(57)【要約】【課題】ペレットを製造する過程において、メヤニの発生を抑制する新たな方法を提供する。【解決手段】樹脂組成物（Ａ）及び樹脂組成物（Ｂ）を、それぞれ溶融する工程と、溶融した樹脂組成物（Ａ）及び溶融した樹脂組成物（Ｂ）を、それぞれ、芯鞘構造を有するストランドを形成し得る押出成形部を有するダイ装置に供給する工程と、押出成形部から、溶融した樹脂組成物（Ａ）及び溶融した樹脂組成物（Ｂ）を、それぞれ押し出して、ストランドを得る工程と、得られたストランドを切断して、ペレットを得る工程と、を有し、ストランドが、芯鞘構造を有し、芯が樹脂組成物（Ａ）からなる芯であり、鞘が樹脂組成物（Ｂ）からなる鞘であるストランドであり、ペレットが、芯鞘構造を有し、芯が樹脂組成物（Ａ）からなる芯であり、鞘が樹脂組成物（Ｂ）からなる鞘であるペレットである、押出成形部付近に発生するメヤニを抑制する方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂組成物（Ａ）及び樹脂組成物（Ｂ）（ただし、樹脂組成物（Ａ）とは異なる）を、それぞれ溶融する工程と、
溶融した樹脂組成物（Ａ）及び溶融した樹脂組成物（Ｂ）を、それぞれ、芯鞘構造を有するストランドを形成し得る押出成形部を有するダイ装置に供給する工程と、
押出成形部から、溶融した樹脂組成物（Ａ）及び溶融した樹脂組成物（Ｂ）を、それぞれ押し出して、ストランドを得る工程と、
得られたストランドを切断して、ペレットを得る工程と、を有し、
ストランドが、芯鞘構造を有し、芯が樹脂組成物（Ａ）からなる芯であり、鞘が樹脂組成物（Ｂ）からなる鞘であるストランドであり、
ペレットが、芯鞘構造を有し、芯が樹脂組成物（Ａ）からなる芯であり、鞘が樹脂組成物（Ｂ）からなる鞘であるペレットである、
押出成形部付近に発生するメヤニを抑制する方法。
【請求項２】
樹脂組成物（Ａ）が樹脂と、顔料、染料及び添加剤からなる群から選ばれる一種以上の剤とを含み、
樹脂組成物（Ａ）に対する樹脂の含有率が、１０〜９０重量％であり、
樹脂組成物（Ａ）に対する顔料、染料及び添加剤からなる群から選ばれる一種以上の剤の含有率が、１０〜９０重量％である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
樹脂組成物（Ａ）が樹脂（Ａ）を含む組成物であり、
樹脂組成物（Ｂ）が樹脂（Ｂ）を含む組成物であり、
樹脂（Ａ）および樹脂（Ｂ）が同じ樹脂である請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、メヤニを抑制する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に樹脂ペレットを製造する方法として、樹脂と、必要に応じて顔料や添加剤とを混合し、得られた混合物を押出機で溶融混練し、得られた混練物を、ダイ装置に供給し、ダイ装置の押出成形部からストランド状に押出し、カットすることにより、ペレットを製造する方法が知られている。ただし、この製造方法の課題として、混合する材の組成によって、混練物をダイ装置の押出成形部からストランド状に押し出す際、押出成形部付近に、樹脂や添加剤の一部が付着し劣化して、メヤニと呼ばれる付着物が成長し、メヤニが離脱してストランドとともに運ばれてペレット中に混入して、ペレットの品質を低下させることがある。そこで、このメヤニの発生を防止する方法が検討されており、例えば、ダイ装置の供給口の形状を特殊な形状とする方法、フッ素樹脂で被覆する方法が提案されている（特許文献１、２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平５−２２０８１２
【特許文献２】特開平５−２５３９９７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の方法では、メヤニの発生量は低減するが完全に発生を抑えることはできていなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、以下の発明を含む。
［１］  樹脂組成物（Ａ）及び樹脂組成物（Ｂ）（ただし、樹脂組成物（Ａ）とは異なる）を、それぞれ溶融する工程と、
溶融した樹脂組成物（Ａ）及び溶融した樹脂組成物（Ｂ）を、それぞれ、芯鞘構造を有するストランドを形成し得る押出成形部を有するダイ装置に供給する工程と、
押出成形部から、溶融した樹脂組成物（Ａ）及び溶融した樹脂組成物（Ｂ）を、それぞれ押し出して、ストランドを得る工程と、
得られたストランドを切断して、ペレットを得る工程と、を有し、
ストランドが、芯鞘構造を有し、芯が樹脂組成物（Ａ）からなる芯であり、鞘が樹脂組成物（Ｂ）からなる鞘であるストランドであり、
ペレットが、芯鞘構造を有し、芯が樹脂組成物（Ａ）からなる芯であり、鞘が樹脂組成物（Ｂ）からなる鞘であるペレットである、
押出成形部付近に発生するメヤニを抑制する方法。
［２］  樹脂組成物（Ａ）が樹脂と、顔料、染料及び添加剤からなる群から選ばれる一種以上の剤とを含み、
樹脂組成物（Ａ）に対する樹脂の含有率が、１０〜９０重量％であり、
樹脂組成物（Ａ）に対する顔料、染料及び添加剤からなる群から選ばれる一種以上の剤の含有率が、１０〜９０重量％である［１］に記載の方法。
［３］  樹脂組成物（Ａ）が樹脂（Ａ）を含む組成物であり、
樹脂組成物（Ｂ）が樹脂（Ｂ）を含む組成物であり、
樹脂（Ａ）および樹脂（Ｂ）が同じ樹脂である［１］に記載の方法。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、ペレットを製造する過程において、メヤニの発生を抑制することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
＜樹脂組成物（Ａ）（以下、「組成物（Ａ）」という場合がある。）及び樹脂組成物（Ｂ）（以下、「組成物（Ｂ）」という場合がある。）を、それぞれ溶融する工程＞
組成物（Ａ）及び組成物（Ｂ）は、溶融される前に、それぞれ、必要に応じて混合してもよい。組成物（Ａ）及び組成物（Ｂ）を混合する方法としては、ドライブレンド等が挙げられる。
【０００８】
組成物（Ａ）及び組成物（Ｂ）は、それぞれ、溶融混練機を用いて溶融する。組成物（Ａ）及び組成物（Ｂ）を溶融混練するための混練機としては、バンバリーミキサー、インテンシブミキサー、加圧ニーダー等のバッチ型混練機；ブラベンダーミキサー等の簡易型の混練機；連続式インテンシブミキサー；これらの混練機の下に一軸押出機を有する、混練と押出を同時に実施する装置；が挙げられる。
【０００９】
混練機のローターの回転数は１００〜１２００ｒｐｍ、好ましくは１５０〜１０００ｒｐｍ、より好ましくは２００〜８００ｒｐｍの範囲である。混練機チャンバー内径（Ｄ）は２０ｍｍ以上の範囲、好ましくは３０〜４００ｍｍの範囲である。混練機のチャンバー長さ（Ｌ）との比Ｌ／Ｄは、好ましくは４〜６０の範囲である。
混練温度は通常１００〜５００℃の範囲であり、好ましくは１００〜４００℃の範囲であり、より好ましくは１００〜３００℃の範囲である。
混練時間は通常１０〜６００秒の範囲であり、好ましくは１５〜２００秒の範囲であり、より好ましくは１５〜１５０秒の範囲である。
【００１０】
混練機には、押出機が接続される。溶融混練された組成物（Ａ）及び組成物（Ｂ）は、押出機へ供給される。
【００１１】
また、混練機及び押出機が一体化された装置を用いてもよい。混練機及び押出機が一体化された装置としては、ＦＣＭ（Ｆａｒｒｅｌ社製）、ＣＩＭ（日本製鋼所社製）及びＫＣＭ、ＬＣＭ、ＡＣＭ（神戸製鋼所社製）等の連続式インテンシブミキサー；ニーディングタイプ二軸押出機（同方向又は異方向）等の連続型混練機；ＫＣＫ混練押出機（ＫＣＫ社製）等の、摩砕機構を有する回転円板を使用した連続混練装置；一軸押出機に混練部（ダルメージ、ＣＴＭ等）を設けたもの；ＴＥＸ（日本製鋼所社製）、ＺＳＫ（Ｗｅｒｎｅｒ＆Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ社製）、ＴＥＭ（東芝機械社製）、ＰＣＭ（池貝社製）等の、ニーディングディスク又は混練用ローターを有する二軸混練押出機；が挙げられる。混練機は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１２】
＜溶融した組成物（Ａ）及び溶融した組成物（Ｂ）を、それぞれ、芯鞘構造を形成し得る押出成形部を有するダイ装置に供給する工程＞
ダイ装置は、組成物（Ａ）供給口及び組成物（Ｂ）供給口を有する。組成物（Ａ）供給口及び組成物（Ｂ）供給口には、それぞれ別の押出機が接続される。ダイ装置の供給口へ、押出機から、溶融した組成物（Ａ）及び溶融した組成物（Ｂ）が供給される。
【００１３】
＜押出成形部から溶融した組成物（Ａ）及び溶融した組成物（Ｂ）を押し出して、ストランドを得る工程＞
ダイ装置は、芯鞘構造を形成し得る押出成形部を有する。押出機からダイ装置に供給された溶融した組成物（Ａ）及び溶融した組成物（Ｂ）は、それぞれの供給路を経て、押出成形部へと供給される。押出成形部の押出口からは、溶融した組成物（Ａ）が中心を棒状に押し出されるとともに、組成物（Ａ）の外面には、溶融した組成物（Ｂ）が、組成物（Ａ）を同心円状に被覆するように、組成物（Ａ）とともに押し出され、ストランドを形成する。ストランドは、芯鞘構造を有し、芯が組成物（Ａ）からなる芯であり、鞘が組成物（Ｂ）からなる鞘であるストランドである。
ダイ装置への組成物（Ａ）及び組成物（Ｂ）の供給量を調整することで、ストランドにおける、芯と鞘との厚みの比率を調節することができる。
ストランドの直径は、好ましくは０．５〜５ｍｍの範囲であり、より好ましくは２〜４ｍｍの範囲である。
【００１４】
＜得られた芯鞘構造を有するストランドを切断して、ペレットを得る工程＞
ストランドを、必要に応じて冷却した後、切断して、ペレットを得ることができる。切断は、ペレタイザにより行なう。ペレットは、芯鞘構造を有し、芯が組成物（Ａ）からなる芯であり、鞘が組成物（Ｂ）からなる鞘であるペレットである。
冷却方法としては、押出したストランドを水槽中に導き、水槽中の冷却水にストランドを浸漬させる方法が最も一般的に広く用いられている。
冷却後のストランドは、好ましくは、水切り装置によって表面に付着した水分を除去した後に、ペレタイザへ供給される。ペレタイザは、回転刃等を駆動させることにより、ストランドを切断する。ストランドを切断する長さは、好ましくは１．０〜５．０ｍｍの範囲、より好ましくは、２．５〜３．５ｍｍの範囲である。
切断端面を丸めることで、組成物（Ａ）の端面を含む全周が組成物（Ｂ）で被覆された球状、楕円球状又は円盤状のペレットを得ることができる。ペレットの外径は、好ましくは２〜８ｍｍの範囲である。
【００１５】
＜芯鞘構造を有し、芯が組成物（Ａ）からなる芯であり、鞘が組成物（Ｂ）からなる鞘であるペレット＞
ペレットにおける芯と鞘との重量比率は、好ましくは５／９５〜９９／１の範囲であり、より好ましくは５０／５０〜９９／１の範囲であり、さらに好ましくは８０／２０〜９０／１０の範囲である。
【００１６】
組成物（Ａ）及び組成物（Ｂ）は、樹脂を含む。樹脂としては、環状ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアミド、アセチルセルロース、フッ素樹脂、ポリエステル、アリル樹脂、シリコン樹脂、熱可塑性エラストマー等が挙げられ、好ましくは、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミドが挙げられる。これらの樹脂は２種以上組み合わせてもよい。
ポリアミドとしては、ナイロン樹脂等が挙げられる。
組成物（Ａ）及び組成物（Ｂ）に含まれる樹脂は、好ましくは、同じ樹脂であるか、又は、類似の樹脂である。
【００１７】
組成物（Ａ）における樹脂（Ａ）の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％の範囲であり、組成物（Ｂ）における樹脂（Ｂ）の含有率は、好ましくは９０〜１００重量％の範囲である。
【００１８】
組成物（Ａ）及び組成物（Ｂ）は、顔料、染料、添加剤等を含んでいてもよい。添加剤としては、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、難燃化剤、抗菌剤、帯電防止剤、銅害防止剤、金属不活性化剤、粘着付与剤、アンチブロックング剤、滑剤、スリップ剤、内部離型剤、防曇剤（防滴剤、霧滴防止剤）、付香剤、界面活性剤、湿潤剤、防腐剤、防カビ剤、充填剤、補強剤、安定剤、保温剤、発泡剤、防震剤、耐衝撃性向上剤、表面処理剤、保温剤、表面処理剤、分散剤、禁水性材料等が挙げられる。
【００１９】
組成物（Ａ）及び組成物（Ｂ）に含まれる顔料、染料、添加剤は、マスターバッチとしてナチュラル樹脂に希釈して使用されることを考えると、高濃度に含まれていることが望ましいが、材の種類によって樹脂中に練り込める限界濃度が異なること、最終組成中に添加される量によって適正な希釈率となるように設計されることから、材によって含有率は変動が大きく、１０〜９０重量％の範囲となる。
【００２０】
顔料としては、公知の有機顔料、無機顔料、体質顔料等が挙げられる。有機顔料としては、不溶性アゾ、縮合アゾ等のアゾ系顔料、アントラキノン系、ペリノン系、ペリレン系、チオインジゴ系等のスレン系、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等のフタロシアニン系、ナフトールグリーンＢ、ナフトールグリーンＹ等のニトロソ顔料、キナクリドン系、ジオキサジン系、イソインドリノン系、ピロロピロール系、アニリンブラック、有機蛍光顔料等が挙げられる。無機顔料としては、クレー、バライト、雲母等の天然物、黄鉛、亜鉛黄、バリウム黄等のクロム酸塩、紺青等のフェロシアン化物、硫化亜鉛等の硫化物、硫酸バリウム等の硫酸塩、酸化クロム、亜鉛華、酸化チタン、弁柄、鉄黒、酸化クロム等の酸化物、水酸化アルミニウム等の水酸化物、ケイ酸カルシウム、群青等のケイ酸塩、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩、カーボンブラック、松煙、ボーンブラック、グラファイト等の炭素、アルミニウム粉、ブロンズ粉、亜鉛末等の金属粉、その他焼成顔料等が挙げられる。体質顔料としては、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク等の体質顔料が挙げられる。これらの顔料は２種以上組合せて用いてもよい。
【００２１】
組成物（Ａ）における顔料の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは４０〜９０重量％である。
組成物（Ｂ）における顔料の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に顔料を含まないことをいう。
【００２２】
可塑剤としては、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジエチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、オクチルデシルフタレート等のフタル酸エステル誘導体；ジメチルイソフタレート、ジオクチルイソフタレート等のフタル酸異性体系；ジ−２−エチルヘキシルテトラヒドロフタレート等のテトラヒドロフタル酸誘導体；トリフェニルホスフェート、トリクロルエチルホスフェート、ビスフェノールＡジフェニルホスフェート等のリン酸エステル誘導体；ジメチルアジペート、ジブチルアジペート、ジイソデシルアジペート、ジイソブチルアジペート等のアジピン酸誘導体；ジ−ｎ−ブチルセバケート、ジ−ｎ−オクチルセバケート、ブチルベンジルセバケート等のセバシン酸誘導体；ジ−２−エチルヘキシルアゼレート、ジメチルアゼレート、ジベンジルアゼレート等のアゼライン酸誘導体；トリエチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、トリブチルシトレート等のクエン酸系；エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸オクチル等のエポキシ系；ポリプロピレンアジペート、ポリプロピレンセバケート等のポリエステル系；塩素化パラフィン、塩素化脂肪酸エステル等の塩素化系；メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート等のグリコール酸系；トリ−２−エチルヘキシルトリメリテート等のトリメリット酸系；メチルアセチルリシノレート、ブチルアセチルリシノレート等のリシノール酸系；ブチルオレエート；が挙げられる。可塑剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００２３】
組成物（Ａ）における可塑剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における可塑剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に可塑剤を含まないことをいう。
【００２４】
酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル-テトラキス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートメチルフェノール、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等のフェノール系；トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンホスフォナイト等のリン系；ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリストール−テトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）等の硫黄系等が挙げられる。酸化防止剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００２５】
組成物（Ａ）における酸化防止剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における酸化防止剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に酸化防止剤を含まないことをいう。
【００２６】
紫外線吸収剤及び光安定化剤としては、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルサリシレート等のサリチル酸誘導体；２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系；２−（２’−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３'−ｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、こはく酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物等のヒンダードアミン系；が挙げられる。紫外線吸収剤及び光安定化剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００２７】
組成物（Ａ）における紫外線吸収剤及び光安定化剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における紫外線吸収剤及び光安定化剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に紫外線吸収剤及び光安定化剤を含まないことをいう。
【００２８】
難燃化剤としては、アルキルジアリルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、トリアリルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロルプロピル）ホスフェート、トリス（２，３−ジブロムプロピル）ホスフェート、トリス（ブロム・クロルプロピル）ホスフェート等のリン酸系；塩素化パラフィン、塩素化ポリフェニル、パークロロペンタシクロデカン等の塩素系；テトラブロムエタン、テトラブロムブタン、ヘキサブロモベンゼン、デカブロモジフェニルオキシド、ポリジブロモフェニルオキシド、ビス（トリブロムフェノキシ）エタン、エチレンビスジブロモノルボルナンジカルボキシイミド、エチレンビステトラブロモフタルイミド等の臭素系；無水クロレンド酸、テトラブロモ無水フタル酸、テトラブロモビスフェノールＡ、ジエトキシ-ビス−（２−ヒドロキシエチル）−アミノメチルホスフェート、ジブロモクレジルグリシジルエーテル等の反応型；が挙げられる。難燃化剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。またエポキシ系安定剤等の難燃化用安定剤を併用することもできる。
【００２９】
組成物（Ａ）における難燃化剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは４０〜９０重量％である。
組成物（Ｂ）における難燃化剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に難燃化剤を含まないことをいう。
【００３０】
抗菌剤としては、１０，１０’−オキシビスフェノキサアルシン等のフェノールエーテル系殺菌剤；ノキチオール、β−ドラブリン等の天然抗菌剤；低級脂肪酸モノグリセリンエステル、ショ糖脂肪酸エステル等のグリセリン脂肪酸エステル；カプリル酸モノグリセライド、カプリン酸モノグリセライド、ラウリン酸モノグリセライド、パルミチン酸シュガーエステル、デカグリセルモノカプレート、ヘキサグリセルモノカプリレート等のポリグリセリン脂肪酸エステル；ゼオライト系化合物中のナトリウムイオン、カルシウムイオン、カリウムイオン、マグネシウムイオン、鉄イオン等のイオン交換可能なイオンのその一部又は全部を、銀イオン、銅イオン、亜鉛イオン、アンモニウムイオン等の抗菌性を有するイオンで置換したゼオライト系化合物；が挙げられる。抗菌剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００３１】
組成物（Ａ）における抗菌剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における抗菌剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に抗菌剤を含まないことをいう。
【００３２】
帯電防止剤としては、第４級アンモニウムクロライド、第４級アンモニウムサルフェート等のカチオン系；アルキルスルホネート、アルキルベンゼンスルホネート等のアニオン系；ポリ（オキシエチレン）アルキルアミン、ポリ（オキシエチレン）アルキルアミド等の非イオン系；アルキルベタイン型、アルキルイミダゾリン型等の両性系；ポリビニルベンジル型カチオン、ポリアクリル酸型カチオン等の導電性樹脂；が挙げられる。帯電防止剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００３３】
組成物（Ａ）における帯電防止剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における帯電防止剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％であり、より好ましくは、０％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に帯電防止剤を含まないことをいう。
【００３４】
銅害防止剤及び金属不活性化剤としては、１，２，３−ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、トリルトリアゾールアミン塩、トリルトリアゾールカリウム塩、３−（Ｎ−サリチロイル）アミノ−１，２，４−トリアゾール等が挙げられる。銅害防止剤及び金属不活性化剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００３５】
組成物（Ａ）における銅害防止剤及び金属不活性化剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における銅害防止剤及び金属不活性化剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に銅害防止剤及び金属不活性化剤を含まないことをいう。
【００３６】
粘着付与剤としては、クマロン・インデン樹脂、クマロン樹脂・ナフテン系油・フェノール樹脂・ロジンの混合物等のクマロン樹脂系；ｐ−ｔ−ブチルフェノール・アセチレン樹脂、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、テンペンフェノール樹脂、ポリテルペン樹脂、キシレン・ホルムアルデヒド樹脂等のフェノール・テルペン系樹脂系；クイントンＡ１００（日本ゼオン製）、Ｗｉｎｇｔａｃｋ９５（Ｇｏｏｄｙｅａｒ  Ｃｈｅｍ社製）等の合成ポリテルペン樹脂系；日石ネオポリマー１２０、日石ネオポリマー１６０、日石ネオポリマーＴ等の芳香族炭化水素樹脂系；Ｅｓｃｏｒｅｚ１２０２Ｕ（エクソン化学製）、Ｅｓｃｏｒｅｚ１２７１（エクソン化学製）、タッキロール１０００（住友化学製）、タッキロール５０００（住友化学製）、Ｐｉｃｃｏｐａｌｅ（ハーキュリーズ社製）等の脂肪族炭化水素樹脂系；アルコンＰ−９０（荒川化学製）、アルコンＰ−１００（荒川化学製）、ハイレッツＧ−１００Ｘ（三井石油化学製）、ハイレッツＴ−１００Ｘ（三井石油化学製）等の脂肪族環状炭化水素樹脂系；Ｅｓｃｏｒｅｚ１４０１（エクソン化学製）等の脂肪族・脂環族系石油樹脂系；Ｅｓｃｏｒｅｚ２１０１（エクソン化学製）、Ｅｓｃｏｒｅｚ２２０３（エクソン化学製）等の脂肪族芳香族石油樹脂系；Ｅｓｃｏｒｅｚ８０３０（エクソン化学製）等の不飽和炭化水素重合体系；Ｅｓｃｏｒｅｚ５３８０（エクソン化学製）、Ｅｓｃｏｒｅｚ５３００（エクソン化学製）等の水素添加炭化水素樹脂系；ＹＳレジン７５（ヤスハラケミカル製）、Ｐｉｃｃｏｔａｃ  ｒｅｓｉｎｓＡ（ハーキュリーズ社製）等の炭化水素系粘着化樹脂系；ポリブテン、アタクチックポリプロピレン、液状ポリブタジエン、シス−１，４−ポリイソプレンゴム、水素添加ポリイソプレンゴム、クラプレンＬＩＲ−２９０（クラレ製）等の石油系炭化水素樹脂系；ロジンのペンタエリスリトールエステル、ロジンのグリセロールエステル、水素添加ロジン、高度のロジンのメチルエステル、水素添加ロジンのメチルエステル、水素添加ロジンのトリエチレングリコールエステル、水素添加ロジンのペンタエリスリトールエステル、水素添加ロジンエステル、高融点エステル系樹脂、重合ロジン、樹脂酸亜鉛、硬化ロジン等のロジン誘導体系；テレピン系粘着付与剤、合成樹脂とフタル酸エステルの共縮合物、ノニオン性活性剤；が挙げられる。粘着付与剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００３７】
組成物（Ａ）における粘着付与剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは４０〜９０重量％である。
組成物（Ｂ）における粘着付与剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に粘着付与剤を含まないことをいう。
【００３８】
アンチブロッキング剤としては、無機微粒子粉体として二酸化ケイ素、アルミノシリケート、炭酸カルシウム、微粉タルク等が挙げられる。ポリマー微粒子粉体としてアクリル系モノマー、スチレン系モノマー、または酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルニトリルのモノマーの何れか、或いは前記モノマーと他のモノマーとを重合して調整されるものが挙げられる。アンチブロッキング剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００３９】
組成物（Ａ）におけるアンチブロッキング剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）におけるアンチブロッキング剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的にアンチブロッキング剤を含まないことをいう。
【００４０】
滑剤及びスリップ剤としては、流動パラフィン、天然パラフィン、マイクロワックス、ポリエチレンワックス、塩素化パラフィン、フルオロカーボン、合成パラフィン等のパラフィンワックス系；ステアリン酸、パルチミン酸、ミリスチン酸、ベヘニン酸、アラキジン等の脂肪酸系；脂肪族アミド、アルキレンビス脂肪酸アミド等の脂肪族アミド系；ステアリン酸ブチル等の脂肪酸低級アルコール；多価アルコール、ポリグリコールエステル、高級アルコールエステル類等のエステル系；マグネシウムステアレート、カルシウムステアレート、ロノジンク等の金属石鹸；脂肪アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等の多価アルコール系；脂肪酸と多価アルコールの部分エステル、脂肪酸とポリグリコール・ポリグリセロールの部分エステル；が挙げられる。滑剤及びスリップ剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００４１】
組成物（Ａ）における滑剤及びスリップ剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における滑剤及びスリップ剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に滑剤及びスリップ剤を含まないことをいう。
【００４２】
内部離型剤としては、パーフルオロアルキルベタイン、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、エーテル型リン酸エステル、合成有機酸エステル誘導体、ノニオン系活性剤等が挙げられる。内部離型剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００４３】
組成物（Ａ）における内部離型剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における内部離型剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に内部離型剤を含まないことをいう。
【００４４】
防曇剤（防滴剤、霧滴防止剤）としては、Ｍａｒｋ３９（アデカ・アーガス化学製）、レオドールＳＰ−Ｐ１０（花王製）、レオドールＳＰ−Ｏ１０（花王製）、ＡＤ−３３９（堺化学製）、レオスタットＳＳ−６０（ライオン製）、リマケールＰ−３００（理研ビタミン社製）、リマケールＳ−３００（理研ビタミン社製）、リマケールＯ−２５０（理研ビタミン社製）等のソルビタン脂肪酸エステル系；アミゾールＣＤＥ（川研ファインケミカル社製）、アミゾールＯＤＥ（川研ファインケミカル社製）等の脂肪酸ジエタノールアミド系；レジスタットＡＦ１０１（第一工業製薬製）、レジスタット８２００（第一工業製薬製）、アントックスＤＦＭ（日本乳化剤製）、ＰＡ−１７４３（丸菱油化製）、ＰＡ−５２２１（丸菱油化製）、デノン４１９０（丸菱油化製）、レオスタットＤＧＳ（Ｂ）（ライオン製）、リマケールＳ−１０５（理研ビタミン社製）、リマケールＳ−１２０（理研ビタミン社製）、ポリエチレングリコールモノオレート、ポリエチレングリコールモノラウレート；が挙げられる。防曇剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００４５】
組成物（Ａ）における防曇剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における防曇剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に防曇剤を含まないことをいう。
【００４６】
付香剤としては、ＡｌａｍａｓｋＡＦ（ローヌ・プーラン社製）；ＡｌａｍａｓｋＡＯ（ローヌ・プーラン社製）；ＡｌａｍａｓｋＣＹ（ローヌ・プーラン社製）；ＡｌａｍａｓｋＨ（ローヌ・プーラン社製）；ＡｌａｍａｓｋＡＡ（ローヌ・プーラン社製）；ＡｌａｍａｓｋＨ（ローヌ・プーラン社製）；ＡｌａｍａｓｋＮＤ（ローヌ・プーラン社製）；Ｒｏｄｏ  Ｎｏ．０（バンダービルト社製）；Ｒｏｄｏ  Ｎｏ．４（バンダービルト社製）；Ｒｏｄｏ  Ｎｏ．１０（バンダービルト社製）；ナトリウムボロハイドライド；リチウムボロハイドライド；無水フタル酸；ナトリウムパーボレート等の過酸化物；バニラエッセンス；が挙げられる。付香剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００４７】
組成物（Ａ）における付香剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における付香剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に付香剤を含まないことをいう。
【００４８】
界面活性剤としては、カルボン酸塩、脂肪酸塩、環状脂肪酸塩、特殊ポリカルボン酸塩型活性剤、スルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルケニルスルホン酸塩、アルキルアリルスルホン酸塩、アルキルアリルスルホン酸塩の重縮合物、硫酸塩、アルキル硫酸エステル、ポリオキシエチレン・アルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレン・アルキルフェニルエーテル硫酸塩、りん酸エステル、アルキルりん酸エステル、ポリオキシエチレン・アルキル（フェニル）エーテルりん酸エステル塩、無機りん酸塩等のアニオン性界面活性剤；ポリオキシエチレン誘導体、ポリオキシエチレン・アルキルエーテル、ポリオキシエチレン・アルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン・ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアマイド、多価アルコール系誘導体等のノニオン性界面活性剤；アルキルアミン塩、第４アンモニウム塩等のカチオン性界面活性剤；アルキルベタイン等の両性界面活性剤；フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、反応性界面活性剤；が挙げられる。界面活性剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００４９】
組成物（Ａ）における界面活性剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における界面活性剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に界面活性剤を含まないことをいう。
【００５０】
湿潤剤としては、アルキルナフタレンスルホン酸塩；アルキルスルホこはく酸塩；硫酸塩；アデカトールＮＰ−６７５（旭電化製）等のポリオキシエチレン誘導体；ハイオニックＤＥシリーズ（サンノプコ社製）；ノプコ２２７２−Ｒ−ＳＮ（サンノプコ社製）；ノプコウェット５０（サンノプコ社製）；が挙げられる。湿潤剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００５１】
組成物（Ａ）における湿潤剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における湿潤剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に湿潤剤を含まないことをいう。
【００５２】
防腐剤及び防カビ剤としては、ペンタクロロフェノール、ｐ−クロロ−ｍ−キシレノール、デヒドロオビエチルアミンペンタクロロフェノール（ハーキュリー社製）、４−クロロ−２−フェニルフェノール、N-（トリクロロメチルチオ）フタルイミド、Ｎ−ジメチル−Ｎ’−フェニル−（Ｎ’−フロロジクロロメチルチオ）スルファミド、Ｎ−（トリクロロメチルチオ）−４−クロロヘキセン−１，２−ジカルボキシイミド、２，４，５，６−テトラクロロ−ｉｓｏ−フタロニトリル等の有機塩素化合物系；銅−８−キノリノレート等の有機銅化合物；ビス（トリ−ｎ−ブチルすず）オキサイド、トリブチルすずラウレート、トリブチルすずクロリド等の有機錫化合物系；１０，１０’−オキシビスフェノキサシン（ベントロン社製）、ＶｉｎｙｚｅｎｅＳＢ−１（Ｍｏｒｔｏｎ  Ｔｈｉｏｋｏｌ社製）、ＶｉｎｙｚｅｎｅＳＢ−５−２（Ｍｏｒｔｏｎ  Ｔｈｉｏｋｏｌ社製）等の有機ヒ素化合物系；クォーターナリーアンモニウムカルボキシレート（ローム＆ハース社製）、２−（４−チアゾールイル）ベンゾイミダゾール；が挙げられる。防腐剤及び防カビ剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００５３】
組成物（Ａ）における防腐剤及び防カビ剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における防腐剤及び防カビ剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に防腐剤及び防カビ剤を含まないことをいう。
【００５４】
充填剤としては、アルミナ、三酸化アンチモン、アスベスト、バライト、炭酸カルシウム、無水石膏、カオリンクレー、カーボンブラック、ケイ藻土、長石粉、酸性白土、石英、グラファイト、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、酸化マグネシウム、マイカ、二硫化モリブデン、ロウ石クレー、セリサイト、微粉ケイ酸、シリカサイド、スレート粉、タルク、バーミキュライト、火山灰、ホワイチング、沈降炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、含水ケイ酸、無水ケイ酸、含水ケイ酸塩、カオリンクレー、ハードクレー、焼成クレー、微粉タルク等が挙げられる。充填剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００５５】
組成物（Ａ）における充填剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは４０〜９０重量％である。
組成物（Ｂ）における充填剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に充填剤を含まないことをいう。
【００５６】
補強剤としては、ガラス糸、ロービング、チョップドストランド、チョップドストランドマット、ガラスクロス、ガラステープ、ロービングクロス、ミルドファイバー等が挙げられる。補強剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００５７】
組成物（Ａ）における補強剤の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは４０〜９０重量％である。
組成物（Ｂ）における補強剤の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に補強剤を含まないことをいう。
【００５８】
禁水性材料とは、水と反応する、又は、水と接触することで本来有していた添加剤としての性質を失ってしまう材料である。禁水性材料としては、吸湿剤、酸素発生剤、二酸化炭素発生剤、エチルアルコール発生剤、亜硫酸ガス発生剤及び酸素吸収剤等が挙げられる。
吸湿剤としては、シリカゲル、酸化アルミニウム、モレキュラーシーブス等の合成ゼオライト、モルデナイトやエリオナイト等の天然ゼオライト、パーライト、酸性白土や活性白土等の粘度鉱物、多孔質ガラス、珪酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、高分子吸着剤、活性炭、活性炭素繊維、モレキュラーシービングカーボン、骨炭、酸化カルシウム、珪酸カルシウム、塩化カルシウム、臭化カルシウム、酸化バリウム、臭化バリウム、過塩素酸バリウム、塩化マグネシウム、酸化マグネシウム、硫酸マグネシウム、過塩素酸マグネシウム、硫酸アルミニウム、硫酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、過塩素酸リチウム等が挙げられる。酸素発生剤としては、炭酸ナトリウム過酸化水素付加物系、過酸化カルシウム系、過酸化マグネシウム系等が挙げられる。二酸化炭素発生剤としては、炭酸塩−有機酸系、炭酸塩−アミノ酸系、炭酸塩−無機酸系炭素発生剤等が挙げられる。
エチルアルコール発生剤としては、特公平１−５７９４７号公報に示されたような水溶性成分で包埋したエチルアルコール発生剤が挙げられる。
亜硫酸ガス発生剤としては、特開昭５２−４４２５２号公報や特開昭６２−２３２３３２号公報に示された亜硫酸水素ナトリウム系やピロ亜硫酸ナトリウム系のものが挙げられる。
酸素吸収剤としては、特公昭５８−２９０６９号公報に示された鉄粉等の金属粉系酸素吸収剤、アスコルビン酸系酸素吸収剤が挙げられる。
【００５９】
組成物（Ａ）における禁水性材料の含有率は、好ましくは１０〜９０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％である。
組成物（Ｂ）における禁水性材料の含有率は、好ましくは０〜１０重量％である。含有率が０％とは、組成物が実質的に禁水性材料を含まないことをいう。
【００６０】
＜成型品＞
ペレットから成型品を得ることができる。成型品の成形方法としては、射出成形法、押し出し成形法、吹き込み成形法、真空成形法、インフレーション成形法、カレンダー成形法、スラッシュ成形法、ディップ成形法、発泡成形法等が挙げられる。
【００６１】
［実施例］
以下に実施例によりさらに詳細に本発明を説明する。
［実施例１］
ポリアミド６（商品名；Ａ１０２０ＢＲＬ、ユニチカ社製）４０重量部と難燃化剤（商品名；Ｅｘｏｌｉｔ ＯＰ１３１２、クラリアント社製）５０重量部とからなる組成物（Ａ）を、重量式フィーダーを用いて２条二軸押出機（商品名；ＴＥＸ−３０α、日本製鋼所社製、３０φｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５２．５）に供給し溶融した。
ポリアミド６（商品名；Ａ１０３０ＢＲＦ、ユニチカ社製）１０重量部からなる組成物（Ｂ）を、単軸押出機（商品名；ＶＳ４０、池貝社製、４０φｍｍ、Ｌ／Ｄ＝２５）に供給し溶融した。
それぞれの押出機から、溶融した組成物（Ａ）および溶融した組成物（Ｂ）を、２５０℃で、芯鞘構造を有するストランドを形成し得る押出成形部を有するダイ装置（池貝社製、口金３個）に供給した。
押出成形部から、溶融した組成物（Ａ）および溶融した組成物（Ｂ）を押し出して、３本のストランドを得た。
得られた３本のストランドを水槽に通して冷却し、ペレタイザを用いてカッティングして、外径３φｍｍ、鞘厚み０．１ｍｍの形状のペレットを得た。
得られたペレットの芯鞘比率は芯／鞘＝９／１（重量比）であり、ペレット中の難燃化剤の濃度は５０重量％であった。押出成形部付近にメヤニは発生せず、押出時のストランド切れやカッティング時の切粉の発生はなく、均一な形状のペレットを得ることができた。
【００６２】
［比較例１］
ポリアミド６（商品名；Ａ１０２０ＢＲＬ、ユニチカ社製）５０重量部と難燃化剤商品名；Ｅｘｏｌｉｔ ＯＰ１３１２、クラリアント社製）５０重量部とからなる組成物を、重量式フィーダーを用いて２条二軸押出機（商品名；ＴＥＸ−３０α、日本製鋼所社製、３０φｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５２．５）に供給した。
押出機から、溶融した組成物を、通常のダイ装置（口金４個）に供給した。
押出成形部から、溶融した組成物を押し出して、４本のストランドを得た。
得られた４本のストランドを水槽に通して冷却し、ペレタイザを用いてカッティングした。
押出成形部付近にメヤニが発生し、押出時のストランド切れがたびたび発生し、工業的に生産不可能であった。
【００６３】
［実施例２〜６］
組成物（Ａ）および組成物（Ｂ）として、表に記載した組成物を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ペレットを得た。押出成形部付近にメヤニは発生せず、押出時のストランド切れやカッティング時の切粉の発生はなく、均一な形状のペレットを得ることができた。
【００６４】
2015139887.tif 000002
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明によれば、ペレットを製造する過程において、メヤニの発生を抑制することができる。