(57)【要約】【課題】Δｎが高い、優れた光学特性を有する光学異方性膜を提供する。【解決手段】以下の工程（Ａ）及び（Ｂ）をこの順に行う光学異方性膜の製造方法の提供。（Ａ）光重合開始剤と、溶剤と、２５０ｎｍ乃至３７０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する重合性液晶化合物とを含む光学異方性膜形成用組成物を基材に塗布する工程（Ｂ）塗布された光学異方性膜形成用組成物に、波長２００ｎｍ乃至５００ｎｍの光であって、波長範囲が２５０ｎｍ未満の光を照射する工程【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程（Ａ）及び（Ｂ）をこの順に行う光学異方性膜の製造方法。
（Ａ）光重合開始剤と、溶剤と、２５０ｎｍ乃至３７０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する重合性液晶化合物とを含む光学異方性膜形成用組成物を基材に塗布する工程
（Ｂ）塗布された光学異方性膜形成用組成物に、波長が２００ｎｍ乃至５００ｎｍの光であって、波長範囲が２５０ｎｍ未満の光を照射する工程
【請求項２】
光重合開始剤の極大吸収波長が３００ｎｍ乃至３８０ｎｍである請求項１に記載の光学異方性膜の製造方法。
【請求項３】
照射される光が、波長が３６５ｎｍの光を含む請求項１又は２に記載の光学異方性膜の製造方法。
【請求項４】
照射される光が、波長が３６５ｎｍの輝線である請求項１〜３のいずれかに記載の光学異方性膜の製造方法。
【請求項５】
重合性液晶化合物が、式（Ａ）で表される化合物である請求項１〜４のいずれかに記載の光学異方性膜。
2015129923.tif 000021
［式（Ａ）中、
Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子またはＮＲ１−を表わす。Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の１価の芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の１価の芳香族複素環式基を表わす。
Ｑ３およびＱ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ２Ｒ３または−ＳＲ２を表わすか、または、Ｑ３とＱ４とが互いに結合して、これらが結合する炭素原子とともに芳香環または芳香族複素環を形成する。Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−ＣＲ６Ｒ７−、−Ｏ−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−Ｏ−ＣＲ６Ｒ７−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ４Ｒ５−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ６Ｒ７−、−ＣＲ４Ｒ５−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ６Ｒ７−またはＮＲ４−ＣＲ５Ｒ６−またはＣＯ−ＮＲ４−を表わす。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子またはＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表わし、Ｌ１およびＬ２のうちの少なくとも一つは、重合性基を有する。］
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法によって得られる光学異方性膜
【請求項７】
下記式（１）及び（２）を満たす請求項６に記載の光学異方性膜。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００      （１）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０）      （２）
（Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの光に対する複屈折を表す。）
【請求項８】
位相差性を有する請求項６又は７に記載の光学異方性膜。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれかに記載の光学異方性膜を含む位相差フィルム。
【請求項１０】
請求項６〜８のいずれかに記載の光学異方性膜を含む偏光板。
【請求項１１】
請求項６〜８のいずれかに記載の光学異方性膜を備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学異方性膜の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板、位相差板などの光学異方性膜を含む部材が用いられている。このような光学異方性膜として、重合性液晶化合物を含む組成物を基材上に塗布することにより製造された光学異方性膜が知られている。例えば、特許文献１には、配向処理を施した基材に、重合性液晶化合物を含む組成物を塗布することにより塗布膜を得、該塗布膜中の重合性液晶化合物を重合させることにより形成された光学異方性膜が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２８７６２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の製造方法によって得られる光学異方性膜は、光学特性が十分ではなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は以下の発明を含む。
[１]  以下の工程（Ａ）及び（Ｂ）をこの順に行う光学異方性膜の製造方法。
（Ａ）光重合開始剤と、溶剤と、２５０ｎｍ乃至３７０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する重合性液晶化合物とを含む光学異方性膜形成用組成物を基材に塗布する工程
（Ｂ）塗布された光学異方性膜形成用組成物に、波長が２００ｎｍ乃至５００ｎｍの光であって、波長範囲が２５０ｎｍ未満の光を照射する工程
[２]  光重合開始剤の極大吸収波長が３００ｎｍ乃至３８０ｎｍである[１]に記載の光学異方性膜の製造方法。
[３]  照射される光が、波長が３６５ｎｍの光を含む[１]又は[２]に記載の光学異方性膜の製造方法。
[４]  照射される光が、波長が３６５ｎｍの輝線である[１]〜[３]のいずれかに記載の光学異方性膜の製造方法。
[５]  重合性液晶化合物が、式（Ａ）で表される化合物である[１]〜[４]のいずれかに記載の光学異方性膜。
2015129923.tif 000002
［式（Ａ）中、
Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子またはＮＲ１−を表わす。Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の１価の芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の１価の芳香族複素環式基を表わす。
Ｑ３およびＱ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ２Ｒ３または−ＳＲ２を表わすか、または、Ｑ３とＱ４とが互いに結合して、これらが結合する炭素原子とともに芳香環または芳香族複素環を形成する。Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−ＣＲ６Ｒ７−、−Ｏ−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−Ｏ−ＣＲ６Ｒ７−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ４Ｒ５−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ６Ｒ７−、−ＣＲ４Ｒ５−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ６Ｒ７−またはＮＲ４−ＣＲ５Ｒ６−またはＣＯ−ＮＲ４−を表わす。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子またはＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表わし、Ｌ１およびＬ２のうちの少なくとも一つは、重合性基を有する。］
[６]  [１]〜[５]のいずれかに記載の製造方法によって得られる光学異方性膜
[７]  下記式（１）及び（２）を満たす[６]に記載の光学異方性膜。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００      （１）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０）      （２）
（Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの光に対する複屈折を表す。）
[８]  位相差性を有する[６]又は[７]に記載の光学異方性膜。
[９]  [６]〜[８]のいずれかに記載の光学異方性膜を含む位相差フィルム。
[１０]  [６]〜[８]のいずれかに記載の光学異方性膜を含む偏光板。
[１１]  [６]〜[８]のいずれかに記載の光学異方性膜を備えた表示装置。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、Δｎが高い、優れた光学特性を有する光学異方性膜を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明に係る偏光板の一例を示す断面模式図である。
【図２】本発明に係る液晶表示装置の一例を示す断面模式図である。
【図３】本発明に係る有機ＥＬ表示装置の一例を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
＜基材＞
基材は、樹脂基材であることが好ましい。
樹脂基材は、通常透明樹脂基材である。透明樹脂基材とは、光、特に可視光を透過し得る透光性を有する基材を意味し、透光性とは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにわたる光線に対しての透過率が８０％以上となる特性をいう。樹脂基材には、通常フィルム状のものが用いられ、好ましくは長尺フィルムロールが用いられる。
【０００９】
基材を構成する樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；セルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルフォン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；およびポリフェニレンオキシドが挙げられる。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンからなる基材が好ましい。
【００１０】
基材には、表面処理を施してもよい。表面処理の方法としては、例えば、真空から大気圧の雰囲気下で、コロナまたはプラズマで基材の表面を処理する方法、基材表面をレーザー処理する方法、基材表面をオゾン処理する方法、基材表面をケン化処理する方法、基材表面を火炎処理する方法、基材表面にカップリング剤を塗布する方法、基材表面をプライマー処理する方法、及び、反応性モノマーや反応性を有するポリマーを基材表面に付着させた後に放射線、プラズマ又は紫外線を照射して反応させるグラフト重合法などが挙げられる。中でも、真空から大気圧の雰囲気下で、基材表面をコロナまたはプラズマ処理する方法が好ましい。
【００１１】
コロナまたはプラズマで基材の表面処理を行う方法としては、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナまたはプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法、および、低圧条件下で、グロー放電プラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法が挙げられる。
【００１２】
中でも、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナまたはプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、または、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法が好ましい。かかるコロナまたはプラズマによる表面処理は、通常、市販の表面処理装置により行われる。
【００１３】
基材は、基材の光学異方性膜形成用組成物を塗布する面とは反対の面に保護フィルムを有していてもよい。保護フィルムとしては、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリオレフィンなどのフィルム、並びに、当該フィルムにさらに粘着層を有するフィルム等が挙げられる。中でも、乾燥時における熱変形が小さいため、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。保護フィルムを、光学異方性膜形成用組成物を塗布する面とは反対の面に有することで、基材搬送時のフィルムのゆれや塗布面のわずかな振動を抑えることができ、塗膜の均一性を向上させることができる。
【００１４】
基材の厚さは、通常５μm〜３００μmであり、好ましくは２０μm〜２００μmである。
【００１５】
長尺フィルムロールの長尺方向の長さは、通常１０ｍ〜３０００ｍであり、好ましくは１００ｍ〜２０００ｍである。長尺フィルムロールの短尺方向の長さは、通常０．１ｍ〜５ｍであり、好ましくは０．２ｍ〜２ｍである。
【００１６】
<配向膜>
基材の、光学異方性膜形成用組成物が塗布される面には、好ましくは配向膜が形成されている。
配向膜とは、後述する重合性液晶化合物を所望の方向に配向させる、配向規制力を有するものである。
配向膜としては、光学異方性膜形成用組成物の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜及び、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜等が挙げられる。
【００１７】
このような配向膜は、重合性液晶化合物の配向を容易にする。また、配向膜の種類やラビング条件によって、水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の様々な配向の制御が可能である。
【００１８】
配向膜の厚さは、通常１０ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは５００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲である。
【００１９】
＜配向性ポリマーを含む配向膜＞
配向性ポリマーとしては、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。２種以上の配向性ポリマーを組み合わせてもよい。
【００２０】
配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去する、又は、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去し、ラビングすることで得られる。
【００２１】
前記溶剤としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤、及び、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤が挙げられる。溶剤は、二種以上を組み合わせてもよい。
【００２２】
配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが溶剤に完溶する範囲であればよい。配向性ポリマー組成物に対する配向性ポリマーの含有量は、好ましくは０．１〜２０質量％であり、より好ましくは０．１〜１０質量％である。
【００２３】
配向性ポリマー組成物は、市場から入手できる。市販の配向性ポリマー組成物としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。
【００２４】
配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、スピンコ−ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法等の塗布法、フレキソ法等の印刷法等の公知の方法が挙げられる。光学異方性膜を、後述するＲｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ形式の連続的製造方法により製造する場合、当該塗布方法としては通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法又はフレキソ法等の印刷法が採用される。
【００２５】
配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去する方法としては、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。乾燥温度は、１０〜２５０℃が好ましく、２５〜２００℃がより好ましい。乾燥時間は、溶剤の種類にもよるが、５秒間〜６０分間が好ましく、１０秒間〜３０分間がより好ましい。
【００２６】
配向性ポリマー組成物から形成された塗布膜には、ラビング処理を施してもよい。ラビング処理を施すことにより、前記塗布膜に配向規制力を付与することができる。
【００２７】
ラビング処理の方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、前記塗布膜を接触させる方法が挙げられる。
ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。
【００２８】
＜光配向膜＞
光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む光配向膜形成用組成物を基材に塗布し、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる。
【００２９】
光反応性基とは、光照射することにより配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起反応、異性化反応、光二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、光二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。
【００３０】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及び、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。
【００３１】
中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基及びカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。
【００３２】
光配向膜形成用組成物を基材上に塗布することにより、基材上に光配向誘起層を形成することができる。該組成物に含まれる溶剤としては、上述の配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの溶解性に応じて選択することができる。
【００３３】
光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、ポリマー又はモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚みによって調節でき、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコ−ルやポリイミド等の高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。
【００３４】
光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。
【００３５】
偏光を照射するには、基材上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光を照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光を照射する光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レ−ザ−等が挙げられる。中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光層を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。偏光層としては、偏光フィルター、グラントムソン及び、グランテ−ラ−等の偏光プリズム、並びに、ワイヤーグリッドタイプの偏光層が挙げられる。
【００３６】
偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を、配向膜に形成することができる。
【００３７】
＜グルブ配向膜＞
グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に液晶分子を置いた場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。
【００３８】
グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂層を形成し、樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、及び、基材上に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。具体的には、特開平６−３４９７６号公報及び、特開２０１１−２４２７４３号公報記載の方法等が挙げられる。
【００３９】
上記方法の中でも、複数の溝を有するロール状の原盤を、硬化前のＵＶ硬化樹脂層表面に押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法が好ましい。ロール状原盤としては、耐久性の観点からステンレス（ＳＵＳ）鋼が好ましい。
【００４０】
ＵＶ硬化樹脂としては、単官能アクリレート、多官能アクリレート又はこれらの混合物が挙げられる。
単官能アクリレートとは、アクリロイルオキシ基（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−）及びメタクリロイルオキシ基（ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−）からなる群より選ばれる基（以下、（メタ）アクリロイルオキシ基と記すこともある。）を１個有する化合物である。また、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
【００４１】
（メタ）アクリロイルオキシ基を１個有する単官能アクリレートとしては、炭素数４から１６のアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のβカルボキシアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のアルキル化フェニル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート及びイソボニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４２】
多官能アクリレートとは、２以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物であり、（メタ）アクリロイルオキシ基を２から６個有する化合物が好ましい。
【００４３】
（メタ）アクリロイルオキシ基を２個有する多官能アクリレートとしては、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート；１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールジアクリレート；ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル；エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート；プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート及び３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４４】
（メタ）アクリロイルオキシ基を３〜６個有する多官能アクリレートとしては、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート；トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート；エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；
トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；
カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、及びカプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物等が挙げられる。
カプロラクトン変性とは、（メタ）アクリレート化合物のアルコール由来部位と（メタ）アクリロイルオキシ基との間に、カプロラクトンの開環体、又は、開環重合体が導入されていることを意味する。
【００４５】
多官能アクリレートは市場から入手することができる。市販品としては、Ａ−ＤＯＤ−Ｎ、Ａ−ＨＤ−Ｎ、Ａ−ＮＯＤ−Ｎ、ＡＰＧ−１００、ＡＰＧ−２００、ＡＰＧ−４００、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＰＴ、ＡＤ−ＴＭＰ、ＡＴＭ−３５Ｅ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−９５５０、Ａ−ＤＰＨ、ＨＤ−Ｎ、ＮＯＤ−Ｎ、ＮＰＧ、ＴＭＰＴ［新中村化学（株）］、“ＡＲＯＮＩＸ  Ｍ−２２０”、同“Ｍ−３２５”、同“Ｍ−２４０”、同“Ｍ−２７０”同“Ｍ−３０９”同“Ｍ−３１０”、同“Ｍ−３２１”、同“Ｍ−３５０”、同“Ｍ−３６０”、同“Ｍ−３０５”、同“Ｍ−３０６”、同“Ｍ−４５０”、同“Ｍ−４５１”、同“Ｍ−４０８”、同“Ｍ−４００”、同“Ｍ−４０２”、同“Ｍ−４０３”、同“Ｍ−４０４”、同“Ｍ−４０５”、同“Ｍ−４０６”［東亜合成（株）］、“ＥＢＥＣＲＹＬ１１”、同“１４５”、同“１５０”、同“４０”、同“１４０”、同“１８０”、ＤＰＧＤＡ、ＨＤＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＨＰＮＤＡ、ＰＥＴＩＡ、ＰＥＴＲＡ、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＤＰＨＡ、ＥＢＥＣＲＹＬシリーズ［ダイセル・サイテック（株）］等を挙げることができる。
【００４６】
配向乱れの小さな配向を得るためには、グルブ配向膜の凸部の幅は０．０５μｍ〜５μｍであることが好ましく、凹部の幅は０．１μｍ〜５μｍであることが好ましく、凹凸の段差の深さは２μｍ以下であることが好ましく、０．０１μｍ〜１μｍ以下であることが好ましい。
【００４７】
＜光学異方性膜形成用組成物＞
光学異方性膜形成用組成物は、重合性液晶化合物、光重合開始剤及び溶剤を含む。
【００４８】
<重合性液晶化合物>
重合性液晶化合物としては、例えば、式（Ｘ）で表される基を含み、２５０ｎｍ乃至３７０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物（以下「化合物（Ｘ）」という場合がある）が挙げられる。重合性液晶化合物は一種類でもよいし、異なる構造の化合物を複数組み合わせてもよい。
Ｐ１１−Ｂ１１−Ｅ１１−Ｂ１２−Ａ１１−Ｂ１３−      （Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ｐ１１は、水素原子又は重合性基を表わす。
Ａ１１は、２価の脂環式炭化水素基または２価の芳香族炭化水素基を表わす。該２価の脂環式炭化水素基および２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１〜６のアルキル基および該炭素数１〜６アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ１１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ１６−、−ＮＲ１６−ＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−または単結合を表わす。Ｒ１６は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｂ１２およびＢ１３は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１６−、−ＮＲ１６−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合を表わす。
Ｅ１１は、炭素数１〜１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−または−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。］
【００４９】
Ａ１１で表される２価の芳香族炭化水素基および２価の脂環式炭化水素基の炭素数は、３〜１８の範囲であることが好ましく、５〜１２の範囲であることがより好ましく、５または６であることが特に好ましい。Ａ１１としては、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、１，４−フェニレン基が好ましい。
【００５０】
Ｅ１１で表される炭素数１〜１２のアルカンジイル基としては、直鎖状の炭素数１〜１２のアルカンジイル基が好ましい。炭素数１〜１２のアルカンジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−に置き換っていてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、へキサン−１，６−ジイル基、へプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、ノナン−１，９−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、ウンデカン−１，１１−ジイル基およびドデカン−１，１２−ジイル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルカンジイル基；−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−および−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−等が挙げられる。
Ｂ１１としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−が好ましく、中でも、−ＣＯ−Ｏ−がより好ましい。
Ｂ１２およびＢ１３としては、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−が好ましく、中でも、−Ｏ−または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−がより好ましい。
【００５１】
Ｐ１１で示される重合性基としては、光重合反応がし易いという点で、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易な上、重合性液晶化合物の製造自体も容易であることから、重合性基は、下記の式（Ｐ−１１）〜式（Ｐ−１５）のいずれかで表わされる基、またはｐ−スチルベン基であることが好ましい。
2015129923.tif 000003
［式（Ｐ−１１）〜（Ｐ−１３）中、
Ｒ１７〜Ｒ２１はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基または水素原子を表わす。］
【００５２】
式（Ｐ−１１）〜式（Ｐ−１３）で表わされる基の具体例としては、下記式（Ｐ−１６）〜式（Ｐ−２０）で表わされる基が挙げられる。
2015129923.tif 000004
【００５３】
Ｐ１１は、式（Ｐ−１４）〜式（Ｐ−２０）のいずれかで表わされる基、またはｐ−スチルベン基であることが好ましく、ビニル基、ｐ−スチルベン基、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましい。
Ｐ１１−Ｂ１１−で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基であることがさらに好ましい。
【００５４】
化合物（Ｘ）としては、式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）、式（Ｖ）または式（ＶＩ）で表わされる化合物が挙げられる。
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12  （Ｉ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11  （ＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12  （ＩＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11  （ＩＶ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12  （Ｖ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11  （ＶＩ）
（式中、
Ａ１２〜Ａ１４はそれぞれ独立に、Ａ１１と同義であり、Ｂ１４〜Ｂ１６はそれぞれ独立に、Ｂ１２と同義であり、Ｂ１７は、Ｂ１１と同義であり、Ｅ１２は、Ｅ１１と同義である。
Ｆ１１は、水素原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、カルボキシ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基またはハロゲン原子を表わし、該アルキル基およびアルコキシ基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−に置き換っていてもよい。
Ｐ１２は、水素原子又は重合性基を表し、好ましくは重合性基である。重合性基としては、上記Ｐ１１と同様の重合性基が挙げられる。Ｐ１１及びＰ１２は少なくとも一方が、重合性基である。）
【００５５】
重合性液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６  ネットワーク（完全架橋型）」及び「６．５．１  液晶材料  ｂ．重合性ネマチック液晶材料」、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２０１０−２７０１０８号公報、特開２０１１−６３６０号公報、並びに、特開２０１１−２０７７６５号公報に記載された化合物の中で重合性基を有し、２５０ｎｍ乃至３７０ｎｍに極大吸収波長を有する化合物が挙げられる。
【００５６】
化合物（Ｘ）の具体例としては、下記式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４）、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−４）、式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−２２）、式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−１９）、式（Ｖ−１）〜式（Ｖ−２）および式（ＶＩ−１）〜式（ＶＩ−６）で表わされる化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｋ1およびｋ2は、それぞれ独立して、２〜１２の整数を表わす。これらの化合物（Ｘ）は、その合成の容易さ、または、入手の容易さの点で、好ましい。
【００５７】
2015129923.tif 000005
【００５８】
2015129923.tif 000006
【００５９】
2015129923.tif 000007
【００６０】
2015129923.tif 000008
【００６１】
2015129923.tif 000009
【００６２】
2015129923.tif 000010
【００６３】
2015129923.tif 000011
【００６４】
2015129923.tif 000012
【００６５】
また、重合性液晶化合物としては、例えば、式（Ａ）で表される化合物であって、２５０ｎｍ乃至３７０ｎｍに極大吸収波長を有する化合物（以下「化合物（Ａ）」という場合がある）も挙げられる。
化合物（Ａ）としては、特表２０１１−２０７７６５号公報に記載されている重合性液晶化合物が挙げられる。
2015129923.tif 000013
［式（Ａ）中、
Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子またはＮＲ１−を表わす。Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の１価の芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の１価の芳香族複素環式基を表わす。
Ｑ３およびＱ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ２Ｒ３または−ＳＲ２を表わすか、または、Ｑ３とＱ４とが互いに結合して、これらが結合する炭素原子とともに芳香環または芳香族複素環を形成する。Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−ＣＲ６Ｒ７−、−Ｏ−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−Ｏ−ＣＲ６Ｒ７−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ４Ｒ５−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ６Ｒ７−、−ＣＲ４Ｒ５−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ６Ｒ７−または−ＮＲ４−ＣＲ５Ｒ６−または−ＣＯ−ＮＲ４−を表わす。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子または−ＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表わし、Ｌ１およびＬ２のうちの少なくとも一つは、重合性基を有する。］
で表される化合物も挙げられ、Ｌ１が式（Ａ１）で表される基であり、かつ、Ｌ２が式（Ａ２）で表される基である式（Ａ）で表される化合物が好ましい。
Ｐ１−Ｆ１−（Ｂ１−Ａ１）ｋ−Ｅ１−          （Ａ１）
Ｐ２−Ｆ２−（Ｂ２−Ａ２）ｌ−Ｅ２−          （Ａ２）
［式（Ａ１）および式（Ａ２）中、
Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１およびＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ1−、−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｓ−ＣＨ２−または単結合を表わす。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子またはＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
ｋおよびｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表わす。
Ｆ１およびＦ２は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表わす。
Ｐ１は、重合性基を表わす。
Ｐ２は、水素原子または重合性基を表わす。
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。］
【００６６】
重合性液晶化合物は、極大吸収波長が２５０ｎｍ〜３５０ｎｍであるとより好ましく、２５０ｎｍ〜３００ｎｍであるとさらに好ましい。極大吸収波長帯が可視域である３８０ｎｍ〜７８０ｎｍに入らなければ、得られる光学異方性膜の着色が少なくなるため好ましく、また、光重合開始剤の反応を阻害し難いため好ましい。
【００６７】
光学異方性膜形成用組成物における重合性液晶化合物の含有量は、光学異方性膜形成用組成物１００質量部に対して、通常５〜５０質量部であり、好ましくは１０〜３０質量部である。
【００６８】
<光重合開始剤>
光重合開始剤としては、光照射によりラジカルを発生するものが好ましい。
光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、α−アセトフェノン化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Irgacure）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てチバ・ジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）およびＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製）等が挙げられる。中でも、α−アセトフェノン化合物が好ましく、α−アセトフェノン化合物としては、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−（４−メチルフェニルメチル）ブタン−１−オン等が挙げられ、より好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンが挙げられる。α−アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）及びセイクオールＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。
【００６９】
光重合開始剤は、光源から発せられるエネルギーを十分に活用でき、生産性に優れるため、極大吸収波長が３００ｎｍ〜３８０ｎｍであると好ましく、３００ｎｍ〜３６０ｎｍであるとより好ましい。
【００７０】
重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合性液晶化合物を重合するためには、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。
【００７１】
<溶剤>
溶剤としては、重合性液晶化合物等の光学異方性膜形成用組成物の構成成分を溶解し得る有機溶剤が好ましく、重合性液晶化合物等の光学異方性膜形成用組成物の構成成分を溶解し得る溶剤であって、且つ、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤がより好ましい。
具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤；およびクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤；が挙げられる。二種以上の有機溶剤を組み合わせて用いてもよい。中でも、アルコール溶剤、エステル溶剤、ケトン溶剤、非塩素化脂肪族炭化水素溶剤および非塩素化芳香族炭化水素溶剤が好ましい。
【００７２】
溶剤の含有量は、固形分１００質量部に対して、１０〜１００００質量部が好ましく、より好ましくは１００〜５０００質量部である。光学異方性膜形成用組成物中の固形分濃度は、通常１〜９０質量％であり、好ましくは２〜５０質量％であり、より好ましくは５〜５０質量％である。”固形分”とは、光学異方性膜形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計を意味する。
【００７３】
光学異方性膜形成用組成物は、さらに、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、カイラル剤、反応性添加剤等を含んでもよい。
【００７４】
<重合禁止剤>
重合禁止剤は、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。
重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類；ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類およびβ−ナフトール類が挙げられる。
重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合するためには、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。
【００７５】
<光増感剤>
光増感剤としては、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。
光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。
【００７６】
<レベリング剤>
レベリング剤としては、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ  パフォーマンス  マテリアルズ  ジャパン合同会社製）、フロリナート（fluorinert）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３及びＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ  Ｃｈｅｍｉｅ社製）が挙げられる。２種以上のレベリング剤を組み合わせてもよい。
【００７７】
レベリング剤を用いることにより、より平滑な光学異方性フィルムを形成することができる。また、光学異方性フィルムの製造過程で、光学異方性膜形成用組成物の流動性を制御したり、光学異方性フィルムの架橋密度を調整したりすることができる。レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．１〜１０質量部である。
【００７８】
<カイラル剤>
カイラル剤としては、公知のカイラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）が挙げられる。
カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物としては、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が挙げられる。
具体的には、特開２００７−２６９６４０号公報、特開２００７−２６９６３９号公報、特開２００７−１７６８７０号公報、特開２００３−１３７８８７号公報、特表２０００−５１５４９６号公報、特開２００７−１６９１７８号公報および特表平９−５０６０８８号公報に記載されているような化合物が挙げられ、好ましくはＢＡＳＦジャパン（株）製のｐａｌｉｏｃｏｌｏr（登録商標）  ＬＣ７５６である。
カイラル剤の含有量は、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合するためには、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは１．０〜２５質量部である。
【００７９】
<反応性添加剤>
反応性添加剤としては、その分子内に炭素−炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、水酸基（−ＯＨ）、アミノ基（−ＮＨ２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、エポキシ基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアナート基、チオイソシアナート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。
【００８０】
反応性添加剤において、活性水素反応性基は少なくとも２つ存在すると好ましく、この場合、複数存在する活性水素反応性基は同一でも、異なるものであってもよい。
【００８１】
反応性添加剤が有する炭素−炭素不飽和結合は、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合又は、それらの組み合わせであってよく、好ましくは炭素−炭素二重結合である。中でも、反応性添加剤が、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基を含むと好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアナート基からなる群から選ばれる少なくとも１種であるものが好ましく、アクリル基と、イソシアナート基とを有する反応性添加剤が特に好ましい。
【００８２】
反応性添加剤の具体例としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテルなどの、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とオキセタン基とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリンなどの、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナートメチルアクリレート、イソシアナートメチルメタクリレート、２−イソシアナートエチルアクリレート及び２０イソシアナートエチルメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とイソシアナート基とを有する化合物のオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸及びビニル無水マレイン酸などの、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物などが挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナートメチルアクリレート、イソシアナートメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、２−イソシアナートエチルアクリレート、２−イソシアナートエチルメタクリレート及び前記のオリゴマーが好ましく、イソシアナートメチルアクリレート、２−イソシアナートエチルアクリレート及び前記のオリゴマーが特に好ましい。
【００８３】
この好ましい反応性添加剤は、下記式（Ｙ）で表される。
2015129923.tif 000014
［式（Ｙ）中、
ｎは１〜１０までの整数を表わし、Ｒ１’は、炭素数２〜２０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数５〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単位にある２つのＲ２’は、一方が−ＮＨ−であり、他方が＞Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３’で示される基である。Ｒ３’は、水酸基又は炭素−炭素不飽和結合を有する基を表す。
式（Ｙ）中のＲ３’のうち、少なくとも１つのＲ３’は炭素−炭素不飽和結合を有する基である。］
【００８４】
前記式（Ｙ）で表される反応性添加剤の中でも、下記式（ＹＹ）で表される化合物（以下、場合により「化合物（ＹＹ）」という。）が特に好ましい（なお、ｎは前記と同じ意味である）。
2015129923.tif 000015
化合物（ＹＹ）の市販品としては、例えば、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
【００８５】
反応性添加剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．１〜５質量部である。
【００８６】
＜塗布＞
光学異方性膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、ＲｏｌｌｔｏＲｏｌｌ形式で連続的に塗布できる点で、ＣＡＰコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法およびバーコーターによる塗布方法が好ましい。ＲｏｌｌｔｏＲｏｌｌ形式で塗布する場合、基材に配向性ポリマーを含む組成物を塗布して配向膜を形成し、さらに得られた配向膜上に光学異方性膜形成用組成物を連続的に塗布することもできる。
【００８７】
基材に塗布された光学異方性膜形成用組成物に光を照射し、重合性液晶化合物を重合することにより、光学異方性フィルムが得られる。ここで、基材に塗布された光学異方性膜形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物がネマチック相等の液晶相を示す場合、得られる光学異方性膜はモノドメイン配向による複屈折性を有する。
【００８８】
光照射は塗布された光学異方性膜形成用組成物にそのまま行ってもよいが、乾燥して溶剤を除去した後に光照射するのが好ましい。乾燥（溶剤の除去）は、光照射と並行して行ってもよいが、光照射を行う前に、ほとんどの溶剤を除去しておくことが好ましい。塗布された光学異方性膜形成用組成物から溶剤を除去し、液晶相に転移させることで、該光学異方性膜形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物は、通常、配向する。
【００８９】
乾燥方法としては、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥または加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０〜２５０℃の範囲が好ましく、５０〜２２０℃の範囲がより好ましく、６０〜１７０℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間〜６０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間〜３０分間である。
【００９０】
光照射では、波長２００ｎｍ乃至５００ｎｍの光であって、波長範囲が２５０ｎｍ未満の光を照射する。好ましくは波長が３００ｎｍ乃至５００ｎｍの光であり、より好ましくは波長が３６５ｎｍの光を含み、さらに好ましくは中心波長が３６５ｎｍの光である。このような光の中でも、波長範囲が２００ｎｍ以下の光がより好ましく、１００ｎｍ以下の光がさらに好ましく、３０ｎｍ以下の光がさらに好ましい。特に好ましくは波長が３６５ｎｍの光のみからなる輝線である。
このような光を照射すると、重合性液晶化合物を重合する際に、余分なエネルギーが加わらないため重合性液晶化合物の配向性を向上させることができる。
【００９１】
波長が３００ｎｍ以下の光は、重合性液晶化合物の分解や、配向欠陥の原因となることがあるため、波長が３００ｎｍ以上の光を照射することが好ましい。
照射波長範囲が２００ｎｍ以内であると、得られる光学異方性膜中の重合性液晶化合物の配向性がより向上するため好ましい。
照射される光が、波長が３６５ｎｍの輝線のみであると、重合性液晶化合物の配向欠陥が特に抑制されるとともに、光照射により発生する熱の影響も除去できるため特に好ましい。
【００９２】
上記光を照射する方法としては、光源と塗布された光学異方性膜形成用組成物との間に所望の波長以外の光をカットするフィルターを入れる方法、上記の光を発する光源を用いる方法等が挙げられる。
波長範囲が２００ｎｍ以内の光を照射する方法としては、市販の長波長カットフィルターと短波長カットフィルターを積層して使用する方法、及び、透過する波長範囲が制御されたバンドパスフィルターを用いる方法等が挙げられる。
波長が３６５ｎｍの輝線を照射する方法としては、単一波長のみを透過するカットフィルターを用いる方法、ＬＥＤのように限定された波長のみを発する光源を用いる方法等が挙げられる。
【００９３】
光を照射する時間は、通常５秒〜１０分であり、好ましくは５秒〜２分であり、より好ましくは５秒〜１分であり、さらに好ましくは５秒〜３０秒である。上記範囲であれば、より透明性に優れた光学異方性膜を得ることができる。
【００９４】
本発明の製造方法は、長尺フィルムロールの基材に工程（Ａ）及び（Ｂ）を連続して実施することが好ましい。
【００９５】
光学異方性膜の厚さは、その用途により適宜調節できるが、０．１μｍ〜１０μｍであることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．２μｍ〜５μｍであることがさらに好ましい。
【００９６】
本発明の製造方法により製造される光学異方性膜（以下、本光学異方性膜ということがある）は、本発明の製造方法で使用される基材と積層された状態で使用されてもよいし、該基材から剥がし取とり、その他の基材又は光学フィルムに貼り合わされて使用されてもよい。
【００９７】
本光学異方性膜は、好ましくは下記式（１）及び（２）を満たすものである。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００      （１）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０）      （２）
ここで、Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの光に対する複屈折を表す。
【００９８】
式（１）及び式（２）を満たすためには、上記化合物（Ａ）が重合性液晶化合物として含まれていればよい。具体的には、特表２０１１−２０７７６５号公報に記載の方法が挙げられる。
【００９９】
本光学異方性膜は、好ましくは位相差性を有する。
本光学異方性膜は、光射出側の斜角から確認した場合の直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、円偏光または楕円偏光を直線偏光に変換したり、直線偏光の偏光方向を変換したりするために用いられる位相差フィルムとして有用である。
【０１００】
また本光学異方性膜は、複数枚積層する又は、他のフィルムと組み合わせることにより、視野角補償フィルム、視野角拡大フィルム、反射防止フィルム、偏光フィルム、円偏光フィルム、楕円偏光フィルム及び輝度向上フィルム等に利用することができる。
【０１０１】
本光学異方性膜を形成する重合性液晶化合物に含まれる、化合物（Ｘ）と化合物（Ａ）との量を調整することにより、本光学異方性膜の位相差を調製することができる。また、得られる本光学異方性膜の位相差値（リタデーション値、Ｒｅ（λ））は、式（４）のように決定されることから、所望のＲｅ（λ）を得るためには、Δｎ（λ）と膜厚ｄを適宜調整すればよい。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ）      （４）
（式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す。）
【０１０２】
本光学異方性膜の波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値は、９０ｎｍ〜１８０ｎｍであることが好ましく、９５ｎｍ〜１７０ｎｍであることがより好ましく、１００ｎｍ〜１６０ｎｍであることがさらに好ましい。
【０１０３】
本光学異方性膜は、偏光板を構成する部材としても有用である。本発明の偏光板は、本光学異方性膜を少なくとも一つ含むものである。
偏光板の具体例としては、図１（ａ）〜図１（ｅ）で示される偏光板が挙げられる。図１（ａ）で示される偏光板４ａは、位相差フィルム１と、偏光フィルム２とが、直接積層された偏光板であり、図１（ｂ）で示される偏光板４ｂは、位相差フィルム１と偏光フィルム２とが、接着剤層３’を介して貼り合わされた偏光板である。図１（ｃ）で示される偏光板４ｃは、位相差フィルム１と、位相差フィルム１’とを積層させ、さらに、位相差フィルム１’と偏光フィルム２とを積層させた偏光板であり、図１（ｄ）で示される偏光板４ｄは、位相差フィルム１と、位相差フィルム１’とを接着剤層３を介して貼り合わせ、さらに、位相差フィルム１’上に偏光フィルム２を積層させた偏光板である。図１（ｅ）で示される偏光板４ｅは、位相差フィルム１と、位相差フィルム１’とを接着剤層３を介して貼り合わせ、さらに、位相差フィルム１’と偏光フィルム２とを接着剤層３’を介して貼り合せた偏光板である。”接着剤”とは、接着剤および／または粘着剤の総称を意味する。上記位相差フィルム１及び位相差フィルム１’からなる群から選ばれる少なくも一つには本光学異方性膜が含まれる。
【０１０４】
偏光フィルム２は、偏光機能を有するフィルムであればよい。当該フィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、及び、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、ヨウ素及びアゾ化合物等の二色性色素が挙げられる。
【０１０５】
吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムとしては、ポリビニルアルコール系フィルムに二色性色素を吸着させて延伸したフィルム及び、ポリビニルアルコール系フィルムを延伸して二色性色素を吸着させたフィルム等が挙げられる。
【０１０６】
吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は、二色性色素と重合性液晶化合物とを含む組成物を塗布して得られるフィルム等が挙げられる。
【０１０７】
偏光機能を有するフィルムは、好ましくは、その片面又は両面に保護フィルムを有する。当該保護フィルムとしては、上記した基材と同一のものが挙げられる。
【０１０８】
前記吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムとしては、具体的には、特許第３７０８０６２号、特許第４４３２４８７号等に記載の偏光板が挙げられる。
前記吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、具体的には、特開２０１２−３３２４９号公報等に記載の偏光フィルムが挙げられる。
【０１０９】
偏光フィルム２の厚みは薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。偏光フィルムの厚さは、通常０．１μｍ〜３００μｍであり、好ましくは１μｍ〜２００μmであり、より好ましくは５μｍ〜１００μmである。
【０１１０】
接着剤層３及び接着剤層３’に用いられる接着剤は、透明性が高く耐熱性に優れた接着剤であることが好ましい。そのような接着剤としては、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤あるいはウレタン系接着剤等が用いられる。
【０１１１】
本発明の表示装置としては、例えば、本光学異方性膜と、液晶パネルとが貼り合わされた液晶パネルを備える液晶表示装置や、本光学異方性膜と、発光層とが貼り合わされた有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」ともいう）パネルを備える有機ＥＬ表示装置を挙げることができる。本発明の表示装置の実施形態として、液晶表示装置と、有機ＥＬ表示装置とについて説明する。
【０１１２】
液晶表示装置としては、図２（ａ）および図２（ｂ）に示す液晶表示装置１０ａおよび１０ｂが挙げられる。図２（ａ）に示す液晶表示装置１０ａでは、本発明の偏光板４と液晶パネル６とが、接着層５を介して貼り合わされている。図２（ｂ）に示す液晶表示装置１０ｂでは、本発明の偏光板４が液晶パネル６の一方の面に、本発明の偏光板４’が液晶パネル６の他方の面に、接着層５および接着層５’をそれぞれ介して貼り合わされた構造を有している。これら液晶表示装置では、図示しない電極を用いて、液晶パネルに電圧を印加することにより、液晶分子の配向が変化し、白黒表示が実現できる。
【０１１３】
有機ＥＬ表示装置としては、図３に示す有機ＥＬ表示装置等が挙げられる。上記有機ＥＬ表示装置としては、本発明の偏光板４と、有機ＥＬパネル７とを、接着層５を介して貼り合わせてなる有機ＥＬ表示装置１１が挙げられる。上記有機ＥＬパネル７は、導電性有機化合物からなる少なくとも１層の層である。上記構成によれば、図示しない電極を用いて、有機ＥＬパネルに電圧を印加することにより、有機ＥＬパネルが有する発光層に含まれる化合物が発光し、白黒表示ができる。
なお、上記有機ＥＬ表示装置１１において、偏光板４は、広帯域円偏光板として機能するものであることが好ましい。広帯域円偏光板として機能するものであると、有機ＥＬ表示装置１１の表面において外光の反射を防止することができる。
【実施例】
【０１１４】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」および「部」は、特記ない限り、質量％および質量部である。
【０１１５】
実施例１
［光学異方性膜形成用組成物の調製］
表１の成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光学異方性膜形成用組成物を得た。
【０１１６】
【表１】
2015129923.tif 000016
表１において、括弧内の値は、調製した組成物の全量に対する各成分の含有割合を意味する。
表１におけるＩｒｇ３６９は、ＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア３６９であり、ＢＹＫ３６１Ｎは、ビックケミージャパン製のレベリング剤であり、化合物（Ａ１）は、下記式で示される液晶化合物である。
【０１１７】
化合物（Ａ１）：
2015129923.tif 000017
【０１１８】
化合物（Ａ１）は、特開２０１０−３１２２３号公報記載の方法で合成した。化合物（A１）及び光重合開始剤の極大吸収波長を表２に示す。
【０１１９】
【表２】
2015129923.tif 000018
表２において、化合物（Ａ１）の極大吸収波長は、１０−４Ｍクロロホルム溶液中において吸光度が０．０１以上である、２５０ｎｍ以上の波長域を示し、重合開始剤は極大吸収波長を示す。
【０１２０】
実施例１
ガラス基材にポリビニルアルコール(ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製)の２重量％水溶液を塗布し、加熱乾燥後、厚さ８９ｎｍ膜を得た。得られた膜の表面にラビング処理を施し、その上に光学異方性膜形成用組成物をスピンコート法により塗布し、加熱乾燥し、表３に記載の実施例１の条件でユニキュア（ＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて光を照射して光学異方性膜を得た。照射波長及び、波長範囲は、朝日分光株式会社製、バンドパスフィルター（ＬＵＸ３００）を用いて制御した。
【０１２１】
実施例２、比較例１
上記実施例１において、光照射条件を表３に記載の実施例２又は比較例１とした以外は、上記実施例１と同じ条件で実施し、光学異方性膜を得た。
実施例２における照射波長及び、波長範囲は、朝日分光株式会社製、短波長カットフィルター（ＬＸ０３６５）を用いて制御した。比較例１では照射波長及び、波長範囲の制御は行わず、光源の光をそのまま照射した。
【０１２２】
【表３】
2015129923.tif 000019
【０１２３】
光学特性の測定
実施例１、２及び比較例１で得られた光学異方性膜の位相差値を測定機（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器社製）により測定した。位相差値（ｎｍ）の測定は、ガラス基板、配向膜及びフィルムを含む積層体について行ったが、ガラス基板及び配向膜は複屈折性を有さない（配向膜及びガラス基板については、Ｒｅ（４４７）＝Ｒｅ（５４７）＝Ｒｅ（６２８）＝０）ため、測定された位相差値を光学異方性膜の位相差値とすることができる。  位相差値Ｒｅ（λ）は、波長（λ）４５１ｎｍ、５４９ｎｍ及び６２８ｎｍにおいて測定した。また、光学異方性膜の膜厚をレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定し、５４９ｎｍにおける屈折率異方性Δｎ（５４９）を算出した。結果を表４に示す。
【０１２４】
【表４】
2015129923.tif 000020
実施例の光学異方性膜は、Δｎが高く、高い光学特性を有することがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０１２５】
本発明は、Δｎが高い、優れた光学特性を有する光学異方性膜の製造方法として有用である。
【符号の説明】
【０１２６】
１、１’：本光学異方性膜
２：偏光フィルム
３、３’：接着剤層
４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅ、４、４’：本発明の偏光板
５、５’：接着層
６：液晶パネル
７：有機ＥＬパネル
１０ａ、１０ｂ：液晶表示装置
１１：有機ＥＬ表示装置
【図１】
2015129923.tif 000022
【図２】
2015129923.tif 000023
【図３】
2015129923.tif 000024