(57)【要約】【課題】  雰囲気に依らず、保持装置に搬送された基板の接触状態を判断できる保持装置を提供すること。【解決手段】  本発明に係る保持装置は、基板１を保持可能な保持台２と、基板１の受け渡しのために保持台２の上方で基板１を支持する支持ユニット５と、前記保持台又は支持ユニットを上下方向に移動させるアクチュエータ１２と、保持台２に対する支持ユニット５の上下方向の位置情報を検出する第１検出部２６とを有する。さらに、位置情報に基づいてアクチュエータ１２に与える電流を制御する制御部１１と、基板１の受け渡しを行うときに変化するアクチュエータ１２に与える電流に相関のある情報を検出する第２検出部１３と、第２検出部１３による検出結果に基づいて、支持ユニット５と基板１との接触状態を判断する判断部１４とを有することを特徴とする【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持可能な保持台と、
前記基板の受け渡しのために前記保持台の上方で前記基板を支持する支持ユニットと、
前記保持台又は支持ユニットを上下方向に移動させるアクチュエータと、
前記保持台に対する前記支持ユニットの前記上下方向の位置情報を検出する第１検出部と、
前記位置情報に基づいて前記アクチュエータに与える電流を制御する制御部と、
前記基板の受け渡しを行うときに変化する前記アクチュエータに与える電流に相関のある情報を検出する第２検出部と、
前記第２検出部による検出結果に基づいて、前記支持ユニットと前記基板との接触状態を判断する判断部とを有することを特徴とする基板の保持装置。
【請求項２】
基板を保持可能な保持台と、
前記基板の受け渡しのために前記保持台の上方で前記基板を支持する支持ユニットと、
前記保持台又は支持ユニットを上下方向に移動させるアクチュエータと、
前記アクチュエータに与える電流を制御する制御部と、
前記保持台に対する所定の位置に前記支持ユニットがあるか否かを検出する第１検出部と、
前記基板の受け渡しを行うときに変化する前記アクチュエータに与える電流に相関のある情報を検出する第２検出部と、
前記第１検出部及び前記第２検出部の検出結果に基づいて、前記支持ユニットと前記基板との接触状態を判断する判断部とを有することを特徴とする基板の保持装置。
【請求項３】
前記電流に相関のある情報は、電流であることを特徴とする請求項１又は２に記載の保持装置。
【請求項４】
前記判断部は、前記電流に相関のある情報の変化に基づいて、前記支持ユニットが前記基板を支持しているか否かを判断することを特徴とする請求項１又は３に記載の保持装置。
【請求項５】
前記アクチュエータを複数有し、複数の前記アクチュエータは前記支持ユニットが有する複数の支持部材を個別に前記上下方向に移動させ、前記判断部は、前記複数のアクチュエータのそれぞれに関する前記電流に相関のある情報に基づいて前記基板の支持位置のずれを判断することを特徴とする請求項１又は３に記載の保持装置。
【請求項６】
前記判断部は、前記第２検出部が検出した前記電流に相関のある情報と前記電流に相関のある情報の所定値とを比較して、前記支持ユニットが前記保持台の上にある前記基板を離すことができるか否かを判断することを特徴とする請求項２又は３に記載の保持装置。
【請求項７】
前記保持台は静電気力によって前記基板を吸着保持することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の保持装置。
【請求項８】
基板を保持可能な保持台と、
前記基板の受け渡しのために前記保持台の上方で前記基板を支持する支持ユニットと、
前記支持ユニットを上下方向に移動させるアクチュエータと、
前記支持ユニットの前記上下方向の位置情報を取得する第１検出部と、
前記位置情報に基づき前記アクチュエータに与える電流を制御する制御部と、
前記基板を受け渡すときに前記電流を検出する第２検出部と、
前記第２検出部による検出結果に基づいて前記支持ユニットと前記基板との接触状態を判断する判断部とを有することを特徴とする基板の保持装置。
【請求項９】
基板を保持可能な保持台と、
前記基板の受け渡しのために前記保持台の上方で前記基板を支持する、複数の支持部材と、
前記複数の支持部材のそれぞれに接続され、各々の前記複数の支持部材を上下方向に移動させる複数のアクチュエータと、
前記複数の支持部材の前記上下方向の位置情報を取得する第１検出部と、
前記位置情報に基づいて前記複数のアクチュエータのそれぞれに与える電流を制御する制御部と、
前記基板の受け渡しを行うときに変化する前記複数のアクチュエータのそれぞれに関する電流に相関のある情報を検出する第２検出部と、
前記第２検出部による検出結果に基づいて、前記基板の支持位置のずれを判断する判断部とを有することを特徴とする基板の保持装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の保持装置を有し、
前記保持装置で保持された基板に対してビームを照射し、前記基板上にパターンを形成することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１１】
基板の受け渡し工程において、前記基板を支持する支持ユニットの上下方向の位置情報を取得するステップと、
前記位置情報を基づき前記支持ユニットを上下方向に移動させるアクチュエータに電流を与えるステップと、
前記アクチュエータに与える電流に相関のある情報を取得するステップと、
前記アクチュエータに与える電流に相関のある情報を用いて前記支持ユニットと前記基板との接触状態を判断するステップとを有することを特徴とする判断方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載のリソグラフィ装置を用いて基板上にビームを照射する工程と、
前記基板に対してエッチング処理及びイオン注入処理の少なくともいずれか一方を施す工程とを有することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１３】
前記物品は、半導体集積回路素子、液晶表示素子、撮像素子、磁気ヘッド、ＣＤ−ＲＷ、光学素子またはフォトマスクであることを特徴とする請求項１２に記載の物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保持装置、リソグラフィ装置、判断方法、及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光を照射してパターンを転写するリソグラフィ装置は基板を保持する保持装置を有する。特許文献１には、真空吸着によって基板を保持する保持装置が開示されている。当該保持装置は、基板の吸着圧力を計測して基板の載置位置のずれによる吸着異常を検知する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−６２２２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前述の保持装置は、吸着圧力を計測することによって基板が搬送されたかどうかという判断も併せて行うことができると考えられる。しかしながら、電子線や極紫外（ＥＵＶ）光を照射するリソグラフィ装置等の真空雰囲気を利用する装置では、真空吸着式の保持装置を搭載しづらい。
【０００５】
そこで本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、雰囲気に依らず、保持装置に搬送された基板の接触状態を判断できる保持装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の保持装置は、基板を保持可能な保持台と、前記基板の受け渡しのために前記保持台の上方で前記基板を支持する支持ユニットと、前記保持台又は支持ユニットを上下方向に移動させるアクチュエータと、前記保持台に対する前記支持ユニットの前記上下方向の位置情報を検出する第１検出部と、前記位置情報に基づいて前記アクチュエータに与える電流を制御する制御部と、前記基板の受け渡しを行うときに変化する前記アクチュエータに与える電流に相関のある情報を検出する第２検出部と、前記第２検出部による検出結果に基づいて、前記支持ユニットと前記基板との接触状態を判断する判断部とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、雰囲気に依らず、保持装置に搬送された基板の接触状態を判断できる保持装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施形態１〜３に係る描画装置の図。
【図２】実施形態１に係る基板の保持装置の図。
【図３】実施形態１に係る、ウエハ搬入時の様子を示す図。
【図４】実施形態１に係る、ウエハ搬入時のフローチャート。
【図５】実施形態１に係る、ウエハ搬出時の様子を示す図。
【図６】実施形態２に係る、残留吸着があるときの様子を示す図。
【図７】実施形態３に係る基板の保持装置の図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
［実施形態１］
（基板保持装置の構成）
図１に電子線を用いてウエハ上に回路パターン等を描画する描画装置１００を示す。描画装置１００は、実施形態１に係るウエハ（基板）１の保持装置２を有する。電子源２０は電子線を射出し、電子レンズ（不図示）やアパーチャアレイ（不図示）等の素子を有する光学系２１は電子源２０から射出された電子線を成形してウエハ１上に集束する。
【００１０】
定盤４上にはステージ３が載置され、ステージ３上には保持装置２が載置されている。保持装置２が有する後述のチャック６がウエハ１を静電気力により吸着保持する。保持装置２から離れた場所には、搬送室２２にある複数枚のウエハを１枚ずつ保持装置２に受け渡す搬送ハンド２３（以下、ハンド２３と略す）がある。
【００１１】
これらの部材は、搬送室２２とゲートバルブ２４で接続されている真空チャンバ２５内にある。真空チャンバ２５の内部は真空ポンプ（不図示）により真空に保たれている。さらに真空チャンバ２５の内壁には、保持装置２が有するピンユニット５の位置を検出する検出部２６（第１検出部）がある。検出部２６の種類については後に詳述する。
【００１２】
保持装置２の拡大図を図２に示す。図２（ａ）は保持装置２の構成を示す図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）の一部の斜視図である。図２（ａ）では、ピンユニット（支持ユニット）がウエハ１を支持している状態であり、ウエハ１を保持可能なチャック６（保持台）にはまだ載置されてない状態を示している。ウエハ１の受け渡しはチャック６より上方位置においてピンユニット５を介して行われ、ピンユニット５が下降することでウエハ１がチャック６上に載置される。
【００１３】
ピンユニット５は３つのピン（支持部材）５ａ〜５ｃ（５ｃは図２（ｂ）に図示）を有している。ここで、ピン５ａ〜５ｃは、接触面の平面度が小さくなるように、そして同一形状かつ同一の高さとなるように加工されている。また保持装置２の中央部から等間隔で配置されている。これにより、ウエハ１を安定的に支持することができる。
【００１４】
ステージ３上に固定されているチャック６は、中空の円柱形状をしており、ピン５ａ〜５ｃに対応する開口を有している。ピンユニット５が下降してウエハ１がチャック６上に載置された後に、チャック６はウエハ１を静電吸着により保持できる。
【００１５】
昇降部材７はピンユニット５と共に上下方向に移動する部材であり、ピンユニット５が固定支持されている支持材７ａと、支持材７ａの２か所に対になって固定されており支柱８に沿って移動するスライダ７ｂとを有している。支柱８はリニアガイドのガイド軸であり、支柱８は、同じリニアガイドの可動部であるスライダ７ｂの移動を接触方式で案内する。なお以下の説明において、上下方向に移動するとは、鉛直方向に沿って移動することを意味する。
【００１６】
これらの上下方向への移動は、コイル９と磁石１０による電磁アクチュエータによって行われる。コイル９はステージ３上に固定されており、磁石１０はコイル９と対向する位置に配置されている。後述の制御部１１の指示に従ってコイル９に電流が流れると、磁石１０が上下方向に移動する。制御部１１は検出部２６を用いてピンユニット５が所定の高さに来たかどうかを判断する。なお、本実施形態のようにコイル９はステージ３側に設けることが好ましい。このように配置することで、電流を流すことによるコイル９の発熱がウエハ１に伝わり熱歪みが生じることを予防することができる。
【００１７】
検出部２６は、ピンユニット５の高さ方向の位置（位置情報）を検知できれば良い。検出部２６の例として、レーザ干渉計、静電容量センサ、渦電流式変位センサ、リニアエンコーダ等の各種非接触センサが挙げられる。
【００１８】
制御部１１は、ピンユニット５の上下方向の移動に必要な指令電流値をドライバ１２に出力する。ドライバ１２がコイル９に電流を流すことで、磁石１０及び磁石１０と連結されている昇降部材７やピンユニット５を上下方向に移動する。
【００１９】
制御部１１はＣＰＵ（不図示）とメモリ（不図示）と有しており、メモリには図４に示す後述のフローチャートに示すプログラムが記憶されている。制御部１１のＣＰＵはメモリに記憶されているプログラムに基づいて指令電流値を制御し、ピンユニット５の上下方向に移動を制御する。
【００２０】
ドライバ１２とコイル９の間には、ドライバから出力されている電流値を計測する検出部（第２検出部）１３を配置している。判断部１４はＣＰＵ（不図示）及びメモリ（不図示）とを有しており、判断部１４のメモリにはウエハ１の分の荷重を支えるために必要な電流値分の変動があったかどうかを判断するために必要な、変動電流値のしきい値が記憶されている。ウエハ１の受け渡しのための動作を開始してからウエハ１の受け渡し動作が終了するまでの間に変化する、検出部１３が計測する計測値（検出結果）の変化から、判断部１４はピンユニット５がウエハ１を支持しているかどうかを判断する。
【００２１】
（ウエハ状態の判断方法）
図３にウエハ１の搬入時の様子（状態ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ）を示す。図３（Ａ）は保持装置２の状態を、図３（Ｂ）は検出部１３で計測される電流値の変化を示している。なお、制御部１１、ドライバ１２、検出部１３、判断部１４は図示を省略している（図６、図７でも同様に省略している）。図４はウエハ１の搬入時における、制御部１１の処理内容を示すフローチャートである。
【００２２】
図４における開始時は、ｔ＝０でありピンユニット５が最下位置状態である。次に、制御部１１は一定速度でピンユニット５を上昇させる指示を出す（Ｓ１０１）。図３（Ａ）における状態ａは、その指示に従ってピンユニット５が上昇中の様子を示している。
【００２３】
制御部１１はピンユニット５を上昇させながら、ピンユニット５が、ウエハ１の載置高さである所定の高さ（所定の高さ）に来たかどうかを判断する（Ｓ１０２）。検出部２６がピンユニット５が所定の高さにあることを検知した場合（ＹＥＳ）は、制御部１１は検出器２６を用いながらアクチュエータの制御状態をサーボＯＮの状態に変更する（Ｓ１０３）。サーボＯＮの状態中は、ピンを所定の高さにとどめるためにピンユニットの高さ情報を制御部１１にフィードバックする。図３（Ａ）における状態ｂは、ピンユニット５がウエハ１を受け取るための最上位置に位置している状態であり、状態ｂにするためには電流ｉ０が必要であることを示している。
【００２４】
制御部１１は判断部１４がウエハ１の載置を検知したかどうかを判断する（Ｓ１０４）。図３（Ａ）（Ｂ）における状態ｃは、ハンド２３がウエハ１をピンユニット５上に載置し終えた状態を示している。ピンユニット５を最上位置に位置決めしておくためには、ピンユニット５の自重の他にウエハ１の荷重が加わる分、コイル９に流す追加電流が必要となる。よって、電流値はｉ０からｉ１に変化している。
【００２５】
判断部１４は、この電流値の変化が、判断部１４のメモリに記憶されているしきい値以上であることを確認した上でウエハ１がピンユニット５上に載置されたと判断する。判断部１４がウエハ１は載置されたと判断した（ＹＥＳ）場合は、制御部１１はサーボをＯＦＦにして、徐々に指令電流値を減少させる指示を出す（Ｓ１０６）。判断していない（ＮＯ）場合は、サーボＯＮの状態を維持して待機する。
【００２６】
図３（Ａ）（Ｂ）における状態ｄは、ウエハ１を支持したまま、ピンユニット５を下降している途中の状態を示している。コイル９に流す電流値が徐々に下がっていく。下降の途中で、チャック６上にウエハ１が載置される。状態ｅは、ピンユニット５が最下位置にあり、チャック６上にウエハ１が載置されている状態を示している。磁石１０には鉛直上向きの力を与える必要がなくなるため、コイル９に流す電流値は０となる。以上で、ウエハ１の搬入動作が完了する。
【００２７】
このように、少なくともウエハ１を載置する前後において検出部１３が電流値をモニタリングし、判断部１４がその電流値の変化を見てウエハ１がピンユニット５に支持されたかどうかを判断することができる。チャック６上にウエハ１が載置されてから、静電チャックの吸着機構（不図示）がウエハ１を吸着保持する。
【００２８】
図５に描画を終えたウエハ１の搬出時の様子（状態ａ’、ｂ’、ｃ’、ｄ’）を示す。図５（Ａ）は保持装置２の状態を、図５（Ｂ）は時間に対して検出部１３で計測される電流値の変化を示している。状態ａ’の前に、チャック６は吸着保持を解除しているとする。
【００２９】
状態ａ’では、ステージ３がハンド２３がウエハ１を搬出可能な位置まで移動されている。ピンユニット５が最下位置にあり、チャック６上にウエハ１が載置されている状態を示している。制御部１１は任意のタイミングでピンユニット５を上昇させるために徐々にコイル９に電流を加えていく。状態ｂ’は、ピンユニット５が上昇していく様子を示しており、途中でチャック６上に載置されているウエハ１を支持しながら上昇していく。制御部１１は、ピンユニット５の上昇中は、検出部２６を用いてピンユニット５が所定の高さに来たかどうかを検知する。
【００３０】
状態ｃ’では、ピンユニット５が最上位置まで移動したため、制御部１１がサーボＯＮの状態としピンユニット５の位置を一定にするようにしている状態である。状態ｄ’は、ハンド２３がウエハ１を搬出し終えた状態を示している。ウエハ１の搬出に合わせて、状態ｃ’においてｉ１であった電流値が状態ｄ’ではｉ０まで減少している。状態ｃ’における電流値ｉ１から及び状態ｄ’における電流値ｉ０への減少という電流値の変化から、判断部１４は、ウエハ１が正常に搬出されたと判断する。制御部は判断部１４の判断を受けてサーボ状態をＯＦＦにして次の動作に移行する。
【００３１】
このように本実施形態では、少なくともウエハ１の受け渡しを行うとき、すなわちウエハ１の受け渡し前後におけるピンユニット５の昇降に要する電流値の変化を検出する。これにより、ピンユニット５上のウエハ１の有無、すなわちウエハ１の搬入及び搬出の動作を確認することが可能となる。本実施形態は荷重センサが無くてもウエハが支持されたかどうかを判断可能なため、特にピンユニット５の下部にセンサを配置する空間が狭い場合に好適である。
【００３２】
［実施形態２］
一般に静電吸着式のチャックである場合、チャックとウエハに印加した電圧の電源を切れば吸着力は弱まる。ところが、電源を切った後のしばらくの間は残留吸着が残る場合があり、残留吸着力が残った状態のままチャックからウエハを持ち上げようとするとウエハが割れてしまう可能性がある。このような事態が生じないようにするための手段を実施形態２として示す。
【００３３】
実施形態２に係る保持装置２は、判断部１４に搭載されているメモリが、所定のしきい値電流（電流に相関のある情報の所定値）ｉ２を記憶している点で実施形態１の保持装置２とは異なる。ここでしきい値電流とは、コイル９に与える電流値であってウエハ１の搬出時にウエハを割らない範囲の所定の電流値である。検出器２６は、少なくとも、ピンユニット５が所定の高さにあるか否かどうかを検知できれば良い。
【００３４】
図６は実施形態２におけるウエハの搬出動作（状態ａ２、ｂ３、ｃ２）を示す。状態ａ２は、ピンユニット５が最下位置にあり、コイル９に流す電流値も０の状態を示している。図６（Ｂ）に示す状態ｂ２の区間では、ウエハ１の受け渡し動作の開始に伴い、制御部１１がピンユニット５を一定の割合で上昇させるために指令電流値を出力している。図６（Ａ）のｂ２は、ピンユニット５がウエハ１に接触する位置まで上昇し、そのままウエハ１を持ち上げようとしている状態を示している。
【００３５】
しかし、残留吸着が残っているとウエハ１をチャック６よりも上方に移動させることができないため、検出部２６はピンユニット５を検知できず、コイル９に流す電流値だけが上昇していく。本来であれば電流ｉ１に相当する力を与えればウエハ１を持ち上げることが可能であるところ、それ以上にウエハ１に過剰に力を加えすぎるとウエハ１が割れてしまう恐れがある。そのため、ピンユニット５が所定の高さに来たことを検出部２６が検知する前に判断部１４が計測値がしきい値電流ｉ２まで達したと判断した場合には、制御部１１はピンユニット５の上昇動作を中止して指令電流値を下げる指示をする。
【００３６】
状態ｃ２は、判断部１４の判断に基づいてピンユニット５がウエハ１に与える力を減少させた様子を示している。さらに、制御部１１は一定の時間が経過してから再びピンユニット５を上昇させてみるように設定しておいても良い。
【００３７】
本実施形態であれば、ウエハ１の受け渡しのための動作を行うとき、電流値の計測とピンユニット５やウエハ１の位置観察に基づいて、チャック６からウエハ１を安全に離すことができるか否か（支持ユニットと基板の接触状態）を判断できる。ウエハ１の搬出時にウエハ１に過剰な力を与える前に判断できることで、残留吸着によってパターンを描画し終えたウエハを割ってしまうことを防ぎ、デバイス等の製造工程における歩留まりの低下を防ぐことが可能となる。
【００３８】
なお、最初からピンユニット５の目標位置をウエハの受け渡し高さにした状態でサーボをＯＮにしておき、ピンユニット５の上方への移動を制御中に判断部１４がウエハ１を安全に離すことができるか否かを判断しても良い。なお、本実施形態では検出器２６は、少なくとも、ピンユニット５が所定の高さにあるか否かを検知できれば良く、磁場センサや温度センサを用いても構わない。
【００３９】
［実施形態３］
実施形態３に係る保持装置２の構造を図７に示す。実施形態３は、ウエハ搬入時に、ウエハ１がピンユニット５に横ずれ（支持位置のずれ）なく支持されたかどうかを判断することに関して適した実施形態である。そのため、搬入前のプリアライメント時に、アライメント誤差が生じてしまった場合に有効である。
【００４０】
保持装置２にはアクチュエータ機構が複数個あり、これらがピンユニット５のうちの、ピン５ａ〜５ｃ（ピン５ｃは不図示）の各々に対して設けられている点で実施形態１とは異なる。本実施形態に係る保持装置２はコイル９と磁石１０からなるアクチュエータの機構を３セット分有しており、３つのピン５ａ〜５ｃを個別に移動することができる。ピン５ａの位置決め制御のために、制御部１１ａ、ドライバ１２ａ、検出部１３ａがある。ピン５ｂの位置決め制御のために、制御部１１ｂ、ドライバ１２ｂ、検出部１３ｂがある。不図示のピン５ｃにも同様に接続されている。
【００４１】
また、判断部１４は３つの検出部１３ａ、１３ｂ、１３ｃ（検出部１３ｃは不図示）に接続されている。さらに、判断部１４は検出部１３ａ〜１３ｃからの計測値を比較することができ、判断部１４が有するメモリには検出部１３ａ〜１３ｃの値の差の許容範囲を記憶している。さらに、サーボＯＮの状態でピンユニット５の位置や変位を計測する検出部２６が３つ有している点で実施形態１及び実施形態２とは異なる。
【００４２】
制御部１１ａ、１１ｂ、１１ｃ（１１ｃは不図示）はピン５ａ、５ｂ、５ｃを同じ位置に位置決めするように指令電流値をドライバ１２ａ、１２ｂ、１２ｃ（ドライバ１２ｃは不図示）に指示する。ピンユニット５に支持されたウエハ１が、ピンユニット５の重心から横ずれなく支持された場合は、全ての検出部１３ａ〜１３ｃは同一の電流値を示す。あるいは、差が微小範囲におさまる電流値を示す。
【００４３】
一方、ウエハ１が載置ずれした状態でピンユニット５に支持された場合には、各々のピンに係る荷重が異なることから、全てのピンを所定の高さに維持するために要する電流値が検出部１３ａ、１３ｂ、１３ｃの間でばらつきが生じる。
【００４４】
そこで、判断部１４は、各検出部１３ａ、１３ｂ、１３ｃによる計測値を比較する。電流値に関して許容値以上の偏差が生じていると判断した場合には、判断部１４は載置位置がずれていると判断し、エラー状態である旨を制御部１１ａ、１１ｂ、１１ｃに伝える。搬入ハンド２３がウエハ１を搬出し、搬入前に行われたプリアライメントの動作をやり直して再び搬入するように設定することができる。
【００４５】
本実施形態によれば、ウエハの反りや一時的なプリアライメントの誤動作による搬入時のウエハの載置ずれを防ぐことができる。また、光学式センサでウエハ上に形成されているアライメントマークの位置を計測し始める前に、光学式センサの計測視野にアライメントマークが入らなくなるといった状態になることを未然に防ぐことができる。
【００４６】
［その他の実施形態］
実施形態１及び実施形態２の場合は、ピンではなくチャックの方を上下方向に移動可能な構造にしても良い。チャックがステージに固定されておらず、軽い部材であればこのような構成にしても構わない。基板はウエハに限らず、液晶基板として用いるガラス板でも良い。ピンユニットを構成するピンの本数も本実施形態に限られるわけではなく、安定した状態でウエハを支持できる形状であれば良い。
【００４７】
判断部１４が制御部１１による指令電流値を直接取得することが可能な場合は、制御部１１が検出部１３の機能を兼ねていても構わない。これにより、保持装置２をより簡素な構成にすることができる。前述の実施形態のような静電チャックだけでなく真空チャックである場合にも適用できる。その場合は、支柱８とスライダ７ｂとしてリニアガイドではなく、静圧軸受を用いても構わない。
【００４８】
また、判断部は電流値に基づいて各種判断をするのではなく、ドライバからアクチュエータに接続されている回路に挿入した抵抗にかかる電圧値や、可変抵抗を挿入して所定電圧を印加したときの抵抗値など、電流と相関のある情報に基づいて判断しても良い。
【００４９】
ピンユニットの高さは、磁石１０に横に伸びた柱形状の部材を設けて、その柱形状の高さを計測することで間接的にピンの高さを求めても良い。また、検出部２６の配置位置は図１に示すように真空チャンバ３５の内壁に限られず、ステージ３上に配置して昇降部材７の高さを計測することで間接的にピンの高さを求めても良い。
【００５０】
実施形態１、３では少なくともピンユニットがウエハの搬入出の高さにある状態で、制御部がその位置にとどまるように制御している必要がある。しかし、常に変位センサでピンユニットの位置を計測し、ピンユニットの位置情報と、電流の変化からピンユニットとウエハの接触状態（ピンユニット上における有無、ウエハの載置ずれ等）を計測しても構わない。実施形態１、２では、ピンユニットの構成は複数点で支持する構成に限られない。ウエハを指示できるのであれば、ピンによる点支持ではなく１つの面で支持する形状としても良い。
【００５１】
本発明に係る基板の保持装置は、電子線を用いた描画装置に限らず、ＫｒＦやＥＵＶ等の光線、イオンビームやレーザビームを照射してパターンを形成するリソグラフィ装置や、インプリント法を用いてパターンを形成するリソグラフィ装置にも適用できる。さらに、熱処理やエッチング処理等、基板に対して処理を施すその他の装置に対しても適用可能である。
【００５２】
［物品の製造方法］
本発明の物品（半導体集積回路素子、液晶表示素子、撮像素子、磁気ヘッド、ＣＤ−ＲＷ、光学素子またはフォトマスク等）の製造方法は、前述の実施形態に係る基板の保持装置を用いて基板上にパターンを露光する工程と、露光されたウエハやガラス等の基板に対してエッチング処理又はイオン注入処理を施す工程とを含む。さらに、他の周知の工程（現像、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含んでも良い。
【符号の説明】
【００５３】
１  基板
２  保持装置
５  ピンユニット
６  チャック
９  コイル
１０  磁石
１１  制御部
１２  ドライバ
１３  検出部（電流値）
１４  判断部
２６  検出部（ピンユニットの位置）
１００  描画装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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