(57)【要約】      （修正有）【課題】表裏２面を化学強化した大型ガラス基板を用いて他面付けしても、切断後も表裏及び側面の６面方面に対して高い耐衝撃性を有するタッチパネル基板を提供する。【解決手段】表裏に化学強化層２を有する2面強化ガラス基板１から成るカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板（タッチパネル）であって、その一方の面が、表示領域と、その外周に形成された加飾額縁領域４とに区分されたタッチパネル６において、一方の面側の周辺端部は、断面方向に曲率半径Ｒ１の曲面形状で面取りされ、また、他方の面側の周辺端部は、断面方向に曲率半径Ｒ２の曲面形状で面取りされ、且つ、曲率半径Ｒ１の曲面終端と曲率半径Ｒ２の曲面終端との間は垂直な面から成る。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表裏に化学強化層を有する2面強化ガラス基板から成るカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板であって、その一方の面が、表示領域と、その外周に形成された加飾額縁領域とに区分された前記センサー基板において、
一方の面側の周辺端部は、断面方向に曲率半径Ｒ１の曲面形状で面取りされ、
また、他方の面側の周辺端部は、断面方向に曲率半径Ｒ２の曲面形状で面取りされ、
且つ、前記曲率半径Ｒ１の曲面終端と前記曲率半径Ｒ２の曲面終端との間は垂直な面から成ることを特徴とするカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板。
【請求項２】
前記化学強化層の厚さをDとしたときに、前記曲率半径Ｒ１の面取りにおいて、断面最端部から前記化学強化層の最端部までの距離Ｃ１は、Ｒ１−（２Ｒ１Ｄ−Ｄ２）１／２で表され、また、前記曲率半径Ｒ２の面取りにおいて、断面最端部から前記化学強化層の最端部までの距離Ｃ２は、Ｒ２−（２Ｒ２Ｄ−Ｄ２）１／２で表され、Ｃ１及びＣ２がそれぞれ２４〜１１７μｍの範囲であることを特徴とする請求項１に記載のカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板。
【請求項３】
前記ガラス基板の曲率半径Ｒ１及びＲ２が１００〜２００μｍの範囲であることを特徴とする請求項１または２に記載のカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板。
【請求項４】
前記化学強化層の厚さＤが１８〜３５μｍの範囲であることを特徴とする請求項２または３に記載のカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板。
【請求項５】
前記ガラス基板の厚さをＴ１としたときに、Ｔ１が４００〜１１００μｍの範囲であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板。
【請求項６】
前記ガラス基板の周辺最端部の前記垂直な面の長さをＴ２としたときに、Ｔ２は、Ｔ１−Ｒ１−Ｒ２で表され、Ｔ２が１００〜９００μｍの範囲であることを特徴とする請求項５に記載のカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載のカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板を備えたことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コンピュータの位置入力装置に関し、表示画面に重ねて用いられるカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話機や、携帯情報端末などの電子機器の操作部にはタッチパネルが採用されている。タッチパネルには、フィルムタイプとガラスタイプがある。フィルムタイプには、軽量・割れにくい、製造コストが安い、柔軟性があるので他の表示装置やカバーガラスと貼り合せる際に気泡を除去し易く貼り合せ易いというメリットがあるものの、フィルムの光透過率がガラスに比べて低いことや、フィルム上に形成された配線パターンの位置精度がガラスに比べて劣るので、引き出し配線を覆う額縁部が大きくなり、表示エリアが狭くなるという問題や、表面の平滑性の差により、ガラスタイプより見栄えが悪いという問題がある。高精細で低消費電力が要求されるスマートフォンやタブレットコンピュータ等の携帯端末等の小型品では、ガラスタイプが多く使用されている。
【０００３】
ガラスタイプのタッチパネルセンサー基板は、一般的に大型ガラス基板上に額縁部、引き出し配線、ジャンパ用の透明電極、Ｘ方向用及びＹ方向用の透明電極、ジャンパとＸ方向用またはＹ方向用の透明電極間の絶縁層、表面の保護層が多面付けで形成された後、１ピースごとの個片基板に切断し、破損防止のためのカバーガラスと、透明粘着シート（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ；ＯＣＡ）等を介して貼り合わせる製造方法が主流であった。
【０００４】
カバーガラスは最表面となる前面板であり、ＳｉＯ２と、Ａｌ２Ｏ３と、Ｌｉ２ＯおよびＮａ２Ｏから選択される少なくとも１種類のアルカリ金属酸化物を含むアルミノシリケートガラスを強化処理したものが一般的に用いられる。ガラスの強化処理には、ガラス表面を軟化点付近まで加熱した後に急冷する物理強化（風冷強化）とガラス内部のアルカリイオンをより粒径の大きいアルカリイオンに交換する化学強化とがあるが、携帯電話に使用される１ｍｍ以下の薄板では表面と内部の温度差がつきにくいために物理強化は不適であり、化学強化が一般的に利用されている。
【０００５】
ガラスの化学強化は、ガラス転移点以下の溶融塩にガラスを浸漬することにより、ガラス内部のアルカリイオンをよりイオン半径の大きなアルカリイオンと交換することにより、イオン半径の違いで圧縮応力をガラス表面に発生させる方法である。ガラス表面に圧縮応力を発生させることにより、ガラス表面に発生したキズに引っ張り応力が集中することを防ぐためにガラスの強度が向上する。
【０００６】
最近ではコスト低減を目的として、一枚のガラス基板上の一方の面にセンサーが形成され、他方の面をカバーガラスとして機能させるカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板が開発されている（特許文献１）。
【０００７】
上記のようなカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板に用いるガラス基板としては、表裏面のみを化学強化した２面強化ガラス基板を用いると、ガラス基板は表裏面から内部の中心部に向かって化学強化されていないため、断裁時にダメージを受け、強度低下を招く恐れがある。そこでその対策として、一般的には断裁後に断裁面を化学強化した６面強化ガラス基板が用いられている。
【０００８】
しかしながら、上記のような対策は、６面強化ガラス基板を用いることによりコスト高
になり、また、一つ一つのピースに断裁した後に化学強化を施すため、工程が複雑で生産性が著しく低下するという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１２−２２６６８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は上記の課題を解決するためのものであり、表裏２面を化学強化した大型ガラス基板を用いて他面付けしても、切断後も表裏及び側面の６面方面に対して高い耐衝撃性を有するカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板（以下、タッチパネルと記す）が提供できることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る請求項１の発明は、表裏に化学強化層を有する2面強化ガラス基板から成るタッチパネルであって、その一方の面が、表示領域と、その外周に形成された加飾額縁領域とに区分された前記タッチパネルにおいて、
一方の面側の周辺端部は、断面方向に曲率半径Ｒ１の曲面形状で面取りされ、
また、他方の面側の周辺端部は、断面方向に曲率半径Ｒ２の曲面形状で面取りされ、
且つ、前記曲率半径Ｒ１の曲面終端と前記曲率半径Ｒ２の曲面終端との間は垂直な面から成ることを特徴とするタッチパネルである。
【００１２】
また、請求項２の発明は、前記化学強化層の厚さをDとしたときに、前記曲率半径Ｒ１の面取りにおいて、断面最端部から前記化学強化層の最端部までの距離Ｃ１は、Ｒ１−（２Ｒ１Ｄ−Ｄ２）１／２で表され、また、前記曲率半径Ｒ２の面取りにおいて、断面最端部から前記化学強化層の最端部までの距離Ｃ２は、Ｒ２−（２Ｒ２Ｄ−Ｄ２）１／２で表され、Ｃ１及びＣ２がそれぞれ２４〜１１７μｍの範囲であることを特徴とする請求項１に記載のカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板である。
【００１３】
また、請求項３の発明は、前記ガラス基板の曲率半径Ｒ１及びＲ２が１００〜２００μｍの範囲であることを特徴とする請求項１または２に記載のカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板である。
【００１４】
また、請求項４の発明は、前記化学強化層の厚さＤが１８〜３５μｍの範囲であることを特徴とする請求項２または３に記載のカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板である。
【００１５】
また、請求項５の発明は、前記ガラス基板の厚さをＴ１としたときに、Ｔ１が４００〜１１００μｍの範囲であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板である。
【００１６】
また、請求項６の発明は、前記ガラス基板の周辺最端部の前記垂直な面の長さをＴ２としたときに、Ｔ２は、Ｔ１−Ｒ１−Ｒ２で表され、Ｔ２が１００〜９００μｍの範囲であることを特徴とする請求項５に記載のカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板である。
【００１７】
また、請求項７の発明は、請求項１〜６のいずれかに記載のカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板を備えたことを特徴とする表示装置である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明に係る請求項１によれば、表裏に化学強化層を有する2面強化ガラス基板の一方の面が、表示領域と、その外周に形成された加飾額縁領域とに区分された前記センサー基板において、
一方の面側の周辺端部を、厚み方向に曲率半径Ｒ１の曲面形状で面取りし、また、他方の面側の周辺端部を、厚み方向に曲率半径Ｒ２の曲面形状で面取りし、且つ、前記曲率半径Ｒ１の側面最端と前記曲率半径Ｒ２の側面最端との間を垂直な面とすることにより、優れた耐衝撃強度を有するタッチパネルを提供することができる。
【００１９】
また、請求項２によれば、前記化学強化層の厚さをＤとしたときに、前記曲率半径Ｒ１の面取りにおいて、断面最端部から前記化学強化層の最端部までの距離Ｃ１が、Ｒ１−（２Ｒ１Ｄ−Ｄ２）１／２で表され、また、前記曲率半径Ｒ２の面取りにおいて、断面最端部から前記化学強化層の最端部までの距離Ｃ２は、Ｒ２−（２Ｒ２Ｄ−Ｄ２）１／２で表され、Ｃ１及びＣ２を２４〜１１７μｍの範囲にすることにより、前記化学強化層が全くない断面端部に対しても、耐衝撃性を付与することができる。
【００２０】
また、請求項３によれば、前記ガラス基板の曲率半径Ｒ１及びＲ２を１００μｍ以上で、かつ、ガラス基板の平面端部から断面端部までの直線距離を２００μｍ以下にすることにより、衝撃の吸収が作用し、優れた耐衝撃強度を有することができる。
【００２１】
また、請求項４によれば、前記化学強化層の厚さＤを１８〜３５μｍの範囲にすることにより、表裏の強度が十分であると共に、反りを防止することができる。
【００２２】
また、請求項５によれば、前記ガラス基板の厚さをＴ１としたときに、Ｔ１が４００〜１１００μｍの範囲にすることにより、加工時のハンドリングが容易であると共に、応答感度の低下を防止することができる。
【００２３】
また、請求項６によれば、前記ガラス基板の周辺最端部の前記垂直な面の長さをＴ２としたときに、Ｔ２が１００〜９００μｍの範囲にすることにより断面端部の厚さを保つことができ、その結果、高い耐衝撃性を付与することができる。
【００２４】
上記で説明したように、本発明によれば、表裏２面が化学強化されたガラス基板を用いて、切断後も表裏及び側面の６面方面に対して高い耐衝撃性を有するタッチパネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明のタッチパネルに係る一実施形態を示す断面概略図である。
【図２】図１のタッチパネルを具備した表示装置の一実施形態を示す断面概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、図に基づいて本発明をより具体的に説明する。
【００２７】
図１および２に示すように、本発明は、表裏に化学強化層２を有する２面強化ガラス基板１から成るタッチパネル６であって、その一方の面が、表示領域５と、その外周に形成された加飾額縁領域４とに区分された前記タッチパネルにおいて、
一方の面側の周辺端部は、厚み方向に曲率半径Ｒ１の曲面形状で面取りされ、
また、他方の面側の周辺端部は、厚み方向に曲率半径Ｒ２の曲面形状で面取りされ、
且つ、前記曲率半径Ｒ１の側面最端と前記曲率半径Ｒ２の側面最端との間は垂直な面から成ることを特徴とするタッチパネルである。
【００２８】
すなわち、本発明のタッチパネル６は、表裏に化学強化層２を有する２面強化ガラス基板１を用いることによってタッチパネルの表裏の強度を保ち、周辺端部をそれぞれ曲率半径Ｒ１及びＲ２の曲面形状に面取りし、且つ一定の板厚を保持することで周辺（切断）端部の強度低下を防ぎ、タッチパネル全体の６面（表裏、４側面）に対して高い耐衝撃性を実現することができる。
【００２９】
本発明に係るガラス基板１に区分けされる表示領域５と、その外周に形成された加飾額縁領域４は、それぞれフォトリソ法及びエッチング法により形成することができる。
【００３０】
以下、前記加飾額縁部４及び前記表示領域５の形成方法について、より具体的に説明する。
【００３１】
一般的に小型のタッチパネルは、生産効率向上及びコスト低減を目的として、大型の前記２面強化ガラス基板１上に単位タッチパネルセンサーを複数形成して、その後、個々の単位タッチパネルに断裁する方法で製造される。したがって、前記加飾額縁領域４も同様にして、大型の前記２面強化ガラス基板１上に単位加飾額縁領域４（ベゼルのパターン）として複数形成する。
【００３２】
具体的には、前記ガラス基板１上の全面に、隠蔽性（遮光性）のある顔料を含有する感光性樹脂組成物（レジスト）を、例えばスピンコ−ト法により塗布する。次に、減圧乾燥機にて溶剤分を除去した後、プロキシミティ露光方式（超高圧水銀ランプ）にて、パターンを施したマスクを介して露光する。その後、ＮａＨＣＯ３（炭酸水素ナトリウム）などのアルカリ水溶液にて現像し、熱処理工程を経て目的の前記加飾額縁領域４を形成する。なお、前記マスクとしてはソーダガラス基板にＣｒ（クロム）でパターン形成したものを用いることができる。
【００３３】
次に、前記表示領域５の形成方法について、以下に説明する。
【００３４】
前記表示領域５は、タッチセンサーの機能を有する領域であり、例えば、Ｘ軸方向の透明電極、Ｙ軸方向の透明電極、両者の交差する領域に形成されるジャンパ配線と絶縁層、前記加飾額縁領域４で覆われる引き出し配線、さらには全体に形成される保護層等により構成される。なお、上記の軸方向の透明電極、Ｙ軸方向の透明電極、ジャンパ配線、絶縁層、引き出し配線、保護層などは図面での記載を省略する。
【００３５】
前記Ｘ軸方向の透明電極、Ｙ軸方向の透明電極及びジャンパ配線は、透明導電材料を用いて形成することができる。透明導電材料としては、例えば酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛などの金属酸化物をもちいることができる。このような材料をスパッタリング法や真空蒸着法等で成膜する。具体的には、例えばＩＴＯを用いて、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて加熱スパッタによりＩＴＯ膜を形成し、その全面上にノボラック系ポジレジストを塗布して、さらにベーキング、マスク露光、現像を行う。その後、シュウ酸を用いてエッチングし、さらにポジレジストを剥離して透明電極を形成することができる。なお、前記Ｘ軸方向の透明電極、Ｙ軸方向の透明電極及びジャンパ配線の形成において、同じ透明導電材料を用いても良い。
【００３６】
前記絶縁層は、例えばネガ型レジストを塗布、ベーキングし、その後、パターンを施したマスクを介してプロキシミティ露光し、現像を経て形成することができる。
【００３７】
前記引き出し配線は金属材料からなり、表示領域の周縁部に位置する前記Ｘ軸方向の透明電極、Ｙ軸方向の透明電極と制御回路とを接続するものであり、例えばＭｏ／Ａｌ／Ｍｏ（モリブデン／アルミニウム／モリブデン）の積層体や、Ａｕ（金）、Ａｇ（銀）、Ａ
ｇ合金を用いて、上記で説明したフォトリソ法とエッチングにより形成することができる。
【００３８】
上記で説明したＸ軸方向の透明電極、Ｙ軸方向の透明電極、ジャンパ配線、絶縁層、引き出し配線を形成したガラス基板全面に保護層を形成することで、より優れた信頼性を付与することができる。
【００３９】
次に、本発明に係るガラス基板および周辺端部の面取りについて、以下に具体的に説明する。
【００４０】
本発明に用いることができるガラス基板１は、表裏に化学強化層２を有するものが好ましい。ガラスの強化処理には、ガラス表面を軟化点付近まで加熱した後に急冷する物理強化（風冷強化）とガラス内部のアルカリイオンをより粒径の大きいアルカリイオンに交換する化学強化とがあるが、携帯電話に使用される１ｍｍ以下の薄板では表面と内部の温度差がつきにくいために物理強化は不適であり、化学強化が一般的に利用されている。
【００４１】
ガラスの化学強化は、ガラス転移点以下の溶融塩にガラスを浸漬することにより、ガラス内部のアルカリイオンをよりイオン半径の大きなアルカリイオンと交換することにより、イオン半径の違いで圧縮応力をガラス表面に発生させる方法である。ガラス表面に圧縮応力を発生させることにより、ガラス表面に発生したキズに引っ張り応力が集中することを防ぐためにガラスの強度が向上する。本発明に用いる２面強化ガラス基板１としては、特にその化学強化方法について限定するものではない。
【００４２】
また、本発明に用いる２面強化ガラス基板１の厚さＴ１としては、加工時のハンドリング及び最終製品に求められるコストや仕様から、４００〜１１００μｍが好ましい。厚さＴ１が４００μｍ未満であると、加工時のハンドリングが困難となり生産性の低下や品質の低下を招く。また、１１００μｍを超えると、応答感度の低下、重量の増加やコスト高が問題となる。
【００４３】
次に、前記２面強化ガラス基板１の周囲端部の面取りについて説明する。
【００４４】
本発明に係る前記２面強化ガラス基板１の周囲端部の面取りは、もともと化学強化処理が不十分な端面の耐衝撃性を向上することを目的としている。すなわち、前記ガラス基板の一方の面（観察側から見て裏面）の周辺端部が曲率半径Ｒ１の曲面形状、他方の面（観察側から見て表面）の周辺端部が曲率半径Ｒ２の曲面形状であることを特徴としている。なお、曲率半径Ｒ１及び曲率半径Ｒ２は同一であってもよい。
【００４５】
また、曲率半径Ｒ１及びＲ２が１００μｍ以上で、かつ、ガラス基板の平面端部から断面端部までの直線距離Ｃが２００μｍ以下であることが好ましい。この条件を満たすことにより、衝撃の吸収が作用し、優れた耐衝撃性を有することができる。前記曲率半径Ｒ１及びＲ２が１００μｍ未満で、かつ、直線距離Ｃが２００μｍを越えると、耐衝撃性を向上させることが難しくなる。他方、曲率半径Ｒ１及びＲ２が２００μｍを超えると視認性が悪くなる。
【００４６】
また、前記２面強化ガラス基板１の化学強化層２の厚さをＤとしたときに、前記曲率半径Ｒ１の面取りにおいて、断面最端部から前記化学強化層の最端部までの距離Ｃ１は、Ｒ１−（２Ｒ１Ｄ−Ｄ２）１／２で表され、前記曲率半径Ｒ２の面取りにおいて、断面最端部から前記化学強化層の最端部までの距離Ｃ２は、Ｒ２−（２Ｒ２Ｄ−Ｄ２）１／２で表される。Ｃ１及びＣ２を２４〜１１７μｍの範囲にすることにより、前記化学強化層が全くない断面最端部に対しても、耐衝撃性を付与することができる。Ｃ１及びＣ２が２４μ
ｍ未満であると、Ｒ１が１００μｍより小さくなってしまうという問題があり、また、１１７μｍを超えると、Ｒ１及びＲ２が２００μｍより大きくなってしまう問題がある。
【００４７】
さらに、化学強化層２の厚さＤが１８〜３５μｍの範囲であることがより好ましい。
Ｄが１８μｍ未満であると、ガラス基板の表裏の耐衝撃性が十分とならない問題がある。Ｄが３５μｍより大きくなると、ガラスの反りが大きくなるため、タッチセンサー製造工程でのハンドリングが困難となる問題がある。
【００４８】
また、前記２面強化ガラス基板の周辺最端部の前記垂直な面の長さをＴ２としたときに、Ｔ２を１００〜９００μｍの範囲にすることにより断面端部の厚さを保つことができ、その結果、高い耐衝撃性を付与することができる。前記Ｔ２が１００μｍ未満であると、端部垂直面に対する垂直方向からの衝撃に弱くなるという問題があり、また、９００μｍを超えると、Ｒ１及びＲ２が１００μｍ未満になってしまうという問題がある。
【００４９】
上記で説明したような本発明に係る２面強化ガラス基板の面取り方法としては、大型ガラス基板に複数の単位タッチパネルセンサーを形成した後に、単位タッチパネルに切断し、その後、一般的な研磨方法により前記曲率半径Ｒ１及びＲ２を形成することができる。
【００５０】
例えば、前記切断方法としては、一般的なダイヤモンダカッターやレーザ光により、ガラス基板の表面にスクライブを入れ、その後折り曲げて切断する方法やサンドブラスト処理による切断方法を用いることができ、特に限定するものではない。
【００５１】
また、前記研磨方法としては、粗度の大きい研磨面を有する凹型砥石を用いて予備的な研磨を行い、次に粗度の小さい研磨面を有する凹型砥石を用いて研磨することで、求める精度の曲率半径を得ることができる。
【実施例】
【００５２】
以下に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。
【００５３】
＜実施例１＞
大型ガラス基板として、表裏両面に化学強化層の厚さＤが１８μｍで、ガラス基板の厚さが５５０μｍ、４００ｍｍ×５００ｍｍサイズの２面強化ガラス基板（旭硝子社製：Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ）を用いた。このガラス基板の一方の面に表示領域と、その外周に加飾額縁領域に区分された単位タッチパネルセンサーを１５ピース形成した。以下、具体的に記す。
【００５４】
上記ガラス基板の全面に、カーボンブラックを分散した感光性樹脂組成物（レジスト）を、スピンコ−ト法により塗布した。次に、減圧乾燥機にて溶剤分を除去した後、プロキシミティ露光方式（超高圧水銀ランプ）にて２００ｍＪで、パターンを施したマスクを介して露光した。その後、ＮａＨＣＯ３（炭酸水素ナトリウム）水溶液にて現像し、２３５℃、２０分の条件で熱処理を施して加飾額縁領域を形成した。なお、前記マスクとして、ソーダガラス基板にＣｒ（クロム）でパターン形成したものを用いた。
【００５５】
次に、透明導電材料として酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、常温で加熱スパッタして膜厚３００ÅのＩＴＯ膜を形成した。次に、その全面上にノボラック系ポジレジストを塗布して、１０５℃でベーキング、１００ｍＪでマスク露光し、さらに、ＮａＯＨ（水酸化ナトリウム）及びＮａＨＣＯ３（炭酸水素ナトリウム）の混合アルカリ水溶液にて現像した。その後、シュウ酸を用いてエッチングし、ポジレジストを全面露光した後、ＮａＯＨ（水酸化ナトリウム）及びＮａＨＣＯ３（
炭酸水素ナトリウム）の混合アルカリ水溶液で前記ポジレジストを剥離してジャンパとなる透明電極を形成した。
【００５６】
次に、ネガ型レジストをスピンコート法により膜厚１．５μｍに塗布した。次に８０℃にてプレベーキングし、その後、パターンを施したマスクを介してプロキシミティ露光方式にて２５０ｍＪ露光した。その後、ＮａＯＨ及びＮａＨＣＯ３の混合アルカリ水溶液を用いて、現像し、焼成することで所定のパターンを有する絶縁層を形成した。
【００５７】
次に、引き出し配線を以下の手順で形成した。ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、真空中でＭｏ層、Ａｌ層、Ｍｏ層を順次積層して、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ（モリブデン／アルミニウム／モリブデン）の積層体を形成した。次に、その上にノボラック系ポジレジストをスピンコートし、１０５℃でプレベークした後、Ｃｒでパターンを施したマスクを介して、プロキシミティ露光方式にて１００ｍＪ露光し、さらにＮａＯＨ及びＮａＨＣＯ３の混合アルカリ水溶液を用いて現像した。その後、燐酸、硝酸、酢酸を主成分とする混合水溶液からなる３成分系エッチング液にてエッチングし、さらにポジレジストを全面露光して、珪酸塩を含む水溶液からなるアルカリ剥離液でポジレジストを剥離し、引き出し配線を形成した。
【００５８】
次に、表示領域にＸ軸方向およびＹ軸方向の透明電極を以下の方法で形成した。まず、透明導電材料として酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、常温にて加熱スパッタして膜厚３００ÅのＩＴＯ膜を形成した。次に、その全面上にノボラック系ポジレジストを塗布して、１０５℃でベーキング、１００ｍＪでマスク露光し、さらに、ＮａＯＨ及びＮａＨＣＯ３の混合アルカリ水溶液にて現像した。その後、シュウ酸を用いてエッチングし、ポジレジストを全面露光した後、ＮａＯＨ及びＮａＨＣＯ３の混合アルカリ水溶液で前記ポジレジストを剥離してＸ軸方向およびＹ軸方向の透明電極を形成した。
【００５９】
前記ガラス基板の全面に保護層を形成するために、感光性樹脂からなる保護層形成用組成物をスピンコートにより膜厚２μｍで塗布した。その後、８０℃のプレベーキングを経て、Ｃｒで所定のパターンが施されたマスクを介して、プロキシミティ露光方式にて１００ｍＪ露光した。その後、ＮａＯＨ及びＮａＨＣＯ３の混合アルカリ水溶液にて現像し、さらに２３５℃、２０分の熱処理を施して保護層を形成し、大型ガラス基板の上に複数のタッチパネルセンサーを形成した。
【００６０】
次に、以下の方法にて、複数の単位タッチパネルセンサーを形成した前記大型ガラス基板から、個々の単位タッチパネルに切断して、その切断端部（以下、コバ面と記す）を加工して、本発明のタッチパネルを作製した。
【００６１】
前記大型ガラス基板の両面に、個々の単位タッチパネルの形状になるように、耐エッチング性を有するマスキングフィルムを貼り合わせ、ブラスト処理を行って粗切りし、その後ケミカルエッチングを行って個々の単位タッチパネルに切断した。
【００６２】
次に、上記単位タッチパネルのコバ面に対して、面取り工程にて、研磨装置に凹型砥石を装着し、裏面側の曲面半径Ｒ１を１００μｍ、表面側の曲面半径Ｒ２を２００μｍ、化学強化層の最短部までの距離Ｃ１を及びＣ２をそれぞれ４３μｍ、１１７μｍ、端部の垂直な面の長さＴ２を２５０μｍになるように加工してコバ面を仕上げ、最後にマスキングフィルムを剥離してタッチパネルを作製した。
【００６３】
＜比較例１＞
実施例１と同様にして前記ガラス基板に単位タッチパネルセンサーを複数形成し、ケミ
カルエッチング法により所定のサイズに切断してタッチパネルを作製した。なお、コバ面は未処理のままとした。
【００６４】
＜評価及び方法＞
実施例１及び比較例１で作製したタッチパネルに対して、下記の振り子試験及び４点曲げ試験を行った。その結果を以下の表１及び表２に示す。
【００６５】
（１）振り子試験
直径２０ｍｍ、重さ３２．５５ｇの剛球を、高さ３０ｃｍの位置から振り子
軌跡でコバ面に当ててチッピングの発生有無を観察し、発生したときの振り
子の角度を測定した。なお、振り子の角度は５°刻みで最大角度を９０°ま
で、ｎ数＝３で行い、一回でもチッピングが発生したときの角度を記載した。
【００６６】
（２）４点曲げ試験
引張・圧縮試験機（テンシロン万能材料試験機）を用いて、押し込み速度１
０ｍｍ／ｍｉｎにて曲げ強度（ＭＰａ）を測定した。なお、ｎ数＝１０で行
った。
【００６７】
【表１】
2015197784.tif 000003
【００６８】
【表２】
2015197784.tif 000004
【００６９】
＜比較結果＞
実施例１で得られた本発明品であるカバーガラスは、振り子試験において最大角度の９０°でもコバ面のチッピングは発生せず、また、４点曲げ試験での強度も高い値を示した。一方、比較例１で得られた従来のカバーガラスは、振り子試験において最小角度の５°でコバ面のチッピング発生が確認され、また、４点曲げ試験での強度も１００ＭＰａ前後と低い値を示した。これにより、本発明品の優位性が確認できた。
【産業上の利用可能性】
【００７０】
本発明のタッチパネルは、大型小型を問わず、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の表示装置に対する入力手段として用いることができる。
【符号の説明】
【００７１】
１・・・ガラス基板
２・・・化学強化層
３・・・タッチパネルセンサー部
４・・・加飾額縁領域
５・・・表示領域
６・・・タッチパネルセンサー基板
７・・・液晶パネル
８・・・筐体
Ｃ１・・裏面側の端部断面から化学強化層端部までの長さ
Ｃ２・・表面側の端部断面から化学強化層端部までの長さ
Ｄ・・・化学強化層の厚さ
Ｒ１・・ガラス基板の他方の面側の曲率半径（面取り）
Ｒ２・・ガラス基板の一方の面側の曲率半径（面取り）
Ｔ１・・ガラス基板の厚み
Ｔ２・・端部垂直面の長さ
【図１】
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【図２】
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