(57)【要約】【課題】耐スティッキング性と耐ＳＷ性と両立できる反射防止フィルムを提供する。【解決手段】光透過性基材と、前記光透過性基材上に形成され、表面に可視光領域の波長以下の周期で形成された微細凹凸を有する反射防止層とを有する反射防止フィルムであって、反射防止層は、電離放射線硬化性樹脂と、シランカップリング剤及び／又はその加水分解物と、を含有し、反射防止層表面の対スチールウール動摩擦係数が０．３５未満である。また、反射防止層表面の水に対する接触角が１００℃以上であることが好ましく、シランカップリング剤及び／又はその加水分解物が、アルキル基又はフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン又はその加水分解物であり、それぞれのアルキル基又はフルオロアルキル基の炭素数が１であることが好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材と、前記光透過性基材上に形成され、表面に可視光領域の波長以下の周期で形成された微細凹凸を有する反射防止層とを有する反射防止フィルムであって、
前記反射防止層は、
（メタ）アクリレートを含む電離放射線硬化性のモノマー、オリゴマー、及びプレポリマーより選択される１種以上と、
両末端がメタクリル変性されているシリコーンオイルと、を含有する樹脂組成物を電離放射線で硬化してなり、
下記で定義される前記反射防止層表面の対スチールウール動摩擦係数が０．３５未満である反射防止フィルム。
対スチールウール動摩擦係数：スチールウ−ル冶具を用い、測定距離３０ｍｍ、速度５ｍｍ／秒、垂直荷重１００ｇで測定
【請求項２】
前記対スチールウール動摩擦係数が０．３４未満である請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記反射防止層表面の水に対する接触角が１００℃以上である請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネルディスプレイ等に用いられ、表面に微細凹凸を有する反射防止フィルムを製造するために用いられる反射防止フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の種々の表示方式のフラットパネルディスプレイの需要が増加している。フラットパネルディスプレイに要求される重要な品質の１つとして反射防止性能があり、反射防止技術の開発は、各方式のディスプレイにおいて共通する重要な技術的課題の一つになっている。
【０００３】
反射防止技術の１つとして、最近では、凹凸の周期が可視光の波長以下に制御された微細な凹凸パターンを表面に形成することによって反射防止を図る技術が注目されている（特許文献１参照）。このような方法は、いわゆるモスアイ（ｍｏｔｈ  ｅｙｅ（蛾の目））構造の原理を利用したものであり、基板に入射した光に対する屈折率を連続的に変化させ、屈折率の不連続界面を消失させることによって光の反射を防止するものである。このようなモスアイ構造を用いた反射防止技術は、簡易な方法によって広い波長範囲の光の反射を防止できる点において有用なものであることから、ディスプレイの分野においてもその実用化が検討されている。なお、上記モスアイ構造に用いられる凹凸パターンとしては、円錐形や四角錐形などの錐形体が一般的である。
【０００４】
上記モスアイ構造は、その微細な凹凸形状を反転させた形状を有する原版（金型あるいは鋳型などのスタンパ）を特許文献１のような陽極酸化法によって形成し、この原版を用いて、その凹凸を任意の樹脂層に転写することによって製造されるのが一般的である。したがって、モスアイ構造が用いられた反射防止フィルムを作製する方法としては、基板上にＵＶなどの硬化性樹脂からなる樹脂層を形成した後、上記のようなスタンパを用いて当該樹脂層の表面にモスアイ構造を賦型し、さらに当該樹脂層を硬化させることによって形成する方法を用いることができる。このような製造方法は、簡易な方法で、かつ高い製造効率で反射防止フィルムを連続的に製造することができるという利点があるものである。
【０００５】
上記の硬化性樹脂に求められる要求性能として、耐スティッキング性と耐ＳＷ（スチールウール）性がある。スティッキングとは、転写された微細な凹凸形状の凸部の頂部同士が倒れあって凝集密着し、これによる反射防止性能の低下が起こる現象をいう。耐ＳＷ性とは、耐スクラッチ性や耐キズ性を代表する評価方法であり、ディスプレイ表面に使用される反射防止フィルムにおいては重要な要求性能の一つである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２００６／０５９６８６号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
一般に、耐スティッキング性と耐ＳＷ性とはトレードオフの関係にあるとされており、硬化性樹脂を硬くしていくと耐スティッキング性は良好になるが、耐ＳＷ性が低下する。逆に硬化性樹脂を軟らかくしていくと耐ＳＷ性は良好になるが、耐スティッキング性は悪化する。このため、相反する性能を両立できる硬化性樹脂が求められおり、各種の検討が行われている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、耐スティッキング性と耐ＳＷ性と両立できる反射防止フィルムを提供する。具体的には本発明は以下のものを提供する。
【０００９】
（１）  光透過性基材と、前記光透過性基材上に形成され、表面に可視光領域の波長以下の周期で形成された微細凹凸を有する反射防止層とを有する反射防止フィルムであって、
前記反射防止層は、
（メタ）アクリレートを含む電離放射線硬化性のモノマー、オリゴマー、及びプレポリマーより選択される１種以上と、
両末端がメタクリル変性されているシリコーンオイルと、を含有する樹脂組成物を電離放射線で硬化してなり、
下記で定義される前記反射防止層表面の対スチールウール動摩擦係数が０．３５未満である反射防止フィルム。
対スチールウール動摩擦係数：スチールウ−ル冶具を用い、測定距離３０ｍｍ、速度５ｍｍ／秒、垂直荷重１００ｇで測定
【００１０】
（２）  前記対スチールウール動摩擦係数が０．３４未満である（１）に記載の反射防止フィルム。
【００１１】
（３）  前記反射防止層表面の水に対する接触角が１００℃以上である（１）又は（２）に記載の反射防止フィルム。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、耐スティッキング性と耐ＳＷ性と両立できる反射防止フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の反射防止フィルムの表面付近の拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明は、光透過性基材と、前記光透過性基材上に形成され、表面に可視光領域の波長以下の周期で形成された微細凹凸を有する反射防止層と、を有する反射防止フィルムである。
【００１５】
＜光透過性基材＞
本発明の光透過性基材に相当する基材フィルムは、所望の透明性、機械的強度、電離放射線硬化性樹脂との接着性等の要求適性を勘案の上、各種材料の各種厚さのものを選択すればよい。基材フィルムの形態はフィルム状でもシート状でも板状でもよい。通常は、樹脂製の透明フィルムが好ましく用いられる。基材フィルムとしては、アクリル樹脂（ここでは、所謂、メタクリル樹脂も包含する概念として用いる）、ポリエステル樹脂等をベースとするフィルムが好ましいが、これに限定されない。樹脂材料としては、具体的には、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース等のセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、エチレングリコール−テレフタル酸−イソフタル酸共重合体、テレフタル酸−エチレングリコール−１，４シクロヘキサンジメタノール共重合体、ポリエステル系熱可塑性エラストマー等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状ポリオレフィン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の含ハロゲン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエーテルケトン、（メタ）アクリロニトリル等が使用できる。なかでも、二軸延伸ＰＥＴフィルムが透明性、耐久性に優れ、しかもその後の工程で電離放射線照射処理や加熱処理を経た場合でも熱変形等しない耐熱性を有する点で好適である。
【００１６】
基材フィルムの厚さは、通常は５０μｍ〜３０００μｍ程度が好ましいが、これに限定されない。基材フィルムの光透過率としては、ディスプレイ装置の前面設置用では１００％のものが理想であるが、透過率８０％以上のものを選択することが好ましい。基材フィルムの表面には、必要に応じて、上述した電離放射線硬化性樹脂との密着性を改善するために易接着層を設けたり、コロナ放電処理、プラズマ処理、火炎処理等の表面処理を行ったりしてもよい。易接着層としては、基材フィルムと電離放射線硬化性樹脂との両方に接着性のある樹脂から構成する。易接着層の樹脂としては、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩素化ポリプロピレン等の樹脂のなかから適宜選択可能である。なお、基材フィルムとして複合フィルムを用いてもよい。
【００１７】
＜反射防止層＞
反射防止層は、上記の光透過性基材上に例えば１μｍから１００μｍ厚さで形成され、表面に可視光領域の波長以下の周期で形成された微細凹凸を有する。この微細凹凸は、反転した微細凹凸を表面に有する原版に、電離放射線硬化性樹脂、重合開始剤、シランカップリング剤及び／又はその加水分解物を含む樹脂組成物を圧着して、微細凹凸形状を樹脂組成物側に転写することにより賦型し、その後に電離放射線で硬化した後に原版から剥離して得られる。電離放射線としては、紫外線又は電子線が代表的なものであるが、この他、可視光線、Ｘ線、γ線等の電磁波、或いはα線等の荷電粒子線を用いることもできる。
【００１８】
［凸部の形状と寸法］
図１は本発明に好適に用いられる反射防止層３の表面付近の拡大断面図であり、その表面には多数の略円錐形状の凸部３１が規則的に形成されている。
【００１９】
凸部３１の縦断面の形状としては、所定の高さのテーパー形状を有することが好ましい。図１におけるテーパー角度θとしては、テーパー形状を形成することが可能な角度であれば特に限定されるものではないが、５０°〜８７°の範囲内であることが好ましく、５５°〜８５°の範囲内であることがより好ましく、５５°〜８２°の範囲内であることがさらに好ましい。凸部の縦断面におけるテーパー角度が上記範囲よりも大きいと、開口部が垂直形状に近くなり、反射防止フィルムを製造する際に、原版の凹部に樹脂層が入り込みにくくなる場合があるからである。また、原版から抜けにくくなるからである。一方、凸部の縦断面におけるテーパー角度が上記範囲よりも小さいと、凸部を形成することが困難となる場合があるからである。また、反射防止機能が劣るようになるからである。なお、テーパー角度は、縦断面を電子顕微鏡により観察して１０個分のテーパー角度を測定し、その測定値の平均値とする。凸部３１の表面の形状としては、特に限定されるものではなく、例えば、円、楕円等の丸形状の他、多角形形状などを挙げることができる。
【００２０】
凸部３１の底面における最大径としては、特に限定されるものではないが、２５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましく、５０ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。上記凸部の最大径が２５ｎｍ以下の場合、反射防止フィルムにおいて隣り合う構造体の間が大きくなるため、構造体を形成していない部分が多くなり、反射防止機能が悪くなる。なお、本発明の反射防止フィルムにおける上記孔径は、上述した方法で決定した平均値とする。
【００２１】
凸部３１の周期Ｐは、特に限定されるものではなく、本発明の反射防止フィルムの用途等に応じて適宜決定することができる。周期Ｐは、反射率の波長依存性に影響を及ぼすものであり、その周期が長くなるほど可視光領域の短波長側の光に対する反射率が増加する傾向にあるものである。一方、周期が２００ｎｍ以下においては、周期の変動に伴う反射率の波長依存性の変化は少なくなるものである。このようなことから周期Ｐは、５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内であることが好ましく、８０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。なお、上記周期はすべての凸部において均一ではない場合があるが、その場合は、上記周期は上述した方法で決定した平均値とする。
【００２２】
凸部３１の高さＱも、反射防止フィルムの反射率の波長依存性に影響を及ぼすものであり、その高さが高いほど反射率を低くすることができ、一方、低くなると長波長側の反射率が増加する傾向にあるものである。このようなことから、上記凸部の高さは、６０ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内であることが好ましく、１００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。なお、上記凸部の高さは上述した方法で決定した平均値とする。
【００２３】
凸部３１同士の間隔Ｒは、これが広くなるほど、反射防止フィルムにおいて可視光の全波長領域において反射率が増加する傾向にあり、狭くなるほど可視光の全波長領域において反射率が低下する傾向にある。このようなことから、上記凸部が形成される間隔は、０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましく、５ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。なお、上記間隔はすべての凸部において均一ではない場合があるが、その場合における上記間隔は、上述した方法で決定した平均値とする。
【００２４】
［樹脂組成物］
電離放射線硬化性樹脂としては、電離放射線で架橋等の反応により重合硬化するモノマー（単量体）、或いはプレポリマーやオリゴマーが用いられる。モノマーとしては、例えば、ラジカル重合性モノマー、具体的には、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートが挙げられる。また、プレポリマー（乃至はオリゴマー）としては、例えば、ラジカル重合性プレポリマー、具体的には、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、トリアジン（メタ）アクリレート、等の各種（メタ）アクリレートプレポリマー、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等のポリチオール系プレポリマー、不飽和ポリエステルプレポリマー等が挙げられる。その他、カチオン重合性プレポリマー、例えば、ノボラック系型エポキシ樹脂プレポリマー、芳香族ビニルエーテル系樹脂プレポリマー等が挙げられる。ここで、（メタ）アクリレートという表記は、アクリレート又はメタクリレートという意味である。これらモノマー、或いはプレポリマーは、要求される性能、塗布適性等に応じて、１種類単独で用いる他、モノマーを２種類以上混合したり、プレポリマーを２種類以上混合したり、或いはモノマー１種類以上とプレポリマー１種類以上とを混合して用いたりすることができる。
【００２５】
電離放射線による重合開始剤としては、ラジカル重合性のモノマー又はプレポリマーの場合には、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系等の化合物が、また、カチオン重合系のモノマー又はプレポリマーの場合には、メタロセン系、芳香族スルホニウム系、芳香族ヨードニウム系等の化合物が用いられる。これら光重合開始剤は、上記モノマー及び／又はプレポリマーからなる組成物１００重量部に対して０．１〜５重量部程度添加する。
【００２６】
＜シランカップリング剤及び／又はその加水分解物＞
樹脂組成物は、シランカップリング剤（ケイ素化合物）及び／又はその加水分解物を含有する。その結果、耐スティッキング性と耐ＳＷ性の両立を可能としたものである。従来はヤング率や貯蔵弾性率に代表される樹脂の硬さを変更することで検討されていたが、これでは上記のようなトレードオフの関係を超えることができなかった。本発明においては、シランカップリング剤及び／又はその加水分解物の反射防止層への均一添加によって、樹脂の硬さに拠らずに耐スティッキング性と耐ＳＷ性の両立を可能した。この点に本発明の新規な点がある。すなわち、ベースの電離放射線樹脂が硬い場合には、滑り性アップにより動摩擦係数を低減でき、これにより耐ＳＷ性を向上できる。一方、ベースの電離放射線樹脂が軟らかい場合に耐スティッキング性を向上できるのは、微細凹凸の凸部間の表面エネルギー（凝集力）を低減しているためと推定される。
【００２７】
塗布や被覆でなく均一に内部添加することで、モスアイの突起と突起の間に液が溜まってしまったり、塗工の方向によって片側のモスアイ傾斜部のみしか被覆されないという懸念を防止できる。すなわち内部添加によってモスアイ突起の頂点部や傾斜部にもシランカップリング剤及び／又はその加水分解物を均一に分布できることで、耐スティッキング性と耐ＳＷ性の両立に寄与するものであり、この効果は被覆では得られない。また、内部添加は単一工程で作製できるので効率よく製造できる。
【００２８】
シランカップリング剤及び／又はその加水分解物としては、アルキル基を有するアルキルアルコキシシラン又はその加水分解物、フルオロアルキル基を有するフルオロアルキルアルコキシシラン又はその加水分解物であり、前記それぞれのアルキル基又はフルオロアルキル基の炭素数が１であることが、動摩擦係数を小さく、滑らすという観点から好ましい。
【００２９】
シランカップリング剤及び／又はその加水分解物の具体例としては、メチルトリクロルシラン、メチルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリｔ−ブトキシシラン；エチルトリクロルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−プロピルトリクロルシラン、ｎ−プロピルトリブロムシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリイソプロポキシシラン、ｎ−プロピルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−ヘキシルトリクロルシラン、ｎ−ヘキシルトリブロムシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリイソプロポキシシラン、ｎ−ヘキシルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−デシルトリクロルシラン、ｎ−デシルトリブロムシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリイソプロポキシシラン、ｎ−デシルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−オクタデシルトリクロルシラン、ｎ−オクタデシルトリブロムシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリエトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリイソプロポキシシラン、ｎ−オクタデシルトリｔ−ブトキシシラン；フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリｔ−ブトキシシラン；ジメトキシジエトキシシラン；ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン；ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン；フェニルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン；トリクロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメトキシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイソプロポキシヒドロシラン、トリｔ−ブトキシヒドロシラン；ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリｔ−ブトキシシラン；γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリｔ−ブトキシシラン；γ−メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリｔ−ブトキシシラン；γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリｔ−ブトキシシラン；γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリｔ−ブトキシシラン；β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン；及び、それらの部分加水分解などの反応物；及びそれらの混合物を使用することができる。これらのうち、上記それぞれのケイ素原子に結合したオルガノ基としてアルキル基の炭素数が１であることが、動摩擦係数を小さく、滑らすという観点から好ましい。
【００３０】
また、ケイ素原子に結合したオルガノ基としてフルオロアルキル基を含有しても良い。具体的には、下記のフルオロアルコキシシランの１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合などから形成される。またフルオロアルキル基を含有する化合物としては、下記の化合物を挙げることができ、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られているものを使用しても良い。
【００３１】
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）５（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）７（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２
ＣＦ３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２
ＣＦ３（ＣＦ２）３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２
ＣＦ３（ＣＦ２）５（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２
ＣＦ３（ＣＦ２）７（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
【００３２】
動摩擦係数を小さく、滑らすという観点では反応性の線状シリコーン、好ましくはジメチルポリシロキサンを低架橋密度で架橋することにより得られるシリコーン（シリコーン樹脂、シリコーンオイル）も好ましい。代表的には、以下に示す繰り返し単位を有するものを用いて、架橋反応させたものが好ましい。これらは電離放射線硬化基、熱重合硬化基を有しても、有さなくてもよい。
【００３３】
【化１】
2015079262.tif 000003
【００３４】
Ｘ、Ｙは、アルコキシ基などの加水分解性を有する基であり、ｎは２以上の整数であり、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基である。また、Ｒ１、Ｒ２が、メチル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、モル比でメチル基が６０％以上であることが好ましい。また、分子量は、５００〜１００００００のものが好ましく、分子量が小さいと、相対的にＲ１、Ｒ１の量が少ないので、滑り性等が発揮されにくい。また、分子量が大きすぎると、相対的に、末端のＸ、Ｙの割合が少なくなるので、モスアイ中への固定化が不充分になる。
【００３５】
シランカップリング剤及び／又はその加水分解物として市販のものを使用することもできる。本発明において使用することができる市販品としては、例えば以下のものが挙げられる。電離放射線硬化基を有しない市販の滑剤としては、ＤＩＣ株式会社製のメガファックシリーズ（ＭＣＦ３５０−５、Ｆ４７２、Ｆ４７６、Ｆ４４５、Ｆ４４４、Ｆ４４３、Ｆ１７８、Ｆ４７０、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４７７、Ｆ４８２、Ｆ４８６、ＴＦ１０２５、Ｆ４７８、Ｆ１７８Ｋ等）、信越化学工業株式会社製のＸ２２−３７１０、Ｘ２２−１６２Ｃ、Ｘ２２−３７０１Ｅ、Ｘ２２１６０ＡＳ、Ｘ２２１７０ＤＸ、Ｘ２２４０１５、Ｘ２２１７６ＤＸ、Ｘ２２−１７６Ｆ、Ｘ２２４２７２、ＫＦ８００１、Ｘ２２−２０００等、チッソ株式会社製のＦＭ４４２１、ＦＭ０４２５、ＦＭＤＡ２６、ＦＳ１２６５等、東レ・ダウコーニング株式会社製のＢＹ１６−７５０、ＢＹ１６８８０、ＢＹ１６８４８、ＳＦ８４２７、ＳＦ８４２１、ＳＨ３７４６、ＳＨ８４００、ＳＦ３７７１、ＳＨ３７４９、ＳＨ３７４８、ＳＨ８４１０等、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＴＳＦシリーズ（ＴＳＦ４４６０、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４７３０、ＴＳＦ４７７０等）、ＦＧＦ５０２、ＳＩＬＷＥＴシリーズ（ＳＩＬＷＥＴＬ７７、ＳＩＬＷＥＴＬ２７８０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０８、ＳＩＬＷＥＴＬ７００１、ＳＩＬＷＥＴＬ７００２、ＳＩＬＷＥＴＬ７０８７、ＳＩＬＷＥＴＬ７２００、ＳＩＬＷＥＴＬ７２１０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２２０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２３０、ＳＩＬＷＥＴＬ７５００、ＳＩＬＷＥＴＬ７５１０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６００、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０２、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０５、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０７、ＳＩＬＷＥＴＬ７６２２、ＳＩＬＷＥＴＬ７６４４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６５０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６５７、ＳＩＬＷＥＴＬ８５００、ＳＩＬＷＥＴＬ８６００、ＳＩＬＷＥＴＬ８６１０、ＳＩＬＷＥＴＬ８６２０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２０）等、株式会社ネオス製のフタ−ジェントシリーズ（ＦＴＸ２１８、２５０、２４５Ｍ、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２４５Ｆ、２０８Ｇ、２１８Ｇ、２４０Ｇ、２０６Ｄ、２４０Ｄ等）やＫＢシリーズ等、ビックケミー・ジャパン株式会社製のＢＹＫ３３３、３００等、共栄社化学株式会社製のＫＬ６００等を挙げることができる。
【００３６】
電離放射線硬化基を有するものとしては、信越化学工業株式会社製のＸ２２−１６３Ａ、Ｘ２２−１７３ＤＸ、Ｘ２２−１６３Ｃ、ＫＦ１０１、Ｘ２２１６４Ａ、Ｘ２４−８２０１、Ｘ２２１７４ＤＸ、Ｘ２２１６４Ｃ、Ｘ２２２４２６、Ｘ２２２４４５、Ｘ２２２４５７、Ｘ２２２４５９、Ｘ２２２４５、Ｘ２２１６０２、Ｘ２２１６０３、Ｘ２２１６４Ｅ、Ｘ２２１６４Ｂ、Ｘ２２１６４Ｃ、Ｘ２２１６４Ｄ、ＴＭ０７０１等、チッソ株式会社製のサイラプレーンシリーズ（ＦＭ０７２５、ＦＭ０７２１、ＦＭ７７２５、ＦＭ７７２１、ＦＭ７７２６、ＦＭ７７２７等）、東レ・ダウコーニング株式会社製のＳＦ８４１１、ＳＦ８４１３、ＢＹ１６−１５２Ｄ、ＢＹ１６−１５２、ＢＹ１６−１５２Ｃ、８３８８Ａ等、新中村化学工業株式会社製：ＳＵＡ１９００Ｌ１０、ＳＵＡ１９００Ｌ６等、ダイセル・サイテック株式会社製のＥｂｅｃｒｙｌ１３６０、Ｅｂｅｃｒｙｌ３５０、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７７３４等、エボニック・デグサ・ジャパン株式会社製のＴＥＧＯＲａｄ２１００、２２００Ｎ、２５００、２６００，２７００等、出光興産株式会社製のＡＦ１００、三菱化学株式会社製のＨ５１２Ｘ、Ｈ５１３Ｘ、Ｈ５１４Ｘ等、ダイキン工業株式会社製のオプツールＤＡＣ、日本合成化学工業株式会社製のＵＴ３９７１、ＵＴ４３１５、ＵＴ４３１３、ＤＩＣ株式会社製のデイフェンサシリーズ（ＴＦ３００１、ＴＦ３０００、ＴＦ３００４、ＴＦ３０２８、ＴＦ３０２７、ＴＦ３０２６、ＴＦ３０２５等）、ＲＳシリーズ（ＲＳ７１、ＲＳ１０１、ＲＳ１０２、ＲＳ１０３、ＲＳ１０４、ＲＳ１０５等）、ビックケミー・ジャパン株式会社製のＢＹＫ３５００、共栄社化学株式会社製のライトプロコートＡＦＣ３０００、信越シリコーン株式会社製のＫＮＳ５３００、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＵＶＨＣ１１０５、ＵＶＨＣ８５５０、日本ペイント株式会社製のＡＣＳ−１１２２、リペルコートシリーズ等を挙げることができる。
【００３７】
シランカップリング剤及び／又はその加水分解物の添加量としては、樹脂組成物の全固形分に対して０．０１〜０．５重量％が好ましく、０．０１〜０．２重量％がより好ましい。
【００３８】
＜帯電防止剤＞
樹脂組成物は、帯電防止剤を含有していてもよい。帯電防止剤としては、高級アルコールエチレンオキサイド（ＥＯ）付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物等のポリエチレングリコール類、アルキルフェノールＥＯ付加体、ポリエチレンオキサイドなどのアルキレンオキサイド系、グリセリンの脂肪酸エステル、ペンタエリスリットの脂肪酸エステル、ソルビットおよびソルビタンの脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪族アミド等の多価アルコール類、多価アルコールエステル類などの非イオン界面活性剤、高級脂肪酸のアルカリ金属塩等のカルボン酸塩類、高級アルコール硫酸エステル塩、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩等の硫酸エステル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩、パラフィンスルホン酸塩等のスルホン酸塩類、高級アルコールリン酸エステル塩等のリン酸エステル塩類、燐酸塩類、ホスホン酸塩類、ホスホン酸エステル塩類などのアニオン界面活性剤、高級アルキルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミドアミン、エステルアミド、アルキルトリメチルアンモニウム塩等の第四級アンモニウム塩類、ピリジンそのほかの複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類などのカチオン界面活性剤、高級アルキルアミノプロピオン酸塩等のアミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、高級アルキルジメチルベタイン、高級アルキルジヒドロキシエチルベタイン等のアルキルベタイン類などの両性界面活性剤などの界面活性剤、また、サポニン等の天然界面活性剤、カーボンブラック、グラファイト、変性グラファイト、カーボンブラックグラフトポリマー、酸化スズ−酸化インジウム、酸化スズ−酸化アンチモン、酸化スズ、酸化チタン−酸化スズ−酸化アンチモン等の導電性粉末なども適用できる。
【００３９】
また、界面活性剤のような低分子型帯電防止剤の導電性付与官能基を高分子に結合した高分子型帯電防止剤も適用できる。高分子型帯電防止剤も、非イオン系、アニオン系、カチオン系、両イオン系に分けられ、ポリエーテル系（ポリエチレンオキサイド、ポリエチレンオキサイド架橋体、ポリエチレンオキサイドと他樹脂の共重合体、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールと他樹脂の共重合体）などの非イオン系、第四級アンモニウム塩系（第四級アンモニウム塩基含有共重合体（第四級アンモニウム塩基含有（メタ）アクリレート共重合体、第四級アンモニウム塩基含有マレイミド共重合体、第四級アンモニウム塩基含有メタクリルイミド共重合体）などのカチオン系、スルホン酸系（ポリスチレンスルホン酸ソーダ）、両イオン系のベタイン系（カルボベタイングラフト共重合体）などのアニオン系がある。
【００４０】
さらにまた、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（１，６−ヘプタジイン）、ポリビフェニレン（ポリパラフェニレン）、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポロ（２，５−チエニレン）、又はこれらの誘導体などの導電性高分子が適用できる。
【００４１】
これらの帯電防止剤は１種、又は複数を用いてもよく、含有量は全固形分中で０．０１〜１０質量％程度である。
【００４２】
＜その他の添加剤＞
樹脂組成物には、必要に応じて他の適宜添加剤を添加してもよい。添加剤としては、例えば、熱安定剤、ラジカル捕捉剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、体質顔料、光拡散剤等が挙げられる。
【００４３】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００４４】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
［実施例１］
アクリルモノマーＡ１００質量部、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４の２.５質量部と、イルガキュア８１９の１．５質量部）、分子両末端にメタクリル基を有する撥水性の変性シリコーンオイル（信越シリコーン株式会社製  Ｘ−２２−１６４）１質量部からなる樹脂組成物を固形分５０％、粘度５．０ｍＰａ・ｓ（２５℃）となるように溶剤（ＭＥＫ）で調整して樹脂組成物を得た。
【００４５】
１０００ｎｍのアルミニウム表面に、シュウ酸溶液（濃度５％、１０℃）による陽極酸化工程（直流６０Ｖ）と、リン酸溶液（濃度２０％、３０℃）によるエッチング工程とを、計６回繰り返して、孔周期Ｐが１１０ｎｍ、孔深さＱが２４０ｎｍ、孔間隔Ｒが５ｎｍの微細孔を形成し反射フィルム製造用原版を作成した。
【００４６】
基材フィルム（住友化学株式会社製アクリルフィルム：Ｓ００１Ｇ）上に、上記の樹脂組成物を膜厚１０μｍで塗布し、８０℃で１分間乾燥し、上記の反射フィルム製造用原版に押し当てて微細孔形状を表面に転写し、その後、アクリルフィルム側から１０００ｍＪ／ｃｍ２の条件でＵＶ硬化し、さらに樹脂塗工面から２５０ｍＪ／ｃｍ２の条件でＵＶ硬化し、反射防止層を形成、その後剥離して、基材１２５μｍ／反射防止層１０μｍの構成の反射防止フィルムを得た。
【００４７】
［実施例２］
アクリルモノマーＡの代わりにアクリルオリゴマーＢを用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００４８】
［実施例３］
更に帯電防止剤として住友スリーエム社製ＬＪ−６０３０１０（Ｌｉ-ＴＦＳＩ）を更に５質量部を添加した以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００４９】
［比較例１］
アクリルモノマーＡの代わりにウレタンアクリレートモノマーＣを用い、分子の両末端にアルコール性水酸基を有する親水性の変性シリコーンオイル（東レダウコーニング社製：ＳＦ８４２７）を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００５０】
［比較例２］
ウレタンアクリレートモノマーＣの代わりにウレタンアクリレートモノマーＤを用いた以外は、比較例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００５１】
［比較例３］
ウレタンアクリレートモノマーＣの代わりにウレタンアクリレートモノマーＥを用いた以外は、比較例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００５２】
［比較例４］
ウレタンアクリレートモノマーＣの代わりにウレタンオリゴマーＦを用いた以外は、比較例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００５３】
実施例及び比較例について、樹脂特性及びモスアイ表面の特性を評価した。その結果を表１、表２にまとめて示す。なお、それぞれの評価項目の方法は以下の通りである。
【００５４】
＜貯蔵弾性率、損失弾性率、Ｔｇ＞
５０ｍｍ×５ｍｍ×１ｍｍの硬化樹脂片を作製し、株式会社ＵＢＭ製の動的粘弾性測定装置ＲＨＥＯＧＥＬ−Ｅを用い、５ｍｍの方向で挟み、周波数１０Ｈｚ、測定温度範囲−４０℃〜２００℃、昇温速度４℃／ｍｉｎの条件で硬化樹脂片の引張時の貯蔵弾性率および損失弾性率を求めた。なお、Ｔｇはｔａｎδが極大となる温度である。
【００５５】
＜マルテンス硬さ及びヤング率＞
フィッシャー社製ＰＩＣＯＤＥＮＴＯ（Ｒ）ＨＭ−５００を用いて、微細凹凸表面上で１ｍＮ／１０ｓｅｃで荷重増加し、５秒保持の後、荷重増加と同条件で除荷、５秒保持の条件で位置を変えて５点測定し、その平均値によりマルテンス硬さおよびヤング率を求めた。
【００５６】
＜対ＳＷ動摩擦係数＞
新東化学株式会社製のＨＥＩＤＯＮ、ＨＳ−２０００を用いて微細凹凸表面に対してスチールウ−ル冶具（＃００００のＳＷを基材との接触面が１０mmφ専用の型につめて冶具を作製）を用い、測定距離３０ｍｍ、速度５ｍｍ／秒、垂直荷重１００ｇの条件で位置を変えて３点測定し、その平均値で表面擦傷時の動摩擦係数を算出した。
【００５７】
＜水接触角＞
協和界面化学株式会社製の接触角測定装置Ｄｒｏｐ  Ｍａｓｔｅｒ５００を用いて、１μＬの水を微細凹凸表面に滴下した後、１０秒後の接触角を１秒間隔で１０点測定し、それらの平均値を算出した。同一の操作を位置を変えて3回行い、平均値により水接触角を算出した。
【００５８】
＜耐スティッキング性＞
ＳＥＭ観察により、○、△、×の３段階で目視評価した。
【００５９】
＜耐ＳＷ性＞
微細凹凸面上でスチールウール＃００００にて、試験幅４０ｍｍ以上、１００ｇ／ｃｍ２荷重、１０往復磨耗後、裏面に黒テープを貼り蛍光灯下にて傷の有無を確認した。レベル１：キズ無し、レベル２：キズ１〜１０本、レベル３：キズ１１〜２０本、レベル４：キズ２１本以上の４段階で目視評価した。
【００６０】
【表１】
2015079262.tif 000004
【００６１】
【表２】
2015079262.tif 000005
【００６２】
表１、２の結果から明らかなように、動摩擦係数が本発明の範囲内である実施例においては、樹脂の硬さにかかわらず、耐スティッキング性と耐ＳＷ性と両立できていることが理解できる。
【符号の説明】
【００６３】
３  …  反射防止層
３１  …  凸部
Ｐ  …  周期
Ｑ  …  高さ
Ｒ  …  間隔
【図１】
2015079262.tif 000006