(57)【要約】【課題】光透過性および光拡散性に優れ、且つ薄膜デバイスに適した光拡散層を、インクジェット方式により簡便に形成できる光学散乱層の形成方法及び光学散乱層を提供すること。【解決手段】平均粒子径が１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下かつ屈折率１．７以上の微粒子と、バインダー樹脂と、有機溶剤とを含有し、且つ有機溶剤として沸点２５０℃以下の有機溶剤を５０質量％以上９５質量％未満含有するインクを用いて、インクジェット法によりインクを透明基材上に塗布する光学散乱層の形成方法であって、光学散乱層が形成される画像領域Ｆを構成する画素Ｅの画素長をＬとしたときに、透明基材上におけるインクの着弾液滴のドット直径Ｄが、２１／２×Ｌ≦Ｄ＜４×Ｌを満たす条件下で、複数回に分けて画像領域Ｆを塗り分けると共に、複数回の塗布間に、塗布されたインクを乾燥させる乾燥工程を設ける光学散乱層の形成方法、及び該方法により形成された光学散乱層。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均粒子径が１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下かつ屈折率１．７以上の微粒子と、バインダー樹脂と、有機溶剤とを含有し、且つ前記有機溶剤として沸点２５０℃以下の有機溶剤を５０質量％以上９５質量％未満含有するインクを用いて、インクジェット法により該インクを透明基材上に塗布する光学散乱層の形成方法であって、
前記光学散乱層が形成される画像領域を構成する画素の画素長をＬとしたときに、前記透明基材上における前記インクの着弾液滴のドット直径Ｄが、２１／２×Ｌ≦Ｄ＜４×Ｌを満たす条件下で、
複数回に分けて前記画像領域を塗り分けると共に、複数回の塗布間に、塗布された前記インクを乾燥させる乾燥工程を設けることを特徴とする光学散乱層の形成方法。
【請求項２】
前記微粒子が、屈折率１．７以上の無機酸化物微粒子であることを特徴とする請求項１記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項３】
前記微粒子が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化セリウムから選ばれることを特徴とする請求項１又は２記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項４】
前記バインダー樹脂として、シロキサン骨格を有するポリマーを含有することを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項５】
前記透明基材が、透明フィルム基材であることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項６】
前記複数回の塗布により前記画像領域の全ての画素にインク滴を付与すると共に、少なくとも１回の塗布において、インク滴を着弾させる画素に隣接する隣接画素に非塗布領域を設けることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項７】
少なくとも１回の塗布において、インク滴を着弾させる複数の画素が、互いに隣接画素の関係にない複数の画素により構成されることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項８】
前記複数の画素が、所定のピッチで配置されることを特徴とする請求項７記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項９】
２回以上８回以下の塗布回数により前記画像領域を塗り分けることを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項１０】
前記乾燥工程において、塗布された前記インクの乾燥状態を、乾燥温度及び乾燥時間により制御することを特徴とする請求項１〜９の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項１１】
前記乾燥工程において、塗布された前記インク中の溶剤残存率が１０％以下となるまで乾燥させた後に、次の塗布を行うことを特徴とする請求項１〜１０の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項１２】
複数回の塗布過程において、同一のインクジェットヘッドで同一のインクを塗布することを特徴とする請求項１〜１１の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項１３】
前記画素長Ｌが、１０μｍ以上２００μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜１２の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項１４】
前記画素の長軸の長さと短軸の長さの比（長軸／短軸比）が、１以上２以下であることを特徴とする請求項１〜１３の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項１５】
インクジェットヘッドから吐出されるインク滴１滴当たりの体積が、０．５ｐＬ以上１００ｐＬ以下であることを特徴とする請求項１〜１４の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項１６】
前記インクは、少なくとも２種類以上の溶媒を含み、沸点が７０℃以上１７０℃未満の溶剤と、沸点が１７０℃以上２５０℃未満の溶剤とを含むことを特徴とする請求項１〜１５の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【請求項１７】
請求項１〜１６の何れかに記載の光学散乱層の形成方法により形成されたことを特徴とする光学散乱層。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学散乱層の形成方法及び光学散乱層に関し、詳しくは、インクジェット法を用いて光学散乱層を形成する光学散乱層の形成方法及びこれにより形成された光学散乱層を透明基材上に備える光学散乱層に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ＥＬ照明やＬＥＤ照明用途として、機能性フィルム上に光学散乱層を設ける需要が高まってきている。光学散乱層を設けることで、拡散による光の均質化、視野角依存性の低下、光取り出し効率向上などを図るものである。
【０００３】
特許文献１には、有機ＥＬ表示装置用途として、基板上に光散乱フィルムを設けることで視野角依存性を改善する技術が開示されている。
【０００４】
また特許文献２には、有機ＥＬ発光素子の投光性の基盤と投光性の電極の間に光の指向性を変更する光取り出し層を備えることにより、斜め方向への光の取り出し効率を増大する技術が開示されている。
【０００５】
これらの特許文献は、光散乱フィルムの作成方法として、グラビアコート法やダイコート法による塗布方法を用いるとしている。しかしながら、プロセスの簡略化やインク削減による低コスト化、環境負荷の低減といった観点から、インクジェット法による塗布の需要が高まってきている。また、インクジェット法を用いることで、特定の位置に光学散乱層をダイレクトにパターニング可能となり、従来パターニングに必要であったエッチング処理などの工程を簡素化することができる。
【０００６】
インクジェット法により光拡散層を形成する方法として、特許文献３には、活性光線硬化型樹脂あるいは熱硬化性樹脂を光拡散性付与物として使用し、インクジェット方式により、透明基材上に、微細凹凸構造を有する光拡散層を形成することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−７０８１６号公報
【特許文献２】特開２００９−５４４２４号公報
【特許文献３】特開２００４−３２５８６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献３に記載の技術では、光拡散剤の使用が抑えられるため、高透明性の光拡散シートが得られ易い利点があるが、インクジェット液滴の凹凸をそのまま利用することになるため、数マイクロメートルの高さの凹凸が形成される特徴があり、特にフレキシブルディスプレイや有機ＥＬ照明といった薄膜化が求められる用途を意図するような場合に、更なる改善の余地がある。
【０００９】
そこで、本発明の課題は、光透過性および光拡散性に優れ、且つ薄膜デバイスに適した光拡散層を、インクジェット方式により簡便に形成できる光学散乱層の形成方法及び光学散乱層を提供することにある。
【００１０】
また本発明の他の課題は、以下の記載によって明らかとなる。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題は、以下の各発明によって解決される。
【００１２】
１．
平均粒子径が１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下かつ屈折率１．７以上の微粒子と、バインダー樹脂と、有機溶剤とを含有し、且つ前記有機溶剤として沸点２５０℃以下の有機溶剤を５０質量％以上９５質量％未満含有するインクを用いて、インクジェット法により該インクを透明基材上に塗布する光学散乱層の形成方法であって、
前記光学散乱層が形成される画像領域を構成する画素の画素長をＬとしたときに、前記透明基材上における前記インクの着弾液滴のドット直径Ｄが、２１／２×Ｌ≦Ｄ＜４×Ｌを満たす条件下で、
複数回に分けて前記画像領域を塗り分けると共に、複数回の塗布間に、塗布された前記インクを乾燥させる乾燥工程を設けることを特徴とする光学散乱層の形成方法。
【００１３】
２．
前記微粒子が、屈折率１．７以上の無機酸化物微粒子であることを特徴とする前記１記載の光学散乱層の形成方法。
【００１４】
３．
前記微粒子が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化セリウムから選ばれることを特徴とする前記１又は２記載の光学散乱層の形成方法。
【００１５】
４．
前記バインダー樹脂として、シロキサン骨格を有するポリマーを含有することを特徴とする前記１〜３の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【００１６】
５．
前記透明基材が、透明フィルム基材であることを特徴とする前記１〜４の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【００１７】
６．
前記複数回の塗布により前記画像領域の全ての画素にインク滴を付与すると共に、少なくとも１回の塗布において、インク滴を着弾させる画素に隣接する隣接画素に非塗布領域を設けることを特徴とする前記１〜５の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【００１８】
７．
少なくとも１回の塗布において、インク滴を着弾させる複数の画素が、互いに隣接画素の関係にない複数の画素により構成されることを特徴とする前記１〜６の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【００１９】
８．
前記複数の画素が、所定のピッチで配置されることを特徴とする前記７記載の光学散乱層の形成方法。
【００２０】
９．
２回以上８回以下の塗布回数により前記画像領域を塗り分けることを特徴とする前記１〜８の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【００２１】
１０．
前記乾燥工程において、塗布された前記インクの乾燥状態を、乾燥温度及び乾燥時間により制御することを特徴とする前記１〜９の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【００２２】
１１．
前記乾燥工程において、塗布された前記インク中の溶剤残存率が１０％以下となるまで乾燥させた後に、次の塗布を行うことを特徴とする前記１〜１０の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【００２３】
１２．
複数回の塗布過程において、同一のインクジェットヘッドで同一のインクを塗布することを特徴とする前記１〜１１の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【００２４】
１３．
前記画素長Ｌが、１０μｍ以上２００μｍ以下であることを特徴とする前記１〜１２の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【００２５】
１４．
前記画素の長軸の長さと短軸の長さの比（長軸／短軸比）が、１以上２以下であることを特徴とする前記１〜１３の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【００２６】
１５．
インクジェットヘッドから吐出されるインク滴１滴当たりの体積が、０．５ｐＬ以上１００ｐＬ以下であることを特徴とする前記１〜１４の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【００２７】
１６．
前記インクは、少なくとも２種類以上の溶媒を含み、沸点が７０℃以上１７０℃未満の溶剤と、沸点が１７０℃以上２５０℃未満の溶剤とを含むことを特徴とする前記１〜１５の何れかに記載の光学散乱層の形成方法。
【００２８】
１７．
前記１〜１６の何れかに記載の光学散乱層の形成方法により形成されたことを特徴とする光学散乱層。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、光透過性および光拡散性に優れ、且つ薄膜デバイスに適した光拡散層を、インクジェット方式により簡便に形成できる光学散乱層の形成方法及び光学散乱層を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の光学散乱層の形成方法の一例を概念的に説明する図
【図２】本発明の光学散乱層の形成方法の他の例を概念的に説明する図
【図３】本発明の光学散乱層の形成方法の更なる他の例を概念的に説明する図
【図４】塗布工程においてインク滴を着弾させる画素を選択する際の選択例を概念的に説明する図
【図５】実施例に係る光学散乱層をＷＹＫＯで測定したＸ−Ｙ画像
【図６】実施例に係る光学散乱層をＷＹＫＯで測定した断面プロファイル
【図７】実施例に係る光学散乱層をＷＹＫＯで測定したＸ−Ｙ画像
【図８】実施例に係る光学散乱層をＷＹＫＯで測定した断面プロファイル
【図９】比較例のインク塗布方法を説明する図
【図１０】比較例に係る光学散乱層をＷＹＫＯで測定したＸ−Ｙ画像
【図１１】比較例に係る光学散乱層をＷＹＫＯで測定した断面プロファイル
【発明を実施するための形態】
【００３１】
本発明の光学散乱層の形成方法は、インクジェット法を用いて基材上にインクを塗布し、これを乾燥させて光学散乱層を形成する際に好適に用いられる。
【００３２】
以下に、図面を参照して本発明を実施するための形態について説明する。
【００３３】
図１は、本発明の光学散乱層の形成方法の一例を概念的に説明する図であり、透明基材上の画像領域に、光学散乱層が形成される様子を平面視している。
【００３４】
図中、Ｆは画像領域であり、Ｅは画像領域Ｆを構成する画素である。
【００３５】
画像領域Ｆとは、透明基材上において、インクジェット法によりインクが塗布される対象となる領域であり、また、光学散乱層が形成される対象となる領域ということもできる。
【００３６】
画像領域Ｆは、インクジェットヘッドから吐出させるインク滴の着弾位置に対応するように格子状に区画することができる。本明細書では、このように区画された一つの領域を画素Ｅという。
【００３７】
ここでは、便宜上、縦横に４列の計１６個の画素Ｅからなる単位を示しているが、実際の画像領域は、このような単位を、縦方向に複数繰り返して配置し、更に、これを横方向にも複数繰り返し配置して構成され得る。図示された画像領域Ｆは、実際の画像領域における少なくとも一部分ないし全部分に相当し得る。
【００３８】
インクジェット法によりインクを透明基材上に塗布する際には、画像領域Ｆを構成する各画素Ｅにインク滴を着弾させる。
【００３９】
ここで、画素Ｅにインク滴を着弾させるとは、該インク滴の着弾中心が少なくとも該画素Ｅ中に配置されることを意味し、好ましくは、該インク滴の着弾中心が該画素Ｅの中心と実質的に一致することである。
【００４０】
インクとしては、平均粒子径が１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下かつ屈折率１．７以上の微粒子と、バインダー樹脂と、有機溶剤とを含有し、且つ前記有機溶剤として沸点２５０℃以下の有機溶剤を５０質量％以上９５質量％未満含有するものが用いられる。インクについては、後に詳しく説明する。
【００４１】
インクの塗布は、画像領域Ｆを構成する画素Ｅの画素長をＬとしたときに、透明基材上における該インクの着弾液滴のドット直径Ｄが、２１／２×Ｌ≦Ｄ＜４Ｌを満たす条件下で行われる。
【００４２】
ここで、画素長Ｌとは、１つの画素Ｅの１辺の長さを指し、長軸（長辺ともいう）と短軸（短辺ともいう）で長さが異なる場合は、長軸の長さを指す。画素Ｅの長軸の長さと短軸の長さの比（長軸／短軸比）は、１以上２以下であることが好ましい。長軸と短軸で長さが異なる場合は、長軸の長さを指す
【００４３】
また、インクの着弾液滴のドット直径Ｄとは、インクジェットヘッドから透明基材上に着弾させた１つのインク滴によるドットを平面視したときの直径を指す。
【００４４】
インクの塗布に際して、画素長Ｌと、インクの着弾液滴のドット直径Ｄとが、２１／２×Ｌ≦Ｄ＜４×Ｌを満たすように、例えば、インクジェットヘッドからのインクの吐出量（即ち、画素Ｅに着弾させるインク滴の体積）、透明基材の表面エネルギー、インクの表面張力等の少なくとも１つが調整されていることが好ましい。特に、インクの吐出量が調整されていることが好ましい。
【００４５】
インクの吐出量の調整は、例えば、インクジェットヘッドが備える駆動素子（例えば圧電素子）に印加する印加電圧の大きさ、周波数、駆動波形の形状（パルス形状）の少なくとも１つを変化させることにより行うことができる。
【００４６】
図示の例では、Ｄ＝２１／２×Ｌの条件で、塗布を行っている。
【００４７】
インクの塗布に際しては、塗布（塗布工程ともいう）を複数回に分けて、画像領域Ｆを塗り分けるようにする。
【００４８】
画像領域Ｆを塗り分けるとは、複数回の塗布工程のうち２以上の塗布工程において、インク滴を着弾させる画素Ｅを選択するときに、互いに異なる画素Ｅが含まれるように選択することである。複数回の塗布工程において、インク滴を着弾させる画素Ｅとして、共通の画素Ｅを選択してもよいが、共通の画素Ｅを選択しないことが、より好ましい。
【００４９】
ここでは、不図示のインクジェットヘッドを、画像領域Ｆに対して相対移動（この相対移動のことを、パスあるいはスキャンという場合がある）する過程で、該インクジェットヘッドのノズルから画像領域Ｆ中の画素Ｅにインク滴を着弾させるようにしている。
【００５０】
そして、１回目の塗布工程である１パス目では、選択された一部の画素（以下、第１画素という場合がある。）１にインク滴を着弾させ、２回目の塗布工程である２パス目では、選択された他の一部の画素（以下、第２画素という場合がある。）２にインク滴を着弾させるようにしている。
【００５１】
このとき、複数回の塗布間（この例では、１パス目と２パス目の間）に、透明基材上に塗布されたインクを乾燥させる乾燥工程が設けられる。この例では、乾燥工程により、２パス目の前に、１パス目において塗布されたインクを乾燥させている。
【００５２】
乾燥工程では、先の塗布工程で塗布されたインクの塗膜を乾燥させることで、該塗膜の表面エネルギーを高めることができる。そのため、乾燥工程の後の塗布工程において塗布される上層のインクは、下地の表面エネルギー状態に応じて濡れ性が変化し、一種の自己組織化現象により盛り上がり、最終的に得られる塗膜の表面に、周期的な凹凸構造を形成することができる。凹凸構造の周期は、例えば、画素長Ｌのｎ倍となる周期とすることができる。ここで、ｎは、１以上の整数であり、好ましくは１〜４の整数である。
【００５３】
上記のような凹凸構造を有する光学散乱層は、微粒子によるＭｉｅ散乱による散乱効果のみならず、光の波長よりも長周期の凹凸による幾何学的散乱による散乱効果も発生するため、光透過性を保ったまま、光散乱性の高い光学散乱層とすることができる。
【００５４】
また、インク中に比較的多く含まれる有機溶剤を乾燥させることにより、透明基材上に付与された液滴の体積を好適に減じて、凹凸の高さを好適に抑えることができる。このとき、上述した一種の自己組織化現象により上層のインクが盛り上がるので、液滴の体積を減じながらも、はっきりとした高低差を有する凹凸を形成できる。これにより、薄膜デバイスに適した光学散乱層とすることができる。
【００５５】
更に、プロセスの面でも、優れた特性を有する光学散乱層を、インクジェット方式により簡便に形成できる。
【００５６】
本発明の光学散乱層の形成方法は、ある観点において、上述した凹凸構造のデザインの自由度に優れるということもできる。例えば、画素長Ｌと、着弾液滴のドット直径Ｄとの関係を、２１／２×Ｌ≦Ｄ＜４×Ｌの条件を満たす範囲内で調整することによって、あるいは、塗布工程の回数の設定や、各塗布工程においてインク滴を着弾させる画素の選択の仕方などによって、塗膜の表面に様々な凹凸構造を付与することができる。
【００５７】
図２に示した例では、図１に示した例において、画素長Ｌと、着弾液滴のドット直径Ｄとの関係を、Ｄ＝２×Ｌの条件に変更して塗布を行っている。
【００５８】
図１の例と、図２の例を比較すると、図１の例では、着弾液滴のドット直径Ｄが比較的小さいため、１パス目で、第１画素１にインク滴を着弾させる際に、第１画素１に隣接する隣接画素に非塗布領域が設けられる。
【００５９】
隣接画素とは、ある１つの画素に対して、図中、上下左右に隣接する（即ち辺を共有して隣接する）画素を意味する。ある１つの画素に対して計４個の隣接画素が存在し得る。
【００６０】
隣接画素に非塗布領域を設けるとは、ある１回の塗布工程において、前記１つの画素にインク滴を着弾させる際に、計４個の隣接画素のうち少なくとも１つの画素に、前記１回の塗布工程において、インクが塗布されない領域が設けられることを意味する。
【００６１】
図１の例のように、ある１回の塗布工程において、インク滴を着弾させる画素に隣接する４つの隣接画素のすべてに、インクが塗布されない領域が設けられることも好ましいことである。
【００６２】
少なくとも１回の塗布工程において、前記非塗布領域が設けられることが好ましく、複数回設けられる塗布工程の各回の塗布において、前記非塗布領域が設けられることが、より好ましい。
【００６３】
一方、図２の例では、着弾液滴のドット直径Ｄが比較的大きいため、１パス目で、第１画素１にインク滴を着弾させる際に、第１画素１からはみ出したインクにより隣接画素が被覆され、非塗布領域が設けられない。なお、図２中、１パス目において、塗布されたインクの塗膜の隙間から画像領域Ｆが覗いている領域があるが、実際には、該領域は、図示された画像領域Ｆの単位に隣接する不図示の画像領域の単位に形成された塗膜により被覆され得る。
【００６４】
１回の塗布において、図１のように、隣接画素に非塗布領域を設けることも、図２のように、隣接画素に非塗布領域を設けないことも、何れも好ましいことであるが、非塗布領域を設けることが、より好ましい。
【００６５】
１回の塗布において隣接画素に非塗布領域を設ける場合は、次いで塗布される上層のインクを、一種の自己組織化現象により盛り上がらせる際に、下地の表面エネルギーとして、該１回の塗布とこれに続く乾燥工程により形成された塗膜の表面エネルギーと、非塗布領域の表面エネルギー（例えば透明基材自体の表面エネルギー）とを複合的に作用させ易くなり、好適な凹凸構造を形成し易くなる。複数回の塗布を経て最終的に全ての画素にインク滴を着弾させる場合においても、上記のように、１回の塗布において隣接画素に非塗布領域を設けることが好ましい。
【００６６】
以上、図１及び図２に示した例においては、例えば、第１画素１として示した画素を第２画素として選択し、第２画素２として示した画素を第１画素として選択してもよい。
【００６７】
図３は、４回の塗布で画像領域Ｆを塗り分ける場合の一例を示す概念図である。
【００６８】
ここでは、画素長Ｌと、インクの着弾液滴のドット直径Ｄとの関係は、Ｄ＝２×Ｌに調整されており、画像領域Ｆを構成する各画素Ｅにインクを塗布する際に、４回の塗布により、各画素Ｅに液滴を付与している。
【００６９】
具体的には、１パス目（１回目の塗布）では、選択された第１画素１に液滴を付与し、２パス目（２回目の塗布）では、選択された第２画素２に液滴を付与し、３パス目（３回目の塗布）では、選択された第３画素３に液滴を付与し、４パス目（４回目の塗布）では、選択された第４画素４に液滴を付与している。
【００７０】
そして、１回のパスごとに、該パスで塗布されたインクを乾燥させる乾燥工程を設けてから、次のパスを行うようにしている。
【００７１】
このように塗布工程を４回に分ける場合においても、先の塗布工程において塗布されたインクの塗膜を乾燥させることで、該塗膜の表面エネルギーを高めることができる。そのため、後の塗布工程において塗布される上層のインクは、下地の表面エネルギー状態に応じて濡れ性が変化し、一種の自己組織化現象により盛り上がり、最終的に得られる塗膜の表面に、周期的な凹凸構造が形成される。
【００７２】
図３の例では、４回設けられる塗布工程の各回の塗布において、上述した非塗布領域を設けるようにしている。
【００７３】
以上の説明では、画像領域に対する塗布（塗布工程）を２回に分ける場合と、４回に分ける場合とについて説明したが、塗布回数は、これらに限定されず、２回以上であればよい。特に、２回以上８回以下の塗布回数で画像領域を塗り分けることが好ましい。
【００７４】
なお、図１〜図３は、あくまでも概念図であり、最終的に得られる塗膜（即ち光学散乱層）の凹凸構造は、必ずしも図１〜図３に示したものと一致するとは限らない。例えば、透明基材上（あるいは先に形成された塗膜上）に塗布されたインクドット同士の相互作用等の影響により、最終的に得られる塗膜の凹凸構造は、図１〜図３に示したものと異なる場合もある。このようなインクドット同士の相互作用等も、上述した一種の自己組織化現象の一部を構成し得るものであり、何れにしても周期的な凹凸構造を形成し、本発明の効果を奏することができる。
【００７５】
次に、複数回設けられる塗布工程の各々においてインク滴を着弾させる画素を選択する際の選択例について、塗布工程を４回設ける場合の例に基づいて、詳しく説明する。
【００７６】
図４は、塗布工程においてインク滴を着弾させる画素を選択する際の選択例概念的に説明する図である。
【００７７】
図４（ａ）〜（ｃ）において、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、画像領域Ｆを構成する画素Ｅの、図中、縦方向の列をそれぞれ示しており、ａ、ｂ、ｃ及びｄは、画像領域を構成する画素の、図中、横方向の列をそれぞれ示している。
【００７８】
縦方向の列Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、図中、左方向から右方向へと順に隣接しており、横方向の列ａ、ｂ、ｃ及びｄは、図中、上方向から下方向へと順に隣接している。
【００７９】
以下の説明において、Ｘ−ｘの画素（この例において、Ｘは、Ａ、Ｂ、Ｃ又はＤであり、ｘは、ａ、ｂ、ｃ又はｄである。）とは、Ｘ列に含まれ且つｘ列に含まれる画素を指し、Ｘ列とｘ列の交点に位置する画素ということもできる。
【００８０】
また、以下の説明において、第ｎ画素（この例において、ｎは、１、２、３又は４である。）とは、ｎ回目の塗布工程においてインク滴を着弾させる画素を指す。図中、各画素内に、ｎに対応する数字を示している。
【００８１】
図４（ａ）の例では、第１画素として、Ｂ−ａ、Ｂ−ｃ、Ｄ−ａ及びＤ−ｃの画素を選択している。
【００８２】
これら第１画素は、互いに隣接画素の関係にない複数の画素により構成されている。
【００８３】
隣接画素とは、上述したように、ある１つの画素に対して、図中、上下左右に隣接する（即ち辺を共有して隣接する）画素を意味する。従って、互いに隣接画素の関係にない複数の画素とは、互いに、図中、上下左右に隣接しない複数の画素を意味する。
【００８４】
また、第２画素として、Ａ−ｂ、Ａ−ｄ、Ｃ−ｂ及びＣ−ｄの画素を選択している。これら第２画素も、互いに隣接画素の関係にない複数の画素により構成されている。
【００８５】
また、第３画素として、Ｂ−ｂ、Ｂ−ｄ、Ｄ−ｂ及びＤ−ｄの画素を選択している。これら第３画素も、互いに隣接画素の関係にない複数の画素により構成されている。
【００８６】
更に、第４画素として、Ａ−ａ、Ａ−ｃ、Ｃ−ａ及びＣ−ｃの画素を選択している。これら第４画素も、互いに隣接画素の関係にない複数の画素により構成されている。
【００８７】
少なくとも１回の塗布工程において、インク滴を着弾させる複数の画素が、互いに隣接画素の関係にない複数の画素により構成されることが好ましい。図示の例のように、複数設けられる塗布工程の各々において、インク滴を着弾させる複数の画素が、互いに隣接画素の関係にない複数の画素により構成されることが、より好ましい。
【００８８】
次に、第ｎ画素（ｎ回目の塗布工程においてインク滴を着弾させる画素）と第ｎ＋１画素（ｎ＋１回目の塗布工程においてインク滴を着弾させる画素）との関係について説明する。
【００８９】
以下の説明において、対角画素とは、ある１つの画素に対して、対角方向に角（頂点ともいう）を共有して配置される画素を意味し、辺を共有する隣接画素とは区別することができる。
【００９０】
図示の例において、第１画素と第２画素とは、互いに対角画素の関係にある。第２画素と第３画素とは、互いに隣接画素の関係にある。第３画素と第４画素とは、互いに対角画素の関係にある。
【００９１】
このように、乾燥工程を挟んで連設される２つの塗布工程でそれぞれ選択される画素同士の関係（即ち、第ｎ画素と第ｎ＋１画素との関係）は、互いに隣接画素の関係であるか、又は、互いに対角画素の関係であることが好ましい。
【００９２】
また、複数の塗布工程間で、対角画素の関係が多く現れるように、画素を選択することも好ましいことである。
【００９３】
例えば、図４（ａ）の例では、第１画素と第２画素との関係と、第３画素と第４画素との関係が、それぞれ対角画素の関係にある。つまり、第ｎ画素と第ｎ＋１画素との関係が、対角画素の関係となる回数が２である。
【００９４】
例えば、図４（ｂ）の例では、第１画素と第２画素とは、互いに隣接画素の関係にある。第２画素と第３画素とは、互いに対角画素の関係にある。第３画素と第４画素とは、互いに隣接画素の関係にある。従って、第ｎ画素と第ｎ＋１画素との関係が、対角画素の関係となる回数が１である。
【００９５】
例えば、図４（ｃ）の例では、第１画素と第２画素とは、互いに隣接画素の関係にある。第２画素と第３画素とは、互いに隣接画素の関係にある。第３画素と第４画素とは、互いに隣接画素の関係にある。従って、第ｎ画素と第ｎ＋１画素との関係が、対角画素の関係となる回数が０である。
【００９６】
また、図４（ａ）〜（ｃ）の例のように、画像領域Ｆ中において、縦２画素×横２画素の部分領域を何れの位置で抽出しても、第１画素〜第４画素が１つずつ含まれるように画素を選択することも好ましいことである。
【００９７】
以上、塗布工程を４回設ける場合の例に基づいて説明したが、この説明は、設けられる塗布工程の回数が異なる場合にも適宜援用することができる。
【００９８】
例えば、塗布工程を４回以外の複数回設ける場合においても、少なくとも１回の塗布工程において、インク滴を着弾させる複数の画素が、互いに隣接画素の関係にない複数の画素により構成されることが好ましく、複数設けられる塗布工程の各々において、インク滴を着弾させる複数の画素が、互いに隣接画素の関係にない複数の画素により構成されることが、より好ましい。
【００９９】
また、例えば、塗布工程を２回設ける場合は、図１及び図２に示したように、画像領域Ｆ中において、縦１画素×横２画素の部分領域あるいは縦２画素×横１画素の部分領域を何れの位置で抽出しても、第１画素及び第２画素が１つずつ含まれるように画素を選択することが好ましい。
【０１００】
例えば、塗布工程を８回設ける場合は、図示しないが、画像領域Ｆ中において、縦２画素×横４画素の部分領域あるいは縦４画素×横２画素の部分領域を何れの位置で抽出しても、第１画素〜第８画素が１つずつ含まれるように画素を選択することが好ましい。
【０１０１】
また、少なくとも１回の塗布工程において、インク滴を着弾させる複数の画素は、画素の配列方向に、所定のピッチで配置されることが好ましい。複数設けられる塗布工程の各々において、インク滴を着弾させる複数の画素は、画素の配列方向に、所定のピッチで配置されることが、より好ましい。
【０１０２】
ここで、画素の配列方向とは、図中、縦方向又は横方向の何れかを指し、好ましくは両方である。
【０１０３】
複数の画素が所定のピッチで配置されるとは、１以上の所定数の画素を飛ばすように複数の画素が配置されることを意味する。以上に説明した例では、１つの画素を飛ばして複数の画素が選択される例を示したが、２以上の画素を飛ばして複数の画素が選択されてもよい。また、縦方向及び横方向で、飛ばす画素の所定数は、同一でも異なってもよい。
【０１０４】
複数回設けられる塗布工程の各々においてインク滴を着弾させる画素を選択するための手段（即ち、画像領域を塗り分ける塗り分け手段）の具体的な構成は、格別限定されず、自体公知の手段を用いることができる。例えば、インク滴を吐出するノズルを複数備えたインクジェットヘッドを用い、画像領域Ｆ上をパスする過程で、選択された画素にインク滴を着弾させ、選択されない画素にインク滴を着弾させないように、前記複数のノズルからのインク滴を吐出する動作を制御することにより、塗り分けを行うことができる。
【０１０５】
以上の説明において、画像領域Ｆに対してインクジェットヘッドをパス（即ち相対移動）する方向は、図中、左から右に向かう方向、右から左に向かう方向、上から下へ向かう方向、又は、下から上へ向かう方向等の何れであってもよい。また、方向を変化させながらパスようにしてもよい。
【０１０６】
このような相対移動は、インクジェットヘッドを移動する、及び又は、透明基材を移動することにより行うことができる。透明基材を移動する場合は、例えば、透明基材が載置されたステージを移動させる方法等を用いることができる。
【０１０７】
複数設けられる塗布工程間で、パスする方向を同一としてもよいし、異ならせてもよい。また、１回の塗布工程は、１回のパスにより行われることが好ましいが、複数回のパスにより行ってもよい。また、塗布工程は、必ずしもインクジェットヘッドをパスさせる場合に限定されず、例えば、透明基材に対してインクジェットヘッドを固定した状態で塗布を行ってもよい。
【０１０８】
乾燥工程においては、乾燥温度及び乾燥時間により、先に透明基材上に塗布されたインクの乾燥状態を制御することが好ましい。
【０１０９】
乾燥状態は、先に透明基材上に塗布されたインクについて、溶剤残存率をもって表すことができるが、例えば、目視、顕微鏡観察、あるいは画像解析等を行うことによって確認することもできる。
【０１１０】
例えば、先に透明基材上に塗布されたインクが、所定の溶剤残存率以下となるまで乾燥させた後に、次の塗布を行うことができる。ここで、溶剤残存率は、乾燥後のインクに残存する溶剤の重量を、乾燥前のインク（即ち、透明基材上に着弾直後のインクということもできる。）に含まれる溶剤の重量で除したものを、百分率で示した値を指す。例えば、先に透明基材上に塗布されたインクの溶剤残存率が１０％以下となるまで乾燥させた後に、次の塗布を行うことが好ましい。
【０１１１】
また、例えば、目視等により、反射光の様子を観察することによって、インクが乾燥されたことを確認することができる。具体的には、例えば、蛍光灯等の光源の映り込みの有無等で判断でき、湿潤状態では蛍光灯が鮮明に映り込むが、乾燥すると映り込みが観測されなくなる。乾燥を確認した後、次の塗布を行うようにする。
【０１１２】
乾燥状態は、必ずしもインクを塗布する度に確認する必要はない。即ち、所定の乾燥状態が達成できる乾燥条件、具体的には乾燥温度及び乾燥時間等をあらかじめ確認しておき、該乾燥条件を適用することによって、所定の乾燥状態となるように制御できる。
【０１１３】
乾燥工程は、自然乾燥により行われてもよいが、乾燥手段を用いることが好ましい。乾燥手段は、インク中の溶剤の蒸発を促進できるものであれば格別限定されず、ＩＲヒーター等のヒーターのような加熱手段や、ファン等のような送風手段などを好ましく例示でき、これらの１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１１４】
例えば、ヒーター等によって透明基材を加熱してインク中の溶剤の蒸発を促進させる場合は、インクを塗布する前にあらかじめ加熱しておく方法、インクの塗布中に加熱する方法、あるいは、インクの塗布後に加熱する方法などを適宜用いることができる。
【０１１５】
インク中に、硬化性を有する樹脂を含有する場合、樹脂を硬化させる硬化工程を設けることができる。
【０１１６】
硬化性を有する樹脂としては、例えば、紫外線・電子線などの活性エネルギー線によって硬化する活性エネルギー線硬化型樹脂や、熱硬化型樹脂などを好ましく例示でき、これらは、バインダー樹脂の少なくとも一部又は全部としてインク中に含有することができる。
【０１１７】
硬化工程で用いられる硬化手段は、樹脂の硬化機構に合わせて適宜選択され、紫外線・電子線などの活性エネルギー線を照射する手段や、加熱手段等を用いることができる。
【０１１８】
硬化工程を行うタイミングは、格別限定されないが、１回又は２回以上の塗布工程ごとに設けられてもよいし、全ての塗布工程の後に設けられてもよい。何れの場合においても、硬化工程は、塗布されたインクを乾燥させる乾燥工程の後に設けられることが、より好ましい。
【０１１９】
以上の説明では、１回の塗布工程を１回のパスにより行う場合について示したが、必ずしもこれに限定されるものではない。塗布工程に際してインクジェットヘッドを画像領域に対して相対移動（パス）させる場合は、１回の塗布工程を、１回又は２回以上のパスにより行うことができる。
【０１２０】
塗布領域を複数回の塗布で塗り分ける際に、各回の塗布において、用いるインクジェットヘッドを異ならせたり、あるいは、用いるインクを異ならせたりしてもよい。インクを異ならせる場合は、例えば、充填されたインクが互いに異なる２以上のインクジェットヘッドを用いる方法等を用いることができる。
【０１２１】
好ましいのは、同一のインクジェットヘッドを用いることであり、また同一のインクを塗布することである。これにより、プロセスが簡略化され、生産性を向上できる。のみならず、上述した通り、先に塗布されたインクを乾燥させる乾燥工程を設けているので、各回で同一のインクを塗布する場合でも、先に形成された塗膜の表面エネルギーを高めて、以降に塗布されるインクに一種の自己組織化現象を好適に生起させ、最終的に得られる塗膜表面に、好ましい凹凸構造を形成することができる。
【０１２２】
同様の理由により、各回の塗布において、インクの吐出量（即ち、画素Ｅに着弾させるインク滴の体積）を、例えば、回を重ねるごとに増加させる、あるいは減少させるように変化させることも好ましいが、各回を通して一定の吐出量とすることが、より好ましい。
【０１２３】
次に、本発明に好適に用いられるインクについて詳しく説明する。
【０１２４】
インクに含まれる微粒子は、平均粒子径が１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、かつ屈折率が１．７以上の微粒子であれば、目的に応じて適宜選択することができ、有機微粒子であっても、無機微粒子であってもよいが、中でも高屈折率を有する無機微粒子であることが好ましく、屈折率１．７以上の無機酸化物微粒子であることが最も好ましい。
【０１２５】
高屈折率を有する有機微粒子としては、例えば、ポリメチルメタクリレートビーズ、アクリル−スチレン共重合体ビーズ、メラミンビーズ、ポリカーボネートビーズ、スチレンビーズ、架橋ポリスチレンビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ及びベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ等が挙げられる。
【０１２６】
高屈折率を有する無機微粒子としては、例えば、ジルコニウム、チタン、インジウム、亜鉛、アンチモン、セリウム、ニオブ及びタングステン等の中から選ばれる少なくとも１つの酸化物からなる無機酸化物微粒子、およびナノダイヤモンドが挙げられる。無機酸化物微粒子としては、具体的には、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、三酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ；Indium Tin Oxide)、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）及び酸化タングステン（ＷＯ３）等が挙げられ、中でも、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化セリウムから選ばれることが好ましく、酸化チタンが最も好ましい。また、酸化チタンの中でも、アナターゼ型よりルチル型の方が、触媒活性が低いため高屈折率層や隣接した層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高いことから好ましい。
【０１２７】
また、これらの粒子は、インク中の溶媒に分散させた際の分散性や安定性向上の観点から、表面処理を施したものを用いるか、あるいは表面処理を施さないものを用いるかを選択することができる。
【０１２８】
表面処理を行う場合、表面処理の具体的な材料としては、酸化ケイ素や酸化ジルコニウム等の異種無機酸化物、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物、オルガノシロキサン、ステアリン酸等の有機酸等が挙げられる。これら表面処理材は、１種を単独で用いてもよく、複数種を組み合わせて用いてもよい。中でも、分散液の安定性の観点から、表面処理材としては、異種無機酸化物及び／又は金属水酸化物が好ましく、金属水酸化物がより好ましい。
【０１２９】
無機酸化物微粒子が、表面処理材で表面被覆処理されている場合、その被覆量（一般的に、この被覆量は、粒子の質量に対する当該粒子の表面に用いた表面処理材の質量割合で示される。）は、０．０１〜９９質量％であることが好ましい。表面処理材の被覆量が０．０１質量％以上であると、表面処理による分散性や安定性の向上効果を十分に得ることができ、また、９９質量％以内であると高屈折率の光学散乱層の屈折率が低下するのを抑制することができる。
【０１３０】
微粒子はインクジェット射出性の観点から、インク中に分散させて存在させることが望ましい。
【０１３１】
微粒子の分散方法としては、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等の各種分散機を用いることができる。また、機能性微粒子の粗粒分を除去する目的で、遠心分離装置を使用すること、フィルターを使用することも好ましい。
【０１３２】
また、上記分散にあたっては、分散剤を使用することもできる。ここでいう分散剤とは、機能性微粒子に対して親和性を有する基を１個または複数個有し、一般に分散剤として知られている化合物をいう。上記の親和性基としては、例えば、アミノ基、４級アンモニウム、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、チオール基、スルホン酸基などの極性基が挙げられる。この顔料親和性基は、化合物の主鎖に含まれていてもよく、また、側鎖または側鎖と主鎖の双方に含まれていてもよい。
【０１３３】
上記分散剤としては、一般に分散剤として市販されているものを使用することができ、例えば、日本ルーブリゾール社製のソルスパース３０００、ソルスパース９０００、ソルスパース１７０００、ソルスパース２００００、ソルスパース２４０００、ソルスパース２８０００、ソルスパース３２０００、ソルスパース３５１００、ソルスパース３６０００、ソルスパース４１０００、ソルスパース４４０００、エフカアディティブズ社製のＥＦＫＡ４００９、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０４７、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０１５、ＥＦＫＡ４０５０、ＥＦＫＡ４０５５、ＥＦＫＡ４０６０、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ４３００、ＥＦＫＡ７４６２、味の素ファインテクノ社製のアジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ７１１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＮ４１１、アジスパーＰＡ１１１、コグニスジャパン社製のＴＥＸＡＰＨＯＲＵＶ２０、ＴＥＸＡＰＨＯＲＵＶ２１、ＴＥＸＡＰＨＯＲＰ６１、ビッグケミー・ジャパン社製のＤｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０３、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０６、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６２、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６３、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６６、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６７、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６８、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１９０など（いずれも商品名）が挙げられる。これらの分散剤は、一種類でもよく、また複数種を組み合わせて用いてもよい。
【０１３４】
これら分散剤のインク全量に対する含有量としては、０．１〜１０ｗｔ％が好ましく、更に好ましくは、０．３〜５ｗｔ％である。また、これらの分散剤は二種以上併用することも可能である。
【０１３５】
微粒子の平均粒子径は、光散乱法、電気泳動法、レーザードップラー法等を用いた市販の粒径測定機器により求めることができる。例えば動的光散乱法により平均粒子径を算出する際は、Ｚ平均粒子径を好ましく用いることができる。また、透過型電子顕微鏡による粒子像撮影を少なくとも１００粒子以上に対して行い、この像をＩｍａｇｅ−Ｐｒｏ（メディアサイバネティクス製）等の画像解析ソフトを用いて統計的処理を行うことによっても求めることが可能である。
【０１３６】
微粒子の平均粒子径は、１００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径が１００ｎｍ以下であると十分な光散乱効果が得られ難くなり、５００ｎｍ以上であるとインクジェット吐出性が悪化する。光散乱性とインクジェット射出性の観点から、平均粒子径は、２００ｎｍ以上、４００ｎｍ以下がより好ましい。
【０１３７】
微粒子の粒度分布については特に規定はしないが、光学散乱層の均質性の観点から粒度分布は狭い方が好ましい。なお、ここで言う粒度分布とは微粒子のｓ粒子径の分布を意味するものであり、動的光散乱法を用いた粒径測定機器や透過型電子顕微鏡による粒子像により算出することができる。なお粒度分布を狭める目的や粗大粒子を取り除く目的で、遠心分離機を使用することやフィルター処理を使用することも可能である。
【０１３８】
微粒子は屈折率が１．７以上であれば適宜使用できる。微粒子の屈折率は文献値を使用することもできるが、最小偏角法、臨界角法、Ｖブロック法などを利用した各種屈折率測定装置や、分光エリプソメトリーにより測定して算出することもできる。
【０１３９】
更に、用いられるインクは、バインダー樹脂を含有することを一つの特徴とする。
【０１４０】
バインダー樹脂としては、公知の樹脂が特に制限なく使用可能であり、例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ナイロン（Ｎｙ）、ポリウレタン、芳香族ポアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド及びポリエーテルイミド等の樹脂、有機無機ハイブリッド構造を有するシルセスキオキサンを基本骨格とした樹脂、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体等が挙げられる。これら樹脂は、２種以上混合して使用することができる。これらの中でも、有機無機ハイブリッド構造を有するものが好ましく、シロキサン骨格を有するポリマーであることがさらに好ましい。
【０１４１】
また、以下の親水性樹脂を使うことも可能である。親水性樹脂としては水溶性の樹脂、水分散性の樹脂、コロイド分散樹脂又はそれらの混合物が挙げられる。親水性樹脂としては、アクリル系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリウレタン系及びフッ素系等の樹脂が挙げられ、例えば、ポリビニルアルコール、ゼラチン、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、カゼイン、デンプン、寒天、カラギーナン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリスチレンスルホン酸、セルロース、ヒドロキシルエチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、ヒドロキシルエチルセルロース、デキストラン、デキストリン、プルラン及び水溶性ポリビニルブチラール等のポリマーを挙げることができるが、これらの中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。
【０１４２】
また、バインダーとしては、主として紫外線・電子線によって硬化する樹脂、すなわち、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶媒とを混合したものや熱硬化型樹脂も好適に使用できる。このようなバインダー樹脂としては、飽和炭化水素又はポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがより好ましい。
【０１４３】
また、バインダーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーを得るためには、２つ以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【０１４４】
また、特定の雰囲気下で紫外線照射によって、金属酸化物、金属窒化物又は金属酸化窒化物を形成しうる化合物が特に好適に使用される。本発明に適する化合物としては、特開平８−１１２８７９号公報に記載されている比較的低温で改質処理され得る化合物が好ましい。
【０１４５】
具体的には、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を有するポリシロキサン（ポリシルセスキオキサンを含む）、Ｓｉ−Ｎ−Ｓｉ結合を有するポリシラザン及びＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合とＳｉ−Ｎ−Ｓｉ結合の両方を含むポリシロキサザン等を挙げることができる。これらは、２種以上を混合して使用することができる。また、異なる化合物を逐次積層したり、同時積層したりしても使用可能である。
【０１４６】
インク中に、バインダー樹脂として、シロキサン骨格を有するポリマーを含有することは、特に好ましい。
【０１４７】
バインダー樹脂として用いられるポリマーは、１種類を単独で用いてもよいし、必要に応じて２種類以上を混合して使用してもよい。
【０１４８】
バインダー樹脂は、インク全量に対して１ｗｔ％〜１０ｗｔ％の範囲で含有されることが好ましい。バインダー樹脂が１ｗｔ％未満であると微粒子の保持性が十分ではなく、光学散乱層の耐傷性やデバイス適応性が著しく劣化する恐れがあり、１０ｗｔ％以上では微粒子が相対的に少なくなるため散乱機能が劣化する恐れがある。
【０１４９】
インクは、沸点２５０℃以下の有機溶剤を５０質量％以上９５質量％未満含有する。
【０１５０】
沸点２５０℃以下の有機溶剤は、格別限定されず種々のものを使用できる。例えば、水、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステル類、アミド類、アミン系、炭化水素系などから選ばれた１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１５１】
沸点２５０℃以下の有機溶剤は、特にヒドロキシ基（−ＯＨ基）を含有することが好ましい。−ＯＨ基を含有する溶媒により光散乱粒子の分散性が非常に良好となり、基材との密着性も良好となる。更に、−ＯＨ基を含有する溶媒は、フィルム系の透明基材により吸収されにくい赤外波長域を効率よく吸収するため、フィルム系の透明基材上での高速乾燥をも実現できる。
【０１５２】
−ＯＨ基を含有する溶剤は、格別限定されないが、例えば、１価アルコール、グリコールエーテル類、２価アルコールなどを例示できる。
【０１５３】
１価アルコールとしては、例えば、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール等が挙げられ、特に好ましいものとしては、２−プロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノールが挙げられる。
【０１５４】
グリコールエーテル類としては、例えば、Ｒ１−（ＥＯ）ｎ−ＯＨ（ここで、Ｒ１は炭素数１〜３４のアルキル基を表し、ｎは１である。ＥＯはエチレンオキシド基を表す。）、又は、Ｒ２−（ＰＯ）ｎ−ＯＨ（ここで、Ｒ２は炭素数１〜３４のアルキル基を表し、ｎは１である。ＰＯはプロピレンオキシド基を表す。）で表されるグリコールエーテル類を好ましく使用できる。具体的には、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル等が挙げられ、より好ましいものとしては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル等が挙げられる。
【０１５５】
２価アルコールとしては、例えば、炭素数４〜８の２価アルコールが好ましく使用される。具体的には、ヘキシレングリコール（別称：２−メチル−２，４−ペンタンジオール）、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，２−ヘキサンジオール等が挙げられ、より好ましいものとして、ヘキシレングリコール（別称：２−メチル−２，４−ペンタンジオール）等が挙げられる。
【０１５６】
更に、上記以外の溶剤として、例えば、１，３−プロパンジオール、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノール、１−ペンタノール、１−オクタノール、２−オクタノール、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、エチレングリコール、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、２−イソプロピルアミノエタノール等を好ましく例示でき、これらも好ましく用いることができる。
【０１５７】
本発明で用いられるインクは、少なくとも２種類以上の溶媒から構成されることが好ましく、少なくとも１つの溶媒の沸点が７０℃以上１７０℃未満の溶剤であり、少なくとも他の１つの溶媒の沸点が１７０℃以上２５０℃未満であることが好ましい。沸点が異なる溶剤を２種類併用することで、基材上での乾燥性向上と、インクジェットヘッドのノズル面での乾燥による射出性低下防止を両立することが可能となる。
【０１５８】
本発明で用いられるインクの粘度は、１ｃＰ以上５０ｃＰ未満であることが好ましく、３ｃＰ以上１５ｃＰ未満であることが特に好ましい。インクの粘度が、３ｃＰ以上１５ｃＰ未満であることにより、インクジェット射出性を更に向上することができる。
【０１５９】
なお、粘度を測定するための粘度計としては、毛細管粘度計、落球粘度計  共軸二重円筒型回転粘度計、単一円筒型回転粘度計、円錐平板型回転粘度計、振動式粘度計など種々の方法が挙げられるが、本発明では円錐平板型回転粘度計を用いて２５℃で測定した値を使用する。
【０１６０】
光学散乱層が形成される対象となる透明基材としては、各種ガラス、石英、樹脂フィルム（以下、単にフィルムという場合がある）等を使用することができる。
【０１６１】
ガラスとしては、例えば、シリカガラス、ソーダ石灰シリカガラス、鉛ガラス、ホウケイ酸塩ガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。これらのガラス材料の表面には、必要に応じて、研磨等の物理的処理を施したり、無機物又は有機物からなる被膜や、これらの被膜を組み合わせたハイブリッド被膜が形成されてもよい。
【０１６２】
フィルムとしては、光透過性を有する透明フィルム基材が用いられる。基材としての硬度に優れ、軽量性及び可撓性に優れ、且つ安価である等の観点から、樹脂フィルムを用いることが好ましい。本発明において基材として用いられる樹脂フィルムは、格別限定されず、その材料、形状、構造、厚み等については公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステル等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエチレン（ＰＥ）樹脂フィルム、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルム、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂フィルム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂フィルム等を好ましく例示できる。
【０１６３】
中でも、化学的に安定であり、製造時のばらつきが小さく、且つ安価であるという観点から、二軸延伸ポリエチレンテレフタレート、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリカーボネートフィルムであることが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレート、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルムであることが、より好ましい。
【０１６４】
フィルムは、精密パターニング特性の観点から、前処理されていることも好ましいことである。前処理としては、接着層の塗設、撥水層の塗設、コロナ放電、プラズマ照射、ＵＶ照射等を好ましく例示できる。
【０１６５】
有機ＥＬ素子用の光学散乱層として用いる場合は、フィルムとして、ガスバリアフィルムを用いることも好ましい。ガスバリアフィルムとはプラスチック支持体上にガス不透過性のバリア層を設置したフィルムである。ガスバリアフィルムの例としては酸化ケイ素や酸化アルミニウムを蒸着したもの（特公昭５３−１２９５３、特開昭５８−２１７３４４）、有機無機ハイブリッドコーティング層を有するもの（特開２０００−３２３２７３、特開２００４−２５７３２）、無機層状化合物を有するもの（特開２００１−２０５７４３）、無機材料を積層したもの（特開２００３−２０６３６１、特開２００６−２６３９８９）、有機層と無機層を交互に積層したもの（特開２００７−３０３８７、米国特許６４１３６４５、Ａｆｆｉｎｉｔｏら著  Ｔｈｉｎ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ  １９９６年  ２９０−２９１頁）、有機層と無機層を連続的に積層したもの（米国特許２００４−４６４９７）などが挙げられる。
【０１６６】
透明基材上へのインクの付与に用いられるインクジェットヘッドとしては、ピエゾ方式、サーマル方式、コンティニュアス方式など既存の方式の何れを用いてもよいが、上述したインクを用いた際における射出安定性を更に好適に向上できる観点から、ピエゾ方式を用いることが好ましい。
【０１６７】
ヘッドから射出するインク滴の体積は、０．５ｐｌ〜１００ｐｌの範囲とすることが好ましい。塗布ムラが少なく、且つ印字速度を高速化できる観点から、２ｐｌ〜５０ｐｌの範囲であることが、より好ましい。なお、インク滴の体積は、印加電圧の調整等によって適宜調整可能である。
【０１６８】
印字解像度は、好ましくは１８０ｄｐｉ〜１００００ｄｐｉの範囲、より好ましくは３６０ｄｐｉ〜２８８０ｄｐｉの範囲で、湿潤膜厚とインク滴の体積等を考慮して適宜設定することができる。
【０１６９】
必要なインク量は、上述した印字解像度およびインクジェットヘッドから吐出されるインク滴の体積を適宜選択することで調整することが可能である。
【０１７０】
インクジェット塗布時（塗布直後）における湿潤塗膜の湿潤膜厚は、適宜設定することができるが、好ましくは１μｍ〜１００μｍの範囲、より好ましくは１μｍ〜３０μｍの範囲、最も好ましくは５μｍ〜１５μｍの範囲において、本発明の効果がより顕著に奏される。なお、湿潤膜厚は、塗布面積、印字解像度及びインク滴の体積から算出できる。
【０１７１】
本発明の光学散乱層は、以上に説明した本発明の光学散乱層の形成方法により形成されたものであり、光透過性および光拡散性に優れ、且つ薄膜デバイスに適する効果を奏する。また、インクジェット方式により簡便に形成できる効果も奏する。
【０１７２】
本発明の光学散乱層は、例えば、光取り出し層や光拡散層などとして好適に用いることができ、特に、有機ＥＬ用の光取り出し層、ＬＥＤ用の光拡散層などとして好適に用いることができる。
【０１７３】
有機ＥＬ用の光取り出し層として使用する場合は、光学散乱層の上に、平滑化のための平滑化層を設けることが好ましい。
【０１７４】
平滑化層としては、高屈折率のものが好ましく、金属アルコキシドや、高屈折率ナノ微粒子などを分散させた分散液を塗布することにより形成されたものを好ましく用いることができる。
【０１７５】
以上の説明において、一つの態様について説明された構成は、他の態様に適宜適用することができる。
【実施例】
【０１７６】
以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はかかる実施例により限定されない。
【０１７７】
１．インクの調製
＜酸化チタン分散液の調製＞
以下の各添加剤を混合し、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ２００ｇ  と共にポリプロピレン製のポリ瓶に入れて密栓し、ペイントシェーカーを用いて５時間分散し、酸化チタンの含有量が５０％  の酸化チタン分散液を調製した。
【０１７８】
酸化チタン（ルチル型：粒径０．２５μｍ）                    ５０部
ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール社製）              ５部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                      ４５部
【０１７９】
＜インク１〜７の調製＞
上記酸化チタン分散液に、バインダー樹脂（ＡＰＭ社製「ＥＤ２３０ＡＬ」（有機無機ハイブリッド樹脂：濃度２５ｗｔ％））及び各種有機溶剤を表１に示す配合で添加し、混合した後、０．４５μｍのＰＴＦＥフィルターにて濾過して、得られた濾液をインク１〜７とした。なお、濾過前後において、表１に示した組成は実質的に変化していないことを確認した。なお、インク５〜７は、比較例に係るインクである。
【０１８０】
【表１】
2015200820.tif 000003
【０１８１】
＜基材の準備＞
基材として、下記ガラス基材と透明フィルム基材を準備した。
【０１８２】
・ガラス基材
６ｃｍ×８ｃｍのガラス板（無アルカリ  イーグルＸＧ  平岡特殊硝子製）を用意し、超音波洗浄機にて洗剤洗浄、純水洗浄後、ＵＶ−オゾン洗浄機を用いて、低圧水銀灯（ＵＶ波長２５４ｎｍ、１８５ｎｍ）で３０ｍｍの距離から照度２ｍＷ／ｃｍ２で１０分間ＵＶ照射して処理を行い、ガラス基材とした。
【０１８３】
・透明フィルム基材（ＰＥＴ）
６ｃｍ×８ｃｍの透明ＰＥＴフィルムを用意し、上記ガラス基材と同様の処理を行い、透明フィルム基材とした。
【０１８４】
２．光学散乱層の形成
（実施例１）；光学散乱層１の形成
インクジェットヘッド（コニカミノルタ社製「ＫＭ１０２４ＬＮＢ」）を搭載したＸＹロボット（武蔵エンジニアリング製ＳＨＯＴＭＡＳＴＥＲ３００）と、インクジェットコントロールシステム（コニカミノルタ製ＩＪＣＳ−１）を用いて、上記洗浄したガラス基材上に、次に記す条件でインクジェット法により光学散乱層を作製した。
【０１８５】
インクジェットヘッドに上記インク１を詰めて、ヘッド内をインク１で置換した。
【０１８６】
インクジェット法の描画条件は、印加電圧調整により液適量を４０．０ｎｇとし、解像度を３６０ｄｐｉ×３６０ｄｐｉとし、テーブル搬送速度を５０ｍｍ／ｓに設定した。
【０１８７】
またＸＹロボットのステージ温度を６０℃に設定し、ステージ上で加熱できる構成とした。
【０１８８】
上記設定した装置にガラス基材を設置し、図１に示したように、インク滴を着弾させる複数の画素として、互いに隣接画素の関係にない複数の画素（第１画素１）を選択し、スキャンして、１パス目の液滴をガラス基材上に付与し、１分間静置した。
【０１８９】
なお、塗布直後は湿潤状態であったが、１分静置後は目視で乾燥していることが確認された。なお乾き度合いについては、例えば蛍光灯の映り込みの有無等で判断でき、湿潤状態では蛍光灯が鮮明に映り込むが、乾燥すると映り込みが観測されなくなる。
【０１９０】
その後、図１に示したように、インク滴を着弾させる複数の画素として、互いに隣接画素の関係にない複数の画素（第２画素２）を選択し、スキャンして２パス目の液滴を付与し、再び１分間ステージ上で静置して乾燥後、日本ガイシ社製の波長制御ＩＲヒーターにより出力１００％（２ｋＷ）で１０分間乾燥させた。
【０１９１】
その後、２２２ｎｍの真空紫外線を照射するＸｅエキシマ−ランプにより４Ｊ／ｃｍ２のエキシマ−光を照射してバインダー樹脂を硬化させ、光学散乱層１を得た。
【０１９２】
なお、以下の説明において、上記塗り分け方式を、「塗り分け方式Ａ」と省略する。即ち、塗り分け方式Ａとは、図１に示した塗り分けパターン（即ち、第１画素と第２画素の選択）により、２回に分けて画像領域Ｆを塗り分けることを意味する。
【０１９３】
上記のようにして作製した光学散乱層１を光干渉型表面形状計測システム（ＷＹＫＯ）で測定したＸ−Ｙ画像を図５に、同じくＷＹＫＯで測定した断面プロファイルを図６に示す。
【０１９４】
（実施例２）；光学散乱層２の形成
インクジェットヘッド（コニカミノルタ社製「ＫＭ１０２４ＬＮＢ」）を搭載したＸＹロボット（武蔵エンジニアリング製ＳＨＯＴＭＡＳＴＥＲ３００）と、インクジェットコントロールシステム（コニカミノルタ製ＩＪＣＳ−１）を用いて、上記洗浄したガラス基材上に、次に記す条件でインクジェット法により光学散乱層を作製した。
【０１９５】
インクジェットヘッドに上記調液したインク１を詰めて、ヘッド内をインク１で置換した。
【０１９６】
インクジェット法の描画条件は、印加電圧調整により液適量を４０．０ｎｇとし、解像度を３６０ｄｐｉ×３６０ｄｐｉとし、テーブル搬送速度を５０ｍｍ／ｓに設定した。
【０１９７】
またＸＹロボットのステージ温度を６０℃に設定し、ステージ上で加熱できる構成とした。
【０１９８】
上記設定した装置にガラス基材を設置し、図３に示したように、インク滴を着弾させる複数の画素として、互いに隣接画素の関係にない複数の画素（第１画素１）を選択し、スキャンして、１パス目の液滴をガラス基材上に付与し、１分間静置した。なお、塗布直後は湿潤状態であったが、１分静置後は目視で乾燥していることが確認された。
【０１９９】
その後、図３に示したように、インク滴を着弾させる複数の画素として、互いに隣接画素の関係にない複数の画素（第２画素２）を選択し、スキャンして２パス目の液滴を付与し、再び１分間ステージ上で静置して乾燥した。塗布直後は湿潤状態であったが、１分静置後は目視で乾燥していることが確認された。
【０２００】
その後、図３に示したように、インク滴を着弾させる複数の画素として、互いに隣接画素の関係にない複数の画素（第３画素３）を選択し、スキャンして３パス目の液滴を付与し、再び１分間ステージ上で静置して乾燥した、塗布直後は湿潤状態であったが、１分静置後は目視で乾燥していることが確認された。
【０２０１】
その後、図３に示したように、インク滴を着弾させる複数の画素として、互いに隣接画素の関係にない複数の画素（第４画素４）を選択し、スキャンして４パス目の液滴を付与し、再び１分間ステージ上で静置して乾燥した。
【０２０２】
その後、日本ガイシ社製の波長制御ＩＲヒーターにより出力１００％（２ｋＷ）で１０分間乾燥させた。その後、２２２ｎｍの真空紫外線を照射するＸｅエキシマ−ランプにより４Ｊ／ｃｍ２のエキシマ−光を照射してバインダー樹脂を硬化させた。
【０２０３】
なお、以下の説明において、上記塗り分け方式を、「塗り分け方式Ｂ」と省略する。即ち、塗り分け方式Ｂとは、図３に示した塗り分けパターン（即ち、第１画素、第２画素、第３画素及び第４画素の選択）により、４回に分けて画像領域Ｆを塗り分けることを意味する。
【０２０４】
上記のようにして作製した光学散乱層１を光干渉型表面形状計測システム（ＷＹＫＯ）で測定したＸ−Ｙ画像を図７に、同じくＷＹＫＯで測定した断面プロファイルを図８に示す。
【０２０５】
（実施例３）；光学散乱層３の形成
実施例１に記載の光学散乱層１の作製方法において、基材をガラス基材から透明フィルム基材（ＰＥＴ）に代え、インクジェット液滴量を４０．０ｎｇから３０．０ｎｇに変更したこと以外は同様にして、光学散乱層３を形成した。
【０２０６】
（実施例４）；光学散乱層４の形成
実施例１に記載の光学散乱層１の作製方法において、インク１をインク２に代えたこと以外は同様にして、光学散乱層４を形成した。
【０２０７】
（実施例５）；光学散乱層５の形成
実施例１に記載の光学散乱層１の作製方法において、インク１をインク２に代え、基材をガラス基材から透明フィルム基材（ＰＥＴ）に代え、塗り分け方式をＢに変更したこと以外は同様にして、光学散乱層５を作製した。
【０２０８】
（実施例６）光学散乱層６の形成
実施例１に記載の光学散乱層１の作製方法において、インク１をインク３に代えたこと以外は同様にして、光学散乱層６を作製した。
【０２０９】
（実施例７）；光学散乱層７の形成
実施例１に記載の光学散乱層１の作製方法において、インク１をインク４に代えたこと以外は同様にして、光学散乱層７を作製した。
【０２１０】
（実施例８）；光学散乱層８の形成
実施例１に記載の光学散乱層１の作製方法において、１パス目を付与した後の乾燥時間を３０秒に早めたこと以外は同様にして、光学散乱層８を作製した。
【０２１１】
なお、乾燥時間３０秒では目視で半乾きの状態であった。
【０２１２】
（比較例１）；光学散乱層９の形成
インクジェットヘッド（コニカミノルタ社製「ＫＭ１０２４ＬＮＢ」）を搭載したＸＹロボット（武蔵エンジニアリング製ＳＨＯＴＭＡＳＴＥＲ３００）と、インクジェットコントロールシステム（コニカミノルタ製ＩＪＣＳ−１）を用いて、上記洗浄したガラス基材上に、次に記す条件でインクジェット法により光学散乱層を作製した。
【０２１３】
インクジェットヘッドに上記調液したインク１を詰めて、ヘッド内をインク１で置換した。
【０２１４】
インクジェット法の描画条件は、印加電圧調整により液適量を４０．０ｎｇとし、解像度を３６０ｄｐｉ×３６０ｄｐｉとし、テーブル搬送速度を５０ｍｍ／ｓに設定した。
【０２１５】
またＸＹロボットのステージ温度を６０℃に設定し、ステージ上で加熱できる構成とした。
【０２１６】
上記設定した装置にガラス基材を設置し、図９で示すようにシングルパス方式で一度に全画素に液滴を付与して、１分間ステージ上で静置して乾燥後、日本ガイシ社製の波長制御ＩＲヒーターにより出力１００％（２ｋＷ）で１０分間乾燥させた。
【０２１７】
その後、２２２ｎｍの真空紫外線を照射するＸｅエキシマ−ランプにより４Ｊ／ｃｍ２のエキシマ−光を照射してバインダー樹脂を硬化させた。
【０２１８】
なお、以下の説明において、上記塗布方式を、「塗り分け無し」と省略する。
【０２１９】
上記のようにして作製した光学散乱層９を光干渉型表面形状計測システム（ＷＹＫＯ）で測定したＸ−Ｙ画像を図１０に、同じくＷＹＫＯで測定した断面プロファイルを図１１に示す。
【０２２０】
（比較例２）；光学散乱層１０の形成
実施例１に記載の光学散乱層１の作製方法において、１パス目を付与した後の乾燥時間を５秒に早めたこと以外は同様にして、光学散乱層１０を作製した。
【０２２１】
なお乾燥時間５秒では、湿潤した状態のままであった。
【０２２２】
（比較例３）；光学散乱層１１の形成
実施例１に記載の光学散乱層１の作製方法において、インク１をインク５に代えたこと以外は同様にして、光学散乱層１１を作製した。
【０２２３】
（比較例４）；光学散乱層１２の形成
実施例１に記載の光学散乱層１の作製方法において、インク１をインク６に代えたこと以外は同様にして、光学散乱層１２を作製した。
【０２２４】
（比較例５）；光学散乱層１３の形成
実施例１に記載の光学散乱層１の作製方法において、インク１をインク７に代えたこと以外は同様にして、光学散乱層１３を作製した。
【０２２５】
なお、インクの性質により、１パス目を付与後、１分間乾燥させた後では湿潤した状態のままであったため、３分間に時間を延ばしたが、依然として湿潤状態のままであった。
【０２２６】
３．評価方法
＜凹凸形状の評価＞
実施例１〜８および比較例１〜５で作成した光学散乱層１〜１３に対して、光干渉型表面形状計測システム（ＷＹＫＯ）を用いて１．０ｍｍ×１．３ｍｍ視野の表面形状画像を取得した。得られた画像に対して、凹凸形状の有無を目視で観察し、以下の評価基準に従って表面凹凸の有無を評価した。
【０２２７】
〔評価基準〕
○：画素長Ｌのｎ倍となる周期に沿って、はっきりとした高低差が観測される。なおｎは１〜４の整数である。
△：画素長Ｌのｎ倍となる周期に沿って、わずかな高低差が存在する。なおｎは１〜４の整数である。
×：高さ方向の周期構造が観測されず、視野全体に渡って平滑である。
【０２２８】
＜透過率およびヘイズの評価＞
実施例１〜８および比較例１〜５で作成した光学散乱層１〜１３に対して、ヘイズメーター（日本電色工業株式会社製  ＮＤＨ  ５０００）を用いて、全光線透過率およびヘイズ値（曇り度）を測定し、以下の評価基準に従って透過率およびヘイズを評価した。
【０２２９】
なお、ヘイズ値は「プラスチック−透明材料のヘーズの求め方（ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６）」に従い、以下の式により算出される。
【０２３０】
ヘイズ値（曇り度）＝散乱光／全光線透過光×１００（％）
【０２３１】
適用するデバイスにより適切な透過率／ヘイズは異なるが、一般に透過率が高くてヘイズ値が高い光学散乱層ほど、透光性が高く散乱性も高いため、高い光学特性を有した光学散乱層であると言える。
【０２３２】
＜透過率の評価＞
〔評価基準〕
○：全光線透過率が７０．０％以上である。
×：全光線透過率が７０．０％未満である。
【０２３３】
＜ヘイズの評価＞
〔評価基準〕
○：ヘイズ値が６０．０％以上である。
×：ヘイズ値が６０．０％未満である。
【０２３４】
＜光拡散性の評価＞
各種ＬＥＤ光源を有した光学デバイスに適用する光学散乱層を想定して、以下の方法により光拡散性を評価した。
【０２３５】
実施例１〜８および比較例１〜５で作成した光学散乱層１〜１３に対して、市販のＬＥＤ光源（６〜１０ルーメン）を準備し、ＬＥＤ光源上部から１５ｍｍの距離の位置に光学散乱層１〜１０をそれぞれ設置し、ＬＥＤ光源を真上９０℃の位置から見たときのＬＥＤ光源の光拡散性を、以下の評価基準に従って目視で評価した。
【０２３６】
〔評価基準〕
○：ほぼ均一に光が拡散し、ＬＥＤ光源の形状が確認できない。
△：ＬＥＤ光源がぼんやりとしたリング状に確認される。
×：ＬＥＤ光源が輝点として確認され、問題となるレベル。
【０２３７】
＜膜耐性の評価＞
実施例１〜８および比較例１〜５で作成した光学散乱層１〜１３に対して、クリーンルーム用ワイプ布（テクノワイパー）を垂直に均等の力で押しあてて１０往復して擦り、光学散乱層の膜耐性を以下の評価基準に従って目視で評価した。
【０２３８】
〔評価基準〕
○：光学散乱層の外観に変化が見られない。
×：光学散乱層の一部が剥がれて基材が露出している。
【０２３９】
＜射出性の評価＞
実施例１〜８および比較例１〜５の光学散乱層形成プロセスにおいて、ノズル欠チェックパターン（１０２４本のライン上パターン）をプリントし、顕微鏡によりノズル欠の個数を数えて、以下の評価基準に従ってインクジェット射出性を評価した。
【０２４０】
〔評価基準〕
○：ノズル欠の個数が１０２４ノズル中０ノズルである。
△：ノズル欠の個数が１０２４ノズル中１〜９ノズル以上存在する。
×：ノズル欠の個数が１０２４ノズル中１０ノズル以上存在する。
【０２４１】
【表２】
2015200820.tif 000004
【符号の説明】
【０２４２】
Ａ〜Ｄ：画素の縦方向の列
ａ〜ｄ：画素の横方向の列
Ｅ：画素
１：第１画素
２：第２画素
３：第３画素
４：第４画素
Ｆ：画像領域
【図４】
2015200820.tif 000005
【図９】
2015200820.tif 000006
【図１】
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【図２】
2015200820.tif 000008
【図３】
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【図５】
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【図６】
2015200820.tif 000011
【図７】
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【図８】
2015200820.tif 000013
【図１０】
2015200820.tif 000014
【図１１】
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