(57)【要約】【課題】広い額縁領域が規定される場合にも、製造コストの増加を招くことなく、パドリングおよび基板間のギャップ不良の発生を抑制することが可能な技術を提供することを目的とする。【解決手段】液晶表示装置は、互いに対向する一対のＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の間において、表示領域１００を囲むように配置されるシールパターン２とを備えている。シールパターン２は、平面視で、表示領域１００の周辺部と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に跨って、かつ両周辺部の間に空隙領域１０１ｂを形成しつつ、連続的に形成される。【選択図】図１
2015210414.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する一対の基板を備え、
前記一対の基板には、平面視において、
表示領域と、
前記表示領域と前記一対の基板の端との間の額縁領域とが規定され、
前記一対の基板の間において、前記表示領域を囲むように配置されるシールパターンをさらに備え、
前記シールパターンは、平面視で、前記表示領域の周辺部と、前記一対の基板の端の周辺部とに跨って、かつ前記両周辺部の間に空隙を形成しつつ、連続的に形成される、液晶表示装置。
【請求項２】
前記シールパターンの前記空隙は、外部に開放された開口部を備える、請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記一対の基板の表面側に配置され、かつ、前記表示領域に対応する開口を有するフロントフレームをさらに備え、
前記シールパターンは、前記フロントフレームの端部を跨いで、前記表示領域と前記一対の基板の端に交互に近接するジグザグ形状に形成される、請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記液晶表示装置は、前記開口部に配置される切断補助パターンをさらに備える、請求項２記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記一対の基板間の距離を一定範囲に保持するスペーサ材をさらに備え、
前記切断補助パターンは前記スペーサ材と同時に形成される、請求項４記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記開口部は、入口を窄めた形状に形成される、請求項２記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記額縁領域は、自身を構成する４つの辺のうち相対的に広い幅を有する辺を備え、
前記シールパターンは、前記額縁領域における相対的に広い幅を有する辺に対し、前記表示領域の周辺部に配置される第１シールパターンと、前記一対の基板の端の周辺部に配置される第２シールパターンとを備える、請求項１記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、製造コストの増加を招くことなく、パドリングおよび基板間のギャップ不良の発生を抑制することが可能な液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置では、駆動回路が一体化される場合または製品の仕様などによって、特定の辺において表示領域と基板端との間の距離が大きく(額縁領域が広く)なる場合がある。この場合、該当する辺において、シールパターンを表示領域の周辺部に配置し基板端から距離をあけると切断不良を生じ易くなる。逆に基板端の周辺部にシールパターンを配置すると、シールパターンと表示領域との間にセルギャップ保持の弱くなる領域が比較的広く形成されることになり、この領域でギャップ不良が発生し易くなる。
【０００３】
さらに、この領域にはフロントフレームの端部が配置されるが、フロントフレームを介した外的振動が、この領域に伝達されて発生する動的なギャップ不良であるパドリングが問題となっている。
【０００４】
このような問題に対して、例えば特許文献１には、セルギャップ保持の弱い部分、特にフロントフレームの端部が配置され、フロントフレームによる保持圧力が加わる部分における液晶パネルのシールパターンの周辺部の外側にダミーシールを配置することで、ギャップ不良の改善を図る方法が開示されている。
【０００５】
また、例えば特許文献２には、特に額縁領域が広く形成される液晶パネルにおいて、額縁領域が広く形成されセルギャップ保持の弱い領域に対応して、シールパターンの内側の表示領域にダミーシールを配置して補強する方法が開示されている。さらに、特許文献２には、シールパターンにおける注入口を形成する注入口引出しパターンについて、比較的距離が大きくなる表示領域と基板端との間において、表示領域の周辺部から基板端まで延在させることで、注入口引出しパターンを利用して補強する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−１００２２６号公報
【特許文献２】特開２００１−５１２８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、滴下注入プロセスを用いた場合、または、比較的大きな液晶パネルなどの製造プロセスでも汎用される方式であるシールを吐出するノズルを移動させてシールパターンを形成するディスペンサ方式で行う場合、メインシールパターンに追加してダミーシールを別途配置することは、処理タクトの増加と、それに伴う製造コストの増加につながる。
【０００８】
また、特許文献２に記載の方法では、ダミーシールを別途配置する場合、特許文献１の場合と同様の問題を発生する。注入口引出しパターンを長く形成する場合は、液晶が液晶パネル内に引き込まれる際の入口付近の経路として狭い経路が長く続くことでコンダクタンスが低くなり、注入時間のタクト増加と、それに伴う製造コストの増加につながる。
【０００９】
また、一般的には、広い額縁領域となる辺は、駆動回路または端子部への引き出しパターンの形成される辺に対応する場合が多く、何れにしても端子部の形成される辺であり注入口の設けられない辺である。したがって、注入口引出しパターンを長く形成する方法は、広い額縁領域となる辺を補強するために用いることができない場合が多い。つまり、広い額縁領域において発生する問題に対して抜本的な解決策とならない。
【００１０】
そこで、本発明は、広い額縁領域が規定される場合にも、製造コストの増加を招くことなく、パドリングおよび基板間のギャップ不良の発生を抑制することが可能な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る液晶表示装置は、互いに対向する一対の基板を備え、前記一対の基板には、平面視において、表示領域と、前記表示領域と前記一対の基板の端との間の額縁領域とが規定され、前記一対の基板の間において、前記表示領域を囲むように配置されるシールパターンをさらに備え、前記シールパターンは、平面視で、前記表示領域の周辺部と、前記一対の基板の端の周辺部とに跨って、かつ前記両周辺部の間に空隙を形成しつつ、連続的に形成されるものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、液晶表示装置は、互いに対向する一対の基板を備え、一対の基板には、平面視において、表示領域と、表示領域と一対の基板の端との間の額縁領域とが規定され、一対の基板の間において、表示領域を囲むように配置されるシールパターンをさらに備え、シールパターンは、平面視で、表示領域の周辺部と、一対の基板の端の周辺部とに跨って、かつ両周辺部の間に空隙を形成しつつ、連続的に形成される。
【００１３】
一般に液晶表示装置においては、一対の基板の前面側にフロントフレームが配置され、フロントフレームの端部が一対の基板の額縁領域に位置する。シールパターンは、平面視で、表示領域の周辺部と、一対の基板の端の周辺部とに跨って、かつ両周辺部の間に空隙を形成しつつ、連続的に形成されるため、一対の基板において、フロントフレームの端部に対応する領域はシールパターンによって保持され、広い額縁領域が規定される場合にも、パドリングおよび基板間のギャップ不良の発生を抑制できる。また、ダミーシールの追加などの新たな工程を追加する必要がないことから、製造コストの増加を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施の形態に係る液晶表示装置のシールパターンの一例を示す図である。
【図２】実施の形態に係る液晶表示装置のシールパターンの他の例を示す図である。
【図３】実施の形態の変形例に係る液晶表示装置のシールパターンの一例を示す図である。
【図４】実施の形態の変形例に係る液晶表示装置のシールパターンの他の例を示す図である。
【図５】実施の形態に係る液晶表示装置の液晶パネルの平面図である。
【図６】図５のA-A線断面図である。
【図７】液晶パネルの組み立て工程を示すフローチャートである。
【図８】前提技術に係る液晶表示装置のシールパターンの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
＜実施の形態＞
（液晶パネルの概略構成）
本発明の実施の形態について、図面を用いて以下に説明する。図１は、実施の形態に係る液晶表示装置のシールパターン２の一例を示す図であり、液晶表示装置のコーナー部を拡大した平面図である。
【００１６】
図１に示すように、液晶表示装置は、液晶パネル１０と、フロントフレーム１とを備えている。液晶パネル１０は、カラーフィルタ基板（以下「ＣＦ基板」という）１２０と、ＴＦＴアレイ基板（以下「ＴＦＴ基板」という）１１０（図６参照）と、シールパターン２とを備えている。ここで、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０は互いに対向する位置に配置され、具体的には、ＴＦＴ基板１１０はＣＦ基板１２０の裏面側に配置されている。図１ではＴＦＴ基板１１０について図示が省略されており、その詳細については後述する。
【００１７】
ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０には、平面視において、表示領域１００と額縁領域１０１とが規定されている。表示領域１００は、平面視において、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の中央部分に規定され、額縁領域１０１は、表示領域１００と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端との間に配置されている。また、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の表面側（より具体的にはＣＦ基板１２０の表面側）には、フロントフレーム１が配置されている。フロントフレーム１は、表示領域１００に対応する開口１ａを備えており、ＣＦ基板１２０の表面側にフロントフレーム１が配置された状態で、表示領域１００が露出している。
【００１８】
シールパターン２は、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間において、表示領域１００を囲むように額縁領域１０１に配置されている。額縁領域１０１は、４つの辺で構成されており、相対的に広い幅を有する辺（広い額縁領域）と、相対的に狭い幅を有する辺が存在する。額縁領域１０１を構成する４つの辺のうち相対的に広い幅を有する辺において、シールパターン２は、次に説明する形状に形成されている。
【００１９】
シールパターン２は、平面視で、表示領域１００の周辺部と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に跨って、かつ両周辺部の間に空隙領域１０１ｂ（空隙）を形成しつつ、連続的（一筆書き状）に形成されている。より具体的には、シールパターン２は、フロントフレーム１の端部を跨いで、表示領域１００と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端に交互に近接するジグザグ形状に形成されている。
【００２０】
他方、額縁領域１０１を構成する４つの辺のうち相対的に狭い幅を有する辺において、シールパターン２は、表示領域１００の周辺部と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部の間に直線状に形成されている。ここで、例えば相対的に広い幅を有する辺が２つ以上存在する場合、シールパターン２は、これらの辺に対してジグザグ形状に形成されていてもよいし、相対的に狭い幅を有する辺に対してもジグザグ形状に形成されていてもよい。
【００２１】
額縁領域１０１は、シールパターン２によって、液晶領域１０１ａと、空隙領域１０１ｂに分割されている。液晶領域１０１ａは、液晶が封入される領域であり、シールパターン２の内側（表示領域１００側）に規定されている。空隙領域１０１ｂは、液晶が封入されない領域であり、シールパターン２の外側（ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端側）に規定されている。
【００２２】
シールパターン２には、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間を保持するキャップ材として、スペーサまたはマイクロロッドなどが混入されている。シールパターン２の具体的な形成方法としては、後にも説明を追記するが、例えば、ディスペンサ方式でシールパターン２を形成する際に、シールパターン２の描き方(ディスペンサノズルの動作)をジグザグにするとよい。
【００２３】
また、シールパターン２の空隙領域１０１ｂは、ジグザグ形状に形成された部分において、外部に開放された開口部３を複数備え、開口部３の入口には切断補助パターン４がそれぞれ配置されている。切断補助パターン４は、額縁領域１０１に多数配置され、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間の距離を一定範囲に保持するスペーサ材である柱状スペーサ１３４（図６参照）と同時に形成される。ここで、開口部３は、液晶パネル１０の製造時に空気の逃し口としての機能を有するため、ある方が望ましい。
【００２４】
なお、切断補助パターン４を設ける代わりに、シールパターン２のジグザグ形状を若干変形することも可能である。図２は、液晶表示装置のシールパターン２の他の例（液晶パネル１０Ａ）を示す図である。図２に示すように、シールパターン２は、平面視において、Ω形状に形成されている。すなわち、シールパターン２の開口部３は、入口を窄めた形状に形成されている。これにより、切断補助パターン４の配置を省略することが可能である。
【００２５】
＜変形例＞
次に、実施の形態の変形例に係る液晶表示装置について説明する。図３は、実施の形態の変形例に係る液晶表示装置のシールパターン２の一例（液晶パネル１０Ｂ）を示す図である。
【００２６】
実施の形態の変形例において、額縁領域１０１を構成する４辺のうち相対的に広い幅を有する辺に配置されるシールパターン２は、平面視において、内側部分と外側部分の二重に形成されている。
【００２７】
図３に示すように、シールパターン２は、第１シールパターン５と、第２シールパターン６とを備えている。第１シールパターン５は、表示領域１００の全周に渡って表示領域１００の周辺部に配置されている。より具体的には、第１シールパターン５は、フロントフレーム１の端部に対応する位置、または当該位置よりも内側に配置されている。
【００２８】
第２シールパターン６は、額縁領域１０１を構成する４辺のうち相対的に広い幅を有する辺において、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に配置されている。第２シールパターン６の一端は第１シールパターン５に接続され、第２シールパターン６の他端は開放されており、第１シールパターン５と第２シールパターン６との間に空隙領域１０１ｂが形成されている。これにより、シールパターン２は、平面視で、表示領域１００の周辺部と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に跨って、かつ両周辺部の間に空隙領域１０１ｂ（空隙）を形成しつつ、連続的（一筆書き状）に形成されている。
【００２９】
次に、額縁領域１０１を構成する４辺のうち相対的に広い幅を有する辺が２つ存在する場合について説明する。図４は、実施の形態の変形例に係る液晶表示装置のシールパターン２の他の例（液晶パネル１０Ｃ）を示す図である。
【００３０】
図４に示すように、額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する２つの辺は隣接しており、第２シールパターン６は、額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する２つの辺に跨って配置されている。相対的に広い幅を有する２つの辺のうち１つの辺において、第２シールパターン６の一端は第１シールパターン５に接続され、第２シールパターン６の他端は開放されている。このため、第１シールパターン５と第２シールパターン６の間に空隙領域１０１ｂが形成され、空隙領域１０１ｂの開口部３は１辺のみに形成されている。この場合も、シールパターン２は、平面視で、表示領域１００の周辺部と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に跨って、かつ両周辺部の間に空隙領域１０１ｂ（空隙）を形成しつつ、連続的（一筆書き状）に形成されている。
【００３１】
なお、額縁領域１０１を構成する４辺のうち相対的に広い幅を有する辺が互いに対向する場合、図４に示すシールパターン２を連続的（一筆書き状）に形成することができないため、図１または図２に示すシールパターン２を相対的に広い幅を有する２辺に形成すればよい。
【００３２】
（液晶パネルの全体構成）
次に、液晶表示装置を構成する液晶パネルの全体構成について説明する。なお、発明の特徴部分となる額縁領域１０１でのシールパターン２の形状については図１の例で説明を行うことにする。先ず、液晶表示装置を構成する液晶パネル１０の構成について図５と図６を用いて説明する。図５は、液晶表示装置の液晶パネル１０の平面図であり、図６は、図５のA-A線断面図である。ここでは、一例としてＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）方式の液晶パネルについて説明を行うことにする。
【００３３】
図５と図６に示すように、液晶パネル１０は、ＴＦＴ基板１１０と、ＣＦ基板１２０と、シールパターン２とを備えている。ＴＦＴ基板１１０には、スイッチング素子としてＴＦＴがアレイ状に配置され、ＣＦ基板１２０には、カラーフィルタなどが形成されている。
【００３４】
シールパターン２は、ＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０との間における、少なくとも表示領域１００を囲うように額縁領域１０１に設けられ、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間の間隙を密封している。ここで、表示領域１００は、液晶パネル１０が動作した際に画像を表示する表示面に対応する領域である。
【００３５】
特にシールパターン２については、図１を用いて詳細説明を行ったとおり、本発明の特徴的な構成として、特に額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する辺（図５において紙面の下側に位置する辺）において、表示領域１００と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端に交互に近接するジグザグ形状に形成されている。
【００３６】
なお、表示領域１００および額縁領域１０１は、ＴＦＴ基板１１０上、ＣＦ基板１２０上、またはＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間に挟まれる領域の全てが使用され、本明細書中においては同様である。
【００３７】
さらに、表示領域１００内には、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間に一定範囲の間隙を形成し保持する柱状スペーサ１３４が多数配置されている。また、柱状スペーサ１３４は、額縁領域１０１においても設けるとよく、その場合には、額縁領域１０１とその周辺部において、一定範囲の間隙を形成し保持することができる。
【００３８】
また、本発明の特徴的な構成として、ジグザグ形状に形成されるシールパターン２が配置される辺においてＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端に沿って、柱状スペーサ１３４と同一材料からなる切断補助パターン４が配置されている。特に、この切断補助パターン４は、ジグザグ形状のシールパターン２が基板端から離れて配置される部分（つまり、図１における空隙領域１０１ｂの開口部３）を埋めるように配置されることになる。また、切断補助パターン４は柱状スペーサ１３４と同一材料からなることから、同時に（同じ成膜工程と同じパターニング工程を経て）形成することができ、特に製造工程などを増やすことなく、通常の製造工程と変わらない製造工程によって形成することが可能である。
【００３９】
液晶（液晶材料）が、シールパターン２によって密封されるとともに、柱状スペーサ１３４によって保持されたＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間の間隙の少なくとも表示領域１００に対応する領域に液晶材料が狭持されることで、液晶層１３０が形成されている。ここでは、液晶材料として一般的なＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）タイプの液晶材料が用いられている。また、液晶材料は、表示領域１００に対応する領域に加えて、ジグザグ形状のシールパターン２の内側領域まで封入されており、当該領域まで液晶層１３０が形成されることになる。
【００４０】
また、シールパターン２には、液晶材料を注入するための開口部である注入口１３ａが設けられ、注入口１３ａは、封止材１３ｂによって封止されている。換言すると、液晶材料は、シールパターン２によって囲まれる領域に封止されている。注入口１３ａと、対応して設けられる封止材１３ｂは、シールパターン２のどの位置に設けてもよく、複数設けてもよい。一般的には、平面視において、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０の端面が揃った辺に設けられることから、以降で説明する信号端子１１８が形成されるＴＦＴ基板１１０の端面は、ＣＦ基板１２０よりも突出する辺を除く辺に設けられることになる。
【００４１】
次に、ＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０について説明する。ＴＦＴ基板１１０は、透明基板である厚み０．７ｍｍ程度の一般的なガラスによって形成されたガラス基板１１１を備えている。さらに、ＴＦＴ基板１１０は、ガラス基板１１１の一方の面に液晶を配向させる配向膜１１２、配向膜１１２の下部に設けられ液晶を駆動する電圧を印加する画素電極１１３と、画素電極１１３に電圧を供給するスイッチング素子であるＴＦＴ１１４と、ＴＦＴ１１４を覆う絶縁膜１１５と、ＴＦＴ１１４に信号を供給する配線である複数のゲート配線１１６およびソース配線１１７と、ＴＦＴ１１４に供給される信号を外部から受け入れる信号端子１１８と、信号端子１１８から入力された信号を共通電極１２３へ伝達するためのトランスファ電極（図示省略）と、信号端子１１８から入力された信号をゲート配線１１６とソース配線１１７とトランスファ電極へ伝達する周辺配線１１９などを備えている。
【００４２】
図５における紙面の下側に位置する辺において、周辺配線１１９が特に広い平面的な領域を占めて配置されることから、額縁領域１０１が相対的に広く形成されることになっている。また、ガラス基板１１１の他方の面には偏光板１３１が配置されている。
【００４３】
ＣＦ基板１２０は、透明基板である厚み０．７ｍｍ程度の一般的なガラスによって形成されたガラス基板１２１を備えている。さらに、ＣＦ基板１２０は、ガラス基板１２１の一方の面に液晶を配向させる配向膜１２２と、配向膜１２２の下部に配置されＴＦＴ基板１１０上の画素電極１１３との間に電界を生じ液晶を駆動する共通電極１２３と、共通電極１２３下部に設けられるそれぞれのカラーフィルタ１２４間を遮光するため、または表示領域１００に対応する領域外側に配置される額縁領域１０１を遮光するために設けられる遮光層であるブラックマトリクス１２５（以下「ＢＭ１２５」という）などを有している。
【００４４】
ＢＭ１２５としては、一般的な樹脂性の遮光層またはクロムなどを用いた金属性の遮光層を用いることができる。また、ＣＦ基板１２０のガラス基板１２１の他方の面には偏光板１３２が配置されている。なお、配向膜１２２より下層に、カラーフィルタ１２４とＢＭ１２５を覆うように透明樹脂膜によって形成されたオーバーコート層を設ける構成としても構わない。
【００４５】
カラーフィルタ１２４としては、樹脂中に顔料などを分散させた色材層を選択でき、赤、緑または青などの特定の波長範囲の光を選択的に透過するフィルタとして機能し、これら異なる色の色材層が規則的に配列して構成される。
【００４６】
以上説明を行ったＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０は、シールパターン２を介して貼り合わされているが、それと同時にＴＦＴ基板１１０上に設けられたトランスファ電極とＣＦ基板１２０上に設けられた共通電極１２３は、トランスファ材によって電気的に接続される。それによって、ＴＦＴ基板１１０上の信号端子１１８から入力された信号がトランスファ電極とトランスファ材を介して共通電極１２３に伝達される。トランスファ材については、シールパターン２中に導電性の粒子などを混合することによって代用できることから省略することも可能である。本実施の形態でも、導電性の粒子などを混合したシールパターン２を用いたうえで、シールパターン２と共通電極１２３とが、さらにトランスファ電極とシールパターン２が、それぞれ接触される配置として、トランスファ電極と共通電極１２３についてシールパターン２を介して電気的に接続している。
【００４７】
この他に、液晶パネル１０は、駆動信号を発生する制御基板１３５と、制御基板１３５を信号端子１１８に電気的に接続するＦＦＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｆｌａｔ  Ｃａｂｌｅ）１３５と、光源となるバックライトユニット（通常は、表示面となるＣＦ基板１２０側とは反対側であるＴＦＴ基板１１０の外側に対向して配置されるが、ここでは図示せず）などを備えている。これらの部材とともに表示面となる表示領域１００におけるＣＦ基板１２０の外側の部分が開放された筐体（フロントフレーム１：図１参照）の中に収容され、本実施の形態の液晶表示装置が構成される。
【００４８】
なお、フロントフレーム１の表示領域１００に対応して設けられる開口１ａの特に液晶パネル１０上に重なって配置されるフロントフレーム１の端部については、上記で詳細に説明したとおり、表示領域１００の外形端に対して、少し外側の周辺部に配置されることになり、表示領域１００と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端との間、すなわち、額縁領域１０１において、特に表示領域１００の周辺部に位置することになる。
【００４９】
以上説明を行った液晶表示装置を構成する液晶パネル１０は、次のように動作する。例えば、制御基板１３５から電気信号が入力されると、画素電極１１３および共通電極１２３に駆動電圧が加わり、駆動電圧に合わせて液晶層１３０における液晶分子の方向が変わる。そして、バックライトユニットの発する光が、ＴＦＴ基板１１０、液晶層１３０およびＣＦ基板１２０を介して、各画素単位で観察者側に透過または遮断されることによって、液晶パネル１０の表示領域１００に映像などが表示される。
【００５０】
（液晶パネルの製造工程）
次に、液晶表示装置を構成する液晶パネル１０の製造方法の全体の流れについて説明する。ここでは、液晶パネル１０の組み立て工程の概要について、図７のフローチャートを用いて説明を行うことにする。図７は、液晶パネル１０の組み立て工程を示すフローチャートである。
【００５１】
先ず、基板準備工程において、互いに貼り合わされる前のＴＦＴ基板１１０を取り出すマザーＴＦＴ基板と、ＣＦ基板１２０を取り出すマザーＣＦ基板を準備する（ステップＳ１）。液晶パネルの薄型化または軽量化のために、厚み０．５ｍｍ以下程度までＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０を薄型化加工する場合もあるが、その場合にも、以降の工程の実施が容易となるように、途中までは、厚み０．５〜１．５ｍｍ程度のガラスによって構成されるマザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板を用いて製造される。本実施の形態では、最終的なＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０の厚みは０．７ｍｍ程度としており、薄型化加工も省略できることから、ここでは、マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板の両者ともに厚み０．７ｍｍのガラスによって構成される基板として準備される。
【００５２】
マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板の製造方法については、一般的な方法を用いて製造できるため、簡単に説明する。先ず、マザーＴＦＴ基板については、公知の製造方法を利用して、ガラス基板１１１の一方の面に、成膜、フォトリソグラフィー法によるパターンニング、およびエッチング等のパターン形成工程を繰り返し用いて、ＴＦＴ１１４と画素電極１１３、ゲート配線１１６とソース配線１１７、周辺配線１１９などの配線層、信号端子１１８、およびトランスファ電極を形成することで製造される。
【００５３】
また、マザーＣＦ基板は、ガラス基板１２１の一方の面に、同様に、成膜からパターン形成工程を繰り返し用いて、カラーフィルタ１２４、ＢＭ１２５、共通電極１２３、有機樹脂膜をパターニングして形成された柱状スペーサ１３４、および先に説明した柱状スペーサ１３４と同一材料により形成される切断補助パターン４が形成されることで製造することができる。
【００５４】
柱状スペーサ１３４と切断補助パターン４は、一般的な柱状スペーサの形成方法である感光性樹脂膜の塗布とパターニングによって形成され、具体的には、同じ感光性樹脂膜の塗布工程と同じパターニング工程を経て形成するとよい。また、切断補助パターン４は、以後に実施されるセル分断工程（ステップＳ８）でスクライブラインが形成される位置において、切断補助パターン４のパターン形状、つまり、ＣＦ基板１２０の端に沿って、特に、後に形成されるジグザグ形状のシールパターン２がＣＦ基板１２０の端（切断前の状態であれば、スクライブラインが形成される位置）から離れた配置される予定の部分に形成される。
【００５５】
続いて、基板洗浄工程において、上記の説明のように準備されたマザーＴＦＴ基板を洗浄する（ステップＳ２）。次に、配向膜材料塗布工程において、マザーＴＦＴ基板の一方の面に、配向膜材料を塗布形成する（ステップＳ３）。この工程は、例えば、印刷法によって有機膜からなる配向膜材料を塗布し、ホットプレートなどによって焼成処理し乾燥させる。その後、配向処理工程において、配向膜材料にラビングを行い、配向膜材料の表面を配向処理し配向膜１１２とする（ステップＳ４）。なお、ラビングの代わりに、その他公知の配向処理を行って配向膜１１２を形成してもよい。
【００５６】
また、ステップＳ２からステップＳ４と同様に、マザーＣＦ基板についても、洗浄、配向膜材料の塗布およびラビング等の配向処理を行うことによって配向膜１２２を形成する。続いて、シール剤塗布工程において、シールディスペンサ装置によって、ペースト状態のシール剤を吐出するディスペンサノズルを所定のシールパターン形状に合わせて移動させてマザーＴＦＴ基板またはマザーＣＦ基板の一方の面にシール剤の塗布を行い、最終的に表示領域１００を囲う形状のシールパターン２を形成する（ステップＳ５）。
【００５７】
本実施の形態では、液晶パネルの全体構成の説明部分で述べたとおり、シールパターン２に基板間導通機能を持たせることから、導電性粒子を混在させたシール剤を塗布している。また、額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する辺に形成されるシールパターン２は、ディスペンサノズルの動作を表示領域１００と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端となる位置（スクライブラインが形成される位置）に交互に近接するようなジグザグ動作させて、図６を用いて説明したジグザグ形状を有するシールパターン２を形成する。
【００５８】
続いて、基板貼り合わせ工程において、マザーＴＦＴ基板およびマザーＣＦ基板を貼り合わせてセル基板を形成する（ステップＳ６）。続いて、シール剤硬化工程において、マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板を貼り合わせた状態で、シールパターン２を構成するシール剤を完全に硬化させる（ステップＳ７）。この工程は、例えば、シール剤の材質に合わせて熱を加えること、または紫外線を照射することで行われる。なお、本実施の形態では特に行っていないが、マザーＴＦＴ基板およびマザーＣＦ基板を薄型化する際には、マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板の周辺部に対し薬液がマザー基板間に入ることを防止する周辺封止を実施したうえで、上記のステップＳ７の工程後に貼り合わされたマザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板全体を薬液中に浸漬して、マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板の表面を削り薄型化するとよい。
【００５９】
続いて、セル分断工程において、貼り合わせたマザーＴＦＴ基板およびマザーＣＦ基板を分断し、多数の個別セルに分断する（ステップＳ８）。この工程は、スクライブ工程において、ガラス基板の表面に切断の起点となるスクライブラインを形成した後、このスクライブラインの周辺部に応力を印加することで分断が行われ、多数の個別セルの状態となる。
【００６０】
本実施の形態においては、特にシールパターン２がジグザグ形状に形成されていることと、切断補助パターン４が配置されていることによって、スクライブラインの周辺部にシールパターン２と切断補助パターン４の何れかが配置されている。これらによってマザー基板が裏面で保持された状態で、スクライブライン上において、スクライブ処理がされることになり、安定して比較的均一な深さの切断傷が形成されることで、一層大きな切断不良の抑制効果が得られることになる。
【００６１】
続いて、液晶注入工程において、個別セルの注入口１３ａから液晶を注入する（ステップＳ９）。この工程は、例えば、真空注入プロセスによって、真空状態とされた真空注入装置内において、個別セルの注入口１３ａを液晶材料に接触させた状態で、徐々に装置内を大気圧とする。これにより、真空状態となったセル内に注入口１３ａから液晶材料が注入、つまり、充填されることで行われる。本実施の形態においては、ジグザグ形状のシールパターン２の内側の領域にまで、液晶材料が満たされることになるが、これらの領域についても、特に狭い部分を経ることもなく表示領域１００などの液晶材料が満たされる領域とつながっていることから、特に障害なく液晶材料を注入することができる。
【００６２】
続いて、注入口封止工程において、注入口１３ａを封止する（ステップＳ１０）。この工程は、例えば、注入口１３ａを光硬化型樹脂で封じ、光を照射することにより行われる。以上の工程によって、個別セル内に液晶材料が封入されることになる。
【００６３】
このように個々の液晶パネル１０の形状に分断され、液晶材料が充填されて封止された後、液晶材料が封入された状態の個別セル基板に対して、先ず、偏光板貼り付け工程が行われる。偏光板貼り付け工程において、ＴＦＴ基板１１０およびＣＦ基板１２０のそれぞれのセル基板外側の表面に偏光板１３１および偏光板１３２を貼り付ける（ステップＳ１１）。次に、制御基板実装工程において、制御基板１３５を実装する（ステップＳ１２）ことで、液晶パネル１０が完成する。さらに、液晶パネル１０の反視認側となるＴＦＴ基板１１０の裏面側に位相差板などの光学フィルムを介して、バックライトユニットを配設し、樹脂または金属などからなるフロントフレーム１（図１参照）内に、液晶パネル１０およびこれら周辺部材を適宜収容することで、本実施の形態に係る液晶表示装置が完成する。
【００６４】
次に、実施の形態に係る液晶表示装置から得られる効果について、前提技術に係る液晶表示装置の場合と対比しながら説明する。図８は、前提技術に係る液晶表示装置のシールパターン５２の一例を示す図である。
【００６５】
図８に示すように、前提技術に係る液晶表示装置を構成する液晶パネル５０において、シールパターン５２は、額縁領域１０１の４つの辺に対して直線状に形成されている。すなわち、シールパターン５２は、額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する辺に対しても、直線状に一重に形成されている。
【００６６】
このため、シールパターン５２を表示領域１００の周辺部に配置し、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端から距離をあけると切断不良を生じ易くなる。逆に、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部にシールパターン５２を配置すると、シールパターン５２と表示領域１００との間にセルギャップ保持の弱くなる領域が比較的広く形成されることになり、この領域でギャップ不良が発生し易くなるという問題があった。
【００６７】
これに対して、実施の形態に係る液晶表示装置は、図１に示すように、互いに対向する一対のＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０を備え、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０には、平面視において、表示領域１００と、表示領域１００とＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端との間の額縁領域１０１とが規定され、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の間において、表示領域１００を囲むように配置されるシールパターン２をさらに備え、シールパターン２は、平面視で、表示領域１００の周辺部と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に跨って、かつ両周辺部の間に空隙領域１０１ｂを形成しつつ、連続的に形成される。
【００６８】
一般に液晶表示装置においては、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の前面側にフロントフレーム１が配置され、フロントフレーム１の端部がＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の額縁領域１０１に位置する。シールパターン２は、平面視で、表示領域の周辺部と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に跨って、かつ両周辺部の間に空隙領域１０１ｂを形成しつつ、連続的に形成されるため、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０において、フロントフレーム１の端部に対応する領域はシールパターン２によって保持され、広い額縁領域（額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する辺）が規定される場合にも、パドリングおよび、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間のギャップ不良の発生を抑制できる。これにより、液晶表示装置の歩留まり向上を図ることが可能となる。
【００６９】
また、ダミーシールの追加などの新たな工程を追加する必要がないことから、製造コストの増加を抑制できる。さらに、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部にキャップ材の混入されたシールパターン２が配置されていることから、基板切断時のスクライブ処理(切断の起点となる切断傷の形成処理)の際に、切断ラインの周辺部となるＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部を裏面側から保持できる。これにより、所望のスクライブ処理を行うことができるため、切断不良の増加を抑制できる。
【００７０】
シールパターン２の空隙領域１０１ｂは、外部に開放された開口部３を備えるため、液晶パネル１０の製造時に空気の逃し口として機能し、液晶パネル１０に対して無用な力が加わることを抑制できる。
【００７１】
ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の表面側に配置され、かつ、表示領域１００に対応する開口１ａを有するフロントフレーム１をさらに備え、シールパターン２は、フロントフレーム１の端部を跨いで、表示領域１００と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端に交互に近接するジグザグ形状に形成される。
【００７２】
したがって、液晶領域１０１ａと空隙領域１０１ｂが混在する構造を滴下注入方式で形成することが可能であり、真空注入方式で形成することも可能である。また、額縁領域１０１が細かく分割されることから共振などを生じにくく、パドリングの抑制効果が大きい。
【００７３】
液晶表示装置は、開口部３に配置される切断補助パターン４をさらに備えるため、シールパターン２がＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端から離れた部分において、切断補助パターン４はＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０を裏面側から保持する。これにより、スクライブ処理において、安定して比較的均一な深さの切断傷が形成されるため、切断不良の抑制効果が一層大きくなる。
【００７４】
図６に示すように、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間の距離を一定範囲に保持する柱状スペーサ１３４をさらに備え、切断補助パターン４は柱状スペーサ１３４と同時に形成されるため、切断補助パターン４について、公知の柱状スペーサ１３４の一般的な形成方法を用いることができ、容易に形成することが可能である。
【００７５】
図２に示すように、開口部３は、入口を窄めた形状に形成されるため、シールパターン２においてＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端から離れた部分自体を減らすことができる。これにより、スクライブ処理において、安定して比較的均一な深さの切断傷が形成されるため、切断不良の抑制効果が一層大きくなる。
【００７６】
図３と図４に示すように、額縁領域１０１は、自身を構成する４つの辺のうち相対的に広い幅を有する辺を備え、シールパターン２は、額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する辺に対し、表示領域１００の周辺部に配置される第１シールパターン５と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に配置される第２シールパターン６とを備える。
【００７７】
したがって、額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する辺に対し、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端に沿って連続的にシールパターン２が配置されるため、図１の場合と比較して切断不良の抑制効果が一層大きくなる。
【００７８】
なお、本発明は、その発明の範囲内において、実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
【符号の説明】
【００７９】
１  フロントフレーム、１ａ  開口、２  シールパターン、３  開口部、４  切断補助パターン、５  第１シールパターン、６  第２シールパターン、１００  表示領域、１０１  額縁領域、１０１ｂ  空隙領域、１１０  ＴＦＴ基板、１２０  ＣＦ基板、１３４  柱状スペーサ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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