(57)【要約】【課題】スループットを向上させる上で有利な露光装置を提供する。【解決手段】基板の露光を行う露光装置は、光源から射出された光を遮断する遮断部分と、前記光を通過させる通過部分とを有し、回転することにより前記基板への前記光の照射と非照射とを切り換えるシャッタ部材と、前記遮断部分で前記光を遮断している状態から前記通過部分で前記光を通過させている状態になるように前記シャッタ部材の回転を制御する制御部と、を含み、前記遮断部分は、前記光が通過する光路領域の断面より大きく、前記制御部は、前記基板への前記光の照射を開始する第１時刻を決定し、前記第１時刻において前記通過部分での前記光の通過が開始されるように前記シャッタ部材の回転を開始する第２時刻を決定し、前記第２時刻において前記シャッタ部材の回転を開始する。【選択図】図１
2015149450.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の露光を行う露光装置であって、
光源から射出された光を遮断する遮断部分と、前記光を通過させる通過部分とを有し、回転することにより前記基板への前記光の照射と非照射とを切り換えるシャッタ部材と、
前記遮断部分で前記光を遮断している状態から前記通過部分で前記光を通過させている状態になるように前記シャッタ部材の回転を制御する制御部と、
を含み、
前記遮断部分は、前記光が通過する光路領域の断面より大きく、
前記制御部は、前記基板への前記光の照射を開始する第１時刻を決定し、前記第１時刻において前記通過部分での前記光の通過が開始されるように前記シャッタ部材の回転を開始する第２時刻を決定し、前記第２時刻において前記シャッタ部材の回転を開始する、ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記露光が行われる際に前記基板が配置されるべき位置に前記基板が配置される予定時刻に応じて前記第１時刻を決定する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記基板を保持して移動可能な基板ステージを更に含み、
前記制御部は、前記基板ステージをステップ移動させているときの移動経路と移動速度に基づいて前記第１時刻を決定する、ことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記シャッタ部材を通過した前記光の強度を検出する検出部を含み、
前記制御部は、前記検出部によって検出された前記光の強度が基準値を超えたときに、前記シャッタ部材の回転の減速を開始する、ことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記通過部分は、前記光路領域の断面より大きく、
前記制御部は、前記光路領域の断面の全体が前記通過部分に含まれる前において前記シャッタ部材の回転の減速を開始し、前記光路領域の断面の全体が前記通過部分に含まれた後においても前記シャッタ部材の回転の減速を行う、ことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記通過部分で前記光を通過させている状態から前記遮断部分で前記光を遮断している状態になるように前記シャッタ部材の回転を制御し、
前記通過部分は、前記光路領域の断面より大きく、
前記制御部は、前記遮断部分での前記光の遮断を開始する第３時刻を決定し、前記第３時刻において前記遮断部分での前記光の遮断が開始されるように前記シャッタ部材の回転を開始する第４時刻を決定し、前記第４時刻において前記シャッタ部材の回転を開始する、ことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記基板の露光量が目標露光量になる予定時刻に応じて前記第３時刻を決定する、ことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記光路領域の断面の全体が前記遮断部分に含まれる前において前記シャッタ部材の減速を開始し、前記光路領域の断面の全体が前記遮断部分に含まれた後においても前記シャッタ部材の回転の減速を行う、ことを特徴とする請求項６又は７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記シャッタ部材は、前記シャッタ部材の回転軸に対して対称に配置された２つの前記遮断部分を有する、ことを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記遮断部分と前記通過部分とは、前記シャッタ部材の回転軸に対する開き角が互いに等しくなるように構成されている、ことを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】
基板の露光を行う露光装置であって、
光源から射出された光を遮断する遮断部分と、前記光を通過させる通過部分とを有し、回転することにより前記基板への前記光の照射と非照射とを切り換えるシャッタ部材と、
前記遮断部分で前記光を遮断している状態から前記通過部分で前記光を通過させている状態になるように前記シャッタ部材の回転を制御する制御部と、
を含み、
前記通過部分は、前記光が通過する光路領域の断面より大きく、
前記制御部は、前記光路領域の断面の全体が前記通過部分に含まれる前において前記シャッタ部材の回転の減速を開始し、前記光路領域の断面の全体が前記通過部分に含まれた後においても前記シャッタ部材の回転の減速を行う、ことを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光を行われた前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、および物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスなどの製造工程（リソグラフィ工程）で用いられる装置の１つとして、マスクのパターンを基板に転写する露光装置がある。そして、露光装置のスループットを向上させる方法の１つとして、基板への光の照射と非照射との切り換え時間を短縮させる方法がある。例えば、特許文献１では、光を遮断する遮断部分と光を通過させる通過部分とを有するシャッタ部材を２枚用い、それらを互いに同期させながらそれぞれ回転させることによって、基板への光の照射と非照射とを切り換える露光装置が提案されている。特許文献１に記載の露光装置では、２枚のシャッタ部材を用いることにより各シャッタ部材を小型化・軽量化することができるため、各シャッタ部材の回転速度を上げることで切り換え時間を短縮している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−２３３４２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１には、基板の整定に同期させてシャッタ部材の回転を制御することについては記載されていない。そして、露光装置において、露光を行うべき位置に基板を整定させた後にシャッタ部材の回転を開始させると、スループットの点で不利になりうる。
【０００５】
そこで、本発明は、スループットを向上させる上で有利な露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、基板の露光を行う露光装置であって、光源から射出された光を遮断する遮断部分と、前記光を通過させる通過部分とを有し、回転することにより前記基板への前記光の照射と非照射とを切り換えるシャッタ部材と、前記遮断部分で前記光を遮断している状態から前記通過部分で前記光を通過させている状態になるように前記シャッタ部材の回転を制御する制御部と、を含み、前記遮断部分は、前記光が通過する光路領域の断面より大きく、前記制御部は、前記基板への前記光の照射を開始する第１時刻を決定し、前記第１時刻において前記通過部分での前記光の通過が開始されるように前記シャッタ部材の回転を開始する第２時刻を決定し、前記第２時刻において前記シャッタ部材の回転を開始する、ことを特徴とする。
【０００７】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、例えば、スループットを向上させる上で有利な露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】第１実施形態の露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】第１実施形態のシャッタ部の構成を示す図である。
【図３】シャッタ部材を回転させることによって露光光の遮断と通過とを切り換える様子を示す図である。
【図４】対象ショット領域を露光する際におけるシャッタ部材の回転速度、および露光光の強度を示す図である。
【図５】従来のシャッタ部材の構成を示す図である。
【図６】対象ショット領域を露光する際においてシャッタ部材の回転を制御する方法を示すフローチャートである。
【図７】第２実施形態のシャッタ部材の構成を示す図である。
【図８】対象ショット領域を露光する際におけるシャッタ部材の回転速度、および露光光の強度を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材ないし要素については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１１】
＜第１実施形態＞
本発明の第１実施形態の露光装置１００について、図１を参照しながら説明する。図１は、第１実施形態の露光装置１００の構成を示す概略図である。第１実施形態の露光装置１００は、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置であり、基板３を露光することにより基板上に形成された複数のショット領域の各々にマスクのパターンを転写する。ステップ・アンド・リピート方式とは、基板３が整定した状態で所定のショット領域を露光する露光工程と、次に露光が行われるショット領域まで基板３をステップ移動させるステップ工程とを繰り返し、基板上の各ショット領域に対して露光を行う方式である。第１実施形態の露光装置１００は、光源１と、シャッタ部４と、マスクステージ２１と、投影光学系６と、基板ステージ２２とを含みうる。また、露光装置１００は、シャッタ部４を通過した光の強度を検出する検出部Ｓと、制御部１３とを含みうる。制御部１３は、例えばＣＰＵやメモリを含み、露光装置１００の全体（露光装置１００の各部）を制御する。即ち、制御部１３は、マスク２に形成されたパターンを基板３に転写する処理（基板３を露光する処理）を制御する。
【００１２】
光源１は、基板３を露光するための光（以下、露光光）を射出する。シャッタ部４は、光源１から射出された露光光を遮断したり通過させたりすることにより、基板３への露光光の照射と非照射とを切り換える。マスクステージ２１は、マスク２の位置決めを行うため、マスク２を保持して移動可能に構成されている。投影光学系６は、所定の倍率（例えば１／２倍）を有し、マスク２に形成されたパターンを基板３に投影する。基板ステージ２２は、基板３の位置決めを行うため、基板３を保持して移動可能に構成されている。このように構成された露光装置１００において、基板３には、投影光学系６を介してマスク２のパターンが投影され、これにより基板３に塗布されているレジストに潜像パターンが形成される。潜像パターンは、現像装置において現像され、これによりレジストパターンが基板上に形成される。
【００１３】
検出部Ｓは、シャッタ部４を通過した露光光の強度を検出する。検出部Ｓは、例えば、光センサ５と、アンプ７と、Ｖ／Ｆコンバータ９と、パルスカウンタ１１とを含みうる。光センサ５は、シャッタ部４とマスクステージ２１との間における露光光の強度を検出する。光センサ５は、ＣＭＯＳセンサやＣＣＤセンサなどの光電変換素子を含みうる。この光電変換素子は、シャッタ部４とマスクステージ２１との間における露光光の光路に配置されてもよいし、当該光路上に配置されたミラーによって取り出された光を受光するように配置されてもよい。アンプ７は、光センサ５によって検出された露光光の強度を示す信号を電圧信号に変換する。Ｖ／Ｆコンバータ９は、アンプから出力された電圧信号を周波数信号に変換する。パルスカウンタ１１は、Ｖ／Ｆコンバータ９から出力された周波数信号のパルス数をカウントする。パルスカウンタ１１によってカウントされたカウント値は、露光光の強度を積算した量を意味するので、基板３の露光量と比例する。これにより、制御部１３は、パルスカウンタ１１から出力されたカウント値を用いて基板３の露光量を示す情報を取得することができる。また、制御部１３は、光センサ５によって検出された露光光の強度を示す信号を入力し、露光光の強度を示す情報を取得してもよい。
【００１４】
次に、ステップ・アンド・リピート方式におけるシャッタ部４の役割について説明する。基板ステージ２２を整定させた状態で基板３を露光する露光工程においては、光源１から射出された露光光が基板３に照射される。一方で、基板ステージ２２を移動するステップ工程においては、光源１から射出された露光光が基板３に照射されないことが好ましい。そのため、シャッタ部４は、光源１とマスクステージ２１との間に配置されており、露光工程では露光光を通過させ、ステップ工程では露光光を遮断するように構成される。即ち、シャッタ部４は、基板３への露光光の照射と非照射とを切り換えるように構成されており、当該切り換えは制御部１３によって制御される。ここで、露光装置１００には、スループット（生産性）を向上させることが求められており、スループットを向上させるため、基板３への露光光の照射と非照射とを切り換える時間（以下、切り換え時間）を短縮することが好ましい。そこで、第１実施形態の露光装置１００では、切り換え時間を短縮できるようにシャッタ部４が構成されている。以下に、シャッタ部４の構成について説明する。
【００１５】
図２は、第１実施形態のシャッタ部４の構成を示す図である。図２（ａ）は、シャッタ部４の側面図である。シャッタ部４は、例えば、露光光の遮断と通過とを切り換えるシャッタ部材３３と、シャッタ部材３３を回転させるモータ３１とを含みうる。シャッタ部材３３は、光源１から射出された露光光を遮断する遮断部分３３ａと露光光を通過させる通過部分３３ｂとを有し、ボス３２を介してモータ３１に取り付けられている。図２（ｂ）および図２（ｃ）は、光源１側からシャッタ部材３３を見たときの図である。図２（ｂ）は遮断部分３３ａによって露光光を遮断している状態を示し、図２（ｃ）は透過部分３３ｂによって露光光を通過させている状態を示している。基板３の露光を開始する場合には、制御部１３は、シャッタ部材３３を回転させ、遮断部分３３ａによって露光光を遮断している状態（図２（ｂ））から、通過部分３３ｂによって露光光を通過させている状態（図２（ｃ））にする。一方で、基板３の露光を終了する場合には、制御部１３は、シャッタ部材３３を再び回転させ、通過部分３３ｂによって露光光を通過させている状態（図２（ｃ））から、遮断部分３３ａによって露光光を遮断している状態（図２（ｂ））にする。
【００１６】
次に、第１実施形態のシャッタ部材３３における具体的な構成について説明する。シャッタ部材３３は、シャッタ部材３３の安定した回転を実現するため、シャッタ部材３３の回転軸に対して対称に配置された２つの遮断部分３３ａを有するように構成されることが好ましい。また、遮断部分３３ａと通過部分３３ｂとは、シャッタ部材３３の回転軸に対する開き角が互いに等しくなるように構成されていることが好ましい。遮断部分３３ａと通過部分３３ｂとで開き角を等しくすると、第１回転角度と第３回転角度とを同じにすることができるため、シャッタ部材３３の回転の制御を容易にすることができる。
【００１７】
シャッタ部材３３の遮断部分３３ａは、シャッタ部材３３の回転が開始されてから基板３への露光光の照射が開始されるまでの期間に、所定の回転角度（第１回転角度）でシャッタ部材３３が回転するように構成されている。また、遮断部分３３ａは、露光光の基板３への照射が終了してからシャッタ部材３３が回転を終了するまでの期間に、所定の回転角度（第４回転角度）でシャッタ部材３３が回転するように構成されている。即ち、シャッタ部材３３の遮断部分３３ａは、シャッタ部材３３の回転軸に対する開き角が、露光光が通過する光路領域１０の断面が収まる最小の開き角より大きくなるように（光路領域１０の断面より大きくなるように）構成される。例えば、光路領域１０の断面が収まる最小の開き角（以下、光路領域１０の開き角と呼ぶ）が６０度である場合、図２（ｂ）に示すように、遮断部分３３ａは、その開き角が光路領域１０の開き角より大きい９０度になるように構成される。このとき、例えば、第１回転角度および第４回転角度はそれぞれ１５度となる。
【００１８】
シャッタ部材３３の通過部分３３ｂは、光路領域１０の断面の全体が通過部分３３ｂに含まれてからシャッタ部材３３が回転を終了するまでの期間に、所定の回転角度（第２回転角度）でシャッタ部材３３が回転するように構成されている。また、通過部分３３ｂは、露光光が通過部分３３ｂを通過している状態からシャッタ部材３３の回転を開始し、遮断部分３３ａによる露光光の遮断が開始されるまでの期間に、所定の回転角度（第３回転角度）でシャッタ部材３３が回転するように構成されている。即ち、シャッタ部材３３の通過部分３３ｂは、シャッタ部材３３の回転軸に対する開き角が、光路領域１０の開き角より大きくなるように（光路領域１０の断面より大きくなるように）構成される。例えば、図２（ｃ）に示すように、通過部分３３ｂは、その開き角が光路領域１０の開き角より大きい９０度になるように構成される。このとき、例えば、第２回転角度および第３回転角度はそれぞれ１５度となる。
【００１９】
次に、上述のように構成されたシャッタ部材３３を用いて、基板３への露光光の照射と非照射との切り換えを行う場合の制御について図３および図４を参照しながら説明する。図３は、露光を行う対象のショット領域（以下、対象ショット領域）を露光する際において、シャッタ部材３３を回転させることによって露光光の遮断と通過とを切り換える様子を示す図である。図４は、対象ショット領域を露光する際におけるシャッタ部材３３の回転速度、およびシャッタ部材３３を通過して検出部Ｓにより検出される露光光の強度を示す図である。図４において、一点破線はシャッタ部材３３の回転速度を示し、実線は検出部Ｓにより検出される露光光の強度を示す。
【００２０】
時刻ｔ１より前の期間では、図３（ａ）の状態であり、露光光の全てがシャッタ部材３３の遮断部分３３ａによって遮断されてシャッタ部材３３を通過しない。この期間において検出部Ｓにより検出される露光光の強度はほぼゼロである。時刻ｔ１では、基板３の露光を開始するため、シャッタ部材３３の回転を開始するように制御部１３がシャッタ部４を制御する。時刻ｔ１から時刻ｔ２までの期間では、図３（ｂ）の状態であり、光路領域１０の断面の全体がシャッタ部材３３の遮断部分３３ａに含まれている状態、即ち、露光光の全てが遮断部分３３ａによって遮断されている状態である。この期間は、シャッタ部材３３が第１回転角度で回転する期間であり、この期間ではシャッタ部材３３の回転が加速される。また、この期間において検出部Ｓにより検出される露光光の強度はほぼゼロである。時刻ｔ２から時刻ｔ３までの期間では、図３（ｃ）の状態であり、露光光の一部がシャッタ部材３３の通過部分３３ｂを通過し、基板上に入射し始める。即ち、時刻ｔ２は、基板３の露光が開始される時刻である。この期間において検出部Ｓにより検出される露光光の強度は増加していく。
【００２１】
時刻ｔ３から時刻ｔ４までの期間では、図３（ｄ）の状態であり、光路領域１０の断面の全体がシャッタ部材３３の通過部分３３ｂに含まれている状態、即ち露光光の全てが通過部分３３ｂを通過している状態である。この期間は、シャッタ部材３３が第２回転角度で回転する期間であり、この期間ではシャッタ部材３３の回転が減速される。また、この期間において検出部Ｓにより検出される露光光の強度は所定の値以上（例えば最大値）となる。そして、時刻ｔ４において、シャッタ部材３３が回転を終了する。時刻ｔ４から時刻ｔ５までの期間では、図３（ｅ）の状態であり、シャッタ部材が停止して、露光光の全てがシャッタ部材３３の通過部分３３ｂを通過している状態である。この期間において検出部Ｓにより検出される露光光の強度は所定の値以上となる。
【００２２】
時刻ｔ５では、基板３の露光を終了するため、シャッタ部材３３の回転を開始するように制御部１３がシャッタ部４を制御する。時刻ｔ５から時刻ｔ６までの期間では、図３（ｆ）の状態であり、光路領域１０の断面の全体がシャッタ部材３３の通過部分３３ｂに含まれている状態、即ち、露光光の全てが通過部分３３ｂを通過している状態である。この期間は、シャッタ部材３３が第３回転角度で回転する期間であり、この期間ではシャッタ部材３３の回転が加速される。また、この期間において検出部Ｓにより検出される露光光の強度は所定の値以上である。時刻ｔ６から時刻ｔ７までの期間では、図３（ｇ）の状態であり、露光光の一部がシャッタ部材３３の遮断部分３３ａで遮断され始める。この期間において検出部Ｓにより検出される露光光の強度は減少していく。そして、時刻ｔ７において、露光光の全てがシャッタ部材３３の遮断部分３３ａで遮断され、検出部Ｓにより検出される光の強度はほぼゼロとなる。よって、時刻ｔ６は、シャッタ部材３３の遮断部分３３ａによって露光光の遮断を開始する時刻であり、時刻ｔ７は、露光が終了する時刻である。
【００２３】
時刻ｔ７から時刻ｔ８までの期間では、図３（ｈ）の状態であり、光路領域１０の断面の全体がシャッタ部材３３の遮断部分３３ａに含まれている状態、即ち、露光光の全てが遮断部分３３ａによって遮断されている状態である。この期間は、シャッタ部材３３が第４回転角度で回転する期間であり、この期間ではシャッタ部材３３の回転が減速される。また、この期間において検出部Ｓにより検出される露光光の強度はほぼゼロである。そして、時刻８において、シャッタ部材３３が回転を終了する。ここで、図４において基板３を露光している期間は、時刻ｔ２から時刻ｔ７までの期間に相当する。
【００２４】
第１実施形態の露光装置１００において、上述のようにシャッタ部材３３の回転を制御することにより、露光光の基板３への照射と非照射との切り換え時間を短縮することができる。切り換え時間とは、図４における時刻ｔ２から時刻ｔ３までの期間や、時刻ｔ６から時刻ｔ７までの期間のことである。このように切り換え時間を短縮することにより、基板３に照射される露光光の強度を積算した量である露光量が目標露光量になるまでの時間（露光時間）を短縮し、スループットを向上させることができる。
【００２５】
ここで、第１実施形態の露光装置１００において、切り換え時間を短縮することができる原理について説明する。第１実施形態のシャッタ部材３３は、遮断部分３３ａの開き角が光路領域１０の開き角より大きくなるように構成されている。そのため、シャッタ部材３３の回転が開始されてから基板３の露光が開始されるまでの期間（時刻ｔ１から時刻ｔ２までの期間）において、シャッタ部材３３の回転を加速させることができる。その結果、基板３の露光が開始される時刻ｔ２において、シャッタ部材３３に所定の回転速度（初速）を持たせることができる。また、第１実施形態のシャッタ部材３３は、通過部分３３ｂの開き角が光路領域１０の開き角より大きくなるように構成されている。これにより、通過部分３３ｂを通過する露光光の強度が所定の値以上になってからシャッタ部材３３の回転が終了するまでの期間（時刻ｔ３から時刻ｔ４までの期間）において、シャッタ部材３３の回転を減速させることができる。その結果、露光光の強度が所定の値以上となる時刻ｔ３において、シャッタ部材３３に所定の回転速度を持たせることができる。このように時刻ｔ２および時刻ｔ３のそれぞれにおいてシャッタ部材３３に所定の回転速度を持たせることができるため、切り換え時間（時刻ｔ２から時刻ｔ３までの期間）を短縮することができる。時刻ｔ６から時刻ｔ７までの期間についても、時刻ｔ２から時刻ｔ３までの期間と同様の理由により短縮できることは言うまでもない。
【００２６】
一方で、従来のシャッタ部材４１は、図５（ａ）に示すように、遮断部分４１ａの開き角が光路領域１０の開き角とほぼ同じとなる。そのため、時刻ｔ１から時刻ｔ２までの期間に相当する期間を設けられず、基板３の露光が開始される時刻においてシャッタ部材４１の回転を開始する必要がある。よって、当該時刻においてシャッタ部材４１に所定の回転速度（初速）を持たせることができない。同様に、従来のシャッタ部材４１は、図５（ｂ）に示すように、通過部分４１ｂの開き角が光路領域１０の開き角とほぼ同じとなる。そのため、時刻ｔ３から時刻ｔ４までの期間に相当する期間を設けられず、シャッタ部材４１を通過する露光光の強度が所定の値以上となる時刻においてシャッタ部材４１の回転を終了させる必要がある。よって、当該時刻においてシャッタ部材４１に所定の回転速度を持たせることができない。したがって、第１実施形態の露光装置１００は、シャッタ部材３３を回転させて基板３の露光光の照射と非照射とを切り換える際の回転速度を、従来のシャッタ部材４１を用いる場合より高くすることができる。即ち、第１実施形態の露光装置１００は、光路領域１０の開き角（６０度）を回転させる際の回転速度を、従来のシャッタ部材４１を用いる場合より高くすることができる。これにより、基板３への露光光の照射と非照射との切り換え時間を、従来のシャッタ部材４１を用いる場合と比べて５２％程度にまで短縮することができる。
【００２７】
このように構成されたシャッタ部材３３を用いて基板３の露光を行う場合では、シャッタ部材３３の回転を開始する時刻ｔ１と基板３の露光を開始する時刻ｔ２との間に時間差が生じている。この場合、対象ショット領域の露光が行われる際に基板が配置されるべき位置に基板３が配置された後でシャッタ部材３３の回転を開始してしまうと、時刻ｔ１と時刻ｔ２との間の時間差分だけ生産に寄与しない時間が生じうることとなる。同様に、シャッタ部材３３の回転を開始する時刻ｔ５と露光光の遮断を開始する時刻ｔ６との間に時間差が生じている。この場合、基板３の露光量が目標露光量になった後でシャッタ部材３３の回転を開始してしまうと、時刻ｔ５と時刻ｔ６との間の時間差分だけ多く基板３が露光されることとなる。そこで、第１実施形態の露光装置１００は、上述した時間差を考慮してシャッタ部材３３の回転を制御する。以下に、対象ショット領域を露光する際において、シャッタ部材３３の回転を制御する方法について、図６を参照しながら説明する。図６は、対象ショット領域を露光する際においてシャッタ部材３３の回転を制御する方法を示すフローチャートである。
【００２８】
Ｓ１０１では、制御部１３は、対象ショット領域に露光光の照射を開始する時刻（第１時刻）を決定する。対象ショット領域に露光光の照射を開始する第１時刻は、図４における時刻ｔ２に対応し、例えば、対象ショット領域の露光が行われる際に基板３が配置されるべき位置に基板３が配置される予定時刻であることが好ましい。そのため、例えば、制御部１３は、基板ステージ２２をステップ移動させている間の移動経路や移動速度を用いて基板３が配置される予定時刻を求め、その予定時刻に応じて第１時刻を決定するとするとよい。Ｓ１０２では、制御部１３は、Ｓ１０１で決定した第１時刻において対象ショット領域への露光光の照射が開始されるように、シャッタ部材３３の回転を開始する時刻（第２時刻）を決定する。シャッタ部材３３の回転を開始する第２時刻は、図４における時刻ｔ１に対応する。例えば、制御部１３は、シャッタ部材３３を回転する際の回転速度（または回転加速度）を決定し、その回転速度に基づいてシャッタ部材３３の回転を開始する第２時刻を決定する。Ｓ１０３では、制御部１３は、第２時刻になったか否かを判断する。第２時刻になっていない場合にはＳ１０３の工程を繰り返し、第２時刻になったときにＳ１０４に進む。Ｓ１０４では、制御部１３は、シャッタ部材３３の回転を開始する。Ｓ１０５では、制御部１３は、検出部Ｓにより検出された露光光の強度が基準値（例えば、最大強度の半分の値）を超えたときにシャッタ部材３３の回転の減速を開始する。これにより、制御部１３は、図４における時刻ｔ４で図３（ｅ）の状態になるように、シャッタ部材３３の回転を終了させることができる。
【００２９】
Ｓ１０６では、制御部１３は、基板３の露光量が目標露光量になる予定時刻を決定し、その予定時刻に応じて露光光の遮断を開始する時刻（第３時刻）を決定する。基板３の露光量が目標露光量になる予定時刻は、図４における時刻ｔ７に対応し、露光光の遮断を開始する第３時刻は、図４における時刻ｔ６に対応する。例えば、制御部１３は、対象ショット領域３３の露光を開始する際の切り換え時間（図４における時刻ｔ２と時刻ｔ３との期間）、もしくは対象ショット領域の前に露光が行われたショット領域における切り換え時間に基づいて第３時刻を決定するとよい。Ｓ１０７では、制御部１３は、Ｓ１０６で決定した第３時刻において露光光の遮断が開始されるように、シャッタ部材３３の回転を開始する時刻（第４時刻）を決定する。シャッタ部材３３の回転を開始する第４時刻は、図４における時刻ｔ５に対応する。Ｓ１０８では、制御部１３は、第４時刻になったか否かを判断する。第４時刻になっていない場合にはＳ１０８の工程を繰り返し、第４時刻になったときにＳ１０９に進む。Ｓ１０９では、制御部１３は、シャッタ部材３３の回転を開始する。Ｓ１１０では、制御部１３は、検出部Ｓにより検出された露光光の強度が基準値（例えば、最大強度の半分の値）を下回ったときにシャッタ部材３３の回転の減速を開始する。これにより、図４における時刻ｔ８においてシャッタ部材３３の回転を終了させ、対象ショット領域の露光を終了することができる。
【００３０】
ここで、第１実施形態では、Ｓ１０６およびＳ１０７は、対象ショット領域の露光を開始した後に行われているが、それに限られるものではなく、例えば、対象ショット領域の露光を開始する前、即ち、Ｓ１０３の前に行われてもよい。また、第１実施形態のシャッタ部材３３は、シャッタ部材３３の回転軸に対して対称に配置された２つの遮断部分を有するように構成されているが、それに限られるものではない。例えば、１つの遮断部分を有するように構成されてもよいし、３つ以上の遮断部分を有するように構成されてもよい。さらに、第１実施形態では、シャッタ部材３３における遮断部分３３ａの開き角と通過部分３３ｂの開き角とをそれぞれ９０度としたが、それに限られるものではなく、光路領域１０の大きさや配置に応じて適宜変更されうる。
【００３１】
上述のように、第１実施形態の露光装置１００に用いられるシャッタ部材３３は、露光光が通過する光路領域１０の開き角より大きい開き角をそれぞれ有する遮断部分３３ａと通過部分３３ｂとを含むように構成されている。このようにシャッタ部材３３を構成し、基板３の露光の開始や終了に先立ってシャッタ部材３３の回転を開始することにより、基板への露光光の照射と非照射との切り換え時間を短縮させることができる。したがって、基板３の露光時間を短縮し、スループットを向上させることができる。
【００３２】
＜第２実施形態＞
第２実施形態の露光装置について説明する。第２実施形態の露光装置は、第１実施形態の露光装置１００と比較して、シャッタ部材５１の構成が異なっており、それに伴いシャッタ部材５１の回転の制御も異なっている。以下では、シャッタ部材５１の構成とシャッタ部材５１の回転の制御について説明する。
【００３３】
図７は、第２実施形態のシャッタ部材５１の構成を示す図である。図７（ａ）は遮断部分５１ａにおいて露光光が遮断されている状態を示し、図７（ｂ）は通過部分５１ｂにおいて露光光が通過している状態を示す。第２実施形態のシャッタ部材５１は、図７（ａ）および図７（ｂ）に示すように、遮断部分５１ａの開き角が光路領域１０の開き角とほぼ同じで、通過部分５１ｂの開き角が光路領域１０の開き角より大きくなるように構成されている。第２実施形態のシャッタ部材５１は、例えば、遮断部分５１ａの開き角が６０度、および通過部分５１ｂの開き角が１２０度になるように構成されている。
【００３４】
図８は、対象ショット領域を露光する際におけるシャッタ部材５１の回転速度、およびシャッタ部材５１を通過して検出部Ｓにより検出される露光光の強度を示す図である。図８において、一点破線はシャッタ部材５１の回転速度を示し、実線は検出部Ｓにより検出される露光光の強度を示す。第２実施形態の露光装置では、露光を開始する時刻とシャッタ部材５１の回転を開始する時刻とが同じ時刻ｔ９となるが、検出部Ｓで検出される露光光の強度が所定の値以上となる時刻ｔ１０において、シャッタ部材５１に所定の回転速度を持たせることができる。そして、時刻ｔ１１においてシャッタ部材５１の回転が終了する。また、第２実施形態の露光装置では、露光光の遮断を開始する時刻ｔ１３より前の時刻ｔ１２においてシャッタ部材５１の回転を開始させ、時刻ｔ１３においてシャッタ部材５１に所定の回転速度を持たせることができる。そして、時刻ｔ１４において、シャッタ部材５１の回転と、基板３の露光とを終了する。
【００３５】
このように構成されたシャッタ部材５１を用いることにより、時刻ｔ９から時刻ｔ１０までの期間や、時刻ｔ１３から時刻ｔ１４までの期間に相当する切り換え時間を、従来のシャッタ部材４１を用いる場合と比べて７２％程度にまで短縮することができる。ここで、時刻ｔ１２を決定する工程は、図６のフローチャートにおけるＳ１０７において第４時刻を決定する工程と同様であるため、ここでは説明を省略する。
【００３６】
上述したように、第２実施形態の露光装置は、第１実施形態の露光装置１００と同様に、露光光の照射と非照射との切り換え時間を短縮することができるため、露光時間を短縮し、スループットを向上させることができる。また、第２実施形態の露光装置では、ショット領域の露光を開始する際に、露光の開始に先立ってシャッタ部材の回転を開始する必要が生じないため、図６に示すフローチャートのＳ１０１およびＳ１０２の工程が不要となる。したがって、第２実施形態の露光装置は、第１実施形態の露光装置１００と比べて切り換え時間は長くなるものの、シャッタ部材５１の回転の制御を容易にすることができる。
【００３７】
＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等の電子デバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００３８】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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