(57)【要約】【課題】ガラス基板の熱変形を防ぎ，安定した像性能と高スループットを得ることのできる露光装置を提供すること。 【解決手段】基板チャックとガラス基板（１４）の温度を同一素子にて検出する温度検出手段（２１）と，供給される圧縮空気（１９）を温調する温調手段（２３）とを備えた複数のベルヌーイチャック（１５）によりガラス基板（１４）を懸垂保持し，基板チャックの温度分布と等しくなるようにガラス基板（１４）を温調する。 【選択図】  図３（ａ）
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板チャックとガラス基板の温度を同一素子にて検出する温度検出手段と，前記温度検出手段に基づいて，供給される圧縮空気を温調する温調手段とを備えた複数のベルヌーイチャックを有し，前記ベルヌーイチャックによりガラス基板を懸垂保持し，基板チャックの温度分布と等しくなるように温調するガラス基板温調ユニットを備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記ガラス基板温調ユニットに，ガラス基板を基板チャックに搭載するための昇降機構を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
温度検出手段として非接触の放射温度計を用いることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記ガラス基板温調ユニットに，供給空気を回収する排気手段を設けたことを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来，ガラス基板を温調する手段としては，温調されたバッファ室にガラス基板を格納して温調するバッファ方式や，一枚ずつガラス基板に直接温調空気を供給して温調を行う方式が提案されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−７２４９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
露光装置において，ガラス基板の温度と，基板ステージ上でガラス基板を保持する吸着チャックとの間で温度差があると，ガラス基板は露光動作中にチャック温度に馴染もうと熱変形を生じる。そうなると，原版パターンを焼き付けた際の線幅が不均一になるなど像性能が低下してしまう。
【０００５】
従来のガラス基板温調方式では，一定温度のエアを供給することで基板全体の温度を均一化しているが，チャック温度との相対的な温度差を解消することはできない。
【０００６】
ガラス基板をチャック温度に馴染ませるために，チャックに搭載してから一定時間経過させる方法もあるが，スループットが低下してしまう。
【０００７】
そこで，本発明は，ガラス基板をチャック温度と同等になるように温調し，安定した露光性能の維持と高スループットを達成することのできる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
その目的を達成するために，本発明の露光装置は，基板チャックとガラス基板の温度を同一素子にて検出する温度検出手段と，該温度検出手段に基づいて圧縮空気を温調する温調手段とを備えた複数のベルヌーイチャックを有し，該ベルヌーイチャックにより懸垂保持されたガラス基板を，基板チャックの温度分布と等しくなるように温調する温調ユニットを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
ガラス基板を所定の温度に温調して露光中のガラス基板の熱変形を防ぎ，安定した像性能を得るとともに，ガラス基板の温調時間を短縮して高スループットを実現する露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の第１実施形態の露光装置を示した図である。
【図２】本発明の第１実施形態の露光装置を示した図である。
【図３（ａ）】本発明の第１実施形態の露光装置を示した図である。
【図３（ｂ）】本発明の第１実施形態の露光装置を示した図である。
【図４】本発明の第１実施形態の露光装置を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に，本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【００１２】
〔第１実施形態〕
図１は本発明の第１実施形態の露光装置の図である。図１において露光装置本体は空調機械室１，空調エア供給部２を備えた恒温チャンバ３内に設置されており，露光装置を取り巻く周囲の環境は一定に保たれている。露光装置本体は，構造体４に原版ステージ５，投影光学系６およびガラス基板温調ユニット７が搭載されている。投影光学系６は露光光を反射させる折り曲げミラー２４，凸面ミラー２５，円形ミラー２６により構成される。ランプ光源８より発せられた露光光が照明光学系９，結像光学系１０により所定の光束に形成された後，原版ステージ５上のマスク（不図示）を照明する。照明されたマスク上のパターンは，投影光学系６により，基板ステージ１１の基板チャック１２上に搭載されるガラス基板１３表面に塗布されたレジストを感光させる。
【００１３】
図２にガラス基板温調ユニット７の詳細を示す。ガラス基板温調ユニット７はガラス基板１４のＸ−Ｙ面をＺ方向に懸垂保持するような複数のベルヌーイチャック１５を有している。ここでガイド１６はベルヌーイチャック１５により懸垂保持されるガラス基板１４のＸあるいはＹ方向への流動を防止するものである。ガラス基板温調ユニット７はＺ方向に昇降する昇降機構１７を有し，温調が完了したガラス基板１４をリフトピン１８に搭載する。リフトピン１８は基板チャック１２に格納され，ガラス基板１４が基板チャック１２に吸着される。また，ガラス基板温調ユニット７には，圧縮空気１９を供給するための供給配管２０と，供給された空気を回収する排気配管２７を設けている。
【００１４】
図３（ａ）および図３（ｂ）にベルヌーイチャック１５の詳細を示す。図３（ａ）に示すようにベルヌーイチャック１５内には，ガラス基板１４表面および基板チャック１２表面の温度を非接触で検出する温度検出手段２１を有している。この温度検出手段２１としては，例えば放射温度計に代表される非接触で温度測定可能な素子を用いる。温度検出手段２１により検出されたガラス基板１４の温度情報が温度コントローラ２２に送られ，温度コントローラ２２はベルヌーイチャック１５に供給される圧縮空気１９が所定の温度になるよう温調手段２３を制御する。
【００１５】
このような複数のベルヌーイチャック１５を設け，ガラス基板１４の温度分布を検出し，個々のベルヌーイチャック１５に供給される圧縮空気１９の温度制御を行うことにより，ガラス基板１４を所望の温度に温調可能となる。また，ガラス基板１４に対しては非接触での保持であるため，レジスト面を傷つけることなく温調が可能である。
【００１６】
加えて，従来の送風機を使用した基板温調方式に比べ，少ない風量で済むことから省エネにも寄与できる。供給と同時に排気も行うため周囲にまき散らす空気の量は少なく，露光装置内の温度環境を乱すこともない。
【００１７】
次に，ガラス基板温調ユニット７を使用した露光プロセスについて説明する。ガラス基板が露光装置に搬入される前の状態，すなわちガラス基板１３，１４がない状態でまず図３（ｂ）に示すように，基板チャック１２の表面温度を温度検出手段２１により検出し，基板チャック１２の温度状態を記憶する。次に，搬送ロボットハンド（不図示）により露光装置内にガラス基板が搬入され，ガラス基板温調ユニット７に懸垂保持される。ガラス基板１４はガラス基板温調ユニット７により基板チャック１２の温度分布と等しくなるように温調される。温調されたガラス基板１４は，ガラス基板温調ユニット７の昇降機構１７により基板チャック１２に搭載され露光シーケンスに移行する。
【００１８】
その間，新たなガラス基板１４が搬送ロボットハンドにより露光装置内に搬入，ガラス基板温調ユニット７に懸垂保持され，ガラス基板１４の温調を行う。露光シーケンスが終了したガラス基板は搬送ロボットハンドにより露光装置外へ搬出され，ガラス基板温調ユニット７により温調されたガラス基板１４が基板チャックに搭載され，露光シーケンスが開始される。
【００１９】
これにより，ガラス基板の熱変形を抑制し，良好な像性能を得るとともに，スループットを向上させることができる。
【００２０】
〔第２実施形態〕
図４に本発明の第２実施形態を示す。露光装置の待機時に，ガラス基板温調ユニット７を昇降機構１７により基板チャック１２近傍まで接近させ，温度検出手段２１により基板チャック１２の温度を測定する。基板チャック１２の温度分布に基づいて，ベルヌーイチャック１５に供給する圧縮空気１９を温調手段２３により所定の温度に調整する。温調された圧縮空気１９を基板チャック１２に供給し，基板チャック１２の温調を行う。
【００２１】
通常，装置がダウンし，空調機械室１が停止してしまうと基板チャック１２の温度も変化し，装置復帰後も基板チャック１２の温度安定時間が必要となる。本実施形態によれば，装置復帰後，基板チャック１２の温度を短時間で所定の温度に安定させることが可能であり，装置ダウンタイムを短縮することができる。
【符号の説明】
【００２２】
１４  ガラス基板
１５  ベルヌーイチャック
１９  圧縮空気
２１  温度検出手段
２２  温度コントローラ
２３  温調手段
【図３（ｂ）】
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【図４】
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【図１】
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【図２】
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【図３（ａ）】
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