(57)【要約】【課題】被処理ガスを発生する乾燥炉が複数設けられる場合であっても、設備コスト及び運転コストが増加することを抑制しつつ、被処理ガスから溶剤蒸気を分離回収することができる溶剤回収設備を提供する。【解決手段】溶剤回収設備１は、複数の乾燥炉から発生する被処理ガスＧ１を集約すると共に、被処理ガスを冷却することにより被処理ガスに含まれる溶剤蒸気を凝縮させて分離回収する１つの冷却回収部３０と、乾燥炉の稼働数に応じた給気ガスの流量を設定すると共に、冷却回収部において被処理ガスを冷却する冷却部３３，３５，３７，３９を格納する容器３１内の圧力値が設定圧力値よりも小さい場合には、先に設定された給気ガスの流量を増加させる調整を行い、容器の圧力値が設定圧力値よりも大きい場合には、先に設定された給気ガスの流量を減少させる調整を行う流量制御部５１とを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
乾燥炉内の被処理物を加熱乾燥させる際に発生する溶剤蒸気を含む被処理ガスから前記溶剤蒸気を分離回収する溶剤回収設備であって、
前記乾燥炉に雰囲気調整用の給気ガスを供給する給気部と、
複数の前記乾燥炉から発生する前記被処理ガスを集約すると共に、前記被処理ガスを冷却することにより前記被処理ガスに含まれる前記溶剤蒸気を凝縮させて分離回収する１つの冷却回収部と、
前記冷却回収部における冷却後の前記被処理ガスに残存する前記溶剤蒸気を吸着材に吸着させることにより前記被処理ガスから前記溶剤蒸気を分離回収する吸着回収部と、
前記乾燥炉の稼働数に応じた前記給気ガスの流量を設定すると共に、前記冷却回収部において前記被処理ガスを冷却する冷却部を格納する容器内の圧力値が設定圧力値よりも小さい場合には、先に設定された前記給気ガスの流量を増加させる調整を行い、前記容器の圧力値が前記設定圧力値よりも大きい場合には、先に設定された前記給気ガスの流量を減少させる調整を行う流量制御部と、
を備える、溶剤回収設備。
【請求項２】
前記吸着回収部から排出される処理済ガスを動力源として駆動する圧縮機によって吸入する気体を圧縮すると共に、圧縮した気体を前記給気部に供給する過給機を更に備える、請求項１に記載の溶剤回収設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電池生産に用いるＮＭＰ溶剤（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）などの溶剤蒸気を含む被処理ガスから含有溶剤蒸気を分離回収する溶剤回収設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＮＭＰ溶剤（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）などの溶剤蒸気を含む被処理ガスから含有溶剤蒸気を分離回収する溶剤回収設備が知られている。特許文献１には、溶剤蒸気を含む被処理ガスを冷却することで、被処理ガスの含有溶剤蒸気を凝縮させて被処理ガスから分離回収する冷却回収部と、冷却後の被処理ガスを加熱することで被処理ガスの相対湿度を低下させる再熱器と、再熱器で加熱した被処理ガスに残存する溶剤蒸気を吸着剤に吸着させて吸着回収部と、被処理ガスの通風経路に再冷却器を設け、再熱器と再冷却器の間に冷熱回収用の熱媒Ｎａを循環させる冷熱回収用熱媒循環路と、を設けた溶剤回収設備が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−６９４３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記従来の溶剤回収設備において、被処理ガスが発生する処理炉として複数の乾燥炉を設ける場合、個々に溶剤回収設備を設けたり、被処理ガスの処理容量を大きくしたりする必要があり、設備コスト及び運転コストが増大する。また、単に処理容量の大きくしただけでは稼働する乾燥炉が少ない場合には非効率な設備となってしまう。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、被処理ガスを発生する乾燥炉が複数設けられる場合であっても、設備コスト及び運転コストが増加することを抑制しつつ、被処理ガスから溶剤蒸気を分離回収することができる溶剤回収設備を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一側面に係る溶剤回収設備は、乾燥炉内の被処理物を加熱乾燥させる際に発生する溶剤蒸気を含む被処理ガスから溶剤蒸気を分離回収する溶剤回収設備であって、乾燥炉に雰囲気調整用の給気ガスを供給する給気部と、複数の乾燥炉から発生する被処理ガスを集約すると共に、被処理ガスを冷却することにより被処理ガスに含まれる溶剤蒸気を凝縮させて分離回収する１つの冷却回収部と、冷却回収部における冷却後の被処理ガスに残存する溶剤蒸気を吸着材に吸着させることにより被処理ガスから溶剤蒸気を分離回収する吸着回収部と、乾燥炉の稼働数に応じた給気ガスの流量を設定すると共に、冷却回収部において被処理ガスを冷却する冷却部を格納する容器内の圧力値が設定圧力値よりも小さい場合には、先に設定された給気ガスの流量を増加させる調整を行い、容器の圧力値が設定圧力値よりも大きい場合には、先に設定された給気ガスの流量を減少させる調整を行う流量制御部と、を備える。
【０００７】
このような構成の溶剤回収設備では、複数の乾燥炉において発生する被処理ガスが１つの冷却回収部に集約されるので、個々の乾燥炉ごとに溶剤回収設備を設ける場合と比べ、設備コスト及び運転コストを抑制することができる。また、稼働する乾燥炉の数に応じて、必要最低限の範囲の給気ガスが供給されるので、運転コストを抑制することができる。更に、被処理ガスから溶剤蒸気の分離回収が行われる容器内の圧力値が設定圧力値よりも小さい場合には給気ガスの流量が多くなるように調整され、上記容器内の圧力値が設定圧力値よりも大きい場合には給気ガスの流量が小さくなるように調整されるので、容器内の圧力が最適に設定される。これにより、冷却部によって被処理ガスの温度を低下させる際の運転コストを低減させることができる。この結果、設備コスト及び運転コストを増大することを抑制しつつ、溶剤蒸気を分離回収することができる。
【０００８】
また、一実施形態において、吸着回収部から排出される処理済ガスを動力源として駆動する圧縮機によって吸入する気体を圧縮すると共に、圧縮した気体を給気部に供給する過給機を更に備えてもよい。
【０００９】
このような溶剤回収設備では、吸着回収部から排出される処理済ガスを有効に利用して、給気部に圧縮された気体を供給することができるので、給気部が乾燥炉に給気ガスを供給する際の運転コストを低減することができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、設備コスト及び運転コストが増加することを抑制しつつ、被処理ガスから溶剤蒸気を分離回収することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】一実施形態に係る溶剤回収設備を示す構成図である。
【図２】図１に示す流量制御部の機能ブロック図である。
【図３】給気ガスの流量を調整する処理手順を示したフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して一実施形態に係る溶剤回収設備１について説明する。図面の説明において、同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。
【００１３】
図１は、一実施形態に係る溶剤回収設備を示す構成図である。ここでは、溶剤回収設備１が、リチウムイオン電池の生産施設に装備される例を挙げて説明する。すなわち、溶剤回収設備１は、金属箔に正極活物質層又は負極活物質層が塗工されて形成された電極（被処理物）を乾燥させる塗工乾燥炉１０（１０Ａ〜１０Ｆ）において発生する被処理ガスＧ１から溶剤含有蒸気（ＮＭＰ溶剤の蒸気）を分離回収する。溶剤回収設備１は、主に、給気部２０と、冷却回収部３０と、流量制御部５１と、吸脱着式の吸着回収部７０と、過給機８１とを備えている。
【００１４】
給気部２０は、雰囲気調整用の給気ガスとして新鮮外気を含む調整用ガスＡを塗工乾燥炉１０Ａ〜１０Ｆ（以後、「塗工乾燥炉１０」と称す。）へ供給する部分であり、給気ポンプ２１と、防塵用のフィルタ２３と、給気ガス予熱器２５と、圧力計２７とを有している。
【００１５】
給気ポンプ２１は、後述する流量制御部５１によって、塗工乾燥炉１０の稼働数ｎに応じて設定される流量の調整用ガスＡを、塗工乾燥炉１０に供給するように制御される。また、給気ポンプ２１は、後述するリザーブタンク（容器）３１内の圧力値が設定圧力値よりも小さくなった場合には、先に設定された調整用ガスＡの流量を増加させる調整が流量制御部５１によって行われ、リザーブタンク３１内の圧力値が設定圧力値よりも大きくなった場合には、先に設定された調整用ガスＡの流量を減少させる調整が流量制御部５１によって行われる。
【００１６】
本実施形態では、給気ポンプ２１は、４台の給気ポンプ２１Ａ〜２１Ｄからなる。給気ポンプ２１は、稼働する給気ポンプ２１Ａ〜２１Ｄの数を変えることにより、塗工乾燥炉１０に供給する調整用ガスＡの流量を調整する構成となっている。このような構成において調整用ガスＡの流量を調整する場合には、選択的に給気ポンプを停止させるが、停止する給気ポンプ２１Ａ〜２１Ｄの順番を順次入れ替えることにより、特定の給気ポンプ２１Ａ〜２１Ｄの稼働が集中することを回避し、給気ポンプ２１Ａ〜２１Ｄ全体の寿命を長くすることができる。
【００１７】
冷却回収部３０は、塗工乾燥炉１０から排出される被処理ガスＧ１を冷却することにより、溶剤含有蒸気を凝縮させて、被処理ガスＧ１から溶剤含有蒸気を分離回収する部分である。塗工乾燥炉１０から排出される被処理ガスＧ１は、排出管を介して集約され、１つの冷却回収部３０にポンプ６５を介して送られる。冷却回収部３０は、リザーブタンク（容器）３１と、冷却器としての予冷器３３、一次冷却器３５、再冷却器３７、及び二次冷却器３９と、再熱器４１と、受液パン４５とを有している。
【００１８】
予冷器３３、一次冷却器３５、再冷却器３７及び二次冷却器３９は、リザーブタンク３１内の空間であって被処理ガスＧ１の通風経路上に上流側から、予冷器３３、一次冷却器３５、再冷却器３７、二次冷却器３９、再熱器４１の順番で配置されている。予冷器３３、一次冷却器３５、再冷却器３７及び二次冷却器３９は、被処理ガスＧ１を段階的に冷却する。予冷器３３、一次冷却器３５、再冷却器３７及び二次冷却器３９は、コイル式熱交換器とすることができる。また、予冷器３３及び再冷却器３７は温熱回収器を兼ねてもよい。
【００１９】
予冷器３３は、給気ガス予熱器２５との間で予冷用熱媒用の共通熱媒Ｎｂを循環させることができる。一次冷却器３５は、冷却塔４７との間で一次冷却用熱媒としての冷却水Ｗを循環させることができる。二次冷却器３９は、冷凍機４９との間で二次冷却用の低温熱媒Ｃを循環させることができる。再熱器４１は、再冷却器３７との間で冷熱回収用の共通熱媒Ｎａを循環させることができる。
【００２０】
受液パン４５は、予冷器３３、一次冷却器３５、再冷却器３７、及び二次冷却器３９により冷却された結果、凝縮して落下する溶剤含有蒸気の凝縮液（即ち、液溶剤）を受け止める部分である。受液パン４５で受け止められた凝縮液は、排液路４５ａを通じて回収容器４５ｂに回収される。
【００２１】
再熱器４１は、被処理ガスＧ１を加熱（再熱）して、後段にて詳述する吸着回収部７０での残存溶剤蒸気の分離回収に先立ち、被処理ガスＧ２の相対湿度を低下させる。これにより、吸着回収部７０の吸着ロータ（吸着剤）７１における吸着剤層Ｘの溶剤蒸気に対する吸着効率を高めることができる。再熱器４１も、コイル式熱交換器とすることができ、また、冷熱回収器を兼ねてもよい。
【００２２】
流量制御部５１は、塗工乾燥炉１０の稼働数ｎ（ｎ≦６）に応じた調整用ガスＡの流量を設定する部分である。具体的には、流量制御部５１は、塗工乾燥炉１０の稼働数ｎが多いほど、塗工乾燥炉１０に供給する調整用ガスＡの流量が多くなるように給気ポンプ２１を制御する。
【００２３】
また、流量制御部５１は、リザーブタンク３１内の圧力値が設定圧力値よりも小さい場合には、先に設定された調整用ガスＡの流量を増加させるように調整を行い、リザーブタンク３１内の圧力値が設定圧力値よりも大きい場合には、先に設定された調整用ガスＡの流量を減少させる調整を行う部分でもある。具体的には、流量制御部５１は、リザーブタンク３１内の圧力値が設定圧力値よりも小さくなった場合には、塗工乾燥炉１０の稼働数ｎに基づいて設定されている調整用ガスＡの流量を今よりも多くするように給気ポンプ２１を制御し、リザーブタンク３１内の圧力値が設定圧力値よりも大きくなった場合には、塗工乾燥炉１０の稼働数ｎに基づいて設定されている調整用ガスＡの流量を今よりも小さくするように給気ポンプ２１を制御する。なお、本実施形態の溶剤回収設備１では、リザーブタンク３１内の圧力を給気ポンプ２１の下流部に配置される圧力計２７によって取得している。
【００２４】
図２は、流量制御部５１の機能ブロック図である。図２に示すように、流量制御部５１は、主にＣＰＵ（Central Processing Unit）５３、ＲＯＭ（Read OnlyMemory）５４、ＲＡＭ（Random Access Memory）５５、操作盤５６、外部記憶装置５８、表示制御回路５９、表示装置６０、入力処理回路５７、及び出力処理回路６１を含んでいる。ＣＰＵ５３は、ＲＯＭ５４に格納されている圧力制御プログラムに従って流量制御部５１の全体を制御する。ＲＯＭ５４は一般にＥＰＲＯＭ（Erasable Programmable Read Only Memory）が用いられるが、これに限らずＥＥＰＲＯＭ（Electrically Erasable Programmable Read Only Memory）やフラッシュメモリを使用してもよい。ＲＡＭ５５は一般にＤＲＡＭ（Dynamic Random Access Memory）が用いられるが、ＳＲＡＭ（StaticRandom Access Memory）やフラッシュメモリなどの不揮発性メモリを使用してもよい。
【００２５】
入力処理回路５７は、各々の塗工乾燥炉１０から送信される稼働状況の有無を示す信号である稼働信号が入力されると、バス６２を介してＣＰＵ５３、ＲＡＭ５５にその稼働信号を送る。出力処理回路６１は、ＣＰＵ５３からバス６２を介して送られた作動データを受けて作動電流に変換し、給気ポンプ２１を作動させる。外部記憶装置５８は、圧力計２７によって測定されたリザーブタンク３１内の圧力値などを記憶する。外部記憶装置５８には一般的にハードディスクが用いられるが、プログラムやデータなどを記録可能な媒体に対してアクセス可能な装置を用いてもよい。このような装置には、例えばフレキシブルディスク装置や光磁気ディスク装置などがある。表示制御回路５９は、ＣＰＵ５３からバス６２を介して送られた表示データを受けて、表示装置６０に対して現在のリザーブタンク３１内の圧力値などの表示制御を行う。表示装置６０には、ＣＲＴ、液晶表示装置、ＬＥＤ表示装置などの表示装置を用いることができる。なお、上述した構成の流量制御部５１がリザーブタンク３１内の圧力を調整する処理手順については後段にて詳述する。
【００２６】
吸着回収部７０は、冷却回収部３０における冷却後の被処理ガスＧ２に残存する溶剤蒸気を吸着ロータ７１に吸着させることにより被処理ガスＧ２から溶剤蒸気を分離回収する部分である。吸着回収部７０は、通気性の吸着剤層Ｘをロータ回転方向に並べて配置した吸着ロータ７１を備えている。吸着ロータ７１を内装したケーシング７３の内部は、冷却回収部３０から導かれる被処理ガスＧ２を吸着ロータ７１の吸着剤層Ｘに通過させる吸着域部７３ａと、高温の脱着用ガスＨ１を吸着ロータ７１の吸着剤層Ｘに通過させる脱着域部７３ｂとに区画されている。これにより、吸着ロータ７１を回転させることで吸着ロータ７１における吸着剤層Ｘを吸着域部７３ａと脱着域部７３ｂとに交互に位置させることができる。
【００２７】
吸着域部７３ａでは、再熱器４１によって加熱された被処理ガスＧ２を、吸着ロータ７１の吸着剤層Ｘに通過させ、被処理ガスＧ２に残存する溶剤蒸気を、吸着剤層Ｘの吸着剤に吸着させて被処理ガスＧ２から分離回収する。吸着域部７３ａで残存溶剤蒸気を分離回収した後の被処理ガスは、処理済ガスＧ３として吸着回収部７０から排出される。
【００２８】
脱着域部７３ｂでは、吸着ロータ７１の回転により移動させてくる、吸着域部７３ａにおいて剤蒸気が吸着された吸着剤層Ｘに対し高温の脱着用ガスＨ１を通過させることにより、吸着剤層Ｘに吸着した溶剤蒸気が脱着移行された脱着用ガスＨ２とする。脱着用ガスＨ２は、再び冷却回収部３０に供給される。
【００２９】
過給機８１は、吸着回収部７０から排出される、溶剤蒸気が分離された処理済ガスＧ３を動力源として駆動する圧縮機によって吸入ガス（吸入気体）Ｇ５を圧縮し、塗工乾燥炉１０に雰囲気調整用の給気ガスを供給する給気部２０に圧縮ガスＧ６を供給する部分である。具体的には、過給機８１は、吸着回収部７０から排出される処理済ガスＧ３を用いてタービンを回転させ、この回転力により同軸にある圧縮機を回転させて吸入ガスＧ５を圧縮し、圧縮ガスＧ６の一部を給気部２０に供給し、残りの圧縮ガスＧ６を屋外に排出する。吸入ガスＧ５を吸入する配管は、リザーブタンク３１から接続され、途中に外気を取り込む吸入ポンプ８３を有している。また、過給機８１は、吸着回収部７０からの処理済ガスＧ３の一部を脱着用ガスＨ１として、脱着用ガス加熱器などを介して吸着回収部７０の脱着域部７３ｂに供給し、残りを外気に排出する。
【００３０】
次に、主に図３を用いて、上述した構成の流量制御部５１が、塗工乾燥炉１０に供給する調整用ガスＡの流量を調整する処理手順については詳細に説明する。図３は、調整用ガスＡの流量を調整する処理手順を示したフローチャートである。図３に示す処理手順は、図２に示す流量制御部５１においてＲＯＭ５４に格納されている流量制御プログラムをＣＰＵ５１が実行することによって実現される。
【００３１】
図３に示すように、流量制御部５１は、現在の塗工乾燥炉の稼働数ｎを取得し（ステップＳ１）、稼働数の取得結果に応じて塗工乾燥炉１０に供給する調整用ガスＡの流量値を設定する(ステップＳ２)。本実施形態の流量制御部５１では、稼働する塗工乾燥炉１０の数ｎがＫ（例えば、５〜６台）であれば、大流量の値（例えば、３１０〜３８０ｍ３／分）を設定し（ステップＳ３）、稼働する塗工乾燥炉１０の数ｎがＬ（例えば、３〜４台）であれば、中流量の値（例えば、１６５〜２２０ｍ３／分）を設定し（ステップＳ４）、稼働する塗工乾燥炉１０の数がＭ（例えば、１〜２台）であれば、小流量の値（例えば、５０〜１０５ｍ３／分）を設定し（ステップＳ５）、稼働する塗工乾燥炉１０の数がＮ（例えば、０台）ならば、極小流量の値（例えば、１５〜２０ｍ３／分）を設定する（ステップＳ６）。極小流量の値は、塗工乾燥炉１０内が負圧とならないように維持する。
【００３２】
なお、本実施形態の溶剤回収設備１では、塗工乾燥炉１０の稼働数がＮ（０台）の場合であっても、所定の流量（極小流量）の調整用ガスＡを塗工乾燥炉１０に供給する（フラッシング）。ここで、調整用ガスＡの供給が全量停止、すなわち、全ての塗工乾燥炉１０において調整用ガスＡの流れが停止された場合には、配管内に塵埃などが堆積する。そして、調整用ガスＡの供給を再開すると、これらの塵埃が塗工乾燥炉１０に一気に送られ、塗工乾燥炉１０内の製品に付着するおそれがある。本実施形態の溶剤回収設備１では、上記フラッシングを行うことで、このような不具合が発生することを回避することができる。
【００３３】
上記のようにして塗工乾燥炉１０に供給する調整用ガスＡの流量を設定した後（大、中、小及び極小流量）、リザーブタンク３１内の設定圧力と、圧力計２７によって測定されたリザーブタンク３１内の圧力（実圧力値）とを比較し（ステップＳ７）、その比較結果に基づいて、塗工乾燥炉１０に供給する調整用ガスＡの流量を増減させる。すなわち、実圧力値が設定圧力値よりも小さい場合には、調整用ガスＡの流量を増加させるように給気ポンプ２１を制御する（ステップＳ８）。また、実圧力値が圧力設定値よりも大きい場合には、調整用ガスＡの流量を減少させるように給気ポンプ２１を制御する（ステップＳ９）。実圧力値と圧力設定値とが等しい場合には何もせず、すなわち、給気ポンプ２１が乾燥炉１０に供給する調整用ガスＡの流量を現状の状態に維持する（ステップＳ９）。
【００３４】
なお、上述したガス流量及び図１に示すガス温度、触媒名などの記載は一例であり、これらに限定されるものではない。
【００３５】
上記実施形態の溶剤回収設備１では、複数の塗工乾燥炉１０において発生する被処理ガスＧ１が１つの冷却回収部３０に集約されるので、個々の塗工乾燥炉ごとに溶剤回収設備を設ける場合と比べ、設備コスト及び運転コストを抑制することができる。また、稼働する塗工乾燥炉１０の数ｎに応じて、必要最低限の量の調整用ガスＡが塗工乾燥炉１０に供給されるので、運転コストを抑制することができる。更に、被処理ガスＧ１から溶剤蒸気の分離回収が行われるリザーブタンク３１内の圧力値が設定圧力値よりも小さい場合には調整用ガスＡの流量が多くなるように調整され、リザーブタンク３１内の圧力値が設定圧力値よりも大きい場合には調整用ガスＡの流量が小さくなるように調整されるので、リザーブタンク３１内の圧力が最適に設定される。これにより、冷却部（予冷器３３、一次冷却器３５、再冷却器３７、及び二次冷却器３９）によって被処理ガスＧ１の温度を低下させる際の運転コストを低減させることができる。この結果、設備コスト及び運転コストを増大することを抑制しつつ、溶剤蒸気を分離回収することができる。
【００３６】
上記実施形態の溶剤回収設備１では、更に過給機８１を備えている。このような溶剤回収設備１では、吸着回収部７０から排出される処理済ガスＧ３を有効に利用して、給気部２０に圧縮されたガスＧ６を供給することができるので、給気部２０が塗工乾燥炉１０に調整用ガスＡを供給する際の運転コストを低減することができる。
【００３７】
以上、一実施形態について説明したが、本発明は、上記実施形態に限られるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【００３８】
上記実施形態の溶剤回収設備１では、複数の給気ポンプ２１Ａ〜２１Ｄを備え、給気ポンプの稼働する数を調整することにより、調整用ガスＡの流量を調整する例を挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、１台の給気ポンプのみで構成し、バルブの開度を調整するなどして、調整用ガスＡの流量の調整を行ってもよい。
【００３９】
上記実施形態の溶剤回収設備１では、６台の塗工乾燥炉１０が設けられた例を挙げて説明したが、複数台あればよく、２台の塗工乾燥炉が設けられるような構成であってもよい。
【００４０】
上記実施形態の溶剤回収設備１では、吸着回収部として吸脱着式の吸着回収部７０を例に挙げて説明したが本発明はこれに限定されるものではなく、吸着ロータ７１の吸着剤層Ｘに吸着した溶剤蒸気を脱着する機能を備えていなくてもよい。
【００４１】
上記実施形態の溶剤回収設備１では、吸入ポンプ８３が、冷却回収部３０と過給機８１との間に設けられた例を挙げて説明したが本発明はこれに限定されるものではなく、圧力計２７が給気ポンプ２１の下流側に配置される構成においては、吸入ポンプは、リザーブタンク３１に設けられてもよい。
【符号の説明】
【００４２】
１…溶剤回収設備、１０（１０Ａ〜１０Ｆ）…塗工乾燥炉（乾燥炉）、２０…給気部、２１（２１Ａ〜２１Ｄ）…給気ポンプ、２５…給気ガス予熱器、２７…圧力計、３０…冷却回収部、３１…リザーブタンク（容器）、３３…予冷器（冷却部）、３５…一次冷却器（冷却部）、３７…再冷却器（冷却部）、３９…二次冷却器（冷却部）、４１…再熱器、４５…受液パン、５１…流量制御部、５７…入力処理回路、５８…外部記憶装置、６１…出力処理回路、７０…吸着回収部、７１…吸着ロータ（吸着材）、７３…ケーシング、７３ａ…吸着域部、７３ｂ…脱着域部、８１…過給機、８３…吸入ポンプ、Ａ…調整用空気、Ｇ１，Ｇ２…被処理ガス、Ｇ３…処理済ガス、Ｇ５…吸入ガス（吸入気体）、Ｇ６…圧縮ガス。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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