(57)【要約】【課題】本発明は、極めて商品価値の高い画期的な琺瑯容体及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】下記のステンレス材で構成した容状体１の表面１ａに琺瑯層２を形成したものである。                                      記  鉄５０重量％以上、炭素０．１重量％以下、ケイ素１．０５重量％以下、マンガン１．０５重量％以下、リン０．０４重量％以下、硫黄０．０４重量％以下、クロム１６重量％以上２０重量％以下、モリブデン１．５重量％以下、ニッケル０．１５重量％以下、銅０．１５重量％以下を含有したステンレス材。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記のステンレス材で構成した容状体の表面に琺瑯層を形成したことを特徴とする琺瑯容体。
記
鉄５０重量％以上、炭素０．１重量％以下、ケイ素１．０５重量％以下、マンガン１．０５重量％以下、リン０．０４重量％以下、硫黄０．０４重量％以下、クロム１６重量％以上２０重量％以下、モリブデン１．５重量％以下、ニッケル０．１５重量％以下、銅０．１５重量％以下を含有したステンレス材。
【請求項２】
請求項１記載の琺瑯容体において、この琺瑯容体は蓋体が設けられたものであり、前記容状体は、前記蓋体の下部周縁が当接重合する開口縁部以外に前記琺瑯層が形成されていることを特徴とする琺瑯容体。
【請求項３】
請求項２記載の琺瑯容体において、前記蓋体は、下記のステンレス材で構成した蓋状体の表面に琺瑯層を形成した琺瑯蓋体であることを特徴とする琺瑯容体。
記
鉄５０重量％以上、炭素０．１重量％以下、ケイ素１．０５重量％以下、マンガン１．０５重量％以下、リン０．０４重量％以下、硫黄０．０４重量％以下、クロム１６重量％以上２０重量％以下、モリブデン１．５重量％以下、ニッケル０．１５重量％以下、銅０．１５重量％以下を含有したステンレス材。
【請求項４】
請求項３記載の琺瑯容体において、前記蓋状体は、前記容状体の開口縁部に当接重合する下部周縁以外に前記琺瑯層が形成されていることを特徴とする琺瑯容体。
【請求項５】
請求項１〜４いずれか１項に記載の琺瑯容体において、前記容状体の表面はブラスト処理が施されていることを特徴とする琺瑯容体。
【請求項６】
請求項３，４いずれか１項に記載の琺瑯容体において、前記蓋状体の表面はブラスト処理が施されていることを特徴とする琺瑯容体。
【請求項７】
蓋体が設けられ、下記のステンレス材で構成した容状体の表面に琺瑯層を形成した琺瑯容体の製造方法であって、前記蓋体の下部周縁が当接重合する前記容状体の開口縁部に適宜な手段でマスキングして釉薬を付し、続いて、この釉薬が付された容状体を、マスキングされた部位で支持して焼き処理することで、前記容状体の前記開口縁部を除く表面に琺瑯層を形成することを特徴とする琺瑯容体の製造方法。
記
鉄５０重量％以上、炭素０．１重量％以下、ケイ素１．０５重量％以下、マンガン１．０５重量％以下、リン０．０４重量％以下、硫黄０．０４重量％以下、クロム１６重量％以上２０重量％以下、モリブデン１．５重量％以下、ニッケル０．１５重量％以下、銅０．１５重量％以下を含有したステンレス材。
【請求項８】
請求項７記載の琺瑯容体の製造方法において、前記蓋体は下記１のステンレス材で構成した蓋状体の表面に下記２の方法で琺瑯層を形成することを特徴とする琺瑯容体の製造方法。
記１
鉄５０重量％以上、炭素０．１重量％以下、ケイ素１．０５重量％以下、マンガン１．０５重量％以下、リン０．０４重量％以下、硫黄０．０４重量％以下、クロム１６重量％以上２０重量％以下、モリブデン１．５重量％以下、ニッケル０．１５重量％以下、銅０．１５重量％以下を含有したステンレス材。
記２
前記容状体の開口縁部に当接重合する前記蓋状体の周縁部に適宜な手段でマスキングして釉薬を付し、続いて、この釉薬が付された蓋状体を、マスキングされた部位で支持して焼き処理することで、前記蓋状体の前記周縁部を除く表面に琺瑯層を形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば鍋や食器などの琺瑯容体及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、鍋や食器などの容体として、例えば特開２００１−１０４１６２号に開示されるような容状体の表面に琺瑯層が形成された琺瑯容体（以下、従来例）が提案されている。
【０００３】
この従来例は、鉄製の容状体の表面にシリカを主成分とするガラス質の釉薬を塗布し、これを熱処理装置に入れて焼き処理することで琺瑯層を形成するものであり、この琺瑯層により耐久性及び高価さが向上する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−１０４１６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、従来例は、釉薬を表面に塗布した容状体を熱処理装置内に配して熱き処理する際、例えば容状体を逆さ状態として熱処理装置内の載置部に載置することになるが、この載置部と接触する容状体の開口縁部には部分的に琺瑯層が形成されず、金属が露出してしまう。これは、容状体の開口縁部が接触する載置部に当該開口縁部に塗布された釉薬が付着してしまうからである。この容状体の開口縁部における金属の露出部位の面積を可及的に少なくすべく、載置部は点接触する形状等に設けられているが、いずれにせよ容状体の開口縁部の一部に金属の露出部位が生じてしまう。
【０００６】
従って、従来においては、この琺瑯層が形成されない金属の露出部位はそのままだと錆びてしまう為、この金属の露出部位に防錆材を塗って対応しているが、継続使用により防錆材が剥がれ、結局、錆びが生じ、更に、琺瑯層が形成された部位であってもこの琺瑯層が摩耗により削れて金属が露出して錆びてしまう問題点もある。
【０００７】
本発明は、上述した問題点を解決する、極めて商品価値の高い画期的な琺瑯容体及びその製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
【０００９】
下記のステンレス材で構成した容状体１の表面１ａに琺瑯層２を形成したことを特徴とする琺瑯容体に係るものである。                                                  
記
鉄５０重量％以上、炭素０．１重量％以下、ケイ素１．０５重量％以下、マンガン１．０５重量％以下、リン０．０４重量％以下、硫黄０．０４重量％以下、クロム１６重量％以上２０重量％以下、モリブデン１．５重量％以下、ニッケル０．１５重量％以下、銅０．１５重量％以下を含有したステンレス材。
【００１０】
また、請求項１記載の琺瑯容体において、この琺瑯容体は蓋体が設けられたものであり、前記容状体１は、前記蓋体の下部周縁が当接重合する開口縁部１ｂ以外に前記琺瑯層２が形成されていることを特徴とする琺瑯容体に係るものである。
【００１１】
また、請求項２記載の琺瑯容体において、前記蓋体は、下記のステンレス材で構成した蓋状体３の表面３ａに琺瑯層５を形成した琺瑯蓋体であることを特徴とする琺瑯容体に係るものである。                                                                  
記
鉄５０重量％以上、炭素０．１重量％以下、ケイ素１．０５重量％以下、マンガン１．０５重量％以下、リン０．０４重量％以下、硫黄０．０４重量％以下、クロム１６重量％以上２０重量％以下、モリブデン１．５重量％以下、ニッケル０．１５重量％以下、銅０．１５重量％以下を含有したステンレス材。
【００１２】
また、請求項３記載の琺瑯容体において、前記蓋状体３は、前記容状体１の開口縁部１ｂに当接重合する下部周縁３ｂ以外に前記琺瑯層５が形成されていることを特徴とする琺瑯容体に係るものである。
【００１３】
また、請求項１〜４いずれか１項に記載の琺瑯容体において、前記容状体１の表面１ａはブラスト処理が施されていることを特徴とする琺瑯容体に係るものである。
【００１４】
また、請求項３，４いずれか１項に記載の琺瑯容体において、前記蓋状体３の表面３ａはブラスト処理が施されていることを特徴とする琺瑯容体に係るものである。
【００１５】
また、蓋体が設けられ、下記のステンレス材で構成した容状体１の表面１ａに琺瑯層２を形成した琺瑯容体の製造方法であって、前記蓋体の下部周縁が当接重合する前記容状体１の開口縁部１ｂに適宜な手段でマスキングして釉薬４を付し、続いて、この釉薬４が付された容状体１を、マスキングされた部位で支持して焼き処理することで、前記容状体１の前記開口縁部１ｂを除く表面１ａに琺瑯層２を形成することを特徴とする琺瑯容体の製造方法に係るものである。                                                        
記
鉄５０重量％以上、炭素０．１重量％以下、ケイ素１．０５重量％以下、マンガン１．０５重量％以下、リン０．０４重量％以下、硫黄０．０４重量％以下、クロム１６重量％以上２０重量％以下、モリブデン１．５重量％以下、ニッケル０．１５重量％以下、銅０．１５重量％以下を含有したステンレス材。
【００１６】
また、請求項７記載の琺瑯容体の製造方法において、前記蓋体は下記１のステンレス材で構成した蓋状体３の表面３ａに下記２の方法で琺瑯層５を形成することを特徴とする琺瑯容体の製造方法に係るものである。                                              
記１
鉄５０重量％以上、炭素０．１重量％以下、ケイ素１．０５重量％以下、マンガン１．０５重量％以下、リン０．０４重量％以下、硫黄０．０４重量％以下、クロム１６重量％以上２０重量％以下、モリブデン１．５重量％以下、ニッケル０．１５重量％以下、銅０．１５重量％以下を含有したステンレス材。                                        
記２
前記容状体１の開口縁部１ｂに当接重合する前記蓋状体３の周縁部３ｂに適宜な手段でマスキングして釉薬４を付し、続いて、この釉薬４が付された蓋状体３を、マスキングされた部位で支持して焼き処理することで、前記蓋状体３の前記周縁部３ｂを除く表面３ａに琺瑯層５を形成する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明は上述のように構成したから、前述した従来例に比し、仮に容状体に金属の露出部位が生じたとしても錆びにくく極めて耐久性に秀れるなど、極めて商品価値の高い画期的な琺瑯容体となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本実施例を示す断面図である。
【図２】本実施例の製造工程の説明図である。
【図３】本実施例の製造方法の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
好適と考える本発明の実施形態を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。
【００２０】
本発明は、上述の組成のステンレス材から成る容状体１の表面１ａに琺瑯層２が形成されている。
【００２１】
従って、例えば琺瑯層２が形成されない金属の露出部位が生じたり、継続使用により琺瑯層２が摩耗により削れて金属の露出部位が生じたとしても、容状体１は前記ステンレス材で構成されている為、この金属の露出部位は錆びにくく極めて耐久性に秀れる。
【００２２】
ところで、本発明者は、容状体１をステンレス材で構成するにあたり、例えばＳＣＳ１３（ＳＵＳ３０４相当），ＳＣＳ１４（ＳＵＳ３１６相当），ＳＣＳ１６（ＳＵＳ３１６Ｌ相当）などの既存のステンレス材を種々試したところ、容状体１に形成した琺瑯層２にクラックや泡吹かれや爪飛びが生じてしまい、実用品（鍋や食器などの琺瑯容体）として適さないことが判明した。
【００２３】
そこで、本発明者は、この容状体１を構成するステンレス材について種々の実験・研究を重ねた結果、琺瑯層２にクラックや泡吹かれや爪飛びが生じにくい下記のステンレス材を開発した。
【００２４】
記
鉄５０重量％以上、炭素０．１重量％以下、ケイ素１．０５重量％以下、マンガン１．０５重量％以下、リン０．０４重量％以下、硫黄０．０４重量％以下、クロム１６重量％以上２０重量％以下、モリブデン１．５重量％以下、ニッケル０．１５重量％以下、銅０．１５重量％以下を含有したステンレス材。
【００２５】
本発明者は、実際にこの本発明のステンレス材で構成された容状体１に琺瑯層２を形成したところ、この琺瑯層２にクラックや泡吹かれや爪飛びが生じにくく実用品として適することを確認している。
【００２６】
このクラックの発生が抑制される点については、素材を加熱した際に膨張する熱膨張係数が関係すると考えられるが、前述した既存のステンレス材に比し、本発明のステンレス材は熱膨張係数が低く、よって、本発明の容状体１に形成された琺瑯層２におけるクラックの発生が抑制されるものと考えられる。
【００２７】
また、泡吹かれや爪飛びの発生が抑制される点については、素材を加熱にした際に発生する水素が関係すると考えられるが、前述した既存のステンレス材に比し、本発明のステンレス材は水素の発生量が少なく、よって、本発明の容状体１に形成された琺瑯層２における泡吹かれや爪飛びの発生が抑制されるものと考えられる。
【実施例】
【００２８】
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。
【００２９】
本実施例は、金属製の容状体１の表面１ａに琺瑯層２を形成した琺瑯容体である。
【００３０】
尚、本実施例では琺瑯容体として、後述する琺瑯蓋体が設けられる鍋が採用されているが、皿や深鉢などの食器でも良いなど、本実施例の特性を発揮する構成であれば適宜採用し得るものである。
【００３１】
具体的には、琺瑯容体は、図１に図示したように下記のステンレス材をロストワックス鋳造法により一体成形して容状体１を設け、この容状体１の表面１ａ（外面及び内面）には後述する琺瑯層２が形成されている。尚、本実施例では取手１ｃが設けられている。
【００３２】
記
炭素（Ｃ）０．０６重量％、ケイ素（Ｓｉ）０．５２重量％、マンガン（Ｍｎ）０．７２重量％、リン（Ｐ）０．０１１重量％、硫黄（Ｓ）０．００５重量％、クロム（Ｃｒ）１８．４２重量％、モリブデン（Ｍｏ）１．３８重量％、ニッケル（Ｎｉ）０．０６２重量％、銅（Ｃｕ）０．０２６重量％、鉄（Ｆｅ）は残にして５０重量％以上のステンレス材。
【００３３】
実際にこのステンレス材から成る容状体１に琺瑯層２を形成したところ、この琺瑯層２にクラックや泡吹かれや爪飛びが生じにくく実用品として適することを確認しており、この実用品として適するようにするためには以下のステンレス材であれば良いことを確認している。
【００３４】
記
鉄（Ｆｅ）５０重量％以上、炭素（Ｃ）０．０１重量％以上０．１重量％以下、ケイ素（Ｓｉ）０．０１重量％以上１．０５重量％以下、マンガン（Ｍｎ）０．０１重量％以上１．０５重量％以下、リン（Ｐ）０．００１重量％以上０．０４重量％以下、硫黄（Ｓ）０．００１重量％以上０．０４重量％以下、クロム（Ｃｒ）１６重量％以上２０重量％以下、モリブデン（Ｍｏ）０．０１重量％以上１．５重量％以下、ニッケル（Ｎｉ）０．００１重量％以上０．１５重量％以下、銅（Ｃｕ）０．００１重量％以上０．１５重量％以下を含有したステンレス材。
【００３５】
また、前述したステンレス材は、塩水噴霧試験機を用いた塩水噴霧試験において既存のステンレス材と同等に錆が発生しにくいことを確認している。
【００３６】
琺瑯蓋体は、図１に図示したように前述したステンレス材を鋳造（ロストワックス鋳造法）により一体成形して蓋状体３を設け、前述した容状体１と同様、この蓋状体３の表面３ａ（外面及び内面）には琺瑯層５が形成されている。
【００３７】
尚、本実施例では、容状体１及び蓋状体３をロストワックス鋳造法により得ているが、これに限らず、例えば砂型鋳造法や消失鋳造法などでも良いなど、本実施例の特性を発揮する鋳造法であれば適宜採用するものであり、また、鍛造により得ても良い。
【００３８】
以下、本実施例に係る琺瑯容体の製造工程について説明する。尚、本実施例では琺瑯容体の製造工程を説明しているが、琺瑯蓋体も同様の製造工程により製造される。即ち、ロストワックス鋳造法により得た蓋状体３に対して後述する前処理及び琺瑯処理が行われ、この琺瑯処理の際（釉薬４を塗布して焼成する際）には蓋状体３の下部周縁３ｂにはマスキング材を用いて行われる。
【００３９】
具体的には、前述したステンレス材をロストワックス鋳造法により容状体１を一体成形しており、この容状体１に前処理を行った後、琺瑯処理を行う。
【００４０】
容状体１に対する前処理について説明する。
【００４１】
先ず、容状体１を熱処理装置10に入れて８００℃〜９００℃で１０〜２０分間、一回目の焼き処理を行う（素材が８００℃以上８５０℃以下となるよう加熱する。）。この一回目の焼き処理は、後に行う歪み矯正処理のために素材を柔らかくする。
【００４２】
続いて、この一回目の焼き処理を行った容状体１をプレス加工により歪み矯正処理を行う。この歪み矯正処理は、例えば容状体１の開口部を真円にするなど、ロストワックス鋳造法により一体成形された容状体１の歪みを矯正する。
【００４３】
続いて、歪み矯正処理を行った容状体１を熱処理装置10に入れて８００℃〜９００℃で１０〜２０分間、二回目の焼き処理を行う（素材が８００℃以上８５０℃以下となるよう加熱する。）。この二回目の焼き処理は、歪み矯正処理により容状体１の内部に残った応力を除去する。
【００４４】
続いて、この二回目の焼き処理を行った容状体１の切削処理を行う。この切削処理は、容状体１の開口縁部１ｂ（蓋状体３の下部周縁３ｂと重合する面）を平らにする。
【００４５】
続いて、この切削処理を行った容状体１を熱処理装置10に入れて７００℃で１０〜２０分間、三回目の焼き処理を行う（素材が６００℃以上８５０℃以下となるよう加熱する。）。この三回目の焼き処理は、切削処理により容状体１の表面１ａに付着した油分を除去する所謂空焼きである。
【００４６】
続いて、この三回目の焼き処理を行った容状体１に対してブラスト処理を行う。このブラスト処理は、容状体１の表面１ａに砥粒を圧搾空気で噴射するもので、切削処理で付着した油分を完全に除去し、また、琺瑯層２の良好な定着を実現するために容状体１の表面１ａを荒らして粗面化する。尚、ブラスト処理は、砥粒と液体を圧搾空気で噴射するウエットブラスト処理でも良い。
【００４７】
以上の前処理した容状体１に対する琺瑯処理について説明する。
【００４８】
先ず、容状体１の表面１ａに釉薬４を付与する。
【００４９】
具体的には、この釉薬４は、ガラス，粘土，無機顔料，無機薬品及び水の混合物で、この釉薬４を容状体１に吹き付ける（図３中（ａ）参照）。尚、この釉薬４を吹き付ける前に予め容状体１の開口縁部１ｂにマスキング材11を貼っておく。
【００５０】
続いて、釉薬４を表面１ａに吹き付けた容体１を熱処理装置10に入れ、逆さ状態としてマスキングされた部位で支持されるよう、熱処理装置10内の角筒状の載置部10ａに載置して８００℃〜９００℃で１０〜２０分間、焼き処理を行い、その後、更に釉薬４を吹き付けて焼き処理する工程を１回若しくは２回行う（図３中（ｂ）参照）。
【００５１】
続いて、マスキング材11を剥がして完成する（図３中（ｃ）参照）。尚、必要に応じて容状体１の開口縁部１ｂにバフ仕上げ処理（平坦処理）を行う。
【００５２】
本実施例は上述のように構成したから、例えば琺瑯層２が形成されない金属の露出部位が生じたり、継続使用により琺瑯層２が摩耗により削れて金属の露出部位が生じたとしても、容状体１は錆びにくいステンレス材で構成されている為、この金属の露出部位は錆びにくく極めて耐久性に秀れる。
【００５３】
また、本実施例は、容状体１の開口縁部１ｂ及び蓋状体３の下部周縁３ｂ以外に琺瑯層２，５が形成されている構成であるから、仮に従来のように容状体１の開口縁部１ｂ及び蓋状体３の下部周縁３ｂに琺瑯層２，５が形成されている場合、琺瑯層２，５の僅かな凹凸により密閉性が低下してしまうが、この点、本実施例は、この容状体１の開口縁部１ｂ及び蓋状体３の下部周縁３ｂには琺瑯層２，５が形成されず、平坦処理された面の接触となる為、良好な密閉性が得られることになる。
【００５４】
尚、本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。
【符号の説明】
【００５５】
１  容状体
１ａ  表面
１ｂ  開口縁部
２  琺瑯層
３  蓋状体
３ａ  表面
３ｂ  下部周縁
４  釉薬
５  琺瑯層
【図２】
2015163727.tif 000003
【図１】
2015163727.tif 000004
【図３】
2015163727.tif 000005