(57)【要約】      （修正有）【課題】ホイルトラップが大型化しホイルが長くなることにより、ホイルが撓み、ホイルトラップのＥＵＶ光透過率が低下するのを抑制する。【解決手段】ホイルトラップ５に、ホイルトラップ５の主軸と同軸の中心軸を有し、ホイル５ａが係合する切り込み部６ａを存する円錐台形状の櫛状中間リング６を取り付け、中間リング６によりホイルが撓まないように支持する。上記円錐台状の側面は、近傍を通過する高温プラズマＰからのＥＵＶ光線に対して平行となるよう構成され、ＥＵＶ光を遮らないようにされる。また、櫛状中間リング６を、ホイルトラップ５の中心支柱５ｂと外側リング５ｃとを連結するスポークにより支持すれば、櫛状中間リング６の中心軸がホイルトラップの主軸からずれることがない。【選択図】図１
2015149401.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＵＶ光を放出するプラズマの近傍に配置され、主軸から放射状に伸びる複数のホイルを備え、上記ＥＵＶ光は通過するが上記プラズマからのデブリは捕捉するホイルトラップであって、上記複数のホイルの一端が主軸上に配置された中心支柱により支持され、上記複数のホイルの他端が上記主軸と同軸の中心軸を有する外部リングにより支持されているホイルトラップにおいて
上記ホイルトラップのＥＵＶ光入射側もしくはＥＵＶ光出射側の少なくとも一方に、
帯状の板状部材を円錐台形状に成形したリングであって、該円錐台の底面側から上面側方向、または上面側から底面側方向に、上記ホイルが挿入される複数の切り込みを設けた櫛状中間リングを、該切り込みを上記ホイルに係合させて上記主軸と同軸の中心軸を有するように取り付けた
ことを特徴とするホイルトラップ。
【請求項２】
上記櫛状中間リングの円錐台状の側面は、近傍を通過するプラズマからのＥＵＶ光線に対して平行である
ことを特徴とする請求項１記載のホイルトラップ。
【請求項３】
上記中心支柱と上記外部リングとは、上記中心支柱と上記外側リングにより保持される複数個設けられるスポークにより連結されていて、
上記櫛状中間リングは上記スポークにより支持されている
ことを特徴とする請求項１もしくは請求項２のいずれか一項に記載のホイルトラップ。
【請求項４】
上記ホイルトラップは、上記プラズマと、径が互いに異なる回転体形状の複数枚の凹面ミラーを入れ子状に配置してなる斜入射型の集光鏡との間に配置され、
上記櫛状中間リングは、その中心軸と上記斜入射型の集光鏡の光軸とが略一致するように配置され、
櫛状中間リングの径の大きさは、当該櫛状中間リングにより生じるＥＵＶ光の影が上記回転体形状の凹面ミラーのいずれか一つのミラーの光入射側の端部にほぼ一致するように構成されている
ことを特徴とする請求項１、請求項２、請求項３のいずれか一項に記載のホイルトラップ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、極端紫外光光源装置等の光源装置に用いられる、光源である高温プラズマから放出されるデブリから集光鏡等を保護するホイルトラップに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路の微細化、高集積化につれて、その製造用の投影露光装置においては解像力の向上が要請されている。その要請に応えるため、露光用光源の短波長化が進められ、エキシマレーザ装置に続く次世代の半導体露光用光源として、波長１３〜１４ｎｍ、特に波長１３．５ｎｍの極端紫外光（以下、ＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ  ＵｌｔｒａＶｉｏｌｅｔ）光ともいう）を放出する極端紫外光光源装置（以下、ＥＵＶ光源装置ともいう）が開発されている。また、ＥＵＶ光を用いた投影露光装置に使用されるマスクの検査用光源としてもＥＵＶ光源装置は使用される。（検査用光源についても記載するか？）
ＥＵＶ光源装置において、ＥＵＶ光を発生させる方法はいくつか知られているが、そのうちの一つにＥＵＶ放射種の加熱励起により高温プラズマを発生させ、このプラズマから放射されるＥＵＶ光を取り出す方法がある。
【０００３】
ＥＵＶ光源装置において、ＥＵＶ光を発生させる方法はいくつか知られているが、そのうちの一つに極端紫外光放射種（以下、ＥＵＶ放射種）を加熱して励起することにより高温プラズマを発生させ、この高温プラズマからＥＵＶ光を取り出す方法がある。
このような方法を採用するＥＵＶ光源装置は、高温プラズマの生成方式により、ＬＰＰ（ＬａｓｅｒＰｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ：レーザ生成プラズマ）方式ＥＵＶ光源装置とＤＰＰ（ＤｉｓｃｈａｒｇｅＰｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ：放電生成プラズマ）方式ＥＵＶ光源装置とに大きく分けられる。
【０００４】
〔ＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置〕
ＤＰＰ方式は、例えば内部に電極が配置された放電容器内をガス状の高温プラズマ原料雰囲気とし、当該雰囲気中の電極間において放電を発生させて初期プラズマを生成する。ここで、放電により電極間を流れる電流の自己磁場の作用により、上記した初期プラズマは収縮される。これにより初期プラズマの密度は高くなり、プラズマ温度が急激に上昇する。このような作用を、以下ピンチ効果と称する。ピンチ効果による加熱によって、高温となったプラズマのイオン密度は１０１７〜１０２０ｃｍ−３、電子温度は２０〜３０ｅＶ程度に到達し、この高温プラズマからＥＵＶ光が放射される。
【０００５】
図７は、特許文献１記載されたＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置を簡易的に説明するための図である。
ＥＵＶ光源装置は、放電容器であるチャンバ１を有する。チャンバ１内には、一対の円板状の放電電極２ａ，２ｂなどが収容される放電部１ａと、ホイルトラップ５や集光光学手段であるＥＵＶ集光鏡９などが収容されるＥＵＶ集光部１ｂとを備えている。
１ｃは、放電部１ａ、ＥＵＶ集光部１ｂを排気して、チャンバ１内を真空状態にするためのガス排気ユニットである。
２ａ，２ｂは円盤状の電極である。電極２ａ，２ｂは所定間隔だけ互いに離間しており、それぞれ回転モータ１６ａ，１６ｂが回転することにより、１６ｃ，１６ｄを回転軸として回転する。
１４は、波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光を放射する高温プラズマ原料である。高温プラズマ原料１４は、加熱された溶融金属（ｍｅｌｔｅｄｍｅｔａｌ）例えば液体状のスズ（Ｓｎ）であり、コンテナ１５ａ、１５ｂに収容される。
【０００６】
上記電極２ａ，２ｂは、その一部が高温プラズマ原料１４を収容するコンテナ１５ａ、１５ｂの中に浸されるように配置される。電極２ａ，２ｂの表面上に乗った液体状の高温プラズマ原料１４は、電極２ａ，２ｂが回転することにより、放電空間に輸送される。上記放電空間に輸送された高温プラズマ原料１４に対してレーザ源１７ａよりレーザ光１７が照射される。レーザ光１７が照射された高温プラズマ原料１４は気化する。
電極２ａ，２ｂに、電力供給手段３からパルス電圧が印加された後、高温プラズマ原料１４がレ−ザ光１７の照射により気化されることにより、両電極２ａ，２ｂ間にパルス放電が開始し、高温プラズマ原料１４によるプラズマＰが形成される。放電時に流れる大電流によりプラズマが加熱励起され高温化すると、この高温プラズマＰからＥＵＶ光が放射される。
高温プラズマＰから放射したＥＵＶ光は、ＥＵＶ集光鏡９により集光鏡９の集光点（中間集光点ともいう）ｆに集められ、ＥＵＶ光取出部８から出射し、ＥＵＶ光源装置に接続された点線で示した露光機４０に入射する。
【０００７】
上記したＥＵＶ集光鏡９は斜入射型の集光鏡であり、一般に、複数枚の薄い凹面ミラーを入れ子状に高精度に配置した構造からなる。各凹面ミラーの反射面の形状は、例えば、回転楕円面形状、回転放物面形状、ウォルター型形状であり、各凹面ミラーは回転体形状である。ここで、ウォルター型形状とは、光入射面が、光入射側から順に回転双曲面と回転楕円面、もしくは、回転双曲面と回転放物面からなる凹面形状である。
ＥＵＶ集光鏡９は、反射面形状が回転楕円面形状、ウォルター型形状等いずれかの形状であって、径が互いに異なる回転体形状の凹面ミラーを複数枚具える。ＥＵＶ集光鏡を構成するこれらの凹面ミラーは、同一軸上に、焦点位置が略一致するように回転中心軸を重ねて配置される。このように凹面ミラーを入れ子状に高精度に配置することにより、ＥＵＶ集光鏡９は、０°〜２５°の斜入射角度のＥＵＶ光を良好に反射し、かつ、一点に集光できるように構成される。
【０００８】
図７に示すＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置は、放電が発生する電極表面に供給された固体もしくは液体のスズやリチウムにレーザ等のエネルギービームを照射して気化させ、その後、放電によって高温プラズマを生成するものである。よって、上記したこの方式を、以下ＬＤＰ（Ｌａｓｅｒ  Ａｓｓｉｓｔｅｄ  Ｇａｓ  Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ  Ｐｒｏｄｕｃｅｄ  Ｐｌａｓｍａ）方式と称することにする。
【０００９】
〔ＬＰＰ方式のＥＵＶ光源装置〕
ＬＰＰ方式ではプラズマ生成用ドライバレーザをターゲットに照射することでプラズマを生成する。ターゲット材料は、ＥＵＶ光発生用高温プラズマ原料として、ＬＤＰ方式同様にＬｉ（リチウム）とＳｎ（スズ）が注目されている。
図８は、ＬＰＰ方式のＥＵＶ光源装置を簡易的に説明するための図である。
ＬＰＰ方式のＥＵＶ光源装置は、光源チャンバ１を有する。光源チャンバ１には、ＥＵＶ放射種である原料（高温プラズマ原料）を供給するための原料供給ユニット１０および原料供給ノズル２０が設けられている。原料供給ノズル２０からは、原料１４として、例えば液滴状のスズ（Ｓｎ）が放出される。
光源チャンバ１の内部は、真空ポンプ等で構成されたガス排気ユニット１ｃにより真空状態に維持されている。
【００１０】
レーザビーム照射手段である励起用レーザ光発生装置２１からのレーザ光（レーザビーム）２２は、レーザ光集光手段２４により集光されながらレーザ光入射窓部２３を介してチャンバ１内部へ導入され、ＥＵＶ集光鏡９の略中央部に設けられたレーザ光通過穴２５を通って、原料供給ノズル２０から放出される原料（例えば液滴状のスズ）に照射される。ここで用いられる励起用レーザ光発生装置２１は、例えば、繰り返し周波数が数ｋＨｚであるパルスレーザ装置であり、炭酸ガス（ＣＯ２）レーザ、ＹＡＧレーザなどが使用される。
【００１１】
原料供給ノズル２０から供給された原料は、レーザ光２２の照射により加熱・励起されて高温プラズマとなり、この高温プラズマからＥＵＶ光が放射される。放射されたＥＵＶ光は、ＥＵＶ集光鏡９によりＥＵＶ光取出部８に向けて反射されてＥＵＶ集光鏡９の集光点（中間集光点）に集光され、ＥＵＶ光取出部８から出射し、ＥＵＶ光源装置に接続された点線で示した露光機４０に入射する。
【００１２】
ここで、ＥＵＶ集光鏡９は、例えばモリブデンとシリコンの多層膜でコーティングされた球面形状の反射鏡であり、励起用レーザ光発生装置２１およびレーザ光入射窓部２３の配置によっては、レーザ光通過穴２５を必要としない場合もある。
また、高温プラズマ生成用のレーザ光２２は、迷光としてＥＵＶ光取出部８に到達することもある。よって、ＥＵＶ光取出部の前方（高温プラズマ側）にＥＵＶ光を透過して、レーザ光２２を透過させない不図示のスペクトル純度フィルタを配置することもある。
【００１３】
〔ホイルトラップ〕
上述したＥＵＶ光源装置において、高温プラズマＰからは種々のデブリが発生する。それは、例えば、高温プラズマＰと接する金属（例えば、一対の円板状の放電電極２ａ，２ｂ）が上記プラズマによってスパッタされて生成する金属粉等のデブリや、高温プラズマ原料１４であるＳｎに起因するデブリである。
これらのデブリは、プラズマの収縮・膨張過程を経て、大きな運動エネルギーを得る。すなわち、高温プラズマＰから発生するデブリは高速で移動するイオンや中性原子であり、このようなデブリはＥＵＶ集光鏡９にぶつかって反射面を削ったり、反射面上に堆積したりして、ＥＵＶ光の反射率を低下させる。
【００１４】
そのため、ＥＵＶ光源装置において、放電部１ａとＥＵＶ光集光部１ｂに収容されたＥＵＶ集光鏡９との間には、ＥＵＶ集光鏡９のダメージを防ぐために、ホイルトラップ５が設置される。ホイルトラップ５は、上記したようなデブリを捕捉してＥＵＶ光のみを通過させる働きをする。
【００１５】
ホイルトラップは、その一例が特許文献２、特許文献３、特許文献４に示され、特許文献３では「フォイル・トラップ」として記載されている。
図９に、特許文献２に示されるようなホイルトラップの概略構成を示す。
ホイルトラップ５は、ホイルトラップ５の中心軸（図９ではＥＵＶ光の光軸に一致）を中心として、半径方向に放射状に配置された、複数の薄膜（ホイル）または薄い平板（プレート）（以下薄膜と平板を合せて「ホイル５ａ」と呼ぶ）と、この複数のホイル５ａを支持する、同心円状に配置された中心支柱５ｂとリング状支持体である外側リング５ｃのとから構成されている。
ホイル５ａは、その平面がＥＵＶ光の光軸に平行になるように配置され支持されている。そのため、ホイルトラップ５を極端紫外光源（高温プラズマＰ）側から見ると、中心支柱５ｂと外側リング５ｃの支持体の部分を除けば、ホイル５ａの厚みしか見えない。したがって、高温プラズマＰからのＥＵＶ光のほとんどは、ホイルトラップ５を通過することができる。
【００１６】
一方、ホイルトラップ５の複数のホイル５ａは、配置された空間を細かく分割することにより、その部分のコンダクタンスを下げて圧力を上げる働きをする。そのため、高温プラズマＰからのデブリは、ホイルトラップ５により圧力が上がった領域で衝突確率が上がるために速度が低下する。速度が低下したデブリは、ホイル５ａやホイル５ａの支持体により捕捉されるものもある。
【００１７】
なお、ＤＰＰ方式やＬＤＰ方式のＥＵＶ光源装置においては、光軸上の光（高温プラズマＰから０°の角度（放射角が０°）で出射する光）や、ＥＵＶ集光鏡９の最も内側に位置する凹面ミラーが反射可能な入射角（以下、最小入射角ともいう）より小さい入射角でＥＵＶ集光鏡９に入射する光は、露光には使用されず、むしろ存在しないほうが好ましい。そのため、中心支柱５ｂは存在しても問題はなく、むしろ中心支柱５ｂにより積極的に遮光することもある。なお中心支柱５ｂは、ＥＵＶ集光鏡９の構成から定まる最小入射角以下の光を遮光する形状となるので、一般的にはコーン形状となる。よって、以下、中心支柱５ｂのことをコーン（ｃｏｎｅ）とも呼ぶ。
なお、ホイルトラップ５は、高温プラズマの近くに配置されるので、受ける熱負荷も大きい。よって、ホイルトラップ５を構成するホイル５ａやコーン５ｂは、例えば、モリブデン（Ｍｏ）などの高耐熱材料から形成される。
【００１８】
上記したホイルトラップ５は、主としてＤＰＰ方式やＬＤＰ方式のＥＵＶ光源装置に採用されることが多い。ＬＰＰ方式のＥＵＶ光源装置の場合、磁界によりデブリ進行方向を制御してＥＵＶ集光鏡９への衝突を抑制したり、ＥＵＶ集光鏡９に付着したデブリを、水素ガス等のクリーニングガスにより除去したりしている。しかしながら、図８に示すように、上記したようなホイルトラップ５を高温プラズマＰとＥＵＶ集光鏡９との間に配置することもある。すなわち、ホイルトラップ５はＤＰＰ方式やＬＤＰ方式のＥＵＶ光源装置のみならず、ＬＰＰ方式のＥＵＶ光源装置にも採用されうる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１９】
【特許文献１】特表２００７−５０５４６０号公報
【特許文献２】特表２００２−５０４７４６号公報
【特許文献３】特表２００４−２１４６５６号公報
【特許文献４】国際特許公開ＷＯ２００９／１４４６０９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２０】
近年、半導体露光用光源、および、ＥＵＶ光を用いた投影露光装置に使用されるマスクの検査用光源として使用されるＥＵＶ光源装置には、ＥＵＶ光出力の高出力化が要請されている。特に、露光スループットの向上の観点から、露光用光源として採用されるＥＵＶ光源には、ＥＵＶ光の高出力化の要請が大きい。
ＥＵＶ光出力の高出力化を実現するために、高温プラズマから放出されるＥＵＶ光をＥＵＶ集光鏡で捕集する際の立体角（後述する図１０における集光角）を大きくすることが望まれる。それに伴い、高温プラズマと集光鏡との間に配置されるホイルトラップも大型化する。そのため、光軸から放射方向（半径方向）に伸びる各ホイルの長さが長くなる。
【００２１】
図１０に高温プラズマＰとホイルトラップ５とＥＵＶ集光鏡９の位置関係を示す。図１０（ａ）は、図１０（ｂ）に示すＡ−Ａ断面図、図１０（ｂ）は図１０（ａ）におけるＢ方向矢視図である。図１０（ａ）のようにホイルトラップ５が高温プラズマＰとＥＵＶ集光鏡９との間に配置されると、上記したように半径方向のホイル５ａの長さが長いので、図１０（ｂ）に示すように各ホイル５ａにおいて自重による撓みが発生する。
【００２２】
ホイル５ａの撓みが発生すると、場合によっては撓んだホイル５ａが隣り合う他のホイル５ａに接触し、ホイル５ａの変形が発生する。上記したように、ホイル５ａは、その平面がＥＵＶ光の光軸に平行になるように配置され支持されている。しかしながら、ホイル５ａの変形が発生すると当該ホイル５ａの平面はＥＵＶ光の光軸に対して平行とならない。そのため変形したホイル５ａを高温プラズマ側から見ると、ホイル５ａの厚みに加えてホイル５ａの平面の一部が見えることになる。言い換えると、ホイルトラップ５を通過する高温プラズマＰからのＥＵＶ光の一部は、このホイル５ａの平面により遮光される。よって、ＥＵＶ光のホイルトラップ５に対する透過率が低下するという問題が発生する。
ホイルトラップ５のＥＵＶ光透過率が低下すると、ＥＵＶ集光鏡９によって集光されるＥＵＶ光の集光点（以下、中間集光点ともいう）におけるＥＵＶ光のパワーが低下することになり、ＥＵＶ光源装置からのＥＵＶ光取り出し効率が悪化する。
【００２３】
本発明は、上記のような事情を鑑みなされたものであり、その目的は、ホイルトラップが大型化しても当該ホイルトラップのホイルの撓みに起因する上記ホイルトラップのＥＵＶ透過率の低下を抑制することができるホイルトラップおよびこのようなホイルトラップを搭載したＥＵＶ光源装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
上述したように、ホイルトラップが大型化すると、ホイルに自重による撓みが発生し、
撓んだホイルが隣り合う他のホイルに接触したり、ＥＵＶ光のホイルトラップに対する透過率が低下するという問題が発生する。
上記問題を解決するため、本発明においては、ホイルトラップに、該ホイルトラップの主軸と同軸の中心軸を有し、ホイルが係合する切り込み部を有する円錐台形状の櫛状中間リングを取り付け、この中間リングによりホイルが撓まないように支持する。
上記円錐台形状の側面は、近傍を通過するプラズマからのＥＵＶ光線に対して平行となるように構成し、ＥＵＶ光を遮らないようにするのが望ましい。また、上記櫛状中間リングを、ホイルトラップの中心支柱と上記外側リングとを連結するスポークにより支持すれば、櫛状中間リングの中心軸がホイルトラップの主軸からずれることがない。
さらに、櫛状中間リングの径の大きさを、ＥＵＶ集光鏡の凹面ミラーのいずれか一つのミラーの光入射側の端部にほぼ一致するように構成することで、当該櫛状中間リングにより生ずるＥＵＶ光の影の影響を小さくすることができる。
以上に基づき、本発明においては、次のようにして上記課題を解決する。
（１）ＥＵＶ光を放出するプラズマの近傍に配置され、主軸から放射状に伸びる複数のホイルを備え、上記ＥＵＶ光は通過するが上記プラズマからのデブリは捕捉するホイルトラップであって、上記複数のホイルの一端が主軸上に配置された中心支柱により支持され、上記複数のホイルの他端が上記主軸と同軸の中心軸を有する外部リングにより支持されているホイルトラップにおいて、上記ホイルトラップのＥＵＶ光入射側もしくはＥＵＶ光出射側の少なくとも一方に、帯状の板状部材を円錐台形状に成形したリングであって、該円錐台の底面側から上面側方向、または上面側から底面側方向に、上記ホイルが挿入される複数の切り込み部を設けた櫛状中間リングを、該切り込みを上記ホイルに係合させて上記主軸と同軸の中心軸を有するように取り付ける。
（２）上記（１）において、上記櫛状中間リングの円錐台状の側面を、近傍を通過するプラズマからのＥＵＶ光線に対して平行とする。
（３）上記（１）（２）において、上記中心支柱と上記外部リングとは、上記中心支柱と上記外側リングにより保持される複数個設けられるスポークにより連結され、上記櫛状中間リングは上記スポークにより支持されている。
（４）上記（１）（２）（３）において、上記ホイルトラップは、上記プラズマと、径が互いに異なる回転体形状の複数枚の凹面ミラーを入れ子状に配置してなる斜入射型の集光鏡との間に配置され、上記櫛状中間リングは、その中心軸と上記斜入射型の集光鏡の光軸とが略一致するように配置され、櫛状中間リングの径の大きさは、当該櫛状中間リングにより生じるＥＵＶ光の影が上記回転体形状の凹面ミラーのいずれか一つのミラーの光入射側の端部にほぼ一致するように構成されている。
【発明の効果】
【００２５】
本発明においては、以下の効果を得ることができる。
（１）ホイルトラップに、該ホイルトラップの主軸と同軸の中心軸を有し、各ホイルが係
合する切り込み部を有する円錐台形状の櫛状中間リングを取り付けて、各ホイルをその中
間付近で支持するようにしたので、ホイルトラップが大型化しホイルの長さが長くなって
も、ホイルが撓まないように支持することができる。
また、各ホイルと櫛状中間リングを同定せずに、各ホイルを櫛状中間リングの切り込み
部に挿入して支持するようにしたので、高温ブラズマＰからの放射により、ホイルトラップの各ホイルや櫛状中間リングが熱膨張しても、切り込み部により安定して各ホイルを支持することができ、ホイルや櫛状中間リングが変形するのを防ぐことができる。
（２）櫛状中間リングの円錐台状の側面を、近傍を通過するプラズマからのＥＵＶ光線に対して平行としたので、中間リングによるＥＵＶ光の遮光量を小さくすることができる。
（３）ホイルトラップの中心支柱と上記外側リングとを連結する複数のスポークにより櫛状中間リングを支持することにより、櫛状中間リング中心軸が、ホイルトラップの主軸からずれるのを防ぎ、櫛状中間リングを所定の位置に位置決めすることができる。
（４）櫛状中間リングの径の大きさを、当該櫛状中間リングにより生ずるＥＵＶ光の影が集光鏡のいずれか一つのミラーの光入射側の端部（ミラーの光入射側の円環状のエッジ部分）にほぼ一致するように構成することにより、櫛状中間リングによって生じるＥＵＶ光の影の影響を最小限にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施例のホイルトラップの構造を示す図である。
【図２】本実施例におけるホイルと櫛状中間リングの斜視図、およびホイルへの櫛状中間リングの取り付けを説明する部分拡大図である。
【図３】高温プラズマ、本発明のホイルトラップ、ＥＵＶ集光鏡の配置関係を説明する図である。
【図４】本実施例のホイルトラップにおいてスポークを追記した図である。
【図５】櫛状中間リングをホイルの光入射側、光出射側に設けた場合の構成を示す図である
【図６】図５の構成において、スポークを追記して示した図である。
【図７】従来のＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置を簡易的に説明するための図である。
【図８】ＬＰＰ方式のＥＵＶ光源装置を簡易的に説明するための図である。
【図９】ホイルトラップの概略構成を示す図である。
【図１０】高温プラズマと、ホイルトラッブと、ＥＵＶ集光鏡の位置関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
図１に、本発明のホイルトラップの構造を示す。図１（ａ）は本実施例のホイルトラップをＥＵＶ光入射側から見た図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ断面図である。
本明のホイルトラップ５は、ホイルトラップ５のＥＵＶ光入射側もしくはＥＵＶ光出射側の少なくとも一方に各ホイル５ａを挟んで保持する櫛状のリングを設けたものであり、図１では、ホイルトラップ５のＥＵＶ光出射側に櫛状中間リング６を設けた場合を示している。
【００２８】
従来のホイルトラップ５と同様、本発明のホイルトラップ５は、当該ホイルトラップ５の中心軸（図１ではＥＵＶ光の光軸に一致）を中心として、半径方向に放射状に配置された、複数のホイル５ａと、この複数のホイル５ａを支持する、同心円状に配置された中心支柱５ｂとリング状支持体である外側リング５ｃとから構成される。
ホイル５ａは、その平面がＥＵＶ光の光軸に平行になるように配置され支持されている。そのため、ホイルトラップ５を高温プラズマＰ側から見ると、中心支柱５ｂと外側リング５ｃの支持体の部分を除けば、ホイル５ａの厚みしか見えない。したがって、高温プラズマＰからのＥＵＶ光のほとんどは、ホイルトラップ５を通過する。
【００２９】
一方、ホイルトラップ５の複数のホイル５ａは、配置された空間を細かく分割することにより、その部分のコンダクタンスを下げて圧力を上げる働きをする。そのため、高温プラズマＰからのデブリは、ホイルトラップ５により圧力が上がった領域で衝突確率が上がるために速度が低下する。速度が低下したデブリは、ホイル５ａやホイル５ａの支持体により捕捉されるものもある。
【００３０】
更に本発明のホイルトラップ５は、中心支柱５ｂと外側リング５ｃに同心円状であって、かつ、中心支柱５ｂと外側リング５ｃとの中間に櫛状中間リング６が設けられる。
櫛状中間リング６は、図１に示すように、一定の幅を有する帯状の板状体を円錐台形状のリング形状としたものであり、リングの一方の端部（ＥＵＶ光入射側のエッジあるいはＥＵＶ光出射側のエッジ）を始点として、その側面に切り込み部６ａが設けられたものである。後で示すように、櫛状中間リング６は、この切り込み部６ａにホイルトラップ５の各ホイル５ａの一部を挿入させた状態でホイルトラップ５のＥＵＶ光入射側もしくはＥＵＶ光出射側の少なくとも一方に設けられる。
すなわち、図１（ｂ）に示すように櫛状中間リング６を構成する円錐台形状の側面をｓ１、円錐台形状の上面をｓ２、円錐台形状の底面をｓ３とすると、櫛状中間リング６を光出射側に取り付ける場合は、その円錐台形状の側面ｓ１に、上面ｓ２側から底面ｓ３側方向に切り込６ａを設けたものである。なお、後述するように櫛状中間リング６を光入射側に取り付ける場合は、その円錐台形状の側面ｓ１に、底面ｓ３側から上面ｓ２側方向に、上記ホイル５ａが挿入される複数の切り込み部６ａを設ける。
【００３１】
櫛状中間リング６は、ホイルトラップ５の各ホイル５ａと同様、高温プラズマＰから放出されるＥＵＶ光をできるだけ遮光しないように、その側面ｓ１は、その近傍を通過するＥＵＶ光の光線と平行になるように構成されることが望ましい。すなわち、櫛状中間リング６は、図１（ｂ）に示すように、ＥＵＶ光発光点に相当する高温プラズマＰから放射され、その近傍を通過する各光線に対して側面が平行となるように、円錐台状の側面ｓ１を有する。よって、櫛状中間リング６は、光入射側と光出射側に円周状の２つの端部（円錐台形状の側面ｓ１と上面ｓ２、および側面ｓ１と底面ｓ３とが接する辺）を有し、一方の円周状の端部の直径は他方の円周状の端部の直径より大きい。
【００３２】
上記したように、櫛状中間リング６は、各ホイル５ａの一部が挿入される切り込み部６ａを有する。この切り込み部６ａは、上記した円周状の端部のいずれか一方を始点として、櫛状中間リング６に設けられる。上記切り込み部６ａは、具体的には図１（ａ）に示すように、ホイルトラップ５に設けられるホイル５ａの数と同数であって、かつ、ホイル５ａの位置に対応した位置に設けられる。図１に示す例では、櫛状中間リング６はホイルトラップ５の光出射側に設けられているので、上記切り込み部６ａは櫛状中間リング６の直径が小さい方の円周状の端部側に設けられる。
【００３３】
図２は、本実施例におけるホイルと櫛状中間リングを示す斜視図、およびホイルへの櫛状中間リングの取り付けを説明するための部分拡大図である。
図２（ａ）は、ホイルトラップ５の各ホイル５ａが切り込み部６ａに挿入された状態で、櫛状中間リング６がホイルトラップ５に取り付けられた様子を示す斜視図である。なお、理解を容易にするために、ホイルトラップ５を構成する中心支柱５ｂ、外側リング５ｃは省略されている。また、実際は、各ホイル５ａの一方の端部は中心支柱５ｂによって支持されるが、図２（ａ）においては、各ホイル５ａは光軸から放射方向（半径方向）に伸びるように描写されている。
【００３４】
図１、図２（ａ）から明らかなように、櫛状中間リング６は、ホイルトラップ５の中心軸を中心として同心円状に配置された中心支柱５ｂと外側リング５ｃとによって支持される複数のホイル５ａであって、かつ、半径方向に放射状に配置された複数のホイル５ａの一部が上記櫛状中間リング６の切り込み部６ａに挿入された状態で、ホイルトラップ５のＥＵＶ光入射側もしくはＥＵＶ光出射側の少なくとも一方に設けられる。また、この櫛状中間リング６は、中心支柱５ｂと外側リング５ｃに同心円状であって、かつ、中心支柱５ｂと外側リング５ｃとの中間に位置する。
【００３５】
更に、櫛状中間リング６の切り込み部６ａは、櫛状中間リング６の一方の円周状の端部を始点として、ホイル５ａの数と同数であって、かつ、ホイル５ａの位置に対応した位置に設けられているので、各ホイル５ａは、ホイルトラップ５の中心軸を中心として、半径方向に放射状に配置された位置に、櫛状中間リング６により規制されて位置決めされる。よって、ホイルトラップ５が大型化しても、ホイル５ａの自重によるホイル５ａの撓みが櫛状中間リング６により規制されるので、ホイル５ａの変形が生じにくくなる。よって、ホイルトラップ５の大型化に伴うホイルトラップ５のＥＵＶ光透過率の低下を抑制することが可能となる。
【００３６】
また、上記櫛状中間リング６は、その平面部（側面ｓ１）がＥＵＶ光の光線と平行になるように構成されている。具体的には、ＥＵＶ光発光点に相当する高温プラズマＰからの光線に対して側面が平行となるように、円錐台状の側面を有する。
すなわち、上記櫛状中間リング６は、高温プラズマＰから放出されるＥＵＶ光をできるだけ遮光しないように構成されている。
【００３７】
なお、図１（ｂ）に示す櫛状中間リング６の断面を拡大した図である図２（ｂ）に示すように、櫛状中間リング６のＥＵＶ光入射側の厚みが光射出側の厚みよりも小さくなるように上記櫛状中間リング６を構成してもよい。このように櫛状中間リング６を構成することにより、上記櫛状中間リング６によるＥＵＶ光の遮光量を更に減少させることができる。櫛状中間リング６の光入射側の形状としては、例えば、図２（ｂ）に示すようにナイフエッジ形状としてもよい。
【００３８】
図２（ｃ）は、図２（ｂ）に示す櫛状中間リング６の切り込み部６ａの拡大図において、Ｄ方向から見た矢視図である。図２（ｃ）に示すように、各ホイル５ａは、櫛状中間リング６の切り込み部６ａに挿入されているものの固定されていない。各切り込み部６ａの幅は、各ホイル５ａの厚みよりも僅かに大きく構成されていて、各切り込み部６ａの凹部とホイル５ａの端部との間には隙間が設けられる。
よって、高温プラズマＰからの放射により各ホイル５ａが熱膨張してホイル５ａが動いても、上記切り込み部６ａはホイル５ａの動きを妨げることなく安定して上記各ホイル５ａを支持できる。
すなわち、図２（ｂ）の矢印方向、図２（ｃ）の矢印方向にホイル５ａが熱膨張して動いても、切り込み部６ａはホイル５ａの熱膨張方向の動きを規制しない。よって、上記櫛状中間リング６や、熱膨張に伴うホイル５ａの変形を抑制することができる。
【００３９】
図３は、高温プラズマＰ、本発明のホイルトラップ５、ＥＵＶ集光鏡９の配置関係を説明する図であり、図３（ａ）はホイルトラップとＥＵＶ集光鏡の配置関係を示す斜視図、図３（ｂ）は、光軸を含む平面で切った断面図である。
図３に示すＥＵＶ集光鏡９は、上記した斜入射集光鏡であり、例えばウォルター型形状である複数枚の薄い凹面ミラー９ａが入れ子状に配置されている。各凹面ミラーの光入射側の端部Ｔ（エッジ）の形状は円環形状であり、円環の太さは凹面ミラーの厚みに相当する。すなわち、各凹面ミラーは、光入射側にＥＵＶ光を遮光する円環状領域を有する。この円環状領域に照射されるＥＵＶ光は、ＥＵＶ光源鏡９には入射せず、ＥＵＶ光源装置からは取り出すことができない。
【００４０】
一方、本発明の櫛状中間リング６は、その平面部（側面）がＥＵＶ光の光線と平行になるように構成された円錐台状であるので、ＥＵＶ光の遮光部分は少ない。しかしながら、櫛状中間リング６により遮光されるＥＵＶ光は、櫛状中間リング６の厚みの分だけ存在し、その影は円環状となる。
よって、図３（ｂ）に示すように、櫛状中間リング６を、その中心軸と上記斜入射型の集光鏡９の光軸とが略一致するように配置し、当該櫛状中間リング６によって生じるＥＵＶ光の影を、上記集光鏡９のいずれかの回転体形状の凹面ミラーの光入射側の端部Ｔにおける円環状領域に対応させることが望ましい。
すなわち、櫛状中間リング６の中心軸と集光鏡の光軸とが略一致している場合において、櫛状中間リング６の径の大きさは、当該櫛状中間リング６によって生じるＥＵＶ光の影を斜入射集光鏡であるＥＵＶ集光鏡９を構成する回転体形状の凹面ミラーのいずれか一つの光入射側円環状領域にほぼ一致するように構成する。
これにより、櫛状中間リング６を設けたことにより生ずる影の影響を最小限にすることができる。
【００４１】
ホイルトラップ５を構成する中間支柱５ｂと外側リング５ｃは、例えば、スポーク５ｄにより連結される。図４は、本発明のホイルトラップ５において、上記したスポーク５ｄを追記した図であり、図４（ａ）は本実施例のホイルトラップをＥＵＶ光入射側から見た図、図４（ｂ）は図４（ａ）のＡ−Ａ断面図である。
同図に示すように、スポーク５ｄは、中間支柱と外側リング５ｃにより保持される各ホイル５ａ間に複数個設けられる。なお図４は、理解を容易にするために、スポーク５ｄの幅を太く強調して示しているものであり、各ホイル５ａの幅と各スポーク５ｄとの幅との大小関係を必ずしも正確に反映したものではない。本発明の櫛状中間リング６は、スポーク５ｄの端部（図４の場合は、ＥＵＶ光出射側端部）に固定されて、櫛状中間リング６によって生じるＥＵＶ光の影が、斜入射集光鏡であるＥＵＶ集光鏡９を構成する凹面ミラーのいずれか一つの光入射側円環状領域に対応するように位置決めされる。
【００４２】
なお、図１乃至図４において、櫛状中間リング６はホイルトラップ５の光出射側に設けられているが、これに限るものではない。例えば、櫛状中間リング６をホイルトラップ５の光入射側に設けてもよいし、図５、図６に示すように櫛状中間リング６をホイルトラップ５の光入射側および光出射側の双方に設けてもよい。
図５は櫛状中間リングをホイルの光入射側、光出射側に設けた場合の構成を示す図であり、図５（ａ）はホイルトラップをＥＵＶ光入射側から見た図、図５（ｂ）は図５（ａ）のＡ−Ａ断面図である。同図に示すように、櫛状中間リング６をホイルトラップ５の光入射側および光出射側の双方に設けることができる。
また、図６は図５の構成において、スポークを追記して示した図であり、図６（ａ）はホイルトラップをＥＵＶ光入射側から見た図、図６（ｂ）は図６（ａ）のＡ−Ａ断面図である。同図に示すように櫛状中間リング６をホイルトラップ５の光入射側および光出射側の双方に設け、ホイルトラップ５の光入射側、光出射側にスポーク５ｄを設けてもよい。
当然ながら、各ホイル５ａを支持する櫛状中間リング６が多い程、ホイルトラップ５が大型化しても各ホイル５ａをより正確に位置決めすることができる。よって、櫛状中間リング６は、ホイルトラップ５の光入射側および光出射側の双方に設けることが望ましい。
【符号の説明】
【００４３】
１      チャンバ
１ａ    放電部
１ｂ    ＥＵＶ集光部
１ｃ    ガス排気ユニット
２ａ，２ｂ    放電電極
３      電力供給手段
５      ホイルトラップ
５ａ    ホイル
５ｂ    中心支柱
５ｃ    外側リング
５ｄ    スポーク
６      櫛状中間リング
６ａ    切り込み部
８      ＥＵＶ光取出部
９      ＥＵＶ集光鏡
１０    原料供給ユニット
１４    高温プラズマ原料
１５    コンテナ
１６ａ，１６ｂ    回転モータ
１６ｃ，１６ｄ    回転軸
１７    レーザ光
１７ａ  レーザ源
２０    原料供給ノズル
２１    励起用レーザ光発生装置
２２    レーザ光（レーザビーム．）
２３    レーザ光入射窓部
２４    レーザ光集光手段
４０    露光機
Ｐ      高温プラズマ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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