(57)【要約】【課題】清掃ユニットの自重による悪影響を回避できる自走式清掃装置を提供すること。【解決手段】本発明の実施形態に係る自走式清掃装置１００は、清掃ユニットＰＵと、清掃ユニットＰＵの自重による押し付け力を調整する第１調整部４４と、清掃ユニットＰＵの床面への押し付け力を調整する第２調整部４５と、第１調整部４４を介して清掃ユニットＰＵに連結される支持台１１とを備える。また、第１調整部４４は、清掃ユニットＰＵの自重による押し付け力を調整する支持バネ４４ａを含む。【選択図】図１
2015163152.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
清掃ユニットと、
前記清掃ユニットの自重による押し付け力を調整する第１調整部と、
前記清掃ユニットの床面への押し付け力を調整する第２調整部と、
前記第１調整部を介して前記清掃ユニットに連結される支持台と、を備える、
自走式清掃装置。
【請求項２】
前記第１調整部は、前記清掃ユニットを支持する支持バネを含む、
請求項１に記載の自走式清掃装置。
【請求項３】
前記第２調整部は、前記清掃ユニットを昇降させる押し付け軸を有し、
前記押し付け軸は、支持台側軸と清掃ユニット側軸とを含み、
前記支持台側軸と前記清掃ユニット側軸とは相対的に移動可能である、
請求項１又は２に記載の自走式清掃装置。
【請求項４】
前記第２調整部が発生する力の方向は、前記清掃ユニットが床面と接する範囲内であって、且つ、鉛直方向である、
請求項１乃至３の何れか一項に記載の自走式清掃装置。
【請求項５】
鉛直方向に延びるブラシ昇降軸及びリニアブッシュを有し、
前記ブラシ昇降軸及び前記リニアブッシュの一方は、前記清掃ユニットに取り付けられ、
前記ブラシ昇降軸及び前記リニアブッシュの他方は、前記支持台に取り付けられ、
前記ブラシ昇降軸は、前記リニアブッシュによってガイドされる、
請求項１乃至４の何れか一項に記載の自走式清掃装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、自走式清掃装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
自走台車に対して回転ブラシを昇降可能に支持するバネ支持機構を有する自走式床面洗浄装置が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
このバネ支持機構は、コイルスプリングを用いて回転ブラシを含む清掃ユニットを昇降可能に支持する。そして、回転ブラシが上方に変位するとコイルスプリングが圧縮される。圧縮されたコイルスプリングは、回転ブラシを下方に付勢する。この構成により、バネ支持機構は、床面に凹凸があったとしても適度な力で回転ブラシを床面に押し付ける。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平５−２４５０８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１は、回転ブラシを含む清掃ユニットの自重によってもたらされる、回転ブラシを床面に押し付ける押し付け力が、所望の押し付け力よりも大きい場合については言及していない。
【０００６】
そのため、特許文献１に記載の自走式床面洗浄装置は、重い清掃ユニットの自重による過剰な押し付け力により、回転ブラシを床面で回転させる際の回転摩擦力を過度に大きくしてしまうおそれがある。そして、回転摩擦力の増大は、電力消費量を増大させ、さらにはモータ容量の増大をもたらすおそれがある。
【０００７】
上述の点に鑑み、清掃ユニットの自重による悪影響を回避できる自走式清掃装置の提供が望まれる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一実施形態による自走式清掃装置は、清掃ユニットと、前記清掃ユニットの自重による押し付け力を調整する第１調整部と、前記清掃ユニットの床面への押し付け力を調整する第２調整部と、前記第１調整部を介して前記清掃ユニットに連結される支持台とを備える。
【発明の効果】
【０００９】
上述の手段により、清掃ユニットの自重による悪影響を回避できる自走式清掃装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態による自走式清掃装置の側面図である。
【図２】図１の一点鎖線で示す仮想平面を＋Ｚ側から見た図である。
【図３】清掃部の側面図である。
【図４】清掃部の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
最初に、本発明の一実施形態による自走式清掃装置１００の全体構成について説明する。図１は自走式清掃装置１００の側面図である。また、図２は、図１の一点鎖線ＤＬで示す仮想平面を＋Ｚ側から見た図である。
【００１２】
自走式清掃装置１００は、自律的に走行しながら平らな床面を清掃する装置である。本実施形態では、自走式清掃装置１００は、洗浄機能を有する自走式清掃装置（以下、「洗浄型清掃装置」とする。）であり、汚水吸引機能を有する別の自走式清掃装置（以下、「汚水吸引型清掃装置」とする。）を先導する。なお、洗浄機能は、床面を洗浄する機能であり、例えば、床面に散水しながら回転ブラシで床面を擦って床面を洗浄するポリッシング機能を含む。また、汚水吸引機能は、洗浄後の床面に残された汚水を吸引する機能である。そして、床面の清掃は、洗浄型清掃装置及び汚水吸引型清掃装置の２台１組で行われる。但し、自走式清掃装置１００は、洗浄機能及び汚水吸引機能を有する一体型清掃装置であってもよい。
【００１３】
自走式清掃装置１００は、主に、走行部１０、蓄電部３０、清掃部４０、駆動部５０、及び制御部６０を含む。そして、自走式清掃装置１００は、矢印ＡＲ１で示すように、＋Ｘ方向を進行方向前方として進行する。
【００１４】
走行部１０は、自走式清掃装置１００の走行に関する機能要素であり、主に、支持台１１、駆動輪１２、及び従動輪１３を含む。
【００１５】
支持台１１は、自走式清掃装置１００の各構成要素を支持する構造体であり、下部フレーム１１ａ、側部フレーム１１ｂ、及び上部フレーム１１ｃを含む。下部フレーム１１ａは、駆動輪１２及び従動輪１３を回転可能に支持し、且つ、蓄電部３０、清掃部４０、駆動部５０、及び制御部６０を固定的に支持する。側部フレーム１１ｂは、上部フレーム１１ｃを支持する部材であり、下部フレーム１１ａの四隅のそれぞれから＋Ｚ方向に延びて上部フレーム１１ｃの四隅を支持する。
【００１６】
駆動輪１２は、推進力を発生させる車輪である。本実施形態では、駆動部５０によって駆動される左右一対の駆動輪１２Ｌ、１２Ｒである。自走式清掃装置１００は、駆動輪１２Ｌの回転速度と駆動輪１２Ｒの回転速度とを異ならせることで操舵機能を実現する。
【００１７】
従動輪１３は、駆動輪１２が発生させた推進力に応じて回転する車輪である。本実施形態では、従動輪１３は、その回転軸がＹ軸方向に平行となるように固定的に配置された単輪である。なお、図２は、下部フレーム１１ａの−Ｚ側の面において車両中心線に沿って固定的に配置される従動輪１３を点線で表す。この構成により、従動輪１３は、回転軸の配置が変化するキャスタを用いる場合に比べ、自走式清掃装置１００の進行方向を安定させることができる。但し、従動輪１３は、キャスタ等の操舵機能を備える車輪であってもよい。
【００１８】
蓄電部３０は、少なくとも駆動輪１２を駆動するための電力を蓄電し且つ供給する機能要素である。本実施形態では、バッテリ（二次電池）が採用される。なお、バッテリは、例えば、鉛蓄電池、ニッケル・カドニウム蓄電池、ニッケル・水素充電池等を含む。また、蓄電部３０は、燃料電池等の他の電力供給源であってもよい。
【００１９】
清掃部４０は、清掃作業を実行する機能要素である。本実施形態では、洗浄型清掃装置としての自走式清掃装置１００は、回転ブラシ４１を用いて床面を清掃する機構を清掃部４０として搭載する。回転ブラシ４１は、床面に押し付けられた状態で回転し、その床面の汚れを擦り落とす。
【００２０】
また、清掃部４０は、自走式清掃装置１００の走行安定性を高めるため、下部フレーム１１ａの中央に搭載される。具体的には、清掃部４０は、自走式清掃装置１００の重心位置を含むように配置される。
【００２１】
また、清掃部４０は、図１の矢印ＡＲ２で示すように、Ｚ軸方向に変位可能（昇降可能）となるように支持台１１に搭載される。また、支持台１１の下部フレーム１１ａは、清掃部４０に対応する位置に穴１１ａＨ（図２参照。）を有し、床面と接触する回転ブラシ４１を含む清掃部４０の昇降を可能にする。
【００２２】
駆動部５０は、駆動輪１２を回転駆動する機能要素である。本実施形態では、左右一対の駆動部５０Ｌ、５０Ｒはそれぞれ、蓄電部３０から電力の供給を受けて作動する電動モータと減速機構とを含む。減速機構は、例えば、ベルト・プーリ機構、チェーン・スプロケット機構、ギア機構等で構成される。そして、駆動部５０Ｌは、駆動軸１２ＡＬを介して、電動モータの駆動力を駆動輪１２Ｌに伝える。同様に、駆動部５０Ｒは、駆動軸１２ＡＲを介して、電動モータの駆動力を駆動輪１２Ｒに伝える。
【００２３】
制御部６０は、自走式清掃装置１００を制御する機能要素である。本実施形態では、制御部６０は、主に、通信制御、走行制御、及び清掃制御を実行する。通信制御は、汚水吸引型清掃装置又は他の外部装置と洗浄型清掃装置である自走式清掃装置１００との間の無線通信を制御する。また、走行制御は、自走式清掃装置１００の走行を制御する。また、清掃制御は、清掃部４０による清掃作業を制御する。
【００２４】
次に、図１〜図４を参照して、支持台１１上に搭載される清掃部４０の詳細について説明する。図３は、清掃部４０を−Ｙ側から見た側面図であり、図４は、清掃部４０の斜視図である。
【００２５】
清掃部４０は、主に、回転ブラシ４１、本体部４２、支持部４３、第１調整部４４、及び第２調整部４５を含む。
【００２６】
回転ブラシ４１は、床面の汚れを擦り落とす部材である。本実施形態では、回転ブラシ４１は、蓄電部３０の電力によって駆動される電動モータを含む左右一対の回転ブラシ４１Ｌ、４１Ｒである。
【００２７】
本体部４２は、清掃部４０の骨組みを形成する部分である。本実施形態では、本体部４２は、図３に示すように、ブラシ昇降軸４２ａ、底板４２ｂ、天板４２ｃ、前板４２ｄ、後板４２ｅ、及びバネ支持板４２ｆを含む。また、本体部４２は、回転ブラシ４１を回転可能に支持する。また、図１に示すように、支持台１１は、支持ブロック１５、支持部４３、及び第１調整部４４を介して本体部４２を支持する。なお、支持ブロック１５は、支持台１１の下部フレーム１１ａに固定される部材であり、支持部４３に剛結合される。
【００２８】
また、図３及び図４において、灰色で示す部分は、支持台１１に対してＺ軸方向に変位不能な部分を示し、白色で示す部分（回転ブラシ４１及び本体部４２を含む部分であり、以下、「清掃ユニットＰＵ」とする。）は、支持台１１に対してＺ軸方向に変位可能な部分を示す。このように、清掃ユニットＰＵは、支持台１１に対してＺ軸方向に一体的に変位可能となるように支持される。
【００２９】
ブラシ昇降軸４２ａは、清掃ユニットＰＵの変位をＺ軸方向に限定する軸であり、Ｚ軸方向に延びる。本実施形態では、ブラシ昇降軸４２ａは、図２に示すように、左右一対のブラシ昇降軸４２ａＬ、４２ａＲで構成され、鉛直方向に延びる。また、ブラシ昇降軸４２ａは、図３に示すように、−Ｚ側の端部がナット等の締結部材で底板４２ｂに締結され、＋Ｚ側の端部がナット等の締結部材で天板４２ｃに締結される。
【００３０】
支持部４３は、清掃ユニットＰＵをＺ軸方向に変位可能に支持する機能要素である。本実施形態では、支持部４３は、図３に示すように、ベース４３ａ及びリニアブッシュ４３ｂを含む。
【００３１】
ベース４３ａは、Ｚ軸方向に延びる縦プレート４３ａｖと、縦プレート４３ａｖの＋Ｚ側の端部から＋Ｘ方向に延びる横プレート４３ａｈとを含む。縦プレート４３ａｖは、ボルト等の締結部材によって支持ブロック１５に締結され、横プレート４３ａｈは、ボルト等の締結部材によって縦プレート４３ａｖに締結される。
【００３２】
リニアブッシュ４３ｂは、ブラシ昇降軸４２ａのＺ軸方向の変位をガイドする部材である。本実施形態では、リニアブッシュ４３ｂは、左右一対のブラシ昇降軸４２ａＬ、４２ａＲを受入可能なように左右一対の筒状のリニアブッシュ４３ｂＬ、４３ｂＲで構成される。また、左右一対のリニアブッシュ４３ｂＬ、４３ｂＲは、ボルト等の締結部材によって縦プレート４３ａｖに締結される。
【００３３】
第１調整部４４は、清掃ユニットＰＵの自重による押し付け力を調整する機能要素である。清掃ユニットＰＵの自重による押し付け力（以下、「自重押し付け力」とする。）は、回転ブラシ４１を床面に押し付ける実際の押し付け力（以下、「正味押し付け力」とする。）のうちの、清掃ユニットＰＵの自重に起因する力である。なお、自重押し付け力はゼロにもなり得る。すなわち、正味押し付け力は、実質的に自重押し付け力を含まない場合がある。
【００３４】
本実施形態では、第１調整部４４は、図３に示すように、支持バネ４４ａ、調整プレート４４ｂ、及び調整ネジ４４ｃを含む。
【００３５】
支持バネ４４ａは、清掃ユニットＰＵの自重を支持可能な圧縮コイルバネである。本実施形態では、支持バネ４４ａは、ベース４３ａの横プレート４３ａｈと調整プレート４４ｂとの間に配置される左右一対の支持バネ４４ａＬ、４４ａＲである。なお、ブラシ昇降軸４２ａＬは、支持バネ４４ａＬのコイル内を貫通するように配置される。同様に、ブラシ昇降軸４２ａＲは、支持バネ４４ａＲのコイル内を貫通するように配置される。
【００３６】
調整プレート４４ｂは、ブラシ昇降軸４２ａＬ、４２ａＲが貫通する２つの穴（図示せず。）を有する平板であり、−Ｚ側の面を支持バネ４４ａの＋Ｚ側の端部に接触させている。また、調整プレート４４ｂは、＋Ｚ側の面の中央部分を調整ネジ４４ｃの−Ｚ側の端部に接触させている。
【００３７】
また、調整プレート４４ｂは、＋Ｘ側の端部を本体部４２の後板４２ｅに沿わせてＸ軸に平行な状態（水平状態）を維持したまま、ブラシ昇降軸４２ａＬ、４２ａＲに対してＺ軸方向に相対変位可能となるように構成される。
【００３８】
調整ネジ４４ｃは、本体部４２の天板４２ｃに形成されたネジ穴４２ｃＨ１と係合するネジである。本実施形態では、調整ネジ４４ｃは、清掃ユニットＰＵのＺ軸方向における位置（床面からの高さ）を調整するために用いられる。
【００３９】
具体的には、調整ネジ４４ｃがネジ締め方向に回転させられると、ブラシ昇降軸４２ａＬ、４２ａＲは、リニアブッシュ４３ｂＬ、４３ｂＲにガイドされながら、調整プレート４４ｂに対して＋Ｚ方向に変位する。ブラシ昇降軸４２ａＬ、４２ａＲが締結される本体部４２の天板４２ｃと調整プレート４４ｂとの間の距離が増大するためである。なお、調整プレート４４ｂは、Ｚ軸方向にほとんど変位しない。清掃ユニットＰＵの自重に変化がなく、支持バネ４４ａに作用する力にほとんど変化がないので、支持バネ４４ａがさらに圧縮されることもないためである。一方、調整ネジ４４ｃが反対方向に回転させられると、ブラシ昇降軸４２ａＬ、４２ａＲは、リニアブッシュ４３ｂＬ、４３Ｒにガイドされながら、調整プレート４４ｂに対して−Ｚ方向に変位する。本体部４２の天板４２ｃと調整プレート４４ｂとの間の距離が減少するためである。
【００４０】
また、ブラシ昇降軸４２ａＬ、４２ａＲが調整プレート４４ｂに対してＺ軸方向に変位すると、清掃ユニットＰＵも調整プレート４４ｂに対してＺ軸方向に変位する。ブラシ昇降軸４２ａＬ、４２ａＲは、本体部４２の底板４２ｂ及び天板４２ｃに締結されているためである。
【００４１】
このようにして、調整ネジ４４ｃを用いた清掃ユニットＰＵのＺ軸方向の変位により、回転ブラシ４１のＺ軸方向における位置（床面からの高さ）が調整される。
【００４２】
この構成により、第１調整部４４は、支持バネ４４ａの特性（バネ定数等）を変えることで、正味押し付け力の一部を構成し得る自重押し付け力を調整できる。なお、本実施形態では、支持バネ４４ａは、自重押し付け力以外に回転ブラシ４１を床面に押し付ける力が作用しない限り、回転ブラシ４１が床面に接しないように清掃ユニットＰＵを持ち上げる。そのため、自重押し付け力はゼロとなる。但し、支持バネ４４ａは、必ずしも自重押し付け力をゼロにする必要はなく、自重押し付け力を低減させる程度のバネ反力を発生させてもよい。この場合、自重押し付け力以外に回転ブラシ４１を床面に押し付ける力が作用しない場合であっても、回転ブラシ４１は、床面に接した状態、すなわち、自重押し付け力によって床面に押し付けられた状態を維持する。
【００４３】
第２調整部４５は、清掃ユニットＰＵを床面へ押し付ける力である正味押し付け力を調整する機能要素である。本実施形態では、第２調整部４５は、図３及び図４に示すように、押し付けバネ４５ａ、押し付け軸４５ｂ、レバー支持プレート４５ｃ、レバー４５ｄ、及び梃子構造４５ｅを含む。
【００４４】
押し付けバネ４５ａは、清掃ユニットＰＵを−Ｚ方向に押し付ける圧縮コイルバネである。本実施形態では、押し付けバネ４５ａは、押し付け軸４５ｂに形成される突出部４５ｂｐと本体部４２のバネ支持板４２ｆとの間に配置される。
【００４５】
押し付け軸４５ｂは、清掃ユニットＰＵを昇降させる部材である。本実施形態では、押し付け軸４５ｂは、本体部４２の天板４２ｃに形成された穴４２ｃＨ２と本体部４２のバネ支持板４２ｆに形成された穴４２ｆＨとを貫通してＺ軸方向に延びる。また、押し付け軸４５ｂは、押し付けバネ４５ａのコイル内を貫通するように配置される。そして、押し付け軸４５ｂは、押し付けバネ４５ａと協働して清掃ユニットＰＵを＋Ｚ側から押し付け、清掃ユニットＰＵを−Ｚ方向に変位させることができる。
【００４６】
レバー支持プレート４５ｃは、支持台１１の上部フレーム１１ｃに固定される部材であり、レバー４５ｄ及び梃子構造４５ｅを作動可能に支持する。
【００４７】
レバー４５ｄは、梃子構造４５ｅを作動させる部材である。また、梃子構造４５ｅは、小さい力を大きい力に変換する機構である。本実施形態では、図４の矢印ＡＲ３で示す比較的弱い力によるレバー４５ｄの旋回運動を、矢印ＡＲ４で示す比較的強い力による押し付け軸４５ｂの直線運動に変換する。具体的には、押し付け軸４５ｂは、レバー４５ｄが＋Ｚ方向に引き上げられたときに−Ｚ方向に押し下げられ、レバー４５ｄが−Ｚ方向に押し下げられたときに＋Ｚ方向に引き上げられる。
【００４８】
また、押し付け軸４５ｂは、Ｚ軸方向の長さを調節する機構を備える。具体的には、押し付け軸４５ｂは、連結用ネジを用いて連結される清掃ユニット側軸４５ｂ１と支持台側軸４５ｂ２とを含む。清掃ユニット側軸４５ｂ１は、＋Ｚ側の端部に雄ネジ山が形成され、支持台側軸４５ｂ２は、−Ｚ側の端部に雌ネジ山が形成される。そのため、清掃ユニット側軸４５ｂ１と支持台側軸４５ｂ２とは、相対的な回転によって、Ｚ軸方向に相対的に移動可能である。本実施形態では、作業者は、清掃ユニット側軸４５ｂ１を回転させることにより、押し付け軸４５ｂのＺ軸方向の長さを伸縮させる。
【００４９】
また、レバー４５ｄが＋Ｚ方向に引き上げられると、梃子構造４５ｅは、押し付け軸４５ｂを−Ｚ方向に押し下げる。押し下げられた押し付け軸４５ｂは、清掃ユニット側軸４５ｂ１に設けられた突出部４５ｂｐとバネ支持板４２ｆとの間に配置された押し付けバネ４５ａを圧縮する。押し付けバネ４５ａは、その圧縮度に応じた−Ｚ方向の力を発生させ、バネ支持板４２ｆを−Ｚ方向に押す。バネ支持板４２ｆを−Ｚ方向に押す力は、押し付けバネ４５ａの圧縮度が大きいほど大きい。
【００５０】
押し付けバネ４５ａの圧縮度は、レバー４５ｄが＋Ｚ方向に引き上げられたとき、すなわち押し付け軸４５ｂが押し下げられたときの突出部４５ｂｐとバネ支持板４２ｆとの間の距離（以下、「圧縮距離」とする。）によって決まる。押し付けバネ４５ａの圧縮度は、圧縮距離が小さいほど大きい。そして、バネ支持板４２ｆのＺ軸方向の位置（高さ）は、調整ネジ４４ｃの回転による調整が可能であり、突出部４５ｂｐのＺ軸方向の位置（高さ）は、清掃ユニット側軸４５ｂ１の回転による調整が可能である。この構成により、作業者は、バネ支持板４２ｆ及び突出部４５ｂｐの少なくとも一方の高さを調整することで圧縮距離を調整し、押し付けバネ４５ａの圧縮度、ひいてはバネ支持板４２ｆを−Ｚ方向に押す力を調整できる。
【００５１】
また、バネ支持板４２ｆを−Ｚ方向に押す力の方向は鉛直下方であり、その力の作用線の延長は清掃ユニットＰＵの床面投影領域を通る。本実施形態では、その力の作用線の延長は、清掃ユニットＰＵが床面と接する領域内、すなわち回転ブラシ４１が床面と接する領域内を通る。
【００５２】
また、バネ支持板４２ｆを−Ｚ方向に押す力は、回転ブラシ４１を床面に押し付ける力（以下、「第１成分力」とする。）と、支持バネ４４ａを圧縮する力に分解される。そのため、正味押し付け力は、第１成分力と自重押し付け力との合力として表される。また、自重押し付け力がゼロの場合には、第１成分力がそのまま正味押し付け力となる。
【００５３】
以上の構成により、自走式清掃装置１００は、清掃ユニットＰＵの自重による押し付け力を消失或いは低減させることで、適切な正味押し付け力を発生させることができる。その結果、自走式清掃装置１００は、過度に大きな正味押し付け力が発生するのを防止し、電力消費量が過度に増大するのを防止できる。
【００５４】
また、自走式清掃装置１００は、回転ブラシ４１の鉛直上方から清掃ユニットＰＵを床面に押し付ける力を発生させる第２調整部４５を有する。そのため、回転ブラシ４１は、床面との接触面全体に均一且つ安定的に押し付け力を加えることができる。
【００５５】
また、自走式清掃装置１００は、第１調整部４４及び第２調整部４５により正味押し付け力の動的な調整を可能にする。そのため、自走式清掃装置１００の操作者は、滑らかな床面に対しては正味押し付け力を増大させ、粗い床面に対しては正味押し付け力を低減させるといった調整を行うことができる。
【００５６】
また、自走式清掃装置１００は、第１調整部４４及び第２調整部４５の双方による正味押し付け力の動的な調整を可能にする。そのため、自走式清掃装置１００は、清掃ユニットＰＵの自重による自重押し付け力の最大値より大きな正味押し付け力を発生させることができる。なお、清掃ユニットＰＵの自重による自重押し付け力の最大値は、清掃ユニットＰＵの自重を最大限に利用した場合の自重押し付け力であり、第１調整部４４が調整し得る最大の自重押し付け力である。また、第２調整部４５は、清掃ユニットＰＵの上下方向（Ｚ軸方向）の振動が大きくなる場合に、清掃ユニットＰＵの固有振動数を変化させ、清掃ユニットＰＵの振動を抑制する役割を担うことができる。例えば、操作者は、共振によって清掃ユニットＰＵの振動の振幅が大きくなる場合に、第２調整部４５の押し付け軸４５ｂの長さを変えることで、主に第１調整部４４の支持バネ４４ａの固有振動数に応じて決まる清掃ユニットＰＵの固有振動数を変化させる。その結果、操作者は、共振による清掃ユニットＰＵの振動の増大を抑制できる。
【００５７】
以上、本発明の好ましい実施形態について詳説したが、本発明は、上述した実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなしに上述した実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
【００５８】
例えば、上述の実施形態では、第１調整部４４は、清掃ユニットＰＵを支持バネ４４ａで持ち上げてその自重による押し付け力を消失或いは低減させる。しかしながら、本発明はこの構成に限定されるものではない。例えば、第１調整部４４は、引張バネで清掃ユニットＰＵをぶら下げてその自重による押し付け力を消失或いは低減させてもよい。
【００５９】
また、上述の実施形態では、清掃部４０は、ディスク状の回転ブラシ４１を用いて床面の汚れを擦り落とす。しかしながら、本発明はこの構成に限定されるものではない。例えば、清掃部４０は、回転ブラシ４１の代わりに回転パッド等の他の材料を用いて床面の汚れを擦り落としてもよい。
【００６０】
また、上述の実施形態では、ブラシ昇降軸４２ａは清掃ユニットＰＵにおける本体部４２に取り付けられ、リニアブッシュ４３ｂは支持部４３におけるベース４３ａに取り付けられる。しかしながら、本発明はこの構成に限定されるものではない。例えば、ブラシ昇降軸４２ａがベース４３ａに取り付けられ、リニアブッシュ４３ｂが本体部４２に取り付けられてもよい。ブラシ昇降軸４２ａ及びリニアブッシュ４３ｂによって構成される変位ガイド機構は、清掃ユニットＰＵの変位をＺ軸方向に限定できる構成であれば、ブラシ昇降軸４２ａが変位側（清掃ユニットＰＵ側）に取り付けられ、リニアブッシュ４３ｂが固定側（支持部４３側）に取り付けられる必要はないためである。
【００６１】
また、第１調整部４４及び第２調整部４５の少なくとも一方は、ダンパ等の振動減衰器を含んでいてもよい。この構成により、自走式清掃装置１００は、清掃ユニットＰＵの上下方向（Ｚ軸方向）の振動を抑制できる。
【符号の説明】
【００６２】
１０・・・走行部  １１・・・支持台  １１ａ・・・下部フレーム  １１ａｈ・・・穴  １１ｂ・・・側部フレーム  １１ｃ・・・上部フレーム  １２、１２Ｌ、１２Ｒ・・・駆動輪  １２Ａ、１２ＡＬ、１２ＡＲ・・・駆動軸  １３・・・従動輪  １５・・・支持ブロック  ３０・・・蓄電部  ４０・・・清掃部  ４１、４１Ｌ、４１Ｒ・・・回転ブラシ  ４２・・本体部  ４２ａ、４２ａＬ、４２ａＲ・・・ブラシ昇降軸  ４２ｂ・・・底板  ４２ｃ・・・天板  ４２ｃＨ１・・・ネジ穴  ４２ｃＨ２・・・穴  ４２ｄ・・・前板  ４２ｅ・・・後板  ４２ｆ・・・バネ支持板  ４２ｆＨ・・・穴  ４３・・・支持部  ４３ａ・・・ベース  ４３ａｈ・・・横プレート  ４３ａｖ・・・縦プレート  ４３ｂ、４３ｂＬ、４３ｂＲ・・・リニアブッシュ  ４４・・・第１調整部  ４４ａ、４４ａＬ、４４ａＲ・・・支持バネ  ４４ｂ・・・調整プレート  ４４ｃ・・・調整ネジ  ４５・・・第２調整部  ４５ａ・・・押し付けバネ  ４５ｂ・・・押し付け軸  ４５ｂ１・・・清掃ユニット側軸  ４５ｂ２・・・支持台側軸  ４５ｂｐ・・・突出部  ４５ｃ・・・レバー支持プレート  ４５ｄ・・・レバー  ４５ｅ・・・梃子構造  ５０、５０Ｌ、５０Ｒ・・・駆動部  ６０・・・制御部  １００・・・自走式清掃装置  ＰＵ・・・清掃ユニット
【図１】
2015163152.tif 000003
【図２】
2015163152.tif 000004
【図３】
2015163152.tif 000005
【図４】
2015163152.tif 000006