(57)【要約】【課題】ノズルプレートとなる基材に、異なる照射工程で形成されたノズルの間でノズル形状やノズルの形成位置に違いがある場合でも、それによる画質への影響を極力小さく抑えること。【解決手段】ノズルプレートの製造工程は、基材プレート５０の第１領域６１に、レーザ照射装置５２からレーザ光を照射して、第１領域６１に複数の第１ノズル２６ａを形成する第１照射工程と、基材プレート５０の前記第１領域６１とは異なる第２領域６２に、レーザ照射装置５２からレーザ光を照射して、第２領域６２に複数の第２ノズル２６ｂを形成する第２照射工程と、を含む。ノズル２６の配列方向と交差する方向において、基材プレート５０の、複数の第２ノズル２６ｂが形成される第２領域６２の少なくとも一部領域が、複数の第１ノズル２６ａが形成される第１領域６１と並んでいる。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の第１方向に配列された複数のノズルを有するノズルプレートの製造方法であって、
前記ノズルプレートとなる基材の第１領域に、レーザ照射装置からレーザ光を照射して、前記第１領域に複数の第１ノズルを形成する、第１照射工程と、
前記基材の前記第１領域とは異なる第２領域に、レーザ照射装置からレーザ光を照射して、前記第２領域に複数の第２ノズルを形成する、第２照射工程と、を備え、
前記第１方向と交差する第２方向において、前記基材の、前記複数の第２ノズルが形成される前記第２領域の少なくとも一部領域が、前記複数の第１ノズルが形成される前記第１領域と並ぶように、前記第１領域と前記第２領域を設定することを特徴とするノズルプレートの製造方法。
【請求項２】
前記第１領域は、前記第１方向に並ぶ、第１隣接領域と第１非隣接領域を有し、
前記第２領域は、前記第１方向に並ぶ、第２隣接領域と第２非隣接領域を有し、
前記第１領域の前記第１隣接領域と前記第２領域の前記第２隣接領域とが、前記第２方向において並んでおり、
前記第１領域の前記第１非隣接領域と前記第２領域の前記第２非隣接領域は、前記第２方向において並んでいないことを特徴とする請求項１に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項３】
前記第１照射工程において、前記第１隣接領域における前記第１ノズルの、前記第１方向の配列ピッチを、前記第１非隣接領域における前記第１ノズルの、前記第１方向の配列ピッチよりも大きくし、
前記第２照射工程において、前記第２隣接領域における前記第２ノズルの、前記第１方向の配列ピッチを、前記第２非隣接領域における前記第２ノズルの、前記第１方向の配列ピッチよりも大きくすることを特徴とする請求項２に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項４】
前記第１照射工程において、複数の光通過部を有するノズル形成用部材を前記基材の前記第１領域に対して設置し、前記レーザ照射装置から前記ノズル形成用部材に前記レーザ光を照射して、前記第１領域に前記複数の第１ノズルを形成し、
前記第２照射工程において、前記第１照射工程で使用するのと同じ前記ノズル形成用部材を前記基材の前記第２領域に対して設置し、前記レーザ照射装置から前記ノズル形成用部材に対して前記レーザ光を照射して、前記第２領域に前記複数の第２ノズルを形成することを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項５】
前記レーザ照射装置から前記基材に照射されるレーザ光には、前記第１方向において強度分布が存在し、
前記レーザ光が前記基材に照射されたときに、前記基材の、前記レーザ光の高強度部分が照射される領域と、前記レーザ光の前記高強度部分よりも強度の低い低強度部分が照射される領域とが、前記第１方向に並び、
前記第１照射工程において前記第１領域の前記低強度部分が照射される領域と、前記第２照射工程において前記第２領域の前記高強度部分が照射される領域とが、前記第２方向において並ぶことを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項６】
前記レーザ照射装置から前記基材に照射されるレーザ光には、前記第１方向において強度分布が存在し、
前記第１領域の前記第１非隣接領域と前記第２領域の前記第２非隣接領域との間で、前記第２方向において並ぶ領域にそれぞれ照射される、レーザ光の強度が等しいことを特徴とする請求項２又は３に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項７】
前記基材に前記複数のノズルを形成するためのノズル形成用部材として、前記第１方向に並ぶ複数のレンズ部を有し、且つ、前記複数のレンズ部の前記第１方向における配列長さが１０５ｍｍ以上１５０ｍｍ未満の、シリコンマイクロレンズを用い、
前記第１照射工程において、前記レーザ照射装置から、前記シリコンマイクロレンズに向けて前記レーザ光を照射して、前記基材の前記第１領域に、前記第１方向において１０５ｍｍ以上の長さで配列される前記複数の第１ノズルを形成し、
前記第２照射工程において、前記レーザ照射装置から、前記シリコンマイクロレンズに向けて前記レーザ光を照射して、前記基材の前記第２領域に、前記第１方向において１０５ｍｍ以上の長さで配列される前記複数の第２ノズルを形成することにより、
前記基材の前記第１領域と前記第２領域にわたって、前記複数の第１ノズルと前記複数の第２ノズルを、前記第１方向において２１０ｍｍ以上の長さで配列することを特徴とする請求項２又は３に記載のノズルプレートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体吐出装置のノズルプレートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、画像記録用の液体吐出装置（液体吐出ヘッド）が開示されている。この液体吐出装置は、複数のノズルが形成されたノズルプレートと、複数のノズルにそれぞれ連通する複数のインク室が形成された流路ユニットと、複数のインク室内のインクに圧力を作用させる複数の圧電素子を有する。外部から供給される駆動信号によって圧電素子が駆動されると、インク室内に圧力が作用し、インク室に連通したノズルからインクが吐出される。
【０００３】
ところで、上記のような液体吐出装置において、ノズルプレートに形成されている各ノズルの形状や位置は、記録媒体に形成されるドットの大きさや着弾位置、ひいては、記録画像の画質に大きな影響を及ぼす。そのため、従来から、ノズルプレートの複数のノズルを形成する方法としては、高精度の加工が可能なレーザ加工が広く採用されている。一般的なレーザ加工においては、ノズルプレートとなる基材の上に、多数の孔を有する遮光マスク等のノズル形成用部材を設置し、このノズル形成用部材に対してレーザ照射装置からレーザ光を照射する。そして、ノズル形成用部材を通過したレーザ光により、前記基材に多数のノズルを一度に形成する。
【０００４】
尚、特許文献１には、レーザ光内にビーム特性の変動、あるいは、ばらつきが生じることに起因して、複数のノズルの間でノズルの形状等が異なってしまうという問題が記載されている。これを抑制するために、特許文献１では、各ノズルを複数回のレーザ光照射で形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−６１７７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
基材に形成すべきノズルの数が多い場合などに、全てのノズルを、レーザ照射装置からの１回のレーザ光の照射によって一度に形成できない場合がある。この場合、複数のノズル形成のための基材へのレーザ光の照射を、複数回に分ける必要が生じる。
【０００７】
ここで、複数回のレーザ照射工程で、レーザ照射装置から常に同じ強度（特性）のレーザ光を照射できればよいのだが、実際には、レーザ光の強度は、時間経過に応じて変化しうる。その場合、異なる照射工程でレーザ光の強度が異なってしまうことにより、それぞれの照射工程で形成したノズルの間で、ノズルの形状（特に、ノズル径）が異なってしまうことになる。また、レーザ光の照射を複数回に分けてノズルを形成する場合、先の照射工程後、次の照射工程を行う前に、基材の、ノズルを形成する領域を変えるために、遮光マスク等のノズル形成用部材を、基材に対して相対的に移動させたり、回転させたりする必要がある。そのときの移動や回転の誤差によって、前の照射工程で形成したノズルと後の照射工程で形成したノズルとの間で、ノズルの形成位置（正規位置に対する位置ズレ量）がずれてしまうこともある。
【０００８】
このように、異なる照射工程によって異なる領域に形成されたノズルの間で、ノズルの形状やノズルの形成位置（位置ズレ量）が異なっていると、これらのノズルの間で、液体の吐出量や、吐出速度、あるいは、液体の着弾位置が異なってしまう。これらの問題は、例えば、画像形成装置においては、被記録媒体に形成される画像に濃度ムラ（バンディング）やスジを生じさせる要因となる。
【０００９】
尚、前記特許文献１では、各ノズルを複数回のレーザ照射で形成していることから、それら複数回のレーザ照射によって、ノズルの形状のばらつき等が均等化されるため、上述した問題は起こりにくくなる。しかしながら、各ノズルを複数回のレーザ照射で形成するのは手間も時間もかかり、生産性の点で非常に不利である。
【００１０】
本発明の目的は、ノズルプレートとなる基材に、異なる照射工程で形成されたノズルの間で、ノズルの形状やノズルの形成位置に違いがある場合でも、それによる画質への影響を極力小さく抑えることにある。
【課題を解決するための手段及び発明の効果】
【００１１】
本発明のノズルプレートの製造方法は、所定の第１方向に配列された複数のノズルを有するノズルプレートの製造方法であって、
前記ノズルプレートとなる基材の第１領域に、レーザ照射装置からレーザ光を照射して、前記第１領域に複数の第１ノズルを形成する、第１照射工程と、前記基材の前記第１領域とは異なる第２領域に、レーザ照射装置からレーザ光を照射して、前記第２領域に複数の第２ノズルを形成する、第２照射工程と、を備え、
前記第１方向と交差する第２方向において、前記基材の、前記複数の第２ノズルが形成される前記第２領域の少なくとも一部領域が、前記複数の第１ノズルが形成される前記第１領域と並ぶように、前記第１領域と前記第２領域を設定することを特徴とするものである。
【００１２】
本発明では、第１照射工程によって複数の第１ノズルが形成される第１領域と、第２照射工程によって複数の第２ノズルが形成される第２領域とが、第１方向（ノズルの配列方向）と交差する第２方向において並んでいる。つまり、第２方向において、第１領域と第２領域とが重なっている。そのため、本発明のノズルプレートを有する画像形成装置によって、第２方向に移動する被記録媒体に画像を形成したときには、その画像の少なくとも一部分が、第１領域の第１ノズルと第２領域の第２ノズルによって形成されることになる。従って、第１ノズルと第２ノズルの間でノズルの形状が異なっている場合、あるいは、ノズルの形成位置が異なっている場合でも、それによって画像に生じる濃度ムラやスジが目立ちにくくなる。また、本発明では、第１ノズルも第２ノズルも、それぞれ、１回のレーザ光の照射で形成されることから、先に挙げた特許文献１に開示されているような、１つのノズルを複数回の照射工程で形成する方法とは違って、手間や時間がかからない。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本実施形態に係るプリンタの概略平面図である。
【図２】インクジェットヘッドの一部平面図である。
【図３】図２のＡ部拡大図である。
【図４】図３のIV-IV線断面図である。
【図５】図３のV-V線断面図である。
【図６】インクジェットヘッドの製造工程を示す図である。
【図７】本発明を適用した実施例のノズルプレートの製造工程を示す図である。
【図８】本発明を適用しない比較例のノズルプレートの製造工程を示す図である。
【図９】図７の実施例のノズルプレートを有するインクジェットヘッドにより、記録用紙に形成したドットを示す図である。
【図１０】図８の比較例のノズルプレートを有するインクジェットヘッドにより、記録用紙に形成したドットを示す図である。
【図１１】変更形態のノズルプレートの製造工程を示す図である。
【図１２】別の変更形態のノズルプレートの製造工程を示す図である。
【図１３】別の変更形態の、基材プレートのノズル形成領域の区分を示す図である。
【図１４】別の変更形態に係るインクジェットプリンタの概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
次に、本発明の実施の形態について説明する。本実施形態は、所定の搬送方向に搬送される記録用紙に対してインクを吐出して画像を記録する、インクジェットプリンタに本発明を適用した一例である。図１は、本実施形態に係るプリンタの概略平面図である。尚、記録用紙の搬送方向に並行な、図１における上下方向をプリンタ１の前後方向、記録用紙の幅方向と平行な、図１における左右方向をプリンタ１の左右方向、図１の紙面垂直方向をプリンタ１の上下方向（紙面手前側が上方）、とそれぞれ定義し、以下では、前後、左右、上下といった方向語を適宜用いて説明する。
【００１５】
（プリンタの構成）
まず、プリンタの概略構成について説明する。図１〜図３に示すように、プリンタ１は、プラテン２と、インクジェットヘッド３と、２つの搬送ローラ４，５と、制御装置６等を備えている。
【００１６】
プラテン２の上面には記録用紙１００が載置される。このプラテン２の上方に、インクジェットヘッド３が配置されている。インクジェットヘッド３は、左右方向に長尺なライン型のヘッドである。インクジェットヘッド３は図示しないインクタンクと接続されており、インクタンクからインクが供給される。インクジェットヘッド３の下面（紙面向こう側の面）には、左右方向に沿って配列された複数のノズル２６が形成されている。
【００１７】
２つの搬送ローラ４，５は、前後方向において、インクジェットヘッド３を挟むように配置されている。これら２つの搬送ローラ４，５は、図示しないモータによって同期して回転駆動され、記録用紙１００を搬送方向に搬送する。
【００１８】
制御装置６は、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）、及び、各種制御回路を含むＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）等を備える。  制御装置６は、ＲＯＭに格納されたプログラムに従い、ＡＳＩＣにより、記録用紙１００への印刷等の各種処理を実行する。例えば、印刷処理においては、制御装置６は、ＰＣ等の外部装置から入力された印刷指令に基づいて、インクジェットヘッド３を制御して複数のノズル２６から記録用紙１００に向けてインクを吐出させる。また、制御装置６は、搬送ローラ４，５により記録用紙１００を搬送方向に搬送させる。これにより、記録用紙１００に所望の画像が記録される。
【００１９】
（インクジェットヘッドの構成）
次に、インクジェットヘッド３の詳細について説明する。図２は、インクジェットヘッド３の一部平面図である。図３は、図２のＡ部拡大図である。図４は、図３のIV-IV線断面図である。図５は、図３のV-V線断面図である。尚、図４、図５では、インクジェットヘッド３の流路ユニット２０内に充填されているインクを、符号“Ｉ”で示している。本実施形態のインクジェットヘッド３は、流路ユニット１０と、圧電アクチュエータ１１とを備えている。
【００２０】
図４、図５に示すように、流路ユニット１０は、５枚のプレート２１〜２５が積層された構造を有する。５枚のプレート２１〜２５のうちの最下層のプレート２５は、複数のノズル２６が形成されたノズルプレートであり、ポリイミド等の樹脂材料で形成されている。一方、上側の残り４枚のプレート２１〜２５には、複数のノズル２６に連通するマニホールド２８や圧力室２９等の流路が形成されている。上側４枚のプレート２１〜２４は、ステンレス鋼等の金属材料で形成されている。
【００２１】
図２に示すように、流路ユニット１０の上面には、インク供給孔２７が形成されている。このインク供給孔２７には、図示しないインクタンクに貯留されているインクが供給される。また、流路ユニット１０は、その内部に、それぞれ用紙幅方向に延在する２本のマニホールド２８を有する。２本のマニホールド２８は、共に、インク供給孔２７に連通している。
【００２２】
また、流路ユニット１０は、複数のノズル２６と、複数の圧力室２９とを有する。複数のノズル２６は、最下層のノズルプレート２５に形成されている。図２に示すように、これら複数のノズル２６は、左右方向（用紙幅方向）に所定のピッチＰで配列されており、また、２本のマニホールド２８にそれぞれ対応した２列のノズル列３９ａ，３９ｂを構成している。２列のノズル列３９ａ，３９ｂの間で、左右方向におけるノズル２６の位置が、各ノズル列３９の配列ピッチＰの半分（Ｐ／２）だけずれている。即ち、インクジェットヘッド３の全てのノズル２６が、搬送方向に２列に振り分けられていわゆる千鳥状に配列され、且つ、用紙幅方向においてＰ／２のピッチで配列されている。尚、本実施形態では、ノズル２６の配列方向が、搬送方向と直交しているが、ノズル２６の配列方向が、搬送方向に対して９０度以外の角度で交差する方向であってもよい。
【００２３】
複数の圧力室２９も、複数のノズル２６と同様に用紙幅方向に配列されて、２列の圧力室列を構成している。各圧力室２９は、搬送方向に長い長円形状を有する。図３、図４に示すように、各圧力室２９の一端部は、プレート２２に形成された連通孔３０を介してマニホールド２８に連通している。また、各圧力室の他端部は、プレート２２〜２４にそれぞれ形成された連通孔３１〜３３を介してノズル２６と連通している。以上より、図４に矢印で示すように、流路ユニット１０内には、マニホールド２８から分岐して、圧力室２９を経てノズル２６に至る個別流路が複数形成されている。
【００２４】
図４、図５に示すように、圧電アクチュエータ１１は、インク封止膜４０と、圧電層４４，４５と、複数の個別電極４２と、共通電極４６を備えている。インク封止膜４０は、複数の圧力室２９を覆う状態で流路ユニット１０の上面に接合されている。２枚の圧電層４４，４５は、インク封止膜４０の上面に積層されている。複数の個別電極４２は、上層の圧電層４４の上面において、複数の圧力室２９とそれぞれ対向するように配置されている。共通電極４６は、２枚の圧電層４４，４５の間において、複数の圧力室２９に跨って配置されている。
【００２５】
尚、上層の圧電層４４の、個別電極４２と共通電極４６とに挟まれる部分は、圧電層４４の厚み方向に分極されている。この部分は、個別電極と共通電極４６との間に電位差が生じたときに収縮して、インク封止膜４０に撓み変形を生じさせる部分であり、以下、活性部４１という。
【００２６】
複数の個別電極４２には、プリンタ１の制御装置６と接続された、図示しない配線部材が接続される。この配線部材にはドライバＩＣ４７が実装されている。ドライバＩＣ４７は、制御装置６からの信号を受けて、複数の個別電極４２のそれぞれに対して駆動信号を供給する。
【００２７】
ある個別電極４２に対して、ドライバＩＣ４７から駆動信号が供給されると、個別電極４２と共通電極４６に挟まれた、圧電層４４の活性部４１に分極方向と平行な方向の電界が作用し、活性部４１が面方向に収縮する。この活性部４１の収縮により、２枚の圧電層４４，４５が圧力室２９側に撓むように変形する。これにより、圧力室２９の容積が変化することによって圧力室２９内のインクに吐出エネルギーが付与され、圧力室２９に連通するノズル２６からインクが吐出される。
【００２８】
次に、上述したインクジェットヘッド３の製造工程について説明する。ここでは、主に、流路ユニット１０（特に、ノズルプレート２５）の製造を中心に説明する。図６は、インクジェットヘッド３の製造工程を示す図である。
【００２９】
まず、流路ユニット１０に関しては、この流路ユニット１０を構成する５枚のプレートのうち、上側の４枚の金属プレート２１〜２４にエッチングを行って、それぞれ圧力室２９、マニホールド２８、連通孔３０〜３４等の流路孔を形成する。また、詳細な説明は省略するが、流路ユニット１０の製造とは別に、圧電アクチュエータ１１の２枚の圧電層４４，４５の積層、焼成、及び、圧電層４４、４５への個別電極４２、共通電極４６の形成等の工程を行っておく。
【００３０】
その上で、まず、図６（ａ）に示すように、連通孔３３が形成されたプレート２４に、ノズル２６の形成後にノズルプレート２５となる、ポリイミド等の合成樹脂の基材プレート５０を接着剤で貼り付ける。次に、図６（ｂ）に示すように、２枚のプレート２４，５０の積層体に対して、上側（プレート側）に、ノズル２６のパターンに対応した複数の孔５１ａが形成された遮光マスク５１を設置し、この遮光マスク５１の上からレーザ照射装置によってレーザ光を照射する。遮光マスク５１の複数の孔５１ａをそれぞれ通過したレーザ光によって、基材プレート５０に複数のノズル２６を形成する。また、レーザ加工の種類は特に限定されないが、エキシマレーザが好適に用いられる。この図６（ｂ）の、レーザ加工によるノズル２６の形成については、後で詳しく説明する。
【００３１】
尚、基材プレート５０と別のプレート２４とを積層させてから、基材プレート５０に複数のノズル２６を形成している主な目的は、基材プレート５０が合成樹脂で形成された、剛性の低いプレートであることから、金属製のプレート２４を積層して剛性を高めて、基材プレート５０のハンドリング性を向上させるためである。
【００３２】
次に、図６（ｃ）に示すように、プレート２４とノズルプレート２５の積層体と、流路ユニット１０を構成する他のプレート２１〜２３とを、それぞれの流路孔が連通するように位置合わせして接着剤で接合する。また、複数の圧力室２９が形成されたプレート２１には、圧電アクチュエータ１１のインク封止膜４０を、複数の圧力室２９を覆うように接着剤で接合する。その後、図６（ｄ）に示すように、個別電極４２及び共通電極４６が形成された２枚の圧電層４４，４５の積層体を、インク封止膜４０の上面に、接着剤で接合する。以上の工程を経て、流路ユニット１０と圧電アクチュエータ１１とを備えたインクジェットヘッドの製造が完了する。
【００３３】
次に、ノズルプレート２５の製造工程について詳細に説明する。本実施形態のインクジェットヘッド３は、用紙幅方向に長尺なライン型のインクジェットヘッドであり、そのノズルプレート２５には、その長手方向に沿って多数のノズル２６が配列されている。このようなノズルプレート２５を製造する際に、ノズルプレート２５となる基材プレート５０に、全てのノズル２６を１回のレーザ光の照射でしようとすると、基材プレート５０とほぼ同じサイズの長尺な遮光マスク５１が必要となる。しかし、遮光マスク５１の製造面等における制約から、遮光マスク５１を大きくするにも限度がある。
【００３４】
そこで、ノズル２６の形成のためのレーザの照射を複数回に分けて行うことが望まれる。即ち、基材プレート５０のノズル形成領域全体を複数の領域に分割し、基材プレート５０よりもサイズの小さい遮光マスク５１を用いて、分割された複数の領域のそれぞれに対してレーザ光の照射を順に行う。
【００３５】
具体的には、本実施形態では、基材プレート５０のノズル形成領域を２つの領域に分割し、これら２つの領域のそれぞれに対して、遮光マスク５１を設置してレーザ光を照射する。その際、基材プレート５０のノズル形成領域の分割をどのように設定するかが重要になる。以下、基材プレート５０のノズル形成領域の分割に関して、２つの例を挙げて比較説明する。
【００３６】
図７は、本発明を適用した実施例のノズルプレートの製造工程を示す図であり、（ａ）は基材プレート５０の上面図、（ｂ）は遮光マスク５１の上面図、（ｃ）は第１領域にノズル２６を形成するときの（ａ）のＣ−Ｃ断面図、（ｄ）は第２領域にノズル２６を形成するときの（ａ）のＤ−Ｄ断面図である。一方、図８は、本発明を適用しない比較例のノズルプレートの製造工程を示す図であり、（ａ）は基材プレート５０の上面図、（ｂ）は遮光マスク１５１の上面図、（ｃ）は第１領域にノズル２６を形成するときの（ａ）のＣ−Ｃ断面図、（ｄ）は第２領域にノズル２６を形成するときの（ａ）のＤ−Ｄ断面図である。尚、先に説明した図６（ｂ）では、基材プレート５０の上にプレート２４が積層された状態で、ノズル２６の形成が行われているが、図７、図８では、図面の簡単化のため、このプレート２４の図示は省略されている。
【００３７】
［実施例について］
まず、図７の実施例について詳細に説明する。
【００３８】
（領域の分割）
図７（ａ）に示すように、基材プレート５０は、一方向に長尺な、矩形の平面形状を有するプレートである。図７の実施例では、基材プレート５０のノズル形成領域を、基材プレート５０の長手方向に、第１領域６１と第２領域６２の２つの領域に分けている。但し、第１領域６１と第２領域６２は、基材プレート５０の短手方向、即ち、ノズル２６の配列方向と直交する方向において、部分的に重なっている。より詳細には、第１領域６１のうちの右側の第１隣接領域６３は、第２領域６２のうちの左側の第２隣接領域６５と、搬送方向において並んでいる。第１領域６１のうちの左側の第１非隣接領域６４は第２領域６２とは並んでおらず、また、第２領域６２のうちの右側の第２非隣接領域６６も第１領域６１とは並んでいない。尚、基材プレート５０（ノズルプレート２５）の長手方向は、本発明の第１方向に相当し、また、図１のプリンタ１においては用紙幅方向と平行な方向となる。また、基材プレート５０（ノズルプレート２５）の短手方向は、本発明の第２方向に相当し、また、図１のプリンタ１においては搬送方向と平行な方向となる。
【００３９】
（遮光マスク）
図７（ｂ）に示すように、基材プレート５０の上に設置する遮光マスク５１は、矩形の平面形状を有する。この遮光マスク５１には、図７（ａ）に示される、第１領域６１と第２領域６２のそれぞれのノズル形成パターンに応じた、複数の孔５１ａが形成されている。詳細には、複数の孔５１ａは、遮光マスク５１の長手方向に沿って配列ピッチＰで配列されて、２列の孔群５３ａ，５３ｂを構成している。また、孔群５３ｂは、孔群５３ａよりも孔５１ａの数は少なく、且つ、孔群５３ａに対して、個々の孔５１ａの位置がその配列方向においてＰ／２だけずれている。これにより、遮光マスク５１には、孔５１ａの配置密度が高い領域Ａと、孔５１ａの配置密度が低い領域Ｂとが存在する。
【００４０】
尚、遮光マスク５１と基材プレート５０は、一方が他方に対して、相対移動、及び、水平面内で相対回転が可能となっている。遮光マスク５１が基材プレート５０に対して移動及び回転可能な構成でもよいし、基材プレート５０が遮光マスク５１に対して移動及び回転可能な構成でもよい。遮光マスク５１を、基材プレート５０に対して相対移動、及び、相対回転させることにより、同じ遮光マスク５１を、第１領域６１と第２領域６２のそれぞれの直上に設置することが可能となっている。
【００４１】
（第１照射工程）
図７（ｃ）に示すように、まず、図７（ｂ）の遮光マスク５１を、基材プレート５０の第１領域６１の上に設置する。そして、レーザ照射装置５２から遮光マスク５１に向けてレーザ光を照射し、遮光マスク５１の複数の孔５１ａをそれぞれ通過したレーザ光によって、基材プレート５０の第１領域６１に複数のノズル２６を形成する。
【００４２】
（第２照射工程）
第１照射工程の後、遮光マスク５１を基材プレート５０に対して相対移動及び相対回転させ、この遮光マスク５１を、基材プレート５０の第２領域６２の上に設置する。そして、第１照射工程と同様に、レーザ照射装置５２から遮光マスク５１に向けてレーザ光を照射し、基材プレート５０の第２領域６２に複数のノズル２６を形成する。
【００４３】
尚、以下の説明において、第１照射工程によって、基材プレート５０の第１領域６１に形成されるノズル２６を、「第１ノズル２６ａ」、あるいは、単に「ノズル２６ａ」と称する。また、第２照射工程によって、基材プレート５０の第２領域６２に形成されるノズル２６を、「第２ノズル２６ｂ」、あるいは、単に「ノズル２６ｂ」と称する。
【００４４】
また、第１領域６１の第１非隣接領域６４と第２領域６２の第２非隣接領域６６の上には、遮光マスク５１の、孔５１ａが高い密度で配置された領域Ａが設置される。従って、第１非隣接領域６４と第２非隣接領域６６においては、ノズル２６の配列ピッチはそれぞれＰ／２となる。一方、第１領域６１の第１隣接領域６３と第２領域６２の第２隣接領域６５の上には、遮光マスク５１の、孔５１ａが低い密度で配置された領域Ｂが設置される。従って、第１隣接領域６３と第２隣接領域６５においては、ノズル２６の配列ピッチはそれぞれＰとなる。但し、これら２つの領域６３，６５を合わせた全体では、ノズル２６(２６ａ，２６ｂ)が、用紙幅方向において、ピッチＰ／２で配列されることになり、第１非隣接領域６４及び第２非隣接領域６６におけるノズル２６の配列ピッチ（Ｐ／２）と等しくなる。従って、基材プレート５０の長手方向全域で、ノズル２６の配列ピッチはＰ／２となる。
【００４５】
［比較例について］
次に、図８の比較例について説明する。図８（ａ）に示すように、この比較例でも、基材プレート５０のノズル形成領域を、基材プレート５０の長手方向に、第１領域１６１と第２領域１６２の２つの領域に分けている。但し、ここでは、ノズル形成領域を単純に左右に分けているだけであり、第１領域１６１と第２領域１６２は、基材プレート５０の短手方向において重なっていない。また、図８（ｂ）に示すように、遮光マスク１５１には、第１領域１６１と第２領域１６２のノズル形成パターンに応じた複数の孔１５１ａが形成されている。
【００４６】
基材プレート５０へのレーザ光の照射工程は、実施例と同様である。即ち、まず、基材プレート５０の第１領域１６１の上に遮光マスク１５１を設置し、レーザ照射装置１５２から遮光マスク１５１にレーザ光を照射することにより、第１領域１６２に複数のノズル２６（２６ａ）を形成する。次に、基材プレート５０の第２領域１６２の上に遮光マスク１５１を設置し、レーザ照射装置１５２から遮光マスク１５１にレーザ光を照射することにより、第２領域１６２に複数のノズル２６（２６ｂ）を形成する。
【００４７】
ところで、ノズルプレート２５の製造工程において、レーザ光の照射工程を複数回に分けて行った場合、次のような問題が起こり得る。
【００４８】
上記のように、第１照射工程と第２照射工程で同一の遮光マスク５１（１５１）を使用しているため、本来、第１照射工程で形成される第１ノズル２６ａと第２照射工程で形成される第２ノズル２６ｂは、同じ形状となるはずである。しかしながら、実際には、異なるレーザ照射工程の間で、レーザ照射装置から照射されるレーザ光の強度（特性）が変化する。例えば、エキシマレーザであれば、レーザ光を発生させるのに必要な不活性ガスの濃度が、時間的に変化することによる強度変化が考えられる。また、レーザ照射装置内での温度変化も、出力されるレーザ光の強度に影響を及ぼす。このようなレーザ光の強度特性の変化によって、異なる照射工程で形成したノズル２６の間で、ノズル２６の形状（特に、ノズル径）が異なってしまうことがあり得る。
【００４９】
また、上述したように、先の第１照射工程後、後の第２照射工程を行う前に、遮光マスク５１（１５１）を、基材プレート５０に対して相対移動及び相対回転をさせて、両者の相対位置や相対角度を変更する必要がある。そのときの、移動誤差、あるいは、回転誤差によって、第１照射工程で形成した第１ノズル２６ａと第２照射工程で形成した第２ノズル２６ｂとの間で、ノズル２６の形成位置（正規の位置に対する位置ズレ量）が異なってしまうことがある。
【００５０】
このように、異なる照射工程で形成した第１ノズル２６ａ，２６ｂの間で、ノズル２６の形状やノズル２６の形成位置に違いが存在していると、第１照射工程で形成した第１ノズル２６ａと第２照射工程で形成した第２ノズル２６ｂとの間で、インクの吐出量やインクの着弾位置が異なってしまうことになる。この点、本発明を適用した実施例では、基材プレート５０の、第１照射工程でレーザ光が照射される第１領域６１と、第２照射工程でレーザ光が照射される第２領域６２とが、ノズル２６の配列方向と直交する方向に並ぶように設定されている。そのため、下記に述べるように、上記の吐出量の違いや着弾位置ズレによる、記録画像の画質低下を抑制することができる。
【００５１】
図９は、実施例のノズルプレート２５を有するインクジェットヘッドにより、記録用紙に形成したドットを示す図である。図１０は、比較例のノズルプレート２５を有するインクジェットヘッドにより、記録用紙に形成したドットを示す図である。
【００５２】
図９（ａ）、図１０（ａ）は、基材プレート５０の第２領域６２，１６２に形成された第２ノズル２６ｂの径が、第１領域６１，１６１に形成された第１ノズル２６ａの径よりも小さい場合を示している。比較例の図１０（ａ）では、記録用紙の左側領域に第１領域１６１の第１ノズル２６ａによって形成されたドットＤａが配列され、右側領域に第２領域１６２の第２ノズル２６ｂによって形成されたドットＤｂが配列される。ここで、第２領域１６２の第２ノズル２６ｂの径が小さいと、記録用紙の右側領域のドットＤｂが左側領域のドットＤａよりも小さくなり、右側領域が左側領域よりも濃度が低くなる。この濃度の差が、記録画像にバンディングを発生させることになる。
【００５３】
これに対して、実施例の図９（ａ）では、記録用紙の用紙幅方向中央の領域において、第１領域６１の第１隣接領域６３の第１ノズル２６ａによって形成されたドットＤａと、第２領域６２の第２隣接領域６５の第２ノズル２６ｂによって形成されたドットＤｂとが混在することになる。従って、第２領域６２の第２ノズル２６ｂによって形成されるドットＤｂの大きさが、第１領域６１の第１ノズル２６ａによって形成されるドットＤａとは異なっていても、大きさの異なる２種類のドットＤａ，Ｄｂが混在して配置されるために、濃度ムラが抑制される。
【００５４】
図９（ｂ）、図１０（ｂ）は、基材プレート５０の第２領域６２，１６２に形成された第２ノズル２６ｂの位置が、正規の位置に対して右側にずれて形成されている場合を示している。比較例の図１０（ｂ）では、記録用紙の右側領域のドットＤｂが左側領域のドットＤａに対して全体的に右側にずれ、２つの領域の間に隙間Ｇが発生する。隙間Ｇの左右の領域においては、それぞれドットＤａ，Ｄｂが均一に配置されているために、濃度が局所的に低下している前記隙間Ｇは、画像を見る人に白スジとして視認されてしまう。
【００５５】
これに対して、実施例の図９（ｂ）では、記録用紙の用紙幅方向中央の領域において、第２領域６２の第２隣接領域６５の第２ノズル２６ｂによって形成されるドットＤｂが、第１領域６１の第２隣接領域の第１ノズル２６ａによって形成されるドットＤａに対して、右側にずれる。このとき、２種類のドットＤａ，Ｄｂの間に隙間ができるが、それに隣接して２種類のドットＤａ，Ｄｂが重なる部分も存在する。つまり、この用紙幅方向中央の領域では、２種類のドットＤａ，Ｄｂが離れて濃度が薄くなった部分と、２種類のドットＤａ，Ｄｂが重なって濃度が濃い部分とが交互に表れる。しかし、人間の視覚限界（３００〜４００ｄｐｉ程度）では、上記の濃度の薄い部分と濃い部分とを区別して見分けることは困難であり、画像を見る人に白スジ、あるいは、黒スジとして視認されない。また、用紙幅方向中央の領域では、上記の濃度の薄い部分と濃い部分とが交互に表れるために、この中央部の領域全体の濃度は、ドットＤａ，Ｄｂが均一に配置されている左側領域及び右側領域の濃度と比べて、それほど大きく異なるわけではない。従って、この中央部領域全体が左右の領域に対して目立つこともない。
【００５６】
以上説明したように、本実施形態では、第１照射工程によって複数の第１ノズル２６ａが形成される第１領域６１と、第２照射工程によって複数の第２ノズル２６ｂが形成される第２領域６２とが、ノズル２６の配列方向と直交する、基材プレート５０の短手方向において並んでいる。つまり、前記短手方向において、第１領域６１と第２領域６２とが重なっている。そのため、インクジェットヘッド３によって、前記短手方向と平行な搬送方向に搬送される記録用紙１００に画像を形成したときに、その画像の一部分が、第１領域６１の第１隣接領域６３に形成された第１ノズル２６ａと、第２領域６２の第２隣接領域６５に形成される第２ノズル２６ｂとによって形成されることになる。従って、第１領域６１の第１ノズル２６ａと第２領域６２の第２ノズル２６ｂの間でノズル２６の形状が異なっている場合、あるいは、ノズル２６の形成位置が異なっている場合でも、それによって画像に生じる濃度ムラやスジが目立ちにくくなる。また、第１領域６１の第１ノズル２６ａも第２領域６２の第２ノズル２６ｂも、それぞれ、１回のレーザ照射工程で形成されることから、先に挙げた特許文献１に開示されている方法のように、１つのノズル２６を複数回のレーザ照射工程で形成するような方法と比べて、手間や時間がかからない
【００５７】
また、本実施形態では、基材プレート５０の、第１領域６１の第１隣接領域６３と第２領域６２の第２隣接領域６５が、基材プレート５０の短手方向において並ぶ一方で、第１領域６１の第１非隣接領域６４と第２領域６２の第２非隣接領域６６は、基材プレート５０の短手方向において並んでいない。つまり、第１領域６１と第２領域６２とが、第１隣接領域６３と第２隣接領域６５において部分的に重なっている。これにより、第１照射工程で形成される複数の第１ノズル２６ａからなるノズル群と、第２照射工程で形成される複数の第２ノズル２６ｂからなるノズル群とが部分的に重なることになる。従って、２回の照射工程を行うことによって、各照射工程で形成されるノズル群よりも、配列長さが長いノズル群を、基材プレート５０の長手方向全域に形成することができる。このことは、長尺なライン型ヘッドのノズルプレート２５を製造する場合に特に有効である。
【００５８】
また、本実施形態では、第１領域６１の第１隣接領域６３、及び、第２領域６２の第２隣接領域６５のそれぞれにおけるノズル２６の配列ピッチを、第１領域６１の第１非隣接領域６４、及び、第２領域６２の第２非隣接領域６６のそれぞれにおけるノズル２６の配列ピッチよりも大きくしている。これにより、第１隣接領域６３と第２隣接領域６５を合わせた領域における、ノズル２６（２６ａ，２６ｂ）の配列ピッチを、第１非隣接領域６４におけるノズル２６ａの配列ピッチ、及び、第２非隣接領域６６におけるノズル２６ｂの配列ピッチと同じにすることができる。つまり、２回の照射工程によって、基材プレート５０の長手方向全域にわたって、ノズル２６の配列ピッチを均一にすることが可能となる。
【００５９】
以上説明した実施形態において、ノズルプレート２５となる基材プレート５０が、本発明の基材に相当する。遮光マスク５１が、本発明のノズル形成用部材に相当する。遮光マスク５１の孔５１ａが、本発明の光通過部に相当する。
【００６０】
次に、前記実施形態に種々の変更を加えた変更形態について説明する。但し、前記実施形態と同様の構成を有するものについては、同じ符号を付して適宜その説明を省略する。
【００６１】
１］レーザ照射装置から照射されたレーザ光を、基材の特定箇所にのみ集中して照射させるために使用する、ノズル形成用部材としては、前記実施形態の遮光マスク５１の他、マイクロレンズを使用することもできる。マイクロレンズとは、一般に、直径１ｍｍ未満の微小なレンズ部を有するレンズの総称である。その中でも、シリコン基板に半導体プロセスによって微小レンズ部が形成された、シリコンマイクロレンズが知られている。
【００６２】
図１１は、シリコンマイクロレンズ７１を用いて基材プレート５０の第１領域６１と第２領域６２にノズル２６を形成する工程の説明図である。図１１（ａ）に示す、本変更形態における、基材プレート５０の第１領域６１と第２領域６２の分割の設定は、前記実施形態で説明した実施例（図７（ａ）参照）と同じである。図１１（ｂ）に示すように、シリコンマイクロレンズ７１は、基材プレート５０の第１領域６１及び第２領域６２のノズル形成パターンに対応した、複数のレンズ部７１ａを有する。
【００６３】
（第１照射工程）
まず、図１１（ｃ）に示すように、シリコンマイクロレンズ７１を、基材プレート５０の第１領域６１の上に設置した後、レーザ照射装置５２からシリコンマイクロレンズ７１に向けてレーザ光を照射する。シリコンマイクロレンズ７１に照射されたレーザ光は、複数のレンズ部７１ａの各々において集光されつつレンズ部７１ａを通過する。複数のレンズ部をそれぞれ通過したレーザ光により、基材プレート５０の第１領域６１に複数の第１ノズル２６ａを形成する。
【００６４】
（第２照射工程）
次に、図１１（ｄ）に示すように、シリコンマイクロレンズ７１を基材プレート５０に対して相対移動及び相対回転させ、基材プレート５０の第２領域６２の上に設置した後、レーザ照射装置５２からシリコンマイクロレンズ７１に向けてレーザ光を照射する。シリコンマイクロレンズ７１に照射されたレーザ光は、複数のレンズ部７１ａの各々において集光されつつレンズ部７１ａを通過する。複数のレンズ部をそれぞれ通過したレーザ光により、基材プレート５０の第２領域６２に複数の第２ノズル２６ｂを形成する。
【００６５】
尚、この図１１の形態において、シリコンマイクロレンズ７１が、本発明のノズル形成用部材に相当する。また、複数のレンズ部７１ａが、本発明の複数の光通過部に相当する。
【００６６】
ところで、図１１のようにシリコンマイクロレンズ７１を用いる場合に、１回の照射工程でできるだけ多くのノズル２６を形成し、照射工程の回数を減らすには、シリコンマイクロレンズ７１の平面サイズは大きいことが好ましい。しかし、シリコンマイクロレンズ７１はシリコンウェハーから製造されるため、レンズのサイズは、シリコンウェハーのサイズの制約を受ける。ここで、シリコンウェハーは、直径が５０ｍｍ（２インチ）〜３００ｍｍ（１２インチ）のものが知られているが、サイズの大きいウェハーを使用するとコストが高くなるため、コストを考慮すれば、１５０ｍｍ（６インチ）のものを使用することが好ましい。その場合、シリコンマイクロレンズ７１は、複数のレンズ部７１ａの配列長さＬ１が、１０５ｍｍ以上１５０ｍｍ未満のものとなる。
【００６７】
このようなシリコンマイクロレンズ７１を用い、第１照射工程において、基材プレート５０の第１領域６１に、用紙幅方向において１０５ｍｍ以上の長さで配列される複数の第１ノズル２６ａを形成する。また、第２照射工程において、基材プレート５０の第２領域６２に、用紙幅方向において１０５ｍｍ以上の長さで配列される複数の第２ノズル２６ｂを形成する。さらに、基材プレート５０の、第１照射工程において複数の第１ノズル２６ａが形成される第１領域６１と、第２照射工程において複数の第２ノズル２６ｂが形成される第２領域６２は、基材プレート５０の短手方向において部分的に重なるように設定される。従って、２回の照射工程によって、基材プレート５０に、配列長さＬ２が２１０ｍｍ以上で、複数のノズル２６を形成することができる。
【００６８】
２］第１領域６１と第２領域６２については、例えば、以下のように設定することも可能である。
【００６９】
（１）１回の照射工程で照射されるレーザ光は、その照射範囲内で強度が完全に一定ということは通常あり得ず、そのレーザ光内に、何らかの強度分布が生じているのが普通である。例えば、照射範囲の中央側ほど強度が強く、端側にいくほど弱くなるなど、個々のレーザ照射装置５２に特有の傾向を有する。このように、１回の照射工程で照射されるレーザ光に、用紙幅方向において強度分布が生じている場合によっても、ノズル２６の径のばらつきが生じる。
【００７０】
その場合、第１領域６１と第２領域６２のうちの、基材プレート５０の短手方向において並ぶ２つの領域に、例えば、レーザ光の高強度部分がそれぞれ照射されると、これら２つの領域に、径の大きいノズル２６が集中して形成されることになり、その結果、記録画像に濃度ムラが生じる。この観点からは、前記２つの領域の両方に、レーザ光の高強度部分、あるいは、低強度部分が照射されないようにすることが好ましい。
【００７１】
前記実施形態の図７と同様に、図１２（ａ）に示すように、基材プレート５０のノズル形成領域を、第１領域６１と第２領域６２に分ける。また、基材プレート５０の、第１領域６１の第１隣接領域６３と第２領域６２の第２隣接領域６５とが、基材プレート５０の短手方向において並んでいる。図１２（ｂ）、（ｃ）に示すように、レーザ照射装置から照射されるレーザ光には、基材プレート５０の長手方向において強度分布（強度変動）が存在するとする。尚、図１２（ｂ）、（ｃ）において、矢印の長さの違いが、レーザ光の強度の違いを示している。レーザ光の中央部分は、強度が高い高強度部分であり、その両側部分は、中央部分よりも強度が低い低強度部分である。
【００７２】
第１隣接領域６３の一領域と、これと並ぶ第２領域６２の一領域には、レーザ光の強度の異なる部分がそれぞれ照射される。即ち、図１２（ｂ）、（ｃ）に示すように、第１隣接領域６３の、レーザ光の高強度部分が照射される領域と、第２隣接領域６５の、レーザ光の低強度部分が照射される領域とが、基材プレート５０の短手方向に並んでいる。また、第１隣接領域６３の、レーザ光の低強度部分が照射される領域と、第２隣接領域６５の、レーザ光の高強度部分が照射される領域とが、基材プレート５０の短手方向に並んでいる。
【００７３】
これにより、レーザ光の強度が高いために孔径が大きくなったノズル２６と、レーザ光の強度が低いために孔径が小さくなったノズル２６とが、基材プレート５０の短手方向に並ぶことになるため、記録画像の濃度ムラが抑制される。
【００７４】
（２）但し、本発明は、第１領域６１と第２領域６２の重なる領域に、レーザ光の異なる強度部分が照射されることに限定されるわけではない。例えば、照射範囲内におけるレーザ光の強度分布（強度変動）が小さい場合には、第１領域６１と第２領域６２の重なる領域に、それぞれ、レーザ光の高強度部分が照射されてもよい。
【００７５】
（３）基材プレート５０のノズル形成領域が３以上の領域に区分され、前記３以上の領域に対してそれぞれレーザ光を照射してノズル２６を形成してもよい。例えば、図１３（ａ）では、基材プレート５０に、基材プレート５０の長手方向に並ぶ第１領域６１、第２領域６２、及び、第３領域６７を設定する。また、これら３つの領域６１，６２，６７のうち、第１領域６１と第２領域６２とが基材プレート５０の短手方向に並んでおり、また、第２領域６２と第３領域６７とが基材プレート５０の短手方向に並んでいる。あるいは、基材プレート５０の第１領域６１、第２領域６２、及び、第３領域６７の３つの領域が、基材プレート５０の短手方向に順に並んでいてもよい。
【００７６】
（４）第１領域６１の全体と第２領域６２の全体とが、基材プレート５０の短手方向に並んでいてもよい。例えば、図１３（ｂ）では、第１領域６１は、図２に示される一方のノズル列３９ａの全体が配置される領域であり、第２領域６２は、図２に示される他方のノズル列３９ｂの全体が配置される領域である。そして、第１領域６１の全域と第２領域６２の全域とが、基材プレート５０の短手方向において並んでいる。この図１３（ｂ）によって形成されたノズルプレート２５を用いれば、ノズルプレート２５の長手方向全域（記録用紙１００の幅方向全域）において、第１領域６１の第１ノズル２６ａによって形成されるドットＤａと、第２領域６２の第２ノズル２６ｂによって形成されるドットＤｂとが、混在することになる。従って、２種類のドットＤａ，Ｄｂの大きさや着弾位置の違いによる濃度ムラ等が目立ちにくくなる。
【００７７】
３］前記実施形態では、ノズルプレート２５となる基材プレート５０が合成樹脂で形成されたプレートであるとしたが、基材プレート５０の材質は特に限定されない。例えば、基材プレート５０が、合成樹脂プレートよりも剛性の高い、例えば、金属製のプレートであってもよい。
【００７８】
また、前記実施形態では、図６に示すように、基材プレート５０に、別のプレート２４を積層した後に、基材プレート５０に複数のノズル２６を形成しているが、基材プレート５０の剛性に応じて、事前に積層させるプレートの枚数は適宜変更できる。さらに、基材プレート５０の剛性が高い場合には、複数のノズル２６の形成を形成する前に、基材プレート５０に他のプレートを積層させなくてもよい。
【００７９】
４］第１領域６１と第２領域６２でノズル２６の形状が異なる場合に、第１領域６１の第１ノズル２６ａと第２領域６２の第２ノズル２６ｂとの間の、インクの吐出量や吐出速度の差を小さくなるように、各ノズル２６に吐出エネルギーを付与する圧電アクチュエータの動作を制御してもよい。例えば、径が大きいノズル２６に対応する個別電極と、径の小さいノズル２６に対応する個別電極とで、駆動信号の波形や駆動電圧を異ならせる。
【００８０】
５］各ノズル２６に吐出エネルギーを付与する装置は、前記実施形態で例示した圧電アクチュエータには限られない。例えば、インクに熱エネルギーを付与する発熱抵抗体を有し、発熱抵抗体による加熱によってインクに膜沸騰を生じさせてノズル２６から吐出させる装置であってもよい。
【００８１】
６］前記実施形態では、用紙幅方向に沿ってノズルが配列された、ライン型のインクジェットヘッドのノズルプレートに本発明を適用した例を挙げた。これに対して、搬送方向に沿ってノズルが配列され、用紙幅方向に移動しながらインクを吐出する、いわゆる、シリアル型のインクジェットヘッドに本発明を適用することも可能である。図１４に示すインクジェットプリンタ８１は、キャリッジ８２と、キャリッジ８２に搭載されたインクジェットヘッド８３と、記録用紙を搬送方向に搬送する搬送ローラ８４，８５を備えている。キャリッジ８２は、キャリッジ駆動モータ８６によって、搬送方向と直交する走査方向（用紙幅方向）に往復移動する。インクジェットヘッド８３は、インクカートリッジ８７と、図示しないチューブで接続されている。インクジェットヘッド８３は、キャリッジ８２とともに走査方向に移動しながら、複数のノズル９６から記録用紙１００に対してインクを吐出する。
【００８２】
上記のシリアル型のインクジェットヘッド８３においても、例えば、搬送方向に配列されるノズル９６の数が多く、これらのノズル９６を、ノズルプレート９０となる基材にレーザ加工により一度に形成することが困難な場合などに、本発明は好適である。その場合、例えば、図１４に示すように、ノズルプレート９０となる基材を、走査方向において部分的に重なる、第１領域９１と第２領域９２に分割して、それぞれに対してレーザ照射工程を行えばよい。
【符号の説明】
【００８３】
２５  ノズルプレート
２６ａ  第１ノズル
２６ｂ  第２ノズル
５０  基材プレート
５１ａ  孔
５１  遮光マスク
５２  レーザ照射装置
６１  第１領域
６２  第２領域
６３  第１隣接領域
６４  第１非隣接領域
６５  第２隣接領域
６６  第２非隣接領域
７１  シリコンマイクロレンズ
７１ａ  レンズ部
８３  インクジェットヘッド
９０  ノズルプレート
９１  第１領域
９２  第２領域
９６  ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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