(57)【要約】【課題】  露光光の遮光に用いられるブレードを安定的に精度良く移動させる上で有利な技術を提供する。【解決手段】  走査露光方式の露光装置であって、露光光の少なくとも一部分を遮光するブレードと、固定子およびブレードを保持する可動子を構成し重力方向に垂直な方向に関して互いに対向したマグネットとコイルとを用いて、重力方向に平行な方向に沿って固定子に対して可動子を移動させるリニアモーターと、可動子の移動に応じて可動子が移動する向きとは反対の向きに固定子が移動するように、固定子を支持する支持手段と、を備え、支持手段は、固定子を非接触にかつ弾性的に支持する第１支持部と、固定子に接触して固定子を弾性的に支持する第２支持部と、を有し、第２支持部は、マグネットに対するコイルの対向間隔を一定に保つように、重力方向に垂直な方向における固定子の移動を規制するよう構成してあることを特徴とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光光に対して原版および基板を走査することにより前記原版のパターンを前記基板に転写する露光装置であって、
前記露光光の少なくとも一部分を遮光するブレードと、
固定子および前記ブレードを保持する可動子を構成し重力方向に垂直な方向に関して互いに対向したマグネットとコイルとを用いて、前記重力方向に平行な方向に沿って前記固定子に対して前記可動子を移動させるリニアモーターと、
前記可動子の移動に応じて前記可動子が移動する向きとは反対の向きに前記固定子が移動するように、前記固定子を支持する支持手段と、を備え、
前記支持手段は、
前記固定子を非接触にかつ弾性的に支持する第１支持部と、
前記固定子に接触して前記固定子を弾性的に支持する第２支持部と、を有し、
前記第２支持部は、前記マグネットに対する前記コイルの対向間隔を一定に保つように、前記重力方向に垂直な方向における前記固定子の移動を規制するよう構成してあることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第２支持部は、前記重力方向に垂直で前記マグネットに対する前記コイルの対向方向に垂直な方向に伸びる板バネを用いて、前記固定子に接触して前記固定子を弾性的に支持することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記固定子は、前記重力方向に垂直な面を有し、
前記板バネの一部分は、前記面の少なくとも一部分と重なるように前記面に接触していることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記第１支持部は、前記重力方向に平行な方向に関して互いに対向した同磁極のマグネットを用いて、前記固定子を非接触にかつ弾性的に支持することを特徴とする請求項１〜３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記ブレードは、前記原版のパターンが形成された面と共役な位置で前記露光光の少なくとも一部分を遮光することを特徴とする請求項１〜４のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記可動子の移動に応じて前記可動子が移動する向きとは反対の向きに前記固定子が移動した後、前記重力方向に平行な方向における前記固定子の位置を調整する位置調整手段と、をさらに備えることを特徴とする請求項１〜５のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記露光光の少なくとも一部分を遮光する第２のブレードと、をさらに備え、
前記リニアモーターは、前記固定子および前記第２のブレードを保持する第２の可動子を構成し前記重力方向に垂直な方向に関して互いに対向した前記マグネットと第２のコイルとを用いて、前記重力方向に平行な方向に沿って前記固定子に対して前記第２の可動子を移動させ、
前記支持手段は、前記第２の可動子の移動に応じて前記第２の可動子が移動する向きとは反対の向きに前記固定子が移動するように、前記固定子を支持することを特徴とする請求項１〜６のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記露光光の少なくとも一部分を遮光する第２のブレードと、
第２の固定子および前記第２のブレードを保持する第２の可動子を構成し前記重力方向に平行な方向に関して互いに対向した第２のマグネットと第２のコイルとを用いて、前記重力方向に垂直な方向に沿って前記第２の固定子に対して前記第２の可動子を移動させる第２のリニアモーターと、
前記第２の可動子の移動に応じて前記第２の可動子が移動する向きとは反対の向きに前記第２の固定子が移動するように、前記第２の固定子を支持する第２の支持手段と、を備え、
前記第２の支持手段は、前記第２の固定子に接触して前記第２の固定子を弾性的に支持し、前記第２のマグネットに対する前記第２のコイルの対向間隔を一定に保つように前記重力方向に平行な方向における前記第２の固定子の移動を規制するよう構成してあることを特徴とする請求項１〜６のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
露光光に対して原版および基板を走査することにより前記原版のパターンを前記基板に転写する露光装置であって、
前記露光光の少なくとも一部分を遮光するブレードと、
固定子および前記ブレードを保持する可動子を構成し重力方向に垂直な方向に関して互いに対向したマグネットとコイルとを用いて、前記重力方向に平行な方向に沿って前記固定子に対して前記可動子を移動させるリニアモーターと、
前記可動子の移動に応じて前記可動子が移動する向きとは反対の向きに前記固定子が移動するように、前記固定子を支持する支持手段と、を備え、
前記支持手段は、
前記固定子を非接触にかつ弾性的に支持する第１支持部と、
前記固定子に接触して前記固定子を弾性的に支持する第２支持部と、を有し、
前記第２支持部は、前記重力方向に垂直で前記マグネットに対する前記コイルの対向方向に垂直な方向に伸びる板バネを用いて、前記対向方向に平行な方向における前記固定子の移動を規制するよう構成してあることを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
露光光に対して原版および基板を走査することにより投影光学系を介して前記原版のパターンを前記基板に転写する露光装置であって、
前記投影光学系を支持する本体構造体と、
前記原版に前記露光光を重力方向上方から照射する照明系ユニットと、
前記本体構造体に対して前記照明系ユニットを支持する支持体と、を備え、
前記照明系ユニットは、
前記露光光の少なくとも一部分を遮光するブレードと、
固定子および前記ブレードを保持する可動子を構成し重力方向に垂直な方向に関して互いに対向したマグネットとコイルとを用いて、前記重力方向に平行な方向に沿って前記固定子に対して前記可動子を移動させるリニアモーターと、
前記可動子の移動に応じて前記可動子が移動する向きとは反対の向きに前記固定子が移動するように、前記固定子を支持する支持手段と、を有し、
前記支持手段は、
前記固定子を非接触にかつ弾性的に支持する第１支持部と、
前記固定子に接触して前記固定子を弾性的に支持する第２支持部と、を含み、
前記第２支持部は、前記マグネットに対する前記コイルの対向間隔を一定に保つように、前記重力方向に垂直な方向における前記固定子の移動を規制するよう構成してあることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
露光光に対して原版および基板を走査することにより前記原版のパターンを前記基板に転写する露光装置であって、
前記露光光の少なくとも一部分を遮光するブレードと、
固定子および前記ブレードを保持する可動子を構成し互いに対向したマグネットとコイルとを用いて、前記マグネットに対する前記コイルの対向方向に垂直な方向に沿って前記固定子に対して前記可動子を移動させるリニアモーターと、
前記可動子の移動に応じて前記可動子が移動する向きとは反対の向きに前記固定子が移動するように、前記固定子を支持する支持手段と、を備え、
前記支持手段は、前記固定子に接触して前記固定子を弾性的に支持し、前記対向方向に平行な方向における前記固定子の移動を規制するよう構成してあることを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
前記リニアモーターは、重力方向に垂直な方向に沿って前記固定子に対して前記可動子を移動させることを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
請求項１〜１２のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて、基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、および、物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスを製造するためのリソグラフィ工程では、露光装置が用いられる。露光装置には、露光光に対して原版および基板を走査することにより、投影光学系を介して原版のパターンを基板に転写する走査露光方式を採用したものがある。走査露光方式の露光装置は、露光光の少なくとも一部を遮光するブレードを原版の走査に応じて移動させることにより走査中の原版における露光光の照明領域を所望のスリット形状に制限するマスキングユニットを備えている。
【０００３】
特許文献１のマスキングユニットは、図６に示すように、前述のブレードと、固定子に対し可動子を重力方向に平行な方向に動かすことによりブレードを重力方向に平行な方向に移動させるリニアモーターと、ブレードが移動したときに固定子がブレードとは反対の向きに移動してカウンタとして機能するように前記固定子を支持する支持手段と、を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１２０７９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図６に示すように、特許文献１では、重力方向に可動子を移動させるリニアモーターとして、マグネット１１３とコイル１１４を有するＹリニアモーター１１１が採用されている。このＹリニアモーター１１１がＹ固定子１１２に対してＹ可動子１１０Ａ、１１０Ｂを移動させたときに反力が生じる。この反力を吸収するように、Ｙ固定子１１２は、可動子１１０Ａ、１１０Ｂが移動する向きとは反対の向きに移動する。
【０００６】
Ｙ可動子１１０Ａ、１１０Ｂを連続往復移動させるとＹ固定子１１２も連続往復移動するが、このとき、Ｙ固定子１１２は、連続往復移動するにつれて水平方向に徐々にずれてしまう。そこで、Ｙ固定子１１２を上端と下端から挟み込むように設けられた２枚の板バネ１１６を用いて、水平方向におけるＹ固定子１１２のずれを規制している。これにより、Ｙ固定子１１２は、水平方向に大きくずれることなく、反力を吸収するカウンタとして機能し続ける。
【０００７】
しかしながら、撓んで傾くＸ方向に伸びた２枚の板バネ１１６によりＹ固定子１１２を支持しているため、Ｙ固定子１１２がＺ方向に移動すると、マグネット１１３とコイル１１４の磁気ギャップ（マグネット１１３に対するコイル１１４の対向間隔）１１９は、Ｘ方向において変動する。図７の（Ａ）は、Ｙ固定子１１２が移動する前の状態をＺ方向から見た図であり、（Ｂ）は、Ｙ固定子１１２が移動した後の状態をＺ方向から見た図である。特に、図７（Ｂ）における矢印は、Ｘ方向におけるＹ固定子１１２の移動を示す。
【０００８】
マグネット１１３に対するコイル１１４の対向間隔１１９の変動は、Ｙ固定子１１２に対するＹ可動子１１０Ａ、１１０Ｂの移動を不安定にさせ移動精度を悪化させてしまう。そのため、ブレードによる露光光の遮光精度に悪影響を及ぼし、原版に照射される露光光の照明領域を歪ませてしまうことにもなりうる。
【０００９】
そこで、本発明は、露光光の遮光に用いられるブレードを安定的にかつ高精度に移動させる上で有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、露光光に対して原版および基板を走査することにより前記原版のパターンを前記基板に転写する露光装置であって、前記露光光の少なくとも一部分を遮光するブレードと、固定子および前記ブレードを保持する可動子を構成し重力方向に垂直な方向に関して互いに対向したマグネットとコイルとを用いて、前記重力方向に平行な方向に沿って前記固定子に対して前記可動子を移動させるリニアモーターと、前記可動子の移動に応じて前記可動子が移動する向きとは反対の向きに前記固定子が移動するように、前記固定子を支持する支持手段と、を備え、前記支持手段は、前記固定子を非接触にかつ弾性的に支持する第１支持部と、前記固定子に接触して前記固定子を弾性的に支持する第２支持部と、を有し、前記第２支持部は、前記マグネットに対する前記コイルの対向間隔を一定に保つように、前記重力方向に垂直な方向における前記固定子の移動を規制するよう構成してあることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、露光光の遮光に用いられるブレードを安定的にかつ高精度に移動させる上で有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明における露光装置の構成を示す図である。
【図２】本発明におけるマスキングユニットの構成を示す図である。
【図３】（Ａ）は、本発明におけるＹリニアモーターをＹ方向から見た図であり、（Ｂ）は、本発明におけるＹリニアモーターをＸ方向から見た図である。
【図４】（Ａ）は、本発明におけるＹ固定子が移動する前の状態をＺ方向から見た図であり、（Ｂ）は、本発明におけるＹ固定子が移動した後の状態をＺ方向から見た図である。
【図５】（Ａ）は、本発明におけるＸ固定子が移動する前の状態をＸ方向から見た図であり、（Ｂ）は、本発明におけるＸ固定子が移動した後の状態をＸ方向から見た図である。
【図６】先行技術におけるマスキングユニットの構成を示す図である。
【図７】（Ａ）は、先行技術におけるＹ固定子が移動する前の状態をＺ方向から見た図であり、（Ｂ）は、先行技術におけるＹ固定子が移動した後の状態をＺ方向から見た図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
＜第１実施形態＞
図１を用いて、露光装置を説明する。
【００１４】
本実施形態における座標系は、重力方向に平行な方向をＺ方向とし、重力方向に垂直で露光光の経路に平行な方向をＹ方向とし、重力方向に垂直で露光光の経路に垂直な方向をＸ方向としている。Ｚ方向は、レチクルおよびウエハの走査方向に対応する。
【００１５】
露光装置は、照明系ユニット１から照射された露光光に対して、レチクル（原版）を保持するレチクルステージ２、および、ウエハ（基板）を保持するウエハステージ４をそれぞれ走査（連続移動）しながら、縮小投影レンズ（投影光学系）３を介して、レチクル下面に形成されたパターンをウエハ上面の被露光面に転写する。縮小投影レンズ３は、本体構造体５によって支持されている。照明系ユニット１は、支持体６により本体構造体５に対してＺ方向下方から支持されている。
【００１６】
照明系ユニット１は、光源から発せられる露光光を導入する導入部７、および、導入された露光光の少なくとも一部を遮光するマスキングユニット８を備えている。照明系ユニット１内の露光光の経路（光路）上には、レンズ、スリット、光学フィルターや絞り等の光学部品が設けられており、露光光の経路を囲むように露光光の経路に沿って伸びた鏡筒（支持体）６により、支持されている。特に、Ｙ方向から入射する露光光をＺ方向へ反射する反射ミラーが設けられており、照明系ユニット１は、レチクルに対してＺ方向上方から露光光を照射する。露光光としては、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦレーザー光やＡｒＦレーザー光等が採用されうる。
【００１７】
図２を用いて、マスキングユニット８を説明する。
【００１８】
マスキングユニット８は、２つのＹブレード９Ａ、９Ｂ、および、２つのＹブレード９Ａ、９Ｂをそれぞれ保持しながらＺ方向に移動する２つのＹ可動子１０Ａ、１０Ｂを備えている。２つのＹブレード９Ａ、９Ｂは、レチクルのパターン形成面と共役な位置で、通過する露光光の断面において露光光の少なくとも一部分を遮光する。
【００１９】
２つのＹ可動子１０Ａ、１０Ｂは、Ｙリニアモーター１１によって、Ｙ固定子１２に対してＺ方向に沿って移動する。マスキングユニット８の前側近傍または後側近傍には通過する露光光の照明領域をスリット形状にするスリット（不図示）が設けられている。２つのＹブレード９Ａ、９Ｂは、このスリットを通過する露光光がレチクルのパターン領域外やウエハのショット領域外等の部分に照射されないように、レチクルとウエハの走査移動に同期して移動する。２つのＹブレード９Ａ、９Ｂの両方が所定の間隔を持って移動しても良いし、２つのＹブレード９Ａ、９Ｂのうちいずれか一方が静止し他方が移動しても良い。
【００２０】
Ｙリニアモーター１１は、Ｙ固定子１２に取り付けられたマグネット１３、および、Ｙ可動子１０Ａ、１０Ｂにそれぞれ取り付けられた２つのコイル１４で構成されている。マグネット１３とコイル１４は、Ｘ方向において所定の磁気ギャップ１９も持って互いに対向している。なお、Ｙ固定子１２にコイル１４を取り付け、Ｙ可動子１０Ａ、１０Ｂにマグネット１３を取り付けるようにしても良い。
【００２１】
Ｙ固定子１２は、Ｙ可動子１０Ａ、１０ＢがＺ方向に移動した際に生じる反力を吸収するように、Ｙ可動子１０Ａ、１０Ｂが移動する向きとは反対の向きに移動し、カウンタとして機能する。Ｙ固定子１２を移動可能に支持する支持手段として、Ｙ固定子１２を非接触にかつ弾性的に支持する第１支持部１５、および、Ｙ固定子１２に接触してＹ固定子１２を弾性的に支持する第２支持部１６が設けられている。
【００２２】
第１支持部１５は、Ｙ固定子１２を自重補償する機能を有する。ここでは、互いに対向させた同磁極のマグネットを用いた部材を採用しているが、エアーブロー機能を利用した部材を採用しても良い。第２支持部１６は、Ｙ固定子１２を移動範囲の中立位置に保ちつつ、Ｙ固定子１２が連続往復移動に伴って水平方向に揺動して大きくずれることのないようにＹ固定子１２の移動を規制する機能を有する。ここでは、弾性変位可能な弾性部材として、板バネを用いた部材を採用している。
【００２３】
Ｙ位置調整モーター１７は、位置調整手段として、反力を吸収するように移動したＹ固定子１２を整定させる機能と、Ｙ固定子１２がＺ方向に大きく移動した場合にＹ固定子１２を移動範囲の中立位置まで戻す機能を有する。Ｙエンコーダー１８は、Ｙ可動子１０Ａ、１０Ｂの位置を計測する機能を有する。
【００２４】
図３（Ａ）と（Ｂ）を用いて、Ｙリニアモーター１１近傍の構成について説明する。図３の（Ａ）は、Ｙリニアモーター１１をＹ方向から見た図であり、（Ｂ）は、Ｙリニアモーター１１をＸ方向から見た図である。
【００２５】
Ｙ固定子１２は、Ｚ方向において互いに対向させた同磁極のマグネットすなわち第１支持部１５を用いて、支持されている。２つのマグネットのうち一方は支持体６の下壁に取り付けられ、他方はＹ固定子１２の下部に取り付けられている。
【００２６】
また、Ｙ固定子１２は、Ｚ方向に垂直な上面と下面にそれぞれ接触した２枚の板バネすなわち第２支持部１６を用いて、支持されている。板バネ１６は、Ｙ方向に伸びており、一端部が支持体６の側壁からＸ方向に突き出た部分６Ｘの側面部に固着され、他端部がＹ固定子１２に接触している。特に、板バネ１６は、一部分がＹ固定子１２の上面または下面の一部分と重なるように面接触しており、Ｙ固定子１２を上方と下方から挟み込むように構成されている。板バネ１６の他端部は、Ｙ固定子１２に固着されていても良い。なお、板バネ１６は、２枚に限らず、１枚のみ設けるようにしても良いし、３枚以上設けるようにしても良い。
【００２７】
Ｙ固定子１２は、このように第１支持部１５および第２支持部１６を用いて支持されることで、反力を吸収するカウンタとして機能する。
【００２８】
図４（Ａ）と（Ｂ）を用いて、Ｙリニアモーター１１のマグネット１３とコイル１４の磁気ギャップ１９の変動を抑制するための構成に関して説明する。図４の（Ａ）は、Ｙ固定子１２が移動する前の状態をＺ方向から見た図であり、（Ｂ）は、Ｙ固定子１２が移動した後の状態をＺ方向から見た図である。
【００２９】
板バネ１６は、Ｙ方向に伸び、Ｙ固定子１２に接触してＹ固定子１２を弾性的に支持している。このようにＹ方向に伸びた板バネ１６は、反力を吸収するようにＹ固定子１２がＺ方向に移動したとき、Ｙ方向におけるＹ固定子１２の移動（図４の（Ｂ）における矢印方向の移動）を規制しないが、Ｘ方向におけるＹ固定子１２の移動を規制する機能を有する。
【００３０】
すなわち、この板バネ１６により、反力を吸収するようにＹ固定子１２がＺ方向に移動したとき、マグネット１３とコイル１４の磁気ギャップ（マグネット１３に対するコイル１４の対向間隔）１９が、Ｘ方向（マグネット１３に対するコイル１４の対向方向）において、変動するのを抑制できる。換言すれば、板バネ１６は、マグネット１３に対するコイル１４の対向方向におけるＹ固定子１２の移動を規制するように機能して、マグネット１３に対するコイル１４の対向間隔１９を一定に保っている。
【００３１】
このように、板バネ１６がマグネット１３に対するコイル１４の対向間隔１９を一定に保つことによって、反力を吸収するようにＹ固定子１２がＺ方向に移動しても、Ｙ可動子１０Ａ、１０ＢすなわちＹ可動子１０Ａ、１０Ｂに保持されたＹブレード９Ａ、９Ｂを安定的にかつ高精度に移動させることが可能となる実現される。なお、ここで用いる対向間隔１９を一定に保つとは、露光精度や可動子の移動精度の許容範囲内であれば僅かに間隔変動があっても良く、対向間隔１９が実質的に一定に保たれた状態を示す。
【００３２】
本実施形態によれば、Ｙ固定子１２の移動に伴って発生する振動外乱が投影光学系３等に伝達されるのを防止しつつ、Ｙブレード９Ａ、９Ｂを安定的にかつ高精度に移動させることが実現される。ひいては、露光光の遮光精度に悪影響を及ぼしてり露光光の照明領域を歪ませたりするのを防止できる。
【００３３】
＜第２実施形態＞
本第２実施形態では、第１実施形態ではＹリニアモーター１１近傍の構成に関して説明していたのに対し、Ｘリニアモーター２２近傍の構成に関して説明する。
【００３４】
マスキングユニット８は、２つのＸブレード２０Ａ、２０Ｂ、および、２つのＸブレード２０Ａ、２０Ｂをそれぞれ保持しながらＸ方向に移動する２つのＸ可動子２１Ａ、２１Ｂを備えている。２つのＸブレード２０Ａ、２０Ｂは、レチクルのパターン形成面と共役な位置で、通過する露光光の断面において露光光の少なくとも一部分を遮光する。
【００３５】
２つのＸ可動子２１Ａ、２１Ｂは、Ｘリニアモーター２２によって、Ｘ固定子２３に対してＸ方向に沿って移動する。マスキングユニット８の前側近傍または後側近傍には通過する露光光の照明領域をスリット形状にするスリット（不図示）が設けられている。２つのＸブレード２０Ａ、２０Ｂは、このスリットを通過する露光光がレチクルのパターン領域外やウエハのショット領域外等の部分、特には、ウエハ周縁部に配置されるショット領域の一部分に照射されないように、レチクルとウエハの走査方向における位置に応じて移動する。
【００３６】
Ｘリニアモーター２２は、Ｘ固定子２３に取り付けられたマグネット２４、および、Ｘ可動子２１Ａ、２１Ｂにそれぞれ取り付けられた２つのコイル２５で構成されている。マグネット２４とコイル２５は、Ｚ方向において所定の磁気ギャップ２９も持って互いに対向している。なお、Ｘ固定子２３にコイル２５を取り付け、Ｘ可動子２１Ａ、２１Ｂにマグネット２４を取り付けるようにしても良い。
【００３７】
Ｘ固定子２３は、Ｘ可動子２１Ａ、２１ＢがＸ方向に移動した際に生じる反力を吸収するように、Ｘ可動子２１Ａ、２１Ｂが移動する向きとは反対の向きに移動し、カウンタとして機能する。Ｘ固定子２３を移動可能に支持するために、Ｘ固定子２３に接触してＸ固定子２３を弾性的に支持する支持手段２６が設けられている。
【００３８】
この支持手段２６は、Ｘ固定子２３を自重補償し移動範囲の中立位置に保ちつつ、Ｘ固定子２３が連続往復移動に伴って重力方向に揺動して大きくずれることのないようにＸ固定子２３の移動を規制する機能を有する。ここでは、弾性変位可能な弾性部材として、板バネを用いた部材を採用しているが、コイルバネやゴム等を用いた部材を採用しても良い。
【００３９】
さらに、支持手段２６とは別に、Ｘ固定子２３を非接触にかつ弾性的に支持して、Ｘ固定子２３を自重補償する支持手段を設けるのが好ましい。この支持手段としては、互いに対向させた同磁極のマグネットを用いた部材やエアーブロー機能を利用した部材が採用されうる。
【００４０】
Ｘ位置調整モーター２７は、位置調整手段として、反力を吸収するように移動したＸ固定子２３を整定させる機能と、Ｘ固定子２３がＸ方向に大きく移動した場合にＸ固定子２３を移動範囲の中立位置まで戻す機能を有する。Ｘエンコーダー２８は、Ｘ可動子２１Ａ、２１Ｂの位置を計測する機能を有する。
【００４１】
Ｘリニアモーター２２近傍の構成について説明する。
【００４２】
Ｘ固定子２３は、Ｘ方向に垂直な両側の面にそれぞれ接触した２枚の板バネすなわち支持手段２６を用いて、支持されている。板バネ２６は、Ｙ方向に伸びており、一端部が支持体６の上壁からＺ方向に突き出た部分６Ｚの側面部に固着され、他端部がＸ固定子２３に接触している。特に、板バネ２６は、一部分がＸ固定子２３の２つの面の一部分と重なるように面接触しており、Ｘ固定子１２を両側から挟み込むように構成されている。板バネ２６の他端部は、Ｘ固定子２３に固着されていても良い。なお、板バネ２６は、２枚に限らず、１枚のみ設けるようにしても良いし、３枚以上設けるようにしても良い。
【００４３】
Ｘ固定子２３は、このように支持手段２６を用いて支持されることで、反力を吸収するカウンタとして機能する。
【００４４】
図５（Ａ）と（Ｂ）を用いて、Ｘリニアモーター２２のマグネット２４とコイル２５の磁気ギャップ２９の変動を抑制するための構成に関して説明する。図５の（Ａ）は、Ｘ固定子２３が移動する前の状態をＸ方向から見た図であり、（Ｂ）は、Ｘ固定子２３が移動した後の状態をＸ方向から見た図である。
【００４５】
板バネ２６は、Ｙ方向に伸び、Ｘ固定子２３に接触してＸ固定子２３を弾性的に支持している。このようにＹ方向に伸びた板バネ２６は、反力を吸収するようにＸ固定子２３がＸ方向に移動したとき、Ｙ方向におけるＸ固定子２３の移動（図５の（Ｂ）における矢印方向の移動）を規制しないが、Ｚ方向におけるＸ固定子２３の移動を規制する機能を有する。さらに、Ｚ方向下方に落下することのないように支持する機能をも有する。
【００４６】
すなわち、板バネ２６により、反力を吸収するようにＸ固定子２３がＸ方向に移動したとき、マグネット２４とコイル２５の磁気ギャップ（マグネット２４に対するコイル２５の対向間隔）２９が、Ｚ方向（マグネット２４に対するコイル２５の対向方向）において、変動するのを抑制できる。換言すれば、板バネ２６は、マグネット２４に対するコイル２５の対向方向におけるＸ固定子２３の移動を規制するように機能して、マグネット２４に対するコイル２５の対向間隔２９を一定に保っている。
【００４７】
このように、板バネ２６がマグネット２４に対するコイル２５の対向間隔２９を一定に保つことによって、反力を吸収するようにＸ固定子２３がＸ方向に移動しても、Ｘ可動子２１Ａ、２１ＢすなわちＸ可動子２１Ａ、２１Ｂに保持されたＸブレード２０Ａ、２０Ｂを安定的にかつ高精度に移動させることが可能となる実現される。なお、ここで用いる対向間隔２９を一定に保つとは、露光精度や可動子の移動精度の許容範囲内であれば僅かに間隔変動があっても良く、対向間隔２９が実質的に一定に保たれた状態を示す。
【００４８】
本実施形態によれば、Ｘ固定子２３の移動に伴って発生する振動外乱が投影光学系３等に伝達されるのを防止しつつ、Ｘブレード２０Ａ、２０Ｂを安定的にかつ高精度に移動させることが実現される。ひいては、露光光の遮光精度に悪影響を及ぼしてり露光光の照明領域を歪ませたりするのを防止できる。
【００４９】
上述のように、本実施形態では、Ｘリニアモーター２２が重力方向上方に配置された構成に関して説明したが、これに限らず、Ｘリニアモーター２２が重力方向下方に配置された構成であっても良い。
【００５０】
また、本実施形態では、Ｚ方向すなわち重力方向に移動するブレードによって、Ｘ方向すなわち水平方向に経路を持つ露光光の照明領域を制限するマスキングユニット（縦置き型）の構成に関して説明した。しかしながら、この構成は、水平方向に移動するブレードによって、重力方向に経路を持つ露光光の照明領域を制限するマスキングユニット（横置き型）にも適用することができる。
【００５１】
＜物品の製造方法の実施形態＞
本実施形態における物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の製造方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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