(57)【要約】【課題】本発明の目的は、正面からの反射光の色相を低減するとともに、あらゆる角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減する、膜強度や膜均一性が良好である反射防止フィルムおよび反射防止フィルムを用いた偏光板、タッチパネル、表示装置を提供すること。【解決手段】透明フィルム基材１０上に設けたハードコート層１１上に、中屈折率層１２、高屈折率層１３、低屈折率層１４の順に３層の光学層を積層した反射防止フィルム１において、中屈折率層１２が下記の式（１）を満足することを特徴とする反射防止フィルム。      ０．６０λ０  ≦  ｎ１ｄ１  ≦  １．００λ０  ・・・（１）          ｎ１：中屈折率層１２の屈折率          ｄ１：中屈折率層１２の膜厚          λ０：５００〜６００ｎｍで任意に選択される設計波長【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム基材上に設けたハードコート層上に、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の順に３層の光学層を積層した反射防止フィルムにおいて、前記中屈折率層が下記の式（１）を満足することを特徴とする、反射防止フィルム。
０．６０λ０  ≦  ｎ１ｄ１  ≦  １．００λ０  ・・・（１）
ｎ１：中屈折率層の屈折率
ｄ１：中屈折率層の膜厚
λ０：５００〜６００ｎｍで任意に選択される設計波長
【請求項２】
前記反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以下であることを特徴とする、請求項１に記載の反射防止フィルム。  
【請求項３】
前記中屈折率層の屈折率が１．５５から１．６５であり、高屈折率層の屈折率が１．６５から１．９０であり、前記低屈折率層の屈折率が１．２５から１．４０であることを特徴とする、請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする、偏光板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする、タッチパネル。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ等の表面に外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルム、該反射防止フィルムを備える偏光板、画像表示装置、液晶表示装置、およびタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光等が入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、特に近年モバイル端末の普及により、屋内にて使用する場合よりも強い外光にさらされる屋外でも視認性を損なわない、低反射率の反射防止フィルムが求められている。
【０００３】
また、定置設置型の画像表示装置に反射防止フィルムを適応する場合、その多くは、固定光源からの反射光を低減することが前提となっている。これは、外光の入射角が変化しないことを意味する。これに対しモバイル端末の場合、屋外での使用や手元での操作があるため、様々な角度から外光が入射し、さらに、視聴者も様々な角度でディスプレイを観察する場合が多くなってきている。よって、モバイル端末に対して反射防止フィルムを適応しようとした場合、正面からの反射光のみではなく、あらゆる入射角の光源に対しての反射光、特に反射光の色味について検討する必要がある。
【０００４】
このような反射防止フィルムは、少なくとも最表面に膜厚２００ｎｍ以下の薄膜層である低屈折率層を設け、その低屈折率層の光学干渉によって反射防止を行う。しかし、最も単純な構成である低屈折率層一層で反射防止を行う一層薄膜干渉型の場合は、反射率１％以下を満足するものがない。さらに、反射率０．５％以下を達成するための、支持体と低屈折率層との間に高屈折率層を形成する二層薄膜干渉型、または支持体と低屈折率層との間に中屈折率層および高屈折率層を順次形成する三層薄膜干渉型等、多層の光学干渉によって反射を防止する多層薄膜干渉型反射防止フィルムが知られている。
例えば、特許文献１〜４には、多官能硬化性化合物を含有する組成物を塗布および硬化させて各層を形成し、屈折率の調整のため、中屈折率層および高屈折率層に酸化チタン等の微粒子を含有させてなる、多層型の反射防止フィルムが記載されている。このような多層型の反射防止フィルムは、低反射化を達成し得る反面、各層の膜厚や屈折率が変動すると反射色が変化してしまうことがある。
そこで、各層の膜厚の変動を抑える観点から、例えば、低屈折率層の塗布に際に、中屈折率層および高屈折率層等の中間層にレベリング剤を含有させ、膜厚ムラを抑えることが知られている（例えば、特許文献５を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−２８３７３０号公報
【特許文献２】特開平１０−３００９０２号公報
【特許文献３】特開２００３−７５６０３号公報
【特許文献４】特開２００１−３１８７１号公報
【特許文献５】特開２０１２−３６３９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、中屈折率層および高屈折率層等の中間層にレベリング剤を含有させた場合、レベリング剤を含有させた層の上に積層を行うと、界面にレベリング剤が偏在することで上層との密着性（界面結合性）が悪化する。この密着性の悪化によって、界面が剥がれやすく（傷になりやすく）なり、耐擦傷性が劣化するという問題が発生する。このような観点から、中屈折率層にレベリング性が高いレベリング剤を含有させることは困難であり、膜厚ムラを抑制することが難しく、反射色の変動を抑えるのが困難であった。
【０００７】
本発明の目的は、正面からの反射光の色相を低減するとともに、あらゆる角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減する、膜強度や膜均一性が良好で外観故障のない反射防止フィルム、該反射防止フィルムを備える偏光板、画像表示装置、液晶表示装置、およびタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の目的は、下記の反射防止フィルム、該反射防止フィルムを備える、偏光板、画像表示装置や液晶表示装置などの表示装置、およびタッチパネルにより達成される。
【０００９】
すなわち、請求項１に関わる発明は、透明フィルム基材上に設けたハードコート層上に、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の順に３層の光学層を積層した反射防止フィルムにおいて、前記中屈折率層が下記の式（１）を満足することを特徴とする反射防止フィルムである。
０．６０λ０  ≦  ｎ１ｄ１  ≦  １．００λ０  ・・・（１）
ｎ１：中屈折率層の屈折率
ｄ１：中屈折率層の膜厚
λ０：５００〜６００ｎｍで任意に選択される設計波長
【００１０】
請求項２に関わる発明は、前記反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以下であることを特徴とする、請求項１に記載の反射防止フィルムである。  
【００１１】
請求項３に関わる発明は、前記中屈折率層の屈折率が１．５５から１．６５であり、高屈折率層の屈折率が１．６５から１．９０であり、前記低屈折率層の屈折率が１．２５から１．４０であることを特徴とする、請求項１〜２に記載の反射防止フィルムである。
【００１２】
請求項４に関わる発明は、請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする、偏光板である。
【００１３】
請求項５に関わる発明は、請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする、タッチパネルである。
【００１４】
請求項６に関わる発明は、請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする、表示装置である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明では、上記のような反射防止フィルムを、画像表示装置や液晶表示装置などの表示装置に設置することにより、反射防止フィルム表面での視感平均反射率を０．５％以下の範囲内にすることができる。これにより、正面からの反射光の色相を低減するとともに、あらゆる角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減する、膜強度や膜均一性が良好で外観故障のない反射防止フィルム、該反射防止フィルムを備える偏光板、画像表示装置、液晶表示装置、およびタッチパネルを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムを示す概略断面図
【図２】本発明の実施の形態２に係る反射防止フィルム付偏光板を示す概略断面図
【図３】本発明の実施の形態３に係る反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図
【図４】本発明の実施の形態４に係る反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の反射防止フィルムについて詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１８】
なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。例えば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。
【００１９】
反射防止フィルムの反射防止層は、透明フィルム基材側から屈折率の異なる３層を、透明フィルム基材/中屈折率層/高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが、反射率が減少する点から好ましく用いられる。
【００２０】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００２１】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルム１を示す概略断面図である。反射防止フィルム１は、図１に示すように、透明基材１０の少なくとも一方の面上に、ハードコート層形成用塗液から形成されたハードコート層１１と、下記の式（１）を満足する中屈折率層１２と、高屈折率層１３と、低屈折率層１４とを順次積層した積層体である。
０．６０λ０  ≦  ｎ１ｄ１  ≦  １．００λ０  ・・・（１）
ｎ１：中屈折率層１２の屈折率
ｄ１：中屈折率層１２の膜厚
λ０：５００〜６００ｎｍで任意に選択される設計波長
【００２２】
まず、透明基材１０について説明する。
透明基材１０としては、種々の有機高分子からなるフィルムを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材を用いることができる。透明基材１０としては、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものを用いることができる。特に、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムが好適に用いることができる。セルロース系フィルムは、複屈折が少なく、透明性、屈折率、分散等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性に優れている。さらに、セルロース系フィルムは、溶剤によって容易に溶解または膨潤するので、最も好ましく用いられる。
【００２３】
透明基材１０に、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加してもよい。また、透明基材１０の厚さは特に限定されるものではない。しかしながら、透明基材１０の厚さは、２０μｍ以上かつ２００μｍ以下が好ましい。ただし、透明基材１０として、トリアセチルセルロースフィルムを用いる場合には、透明基材１０の厚さは、２５μｍ以上かつ８０μｍ以下が好ましい。
【００２４】
次に、透明基材１０上に形成されるハードコート層１１について説明する。
ハードコート層１１を形成するためには、まず、バインダマトリックス形成材料と透明基材１０を溶解または膨潤させる溶剤とを含むハードコート層形成用塗液を使用して塗膜を形成する。ハードコート層形成用塗液の塗工方法として、例えば、湿式成膜法を採用し、ハードコート層形成用塗液を透明基材１０上に塗布し、透明基材１０上に塗膜を形成する。その後、該塗膜に電離放射線を照射し、該塗膜を硬化させることにより、ハードコート層１１を形成することができる。
【００２５】
ハードコート層形成用塗液は、バインダマトリックス形成材料として、紫外線硬化型材料であるアクリル系材料を含んでいることが好ましい。アクリル系材料としては、多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコールおよび（メタ）アクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。また、これらの他にも、紫外線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００２６】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレート等のアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２７】
２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２８】
３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００２９】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量および分子構造を設計することができ、形成されるハードコート層１１の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００３０】
ハードコート層形成用塗液に含まれる溶剤としては、透明基材１０を溶解または膨潤させる溶剤を用いる。透明基材１０を溶解または膨潤させる溶剤を含むハードコート層形成用塗液を用いてハードコート層１１を形成することにより、透明基材１０とハードコート層１１との密着性を向上させることができる。すなわち、透明基材１０の成分とハードコート層１１の成分とが混在したハードコート層１１を形成することができ、得られる反射防止フィルム１において干渉ムラの発生を防ぐことができる。
【００３１】
透明基材１０としてセルロース系フィルムを用いた場合、セルロース系フィルム表面を溶解または膨潤させる溶剤としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられ、これらを単独で、もしくは２種類以上組み合わせて用いることができる。また、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトンおよびシクロヘキサノンの少なくとも１種類を用いることが好ましい。
【００３２】
また、ハードコート層１１に四級アンモニウムカチオンや導電性金属微粒子等を添加し、ハードコート層１１に導電性を付与してもかまわない。
【００３３】
ハードコート層１１の形成方法としては、ウェットコーティング法とされる、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等を採用することができ、透明基材１０の少なくとも一方の面上にハードコート層形成用塗液を塗布することにより形成することができる。特に、ハードコート層１１は、薄く、均一に層を形成する必要性があることから、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。また、ハードコート層１１として、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることが好ましい。
【００３４】
ハードコート層１１を形成する際の塗膜の硬化方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を採用することができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、フュージョンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。
【００３５】
ハードコート層１１の膜厚は、３μｍ以上であれば十分な強度となるが、塗工精度、取り扱いの点から、５μｍ以上かつ１０μｍ以下の範囲であることが好ましい。ハードコート層１１の膜厚が１０μｍを超えると、硬化収縮による透明基材１０の反り、ゆがみ、折れが発生することがある。
【００３６】
次に、ハードコート層１１上に形成される中屈折率層１２について説明する。中屈折率層１２は、中屈折率層形成塗液をハードコート層１１の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき中屈折率層１２単層の膜厚（ｄ１）は、その膜厚（ｄ１）に中屈折率層１２の屈折率（ｎ１）を乗じることによって得られる光学膜厚（ｎ１ｄ１）が、上述した式（１）を満たすように設計される。中屈折率層形成塗液としては、バインダマトリックス形成材料に高屈折率微粒子を分散させたものを用いることができる。
【００３７】
本発明の中屈折率層１２の屈折率（ｄ１）は１．４７から１．７０までの範囲内にあることが望ましく、１．５０〜１．６５であることがより望ましく、１．５５〜１．６５であることがさらに望ましい。中屈折率層１２の屈折率（ｄ１）は、低屈折率層１４の屈折率と、高屈折率層１３の屈折率との間の値となるように調整される。
【００３８】
高屈折率微粒子としては、例えば、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ等の高屈折率材料からなる微粒子を用いることができる。
【００３９】
高屈折率微粒子は表面処理してもよい。表面処理とは、無機化合物および／または有機化合物を用いて該粒子表面の改質を実施するもので、これにより無機微粒子表面の濡れ性が調整され、有機溶媒中での微粒子化、高屈折率層形成用組成物中での分散性や分散安定性が向上し、好ましい。粒子表面に物理化学的に吸着させる無機化合物としては、例えば、ケイ素を含有する無機化合物（ＳｉＯ２等）、アルミニウムを含有する無機化合物（Ａｌ２Ｏ３、Ａｌ(ＯＨ)３等）、コバルトを含有する無機化合物（ＣｏＯ２、Ｃｏ２Ｏ３、Ｃｏ３Ｏ４等）、ジルコニウムを含有する無機化合物（ＺｒＯ２，Ｚｒ(ＯＨ)４等）、鉄を含有する無機化合物（Ｆｅ２Ｏ３等）等が挙げられる。
【００４０】
表面処理に用いる有機化合物の例には、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤を用いることができる。例えば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章（技術情報協会、２００１年刊行）等に記載されている。
【００４１】
この有機化合物として、具体的には、無機微粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物、カップリング化合物が挙げられる。無機微粒子表面と親和性を有する極性基としては、カルボキシ基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等が挙げられ、分子中に少なくとも１種を含有する化合物が好ましい。例えば、長鎖脂肪族カルボン酸（例えばステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等）、ポリオール類のポリ（メタ）アクリレート化合物（例えばペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ＥＣＨ（エピクロルヒドリン）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート等）、ホスホノ基含有化合物（例えばＥＯ（エチレンオキサイド）変性リン酸トリ（メタ）アクリレート等）、アルカノールアミン（エチレンジアミンＥＯ付加体（５モル）等）が挙げられる。
【００４２】
カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物が挙げられ、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。具体的には、例えば特開２００２−９９０８号公報、特開２００１−３１０４２３号公報の明細書中の段落番号「００１１」〜「００１５」に記載の化合物等が挙げられる。これらの表面処理は、２種類以上を併用することもできる。
【００４３】
本発明に用いられる高屈折率微粒子は、これをコアとして他の無機化合物からなるシェルを形成したコア／シェル構造の微粒子であることも好ましい。シェルとしては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｒから選ばれる少なくとも１種の元素からなる酸化物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−１６６１０４号公報に記載の内容が挙げられる。
【００４４】
本発明で使用される高屈折率微粒子の形状は、特に限定されないが、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状または不定形状が好ましい。本発明における無機微粒子は、単独で用いてもよいが、２種類以上を併用して用いることもできる。
【００４５】
高屈折率微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。高屈折率微粒子の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、中屈折率層１２のヘイズ値が高くなってしまい、反射防止フィルム１の透明性が低下するおそれがある。一方、高屈折率微粒子の平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、中屈折率層１２における粒子の不均一性等の問題が生じるおそれがある。
【００４６】
本発明では、中屈折率層１２が、高屈折率微粒子を固形分中に１０重量部以上かつ８０重量部以下含有することが望ましい。１０重量部未満だと、十分に高い屈折率を得ることが困難となり、８０重量部を超えると硬度不足等を引き起こし、粒子の脱落および塗工中のフィルム表面への付着により外観故障の原因となり、好ましくない。
【００４７】
中屈折率層１２を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、紫外線硬化型材料を含む。紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、または単官能性モノマーを含有する紫外線硬化型樹脂が用いられる。紫外線硬化型材料としては、例えば、ハードコート層１１に用いられる紫外線硬化型材料として例示した、単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物であるアクリル系材料を用いることができる。
【００４８】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量および分子構造を設計することができ、形成される中屈折率層１２の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００４９】
なお、中屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒を加えることができる。溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から、塗工適性等を考慮して適宜選択して用いることができる。
【００５０】
また、バインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより中屈折率層１２を形成する場合には、中屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであればよく、具体例としては、アセトフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、チオキサンソン系化合物、トリアジン系化合物、ホスフィン系化合物、キノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チタノセン系化合物等が挙げられる。アセトフェノン系化合物としては、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン等が例示できる。また、ベンゾイン系化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等が例示できる。ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等が例示できる。オキシムエステル系化合物としては、エタノン,１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−(０−アセチルオキシム)、１，２−オクタジオン−１−[４−(フェニルチオ)−，２−(Ｏ−ベンゾイルオキシム)]等が例示できる。チオキサンソン系化合物としては、チオキサンソン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等が例示できる。トリアジン系化合物としては、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリルｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等が例示できる。ホスフィン系化合物としては、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が例示できる。また、キノン系化合物として���、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等を例示できる。光重合開始剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５１】
光重合開始剤の含有量は、固形分中に０．０１〜２０重量部、好ましくは０．０１〜５重量部で用いることができる。
【００５２】
また、中屈折率層形成用塗液にはその他添加剤を加えてもよい。添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、光増感剤等が挙げられる。
【００５３】
中屈折率層１２を形成する方法としては、中屈折率層形成用塗液をハードコート層１１の表面に塗布し、中屈折率層１２を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった真空中で中屈折率層１２を形成する真空成膜法による方法とに分けられるが、特に限定されるものではない。しかしながら、本発明においては、安価に反射防止フィルム１を製造することができるという点から、湿式成膜法を採用することが好ましい。
【００５４】
次に、中屈折率層１２上に形成される高屈折率層１３について説明する。
高屈折率層１３は、高屈折率層形成塗液を中屈折率層１２上の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき高屈折率層１３単層の膜厚（ｄ２）は、その膜厚（ｄ２）に高屈折率層１３の屈折率（ｎ２）を乗じることによって得られる光学膜厚（ｎ２ｄ２）が、下記の式（２）のように可視光の任意の波長（λvisible）の１／２と等しくなるように設計されることが好ましい。
ｎ２ｄ２  ＝  λvisible／２ ・・・（２）
【００５５】
また、高屈折率層１３の膜厚（ｄ２）は、光学干渉層としての特性から、５ｎｍ〜１μｍの範囲内にあることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍの範囲内にあることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍの範囲内にあることが最も好ましい。
【００５６】
本発明の高屈折率層１３の屈折率（ｎ２）は、反射防止フィルムの色付きを抑制する観点からは、１．６５〜１．９０の範囲内にあることが特に好ましい。高屈折率層１３の屈折率（ｎ２）を調整する手段は、高屈折率微粒子の添加量が支配的である。高屈折率微粒子としては、中屈折率層形成塗液に記載した高屈折率材料を用いることができる。また、高屈折率微粒子は、中屈折率層形成塗液に記載した無機化合物および／または有機化合物での表面処理を行うことができる。
【００５７】
高屈折率層１３を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、紫外線硬化型材料を含む。紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、または単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。紫外線硬化型材料としては、中屈折率層１２に用いられる紫外線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。
【００５８】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量および分子構造を設計することができ、形成される高屈折率層１３の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００５９】
なお、高屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、中屈折率層１２の用いられる溶媒として例示したものを用いることができる。また、添加剤としては、添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、光増感剤等が挙げられる。
【００６０】
また、バインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより高屈折率層１３を形成する場合には、高屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、中屈折率層形成用塗液に加えられる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。
【００６１】
高屈折率層１３を形成する方法としては、高屈折率層形成用塗液を中屈折率層１２の表面に塗布し、中屈折率層１２を形成する方法として例示した方法を、採用することができる。
【００６２】
次に、高屈折率層１３上に形成される低屈折率層１４について説明する。
低屈折率層１４は、低屈折率層形成塗液を、高屈折率層１３の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき反射防止層である低屈折率層１４単層の膜厚（ｄ３）は、その膜厚（ｄ３）に低屈折率層１４の屈折率（ｎ３）を乗じることによって得られる光学膜厚（ｎ３ｄ３）が、下記の式（３）のように可視光の任意の波長（λvisible）の１／４と等しくなるように設計されることが好ましい。低屈折率層形成塗液としては、バインダマトリックス形成材料に低屈折率微粒子を分散させたものを用いることができる。
ｎ３ｄ３  ＝  λvisible／４ ・・・（３）
【００６３】
本発明の低屈折率層１４の屈折率（ｎ３）は、１．２５から１．４５までの範囲内にあることが望ましく、１．２５〜１．４０であることがさらに望ましい。低屈折率層１４の屈折率（ｎ３）は、できるだけ低い方が空気（屈折率＝１）の屈折率に近づき低反射率を実現しやすいものの、低屈折率材料を多量に添加する必要があるため、機械強度が低くなり傷がつきやすくなる。一方、低屈折率層１４の屈折率（ｎ３）が１．４０以上だと、空気との屈折率に差がつき、反射率が上昇してしまう。
【００６４】
また、低屈折率層１４の膜厚（ｄ３）は、光学干渉層としての特性から、５ｎｍ〜１μｍの範囲内にあることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍの範囲内にあることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍの範囲内にあることが最も好ましい。
【００６５】
低屈折率微粒子としては、例えば、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、もしくはＮａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折率材料からなる微粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有するシリカ粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有するシリカ粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（約１．０）とすることができるので、非常に低い屈折率を備える低屈折率微粒子とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子、シェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。
【００６６】
低屈折率微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率微粒子の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層１４が白化して反射防止フィルム１の透明性が低下するおそれがある。一方、低屈折率微粒子の平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、低屈折率層１４における粒子の不均一性等の問題が生じるおそれがある。
【００６７】
低屈折率層１４を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、紫外線硬化型材料を含む。紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、または単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。紫外線硬化型材料としては、中屈折率層１２に用いられる紫外線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。
【００６８】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量および分子構造を設計することができ、形成される低屈折率層１４の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００６９】
なお、低屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、中屈折率層１２に用いられる溶媒として例示したものを用いることができる。また、添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、光増感剤等が挙げられる。
【００７０】
また、バインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層１４を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、中屈折率層形成用塗液に加えられる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。
【００７１】
低屈折率層１４を形成する方法としては、低屈折率層形成用塗液を高屈折率層１３の表面に塗布し、中屈折率層１２を形成する方法として例示した方法を採用することができる。
【００７２】
また、ハードコート層屈折率ｎ（Ｈａｒｄ）、中屈折率層屈折率ｎ（Ｍｉｄｄｌｅ）、高屈折率層屈折率ｎ（Ｈｉｇｈ）、および低屈折率層屈折率ｎ（Ｌｏｗ）の高さは、ｎ（Ｌｏｗ）＜ｎ（Ｈａｒｄ）＜ｎ（Ｍｉｄｄｌｅ）＜ｎ（Ｈｉｇｈ）であることが好ましい。この条件を満たさない場合、良好な反射防止機能を得ることができない。
【００７３】
なお、反射防止フィルム１においては、透明基材１０とハードコート層１１との間、またはハードコート層１１と中屈折率層１２との間、中屈折率層１２と高屈折率層１３との間、高屈折率層１３と低屈折率層１４との間に、他の機能層を設けてもかまわない。他の機能層としては、例えば、電磁波シールド性能を有する電磁波シールド層、赤外線吸収性能を有する赤外線吸収層、または紫外線吸収性能を有する紫外線吸収層等を挙げることができる。
【００７４】
本発明の反射防止フィルム（低反射積層体）１は、透明な基材上に、必要に応じて後述のハードコート層を有し、その上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮した層が積層された構成である。反射防止フィルム（低反射積層体）１は、最も単純な構成では、基材上に低屈折率層のみを塗設した構成であるが、さらに反射率を低下させるには、基材よりも屈折率の高い高屈折率層と、基材よりも屈折率の低い低屈折率層とを組み合わせて、反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（基材またはハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、さらに多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する基材上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に塗布することが好ましい。
【００７５】
本発明の反射防止フィルム（低反射積層体）１の好ましい層構成の例を下記に示す。下記の構成において基材フィルムは、フィルムで構成された支持体を指している。
・基材フィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／帯電防止層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・帯電防止層／基材フィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／帯電防止層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・帯電防止層／基材フィルム／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
なお、光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。高屈折率層は、防眩性のない光拡散性層であってもよい。
また、帯電防止層は、導電性ポリマー粒子または金属酸化物微粒子（例えば、ＡＴＯ、ＩＴＯ）を含む層であることが好ましく、塗布または大気圧プラズマ処理等によって設けることができる。
【００７６】
そして、本実施形態の反射防止フィルム１は、フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以下であることが好ましい。
【００７７】
反射防止フィルム１は、ディスプレイ部材、画像装置の一部として好適に用いることができる。
【００７８】
（実施の形態２）
図２は、実施の形態１に係る反射防止フィルム１を備えた、本発明の実施の形態２に係る反射防止フィルム付偏光板２００を示す概略断面図である。
【００７９】
図２に示すように、反射防止フィルム付偏光板２００は、反射防止フィルム１と偏光板２とを備えている。具体的に、反射防止フィルム付偏光板２００は、反射防止フィルム１の透明基材１０のハードコート層１１が形成されていない面側に、偏光層２３および透明基材２１からなる偏光板２が配置された構成である。すなわち、透明基材１０の一方の面（図２では上面）に、透明基材１０側から順に、ハードコート層１１、中屈折率層１２、高屈折率層１３および低屈折率層１４が積層されており、透明基材１０の他方の面（図２では下面）に、透明基材１０側から順に、偏光層２３および透明基材２１が積層されている。なお、これら偏光層２３および透明基材２１は、反射防止フィルム付偏光板に利用できるものであればよく、特定に限定されるものではない。
【００８０】
（実施の形態３）
図３は、実施の形態１に係る反射防止フィルム１を備えた、本発明の実施の形態３に係る透過型液晶ディスプレイ３００の一例を示す概略断面図である。
【００８１】
図３に示すように、透過型液晶ディスプレイ３００は、反射防止フィルム１を含む反射防止フィルム付偏光板２００ａと、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とを備えている。反射防止フィルム付偏光板２００ａは、反射防止フィルム１の透明基材１０のハードコート層１１が形成されていない面側に、透明基材２２、偏光層２３、および透明基材２１が順に積層されてなる偏光板２’が配置された構成である。そして、この偏光板２’の反射防止フィルム１が配置されていない面には、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とがこの順に配置されている。この透過型液晶ディスプレイ３００では、反射防止フィルム１側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面となる。
【００８２】
透過型液晶ディスプレイ３００は、反射防止フィルム１の透明基材１０と、偏光板２’の透明基材２２とを別々に備える。
【００８３】
バックライトユニット５は、光源と光拡散板と（図示しない）を備える。液晶セル３は、図示しないが、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル３は、透明基材２１と透明基材２２との間に偏光層２３が挟持された構造の偏光板２’と、透明基材４１と透明基材４２との間に偏光層４３が挟持された構造の偏光板４とで、挟むように配置される。  
【００８４】
（実施の形態４）
図４は、実施の形態２に係る反射防止フィルム付偏光板２００を備えた、本発明の実施の形態４に係る透過型液晶ディスプレイ４００の一例を示す概略断面図である。
【００８５】
図４に示すように、透過型液晶ディスプレイ４００は、反射防止フィルム付偏光板２００と、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とを備えている。この透過型液晶ディスプレイ４００は、反射防止フィルム付偏光板２００の透明基材２１の偏光層２３が形成されていない面側に、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とがこの順に配置された構成である。この透過型液晶ディスプレイ４００では、反射防止フィルム１側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面となる。
【００８６】
上述の透過型液晶ディスプレイ３００と同様に、バックライトユニット５は、光源と光拡散板と（図示しない）を備える。液晶セル３は、図示しないが、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル３は、偏光板２の透明基材２１と透明基材１０との間に偏光層２３が挟持された構造と、透明基材４１と透明基材４２との間に偏光層４３が挟持された構造の偏光板４とで、挟むように配置される。
【００８７】
なお、本発明の透過型液晶ディスプレイ３００および４００は、他の機能性部材を備えていてもよい。他の機能性部材としては、例えば、バックライトユニット５から発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セル３や偏光板４の位相差を補償するための位相差フィルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００８８】
（実施例）
以下に、ハードコート層形成用塗液、中屈折率層形成用塗液、高屈折率層形成用塗液、および低屈折率層形成用塗液の調製例、ならびにこれらを用いた実施例および比較例を示す。
【００８９】
＜調整例１＞
（ハードコート層形成用塗液）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート２５質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５質量部、ウレタンアクリレート５０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部を用い、これをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成塗液ＨＣ１を調整した。
【００９０】
＜調整例２＞
（中屈折率層形成用塗液）
表１に示す組成（質量比）の混合物を、均一になるように攪拌混合した後、１μｍのフィルタで濾過して、ＭＲ１〜５の中屈折率層形成用塗液を固形分１０％にそれぞれ調整した。
【００９１】
【表１】
2015197634.tif 000003
【００９２】
表１の組成の具体的内容を以下に示す。
・高屈折率微粒子溶液
・ＡＴＯ分散液：固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン
・光重合開始剤
・ＴＰＯ： チバ・ジャパン社製「ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ」
・紫外線硬化型樹脂
・ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールトリアクリレート
・溶剤
・ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
【００９３】
＜調整例３＞
（高屈折率層形成用塗液）
表２に示す組成（質量比）の混合物を、均一になるように攪拌混合した後、１μｍのフィルタで濾過して、ＨＲ１〜５の高屈折率層形成用塗液を固形分１０％にそれぞれ調整した。
【００９４】
【表２】
2015197634.tif 000004
【００９５】
表２の組成の具体的内容を以下に示す。
・高屈折微粒子溶液
・ＺｒＯ２分散液：固形分５０％、溶剤メチルイソブチルケトン
・ＴｉＯ２分散液：固形分４０％、溶剤メチルイソブチルケトン
・光重合開始剤
・ＴＰＯ：チバ・ジャパン社製「ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ」
・紫外線硬化型樹脂
・ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールトリアクリレート
・溶剤
・ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
【００９６】
＜調整例４＞
（低屈折率層形成用塗液）
表３に示す組成（質量比）の混合物を、均一になるように攪拌混合した後、１μｍのフィルタで濾過して、ＬＲ１〜５の低屈折率層形成用塗液を固形分５％にそれぞれ調整した。
【００９７】
【表３】
2015197634.tif 000005
【００９８】
表３の組成の具体的内容を以下に示す。
・微粒子溶液
・多孔質シリカ微粒子分散液：固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン
・光重合開始剤
・Ｉｒｇ１８４：チバ・ジャパン社製「イルガキュア１８４」
・紫外線硬化型樹脂
・ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールトリアクリレート
・溶剤
・ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン  
【００９９】
＜実施例１＞（反射防止フィルムの作製）
図１に示す構成の反射防止フィルムを作製した。透明基材として、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム（株）製）を用いた。
【０１００】
（１）ハードコート層の形成
透明基材の一方の面上に、上記で得たハードコート層形成用塗液ＨＣ１を塗布し、８０℃で６０秒間オーブンにて乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン（株）製、光源Ｈバルブ）を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行い、乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層を形成した。ハードコート層の膜厚は５μｍであり、波長５５０ｎｍでの屈折率は１．５２であった。
【０１０１】
（２）中屈折率層の形成
上記で形成したハードコート層上に中屈折率層形成用塗液ＭＲ１を塗布し、塗膜を形成した。紫外線照射装置を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行って塗膜を硬化させて、中屈折率層を形成した。中屈折率層の膜厚は２５０ｎｍであり、設計波長５５０ｎｍでの屈折率は１．５８であった。
【０１０２】
（３）高屈折率層の形成
上記で形成した中屈折率層上に、高屈折率層形成用塗液ＨＲ１を塗布し、塗膜を形成した。紫外線照射装置を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行って塗膜を硬化させて、高屈折率層を形成した。高屈折率層の膜厚は１３８ｎｍであり、波長５５０ｎｍでの屈折率は１．７６であった。
【０１０３】
（４）低屈折率層の形成
上記で形成した高屈折率層上に、低屈折率層形成用塗液ＬＲ１を塗布し、塗膜を形成した。紫外線照射装置を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行って塗膜を硬化させて、低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。低屈折率層の膜厚は９６ｎｍであり、波長５５０ｎｍでの屈折率は１．３４であった。
【０１０４】
実施例２〜１７、比較例１〜３では、表４に示すハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を組み合わせて、それぞれ反射防止フィルムを作製した。各層の膜厚と、波長５５０ｎｍでの屈折率を表４に示した。
【０１０５】
【表４】
2015197634.tif 000006
【０１０６】
実施例１〜１７および比較例１〜３で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価を行った。
【０１０７】
（平均視感反射率）
上記得られた反射防止フィルムの低屈折率層の表面について、自動分光光度計（（株）日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち反射防止層が形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
【０１０８】
（反射色相）
上記得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、正面および斜め４５°の色相を官能評価により実施した。判定は、以下の基準で行った。
○：正面から４５°の色相変化が明るい照明下でじっくりと評価すると分かる程度
△：正面から４５°の色相変化が分かる程度
×：正面から４５°の色相変化がはっきりと分かる程度
なお、評価の際には、透明フィルム基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
【０１０９】
（外観）
上記得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、外観評価を官能評価により実施した。判定は、以下の基準で行った。
○：ムラ、塗工時の傷が、明るい照明下でじっくりと評価すると分かる程度
△：ムラ、塗工時の傷が、分かる程度
×：ムラ、塗工時の傷が、はっきりと分かる程度
なお、評価の際には、透明フィルム基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
【０１１０】
（耐擦傷性）
上記得られた反射防止フィルムの低屈折率層の表面を、スチールウール（日本スチールウール（株）製、ボンスター＃００００）を用いて、荷重２５０ｇ／ｃｍ２で１０往復擦り、傷の有無を目視にて観察して評価した。判定は、以下の基準で行った。
◎：深い傷が全く確認されない
○：深い傷は確認されないが、若干擦り跡が分かる
△：深い傷は確認されないが、擦り跡が分かる
×：深い傷が確認された
【０１１１】
上記で行った評価結果を、以下の表５に示す。
【表５】
2015197634.tif 000007
【０１１２】
表５に示す結果から、実施例１〜１７で得られた反射防止フィルムは、平均視感反射率０．５％以下で、優れた反射色相および耐擦傷性を備え、外観にも優れたものであることが分かる。
【０１１３】
これに対して、比較例１〜３で得られた反射防止フィルムは、正面から４５°の色相変化が大きく、塗膜外観を損ねている。
【０１１４】
＜実施例１８＞（反射防止フィルム付き偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。鹸化処理済みの上述した実施例１の反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール接着剤を用いて、反射防止フィルムの透明フィルム側（トリアセチルセルロース）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイビューフィルムＳＡ１２Ｂ、富士写真フィルム（株）製）を鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜のもう一方の側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。この偏光板状態で反射色相評価に準じた評価を行った結果、実施例１の反射防止フィルムを用いた偏光板は、外観不良もなく、反射率が低く抑えられていることが分かった。
【０１１５】
＜実施例１９＞
さらに、上述した実施例１の試料を、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。さらに、これらの表示装置に対して反射色相評価に準じた評価を行った結果、本発明の反射防止フィルムを搭載した表示装置は、比較例の反射防止フィルムを搭載した表示装置に比較して、外観不良もなく反射率が低く抑えられていることが分かった。
【０１１６】
＜実施例２０＞
上述した実施例１の試料を、有機ＥＬ表示装置の表面、およびタッチパネル表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせ、さらにそれらを粘着剤を介して試料の側で貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高いタッチパネルが得られた。さらに、これらのタッチパネルに対して反射色相評価に準じた評価を行った結果、本発明の反射防止フィルムを搭載したタッチパネルは、外観不良もなく反射率が低く抑えられていることが分かった。
【符号の説明】
【０１１７】
１    反射防止フィルム
１０、２１、２２、４１、４２    透明基材
１１    ハードコート層
１２    中屈折率層
１３    高屈折率層
１４    低屈折率層
２、２’、４    偏光板
２３、４３    偏光層
３    液晶セル
５    バックライトユニット
２００、２００ａ    反射防止フィルム付偏光板
３００、４００    透過型液晶ディスプレイ
【図１】
2015197634.tif 000008
【図２】
2015197634.tif 000009
【図３】
2015197634.tif 000010
【図４】
2015197634.tif 000011