(57)【要約】  【課題】  本発明は、ステージへの負荷を低減しつつ、高精度な測定や検査を行うことが可能な荷電粒子線装置の提供を目的とする。  【解決手段】  上記目的を達成するために、荷電粒子源から放出される荷電粒子ビームを集束する対物レンズ（２）と、前記荷電粒子ビームが照射される試料を載置するテーブルを備えた荷電粒子線装置であって、前記テーブルを一の方向に案内するガイド（１１）と、当該ガイドと前記対物レンズの間に配置される複数の板状磁性体（１２）を備え、前記ガイドは磁性体で構成されると共に、前記荷電粒子ビームの照射方向から見て、前記複数の板状磁性体間のギャップに位置するように配置される荷電粒子線装置を提案する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子源から放出される荷電粒子ビームを集束する対物レンズと、前記荷電粒子ビームが照射される試料を載置するテーブルを備えた荷電粒子線装置において、
前記テーブルを一の方向に案内するガイドと、当該ガイドと前記対物レンズの間に配置される複数の板状磁性体を備え、前記ガイドは磁性体で構成されると共に、前記荷電粒子ビームの照射方向から見て、前記複数の板状磁性体間のギャップに位置するように配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記板状磁性体と、前記ガイドが、比透磁率のほぼ等しい材料で構成されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記板状磁性体と前記ガイドは、同じ材料で構成されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項４】
荷電粒子源から放出される荷電粒子ビームを集束する対物レンズと、前記荷電粒子ビームが照射される試料を載置するテーブルを備えた荷電粒子線装置において、
前記テーブルを一の方向に移動させる駆動力を発生するムービングコイル式のリニアモータと、前記ムービングコイルと前記対物レンズとの間に配置される板状の磁性体とを備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、荷電粒子線装置に係り、特にリニアモータ等から発生する磁場の影響等を抑制し得る荷電粒子線装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
走査電子顕微鏡に代表される荷電粒子線装置は、荷電粒子源（電子源等）から放出されるビームを細く絞って、試料に照射する装置である。一方、半導体ウェーハ等の大型の試料を測定対象とする走査電子顕微鏡には、任意の個所へのビーム走査を可能とすべく、少なくともＸ−Ｙ方向へ試料を移動させる試料ステージが設けられている。特許文献１には、試料ステージを備えた走査電子顕微鏡が開示されている。また、特許文献１には、試料ステージ上に配置された板状の磁極と、試料上に設置された対物レンズからなるインレンズユニットが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平５−１７４７６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一方、昨今のチップコスト低減の要求に伴い、半導体ウェーハの大型化、パターンの高集積化が求められている。半導体ウェーハが大型化すると、その分、半導体ウェーハを測定するための走査電子顕微鏡に内蔵された試料ステージに負荷がかかり、相対的に高い停止位置精度や、ステージ速度を実現することが困難となる。更に、パターンの高集積化により、プロセス管理を適正行うための測定点の数も増大する傾向にあり、その分、試料ステージにかかる負荷も増大する。特許文献１に開示されたインレンズ型対物レンズを備えた走査電子顕微鏡によれば、アウトレンズ型の対物レンズと比較して、高い分解能による試料観察を行うことが可能となるが、板状の磁性体が試料ステージの可動部に設置されるため、その分、重量が嵩み、試料ステージへの負荷低減を実現することが困難となる。
【０００５】
以下に、ステージへの負荷を低減しつつ、高精度な測定や検査を行うことを目的とする荷電粒子線装置を提案する。更に、試料ステージの移動に伴う磁場の変動を抑制しつつ、高速な試料移動を行うことを目的とする荷電粒子線装置を提案する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するための一態様として、以下に荷電粒子源から放出される荷電粒子ビームを集束する対物レンズと、前記荷電粒子ビームが照射される試料を載置するテーブルを備えた荷電粒子線装置であって、前記テーブルを一の方向に案内するガイドと、当該ガイドと前記対物レンズの間に配置される複数の板状磁性体を備え、前記ガイドは磁性体で構成されると共に、前記荷電粒子ビームの照射方向から見て、前記複数の板状磁性体間のギャップに位置するように配置される荷電粒子線装置を提案する。
【０００７】
また、上記目的を達成するための他の態様として、以下に荷電粒子源から放出される荷電粒子ビームを集束する対物レンズと、前記荷電粒子ビームが照射される試料を載置するテーブルを備えた荷電粒子線装置であって、前記テーブルを一の方向に移動させる駆動力を発生するムービングコイル式のリニアモータと、前記ムービングコイルと前記対物レンズとの間に配置される板状の磁性体とを備えた荷電粒子線装置を提案する。
【発明の効果】
【０００８】
上記一の態様によれば、ステージの軽量化に基づく測定、検査の高速化と、荷電粒子ビームのフォーカス調整の高速化の両立を実現することが可能となる。また、上記他の態様によれば、ムービングコイル式のリニアモータを採用した場合であっても、荷電粒子ビームに対する磁場の影響を抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】走査電子顕微鏡の概略を示す図。
【図２】走査電子顕微鏡のステージ装置の概要を示す図。
【図３】ステージ装置のトップテーブルの概要を示す図。
【図４】分割された分割電極を内蔵するトップテーブルの概要を示す図。
【図５】ムービングコイル型リニアモータの概略図。
【図６】可動ステージの構成例を示す図。
【図７】試料が紙面右側に移動したとき（ビームを試料の左側端部近傍に照射するとき）の対物レンズとステージの構成要素との位置関係を示す図。
【図８】試料が紙面中央に位置付けられたとき（ビームを試料の中心に照射するとき）の対物レンズとステージの構成要素との位置関係を示す図。
【図９】試料が紙面左側に移動したとき（ビームを試料の右側端部近傍に照射するとき）の対物レンズとステージの構成要素との位置関係を示す図。
【図１０】試料下に板状磁性体を設置した荷電粒子線装置の一例を示す図（ビームを試料の左側端部近傍に照射する状態を示す図）。
【図１１】試料下に板状磁性体を設置した荷電粒子線装置の一例を示す図（ビームを試料の中心に照射する状態を示す図）。
【図１２】試料下に板状磁性体を設置した荷電粒子線装置の一例を示す図（ビームを試料の右側端部近傍に照射する状態を示す図）。
【図１３】可動ステージ位置と磁場強度の関係を示すグラフ。
【図１４】板状磁性体の幅と磁場強度の関係を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
電子顕微鏡は、可動ステージを用いて撮像対象を移動させ、撮像対象の様々な位置の撮像を行う装置である。可動ステージの高速移動や高精度位置決めのためには、可動ステージの駆動力として，リニアモータを用いることが望ましい。しかし、電子顕微鏡では，電子軌道上の磁場変動を避ける必要がある。よって可動ステージの移動に伴って生じる磁場変動も避けなければならない。
リニアモータは、制御電流が通電されるコイルと永久磁石とを備え、電磁力によって駆動力を発生する。以下に説明する実施例では、ムービングコイル型のリニアモータについて説明する。ムービングコイル型のリニアモータは、レール状に並べた永久磁石列を有する界磁子と、制御電流を通電するコイルを有する可動子から構成される。界磁子における可動子移動方向長さが、ほぼ可動子の移動ストロークに相当する。
【００１１】
電子顕微鏡の可動ステージにリニアモータを用いる場合、前述の界磁子を固定し、磁場変動を抑制する構成も可能である。しかし、より部品点数の少ない可動ステージとするためには、界磁子が移動する構成とすることが望ましい。一方で、界磁子が移動すると、磁場の発生源が移動することになるため、ビームに対して影響を与える可能性がある。
【００１２】
以下に説明する実施例は、リニアモータを構成する磁性体の移動に基づくビームへの影響を抑制する機構を備えた走査電子顕微鏡に関するものである。なお、以下の実施例では走査電子顕微鏡を例に採って説明するが、走査電子顕微鏡と同等に磁場によってビームが偏向される可能性のある集束イオンビーム装置等の他の荷電粒子線装置への適用も可能である。
【００１３】
以下に説明する実施例では、主に磁場レンズ、可動ステージを有する電子顕微鏡において、前記可動ステージは板状磁性体を有しており、前記板状磁性体の板厚方向は、前記磁場レンズの光軸と平行であって、前記可動ステージの可動方向の板状磁性体長さが、試料の長さよりも大きく、試料が板状磁性体からはみ出さない構造とした電子顕微鏡について説明する。また、上記板状磁性体を複数の板状磁性体で構成すると共に、当該複数の板状磁性体間のギャップに、磁性体で構成された試料ステージを案内するガイドを配置した例について、併せて説明する。このような構成によれば、界磁子の移動によるビームに対する影響を抑制することが可能となる。また、磁性体で構成されたガイドと、リニアモータと、複数の板状磁性体を用いて、移動する磁性体を比透磁率、厚さ分布のない無限平板に近づけることによって、テーブル（試料を載置するためのトップテーブル）の全面に亘って板状磁性体を配置する場合と比較して、テーブル重量を抑制することができ、ステージへの負荷を低減することが可能となる。
【００１４】
以下、図面を用いて、板状磁性体を有する試料ステージを備えた電子顕微鏡について説明する。図１は走査電子顕微鏡の概略を示す図である。制御装置１１３はユーザーインターフェースからオペレータによって入力された電子の加速電圧，ウェーハ１１０の情報，観察位置情報などを基に、電子光学系、ステージ１０９等の制御を行う。ウェーハ１１０は図示されないウェーハ搬送装置を介して、試料交換室を経由した後、試料室１０８にある試料ステージ１０９上に固定される。  制御装置１１３は、引出電極や加速電極への印加電圧、ウェーハ１１０へ印加するリターディング電圧、試料ステージ１０９内に内蔵された静電チャックへの印加電圧、第一コンデンサレンズ１０４と第二コンデンサレンズ１０５、及び対物レンズ１０７への励磁電流等を制御する。
【００１５】
引出電極１０２により電子源１０１から引き出された電子ビーム１０３は、第一コンデンサレンズ１０４、第二コンデンサレンズ１０５、及び対物レンズ１０７により収束されウェーハ１１０上に照射される。途中電子ビーム１０３は、走査偏向器１０６によってウェーハ１１０上を二次元的に走査される。
【００１６】
上記ウェーハ１１０への電子ビーム１０３の照射に起因して、ウェーハ１１０から放出される二次電子１１１は二次電子検出器１１２により捕捉され、図示しない二次電子信号増幅器を介して二次電子像表示装置１１４の輝度信号として使用される。また二次電子像表示装置１１４の偏向信号と、走査偏向器１０６の偏向信号とは同期しているため、二次電子像表示装置１１４上にはウェーハ１１０上のパターン形状が忠実に再現される。
【００１７】
ウェーハ１１０上のパターンを高速に測定、或いは検査するためには試料ステージ１０９が所望の観察点にウェーハ１１０を高速に位置付けると共に、速やかに停止させる必要がある。また、所望の観察点に視野を位置づけた後、速やかにフォーカス調整を行う必要がある。このような高速測定、高速検査を可能とするステージを図２に例示する。
【００１８】
図２は、ステージ装置の外観見取図である。ステージ機構は、ベース２０１に対してＸガイド２０２によってＸ方向（図２に示す座標軸のＸ方向）にのみ可動なＸテーブル２０３と、同じくベース１０１に対してＹガイド１１０によってＹ方向（図１に示す座標軸のＹ方向）にのみ可動なＹテーブル２０４とがある。なお、本実施例では、Ｘ方向を第１の方向、Ｙ方向を第２の方向として説明する。
【００１９】
Ｘテーブル２０３の両端には第１の駆動機構であるＸモータ可動子２０５が固定され、Ｘモータ可動子２０５のコイルに電流を流すことで、ベース２０１に固定されたＸモータ固定子２０６（マグネット）との間に電磁気力による推力が発生する。同じくＹテーブル２０７の両端には第１の駆動機構であるＹモータ可動子２０８が固定され、Ｙモータ可動子２０８のコイルに電流を流すことで、ベース２０１に固定されたＹモータ固定子２０９（マグネット）との間に電磁気力による推力が発生する。
【００２０】
Ｙテーブル２０７上にはＸサブガイド２１０によってサブテーブル２１１がＹテーブル２０７上をＸ方向に可動に結合されている。Ｘテーブル２０３上にはＹサブガイド２１２によって案内されるトップテーブル２１３が連結部材２１４を介して結合されている。トップテーブル２１３にはウェーハ１１０を支持するための試料支持機構（静電チャックなど）が内蔵されている。また、トップテーブル２１３には後述する板状磁性体が内蔵されている。
【００２１】
図３は板状磁性体が内蔵されたトップテーブルの概要を示す図である。図３の上図は、３枚の板状磁性体３０１、３０２、３０３が内蔵されたトップテーブル２１３をｙ方向から見たときの図、図３の下図はｚ方向から見た図である。板状磁性体３０１、３０２、３０３は、磁場発生源であるモータ可動子からのビーム照射点に対する磁場の影響を抑制するためのシールドとして機能すると共に、対物レンズ１０７のレンズギャップ１１５から漏洩する漏洩磁場の変動を抑制するための磁路として機能する。試料側に向かってレンズギャップ１１５が開放された対物レンズは、下磁極開放型レンズ、或いはセミインレンズと呼ばれ、対物レンズ１０７の漏洩磁場内に、試料が配置される。このようなレンズ構成によれば、集束磁場中に試料を配置することになるため、対物レンズ主面と試料間の距離（ワーキングディスタンス）を短くすることができ、電子顕微鏡の高分解能化を実現することが可能となる。その一方で対物レンズの直下で磁場の大きさが変化すると、集束磁場に影響を与え、その結果、フォーカス調整に時間がかかることが考えられる。本実施例は、対物レンズの集束磁場以外の磁場の影響を抑制しつつ、ステージの可動部材の軽量化を実現することで、フォーカス調整時間の短縮化と、テーブル軽量化によるステージ移動時間の高速化の両立による測定、検査の高スループット化を実現するためのものである。
【００２２】
テーブルの軽量化のために、板状磁性体３０１、３０２、３０３間には、ギャップが設けられている。このギャップは、トップテーブル２１３のＸ−Ｙ方向全体を板状磁性体で覆う場合と比べて、トップテーブル２１３全体の重量を軽量化するために設けられている。また、図３に例示するステージ構造では、板状磁性体間のギャップ直下に、Ｙサブガイド２１２ａ、２１２ｂが配置されている。トップテーブル２１３は、連結部材２１４ａ、連結部材２１４ｂに支持され、Ｙサブガイド２１２ａ、２１２ｂによって案内される。このＹサブガイド２１２ａ、ｂも、板状磁性体と同様に磁性材料で形成されている。
【００２３】
このようにテーブルを案内するガイドの案内方向（Ｙ方向）と、当該テーブルのもう１つの移動方向（Ｘ方向）に直交する方向（Ｚ方向、或いは電子ビームの照射方向）から見て、板状磁性体間のギャップに、磁性材料で形成されたＹサブガイド２１２ａ、２１２ｂが位置するように、各構成要素を配置する。このように構成することによって、トップテーブル２１３の試料が位置する領域に、磁性体である可動子、ガイドが移動することによって生じる磁場変動を抑制し、トップテーブルの軽量化をはかることが可能となる。試料（ウェーハ）が配置されるトップテーブルの領域下に、ガイド或いは板状磁性体のいずれかが配置されるように構成することで、上記効果を実現することが可能となる。この効果の詳細については更に後述する。
【００２４】
上述のように、磁場を発生する可動子（ムービングコイル）を備えたリニアモータを、荷電粒子線装置用の試料ステージ（トップテーブル）駆動源として採用する場合、リニアモータからの漏洩磁場に注意しなければならない。電子軌道上の磁場変動は電子ビームを曲げ、撮像のｘｙ方向の軌道ずれ、ｚ方向の軌道ずれを引き起こすためである。以下、それぞれ位置ずれ、フォーカスずれと記す。図５に、ムービングコイル型リニアモータの概略図を示す。Ｙ方向リニアモータ９は、Ｙ方向リニアモータ可動子９−１、Ｙ方向リニアモータ界磁子９−２からなる。Ｙ方向リニアモータ界磁子９−２はＳ極とＮ極が交互となるよう直線状に並べられた永久磁石列と、永久磁石列の外側に配置され、開放面を有する箱型のヨークからなる。Ｙ方向リニアモータ可動子９−１は、コイルを含有し永久磁石列間の空隙に配置される。
【００２５】
Ｘ方向リニアモータ１０は、Ｘ方向リニアモータ可動子１０−１、Ｘ方向リニアモータ界磁子１０−２からなる。Ｘ方向リニアモータ可動子１０−１、界磁子１０−２はそれぞれＹ方向リニアモータ可動子９−１、界磁子９−２と同様の構造である。永久磁石列の作る磁場と，可動子内のコイルが作る磁場との相互作用で，可動子は移動，位置決めが行われる。
【００２６】
永久磁石は残留磁束密度が高く、且つ保磁力の大きい材料が好ましく、例えばネオジム磁石などが好ましい。永久磁石の配列は前述の通り、Ｓ極とＮ極が交互となるよう直線状に並べられる必要がある。漏洩磁束を減らすため、例えばハルバッハ配列にすることがより好ましい。ヨークには透磁率が数百から数千程度の材料が好ましく、例えば純鉄、Ｆｅ−Ｓｉ、パーマロイなどが好ましい。
【００２７】
図６に可動ステージの構成例を示す。この例では、可動ステージは試料ステージ６、Ｙ方向リニアモータ９、Ｘ方向リニアモータ１０からなる。ＸＹステージの駆動力には，Ｘ方向Ｙ方向，それぞれの移動を担うリニアモータが少なくとも１台ずつ必要である。Ｘ方向リニアモータ界磁子１０−２は試料室容器（図示せず）に固定されており、移動しない。一方、Ｙ方向リニアモータ界磁子９−２はＸ方向リニアモータ可動子１０−１に接続されており、Ｘ方向に移動が可能である。更に、試料ステージ６はＹ方向リニアモータ可動子９−１に接続されており、ＸＹ方向に移動が可能である。
【００２８】
本実施例ではＹ方向リニアモータ９、Ｘ方向リニアモータ１０いずれもヨークの開放面がｚ軸正の方向となっているが、ヨークの開放面をｘｙ平面にする、すなわちリニアモータを横置きにしても構わない。
【００２９】
可動ステージは磁性体を有しており、可動ステージの移動に伴って対物レンズ２の内部の磁場分布が変化する。可動ステージを対物レンズ２から遠ざけることで，この磁場変動を抑制することが可能であるが、その分試料室容器５を大きくする必要がある。そこで，磁性体移動による磁場変動を抑制する施策が必要となる。以下、可動ステージ位置と磁場強度の関係を述べる。
【００３０】
図７に、試料の左端にビームを照射するときの対物レンズとステージを構成する構成要素との位置関係を例示する。図７に例示する状態では、試料左端観察時に対物レンズ２の直下にガイド１１が配置される。したがって、ガイド１１の磁化によって、対物レンズ２の内部の磁場強度が強くなる。なお、図中の矢印は光軸８からＹ方向リニアモータ９までの距離を表す。
【００３１】
図８に、試料の中央にビームを照射するときの対物レンズとステージを構成する構成要素との位置関係を例示する。図８に例示する状態では、試料中央観察時に対物レンズ２の直下に磁性体が配置されない。したがって、対物レンズ２の内部の磁場強度が強くなる。
【００３２】
図９に、試料の右端にビームを照射するときの対物レンズとステージを構成する構成要素との位置関係を例示する。図９に例示する状態では、試料右端観察時に対物レンズ２の直下にガイド１１が配置される。したがって、ガイド１１の磁化によって、対物レンズ２の内部の磁場強度が強くなる。
【００３３】
図１０〜１２に、試料ステージ（トップテーブル）内に板状磁性体を配置したときの荷電粒子線装置を構成する各構成要素の位置関係を例示する。図１０〜１２に例示する状態では、可動ステージの位置によらず対物レンズ２の直下に板状磁性体１２が配置される。したがって、可動ステージの位置によらず板状磁性体１２の磁化によって、対物レンズ２の内部の磁場強度が強くなっている。対物レンズ内の磁場強度は、ＣＡＥ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ａｉｄｅｄ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｒｉｎｇ）解析によって求めることができる。
【００３４】
図１３に、可動ステージ位置と磁場強度の関係を示す。横軸は光軸からＹ方向リニアモータまでの距離、縦軸は対物レンズ内の磁場強度である。板状磁性体のない構造では、試料左端、試料右端、試料中央の順に磁場強度が強い。試料左端観察時は、Ｙ方向リニアモータ９が光軸に近づくため、試料右端観察時よりも磁場強度が強い。試料中央観察時は、対物レンズ２の直下に磁性体が配置されないため、最も磁場強度が弱い。一方、板状磁性体を可動ステージに内在させた構造では、試料中央観察時に対物レンズ２の直下に板状磁性体１２が配置されるため、可動ステージの位置によらず、対物レンズ２の内部の磁場強度を一定に保つことができる。
【００３５】
図１４は、板状磁性体の幅と磁場強度の関係を示すグラフである。板状磁性体の幅が大きいほど、磁性体移動による磁場変動が小さくなり、可動ステージの移動距離、すなわち試料直径以上であれば良い。例えば、可動ステージの移動距離が３００ｍｍであれば、板状磁性体の幅を３００ｍｍより大きくすれば良い。磁性体を無限平板とすることで、磁場変動を小さくできるが、実装できる大きさには制限があるため、板状磁性体の幅は試料直径よりも大きくすることが好ましい。
【００３６】
以上のような前提を踏まえ、板状磁性体の具体的な構造について説明する。図４は、分割され、各板状磁性体間にギャップが設けられた可動ステージの概要を示す図である。板状磁性体１２が複数に分割されており、試料下部の領域がガイド１１、或いは板状磁性体１２のいずれかが配置される構造である。図４に例示する構成によれば、単に板状磁性体を配置する場合と比較して、最小限の磁性体で可動ステージを構成できることである。追加する部品を最小限とすることで、可動ステージの重量が増加することなく、高速位置決めが可能である。
【００３７】
また、ガイド１１、板状磁性体１２を、の比透磁率がほぼ等しい材料で構成することが望ましい。ガイド１１は、外力に対する変形を防ぐため、剛性の高い材料が好ましく、例えば鉄系材料が好ましい。板状磁性体１２の比透磁率を、ガイド１１と揃えることで、可動ステージを移動させても対物レンズ２の直下の比透磁率の変化が小さく、磁場強度を一定に保つことができる。この構造のもう一つの利点は、板状磁性体１２、ガイド１１の比透磁率の差によって生じる磁場変動が小さくなることである。
【００３８】
更に望ましくは、実施例４はガイド１１、板状磁性体１２を同じ材料で構成する。板状磁性体１２の材料を、ガイド１１と揃えることで、可動ステージを移動させても対物レンズ２の直下の比透磁率が変わらず、磁場強度を一定に保つことができる。この構造のもう一つの利点は、板状磁性体１２、ガイド１１の比透磁率の差によって生じる磁場変動がなくなることである。
【００３９】
上述のようなリニアモータを用いれば、可動ステージによる磁場変動を減らすことができる。したがって、可動ステージ移動による電子軌道ずれを抑制でき、かつ高速移動可能な可動ステージを提供できる。また、高分解能、かつ高スループットの電子顕微鏡を提供できる。特に、ステージの軽量化とフォーカス調整の高速化の両立が可能となるため、荷電粒子ビームを用いた測定、検査の高速化を実現することができる。
【符号の説明】
【００４０】
１  電子銃
２  電子レンズ
３  カラム
４  二次電子検出部
５  試料室容器
６  試料ステージ
７  試料
８  光軸
９  Ｙ方向リニアモータ
９−１  Ｙ方向リニアモータ可動子
９−２  Ｙ方向リニアモータ界磁子
１０  Ｘ方向リニアモータ
１０−１  Ｘ方向リニアモータ可動子
１０−２  Ｘ方向リニアモータ界磁子
１１  ガイド
１２  板状磁性体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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