(57)【要約】【課題】製造プロセスを簡略化できる太陽電池モジュールの製造方法、及びそのような太陽電池モジュールを提供する。【解決手段】本発明の太陽電池モジュールの製造方法の一つの態様は、支持基板と、光を受けることで発電する発電層と、発電層上に形成された導電層と、からなる太陽電池基板を準備する工程と、導電層上に、導電層が露出する露出部が形成されるようにレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、露出部の一部に、導通部を形成する導通部形成工程と、レジスト層と導通部とをマスクとして、導電層をエッチングするエッチング工程と、を有することを特徴とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板と、光を受けることで発電する発電層と、前記発電層上に形成された導電層と、からなる太陽電池基板を準備する工程と、
前記導電層上に、前記導電層の一部が露出する露出部が形成されるようにレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、
前記露出部の一部に、導通部を形成する導通部形成工程と、
前記レジスト層と前記導通部とをマスクとして、前記導電層をエッチングするエッチング工程と、
を有することを特徴とする太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項２】
支持基板と、光を受けることで発電する発電層と、前記発電層上に形成された導電層と、からなる太陽電池基板を準備する工程と、
前記導電層上の一部に導通部を形成する導通部形成工程と、
前記導電層上の前記導通部が形成されていない領域の一部に、レジスト層を形成するレジスト層形成工程と、
前記レジスト層と前記導通部とをマスクとして、前記導電層をエッチングするエッチング工程と、
を有することを特徴とする太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項３】
前記レジスト層形成工程において、前記レジスト層は、印刷法を用いて形成される、請求項１または２に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項４】
前記導通部形成工程において、前記導通部は、印刷法を用いて形成される、請求項１から３のいずれか一項に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項５】
前記導通部の形成材料である導電材料は、銀またはカーボンを含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項６】
光を受けることで発電する発電層と、
前記発電層上に形成された導電層と、
前記導電層上に形成されたレジスト層と、
前記レジスト層の非形成部に設けられ、前記導電層と電気的に接続された導通部と、
を備え、
前記導電層における前記レジスト層側の面の端縁は、平面視で、前記レジスト層の端縁と一致しているか、前記レジスト層の端縁よりも内側に位置していることを特徴とする太陽電池モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽電池モジュールの製造方法、及び太陽電池モジュールに関する。
【背景技術】
【０００２】
光電変換層上に形成された電極、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜層を保護するために、絶縁保護膜が設けられた太陽電池が提案されている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−２３５０５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような太陽電池においては、電極に対して電気的な接続が可能なように絶縁保護膜を形成する必要があるため、太陽電池の製造プロセスが煩雑化してしまう場合があった。
【０００５】
本発明の一つの態様は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、製造プロセスを簡略化できる太陽電池モジュールの製造方法、及びそのような太陽電池モジュールを提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の太陽電池モジュールの製造方法の一つの態様は、支持基板と、光を受けることで発電する発電層と、前記発電層上に形成された導電層と、からなる太陽電池基板を準備する工程と、前記導電層上に、前記導電層の一部が露出する露出部が形成されるようにレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記露出部の一部に、導通部を形成する導通部形成工程と、前記レジスト層と前記導通部とをマスクとして、前記導電層をエッチングするエッチング工程と、を有することを特徴とする。
【０００７】
本発明の太陽電池モジュールの製造方法の一つの態様によれば、導電層上に、導電層を保護するレジスト層と、導電層と導通をとるための外部接続端子である導通部とが設けられる。そして、レジスト層と導通部とをマスクとして、導電層がエッチングされる。すなわち、本発明の太陽電池モジュールの製造方法の一つの態様によれば、導電層をエッチングするためのマスクを、最終的に製造される太陽電池モジュールにおけるレジスト層及び導通部とできるため、太陽電池モジュールの製造プロセスを簡略化することができる。
【０００８】
本発明の太陽電池モジュールの製造方法の一つの態様は、支持基板と、光を受けることで発電する発電層と、前記発電層上に形成された導電層と、からなる太陽電池基板を準備する工程と、前記導電層上の一部に導通部を形成する導通部形成工程と、前記導電層上の前記導通部が形成されていない領域の一部に、レジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記レジスト層と前記導通部とをマスクとして、前記導電層をエッチングするエッチング工程と、を有することを特徴とする。
【０００９】
本発明の太陽電池モジュールの製造方法の一つの態様によれば、上記と同様にして、太陽電池モジュールの製造プロセスを簡略化することができる。
【００１０】
前記レジスト層形成工程において、前記レジスト層は、印刷法を用いて形成される製造方法としてもよい。
この方法によれば、レジスト層の形成が容易である。
【００１１】
前記導通部形成工程において、前記導通部は、印刷法を用いて形成される製造方法としてもよい。
この方法によれば、導通部の形成が容易である。
【００１２】
前記導通部の形成材料である導電材料は、銀またはカーボンを含む製造方法としてもよい。
この方法によれば、透明導電膜層をエッチングする際に、導通部をマスクとして好適に用いることができる。
【００１３】
本発明の太陽電池モジュールの一つの態様は、光を受けることで発電する発電層と、前記発電層上に形成された導電層と、前記導電層上に形成されたレジスト層と、前記レジスト層の非形成部に設けられ、前記導電層と電気的に接続された導通部と、を備え、前記導電層における前記レジスト層側の面の端縁は、平面視で、前記レジスト層の端縁と一致しているか、前記レジスト層の端縁よりも内側に位置していることを特徴とする。
【００１４】
本発明の太陽電池モジュールの一つの態様によれば、レジスト層及び導通部をマスクとして用いて、導電層をエッチングする製造方法を採用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本実施形態の太陽電池モジュールを示す平面図である。
【図２】本実施形態の太陽電池モジュールを示す底面図である。
【図３】本実施形態の太陽電池モジュールを示す図であって、図１におけるIII−III断面図である。
【図４】本実施形態の太陽電池モジュールの製造方法を示すフローチャートである。
【図５】本実施形態の太陽電池モジュールの製造方法の手順を示す断面図である。
【図６】本実施形態の太陽電池モジュールの製造過程における太陽電池パネルを示す平面図である。
【図７】本実施形態の太陽電池モジュールの製造方法の手順を示す平面図である。
【図８】本実施形態の太陽電池モジュールの他の一例を示す断面図である。
【図９】本実施形態の太陽電池モジュールの他の一例を示す断面図である。
【図１０】本実施形態の太陽電池モジュールを実装した時計を示す平面図である。
【図１１】本実施形態の太陽電池モジュールを実装した時計を示す断面図である。
【図１２】本実施形態の太陽電池パネルの他の一例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図を参照しながら、本発明の実施形態に係る太陽電池モジュール及び太陽電池モジュールの製造方法について説明する。本実施形態においては、太陽電池モジュールを、時計に用いられるものとして例示して説明する。
なお、本発明の範囲は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等を異ならせる場合がある。
【００１７】
（太陽電池モジュール）
図１から図３は、本実施形態の太陽電池モジュール１０を示す図である。図１は、平面図である。図２は、底面図である。図３は、図１におけるIII−III断面図である。
なお、以下の説明においてはＸＹＺ座標系を設定し、このＸＹＺ座標系を参照しつつ各部材の位置関係を説明する。この際、太陽電池パネル２０（図１参照）の主面に垂直な方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向と垂直で、太陽電池モジュール１０を時計に実装した際に１２時−６時方向となる方向をＹ軸方向（図１における上下方向）、Ｚ軸方向及びＹ軸方向と垂直な方向、すなわち、太陽電池モジュール１０を時計に実装した際に３時−９時方向となる方向をＸ軸方向（図１における左右方向）とする。
【００１８】
本実施形態の太陽電池モジュール１０は、図１及び図２に示すように、太陽電池パネル２０と、可撓性基板３０とを備える。
太陽電池パネル２０は、太陽光を受けて発電する積層パネルである。本実施形態においては、太陽電池パネル２０は、平面視（ＸＹ面視）で略正八角形状である。太陽電池パネル２０の曲げ弾性は、可撓性基板３０の曲げ弾性よりも大きい。
【００１９】
太陽電池パネル２０は、図３に示すように、ＳＵＳ基板２１と、アルミニウム層（Ａｌ層）２２と、酸化亜鉛層（ＺｎＯ層）２３と、発電層２４と、ＩＴＯ膜層（導電層）２５と、保護膜レジスト層（レジスト層）２６とが、この順で積層されて構成されている。また、太陽電池パネル２０は、導通部２９を備えている。太陽電池パネル２０には、保護膜レジスト層２６側（＋Ｚ側）から光が入射する。
【００２０】
ＳＵＳ基板２１は、本実施形態においては、負極として機能する基板である。
アルミニウム層２２は、表面に凹凸が形成され、保護膜レジスト層２６側（＋Ｚ側）から太陽電池パネル２０に入射した太陽光のうち、発電層２４を透過した光を散乱して反射する層である。
酸化亜鉛層２３は、発電層２４とアルミニウム層２２との間で、光の屈折率を調整する層である。
アルミニウム層２２と酸化亜鉛層２３とによって、太陽電池パネル２０の光利用効率を高めることができる。
【００２１】
発電層２４は、例えば、本実施形態においては、３層構造（トリプルジャンクション構造）の多接合型の発電層である。発電層２４は、酸化亜鉛層２３側（−Ｚ側）から順に、第１アモルファスシリコンゲルマニウム層（ａ−ＳｉＧｅ層）２４ａと、第２アモルファスシリコンゲルマニウム層２４ｂと、アモルファスシリコン層（ａ−Ｓｉ層）２４ｃとを備える。
【００２２】
第１アモルファスシリコンゲルマニウム層２４ａと第２アモルファスシリコンゲルマニウム層２４ｂとは、アモルファスシリコンにゲルマニウムがドープされることによって形成される。第１アモルファスシリコンゲルマニウム層２４ａと第２アモルファスシリコンゲルマニウム層２４ｂとの、ドープされているゲルマニウムの量は、それぞれ異なっている。第１アモルファスシリコンゲルマニウム層２４ａと、第２アモルファスシリコンゲルマニウム層２４ｂと、アモルファスシリコン層２４ｃとは、それぞれ吸収波長域が異なるように設定されている。
アルミニウム層２２と、酸化亜鉛層２３と、発電層２４とを合わせて、太陽電池本体２７と称する。
【００２３】
ＩＴＯ膜層２５は、本実施形態においては、正極として機能する透明な導電膜層である。ＩＴＯ膜層２５の端縁６０は、本実施形態においては、図３に示すように、太陽電池本体２７の端縁６２よりも内側となるように形成されている。
【００２４】
保護膜レジスト層２６は、ＩＴＯ膜層２５を保護する層である。保護膜レジスト層２６は、太陽電池本体２７の端縁６２よりも内側となるように形成されている。本実施形態においては、ＩＴＯ膜層２５の端縁６０と、保護膜レジスト層２６の端縁６１とは、平面視（ＸＹ面視）において、一致している。保護膜レジスト層２６には、保護膜レジスト層２６を厚み方向に貫通し、ＩＴＯ膜層２５に達する貫通孔部（露出部）２６ａが形成されている。貫通孔部２６ａの平面視（ＸＹ面視）形状は、特に限定されず、本実施形態においては、例えば、図１に示すように円形状である。
【００２５】
保護膜レジスト層２６は、絶縁性を有すると共に、透光性を有する。保護膜レジスト層２６の形成材料としては、例えば、透明な樹脂を用いることができる。
【００２６】
導通部２９は、図１及び図３に示すように、保護膜レジスト層２６に形成された貫通孔部２６ａの内部に設けられている。言い換えると、導通部２９は、保護膜レジスト層２６の非形成部の一部に設けられている。導通部２９は、導電性を有する導電材料を形成材料とし、ＩＴＯ膜層２５と電気的に接続されている。導通部２９は、透光性を有していてもよいし、有していなくてもよい。導通部２９が透光性を有している場合には、発電層２４に照射される光の量を増加させることができるため、太陽電池モジュール１０の発電量を増加させることができる。導通部２９の形成材料としては、例えば、銀や、カーボンを含む材料や、導電性高分子を用いることができる。
【００２７】
なお、本実施形態において、保護膜レジスト層２６の非形成部とは、ＩＴＯ膜層２５上における、保護膜レジスト層２６が形成されていない部分を意味する。
【００２８】
太陽電池パネル２０には、図１に示すように、線状の間隙からなる分割線４０と、時計の針を設置するための貫通孔４１と、日付窓用の貫通孔４２とが形成されている。
太陽電池パネル２０は、分割線４０によって、複数の個片に分割されている。本実施形態においては、太陽電池パネル２０は、第１個片２０ａと、第２個片２０ｂとの２つの個片に分割されている。第２個片２０ｂは、太陽電池パネル２０の中心を含んでいる。
貫通孔４１は、太陽電池パネル２０の中心に形成されている。したがって、貫通孔４１は、第２個片２０ｂに形成されている。
【００２９】
分割線４０は、円弧部４０ａと、第１直線部４０ｂと、第２直線部４０ｃとを含んでいる。
円弧部４０ａは、平面視（ＸＹ面視）において、貫通孔４１を中心とし、太陽電池パネル２０の１／３程度の径を有する半円弧状である。円弧部４０ａは、時計の９時側（−Ｘ側）に凸となるように形成されている。
第１直線部４０ｂと第２直線部４０ｃとは、時計の１２時−６時方向（Ｙ軸方向）に沿って延びる直線状である。
【００３０】
可撓性基板３０は、図２に示すように、第１個片２０ａと第２個片２０ｂとを連結するようにして、太陽電池パネル２０のＳＵＳ基板２１上に貼着されている。可撓性基板３０は、平面視（ＸＹ面視）において、切欠き部３１によって正八角形の一部が欠けた形状である。
【００３１】
切欠き部３１は、平面視（ＸＹ面視）において、太陽電池パネル２０の中心側（−Ｘ側）の端部が円弧状となっている帯状の切欠きである。切欠き部３１は、可撓性基板３０の中心まで形成されている。可撓性基板３０は、貫通孔４１及び貫通孔４２に重ならないように貼着されている。言い換えると、可撓性基板３０は、切欠き部３１内に貫通孔４１及び貫通孔４２が配置されるように貼着されている。また、可撓性基板３０は、平面視（ＸＹ面視）において、ＳＵＳ基板２１側の電極接続部（図示せず）と重ならないようにして、ＳＵＳ基板２１上に貼着されている。ＳＵＳ基板２１側の電極接続部は、切欠き部３１内に配置されていてもよく、切欠き部３１の外側に配置されていてもよい。
【００３２】
可撓性基板３０の平面視（ＸＹ面視）における面積は、太陽電池パネル２０の平面視（ＸＹ面視）における面積よりも小さい。また、可撓性基板３０の曲げ弾性は、太陽電池パネル２０の曲げ弾性よりも小さい。
【００３３】
（太陽電池モジュールの製造方法）
図４は、本実施形態の太陽電池モジュールの製造方法について示すフローチャートである。図５（Ａ）〜（Ｄ）は、本実施形態の太陽電池モジュールの製造方法の手順を示す断面図である。図６は、本実施形態の太陽電池モジュールの製造過程における太陽電池パネル２０を示す平面図であって、図５（Ｄ）における太陽電池パネル２０を拡大した図である。図７（Ａ）〜（Ｃ）は、本実施形態の太陽電池モジュールの製造方法の手順を示す平面図である。
【００３４】
本実施形態の太陽電池モジュールの製造方法は、図４に示すように、基板準備工程Ｓ０と、保護膜レジスト層形成工程（レジスト層形成工程）Ｓ１と、導通部形成工程Ｓ２と、エッチング工程Ｓ３と、レーザーカット工程Ｓ４と、可撓性基板貼着工程Ｓ５と、個片化工程Ｓ６とを有している。
【００３５】
まず、基板準備工程Ｓ０は、ＳＵＳ基板２１と、太陽電池本体２７と、ＩＴＯ膜層２５とがこの順で積層された太陽電池基板２８を準備する工程である。本実施形態においては、複数の太陽電池モジュールを製造することが可能な大型の太陽電池基板２８を準備する。
【００３６】
次に、保護膜レジスト層形成工程Ｓ１は、ＩＴＯ膜層２５の表面上に、保護膜レジスト層２６を形成する工程である。保護膜レジスト層形成工程Ｓ１は、塗布工程Ｓ１ａと、硬化工程Ｓ１ｂとを有している。
【００３７】
塗布工程Ｓ１ａは、未硬化の保護膜レジスト層形成材料を塗布する工程である。
図５（Ａ）に示すように、太陽電池基板２８におけるＩＴＯ膜層２５の表面に未硬化の保護膜レジスト層形成材料を塗布する。保護膜レジスト層形成材料は、保護膜レジスト層２６の形状となるようにパターニングされて、ＩＴＯ膜層２５上の一部の領域に選択的に塗布される。保護膜レジスト層形成材料を塗布する方法としては、本実施形態においては、例えば、スクリーン印刷法を用いる。この工程により、ＩＴＯ膜層２５上に、未硬化の保護膜レジスト層形成材料が塗布される。
【００３８】
硬化工程Ｓ１ｂは、塗布した保護膜レジスト層形成材料を焼成して、硬化させる工程である。この工程により、未硬化の保護膜レジスト層形成材料が硬化される。
以上の工程により、保護膜レジスト層形成工程Ｓ１が終了し、保護膜レジスト層２６が形成される。保護膜レジスト層２６には、ＩＴＯ膜層２５が露出する貫通孔部２６ａが形成されている。本実施形態においては、保護膜レジスト層２６の非形成部、すなわち、ＩＴＯ膜層２５が露出した露出部は、貫通孔部２６ａ以外に、貫通孔４１及び貫通孔４２が形成される箇所と、保護膜レジスト層２６の外側の領域とを含む。
【００３９】
なお、本実施形態において「露出部」とは、保護膜レジスト層形成工程Ｓ１が終了した直後に、ＩＴＯ膜層２５が露出している部分を意味する。
【００４０】
次に、導通部形成工程Ｓ２は、露出部の一部に導通部２９を形成する工程である。導通部形成工程Ｓ２は、塗布工程Ｓ２ａと、硬化工程Ｓ２ｂとを有している。
塗布工程Ｓ２ａは、図５（Ｂ）に示すように、ＩＴＯ膜層２５が露出している露出部における貫通孔部２６ａに、選択的に未硬化の導電材料を塗布する工程である。言い換えると、塗布工程Ｓ２ａにおいては、ＩＴＯ膜層２５が露出している露出部の一部に、未硬化の導電材料を塗布する。
【００４１】
未硬化の導電材料は、貫通孔部２６ａの内部に、ＩＴＯ膜層２５が露出しないようにして塗布される。未硬化の導電材料は、貫通孔部２６ａから多少はみ出していてもよい。
【００４２】
未硬化の導電材料を塗布する方法としては、本実施形態においては、例えば、スクリーン印刷法を用いる。この工程により、貫通孔部２６ａの内部には、未硬化の導電材料が充填される。
【００４３】
硬化工程Ｓ２ｂは、塗布した未硬化の導電材料を焼成して硬化させる工程である。この工程により、未硬化の導電材料が硬化される。
以上の工程により、導通部形成工程Ｓ２が終了し、ＩＴＯ膜層２５と電気的に接続された導通部２９が形成される。
【００４４】
次に、エッチング工程Ｓ３は、図５（Ｃ）に示すように、ＩＴＯ膜層２５をエッチングによりパターニングする工程である。
ＩＴＯ膜層２５において、エッチングによって除去される箇所は、貫通孔４１及び貫通孔４２が形成される箇所と、保護膜レジスト層２６の外側の部分とである。すなわち、上述した露出部から、貫通孔部２６ａを除いた部分である。ＩＴＯ膜層２５が除去される箇所は、後工程において、レーザーカットされる領域を含む。ＩＴＯ膜層２５は、厚み方向の全体に亘って除去される。すなわち、ＩＴＯ膜層２５は、太陽電池本体２７が露出するように、除去される。
【００４５】
エッチング方法としては、特に限定されず、ドライエッチングであっても、ウエットエッチングであってもよい。この工程により、ＩＴＯ膜層２５上に、ＩＴＯ膜層２５が除去された部分からなる形状パターン２５ａが形成される（図６参照）。例えば、本実施形態においては、ＩＴＯ膜層２５の端縁６０と、保護膜レジスト層２６の端縁６１とは、平面視において一致するように形成される。
【００４６】
なお、本実施形態において、ＩＴＯ膜層２５の端縁６０とは、エッチングによって除去された部分と、残った部分との境界を意味する。また、保護膜レジスト層２６の端縁６１とは、平面視における保護膜レジスト層２６の外形と、平面視における貫通孔４１及び貫通孔４２の外形とによって形成される保護膜レジスト層２６の側縁部を意味する。
【００４７】
なお、エッチング方法として、ウエットエッチングを選択する場合においては、エッチング液として、ＳＵＳ基板２１がエッチングされないものを選択するか、ＳＵＳ基板２１上に保護膜を形成する等により、ＳＵＳ基板２１がエッチングされないようにする。
【００４８】
次に、レーザーカット工程Ｓ４は、図５（Ｄ）に示すように、太陽電池基板２８、より詳細には、ＳＵＳ基板２１及び太陽電池本体２７をレーザーカットする工程である。レーザーカットは、図６に示すように、後述する太陽電池基板２８と連結される連結部４５を残すようにして、第１個片２０ａ及び第２個片２０ｂの外形に沿って行われる。レーザーカットされる幅は、エッチング工程Ｓ３によってＩＴＯ膜層２５が除去された部分の幅よりも狭い。
【００４９】
この工程により、ＳＵＳ基板２１及び太陽電池本体２７が除去された部分からなる形状パターン２１ａが形成され、太陽電池パネル２０が形成される。太陽電池パネル２０は、連結部４５によって、太陽電池基板２８から外れないようになっている。
【００５０】
上述したように、保護膜レジスト層２６の表面には、図６に示すように、内部に導通部２９が設けられた貫通孔部２６ａが形成され、貫通孔部２６ａの内部には導通部２９が設けられている。導通部２９は、ＩＴＯ膜層２５と電気的に接続されており、太陽電池パネル２０が配線される際の接続端子となる。また、保護膜レジスト層２６及びＩＴＯ膜層２５は、図５（Ｄ）に示すように、太陽電池本体２７の端縁６２よりも内側となるように形成されている。
【００５１】
各太陽電池パネル２０は、図６及び図７（Ａ）に示すように、太陽電池基板２８と連結部４５を介して連結されている。連結部４５は、上述したレーザーカット工程Ｓ４において、カットされずに残された部分である。太陽電池パネル２０毎に６つずつ設けられている。より詳細には、太陽電池パネル２０の第１個片２０ａ及び第２個片２０ｂは、それぞれ３つの連結部４５によって太陽電池基板２８と連結されている。
【００５２】
次に、可撓性基板貼着工程Ｓ５は、図７（Ｂ）に示すように、太陽電池基板２８を裏返し、ＳＵＳ基板２１上に可撓性基板３０を貼着する工程である。可撓性基板３０は、太陽電池パネル２０の第１個片２０ａと第２個片２０ｂとを接続するようにして貼着される。可撓性基板３０を貼着する方法としては、特に限定されず、例えば、ローラーを用いて貼着する方法を選択できる。この工程により、第１個片２０ａと第２個片２０ｂとが、可撓性基板３０によって連結される。
【００５３】
次に、個片化工程Ｓ６は、図７（Ｃ）に示すように、連結部４５を切断し、各太陽電池パネル２０を太陽電池基板２８から分離する工程である。この工程により、太陽電池パネル２０が個片化される。
【００５４】
以上の保護膜レジスト層形成工程Ｓ１から個片化工程Ｓ６までにより、太陽電池モジュールの製造方法が終了し、大型の太陽電池基板２８から、複数の太陽電池モジュール１０が製造される。
【００５５】
本実施形態によれば、ＩＴＯ膜層２５の表面に、ＩＴＯ膜層２５を保護する保護膜レジスト層２６と、ＩＴＯ膜層２５と電気的に接続される導通部２９とが設けられる。そして、保護膜レジスト層２６と導通部２９とをマスクとして、ＩＴＯ膜層２５がエッチングされる。すなわち、本実施形態によれば、最終的に製造される太陽電池モジュール１０における保護膜レジスト層２６及び導通部２９をマスクとして利用してＩＴＯ膜層２５をエッチングするため、少なくともＩＴＯ膜層２５のエッチングに用いるマスクの除去は、不要となる。したがって、太陽電池モジュールの製造プロセスを簡略化することができる。
【００５６】
また、ＩＴＯ膜層上にレジストや保護膜を塗布した後に、それらの一部もしくは全部を除去して、ＩＴＯ膜層と電気的に接続可能な導通部を形成する場合においては、レジストや保護膜の除去が不十分となり、導通部とＩＴＯ膜層との電気的な接続が、接続不良を起こしてしまう場合があった。
【００５７】
これに対して本実施形態によれば、ＩＴＯ膜層２５上における、他の材料を塗布していない領域に、導通部２９を形成する。そのため、本実施形態によれば、塗布した材料の除去が不十分なことによる、導通部２９とＩＴＯ膜層２５との電気的な接続不良を抑制でき、電気的な接続信頼性に優れた太陽電池モジュールが得られる。
【００５８】
また、本実施形態によれば、保護膜レジスト層２６と導通部２９との形成材料を塗布する方法として、それぞれスクリーン印刷法を用いている。言い換えると、保護膜レジスト層２６及び導通部２９はスクリーン印刷法を用いて、形成される。そのため、本実施形態によれば、露出部が形成されるようにパターニングされた保護膜レジスト層２６及び導通部２９を形成することが容易である。
【００５９】
また、本実施形態によれば、ＩＴＯ膜層２５の端縁が、保護膜レジスト層２６の端縁と平面視で一致しているため、保護膜レジスト層２６の形成に必要な材料を最小限に抑えることができ、太陽電池モジュールの製造コストを低減できる。
また、本実施形態によれば、製造方法上、ＩＴＯ膜層２５と、保護膜レジスト層２６とのずれが生じないため、保護膜レジスト層２６によって、ＩＴＯ膜層２５を確実にカバーすることができる。
【００６０】
本実施形態における太陽電池モジュール１０のように、ＩＴＯ膜層の端縁が、保護膜レジスト層の端縁と一致する構成は、本実施形態の太陽電池モジュールの製造方法に特有なものである。
【００６１】
ＩＴＯ膜層をエッチングした後に、ＩＴＯ膜層上に保護膜を形成する場合においては、パターニングされたＩＴＯ膜層の上から保護膜の形成材料を塗布するため、端縁がＩＴＯ膜層の端縁の外側となるように保護膜が形成される。
これに対して、本実施形態においては、ＩＴＯ膜層２５をエッチングするためのマスクとして保護膜レジスト層２６を用いているため、言い換えると、ＩＴＯ膜層２５をエッチングする前にＩＴＯ膜層２５上に保護膜レジスト層２６を形成しているため、ＩＴＯ膜層２５の端縁６０が、保護膜レジスト層２６の端縁６１と一致するような太陽電池モジュールを製造することが可能となる。
【００６２】
なお、本実施形態においては、以下の方法及び構成を採用することもできる。
【００６３】
上記説明した実施形態においては、ＩＴＯ膜層２５上に、保護膜レジスト層２６を形成した後に、導通部２９を形成する方法を用いたが、これに限られない。本実施形態においては、例えば、ＩＴＯ膜層２５上に、導電材料を塗布して導通部２９を形成した後に、保護膜レジスト層２６を形成するような方法を採用してもよい。すなわち、保護膜レジスト層形成工程Ｓ１の前に、導通部形成工程Ｓ２を行ってもよい。この場合においては、導通部２９を形成し、その後導通部２９が形成されていない領域の一部に保護膜レジスト層２６を形成する。導通部２９及び保護膜レジスト層２６が形成されていない領域が露出部となる。
【００６４】
図１２に図６とは異なる位置に導通部２９を形成した例を示す。図１２においては図６と同様の構成要素に対しては同一の付番を付与している。図１２に示したように導通部２９を太陽電池モジュールのより外側に配置することで、導通部２９に繋がる配線の短縮化や接続される回路モジュール等の小型化に適した対応をすることが可能となる。また、より外側に配置することで腕時計に組み込んだ時の機械機構に対する干渉部分の低減にもなり当該機械機構の設計の自由度を高めると共に腕時計自体の厚さを薄くすることに繋げることも可能となる。
【００６５】
また、上記説明した実施形態においては、保護膜レジスト層形成工程Ｓ１における塗布工程Ｓ１ａ、及び導通部形成工程Ｓ２における塗布工程Ｓ２ａにおいて、スクリーン印刷法を用いたが、これに限られない。本実施形態においては、例えば、塗布工程Ｓ１ａ及び塗布工程Ｓ２ａにおいて、ディスペンサー法、ラミネート法、スピンコート法、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等を用いて、材料の塗布を行ってもよい。
【００６６】
また、上記のような塗布方法を用いる場合における保護膜レジスト層２６のパターニングは、特に限定されず、例えば、フォトリソグラフィを用いてもよいし、レーザー加工によるパターニング方法等を用いてもよい。
【００６７】
また、本実施形態においては、レーザーカット工程Ｓ４の代わりに、エッチングによる加工方法、ワイヤー放電による加工方法、金型等によるプレス加工・機械加工方法等によって、太陽電池基板２８を加工する工程を設けてもよい。
【００６８】
また、上記説明した実施形態においては、保護膜レジスト層２６の端縁と、ＩＴＯ膜層２５の端縁とが、平面視（ＸＹ面視）において一致している構成としたが、これに限られない。本実施形態においては、例えば、図８に示す太陽電池モジュール１１０のような構成であってもよい。
【００６９】
太陽電池モジュール１１０においては、図８に示すように、ＩＴＯ膜層（透明導電膜層）１２５における保護膜レジスト層２６側の面の端縁１６０は、保護膜レジスト層２６の端縁６１よりも内側となっている。すなわち、ＩＴＯ膜層１２５の端縁１６０においては、オーバーエッチングによる凹み部１２５ａが形成されている。
【００７０】
太陽電池モジュール１１０のように、ＩＴＯ膜層１２５の端縁が、保護膜レジスト層２６の端縁よりも内側となる構成も、本実施形態の太陽電池モジュールの製造方法に特有なものである。本実施形態の太陽電池モジュールの製造方法においては、ＩＴＯ膜層１２５のエッチング方法として、ウエットエッチングを選択した場合に、製造される太陽電池モジュールがこのような構成となりやすい。
【００７１】
また、上記説明した実施形態においては、太陽電池本体２７の外縁上におけるＩＴＯ膜層２５は除去された構成となっているが、これに限られない。本実施形態においては、例えば、図９に示す太陽電池モジュール２１０のような構成であってもよい。
【００７２】
太陽電池モジュール２１０においては、図９に示すように、保護膜レジスト層２６及びＩＴＯ膜層２５の周囲に、溝５０を形成するようにして、保護膜レジスト層（レジスト層）２２６及びＩＴＯ膜層（導電層）２２５が形成されている。すなわち、太陽電池本体２７の外縁上に、保護膜レジスト層２２６及びＩＴＯ膜層２２５が形成されている。この構成においては、製造工程において、溝５０が形成されるように、保護膜レジスト層の形成、及びＩＴＯ膜層のエッチングを行う。
【００７３】
また、上記説明した実施形態においては、太陽電池モジュール１０として、分割線４０によって分割された第１個片２０ａ及び第２個片２０ｂを備える構成としたが、これに限られない。本実施形態においては、電極を保護する保護膜を備える太陽電池モジュールである範囲内において、どのような太陽電池モジュールであってもよい。
【００７４】
次に、本実施形態の太陽電池モジュール１０を実装した一例として、太陽電池モジュール１０を実装した時計について説明する。
本実施形態においては、太陽電池モジュール１０を実装する時計として、腕時計を用いた場合について例示する。
図１０及び図１１は、太陽電池モジュール１０が実装された本実施形態の腕時計１０００を示す図である。図１０は、平面図である。図１１は、断面図である。図１１においては、適宜図次を省略している。
【００７５】
この腕時計１０００は、図１０に示すように時計ケース１００２と、この時計ケース１００２に連結された一対のバンド１００３とを備えて構成されたものである。時計ケース１００２は、ステンレス等の金属材又はプラスチック樹脂等の樹脂材で形成されたもので、その内部には、図１１に示すように、ムーブメント１００４と、時計用文字盤（文字盤）１００５と、太陽電池モジュール１０とが収容されている。
【００７６】
時計ケース１００２内の時計用文字盤１００５側（時計表側，＋Ｚ側）には、樹脂製又は金属製の圧入リング（図示せず）を介して、ガラス製または樹脂製の透明カバー（図示せず）が圧入固定されている。また、時計ケース１００２内のムーブメント１００４側（時計裏側，−Ｚ側）には、パッキン（図示せず）を介して裏蓋（図示せず）が螺合され、この裏蓋及び透明カバーによって時計ケース１００２の内部の密封性が確保されている。
【００７７】
また、時計ケース１００２には、図１０に示すように、操作子としての竜頭１０１０と、２つの操作ボタン１０１１とが設けられている。竜頭１０１０は、多段階（本実施形態では２段階）で押し引き自在、かつ、回転自在に設けられたものである。
【００７８】
ムーブメント１００４は、図１１に示すように、秒針１０２１と、分針１０２２と、時針１０２３と、電源装置１０５０とを備えている。秒針１０２１、分針１０２２及び時針１０２３は、同軸上に配列されている。すなわち、秒針１０２１、分針１０２２及び時針１０２３が設置されている各軸は、それぞれ同軸となるように設置されている。秒針１０２１、分針１０２２及び時針１０２３が設置される軸は、太陽電池モジュール１０に形成された貫通孔４１と、時計用文字盤１００５に形成された貫通孔１００５Ａとを介して、時計用文字盤１００５より上側（＋Ｚ側）に突出している。
電源装置１０５０は、ムーブメント１００４に電力を供給する。電源装置１０５０は、太陽電池モジュール１０によって充電される二次電池（図示せず）を含んでいる。
【００７９】
時計用文字盤１００５は、時刻を示す文字が表示された平板である。図１０においては、１２時、３時、６時、９時の時刻表示のみ示している。
時計用文字盤１００５は、透光性を有している。時計用文字盤１００５の光透過率は、例えば、２０％である。
【００８０】
太陽電池モジュール１０は、時計用文字盤１００５と、ムーブメント１００４との間に設けられている。太陽電池モジュール１０は、図１０に示すように、分割線４０の端部を結んだ線が、時計用文字盤１００５の１２時と６時とを結んだ線と同一線上になるように設けられている。
【００８１】
太陽電池モジュール１０は、太陽電池パネル２０の第１個片２０ａと第２個片２０ｂとが、直列接続されて腕時計１０００に実装されている。より詳細には、第１個片２０ａのＩＴＯ膜層２５（正極）と、第２個片２０ｂのＳＵＳ基板（負極）とが電気的に接続されている。ＩＴＯ膜層２５における接続箇所（接続端子）は、前述した貫通孔部２６ａによってＩＴＯ膜層２５が露出している部分である。
第１個片２０ａのＳＵＳ基板２１と第２個片２０ｂのＩＴＯ膜層２５とは、それぞれ二次電池を含む電源装置１０５０（外部回路）に電気的に接続されている。すなわち、太陽電池モジュール１０は、二次電池を含む電源装置１０５０に電気的に接続されている。
【００８２】
腕時計１０００に時計用文字盤１００５側（＋Ｚ側）から太陽光が照射されると、透光性を有する時計用文字盤１００５を介して、太陽光が太陽電池モジュール１０に照射される。これにより、太陽電池モジュール１０が発電され、太陽電池モジュール１０と電気的に接続された電源装置１０５０の二次電池が充電される。
【００８３】
なお、上記説明した実施形態においては、太陽電池モジュールを実装した機器の一例として時計について説明したが、これに限られない。本発明の太陽電池モジュールを実装する機器としては、例えば、携帯端末等であってもよい。
【実施例】
【００８４】
本実施例においては、導電材料をマスクとしてＩＴＯ膜層をエッチング可能であるかどうか検証を行った。導電材料としては、銀を含む導電材料（東洋紡株式会社製「ＤＷ−４４０Ｌ−２９Ｃ」）と、カーボンを含む導電材料（ラサ工業株式会社製「Ｃ２０５０５０３Ｄ１」）とをそれぞれ選択した。ＩＴＯ膜層の表面に、それぞれ導電材料を塗布してＩＴＯ膜層のエッチングを行った。エッチング方法としては、ＨＢｒを用いたドライエッチングとした。
【００８５】
その結果、いずれの導電材料を塗布した場合においても、導電材料を塗布していない部分におけるＩＴＯ膜層を選択的に除去することができた。また、導電材料は、エッチングによっても除去されることはなく、ＩＴＯ膜層との電気的な接続についても問題ないことが確かめられた。
【００８６】
以上より、上記説明した実施形態によれば、導通部をエッチングマスクとして用いることができ、太陽電池モジュールの製造プロセスを簡略化できることが確かめられた。
【符号の説明】
【００８７】
１０，１１０，２１０…太陽電池モジュール、２４…発電層、２５，１２５…ＩＴＯ膜層（導電層）、２６，２２６…保護膜レジスト層（レジスト層）、２６ａ…貫通孔部（露出部）、２８…太陽電池基板、２９…導通部、６１…端縁（レジスト層の端縁）、６０，１６０…端縁（導電層の端縁）、Ｓ１…保護膜レジスト層形成工程（レジスト層形成工程）、Ｓ２…導通部形成工程、Ｓ３…エッチング工程。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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