(57)【要約】【課題】偽造防止効果または優れたセキュリティ性を有する表示体を提供する。【解決手段】光学構造形成層および反射層を含む表示体であって、前記光学構造形成層が、その表面に複数の解像度領域を含み、前記複数の解像度領域が、２つの界面領域をそれぞれ含み、前記２つの界面領域のうちの一方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられており、前記一方の界面領域が、前記２つの界面領域のうちの他方の界面領域と比較して、より大きな見かけ上の面積に対する表面積の比を有し、前記他方の界面領域が、最小単位となる単位図形から構成されており、前記単位図形の見かけ上の大きさが、前記複数の解像度領域ごとに異なっており、前記反射層が、前記２つの界面領域のうち前記他方の界面領域上に選択的に形成されている、表示体である。【選択図】図１
2015121675.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学構造形成層（１６）および反射層（１８）を含む表示体（１０）であって、
前記光学構造形成層（１６）が、その表面に少なくとも１つの解像度領域を含み、
前記少なくとも１つの解像度領域が、２つの界面領域を含み、
前記２つの界面領域のうちの一方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられており、
前記一方の界面領域が、前記２つの界面領域のうちの他方の界面領域と比較して、より大きな見かけ上の面積に対する表面積の比を有し、
前記他方の界面領域が、最小単位となる単位図形から構成されており、
前記反射層（１８）が、前記２つの界面領域のうち前記他方の界面領域上に選択的に形成されている、表示体。
【請求項２】
光学構造形成層（１６）および反射層（１８）を含む表示体（１０）であって、
前記光学構造形成層（１６）が、その表面に複数の解像度領域を含み、
前記複数の解像度領域が、２つの界面領域をそれぞれ含み、
前記２つの界面領域のうちの一方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられており、
前記一方の界面領域が、前記２つの界面領域のうちの他方の界面領域と比較して、より大きな見かけ上の面積に対する表面積の比を有し、
前記他方の界面領域が、最小単位となる単位図形から構成されており、
前記単位図形の見かけ上の大きさが、前記複数の解像度領域ごとに異なっており、
前記反射層（１８）が、前記２つの界面領域のうち前記他方の界面領域上に選択的に形成されている、表示体。
【請求項３】
前記他方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられている請求項１または２に記載の表示体。
【請求項４】
前記解像度領域において、前記最小単位となる単位図形から構成された前記他方の界面領域が、マイクロ文字として構成されている請求項１〜３のいずれか１項に記載の表示体。
【請求項５】
前記単位図形の見かけ上の大きさが２０μｍ以下である請求項４に記載の表示体。
【請求項６】
前記マイクロ文字が、グラデーション表現を有するグラデーションマイクロ文字として構成されている請求項４または５に記載の表示体。
【請求項７】
光学構造形成層（１６）および反射層（１８）を含む表示体（１０）であって、
前記光学構造形成層（１６）が、その表面に第１解像度領域（Ｒ１）および前記第１解像度領域（Ｒ１）と異なる第２解像度領域（Ｒ２）を含み、
前記第１解像度領域（Ｒ１）が、第１界面領域（Ｉ１）および第２界面領域（Ｉ２）を含み、
前記第１界面領域（Ｉ１）に第１の複数の凹部または凸部（１６ａ）が設けられており、
前記第１界面領域（Ｉ１）が、前記第２界面領域（Ｉ２）と比較して、より大きな見かけ上の面積（Ｓ１）に対する表面積の比を有し、
前記第２界面領域（Ｉ２）が、最小単位となる第１単位図形（Ｕ１）から構成されており、
前記第２解像度領域（Ｒ２）が、第３界面領域（Ｉ３）および前記第３界面領域（Ｉ３）と異なる第４界面領域（Ｉ４）を含み、
前記第３界面領域（Ｉ３）に第３の複数の凹部または凸部（１６ｃ）が設けられており、
前記第３界面領域（Ｉ３）が、前記第４界面領域（Ｉ４）と比較して、より大きな見かけ上の面積（Ｓ３）に対する表面積の比を有し、
前記第４界面領域（Ｉ４）が、最小単位となる第２単位図形（Ｕ２）から構成されており、
前記第１単位図形（Ｕ１）の見かけ上の大きさが前記第２単位図形（Ｕ２）の見かけ上の大きさより大きく、
前記反射層（１８）が、前記第１界面領域（Ｉ１）および前記第２界面領域（Ｉ２）のうち前記第２界面領域（Ｉ２）上に選択的に形成され、かつ、前記第３界面領域（Ｉ３）および前記第４界面領域（Ｉ４）のうち前記第４界面領域（Ｉ４）上に選択的に形成されている、表示体。
【請求項８】
前記第１単位図形（Ｕ１）の見かけ上の大きさが１０μｍ以上８０μｍ以下であり、前記第２単位図形（Ｕ２）の見かけ上の大きさが、前記第１単位図形（Ｕ１）の見かけ上の大きさよりも小さいことを条件として、２μｍ以上４０μｍ以下である請求項７に記載の表示体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偽造防止、装飾効果及び美的効果の提供に好適な表示体に関する。
【背景技術】
【０００２】
有価証券、証明書、ブランド品及び個人認証媒体などの物品は、偽造が困難であることが望まれる。そのため、このような物品には、偽造防止効果に優れた表示体を支持させることがある。
【０００３】
このような表示体の多くは、回折格子、ホログラム及びレンズアレイなどの微細構造を含んでいる。これらの微細構造は、通常は解析することが困難である。また、これらの微細構造を含んだ表示体を製造するためには、電子線描画装置などの高価な製造設備が必要である。それゆえ、このような表示体は、高い偽造防止効果を発揮し得る。
【０００４】
また、このような表示体の視認性を高めるため、および偽造をより困難とするために、文字、ロゴ、または他のパターンの形をした金属反射層を付与することが知られている。
【０００５】
従来より、パターン状の金属反射層を有する金属反射層のパターン化は、金属反射層上にマスク剤をポジパターンで印刷し、マスク剤で印刷されていない部分を腐食剤で腐食させることによりパターンを形成するエッチング加工によりパターン化されてきた。
【０００６】
例えば、金属反射層上にマスク剤をポジパターンで印刷し、マスク剤で印刷されていない部分を腐食剤で腐食させる加工方法として、特許文献１に記載の方法が知られている。
【０００７】
また、反射層を高い位置精度で形成するために、深さ幅比が大きな凹凸構造を備えた第一の領域と、平坦であるかまたは深さ対幅比がより小さな凹凸構造を備えた第二の領域とを含んだレリーフ構造形成層を示す特許文献２が知られている。
【０００８】
他方、証券印刷物では、簡易的な器具を用いて確認することの出来る大きさの文字、ロゴ、または他のパターンの形を絵柄に組み込むことにより、真贋判定が行われてきた。特に、このデザインに用いられる文字は、マイクロ文字と呼ばれており、一般的に文字高さが０．３ｍｍ以下のものを言う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００５−７６２４号公報
【特許文献２】国際公開第２０１０／１４７１８５号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
証券印刷物に用いられてきたマイクロ文字を、金属反射層のパターンで再現することが試みられてきた。
【００１１】
しかしながら、金属反射層上にマスク剤をポジパターンで印刷し、マスク剤で印刷されていない部分を腐食剤で腐食させる加工方法（特許文献１）は、比較的大きな解像度（例えば３００ｄｐｉ）が限界であった。
【００１２】
そのため、アルファベット、漢字、数字、記号などの文字表現に限界があり、マイクロ文字の一般的な文字高さ０．３ｍｍは表現が難しい。
【００１３】
また、マイクロ文字を表現する為には、比較的小さな解像度（例えば１０００ｄｐｉ以上）が必要であるが、一般的な証券印刷物（証書、パスポート、カード等）の大きさの原稿全体を前述の解像度で作成すると、膨大なデータ量となり、現実的ではない。
【００１４】
また、金属反射層で文字を残す方法として、一般的に箔押しが使用されるが、マイクロ文字のような微細な文字は表現が難しい。
【００１５】
本発明の目的は、偽造防止効果または優れたセキュリティ性を有する表示体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の課題を解決するための手段の一例は、光学構造形成層（１６）および反射層（１８）を含む表示体（１０）であって、
前記光学構造形成層（１６）が、その表面に少なくとも１つの解像度領域を含み、
前記少なくとも１つの解像度領域が、２つの界面領域を含み、
前記２つの界面領域のうちの一方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられており、
前記一方の界面領域が、前記２つの界面領域のうちの他方の界面領域と比較して、より大きな見かけ上の面積に対する表面積の比を有し、
前記他方の界面領域が、最小単位となる単位図形から構成されており、
前記反射層（１８）が、前記２つの界面領域のうち前記他方の界面領域上に選択的に形成されている、表示体である。
【００１７】
本発明の課題を解決するための手段の別の例は、光学構造形成層（１６）および反射層（１８）を含む表示体（１０）であって、
前記光学構造形成層（１６）が、その表面に複数の解像度領域を含み、
前記複数の解像度領域が、２つの界面領域をそれぞれ含み、
前記２つの界面領域のうちの一方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられており、
前記一方の界面領域が、前記２つの界面領域のうちの他方の界面領域と比較して、より大きな見かけ上の面積に対する表面積の比を有し、
前記他方の界面領域が、最小単位となる単位図形から構成されており、
前記単位図形の見かけ上の大きさが、前記複数の解像度領域ごとに異なっており、
前記反射層（１８）が、前記２つの界面領域のうち前記他方の界面領域上に選択的に形成されている、表示体である。
【００１８】
ここで、前記他方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられていてもよい。また、前記解像度領域において、前記最小単位となる単位図形から構成された前記他方の界面領域が、マイクロ文字として構成されていても良い。この場合、前記単位図形の見かけ上の大きさが２０μｍ以下であるのが好ましい。また、前記マイクロ文字が、グラデーション表現を有するグラデーションマイクロ文字として構成されていても良い。あるいは、前記解像度領域において、前記最小単位となる単位図形から構成された前記他方の界面領域が、図柄、暗号、細かい画線表現（細紋など）等として構成されていても良い。
【００１９】
本発明の課題を解決するための手段の更に別の例は、光学構造形成層（１６）および反射層（１８）を含む表示体（１０）であって、
前記光学構造形成層（１６）が、その表面に第１解像度領域（Ｒ１）および前記第１解像度領域（Ｒ１）と異なる第２解像度領域（Ｒ２）を含み、
前記第１解像度領域（Ｒ１）が、第１界面領域（Ｉ１）および第２界面領域（Ｉ２）を含み、
前記第１界面領域（Ｉ１）に第１の複数の凹部または凸部（１６ａ）が設けられており、
前記第１界面領域（Ｉ１）が、前記第２界面領域（Ｉ２）と比較して、より大きな見かけ上の面積（Ｓ１）に対する表面積の比を有し、
前記第２界面領域（Ｉ２）が、最小単位となる第１単位図形（Ｕ１）から構成されており、
前記第２解像度領域（Ｒ２）が、第３界面領域（Ｉ３）および前記第３界面領域（Ｉ３）と異なる第４界面領域（Ｉ４）を含み、
前記第３界面領域（Ｉ３）に第３の複数の凹部または凸部（１６ｃ）が設けられており、
前記第３界面領域（Ｉ３）が、前記第４界面領域（Ｉ４）と比較して、より大きな見かけ上の面積（Ｓ３）に対する表面積の比を有し、
前記第４界面領域（Ｉ４）が、最小単位となる第２単位図形（Ｕ２）から構成されており、
前記第１単位図形（Ｕ１）の見かけ上の大きさが前記第２単位図形（Ｕ２）の見かけ上の大きさより大きく、
前記反射層（１８）が、前記第１界面領域（Ｉ１）および前記第２界面領域（Ｉ２）のうち前記第２界面領域（Ｉ２）上に選択的に形成され、かつ、前記第３界面領域（Ｉ３）および前記第４界面領域（Ｉ４）のうち前記第４界面領域（Ｉ４）上に選択的に形成されている、表示体である。
【００２０】
ここで、前記第１単位図形（Ｕ１）の見かけ上の大きさが１０μｍ以上８０μｍ以下であり、前記第２単位図形（Ｕ２）の見かけ上の大きさが、前記第１単位図形（Ｕ１）の見かけ上の大きさよりも小さいことを条件として、２μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、偽造防止効果または優れたセキュリティ性を有する表示体を提供することができる。例えば、超微細な解像度の解像度領域を、より大きな解像度の解像度領域と混在させることで、超微細な解像度の解像度領域がより大きな解像度の解像度領域によって埋没しまたは視認され難くなり、よりセキュリティ性を高めた表示体の提供が可能となった。また、一般的な表示体の大きさの原稿全体を超微細な解像度のみで作成することは現実的に困難であったため、原稿画像の作成時に実運用に見合うデータ量の範囲内で金属反射層のパターンを用いたマイクロ文字を実現できる。このような超微細な解像度の解像度領域をより大きな解像度の解像度領域と混在させることは、以下に詳述する手法によって可能となるものであり、本発明により偽造防止効果のより高い表示体を提供することが初めて可能となった。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の表示体の好適な形態の一例を概念的に示す平面図である。
【図２】ａは、図１のａ−ａ部を概念的に示す横断面図である。ｂは、図１のｂ−ｂ部を概念的に示す横断面図である。
【図３】本発明の表示体の使用例を概念的に示す横断面図である。
【図４】ａは、図２ａの部分の形成過程の一例を示す説明図である。ｂは、図２ｂの部分の形成過程の一例を示す説明図である。
【図５】表示体の一例を示す平面図である。
【図６】表示体の別の例を示す平面図である。
【図７】本発明の表示体の例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明を実施するための好適な形態を、図面を参照して説明する。
【００２４】
図１は、本発明の表示体の好適な形態の一例を概念的に示す平面図である。図１において、表示体１０は、光学構造形成層１６、反射層１８およびマスク層２０をこの順に含む。図２ａは、図１のａ−ａ部を概念的に示す横断面図である。図２ｂは、図１のｂ−ｂ部を概念的に示す横断面図である。図３は、本発明の表示体の使用例を概念的に示す横断面図である。なお、図３においてマスク層は図示省略されている。なお、以降の各図において同一または類似した機能を発揮する構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００２５】
＜支持体＞
図３に示すように、表示体１０の形成時に、光学構造形成層１６を支持するため支持体１２を設けることができる。支持体１２は、後述する剥離兼保護層１４を介して光学構造形成層１６を支持する。なお、光学構造形成層１６は、図示省略した基材上に接着層２２を介して接着することができる。基材としては、ＰＥＴ等の公知のプラスチックフィルムを用いることができる。
【００２６】
＜剥離兼保護層＞
剥離兼保護層１４は、後述する光学構造形成層１６の一方の面に配置し得る層である。例えば、光学構造形成層１６と支持体１２との間に、剥離兼保護層１４を配置することができる。この場合、光学構造形成層１６および剥離兼保護層１４は、光学層を構成し、光学層は支持体１２上に形成される。
【００２７】
剥離兼保護層１４は、熱可塑性アクリル樹脂、塩化ゴム樹脂、あるいはこの塩化ゴム樹脂とニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、ポリスチレンまたは塩酢ビ樹脂の混合物等から形成することができる。また、これらの材料にメラミン樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂あるいは尿素樹脂等の熱硬化性樹脂を加えた材料により構成してもよい。剥離兼保護層１４は、これらの層構成材料をグラビア法やマイクログラビア法などの公知のコーティング法を用いて０．１μｍから１０μｍの厚さで基材上にコーティングすることにより形成することができる。
【００２８】
＜光学構造形成層＞
光学構造形成層１６は、例えば光透過性の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び紫外線または電子線硬化性樹脂（以下、光硬化性樹脂ともいう）などの樹脂を使用して形成することができる。光学構造形成層１６の材料として熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂を用いると、原版を用いた転写により、一方の主面に、凹構造または凸構造を容易に形成することができる。
【００２９】
光透過性を有する熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、ニトロセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリルスチレン共重合体、塩化ビニル及びポリメタクリル酸メチルが挙げられる。
【００３０】
光透過性を有する熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステルウレタン、アクリルウレタン、エポキシウレタン、シリコーン、エポキシ及びメラミン樹脂が挙げられる。
【００３１】
光硬化性樹脂とは、紫外線及び電子線などの光の照射によって硬化する樹脂をいう。光の照射によってラジカル重合する代表的な樹脂としては、分子中にアクリロイル基を有するアクリル樹脂が挙げられる。アクリル樹脂として、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系若しくはポリオールアクリレート系のオリゴマー若しくはポリマー、単官能、２官能若しくは多官能重合性（メタ）アクリル系モノマー（例えば、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−ヒドロキシメチルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレートまたはペンタエリトリトールテトラアクリレート）またはそのオリゴマー若しくはポリマー、またはこれらの混合物が使用される。
【００３２】
＜解像度領域＞
光学構造形成層１６は、その表面に解像度領域を含む。解像度領域は、典型的には複数の解像度領域として構成される。複数の解像度領域は、互いに隣接しまたはその近くに位置するが、互いに離間している場合もある。図１に示された例において、光学構造形成層１６は、その表面に第１解像度領域Ｒ１および第１解像度領域Ｒ１と異なる第２解像度領域Ｒ２を含む。複数の解像度領域が互いに離間している場合、複数の解像度領域間に例えば図３に示されるような平坦面領域ｄを配置してもよい。
【００３３】
＜界面領域＞
解像度領域は、２つの界面領域を含む。図２ａおよびｂに示されるように、第１解像度領域Ｒ１は、第１界面領域Ｉ１および第２界面領域Ｉ２を含み、第２解像度領域Ｒ２は、第３界面領域Ｉ３および第４界面領域Ｉ４を含む。解像度領域は、界面領域を少なくとも２種類含んでいれば良い。解像度領域は、同種または異種の界面領域を更に含んでいても良い。
【００３４】
２つの界面領域のうちの一方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられている。図２ａの第１解像度領域Ｒ１においては、第１界面領域Ｉ１に第１の複数の凹部または凸部１６ａが設けられている。これら第１の複数の凹部または凸部１６ａは、２００〜１５００ｎｍの範囲内の最小中心間距離で二次元的に配置するのが好ましい。第１の複数の凹部または凸部１６ａは、典型的には、規則的に配置されている。第１の複数の凹部または凸部１６ａの各々は、典型的には順テーパ形状を有している。第１の複数の凹部または凸部１６ａの深さまたは高さは、典型的には０．３〜０．５μｍの範囲にある。第１の複数の凹部または凸部１６ａの最小中心間距離に対する深さまたは高さの比（以下、アスペクト比ともいう）は、例えば、０．５〜１．５の範囲にある。これらの構造は、版を用いて光学構造形成層の形成時または形成後に形成することができる。
【００３５】
他方の界面領域は、例えば虹色を呈する回折構造、白っぽく見える光散乱構造、または銀色を呈するアルミの鏡面等の無構造とすることができる。
【００３６】
一方の解像度領域に含まれる２つの界面領域の一方が、最小単位となる単位図形から構成されている。ここで、少なくとも１つの解像度領域において、前記最小単位となる単位図形から構成された前記他方の界面領域が、マイクロ文字として構成されていても良く、この場合、マイクロ文字がグラデーション表現を有するグラデーションマイクロ文字として構成されていても良い。なお、本願において「グラデーション」とは、階調、ぼかし、濃淡、および濃淡の段階的変化を意味し、更に、連続的な濃度変化の他、非連続的な濃度変化を呈するステップパターンの変化をも意味し、「グラデーション表現」は、これらを実現する表現を意味するものとする。グラデーション表現は、典型的には、金属で形成された反射層が目で見て階調になっているものおよび混色するもの（並置混色等）すべてを含んでいる。単位図形の見かけ上の大きさとは、当該領域に平行な平面への当該領域の正射影の領域の最大長さまたは幅、あるいは、凹部または凸部を無視した当該領域の最大長さまたは幅を意味する。マイクロ文字とは、本明細書において文字高さ（文字の縦方向の最大距離）が０．３ｍｍ以下のものを言う。
【００３７】
一方の界面領域は、他方の界面領域と比較して、より大きな見かけ上の面積に対する表面積の比を有している。ここで、領域の見かけ上の面積とは、当該領域に平行な平面への当該領域の正射影の面積、あるいは、凹部または凸部を無視した当該領域の面積を意味する。領域の表面積とは、凹部または凸部を考慮した当該領域の面積を意味する。図２ａの第１解像度領域Ｒ１においては、光学構造形成層１６の第１界面領域Ｉ１の部分が、光学構造形成層１６の第２界面領域Ｉ２の部分と比較して、より大きな見かけ上の面積Ｓ１に対する表面積の比を有している。この場合、第１界面領域Ｉ１の見かけ上の面積Ｓ１に対する表面積の比は、第１の凹部または凸部１６ａの深さまたは高さの値が第２界面領域Ｉ２の場合と比較して大きいため、比較的大きくなる。これに対し、第２界面領域Ｉ２の見かけ上の面積Ｓ２に対する表面積の比は、第２の凹部または凸部１６ｂの深さまたは高さの値が第１界面領域Ｉ１の場合と比較して小さいため、比較的小さくなる。この場合、第１界面領域Ｉ１の見かけ上の面積Ｓ１に対する表面積の比は、第２界面領域Ｉ２の見かけ上の面積Ｓ１に対する表面積の比と比較して、大きい。
【００３８】
図２ｂに示された第２解像度領域Ｒ２の第３界面領域Ｉ３に設けられた第３の複数の凹部または凸部１６ｃ、および第４界面領域Ｉ４に設けられた第４の複数の凹部または凸部１６ｄは、それぞれ第１解像度領域Ｒ１の第１界面領域Ｉ１に設けられた第１の複数の凹部または凸部１６ａ、および第２界面領域Ｉ２に設けられた第２の複数の凹部または凸部１６ｂと同一または類似の構成とすることができるため、その説明を省略する。
【００３９】
ここで、界面領域は、最小単位となる単位図形から構成されている。解像度領域が複数の解像度領域として構成される場合、単位図形の見かけ上の大きさは、前記複数の解像度領域ごとに異なっている。図１に示された例においては、第１解像度領域Ｒ１中の第２界面領域Ｉ２が、最小単位となる第１単位図形Ｕ１から構成されており、第２解像度領域Ｒ２中の第４界面領域Ｉ４が、最小単位となる第２単位図形Ｕ２から構成されている。単位図形は任意の図形に設定できる。第１単位図形Ｕ１は、見かけ上の大きさが１０〜８０μｍである。第１単位図形Ｕ１は、例えば一片が２〜８０μｍ、好ましくは１０〜６０μｍの正方形とすることができる。この場合、第２単位図形Ｕ２の見かけ上の大きさは、第１単位図形Ｕ１の見かけ上の大きさよりも小さいことを条件として、好ましくは２〜４０μｍ、更に好ましくは７〜２５μｍである。あるいは、第２単位図形Ｕ２の見かけ上の大きさは、２〜５μｍ、２〜１０μｍ、２〜１５μｍ、２〜２０μｍ、２〜２５μｍ、２〜３０μｍ、２〜３５μｍとすることもできる。単位図形内の凹部または凸部の分布は、階調を含んでも良く、一様であっても良い。
【００４０】
＜反射層＞
反射層１８としては、例えば、アルミニウム、銀、錫、クロム、ニッケル、銅、金、およびこれらの合金からなる群から選択された金属を含む層として構成されることができる。この場合、反射層１８は、典型的には、真空製膜法を用いて形成する。真空製膜法としては、例えば、真空蒸着法及びスパッタリング法が挙げられる。反射層の厚みは、例えば、１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内とする。
【００４１】
反射層１８は、表示の際に、視認性がより優れた像を表示させる役割を担っている。また、反射層１８を設けることにより、光学構造形成層１６の一方の主面に設けられた凹部または凸部の損傷を生じ難くすることも可能となる。
【００４２】
＜マスク層＞
反射層１８を覆うようにマスク層２０を設けることができる。マスク層２０の材料としては、例えば、ＭｇＦ２、Ｓｎ、Ｃｒ、ＺｎＳ、ＺｎＯ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２及びＡｌ２Ｏ３等の無機物を使用することができる。或いは、マスク層２０の材料として、例えば、アクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の重合性化合物等の重量平均分子量が１５００以下の有機物や、これら重合性化合物と開始剤とを混合し、放射線硬化樹脂として気相堆積した後に、放射線照射によって重合させたものを使用することができる。或いは、マスク層２０の材料として、金属アルコキシドや、金属アルコキシドを気相堆積した後これを重合させたものを使用してもよい。この際、気相堆積の後、重合させる前に、乾燥処理を行ってもよい。
【００４３】
マスク層２０の材料の気相堆積は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法又はＣＶＤ法を用いて行う。この気相堆積は、光学構造形成層１６の表面に平行な面内方向について均一な密度で行うことが好ましい。
【００４４】
マスク層２０のうち第１、３界面領域Ｉ１、Ｉ３に対応した部分は、当該領域の表面形状に対応した表面形状を有するか、又は、当該領域に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口しているようにすることができる。
【００４５】
図４ａに、図２ａの部分の形成過程の一例を示す。図４ｂに、図２ｂの部分の形成過程の一例を示す。図４ａに示す例では、マスク層２０を形成するための第２材料２０ａが、反射層１８を形成するための第１材料１８ａの上で、第１の複数の凹部または凸部１６ａの位置に部分的に開口した不連続膜を形成している。
【００４６】
ここで、第１材料１８ａ上に、第１界面領域Ｉ１の見かけ上の面積に対する第１界面領域Ｉ１の位置における第２材料２０ａの量の比と、第２界面領域Ｉ２の見かけ上の面積に対する第２界面領域Ｉ２の位置における第２材料２０ａの量との比が互いに等しくなるように、第２材料２０ａを積層する。
【００４７】
なお、上述したように、第１界面領域Ｉ１は、第２界面領域Ｉ２と比較して、見かけ上の面積に対する表面積の比がより大きい。従って、マスク層２０が第１界面領域Ｉ１及び第２界面領域Ｉ２の表面形状に対応した表面形状を有するように上記の設定膜厚を定めた場合、第２材料２０ａのうち第１界面領域Ｉ１に対応した部分は、第２界面領域Ｉ２に対応した部分と比較して、平均膜厚がより小さくなる。
【００４８】
上記の設定膜厚を更に小さな値に定めることにより、第１界面領域Ｉ１に対応した部分では複数の凹部又は凸部１６ａの配置に対応して部分的に開口しており且つ第２界面領域Ｉ２に対応した部分では第２界面領域Ｉ２の表面形状に対応した表面形状を有したマスク層２０を形成することができる。
【００４９】
図４ｂに示された第２解像度領域Ｒ２の第１材料１８ａおよび第２材料２０ａは、それぞれ第１解像度領域Ｒ１の第１材料１８ａおよび第２材料２０ａ同一の構成とすることができるため、その説明を省略する。
【００５０】
なお、表示体においてマスク層は省略されることもある。
【００５１】
＜反応性材料＞
本発明においては、第２材料を反応性材料と反応させることにより、反射層およびマスク層を、２つの界面領域のうち他方の界面領域上に選択的に形成する。
【００５２】
典型的には、第１材料１８ａおよび第２材料２０ａを設けた光学構造形成層１８を、反応性材料と反応させる。反応性材料は、第２材料２０ａの材料との反応を生じ得る反応性ガス又は液である。反応性材料として、第２材料２０ａの材料を溶解可能なエッチング液を使用する場合、のエッチング液としては、典型的には、水酸化ナトリウム溶液、炭酸ナトリウム溶液及び水酸化カリウム溶液等のアルカリ性溶液を使用する。或いは、エッチング液として、塩酸、硝酸、硫酸及び酢酸等の酸性溶液を使用してもよい。
【００５３】
＜具体的な手順＞
本発明の表示体は、例えば次の手順で形成される。
（１）原稿画像を用意する。
（２）マイクロ文字とその他のデータに分割する。
（３）マイクロ文字を２〜４０μｍ好ましくは７〜２５μｍのデータで作成する。
【００５４】
市販のソフトウェアで画像をモノクロ（グレースケール）にする。
【００５５】
市販のソフトウェアでディザ処理を行い白黒画像にする。
（４）上記白黒画像を、光学構造形成層の界面領域を設定するためのデータ（描画データ）として使用する。
（５）以下の方法で形成する。
【００５６】
まず、図２ａおよびｂに示すような複数の第１凹部または凸部１６ａ〜１６ｄを含んだ光学構造形成層１６を準備する。図２ａにおいて複数の第１凹部または凸部１６ａおよび複数の第１凹部または凸部１６ｃの各凹部または凸部は同じ構造を有しており、複数の第２凹部または凸部１６ｂおよび複数の第４凹部または凸部１６ｄの各凹部または凸部は同じ構造を有している。この光学構造形成層１６が、最終的な表示体の表面に対応する表面を有することになる。
【００５７】
次に、第１材料１８ａを複数の第１凹部または凸部１６ａ〜ｄの全体に対して気相堆積させる。第１材料１８ａは、反射層１８を形成するための材料である。第１材料１８ａは、複数の第１凹部または凸部１６ａ〜ｄに対応した表面形状を有した連続膜を形成している。
【００５８】
更に、第２材料２０ａを第１材料１８ａに対して気相堆積させる。第２材料２０ａは、マスク層２０を形成するための材料である。
【００５９】
図４ａおよびｂに示す例では、第２材料２０ａのうち第１、３界面領域Ｉ１、Ｉ３に対応した部分は、第１材料１８ａの上で、それぞれ複数の凹部または凸部１６ａ、１６ｃに対応して部分的に開口した不連続膜を形成している。また、第２材料２０ａのうち第２、４界面領域Ｉ２、Ｉ４に対応した部分は、それぞれ複数の凹部または凸部１６ｂ、１６ｄに対応した表面形状を有した連続膜を形成している。
【００６０】
続いて、第１材料１８ａおよび第２材料２０ａを、第１材料１８ａすなわち反射層１８の材料との反応を生じ得る反応性材料に曝す。そして、少なくとも第１、３界面領域Ｉ１、Ｉ３の位置で、第１材料１８ａとの反応を生じさせる。ここでは、反応性ガス又は液の一例として、第１材料１８ａすなわち反射層１８の材料を溶解可能なエッチング液を使用する場合について説明する。
【００６１】
図４ａおよびｂに示すように、第２材料２０ａのうち第２、４界面領域Ｉ２、Ｉ４に対応した部分は連続膜を形成しているのに対し、第１、３界面領域Ｉ１、Ｉ３に対応した部分は、部分的に開口した不連続膜を形成している。これに起因して、第１材料１８ａのうち第１、３界面領域Ｉ１、Ｉ３に対応した部分は、第２、４界面領域Ｉ２、Ｉ４に対応した部分と比較してよりエッチングされ易い。
【００６２】
また、第１材料１８ａのうち第２材料２０ａによって被覆されていない部分が除去されると、第１材料１８ａには、第２材料２０ａの開口に対応した開口が生じる。エッチングを更に続けると、第１材料１８ａのエッチングは、各開口の位置で面内方向に進行する。その結果、第１、３界面領域Ｉ１、Ｉ３上では、第１材料１８ａのうち第２材料２０ａを支持している部分が、その上の第２材料２０ａと共に除去される。
【００６３】
従って、エッチング液の濃度及び温度並びにエッチングの処理時間等を調整することにより、第１材料１８ａのうち第１、３界面領域Ｉ１、Ｉ３に対応した部分のみを除去することができる。なお、この際、第１材料１８ａのうち第１、３界面領域Ｉ１、Ｉ３に対応する部分の除去に伴って、第２材料２０ａのうち第１、３界面領域Ｉ１、Ｉ３に対応した部分も除去される。
【００６４】
以上のようにして、図２ａおよびｂに示す表示体１０を得る。
【実施例】
【００６５】
以下のようにして、光学構造形成層と反射層とマスク層との積層体を製造した。
【００６６】
まず、紫外線硬化型樹脂の材料として、５０．０質量部のウレタン（メタ）アクリレートと、３０．０質量部のメチルエチルケトンと、２０．０質量部の酢酸エチルと、１．５質量部の光開始剤とを含んだ組成物を準備した。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、多官能性であり且つ分子量が６０００であるものを使用した。光開始剤としては、チバスペシャリティー製「イルガキュア１８４」を使用した。
【００６７】
次に、厚みが２３μｍである透明ＰＥＴフィルム上に、上記の組成物を、乾燥膜厚が１μｍとなるように、グラビア印刷法によって塗布した。
【００６８】
次いで、複数の凸部が設けられた原版を版胴の円筒面に支持させ、この原版を先の塗膜に押し当てながら、ＰＥＴフィルム側から紫外線を照射した。これにより、上記の紫外線硬化樹脂を硬化させた。この際、プレス圧力は２ｋｇｆ／ｃｍ２とし、プレス温度は８０℃とし、プレススピードは１０ｍ／分とした。また、紫外線の照射は、高温水銀灯を用いて、３００ｍＪ／ｃｍ２の強度で行った。ここで、上記原版は、光学構造形成層の界面領域を設定するためのデータ（描画データ）を用いて作成されたものである。
【００６９】
以上のようにして、複数の界面領域を含んだ主面を有した光学構造形成層を得た。
【００７０】
この光学構造形成層の一方の界面領域には、その全体に、正方格子状に配列した複数の凹部を形成した。これら凹部の形状は、角錐状とした。また、これら凹部の最小中心間距離は、３３３ｎｍとした。そして、これら凹部の開口部の幅は３３３ｎｍとし、深さは３３３ｎｍとした。即ち、前記一方の界面領域には、溝の開口部の幅に対する深さの比が３３３ｎｍ／３３３ｎｍ＝１．０である複数の凹部を形成した。
【００７１】
また、この光学構造形成層の他方の界面領域には、その全体に、規則的に配列した複数の溝を形成した。これら溝の断面形状は、Ｖ字形状とした。また、これら溝のピッチは１０００ｎｍとした。そして、これら溝の開口部の幅は１０００ｎｍとし、深さは１００ｎｍとした。即ち、前記他方の界面領域には、溝の開口部の幅に対する深さの比が１００ｎｍ／１０００ｎｍ＝０．１である複数の溝を形成した。
【００７２】
続いて、光学構造形成層の上記主面上に、反射層を形成するための第１材料として、Ａｌを真空蒸着させた。この際、反射層の設定膜厚は、５０ｎｍとした。
【００７３】
その後、第１材料の層の光学構造形成層とは反対側の主面上に、マスク層を形成するための第２材料として、ＭｇＦ２を真空蒸着させた。なお、この際、ＭｇＦ２の設定膜厚は、２０ｎｍとした。
【００７４】
以上のようにして、光学構造形成層と反射層とマスク層との積層体を得た。
【００７５】
次に、上述の積層体を、エッチング処理に供した。具体的には、この積層体を、濃度が０．１ｍｏｌ／Ｌで、液温が６０℃の水酸化ナトリウム水溶液に７秒間に亘って曝した。これにより、第１材料の層及び第２材料の層のうち前記他方の界面領域に対応した部分を除去した。
【００７６】
図５は、表示体の一例を示す平面図である。図６は、表示体の別の例を示す平面図である。
【００７７】
図５に示すように、１つの解像度領域中の一方の界面領域を、文字高さＡが０．３ｍｍ以下、一辺が７μｍの正方形である単位図形から形成されたベタマイクロ文字で形成し、もう１つの解像度領域中の一方の界面領域を、一辺が２１μｍの正方形である単位図形から形成することができる。また、図６に示すように、１つの解像度領域中の一方の界面領域を、文字高さＢが０．３ｍｍ以下、一辺が７μｍの正方形である単位図形から形成されたグラデーションマイクロ文字で形成し、もう１つの解像度領域中の一方の界面領域を、一辺が２１μｍの正方形である単位図形から形成することができる。
【００７８】
図７は、本発明の表示体の例を示す平面図である。この表示体は、複数の解像度領域として細紋のための解像度領域と文字のための解像度領域を含む表示体である。図７に示すように、１つの解像度領域中の一方の界面領域、文字高さＣが０．１５ｍｍ以下、一辺が７μｍの正方形である単位図形から形成されたベタマイクロ文字で形成し、もう１つの解像度領域中の一方の界面領域を、一辺が２１μｍの正方形である単位図形から形成された細紋との組み合わせたものとすることができる。なお、本発明は、解像度領域が、少なくとも１つ、２つ以上、または３つ以上の場合を含み、これらの解像度領域が互いに隣接しまたは互いに離間した構成を含む。
【００７９】
ここで、図７の表示体の異なる解像度領域における各単位図形は、光学顕微鏡で拡大観察、撮像し構造の有無による濃淡情報から把握した。こうして、異なる単位図形からなる解像度を有する解像度領域を含む表示体を作成した。
【００８０】
本発明は、上記具体的な態様または実施例に記載された記載に限定されない。特に、特許請求の範囲の参照符号の記載は、本発明の理解を容易にする目的にのみ用いられるものであり、本発明の範囲は参照符号の記載に何ら限定されるものではない。本願発明から逸脱しない範囲で、具体的な態様または実施例に記載された内容の各要素の組み合わせや様々な変形が可能である。
【符号の説明】
【００８１】
１０  表示体
１２  支持体
１４  剥離兼保護層
１６  光学構造形成層
１６ａ〜１６ｄ  複数の第１〜４凹部または凸部
１８  反射層
１８ａ  第１材料
２０  マスク層
２０ａ  第２材料
２２  接着層
Ｒ１〜Ｒ２  第１〜２解像度領域
Ｉ１〜Ｉ４  第１〜４界面領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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