(57)【要約】【課題】例えば、ウエハの温度分布のばらつきを抑制できる新規な構成のウエハホルダおよび蒸着装置を得る。【解決手段】実施形態のウエハホルダは、例えば、受熱部と、加熱部と、接触部と、を備える。受熱部は、熱源からの熱を受ける。加熱部は、受熱部で受けた熱によりウエハを加熱する。接触部は、ウエハの周縁部と接触する。ウエハホルダには、接触部、受熱部と接触部との間、および加熱部と接触部との間のうち少なくとも一つに、熱伝導を抑制する熱伝導抑制部が設けられる。【選択図】図５
2015222802.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱源からの熱を受ける受熱部と、
前記受熱部で受けた熱によりウエハを加熱する加熱部と、
前記ウエハの周縁部と接触する接触部と、
を備え、
前記接触部、前記受熱部と前記接触部との間、および前記加熱部と前記接触部との間のうち少なくとも一つに、熱伝導を抑制する熱伝導抑制部が設けられた、ウエハホルダ。
【請求項２】
前記熱伝導抑制部として、他の部分よりも熱伝導率が低い部分を備えた、請求項１に記載のウエハホルダ。
【請求項３】
前記熱伝導抑制部として、当該ウエハホルダ内に空間が設けられた、請求項１または２に記載のウエハホルダ。
【請求項４】
第一の面を有した第一の部材と、
前記第一の面と接触する第二の面を有した第二の部材と、
を備え、
前記空間は、前記第一の面と前記第二の面との間に形成された隙間である、請求項３に記載のウエハホルダ。
【請求項５】
前記熱伝導抑制部として、他の部分と材料が異なる部分を備えた、請求項１〜４のいずれか一項に記載のウエハホルダ。
【請求項６】
前記熱伝導抑制部として、当該ウエハホルダに凹部が設けられた、請求項１〜５のいずれか一項に記載のウエハホルダ。
【請求項７】
前記熱伝導抑制部は、互いに間隔をあけて設けられた複数の柱状部を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載のウエハホルダ。
【請求項８】
複数の前記柱状部は、格子状に設けられた、請求項７に記載のウエハホルダ。
【請求項９】
回転中心回りに回転可能に構成され、
前記熱伝導抑制部は、ウエハの重心よりも前記回転中心の径方向の外側に位置された前記接触部に対応して設けられた、請求項１〜８のうちいずれか一項に記載のウエハホルダ。
【請求項１０】
容器と、
前記容器内にウエハを位置させる請求項１〜９のいずれか一項に記載のウエハホルダと、
前記熱源と、
前記容器内にガスを供給するガス供給部と、
を備えた蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、ウエハホルダおよび蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ウエハを保持したウエハホルダを回転させながら、ウエハホルダを介してウエハを加熱するとともに、ウエハ上にガスを供給することで、ウエハ上に蒸着による膜を形成する蒸着装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５２００１７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この種の蒸着装置では、ウエハの温度分布のばらつきが大きいと膜の厚さ等にばらつきが生じる場合がある。このため、ウエハの温度分布のばらつきを抑制できる新規な構成のウエハホルダおよび蒸着装置が得られれば、有意義である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
実施形態のウエハホルダは、例えば、受熱部と、加熱部と、接触部と、を備える。前記受熱部は、熱源からの熱を受ける。前記加熱部は、前記受熱部で受けた熱によりウエハを加熱する。前記接触部は、前記ウエハの周縁部と接触する。前記ウエハホルダには、前記接触部、前記受熱部と前記接触部との間、および前記加熱部と前記接触部との間のうち少なくとも一つに、熱伝導を抑制する熱伝導抑制部が設けられる。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１は、第１の実施形態の蒸着装置の断面の例示的な斜視図である。
【図２】図２は、第１の実施形態の蒸着装置の例示的な断面図である。
【図３】図３は、第１の実施形態のウエハホルダの例示的な平面図である。
【図４】図４は、第１の実施形態のウエハホルダの一部の例示的な平面図である。
【図５】図５は、第１の実施形態のウエハホルダとウエハとの一部の例示的な断面図である。
【図６】図６は、第１の実施形態のウエハホルダの一部の例示的な断面図である。
【図７】図７は、図６のVII部を模式的に示す例示的な拡大図である。
【図８】図８は、第１の実施形態のウエハホルダの温度分布の例示的な説明図である。
【図９】図９は、第１の実施形態のウエハホルダの比較例の温度分布の例示的な説明図である。
【図１０】図１０は、第１の実施形態のウエハホルダの二つの部材間の隙間と温度との相関関係の例示的なグラフである。
【図１１】図１１は、第１の実施形態の第１の変形例のウエハホルダとウエハとの一部の例示的な断面図である。
【図１２】図１２は、第１の実施形態の第１の変形例のウエハホルダの一部の例示的な断面図である。
【図１３】図１３は、第１の実施形態の第２の変形例のウエハホルダの一部の例示的な断面図である。
【図１４】図１４は、第２の実施形態のウエハホルダとウエハとの一部の例示的な断面図である。
【図１５】図１５は、第３の実施形態の熱伝導抑制部の例示的な断面図である。
【図１６】図１６は、図１５のXVI部の例示的な拡大図である。
【図１７】図１７は、第４の実施形態のウエハホルダとウエハとの一部の例示的な断面図である。
【図１８】図１８は、他の実施形態のウエハホルダの例示的な平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、図面を参照して、実施形態および変形例について詳細に説明する。なお、以下の複数の実施形態および変形例には、同様の構成要素が含まれている。よって、以下では、それら同様の構成要素には共通の符号を付与するとともに、重複する説明を省略する。
【０００８】
［第１の実施形態］
図１に示される本実施形態の蒸着装置１（成膜装置）は、回転中心Ａｘ（回転中心軸、図２参照）回りにウエハ１００を回転させながら、ウエハ１００の面１００ａ上にガスを供給することで、ウエハ１００に蒸着による成膜を行う。蒸着装置１は、例えば、ＣＶＤ（chemical  vapor  diposition）装置や、ＭＯＣＶＤ（metal  organic  chemical  vapor  diposition）装置である。本実施形態では、回転中心Ａｘは、一例として上下方向（鉛直方向）に沿っている。また、ウエハ１００は、円板状に構成されており、円形の面１００ａと、面１００ａの反対側の円形の面１００ｂと、を有している。
【０００９】
図１，２に示されるように、蒸着装置１は、容器２と、ウエハ１００を保持するウエハホルダ３と、ウエハホルダ３を回転させるシャフト４と、容器２内にガスを供給するガス供給部５と、ウエハホルダ３を介してウエハ１００を加熱するヒータ６と、冷却部７と、を備えている。
【００１０】
容器２は、筒部２ａ（壁部）と、底壁部２ｂ（壁部）と、を有している。筒部２ａは、回転中心Ａｘ回りの円筒状に構成されている。筒部２ａの下端部には、底壁部２ｂが設けられ、筒部２ａの上端部の開口は、ガス供給部５によって覆われている。底壁部２ｂは、略円板状に構成されている。
【００１１】
また、容器２には、筒部２ｃが設けられている。筒部２ｃは、筒部２ａの内側に位置されて、回転中心Ａｘ回りの円筒状に構成されている。筒部２ｃは、底壁部２ｂから上方に延びている。筒部２ｃの上端部は、筒部２ａの上端部よりも下側に位置されている。筒部２ｃの下端部の開口は、底壁部２ｂによって閉じられている。また、筒部２ｃの上端部の開口を覆うように、ウエハホルダ３が位置されている。
【００１２】
容器２内には、二つの室２ｄ，２ｅが設けられている。室２ｄは、ガス供給部５と、ウエハホルダ３と、筒部２ｃの一部（上部）と、に囲まれている。室２ｅは、ウエハホルダ３と、底壁部２ｂと、筒部２ｃと、に囲まれている。また、容器２には、排気通路２ｆが設けられている。排気通路２ｆは、筒部２ａと筒部２ｃとの間を通っている。排気通路２ｆの上端部（入口）は、室２ｄ内に開口し、排気通路２ｆの下端部（出口）は、底壁部２ｂの外側に開口している。
【００１３】
シャフト４は、底壁部２ｂを貫通して設けられている。シャフト４は、底壁部２ｂ（容器２）に対して回転可能である。シャフト４は、モータ（駆動源）によって駆動され、回転中心Ａｘ回りに回転する。シャフト４の上端部に、ウエハホルダ３が結合（固定）されている。シャフト４は、図示されないモータ等によって回転駆動され、ウエハホルダ３を回転させる。
【００１４】
ガス供給部５は、ウエハホルダ３の上方に位置されている。ガス供給部５には、室２ｄ内に開口した複数の噴射口（図示せず）が設けられている。ガス供給部５は、噴射口からガス（原料ガス）を室２ｄ内に噴射（供給）する。ガスは、ウエハ１００に形成する膜の原料である。
【００１５】
ヒータ６（熱源）は、室２ｅ内に位置されている。ヒータ６は、ウエハホルダ３の下方に位置されて、ウエハホルダ３と対向している。ヒータ６は、一例として、シャフト４（回転中心Ａｘ）回りの渦巻き状に構成されている。
【００１６】
冷却部７は、室２ｅ内に位置されている。冷却部７は、扁平な円環状の外観を呈している。冷却部７の中心部の開口部７ａ（貫通孔）に、シャフト４が挿通されている。冷却部７は、内部に冷却液が流れる通路（図示せず）が設けられた液冷式である。冷却部７は、室２ｅのうち当該冷却部７の下方の領域（空間）の温度を略一定に保つように、当該冷却部７の周囲を冷却する。
【００１７】
また、冷却部７とヒータ６との間には、リフレクタ８（断熱部）が設けられている。リフレクタ８は、扁平であって、シャフト４回りの円環状の外観を呈している。また、冷却部７の下方には、リフレクタ９が設けられている。リフレクタ９は、冷却部７の開口部７ａを下方から覆っている。リフレクタ９は、扁平であって、シャフト４回りの円環状の外観を呈している。
【００１８】
図１〜３に示されるように、ウエハホルダ３は、概略円板状に構成されている。ウエハホルダ３は、平面視では回転中心Ａｘを中心とする円形状の外観を呈している。ウエハホルダ３は、面３ａ（下面）と、面３ｂ（天面、上面）と、亘面３ｃ（側面、周面）と、を有している。面３ａは、ヒータ６の上方に位置され、ヒータ６と間隔をあけて対向している。面３ａは、円形状に構成さている。面３ｂは、面３ａの反対側の面である。面３ｂは、円形状に構成されている。面３ｂは、ガス供給部５の下方に位置され、ガス供給部５と間隔をあけて対向している。亘面３ｃは、面３ａと面３ｂとの間に亘って設けられている。亘面３ｃは、回転中心Ａｘ回りの円筒面である。
【００１９】
また、面３ａの中央部には、結合部３ｄが設けられている。結合部３ｄは、シャフト４の上端部と結合（固定）されている。
【００２０】
また、面３ｂには、収容部３ｅが設けられている。複数の収容部３ｅが、回転中心Ａｘの周方向に沿って互いに間隔をあけて設けられている。図３では、一例として、三つの収容部３ｅが設けられた構成が示されている。収容部３ｅには、面３ｂから面３ａに向かって凹んだ凹部３ｅ１（開口部）が設けられている。凹部３ｅ１は、上方が開口された上下方向に薄い円筒状に形成されている。各収容部３ｅ（凹部３ｅ１）に、一つのウエハ１００が収容される。
【００２１】
収容部３ｅは、底面３ｅ２（面）と、底面３ｅ２から上方に延びた面３ｅ３と、を有している。底面３ｅ２は、円形状に構成されている。底面３ｅ２には、凸状の支持部３ｅ４（爪部）が設けられている。複数の支持部３ｅ４が、底面３ｅ２の周縁部に、収容部３ｅの周方向に沿って相互に間隔をあけて設けられている。これらの支持部３ｅ４上に、ウエハ１００が載置される。支持部３ｅ４は、ウエハ１００の面１００ｂの周縁部を支持する。支持部３ｅ４に支持されたウエハ１００は、図５に示されるように、底面３ｅ２から離れている。すなわち、底面３ｅ２は、ウエハ１００の厚さ方向にウエハ１００と離れて位置されている。
【００２２】
図２に示されるように、面３ｅ３は、底面３ｅ２の周縁部から上方に延びている。面３ｅ３は、略円筒状に構成されている。面３ｅ３の径は、ウエハ１００の径よりも大きい。よって、面３ｅ３と収容部３ｅに収容されたウエハ１００の周縁部１００ｃとの間の全体または一部に、隙間（空間）が生じる。ウエハホルダ３が回転すると、収容部３ｅに収容されたウエハ１００には、回転中心Ａｘの径方向外側に向けて遠心力が作用する。よって、例えば、ウエハ１００がウエハホルダ３に保持された当初の状態で、ウエハ１００の周縁部１００ｃの全周が面３ｅ３から離れていた場合でも、遠心力によって、図５に示されるように、ウエハ１００が回転中心Ａｘの径方向外側に向けて移動し、ウエハホルダ３の接触面３ｅ６（接触部、面）と接触する。なお、図５では、反った状態のウエハ１００が接触面３ｅ６と接触している状態が示されているが、反っていない状態のウエハ１００も接触面３ｅ６と接触し得る。接触面３ｅ６は、面３ｅ３の一部を含む。具体的には、面３ｅ３のうち、回転中心Ａｘの径方向外側に位置された部分であり、例えば、保持されたウエハ１００の重心Ｃ（円筒状の収容部３ｅの中心、図３参照）よりも回転中心Ａｘの径方向外側に位置された部分である。接触面３ｅ６は、面３ｅ３のうち回転中心Ａｘから最も離れた部分を含む。また、一例として、接触面３ｅ６の一部は、面３ｂから突出している。また、面３ｅ３（ウエハホルダ３）には、図５，６に示されるように、亘面３ｃに向けて凹状となるように形成された凹部３ｅ７（熱伝導抑制部）が設けられている。凹部３ｅ７は、接触面３ｅ６の下方に設けられている。
【００２３】
また、本実施形態では、ウエハホルダ３は、一つの部材３１（第一の部材）と、支持部３ｅ４ごとに設けられた部材３２（第二の部材、図３参照）と、が結合されて構成されている。部材３１は、面３ａ、面３ｂと、亘面３ｃと、結合部３ｄと、支持部３ｅ４の一部と、を含む。部材３１に含まれる支持部３ｅ４は、底面３ｅ２と、面３ｅ３の一部であって接触面３ｅ６以外の部分と、を含む。部材３２は、接触面３ｅ６を含む。部材３２は、回転中心Ａｘ（シャフト４）を中心としてウエハホルダ３が回転した場合に、収容部３ｅに収容されて遠心力を受けたウエハ１００が接触する位置に設けられている。なお、部材３２は、収容部３ｅ（面３ｅ３）の全周に亘って設けられていても良い。
【００２４】
図４〜６に示されるように、部材３１には、複数の結合部３１ａが設けられている。結合部３１ａは、回転中心Ａｘの径方向で凹部３ｅ１の外側に位置されている。各結合部３１に部材３２が結合されている。結合部３１ａは、底面３１ｂと、面３１ａ１から上方に延びた面３１ｃ（第一の面）と、を有している。また、面３１ｃは、回転中心Ａｘの周方向に沿って延びている。面３１ｃにおける回転中心Ａｘの周方向の両端部には、嵌部３１ｄ（図４）が設けられている。
【００２５】
部材３２は、嵌部３１ｄと嵌め合わされた一対の嵌部３２ａ（図４）を有する。嵌部３１ｄと嵌部３２ａとの嵌め合いは、例えば、蟻継ぎ構造等によって構成される。なお、嵌部３１ｄと嵌部３２ａとの嵌め合いは、蟻継ぎ構造に限るものではない。例えば、嵌部３１ｄと嵌部３２ａとの嵌め合いは、蟻継ぎの無いストレート形状同士の嵌め合い等であってもよい。また、部材３２は、図６に示されるように、接触面３ｅ６および面３２ｂ，３２ｃを有する。面３２ｂは、底面３１ｂの上方に位置されている。面３２ｂは、底面３１ｂと離間して底面３１ｂと対向している。面３２ｃ（第二の面）は、面３１ｃと対向して設けられ、面３１ｃと接触している。面３２ｃと面３１ｃとには、それぞれ面粗さに応じた微少な凹凸が存在する。これらの凹凸によって、図７に示されるように、面３２ｃ（部材３２）と面３１ｃ（部材３１）との間に、隙間３ｆ（熱伝導抑制部、空間）が存在する。すなわち、隙間３ｆは、ウエハホルダ３内に設けられている。部材３２の一部は、部材３１から上方に突出している。
【００２６】
部材３１と部材３２とは、互いに異なる材料で構成されている。部材３２の材料の熱伝導率は、部材３１の材料の熱伝導率よりも低い。部材３１の材料は、例えば炭素であり、部材３２の材料は、例えば石英である。また、別例として、部材３１は、炭化ケイ素によって構成されてもよいし、炭素で構成した基材の表面を炭化ケイ素でコーティングした構成等であってもよい。部材３２は、他の部分（部材３１）よりも熱伝導率が低い部分の一例であるとともに、他の部分（部材３１）と材料が異なる部分の一例である。なお、部材３１，３２の材料は、上記材料に限られるものではない。
【００２７】
上記構成のウエハホルダ３では、面３ａ（受熱部）がヒータ６（熱源）から放射された熱を受ける。面３ａから受けた熱は、底面３ｅ２に伝わる。そして、底面３ｅ２（加熱部）が、面３ａで受けた熱によりウエハ１００を加熱する。詳細には、底面３ｅ２から放出された熱が、凹部３ｅ１内を介してウエハ１００の面１００ｂに伝わる。このとき、面３ａが受けた熱は、ウエハホルダ３のうち底面３ｅ２以外の部分にも伝わる。本実施形態では、ウエハ１００の周縁部１００ｃと接触した接触面３ｅ６からウエハ１００に熱が伝わるのを抑制するために、すなわち、熱伝導抑制部として、凹部３ｅ７（図５，６）や、部材３２（図３〜６）、隙間３ｆ（図７）等が、設けられている。凹部３ｅ７および部材３２は、面３ａと接触面３ｅ６との間および底面３ｅ２と接触面３ｅ６との間に位置されている。また、隙間３ｆは、底面３ｅ２と接触面３ｅ６との間に位置されている。また、部材３２は、接触面３ｅ６を含む。別の言い方をすると、接触面３ｅ６に熱伝導抑制部（部材３２）が設けられている。また、凹部３ｅ７および部材３２は、面３ａのうち接触面３ｅ６の直下に位置する部分と、接触面３ｅ６との間、すなわち、面３ａと、接触面３ｅ６とを結ぶ最短経路に設けられている。凹部３ｅ７および隙間３ｆによって、ウエハホルダ３内の熱伝導経路の断面が局所的に小さくなることで、熱伝導が抑制される。また、部材３２が部材３１よりも熱伝導率が低いことにより熱伝導が抑制される。このように熱伝導が抑制されることにより、本実施形態では、接触面３ｅ６とウエハ１００との温度が、同一になりうる。
【００２８】
ここで、部材間の伝熱に関するシミュレーションについて図８〜１０を参照して説明する。第一の材料によって構成された部材２００から、第二の材料によって構成されたボス２１０（部材）への伝熱性のコンピュータシミュレーション（図８）と、第一の材料によって構成された部材２００から第一の材料によって構成されたボス２２０への伝熱性のコンピュータシミュレーション（図９）と、が示される。第二の材料は、第一の材料よりも熱伝導率が低い。第一の材料は、一例として炭素であり、第二の材料は、一例として石英である。部材２００は、長方形に構成され、ボス２１０，２２０は、互いに同形状の円柱状に構成されている。なお、図８，９では、部材２００およびボス２１０，２２０は、それらの一部（四分の一部分）が示されている。ボス２１０，２２０は、ボス２１０の中心部に設けられた凹部に挿入され、ボス２１０，２２０の先端部は、部材２００から突出している。部材２００の下面を加熱した場合、ボス２１０の上端部の温度は、ボス２２０の上端部の温度よりも低くなるという結果が得られた。すなわち、部材２００とボス２１０との間の熱伝達率が、部材２００とボス２２０との間の熱伝達率よりも小さいという結果が得られた。また、本シミュレーションでは、部材２００とボス２１０，２２０との間の隙間（空間、距離）が大きくなる程、ボス２２０の上端部の温度が低くなるという結果も得られた（図１０）。すなわち、部材２００とボス２１０，２２０との間の隙間（空間、距離）が大きくなる程、部材２００とボス２１０，２２０との間の熱伝達率が小さくなる現象をモデル化してシミュレーションを実施した結果、部材２００とボス２１０，２２０との間の隙間（空間、距離）が大きくなる程、ボス２１０，２２０の先端部の温度が低くなるという結果が得られた。本シミュレーションの結果から、一例として炭素によって構成された部材３１から一例として石英によって構成された部材３２への熱伝導が、部材３２によって抑制されることが分かる。また、部材３１から部材３２への熱伝導が、凹部３ｅ７や隙間３ｆによって抑制されることが分かる。また、部材３１の底面３１ｂと部材３２の面３２ｂとの間の距離を変更することにより、底面３１ｂから面３２ｂに放射によって伝わる熱の量を変化させ得ることが分かる。
【００２９】
次に、蒸着装置１が行う動作（蒸着方法、成膜方法、ウエハ処理方法）を説明する。蒸着装置１は、蒸着（化学蒸着）によって、面１００ａ上に膜を形成する。具体的には、蒸着装置１は、凹部３ｅ１にウエハ１００を収容したウエハホルダ３を回転させながら、ヒータ６の放熱によって、ウエハホルダ３を介してウエハ１００を加熱する。また、蒸着装置１は、ガス供給部５からガスを室２ｄ内に供給する。室２ｄ内に供給されたガスがウエハ１００の面１００ａ上で反応して、面１００ａ上に膜（図示せず）が形成（堆積）される。膜にならなかったガスは、排気通路２ｆから排出される。上記動作では、ウエハ１００が回転中心Ａｘ回りに回転することにより、面１００ａに沿ってガスが流れるので、膜が面１００ａ上に均一に成形されやすい。蒸着装置１は、膜の形成を繰り返すことで、複数の膜を面１００ａ上に積層させることができる。この場合、蒸着装置１は、各膜の原料となるガスを互いに異なるものとすることができる。ここで、膜とウエハ１００との線膨張係数の違いや、膜同士の線膨張係数の違いにより、ウエハ１００が反る場合がある（図５参照）。
【００３０】
以上説明したように、本実施形態では、ウエハホルダ３において、接触面３ｅ６、面３ａ（受熱部）と接触面３ｅ６との間、およびヒータ６（熱源）と接触面３ｅ６との間のうち少なくとも一つに、熱伝導を抑制する熱伝導抑制部として、凹部３ｅ７や、部材３２、隙間３ｆ等が、設けられている。これにより、面３ａや底面３ｅ２から接触面３ｅ６を介してウエハ１００に熱が伝達されるのを抑制することができる。よって、ウエハ１００において接触面３ｅ６と接触した部分の温度が局所的に上昇することを抑制して、ウエハ１００の温度分布のばらつきを抑制することができる。
【００３１】
ここで、本実施形態では、遠心力によってウエハ１００が接触面３ｅ６に押し付けられる。この遠心力によって、接触面３ｅ６とウエハ１００との接触面積が大きくなるようにウエハ１００が変形したり、接触面３ｅ６とウエハ１００との密着度が大きくなったりする。これにより、ウエハ１００と接触面３ｅ６との接触面積が大きくなるが、本実施形態では、上記のとおり接触面３ｅ６からウエハ１００に熱が伝達されるのを抑制することができるので、遠心力によってウエハ１００と接触面３ｅ６との接触面積が増大しても、ウエハ１００の温度分布のばらつきを抑制することができる。なお、支持部３ｅ４もウエハ１００と接触しているが、複数の支持部３ｅ４とウエハ１００との接触面積は、接触面３ｅ６とウエハ１００との接触面積に比べて小さいため、支持部３ｅ４からウエハ１００への熱の伝達は、比較的少ない。このため、支持部３ｅ４とウエハ１００との接触によるウエハ１００の温度分布に対する影響は、無視できる程度に小さい。また、複数の支持部３ｅ４には、遠心力によるウエハ１００の押し付けが生じないため、支持部３ｅ４とウエハ１００との接触面積が増大しにくい。ただし、支持部３ｅ４に対応して、熱伝導抑制部が設けられてもよい。
【００３２】
また、本実施形態では、底面３ｅ２が、ウエハ１００の厚さ方向にウエハ１００と離れて位置されている。このように、底面３ｅ２がウエハ１００から離れていることにより、底面３ｅ２が全体的にウエハ１００と接触している構成に比べて、ウエハ１００に熱が過剰に伝わるのを抑制することができる。また、底面３ｅ２が全体的にウエハ１００と接触している構成では、ウエハ１００が反った場合、底面３ｅ２とウエハ１００の面１００ａとが部分的に離れてしまうことにより、底面３ｅ２からウエハ１００への熱の伝達にばらつきが生じてしまう。これに対して、本実施形態では、底面３ｅ２が、ウエハ１００の厚さ方向にウエハ１００と離れて位置されているので、ウエハ１００の面１００ａへの熱の伝達にばらつきが生じるのを抑制することができる。
【００３３】
また、凹部３ｅ７および部材３２は、面３ａと接触面３ｅ６とを結ぶ最短経路に設けられている。よって、面３ａから接触面３ｅ６への熱伝導をより抑制することができる。
【００３４】
なお、本実施形態では、部材３１と部材３２とが互いに異なる材料で構成された例が示されたが、部材３１と部材３２とが互いに同じ材料で構成されていてもよい。部材３１および部材３２の材料は、例えば、炭素、炭化ケイ素、石英等であってよい。この構成でも、凹部３ｅ７および隙間３ｆによって、面３ａや底面３ｅ２から接触面３ｅ６を介してウエハ１００に熱が伝達されるのを抑制することができる。よって、ウエハ１００において接触面３ｅ６と接触した部分の温度が局所的に上昇することを抑制して、ウエハ１００の温度分布のばらつきを抑制することができる。
【００３５】
［第１の変形例］
図１１，１２に示されるように、本変形例のウエハホルダ３Ａでは、ウエハホルダ３の部材３１（第一の部材）の結合部３１ａが、底面３１ｂと、面３１ｃとの他に、面３１ｅを有している点が第１の実施形態に対して主に異なる。結合部３１ａには、底面３１ｂ、面３１ｃ、面３１ｅを含む部分によって凹部３ｇが形成されている。この凹部３ｇの一部に部材３２（第二の部材）が入れられている。面３１ｅは、面３１ｃと対向して設けられ、部材３２の接触面３ｅ６と接触している。面３１ｅ（第一の面）と接触面３ｅ６（第二の面）との間には、面３２ｃと面３１ｃとの間と同様に、隙間３ｆ（図７参照）が設けられている。また、部材３２は、空間３ｇ１（熱伝導抑制部）が構成されるように、凹部３ｇを覆っている。空間３ｇ１は、底面３１ｂと面３２ｂとの間に設けられている。
【００３６】
このような構成では、隙間３ｆおよび空間３ｇ１によって、面３ａや底面３ｅ２から接触面３ｅ６に伝わる熱が抑制されるので、接触面３ｅ６からウエハ１００に熱が伝達されるのを抑制することができる。よって、ウエハ１００において接触面３ｅ６と接触した部分の温度が局所的に上昇することを抑制して、ウエハ１００の温度分布のばらつきを抑制することができる。
【００３７】
［第２の変形例］
図１３に示されるように、本変形例のウエハホルダ３Ｂでは、底面３１ｂと面３２ｂとが接触している点が第１の変形例に対して異なる。これにより、底面３１ｂ（第一の面）と面３２ｂ（第二の面）との間に、隙間３ｆ（図７参照）が設けられている。このような構成では、隙間３ｆによって、面３ａや底面３ｅ２から接触面３ｅ６に伝わる熱が抑制されるので、接触面３ｅ６からウエハ１００に熱が伝達されるのを抑制することができる。よって、ウエハ１００において接触面３ｅ６と接触した部分の温度が局所的に上昇することを抑制して、ウエハ１００の温度分布のばらつきを抑制することができる。
【００３８】
［第２の実施形態］
本実施形態では、図１４に示すように、ウエハホルダ３Ｃの構成が第１の実施形態に対して主に異なる。ウエハホルダ３Ｃは、互いに材料が異なる第一の材料部３ｈ（部分）および第二の材料部３ｉ（部分）を有し、単一の成形部材として構成されている。ウエハホルダ３Ｃは、例えば３Ｄプリンタ（積層物造形装置）によって製造されうる。
【００３９】
第一の材料部３ｈは、面３ａや面３ｂ、底面３ｅ２、接触面３ｅ６等を含む。第二の材料部３ｉは、面３ｅ３の一部を含む。第二の材料部３ｉは、上下方向で第二の材料部３ｈに挟まれている。
【００４０】
第二の材料部３ｉの材料は、第一の材料部３ｈの材料よりも熱伝導性が低い材料によって構成されている。すなわち、第二の材料部３ｉは、第一の材料部３ｈよりも熱伝導性が低い。第一の材料部３ｈの材料は、例えば炭素であり、第二の材料部３ｉの材料は、例えば石英である。第二の材料部３ｉは、他の部分（第一の材料部３ｈ）よりも熱伝導率が低い部分の一例であるとともに、他の部分（第一の材料部３ｈ）と材料が異なる部分の一例である。第二の材料部３ｉは、少なくとも一部が、面３ａおよび底面３ｅ２と接触面３ｅ６との間に位置されている。
【００４１】
このような構成では、第二の材料部３ｉによって、面３ａや底面３ｅ２から接触面３ｅ６に伝わる熱が抑制されるので、接触面３ｅ６からウエハ１００に熱が伝達されるのを抑制することができる。よって、ウエハ１００において接触面３ｅ６と接触した部分の温度が局所的に上昇することを抑制して、ウエハ１００の温度分布のばらつきを抑制することができる。
【００４２】
［第３の実施形態］
本実施形態では、図１５，１６に示されるように、ウエハホルダ３Ｄに、格子状構造部３ｊが設けられている点が第２の実施形態と主に異なる。格子状構造部３ｊ（熱伝導抑制部）は、複数の柱状部３ｋが３次元の格子状に設けられることにより、構成されている。このような構成の格子状構造部３ｊは、互いに間隔をあけて設けられた複数の柱状部３ｋを含む。格子状構造部３ｊは、一例として、上述した第２の実施形態の第二の材料部３ｉに替えて設けられている。格子状構造部３ｊは、ウエハホルダ３Ｄの他の部分と一体に形成されていてもよいし、別部材として形成されてもよい。また、格子状構造部３ｊは、第一の材料部３ｈと違う材料（例えば石英）である。なお、格子状構造部３ｊは、第一の材料部３ｈと同じ材料であってもよい。
【００４３】
このような構成では、格子状構造部３ｊによって、面３ａや底面３ｅ２から接触面３ｅ６に伝わる熱が抑制されるので、接触面３ｅ６からウエハ１００に熱が伝達されるのを抑制することができる。よって、ウエハ１００において接触面３ｅ６と接触した部分の温度が局所的に上昇することを抑制して、ウエハ１００の温度分布のばらつきを抑制することができる。
【００４４】
［第４の実施形態］
本実施形態では、図１７に示されるように、ウエハホルダ３Ｅの亘面３ｃに、凹部３ｍ（熱伝導抑制部）が設けられている点が、第１の実施形態に対して主に異なる。凹部３ｍは、面３ａと接触面３ｅ６との間に設けられている。このような構成では、凹部３ｍによって、少なくとも面３ａから接触面３ｅ６に伝わる熱が抑制されるので、接触面３ｅ６からウエハ１００に熱が伝達されるのを抑制することができる。よって、ウエハ１００において接触面３ｅ６と接触した部分の温度が局所的に上昇することを抑制して、ウエハ１００の温度分布のばらつきを抑制することができる。
【００４５】
本発明のいくつかの実施形態および変形例を説明したが、これらの実施形態および変形例は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態および変形例は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態および変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、各構成や、形状、表示要素等のスペック（構造、種類、方向、形状、大きさ、長さ、幅、厚さ、高さ、数、配置、位置、材質等）は、適宜に変更して実施することができる。また、熱伝導抑制部は、例えば、複数の柱状部が互いに平行に設けられたものであってもよい。また、熱伝導抑制部は、多孔質状に構成されてもよい。また、熱伝導抑制部は、網状に構成されてもよい。また、ウエハホルダ３の収容部３ｅの数は、図３に示された三つに限るものではない。収容部３ｅの数は、一つや二つであってもよいし、四つ以上であってもよい。図１８には、ウエハホルダ３に四つの収容部３ｅが設けられた構成が示されている（他の実施形態）。また、収容部３ｅの中心が回転中心Ａｘと略一致するように収容部３ｅが設けられていても良い。この場合、例えば、部材３２を収容部３ｅ（面３ｅ３）の全周に亘って環状に設けることで、遠心力を受けたウエハ１００が部材３２のどこかに接触することができる。
【符号の説明】
【００４６】
１…蒸着装置、２…容器、３，３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ，３Ｅ…ウエハホルダ、３ａ…面（受熱部）、３ｅ２…底面（加熱部）、３ｅ６…接触面（接触部、第二の面）、３ｅ７…凹部（熱伝導抑制部）、３ｆ…隙間（熱伝導抑制部）、３ｇ…凹部、３ｇ１…空間（熱伝導抑制部）、３ｈ…第一の材料部、３ｉ…第二の材料部（熱伝導抑制部）、３ｊ…格子状構造部（熱伝導抑制部）、３ｋ…柱状部、３ｍ…凹部（熱伝導抑制部）、５…ガス供給部、６…ヒータ（熱源）、３１…部材（第一の部材）、底面３１ｂ（第一の面）、面３１ｃ（第一の面）、面３１ｅ（第一の面）、３２…部材（第二の部材、熱伝導抑制部）、面３２ｂ（第二の面）、面３２ｃ（第二の面）、１００…ウエハ、１００ｃ…周縁部、Ｃ…（ウエハの）重心。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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