(57)【要約】【課題】  本発明が解決しようとする課題は、重合性組成物に添加した際に結晶の析出等が起こらず高い保存安定性を有し、屈折率異方性の大きな重合性化合物を提供し、当該重合性化合物を含有する重合性組成物を重合して得られるレンズ状の重合物を加熱処理した際に配向の乱れが生じにくい重合性組成物を提供することである。更に、当該重合性組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。【解決手段】  本願発明は一般式（Ｉ）【化１】2015151383.tif 000092で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物、当該組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。【選択図】  図１
2015151383.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
2015151383.tif 000084
（式中、Ｐ１及びＰ２は各々独立して重合性基を表し、Ｓ１及びＳ２は各々独立してスペーサー基を表すが、Ｓ１及び／又はＳ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ１及びＸ２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ１及び／又はＸ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ１−Ｓ１、Ｓ１−Ｘ１、Ｘ２−Ｓ２、及びＳ２−Ｐ２は、−Ｏ−Ｏ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｏ−Ｓ−又は−Ｓ−Ｏ−基を含まない。）、Ａ１及びＡ２は各々独立して１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイル又はナフタレン−２，６−ジイルを表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、Ｂは下記式（Ｂ−１）から式（Ｂ−４）
【化２】
2015151383.tif 000085
から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基又はジメチルシリル基を表すが、複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｎ１及びｎ２は各々独立して、０から８の整数を表すが、ｎ１又はｎ２の少なくとも一方は０以外の整数を表し、ｎ１、ｎ２が２〜８である場合、Ｓ１、Ｘ１、Ｓ２、Ｘ２はそれぞれ同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物。
【請求項２】
一般式（Ｉ）においてＳ１、Ｓ２、Ｘ１、Ｘ２、Ａ１、Ａ２、Ｂ、Ｌ、ｎ１及びｎ２は請求項１で定義されたものと同一のものを表し、Ｐ１及びＰ２は各々同一であっても異なっていても良く下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）
【化３】
2015151383.tif 000086
から選ばれる基を表す請求項１記載の化合物。
【請求項３】
一般式（Ｉ）においてＰ１、Ｐ２、Ｘ１、Ｘ２、Ａ１、Ａ２、Ｂ、Ｌ、ｎ１及びｎ２は請求項１又は請求項２で定義されたものと同一のものを表し、Ｓ１及びＳ２は各々独立して１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表し、Ｓ１及び／又はＳ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い、請求項１又は請求項２記載の化合物。
【請求項４】
一般式（Ｉ）においてＰ１、Ｐ２、Ｓ１、Ｓ２、Ａ１、Ａ２、Ｂ、Ｌ、ｎ１及びｎ２は請求項１から請求項３のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、Ｘ１及びＸ２は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｘ１及び／又はＸ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５】
一般式（Ｉ）においてＰ１、Ｐ２、Ｓ１、Ｓ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｂ、Ｌ、ｎ１及びｎ２は請求項１から請求項４のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、Ａ１及びＡ２は各々独立して下記式（ａ−１）から式（ａ−６）
【化４】
2015151383.tif 000087
及び下記式（ａ−７）から式（ａ−１４）
【化５】
2015151383.tif 000088
から選ばれる基を表す請求項１から請求項４記載の化合物。
【請求項６】
一般式（Ｉ）においてＰ１、Ｐ２、Ｓ１、Ｓ２、Ｘ１、Ｘ２、Ａ１、Ａ２、Ｌ、ｎ１及びｎ２は請求項１から請求項５のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、Ｂは下記式（ｂ−１）から式（ｂ−３）
【化６】
2015151383.tif 000089
下記式（ｂ−４）から式（ｂ−１８）
【化７】
2015151383.tif 000090
及び下記式（ｂ−１９）から式（ｂ−２６）
【化８】
2015151383.tif 000091
から選ばれる基を表す請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項７】
一般式（Ｉ）においてＰ１、Ｐ２、Ｓ１、Ｓ２、Ｘ１、Ｘ２、Ａ１、Ａ２、Ｂ、ｎ１及びｎ２は請求項１から請求項６のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、Ｌはフッ素原子又は塩素原子を表す請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項８】
一般式（Ｉ）においてＰ１、Ｐ２、Ｓ１、Ｓ２、Ｘ１、Ｘ２、Ａ１、Ａ２、Ｂ、及び、Ｌは請求項１から請求項７のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、ｎ１及びｎ２は１を表す請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の化合物を含有する重合性組成物。
【請求項１０】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の化合物を含有する重合性液晶組成物。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０に記載の組成物を重合することにより得られる重合体。
【請求項１２】
請求項１１記載の重合体を用いた光学異方体。
【請求項１３】
請求項１から請求項８のいずれかに記載の化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、液晶材料、電子材料、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は重合性基を有する化合物、当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物を用いた光学異方体に関する。
【背景技術】
【０００２】
重合性基を有する化合物（重合性化合物）は種々の光学材料に使用される。例えば、重合性化合物を含む重合性組成物を液晶状態で配列させた後、重合させることにより、均一な配向を有する重合体を作製することが可能である。このような重合体は、ディスプレイに必要な偏光板、位相差板、３Ｄ表示を行うために必要なレンチキュラーレンズ等に使用することができる。多くの場合、要求される光学特性、重合速度、溶解性、融点、ガラス転移温度、重合体の透明性、機械的強度、表面硬度、耐熱性及び耐光性を満たすために、２種類以上の重合性化合物を含む重合性組成物が使用される。その際、使用する重合性化合物には、他の特性に悪影響を及ぼすことなく、重合性組成物に良好な物性をもたらすことが求められる。
【０００３】
人間は左右の各々の目から入った映像が脳内で一体化する際に、奥行きや立体感を感じる。３Ｄ表示は、右目用及び左目用に別々の角度で撮影した映像を各々右目及び左目に送ることにより、奥行きや立体感を感じさせる仕組みである。右目用及び左目用の各々の映像を各々の目に送る方法として、レンチキュラーレンズを使用したものが知られている。
【０００４】
重合性化合物をレンチキュラーレンズ用に使用する場合には、重合前の重合性組成物を調製した際に、長時間保管しても重合性組成物から、その成分中の重合性化合物が析出することが無いことが重要である。析出が発生しやすい重合性組成物を使用した場合、重合性組成物を調製した後、重合物を製造までの期間に析出が発生する可能性が高くなる。その場合、析出の生じた重合性組成物を加熱等の操作によって再度溶解させなければならず、プロセス上著しく不利である。また、３Ｄディスプレイ用途にレンチキュラーレンズを使用する場合には、ディスプレイの内部部品のレイアウト自由度やディスプレイそのもののデザイン性、携帯用３Ｄディスプレイ用途においては特に携帯性の観点から、レンチキュラーレンズの膜厚がなるべく小さいことが好ましい。そのため、使用する重合性化合物には他の特性に悪影響を及ぼすことなく、屈折率異方性が大きいことが望まれる。また、重合性組成物を重合させレンチキュラーレンズを作製した後に、重合性組成物を完全に硬化させることを目的として、ポストベークすなわち加熱処理を行う場合がある。その場合、ポストベーク後にレンチキュラーレンズに配向の乱れが生じないことが好ましい。配向の乱れが著しく生じたレンチキュラーレンズを、例えば３Ｄディスプレイに使用した場合、３Ｄ表示の品質が低下したり、ディスプレイの明るさやコントラストが低下したりしてしまい、ディスプレイ製品の品質を大きく低下させてしまう問題がある。
【０００５】
当該分野における既存の化合物は屈折率異方性が不十分であった（特許文献１）。また、当該分野において屈折率異方性の大きな化合物として種々の重合性化合物が知られているが、それらの重合性化合物は、重合性組成物に添加した場合に結晶の析出が起こり、保存安定性が不十分であったり（特許文献２、３）、重合性組成物を重合させ得られたレンチキュラーレンズに対しポストベーク処理を行った場合に配向の乱れが著しく生じたりする問題があった（特許文献２、３、４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−２６９５２５号公報
【特許文献２】特表２００２−５２１３５４号公報
【特許文献３】特開平５−１３２５２４号公報
【特許文献４】特開２０１２−２４０９４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明が解決しようとする課題は、重合性組成物に添加した際に結晶の析出等が起こらず高い保存安定性を有し、屈折率異方性の大きな重合性化合物を提供し、当該重合性化合物を含有する重合性組成物を重合して得られるレンズ状の重合物を加熱処理した際に配向の乱れが生じにくい重合性組成物を提供することである。更に、当該重合性組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本願発明は一般式（Ｉ）
【０００９】
【化１】
2015151383.tif 000003
【００１０】
（式中、Ｐ１及びＰ２は各々独立して重合性基を表し、Ｓ１及びＳ２は各々独立してスペーサー基を表すが、Ｓ１及び／又はＳ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ１及びＸ２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ１及び／又はＸ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ１及びＡ２は各々同一であっても異なっていても良く各々独立して１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイル又はナフタレン−２，６−ジイルを表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、Ｂは下記式（Ｂ−１）から式（Ｂ−４）
【００１１】
【化２】
2015151383.tif 000004
【００１２】
から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基又はジメチルシリル基を表すが、複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｎ１及びｎ２は０から８の整数を表すが、ｎ１又はｎ２の少なくとも一方は０以外の整数を表す。）で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物、及び、当該組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本願発明の化合物は、重合性組成物を構成した場合に保存安定性が高く、屈折率異方性が大きいことから重合性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する組成物を用いた光学異方体は、ポストベーク後に配向の乱れが生じにくいことからレンチキュラーレンズ等の光学材料の用途に有用である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本願発明は一般式（Ｉ）で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物、当該組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【００１５】
一般式（Ｉ）においてＰ１及びＰ２は重合性基を表すが、Ｐ１及びＰ２は各々同一であっても異なっていても良く、下記式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）
【００１６】
【化３】
2015151383.tif 000005
【００１７】
から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）、式（Ｐ−１５）又は式（Ｐ−１８）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。
【００１８】
Ｓ１及びＳ２は各々独立してスペーサー基を表すが、Ｓ１及び／又はＳ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことが好ましく（ただし、Ｐ１−Ｓ１、Ｓ１−Ｘ１、Ｘ２−Ｓ２、及びＳ２−Ｐ２は、−Ｏ−Ｏ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｏ−Ｓ−又は−Ｓ−Ｏ−基を含まない。）、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０のアルキレン基を表すことがより好ましく、各々独立して炭素原子数１から８のアルキレン基を表すことが特に好ましい。
【００１９】
Ｘ１及びＸ２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ１及び／又はＸ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、各々独立して−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。
【００２０】
Ａ１及びＡ２は各々独立して無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良い１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイル又はナフタレン−２，６−ジイルを表すが、液晶性、保存安定性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から各々独立して無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良い１，４−フェニレン又はナフタレン−２，６−ジイルを表すことが好ましく、各々独立して下記式（ａ−１）から式（ａ−６）
【００２１】
【化４】
2015151383.tif 000006
【００２２】
又は下記式（ａ−７）から式（ａ−１４）
【００２３】
【化５】
2015151383.tif 000007
【００２４】
から選ばれる基を表すことがより好ましく、各々独立して式（ａ−１）から式（ａ−６）又は式（ａ−７）から式（ａ−９）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、各々独立して式（ａ−１）から式（ａ−６）又は式（ａ−７）から選ばれる基を表すことが特に好ましく、式（ａ−１）から式（ａ−６）を表すことが最も好ましい。
【００２５】
Ｂは無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良い式（Ｂ−１）から式（Ｂ−４）
【００２６】
【化６】
2015151383.tif 000008
【００２７】
から選ばれる基を表すが、保存安定性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から下記式（ｂ−１）から式（ｂ−３）
【００２８】
【化７】
2015151383.tif 000009
【００２９】
、下記式（ｂ−４）から式（ｂ−１８）
【００３０】
【化８】
2015151383.tif 000010
【００３１】
又は下記式（ｂ−１９）から式（ｂ−２６）
【００３２】
【化９】
2015151383.tif 000011
【００３３】
から選ばれる基を表すことが好ましく、式（ｂ−１）、式（ｂ−４）から式（ｂ−１４）、式（ｂ−１９）、式（ｂ−２１）、式（ｂ−２３）及び式（ｂ−２５）から選ばれる基を表すことがより好ましく、式（ｂ−１）、式（ｂ−４）から式（ｂ−９）、式（ｂ−１２）、式（ｂ−１９）、式（ｂ−２１）及び式（ｂ−２３）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。
【００３４】
Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基又はジメチルシリル基を表すが、液晶性、合成の容易さ及び原料の入手容易さの観点からフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基を表すことが好ましく、フッ素原子又は塩素原子を表すことが特に好ましく、フッ素原子を表すことが最も好ましい。また、保存安定性の観点から、Ａ１、Ａ２、及びＢの有する環構造のうち少なくとも１つの基がＬによって置換されていることが好ましく、さらに合成の容易さの観点から、Ａ１、Ａ２、又はＢの有する１，４−フェニレンのうち少なくとも１つの基がＬによって置換されていることがより好ましい。
【００３５】
ｎ１及びｎ２は各々独立して、０から８の整数を表すが、ｎ１又はｎ２の少なくとも一方は０以外の整数を表す。液晶性、保存安定性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から少なくともｎ１及びｎ２の何れか一方は、１から４の整数を表すことが好ましく、１又は２を表すことがより好ましく、１を表すことが特に好ましく、特に保存安定性及び原料の入手容易さの観点から、ｎ１及びｎ２の何れも１を表すことが最も好ましい。
【００３６】
一般式（Ｉ）で表される化合物として具体的には、下記の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−９８）で表される化合物が好ましい。
【００３７】
【化１０】
2015151383.tif 000012
【００３８】
【化１１】
2015151383.tif 000013
【００３９】
【化１２】
2015151383.tif 000014
【００４０】
【化１３】
2015151383.tif 000015
【００４１】
【化１４】
2015151383.tif 000016
【００４２】
【化１５】
2015151383.tif 000017
【００４３】
【化１６】
2015151383.tif 000018
【００４４】
【化１７】
2015151383.tif 000019
【００４５】
【化１８】
2015151383.tif 000020
【００４６】
【化１９】
2015151383.tif 000021
【００４７】
【化２０】
2015151383.tif 000022
【００４８】
【化２１】
2015151383.tif 000023
【００４９】
【化２２】
2015151383.tif 000024
【００５０】
【化２３】
2015151383.tif 000025
【００５１】
【化２４】
2015151383.tif 000026
【００５２】
【化２５】
2015151383.tif 000027
【００５３】
【化２６】
2015151383.tif 000028
【００５４】
【化２７】
2015151383.tif 000029
【００５５】
【化２８】
2015151383.tif 000030
【００５６】
【化２９】
2015151383.tif 000031
【００５７】
本願発明の化合物は以下の製法で製造することができる。
（製法１）下記式（Ｓ−１０）で表される化合物の製造
【００５８】
【化３０】
2015151383.tif 000032
【００５９】
（式中、Ｐ１、Ｐ２、Ｓ１、Ｓ２、Ｌは各々独立して一般式（Ｉ）で定義されたものと同一のものを表し、ｒは各々独立して０から４の整数を表し、ｓは各々独立して０から３の整数を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表し、ＰＧは保護基を表す。）
一般式（Ｓ−１）で表される化合物のヒドロキシル基を保護基（ＰＧ）により保護する。保護基（ＰＧ）としては、脱保護工程に至るまで安定に保護しうるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ  ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ  ＧＲＯＵＰＳ  ＩＮ  ＯＲＧＡＮＩＣ  ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ  Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ  Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ  Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ  Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）等に挙げられている保護基（ＰＧ）が好ましい。保護基の具体例としてはテトラヒドロピラニル基等が挙げられる。
【００６０】
一般式（Ｓ−２）で表される化合物をホウ酸化することにより一般式（Ｓ−３）で表される化合物を得る。ホウ酸化の方法としては一般式（Ｓ−２）で表される化合物をグリニャール試薬へと誘導し、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法、又は一般式（Ｓ−２）で表される化合物をハロゲンリチウム交換反応によりリチオ化し、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法が挙げられる。ホウ酸エステルの具体例としてはホウ酸トリメチル、ホウ酸トリイソプロピル等が挙げられる。リチオ化剤の具体例としてはブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等が挙げられる。
【００６１】
一般式（Ｓ−３）で表される化合物を一般式（Ｓ−４）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−５）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。金属触媒の具体例としては［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、酢酸パラジウム（ＩＩ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）等が挙げられる。塩基の具体例としては炭酸カリウム、リン酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。反応条件としては例えばＭｅｔａｌ−Ｃａｔａｌｙｚｅｄ  Ｃｒｏｓｓ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ（Ａｒｍｉｎ  ｄｅ  Ｍｅｉｊｅｒｅ、Ｆｒａｎｃｏｉｓ  Ｄｉｅｄｒｉｃｈ共著、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ）、Ｐａｌｌａｄｉｕｍ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ａｎｄ  Ｃａｔａｌｙｓｔｓ：Ｎｅｗ  Ｐｅｒｓｐｅｃｔｉｖｅｓ  ｆｏｒ  ｔｈｅ  ２１ｓｔ  Ｃｅｎｔｕｒｙ（Ｊｉｒｏ  Ｔｓｕｊｉ著、Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｌｔｄ．）、Ｃｒｏｓｓ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ：Ａ  Ｐｒａｃｔｉｃａｌ  Ｇｕｉｄｅ（Ｔｏｐｉｃｓ  ｉｎ  Ｃｕｒｒｅｎｔ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）（Ｓ．Ｌ．Ｂｕｃｈｗａｌｄ、Ｋ．Ｆｕｇａｍｉ、Ｔ．Ｈｉｙａｍａ、Ｍ．Ｋｏｓｕｇｉ、Ｍ．Ｍｉｕｒａ、Ｎ．Ｍｉｙａｕｒａ、Ａ．Ｒ．Ｍｕｃｉ、Ｍ．Ｎｏｍｕｒａ、Ｅ．Ｓｈｉｒａｋａｗａ、Ｋ．Ｔａｍａｏ著、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ）等の文献に記載の方法が挙げられる。
【００６２】
一般式（Ｓ−５）で表される化合物を例えば塩基存在下一般式（Ｓ−６）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−７）で表される化合物を得る。塩基の具体例としては炭酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。
【００６３】
一般式（Ｓ−７）で表される化合物の保護基（ＰＧ）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、一般式（Ｓ−８）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば前記文献に挙げられているものが好ましい。
【００６４】
一般式（Ｓ−８）で表される化合物を例えば塩基存在下一般式（Ｓ−９）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−１０）で表される化合物を得る。塩基としては前記のものが挙げられる。
【００６５】
前記各工程において記載した以外の反応条件として、例えば実験化学講座（日本化学会編、丸善株式会社発行）、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ（Ａ  Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）、Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ−Ｉｎｓｔｉｔｕｔ  ｆｕｅｒ  Ｌｉｔｅｒａｔｕｒ  ｄｅｒ  Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ  Ｂｅｒｌｉｎ  ａｎｄ  Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ  ＧｍｂＨ  ＆  Ｃｏ．Ｋ）、Ｆｉｅｓｅｒｓ’  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ｆｏｒ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）等の文献に記載のもの又はＳｃｉＦｉｎｄｅｒ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ａｂｓｔｒａｃｔｓ  Ｓｅｒｖｉｃｅ，Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ）、Ｒｅａｘｙｓ（Ｅｌｓｅｖｉｅｒ  Ｌｔｄ．）等のデータベースに収載のものが挙げられる。
【００６６】
また、各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒の具体例としてはエタノール、テトラヒドロフラン、トルエン、ジクロロメタン、水等が挙げられる。有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒の具体例としてはベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。
【００６７】
また、各工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤の具体例としてはシリカゲル、アルミナ、活性炭等が挙げられる。
（製法２）下記式（Ｓ−２４）で表される化合物の製造
【００６８】
【化３１】
2015151383.tif 000033
【００６９】
（式中、Ｐ１、Ｐ２、Ｓ１、Ｓ２、Ｌは各々独立して一般式（Ｉ）で定義されたものと同一のものを表し、ｒは各々独立して０から４の整数を表し、ｓは各々独立して０から３の整数を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表し、ＰＧは保護基を表す。）
一般式（Ｓ−１１）で表される化合物を例えば塩基存在下一般式（Ｓ−１２）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−１３）で表される化合物を得る。塩基の具体例としては炭酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。
【００７０】
一般式（Ｓ−１３）で表される化合物のヒドロキシル基を保護基（ＰＧ）により保護する。保護基（ＰＧ）としては製法１記載の文献に挙げられているものが好ましい。保護基の具体例としてはテトラヒドロピラニル基等が挙げられる。
【００７１】
一般式（Ｓ−１４）で表される化合物をホウ酸化することにより一般式（Ｓ−１５）で表される化合物を得る。ホウ酸化の方法としては一般式（Ｓ−１４）で表される化合物をグリニャール試薬へと誘導し、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法、又は一般式（Ｓ−１４）で表される化合物をハロゲンリチウム交換反応によりリチオ化し、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法が挙げられる。ホウ酸エステルの具体例としてはホウ酸トリメチル、ホウ酸トリイソプロピル等が挙げられる。リチオ化剤の具体例としてはブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等が挙げられる。
【００７２】
一般式（Ｓ−１５）で表される化合物を一般式（Ｓ−１６）で表される化合物とクロスカップリングさせることにより一般式（Ｓ−１７）で表される化合物を得ることができる。金属触媒、塩基及び反応条件としては製法１記載のものが挙げられる。
【００７３】
一般式（Ｓ−１７）で表される化合物をホウ酸化することにより一般式（Ｓ−１８）で表される化合物を得る。ホウ酸化の方法としては一般式（Ｓ−１７）で表される化合物の芳香環上のプロトンを強塩基により引き抜き、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法が挙げられる。強塩基としては例えばブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等が挙げられる。必要に応じてテトラメチルエチレンジアミン等を添加しても良い。ホウ酸エステルとしては前記のものが挙げられる。また、一般式（Ｓ−１７）で表される化合物をハロゲン化した後、前記と同様にホウ酸化する方法も挙げられる。
【００７４】
一般式（Ｓ−１８）で表される化合物を一般式（Ｓ−１９）で表される化合物とクロスカップリングさせることにより一般式（Ｓ−２０）で表される化合物を得ることができる。金属触媒、塩基及び反応条件としては製法１記載のものが挙げられる。
【００７５】
一般式（Ｓ−２０）で表される化合物を一般式（Ｓ−２１）で表される化合物と光延反応により反応させることによって一般式（Ｓ−２２）で表される化合物を得る。アゾジカルボン酸の具体例としてはアゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル等が挙げられる。ホスフィンの具体例としてはトリフェニルホスフィン等が挙げられる。また、シアノメチレントリブチルホスホラン等の角田試薬を用いてもよい。
【００７６】
一般式（Ｓ−２２）で表される化合物の保護基（ＰＧ）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、製法１記載の文献に挙げられているものが好ましい。
【００７７】
一般式（Ｓ−２３）で表される化合物に重合性基を導入することにより一般式（Ｓ−２４）で表される化合物を得る。
【００７８】
前記各工程において記載した以外の反応条件として、製法１記載の文献に記載のもの又はデータベースに収載のものが挙げられる。また、製法１同様に各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。製法１同様に各工程において必要に応じて精製を行うことができる。
【００７９】
本願発明の化合物は、ネマチック液晶組成物、スメクチック液晶組成物、キラルスメクチック液晶組成物及びコレステリック液晶組成物に使用することが好ましい。本願発明の反応性化合物を用いる液晶組成物において本願発明以外の化合物を添加しても構わない。
【００８０】
本願発明の反応性化合物と混合して使用される他の反応性化合物としては、具体的には一般式（ＩＩ−１）
【００８１】
【化３２】
2015151383.tif 000034
【００８２】
及び／又は一般式（ＩＩ−２）
【００８３】
【化３３】
2015151383.tif 000035
【００８４】
（式中、Ｐ３、Ｐ４及びＰ５は各々独立して一般式（Ｉ）におけるＰ１又はＰ２と同じ意味を表し、Ｓ３、Ｓ４及びＳ５は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ３、Ｘ４及びＸ５は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｚ１及びＺ２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し（ただし、Ｐ３−Ｓ３、Ｓ３−Ｘ３、Ｘ４−Ｓ４、Ｓ４−Ｐ４、Ｐ５−Ｓ５、及びＳ５−Ｘ５、は、−Ｏ−Ｏ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｏ−Ｓ−又は−Ｓ−Ｏ−基を含まない。）、Ａ３、Ａ４、Ａ５及びＡ６は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ３、Ａ４、Ａ５及びＡ６は各々独立して無置換であるか又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素原子数１から２０のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、Ｒ１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖又は分岐アルキル基を表し、ｍ１及びｍ２は０、１、２又は３を表すが、ｍ１及び／又はｍ２が２又は３を表す場合、２個あるいは３個存在するＡ３、Ａ５、Ｚ１及び／又はＺ２はそれぞれ、同一であっても異なっていても良いが、一般式（Ｉ）で表される化合物を除く。）で表される化合物が好ましく、Ｐ３、Ｐ４及びＰ５は各々独立してアクリル基又はメタクリル基である場合が特に好ましい。一般式（ＩＩ−１）で表される化合物として具体的には、一般式（ＩＩ−１Ａ）
【００８５】
【化３４】
2015151383.tif 000036
【００８６】
（式中、Ｗ１及びＷ２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ６及びＳ７は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ６及びＸ７は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ３及びＺ４は各々独立して−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ７、Ａ８及びＡ９は各々独立して無置換或いはフッ素原子、塩素原子、炭素原子数１から４のアルキル基又は炭素原子数１から４のアルコキシ基によって置換された１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（ＩＩ−１Ａ−１）から式（ＩＩ−１Ａ−８）で表される化合物が特に好ましい。
【００８７】
【化３５】
2015151383.tif 000037
【００８８】
（式中、Ｗ１及びＷ２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ８は一般式（ＩＩ−１Ａ）におけるＳ６と同じ意味を表し、Ｓ９は一般式（ＩＩ−１Ａ）におけるＳ７と同じ意味を表す。）上記式（ＩＩ−１Ａ−１）から式（ＩＩ−１Ａ−８）において、Ｓ８及びＳ９が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物がさらに好ましい。
【００８９】
また、一般式（ＩＩ−１Ｂ）
【００９０】
【化３６】
2015151383.tif 000038
【００９１】
（式中、Ｗ１及びＷ２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ１０及びＳ１１は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ８及びＸ９は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ５は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ１０、Ａ１１及びＡ１２は各々独立して無置換或いはフッ素原子、塩素原子、炭素原子数１から４のアルキル基又は炭素原子数１から４のアルコキシ基によって置換された１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（ＩＩ−１Ｂ−１）から式（ＩＩ−１Ｂ−８）で表される化合物が特に好ましい。
【００９２】
【化３７】
2015151383.tif 000039
【００９３】
（式中、Ｗ１及びＷ２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ１２は一般式（ＩＩ−１Ｂ）におけるＳ１０と同じ意味を表し、Ｓ１３は一般式（ＩＩ−１Ｂ）におけるＳ１１と同じ意味を表す。）上記式（ＩＩ−１Ｂ−１）から式（ＩＩ−１Ｂ−８）において、耐熱性及び耐久性の観点から、式（ＩＩ−１Ｂ−２）、式（ＩＩ−１Ｂ−５）、式（ＩＩ−１Ｂ−６）、式（ＩＩ−１Ｂ−７）及び式（ＩＩ−１Ｂ−８）で表される化合物が好ましく、式（ＩＩ−１Ｂ−２）で表される化合物がさらに好ましく、Ｓ１２及びＳ１３が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。
【００９４】
この他、好ましい２官能重合性化合物としては下記一般式（ＩＩ−１Ｃ−１）から式（ＩＩ−１Ｃ−８）で表される化合物が挙げられる。
【００９５】
【化３８】
2015151383.tif 000040
【００９６】
（式中、Ｗ１及びＷ２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ１４及びＳ１５は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基を表す。）上記式（ＩＩ−１Ｃ−１）から式（ＩＩ−１Ｃ−８）において、式（ＩＩ−１Ｃ−２）、式（ＩＩ−１Ｃ−３）、式（ＩＩ−１Ｃ−４）、式（ＩＩ−１Ｃ−６）、式（ＩＩ−１Ｃ−７）及び式（ＩＩ−１Ｃ−８）で表される化合物が好ましく、Ｓ１４及びＳ１５が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。
【００９７】
また、一般式（ＩＩ−２）で表される化合物として具体的には、下記一般式（ＩＩ−２−１）から式（ＩＩ−２−９）で表される化合物が挙げられる。
【００９８】
【化３９】
2015151383.tif 000041
【００９９】
（式中、Ｐ６は一般式（Ｉ）におけるＰ１又はＰ２と同じ意味を表し、Ｓ１６は単結合又は炭素原子数１から２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ１０は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−を表し、Ｚ６は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ａ１３は１，４−フェニレン基又はナフタレン−２，６−ジイル基を表すが、Ａ１３は無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、Ｌ１はフッ素原子、塩素原子、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、ｒは０から４の整数を表し、Ｒ２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ニトロ基、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。）
本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物には、当該組成物の液晶性を大きく損なわない程度に、液晶性を示さない重合性化合物を添加することも可能である。具体的には、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識される化合物であれば特に制限なく使用可能である。具体例として例えば「光硬化技術データブック、材料編（モノマー，オリゴマー，光重合開始剤）」（市村國宏、加藤清視監修、テクノネット社）記載のものが挙げられる。
【０１００】
また、本願発明の化合物は光重合開始剤を使用しなくても重合させることが可能であるが、目的により光重合開始剤を添加しても構わない。その場合は光重合開始剤の濃度は、本願発明の化合物に対し０．１質量％から１５質量％が好ましく、０．２質量％から１０質量％がより好ましく、０．４質量％から８質量％がさらに好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。光重合開始剤の具体例としては２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７）、安息香酸［１−［４−（フェニルチオ）ベンゾイル］ヘプチリデン］アミノ（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１）等が挙げられる。熱重合開始剤としては、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられる。熱重合開始剤の具体例としては２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）等が挙げられる。また、１種類の重合開始剤を用いても良く、２種類以上の重合開始剤を併用して用いても良い。
【０１０１】
また、本発明の液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン類、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、組成物に対して０．００５質量％から１質量％の範囲が好ましく、０．０２質量％から０．８質量％がより好ましく、０．０３質量％から０．５質量％がさらに好ましい。また、１種類の安定剤を用いても良く、２種類以上の安定剤を併用して用いても良い。安定剤としては、具体的には式（ＩＩＩ−１）から式（ＩＩＩ−３６）
【０１０２】
【化４０】
2015151383.tif 000042
【０１０３】
【化４１】
2015151383.tif 000043
【０１０４】
【化４２】
2015151383.tif 000044
【０１０５】
【化４３】
2015151383.tif 000045
【０１０６】
【化４４】
2015151383.tif 000046
【０１０７】
【化４５】
2015151383.tif 000047
【０１０８】
【化４６】
2015151383.tif 000048
【０１０９】
（式中、ｎは０から２０の整数を表す。）で表される化合物が好ましい。
【０１１０】
また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物をフィルム類、光学素子類、機能性顔料類、医薬品類、化粧品類、コーティング剤類、合成樹脂類等の用途に利用する場合には、その目的に応じて金属、金属錯体、染料、顔料、色素、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等を添加することもできる。
【０１１１】
本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合することにより得られるポリマーは種々の用途に利用できる。例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、配向させずに重合することにより得られるポリマーは、光散乱板、偏光解消板、モアレ縞防止板として利用可能である。また、配向させた後に重合することにより得られるポリマーは、光学異方性を有しており有用である。このような光学異方体は、例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、布等でラビング処理した基板、有機薄膜を形成した基板又はＳｉＯ２を斜方蒸着した配向膜を有する基板に担持させるか、基板間に挟持させた後、当該重合性液晶組成物を重合することによって製造することができる。
【０１１２】
重合性液晶組成物を基板上に担持させる際の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。またコーティングの際、重合性液晶組成物に有機溶媒を添加しても良い。有機溶媒としては、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、非プロトン性溶媒等を使用することができるが、例えば炭化水素系溶媒としてはトルエン又はヘキサンを、ハロゲン化炭化水素系溶媒としては塩化メチレンを、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、アセトキシ−２−エトキシエタン又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを、アルコール系溶媒としてはメタノール、エタノール又はイソプロパノールを、ケトン系溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、γ−ブチルラクトン又はＮ−メチルピロリジノン類を、エステル系溶媒としては酢酸エチル又はセロソルブを、非プロトン性溶媒としてはジメチルホルムアミド又はアセトニトリルを挙げることができる。これらは単独でも、組み合わせて用いても良く、その蒸気圧と重合性液晶組成物の溶解性を考慮し、適宜選択すれば良い。添加した有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を用いることができる。重合性液晶材料の塗布性をさらに向上させるためには、基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設けることや、重合性液晶材料にレベリング剤を添加する事も有効である。基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設ける方法は、重合性液晶材料を重合することにより得られるポリマーと基板との密着性を向上させるために有効である。
【０１１３】
上記以外の配向処理としては、液晶材料の流動配向の利用、電場又は磁場の利用を挙げることができる。これらの配向手段は単独で用いても、また組み合わせて用いても良い。さらに、ラビングに代わる配向処理方法として、光配向法を用いることもできる。基板の形状としては、平板の他に、曲面を構成部分として有していても良い。基板を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。
【０１１４】
本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合させる際、迅速に重合が進行することが望ましいため、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することにより重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良く、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性を有していなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、さらに活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。また、照射時の温度は、本発明の重合性液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。特に、光重合によって光学異方体を製造しようとする場合には、意図しない熱重合の誘起を避ける意味からも可能な限り室温に近い温度、即ち、典型的には２５℃での温度で重合させることが好ましい。活性エネルギー線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ２〜２Ｗ／ｃｍ２が好ましい。強度が０．１ｍＷ／ｃｍ２以下の場合、光重合を完了させるのに多大な時間が必要になり生産性が悪化してしまい、２Ｗ／ｃｍ２以上の場合、重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物が劣化してしまう危険がある。
【０１１５】
重合によって得られた当該光学異方体は、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図ることを目的として熱処理を施すこともできる。熱処理の温度は５０〜２５０℃の範囲であることが好ましく、熱処理時間は３０秒〜１２時間の範囲であることが好ましい。
【０１１６】
このような方法によって製造される当該光学異方体は、基板から剥離して単体で用いても、剥離せずに用いても良い。また、得られた光学異方体を積層しても、他の基板に貼り合わせて用いてもよい。
【実施例】
【０１１７】
以下、実施例を挙げて本発明を更に記述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。
（実施例１）式（Ｉ−１）で表される化合物の製造
【０１１８】
【化４７】
2015151383.tif 000049
【０１１９】
反応容器に式（Ｉ−１−１）で表される化合物１０．０ｇ（０．０４４８モル）、３−クロロプロパノール５．５１ｇ（０．０５８３モル）、炭酸セシウム２１．９ｇ（０．０６７２モル）、ジメチルスルホキシド１００ｍＬを加え、６５℃で５時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、水、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１−２）で表される化合物１０．７ｇ（０．０３８１モル）を得た。
【０１２０】
反応容器に式（Ｉ−１−２）で表される化合物１０．７ｇ（０．０３８１モル）、式（Ｉ−１−３）で表される化合物５．３３ｇ（０．０３８１モル）、炭酸カリウム７．９０ｇ（０．０５７２モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．４４ｇ（０．３８ミリモル）を加え、７時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し、塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１−４）で表される化合物９．０３ｇ（０．０３０５モル）を得た。
【０１２１】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１−４）で表される化合物９．０３ｇ（０．０３０５モル）、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム０．３８ｇ（１．５２ミリモル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン３．８５ｇ（０．０４５７モル）を滴下した。室温で１０時間撹拌した後、飽和重曹水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−１−５）で表される化合物１１．０ｇ（０．０２９０モル）を得た。
【０１２２】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１−５）で表される化合物１１．０ｇ（０．０２９０モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬを加えた。ｓｅｃ−ブチルリチウム溶液（１．０モル／Ｌ）３８ｍＬを−７０℃で滴下した。そのまま２時間撹拌した後、ホウ酸トリイソプロピル７．０８ｇ（０．０３７６モル）を滴下した。そのまま２時間撹拌した後、１０％塩酸１００ｍＬを０℃で滴下した。室温で１時間撹拌した後、食塩水で洗浄した。濃縮、乾燥させることにより式（Ｉ−１−６）で表される化合物９．３６ｇ（０．０２７５モル）を得た。
【０１２３】
反応容器に式（Ｉ−１−７）で表される化合物１５．０ｇ（０．０６８２モル）、３−クロロプロパノール８．３８ｇ（０．０８８６モル）、炭酸セシウム３３．３ｇ（０．１０２モル）、ジメチルスルホキシド１５０ｍＬを加え、６５℃で５時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１−８）で表される化合物１７．１ｇ（０．０６１４モル）を得た。
【０１２４】
反応容器に式（Ｉ−１−８）で表される化合物２．００ｇ（７．１９ミリモル）、式（Ｉ−１−６）で表される化合物２．４５ｇ（７．１９ミリモル）、炭酸カリウム１．４９ｇ（０．０１０８モル）、テトラヒドロフラン２５ｍＬ、水２５ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）８３．１ｍｇ（０．０７２ミリモル）を加え、７時間加熱還流させた。トルエン／酢酸エチルで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１−９）で表される化合物２．５７ｇ（５．７５ミリモル）を得た。
【０１２５】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１−９）で表される化合物２．５７ｇ（５．７５ミリモル）、ジイソプロピルエチルアミン１．８６ｇ（１４．４ミリモル）、ジクロロメタン２５ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル１．２０ｇ（１３．２ミリモル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１）で表される化合物２．２３ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）： Ｃ  １０５  Ｓ  １９８−２１５  Ｎ
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ２．２０（ｑｕｉｎ，２Ｈ），２．２５（ｑｕｉｎ，２Ｈ），４．１３（ｔ，２Ｈ），４．２１（ｔ，２Ｈ），４．４０（ｔ，２Ｈ），４．４３（ｔ，２Ｈ），５．８５（ｄｄ，２Ｈ），６．１４（ｄｄ，１Ｈ），６．１５（ｄｄ，１Ｈ），６．４４（ｍ，２Ｈ），７．００（ｄ，２Ｈ），７．１８（ｍ，２Ｈ），７．４７−７．５７（ｍ，５Ｈ），７．７２（ｄｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，２Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
１３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ２８．５８，２８．６０，６１．３４，６１．４０，６４．３０，６４．３５，１０６．３１，１１４．４１，１１４．４９，１１４．６５，１１９．３３，１１９．５３，１２２．８６，１２２．８９，１２５．５５，１２６．１３，１２７．０２，１２７．１６，１２７．４２，１２８．０３，１２８．３２，１２９．１１，１２９．８２，１３０．０８，１３０．１１，１３０．６８，１３０．７３，１３０．９５，１３０．９９，１３３．９７，１３４．６８，１３４．７０，１４１．６３，１４１．７１，１５７．０８，１５８．４１，１５８．８１，１６１．２７，１６６．２０，１６６．２２ｐｐｍ．
（実施例２）式（Ｉ−２）で表される化合物の製造
【０１２６】
【化４８】
2015151383.tif 000050
【０１２７】
実施例１において３−クロロプロパノールを６−クロロヘキサノールに、式（Ｉ−１−３）で表される化合物を式（Ｉ−２−２）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−２）で表される化合物を得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：６５６
（実施例３）式（Ｉ−３）で表される化合物の製造
【０１２８】
【化４９】
2015151383.tif 000051
【０１２９】
特開２０１２−２４０９４５号公報に記載の方法に従い式（Ｉ−３−１）で表される化合物を製造した。実施例１において式（Ｉ−１−１）で表される化合物を式（Ｉ−２−６）で表される化合物に、式（Ｉ−１−７）で表される化合物を式（Ｉ−３−１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−３）で表される化合物を得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：５９８
（実施例４）式（Ｉ−４）で表される化合物の製造
【０１３０】
【化５０】
2015151383.tif 000052
【０１３１】
反応容器に式（Ｉ−３−２）で表される化合物１．００ｇ（３．０８ミリモル）、式（Ｉ−１−６）で表される化合物１．０５ｇ（３．０８ミリモル）、炭酸カリウム０．６４ｇ（４．６１ミリモル）、テトラヒドロフラン１５ｍＬ、水１５ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．１８ｇ（０．１５４ミリモル）を加え、７時間加熱還流させた。トルエン／酢酸エチルで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−４−１）で表される化合物１．３３ｇ（２．４６ミリモル）を得た。
【０１３２】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−４−１）で表される化合物１．３３ｇ（２．４６ミリモル）、ジイソプロピルエチルアミン０．７９ｇ（６．１５ミリモル）、ジクロロメタン１５ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル０．５１ｇ（５．６６ミリモル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−４）で表される化合物１．１２ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：６４８
（実施例５）式（Ｉ−５）で表される化合物の製造
【０１３３】
【化５１】
2015151383.tif 000053
【０１３４】
実施例１において式（Ｉ−１−３）で表される化合物を式（Ｉ−２−２）で表される化合物に、式（Ｉ−１−８）で表される化合物を式（Ｉ−３−２）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−５）で表される化合物を得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：６６６
（実施例６）式（Ｉ−６）で表される化合物の製造
【０１３５】
【化５２】
2015151383.tif 000054
【０１３６】
実施例１において３−クロロプロパノールを６−クロロヘキサノールに、式（Ｉ−１−１）で表される化合物を式（Ｉ−２−６）に、式（Ｉ−１−３）で表される化合物を式（Ｉ−２−２）に、式（Ｉ−１−８）で表される化合物を式（Ｉ−３−２）で表される化合物に、塩化アクリロイルを塩化メタクリロイルに置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−６）で表される化合物を得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：６８６
（実施例７）式（Ｉ−７）で表される化合物の製造
【０１３７】
【化５３】
2015151383.tif 000055
【０１３８】
特開２００５−０４７８３８号公報に記載の方法によって式（Ｉ−７−１）で表される化合物を製造した。実施例１において３−クロロプロパノールを６−クロロヘキサノールに、式（Ｉ−１−１）で表される化合物を式（Ｉ−７−１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−７−２）で表される化合物を得た。
【０１３９】
実施例１において式（Ｉ−１−４）で表される化合物を式（Ｉ−７−２）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−７−４）で表される化合物を得た。
【０１４０】
実施例１において式（Ｉ−１−８）で表される化合物を式（Ｉ−７−５）で表される化合物に、式（Ｉ−１−６）で表される化合物を式（Ｉ−７−４）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−７）で表される化合物を得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：５７４
（実施例８）式（Ｉ−８）で表される化合物の製造
【０１４１】
【化５４】
2015151383.tif 000056
【０１４２】
反応容器に式（Ｉ−１−２）で表される化合物５．００ｇ（０．０１７８モル）、ビス（ピナコラート）ジボロン４．９７ｇ（０．０１９６モル）、酢酸カリウム５．２４ｇ（０．０５３４モル）、ジメチルスルホキシド５０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド０．３９ｇ（０．５３４ミリモル）を加え、８５℃で１５時間加熱した。トルエン／酢酸エチルで希釈し、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−８−１）で表される化合物４．６７ｇ（０．０１４２モル）を得た。
【０１４３】
反応容器に式（Ｉ−８−１）で表される化合物４．６７ｇ（０．０１４２モル）、式（Ｉ−８−２）で表される化合物４．５２ｇ（０．０１４２モル）、炭酸カリウム２．９５ｇ（０．０２１３モル）、テトラヒドロフラン４０ｍＬ、水４０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．１６ｇ（０．１４２ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。トルエン／酢酸エチルで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−８−３）で表される化合物４．１８ｇ（０．０１０７モル）を得た。
【０１４４】
同様にカップリング反応を繰り返すことにより式（Ｉ−８−７）で表される化合物を得た。実施例１において式（Ｉ−１−９）で表される化合物を式（Ｉ−８−７）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−８）で表される化合物を得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：６８０
（実施例９）式（Ｉ−９）で表される化合物の製造
【０１４５】
【化５５】
2015151383.tif 000057
【０１４６】
実施例１において式（Ｉ−１−１）で表される化合物を式（Ｉ−７−５）で表される化合物に、３−クロロプロパノールを４−クロロブタノールに置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−９−１）で表される化合物を得た。
【０１４７】
反応容器に式（Ｉ−９−２）で表される化合物２．００ｇ（７．９７ミリモル）、４−クロロブタノール１．１２ｇ（０．０１０４モル）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン１．８２ｇ（０．０１１９モル）、トルエン２０ｍＬを加えた。１００℃で５時間加熱撹拌した後、酢酸エチルで希釈し塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行うことにより式（Ｉ−９−３）で表される化合物２．０６ｇ（６．３７ミリモル）を得た。
【０１４８】
実施例８において式（Ｉ−１−２）で表される化合物を式（Ｉ−９−３）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−９−４）で表される化合物を得た。
【０１４９】
実施例８において式（Ｉ−８−６）で表される化合物を式（Ｉ−９−４）で表される化合物に、式（Ｉ−３−３）で表される化合物を式（Ｉ−９−１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−９−５）で表される化合物を得た。
【０１５０】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−９−５）で表される化合物３．００ｇ（６．１９ミリモル）、３−エチル−３−オキセタンメタノール１．６５ｇ（０．０１４２モル）、トリフェニルホスフィン３．７３ｇ（０．０１４２モル）、テトラヒドロフラン３０ｍＬを加えた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル２．７５ｇ（０．０１３６モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、メタノール／水を加えた。析出物を濾過し乾燥させた後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−９）で表される化合物２．９５ｇを得た。
ＬＲＭＳ：６８０
（実施例１０）式（Ｉ−１０）で表される化合物の製造
【０１５１】
【化５６】
2015151383.tif 000058
【０１５２】
実施例１において式（Ｉ−１−１）で表される化合物を式（Ｉ−１０−１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−１０−２）で表される化合物を得た。
【０１５３】
実施例８と同様の方法によってカップリング反応を繰り返すことによって式（Ｉ−１０−６）で表される化合物を得た。
【０１５４】
反応容器に式（Ｉ−１０−６）で表される化合物２．００ｇ（３．８９ミリモル）、２−（トリフルオロメチル）アクリル酸１．２０ｇ（８．５５ミリモル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン９５．０ｍｇ（０．７８ミリモル）、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．０８ｇ（８．５５ミリモル）を滴下した。室温で８時間撹拌した後、析出物を濾過し溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い式（Ｉ−１０）で表される化合物２．０６ｇを得た。
ＬＲＭＳ：７５８
実施例１から実施例１０と同様の方法、公知の方法に準拠した方法を用いて、下記式（Ｉ−１１）から式（Ｉ−９８）で表される化合物を製造した。
【０１５５】
【化５７】
2015151383.tif 000059
【０１５６】
【化５８】
2015151383.tif 000060
【０１５７】
【化５９】
2015151383.tif 000061
【０１５８】
【化６０】
2015151383.tif 000062
【０１５９】
【化６１】
2015151383.tif 000063
【０１６０】
【化６２】
2015151383.tif 000064
【０１６１】
【化６３】
2015151383.tif 000065
【０１６２】
【化６４】
2015151383.tif 000066
【０１６３】
【化６５】
2015151383.tif 000067
【０１６４】
【化６６】
2015151383.tif 000068
【０１６５】
【化６７】
2015151383.tif 000069
【０１６６】
【化６８】
2015151383.tif 000070
【０１６７】
【化６９】
2015151383.tif 000071
【０１６８】
【化７０】
2015151383.tif 000072
【０１６９】
【化７１】
2015151383.tif 000073
【０１７０】
【化７２】
2015151383.tif 000074
【０１７１】
【化７３】
2015151383.tif 000075
【０１７２】
【化７４】
2015151383.tif 000076
【０１７３】
（実施例１１〜２０、比較例１〜４）
実施例１から実施例１０記載の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物及び、特許文献１記載の化合物（Ｒ−１）、特許文献２記載の化合物（Ｒ−２）、特許文献３記載の化合物（Ｒ−３）並びに特許文献４記載の化合物（Ｒ−４）を評価対象の化合物とした。
【０１７４】
【化７５】
2015151383.tif 000077
【０１７５】
【化７６】
2015151383.tif 000078
【０１７６】
【化７７】
2015151383.tif 000079
【０１７７】
保存安定性を評価するために、評価対象の化合物の安定保存濃度を測定した。安定保存濃度は、母体液晶に評価対象となる化合物を５％から２０％まで５％刻みで添加した組成物を各々調製し、調製した組成物を１９．２℃で３週間放置した後に、結晶の析出が起こらない当該化合物の最大添加濃度と定義する。最大添加濃度が大きい化合物は安定保存濃度が大きく、長期間の保存によっても結晶の析出が発生しないことを意味する。
【０１７８】
安定保存濃度を測定するために、下記化合物（Ｘ−１）から化合物（Ｘ−４）で表される化合物からなる液晶組成物を母体液晶（Ｘ）とした。また、評価対象の化合物の屈折率異方性を評価した。母体液晶（Ｘ）の組成を表１に、評価対象の化合物の安定保存濃度及び屈折率異方性を表２に示す。
【０１７９】
【化７８】
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【０１８０】
【表１】
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【０１８１】
【表２】
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【０１８２】
表２より、本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物はいずれも、屈折率異方性が同等である比較化合物（Ｒ−２）から比較化合物（Ｒ−４）と比較して、結晶の析出の起こらない最大添加濃度が高いことから、高い保存安定性を示すことがわかる。
（実施例２１〜実施例３０、比較例５〜比較例８）
配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１２０℃で８分乾燥した後、１８０℃で８０分焼成することにより塗膜を得た。得られた塗膜をラビング処理した。ラビング処理は、市販のラビング装置を用いて行った。
【０１８３】
母体液晶（Ｘ）に評価対象となる化合物を、得られるレンチキュラーレンズの屈折率異方性が０．１６５となるよう添加量を調節した組成物各々に対し、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ社製）を１％及び４−メトキシフェノールを０．１％添加した。この組成物をラビングしたガラス基材に９０℃でスピンコート法により塗布した。得られた塗布膜の上に配向処理が施された樹脂金型をラビングしたガラス基材の配向方向と樹脂金型の配向方向が並行になるように配置した後、室温まで冷却した。その後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を５０ｍＷ／ｃｍ２の強度で４０秒間照射した。次に樹脂金型をゆっくり取り外すことによりレンチキュラーレンズを得た（図１参照）。得られた各々のレンチキュラーレンズの膜厚は５０μｍ、屈折率異方性は０．１６５であった。重合性組成物を完全に硬化させることを目的として、得られたレンチキュラーレンズを２３０℃で５分間ポストベークすなわち加熱処理した。
【０１８４】
ポストベーク後の配向の乱れについて、偏光顕微鏡を使用して観察した。配向の乱れが無い場合は◎、配向の乱れがごくわずかの場合は〇、配向の乱れがやや多い場合は△、配向の乱れが非常に多い場合は×とした。結果を下記表３に示す。
【０１８５】
【表３】
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【０１８６】
表３より、本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物を用いて作製したレンチキュラーレンズはいずれも比較化合物（Ｒ−１）から比較化合物（Ｒ−４）を用いて作製したレンチキュラーレンズと比較して、ポストベーク後の配向の乱れが少ないことがわかる。
【０１８７】
以上の結果から、実施例１から実施例１０記載の本願発明である式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物は、重合性組成物を構成した場合に保存安定性が高く、屈折率異方性が高く、本願発明の化合物を含有する組成物を用いた光学異方体は、ポストベーク後に配向の乱れが生じにくいことがわかる。従って、本願発明の化合物は、重合性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する組成物を用いた光学異方体は光学フィルム等の用途に有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１８８】
【図１】レンチキュラーレンズの構成を模式図で示す。
【符号の説明】
【０１８９】
１：樹脂金型
２：樹脂金型を取り外した後の重合体
３：ガラス基材
【図１】
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