(57)【要約】【課題】ヒドロシラン化合物の縮合反応の収率を改善し、効率良くシロキサン化合物を製造することができる方法を提供することを課題とする。【解決手段】ハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）やハロゲン化アンチモン（ＳｂＸ３）を触媒として用いることによって、ヒドロシラン化合物を用いた縮合反応の収率を改善し、効率良くシロキサン化合物を製造することができる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるヒドロシラン化合物と下記式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、又は（Ｂ−３）で表されるシラン化合物とを反応させてシロキサン結合を形成する縮合工程を含むシロキサン化合物の製造方法であって、
前記縮合工程が、ハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）及びハロゲン化アンチモン（ＳｂＸ３）からなる群より選択される少なくとも１種を触媒として用いる工程である、シロキサン化合物の製造方法。
【化１】
2015196672.tif 000024
（式（Ａ−１）、（Ａ−２）、及び（Ａ−３）中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。）
【化２】
2015196672.tif 000025
（式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、及び（Ｂ−３）中、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を、Ｒ３は炭素数１〜６の炭化水素基を、Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜６の炭化水素基を表す。）
【請求項２】
下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるヒドロシラン化合物と下記式（Ｃ−１）で表されるシラン化合物とを反応させてシロキサン結合を形成する縮合工程を含むシロキサン化合物の製造方法であって、
前記縮合工程が、ハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）を触媒として用い、かつアセトニトリル（ＣＨ３ＣＮ）を溶媒として用いる工程である、シロキサン化合物の製造方法。
【化３】
2015196672.tif 000026
（式（Ａ−１）、（Ａ−２）、及び（Ａ−３）中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。）
【化４】
2015196672.tif 000027
（式（Ｃ−１）中、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。）
【請求項３】
前記縮合工程が、アセトニトリル（ＣＨ３ＣＮ）、クロロホルム（ＣＨＣｌ３）、及びトルエンからなる群より選択される少なくとも１種を溶媒として用いる工程である、請求項１に記載のシロキサン化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シロキサン化合物の製造方法に関し、より詳しくはハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）等を触媒として用いるシロキサン化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）は、有機化合物の基本骨格である炭素−炭素結合（Ｃ−Ｃ）や炭素−酸素結合（Ｃ−Ｏ）よりも結合エネルギーが大きく、耐熱性、耐擦傷性、耐候性に優れており、シロキサン結合を有するオルガノポリシロキサンは、シリコーンオイル、シリコーンゴム、コーティング材、シーリング材等の様々な用途に利用されている。
【０００３】
シロキサン結合を形成するための代表的な前駆体としては、シラノール化合物（ＳｉＯＨ）が広く知られており、ハロゲン化シラン（ＳｉＸ）、アルコキシシラン（ＳｉＯＲ）、シラノール（ＳｉＯＨ）等との縮合反応によって、シロキサン結合を容易に形成できることが知られている。
・  ＳｉＯＨ  ＋  ＳｉＸ    →  ＳｉＯＳｉ  ＋ＨＸ
・  ＳｉＯＨ  ＋  ＳｉＯＲ  →  ＳｉＯＳｉ  ＋ＲＯＨ
・  ＳｉＯＨ  ＋  ＳｉＯＨ  →  ＳｉＯＳｉ  ＋Ｈ２Ｏ
また、最近ではＢ（Ｃ６Ｆ５）３等のようなルイス酸を用い、ヒドロシラン化合物（−ＳｉＨ）とメトキシシラン化合物等とを縮合させてシロキサン結合を形成する方法が提案されている（特許文献１、非特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第２００４／０１２７６６８号明細書
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】S. Rubinsztajn, J. A. Cella, Polym. Prepr. 2004, 45, 635- 636.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３等のようなルイス酸を用いて、ヒドロシラン化合物（ＳｉＨ）を縮合させる反応では、例えば反応対象であるシラン化合物が複数のヒドロキシル基やアルコキシ基を有する化合物であると、反応が進行しなかったり、収率が低かったりする問題があった。
即ち、本発明は、ヒドロシラン化合物の縮合反応の収率を改善し、効率良くシロキサン化合物を製造することができる方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、ハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）やハロゲン化アンチモン（ＳｂＸ３）を触媒として用いることによって、ヒドロシラン化合物の縮合反応の収率を改善し、効率良くシロキサン化合物を製造することができることを見出し、本発明を完成させた。
【０００８】
即ち、本発明は以下の通りである。
＜１＞ 下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるヒドロシラン化合物
と下記式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、又は（Ｂ−３）で表されるシラン化合物とを反応させてシロキサン結合を形成する縮合工程を含むシロキサン化合物の製造方法であって、前記縮合工程が、ハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）及びハロゲン化アンチモン（ＳｂＸ３）からなる群より選択される少なくとも１種を触媒として用いる工程である、シロキサン化合物の製造方法。
【化１】
2015196672.tif 000002
（式（Ａ−１）、（Ａ−２）、及び（Ａ−３）中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。）
【化２】
2015196672.tif 000003
（式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、及び（Ｂ−３）中、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を、Ｒ３は炭素数１〜６の炭化水素基を、Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜６の炭化水素基を表す。）
＜２＞ 下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるヒドロシラン化合物
と下記式（Ｃ−１）で表されるシラン化合物とを反応させてシロキサン結合を形成する縮合工程を含むシロキサン化合物の製造方法であって、前記縮合工程が、ハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）を触媒として用い、かつアセトニトリル（ＣＨ３ＣＮ）を溶媒として用いる工程である、シロキサン化合物の製造方法。
【化３】
2015196672.tif 000004
（式（Ａ−１）、（Ａ−２）、及び（Ａ−３）中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。）
【化４】
2015196672.tif 000005
（式（Ｃ−１）中、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。）
＜３＞ 前記縮合工程が、アセトニトリル（ＣＨ３ＣＮ）、クロロホルム（ＣＨＣｌ３）
、及びトルエンからなる群より選択される少なくとも１種を溶媒として用いる工程である、＜１＞に記載のシロキサン化合物の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、効率良くシロキサン化合物を製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明を説明するに当たり、具体例を挙げて説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り以下の内容に限定されるものではなく、適宜変更して実施することができる。
【００１１】
＜シロキサン化合物の製造方法１＞
本発明の一態様であるシロキサン化合物の製造方法（以下、「本発明の製造方法１」と略す場合がある。）は、下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるヒドロシラン化合物と下記式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、又は（Ｂ−３）で表されるシラン化合物とを反応させてシロキサン結合を形成する縮合工程（以下、「本発明に係る縮合工程１」と略す場合がある。）を含むシロキサン化合物の製造方法であり、縮合工程において、ハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）及びハロゲン化アンチモン（ＳｂＸ３）からなる群より選択される少なくとも１種を触媒として用いることを特徴とする。
【化５】
2015196672.tif 000006
（式（Ａ−１）、（Ａ−２）、及び（Ａ−３）中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。）
【化６】
2015196672.tif 000007
（式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、及び（Ｂ−３）中、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を、Ｒ３は炭素数１〜６の炭化水素基を、Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜６の炭化水素基を表す。）
Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３等のようなルイス酸を用いて、ヒドロシラン化合物（ＳｉＨ）を縮合する反応は、例えば下記（ａ）〜（ｃ）の条件に該当する場合、反応が進行しなかったり、収率が低くかったりするため、シロキサン化合物を効率良く製造することが困難であった。また、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３は比較的高価な化合物であり、コストの観点からも改善の余地を残す方法であると言える。
（ａ）ヒドロシラン化合物が複数のヒドロシリル基（Ｓｉ−Ｈ）を有する化合物である場合。
（ｂ）反応対象であるシラン化合物が複数のヒドロキシル基やアルコキシ基を有する化合物である場合。
（ｃ）反応対象であるシラン化合物がフェニル基（−Ｐｈ）等の嵩高い置換基を有する化合物である場合。
そして、本発明者らは、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３の代わりに、ハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）やハロゲン化アンチモン（ＳｂＸ３）を触媒として用いることによって、上記（ａ）〜（ｃ）の何れの条件に該当する場合であっても、効率良くシロキサン化合物を製造することができることを見出したのである。
なお、「反応させてシロキサン結合を形成する」とは、下記反応式に示される反応のよ
うに、式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるヒドロシラン化合物と式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、又は（Ｂ−３）で表されるシラン化合物の縮合反応によって、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ構造が少なくとも１つ形成することを意味する。
【化７】
2015196672.tif 000008
従って、トリエチルシランとトリメトキシフェニルシランとを反応させる縮合工程の場合、製造されるシロキサン化合物は、下記に示されるようなジシロキサン、トリシロキサン、シロキシトリシロキサン、又はこれらの混合物の何れであってもよいことを意味する。
【化８】
2015196672.tif 000009
【００１２】
本発明に係る縮合工程１は、下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるヒドロシラン化合物を反応物とする工程であるが、ヒドロシラン化合物の具体的種類は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。また、使用するヒドロシラン化合物は、１種類に限られず、２種類以上を使用してもよい。
【化９】
2015196672.tif 000010
（式（Ａ−１）、（Ａ−２）、及び（Ａ−３）中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。）
Ｒ１は、それぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表しているが、Ｒ１の炭素数は、好ましくは１以上、より好ましくは２以上、さらに好ましくは３以上であり、好ましくは８以下、より好ましくは６以下、さらに好ましくは４以下である。
また、Ｒ１は、直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和
結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
Ｒ１としては、メチル基（−Ｍｅ）、エチル基（−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＰｒ）、イソプロピル基（−ｉＰｒ）、フェニル基（−Ｐｈ）等が挙げられる。これらの中でも、エチル基が特に好ましい。
【００１３】
式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるヒドロシラン化合物としては、以下のヒドロシラン化合物が挙げられる。
【化１０】
2015196672.tif 000011
【００１４】
本発明に係る縮合工程１は、下記式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、又は（Ｂ−３）で表されるシラン化合物を反応物とする工程であるが、シラン化合物の具体的種類は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。また、使用するシラン化合物は、１種類に限られず、２種類以上を使用してもよい。
【化１１】
2015196672.tif 000012
（式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、及び（Ｂ−３）中、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を、Ｒ３は炭素数１〜６の炭化水素基を、Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜６の炭化水素基を表す。）
Ｒ２は、それぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表しているが、Ｒ２の炭素数は、好ましくは１以上、より好ましくは２以上、さらに好ましくは３以上であり、好ましくは８以下、より好ましくは６以下、さらに好ましくは４以下である。
また、Ｒ２は、直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
Ｒ２としては、フェニル基（−Ｐｈ）、ナフチル基等が挙げられる。これらの中でも、フェニル基が特に好ましい。
【００１５】
Ｒ３は炭素数１〜６の炭化水素基を表しているが、Ｒ３の炭素数は、好ましくは２以上であり、好ましくは６以下、より好ましくは４以下である。
また、Ｒ３は、直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
Ｒ３としては、メチル基（−Ｍｅ）、エチル基（−Ｅｔ）、イソプロピル基（−ｉＰｒ）等が挙げられる。これらの中でも、メチル基（−Ｍｅ）が特に好ましい。
【００１６】
Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜６の炭化水素基を表しているが、Ｒ４が炭化水素基である場合、Ｒ４の炭素数は、好ましくは２以上であり、好ましくは６以下、より好ましくは４以下である。
また、Ｒ４は、直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
Ｒ４としては、水素原子、メチル基（−Ｍｅ）、エチル基（−Ｅｔ）、イソプロピル基（−ｉＰｒ）等が挙げられる。これらの中でも、水素原子、メチル基（−Ｍｅ）が特に好ましい。
【００１７】
式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、又は（Ｂ−３）で表されるシラン化合物としては、以下のシラン化合物が挙げられる。
【化１２】
2015196672.tif 000013
【００１８】
本発明に係る縮合工程１における式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるヒドロシラン化合物と式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、又は（Ｂ−３）で表されるシラン化合物の使用量は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができるが、物質量比（［式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるヒドロシラン化合物］／［式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、又は（Ｂ−３）で表されるシラン化合物］）として、通常１以上、好ましくは２以上であり、通常１０以下、好ましくは５以下である。上記範囲内であると、シロキサン化合物を収率良く製造し易くなる。
【００１９】
本発明に係る縮合工程１は、ハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）及びハロゲン化アンチモン（ＳｂＸ３）からなる群より選択される少なくとも１種を触媒として用いることを特徴とするが、触媒の具体的種類は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。また、使用する触媒は、１種類に限られず、２種類以上を使用してもよい。なお、「ＩｎＸ３」と「ＳｂＸ３」のＸは、ハロゲン原子を意味し、具体的には塩素（Ｃｌ）、臭素（Ｂｒ）、ヨウ素（Ｉ）が挙げられる。
ハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）としては、三塩化インジウム（ＩｎＣｌ３）、三臭化インジウム（ＩｎＢｒ３）、三ヨウ化インジウム（ＩｎＩ３）が挙げられるが、三塩化インジウムが特に好ましい。
ハロゲン化アンチモン（ＳｂＸ３）としては、三塩化アンチモン（ＳｂＣｌ３）、三臭化アンチモン（ＳｂＢｒ３）、三ヨウ化アンチモン（ＳｂＩ３）が挙げられるが、三塩化アンチモンが特に好ましい。
これらの中でも、シロキサン化合物を収率良く製造できるため、三塩化インジウムが特に好ましい。
【００２０】
本発明に係る縮合工程１における触媒の使用量は、特に限定されず、目的に応じて適宜
選択することができるが、式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるヒドロシラン化合物に対する物質量比として、通常５ｍｏｌ％以上、好ましくは１０ｍｏｌ％以上であり、通常１００ｍｏｌ％以下、好ましくは５０ｍｏｌ％以下、より好ましくは３０ｍｏｌ％以下である。上記範囲内であると、シロキサン化合物を収率良く製造し易くなる。
【００２１】
本発明に係る縮合工程１における溶媒の種類は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができるが、アセトニトリル（ＣＨ３ＣＮ）等のニトリル系有機溶媒；クロロホルム（ＣＨＣｌ３）、塩化メチレン（ＣＨ２Ｃｌ２）等のハロゲン系有機溶媒；ジエチルエーテル（ＥｔＯＥｔ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル系有機溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの中でも、アセトニトリルが特に好ましい。
【００２２】
本発明に係る縮合工程１における反応温度、反応時間等の反応条件は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
反応温度は、通常４０℃以上、好ましくは８０℃以上であり、通常２００℃以下、好ましくは１８０℃以下である。上記範囲内であれば、有機ケイ素化合物をより収率良く製造することができる。
反応時間は、通常２時間以上、好ましくは２４時間以上であり、通常７２時間以下、好ましくは４８時間以下である。
雰囲気ガスは、空気であっても、或いは窒素（Ｎ２）、アルゴン（Ａｒ）等の不活性ガスであってもよいが、不活性ガスを使用することが特に好ましい。
【００２３】
＜シロキサン化合物の製造方法２＞
本発明の別の態様であるシロキサン化合物の製造方法（以下、「本発明の製造方法２」と略す場合がある。）は、下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるヒドロシラン化合物と下記式（Ｃ−１）で表されるシラン化合物とを反応させてシロキサン結合を形成する縮合工程（以下、「本発明に係る縮合工程２」と略す場合がある。）を含むシロキサン化合物の製造方法であり、縮合工程において、ハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）を触媒として用い、かつアセトニトリル（ＣＨ３ＣＮ）を溶媒として用いることを特徴とする。
【化１３】
2015196672.tif 000014
（式（Ａ−１）、（Ａ−２）、及び（Ａ−３）中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。）
【化１４】
2015196672.tif 000015
（式（Ｃ−１）中、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。）
本発明者らは、ヒドロシラン化合物とシラノール化合物（シランモノオール化合物）の縮合反応において、触媒としてハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）を用い、かつ溶媒とし
てアセトニトリル（ＣＨ３ＣＮ）を用いると、その他の条件に対して、収率が顕著に高くなることを見出したのである。
【００２４】
本発明に係る縮合工程２は、式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるシラン化合物を反応物とする工程であるが、シラン化合物については本発明の製造方法１と同義である。
【００２５】
本発明に係る縮合工程２は、下記式（Ｃ−１）で表されるシラン化合物を反応物とする工程であるが、シラン化合物の具体的種類は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。また、使用するシラン化合物は、１種類に限られず、２種類以上を使用してもよい。
【化１５】
2015196672.tif 000016
（式（Ｃ−１）中、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。）
Ｒ２は、それぞれ独立して炭素数１〜１０の炭化水素基を表しているが、Ｒ２の炭素数は、好ましくは１以上、より好ましくは２以上、さらに好ましくは３以上であり、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下、さらに好ましくは６以下である。
また、Ｒ２は、直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
Ｒ２としては、フェニル基（−Ｐｈ）、イソプロピル基（−ｉＰｒ）、ｔｅｒｔ−ブチル基（−ｔＢｕ）等が挙げられる。これらの中でも、フェニル基が特に好ましい。
【００２６】
式（Ｃ−１）、で表されるシラン化合物としては、以下のシラン化合物が挙げられる。
【化１６】
2015196672.tif 000017
【００２７】
本発明に係る縮合工程２は、ハロゲン化インジウム（ＩｎＸ３）を触媒として用いることを特徴とするが、ハロゲン化インジウムの使用量は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、式（Ａ−１）、（Ａ−２）、又は（Ａ−３）で表されるヒドロシラン化合物に対する物質量比として、通常５ｍｏｌ％以上、好ましくは１０ｍｏｌ％以上であり、通常１００ｍｏｌ％以下、好ましくは５０ｍｏｌ％以下、より好ましくは３０ｍｏｌ％以下である。上記範囲内であると、シロキサン化合物を収率良く製造し易くなる。
【００２８】
本発明に係る縮合工程２における反応温度、反応時間等の反応条件は本発明の製造方法１と同義である。
【実施例】
【００２９】
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００３０】
＜トリエチルシランとトリフェニルヒドロキシシランの縮合反応＞
（実施例１）
反応容器に三塩化インジウム２２ｍｇ（ＩｎＣｌ３、１０ｍｏｌ％）を投入し、減圧して反応容器内を乾燥させた後、アルゴンガス（Ａｒ）を注入して、反応容器内をアルゴン雰囲気とした。次にアセトニトリル（ＣＨ３ＣＮ）１ｍＬを反応容器に加え、さらにトリエチルシラン０．１９ｍＬ、トリフェニルヒドロキシシラン２７６ｍｇを加えて、撹拌しながら２時間還流した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した結果、１，１，１−トリフェニル−３，３，３−トリエチルジシロキサンが収率８６％で生成していることを確認した（結果を表１に示す）。
【００３１】
（比較例１）
アセトニトリルをトルエンに変更した以外、実施例１と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示す。
【００３２】
（比較例２）
アセトニトリルをクロロホルム（ＣＨＣｌ３）に、反応時間を２４時間に変更した以外、実施例１と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示す。
【００３３】
（比較例３）
三塩化インジウムを三塩化アンチモン５０ｍｇ（ＳｂＣｌ３、２０ｍｏｌ％）に変更した以外、比較例２と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示す。
【００３４】
（比較例４）
反応容器内の雰囲気ガスを空気に変更した以外、比較例３と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示す。
【００３５】
（比較例５）
三塩化インジウムを三塩化アンチモン２５ｍｇ（ＳｂＣｌ３、１０ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示す。
【００３６】
（比較例６）
三塩化インジウムをトリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン５１ｍｇ（Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３、１０ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示す。
【００３７】
（比較例７）
三塩化インジウムを塩化アルミニウム１４ｍｇ（ＡｌＣｌ３、１０ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示す。
【００３８】
（比較例８）
三塩化インジウムを塩化鉄（ＩＩＩ）８ｍｇ（ＦｅＣｌ３、５ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示す。
【００３９】
（比較例９）
三塩化インジウムを塩化亜鉛１３ｍｇ（ＺｎＣｌ２、５ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示す。
【００４０】
（比較例１０）
三塩化インジウムを四塩化チタン２０ｍｇ（ＴｉＣｌ４、８ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示す。
【００４１】
（実施例２）
三塩化インジウムの投入量を１１ｍｇ（５ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示す。
【００４２】
（実施例３）
三塩化インジウムの投入量を９ｍｇ（４ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示す。
【００４３】
（実施例４）
三塩化インジウムの投入量を２ｍｇ（１ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示す。
【００４４】
【化１７】
2015196672.tif 000018
【００４５】
【表１】
2015196672.tif 000019
【００４６】
＜トリエチルシランとジヒドロキシジフェニルシランの縮合反応＞
（実施例５）
反応容器に三塩化インジウム３２ｍｇ（ＩｎＣｌ３、１０ｍｏｌ％）を投入し、減圧して反応容器内を乾燥させた後、アルゴンガス（Ａｒ）を注入して、反応容器内をアルゴン雰囲気とした。次にアセトニトリル（ＣＨ３ＣＮ）１ｍＬを反応容器に加え、さらにトリエチルシラン０．５８ｍＬ、ジヒドロキシジフェニルシラン６６ｍｇを加えて、撹拌しながら２時間還流した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した結果、下記式に示される生成物が収率６７％で生成していることを確認した。
【化１８】
2015196672.tif 000020
【００４７】
＜トリエチルシランとトリヒドロキシフェニルシランの縮合反応＞
（実施例６）
反応容器に三塩化インジウム３２ｍｇ（ＩｎＣｌ３、１５ｍｏｌ％）を投入し、減圧して反応容器内を乾燥させた後、アルゴンガス（Ａｒ）を注入して、反応容器内をアルゴン雰囲気とした。次にアセトニトリル（ＣＨ３ＣＮ）１ｍＬとトリエチルシラン０．５８ｍLを加えた後、撹拌しながら還流させ、トリヒドロキシフェニルシラン１６０ｍｇをアセ
トニトリル（ＣＨ３ＣＮ）１６ｍＬに溶解したものを滴下し、４日間撹拌しながら還流した。得られた混合物の溶媒を留去した後、カラムクロマトグラフィー、引き続き減圧蒸留で精製した結果、下記式に示される生成物が収率７３％で生成していることを確認した。
【化１９】
2015196672.tif 000021
【００４８】
＜トリエチルシランとトリフェニルメトキシシランの縮合反応＞
（実施例７）
反応容器に三塩化インジウム１１ｍｇ（ＩｎＣｌ３、５ｍｏｌ％）を投入し、減圧して反応容器内を乾燥させた後、アルゴンガス（Ａｒ）を注入して、反応容器内をアルゴン雰囲気とした。次にアセトニトリル（ＣＨ３ＣＮ）１ｍＬを反応容器に加え、さらにトリエチルシラン０．１９ｍＬ、トリフェニルメトキシシラン２９０ｍｇを加えて、撹拌しながら２時間還流した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した結果、下記式に示される生成物が収率４５％で生成していることを確認した。
【化２０】
2015196672.tif 000022
【００４９】
＜トリエチルシランとトリメトキシフェニルシランの縮合反応＞
（実施例８）
反応容器に三塩化インジウム３３ｍｇ（ＩｎＣｌ３、１５ｍｏｌ％）を投入し、減圧して反応容器内を乾燥させた後、アルゴンガス（Ａｒ）を注入して、反応容器内をアルゴン雰囲気とした。次にアセトニトリル（ＣＨ３ＣＮ）１ｍＬを反応容器に加え、さらにトリ
エチルシラン０．５８ｍＬ、トリメトキシフェニルシラン０．１９ｍＬを加えて、撹拌しながら２時間還流した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した結果、下記式に示される生成物が収率４３％で生成していることを確認した。
【化２１】
2015196672.tif 000023
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明の製造方法によって得られたシロキサン化合物は、シリコーンオイル、シリコーンゴム、コーティング材等の原料として利用することができる。