(57)【要約】【課題】ＶＯＣ含有廃液をセメント製造設備で効率よく処理する。【解決手段】ＶＯＣ含有廃液Ｗ１からストリッピング処理及び酸化処理によってＶＯＣを分離し、分離したＶＯＣをセメント焼成装置６で焼却処理し、ＶＯＣを分離した後の低濃度ＶＯＣ含有廃液Ｌ４をセメント製造設備５で処理する。ストリッピング処理として、ＶＯＣ含有廃液に散気するか、ＶＯＣ含有廃液に吸着材を投入するか、ＶＯＣ含有廃液を撹拌するか、ＶＯＣ含有廃液を加温するかの少なくともいずれか一つを行い、ストリッピング処理の際に生じた泡層を消泡する。酸化処理として、ＶＯＣ含有廃液にオゾン含有ガスＯを散気することができる。分離したＶＯＣを直接、又は分離したＶＯＣを吸着材に吸着させた後の吸着材Ａ１〜Ａ３若しくは分離したＶＯＣを冷却濃縮して得られた液体をセメント焼成装置で焼却処理してもよい。【選択図】図１
2015150533.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
揮発性有機化合物含有廃液からストリッピング処理及び酸化処理によって揮発性有機化合物を分離し、
該分離した揮発性有機化合物をセメント焼成装置で焼却処理し、
前記揮発性有機化合物を分離した後の低濃度揮発性有機化合物含有廃液をセメント製造設備で処理することを特徴とする揮発性有機化合物含有廃液の処理方法。
【請求項２】
前記ストリッピング処理として、前記揮発性有機化合物含有廃液に散気するか、前記揮発性有機化合物含有廃液に吸着材を投入するか、前記揮発性有機化合物含有廃液を撹拌するか、前記揮発性有機化合物含有廃液を加温するかの少なくともいずれか一つを行い、
該ストリッピング処理の際に生じた泡層を消泡することを特徴とする請求項１に記載の揮発性有機化合物含有廃液の処理方法。
【請求項３】
前記酸化処理として、前記揮発性有機化合物含有廃液にオゾン含有ガスを散気することを特徴とする請求項１又は２に記載の揮発性有機化合物含有廃液の処理方法。
【請求項４】
前記分離した揮発性有機化合物を直接、又は前記分離した揮発性有機化合物を吸着材に吸着させた後の吸着材若しくは前記分離した揮発性有機化合物を冷却濃縮して得られた液体をセメント焼成装置で焼却処理することを特徴とする請求項１、２又は３に記載の揮発性有機化合物含有廃液の処理方法。
【請求項５】
前記揮発性有機化合物を分離した後の低濃度揮発性有機化合物含有廃液を、セメント焼成装置以外のセメント製造設備で処理することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の揮発性有機化合物含有廃液の処理方法。
【請求項６】
揮発性有機化合物含有廃液にストリッピング処理を行うガス分離槽と、
該ストリッピング処理後の揮発性有機化合物含有廃液を酸化処理する酸化処理槽と、
前記ストリッピング処理及び酸化処理によって揮発性有機化合物含有廃液から分離した揮発性有機化合物をセメント焼成装置で焼却するため、前記酸化処理槽から該セメント焼成装置に供給する第１の供給装置と、
前記揮発性有機化合物を分離した後の低濃度揮発性有機化合物含有廃液をセメント製造設備で処理するため、前記酸化処理槽から該セメント製造設備に供給する第２の供給装置とを備えることを特徴とする揮発性有機化合物含有廃液の処理システム。
【請求項７】
揮発性有機化合物含有廃液を酸化処理する酸化処理槽と、
該酸化処理後の揮発性有機化合物含有廃液にストリッピング処理を行うガス分離槽と、
前記酸化処理及びストリッピング処理によって揮発性有機化合物含有廃液から分離した揮発性有機化合物をセメント焼成装置で焼却するため、前記ガス分離槽から該セメント焼成装置に供給する第１の供給装置と、
前記揮発性有機化合物を分離した後の低濃度揮発性有機化合物含有廃液をセメント製造設備で処理するため、前記ガス分離槽から該セメント製造設備に供給する第２の供給装置とを備えることを特徴とする揮発性有機化合物含有廃液の処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、揮発性有機化合物（以下、適宜「ＶＯＣ」という。）を含有する廃液をセメント製造設備で処理する方法及びシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
工場等で発生した廃液を処理する方法として、特許文献１には、セメントクリンカ焼成系からの排ガスに工場発生廃液を添加し、電気集塵機で排ガス中のダストを除去した後、工場発生廃液中の無機質成分をセメント原料に用い、前記ダスト除去後の排ガス及び工場発生廃液中の水分を煙突から放出する方法が提案されている。また、工場発生廃液と汚泥を混合した物をセメント原料として用い、工場廃液中の無機質成分をセメントの原料として資源化すると共に、工場廃液中の水分を煙突から放出する方法が提案されている。
【０００３】
そこで、上記方法を用いてＶＯＣを含有する廃液を処理することが考えられるが、この方法をそのまま適用すると、煙突から排出されるガスのＶＯＣ濃度や臭気濃度が増加する。
【０００４】
一方、特許文献２には、廃水貯留槽のＶＯＣ含有廃液を散気することにより、ＶＯＣを散気ガスと共に廃液から分離し、分離されたＶＯＣをオゾンにより酸化分解処理する方法が記載されている。
【０００５】
また、特許文献３には、ＶＯＣを含有した原水を加熱し、放散塔でストリッピングガスと向流接触させることで、ＶＯＣをストリッピングガスに含有させ、ストリッピングガスを冷却し、凝縮水を分離し、凝縮水から生物処理によりＶＯＣを除去し、凝縮水を分離した後のストリッピングガスを活性炭と接触させてＶＯＣを除去する方法が記載されている。
【０００６】
さらに、特許文献４には、ＶＯＣ含有水を減圧ストリッピング容器で空気と向流接触させることでＶＯＣを空気に含有させ、この空気に含まれるＶＯＣを微生物分解する方法が記載されている。また、活性炭等の吸着材による水質浄化技術は広く知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第４１８１６８２号公報
【特許文献２】特開２００２−２５４０６５号公報
【特許文献３】特開２００２−１４３８３５号公報
【特許文献４】特開２００４−２６７８５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、ストリッピング処理だけでは、廃液からのＶＯＣの揮発が効率的に進まず、廃液中のＶＯＣ濃度が十分に低減しない場合がある。特に、高分子量のＶＯＣを多く含有する廃液については、ＶＯＣが廃液中に残存し易いことが分かった。この場合、ＶＯＣが残存する廃液をプレヒータよりも上流側（排ガス下流側）の燃焼工程を伴わない工程に投入して処理すると、排ガスと共にＶＯＣが排出され、排ガス臭気濃度が増加する虞がある。
【０００９】
また、廃水貯留槽での散気（曝気）等においては、ＶＯＣ含有廃液からの活発な発泡が起こる場合がある。この発泡現象によって廃液の液面上に泡層（障壁）が生じるため、廃液の液面からのストリッピング処理の効率の低下を招き、さらに、処理後の廃液の送液工程においても泡の存在は工程トラブルの要因となる。
【００１０】
そこで、本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、ＶＯＣ含有廃液をセメント製造設備で効率よく処理することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明は、ＶＯＣ含有廃液の処理方法であって、ＶＯＣ含有廃液からストリッピング処理及び酸化処理によってＶＯＣを分離し、該分離したＶＯＣをセメント焼成装置で焼却処理し、前記ＶＯＣを分離した後の低濃度ＶＯＣ含有廃液をセメント製造設備で処理することを特徴とする。
【００１２】
本発明によれば、ＶＯＣ含有廃液に対してストリッピング処理及び酸化処理を行うため、ＶＯＣ含有廃液中のＶＯＣの分解を促進し、高分子量のＶＯＣを多く含有する廃液でもＶＯＣの分離効率が上昇する。そのため、処理後の廃液をプレヒータよりも上流側（排ガス下流側）の燃焼工程を伴わない工程に投入して処理しても、排ガス臭気濃度の増加を防止することができる。
【００１３】
また、分離したＶＯＣをセメント焼成装置で焼却処理することで、系外に排出されるガスに含まれるＶＯＣ濃度を低く抑えることができ、ＶＯＣを分離した後の低濃度ＶＯＣ含有廃液をセメント製造設備で処理することで、ＶＯＣ含有廃液をすべてセメント製造設備で処理することができる。
【００１４】
上記ＶＯＣ含有廃液の処理方法において、前記ストリッピング処理として、前記ＶＯＣ含有廃液に散気するか、前記ＶＯＣ含有廃液に吸着材を投入するか、前記ＶＯＣ含有廃液を撹拌するか、前記ＶＯＣ含有廃液を加温するかの少なくともいずれか一つを行い、該ストリッピング処理の際に生じた泡層を消泡する。これにより、ＶＯＣ含有廃液のストリッピング処理によって生じる泡層が、ＶＯＣ含有廃液と外部気相の界面積を増大させるものであり、その泡層を消泡することで、その増大した界面積を利用することとなり、ＶＯＣの分離効率が向上する。
【００１５】
すなわち、ＶＯＣ含有廃液からの発泡を積極的に生じさせることに連続して、その泡を連続的に消泡させることで、廃液−外部気相界面積の大きい状態を維持すると同時に、ＶＯＣの分離を阻害する泡層が消失するので、ＶＯＣのストリッピングを高効率で行うことができ、且つストリッピング処理後の廃液の送液の阻害要因を解消できる。
【００１６】
前記酸化処理として、前記ＶＯＣ含有廃液にオゾン含有ガスを散気するか、フェントン酸化するか、フォトフェントン酸化することができる。
【００１７】
また、前記分離したＶＯＣを直接、又は前記分離したＶＯＣを吸着材に吸着させた後の吸着材若しくは前記分離したＶＯＣを冷却濃縮して得られた液体をセメント焼成装置で焼却処理することができる。
【００１８】
さらに、前記ＶＯＣを分離した後の低濃度ＶＯＣ含有廃液を、セメント焼成装置以外のセメント製造設備で処理することができる。
【００１９】
さらに、本発明は、ＶＯＣ含有廃液の処理システムであって、ＶＯＣ含有廃液にストリッピング処理を行うガス分離槽と、該ストリッピング処理後のＶＯＣ含有廃液を酸化処理する酸化処理槽と、前記ストリッピング処理及び酸化処理によってＶＯＣ含有廃液から分離したＶＯＣをセメント焼成装置で焼却するため、前記酸化処理槽から該セメント焼成装置に供給する第１の供給装置と、前記ＶＯＣを分離した後の低濃度ＶＯＣ含有廃液をセメント製造設備で処理するため、前記酸化処理槽から該セメント製造設備に供給する第２の供給装置とを備えることを特徴とする。
【００２０】
本発明によれば、ＶＯＣ含有廃液に対してストリッピング処理に加えて酸化処理を行うため、ＶＯＣ含有廃液中のＶＯＣの分解を促進し、高分子量のＶＯＣを多く含有する廃液でもＶＯＣの分離効率が上昇する。そのため、処理後の廃液をセメント製造設備で処理しても、排ガス臭気濃度が増加ことを防止することができる。また、分離したＶＯＣをセメント焼成装置で焼却処理することで、系外に排出されるガスに含まれるＶＯＣ濃度を低く抑え、ＶＯＣを分離した後の低濃度ＶＯＣ含有廃液をセメント製造設備で処理することで、ＶＯＣ含有廃液をすべてセメント製造設備で処理することができる。
【００２１】
さらに、本発明は、ＶＯＣ含有廃液の処理システムであって、ＶＯＣ含有廃液を酸化処理する酸化処理槽と、該酸化処理後のＶＯＣ含有廃液にストリッピング処理を行うガス分離槽と、前記酸化処理及びストリッピング処理によってＶＯＣ含有廃液から分離したＶＯＣをセメント焼成装置で焼却するため、前記ガス分離槽から該セメント焼成装置に供給する第１の供給装置と、前記ＶＯＣを分離した後の低濃度ＶＯＣ含有廃液をセメント製造設備で処理するため、前記ガス分離槽から該セメント製造設備に供給する第２の供給装置とを備えることを特徴とする。
【００２２】
本発明によれば、上記発明と同様に、高分子量のＶＯＣを多く含有する廃液でも、ＶＯＣの分離効率が上昇するため、処理後の廃液をセメント製造設備で処理しても、排ガス臭気濃度が増加することを防止し、ＶＯＣ含有廃液をすべてセメント製造設備で処理することができる。
【発明の効果】
【００２３】
以上のように、本発明によれば、ＶＯＣ含有廃液をセメント製造設備で効率よく処理することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明に係るＶＯＣ含有廃液の処理システムの一実施の形態を示す全体構成図である。
【図２】図１のストリッピング処理装置の全体構成図である。
【図３】本発明に係るＶＯＣ含有廃液の処理方法の試験例を説明するための概略斜視図である。
【図４】本発明に係るＶＯＣ含有廃液の処理方法の試験例を説明するための概略図である。
【図５】本発明に係るＶＯＣ含有廃液の処理方法の試験例を説明するための概略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
次に、本発明を実施するための形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２６】
図１は、本発明に係るＶＯＣ含有廃液の処理システムの一実施の形態を示し、この処理システム１は、ＶＯＣ含有廃液Ｗ１のストリッピング処理を行うストリッピング処理装置２と、ストリッピング処理装置２から供給された処理液を酸化処理するオゾン処理槽３と、オゾン処理槽３に供給するオゾンを発生させるオゾン発生装置４等で構成され、セメントキルン７、仮焼炉８、プレヒータ９及びクリンカクーラ１０からなるセメント焼成装置６、並びに原料ドライヤ１１、集塵機１２及び煙突１３からなるセメント製造設備５に付設される。
【００２７】
ストリッピング処理装置２は、図２に示すように、ＶＯＣ含有廃液Ｗ１を受け入れる廃液槽２１と、廃液槽２１から供給されたＶＯＣ含有廃液Ｗ２からＶＯＣを分離するガス分離槽２２と、ＶＯＣを分離する際に生じた泡層の消泡を行う消泡槽２３と、ガス分離槽２２に散気を行うための気体Ｇ１を供給するガス分離槽散気装置２４と、ＶＯＣ含有排ガスＧ２からＶＯＣを吸着する吸着槽２５と、セメント焼成装置６にＶＯＣ含有吸着材Ａ３を供給する吸着材排出装置２６と、ガス分離槽２２から排出された処理液Ｌ２を貯留する処理液貯水槽２７等で構成される。
【００２８】
廃液槽２１は、ＶＯＣ含有廃液Ｗ１を受け入れて貯留するために備えられる。ＶＯＣ含有廃液とは、塗装、洗浄、化学製品製造、印刷、接着等の産業で発生した廃液、廃油、廃溶剤、汚泥等の産業廃棄物中間処理等で発生する廃液であり、含水率が６０％以上の液状のものをいう。尚、発泡性が高いＶＯＣ含有廃液は、散気（曝気）や活性炭投入で発泡現象を生じるが、発泡性が低い廃液については、界面活性剤を添加して、発泡可能な状態に前処理する。
【００２９】
ガス分離槽２２は、ＶＯＣ含有廃液Ｗ２中のＶＯＣを分離するために備えられる。ガス分離槽２２としては、曝気槽、加温槽、吸着反応槽等を用いることができる。ガス分離槽２２での分離方法は、ＶＯＣ含有廃液Ｗ２の撹拌、加温、散気(曝気)、減圧、ＶＯＣ含有廃液Ｗ２への吸着材の投入等がある。曝気には、ミリバブル、マイクロバブルを用いるのが好ましい。曝気エアにクリンカクーラの排ガス等の工場排ガスを使用した場合には、後述する加温効果も期待できて好ましい。
【００３０】
ガス分離槽２２での加温方法は、特に限定されないが、電気的に又は工場廃熱等で処理槽外部を加熱する間接法や、電気的に又は高温ガスを使用した曝気でＶＯＣ含有廃液Ｗ２を直接的に加熱する方法がある。吸着の方法は、特に限定されないが、活性炭等の有機物の吸着に優れた吸着材を使用する。ガス分離槽２２の撹拌の方法は、特に限定されないが、撹拌機を使用しないで曝気のみで槽内の撹拌が可能な場合には、撹拌を目的とした装置は省略可能である。
【００３１】
ガス分離槽２２で分離されたＶＯＣ含有排ガスＧ３は、セメント焼成装置６へ供給され、ガス分離槽２２からの処理液Ｌ３は、オゾン処理槽３へ供給される。
【００３２】
消泡槽２３は、ガス分離槽２２で生じた泡層を消泡するために備えられる。消泡は、回転翼等の機械的接触、空気流との接触、消泡槽２３内の温度や圧力の変化、振動の付与、散水、超音波の照射等のいずれか１つ以上の方法により行う。
【００３３】
ガス分離槽散気装置２４は、ガス分離槽２２でＶＯＣを含有させる気体Ｇ１をガス分離槽２２に散気するために備えられる。
【００３４】
吸着槽２５は、消泡槽２３からのＶＯＣ含有排ガスＧ２からＶＯＣを除去するために備えられ、ＶＯＣ含有排ガスＧ２中のＶＯＣを吸着し、セメント焼成装置６へＶＯＣ含有吸着材Ａ１を供給する。尚、吸着槽２５に代えて、ＶＯＣ含有排ガスＧ２を冷却して濃縮する冷却濃縮槽を用い、セメント焼成装置６に濃縮液を供給してもよい。
【００３５】
吸着材排出装置２６は、ＶＯＣ含有吸着材Ａ３をセメント焼成装置６に供給するために備えられる。
【００３６】
処理液貯水槽２７は、処理液Ｌ２を貯留し、必要に応じてオゾン処理槽３へ供給するために備えられる。
【００３７】
オゾン処理槽３は、図１に示すように、ストリッピング処理装置２から供給された処理液Ｌ２、Ｌ３に含まれるＶＯＣを、オゾン発生装置４から供給されるオゾンＯにより酸化処理して分解するために備えられる。オゾン処理槽３からのＶＯＣ含有排ガスＧ４は、ストリッピング装置２と同様にセメント焼成装置６へ供給する。一方、オゾン処理槽３からの処理液（低濃度ＶＯＣ含有廃液）Ｌ４は、供給装置によってセメント製造設備５へ供給される。
【００３８】
オゾン発生装置４は、処理液Ｌ２、Ｌ３中のＶＯＣを分解するためのオゾンＯをオゾン処理装置３に供給するために備えられる。このオゾンＯは、セメント製造設備５のクリンカクーラ１０からの排ガスＣＧや、集塵機１２からの排ガスＫＧを利用して発生させることができる。また、前記排ガスＣＧ及びＫＧの温度は１００℃以上であるため、処理液Ｌ２、Ｌ３が加温され、酸化処理による分解の促進が期待できる。
【００３９】
セメント製造設備５は、ストリッピング装置２からのＶＯＣ含有吸着材Ａ１、Ａ３やＶＯＣ含有排ガスＧ３、並びにオゾン処理槽３からの処理液Ｌ４や、ＶＯＣ含有排ガスＧ４を処理すると共に、セメント製造に有効利用する。ＶＯＣを含むＶＯＣ含有吸着材Ａ１、Ａ３、及びＶＯＣ含有排ガスＧ３、Ｇ４は、焼却処理を行う必要があるため、セメント焼成装置６へ、好適には仮焼炉８へ供給される。また、処理液Ｌ４は、ＶＯＣ濃度が低いため、供給装置によってセメント焼成装置６以外のセメント製造設備５へ供給することができ、好適には原料ドライヤ１１へ供給される。
【００４０】
次に、上記構成を有する処理システム１を用いたＶＯＣ含有廃液の処理方法について図１及び図２を参照しながら説明する。
【００４１】
ＶＯＣ含有廃液Ｗ１を受け入れてストリッピング装置２の廃液槽２１に貯留する。廃液槽２１からＶＯＣ含有廃液Ｗ２をガス分離槽２２に導入し、ガス分離槽散気装置２４によって気体Ｇ１をガス分離槽２２に散気し、気体Ｇ１とＶＯＣ含有廃水Ｗ２とを接触させると共に、吸着材を添加してストリッピングを行うことで、ＶＯＣ含有廃水Ｗ２中のＶＯＣは気体Ｇ１に含有される。また、ストリッピングと同時に、消泡槽２３でストリッピングによって生じた泡を連続的に消すことで、ストリッピングの障壁となる泡層を消失させる。
【００４２】
前記ストリッピング処理により、ガス分離槽２２及び消泡槽２３からは、ＶＯＣ含有排ガスＧ２、Ｇ３、及び処理液Ｌ１〜Ｌ３、ＶＯＣ含有吸着材Ａ２が排出される。
【００４３】
ＶＯＣ含有排ガスＧ２は、吸着槽２５においてＶＯＣが吸着され、ＶＯＣ含有吸着材Ａ１は、供給装置を介してセメント焼成装置６の仮焼炉８に供給されて焼却処理される。
【００４４】
一方、ガス分離槽２２から排出されたＶＯＣ含有排ガスＧ３は、直接仮焼炉８に送られ、仮焼炉８で焼却処理される。
【００４５】
ガス分離槽２２から排出された処理液Ｌ１は、廃液槽２１に戻され、ＶＯＣ含有廃液Ｗ１と共にガス分離槽２２に供給される。
【００４６】
ガス分離槽２２から排出された処理液Ｌ２は、処理液貯水槽２７において一時的に貯留され、必要に応じて供給装置を介してオゾン処理槽３に供給される。また、処理液Ｌ３は、直接オゾン処理装置３に供給される。
【００４７】
また、ＶＯＣ含有吸着材Ａ２は、吸着材排出装置２６に送られた後、ＶＯＣ含有吸着材Ａ３としてセメント焼成装置６へ供給されて焼却処理される。
【００４８】
次に、オゾン処理槽３において、ガス分離槽２２からの処理液Ｌ２、Ｌ３に含まれるＶＯＣを、オゾン発生装置４から供給されるオゾンＯにより酸化処理して分解する。
【００４９】
オゾン処理槽３から排出された処理液Ｌ４は、ＶＯＣ濃度が低いため原料ドライヤ１１に供給される。一方、オゾン処理槽３から排出されたＶＯＣ含有排ガスＧ４は、ガス分離槽２２の場合と同様に、直接仮焼炉８に送られて焼却処理される。
【００５０】
次に、本発明に係るＶＯＣ含有廃液の処理方法の試験例について、図３〜図５を中心に参照しながら説明する。
【００５１】
まず、表１に示すように、低分子量物質と高分子量物質の含有率が異なる２つのＶＯＣ含有廃液（試料１、２）を用意した。ここで、低分子量物質とは、２−プロパノール等の分子量が９０未満の物質であり、高分子量物質とは、トルエン等の分子量が９０以上の物質をいう。尚、揮発ガスの臭気濃度は、セメントキルンの排ガス臭気濃度を１とした場合の相対値である。
【００５２】
【表１】
2015150533.tif 000003
【００５３】
試料１、２の各々について、以下に示すように、消泡処理を行いながらストリッピング処理を行った。
【００５４】
図３に示すように、ストリッピング処理として、ＶＯＣ含有廃液１８Ｌを曝気槽３３に入れ、曝気槽３３を５０℃の水で満たした水浴槽３４に浸漬させて加温し、撹拌機３５で撹拌しながら、曝気槽３３の内部に設けたエアストーン３６で２０℃の大気Ａを２Ｌ/分の流量で７時間曝気した。
【００５５】
また、消泡処理として、曝気槽３３の上方から泡層に向けて４０℃の温風を市販のへアドライヤ３１、３２の各々から１．２ｍ3/分の流量で吹き付けた。これによって試料１、２を各々処理した処理液（試料３、４）を得た。
【００５６】
次に、試料３、４の各々について、以下に示すように、ドライヤ（図１のセメント製造設備５の原料ドライヤ１１）に散水することを模擬したドライヤ散水模擬試験を行った。
【００５７】
図４に示すように、キルン排ガス模擬ガス（Ｏ2：１０％、ＣＯ2：２０％、Ｎ2：７０％）Ｇ５を流量計で流量を測定しながら電気炉４１に２．３Ｌ／分の流量で供給し、電気炉４１において、模擬ガスＧ５を実機と同様の温度である２５０℃に加熱しながら、処理液（実機における廃液に相当）Ｌ５を模擬ガスＧ５に０．３ｍＬ／分の流量で散水した。電気炉４１からの揮発ガスＧ６の一部Ｇ７をガスバッグ４２で回収して臭気濃度を測定し、残部Ｇ８を活性炭吸着塔４３で処理した後大気中に放出した。
【００５８】
上記ドライヤ散水模擬試験によって回収された揮発ガスＧ６の臭気濃度を測定した。その結果を表２に示す。尚、揮発ガスの臭気濃度は、セメントキルンの排ガス臭気濃度を１とした場合の相対値である。
【００５９】
【表２】
2015150533.tif 000004
【００６０】
同表より、高分子量有機物の少ないＶＯＣ含有廃液（試料１）をストリッピング処理及び消泡処理して得られた処理液（試料３）を、模擬的にドライヤに散水した場合には、その揮発ガスの臭気が問題となることはない。しかし、高分子量有機物の多いＶＯＣ含有廃液（試料２）をストリッピング処理及び消泡処理して得られた処理液（試料４）を模擬的にドライヤに散水した場合には、その揮発ガスの臭気濃度が高い値を示しており、ドライヤ散水への使用が困難なほどの臭気が発生することが判る。
【００６１】
次に、ストリッピング処理及び消泡処理によっても、ドライヤ散水に用いた場合に揮発ガスの臭気濃度が高くなる試料４（処理液）について、以下の処理条件でオゾン酸化処理を施した。また、比較のため、ストリッピング処理及び消泡処理を行っていない高分子量有機物を多く含む廃液（試料２）についても、同様の処理を施した。
【００６２】
図５に示すように、オゾン酸化処理として、２０℃の処理液（Ｌ６）４００ｍｌを曝気槽５１に入れ、曝気槽５１の内部に設けたエアストーン５２で２０℃、４００ｐｐｍのオゾンガス（オーニット株式会社製ss-700）Ｏを８Ｌ/分の流量で３時間曝気した。
【００６３】
上記オゾン酸化処理後の処理液（試料５、試料６）で、上記ドライヤ散水模擬試験を行い、得られた揮発ガスの臭気濃度を測定した。その結果を表３に示す。尚、揮発ガスの臭気濃度は、セメントキルン排ガスの臭気濃度を１とした場合の相対値である。
【００６４】
【表３】
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【００６５】
同表により、高分子量有機物の多いＶＯＣ含有廃液（試料２）をストリッピング処理及び消泡処理して得られた処理液（試料４）に、さらにオゾン酸化処理を施して得られた試料５については、その揮発ガス中の臭気濃度が低く、ドライヤに散水しても揮発ガスの臭気が問題となることはない。一方、高分子量有機物の高いＶＯＣ含有廃液（試料２）に、オゾン酸化処理のみを施して得られた試料６については、その揮発ガスの臭気濃度が高い値を示しており、ドライヤ散水への使用が困難なほど臭気が発生することが判る。
【００６６】
以上より、高分子量有機物の多いＶＯＣ含有廃液を処理する場合でも、ストリッピング処理及び消泡処理に加えて、オゾン酸化処理を行うことで、揮発ガス中の臭気濃度を抑えることができる。
【００６７】
尚、上記実施の形態においては、ストリッピング処理及び消泡処理を行った後で酸化処理を行ったが、先に酸化処理を行い、その後にストリッピング処理及び消泡処理を行ってもよい。
【００６８】
また、酸化処理は、上記オゾン酸化法に限定されず、オゾンマイクロバブル法、フェントン酸化法、フォトフェントン酸化法、促進酸化法によって行うこともできる。
【００６９】
さらに、低濃度ＶＯＣ含有廃液（処理液Ｌ４）は、セメント製造設備５の原料ドライヤ１１等以外にも、下水汚泥の圧送のための滑剤等に用いることもできる。
【符号の説明】
【００７０】
１  ＶＯＣ含有廃液の処理システム
２  ストリッピング装置
３  オゾン処理槽
４  オゾン発生装置
５  セメント製造設備
６  セメント焼成装置
７  セメントキルン
８  仮焼炉
９  プレヒータ
１０  クリンカクーラ
１１  原料ドライヤ
１２  集塵機
１３  煙突
２１  廃液槽
２２  ガス分離槽
２３  消泡槽
２４  ガス分離槽散気装置
２５  吸着槽
２６  吸着材排出装置
２７  処理液貯水槽
３１、３２  ヘアドライヤ
３３  曝気槽
３４  水浴槽
３５  撹拌機
３６  エアストーン
４１  電気炉
４２  ガスバッグ
４３  活性炭吸着塔
５１  曝気槽
５２  エアストーン
Ａ  大気
Ａ１〜Ａ３  ＶＯＣ含有吸着材
ＣＧ  クーラ排ガス
Ｇ１  （散気用）気体
Ｇ２〜Ｇ４  ＶＯＣ含有排ガス
Ｇ５  模擬ガス
Ｇ６〜Ｇ８  揮発ガス
Ｈ  温風
ＫＧ  集塵機排ガス
Ｌ１〜Ｌ６  処理液
Ｏ  オゾン
Ｗ１、Ｗ２  ＶＯＣ含有廃液
【図１】
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【図２】
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【図４】
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【図３】
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【図５】
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