(57)【要約】【課題】スループットの点で有利なリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、前記基板を保持して移動するステージと、センサと、該センサによりインクリメンタル信号を生成するためのインクリメンタルパターン及び前記センサにより原点信号を生成するための原点パターンを含むスケールとを有する、前記ステージの位置を計測するためのエンコーダとを備え、前記エンコーダは、前記スケール及び前記センサのうちの一方が前記ステージに設けられ、前記ステージの可動範囲のうちの一部の範囲としての部分範囲において前記インクリメンタル信号を前記センサにより生成し、前記部分範囲の外から前記部分範囲の内へ進入する前記ステージの経路上において前記原点信号を前記センサにより生成するように前記原点パターンが前記ステージに配置されていることを特徴とするリソグラフィ装置を提供する。【選択図】図１
2015043390.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持して移動するステージと、
センサと、該センサによりインクリメンタル信号を生成するためのインクリメンタルパターン及び前記センサにより原点信号を生成するための原点パターンを含むスケールとを有する、前記ステージの位置を計測するためのエンコーダとを備え、
前記エンコーダは、前記スケール及び前記センサのうちの一方が前記ステージに設けられ、前記ステージの可動範囲のうちの一部の範囲としての部分範囲において前記インクリメンタル信号を前記センサにより生成し、前記部分範囲の外から前記部分範囲の内へ進入する前記ステージの経路上において前記原点信号を前記センサにより生成するように前記原点パターンが前記ステージに配置されている
ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記部分範囲の外の前記可動範囲は、前記ステージに前記基板を取り付けるための前記ステージの位置及び前記ステージから前記基板を取り外すための前記ステージの位置の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記ステージは、前記基板を計測する計測ステーションと、前記基板にパターンを形成するパターン形成ステーションとの間を移動するように構成され、
前記部分範囲の外の前記可動範囲は、前記計測ステーションと前記パターン形成ステーションとの間の前記ステージの経路を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記インクリメンタルパターンは、周期的に配列されたマークを含み、
前記原点パターンは、前記マークとは異なる規則で配列されたマークを含むことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記原点信号は、周波数、位相及び振幅のうちの少なくとも１つにおいて前記インクリメンタル信号とは異なることを特徴とする請求項４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記インクリメンタルパターンは、周期的に配列されたマークを含み、
前記原点パターンは、前記マークが欠如していることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記原点パターンは、前記インクリメンタルパターンとは光に対して異なる特性を有することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記部分範囲の外から前記部分範囲の内へ進入する前記ステージの経路を複数有し、
前記複数の経路のそれぞれにおいて前記原点信号を前記センサにより生成するように、前記原点パターンが前記スケールに配置されていることを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記ステージに配置された基準マークと、
前記基準マークの位置を計測する計測部とを備え、
前記計測部によって計測された前記基準マークの位置に基づいて、前記エンコーダにより得られる前記ステージの位置を較正することを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
原版を介してパターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記原版を保持して移動するステージと、
センサと、該センサによりインクリメンタル信号を生成するためのインクリメンタルパターン及び前記センサにより原点信号を生成するための原点パターンを含むスケールとを有する、前記ステージの位置を計測するためのエンコーダとを備え、
前記エンコーダは、前記スケール及び前記センサのうちの一方が前記ステージに設けられ、前記ステージの可動範囲のうちの一部の範囲としての部分範囲において前記インクリメンタル信号を前記センサにより生成し、前記部分範囲の外から前記部分範囲の内へ進入する前記ステージの経路上において前記原点信号を前記センサにより生成するように前記原点パターンが前記スケールに配置されている
ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置及び、物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置等のリソグラフィ装置では、基板や原版を保持して移動するステージの位置を正確に制御する必要がある。この種のステージの制御には、ステージの位置を高精度に検出するために、レーザー干渉計やリニアエンコーダが用いられている。但し、レーザー干渉計は、レーザー光の光路となるステージ周囲の雰囲気の変動の影響を受けやすいため、近年では、光路が短く雰囲気の変動の影響を受けにくいリニアエンコーダを用いる場合がある（特許文献１及び２参照）。
【０００３】
リニアエンコーダは、位置検出可能な領域が限られている。露光装置において、ステージが移動する全ての領域（移動領域）でステージの位置を検出できるように、エンコーダ（スケール及びセンサ）を設けることは、装置の高コスト化を招いてしまう。そこで、ステージの移動領域のうち、ステージの位置決め精度の要求が低い領域については、エンコーダよりも精度は低いが安価に提供される位置センサを用いてステージの位置を検出する場合がある。例えば、基板の搬入時や搬出時などでは、ｎｍオーダー又はサブｎｍオーダーの精度でステージの位置を計測する必要がないため、粗動ステージと微動ステージとの間のギャップを静電容量センサなどで計測しながらステージの位置を制御する技術が提案されている。
【０００４】
また、基板を露光する露光ステーションと、基板を計測する計測ステーションとが、装置内の異なる領域（以下、それぞれを「露光エリア」、「計測エリア」とも称する）に存在し、両領域間を複数のステージが往来する露光装置が提案されている。このような露光装置では、露光エリア及び計測エリアのそれぞれにおいては高精度なステージの位置決めが必要であるが、両エリア間の移動においてはそれほど高精度なステージの位置決めは必要ない。従って、両エリア間をステージが移動している間は、エンコーダとは別の位置センサ（エンコーダよりも低い計測精度のセンサ）を用いてステージの位置を制御することで、装置コストを低減することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−３１８１１９号公報
【特許文献２】国際公開第２００７／０８３７５８号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ステージの位置決め精度の要求が低い領域（エリア）からステージの位置決め精度の要求が高い領域へステージが移動する場合を考える。この場合、インクリメンタル型のエンコーダは、絶対位置を検出できないため、ステージの原点位置を正確に検出する必要がある。
【０００７】
ステージの原点位置の検出には、以下のような構成が用いられうる。第１の構成例は、ステージに設けられたマークの基準マークに対する位置を顕微鏡で検出するものである。また、別の構成例は、投影光学系を介して得られる原版マークの透過光量を、ステージに設けられた光電センサで計測することによって、ステージの原点位置を検出するものである。これらの構成例を用いた場合、ステージに設けられたマーク又は光電センサを、顕微鏡又は投影光学系の下まで移動させる必要がある。このようなステージの移動は、露光装置のスループット（処理能力）を低下させる要因となる。
【０００８】
本発明は、スループットの点で有利なリソグラフィ装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのリソグラフィ装置は、パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、前記基板を保持して移動するステージと、センサと、該センサによりインクリメンタル信号を生成するためのインクリメンタルパターン及び前記センサにより原点信号を生成するための原点パターンを含むスケールとを有する、前記ステージの位置を計測するためのエンコーダとを備え、前記エンコーダは、前記スケール及び前記センサのうちの一方が前記ステージに設けられ、前記ステージの可動範囲のうちの一部の範囲としての部分範囲において前記インクリメンタル信号を前記センサにより生成し、前記部分範囲の外から前記部分範囲の内へ進入する前記ステージの経路上において前記原点信号を前記センサにより生成するように前記原点パターンが前記ステージに配置されていることを特徴とする。
【００１０】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、例えば、スループットの点で有利なリソグラフィ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す図である。
【図２】露光装置の計測ステーションを上部から観察した様子を示す図である。
【図３】露光装置の計測ステーションを上部から観察した様子を示す図である。
【図４】スケールにおけるインクリメンタルパターン及び原点パターンを説明するための図である。
【図５】露光装置の計測ステーション及び露光ステーションを上部から観察した様子を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１４】
図１は、本発明の一側面としての露光装置１００の構成を示す図である。露光装置１００は、パターンを基板に形成するリソグラフィ装置である。露光装置１００は、照明光学系（不図示）と、レチクル（マスク）１を保持するレチクルステージ２と、投影光学系３と、アライメントスコープ４と、基板７を保持する基板ステージ５及び６とを有する。また、露光装置１００は、スケール９及びセンサ１２を含むエンコーダと、基板搬送部１３と、ベース構造体２０と、露光装置１００の全体を制御する制御部５０とを有する。
【００１５】
近年の露光装置では、スループットを向上させるために、複数の基板ステージを有する場合があるため、本実施形態では、露光装置１００が２つの基板ステージ（基板ステージ５及び６）を有する場合（ツインステージ）を例に説明する。但し、露光装置１００は、１つの基板ステージのみを有していてもよいし、３つ以上の基板ステージを有していてもよい。
【００１６】
レチクル１は、透過型の原版である。レチクルステージ２は、レチクル１を保持した状態で移動する。基板ステージ５及び６は、基板７を保持した状態で任意の位置に移動する。基板７は、基板搬送部１３によって露光装置１００の外部から搬入され、基板ステージ５又は６に保持される。投影光学系３は、レチクル１のパターンを基板７に投影する。アライメントスコープ４は、ＣＣＤなどの撮像素子を含み、位置合わせマーク（アライメントマーク）の位置を検出する。
【００１７】
投影光学系３及びアライメントスコープ４は、ベース構造体２０によって保持されている。本実施形態では、ベース構造体２０には、基板ステージ５及び６のそれぞれの平面方向の位置の基準となるエンコーダスケール（以下、「スケール」とする）９が取り付けられている（固定配置されている）。スケール９には、周期的なパターン、具体的には、インクリメンタル信号を生成するためのインクリメンタルパターンと、原点信号を生成するための原点パターンとが形成されている。また、基板ステージ５及び６のそれぞれには、スケール９（の位置情報）を読み取るためのセンサ１２が設けられている。スケール９とセンサ１２とは、基板ステージ５及び６のそれぞれの位置を検出するためのエンコーダを構成する。
【００１８】
センサ１２は、スケール９に対して光を照射して、スケール９からの反射光（回折光）を検出する。センサ１２で検出した反射光の周期的な強度の変化から位置情報を検出することができる。インクリメンタル型のエンコーダの場合、スケール９（インクリメンタルパターン）から得られる周期的な強度の変化に対し、スケール９の基準点（原点）からの周期の数をカウントすることにより、スケール９に対するセンサ１２の位置情報を算出する。
【００１９】
制御部５０は、高速演算可能なＤＳＰやメモリなどを含み、エンコーダで検出した位置情報を用いて、基板ステージ５及び６のそれぞれの位置を高精度に制御する。
【００２０】
基板ステージ５及び６のそれぞれは、露光処理シーケンスに応じて、装置内の２つの領域を往来する。具体的には、基板ステージ５及び６は、基板７を計測する計測ステーション１０と、基板７を露光する露光ステーション（パターン形成ステーション）１１との間を移動するように構成されている。計測ステーション１０は、基板７のアライメント誤差やフォーカス情報を計測するための領域である。また、露光ステーション１１は、計測ステーション１０で計測された基板７の情報に基づいて、レチクル１のパターンを、投影光学系３を介して、基板７に転写するための領域である。
【００２１】
計測ステーション１０や露光ステーション１１に基板ステージ５及び６が存在する場合には、基板ステージ５及び６のそれぞれに設けられたセンサ１２がスケール９を読み取ることができるため、基板ステージ５及び６のそれぞれの位置を高精度に制御できる。換言すれば、スケール９をセンサ１２で読み取ることが可能な領域（基板ステージ５及び６の可動範囲のうちの一部の範囲としての部分範囲）に基板ステージ５及び６が存在する場合には、基板ステージ５及び６のそれぞれの位置を高精度に制御できる。
【００２２】
一方、基板ステージ５及び６が計測ステーション１０や露光ステーション１１から移動する場合、例えば、基板ステージ５及び６が計測ステーション１０と露光ステーション１１とを往来する場合を考える。この場合、スケール９をセンサ１２で読み取ることが不可能な領域に基板ステージ５及び６が移動（進入）することになる。また、基板７を搬送する際、基板ステージ５及び６が基板７を基板ステージ５又は６に取り付けるロード領域や基板７を基板ステージ５又は６から取り外すアンロード領域に移動する場合を考える。この場合も同様に、スケール９をセンサ１２で読み取ることが不可能な領域に基板ステージ５及び６が移動（進入）することになる。
【００２３】
図２は、露光装置１００の計測ステーション１０を上部から観察した様子を示す図である。図２（ａ）は、基板７をアライメントスコープ４で検出している状態を示す図である。図２（ａ）に示す状態では、基板ステージ６の四隅に設けられたセンサ１２がスケール９のインクリメンタルパターン９ａを読み取ることができる。従って、基板ステージ６のＸＹ平面内の位置及び紙面垂直方向（Ｚ方向）を軸とする回転量θを高精度に求めることができる。このように、スケール９をセンサ１２で読み取ることが可能な領域、即ち、基板ステージ５及び６の位置をエンコーダで高精度に保証できる基板ステージ５及び６の移動領域を、以下では、検出可能領域と称する。
【００２４】
図２（ｂ）は、基板７を基板ステージ６に取り付けるロード領域、或いは、基板７を基板ステージ５又は６から取り外すアンロード領域に基板ステージ６を移動させた状態を示す図である。図２（ｂ）に示す状態では、基板ステージ６の四隅に設けられたセンサ１２がスケール９のインクリメンタルパターン９ａを読み取ることができない。基板７の搬入時や搬出時には、基板ステージ５及び６の高精度な位置制御を必要としないため、スケール９やセンサ１２で構成されるエンコーダとは別の位置センサを用いて基板ステージ５及び６の位置が制御される。エンコーダとは別の位置センサとは、具体的には、レーザー干渉計、或いは、静電容量センサなどである。
【００２５】
基板７を基板ステージ６に取り付けた後、基板ステージ６は、図２（ａ）に示すように、検出可能領域に移動してくる（進入する）。但し、図２（ｂ）に示すようなスケール９をセンサ１２で読み取ることが不可能な領域（検出不可能領域）に基板ステージ６が移動した時点において、エンコーダは原点を消失しているため、基板ステージ６の位置制御の原点（原点座標）が不定となる。
【００２６】
そこで、基板ステージの位置制御の原点を検出するために、基板ステージに固定されたガラス基板上のマークの位置を検出する方法が多く用いられている。例えば、図１に示すように、基板ステージ５及び６のそれぞれには、基準マーク８が形成されたガラス基板が配置されている。ガラス基板に形成された基準マーク８をアライメントスコープ４で検出することで、計測ステーション１０における基板ステージの位置制御の原点を検出することが可能である。
【００２７】
露光ステーション１１における基板ステージの位置制御の原点の検出について説明する。例えば、レチクル１には、図１に示すように、レチクルアライメントマーク４１が形成されている。照明光学系からの光（露光光）は、レチクルアライメントマーク４１を通過し、投影光学系３を介して、基準マーク８に到達する。基準マーク８を通過した露光光を光量センサで計測すると、レチクルアライメントマーク４１と基準マーク８のＸＹ平面内の位置が一致した座標（或いは、露光光が基準マーク８に合焦したＺ座標）において、光量センサで計測される光量が最大となる。従って、光量センサで計測される光量の基板ステージの座標ごとの変化量を求めることで、レチクル１と基板ステージとの相対的なずれ量を計測することができる。
【００２８】
このように、従来技術では、エンコーダが原点を消失した状態、即ち、検出不可能領域から検出可能領域へ基板ステージが移動する場合には、基準マーク８を計測することで、基板ステージの位置制御の原点を検出している。但し、このような基板ステージの位置制御の原点の検出は、基板７を基板ステージに取り付けたり、基板７を基板ステージから取り外したり、基板ステージが計測ステーション１０と露光ステーション１１とを往来したりするたびに行わなければならない。従って、１つの基板７の処理ごとに、基準マーク８を計測するための基板ステージのステップ移動、アライメントスコープ４による検出、基準マーク８への露光光の照射などに時間を費やしてしまう。
【００２９】
そこで、本実施形態では、図３に示すように、インクリメンタル信号を生成するためのインクリメンタルパターン９ａに加えて、原点信号を生成するための原点パターン１４がスケール９に形成されている。図３は、基板ステージ６が検出不可能領域であるロード領域（又はアンロード領域）から検出可能領域である計測ステーション１０へ移動する状態を示している。スケール９においては、ほぼ全面にインクリメンタルパターン９ａが形成されているが、基板ステージ６がロード領域から計測ステーション１０に移動する際、センサ１２が通過する経路上に原点パターン１４も形成されている。換言すれば、基板ステージ６が検出不可能領域から検出可能領域へ移動するときに、スケール９をセンサ１２で読み取りうる位置を原点パターン１４が通るように、原点パターン１４がスケール９に配置されている。基板ステージ６の移動に応じて、センサ１２が原点パターン１４を読み取ることで、スケール９の原点（基準点）を検知することができる。
【００３０】
基板ステージ６がロード領域から計測ステーション１０へ移動する経路は、その経路長が最短となるように、露光装置１００の設計段階で最適化されている。従って、基板ステージ６が通過する経路上にスケール９の原点パターン１４を配置することによって、基板ステージ６に無駄な移動を行わせることなく、スケール９の原点を検出することが（即ち、エンコーダの原点復帰）可能である。
【００３１】
原点パターン１４は、インクリメンタルパターン９ａとは異なるパターンである。例えば、インクリメンタルパターン９ａを第１マークが周期的に配列された周期的パターンとすると、原点パターン１４は、図４（ａ）に示すように、第２マークが第１マークとは異なる規則（周波数など）で配列されたパターンである。図４（ａ）を参照するに、センサ１２が矢印方向に移動しながら原点パターン１４を読み取ると、センサ１２は、図４（ｂ）に示すような検出信号を出力する。図４（ｂ）では、センサ１２の位置を横軸に採用し、信号強度を縦軸に採用している。センサ１２が原点パターン１４を読み取ると、インクリメンタル信号とは異なる周波数の原点信号を生成することができる。従って、センサ１２で検出される検出信号の周波数が変化した位置を原点として検出することができる。
【００３２】
また、原点パターン１４として、インクリメンタルパターン９ａの一部に抜き（マークの欠如）を形成してもよい。例えば、インクリメンタルパターン９ａをマークが周期的に配列されたパターンとすると、原点パターン１４は、マークが配列されていない抜きパターンとしてもよい。更に、原点パターン１４は、インクリメンタルパターン９ａとは異なる反射率又は回折効率（光に対して異なる特性）を有する材料で構成してもよいし、或いは、インクリメンタルパターン９ａとは異なる反射率又は回折効率を有するコーティング材を塗布してもよい。原点パターン１４は、周波数、位相及び振幅（強度）の少なくとも１つにおいてインクリメント信号とは異なる原点信号を生成すればよい（即ち、それらを変化させるためのパターンを形成すればよい）。従って、センサ１２に複雑な構成を設けることなく、スケール９の原点（原点位置）を検出することが可能である。
【００３３】
図３では、基板ステージ６がロード領域（又はアンロード領域）から計測ステーション１０へ移動する際の基板ステージ６の経路上に原点パターン１４を配置する場合について説明した。次に、ロード領域やアンロード領域以外の領域で基板ステージが移動する際に、同様にエンコーダが原点を消失する場合について説明する。
【００３４】
図５は、基板ステージ５及び６のそれぞれが計測ステーション１０と露光ステーション１１との間を移動する（往来する）場合を示している。図５を参照するに、基板ステージ６は、計測ステーション１０から露光ステーション１１へ移動するが、計測ステーション１０と露光ステーション１１との間の基板ステージ６の移動領域にはスケール９が配置されていない。なお、計測ステーション１０と露光ステーション１１との間の基板ステージ６の移動領域にもスケール９を配置することは可能である。但し、センサ１２とスケール９の切り替えを行うことによる誤差、配置スペース、コストを考えると、計測ステーション１０と露光ステーション１１との間の基板ステージ６の移動領域にはスケール９を配置しない方が有利である。
【００３５】
基板ステージ６は、計測ステーション１０から露光ステーション１１へ移動する間に、計測ステーション１０と露光ステーション１１との間の検出不可能領域を通過するため、エンコーダが原点を消失する。そこで、基板ステージ６が計測ステーション１０から露光ステーション１１の位置６’に移動する際の経路上、例えば、露光ステーション１１のスケール９を検出可能な領域に到達しようとする経路上に、原点パターン１４を配置する。これにより、基板ステージ６が計測ステーション１０から露光ステーション１１へ移動する間に、原点パターン１４をセンサ１２で読み取ることが可能となり、スケール９の原点を高精度に検出することができる。
【００３６】
また、基板ステージ５が露光ステーション１１から計測ステーション１０に移動する際の経路は、基板ステージ６が計測ステーション１０から露光ステーション１１へ移動する際の経路とは異なる。例えば、図５では、基板ステージ６は、紙面左側を移動するが、基板ステージ５は、紙面右側を移動する。このような場合には、基板ステージ５及び６のそれぞれの経路上に原点パターン１４を配置すればよい。これにより、基板ステージ５及び６が計測ステーション１０と露光ステーション１１を往来するごとに、基準マーク８などを計測する必要がなくなるため、基板７の露光に要する時間を大幅に低減することができる。
【００３７】
また、露光装置１００の露光シーケンス（例えば、露光位置に基板ステージを移動させる、或いは、計測位置に基板ステージを移動させる）に応じて、基板ステージが移動する経路が異なる場合もある。このような場合にも、基板ステージ５及び６のそれぞれの経路上に原点パターン１４を配置すればよい。換言すれば、基板ステージが検出不可能領域から検出可能領域へ移動する経路を複数有する場合でも、それぞれの経路において、スケール９をセンサ１２で読み取りうる位置を原点パターン１４が通るように、原点パターン１４を配置すればよい。これにより、基板ステージ５及び６に無駄な移動を行わせることなく、スケール９の原点を検出することが（即ち、エンコーダの原点復帰）可能である。
【００３８】
本実施形態では、図１に示すように、投影光学系３、アライメントスコープ４及びスケール９がベース構造体２０に保持されている。また、スケール９には原点パターン１４が形成されている。従って、基板ステージ５及び６を原点パターン１４に合わせこむことによって、基板ステージ５及び６と投影光学系３との位置関係、或いは、基板ステージ５及び６とアライメントスコープ４との位置関係を高精度に決定することができる。
【００３９】
このように、基板ステージ５及び６が検出不可能領域から検出可能領域に移動する際の経路上に、スケール９の原点パターン１４を配置することによって、基板ステージ５及び６の位置制御の原点の検出に要する時間を低減することができる。
【００４０】
また、ベース構造体２０が変形すると、スケール９と投影光学系３との位置関係、或いは、スケール９とアライメントスコープ４との位置関係が変化してしまう。このような場合には、必要に応じて、基準マーク８をアライメントスコープ４などの計測部で計測し、基準マーク８の位置に基づいて、エンコーダにより得られる基板ステージ５及び６の位置を較正すればよい。但し、通常は、センサ１２で原点パターン１４を読み取ることで、スケール９と基板ステージ５及び６との位置関係を高精度に決定することができるため、ベース構造体２０の変形が許容できる短期間においては、基準マーク８を計測する必要はない。
【００４１】
また、１つの基板ステージの上に複数の基準マーク８を配置し、かかる複数の基準マーク８を計測して基板ステージの回転や傾きなどを求め、基板ステージの姿勢を補正することも考えられる。この場合にも、原点パターン１４を用いて基板ステージの位置を検出することで、基板ステージに配置する基準マーク８の数を低減することができる。例えば、センサ１２で原点パターン１４を読み取ることによって、基板ステージの回転や傾き（姿勢）を高精度に求めることができれば、基準マーク８を１つだけ計測することによって基板ステージの並進誤差を得ることができる。
【００４２】
上述した基準マーク８の計測の省略や基準マーク８の数の低減は、基板ステージの位置制御の精度を保証するために、実施頻度を決定してもよい。例えば、露光装置１００の初期化時に冗長な計測を行ってもよいし、一定時間経過ごと、又は、一定数の基板を処理するごとに、基準マーク８を計測する、或いは、複数の基準マーク８を計測してもよい。
【００４３】
また、露光装置１００の環境変化、例えば、温度、湿度、気圧の変化を検出し、その変化量が閾値を超えた場合に、基準マーク８を計測して、スケール９と投影光学系３との位置関係、又は、スケール９とアライメントスコープ４との位置関係を補正してもよい。
【００４４】
基準マーク８の計測結果は、露光装置１００のメモリなどの記憶部に記憶させてもよい。これにより、基準マーク８の計測を省略した場合に、記憶部に記憶された前回又はそれ以前の基準マーク８の計測結果を用いることで、時間を短縮しながらも、高精度な補正が可能となる。これは、誤差要因であるベース構造体２０の変形が時間的に緩やかであるため、過去の補正データと現在のベース構造体２０の変形量との間に相関があることを利用している。
【００４５】
本実施形態の露光装置１００では、基板ステージ５及び６のそれぞれが検出不可能領域から検出可能領域へ移動するときに、スケール９をセンサ１２で読み取りうる位置を原点パターン１４が通るように、原点パターン１４がスケール９に配置されている。従って、露光装置１００は、基板７の露光、詳細には、基板ステージ５及び６の位置制御に要する時間を短縮し、スループットを向上させることが可能である。
【００４６】
本実施形態では、スケール９がベース構造体２０に固定配置され、センサ１２が基板ステージ５及び６に設けられているが、スケール９が基板ステージ５及び６に設けられ、センサ１２がベース構造体２０に固定配置されていてもよい。換言すれば、スケール９及びセンサ１２のうちの一方が基板ステージ５及び６に設けられ、スケール９及びセンサ１２のうちの他方が固定配置されていればよい。いずれの場合においても、スケール９をセンサ１２で読み取りうる位置を原点パターン１４が通るように、原点パターン１４をスケール９に配置することで、上述した効果を得ることができる。
【００４７】
また、本実施形態では、スケール９が基板ステージ５及び６の位置基準となるように、ベース構造体２０に配置されている。但し、スケール９において、原点パターン１４を基板ステージ５及び６の経路上に配置するという技術思想は、レチクルステージ２にも適用することができる。
【００４８】
例えば、図１において、レチクルステージ２にエンコーダのセンサが配置され、投影光学系３に固定された支持構造物にエンコーダのスケールが配置されている場合を考える。レチクル１を交換するための領域までレチクルステージ２を移動させるなど、レチクルステージ２がスケールをセンサで読み取ることが不可能な領域に移動する場合がある。この場合でも、レチクルステージ２が移動する経路上、即ち、スケールをセンサで読み取りうる位置を原点パターンが通るように、原点パターンをスケールに配置することで、レチクルステージ２の位置決めを高精度、且つ、短時間で行うことができる。また、投影光学系３に固定された支持構造物にエンコーダのセンサが配置され、レチクルステージ２にエンコーダのスケールが配置されている場合も同様である。
【００４９】
本実施形態におけるデバイスなどの物品の製造方法は、物体（例えば、フォトレジストが塗布された基板）に対して上記露光装置を用いてパターンの形成を行う工程（物体に対して露光を行う工程）を含みうる。また、該製造方法は、上記工程でパターンの形成を行われた物体を加工（例えば、現像又はエッチング）する工程を含みうる。更に、該製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００５０】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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