(57)【要約】      （修正有）【課題】短時間で硬化が可能であり耐熱性や耐久性に優れる反射防止層用樹脂組成物と、これを用いることにより高い歩留まりで特性の良好な反射防止層及びこれを用いた光学装置を提供する。【解決手段】脂環式エポキシと反応開始剤を含むことを特徴とし、反応開始剤が光酸発生剤を含んでいる反射防止層用樹脂組成物である。当該反射防止層用樹脂組成物は、室温においてワニス状で、硬化時の収縮を抑制する特性を有するため、高い寸法精度が要求される光学装置用の部材として使用することが出来る。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学式１および／又は化学式２で表わされる脂環式エポキシ樹脂前駆体と重合開始剤を含むことを特徴とする反射防止層用樹脂組成物。
【化１】
2015118349.tif 000008
［上記式（１）中、−Ｘ−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、または−Ｃ（ＣＨ３）２−を表す。］
【化２】
2015118349.tif 000009
【請求項２】
前記重合開始剤が光酸発生剤である請求項１に記載の反射防止層用樹脂組成物。
【請求項３】
前記樹脂組成物中の脂環式エポキシ樹脂の比率が５０％〜１００％である請求項１または２に記載の反射防止層用樹脂組成物。
【請求項４】
請求項１記載の脂環式エポキシ樹脂前駆体の異性体の含有率が４０％以下である請求項１ないし３のいずれか１項に記載の反射防止層用樹脂組成物。
【請求項５】
さらに酸化防止剤を含有する請求項１ないし４のいずれか１項に記載の反射防止層用樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の反射防止層用樹脂組成物を用いた反射防止層。
【請求項７】
前記反射防止層において、入射光の反射率が３％以下である請求項６記載の反射防止層。
【請求項８】
前記反射防止層において、屈折率が１．４〜１．６である請求項６または７に記載の反射防止層。
【請求項９】
前記屈折率と厚さの積が５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項８に記載の反射防止層。
【請求項１０】
前記反射防止層の厚さが１５０ｎｍ以下である請求項９に記載の反射防止層。
【請求項１１】
前記反射防止層であって、その少なくとも１方の表面に凹凸構造を有し、該凹凸構造の高さが０．０２μｍ以上、０．９５μｍ以下である請求項６ないし１０のいずれか１項に記載の反射防止層。
【請求項１２】
前記凹凸構造のピッチが３００ｎｍ以下である請求項１１に記載の反射防止層。
【請求項１３】
請求項６ないし１２のいずれか１項に記載の反射防止層を有する光学装置。
【請求項１４】
請求項６ないし１２のいずれか１項に記載の反射防止層を有する表示装置。
【請求項１５】
請求項６ないし１２のいずれか１項に記載の反射防止層を有する液晶表示装置。
【請求項１６】
請求項６ないし１２のいずれか１項に記載の反射防止層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１７】
請求項６ないし１２のいずれか１項に記載の反射防止層を有するレンズ。
【請求項１８】
請求項６ないし１２のいずれか１項に記載の反射防止層を有する撮像素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止層用樹脂組成物、より詳しくは加工性と耐熱性に優れた反射防止層の透明樹脂組成物、反射防止層及びこれを用いた光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止部材は一般に、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようにディスプレイの最表面に配置される。
【０００３】
このような反射防止部材は、例えば特許文献１に記載されるように、支持基材の少なくとも片面に、塗料組成物を１回のみ塗布することで（以後、支持基材における塗料組成物を１回のみ塗布する側の面を、面Ａという）、屈折率の異なる２層からなる反射防止層を形成することにより達成される。また、特許文献２では、透明基板上の１面に光の吸収膜と誘電体膜を交互に積層することによって透過光量を変えるようにした多層膜に、屈折率の異なる２種類以上の膜からなる多層反射防止層を積層し、２面に屈折率の異なる２種類以上の膜からなる多層反射防止層を積層する方法が記載されている。
反射防止部材を作製する方法、他に種々存在するが、いずれも作製に時間がかかるという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−００８１５８号公報
【特許文献２】特開２０１０−１７５９４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、短時間で硬化が可能であり耐熱性や耐久性に優れる反射防止層用樹脂組成物と、これを用いることにより高い歩留まりで特性の良好な反射防止層及びこれを用いた光学装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は以下の通りである。
（１）化学式１および／又は化学式２で表わされる脂環式エポキシ樹脂前駆体と重合開始剤を含むことを特徴とする反射防止層用樹脂組成物。
【化１】
2015118349.tif 000002
［上記式（１）中、−Ｘ−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、または−Ｃ（ＣＨ３）２−を表す。］
【化２】
2015118349.tif 000003
（２）前記重合開始剤が光酸発生剤である（１）に記載の反射防止層用樹脂組成物。
（３）前記樹脂組成物中の脂環式エポキシ樹脂の比率が５０％〜１００％である（１）または（２）に記載の反射防止層用樹脂組成物。
（４）（１）記載の化合物の異性体の含有率が４０％以下である請求項１ないし３いずれか１項に記載の反射防止層用樹脂組成物。
（５）酸化防止剤を含有する（１）ないし（４）いずれか１項に記載の反射防止層用樹脂組成物。
（６）（１）ないし（５）のいずれか１項に記載の反射防止層用樹脂組成物を用いた反射防止層。
（７）前記反射防止層において、入射光の反射率が３％以下である（６）記載の反射防止層。
（８）前記反射防止層において、屈折率が１．４〜１．６である（６）または（７）に記載の反射防止層。
（９）屈折率と厚さの積が５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である（８）に記載の反射防止層。
（１０）層の厚さが１５０ｎｍ以下である（９）に記載の反射防止層。
（１１）反射防止層であって、その少なくとも１方の表面に凹凸構造を有し、該凹凸構造の高さが０．０２μｍ以上、０．９５μｍ以下である（６）ないし（１０）のいずれか１項に記載の反射防止層。
（１２）前記凹凸構造のピッチが３００ｎｍ以下である（１１）に記載の反射防止層。
（１３）（６）ないし（１２）のいずれか１項に記載の反射防止層を有する光学装置。
（１４）（６）ないし（１２）のいずれか１項に記載の反射防止層を有する表示装置。
（１５）（６）ないし（１２）のいずれか１項に記載の反射防止層を有する液晶表示装置。
（１６）（６）ないし（１２）のいずれか１項に記載の反射防止層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（１７）（６）ないし（１２）のいずれか１項に記載の反射防止層を有するレンズ。
（１８）（６）ないし（１２）のいずれか１項に記載の反射防止層を有する撮像素子。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、短時間で硬化が可能であり耐熱性や耐久性に優れる反射防止層用樹脂組成物と、これを用いることにより高い歩留まりで特性の良好な反射防止層及びこれを用いた光学装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】反射防止膜を有する表示装置を示す図
【図２】反射防止膜を有するレンズを示す図。
【図３】反射防止膜を有する撮像素子を示す図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明は、反射防止層用樹脂組成物に関するものであって、該反射防止層用樹脂組成物は、脂環式エポキシ樹脂前駆体と重合開始剤を含むことを特徴とする。
以下、反射防止層用樹脂組成物を構成する各々の材料について詳細に記載する。
【００１０】
（Ａ）脂環式エポキシ樹脂
本発明において用いる樹脂は、成形時には室温または加熱により液状になるものであることが好ましく、特に硬化時の収縮を抑制するという特性から、脂環式エポキシ樹脂前駆体を用いることが好ましく、下記の化学式のものを最も好適に使用することが出来る。
【化１】
2015118349.tif 000004
［上記式（１）中、−Ｘ−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、または−Ｃ（ＣＨ３）２−を表す。］
【化２】
2015118349.tif 000005
樹脂組成物中の（１）、（２）の割合は、５０％〜１００％が好ましく、６０〜１００％がさらに好ましい。この範囲で（１）、（２）が含有されていることで、硬化時の収縮を効果的に少なくすることができる。
また、（１）、（２）の異性体比は、４０％以下が好ましく、３０％以下であることがさらに好ましい。（１）、（２）の異性対比がこの範囲にあることで、反応開始剤による反応が効果的に行われる。
【００１１】
（その他の樹脂）
本発明においては前記脂環式エポキシ樹脂以外の樹脂を含んでも良く、特に熱及び／または光架橋樹脂を好適に使用することができる。
具体的には、エポキシ系樹脂、オキセタン系樹脂、イソシアネート系樹脂、アクリレート系樹脂、オレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ジアリルカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリイミド系樹脂、芳香族ポリアミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリフェニレン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、シルセスキオキサン系化合物等が挙げられる。
【００１２】
上記のうち、特にエポキシ系樹脂については、前記脂環式エポキシ樹脂との相溶性、反応性が良好であり、脂環式エポキシ樹脂の特性を損なわない程度に添加することができる。脂環式エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂としては、たとえばグリシジル型エポキシ樹脂があげられ、具体例としては、フェノールノボラック型エポキシ、クレゾールノボラック型エポキシ等のノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ、ビスフェノールＦ型エポキシ等のビスフェノール型エポキシ樹脂、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトルイジン、ジアミノジフェニルメタン型グリシジルアミン、アミノフェノール型グリシジルアミンのような芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ、ビフェニル型エポキシ、スチルベン型エポキシ、トリフェノールメタン型エポキシ、トリフェノールプロパン型エポキシ、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ、トリアジン核含有エポキシ、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ、ナフトール型エポキシ、ナフタレン型エポキシ、フェニレンおよび／またはビフェニ
レン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ、フェニレンおよび／またはビフェニレン骨格を有するナフトールアラルキル型エポキシ等のアラルキル型エポキシ等のエポキシ樹脂、フルオレン骨格を有するグリシジル型エポキシ樹脂、ｎ − ブチルグリシジルエーテル、バーサティック酸グリシジルエステル、スチレンオキサイド、エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、ブチルフェニルグリシジルエーテル等単官能エポキシ樹脂、または上記のうちベンゼン環の水素添加を行ったもの等が挙げられる。
【００１３】
（Ｂ）反応開始剤
本発明に用いる反応開始剤としては、たとえば酸発生剤、塩基発生剤、酸無水物、脂肪族アミン等の架橋剤、ラジカル系反応開始剤等が挙げられ、特に反応性が良好であるという点で光酸発生剤であることが好ましい。
【００１４】
前記光酸発生剤としては、例えば、ルイス酸のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨードニウム塩、ルイス酸のスルホニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。光カチオン系反応開始剤の具体例としては、四フッ化ホウ素のフェニルジアゾニウム塩、六フッ化リンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化アンチモンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化ヒ素のトリ−４−メチルフェニルスルホニウム塩、四フッ化アンチモンのトリ−４−メチルフェニルスルホニウム塩、またこれらの混合物等が挙げられる。
【００１５】
その他、熱カチオン系反応開始剤としては、例えば芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体、またこれらの混合物等が挙げられる。
また、上記光カチオン系反応開始剤と熱カチオン系反応開始剤を混合しても良い。
【００１６】
このようなカチオン系反応開始剤の含有量は、特に限定されないが、樹脂材料１００質量部に対して０．１〜５質量部程度であるのが好ましく、特に０．５〜３重量部が好ましい。含有量が前記下限値未満であると樹脂材料の反応性が低下する場合があり、前記上限値を超えると樹脂組成物が脆くなる場合がある。
光硬化させる場合は、樹脂材料の硬化反応を促進させるため、必要に応じて、増感剤、酸増殖剤等も併せて用いることができる。
【００１７】
アニオン系触媒としては、例えばアミン系反応開始剤が挙げられる。エポキシ樹脂中のエポキシ基と共有結合を形成することが可能な１級アミンまたは２級アミンを分子中に２個以上含むものであれば、特に分子量や構造は限定されるものではない。そのようなアミン系反応開始剤としては、例えばジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、テトラエチレンペンタミン、ｍ−キシレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、２−メチルペンタメチレンジアミン脂肪族ポリアミン、イソフォロンジアミン、１，３−ビスアミノメチルシクロヘキサン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ノルボルネンジアミン、１，２−ジアミノシクロヘキサンなどの脂環式ポリアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、１，４−ビス（２−アミノ−２−メチルプロピル）ピペラジンなどのピペラジン型のポリアミン、ジアミノジフェニルメタン、ｍ−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルスルホン、ジエチルトルエンジアミン、トリメチレンビス（４−アミノベンゾエート）、ポリテトラメチレンオキシド−ジ−Ｐ−アミノベンゾエートなどの芳香族ポリアミン類等が挙げられる。これらの反応開始剤は、単独で用いても、２種以上の反応開始剤を配合して用いても良い。また、アミン系反応開始剤と併用／又は単独でイミダゾール化合物を使用することも挙げられる。イミダゾール化合物としては、例えば、２−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、２−Ｃ11Ｈ23−イミダゾー
ル等の一般的なイミダゾールやトリアジンやイソシアヌル酸を付加し、保存安定性を付与した２，４−ジアミノ−６−｛２−メチルイミダゾール−（１）｝−エチル−Ｓ−トリアジン、又そのイソシアネート付加物等が挙げられ、これらは１ 種類あるいは複数種を併
用して使うことが可能である。
【００１８】
酸無水物としては， たとえば無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ
無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ドデシニルコハク酸、無水ジクロルコハク酸、無水メチルナジック酸、無水ピロメリット酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸、アルキルスチレン− 無水マレイン酸共重
合体、テトラブロム無水フタル酸、ポリアゼライン酸無水物、無水クロレンディク酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸等などが挙げられ， これらは単独でも混合して用い
てもよい。また、酸無水物系反応開始剤と併用してイミダゾール化合物を使用することも挙げられる。イミダゾール化合物としては、例えば前記記載したものが挙げられる。
【００１９】
（その他の添加剤）
前記樹脂組成物は、その他に、酸化防止剤、ナノフィラー等を含んでも良い。
【００２０】
（酸化防止剤）
酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等が用いられるが、特にヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましく用いられる。
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、ＢＨＴ、２，２’−メチレンビ
ス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、ペンタエリトリトール=テトラキ
ス[3-(3',5'-ジ-tert-ブチル-4'-ヒドロキシフェニル)プロピオナート]等が挙げられる。
【００２１】
樹脂ワニス中の酸化防止剤の含有量は、０．０１質量％以上５質量％以下であるのが好ましく、０．１質量％以上３質量％以下程度であるのがより好ましい。酸化防止剤の含有量を前記範囲内にすることにより、光学異方性の低い樹脂組成物が得られ、かつ、信頼性試験においても光学異方性の悪化の程度の小さい面樹脂組成物が得られる。
【００２２】
また、酸化防止剤の重量平均分子量は、２００〜２０００であるのが好ましく、５００〜１５００であるのがより好ましく、１０００〜１４００であるのがさらに好ましい。酸化防止剤の重量平均分子量が上記範囲内であれば、酸化防止剤の揮発が抑制されるとともに、樹脂材料（例えば脂環式エポキシ樹脂）に対する相溶性が確保される。このような酸化防止剤は、湿熱処理のような信頼性試験を経ても、光学異方性の少ない反射防止層用樹脂組成物を実現することができる。
【００２３】
また、ヒンダードフェノール系酸化防止剤以外のフェノール系酸化防止剤としては、例えば、水酸基を挟むように位置する置換基の一方がメチル基等に置換されているセミヒンダード型のフェノール系酸化防止剤や、水酸基を挟む２つの置換基の双方がメチル基等に置換されているレスヒンダード型のフェノール系酸化防止剤が挙げられる。これらは、ヒンダードフェノール系酸化防止剤より少ない添加量で、樹脂ワニス中に添加される。
リン系酸化防止剤としては、例えば、トリデシルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト等が挙げられる。
【００２４】
なお、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤とを併用することにより、それらの相乗効果が発揮される。これにより、樹脂材料の酸化防止、および樹脂組成物の光学異方性の悪化の抑制がより顕著になる。これは、ヒンダードフェノール系酸化防止剤
とリン系酸化防止剤とで、樹脂材料の酸化防止のメカニズムが異なるため、両者が独立して働き、さらには相乗的な効果が生じているからであると考えられる。
【００２５】
このようなヒンダードフェノール系酸化防止剤以外の酸化防止剤（特にリン系酸化防止剤）の添加量は、ヒンダードフェノール系酸化防止剤１００質量部に対して、好ましくは３０〜３００質量部程度とされ、より好ましくは５０〜２００質量部程度とされる。これにより、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とそれ以外の酸化防止剤とが、それぞれの効果を埋没させる（相殺する）ことなく発揮し、相乗効果をもたらすことができる。
【００２６】
（ナノフィラー）
前記樹脂組成物は、繊維又は粒子状のフィラーを含んでもよい。本開示に係る樹脂組成物に含有される無機フィラーの材質は、無機物であれば特に制限されず、一又は複数の実施形態において、シリカ、アルミナ、酸化チタン等の金属酸化物、マイカ等の鉱物、ガラス、又はこれらの混合物が挙げられる。ガラスの種類としては、Ｅガラス、Ｃガラス、Ａガラス、Ｓガラス、Ｄガラス、ＮＥガラス、Ｔガラス、低誘導率ガラス、高誘導率ガラスなどがあげられる。
無機フィラーが繊維である場合、樹脂硬化物の熱膨張率の低減、及び、樹脂硬化物の透明性向上の観点から、前記繊維の平均繊維径は１〜１０００ｎｍである。ここで、前記繊維は、単繊維が、引き揃えられることなく、かつ相互間にマトリックス樹脂の液状前駆体が入り込むように十分に離隔して存在するものより成ってもよい。この場合、平均繊維径は単繊維の平均径となる。また、前記繊維は、複数本の単繊維が束状に集合して１本の糸条を構成しているものであってもよく、この場合、平均繊維径は１本の糸条の径の平均値として定義される。
無機フィラーが粒子である場合、樹脂硬化物の熱膨張率の低減、及び、樹脂硬化物の透明性向上の観点から、前記粒子の平均粒子径は１〜１０００ｎｍである。ここで、前記粒子の平均粒子径は、平均投影円相当直径をいい、具体的には実施例の方法で測定される。前記粒子の形状は、特に制限されないが、一又は複数の実施形態において、樹脂硬化物の熱膨張率の低減、及び、樹脂硬化物の透明性向上の観点から、球状若しくは真球状、ロッド状、平板状、又はこれらの結合形状が挙げられる。本開示に係るポリアミド溶液における固形分中の無機フィラーの割合としては、一又は複数の実施形態において、１重量％〜５０重量％、２重量％〜４０重量％、又は３重量％〜３０重量％である。
【００２７】
（前記反射防止用樹脂組成物を硬化させて形成される硬化物の説明）
本発明の樹脂組成物は、未硬化樹脂であるワニスとして提供されても良い。
まず、該ワニスについて述べる。
樹脂ワニスは、前述した未硬化の樹脂材料、その他の成分、有機溶剤等を含む他、必要に応じて、前述の反応開始剤、酸化防止剤等を含むものである。
また、樹脂ワニスは、その特性を損なわない範囲で必要に応じて、熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂のオリゴマーやモノマー等を含んでいてもよい。
必要に応じて、樹脂ワニスに脱泡処理を施しても良い。
【００２８】
（ワニスの硬化）
前記ワニスは、そのまま型に入れ硬化し、成形することが可能である。また、型を押し当てながら硬化して成形することも可能である。
【００２９】
光硬化（ＵＶ硬化）
本発明の樹脂組成物を硬化させるために、必要な光の積算光量としては、例えば、５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、７５〜４０００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましく、１００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２であることがより一層好ましい。また、「硬化する」とは、樹脂組成物において、硬化反応に関与し得る官能基の多くが反応してい
ることをいい、具体的には、樹脂組成物のエポキシ開環率が５０％以上であることをいう。
エポキシ開環率とは、樹脂硬化物におけるエポキシ基の開環割合に相当する指標である。エポキシ開環率の測定方法としては、まず、フーリエ変換赤外分光分析（ＦＴ−ＩＲ）により、樹脂硬化物の試料の吸光度スペクトルを取得する。
【００３０】
次いで、得られた吸光度スペクトルについて、波数９１４ｃｍ−１付近に位置するエポキシ基由来のピークの面積を、波数２９００ｃｍ−１付近に位置するメチレン基由来のピークの面積で標準化し、これを試料の「エポキシ相対強度」とする。ここでは、メチレン基由来のピーク面積に対するエポキシ基由来のピーク面積の割合を試料のエポキシ相対強度Ｘとし、求めるべき試料のエポキシ開環率をＹ（％）とする。
一方、試料のエポキシ相対強度を測定する際には、あらかじめ硬化前の樹脂組成物のエポキシ相対強度を測定しておく。硬化前の樹脂組成物ではエポキシ基が開環していないと推定されるので、これを標準試料とすることができ、樹脂組成物のエポキシ相対強度は、エポキシ開環率０％に対応する強度であるとみなすことができる。なお、硬化前の樹脂組成物のエポキシ相対強度を１００とする。
また、上記光照射による硬化後、２次処理として熱による処理を行うことにより、より反応を進行させることができる。
【００３１】
２次処理時の処理温度は、１５０〜３００℃程度であるのが好ましく、２００〜２８０℃程度であるのがより好ましい。また、処理時間は、好ましくは０．１〜５時間程度とされ、より好ましくは０．２〜３時間程度とされる。これにより、効率的に反応を進行させることが出来る。
なお、反応開始材が熱系開始剤の場合は、一次加熱条件は６０℃〜３００℃、好ましくは７０℃〜２８０℃で、処理時間は５分から３時間、好ましくは１０分から２時間である。
【００３２】
（反射防止層）
前記樹脂組成物は、反射防止層を形成することができる。
入射光の反射率は、３％以下が好ましく、２％、１％以下がさらに好ましい。反射率がこれらの数値となることで、性能の高い光学装置を作製することができる。
【００３３】
また、この反射防止層の屈折率は、１．４〜１．６であることが好ましく、１．４５〜１．６であることがさらに好ましい。屈折率がこの範囲にあることで、作製した反射防止層の反射防止効果を高めることができる。
【００３４】
また、屈折率と厚さの積が５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である反射防止層は、前記樹脂組成物を塗布し、硬化することで得ることができ、効率よく反射防止効果を得ることができる。
【００３５】
また、反射防止層の厚さは、１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１３０ｎｍであることがさらに好ましい。厚みがこの範囲にあることで、作製した反射防止層の反射防止効果を高めることができる。
【００３６】
塗布方法としては、具体的には、ダイコート、スピンコート、スリットコート等を用いることが出来る。特に、均一な膜厚による薄膜化という点で、スピンコートによる塗布が好適である。
【００３７】
硬化方法としてはＵＶ光、熱及びその併用が挙げられる。
【００３８】
さらに、表面に凹凸を有することで、厚み、屈折率にかかわらず、反射防止効果を得られ
る。
凹凸の高さが１μｍ以下である表面やピッチが３００ｎｍ以下の凹凸構造は、表面にｎｍサイズの微細粒子を吹き付ける、逆スパッタリング処理、酸素プラズマ処理等の型を用いない加工や、ｎｍサイズの凹凸型を用いたインプリント法により得ることができる。この場合は前記に記載の屈折率と厚さの積が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下である反射防止層とは異なる光学的効果により良好な反射防止効果を得ることができる。具体的には、特開２００１−２６４５２０に記載されているように、フィルム等の表面に、光の波長以下のピッチの微細な凹凸パターンを形成した微細凹凸フィルムは、凹凸の底部では樹脂がほとんどを占めるから、樹脂の光の屈折率そのものに限りなく近づき、凹凸の表面側に近づくほど、樹脂が占める割合が低下して、代わりに空気の割合が増加するから、屈折率が低下し、最も外側の表面近傍では空気の屈折率（１．０）に限りなく近づき、あたかも光の屈折率が連続的に変化する層を多数積層したのと同様な効果を持つ事が知られている。そのため、厚みの制御をせずとも反射防止効果を得られる。
【００３９】
（反射防止層を有する光学装置）
本発明の反射防止膜用樹脂組成物は、前述のように短時間で硬化が可能であるため、効率的に反射防止層を作製することが可能となり、その結果高い寸法精度が要求される光学装置用の部材として使用することが出来る。
なお、本発明における光学装置とは、光の吸収、透過、発光に関わる装置群を表し、具体的には、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの表示装置、レンズ、撮像素子等を示す。
以下、具体例を挙げて説明するが、本発明はこれら具体例に限定されるものではない。
【００４０】
前記樹脂組成物は、前述の短時間で硬化が可能である他に、樹脂の選択により高い光透過性を獲得することも可能であり、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの表示装置（図１）に好適に用いられる。これらの表示装置に所定の屈折率を有する樹脂組成物を用いて所定の厚みで層を作製すること、または凹凸を形成することで、反射防止層とすることができる。反射防止効果を有する層を作製するための樹脂組成物の屈折率や層の厚みの条件、凹凸の条件は、前述のとおりである。
【００４１】
また、前記樹脂組成物は、前述の硬化時の収縮を抑制する特性の他に、樹脂の選択により高い光透過性を獲得することも可能であり、光学レンズ用の反射防止層として使用することができる（図２）。レンズに所定の屈折率を有する樹脂組成物を用いて所定の厚みで層を作製すること、または凹凸を形成することで、反射防止層とすることができる。反射防止効果を有する層を作製するための樹脂組成物の屈折率や層の厚みの条件、凹凸の条件は、前述のとおりである。
【００４２】
また、前記樹脂組成物は、撮像素子用の反射防止層に使用することができる（図３）。前記撮像素子は、ＣＣＤイメージセンサーまたはＣＭＯＳイメージセンサーである。撮像素子は、一般的に基板上に形成された多数の受光素子の並びで光電変換を行い、受光素子に光を照射すると光エネルギーによって電荷を発生する。この電荷をＣＣＤ素子や、ＣＭＯＳ素子によって外部に転送するのが主な動作である。本発明の樹脂組成物は当該装置のレンズ部表面の反射防止層として使用することが好適である。レンズ部表面に所定の屈折率を有する樹脂組成物を用いて所定の厚みで層を作製すること、または凹凸を形成することで、反射防止層とすることができる。反射防止効果を有する層を作製するための樹脂組成物の屈折率や層の厚みの条件、凹凸の条件は、前述のとおりである。
【実施例】
【００４３】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
【００４４】
（実施例１）  
（Ａ）脂環式エポキシ樹脂前駆体として下記化合物（２）に示すビシクロヘキシル−３、３‘−ジオキシド（EBP, ダイセル製）１００質量部に、（Ｂ）反応開始剤としてアンチ
モン系スルホニウム塩型光酸発生剤（ＳＰ−１７０、ADEKA製）１質量部を投入し、均一
になるまで混合した後に穴径１μｍのフィルターでろ過を行い、光学用樹脂組成物を作製した。
【化２】
2015118349.tif 000006
【００４５】
厚さ１２５μｍの透明ポリエステルフィルム（東洋紡株式会社製）上に、巻き出し装置、ダイコーター、高圧水銀灯、周期１００ｎｍ高さ２００ｎｍの凹凸形状を有する賦形ロール、加熱炉、巻き取り装置を備えた塗工機を用いてこの反射防止層用樹脂組成物を厚さ０．０９μｍになるよう塗布し、塗布面を賦形ロールに押し当てながら裏面より照度１５０ｍＷ／ｃｍ２のメタルハライドランプにて紫外線を積算光量約９００ｍＪ／ｃｍ２照射（照射時間：６秒）し、窒素雰囲気下の加熱炉にて８０℃１０分分加熱して反射防止層付きフィルムを作製した。この反射防止層付きフィルムを、液晶セル、光学補償板、偏光版等から成る液晶パネルに粘着剤により貼り合わせ、バックライトユニットを組み合わせて液晶ディスプレイを作製した。この液晶ディスプレイの表面の波長５５０ｎｍの反射率を測定したところ０．５％であった。
【００４６】
（実施例２）  
（Ａ）脂環式エポキシ樹脂前駆体として下記化合物（３）に示す脂環式エポキシ樹脂前駆体（E-DOA, ダイセル製）１００質量部に、（Ｂ）反応開始剤としてアンチモン系スルホ
ニウム塩型光酸発生剤（ＳＰ−１７０、ADEKA製）１質量部を投入し、均一になるまで混
合した後に穴径１０μｍのフィルターでろ過を行い、反射防止層用樹脂組成物を作製した。
【化３】
2015118349.tif 000007
図２に示す直径６０ｍｍのレンズ表面に反射防止層用樹脂組成物を厚さ１μｍになるようスピンコーターで塗布し、周期１００ｎｍ、高さ５００ｎｍの微細凹凸構造を有する型を押し当てながら裏面より照度１５０ｍＷ／ｃｍ２のメタルハライドランプにて紫外線を積算光量約９００ｍＪ／ｃｍ２照射（照射時間：６秒）し、加熱炉にて１２０℃１０分加熱して反射防止層付きレンズを作製した。この反射防止層付きレンズ表面の波長５５０ｎｍの反射率を測定したところ０．１％であった。
【００４７】
（実施例３）  
実施例１において、さらに酸化防止剤としてヒンダートフェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリトール  テトラキス〔3-（3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル）プ
ロピオナート）〕（イルガノックス１０１０、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）１
質量部を投入し、均一になるまで混合した後に穴径１μｍのフィルターでろ過を行い、光学用樹脂組成物を作製した以外は、実施例１と同様の成分にて樹脂組成物を作製し、実施例２と同様にして反射防止層付きレンズを作製した。この反射防止層付きレンズ表面の波長５５０ｎｍの反射率を測定したところ０．１％であった。また、加熱炉中で９０℃／１００時間放置後も変化はなかった。
【００４８】
（比較例）
エポキシ樹脂としてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ｊＥＲ828 三菱化学製）１００質量部に反応開始剤として酸無水物 （ Ｍ Ｈ − ７ ０ ０ （ 新日本理化(株)製）９０重
量部、イミダゾール化合物２ Ｍ Ｚ − Ａ （ 四国化成(株)製）１重量部を均一になるまで混合した後に穴径１０μｍのフィルターでろ過を行い、反射防止層用樹脂組成物を作製した。ガラス表面に反射防止層用樹脂組成物を厚さ０．０９μｍになるようスピンコーターで塗布し、加熱炉にて２００℃６０分加熱して反射防止層付きレンズを作製した。この反射防止層付きレンズ表面の波長５５０ｎｍの反射率を測定したところ０．６％であったが、硬化するまでに時間がかかるため、量産には不適用であった。
【符号の説明】
【００４９】
１    反射防止層付フィルム
２    透明粘着剤
３    液晶パネル
４    バックライトシステム
５    反射防止層
６    レンズ
７    反射防止層
８    赤外線カットフィルタ
９    CCD素子
【図１】
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【図２】
2015118349.tif 000011
【図３】
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