(57)【要約】【課題】視認性が改善されたタッチパネルを提供する。【解決手段】網状に形成される電極層１１と、電極層１１の少なくとも一面に形成され、電極層１１より暗い色を有し、電気伝導性を有する視認性改善層１２と、を含む。視認性改善層１２は、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＴｉＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）及びＣｒＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）からなる群から選択される少なくとも一つ以上を含んで形成することができる。【選択図】図１
2015118682.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
網状に形成される電極層と、
前記電極層の少なくとも一面に形成され、電気伝導性を有する視認性改善層と、
を含む、タッチパネル。
【請求項２】
前記視認性改善層は、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＴｉＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）及びＣｒＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）からなる群から選択される少なくとも一つ以上を含んで形成される、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記視認性改善層の厚さは２０ｎｍ〜９０ｎｍである、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記視認性改善層は、前記電極層の両面に形成される、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項５】
透明基板と、
網状に形成される電極層及び前記電極層の少なくとも一面に形成される視認性改善層を備え、前記透明基板の下面に形成される第１のセンサー電極と、
前記透明基板の下面に形成され、前記第１のセンサー電極を覆うように形成される絶縁層と、
網状に形成される電極層及び前記電極層の少なくとも一面に形成される視認性改善層を備え、前記絶縁層の下面に形成される第２のセンサー電極と、
を含み、
前記視認性改善層は電気伝導性を有する、タッチパネル。
【請求項６】
前記視認性改善層は、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＴｉＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）及びＣｒＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）からなる群から選択される少なくとも一つ以上を含んで形成される、請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記視認性改善層の厚さは２０ｎｍ〜９０ｎｍである、請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記視認性改善層は、前記電極層の一面のうち、ユーザーの視野に入る方向に位置するように形成される、請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項９】
前記視認性改善層は、前記電極層の両面に形成される、請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項１０】
透明基板と、
網状に形成される電極層及び前記電極層の少なくとも一面に形成される視認性改善層を備え、前記透明基板の上面に形成される第１のセンサー電極と、
網状に形成される電極層及び前記電極層の少なくとも一面に形成される視認性改善層を備え、前記透明基板の下面に形成される第２のセンサー電極と、
を含み、
前記視認性改善層は電気伝導性を有する、タッチパネル。
【請求項１１】
前記視認性改善層は、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＴｉＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）及びＣｒＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）からなる群から選択される少なくとも一つ以上を含んで形成される、請求項１０に記載のタッチパネル。
【請求項１２】
前記視認性改善層の厚さは２０ｎｍ〜９０ｎｍである、請求項１０に記載のタッチパネル。
【請求項１３】
前記視認性改善層は、前記電極層の一面のうちユーザーの視野に入る方向に位置するように形成される、請求項１０に記載のタッチパネル。
【請求項１４】
前記視認性改善層は、前記電極層の両面に形成される、請求項１０に記載のタッチパネル。
【請求項１５】
第１の透明基板と、
網状に形成される電極層及び前記電極層の少なくとも一面に形成される視認性改善層を備え、前記第１の透明基板の下面に形成される第１のセンサー電極と、
前記第１の透明基板の下面に形成され、前記第１のセンサー電極を覆うように形成される第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層の下面に形成される第２の透明基板と、
網状に形成される電極層及び前記電極層の少なくとも一面に形成される視認性改善層を備え、前記第２の透明基板の下面に形成される第２のセンサー電極と、
前記第２の透明基板の下面に形成され、前記第２のセンサー電極を覆うように形成される第２の絶縁層と、
を含み、
前記視認性改善層は電気伝導性を有する、タッチパネル。
【請求項１６】
前記視認性改善層は、前記電極層の一面のうちユーザーの視野に入る方向に位置するように形成される、請求項１５に記載のタッチパネル。
【請求項１７】
前記視認性改善層は、前記電極層の両面に形成される、請求項１５に記載のタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチスクリーン、タッチパッド等のような接触感知装置は、ディスプレー装置に付加されて、ユーザーに直感的な入力方法を提供できる入力装置であり、最近では、携帯電話、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）、ナビゲーション等のような多様な電子機器に広く適用されている。特に、スマートフォンへの需要が増加するにつれ、制限されたフォームファクタで多様な入力方法を提供することができるタッチスクリーンの採用率が増加している。
【０００３】
携帯用機器に適用されるタッチスクリーンは、タッチ入力を感知する方法によって抵抗膜方式と静電容量方式とに、大きく分けられる。この中で、静電容量方式は、寿命が相対的に長く、多様な入力方法とジェスチャーを容易に具現することができるという長所によって、その適用率が高まっている。特に、静電容量方式は、抵抗膜方式に比べてマルチタッチインターフェースを具現するのが容易であるため、スマートフォン等の機器に幅広く適用されている。
【０００４】
静電容量方式のタッチスクリーンは、一定のパターンを有する複数の電極を含み、タッチ入力によって静電容量の変化が生成される複数のノードが、上記複数の電極によって定義される。２次元平面に分布する複数のノードは、タッチ入力によって自己静電容量（Ｓｅｌｆ‐Ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）又は結合静電容量（Ｍｕｔｕａｌ‐Ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）の変化を生成し、複数のノードで生成される静電容量の変化に、加重平均計算法等を適用してタッチ入力の座標を計算することができる
【０００５】
従来のタッチパネルでは、通常、タッチを認識するセンシング電極をＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ；インジウム‐スズ酸化物）で形成していた。しかしながら、ＩＴＯの場合、原料であるインジウム（Ｉｎｄｉｕｍ）が希土類金属で高価であるため製造コストがかかり、価格競争力が落ちる上、原料が１０年内に枯渇すると予想されるため、供給が円滑ではないという問題がある。
【０００６】
上記のような理由で不透明な導電性細線を用いて電極を形成しようとする研究が行われており、金属のような導電性細線で形成される電極は、ＩＴＯや伝導性高分子に比べて電気伝導度に格段に優れ、供給が円滑であるという長所を有する。
【０００７】
しかしながら、導電性細線を用いて電極を形成する場合、規則化された導電性細線によるモアレ現象と、金属の反射による視認性減少の問題がある。
【０００８】
特に、導電性細線の一定のパターン及び金属の反射によって反射型回折現象が発生する。
【０００９】
反射型回折現象は、太陽光等のような光源が、一定のパターンを有する導電性細線を備えた面に加わるときに回線が発生して現れる現象であり、タッチパネルの視認性を阻害する主な要因となる。
【００１０】
また、モアレ現象は、一定の間隔を有するパターンが繰り返され重なって発生する現象であり、導電性細線を用いて２軸のセンサー電極を形成する場合に、各軸の導電性細線のパターンが重なって発生し、タッチパネルの視認性を阻害するもう一つの要因となる。
【００１１】
よって、タッチパネルの視認性を向上させるために、上記のような反射型回折現象及びモアレ現象を減少させる解決方案が必要とされている。
【００１２】
下記の特許文献１は、タッチパネル及びその製造方法に関するものである。具体的には、特許文献１は、少なくとも一つの透明基板と、上記透明基板の一面又は両面に多数の単位電極ラインを含んで形成された電極と、を含み、上記電極は上記透明基板から第１の絶縁パターン層、金属パターン、及び第２の絶縁パターン層を順次積層した構造を有するタッチパネルを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】韓国特許出願公開第２０１３‐００５１３１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明の目的は、視認性が改善されたタッチパネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の一実施例によるタッチパネルは、網状に形成される電極層と、上記電極層の少なくとも一面に形成され電気伝導性を有する視認性改善層と、を含むことができる。
【００１６】
一実施例において、上記視認性改善層は、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＴｉＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）及びＣｒＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）からなる群から選択される、少なくとも一つ以上を含んで形成することができる。
【００１７】
一実施例において、上記視認性改善層の厚さは２０ｎｍ〜９０ｎｍであれば良い。
【００１８】
一実施例において、上記視認性改善層は、上記電極層の両面に形成することができる。
【００１９】
本発明の他の実施例によるタッチパネルは、透明基板と、網状に形成される電極層及び上記電極層の少なくとも一面に形成される視認性改善層を備え、上記透明基板の下面に形成される第１のセンサー電極と、上記透明基板の下面に形成され上記第１のセンサー電極を覆うように形成される絶縁層と、網状に形成される電極層及び上記電極層の少なくとも一面に形成される視認性改善層を備え、上記絶縁層の下面に形成される第２のセンサー電極と、を含み、
上記視認性改善層は電気伝導性を有することができる。
【００２０】
他の実施例において、上記視認性改善層は、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＴｉＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）、及びＣｒＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）からなる群から選択される、少なくとも一つ以上を含んで形成することができる。
【００２１】
他の実施例において、上記視認性改善層の厚さは２０ｎｍ〜９０ｎｍであれば良い。
【００２２】
他の実施例において、上記視認性改善層は、上記電極層の一面のうちユーザーの視野に入る方向に位置するように形成することができる。
【００２３】
他の実施例において、上記視認性改善層は、上記電極層の両面に形成することができる。
【００２４】
本発明のさらに他の実施例によるタッチパネルは、透明基板と、網状に形成される電極層及び上記電極層の少なくとも一面に形成される視認性改善層を備え、上記透明基板の上面に形成される第１のセンサー電極と、網状に形成される電極層及び上記電極層の少なくとも一面に形成される視認性改善層を備え、上記透明基板の下面に形成される第２のセンサー電極と、を含み、上記視認性改善層は電気伝導性を有することができる。
【００２５】
さらに他の実施例において、上記視認性改善層は、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＴｉＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）、及びＣｒＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）からなる群から選択される、少なくとも一つ以上を含んで形成することができる。
【００２６】
さらに他の実施例において、上記視認性改善層の厚さは２０ｎｍ〜９０ｎｍであれば良い。
【００２７】
さらに他の実施例において、上記視認性改善層は、上記電極層の一面のうちユーザーの視野に入る方向に位置するように形成することができる。
【００２８】
さらに他の実施例において、上記視認性改善層は、上記電極層の両面に形成することができる。
【００２９】
本発明のさらに他の実施例によるタッチパネルは、第１の透明基板と、網状に形成される電極層及び上記電極層の少なくとも一面に形成される視認性改善層を備え、上記第１の透明基板の下面に形成される第１のセンサー電極と、上記第１の透明基板の下面に形成され上記第１のセンサー電極を覆うように形成される第１の絶縁層と、上記第１の絶縁層の下面に形成される第２の透明基板と、網状に形成される電極層及び上記電極層の少なくとも一面に形成される視認性改善層を備え、上記第２の透明基板の下面に形成される第２のセンサー電極と、上記第２の透明基板の下面に形成され上記第２のセンサー電極を覆うように形成される第２の絶縁層と、を含み、上記視認性改善層は電気伝導性を有することができる。
【００３０】
さらに他の実施例において、上記視認性改善層は、上記電極層の一面のうちユーザーの視野に入る方向に位置するように形成することができる。
【００３１】
さらに他の実施例において、上記視認性改善層は、上記電極層の両面に形成することができる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の一実施例によるタッチパネルは、電極層の一面に形成され、電極層より明度が低い視認性改善層を含むため、ユーザーが認識することが困難になり、視認性を改善することができる。
【００３３】
また、本発明の他の実施例によるタッチパネルは、視認性改善層を含むため、反射型回折現象及びモアレ現象が減少して視認性が改善される。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の一実施例によるタッチパネルの電極層の概略平面図である。
【図２】図１のＡ‐Ａ’線に沿う概略断面図である。
【図３】視認性改善層の厚さによる明度を概略的に示すグラフである。
【図４】電極層の上面及び下面に視認性改善層を含むタッチパネルの概略断面図である。
【図５】本発明の他の実施例によるタッチパネルの概略断面図である。
【図６】電極層の上面及び下面に視認性改善層を含む本発明の他の実施例によるタッチパネルの概略断面図である。
【図７】本発明のさらに他の実施例によるタッチパネルの概略断面図である。
【図８】電極層の上面及び下面に視認性改善層を含む本発明のさらに他の実施例によるタッチパネルの概略断面図である。
【図９】本発明のさらに他の実施例によるタッチパネルの概略断面図である。
【図１０】電極層の上面及び下面に視認性改善層を含む本発明のさらに他の実施例によるタッチパネルの概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下、添付の図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。
【００３６】
図１は、本発明の一実施例によるタッチパネル１０の電極層１１の概略平面図であり、図２は、図１のＡ‐Ａ’線に沿う概略断面図である。
【００３７】
以下では、図１及び２を参照して、本発明の一実施例によるタッチパネル１０について説明する。
【００３８】
本発明の一実施例によるタッチパネル１０は、電極層１１と、視認性改善層１２と、を含むことができる。
【００３９】
上記電極層１１は、導電性細線を用いて網状になるように形成することができる。
【００４０】
上記電極層１１は、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｃｕのいずれか一つの金属、又はこれらの合金で製造され、単層又は多層で形成することができる。
【００４１】
通常、導電性細線の線幅は０．５μｍ〜１０μｍである。
【００４２】
線幅が０．５μｍより狭い場合には、断線によって不良率が増加し、また抵抗値が増加し、一方、線幅が１０μｍより広い場合には、透過性が減少する可能性がある。
【００４３】
上記タッチパネル１０の電極層１１の一面には、視認性改善層１２を形成することができる。
【００４４】
上記視認性改善層１２は、上記電極層１１に比べて明度が低い物質を用いて形成することができる。
【００４５】
上記視認性改善層１２は、上記電極層１１に比べて明度が低いため、タッチパネルに用いられた場合に、ユーザーが電極層１１を認知することを防止することができる。
【００４６】
即ち、上記視認性改善層１２のない電極層１１の場合、一般に用いられるＡｌのような物質が白色に近い色を有することから、タッチパネルを用いるユーザーの目に容易に認識される可能性がある。
【００４７】
しかしながら、本発明の一実施例によるタッチパネル１０は、上記電極層１１より明度が低い視認性改善層１２で上記電極層１１の一面を覆うため、電極層１１がよく見えないようにすることができる。
【００４８】
したがって、本発明の一実施例によるタッチパネル１０を用いると、視認性を改善されることができる。
【００４９】
即ち、上記視認性改善層１２が一面に形成された電極層１１を、タッチパネル１０のセンサー電極として用いると、視認性が改善されるため、ユーザーがセンサー電極を認識することが不可能になる。
【００５０】
また、上記視認性改善層１２は、電気伝導性を有する物質を用いて形成することができる。
【００５１】
上記視認性改善層１２が電気伝導性を有する物質を用いて形成されるため、本発明の一実施例によるタッチパネル１０は、別途の追加工程を付加しなくても、回路基板等のような外部部材と電気的に連結することができる。
【００５２】
従来は、視認性を改善するために別途の絶縁層を形成していたため、回路基板等と電気的に連結するために、該当する部分の絶縁層を一部除去するための露光、エッチング等のパターン工程を必要としていた。
【００５３】
しかしながら、本発明の一実施例による視認性改善層１２は、電気伝導性を有する物質を用いて形成されるため、別途の追加工程がなくても外部と電気的に連結することができる。
【００５４】
例えば、上記視認性改善層１２は、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＴｉＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）、及びＣｒＮｘＯｙ（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）からなる群から選択される少なくとも一つであれば良い。
【００５５】
上記視認性改善層１２は、スパッタ等の方法で、直接コーティングして形成することができる。
【００５６】
また、上記視認性改善層は、金属をターゲットに用いてアルゴン雰囲気下で窒素及び酸素の含量と分量を調節する反応性スパッタリング（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）により形成することができる。
【００５７】
上記反応性スパッタリングを用いる場合、窒素及び酸素の含量と分量を調節して、多様な組成の視認性改善層１２を形成することができる。
【００５８】
上記視認性改善層１２が形成されている場合、上記視認性改善層１２は、上記電極層１１の腐食を防止する役割を果たすことができる。
【００５９】
したがって、本発明の一実施例によるタッチパネル１０の信頼性を向上させることができる。
【００６０】
図３は、視認性改善層１２の厚さによる明度を概略的に示すグラフである。
【００６１】
図３は、ＴｉＮを基準に厚さによる明度を測定して示したものであり、ＣｒＮ、ＴｉＮｘＯｙ、ＣｒＮｘＯｙはＴｉＮと類似した明度特性を示す。
【００６２】
明度は、１００の場合は白色、０の場合は黒色を示す。
【００６３】
純粋なＴｉの場合、明度は約７５程度の値を有する。
【００６４】
図３を参照すると、上記視認性改善層１２の厚さは２０ｎｍ〜９０ｎｍであれば良い。
【００６５】
上記視認性改善層１２の厚さが２０ｎｍ未満の場合は、当該視認性改善層１２の明度が純粋なＴｉの明度と類似するか高い可能性がある。
【００６６】
したがって、上記視認性改善層１２の厚さが２０ｎｍ未満の場合は、視認性改善効果が減少する。
【００６７】
上記視認性改善層１２の厚さが厚くなるほど、明度は次第に減少するが、勾配は次第に小さくなる。
【００６８】
上記視認性改善層１２の厚さが９０ｎｍを超える場合は、視認性改善効果の増加率が弱く、却ってタッチパネル１０の厚さを増加させる要因となる可能性がある。
【００６９】
したがって、本発明の一実施例によるタッチパネル１０の視認性改善層１２の厚さは、２０ｎｍ〜９０ｎｍであれば良い。
【００７０】
図４は、電極層１１の上面及び下面に視認性改善層１２ａ、１２ｂを含むタッチパネル１０の概略断面図である。
【００７１】
図４を参照すると、本発明の一実施例によるタッチパネル１０は、電極層１１の両面に、視認性改善層１２ａ、１２ｂを形成することができる。
【００７２】
上記視認性改善層１２ａ、１２ｂは電気伝導性を有するため、上記電極層１１の下面に形成される場合でも、これを外部と連結するための別途の追加工程を必要としない。
【００７３】
また、上記視認性改善層１２ａ、１２ｂは、上記電極層１１の両面に形成されるため、上記電極層１１の腐食を、より確実に防止する役割を果たすことができる。
【００７４】
図５は、本発明の他の実施例によるタッチパネル１００の概略断面図である。
【００７５】
図５を参照すると、本発明の他の実施例によるタッチパネル１００は、第１の透明基板１０１と、第１のセンサー電極１１０ａと、第１の絶縁層１０２と、第２の透明基板１０３と、第２のセンサー電極１１０ｂと、第２の絶縁層１０４と、を含んで構成することができる。
【００７６】
モバイル機器の場合、タッチパネルは、通常、ディスプレー装置に一体化して備えられ、ディスプレー装置の画面が透過できる程度に、高い光透過率を有しなければならない。
【００７７】
したがって、上記第１の透明基板１０１及び第２の透明基板１０３は、ＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、ＰＥＳ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｆｏｎｅ）、ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ＰＭＭＡ（ＰｏｌｙｍｅｔｈｌｙｍｅｔｈＡｃｒｙｌａｔｅ）、ＣＯＰ（Ｃｙｃｌｏ‐Ｏｌｅｆｉｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ）等のフィルム、ソーダガラス（Ｓｏｄａ  ｇｌａｓｓ）、又は強化ガラス（Ｔｅｍｐｅｒｅｄ  ｇｌａｓｓ）のような、透明な材料を用いて形成することができる。
【００７８】
上記第１のセンサー電極１１０ａ及び上記第２のセンサー電極１１０ｂは、それぞれ上記第１の透明基板１０１及び上記第２の透明基板１０３の下面に形成することができる。
【００７９】
本発明のさらに他の実施例によるタッチパネル１００に用いられる第１及び第２のセンサー電極１１０ａ、１１０ｂは、上述した一実施例のタッチパネル１０の電極層１１を用いて形成されるものである。
【００８０】
即ち、上記第１及び第２のセンサー電極１１０ａ、１１０ｂは、電極層１１１と視認性改善層１１２とを含んで構成することができる。
【００８１】
上記第１のセンサー電極１１０ａ及び上記第２のセンサー電極１１０ｂは、スパッタ（Ｓｐｕｔｔｅｒ）、Ｅ‐Ｂｅａｍのような真空蒸着方式や、メッキのような電解方式、印刷（Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）及び刷り込み（Ｉｍｐｒｉｎｔｉｎｇ）等の工程を用いて形成することができる。
【００８２】
上述した工程中に、上記第１の透明基板１０１が下部に位置するようにしてこの工程を実施することができる。
【００８３】
上記第１の絶縁層１０２は、上記第１の透明基板１０１と上記第２の透明基板１０３との間に介在し、上記第１のセンサー電極１１０ａを覆うように形成することができる。
【００８４】
また、上記第２の絶縁層１０４は、上記第２の透明基板１０３の下部に形成され、上記第２のセンサー電極１１０ｂを覆うように形成することができる。
【００８５】
本発明の一実施例によるタッチパネル１００は、上記第１及び第２のセンサー電極１１０ａ、１１０ｂとコントローラー集積回路が電気的に連結され、タッチ入力を感知することにより作動する。
【００８６】
上記コントローラー集積回路は、タッチ入力によって上記第１及び第２のセンサー電極１１０ａ、１１０ｂで生成される静電容量の変化を検出し、そこからタッチ入力を感知する。
【００８７】
したがって、静電容量の変化を大きくするために、誘電率が高い物質を用いて上記第１の絶縁層１０２を形成すれば良い。
【００８８】
上記第１の絶縁層１０２及び上記第２の絶縁層１０４は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｓｉ３Ｎ４、及びＴｉＯ２のうち一つを含む無機物で形成することができる。この場合、第１及び第２の絶縁層１０２、１０４は、１μｍ〜１０μｍの厚さを有するように製作することができる。
【００８９】
本発明の一実施例によるタッチパネル１００では、上記第１の透明基板１０１が形成される方向を、電子機器のユーザーがタッチパネル１００を見る方向と一致させることができる。
【００９０】
したがって、本発明の一実施例によるタッチパネル１００では、第１及び第２のセンサー電極１１０ａ、１１０ｂの視認性改善層１１２を、電子機器のユーザーがタッチパネル１００を見る方向に形成することができる。
【００９１】
例えば、図５に示されているように、上記視認性改善層１１２を上記電極層１１１の上面に形成し、タッチパネル１００の視認性を改善することができる。
【００９２】
即ち、上記視認性改善層１１２は、上記電極層１１１より明度が低くて暗い色を有するため、電子機器のユーザーにはよく見えない。
【００９３】
したがって、本発明の一実施例によるタッチパネル１００を用いれば、反射型回折現象及びモアレ現象が減少して視認性が増加する。
【００９４】
また、上記視認性改善層１１２は電気伝導性を有するため、第１及び第２のセンサー電極１１０ａ、１１０ｂとコントローラー集積回路とを、電気的に連結するための別途の追加工程を必要としない。
【００９５】
図６は、本発明の他の実施例によるタッチパネル２００の概略断面図であり、これは、電極層２１１の上面及び下面に視認性改善層２１２ａ、２１２ｂを備えている。
【００９６】
なお、図５に示すものと同じ構成の部分については、その説明を省略する。
【００９７】
図６を参照すると、第１及び第２のセンサー電極２１０ａ、２１０ｂは、電極層２１１の両面に、視認性改善層２１２ａ、２１２ｂを形成することができる。
【００９８】
上記視認性改善層２１２ａ、２１２ｂは、上記電極層２１１に比べて耐食性が高いため、電極層２１１の両面に形成される場合には、上記電極層２１１を保護する機能を発揮することができる。
【００９９】
したがって、本発明の他の実施例によるタッチパネル２００の信頼性を向上させることができる。
【０１００】
図７は、本発明のさらに他の実施例によるタッチパネル３００の概略断面図である。
【０１０１】
図７を参照すると、本発明のさらに他の実施例によるタッチパネル３００は、透明基板３０１と、第１のセンサー電極３１０ａと、第１の絶縁層３０２と、第２のセンサー電極３１０ｂと、第２の絶縁層３０４と、カバー層３２０と、を含んで構成される。
【０１０２】
モバイル機器の場合、タッチパネルは、通常、ディスプレー装置と一体化して備えられ、ディスプレー装置の画面を光が透過できる程度に高い光透過率を有しなければならない。
【０１０３】
したがって、上記透明基板３０１は、ＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＣ（Pｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、ＰＥＳ（Pｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｆｏｎｅ）、ＰＩ（Pｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ＰＭＭＡ（ＰｏｌｙｍｅｔｈｌｙｍｅｔｈＡｃｒｙｌａｔｅ）、ＣＯＰ（Ｃｙｃｌｏ‐Ｏｌｅｆｉｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ）等のフィルム、ソーダガラス（Ｓｏｄａ  ｇｌａｓｓ）、又は強化ガラス（Ｔｅｍｐｅｒｅｄ  ｇｌａｓｓ）のような、透明な材料を用いて形成することができる。
【０１０４】
上記第１のセンサー電極３１０ａは、上記透明基板３０１の上面に形成され、上記第２のセンサー電極３１０ｂは、上記透明基板３０１の下面に形成することができる。
【０１０５】
本発明のさらに他の実施例による、タッチパネル３００に用いられる第１及び第２のセンサー電極３１０ａ、３１０ｂは、上述した一実施例のタッチパネル１０の電極層１１を用いて形成されるものである。
【０１０６】
即ち、上記第１及び第２のセンサー電極３１０ａ、３１０ｂは、電極層３１１と、視認性改善層３１２と、を含んで構成することができる。
【０１０７】
上記第１のセンサー電極３１０ａ及び上記第２のセンサー電極３１０ｂは、スパッタ（Ｓｐｕｔｔｅｒ）、Ｅ‐Ｂｅａｍのような真空蒸着方式や、メッキのような電解方式、印刷（Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）及び刷り込み（Ｉｍｐｒｉｎｔｉｎｇ）等の工程を用いて形成されることができる。
【０１０８】
上記第１の絶縁層３０２は、上記透明基板３０１の上部に形成され、上記第１のセンサー電極３１０ａを覆うように形成することができる。
【０１０９】
また、上記第２の絶縁層３０４は、上記透明基板３０１の下部に形成され、上記第２のセンサー電極３１０ｂを覆うように形成することができる。
【０１１０】
上記第１の絶縁層３０２の上部には、カバー層３２０を形成することができる。
【０１１１】
上記カバー層３２０は、上記透明基板３０１と同じ材料を用いて形成することができる。
【０１１２】
本発明の一実施例によるタッチパネル３００は、上記第１及び第２のセンサー電極３１０ａ、３１０ｂとコントローラー集積回路とが電気的に連結され、タッチ入力を感知することにより作動する。
【０１１３】
上記コントローラー集積回路は、タッチ入力によって、上記第１及び第２のセンサー電極３１０ａ、３１０ｂで生成される静電容量の変化を検出し、そこからタッチ入力を感知する。
【０１１４】
したがって、静電容量の変化を大きくするために、誘電率が高い物質を用いて上記第１の絶縁層３０２を形成すれば良い。
【０１１５】
上記第１の絶縁層３０２及び上記第２の絶縁層３０４は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｓｉ３Ｎ４、及びＴｉＯ２のうちの一つを含む無機物で形成することができる。この場合、第１及び第２の絶縁層３０２、３０４は、１μｍ〜１０μｍの厚さを有するように製作することができる。
【０１１６】
本発明の一実施例によるタッチパネル３００では、上記カバー層３２０が形成される方向を、電子機器のユーザーがタッチバネル３００を見る方向と一致させることができる。
【０１１７】
したがって、本発明の一実施例によるタッチパネル３００は、第１及び第２のセンサー電極３１０ａ、３１０ｂの視認性改善層３１２を、電子機器のユーザーがタッチパネル３００を見る方向に形成することができる。
【０１１８】
例えば、図７に示されるように、上記視認性改善層３１２は、上記電極層３１１の上面に形成され、タッチパネル３００の視認性を改善することができる。
【０１１９】
即ち、上記視認性改善層３１２は、上記電極層３１０より明度が低くて暗い色を有するため、電子機器のユーザーにはよく見えない。
【０１２０】
したがって、本発明の一実施例によるタッチパネル３００を用いると、反射型回折現象及びモアレ現象が減少するので、視認性が増加する。
【０１２１】
また、上記視認性改善層３１２は電気伝導性を有するため、第１及び第２のセンサー電極３１０ａ、３１０ｂとコントローラー集積回路とを電気的に連結するための、別途の追加工程を必要としない。
【０１２２】
図８は、本発明のさらに他の実施例に係るタッチパネルの概略断面図であり、これは、電極層の上面及び下面に視認性改善層を含む。
【０１２３】
なお、図７に示すものと同じ構成部分については、その説明を省略する。
【０１２４】
図８を参照すると、第１及び第２のセンサー電極４１０ａ、４１０ｂは、電極層４１１の両面に、視認性改善層４１２ａ、４１２ｂを形成することができる。
【０１２５】
上記視認性改善層４１２ａ、４１２ｂは、上記電極層４１１に比べて耐食性が高いため、電極層４１１の両面に形成される場合には、上記電極層４１１を保護する機能を発揮することができる。
【０１２６】
図９は、本発明のさらに他の実施例によるタッチパネル５００の概略断面図である。
【０１２７】
図９を参照すると、本発明のさらに他の実施例によるタッチパネル５００は、透明基板５０１と、第１のセンサー電極５１０ａと、絶縁層５０２と、第２のセンサー電極５１０ｂと、を含んで構成される。
【０１２８】
モバイル機器の場合、タッチパネルは、通常、ディスプレー装置と一体化して備えられ、ディスプレー装置の画面を光が透過できる程度に高い光透過率を有しなければならない。
【０１２９】
したがって、上記透明基板５０１は、ＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、ＰＥＳ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｆｏｎｅ）、ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ＰＭＭＡ（ＰｏｌｙｍｅｔｈｌｙｍｅｔｈＡｃｒｙｌａｔｅ）、ＣＯＰ（Ｃｙｃｌｏ‐Ｏｌｅｆｉｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ）等のフィルム、ソーダガラス（Ｓｏｄａ  ｇｌａｓｓ）、又は強化ガラス（Ｔｅｍｐｅｒｅｄ  ｇｌａｓｓ）のような透明な材料を用いて形成することができる。
【０１３０】
上記第１のセンサー電極５１０ａは、上記透明基板５０１の下面に形成され、上記第１のセンサー電極５１０ａの下部には上記絶縁層５０２を形成することができる。
【０１３１】
上記絶縁層５０２は、上記第１のセンサー電極５１０ａを覆うように形成することができる。また、上記絶縁層５０２の下部に第２のセンサー電極５１０ｂを形成することができる。
【０１３２】
また、上記第２のセンサー電極５１０ｂを保護するために、上記絶縁層５０２の下部に保護層（図示せず）を形成して、上記第２のセンサー電極５１０ｂを覆うようにすることができる。
【０１３３】
上記絶縁層５０２は、ＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）を用いて形成することができる。
【０１３４】
本発明のさらに他の実施例によるタッチパネル５００に用いられる、第１及び第２のセンサー電極５１０ａ、５１０ｂは、上述した一実施例のタッチパネル１０の電極層１１を用いて形成されるものである。
【０１３５】
即ち、上記第１及び第２のセンサー電極５１０ａ、５１０ｂは、電極層５１１と、視認性改善層５１２と、を含んで構成することができる。
【０１３６】
上記第１のセンサー電極５１０ａ及び上記第２のセンサー電極５１０ｂは、スパッタ（Ｓｐｕｔｔｅｒ）、Ｅ‐Ｂｅａｍのような真空蒸着方式や、メッキのような電解方式、印刷（Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）及び刷り込み（Ｉｍｐｒｉｎｔｉｎｇ）等の工程を用いて形成することができる。
【０１３７】
本発明の一実施例によるタッチパネル５００は、上記第１及び第２のセンサー電極５１０ａ、５１０ｂとコントローラー集積回路とが電気的に連結され、タッチ入力を感知することにより作動する。
【０１３８】
上記コントローラー集積回路は、タッチ入力によって上記第１及び第２のセンサー電極５１０ａ、５１０ｂで生成される静電容量の変化を検出し、そこからタッチ入力を感知する。
【０１３９】
したがって、静電容量の変化を大きくするために、誘電率が高い物質を用いて上記絶縁層５０２を形成すれば良い。
【０１４０】
上記絶縁層５０２は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｓｉ３Ｎ４、及びＴｉＯ２のうちの一つを含む無機物で形成することができる。この場合、上記絶縁層５０２は１μｍ〜１０μｍの厚さを有するように製作することができる。
【０１４１】
本発明の一実施例によるタッチパネル５００では、上記透明基板５０１が形成される方向を、電子機器のユーザーがタッチパネル５００を見る方向とすることができる。
【０１４２】
したがって、本発明の一実施例によるタッチパネル５００は、第１及び第２のセンサー電極５１０ａ、５１０ｂの視認性改善層５１２を、電子機器のユーザーがタッチパネル５００を見る方向に形成することができる。
【０１４３】
例えば、図９に示されるように、上記視認性改善層５１２は、上記電極層５１１の上面に形成されて、タッチパネル５００の視認性を改善することができる。
【０１４４】
即ち、上記視認性改善層５１２は、上記電極層５１１より明度が低くて暗い色を有するため、電子機器のユーザーによく見えない。
【０１４５】
したがって、本発明の一実施例によるタッチパネル５００を用いると、反射型回折現象及びモアレ現象が減少するので視認性が増加する。
【０１４６】
また、上記視認性改善層５１２は電気伝導性を有するため、第１及び第２のセンサー電極５１０ａ、５１０ｂとコントローラー集積回路とを電気的に連結するための別途の追加工程を必要としない。
【０１４７】
図１０は、本発明のさらに他の実施例によるタッチパネル６００の概略断面図であり、これは、電極層６１１の上面及び下面に視認性改善層６１２ａ、６１２ｂを含む。
【０１４８】
なお、図９に示すものと同じ構成部分については、その説明を省略する。
【０１４９】
図１０を参照すると、第１及び第２のセンサー電極６１０ａ、６１０ｂは、電極層６１１の両面に視認性改善層６１２ａ、６１２ｂを形成することができる。
【０１５０】
上記視認性改善層６１２ａ、６１２ｂは、上記電極層６１１に比べて耐食性が高いため、電極層６１１の両面に形成される場合には、上記電極層６１１を保護する機能を果たすことができる。
【０１５１】
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様な修正及び変形が可能であるということは、当技術分野の通常の知識を有する者には明らかである。
【符号の説明】
【０１５２】
１０  タッチパネル
１１  電極層
１２  視認性改善層        
１００  タッチパネル
１１０ａ  第１のセンサー電極
１１０ｂ  第２のセンサー電極
１０１  第１の透明基板
１０３  第２の透明基板
１０２  第１の絶縁層
１０４  第２の絶縁層
【図１】
2015118682.tif 000003
【図２】
2015118682.tif 000004
【図３】
2015118682.tif 000005
【図４】
2015118682.tif 000006
【図５】
2015118682.tif 000007
【図６】
2015118682.tif 000008
【図７】
2015118682.tif 000009
【図８】
2015118682.tif 000010
【図９】
2015118682.tif 000011
【図１０】
2015118682.tif 000012