(57)【要約】【課題】金属ナノワイヤーを用い、表面抵抗の均一性に優れた透明導電膜を容易に製造することが可能な透明導電膜の製造方法、及び、金属ナノワイヤーを用いた、表面抵抗の均一性に優れた透明導電膜の提供。【解決手段】金属ナノワイヤーを含んでなる分散液を調製する分散液調製工程と、前記分散液を用いて基材上に分散膜を形成する分散膜形成工程と、前記基材上の分散膜に所定方向のダウンフローの気流を当てる分散膜乾燥工程とを含み、前記気流は、前記分散膜への到達速度が０．５ｍ／秒以上１８．０ｍ／秒以下であることを特徴とする、透明導電膜の製造方法である。【選択図】図1
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属ナノワイヤーを含んでなる分散液を調製する分散液調製工程と、
前記分散液を用いて基材上に分散膜を形成する分散膜形成工程と、
前記基材上の分散膜に所定方向のダウンフローの気流を当てる分散膜乾燥工程と
を含み、
前記気流は、前記分散膜への到達速度が０．５ｍ／秒以上１８．０ｍ／秒以下であることを特徴とする、透明導電膜の製造方法。
【請求項２】
前記分散膜に当てる気流が流れる方向と、前記分散膜を形成した基材の面に直交する方向とのなす角度Φで定義される風向が４５°以下である、請求項１に記載の透明導電膜の製造方法。
【請求項３】
前記気流の温度が１５６℃以下である、請求項１又は２に記載の透明導電膜の製造方法。
【請求項４】
前記分散膜乾燥工程における雰囲気温度が１２２℃以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
【請求項５】
前記分散膜乾燥工程では、前記基材上の分散膜にダウンフローの気流を当てる際に、更に赤外線乾燥を行う、請求項１〜４のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法により製造した透明導電膜であって、表面の任意の１２箇所の表面抵抗値の標準偏差σが２０Ω／ｓｑ未満である、透明導電膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電膜の製造方法、及び透明導電膜に関し、特に、金属ナノワイヤーを用いた透明導電膜を製造する透明導電膜の製造方法、及びかかる製造方法により製造した透明導電膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネル等の表示パネルの表示面に設けられる透明導電膜、更には表示パネルの表示面側に配置される情報入力装置の透明導電膜等、光透過性が要求される透明導電膜には、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）のような金属酸化物が用いられてきた。しかしながら、金属酸化物を用いた透明導電膜は、真空環境下におけるスパッタ成膜等により製造されるため、製造コストがかかるものであり、また曲げやたわみなどの変形によって割れや剥離が発生し易いものであった。
【０００３】
そこで、金属酸化物を用いた透明導電膜に代えて、塗布や印刷による成膜が可能で、しかも曲げやたわみに対する耐性も高い金属ナノワイヤーを用いた透明導電膜が検討されている。金属ナノワイヤーを用いた透明導電膜は、レアメタルであるインジウムを使わない次世代の透明導電膜としても注目されている（例えば、特許文献１，２参照）。
【０００４】
ところで、一般に、透明導電膜においては、その表面全体に亘って抵抗が均一に分布していることが強く求められている。そして、従来から、透明導電膜の表面抵抗の分布の均一化を達成するために、種々の検討がなされている。
【０００５】
例えば、特許文献３は、複数個の非接触式表面抵抗測定装置が固定配置された巻き取り式成膜装置を用い、当該巻き取り式成膜装置を用いて形成される透明導電膜に渦電流を流し、当該渦電流、当該渦電流を検出するセンサーの温度、及び当該センサーと透明導電膜との離間距離から、透明導電膜の表面抵抗を連続的に測定し、その測定結果をフィードバックして表面抵抗を制御する方法をとることにより、表面抵抗の分布均一度が所定範囲内となる透明導電性フィルムロールを製造し得ることを開示している。
【０００６】
また、例えば、特許文献４は、対向電極間でプラズマ状態にした薄膜形成ガスに基材を晒して該基材上に透明導電性薄膜を形成させる際に、かかる薄膜の可視光線透過率と抵抗値をモニターしながら該対向電極間に導入する薄膜形成ガスの流量あるいは濃度を制御することで、表面抵抗の分布が±１０％以内の透明導電性薄膜を形成し得ることを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特表２０１０−５０７１９９号公報
【特許文献２】特表２０１０−５２５５２６号公報
【特許文献３】特許第４９８１４３２号
【特許文献４】特開２００４−０３９４６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記従来の方法は、上述した金属ナノワイヤーではなく、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）等の金属酸化物やガス状の有機金属化合物等を用いることを前提とするものである。また、上記従来の方法は、種々のインライン式の測定装置やプラズマ発生装置等を必要とするため、制御が比較的複雑である上、透明導電膜を製造するための費用が増大するという問題がある。
【０００９】
なお、金属ナノワイヤーは、ウェット状態においてブラウン運動を起こし得ること、湾曲した形状を有し得ること、液中や膜中で凝集して容易に偏在化し得ること等の特性を有することもあり、容易に、当該金属ナノワイヤーを用いた透明導電膜の表面抵抗を均一化する方法については、これまでにほとんど報告されていない。
【００１０】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、金属ナノワイヤーを用い、表面抵抗の均一性に優れた透明導電膜を容易に製造することが可能な透明導電膜の製造方法、及び、金属ナノワイヤーを用いた、表面抵抗の均一性に優れた透明導電膜を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、金属ナノワイヤーを含んでなる分散膜を基材上に形成して乾燥する際に、かかる分散膜に所定の気流を当てることにより、容易に、表面抵抗の均一性に優れた透明導電膜を製造することができることを見出し、本発明の完成に至った。
【００１２】
本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
＜１＞金属ナノワイヤーを含んでなる分散液を調製する分散液調製工程と、
前記分散液を用いて基材上に分散膜を形成する分散膜形成工程と、
前記基材上の分散膜に所定方向のダウンフローの気流を当てる分散膜乾燥工程と
を含み、
前記気流は、前記分散膜への到達速度が０．５ｍ／秒以上１８．０ｍ／秒以下であることを特徴とする、透明導電膜の製造方法である。
ここで、本発明において「ダウンフローの気流」とは、当該気流を鉛直方向のベクトルと水平方向のベクトルとに分解したときに、少なくとも鉛直方向下方のベクトルを有する気流を指す。
またここで、本発明において「分散膜への気流の到達速度」とは、分散膜の表面にて測定される気流の速度を指す。
該＜１＞に記載の透明導電膜の製造方法において、分散膜乾燥工程で用いる所定方向のダウンフローの気流は、得られる透明導電膜の表面抵抗の均一性の向上に寄与する。
＜２＞前記分散膜に当てる気流が流れる方向と、前記分散膜を形成した基材の面に直交する方向とのなす角度Φで定義される風向が４５°以下である、前記＜１＞に記載の透明導電膜の製造方法である。
＜３＞前記気流の温度が１５６℃以下である、前記＜１＞又は＜２＞に記載の透明導電膜の製造方法である。
＜４＞前記分散膜乾燥工程における雰囲気温度が１２２℃以下である、前記＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法である。
＜５＞前記分散膜乾燥工程では、前記基材上の分散膜にダウンフローの気流を当てる際に、更に赤外線乾燥を行う、前記＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法である。
＜６＞前記＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法により製造した透明導電膜であって、表面の任意の１２箇所の表面抵抗値の標準偏差σが２０Ω／ｓｑ未満である、透明導電膜である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、金属ナノワイヤーを用い、表面抵抗の均一性に優れた透明導電膜を容易に製造することが可能な透明導電膜の製造方法、及び、金属ナノワイヤーを用いた、表面抵抗の均一性に優れた透明導電膜を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明の透明導電膜の製造方法の分散膜乾燥工程を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
（透明導電膜の製造方法）
本発明の透明導電膜の製造方法は、少なくとも、分散液調製工程と、分散膜形成工程と、分散膜乾燥工程とを含み、更に、必要に応じて適宜選択した、加熱硬化処理工程、カレンダー処理工程（加圧処理工程）等のその他の工程を含む。
【００１６】
＜分散液調製工程＞
前記分散液調製工程は、金属ナノワイヤーを含んでなる分散液を調製する工程である。
【００１７】
＜＜分散液＞＞
前記分散液は、少なくとも、金属ナノワイヤーを含んでなり、更に必要に応じて、カーボンナノチューブ、透明樹脂材料（バインダー）、溶剤、分散剤、その他の成分、などを含んでなる。
【００１８】
前記分散液の分散手法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、攪拌、超音波分散、ビーズ分散、混錬、ホモジナイザー処理、加圧分散処理、などが好適に挙げられる。
【００１９】
前記分散液の粘度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１ｃＰ以上５０ｃＰ以下が好ましく、１０ｃＰ〜４０ｃＰがより好ましい。
前記分散液の粘度が、１ｃＰ未満又は５０ｃＰ超であると、分散膜形成工程において分散膜の形成不良を引き起こし、表面抵抗の分布を不均一にすることがある。一方、前記分散液の粘度が、前記より好ましい範囲内であると、分散膜の形成不良を防止して、表面抵抗の分布を均一化できる点で有利である。
【００２０】
前記分散液中の金属ナノワイヤーと、任意に含まれるカーボンナノチューブとの合計の配合量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記分散液の質量を１００質量部とした場合、０．０１質量部〜１０．００質量部が好ましい。
前記金属ナノワイヤーと、任意のカーボンナノチューブとの合計の配合量が、０．０１質量部未満であると、最終的に得られる透明導電膜において金属ナノワイヤー及び任意のカーボンナノチューブに十分な目付量（０．００１ｇ／ｍ2〜１．０００ｇ／ｍ2）が得られないことがあり、１０．００質量部を超えると、金属ナノワイヤー及び任意のカーボンナノチューブの分散性が劣化することがある。
【００２１】
−金属ナノワイヤー−
前記金属ナノワイヤーは、金属を用いて構成されたものであって、ｎｍオーダーの径を有する微細なワイヤーである。
前記金属ナノワイヤーの構成元素としては、金属元素である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｔｌ、Ｚｎ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｖ、Ｔａ、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、ＡｇやＣｕが、導電性が高い点で、好ましい。
【００２２】
前記金属ナノワイヤーの平均短軸径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１ｎｍ超５００ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍがより好ましい。
前記金属ナノワイヤーの平均短軸径が、１ｎｍ以下であると、金属ナノワイヤーの導電率が劣化して、該金属ナノワイヤーを含む透明導電膜が導電膜として機能しにくいことがあり、５００ｎｍを超えると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）が劣化することがある。一方、前記金属ナノワイヤーの平均短軸径が前記より好ましい範囲内であると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の導電性が高く、且つ透明性が高い点で有利である。
【００２３】
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１μｍ〜１０００μｍが好ましく、１μｍ〜１００μｍがより好ましい。
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長が、１μｍ未満であると、金属ナノワイヤー同士がつながりにくく、該金属ナノワイヤーを含む透明導電膜が導電膜として機能しにくいことがあり、１０００μｍを超えると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）が劣化したり、透明導電膜を形成する際に用いる分散液における金属ナノワイヤーの分散性が劣化することがある。一方、前記金属ナノワイヤーの平均長軸長が前記より好ましい範囲内であると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の導電性が高く、且つ透明性が高い点で有利である。
なお、金属ナノワイヤーの平均短軸径及び平均長軸長は、走査型電子顕微鏡により測定可能な、数平均短軸径及び数平均長軸長である。より具体的には、金属ナノワイヤーを少なくとも１００本以上測定し、電子顕微鏡写真から画像解析装置を用いて、それぞれのナノワイヤーの投影径及び投影面積を算出する。投影径を、短軸径とした。また、下記式に基づき、長軸長を算出した。
長軸長＝投影面積／投影径
平均短軸径は、短軸径の算術平均値とした。平均長軸長は、長軸長の算術平均値とした。
【００２４】
更に、前記金属ナノワイヤーは、金属ナノ粒子が数珠状に繋がってワイヤー形状を有しているものでもよい。この場合、前記金属ナノワイヤーの長さは限定されない。
【００２５】
前記金属ナノワイヤーの目付量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．００１ｇ／ｍ2〜１．０００ｇ／ｍ2が好ましく、０．００３ｇ／ｍ2〜０．３ｇ／ｍ2がより好ましい。
前記金属ナノワイヤーの目付量が、０．００１ｇ／ｍ2未満であると、金属ナノワイヤーが十分に金属ナノワイヤー層中に存在せず、透明導電膜の導電性が劣化することがあり、１．０００ｇ／ｍ2を超えると、透明導電膜の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）が劣化することがある。一方、前記金属ナノワイヤーの目付量が前記より好ましい範囲内であると、透明導電膜の導電性が高く、且つ透明性が高い点で有利である。
【００２６】
−金属ナノワイヤーネットワーク−
なお、前記金属ナノワイヤーネットワークとは、複数の金属ナノワイヤーが互いに網状に連結されて形成されたネットワーク構造を意味する。前記金属ナノワイヤーネットワークは、後述する加圧処理を経ることにより形成される。
【００２７】
−カーボンナノチューブ−
前記カーボンナノチューブとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、従来の合成法で合成されるものでもよく、また、市販のものであってもよい。
前記カーボンナノチューブの合成法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アーク放電法、レーザー蒸発法、熱ＣＶＤ法、などが挙げられる。
前記カーボンナノチューブとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、単層カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴ）であってもよく、多層カーボンナノチューブ（ＭＷＮＴ）であってもよい。但し、前記単層カーボンナノチューブが好ましい。
前記カーボンナノチューブとしては、金属性と半導体性のカーボンナノチューブの混合物であってよく、また、また選択的に分離された半導体性カーボンナノチューブであってもよい。
【００２８】
−カーボンナノチューブネットワーク−
前記カーボンナノチューブネットワークとは、複数のカーボンナノチューブが互いに網状に連結されて形成されたネットワーク構造を意味する。前記カーボンナノチューブネットワークは、後述する加圧処理を経ることにより形成される。
【００２９】
−透明樹脂材料（バインダー）−
前記透明樹脂材料（バインダー）は、前記金属ナノワイヤー、及び任意に含まれる前記カーボンナノチューブを分散させるものである。
前記透明樹脂材料（バインダー）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、既知の透明な、天然高分子樹脂、合成高分子樹脂、などが挙げられ、熱可塑性樹脂であってもよく、また、熱、光、電子線、放射線で硬化する熱（光）硬化性樹脂であってもよい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記熱可塑性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリメチルメタクリレート、ニトロセルロース、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、フッ化ビニリデン、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、などが挙げられる。
前記熱（光）硬化性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メラミンアクリレート、ウレタンアクリレート、イソシアネート、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル変性シリケート等のシリコン樹脂、アジド基やジアジリン基などの感光基を主鎖及び側鎖の少なくともいずれかに導入したポリマー、などが挙げられる。
【００３０】
−溶剤−
前記溶剤としては、金属ナノワイヤー及び任意に含まれるカーボンナノチューブが分散するものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール；シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アノン等のケトン；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等のアミド；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等のスルフィド；などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３１】
前記分散液を用いて形成される分散膜の乾燥ムラやクラックを抑えるため、分散液には、更に高沸点溶剤を添加してもよい。これにより、分散液からの溶剤の蒸発速度をコントロールすることができる。
前記高沸点溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ブチルセロソルブ、ジアセトンアルコール、ブチルトリグリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールイソプロピルエーテル、トリプロピレングリコールイソプロピルエーテル、メチルグリコール、などが挙げられる。
これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３２】
−分散剤−
前記分散剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）；ポリエチレンイミン等のアミノ基含有化合物；スルホ基（スルホン酸塩含む）、スルホニル基、スルホンアミド基、カルボン酸基（カルボン酸塩含む）、アミド基、リン酸基（リン酸塩、リン酸エステル含む）、フォスフィノ基、シラノール基、エポキシ基、イソシアネート基、シアノ基、ビニル基、チオール基、カルビノール基等の官能基を有する化合物で金属に吸着可能なもの；などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記分散剤を、前記金属ナノワイヤー又は任意に含まれるカーボンナノチューブの表面に吸着させてもよい。これにより、前記金属ナノワイヤー又は任意に含まれるカーボンナノチューブの分散性を向上させることができる。
【００３３】
また、前記分散剤を前記分散液に対して添加する場合は、最終的に得られる透明導電膜の導電性が劣化しない程度の添加量にすることが好ましい。これにより、前記分散剤を、透明導電膜の導電性が劣化しない程度の量で金属ナノワイヤー又は任意に含まれるカーボンナノチューブに吸着させることができる。
【００３４】
−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、界面活性剤、粘度調整剤、硬化促進触媒、可塑性、酸化防止剤や硫化防止剤等の安定剤、などが挙げられる。
【００３５】
＜分散膜形成工程＞
前記分散膜形成工程は、前記分散液調製工程で得られた分散液を用いて基材上に分散膜を形成する工程である。
【００３６】
＜＜基材＞＞
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、無機材料、プラスチック材料等の可視光に対して透過性を有する材料で構成された透明基材が好ましい。前記透明基材は、透明導電膜を有する透明電極に必要とされる膜厚を有しており、例えばフレキシブルな屈曲性を実現できる程度に薄膜化されたフィルム状（シート状）、又は適度の屈曲性と剛性を実現できる程度の膜厚を有する平板状であることとする。
前記無機材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、石英、サファイア、ガラス、などが挙げられる。
前記プラスチック材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、などの公知の高分子材料が挙げられる。斯かるプラスチック材料を用いて透明基材を構成した場合、生産性の観点から透明基材の膜厚を５μｍ〜５００μｍとすることが好ましいが、この範囲に特に限定されるものではない。
【００３７】
＜＜分散膜＞＞
前記分散膜は、分散液を用いて形成され、該分散液は、前述した通りである。また、前記分散液に含まれ得る金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、透明樹脂材料（バインダー）、溶剤、分散剤、その他の成分は、いずれも、分散液の説明で前述した通りである。
【００３８】
前記基材上への前記分散膜の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、物性、利便性、製造コスト等の点で、湿式製膜法が好ましい。
前記湿式製膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、塗布法、スプレー法、印刷法、などの公知の方法が挙げられる。
前記塗布法としては、特に限定されるものではなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイレクトグラビアコート法、ダイコート法、ディップ法、スプレーコート法、リバースロールコート法、カーテンコート法、コンマコート法、ナイフコート法、スピンコート法、などが挙げられる。
前記スプレー法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。  前記印刷法としては、特に限定されるものではなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、凸版印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、凹版印刷、ゴム版印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、などが挙げられる。
【００３９】
前記分散膜の厚さとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ウェット厚として３μｍ〜２０μｍが好ましく、５μｍ〜１５μｍがより好ましい。
前記分散膜のウェット厚が、３μｍ未満であると、分散膜の形成が困難になることがあり、２０μｍを超えると、得られる透明導電膜の表面抵抗の分布が不均一になることがある。一方、前記分散膜のウェット厚が、前記より好ましい範囲内であると、分散膜の良好な形成及び得られる透明導電膜の表面抵抗の分布の均一性の点で有利である。
【００４０】
＜分散膜乾燥工程＞
前記分散膜乾燥工程は、前記分散膜形成工程で形成した分散膜にダウンフローの気流を当て、該分散膜を乾燥する工程である。かかる工程では、前記分散膜中に含まれる溶剤を除去することができる。ここで、分散膜は、前述した通りである。
【００４１】
＜＜ダウンフローの気流＞＞
前記分散膜乾燥工程では、図１にその一例を示すように、前記分散膜形成工程で基材２上に形成した分散膜１に対し、所定方向のダウンフローの気流３を当てる。これにより、分散膜１内での金属ナノワイヤーの凝集を効果的に抑制しつつ、溶剤を除去することができる。したがって、本発明によれば、得られる透明導電膜の表面抵抗の均一性を向上させることができる。
ここで、本発明において「ダウンフローの気流」とは、当該気流を鉛直方向のベクトルと水平方向のベクトルとに分解したときに、少なくとも鉛直方向下方のベクトルを有する気流を指す。したがって、前記「ダウンフローの気流」には、水平方向の気流や、鉛直方向上方に向かう気流は含まれない。
【００４２】
前記分散膜乾燥工程では、分散膜を形成した基材を所定の速度で搬送させながら、前記分散膜に対して所定方向のダウンフローの気流を当ててもよい。この場合、前記基材の搬送速度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜することができるが、後述する風向の相対的な変化を最小限に抑える観点からは、１００ｍ／分以下が好ましく、５０ｍ／分以下がより好ましく、５ｍ／分以下が更に好ましい。
【００４３】
前記分散膜を乾燥する方法としては、基材上に形成した分散膜にダウンフローの気流を当てる限り、特に制限はなく、目的に応じて、適宜選択することができ、例えば、空気を任意の温度に加熱可能な加熱手段と、当該空気を気流として供給可能なノズルとを備える乾燥装置を用い、当該ノズルから前記気流を所定方向に供給して、基材上の分散膜に当てて乾燥する方法が挙げられる。
【００４４】
−赤外線乾燥−
前記分散膜乾燥工程では、前記基材上の分散膜に所定方向のダウンフローの気流を当てることのみによって分散膜を乾燥させてもよいが、前記基材上の分散膜に所定方向のダウンフローの気流を当てる際に、更に赤外線乾燥を行うことが好ましい。前記分散膜乾燥工程で更に赤外線乾燥を行うことは、分散膜のより効率的な乾燥による乾燥ムラの防止、並びにそれに伴う表面抵抗の均一性の向上の観点で有利である。特に、赤外線の波長は水の吸収波長に近いことから、前記分散液が水系の溶剤を含む場合により有利である。
【００４５】
−気流の成分−
前記気流の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、空気、窒素などが挙げられる。これらの中でも、空気が、費用及び汎用性の観点で、好ましい。
【００４６】
−気流の温度−
前記気流の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１５６℃以下が好ましく、３０℃〜１２０℃がより好ましい。
前記ダウンフローの気流の温度が、１５６℃超であると、気流を加熱するための時間及び費用が増大するとともに、表面抵抗が高く且つ不均一になることがある。一方、前記ダウンフローの気流の温度が、前記より好ましい範囲内であると、気流の加熱のための時間及び費用の抑制、分散膜の効果的な乾燥による乾燥ムラの防止、並びに表面抵抗の均一性の向上の観点で有利である。
なお、前記気流の温度は、温度の測定に通常用いられる市販の温度計、例えば熱電対温度計により、測定することができる。
【００４７】
−雰囲気温度−
前記雰囲気温度とは、基材上の分散膜にダウンフローの気流を当てる際における、前記基材の周囲の温度である。
前記雰囲気温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１２２℃以下が好ましく、３０℃〜１００℃がより好ましい。
前記雰囲気温度が、１２２℃超であると、基材のガラス転移温度（Ｔｇ）の兼ね合いで基材が歪曲したり、得られる透明導電膜の表面抵抗を十分に均一化することができないことがある。
一方、前記雰囲気温度が、前記より好ましい範囲内であると、分散膜の効果的な乾燥による乾燥ムラの防止、並びに表面抵抗の低減及び均一性の向上の観点で有利である。ここで、例えば、前記雰囲気温度と前記気流の温度との差が大きいと、経時的に前記雰囲気温度は上昇し得るが、そのような場合であっても、前記範囲内である限り、有利である。
なお、前記雰囲気温度は、温度の測定に通常用いられる市販の温度計、例えば熱電対温度計により、測定することができる。
【００４８】
−気流の到達速度−
前記気流の前記分散膜への到達速度としては、０．５ｍ／秒以上１８．０ｍ／秒以下である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．５ｍ／秒以上１５．０ｍ／秒未満が好ましく、１．０ｍ／秒以上１０．０ｍ／秒未満がより好ましい。
前記気流の分散膜への到達速度が、０．５ｍ／秒未満であると、分散膜内で金属ナノワイヤーの凝集を効果的に抑制しつつ溶剤を除去することができない結果、得られる透明導電膜の表面抵抗の均一性を向上させることができない。
また、前記気流の分散膜への到達速度が、１８．０ｍ／秒超であると、前記気流の力の作用により分散膜自体に偏りが生じることにより、当該分散膜に含まれる金属ナノワイヤーが偏在し、表面抵抗の不均一化をもたらすことがある。
一方、前記気流の分散膜への到達速度が、前記好ましい範囲内及び前記より好ましい範囲内のいずれかであると、分散膜自体の偏りの防止、及び得られる透明導電膜の表面抵抗の均一性の向上の観点で有利である。
なお、本発明において「分散膜への気流の到達速度」とは、分散膜の表面にて測定される気流の速度を指し、風速の測定に通常用いられる市販の風速計により、測定することができる。
【００４９】
−風向−
前記風向は、図１の符号５で表されるように、分散膜１に当てる気流３が流れる方向と、分散膜１を形成した基材２の面に直交する方向とのなす角度Φで定義される。
前記風向としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、４５°以下が好ましく、３０°以下がより好ましい。
前記風向が、４５°超であると、表面抵抗が高く且つ不均一になることがある。
一方、前記風向が前記より好ましい範囲であると、表面抵抗の低減及び表面抵抗の均一性の観点で有利である。
なお、風向は、例えば、空気を気流として供給可能なノズルを備える乾燥装置において、当該ノズルの角度を変えることにより調節することができる。
【００５０】
−気流を当てる時間−
前記分散膜乾燥工程で分散膜に気流を当てる時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．５分間〜１０分間が好ましく、１分間〜５分間がより好ましい。
前記分散膜乾燥工程において分散膜に気流を当てる時間が、０．５分間未満であると、分散膜の乾燥が不十分となって乾燥ムラが生じることがあり、１０分間を越えると、乾燥装置のサイズを大きくすることにより製造コストが増大することがある。一方、前記時間が、前記より好ましい範囲内であると、分散膜の十分な乾燥及び製造コストの抑制の点で有利である。
【００５１】
＜加熱硬化処理工程＞
前記加熱硬化処理工程は、前記分散膜乾燥工程後に加熱硬化処理を行って、透明導電膜を得る工程である。
前記加熱硬化処理における加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６０℃〜１４０℃が好ましく、８０℃〜１２０℃がより好ましく、約１２０℃が特に好ましい。
前記加熱硬化処理における加熱温度が、６０℃未満であると、乾燥に要する時間が長くなり作業性が悪化することがあり、１４０℃を超えると、基材のガラス転移温度（Ｔｇ）の兼ね合いで基材が歪曲することがある。一方、前記加熱硬化処理における加熱温度が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい温度であると、金属ナノワイヤーのネットワーク形成の点で有利である。
前記加熱硬化処理における加熱時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１分間〜３０分間が好ましく、２分間〜１０分間がより好ましく、約５分間が特に好ましい。
前記加熱硬化処理における加熱時間が、１分間未満であると、硬化が不十分なことがあり、３０分間を超えると、作業性が悪化することがある。一方、前記加熱硬化処理における加熱時間が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい時間であると、金属ナノワイヤー又はカーボンナノチューブのネットワーク形成及び作業性の点で有利である。
【００５２】
＜カレンダー処理工程（加圧処理工程）＞
前記カレンダー処理工程（加圧処理工程）は、前記透明導電膜をカレンダー処理（加圧処理）する工程である。
前記カレンダー処理（加圧処理）では、例えば、透明導電膜が、プレスロール（第１ロール）とバックロール（第２ロール）とで構成されたロール対により挟持されて加圧される。
【００５３】
前記加圧処理に使用するロールとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、弾性ロール、金属ロール、などが挙げられる。
前記加圧処理に使用するロールの種類に応じて、前記加圧処理における面圧、線幅、加圧（荷重）及び搬送速度が適宜調整される。
また、前記加圧処理において、透明導電膜を加圧するために、「ニップロール」又は「ピンチロール」を使用してもよい。
【００５４】
＜＜弾性ロール＞＞
前記弾性ロールの材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、主成分がクロロプレン重合体のゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）、エチレン−プロピレン−ジエンゴム（ＥＰＤＭ）等のゴム；樹脂；などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、高硬度であり、且つ、対溶剤性を有するゴムが好ましい。
なお、前記加圧処理において、ロール温調が必要な場合は、前記弾性ロールの材質を、ゴムではなく、樹脂とすることが好ましい。
【００５５】
前記弾性ロールの直径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３０ｍｍ〜１，０００ｍｍが好ましく、４０ｍｍ〜５００ｍｍがより好ましく、５０ｍｍ〜３００ｍｍが特に好ましい。
前記弾性ロールの直径が、３０ｍｍ未満であると、金属ロールへのゴム巻きが難しく、弾性ロール作製が困難となることがあり、１，０００ｍｍを超えると、ロールの取扱いが困難となることがある。一方、前記弾性ロールの直径が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい範囲内であると、ロール製作及び取扱いの点で有利である。
【００５６】
＜＜金属ロール＞＞
前記金属ロールとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ステンレス（ＳＵＳ）ロールや、スチールロール等が挙げられる。ここで、前記金属ロールに用いられる金属は、例えば、ハードクロムめっき加工されていてもよい。
これらの中でも、加工性及び耐溶剤性の高い金属が好ましい。
【００５７】
前記金属ロールの直径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３０ｍｍ〜１，０００ｍｍが好ましく、４０ｍｍ〜５００ｍｍがより好ましく、５０ｍｍ〜３００ｍｍが特に好ましい。
前記金属ロールの直径が、３０ｍｍ未満であると、ロールの製作が困難となることがあり、１，０００ｍｍを超えると、ロールの取扱いが困難となることがある。一方、前記金属ロールの直径が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい範囲内であると、ロール製作及び取扱いの点で有利である。
【００５８】
前記加圧処理工程において、プレスロール（第１ロール）として直径２００ｍｍ未満の金属ロールを用いることが好ましく、また、バックロール（第２ロール）として直径２００ｍｍ以上の弾性ロールを用いることが好ましい。
前記加圧処理工程において、プレスロール（第１ロール）として直径２００ｍｍ未満の金属ロールを用い、且つ、バックロール（第２ロール）として直径２００ｍｍ以上の弾性ロールを用いることで、クッション作用を大きくして、好適に圧を逃がすことができる。
【００５９】
（透明導電膜）
本発明の透明導電膜は、上述した本発明の透明導電膜の製造方法、即ち、少なくとも、分散液調製工程と、分散膜形成工程と、分散膜乾燥工程とを含み、更に、必要に応じて適宜選択したその他の工程を含む方法により製造した透明導電膜であり、表面の任意の１２箇所の表面抵抗値の標準偏差σが２０Ω／ｓｑ未満である。本発明の透明導電膜は、本発明の透明導電膜の製造方法により製造したため、表面抵抗の均一性に優れている。
なお、本発明の透明導電膜の表面抵抗値に係る前記標準偏差σとしては、２０Ω／ｓｑ未満である限り、特に制限はないが、１０Ω／ｓｑ未満がより好ましい。前記標準偏差が、前記より好ましい範囲内であると、表面抵抗の均一性に一層優れ、表示パネルや情報入力装置等に好適に用いることができる点で、有利である。
【実施例】
【００６０】
次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。
【００６１】
（実施例１）
＜銀ナノワイヤーインク（分散液）の調製＞
下記の配合にて、銀ナノワイヤーインク（分散液）を作製した。なお、得られた銀ナノワイヤーインク（分散液）の粘度は１５ｃＰであった。
（１）金属ナノワイヤー：銀ナノワイヤー（Ｓｅａｓｈｅｌｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製、ＡｇＮＷ−２５、平均短軸径２５ｎｍ（メーカー値）、平均長軸長２３μｍ（メーカー値））：配合量０．０５質量部
（２）バインダー：ヒドロキシプロピルメチルセルロース（アルドリッチ社製、２％水溶液の２０℃における粘度８０ｃＰ〜１２０ｃＰ（文献値））：配合量０．１５質量部
（３）溶剤：（ｉ）水：配合量８９．８０質量部、（ｉｉ）エタノール：配合量１０．００質量部
【００６２】
＜分散膜の形成＞
調製した銀ナノワイヤーインク（分散液）を、ワイヤーバーコート法により、ワイヤーバー（番手１０）で平板状の透明基材（ＰＥＴ：東レ株式会社製、Ｕ３４、厚さ１２５μｍ）上に塗布して、厚さ２０μｍの銀ナノワイヤー分散膜を形成した。ここで、銀ナノワイヤーの目付量を約０．０１ｇ／ｍ2とした。
【００６３】
＜分散膜の乾燥及び加熱硬化＞
次いで、銀ナノワイヤー分散膜を形成した平板状の基材を、乾燥装置内で１．８ｍ／分の速度で搬送させ、その際、当該平板状の基材の上に形成した銀ナノワイヤー分散膜全体に対し、平板状の基材の搬送方向に直交する気流を２分間当てた。このとき、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）を３３℃、気流の温度（Ｔx）を４３℃とし、分散膜への気流の到達速度（Ｖx）を０．５ｍ／秒とした。また、風向（分散膜に当てる気流が流れる方向と、分散膜を形成した平板状の基材の面に直交する方向とのなす角度Φ）を０°とした。なお、雰囲気温度（Ｔo）及び気流の温度（Ｔx）は、株式会社エー・アンド・デイ製熱電対温度計ＡＤ−５６０１Ａを用いて測定し、分散膜への気流の到達速度（Ｖx）は、アズワン株式会社製エクスポケット風速計ＡＭ−２６１を用い、当該風速計の測定部を分散膜表面に接触させて測定した。
その後、オーブン中で１２０℃５分間の加熱硬化処理を行い、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製した。
【００６４】
＜銀ナノワイヤー透明導電膜の加圧処理＞
作製した銀ナノワイヤー透明導電膜に対して、円柱状のプレスロール（第１ロール）及びバックロール（第２ロール）を備えるカレンダー処理装置を使用して、カレンダー処理（加圧処理）を行った。カレンダー処理（加圧処理）の際、プレスロール（第１ロール）及びバックロールの両方をスチール（製造会社名：宮川ローラー）製ロールとし、加圧（荷重）を４ｋＮとし、搬送速度を１ｍ／分とした。
【００６５】
＜抵抗値の測定＞
加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を、以下のように測定した。銀ナノワイヤー分散膜表面に、手動式非破壊抵抗測定器（ナプソン株式会社製、ＥＣ−８０Ｐ）の測定プローブを接触させて、透明導電膜（銀ナノワイヤー層）表面上の任意の１２箇所で抵抗値測定を行い、その平均値を抵抗値（Ω／ｓｑ）とした。測定結果を表１に示す。
【００６６】
＜抵抗分布の評価＞
前記抵抗値の測定で測定した任意の１２箇所の値を用いて、その標準偏差σを抵抗分布として算出した。算出結果を表１に示す。
【００６７】
（実施例２）
実施例１において、分散膜への気流の到達速度（Ｖx）を０．５ｍ／秒から２．０ｍ／秒に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表１に示す。
【００６８】
（実施例３）
実施例１において、分散膜への気流の到達速度（Ｖx）を０．５ｍ／秒から３．６ｍ／秒に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表１に示す。
【００６９】
（実施例４）
実施例１において、分散膜への気流の到達速度（Ｖx）を０．５ｍ／秒から５．０ｍ／秒に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表１に示す。
【００７０】
（実施例５）
実施例１において、分散膜への気流の到達速度（Ｖx）を０．５ｍ／秒から７．２ｍ／秒に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表１に示す。
【００７１】
（実施例６）
実施例１において、分散膜への気流の到達速度（Ｖx）を０．５ｍ／秒から１０．０ｍ／秒に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表１に示す。
【００７２】
（実施例７）
実施例１において、分散膜への気流の到達速度（Ｖx）を０．５ｍ／秒から１４．４ｍ／秒に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表１に示す。
【００７３】
（実施例８）
実施例１において、分散膜への気流の到達速度（Ｖx）を０．５ｍ／秒から１６．２ｍ／秒に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表１に示す。
【００７４】
（実施例９）
実施例１において、分散膜への気流の到達速度（Ｖx）を０．５ｍ／秒から１８．０ｍ／秒に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表１に示す。
【００７５】
（実施例１０）
実施例４において、風向を、０°から、平板状の基材の搬送方向手前側から見て時計回り方向に１５°に変えたこと以外は、実施例４と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表１に示す。
【００７６】
（実施例１１）
実施例１０において、風向を１５°から３０°に変えたこと以外は、実施例１０と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表２に示す。
【００７７】
（実施例１２）
実施例１０において、風向を１５°から４５°に変えたこと以外は、実施例１０と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表２に示す。
【００７８】
（実施例１３）
実施例１０において、風向を、平板状の基材の搬送方向手前側から見て、時計回り方向に１５°から反時計回り方向に１５°に代えたこと以外は、実施例１０と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表２に示す。
【００７９】
（実施例１４）
実施例１３において、風向を１５°から３０°に変えたこと以外は、実施例１３と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表２に示す。
【００８０】
（実施例１５）
実施例１３において、風向を１５°から４５°に変えたこと以外は、実施例１３と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表２に示す。
【００８１】
（実施例１６）
実施例４において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）を３５℃から２０℃に変え、気流の温度（Ｔx）を４５℃から２６℃に変えたこと以外は、実施例４と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表２に示す。
【００８２】
（実施例１７）
実施例１６において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）を２０℃から３０℃に変え、気流の温度（Ｔx）を２６℃から３４℃に変えたこと以外は、実施例１６と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表２に示す。
【００８３】
（実施例１８）
実施例１６において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）を２０℃から４８℃に変え、気流の温度（Ｔx）を２６℃から６１℃に変えたこと以外は、実施例１６と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表２に示す。
【００８４】
（実施例１９）
実施例１６において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）を２０℃から６６℃に変え、気流の温度（Ｔx）を２６℃から８２℃に変えたこと以外は、実施例１６と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表２に示す。
【００８５】
（実施例２０）
実施例１６において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）を２０℃から７８℃に変え、気流の温度（Ｔx）を２６℃から９９℃に変えたこと以外は、実施例１６と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表２に示す。
【００８６】
（実施例２１）
実施例１６において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）を２０℃から８９℃に変え、気流の温度（Ｔx）を２６℃から１２２℃に変えたこと以外は、実施例１６と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表３に示す。
【００８７】
（実施例２２）
実施例１６において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）を２０℃から１０３℃に変え、気流の温度（Ｔx）を２６℃から１３８℃に変えたこと以外は、実施例１６と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表３に示す。
【００８８】
（実施例２３）
実施例１６において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）を２０℃から１１５℃に変え、気流の温度（Ｔx）を２６℃から１５６℃に変えたこと以外は、実施例１６と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表３に示す。
【００８９】
（実施例２４）
実施例４において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）３５℃から４５℃に変え、気流を当てながら更に赤外線乾燥を行ったこと以外は、実施例４と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表３に示す。
【００９０】
（実施例２５）
実施例２４において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）４５℃から５５℃に変えたこと以外は、実施例２４と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表３に示す。
【００９１】
（実施例２６）
実施例２４において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）４５℃から６５℃に変えたこと以外は、実施例２４と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表３に示す。
【００９２】
（実施例２７）
実施例２４において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）４５℃から８９℃に変えたこと以外は、実施例２４と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表３に示す。
【００９３】
（実施例２８）
実施例２４において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）４５℃から１２２℃に変えたこと以外は、実施例２４と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表３に示す。
【００９４】
（実施例２９）
実施例２４において、乾燥装置内の雰囲気温度（Ｔo）４５℃から１３８℃に変えたこと以外は、実施例２４と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表３に示す。
【００９５】
（比較例１）
実施例１において、平板状の基材を乾燥装置内で搬送させ、平板状の基材の上に形成した銀ナノワイヤー分散膜全体に対して気流を２分間当てたことに代えて、雰囲気温度（Ｔo）を２０℃として、平板状の基材上に形成した銀ナノワイヤー分散膜の自然乾燥を１０分間行ったこと以外は、実施例１と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表４に示す。
【００９６】
（比較例２）
実施例１において、平板状の基材を乾燥装置内で搬送させ、平板状の基材の上に形成した銀ナノワイヤー分散膜全体に対して気流を２分間当てたことに代えて、平板状の基材を、銀ナノワイヤー分散膜を形成していない面を下側にしてホットプレートに配置し、プレート温度を１２０℃、雰囲気温度（Ｔo）を５０℃として５分間保持したこと以外は、実施例１と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表４に示す。
【００９７】
（比較例３）
比較例２において、雰囲気温度（Ｔo）を５０℃から８０℃に変えたこと以外は、比較例２と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表４に示す。
【００９８】
（比較例４）
実施例１において、分散膜への気流の到達速度（Ｖx）を０．５ｍ／秒から２０．０ｍ／秒に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。このときの雰囲気温度（Ｔo）、気流の温度（Ｔx）を含め、結果を表４に示す。
【００９９】
（比較例５）
実施例１において、平板状の基材を乾燥装置内で搬送させ、雰囲気温度（Ｔo）を３３℃、気流の温度（Ｔx）を４３℃とし、分散膜への到達速度（Ｖx）を０．５ｍ／秒とした前記気流を当てたことに代えて、雰囲気温度（Ｔo）を５０℃、気流の温度（Ｔx）を６０℃とし、分散膜への前記気流の到達速度（Ｖx）が１５ｍ／秒未満である乱流状態の乾燥オーブン内で５分間保持したこと以外は、実施例１と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表４に示す。
【０１００】
（比較例６）
比較例５において、雰囲気温度（Ｔo）を５０℃から８０℃に変え、気流の温度（Ｔx）を６０℃から９５℃に変えたこと以外は、比較例５と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表４に示す。
【０１０１】
（比較例７）
比較例５において、雰囲気温度（Ｔo）を５０℃から１１０℃に変え、気流の温度（Ｔx）を６０℃から１４０℃に変えたこと以外は、比較例５と同様にして、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、抵抗値の測定及び抵抗分布の評価を行った。結果を表４に示す。
【０１０２】
【表１】
2015220178.tif 000003
【０１０３】
【表２】
2015220178.tif 000004
【０１０４】
【表３】
2015220178.tif 000005
【０１０５】
【表４】
2015220178.tif 000006
【０１０６】
表１〜４から、基材上に形成した分散膜を乾燥する際、基材への到達速度が０．５ｍ／秒以上１８．０ｍ／秒以下であるダウンフローの気流を当該分散膜に当てる工程を経た実施例１〜２９では、当該工程を経ていない比較例１〜７と比較して、表面抵抗の均一性に優れた透明導電膜を製造することができることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【０１０７】
本発明の塗工方法を用いて製造された透明導電膜は、ノートパソコン、スマートフォン等の電子機器に用いられているインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）等の金属酸化物を用いた透明導電膜の代替物として、好適に利用可能である。
【符号の説明】
【０１０８】
１  分散膜
２  基材
３  ダウンフローの気流
４  分散膜を形成した基材面の直交方向
５  風向（角度Φ）
【図１】
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