(57)【要約】【課題】植物病害に対して優れた防除効力を有する組成物を提供すること。【解決手段】式（Ｉ）2015232021.tif 000026〔式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2はメチル基、ジフルオロメチル基又はトリフルオロメチル基を表す。〕で示されるカルボキサミド化合物を含有する植物病害防除組成物であって、該カルボキサミド化合物のエナンチオマー比が、Ｒ体／Ｓ体で８０／２０以上である植物病害防除組成物は、植物病害に対して優れた防除効力を有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
2015232021.tif 000024
〔式中、
Ｒ1は水素原子を表し、
Ｒ2はジフルオロメチル基を表す。〕
で示されるカルボキサミド化合物を含有する植物病害防除組成物であって、
該カルボキサミド化合物のエナンチオマー比が、Ｒ体／Ｓ体で８０／２０以上である植物病害防除組成物。
【請求項２】
カルボキサミド化合物のエナンチオマー比が、Ｒ体／Ｓ体で９０／１０〜１００００／１である請求項１記載の植物病害防除組成物。
【請求項３】
カルボキサミド化合物のエナンチオマー比が、Ｒ体／Ｓ体で９５／５〜１００００／１である請求項１記載の植物病害防除組成物。
【請求項４】
カルボキサミド化合物のエナンチオマー比が、Ｒ体／Ｓ体で９８／１〜１０００／１である請求項１記載の植物病害防除組成物。
【請求項５】
請求項１〜４いずれか一項記載の植物病害防除組成物の有効量を、植物又は植物を栽培する土壌に処理する工程を含む植物病害防除方法。
【請求項６】
式（Ｉ−Ｒ）
2015232021.tif 000025
〔式中、
Ｒ1は水素原子を表し、
Ｒ2はジフルオロメチル基を表す。〕
で示されるカルボキサミド化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、植物病害防除組成物及び植物病害防除方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
植物病害を防除するための組成物及びそれを用いる植物病害の防除方法が知られている（例えば、特許文献１及び２参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第８６／０２６４１号パンフレット
【特許文献２】国際公開第９２／１２９７０号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、植物病害に対して優れた防除効力を有する組成物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、植物病害に対して優れた防除効力を有する組成物を見出すべく検討した結果、下記式（Ｉ）で示されるカルボキサミド化合物を含有する組成物において、該カルボキサミド化合物のＲ体及びＳ体の両光学活性体が、所定のエナンチオマー比である組成物が、植物病害に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明とは以下の通りである。
［１］  式（Ｉ）
2015232021.tif 000002
〔式中、
Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ2はメチル基、ジフルオロメチル基又はトリフルオロメチル基を表す。〕
で示されるカルボキサミド化合物を含有する植物病害防除組成物であって、
該カルボキサミド化合物のエナンチオマー比が、Ｒ体／Ｓ体で８０／２０以上である植物病害防除組成物。
［２］  カルボキサミド化合物のエナンチオマー比が、Ｒ体／Ｓ体で９０／１０〜１００００／１である［１］記載の植物病害防除組成物。
［３］  カルボキサミド化合物のエナンチオマー比が、Ｒ体／Ｓ体で９５／５〜１００００／１である［１］記載の植物病害防除組成物。
［４］  カルボキサミド化合物のエナンチオマー比が、Ｒ体／Ｓ体で９８／１〜１０００／１である［１］記載の植物病害防除組成物。
［５］  式（Ｉ）におけるＲ1がメチル基であり、Ｒ2がメチル基である［１］〜［４］いずれか一項記載の植物病害防除組成物。
［６］  式（Ｉ）におけるＲ1が水素原子であり、Ｒ2がジフルオロメチル基である［１］〜［４］いずれか一項記載の植物病害防除組成物。
［７］  式（Ｉ）におけるＲ1が水素原子であり、Ｒ2がトリフルオロメチル基である［１］〜［４］いずれか一項記載の植物病害防除組成物。
［８］  ［１］〜［７］いずれか一項記載の植物病害防除組成物の有効量を、植物又は植物を栽培する土壌に処理する工程を含む植物病害防除方法。
［９］  式（Ｉ−Ｒ）
2015232021.tif 000003
〔式中、
Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ2はメチル基、ジフルオロメチル基又はトリフルオロメチル基を表す。〕
で示されるカルボキサミド化合物。
［１０］  Ｒ1がメチル基であり、Ｒ2がメチル基である［９］記載のカルボキサミド化合物。
［１１］  Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2がジフルオロメチル基である［９］記載のカルボキサミド化合物。
［１２］  Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2がトリフルオロメチル基である［９］記載のカルボキサミド化合物。
本発明において「カルボキサミド化合物のエナンチオマー比が、Ｒ体／S体で８０／２０以上である」とは、カルボキサミド化合物のＲ体とＳ体の混合物に対するＲ体のカルボキサミド化合物の割合が８０％以上であることを意味する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明により、植物病害を防除することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
本発明の植物病害防除組成物（以下、本発明組成物と記す場合がある。）とは、式（Ｉ）
2015232021.tif 000004
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
で示されるカルボキサミド化合物を含有する植物病害防除組成物であって、該カルボキサミド化合物に存在する１つの不斉炭素に基づく、式（Ｉ−Ｒ）
2015232021.tif 000005
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
で示されるＲ体と、
式（Ｉ−Ｓ）
2015232021.tif 000006
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
で示されるＳ体との両エナンチオマーの比が、Ｒ体／Ｓ体で８０／２０以上である組成物である。
【０００８】
本発明に用いられる式（Ｉ）
2015232021.tif 000007
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
で示されるカルボキサミド化合物であり、エナンチオマー比がＲ体／Ｓ体で８０／２０以上である化合物（以下、本カルボキサミド化合物と記す。）は、例えば次の製造法により得られる。
【０００９】
製造法１
本カルボキサミド化合物は、化合物（ＩＩ）と、エナンチオマー比がＲ体／Ｓ体で８０／２０以上である化合物（ＩＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）とを、脱水縮合剤の存在下に反応させることにより製造することができる。
2015232021.tif 000008
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。なお、＊で記される不斉炭素に基づくエナンチオマー比は、Ｒ体／Ｓ体で８０／２０以上である。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記す場合がある。）、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（以下、ＭＴＢＥと記す場合がある。）等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン等の含窒素芳香族化合物類等及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩及び１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
化合物（ＩＩ）１モルに対して、化合物（ＩＩＩ）が通常０．５〜３モルの割合、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常−２０℃〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた後、固体が析出した場合は、濾過することにより本カルボキサミド化合物を単離することができ、また、固体が析出しない場合は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本カルボキサミド化合物を単離することができる。単離された本カルボキサミド化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１０】
（製造法２）
本カルボキサミド化合物は、化合物（ＩＶ）又はその塩（例えば、塩酸塩が挙げられる。）と、エナンチオマー比がＲ体／Ｓ体で８０／２０以上である化合物（ＩＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することもできる。
2015232021.tif 000009
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。なお、＊で記される不斉炭素に基づくエナンチオマー比は、Ｒ体／Ｓ体で８０／２０以上である。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等が挙げられる。
化合物（ＩＶ）１モルに対して、化合物（ＩＩＩ）が通常０．５〜３モルの割合、塩基が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた後、固体が析出した場合は、濾過することにより本カルボキサミド化合物を単離することができ、また、固体が析出しない場合は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本カルボキサミド化合物を単離することができる。単離された本カルボキサミド化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１１】
なお、反応中間体であるエナンチオマー比がＲ体／Ｓ体で８０／２０以上である化合物（ＩＩＩ）は、例えば以下の方法により得ることができる。
（１）  エナンチオマー比がＲ体／Ｓ体で例えば３０／７０〜８０／２０である４−アミノ−１，１，３−トリメチルインダンに、光学活性なカルボン酸を用いてジアステレオマー塩を生成させた後、結晶を分別し、さらに必要に応じて再結晶を行い、ジアステレオマー塩を得る。得られたジアステレオマー塩を水酸化ナトリウム等の塩基で分解することにより、エナンチオマー比がＲ体／Ｓ体で８０／２０以上である化合物（ＩＩＩ）を得る方法。
（２）  エナンチオマー比がＲ体／Ｓ体で例えば３０／７０〜８０／２０である４−アミノ−１，１，３−トリメチルインダンを、充填剤の成分に光学活性体を用いた光学異性体分離用のカラムを用いて光学分割し、エナンチオマー比がＲ体／Ｓ体で８０／２０以上である化合物（ＩＩＩ）を得る方法。
【００１２】
本カルボキサミド化合物としては、例えば以下のものが挙げられる。
式（１）において、エナンチオマー比がＲ体／Ｓ体で８０／２０以上であるカルボキサミド化合物；
式（１）において、エナンチオマー比がＲ体／Ｓ体で９０／１０〜１００００／１であるカルボキサミド化合物；
式（１）において、エナンチオマー比がＲ体／Ｓ体で９５／５〜１００００／１であるカルボキサミド化合物；
式（１）において、エナンチオマー比がＲ体／Ｓ体で９８／１〜１０００／１であるカルボキサミド化合物。
【００１３】
式（１）で示されるカルボキサミド化合物の光学活性体としては、例えば以下のものが挙げられる。
式（１−Ｒ）において、Ｒ1が水素原子であるカルボキサミド化合物；
式（１−Ｒ）において、Ｒ1がメチル基であるカルボキサミド化合物；
式（１−Ｒ）において、Ｒ2がメチル基であるカルボキサミド化合物；
式（１−Ｒ）において、Ｒ2がジフルオロメチル基であるカルボキサミド化合物；
式（１−Ｒ）において、Ｒ2がトリフルオロメチル基であるカルボキサミド化合物；
式（１−Ｒ）において、Ｒ1がメチル基であり、Ｒ2がメチル基であるカルボキサミド化合物；
式（１−Ｒ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2がジフルオロメチル基であるカルボキサミド化合物；
式（１−Ｒ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2がトリフルオロメチル基であるカルボキサミド化合物。
【００１４】
本発明組成物は、本カルボキサミド化合物を、固体担体、液体担体、ガス担体、界面活性剤等と混合し、必要により固着剤、分散剤、安定剤等の製剤用補助剤を添加して、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ドライフロアブル剤、乳剤、水性液剤、油剤、くん煙剤、エアゾール剤、マイクロカプセル剤等に製剤化して用いる。これらの製剤には本カルボキサミド化合物が重量比で通常０．１〜９９％、好ましくは０．２〜９０％含有される。
【００１５】
固体担体としては、例えば、粘土類（例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレー、ベントナイト、酸性白土）、タルク類、その他の無機鉱物（例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ）等の微粉末あるいは粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサノン、灯油）、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、イソブチルニトリル）、エーテル類（例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル）、酸アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素）等が挙げられる。
【００１６】
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等が挙げられる。
【００１７】
その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤や分散剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類（例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロース誘導体、アルギン酸）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類）、ＰＡＰ（酸性りん酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。
【００１８】
本発明組成物は、植物病害から植物を保護するために用いることができる。
【００１９】
本発明組成物が防除効力を有する植物病害としては、例えば次のものが挙げられる。
イネの病害：いもち病（Ｍａｇｎａｐｏｒｔｈｅ  ｇｒｉｓｅａ）、ごま葉枯病（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ  ｍｉｙａｂｅａｎｕｓ）、紋枯病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ  ｓｏｌａｎｉ）、馬鹿苗病（Ｇｉｂｂｅｒｅｌｌａ  ｆｕｊｉｋｕｒｏｉ）。
コムギの病害：うどんこ病（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ  ｇｒａｍｉｎｉｓ）、赤かび病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ  ｇｒａｍｉｎｅａｒｕｍ、Ｆ．  ａｖｅｎａｃｅｒｕｍ、Ｆ．  ｃｕｌｍｏｒｕｍ、Ｍｉｃｒｏｄｏｃｈｉｕｍ  ｎｉｖａｌｅ）、さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ  ｓｔｒｉｉｆｏｒｍｉｓ、Ｐ．  ｇｒａｍｉｎｉｓ、Ｐ．  ｒｅｃｏｎｄｉｔａ）、紅色雪腐病（Ｍｉｃｒｏｎｅｃｔｒｉｅｌｌａ  ｎｉｖａｌｅ）、雪腐小粒菌核病（Ｔｙｐｈｕｌａ  ｓｐ．）、裸黒穂病（Ｕｓｔｉｌａｇｏ  ｔｒｉｔｉｃｉ）、なまぐさ黒穂病（Ｔｉｌｌｅｔｉａ  ｃａｒｉｅｓ）、眼紋病（Ｐｓｅｕｄｏｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ  ｈｅｒｐｏｔｒｉｃｈｏｉｄｅｓ）、葉枯病（Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ  ｇｒａｍｉｎｉｃｏｌａ）、ふ枯病（Ｓｔａｇｏｎｏｓｐｏｒａ  ｎｏｄｏｒｕｍ）、黄斑病（Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ  ｔｒｉｔｉｃｉ−ｒｅｐｅｎｔｉｓ）。
オオムギの病害：うどんこ病（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ  ｇｒａｍｉｎｉｓ）、赤かび病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ  ｇｒａｍｉｎｅａｒｕｍ、Ｆ．  ａｖｅｎａｃｅｒｕｍ、Ｆ．  ｃｕｌｍｏｒｕｍ、Ｍｉｃｒｏｄｏｃｈｉｕｍ  ｎｉｖａｌｅ）、さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ  ｓｔｒｉｉｆｏｒｍｉｓ、Ｐ．ｇｒａｍｉｎｉｓ、Ｐ．ｈｏｒｄｅｉ）、裸黒穂病（Ｕｓｔｉｌａｇｏ  ｎｕｄａ）、雲形病（Ｒｈｙｎｃｈｏｓｐｏｒｉｕｍ  ｓｅｃａｌｉｓ）、網斑病（Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ  ｔｅｒｅｓ）、斑点病（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ  ｓａｔｉｖｕｓ）、斑葉病（Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ  ｇｒａｍｉｎｅａ）、リゾクトニア属菌による苗立枯れ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ  ｓｏｌａｎｉ）。
トウモロコシの病害：黒穂病（Ｕｓｔｉｌａｇｏ  ｍａｙｄｉｓ）、ごま葉枯病（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ  ｈｅｔｅｒｏｓｔｒｏｐｈｕｓ）、ひょう紋病（Ｇｌｏｅｏｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ  ｓｏｒｇｈｉ）、南方さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ  ｐｏｌｙｓｏｒａ）、グレイリーフスポット病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ  ｚｅａｅ−ｍａｙｄｉｓ）、リゾクトニア属菌による苗立枯れ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ  ｓｏｌａｎｉ）。
【００２０】
カンキツ類の病害：黒点病（Ｄｉａｐｏｒｔｈｅ  ｃｉｔｒｉ）、そうか病（Ｅｌｓｉｎｏｅ  ｆａｗｃｅｔｔｉ）、果実腐敗病（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ  ｄｉｇｉｔａｔｕｍ、  Ｐ．  ｉｔａｌｉｃｕｍ）、フィトフトラ病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ  ｐａｒａｓｉｔｉｃａ、Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ  ｃｉｔｒｏｐｈｔｈｏｒａ）。
リンゴの病害：モニリア病（Ｍｏｎｉｌｉｎｉａ  ｍａｌｉ）、腐らん病（Ｖａｌｓａ  ｃｅｒａｔｏｓｐｅｒｍａ）、うどんこ病（Ｐｏｄｏｓｐｈａｅｒａ  ｌｅｕｃｏｔｒｉｃｈａ）、斑点落葉病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ  ａｌｔｅｒｎａｔａ  ａｐｐｌｅ  ｐａｔｈｏｔｙｐｅ）、黒星病（Ｖｅｎｔｕｒｉａ  ｉｎａｅｑｕａｌｉｓ）、炭そ病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ  ａｃｕｔａｔｕｍ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｏｒａ  ｃａｃｔｏｒｕｍ）。
ナシの病害：黒星病（Ｖｅｎｔｕｒｉａ  ｎａｓｈｉｃｏｌａ、  Ｖ．  ｐｉｒｉｎａ）、黒斑病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ  ａｌｔｅｒｎａｔａ  Ｊａｐａｎｅｓｅ  ｐｅａｒ  ｐａｔｈｏｔｙｐｅ）、赤星病（Ｇｙｍｎｏｓｐｏｒａｎｇｉｕｍ  ｈａｒａｅａｎｕｍ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｏｒａ  ｃａｃｔｏｒｕｍ）；
モモの病害：灰星病（Ｍｏｎｉｌｉｎｉａ  ｆｒｕｃｔｉｃｏｌａ）、黒星病（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ  ｃａｒｐｏｐｈｉｌｕｍ）、フォモプシス腐敗病（Ｐｈｏｍｏｐｓｉｓ  ｓｐ．）。
ブドウの病害：黒とう病（Ｅｌｓｉｎｏｅ  ａｍｐｅｌｉｎａ）、晩腐病（Ｇｌｏｍｅｒｅｌｌａ  ｃｉｎｇｕｌａｔａ）、うどんこ病（Ｕｎｃｉｎｕｌａ  ｎｅｃａｔｏｒ）、さび病（Ｐｈａｋｏｐｓｏｒａ  ａｍｐｅｌｏｐｓｉｄｉｓ）、ブラックロット病（Ｇｕｉｇｎａｒｄｉａ  ｂｉｄｗｅｌｌｉｉ）、べと病（Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ  ｖｉｔｉｃｏｌａ）。
カキの病害：炭そ病（Ｇｌｏｅｏｓｐｏｒｉｕｍ  ｋａｋｉ）、落葉病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ  ｋａｋｉ，  Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ  ｎａｗａｅ）。
ウリ類の病害：炭そ病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ  ｌａｇｅｎａｒｉｕｍ）、うどんこ病（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ  ｆｕｌｉｇｉｎｅａ）、つる枯病（Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ  ｍｅｌｏｎｉｓ）、つる割病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ  ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ）、べと病（Ｐｓｅｕｄｏｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ  ｃｕｂｅｎｓｉｓ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ  ｓｐ．）、苗立枯病（Ｐｙｔｈｉｕｍ  ｓｐ．）；
トマトの病害：輪紋病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ  ｓｏｌａｎｉ）、葉かび病（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ  ｆｕｌｖｕｍ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ  ｉｎｆｅｓｔａｎｓ）。
ナスの病害：褐紋病（Ｐｈｏｍｏｐｓｉｓ  ｖｅｘａｎｓ）、うどんこ病（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ  ｃｉｃｈｏｒａｃｅａｒｕｍ）。
アブラナ科野菜の病害：黒斑病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ  ｊａｐｏｎｉｃａ）、白斑病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ  ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、根こぶ病（Ｐｌａｓｍｏｄｉｏｐｈｏｒａ  ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、べと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ  ｐａｒａｓｉｔｉｃａ）。
ネギの病害：さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ  ａｌｌｉｉ）、べと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ  ｄｅｓｔｒｕｃｔｏｒ）。
【００２１】
ダイズの病害：紫斑病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ  ｋｉｋｕｃｈｉｉ）、黒とう病（Ｅｌｓｉｎｏｅ  ｇｌｙｃｉｎｅｓ）、黒点病（Ｄｉａｐｏｒｔｈｅ  ｐｈａｓｅｏｌｏｒｕｍ  ｖａｒ．  ｓｏｊａｅ）、褐紋病（Ｓｅｐｔｏｒｉａ  ｇｌｙｃｉｎｅｓ）、斑点病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ  ｓｏｊｉｎａ）、さび病（  Ｐｈａｋｏｐｓｏｒａ  ｐａｃｈｙｒｈｉｚｉ）、茎疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ  ｓｏｊａｅ）、リゾクトニア属菌による苗立枯れ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ  ｓｏｌａｎｉ）褐色輪紋病（Ｃｏｒｙｎｅｓｐｏｒａ  ｃａｓｉｉｃｏｌａ）、菌核病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ  ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）。
インゲンの病害：炭そ病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ  ｌｉｎｄｅｍｔｈｉａｎｕｍ）。
ラッカセイの病害：黒渋病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ  ｐｅｒｓｏｎａｔａ）、褐斑病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ  ａｒａｃｈｉｄｉｃｏｌａ）、白絹病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｕｍ  ｒｏｌｆｓｉｉ）。
エンドウの病害：うどんこ病（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ  ｐｉｓｉ）。
ジャガイモの病害：夏疫病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ  ｓｏｌａｎｉ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ  ｉｎｆｅｓｔａｎｓ）、緋色腐敗病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ  ｅｒｙｔｈｒｏｓｅｐｔｉｃａ）、粉状そうか病（Ｓｐｏｎｇｏｓｐｏｒａ  ｓｕｂｔｅｒｒａｎｅａｎ  ｆ．  ｓｐ．  ｓｕｂｔｅｒｒａｎｅａ）。
イチゴの病害：うどんこ病（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ  ｈｕｍｕｌｉ）、炭そ病（Ｇｌｏｍｅｒｅｌｌａ  ｃｉｎｇｕｌａｔａ）。
チャの病害：網もち病（Ｅｘｏｂａｓｉｄｉｕｍ  ｒｅｔｉｃｕｌａｔｕｍ）、白星病（Ｅｌｓｉｎｏｅ  ｌｅｕｃｏｓｐｉｌａ）、輪斑病（Ｐｅｓｔａｌｏｔｉｏｐｓｉｓ  ｓｐ．）、炭そ病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ  ｔｈｅａｅ−ｓｉｎｅｎｓｉｓ）。
タバコの病害：赤星病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ  ｌｏｎｇｉｐｅｓ）、うどんこ病（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ  ｃｉｃｈｏｒａｃｅａｒｕｍ）、炭そ病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ  ｔａｂａｃｕｍ）、べと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ  ｔａｂａｃｉｎａ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ  ｎｉｃｏｔｉａｎａｅ）。
ナタネの病害：菌核病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ  ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）、リゾクトニア属菌による苗立枯れ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ  ｓｏｌａｎｉ）。
ワタの病害：リゾクトニア属菌による苗立枯れ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ  ｓｏｌａｎｉ）、白かび病（Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ  ａｒｅｏｌａ）、Ｔｈｉｅｌａｖｉｏｐｓｉｓ属菌によるＢｌａｃｋ  ｒｏｏｔ  ｒｏｔ病（Ｔｈｉｅｌａｖｉｏｐｓｉｓ  ｂａｓｉｃｏｌａ）。
コーヒーの病害：さび病（Ｈｅｍｉｌｅｉａ  ｖａｓｔａｔｒｉｘ）。
サトウキビの病害：さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ  ｍｅｌａｎｏｃｅｐｈｅｌａ、Ｐｕｃｃｉｎｉａ  ｋｕｅｈｎｉｉ）、黒穂病（Ｕｓｔｉｌａｇｏ  ｓｃｉｔａｍｉｎｅａ）。
ヒマワリの病害：さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ  ｈｅｌｉａｎｔｈｉ）。
テンサイの病害：褐斑病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ  ｂｅｔｉｃｏｌａ）、葉腐病（Ｔｈａｎａｔｅｐｈｏｒｕｓ  ｃｕｃｕｍｅｒｉｓ）、根腐病（Ｔｈａｎａｔｅｐｈｏｒｕｓ  ｃｕｃｕｍｅｒｉｓ）、黒根病（Ａｐｈａｎｏｍｙｃｅｓ  ｃｏｃｈｌｉｏｉｄｅｓ）。
バラの病害：黒星病（Ｄｉｐｌｏｃａｒｐｏｎ  ｒｏｓａｅ）、うどんこ病（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ  ｐａｎｎｏｓａ）、べと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ  ｓｐａｒｓａ）。
キクおよびキク科野菜の病害：べと病（Ｂｒｅｍｉａ  ｌａｃｔｕｃａｅ）、褐斑病（Ｓｅｐｔｏｒｉａ  ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｉ−ｉｎｄｉｃｉ）、白さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ  ｈｏｒｉａｎａ）。
種々の作物の病害：ピシウム属菌によって引き起こされる病害（Ｐｙｔｈｉｕｍ  ａｐｈａｎｉｄｅｒｍａｔｕｍ、  Ｐ．  ｄｅｂａｒｉａｎｕｍ、  Ｐ．  ｇｒａｍｉｎｉｃｏｌａ、  Ｐ．  ｉｒｒｅｇｕｌａｒｅ、  Ｐ．  ｕｌｔｉｍｕｍ）、灰色かび病（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ  ｃｉｎｅｒｅａ）、菌核病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ  ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）。
ダイコンの病害：黒斑病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ  ｂｒａｓｓｉｃｉｃｏｌａ）。
シバの病害：ダラースポット病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ  ｈｏｍｅｏｃａｒｐａ）、ブラウンパッチ病およびラージパッチ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ  ｓｏｌａｎｉ）。
バナナの病害：シガトカ病（Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ  ｆｉｊｉｅｎｓｉｓ、Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ  ｍｕｓｉｃｏｌａ）。
ヒマワリの病害：べと病（Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ  ｈａｌｓｔｅｄｉｉ）。
Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ属、Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ属、Ｆｕｓａｒｉｕｍ属、Ｇｉｂｂｅｒｅｌｌａ属、Ｔｒｉｃｏｄｅｒｍａ属、Ｔｈｉｅｌａｖｉｏｐｓｉｓ属、Ｒｈｉｚｏｐｕｓ属、Ｍｕｃｏｒ属、Ｃｏｒｔｉｃｉｕｍ属、Ｐｈｏｍａ属、Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ属、およびＤｉｐｌｏｄｉａ属菌等によって引き起こされる、各種作物の種子病害または生育初期の病害。
Ｐｏｌｙｍｉｘａ属またはＯｌｐｉｄｉｕｍ属等によって媒介される各種作物のウイルス病。
【００２２】
本発明組成物を使用できる植物としては、例えば次のものが挙げられる。
農作物；トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、  野菜；ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン、スカッシュ等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、
花卉、
観葉植物、
シバ、
果樹；仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹；チャ、クワ、花木、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ）等。
【００２３】
前記した植物とは、ハイブリッド技術により育種された植物であってもよい。
【００２４】
すなわち、ハイブリッド技術により育種された植物とは、雑種強勢（一般に、収量ポテンシャルの増加、生物的及び非生物的ストレス因子に対する抵抗性の向上等をもたらす）の特性を有す植物である。
【００２５】
前記した植物とは、遺伝子組換え技術により耐性を付与された植物であってもよい。
【００２６】
例えば、上記「植物」には、イソキサフルトール等のHPPD阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のALS阻害剤、EPSP合成酵素阻害剤、グルタミン合成酵素阻害剤、ブロモキシニル、ジカンバ等の除草剤に対する耐性が、古典的な育種法、もしくは遺伝子組換え技術により付与された植物も含まれる。
古典的な育種法により耐性が付与された「植物」の例として、イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤耐性のClearfield（登録商標）カノーラ、チフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系ALS阻害型除草剤耐性のSTSダイズ等がある。また、遺伝子組換え技術により耐性が付与された「植物」の例として、グリホサートやグルホシネート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ品種等があり、RoundupReady（登録商標）、RoundupReady2（登録商標）およびLibertyLink（登録商標）等の商品名ですでに販売されている。
【００２７】
上記「植物」には、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった植物も含まれる。
この様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、バチルス・セレウスやバチルス・ポピリエ由来の殺虫性タンパク；バチルス・チューリンゲンシス由来のCry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1またはCry9C等のδ−エンドトキシン、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫タンパク；線虫由来の殺虫タンパク；さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素または昆虫特異的神経毒素等動物によって産生される毒素；糸状菌類毒素；植物レクチン；アグルチニン；トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤；リシン、トウモロコシ−RIP、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク（RIP）；３−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−UDP−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素；エクダイソン阻害剤；HMG-COAリダクターゼ；ナトリウムチャネル、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤；幼若ホルモンエステラーゼ；利尿ホルモン受容体；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ等が挙げられる。
またこの様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1またはCry9C等のδ−エンドトキシンタンパク、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したCry1Abが知られている。修飾された毒素としては、天然型の毒素のアミノ酸の1つまたは複数が置換されている。
これら毒素の例およびこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、EP-A-0 374 753、WO 93/07278、WO 95/34656、EP-A-0 427 529、EP-A-451 878、WO 03/052073等に記載されている。
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
【００２８】
また、1つもしくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、1つまたは複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、YieldGard（登録商標）（Cry1Ab毒素を発現するトウモロコシ品種）、YieldGard Rootworm（登録商標）（Cry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種）、YieldGard Plus（登録商標）（Cry1AbとCry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種）、Herculex I（登録商標）（Cry1Fa2毒素とグルホシネートへの耐性を付与する為にホスフィノトリシン Ｎ−アサチルトランスフェラーゼ（PAT）を発現するトウモロコシ品種）、NuCOTN33B（Cry1Ac毒素を発現するワタ品種）、Bollgard I（登録商標）（Cry1Ac毒素を発現するワタ品種）、Bollgard II（登録商標）（Cry1AcとCry2Ab毒素とを発現するワタ品種）、VIPCOT（登録商標）（VIP毒素を発現するワタ品種）、NewLeaf（登録商標）（Cry3A毒素を発現するジャガイモ品種）、NatureGard（登録商標）Agrisure（登録商標）GT Advantage（GA21 グリホサート耐性形質）、Agrisure（登録商標） CB Advantage（Bt11コーンボーラー（CB）形質）、Protecta（登録商標）等が挙げられる。
【００２９】
上記「植物」には、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。
抗病原性物質の例として、PRタンパク等が知られている（PRPs、EP-A-0 392 225）。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP-A-0 392 225、WO 95/33818、EP-A-0 353 191等に記載されている。
こうした遺伝子組換え植物で発現される抗病原性物質の例として、例えば、ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤（ウイルスが産生するKP1、KP4、KP6毒素等が知られている。）等のイオンチャネル阻害剤；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ；PRタンパク；ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子（植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、WO 03/000906に記載されている。）等の微生物が産生する抗病原性物質等が挙げられる。
【００３０】
また、上記「植物」には、古典的育種技術または遺伝子組換え技術を用い、先に述べたような除草剤耐性、害虫抵抗性、病害耐性等に関わる形質を２種以上付与された系統、および同類または異なる性質を有する遺伝子組換え植物同士を掛け合わせることにより親系統が有する２種以上の性質が付与された系統も含まれる。このような植物の例として、Smart stax(登録商標)等が挙げられる。
【００３１】
植物種又は植物品種、それらの生育場所及び生育条件（土壌、気候、生育期、養分）に応じて、本発明組成物の処理により、植物の生育の向上、高温又は低温に対する耐性の向上、渇水又は水中若しくは土壌中に含まれる塩分に対する耐性の向上、開花能力の向上、収穫の容易性の向上、成熟の促進、収穫量の増加、果実の大きさの増大、植物の高さの増大、葉の緑色の向上、より早い開花、収穫された生産物の品質の向上及び／又は栄養価の増加、果実内の糖度の上昇、収穫された生産物の貯蔵安定性の向上及び／又は加工性の向上などが可能な場合もある。
【００３２】
また、本発明組成物を他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、薬害軽減剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料または土壌改良剤と混合して、または混合せずに同時に用いることもできる。
【００３３】
かかる他の殺菌剤としては、例えば
（１）アゾール系殺菌剤
プロピコナゾール（ｐｒｏｐｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、プロチオコナゾール（ｐｒｏｔｈｉｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、トリアジメノール（ｔｒｉａｄｉｍｅｎｏｌ）、プロクロラズ（ｐｒｏｃｈｌｏｒａｚ）、ペンコナゾール（ｐｅｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、テブコナゾール（ｔｅｂｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、フルシラゾール（ｆｌｕｓｉｌａｚｏｌｅ）、ジニコナゾール（ｄｉｎｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、ブロムコナゾール（ｂｒｏｍｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、エポキシコナゾール（ｅｐｏｘｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、ジフェノコナゾール（ｄｉｆｅｎｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、シプロコナゾール（ｃｙｐｒｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、メトコナゾール（ｍｅｔｃｏｎａｚｏｌｅ）、トリフルミゾール（ｔｒｉｆｌｕｍｉｚｏｌｅ）、テトラコナゾール（ｔｅｔｒａｃｏｎａｚｏｌｅ）、マイクロブタニル（ｍｉｃｒｏｂｕｔａｎｉｌ）、フェンブコナゾール（ｆｅｎｂｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、ヘキサコナゾール（ｈｅｘａｃｏｎａｚｏｌｅ）、フルキンコナゾール（ｆｌｕｑｕｉｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、トリティコナゾール（ｔｒｉｔｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、ビテルタノール（ｂｉｔｅｒｔａｎｏｌ）、イマザリル（ｉｍａｚａｌｉｌ）、フルトリアホール（ｆｌｕｔｒｉａｆｏｌ）、シメコナゾール（ｓｉｍｅｃｏｎａｚｏｌｅ）、イプコナゾール（ｉｐｃｏｎａｚｏｌｅ）等；
（２）アミン系殺菌剤
フェンプロピモルフ（ｆｅｎｐｒｏｐｉｍｏｒｐｈ）、トリデモルフ（ｔｒｉｄｅｍｏｒｐｈ）、フェンプロピジン（ｆｅｎｐｒｏｐｉｄｉｎ）、スピロキサミン（ｓｐｉｒｏｘａｍｉｎｅ）等；
（３）ベンズイミダゾール系殺菌剤
カルベンダジム（ｃａｒｂｅｎｄａｚｉｍ）、ベノミル（ｂｅｎｏｍｙｌ）、チアベンダゾール（ｔｈｉａｂｅｎｄａｚｏｌｅ）、チオファネートメチル（ｔｈｉｏｐｈａｎａｔｅ―Ｍｅｔｈｙｌ）等；
（４）ジカルボキシイミド系殺菌剤
プロシミドン（ｐｒｏｃｙｍｉｄｏｎｅ）、イプロジオン（ｉｐｒｏｄｉｏｎｅ）、ビンクロゾリン（ｖｉｎｃｌｏｚｏｌｉｎ）等；
（５）アニリノピリミジン系殺菌剤
シプロディニル（ｃｙｐｒｏｄｉｎｉｌ）、ピリメタニル（ｐｙｒｉｍｅｔｈａｎｉｌ）、メパニピリム（ｍｅｐａｎｉｐｙｒｉｍ）等；
（６）フェニルピロール系殺菌剤
フェンピクロニル（ｆｅｎｐｉｃｌｏｎｉｌ）、フルジオキソニル（ｆｌｕｄｉｏｘｏｎｉｌ）等；
（７）ストロビルリン系殺菌剤
クレソキシムメチル（ｋｒｅｓｏｘｉｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、アゾキシストロビン（ａｚｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、トリフロキシストロビン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、フルオキサストロビン（ｆｌｕｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、ピコキシストロビン（ｐｉｃｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ピラクロストロビン（ｐｙｒａｃｌｏｓｔｒｏｂｉｎ）、ジモキシストロビン（ｄｉｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ピリベンカルブ（ｐｙｒｉｂｅｎｃａｒｂ）、メトミノストロビン（ｍｅｔｏｍｉｎｏｓｔｒｏｂｉｎ）、オリサストロビン（ｏｒｙｚａｓｔｒｏｂｉｎ）、エネストロビン（ｅｎｅｓｔｒｏｂｉｎ）、ピラメトストロビン（ｐｙｒａｍｅｔｏｓｔｒｏｂｉｎ）、ピラオキシストロビン（ｐｙｒａｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、Ｎ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミド等；
（８）アシルアラニン系殺菌剤
メタラキシル（ｍｅｔａｌａｘｙｌ）、メタラキシルＭまたはメフェノキサム（ｍｅｔａｌａｘｙｌ−Ｍ  ｏｒ  ｍｅｆｅｎｏｘａｍ）、ベナラキシル（ｂｅｎａｌａｘｙｌ）、ベナラキシルＭまたはキララキシル（ｂｅｎａｌａｘｙｌ−Ｍ  ｏｒ  ｋｉｒａｌａｘｙｌ）等；
（９）カルボン酸アミド系殺菌剤
ジメトモルフ（ｄｉｍｅｔｈｏｍｏｒｐｈ）、イプロバリカルブ（ｉｐｒｏｖａｌｉｃａｒｂ）、ベンチアバリカルブイソプロピル（ｂｅｎｔｈｉｖａｌｉｃａｒｂ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ）、マンジプロパミド（ｍａｎｄｉｐｒｏｐａｍｉｄ）、バリフェナル（ｖａｌｉｐｈｅｎａｌ）、バリフェナレート（ｖａｌｉｆｅｎａｌａｔｅ）等；
（１０）ＳＤＨＩ殺菌剤
カルボキシン（ｃａｒｂｏｘｉｎ）、メプロニル（ｍｅｐｒｏｎｉｌ）、フルトラニル（ｆｌｕｔｏｌａｎｉｌ）、チフルザミド（ｔｈｉｆｌｕｚａｍｉｄｅ）、フラメトピル（ｆｕｒａｍｅｔｐｙｒ）、ボスカリド（ｂｏｓｃａｌｉｄ）、ペンチオピラド（ｐｅｎｔｈｉｏｐｙｒａｄ）、フルオピラン（ｆｌｕｏｐｙｒａｍ）、ビキサフェン（ｂｉｘａｆｅｎ）、ペンフルフェン（ｐｅｎｆｌｕｆｅｎ）、セダキサン（ｓｅｄａｘａｎｅ）、イソピラザム（ｉｓｏｐｙｒａｚａｍ）、フルキサピロキサド（ｆｌｕｘａｐｙｒｏｘａｄ）、下記式（ａ）で表される化合物等；
2015232021.tif 000010
（１１）その他の殺菌剤または植物病害防除剤
ジエトフェンカルブ、チウラム、フルアジナム、マンコゼブ、クロロタロニル、キャプタン、ジクロフルアニド、フォルペット、キノキシフェン、フェンヘキサミド、ファモキサドン、フェナミドン、ゾキサミド、エタボキサム、アミスルブロム、シアゾファミド、メトラフェノン、ピリオフェノン、シフルフェナミド、プロキナジド、フルスルファミド、フルオピコリド、フォセチル、シモキサニル、ペンシクロン、トルクロホスメチル、カルプロパミド、ジクロシメット、フェノキサニル、トリシクラゾール、ピロキロン、プロベナゾール、イソチアニル、チアジニル、テブフロキン、ジクロメジン、カスガマイシン、フェリムゾン、フサライド、バリダマイシン、ヒドロキシイソキサゾール、イミノクタジン酢酸塩、イソプロチオラン、オキソリニック酸、オキシテトラサイクリン、ストレプトマイシン、塩基性塩化銅、水酸化第二銅、塩基性硫酸銅、有機銅、硫黄、テブフロキン、アメトクトラジン、フェンピラザミン、下記式（ｂ）で表される化合物等；
2015232021.tif 000011
が挙げられる。
【００３４】
かかる他の殺虫剤としては、例えば
（１）有機リン系化合物
アセフェート（ａｃｅｐｈａｔｅ）、りん化アルミニウム（Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、ブタチオホス（ｂｕｔａｔｈｉｏｆｏｓ）、キャドサホス（ｃａｄｕｓａｆｏｓ）、クロルエトキシホス（ｃｈｌｏｒｅｔｈｏｘｙｆｏｓ）、クロルフェンビンホス（ｃｈｌｏｒｆｅｎｖｉｎｐｈｏｓ）、クロルピリホス（ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ）、クロルピリホスメチル（ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ-ｍｅｔｈｙｌ）、シアノホス（ｃｙａｎｏｐｈｏｓ：ＣＹＡＰ）、ダイアジノン（ｄｉａｚｉｎｏｎ）、ＤＣＩＰ（ｄｉｃｈｌｏｒｏｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ｅｔｈｅｒ）、ジクロフェンチオン（ｄｉｃｈｌｏｆｅｎｔｈｉｏｎ：ＥＣＰ）、ジクロルボス（ｄｉｃｈｌｏｒｖｏｓ：ＤＤＶＰ）、ジメトエート（ｄｉｍｅｔｈｏａｔｅ）、ジメチルビンホス（ｄｉｍｅｔｈｙｌｖｉｎｐｈｏｓ）、ジスルホトン（ｄｉｓｕｌｆｏｔｏｎ）、ＥＰＮ、エチオン（ｅｔｈｉｏｎ）、エトプロホス（ｅｔｈｏｐｒｏｐｈｏｓ）、エトリムホス（ｅｔｒｉｍｆｏｓ）、フェンチオン（ｆｅｎｔｈｉｏｎ：ＭＰＰ）、フエニトロチオン（ｆｅｎｉｔｒｏｔｈｉｏｎ：ＭＥＰ）、ホスチアゼート（ｆｏｓｔｈｉａｚａｔｅ）、ホルモチオン（ｆｏｒｍｏｔｈｉｏｎ）、りん化水素（Ｈｙｄｒｏｇｅｎ ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、イソフェンホス（ｉｓｏｆｅｎｐｈｏｓ）、イソキサチオン（ｉｓｏｘａｔｈｉｏｎ）、マラチオン（ｍａｌａｔｈｉｏｎ）、メスルフェンホス（ｍｅｓｕｌｆｅｎｆｏｓ）、メチダチオン（ｍｅｔｈｉｄａｔｈｉｏｎ：ＤＭＴＰ）、モノクロトホス（ｍｏｎｏｃｒｏｔｏｐｈｏｓ）、ナレッド（ｎａｌｅｄ：ＢＲＰ）、オキシデプロホス（ｏｘｙｄｅｐｒｏｆｏｓ：ＥＳＰ）、パラチオン（ｐａｒａｔｈｉｏｎ）、ホサロン（ｐｈｏｓａｌｏｎｅ）、ホスメット（ｐｈｏｓｍｅｔ：ＰＭＰ）、ピリミホスメチル（ｐｉｒｉｍｉｐｈｏｓ-ｍｅｔｈｙｌ）、ピリダフェンチオン（ｐｙｒｉｄａｆｅｎｔｈｉｏｎ）、キナルホス（ｑｕｉｎａｌｐｈｏｓ）、フェントエート（ｐｈｅｎｔｈｏａｔｅ：ＰＡＰ）、プロフェノホス（ｐｒｏｆｅｎｏｆｏｓ）、プロパホス（ｐｒｏｐａｐｈｏｓ）、プロチオホス（ｐｒｏｔｈｉｏｆｏｓ）、ピラクロホス（ｐｙｒａｃｌｏｒｆｏｓ）、サリチオン（ｓａｌｉｔｈｉｏｎ）、スルプロホス（ｓｕｌｐｒｏｆｏｓ）、テブピリムホス（ｔｅｂｕｐｉｒｉｍｆｏｓ）、テメホス（ｔｅｍｅｐｈｏｓ）、テトラクロルビンホス（ｔｅｔｒａｃｈｌｏｒｖｉｎｐｈｏｓ）、テルブホス（ｔｅｒｂｕｆｏｓ）、チオメトン（ｔｈｉｏｍｅｔｏｎ）、トリクロルホン（ｔｒｉｃｈｌｏｒｐｈｏｎ：ＤＥＰ）、バミドチオン（ｖａｍｉｄｏｔｈｉｏｎ）、フォレート（ｐｈｏｒａｔｅ）、カズサホス（ｃａｄｕｓａｆｏｓ）等；
【００３５】
（２）カーバメート系化合物
アラニカルブ（ａｌａｎｙｃａｒｂ）、ベンダイオカルブ（ｂｅｎｄｉｏｃａｒｂ）、ベンフラカルブ（ｂｅｎｆｕｒａｃａｒｂ）、ＢＰＭＣ、カルバリル（ｃａｒｂａｒｙｌ）、カルボフラン（ｃａｒｂｏｆｕｒａｎ）、カルボスルファン（ｃａｒｂｏｓｕｌｆａｎ）、クロエトカルブ（ｃｌｏｅｔｈｏｃａｒｂ）、エチオフェンカルブ（ｅｔｈｉｏｆｅｎｃａｒｂ）、フェノブカルブ（ｆｅｎｏｂｕｃａｒｂ）、フェノチオカルブ（ｆｅｎｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、フェノキシカルブ（ｆｅｎｏｘｙｃａｒｂ）、フラチオカルブ（ｆｕｒａｔｈｉｏｃａｒｂ）、イソプロカルブ（ｉｓｏｐｒｏｃａｒｂ：ＭＩＰＣ）、メトルカルブ（ｍｅｔｏｌｃａｒｂ）、 メソミル（ｍｅｔｈｏｍｙｌ）、メチオカルブ（ｍｅｔｈｉｏｃａｒｂ）、ＮＡＣ、オキサミル（ｏｘａｍｙｌ）、ピリミカーブ（ｐｉｒｉｍｉｃａｒｂ）、プロポキスル（ｐｒｏｐｏｘｕｒ：ＰＨＣ）、ＸＭＣ、チオジカルブ（ｔｈｉｏｄｉｃａｒｂ）、 キシリルカルブ（ｘｙｌｙｌｃａｒｂ）、アルジカルブ（ａｌｄｉｃａｒｂ）等；
【００３６】
（３）合成ピレスロイド系化合物
アクリナトリン（ａｃｒｉｎａｔｈｒｉｎ）、アレスリン（ａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、ベンフルスリン（ｂｅｎｆｌｕｔｈｒｉｎ）、ベータ−シフルトリン（ｂｅｔａ-ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）、ビフェントリン（ｂｉｆｅｎｔｈｒｉｎ）、シクロプロトリン（ｃｙｃｌｏｐｒｏｔｈｒｉｎ）、シフルトリン（ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）、シハロトリン（ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、シペルメトリン（ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、デルタメトリン（ｄｅｌｔａｍｅｔｈｒｉｎ）、エスフェンバレレート（ｅｓｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、エトフェンプロックス（ｅｔｈｏｆｅｎｐｒｏｘ） 、フェンプロパトリン（ｆｅｎｐｒｏｐａｔｈｒｉｎ）、フェンバレレート（ｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、フルシトリネート（ｆｌｕｃｙｔｈｒｉｎａｔｅ）、フルフェンプロックス（ｆｌｕｆｅｎｏｐｒｏｘ）、フルメスリン（ｆｌｕｍｅｔｈｒｉｎ）、フルバリネート（ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）、ハルフェンプロックス（ｈａｌｆｅｎｐｒｏｘ）、イミプロトリン（ｉｍｉｐｒｏｔｈｒｉｎ）、ペルメトリン（ｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、プラレトリン（ｐｒａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、ピレトリン（ｐｙｒｅｔｈｒｉｎｓ）、レスメトリン（ｒｅｓｍｅｔｈｒｉｎ）、シグマ−サイパーメスリン（ｓｉｇｍａ-ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、シラフルオフェン（ｓｉｌａｆｌｕｏｆｅｎ）、テフルトリン（ｔｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、トラロメトリン（ｔｒａｌｏｍｅｔｈｒｉｎ）、トランスフルトリン（ｔｒａｎｓｆｌｕｔｈｒｉｎ）、テトラメトリン（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、フェノトリン（ｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）、シフェノトリン（ｃｙｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）、アルファシペルメトリン（ａｌｐｈａ-ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、ゼータシペルメトリン（ｚｅｔａ-ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、ラムダシハロトリン（ｌａｍｂｄａ-ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、フラメトリン（ｆｕｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、タウフルバリネート（ｔａｕ-ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル （ＥＺ）−（１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−３−プロプ−１−エニルシクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−メチルベンジル （ＥＺ）−（１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−３−プロプ−１−エニルシクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル （１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−３−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパンカルボキシレート等；
【００３７】
（４）ネライストキシン系化合物
カルタップ（ｃａｒｔａｐ）、ベンスルタップ（ｂｅｎｓｕｌｔａｐ）、チオシクラム（ｔｈｉｏｃｙｃｌａｍ）、モノスルタップ（ｍｏｎｏｓｕｌｔａｐ）、ビスルタップ（ｂｉｓｕｌｔａｐ）等；
【００３８】
（５）ネオニコチノイド系化合物
イミダクロプリド（ｉｍｉｄａｃｌｏｐｒｉｄ）、ニテンピラム（ｎｉｔｅｎｐｙｒａｍ）、アセタミプリド（ａｃｅｔａｍｉｐｒｉｄ）、チアメトキサム（ｔｈｉａｍｅｔｈｏｘａｍ）、チアクロプリド（ｔｈｉａｃｌｏｐｒｉｄ）、ジノテフラン（ｄｉｎｏｔｅｆｕｒａｎ）、クロチアニジン（ｃｌｏｔｈｉａｎｉｄｉｎ）等；
【００３９】
（６）ベンゾイル尿素系化合物
クロルフルアズロン（ｃｈｌｏｒｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、ビストリフルロン（ｂｉｓｔｒｉｆｌｕｒｏｎ）、ジアフェンチウロン（ｄｉａｆｅｎｔｈｉｕｒｏｎ）、ジフルベンズロン（ｄｉｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、フルアズロン（ｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、フルシクロクスロン（ｆｌｕｃｙｃｌｏｘｕｒｏｎ）、フルフェノクスロン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｕｒｏｎ）、ヘキサフルムロン（ｈｅｘａｆｌｕｍｕｒｏｎ）、ルフェヌロン（ｌｕｆｅｎｕｒｏｎ）、ノバルロン（ｎｏｖａｌｕｒｏｎ）、ノビフルムロン（ｎｏｖｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）、テフルベンズロン（ｔｅｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、トリフルムロン（ｔｒｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）、トリアズロン等；
【００４０】
（７）フェニルピラゾール系化合物
アセトプロール（ａｃｅｔｏｐｒｏｌｅ）、エチプロール（ｅｔｈｉｐｒｏｌｅ）、フィプロニル（ｆｉｐｒｏｎｉｌ）、バニリプロール（ｖａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、ピリプロール（ｐｙｒｉｐｒｏｌｅ）、ピラフルプロール（ｐｙｒａｆｌｕｐｒｏｌｅ）等；
（８）Ｂｔトキシン系殺虫剤
バチルス・チューリンゲンシス菌由来の生芽胞および産生結晶毒素、並びにそれらの混合物；
（９）ヒドラジン系化合物
クロマフェノジド（ｃｈｒｏｍａｆｅｎｏｚｉｄｅ）、ハロフェノジド（ｈａｌｏｆｅｎｏｚｉｄｅ）、メトキシフェノジド（ｍｅｔｈｏｘｙｆｅｎｏｚｉｄｅ）、テブフェノジド（ｔｅｂｕｆｅｎｏｚｉｄｅ）等；
（１０）有機塩素系化合物
アルドリン（ａｌｄｒｉｎ）、ディルドリン（ｄｉｅｌｄｒｉｎ）、ジエノクロル（ｄｉｅｎｏｃｈｌｏｒ）、エンドスルファン（ｅｎｄｏｓｕｌｆａｎ）、メトキシクロル（ｍｅｔｈｏｘｙｃｈｌｏｒ）等；
（１１）天然系殺虫剤
マシン油（ｍａｃｈｉｎｅ ｏｉｌ）、硫酸ニコチン（ｎｉｃｏｔｉｎｅ-ｓｕｌｆａｔｅ）；
【００４１】
（１２）その他の殺虫剤
アベルメクチン（ａｖｅｒｍｅｃｔｉｎ-Ｂ）、ブロモプロピレート（ｂｒｏｍｏｐｒｏｐｙｌａｔｅ）、ブプロフェジン（ｂｕｐｒｏｆｅｚｉｎ）、クロルフェナピル（ｃｈｌｏｒｐｈｅｎａｐｙｒ）、シロマジン（ｃｙｒｏｍａｚｉｎｅ）、Ｄ−Ｄ（１，３-Ｄｉｃｈｌｏｒｏｐｒｏｐｅｎｅ）、エマメクチンベンゾエート（ｅｍａｍｅｃｔｉｎ-ｂｅｎｚｏａｔｅ）、フェナザキン（ｆｅｎａｚａｑｕｉｎ）、フルピラゾホス（ｆｌｕｐｙｒａｚｏｆｏｓ）、ハイドロプレン（ｈｙｄｒｏｐｒｅｎｅ）、メトプレン（ｍｅｔｈｏｐｒｅｎｅ）、インドキサカルブ（ｉｎｄｏｘａｃａｒｂ）、メトキサジアゾン（ｍｅｔｏｘａｄｉａｚｏｎｅ）、ミルベマイシンＡ（ｍｉｌｂｅｍｙｃｉｎ-Ａ）、ピメトロジン（ｐｙｍｅｔｒｏｚｉｎｅ）、ピリダリル（ｐｙｒｉｄａｌｙｌ）、ピリプロキシフェン（ｐｙｒｉｐｒｏｘｙｆｅｎ）、スピノサッド（ｓｐｉｎｏｓａｄ）、スルフラミド（ｓｕｌｆｌｕｒａｍｉｄ）、トルフェンピラド（ｔｏｌｆｅｎｐｙｒａｄ）、トリアゼメイト（ｔｒｉａｚａｍａｔｅ）、フルベンジアミド（ｆｌｕｂｅｎｄｉａｍｉｄｅ）、レピメクチン（ｌｅｐｉｍｅｃｔｉｎ）、亜ひ酸（Ａｒｓｅｎｉｃ ａｃｉｄ）、ベンクロチアズ（ｂｅｎｃｌｏｔｈｉａｚ）、石灰窒素（Ｃａｌｃｉｕｍ ｃｙａｎａｍｉｄｅ）、石灰硫黄合剤（Ｃａｌｃｉｕｍ ｐｏｌｙｓｕｌｆｉｄｅ）、クロルデン（ｃｈｌｏｒｄａｎｅ）、ＤＤＴ、ＤＳＰ、フルフェネリウム（ｆｌｕｆｅｎｅｒｉｍ）、フロニカミド（ｆｌｏｎｉｃａｍｉｄ）、フルリムフェン（ｆｌｕｒｉｍｆｅｎ）、ホルメタネート（ｆｏｒｍｅｔａｎａｔｅ）、メタム・アンモニウム（ｍｅｔａｍ-ａｍｍｏｎｉｕｍ）、メタム・ナトリウム（ｍｅｔａｍ-ｓｏｄｉｕｍ）、臭化メチル（Ｍｅｔｈｙｌ ｂｒｏｍｉｄｅ）、ニディノテフラン（ｎｉｄｉｎｏｔｅｆｕｒａｎ）、オレイン酸カリウム（Ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｏｌｅａｔｅ）、プロトリフェンビュート（ｐｒｏｔｒｉｆｅｎｂｕｔｅ）、スピロメシフェン（ｓｐｉｒｏｍｅｓｉｆｅｎ）、硫黄（Ｓｕｌｆｕｒ）、メタフルミゾン（ｍｅｔａｆｌｕｍｉｚｏｎｅ）、スピロテトラマット（ｓｐｉｒｏｔｅｔｒａｍａｔ）、ピリフルキナゾン（ｐｙｒｉｆｌｕｑｕｉｎａｚｏｎｅ）、スピネトラム（ｓｐｉｎｅｔｏｒａｍ）、クロラントラニリプロール（ｃｈｌｏｒａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、シアントラニルプロール（ｃｙａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）
、スルフォキサフロール（Ｓｕｌｆｏｘａｆｌｏｒ）、下記式（ｃ）で表される化合物等；
2015232021.tif 000012
が挙げられる。
【００４２】
かかる他の殺ダニ剤（殺ダニ活性成分）としては、例えばアセキノシル（ａｃｅｑｕｉｎｏｃｙｌ）、アミトラズ（ａｍｉｔｒａｚ）、ベンゾキシメート（ｂｅｎｚｏｘｉｍａｔｅ）、ビフェナゼート（ｂｉｆｅｎａａｔｅ）、フェニソブロモレート（ｂｒｏｍｏｐｒｏｐｙｌａｔｅ）、キノメチオネート（ｃｈｉｎｏｍｅｔｈｉｏｎａｔ）、クロルベンジレート（ｃｈｌｏｒｏｂｅｎｚｉｌａｔｅ）、ＣＰＣＢＳ（ｃｈｌｏｒｆｅｎｓｏｎ）、クロフェンテジン（ｃｌｏｆｅｎｔｅｚｉｎｅ）、シフルメトフェン（ｃｙｆｌｕｍｅｔｏｆｅｎ）、ケルセン（ジコホル：ｄｉｃｏｆｏｌ）、エトキサゾール（ｅｔｏｘａｚｏｌｅ）、酸化フェンブタスズ（ｆｅｎｂｕｔａｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）、フェノチオカルブ（ｆｅｎｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、フェンピロキシメート（ｆｅｎｐｙｒｏｘｉｍａｔｅ）、フルアクリピリム（ｆｌｕａｃｒｙｐｙｒｉｍ）、フルプロキシフェン（ｆｌｕｐｒｏｘｙｆｅｎ）、ヘキシチアゾクス（ｈｅｘｙｔｈｉａｚｏｘ）、プロパルギット（ｐｒｏｐａｒｇｉｔｅ：ＢＰＰＳ）、ポリナクチン複合体（ｐｏｌｙｎａｃｔｉｎｓ）、ピリダベン（ｐｙｒｉｄａｂｅｎ）、ピリミジフェン（Ｐｙｒｉｍｉｄｉｆｅｎ）、テブフェンピラド（ｔｅｂｕｆｅｎｐｙｒａｄ）、テトラジホン（ｔｅｔｒａｄｉｆｏｎ）、スピロディクロフェン（ｓｐｉｒｏｄｉｃｌｏｆｅｎ）、スピロメシフェン（ｓｐｉｒｏｍｅｓｉｆｅｎ）、スピロテトラマット（ｓｐｉｒｏｔｅｔｒａｍａｔ）、アミドフルメット（ａｍｉｄｏｆｌｕｍｅｔ）、シエノピラフェン（ｃｙｅｎｏｐｙｒａｆｅｎ）等が挙げられる。
【００４３】
かかる他の殺線虫剤（殺線虫活性成分）としては、例えば、ＤＣＩＰ、ホスチアゼート（ｆｏｓｔｈｉａｚａｔｅ）、塩酸レバミゾール（ｌｅｖａｍｉｓｏｌ）、メチルイソチオシアネート（ｍｅｔｈｙｉｓｏｔｈｉｏｃｙａｎａｔｅ）、酒石酸モランテル（ｍｏｒａｎｔｅｌ ｔａｒｔａｒａｔｅ）、イミシアホス（ｉｍｉｃｙａｆｏｓ）等が挙げられる。
【００４４】
かかる薬害軽減剤（薬害軽減活性成分）としては、例えば、１，８−ナフタリックアンヒドライド（１，８−ｎａｐｈｔｈａｌｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）、チョメトリニル（ｃｙｏｍｅｔｒｉｎｉｌ）、オキサベトリニル（ｏｘａｂｅｔｒｉｎｉｌ）、フルキソフェニン（ｆｌｕｘｏｆｅｎｉｍ）、フルラゾール（ｆｌｕｒａｚｏｌｅ）、ベノキサコール（ｂｅｎｏｘａｃｏｒ）、ジクロルミド（ｄｉｃｈｌｏｒｍｉｄ）、フリラゾール（ｆｕｒｉｌａｚｏｌｅ）、フェンクロリム（ｆｅｎｃｌｏｒｉｍ）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ）、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、クロキントセットメキシル（ｃｌｏｑｕｉｎｔｏｃｅｔ−ｍｅｘｙｌ）、フェンクロラゾールエチル（ｆｅｎｃｈｌｏｒａｚｏｌｅ−ｅｔｈｙｌ）、メフェンピルジエチル（ｍｅｆｅｎｐｙｒ−ｄｉｅｔｈｙｌ）、イソキサジフェンエチル（ｉｓｏｘａｄｉｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸等が挙げられる。
【００４５】
かかる植物生長調節剤（植物生長調節活性成分）としては、例えば、エテホン（ｅｔｈｅｐｈｏｎ）、クロルメコート（ｃｈｌｏｒｍｅｑｕａｔ−ｃｈｌｏｒｉｄｅ）、メピコート（ｍｅｐｉｑｕａｔ−ｃｈｌｏｒｉｄｅ）、等が挙げられる。
【００４６】
これら、本発明組成物に含まれうる他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、薬害軽減剤、除草剤、植物生長調節剤等は、０乃至は４つまでが許容されうる。
【００４７】
本発明組成物を、何らかの方法により除草剤耐性を付与された作物に処理し、同時にまたは異なる時期にある種の除草剤を処理することにより、効果的かつ省力的に、高い「作物生育改善効果」を得ることもできる。ここで、「作物生育改善効果」とは、作物の虫害、病害、雑草害の防除などにより、結果的に作物収穫量の増加をもたらすこと等を意味する。
具体的には、イミダゾリノン系除草剤耐性を付与された作物、例えばＣｌｅａｒｆｉｅｌｄ（登録商標）カノーラに、本発明組成物とイマザピル等のイミダゾリノン系除草剤を、同時又は異なる時期に処理し、Ｃｌｅａｒｆｉｅｌｄカノーラの生育を改善することが出来る。また、グリホサート耐性が付与された作物、例えばＲｏｕｎｄｕｐＲｅａｄｙ（登録商標）ワタやＲｏｕｎｄｕｐＲｅａｄｙ２ダイズ（登録商標）に、本発明組成物とグリホサートを、同時又は異なる時期に処理し、ＲｏｕｎｄｕｐＲｅａｄｙワタやＲｏｕｎｄｕｐＲｅａｄｙ２ダイズの生育を改善することが出来る。また、グルホシネート耐性が付与された作物、例えばＬｉｂｅｒｔｙＬｉｎｋ（登録商標）トウモロコシに、本発明組成物とグルホシネートを、同時または異なる時期に処理することにより、ＬｉｂｅｒｔｙＬｉｎｋトウモロコシの生育を改善することが出来る。
【００４８】
本発明組成物の態様としては、例えば以下のものが挙げられる。
本カルボキサミド化合物（２）とプロピコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とプロチオコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とトリアジメノールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とプロクロラズとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とテブコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルシラゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とジニコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とブロムコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とエポキシコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とジフェノコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とシプロコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメトコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とテトラコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルキンコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とトリティコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイプコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフェンプロピモルフとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフェンプロピジンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とスピロキサミンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とカルベンダジムとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とベノミルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とチオファネートメチルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とプロシミドンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイプロジオンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフェンピラザミンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とシプロディニルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とピリメタニルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメパニピリムとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルジオキソニルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルMとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とベナラキシルとを含有する組成物； 
本カルボキサミド化合物（２）とクレソキシムメチルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とアゾキシストロビンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とトリフロキシストロビンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とピコキシストロビンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルオキサストロビンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とピラクロストロビンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とジモキシストロビンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とピリベンカルブとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とオリサストロビンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とＮ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とカルボキシンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメプロニルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルトラニルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とチフルザミドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフラメトピルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とボスカリドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とペンチオピラドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルオピランとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とビキサフェンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とペンフルフェンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とセダキサンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイソピラザムとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルキサピロキサドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）と下記式（ａ）で表される化合物を含有する組成物；
2015232021.tif 000013
本カルボキサミド化合物（２）とジエトフェンカルブとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とチウラムとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルアジナムとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とマンコゼブとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロロタロニルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とキャプタンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とファモキサドンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とエタボキサムとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルオピコリドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とトルクロホスメチルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とカルプロパミドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とジクロシメットとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とトリシクラゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とピロキロンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とプロベナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイソチアニルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とチアジニルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とテブフロキンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とカスガマイシンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフェリムゾンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフサライドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とバリダマイシンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とヒドロキシイソキサゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミノクタジン酢酸塩とを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とオキソリニック酸含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）と有機銅とを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とチアメトキサムとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とジノテフランとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とニテンピラムとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロラントラニリプロールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とシアントラニリプロールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とチオジカルブとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とカルボフランとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とスルフォキサフロールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とアバメクチンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフィプロニルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とエチプロールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とベータシフルトリンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とシフルトリンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とカルタップとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）と４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とヘキサコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とマイクロブタニルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とベナラキシルMとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメトミノストロビンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイソプロチオランとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフォルペットとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とキノキシフェンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメトラフェノンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とピリオフェノンとを含有する組成物； 
本カルボキサミド化合物（２）とシフルフェナミドとを含有する組成物； 
【００４９】
本カルボキサミド化合物（２）とエタボキサムとメタラキシルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とエタボキサムとメタラキシルMとを含有する組成物； 
本カルボキサミド化合物（２）とエタボキサムとクロチアニジンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とエタボキサムとイミダクロプリドとを含有する組成物；本カルボキサミド化合物（２）とエタボキサムとイプコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とエタボキサムとメトコナゾールとを含有する組成物； 本カルボキサミド化合物（２）とエタボキサムとＮ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミドとを含有する組成物；本カルボキサミド化合物（２）とエタボキサムと４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とエタボキサムとトルクロホスメチルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルとクロチアニジンとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルとイミダクロプリドとを含有する組成物；本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルとイプコナゾールとを含有する組成物； 本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルとメトコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルとＮ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミドとを含有する組成物；本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルと４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルとトルクロホスメチルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルMとクロチアニジンとを含有する組成物；本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルMとイミダクロプリドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルMとイプコナゾールとを含有する組成物；本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルMとメトコナゾールとを含有する組成物； 本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルMとＮ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルMと４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルMとトルクロホスメチルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとイミダクロプリドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとイプコナゾールとを含有する組成物；本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとメトコナゾールとを含有する組成物； 
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとＮ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンと４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとトルクロホスメチルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとイプコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとメトコナゾールとを含有する組成物； 
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとＮ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドと４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとトルクロホスメチルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイプコナゾールとメトコナゾールとを含有する組成物； 
本カルボキサミド化合物（２）とイプコナゾールとＮ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイプコナゾールと４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイプコナゾールとトルクロホスメチルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメトコナゾールとＮ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメトコナゾールと４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメトコナゾールとトルクロホスメチルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とＮ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミドと４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とＮ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミドとトルクロホスメチルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）と４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とトルクロホスメチルとを含有する組成物；
【００５０】
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとエタボキサムとメタラキシルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとエタボキサムとメタラキシルＭとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとエタボキサムとメタラキシルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとエタボキサムとメタラキシルＭとを含有する組成物；
【００５１】
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとエタボキサムとメタラキシルとイプコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとエタボキサムとメタラキシルＭとＮ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとエタボキサムとメタラキシルとトルクロホスメチルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとエタボキサムとメタラキシルＭとメトコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとエタボキサムとメタラキシルＭと４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとエタボキサムとメタラキシルＭとフルジオキソニルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとエタボキサムとメタラキシルとイプコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとエタボキサムとメタラキシルＭとＮ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミドとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとエタボキサムとメタラキシルとトルクロホスメチルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとエタボキサムとメタラキシルＭとメトコナゾールとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとエタボキサムとメタラキシルＭと４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとエタボキサムとメタラキシルＭとフルジオキソニルとを含有する組成物；
【００５２】
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとエタボキサムとメタラキシルと４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とフルジオキソニルとを含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとエタボキサムとメタラキシルと４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とフルジオキソニルとを含有する組成物；
【００５３】
本カルボキサミド化合物（２）とプロピコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／プロピコナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とプロチオコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／プロチオコナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とトリアジメノールとを本カルボキサミド化合物（２）／トリアジメノール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とプロクロラズとを本カルボキサミド化合物（２）／プロクロラズ＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とテブコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／テブコナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルシラゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／フルシラゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とジニコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／ジニコナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とブロムコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／ブロムコナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とエポキシコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／エポキシコナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とジフェノコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／ジフェノコナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とシプロコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／シプロコナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメトコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／メトコナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とテトラコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／テトラコナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルキンコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／フルキンコナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とトリティコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／トリティコナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイプコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／イプコナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフェンプロピモルフとを本カルボキサミド化合物（２）／フェンプロピモルフ＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフェンプロピジンとを本カルボキサミド化合物（２）／フェンプロピジン＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とスピロキサミンとを本カルボキサミド化合物（２）／スピロキサミン＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とカルベンダジムとを本カルボキサミド化合物（２）／カルベンダジム＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とベノミルとを本カルボキサミド化合物（２）／ベノミル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とチオファネートメチルとを本カルボキサミド化合物（２）／チオファネートメチル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とプロシミドンとを本カルボキサミド化合物（２）／プロシミドン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイプロジオンとを本カルボキサミド化合物（２）／イプロジオン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフェンピラザミンとを本カルボキサミド化合物（２）／フェンピラザミン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とシプロディニルとを本カルボキサミド化合物（２）／シプロディニル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とピリメタニルとを本カルボキサミド化合物（２）／ピリメタニル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメパニピリムとを本カルボキサミド化合物（２）／メパニピリム＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルジオキソニルとを本カルボキサミド化合物（２）／フルジオキソニル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルとを本カルボキサミド化合物（２）／メタラキシル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメタラキシルＭとを本カルボキサミド化合物（２）／メタラキシルＭ＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とベナラキシルとを本カルボキサミド化合物（２）／ベナラキシル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクレソキシムメチルとを本カルボキサミド化合物（２）／クレソキシムメチル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とアゾキシストロビンとを本カルボキサミド化合物（２）／アゾキシストロビン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とトリフロキシストロビンとを本カルボキサミド化合物（２）／トリフロキシストロビン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルオキサストロビンとを本カルボキサミド化合物（２）／フルオキサストロビン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とピコキシストロビンとを本カルボキサミド化合物（２）／ピコキシストロビン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とピラクロストロビンとを本カルボキサミド化合物（２）／ピラクロストロビン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とジモキシストロビンとを本カルボキサミド化合物（２）／ジモキシストロビン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とピリベンカルブとを本カルボキサミド化合物（２）／ピリベンカルブ＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とオリサストロビンとを本カルボキサミド化合物（２）／オリサストロビン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とＮ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミドとを本カルボキサミド化合物（２）／Ｎ−メチル−α−メトキシイミノ−２−〔（２，５−ジメチルフェノキシ）メチル〕フェニルアセトアミド＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とカルボキシンとを本カルボキサミド化合物（２）／カルボキシン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメプロニルとを本カルボキサミド化合物（２）／メプロニル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルトラニルとを本カルボキサミド化合物（２）／フルトラニル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とチフルザミドとを本カルボキサミド化合物（２）／チフルザミド＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフラメトピルとを本カルボキサミド化合物（２）／フラメトピル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とボスカリドとを本カルボキサミド化合物（２）／ボスカリド＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とペンチオピラドとを本カルボキサミド化合物（２）／ペンチオピラド＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルオピランとを本カルボキサミド化合物（２）／フルオピラン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とビキサフェンとを本カルボキサミド化合物（２）／ビキサフェン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とペンフルフェンとを本カルボキサミド化合物（２）／ペンフルフェン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とセダキサンとを本カルボキサミド化合物（２）／セダキサン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイソピラザムとを本カルボキサミド化合物（２）／イソピラザム＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルキサピロキサドとを本カルボキサミド化合物（２）／フルキサピロキサド＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）と下記式（ａ）で表される化合物とを本カルボキサミド化合物（２）／下記式（ａ）で表される化合物＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
2015232021.tif 000014
本カルボキサミド化合物（２）とジエトフェンカルブとを本カルボキサミド化合物（２）／ジエトフェンカルブ＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とチウラムとを本カルボキサミド化合物（２）／チウラム＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルアジナムとを本カルボキサミド化合物（２）／フルアジナム＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とマンコゼブとを本カルボキサミド化合物（２）／マンコゼブ＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロロタロニルとを本カルボキサミド化合物（２）／クロロタロニル＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とキャプタンとを本カルボキサミド化合物（２）／キャプタン＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とファモキサドンとを本カルボキサミド化合物（２）／ファモキサドン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とエタボキサムとを本カルボキサミド化合物（２）／エタボキサム＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフルオピコリドとを本カルボキサミド化合物（２）／フルオピコリド＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とトルクロホスメチルとを本カルボキサミド化合物（２）／トルクロホスメチル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とカルプロパミドとを本カルボキサミド化合物（２）／カルプロパミド＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とジクロシメットとを本カルボキサミド化合物（２）／ジクロシメット＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とトリシクラゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／トリシクラゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とピロキロンとを本カルボキサミド化合物（２）／ピロキロン０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とプロベナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／プロベナゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイソチアニルとを本カルボキサミド化合物（２）／イソチアニル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とチアジニルとを本カルボキサミド化合物（２）／チアジニル＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とテブフロキンとを本カルボキサミド化合物（２）／テブフロキン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とカスガマイシンとを本カルボキサミド化合物（２）／カスガマイシン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフェリムゾンとを本カルボキサミド化合物（２）／フェリムゾン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフサライドとを本カルボキサミド化合物（２）／フサライド＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とバリダマイシンとを本カルボキサミド化合物（２）／バリダマイシン＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とヒドロキシイソキサゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／ヒドロキシイソキサゾール＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；本カルボキサミド化合物（２）とイミノクタジン酢酸塩とを本カルボキサミド化合物（２）／イミノクタジン酢酸塩＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とオキソリニック酸とを本カルボキサミド化合物（２）／オキソリニック酸＝０．１／１〜１０／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロチアニジンとを本カルボキサミド化合物（２）／クロチアニジン＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイミダクロプリドとを本カルボキサミド化合物（２）／イミダクロプリド＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とチアメトキサムとを本カルボキサミド化合物（２）／チアメトキサム＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とニテンピラムとを本カルボキサミド化合物（２）／ニテンピラム＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフィプロニルとを本カルボキサミド化合物（２）／フィプロニル＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とエチプロールとを本カルボキサミド化合物（２）／エチプロール＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とチオジカルブとを本カルボキサミド化合物（２）／チオジカルブ０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とカルボフランとを本カルボキサミド化合物（２）／カルボフラン＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とスルフォキサフロールとを本カルボキサミド化合物（２）／スルフォキサフロール＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とベータシフルトリンとを本カルボキサミド化合物（２）／ベータシフルトリン＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とシハロトリンとを本カルボキサミド化合物（２）／シハロトリン＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とアバメクチンとを本カルボキサミド化合物（２）／アバメクチン＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とカルタップとを本カルボキサミド化合物（２）／カルタップ＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とクロラントラニリプロールとを本カルボキサミド化合物（２）／クロラントラニリプロール＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；本カルボキサミド化合物（２）とシアントラニリプロールとを本カルボキサミド化合物（２）／シアントラニリプロール＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）と４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸とを本カルボキサミド化合物（２）／４−オキソ−４−[(２−フェニルエチル)アミノ]−酪酸＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とヘキサコナゾールとを本カルボキサミド化合物（２）／ヘキサコナゾール＝０．１／１〜１／１０の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とマイクロブタニルとを本カルボキサミド化合物（２）／マイクロブタニル＝０．１／１〜１／１０の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とベナラキシルMとを本カルボキサミド化合物（２）／ベナラキシルM＝０．１／１〜１／１０の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメトミノストロビンとを本カルボキサミド化合物（２）／メトミノストロビン＝０．１／１〜１／１０の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とイソプロチオランとを本カルボキサミド化合物（２）／イソプロチオラン＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とフォルペットとを本カルボキサミド化合物（２）／フォルペット＝０．０１／１〜１／１の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とキノキシフェンとを本カルボキサミド化合物（２）／キノキシフェン＝０．１／１〜１／１０の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とメトラフェノンとを本カルボキサミド化合物（２）／メトラフェノン＝０．１／１〜１／１０の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とピリオフェノンとを本カルボキサミド化合物（２）／ピリオフェノン＝０．１／１〜１／１０の重量比で含有する組成物；
本カルボキサミド化合物（２）とシフルフェナミドとを本カルボキサミド化合物（２）／シフルフェナミド＝０．１／１〜１／１０の重量比で含有する組成物；
【００５４】
本発明の植物病害防除方法（以下、本発明防除方法と記す。）は、本発明組成物の有効量を植物又は植物を栽培する土壌に処理することにより行われる。かかる植物としては、例えば、植物の茎葉、植物の種子及び植物の球根が挙げられる。なお、ここで球根とは、鱗茎、球茎、根茎、塊茎、塊根及び担根体を意味する。
【００５５】
本発明防除方法において、本発明組成物の処理方法としては、例えば、茎葉処理、土壌処理、根部処理、シャワー処理、薫煙処理及び種子処理が挙げられる。
【００５６】
かかる茎葉処理としては、例えば、茎葉散布及び樹幹散布により、栽培されている植物の表面に処理する方法が挙げられる。
かかる根部処理としては、例えば、本カルボキサミド化合物を含有する薬液に植物の全体又は根部を浸漬する方法、及び、本カルボキサミド化合物と固体担体とを含有する固体製剤を植物の根部に付着させる方法が挙げられる。
かかる土壌処理としては、例えば、土壌散布、土壌混和及び土壌への薬液潅注が挙げられる。また、土壌処理をする場所としては例えば、植穴、作条、植穴付近、作条付近、栽培地の全面、植物地際部、株間、樹幹下、主幹畦、培土、育苗箱、育苗トレイ、苗床等が挙げられ、処理時期としては播種前、播種時、播種直後、育苗期、定植前、定植時、及び定植後の生育期等が挙げられる。また、上記土壌処理において、有効成分を植物に同時に処理してもよく、有効成分を含有するペースト肥料等の固形肥料を土壌へ施用してもよい。また、潅水液に混合してもよく、例えば、潅水設備（潅水チューブ、潅水パイプ、スプリンクラー等）への注入、条間湛水液への混入、水耕液へ混入等が挙げられる。また、あらかじめ潅水液と有効成分を混合し、例えば、上記潅水方法やそれ以外の散水、湛水等のしかるべき潅水方法を用いて処理することができる。
かかる根部処理としては、例えば、植物の根部を本発明組成物の希釈液で浸漬処理する方法が挙げられる。
かかるシャワー処理としては、例えば、収穫後の果実に本発明組成物の希釈液をシャワーする方法が挙げられる。
かかる薫煙処理としては、例えば、本発明組成物の希釈液をミスト状にして空気中に飛散させ、植物の茎葉部や果実に付着させる方法が挙げられる。
かかる種子処理としては、例えば、植物病害から保護しようとする植物の種子又は球根への本発明組成物の処理が挙げられ、詳しくは、例えば本発明組成物の懸濁液を霧状にして種子表面若しくは球根表面に吹きつける吹きつけ処理、本発明組成物の水和剤、乳剤若しくはフロアブル剤に少量の水を加える若しくはそのままで、種子又は球根に塗布する塗沫処理、本発明組成物の溶液に一定時間種子を浸漬する浸漬処理、フィルムコート処理及びペレットコート処理が挙げられる。
【００５７】
本発明防除方法における、本発明組成物の処理量は、処理する植物の種類、防除対象である植物病害の種類や発生頻度、製剤形態、処理時期、処理方法、処理場所、気象条件等によっても異なるが、植物の茎葉に処理する場合又は植物を栽培する土壌に処理する場合は、本発明組成物中の本カルボキサミド化合物量で、１０００ｍ2あたり、通常１〜５００ｇ、好ましくは２〜２００ｇ、より好ましくは１０〜１００ｇである。また種子への処理における本発明組成物の処理量は、本カルボキサミド化合物量で、種子１ｋｇあたり、通常０．００１〜１０ｇ、好ましくは０．０１〜１ｇである。
乳剤、水和剤、フロアブル剤等は通常水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本カルボキサミド化合物の濃度は、通常０．０００５〜２重量％、好ましくは０．００５〜１重量％である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま処理する。
【００５８】
本発明組成物は、材木の表面又は内部で発生する菌類病に対しても使用することができる。「材木」とは、全ての種類の木材、そのような木材を建築用に加工した全てのタイプのもの、例えば、高密度木材、積層木材及び合板などを意味する。本発明組成物による材木の処理方法は、本発明組成物を材木に接触させることにより行う。これには例えば、直接的な塗布、噴霧、浸漬、注入等が挙げられる。
【００５９】
本発明組成物は、真菌症、皮膚病、白癬菌性疾患、カンジダ症、アスペルギルス症のような、ヒト又は動物の日和見感染症に対して使用することも出来る。
【実施例】
【００６０】
以下、本発明を参考製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明する。
まず、本カルボキサミド化合物の参考製造例を示す。
【００６１】
参考製造例１
（Ｒ）−１，１，３−トリメチル−４−アミノインダン（光学純度９９％ｅｅ）０．１５ｇ、トリエチルアミン０．１３ｇ、４−ジメチルアミノピリジン５ｍｇ、およびＴＨＦ１ｍＬからなる溶液に、氷冷下で１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸クロライド０．１８ｇのＴＨＦ溶液を滴下した。室温で１５分間攪拌した後、反応混合物に氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、（Ｒ）−（−）−Ｎ−（１，１，３−トリメチルインダン−４−イル）−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（以下、本カルボキサミド化合物（１）と記す。）０．１８ｇ（光学純度９９％ｅｅ）を得た。
本カルボキサミド化合物（１）
2015232021.tif 000015
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.25 (3H, s), 1.28 (3H, d, J = 7.1 Hz), 1.34 (3H, s), 1.67 (1H, dd, J = 12.8, 4.3 Hz), 2.24 (1H, dd, J = 12.9, 8.5 Hz), 3.29-3.37 (1H, m), 3.99 (3H, s), 7.00 (1H, d, J = 6.8 Hz), 7.23-7.27 (1H, m), 7.62 (1H, br s), 7.76 (1H, d, J = 7.8 Hz), 8.04 (1H, s).
［α］D23＝−５４°（ＣＨＣｌ3，ｃ１．０２）
【００６２】
参考製造例２
（Ｒ）−１，１，３−トリメチル−４−アミノインダン（光学純度９９％ｅｅ）０．１５ｇ、トリエチルアミン０．１３ｇ、４−ジメチルアミノピリジン５ｍｇ、およびＴＨＦ１ｍＬからなる溶液に、氷冷下で１−メチル−３−ジフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸クロライド０．１７ｇのＴＨＦ溶液を滴下した。室温で１５分間攪拌した後、反応混合物に氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、（Ｒ）−（−）−Ｎ−（１，１，３−トリメチルインダン−４−イル）−１−メチル−３−ジフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（以下、本カルボキサミド化合物（２）と記す。）０．２０ｇ（光学純度９９％ｅｅ）を得た。
本カルボキサミド化合物（２）
2015232021.tif 000016
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.25 (3H, s), 1.28 (3H, d, J = 7.1 Hz), 1.34 (3H, s), 1.67 (1H, dd, J = 12.9, 4.1 Hz), 2.24 (1H, dd, J = 12.9, 8.5 Hz), 3.32-3.41 (1H, m), 3.94 (3H, s), 6.88 (1H, t, J = 54.1 Hz), 6.98 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.22-7.27 (1H, m), 7.79 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.96 (1H, br s), 8.02 (1H, s).
［α］D23＝−６２°（ＣＨＣｌ3，ｃ０．９９）
【００６３】
参考製造例３
（Ｒ）−１，１，３−トリメチル−４−アミノインダン（光学純度９９％ｅｅ）０．１５ｇ、トリエチルアミン０．１３ｇ、４−ジメチルアミノピリジン５ｍｇ、およびＴＨＦ１ｍＬからなる溶液に、氷冷下で１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸クロライド０．１５ｇのＴＨＦ溶液を滴下した。室温で１５分間攪拌した後、反応混合物に氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、（Ｒ）−（−）−Ｎ−（１，１，３−トリメチルインダン−４−イル）−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（以下、本カルボキサミド化合物（３）と記す。）０．１７ｇ（光学純度９９％ｅｅ）を得た。
本カルボキサミド化合物（３）
2015232021.tif 000017
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.25 (3H, s), 1.32 (3H, d, J = 7.1 Hz), 1.34 (3H, s), 1.67 (1H, dd, J = 12.7, 4.6 Hz), 2.24 (1H, dd, J = 12.9, 8.5 Hz), 2.51 (3H, s), 2.53 (3H, s), 3.31-3.39 (1H, m), 3.76 (3H, s), 6.96 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.21-7.26 (2H, m), 7.76 (1H, d, J = 7.8 Hz).
［α］D23＝−５７°（ＣＨＣｌ3，ｃ１．０１）
【００６４】
次に、本カルボキサミド化合物の製造中間体の製造について示す。
【００６５】
参考製造例４
ＨＰＬＣを用いて、ラセミ体の１，１，３−トリメチル−４−アミノインダンの４．８ｇを下記の条件で両鏡像体に分離し、後のピークとして溶出した（Ｒ）−１，１，３−トリメチル−４−アミノインダン１．２ｇ（光学純度９９％ｅｅ）を得た。
カラム：ＣＨＩＲＡＣＥＬ（登録商標）  ＯＤ光学活性カラム
カラム温度：室温
移動相：ヘキサンと２-プロパノールとの混合溶媒（９９：１）
流量：１０ｍＬ／分
（Ｒ）−１，１，３−トリメチル−４−アミノインダン
2015232021.tif 000018
［α］D25＝−３３．７°（ＣＨＣｌ3，ｃ０．６１）
【００６６】
参考製造例５
ラセミ体の１，１，３−トリメチル−４−アミノインダン３００ｇ、Ｄ−酒石酸１２８ｇおよびメタノール２６０ｍｌを混合し、７０℃で１時間保温した。ついで混合物を室温まで放冷し、約０．１ｇの種晶を混合し二日間放置した。生成した固体を濾別し、メタノールで洗浄した。得られた固体をメタノールから５回再結晶して１，１，３−トリメチル−４−アミノインダンＤ−酒石酸塩１００ｇを得た。得られた１，１，３−トリメチル−４−アミノインダンＤ−酒石酸塩７８ｇにｐＨが１０以上となるまで５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、メチルｔ−ブチルエーテルで３回抽出した。得られた油層を飽和食塩水で洗浄し飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下濃縮して、１，１，３−トリメチル−４−アミノインダンのエナンチオマー比がＲ体／Ｓ体で９９．６／０．４の混合物を３８ｇ得た。
【００６７】
次に本発明組成物の製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。
【００６８】
製剤例１
本カルボキサミド化合物（１）〜（３）のいずれか１化合物５０部、リグニンスルホン酸カルシウム ３部、ラウリル硫酸マグネシウム ２部及び合成含水酸化珪素 ４５部をよく粉砕混合することにより、水和剤を得る。
【００６９】
製剤例２
本カルボキサミド化合物（１）〜（３）のいずれか１化合物２０部とソルビタントリオレエ−ト １．５部とを、ポリビニルアルコ−ル ２部を含む水溶液 ２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム ０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケ−ト ０．１部を含む水溶液 ４０部を加え、さらにプロピレングリコ−ル １０部を加えて攪拌混合し、製剤を得る。
【００７０】
製剤例３
本カルボキサミド化合物（１）〜（３）のいずれか１化合物２部、カオリンクレー ８８部及びタルク １０部をよく粉砕混合することにより、粉剤を得る。
【００７１】
製剤例４
本カルボキサミド化合物（１）〜（３）のいずれか１化合物５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル １４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム ６部及びキシレン ７５部をよく混合することにより、製剤を得る。
【００７２】
製剤例５
本カルボキサミド化合物（１）〜（３）のいずれか１化合物２部、合成含水酸化珪素 １部、リグニンスルホン酸カルシウム ２部、ベントナイト ３０部及びカオリンクレー ６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、粒剤を得る。
【００７３】
製剤例６
本カルボキサミド化合物（１）〜（３）のいずれか１化合物１０部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩 ５０部を含むホワイトカーボン ３５部及び水 ５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
【００７４】
次に、本発明組成物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、供試組成物を処理
した植物の病斑の面積と、無処理の植物の病斑の面積を比較することにより評価した。
【００７５】
試験例１
コムギ葉枯病予防効果試験（Ｓｅｐｔｏｒｉａ  ｔｒｉｔｉｃｉ）
プラスチックポットに土壌を詰め、コムギ（品種；アポジー）を播種し、温室内で１０日間生育させた。本カルボキサミド化合物（１）、（２）及び（３）を製剤例６に準じて製剤とした後、水で希釈し所定濃度(１３ｐｐｍ)にし、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、２日後にコムギ葉枯病菌胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後はじめは１８℃多湿下に３日間置き、さらに照明下に１４日から１８日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本カルボキサミド化合物（１）、（２）及び（３）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。
また、本カルボキサミド化合物の代わりに、ラセミ体のＮ−（１，１，３−トリメチルインダン−４−イル）−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（以下、ラセミ体化合物（Ａ）と記す。）を用いて施用濃度以外は同じ試験を行った。その結果、ラセミ体化合物（Ａ）を５０ｐｐｍで処理した植物上の病斑面積は無処理区の病斑面積の７５％以上であった。
【００７６】
試験例２
コムギ赤さび病予防効果試験（Ｐｕｃｃｉｎｉａ  ｔｒｉｔｉｃｉｎａ）
プラスチックポットに土壌を詰め、コムギ（品種；シロガネ）を播種し、温室内で１０日間生育させた。本カルボキサミド化合物（１）、（２）及び（３）を製剤例６に準じて製剤とした後、水で希釈し所定濃度(２００ｐｐｍ)にし、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。５日後、コムギ赤さび病菌の胞子をふりかけ接種した。接種後１８℃、暗黒多湿下に１日間置き、さらに照明下に９日間置いた後、病斑面積を調査した。
その結果、本カルボキサミド化合物（１）、（２）及び（３）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。
【００７７】
試験例３
オオムギ網斑病予防効果試験（Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ  ｔｅｒｅｓ）
プラスチックポットに土壌を詰め、オオムギ（品種；ニシノホシ）を播種し、温室内で１０日間生育させた。本カルボキサミド化合物（１）、（２）及び（３）を製剤例６に準じて製剤とした後、水で希釈し所定濃度(２００ｐｐｍ)にし、上記オオムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。５日後、オオムギ網斑病の胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後２３℃、多湿下に３日間置き、さらに温室に７日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本カルボキサミド化合物（１）、（２）及び（３）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。
【００７８】
試験例４
ダイズさび病効果試験（Ｐｈａｋｏｐｓｏｒａ  ｐａｃｈｙｒｈｉｚｉ）
プラスチックポットに土壌を詰め、ダイズ（品種；納豆小粒）を播種し、温室で初生葉が展開するまで育てた。本カルボキサミド化合物（１）を製剤例６に準じて製剤とした後、水で希釈し所定濃度にし、上記ダイズの葉面に充分付着するように茎葉散布した。該大豆をさらに温室で１４日間栽培し、第二本葉が展開するまで育てた。ダイズさび病の胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後２３℃、多湿下に一晩置き、さらに温室に７日間置いた後、第一本葉の病斑面積を調査した。
処理区及び無処理区それぞれの病斑面積から、下記式（１）により処理区の効力を求めた。その結果を［表１］に示す。
2015232021.tif 000019
【００７９】
【表１】
2015232021.tif 000020
【００８０】
なお、試験例４で品種「納豆小粒」のかわりに遺伝子組み換え技術により耐性を付与されたダイズ品種を用いても、高い防除効果が得られる。例えば、RoundupReady2（登録商標）の形質を持つダイズ品種を用いても良い。またその際、グリホサートを同時に処理しても高い防除効果が得られる。
【００８１】
試験例５
ダイズさび病効果試験（Ｐｈａｋｏｐｓｏｒａ  ｐａｃｈｙｒｈｉｚｉ）
プラスチックポットに土壌を詰め、ダイズ（品種；納豆小粒）を播種し、温室で初生葉が展開するまで育てた。本カルボキサミド化合物（２）、（３）、ラセミ体のＮ−（１，１，３−トリメチルインダン−４−イル）−１−メチル−３−ジフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（以下、ラセミ体化合物（Ｂ）と記す。）及びラセミ体のＮ−（１，１，３−トリメチルインダン−４−イル）−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（以下、ラセミ体化合物（Ｃ）と記す。）を製剤例６に準じて製剤とした後、水で希釈し所定濃度にし、上記ダイズの葉面に充分付着するように茎葉散布した。該大豆をさらに温室で１４日間栽培し、第二本葉が展開するまで育てた。ダイズさび病の胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後２３℃、多湿下に一晩置き、さらに温室に７日間置いた後、第ニ本葉の病斑面積を調査した。
処理区及び無処理区それぞれの病斑面積から、前記式（１）により処理区の効力を求めた。その結果を［表２］に示す。
【００８２】
【表２】
2015232021.tif 000021
【００８３】
なお、試験例５で品種「納豆小粒」のかわりに遺伝子組み換え技術により耐性を付与されたダイズ品種を用いても、高い防除効果が得られる。例えば、LibertyLink（登録商標）の形質を持つダイズ品種を用いても良い。またその際、グルホシネートを同時に処理しても高い防除効果が得られる。
【００８４】
試験例６
回転式種子処理機（シードドレッサー、Ｈａｎｓ−Ｕｌｒｉｃｈ  Ｈｅｇｅ  ＧｍｂＨ製）でダイズ（品種；納豆小粒）種子１０ｇに対して、所定の重量の本カルボキサミド化合物（２）を含むシクロヘキサノン溶液１００μｌを塗沫処理する。
前記処理から１日後、リゾクトニア属菌（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ  ｓｏｌａｎｉ）で汚染された土壌をプラスチックポットに詰め、供試化合物を処理した種子を播種し、ガラス温室で２０日間栽培する（これを処理区とする）。その後、各種子から出芽した苗におけるリゾクトニア属菌による苗立枯れ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ  ｓｏｌａｎｉ）の発病の有無を観察し、下記式（２）により発病率を求める。
一方、前記の塗沫処理をしていないダイズ種子を用いて、処理区と同様に栽培する（これを無処理区とする。）。そして処理区と同様に発病率を求める。
処理区及び無処理区それぞれの発病率から、下記式（３）により処理区の効力を求める。その結果、本カルボキサミド化合物（２）を含有するシクロヘキサノン溶液を処理区においてそれぞれ優れた植物病害防除効果を示すことが確認できる。
2015232021.tif 000022
2015232021.tif 000023
【００８５】
なお、試験例６で品種「納豆小粒」のかわりに遺伝子組み換え技術により耐性を付与されたダイズ品種を用いても、高い防除効果が得られる。例えば、RoundupReady2（登録商標）の形質を持つダイズ品種を用いても良い。またその際、グリホサートを種子の発芽前または種子の発芽後に処理しても高い防除効果が得られる。