(57)【要約】      （修正有）【課題】研磨終点を確実に検出することができる研磨装置及び研磨方法を提供する。【解決手段】研磨装置は、研磨テーブル１２を回転させるモータ７０と、基板を研磨テーブル１２上の研磨パッド２２に押し付ける研磨ヘッド２０と、研磨ヘッド２０を回転させるモータ７１と、モータ７０，７１の電流値を計測するモータ電流計７５，７６と、研磨終点検出部４７とを備える。研磨終点検出部４７は、所定の時間間隔で電流値をデータ点として取得し、当該電流値に基づいて、データ点が属する電流区間を複数の電流区間から決定し、電流区間が決定されるたびに、電流区間に属するデータ点の個数を累積し、データ点の個数が所定のしきい値を超えた後、当該データ点の個数の増加が停止した時点である研磨終点を決定する。【選択図】図１
2015174210.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨パッドを支持する研磨テーブルと、
前記研磨テーブルを回転させるテーブルモータと、
基板を前記研磨パッドに押し付けて、前記基板を研磨する研磨ヘッドと、
前記研磨ヘッドを回転させる研磨ヘッドモータと、
前記テーブルモータまたは前記研磨ヘッドモータの電流値を計測するモータ電流計と、
複数の電流区間を記憶する研磨終点検出部と、を備え、
前記研磨終点検出部は、
所定の時間間隔で前記電流値をデータ点として取得し、
前記電流値に基づいて、前記データ点が属する電流区間を前記複数の電流区間から決定し、
前記電流区間が決定されるたびに、前記電流区間に属する前記データ点の個数を累積し、
前記データ点の個数が所定のしきい値を超えた後、前記データ点の個数の増加が停止した時点である研磨終点を決定することを特徴とする研磨装置。
【請求項２】
前記所定のしきい値を超えた前記データ点の個数の増加が停止した時点から所定の監視時間が経過するまでに前記データ点の個数が増加しなかった場合は、前記研磨終点検出部は、前記監視時間が経過した時点を研磨終点に決定することを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項３】
研磨パッドを支持する研磨テーブルを回転させるテーブルモータの電流値、または基板を前記研磨パッドに押し付けて前記基板を研磨するための研磨ヘッドを回転させる研磨ヘッドモータの電流値を計測し、
所定の時間間隔で前記電流値をデータ点として取得し、
前記電流値に基づいて、前記データ点が属する電流区間を複数の電流区間から決定し、
前記電流区間が決定されるたびに、前記電流区間に属する前記データ点の個数を累積し、
前記データ点の個数が所定のしきい値を超えた後、前記データ点の個数の増加が停止した時点である研磨終点を決定することを特徴とする研磨方法。
【請求項４】
前記所定のしきい値を超えた前記データ点の個数の増加が停止した時点から所定の監視時間が経過するまでに前記データ点の個数が増加しなかった場合は、前記監視時間が経過した時点を研磨終点に決定することを特徴とする請求項３に記載の研磨方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハなどの基板を研磨する研磨装置および研磨方法に関し、特に、研磨終点を確実に検出することのできる研磨装置および研磨方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
化学機械研磨（ＣＭＰ）装置は、ウェハなどの基板を研磨するための代表的な装置である。このＣＭＰ装置は、研磨テーブルを回転させながら、研磨テーブル上の研磨パッドに研磨液を供給し、さらにウェハを研磨パッドに押し付けることで、ウェハを研磨液の存在下で研磨パッドに摺接させる。ウェハの表面は、研磨液に含まれる砥粒による機械的作用と、研磨液の化学成分による化学的作用により研磨される。
【０００３】
ＣＭＰ装置は、通常、ウェハの研磨終点を検出する機能を有している。この研磨終点を検出するための方法として、研磨テーブルを回転させるモータの電流値を監視する方法がある。このモータ電流監視方法では、研磨テーブルを予め設定された一定の速度で回転させるために必要なモータの電流値の変化からウェハ研磨の終点を検出する。ウェハは、通常、種類の異なる複数の膜からなる積層構造を有している。最上層の膜が研磨処理により除去されると、その下の層が露出する。結果として、ウェハと研磨パッドとの摩擦力が変化する。この摩擦力の変化は、研磨テーブルを回転させるテーブルモータの電流値の変化として現れる。したがって、テーブルモータの電流値の変化から最上層の膜が除去されたことを検出することができる。
【０００４】
近年、配線パターンの微細化に伴って、Ｌｏｗ−ｋ材などの柔らかい材料が絶縁膜に使用される傾向にある。このような絶縁膜は機械的強度が低いため、ウェハの研磨中は従来よりも低い圧力でウェハが研磨パッドに押し付けられる。研磨圧力の低圧化が進むと、ウェハと研磨パッドとの摩擦力の変化が小さくなり、結果として、モータの電流値の変化からウェハの研磨終点を検出することが難しくなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−３４０５３７号公報
【特許文献２】特開２００５−３４９９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上述した従来の問題点に鑑みてなされたもので、研磨終点を確実に検出することができる研磨装置および研磨方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決するための本発明の一態様は、研磨パッドを支持する研磨テーブルと、前記研磨テーブルを回転させるテーブルモータと、基板を前記研磨パッドに押し付けて、前記基板を研磨する研磨ヘッドと、前記研磨ヘッドを回転させる研磨ヘッドモータと、前記テーブルモータまたは前記研磨ヘッドモータの電流値を計測するモータ電流計と、複数の電流区間を記憶する研磨終点検出部と、を備え、前記研磨終点検出部は、所定の時間間隔で前記電流値をデータ点として取得し、前記電流値に基づいて、前記データ点が属する電流区間を前記複数の電流区間から決定し、前記電流区間が決定されるたびに、前記電流区間に属する前記データ点の個数を累積し、前記データ点の個数が所定のしきい値を超えた後、前記データ点の個数の増加が停止した時点である研磨終点を決定することを特徴とする研磨装置である。
【０００８】
本発明の他の態様は、研磨パッドを支持する研磨テーブルを回転させるテーブルモータの電流値、または基板を前記研磨パッドに押し付けて前記基板を研磨するための研磨ヘッドを回転させる研磨ヘッドモータの電流値を計測し、所定の時間間隔で前記電流値をデータ点として取得し、前記電流値に基づいて、前記データ点が属する電流区間を複数の電流区間から決定し、前記電流区間が決定されるたびに、前記電流区間に属する前記データ点の個数を累積し、前記データ点の個数が所定のしきい値を超えた後、前記データ点の個数の増加が停止した時点である研磨終点を決定することを特徴とする研磨方法である。
【発明の効果】
【０００９】
基板表面の凹凸が除去された後であって、最上層の膜が研磨されているとき、電流値はほとんど一定である。したがって、最上層の膜が研磨されているときに取得されたデータ点は同じ電流区間に属する。結果として、この電流区間に属するデータ点の個数は研磨時間とともに増加する。最上層の膜が除去されてその下にある層が露出すると、研磨パッドと基板との摩擦力の変化に起因して、電流値が変化する。このため、最上層の膜が除去された後に取得されたデータ点は別の電流区間に属し、結果として、上述した電流区間に属するデータ点の個数の増加は停止する。このようなデータ点の個数の増加の停止から、研磨終点を検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態における研磨装置を示す模式図である。
【図２】図２（ａ）は、研磨時間とともに変化するモータの電流値の一例を示す図であり、図２（ｂ）は、電流値を表すデータ点の累積数を示す図である。
【図３】ウェハを研磨しているときのモータの電流値と、データ点の個数の累積数を示したグラフである。
【図４】研磨時間ともに変化するモータの電流値の別の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
図１は、本発明の一実施形態における研磨装置を示す模式図である。図１に示すように、研磨装置は、研磨パッド２２を支持する研磨テーブル１２と、図示しない支軸の上端に連結された研磨ヘッド揺動アーム１６と、研磨ヘッド揺動アーム１６の自由端に取り付けられた研磨ヘッドシャフト１８と、研磨ヘッドシャフト１８の下端に連結された研磨ヘッド２０と、研磨パッド２２に研磨液（スラリー）を供給するための研磨液供給ノズル３０と、を備えている。
【００１２】
研磨ヘッド２０は研磨ヘッドシャフト１８の下端に固定されている。研磨ヘッド２０は、その下面に基板の一例であるウェハＷを真空吸引により保持できるように構成されている。研磨ヘッドシャフト１８は、研磨ヘッドモータ７１に連結されており、研磨ヘッド２０は、この研磨ヘッドモータ７１により研磨ヘッドシャフト１８を介して回転されるようになっている。研磨テーブル１２は、テーブル軸１２ａを介してその下方に配置されるテーブルモータ７０に連結されており、このテーブルモータ７０により研磨テーブル１２がテーブル軸１２ａ周りに矢印で示す方向に回転駆動されるようになっている。この研磨テーブル１２の上面には研磨パッド２２が貼付されており、研磨パッド２２の上面２２ａがウェハＷを研磨する研磨面を構成している。
【００１３】
研磨ヘッドシャフト１８は、図示しない上下動機構により上下動可能となっている。研磨ヘッド揺動アーム１６は、図示しない支軸を中心として旋回可能に構成されており、下面にウェハＷを保持した研磨ヘッド２０は、研磨ヘッド揺動アーム１６の旋回によりウェハＷの受取位置から研磨テーブル１２の上方位置に移動される。そして、研磨ヘッド２０を下降させ、ウェハＷを研磨パッド２２の上面（研磨面）２２ａに押圧する。ウェハＷの研磨中は、研磨ヘッド２０および研磨テーブル１２をそれぞれ回転させ、研磨テーブル１２の上方に設けられた研磨液供給ノズル３０から研磨パッド２２上に研磨液を供給する。ウェハＷは研磨液の存在下で研磨パッド２２の研磨面２２ａに摺接される。ウェハＷの表面は、研磨液に含まれる砥粒の機械的作用と研磨液の化学的作用により研磨される。
【００１４】
研磨テーブル２２，研磨ヘッド２０，研磨液供給ノズル３０，研磨ヘッドモータ７１，およびテーブルモータ７０の動作は、動作制御部３５によって制御される。動作制御部３５は、ウェハＷの研磨終点を検出するための研磨終点検出部４７に接続されており、動作制御部３５は、研磨終点検出部４７で検出された研磨終点に基づいて、ウェハＷの研磨動作を制御する。例えば、動作制御部３５は、研磨終点検出部４７で検出された研磨終点に基づいて、ウェハＷの研磨を終了させるか、または研磨条件（例えば、研磨圧力、研磨ヘッド２０および／または研磨テーブル２２の回転速度、研磨液の種類）を変える。
【００１５】
ウェハＷの研磨中は、ウェハＷの表面と研磨パッド２２の研磨面２２ａとが摺接するため、ウェハＷと研磨パッド２２との間には摩擦力が生じる。この摩擦力は、ウェハＷの露出面の形状および露出面を形成する膜の種類に依存して変化する。例えば、上層膜が研磨により除去されて下層膜が露出すると、ウェハＷと研磨パッド２２との間に生じる摩擦力が変化する。
【００１６】
テーブルモータ７０は、研磨テーブル２２を予め設定された一定の速度で回転させるように制御される。また、研磨ヘッドモータ７１は、研磨ヘッド２０を予め設定された一定の速度で回転させるように制御される。したがって、ウェハＷと研磨パッド２２との間に作用する摩擦力が変化すると、テーブルモータ７０および研磨ヘッドモータ７１に流れる電流、すなわちトルク電流が変化する。より具体的には、摩擦力が大きくなると、研磨テーブル２２または研磨ヘッド２０により大きなトルクを与えるためにトルク電流が増える。摩擦力が小さくなると、研磨テーブル２２または研磨ヘッド２０に与えるトルクを小さくするためにトルク電流が下がる。したがって、テーブルモータ７０または研磨ヘッドモータ７１に流れる電流の変化から、最上層の膜が除去されたこと、すなわち研磨終点に到達したことを検出することができる。
【００１７】
しかしながら、近年、研磨圧力が低くなる傾向にあるため、ウェハＷと研磨パッド２２との摩擦力の変化はより小さくなっている。このため、テーブルモータ７０または研磨ヘッドモータ７１の電流値を直接監視することで研磨終点を検出することが難しくなってきている。そこで、研磨終点検出部４７は、以下に説明するモータ電流監視方法で研磨終点を確実に検出する。
【００１８】
研磨終点検出部４７は、モータ電流の変化を、電流値を示すデータ点の個数の変化に変換し、データ点の個数の変化に基づいて研磨終点を検出する。テーブルモータ７０または研磨ヘッドモータ７１の少なくとも一方に、当該テーブルモータ７０または研磨ヘッドモータ７１の電流値を計測するモータ電流計が設けられる。図１に示した実施形態は、テーブルモータ７０の電流値を計測するテーブルモータ電流計（第１のモータ電流計）７５と、研磨ヘッドモータ７１の電流値を計測する研磨ヘッドモータ電流計（第２のモータ電流計）７６の両方が設けられる例を示している。以下では、テーブルモータ７０の電流値を計測するテーブルモータ電流計７５を用いて研磨終点を検出する方法を説明する。なお、研磨ヘッドモータ７１の電流値を計測する研磨ヘッドモータ電流計７６を用いても、同じ方法で研磨終点を検出することができる。
【００１９】
図１に示すように、テーブルモータ７０に流れる電流を測定するテーブルモータ電流計７５がテーブルモータ７０に接続されており、さらにテーブルモータ電流計７５は研磨終点検出部４７に接続されている。この研磨終点検出部４７は、研磨テーブル２２を回転させているときのテーブルモータ７０の電流値をテーブルモータ電流計７５から取得する。研磨終点検出部４７は、図示しないフィルター装置を有していてもよい。フィルター装置は、テーブルモータ７０の電流値からノイズ成分や振動成分を除去するように構成される。研磨終点検出部４７は、動作制御部３５に接続されており、動作制御部３５は、研磨終点検出部４７で検出された研磨終点に基づいてウェハＷの研磨動作を制御する。
【００２０】
図２（ａ）および図２（ｂ）は、研磨終点検出部４７によって行われる研磨終点検出を説明するための概念図である。より具体的には、図２（ａ）は、ウェハを研磨しているときのテーブルモータ７０の電流値を示すグラフである。図２（ａ）において、縦軸は電流値を表し、横軸は研磨時間を表している。
【００２１】
研磨終点検出部４７は、複数の電流区間を予め記憶しており、所定の時間間隔で（例えば、１秒ごと、またはテーブルモータ電流計７５のサンプリング時間ごとに）テーブルモータ７０の電流値をデータ点として取得するように構成されている。図２（ａ）に示すように、電流値に従って複数の電流区間１ａ〜１２ａが予め定義されており、これら電流区間１ａ〜１２ａは研磨終点検出部４７に予め格納されている。各電流区間は電流値の範囲を表し、それぞれの電流区間の幅は同じである。図２（ａ）の横軸に沿って記載されている符号１ｂ〜１７ｂは、所定の時間間隔で経過する研磨時間を表している。
【００２２】
ウェハ研磨の初期段階では、ウェハＷの表面に凹凸が存在するために、ウェハＷと研磨パッド２２との間に作用する摩擦力が大きい。このため、テーブルモータ７０の電流値は大きい。研磨が進んでいくと、ウェハ表面上の凹凸が小さくなり、これに伴って、テーブルモータ７０の電流値が小さくなっていく。ウェハ表面上の凹凸が除去されて平坦面になると、テーブルモータ７０の電流値は一定となる。さらに研磨が進んで、最上層の膜が研磨により除去されると、下層が露出し、ウェハＷと研磨パッド２２との摩擦力が変化する。その結果、テーブルモータ７０の電流値は増加または低下する。図２（ａ）は、テーブルモータ７０の電流値が低下する例を示している。
【００２３】
研磨終点検出部４７は、ウェハＷの研磨中、所定の時間間隔でテーブルモータ７０の電流値をデータ点として取得する。さらに、研磨終点検出部４７は、データ点を取得するたびに、そのデータ点が複数の電流区間のうちのどの電流区間に属しているかを決定する。すなわち、研磨終点検出部４７は、取得したデータ点の電流値に基づいて、そのデータ点が属する電流区間を決定する。図２（ａ）に示した例では、時間１ｂで取得されたデータ点は電流区間１１ａに属し、時間２ｂで取得されたデータ点は電流区間１０ａに属し、時間８ｂで取得されたデータ点は電流区間４ａに属する。
【００２４】
電流区間の幅は任意に設定することができるが、研磨終点で予想される電流値の変化の１０分の１程度に設定するのが好ましい。例えば、電流区間の幅は、０．０１Ａに設定される。電流区間および所定の時間間隔は、研磨される膜の種類や、研磨圧力などの研磨条件に基づいて予め決定される。
【００２５】
研磨終点検出部４７は、取得したデータ点が属する電流区間が決定されるたびに、その電流区間に属するデータ点の個数を累積する。より具体的には、研磨終点検出部４７は、データ点が属する電流区間が決定されるたびに、その電流区間に存在するデータ点の個数に１を加え、その電流区間に属するデータ点の個数（すなわち累積数）を更新する。
【００２６】
図２（ｂ）は、各電流区間に属するデータ点の個数（すなわち累積数）を示すグラフである。図２（ｂ）において、縦軸はデータ点の個数を表し、横軸は研磨時間を表す。研磨終点検出部４７は、ウェハの研磨中、所定の時間間隔でデータ点を取得する。図２（ａ）に示すように、時間１ｂから時間７ｂまでに取得されるデータ点は、それぞれ異なる電流区間１１ａ〜５ａに属する。したがって、図２（ｂ）に示すように、電流区間１１ａ〜５ａに属するデータ点の個数は、それぞれ１である。
【００２７】
図２（ａ）に示すように、時間８ｂから時間１４ｂまでは、テーブルモータ７０の電流値は一定であり、同じ電流区間４ａ内にある。したがって、時間８ｂから時間１４ｂまでに取得されたデータ点は、いずれも電流区間４ａに属している。図２（ｂ）に示すように、電流区間４ａに属するデータ点の個数は、時間８ｂから時間１４ｂまで１つずつ増加する。
【００２８】
図２（ａ）に示すように、時間１５ｂでは、テーブルモータ７０の電流値は電流区間３ａに属する。したがって、時間１５ｂで取得された電流値を表すデータ点は電流区間３ａに属する。その結果、電流区間４ａに属しているデータ点の個数の増加が停止する一方で、電流区間３ａに属しているデータ点の個数は１と決定される。
【００２９】
図２（ａ）に示すように、時間１ｂから時間７ｂまでの領域では、テーブルモータ７０の電流値が急峻に変化する。これは、先に記述したように、ウェハの表面に存在する凹凸により、ウェハと研磨パッド２２との間の摩擦力が変化するからである。時間８ｂから時間１４ｂまでの領域では、電流値がほとんど変化しない。これは、ウェハの表面から凹凸が除去されて、ウェハの表面が平坦になったことを示している。
【００３０】
時間１５ｂにおける電流値の変化は、最上層の膜が研磨により除去されて、その下の膜が露出したことにより、ウェハＷと研磨パッド２２との間の摩擦力が変化したことに起因する。したがって、時間１ｂから時間１４ｂまでの時間領域が最上層の膜を研磨している時間領域であり、時間１５ｂは、下層が露出した時点、すなわち研磨終点である。この時間１５ｂは、図２（ｂ）に示すように、電流区間４ａに属しているデータ点の個数の増加が停止した時点である。研磨終点検出部４７は、電流区間４ａに属するデータ点の数の増加が停止した時点である研磨終点を決定する。
【００３１】
より具体的には、研磨終点検出部４７は次のようにして研磨終点を決定する。研磨終点検出部４７は、複数の電流区間のうちのいずれかに属するデータ点の個数（累積数）が所定のしきい値を超えたか否かを決定する。図２（ｂ）に示す例では、しきい値は５に設定されており、電流区間４ａに属するデータ点の個数がしきい値を超えている。データ点の個数がしきい値を超えて増加していることは、電流値が概ね一定であることを意味しており、ウェハの表面上の凹凸が除去されたことを示している。研磨終点検出部４７は、データ点の個数（累積数）が所定のしきい値を超えたことを決定した後、データ点の個数の増加が停止した時点を決定する。この時点は、最上層の膜が除去され、その下の層が露出した時点、すなわち研磨終点である。このように、研磨終点検出部４７は、データ点の個数が所定のしきい値を超えた後、データ点の個数の増加が停止した時点である研磨終点を決定する。
【００３２】
図３は、ウェハを研磨しているときのテーブルモータ７０の電流値と、同じ電流区間に存在するデータ点の個数の累積数を示したグラフである。図３に示される点Ｐは、研磨により最上層の膜が除去され、その下の層が露出した点、すなわち研磨終点を表す。図３に示されるように、点Ｐでの電流値の変化は微小であり、テーブルモータ７０（または研磨ヘッドモータ７１）の電流値を直接監視することでは研磨終点の検出が難しい。
【００３３】
そこで、研磨終点検出部４７は、テーブルモータ７０の電流値をデータ点の個数に変換し、このデータ点の個数の変化に基づいて研磨終点を検出する。より具体的には、研磨終点検出部４７は、モータ電流値を示すデータ点が属する電流区間を決定し、各電流区間に属するデータ点の個数を累積する。そして、データ点の個数（累積数）が所定のしきい値を超えた後、このデータ点の個数の増加が停止した時点を研磨終点に決定する。
【００３４】
ウェハの表面凹凸が除去された後、最上層の膜が研磨されている間は、電流値はほとんど変化しない。最上層の膜が除去されて下層が露出すると、電流値は僅かに変化する（点Ｐ参照）。各電流区間の幅は、研磨終点における電流値の変化よりも小さく設定される。したがって、ある電流区間に属するデータ点の個数の増加は、最上層の膜が除去されたときに停止する。その結果、図３に示すように、データ点の増加を示す直線Ｉは水平に傾く。このように、電流値の微小な変化は、データ点の個数（累積数）の大きな変化として現れる。したがって、研磨終点検出部４７は、データ点の個数の変化から研磨終点を確実に検出することができる。
【００３５】
図４は、研磨時間に従って変化するモータ電流値の別の一例を示す。図４には、各電流区間に属するデータ点の累積数も記載されている。図４に示されるように、モータ電流値は研磨テーブル１２の回転などの影響により周期的に変動することがある。この場合、図４に示されるように、データ点の個数は間欠的に増加する。すなわち、最上層の膜が未だ除去されていないのにもかかわらず、データ点の個数の増加が停止する。このような場合、データ点の個数の増加が停止したときに、研磨終点検出部４７が研磨終点を誤検出することがある。
【００３６】
このような研磨終点の誤検出を防止するために、図４に示した例では、所定の監視時間ｔ１が設けられている。この所定の監視時間ｔ１の始点は、ある電流区間に属しているデータ点の個数の増加が停止した時点である。ある電流区間に属しているデータ点の個数の増加が一旦停止した後であって監視時間ｔ１が経過する前に、データ点の個数が再度増加した場合は、データ点の個数がしきい値を超えた場合であっても研磨終点検出部４７は研磨終点を決定しない。一方、ある電流区間に属しているデータ点の個数の増加が一旦停止した後、監視時間ｔ１が経過するまでにデータ点の個数が再度増加しなかった場合は、研磨終点検出部４７は、監視時間ｔ１が経過した時点を研磨終点に決定する。このような監視時間ｔ１を設けておけば、データ点の個数の増加が停止したとしても、研磨終点検出部４７は、直ちに研磨終点であると決定することがない。結果として、研磨終点の誤検出を防止することができる。
【００３７】
以上本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲、及び明細書と図面に記載された技術的思想の範囲内において種々の変形が可能である。特に、上述した実施形態では、テーブルモータ７０に接続されるテーブルモータ電流計７５を用いて研磨終点を検出する実施形態を示した。しかしながら、同様の方法により、研磨ヘッドモータ７１に接続される研磨ヘッドモータ電流計７６を用いて研磨終点を検出することができる。
【符号の説明】
【００３８】
１２    研磨テーブル
１２ａ  テーブル軸
１６    研磨ヘッド揺動アーム
１８    研磨ヘッドシャフト
２０    研磨ヘッド
２２    研磨パッド
２２ａ  研磨面
３５    動作制御部
４７    研磨終点検出部
７０    テーブルモータ
７１    研磨ヘッドモータ
７５    テーブルモータ電流計
７６    研磨ヘッドモータ電流計
【図１】
2015174210.tif 000003
【図２】
2015174210.tif 000004
【図３】
2015174210.tif 000005
【図４】
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