(57)【要約】【課題】高濃度に水銀を含有するガスの分析を可能にする分析装置および分析方法を提供する。【解決手段】少なくとも、試料ガスを採取するガス採取部１と、試料ガスを流す加熱導管２と、試料ガスの一部を分取するガス分取機１０と、分取した試料ガスと希釈ガスとを混合し、測定用ガスを形成するガス混合機７と、水分濃度検知手段４０と、水銀分析計１１と、水銀濃度などの測定結果に基づき、希釈ガスによる希釈倍率を検証する検証手段と、測定用ガス中の水銀などの濃度を露点８℃の飽和濃度未満になるように、試料ガスの希釈倍率を調整する制御手段と、を有する水銀および水蒸気を含むガスの分析装置、およびこの装置を用いて分析する方法である。【選択図】図１
2015197306.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水銀および水蒸気を含むガスの分析装置であって、
水銀および水蒸気を含む試料ガスを、水銀および水蒸気が気体状態を維持するように加熱、保温しながら採取するためのガス採取部と、
ガス採取部で採取した試料ガスを流す加熱、保温された加熱導管と、
加熱導管中を流れる試料ガスの一部を分取する加熱、保温されたガス分取機と、
分取した試料ガスを希釈するための希釈ガスを導入する希釈ガス導入管と、
導入された希釈ガスを加熱する希釈ガス加熱器と、
加熱された希釈ガスをガス分取機に導入する加熱、保温された加熱導管と、
ガス分取機により分取した試料ガスとガス分取機に導入された希釈ガスと、必要に応じて別途希釈ガスとが導入され、これらのガスを混合し、希釈された測定用ガスを形成するガス混合機と、
試料ガス中の水蒸気濃度を測定する水分濃度検知手段と、
希釈された測定用ガス中の水銀濃度を測定する水銀分析計と、
測定用ガス中の水銀濃度の測定結果および試料ガス中の水蒸気濃度の測定結果に基づき、希釈ガスによる希釈倍率を検証する検証手段と、
希釈された測定用ガス中の水銀および水蒸気の濃度を露点８℃の飽和濃度未満になるように、試料ガスの希釈倍率を調整する制御手段と、
得られた測定用ガス中の水銀濃度の測定結果、試料ガス中の水蒸気濃度の測定結果および希釈倍率により試料ガス中の水銀濃度を算出する演算手段と、
得られた算出結果に基づき、少なくとも水銀濃度を表示する表示器と、
を備えるガスの分析装置。
【請求項２】
水銀および水蒸気を含むガスの分析方法であって、
試料ガスと希釈ガスとの混合割合である希釈倍率を暫定的に定める工程と、
ガス採取部で試料ガスを、水銀および水蒸気が気体状態を維持するように加熱、保温しながら採取する工程と、
ガス採取部で採取した試料ガスを加熱、保温された加熱導管に流す工程と、
加熱導管中を流れる試料ガスの一部を加熱、保温したガス分取機により分取する工程と、
加熱された希釈ガスをガス分取機に導入し、ガス分取機により分取された試料ガスとガス分取機に導入された希釈ガスと、必要に応じて別途希釈ガスを導入し、これらのガスを混合し、暫定的な希釈倍率で希釈された測定用ガスを得る工程と、
測定用ガス中の水銀濃度を測定する工程と、
試料ガス中の水蒸気濃度を別途測定する工程と、
得られた試料ガス中の水蒸気濃度および測定用ガス中の水銀濃度に基づき、希釈倍率を検証する工程と、
得られた検証結果により、希釈倍率が不適と判断された場合、水銀および水蒸気の濃度を露点８℃の飽和濃度未満となるように、試料ガスの希釈倍率を調整する希釈倍率制御工程と、
調整された希釈倍率により測定用ガスを調製し、測定用ガス中の水銀濃度を測定することにより、希釈倍率を検証する工程を繰り返して行い、得られた検証結果により、希釈倍率が適当と判断された場合、得られた測定用ガス中の水銀濃度の測定結果、試料ガス中の水蒸気濃度の測定結果および希釈倍率により水銀濃度を算出する演算工程と、
得られた算出結果に基づき、少なくとも水銀濃度を表示する工程と、
を有するガスの分析方法。
【請求項３】
水銀および水蒸気を含むガスの分析方法であって、
試料ガスと希釈ガスとの混合割合である希釈倍率を暫定的に定める工程と、
ガス採取部で試料ガスを、水銀および水蒸気が気体状態を維持するように加熱、保温しながら採取する工程と、
ガス採取部で採取した試料ガスを加熱、保温された加熱導管に流す工程と、
加熱導管中を流れる試料ガスの一部を加熱、保温したガス分取機により分取する工程と、
加熱された希釈ガスをガス分取機に導入し、ガス分取機により分取された試料ガスとガス分取機に導入された希釈ガスと、必要に応じて別途希釈ガスを導入し、これらのガスを混合し、暫定的な希釈倍率で希釈された測定用ガスを得る工程と、
測定用ガス中の水銀濃度を測定する工程と、
試料ガス中の水蒸気濃度を別途測定する工程と、
得られた試料ガス中の水蒸気濃度および測定用ガス中の水銀濃度に基づき、希釈倍率を検証する工程と、
得られた検証結果により、希釈倍率が不適と判断された場合、水銀および水蒸気の濃度を露点８℃の飽和濃度未満となるように、試料ガスの希釈倍率を調整する希釈倍率制御工程と、
調整された希釈倍率により測定用ガスを調製し、測定用ガス中の水銀濃度を測定することにより、希釈倍率を検証する工程を繰り返して行い、
得られた検証結果により、希釈倍率が適当と判断された場合、この希釈倍率を確定する工程と、
確定された希釈倍率にしたがい試料ガスを希釈するに際して、試料ガスの一部をガス分取機により分取することなく、希釈するための試料ガスを連続的に得る工程と、
得られた試料ガスに、希釈ガスを導入し、ガス混合機により混合して、確定された希釈倍率の測定用ガスを得る工程と、
得られた測定用ガスにより、測定用ガス中の水銀濃度を連続的に測定する工程と、
得られた測定用ガス中の水銀濃度の測定結果、試料ガス中の水蒸気濃度の測定結果および希釈倍率により水銀濃度を算出する演算工程と、
得られた算出結果に基づき、少なくとも水銀濃度を表示する工程と、
を有するガスの分析方法。
【請求項４】
確定された希釈倍率にしたがって調製された試料ガス中の水蒸気濃度および測定用ガス中の水銀濃度に基づき、希釈倍率を検証する工程をさらに有し、検証結果に基づいて、試料ガスの希釈倍率を調整することにより希釈倍率を変更し、変更された希釈倍率の測定用ガスを得、得られた測定用ガス中の水銀濃度を再度連続的に測定する工程を有する、請求項３記載のガスの分析方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属水銀またはＨｇＣｌ2のような水溶性水銀化合物、あるいはそれらの双方と水蒸気とを高濃度に含有するガス中における水銀類を分析するための分析装置および分析方法に関するもので、より詳細には、水銀含有物を加熱した際に発生するような水銀等を高濃度に含有するガス中の水銀濃度を正確に測定することができる分析装置および分析方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
排ガス中の水銀濃度の測定方法は、ＪＩＳにより定められており、ＪＩＳ  Ｋ０２２２による排ガス中の水銀分析方法によると、次の方法が規定されている。
（１）湿式吸収−還元気化原子吸光法
試料ガスを保温ヒーター付き採取管で採取し、これを吸収瓶に通し、ガス中の水銀を吸収液に溶解させる。この吸収液中の水銀量を還元気化原子吸光法で測定する方法。
（２）金アマルガム捕集−加熱気化原子吸光法
試料ガスを保温ヒーター付き採取管で採取し、これをガス洗浄瓶、吸湿瓶に通した後、水銀捕集管に通し、ガス中の水銀を金アマルガムとして捕集する。捕集した水銀を加熱気化原子吸光分析法で測定する方法。
（３）連続測定法
ガスを連続採取し、還元気化装置を通した後、冷原子吸光装置でガス中の水銀濃度を測定する方法。
【０００３】
また、このような水銀の連続的な分析法として多くのことが知られ、例えば、特開２００２−８２１１０号公報（特許文献１）には、ガスを連続的に採取し、ガス中の水溶性水銀を吸収液で吸収した後、吸収液中の水溶性水銀を還元し、ガス状金属水銀に変換して水銀分析計に導くとともに、吸収液に吸収されなかったガス中の金属水銀をガス状のまま水銀分析計に導き、ガス中に含まれる水溶性水銀および非水溶性水銀を別個に分析することができるガス中の水銀濃度を測定する方法および装置が記載されている。さらに、特開２００１−３３４３４号公報（特許文献２）には、塩化第一錫の還元剤を充填した還元反応器にガスを通過させて、ガス中の塩化第二水銀の水銀イオンを金属の水銀に還元し、還元された金属水銀を分析する水銀分析方法および装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−８２１１０号公報
【特許文献２】特開２００１−３３４３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の方法では、吸収液、ガス洗浄液、または還元液の瓶は加熱、保温されていない。したがって、金属水銀や水溶性水銀などを高濃度に含有するガスの水銀濃度を測定する場合に、吸収液、ガス洗浄液、還元液などの瓶入口、出口、および内部でガスの温度が急激に低下する。この温度が水銀などの露点以下の場合、水銀等が凝縮し、分析機器内部に付着してしまい、正確な濃度を測定することができなかった。また、ガス中の水蒸気が凝縮した場合も、水溶性水銀が凝縮水中に溶解してしまい、正確な水銀濃度を測定することができなかった。さらに、上記のＪＩＳなどで測定できる水銀濃度の範囲もせいぜい１μｇ／ｍ3〜５ｍｇ／ｍ3程度であり、このような範囲を超える高濃度の水銀を含むガスを測定することはできなかった。
本発明は、このような現状を鑑みなされたものであり、水銀類や水蒸気の分析機器内への付着、および凝縮水への可溶性水銀の溶解を防止し、正確な濃度で測定できるようにするとともに、ＪＩＳで規定する１μｇ／ｍ3〜５ｍｇ／ｍ3を超えるような高濃度に水銀を含有するガスの分析を可能にする分析装置および分析方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、試料ガスを水銀および水蒸気の露点を超える温度に保持するように加熱、保温しながら連続的に採取し、次いで、このガスの一部を分取して希釈用の空気などで希釈し、水銀および水蒸気の濃度を露点８℃の飽和濃度未満に低下させることで、水銀類および水蒸気の分析器具内への付着、及び凝縮水への可溶性水銀の溶解が防止され、正確な濃度を測定することができることを見出し、この知見に基づき本発明を完成させた。すなわち、本発明は、下記のとおりのものである。
【０００７】
（１）水銀および水蒸気を含むガスの分析装置であって、水銀および水蒸気を含む試料ガスを、水銀および水蒸気が気体状態を維持するように加熱、保温しながら採取するためのガス採取部と、ガス採取部で採取した試料ガスを流す加熱、保温された加熱導管と、加熱導管中を流れる試料ガスの一部を分取する加熱、保温されたガス分取機と、分取した試料ガスを希釈するための希釈ガスを導入する希釈ガス導入管と、導入された希釈ガスを加熱する希釈ガス加熱器と、加熱された希釈ガスをガス分取機に導入する加熱、保温された加熱導管と、ガス分取機により分取した試料ガスとガス分取機に導入された希釈ガスと、必要に応じて別途希釈ガスとが導入され、これらのガスを混合し、希釈された測定用ガスを形成するガス混合機と、試料ガス中の水蒸気濃度を測定する水分濃度検知手段と、希釈された測定用ガス中の水銀濃度を測定する水銀分析計と、測定用ガス中の水銀濃度の測定結果および試料ガス中の水蒸気濃度の測定結果に基づき、希釈ガスによる希釈倍率を検証する検証手段と、希釈された測定用ガス中の水銀および水蒸気の濃度を露点８℃の飽和濃度未満になるように、試料ガスの希釈倍率を調整する制御手段と、得られた測定用ガス中の水銀濃度の測定結果、試料ガス中の水蒸気濃度の測定結果および希釈倍率により試料ガス中の水銀濃度を算出する演算手段と、得られた算出結果に基づき、少なくとも水銀濃度を表示する表示器と、を備えるガスの分析装置である。
また、このガスの分析装置は、加熱導管が、試料ガス中の水銀および水蒸気が気体状態を維持できるような温度に、好ましくは１３０℃以上に加熱、保温されていること、希釈ガスとして、空気を用いることが、それぞれ好ましい。さらに、ガスの分析装置は、ガス採取部により採取した試料ガス中の夾雑物（例えば、固形粒子など）を除去するフィルターをガス採取部の下流に備えること、ガス分取機の上流にガス分取機をバイパスし、マスフローコントローラを介してガス混合器に連通する加熱、保温された加熱導管を備えること、希釈ガス導入管には、除湿器および吸着除去装置が設けられていること、試料ガスの温度、希釈ガスの温度、測定用ガスの温度、および分析後のガスの温度を、それぞれ測定する温度検知手段を備えること、測定用ガスの水蒸気濃度を測定する水分濃度検知手段を備えることが、それぞれ好ましい。
【０００８】
（２）水銀および水蒸気を含むガスの分析方法であって、試料ガスと希釈ガスとの混合割合である希釈倍率を暫定的に定める工程と、ガス採取部で試料ガスを、水銀および水蒸気が気体状態を維持するように加熱、保温しながら採取する工程と、ガス採取部で採取した試料ガスを加熱、保温された加熱導管に流す工程と、加熱導管中を流れる試料ガスの一部を加熱、保温したガス分取機により分取する工程と、加熱された希釈ガスをガス分取機に導入し、ガス分取機により分取された試料ガスとガス分取機に導入された希釈ガスと、必要に応じて別途希釈ガスを導入し、これらのガスを混合し、暫定的な希釈倍率で希釈された測定用ガスを得る工程と、測定用ガス中の水銀濃度を測定する工程と、試料ガス中の水蒸気濃度を別途測定する工程と、得られた試料ガス中の水蒸気濃度および測定用ガス中の水銀濃度に基づき、希釈倍率を検証する工程と、得られた検証結果により、希釈倍率が不適と判断された場合、水銀および水蒸気の濃度を露点８℃の飽和濃度未満となるように、試料ガスの希釈倍率を調整する希釈倍率制御工程と、調整された希釈倍率により測定用ガスを調製し、測定用ガス中の水銀濃度を測定することにより、希釈倍率を検証する工程を繰り返して行い、得られた検証結果により、希釈倍率が適当と判断された場合、得られた測定用ガス中の水銀濃度の測定結果、試料ガス中の水蒸気濃度の測定結果および希釈倍率により水銀濃度を算出する演算工程と、得られた算出結果に基づき、少なくとも水銀濃度を表示する工程と、を有するガスの分析方法である。
【０００９】
（３）水銀および水蒸気を含むガスの分析方法であって、試料ガスと希釈ガスとの混合割合である希釈倍率を暫定的に定める工程と、ガス採取部で試料ガスを、水銀および水蒸気が気体状態を維持するように加熱、保温しながら採取する工程と、ガス採取部で採取した試料ガスを加熱、保温された加熱導管に流す工程と、加熱導管中を流れる試料ガスの一部を加熱、保温したガス分取機により分取する工程と、加熱された希釈ガスをガス分取機に導入し、ガス分取機により分取された試料ガスとガス分取機に導入された希釈ガスと、必要に応じて別途希釈ガスを導入し、これらのガスを混合し、暫定的な希釈倍率で希釈された測定用ガスを得る工程と、測定用ガス中の水銀濃度を測定する工程と、試料ガス中の水蒸気濃度を別途測定する工程と、得られた試料ガス中の水蒸気濃度および測定用ガス中の水銀濃度に基づき、希釈倍率を検証する工程と、得られた検証結果により、希釈倍率が不適と判断された場合、水銀および水蒸気の濃度を露点８℃の飽和濃度未満となるように、試料ガスの希釈倍率を調整する希釈倍率制御工程と、調整された希釈倍率により測定用ガスを調製し、測定用ガス中の水銀濃度を測定することにより、希釈倍率を検証する工程を繰り返して行い、得られた検証結果により、希釈倍率が適当と判断された場合、この希釈倍率を確定する工程と、確定された希釈倍率にしたがい試料ガスを希釈するに際して、試料ガスの一部をガス分取機により分取することなく、希釈するための試料ガスを連続的に得る工程と、得られた試料ガスに、希釈ガスを導入し、ガス混合機により混合して、確定された希釈倍率の測定用ガスを得る工程と、得られた測定用ガスにより、測定用ガス中の水銀濃度を連続的に測定する工程と、得られた測定用ガス中の水銀濃度の測定結果、試料ガス中の水蒸気濃度の測定結果および希釈倍率により水銀濃度を算出する演算工程と、得られた算出結果に基づき、少なくとも水銀濃度を表示する工程と、を有するガスの分析方法である。
【００１０】
（４）また、上記（３）のガスの分析方法で連続的に水銀濃度を測定している場合において、試料ガス中の水銀および水蒸気の濃度が変化した際に、確定された希釈倍率にしたがって調製された試料ガス中の水蒸気濃度および測定用ガス中の水銀濃度に基づき、希釈倍率を検証する工程をさらに有し、検証結果に基づいて、試料ガスの希釈倍率を調整することにより希釈倍率を変更し、変更された希釈倍率の測定用ガスを得、得られた測定用ガス中の水銀濃度を再度連続的に測定する工程を有する、上記（３）に記載のガスの分析方法である。
そして、これらの上記の（２）、（３）および（４）に記載されたガスの分析方法は、いずれも、加熱導管を、試料ガス中の水銀および水蒸気が気体状態を維持できるような温度に、好ましくは１３０℃以上に加熱、保温して操作すること、希釈ガスとして、空気を用いることが、それぞれ好ましく、さらに、これらのガスの分析方法は、ガス採取部により採取した試料ガス中の夾雑物（例えば、固形粒子など）をガス採取部の下流に備えたフィルターにより除去する工程を備えること、ガス分取機に導入する希釈ガスは、除湿器を通して水分を除去する工程および吸着除去装置を通して精製する工程を経たものであること、試料ガスの温度、希釈ガスの温度、測定用ガスの温度、および分析後のガスの温度を、温度検知手段によりそれぞれ測定する工程を備えること、測定用ガスの水蒸気濃度を水分濃度検知手段により測定する工程を備えることが、それぞれ好ましい。
なお、上記（４）のガスの分析方法は、上記（３）のガスの分析方法により連続的に水銀濃度を測定している際に、試料ガス中の水銀濃度が変動したときに備えて、測定結果に基づいて新たな希釈倍率を算出し、この算出された希釈倍率によって、再度、試料ガス中の水銀濃度を連続的に測定し続けるものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によると、ＪＩＳ  Ｋ０２２２の連続測定法で規定される測定範囲、１μｇ／ｍ3〜５ｍｇ／ｍ3の範囲を大きく超える１μｇ／ｍ3〜１０ｇ／ｍ3の範囲の濃度を、精度良く測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の分析装置の概要を示す、ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明は、水銀濃度が１μｇ／ｍ3〜１０ｇ／ｍ3の範囲であるガス中の水銀濃度を精度良く測定できる水銀の分析装置と分析方法である。このため、本発明の装置は、装置の配管内で、水蒸気と水銀が凝縮するのを防ぎ、気体状態に維持されるように、配管などを１３０℃以上の温度に加熱、保温するとともに、水銀や水蒸気の濃度が、露点８℃の飽和濃度未満となるように、試料ガスを希釈し、分析することを特徴とする。
【００１４】
本発明の試料ガスを分析する方法としては、試料ガスの一部を分取して、試料ガスを希釈ガスで適切な希釈倍率に希釈して、希釈された試料ガス中の水銀濃度を測定するいわゆるバッチ式分析法と、試料ガスを分取し、希釈ガスによる適切な希釈倍率を確定し、この確定された希釈倍率で希釈された試料ガスを調製し、この希釈された試料ガス中の水銀濃度を連続的に測定するいわゆる連続式分析法と、そしてこのようにして連続的に、希釈された試料ガス中の水銀濃度を分析している際に、水銀濃度などの変化が起こった場合に備えて、分析結果に基づいて試料ガスの希釈倍率を検証し、希釈倍率を変更する必要がある場合には、改めて希釈倍率を決定し、その決定された希釈倍率に希釈された試料ガスを調製し、この希釈された試料ガス中の水銀濃度を再度連続的に測定を繰り返す連続的な分析法がある。本発明の装置は、これらの各分析法で分析ができるように構成されているガスの分析装置であり、試料ガスの一部を分取し、希釈ガスと混合希釈して測定用ガスを調製する第一の調製ユニット部と、試料ガスを分取することなく、希釈ガスとを連続的に混合希釈して測定用ガスを調製する第二の調製ユニット部と、測定用ガス中の水銀濃度や試料ガス中の水蒸気濃度などを測定する測定ユニット部と、測定結果に基づき希釈倍率を検証し、希釈倍率を制御する希釈倍率制御ユニット部とにより構成されている。
【００１５】
まず、本発明のガスの分析装置について、図１を参照して具体的に説明する。
図１は、本発明の分析装置の概要を示すブロック図である。図中、実線の矢印は、ガスの流れを示し、点線の矢印は、測定値や制御信号などの情報の流れを示している。ガスは実線で示される導管ないしは配管中を流れることになるが、参照符号２として示されている導管ないしは配管は、加熱、保温された加熱導管２であり、水分と水銀とが導管内で凝集するのを防ぐため、１３０℃以上の温度に加熱、保温されている。一方、参照符号３が付与されている導管ないしは配管は、排気管３であり、この排気管３は、試料ガス中の水銀などを分析するために必要な測定用ガスを入手したあとの残りのガスを通過させ、排気するための配管であり、必ずしも水分と水銀とが導管内で凝集するのを防ぐため、１３０℃以上の温度に加熱、保温する必要はないが、導管内に水分や水銀などが沈着し排気が妨げられるのを防ぐため、加熱導管と同様に、加熱、保温しておくことが好ましい。このような加熱導管２や排気管３は、図１に示されるように、各部材間を接続するものであり、例えば、排ガスのサンプリング用に市販されているような、ヒーターが内蔵された導管類や、通常の導管にリボンヒーターなどの加熱機器を取り付けたようなものでよく、また、導管をヒーターなどで直接加熱、保温するだけでなく、導管が配置されている装置内を加熱、保温することによって導管を加熱、保温してもよい。なお、導管の材質としては、ＪＩＳ  Ｋ００９５に記載されているような、例えば、ほうけい酸ガラス、シリカガラス、ステンレス鋼、四フッ化エチレン樹脂、及び硬質塩化ビニル樹脂などが、耐熱性、腐食防止、及び水銀の付着防止の点から好ましい。
また、加熱導管の温度１３０℃以上は、本発明で測定可能な最大の水銀濃度１０ｇ／ｍ3の飽和温度１２３℃を超える温度であり、装置内での水銀の凝縮が防止されるためであり、水銀の凝縮を確実に防止するためには１８０℃以上とすることが好ましい。
【００１６】
また、ガスの分析装置は、上記したように、希釈された測定用ガスを調製する第一の調製ユニット部や希釈された測定用ガスを連続的に調製する第二の調製ユニット部、測定ユニット部、希釈倍率制御ユニット部を主として有するものであるが、これらのうち第一の調製ユニット部としては、ガス採取部１からガス分取機１０へと流れ込み、このガス分取機１０が分取機能を発揮している状態の流路であるガス分取機１０の下側から希釈ガスが導入され、ガス分取機１０の右側から導出される加熱導管２から、マスフローコントローラ２２を経てガス混合器７に至る経路が該当し、第二の調製ユニット部としては、ガス採取部１からガス分取機１０へと流れ込み、このガス分取機１０中を試料ガスが流れている状態の流路である、ガス分取機１０の左側から導入され、ガス分取機１０の上方から導出される加熱導管２、マスフローコントローラ２２を経てガス混合器７へと続く経路が該当するものである。一方、測定ユニット部には、水銀分析計１１、水分濃度検知手段４０、温度検知手段２４などが該当し、さらに希釈倍率制御ユニット部としては、演算機５０、コントローラー５１、マスフローコントローラ２２などが該当している。
【００１７】
ところで、本発明のガスの分析装置では、例えば、水銀を含む排ガスの煙道などに設置され、加熱、保温されているガス採取部１より装置内に排ガスの一部が試料ガスとして、ポンプ３０の吸引力により引き込まれる。この際、引き込まれた試料ガスは、フィルター５を通過させることにより、試料ガス中の夾雑物（例えば、固形粒子など）を除去することが好ましい。
【００１８】
フィルター５を通過した試料ガスは、加熱導管２中を流れ、ガス分取機１０に左側から導入され、ガス分取機１０を通過する試料ガスは、ガス分取機１０の上方に接続されている加熱導管２へと導出され、排気管３を介してポンプ３０によりガス排気部４へ排気されるか、あるいは、流路の切り替えにより、下方に分岐された加熱導管２からマスフローコントローラ２２、ガス混合器７へと流れる。この流れは、後述する確定した希釈倍率で希釈された連続式分析に用いる測定用ガスの調製に用いられるものであり、第二の調製ユニット部に相当するものである。なお、この排気される試料ガスは、必要に応じて、浄化され、水銀などが除去された清浄なガスとして最終的に排気される。
【００１９】
一方、試料ガスの一部をガス分取機１０により分取する場合は、ガス分取機１０の流路を（左→上）から（下→右）に代えることにより行われる。これにより、試料ガスの一部が分取され、分取された試料ガスは、ガス分取機１０の下側から導入される希釈ガスとともに、ガス分取機１０の右側にある加熱導管２を経て導出され、マスフローコントローラ２２を介して、ガス混合器７に導入される。この流れは、第一の調製ユニット部を構成するものである。
【００２０】
また、加熱導管２中を流れる、ガス採取部から取り入れられフィルター５を通過した試料ガスの一部は、加熱導管２から下方に分岐され、水分濃度検知手段４０である水分濃度測定器により、試料ガス中の水蒸気濃度が測定され、測定後の試料ガスは、排気管３を経て、ポンプ３０によりガス排気部４へと流れ、装置外に排気される。この排気される試料ガスは、前述のように、必要に応じて、浄化され、水銀などが除去された清浄なガスとして最終的に排気される。
なお、ポンプ３０としては、市販のものが使用でき、例えばダイヤフラム式エアーポンプなどを用いることができる。また、水分濃度検知手段４０としては、市販されているような、温湿度計や水分濃度測定器などを用いることができる。
【００２１】
次にガス分取機１０による試料ガスの分取について説明する。上述のようにガス採取部１で採取された試料ガスは、加熱導管２を通してガス分取機１０に導入される。ガス分取機１０は、試料ガスの一部を採取し、測定用ガスを調製するためのものであり、試料ガスの一部を分取できるものであれば、どのような形式のものでもよい。例えば、図１に示すようなガスの流路を変更して、分取するような形式のガス分取機１０であれば、ガス分取機１０の左側からガス分取機１０に導入された試料ガスは、ガス分取機１０内を通過することで、ガス分取機１０内に試料ガスが溜められる一方、通過したガスはガス分取機１０の上方に設置された加熱導管２およびそれに続く排気管３を通り、ポンプ３０によりガス排気部４に排気されている。このガス分取機１０内に溜められている試料ガスが、ガス分取機１０のガス流路を変更し、ガス分取機１０の右側にある加熱導管２と連通させることにより分取される。すなわち、ガス分取機１０内の流路が変更されることにより、希釈ガスが、希釈ガス加熱器２３を介してガス分取機１０の下側に配されている加熱導管２から、加熱された希釈ガスが導入され、この希釈ガスによりガス分取機１０の内部に溜められていた試料ガスはガス分取機１０の右側に配された加熱導管２へと排出される。これにより、試料ガスの一部の量を分取することができ、この分取された試料ガスが、水銀などの濃度の測定や希釈ガスによる希釈倍率を決定するための基準として用いられる。
【００２２】
次いで、ガス分取機１０により分取され、ガス分取機１０の右側の加熱導管２から流れ出た試料ガスは、加熱された希釈ガスとともに、マスフローコントローラ２２を介してガス混合器７に導入される一方、必要に応じて、ガス混合器７の左側から導入される希釈ガスを用いて、ガス混合器７により、混合、希釈され、測定用ガスが調製される。
【００２３】
一方、希釈ガスは、希釈ガス導入管６から導入され、好ましくは、例えば、シリカゲルやモレキュラーシーブ、塩化カルシウム、生石灰などを充填した除湿器２０、および例えば、活性炭などを充填した吸着除去装置２１を通して、水分および混入している不純物などが除去され、マスフローコントローラ２２により流量が調整されるとともに、希釈ガス加熱器２３により、試料ガスの温度が低下しないように希釈ガスの温度を高め、加熱導管２を介して、ガス分取機１０の下側からガス分取機１０に導入される。ガス分取機１０の流路が開いている場合には、導入された希釈ガスは、ガス分取機１０を通して、ガス分取機１０の右側の加熱導管２より、マスフローコントローラ２２を介してガス混合器７に導かれる。もちろん、この希釈ガスの流路は、ガス分取機１０が試料ガスを、ガス分取機１０の左側の加熱導管２から上側に設けられた加熱導管２に流している場合には、この希釈ガスの流路は閉鎖されている。なお、希釈ガスとしては、窒素、ヘリウム、純空気などを用いてもよいが、汎用性と運転コストの点で空気が好ましい。
【００２４】
また、ガス混合器７に導入される希釈ガスとしては、ガス分取機１０を経由する加熱された希釈ガスであるが、希釈倍率などに応じて、ガス混合器７の左側に設けられている流路により、新たに希釈ガスを導入し、これらのガスを混合、希釈し、測定用ガスを調製することもできる。なお、ここで用いるガス混合器７の左側から導入される希釈ガスは、加熱されていない希釈ガスであってもよいが、図示していない希釈ガス加熱器を介して必要な温度に加熱されている希釈ガスを用いてもよい。
【００２５】
用いることができるマスフローコントローラ２２としては、市販のものが使用でき、マスフローコントローラは、流れるガス流量を測定するとともに、この流量に応じて、マスフローコントローラに設けられている電磁弁などの流量調整装置により、ガス流量が制御されるものである。また、用いることができるガス混合器７としては、市販されているいわゆるスタッティックミキサーを用いることができるが、このような特別が混合器を用いることなく、単に、配管をＴ字型またはＹ字型に組合せることで、ガスを合流し混合することもできる。
【００２６】
ガス混合器７により、ガス分取機１０により分取された試料ガスの一部と、加熱されている希釈ガス、あるいは加熱されている希釈ガスおよび加熱されていない希釈ガスと混合され、希釈されたガスが測定用ガスとして調製される。調製された測定用ガスは、ガス混合器７の右側に配されている測定ガス導入管８により水銀分析計１１に導入され、水銀濃度が測定される。水銀分析計１１に導入され、水銀分析計１１から排出される測定済みの測定用ガスは、活性炭を充填した吸着除去装置２１およびマスフローコントローラ２２を介して、ポンプ３０によりガス排気部４から排気される。なお、測定ガス導入管８から分岐し、ポンプ３０に導かれる排気管３は、水銀分析計１１をバイパスするための排気管であり、ポンプ３０によりガス排気部４から排気されように構成されている。なお、この排気される水銀分析計１１をバイパスした測定用ガスも、前述のように、必要に応じて、浄化され、水銀などが除去された清浄なガスとして最終的に排気される。
【００２７】
なお、水銀分析計１１としては、一般に分析用のセルに希釈された測定用ガスを流し、これを原子吸光法や原子蛍光法を用いて吸光度や蛍光量を測定することにより行うことができるが、市販されている水銀分析計を用いることもでき、例えば、日本インスツルメンツ社製の水銀分析計ＡＭ−３などを好適に用いることができる。このように市販の水銀分析計を用いる場合には、この水銀分析計に希釈された測定用ガスを導入するための前処理装置として、利用することができる。
【００２８】
本発明では、水銀分析計１１により測定された測定用ガス中の水銀濃度と、試料ガス中の水蒸気濃度とに基づいて、試料ガスが希釈ガスにより所定の希釈倍率に希釈される。この希釈倍率は、測定用ガス中の水銀および試料ガス中の水蒸気の濃度が露点８℃の飽和濃度未満の濃度になるように調整される。この調整のために、本発明のガスの分析装置は、希釈倍率を検証するための検証手段である演算器５０、および希釈倍率を調整する制御手段であるコントローラー５１を有している。コントローラー５１は、例えば、水銀分析計１１からの水銀濃度情報、温度検知手段２４である温度計からの温度情報（ａ１〜ａ３など）、水分濃度検知手段４０である水分濃度測定器からの水蒸気濃度情報（ｄ）などを受け、マスフローコントローラ２２と流量調節弁に制御信号（ｂ１〜ｂ３）を送ることで、所望の希釈倍率、そして、最終的には希釈された測定用ガス中の水銀および水蒸気の濃度が露点８℃の飽和濃度未満となるような希釈倍率になるように、それぞれのガス（試料ガス、希釈ガス、測定用ガス）の流量を調整する。さらに、演算器５０は、試料ガス中の水銀濃度などを、測定用ガスの水銀濃度や試料ガス中の水蒸気濃度の結果、希釈倍率などから算出するとともに、その結果を表示器５２に表示する。
【００２９】
また、演算器５０による希釈倍率の検証には、測定用ガス中の水銀濃度の測定結果や試料ガス中の水蒸気濃度の測定結果が用いられるが、水銀濃度の場合は、例えば、測定用ガス中の水銀濃度の測定結果が、水銀分析計１１の測定範囲を超える範囲（スケールオーバー）を示したり、測定範囲の例えば９０％以上のような高い値を示した場合には、希釈倍率が不適当と判断され、コントローラー５１に希釈倍率を高めるように指示がなされる。一方、測定用ガス中の水銀濃度の測定結果が、水銀分析計１１で検出されない場合や、測定範囲の例えば１０％以下のような低い値しか示さないような場合にも、希釈倍率が不適当と判断され、コントローラー５１に希釈倍率を小さくするように指示がなされる。これらの場合以外は、希釈倍率が適切と判断されることになる。そして、測定用ガスでの水銀、および水蒸気の凝縮を防ぐよう試料ガスの希釈を行うことから、測定用ガス中の水銀と水蒸気の濃度が露点８℃の飽和濃度以下となっているか否かを基準として最終的に判断され、希釈倍率の適正が判断される。
【００３０】
なお、測定用ガス中の水蒸気濃度は、試料ガス中の水蒸気濃度から求められるが、直接測定用ガス中の水蒸気濃度を測定するための水分濃度検知手段（図示なし）を備えるように構成してもよい。また、測定用ガスを調製する前の試料ガスの温度が１３０℃以上であることを確保するためにも、各ガス（試料ガス、希釈ガス、測定用ガス）の温度を測定するための温度計のような温度検知手段２４を設け、測定結果を演算器５０に送り（ａ１〜ａ３）、マスフローコントローラ２２の制御に役立てることが好ましい。
【００３１】
なお、本発明のガスの分析装置では、測定用ガス中の水銀および水蒸気の濃度が露点８℃の飽和濃度未満の濃度になるように調整されるものであるが、このことは、市販されている水銀分析計を用いる場合なども考慮し、分析に際して、測定用ガス中の水銀および水蒸気の凝縮を防止するためである。
【００３２】
次に、試料ガスの希釈倍率が適当と判断され、このような確定された希釈倍率となるように連続的に測定用ガスを調製する場合について説明する。測定用ガスの調製には、ガス分取機１０内をガス分取機１０の左側から上方に流れ、ガス分取機１０内を試料ガスが通過している流路を用いて、導出してくる試料ガスを、マスフローコントローラ２２を介してガス混合器７に導入する。ガス混合器７で、ガス混合器７の左側からガス混合器７に導入される希釈ガスと、特定の希釈倍率に混合、希釈し、測定用ガスを調製し、調製された測定用ガスを用いて、水銀分析計１１により測定用ガス中の水銀濃度を連続的に測定する。
【００３３】
また、本発明の装置には、ガス分取機１０の上流に、加熱導管２から分岐し、ガス分取機１０をバイパスし、マスフローコントローラ２２を介してガス混合器７に連通する加熱、保温された加熱導管２を備えることが好ましい。この加熱導管２により、確定された希釈倍率の測定用ガスを連続的に調製することもできる。
【００３４】
このガス採取部１からの加熱導管２から、ガス分取機１０の上流で分岐し、ガス分取機１０をバイパスし、ガス排出部４へと流れる加熱導管２は、一般にガス分取機１０に試料ガスが流れないようにするか、ガス分取機１０に流れる流量を調整するためのものであるが、この加熱導管２をガス排気部４に流れる途中で下方に分岐させ、加熱導管２としてマスフローコントローラ２２を介してガス混合器７に導くことで、ガス混合器７により測定用ガスを調製することができる。この場合、測定用ガスを調製するに際して、ガス分取機１０を試料ガスの供給のために用いていないので、ガス分取機１０の希釈ガスが流れる流路を用いて希釈ガスをガス混合器７に導入することができ、ガス混合器７の左側から導入される希釈ガスと組み合わせて、ガス混合器７により測定用ガスを調製することができる。希釈に用いる希釈ガスとしては、希釈倍率などに応じて、加熱されたものを用いても、加熱されていないものを用いてもよい。このような測定用ガスの調製方法のうち、いずれの方法で調製するかは、例えば、水銀濃度、水蒸気濃度、希釈倍率、ガスの流量などに応じて、適宜選択される。
【００３５】
次に、本発明のガスの分析装置を用いて、ガスを分析する方法について説明する。試料ガスを分析する方法としては、前述のように、いわゆるバッチ式分析法と、いわゆる連続式分析法と、連続的な分析法とがある。
これらのうち、いわゆるバッチ式分析法は、基本的に、試料ガスの一部を採取して、暫定的な希釈倍率で希釈ガスと混合し、測定用ガスを調製するとともに、測定用ガス中の水銀濃度などにより希釈ガスによる希釈倍率を検証しつつ希釈倍率を定め、この希釈倍率で希釈された試料ガス中の水銀濃度を測定するものである。
また、いわゆる連続式分析法は、このようにして、希釈倍率が定められ、希釈倍率が確定した後、ガス分取機により分取した試料ガスの一部を用いることなく、この確定した希釈倍率になるように、試料ガスと希釈ガスとを連続的に混合、希釈して、希釈された測定用ガスを調製し、この測定用ガス中の水銀濃度を連続的に測定するものである。
さらに、連続的な分析法は、このようにして連続式分析法により、水銀濃度を連続的に測定している際に、水銀濃度が変化した場合に、水銀濃度の測定結果から希釈倍率を検証し、必要に応じて、ガス分取機により分取した試料ガスの一部を用いて、再度新たな希釈倍率を定め、この定められた希釈倍率により試料ガスと希釈ガスとを連続的に混合して測定用ガスを調製し、調製された測定用ガス中の水銀濃度を再び測定し続けるものである。以下、各分析法について、図１を参照しつつ具体的に説明する。
【００３６】
いわゆるバッチ式分析法は、分析に際して暫定的に希釈倍率を定めた後、試料ガスをガス採取部１から採取し、ガス分取機１０により採取した試料ガスの一部を分取する。暫定的に希釈倍率を定めるには、排ガス中の水銀濃度などのおおよその見当がつけば、水銀濃度が露点８℃の飽和濃度未満になるように予め希釈倍率を決めることができる。排ガス中の水銀濃度が不明な場合には、とりあえず、任意の倍率を定めるが、本発明では、まず、この定めた希釈倍率により水銀濃度などの測定がなされ、希釈倍率が検証されることにより、順次希釈倍率が調製され、適正な希釈倍率が確定されることから、測定のはじめとして、例えば、２０００倍、５０００倍とか１００００倍のような任意な希釈倍率を定めることになる。
【００３７】
次いで、試料ガスの一部を分取するため、ガス分取機１０の流路を変換する。これにより、ガス分取機１０により分取された試料ガスは、ガス分取機１０に導入されている希釈ガスとともに、ガス混合器７に向けて導かれ、必要に応じて別途ガス混合器７に導入される希釈ガスとを加えて、これらのガスを、上記の暫定的に定められた希釈倍率となるように、ガス混合器７により混合、希釈して測定用ガスを調製し、測定用ガスを得る。次いで、得られた測定用ガスは水銀分析計１１に導かれ、測定用ガス中の水銀濃度が測定され、測定された測定用ガス中の水銀濃度と、試料ガス中の水蒸気濃度とにより、希釈倍率の適否を演算機５０により検証する。次いで、この希釈倍率を検証した結果、希釈倍率が不適当と判断された場合には、水銀および水蒸気の濃度が露点８℃の飽和濃度未満となるよう、試料ガスの希釈倍率をコントローラー５１によりマスフローコントローラ２２で流量などを調整し、調整された希釈倍率により測定用ガスを調製し、得られた測定用ガス中の水銀濃度を測定し希釈倍率を検証する。この希釈倍率の検証と調製とを、希釈倍率が適当と判断されるまで繰り返し行い、適当と判断された希釈倍率により、測定用ガス中の水銀濃度、試料ガス中の水蒸気濃度とが算出され、その結果となる排ガス中の水銀濃度が表示される。
【００３８】
ここで、希釈倍率は、水銀および水蒸気の濃度を露点８℃の飽和濃度未満となるように、試料ガスの希釈倍率が希釈倍率制御手段５１によりマスフローコントローラ２２を介して流量が調整されるが、この調整において、希釈倍率を、段階的に変更し、その都度希釈倍率を検証してもよく、あるいは、１回の変更により、露点８℃の飽和濃度未満となる希釈倍率を求めて行うこともできる。
【００３９】
次に、いわゆる連続式分析法では、上記のようにして、適当と判断され確定された希釈倍率により、試料ガスと希釈ガスとを混合希釈し、測定用ガスを調製し、この測定用ガス中の水銀濃度を連続的に測定する。
【００４０】
測定用ガスの調製は、ガス分取機１０にガス分取機の左側から導入され上側に導出される、ガス分取機１０内を通過する流路により試料ガスを連続的に得、この試料ガスを加熱導管２により、マスフローコントローラ２２を介してガス混合器７に導くことにより、特定の希釈倍率に希釈された測定用ガスを得ることができる。この場合、希釈するための希釈ガスは、ガス混合器７の左側から導入される希釈ガスが用いられ、この希釈ガスは、図示されていない希釈ガス加熱器により、加熱された希釈ガスであってもよく、加熱するか否かは、例えば、希釈倍率やガスの流量などから決定される。
【００４１】
一方、測定用ガスは、上記の調製方法とは異なり、ガス分取機１０を経由しない経路を用いても調製することができる。すなわち、ガス採取部１により採取された試料ガスがガス分取機１０へと流れる加熱導管２から分岐され（ガス分取機１０の左側に導入される加熱導管２から、上方に分岐されている加熱導管２）、マスフローコントローラ２２、ガス混合器７に導かれる経路を用いて測定用ガスを調製するものである。
【００４２】
この経路により、ガス分取機１０を経由することなく、試料ガスは、マスフローコントローラ２２を介してガス混合器７に連続的に導入される。この場合、ガス分取機１０を試料ガスの供給に用いていないことから、試料ガスと混合希釈される希釈ガスは、ガス分取機１０を経由した経路（ガス分取機１０下側から導入され右側から排出される加熱された希釈ガスの流路）から供給し、試料ガスとともにマスフローコントローラ２２を介してガス混合器７に導入し、測定用ガスを調製することができる。一方、このようなガス分取機１０を経由した経路を用いることなく、ガス混合器７の左側から導入される希釈ガスにより、あるいは、必要に応じて、これらの二系統の流路から供給される両者の希釈ガスを用いて、ガス混合器７により、所定の希釈倍率に試料ガスを混合、希釈することにより、測定用ガスが調製される。なお、測定用ガスの調製に用いる希釈ガスは、加熱されているものであっても、加熱されていないものであってもよく、希釈倍率やガス流量などに応じて選択される。
【００４３】
なお、上記のように、連続式分析法のための測定用ガスの調製をする際に、ガス分取機１０を経由する流路により調製するか、あるいはガス分取機１０を経由しない流路により調製するかは、加熱導管２に設けられた各バルブにより調整されるが、どちらの経路により測定用ガスを調製するかは、希釈倍率やガス流量などに応じて、適宜選択される。
【００４４】
また、試料ガスの希釈に用いる希釈ガスとしては、窒素、ヘリウム、純空気などが使用できるが、汎用性と運転コストの点で空気を用いることが好ましく、導入される希釈ガスの流量は、希釈ガスの流路に設けられているマスフローコントローラ２２などにより制御されている。なお、この希釈ガスは、例えば、除湿器２０や吸着除去装置２１を通して、精製されたものを用いることが好ましい。
【００４５】
次いで、所定の希釈倍率で調製された測定用ガス中の水銀濃度を水銀分析計１１により測定し、得られた測定用ガス中の水銀濃度と試料ガス中の水蒸気濃度とにより水銀濃度を演算器５０により算出し、排ガス中の水銀濃度を表示器５２に表示する。
【００４６】
連続的な分析法は、このようにして排ガス中の水銀濃度を連続して測定している際に、排ガス中の水銀濃度が変動した場合に、希釈倍率を変更し、再度水銀濃度を測定し続けるガスの分析方法である。
上記のように水銀濃度を連続式に測定している場合において、測定対象となる排ガス中の水銀濃度などが変動した際には、その水銀濃度などの変動に応じて希釈倍率を変更する必要が生じる。すなわち、継続的に測定している水銀濃度などの結果により、希釈倍率に変更が必要になると検証された場合、上記のバッチ式分析法と同様な工程により、再度、ガス分取機１０を用いて、試料ガスの一部を採取し、希釈ガスと混合することにより測定用ガスが調製され、この測定用ガス中の水銀濃度と試料ガス中の水蒸気濃度により希釈倍率が検証され、必要に応じて、水銀および水蒸気の濃度を露点８℃の飽和濃度未満となるように、希釈倍率制御手段５１によりマスフローコントローラ２２を介して、試料ガスの希釈倍率が調整され、新たな希釈倍率が求められ、確定される。この確定された希釈倍率により、上記の連続式分析法と同様にして、ガス分取機１０を通過させるか、あるいはさせないかのいずれかの方法によって、試料ガスと希釈ガスとをガス混合器７により混合、希釈し、測定用ガスを調製し、この測定用ガス中の水銀濃度を連続的に再び測定し続ける分析法である。
【００４７】
なお、本発明が適用されるガス分析の対象となる水銀を含む排ガスとしては、例えば、水銀を含有したダスト、汚泥、鉱物などの固体物質や水銀含有物質が付着したガラス管などの固体物質を加熱した際に発生する排ガスがあげられる。また、前記排ガスを測定する場合、排ガス中の水銀濃度が高いもの、あるいは一時的に高濃度となったような場合であっても、適宜希釈して測定することから、通常の測定と同様にして水銀濃度を測定することができ、このような排ガス中の水銀濃度を連続的に測定し、監視することができる。さらに、排ガス中の水銀濃度が変動した場合であっても、変動に応じて、再度希釈倍率が変更され、この変更された希釈倍率のもとで水銀濃度が測定されることから、排ガス中の水銀濃度の測定、監視を続けることができる。
【００４８】
以上、ガスの分析装置および分析方法を詳細に説明したが、本発明のガスの分析装置および分析方法は、上記の説明に限られるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲において、変更仕様が可能であることはいうまでもない。
【実施例】
【００４９】
本発明の分析装置および分析方法を用いて排ガス中の水銀濃度を測定する際の希釈倍率については、次のように求められる。
例えば、試料ガス中の水銀濃度を１０ｇ／ｍ3とすると、この水銀濃度１０ｇ／ｍ3は露点１２３℃の飽和温度であり、この試料ガスを２１００倍に希釈することにより、水銀濃度を露点８℃の飽和濃度未満とすることができる。
また、一般に、水銀サーベイメータ（例えば、日本インスツルメンツ社製  ＥＰＭ−２）のような水銀分析計の測定範囲が、０〜０．９９９９ｍｇ／ｍ3であることから、水銀量が測定できる水銀分析計側の濃度基準で希釈倍率を計算すると、１０５００倍以上の希釈が必要となる。そして、測定装置の測定範囲の約９０％（フルスケールの約９０％）の測定値として適正に排ガス中の水銀濃度を求めるためには、試料ガスを１２０００倍に希釈することになる。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明は、ＪＩＳ  Ｋ０２２２の連続測定法で規定される測定範囲１μｇ／ｍ3〜５ｍｇ／ｍ3をしのぐ１μｇ／ｍ3〜１０ｇ／ｍ3の範囲の濃度を精度良く測定することができるものである。したがって、従来測定することが難しかった水銀を含有するダスト等を加熱した際に発生する排ガスの水銀濃度を精度よく測定でき、分析結果をプロセス制御へ利用することが可能となり、本発明の装置および方法が産業上有効な技術となる。また、水銀を分析する上でも、すでに商用化された水銀分析計の前処理装置、すなわち、高濃度の水銀を含有するガスを、測定が可能な範囲の水銀量を含む測定用のガスに希釈、調製するための装置としても利用することができ、市販の水銀分析計を用いても広範囲の水銀濃度の測定が可能となることからも有効な技術である。
【符号の説明】
【００５１】
１  ガス採取部
２  加熱導管
３  排気管
４  ガス排気部
５  フィルター
６  希釈ガス導入管
７  ガス混合器
８  測定ガス導入管
１０  ガス分取機
１１  水銀分析計
２０  除湿器
２１  吸着除去装置
２２  マスフローコントローラ
２３  希釈ガス加熱器
２４  温度検知手段
３０  ポンプ
４０  水分濃度検知手段
５０  演算機
５１  コントローラー
５２  表示器
【図１】
2015197306.tif 000003