(57)【要約】      （修正有）【課題】分散性、耐久性に優れる媒体用バインダーを提供する。【解決手段】式（１）の成分を重合してなるポリオール成分から形成されるポリウレタン樹脂を含有する。2015170380.tif 000012［Ｍ１及びＭ２は水酸基又は活性水素含化合物から特定数の活性水素を除いた残基、Ｒ１はエチレン性不飽和結合含有基、Ｌは特定の酸から全てのカルボキシル基を除いた残基］【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表されるモノマー（Ｘ）を含有するモノマー成分を重合してなるビニル系ポリオール（ａ１）、前記（ａ１）以外の数平均分子量が５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）及び必要により前記（ａ１）以外の化学式量又は数平均分子量が５００未満の低分子ポリオール（ａ３）を含有するポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とから形成されるポリウレタン樹脂（Ｐ）と、ビニル系樹脂（Ｖ）とを含有する磁気記録媒体用バインダー。
【化１】
2015170380.tif 000010
［式中、Ｍ1は水酸基又は１〜２０価の活性水素含有有機化合物からｃ個の活性水素を除いた残基を表し；ｃは、Ｍ1が水酸基の場合は１であり、Ｍ1が１〜２０価の活性水素含有有機化合物からｃ個の活性水素を除いた残基の場合は１≦ｃ≦（Ｍ1の価数）を満たす整数を表し；Ｒ1はエチレン性不飽和結合含有基を表し、複数ある場合のＲ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく；Ｍ2は水酸基又は１〜２０価の活性水素含有有機化合物から１個の活性水素を除いた残基を表し、複数ある場合のＭ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、Ｍ2とＭ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく；Ｌは３価以上の芳香族ポリカルボン酸から全てのカルボキシル基を除いた残基を表し、Ｌの芳香環は炭素原子から構成され、その炭素原子にはカルボキシル基以外の置換基及び／又はハロゲン原子が結合していてもよいが少なくとも一つの炭素原子には水素原子が結合しており；ａ及びｂはそれぞれ０以上の整数を表し、かつ、２≦ａ＋ｂ≦ｄ−２を満たし、複数ある場合のａはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、ｃ個のａの内の少なくとも一つは０ではなく、複数ある場合のｂはそれぞれ同一でも異なっていてもよく；ｄは前記芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基を含む全ての置換基を水素原子に置換した場合の芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子の数、即ち芳香環上で置換可能な部位の数を表す。］
【請求項２】
前記一般式（１）におけるエチレン性不飽和結合含有基が、一般式（２）〜（６）で表される置換基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基である請求項１記載の磁気記録媒体用バインダー。
【化２】
2015170380.tif 000011
［式中、Ｒ2、Ｒ4及びＲ6はそれぞれ独立に水酸基で置換されていてもよい炭素数２〜１２の２価の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ3、Ｒ5及びＲ7はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、＊はそれが付された結合により置換基が前記一般式（１）におけるオキシカルボニル基の酸素原子と結合することを表す。］
【請求項３】
前記一般式（１）における３価以上の芳香族ポリカルボン酸が、前記芳香環を構成し置換基が結合していない炭素原子に隣接する２個の炭素原子にカルボキシル基が結合し、前記カルボキシル基が結合した炭素原子に隣接しかつ前記置換基が結合していない炭素原子とは異なる炭素原子の少なくとも一方に更にカルボキシル基が結合した構造を有する請求項１又は２記載の磁気記録媒体用バインダー。
【請求項４】
前記一般式（１）における３価以上の芳香族ポリカルボン酸が、トリメリット酸及び／又はピロメリット酸である請求項１又は２記載の磁気記録媒体用バインダー。
【請求項５】
前記モノマー（Ｘ）の水酸基価が０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇである請求項１〜４のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダー。
【請求項６】
前記モノマー（Ｘ）におけるＬの濃度が、０．５〜１０．０ｍｍｏｌ／ｇである請求項１〜５のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダー。
【請求項７】
前記モノマー（Ｘ）のカルボニル基濃度が、１．５〜３０．０ｍｍｏｌ／ｇである請求項１〜６のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダー。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダーを含有してなる磁性塗料。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダーを含有してなる磁性層を有する磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気テープ、磁気カ−ド、磁気ディスク等の磁気記録媒体の製造に用いられるバインダー及びそのバインダーを用いた磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、磁気記録媒体用のバインダーとしては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ニトロセルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体及び塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体等が用いられている（例えば特許文献１）。しかし、近年、磁気記録媒体の高性能化に伴い、磁性体の微粒子化や高磁力化が図られ、従来のバインダーでは十分な磁性体の分散性及び耐久性のあるものが得られていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−１７５９５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、ポリウレタン樹脂がビニル系樹脂との相溶性に優れるため、ポリウレタン樹脂とビニル系樹脂と併用した場合に、磁性粉の分散性に優れることにより、磁気テープの磁気特性を向上させることができ、かつ耐久性に優れる磁気記録媒体を得ることができる磁気記録媒体用のバインダーを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。即ち本発明は、一般式（１）で表されるモノマー（Ｘ）を含有するモノマー成分を重合してなるビニル系ポリオール（ａ１）、前記（ａ１）以外の数平均分子量が５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）及び必要により前記（ａ１）以外の化学式量又は数平均分子量が５００未満の低分子ポリオール（ａ３）を含有するポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とから形成されるポリウレタン樹脂（Ｐ）と、ビニル系樹脂（Ｖ）とを含有する磁気記録媒体用バインダー；前記磁気記録媒体用バインダーを含有してなる磁性塗料；前記磁気記録媒体用バインダーを含有してなる磁性層を有する磁気記録媒体である。
【０００６】
【化１】
2015170380.tif 000002
［式中、Ｍ1は水酸基又は１〜２０価の活性水素含有有機化合物からｃ個の活性水素を除いた残基を表し；ｃは、Ｍ1が水酸基の場合は１であり、Ｍ1が１〜２０価の活性水素含有有機化合物からｃ個の活性水素を除いた残基の場合は１≦ｃ≦（Ｍ1の価数）を満たす整数を表し；Ｒ1はエチレン性不飽和結合含有基を表し、複数ある場合のＲ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく；Ｍ2は水酸基又は１〜２０価の活性水素含有有機化合物から１個の活性水素を除いた残基を表し、複数ある場合のＭ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、Ｍ2とＭ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく；Ｌは３価以上の芳香族ポリカルボン酸から全てのカルボキシル基を除いた残基を表し、Ｌの芳香環は炭素原子から構成され、その炭素原子にはカルボキシル基以外の置換基及び／又はハロゲン原子が結合していてもよいが少なくとも一つの炭素原子には水素原子が結合しており；ａ及びｂはそれぞれ０以上の整数を表し、かつ、２≦ａ＋ｂ≦ｄ−２を満たし、複数ある場合のａはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、ｃ個のａの内の少なくとも一つは０ではなく、複数ある場合のｂはそれぞれ同一でも異なっていてもよく；ｄは前記芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基を含む全ての置換基を水素原子に置換した場合の芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子の数、即ち芳香環上で置換可能な部位の数を表す。］
【発明の効果】
【０００７】
本発明の磁気記録媒体用バインダーは、ビニル系樹脂との相溶性に優れるため、ビニル系樹脂と併用した場合に、磁性粉の分散性に優れることにより、磁気テープの磁気特性を向上させることができ、かつ耐久性に優れる磁気記録媒体を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明の磁気記録媒体用バインダーは、一般式（１）で表されるモノマー（Ｘ）を含有するモノマー成分を重合してなるビニル系ポリオール（ａ１）、前記（ａ１）以外の数平均分子量が５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）及び必要により前記（ａ１）以外の化学式量又は数平均分子量が５００未満の低分子ポリオール（ａ３）を含有するポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とから形成されるポリウレタン樹脂（Ｐ）と、ビニル系樹脂（Ｖ）とを含有する。
【０００９】
本発明におけるビニル系ポリオール（ａ１）は、一般式（１）で表されるモノマー（Ｘ）を必須成分とするモノマー成分を重合してなるビニル系ポリオールである。
【００１０】
【化２】
2015170380.tif 000003
【００１１】
一般式（１）におけるＭ1は水酸基又は１〜２０価の活性水素含有有機化合物からｃ個の活性水素を除いた残基を表す。
【００１２】
活性水素含有有機化合物としては、水酸基含有化合物、アンモニア、アミノ基含有化合物及びチオール基含有化合物等が挙げられる。活性水素含有有機化合物は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００１３】
水酸基含有化合物としては、炭素数１〜２０の１価のアルコール、炭素数２〜２０の多価アルコール及びフェノール類；これらのアルキレンオキサイド（以下、ＡＯと略記）付加物；アンモニア、アミノ基含有化合物及びチオール基含有化合物のＡＯ付加物；等が挙げられる。
【００１４】
炭素数１〜２０の１価アルコールとしては、炭素数１〜２０のアルカノール（メタノール、エタノール、ブタノール、オクタノール、デカノール、ドデシルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール及びステアリルアルコール等）、炭素数２〜２０のアルケノール（オレイルアルコール及びリノリルアルコール等）及び炭素数７〜２０の芳香脂肪族アルコール（ベンジルアルコール及びナフチルエタノール等）等が挙げられる。
【００１５】
炭素数２〜２０の多価アルコールとしては、炭素数２〜２０の２価アルコール［脂肪族ジオール（エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−又は１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，２−又は１，１０−デカンジオール及び１，２−又は１，１２−ドデカンジオール等）、脂環式ジオール（１，２−、１，３−又は１，４−シクロヘキサンジオール及びシクロヘキサンジメタノール等）、芳香脂肪族ジオール｛１−フェニルエタン−１，２−ジオール及び１，４−ビス（ヒドロキシエチル）ベンゼン等｝、エーテル基含有ジオール｛３−ブトキシ−１，２−プロパンジオール、３−（２−エチルヘキソキシ）−１，２−プロパンジオール
３−フェノキシ−１，２−プロパンジオール及び３−（ｐ−ｔｅｒｔ―ブチルフェノキシ）−１，２−プロパンジオール等｝及びハロゲン基含有ジオール（３−クロロ−１，２−プロパンジオール等）等］、炭素数３〜２０の３価アルコール［脂肪族トリオール（グリセリン及びトリメチロールプロパン等）等］及び炭素数５〜２０の４〜８価アルコール［脂肪族ポリオール（ペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、ソルビタン、ジグリセリン及びジペンタエリスリトール等）及び糖類（ショ糖、グルコース、マンノース、フルクトース、メチルグルコシド及びその誘導体）］等が挙げられる。
【００１６】
フェノール類としては、例えば１価のフェノール（フェノール、１−ヒドロキシナフタレン、アントロール及び１−ヒドロキシピレン等）及び多価フェノール［フロログルシン、ピロガロール、カテコール、ヒドロキノン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、１，３，６，８−テトラヒドロキシナフタレン、１，４，５，８−テトラヒドロキシアントラセン、フェノールとホルムアルデヒドとの縮合物（ノボラック）及び米国特許３２６５６４１号明細書に記載のポリフェノール等］が挙げられる。
【００１７】
アミノ基含有化合物としては、炭素数１〜２０のモノハイドロカルビルアミン［アルキルアミン（ブチルアミン等）、ベンジルアミン及びアニリン等］、炭素数２〜２０の脂肪族ポリアミン（エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン及びジエチレントリアミン等）、炭素数６〜２０の脂環式ポリアミン（ジアミノシクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジアミン及びイソホロンジアミン等）、炭素数２〜２０の芳香族ポリアミン（フェニレンジアミン、トリレンジアミン及びジフェニルメタンジアミン等）、炭素数２〜２０の複素環式ポリアミン（ピペラジン及びＮ−アミノエチルピペラジン等）、アルカノールアミン（モノエタノールアミン、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミン等）、ジカルボン酸と過剰のポリアミンとの縮合により得られるポリアミドポリアミン、ポリエーテルポリアミン、ヒドラジン（ヒドラジン及びモノアルキルヒドラジン等）、ジヒドラジッド（コハク酸ジヒドラジッド及びテレフタル酸ジヒドラジッド等）、グアニジン（ブチルグアニジン及び１−シアノグアニジン等）及びジシアンジアミド等が挙げられる。
【００１８】
チオール基含有化合物としては、炭素数１〜２０の１価のチオール化合物（エタンチオール等のアルカンチオール、ベンゼンチオール及びフェニルメタンチオール等）及び多価のチオール化合物（１，２−エタンジチオール及び１，６−ヘキサンジチオール等）等が挙げられる。
【００１９】
前記水酸基含有化合物に用いられるＡＯとしては、炭素数２〜４のＡＯ、例えば、エチレンオキサイド（以下、ＥＯと略記）、１，２−プロピレンオキサイド（以下、ＰＯと略記）、１，３−プロピレンオキサイド、１，２−、１，３−又は２，３−ブチレンオキサイド及びテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと略記）等が挙げられる。これらの内、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性の観点からＥＯ、ＰＯ及びＴＨＦが好ましい。ＡＯは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよく、ＡＯを２種以上併用する場合の付加方法としては、ブロック付加であってもランダム付加であってもよく、これらの併用であってもよい。
【００２０】
ＡＯの付加モル数はポリウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性の観点から、８〜１００が好ましく、更に好ましくは１０〜８０である。ＡＯ付加物の水酸基価は１８〜３６０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。本発明において、水酸基価はＪＩＳ  Ｋ  １５５７−１に準拠して測定される。
【００２１】
尚、活性水素含有有機化合物として、分子内に２種以上の活性水素含有官能基（水酸基、アミノ基及びチオール基等）を有する化合物も使用できる。
【００２２】
モノマー（Ｘ）にＭ1を導入するための活性水素含有有機化合物として、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性の観点から好ましいのは、水酸基含有化合物、アミノ基含有化合物及びこれらのＡＯ付加物であり、更に好ましいのは、炭素数２〜２０の多価アルコール、炭素数２〜２０の多価アルコールにＡＯを付加したポリエーテルポリオール及び炭素数２〜２０の脂肪族ポリアミン、特に好ましいのは炭素数２〜２０の多価アルコール及び炭素数２〜２０の多価アルコールにＡＯを付加したポリエーテルポリオール、最も好ましいのは炭素数２〜２０の多価アルコールである。
【００２３】
活性水素含有有機化合物の活性水素の価数は、磁性塗料の粘度の観点から、通常１〜２０であり、好ましくは１〜８、更に好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２である。
【００２４】
一般式（１）におけるｃは、１〜２０でかつ１≦ｃ≦（Ｍ1の価数）を満たす整数を表し、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性の観点から、好ましくは１〜８、更に好ましくは１〜２、特に好ましくは１である。
【００２５】
一般式（１）におけるＭ2は、水酸基又は１〜２０価の活性水素含有有機化合物から１個の活性水素を除いた残基を表し、複数のＭ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｍ2を構成するために用いられる活性水素含有有機化合物としては、上述のＭ1で示した活性水素含有有機化合物と同様の物が挙げられ、好ましいものも同様である。Ｍ2とＭ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
また、Ｍ2の価数は磁性塗料の粘度の観点から、通常１〜２０であり、好ましくは１〜８、更に好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２である。
【００２６】
尚、後述のＬを構成するために用いる３価以上のポリカルボン酸に前記活性水素含有有機化合物を反応させることによりＭ1及びＭ2をモノマー（Ｘ）に導入することができるが、活性水素含有有機化合物が特に繰り返し単位の炭素数が２〜４のポリエーテルポリオールの場合、ポリカルボン酸のカルボキシル基に前記炭素数２〜４のＡＯを付加することによっても同等の残基を導入することができる。
【００２７】
更に、活性水素含有有機化合物が隣接する炭素原子に水酸基が結合する炭素数２〜２０のジオール化合物の場合、ポリカルボン酸のカルボキシル基に炭素数２〜２０のエポキシ化合物を開環付加反応させることによっても前記ジオール化合物を用いた場合と同等の残基を導入することができる。例えば、活性水素含有有機化合物がエチレングリコールの場合、ポリカルボン酸のカルボキシル基にＥＯを１モル反応させることにより、エチレングリコールから１個の活性水素を除いた残基を導入することができる。また、活性水素含有有機化合物が３−フェノキシプロパン−１，２−ジオールの場合、ポリカルボン酸のカルボキシル基にフェニルグリシジルエーテルを１モル反応させることにより、３−フェノキシプロパン−１，２−ジオールから１個の活性水素を除いた残基を導入することができる。
【００２８】
炭素数２〜２０のエポキシ化合物としては、前記炭素数２〜４のＡＯ、グリシドール、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ―ブチルフェニルグリシジルエーテル、１，２−エポキシデカン、１，２−エポキシドデカン、シクロヘキセンオキサイド、スチレンオキサイド及びエピクロロヒドリン等が挙げられる。
【００２９】
一般式（１）におけるＲ1は、エチレン性不飽和結合含有基を表し、複数ある場合のＲ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ1は、磁性粉の分散性の観点から下記一般式（２）〜（６）で表される置換基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基であることが好ましい。
【００３０】
【化３】
2015170380.tif 000004
【００３１】
一般式（２）〜（６）におけるＲ2、Ｒ4及びＲ6はそれぞれ独立に水酸基で置換されていてもよい炭素数２〜１２の２価の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ3、Ｒ5及びＲ7はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、＊はそれが付された結合により置換基が前記一般式（１）におけるオキシカルボニル基の酸素原子と結合することを表す。
【００３２】
一般式（１）におけるＬは、３価以上の芳香族ポリカルボン酸からすべてのカルボキシル基を除いた残基を表す。Ｌの芳香環は炭素原子から構成され、その炭素原子にはカルボキシル基以外の置換基及び／又はハロゲン原子が結合していてもよいが、少なくとも一つの炭素原子は置換基が結合しておらず水素原子と結合している必要がある。
【００３３】
カルボキシル基以外の置換基としては、アルキル基、ビニル基、アリル基、シクロアルキル基、アミノ基、水酸基、ヒドロキシアミノ基、ニトロ基、チオール基、アリール基及びシアノ基等が挙げられる。
【００３４】
Ｌを構成するために用いられる３価以上の芳香族ポリカルボン酸としては、炭素数９〜３０の芳香族ポリカルボン酸、例えばトリメリット酸、１，２，３−ベンゼントリカルボン酸、トリメシン酸、ヘミリット酸、１，２，４−、１，３，６−又は２，３，６−ナフタレントリカルボン酸及び２，３，６−アントラセントリカルボン酸等のトリカルボン酸；ピロメリット酸、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、４，４’−オキシビスフタル酸、ジフェニルメタンテトラカルボン酸、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸及び４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ビスフタル酸等のテトラカルボン酸；等が挙げられる。芳香族ポリカルボン酸は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３５】
尚、モノマー（Ｘ）の製造に当たっては、これらのエステル形成性誘導体［酸無水物、低級アルキル（炭素数１〜４）エステル（メチルエステル、エチルエステル及びイソプロピルエステル等）及び酸ハライド（酸のクロライド等）］を用いることもできる。
【００３６】
これらの芳香族ポリカルボン酸の内、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性の観点から好ましいのは、前記芳香環を構成し置換基が結合していない炭素原子に隣接する２個の炭素原子にカルボキシル基が結合し、前記カルボキシル基が結合した炭素原子に隣接しかつ前記炭素原子とは異なる炭素原子の少なくとも一方に更にカルボキシル基が結合した構造を有する構造を有するものである。
【００３７】
例えば、芳香族ポリカルボン酸の芳香環がベンゼン環で前記置換基が結合していない炭素原子の位置が１位の場合、２位と６位にカルボキシル基が結合し、更に３位及び／又は５位にカルボキシル基が結合した構造を有するものが好ましい。
【００３８】
ポリウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性の観点から、Ｌを構成するために用いる芳香族ポリカルボン酸として特に好ましいのは単環式化合物であり、最も好ましいのはトリメリット酸及びピロメリット酸である。
【００３９】
一般式（１）におけるａ及びｂはそれぞれ０以上の整数を表し、かつ、２≦ａ＋ｂ≦ｄ−２を満たす。ｃが２以上で複数ある場合のａはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、ｃが２以上で複数ある場合のｂはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。但し、ｃ個のａの内の少なくとも一つは０ではない、即ち、モノマー（Ｘ）は少なくとも一つのエチレン性不飽和結合含有基を有する。
【００４０】
ｄは前記芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基を含む全ての置換基を水素原子に置換した場合の芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子の数、即ち芳香環上で置換可能な部位の数を表す。例えば、芳香環が炭素原子６個から構成されるベンゼン環の場合、ｄは６であり、ａ＋ｂは２〜４の値を取り得、芳香環が炭素原子１０個から構成されるナフタレン環の場合、ｄは８であり、ａ＋ｂは２〜６の値を取り得る。芳香環が単環の芳香環の場合、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性の観点から、ａ＋ｂは２又は３が好ましい。また、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性の観点から、ａは１又は２であることが好ましく、更に好ましいのは１である。
【００４１】
本発明におけるモノマー（Ｘ）の水酸基価は、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の破断伸び及び破断強度の観点から、好ましくは０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇ、更に好ましくは０〜３５０ｍｇＫＯＨ／ｇである。水酸基価が５００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えるとポリウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性が低下する傾向にある。尚、モノマー（Ｘ）の水酸基価が０とは、一般式（１）におけるＭ1、Ｍ2及びＬが全て水酸基を有しないことを意味する。
【００４２】
モノマー（Ｘ）におけるＬの濃度は、モノマー（Ｘ）１ｇ中の残基Ｌのミリモル数を意味し、ビニル系ポリオール（ａ１）の塗料粘度及び耐久性の観点から、好ましくは０．５〜１０．０ｍｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは０．５〜８．０ｍｍｏｌ／ｇ、特に好ましくは０．５〜７．５ｍｍｏｌ／ｇである。Ｌの濃度が０．５ｍｍｏｌ／ｇ未満ではビニル系ポリオール（ａ１）の耐久性が低下する傾向にあり、１０．０ｍｍｏｌ／ｇを超えると塗料粘度が上昇する。
【００４３】
モノマー（Ｘ）におけるカルボニル基濃度は、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性と磁性粉の分散性の観点から、好ましくは１．５〜３０．０ｍｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは１．５〜２４．０ｍｍｏｌ／ｇ、特に好ましくは１．５〜２２．５ｍｍｏｌ／ｇである。カルボニル基濃度が１．５ｍｍｏｌ／ｇ未満ではウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性が低下する傾向にあり、カルボニル基濃度が３０．０ｍｍｏｌ／ｇを超えると磁性粉の分散性が悪化する場合がある。本発明におけるカルボニル基濃度におけるカルボニル基とは、一般式（１）におけるＬに結合するカルボニル基、即ちＬを導入するために用いられる３価以上の芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基並びにこれから誘導されるエステル基、チオエステル基及びアミド基等の官能基中のカルボニル基を意味する。
【００４４】
本発明におけるビニル系ポリオール（ａ１）の製造に用いられるモノマー（Ｘ）以外のモノマー成分としては、下記（１）〜（８）のビニル系モノマー等が挙げられる。（Ｘ）以外のビニル系モノマーは、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００４５】
（１）水酸基含有ビニル系モノマー：
炭素数２〜１２のアルケノール、例えば（メタ）アリルアルコール、１−ブテン−３−オール及び２−ブテン−１−オール；炭素数４〜１２のアルケンジオール、例えば２−ブテン−１，４−ジオール；水酸基含有芳香族ビニルモノマー、例えばヒドロキシスチレン；炭素数５〜８のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、例えばヒドロキシエチル（メタ）アクリレート及びヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；炭素数３〜３０のアルケニルエーテル、例えば２−ヒドロキシエチルプロペニルエーテル及び蔗糖アリルエーテル等。
【００４６】
（２）カルボキシル基含有ビニル系モノマー：
炭素数３〜３０の不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸並びにその無水物及びそのモノアルキル（炭素数１〜２４）エステル、例えば（メタ）アクリル酸、（無水）マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、フマル酸モノアルキルエステル、クロトン酸、イタコン酸、イタコン酸モノアルキルエステル、イタコン酸グリコールモノエステル、シトラコン酸、シトラコン酸モノアルキルエステル及び桂皮酸。
【００４７】
（３）スルホ基含有ビニル系モノマー：
炭素数２〜１４のアルケンスルホン酸、例えばビニルスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸及びメチルビニルスルホン酸；スチレンスルホン酸及びその炭素数１〜２４のアルキル置換体、例えばα−メチルスチレンスルホン酸等；スルホ（ヒドロキシ）アルキル（炭素数１〜８）−（メタ）アクリレート又は（メタ）アクリルアミド、例えば、スルホプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエタンスルホン酸、３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸及び３−（メタ）アクリルアミド−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸；並びにアルキル（炭素数３〜１８）（メタ）アリルスルホコハク酸エステル。
【００４８】
（４）エステル基含有ビニル系モノマー：
不飽和アルコール又はヒドロキシスチレンと炭素数１〜１２のモノ又はポリカルボン酸とのエステル、例えば酢酸ビニル、ビニルブチレート、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ジアリルフタレート、ジアリルアジペート、イソプロペニルアセテート、メチル−４−ビニルベンゾエート、ビニルメトキシアセテート、ビニルベンゾエート及びアセトキシスチレン；不飽和カルボン酸アルコール（炭素数１〜３０）エステル、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、エイコシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルノルボルネン（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、エチル−α−エトキシ（メタ）アクリレート、ジ（シクロ）アルキルフマレート（２個のアルキル基は、炭素数２〜８の、直鎖又は分岐の基である）及びジ（シクロ）アルキルマレエート（２個のアルキル基は、炭素数２〜８の、直鎖又は分岐の基である）；多価（２〜３）アルコール不飽和カルボン酸エステル、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート及びポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；並びに重合度５〜５０のポリオキシアルキレン（炭素数２〜４）モノ又はポリ（２〜３）オール不飽和カルボン酸エステル、例えばポリ（オキシアルキレン）グリコール鎖（アルキレンの炭素数２〜４）を有するビニル系モノマー［ポリ（オキシエチレン）グリコール（重合度７）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（オキシプロピレン）グリコール（重合度９）モノ（メタ）アクリレート、メチルアルコールエチレンオキシド１０モル付加物（メタ）アクリレート及びラウリルアルコールエチレンオキシド３０モル付加物（メタ）アクリレート等。
【００４９】
（５）ビニル系炭化水素：
（５−１）脂肪族ビニル系炭化水素：炭素数２〜２０のアルケン類、例えばエチレン、プロピレン、ブテン、イソブチレン、ペンテン、ヘプテン、ジイソブチレン、オクテン、ドデセン、オクタデセン及び前記以外のα−オレフィン等；並びに炭素数４〜２０のアルカジエン類、例えばブタジエン、イソプレン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエン及び１，７−オクタジエン。
（５−２）脂環式ビニル系炭化水素：モノ又はジシクロアルケン及びアルカジエン類、例えばシクロヘキセン、（ジ）シクロペンタジエン、ビニルシクロヘキセン、エチリデンビシクロヘプテン及びビニルノルボルネン；並びにテルペン類、例えばピネン及びリモネン。
（５−３）芳香族ビニル系炭化水素（炭素数８〜２０）：スチレン及びそのハイドロカルビル（アルキル、シクロアルキル、アラルキル及び／又はアルケニル）置換体、例えばα−メチルスチレン、ビニルトルエン、２，４−ジメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、フェニルスチレン、シクロヘキシルスチレン、ベンジルスチレン、クロチルベンゼン、ジビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキシレン及びトリビニルベンゼン；並びにビニルナフタレン。
【００５０】
（６）アミノ基含有ビニル系モノマー：
炭素数５〜２０のアミノアルキル（メタ）アクリレート、例えばジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリレート及びモノメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等；炭素数５〜２０のＮ−アミノアルキル（メタ）アクリルアミド、例えばジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド及びジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド等。
【００５１】
（７）エポキシ基含有ビニル系モノマー：グリシジル（メタ）アクリレート等。
（８）その他のビニル系モノマー：
ビニルスルホン、例えばビニルエチルスルフォン、ジビニルスルフォン；ジビニルスルフォキシド等；イソシアネート含有ビニル系モノマー、例えばイソシアナトエチル（メタ）アクリレート、ｍ−イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジルイソシアネート等。
【００５２】
本発明におけるビニル系ポリオール（ａ１）は、有機溶媒（Ｊ）中で、モノマー（Ｘ）を含有するモノマー成分を重合して得ることができる。
【００５３】
重合において使用することができる重合開始剤としては、過硫酸カリウム及び過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩系開始剤；アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系開始剤；過酸化ベンゾイル、クメンヒドロパーオキサイド及びターシャリーブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物類；過酸化水素；等通常のラジカル重合開始剤を用いることができ、これらは単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。また、重合開始剤の使用量は、重合に使用するモノマー成分の総重量に対して０．０５〜５重量％であることが好ましい。
【００５４】
また、重合に際しては、必要に応じて、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン、ｎ−ブチルメルカプタン、２−エチルヘキシルチオグリコレート及び２−メルカプトエタノール、β−メルカプトプロピオン酸等の連鎖移動剤を使用してもよい。
【００５５】
ビニル系ポリオール（ａ１）の製造における重合反応は、好ましくは２０℃〜１５０℃、更に好ましくは４０℃〜１００℃である。温度が２０℃未満の場合は、重合速度が遅くなる場合があり、温度が１８０℃以上になると重合反応を制御することが難しくなる場合がある。反応時間は好ましくは１分〜５０時間である。重合反応は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
【００５６】
本発明におけるビニル系ポリオール（ａ１）には、必要により酸化防止剤、着色防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、可塑剤及び離型剤等の添加剤を添加することができる。これらの添加剤の使用量はビニル系ポリオール（ａ１）の重量に基づいて通常１０重量％以下、好ましくは３重量％以下、更に好ましくは１重量％以下である。
【００５７】
有機溶媒（Ｊ）としてはケトン系溶媒（例えばアセトン及びメチルエチルケトン）、エステル系溶媒（例えば酢酸エチル及びγ−ブチロラクトン）、エーテル系溶媒（例えばＴＨＦ）、アミド系溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン及びＮ−メチルカプロラクタム）、アルコール系溶媒（例えばイソプロピルアルコール）及び芳香族炭化水素系溶媒（例えばトルエン及びキシレン）等が挙げられる。これらの有機溶媒（Ｊ）は１種を単独で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【００５８】
ビニル系ポリオール（ａ１）を得る際のモノマー成分におけるモノマー（Ｘ）の含有量は、ビニル系ポリオール（ａ１）による磁性粉の分散性の観点から、モノマー成分の重量を基準として好ましくは１〜７０重量％、更に好ましくは１０〜６０重量％、特に好ましくは３０〜６０重量％である。
【００５９】
ビニル系ポリオール（ａ１）を得る際のモノマー成分におけるモノマー（Ｘ）以外のモノマーの少なくとも一部に前記（１）〜（８）のビニル系モノマーの内の多官能モノマー［ジアリルフタレート及びジアリルアジペート等のジアリルエステル；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の多価（２〜３）アルコール不飽和カルボン酸エステル；ブタジエン等の炭素数４〜２０のアルカジエン類；ジビニルベンゼン、ジビニルトルエン等の芳香族ジビニル系炭化水素；等］を用いることにより、（Ｖ）に架橋構造を導入することができ、その耐久性等を向上させることができる。
【００６０】
モノマー成分に前記多官能モノマーを用いない場合のビニル系ポリオール（ａ１）の数平均分子量（以下、Ｍｎと略記）は、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性の観点から、好ましくは１，０００〜２００，０００、更に好ましくは１，０００〜２０，０００である。ビニル系ポリオール（ａ１）のＭｎが１，０００未満では、耐久性が悪くなる場合があり、Ｍｎが２００，０００を超えると粘度が高くなり塗布が困難になる場合がある。
【００６１】
本発明におけるビニル系ポリオール（ａ１）及びポリウレタン樹脂（Ｐ）のＭｎは溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用い、ポリスチレンを標準物質としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと略記）により測定され、後述のポリオールのＭｎは、ＴＨＦを溶媒として用い、ポリエチレングリコール（以下、ＰＥＧと略記）を標準物質としてＧＰＣにより測定される。
【００６２】
ビニル系ポリオール（ａ１）のガラス転移温度は、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性及び塗料粘度の観点から、−５０〜１２０℃が好ましく、更に−３０〜６０℃が好ましい。−５０℃未満では樹脂強度等が低下し、１２０℃を超えると磁気テープ製造時のカレンダー性が悪くなる。
【００６３】
尚、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の耐久性や磁性粉の分散性を向上させる目的で、ビニル系ポリオール（ａ１）と反応可能な官能基を有するアルキド樹脂やポリエステル樹脂で変性されていてもよい。
【００６４】
本発明におけるポリウレタン樹脂（Ｐ）は、一般式（１）で表されるモノマー（Ｘ）を含有するモノマー成分を重合してなるビニル系ポリオール（ａ１）、前記（ａ１）以外のＭｎが５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）及び必要により前記（ａ１）以外の化学式量又はＭｎが５００未満の低分子ポリオール（ａ３）を含有するポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とから形成される。
【００６５】
前記（ａ１）以外のＭｎが５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）としては、ポリエステルポリオール及びポリエーテルポリオール等が挙げられ、好ましいのはポリエステルポリオールである。
【００６６】
ポリエステルポリオールとしては、縮合型ポリエステルポリオール、ポリラクトンポリオール、ポリカーボネートポリオール及びその他のポリオール等が挙げられる。
【００６７】
縮合型ポリエステルポリオールは、後述の（ａ１）以外の化学式量又はＭｎが５００未満の低分子ポリオール（ａ３）とポリカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体［酸無水物、低級アルキル（炭素数１〜４）エステル及びハライド等］とを反応させて得られる。
【００６８】
ポリカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体としては、脂肪族ジカルボン酸（コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、フマル酸及びマレイン酸等）、脂環式ジカルボン酸（ダイマー酸等）、芳香族ジカルボン酸（テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸等）及び３価又はそれ以上のポリカルボン酸（トリメリット酸及びピロメリット酸等）；前記酸の無水物（無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸及び無水トリメリット酸等）；前記酸の酸ハライド（アジピン酸ジクロライド等）；前記酸の低級（炭素数１〜４）アルキルエステル（コハク酸ジメチル及びフタル酸ジメチル等）；等が挙げられる。
【００６９】
ポリラクトンポリオールとしては、後述の（ａ１）以外の化学式量又はＭｎが５００未満の低分子ポリオール（ａ３）等への炭素数４〜１２のラクトン（ε−カプロラクトン及びγ−バレロラクトン等）の重付加物等が挙げられる。
【００７０】
ポリカーボネートポリオールとしては、後述の（ａ１）以外の化学式量又はＭｎが５００未満の低分子ポリオール（ａ３）と炭酸エステル（ジメチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート及びジフェニルカーボネート等）とを反応させて得られる化合物が挙げられる。
【００７１】
これらのポリエステルポリオールの具体例としては、ポリエチレンテレフタレートジオール、ポリブチレンイソフタレートジオール、ポリヘキサメチレンイソフタレートジオール、ポリネオペンチレンテレルフタレートジオール、ポリエチレンアジペートジオール、ポリブチレンアジペートジオール、ポリヘキサメチレンアジペートジオール、ポリネオペンチレンアジペートジオール、ポリエチレンプロピレンアジペートジオール、ポリエチレンブチレンアジペートジオール、ポリブチレンヘキサメチレンアジペートジオール、ポリ（ポリテトラメチレンエーテル）アジペートジオール、ポリエチレンアゼレートジオール、ポリエチレンセバケートジオール、ポリブチレンアゼレートジオール、ポリブチレンセバケートジオール、ポリカプロラクトンジオール又はトリオール、ポリバレロラクトンジオール又はトリオール、及びこれらの２種以上の混合物が挙げられる。また、前記以外に特開昭６２−２０２３２４記載のフタル酸変性ポリカプロラクトンポリオールも使用できる。
【００７２】
ポリエーテルポリオールとしては、前記低分子ポリオールのＡＯ単独付加物又は共付加物（ブロック及び／又はランダム）［例えばポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシエチレン−オキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリオキシテトラメチレン−オキシエチレングリコール、ポリテオキシトラメチレン−オキシプロピレン（ブロック及び／又はランダム）グリコール及びポリオキシへキサメチレングリコール等］及びこれらの２種以上の混合物が挙げられる。
【００７３】
その他のポリオールとしては、ポリマーポリオール［例えば前記高分子ポリオール中でビニル系モノマー（アクリロニトリル及びスチレン等）をラジカル（共）重合したもの］及びポリジエンポリオール（ポリブタジエンポリオール等）等が挙げられる。
【００７４】
ポリオール成分（Ａ）における高分子ポリオール（ａ２）の量は、ポリオール成分（Ａ）の重量に基づいて通常１０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、更に好ましくは７０重量％以上である。（ａ２）の量が１０重量％未満では磁気記録媒体用バインダーの物性が低くなり、磁気テープの耐久性が不十分となる。
【００７５】
（ａ２）のＭｎは、通常５００〜４，０００、好ましくは６００〜３，５００、更に好ましくは７００〜３，０００である。（ａ２）のＭｎが５００未満では、得られるポリウレタン樹脂が脆いものとなり、磁気テープにしたときの耐スクラッチ性が低下し、Ｍｎが４，０００を超えると得られるポリウレタン樹脂の樹脂強度が低下し、磁気テープにしたときの耐久性が不十分となる。
【００７６】
前記（ａ１）以外の化学式量又はＭｎが５００未満の低分子ポリオール（ａ３）としては、例えば、直鎖状アルキレングリコール類（エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタメチレンジオール及び１，１０−デカンジオール等）；環状基を有する低分子ジオール類［シクロヘキサンジオール及びシクロヘキサンジメタノール等のグリコール類並びに特公昭４５−１４７４号公報記載のもの：キシリレングリコール、ビス（ヒドロキシエチル）ベンゼン、１，４−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン及び４，４’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−ジフェニルプロパン（ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物）等］；グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、α−メチルグルコシド、ソルビトール、キシリット、マンニット、グルコース、フラクトース及び庶糖等の３〜８価のアルコール類；並びにこれらの１種又は２種以上の混合物のＡＯ付加物（Ｍｎ５００未満）等が挙げられる。これらの内で好ましいのは直鎖状アルキレングリコール及び環状基を有する低分子ジオールである。
【００７７】
（ａ１）、（ａ２）及び必要により（ａ３）とを併用する場合のポリオール成分（Ａ）のＭｎのモル平均値は、通常４００〜４，０００、好ましくは５００〜３，５００、更に好ましくは６００〜３，０００である。Ｍｎが４００未満では得られるポリウレタン樹脂が脆弱なものとなり、４，０００を越えるとポリウレタン樹脂の機械的強度が不十分なものとなる。
【００７８】
有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）としては、従来ポリウレタンの製造に使用されているものが使用でき、２〜３個又はそれ以上のイソシアネート基を有する炭素数４〜２２の脂肪族ポリイソシアネート（Ｂ１）、炭素数８〜１８の脂環式ポリイソシアネート（Ｂ２）、炭素数８〜２６の芳香族ポリイソシアネート（Ｂ３）、炭素数１０〜１８の芳香脂肪族ポリイソシアネート（Ｂ４）及びこれらのポリイソシアネートの変性物（Ｂ５）等が挙げられる。有機イソシアネート成分（Ｂ）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７９】
炭素数４〜２２の脂肪族ポリイソシアネート（Ｂ１）としては、例えばエチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、１，６，１１−ウンデカントリイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、２，６−ジイソシアナトメチルカプロエート、ビス（２−イソシアナトエチル）フマレート、ビス（２−イソシアナトエチル）カーボネート及び２−イソシアナトエチル−２，６−ジイソシアナトヘキサノエートが挙げられる。
【００８０】
炭素数８〜１８の脂環式ポリイソシアネート（Ｂ２）としては、例えばイソホロンジイソシアネート（以下、ＩＰＤＩと略記）、４，４−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（以下、水添ＭＤＩと略記）、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアナトエチル）−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボキシレート及び２，５−又は２，６−ノルボルナンジイソシアネートが挙げられる。
【００８１】
炭素数８〜２６の芳香族ポリイソシアネート（Ｂ３）としては、例えば１，３−又は１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−又は２，６−トリレンジイソシアネート（以下、ＴＤＩ略記）、粗製ＴＤＩ、４，４’−又は２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（以下、ＭＤＩと略記）、粗製ＭＤＩ、ポリアリールポリイソシアネート、４，４’−ジイソシアナトビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジイソシアナトビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジイソシアナトジフェニルメタン、１，５−ナフチレンジイソシアネート、４，４’，４”−トリフェニルメタントリイソシアネート及びｍ−又はｐ−イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネートが挙げられる。
【００８２】
炭素数１０〜１８の芳香脂肪族ポリイソシアネート（Ｂ４）としては、例えばｍ−又はｐ−キシリレンジイソシアネート及びα，α，α’，α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネートが挙げられる。
【００８３】
（Ｂ１）〜（Ｂ４）のポリイソシアネートの変性物（Ｂ５）としては、前記ポリイソシアネートの変性物（ウレタン基、カルボジイミド基、アロハネート基、ウレア基、ビューレット基、ウレトジオン基、ウレトイミン基、イソシアヌレート基又はオキサゾリドン基含有変性物等；遊離イソシアネート基含有量が通常８〜３３重量％、好ましくは１０〜３０重量％、更に好ましくは１２〜２９重量％のもの）、例えば変性ＭＤＩ（ウレタン変性ＭＤＩ、カルボジイミド変性ＭＤＩ及びトリヒドロカルビルホスフェート変性ＭＤＩ等）、ウレタン変性ＴＤＩ、ビウレット変性ＨＤＩ、イソシアヌレート変性ＨＤＩ及びイソシアヌレート変性ＩＰＤＩ等のポリイソシアネートの変性物が挙げられる。
【００８４】
これらの内で好ましいのは、炭素数８〜２６の芳香族ポリイソシアネート（Ｂ３）であり、更に好ましいのは芳香族ジイソシアネート、特に好ましいのは４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートである。
【００８５】
ポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とを反応させてポリウレタン樹脂（Ｐ）を製造するに際し、（Ａ）と（Ｂ）の当量比率（水酸基の当量／イソシアネート基の当量）は通常０．６〜１．５、好ましくは０．８〜１．２、更に好ましくは０．９〜１．１である。当量比率が０．６未満又は１．５を越えると（Ａ）と（Ｂ）との反応により得られるポリウレタン樹脂の分子量が低くなり分散性が低下し、また、樹脂強度が不十分となり、耐摩耗性、耐スクラッチ性、耐加水分解性等が低下する。
【００８６】
前記反応はイソシアネート基に対して不活性な溶媒の存在下又は不存在下で行なうことができる。このような溶媒としてはエステル系溶媒（酢酸エチル及び酢酸ブチル等）、エーテル系溶媒（ジオキサン及びテトラハイドロフラン等）、ケトン系溶媒（シクロヘキサノン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン及びキシレン等）及びこれらの２種以上の混合溶媒が挙げられる。
【００８７】
反応方法としては（Ａ）と（Ｂ）とを一括して反応容器に仕込み反応させる方法、（Ａ）と（Ｂ）とを分割して多段反応をさせる方法、及び予め混合した（Ａ）と（Ｂ）を加熱された多軸押出し機中を通過させて反応させる方法等が挙げられる。
【００８８】
反応温度は通常３０〜１８０℃、好ましくは６０〜１２０℃である。また、反応を促進させるため通常のウレタン反応において用いられる触媒、例えば、有機金属化合物［トリメチルチンラウレート、トリメチルチンヒドロキサイド、ジメチルチンジラウレート、スタナスオクトエート、レッドオレート、レッド２−エチルヘキソエートジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズラウレート、ビスマスカルボキシレート、ビスマスアルコキシド及びジカルボニル基を有する化合物とビスマスとのキレート化合物等］、無機金属化合物［酸化ビスマス、水酸化ビスマス及びハロゲン化ビスマス等］、アミン［トリエチルアミン、トリエチレンジアミン及びジアザビシクロウンデセン等］及びこれらの２種以上の混合物等を使用することができる。
【００８９】
ポリウレタン樹脂（Ｐ）のＭｎは、通常１，０００〜２００，０００、好ましくは３，０００〜１５０，０００である。Ｍｎが１，０００未満では樹脂強度等が低下し、磁気テープの耐久性が劣り、２００，０００を越えると塗料粘度が高くなり、磁性粉の分散性も低下する。
【００９０】
また、（Ｐ）のガラス転移点（Ｔｇ）は、通常０〜１２５℃、好ましくは３０〜１２０℃、更に好ましくは５０〜１１５℃である。Ｔｇが０℃未満では磁気テープの耐久性が低下し、１２５℃を超えると磁気テープ製造時のカレンダー性が悪くなる。
【００９１】
本発明に用いられるビニル系樹脂（Ｖ）には従来の磁気テープ製造に使用されているものが使用でき、ポリ塩化ビニル系樹脂［塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（「ＶＹＨＨ」；ＵＣＣ社製、「エスレックＣ」；積水化学製等）、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（「ＶＡＧＨ」；ＵＣＣ社製、「エスレックＡ」；積水化学製等）、塩化ビニル−塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体（「サラン」；旭ダウ製等）及びアクリル系樹脂（アクリル酸エステル系共重合体等）］等が挙げられる。ビニル系樹脂（Ｖ）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００９２】
ビニル系樹脂（Ｖ）は、樹脂中にカルボキシル基、スルホン酸金属塩基、スルホベタイン、燐酸エステル基、アミノ基、第４級アンモニウム塩基及び水酸基等の官能基を含有していてもよい。
【００９３】
ビニル系樹脂（Ｖ）とポリウレタン樹脂（Ｐ）の重量比は、磁気テープの耐久性及び（Ｖ）と（Ｐ）の親和性の観点から、好ましくは１：０．１〜１：１０、更に好ましくは１：０．２〜１：５、特に好ましくは１：０．２〜１：４である。混合するポリウレタン樹脂（Ｐ）の重量がビニル系樹脂（Ｖ）の重量の１／１０未満では磁気テープの耐久性が低下する場合があり、混合するポリウレタン樹脂（Ｐ）の重量がビニル系樹脂（Ｖ）の重量の１０倍を超えるとポリウレタン樹脂（Ｐ）とビニル系樹脂（Ｖ）との親和性の観点から好ましくない。
【００９４】
本発明の磁気記録媒体用バインダーに用いられる（Ｐ）と（Ｖ）は更に必要により他の樹脂と併用してもよい。他の樹脂としては、ニトロセルロース、フェノキシ樹脂及びエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００９５】
これらの他の樹脂は、樹脂中にカルボキシル基、スルホン酸金属塩基、スルホベタイン、燐酸エステル基、アミノ基、第４級アンモニウム塩基及び水酸基等の官能基を含有していてもよい。
【００９６】
本発明の磁気記録媒体は、本発明の磁気記録媒体用バインダー、磁性粉、溶媒及び添加剤を混合・分散し、得られる磁性塗料を非磁性支持体上に塗布して磁性層を形成させることにより得られる。また、本発明の磁気記録媒体用バインダーは、磁性層とは反対側のバックコート層用のバインダーとしても使用することができる。
【００９７】
磁性塗料に使用される磁性粉としては、金属酸化物［例えばγ−Ｆｅ2Ｏ3（γ−ヘマタイト）］、ＣｒＯ3（三酸化クロム）、合金系の磁性体［例えばＣｏ−γ−Ｆｅ2Ｏ3（コバルトフェライト又はコバルトドープγ−酸化鉄）、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、バリウムフェライト及びストロンチウムフェライト］、純鉄Ｆｅ（メタルパウダー）、窒化鉄及び炭化鉄等が挙げられる。
【００９８】
磁性塗料に用いられる溶媒としては、エステル系溶媒（酢酸エチル及び酢酸ブチル等）、エーテル系溶媒（ジオキサン及びＴＨＦ等）、ケトン系溶媒（シクロヘキサノン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルルケトン等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン及びキシレン等）及びこれらの２種以上の混合溶媒が挙げられる。これらの内で好ましいのはケトン系溶媒と芳香族炭化水素系溶媒との混合溶媒である。溶媒の使用量は、磁性塗料中の固形分含量が通常２０〜８０重量％となる範囲である。
【００９９】
更に該磁性塗料には、本発明の磁気記録媒体用バインダー及び磁性粉の他に、添加剤として公知の分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆剤及び架橋剤等が添加されていてもよい。
【０１００】
分散剤としては、炭素数１２〜１８個の脂肪酸（カプリル酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸及びステアロール酸等）；金属石鹸［前記脂肪酸のアルカリ金属（カリウム及びナトリウム等）塩及びアルカリ土類金属（マグネシウム、カルシウム及びバリウム等）塩］等が挙げられる。
【０１０１】
潤滑剤としては、ジアルキルポリシロキサン（アルキルの炭素数１〜５）、ジアルコキシポリシロキサン（アルコキシの炭素数１〜４）、モノアルキルモノアルコキシポリシロキサン（アルキルの炭素数１〜５、アルコキシの炭素数１〜４）、フェニルポリシロキサン、フロロアルキルポリシロキサン、シリコンオイル、導電性微粉末（グラファイト等）、無機粉末（二硫化モリブデン及び二硫化タングステン等）、プラスチック微粉末、脂肪酸エステル類及びフルオロカーボン類等が挙げられる。
【０１０２】
研磨剤としては、アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、コランダム、人造コランダム、ダイヤモンド及び人造ダイヤモンド等が挙げられる。
【０１０３】
帯電防止剤としては、導電性粉末（カーボンブラック及びカーボンブラックグラフトポリマー等）、天然界面活性剤（サポニン等）、ノニオン型界面活性剤（アルキレンオキサイド系、グリセリン系及びグリシドール系等）、カチオン型界面活性剤（高級アルキルアミン類、第四級アンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環類及びホスホニウム類等）、アニオン型界面活性剤（カルボン酸型、スルホン酸型、燐酸型、硫酸エステル基型及び燐酸エステル基型等）及び両性界面活性剤（アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸及び燐酸エステル類等）等が挙げられる。
【０１０４】
防錆剤としては、燐酸、スルフィド、グアニジン、ピリジン、アミン、尿素、ジンククロメート、カルシウムクロメート及びストロンチウムクロメート等が挙げられる。また、特にジシクロヘキシルアミンナイトライト、シクロヘキシルアミンクロメート、ジイソプロピルアミンナイトライト、ジエタノールアミンホスフェート、シクロヘキシルアンモニウムカーボネート、プロピレンジアミンステアレート、グアニジンカーボネート、トリエタノールアミンナイトライト及びモルフォリンステアレート等の気化性防錆剤（アミン、アミド又はイミドの無機酸塩又は有機酸塩）を使用すると防錆効果が向上する。
【０１０５】
また、磁気記録媒体の磁性層の強度の向上を目的として磁性塗料中に架橋剤として多官能ポリイソシアネートを配合することができる。好ましい多官能ポリイソシアネートとしては、例えば有機ポリイソシアネート（ＴＤＩ及びＭＤＩ等）と活性水素化合物（低分子ポリオール、ポリアミン、ポリエーテルポリオール及びポリエステルポリオール等）とからのイソシアネート基末端プレポリマー［例えば、「コロネートＬ」（日本ポリウレタン工業製）及び「コロネートＨＬ」（日本ポリウレタン工業製）等］等が挙げられる。
【０１０６】
架橋剤の使用量は特に限定されないが、バインダーの重量に基づいて通常３〜８０重量％である。また、架橋反応を促進させるため、前述のポリウレタン樹脂（Ｐ）の製造において例示したものと同様の触媒を適宜配合してもよい。
【０１０７】
磁気記録媒体を構成する非磁性支持体の素材としては、ポリエステル類（ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン−２，６−ナフタレート等）；ポリオレフィン類（ポリエチレン及びポリプロピレン等）；セルロース誘導体（セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート、セルロースアセテートブチレート及びセルロースアセテートプロピオネート等）；ビニル系樹脂（ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデン等）；その他のプラスチック（ポリカーボネート、ポリイミド及びポリアミドイミド等）；非磁性金属類（アルミニウム、銅、スズ、亜鉛及びこれらを含む非磁性合金等）；セラミック類（ガラス、陶器及び磁器等）；バライタ又はポリオレフィン類（ポリエチレン及びエチレン−ブテン共重合体等）を塗布又はラミネートした紙；等が挙げられる。また、非磁性支持体の形態はフイルム、テープ、シート、ディスク、カード及びドラム等のいずれであってもよい。非磁性支持体上に磁性塗料を塗布して形成される磁性層の厚さは、乾燥膜厚で通常０．０５〜５０μｍである。
【０１０８】
磁気記録媒体（磁気テープ等）を製造する方法としては、例えば磁気記録媒体用バインダー、磁性粉、溶媒及び必要により添加剤を予めプレミキサー等で混合した後、混合分散機（ボールミル、ペイントコンディショナー、サンドグラインダー、サンドミル及びプラストミル等）で磁性粉を分散させて磁性塗料を作製し、次にこの磁性塗料を、ドクターブレード法又は転写印刷法（グラビア法及びリバースロール法等）等の方法により非磁性支持体に塗布後、配向、乾燥、表面加工、切断、巻取り等の工程を経て磁気記録媒体とする方法が例示できる。
【０１０９】
磁気記録媒体は、非磁性支持体と磁性層（磁性粉及びバインダー等）からなるものが一般的であるが、非磁性支持体と磁性層の間に中間層（下塗層、アンダーコート層）を設けたもの、非磁性支持体の両面に磁性層を有するもの、磁気特性の異なる磁性層を重積したもの、磁性層の上に保護層を設けたもの、非磁性支持体にバックコート層を設けたもの等であってもよい。
【実施例】
【０１１０】
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、以下において部は重量部、％は重量％を示す。
【０１１１】
製造例１  ［モノマー（Ｘ−１）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置付きのステンレス製オートクレーブに、トリメリット酸２１０部、グリシジルメタクリレート１４２部、アセトン４１７．３部及びアルカリ触媒（Ｎ−エチルモルホリン）２．１部を仕込み、９０℃で５時間反応させ、トリメリット酸１モルにグリシジルメタクリレートが１モル反応した化合物を得た。続いて、窒素雰囲気下、ＥＯ９００部を１００±１０℃で、圧力が０．５０ＭＰａ以下となるよう制御しながら、５時間かけて滴下した後、１００±１０℃で１時間熟成した後、８０±１０℃、ゲージ圧−０．０５ＭＰａでアセトンを留去することにより、前記化合物にＥＯが付加したモノマー（Ｘ−１）を得た。
【０１１２】
製造例２  ［モノマー（Ｘ−２）の製造］
グリシジルメタクリレート１４２部を２−ヒドロキシエチルメタクリレート１３０部に、ＥＯ９００部をＰＯ３４８部に代える以外は製造例１と同様にしてモノマー（Ｘ−２）を得た。
【０１１３】
製造例３  ［モノマー（Ｘ−３）の製造］
トリメリット酸２１０部をピロメリット酸２５４部に、ＥＯ９００部をＰＯ１０４４部に代える以外は製造例１と同様にしてモノマー（Ｘ−３）を得た。
【０１１４】
製造例４  ［モノマー（Ｘ−４）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置付きのステンレス製オートクレーブに、無水トリメリット酸１９２部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１３０部、アセトン２０７．３部及びアルカリ触媒｛サンアプロ（株）製「ＤＢＮ」：１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン｝７．８部を仕込み、８５℃で６時間反応させて酸無水物基部分のハーフエステル化を行い、無水トリメリット酸１モルに２−ヒドロキシエチルメタクリレートが１モル反応した化合物を得た。続いて、フェニルグリシジルエーテル３０２部を仕込み、９０℃で１０時間反応させた後、８０±１０℃、ゲージ圧−０．０５ＭＰａでアセトンを留去することにより、前記化合物１モルにフェニルグリシジルエーテルが２モル反応したモノマー（Ｘ−４）を得た。
【０１１５】
製造例５  ［モノマー（Ｘ−５）の製造］
２−ヒドロキシエチルメタクリレート１３０部をグリシジルメタクリレート１４２部に代える以外は製造例４と同様にしてモノマー（Ｘ−５）を得た。
【０１１６】
製造例６  ［モノマー（Ｘ−６）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置付きのステンレス製オートクレーブに、無水トリメリット酸１９２部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１３０部及びアセトン１０７．３部を仕込み、８５℃で６時間反応させて酸無水物基部分のハーフエステル化を行った後、８０±１０℃、ゲージ圧−０．０５ＭＰａでアセトンを留去することにより、無水トリメリット酸１モルに２−ヒドロキシエチルメタクリレートが１モル反応したモノマー（Ｘ−６）を得た。
【０１１７】
製造例７  ［モノマー（Ｘ−７）の製造］
無水トリメリット酸１９２部をピロメリット酸２５４部に、フェニルグリシジルエーテルの仕込量を４５３部に代える以外は製造例４と同様にしてモノマー（Ｘ−７）を得た。
【０１１８】
製造例８  ［モノマー（Ｘ−８）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置付きのステンレス製オートクレーブに、エチレングリコール６２部及び無水トリメリット酸３８４部を仕込み、８５℃で６時間反応させて酸無水物基部分のハーフエステル化を行い、エチレングリコール１モルに無水トリメリット酸が２モル反応したエステル化物を得た。続いてグリシジルメタクリレート２８４部を仕込み、１２０℃で５時間反応させ、上記化合物１モルにグリシジルメタクリレートが２モル反応した化合物を得た。続いてエタノール９２部を仕込み、１２０℃で生成する水を留去しながら５時間反応させ、上記化合物１モルにエタノールが２モル反応したモノマー（Ｘ−８）を得た。
【０１１９】
製造例９  ［モノマー（Ｘ−９）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置付きのステンレス製オートクレーブに、エチレングリコール６２部、無水トリメリット酸３８４部、アセトン３４３．３部、及びアルカリ触媒｛サンアプロ（株）製「ＤＢＮ」：１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン｝７．８部を仕込み、８５℃で６時間反応させて酸無水物基部分のハーフエステル化を行い、エチレングリコール１モルに無水トリメリット酸が２モル反応したエステル化物を得た。続いてグリシジルメタクリレート２８４部を仕込み、９０℃で５時間反応させ、前記化合物１モルにグリシジルメタクリレートが２モル反応した化合物を得た。続いてフェニルグリシジルエーテル３０２部を仕込み、９０℃で１０時間反応させた後、８０±１０℃、ゲージ圧−０．０５ＭＰａでアセトンを留去することにより、前記化合物１モルにフェニルグリシジルエーテルが２モル反応したモノマー（Ｘ−９）を得た。
【０１２０】
製造例１〜９で得られたモノマー（Ｘ−１）〜（Ｘ−９）の分析結果を表１に示す。
【０１２１】
【表１】
2015170380.tif 000005
【０１２２】
製造例１０［ビニル系ポリオール（ａ１−１）の溶液の製造］
モノマー溶液用滴下ロート、開始剤溶液用滴下ロート、攪拌装置、還流冷却管、温度計及び窒素導入管を備えたセパラブルフラスコに、シクロヘキサノン３００部を仕込み、窒素を吹き込みながら攪拌し、８０℃に昇温した。次に、シクロヘキサノン１００部、製造例１で得られたモノマー（Ｘ−１）２９０．３部、２−エチルヘキシルアクリレート４２．７部、イソブチルメタクリレート３２．９部、ｎ−ブチルアクリレート２９．７部、スチレン２４．６部、メタクリル酸１９．９部、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート５９．０部からなるモノマー溶液を調製し、モノマー溶液用滴下ロートに仕込んだ。次に、アゾビスイソブチロニトリル３．０部及びシクロヘキサノン５０部からなる開始剤溶液を調製して開始剤溶液用滴下ロートに入れた。反応系内の温度を８０℃に維持したまま、モノマー溶液及び開始剤溶液を１時間かけて等速度で滴下した。滴下終了後、モノマー溶液用滴下ロート及び開始剤溶液用滴下ロートをそれぞれシクロヘキサノン２５部で洗浄し、洗浄液をセパラブルフラスコに加えた。その後も同温度で９０分間撹拌して重合を終了し、室温まで冷却してビニル系ポリオール（ａ１−１）の溶液を得た。
【０１２３】
製造例１１〜１９［ビニル系ポリオール（ａ１−２）〜（ａ１−１０）の溶液の製造］
仕込み原料を表２に記載のものに代える以外は製造例１０と同様にして、ビニル系ポリオール（ａ１−２）〜（ａ１−１０）の溶液を得た。
【０１２４】
比較製造例１［ビニル系ポリオール（ａ’１−１）の溶液の製造］
仕込み原料を表２に記載のものに代える以外は製造例１０と同様にして、比較用のビニル系ポリオール（ａ’１−１）の溶液を得た。
【０１２５】
【表２】
2015170380.tif 000006
【０１２６】
製造例２０［ポリウレタン樹脂（Ｐ−１）の溶液の製造］
攪拌機、温度計、還流冷却管及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、ビニル系ポリオール（ａ１）としてのビニル系ポリオール（ａ１−１）を２１２．９部、高分子ポリオール（ａ２）としてのＭｎが１０００のポリブチレンアジペートジオール４７．３部、低分子ポリオール（ａ３）としての１，４−ブタンジオール４．３部及び有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）としての４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート３５．５部を仕込み７０℃で７時間反応させた。反応終了後、シクロヘキサノン７００部を加え、固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ−１）の溶液を得た。
【０１２７】
製造例２１〜２９及び比較製造例２  ［ポリウレタン樹脂（Ｐ−２）〜（Ｐ−１０）の溶液及び比較用のポリウレタン樹脂（Ｐ’−１）の溶液の製造］
仕込み原料を表２に記載のものに代える以外は実施例１と同様にして、固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ−２）〜（Ｐ−１０）の溶液及び比較用の固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ’−１）の溶液を得た。
【０１２８】
製造例２０〜２９及び比較製造例２で得られたポリウレタン樹脂の分析結果を表３に示す。
【０１２９】
【表３】
2015170380.tif 000007
【０１３０】
尚、表３に記載の溶剤の部数は、ビニル系ポリオール（ａ１）の溶液中の溶剤とポリウレタン樹脂の製造時に使用する溶剤との合計部数を表す。
【０１３１】
実施例１［磁性塗料（Ｍ−１）の製造］
ポリウレタン樹脂（Ｐ）としての製造例２０で得られた固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ−１）の溶液３３．３部、Ｃｏ−γ−Ｆｅ2Ｏ3微粉末１００部、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（商品名：ＶＡＧＨ；ＵＣＣ社製）１０部、レシチン１部、ＭＥＫ７５部及びトルエン７５部を混合して磁性塗料（Ｍ−１）を製造した。
【０１３２】
実施例２〜１０［磁性塗料（Ｍ−２）〜（Ｍ−１０）の製造］
ポリウレタン樹脂（Ｐ）を表４に記載のものに代える以外は実施例１と同様にして、磁性塗料（Ｍ−２）〜（Ｍ−１０）を得た。
【０１３３】
比較例１［比較用の磁性塗料（Ｍ’−１）の製造］
ポリウレタン樹脂（Ｐ−１）をポリウレタン樹脂（Ｐ’−１）に代える以外は実施例１と同様にして、比較用の磁性塗料（Ｍ’−１）を得た。
【０１３４】
実施例１〜１０及び比較例１で得られた磁性塗料（Ｍ−１）〜（Ｍ−１０）及び（Ｍ’−１）について、ＢＬ型粘度計（東京計器製）を用いて測定した２５℃での粘度を表４に示す。
【０１３５】
【表４】
2015170380.tif 000008
【０１３６】
実施例１１［磁気テープ（Ｆ−１）の製造］
磁性塗料（Ｍ−１）２７１部に硬化剤［「コロネートＬ」（日本ポリウレタン工業製）、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート３モル付加物］を５部添加し、１０分間混合した。この磁性塗料をポリエステルフィルムに塗布し（乾燥膜厚５μｍ）、１，０００Ｏｅの磁場をかけて配向させた後、カレンダーロールで処理し磁気テープ（Ｆ−１）を得た。
【０１３７】
実施例１２〜２０［磁気テープ（Ｆ−２）〜（Ｆ−１０）の製造］
磁性塗料を表５に記載のものに代える以外は実施例１１と同様にして、磁気テープ（Ｆ−２）〜（Ｆ１０）を得た。
【０１３８】
比較例２［磁気テープ（Ｆ’−１）の製造］
磁性塗料を表５に記載のものに代える以外は実施例１１と同様にして、比較用の磁気テープ（Ｆ’−１）を得た。
【０１３９】
実施例１１〜２０及び比較例２で得られた磁気テープについて以下の方法で測定又は評価した結果を表５に示す。
【０１４０】
［磁気テープの耐久性試験］
各磁気テープについて学振式摩擦堅牢度試験機（大栄化学精機製作所製）で１００ｇの荷重で３０回摩擦後の粉落ち量（ｍｇ）を測定した。数値が小さい程、磁気テープの耐久性が良好であることを示す。
【０１４１】
［磁性粉の分散性試験］
日本電色工業製デジタル変角光沢計を用いて標準板の７５゜の反射率を測定してこの値が９５となるように調整した後、各磁気テープの反射率を測定して表面光沢度とした。表面光沢度が高いほど分散性が良好であることを示す。
【０１４２】
【表５】
2015170380.tif 000009
【産業上の利用可能性】
【０１４３】
本発明の磁気記録媒体用バインダーは、磁性粉の分散性に優れることにより磁気テープの磁気特性を向上させることができ、かつ耐久性に優れる磁気記録媒体を得ることができることから、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピューターテープ、データーレコーダーテープ、メタルテープ、フレキシブルディスク及び磁気カード等の磁気記録媒体用バインダーとして有用である。