(57)【要約】【課題】ガスの使用量を低減しつつもガス供給路にて溜まる水分量も低減でき、パイロットアークの点弧性を良好に維持できるプラズマアーク加工用電源装置を提供する。【解決手段】プラズマアーク溶接装置１０（溶接電源１１）が起動するメインスイッチ３１のオン期間中でアークが消弧している期間において、ガスボンベ１８から溶接トーチ１２のプラズマガスノズル１６までのガス供給路にて溜まり得る水分の放出を考慮した予備ガスパージ動作が分散的に自動実施される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工用トーチに備えられる電極と加工対象の母材との間にプラズマアークを発生させるための電力生成を行うと共に、プラズマガスノズルから前記電極周りにおいてプラズマガスを噴射させるその噴射態様の切り替えを行うプラズマアーク加工用電源装置であって、
前記電源装置は、メインスイッチのオンに基づいて起動するものであり、
前記電源装置に備えられる制御回路は、前記メインスイッチのオン期間中でアークが消弧している期間において、ガス供給源から前記加工用トーチのプラズマガスノズルまでのガス供給路にて溜まり得る水分の放出を考慮した予備ガスパージ動作を分散的に実施するように制御することを特徴とするプラズマアーク加工用電源装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマアーク加工用電源装置において、
前記電源装置には、前記プラズマガスの流量をプラズマアークの点弧時の流量に調整される流量調整部を有するプラズマガス流路が備えられると共に、前記流量調整部を迂回し該流量調整部で設定される流量よりも大きく設定されるバイパス流路が備えられ、
前記制御回路は、前記予備ガスパージ動作の際には前記バイパス流路を流通可能に切り替え、該バイパス流路を使った前記プラズマガスの流通によりその予備ガスパージを実施させることを特徴とするプラズマアーク加工用電源装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のプラズマアーク加工用電源装置において、
前記制御回路は、前記メインスイッチのオンに基づいて前記プラズマアークの点弧前に先ず前記予備ガスパージ動作を実施させることを特徴とするプラズマアーク加工用電源装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のプラズマアーク加工用電源装置において、
前記予備ガスパージ動作を分散的に行う際のその時間間隔、予備ガスパージ自身の流量及び時間の内の少なくとも１つが変更可能に構成されたことを特徴とするプラズマアーク加工用電源装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のプラズマアーク加工用電源装置を用いて構成されることを特徴とするプラズマアーク加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマアークによる溶接や切断等の加工装置に用いる電源装置、及びその加工装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマアーク溶接装置等においては、プラズマアーク発生のためのプラズマガス（作動ガス）を電極周りで噴射する構成となっている。溶接作業の開始時にパイロットアークを生じさせる場合、プラズマガスの噴射と共にアークの点弧が行われるが、プラズマガスを流通させるガスホース内に多くの水分が存在するとパイロットアークの点弧性が悪化する。そのため、例えば朝一番等の溶接装置の起動時には、パイロットアークを点弧させる前にプラズマガスの予備のガスパージを実施し、ガスホース内の水分を外部に放出させる対策が有効である。
【０００３】
しかしながら、プラズマガスの役割からその流量としてはシールドガスの流量よりも十分に小さい設定となっているため、プラズマガス用のガスホース内の水分を十分に外部に放出させるためには時間を要する。つまり、溶接装置を起動させてから実際に溶接作業を実施するまでの待ち時間が長くなり、作業効率を低下させてしまう。
【０００４】
そこで、例えば特許文献１に開示のものでは、その溶接装置に用いる電源装置において、プラズマガスの本来の役割に合わせて流量を絞って調整している流量調整弁（ニードル弁等）を迂回するバイパス流路が設けられている。バイパス流路は、流量調整弁側の流量よりも十分に大きく設定されている。そして、溶接装置（電源装置）の起動直後のパイロットアークの点弧前に、プラズマガス用のガスホース内の水分を短時間で外部に放出すべく、バイパス流路を使ったプラズマガスの予備ガスパージが行われるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−３５２８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、溶接装置（電源装置）を起動させるメインスイッチは、一般に装置とは異なる場所に設置され、その日の溶接作業において頻繁にオンオフするものではなく、その日の溶接作業の開始時に一度限りオンに切り替えられることが状況としてあり得る。このような状況では、その日の溶接作業の開始時の一度に限り、プラズマガス用のガスホース内の水分を一掃するプラズマガスの予備ガスパージが行われることになる。
【０００７】
しかしながら、その日の溶接作業の中で作業者が食事休憩をする等、ある程度長い時間作業を中断するような場合であっても、休憩明けの作業再開時においてパイロットアークの点弧性に影響を及ぼす程の水分がガスホース内に溜まる虞がある。この場合、作業者がメインスイッチをオフして溶接作業を中断し作業再開時にメインスイッチを再びオンすれば、パイロットアークの点弧前に上記の予備ガスパージが再度実施されるものの、メインスイッチの性質上、作業を中断する度にオフすることが余り行われないため、作業再開時のパイロットアークの点弧性を悪化させる虞もあった。
【０００８】
これに対し、特許文献１に開示の装置は、メインスイッチがオンされている限り、溶接作業の有無にかかわらず、プラズマガスを何らかの形で放出し続ける仕様となっている。これにより、ガスホース内に水分が溜まり難くなるため、休憩明けの作業再開時のパイロットアークの点弧性は良好である。
【０００９】
しかしながらその反面、高価なガスを使用するユーザでは特に、ガスの使用量を低減したいといった要望もあるため、ガスの使用量の低減とガスホース内に溜まる水分量の低減との両立を図ることが検討課題となっている。
【００１０】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、ガスの使用量を低減しつつもガス供給路にて溜まる水分量も低減でき、パイロットアークの点弧性を良好に維持することができるプラズマアーク加工用電源装置、及びプラズマアーク加工装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するプラズマアーク加工用電源装置は、加工用トーチに備えられる電極と加工対象の母材との間にプラズマアークを発生させるための電力生成を行うと共に、プラズマガスノズルから前記電極周りにおいてプラズマガスを噴射させるその噴射態様の切り替えを行うプラズマアーク加工用電源装置であって、前記電源装置は、メインスイッチのオンに基づいて起動するものであり、前記電源装置に備えられる制御回路は、前記メインスイッチのオン期間中でアークが消弧している期間において、ガス供給源から前記加工用トーチのプラズマガスノズルまでのガス供給路にて溜まり得る水分の放出を考慮した予備ガスパージ動作を分散的に実施するように制御する。
【００１２】
この構成によれば、電源装置が起動するメインスイッチのオン期間中でアークが消弧している期間において、ガス供給源から加工用トーチのプラズマガスノズルまでのガス供給路にて溜まり得る水分の放出を考慮した予備ガスパージ動作が分散的に自動実施される。つまり、そのガス供給路を構成する例えばガスホース内では、アークが消弧しているとプラズマガスの流通がないために水分が溜まり易い状況となっており、次のパイロットアークの点弧の際に支障を来す虞があるため、その水分の放出を適切に行い得る予備ガスパージが行われる。しかも、この予備ガスパージは分散的に行われるため、ガスの使用量の低減を図りながらもガス供給路に溜まる水分量も低減可能で、次のパイロットアークの点弧性を良好に維持することが可能である。
【００１３】
また上記のプラズマアーク加工用電源装置において、前記電源装置には、前記プラズマガスの流量をプラズマアークの点弧時の流量に調整される流量調整部を有するプラズマガス流路が備えられると共に、前記流量調整部を迂回し該流量調整部で設定される流量よりも大きく設定されるバイパス流路が備えられ、前記制御回路は、前記予備ガスパージ動作の際には前記バイパス流路を流通可能に切り替え、該バイパス流路を使った前記プラズマガスの流通によりその予備ガスパージを実施させることが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、プラズマガス流路には、プラズマガスの流量をプラズマアークの点弧時の流量に調整する流量調整部を迂回するように流量大のバイパス流路が備えられ、予備ガスパージ動作時にはそのバイパス流路が流通可能となるように切り替えられる。つまり、バイパス流路を流通・遮断に切り替える簡単な構成であるため、予備ガスパージ動作を特に分散的に実施する場合に容易に対応できる。
【００１５】
また上記のプラズマアーク加工用電源装置において、前記制御回路は、前記メインスイッチのオンに基づいて前記プラズマアークの点弧前に先ず前記予備ガスパージ動作を実施させることが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、メインスイッチのオンに基づき、プラズマアークの点弧前に先ず予備ガスパージ動作が実施される。つまり、メインスイッチのオフ期間では、ガス供給路をプラズマガスが流通していないために水分が溜まる状況にあるため、メインスイッチのオンによる電源装置の起動時に先ず予備ガスパージを実施することで、ガス供給路に溜まった水分を適切に外部に放出できる。
【００１７】
また上記のプラズマアーク加工用電源装置において、前記予備ガスパージ動作を分散的に行う際のその時間間隔、予備ガスパージ自身の流量及び時間の内の少なくとも１つが変更可能に構成されることが好ましい。
【００１８】
この構成によれば、予備ガスパージ動作を分散的に行う際のその時間間隔、予備ガスパージ自身の流量及び時間の少なくとも１つが変更可能に構成されるため、予備ガスパージ動作をその時々の状況に応じてより効果的に実施させることが可能となる。
【００１９】
また上記課題を解決するプラズマアーク加工装置は、上記のプラズマアーク加工用電源装置を用いて構成される。
この構成によれば、上記の電源装置を用いられることから、プラズマガスの使用量を低減しつつもガス供給路にて溜まる水分量も低減でき、パイロットアークの点弧性が良好なプラズマアーク加工装置として提供できる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明のプラズマアーク加工用電源装置及びプラズマアーク加工装置によれば、ガスの使用量を低減しつつもガス供給路にて溜まる水分量も低減でき、パイロットアークの点弧性を良好に維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】一実施形態におけるプラズマアーク溶接装置（電源装置）の構成図である。
【図２】溶接装置の動作を説明するためのタイミング図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、プラズマアーク加工装置（プラズマアーク加工用電源装置）としてのプラズマアーク溶接装置の一実施形態について説明する。
図１に示すように、プラズマアーク溶接装置１０は、溶接電源１１からの電力供給に基づいて溶接トーチ１２の先端の電極１３と母材１４との間にプラズマアークを生じさせ、アーク熱によって母材１４を溶接する装置である。溶接電源１１は、そのアーク溶接に適した電力の生成と、溶接時に使用するガスの噴射制御とを行っている。
【００２３】
溶接トーチ１２の先端の構造について、最も外側にシールドガスノズル１５が設けられ、その内側にプラズマガスノズル１６が設けられ、プラズマガスノズル１６の内側に電極１３としてタングステン電極が設けられてトーチ１２の先端部が構成されている。シールドガスノズル１５からはシールドガスＧ１が、プラズマガスノズル１６からはプラズマガスＧ２がそれぞれアークを囲むように噴射され、プラズマガスＧ２がアークを拘束して集中性を高める役割、シールドガスＧ１が溶接部分を外気から遮蔽する役割を有している。因みに、シールドガスＧ１及びプラズマガスＧ２には、本実施形態ではアルゴンガスが用いられる。
【００２４】
溶接装置１０は、シールドガスＧ１が充填されるガスボンベ１７と、プラズマガスＧ２が充填されるガスボンベ１８とを個々に使用（本実施形態では両者ともアルゴンガスのガスボンベを使用）し、ガスボンベ１７，１８と溶接電源１１とがそれぞれガスホース１９ａ，２０ａで接続されている。溶接電源１１内部では、シールドガスＧ１を流通させるシールドガス流路２１と、プラズマガスＧ２を流通させるプラズマガス流路２２とが設けられている。つまり、シールドガス流路２１の一端はガスホース１９ａと接続され、プラズマガス流路２２の一端はガスホース２０ａと接続される。シールドガス流路２１の他端はガスホース１９ｂを介してシールドガスノズル１５と接続され、プラズマガス流路２２の他端はガスホース２０ｂを介してプラズマガスノズル１６と接続される。
【００２５】
シールドガス流路２１上には、流量調整弁２３と電磁弁２４とが配置されている。プラズマガス流路２２上には、電磁弁２５と流量調整弁２６とが配置され、更に本流路上にある流量調整弁２６を迂回するようにバイパス流路２７が設けられ、該バイパス流路２７上に電磁弁２８が配置されている。各流路２１，２２，２７上の電磁弁２４，２５，２８は、開弁及び閉弁が制御回路３０にて制御され、ガスＧ１，Ｇ２の流通又は遮断を行う。
【００２６】
シールドガス流路２１及びプラズマガス流路２２上に設けた流量調整弁２３，２６は、作業者が手動で調整するニードル弁等である。本実施形態では、シールドガス流路２１上の流量調整弁２３にてシールドガスＧ１の流量が溶接部分の保護に適した例えば１０リットル／分として設定され、プラズマガス流路２２上の流量調整弁２６にてプラズマガスＧ２の流量がプラズマアークの点弧時に適した例えば０．５リットル／分として設定される。つまり、プラズマガスＧ２の流量（噴射量）は、シールドガスＧ１の流量（噴射量）と比べて十分小さい設定となっている。また、プラズマガス流路２２のバイパス流路２７の流量は、例えば１０リットル／分として設定され、流量調整弁２６側の流量と比べて十分大きい設定となっている。
【００２７】
溶接電源１１に備えられる制御回路３０は、その時々に適した電力生成を制御すると共に、シールドガスＧ１及びプラズマガスＧ２の噴射態様を切り替えるべく電磁弁２４，２５，２８の開閉制御を行っている。
【００２８】
制御回路３０は、外部に設置されているメインスイッチ（メインＳＷ）３１のオンによる電源供給に基づいて起動、若しくはメインスイッチ３１のオン信号の入力に基づいて起動し、溶接電源１１（溶接装置１０）の起動動作を実行する。このメインスイッチ３１は、例えばその日の溶接作業の開始時に一度限りオンされるといったように、その日の溶接作業中に頻繁にオンオフの操作が行われないスイッチである。そして、起動後においては、制御回路３０は溶接トーチ１２に備えられるトーチスイッチ３２の操作に基づいた通常の溶接制御を行う。
【００２９】
次に、溶接装置１０の動作（作用）を図２のタイミング図を参照しつつ説明する。
メインスイッチ３１がオンされた時刻ｔ１では、該スイッチ３１のオンに基づいて起動処理を開始し、パイロットアークの点弧前にプラズマガスＧ２のガスホース２０ａ，２０ｂ内の水分を外部に放出させる予備ガスパージが開始される。即ち、制御回路３０は電磁弁２５及び電磁弁２８を開弁側に切り替え、流量の大きいバイパス流路２７を主として使った短時間で噴射量の大きいプラズマガスＧ２の噴射が行われる。このプラズマガスＧ２の予備ガスパージは、時間Ｔ１継続して実施される。例えばバイパス流路２７の流量が１０リットル／分に設定されている場合、プラズマガスＧ２の噴射が３０リットル必要であれば予備ガスパージの時間Ｔ１は３分として設定され、３分間の予備ガスパージが実施される。これにより、プラズマガスノズル１６から勢いのよいプラズマガスＧ２の噴射と共にガスホース２０ａ，２０ｂ内の水分がノズル１６の先端から外部に放出される。
【００３０】
次いで、トーチスイッチ３２の操作に基づいてパイロットアークの点弧指令（パイロットアーク起動指令）が生じた時刻ｔ２では、プラズマガスＧ２の噴射がガスホース２０ａ，２０ｂ内の水分を一掃する目的の噴射量から通常の噴射量に切り替えられる。即ち、制御回路３０は、電磁弁２８を閉弁側に切り替えてバイパス流路２７を閉じ、流量調整弁２６側の流路にてプラズマガスＧ２を流通させ、その流量を例えば０．５リットル／分まで絞る。また同時に制御回路３０は、溶接電源１１に対してパイロットアークの点弧に適した電力生成を制御し、電極１３への通電を行う。これにより、電極１３とプラズマガスノズル１６との間にパイロットアークが点弧する。
【００３１】
次いで、トーチスイッチ３２の操作に基づいてメインアークの点弧指令（メインアーク起動指令）が生じた時刻ｔ３−ｔ４及び時刻ｔ５−ｔ６では、制御回路３０は、溶接電源１１での電力生成をメインアークの点弧に適した電力生成に切り替えると共に、シールドガスＧ１の噴射を実施すべく電磁弁２４を開弁側に切り替える。これにより、電極１３と母材１４との間にメインアークが点弧し、母材１４の溶接が実施される。尚、時刻ｔ４−ｔ５及び時刻ｔ６−ｔ７は、作業者が溶接作業を一時停止した期間であり、メインアークからパイロットアークの点弧に切り替わっている。
【００３２】
次いで、トーチスイッチ３２の操作に基づいてパイロットアークの消弧指令が生じた時刻ｔ７では、制御回路３０は、溶接電源１１での電力生成の停止と、電磁弁２５の閉弁によるプラズマガスＧ２の噴射停止が行われる。例えば作業者がその日の溶接作業の途中で食事等の休憩により比較的長い時間溶接作業を中断する場合、メインスイッチ３１はオンしたままでパイロットアークが消弧される状況となる。
【００３３】
ここで、本実施形態の制御回路３０にはタイマ３３が備えられ、メインスイッチ３１がオン状態でパイロットアークの消弧が図られた時刻ｔ７からは、そのタイマ３３による時間Ｔ２の計時が開始される。例えばこの時間Ｔ２は３０分に設定されている。
【００３４】
そして、タイマ３３による時間Ｔ２の計時が完了する時刻ｔ８では、再び時間（例えば３分間）Ｔ１だけ電磁弁２５，２８が開弁され、バイパス流路２７を使ったプラズマガスＧ２の予備ガスパージが実施される。時間Ｔ１の予備ガスパージが終了した時刻ｔ９からは、再びタイマ３３による時間Ｔ２の計時が行われ、以降は図示しないが、時間Ｔ２の計時が完了したら再び時間Ｔ１の予備ガスパージを実施するというように、例えば３０分毎に３分間の勢いのよいプラズマガスＧ２の予備ガスパージが繰り返される。このような自動の予備ガスパージは、次のパイロットアークの点弧指令が生じるまで繰り返し実施されるようになっている。
【００３５】
つまり、パイロットアークを消弧させて溶接作業を中断している状況では、プラズマガスＧ２のガスホース２０ａ，２０ｂ内に水分が溜まり得る状況であるため、本実施形態の制御回路３０では、プラズマガスＧ２の自動の予備ガスパージを時間Ｔ２間隔毎に分散的に行うようにしている。これにより、プラズマガスＧ２の使用量を節約しながらも、ガスホース２０ａ，２０ｂ内に水分が溜まり難い状況とすることができ、作業再開時のパイロットアークの点弧性は良好に維持される。換言すれば、予備ガスパージの流量及びその時間Ｔ１を踏まえた自動の予備ガスパージを行う時間Ｔ２間隔は、本実施形態ではガスＧ２の使用量とガスホース２０ａ，２０ｂ内に溜まり得る水分量との両者の低減を考慮した合理的な時間長さに設定されている。
【００３６】
次に、本実施形態の特徴的な効果を記載する。
（１）溶接電源１１（溶接装置１０）が起動するメインスイッチ３１のオン期間中でアークが消弧している期間（本実施形態では図２の時刻ｔ７以降）において、ガスボンベ１８から溶接トーチ１２のプラズマガスノズル１６までのガス供給路にて溜まり得る水分の放出を考慮した予備ガスパージ動作が分散的に自動実施される。つまり、そのガス供給路を構成する例えばガスホース２０ａ，２０ｂ内では、アークが消弧しているとプラズマガスＧ２の流通がないために水分が溜まり易い状況となっており、次のパイロットアークの点弧の際に支障を来す虞があるため、その水分の放出を適切に行い得る予備ガスパージが行われる。しかも、この予備ガスパージは例えば時間Ｔ２間隔で分散的に行われるため、ガスＧ２の使用量の低減を図りながらもガス供給路（ガスホース２０ａ，２０ｂ）に溜まる水分量も低減でき、次のパイロットアークの点弧性を良好に維持することができる。
【００３７】
（２）プラズマガス流路２２には、プラズマガスＧ２の流量をプラズマアークの点弧時の流量に調整する流量調整弁２６を迂回するように流量大のバイパス流路２７が備えられ、予備ガスパージ動作時にはそのバイパス流路２７が流通可能となるように電磁弁２５と共に電磁弁２８が開弁側に切り替えられる。つまり、バイパス流路２７を流通・遮断に切り替える簡単な構成であるため、予備ガスパージ動作を特に本実施形態のように分散的に実施する場合に容易に対応することができる。
【００３８】
（３）メインスイッチ３１のオンに基づき、プラズマアークの点弧前に先ず予備ガスパージ動作が実施される（本実施形態では図２の時刻ｔ１−ｔ２間）。つまり、メインスイッチ３１のオフ期間では、ガスホース２０ａ，２０ｂ等のガス供給路をプラズマガスＧ２が流通していないために水分が溜まる状況にあるため、メインスイッチ３１のオンによる溶接電源１１の起動時に先ず予備ガスパージを実施することで、ガス供給路に溜まった水分を適切に外部に放出することができる。
【００３９】
尚、上記実施形態は、以下のように変更してもよい。
・シールドガスＧ１の流量（例えば１０リットル／分）、流量調整弁２６を流通した時のプラズマガスＧ２の流量（例えば０．５リットル／分）、バイパス流路２７を流通した時のプラズマガスＧ２の流量（例えば１０リットル／分）は一例であり、適宜変更してもよい。
【００４０】
・時間Ｔ２（例えば３０分）毎に時間Ｔ１（例えば３分）のプラズマガスＧ２の予備ガスパージを実施したが、予備ガスパージを分散的に行う際のその時間間隔、予備ガスパージ自身の流量及び時間の少なくとも１つを変更可能に構成してもよい。これらの変更については、制御回路３０等が自動的に変更する態様としたり、作業者の入力値に基づいて変更する態様としてもよい。
【００４１】
・流量調整弁２３と電磁弁２４とを用いてシールドガス流路２１を構成し、電磁弁２５，２８と流量調整弁２６とを用いてプラズマガス流路２２（バイパス流路２７）を構成したが、溶接電源１１内のガス供給路はこれに限らず、適宜変更してもよい。
【００４２】
・シールドガスＧ１及びプラズマガスＧ２にアルゴンガスを用いたが、その他のガスを用いるものであってもよい。また、シールドガスＧ１を用いない構成としてもよい。
・プラズマアーク加工として溶接を行う装置１０（溶接電源１１）に適用したが、プラズマアークにて切断する装置（電源装置）に適用してもよい。
【００４３】
次に、上記実施形態及び別例から把握できる技術的思想を以下に追記する。
（イ）加工用トーチに備えられる電極と加工対象の母材との間にプラズマアークを発生させるための電力生成を行うと共に、プラズマガスノズルから前記電極周りにおいてプラズマガスを噴射させるその噴射態様の切り替えを行うプラズマアーク加工用電源装置の制御方法であって、
メインスイッチのオンに基づいて起動する前記電源装置に対し、そのメインスイッチのオン期間中で前記アークが消弧している期間において、ガス供給源から前記加工用トーチのプラズマガスノズルまでのガス供給路にて溜まり得る水分の放出を考慮した予備ガスパージ動作を分散的に実施する制御を行うようにしたことを特徴とするプラズマアーク加工用電源装置の制御方法。
【符号の説明】
【００４４】
１０  プラズマアーク溶接装置（プラズマアーク加工装置）
１１  溶接電源（プラズマアーク加工用電源装置、電源装置）
１２  溶接トーチ（加工用トーチ）
１３  電極
１４  母材
１６  プラズマガスノズル
１８  ガスボンベ（ガス供給源）
２０ａ，２０ｂ  ガスホース（ガス供給路）
２２  プラズマガス流路
２６  流量調整弁（流量調整部）
２７  バイパス流路
３０  制御回路
３１  メインスイッチ
Ｇ２  プラズマガス
Ｔ１，Ｔ２  時間
【図１】
2015147244.tif 000003
【図２】
2015147244.tif 000004