(57)【要約】【課題】耐熱性に優れた組成物を提供すること。【解決手段】潜在性添加剤（Ａ）及び酸発生剤又はカチオン重合開始剤（Ｂ）を含有する組成物である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
潜在性添加剤（Ａ）及び酸発生剤又はカチオン重合開始剤（Ｂ）を含有する組成物。
【請求項２】
潜在性添加剤（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物からなることを特徴とする請求項１記載の組成物。
【化１】
2015163672.tif 000060
（式中、環Ａ１は、五員環又は六員環の炭化水素環又は複素環を表し、
Ｒ１は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、
Ｒ２は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜２０の複素環含有基又はトリアルキルシリル基を表し、
Ｒ１及びＲ２で表されるアルキル基又はアリールアルキル基中のメチレン基は、炭素−炭素二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ’−、−Ｓ−Ｓ−又は−ＳＯ２−から選ばれた基を酸素原子が隣り合わない条件で組み合わせた基で置き換えていてもよく、Ｒ’は、水素原子又は炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、
複数のＲ１同士は結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成していてもよく、
複数のＲ１及びＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、
ｎは、１〜１０の整数を表し、
ｄは、１〜４の整数を表し、
ｋは、１〜３の整数を表し、
Ｘは、直接結合、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子、下記〔化２〕で表される基、＞Ｃ＝Ｏ、＞ＮＲ３、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−ＮＲ３Ｒ４又はｎと同数の価数を有する置換基を有していてもよい炭素原子数１〜１２０の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環含有基を表し、Ｒ３及びＲ４は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環含有基を表し、該脂肪族炭化水素基、芳香環含有炭化水素基及び複素環含有基は、炭素一炭素二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ’−、−Ｓ−Ｓ−、−ＳＯ２−又は窒素原子から選ばれた基を酸素原子が隣り合わない条件で組み合わせた基で置き換わっていてもよく、上記芳香環又は複素環は、他の環と縮合されていてもよい。但し、Ｘが窒素原子、リン原子又は下記（ｘ’）で表される基の場合、ｎは３であり、Ｘが酸素原子又は硫黄原子の場合、ｎは２であり、Ｘが＞Ｃ＝Ｏ、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−又は＞ＮＲ３の場合、ｎは２であり、Ｘが−ＯＲ３、−ＳＲ３又は−ＮＲ３Ｒ４の場合、ｎが１であり、Ｘは、Ａと一緒になって環を形成していてもよい。）
【化２】
2015163672.tif 000061
【請求項３】
潜在性添加剤（Ａ）が、潜在性酸化防止剤、潜在性紫外線吸収剤又は溶解促進剤である請求項１又は２記載の組成物。
【請求項４】
酸発生剤又はカチオン重合開始剤（Ｂ）が、芳香族スルホニウム塩又は芳香族ヨードニウム塩からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
酸発生剤又はカチオン重合開始剤（Ｂ）が、下記一般式（ＶＩＩ）で表されるナフタルイミドスルホネート化合物からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【化３】
2015163672.tif 000062
（式中、Ｒ４１は、炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアリールアルキル基、アシル基で、置換された炭素数７〜２０のアリール基、炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基又は１０−カンファーイル基を表し、当該脂肪族炭化水素基、アリール基、アリールアルキル基、脂環式炭化水素基は、置換基を有しないか、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１８のアルコキシ基および炭素数１〜１８のアルキルチオ基から選ばれる基で置換される。Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６及びＲ４７は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表す。）
【請求項６】
酸発生剤又はカチオン重合開始剤（Ｂ）が、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるオキシムスルホネート化合物からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【化４】
2015163672.tif 000063
（式中、Ｒ５１は、炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアリールアルキル基、アシル基で置換された炭素数７〜２０のアリール基、炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基又は１０−カンファーイル基を表し、当該脂肪族炭化水素基、アリール基、アリールアルキル基、脂環式炭化水素基は、置換基を有しないか、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１８のアルコキシ基および炭素数１〜１８のアルキルチオ基から選ばれる基で置換される。Ｒ５２及びＲ５３は、シアノ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、Ｒ５２及びＲ５３は、互いに連結して五員環の複素環を形成していてもよい。）
【請求項７】
請求項１〜６いずれか一項に記載の組成物の硬化物を用いて形成される透明積層体。
【請求項８】
請求項１〜６いずれか一項に記載の組成物の硬化物を用いて形成される透明構造体。
【請求項９】
請求項７に記載の透明積層体を少なくとも一部に具備してなる表示デバイス。
【請求項１０】
請求項８に記載の透明構造体を少なくとも一部に具備してなる表示デバイス。
【請求項１１】
請求項７に記載の透明積層体を少なくとも一部に具備してなる半導体デバイス。
【請求項１２】
請求項８に記載の透明構造体を少なくとも一部に具備してなる半導体デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、常温では不活性であり所定の温度に加熱することにより活性化されて機能を発現する潜在性添加剤、及び酸発生剤又はカチオン重合開始剤を含有する組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
酸発生剤あるいはカチオン重合開始剤は、塗料、コーティング剤、各種レジスト等に広く用いられている。
【０００３】
特許文献１には、光酸発生剤及び特定の酸化防止剤を含有する感光性樹脂組成物が開示されており、特許文献２には、光酸発生剤系光重合開始剤及びフェノール系酸化防止剤を含有する光カチオン硬化性組成物が開示されており、特許文献３には、酸化防止剤及び酸発生剤を含有するレジスト組成物が開示されているが、これらの組成物は、耐熱性が十分でなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−０７８８１２号公報
【特許文献２】特開２００７−１３１８４１号公報
【特許文献３】特開２０１１−１７０１５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従って、本発明の目的は、耐熱性に優れた組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、鋭意検討を重ねた結果、潜在性添加剤（Ａ）及び酸発生剤又はカチオン重合開始剤（Ｂ）を含有する組成物が、上記目的を達成し得ることを知見し、本発明に到達した。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、特定の構造を有する潜在性添加剤及び酸発生剤又はカチオン重合開始剤を含有する組成物は耐熱性に優れるものであり、特に半導体用途及びディスプレイ用途における各種レジストとして有用である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の組成物について、好ましい実施形態に基づき説明する。
【０００９】
本発明の組成物は、潜在性添加剤（Ａ）及び酸発生剤又はカチオン重合開始剤（Ｂ）を含有する。以下、各成分について順に説明する。
【００１０】
＜潜在性添加剤（Ａ）＞
本発明の組成物に用いられる潜在性添加剤（Ａ）とは、常温あるいはリベーク工程では不活性であり、１００〜２５０℃で加熱するか、あるいは酸／塩基触媒存在下で８０〜２００℃で加熱することにより保護基が脱離して活性となるものであり、潜在性酸化防止剤、潜在性紫外線吸収剤、半導体レジストにおける溶解促進剤等として機能する。中でも、下記一般式（Ｉ）で表されるものが合成が容易なので好ましい。
【００１１】
【化１】
2015163672.tif 000002
【００１２】
（式中、環Ａ１は、五員環又は六員環の炭化水素環又は複素環を表し、
Ｒ１は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、
Ｒ２は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜２０の複素環含有基又はトリアルキルシリル基を表し、
Ｒ１及びＲ２で表されるアルキル基又はアリールアルキル基中のメチレン基は、炭素−炭素二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ’−、−Ｓ−Ｓ−又は−ＳＯ２−から選ばれた基を酸素原子が隣り合わない条件で組み合わせた基で置き換えていてもよく、Ｒ’は、水素原子又は炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、
複数のＲ１同士は結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成していてもよく、
複数のＲ１及びＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、
ｎは、１〜１０の整数を表し、
ｄは、１〜４の整数を表し、
ｋは、１〜３の整数を表し、
Ｘは、直接結合、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子、下記（ｘ’）で表される基、＞Ｃ＝Ｏ、＞ＮＲ３、−ＯＲ３、−ＳＲ３、−ＮＲ３Ｒ４又はｎと同数の価数を有する置換基を有していてもよい炭素原子数１〜１２０の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環含有基を表し、Ｒ３及びＲ４は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環含有基を表し、該脂肪族炭化水素基、芳香環含有炭化水素基及び複素環含有基は、炭素一炭素二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ’−、−Ｓ−Ｓ−、−ＳＯ２−又は窒素原子から選ばれた基を酸素原子が隣り合わない条件で組み合わせた基で置き換わっていてもよく、上記芳香環又は複素環は、他の環と縮合されていてもよい。但し、Ｘが窒素原子、リン原子又は下記（ｘ’）で表される基の場合、ｎは３であり、Ｘが酸素原子又は硫黄原子の場合、ｎは２であり、Ｘが＞Ｃ＝Ｏ、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−又は＞ＮＲ３の場合、ｎは２であり、Ｘが−ＯＲ３、−ＳＲ３又は−ＮＲ３Ｒ４の場合、ｎが１であり、Ｘは、Ａ１と一緒になって環を形成していてもよい。）
【００１３】
【化２】
2015163672.tif 000003
【００１４】
上記一般式（Ｉ）で表される潜在性添加剤は、Ｘで表されるｎ価の特定の原子又は基に、ｎ個の特定の基が結合した構造を有する。このｎ個の基は、互いに同じであっても異なっていてもよい。ｎの値は１〜１０であり、合成の容易さの点から、好ましくは２〜６である。
【００１５】
上記一般式（Ｉ）におけるＡ１で表される五員環の芳香環としては、シクロペンタジエン、フェロセン等が挙げられ、五員環の複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、ピロリジン、ピラゾリジン、ピラゾール、イミダゾール、イミダゾリジン、オキサゾール、イソキサゾール、イソオキサゾリジン、チアゾール、イソチアゾール、イソチアゾリジン等が挙げられ、六員環の芳香環としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フルオレン、ペリレン、ピレン等が挙げられ、六員環の複素環としては、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、チオモルフォリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン等が挙げられ、これらの環は、他の環と縮合されていたり置換されていたりしていてもよく、例えば、キノリン、イソキノリン、インドール、ユロリジン、ベンゾオキサゾール、ベンゾトリアゾール、アズレン等が挙げられる。
Ｒ１で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、
Ｒ１で表される炭素原子数１〜４０のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、アミル、ｉｓｏ−アミル、ｔｅｒｔ−アミル、シクロペンチル、ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、シクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、２−ヘプチル、３−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｔｅｒｔ−ヘプチル、１−オクチル、ｉｓｏ−オクチル、ｔｅｒｔ−オクチル、アダマンチル等が挙げられ、
Ｒ１で表される炭素原子数１〜８のアルコキシ基としては、メチルオキシ、エチルオキシ、ｉｓｏ−プロピルオキシ、ブチルオキシ、ｓｅｃ−ブチルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ、ｉｓｏ−ブチルオキシ、アミルオキシ、ｉｓｏ−アミルオキシ、ｔｅｒｔ−アミルオキシ、ヘキシルオキシ、２−ヘキシルオキシ、３−ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、４−メチルシクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、２−ヘプチルオキシ、３−ヘプチルオキシ、ｉｓｏ−ヘプチルオキシ、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ、１−オクチルオキシ、ｉｓｏ−オクチルオキシ、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ等が挙げられ、
Ｒ１で表される炭素原子数１〜８のアルキル基及びアルコキシ基を置換する置換基としては、ビニル、アリル、アクリル、メタクリル等のエチレン性不飽和基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；アセチル、２−クロロアセチル、プロピオニル、オクタノイル、アクリロイル、メタクリロイル、フェニルカルボニル（ベンゾイル）、フタロイル、４−トリフルオロメチルベンゾイル、ピバロイル、サリチロイル、オキザロイル、ステアロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル、カルバモイル等のアシル基；アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基；アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、２−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ，ナフチルアミノ、２−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等の置換アミノ基；スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ホスホン酸基、リン酸基又はカルボキシル基、スルホ基、ホスホン酸基、リン酸基の塩等が挙げられる。
Ｒ２で表される炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラセニル等が挙げられ、
Ｒ２で表される炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基としては、ベンジル、フルオレニル、インデニル、９−フルオレニルメチル基等が挙げられ、
Ｒ２で表される炭素原子数２〜２０の複素環含有基としては、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、２−ピロリジノン−１−イル、２−ピペリドン−１−イル、２，４−ジオキシイミダゾリジン−３−イル、２，４−ジオキシオキサゾリジン−３−イル等が挙げられ、
Ｒ２で表されるトリアルキルシリル基としては、トリメチルシラン、トリエチルシラン、エチルジメチルシラン等が挙げられる。
Ｒ２の中でも、炭素原子数１〜８のアルキル基の酸素原子側の末端に−ＣＯ−Ｏ−が結合しているものが、潜在性添加剤として効率的に機能を発現するので好ましい。
【００１６】
上記一般式（Ｉ）におけるＸ及びＲ３並びにＲ４で表される、置換基を有してもよい炭素原子数１〜３５の一価の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、シクロペンチル、ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、シクロヘキシル、ビシクロヘキシル、１−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、２−ヘプチル、３−ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル等のアルキル基；メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、第三アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、第三ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、第三オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ等のアルコキシ基；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ、イソブチルチオ、アミルチオ、イソアミルチオ、第三アミルチオ、ヘキシルチオ、シクロヘキシルチオ、ヘプチルチオ、イソヘプチルチオ、第三ヘプチルチオ、ｎ−オクチルチオ、イソオクチルチオ、第三オクチルチオ、２−エチルヘキシルチオ等のアルキルチオ基；ビニル、１−メチルエテニル、２−メチルエテニル、２−プロペニル、１−メチル−３−プロペニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、イソブテニル、３−ペンテニル、４−ヘキセニル、シクロヘキセニル、ビシクロヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、エイコセニル、トリコセニル等のアルケニル基等が挙げられ、
置換基を有してもよい炭素原子数６〜３５の一価の芳香環含有炭化水素基としては、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基；フェニル、ナフチル等のアリール基；フェノキシ、ナフチルオキシ等のアリールオキシ基；フェニルチオ、ナフチルチオ等のアリールチオ基等が挙げられ、
置換基を有してもよい炭素原子数２〜３５の一価の複素環含有基としては、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、２−ピロリジノン−１−イル、２−ピペリドン−１−イル、２，４−ジオキシイミダゾリジン−３−イル、２，４−ジオキシオキサゾリジン−３−イル、ベンゾトリアゾイル等が挙げられる。
置換基としては、ビニル、アリル、アクリル、メタクリル等のエチレン性不飽和基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；アセチル、２−クロロアセチル、プロピオニル、オクタノイル、アクリロイル、メタクリロイル、フェニルカルボニル（ベンゾイル）、フタロイル、４−トリフルオロメチルベンゾイル、ピバロイル、サリチロイル、オキザロイル、ステアロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル、カルバモイル等のアシル基；アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基；アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、２−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ，ナフチルアミノ、２−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等の置換アミノ基；スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ホスホン酸基、リン酸基又はカルボキシル基、スルホ基、ホスホン酸基、リン酸基の塩等が挙げられ、これらの基は更に置換されていてもよい。また、カルボキシル基及びスルホ基は塩を形成していてもよい。
【００１７】
上記一般式（Ｉ）で表される化合物の中でも、下記一般式（ＩＩ）〜（ＶＩ）で表されるものが、合成が容易で耐熱性が高くなるので好ましい。
【００１８】
【化３】
2015163672.tif 000004
【００１９】
（式中、環Ａ２は、六員環の脂環、芳香環又は複素環であり、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及びＲ１５は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜２０の複素環含有基又は−Ｏ−Ｒ２を表し、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及びＲ１５のうち少なくとも１つは水素原子でなく、Ｒ２は、上記一般式（Ｉ）と同じである。）
【００２０】
【化４】
2015163672.tif 000005
【００２１】
（式中、Ｘ１１は、下記一般式（１）で表される基であり、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９のうち少なくとも１つは水素原子でなく、環Ａ２及びＲ２は、上記一般式（ＩＩ）と同じである。）
【００２２】
【化５】
2015163672.tif 000006
【００２３】
（上記一般式（１）中、Ｘ１は、−ＣＲ３０Ｒ３１−、−ＮＲ３２−、二価の炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基若しくは炭素原子数２〜３５の複素環基、又は、下記（ｘ１’）〜（ｘ１’’’）で表されるいずれかの置換基を表し、該脂肪族炭化水素基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＮＨ−、あるいは酸素原子が隣り合うことなしにこれらを組み合わせた結合基で中断されていてもよく、Ｒ３０及びＲ３１は、水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基を表し、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立に、直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、＞ＣＯ、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＳ−、−ＳＯ−又は＞ＮＲ３３を表し、Ｒ３２及びＲ３３は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環基を表す。）
【００２４】
【化６】
2015163672.tif 000007
【００２５】
（上記式中、Ｒ２１は水素原子、置換基を有していてもよいフェニル基、又は炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基を表し、Ｒ２２は炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、上記アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は置換基を有していてもよく、ａは０〜５の整数である。）
【００２６】
【化７】
2015163672.tif 000008
【００２７】
【化８】
2015163672.tif 000009
【００２８】
（上記式中、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールチオ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０の複素環基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は不飽和結合、−Ｏ−又は−Ｓ−で中断されていてもよく、Ｒ２３は、隣接するＲ２３同士で環を形成していてもよく、ｂは０〜４の数を表し、ｃは０〜８の数を表し、ｇは０〜４の数を表し、ｈは０〜４の数を表し、ｇとｈの数の合計は２〜４である。）
【００２９】
【化９】
2015163672.tif 000010
【００３０】
（式中、ｍ＝２〜６であり、Ｘ３は、ｍ＝２のとき上記一般式（１）で表される基であり、ｍ＝３のとき下記一般式（２）で表される基であり、ｍ＝４のとき下記一般式（３）で表される基であり、ｍ＝５のとき下記一般式（４）で表される基であり、ｍ＝６のとき下記一般式（５）で表される基であり、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７及びＲ２８は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７及びＲ２８のうち少なくとも１つは水素原子でなく、環Ａ２及びＲ２は、上記一般式（ＩＩ）と同じである。）
【００３１】
【化１０】
2015163672.tif 000011
【００３２】
（上記一般式（２）中、Ｙ１１は、三価の炭素原子数３〜３５の脂肪族炭化水素基、炭素原子数３〜３５の脂環族炭化水素基、炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基若しくは炭素原子数２〜３５の複素環基を表し、Ｚ１、Ｚ２及びＺ３は、それぞれ独立に、直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、＞ＣＯ、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＳ−、−ＳＯ−、＞ＮＲ３２、＞ＰＲ３２又は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環基を表し、Ｒ３２は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環基を表し、該脂肪族炭化水素基は、炭素一炭素二重結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−又は−ＳＯ２−で中断されていてもよい。）
【００３３】
【化１１】
2015163672.tif 000012
【００３４】
（上記一般式（３）中、Ｙ１２は、炭素原子、又は、四価の炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基若しくは炭素原子数２〜３５の複素環基を表し、該脂肪族炭化水素基は、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨ−又は−ＣＯＮＨ−で中断されていてもよく、Ｚ１〜Ｚ４は、それぞれ独立に、上記一般式（２）におけるＺ１〜Ｚ３で表される基と同じ範囲の基である。）
【００３５】
【化１２】
2015163672.tif 000013
【００３６】
（上記一般式（４）中、Ｙ１３は、五価の炭素原子数２〜３５の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２〜３０の複素環基を表し、該脂肪族炭化水素基は、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨ−又は−ＣＯＮＨ−で中断されていてもよく、Ｚ１〜Ｚ５は、それぞれ独立に、上記一般式（２）におけるＺ１〜Ｚ３で表される基と同じ範囲の基である。）
【００３７】
【化１３】
2015163672.tif 000014
【００３８】
（上記一般式（５）中、Ｙ１４は、六価の炭素原子数２〜３５の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２〜３５の複素環基を表し、該脂肪族炭化水素基は、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨ−又は−ＣＯＮＨ−で中断されていてもよく、Ｚ１〜Ｚ６は、それぞれ独立に、上記一般式（２）におけるＺ１〜Ｚ３で表される基と同じ範囲の基である。）
【００３９】
【化１４】
2015163672.tif 000015
【００４０】
（式中、ｍ＝２〜６であり、Ｘ４は、ｍ＝２のとき上記一般式（１）で表される基であり、ｍ＝３のとき上記一般式（２）で表される基であり、ｍ＝４のとき上記一般式（３）で表される基であり、ｍ＝５のとき上記一般式（４）で表される基であり、ｍ＝６のとき上記一般式（５）で表される基であり、Ｒ２０５、Ｒ２０６、Ｒ２０７及びＲ２０８は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、Ｒ２０５、Ｒ２０６、Ｒ２０７及びＲ２０８のうち少なくとも１つは水素原子でなく、環Ａ２及びＲ２は、上記一般式（ＩＩ）と同じである。）
【００４１】
【化１５】
2015163672.tif 000016
【００４２】
（式中、ｍ＝３〜６であり、Ｘ５は、ｍ＝３のとき上記一般式（２）で表される基であり、ｍ＝４のとき上記一般式（３）で表される基であり、ｍ＝５のとき上記一般式（４）で表される基であり、ｍ＝６のとき上記一般式（５）で表される基であり、Ｒ３０５、Ｒ３０６、Ｒ３０７及びＲ３０８は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、Ｒ３０５、Ｒ３０６、Ｒ３０７及びＲ３０８のうち少なくとも１つは水素原子でなく、環Ａ２及びＲ２は、上記一般式（ＩＩ）と同じである。）
【００４３】
上記一般式（Ｉ）で表される化合物としては、例えば下記化学式で表される化合物が挙げられる。
【００４４】
【化１６】
2015163672.tif 000017
【００４５】
【化１７】
2015163672.tif 000018
【００４６】
【化１８】
2015163672.tif 000019
【００４７】
【化１９】
2015163672.tif 000020
【００４８】
【化２０】
2015163672.tif 000021
【００４９】
【化２１】
2015163672.tif 000022
【００５０】
【化２２】
2015163672.tif 000023
【００５１】
【化２３】
2015163672.tif 000024
【００５２】
【化２４】
2015163672.tif 000025
【００５３】
【化２５】
2015163672.tif 000026
【００５４】
【化２６】
2015163672.tif 000027
【００５５】
【化２７】
2015163672.tif 000028
【００５６】
【化２８】
2015163672.tif 000029
【００５７】
【化２９】
2015163672.tif 000030
【００５８】
【化３０】
2015163672.tif 000031
【００５９】
【化３１】
2015163672.tif 000032
【００６０】
【化３２】
2015163672.tif 000033
【００６１】
【化３３】
2015163672.tif 000034
【００６２】
【化３４】
2015163672.tif 000035
【００６３】
【化３５】
2015163672.tif 000036
【００６４】
【化３６】
2015163672.tif 000037
【００６５】
【化３７】
2015163672.tif 000038
【００６６】
【化３８】
2015163672.tif 000039
【００６７】
【化３９】
2015163672.tif 000040
【００６８】
【化４０】
2015163672.tif 000041
【００６９】
【化４１】
2015163672.tif 000042
【００７０】
【化４２】
2015163672.tif 000043
【００７１】
（上記化学式中、ｎ’＝１〜５であり、ｎ’’＝１〜３である。）
【００７２】
＜酸発生剤又はカチオン重合開始剤（Ｂ）＞
本発明の組成物に用いられる酸発生剤（Ｂ）としては、光照射又は加熱により酸を発生させることが可能な化合物であればどのようなものでも差し支えなく、例えば、オニウム塩、ナフタルイミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物、スルホニルイミド化合物、スルホン酸エステル等が挙げられ、オニウム塩及びナフタルイミドスルホネート化合物が好ましい。
【００７３】
上記オニウム塩としては、例えば、［Ｍ］ｒ＋［Ｇ］ｒ−で表される陽イオンと陰イオンの塩が挙げられる。
ここで陽イオン［Ｍ］ｒ＋はオニウムであることが好ましく、その構造は、例えば、下記一般式、［（Ｒ２９）ｆＱ］ｒ＋で表すことができる。
【００７４】
上記Ｒ２９は、炭素原子数が１〜６０であり、炭素原子以外の原子をいくつ含んでいてもよい有機の基である。ｆは１〜５なる整数である。ｆ個のＲ２９は各々独立で、同一でも異なっていてもよい。また、少なくとも１つは、芳香環を有する上記の如き有機の基であることが好ましい。ＱはＳ，Ｎ，Ｓｅ，Ｔｅ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｏ，Ｉ，Ｂｒ，Ｃｌ，Ｆ，Ｎ＝Ｎからなる群から選ばれる原子あるいは原子団である。また、陽イオン［Ｍ］ｒ＋中のＱの原子価をｑとしたとき、ｒ＝ｆ−ｑなる関係が成り立つことが必要である（但し、Ｎ＝Ｎは原子価０として扱う）。
【００７５】
また、陰イオン［Ｇ］ｒ−の具体例としては、一価のものとして、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、フッ化物イオン等のハロゲン化物イオン；過塩素酸イオン、塩素酸イオン、チオシアン酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン等の無機系陰イオン；テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラ（３，５−ジフルオロ−４−メトキシフェニル）ボレート、テトラフルオロボレート、テトラアリールボレート、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等のボレート系陰イオン；メタンスルホン酸イオン、ドデシルスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ナフタレンスルホン酸イオン、ジフェニルアミン−４−スルホン酸イオン、２−アミノ−４−メチル−５−クロロベンゼンスルホン酸イオン、２−アミノ−５−ニトロベンゼンスルホン酸イオン、フタロシアニンスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸陰イオン、カンファースルホン酸イオン、ノナフロロブタンスルホン酸イオン、ヘキサデカフロロオクタンスルホン酸イオン、重合性置換基を有するスルホン酸イオン、特開平１０−２３５９９９、特開平１０−３３７９５９、特開平１１−１０２０８８、特開２０００−１０８５１０、特開２０００−１６８２２３、特開２００１−２０９９６９、特開２００１−３２２３５４、特開２００６−２４８１８０、特開２００６−２９７９０７、特開平８−２５３７０５号公報、特表２００４−５０３３７９号公報、特開２００５−３３６１５０号公報、国際公開２００６／２８００６号公報等に記載されたスルホン酸イオン等の有機スルホン酸系陰イオン；オクチルリン酸イオン、ドデシルリン酸イオン、オクタデシルリン酸イオン、フェニルリン酸イオン、ノニルフェニルリン酸イオン、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスホン酸イオン等の有機リン酸系陰イオン、ビストリフルオロメチルスルホニルイミドイオン、ビスパーフルオロブタンスルホニルイミドイオン、パーフルオロ−４−エチルシクロヘキサンスルホン酸イオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸イオン、トリス（フルオロアルキルスルホニル）カルボアニオン等が挙げられ、二価のものとしては、例えば、ベンゼンジスルホン酸イオン、ナフタレンジスルホン酸イオン等が挙げられる。
【００７６】
本発明では、このようなオニウム塩の中でも、アリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等の芳香族オニウム塩を使用することが特に有効である。これらの中から、その１種を単独で、または２種以上を混合して使用することができる。
【００７７】
また、その他好ましいものとしては、（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）〔（１，２，３，４，５，６−η）−（１−メチルエチル）ベンゼン〕−アイアン−ヘキサフルオロホスフェート等の鉄−アレーン錯体や、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム、トリス（エチルアセトナトアセタト）アルミニウム、トリス（サリチルアルデヒダト）アルミニウム等のアルミニウム錯体とトリフェニルシラノール等のシラノール類との混合物等も挙げることができる。
【００７８】
これらの中でも、実用面と光感度の観点から、芳香族スルホニウム塩を用いることが好ましい。
該芳香族スルホニウム塩としては、下記構造式で表されるものの他、市販のものを用いることもでき、例えば、ＷＰＡＧ−３３６、ＷＰＡＧ−３６７、ＷＰＡＧ−３７０、ＷＰＡＧ−４６９、ＷＰＡＧ−６３８（和光純薬工業社製）、ＣＰＩ−１００Ｐ、ＣＰＩ−１０１Ａ、ＣＰＩ−２００Ｋ、ＣＰＩ−２１０Ｓ（サンアプロ社製）、アデカオプトマーＳＰ−０５６、アデカオプトマーＳＰ−０６６、アデカオプトマーＳＰ−１３０、アデカオプトマーＳＰ−１４０、アデカオプトマーＳＰ−０８２、アデカオプトマーＳＰ−１０３、アデカオプトマーＳＰ−６０１、アデカオプトマーＳＰ−６０６、アデカオプトマーＳＰ−７０１（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
【００７９】
【化４３】
2015163672.tif 000044
【００８０】
【化４４】
2015163672.tif 000045
【００８１】
上記ナフタルイミドスルホネート化合物としては、下記一般式（ＶＩＩ）で表されるものが、実用面と光感度の観点から好ましい。
【００８２】
【化４５】
2015163672.tif 000046
【００８３】
（式中、Ｒ４１は、炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアリールアルキル基、アシル基で、置換された炭素数７〜２０のアリール基、炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基又は１０−カンファーイル基を表し、当該脂肪族炭化水素基、アリール基、アリールアルキル基、脂環式炭化水素基は、置換基を有しないか、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１８のアルコキシ基および炭素数１〜１８のアルキルチオ基から選ばれる基で置換される。Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６及びＲ４７は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表す。）
【００８４】
上記オキシムスルホネート化合物としては、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるものが、実用面と光感度の観点から好ましい。
【００８５】
【化４６】
2015163672.tif 000047
【００８６】
（式中、Ｒ５１は、炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアリールアルキル基、アシル基で置換された炭素数７〜２０のアリール基、炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基又は１０−カンファーイル基を表し、当該脂肪族炭化水素基、アリール基、アリールアルキル基、脂環式炭化水素基は、置換基を有しないか、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１８のアルコキシ基および炭素数１〜１８のアルキルチオ基から選ばれる基で置換される。Ｒ５２及びＲ５３は、シアノ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、Ｒ５２及びＲ５３は、互いに連結して五員環の複素環を形成していてもよい。）
【００８７】
本発明の組成物に用いられるカチオン重合開始剤（Ｂ）とは、光カチオン重合開始剤又は熱カチオン重合開始剤が挙げられ、光カチオン重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出させることが可能な化合物であればどのようなものでも差し支えないが、好ましくは、上記オニウム塩であり、さらに好ましくは芳香族スルホニウム塩である。
該芳香族スルホニウム塩としては、市販のものを用いることもでき、例えば、ＣＰＩ−１００Ｐ、ＣＰＩ−１０１Ａ、ＣＰＩ−２００Ｋ、ＣＰＩ−２１０Ｓ（サンアプロ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＳＰ−１７１（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
【００８８】
熱重合開始剤としては、スルホニウム塩、チオフェニウム塩、チオラニウム塩、ベンジルアンモニウム、ピリジニウム塩、ヒドラジニウム塩等の塩；ジエチレントリアミン、トリエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン等のポリアルキルポリアミン類；１，２−ジアミノシクロヘキサン、１，４−ジアミノ−３，６−ジエチルシクロヘキサン、イソホロンジアミン等の脂環式ポリアミン類；ｍ−キシリレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等の芳香族ポリアミン類；前記ポリアミン類と、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦ−ジグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル類又はカルボン酸のグリシジルエステル類等の各種エポキシ樹脂とを常法によって反応させることによって製造されるポリエポキシ付加変性物；前記有機ポリアミン類と、フタル酸、イソフタル酸、ダイマー酸などのカルボン酸類とを常法によって反応させることによって製造されるアミド化変性物；前記ポリアミン類とホルムアルデヒド等のアルデヒド類及びフェノール、クレゾール、キシレノール、第三ブチルフェノール、レゾルシン等の核に少なくとも一個のアルデヒド化反応性場所を有するフェノール類とを常法によって反応させることによって製造されるマンニッヒ化変性物；多価カルボン酸（シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、２−メチルコハク酸、２−メチルアジピン酸、３−メチルアジピン酸、３−メチルペンタン二酸、２−メチルオクタン二酸、３，８−ジメチルデカン二酸、３，７−ジメチルデカン二酸、水添ダイマー酸、ダイマー酸等の脂肪族ジカルボン酸類；フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸類；シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸類；トリメリト酸、トリメシン酸、ひまし油脂肪酸の三量体等のトリカルボン酸類；ピロメリット酸等のテトラカルボン酸類等）の酸無水物；ジシアンジアミド、イミダゾール類、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル、アミンイミド等を挙げることができる。
【００８９】
上記熱重合開始剤としては、市販品を用いることもでき、例えば、アデカオプトン ＣＰ７７、アデカオプトンＣＰ６６（ＡＤＥＫＡ社製）、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２６２４（日本曹達社製）、サンエイド ＳＩ−６０Ｌ、サンエイドＳＩ−８０Ｌ、サンエイド ＳＩ−１００Ｌ（三新化学工業社製）などが挙げられる。
【００９０】
本発明の組成物に用いられる酸発生剤又はカチオン重合開始剤（Ｂ）は、光照射を行う場合、ＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａ−Ｖｉｏｌｅｔ）、Ｘ線、Ｆ２、ＡｒＦ、ＫｒＦ、ｉ線、ｈ線、ｇ線等の遠紫外線、電子線、放射線、高周波等の活性エネルギー線の照射によりルイス酸を放出する特性を有し、酸反応性有機物質に作用して分解や重合をすることが可能であり、ポジ型又はネガ型フォトレジストの光酸発生剤として、または平板、凸版用印刷板の作成、プリント基板や１Ｃ、ＬＳ  １作製のためのフォトレジスト、レリーフ像や画像複製等の画像形成、光硬化性のインキ、塗料、接着剤等、広範囲のカチオン重合開始剤として有用である。
【００９１】
上記酸発生剤又はカチオン重合開始剤（Ｂ）を酸反応性有機物質に対して使用する場合、その使用量は、特に制限されるものではないが、酸反応性有機物質１００質量部に対して、好ましくは０．０５〜１００質量部、更に好ましくは０．０５〜２０質量部の割合で用いることが好ましい。但し、酸反応性有機物質の性質、光の照射強度、加熱温度、反応に要する時間、物性、コスト等の要因により、配合量を上述の範囲より増減させて用いることも可能である。
【００９２】
本発明の組成物において、酸発生剤（Ｂ）として光酸発生剤を用いる場合、感光性組成物、特にレジスト組成物として用いることができる。該レジスト組成物は、特に、化学増幅型レジストとして有用である。化学増幅型レジストには、露光により光酸発生剤から発生した酸の作用によって、エステル基或いはアセタール基等の化学結合の切断等、レジストベース樹脂側鎖の脱保護反応で誘起される極性変化で現像液に可溶化させるポジ型レジストと、重合又は架橋等化学的な連鎖反応を起こし、レジストベース樹脂の架橋反応や極性変化で現像液に不溶化させ、現像の際に未露光部分だけが選択的に除去されるネガ型レジストの２通りがある。
【００９３】
上記、レジストベース樹脂としては、ポリヒドロキシスチレン及びその誘導体；ポリアクリル酸及びその誘導体；ポリメタクリル酸及びその誘導体；ヒドロキシスチレン、アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの誘導体から選ばれ形成される２以上の共重合体；ヒドロキシスチレン、スチレン及びそれらの誘導体から選ばれ形成される２以上の共重合体；ポリオレフィン及びその誘導体、シクロオレフィン及びその誘導体、無水マレイン酸、並びに、アクリル酸及びその誘導体から選ばれる３以上の共重合体；シクロオレフィン及びその誘導体、マレイミド、並びに、アクリル酸及びその誘導体から選ばれる３以上の共重合体；ポリノルボルネン；メタセシス開環重合体からなる一群から選択される１種以上の高分子重合体；シリコーン樹脂等が挙げられる。
【００９４】
上記レジストベース樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常１，０００〜５００，０００、好ましくは２，０００〜２００，０００、更に好ましくは３，０００〜１００，０００である。この場合、レジストベース樹脂のＭｗが１，５００未満では、レジストとしての耐熱性が低下する傾向があり、一方３００，０００を越えると、レジストとしての現像性や塗布性が低下する傾向がある。
【００９５】
ポジ型レジストにおいては、上記レジストベース樹脂に酸の作用により分解する保護基を導入した高分子重合体が用いられる。該保護基としては、三級アルキル基、トリアルキルシリル基、オキソアルキル基、アリール基置換アルキル基、テトラヒドロピラン−２−イル基等の複素脂環基、三級アルキルカルボニル基、三級アルキルカルボニルアルキル基、三級アルキルオキシカルボニル基、三級アルキルオキシカルボニルアルキル基、アルコキシアルキル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル、チオフラニル基等のアセタール基等が挙げられる。
【００９６】
ネガ型レジストにおいては、上記レジストベース樹脂と架橋剤を反応させた樹脂が用いられる。該架橋剤としては、架橋剤として慣用されているものの中から任意に選択して用いることができ、例えば、ヒドロキシル基又はアルコキシル基を有するアミノ樹脂、例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミン樹脂、グリコールウリル‐ホルムアルデヒド樹脂、スクシニルアミド‐ホルムアルデヒド樹脂、エチレン尿素‐ホルムアルデヒド樹脂などを挙げることができる。これらはメラミン、尿素、グアナミン、グリコールウリル、スクシニルアミド、エチレン尿素を沸騰水中でホルマリンと反応させてメチロール化、あるいはこれにさらに低級アルコールを反応させてアルコキシル化したものを用いることができる。
【００９７】
上記架橋剤としては市販のものを用いることもでき、例えばニカラックＭＸ−７５０、ニカラックＭＷ−３０、ニカラックＭＸ−２９０（三和ケミカル社製）が挙げられる。
【００９８】
上記レジスト組成物中の酸発生剤（Ｂ）の使用量は、レジストとしての感度及び現像性を確保する観点から、レジストベース樹脂１００質量部に対して、通常、０．０１〜２０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部である。この場合、酸発生剤（Ｂ）の使用量が０．０１質量部未満では、感度および現像性が低下する場合があり、一方、２０質量部を越えると、放射線に対する透明性が低下して、矩形のレジストパターンを得られにくくなる場合がある。
【００９９】
上記レジスト組成物には、各種添加剤を配合してもよい。各種添加剤としては、塩基クエンチャー、酸増殖剤、酸拡散剤、増感剤、塩基発生剤、無機フィラー、有機フィラー、顔料、染料などの着色剤、消泡剤、増粘剤、難燃剤、酸化防止剤、安定剤、レベリング剤等の各種樹脂添加物等が挙げられる。これらの各種添加剤の使用量は、上記レジスト組成物中、好ましくは合計で５０質量％以下とする。
【０１００】
上記レジスト組成物は、通常、その使用に際して、全固形分濃度が、通常５〜５０重量％、好ましくは１０〜２５重量％となるように溶剤に溶解した後、例えば、孔径０．２μｍ程度のフィルターで濾過することによって調整される。上記レジスト組成物は、本発明のスルホン酸誘導体化合物からなる光酸発生剤、これ以外の光酸発生剤、レジストベース樹脂及びその他の任意成分を混合、溶解或いは混練等の方法により調製することができる。
【０１０１】
上記レジスト組成物の露光で使用される光源としては、使用する光酸発生剤の種類に応じて、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等から適宜選定して使用されるが、本発明のスルホン酸誘導体化合物は、ＡｒＦエキシマーレーザー（波長１９３ｎｍ）ＫｒＦエキシマーレーザー（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線、ＥＵＶ等の荷電粒子線等、各種の放射線を使用するレジストにおいて好適に使用することが可能である。
【０１０２】
上記レジスト組成物は、シリコンウエハやガラス等の基板上にスピナー、コーター等の適当な塗布方法により塗布後、所定のマスクを通して露光し、レジストのみかけの感度を向上させるためにポストベークを行い、現像することにより良好なレジストパターンを得ることができる。
【０１０３】
上記の現像において、アルカリ現像型現像液及び溶剤現像型現像液が知られている。アルカリ現像型現像液としては、ＴＭＡＨ現像原液（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド現像原液）、ＴＢＡＨ現像原液（テトラブチルアンモニウムハイドロオキサイド現像原液）等のアンモニウム系アルカリ剤の他、リン酸系アルカリ剤、ケイ酸系アルカリ剤、炭酸系アルカリ剤、硼酸系アルカリ剤、アミン系アルカリ剤より選択される少なくとも一種のアルカリ剤と、アルキルナフタレン系界面活性剤と水とを混合して用いることができる。溶剤現像型現像液としては、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸シクロヘキシル、乳酸エチル、コハク酸ジメチル、テキサノール等のエステル系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のセロソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、イソ−又はｎ−プロパノール、イソ−又はｎ−ブタノール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルエーテルアセテート、エトキシエチルエーテルプロピオネート等のエーテルエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等のＢＴＸ系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；テレピン油、Ｄ−リモネン、ピネン等のテルペン系炭化水素油；ミネラルスピリット、スワゾール＃３１０（コスモ松山石油社）、ソルベッソ＃１００（エクソン化学社）等のパラフィン系溶媒；四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒；クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒；カルビトール系溶媒；アニリン；トリエチルアミン；ピリジン；酢酸；アセトニトリル；二硫化炭素；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド；Ｎ−メチルピロリドン；ジメチルスルホキシド；水等が挙げられ、これらの１種又は２種以上の混合溶媒として使用することができる。
ポジティブトーンでは達成できない非常に微細なホールパターンをネガティブトーンの露光で解像するために、解像性の高いポジ型レジスト組成物を用いた溶剤現像でネガパターンを形成し、更に、アルカリ現像と溶剤現像の２回の現像を組み合わせることにより、２倍の解像力を得ることもできる。
【０１０４】
現像方法としては、露光後の感光性樹脂版に現像液をスプレーする方法、露光後の感光
性樹脂版を現像液中に浸漬する方法、露光後の感光性樹脂版を現像液中に浸漬しブラシで
洗い流す方法等を挙げることができる。
【０１０５】
本発明のスルホン酸誘導体化合物をカチオン重合性組成物中のカチオン重合開始剤として使用する場合、カチオン重合性組成物には、光照射により活性化したカチオン重合開始剤により高分子化又は架橋反応を起こすカチオン重合性化合物を１種類または２種類以上混合して使用される。
【０１０６】
カチオン重合性化合物として代表的なものは、エポキシ化合物、オキセタン化合物、環状ラクトン化合物、環状アセタール化合物、環状チオエーテル化合物、スピロオルトエステル化合物、ビニル化合物等であり、これらの１種または２種以上使用することができる。中でも入手するのが容易であり、取り扱いに便利なエポキシ化合物及びオキセタン化合物が適している。
【０１０７】
このうちエポキシ化合物としては、脂環族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が適している。
【０１０８】
上記脂環族エポキシ化合物の具体例としては、少なくとも１個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又はシクロヘキセンやシクロペンテン環含有化合物を酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイドやシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。例えば、水素添加ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシル−３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、６−メチル−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−６−メチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−３−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−３−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル等が挙げられる。
【０１０９】
上記脂環族エポキシ樹脂として好適に使用できる市販品としては、ＵＶＲ−６１００、ＵＶＲ−６１０５、ＵＶＲ−６１１０、ＵＶＲ−６１２８、ＵＶＲ−６２００（以上、ユニオンカーバイド社製）、セロキサイド２０２１、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、セロキサイド２０００、セロキサイド３０００、サイクロマーＡ２００、サイクロマーＭ１００、サイクロマーＭ１０１、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−３０２、エポリード４０１、エポリード４０３、ＥＴＨＢ、エポリードＨＤ３００（以上、ダイセル化学工業（株）製）、ＫＲＭ−２１１０、ＫＲＭ−２１９９（以上、ＡＤＥＫＡ（株）製）などを挙げることができる。
【０１１０】
上記脂環族エポキシ樹脂の中でも、シクロヘキセンオキシド構造を有するエポキシ樹脂が、硬化性（硬化速度）の点で好ましい。
【０１１１】
また、上記芳香族エポキシ樹脂の具体例としては、少なくとも１個の芳香族環を有する多価フェノールまたは、そのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、例えばビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、又はこれらに更にアルキレンオキサイドを付加した化合物のグリシジルエーテルやエポキシノボラック樹脂等が挙げられる。
【０１１２】
更に、上記脂肪族エポキシ樹脂の具体例としては、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートのビニル重合により合成したホモポリマー、グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートとその他のビニルモノマーとのビニル重合により合成したコポリマー等が挙げられる。代表的な化合物として、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールのヘキサグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテルなどの多価アルコールのグリシジルエーテル、またプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステルが挙げられる。さらに、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノール、また、これらにアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。
【０１１３】
上記芳香族及び脂肪族エポキシ樹脂として好適に使用できる市販品としては、エピコート８０１、エピコート８２８（以上、油化シェルエポキシ社製）、ＰＹ−３０６、０１６３、ＤＹ−０２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＫＲＭ−２７２０、ＥＰ−４１００、ＥＰ−４０００、ＥＰ−４０８０、ＥＰ−４９００、ＥＤ−５０５、ＥＤ−５０６（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、エポライトＭ−１２３０、エポライトＥＨＤＧ−Ｌ、エポライト４０Ｅ、エポライト１００Ｅ、エポライト２００Ｅ、エポライト４００Ｅ、エポライト７０Ｐ、エポライト２００Ｐ、エポライト４００Ｐ、エポライト１５００ＮＰ、エポライト１６００、エポライト８０ＭＦ、エポライト１００ＭＦ、エポライト４０００、エポライト３００２、エポライトＦＲ−１５００（以上、共栄社化学（株）製）、サントートＳＴ００００、ＹＤ−７１６、ＹＨ−３００、ＰＧ−２０２、ＰＧ−２０７、ＹＤ−１７２、ＹＤＰＮ６３８（以上、東都化成（株）製）などを挙げることができる。
【０１１４】
また、上記オキセタン化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができる。３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−（メタ）アリルオキシメチル−３−エチルオキセタン、（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチルベンゼン、４−フルオロ−［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、４−メトキシ−［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）エチル］フェニルエーテル、イソブトキシメチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、イソボルニルオキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、イソボルニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−エチルヘキシル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、エチルジエチレングリコール（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンタジエン（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラヒドロフルフリル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−テトラブロモフェノキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−トリブロモフェノキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−ヒドロキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−ヒドロキシプロピル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ブトキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタクロロフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ボルニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサ−ノナン、３，３’−（１，３−（２−メチレニル）プロパンジイルビス（オキシメチレン））ビス−（３−エチルオキセタン）、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、１，２−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレン（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリメチロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ポリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＦ（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル等を例示することができる。
【０１１５】
これらオキセタン化合物は、特に可撓性を必要とする場合に使用すると効果的であり、好ましい。
【０１１６】
上記カチオン重合性化合物のその他の化合物の具体例としては、β−プロピオラクトン、ε−カプロラクトン等の環状ラクトン化合物；トリオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，６−トリオキサンシクロオクタン等の環状アセタール化合物；テトラヒドロチオフェン誘導体等の環状チオエーテル化合物；上述のエポキシ化合物とラクトンの反応によって得られるスピロオルトエステル化合物；エチレングリコールジビニルエーテル、アルキルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、プロピレングリコールのプロペニルエーテル等のビニルエーテル化合物、スチレン、ビニルシクロヘキセン、イソブチレン、ポリブタジエン等のエチレン性不飽和化合物等のビニル化合物；テトラヒドロフラン、２，３−ジメチルテトラヒドロフラン等のオキソラン化合物；エチレンスルフィド、チオエピクロルヒドリン等のチイラン化合物；１，３−プロピンスルフィド、３，３−ジメチルチエタン等のチエタン化合物；シリコーン類等周知の化合物が挙げられる。
【０１１７】
本発明の組成物において、カチオン重合開始剤（Ｂ）を用いる場合、カチオン重合性組成物として用いることができる。該カチオン重合性組成物において、該カチオン重合開始剤の使用量は、上記のカチオン重合性化合物１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜質量部〜１０質量部、更に好ましくは０．１質量部〜５質量部である。この使用量が０．０１質量部より少ないと、硬化が不充分となる場合があり、一方、１０質量部を超えても使用効果の増加が得られないばかりでなく、硬化物の物性に悪影響を与える場合がある。
【０１１８】
上記カチオン重合性組成物には、カチオン重合性化合物と共に各種添加剤を配合することができる。各種添加剤としては、架橋剤；有機溶剤；光ラジカル開始剤；熱カチオン開始剤；ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾエート系の紫外線吸収剤；フェノール系、リン系、硫黄系酸化防止剤；カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤等からなる帯電防止剤；ハロゲン系化合物、リン酸エステル系化合物、リン酸アミド系化合物、メラミン系化合物、フッ素樹脂又は金属酸化物、（ポリ）リン酸メラミン、（ポリ）リン酸ピペラジン等の難燃剤；炭化水素系、脂肪酸系、脂肪族アルコール系、脂肪族エステル系、脂肪族アマイド系又は金属石けん系の滑剤；染料、顔料、カーボンブラック等の着色剤；フュームドシリカ、微粒子シリカ、けい石、珪藻土類、クレー、カオリン、珪藻土、シリカゲル、珪酸カルシウム、セリサイト、カオリナイト、フリント、長石粉、蛭石、アタパルジャイト、タルク、マイカ、ミネソタイト、パイロフィライト、シリカ等の珪酸系無機添加剤；ガラス繊維、炭酸カルシウム等の充填剤；造核剤、結晶促進剤等の結晶化剤、シランカップリング剤、可撓性ポリマー等のゴム弾性付与剤、塩基性化合物、酸増殖剤、酸拡散剤、増感剤等が挙げられる。これらの各種添加剤の使用量は、上記カチオン重合性組成物中、合計で、５０質量％以下とする。
【０１１９】
また、上記カチオン重合性化合物へのカチオン重合開始剤（Ｂ）の溶解を容易にするため、予め適当な溶媒（例えば、プロピレンカーボネート、カルビトール、カルビトールアセテート、ブチロラクトン、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート等）に溶解して使用することができる。
【０１２０】
上記カチオン重合性組成物は、紫外線等のエネルギー線を照射することにより通常は０．１秒〜数分後に指触乾燥状態或いは溶媒不溶性の状態に硬化することができる。適当なエネルギー線としては、カチオン重合開始剤の分解を誘発する限りいかなるものでもよいが、好ましくは、超高、高、中、低圧水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、エキシマーランプ、殺菌灯、エキシマーレーザー、窒素レーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ヘリウムネオンレーザー、クリプトンイオンレーザー、各種半導体レーザー、ＹＡＧレーザー、発光ダイオード、ＣＲＴ光源等から得られる２０００オングストロームから７０００オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや電子線、Ｘ線、放射線等の高エネルギー線を利用する。
【０１２１】
エネルギー線への暴露時間は、エネルギー線の強度、塗膜厚やカチオン重合性有機化合物によるが、通常は０．１秒〜１０秒程度で十分である。しかし、比較的厚い塗装物についてはそれ以上の照射時間をかけたほうが好ましい。エネルギー線照射後０．１秒〜数分後には、ほとんどの組成物はカチオン重合により指触乾燥するが、カチオン重合を促進するため加熱やサーマルヘッド等による熱エネルギーを併用することも場合によっては好ましい。
【０１２２】
上記レジスト組成物及びカチオン重合性組成物の具体的な用途としては、光学フィルタ、塗料、コーティング剤、ライニング剤、接着剤、印刷版、絶縁ワニス、絶縁シート、積層板、プリント基盤、半導体装置用・ＬＥＤパッケージ用・液晶注入口用・有機ＥＬ用・光素子用・電気絶縁用・電子部品用・分離膜用等の封止剤、成形材料、パテ、ガラス繊維含浸剤、目止め剤、半導体用・太陽電池用等のパッシベーション膜、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）・液晶表示装置・有機ＥＬ表示装置・プリント基板等の表示デバイスや半導体デバイスに用いられる層間絶縁膜、表面保護膜、プリント基板、或いはカラーテレビ、ＰＣモニタ、携帯情報端末、ＣＣＤイメージセンサのカラーフィルタ、プラズマ表示パネル用の電極材料、印刷インク、歯科用組成物、光造形用樹脂、液状及び乾燥膜の双方、微小機械部品、ガラス繊維ケーブルコーティング、ホログラフィ記録用材料、磁気記録材料、光スイッチ、めっき用マスク、エッチングマスク、スクリーン印刷用ステンシル、透明導電膜等のタッチパネル、ＭＥＭＳ素子、ナノインプリント材料、半導体パッケージの二次元及び三次元高密度実装等のフォトファブリケーション、加飾シート、人口爪、ガラス代替光学フィルム、電子ペーパー、光ディスク、プロジェクター・光通信用レーザー等に用いられるマイクロレンズアレイ、液晶表示装置のバックライトに使用されるプリズムレンズシート、プロジェクションテレビ等のスクリーンに使用されるフレネルレンズシート、レンチキュラーレンズシート等のレンズシートのレンズ部、またはこのようなシートを用いたバックライト等、マイクロレンズ・撮像用レンズ等の光学レンズ、光学素子、光コネクター、光導波路、絶縁用パッキング、熱収縮ゴムチューブ、Ｏ−リング、表示デバイス用シール剤、保護材、光ファイバー保護材、粘着剤、ダイボンディング剤、高放熱性材料、高耐熱シール材、太陽電池・燃料電池・二次電池用部材、電池用固体電解質、絶縁被覆材、複写機用感光ドラム、ガス分離膜、コンクリート保護材・ライニング・土壌注入剤・シーリング剤・蓄冷熱材・ガラスコーティング・発泡体等の土木・建築材料、チューブ・シール材・コーティング材料・滅菌処理装置用シール材・コンタクトレンズ・酸素富化膜、バイオチップ等の医療用材料、自動車部品、各種機械部品等の各種の用途に使用することができ、その用途に特に制限はない。
【実施例】
【０１２３】
以下、実施例等を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１２４】
［実施例１〜１０］ポジ型レジスト組成物の調製
［表１］の配合に従いポジ型レジスト組成物を調製した。尚、数字は質量部を表す。０．１μｍのミクロフィルターでろ過し、これをガラス基板上にスピンコーターで塗布し、９０℃で９０秒間乾燥した後、所定のマスクを介して８０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯の光を照射して露光した。１１０℃で９０秒間ベークし、２．３８％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に３０秒間浸漬することにより現像し、純水で洗浄してレジストパターンを得た。
【０１２５】
［実施例１１〜１８］ネガ型レジスト組成物の調製
［表２］の配合に従いネガ型レジスト組成物を調製した。これをガラス基板上にスピンコーターで塗布し、９０℃で９０秒間乾燥した後、所定のマスクを介して波長３６５ｎｍの光を照射して露光した。１１０℃で９０秒間ベークし、２．３８％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に３０秒間浸漬することにより現像し、純水で洗浄してレジストパターンを得た。
【０１２６】
［実施例１９〜２９］カチオン重合性組成物の製造及び評価
［表３］及び［表４］の配合に従いカチオン重合性組成物を調製した。これをガラス基板上に＃３のバーコーターで塗布した。これに、ベルトコンベア付き光照射装置を使用して８０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯の光を照射した。ランプからベルトコンベアまでの距離は１０ｃｍ、ベルトコンベアのラインスピードは８ｍ／分とした。
【０１２７】
［実施例３０〜３２］光学フィルタの作製１〜３
［表４］の配合に従いカチオン重合性組成物を調製した。これをガラス基板上に＃３のバーコーターで塗布した。これに、ベルトコンベア付き光照射装置を使用して８０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯の光を照射した。ランプからベルトコンベアまでの距離は１０ｃｍ、ベルトコンベアのラインスピードは８ｍ／分とした。露光後、１００℃の条件下１０分間オーブンで加熱して光学フィルタをそれぞれ得た。
得られた光学フィルタについて３５０ｎｍの透過率を測定したところ、それぞれ１０％未満で保護基の脱離が認められた。
【０１２８】
［実施例３３〜３５］溶解促進剤としての評価１〜３
（レジストベース樹脂の調製）
重合管にメタクリル酸メチル、３−ヒドロキシ−１−アダマンチルメタクリレート、２−エチル−２−アダマンチルメタクリレートを仕込み、脱水ベンゼンを加え、十分に系中の酸素を除去した後、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）を投入し、密閉後、６０℃まで昇温し２４時間重合反応を行った。得られたポリマーを精製する為に、反応混合物をヘキサン中に注ぎ、重合体を沈殿させた。得られた重合体をテトラヒドロフランに溶解させ、ヘキサン中に注いで重合物を沈殿させる操作を二回繰り返した後、乾燥させ白色固体を収率８８．５％で得た。１Ｈ−ＮＭＲスペクトルの積分比より共重合組成比はおよそメタクリル酸メチル／３−ヒドロキシ−１−アダマンチルメタクリレート／２−エチル−２−アダマンチルメタクリレート＝２０／２０／６０であった。ＧＰＣ分析による重量平均分子量はポリスチレン換算で６，７００であった。
（レジスト組成物の製造例および評価例Ａ）
上記で得られたレジストベース樹脂１００質量部及び光酸発生剤３質量部、［表５］に示す割合で溶解促進剤を加えてプロピレングリコールメチルエーテルアセテートと混合して、レジストベース樹脂濃度１５質量％のレジスト用樹脂組成物を調整した。得られた組成物を０．２μｍのミクロフィルターで濾過し、シリコンウエハー上にスピンコーティング法により膜厚０．６μｍになるように塗布した。ホットプレートにより温度１００℃で９０秒間プリベークした後、これにマスクを介して、１９３ｎｍのＡｒＦエキシマーレーザーで露光（２６ｍＪ／ｃｍ２）した。次いで、ホットプレート上で温度１２０℃で９０秒間ベーク（ＰＥＢ）を行った。２．３８％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドの水溶液（２３℃）で現像、純水で６０秒間リンスを行った後、乾燥してパターンを得た。
露光部の残膜率が０％となる時間を現像時間とし、その現像時間で得られたパターンの未露光部の膜厚から膜減り率を算出した。
・膜減り率＝乾燥後のパターンの膜厚÷現像前の未露光部の膜厚×１００
【０１２９】
【表１】
2015163672.tif 000048
【０１３０】
【表２】
2015163672.tif 000049
【０１３１】
【表３】
2015163672.tif 000050
【０１３２】
【表４】
2015163672.tif 000051
【０１３３】
【表５】
2015163672.tif 000052
【０１３４】
Ａ−１      下記化合物Ｎｏ．１
Ａ−２      下記化合物Ｎｏ．２
Ａ−３      下記化合物Ｎｏ．３
Ａ−４      下記化合物Ｎｏ．４
Ａ−５      下記化合物Ｎｏ．６
Ａ−６      下記化合物Ｎｏ．７
Ｂ−１      アデカオプトマーＳＰ−０５６（ＡＤＥＫＡ社製）
Ｂ−２      アデカオプトマーＳＰ−０８２（ＡＤＥＫＡ社製）
Ｂ−３      アデカオプトマーＳＰ−６０６（ＡＤＥＫＡ社製）
Ｂ−４      アデカオプトマーＳＰ−７０１（ＡＤＥＫＡ社製）
Ｂ−５      アデカオプトマーＳＰ−１７１（ＡＤＥＫＡ社製）
Ｂ−６      アデカオプトマーＳＰ−１５０（ＡＤＥＫＡ社製）
Ｂ−７      アデカオプトマーＳＰ−１３０（ＡＤＥＫＡ社製）
Ｂ−８      下記化合物Ｎｏ．５
Ｃ−１      ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）の３０モル％がｔ−ブトキシカルボニル基で置換された構造を有する樹脂（Ｍｗ＝１２０００）
Ｃ−２      エピクロンＮ−６８０（ＤＩＣ社製）
Ｃ−３      ３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート
Ｃ−４      １，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル
Ｃ−５      ＥＰ−４１００Ｅ（ＡＤＥＫＡ社製）
Ｃ−６      ＤＹ０２２（ナガセケムテックス社製）
ＰＧＭＥＡ  プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート
ＭＥＫ      メチルエチルケトン
【０１３５】
【化４７】
2015163672.tif 000053
【０１３６】
【化４８】
2015163672.tif 000054
【０１３７】
【化４９】
2015163672.tif 000055
【０１３８】
【化５０】
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【０１３９】
【化５１】
2015163672.tif 000057
【０１４０】
【化５２】
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【０１４１】
【化５３】
2015163672.tif 000059
【０１４２】
［評価例１〜１８］焼成による耐熱性評価
上記実施例１〜１８で得られた組成物を用い、別途、マスクを介さずに全面硬化させた塗膜を、２３０℃×９０ｍｉｎの条件で焼成し、焼成後の塗膜の４００ｎｍにおける透過率を測定した。また、リファレンスとして、それぞれの組成物から潜在性添加剤（Ａ）成分を除いた組成物を調製し、同様にして透過率を測定した。評価例の塗膜の透過率からリファレンスの塗膜の透過率を引いた値を算出し、その値が１より大きい場合は「＋」を、１未満の場合は「−」とした。結果を［表１］〜［表２］に示す。「＋」の場合、焼成後も塗膜の透過率が高い、すなわち塗膜の熱劣化による黄変を防止していると言える。
【０１４３】
［評価例１９〜２９］焼成による耐熱性評価
上記実施例１９〜２９で得られた硬化物を、２３０℃×９０ｍｉｎの条件で焼成し、焼成後の塗膜の４００ｎｍにおける透過率を測定した。評価例１〜１８と同様にして耐熱性評価を行った。結果を［表３］〜［表４］に示す。
【０１４４】
上記［表１］〜［表４］より、本発明の組成物は、潜在性添加剤を含有するため耐熱性が高いことは明らかである。
また、上記［表５］より、本発明の添加剤を、化学増幅型レジストに用いることにより、露光部の現像速度が速くなり、未露光部の膜減り率が少なくなり、溶解促進剤として有用であることは明らかである。