(57)【要約】【課題】既存の指紋認証装置によって認証可能な認証用パターンおよびその生成方法を提供すること。【解決手段】認証用パターン（５０）は、所定のピッチ（Ｐ）で形成された擬似隆線パターン（１０）と、擬似隆線パターン（１０）に対してランダムに選択された箇所に形成された、少なくとも１つの擬似特徴点と、を有する。擬似隆線パターン（１０）は、中心点（Ｏ）に関して対称な形状、中心点（Ｏ）を通る直線に関して対称な形状、および中心点（Ｏ）付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線（１２）から成る。【選択図】図１１
2015149015.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のピッチで形成され、中心点に関して対称な形状、該中心点を通る直線に関して対称な形状、および前記中心点付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る擬似隆線パターンと、
該擬似隆線パターンに対してランダムに選択された箇所に形成された、少なくとも１つの擬似特徴点と、
を有する認証用パターン。
【請求項２】
所定のピッチで形成され、中心点に関して対称な形状、該中心点を通る直線に関して対称な形状、および前記中心点付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る擬似隆線パターンを表す擬似隆線パターンデータと、
該擬似隆線パターンに対してランダムに選択された箇所に形成された、少なくとも１つの擬似特徴点を表す擬似特徴点データと、
を有する認証用パターンデータ。
【請求項３】
所定のピッチで形成され、中心点に関して対称な形状、該中心点を通る直線に関して対称な形状、および前記中心点付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る基本パターンを準備する段階と、
中心点を持ち、擬似特徴点を規定するＭ行Ｎ列（Ｍ及びＮは、それぞれ、２以上の第１及び第２の整数）の矩形マトリクスを準備する段階と、
前記矩形マトリクスに対してランダムに選択された箇所に少なくとも１つの擬似特徴点を特定するための特定値を生成して、特徴点マトリクスを得る段階と、
前記基本パターンの中心点と前記特徴点マトリクスの中心点とが一致するように、前記基本パターンと前記特徴点マトリクスとを重ね合わせて、合成パターンを得る段階と、
該合成パターンに前記特定値で特定された前記少なくとも１つの擬似特徴点を付与して、認証用パターンを得る段階と、
を含む認証用パターンの生成方法。
【請求項４】
コンピュータに、認証用パターンを生成させる生成プログラムであって、前記コンピュータに、
所定のピッチで形成され、中心点に関して対称な形状、該中心点を通る直線に関して対称な形状、および前記中心点付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る基本パターンを準備する手順と、
中心点を持ち、擬似特徴点を規定するＭ行Ｎ列（Ｍ及びＮは、それぞれ、２以上の第１及び第２の整数）の矩形マトリクスを準備する手順と、
前記矩形マトリクスに対してランダムに選択された箇所に少なくとも１つの擬似特徴点を特定するための特定値を生成して、特徴点マトリクスを得る手順と、
前記基本パターンの中心点と前記特徴点マトリクスの中心点とが一致するように、前記基本パターンと前記特徴点マトリクスとを重ね合わせて、合成パターンを得る手順と、
該合成パターンに前記特定値で特定された前記少なくとも１つの擬似特徴点を付与して、前記認証用パターンを得る手順と、
を実行させる生成プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、認証用パターンに関し、特に、個人を特定するために使用される既存の指紋読取装置（既存の指紋センサ）によって読取可能な（既存の指紋認証装置によって認証可能な）認証用パターン、その生成方法、その生成プログラム、および認証用パターンデータに関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、個人認証用のバイオメトリクス認証システムで使用されるパターンとして、声紋、顔、アイリス（虹彩）、静脈、指紋等がある。
【０００３】
これらパターンの中で、指紋を使って個人を識別する認証方法が指紋認証である。指紋は、手指の皮膚に走る浅い溝のパターンである。
【０００４】
近年、携帯電話、スマートフォン等の小型の電子機器に、指紋認証センサ（指紋認証装置）などが組み込まれるようになってきている。何故なら、一般的に、個人の生体情報を機器使用時のパスワードとして利用することは、パスワードを覚えておく必要もなく、利便性が高く安全であると考えられているからある。尚、指紋認証装置は指紋照合装置とも呼ばれる。
【０００５】
しかしながら、例えば指紋はパスワードと違って替えることができない。しかも、人は至る所に自分の指紋を残している為、指紋を偽装される可能性が高い。その結果、個人を識別するために指紋を使用することは、むしろ危険であると言うこともできる。
【０００６】
具体的には、非特許文献１は、「携帯電話の液晶部分に残った残留指紋から取得した指紋画像より作製した人工指、また携帯電話に搭載されたデジタルカメラを用いて指紋画像を取得して作製した人工指が市販されている様々な指紋照合装置に高い確率で受け入れる」ことを記載している。
【０００７】
また、個人の生体情報と、その他の個人情報である住所、氏名、生年月日、職業などとの括り付けによって、まさに個人情報の全てが漏洩してしまう可能性も考えられる。
【０００８】
したがって、個人の生体情報が悪用されることを防ぎつつ、前述の問題点を解決する手段が必要となってきた。
【０００９】
上述したような問題点を解決するために、従来から種々の先行技術が提案されている。
【００１０】
たとえば、特許文献１は、なりすまし耐性を有するバイオメトリック認証方法を開示している。この特許文献１に開示されたバイオメトリック認証方法では、被認証者の指の爪に人工物メトリクスを貼付し、指の指紋から抽出される情報と人工物メトリクスから抽出される情報の相対的な位置関係を示す第３の情報を被認証者の本人特定値として登録し、第３の情報を照合して本人を確認する方法である。
【００１１】
また、特許文献２は、指紋読取に関連する情報（個人情報等）をあらかじめ指サックに記録しておき、指の指紋のパターンを読み取るとともに、その個人情報等を同時に読み取ることを可能にした技術を開示している。
【００１２】
さらに、特許文献３は、ペンダント、指輪、イヤリング等の宝飾具に備えた平面部の少なくとも一部に、個人の指紋や有名人の指紋を鋳プリントした貴金属宝飾具が開示している。
【００１３】
一方、商品の販売管理などに利用される情報コードとして、ＱＲコード（登録商標）等の二次元情報コードが知られている（例えば、特許文献４参照）。
【００１４】
更にまた、非特許文献２は、人工物メトリクスを提案している。「人工物メトリクス」とは、典型的には、人工物に対して、おのおの異なるランダムな固有パターン（人間の指紋に相当するもの）をあらかじめ付与しておき、取引の都度、その固有パターンを計測し、事前に計測された情報と照合することによって、人工物が本物であるかどうかを検証する技術のことを指す。非特許文献２では、その図表４に、人工物メトリクスに利用される固有パターンの例を示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】特開２００８−２６２２６８号公報（図１〜図３）
【特許文献２】特開平１１−２５０２３０号公報（［００２５］）
【特許文献３】登録実用新案第３０６２５７８号公報
【特許文献４】特許第４６６５７１０号公報
【非特許文献】
【００１６】
【非特許文献１】松本  勉著、「生体部分でない対象物の提示による脆弱性評価の方法」、平成１６年度経済産業省基準認証研究開発事業、２００５年３月
【非特許文献２】松本  勉、岩下  直行著、「金融業務と人工物メトリクス」、IMES Discussion Paper Series 2004-J-12，２００４編４月
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
特許文献１に開示されたバイオメトリック認証方法では、センサ部を、被認証者の指の爪部分の画像と被認証者の指の指紋部分の画像とを取得するように構成する必要がある。すなわち、特許文献１に開示されたバイオメトリック認証方法で認証を行なうためには、特殊な指紋読取装置（指紋センサ）を備えた指紋認証装置を使用する必要がある。そのため、一般に市販されているような既存の指紋認証装置を使用して認証することができない。
【００１８】
特許文献２に開示された技術でも、指紋のパターンだけでなく、指サックに記録されている個人情報等をも読み取る必要がある。そのため、特許文献２に開示された技術によって指紋を読み取るための指紋読取装置（指紋センサ）として、それら両方の情報を読み取り可能な特殊な指紋読取装置を備えた指紋認証装置を使用する必要がある。換言すれば、一般に市販されている、既存の指紋認証装置を使用して認証することは困難である。
【００１９】
特許文献３は、単に、個人の指紋や有名人の指紋を装飾とする貴金属宝飾具を開示しているに過ぎない。そして、使用している指紋は、個人や有名人の自然界に存在する指紋であって、人工物ではない。
【００２０】
特許文献４に開示されているＱＲコードは、商品の販売管理や商品の販促などに使用されているものであって、個人を特定するためのものではない。
【００２１】
非特許文献２において、人工物メトリクスを実現するためには、個々の人工物を識別して照合する複雑なシステムの構築が必要となる。
【００２２】
本発明の目的は、既存の指紋読取装置（既存の指紋センサ）によって読取可能な（既存の指紋認証装置によって認証可能な）認証用パターン、その生成方法、その生成プログラム、および認証用パターンデータを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明の一実施態様によれば、所定のピッチで形成され、中心点に関して対称な形状、該中心点を通る直線に関して対称な形状、および前記中心点付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る擬似隆線パターンと;該擬似隆線パターンに対してランダムに選択された箇所に形成された、少なくとも１つの擬似特徴点と;を有する認証用パターンが得られる。
【００２４】
本発明の他の実施態様によれば、所定のピッチで形成され、中心点に関して対称な形状、該中心点を通る直線に関して対称な形状、および前記中心点付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る擬似隆線パターンを表す擬似隆線パターンデータと;該擬似隆線パターンに対してランダムに選択された箇所に形成された、少なくとも１つの擬似特徴点を表す擬似特徴点データと;を有する認証用パターンデータが得られる。
【００２５】
本発明の更に別の実施態様によれば、所定のピッチで形成され、中心点に関して対称な形状、該中心点を通る直線に関して対称な形状、および前記中心点付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る基本パターンを準備する段階と;中心点を持ち、擬似特徴点を規定するＭ行Ｎ列（Ｍ及びＮは、それぞれ、２以上の第１及び第２の整数）の矩形マトリクスを準備する段階と;前記矩形マトリクスに対してランダムに選択された箇所に少なくとも１つの擬似特徴点を特定するための特定値を生成して、特徴点マトリクスを得る段階と;前記基本パターンの中心点と前記特徴点マトリクスの中心点とが一致するように、前記基本パターンと前記特徴点マトリクスとを重ね合わせて、合成パターンを得る段階と;該合成パターンに前記特定値で特定された前記少なくとも１つの擬似特徴点を付与して、認証用パターンを得る段階と;を含む認証用パターンの生成方法が得られる。
【００２６】
本発明のまだ更に別の実施態様によれば、コンピュータに、認証用パターンを生成させる生成プログラムであって、前記コンピュータに、所定のピッチで形成され、中心点に関して対称な形状、該中心点を通る直線に関して対称な形状、および前記中心点付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る基本パターンを準備する手順と;中心点を持ち、擬似特徴点を規定するＭ行Ｎ列（Ｍ及びＮは、それぞれ、２以上の第１及び第２の整数）の矩形マトリクスを準備する手順と;前記矩形マトリクスに対してランダムに選択された箇所に少なくとも１つの擬似特徴点を特定するための特定値を生成して、特徴点マトリクスを得る手順と;前記基本パターンの中心点と前記特徴点マトリクスの中心点とが一致するように、前記基本パターンと前記特徴点マトリクスとを重ね合わせて、合成パターンを得る手順と;該合成パターンに前記特定値で特定された前記少なくとも１つの擬似特徴点を付与して、前記認証用パターンを得る手順と;を実行させる生成プログラムが得られる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明による認証用パターンは、既存の指紋読取装置（既存の指紋センサ）によって読取可能（既存の指紋認証装置によって認証可能）である。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る、認証用パターン（人工指紋）の作成方法を示すフローチャートである。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る認証用パターン（人工指紋）を作成するために使用される、擬似隆線パターン（基本パターン）の一例を示す平面図である。
【図３】“渦状紋”の円（楕円）の天然隆線パターンに似せた、擬似隆線パターン（基本パターン）の縦横比率によるバリエーションを示す図である。
【図４】“渦状紋”の三角以上の多角形の天然隆線パターンに似せた、擬似隆線パターン（基本パターン）の縦横比率によるバリエーションを示す図である。
【図５】“弓状紋”の天然隆線パターンに似せた、擬似隆線パターン（基本パターン）の角度によるバリエーションを示す図である。
【図６】本発明の第１の実施形態に係る認証用パターン（人工指紋）を作成するために使用される、Ｍ行Ｎ列の矩形マトリクスを示す平面図である。
【図７】特徴点マトリクスの一例を示す平面図である。
【図８】擬似特徴点を特定するための特定値とその状態を示す表である。
【図９】図２に示した隆線パターン（基本パターン）と図７に示した特徴点的リスクとを重ね合わせて得られる合成パターンを示す平面図である。
【図１０】擬似特徴点を付与する状態を説明するための平面図である。
【図１１】擬似特徴の付与によって完成した認証用パターンの一例を示す平面図である。
【図１２】図９に示す合成パターンに、特定値で特定された擬似特徴点を付与するときの動作について説明するための図である。
【図１３】本発明の第２の実施形態に係る、認証用パターン（人工指紋）の作成方法を示すフローチャートである。
【図１４】“渦状紋”の渦巻きの天然隆線パターンに似せた、擬似隆線パターン（基本パターン）の縦横比率によるバリエーションを示す図である。
【図１５】“渦状紋”の渦巻きの天然隆線パターンに似せた、擬似隆線パターン（基本パターン）の縦横比率によるバリエーションを示す図である。
【図１６】左巻き（反時計周り）の渦巻き形状をした、少なくとも１本の擬似隆線から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）の例を示す図である。
【図１７】右巻き（時計周り）の渦巻き形状をした、少なくとも１本の擬似隆線から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）の例を示す図である。
【図１８】本発明の変形例に係る擬似隆線パターン（基本パターン）の一例を示す平面図である。
【図１９】本発明の第１の実施例による認証用パターンの製造方法を示す工程図である。
【図２０】本発明の一実施形態に係る認証用パターン作成装置の構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
［関連技術］
本発明の理解を容易にするために、まず、自然界に存在する指紋（以下、「天然指紋」と呼ぶ）の構造について説明する。
【００３０】
天然指紋は、指表面の凹凸で成り立っている。凸部は隆線と呼ばれ、凹部は谷線と呼ばれる。平均的な指紋の凹凸の高さは約５０μｍ、複数の隆線のピッチは約４００μｍである。この隆線が描く紋様は、弓状紋、渦状紋、蹄状紋などに分類される。
【００３１】
天然指紋の紋様（模様）の特徴を表す場所は、「特徴点」と呼ばれ、主に次に述べる４種類がある。特徴点には、中心点、分岐点、端点、および三角州がある。特徴点は、個人によって位置や向きが異なるので、個人を識別する判断材料になる。
【００３２】
中心点とは、指紋模様の中心である。分岐点とは、指紋の凸部模様の枝分かれである。端点は、指紋の凸部模様の行き止まりである。三角州とは、三方向からの集まりである。
【００３３】
以下では、天然指紋に含まれる特徴点を「天然特徴点」と呼ぶことにする。天然指紋にある天然特徴点の数は、日本人の場合、多い人で１５０点〜１６０点、少ない人でも５０点〜１６０点、平均で１００点あるとされている。
【００３４】
特徴点鑑定法とは、その天然指紋に存在する１００点近くの天然特徴点を摘出（抽出）し、天然特徴点の位置と距離を計測し、その結果を予め登録された認証情報と比較（照合）して個人の識別を行ない、指紋鑑定する方法である。
【００３５】
そして、指紋認証装置の指紋読取装置（指紋センサ）には種々の方式（光学式、静電容量式、電界式、指内散乱光直接読取り式、感圧式）があり(上記非特許文献１参照)、またその認証方式には多くの種類があるけれども、基本的には既存の指紋認証装置のほとんどは、上記天然特徴点を抽出して、天然指紋の認証を行なう。
【００３６】
本発明は、以下に詳細に説明するように、既存の指紋認証装置で認証可能(既存の指紋読取装置（既存の指紋センサ）によって読取可能)ではあるが、自然界には存在しない（天然指紋とは異なる）、人工物の認証用パターンおよびその作成方法を提案する。尚、人工物の認証用パターンを「人工指紋」とも呼ぶ場合がある。
【００３７】
［発明の概要］
本発明では、上述したような天然指紋に含まれる天然特徴点に似せた擬似特徴点を含む認証用パターン（人工指紋）を、以下の方法で生成する。尚、以下では、擬似特徴点を「人工特徴点」とも呼び、或いは、単に「特徴点」とも呼ぶことにする。
【００３８】
また、天然指紋に存在する隆線を「天然隆線」と呼び、人工指紋に存在する隆線を「人工隆線」又は「擬似隆線」と呼ぶことにする。
【００３９】
本発明では、後の説明から明なように、擬似隆線と擬似特徴点とを合成することにより、認証用パターン（人工指紋）を生成する。
【００４０】
ここでは、認証用パターン（人工指紋）のエリア（以下、「認証エリア」とも呼ぶ）を、２０ｍｍ×２０ｍｍの矩形（正方）エリアとした場合について説明する。
【００４１】
前述したように、天然指紋の天然隆線のピッチ（所定のピッチ）は、約４００μｍである。そこで、本発明では、人工隆線（擬似隆線）の所定のピッチを例えば４００μｍに設定する。但し、人工隆線（擬似隆線）の所定のピッチは、既存の指紋認証装置によって認証可能なピッチ範囲にあればよい。そのような認証可能なピッチ範囲は、例えば、１００μｍ〜５０００μｍの範囲にあればよい。認証可能なピッチ範囲は、３５０μｍ〜４５０μｍの範囲にあることが好ましい。
【００４２】
先ず、本発明では、次に述べるような擬似隆線パターン（基本パターン）を準備する。
【００４３】
擬似隆線パターン（基本パターン）は、所定のピッチで形成され、中心点に関して対称な形状、該中心点を通る直線に関して対称な形状、および中心点付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る。
【００４４】
次に、本発明では、中心点を持ち、擬似特徴点（人工特徴点）を規定するＭ行Ｎ列の矩形マトリクスを準備する。ここで、Ｍ及びＮは、それぞれ、第１及び第２の整数である。本例の場合、人工隆線（擬似隆線）の所定のピッチが４００μｍであるので、矩形マトリクスの行列要素数は５０×５０＝２，５００となる。すなわち、本例では、Ｍ＝Ｎ＝５０に等しい。尚、Ｍ及びＮの各々は２以上であればよい。また、Ｍ及びＮの各々は４０〜６０の範囲にあることが好ましい。本例では、Ｍ＝Ｎであるので、矩形マトリクスは正方マトリクスである。
【００４５】
一般的に、Ｍ行Ｎ列の矩形マトリクスの行番号をｍ（１≦ｍ≦Ｍ）、列番号をｎ（１≦ｎ≦Ｎ）とすると、第ｍ行第ｎ列の行列要素をｅｍｎと表すことができる。特徴点が、「特徴点無し」を含めて８種類あるとする。その場合、各特徴点を特定する特定値を３ビットで表すことができる。例えば、「特徴点無し」を特定する特定値を２進数で“０００”と規定し、１０進数で「０」と表すとする。そのとき、行列要素ｅｍｎの特定値は「０」に等しい。
【００４６】
したがって、Ｍ行Ｎ列の矩形マトリクスとは、特徴点がまだ規定されていない状態（特徴点無し）であるので、すべての行列要素ｅｍｎの特定値が「０」に等しい矩形マトリクスである。尚、各行列要素ｅｍｎは、セルとも呼ばれる。
【００４７】
次に、本発明の例では、２，５００個の行列要素ｅｍｎ（１≦ｍ≦５０、１≦ｎ≦５０）内に、１００個の擬似特徴点(人工特徴点)を特定する特定値を指定して、特徴点マトリクスを得る。但し、擬似特徴点（人工特徴点）の数は、既存の指紋認証装置によって認証可能な個数範囲にあればよい。そのような認証可能な個数範囲は、例えば、１〜１０００の範囲にあればよい。認証可能な個数範囲は、５０〜１６０の範囲にあることが好ましい。本例では、互いに隣接する擬似特徴点のセルの位置は、５０行５０列の正方マトリクス上で、最低でもｉ個（ｉは２以上の整数）離れているものとする。
【００４８】
このように、矩形マトリクスの行列要素に対してランダムに選択された箇所に少なくとも１つの擬似特徴点を特定するための特定値を生成して、特徴点マトリクスを得る。
【００４９】
そして、本発明では、基本パターンの中心点と特徴点マトリクスとの中心点とが一致するように、基本パターンと特徴点マトリクスとを重ね合わせて、合成パターンを得る。
【００５０】
最後に、本発明では、合成パターンに特定値で特定された少なくとも１つの擬似特徴点を付与して、認証用パターン（人工指紋）を得る。
【００５１】
このようにして作成された認証用パターン（人工指紋）は、既存の指紋読取装置（既存の指紋センサ）によって読取可能であり、したがって、既存の指紋認証装置によって認証可能である。
【００５２】
尚、上記擬似隆線パターン（基本パターン）は、天然隆線により似せるために、平面に対して、各擬似隆線が所定の厚さだけ隆起した凸部をしている、三次元パターンから成ることが好ましい。
【００５３】
所定の厚さは、既存の指紋認証装置によって認証可能な厚さ範囲にあればよい。具体的には、認証可能な厚さ範囲は、１μｍ〜５０００μｍの範囲にあることが好ましい。認証可能な厚さ範囲は、４５μｍ〜５５μｍの範囲にあることが更に望ましい。但し、認証可能な厚さ範囲は、この範囲には限定されないのは勿論である。
【００５４】
［実施形態］
以下、図面を参照して、本発明を適用した認証用パターン（人工指紋）及びその生成方法について、詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。また、以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに必ずしも限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。
【００５５】
また、ＸＹＺ座標系を設定し、各構成の配置を説明する。この座標系において、Ｚ方向は主面に垂直な方向であり、Ｘ方向は主面と水平な面においてＺ方向と直交する方向であって、Ｙ方向は主面と水平な面においてＸ方向と直交する方向である。
【００５６】
以下においては、本発明の実施形態に係る認証用パターン（人工指紋）について、その認証エリアを２０ｍｍ×２０ｍｍとした場合を例に挙げて説明する。そして、擬似隆線のピッチ（所定のピッチ）を４００μｍに設定したとする。
【００５７】
［実施形態１］
図１は、本発明の第１の実施形態に係る、認証用パターン（人工指紋）の作成方法を示すフローチャートである。本作成方法は、周知の情報処理装置（図示せず）を使用して実施することが可能である。尚、情報処理装置は、後述する認証用パターン作成装置として実現されてよい。
【００５８】
まず、情報処理装置は、対称な形状の擬似隆線パターン（基本パターン）１０を準備する（ステップＳ１００）。
【００５９】
図２は、本発明の第１の実施形態に係る認証用パターン（人工指紋）を作成するために使用される、擬似隆線パターン（基本パターン）１０の一例を示す平面図である。
【００６０】
図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０は、所定のピッチＰで形成された、複数本の擬似隆線１２から成る。図示の例では、所定のピッチＰは４００μｍに等しい。
【００６１】
尚、所定のピッチＰは、既存の指紋認証装置によって認証可能なピッチ範囲にあればよい。具体的には、認証可能なピッチ範囲は、１００μｍ〜５０００μｍの範囲にあることが好ましい。認証可能なピッチ範囲は、３５０μｍ〜４５０μｍの範囲にあることがより好ましい。但し、認証可能なピッチ範囲は、この範囲には限定されないのは勿論である。
【００６２】
そして、図示の複数本の擬似隆線１２は、中心点Ｏに関して対称な形状又は中心点Ｏを通る直線ｌ（本例では、Ｘ軸上のＸ方向の直線、又はＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。尚、「中心点Ｏに関して対称」とは、中心点Ｏを中心として１８０度回転すれば重なることである。「直線ｌに関して対称」とは、直線ｌを折り目として折り返した時、重なることである。また、以下では、中心点Ｏに関して対称な形状および中心点Ｏを通る直線ｌに関して対称な形状を、一纏めにして、単に「対称な形状」と呼ぶ。
【００６３】
図示の例では、複数本の擬似隆線１２は、中心点Ｏを中心とした同心円の形状をしている。
【００６４】
したがって、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０は、いわゆる“渦状紋”の天然隆線パターンに似せたパターンから成る。
【００６５】
図３（Ａ）〜（Ｆ）は、“渦状紋”の円（楕円）の天然隆線パターンに似せた、擬似隆線パターン（基本パターン）１０の縦横比率によるバリエーションを示す図である。
【００６６】
図３（Ａ）〜（Ｆ）の各々において、破線の円は、既存の指紋認証装置によって認証され得る範囲（既存の指紋読取装置（既存の指紋センサ）によって読取可能な範囲）を示している。
【００６７】
図３（Ａ）は、縦横比率が１．０:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０−１を示す平面図である。図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０−１は、図２に示した擬似隆線パターン（基本パターン）１０と同一である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０−１は、所定のピッチＰで中心点Ｏを中心とした同心円の形状をした複数本の擬似隆線１２−１から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２−１は、中心点Ｏに関して対称な形状で、かつ、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｘ軸上のＸ方向の直線、かつＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００６８】
図３（Ｂ）は、縦横比率が１．２:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０−２を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０−２は、所定のピッチＰで中心点Ｏを中心とした同心楕円の形状をした複数本の擬似隆線１２−２から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２−２は、中心点Ｏに関して対称な形状で、かつ、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｘ軸上のＸ方向の直線、かつＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００６９】
図３（Ｃ）は、縦横比率が１．４:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０−３を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０−３は、所定のピッチＰで中心点Ｏを中心とした同心楕円の形状をした複数本の擬似隆線１２−３から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２−３は、中心点Ｏに関して対称な形状で、かつ、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｘ軸上のＸ方向の直線、かつＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００７０】
図３（Ｄ）は、縦横比率が１．６:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０−４を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０−４は、所定のピッチＰで中心点Ｏを中心とした同心楕円の形状をした複数本の擬似隆線１２−４から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２−４は、中心点Ｏに関して対称な形状で、かつ、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｘ軸上のＸ方向の直線、かつＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００７１】
図３（Ｅ）は、縦横比率が１．８:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０−５を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０−５は、所定のピッチＰで中心点Ｏを中心とした同心楕円の形状をした複数本の擬似隆線１２−５から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２−５は、中心点Ｏに関して対称な形状で、かつ、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｘ軸上のＸ方向の直線、かつＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００７２】
図３（Ｆ）は、縦横比率が２．０:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０−６を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０−６は、所定のピッチＰで中心点Ｏを中心とした同心楕円の形状をした複数本の擬似隆線１２−６から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２−６は、中心点Ｏに関して対称な形状で、かつ、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｘ軸上のＸ方向の直線、かつＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００７３】
図４（Ａ）〜（Ｆ）は、“渦状紋”の三角以上の多角形の天然隆線パターンに似せた、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ａの縦横比率によるバリエーションを示す図である。図示の例では、多角形が実質的に四角形（但し、角部が面取りされて、丸みがつけられている）の例を示しているが、他の多角形であってもよいのは勿論である。
【００７４】
図４（Ａ）〜（Ｆ）の各々において、破線の円は、既存の指紋認証装置によって認証され得る範囲（既存の指紋読取装置（既存の指紋センサ）によって読取可能な範囲）を示している。
【００７５】
図４（Ａ）は、縦横比率が１．０:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ａ−１を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ａ−１は、所定のピッチＰで中心点Ｏを中心とした同心四角形の形状をした複数本の擬似隆線１２Ａ−１から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２Ａ−１は、中心点Ｏに関して対称な形状で、かつ、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｘ軸上のＸ方向の直線、かつＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００７６】
図４（Ｂ）は、縦横比率が１．２:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ａ−２を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ａ−２は、所定のピッチＰで中心点Ｏを中心とした同心四角形の形状をした複数本の擬似隆線１２Ａ−２から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２Ａ−２は、中心点Ｏに関して対称な形状で、かつ、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｘ軸上のＸ方向の直線、かつＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００７７】
図４（Ｃ）は、縦横比率が１．４:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ａ−３を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ａ−３は、所定のピッチＰで中心点Ｏを中心とした同心四角形の形状をした複数本の擬似隆線１２Ａ−３から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２Ａ−３は、中心点Ｏに関して対称な形状で、かつ、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｘ軸上のＸ方向の直線、かつＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００７８】
図４（Ｄ）は、縦横比率が１．６:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ａ−４を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ａ−４は、所定のピッチＰで中心点Ｏを中心とした同心四角形の形状をした複数本の擬似隆線１２Ａ−４から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２Ａ−４は、中心点Ｏに関して対称な形状で、かつ、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｘ軸上のＸ方向の直線、かつＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００７９】
図４（Ｅ）は、縦横比率が１．８:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ａ−５を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ａ−５は、所定のピッチＰで中心点Ｏを中心とした同心四角形の形状をした複数本の擬似隆線１２Ａ−５から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２Ａ−５は、中心点Ｏに関して対称な形状で、かつ、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｘ軸上のＸ方向の直線、かつＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００８０】
図４（Ｆ）は、縦横比率が２．０:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ａ−６を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ａ−６は、所定のピッチＰで中心点Ｏを中心とした同心四角形の形状をした複数本の擬似隆線１２Ａ−６から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２Ａ−６は、中心点Ｏに関して対称な形状で、かつ、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｘ軸上のＸ方向の直線、かつＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００８１】
尚、擬似隆線パターン（基本パターン）は、いわゆる“弓状紋”の天然隆線パターンに似せたパターン１０Ｂから成ってもよい。
【００８２】
図５（Ａ）〜（Ｆ）は、“弓状紋”の天然隆線パターンに似せた、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｂの角度によるバリエーションを示す図である。
【００８３】
図５（Ａ）〜（Ｆ）の各々において、破線の円は、既存の指紋認証装置によって認証され得る範囲（既存の指紋読取装置（既存の指紋センサ）によって読取可能な範囲）を示している。
【００８４】
図５（Ａ）は、角度が１８０°の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｂ−１を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｂ−１は、所定のピッチＰでＸ方向に平行に延在する複数本の擬似隆線１２Ｂ−１から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２Ｂ−１は、中心点Ｏに関して対称な形状で、かつ、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｘ軸上のＸ方向の直線、かつＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００８５】
図５（Ｂ）は、角度が１５０°の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｂ−２を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｂ−２は、破線の円の外側近傍でかつＹ軸上の屈曲点Ｆで、図５（Ａ）に示された複数本の擬似隆線１２Ｂ−１を、１５０°に実質的に折り曲げたような形状の、複数本の擬似隆線１２Ｂ−２から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２Ｂ−２は、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｙ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００８６】
図５（Ｃ）は、角度が１２０°の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｂ−３を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｂ−３は、破線の円の外側近傍でかつＹ軸上の屈曲点Ｆで、図５（Ａ）に示された複数本の擬似隆線１２Ｂ−１を、１２０°に実質的に折り曲げたような形状の、複数本の擬似隆線１２Ｂ−３から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２Ｂ−３は、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｙ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００８７】
図５（Ｄ）は、角度が９０°の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｂ−４を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｂ−４は、破線の円の外側近傍でかつＹ軸上の屈曲点Ｆで、図５（Ａ）に示された複数本の擬似隆線１２Ｂ−１を、９０°に実質的に折り曲げたような形状の、複数本の擬似隆線１２Ｂ−４から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２Ｂ−４は、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｙ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００８８】
図５（Ｅ）は、角度が６０°の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｂ−５を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｂ−５は、破線の円の外側近傍でかつＹ軸上の屈曲点Ｆで、図５（Ａ）に示された複数本の擬似隆線１２Ｂ−１を、６０°に実質的に折り曲げたような形状の、複数本の擬似隆線１２Ｂ−５から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２Ｂ−５は、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｙ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００８９】
図５（Ｆ）は、角度が３０°の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｂ−６を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｂ−５６は、破線の円の外側近傍でかつＹ軸上から互いにＸ方向に所定距離離間した第１および第２の屈曲点Ｆ１およびＦ２で、図５（Ａ）に示された複数本の擬似隆線１２Ｂ−１を、３０°に実質的に折り曲げたような形状の、複数本の擬似隆線１２Ｂ−６から成る。したがって、図示の複数本の擬似隆線１２Ｂ−６は、中心点Ｏを通る直線（すなわち、Ｙ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。
【００９０】
上述した擬似隆線パターン（基本パターン）はいずれも、所定のピッチＰで形成され、中心点Ｏに関して対称な形状又は中心点Ｏを通る直線に関して対称な形状をしている、複数本の擬似隆線から成る。
【００９１】
図１に戻って、情報処理装置は、次に、矩形マトリクス２０を準備する（ステップＳ１１０）。
【００９２】
図６は、本発明の第１の実施形態に係る認証用パターン（人工指紋）を作成するために使用される、Ｍ行Ｎ列の矩形マトリクス２０を示す平面図である。
【００９３】
本例では、認証用パターン（人工指紋）の認証エリアを２０ｍｍ×２０ｍｍとした場合を示している。そして、擬似隆線のピッチを４００μｍに設定している。したがって、本例では、Ｍ＝Ｎ＝５０であって、矩形マトリクス２０は正方マトリクスから成る。すなわち、図６は、５０行５０列の正方マトリクスを示し、その正方マトリクスの行列要素数は５０×５０＝２，５００である。
【００９４】
一般的に、Ｍ行Ｎ列の矩形マトリクス２０は、中心点Ｃを持ち、後述する擬似特徴点を規定するためのものである。ここで、Ｍ及びＮは、それぞれ、第１及び第２の整数である。前述したように、Ｍ及びＮの各々は２以上であればよい。また、Ｍ及びＮの各々は４０〜６０の範囲にあることが好ましい。
【００９５】
一般的に、Ｍ行Ｎ列の矩形マトリクス２０の行番号をｍ（１≦ｍ≦Ｍ）、列番号をｎ（１≦ｎ≦Ｎ）とすると、第ｍ行第ｎ列の行列要素をｅｍｎと表すことができる。後述するように、本例では、特徴点が、「特徴点無し」を含めて８種類ある。その場合、各特徴点を特定する特定値を３ビットで表すことができる。「特徴点無し」を特定する特定値を２進数で“０００”と規定し、１０進数で「０」と表すとする。そのとき、行列要素ｅｍｎの特定値は「０」に等しい。尚、前述したように、各行列要素ｅｍｎはセルとも呼ばれる。
【００９６】
したがって、Ｍ行Ｎ列の矩形マトリクス２０とは、特徴点がまだ規定されていない状態（特徴点無し）であるので、すべての行列要素ｅｍｎの特定値が「０」に等しい矩形マトリクスである。
【００９７】
図１に戻って、情報処理装置は、次に、矩形マトリクス２０に対してランダムに選択された箇所に少なくとも１つの擬似特徴点を特定するための特定値を生成して、特徴点マトリクス３０を得る（ステップＳ１２０）。
【００９８】
図７は、特徴点マトリクス３０の一例を示す平面図である。前述したように、
擬似特徴点（人工特徴点）の数は、既存の指紋認証装置によって認証可能な個数範囲にあればよい。そのような認証可能な個数範囲は、例えば、１〜１０００の範囲にあればよい。認証可能な個数範囲は、５０〜１６０の範囲にあることが好ましい。但し、認証可能な個数範囲は、これらの範囲に限定されない。
【００９９】
また、本第１の実施形態では、図８に示されるように、擬似特徴点の種類として、「０」の特定値を持つ「特徴点無し」を含めて、後述するような、「０」〜「７」の特定値を持つ８種類を用意している。換言すれば、情報処理装置は、各行列要素ｅｍｎとして、「０」〜「７」の特定値の中からいずれか１つを選択する。
【０１００】
次に、図８を参照して、擬似特徴点を特定するための特定値とその状態（行列要素ｅｍｎの状態）について説明する。
【０１０１】
「０」の特定値は「特徴点無し」の擬似特徴点を表す。「１」の特定値は「隆線起点」の擬似特徴点を表す。「２」の特定値は「隆線消失点」の擬似特徴点を表す。「３」の特定値は「隆線分岐点」の擬似特徴点を表す。「４」の特定値は「接合点（隆線が隣の隆線と繋がる点）」の擬似特徴点を表す。「５」の特定値は「隆線結合点」の擬似特徴点を表す。「６」の特定値は「島型線（点状の隆線）」の擬似特徴点を表す。「７」の特定値は「隆線無し」の擬似特徴点を表す。
【０１０２】
したがって、「１」、「２」、「３」、「５」、「６」および「７」の特定値は、「端点」の擬似特徴点に対応し、「３」および「５」の特定値は、「分岐点」の擬似特徴点に対応し、「４」の特定値は、「三角州」の擬似特徴点に対応する。したがって、「３」および「５」の特定値は、「端点」および「分岐点」の両方の擬似特徴点に対応する。
【０１０３】
図７は、上述した８種類の特定値のうち、「０」〜「４」の特定値を生成した例を図示している。
【０１０４】
尚、特定値で特定された擬似特徴点を付与する動作については、後で図面を参照して詳細に説明する。
【０１０５】
図１に戻って、情報処理装置は、次に、擬似隆線パターン（基本パターン）１０の中心点Ｏと特徴点マトリクス３０の中心点Ｃとが一致するように、擬似隆線パターン（基本パターン）１０と特徴点マトリクス３０とを重ね合わせて、合成パターン４０を得る（ステップＳ１３０）。
【０１０６】
図９は、図２に示した隆線パターン（基本パターン）１０と図７に示した特徴点マトリクス３０とを重ね合わせて得られる、合成パターン４０を示す平面図である。
【０１０７】
図１に戻って、情報処理装置は、最後に、合成パターン４０に上記特定値で特定された少なくとも１つの擬似特徴点を付与して、認証用パターン５０を得る（ステップＳ１４０）。
【０１０８】
図１０は、擬似特徴点を付与する状態を説明するための平面図であり、図１１は、擬似特徴の付与によって完成した認証用パターン５０の一例を示す平面図である。
【０１０９】
図１２を参照して、合成パターン４０に、特定値で特定された擬似特徴点を付与するときの動作について説明する。
【０１１０】
擬似特徴点の付与は、次のルールに沿って、基本パターン１０上に重ねたセル（行列要素ｅｍｎ）の特定値に基づいて行う。
【０１１１】
ａ．基本パターンが、図２〜図４に示すような、閉じた曲線、或いは後述する渦巻線の場合、時計回りに擬似特徴点を付与する。分岐する場合には、外側に分岐する。結合する場合には、内側に結合する。
【０１１２】
ｂ．基本パターンが、図５に示すような、閉じていない曲線の場合、左側から右側方向に擬似特徴点を付与する。分岐する場合には上方に分岐する。結合する場合には下方に結合する。
【０１１３】
ｃ．１つのセル（行列要素ｅｍｎ）内に複数本の擬似隆線がある場合、セル（行列要素ｅｍｎ）内で最も長い擬似隆線を対象とする。もし、１つのセル（行列要素ｅｍｎ）内に長さが等しい２本以上の擬似隆線がある場合には、長さが等しい擬似隆線の全てを対象とする。
【０１１４】
以下、図１２を参照して、上記ルールに沿った擬似特徴点の付与について説明する。図１２において、（Ａ）〜（Ｈ）は、それぞれ、特定値が「０」〜「７」の場合に付与される擬似特徴点を説明するための図である。図１２（Ａ）〜（Ｈ）の各々において、各正方形はセルを示し、そのセル内の数字は特定値を示し、灰色の線は擬似隆線を示し、ｐ１は対象とする擬似隆線を示し、ｐ２はそれに隣接する擬似隆線を示す。
【０１１５】
図１２（Ａ）は、「０」の特定値で特定された「特徴点無し」の擬似特徴点を示している。その場合、擬似隆線にはなにも特徴点を付与しない。
【０１１６】
図１２（Ｂ）は、「１」の特定値で特定された「隆線起点」の擬似特徴点を付与するときの動作を示している。右側は擬似特徴点を付与する前の状態を示し、左側は擬似特徴点を付与した後の状態を示している。
【０１１７】
図１２（Ｂ）の左側に示すように、「１」の特定値を持つセルの１つ前のセル（矢印で示すセル）位置で、擬似隆線を切断して擬似隆線の消失点とする。そして、図１２（Ｂ）の右側に示すように、「１」の特定値を持つセル（矢印で示すセル）位置を、擬似隆線の起点とする。
【０１１８】
このようにして、「１」の特定値で特定された「隆線起点」の擬似特徴点を付与する。
【０１１９】
図１２（Ｃ）は、「２」の特定値で特定された「隆線消失点」の擬似特徴点を付与するときの動作を示している。右側は擬似特徴点を付与する前の状態を示し、左側は擬似特徴点を付与した後の状態を示している。
【０１２０】
図１２（Ｃ）の左側に示すように、「２」の特定値を持つセル（矢印で示すセル）位置で、擬似隆線を切断して擬似隆線の消失点とする。そして、図１２（Ｃ）の右側に示すように、「２」の特定値を持つセルの１つ後のセル（矢印で示すセル）位置を、擬似隆線の起点とする。
【０１２１】
このようにして、「２」の特定値で特定された「隆線消失点」の擬似特徴点を付与する。
【０１２２】
図１２（Ｄ）は、「３」の特定値で特定された「隆線分岐点」の擬似特徴点を付与するときの動作を示している。右側は擬似特徴点を付与する前の状態を示し、左側は擬似特徴点を付与した後の状態を示している。
【０１２３】
図１２（Ｄ）の左側に示すように、「３」の特定値を持つセルを通る、対象とする擬似隆線ｐ１を、この「３」の特定値を持つセル（矢印で示すセル）位置で分岐して、それに隣接する擬似隆線ｐ２に接続する。そして、図１２（Ｄ）の右側に示すように、接続先の隣接する擬似隆線ｐ２を、接続箇所のセルの手前のセル（矢印で示すセル）位置で切断し、消失点とする。
【０１２４】
このようにして、「３」の特定値で特定された「隆線分岐点」の擬似特徴点を付与する。
【０１２５】
図１２（Ｅ）は、「４」の特定値で特定された「接合点（隆線が隣の隆線と繋がる点）」の擬似特徴点を付与するときの動作を示している。右側は擬似特徴点を付与する前の状態を示し、左側は擬似特徴点を付与した後の状態を示している。
【０１２６】
図１２（Ｅ）の左側に示すように、「４」の特定値を持つセルを通る、対象とする擬似隆線ｐ１を、この「４」の特定値を持つセル（矢印で示すセル）位置で、図１２（Ｅ）の右側に示すように、隣接する擬似隆線ｐ２に接合する。
【０１２７】
このようにして、「４」の特定値で特定された「接合点（隆線が隣の隆線と繋がる点）」の擬似特徴点を付与する。
【０１２８】
図１２（Ｆ）は、「５」の特定値で特定された「隆線結合点」の擬似特徴点を付与するときの動作を示している。右側は擬似特徴点を付与する前の状態を示し、左側は擬似特徴点を付与した後の状態を示している。
【０１２９】
図１２（Ｆ）の左側に示すように、「５」の特定値を持つセルを通る、対象とする擬似隆線ｐ１を、この「５」の特定値を持つセル（矢印で示すセル）位置で分岐して、それに隣接する擬似隆線ｐ２に接続する。そして、図１２（Ｆ）の右側に示すように、対象とする擬似隆線ｐ１に対して、「５」の特定値を持つセルの次のセル（矢印で示すセル）位置を、対象とする擬似隆線ｐ１の起点とする。
【０１３０】
このようにして、「５」の特定値で特定された「隆線結合点」の擬似特徴点を付与する。
【０１３１】
図１２（Ｇ）は、「６」の特定値で特定された「島型線（点状の隆線）」の擬似特徴点を示している。その場合、図１２（Ｇ）に示されるように、対象とする擬似隆線ｐ１を、「６」の特定値を持つセル位置内にのみ存在する点状の隆線とし、この点状隆線の前後を、矢印で示すように、隆線の消失点、起点とする。
【０１３２】
このようにして、「６」の特定値で特定された「島型線（点状の隆線）」の擬似特徴点を付与する。
【０１３３】
図１２（Ｈ）は、「７」の特定値で特定された「隆線無し」の擬似特徴点を示している。その場合、図１２（Ｈ）に示されるように、対象とする擬似隆線ｐ１を、「７」の特定値を持つセル位置内に隆線を持たない隆線とし、このセルの前後を、矢印で示すように、隆線の消失点、起点とする。
【０１３４】
このようにして、「７」の特定値で特定された「隆線無し」の擬似特徴点を付与する。
【０１３５】
上述したように、合成パターン４０に擬似特徴点を付与することによって、図１１に示されるような、認証用パターン５０が完成する。
【０１３６】
すなわち、本発明の第１の実施形態による認証用パターン（５０）の生成方法は、所定のピッチ（Ｐ）で形成され、中心点（Ｏ）に関して対称な形状又は中心点（Ｏ）を通る直線（ｌ）に関して対称な形状をしている、複数本の擬似隆線（１２；１２−１〜１２−６；１２Ａ−１〜１２Ａ−６；１２Ｂ−１〜１２Ｂ−６）から成る基本パターン（１０；１０−１〜１０−６；１０Ａ−１〜１０Ａ−６；１０Ｂ−１〜１０Ｂ−６）を準備する段階（Ｓ１００）と、中心点（Ｃ）を持ち、擬似特徴点を規定するＭ行Ｎ列（Ｍ及びＮは、それぞれ、２以上の第１及び第２の整数）の矩形マトリクス（２０）を準備する段階（Ｓ１１０）と、矩形マトリクス（２０）に対してランダムに選択された箇所に少なくとも１つの擬似特徴点を特定するための特定値を生成して、特徴点マトリクス（３０）を得る段階（Ｓ１２０）と、基本パターンの中心点（Ｏ）と特徴点マトリクス（３０）の中心点（Ｃ）とが一致するように、基本パターンと特徴点マトリクス（３０）とを重ね合わせて、合成パターン（４０）を得る段階（Ｓ１３０）と、合成パターン（４０）に特定値で特定された少なくとも１つの擬似特徴点を付与して、認証用パターン（５０）を得る段階（Ｓ１４０）と、を含む。
【０１３７】
このように、本発明の第１の実施形態による認証用パターン（５０）は、所定のピッチ（Ｐ）で形成され、中心点（Ｏ）に関して対称な形状又は中心点（Ｏ）を通る直線（ｌ）に関して対称な形状をしている、複数本の擬似隆線（１２；１２−１〜１２−６；１２Ａ−１〜１２Ａ−６；１２Ｂ−１〜１２Ｂ−６）から成る擬似隆線パターン（１０；１０−１〜１０−６；１０Ａ−１〜１０Ａ−６；１０Ｂ−１〜１０Ｂ−６）と、この擬似隆線パターンに対してランダムに選択された箇所に形成された、少なくとも１つの擬似特徴点と、を有する。
【０１３８】
また、本発明の第１の実施形態による認証用パターンデータは、所定のピッチ（Ｐ）で形成され、中心点（Ｏ）に関して対称な形状又は中心点（Ｏ）を通る直線（ｌ）に関して対称な形状をしている、複数本の擬似隆線（１２；１２−１〜１２−６；１２Ａ−１〜１２Ａ−６；１２Ｂ−１〜１２Ｂ−６）から成る擬似隆線パターン（１０；１０−１〜１０−６；１０Ａ−１〜１０Ａ−６；１０Ｂ−１〜１０Ｂ−６）を表す擬似隆線パターンデータと、この擬似隆線パターンに対してランダムに選択された箇所に形成された、少なくとも１つの擬似特徴点を表す特徴点データと、を有する。
【０１３９】
本発明の第１の実施形態の効果について説明する。
【０１４０】
このようにして作成された認証用パターン５０を、既存の指紋読取装置（既存の指紋センサ）によって読取ることが可能（既存の指紋認証装置によって認証することが可能）である。それより、指紋認証装置による認識率が高まり、処理の高速化も可能である。
【０１４１】
また、本人の意思により、認証用パターン５０を変更することが可能である。何故なら、基本パターン（擬似隆線パターン）を変更（選択）したり、特徴点の種類やその箇所を変更（選択）することにより、容易に認証用パターン５０を変更することができるからである。
【０１４２】
さらに、そのようにして作成された認証用パターン５０は、本人の生体情報ではないので、個人の生体情報の流出を防ぐことができる、という作用効果も奏する。
【０１４３】
［実施形態２］
図１３は、本発明の第２の実施形態に係る、認証用パターン（人工指紋）の作成方法を示すフローチャートである。本作成方法は、周知の情報処理装置（図示せず）を使用して実施することが可能である。尚、情報処理装置は、後述する認証用パターン作成装置として実現されてよい。
【０１４４】
図示の認証用パターン（人工指紋）の作成方法は、擬似隆線パターン（基本パターン）を準備する工程が相違する点を除いて、図１に示した認証用パターン（人工指紋）の作成方法と同様の構成を有し、動作をする。したがって、擬似隆線パターン（基本パターン）を準備する工程に、Ｓ１００Ａの参照符号を付してある。図１に示したものと同様の機能を有するものには同一の参照符号を付し、以下では説明を簡略化する為に、第１の実施形態と相違する点についてのみ説明する。
【０１４５】
図１に示す作成方法では、情報処理装置は、対称な形状の擬似隆線パターン（基本パターン）１０を準備している（ステップＳ１００）。
【０１４６】
これに対して、図１３に示す作成方法では、情報処理装置は、渦巻き形状の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ又は１０Ｄを準備する（ステップＳ１００Ａ）。
【０１４７】
渦巻き形状の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ又は１０Ｄは、後述するように、所定のピッチＰで形成された、渦巻き形状の少なくとも１本の擬似隆線１２Ｃ又は１２Ｄから成る。
【０１４８】
擬似隆線１２Ｃは、中心点Ｏから徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、２本の擬似隆線である。一方、擬似隆線１２Ｄは、中心点Ｏから徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、１本の擬似隆線である。
【０１４９】
図１４（Ａ）〜（Ｆ）は、“渦状紋”の渦巻きの天然隆線パターンに似せた、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃの縦横比率によるバリエーションを示す図である。
【０１５０】
図１４（Ａ）は、縦横比率が１．０:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ−１を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ−１は、所定のピッチＰで、中心点Ｏ付近から徐々に実質的に円形状で、半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、２本の擬似隆線１２Ｃ−１から成る。したがって、図示の２本の擬似隆線１２Ｃ−１は、中心点Ｏに関して対称な形状をしている。
【０１５１】
図１４（Ｂ）は、縦横比率が１．２:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ−２を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ−２は、所定のピッチＰで、中心点Ｏ付近から徐々に実質的に楕円形状で、半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、２本の擬似隆線１２Ｃ−２から成る。したがって、図示の２本の擬似隆線１２Ｃ−２は、中心点Ｏに関して対称な形状をしている。
【０１５２】
図１４（Ｃ）は、縦横比率が１．４:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ−３を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ−３は、所定のピッチＰで、中心点Ｏ付近から徐々に実質的に楕円形状で、半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、２本の擬似隆線１２Ｃ−３から成る。したがって、図示の２本の擬似隆線１２Ｃ−３は、中心点Ｏに関して対称な形状をしている。
【０１５３】
図１４（Ｄ）は、縦横比率が１．６:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ−４を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ−４は、所定のピッチＰで、中心点Ｏ付近から徐々に実質的に楕円形状で、半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、２本の擬似隆線１２Ｃ−４から成る。したがって、図示の２本の擬似隆線１２Ｃ−４は、中心点Ｏに関して対称な形状をしている。
【０１５４】
図１４（Ｅ）は、縦横比率が１．８:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ−５を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ−５は、所定のピッチＰで、中心点Ｏ付近から徐々に実質的に楕円形状で、半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、２本の擬似隆線１２Ｃ−５から成る。したがって、図示の２本の擬似隆線１２Ｃ−５は、中心点Ｏに関して対称な形状をしている。
【０１５５】
図１４（Ｆ）は、縦横比率が２．０:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ−６を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ−６は、所定のピッチＰで、中心点Ｏ付近から徐々に実質的に楕円形状で、半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、２本の擬似隆線１２Ｃ−６から成る。したがって、図示の２本の擬似隆線１２Ｃ−６は、中心点Ｏに関して対称な形状をしている。
【０１５６】
図１４に示す擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃでは、実質的に円形状（又は楕円形状）の渦巻き形状をしているが、それに限定されず、例えば、図４に示されるような、三角以上の多角形の渦巻き形状をしていても良いのは勿論である。
【０１５７】
図１５（Ａ）〜（Ｆ）は、“渦状紋”の渦巻きの天然隆線パターンに似せた、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄの縦横比率によるバリエーションを示す図である。
【０１５８】
図１５（Ａ）は、縦横比率が１．０:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ−１を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ−１は、所定のピッチＰで、中心点Ｏ付近から徐々に実質的に円形状で、半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、１本の擬似隆線１２Ｄ−１から成る。
【０１５９】
図１５（Ｂ）は、縦横比率が１．２:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ−２を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ−２は、所定のピッチＰで、中心点Ｏ付近から徐々に実質的に楕円形状で、半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、１本の擬似隆線１２Ｄ−２から成る。
【０１６０】
図１５（Ｃ）は、縦横比率が１．４:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ−３を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ−３は、所定のピッチＰで、中心点Ｏ付近から徐々に実質的に楕円形状で、半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、１本の擬似隆線１２Ｄ−３から成る。
【０１６１】
図１５（Ｄ）は、縦横比率が１．６:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ−４を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ−４は、所定のピッチＰで、中心点Ｏ付近から徐々に実質的に楕円形状で、半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、１本の擬似隆線１２Ｄ−４から成る。
【０１６２】
図１５（Ｅ）は、縦横比率が１．８:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ−５を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ−５は、所定のピッチＰで、中心点Ｏ付近から徐々に実質的に楕円形状で、半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、１本の擬似隆線１２Ｄ−５から成る。
【０１６３】
図１５（Ｆ）は、縦横比率が２．０:１．０の場合の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ−６を示す平面図である。すなわち、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ−６は、所定のピッチＰで、中心点Ｏ付近から徐々に実質的に楕円形状で、半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、１本の擬似隆線１２Ｄ−６から成る。
【０１６４】
図１５に示す擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄでも、実質的に円形状（又は楕円形状）の渦巻き形状をしているが、それに限定されず、例えば、図４に示されるような、三角以上の多角形の渦巻き形状をしていても良いのは勿論である。
【０１６５】
また、図１４および図１５に示す擬似隆線パターン（基本パターン）は、渦巻き形状をした、２本又は１本の擬似隆線から成るが、３本以上の擬似隆線から構成されても良いのは勿論である。
【０１６６】
さらに、図１４および図１５に示す擬似隆線パターン（基本パターン）は、左巻き（反時計回り）の渦巻き形状をした、少なくとも１本の擬似隆線から成るが、後述するように、右巻き（時計回り）の渦巻き形状をした、少なくとも１本の擬似隆線から成ってもよい。
【０１６７】
図１６は、左巻き（反時計回り）の渦巻き形状をした、少なくとも１本の擬似隆線から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）の例を示す図である。
【０１６８】
図１６（Ａ）は、図１５（Ａ）に示されるように、左巻き（反時計回り）の渦巻き形状をした、１本の擬似隆線１２Ｄ−１から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ−１を示している。
【０１６９】
図１６（Ｂ）は、図１４（Ａ）に示されるように、左巻き（反時計回り）の渦巻き形状をした、２本の擬似隆線１２Ｃ−１から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ−１を示している。
【０１７０】
図１６（Ｃ）は、左巻き（反時計回り）の渦巻き形状をした、３本の擬似隆線１２Ｅ−１から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｅ−１を示している。
【０１７１】
図１６（Ｄ）は、左巻き（反時計回り）の渦巻き形状をした、４本の擬似隆線１２Ｅ−２から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｅ−２を示している。
【０１７２】
図１６（Ｅ）は、左巻き（反時計回り）の渦巻き形状をした、５本の擬似隆線１２Ｅ−３から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｅ−３を示している。
【０１７３】
図１６（Ｆ）は、左巻き（反時計回り）の渦巻き形状をした、６本の擬似隆線１２Ｅ−４から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｅ−４を示している。
【０１７４】
図１７は、右巻き（時計回り）の渦巻き形状をした、少なくとも１本の擬似隆線から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）の例を示す図である。
【０１７５】
図１７（Ａ）〜（Ｆ）は、それぞれ、図１６（Ａ）〜（Ｆ）に示す、左巻き（反時計回り）の渦巻き形状をした、擬似隆線パターン（基本パターン）を、右巻き（時計回り）の渦巻き形状に変更したものに相当する。
【０１７６】
図１７（Ａ）は、右巻き（時計回り）の渦巻き形状をした、１本の擬似隆線１２Ｄ’−１から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｄ’−１を示している。
【０１７７】
図１７（Ｂ）は、右巻き（時計回り）の渦巻き形状をした、２本の擬似隆線１２Ｃ’−１から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｃ’−１を示している。
【０１７８】
図１７（Ｃ）は、右巻き（時計回り）の渦巻き形状をした、３本の擬似隆線１２Ｅ’−１から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｅ’−１を示している。
【０１７９】
図１７（Ｄ）は、右巻き（時計回り）の渦巻き形状をした、４本の擬似隆線１２Ｅ’−２から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｅ’−２を示している。
【０１８０】
図１７（Ｅ）は、右巻き（時計回り）の渦巻き形状をした、５本の擬似隆線１２Ｅ’−３から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｅ’−３を示している。
【０１８１】
図１７（Ｆ）は、右巻き（時計回り）の渦巻き形状をした、６本の擬似隆線１２Ｅ’−４から成る、擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｅ’−４を示している。
【０１８２】
図１４乃至図１７から明らかなように、本発明の第２の実施形態では、擬似隆線パターン（基本パターン）は、所定のピッチＰで形成され、中心点Ｏ付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る。
【０１８３】
すなわち、本発明の第２の実施形態による認証用パターンの生成方法は、所定のピッチ（Ｐ）で形成され、中心点（Ｏ）付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線（１２Ｃ−１〜１２Ｃ−６；１２Ｄ−１〜１２Ｄ−６；１２Ｅ−１〜１２Ｅ−４；１２Ｃ’−１；１２Ｄ’−１；１２Ｅ’−１〜１２Ｅ’−４）から成る基本パターン（１０Ｃ−１〜１０Ｃ−６；１０Ｄ−１〜１０Ｄ−６；１０Ｅ−１〜１０Ｅ−４；１０Ｃ’−１；１０Ｄ’−１；１０Ｅ’−１〜１０Ｅ’−４）を準備する段階（Ｓ１００Ａ）と、中心点（Ｃ）を持ち、擬似特徴点を規定するＭ行Ｎ列（Ｍ及びＮは、それぞれ、２以上の第１及び第２の整数）の矩形マトリクス（２０）を準備する段階（Ｓ１１０）と、矩形マトリクス（２０）に対してランダムに選択された箇所に少なくとも１つの擬似特徴点を特定するための特定値を生成して、特徴点マトリクス（３０）を得る段階（Ｓ１２０）と、基本パターンの中心点（Ｏ）と特徴点マトリクス（３０）の中心点（Ｃ）とが一致するように、基本パターンと特徴点マトリクス（３０）とを重ね合わせて、合成パターン（４０）を得る段階（Ｓ１３０）と、合成パターン（４０）に特定値で特定された少なくとも１つの擬似特徴点を付与して、認証用パターン（５０）を得る段階（Ｓ１４０）と、を含む。
【０１８４】
このように、本発明の第２の実施形態による認証用パターン（５０）は、所定のピッチ（Ｐ）で形成され、中心点（Ｏ）付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線（１２Ｃ−１〜１２Ｃ−６；１２Ｄ−１〜１２Ｄ−６；１２Ｅ−１〜１２Ｅ−４；１２Ｃ’−１；１２Ｄ’−１；１２Ｅ’−１〜１２Ｅ’−４）から成る擬似隆線パターン（１０Ｃ−１〜１０Ｃ−６；１０Ｄ−１〜１０Ｄ−６；１０Ｅ−１〜１０Ｅ−４；１０Ｃ’−１；１０Ｄ’−１；１０Ｅ’−１〜１０Ｅ’−４）と、この擬似隆線パターンに対してランダムに選択された箇所に形成された、少なくとも１つの擬似特徴点と、を有する。
【０１８５】
また、本発明の第２の実施形態による認証用パターンデータは、所定のピッチ（Ｐ）で形成され、中心点（Ｏ）付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線（１２Ｃ−１〜１２Ｃ−６；１２Ｄ−１〜１２Ｄ−６；１２Ｅ−１〜１２Ｅ−４；１２Ｃ’−１；１２Ｄ’−１；１２Ｅ’−１〜１２Ｅ’−４）から成る擬似隆線パターン（１０Ｃ−１〜１０Ｃ−６；１０Ｄ−１〜１０Ｄ−６；１０Ｅ−１〜１０Ｅ−４；１０Ｃ’−１；１０Ｄ’−１；１０Ｅ’−１〜１０Ｅ’−４）を表す擬似隆線パターンデータと、この擬似隆線パターンに対してランダムに選択された箇所に形成された、少なくとも１つの擬似特徴点を表す擬似隆線特徴点データと、を有する。
【０１８６】
次に、本発明の第２の実施形態の効果について説明する。
【０１８７】
このようにして作成された認証用パターン５０を、既存の指紋読取装置（既存の指紋センサ）によって読取ることが可能（既存の指紋認証装置によって認証することが可能）である。それにより、指紋認証装置による認識率が高まり、処理の高速化も可能である。
【０１８８】
また、本人の意思により、認証用パターン５０を変更することが可能である。何故なら、基本パターン（擬似隆線パターン）を変更（選択）したり、特徴点の種類やその箇所を変更（選択）することにより、容易に認証用パターン５０を変更することができるからである。
【０１８９】
さらに、そのようにして作成された認証用パターン５０は、本人の生体情報ではないので、個人の生体情報の流出を防ぐことができる、という作用効果も奏する。
【０１９０】
尚、上述したように、本発明の第１及び第２の実施形態においては、認証用パターン５０は、所定のピッチＰで形成され、中心点Ｏに関して対称な形状、中心点Ｏを通る直線ｌに関して対称な形状、および中心点Ｏ付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る擬似隆線パターン（基本パターン）と、この擬似隆線パターンに対してランダムに選択された箇所に形成された、少なくとも１つの擬似特徴点と、を有する。
【０１９１】
なお、認証用パターンを構成する擬似隆線パターン（基本パターン）は、上述したものに限定されず、次に述べるように、種々の変形例が可能である。
【０１９２】
［変形例１］
図１８は、本発明の変形例に係る擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｆの一例を示す平面図である。
【０１９３】
図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｆは、中心点Ｏから放射状に延在する複数本の擬似隆線１２Ｆから成る。すなわち、図示の複数本の擬似隆線１２Ｆは、中心点Ｏに関して対称な形状又は中心点Ｏを通る直線（本例では、Ｘ軸上のＸ方向の直線、又はＹ軸上のＹ方向の直線）に関して対称な形状をしている。換言すれば、図示の擬似隆線パターン（基本パターン）１０Ｆは、対称な形状をしている。
【０１９４】
対称な形状をした擬似隆線パターン（基本パターン）は、上述したもの以外にも種々のものであってよい。
【０１９５】
例えば、そのような擬似隆線パターン（基本パターン）は、星形や、ミッキー型、ミニー型、猫型などであってよい。ここで、「ミッキー型」とは、ミッキーマウスの顔の形をいい、「ミニー型」とは、ミニーマウスの顔の形をいう。
【０１９６】
［変形例２］
本発明の他の変形例に係る擬似隆線パターン（基本パターン）は、上述したような対称な形状でなく、キャラクタや、文字、記号、イニシャル、フラクタル図形や、閉曲線等、任意の形状の、少なくとも１本の擬似隆線から成る。
【０１９７】
次に、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説明する。
【実施例１】
【０１９８】
図１９を参照して、本発明の第１の実施例による認証用パターンの製造方法について説明する。図１９は、認証用パターンを製造する方法を示す工程図である。
【０１９９】
図示の製造方法は、上述のようにして作成された認証用パターン５０のデータに基づいて、三次元の認証用パターン５８を製造する方法である。図示の製造方法は、例えば、紙幣の印刷などに使用される凸版印刷の技術で、所定の素材（例えば、ゴム）５６の上に、耐摩耗性インク５４で印刷する。
【０２００】
まず、図１９（Ａ）に示されるように、上記作成された認証用パターン５０のデータに基づいて、版５２を作成する。
【０２０１】
次に、図１９（Ｂ）に示されるように、版５２に耐摩耗性インク５４を流し込む。
【０２０２】
次に、図１９（Ｃ）に示されるように、所定の素材（ゴム）５６を載せて、版５２に圧力をかける。
【０２０３】
これにより、図１９（Ｄ）に示されるように、所定の素材（ゴム）５６上に耐摩耗性インク５４が盛り上がった、三次元の認証用パターン５８が製造される。
【０２０４】
図１９に示す例では、凸版印刷技術を用いて三次元の認証用パターン５８を製造しているが、それ以外の技術を用いて、例えば、３Ｄプリンタを用いて、三次元の認証用パターン５８を製造してもよい。
【０２０５】
そのような三次元の認証用パターン５８は、例えば、指サックや、絆創膏、シールに形成されてよい。或いは、そのような三次元の認証用パターン５８を、例えば、非接触ＩＣカードのようなカード類などに貼ってもよい。
【０２０６】
また、所定の素材としては、天然ゴムでもよいが、カーボンナノチューブの粉末やタイヤ製造などに使用している加硫剤を、天然ゴムに添加物として加えて加工した人工ゴムが望ましい。何故なら、そのような人工ゴムは、硬さを確保でき強度が増し、摩耗を防ぐことができるので、指紋認証装置による認識率が安定するからである。
【実施例２】
【０２０７】
上述した第１の実施例では、三次元の認証用パターン５８を、指サック、絆創膏、シールなどの素材に、凸版印刷技術や３Ｄプリンタを使用して印刷している。
【０２０８】
本発明の第２の実施例は、三次元の認証用パターン５８を、指輪や、イヤリング、ペンダント等の宝飾具に彫刻する。
【実施例３】
【０２０９】
本発明の第３の実施例では、上述した第１および第２の実施例で製造された三次元の認証用パターン５８が付与された物（指サック、絆創膏、指輪等）に、ＮＦＣ（Near Field Communication）チップを埋め込んで、たとえば特許第４７８９０９２号公報に開示されているような、Ｒバッジとする。
【０２１０】
これにより、スマートフォン等の情報端末機器の紛失・盗難時に第三者が使用した時でも、瞬時に不正使用を未然に防止することが可能となる。
【０２１１】
また、そのような情報端末機器にＧＰＳ（global positioning system）受信機が組み込まれている場合、上記Ｒバッジを使用した位置情報をＧＰＳによって取得することが可能となり、当該情報端末機器を早期に発見することも可能となる。
【０２１２】
図２０を参照すると、本発明の一実施形態に係る認証用パターン作成装置が示されており、図２０に示された認証用パターン作成装置は、認証用パターンを作成する。
【０２１３】
図示された認証用パターン作成装置は、キーボード、ディスプレイ装置等の入出力装置６０と、処理部（即ち、コンピュータ）７０を備えている。処理部（コンピュータ）７０は、通信インターフェース７１、中央処理装置（ＣＰＵ）７３、及び記憶装置７５によって構成されている。記憶装置７５は、オペレーティングシステム（ＯＳ）を格納したＯＳ格納部７５１、所定の動作を実行するプログラムを格納したプログラム格納部７５２、及びデータ格納部７５３を含んでいる。
【０２１４】
データ格納部７５３は、入出力装置６０から入力された各種データを格納する。図示されたデータ格納部７５３は、基本パターンデータ記憶部７５４、矩形マトリクスデータ記憶部７５５、特定値記憶部７５６、特徴点マトリクスデータ記憶部７５７、合成パターンデータ記憶部７５８、及び認証用パターンデータ記憶部７５９を備えている。
【０２１５】
ＣＰＵ７３は、プログラム格納部７５２に格納されたプログラムに従って、データ格納部７５３からの基本パターンデータ、矩形マトリクスデータ、特定値データ及び、合成パターンデータを所定の手順で処理し、処理の結果得られた認証用パターンデータを認証用パターンデータ記憶部７５９に格納する。
【０２１６】
認証用パターンデータ記憶部７５９に格納された認証用パターンデータは、入出力装置６０からの命令にしたがって、通信インターフェース７１を介して、適宜、外部に読み出される。また、プログラム格納部７５２は、所定の動作を実行するプログラムを格納したコンピュータで読み取り可能な記録媒体であることは言うまでもない。更に、本発明は、上記した方法で作成された認証用パターンデータを用いて作成された認証用パターン、及び、当該認証用パターンを使用して作成された三次元物体にも及ぶ。
【０２１７】
上記の実施形態の一部又は全部は、以下の付記のようにも記載されうるが、以下には限られない。
【０２１８】
（付記１）  所定のピッチで形成され、中心点に関して対称な形状、該中心点を通る直線に関して対称な形状、および前記中心点付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る擬似隆線パターンと、
該擬似隆線パターンに対してランダムに選択された箇所に形成された、少なくとも１つの擬似特徴点と、
を有する認証用パターン。
【０２１９】
（付記２）  前記所定のピッチが、指紋認証装置によって認証可能なピッチ範囲にある、付記１に記載の認証用パターン。
【０２２０】
（付記３）  前記認証可能なピッチ範囲は、１００μｍ〜５０００μｍの範囲にある、付記２に記載の認証用パターン。
【０２２１】
（付記４）  前記認証可能なピッチ範囲は、３５０μｍ〜４５０μｍの範囲にある、付記３に記載の認証用パターン。
【０２２２】
（付記５）  前記擬似特徴点の数は、指紋認証装置によって認証可能な個数範囲にある、付記１乃至４のいずれか１つに記載の認証用パターン。
【０２２３】
（付記６）  前記認証可能な個数範囲は、１〜１０００の範囲にある、付記５に記載の認証用パターン。
【０２２４】
（付記７）  前記認証可能な個数範囲は、５０〜１６０の範囲にある、付記６に記載の認証用パターン。
【０２２５】
（付記８）  前記擬似隆線パターンは、平面に対して、各擬似隆線が所定の厚さだけ隆起した凸部をしている、三次元パターンから成る、付記１乃至７のいずれか１つに記載の認証用パターン。
【０２２６】
（付記９）  前記所定の厚さが、指紋認証装置によって認証可能な厚さ範囲にある、付記８に記載の認証用パターン。
【０２２７】
（付記１０）  前記認証可能な厚さ範囲は、１μｍ〜５０００μｍの範囲にある、付記９に記載の認証用パターン。
【０２２８】
（付記１１）  前記認証可能な厚さ範囲は、４５μｍ〜５５μｍの範囲にある、付記１０に記載の認証用パターン。
【０２２９】
（付記１２）  前記少なくとも１つの擬似特徴点の各々が、少なくとも端点、分岐点、及び三角州の中から選択された１つである、付記１乃至１１のいずれか１つに記載の認証用パターン。
【０２３０】
（付記１３）  所定のピッチで形成され、中心点に関して対称な形状、該中心点を通る直線に関して対称な形状、および前記中心点付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る擬似隆線パターンを表す擬似隆線パターンデータと、
該擬似隆線パターンに対してランダムに選択された箇所に形成された、少なくとも１つの擬似特徴点を表す擬似特徴点データと、
を有する認証用パターンデータ。
【０２３１】
（付記１４）  所定のピッチで形成され、中心点に関して対称な形状、該中心点を通る直線に関して対称な形状、および前記中心点付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る基本パターンを準備する段階と、
中心点を持ち、擬似特徴点を規定するＭ行Ｎ列（Ｍ及びＮは、それぞれ、２以上の第１及び第２の整数）の矩形マトリクスを準備する段階と、
前記矩形マトリクスに対してランダムに選択された箇所に少なくとも１つの擬似特徴点を特定するための特待値を生成して、特徴点マトリクスを得る段階と、
前記基本パターンの中心点と前記特徴点マトリクスの中心点とが一致するように、前記基本パターンと前記特徴点マトリクスとを重ね合わせて、合成パターンを得る段階と、
該合成パターンに前記特定値で特定された前記少なくとも１つの擬似特徴点を付与して、認証用パターンを得る段階と、
を含む認証用パターンの生成方法。
【０２３２】
（付記１５）
前記Ｍ及びＮの各々は、４０〜６０の範囲にある、付記１４に記載の認証用パターンの生成方法。
【０２３３】
（付記１６）  前記Ｍ及びＮの各々は５０に等しい、付記１５に記載の認証用パターンの生成方法。
【０２３４】
（付記１７）  前記所定のピッチが、指紋認証装置によって認証可能なピッチ範囲にある、付記１４乃至１６のいずれか１つに記載の認証用パターンの生成方法。
【０２３５】
（付記１８）  前記認証可能なピッチ範囲は、１００μｍ〜５０００μｍの範囲にある、付記１７に記載の認証用パターンの生成方法。
【０２３６】
（付記１９）  前記認証可能なピッチ範囲は、３５０μｍ〜４５０μｍの範囲にある、付記１８に記載の認証用パターンの生成方法。
【０２３７】
（付記２０）  前記擬似特徴点の数は、指紋認証装置によって認証可能な個数範囲にある、付記１４乃至１９のいずれか１つに記載の認証用パターンの生成方法。
【０２３８】
（付記２１）  前記認証可能な個数範囲は、１〜１０００の範囲にある、付記２０に記載の認証用パターンの生成方法。
【０２３９】
（付記２２）  前記認証可能な個数範囲は、５０〜１６０の範囲にある、付記２１に記載の認証用パターンの生成方法。
【０２４０】
（付記２３）  前記少なくとも１つの擬似特徴点の各々が、少なくとも端点、分岐点、及び三角州の中から選択された１つから成る、付記１４乃至２２のいずれか１つに記載の認証用パターンの生成方法。
【０２４１】
（付記２４）  コンピュータに、認証用パターンを生成させる生成プログラムであって、前記コンピュータに、
所定のピッチで形成され、中心点に関して対称な形状、該中心点を通る直線に関して対称な形状、および前記中心点付近から徐々に実質的に半径方向外側へ延在するような曲線から成る渦巻き形状の中から選択された形状をしている、少なくとも１本の擬似隆線から成る基本パターンを準備する手順と、
中心点を持ち、擬似特徴点を規定するＭ行Ｎ列（Ｍ及びＮは、それぞれ、２以上の第１及び第２の整数）の矩形マトリクスを準備する手順と、
前記矩形マトリクスに対してランダムに選択された箇所に少なくとも１つの擬似特徴点を特定するための特定値を生成して、特徴点マトリクスを得る手順と、
前記基本パターンの中心点と前記特徴点マトリクスの中心点とが一致するように、前記基本パターンと前記特徴点マトリクスとを重ね合わせて、合成パターンを得る手順と、
該合成パターンに前記特定値で特定された前記少なくとも１つの擬似特徴点を付与して、前記認証用パターンを得る手順と、
を実行させる生成プログラム。
【産業上の利用可能性】
【０２４２】
本発明は、擬似指紋の形成に適用できるだけでなく、擬似指紋以外の他の身体的特徴（例えば、血管パターン）の認証用パターンの形成に適用できる。
【符号の説明】
【０２４３】
１０    基本パターン（擬似隆線パターン）
１０−１〜１０−６    基本パターン（擬似隆線パターン）
１０Ａ−１〜１０Ａ−６    基本パターン（擬似隆線パターン）
１０Ｂ−１〜１０Ｂ−６    基本パターン（擬似隆線パターン）
１０Ｃ−１〜１０Ｃ−６    基本パターン（擬似隆線パターン）
１０Ｃ’−１    基本パターン（擬似隆線パターン）
１０Ｄ−１〜１０Ｄ−６    基本パターン（擬似隆線パターン）
１０Ｄ’−１    基本パターン（擬似隆線パターン）
１０Ｅ−１〜１０Ｅ−４    基本パターン（擬似隆線パターン）
１０Ｅ’−１〜１０Ｅ’−４    基本パターン（擬似隆線パターン）
１０Ｆ    基本パターン（擬似隆線パターン）
１２    擬似隆線
１２−１〜１２−６  擬似隆線
１２Ａ−１〜１２Ａ−６    擬似隆線
１２Ｂ−１〜１２Ｂ−６    擬似隆線
１２Ｃ−１〜１２Ｃ−６    擬似隆線
１２Ｃ’−１    擬似隆線
１２Ｄ−１〜１２Ｄ−６    擬似隆線
１２Ｄ’−１    擬似隆線
１２Ｅ−１〜１２Ｅ−４    擬似隆線
１２Ｅ’−１〜１２Ｅ’−４    擬似隆線
１２Ｆ    擬似隆線
２０    矩形マトリクス
３０    特徴点マトリクス
４０    合成パターン
５０    認証用パターン
５２    版
５４    耐摩耗性インク
５６    所定の素材
５８    三次元の認証用パターン
６０    入出力装置
７０    処理部（コンピュータ）
７１    通信インターフェース
７３    ＣＰＵ
７５    記憶装置
７５１    ＯＳ格納部
７５２    プログラム格納部
７５３    データ格納部
７５４    基本パターンデータ記憶部
７５５    矩形マトリクスデータ記憶部
７５６    特定値記憶部
７５７    特徴点マトリクスデータ記憶部
７５８    合成パターンデータ記憶部
７５９    認証用パターンデータ記憶部
【図１】
2015149015.tif 000003
【図２】
2015149015.tif 000004
【図３】
2015149015.tif 000005
【図４】
2015149015.tif 000006
【図５】
2015149015.tif 000007
【図６】
2015149015.tif 000008
【図７】
2015149015.tif 000009
【図８】
2015149015.tif 000010
【図９】
2015149015.tif 000011
【図１０】
2015149015.tif 000012
【図１１】
2015149015.tif 000013
【図１２】
2015149015.tif 000014
【図１３】
2015149015.tif 000015
【図１４】
2015149015.tif 000016
【図１５】
2015149015.tif 000017
【図１６】
2015149015.tif 000018
【図１７】
2015149015.tif 000019
【図１８】
2015149015.tif 000020
【図１９】
2015149015.tif 000021
【図２０】
2015149015.tif 000022