(57)【要約】      （修正有）【課題】光透過性導電性フィルムにおいて、骨見え現象を抑制する。【解決手段】（Ａ）光透過性支持層及び（Ｂ）ハードコート層を含有する、ハードコート付き支持フィルム、並びに（Ｃ）光学干渉層及び（Ｄ）電極用パターン形状を有する光透過性導電層を含有し、（ｉ）光透過性支持層（Ａ）が、屈折率１．６〜１．７を示し、（ｉｉ）ハードコート層（Ｂ）が、屈折率１．４８〜１．５２を示し、（ｉｉｉ）ハードコート付き支持フィルムが、反対側の面を遮光しつつハードコート層（Ｂ）側の面から測定して得られる５度正反射スペクトルが、所定の要件を満たし、かつ（ｉｖ）光透過性導電層（Ｄ）が、反対側の面を遮光して光透過性導電層（Ｄ）側の面から測定して得られる波長域５３５ｎｍ〜５５５ｎｍにおける５度正反射スペクトルについて、所定の要件を満たす光透過性導電性フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）光透過性支持層及び
（Ｂ）ハードコート層
を含有し、前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、前記ハードコート層（Ｂ）が最外層に位置する、ハードコート付き支持フィルム；並びに
（Ｃ）光学干渉層及び
（Ｄ）電極用パターン形状を有する光透過性導電層
を含有し、
前記光学干渉層（Ｃ）が、前記ハードコート層（Ｂ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｄ）が、前記光学干渉層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
（ｉ）前記光透過性支持層（Ａ）が、波長５５０ｎｍにおける屈折率１．６〜１．７を示し、
（ｉｉ）前記ハードコート層（Ｂ）が、波長５５０ｎｍにおける屈折率１．４８〜１．５２を示し、
（ｉｉｉ）前記ハードコート付き支持フィルムが、反対側の面を遮光しつつ前記ハードコート層（Ｂ）側の面から測定して得られる５度正反射スペクトルについて、以下の要件を満たし：
少なくとも５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長領域で連続的に波長を変化させながら測定して得られる５度正反射スペクトルを、波長をＸ軸、各波長における５度正反射率をＹ軸とするグラフにプロットして干渉パターンの波形を描いたときに、波長５５０ｎｍでの前記５度正反射率が、干渉パターンの波形の振幅の中心をつないだ中心線よりも下側に位置する；かつ
（ｉｖ）前記光透過性導電層（Ｄ）が、反対側の面を遮光しつつ前記光透過性導電層（Ｄ）側の面から測定して得られる波長域５３５ｎｍ〜５５５ｎｍにおける５度正反射スペクトルについて、以下の要件を満たす：
前記電極用パターン形状部分を測定して得られる５度正反射率と、その他の部分を測定して得られる５度正反射スペクトル値の差分（反射率差）の絶対値の平均値が０．７％未満である；
ことを特徴とする光透過性導電性フィルム。
【請求項２】
ハードコート層（Ｂ）の、光干渉計算により算出した厚さが、１６３１ｎｍ〜１７８９ｎｍである、請求項１に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項３】
ハードコート層（Ｂ）の、光干渉計算により算出した厚さが、１８２０ｎｍ〜１９７０ｎｍである、請求項１に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項４】
光学干渉層（Ｃ）が、さらに、
（Ｃ１）ハードコート層（Ｂ）より屈折率が高い高屈折率層及び
（Ｃ２）ハードコート層（Ｂ）より屈折率が低い低屈折率層
を含有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性導電性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルに搭載される導電性フィルムとして、光透過性導電性フィルムが使用されている。光透過性導電性フィルムは、プラスチックからなる光透過性支持層の上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等からなる光透過性導電層等を積層されている。光透過性導電性フィルムは、通常、光透過性導電層側をタッチパネルの操作面側を向けてタッチパネルに配置されている。光透過性導電性フィルムには、光透過性支持層表面の傷つきを防止する目的で、ハードコート層と呼ばれる、比較的表面硬度の高い層が設けられている。ハードコート層は、通常、光透過性支持層のタッチパネルの操作面側を向いている面に隣接して設けられている。
【０００３】
タッチセンサーとして用いるために、光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層にエッチング処理を行ってセンサー電極用パターンを形成した上でタッチパネルに搭載されている。センサー電極用パターンが形成された光透過性導電性フィルムでは、フィルム表面を見たときにセンサー電極用パターンが視認されること（いわゆる骨見え現象；ｐａｔｔｅｒｎ  ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙ）が知られている。光透過性導電層にエッチング処理を行ってセンサー電極用パターンを形成した光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層が存在する領域と、光透過性導電層が存在しない領域とで、異なる分光透過率及び分光反射率を示す。なお、本明細書において、光透過性導電層が存在する領域を「パターン化領域」ということがあり、光透過性導電層が存在しない領域を「非パターン化領域」ということがある。このような分光透過率及び分光反射率の差が、骨見え現象の原因であると考えられている。
【０００４】
骨見え現象を改善するために、パターン化領域や非パターン化領域の屈折率を補正する技術が提案されている（特許文献１〜３）。また、パターン化領域に入射した光の反射率と、非パターン化領域に入射した光の反射率を互いに近似させる効果を備える層（このような層のことを本明細書において「光学干渉層」ということがある。）を、光透過性導電層の下層側に設けた光透過性導電性フィルムが提案されている（特許文献４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−２４０８００号公報
【特許文献２】特開２００２−９８９３５号公報
【特許文献３】特開２００３−２０２５５２号公報
【特許文献４】ＷＯ２０１０／１１４０５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
光透過性導電性フィルムにおいて、骨見え現象を抑制することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ね、骨見え現象の原因パラメータを特定し、かつ定量化することにより、確実に骨見えを低減できることを新たに見出した。本発明は、次に掲げるものである。
項１．
（Ａ）光透過性支持層及び
（Ｂ）ハードコート層
を含有し、前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、前記ハードコート層（Ｂ）が最外層に位置する、ハードコート付き支持フィルム；並びに
（Ｃ）光学干渉層及び
（Ｄ）電極用パターン形状を有する光透過性導電層
を含有し、
前記光学干渉層（Ｃ）が、前記ハードコート層（Ｂ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｄ）が、前記光学干渉層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
（ｉ）前記光透過性支持層（Ａ）が、波長５５０ｎｍにおける屈折率１．６〜１．７を示し、
（ｉｉ）前記ハードコート層（Ｂ）が、波長５５０ｎｍにおける屈折率１．４８〜１．５２を示し、
（ｉｉｉ）前記ハードコート付き支持フィルムが、反対側の面を遮光しつつ前記ハードコート層（Ｂ）側の面から測定して得られる５度正反射スペクトルについて、以下の要件を満たし：
少なくとも５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長領域で連続的に波長を変化させながら測定して得られる５度正反射スペクトルを、波長をＸ軸、各波長における５度正反射率をＹ軸とするグラフにプロットして干渉パターンの波形を描いたときに、波長５５０ｎｍでの前記５度正反射率が、干渉パターンの波形の振幅の中心をつないだ中心線よりも下側に位置する；かつ
（ｉｖ）前記光透過性導電層（Ｄ）が、反対側の面を遮光しつつ前記光透過性導電層（Ｄ）側の面から測定して得られる波長域５３５ｎｍ〜５５５ｎｍにおける５度正反射スペクトルについて、以下の要件を満たす：
前記電極用パターン形状部分を測定して得られる５度正反射率と、その他の部分を測定して得られる５度正反射率の差分（反射率差）の絶対値の平均値が０．７％未満である；
ことを特徴とする光透過性導電性フィルム。
項２．
ハードコート層（Ｂ）の、光干渉計算により算出した厚さが、１６３１ｎｍ〜１７８９ｎｍである、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項３．
ハードコート層（Ｂ）の、光干渉計算により算出した厚さが、１８２０ｎｍ〜１９７０ｎｍである、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項４．
光学干渉層（Ｃ）が、さらに、
（Ｃ１）ハードコート層（Ｂ）より屈折率が高い少なくとも１層の高屈折率干渉層及び
（Ｃ２）ハードコート層（Ｂ）より屈折率が低い少なくとも１層の低屈折率干渉層
を含有する、項１〜３のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、骨見え現象を抑制できる。より詳細には、定量的な判断に基づく設計により、骨見え現象が抑制されたフィルムを確実に得ることができる。また、高価な高屈折率ハードコートを用いずに、汎用されているハードコートを用いた場合であっても骨見え現象を改善できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施例１、２で得られた光透過性導電性フィルムに用いたハードコート付き支持フィルムに対して反対側の面を遮光しつつハードコート側から測定した５度正反射スペクトルである。
【図２】比較例１、２、３で得られた光透過性導電性フィルムに用いたハードコート付き支持フィルムに対して反対側の面を遮光しつつハードコート側から測定した５度正反射スペクトルである。
【図３】実施例４、５、６および比較例４、５、６で得られた光透過性導電性フィルムに対する波長４５０ｎｍから５５０ｎｍの波長領域における反射率差ΔＲと骨見え評価の結果との関係図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
１．  光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
（Ａ）光透過性支持層及び
（Ｂ）ハードコート層
を含有し、前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、前記ハードコート層（Ｂ）が最外層に位置する、ハードコート付き支持フィルム；並びに
（Ｃ）光学干渉層及び
（Ｄ）電極用パターン形状を有する光透過性導電層
を含有し、
前記光学干渉層（Ｃ）が、前記ハードコート層（Ｂ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｄ）が、前記光学干渉層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている、光透過性導電性フィルムである。
【００１１】
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ）を基準にして、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きい一方の層を「上の」層等ということがある。
【００１２】
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。
【００１３】
本発明において、光透過性導電層（Ｄ）、光学干渉層（Ｃ）及びハードコート層（Ｄ）の光学厚さと屈折率は光干渉計算により算出する。具体的には、これらの層と屈折率が相違する適当な熱可塑性フィルム基板上に光透過性導電層（Ｄ）、光学干渉層（Ｃ）又はハードコート層（Ｄ）のいずれかを単層で形成した積層フィルムをそれぞれ用意し、これらの積層フィルムに形成された単層部分の厚みをあらかじめ測定する。次いで、上記積層面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピークもしくは極小ピークの波長とそのピーク反射率の値を用いて、これらの層に関する光学シミュレーションに必要なパラメータを算出する。光透過性支持層（Ａ）の上に、ハードコート層（Ｂ）、光学干渉層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｄ）をこの順に形成することにより本発明の光透過性導電性フィルムを得る過程で、ハードコート層（Ｄ）が形成されたフィルム（ハードコート付き支持フィルム）、ハードコート層（Ｄ）の上に光学干渉層（Ｃ）がさらに形成されたフィルム、及び最終的に得られる光透過性導電性フィルムを順に得る。得られたそれぞれのフィルムについて最上面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピークもしくは極小ピークの波長とそれらのピークにおける反射率の値に基づいて、光透過性導電層（Ｄ）、光学干渉層（Ｃ）及びハードコート層（Ｂ）の光学厚さ及び屈折率を光干渉計算により算出する。
反射率はサンプルの裏面に黒色テープを貼り、分光光度計（島津製作所製ＵＶ−３１０１ＰＣ、又はその同等品）を用いて５度正反射を測定する。また、計算はＷＶＡＳＥ３２（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、又はその同等品）で行う。なお、本発明において、屈折率は特に言及しない限り、５５０ｎｍの波長の光についての屈折率とする。
【００１４】
１．１  光透過性支持層（Ａ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ａ）は、屈折率が１．６から１．７の光透過性高分子フィルムであれば特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
【００１５】
光透過性支持層（Ａ）の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子を挙げることができる。例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。ポリエーテル系樹脂としては、ポリエーテルスルホン系樹脂等が挙げられる。光透過性支持層（Ａ）の素材は、ポリエステル系樹脂及びポリオレフィン系樹脂が好ましい。ポリエステル系樹脂としては、特にＰＥＴが好ましい。ポリオレフィン系樹脂としては、特にシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が好ましい。
【００１６】
光透過性支持層（Ａ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００１７】
光透過性支持層（Ａ）の厚さは、特に限定されないが、好ましくは２〜３００μｍ、より好ましくは２０〜２００μｍである。光透過性支持層（Ａ）の厚さをこれらの下限値以上とすることによって、光透過性導電性フィルムに十分な機械的強度を付与できる。また、光透過性導電性フィルムとしては通常、ある程度の厚さ以下であることが要求される。このように光透過性導電性フィルムとして通常要求される厚さを達成するためには、光透過性支持層（Ａ）の厚さを上記の上限値以下とすることが好ましい。
【００１８】
１．２  ハードコート層（Ｂ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の上に屈折率１．４８から１．５２のハードコート層（Ｂ）が形成されている。なお、ハードコート層（Ｂ）は光透過性支持層（Ａ）に形成された密着層のうえに形成されていてもよい。
【００１９】
一層のハードコート層（Ｂ）が光透過性支持層（Ａ）の上に配置されていてもよい。また、二層以上のハードコート層（Ｂ）が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して光透過性支持層（Ａ）の上に配置されていてもよい。
【００２０】
本発明においてハードコート層とは、プラスチック表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。ハードコート層（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものを用いることができる。
【００２１】
ハードコート層（Ｂ）の素材は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。ハードコート層（Ｂ）の素材としては、さらに、シリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等を上記樹脂中に分散させたものも挙げられる。ハードコート層（Ｂ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。ハードコート層（Ｂ）としては、ジルコニア粒子を分散したアクリル樹脂が好ましい。
光透過性支持層（Ａ）の上に直接又は一以上の他の層を介してハードコート層（Ｂ）が表面に配置されたフィルムのことを、ハードコート付き支持フィルムと呼ぶ。
ハードコート付き支持フィルムは、反対側の面を遮光しつつハードコート層（Ｂ）側の面から測定して得られる５度正反射スペクトルについて、以下の要件を満たす。
【００２２】
少なくとも５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長領域で連続的に波長を変化させながら測定して得られる５度正反射スペクトルを、波長をＸ軸、各波長における５度正反射率をＹ軸とするグラフにプロットして干渉パターンの波形を描いたときに、波長５５０ｎｍでの前記５度正反射率が、干渉パターンの波形の振幅の中心をつないだ中心線よりも下側に位置する。
【００２３】
このようなハードコート付き支持フィルムを得るには、ハードコート層（Ｂ）が一層のみ配置されている場合は一層の厚さ、あるいは二層以上が互いに隣接して配置されている場合は合計厚みが、１６３１ｎｍ〜１７８９ｎｍ、または１８２０ｎｍ〜１９７０ｎｍとなるようにすればよい。
【００２４】
ハードコート層（Ｂ）を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。
【００２５】
１．３  光学干渉層（Ｃ）
光学干渉層（Ｃ）の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。光学干渉層（Ｃ）の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、ポリシラザン等が挙げられる。光学干渉層（Ｃ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含む光学干渉層（Ｃ）が好ましく、酸化ケイ素からなる光学干渉層（Ｃ）がより好ましい。
【００２６】
一層の光学干渉層（Ｃ）が、ハードコート層の上に配置されていてもよい。また、二層以上の光学干渉層（Ｃ）が、互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間してハードコート層の上に配置されていてもよい。例えば二層が互いに隣接して配置されている場合、光透過性支持層（Ａ）側にＳｉＯ２からなる光透過性下地層（Ｃ−１）を配置し、光透過性導電層（Ｄ）側にＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる光透過性下地層（Ｃ−２）を配置する態様が挙げられる。なお、光学干渉層としてハードコート層（Ｂ）より屈折率が高い高屈折率干渉層およびハードコート（Ｂ）より屈折率が低い低屈折率干渉層の少なくとも二層が設けられていることがより好ましい。
【００２７】
光学干渉層（Ｃ）の一層あたりの厚さは、１５〜２５ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全ての光学干渉層（Ｃ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。高屈折率干渉層と低屈折率干渉層の二層の光学干渉層を設ける場合は、高屈折率干渉層の厚みは３０ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましく、低屈折率干渉層の厚み１０ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましい。
【００２８】
光学干渉層（Ｃ）の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムが目的とする用途に使用できる限り特に限定されないが、例えば、１．４〜１．５が好ましい。高屈折率干渉層と低屈折率干渉層の二層の光学干渉層を設ける場合は、高屈折率干渉層の屈折率は１．６〜１．７であることが好ましく、低屈折率干渉層の屈折率は１．４５〜１．５５であることが好ましい。
【００２９】
光学干渉層（Ｃ）を配置するための方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されないが、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、微粒子分散液、コロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。
【００３０】
光学干渉層（Ｃ）を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。
【００３１】
１．４  光透過性導電層（Ｄ）
光透過性導電層（Ｄ）は電極用パターン形状を有する。電極用パターン形状としては、特に限定されず、通常採用されうる形状の中から幅広く選択できる。例えば、櫛状、外形がひし形の電極を鎖状につなげた形状、及び外形が円形の電極を鎖状につなげた形状等が挙げられる。特に限定されないが、櫛状のように基本単位となる形状の繰り返し形状を有する場合、繰り返し形状同士の間隔は、０．１μｍ〜５０μｍ、好ましくは０．３μｍ〜２０μｍである。本明細書において、光透過性導電性フィルムを光透過性導電層（Ｄ）側から見たときに、電極用パターン形状が存在する部分のことをパターン部分、その他の部分を非パターン部分ということがある。
【００３２】
光透過性導電層（Ｄ）は導電性物質を含有する。導電性物質としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて通常用いられる導電性物質を用いることができる。
【００３３】
光透過性導電層（Ｄ）は、好ましくは、金属酸化物を含有する。
【００３４】
光透過性導電層（Ｄ）の素材は、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層（Ｄ）としては、光透過性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層（Ｂ）は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。
【００３５】
光透過性導電層（Ｄ）の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）に酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）をドープしたもの（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ  ｉｎｄｉｕｍ  ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）が好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層（Ｄ）の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。
【００３６】
光透過性導電層（Ｄ）は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００３７】
光透過性導電層（Ｄ）は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。
【００３８】
光透過性導電層（Ｄ）の厚さは、特に限定されないが、通常は５〜５０ｎｍであり、好ましくは１０〜４０ｎｍ、より好ましくは１２〜３５ｎｍ、さらに好ましくは１５〜３０ｎｍである。
【００３９】
光透過性導電層（Ｄ）を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、イオンプレーティング法、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。これらのうち、タッチパネル用途に低抵抗で大面積の均質な膜を安定に生産するという観点において、スパッタリング法が好ましい。
【００４０】
光透過性導電層（Ｄ）を形成する方法としては、導電性物質を焼成する工程を含有する方法が好ましい。焼成方法としては、特に限定されないが、例えばスパッタリング等を行う際のドラム加熱や、熱風式焼成炉、遠赤外線焼成炉などを例として挙げることができる。焼成温度は、特に限定されないが、通常は３０〜２５０℃であり、好ましくは５０〜２００℃、より好ましくは８０〜１８０℃、さらに好ましくは１００〜１６０℃である。焼成時間は、好ましくは３分〜１８０分、より好ましくは５分〜１２０分、さらに好ましくは１０分〜９０分である。焼成を行う雰囲気としては、真空下、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガス、酸素、若しくは水素添加窒素等、又はこれらのうち二種以上の組合せが挙げられる。導電性物質を焼成することにより、導電性物質の結晶化が促進される。
【００４１】
１．５  その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、ハードコート層（Ｂ）、光学干渉層（Ｃ）、光透過性導電層（Ｄ）に加えて、それらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ｅ）がさらに配置されていてもよい。
【００４２】
その他の層（Ｅ）としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。
【００４３】
接着層は、接着したい二層の間に当該二層と互いに隣接して配置される。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。接着層は、単層の接着層であってもよいし、二層以上の接着層であってもよい。
【００４４】
１．６  本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、骨見え現象が抑制できるので、例えば静電容量型タッチパネル用光透過性導電性フィルムとして好ましい。タッチパネルについて詳細は、２で説明する通りである。
【００４５】
２．本発明のタッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
【００４６】
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
【００４７】
３．本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、
波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６から１．７である光透過性支持層（Ａ）の上に、直接又は一以上の他の層を介して、屈折率が１．４８から１．５２のハードコート層（Ｂ）を、光干渉計算により算出した光学厚みで１６３１ｎｍ〜１７８９ｎｍ、または１８２０ｎｍ〜１９７０ｎｍの厚さとなるように配置する工程、
その上に、直接又は一以上の他の層を介して、光学干渉層（Ｃ）を配置する工程、及び
さらにその上に、直接又は一以上の他の層を介して、光透過性導電層（Ｄ）を配置する工程
を含有する方法である。
【００４８】
上記において、それぞれの層を配置する工程は、それぞれの層について説明した通りである。
ハードコート層の厚みを上記範囲に調整するには、厳密な塗工厚みの工程管理が必要である。塗布厚みを精密に管理するために、ハードコート塗布液と塗布した後のフィルム厚み、塗布液を乾燥させた後のフィルム厚み、ハードコート層を硬化させた後のフィルム厚みをインラインで厚み計を用いて測定し、ハードコートの塗布量、フィルムの搬送速度、ハードコートの硬化条件をインラインで制御することにより達成できる。
【実施例】
【００４９】
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００５０】
実施例１
＜光透過性導電性フィルムの製造方法＞
次のようにして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
【００５１】
厚さ１２５μｍのＰＥＴ樹脂基材（ｎＡ＝１．６６）の易接着処理側の表面の上に、アクリレート系樹脂を含む光反応性塗工液を塗布し、加熱乾燥後に紫外線を照射して厚さ１６００ｎｍから２０００ｎｍのハードコート層（ｎＢ＝１．５１）を形成し、本発明のハードコート付き支持フィルムを得た。
【００５２】
次いで、ハードコート層の上に光学干渉層としてジルコニア粒子を含んだ厚さ４２ｎｍのアクリレート系樹脂からなる層（ｎＣ１＝１．６８）および厚さの３３．５ｎｍのアクリレート系樹脂からなる層（ｎＣ２＝１．４９）を形成した。次いで、その上に密着性向上のためのＳｉＯｘ層を介して光透過性導電層として酸化インジウムスズからなる層（ｎＤ＝１．８７）を厚さ２６ｎｍとなるように成膜して、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。なお、ターゲット材として酸化インジウム：９７重量％及び酸化スズ：３重量％からなる焼結体材料を用いた。また、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、ハードコート層の上にＳｉＯｘ層を形成し、その上に、酸化インジウムスズ層を形成した。
【００５３】
＜評価方法＞
＜骨見え評価方法＞
作製した光透過性導電性フィルムを５ｃｍ角に切り出し、光透過性導電層に３ｍｍ幅のポリイミドテープを３ｍｍの間隔ができるように平行に８本貼り付けた。次いで、このポリイミドテープを貼り付けた積層体をＩＴＯエッチング液（関東化学社製、商品名「ＩＴＯ−０６Ｎ」）に１分間浸漬し、ポリイミドテープを貼り付けていない部分のＩＴＯを除去し、洗浄及び乾燥後にポリイミドテープを剥離することで、３ｍｍ間隔で３ｍｍ幅のＩＴＯ膜がパターニングされた積層体を得た。
【００５４】
このフィルムを蛍光灯の直下に評価用台紙（市販の黒紙）を置き、その上にエッチングによるパターニングを施したＩＴＯフィルムサンプルを置いた。サンプルの正面に立ち、眼の位置をサンプルから水平方向に３０ｃｍ、垂直方向に５０ｃｍ離す。サンプルに設けられたエッチングパターンを観察し、次の基準で評価した。
○・・・ＩＴＯのパターンがほぼ見えない
△・・・ＩＴＯのパターンがやや見える
×・・・ＩＴＯのパターンが見える
【００５５】
＜光学膜厚と屈折率の算出方法＞
光透過性導電層、光学干渉層及びハードコートの厚さ及び屈折率については、これらの層と屈折率が相違する適当な熱可塑性フィルム基板上にこれらの層をそれぞれ単層で形成した積層フィルムを用意し、これら積層フィルムに形成された単層部分の厚みをあらかじめ測定しておき、上記積層面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピークもしくは極小ピークの波長とそのピーク反射率の値を用いて、これらの層に関する光学シミュレーションに必要なパラメータを算出した。そのうえで、本発明の光透過性導電性フィルムの製造過程で得られるハードコート層が形成された光透過性高分子基材フィルム、ハードコート層のうえに光学干渉層がさらに形成された光透過性高分子基材フィルムおよび光透過性導電性フィルムのそれぞれについて上記積層面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピークもしくは極小ピークの波長とそのピーク反射率の値を求め、光透過性導電層、光学干渉層及びハードコートの光学厚さと屈折率を光干渉計算により算出した。
【００５６】
なお、本発明に関して、屈折率は特に言及しない限り、５５０ｎｍの波長の光についての屈折率とする。
光学モデルとしては、表１の値を用いた。
【００５７】
【表１】
2015075655.tif 000002
【００５８】
＜反射率の測定方法＞
反射率はサンプルの裏面に黒色テープを貼り、分光光度計（島津製作所製ＵＶ−３１０１ＰＣ）を用いて５度正反射を測定した。また、計算はＷＶＡＳＥ３２（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製）で行った。
【００５９】
実施例２および比較例１〜３
ハードコート層の厚みを表１に記載した厚みに変えたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電性フィルムを作製した。
実施例１及び２、並びに比較例１〜３について、５度正反射スペクトルを測定し、光学モデルから算出されるハードコート膜厚を得て、ハードコート付き支持フィルムについての波長５５０ｎｍにおける干渉パターンを得た。測定結果を図１、図２に示す。また、実施例１、２および比較例１〜３の光透過性導電性フィルムに対する骨見え評価の結果を表２に示す。なお、５５０ｎｍ付近の波長領域で連続的に波長を変化させながら測定して得られる５度正反射スペクトルを、波長をＸ軸、各波長における５度正反射率をＹ軸とするグラフにプロットして干渉パターンの波形を描いたときに、波長５５０ｎｍでの前記５度正反射率が、干渉パターンの波形の振幅の中心をつないだ中心線よりも上側に位置しているか、下側に位置しているかについても評価した。
【００６０】
【表２】
2015075655.tif 000003
【００６１】
図１、図２に示した通り、ハードコート付き支持フィルムについての波長５５０ｎｍにおける波形の位置が干渉パターンにおける波形の中心線より下側であると骨見えが抑制されており、中心線より上であると骨見えが顕著となった。
【００６２】
実施例３〜５、および比較例４〜６
ハードコート層の厚みを表１に記載した厚みに変えたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電性フィルムを作製した。
実施例３〜５および比較例４〜６の、光学モデルから算出されるハードコート膜厚、３種類の波長域における光透過性導電層のパターン部と光透過性導電層が除かれた非パターン部の５度正反射率の差の絶対値の平均値および骨見え評価の結果を以下に示す。
【００６３】
【表３】
2015075655.tif 000004
【００６４】
次に、ハードコート層の厚みを変えたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電性フィルムを作製し、光学モデルから算出されるハードコート膜厚を算出し、波長５４０ｎｍから５５０ｎｍにおける光透過性導電層のパターン部と光透過性導電層が除かれた非パターン部の５度正反射率の差の絶対値の平均値を算出した。また、光透過性導電性フィルムに対して実施例1と同様にして骨見え評価を行った。結果を図３に示す。
【００６５】
図３に示したとおり、光透過性導電層のパターン部と光透過性導電層が除かれた非パターン部の反射率の差の絶対値の平均値が０．６％以下であると骨見え性は良好であるが、０．７％を超えると骨見えが顕著となった。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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