(57)【要約】      （修正有）【課題】磁性粉の分散性に優れ、磁気記録媒体の磁気特性を向上できる磁気記録媒体用のバインダーの提供。【解決手段】一般式（１）で表されるスルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１）を含むポリオール（Ａ）とポリイソシアネート成分（Ｂ）とからなる樹脂（Ｐ）バインダー。2015174914.tif 000020［Ｒ1はＣ２〜１２の２価の炭化水素基；Ｒ2はＨ、メチル基又は−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6−ＳＯ3-Ｍ+で表される基；Ｒ3はＨ、メチル基、エチル基又は−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6−ＳＯ3-Ｍ+で表される基；Ｒ4は直接結合又はメチレン基；Ｒ5は直接結合、メチレン基、エチレン基又はプロピレン基；Ｒ6はプロピレン基又は２−メチル−１，３−プロピレン基；ＬはＣ又は特定の４価の基；Ｍ+は特定のカチオン、ｍ及びｎは１〜１０の整数］【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表されるスルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１）及び前記（ａ１）以外の数平均分子量が５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）を含有するポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とから形成されるポリウレタン樹脂（Ｐ）を含有する磁気記録媒体用バインダー。
【化１】
2015174914.tif 000017
［式中、複数個あるＲ1はそれぞれ独立に炭素数２〜１２の２価の炭化水素基を表し、Ｒ2は水素原子、メチル基又は−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6−ＳＯ3-Ｍ+で表される基を表し、Ｒ3は水素原子、メチル基、エチル基又は−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6−ＳＯ3-Ｍ+で表される基を表し、Ｒ2とＲ3が同時に−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6−ＳＯ3-Ｍ+で表される基となることはなく、Ｒ4は直接結合又はメチレン基を表し、Ｒ5は直接結合、メチレン基、エチレン基又は１，２−若しくは１，３−プロピレン基を表し、複数個ある場合のＲ5は同一でも異なっていてもよく、Ｒ6は１，２−若しくは１，３−プロピレン基又は２−メチル−１，３−プロピレン基を表し、複数個ある場合のＲ6は同一でも異なっていてもよく、Ｌは炭素原子又は化学式（２）で表される４価の基を表し、Ｍ+はプロトン、アルカリ金属カチオン、アンモニウムイオン又は炭素数１〜２０のモノアミンにプロトンが付加した１価のアミニウムイオンを表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に１〜１０の整数を表す。］
【化２】
2015174914.tif 000018
【請求項２】
ポリオール成分（Ａ）が更に前記（ａ１）以外のカルボン酸（塩）基、スルホン酸（塩）基及びスルファミン酸（塩）基からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機酸（塩）基を有するポリオール（ａ３）並びに／又は化学式量若しくは数平均分子量が５００未満の有機酸（塩）を有しない低分子ポリオール（ａ４）を含有する請求項１記載の磁気記録媒体用バインダー。
【請求項３】
ポリオール成分（Ａ）が更に一般式（４）で表されかつ少なくとも１つの活性水素を有する化合物（Ｓ）を含有する請求項１又は２記載の磁気記録媒体用バインダー。
【化３】
2015174914.tif 000019
［一般式（４）中、Ｔ1はｒ価の活性水素含有有機化合物からｇ個の活性水素を除いた残基を表し；ｇは１≦ｇ≦ｒを満たす整数を表し；ｒは１〜２０の整数を表し；Ｔ2は活性水素含有有機化合物から１個の活性水素を除いた残基を表し、複数のＴ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、Ｔ2とＴ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく；Ｙは３価以上の芳香族ポリカルボン酸から全てのカルボキシル基を除いた残基を表し、Ｙの芳香環は炭素原子から構成され、その炭素原子にはカルボキシル基以外の置換基及び／又はハロゲン原子が結合していてもよいが少なくとも一つの炭素原子は置換基が結合しておらず；ｅは１以上の整数を表し、ｆは０以上の整数を表し、かつ、２≦ｅ＋ｆ≦ｈ−２を満たし；ｈは前記芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基を含む全ての置換基を水素原子に置換した場合の芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子の数、即ち芳香環上で置換可能な部位の数を表す。］
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダーを含有してなる磁性塗料。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダーを含有してなる磁性層を有する磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気テープ、磁気カ−ド、磁気ディスク等の磁気記録媒体の製造に用いられるバインダー及びそのバインダーを用いた磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、磁気記録媒体用のバインダーとしては、ポリウレタン樹脂等が用いられている（例えば特許文献１）。
しかし、近年、磁気記録媒体の高性能化に伴い、磁性体の微粒子化や高磁力化が図られ、従来のバインダーでは十分な磁性体の分散性のあるものが得られていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−１７５９５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、磁性粉の分散性に優れることにより、磁気テープの磁気特性を向上させることができる磁気記録媒体用のバインダーを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。即ち本発明は、一般式（１）で表されるスルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１）及び前記（ａ１）以外の数平均分子量が５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）を含有するポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とから形成されるポリウレタン樹脂（Ｐ）を含有する磁気記録媒体用バインダー；前記磁気記録媒体用バインダーを含有してなる磁性塗料；前記磁気記録媒体用バインダーを含有してなる磁性層を有する磁気記録媒体である。
【０００６】
【化１】
2015174914.tif 000002
［式中、複数個あるＲ1はそれぞれ独立に炭素数２〜１２の２価の炭化水素基を表し、Ｒ2は水素原子、メチル基又は−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6−ＳＯ3-Ｍ+で表される基を表し、Ｒ3は水素原子、メチル基、エチル基又は−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6−ＳＯ3-Ｍ+で表される基を表し、Ｒ2とＲ3が同時に−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6−ＳＯ3-Ｍ+で表される基となることはなく、Ｒ4は直接結合又はメチレン基を表し、Ｒ5は直接結合、メチレン基、エチレン基又は１，２−若しくは１，３−プロピレン基を表し、複数個ある場合のＲ5は同一でも異なっていてもよく、Ｒ6は１，２−若しくは１，３−プロピレン基又は２−メチル−１，３−プロピレン基を表し、複数個ある場合のＲ6は同一でも異なっていてもよく、Ｌは炭素原子又は化学式（２）で表される４価の基を表し、Ｍ+はプロトン、アルカリ金属カチオン、アンモニウムイオン又は炭素数１〜２０のモノアミンにプロトンが付加した１価のアミニウムイオンを表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に１〜１０の整数を表す。］
【０００７】
【化２】
2015174914.tif 000003
【発明の効果】
【０００８】
本発明の磁気記録媒体用バインダーは、磁性粉に対する分散性が優れており、磁気テープの磁気特性が向上する。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の磁気記録媒体用バインダーは、一般式（１）で表されるスルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１）及び前記（ａ１）以外の数平均分子量が５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）を含有するポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とから形成されるポリウレタン樹脂（Ｐ）を含有する。スルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１）を用いることにより、ポリウレタン樹脂（Ｐ）にスルホン酸（塩）基が導入され、磁性粉の分散性に優れた磁気記録媒体用バインダーを得ることができる。
【００１０】
【化３】
2015174914.tif 000004
【００１１】
一般式（１）中、複数個あるＲ1はそれぞれ独立に炭素数２〜１２の２価の炭化水素基［直鎖又は分岐のアルキレン基（エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基及びフェニルエチレン基等）等］である。
【００１２】
Ｒ2は水素原子、メチル基又は−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6−ＳＯ3-Ｍ+で表される基であり、Ｒ3は水素原子、メチル基、エチル基又は−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6−ＳＯ3-Ｍ+で表される基であり、Ｒ2とＲ3が同時に−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6−ＳＯ3-Ｍ+で表される基となることはない。
【００１３】
Ｒ4は直接結合又はメチレン基であり、Ｒ5は直接結合、メチレン基、エチレン基又は１，２−若しくは１，３−プロピレン基であり、複数個ある場合のＲ5は同一でも異なっていてもよく、Ｒ6は１，２−若しくは１，３−プロピレン基又は２−メチル−１，３−プロピレン基である。複数個ある場合のＲ6は同一でも異なっていてもよい。
【００１４】
Ｌは炭素原子又は化学式（２）で表される４価の基である。
【００１５】
【化４】
2015174914.tif 000005
【００１６】
Ｍ+はプロトン、アルカリ金属カチオン（リチウムカチオン、カリウムカチオン及びナトリウムカチオン等）、アンモニウムイオン又は炭素数１〜２０のモノアミンにプロトンが付加した１価のアミニウムイオンである。
【００１７】
炭素数１〜２０のモノアミンにプロトンが付加した１価のアミニウムイオンを形成する炭素数１〜２０のモノアミンとしては、モノメチルアミン、モノエチルアミン、モノブチルアミン及びモノエタノールアミン等の１級アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン及びメチルプロパノールアミン等の２級アミン並びにトリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルエチルアミン、ジメチルモノエタノールアミン及びトリエタノールアミン等の３級アミンが挙げられる。
【００１８】
原料としてジオール（ａ１）を使用した樹脂の電気伝導性又は顔料分散性の観点からは、Ｍ+はアルカリ金属カチオン（リチウムカチオン、カリウムカチオン及びナトリウムカチオン等）であることが好ましい。
【００１９】
また、使用時に任意のアルカリ金属カチオンやアミンで中和することができるという観点からは、Ｍ+はプロトンであることが好ましい。
【００２０】
ｍ及びｎはそれぞれ独立に１〜１０の整数を表し、いずれもジオール（ａ１）の粘度及び樹脂の機械物性の観点から好ましいのは１〜５である。
【００２１】
一般式（１）において、Ｒ2が−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6−ＳＯ3-Ｍ+で表される基の場合、Ｒ3は水素原子で、Ｒ4はメチレン基で、Ｒ5は直接結合で、Ｒ6は１，３−プロピレン基で、Ｌは炭素原子であること、又はＲ3は水素原子で、Ｒ4は直接結合で、Ｒ5はメチレン基で、Ｒ6は１，３−プロピレン基で、Ｌは炭素原子であることが好ましい。
また、一般式（１）において、Ｒ3が−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6−ＳＯ3-Ｍ+で表される基の場合、Ｒ2は水素原子で、Ｒ4及びＲ5はメチレン基で、Ｒ6は１，３−プロピレン基であることが好ましい。
【００２２】
本発明のスルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１）は、例えば一般式（３）で表されるジオール（ａ０）の水酸基に炭素数２〜１２のアルキレンオキサイド（以下、ＡＯと略記）を付加反応させた後、（ａ０）中の不飽和基に重亜硫酸を反応させて更にアンモニア、アルカリ金属の水酸化物又は前記炭素数１〜２０のアミンで中和することにより得ることができる。また、予めアンモニア、アルカリ金属の水酸化物又は前記炭素数１〜２０のアミンで中和された重亜硫酸をジオール（ａ０）のＡＯ付加物に反応させることによってもジオール（ａ１）を得ることができる。
更に一般式（１）におけるＭ+がアンモニウムイオン又は炭素数１〜２０のモノアミンにプロトンが付加した１価のアミニウムイオンの場合は、一般式（１）におけるＭ+がアルカリ金属カチオンであるものと、鉱酸（塩酸及び硫酸等）のアンモニウム塩又は炭素数１〜２０のアミン塩とをアルコール中で反応させ、沈殿してくる鉱酸のアルカリ金属塩を分離除去する方法でもジオール（ａ１）を得ることができる。
更に一般式（１）におけるＭ+がプロトンの場合は、前記一般式（１）におけるＭ+がアルカリ金属カチオン、アンモニウムイオン又は炭素数１〜２０のモノアミンにプロトンが付加した１価のアミニウムイオンであるジオールを、酸（塩酸等）によりカチオン交換し、生成した塩を濾過除去することによって得ることができる。
【００２３】
【化５】
2015174914.tif 000006
【００２４】
一般式（３）中、Ｒ7は水素原子、メチル基又は−Ｒ10−Ｏ−Ｒ11で表される基であり、Ｒ8は水素原子、メチル基、エチル基又は−Ｒ10−Ｏ−Ｒ11で表される基であり、Ｒ7とＲ8が同時に−Ｒ10−Ｏ−Ｒ11で表される基となることはない。
【００２５】
Ｒ9は直接結合又はメチレン基であり、Ｒ10は直接結合、メチレン基、エチレン基又は１，２−若しくは１，３−プロピレン基であり、複数個ある場合のＲ10は同一でも異なっていてもよく、Ｒ11はアリル基又はメタリル基である。複数個ある場合のＲ11は同一でも異なっていてもよい。
Ｌは炭素原子又は前記化学式（２）で表される４価の基である。
【００２６】
一般式（３）において、Ｒ7が−Ｒ10−Ｏ−Ｒ11で表される基の場合、Ｒ8は水素原子で、Ｒ9はメチレン基で、Ｒ10は直接結合で、Ｒ11はアリル基で、Ｌは炭素原子であること、又はＲ8は水素原子で、Ｒ9は直接結合で、Ｒ10はメチレン基で、Ｒ11はアリル基で、Ｌは炭素原子であることが好ましい。また、一般式（３）において、Ｒ8が−Ｒ10−Ｏ−Ｒ11で表される基の場合、Ｒ7は水素原子で、Ｒ9及びＲ10はメチレン基で、Ｒ11はアリル基であることが好ましい。
【００２７】
一般式（３）で表されるジオール（ａ０）の具体例としては、１−（アリルオキシ）−１，２−エタンジオール、１−（アリルオキシ）−１，２−プロパンジオール、３−（２−メチルアリルオキシ）−１，２−プロパンジオール、２−（アリルオキシ）−１，３−プロパンジオール、２−（アリルオキシメチル）−１，２−プロパンジオール、３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオール、２−メチル−２−（アリルオキシメチル）−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−（アリルオキシメチル）−１，３−プロパンジオール、４−（アリルオキシ）−２−メチル−１，２−ブタンジオール、４−（アリルオキシ）−２−エチル−１，２−ブタンジオール、５−（アリルオキシ）−１，２−ペンタンジオール、５−（アリルオキシ）−２−メチル−１，２−ペンタンジオール、５−（アリルオキシ）−２−エチル−１，２−ペンタンジオール、２，２−ビス（アリルオキシメチル）−１，３−プロパンジオール、２−［１−（アリルオキシメチル）−２−（アリルオキシ）エトキシ］−１，３−プロパンジオール、（２Ｒ，３Ｓ）−２，４−ビス（アリルオキシ）−１，３−ブタンジオール及び（２Ｒ，３Ｓ）−１，４−ビス（アリルオキシ）−２，３−ブタンジオール等が挙げられる。
【００２８】
一般式（３）で表されるジオール（ａ０）の水酸基に反応させる炭素数２〜１２のＡＯとしては、エチレンオキサイド（以下、ＥＯと略記）、１，２−プロピレンオキサイド（以下、ＰＯと略記）、１，３−プロピレンオキサイド、１，２−、１，３−又は２，３−ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと略記）、３−メチルテトラヒドロフラン、α−オレフィンオキサイド、スチレンオキサイド及びエピハロヒドリン（エピクロルヒドリン等）等が挙げられる。ＡＯは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよく、ＡＯを２種以上併用する場合の付加方法としては、ブロック付加であってもランダム付加であっても、これらの併用であってもよい。
【００２９】
ジオール（ａ０）の水酸基１個あたりのＡＯの付加モル数はジオール（ａ１）の粘度及び樹脂の機械物性の観点から、１〜１０が好ましく、更に好ましくは１〜５である。
【００３０】
ポリウレタン樹脂（Ｐ）における前記ジオール（ａ１）が有するスルホン酸（塩）基の含有量は、ポリウレタン樹脂（Ｐ）１０6ｇ当たり好ましくは１〜１，０００当量、更に好ましくは５〜５００当量、特に好ましくは１０〜３００当量である。スルホン酸（塩）基の含有量が１，０００当量を超えると磁性塗料としたときの粘度が高くなり作業性が悪くなる場合がある。
【００３１】
一般式（３）で表されるジオール（ａ０）は、多価アルコールを塩基性触媒存在下でハロゲン化アリル又はハロゲン化メタリルを反応させるウィリアムソン合成等、公知の方法で製造することができる。
【００３２】
前記（ａ１）以外のＭｎが５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）としては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール及びその他のポリオール等が挙げられ、ポリウレタン樹脂の樹脂強度の観点から、好ましいのはポリエステルポリオールである。
【００３３】
ポリエステルポリオールとしては、縮合型ポリエステルポリオール、ポリラクトンポリオール及びポリカーボネートポリオール等が挙げられる。
【００３４】
縮合型ポリエステルポリオールは、後述の化学式量又はＭｎが５００未満の有機酸（塩）基を有しない低分子ポリオール（ａ４）とポリカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体［酸無水物、低級アルキル（炭素数１〜４）エステル及びハライド等］とを反応させて得られる。
【００３５】
ポリカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体としては、脂肪族ジカルボン酸（コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、フマル酸及びマレイン酸等）、脂環式ジカルボン酸（ダイマー酸等）、芳香族ジカルボン酸（テレフタル酸、イソフタル酸及びフタル酸等）及び３価又はそれ以上のポリカルボン酸（トリメリット酸及びピロメリット酸等）；前記酸の無水物（無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸及び無水トリメリット酸等）；前記酸の酸ハライド（アジピン酸ジクロライド等）；前記酸の低級（炭素数１〜４）アルキルエステル（コハク酸ジメチル及びフタル酸ジメチル等）；等が挙げられる。
【００３６】
ポリラクトンポリオールとしては、後述の化学式量又はＭｎが５００未満の有機酸（塩）基を有しない低分子ポリオール（ａ４）等への炭素数４〜１２のラクトン（ε−カプロラクトン、γ−バレロラクトン等）の重付加物等が挙げられる。
【００３７】
ポリカーボネートポリオールとしては、後述の化学式量又はＭｎが５００未満の有機酸（塩）基を有しない低分子ポリオール（ａ４）と炭酸エステル（ジメチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート及びジフェニルカーボネート等）とを反応させて得られる化合物が挙げられる。
【００３８】
これらのポリエステルポリオールの具体例としては、ポリエチレンテレフタレートジオール、ポリブチレンイソフタレートジオール、ポリヘキサメチレンイソフタレートジオール、ポリネオペンチレンテレルフタレートジオール、ポリエチレンアジペートジオール、ポリブチレンアジペートジオール、ポリヘキサメチレンアジペートジオール、ポリネオペンチレンアジペートジオール、ポリエチレンプロピレンアジペートジオール、ポリエチレンブチレンアジペートジオール、ポリブチレンヘキサメチレンアジペートジオール、ポリ（ポリテトラメチレンエーテル）アジペートジオール、ポリエチレンアゼレートジオール、ポリエチレンセバケートジオール、ポリブチレンアゼレートジオール、ポリブチレンセバケートジオール、ポリカプロラクトンジオール又はトリオール、ポリバレロラクトンジオール又はトリオール、及びこれらの２種以上の混合物が挙げられる。また、前記以外に特開昭６２−２０２３２４記載のフタル酸変性ポリカプロラクトンポリオールも使用できる。
【００３９】
ポリエーテルポリオールとしては、前記低分子ポリオールのＡＯ単独付加物又は共付加物（ブロック及び／又はランダム）［例えばポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシエチレン−オキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリオキシテトラメチレン−オキシエチレングリコール、ポリテオキシトラメチレン−オキシプロピレン（ブロック及び／又はランダム）グリコール及びポリオキシへキサメチレングリコール等］及びこれらの２種以上の混合物が挙げられる。
【００４０】
その他のポリオールとしては、ポリマーポリオール［例えば前記高分子ポリオール中でビニル系モノマー（アクリロニトリル及びスチレン等）をラジカル（共）重合したもの］及びポリジエンポリオール（ポリブタジエンポリオール等）等が挙げられる。
【００４１】
ポリオール成分（Ａ）における高分子ポリオール（ａ２）の量は、磁気テープの耐久性の観点から、ポリオール成分（Ａ）の重量に基づいて好ましくは１０重量％以上、更に好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは７０重量％以上である。（ａ２）の量が１０重量％未満では磁気記録媒体用バインダーの物性が低くなり、磁気テープの耐久性が不十分となる。
【００４２】
（ａ２）のＭｎは、通常５００〜４，０００、好ましくは６００〜３，５００、更に好ましくは７００〜３，０００である。（ａ２）のＭｎが５００未満では、得られるポリウレタン樹脂が脆いものとなり、磁気テープにしたときの耐スクラッチ性が低下し、Ｍｎが４，０００を超えると得られるポリウレタン樹脂の樹脂強度が低下し、磁気テープにしたときの耐久性が不十分となる。
【００４３】
本発明におけるポリオールのＭｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと略記）を用いて例えば以下の条件で測定することができる。
・装置：「Ｗａｔｅｒｓ  Ａｌｌｉａｎｃｅ  ２６９５」［Ｗａｔｅｒｓ社製］
・カラム：「Ｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  Ｓｕｐｅｒ  Ｈ−Ｌ」（１本）、「ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨ２０００、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨ３０００、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨ４０００を各１本連結したもの」［いずれも東ソー（株）製］
・試料溶液：０．２５重量％のＴＨＦ溶液
・溶液注入量：１０μｌ
・流量：０．６ｍｌ／分
・測定温度：４０℃
・検出装置：屈折率検出器
・基準物質：標準ポリエチレングリコール
【００４４】
ポリオール成分（Ａ）は、更に前記（ａ１）以外のカルボン酸（塩）基、スルホン酸（塩）基及びスルファミン酸（塩）基からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機酸（塩）基を有するポリオール（ａ３）並びに／又は化学式量若しくはＭｎが５００未満の有機酸（塩）基を有しない低分子ポリオール（ａ４）を含有することができる。
【００４５】
前記（ａ１）以外のカルボン酸（塩）基、スルホン酸（塩）基及びスルファミン酸（塩）基からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機酸（塩）基を有するポリオール（ａ３）としては、カルボン酸基を有するポリオール｛酒石酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロパン酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸及び３−［ビス（２‐ヒドロキシエチル）アミノ］プロパン酸等｝；スルホン酸基を有するポリオール｛２，２−ビス（ヒドロキシメチル）エタンスルホン酸、２−［ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ］エタンスルホン酸及び５−スルホ−イソフタル酸−１，３‐ビス（２‐ヒドロキシエチル）エステル等｝；スルファミン酸基を有するポリオール｛Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）スルファミン酸、Ｎ，Ｎ−ビス（３−ヒドロキシプロピル）スルファミン酸、Ｎ，Ｎ−ビス（４−ヒドロキシブチル）スルファミン酸及びＮ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシプロピル）スルファミン酸等｝；これらの化合物の水酸基へのＡＯ付加物（Ｍｎ４，０００以下）；及びこれらの塩［金属（カリウム、ナトリウム及びリチウム等）塩及びアミン（アルキルアミン及びアルカノールアミン等）等の塩］等が挙げられる。（ａ３）は１種を単独で用いても、２種以上を併用して用いてもよい。
【００４６】
（ａ３）を使用する場合、ポリウレタン樹脂（Ｐ）における前記ジオール（ａ１）が有するスルホン酸（塩）基の含有量と（ａ３）が有する有機酸（塩）基の含有量の合計量は、ポリウレタン樹脂（Ｐ）１０6ｇ当たり好ましくは１〜１，０００当量、更に好ましくは５〜５００当量、特に好ましくは１０〜３００当量である。有機酸（塩）基の含有量が１，０００当量を超えると磁性塗料としたときの粘度が高くなり作業性が悪くなる場合がある。
【００４７】
化学式量又はＭｎが５００未満の有機酸（塩）基を有しない低分子ポリオール（ａ４）としては、例えば、直鎖状アルキレングリコール類（エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタメチレンジオール及び１，１０−デカンジオール等）；環状基を有する低分子ジオール類［シクロヘキサンジオール及びシクロヘキサンジメタノール等のグリコール類並びに特公昭４５−１４７４号公報記載のもの：キシリレングリコール、ビス（ヒドロキシエチル）ベンゼン、１，４−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−ジフェニルプロパン（ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物）等］；グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、α−メチルグルコシド、ソルビトール、キシリット、マンニット、グルコース、フラクトース及び庶糖等の３〜８価のアルコール類；及びこれらの１種又は２種以上の混合物のＡＯ付加物（Ｍｎ５００未満）等が挙げられる。これらの内で好ましいのは直鎖状アルキレングリコール及び環状基を有する低分子ジオールである。（ａ４）は１種を単独で用いても、２種以上を併用して用いてもよい。
【００４８】
ポリオール成分（Ａ）のＭｎのモル平均値は、好ましくは４００〜４，０００、更に好ましくは５００〜３，５００、特に好ましくは６００〜３，０００である。Ｍｎが４００未満では得られるポリウレタン樹脂が脆弱になる場合があり、４，０００を越えるとポリウレタン樹脂の機械的強度が不十分になる場合がある。
【００４９】
ポリオール成分（Ａ）は、更に一般式（４）で表されかつ少なくとも１つの活性水素を有する化合物（Ｓ）を含有することができる。（Ａ）が化合物（Ｓ）を含有することにより、化合物（Ｓ）がポリウレタン樹脂（Ｐ）の分子骨格中に組み込まれてポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度等が向上し、耐久性に優れる磁気記録媒体用バインダーが得られる。
【００５０】
【化６】
2015174914.tif 000007
【００５１】
一般式（４）におけるＴ1は、ｒ価の活性水素含有有機化合物からｇ個の活性水素を除いた残基を表す。
ｒ価の活性水素含有有機化合物としては、水酸基含有化合物、アンモニア、アミノ基含有化合物及びチオール基含有化合物等が挙げられる。活性水素含有有機化合物は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００５２】
水酸基含有化合物としては、炭素数１〜２０の１価のアルコール、炭素数２〜２０の多価アルコール及びフェノール類；これらのＡＯ付加物；アンモニア、アミノ基含有化合物及びチオール基含有化合物のＡＯ付加物；等が挙げられる。
【００５３】
炭素数１〜２０の１価アルコールとしては、炭素数１〜２０のアルカノール（メタノール、エタノール、ブタノール、オクタノール、デカノール、ドデシルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール及びステアリルアルコール等）、炭素数２〜２０のアルケノール（オレイルアルコール及びリノリルアルコール等）及び炭素数７〜２０の芳香脂肪族アルコール（ベンジルアルコール及びナフチルエタノール等）等が挙げられる。
【００５４】
炭素数２〜２０の多価アルコールとしては、炭素数２〜２０の２価アルコール［脂肪族ジオール（エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−又は１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，２−又は１，１０−デカンジオール及び１，２−又は１，１２−ドデカンジオール等）、脂環式ジオール（１，２−、１，３−又は１，４−シクロヘキサンジオール及びシクロヘキサンジメタノール等）、芳香脂肪族ジオール｛１−フェニルエタン−１，２−ジオール及び１，４−ビス（ヒドロキシエチル）ベンゼン等｝、エーテル基含有ジオール｛３−ブトキシ−１，２−プロパンジオール、３−（２−エチルヘキソキシ）−１，２−プロパンジオール
３−フェノキシ−１，２−プロパンジオール及び３−（ｐ−ｔｅｒｔ―ブチルフェノキシ）−１，２−プロパンジオール等｝及びハロゲン基含有ジオール（３−クロロ−１，２−プロパンジオール等）等］、炭素数３〜２０の３価アルコール［脂肪族トリオール（グリセリン及びトリメチロールプロパン等）等］及び炭素数５〜２０の４〜８価アルコール［脂肪族ポリオール（ペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、ソルビタン、ジグリセリン及びジペンタエリスリトール等）及び糖類（ショ糖、グルコース、マンノース、フルクトース、メチルグルコシド及びその誘導体）］等が挙げられる。
【００５５】
フェノール類としては、例えば１価のフェノール（フェノール、１−ヒドロキシナフタレン、アントロール及び１−ヒドロキシピレン等）及び多価フェノール［フロログルシン、ピロガロール、カテコール、ヒドロキノン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、１，３，６，８−テトラヒドロキシナフタレン、１，４，５，８−テトラヒドロキシアントラセン、フェノールとホルムアルデヒドとの縮合物（ノボラック）及び米国特許３２６５６４１号明細書に記載のポリフェノール等］が挙げられる。
【００５６】
アミノ基含有化合物としては、炭素数１〜２０のモノハイドロカルビルアミン［アルキルアミン（ブチルアミン等）、ベンジルアミン及びアニリン等］、炭素数２〜２０の脂肪族ポリアミン（エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン及びジエチレントリアミン等）、炭素数６〜２０の脂環式ポリアミン（ジアミノシクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジアミン及びイソホロンジアミン等）、炭素数２〜２０の芳香族ポリアミン（フェニレンジアミン、トリレンジアミン及びジフェニルメタンジアミン等）、炭素数２〜２０の複素環式ポリアミン（ピペラジン及びＮ−アミノエチルピペラジン等）、アルカノールアミン（モノエタノールアミン、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミン等）、ジカルボン酸と過剰のポリアミンとの縮合により得られるポリアミドポリアミン、ポリエーテルポリアミン、ヒドラジン（ヒドラジン及びモノアルキルヒドラジン等）、ジヒドラジッド（コハク酸ジヒドラジッド及びテレフタル酸ジヒドラジッド等）、グアニジン（ブチルグアニジン及び１−シアノグアニジン等）及びジシアンジアミド等が挙げられる。
【００５７】
チオール基含有化合物としては、炭素数１〜２０の１価のチオール化合物（エタンチオール等のアルカンチオール、ベンゼンチオール及びフェニルメタンチオール）及び多価のチオール化合物（１，２−エタンジチオール及び１，６−ヘキサンジチオール等）等が挙げられる。
【００５８】
前記水酸基含有化合物に用いられるＡＯとしては、炭素数２〜４のＡＯ、例えば、ＥＯ、ＰＯ、１，３−プロピレンオキサイド、１，２−、１，３−又は２，３−ブチレンオキサイド及びＴＨＦ等が挙げられる。これらの内、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度等の観点からＥＯ、ＰＯ及びＴＨＦが好ましい。ＡＯは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよく、ＡＯを２種以上併用する場合の付加方法としては、ブロック付加であってもランダム付加であってもよく、これらの併用であってもよい。
【００５９】
活性水素含有有機化合物がＡＯ付加物の場合のＡＯの付加モル数はポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度等の観点から、８〜１００が好ましく、更に好ましくは１０〜８０である。ＡＯ付加物の水酸基価は１８〜３６０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。本発明において、水酸基価はＪＩＳ  Ｋ  １５７７−１に準拠して測定される。
【００６０】
化合物（Ｓ）にＴ1を導入するための活性水素含有有機化合物として、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度等の観点から好ましいのは、水酸基含有化合物、アミノ基含有化合物及びこれらのＡＯ付加物であり、更に好ましいのは、炭素数２〜２０の多価アルコール及び炭素数２〜２０の多価アルコールにＡＯを付加したポリエーテルポリオール、炭素数２〜２０の脂肪族ポリアミン及び多価のチオール化合物、特に好ましいのは炭素数２〜２０の多価アルコール及び炭素数２〜２０の多価アルコールにＡＯを付加したポリエーテルポリオール、最も好ましいのは炭素数２〜２０の多価アルコールにＡＯを付加したポリエーテルポリオールである。
【００６１】
活性水素含有有機化合物の価数は、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度等の観点から、通常１〜２０であり、好ましくは１〜８、更に好ましくは１〜４、特に好ましくは２である。
【００６２】
一般式（４）におけるｇは、１〜２０でかつ１≦ｇ≦ｒを満たす整数を表し、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度等の観点から、好ましくは１〜８、更に好ましくは１〜４、特に好ましくは２である。
【００６３】
一般式（４）におけるＴ2は、１〜２０価の活性水素含有有機化合物から１個の活性水素を除いた残基を表し、複数のＴ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｔ2を構成するために用いられる活性水素含有有機化合物としては、上述のＴ1で示した活性水素含有有機化合物と同様のものが挙げられ、Ｔ2とＴ1はそれぞれ同一でも異なっていてもいが、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度等の観点から、Ｔ1と少なくとも１つのＴ2とは異なる基であることが好ましい。
また、Ｔ2の価数はポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度等の観点から、通常１〜２０であり、好ましくは１〜８、更に好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２、最も好ましくは２である。
【００６４】
尚、後述のＹを構成するために用いる３価以上のポリカルボン酸に前記活性水素含有有機化合物を反応させることによりＴ1及びＴ2を化合物（Ｓ）に導入することができるが、Ｔ1及びＴ2が特に炭素数２〜４のジオール又は繰り返し単位の炭素数が２〜４のポリエーテルポリオールの場合、ポリカルボン酸のカルボキシル基に前記炭素数２〜４のＡＯを付加することによっても同等の化合物を得ることができる。
【００６５】
一般式（４）におけるＹは、３価以上の芳香族ポリカルボン酸からすべてのカルボキシル基を除いた残基を表す。Ｙの芳香環は炭素原子から構成され、その炭素原子にはカルボキシル基以外の置換基及び／又はハロゲン原子が結合していてもよいが、少なくとも一つの炭素原子は置換基が結合しておらず水素原子と結合している必要がある。
【００６６】
カルボキシル基以外の置換基とは、アルキル基、ビニル基、アリル基、シクロアルキル基、アミノ基、水酸基、ヒドロキシアミノ基、ニトロ基、チオール基、アリール基及びシアノ基等が挙げられる。
【００６７】
Ｙを構成するために用いられる３価以上の芳香族ポリカルボン酸としては、炭素数９〜３０の芳香族ポリカルボン酸、トリメリット酸、１，２，３−ベンゼントリカルボン酸、トリメシン酸、ヘミリット酸、１，２，４−、１，３，６−又は２，３，６−ナフタレントリカルボン酸及び２，３，６−アントラセントリカルボン酸等のトリカルボン酸；ピロメリット酸、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、４，４’−オキシビスフタル酸、ジフェニルメタンテトラカルボン酸、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸及び４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ビスフタル酸等のテトラカルボン酸；等が挙げられる。芳香族ポリカルボン酸は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６８】
これらの芳香族ポリカルボン酸の内、磁気記録媒体用バインダーの耐久性の観点から好ましいのは、前記芳香環を構成し置換基が結合していない炭素原子に隣接する２個の炭素原子にカルボキシル基が結合し、前記カルボキシル基が結合した炭素原子に隣接しかつ前記炭素原子とは異なる炭素原子の少なくとも一方に更にカルボキシル基が結合した構造を有する構造を有するものである。
【００６９】
例えば、芳香族ポリカルボン酸の芳香環がベンゼン環で前記置換基が結合していない炭素原子の位置が１位の場合、２位と６位にカルボキシル基が結合し、更に３位及び／又は５位にカルボキシル基が結合した構造を有するものが好ましい。
【００７０】
磁気記録媒体用バインダーの耐久性の観点から、Ｙを構成するために用いる芳香族ポリカルボン酸として特に好ましいのは単環式化合物であり、最も好ましいのはトリメリット酸及びピロメリット酸である。
【００７１】
一般式（４）におけるｅは１以上の整数を表し、ｆは０以上の整数を表し、かつ、２≦ｅ＋ｆ≦ｈ−２を満たし、ｈは前記芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基を含む全ての置換基を水素原子に置換した場合の芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子の数、即ち芳香環上で置換可能な部位の数を表す。例えば、芳香環が炭素原子６個から構成されるベンゼン環の場合、ｈは６であり、ｅ＋ｆは２〜４の値を取り得、芳香環が炭素原子１０個から構成されるナフタレン環の場合、ｈは８であり、ｅ＋ｆは２〜６の値を取り得る。芳香環が単環の芳香環の場合、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度の観点から、ｅ＋ｆは２又は３が好ましい。また、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度等の観点から、ｆはｅの１／２以下であることが好ましく、特に好ましいのは０である。
【００７２】
本発明における化合物（Ｓ）の水酸基価は、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の破断伸び及び破断強度の観点から、好ましくは７０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇ、更に好ましくは７５〜３５０ｍｇＫＯＨ／ｇである。水酸基価が７０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満ではポリウレタン樹脂の破断強度が低下する傾向にあり、５００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えるとポリウレタン樹脂の破断伸びが低下する傾向にある。
【００７３】
化合物（Ｓ）におけるＹの濃度は、化合物（Ｓ）１ｇ中の残基Ｙのミリモル数を意味し、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の破断伸び及び破断強度の観点から、好ましくは０．５〜８ｍｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは０．７〜６ｍｍｏｌ／ｇ、特にに好ましくは０．９〜４ｍｍｏｌ／ｇである。
【００７４】
化合物（Ｓ）のカルボニル基濃度は、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度等の観点から、好ましくは３〜２４ｍｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは３．５〜１８ｍｍｏｌ／ｇ、特に好ましくは４〜１２ｍｍｏｌ／ｇである。本発明におけるカルボニル基濃度におけるカルボニル基とは、一般式（４）におけるＹに結合するカルボニル基、即ちＹを導入するために用いられる３価以上の芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基並びにこれから誘導されるエステル基、チオエステル基及びアミド基等の官能基中のカルボニル基を意味する。
【００７５】
ポリオール成分（Ａ）に用いられる場合の化合物（Ｓ）のモル平均官能基数は、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度等の観点から、１〜８が好ましく、更に好ましくは１〜６、特に好ましくは１〜４、最も好ましくは４である。
本発明におけるモル平均官能基数は、組成物中の各成分の活性水素を有する官能基の数に各成分のモル数を乗じた値の総和を各成分のモル数の総和で除した値であり、各成分のモル数は各成分の重量を各成分の分子量で除した値である。計算に用いる分子量としては、低分子化合物の様に分子量に分布がない場合は化学式量を、分子量に分布がある場合はＭｎを用いる。
【００７６】
化合物（Ｓ）は、一般式（４）におけるＴ1、Ｔ2及びＹの内の少なくとも１種が活性水素を有する化合物である。更に詳しくは、少なくとも、Ｔ1の価数ｒとｇがｒ＞ｇを満たすか、Ｙがアミノ基、水酸基、ヒドロキシアミノ基及びチオール基等の活性水素を有する置換基で置換されているか、Ｔ2を構成する活性水素含有有機化合物が２価以上であるか、ｆが１以上であることにより化合物（Ｓ）は少なくとも１つの活性水素を有する。
【００７７】
化合物（Ｓ）の使用量は、機械強度等の観点から、ポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）の合計重量を基準として０．０１〜１０重量％であることが好ましく、更に好ましくは０．１〜８重量％である。
【００７８】
有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）としては、従来ポリウレタンの製造に使用されているものが使用でき、２〜３個又はそれ以上のイソシアネート基を有する炭素数４〜２２の脂肪族ポリイソシアネート（Ｂ１）、炭素数８〜１８の脂環式ポリイソシアネート（Ｂ２）、炭素数８〜２６の芳香族ポリイソシアネート（Ｂ３）、炭素数１０〜１８の芳香脂肪族ポリイソシアネート（Ｂ４）及びこれらのポリイソシアネートの変性物（Ｂ５）等が挙げられる。有機イソシアネート成分（Ｂ）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７９】
炭素数４〜２２の脂肪族ポリイソシアネート（Ｂ１）としては、例えばエチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、１，６，１１−ウンデカントリイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、２，６−ジイソシアナトメチルカプロエート、ビス（２−イソシアナトエチル）フマレート、ビス（２−イソシアナトエチル）カーボネート及び２−イソシアナトエチル−２，６−ジイソシアナトヘキサノエートが挙げられる。
【００８０】
炭素数８〜１８の脂環式ポリイソシアネート（Ｂ２）としては、例えばイソホロンジイソシアネート（以下、ＩＰＤＩと略記）、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（以下、水添ＭＤＩと略記）、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアナトエチル）−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボキシレート及び２，５−又は２，６−ノルボルナンジイソシアネートが挙げられる。
【００８１】
炭素数８〜２６の芳香族ポリイソシアネート（Ｂ３）としては、例えば１，３−又は１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−又は２，６−トリレンジイソシアネート（以下、ＴＤＩ略記）、粗製ＴＤＩ、４，４’−又は２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（以下、ＭＤＩと略記）、粗製ＭＤＩ、ポリアリールポリイソシアネート、４，４’−ジイソシアナトビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジイソシアナトビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジイソシアナトジフェニルメタン、１，５−ナフチレンジイソシアネート、４，４’，４”−トリフェニルメタントリイソシアネート及びｍ−又はｐ−イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネートが挙げられる。
【００８２】
炭素数１０〜１８の芳香脂肪族ポリイソシアネート（Ｂ４）としては、例えばｍ−又はｐ−キシリレンジイソシアネート及びα，α，α’，α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネートが挙げられる。
【００８３】
（Ｂ１）〜（Ｂ４）のポリイソシアネートの変性物（Ｂ５）としては、前記ポリイソシアネートの変性物（ウレタン基、カルボジイミド基、アロハネート基、ウレア基、ビューレット基、ウレトジオン基、ウレトイミン基、イソシアヌレート基又はオキサゾリドン基含有変性物等；遊離イソシアネート基含有量が通常８〜３３重量％、好ましくは１０〜３０重量％、特に１２〜２９重量％のもの）、例えば変性ＭＤＩ（ウレタン変性ＭＤＩ、カルボジイミド変性ＭＤＩ及びトリヒドロカルビルホスフェート変性ＭＤＩ等）、ウレタン変性ＴＤＩ、ビウレット変性ＨＤＩ、イソシアヌレート変性ＨＤＩ及びイソシアヌレート変性ＩＰＤＩ等のポリイソシアネートの変性物が挙げられる。
【００８４】
これらの内で好ましいのは、炭素数８〜２６の芳香族ポリイソシアネート（Ｂ３）であり、更に好ましいのは芳香族ジイソシアネート、特に好ましいのは４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートである。
【００８５】
ポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とを反応させてポリウレタン樹脂（Ｐ）を製造するに際し、（Ａ）と（Ｂ）の当量比率（水酸基の当量／イソシアネート基の当量）は通常０．６〜１．５、好ましくは０．８〜１．２、更に好ましくは０．９〜１．１である。当量比率が０．６未満又は１．５を越えると（Ａ）と（Ｂ）との反応により得られるポリウレタン樹脂の分子量が低くなり分散性が低下し、また、樹脂強度が不十分となり、耐摩耗性、耐スクラッチ性、耐加水分解性等が低下する。前記反応はイソシアネート基に対して不活性な溶媒の存在下又は不存在下で行なうことができる。このような溶媒としてはエステル系溶媒（酢酸エチル及び酢酸ブチル等）、エーテル系溶媒（ジオキサン及びテトラハイドロフラン等）、ケトン系溶媒（シクロヘキサノン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン及びキシレン等）及びこれらの２種以上の混合溶媒が挙げられる。
【００８６】
反応方法としては（Ａ）と（Ｂ）とを一括して反応容器に仕込み反応させる方法、（Ａ）と（Ｂ）とを分割して多段反応をさせる方法、及び予め混合した（Ａ）と（Ｂ）を加熱された多軸押出し機中を通過させて反応させる方法等が挙げられる。
【００８７】
反応温度は通常３０〜１８０℃、好ましくは６０〜１２０℃である。また、反応を促進させるため通常のウレタン反応において用いられる触媒、例えば、有機金属化合物［トリメチルチンラウレート、トリメチルチンヒドロキサイド、ジメチルチンジラウレート、スタナスオクトエート、レッドオレート、レッド２−エチルヘキソエートジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズラウレート、ビスマスカルボキシレート、ビスマスアルコキシド及びジカルボニル基を有する化合物とビスマスとのキレート化合物等］、無機金属化合物［酸化ビスマス、水酸化ビスマス及びハロゲン化ビスマス等］、アミン［トリエチルアミン、トリエチレンジアミン及びジアザビシクロウンデセン等］及びこれらの２種以上の混合物等を使用することができる。
【００８８】
ポリウレタン樹脂（Ｐ）のＭｎは、通常１，０００〜２００，０００、好ましくは３，０００〜１５０，０００である。Ｍｎが１，０００未満では樹脂強度等が低下し、磁気テープの耐久性が劣り、２００，０００を越えると塗料粘度が高くなり、磁性粉の分散性も低下する。
【００８９】
本発明におけるＭｗはゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより、例えば以下の条件で測定することができる。
装置：「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」［東ソー（株）製］
カラム：「Ｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  α」＋「ＴＳＫｇｅｌ  α−Ｍ」［いずれも東ソー（株）製］
試料溶液：０．１２５重量％のジメチルホルムアミド溶液
溶液注入量：１００μｌ
流量：１ｍｌ／分
測定温度：４０℃
検出装置：屈折率検出器
基準物質：標準ポリスチレン
【００９０】
また、（Ｐ）のガラス転移点（Ｔｇ）は、好ましくは０〜１２５℃、更に好ましくは３０〜１２０℃、特に好ましくは５０〜１１５℃である。Ｔｇが０℃未満では磁気テープの耐久性が低下し、１２５℃を超えると磁気テープ製造時のカレンダー性が悪くなる。
【００９１】
本発明の磁気記録媒体用バインダーに用いられる（Ｐ）は更に必要により他の樹脂と併用してもよい。
他の樹脂としては、ポリ塩化ビニル系樹脂［塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（「ＶＹＨＨ」；ＵＣＣ社製及び「エスレックＣ」；積水化学製等）、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（「ＶＡＧＨ」；ＵＣＣ社製及び「エスレックＡ」；積水化学製等）、塩化ビニル−塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体（「サラン」；旭ダウ製等）等］、ポリウレタン系樹脂［「エステン」；グッドリッチ社製等）等］、ポリブタジエン系樹脂［アクリロニトリル−ブタジエン共重合体（「ハイカー１４８２」；日本ゼオン製等）等］、アクリル系樹脂（アクリル酸エステル系共重合体等）、ニトロセルロース、フェノキシ樹脂及びエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００９２】
これらの他の樹脂は、樹脂中にカルボキシル基、スルホン酸金属塩基、スルホベタイン、燐酸エステル基、アミノ基、第４級アンモニウム塩基及び水酸基等の官能基を含有していてもよい。
【００９３】
本発明の磁気記録媒体は、本発明の磁気記録媒体用バインダー、磁性粉、溶媒及び添加剤を混合・分散し、得られる磁性塗料を非磁性支持体上に塗布して磁性層を形成させることにより得られる。また、本発明の磁気記録媒体用バインダーは、磁性層とは反対側のバックコート層用のバインダーとしても使用することができる。
【００９４】
磁性塗料に使用される磁性粉としては、金属酸化物［例えばγ−Ｆｅ2Ｏ3（γ−ヘマタイト）］、ＣｒＯ3（三酸化クロム）、合金系の磁性体［例えばＣｏ−γ−Ｆｅ2Ｏ3（コバルトフェライト及びコバルトドープγ−酸化鉄）、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、バリウムフェライト及びストロンチウムフェライト］、純鉄Ｆｅ（メタルパウダー）、窒化鉄及び炭化鉄等が挙げられる。
【００９５】
磁性塗料に用いられる溶媒としては、エステル系溶媒（酢酸エチル及び酢酸ブチル等）、エーテル系溶媒（ジオキサン及びＴＨＦ等）、ケトン系溶媒（シクロヘキサノン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルルケトン等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン及びキシレン等）及びこれらの２種以上の混合溶媒が挙げられる。これらの内で好ましいのはケトン系溶媒と芳香族炭化水素系溶媒との混合溶媒である。溶媒の使用量は、磁性塗料中の固形分含量が通常２０〜８０重量％となる範囲である。
【００９６】
更に該磁性塗料には、本発明の磁気記録媒体用バインダー及び磁性粉の他に、添加剤として公知の分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆剤及び架橋剤等が添加されていてもよい。
【００９７】
分散剤としては、炭素数１２〜１８個の脂肪酸（カプリル酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸及びステアロール酸等）；金属石鹸［前記脂肪酸のアルカリ金属（カリウム及びナトリウム等）塩及びアルカリ土類金属（マグネシウム、カルシウム及びバリウム等）塩］等が挙げられる。
【００９８】
潤滑剤としては、ジアルキルポリシロキサン（アルキルの炭素数１〜５）、ジアルコキシポリシロキサン（アルコキシの炭素数１〜４）、モノアルキルモノアルコキシポリシロキサン（アルキルの炭素数１〜５、アルコキシの炭素数１〜４）、フェニルポリシロキサン、フロロアルキルポリシロキサン、シリコンオイル、導電性微粉末（グラファイト等）、無機粉末（二硫化モリブデン及び二硫化タングステン等）、プラスチック微粉末、脂肪酸エステル類及びフルオロカーボン類等が挙げられる。
【００９９】
研磨剤としては、アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、コランダム、人造コランダム、ダイヤモンド及び人造ダイヤモンド等が挙げられる。
【０１００】
帯電防止剤としては、導電性粉末（カーボンブラック及びカーボンブラックグラフトポリマー等）、天然界面活性剤（サポニン等）、ノニオン型界面活性剤（アルキレンオキサイド系、グリセリン系及びグリシドール系等）、カチオン型界面活性剤（高級アルキルアミン類、第四級アンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環類及びホスホニウム類等）、アニオン型界面活性剤（カルボン酸型、スルホン酸型、燐酸型、硫酸エステル基型及び燐酸エステル基型等）、両性界面活性剤（アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸及び燐酸エステル類等）等が挙げられる。
【０１０１】
防錆剤としては、燐酸、スルフィド、グアニジン、ピリジン、アミン、尿素、ジンククロメート、カルシウムクロメート及びストロンチウムクロメート等が挙げられる。また、特にジシクロヘキシルアミンナイトライト、シクロヘキシルアミンクロメート、ジイソプロピルアミンナイトライト、ジエタノールアミンホスフェート、シクロヘキシルアンモニウムカーボネート、プロピレンジアミンステアレート、グアニジンカーボネート、トリエタノールアミンナイトライト及びモルフォリンステアレート等の気化性防錆剤（アミン、アミド又はイミドの無機酸塩又は有機酸塩）を使用すると防錆効果が向上する。
【０１０２】
また、磁気記録媒体の磁性層の強度の向上を目的として磁性塗料中に架橋剤として多官能ポリイソシアネートを配合することができる。好ましい多官能ポリイソシアネートとしては、例えば有機ポリイソシアネート（ＴＤＩ及びＭＤＩ等）と活性水素化合物（低分子ポリオール、ポリアミン、ポリエーテルポリオール及びポリエステルポリオール等）とからのイソシアネート基末端プレポリマー［例えば、「コロネートＬ」（日本ポリウレタン工業製）及び「コロネートＨＬ」（日本ポリウレタン工業製）等］等が挙げられる。
【０１０３】
架橋剤の使用量は特に限定されないが、バインダーの重量に基づいて通常３〜８０重量％である。また、架橋反応を促進させるため、前述のポリウレタン樹脂（Ｐ）の製造において例示したものと同様の触媒を適宜配合してもよい。
【０１０４】
磁気記録媒体を構成する非磁性支持体の素材としては、ポリエステル類（ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン−２，６−ナフタレート等）；ポリオレフィン類（ポリエチレン及びポリプロピレン等）；セルロース誘導体（セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート、セルロースアセテートブチレート及びセルロースアセテートプロピオネート等）；ビニル系樹脂（ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデン等）；その他のプラスチック（ポリカーボネート、ポリイミド及びポリアミドイミド等）；非磁性金属類（アルミニウム、銅、スズ、亜鉛及びこれらを含む非磁性合金等）；セラミック類（ガラス、陶器及び磁器等）；バライタ又はポリオレフィン類（ポリエチレン及びエチレン−ブテン共重合体等）を塗布又はラミネートした紙；等が挙げられる。また、非磁性支持体の形態はフイルム、テープ、シート、ディスク、カード及びドラム等のいずれであってもよい。非磁性支持体上に磁性塗料を塗布して形成される磁性層の厚さは、乾燥膜厚で通常０．０５〜５０μｍである。
【０１０５】
磁気記録媒体（磁気テープ等）を製造する方法としては、例えば磁気記録媒体用バインダー、磁性粉、溶媒及び必要により添加剤を予めプレミキサー等で混合した後、混合分散機（ボールミル、ペイントコンディショナー、サンドグラインダー、サンドミル及びプラストミル等）で磁性粉を分散させて磁性塗料を作製し、次にこの磁性塗料を、ドクターブレード法又は転写印刷法（グラビア法及びリバースロール法等）等の方法により非磁性支持体に塗布後、配向、乾燥、表面加工、切断、巻取り等の工程を経て磁気記録媒体とする方法が例示できる。
【０１０６】
磁気記録媒体は、非磁性支持体と磁性層（磁性粉及びバインダー等）からなるものが一般的であるが、非磁性支持体と磁性層の間に中間層（下塗層、アンダーコート層）を設けたもの、非磁性支持体の両面に磁性層を有するもの、磁気特性の異なる磁性層を重積したもの、磁性層の上に保護層を設けたもの、非磁性支持体にバックコート層を設けたもの等であってもよい。
【実施例】
【０１０７】
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、以下において部は重量部、％は重量％を示す。
【０１０８】
製造例１  ［スルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１−１）の製造］
攪拌装置及び温度制御装置付きのステンレス製オートクレーブに、ジオール（ａ０）としての３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオールを１３２．２部仕込み、窒素雰囲気下、ＡＯとしてのＥＯ１７６．０部を１２０℃±１０℃で、圧力が０．５ＭＰａ以下となるよう制御しながら、２時間かけて滴下した後、１２０℃±１０℃で３時間熟成して、３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオールの水酸基にＥＯが付加した化合物を得た。
次に、攪拌装置及び温度制御装置付きのガラス製オートクレーブに、空気を通気しながら、スルホン化剤としての亜硫酸ナトリウム６３．１部及び重亜硫酸ナトリウム１０９．３部並びにイオン交換水４５０部を仕込み、撹拌溶解後、前記３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオールの水酸基にＥＯが付加した化合物を３０８．２部仕込み、空気を通気しながら、６０℃１０時間反応させた。その後、窒素通気下、３０％過酸化水素水溶液を４２．０部仕込み、未反応の重亜硫酸ナトリウム及び亜硫酸ナトリウムを還元した。次いでメタノール２００．０部を添加し、析出してきた上記重亜硫酸ナトリウム及び亜硫酸ナトリウムの還元物をろ過により除去した。得られた溶液からイオン交換水及びメタノールを減圧下留去した後、１５％塩酸水溶液を２４８．５部加え、窒素通気下６０℃で２時間混合し、化合物中のスルホン酸ナトリウム基をスルホン酸基とした。１時間静置し、水相と油相に分離させた後、上澄みの水相を除去し、残った油相からイオン交換水を減圧下留去することで、スルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１−１）を得た。
【０１０９】
製造例２〜４、７、１１、１５、１９、２５、２９〜３０  ［スルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１−２）〜（ａ１−４）、（ａ１−７）、（ａ１−１１）、（ａ１−１５）、（ａ１−１９）、（ａ１−２５）、（ａ１−２９）〜（ａ１−３０）の製造］
仕込み原料を表１〜表３に記載のものに代える以外は製造例１と同様にして、スルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１−２）〜（ａ１−４）、（ａ１−７）、（ａ１−１１）、（ａ１−１５）、（ａ１−１９）、（ａ１−２５）、（ａ１−２９）〜（ａ１−３０）を得た。
【０１１０】
製造例５  ［スルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１−５）の製造］
攪拌装置及び温度制御装置付きのステンレス製オートクレーブに、ジオール（ａ０）としての３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオールを１３２．２部仕込み、窒素雰囲気下、ＡＯとしてのＰＯ２３２．０部を１２０℃±１０℃で、圧力が０．５ＭＰａ以下となるよう制御しながら、２時間かけて滴下した後、１２０℃±１０℃で３時間熟成して、３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオールの水酸基にＰＯが付加した化合物を得た。
次に、攪拌装置及び温度制御装置付きのガラス製オートクレーブに、空気を通気しながら、スルホン化剤としての亜硫酸アンモニウム１水和物６３．１部及び５０％重亜硫酸アンモニウム水溶液２０８．１部並びにイオン交換水４１０部を仕込み、撹拌溶解後、前記３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオールの水酸基にＰＯが付加した化合物を３６４．２部仕込み、空気を通気しながら、６０℃１０時間反応させた。その後、窒素通気下、３０％過酸化水素水溶液を４２．０部仕込み、未反応の重亜硫酸アンモニウム及び亜硫酸アンモニウムを還元した。次いでメタノール２００．０部を添加し、析出してきた上記重亜硫酸ナトリウム及び亜硫酸ナトリウムの還元物をろ過により除去した。得られた溶液みからイオン交換水及びメタノールを減圧下留去して、スルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１−５）を得た。
【０１１１】
製造例６、８〜１０、１２〜１４、１６〜１８、２０〜２４、２６〜２８  ［スルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１−６）、（ａ１−８）〜（ａ１−１０）、（ａ１−１２）〜（ａ１−１４）、（ａ１−１６）〜（ａ１−１８）、（ａ１−２０）〜（ａ１−２４）、（ａ１−２６）〜（ａ１−２８）の製造］
仕込み原料を表１〜表３に記載のものに代える以外は製造例３と同様にして、スルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１−６）、（ａ１−８）〜（ａ１−１０）、（ａ１−１２）〜（ａ１−１４）、（ａ１−１６）〜（ａ１−１８）、（ａ１−２０）〜（ａ１−２４）、（ａ１−２６）〜（ａ１−２８）を得た。
【０１１２】
得られたスルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１−１）〜（ａ１−３０）のＭｎ、スルホン酸基当量、スルホン酸基濃度及び一般式（１）における構成要素を表４及び表５に示す。なお、ジオール（ａ１−１）〜（ａ１−３０）は常温で液状であり、従来用いられていたビス（２−ヒドロキシエチル）アミノエチルスルホン酸テトラメチル４級アンモニウム塩等のテトラアルキルアンモニウム塩が常温で固体であるのに比べて、ハンドリング性が良い。
【０１１３】
【表１】
2015174914.tif 000008
【０１１４】
【表２】
2015174914.tif 000009
【０１１５】
【表３】
2015174914.tif 000010
【０１１６】
【表４】
2015174914.tif 000011
【０１１７】
【表５】
2015174914.tif 000012
【０１１８】
製造例３１［活性水素を有する化合物（Ｓ−１）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置を備えたステンレス製オートクレーブに、プロピレングリコールのＰＯ／ＥＯブロック付加物［三洋化成工業（株）製「サンニックスＰＬ−９１０」；Ｍｎ＝９００、水酸基価１２４．７］９００部、無水トリメリット酸３８４部及びアルカリ触媒（Ｎ−エチルモルホリン）２．１部を仕込み、窒素雰囲気下、０．２０ＭＰａ、１３０±１０℃で５時間反応させ酸無水物基部分のハーフエステル化を行い、プロピレングリコールのＰＯ／ＥＯブロック付加物１モルに無水トリメリット酸が２モル反応したエステル化物を得た。続いてＥＯ１７６部を１００±１０℃で、圧力が０．５０ＭＰａ以下となるよう制御しながら、５時間かけて滴下した後、１００±１０℃で１時間熟成して、前記エステル化物にＥＯが付加した化合物（Ｓ−１）を得た。得られた化合物（Ｓ−１）の水酸基価は１５４ｍｇＫＯＨ／ｇであり、前記一般式（４）におけるＹの濃度＝１．４ｍｍｏｌ／ｇ、カルボニル基濃度＝４．１ｍｍｏｌ／ｇ、モル平均官能基数＝４、Ｍｎ＝１４６０、ｅ＝２、ｆ＝０、ｇ＝２である。
【０１１９】
製造例３２［活性水素を有する化合物（Ｓ−２）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置を備えたステンレス製オートクレーブに、ピロメリット酸２５４部、アルカリ触媒（Ｎ−エチルモルホリン）２．１部及び溶媒としてのＴＨＦを３１３部仕込み、窒素雰囲気下、ＥＯ１７６部を１００±１０℃で、圧力が０．５０ＭＰａ以下となるよう制御しながら、５時間かけて滴下した後、１００±１０℃で１時間熟成して、ピロメリット酸のカルボキシル基にＥＯが付加した化合物（Ｓ−２）を得た。得られた化合物（Ｓ−２）の水酸基価は５２２ｍｇＫＯＨ／ｇであり、前記一般式（４）におけるＹの濃度＝２．３ｍｍｏｌ／ｇ、カルボニル基濃度＝９．３ｍｍｏｌ／ｇ、モル平均官能基数＝４、Ｍｎ＝４３０、ｅ＝３、ｆ＝０、ｇ＝１である。
【０１２０】
実施例１［ポリウレタン樹脂（Ｐ−１）の製造］
攪拌機、温度計、還流冷却管及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、スルホン酸（塩）基を有するジオールとしてのスルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１−１）７８．０部、高分子ポリオール（ａ２）としてのＭｎが１０００のポリブチレンアジペートジオール１，０００部、低分子ポリオール（ａ４）としてのエチレングリコール１２４．０部、及び有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）としての４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート７５０部を仕込み７０℃で反応させた。これにメチルエチルケトン／シクロヘキサノン混合液（重量比１：１）４５５５部を加え、固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ−１）の溶液を得た。
【０１２１】
実施例２〜５、１１〜１５及び２１〜２５［ポリウレタン樹脂（Ｐ−２）〜（Ｐ−５）、（Ｐ−１１）〜（Ｐ−１５）及び（Ｐ−２１）〜（Ｐ−２５）の製造］
仕込み原料を表６〜７に記載のものに代える以外は実施例１と同様にして、固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ−２）〜（Ｐ−５）、（Ｐ−１１）〜（Ｐ−１５）及び（Ｐ−２１）〜（Ｐ−２５）の溶液を得た。
【０１２２】
実施例６［ポリウレタン樹脂（Ｐ−６）の製造］
攪拌機、温度計、還流冷却管及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、スルホン酸（塩）基を有するジオールとしてのスルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１−６）１３２．０部、高分子ポリオール（ａ２）としてのＭｎが１０００のポリブチレンアジペートジオール２，８００部及び有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）としての４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート７５０部を仕込み７０℃で反応させた。これにメチルエチルケトン／シクロヘキサノン混合液（重量比１：１）８５９１部を加え、固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ−６）の溶液を得た。
【０１２３】
実施例７〜１０、１６〜２０及び２６〜２８［ポリウレタン樹脂（Ｐ−７）〜（Ｐ−１０）、（Ｐ−１６）〜（Ｐ−２０）及び（Ｐ−２６）〜（Ｐ−２８）の製造］
仕込み原料を表６〜７に記載のものに代える以外は製造例６と同様にして、固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ−７）〜（Ｐ−１０）、（Ｐ−１６）〜（Ｐ−２０）及び（Ｐ−２６）〜（Ｐ−２８）の溶液を得た。
【０１２４】
実施例２９［ポリウレタン樹脂（Ｐ−２９）の製造］
攪拌機、温度計、還流冷却管及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、スルホン酸（塩）基を有するジオールとしてのスルホン酸（塩）基を有するジオール（ａ１−２９）２６．３部、高分子ポリオール（ａ２）としてのＭｎが１０００のポリブチレンアジペートジオール１，０００部、有機酸（塩）基を有するポリオール（ａ３）としてのＮ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）スルファミン酸ナトリウムのＰＯ８モル付加物６７．１部、低分子ポリオール（ａ４）としてのエチレングリコール１１２．０部、活性水素を有する化合物（Ｓ）としての活性水素を有する化合物（Ｓ−１）１８．４部及び有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）としての４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート７５０部を仕込み７０℃で反応させた。これにメチルエチルケトン／シクロヘキサノン混合液（重量比１：１）４６０６部を加え、固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ−２９）の溶液を得た。
【０１２５】
実施例３０［ポリウレタン樹脂（Ｐ−３０）の製造］
仕込み原料を表７に記載のものに代える以外は製造例２９と同様にして、固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ−３０）の溶液を得た。
【０１２６】
比較例１［ポリウレタン樹脂（Ｐ’−１）の製造］
攪拌機、温度計、還流冷却管及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、高分子ポリオール（ａ２）としてのＭｎが１０００のポリブチレンアジペートジオール１，０００部、低分子ポリオール（ａ４）としてのエチレングリコール１２４．０部及び有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）としての４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート７５０部を仕込み７０℃で反応させた。これにメチルエチルケトン／シクロヘキサノン混合液（重量比１：１）４６０６部を加え、固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ’−１）の溶液を得た。
【０１２７】
実施例１〜３０及び比較例１で得られたポリウレタン樹脂の分析結果を表６〜７に示す。
【０１２８】
【表６】
2015174914.tif 000013
【０１２９】
【表７】
2015174914.tif 000014
【０１３０】
実施例３１［磁性塗料（Ｍ−１）の製造］
実施例１で得られたポリウレタン樹脂（Ｐ−１）の溶液３３．３部、Ｃｏ−γ−Ｆｅ2Ｏ3微粉末１００部、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（商品名：ＶＡＧＨ；ＵＣＣ社製）１０部、レシチン１部、ＭＥＫ７５部及びトルエン７５部を混合して磁性塗料（Ｍ−１）を得た。
【０１３１】
実施例３２〜６０［磁性塗料（Ｍ−２）〜（Ｍ−３０）の製造］
ポリウレタン樹脂（Ｐ）の溶液の種類を表８に記載のものに代える以外は実施例３１と同様にして、磁性塗料（Ｍ−２）〜（Ｍ−３０）を得た。
【０１３２】
比較例２［比較用の磁性塗料（Ｍ’−１）の製造］
ポリウレタン樹脂（Ｐ）の溶液を表８記載のものに代える以外は実施例３１と同様にして、比較用の磁性塗料（Ｍ’−１）を得た。
【０１３３】
【表８】
2015174914.tif 000015
【０１３４】
実施例６１［磁気テープ（Ｆ−１）の製造］
磁性塗料（Ｍ−１）２７１部に硬化剤［「コロネートＬ」（日本ポリウレタン工業製）、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート３モル付加物］を５部添加し、１０分間混合した。この磁性塗料をポリエステルフィルムに塗布し（乾燥膜厚５μｍ）、１，０００Ｏｅの磁場をかけて配向させた後、カレンダーロールで処理し磁気テープ（Ｆ−１）を得た。
【０１３５】
実施例６１〜９０［磁気テープ（Ｆ−２）〜（Ｆ−３０）の製造］
磁性塗料を表９に記載のものに代える以外は実施例６１と同様にして、磁気テープ（Ｆ−２）〜（Ｆ−３０）を得た。
【０１３６】
比較例３［磁気テープ（Ｆ’−１）の製造］
磁性塗料を表９に記載のものに代える以外は実施例６１と同様にして、比較用の磁気テープ（Ｆ’−１）を得た。
【０１３７】
実施例６１〜９０及び比較例３で得られた磁気テープについて以下の方法で測定又は評価した結果を表９に示す。
【０１３８】
［磁性粉の分散性試験］
日本電色工業製デジタル変角光沢計を用いて標準板の７５゜の反射率を測定してこの値が９５となるように調整した後、各磁気テープの反射率を測定して表面光沢度とし、以下の基準で分散性を評価した。表面光沢度が高いほど分散性が良好であることを示す。
◎：表面光沢度が１００％以上
○：表面光沢度が８０％以上１００％未満
×：表面光沢度が８０％未満
【０１３９】
【表９】
2015174914.tif 000016
【産業上の利用可能性】
【０１４０】
本発明の磁気記録媒体用バインダーは、磁性粉の分散性に優れることにより磁気テープの磁気特性を向上させることができることから、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピューターテープ、データーレコーダーテープ、メタルテープ、フレキシブルディスク及び磁気カード等の磁気記録媒体用バインダーとして有用である。