(57)【要約】【課題】簡易なプロセスで低コストに製造することができ、モールドに与えるダメージが小さく、ロールトゥロールプロセスを適用することも可能な金属構造体の製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、表面に、断面視最大幅が１μｍ未満である少なくとも１つの凸部を含む凹凸構造部を有する金属構造体の製造方法に関する。所望の凹凸パターンの反転パターンを有するモールド２を用意する工程（Ａ）と、モールド２の反転パターン上に、１次粒子径が５０ｎｍ以下であり、２次粒子径が上記凸部の断面視最小幅より小さい多数のナノ金属粒子を含む金属分散剤を塗布して塗布膜を形成する工程（Ｂ）と、塗布膜を焼成して、モールド上に金属構造体１を形成する工程（Ｃ）と、金属構造体１をモールド２から剥離する工程（Ｄ）とを実施する。【選択図】図３Ｂ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に、断面視最大幅が１μｍ未満である少なくとも１つの凸部を含む凹凸構造部を有する金属構造体の製造方法であって、
前記凹凸構造部の凹凸パターンの反転パターンを有するモールドを用意する工程（Ａ）と、
前記モールドの前記反転パターン上に、１次粒子径が５０ｎｍ以下であり、２次粒子径が前記凸部の断面視最小幅より小さい多数のナノ金属粒子を含む金属分散剤を塗布して塗布膜を形成する工程（Ｂ）と、
前記塗布膜を焼成して、前記モールド上に前記金属構造体を形成する工程（Ｃ）と、
前記金属構造体を前記モールドから剥離する工程（Ｄ）とを有する、金属構造体の製造方法。
【請求項２】
前記凸部は、
断面視最大幅が１０〜５００ｎｍであり、
アスペクト比が０．５以上である、
請求項１に記載の金属構造体の製造方法。
【請求項３】
前記金属構造体はＡｇ、Ａｕ、Ａｌ、およびＣｕからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属を含む、請求項１または２に記載の金属構造体の製造方法。
【請求項４】
工程（Ｃ）の焼成温度は１８０℃以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の金属構造体の製造方法。
【請求項５】
前記モールドは樹脂製であり、
工程（Ｄ）において、前記モールド上に形成された前記金属構造体の裏面に、前記モールドと前記金属構造体との間の密着力よりも大きい密着力で前記金属構造体に密着する樹脂膜を形成し、当該樹脂膜と前記金属構造体とを前記モールドより剥離する、請求項１〜４のいずれかに記載の金属構造体の製造方法。
【請求項６】
工程（Ｂ）〜工程（Ｄ）をロールトゥロールプロセスで実施する、請求項１〜５のいずれかに記載の金属構造体の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の金属構造体の製造方法により製造された、金属構造体。
【請求項８】
前記金属構造体は、
前記凹凸パターンとして、平面視周期的に形成された複数の凸部と当該複数の凸部の間に形成された複数の凹部とを有し、
光照射によってプラズモン共鳴を生じるプラズモン共鳴構造体である、
請求項７に記載の金属構造体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属構造体とその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
表面にナノオーダーの凹凸構造を有する金属構造体では、金属表面に光が入射したときに金属表面の自由電子の粗密波（表面プラズモン波）が入射光により生成されたエバネッセント波に共鳴して励起される。この現象は、表面プラズモン共鳴（以下、単にプラズモン共鳴とも言う。）と呼ばれる。
プラズモン共鳴は、金属の種類と形状とサイズ、および周囲の物質等に応じた特定の波長領域で生じる。また、このプラズモン共鳴によって、金属の表面およびその近傍では非常に強い増強電場が発生する。プラズモン共鳴は、このような波長依存性あるいは増強電場を利用して、光センサ、光学フィルタ、および光電変換素子等の光学デバイスへの応用が期待されている。
【０００３】
従来、上記金属構造体は、所望の凹凸パターンの反転パターンを有するモールドに、スパッタ法等の気相法により通電膜を形成した後、電解メッキを行い、得られた金属構造体をモールドから剥離することで、製造されている（たとえば特許文献１の図１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開2013-036961号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記従来の製造方法は、スパッタ法等の真空成膜の工程と電解メッキの工程とを含む。スパッタ法等の真空成膜は高コストである。電解メッキにはメッキ液にメッキ対象物を浸漬させて所定時間反応させる必要がある。これら工程を含む上記従来の製造方法は連続的な処理ができず、ロールトゥロールプロセスが適用できない。そのため、上記従来の製造方法は、高コストで量産性が良くない。
また、スパッタ法等の真空成膜では、モールドが有機材料の場合、モールドがダメージを受けやすく、劣化しやすい。
【０００６】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、簡易なプロセスで低コストに製造することができ、モールドに与えるダメージが小さく、ロールトゥロールプロセスを適用することも可能な金属構造体の製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の金属構造体の製造方法は、
表面に、断面視最大幅が１μｍ未満である少なくとも１つの凸部を含む凹凸構造部を有する金属構造体の製造方法であって、
前記凹凸構造部の凹凸パターンの反転パターンを有するモールドを用意する工程（Ａ）と、
前記モールドの前記反転パターン上に、１次粒子径が５０ｎｍ以下であり、２次粒子径が前記凸部の断面視最小幅より小さい多数のナノ金属粒子を含む金属分散剤を塗布して塗布膜を形成する工程（Ｂ）と、
前記塗布膜を焼成して、前記モールド上に前記金属構造体を形成する工程（Ｃ）と、
前記金属構造体を前記モールドから剥離する工程（Ｄ）とを有するものである。
【０００８】
本発明の金属構造体は、
上記の本発明の金属構造体の製造方法により製造されたものである。
【０００９】
本発明が適用可能な金属構造体としてはたとえば、
凹凸パターンとして、平面視周期的に形成された複数の凸部と当該複数の凸部の間に形成された複数の凹部とを有し、
光照射によってプラズモン共鳴を生じるプラズモン共鳴構造体等が挙げられる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、簡易なプロセスで低コストに製造することができ、モールドに与えるダメージが小さく、ロールトゥロールプロセスを適用することも可能な金属構造体の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１Ａ】本発明に係る一実施形態の金属構造体の模式断面図である。
【図１Ｂ】図１Ａの金属構造体の模式上面図である。
【図２Ａ】図１Ａの金属構造体の製造工程図である。
【図２Ｂ】図１Ａの金属構造体の製造工程図である。
【図２Ｃ】図１Ａの金属構造体の製造工程図である。
【図２Ｄ】図１Ａの金属構造体の製造工程図である。
【図２Ｅ】図１Ａの金属構造体の製造工程図である。
【図３Ａ】ロールトゥロールプロセスでモールドを製造する製造装置の一例を示す模式図である。
【図３Ｂ】ロールトゥロールプロセスで金属構造体を製造する製造装置の一例を示す模式図である。
【図４】実施例１で得られた積層体のＳＥＭ断面写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
「金属構造体とその製造方法」
図面を参照して、本発明に係る一実施形態の金属構造体とその製造方法について説明する。
図１Ａは本実施形態の金属構造体の模式断面図である。
図１Ｂは本実施形態の金属構造体の模式上面図である。
図２Ａ〜図２Ｅは製造工程図であり、各図は図１Ａに対応した模式断面図である。
【００１３】
本実施形態の金属構造体１は、平面視周期的に形成された複数の凸部とこれら複数の凸部の間に形成された複数の凹部とを有し、光照射によってプラズモン共鳴を生じるプラズモン共鳴構造体である。
プラズモン共鳴構造体は、光センサ、光学フィルタ、および光電変換素子等の光学デバイスに好ましく適用できる。
本発明は、プラズモン共鳴構造体に限らず、断面視最大幅が１μｍ未満である少なくとも１つの凸部を含む凹凸パターンを有する任意の金属構造体に適用可能である。
【００１４】
図１Ａに示すように、金属構造体１は、基部１０とその上に形成された凹凸構造部２０とを有する。図中、符号２０Ｐは、凹凸構造部２０の凹凸パターンである。
凹凸構造部２０は、平面視周期的に形成された複数の凸部２１とこれら複数の凸部２１の間に形成された複数の凹部２２とからなる。
凸部２１の形状は特に制限されず、略柱状、略錐台状、断面形状が略矩形状または略台形状のラインパターン等が挙げられる。
凸部２１が略柱状または略錐台状である場合、複数の凸部２１の平面周期パターンの単位は特に制限なく、三角格子状パターン、および四角格子状パターン等が挙げられる。
ここで、「略柱状」とは、円柱状、角柱状、これらの面取り形状、およびこれらに近い形状を指す。
「略錐台状」とは、円錐台状、角錐台状、これらの面取り形状、およびこれらに近い形状を指す。
「略矩形状」とは、矩形状、その面取り形状、およびこれらに近い形状を指す。
「略台形状」とは、台形状、その面取り形状、およびこれらに近い形状を指す。
【００１５】
図１Ａおよび図１Ｂに示すように、図示例では凸部２１は断面視矩形状のラインパターンであり、複数の凸部２１は平面視ストライプ状パターンで形成されている。
この場合、凸部２１の最大幅と最小幅は等しい。図中、凸部２１の幅に符号Ｗ１を付してある。
【００１６】
金属構造体１において、凸部２１の最大幅は１μｍ未満である。
プラズモン共鳴構造体の場合、
プラズモン共鳴効果が効果的に得られ、製造容易であることから、
たとえば
凸部２１の最大幅Ｗ１は１０〜５００ｎｍが好ましく、
凸部２１のアスペクト比ＡＲ（高さＨ１／最大幅Ｗ１）は０．５以上が好ましい。
複数の凸部２１の周期間隔Ｐは１５〜２５００ｎｍが好ましく、
凸部２１の最大幅Ｗ１に対する互いに隣接する凸部２１の間隙Ｗ２の比（Ｗ２／Ｗ１、スペース比）は５〜０．５が好ましい。
凹部２２の底面を凸部２１内に延長して得られる凸部２１の仮想底面２１Ｂに対する凸部２１の側面２１Ｓの角度θは７０〜９０°が好ましい。
以下、角度θは、凸部２１の側面２１Ｓの傾斜角とも言う。
【００１７】
金属構造体１の構成金属は特に制限されない。
金属構造体１はプラズモン共鳴が効果的に起こる金属を含むことが好ましく、具体的には、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、およびＣｕからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属を含むことが好ましく、ＡｇまたはＡｕを含むことがより好ましい。
【００１８】
金属構造体１は、後記製造方法により製造されたものである。
金属構造体１は必要に応じて、任意の下地上に形成することができる。
後記製造方法では高温を必要とせず、下地に物理的に与えるダメージも小さいので、下地への影響が少ない。
したがって、無機材料に対して耐熱性および物理的耐性が良くない有機材料上に対しても、金属構造体１を形成することができる。
また、モールドとしても樹脂製モールドを用いることができる。
【００１９】
金属構造体１はたとえば、図示するように、フィルム基材３０上に形成された樹脂膜４０の上に形成することができる。この場合、後記するように、ロールトゥロールプロセスでの製造が可能となり、好ましい。
実際には、フィルム基材３０の厚みに対して樹脂膜４０と金属構造体１の厚みは薄いが、図面上はこれらの厚みを厚く図示してある。
なお、フィルム基材３０上に形成された樹脂膜４０の上に金属構造体１を形成した後、機械的な剥離、あるいは溶剤を用いた溶解等の処理により、下地から金属構造体１を単離することも可能である。
【００２０】
図２Ａ〜図２Ｅを参照して、金属構造体１の製造方法の一例について説明する。
【００２１】
（工程（Ａ））  
はじめに図２Ａに示すように、凹凸構造部２０の凹凸パターン２０Ｐの反転パターンを有するモールド２を用意する。
たとえば、フィルム基材５０上に形成された未硬化樹脂膜に対して、表面に凹凸パターン７０Ｐを有するモールド７０を用いてパターン転写を行い、未硬化樹脂膜を硬化することで、表面に凹凸パターン６０Ｐを有する樹脂膜６０を得る。ここで、凹凸パターン７０Ｐは凹凸構造部２０の凹凸パターン２０Ｐのパターンと同一に設計され、得られる凹凸パターン６０Ｐは凹凸パターン２０の反転パターンとなる。
上記のようにして、フィルム基材５０と樹脂膜６０とからなる樹脂製のモールド２が得られる。
【００２２】
（工程（Ｂ））  
次に図２Ｂに示すように、モールド２の凹凸パターン６０Ｐ上に、その形状に沿って、ＡｇまたはＡｕ等のプラズモン共鳴を生じる金属を含み、１次粒子径が５０ｎｍ以下であり、２次粒子径が凸部２１の断面視最小幅（図１ＡではＷ１）より小さい多数のナノ金属粒子ＮＰを含む金属分散剤を塗布して、塗布膜１Ｘを形成する。
２次粒子径が凸部２１の断面視最小幅より小さいナノ金属粒子ＮＰを用いることで、ナノ金属粒子ＮＰはモールド２の凹部（凸部２１に対応）内に良好に充填される。
金属分散剤は、上記多数のナノ金属粒子ＮＰと分散媒とを含む。金属分散剤としては、市販の金属インク等を使用できる。
ナノ金属粒子ＮＰの１次粒子径は３０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下が特に好ましい。
工程（Ｂ）後には、必要に応じて工程（Ｃ）よりも低い温度で分散媒を除去する乾燥工程を実施することができる。
【００２３】
（工程（Ｃ））
次に図２Ｃに示すように、塗布膜１Ｘを焼成することで、モールド２上に金属構造体１が形成される。
焼成温度は特に制限されない。ナノ粒子の場合、ミクロンオーダーの粒子とは異なり、焼結に高温焼成は不要である。
焼成温度はたとえば１８０℃以下で充分であり、８０〜１２０℃が好ましい。
【００２４】
（工程（Ｄ））
次に図２Ｄおよび図２Ｅに示すように、金属構造体１をモールド２から剥離する。
図示例では、モールド２上に形成された金属構造体１の裏面に、モールド２と金属構造体１との間の密着力よりも大きい密着力で金属構造体１に密着する樹脂膜４０を形成し、樹脂膜４０と金属構造体１とをモールド２より剥離している。
図示するように、フィルム基材３０上に未硬化樹脂膜を形成し、これをモールド２上に形成された金属構造体１の裏面に密着させた後、未硬化樹脂膜を硬化して、金属構造体１に対して樹脂膜４０を密着形成することができる。
樹脂膜４０に用いる硬化性樹脂としては特に制限なく、熱硬化性樹脂、および紫外線等のエネルギー線照射により硬化するエネルギー線硬化性樹脂が挙げられ、エネルギー線硬化性樹脂が好ましい。
樹脂膜４０と金属構造体１とをモールド２より剥離する方法は特に制限なく、機械的な剥離で構わない。
【００２５】
上記方法において、基本的には、モールド７０の凹凸パターン７０Ｐは、凹凸構造部２０の凹凸パターン２０Ｐと同一に設計されるが、実際に製造される金属構造体１の凹凸パターン２０Ｐは、凸部２１のエッジ形状等が設計パターンとは多少異なる場合がある。
たとえば、図１Ａでは、凹凸構造部２０の凸部２１は、側面２１Ｓの傾斜角θが９０°の直立パターンであり、凸部２１の側面２１Ｓと上面とは明確に分かれている。しかしながら、モールド７０の凹凸パターン７０Ｐをかかる直立パターンに設計しても、実際に製造される金属構造体１では、必ずしも設計通りとはならず、凸部２１の側面２１Ｓが少し傾斜したり、凸部２１の側面２１Ｓと上面とが明確に分離されず、面取り形状でつながる場合がある。
【００２６】
本実施形態の方法ではナノ金属粒子ＮＰを用いて金属構造体１を製造するので、スパッタ法等の真空成膜の工程、および電解メッキの工程が不要であり、ロールトゥロールプロセスを適用することが可能である。
【００２７】
図３Ａは、ロールトゥロールプロセスでモールド２を製造する製造装置の一例を示す模式図である。
図３Ａに示す製造装置１００は、フィルム基材５０を送り出す送出しローラ１１０と、
送出しローラ１１０から送り出されたフィルム基材５０上に未硬化樹脂を塗布して未硬化樹脂膜６０Ｘを形成するＴダイ１２０と、
表面に図２Ａに示した樹脂製のモールド７０が取り付けられたモールドローラ１３０と、
未硬化樹脂膜６０Ｘの膜を硬化して樹脂膜６０とする硬化装置１４０と、
製造されたモールド２を巻き取る巻取りローラ１５０とを備えている。
図示例において、樹脂膜６０に用いる硬化性樹脂は紫外線等のエネルギー線照射により硬化するエネルギー線硬化性樹脂であり、硬化装置１４０は紫外線等のエネルギー線を照射するエネルギー線照射装置である。
【００２８】
図中、Ｒ１１〜Ｒ１５は、必要に応じて設けられる搬送用ローラである。これらローラの一部は、未硬化樹脂の塗布およびパターン転写等の工程において、被搬送部材を裏面から加圧保持する保持部材としても機能する。
【００２９】
製造装置１００では、以下のようにしてモールド２が製造される。
Ｔダイ１２０によって、送出しローラ１１０から供給されたフィルム基材５０上に未硬化樹脂膜６０Ｘが形成される。
未硬化樹脂膜６０Ｘにモールド７０のパターンが転写され、その表面にモールド７０の反転パターンが形成される。
未硬化樹脂膜６０Ｘは硬化装置１４０により硬化されて、上記反転パターンを有する樹脂膜６０が形成される。
以上のようにして、フィルム基材５０と上記反転パターンを有する樹脂膜６０とからなる樹脂製モールド２が製造される。製造されたモールド２は、巻取りローラ１５０に巻き取られる。
【００３０】
図３Ｂは、ロールトゥロールプロセスで金属構造体１を製造する製造装置の一例を示す模式図である。
【００３１】
図３Ｂに示す製造装置２００は、
モールド２を送り出す送出しローラ２１０と、
送出しローラ２１０から送り出されたモールド２上に、ナノ金属粒子ＮＰを含む金属分散剤を塗布して塗布膜１Ｘを形成する塗布装置２２０と、
塗布膜１Ｘを焼成する焼成装置２３０とを備えている。
ここで、塗布装置２２０は、金属分散剤の入った金属分散剤槽２２１と金属分散剤槽２２１内の金属分散剤が付着する第１のローラ２２２と、第１のローラ２２２に付着した金属分散剤を凸版２上に塗布する第２のローラ２２３とからなる。
焼成装置２３０は、加熱装置である。
【００３２】
製造装置２００はまた、
フィルム基材３０を送り出す送出しローラ３１０と、
送出しローラ３１０から送り出されたフィルム基材３０上に未硬化樹脂を塗布して未硬化樹脂膜４０Ｘを形成するＴダイ３２０とを備えている。
【００３３】
製造装置２００はまた、未硬化樹脂膜４０Ｘを硬化して樹脂膜４０を形成する硬化装置２４０と、
モールド２を巻き取る巻取りローラ４１０と、
フィルム基材３０と樹脂膜４０と金属構造体１との積層体を巻き取る巻取りローラ２５０とを備えている。
【００３４】
図示例において、樹脂膜４０に用いる硬化性樹脂は紫外線等のエネルギー線照射により硬化するエネルギー線硬化性樹脂であり、硬化装置２４０は紫外線等のエネルギー線を照射するエネルギー線照射装置である。
【００３５】
製造装置２００においては、塗布装置２２０によって、送出しローラ２１０から供給されたモールド２上に塗布膜１Ｘが形成される。塗布膜１Ｘは焼成装置２３０により焼成されて、金属構造体１となる。
【００３６】
製造装置２００においては、別途、Ｔダイ３２０によって、送出しローラ３１０から供給されたフィルム基材３０上に未硬化樹脂膜４０Ｘが形成される。
【００３７】
製造装置２００においては、搬送用ローラＲ２２と搬送用ローラ２３との間で、フィルム基材３０上に未硬化樹脂膜４０Ｘが形成された積層体と、モールド２上に金属構造体１が形成された積層体とが接合され、接合体が形成される。
【００３８】
硬化装置２４０によって上記接合体中の未硬化樹脂膜４０Ｘが硬化されて、樹脂膜４０が形成される。その後、硬化後の上記接合体からモールド２が機械的に剥離されて、フィルム基材３０と樹脂膜４０と金属構造体１との積層体が製造される。製造された積層体は、巻取りローラ２５０に巻き取られる。
【００３９】
図中、Ｒ２１〜Ｒ２４、Ｒ３１〜３３、およびＲ４１は、必要に応じて設けられる搬送用ローラである。これらローラの一部は、未硬化樹脂の塗布および積層体同士の接合等の工程において、被搬送部材を裏面から加圧保持する保持部材として機能する。
【００４０】
以上説明したように、本実施形態によれば、簡易なプロセスで低コストに製造することができ、モールドに与えるダメージが小さく、ロールトゥロールプロセスを適用することも可能な金属構造体１の製造方法を提供することができる。
【実施例】
【００４１】
本発明に係る実施例について説明する。
【００４２】
（実施例１）
図３Ａに示したような製造装置を用いて、フィルム基材５０上に所望パターンの反転パターンを有する樹脂膜６０を有する樹脂製のモールド２をロールトゥロールプロセスで製造した。
樹脂膜６０の材料としては紫外線硬化樹脂を用いた。
用いたモールド７０のパターンが良好に転写され、複数のラインパターンの凸部が直立して周期的に形成されたモールド２が製造された。モールドパターンのパラメータは以下の通りであった。
凸部の側面の傾斜角度：９０°、
凸部の幅：１００ｎｍ、
凹部の幅：１００ｎｍ、
凸部と凹部の高さ：２００ｎｍ、
凸部と凹部のアスペクト比：２、
凸部の周期間隔：２００ｎｍ。
【００４３】
次いで、得られたモールド２を用い、図３Ｂに示したような製造装置を用いて、フィルム基材３０上に樹脂膜４０と金属構造体１とが積層された積層体をロールトゥロールプロセスで製造した。
樹脂膜４０の材料としては紫外線硬化樹脂を用いた。
金属分散剤としては、１次粒子径が３〜５ｎｍ、２次粒子径が３０〜５０ｎｍである多数のナノ銀粒子を含む銀（Ａｇ）インクを用いた。
塗布膜の焼成温度は１００℃とした。
得られた積層体のＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）断面写真を図４に示す。
モールド２のパターン形状に沿って銀インクが良好に塗布され、モールド２のパターンに対応した凹凸パターンを有する金属構造体１が製造された。この例では、複数のラインパターンの凸部が直立して周期的に形成された金属構造体１が製造された。得られた金属構造体１のパターンのパラメータは、モールド７０のパターンと同じであり、以下の通りであった。
凸部の側面の傾斜角度：９０°、
凸部の幅：１００ｎｍ、
凹部の幅：１００ｎｍ、
凸部と凹部の高さ：２００ｎｍ、
凸部と凹部のアスペクト比：２、
凸部の周期間隔：２００ｎｍ。
金属構造体１の裏面に密着性の高い樹脂膜４０を形成することで、モールド２の剥離も容易に実施できた。
【００４４】
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて、適宜設計変更が可能である。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明の金属構造体とその製造方法は、プラズモン共鳴構造体等のナノオーダーの凹凸パターンを有する任意の金属構造体に適用できる。
【符号の説明】
【００４６】
１  金属構造体
１Ｘ  塗布膜
２  モールド
１０  基部
２０  凹凸構造部
２０Ｐ  凹凸パターン
２１  凸部
２１Ｓ  側面
２２  凹部
３０  フィルム基材
４０  樹脂膜
４０Ｘ  未硬化樹脂膜
５０  フィルム基材
６０  樹脂膜
６０Ｘ  未硬化樹脂膜
６０Ｐ  凹凸パターン（反転パターン）
７０  モールド
７０Ｐ  凹凸パターン
１００、２００  製造装置
ＮＰ  ナノ金属粒子
【図１Ａ】
2015172227.tif 000003
【図１Ｂ】
2015172227.tif 000004
【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
2015172227.tif 000006
【図２Ｃ】
2015172227.tif 000007
【図２Ｄ】
2015172227.tif 000008
【図２Ｅ】
2015172227.tif 000009
【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
2015172227.tif 000011
【図４】
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