転軸と、前記ケーシング内に設けられて、前記回転軸と一体に回転することで前記流体を前記流路で圧縮又は圧送するインペラと、前記流路内に設けられ、前記流路内にオゾンを発生させるとともに、発生した前記オゾンから活性酸素を生成する活性酸素発生源と、を備える。
このように構成することで、活性酸素発生源によって、流路内にオゾンを発生させるとともに、発生したオゾンから活性酸素を生成することで、流路の内壁面に付着した有機物等を酸化させて分解することができる。
また、オゾンや活性酸素を生成するには、酸素を含んだ気体、すなわち空気があればよく、コストがかからない。
【０００７】
この発明に係る回転機械において、前記活性酸素発生源は、前記流路内の雰囲気に含まれる酸素と反応して前記オゾンを発生する第一波長の光と、前記オゾンと反応して前記活性酸素を生成する第二波長の光と、を照射する紫外線光源であるようにしてもよい。
このように構成することで、紫外線光源から照射される第一波長の光によって、流路内にオゾンを発生させ、さらに、第二波長の光により、流路内に発生したオゾンと反応して活性酸素を生成することができる。
そして、流路内の酸素を含んだ雰囲気に対して紫外線を照射できるよう、紫外線光源を設ければ良いので、紫外線光源は、流路内における流体の流れを阻害しない位置に設けることができる。
【０００８】
この発明に係る回転機械において、前記活性酸素発生源は、前記流路の断面積が縮小した部位に設けられているようにしてもよい。
流路の断面積が大きい部位では、活性酸素発生源からの距離が大きいために活性酸素発生源の作用が及びにくく、オゾンおよび活性酸素を生成する反応が起きにくいことがある。これに対し、流路の断面積が縮小された部位においては、活性酸素発生源からの距離が小さく、流路を流れる流体中の酸素密度も高い。したがって、活性酸素発生源からの作用により、オゾンおよび活性酸素を生成する反応を確実に起こすことができる。
【０００９】
この発明に係る回転機械において、前記活性酸素発生源は、前記流路が湾曲している部位に設けられているようにしても良い。
流路が湾曲している部位においては、流路が直線状である部位に比較し、より広い範囲に活性酸素発生源からの作用を及ぼしやすい。これにより、活性酸素発生源からの作用が及ぼされる領域を流路の流れ方向に長く確保でき、オゾンおよび活性酸素を生成する反応を効率良くかつ確実に起こすことができる。
【００１０】
この発明に係る回転機械において、前記流路が湾曲している部位の湾曲方向内周側に凹部が形成され、前記凹部に前記活性酸素発生源が設けられているようにしてもよい。
このように構成することで、流路が湾曲している部位の湾曲方向外周側の内壁面に対し、活性酸素発生源からの作用を確実に及ぼすことができる。
流路を流れる流体は、流路が湾曲している部位において、遠心力によって湾曲方向外周側に偏って流れる。したがって、汚れや有機物も、流路が湾曲した部位の湾曲方向外周側の内壁面に付着・堆積しやすい。活性酸素発生の作用を流路の湾曲方向内周側から及ぼすことで、汚れや有機物を効率良く分解・除去することができる。
【００１１】
この発明に係る回転機械において、前記凹部に、前記流路の内壁面に連続し、前記活性酸素発生源を覆うカバーが設けられているようにしてもよい。
このように構成することで、活性酸素発生源を保護するとともに、活性酸素発生源を設けた凹部によって、流路の損失が大きくなるのを抑えることができる。
【００１２】
この発明に係る回転機械において、前記インペラは、前記回転軸の軸方向に沿って複数段に設けられ、前記活性酸素発生源は、少なくとも、前記流路の流れ方向最上段に位置する前記インペラの上流側に設けられているようにしてもよい。
このように構成することで、回転機械の流路の全域に活性酸素を供給して洗浄を行うことができる。
【００１３】
この発明に係る回転機械において、前記流路内に前記流体を供給する流体供給部と、前記流路内に酸素を含む気体を供給する気体供給部と、前記流体供給部と前記気体供給部を前記流路に対して選択的に接続する接続切替部と、をさらに備えるようにしてもよい。
このように構成することで、通常の運転時には、流体供給部を流路に接続し、流体供給部から流路内に供給して回転機械の運転を行う。流路の洗浄を行うときには、接続切替部で流路に気体供給部を接続する。そして、気体供給部から流路内に酸素を含む気体を供給する。これにより、通常の運転時に酸素を含まない流体が流路を流れている回転機械であっても、流路の洗浄を行うことが可能となる。
【００１４】
また、この発明に係る回転機械の流路洗浄方法は、上記の回転機械の流路洗浄方法であって、前記流路内に酸素を含む気体を送り込み、前記回転軸を回転させることで、前記気体を前記流路に流通させる工程と、前記活性酸素発生源により、前記流路内の前記気体からオゾンを発生させるとともに、発生した前記オゾンから活性酸素を生成し、生成された前記活性酸素により前記流路の内壁面に付着した有機物を酸化させて除去する工程と、を含む。
このように構成することで、流路内の洗浄を行うことができる。また、流路内には、酸素を含む気体を送り込めば流路の洗浄を行うことができる。したがって、洗浄液を用いる場合のように、洗浄液が流路に残存することもなく、洗浄後、直ちに通常運転を行うことができる。
【００１５】
前記回転機械の前記流路内の流体を排出した後、前記流路内に前記酸素を含む前記気体を送り込み、前記活性酸素発生源により前記流路の内壁面に付着した前記有機物を除去するようにしてもよい。
このように構成することで、通常の運転時に酸素を含まない流体が流路を流れている回転機械であっても、流路の洗浄を行うことが可能となる。
【発明の効果】
【００１６】
この発明に係る回転機械、回転機械の流路洗浄方法によれば、性能低下を抑えつつ、流路内の洗浄を容易に、しかも低コストで実施することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本実施形態における回転機械の一例としての遠心圧縮機の構成を示す断面図である。
【図２】上記遠心圧縮機の要部を示す拡大断面図である。
【図３】オゾン発生光源の一例を示す図である。
【図４】遠心圧縮機の変形例を示す図である。
【図５】オゾン発生光源の変形例を示す図である。
【図６】オゾン発生光源の他の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、添付図面を参照して、本発明による回転機械を実施するための形態を説明する。
図１は、本実施形態における回転機械の一例としての遠心圧縮機の構成を示す断面図である。図２は、遠心圧縮機の要部を示す拡大断面図である。
図１に示すように、本実施形態の回転機械である遠心圧縮機（回転機械）１０は、主として、ケーシング２０と、ケーシング２０内で中心軸Ｏ回りに回転自在に支持された回転軸３０と、回転軸３０に取り付けられて遠心力を利用して流体としてのガスＧを圧縮するインペラ４０と、を備えている。
【００１９】
ケーシング２０は、複数のリング部材２２を回転軸３０の中心軸Ｏ方向に配列した構成をなしている。また、このケーシング２０には、縮径及び拡径を繰り返す内部空間２１が設けられている。この内部空間２１にはインペラ４０が収容される。そして、インペラ４０を収容した際にインペラ４０同士の間となる位置にインペラ４０を流通するガスＧを上流側から下流側に流通させるケーシング側流路５０が形成されている。
【００２０】
ケーシング２０の一端部２０ａにはガスＧを外部からケーシング側流路５０に流入させる吸込口２３が設けられている。また、ケーシング２０の他端部２０ｂには、ケーシング側流路５０に連続して、ガスＧを外部に流出させる排出口２４が設けられている。
【００２１】
ケーシング２０の一端部２０ａ側と他端部２０ｂ側には、それぞれ回転軸３０の両端部を支持する支持孔２５，２６が形成されている。回転軸３０は、これら支持孔２５，２６に、ジャーナル軸受２７を介して中心軸Ｏ回りに回転自在に支持されている。また、ケーシング２０の一端部２０ａには、さらにスラスト軸受２８が設けられ、回転軸３０は、その一端側３０ａが、スラスト軸受２８を介して中心軸Ｏ方向に回転自在に支持されている。
【００２２】
複数のインペラ４０は、ケーシング２０における各々のリング部材２２の内部に、回転軸３０の中心軸Ｏ方向に間隔を空けて収容されている。なお、図１において、インペラ４０が６つ設けられている場合の一例を示しているが、インペラ４０は、少なくとも１つ以上設けられていればよい。
図２に示すように、ケーシング２０の内部空間２１には、ケーシング２０の一端部２０ａに対向する側（図２において左方）と、ケーシング２０の他端部２０ｂに対向する側（図２において右方）に、インペラ４０を収容するための凹部２９ａ，２９ｂが形成されている。この凹部２９ａ，２９ｂにより、ケーシング２０には、中心軸Ｏに直交する断面形状が円形の、インペラ４０を収容するインペラ収容部２９が形成されている。
【００２３】
遠心圧縮機１０のインペラ４０は、本実施形態において、ディスク部４１とブレード部４２とカバー部４３とを備えた、いわゆるクローズドインペラである。
【００２４】
ディスク部４１は、その中央部が、中心軸Ｏ方向に一定長を有した略円筒状の筒状部４１ａとされている。この筒状部４１ａの貫通孔４１ｂに回転軸３０が挿通されて固定されている。筒状部４１ａの外周側に、円盤状のディスク本体部４１ｃが一体的に形成されている。このディスク本体部４１ｃは、その外周面が、ケーシング２０の一端部２０ａ側から他端部２０ｂ側に向けて、外径が漸次拡大する凹状湾曲面４１ｄとされている。ディスク本体部４１ｃは、ケーシング２０の他端部２０ｂ側に対向する側が、上記凹部２９ｂと所定の間隔を隔てた平面４１ｅにより形成されている。
【００２５】
凹状湾曲面４１ｄには、複数のブレード部４２が、周方向に間隔を隔てて形成されている。それぞれのブレード部４２は、凹状湾曲面４１ｄからケーシング２０の一端部２０ａ側に突出するようにして一体的に形成されている。
【００２６】
カバー部４３は、複数のブレード部４２を覆うように形成されている。このカバー部４３は、円盤状で、凹状湾曲面４１ｄに対向する側が、凹状湾曲面４１ｄと一定の間隔を隔てて対向するよう凸状湾曲面４３ａにより形成されている。また、カバー部４３においてケーシング２０の一端部２０ａ側に対向する側は、上記凹部２９ａと所定の間隔を隔てた湾曲面４３ｂにより形成されている。
【００２７】
図１に示すように、ケーシング側流路５０は、ディフューザ部５１と、リターンベンド部５２と、戻り流路５３と、から形成されている。
ディフューザ部５１は、インペラ４０の外周側から、外周側に向けて延びるよう形成されている。
リターンベンド部５２は、ディフューザ部５１の外周部に連続して形成されている。リターンベンド部５２は、ディフューザ部５１の外周部からケーシング２０の他端部２０ｂ側に、断面視Ｕ字状に回り込み、内周側に向けて形成されている。
図２に示すように、戻り流路５３は、リターンベンド部５２から内周側に向けて形成されている。戻り流路５３は、その内周側端部に、次の段のインペラ４０の中央部に向けて湾曲した湾曲部５３ｗを有している。
【００２８】
各インペラ４０においては、ディスク部４１の凹状湾曲面４１ｄとカバー部４３の凸状湾曲面４３ａとの間に、インペラ側流路５５が形成されている。このインペラ側流路５５は、各インペラ４０において、ケーシング２０の一端部２０ａ側を向く端部５５ａが、ケーシング側流路５０の戻り流路５３の湾曲部５３ｗに対向し、反対側の端部５５ｂは、外周側を向き、ケーシング側流路５０のディフューザ部５１に対向するよう形成されている。
【００２９】
このような遠心圧縮機１０においては、吸込口２３からケーシング側流路５０に導入されたガスＧは、回転軸３０とともに中心軸Ｏ回りに回転するインペラ４０のそれぞれにおいて、ブレード部４２の径方向内側に近接する端部５５ａからインペラ側流路５５に流入する。インペラ側流路５５に流入したガスＧは、ブレード部４２の径方向外側に近接する端部５５ｂから外周側に向かって流出する。周方向において互いに隣接するブレード部４２間は、径方向にガスＧが流通する圧縮流路とされており、インペラ側流路５５を経ることで、ガスＧは圧縮される。
各段のインペラ４０から流出したガスＧは、ケーシング側流路５０のディフューザ部５１を通して外周側に流れ、リターンベンド部５２において流れ方向を折り返し、戻り流路５３を通して後段側のインペラ４０に送り込まれる。このようにして、ケーシング２０の一端部２０ａ側から他端部２０ｂ側に向けて多段に設けられたインペラ４０のインペラ側流路５５とケーシング側流路５０を経ることで、ガスＧが多段に圧縮され、排出口２４から送り出される。
【００３０】
上記遠心圧縮機１０は、ケーシング側流路５０およびインペラ側流路５５からなる流路６０の内壁面を洗浄するため、オゾン発生光源（活性酸素発生源）１００を有している。
オゾン発生光源１００は、流路６０内にオゾンを発生させるとともに、発生したオゾンから活性酸素を生成する。このようなオゾン発生光源１００としては、流路６０内の雰囲気に含まれる酸素と反応してオゾンを発生する第一波長（例えば波長１８４．９ｎｍ）の紫外線と、オゾンと反応して活性酸素を生成する第二波長（例えば、波長２５３．７ｎｍ）の紫外線と、を照射する、低圧水銀ランプからなる紫外線光源を用いることができる。
【００３１】
オゾン発生光源１００によって、流路６０を洗浄するには、流路６０内に酸素を含む気体、例えば空気を供給する。この状態で、オゾン発生光源１００から、第一波長の紫外線と第二波長の紫外線を同時に照射する。すると、流路６０内の酸素は、第一波長の光を吸収することによって、流路６０内にオゾンを発生させる。さらに、発生したオゾンは、第二波長の紫外線を吸収することによって、酸素と活性酸素を生成する。このようにして生成された活性酸素により、流路６０内壁面に付着した有機物等を酸化させて分解することによって、汚れや付着・堆積物を除去する。
【００３２】
オゾン発生光源１００は、戻り流路５３の湾曲部５３ｗの内周側に形成された凹部１１０内に設けられている。さらに、凹部１１０に、流路６０内壁面に連続し、オゾン発生光源１００を覆うカバー１２０が設けられている。
このように構成することで、流路６０が戻り流路５３の湾曲部５３ｗの湾曲方向外周側の内壁面６０ｆに対し、オゾン発生光源１００から紫外線を確実に照射することができる。流路６０を流れる流体は、流路６０が戻り流路５３の湾曲部５３ｗにおいて、遠心力によって外周側に偏って流れる。したがって、汚れや有機物も、流路６０が戻り流路５３の湾曲部５３ｗの湾曲方向外周側の内壁面６０ｆに付着・堆積しやすい。紫外線を流路６０の内周側から照射することで、汚れや有機物を効率良く分解・除去することができる。
【００３３】
オゾン発生光源１００が設けられた戻り流路５３の湾曲部５３ｗは、流路６０の断面積が縮小した部位である。
流路６０の断面積が大きい部位では、オゾン発生光源１００から、オゾン発生光源１００が設けられた側とは反対側の流路６０の内壁面近傍までの距離が大きい。すると、紫外線によるオゾンおよび活性酸素を生成する反応が起きにくいことがある。これに対し、流路６０の断面積が縮小された部位においては、流路６０の断面方向全域がオゾン発生光源１００からの距離が小さい。また、流路６０を流れる流体中の酸素密度も高い。さらに、戻り流路５３の湾曲部５３ｗにおいて、流路６０の断面積が縮小することで、流路内の酸素を含んだ気体が圧縮され、温度が上昇する。これにより、オゾン、活性酸素の生成が効率良く行える。
【００３４】
また、オゾン発生光源１００が設けられた戻り流路５３の湾曲部５３ｗは、流路６０が湾曲している部位である。そして、オゾン発生光源１００は、戻り流路５３の湾曲部５３ｗの内周側に設けられている。この戻り流路５３の湾曲部５３ｗにおいては、流路６０が直線状である部位に比較し、戻り流路５３の湾曲部５３ｗの湾曲方向外周側の、より広い範囲に紫外線を照射しやすい。これにより、紫外線が照射される領域を、流路６０の流れ方向に長く確保でき、オゾンおよび活性酸素を生成する反応を効率良くかつ確実に起こすことができる。
【００３５】
カバー１２０は、アクリル樹脂等、第一波長および第二波長の紫外線を透過する材料により形成されている。このカバー１２０により、オゾン発生光源１００を保護するとともに、オゾン発生光源１００を設けた凹部１１０によって流路６０の損失が大きくなるのを抑える。
【００３６】
図１に示すように、この実施形態の遠心圧縮機１０において、インペラ４０は、回転軸３０の軸方向に沿って複数段に設けられている。オゾン発生光源１００は、複数段のインペラ４０のそれぞれの上流側に設けられている。ここで、オゾン発生光源１００は、少なくとも、流路６０の流れ方向最上段に位置するインペラ４０の上流側に設けられていればよい。
【００３７】
図３は、オゾン発生光源１００の一例を示す図である。
図３に示すように、オゾン発生光源１００は、例えば、半円状に形成したものを、二個一対で全体として円形状に配置する。これら二個一対のオゾン発生光源１００は、戻り流路５３の外周側に形成された凹部１１０に、不図示の固定部材で固定されている。オゾン発生光源１００を作動させるための電力を供給する配線１０１は、ケーシング２０に形成した孔１０２内に挿通されている。そして、配線１０１は、ケーシング２０の外部に配置された不図示の駆動電源に接続されている。
【００３８】
上記オゾン発生光源１００により遠心圧縮機１０の流路６０を洗浄するには、流路６０内に酸素を含む気体を送り込み、回転軸３０を回転させることで、気体を流路６０に流通させる。
そして、オゾン発生光源１００から流路内の気体に第一波長、第二波長の紫外線を照射する。これにより、流路６０内の気体からオゾンを発生させるとともに、発生したオゾンから活性酸素を生成する。すると、生成された活性酸素により流路６０の内壁面に付着した有機物が酸化・分解され、汚れや付着・堆積物を除去することができる。
このようにして、流路６０内の洗浄を行う。
【００３９】
上述したように、オゾン発生光源１００によって、流路６０内にオゾンを発生させるとともに、発生したオゾンから活性酸素を生成することで、流路６０の内壁面に付着した有機物等を酸化させて分解することができる。これにより、流路６０の洗浄を容易かつ確実に行うことができる。しかも、洗浄液を用いず、酸素を含んだ気体として空気を用いることができるので、低コストで流路６０の洗浄を行うことができる。また、洗浄の完了後、直ちに遠心圧縮機１０を通常に運転させることができ、遠心圧縮機１０の稼働率を高めることができる。
【００４０】
さらに、オゾン発生光源１００は、流路６０の断面積が縮小された戻り流路５３の湾曲部５３ｗに設けられている。
また、オゾン発生光源１００は、流路６０が湾曲している戻り流路５３の湾曲部５３ｗに設けられている。これにより、オゾンおよび活性酸素を生成する反応を効率良くかつ確実に起こすことができる。
【００４１】
また、オゾン発生光源１００は、戻り流路５３の湾曲部５３ｗの湾曲方向内周側に形成された凹部１１０に設けられている。このように構成することで、戻り流路５３の湾曲部５３ｗの湾曲方区御外周側の内壁面６０ｆに対し、紫外線を確実に照射することができる。
【００４２】
さらに、オゾン発生光源１００は、流路６０の内壁面に形成された凹部１１０に収められているので、流路６０内における流体の流れを阻害するのを抑えることができる。
また、オゾン発生光源１００は、流路６０の内壁面に連続するカバー１２０によって覆われている。これにより、オゾン発生光源１００を保護するとともに、オゾン発生光源１００を設けた凹部１１０によって、流路６０の損失が大きくなるのを抑えることができる。
このようにして、遠心圧縮機１０の性能低下を抑えることができる。
【００４３】
また、オゾン発生光源１００は、少なくとも、流路６０の流れ方向最上段に位置するインペラ４０Ａの上流側に設けられている。これにより、遠心圧縮機１０の流路６０の全域に活性酸素を供給することができ、流路６０全体の洗浄を行うことができる。
【００４４】
なお、上記したような構成は、遠心圧縮機１０の通常運転モードにおいて、流路６０を流れる流体が、空気等の酸素を含んだ気体である場合には、上述したように酸素を含む気体を別途で供給する必要はない。この場合、通常運転を行いながらオゾン発生光源１００から紫外線を照射することにより、流路６０内の気体との反応によってオゾン、活性酸素を生成して、洗浄を同時に行うことができる。
また、通常運転よりも回転軸３０の回転速度を低下させ、流路６０内における気体の流速を下げ、流路６０の洗浄を行うこともできる。
【００４５】
（その他の実施形態）
なお、本発明の回転機械、および回転機械の流路洗浄方法は、図面を参照して説明した上述の実施形態に限定されるものではなく、その技術的範囲において様々な変形例が考えられる。
例えば、遠心圧縮機１０の通常運転モードにおいて、流路６０を流れる流体が、酸素を含んだ気体ではない場合、流路６０を洗浄するには、通常運転モードを停止させ、流路６０内の流体を排出する。そして、流路６０内に酸素を含んだ気体を送り込んで、流路６０の洗浄を行う。
このため、図４に示すように、遠心圧縮機１０は、通常運転モードにおいて、流路６０内に流体を供給する流体供給部１３０と、流路６０内に酸素を含む気体を供給する気体供給部１４０と、流体供給部１３０と気体供給部１４０とを流路６０に対して選択的に接続する切替バルブ（接続切替部）１５０Ａ，１５０Ｂと、をさらに備える。
【００４６】
このように構成することで、通常の運転モードでは、切替バルブ１５０Ａを開き、切替バルブ１５０Ｂを閉じることによって、流体供給部１３０を流路６０に接続する。これによって、流体供給部１３０から流路６０内に供給して遠心圧縮機１０の運転を行う。
また、流路６０の洗浄を行うときには、切替バルブ１５０Ｂを開き、切替バルブ１５０Ａを閉じることによって、流路６０に気体供給部１４０を接続する。そして、気体供給部１４０から流路６０内に酸素を含む気体を供給する。
このようにして、遠心圧縮機１０の流路６０内の流体を排出した後、流路６０内に酸素を含む気体を送り込み、オゾン発生光源１００により流路６０内壁面に付着した有機物を除去する。これにより、通常の運転時に酸素を含まない流体が流路６０を流れている遠心圧縮機１０であっても、流路６０の洗浄を行うことが可能となる。
【００４７】
また、オゾン発生光源１００として、半円状のものを二個一対で用いるようにしたが、これに限らない。
例えば、図５に示すように、環状のオゾン発生光源１００を用いてもよい。
また、図６に示すように、直線状のオゾン発生光源１００を、複数本環状に配置するようにしてもよい。さらには、オゾン発生光源１００として、点状光源を多数設けてもよい。
【００４８】
さらに、活性酸素発生源として、紫外線光源である低圧水銀ランプからなるオゾン発生光源１００を用いたが、流路６０内で活性酸素を発生できるのであれば、他のものを用いてもよい。例えば、低圧水銀ランプに代えて、波長１７２ｎｍ近傍の紫外線を発するエキシマランプを用いるもこともできる。また、オゾンを発生する第一波長の光を発する光源と、活性酸素を発生する第二波長の光を発する光源とを、独立して設けてもよい。
また、紫外線光源を用いず、無声放電方式、電気分解方式等によってオゾンを発生するようにしてもよい。
【００４９】
インペラ４０に正電荷を与えることによって、インペラ４０を帯電させるようにしてもよい。これにより負イオンであるオゾンがインペラ４０に引き寄せられ、効率良く洗浄できる。
ここで、インペラ４０に正電荷を付与する構成については、限定するものではない。例えば、インペラ４０が回転することで、流路６０内の流体との摩擦による帯電を用いてもよい。
この場合、インペラ４０とケーシング２０とが、例えばジャーナル軸受２７、スラスト軸受２８が転がり軸受である場合、これらジャーナル軸受２７、スラスト軸受２８を介してインペラ４０とケーシング２０とが導通して同電位となってしまうことが考えられる。そこで、ジャーナル軸受２７、スラスト軸受２８を滑り軸受として、潤滑油を介してインペラ４０とケーシング２０とが絶縁される構成、絶縁リング等によってジャーナル軸受２７、スラスト軸受２８とが絶縁される構成等とするのが好ましい。
【００５０】
また、上述した実施形態においては、カバー部４３を備えるクローズ型のインペラ４０について説明したが、カバー部４３を備えないオープン型のインペラにも本発明は適用可能である。この場合、インペラ４０の外周側のケーシング２０にオゾン発生光源１００を配置してもよい。
【００５１】
さらに、上述した実施形態においては、回転機械として遠心圧縮機１０を一例に説明したが、遠心（軸流）ポンプ、軸流圧縮機、半径流タービン等の回転機械にも適用可能である。
これ以外にも、本発明の主旨を逸脱しない限り、上記実施の形態で挙げた構成を取捨選択したり、他の構成に適宜変更したりすることが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
上記の回転機械、回転機械の流路洗浄方法によれば、性能低下を抑えつつ、流路内の洗浄を容易に、しかも低コストで実施することが可能となる。
【符号の説明】
【００５３】
１０  遠心圧縮機（回転機械）
２０  ケーシング
２０ａ  一端部
２０ｂ  他端部
２１  内部空間
２２  リング部材
２３  吸込口
２４  排出口
２５，２６  支持孔
２７  ジャーナル軸受
２８  スラスト軸受
２９  インペラ収容部
２９ａ，２９ｂ  凹部
３０  回転軸
３０ａ  一端側
４０  インペラ
４１  ディスク部
４１ａ  筒状部
４１ｂ  貫通孔
４１ｃ  ディスク本体部
４１ｄ  凹状湾曲面
４１ｅ  平面
４２  ブレード部
４３  カバー部
４３ａ  凸状湾曲面
４３ｂ  湾曲面
５０  ケーシング側流路
５１  ディフューザ部
５２  リターンベンド部
５３  戻り流路
５３ｗ  湾曲部
５５  インペラ側流路
５５ａ  端部
５５ｂ  端部
６０  流路
１００  オゾン発生光源（活性酸素発生源）
１０１  配線
１０２  孔
１１０  凹部
１２０  カバー
１３０  流体供給部
１４０  気体供給部
１５０Ａ，１５０Ｂ  切替バルブ（接続切替部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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