(57)【要約】【課題】高温保管時における表示特性の劣化を低減することが可能な表示装置および電子機器を提供する。【解決手段】本技術の表示装置は、第１基板と、第１基板に対向配置された第２基板と、第１基板と第２基板との間に設けられ、光透過または反射制御可能な表示層と、１２０℃以上２５０℃以下の流動開始温度を有すると共に、前記第１基板と前記表示層との間に設けられたシール層とを備える。【選択図】図１
2015197491.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、光透過または反射制御可能な表示層と、
１２０℃以上２５０℃以下の流動開始温度を有すると共に、前記第１基板と前記表示層との間に設けられたシール層と
を備えた表示装置。
【請求項２】
前記シール層の流動開始温度は１３５℃以上２００℃以下である、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記シール層の体積抵抗率は１．０×１０8Ω・ｃｍ以上１．０×１０12Ω・ｃｍ以下である、請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記シール層の体積抵抗率は１．０×１０9Ω・ｃｍ以上１．０×１０11Ω・ｃｍ以下である、請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記シール層はポリウレタンによって形成されている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記ポリウレタンの分子量は１０００以上１０００００以下である、請求項５に記載の表示装置。
【請求項７】
前記表示層は、絶縁性液体中に、泳動粒子と、繊維状構造体により形成された多孔質層とを含み、前記繊維状構造体は、前記泳動粒子とは異なる光反射性を有すると共に、少なくとも一部が界面活性剤により修飾された非泳動粒子を含む、請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
前記繊維状構造体は静電防止法により形成された、請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記非泳動粒子の光反射率は前記泳動粒子の光反射率よりも高く、前記泳動粒子が暗表示、前記非泳動粒子および繊維状構造体が明表示を行う、請求項７に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記泳動粒子および前記非泳動粒子は、有機顔料，無機顔料，染料，炭素材料，金属材料，金属酸化物，ガラスおよび高分子材料のうちの少なくともいずれか１つにより構成されている、請求項７に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記絶縁性液体中に、前記泳動粒子を分散させる分散剤を含有する、請求項７に記載の表示装置。
【請求項１２】
表示装置を備え、
前記表示装置は、
第１基板と、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、光透過または反射制御可能な表示層と、
１２０℃以上２５０℃以下の流動開始温度を有すると共に、前記第１基板と前記表示層との間に設けられたシール層と
を有する電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、光透過または反射制御可能な表示層を備えた表示装置、およびその表示装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話機または携帯情報端末等のモバイル機器の普及に伴い、低消費電力で高品位画質の表示装置（ディスプレイ）に関する需要が高まっている。特に最近では、電子書籍の配信事業が始まり、読書用途に適した表示品位のディスプレイが望まれている。
【０００３】
このようなディスプレイとして、コレステリック液晶ディスプレイ，電気泳動型ディスプレイ，電気酸化還元型ディスプレイおよびツイストボール型ディスプレイ等の様々なディスプレイが提案されているが、読書用途には、反射型のディスプレイが有利である。反射型のディスプレイでは、紙と同様に、外光の反射（散乱）を利用して明表示を行うため、より紙に近い表示品位が得られる。
【０００４】
反射型ディスプレイの中でも、例えば電気泳動現象を利用した電気泳動型ディスプレイは、低消費電力であると共に応答速度が速く、有力候補として期待されている。電気泳動型ディスプレイは、絶縁性液体中に２種類の荷電粒子を分散させ、電界に応じて荷電粒子を移動させるものである。この２種類の荷電粒子は互いに反射特性が異なり、また、その極性も反対である。
【０００５】
このような電気泳動型ディスプレイは、表示体が形成された基板および駆動トランジスタ等が形成されたＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板を別々に作製したのち、これらを貼り合わせることによって形成される。このような製造方法を用いる場合には、表示体のシート化が必須である。表示体のシート化には表示体の裏面側（貼り合わせ面）にシール層を設ける必要があり、このシール層を介して表示体とＴＦＴ基板とが張り合わされる（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１２−２２２９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
シール層は、例えば熱可塑性樹脂によって形成されているが、このような構成を有する電気泳動型ディスプレイでは高温保管時に表示特性が急激に劣化するという問題があった。
【０００８】
本技術はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、高温保管時における表示特性の劣化を低減することが可能な表示装置および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本技術の表示装置は、第１基板と、第１基板に対向配置された第２基板と、第１基板と第２基板との間に設けられ、光透過または反射制御可能な表示層と、１２０℃以上２５０℃以下の流動開始温度を有すると共に、第１基板と表示層との間に設けられたシール層とを備えたものである。
【００１０】
本技術の電子機器は、上記本技術の表示装置を備えたものである。
【００１１】
本技術の表示装置では、表示層と第１基板との間に１２０℃以上２５０℃以下の流動開始温度を有するシール層を配設することにより、高温保管時におけるシール層の膨潤が抑制される。
【発明の効果】
【００１２】
本技術の表示装置および電子機器によれば、表示層と第１基板との間に流動開始温度が１２０℃以上２５０℃以下のシール層を設け、シール層の膨潤を抑制するようにしたので、高温保管時における表示特性の劣化を低減することが可能となる。よって、高い信頼性を有する電子機器を提供することができる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本技術の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図２】図１に示した電気泳動素子の構成を表す平面図である。
【図３】図１に示した表示装置の動作を説明するための断面図である。
【図４Ａ】適用例１の外観を表す斜視図である。
【図４Ｂ】図４Ａに示した電子ブックの他の例を表す斜視図である。
【図５】適用例２の外観を表す斜視図である。
【図６】本技術の実験例１における反射率と保管時間との関係を表す特性図である。
【図７】本技術の実験例２における反射率と保管時間との関係を表す特性図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本技術の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態（電気泳動型表示装置）
２．適用例
３．実施例
【００１５】
＜１．実施の形態＞
図１は本開示の一実施の形態に係る表示装置（表示装置１）の断面構成を表したものである。この表示装置１は電気泳動現象を利用して画像を表示する電気泳動型の表示装置であり、駆動基板１０と対向基板２０との間に表示体として電気泳動素子３０を有している。駆動基板１０と対向基板２０との間隙はスペーサ４０により形成されており、対向基板２０側に画像が表示される。なお、図１は表示装置１の構成を模式的に表したものであり、実際の寸法および形状とは異なる場合がある。
【００１６】
電気泳動素子３０は、絶縁性液体３１中に泳動粒子３２および多孔質層３３を含んでおり、対向基板２０上に形成されると共に、シール層４１によって封止されている。本実施の形態では、シール層４１を、流動開始温度（melting temperature；Ｔｍ）が例えば１２０℃以上２５０℃以下の熱可塑性樹脂によって形成されている。電気泳動素子３０はこのシール層４１および接着層（後述する接着層４２）を介して駆動基板１０上に積層されている。電気泳動素子３０は様々な用途に適用可能である。ここでは、電気泳動素子３０を表示装置１に適用する場合について説明するが、表示装置１の構成の一例であり、適宜変更可能である。また、電気泳動素子３０を表示装置以外のものに用いてもよく、その用途は特に限定されない。
【００１７】
シール層４１は、電気泳動素子３０内の絶縁性液体（後述する絶縁性液体３１）を封止して電気泳動素子３０を備えた対向基板２０をシート化すると共に、電気泳動素子３０への空気の浸入を防ぐためのものである。本実施の形態のシール層４１は、上記のように、流動開始温度が、例えば１２０℃以上２５０℃以下の熱可塑性樹脂が母材として形成されたものである。熱可塑性樹脂は、例えば分子量１０００以上１０００００以下のポリウレタンが挙げられる。このほか、例えばアクリル系樹脂およびポリエステル系樹脂等を用いてもよい。なお、流動開始温度のより好ましい範囲は、１３５℃以上２００℃以下である。シール層４１の体積抵抗率は１．０×１０8Ω・ｃｍ以上１．０×１０12Ω・ｃｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１．０×１０9Ω・ｃｍ以上１．０×１０11Ω・ｃｍ以下である。体積抵抗を上記範囲に調整することによって電気泳動素子３０の応答速度が向上すると共に、消費電力が低減される。
【００１８】
なお、シール層４１は添加剤を含んでいてもかまわない。添加剤は、シール層４１の表面性を改善するためのものである。具体的には、電気泳動素子３０を構成する泳動粒子３２のシール層４１表面への吸着を抑制するものであり、例えば分子内に酸構造を有するものが好ましい。添加剤の平均分子量は、例えば１００以上１０００００以下であることが好ましく、添加量は０．０１重量％以上１０重量％以下である。これにより、応答速度とトレードオフの関係にあるメモリ性を維持しつつ、応答速度を向上させることが可能となる。具体的な添加剤としては、例えば界面活性剤や分散剤が挙げられる。
【００１９】
駆動基板１０は、支持部材１１の一方の面に例えば、ＴＦＴ１２，保護層１３および画素電極１４をこの順に有するものである。ＴＦＴ１２および画素電極１４は、例えば画素配置に応じてマトリクス状またはセグメント状に配置されている。
【００２０】
支持部材１１は、例えば板状の無機材料，金属材料またはプラスチック材料等により構成されている。無機材料としては、例えばケイ素（Ｓｉ），酸化ケイ素（ＳｉＯｘ），窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）または酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）等が挙げられる。酸化ケイ素には、ガラスまたはスピンオングラス（ＳＯＧ）等が含まれる。金属材料としては、例えばアルミニウム（Ａｌ），ニッケル（Ｎｉ）またはステンレス等が挙げられる。プラスチック材料としては、例えばポリカーボネート（ＰＣ），ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ），ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ），ポリエチルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）またはポリイミド（ＰＩ）等が挙げられる。
【００２１】
表示装置１では、対向基板２０側に画像が表示されるため、支持部材１１は非光透過性であってもよい。支持部材１１を、ウェハ等の剛性を有する基板により構成してもよく、あるいは可撓性を有する薄層ガラスまたはフィルム等により構成してもよい。支持部材１１に可撓性材料を用いることにより、フレキシブル（折り曲げ可能）な表示装置１を実現できる。
【００２２】
ＴＦＴ１２は、画素を選択するためのスイッチング用素子である。ＴＦＴ１２は、チャネル層として無機半導体層を用いた無機ＴＦＴでもよいし、有機半導体層を用いた有機ＴＦＴでもよい。保護層１３は、例えばポリイミド等の絶縁性樹脂材料からなり、ＴＦＴ１２が設けられた支持部材１１の表面を平坦化するものである。画素電極１４は、例えば金（Ａｕ），銀（Ａｇ），銅（Ｃｕ），Ａｌ，Ａｌ合金または酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）等の導電材料により形成されている。複数の種類の導電材料を用いて画素電極１４を構成するようにしてもよい。画素電極１４は、保護層１３に設けられたコンタクトホール（図示せず）を通じてＴＦＴ１２に接続されている。
【００２３】
対向基板２０は、例えば支持部材２１および対向電極２２を有しており、支持部材２１の全面（駆動基板１０との対向面）に対向電極２２が設けられている。対向電極２２を、画素電極１４と同様に、マトリクス状またはセグメント状に配置するようにしてもよい。
【００２４】
支持部材２１には、光透過性であれば支持部材１１と同様の材料を用いることができる。対向電極２２には、ＩＴＯ，酸化アンチモン−酸化スズ（ＡＴＯ），フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）またはアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）等の光透過性導電性材料（透明電極材料）を用いることができる。
【００２５】
表示装置１では、対向電極２２を介して電気泳動素子３０を見ることになるため、対向電極２２の光透過性（透過率）はできるだけ高いことが好ましく、例えば８０％以上である。また、対向電極２２の電気抵抗はできるだけ低いことが好ましく、例えば１００Ω／□以下である。
【００２６】
電気泳動素子３０は、電気泳動現象を利用してコントラストを生じさせるものであり、絶縁性液体３１中に、泳動粒子３２，多孔質層３３および隔壁３４を含んでいる。
【００２７】
絶縁性液体３１は、駆動基板１０（具体的には、シール層４１）、対向基板２０およびスペーサ４０により囲まれた空間に充填されており、例えばパラフィンまたはイソパラフィン等の有機溶媒により構成されている。絶縁性液体３１には、１種類の有機溶媒を用いてもよく、あるいは複数種類の有機溶媒を混合して用いるようにしてもよい。絶縁性液体３１の粘度および屈折率はできるだけ低いことが好ましい。絶縁性液体３１の粘度を低くすると、泳動粒子３２の移動性（応答速度）が向上する。また、これに応じて泳動粒子３２の移動に必要なエネルギー（消費電力）が低くなる。絶縁性液体の屈折率を低くすると、絶縁性液体３１と多孔質層３３との屈折率の差が大きくなり、多孔質層３３の光反射率が高くなる。絶縁性液体３１の屈折率は例えば１．４８である。
【００２８】
絶縁性液体３１は、例えば着色剤，電荷調整剤（電荷制御剤），分散安定剤，粘度調整剤，界面活性剤または樹脂等を添加するようにしてもよい。
【００２９】
泳動粒子３２は、絶縁性液体３１中に分散された１または２以上の荷電粒子（電気泳動粒子）であり、電界に応じて多孔質層３３を経由して移動可能になっている。泳動粒子３２は任意の光学的反射特性（光反射率）を有しており、泳動素子３２の光反射率と多孔質層３３の光反射率との違いによりコントラストが生じるようになっている。表示装置１では、泳動粒子３２の光反射率が多孔質層３３の光反射率よりも低くなっており、泳動粒子３２により暗表示、多孔質層３３により明表示がなされる。
【００３０】
従って、外部から電気泳動素子３０を見ると、泳動素子３２は、例えば黒色または黒色に近い色に視認される。このような泳動粒子３２の色はコントラストを生じさせることができれば特に限定されない。
【００３１】
泳動粒子３２は、例えば有機顔料，無機顔料，染料，炭素材料，金属材料，金属酸化物，ガラスまたは高分子材料（樹脂）等の粒子（粉末）により構成されている。泳動粒子３２に、これらのうちの１種類を用いてもよく、または２種類以上を用いてもよい。泳動粒子３２を、上記粒子を含む樹脂固形分の粉砕粒子またはカプセル粒子等により構成することも可能である。なお、炭素材料，金属材料，金属酸化物，ガラスまたは高分子材料に該当する材料は、有機顔料，無機顔料または染料に該当する材料から除く。
【００３２】
上記の有機顔料は、例えばアゾ系顔料，メタルコンプレックスアゾ系顔料，ポリ縮合アゾ系顔料，フラバンスロン系顔料，ベンズイミダゾロン系顔料，フタロシアニン系顔料，キナクリドン系顔料，アントラキノン系顔料，ペリレン系顔料，ペリノン系顔料，アントラピリジン系顔料，ピランスロン系顔料，ジオキサジン系顔料，チオインジゴ系顔料，イソインドリノン系顔料，キノフタロン系顔料またはインダンスレン系顔料等である。無機顔料は、例えば亜鉛華，アンチモン白，鉄黒，硼化チタン，ベンガラ，マピコエロー，鉛丹，カドミウムイエロー，硫化亜鉛，リトポン，硫化バリウム，セレン化カドミウム，炭酸カルシウム，硫酸バリウム，クロム酸鉛，硫酸鉛，炭酸バリウム，鉛白またはアルミナホワイト等である。染料は、例えばニグロシン系染料，アゾ系染料，フタロシアニン系染料，キノフタロン系染料，アントラキノン系染料またはメチン系染料等である。炭素材料は、例えばカーボンブラック等である。金属材料は、例えば金，銀または銅等である。金属酸化物は、例えば酸化チタン，酸化亜鉛，酸化ジルコニウム，チタン酸バリウム，チタン酸カリウム，銅−クロム酸化物，銅−マンガン酸化物，銅−鉄−マンガン酸化物，銅−クロム−マンガン酸化物または銅−鉄−クロム酸化物等である。高分子材料は、例えば可視光領域に光吸収域を有する官能基が導入された高分子化合物等である。可視光領域に光吸収域を有する高分子化合物であれば、その種類は特に限定されない。
【００３３】
具体的に、暗表示を行う泳動粒子３２には、例えばカーボンブラック等の炭素材料または銅−クロム酸化物，銅−マンガン酸化物，銅−鉄−マンガン酸化物，銅−クロム−マンガン酸化物および銅−鉄−クロム酸化物等の金属酸化物等が用いられる。中でも泳動粒子３２には炭素材料を用いることが好ましい。炭素材料からなる泳動粒子３２は、優れた化学的安定性、移動性および光吸収性を示す。
【００３４】
絶縁性液体３１中における泳動粒子３２の含有量（濃度）は特に限定されないが、例えば０．１重量％〜１０重量％である。この濃度範囲では、泳動粒子３２の遮蔽性および移動性が確保される。詳細には、泳動粒子３２の含有量が０．１重量％よりも少ないと泳動粒子３２が多孔質層３３を遮蔽（隠蔽）し難くなり、十分にコントラストを生じさせることができない虞がある。一方、泳動粒子３２の含有量が１０重量％よりも多いと、泳動粒子３２の分散性が低下して泳動粒子３２が泳動し難くなり、凝集する虞がある。
【００３５】
泳動粒子３２は、絶縁性液体３１中で長期間に亘って分散および帯電しやすく、また、多孔質層３３に吸着し難いことが好ましい。このため、例えば絶縁性液体３１中に分散剤または電荷調整剤を添加してもよい。また、分散剤と電荷調整剤とを併用してもよい。
【００３６】
この分散剤または電荷調整剤は、例えば正（＋）または負（−）のどちらか一方、あるいは両方の電荷を有しており、絶縁性液体３１中の帯電量を増加させると共に、静電反発により泳動粒子３２を分散させるためのものである。このような分散剤としては、例えばＬｕｂｒｉｚｏｌ社製のＳｏｌｓｐｅｒｓｅシリーズ，ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｃ社製のＢＹＫシリーズ、シェブロンケミカル社製のＯＡＳシリーズまたはＡｎｔｉ−ＴｅｒｒａシリーズあるいはＩＣＩ  Ａｍｅｒｉｃａｓ社製Ｓｐａｎシリーズ等が挙げられる。
【００３７】
泳動粒子３２の分散性を向上させるため、泳動粒子３２はその表面に処理（表面処理）を施すようにしてもよい。この表面処理は、例えばロジン処理，界面活性剤処理，顔料誘導体処理，カップリング剤処理，グラフト重合処理またはマイクロカプセル化処理等である。特に、グラフト重合処理，マイクロカプセル化処理またはこれらを組み合わせて処理を行うことにより、泳動粒子３２の長期間の分散安定性が維持される。
【００３８】
このような表面処理には、例えば泳動粒子３２の表面に吸着可能な官能基と重合性官能基とを有する材料（吸着性材料）等が用いられる。吸着可能な官能基は、泳動粒子３２の形成材料に応じて決定する。例えば、泳動粒子３２がカーボンブラック等の炭素材料により構成されている場合には４−ビニルアニリン等のアニリン誘導体、泳動粒子３２が金属缶化物により構成されている場合にはメタクリル酸３−（トリメトキシシリル）プロピル等のオルガノシラン誘導体をそれぞれ吸着することができる。重合性官能基は、例えばビニル基，アクリル基またはメタクリル基等である。
【００３９】
泳動粒子３２の表面に重合性官能基を導入し、これにグラフトさせて表面処理を行うようにしてもよい（グラフト性材料）。グラフト性材料は、例えば重合性官能基と分散用官能基とを有している。分散用官能基は、絶縁性液体３１中に泳動粒子３２を分散させ、その立体障害により分散性を保持するものである。絶縁性液体３１が例えばパラフィンである場合には、分散用官能基として分枝状のアルキル基等を用いることができる。重合性官能基は、例えばビニル基，アクリル基およびメタクリル基等である。グラフト性材料を重合およびグラフトさせるためには、例えばアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等の重合開始剤を用いればよい。
【００４０】
上記泳動粒子３２を絶縁性液体３１中に分散させる方法の詳細については、「超微粒子の分散技術とその評価〜表面処理・微粉砕と気中／液中／高分子中の分散安定化〜（サイエンス＆テクノロジー社）」等の書籍に掲載されている。
【００４１】
多孔質層３３は泳動粒子３２を遮蔽可能なものである。この多孔質層３３は、図２に示したように、繊維状構造体３３Ａおよびこの繊維状構造体３３Ａに保持された非泳動粒子３３Ｂを有している。
【００４２】
この多孔質層３３は、繊維状構造体３３Ａにより形成された３次元立体構造物（不織布のような不規則なネットワーク構造物）であり、複数の隙間（細孔３５）が設けられている。繊維状構造体３３Ａにより、多孔質層３３の３次元立体構造を構成することで泳動粒子３２を移動させるための細孔３５の十分な大きさを確保すると共に、厚みの小さな多孔質層３３であってもコントラストを高く維持することが可能となる。詳細には、多孔質層３３の３次元立体構造により光（外光）が乱反射（多重散乱）し、多孔質層３３の光反射率が高くなる。従って、多孔質層３３の厚みが小さい場合であっても高い光反射率を得ることができる。また、繊維状構造体３３Ａを用いることにより、細孔３５の平均孔径が大きくなり、且つ多くの細孔３５が多孔質層３３に設けられる。これにより、泳動粒子３２が細孔３５を経由して移動しやすくなり、応答速度が向上する。また、泳動粒子３２を移動させるために必要なエネルギーがより小さくなる。このような多孔質層３３の厚み（Ｚ方向）は、例えば５μｍ〜１００μｍである。
【００４３】
繊維状構造体３３Ａは、繊維径（直径）に対して十分な長さを有する繊維状物質である。例えば、複数の繊維状構造体３３Ａが集合し、ランダムに重なって多孔質層３３を構成する。１つの繊維状構造体３３Ａがランダムに絡み合って多孔質層３３を構成していてもよい。あるいは、１つの繊維状構造体３３Ａによる多孔質層３３と複数の繊維状構造体３３Ａによる多孔質層３３とが混在していてもよい。図２は、複数の繊維状構造体３３Ａにより多孔質層３３が構成されたものを示している。
【００４４】
繊維状構造体３３Ａは、例えば高分子材料または無機材料等により構成されている。高分子材料としては、例えばナイロン，ポリ乳酸，ポリアミド，ポリイミド，ポリエチレンテレフタレート，ポリアクリロニトリル，ポリエチレンオキシド，ポリビニルカルバゾール，ポリビニルクロライド，ポリウレタン，ポリスチレン，ポリビニルアルコール，ポリサルフォン，ポリビニルピロリドン，ポリビニリデンフロリド，ポリヘキサフルオロプロピレン，セルロースアセテート，コラーゲン，ゼラチン，キトサンまたはそれらのコポリマー等が挙げられる。無機材料は、例えば酸化チタン等である。繊維状構造体３３Ａには高分子材料を用いることが好ましい。高分子材料は、例えば光等に対する反応性が低く、化学的に安定であるためである。即ち、高分子材料を用いることにより、意図しない繊維状構造体３３Ａの分解反応を防ぐことができる。繊維状構造体３３Ａが高反応性の材料により構成される場合には、表面を任意の保護層で被覆しておくことが好ましい。
【００４５】
繊維状構造体３３Ａは、例えば直線状に延在している。繊維状構造体３３Ａの形状はどのようなものであってもよく、例えば縮れていたり、途中で折れ曲がったりしていてもよい。あるいは、繊維状構造体３３Ａは途中で分岐していてもよく、うねっていてもよい。うねった形状の繊維状構造体３３Ａ同士が絡み合うと、多孔質層３３の構造が複雑になり、光学特性を向上させることができる。
【００４６】
繊維状構造体３３Ａの平均繊維径は、例えば１ｎｍ以上１００００ｎｍ以下であり、特に１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。セルロールやビロード等により多孔質層を形成する方法も提案されているが（特公昭５０−１５１２０号参照）、これらの屈折率は絶縁性液体と近く、コントラストが低下する虞がある。またセルロールやビロードの繊維径は、１０〜１００μｍと大きい。これに対し、上記のように平均繊維径を小さくすることにより、光が乱反射し易くなり、また、細孔３５の孔径が大きくなる。繊維状構造体３３Ａが非泳動粒子３３Ｂを保持できるよう、その繊維径を決定する。平均繊維径は、例えば、走査型電子顕微鏡等を用いた顕微鏡観察により測定することができる。繊維状構造体３３Ａの平均長さは任意である。繊維状構造体３３Ａは、例えば相分離法，相反転法，静電（電界）紡糸法，溶融紡糸法，湿式紡糸法，乾式紡糸法，ゲル紡糸法，ゾルゲル法またはスプレー塗布法等により形成される。このような方法を用いることにより、繊維径に対して十分な長さを有する繊維状構造体３３Ａを容易に、且つ安定して形成することができる。
【００４７】
繊維状構造体３３Ａは、ナノファイバーにより構成することが好ましい。ここでナノファイバーとは、繊維径が１ｎｍ〜１００ｎｍであり、長さが繊維径の１００倍以上であることにより、光が乱反射しやすくなり多孔質層３３の光反射率をより向上させることができる。即ち、電気泳動素子３０のコントラストを向上させることが可能となる。また、ナノファイバーからなる繊維状構造体３３Ａでは、単位体積中に占める細孔３５の割合が大きくなり、細孔３５を経由して泳動粒子３２が移動しやすくなる。従って、泳動粒子３２の移動に必要なエネルギーを小さくすることができる。ナノファイバーからなる繊維状構造体３３Ａは、静電紡糸法により形成することが好ましい。静電紡糸法を用いることにより繊維径が小さい繊維状構造体３３Ａを容易に、且つ安定して形成することができる。
【００４８】
繊維状構造体３３Ａには、その光反射率が泳動粒子３２の光反射率よりも高いものを用いることが好ましい。これにより、多孔質層３３と泳動粒子３２との光反射率の差によるコントラストが形成されやすくなる。繊維状構造体３３Ａが実質的に多孔質層３３の光反射率に影響を及ぼすことがない場合、即ち、非泳動粒子３３Ｂにより多孔質層３３の光反射率が決定される場合には、絶縁性液体３１中で光透過性（無色透明）を示す繊維状構造体３３Ａを用いるようにしてもよい。
【００４９】
細孔３５は、複数の繊維状構造体３３Ａが重なり合い、または１つの繊維状構造体３３Ａが絡まり合うことにより構成されている。この細孔３５は、泳動粒子３２が細孔３５を経て移動しやすいよう、できるだけ大きな平均孔径を有していることが好ましい。細孔３５の平均孔径は、例えば０．１μｍ以上１０μｍ以下である。
【００５０】
非泳動粒子３３Ｂは、繊維状構造体３３Ａに固定されており、電気泳動を行わない１または２以上の粒子である。非泳動粒子３３Ｂは、保持されている繊維状構造体２２Ａの内部に埋設されてもよく、あるいは繊維状構造体３３Ａから部分的に露出されていてもよい。
【００５１】
非泳動粒子３３Ｂには、泳動粒子３２とは異なる光反射率、具体的には、より高い光反射率を有するものが用いられる。非泳動粒子３３Ｂは、上記泳動粒子３２で説明したものと同様の材料により構成することが可能である。具体的に、明表示を行うための非泳動粒子３３Ｂには、酸化チタン，酸化亜鉛，酸化ジルコニウム，チタン酸バリウムまたはチタン酸カリウム等の金属酸化物等を用いることが好ましい。これにより、優れた化学的安定性、定着性および光反射性を得ることができる。非泳動粒子３３Ｂおよび泳動粒子３２それぞれの構成材料は同じであってもよく、異なっていてもよい。非泳動粒子３３は、外部から例えば白色または白色に近い色に視認される。
【００５２】
隔壁３４は、駆動基板１０および対向基板２０の積層方向（Ｚ方向）に向かって延在する柱状の仕切りであり、駆動基板１０および対向基板２０に接している。具体的には、隔壁３４の一方はシール層４１、他方は対向電極２２にそれぞれ接している。このような隔壁３４を設けることにより、泳動粒子３２は各セル３６内に収容され、セル３６間での泳動粒子３２の移動を防ぐことができる。従って、泳動粒子３２の拡散、対流および凝集等による表示ムラの発生を抑えて、画質を向上させることが可能となる。隔壁３４の高さ（Ｚ方向）は、互いに揃っていることが好ましい。同じ高さの隔壁３４を設けることにより、シール層４１と対向電極２２との間の距離（ギャップ）が面全体で均一に保たれ、電界強度を一定に維持することができる。これにより、応答速度のムラが解消される。隔壁３４の高さにより、駆動基板１０と対向基板２０との間隙Ｈが規定されるようになっている。間隙Ｈの大きさは、小さくすることが好ましい。これにより、消費電力を抑えることができる。隔壁３４の高さは、例えば１μｍ〜１００μｍである。
【００５３】
この隔壁３４は、例えば対向基板２０から駆動基板１０に向かうにつれて、その幅（Ｘ方向）が小さくなる形状、所謂逆テーパ形状を有している。隔壁３４の幅のうち、最も大きな幅Ｗ１（対向基板２０との対向面の幅）は例えば５μｍ〜５０μｍであり、最も小さな幅Ｗ２（駆動基板１０との対向面の幅）は例えば１μｍ〜３０μｍである。
【００５４】
隔壁３４の平面（ＸＹ平面）形状は、例えば格子状に形成されており、これによって、セル３６は例えば四角形状となる。なお、セル３６はどのような形状であってもよく、例えば正方形状であっても矩形状であってもよい。複数のセル３６は、マトリクス状（複数行×複数列）に配置されていることが好ましい。所定の方向（例えばＸ方向）に隣り合う隔壁３４の距離（隔壁３４のピッチＰ）は、例えば５０〜５００μｍである。
【００５５】
隔壁３４は光透過性材料により構成されていることが好ましい。隔壁３４が光透過性材料を含むことにより、隔壁３４に起因する光反射または光吸収を抑えることができる。隔壁３４は、光透過性材料として例えば感光性樹脂材料を含んでいる。感光性樹脂材料としては、光パターニングが可能な樹脂、例えば、光架橋反応型，光変性型，光重合反応型,または光分解反応型の光硬化性樹脂等が挙げられる。隔壁３４は、１種類の感光性樹脂材料により構成されていてもよく、あるいは複数種類の感光性樹脂材料を含んでいてもよい。感光性樹脂材料として、例えば化学的に安定なフォトレジストを用いることにより、隔壁３４が泳動粒子３２の泳動現象へ影響を及ぼすのを防ぐことができる。フォトレジストはネガ型およびポジ型のどちらであってもよい。感光性樹脂をパターニングするための光源は、どのようなものであってもよいが、例えば半導体レーザ，エキシマレーザ，電子線，紫外線，メタルハライドランプあるいは高圧水銀灯等を用いることができる。
【００５６】
封止剤４０は、電気泳動素子３０を駆動基板１０と対向基板２０との間に封止するためのものであり、例えば、高分子材料等の絶縁性材料により構成されている。封止剤４０を設けることにより、外部から電気泳動素子３０への空気の浸入を防ぐことも可能となる。このような封止剤４０には、例えば微粒子を含むシール材を用いるようにしてもよい。泳動粒子３２の移動を妨げないよう、封止剤４０を配置することが好ましい。封止剤４０の厚みは、隔壁３４の高さ、即ち間隙Ｈと略同じである。封止剤４０が、対向基板２０または駆動基板１０の周縁からはみ出していてもよい。
【００５７】
駆動基板１０と電気泳動素子３０との間には、上述したシール層４１および接着層４２が設けられている。接着層４２は駆動基板１０と電気泳動素子３０（具体的には、シール層４１）とを接着させるためのものであり、例えばアクリル系樹脂またはウレタン系樹脂により構成されている。接着層４２には、ゴム系の粘着シート等を用いるようにしてもよい。
【００５８】
このような表示装置１は、例えば以下の手順により製造される。
【００５９】
まず、支持部材２１の一面に対向電極２２を設けて対向基板２０を形成した後、対向電極２２上に隔壁３４を形成する。対向電極２２は、各種成膜法等の既存の方法を用いて形成すればよい。隔壁３４は、例えば以下のようなインプリント法により形成することが可能である。まず、隔壁３４の構成材料（例えば感光性樹脂材料）を含む溶液を対向電極２２上に塗布する。次いで、これに凹部を有する型を押し当て、感光させた後、型を外す。これにより、柱状の隔壁３４が形成される。逆テーパ形状の隔壁３４では、隔壁３４から型を容易に外すことができる。
【００６０】
隔壁３４を設けた後、隣り合う隔壁３４の間、即ちセル３６内に多孔質層３３を形成する。具体的には、まず、対向電極２２上に多孔質層３３を形成する。多孔質層３３は、紡糸溶液に例えば非泳動粒子３３Ｂとして酸化チタンを加えて十分に攪拌した後、これを紡糸して形成する。紡糸溶液は、例えばＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミドに繊維状構造体３３Ａとしてポリアクリロニトリルを分散または溶解させて調製する。紡糸には例えば静電紡糸法を用いる。静電紡糸法に代えて、相分離法、相反転法、溶融紡糸法、湿式紡糸法、乾式紡糸法、ゲル紡糸法、ゾルゲル法およびスプレー塗布法等を用いるようにしてもよい。
【００６１】
繊維状構造体３３Ａの形成には紡糸法を用いることが好ましい。高分子フィルムにレーザ加工を用いて孔開けを行い、多孔質層を形成する方法も提案されているが（特開２００５−１０７１４６号公報参照）、この方法では孔径５０μｍ程度の大きな孔しか形成できず、多孔質層により泳動粒子を完全に遮蔽することができない虞がある。
【００６２】
多孔質層３３を形成した後、これを分断して、各セル３６内に収める。紡糸により形成した多孔質層３３を上（支持部材２１と反対の方向）から押圧すると、隔壁３４により多孔質層３３が摺り切られる。この切断された多孔質層３３を隔壁３４間に収容する。このようにして、繊維状構造体３３Ａに非泳動粒子３３Ｂが保持された多孔質層３３をセル３６毎に形成することができる。
【００６３】
続いて、剥離部材上にシール層４１を形成する。シール層４１は、例えば熱可塑性ポリウレタン，メチルエチルケトン（ＭＥＫ）およびシクロヘキサノンを所定の割合で混合したのち、完全に溶解させたのち、添加剤を加える。これを剥離部材上に塗布したのち、加熱および乾燥することによりシール層４１が形成される。次いで、対向基板２０上の対向質層３３状に泳動粒子３２を分散させた絶縁性液体３１を塗布したのち、対向基板２０とシール層４１を有する剥離部材とを対向配置して圧着する。こののち、剥離部材からシール層４１を剥がし、接着層４２により駆動基板１０に固定する。駆動基板１０には、例えば既存の方法を用いて、支持部材１１の一面にＴＦＴ１２，保護層１３および画素電極１４をこの順に形成しておく。以上の工程により、表示装置１が完成する。表示装置１をＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ法を用いて製造することも可能である。
【００６４】
この表示装置１は、初期状態では全ての絶縁性液体３１中に分散された泳動粒子３２が画素電極１４に近い側に配置される（図１）。このとき、対向基板２０側から電気泳動素子３０を見ると、泳動粒子３２が多孔質層３３に遮蔽され、画像が表示されない状態となっている。
【００６５】
ＴＦＴ１２により画素が選択されて画素電極１４と対向電極２２との間に電界が印加されると、図３に示したように、選択された画素では泳動粒子３２が多孔質層３３の細孔３５を通り、対向電極２２に向かって移動する。このとき、対向基板２０側から電気泳動素子３０を見ると、多孔質層３３が泳動粒子３２により遮蔽された暗表示の画素と遮蔽されていない明表示の画素の両方が存在する状態となっている。この暗表示の画素および明表示の画素によりコントラストが生じ、対向基板２０側に画像が表示される。
【００６６】
前述したように、表示体として電気泳動素子を用いた一般的な表示装置（電気泳動型ディスプレイ）は、あらかじめシート化された表示体と、ＴＦＴ基板とを貼り合わせることによって作製されている。表示体のシート化は、表示体のＴＦＴ基板との貼り合わせ面にシール層を設けることによって行われるが、このような構成を有する表示装置は、高温保管時に表示特性が急激に劣化するという問題があった。一般的に電子機器の寿命予測や信頼性は、例えば高温保管による加速試験によって検証される。このため、高温保管時に特性が劣化するとは、電子機器の信頼性が低いことを意味する。
【００６７】
これは、詳細は明らかではないが、例えばシール層が高温条件下において膨潤し、これによって絶縁性液体中に含まれる分散剤等の添加剤を吸着することによると推測される。絶縁性液体に含まれる添加剤がシール層に吸着されることによって、泳動粒子の分散性が低下し、これによって反射率が低下、即ち表示特性が劣化する。
【００６８】
これに対して、本実施の形態では、表示装置１を構成する電気泳動素子３０を封止するシール層４１を、流動開始温度が１２０℃以上２５０℃以下の材料を用いて形成することにより、高温保管時におけるシール層４１の膨潤が抑制される。
【００６９】
以上のように本実施の形態の表示装置１では、電気泳動素子３０が接するシール層４１を、流動開始温度が１２０℃以上２５０℃以下の材料を用いて形成するようにしたので、
高温保管時におけるシール層４１の膨潤が抑制される。これにより、高温保管時におけるシール層４１による絶縁性液体３１に含まれる分散剤等の添加剤の吸着が低減され、泳動粒子の分散性の低下を抑制することが可能となる。よって表示特性の劣化が低減される。
【００７０】
＜２．適用例＞
次に上記表示装置１の適用例について説明する。表示装置１は、例えば、以下の電子機器に搭載可能であるが、以下で説明する電子機器の構成はあくまで一例であるため、その構成は適宜変更可能である。
【００７１】
（適用例１）
図４Ａ，４Ｂは、電子ブックの外観構成を表している。この電子ブックは、例えば、表示部１１０および非表示部１２０と、操作部１３０とを備えている。なお、操作部１３０は、図４Ａに示したように非表示部１２０の前面に設けられていてもよいし、図４Ｂに示したように上面に設けられていてもよい。表示部１１０が表示装置１により構成される。なお、表示装置１は、図４Ａ，４Ｂに示した電子ブックと同様の構成を有するＰＤＡ（Personal Digital Assistants）等に搭載されてもよい。
【００７２】
（適用例２）
図５は、タブレットパーソナルコンピュータの外観を表したものである。このタブレットパーソナルコンピュータは、例えば、タッチパネル部３１０および筐体３２０を有しており、タッチパネル部３１０が上記表示装置１により構成されている。
【００７３】
＜３．実施例＞
次に、本技術の実施例について説明する。
【００７４】
（実験例１）
以下の手順により表示装置１（実験例１−１〜１−３）を作製し、その初期反射率と熱加速試験後の反射率を測定した。
【００７５】
（泳動粒子の準備）
まず、カーボンブラック（三菱化学株式会社製#40）１０ｇを水１ｌに加えて攪拌したのち、塩酸（３７重量％）１ｍｌおよび４−ビニルアニリン０．２ｇを加えて溶液Ａを調製した。次に、亜硝酸ナトリウム０．３ｇを水１０ｍｌに溶解させたのち、４０℃まで加熱して溶液Ｂを調製した。続いて、溶液Ａに溶液Ｂをゆっくり加えて１０時間攪拌しながら反応させたのち、遠心分離して生成物の固形物を得た。この生成物を水で洗浄し、アセトンを加えて遠心分離しながら洗浄したのち、真空乾燥機（５０℃）にて乾燥させた。
【００７６】
続いて、生成物５ｇを窒素パージ装置、電磁攪拌棒および還流カラムを備えた反応フラスコ中にトルエン１００ｍｌ，メタクリル酸２−エチルヘキシル１５ｍｌおよびＡＩＢＮ０．２ｇを加え、攪拌しながら反応フラスコ中を窒素で３０分間パージした。次に、この反応フラスコを湯浴にて攪拌しながら８０℃，１０時間攪拌した。続いて、生成物を遠心分離し、更にテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）および酢酸エチルを加えて３回遠心分離して洗浄したのち、真空乾燥機（５０℃）にて乾燥させた。これにより、黒色の泳動粒子３２である重合体被覆カーボンブラック４．７ｇが得られた。
【００７７】
（絶縁性液体の調製）
次に、絶縁性液体としてＮ，Ｎ−ジメチルプロパン−１，３−ジアミン、１２−ヒドロキシオクタデカン酸およびメトキシスルホニルオキシメタン（Lubrizol社製Solsperse17000）を１０重量％、ソルビタントリオレート（Span85）を５．０％、第１成分であるイソパラフィン（エクソンモービル社製IsoparG）を９４％混合して調製した。ここでは、必要に応じて絶縁性液体９．９ｇに泳動粒子０．１ｇを加えて、ビーズミルで５分間攪拌したのちビーズを取り除き、泳動粒子３２が分散された絶縁性液体を調製した。なお、絶縁性液体は上記材料の他にコハク酸イミド（シェブロンケミカル製ＯＡＳ1200）を加えて調整してもよい。
【００７８】
（多孔質層の調製）
続いて、繊維状構造体の形成材料としてポリアクリロニトリル（Aldrich社製：分子量＝１５００００）１２ｇをＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド８８ｇに溶解させて紡糸溶液（溶液Ｃ）を調製した。次に、溶液Ｃ７０ｇに非泳動粒子３２として、例えば酸化チタン（堺化学工業株式会社製TITONE R-42）３０ｇを加えたのちビーズミルで混合し、紡糸溶液（溶液Ｄ）とした。続いて、隔壁を備えた所定のパターン形状の画素電極（ＩＴＯ）が形成されたＰＥＴ基板上に、電界紡糸装置（株式会社メック製NANON）を用いて８往復分の紡糸を行った（繊維状構造体３３Ａ）。ここで、紡糸条件は、電界強度＝２８ｋＶ、吐出速度＝０．５ｃｍ3／分、紡糸距離＝１５ｃｍ、スキャンレート＝２０ｍｍ／秒とした。次に、ＰＥＴ基板を真空オーブン（７５℃）中で１２時間、非泳動粒子３３Ｂを含む繊維状構造体３３Ａを乾燥して多孔質層３３を形成した。その後、押圧によって隔壁３４に多孔質層３３を収容し。繊維状構造体３３Ａに非泳動粒子３３Ｂが保持された多孔質層３３をセル３６毎に形成した。
【００７９】
（表示装置の組み立て）
続いて、前述の方法を用いて隔壁３４を形成したのち、剥離基板上にシール層４１を形成した。まず、熱可塑性ポリウレタン（日本ミラクトラン社製E780PSTJ）のペレット１ｇに対してＭＥＫおよびシクロヘキサノンを１：４：２の割合で混合したのち、ノニオン系添加剤（日油社製マリアリムＡＫＭ-0531）を０．０３ｇ（ポリウレタン母剤に対して３重量％）を加えてロールミルにて８時間攪拌して完全に溶解させ溶液Ｅを調製した。この溶液Ｅをスリット幅１２０μｍのアプリケータを用いてＰＥＴセパレータ上に塗布したのち、ホットプレート上にて９０℃，５分間乾燥させ、シート形状（厚さ１０μｍ）のシール層４１を得た。
【００８０】
次に、ＰＥＴ基板上の多孔質層３３上に絶縁性液体３１を塗布したのち、多孔質層３３が配設されたＰＥＴ基板の前面とシール層４１とを対向配置し、１１０℃に加熱したラミネータを用いて加熱圧着した。なお、ここではＰＥＴ基板（具体的には、電気泳動素子３０）のシール層４１による封止をラミネータによる加熱圧着によって行ったが、これに限定されるものではなく、例えばＵＶ照射によって硬化させる方法等を用いてもよい。続いて、シール層４１から剥離基板を剥がしたのち、ＴＦＴ１２等を備えた駆動基板１０を、接着層４２を介して貼り合わせることにより表示装置１（実験例１−１）を作製した。
【００８１】
この他、シール層４１を構成する材料を変更して実験例１−２〜１−４を作製し、高温保管前後の反射率の変動を測定した。ここで、高温保管とは７０℃に加熱した恒温槽中に約２００時間保管する、いわゆる熱加速試験である。表１は、各実験例におけるシール層の材料、流動開始温度（℃）、初期反射率（％）、熱可加速試験後の反射率（％）および変動率（％）をまとめたものである。図６は、実験例１−１〜１−４の白反射率および黒反射率と恒温槽での保管時間との関係を表したものである。
【００８２】
【表１】
2015197491.tif 000003
【００８３】
表１および図６からわかるように、シール層４１は、流動開始温度の高い材料を用いることによって、熱加速試験後の反射率の変動が低減された。具体的には、流動開始温度が１２２℃以上のポリウレタンを用いてシール層４１を形成することにより、熱加速試験前後の反射率の変動を大幅に抑えることができた。また、実験例１−４のように流動開始温度が２００℃を超えるような材料では表示装置加熱圧着の際にポリウレタンが流動せず、隔壁と接着出来ないために表示体として形成できなかった。
【００８４】
（実験例２）
泳動粒子と多孔質層を以下の方法で作製した。まず、水酸化ナトリウム４２．６２４ｇとケイ酸ナトリウム０．３６９ｇとを水４３ｇに溶解させた後、この溶液を攪拌しながら複合酸化物微粒子（銅−鉄−マンガンの酸化物：大日精化工業株式会社製ダイピロキサイドカラーＴＭ３５５０）５ｇを加えた。これを１５分間攪拌した後、超音波攪拌（３０℃〜３５℃で１５分間）を行った。次いで、この複合酸化物微粒子の分散液を９０℃で加熱した後、０．２２ｍｏｌ／ｃｍ3の硫酸１５ｃｍ3（ｍＬ）と、ケイ酸ナトリウム６．５ｍｇおよび水酸化ナトリウム１．３ｍｇを溶解した水溶液７．５ｃｍ3とを２時間かけて滴下した。その後、これを室温まで冷却して１ｍｏｌ／ｃｍ3の硫酸１．８ｃｍ3を加え、遠心分離（３７００ｒｐｍで３０分間）およびデカンテーションを行った。続いて、このデカンテーション後の沈殿物をエタノールに再分散させ、遠心分離（３５００ｒｐｍで３０分間）およびデカンテーションを行った。この洗浄作業を２回繰り返して得られた沈殿物をボトルに入れ、このボトルにエタノール５ｃｍ3および水０．５ｃｍ3の混合液を加えて、超音波攪拌（１時間）を行った。これにより、シラン被覆複合酸化物粒子の分散溶液が得られた。
【００８５】
次に、水３ｃｍ3、エタノール３０ｃｍ3およびＮ−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］−Ｎ’−（４−ビニルベンジル）エチレンジアミン塩酸塩（４０％メタノール溶液）４ｇを混合して７分間攪拌した溶液に、上記シラン被覆複合酸化物粒子分散溶液の全量を加えた。次いで、この混合液を１０分間攪拌した後、遠心分離（３５００ｒｐｍで３０分間）およびデカンテーションを行った。その後、このデカンテーション後の沈殿物をエタノールに再分散させ、遠心分離（３５００ｒｐｍで３０分間）およびデカンテーションを行った。この洗浄作業を２回繰り返して得られた沈殿物を室温の減圧環境中で６時間、更に７０℃の減圧環境中で２時間乾燥させることにより、固形物が得られた。
【００８６】
次に、この固形物にトルエン５０ｃｍ3を加え、ロールミルで１２時間攪拌した後、これを３つ口フラスコに移し、アクリル酸２−エチルヘキシル１．７ｇを加えて窒素気流下で２０分間攪拌した。次いで、この混合液を５０℃で２０分間攪拌した後、これに、ＡＩＢＮ０．０１ｇのトルエン溶液３ｃｍ３を加えて６５℃で加熱した。続いて、この混合液を１時間攪拌した後、室温まで冷却し、酢酸エチルと共にボトルに流し入れた。このボトルを遠心分離（３５００ｒｐｍで３０分間）にかけ、デカンテーションを施した後、デカンテーション後の沈殿物を酢酸エチルに再分散させて、遠心分離（３５００ｒｐｍで３０分間）およびデカンテーションを行った。この酢酸エチルによる洗浄作業を３回繰り返した後、得られた沈殿物を室温の減圧環境中で１２時間、更に７０℃の減圧環境中で２時間乾燥させた。以上の工程により、重合体被覆顔料からなる黒色の泳動粒子が得られた。
【００８７】
泳動粒子を調製した後、分散剤および電荷調整剤としてメトキシスルホニルオキシメタン（Ｌｕｂｒｉｚｏｌ社製Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ１７０００）０．５％およびソルビタンラウリレート（Ｓｐａｎ２０）１．５％を含む絶縁性液体を準備した。絶縁性液体にはイソパラフィン（エクソンモービル社製ＩｓｏｐａｒＧ）を用いた。この溶液９．９ｇに上記泳動粒子０．１ｇを加え、ビーズミルで５分間攪拌した後、ジルコニアビーズ（直径０．０３ｍｍ）を加え、ホモジナイザで４時間攪拌した。その後、ジルコニアビーズを取り除き、泳動粒子の平均粒径を測定すると、１００ｎｍであった。平均粒径の測定には、ゼータ電位計・粒径測定システムＥＬＳＺ−２（大塚電子株式会社製）を使用した。
【００８８】
一方、多孔質層は以下のようにして形成した。まず、繊維状構造体の構成材料としてポリメチルメタクリレートを準備した。このポリメチルメタクリレート１４ｇをＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド８６ｇに溶解させた後、この溶液７０ｇに、非泳動粒子として一次粒径２５０ｎｍの酸化チタン３０ｇを加えてビーズミルで混合した。これにより繊維状構造体を形成するための紡糸溶液が得られた。所定パターンのＩＴＯからなる画素電極を備えた駆動基板に隔壁を形成し、この紡糸溶液を用いて紡糸を行った。具体的には、紡糸溶液をシリンジに入れ、駆動基板上で１．２ｍｇ/ｃｍ2分の紡糸を行った。以上の工程により、駆動基板上に多孔質層（非泳動粒子を保持した繊維状構造体）を形成した。紡糸は、電界紡糸装置（株式会社メック製ＮＡＮＯＮ）を用いて行った。形成した繊維状構造体の表面電位を、表面分析用ゼータ電位測定装置（アントンパール製ＳｕｒＰＡＳＳ）を用いて測定したところ、−７ｍＶであった。ｐＨ７のときの値を表面電位として測定した。その後、押圧によって隔壁３４に多孔質層３３を収容し。繊維状構造体３３Ａに非泳動粒子３３Ｂが保持された多孔質層３３をセル３６毎に形成した。
【００８９】
またシール層４１の材料として、P22MRNAT（実験例２−１）またはE660MZAA（実験例２−２）を用い、表示装置１を作製し、高温保管前後の反射率の変動を測定した。なお、ここでの熱加速試験は、７０℃に加熱した恒温槽中に約２３０時間保管するものである。表２は、各実験例におけるシール層の材料、流動開始温度（℃）、初期反射率（％）、熱可加速試験後の反射率（％）および変動率（％）をまとめたものである。図７は、実験例２−１，２−２の白反射率および黒反射率と恒温槽における保管時間との関係を表したものである。
【００９０】
【表２】
2015197491.tif 000004
【００９１】
表２および図７からわかるように、シール層４１は、流動開始温度の高い材料（ここでは、１３５℃，１６４℃）を用いることによって、熱加速試験後の反射率の変動が低減された。なお、実験例２−１では、変動率が５％程度まで下がっていたことから、変動率の絶対値は、表示装置を構成する材料による影響を受けることがあることがわかった。
【００９２】
以上、実施の形態および実施例を挙げて本技術を説明したが、本技術は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、泳動粒子により暗表示、多孔質層により明表示を行う場合について説明したが、多孔質層により暗表示、泳動粒子により明表示を行うようにしてもよい。
【００９３】
また、上記実施の形態等では、駆動基板１０とシール層４１とを接着層４２を介して固定する場合について説明したが、シール層４１を直接、駆動基板１０に固定することも可能である。
【００９４】
更に、上記実施の形態等では、多孔質層３３が形成された対向基板２０に絶縁性液体３１を塗布した後、シール層４１と対向させる方法について説明したが、他の方法により表示装置１を製造するようにしてもよい。例えば、駆動基板１０とシール層４１とを対向配置した後、絶縁性液体３１を充填するようにしてもよい。
【００９５】
更にまた、上記実施の形態等では、表示体として電気泳動素子を用いたがこれに限らず、例えば液体光学素子を用いた表示装置に本技術を適用してもよい。液体光学素子は、例えば無極性液体および極性液体を有する、所謂エレクトロウェッティング素子である。
【００９６】
なお、本明細書中に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、また、他の効果があってもよい。
【００９７】
なお、本技術は以下のような構成も取ることができる。
（１）
第１基板と、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、光透過または反射制御可能な表示層と、
前記第１基板と前記表示層との間に設けられると共に、１２０℃以上２５０℃以下の流動開始温度を有するシール層と
を備えた表示装置。
（２）前記シール層の流動開始温度は１３５℃以上２００℃以下である、前記（１）に記載の表示装置。
（３）前記シール層の体積抵抗率は１．０×１０8Ω・ｃｍ以上１．０×１０12Ω・ｃｍ以下である、前記（１）または（２）に記載の表示装置。
（４）前記シール層の体積抵抗率は１．０×１０9Ω・ｃｍ以上１．０×１０11Ω・ｃｍ以下である、前記（１）または（２）のうちいずれか１つに記載の表示装置。
（５）前記シール層はポリウレタンによって形成されている、前記（１）乃至（４）のうちいずれか１つに記載の表示装置。
（６）前記ポリウレタンの分子量は１０００以上１０００００以下である、前記（５）に記載の表示装置。
（７）前記表示層は、絶縁性液体中に、泳動粒子と、繊維状構造体により形成された多孔質層とを含み、前記繊維状構造体は、前記泳動粒子とは異なる光反射性を有すると共に、少なくとも一部が界面活性剤により修飾された非泳動粒子を含む、前記（１）乃至（６）のうちいずれか１つに記載の表示装置。
（８）前記繊維状構造体は静電防止法により形成された、前記（７）に記載の表示装置。
（９）前記非泳動粒子の光反射率は前記泳動粒子の光反射率よりも高く、前記泳動粒子が暗表示、前記非泳動粒子および繊維状構造体が明表示を行う、前記（７）または（８）のうちいずれか１つに記載の表示装置。
（１０）前記泳動粒子および前記非泳動粒子は、有機顔料，無機顔料，染料，炭素材料，金属材料，金属酸化物，ガラスおよび高分子材料のうちの少なくともいずれか１つにより構成されている、前記（７）乃至（９）のうちのいずれかに記載の表示装置。
（１１）前記絶縁性液体中に、前記泳動粒子を分散させる分散剤を含有する、前記（７）乃至（１０）のうちいずれか１つに記載の表示装置。
（１２）
表示装置を備え、
前記表示装置は、
第１基板と、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、光透過または反射制御可能な表示層と、
前記第１基板と前記表示層との間に設けられると共に、１２０℃以上２５０℃以下の流動開始温度を有するシール層と
を有する電子機器。
【符号の説明】
【００９８】
１…表示装置、１０…駆動基板、１１…支持部材、１２…ＴＦＴ、１３…保護層、１４…画素電極、２０…対向基板、２１…支持部材、２２…対向電極、３０…電気泳動素子、３１…絶縁性液体、３２…泳動粒子、３３…多孔質層、３３Ａ…繊維状構造体、３３Ｂ…非泳動粒子、３４…隔壁、３５…細孔、３６…セル、４０…スペーサ、４１…シール層、４２…接着層。
【図１】
2015197491.tif 000005
【図２】
2015197491.tif 000006
【図３】
2015197491.tif 000007
【図４Ａ】
2015197491.tif 000008
【図４Ｂ】
2015197491.tif 000009
【図５】
2015197491.tif 000010
【図６】
2015197491.tif 000011
【図７】
2015197491.tif 000012