(57)【要約】【課題】樹脂上に微細なめっきパターンを形成する。【解決手段】熱収縮された熱収縮樹脂１１０と、熱収縮樹脂１１０の表面に、めっき皮膜１４０が析出するように形成された改質部と、改質部上に形成されためっき皮膜１４０と、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱収縮された熱収縮樹脂と、
前記熱収縮樹脂の表面に、めっき皮膜が析出するように形成された改質部と、
前記改質部上に形成されためっき皮膜と、
を備えることを特徴とするめっき皮膜付物品。
【請求項２】
基材と、
前記基材を取り巻く熱収縮された熱収縮樹脂と、
前記熱収縮樹脂の一部に形成されためっき皮膜と、
を備えることを特徴とするめっき皮膜付物品。
【請求項３】
樹脂表面の一部を無電解めっき皮膜が析出するように選択的に改質する改質工程と、
改質された前記樹脂を収縮させる収縮工程と、
前記収縮させた樹脂に無電解めっきを行うめっき工程と、
を有することを特徴とする、めっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項４】
前記樹脂は熱収縮樹脂であり、前記収縮工程においては改質された前記熱収縮樹脂を加熱することにより熱収縮させることを特徴とする、請求項３に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項５】
前記収縮工程において、前記熱収縮樹脂は１つの軸方向に２０％以上収縮することを特徴とする、請求項４に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項６】
前記めっき工程が、
前記樹脂に無電解めっき触媒を付与する触媒付与工程と、
前記無電解めっき触媒が付与された樹脂に無電解めっきを行う無電解めっき工程と、  を含むことを特徴とする、請求項３乃至５の何れか１項に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項７】
前記改質工程、前記触媒付与工程、前記収縮工程、及び前記無電解めっき工程がこの順に行われることを特徴とする、請求項６に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項８】
前記改質工程においては、前記樹脂表面の一部に紫外線を照射することを特徴とする、請求項３乃至７の何れか１項に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項９】
前記紫外線の波長は２４３ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項８に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項１０】
前記紫外線の照射は、酸素とオゾンとの少なくとも一方を含む雰囲気下で行われることを特徴とする、請求項８又は９に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項１１】
前記改質工程においてアルカリ処理をさらに行うことを特徴とする、請求項８乃至１０の何れか１項に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項１２】
前記改質工程と前記収縮工程との間に行われる、前記樹脂のフィルムを基材に巻く工程をさらに有することを特徴とする、請求項３乃至１１の何れか１項に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項１３】
前記収縮工程において、前記樹脂の収縮を規制しながら前記樹脂を収縮させることを特徴とする、請求項３乃至１２の何れか１項に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項１４】
前記樹脂は環状の形状を有し、
前記収縮工程において、前記環の内部に収縮規制部材が挿入された状態で前記樹脂を収縮させることを特徴とする、請求項１３に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項１５】
無電解めっきによりめっき皮膜が析出するように表面の一部が改質されており、加熱により収縮することを特徴とする、熱収縮樹脂。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、めっき皮膜付物品及びその製造方法、並びに熱収縮樹脂フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電気製品の軽薄短小化に伴い、例えば配線板などを作製する際に、より微細で緻密な配線をパターニングする方法が求められている。例えば、特許文献１では、解像度を高めつつ大きな焦点深度を確保する方法として、液浸リソグラフィーが提案されている。液浸リソグラフィーは、投影光学系の対物レンズとレジストとの間の媒体を空気より高屈折率な液体にすることにより、多くの次数の回折光を取り込み、高解像度及び大きな焦点深度を得る方法である。また、特許文献２には、フォトマスクの開口部に集光機能を与え、透過する露光光を微細化する方法が示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第９９／４９５０４号
【特許文献２】特開２０１３−２４６３４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載の液浸露光装置は開口数ＮＡを増大させることができても、ドライ露光と異なる特有の問題が発生して歩留まりが落ちる可能性がある。例えば、対物レンズとレジストの間に純水を挟むために、水滴の残留若しくは蒸発による汚れ、及びレジストの染み出し等が生じる可能性がある。さらに、液浸露光装置は高価であるという問題もあった。
【０００５】
特許文献２に記載の方法は、配線は微細化できるが、配線間の距離を縮めるものではないため、配線板全体を小型化することにはつながらないものであった。
【０００６】
本発明は、樹脂上に微細なめっきパターンを容易に低コストに形成することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の目的を達成するために、例えば、一実施形態に係るめっき皮膜付物品は以下の構成を備える。すなわち、
熱収縮された熱収縮樹脂と、
前記熱収縮樹脂の表面に、めっき皮膜が析出するように形成された改質部と、
前記改質部上に形成されためっき皮膜と、
を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
樹脂上に微細なめっきパターンを容易に低コストに形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施形態１に係る金属皮膜付物品の製造方法を説明する図。
【図２】実施形態１に係る金属皮膜付物品の製造方法のフローチャート。
【図３】実施例１で用いたマスク及び得られた金属皮膜付物品を示す図。
【図４】実施例２で用いたマスク及び得られた金属皮膜付物品を示す図。
【図５】実施形態２に係る金属皮膜付物品の製造方法を説明する図。
【図６】実施形態２に係る金属皮膜付物品の製造方法のフローチャート。
【図７】実施形態２で得られる金属皮膜付物品を示す図。
【図８】収縮規制部材を用いて収縮を規制する方法を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を適用できる実施形態を図面に基づいて説明する。ただし、本発明の範囲は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１１】
まず、所望パターンの金属皮膜を設ける方法として、セミアディティブ法、フルアディティブ法、及びサブトラクティブ法について説明する。これらの方法は、例えば樹脂上に配線パターンが設けられた配線板を作製するために用いることができ、こうして作製された配線板は、電気製品の分野において広く用いられている。セミアディティブ法では、可撓性フィルム上に金属の下地層を形成し、さらにフォトリソグラフィーにより所望パターンのレジストを形成した後に、電解めっきが行われる。フルアディティブ法では、可撓性フィルム上に無電解めっき触媒を付与し、さらにフォトリソグラフィーにより所望パターンのレジストを形成した後に、無電解めっきが行われる。サブトラクティブ法では、可撓性フィルム上に金属箔を形成し、さらにフォトリソグラフィーにより所望パターンに従って金属箔がエッチングされる。
【００１２】
このように、これらの方法においては、フォトリソグラフィーという微細パターン作成技術が使用される。すなわち、感光性フォトレジストを塗布した基板の表面をパターン状に露光することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンが生成される。ネガ型フォトレジストは露光部分が硬化する性質がある。またポジ型フォトレジストは露光部分が溶解しやすくなる性質がある。これらを用途によって使い分けることより、基板表面にフォトレジストで覆われた部分と露出した部分とが形成される。その後、無電解めっき、電解めっき、又はエッチング等を行うことにより、所望の配線パターンが形成される。
【００１３】
セミアディティブ法、フルアディティブ法、及びサブトラクティブ法は、いずれもフォトリソグラフィーにより配線パターンに対応するレジストパターンを形成する必要がある。しかしながら、光の回折等のために、フォトリソグラフィーの解像度には光の波長に応じた限界が存在する。一方で、解像度を高めるために露光波長を短波長化した場合、同時に焦点深度δが小さくなる。従来の露光装置では、対物レンズとレジストの間は屈折率が約１である空気で満たされているため、開口数ＮＡを増大させた場合でも、同様に焦点深度δが小さくなる。このため、解像度を上げることにより被写界深度（ＤＯＦ：ｄｅｐｔｈ  ｏｆ  ｆｉｅｌｄ）のプロセスマージンが狭くなり、プロセス制御がより困難となってしまう課題があった。更に、露光波長を変更するためには、新たに露光装置等の装置を導入する必要が生じる他、露光波長の影響を受けやすいレンズ材料やレジスト材料等の変更することも必要となる。これらの理由から、露光波長の変更には巨額の投資が必要となる。一般に波長が短くなればなるほど、その投資額は巨額になる。
【００１４】
露光時の解像度について簡単に述べる。基本になる方程式としてレーリーの式（解像度＝ｋ１×λ／ＮＡ）が用いられる。ｋ１はプロセス条件と光学系で決まる定数である。また、λは露光光の波長（以下、露光波長と記載する）であり、ＮＡはレンズの開口数を表す。
【００１５】
配線パターンの解像度を高めるには露光波長λの短波長化及び開口数を高めることが有効である。露光波長λを短波長化するために、露光光源として、水銀の輝線スペクトルであるｇ線、ｉ線（３６５ｎｍ）の代わりに、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）又はＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）等を用いることができる。現在の半導体素子量産プロセスにおける露光光源としてはＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）が主流であるが、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）も用いられている。また、開口数ＮＡは、式（ＮＡ＝ｎ・ｓｉｎθ）で表される。ここで、ｎは物体と対物レンズ間の媒質の屈折率、θは対物レンズ先端の最外周部から焦点部を結ぶ線が、対物レンズ中心の光軸と成す角度を表す。
【００１６】
定数ｋ１を改善するには、以下のような技術を用いることができる。
１．位相シフトマスク：マスクにたいして位相シフタを設けることができる。この部分を透過した光の位相を変化させ、位相シフタを通過していない光と干渉させることで重なり部分を打ち消すことができるので、通常より高い解像度が得られる。
【００１７】
２．近接効果補正（ＯＰＣ：Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ  Ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ）：光軸と平行に入射した露光光は、マスクで回折すると互いの回折光が干渉し合い、周期的な干渉縞を形成する。マスクのパターンピッチが小さくなると投影レンズに取り込まれる干渉縞の数が減少するため、マスクパターンに対する忠実度が失われる。すると転写パターンの角部の丸まり、ライン端部の後退、及びピッチの違いによる寸法ずれといったパターンの変形現象が生じる。これを光近接効果と呼ぶ。そこで、あらかじめ変形を考慮して、パターンの形状に応じて、パターンのエッジに段差を付ける、別のパターンを加える、又はパターン幅を変えるなどの補正を行うことができる。
【００１８】
３．変形照明：マスクのパターンピッチが小さくなると投影レンズに取り込まれる干渉縞の数が減少するためマスクパターンに対する忠実度が失われる。そこで、照明系の絞りの形状を変えることにより、投影レンズに取り込まれる干渉縞の数を増やし、解像度を向上させることができる。例えば、輪帯照明又は四極照明等を用いることができる。
【００１９】
４．二重露光：まず１回目に、解像度限界内で、良好に形成できる程度の線幅及び間隔を有するパターンに従って露光を行い、さらに１回目の露光部と露光部の間の未露光部に２回目の露光を行うことにより、パターニングを行うことができる。つまり、同じパターンが２回露光される。この方法によれば、原理的には、解像度を２倍にできる。しかし、スループットが半分に低下するほか、高い位置合わせ精度が要求される。
【００２０】
５．多層レジスト：フォトレジストを薄膜化することにより、加工寸法を微細化することができる。しかし、フォトレジストを薄膜化するとエッチングへの耐性が落ちるために、解像度が低下する可能性がある。この問題に対処するため、レジスト膜を多層化することができる。例えば、微細なパターニングを実現する薄い上層部と、エッチング耐性を付与しレジストパターン形状を制御する厚い下層部と、を組み合わせたレジスト膜を形成することができる。このとき、下層部のレジストとしては、基板を加工するときのエッチングに耐性を持ち、上層部のレジストが損傷しない条件でパターンを形成できるものが選択される。
【００２１】
６．反射防止膜：フォトレジストの下地が光を反射しやすい金属である場合、段差部分で光が斜めに反射してしまい、配線パターンが歪んでしまう場合がある。これをハレーションという。そこで、反射防止剤を添加したフォトレジストを塗布（ＡＲＣ：Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ  Ｃｏａｔｉｎｇ）すること、又は被加工基板の表面に予め反射防止膜をＣＶＤやスパッタ等で形成しておくことができる。
【００２２】
しかしながら、レーリーの式（解像度＝ｋ１×λ／ＮＡ）における定数ｋ１を改善することによりレジストパターン形成の解像度を高めようとするためには、複雑な計算や加工を必要とするため、コスト増加やスループットの低下につながる可能性がある。
【００２３】
［実施形態１］
本実施形態に係る金属皮膜付物品の製造方法は、改質工程と、収縮工程と、めっき工程とを含む。めっき工程は触媒付与工程及び無電解めっき工程を含み、これらは連続して行われてもよいし、めっき工程の途中で収縮工程が行われてもよい。以下、これらの工程について、図２のフローチャートを参照しながら詳しく説明する。
【００２４】
（改質工程）
改質工程（Ｓ２１０）においては、無電解めっき皮膜が析出するように熱収縮樹脂の表面の一部が選択的に改質される。図１（Ａ）に示されるように、改質工程においては、熱収縮樹脂１１０上の無電解めっき皮膜を析出させる部分１２０が改質される。こうして、熱収縮樹脂１１０の表面の一部に改質部が形成される。
【００２５】
熱収縮樹脂１１０とは、加熱した時に収縮する樹脂のことを指す。加熱した際の収縮率は特に限定されるわけではないが、一実施形態においては、熱収縮樹脂１１０は１つの軸方向に２０％以上収縮する。より収縮率が大きい熱収縮樹脂１１０、例えば１つの軸方向に４０％以上収縮する熱収縮樹脂を用いることにより、より微細なめっきパターンを形成することが可能となる。
【００２６】
熱収縮樹脂１１０の種類は特に限定されないが、例えばポリスチレン等のポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、及びポリ塩化ビニル等のポリビニル樹脂等が挙げられる。熱収縮樹脂１１０は、２種以上の樹脂の混合物であってもよい。
【００２７】
熱収縮樹脂１１０は一般に販売されており、容易に入手することができる。熱収縮樹脂１１０の形状は特に制限されるわけではないが、一実施形態においては収縮率の大きいフィルム状の熱収縮樹脂１１０が用いられる。フィルム状の熱収縮樹脂１１０の厚さは特に限定されないが、例えば１０μｍ以上１．０ｍｍ以下であってもよい。
【００２８】
フィルム状の熱収縮樹脂１１０は、例えば以下のようにして製造することができる。まず、原料である樹脂ビーズを高熱で溶かして成形することにより、樹脂フィルムが得られる。次に、樹脂フィルムに対して電子線照射が行われる。電子線照射により樹脂フィルム内で架橋反応が起こり、樹脂フィルムの形状記憶性が付与される。次に、樹脂フィルムに低温の熱をかけて柔らかくした状態で樹脂フィルムを伸ばし、冷却することにより、樹脂フィルムは伸びた状態に固定される。こうして引き伸ばされた樹脂フィルムには強い歪みが入っているため、熱をかけると元の形状へと収縮する性質を有している。樹脂フィルムを一軸方向に伸ばして冷却することにより一軸方向に熱収縮する樹脂フィルムが得られ、樹脂フィルムを二軸方向に伸ばして冷却することにより二軸方向に熱収縮する樹脂フィルムが得られる。
【００２９】
円滑に熱収縮が起こるように、熱収縮樹脂１１０には添加剤が加えられていてもよい。添加剤の例としては、次のようなものがある。樹脂に、熱などを加えると、反応性に富んだ炭素ラジカルが発生する。これは空気中の酸素と反応して酸化し樹脂を劣化させる原因となる。これを防止するため炭素ラジカルの補足剤が添加される場合がある。また、熱収縮時に樹脂同士が接着することを防止するシリコーン変性ポリエステルが添加される場合もある。その他、必要に応じて他の添加剤も加えられる。
【００３０】
熱収縮樹脂１１０の改質は、樹脂に対する無電解めっきの前処理として既に用いられている様々な方法により行うことができる。改質方法としては、紫外線照射、クロム酸等による酸処理、及び水酸化ナトリウム等によるアルカリ処理等が挙げられるが、これらには限定されない。
【００３１】
本実施形態においては、熱収縮樹脂１１０の表面のうち、無電解めっき皮膜を析出させる部分１２０が選択的に改質される。例えば紫外線照射により改質を行う場合には、析出させるめっきパターンに対応する紫外線透過部を有するマスクを介して紫外線を照射することにより、所望の部分１２０に選択的に紫外線を照射することができる。また、酸処理により改質を行う場合には、析出させるめっきパターンに対応した開口を有するマスクを熱収縮樹脂１１０上に貼り付けて酸に浸漬することにより、所望の部分１２０を選択的に改質することができる。本実施形態では、選択的な改質を容易に行うことができる、紫外線照射により改質を行う方法が採用される。
【００３２】
具体的には、酸素、オゾン、アミン化合物ガス又はアミド化合物ガス等を含む雰囲気下で、紫外線を照射することにより、熱収縮樹脂１１０の表面が改質される。例えば、紫外線は、酸素とオゾンとの少なくとも一方を含む雰囲気下で照射される。一実施形態においては、２４３ｎｍ以下の波長の紫外線が照射される。酸素又はオゾンを含む雰囲気下においては、２４３ｎｍ以下の波長を有する紫外線により、雰囲気中の酸素分子が分解され、オゾンが発生する。こうして発生したオゾンが、同様に紫外線によって活性化されたポリ塩化ビニル等の樹脂と反応することにより、熱収縮樹脂１１０の表面にカルボキシル基等の親水性基が形成される。このようにして、熱収縮樹脂１１０の表面が、触媒イオンを吸着しやすいように改質されるものと考えられる。
【００３３】
このような紫外線は、継続的に紫外線を放射する紫外線ランプを用いて照射することができる。紫外線ランプの例としては、低圧水銀ランプ及びエキシマランプ等が挙げられる。低圧水銀ランプは、波長１８５ｎｍ及び２５４ｎｍの紫外線を照射することができる。また、参考として、大気中で使用できるエキシマランプの例を以下に挙げる。エキシマランプとしては、一般的にはＸｅ２エキシマランプが用いられている。
Ｘｅ２エキシマランプ  ：波長１７２ｎｍ
ＫｒＢｒエキシマランプ：波長２０６ｎｍ
ＫｒＣｌエキシマランプ：波長２２２ｎｍ
【００３４】
紫外線を熱収縮樹脂１１０へと照射する際には、照射量が所望の値となるように、紫外線の照射が制御される。照射量は、照射時間を変えることにより制御することができる。また、照射量は、紫外線ランプの出力、本数、又は照射距離等を変えることにより制御することもできる。
【００３５】
一実施形態において、より短い時間で十分にめっきを析出させる観点から、照射工程における紫外線の照射量は、波長１８５ｎｍにおいて４００ｍＪ／ｃｍ２以上、８１０ｍＪ／ｃｍ２以下である。例えば、波長１８５ｎｍにおいて紫外線の照射強度が１．３５ｍＷ／ｃｍ２である一実施形態において、紫外線の照射時間は、５分間以上、１０分間以下である。以下、特に断りがない限り、紫外線の照射量及び照射強度は、波長１８５ｎｍにおける値を指す。
【００３６】
しかしながら、めっきの析出条件は、めっき液の種類、熱収縮樹脂の種類、熱収縮樹脂表面の汚染度、めっき液の濃度、温度、ｐＨ、及び経時劣化、及び紫外線ランプの出力の変動等により変化するかもしれない。したがって、紫外線が照射された部分にのみ選択的にめっきが析出するように、紫外線ランプからの照射量を決定すればよい。
【００３７】
また、紫外線源として紫外線レーザを用いることもできる。必要に応じて、紫外線ランプと紫外線レーザとを併用してもよい。例えば、無電解めっき皮膜を析出させる部分１２０を紫外線レーザで照射した後に、熱収縮樹脂１１０全体に対して紫外線ランプを照射してもよい。この場合、所望の部分１２０は無電解めっき皮膜が析出する程度に改質され、その他の部分は無電解めっき皮膜が析出しない程度にしか改質されないように、紫外線レーザ及び紫外線ランプの照射量が制御される。
【００３８】
紫外線が照射された部分１２０をさらに改質するために、紫外線照射後の熱収縮樹脂１１０に対してアルカリ処理が行われてもよい。さらなる改質により、紫外線が照射された部分１２０に無電解めっき皮膜が析出しやすくなる。
【００３９】
一実施形態において、アルカリ処理においては、アルカリ溶液で熱収縮樹脂１１０が処理される。具体的には、アルカリ溶液に熱収縮樹脂１１０を浸漬することにより、アルカリ処理を行うことができる。アルカリ溶液の例は特に限定されないが、例えば、水酸化ナトリウム水溶液が挙げられる。アルカリ処理の時間は、特に限定されないが、例えば、１分間以上１０分間以下であってもよい。アルカリ処理時のアルカリ溶液の温度は、特に限定されないが、例えば、２０℃以上１００℃以下であってもよい。熱収縮樹脂１１０が、アルカリ処理によって改質を受ける材料を含んでいる場合もある。この場合には、所望の部分１２０は無電解めっき皮膜が析出する程度に改質され、その他の部分は無電解めっき皮膜が析出しない程度にしか改質されないように、アルカリ処理の条件が選択される。例えばアルカリ処理は、ＪＣＵ社製Ｃｕ−Ｎｉめっき液セット「ＡＩＳＬ」等の無電解めっき液セットを用いて行うことができる。
【００４０】
（触媒付与工程）
触媒付与工程（Ｓ２２０）においては、熱収縮樹脂１１０に無電解めっき触媒が付与される。触媒付与工程では、樹脂に対する無電解めっきにおいて既に用いられている方法と同様の方法を用いることができる。例えば、触媒付与工程はＪＣＵ社製Ｃｕ−Ｎｉめっき液セット「ＡＩＳＬ」等の無電解めっき液セットを用いて行うことができる。
【００４１】
一実施形態においては、触媒付与工程は以下の手順に従って行うことができる。
１．熱収縮樹脂１１０と触媒イオンとのバインダーを含有する溶液に熱収縮樹脂１１０を浸漬する。バインダーの例としては、カチオンポリマー等が挙げられる。
２．熱収縮樹脂１１０を触媒イオン入りの溶液に浸漬する。触媒イオンの例としては、塩酸酸性パラジウム錯体のようなパラジウム錯体等が挙げられる。
３．還元剤を含有する溶液に熱収縮樹脂１１０を浸漬し、触媒イオンを還元して触媒を析出させる。還元剤の例としては、水素ガス、ジメチルアミンボラン及び水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。
【００４２】
改質工程において、無電解めっき皮膜を析出させる部分１２０は親水性が向上するように改質されており、この部分１２０に選択的に触媒イオンが付着する。このため、付着した触媒イオンを還元すると、無電解めっき皮膜を析出させる部分１２０に選択的に無電解めっきに必要な触媒が析出する。図１（Ｂ）は、熱収縮樹脂１１０の無電解めっき皮膜を析出させる部分１２０に無電解めっき触媒１３０が析出している様子を表す。
【００４３】
触媒付与工程はさらなる手順を含んでいてもよいし、上記の全ての手順を行うことは必ずしも必須ではない。例えば、触媒イオンとして改質された部分に付着しやすいパラジウムの塩基性アミノ酸錯体を用いる場合、バインダーを含有する溶液に熱収縮樹脂１１０を浸漬する工程を省略することが可能である。
【００４４】
（収縮工程）
収縮工程（Ｓ２３０）では、改質工程において改質され、触媒付与工程において無電解めっきに必要な触媒が付与された熱収縮樹脂１１０が収縮させられる。例えば、熱収縮樹脂１１０を加熱することにより、熱収縮樹脂１１０は熱収縮する。一方で、力をかけて伸ばしていた樹脂から力を取り除く等の別の方法で樹脂を収縮させてもよい。収縮工程における熱収縮樹脂１１０の収縮率は熱収縮樹脂１１０の種類により異なるため、熱収縮樹脂１１０の種類を選択することにより収縮率を制御することができる。
【００４５】
加熱温度は、熱収縮樹脂１１０が熱収縮するように、熱収縮樹脂１１０の種類に応じて適宜選択することができる。一般的には、８０℃〜２００℃程度の範囲で加熱を行うことにより、熱収縮樹脂１１０を熱収縮させることができる。加熱方法は特に限定されず、ドライヤー、オーブン又は熱水等を用いて加熱を行うことができる。
【００４６】
図１（Ｃ）に示されるように、熱収縮により熱収縮樹脂１１０は小さくなる。これに伴って、無電解めっき触媒１３０が析出している部分も小さくなっている。
【００４７】
別の実施形態においては、熱収縮樹脂１１０の収縮を規制しながら熱収縮樹脂１１０の収縮が行われる。このような実施形態においては、収縮後の熱収縮樹脂１１０が所望の大きさを有するように、収縮を制御することができる。
【００４８】
以下に、熱収縮樹脂１１０の収縮を規制する方法の一例について、図８を参照しながら説明する。図８（Ａ）には、環状の形状を有する熱収縮樹脂１１０が示されている。例えば、熱収縮樹脂１１０はチューブ状であってもよい。熱収縮樹脂１１０の環の内部には、収縮規制部材８１０が挿入される。収縮規制部材８１０は、例えば平板状の部材であり、一実施形態においては熱により収縮しにくい部材が用いられる。そして、熱収縮樹脂１１０の環の内部に収縮規制部材８１０が挿入された状態で熱収縮樹脂１１０が収縮される。この場合、収縮後の熱収縮樹脂１１０の長さｈが、収縮規制部材８１０の長さｈとほぼ一致するように、熱収縮樹脂１１０の収縮は規制される。
【００４９】
このような実施形態によれば、複数の収縮規制部材８１０を用いることにより、１種類の熱収縮樹脂１１０から複数のサイズの金属皮膜付物品１５０を作製することができる。すなわち、同じマスクを用いて熱収縮樹脂１１０を改質しながら、複数種類の金属皮膜付物品１５０を作製することができる。また、熱収縮樹脂１１０の収縮率を制御することにより、配線ピッチを制御することもできる。このように、低コストに多種類の金属皮膜付物品１５０を作製することが可能となる。
【００５０】
さらには、図８に示す実施形態によれば、収縮後の熱収縮樹脂１１０は収縮規制部材８１０の表面に沿った形状を有する。このため、収縮時に熱収縮樹脂１１０に凹凸又はしわが生じることを抑制することができる。
【００５１】
チューブ状の熱収縮樹脂１１０を内部に挿入された収縮規制部材８１０の形状に沿って収縮させた後に、熱収縮樹脂１１０を切断することも可能である。
【００５２】
熱収縮樹脂１１０の収縮を規制する方法は、図８に示される方法に限定されるわけではない。例えば、収縮前の熱収縮樹脂１１０のうち２箇所以上を他の部材に固定した状態で熱収縮樹脂１１０を収縮させることにより、熱収縮樹脂１１０が所望の形状を有するように収縮を規制することができる。具体例としては、シート状の熱収縮樹脂１１０の４隅を、平面状部材の矩形領域の４隅に固定する。この際には、熱収縮樹脂１１０が収縮するように、熱収縮樹脂１１０は平面材部材には密着しない。この状態で熱収縮樹脂１１０を収縮させることにより、矩形領域と同じ大きさに収縮した熱収縮樹脂１１０を得ることができる。
【００５３】
（無電解めっき工程）
無電解めっき工程（Ｓ２４０）においては、無電解めっき触媒が付与され、熱収縮した熱収縮樹脂１１０に無電解めっきが行われる。無電解めっきにより、熱収縮樹脂１１０上にめっき皮膜又は金属皮膜を設けることができる。無電解めっき工程では、樹脂に対する無電解めっきにおいて既に用いられている方法と同様の方法を用いることができる。例えば、無電解めっき工程はＪＣＵ社製Ｃｕ−Ｎｉめっき液セット「ＡＩＳＬ」等の無電解めっき液セットを用いて行うことができる。
【００５４】
無電解めっき工程においては、図１（Ｄ）に示すように、熱収縮樹脂１１０に無電解めっきを行うことにより、熱収縮樹脂１１０の改質された部分１２０、すなわち無電解めっき触媒１３０が析出している部分に、選択的に無電解めっき皮膜１４０が析出する。言い換えれば、熱収縮樹脂１１０の表面の改質部上に無電解めっき皮膜１４０が析出する。上記の改質工程により、無電解めっきが析出する部分１２０にはナノレベルの凹凸が生じているため、析出した無電解めっき皮膜１４０と熱収縮樹脂１１０との間の高い密着が得られる。
【００５５】
具体的な無電解めっきの方法については、特に限定されない。採用可能な無電解めっきの例としては、ホルマリン系無電解めっき浴を用いた無電解めっき、及び析出速度は遅いが取り扱いが容易である次亜リン酸を還元剤として用いた無電解めっき等が挙げられる。また、より厚いめっき膜を形成するために、高速無電解めっき法により無電解めっき皮膜１４０を形成してもよい。無電解めっきのさらなる具体例としては、無電解ニッケルめっき、無電解銅めっき、無電解銅ニッケルめっき、無電解酸化亜鉛めっき等があげられる。
【００５６】
無電解めっき皮膜１４０の膜厚を増加させるために、熱収縮樹脂１１０に対してさらに電解めっきを行ってもよい。電解めっきの具体的な方法は特に限定されず、例えばニッケルめっき、銅めっき、又は銅ニッケルめっき等を行うことができる。さらに、電解めっきの材料として、亜鉛、銀、カドミウム、鉄、コバルト、クロム、ニッケル−クロム合金、スズ、スズ−鉛合金、スズ−銀合金、スズ−ビスマス合金、スズ−銅合金、金、白金、ロジウム、パラジウム、パラジウム−ニッケル合金、又は酸化亜鉛等が挙げられる。また、必要に応じて銀などの置換めっき処理を追加しても差し支えない。
【００５７】
上記の工程により、めっき皮膜付物品又は金属皮膜付物品１５０が得られる。所望の配線パターンに従って熱収縮樹脂１１０をめっきすることにより得られた金属皮膜付物品１５０は、配線板として用いることが可能である。本実施形態に従って得られた微細な配線パターンを有する配線板を用いることにより、小型デバイスを製造することが容易となる。また、本実施形態に従って得られた微細な配線パターンを有する配線板を用いることにより、デバイスの配線スペースを小さくすることができる。このため、例えば表示装置において表示面積を大型化することが可能である。さらには、微細なストライプパターンに従って熱収縮樹脂１１０をめっきすることにより得られた金属皮膜付物品１５０は、光を波長選択的に透過させるサブ波長格子として用いることができる。
【００５８】
（変形例）
実施形態１では、改質工程（Ｓ２１０）、触媒付与工程（Ｓ２２０）、収縮工程（Ｓ２３０）、及び無電解めっき工程（Ｓ２４０）をこの順に行った。しかしながら、収縮工程は、熱収縮樹脂１１０の選択的な改質処理と、無電解めっき処理との間であれば、任意のタイミングで行うことができる。
【００５９】
例えば、紫外線を照射して熱収縮樹脂１１０を改質した後に、熱収縮樹脂１１０を熱収縮させ、その後にアルカリ処理、触媒付与、及び無電解めっきを順次行ってもよい。この場合であっても、選択的な改質の分解能よりも高い分解能で精密なめっきパターンを形成することが可能である。
【００６０】
また、熱収縮樹脂１１０を改質し、改質された部分に触媒イオンを付与した後に、熱収縮樹脂１１０を熱収縮させ、その後に触媒イオンの還元及び無電解めっきを順次行ってもよい。この場合、触媒イオンの失活を防止するために、熱収縮を低温で行ってもよい。例えば、このような手順を採用する場合には、１１０℃以下の温度で熱収縮が起きる熱収縮樹脂１１０を選択することができる。
【００６１】
［実施形態２］
実施形態２においては、実施形態１の方法を応用して、めっき皮膜を有する立体物品を製造する。本実施形態に係る金属皮膜付物品の製造方法は、改質工程と、フィルムを基材に巻く工程と、収縮工程と、めっき工程とを有する。また、実施形態１と同様に、めっき工程は触媒付与工程と無電解めっき工程とを含む。以下に、本実施形態に係る製造方法について、図６のフローチャートを参照して説明する。
【００６２】
（改質工程）
改質工程（Ｓ６１０）は、実施形態１のＳ２１０と同様であり、詳細な説明は省略する。本実施形態においては、熱収縮樹脂５１０としてはフィルム状のものが用いられる。熱収縮樹脂５１０は、平面状フィルムであってもよいし、チューブ状又は無端ベルト状（以下、単にチューブ状と呼ぶ）のものであってもよい。熱収縮樹脂５１０がチューブ状である場合、紫外線照射等による改質を数回にわたって行うことにより、熱収縮樹脂５１０の外面全体にわたって選択的な改質を行うことができる。チューブ状の熱収縮樹脂５１０を用いることにより、めっき皮膜を有する樹脂フィルムを基材５５０の周りにシームレスに設けることができる。
【００６３】
図５（Ａ）に示すように、改質工程により、無電解めっき皮膜を析出させる部分５２０が改質された熱収縮樹脂５１０のフィルムが得られる。このようにして得られた、無電解めっきにより金属皮膜が析出するように表面の一部が改質されている熱収縮樹脂フィルムは、後述するように、三次元形状の基材に金属皮膜を設けるために有用である。
【００６４】
（触媒付与工程）
触媒付与工程（Ｓ６２０）は、実施形態１のＳ２２０と同様であり、説明を省略する。図５（Ｂ）に示すように、触媒付与工程により、無電解めっき皮膜を析出させる部分５２０に無電解めっき触媒５３０が析出した熱収縮樹脂５１０が得られる。
【００６５】
（フィルムを基材に巻く工程）
フィルムを基材に巻く工程（Ｓ６３０）においては、無電解めっき触媒が付与されたフィルム状の熱収縮樹脂５１０で、基材５５０が巻かれる。基材５５０の種類は特に限定されない。基材５５０の材料としては、例えばプラスチック、ガラス及び木材等が挙げられる。基材５５０の形状は、円筒状及び角柱状を含む任意の形状であってもよい。熱収縮樹脂５１０のフィルムは、基材５５０と密着するように巻き付けられてもよいが、基材５５０と熱収縮樹脂５１０のフィルムとの間に空隙が生じていてもよい。図５（Ｃ）は、基材５５０に熱収縮樹脂５１０のフィルムが巻かれている様子を示す。
【００６６】
熱収縮樹脂５１０が平面状フィルムである一実施形態においては、熱収縮樹脂５１０のフィルムの一端と他端とを接着することにより、熱収縮樹脂５１０がチューブ状とされる。通常は、チューブ状の熱収縮樹脂５１０の円周方向に熱収縮樹脂５１０が収縮するように、熱収縮樹脂５１０で基材５５０が巻かれる。
【００６７】
後述するように、基材５５０に巻かれた熱収縮樹脂５１０は、加熱により収縮して基材５５０と密着する。このような技術は、食料品及び日用品の分野において熱収縮フィルムで容器を包装するために又は容器にラベルを付すために広く用いられている。また、熱収縮フィルム上の文字が読み取れるように、湾曲した形状の容器を熱収縮フィルムで包装することも可能である。これらの公知技術に従って適切な素材及び加熱方法を採用することにより、任意の形状の基材５５０に歪みなく熱収縮樹脂５１０のフィルムを設けることが可能である。
【００６８】
（収縮工程）
収縮工程（Ｓ６４０）は、実施形態１のＳ２３０と同様であり、詳細な説明を省略する。収縮工程においては、基材５５０に巻かれた熱収縮樹脂５１０のフィルムを選択的に、例えばドライヤーを用いて加熱することができる。また、基材５５０と熱収縮樹脂５１０のフィルムとを同時に、例えばオーブンを用いて加熱することができる。図５（Ｄ）に示すように、熱収縮樹脂５１０が熱収縮することにより、熱収縮樹脂５１０は基材５５０に密着する。
【００６９】
（無電解めっき工程）
無電解めっき工程（Ｓ６５０）は、実施形態１のＳ２４０と同様であり、詳細な説明を省略する。無電解めっき工程においては、熱収縮樹脂５１０を備える基材５５０を無電解めっき液に浸漬することにより、無電解めっき皮膜を析出させることができる。図５（Ｅ）には、無電解めっき皮膜５４０を析出させることにより得られた、三次元形状の金属皮膜付物品５６０が示されている。得られた金属皮膜付物品５６０は、基材５５０と、基材５５０を取り巻く熱収縮された熱収縮樹脂５１０のフィルムと、このフィルムの一部に形成された無電解めっき皮膜５４０とを有している。
【００７０】
本実施形態に従って得られる金属皮膜付物品のさらなる例を図７に示す。図７（Ａ）には、円筒状の基材７００に無電解めっき皮膜を有する熱収縮樹脂フィルム７１０を設けた例を示す。また、無電解めっき皮膜を有する熱収縮樹脂フィルムを複数設けることにより、積層配線を実現することもできる。図７（Ｂ）は、基材７００に無電解めっき皮膜を有する熱収縮樹脂フィルム７２０を設け、さらに無電解めっき皮膜を有する熱収縮樹脂フィルム７３０を設けた例を示す。このような金属皮膜付物品は、Ｓ６１０〜Ｓ６５０により熱収縮樹脂フィルム７２０を設けた後に、さらにＳ６１０〜Ｓ６５０を繰り返して熱収縮樹脂フィルム７３０を設けることにより、作製することができる。
【００７１】
さらに、同様の手法を用いて、無電解めっき皮膜を有する熱収縮樹脂フィルムを熱収縮樹脂フィルムで保護することもできる。図７（Ｃ）は、基材７００に無電解めっき皮膜を有する熱収縮樹脂フィルム７４０を設け、さらに熱収縮樹脂フィルム７５０を設けた例を示す。
【００７２】
本実施形態においては、改質工程（Ｓ６１０）、触媒付与工程（Ｓ６２０）、フィルムを基材に巻く工程（Ｓ６３０）、収縮工程（Ｓ６４０）、及び無電解めっき工程（Ｓ６５０）をこの順に行った。しかしながら、実施形態１と同様に、収縮工程を異なるタイミングで行ってもよい。また、フィルムを基材に巻く工程（Ｓ６３０）も、熱収縮樹脂５１０の選択的な改質処理と収縮処理との間であれば、任意のタイミングで行うことができる。
【００７３】
本実施形態の方法によれば、フィルム状の熱収縮樹脂を選択的に改質することにより、三次元形状の金属皮膜付物品を作製することができる。これは、紫外線ランプ及びフォトマスクのような安価な装置を用いて実現することが可能であり、三次元レーザ照射装置のような高価な装置を用いて三次元形状の基材表面を選択的に改質することは必要ない。また、本実施形態の方法によれば、従来は困難であった三次元の積層配線パターンを容易に形成することができる。
【００７４】
本実施形態の方法は、金属皮膜を設けようとする基材の材質及び形状に関わらず用いることができる。例えば、本実施形態の方法に従って容易に処分できる配線板を作製することもできる。例えば、木材を基材として用いることにより、焼却可能な配線板を作製できる。さらに、発泡スチロールを基材として用いることにより、リモネンにより溶解可能な配線板を作製できる。さらには、建材として用いられている鉄柱又は木柱等の表面に配線を設けることにより、ケーブルで配線する必要がなくなる。
【００７５】
また、本実施形態の方法に従って配線が設けられた円筒状の基材を用いて、小型デバイスを実現することができる。このような円筒状の配線板は、内部に冷媒を通すことにより、効率的に冷却することができるため、例えばＬＥＤデバイスの配線板として用いることができる。さらには、積層配線が容易であるために、軽量無指向性コーリニアアンテナ又はチップアンテナ等のアンテナを容易に作製することができる。
【実施例】
【００７６】
［実施例１］
熱収縮樹脂としては、塩化ビニル製チューブ（積水化学社製，竿用チューブＡ−３０，折径５５ｍｍ，厚さ０．１ｍｍ）を切開したものを用いた。この熱収縮樹脂は、１００℃で熱収縮する。
【００７７】
（改質工程）
まず、図３（Ａ）に示す、合成石英基板上にＣｒ薄膜でパターニングしたフォトマスクを熱収縮樹脂上にセットした。図３（Ａ）において、ハッチング部は紫外線を透過しない部分を示す。次に、紫外線マスクを介して紫外線を照射した。
本実施例で用いた紫外線ランプ（低圧水銀ランプ）の詳細について以下に示す。
低圧水銀ランプ：サムコ社製ＵＶ−３００（主波長１８５ｎｍ，２５４ｎｍ）
照射距離３．５ｃｍにおける照度：５．４０ｍＷ/ｃｍ２（２５４ｎｍ）
１．３５ｍＷ/ｃｍ２（１８５ｎｍ）
【００７８】
具体的には、熱収縮樹脂に対して、上記の紫外線ランプを用いて、１．３５ｍＷ／ｃｍ２（１８５ｎｍ）の紫外線を、紫外線ランプから３．５ｃｍ離して１０分間照射した。この場合、積算露光量は１．３５ｍＷ／ｃｍ２×６００秒＝８１０ｍＪ／ｃｍ２となる。
【００７９】
次に、ＪＣＵ社製Ｃｕ−Ｎｉめっき液セット「ＡＩＳＬ」を使用して、紫外線を照射した熱収縮樹脂に対してアルカリ処理を行った。具体的には、水酸化ナトリウム（３．７重量％）を含有する水溶液を調製して５０℃に加熱し、紫外線照射後の熱収縮樹脂を２分間浸漬した。
【００８０】
（触媒付与工程）
次に、ＪＣＵ社製Ｃｕ−Ｎｉめっき液セット「ＡＩＳＬ」を使用して、アルカリ処理後の熱収縮樹脂に対して触媒付与処理を行った。具体的には、以下の手順に従って処理を行った。
１．コンディショナー処理（触媒イオンと熱収縮樹脂とのバインダー付与）（５０℃，２分間）
２．温水洗＋水洗＋乾燥（エアーブロー）
３．アクチベーター処理（触媒イオン付与）（５０℃，２分間）
４．水洗＋乾燥（エアーブロー）
５．アクセレレーター処理（触媒イオンを還元し金属化）（４０℃，２分間）
６．水洗＋乾燥（エアーブロー）
【００８１】
（収縮工程）
次に、熱収縮樹脂をドライヤーで加熱し、熱収縮させた。用いたドライヤーは、吹き出し口付近で１４０℃の熱風を出すことができる。
【００８２】
（無電解めっき工程）
次に、ＪＣＵ社製Ｃｕ−Ｎｉめっき液セット「ＡＩＳＬ」を使用して、熱収縮後の熱収縮樹脂に対して無電解めっきを６０℃、５分間行った。こうして、金属皮膜付物品を作製した。
【００８３】
得られた金属皮膜付物品に析出している金属皮膜を図３（Ｂ）に示す。図３（Ｂ）において、ハッチング部分は無電解めっき皮膜が析出した部分を示す。図３（Ｂ）に示すように、無電解めっき皮膜は、紫外線を照射した部分に選択的に析出していた。
【００８４】
［実施例２］
様々な大きさのマスクを用いて、実施例１と同様に金属皮膜付物品を作製した。用いたマスクの拡大図を図４（Ａ）に示す。また、得られた金属皮膜付物品の拡大図を図４（Ｂ）に示す。
【００８５】
Ｘが３５２μｍ、Ｙが３５０μｍのマスクを使用したところ、得られた金属皮膜付物品においてＸは３２５μｍ、Ｙは２０５μｍであった。
【００８６】
Ｘが７１μｍ、Ｙが７０μｍのマスクを使用したところ、得られた金属皮膜付物品においてＸは８５μｍ、Ｙは５６μｍであった。
【００８７】
Ｘが３５μｍ、Ｙが３５μｍのマスクを使用したところ、得られた金属皮膜付物品においてＸは４７μｍ、Ｙは２９μｍであった。
【００８８】
得られた金属皮膜付物品においては、無電解めっき皮膜が析出した部分が紫外線を照射した部分と比べて大きい傾向があった。この傾向は、本実施例で用いた紫外線照射装置の分解能に依存するものと考えられる。このような傾向を考慮して、紫外線を照射する部分を制御することにより、当業者であれば容易に所望のめっきパターンを有する金属皮膜付物品を得ることができると考えられる。
【００８９】
［実施例３］
熱収縮樹脂としては、実施例１と同じ塩化ビニル製チューブ（積水化学社製，竿用チューブＡ−３０，折径５５ｍｍ，厚さ０．１ｍｍ）を切開せずに用いた。
【００９０】
実施例１と同様に、熱収縮樹脂に対する改質工程及び触媒付与工程を行った。ただし、本実施形態においては、熱収縮樹脂がチューブ状であるため、折り畳んで平面状にした熱収縮樹脂の外面に対して２回にわけて紫外線照射を行った。
【００９１】
基材としては木製の角材（２５ｍｍ四方）を用いた。基材を熱収縮樹脂のチューブに通すことにより、基材を熱収縮樹脂のフィルムで巻いた。その後、実施例１と同様に熱収縮樹脂を加熱して熱収縮させた。
【００９２】
さらに、実施例１と同様にめっき工程を行うことにより、金属皮膜付物品を作製した。無電解めっき皮膜は、紫外線を照射した部分に選択的に析出していた。また、熱収縮樹脂のチューブは基材に密着していた。
【００９３】
［実施例４］
基材としてプラスチック板（４５ｍｍ幅）である収縮規制部材を用いたことを除き、実施例３と同様に金属皮膜付物品を作製した。得られた金属皮膜付物品の幅は、基材として用いたプラスチック板と同じ幅を有していた。また、得られた金属皮膜付物品に凹凸又はしわは見られなかった。無電解めっき皮膜は、紫外線を照射した部分に選択的に析出していた。基材としてプラスチック板（３５ｍｍ幅）である収縮規制部材を用いた場合も同様の結果が得られた。
【符号の説明】
【００９４】
１１０，５１０  熱収縮樹脂
１４０，５４０  無電解めっき皮膜
５５０  基材
Ｓ２１０，Ｓ６１０  改質工程
Ｓ２２０，Ｓ６２０  触媒付与工程
Ｓ６３０  樹脂のフィルムを基材に巻く工程
Ｓ２３０，Ｓ６４０  収縮工程
Ｓ２４０，Ｓ６５０  無電解めっき工程
８１０  収縮規制部材
【図１】
2015200010.tif 000003
【図２】
2015200010.tif 000004
【図３】
2015200010.tif 000005
【図４】
2015200010.tif 000006
【図５】
2015200010.tif 000007
【図６】
2015200010.tif 000008
【図７】
2015200010.tif 000009
【図８】
2015200010.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月10日(2015.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂表面の一部を無電解めっき皮膜が析出するようにパターン状に選択的に改質する改質工程と、
改質された前記樹脂を収縮させる収縮工程と、
前記収縮させた樹脂に無電解めっきを行うことにより、めっきパターンを析出させるめっき工程と、
を有し、
前記めっきパターンは前記改質のパターンよりも微細である
ことを特徴とする、めっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項２】
前記樹脂は形状記憶性が付与された熱収縮樹脂であり、前記収縮工程においては改質された前記熱収縮樹脂を加熱することにより熱収縮させることを特徴とする、請求項１に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項３】
前記樹脂は熱収縮樹脂であり、前記収縮工程において、前記熱収縮樹脂は１つの軸方向に２０％以上収縮することを特徴とする、請求項１に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項４】
前記収縮工程において、８０℃〜２００℃の範囲で加熱を行うことにより前記熱収縮樹脂を収縮させることを特徴とする、請求項２又は３に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項５】
前記樹脂はフィルム状であることを特徴とする、請求項１乃至４の何れか１項に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項６】
前記めっき工程が、
前記樹脂に無電解めっき触媒を付与する触媒付与工程と、
前記無電解めっき触媒が付与された樹脂に無電解めっきを行う無電解めっき工程と、  を含むことを特徴とする、請求項１乃至５の何れか１項に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項７】
前記改質工程、前記触媒付与工程、前記収縮工程、及び前記無電解めっき工程がこの順に行われることを特徴とする、請求項６に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項８】
前記改質工程においては、前記樹脂表面の一部に紫外線を照射することを特徴とする、請求項１乃至７の何れか１項に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項９】
前記紫外線の波長は２４３ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項８に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項１０】
前記紫外線の照射は、酸素とオゾンとの少なくとも一方を含む雰囲気下で行われることを特徴とする、請求項８又は９に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項１１】
前記紫外線の照射が、前記樹脂表面の一部に紫外線レーザを照射することと、前記樹脂表面の一部及び他の部分にさらに紫外線ランプからの紫外線を照射することと、を含むことを特徴とする、請求項８乃至１０の何れか１項に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項１２】
前記改質工程においてアルカリ処理をさらに行うことを特徴とする、請求項８乃至１１の何れか１項に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項１３】
前記改質工程と前記収縮工程との間に行われる、前記樹脂のフィルムを基材に巻く工程をさらに有することを特徴とする、請求項１乃至１２の何れか１項に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項１４】
前記収縮工程において、前記樹脂の収縮を規制しながら前記樹脂を収縮させることを特徴とする、請求項１乃至１３の何れか１項に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【請求項１５】
前記樹脂は環状の形状を有し、
前記収縮工程において、前記環の内部に収縮規制部材が挿入された状態で前記樹脂を収縮させることを特徴とする、請求項１４に記載のめっき皮膜付物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の目的を達成するために、例えば、一実施形態に係るめっき皮膜付物品の製造方法は以下の構成を備える。すなわち、
樹脂表面の一部を無電解めっき皮膜が析出するようにパターン状に選択的に改質する改質工程と、
改質された前記樹脂を収縮させる収縮工程と、
前記収縮させた樹脂に無電解めっきを行うことにより、めっきパターンを析出させるめっき工程と、
を有し、
前記めっきパターンは前記改質のパターンよりも微細である
ことを特徴とする。