(57)【要約】【課題】位置データの信頼性を向上する。【解決手段】ディスク１１０と、インクリメンタルパターンを有するスリットトラックＳＩ１，ＳＩ２と、アブソリュートパターンを有するスリットトラックＳＡ１，ＳＡ２と、光源１２１と、幅方向Ｒに互いにオフセットした位置に配置され、スリットトラックＳＩ１，ＳＩ２で反射した光を受光するように構成された受光アレイＰＩ１、ＰＩ２と、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２で反射した光を受光するように構成された２つの受光アレイＰＡ１，ＰＡ２と、受光アレイＰＩ１、ＰＩ２の２つの受光信号に基づいて受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の２つの受光信号のいずれか一方を選択する信号選択部１４４と、受光アレイＰＩ１、ＰＩ２の２つの受光信号と、信号選択部１４４により選択された一方の受光信号とに基づいて、位置データを生成する位置データ生成部１４０と、を有する。【選択図】図６
2015200613.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転体に固定されたディスクと、
前記ディスクに備えられ、測定方向に沿ってインクリメンタルパターンを有するように並べられた複数のスリットをそれぞれ有する複数の第１スリットトラックと、
前記ディスクに備えられ、測定方向に沿ってアブソリュートパターンを有するように並べられた複数のスリットをそれぞれ有する１以上の第２スリットトラックと、
前記第１スリットトラック及び前記第２スリットトラックに光を出射するように構成された光源と、
前記測定方向と略垂直な幅方向に互いにオフセットした位置に配置され、対応する前記第１スリットトラックで反射又は透過した光をそれぞれ受光して第１受光信号をそれぞれ出力するように構成された２つの第１受光アレイと、
対応する前記第２スリットトラックで反射又は透過した光をそれぞれ受光して互いに位相の異なる第２受光信号をそれぞれ出力するように構成された２つの第２受光アレイと、
２つの前記第１受光信号に基づいて２つの前記第２受光信号のいずれか一方を選択する手段と、
前記２つの第１受光信号の少なくとも一方と、前記選択する手段により選択された一方の前記第２受光信号とに基づいて、前記回転体の位置データを生成する手段と、
を有する、エンコーダ。
【請求項２】
前記エンコーダは、
前記２つの第２受光信号の一方が他方よりも振幅が安定する範囲である前記第１受光信号の１周期中の第１位相範囲と、前記２つの第２受光信号の前記他方が前記一方よりも振幅が安定する範囲である前記第１受光信号の１周期中の第２位相範囲とを、前記２つの第１受光信号に基づいて特定する手段をさらに有し、
前記選択する手段は、
前記第１受光信号の位相が前記第１位相範囲である場合には前記２つの第２受光信号のうちの前記一方を選択し、前記第１受光信号の位相が前記第２位相範囲である場合には前記２つの第２受光信号のうちの前記他方を選択する、請求項１に記載のエンコーダ。
【請求項３】
前記エンコーダは、
前記２つの第１受光信号の位相差に基づいて、前記一方の第２受光信号の前記第１受光信号に対する第１位相差と、前記他方の第２受光信号の前記第１受光信号に対する第２位相差と、を算出する手段をさらに有し、
前記特定する手段は、
前記第１位相差が０である場合の第１基準位相範囲と前記第１位相差とに基づいて前記第１位相範囲を特定し、前記第２位相差が０である場合の第２基準位相範囲と前記第２位相差に基づいて前記第２位相範囲を特定する、ことを特徴とする請求項２に記載のエンコーダ。
【請求項４】
前記２つの第１受光アレイは、
一の受光アレイと、当該一の受光アレイに対応した前記第１スリットトラックよりもピッチの短いインクリメンタルパターンを有する前記第１スリットトラックで反射又は透過した光を受光するように構成された他の受光アレイと、を有する、ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のエンコーダ。
【請求項５】
前記第１スリットトラック及び前記第２スリットトラックが有する各前記スリットは、
前記光源より出射された光を反射するように構成され、
前記第１受光アレイ及び前記第２受光アレイは、
前記第１スリットトラック又は前記第２スリットトラックで反射した光をそれぞれ受光するように構成される、ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のエンコーダ。
【請求項６】
前記エンコーダの電源投入時に前記光源へ印加される電流を所定の電流値よりも増大させ、前記回転体の回転後に前記電流を前記所定の電流値となるように可変させる手段をさらに有する、ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のエンコーダ。
【請求項７】
前記第２受光信号の振幅と所定のしきい値とを比較する手段と、
前記エンコーダの電源投入時に前記しきい値を所定の値よりも増大させ、前記回転体の回転後に前記しきい値を前記所定の値となるように可変させる手段をさらに有する、ことを特徴とする請求項６に記載のエンコーダ。
【請求項８】
前記２つの第１受光アレイは、
前記光源を挟むように、前記幅方向に互いにオフセットした位置に配置され、
前記２つの第２受光アレイは、
前記２つの第１受光アレイを挟むように、前記幅方向に互いにオフセットした位置に配置される、ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のエンコーダ。
【請求項９】
前記２つの第２受光アレイは、
前記光源を挟むように、前記幅方向に互いにオフセットした位置に配置され、
前記２つの第１受光アレイは、
前記２つの第２受光アレイを挟むように、前記幅方向に互いにオフセットした位置に配置される、ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のエンコーダ。
【請求項１０】
前記２つの第２受光アレイは、
当該２つの第２受光アレイの各々を構成する受光素子が交互に配置されることにより、単一トラックの受光アレイとして構成され、
前記２つの第１受光アレイは、
前記光源及び前記２つの第２受光アレイを挟むように、前記幅方向に互いにオフセットした位置に配置される、ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のエンコーダ。
【請求項１１】
回転子が固定子に対して回転するモータと、
前記回転子の位置及び速度の少なくとも一方を検出する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のエンコーダと、を備えることを特徴とするエンコーダ付きモータ。
【請求項１２】
回転子が固定子に対して回転するモータと、
前記回転子の位置及び速度の少なくとも一方を検出する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のエンコーダと、
前記エンコーダの検出結果に基づいて前記モータを制御するように構成された制御装置と、を備えることを特徴とするサーボシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
開示の実施形態は、エンコーダ、エンコーダ付きモータ、サーボシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、光源を間に挟んで回転ディスクの円周方向に分割して配置されたインクリメンタル用受光素子群と、光源に対し回転ディスクの半径方向における外側及び内側の両方に配置された２つのアブソリュート用受光素子群と、を有する反射型エンコーダが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１０３０３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
反射型エンコーダでは、絶対位置の検出精度を高め、位置データの信頼性を向上することが要求される。
【０００５】
本発明の目的とするところは、位置データの信頼性を向上できるエンコーダ、エンコーダ付きモータ、サーボシステムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、回転体に固定されたディスクと、前記ディスクに備えられ、測定方向に沿ってインクリメンタルパターンを有するように並べられた複数のスリットをそれぞれ有する複数の第１スリットトラックと、前記ディスクに備えられ、測定方向に沿ってアブソリュートパターンを有するように並べられた複数のスリットをそれぞれ有する１以上の第２スリットトラックと、前記第１スリットトラック及び前記第２スリットトラックに光を出射するように構成された光源と、前記測定方向と略垂直な幅方向に互いにオフセットした位置に配置され、対応する前記第１スリットトラックで反射又は透過した光をそれぞれ受光して第１受光信号をそれぞれ出力するように構成された２つの第１受光アレイと、対応する前記第２スリットトラックで反射又は透過した光をそれぞれ受光して互いに位相の異なる第２受光信号をそれぞれ出力するように構成された２つの第２受光アレイと、２つの前記第１受光信号に基づいて２つの前記第２受光信号のいずれか一方を選択する手段と、前記２つの第１受光信号の少なくとも一方と、前記選択する手段により選択された一方の前記第２受光信号とに基づいて、前記回転体の位置データを生成する手段と、を有する、エンコーダが提供される。
【０００７】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、回転子が固定子に対して回転するモータと、前記回転子の位置及び速度の少なくとも一方を検出する、上記エンコーダと、を備えることを特徴とするエンコーダ付きモータが提供される。
【０００８】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、回転子が固定子に対して回転するモータと、前記回転子の位置及び速度の少なくとも一方を検出する、上記エンコーダと、前記エンコーダの検出結果に基づいて前記モータを制御するように構成された制御装置と、を備えることを特徴とするサーボシステムが提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のエンコーダ等によれば、位置データの信頼性を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】一実施形態に係るサーボシステムについて説明するための説明図である。
【図２】同実施形態に係るエンコーダについて説明するための説明図である。
【図３】同実施形態に係るディスクについて説明するための説明図である。
【図４】同実施形態に係るスリットトラックについて説明するための説明図である。
【図５】同実施形態に係る光学モジュール及び受光アレイについて説明するための説明図である。
【図６】同実施形態に係る位置データ生成部について説明するための説明図である。
【図７】ディスクとシャフトとの偏心、及び、光学モジュールの回転方向の傾きがいずれも無い場合における各受光アレイの受光信号の波形の一例を説明するための説明図である。
【図８】ディスクとシャフトとの偏心、及び、光学モジュールの回転方向の傾きの少なくとも一方が存在する場合における各受光アレイの受光信号の波形の一例を説明するための説明図である。
【図９】光源の通常時と電流増大時における受光アレイの受光信号の波形の一例を説明するための説明図である。
【図１０】変形例に係る光学モジュール及び受光アレイについて説明するための説明図である。
【図１１】他の変形例に係る光学モジュール及び受光アレイについて説明するための説明図である。
【図１２】他の変形例に係る光学モジュール及び受光アレイについて説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、一実施形態について説明する。
【００１２】
ここで、実施形態について説明する前に、本願発明者等が鋭意研究した結果、想到した事情等について説明する。
【００１３】
以下で説明する実施形態のように、エンコーダには、アブソリュートパターンを有する２つのスリットトラックで反射又は透過した光をそれぞれ受光して互いに位相の異なるアブソリュート信号をそれぞれ出力するように構成された２つの受光アレイを有するものがある。
【００１４】
このエンコーダでは、ディスクに備えられた２つのスリットトラックのアブソリュートパターンが測定方向に半ピッチだけずらして形成される。あるいは、アブソリュートパターン同士をオフセットさせる代わりに、受光アレイ同士を測定方向にずらしてもよい。その結果、２つの受光アレイから得られる出力信号は、互いに１８０°位相が異なる。これにより、検出パターンの変化点等の不安定な領域でない方のアブソリュートパターンから得られる信号を使用して絶対位置を特定することが可能となり、検出精度の向上を図っている。
【００１５】
ところで、エンコーダにおいては、ディスクとシャフトに偏心が存在したり、光学モジュールが例えば光軸を中心とする回転方向に傾いて設置される場合がある。このような場合、ディスクのスリットは光学モジュールに対して傾いて対向することとなる。その結果、２つの受光アレイから得られる出力信号に位相ずれが生じ、絶対位置の検出精度に影響を与える可能性がある。
【００１６】
ここで、本願発明者等の検討によれば、インクリメンタルパターンのスリットトラックで反射又は透過された光を受光するように構成された、ディスクの径方向にオフセット配置された２つの受光アレイの各々による位置データを用いることで、上記アブソリュート信号を出力する２つの受光アレイの位相差を特定できることが知見された。これらの事情に想到した本願発明者等は、更に鋭意研究を行った結果、以下で説明する実施形態に係る光学エンコーダ等に想到した。以下、この実施形態について詳細に説明する。なお、ここで説明した課題や効果等は、以下で説明する実施形態のあくまで一例であって、さらなる作用効果等を該実施形態が奏することは言うまでもない。
【００１７】
＜１．サーボシステム＞
まず、図１を参照しつつ、本実施形態に係るサーボシステムの構成について説明する。図１に示すように、サーボシステムＳは、サーボモータＳＭと、制御装置ＣＴとを有する。サーボモータＳＭは、エンコーダ１００と、モータＭとを有する。
【００１８】
モータＭは、エンコーダ１００を含まない動力発生源の一例である。モータＭは、回転子（図示省略）が固定子（図示省略）に対して回転する回転型モータであり、回転子に固定されたシャフトＳＨを軸心ＡＸ周りに回転させることにより、回転力を出力する。
【００１９】
なお、モータＭ単体をサーボモータという場合もあるが、本実施形態では、エンコーダ１００を含む構成をサーボモータＳＭという。つまり、サーボモータＳＭはエンコーダ付きモータの一例に相当する。以下では、説明の便宜上、エンコーダ付きモータが、位置や速度等の目標値に追従するように制御されるサーボモータである場合について説明するが、必ずしもサーボモータに限定されるものではない。エンコーダ付きモータは、例えばエンコーダの出力を表示のみに用いる場合等、エンコーダが付設さえされていれば、サーボシステム以外に用いられるモータをも含むものである。
【００２０】
また、モータＭは、例えば位置データ等をエンコーダ１００が検出可能なモータであれば、特に限定されるものではない。また、モータＭは、動力源として電気を使用する電動式モータである場合に限定されるものではなく、例えば、油圧式モータ、エア式モータ、蒸気式モータ等の他の動力源を使用したモータであってもよい。但し、説明の便宜上、以下ではモータＭが電動式モータである場合について説明する。
【００２１】
エンコーダ１００は、モータＭのシャフトＳＨの回転力出力側とは反対側に連結される。但し、必ずしも反対側に限定されるものではなく、エンコーダ１００はシャフトＳＨの回転力出力側に連結されてもよい。エンコーダ１００は、シャフトＳＨ（回転子）の位置を検出することにより、モータＭの位置（回転角度ともいう。）を検出し、その位置を表す位置データを出力する。
【００２２】
エンコーダ１００は、モータＭの位置に加えて又は代えて、モータＭの速度（回転速度、角速度等ともいう。）及びモータＭの加速度（回転加速度、角加速度等ともいう。）の少なくとも一方を検出してもよい。この場合、モータＭの速度及び加速度は、例えば、位置を時間で１又は２階微分したり検出信号（例えば後述するインクリメンタル信号）を所定の時間カウントするなどの処理により検出することが可能である。説明の便宜上、以下ではエンコーダ１００が検出する物理量は位置であるとして説明する。
【００２３】
制御装置ＣＴは、エンコーダ１００から出力される位置データを取得して、該位置データに基づいて、モータＭの回転を制御する。従って、モータＭとして電動式モータが使用される本実施形態では、制御装置ＣＴは、位置データに基づいてモータＭに印加する電流又は電圧等を制御することにより、モータＭの回転を制御する。更に、制御装置ＣＴは、上位制御装置（図示せず）から上位制御信号を取得して、該上位制御信号に表された位置等を実現可能な回転力がモータＭのシャフトＳＨから出力されるように、モータＭを制御することも可能である。なお、モータＭが、油圧式、エア式、蒸気式などの他の動力源を使用する場合には、制御装置ＣＴは、それらの動力源の供給を制御することにより、モータＭの回転を制御することが可能である。
【００２４】
＜２．エンコーダ＞
次に、本実施形態に係るエンコーダ１００について説明する。図２に示すように、エンコーダ１００は、ディスク１１０と、光学モジュール１２０と、制御部１３０とを有する。
【００２５】
ここで、エンコーダ１００の構造の説明の便宜上、上下等の方向を以下のように定め、適宜使用する。図２において、ディスク１１０が光学モジュール１２０と面する方向、つまりＺ軸正の方向を「上」とし、Ｚ軸負の方向を「下」とする。但し、該方向はエンコーダ１００の設置態様によって変動するものであり、エンコーダ１００の各構成の位置関係を限定するものではない。
【００２６】
（２−１．ディスク）
ディスク１１０は、図３に示すように円板状に形成され、ディスク中心Ｏが軸心ＡＸとほぼ一致するように配置される。ディスク１１０は、モータＭのシャフトＳＨに連結され、シャフトＳＨの回転により回転する。なお、本実施形態では、モータＭの回転を測定する被測定対象の例として、円板状のディスク１１０を例に挙げて説明するが、例えば、シャフトＳＨの端面などの他の部材を被測定対象として使用することも可能である。また、図２に示す例では、ディスク１１０がシャフトＳＨに直接連結されているが、ハブ等の連結部材を介して連結されてもよい。
【００２７】
図３に示すように、ディスク１１０は、複数のスリットトラックＳＡ１，ＳＡ２，ＳＩ１，ＳＩ２を有する。ディスク１１０はモータＭの駆動と共に回転するが、光学モジュール１２０は、ディスク１１０の一部に対向しつつ固定して配置される。従って、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２，ＳＩ１，ＳＩ２と、光学モジュール１２０とは、モータＭの駆動に伴い、互いに測定方向（図３に示す矢印Ｃの方向。以下適宜「測定方向Ｃ」と記載する。）に相対移動する。
【００２８】
ここで、「測定方向」とは、光学モジュール１２０でディスク１１０に形成された各スリットトラックを光学的に測定する際の測定方向である。本実施形態のように被測定対象がディスク１１０である回転型のエンコーダにおいては、測定方向はディスク１１０のディスク中心Ｏを中心とした円周方向に一致する。
【００２９】
（２−２．光学検出機構）
光学検出機構は、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２，ＳＩ１，ＳＩ２と光学モジュール１２０とを有する。各スリットトラックは、ディスク１１０の上面にディスク中心Ｏを中心としたリング状に配置されたトラックとして形成される。各スリットトラックは、トラックの全周にわたって、測定方向Ｃに沿って並べられた複数の反射スリット（図４における斜線ハッチング部分）を有する。１つ１つの反射スリットは、光源１２１から出射された光を反射する。
【００３０】
（２−２−１．ディスク）
ディスク１１０は、例えば金属等の光を反射する材質により形成される。そして、ディスク１１０の表面における光を反射させない部分に反射率の低い材質（例えば酸化クロム等）を塗布等により配置することで、配置されない部分に反射スリットが形成される。なお、光を反射させない部分をスパッタリング等により粗面として反射率を低下させることで、反射スリットが形成されてもよい。
【００３１】
なお、ディスク１１０の材質や製造方法等については特に限定されるものではない。例えば、ディスク１１０をガラスや透明樹脂等の光を透過する材質で形成することも可能である。この場合、ディスク１１０の表面に光を反射する材質（例えばアルミニウム等）を蒸着等によって配置することにより、反射スリットが形成可能である。
【００３２】
なお、本明細書における「スリット」とは、ディスク１１０に形成され、光源１２１から出射された光に対し反射（反射型回折を含む）、透過（透過型回折を含む）等の作用を与える領域である。このスリットが上記測定方向に沿って所定のパターンを有するように複数配置されることで、各スリットトラックが構成されている。本実施形態では、各スリットが反射スリットである場合を一例として説明する。
【００３３】
スリットトラックは、ディスク１１０の上面において幅方向（図３に示す矢印Ｒの方向。以下適宜「幅方向Ｒ」と記載する。）に４本併設される。なお、「幅方向」とは、ディスク１１０の半径方向、すなわち測定方向Ｃと略垂直な方向であり、この幅方向Ｒに沿った各スリットトラックの長さが各スリットトラックの幅に相当する。４本のスリットトラックは、幅方向Ｒの内側から外側に向けて、ＳＡ１，ＳＩ１，ＳＩ２，ＳＡ２の順に同心円状に配置される。各スリットトラックについてより詳細に説明するために、ディスク１１０の光学モジュール１２０と対向する領域近傍の部分拡大図を図４に示す。
【００３４】
図４に示すように、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２が有する複数の反射スリットは、測定方向Ｃでアブソリュートパターンを有するように、ディスク１１０の全周に配置される。なお、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２は、第２スリットトラックの一例に相当する。
【００３５】
なお、「アブソリュートパターン」とは、後述する光学モジュール１２０が有する受光アレイが対向する角度内における反射スリットの位置や割合等が、ディスク１１０の１回転内で一義に定まるようなパターンである。つまり、例えば、図４に示すアブソリュートパターンの例の場合、モータＭがある角度位置となっている場合に、対向した受光アレイの複数の受光素子それぞれの検出又は未検出によるビットパターンの組み合わせが、その角度位置の絶対位置を一義に表すことになる。なお、「絶対位置」とは、ディスク１１０の１回転内での原点に対する角度位置をいう。原点は、ディスク１１０の１回転内での適宜の角度位置に設定され、この原点を基準としてアブソリュートパターンが形成される。
【００３６】
なお、このパターンの一例によれば、モータＭの絶対位置を、受光アレイの受光素子数のビットにより、一次元的に表すようなパターンを生成できる。しかし、アブソリュートパターンは、この例に限定されるものではない。例えば、受光素子数のビットにより多次元的に表すパターンであってもよい。また、所定のビットパターン以外にも、受光素子で受光する光量や位相などの物理量が絶対位置を一義的に表すように変化するパターンや、アブソリュートパターンの符号系列が変調を施されたパターン等であってもよく、その他、様々なパターンであってもよい。
【００３７】
なお、本実施形態では、同様のアブソリュートパターンが、測定方向Ｃで例えば１ビットの１／２の長さだけオフセットされて、２本のスリットトラックＳＡ１，ＳＡ２として形成される。このオフセット量は、例えばスリットトラックＳＩ１の反射スリットのピッチＰ１の半分に相当する。仮に、このようにスリットトラックＳＡ１，ＳＡ２をオフセットさせた構成としない場合、次のような可能性がある。つまり、本実施形態のような一次元的なアブソリュートパターンにより絶対位置を表す場合、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の各受光素子が反射スリットの端部近傍に対向して位置することによるビットパターンの変わり目の領域において、絶対位置の検出精度が低下する可能性がある。本実施形態では、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２をオフセットさせることで、例えば、スリットトラックＳＡ１による絶対位置がビットパターンの変わり目に相当する場合には、スリットトラックＳＡ２からの検出信号を使用して絶対位置を算出したり、その逆を行うことにより、絶対位置の検出精度を向上できる。なお、このような構成とする場合、２つの受光アレイＰＡ１，ＰＡ２における受光量を均一にする必要があるが、本実施形態では２つの受光アレイＰＡ１，ＰＡ２を光源１２１からほぼ等距離に配置するので、上記構成を実現できる。
【００３８】
なお、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２の各アブソリュートパターン同士をオフセットさせる代わりに、例えば、アブソリュートパターン同士はオフセットさせずに、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２それぞれに対応した受光アレイＰＡ１，ＰＡ２同士を測定方向Ｃにオフセットさせてもよい。
【００３９】
一方、スリットトラックＳＩ１，ＳＩ２が有する複数の反射スリットは、測定方向Ｃでインクリメンタルパターンを有するように、ディスク１１０の全周に配置される。なお、スリットトラックＳＩ１，ＳＩ２は、第１スリットトラックの一例に相当する。
【００４０】
「インクリメンタルパターン」とは、図４に示すように、所定のピッチで規則的に繰り返されるパターンである。ここで、「ピッチ」とはインクリメンタルパターンを有するスリットトラックＳＩ１，ＳＩ２における各反射スリットの配置間隔をいう。図４に示すように、スリットトラックＳＩ１のピッチはＰ１であり、スリットトラックＳＩ２のピッチはＰ２である。インクリメンタルパターンは、複数の受光素子による検出の有無それぞれをビットとして絶対位置を表すアブソリュートパターンと異なり、少なくとも１以上の受光素子による検出信号の和により、１ピッチ毎又は１ピッチ内のモータＭの位置を表す。従って、インクリメンタルパターンは、モータＭの絶対位置を表すものではないが、アブソリュートパターンに比べると非常に高精度に位置を表すことが可能である。
【００４１】
本実施形態では、スリットトラックＳＩ１のピッチＰ１は、スリットトラックＳＩ２のピッチＰ２よりも長く設定される。この例では、Ｐ１＝２×Ｐ２となるように各ピッチが設定されている。すなわち、スリットトラックＳＩ２の反射スリットの数はスリットトラックＳＩ１の反射スリットの数の２倍となっている。しかしながら、このスリットピッチの関係は、この例に限定されるものではなく、例えば、３倍、４倍、５倍など様々な値を取り得る。
【００４２】
なお、本実施形態では、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２の反射スリットの測定方向Ｃにおける最小長さは、スリットトラックＳＩ１の反射スリットのピッチＰ１と一致する。その結果、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２に基づくアブソリュート信号の分解能は、スリットトラックＳＩ１の反射スリットの数と一致する。しかしながら、最小長さは、この例に限定されるものではなく、スリットトラックＳＩ１の反射スリットの数はアブソリュート信号の分解能と同じかそれよりも多く設定されることが望ましい。
【００４３】
（２−２−２．光学モジュール）
光学モジュール１２０は、図２及び図５に示すように、ディスク１１０と平行な一枚の基板ＢＡとして形成される。これにより、エンコーダ１００を薄型化したり、光学モジュール１２０の製造を容易にすることが可能である。従って、ディスク１１０の回転に伴い、光学モジュール１２０は、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２，ＳＩ１，ＳＩ２に対して測定方向Ｃで相対移動する。なお、光学モジュール１２０は必ずしも一枚の基板ＢＡとして構成される必要はなく、各構成が複数の基板として構成されてもよい。この場合、それらの基板が集約して配置されていればよい。また、光学モジュール１２０は基板状でなくともよい。
【００４４】
光学モジュール１２０は、図２及び図５に示すように、基板ＢＡのディスク１１０と対向する面上に、光源１２１と、複数の受光アレイＰＡ１，ＰＡ２，ＰＩ１，ＰＩ２とを有する。
【００４５】
図３に示すように、光源１２１は、スリットトラックＳＩ１とスリットトラックＳＩ２との間に対向する位置に配置される。そして、光源１２１は、光学モジュール１２０の対向する位置を通過する４つのスリットトラックＳＡ１，ＳＡ２，ＳＩ１，ＳＩ２の対向した部分に光を照射する。
【００４６】
光源１２１としては、照射領域に光を照射可能な光源であれば特に限定されるものではないが、例えば、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）が使用可能である。光源１２１は、特に光学レンズ等が配置されない点光源として構成され、発光部から拡散光を出射する。なお、「点光源」という場合、厳密な点である必要はなく、設計上や動作原理上、略点状の位置から拡散光が発せられるものとみなせる光源であれば、有限な出射面から光が発せられてもよい。また、「拡散光」は、点光源から全方位に向かって放たれる光に限定されず、有限の一定の方位に向かって拡散しつつ出射される光を含む。すなわち、ここでいう拡散光には、平行光よりも拡散性を有する光であれば含まれる。このように点光源を使用することにより、光源１２１は、対向した位置を通過する４つのスリットトラックＳＡ１，ＳＡ２，ＳＩ１，ＳＩ２にほぼ均等に光を照射することが可能である。また、光学素子による集光・拡散を行わないので、光学素子による誤差等が生じにくく、スリットトラックへの光の直進性を高める事が可能である。
【００４７】
複数の受光アレイＰＡ１，ＰＡ２，ＰＩ１，ＰＩ２は、光源１２１の周囲に配置され、対応付けられたスリットトラックの反射スリットで反射された光を各々受光する複数の受光素子（図５のドットハッチング部分）を有する。複数の受光素子は、図５に示すように、測定方向Ｃに沿って並べられる。
【００４８】
なお、光源１２１から出射される光は拡散光である。従って、光学モジュール１２０上に投影されるスリットトラックの像は、光路長に応じた所定の拡大率εだけ拡大されたものとなる。つまり、図４及び図５に示すように、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２，ＳＩ１，ＳＩ２それぞれの幅方向Ｒの長さをＷＳＡ１，ＷＳＡ２，ＷＳＩ１，ＷＳＩ２とし、それらの反射光が光学モジュール１２０に投影された形状の幅方向Ｒの長さをＷＰＡ１，ＷＰＡ２，ＷＰＩ１，ＷＰＩ２とすると、ＷＰＡ１，ＷＰＡ２，ＷＰＩ１，ＷＰＩ２は、ＷＳＡ１，ＷＳＡ２，ＷＳＩ１，ＷＳＩ２のε倍の長さとなる。なお、本実施形態では、図５に示すように、各受光アレイの受光素子の幅方向Ｒの長さは、各スリットが光学モジュール１２０に投影された形状とほぼ等しく設定されている例を示している。しかし、受光素子の幅方向Ｒの長さは、必ずしもこの例に限定されるものではない。
【００４９】
同様に、光学モジュール１２０における測定方向Ｃも、ディスク１１０における測定方向Ｃが光学モジュール１２０に投影された形状、つまり拡大率εの影響を受けた形状となる。理解が容易になるように、図２に示すように光源１２１の位置における測定方向Ｃを例に挙げて、具体的に説明する。ディスク１１０における測定方向Ｃは、軸心ＡＸ（ディスク中心Ｏ）を中心とした円状になる。これに対して、光学モジュール１２０に投影された測定方向Ｃの中心は、光源１２１が配置されたディスク１１０の面内位置である光学中心Ｏｐから距離εＬだけ離隔した位置となる。距離εＬは、軸心ＡＸと光学中心Ｏｐとの間の距離Ｌが拡大率εで拡大された距離である。この位置を図２では、概念的に測定中心Ｏｓとして示している。従って、光学モジュール１２０における測定方向Ｃは、光学中心Ｏｐから該光学中心Ｏｐと軸心ＡＸとが乗るライン上を軸心ＡＸ方向に距離εＬ離れた測定中心Ｏｓを中心とし、距離εＬを半径とするライン上となる。
【００５０】
図４及び図５では、ディスク１１０及び光学モジュール１２０の各々における測定方向Ｃの対応関係を、円弧状のラインＬｃｄ，Ｌｃｐで表す。図４に示すラインＬｃｄは、ディスク１１０上の測定方向Ｃに沿った線を表す一方、図５に示すラインＬｃｐは、基板ＢＡ上の測定方向Ｃに沿った線（ラインＬｃｄが光学モジュール１２０上に投影された線）を表す。
【００５１】
図２に示すように、光学モジュール１２０とディスク１１０との間のギャップ長をＧとし、光源１２１の基板ＢＡからの突出量をΔｄとした場合、拡大率εは、下記（式１）で示される。
ε＝（２Ｇ−Δｄ）／（Ｇ−Δｄ）        …（式１）
【００５２】
１つ１つの受光素子としては、例えばフォトダイオードを使用することができる。但し、フォトダイオードに限定されるものではなく、光源１２１から出射された光を受光して電気信号に変換可能なものであれば、特に限定されるものではない。
【００５３】
本実施形態における受光アレイは、４本のスリットトラックＳＡ１，ＳＡ２，ＳＩ１，ＳＩ２に対応して配置される。受光アレイＰＡ１は、スリットトラックＳＡ１で反射した光を受光するように構成され、受光アレイＰＡ２は、スリットトラックＳＡ２で反射した光を受光するように構成される。また、受光アレイＰＩ１は、スリットトラックＳＩ１で反射した光を受光するように構成され、受光アレイＰＩ２は、スリットトラックＳＩ２で反射した光を受光するように構成される。
【００５４】
光源１２１と、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２と、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２とは、図５に示す位置関係に配置される。アブソリュートパターンに対応する受光アレイＰＡ１，ＰＡ２は、幅方向Ｒにおいて光源１２１を間に挟んで配置される。この例では、受光アレイＰＡ１は内周側、受光アレイＰＡ２は外周側に配置される。本実施形態では、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の各々と光源１２１との距離は略等しくなっている。つまり、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２は、（測定中心Ｏｓを中心とした湾曲した形状を除き）基本的には、光源１２１を通る幅方向Ｒ上の線および測定方向Ｃ上の線を対称軸とする、線対称形状に形成される。そして、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２が有する複数の受光素子は、それぞれ測定方向Ｃ（ラインＬｃｐ）に沿って一定のピッチで並べられる。受光アレイＰＡ１，ＰＡ２では、それぞれスリットトラックＳＡ１，ＳＡ２からの反射光が受光されることにより、受光素子数（本実施形態では例えば９）のビットパターンを有するアブソリュート信号が生成される。なお、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２は第２受光アレイの一例に相当する。
【００５５】
インクリメンタルパターンに対応する受光アレイＰＩ１，ＰＩ２は、幅方向Ｒに互いにオフセットした位置に配置される。受光アレイＰＩ１は、受光アレイＰＡ１と光源１２１との間に配置される。また、インクリメンタルパターンに対応する受光アレイＰＩ２は、受光アレイＰＡ２と光源１２１との間に配置される。受光アレイＰＩ１は、受光アレイＰＩ２よりも内周側に配置される。また、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２の各々と光源１２１との距離は略等しくなっている。つまり、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２は、（測定中心Ｏｓを中心とした湾曲した形状を除き）基本的には、光源１２１を通る幅方向Ｒ上の線および測定方向Ｃ上の線を対称軸とする、線対称形状に形成される。なお、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２は第１受光アレイの一例に相当する。
【００５６】
本実施形態ではアブソリュートパターンとして一次元的なパターンを例示しているので、それに対応した受光アレイＰＡ１，ＰＡ２は、対応付けられたスリットトラックＳＡ１，ＳＡ２の反射スリットで反射された光を各々受光するように測定方向Ｃ（ラインＬｃｐ）に沿って並べられた複数（本実施形態では例えば９）の受光素子を有する。この複数の受光素子では、上述のとおり、１つ１つの受光又は非受光がビットとして扱われ、９ビットの絶対位置を表す。従って、複数の受光素子それぞれが受光する受光信号は、位置データ生成部１４０において相互に独立して取り扱われて、シリアルなビットパターンに暗号化（コード化）されていた絶対位置が、これらの受光信号の組み合わせから復号される。この受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の受光信号を、「アブソリュート信号」という。このアブソリュート信号が第２受光信号の一例に相当する。なお、本実施形態とは異なるアブソリュートパターンが使用される場合には、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２は、そのパターンに対応した構成となる。
【００５７】
受光アレイＰＩ１，ＰＩ２は、対応付けられたスリットトラックＳＩ１，ＳＩ２の反射スリットで反射された光を各々受光するように測定方向Ｃ（ラインＬｃｐ）に沿って並べられた複数の受光素子を有する。まず、受光アレイＰＩ１を例に挙げて説明する。
【００５８】
本実施形態では、スリットトラックＳＩ１のインクリメンタルパターンの１ピッチ（投影された像における１ピッチ。すなわちε×Ｐ１。）中に、合計４個の受光素子のセット（図５に「ＳＥＴ１」で示す）が並べられ、かつ、４個の受光素子のセットが測定方向Ｃに沿って更に複数並べられる。そして、インクリメンタルパターンは、１ピッチ毎に反射スリットが繰り返し形成されるので、各受光素子は、ディスク１１０が回転する場合、１ピッチで１周期（電気角で３６０°という。）の周期信号を生成する。そして、１ピッチに相当する１セット中に４つの受光素子が配置されるので、１セット内の相隣接する受光素子同士は、相互に９０°の位相差を有する周期信号を検出することになる。この各受光信号を、Ａ相信号、Ｂ相信号（Ａ相信号に対する位相差が９０°）、Ａバー相信号（Ａ相信号に対する位相差が１８０°）、Ｂバー相信号（Ｂ相信号に対する位相差が１８０°）と呼ぶ。
【００５９】
インクリメンタルパターンは１ピッチ中の位置を表すので、１セット中の各位相の信号と、それと対応した他のセット中の各位相の信号とは、同様に変化する値となる。従って、同一位相の信号は、複数のセットにわたって加算される。従って、図５に示す受光アレイＰＩ１の多数の受光素子からは、位相が９０°ずつズレる４つの信号が検出されることとなる。
【００６０】
一方、受光アレイＰＩ２も、受光アレイＰＩ１と同様に構成される。すなわち、スリットトラックＳＩ２のインクリメンタルパターンの１ピッチ（投影された像における１ピッチ。すなわちε×Ｐ２。）中に、合計４個の受光素子のセット（図５に「ＳＥＴ２」で示す）が並べられ、かつ、４個の受光素子のセットが測定方向Ｃに沿って複数並べられる。従って、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２から位相が９０°ずつズレる４つの信号がそれぞれ生成される。この４信号を、「インクリメンタル信号」という。このインクリメンタル信号が第１受光信号の一例に相当する。また、ピッチの短いスリットトラックＳＩ２に対応する受光アレイＰＩ２で生成されるインクリメンタル信号は、他のインクリメンタル信号に比べて高分解能であることから「高インクリメンタル信号」、ピッチの長いスリットトラックＳＩ１に対応する受光アレイＰＩ１で生成されるインクリメンタル信号は、他のインクリメンタル信号に比べて低分解能であることから「低インクリメンタル信号」という。
【００６１】
なお、本実施形態では、インクリメンタルパターンの１ピッチに相当する１セットには受光素子が４つ含まれる場合を一例として説明するが、例えば１セットに２つの受光素子が含まれる等、１セット中の受光素子数は特に限定されるものではない。
【００６２】
（２−３．制御部）
制御部１３０は、位置データ生成部１４０と、電流可変部１５０とを有する。
【００６３】
位置データ生成部１４０は、モータＭの絶対位置を測定するタイミング（例えばエンコーダ１００の電源投入時）において、光学モジュール１２０から、絶対位置を表すビットパターンをそれぞれ備えた２つのアブソリュート信号と、位相が９０°ずつズレる４つの信号を含む高インクリメンタル信号及び低インクリメンタル信号とを取得する。そして、位置データ生成部１４０は、２つのアブソリュート信号のうちの選択された一方のアブソリュート信号と２つのインクリメンタル信号とに基づいて、これらの信号が表すモータＭの絶対位置を算出し、絶対位置を表す位置データを生成して制御装置ＣＴに出力する。絶対位置を測定した後（例えばエンコーダ１００の電源投入後、モータＭが回転開始した後）は、位置データ生成部１４０は、上記算出した絶対位置と、高インクリメンタル信号及び低インクリメンタル信号に基づき算出した相対位置とに基づき、位置データを生成して制御装置ＣＴに出力する。
【００６４】
位置データ生成部１４０は、位置データを生成する手段の一例に相当する。なお、位置データ生成部１４０による位置データの生成方法は、様々な方法が使用可能であり、特に限定されるものではない。ここでは、高インクリメンタル信号及び低インクリメンタル信号と一方のアブソリュート信号とから絶対位置を算出し位置データを生成する場合を例にとって説明する。
【００６５】
図６に示すように、位置データ生成部１４０は、絶対位置特定部１４１と、第１位置特定部１４２と、第２位置特定部１４３と、信号選択部１４４と、位相差算出部１４５と、位相範囲特定部１４６と、位置データ算出部１４７とを有する。
【００６６】
絶対位置特定部１４１は、コンパレータ１４８と、しきい値可変部１４９とを有する。コンパレータ１４８は、信号選択部１４４により選択された受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の一方のアブソリュート信号（９の受光素子からの各出力信号）の各振幅と所定のしきい値とをそれぞれ比較する。そして、コンパレータ１４８は、振幅がしきい値を超えた場合には検出、振幅がしきい値を超えない場合には未検出とすることで２値化し、絶対位置を表すビットデータに変換する。なお、コンパレータ１４８は、比較する手段の一例に相当する。そして、絶対位置特定部１４１は、予め定められたビットデータと絶対位置との対応関係に基づいて、絶対位置を特定する。しきい値可変部１４９は、コンパレータ１４８のしきい値を変更する。この詳細については後述する。
【００６７】
信号選択部１４４は、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２からの２つのインクリメンタル信号に基づいて、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２からの２つのアブソリュート信号のいずれか一方を選択する。具体的には、信号選択部１４４は、位相範囲特定部１４６により特定された位相範囲に応じて、２つのアブソリュート信号のいずれか一方を選択する。なお、信号選択部１４４は、２つの第２受光信号のいずれか一方を選択する手段の一例に相当する。以下、この詳細について説明する。
【００６８】
まず、ディスク１１０とシャフトＳＨとの偏心、及び、光学モジュール１２０の回転方向の傾きがいずれも無い場合について説明する。図７は、この場合における各受光アレイの受光信号の波形の一例を説明するための説明図である。図７において、上段の正弦波状の波形は、受光アレイＰＩ１から出力される４つのインクリメンタル信号のうちの１つの信号の波形である。該波形中の数字は、１周期（電気角で３６０°）を１００％とした場合の位相の大きさを表す。また、中段のパルス状の波形は、受光アレイＰＡ１のうちの１つの受光素子から出力された受光信号の波形である。また、下段のパルス状の波形は、受光アレイＰＡ２のうちの１つの受光素子（上記受光アレイＰＡ１の受光素子に対応する受光素子）から出力された受光信号の波形である。
【００６９】
図４に示すように、スリットトラックＳＩ１とスリットトラックＳＡ２の各反射スリットの端部（測定方向Ｃに対応する端部）は略一致する。そして、スリットトラックＳＡ２（スリットトラックＳＡ１も同様）の各反射スリットの測定方向Ｃにおける長さは、スリットトラックＳＩ１の反射スリットのピッチＰ１の整数倍と略一致する。このため、図７に示すように、受光アレイＰＡ２の受光信号の波形は、受光アレイＰＩ１の受光信号の位相が０％（＝１００％）のときにオン、オフの変わり目となる。一方、前述のように、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２のアブソリュートパターンは、測定方向ＣでピッチＰ１の半分（位相差５０％）だけオフセットされて形成される。このため、受光アレイＰＡ１の出力信号の波形は、受光アレイＰＡ２の波形に対し位相が５０％ずれている（この例では測定方向Ｃに対応して遅れている）。
【００７０】
この場合、位相範囲特定部１４６は、受光アレイＰＡ１の受光信号が受光アレイＰＡ２の受光信号よりも振幅が安定する範囲として、７５％〜２５％の位相範囲を特定する。以下では、この位相範囲を第１位相範囲（図７の白色の両矢印）という。また、位相範囲特定部１４６は、受光アレイＰＡ２の受光信号が受光アレイＰＡ１の受光信号よりも振幅が安定する範囲として、２５％〜７５％の位相範囲を特定する。以下では、この位相範囲を第２位相範囲（図７のクロスハッチングの両矢印）という。なお、この例では第１位相範囲と第２位相範囲を同じ位相幅（５０％）となるように特定したが、異なる位相幅としてもよく、また各位相幅を５０％以外としてもよい。位相範囲特定部１４６は、２つの第１受光信号に基づいて特定する手段の一例に相当する。
【００７１】
信号選択部１４４は、位相範囲特定部１４６から第１位相範囲及び第２位相範囲を入力すると共に、受光アレイＰＩ１から受光信号を入力する。そして、信号選択部１４４は、受光アレイＰＩ１の受光信号の位相が上記第１位相範囲である場合には、受光アレイＰＡ１の受光信号を選択し、受光アレイＰＩ１の受光信号の位相が第２位相範囲である場合には、受光アレイＰＡ２の受光信号を選択する。これにより、検出パターンの変化点等の振幅が不安定な領域でない方の受光信号を使用して絶対位置を特定することができるので、検出精度を向上することが可能となる。
【００７２】
次に、ディスク１１０とシャフトＳＨとの偏心、及び、光学モジュール１２０の回転方向の傾きの少なくとも一方が存在する場合について説明する。このような場合、図５の想像線ＳＬ１又は想像線ＳＬ２に示すように、ディスク１１０の各反射スリットは、偏心方向又は回転方向に応じて光学モジュール１２０に対して傾いて対向することとなる。その結果、幅方向Ｒにオフセットして配置された受光アレイＰＩ１，ＰＩ２から出力される２つの受光信号には相互に位相ずれが生じる。つまり、スリットが想像線ＳＬ１のように傾いて対向する場合には、受光アレイＰＩ１の受光信号は受光アレイＰＩ２よりも位相が進み、スリットが想像線ＳＬ２のように傾いて対向する場合には、受光アレイＰＩ１の受光信号は受光アレイＰＩ２よりも位相が遅れる。なお、測定方向Ｃが図５に示す矢印方向と反対である場合には、上記位相ずれにおける受光アレイＰＩ１，ＰＩ２の対応関係が反対となる。
【００７３】
位相差算出部１４５は、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２の受光信号を入力し、２つの受光信号の位相差Δθ（受光アレイＰＩ２の受光アレイＰＩ１に対する位相差）を算出する。この際、受光アレイＰＩ１から得られる低インクリメンタル信号と、受光アレイＰＩ２から得られる高インクリメンタル信号では分解能が異なることから、これが一致するように両受光信号から得られる電気角を機械角に換算してもよい。電気角を機械角に換算する方法は、特に限定されるものではないが、この方法の一例として、例えば、分解能の低い方の位置データの逓倍数を分解能の高い方よりも大きくして、逓倍処理後の分解能を一致させる方法がある。本実施形態の例では、上述のようにスリットトラックＳＩ２の反射スリットの数はスリットトラックＳＩ１の反射スリットの数の２倍であり、高インクリメンタル信号は低インクリメンタル信号の２倍の分解能であることから、高インクリメンタル信号の逓倍数が２ｎである場合に、低インクリメンタル信号の逓倍数を２ｎ＋１とすることで、逓倍処理後の分解能を一致させることが可能である。
【００７４】
そして、位相差算出部１４５は、算出した位相差Δθに基づいて、受光アレイＰＡ１の受光信号の受光アレイＰＩ１の受光信号に対する位相差（以下「第１位相差Δθ１」という）と、受光アレイＰＡ２の受光信号の受光アレイＰＩ１の受光信号に対する位相差（以下「第２位相差Δθ２」という）を算出する。なお、位相差算出部１４５は、算出する手段の一例に相当する。
【００７５】
この第１位相差Δθ１及び第２位相差Δθ２の算出方法は、特に限定されるものではないが、例えば次のようにして行われる。図３に示すように、スリットトラックＳＩ１の中心半径をｒ１、スリットトラックＳＩ２の中心半径をｒ２、スリットトラックＳＡ１の中心半径をＲ１、スリットトラックＳＡ２の中心半径をＲ２とすると、図５に示すように、光学モジュール１２０における受光アレイＰＩ１の中心半径（前述の測定中心Ｏｓを中心とする半径。以下同様）はεｒ１、受光アレイＰＩ２の中心半径はεｒ２、受光アレイＰＡ１の中心半径はεＲ１、受光アレイＰＡ２の中心半径はεＲ２となる。したがって、第１位相差Δθ１及び第２位相差Δθ２は次式のように表される。
Δθ１＝Δθ×（εｒ１−εＲ１）／（εｒ１−εｒ２）・・・（式２）
Δθ２＝Δθ×（εｒ１−εＲ２）／（εｒ１−εｒ２）・・・（式３）
【００７６】
なお、算出方法は上記に限定されず、例えばディスク１１０の反射スリットの光学モジュール１２０に対する傾斜角θｓ（図５参照）を位相差Δθに基づいて算出し、該傾斜角θｓを用いて第１位相差Δθ１及び第２位相差Δθ２を算出してもよい。
【００７７】
図８は、位相差算出部１４５により算出された第１位相差Δθ１が例えば−１０％（１０％の位相進み）、第２位相差Δθ２が例えば＋２０％（２０％の位相遅れ）である場合における、各受光アレイの受光信号の波形の一例を説明するための説明図である。なお、この場合の位相ずれは、スリットが想像線ＳＬ１側に傾いた場合に対応している。
【００７８】
この場合、位相範囲特定部１４６は、第１位相差Δθ１が０である場合、つまり図７に示す場合における第１位相範囲（７５％〜２５％）を基準位相範囲（第１基準位相範囲の一例）とし、該基準位相範囲と上記第１位相差Δθ１（−１０％）とに基づいて、第１位相範囲を６５％（＝７５％−１０％）〜１５％（＝２５％−１０％）に特定する。また、位相範囲特定部１４６は、第２位相差Δθ２が０である場合、つまり図７に示す場合における第２位相範囲（２５％〜７５％）を基準位相範囲（第２基準位相範囲の一例）とし、該基準位相範囲と上記第２位相差（＋２０％）とに基づいて、第２位相範囲を４５％（＝２５％＋２０％）〜９５％（＝７５％＋２０％）に特定する。そして、信号選択部１４４は、受光アレイＰＩ１の受光信号の位相が上記第１位相範囲である場合には、受光アレイＰＡ１の受光信号を選択し、受光アレイＰＩ１の受光信号の位相が上記第２位相範囲である場合には、受光アレイＰＡ２の受光信号を選択する。これにより、ディスク１１０とシャフトＳＨとの偏心や光学モジュール１２０の回転方向の傾きが存在する場合でも、検出パターンの変化点等の振幅が不安定な領域でない方の受光信号を使用して絶対位置を特定することができるので、検出精度を向上することが可能となる。
【００７９】
なお、本実施形態に示す例では、位相範囲特定部１４６は第１位相範囲及び第２位相範囲のいずれについても位相範囲が５０％となるように特定する。このため、図８に示すように受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の受光信号に位相差が生じ、位相範囲特定部１４６で特定した第１位相範囲と第２位相範囲が部分的に重複する場合、受光アレイＰＩ１の受光信号の１周期中にどちらの位相範囲にも含まれない範囲（以下「不特定範囲」という）が存在することとなる。例えば、図８に示す例では、第１位相範囲と第２位相範囲とが６５％〜９５％の部分で重複しており、１５％〜４５％の位相範囲が不特定範囲となる。
【００８０】
本実施形態では、この不特定範囲においては光源１２１の光量が増加される。その状態で、信号選択部１４４が受光アレイＰＡ１，ＰＡ２からの２つのアブソリュート信号のいずれか一方を任意に選択する（あるいは、予め決められた一方のアブソリュート信号を選択するようにしてもよい）。以下、この内容について説明する。
【００８１】
図２に示すように、制御部１３０は、電流可変部１５０を有する。電流可変部１５０は、モータＭの絶対位置を測定するタイミング（例えばエンコーダ１００の電源投入時）に、光源１２１へ印加される電流を所定の電流値よりも増大させ、モータＭの回転後に電流を上記所定の電流値に戻すように変更する。なお、「所定の電流値」とは例えばモータＭの定常運転時に光源１２１に印加される電流値である。電流可変部１５０は、電流を所定の電流値となるように可変させる手段の一例に相当する。
【００８２】
図９は、光源１２１の通常時（例えばモータＭの定常運転時）と電流増大時（例えばエンコーダ１００の電源投入時）における受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の受光信号の波形の一例を説明するための説明図である。図９に示すように、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の受光信号の波形は、厳密な矩形状とはならず、略台形状の波形となる。このため、受光信号のオン、オフの変わり目の領域では、振幅が位相に略比例して増大（あるいは略反比例して減少）する。絶対位置特定部１４１は、コンパレータ１４８により受光信号の振幅としきい値とを比較し、振幅がしきい値を超えた場合には該受光素子についてオン（検出）とし、振幅がしきい値を超えない場合には該受光素子についてオフ（未検出）とする。ここで、コンパレータのしきい値には所定の範囲のオフセットが存在することから、そのオフセット範囲に対応する位相範囲においては受光素子のオン、オフの特定が不安定となる。
【００８３】
例えば図９に示す例では、通常時においては、コンパレータ１４８のしきい値はＡ１に設定されており、±ａのオフセットが存在する。このオフセット範囲２ａに対応する位相範囲はθ１となる。一方、電流増大時においては、光源１２１の光量が増大するので振幅が増大する。その結果、受光信号のオン、オフの変わり目の領域では、波形の傾斜が通常時に比べて急峻となり、しきい値のオフセット範囲２ａに対応する位相範囲はθ１よりも小さいθ２となる。つまり、受光素子のオン、オフの特定が不安定となる領域を減少させ、受光素子のオン、オフを安定して特定できる領域を増大することができる。
【００８４】
なお、前述のように、絶対位置特定部１４１はしきい値可変部１４９を有する。しきい値可変部１４９は、モータＭの絶対位置を測定するタイミング（例えばエンコーダ１００の電源投入時）に、コンパレータ１４８のしきい値を所定の値よりも増大させ、モータＭの回転後にしきい値を所定の値に戻すように変更する。図９に示す例では、通常時はコンパレータ１４８のしきい値はＡ１（所定の値の一例）に設定されており、電流増大時はしきい値可変部１４９によりＡ１より大きなＡ２に増大される。なお、しきい値可変部１４９は、しきい値を所定の値となるように可変させる手段の一例に相当する。
【００８５】
一方、図６に示すように、第１位置特定部１４２は、受光アレイＰＩ１からの４つの位相それぞれの低インクリメンタル信号のうち、１８０°位相差の低インクリメンタル信号同士を相互に減算する。このように１８０°位相差のある信号を減算することで、１ピッチ内の反射スリットの製造誤差や測定誤差などを相殺可能である。上述のように減算された結果の信号を、ここでは「第１インクリメンタル信号」及び「第２インクリメンタル信号」という。この第１インクリメンタル信号及び第２インクリメンタル信号は相互に電気角で９０°の位相差を有する（単に「Ａ相信号」、「Ｂ相信号」などという。）。そこで、この２つの信号から、第１位置特定部１４２は、１ピッチ内の位置を特定する。この１ピッチ内の位置の特定方法は、特に限定されない。例えば、周期信号である低インクリメンタル信号が正弦波信号である場合には、上記特定方法の例として、Ａ相及びＢ相の２つの正弦波信号の除算結果をａｒｃｔａｎ演算することにより電気角φを算出する方法がある。あるいは、トラッキング回路を用いて２つの正弦波信号を電気角φに変換する方法もある。あるいは、予め作成されたテーブルにおいてＡ相及びＢ相の信号の値に対応付けられた電気角φを特定する方法もある。なおこの際、第１位置特定部１４２は、好ましくは、Ａ相及びＢ相の２つの正弦波信号を各検出信号毎にアナログ−デジタル変換する。
【００８６】
第２位置特定部１４３は、受光アレイＰＩ２からの高インクリメンタル信号について、上述した第１位置特定部１４２と同様の処理を行い、２つの信号から１ピッチ内の高精度な位置を特定する。
【００８７】
位置データ算出部１４７は、絶対位置特定部１４１により特定された絶対位置に、第１位置特定部１４２により特定された第１位置データを重畳する。これにより、アブソリュート信号に基づく絶対位置よりも高分解能な絶対位置を算出することができる。本実施形態では、この算出された絶対位置の分解能が、ピッチの短いスリットトラックＳＩ２のスリット数と一致する。すなわち、この例では算出された絶対位置の分解能はアブソリュート信号に基づく絶対位置の分解能の２倍となる。さらに、位置データ算出部１４７は、この低インクリメンタル信号に基づいて算出された絶対位置に、第２位置特定部１４３により特定された第２位置データを重畳する。これにより、低インクリメンタル信号に基づいて算出された絶対位置よりもさらに高分解能な絶対位置を算出することができる。そして、位置データ算出部１４７は、このようにして算出した絶対位置を逓倍処理して分解能をさらに向上させ、高精度な絶対位置を表す位置データを生成する。このように、分解能が相異なる複数の位置データから高分解能な絶対位置を特定する方法を、ここでは「積上げ方式」という。
【００８８】
位置データ生成部１４０は、このようにして生成された高精度な絶対位置を表す位置データを、制御装置ＣＴへ出力する。
【００８９】
＜３．本実施形態による効果の例＞
以上説明した実施形態では、信号選択部１４４が、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２からの２つの受光信号に基づいて、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２からの２つの受光信号のいずれか一方を選択する。これにより、ディスク１１０とシャフトＳＨに偏心が存在したり、光学モジュールが１２０例えば光軸を中心とする回転方向に傾いて設置された場合等に生じる、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２からの２つの受光信号の位相ずれを考慮した上で、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２からの受光信号を選択することができる。したがって、上記のようにディスク１１０とシャフトＳＨに偏心が存在したり、光学モジュールが１２０例えば光軸を中心とする回転方向に傾いて設置されたような場合でも、絶対位置の検出誤差を低減でき、位置データの信頼性を向上することができる。
【００９０】
また、本実施形態では特に、位相範囲特定部１４６が第１位相範囲と第２位相範囲を特定する。そして、信号選択部１４４は、受光アレイＰＩ１からの受光信号の位相が第１位相範囲である場合には受光アレイＰＡ１の受光信号を選択し、第２位相範囲である場合には受光アレイＰＡ２の受光信号を選択する。第１位相範囲は、受光アレイＰＡ１の受光信号が受光アレイＰＡ２よりも振幅が安定する範囲である。また、第２位相範囲は、受光アレイＰＡ２の受光信号が受光アレイＰＡ１よりも振幅が安定する範囲である。これにより、検出パターンの変化点等の振幅が不安定な領域でない方の受光信号を使用して絶対位置を特定することができるので、検出精度を向上することができる。
【００９１】
また、位相範囲特定部１４６は、第１位相範囲と第２位相範囲を受光アレイＰＩ１，ＰＩ２からの２つの受光信号に基づいて特定する。これにより、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２からの２つの受光信号の位相ずれを考慮した上で各位相範囲を特定することができる。したがって、上記のようにディスク１１０とシャフトＳＨに偏心が存在したり、光学モジュールが１２０例えば光軸を中心とする回転方向に傾いて設置されたような場合でも、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２のうち振幅が安定した領域である方の受光信号を使用して絶対位置を特定することができる。その結果、絶対位置の検出誤差を低減でき、位置データの信頼性を向上することができる。
【００９２】
また、本実施形態では特に、位相差算出部１４５が、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２からの２つの受光信号の位相差Δθを算出し、この位相差Δθに基づいて、受光アレイＰＡ１の受光信号の受光アレイＰＩ１の受光信号に対する第１位相差Δθ１と、受光アレイＰＡ２の受光信号の受光アレイＰＩ１の受光信号に対する第２位相差Δθ２を算出する。これにより、位相範囲特定部１４６は、算出された第１位相差Δθ１と第１基準位相範囲、あるいは、算出された第２位相差Δθ２と第２基準位相範囲を用いることで、第１位相範囲及び第２位相範囲を正確に特定することができる。したがって、絶対位置の検出誤差を低減でき、位置データの信頼性を向上することができる。
【００９３】
また、本実施形態では特に、エンコーダ１００が、受光アレイＰＩ１と、該受光アレイＰＩ１に対応したスリットトラックＳＩ１よりもピッチの短いインクリメンタルパターンを有するスリットトラックＳＩ２で反射した光を受光するように構成された受光アレイＰＩ２とを有する。つまり、エンコーダ１００は、ピッチが比較的長いスリットトラックＳＩ１に対応する低分解能の受光アレイＰＩ１と、ピッチが比較的短いスリットトラックＳＩ２に対応する高分解能の受光アレイＰＩ２とを有する。これにより、分解能が相異なる複数の位置データから高分解能な絶対位置を特定するいわゆる「積上げ方式」により高分解能な絶対位置を表す位置データを生成することが可能となるので、高い分解能を実現することができる。
【００９４】
また、本実施形態では特に、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２，ＳＩ１，ＳＩ２が有する各スリットは、光源１２１より出射された光を反射するように構成され、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２，ＰＩ１，ＰＩ２は、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２，ＳＩ１，ＳＩ２で反射した光をそれぞれ受光するように構成される。このように、エンコーダ１００を反射型のエンコーダとして構成することで、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２，ＰＩ１，ＰＩ２を光源１２１に近接して配置することが可能となるので、エンコーダ１００を小型化できる。
【００９５】
また、本実施形態では特に、次のような効果を得る。仮に、光源１２１へ印加される電流を可変させる構成としない場合、次のような可能性がある。つまり、前述のように、受光アレイＰＩ１の受光信号の１周期中に第１位相範囲と第２位相範囲のどちらにも含まれない不安定領域が存在する場合に、例えばモータ回転時であれば、それ以前の位置データを蓄積しておき、不安定領域である場合には当該蓄積された位置データを用いる等により、位置データの信頼性を維持することが可能である。しかし、例えばエンコーダ１００の電源投入時には、蓄積された位置データが存在しないので、電源投入時に受光アレイＰＩ１の受光信号の位相が不安定領域となる場合、絶対位置に検出誤差が生じる可能性がある。
【００９６】
本実施形態では、電流可変部１５０が、エンコーダ１００の電源投入時に光源１２１へ印加される電流を所定の電流値よりも増大させ、モータＭの回転後は電流が所定の電流値となるように可変させる。このようにして、電源投入時に一時的に光源１２１の光量を増大させて受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の受光信号の振幅を増大させることにより、受光素子のオン、オフを安定して特定できる領域を拡大することができる。その結果、電源投入時に受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の受光信号のオン、オフの特定が不安定となる可能性を低減でき、絶対位置の検出誤差を低減することができる。
【００９７】
また、本実施形態では特に、しきい値可変部１４９が、エンコーダ１００の電源投入時にコンパレータ１４８のしきい値を所定の値よりも増大させ、モータＭの回転後にしきい値を所定の値となるように可変させる。これにより、エンコーダ１００の電源投入時に光源１２１へ印加される電流が増大された際でも、各受光素子について検出、未検出を正確に判定することができる。したがって、電源投入時の絶対位置の検出誤差を低減できる。
【００９８】
また、本実施形態では特に、２つの受光アレイＰＩ１，ＰＩ２は、光源１２１を挟むように幅方向Ｒに互いにオフセットした位置に配置され、２つの受光アレイＰＡ１，ＰＡ２は、２つの受光アレイＰＩ１，ＰＩ２を挟むように、幅方向Ｒに互いにオフセットした位置に配置される。これにより、次のような効果を得る。
【００９９】
光源１２１としてＬＥＤ等を用いた場合、光源１２１は指向性が強い配光特性を有する場合がある。この場合、光源１２１の周囲における近傍領域では、反射光の光量（光強度）が比較的大きく変化するが、その外側の領域では、反射光の光量変化が比較的小さくなる。そして、アブソリュート信号を出力する２つの受光アレイＰＡ１，ＰＡ２では、複数の受光素子それぞれの検出又は未検出によるビットパターンが絶対位置を一義に表すことになる。このような信号の性質上、各受光素子の受光量がばらつくと絶対位置の誤検出が生じやすくなるので、各受光素子の受光量は均一であることが望ましく、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２は光量変化が小さな領域に配置されるのが好ましい。本実施形態では、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２が受光アレイＰＩ１，ＰＩ２を挟むように配置される。これにより、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２を光源１２１より離隔させ、上述の光量変化が小さい領域に配置することが可能となる。その結果、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２が出力する受光信号の信頼性を向上できる。
【０１００】
前述のように、アブソリュート信号を出力する２つの受光アレイＰＡ１，ＰＡ２では、複数の受光素子それぞれの検出又は未検出によるビットパターンが絶対位置を一義に表すことになる。一方、インクリメンタル信号を出力する受光アレイＰＩ１，ＰＩ２では、位相が対応する複数の受光素子による検出信号が加算されて１ピッチ内の位置が表される。このような信号の性質上、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２では、ノイズが平均化されてノイズに対する耐性が比較的高くなるのに対し、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２では十分な受光量が必要となり、且つ、ノイズに対する耐性が比較的低くなる。そして、光源１２１としてＬＥＤ等を用いた場合、光源近傍には時間的変動のない直流的ノイズ光が発生する。本実施形態では、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２が受光アレイＰＩ１，ＰＩ２を挟むように配置される。これにより、ノイズに対する耐性が高い受光アレイＰＩ１，ＰＩ２を光源１２１に近接した位置に配置しつつ、ノイズに対する耐性が低い受光アレイＰＡ１，ＰＡ２を光源１２１から離れた位置に配置することができるので、上記直流的ノイズ光によるノイズの影響を最低限に抑えることができる。
【０１０１】
＜４．変形例＞
以上、添付図面を参照しながら一実施の形態について詳細に説明した。しかしながら、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範囲は、ここで説明した実施の形態に限定されるものではない。本実施形態の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、技術的思想の範囲内において、様々な変更や修正、組み合わせなどを行うことに想到できることは明らかである。従って、これらの変更や修正、組み合わせなどが行われた後の技術も、当然に技術的思想の範囲に属するものである。
【０１０２】
各受光アレイの配置は、上記実施形態の配置に限定されない。つまり、インクリメンタルパターンに対応する２つの受光アレイＰＩ１，ＰＩ２が、幅方向Ｒにオフセットして配置された構成であれば、上記実施形態以外の配置としてもよい。
【０１０３】
例えば、上記実施形態では、受光アレイＰＩ１が受光アレイＰＩ２よりも内周側に配置される場合を一例として説明したが、例えば図１０に示すように、受光アレイＰＩ１が受光アレイＰＩ２よりも外周側に配置されてもよい。図示は省略するが、この場合、ディスク１１０では、４本のスリットトラックが幅方向Ｒの内側から外側に向けて、ＳＡ１，ＳＩ２，ＳＩ１，ＳＡ２の順に配置されることになる。高インクリメンタル信号の偏心に対するロバスト性を高める場合には、上記実施形態の構成をとり、低インクリメンタル信号の偏心に対するロバスト性を高める場合には、当該構成をとることが望ましい。
【０１０４】
また例えば、上記実施形態では、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２が受光アレイＰＩ１，ＰＩ２を挟むようにその外側に配置された場合を一例として説明したが、例えば図１１に示すように、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２が受光アレイＰＡ１，ＰＡ２を挟むようにその外側に配置されてもよい。この場合には、次のような効果が得られる。つまり、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２から出力される受光信号は、最終的な絶対位置の基礎となる信号であるので、精度向上には正確性及び応答性が求められる。従って、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の配置位置は精度向上において重要な要因となる。本実施形態では、受光アレイＰＩ１，ＰＩ２が受光アレイＰＡ１，ＰＡ２を挟むように配置されるので、比較的大きな影響を絶対位置の精度に与える受光アレイＰＡ１，ＰＡ２を、光源１２１に近接させることができる。その結果、応答性を向上させることができ、ひいては、絶対位置の精度を向上させることができる。
【０１０５】
なお、図１１に示す場合において、受光アレイＰＩ１が受光アレイＰＩ２よりも外周側に配置されてもよい。
【０１０６】
また例えば、上記実施形態では、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２が幅方向Ｒにオフセットして配置されて２つのトラックとして構成される場合を一例として説明したが、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の配置構成はこれに限定されない。例えば、図１２に示すように、２つの受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の各々を構成する受光素子Ｐ１，Ｐ２が測定方向Ｃに沿って交互に配置されることにより、２つの受光アレイＰＡ１，ＰＡ２が単一トラックの受光アレイＰＡとして構成されてもよい。
【０１０７】
この例では、受光素子Ｐ１の配置ピッチ及び受光素子Ｐ２の配置ピッチは共に、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２の反射スリットの測定方向Ｃにおける最小長さ（ピッチＰ１）に対応しており（投影された像における最小長さ。すなわちε×Ｐ１。）、各受光素子Ｐ１，Ｐ２の測定方向Ｃにおける長さはε×Ｐ１の半分と一致する。これにより、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２同士が測定方向Ｃに１ビットの１／２の長さ（ピッチＰ１の半分に相当）だけオフセットされることとなり、上述の実施形態と同様に、スリットトラックＳＡ１による絶対位置がビットパターンの変わり目に相当する場合には、スリットトラックＳＡ２からの検出信号を使用して絶対位置を算出したり、その逆を行うことが可能である。
【０１０８】
なお、図示は省略するが、この場合、ディスク１１０では、３本のスリットトラックが幅方向Ｒの内側から外側に向けて、ＳＩ１，ＳＡ，ＳＩ２の順に配置されることになる。スリットトラックＳＡは、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２のいずれか一方と同様の構成である。
【０１０９】
本変形例では、２つの受光アレイＰＡ１，ＰＡ２が、当該２つの受光アレイＰＡ１，ＰＡ２の各々を構成する受光素子Ｐ１，Ｐ２が交互に配置されることにより、単一の受光アレイＰＡとして構成される。これにより、スリットトラックＳＡ及び受光アレイＰＡをいずれも１本のトラックとして構成することができるので、ディスク１１０及び光学モジュール１２０、ひいてはエンコーダ１００を小型化することができる。
【０１１０】
また、上記実施形態では、幅方向Ｒに互いにオフセットして配置された２つの受光アレイＰＩ１，ＰＩ２が、互いにピッチの異なるスリットトラックＳＩ１，ＳＩ２で反射した光を受光し、異なる分解能の位置データを出力するように構成したが、２つの受光アレイの構成はこれに限定されるものではない。例えば、２つの受光アレイＰＩ１，ＰＩ２が、互いにピッチの等しいスリットトラックで反射した光を受光し、等しい分解能の位置データを出力するように構成してもよい。
【０１１１】
また、上記実施形態では、光源と受光アレイとがディスク１１０のスリットトラックに対し同じ側に配置された、いわゆる反射型エンコーダである場合を例にとって説明したが、これに限定されない。すなわち、光源と受光アレイとがディスク１１０を挟んで反対側に配置された、いわゆる透過型エンコーダであってもよい。この場合、ディスク１１０において、スリットトラックＳＡ１，ＳＡ２，ＳＩ１，ＳＩ２の各スリットを透過スリットとして形成する、あるいは、スリット以外の部分をスパッタリング等により粗面としたり透過率の低い材質を塗布したりすることで形成してもよい。本変形例においては、光源１２１と、受光アレイＰＡ１，ＰＡ２，ＰＩ１，ＰＩ２とが、ディスク１１０を挟んで対向配置されるが、本変形例における光学モジュール１２０は、このように別体として形成された光源と受光アレイとを含む。このような透過型エンコーダを用いた場合も、上記実施形態と同様の効果を得る。
【符号の説明】
【０１１２】
１００              エンコーダ
１１０              ディスク
１２１              光源
１４０              位置データ生成部（位置データを生成する手段の一例）
１４４              信号選択部（選択する手段の一例）
１４５              位相差算出部（算出する手段の一例）
１４６              位相範囲特定部（特定する手段の一例）
１４８              コンパレータ（比較する手段の一例）
１４９              しきい値可変部（しきい値を可変させる手段の一例）
１５０              電流可変部（電流を可変させる手段の一例）
Ｃ                  測定方向
ＣＴ                制御装置
Ｍ                  モータ
ＰＡ１，ＰＡ２      受光アレイ（第２受光アレイの一例）
ＰＩ１，ＰＩ２      受光アレイ（第１受光アレイの一例）
Ｓ                  サーボシステム
ＳＡ１              スリットトラック（第２スリットトラックの一例）
ＳＡ２              スリットトラック（第２スリットトラックの一例）
ＳＨ                シャフト（回転体の一例）
ＳＩ１              スリットトラック（第１スリットトラックの一例）
ＳＩ２              スリットトラック（第１スリットトラックの一例）
ＳＭ                サーボモータ（エンコーダ付きモータの一例）
【図１】
2015200613.tif 000003
【図２】
2015200613.tif 000004
【図３】
2015200613.tif 000005
【図４】
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【図５】
2015200613.tif 000007
【図６】
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【図７】
2015200613.tif 000009
【図８】
2015200613.tif 000010
【図９】
2015200613.tif 000011
【図１０】
2015200613.tif 000012
【図１１】
2015200613.tif 000013
【図１２】
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