(57)【要約】【課題】マグネシウム合金を用いた基材表面を耐食性皮膜によって被覆する際に、筐体の部位に応じて膜厚の異なる耐食性皮膜を同一工程で形成するための技術を提供する。【解決手段】マグネシウム合金を用いた基材表面が耐食性皮膜によって被覆された筐体の製造方法であって、基材表面に耐食性皮膜を形成するための第１処理液に筐体を浸漬して基材表面に前記耐食性皮膜を形成する皮膜処理工程と、皮膜処理工程の前に行われ、皮膜処理工程中における第１処理液と基材表面との反応を抑制するための第２処理液に筐体を浸漬して基材表面に表面調整皮膜を形成する表面調整処理工程とを含み、表面調整処理工程において、基材表面のうち耐食性皮膜の膜厚を他の部位に比べて薄くする所定の薄膜形成部位に第２処理液との反応によって生成および付着した気泡を除去する。【選択図】図２
2015094007.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マグネシウム合金を用いた基材表面が耐食性皮膜によって被覆された筐体の製造方法であって、
前記基材表面に前記耐食性皮膜を形成するための第１処理液に前記筐体を浸漬して前記基材表面に前記耐食性皮膜を形成する皮膜処理工程と、
前記皮膜処理工程の前に行われ、前記皮膜処理工程中における前記第１処理液と前記基材表面との反応を抑制するための第２処理液に前記筐体を浸漬して前記基材表面に表面調整皮膜を形成する表面調整処理工程と、
を含み、
前記表面調整処理工程において、前記基材表面のうち前記耐食性皮膜の膜厚を他の部位に比べて薄くする所定の薄膜形成部位に前記第２処理液との反応によって生成および付着した気泡を除去する、
筐体の製造方法。
【請求項２】
前記表面調整処理工程において、表面調整処理槽内に貯留された前記第２処理液に前記筐体を浸漬させ、且つ、前記表面調整処理槽内に配置された噴射ノズルから前記薄膜形成部位に向けて噴射した第２処理液の液流によって前記薄膜形成部位に付着した気泡を除去する、
請求項１に記載の筐体の製造方法。
【請求項３】
前記基材表面のうち前記耐食性皮膜の膜厚を前記薄膜形成部位に比べて厚くする所定の厚膜形成部位に対して、前記噴射ノズルから噴射される前記第２処理液の液流が当たることを抑制するカバー部材を前記表面調整処理槽内に配置した状態で前記表面調整処理工程を実施する、
請求項２に記載の筐体の製造方法。
【請求項４】
マグネシウム合金を用いた筐体の基材表面に耐食性皮膜を形成する皮膜形成装置であって、
前記基材表面に前記耐食性皮膜を形成するための第１処理液に前記筐体を浸漬して前記基材表面に前記耐食性皮膜を形成する耐食性皮膜処理部と、
前記耐食性皮膜処理部における前記第１処理液と前記基材表面との反応を抑制するための第２処理液を貯留する表面調整処理槽を有し、前記表面調整処理槽における前記第２処理液に前記筐体を浸漬して前記基材表面に表面調整皮膜を形成する表面調整処理部と、
を備え、
前記表面調整処理部は、前記基材表面のうち前記耐食性皮膜の膜厚を他の部位に比べて薄くする所定の薄膜形成部位に前記第２処理液との反応によって生成および付着した気泡を除去する気泡除去装置を、更に有する、
皮膜形成装置。
【請求項５】
前記表面調整処理部は、前記表面調整処理槽内に配置されると共に前記薄膜形成部位に向かって前記第２処理液を噴射する噴射ノズルを更に有し、前記噴射ノズルから噴射した前記第２処理液の液流によって前記薄膜形成部位に付着した気泡を除去する、
請求項４に記載の皮膜形成装置。
【請求項６】
前記表面調整処理部は、前記表面調整処理槽内に配置されるカバー部材であって、前記基材表面のうち前記耐食性皮膜の膜厚を前記薄膜形成部位に比べて厚くする所定の厚膜形成部位に対して、前記噴射ノズルから噴射される前記第２処理液の液流が当たることを抑制するカバー部材を、更に有する、
請求項５に記載の皮膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、筐体の製造方法および皮膜形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ノート型パソコンや携帯電話の筐体材料としてマグネシウム合金が着目されている。マグネシウム合金は、比強度が高く且つ比重が軽いため、従来の樹脂製筐体やアルミニウム製筐体に比べて、筐体の軽量化および高強度化を図ることができる。
【０００３】
しかしながら、マグネシウム合金は、他の金属材料や樹脂材料と比べると耐食性が低いため、化成処理等といった耐食性の高い耐食性皮膜を筐体の表面に形成する必要がある。ここで、耐食性皮膜を厚膜とする場合、塗装密着性には優れるものの導通性（アース性）は乏しくなり易い。また、耐食性皮膜は、膜厚によって抵抗値が変化する。そのため、耐食性皮膜を薄膜とする場合、当該皮膜の導通性を確保することができるものの塗装密着性が乏しくなり易い。
【０００４】
ところが、筐体に要求される性能は、部位によって異なる場合がある。例えば、筐体表面のうち外部に露出する外面に対しては優れた耐食性に加えて塗装密着性が要求されるが、導通性の要求はそれほど高くないことが多い。一方、筐体表面のうち外部に露出しない内面には対しては外面ほど塗装密着性が要求されないが、筐体のアース性を確保するために導通性が要求されることが多い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−２７７６９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来では、筐体の表面に耐食性皮膜を形成する際に、部位毎に膜厚の異なる耐食性皮膜を同時に形成することはできなかった。本件は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、マグネシウム合金を用いた基材表面を耐食性皮膜によって被覆する際に、筐体の部位に応じて膜厚の異なる耐食性皮膜を同一工程で形成するための技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本件の一観点によれば、マグネシウム合金を用いた基材表面が耐食性皮膜によって被覆された筐体の製造方法であって、前記基材表面に前記耐食性皮膜を形成するための第１処理液に前記筐体を浸漬して前記基材表面に前記耐食性皮膜を形成する皮膜処理工程と、前記皮膜処理工程の前に行われ、前記皮膜処理工程中における前記第１処理液と前記基材表面との反応を抑制するための第２処理液に前記筐体を浸漬して前記基材表面に表面調整皮膜を形成する表面調整処理工程と、を含み、前記表面調整処理工程において、前記基材表面のうち前記耐食性皮膜の膜厚を他の部位に比べて薄くする所定の薄膜形成部位に前記第２処理液との反応によって生成および付着した気泡を除去する、筐体の製造方法が提供される。
【０００８】
また、本件の他の観点によれば、マグネシウム合金を用いた筐体の基材表面に耐食性皮膜を形成する皮膜形成装置であって、前記基材表面に前記耐食性皮膜を形成するための第１処理液に前記筐体を浸漬して前記基材表面に前記耐食性皮膜を形成する耐食性皮膜処理
部と、前記耐食性皮膜処理部における前記第１処理液と前記基材表面との反応を抑制するための第２処理液を貯留する表面調整処理槽を有し、前記表面調整処理槽における前記第２処理液に前記筐体を浸漬して前記基材表面に表面調整皮膜を形成する表面調整処理部と、を備え、前記表面調整処理部は、前記基材表面のうち前記耐食性皮膜の膜厚を他の部位に比べて薄くする所定の薄膜形成部位に前記第２処理液との反応によって生成および付着した気泡を除去する気泡除去装置を、更に有する、皮膜形成装置が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本件によれば、マグネシウム合金を用いた基材表面を耐食性皮膜によって被覆する際に、筐体の部位に応じて膜厚の異なる耐食性皮膜を同一工程で形成するための技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施形態１に係る筐体を示す図である。
【図２】筐体の表面に化成皮膜を形成する皮膜形成装置を示す図である。
【図３】表面調整処理の手順を概念的に説明する図である。
【図４】ラックを示す図である。
【図５】噴射ユニットを示す図である。
【図６】噴射ユニットをラックに組み付けた状態を示す図である。
【図７】筐体を表面調整処理液に浸漬させた状態を示す図である。
【図８】表面調整処理において、噴射ノズルから表面調整処理液を噴射する前の状態を概念的に示す図である。
【図９】表面調整処理において、噴射ノズルから表面調整処理液を噴射している状態を概念的に示す図である。
【図１０】実施例および比較例の導通性評価結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、発明を実施するための実施形態について例示的に詳しく説明する。
【００１２】
＜実施形態１＞
【００１３】
図１は、実施形態１に係る筐体１を示す図である。下段に筐体１の正面図を示し、上段に筐体１のＡ‐Ａ矢視断面を示す。筐体１は、ノート型パーソナルコンピュータや携帯電話等といった電子機器の筐体である。筐体１の基材１１はマグネシウム合金によって形成されており、基材１１の表面が化成皮膜１２によって被覆されている。また、基材１１の表面と化成皮膜１２との間には表面調整皮膜１３が介在している。基材１１は、例えば、マグネシウム合金製の平板を、プレス金型を用いてプレス加工することによって製作してもよい。但し、基材１１の製造方法はプレス加工に限定されない。
【００１４】
図１に示す符号１１ａおよび１１ｂは、基材１１の外面（おもて面）および内面（裏面）を夫々示している。基材１１の外面１１ａは、筐体１における表面のうち、完成品として組み上げられた状態において外部に露出する外側の面である。一方、基材１１の内面１１ｂは、筐体１における表面のうち、完成品として組み上げられた状態において外部に露出しない内側の面であり、例えば電子機器の構成部品を収容する収容部側に面している。図１に示すように、筐体１の基材１１を被覆する表面調整皮膜１３は、内面１１ｂに比べて外面１１ａの膜厚が相対的に薄くなっている。そして、基材１１の表面を被覆する表面調整皮膜１３に積層される化成皮膜１２のうち、外面１１ａ側を被覆する化成皮膜１２は厚膜として形成され、内面１１ｂ側を被覆する化成皮膜１２は薄膜として形成されている。つまり、基材１１の外面１１ａに比べて内面１１ｂの方が、形成される化成皮膜１２の
膜厚が相対的に薄くなっている。
【００１５】
図２は、筐体１における基材１１の表面に化成皮膜１２を形成する皮膜形成装置１０を示す図である。皮膜形成装置１０は、表面調整処理部２および化成皮膜処理部３を備える。化成皮膜処理部３は、筐体１における基材１１の表面に化成皮膜１２を形成する化成皮膜処理を行う。具体的には、化成皮膜処理部３は、化成皮膜処理液３１が貯留された化成処理槽３０を有し、化成皮膜処理液３１に筐体１を浸漬させて基材１１の表面に耐食性皮膜である化成皮膜１２を形成する。化成皮膜処理液３１は第１処理液の一例である。化成皮膜処理液３１は、例えばフッ素化合物を含有するものである。但し、化成皮膜処理液３１としては、マグネシウム合金の化成処理液として知られている種々のものを使用することができる。
【００１６】
皮膜形成装置１０の化成皮膜処理部３においては、筐体１の部位に応じて、膜厚の異なる化成皮膜１２を同時、すなわち同一工程で形成する。具体的には、筐体１のおもて面１１ａは、耐食性に加えて優れた塗装密着性を得るために厚膜として化成皮膜１２を形成する。また、筐体１の内面１１ｂにおいては、耐食性に加えて導通性を確保するために薄膜として化成皮膜１２を形成する。
【００１７】
ところで、筐体１を単に化成皮膜処理液３１へ浸漬させるのでは、筐体１の表面に一様な厚さの化成皮膜１２が形成されてしまう。この場合、同一工程において、外面１１ａには化成皮膜１２を厚膜として形成し、内面１１ｂには化成皮膜１２を薄膜として形成することができない。そこで、皮膜形成装置１０においては、化成皮膜処理部３における化成皮膜処理に先立って、表面調整処理部２において基材１１の表面を調整する表面調整処理を表面調整処理工程において実施することとしている。
【００１８】
図２に示すように、表面調整処理部２は表面調整処理槽２０を有しており、この表面調整処理槽２０には表面調整処理液２１が貯留されている。表面調整処理部２において、筐体１は、表面調整処理槽２０の表面調整処理液２１内に浸漬されることで、表面調整処理液２１と反応し、基材１１の表面に表面調整皮膜１３を形成する。表面調整処理液２１に含有される界面活性成分は、例えばポリオキシエチレンラウレート類似物質を好適に使用することができる。界面活性成分を含有する表面調整処理液２１によって筐体１の表面に表面調整皮膜１３が形成されると、後続する化成皮膜処理工程における化成皮膜処理液３１と基材１１の表面との間の反応が抑制（低減）される。その結果、筐体１における基材１１の表面を被覆する表面調整皮膜１３が厚いほど化成皮膜処理時に成膜される化成皮膜１２の厚さが薄くなり、表面調整皮膜１３が薄いほど化成皮膜処理時に成膜される化成皮膜１２の厚さが厚くなる。そこで、表面調整処理部２における表面調整処理工程では、筐体１の基材１１における外面１１ａ側と内面１１ｂ側とにおいて異なる厚さの表面調整皮膜１３を形成するようにした。具体的には、表面調整処理部２において、筐体１の内面１１ｂに形成される表面調整皮膜１３の膜厚を、外面１１ａ側に比べて相対的に厚くなるように調整して表面調整処理を実施する。
【００１９】
図３は、表面調整処理の手順を概念的に説明する図である。なお、図３において、筐体１の外形を簡略化して示している。表面調整処理槽２０に貯留された表面調整処理液２１に筐体１を浸漬させると、筐体１における基材１１を形成するマグネシウム合金と表面調整処理液２１が反応することによって、基材１１の表面に気泡２２が生成および付着する。基材１１の表面に気泡２２が付着した状態のまま放置されると、基材１１の表面を形成するマグネシウム合金と表面調整処理液２１との反応が抑制される（緩慢になる）。そこで、本実施形態においては、筐体１における基材１１の表面のうち、化成皮膜１２の膜厚を外面１１ａ（他の部位）に比べて薄くする内面１１ｂ（薄膜形成部位）に生成および付着した気泡２２を除去しつつ表面調整処理を実施する。ここで、筐体１の内面１１ｂに付
着した気泡２２の除去は連続的に行ってもよいし、断続的（間欠的）に行ってもよい。
【００２０】
筐体１の内面１１ｂに付着した気泡２２を除去しつつ表面調整処理を実施することで、内面１１ｂと表面調整処理液２１のとの反応が活発に行われ、表面調整皮膜１３の成長が促進される。一方、表面調整処理中に気泡２２の除去を行わない外面１１ａについては、内面１１ｂに比べて成膜される表面調整皮膜１３の厚さが薄くなる。このようにして、本実施形態に係る表面調整処理においては、筐体１における基材１１表面に形成される表面調整皮膜１３を、外面１１ａ側に比べて内面１１ｂ側を厚くすることができる。以下、このような表面調整処理を実現するための表面調整処理部２の具体的内容について説明する。なお、本実施形態では、筐体１の外面１１ａと内面１１ｂとにおいて、互いに異なる厚さの化成皮膜１２を形成する例を説明するが、他の部位に比べて化成皮膜１２の膜厚を相対的に薄くする部位については自由に設定することができる。
【００２１】
図２、図４および図５を参照して、表面調整処理部２の詳細を説明する。表面調整処理部２は、表面調整処理液２１が貯留された表面調整処理槽２０の他、ラック４、噴射ユニット５等を含む。表面調整処理を行う際、筐体１はラック４に保持（固定）された状態で表面調整処理液２１内に浸漬されている（図２を参照）。
【００２２】
図４は、ラック（冶具）４を示す図である。ラック４は、筐体１の対向する一対の縁部を挟み込む一対の保持部４１および一対の保持部４２を有する。図４には、一対の保持部４１と一対の保持部４２の片方のみが図示されている。保持部４１，４２は、波形あるいは連続するＶ形の形状を有しており、複数の筐体１を所定の間隔で互いに平行に立てかけることができる。以下では、図４に示す筐体１の姿勢を、筐体１の垂直姿勢と定義する。図４に示す例では、ラック４には、３個の筐体が垂直姿勢かつ一定間隔で保持部４１，４２に保持（固定）されている。
【００２３】
図５は、噴射ユニット５を示す図である。噴射ユニット５は、複数の噴射ノズル５０、各噴射ノズル５０に接続される供給管５１、ポンプ５２、フレーム体５３、仕切りカバー５４等を備える。フレーム体５３は、立体格子状に組まれた縦フレーム５３１および横フレーム５３２を含む骨組み部材であり、噴射ノズル５０仕切りカバー５４等が固定されている。
【００２４】
供給管５１の一端側はポンプ５２に接続されている。供給管５１は、その途中に設けられた分配部５１０から複数の分岐管５１１に分岐している。供給管５１の分岐管５１１は、図５に示すようにフレーム体５３における縦フレーム５３１に沿って配置されており、適所において縦フレーム５３１に固定されている。また、フレーム体５３における縦フレーム５３１は、分岐管５１１に対応する数だけ設けられており、本実施形態では３×３の配列で合計９本の縦フレーム５３１をフレーム体５３が備えている。
【００２５】
縦フレーム５３１に沿って配置される各分岐管５１１には、所定間隔ごとに複数の噴射ノズル５０が接続されている。この噴射ノズル５０は、アタッチメント５５を介して縦フレーム５３１に固定されている。図５に示す例では、各分岐管５１１に５個の噴射ノズル５０が略一定間隔で取り付けられている。このように形成される噴射ユニット５においては、ポンプ５２の作動によって表面調整処理液２１が圧送され、供給管５１を介して各噴射ノズル５０へ表面調整処理液２１が供給されるようになっている。そして、各噴射ノズル５０へ供給された表面調整処理液２１は、各噴射ノズル５０の噴射口から所定の方向に噴射される。
【００２６】
なお、図５に示すように、各噴射ノズル５０は、噴射口が斜め下方を向くような姿勢でフレーム体５３の縦フレーム５３１に取り付けられている。より詳しくは、各噴射ノズル
５０の噴射口から表面調整処理液２１が噴射される噴射方向と縦フレーム５３１の長手軸方向とのなす角度が、５〜２０°の範囲で調節されている。また、図５に示す仕切りカバー５４は、平板形状を有する仕切り部材である。仕切りカバー５４は、フレーム体５３における縦フレーム５３１に固定されており、縦フレーム５３１に沿って配置されている。仕切りカバー５４の機能については後述する。
【００２７】
次に、表面調整処理部２において実施される表面調整処理の詳細について説明する。表面調整処理の実施に際して、まず、ラック４に筐体１を固定した後、噴射ユニット５をラック４に組み付ける（図４および図６を参照）。図６に示すように、噴射ユニット５がラック４に組み付けられた状態で、各噴射ノズル５０の噴射口は筐体１における基材１１の裏面１１ｂに面している。
【００２８】
次に、表面調整処理液２１を所定の液位まで貯留させた表面調整処理槽２０内に、筐体１が保持されると共に噴射ユニット５が組み付けられたラック４を設置し、図７に示すように筐体１を表面調整処理液２１に浸漬させる。図７に示す状態までの各工程の手順は適宜入れ替えてもよい。例えば、表面調整処理槽２０内に筐体１を保持したラック４および噴射ユニット５を設置した後、表面調整処理槽２０に表面調整処理液２１を貯留させてもよい。また、表面調整処理槽２０内にラック４を設置した後、噴射ユニット５をラック４に組み付けてもよい。
【００２９】
表面調整処理において、表面調整処理液２１に浸漬された筐体１は、基材１１の表面と表面調整処理液２１とが反応し、表面調整皮膜１３が徐々に成膜されてゆく。そして、表面調整処理の進行過程において、筐体１の基材１１を形成するマグネシウム合金と表面調整処理液２１が反応することによって気泡２２が生成され、この気泡２２が基材１１の表面に付着する。図８は、筐体１に対する表面調整処理において、噴射ノズル５０から表面調整処理液２１を噴射する前の状態を概念的に示す図である。図９は、筐体１に対する表面調整処理において、噴射ノズル５０から表面調整処理液２１を噴射している状態を概念的に示す図である。
【００３０】
図８に示すように、噴射ノズル５０から表面調整処理液２１が噴射される前は、基材１１の外面１１ａおよび内面１１ｂに対して同じように気泡２２が付着した状態となっている。これに対して、本実施形態においては、後続する化成皮膜処理時に化成皮膜１２を薄膜として形成する内面１１ｂに対して、噴射ノズル５０から表面調整処理液２１を噴射し、表面調整処理液２１の液流を内面１１ｂに付着した気泡２２に衝突させる。これにより、図９に示すように、筐体１における基材１１の内面１１ｂに付着した気泡２２を流し去り、除去することができる。その結果、基材１１の内面１１ｂにおいて、マグネシウム合金と表面調整処理液２１との反応が阻害されず、促進されるようになる。これにより、筐体１における基材１１の内面１１ｂに表面調整皮膜１３を均一に形成することができる。
【００３１】
一方、筐体１における基材１１の外面１１ａにおいては、表面調整処理時に気泡２２が除去されず、付着したままの状態となる。その結果、外面１１ａには表面調整皮膜１３が殆ど形成されないか、外面１１ａに形成される表面調整皮膜１３は内面１１ｂに形成される表面調整皮膜１３の膜厚よりも顕著に薄くなる（図１を参照）。なお、本実施形態における表面調整処理において、噴射ノズル５０から適時に表面調整処理液２１を噴射すればよい。例えば、噴射ノズル５０からの表面調整処理液２１の噴射タイミングは、基材１１の内面１１ｂにおける気泡２２の付着度合いに応じて決定してもよい。そして、このように決定した噴射タイミングが到来する度に所定時間に亘って噴射ノズル５０から表面調整処理液２１を噴射することで、断続的に薬液を噴射してもよい。また、噴射ユニット５における各噴射ノズル５０から噴射する表面調整処理液２１は、表面調整処理槽２０に貯留されている表面調整処理液２１を吸引したものをポンプ５２によって圧送し、供給管５１
を介して噴射ノズル５０に供給してもよい。
【００３２】
ここで、表面調整処理部２における表面調整処理が終了すると、ラック４が表面調整処理槽２０から引き上げられ、ラック４から噴射ユニット５が取り外される。ここで、表面調整処理後の筐体１は、ラック４に保持された状態に維持される。次いで、ラック４に保持された筐体１を水で洗浄した後、後段の化成皮膜処理部３において筐体１に対する化成皮膜処理を行う。図２に示した通り、化成皮膜処理部３は、化成皮膜処理液３１を貯留する化成処理槽３０を有し、化成皮膜処理液３１に筐体１を浸漬させて基材１１の表面に耐食性皮膜である化成皮膜１２を形成する。
【００３３】
本実施形態においては、化成皮膜処理に先立って筐体１に表面調整処理を施しているため、基材１１の内面１１ｂには均一に表面調整皮膜１３が形成されている。したがって、化成皮膜処理部３における化成皮膜処理を行う際、基材１１の内面１１ｂにおいては、マグネシウム合金と化成皮膜処理液３１との反応が抑制される。一方、基材１１の外面１１ａに関しては、表面調整皮膜１３によって均一に被覆されることがなく、外面１１ａに形成される表面調整皮膜１３は内面１１ｂ側に比べて顕著に薄くなる。よって、基材１１の外面１１ａ側においては、マグネシウム合金と化成皮膜処理液３１との反応が阻害されることがなく、化成皮膜１２の成膜は促進される。
【００３４】
以上のように、本実施形態に係る筐体１の製造方法は、基材１１表面のうち、化成皮膜１２の膜厚を外面１１ａに比べて薄くする内面１１ｂに表面調整処理液２１との反応によって生成および付着した気泡２２を除去しつつ表面調整処理を実施するようにした。これにより、同一工程において、化成皮膜１２の膜厚を部位に応じて変更することができる。そして、筐体１が組み上がった際に外部に露出する外面１１ａに形成される化成皮膜１２を厚膜とすることができるため、耐食性に加えて優れた塗装密着性を外面１１ａに付与することができる。また、筐体１が組み上がった際に外部に露出しない内面１１ｂに形成される化成皮膜１２を薄膜とすることができるため、耐食性に加えて優れた導通性を内面１１ｂに付与することができる。
【００３５】
そして、本実施形態においては、筐体１の部位に応じて、膜厚の異なる化成皮膜１２を同一工程で（同時に）形成することができる。これによれば、筐体の表面全体を厚膜の化成皮膜によって被覆しておき、後工程で表面の一部をレーザ等によって剥離すると共に、導電性テープを貼付したり、ネジの締め込み等によって接点部分の導通をとるといった従来手法に比べて以下の点で有利である。すなわち、上記従来手法に比べて、工数を減らすことができ、筐体の製造コストを少なくすることができる。また、本実施形態における筐体の製造方法によれば、化成皮膜の一部を剥離する必要が無く、基材にマグネシウム合金を用いた筐体が将来的に腐食するリスクをより一層小さくすることができる。
【００３６】
更に、表面調整処理部２は、表面調整処理槽２０の表面調整処理液２１に筐体１を浸漬させ、表面調整処理槽２０内に配置した噴射ノズル５０から基材１１の内面１１ｂに向けて噴射する。そして、噴射ノズル５０から噴射される表面調整処理液２１の液流によって内面１１ｂに付着した気泡２２を除去するようにした。これにより、筐体１の内面１１ｂに付着した気泡２２を円滑に除去することができる。また、筐体１の内面１１ｂに新鮮な表面調整処理液２１を供給することができるため、内面１１ｂに対する均一な表面調整皮膜１３の形成を促すことができる。また、基材１１の表面調整処理に用いる処理液を、気泡２２を除去する用途に利用するようにしたので、表面調整処理槽２０における表面調整処理液２１の濃度が変化したり、表面調整処理液２１と他の液体との混ざり合いを回避できる。
【００３７】
本実施形態において、基材１１の外面１１ａは厚膜形成部位の一例であり、内面１１ｂ
は薄膜形成部位の一例である。また、化成皮膜処理液３１および表面調整処理液２１が、それぞれ第１処理液および第２処理液の一例である。また、本実施形態においては化成皮膜処理部３が耐食性皮膜処理部の一例であり、噴射ユニット５が気泡除去装置の一例である。
【００３８】
また、上記の通り、噴射ユニット５における各噴射ノズル５０の噴射口から表面調整処理液２１が噴射される噴射方向と縦フレーム５３１の長手軸方向とのなす角度が、５〜２０°の範囲で調節されている。そうすると、ラック４に垂直姿勢で固定されている筐体１の内面１１ｂに対して、噴射ノズル５０から噴射される表面調整処理液２１の液流が入射する角度（以下、「液流入射角度」という）θも概ね５〜２０°となる。このように、液流入射角度θを緩やかな角度にすることで、噴射ノズル５０から噴射された液流は筐体１の内面１１ｂを撫でるように内面１１ｂに沿って推進させることができ、内面１１ｂに付着した気泡２２を効率よく除去できる。また、上記のように、液流入射角度θを小さくすることで、筐体１の内面１１ｂに衝突した後の液流が隣接する筐体１の外面１１ａに衝突し難くすることができる。その結果、表面調整処理時に、筐体１の外面１１ａに付着した気泡２２が除去されることを抑制できる。そのため、後工程の化成皮膜処理時において、筐体１の外面１１ａにおける化成皮膜１２の生成を促進させることができ、外面１１ａに形成される化成皮膜１２の膜厚を十分に確保することができる。
【００３９】
また、本実施形態に係る噴射ユニット５は、図５で説明した通り、フレーム体５３の縦フレーム５３１に沿って配置された仕切りカバー５４を備えている。この仕切りカバー５４は、ラック４に保持される筐体１の平面に沿って延設されており、筐体１同士を互いに隔離、区画している（図７を参照）。これによれば、表面調整処理時に、筐体１の内面１１ｂに付着した気泡２２を除去するための表面調整処理液２１を噴射ノズル５０から噴射した際、筐体１の内面１１ｂに衝突した後の液流が隣接する筐体１の外面１１ａに衝突することを好適に抑制できる。その結果、表面調整処理時に、筐体１の外面１１ａに付着した気泡２２が除去されることを抑制できる。そのため、後工程の化成皮膜処理時において、筐体１の外面１１ａにおける化成皮膜１２の生成を促進させることができ、外面１１ａに形成される化成皮膜１２の膜厚を十分に確保することができる。また、本実施形態に係る噴射ユニット５は、ラック４に対して着脱自在な構造となっている。これによれば、表面調整処理部２における表面調整処理が終了した後、噴射ユニット５を取り外したラック４を、そのまま化成皮膜処理部３の化成処理槽３０に投入すれば化成皮膜処理を開始することができるため、利便性が高い。
【００４０】
なお、表面調整処理部２における表面調整処理の実施において、表面調整処理槽２０（表面調整処理液２１）内に配置される各噴射ノズル５０の配置位置に応じて、噴射ノズル５０から噴射する表面調整処理液２１の噴射圧を変更してもよい。具体的には、表面調整処理槽２０の深さ方向において、深い位置（底部から近い位置）に配置される噴射ノズル５０に比べて、浅い位置（底部から遠い位置）に配置される噴射ノズル５０の噴射圧を相対的に大きくしてもよい。上記のように、噴射ユニット５における各噴射ノズル５０は、液流入射角度θを比較的小さな角度に設定し、筐体１の内面１１ｂに対して緩やかな角度から液流を衝突させ、気泡２２を内面１１ｂに沿って流し去るようにしている。したがって、フレーム体５３における縦フレーム５３１に沿って一定間隔毎に配置されている噴射ノズル５０のうち、表面調整処理槽２０の底部からの距離が遠いほど、その噴射ノズル５０から噴射された液流が気泡２２を流し去る距離が長くなる。そこで、表面調整処理槽２０に配置される噴射ノズル５０の深さに応じて噴射ノズル５０の噴射圧を上記のように調整することで、表面調整処理槽２０の浅い位置に配置される噴射ノズル５０から噴射される液流の強さが不足することを抑制することができる。その結果、表面調整処理を行う際に、各噴射ノズル５０の配置位置に関わらず、筐体１の内面１１ｂに付着している気泡２２を好適に除去することができる。
【００４１】
以上述べた実施形態は、本件の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることができる。また、上述の実施形態及び変形例は、可能な限りこれらを組み合わせて実施することができる。
【００４２】
＜実施例＞
次に、実施例について説明する。実施例は、マグネシウム合金ＬＺ９１（リチウム９％、亜鉛１％）の試験片（２５×５０ｍｍ）に対して、上記実施形態で説明した表面調整処理および化成皮膜処理を実施した。その際、実施例に係る試験片の一方の面（以下、おもて面）に厚膜、他方の面（以下、裏面）に薄膜の化成皮膜を形成した。また、比較例として、実施例と同一の試験片に対して表面調整処理を行わず、化成皮膜処理において両面に厚膜の化成皮膜を形成した。化成皮膜処理後の実施例および比較例に係る試験片に対して水洗、乾燥、塗装を行った後、各試験片に関する物性（抵抗値、塗装密着性）を比較した。
【００４３】
図１０は、実施例および比較例の導通性評価結果を示す図である。なお、図１０中における「Ｏ．Ｌ．」との表記は「オーバーロード（over road）」を意味し、レンジのオー
バーによって抵抗値の測定が不可であったことを表す。図１０に示すように、実施例に係る試験片において、化成皮膜を厚膜として形成したおもて面に比べて、薄膜を形成した裏面の抵抗値が顕著に小さくなっており、裏面の導通性が優れていることが確認できた。また、塗装密着性については、実施例に係る試験片のおもて面および裏面に対してクロスカット試験を行ったところ、厚膜を形成したおもて面と薄膜を形成した裏面の何れも塗装の剥離が見られなかった。また、実施例に係る試験片に温湿度サイクル試験を行った後、クロスカット試験を行ったところ、化成皮膜を薄膜として形成した裏面の塗装が剥離したものの、厚膜として形成したおもて面の塗装の剥離は見られなかった。したがって、実施例に係る試験片のうち、化成皮膜を厚膜として形成したおもて面の塗装密着性が優れていることが確認できた。以上より、実施例に係る試験片のおもて面と裏面に夫々異なる物性が付与されていることを確認できた。
【符号の説明】
【００４４】
１・・・筐体
２・・・表面調整処理部
３・・・化成皮膜処理部
４・・・ラック
５・・・噴射ユニット
１０・・・皮膜形成装置
１１・・・基材
１１ａ・・・外面
１１ｂ・・・内面
１２・・・化成皮膜
１３・・・表面調整皮膜
２０・・・表面調整処理槽
２１・・・表面調整処理液
２２・・・気泡
３０・・・化成処理槽
３１・・・化成皮膜処理液
５０・・・噴射ノズル
５１・・・供給管
５２・・・ポンプ
５３・・・フレーム体
５４・・・仕切りカバー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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