(57)【要約】【課題】可視波長域において反射率ムラが小さな膜付透明部材を提供する。【解決手段】膜付透明部材１は、透明基材１０と、高屈折率ハードコート層１１と、漸移層１２とを備える。高屈折率ハードコート層１１は、透明基材１０の上に設けられている。高屈折率ハードコート層１１は、透明基材１０よりも高い屈折率を有する。高屈折率ハードコート層１１の厚みは、１００ｎｍ以上である。漸移層１２は、透明基材１０と、高屈折率ハードコート層１１との間に配されている。漸移層１２の屈折率は、透明基材１０側から高屈折率ハードコート層１１側へ漸増する。【選択図】図１
2015222412.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、
前記透明基材の上に設けられており、前記透明基材よりも高い屈折率を有し、厚みが１００ｎｍ以上である高屈折率ハードコート層と、
前記透明基材と、前記高屈折率ハードコート層との間に配されている漸移層と、
を備え、
前記漸移層の屈折率が、前記透明基材側から前記高屈折率ハードコート層側へ漸増する、
膜付透明部材。
【請求項２】
前記高屈折率ハードコート層は、ジルコニウム、アルミニウム及びケイ素の少なくとも一種を含む、酸化物、窒化物又は酸窒化物を含む、請求項１に記載の膜付透明部材。
【請求項３】
前記漸移層の厚みが５０ｎｍ以上である、請求項１又は２に記載の膜付透明部材。
【請求項４】
前記高屈折率ハードコート層の厚みが１０μｍ以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の膜付透明部材。
【請求項５】
前記高屈折率ハードコート層の屈折率が、１．６以上である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の膜付透明部材。
【請求項６】
前記高屈折率ハードコート層の上に設けられた反射防止膜をさらに備える、請求項１〜５のいずれか一項に記載の膜付透明部材。
【請求項７】
前記高屈折率ハードコート層の屈折率と、前記透明基材の屈折率との差が、０．１以上である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の膜付透明部材。
【請求項８】
前記高屈折率ハードコート層のナノインデンテーション法を用いて評価した硬度が７ＧＰａ以上である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の膜付透明部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、膜付透明部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１には、ディスプレイガラス基材の表面の上に、保護膜として耐摩擦性に優れたジルコニア膜等の高屈折率ハードコート層を形成することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２７４８８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
通常、ガラス等の透明基材とジルコニア膜等の高屈折率ハードコート層とは、屈折率が異なる。このため、高屈折率ハードコート層の表面における反射光と、透明基材及び高屈折率ハードコート層との界面における反射光との干渉が生じる。その結果、反射率に波長依存性が生じる。すなわち、一の波長における反射率と、他の波長における反射率とに差が生じる。このため、反射光が着色し、視認性が低下する場合がある。
【０００５】
本発明の主な目的は、可視波長域において反射率ムラが小さな膜付透明部材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る膜付透明部材は、透明基材と、高屈折率ハードコート層と、漸移層とを備える。高屈折率ハードコート層は、透明基材の上に設けられている。高屈折率ハードコート層は、透明基材よりも高い屈折率を有する。高屈折率ハードコート層の厚みは、１００ｎｍ以上である。漸移層は、透明基材と、高屈折率ハードコート層との間に配されている。漸移層の屈折率は、透明基材側から高屈折率ハードコート層側へ漸増する。
【０００７】
本発明に係る膜付透明部材では、高屈折率ハードコート層は、ジルコニウム、アルミニウム及びケイ素の少なくとも一種を含む、酸化物、窒化物又は酸窒化物を含むことが好ましい。
【０００８】
本発明に係る膜付透明部材では、漸移層の厚みが５０ｎｍ以上であることが好ましい。
【０００９】
本発明に係る膜付透明部材では、高屈折率ハードコート層の厚みが１０μｍ以下であることが好ましい。
【００１０】
本発明に係る膜付透明部材では、高屈折率ハードコート層の屈折率が、１．６以上であることが好ましい。
【００１１】
本発明に係る膜付透明部材は、高屈折率ハードコート層の上に設けられた反射防止膜をさらに備えることが好ましい。
【００１２】
本発明に係る膜付透明部材では、高屈折率ハードコート層の屈折率と、透明基材の屈折率との差が、０．１以上であることが好ましい。
【００１３】
本発明に係る膜付透明部材では、高屈折率ハードコート層のナノインデンテーション法を用いて評価した硬度が７ＧＰａ以上であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、可視波長域において反射率ムラが小さな膜付透明部材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態に係る膜付透明部材の模式的断面図である。
【図２】厚みが３００ｎｍ又は１０００ｎｍの酸化ジルコニウム膜をガラス基板上に設けた場合における波長と反射率との関係を表すグラフである。
【図３】漸移層の一例における屈折率変化を表すグラフである。
【図４】漸移層の一例における屈折率変化を表すグラフである。
【図５】漸移層の一例における屈折率変化を表すグラフである。
【図６】酸化ジルコニウムからなる高屈折率ハードコート層とガラス基板との間に設けた漸移層の厚みと、可視波長域における反射率差との関係を表すグラフである。
【図７】酸化アルミニウムからなる高屈折率ハードコート層とガラス基板との間に設けた漸移層の厚みと、可視波長域における反射率差との関係を表すグラフである。
【図８】窒化ケイ素からなる高屈折率ハードコート層とガラス基板との間に設けた酸窒化ケイ素からなる漸移層の厚みと、可視波長域における反射率差との関係を表すグラフである。
【図９】酸化ジルコニウムからなる高屈折率ハードコート層とガラス基板との間に設けた漸移層の厚みが０ｎｍ（漸移層なし）、５０ｎｍ、１００ｎｍ又は３００ｎｍである場合における波長と反射率との関係を表すグラフである。
【図１０】変形例に係る膜付透明部材の模式的断面図である。
【図１１】実験例７，８における波長と反射率との関係を表すグラフである。
【図１２】実験例９，１０における波長と反射率との関係を表すグラフである。
【図１３】実験例１２，１３における波長と反射率との関係を表すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。
【００１７】
図１は、本実施形態における膜付透明部材の模式的断面図である。図１に示すように、膜付透明部材１は、透明基材１０を備えている。透明基材１０は、可視波長域の少なくとも一部の光を透過する。透明基材１０は、例えば、ガラス、セラミックス、樹脂等からなる基板により構成することができる。透明基材１０の形状は、特に限定されない。本実施形態では、透明基材１０が板状、より詳細には平板状である例について説明する。但し、本発明において、透明部材は、板状でなくてもよい。
【００１８】
透明基材１０の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、例えば、１．８以下であることが好ましく、１．６以下であることがより好ましい。なお、以下に記載の屈折率は、断りのない限り波長５５０ｎｍにおける屈折率を指す。
【００１９】
透明基材１０の上には、高屈折率ハードコート層１１が設けられている。高屈折率ハードコート層１１は、透明基材１０よりも高い屈折率を有する。高屈折率ハードコート層１１の屈折率は、透明基材１０の屈折率よりも０．１以上高いことが好ましく、０．２以上高いことがより好ましく、０．３以上高いことがさらに好ましい。具体的には、高屈折率ハードコート層１１の屈折率は、１．６以上であることが好ましく、１．８以上であることがより好ましく、２．０以上であることがさらに好ましい。
【００２０】
高屈折率ハードコート層１１は、透明基材１０よりも硬質の材料により構成されていることが好ましい。その場合、高屈折率ハードコート層１１の耐摩耗性が向上する。高屈折率ハードコート層１１の、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ型ダイヤモンド圧子を用いたナノインデンテーション法により評価した硬度が７ＧＰａ以上であることが好ましく、８ＧＰａ以上であることがより好ましく、９ＧＰａ以上であることがさらに好ましく、１０ＧＰａ以上であることがなお好ましく、１１ＧＰａ以上であることがさらに好ましい。
【００２１】
具体的には、高屈折率ハードコート層１１が、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素、ハフニウム、タンタル、イットリウム、チタン及びニオブの少なくとも一種を含む、酸化物、窒化物又は酸窒化物を含むことが好ましく、ジルコニウム、アルミニウム及びケイ素の少なくとも一種を含む、酸化物、窒化物又は酸窒化物を含むことがより好ましい。より具体的には、高屈折率ハードコート層１１は、例えば、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化チタン、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、酸窒化アルミニウム、酸窒化ケイ素等により構成することができる。
【００２２】
高屈折率ハードコート層１１は、ＲＡＳ（Ｒａｄｉｃａｌ  Ａｓｓｉｓｔｅｄ  Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）方式により形成すると、硬質になりやすいため好ましい。例えば、ＲＡＳ方式により、成膜圧力：０．１２Ｐａ、キャリアガスとしてのＡｒガスの流量：１００ｓｃｃｍ、電力：５．５ｋＷとして膜厚５００ｎｍのＺｒ膜を、ガラス基板（日本電気硝子株式会社社製ＯＡ−１０Ｇ）の上に成膜した後に、キャリアガスとしての酸素ガス流量：４０ｓｃｃｍ、電力：４．５ｋＷとしてラジカルガンを用いてＺｒ膜を酸化することによりＺｒＯ２膜を成膜したところ、そのＺｒＯ２膜のＢｅｒｋｏｖｉｃｈ型ダイヤモンド圧子を用いたナノインデンテーション法（最大荷重：１．２２５ｍＮ）により評価した硬度は、１１．１ＧＰａであった。
【００２３】
例えば、ＲＡＳ方式により、成膜圧力：０．１２Ｐａ、キャリアガスとしてのＡｒガスの流量：１００ｓｃｃｍ、電力：５．０ｋＷとして膜厚５００ｎｍのＳｉ膜を、ガラス基板（日本電気硝子株式会社社製ＯＡ−１０Ｇ）の上に成膜した後に、キャリアガスとしての窒素ガス流量：４０ｓｃｃｍ、電力：４．５ｋＷとしてラジカルガンを用いてＳｉ膜を窒化することにより窒化ケイ素膜を成膜したところ、その窒化ケイ素膜のＢｅｒｋｏｖｉｃｈ型ダイヤモンド圧子を用いたナノインデンテーション法（最大荷重：１．２２５ｍＮ）により評価した硬度は、１４．７ＧＰａであった。
【００２４】
なお、ガラス基板（日本電気硝子株式会社社製ＯＡ−１０Ｇ）のＢｅｒｋｏｖｉｃｈ型ダイヤモンド圧子を用いたナノインデンテーション法（最大荷重：１．２２５ｍＮ）により評価した硬度は、６．５ＧＰａであった。
【００２５】
高屈折率ハードコート層１１の厚みは、１００ｎｍ以上であることが好ましく、２００ｎｍ以上であることがより好ましく、３００ｎｍ以上であることがさらに好ましい。このように、高屈折率ハードコート層１１を厚く設けることにより、耐擦傷性に優れた膜付透明部材１を実現することができる。高屈折率ハードコート層１１の厚みは、通常、１０μｍ以下である。
【００２６】
ところで、厚みが１００ｎｍ以上と厚い高屈折率ハードコート層を、透明基材の直上に配した場合、高屈折率ハードコート層の表面において生じた反射光と、高屈折率ハードコート層及び透明基材の界面において生じた反射光とが干渉する。このため、図２に示すように、反射率に波長依存性が生じる。具体的には、可視波長域において、反射率が相対的に高い波長域と、反射率が相対的に低い波長域とが生じる。その結果、反射光が着色する場合がある。すなわち、反射光の彩度が高くなる場合がある。特に、高屈折率ハードコート層の屈折率が１．６以上と高い場合は、反射率が高くなりやすいため、反射率差が大きくなりやすい。また、高屈折率ハードコート層の屈折率と透明基材の屈折率が０．１以上と高い場合、さらには、０．３以上である場合にも、反射率が高くなりやすいため、反射率差が大きくなりやすい。なお、反射率は、入射角及び受光角が１２°の条件で測定された反射率を示している。
【００２７】
それに対して、本実施形態の膜付透明部材１では、透明基材１０と高屈折率ハードコート層１１との間に、透明基材１０側から高屈折率ハードコート層１１側へと屈折率が漸増する漸移層１２が設けられている。このため、透明基材１０と高屈折率ハードコート層１１との間の界面における光の反射が抑制される。よって、高屈折率ハードコート層１１の表面において生じた反射光と、透明基材１０と高屈折率ハードコート層１１との間の界面において生じた反射光との干渉が生じにくい。よって、反射光の可視波長域における反射率ムラを低減することができる。その結果、反射光の着色を抑制し得る。
【００２８】
なお、漸移層１２は、屈折率が透明基材１０側から高屈折率ハードコート層１１に向けて変化していく層の総称である。漸移層１２は、例えば、図３に示すように、透明基材１０の屈折率ｎ１から高屈折率ハードコート層１１の屈折率ｎ２まで、一定の増加率で屈折率が漸増する層であってもよい。
【００２９】
漸移層１２は、例えば、図４に示すように、透明基材１０の屈折率ｎ１から高屈折率ハードコート層１１の屈折率ｎ２まで、一定ではない増加率で屈折率が漸増する層であってもよい。図４に示す例では、漸移層１２において、透明基材１０側から一旦低い増加率で屈折率が漸増した後に、高い増加率で屈折率が漸増し、その後、高屈折率ハードコート層１１まで低い増加率で屈折率が漸増している。
【００３０】
漸移層１２は、例えば、図５に示すように、透明基材１０の屈折率ｎ１から高屈折率ハードコート層１１の屈折率ｎ２まで、不連続的に屈折率が変化する層であってもよい。図５に示す例では、透明基材１０の屈折率ｎ１から高屈折率ハードコート層１１の屈折率ｎ２まで、段階的に屈折率が増大している。この場合、屈折率が不連続である部分の屈折率差は、小さい方が好ましい。屈折率が不連続である部分の屈折率差は、０．３以下であることが好ましく、０．２５以下であることがより好ましく、０．２以下であることがさらに好ましく、０．１５以下であることがなお好ましく、０．１以下であることがさらに好ましい。
【００３１】
漸移層の成膜方法は、特に限定されない。例えば、上記図３〜５に示す屈折率プロファイルとなるように低屈折率材料と高屈折率材料の混合率を変化させることにより漸移層を形成する。より具体的には、低屈折率材料の組成に対応した組成を有するターゲットと、高屈折率材料の組成に対応した組成を有するターゲットとが配されたカルーセル型の成膜装置を用いて漸移層を形成することができる。すなわち、最初は、低屈折率材料の組成に対応した組成を有するターゲットからの成膜レートを高くし、高屈折率材料の組成に対応した組成を有するターゲットからの成膜レートを低くしておき、低屈折率材料の組成に対応した組成を有するターゲットからの成膜レートを連続的に又は不連続的に低くしていくと共に、高屈折率材料の組成に対応した組成を有するターゲットからの成膜レートを連続的に又は不連続的に高くしていってもよい。
【００３２】
また、低屈折率材料の組成に対応した組成を有するターゲットと高屈折率材料の組成に対応した組成を有するターゲットとを透明基材の搬送方向に沿って近接して配したインライン型の成膜装置を用いて漸移層を形成してもよい。
【００３３】
また、透明基材の搬送方向に沿って、異なる組成を有する複数のターゲットを、進行方向に向かって成膜される膜の屈折率が高くなるように配したインライン型の成膜装置を用いて漸移層を形成してもよい。
【００３４】
また、例えば、高屈折率ハードコート層１１が窒化ケイ素からなり、漸移層が酸窒化ケイ素であるような場合には、導入する反応性ガスの導入量を変化させることにより漸移層を成膜してもよい。
【００３５】
なお、漸移層１２と高屈折率ハードコート層１１との厚みの総和は、特に限定されないが、例えば、１５０ｎｍ〜１１μｍ程度とすることができる。
【００３６】
図６は、屈折率が２．１７である酸化ジルコニウムからなる高屈折率ハードコート層と屈折率が１．５２であるガラス基板からなる透明基材との間に設けたジルコニウムとケイ素との複合酸化物からなる漸移層の厚みと、可視波長域における反射率差との関係を表すグラフである。図７は、屈折率が１．６６である酸化アルミニウムからなる高屈折率ハードコート層と屈折率が１．５２であるガラス基板からなる透明基材との間に設けたアルミニウムとケイ素との複合酸化物からなる漸移層の厚みと、可視波長域における反射率差との関係を表すグラフである。なお、図６及び図７において、縦軸は、反射率差であり、波長６００ｎｍ付近の反射率の極大値と極小値との差を示している。
【００３７】
図８は、屈折率が１．９９である窒化ケイ素からなる高屈折率ハードコート層と、屈折率が１．５２であるガラス基板からなる透明基材との間に設けられており、窒素濃度がガラス基板側に向かって漸減する酸窒化ケイ素からなる漸移層の厚みと、可視波長域における反射率差との関係を表すグラフである。
【００３８】
図６、図７及び図８に示すように、漸移層１２を設けることによって、可視波長域における反射率差を低減できることが分かる。可視波長域における反射率差をより小さくする観点からは、漸移層１２及び高屈折率ハードコート層１１の層厚み及び高屈折率ハードコート層１１の組成に関わらず、漸移層１２の厚みを５０ｎｍ以上とすることが好ましく、７５ｎｍ以上とすることがより好ましく、１００ｎｍ以上とすることがさらに好ましく、１５０ｎｍ以上とすることがなお好ましい。
【００３９】
なお、漸移層１２は、透明基材１０側から高屈折率ハードコート層１１側へと屈折率が漸増する層である限りにおいて特に限定されない。漸移層１２は、例えば、透明基材１０に含まれるカチオンと、高屈折率ハードコート層１１に含まれるカチオンとを含む酸化物により構成されていてもよい。例えば、高屈折率ハードコート層１１が酸化ジルコニウムにより構成されており、透明基材１０が酸化ケイ素を主成分として含んでいる場合は、漸移層１２を、ジルコニウムとケイ素の複合酸化物により構成することができる。例えば、高屈折率ハードコート層１１が酸化アルミニウムにより構成されており、透明基材１０が酸化ケイ素を主成分として含んでいる場合は、漸移層１２を、アルミニウムとケイ素の複合酸化物により構成することができる。
【００４０】
漸移層１２は、透明基材１０や高屈折率ハードコート層１１に含まれないカチオンを含む層であってもよい。
【００４１】
以下、本発明について、具体的な実験例に基づいて、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実験例に何ら限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。
【００４２】
（実験例１）
下記の表１に示すように、屈折率が１．５２であるガラス基板の上に、厚みが５００ｎｍである屈折率が２．１７である酸化ジルコニウム層を形成した。次に、酸化ジルコニウム層側から白色光（Ｄ６５）を入射させたときに得られる反射光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における彩度（クロマ、Ｃ＊＝［（ａ＊）２＋（ｂ＊）２］１／２）を測定した。結果を表１に示す。
【００４３】
（実験例２）
下記の表１に示すように、屈折率が１．５２であるガラス基板の上に、厚みが５０ｎｍの、ジルコニウムとケイ素との複合酸化物からなる漸移層と、厚みが４５０ｎｍである屈折率が２．１７である酸化ジルコニウム層とをこの順番で形成した。なお、前記漸移層の屈折率は、ガラス基板側から酸化ジルコニウム層側へと漸増するものである。次に、酸化ジルコニウム層側から白色光（Ｄ６５）を入射させたときに得られる反射光の彩度を測定した。結果を表１に示す。
【００４４】
（実験例３）
漸移層の厚みを１００ｎｍとし、高屈折率ハードコート層の厚みを４００ｎｍとしたこと以外は、実験例２と同様にサンプルを作製し、反射光の彩度を測定した。結果を表１に示す。
【００４５】
（実験例４）
漸移層の厚みを２００ｎｍとし、高屈折率ハードコート層の厚みを３００ｎｍとしたこと以外は、実験例２と同様にサンプルを作製し、反射光の彩度を測定した。結果を表１に示す。
【００４６】
（実験例５）
漸移層の厚みを３００ｎｍとし、高屈折率ハードコート層の厚みを２００ｎｍとしたこと以外は、実験例２と同様にサンプルを作製し、反射光の彩度を測定した。結果を表１に示す。
【００４７】
（実験例６）
漸移層の厚みを４５０ｎｍとし、高屈折率ハードコート層の厚みを５０ｎｍとしたこと以外は、実験例２と同様にサンプルを作製し、反射光の彩度を測定した。結果を表１に示す。
【００４８】
また、図９に実験例１，２，３及び５における反射率を示す。
【００４９】
【表１】
2015222412.tif 000003
表１及び図９に示す結果から、反射光の彩度を小さくする観点からは、漸移層の厚みが５０ｎｍ以上であることが好ましく、１００ｎｍ以上であることが好ましく、２００ｎｍ以上であることがさらに好ましいことが分かる。
【００５０】
（変形例）
図１０は、変形例に係る膜付透明部材の模式的断面図である。
【００５１】
上記実施形態では、高屈折率ハードコート層１１が膜付透明部材１の最表層を構成している例について説明した。但し、本発明において、高屈折率ハードコート層が膜付透明部材の最表層を構成している必要は必ずしもない。例えば、高屈折率ハードコート層の上に、さらなる膜が形成されていてもよい。
【００５２】
例えば、本変形例では、図１０に示すように、高屈折率ハードコート層１１の上に反射防止膜１３が設けられている。このように、反射防止膜１３を設けることにより、膜付透明部材の表面における反射を抑制することができる。
【００５３】
なお、反射防止膜１３は、例えば、高屈折率ハードコート層１１よりも低い屈折率を有する低屈折率層により構成することができる。また、反射防止膜１３は、例えば、相対的に低い屈折率を有する低屈折率層と、相対的に高い屈折率を有する高屈折率層とが交互に積層された誘電体多層膜等により構成することができる。低屈折率層は、例えば、酸化ケイ素等により構成することができる。高屈折率層は、例えば、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化タングステン、酸化ビスマス、酸化ジルコニウム等により構成することができる。
【００５４】
また、耐摩耗性を向上させる観点から、最表面に摩擦を低減する膜を形成してもよい。
【００５５】
例えば、潤滑膜、フッ素含有の防汚膜、などを高屈折率ハードコート層の上に設けることができる。最表面にフッ素含有の防汚膜を形成した膜付透明部材はタッチパネルやショーケースなどに用いると、指紋の拭き取りを容易にすることができるため好ましい。
【００５６】
上記実施形態や変形例に係る膜付透明部材は、例えば、耐擦傷性や視認性に優れているものとすることができるため、ＴＶなどのディスプレイ表面、モバイル機器の(携帯電話、タブレット端末、ノートＰＣ、ウェアラブルデバイス)のフロントカバーやリアカバー、時計のカバー、ショーケース等に用いることができる。
【００５７】
（実験例７，８）
下記の表２に示される条件のサンプルを作製し、入射角１２°における分光反射率を測定し、得られた分光反射率から視感反射率を求めた。結果を図１１に示す。視感反射率は、実験例７において０．３５％、実験例８において３．５％であった。
【００５８】
【表２】
2015222412.tif 000004
（実験例９，１０）
下記の表３に示される条件のサンプルを作製し、入射角１２°における分光反射率を測定し、得られた分光反射率から視感反射率を求めた。結果を図１２に示す。視感反射率は、実験例９において０．１４％、実験例１０において０．３５％であった。
【００５９】
【表３】
2015222412.tif 000005
図１１及び図１２に示すように、反射防止膜を設けることにより反射率を低減できることが分かる。但し、漸移層を設けない場合（実験例８，１０）は、漸移層を設けた場合（実験例７，９）に比べ、視感反射率を低くできないことが分かる。すなわち、反射防止膜を設けても、漸移層がなければ、視感反射率を小さくできない。
【００６０】
（実験例１１）
下記の表４に示すように、屈折率が１．５２であるガラス基板の上に、屈折率が１．９９である窒化ケイ素層を形成した。次に、窒化ケイ素層側から白色光（Ｄ６５）を入射させたときに得られる反射光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における彩度（クロマ、Ｃ＊＝［（ａ＊）２＋（ｂ＊）２］１／２）を測定した。結果を表４に示す。
【００６１】
【表４】
2015222412.tif 000006
表４に示す結果から、反射光の彩度を小さくする観点からは、漸移層の厚みが５０ｎｍ以上であることが好ましく、２００ｎｍ以上であることがさらに好ましいことが分かる。
【００６２】
（実験例１２，１３）
下記の表５に示される条件のサンプルを作製し、入射角１２°における分光反射率を測定し、得られた分光反射率から視感反射率を求めた。結果を図１３に示す。視感反射率は、実験例１２において０．２８％、実験例１３において１．９４％であった。
【００６３】
【表５】
2015222412.tif 000007
【符号の説明】
【００６４】
１  膜付透明部材
１０  透明基材
１１  高屈折率ハードコート層
１２  漸移層
１３  反射防止膜
【図１】
2015222412.tif 000008
【図２】
2015222412.tif 000009
【図３】
2015222412.tif 000010
【図４】
2015222412.tif 000011
【図５】
2015222412.tif 000012
【図６】
2015222412.tif 000013
【図７】
2015222412.tif 000014
【図８】
2015222412.tif 000015
【図９】
2015222412.tif 000016
【図１０】
2015222412.tif 000017
【図１１】
2015222412.tif 000018
【図１２】
2015222412.tif 000019
【図１３】
2015222412.tif 000020