(57)【要約】【課題】  偽造防止機能や意匠性を付与した光学フィルムを、液晶層にダメージを与えることなく簡易に製造することができる光学フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】  液晶層３０を有する光学フィルムの製造方法であって、配向能を付与した配向膜２０上の一部の領域２２に溶媒を塗布して、上記一部の領域２２の配向能を消失させる溶媒塗布工程と、上記配向膜２０上に液晶材料を含む液晶性組成物を塗布し、加熱により上記液晶材料を配向させた後、配向を固定して上記液晶層３０を形成する液晶層形成工程と、を含む光学フィルムの製造方法。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層を有する光学フィルムの製造方法であって、
配向能を付与した配向膜上の一部の領域に溶媒を塗布して、前記一部の領域の配向能を消失させる溶媒塗布工程と、
前記配向膜上に液晶材料を含む液晶性組成物を塗布し、加熱により前記液晶材料を配向させた後、配向を固定して前記液晶層を形成する液晶層形成工程と、
を含む光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記液晶材料がコレステリック液晶を含む、請求項１記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記配向膜の前記配向能がラビングにより付与されたものである、請求項１又は２記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記配向膜がポリビニルアルコールを含み、且つ、前記溶媒が水を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
偽造防止機能や意匠性を付与したフィルムとして、ホログラムが形成された光学フィルムが知られている。このような光学フィルムは、例えば、配向膜上に形成したコレステリック液晶フィルムに加熱したホログラム原版を押し当て、ホログラム（回折格子等）を転写する方法により製造される（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
また、コレステリック液晶層に選択反射波長の異なる複数の領域が設けられた偽造防止機能付シートも知られている。このようなシートは、例えば、パターン状にスリットを設けたフォトマスクを介して、コレステリック液晶層に紫外線をパターン状に照射する方法により製造される（例えば特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−３４７０１６号公報
【特許文献２】特開２００６−１４２６９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載された方法では、加熱したホログラム原版を液晶フィルムに押し当てる必要があり、加熱下で基板や液晶層自体に圧力がかかるため、基板の変形や液晶層へのダメージが生じたり、設計していた選択反射波長からずれが生じてしまったりするなどの問題がある。
【０００６】
また、特許文献２に記載された方法では、紫外線をパターン状に照射する設備が必要となり、設備投資に過大なコストを要するとともに、シートの製造にも手間がかかるという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、偽造防止機能や意匠性を付与した光学フィルムを、液晶層にダメージを与えることなく簡易に製造することができる光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明は、液晶層を有する光学フィルムの製造方法であって、配向能を付与した配向膜上の一部の領域に溶媒を塗布して、上記一部の領域の配向能を消失させる溶媒塗布工程と、上記配向膜上に液晶材料を含む液晶性組成物を塗布し、加熱により上記液晶材料を配向させた後、配向を固定して上記液晶層を形成する液晶層形成工程と、を含む光学フィルムの製造方法を提供する。
【０００９】
本発明の光学フィルムの製造方法によれば、配向膜の一部の領域の配向能を溶媒塗布により消去することにより、その上に形成される液晶層は、配向能を消去した配向膜上の領域において液晶材料が配向せず、他の領域と配向状態が異なる領域が形成される。その結果、液晶層の配向状態が異なる領域により図柄が形成され、偽造防止機能や意匠性が付与された光学フィルムが得られる。そして、この液晶層の配向状態が異なる領域は、配向膜への溶媒塗布のみによって形成することが可能であるため、所望の図柄が形成された光学フィルムを液晶層にダメージを与えることなく簡易に製造することができる。特に、本発明の製造方法では、液晶層形成後に外力が加わらないため、基板の変形や液晶層へのダメージ等が生じることがない。また、液晶層形成後に再加熱されることがないため、選択反射波長のズレが生じることがない。更に、上述したようなホログラム原版やフォトマスク作製などが必要な従来技術に比べて、低コストで簡易に実施することが可能である。
【００１０】
本発明の製造方法においては、上記液晶材料がコレステリック液晶を含むことが好ましい。これにより、より鮮明な図柄を液晶層に容易に形成することができる。
【００１１】
本発明の製造方法においては、上記配向膜の上記配向能がラビングにより付与されたものであることが好ましい。ラビングにより付与された配向能は、溶媒塗布によって消去しやすいため、配向能がラビングにより付与されたものである場合、溶媒塗布工程をより容易に行うことができる。
【００１２】
本発明の製造方法においては、上記配向膜がポリビニルアルコールを含み、且つ、上記溶媒が水を含むことが好ましい。これにより、配向膜の一部の領域の配向能を溶媒塗布により容易に消去することができ、光学フィルムへの図柄形成をより容易に且つより簡易に行うことができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、偽造防止機能や意匠性を付与した光学フィルムを、液晶層にダメージを与えることなく簡易に製造することができる光学フィルムの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の光学フィルムの製造方法の一実施形態を説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。
【００１６】
（光学フィルムの製造方法）
本発明の光学フィルムの製造方法の一実施形態について、図１を用いて説明する。図１は、本実施形態に係る光学フィルムの製造方法を説明するための説明図である。
【００１７】
まず、図１（ａ）に示すように、基板１０上に配向膜２０を形成する。図１（ｂ）に示すように、この配向膜２０表面を、ラビングロール７０を用いてラビング処理し、配向膜２０に配向能を付与する。
【００１８】
図１（ｃ）に示すように、スタンプ（溶媒塗布手段）８０に溶媒を付着させ、これを配向能を付与した配向膜２０上の一部の領域（溶媒塗布部）２２に押し当てることで、当該領域２２に溶媒を塗布し、一部の領域２２の配向能を消失させる（溶媒塗布工程）。
【００１９】
図１（ｄ）に示すように、配向膜２０上に液晶材料を含む液晶性組成物を塗布し、加熱により液晶材料を配向させた後、配向を固定して液晶層３０を形成する（液晶層形成工程）。このとき、配向膜２０の一部の領域２２は配向能が消失しているため、当該領域２２上に位置する液晶層３０の領域において液晶材料は規則的に配向せず、他の領域とは液晶材料の配向状態が異なるため、液晶層３０に図柄３２が形成される。図柄３２は、スタンプ８０に形成された図柄に対応する。
【００２０】
図１（ｅ）に示すように、液晶層３０上に接着剤４０を介して透光性保護フィルム５０を貼り付ける。図１（ｆ）に示すように、液晶層３０から配向膜２０及び基板１０を剥離除去し、液晶層３０／接着剤４０／透光性保護フィルム５０からなる光学フィルム１００を得る。
【００２１】
上記製造方法によれば、スタンプ８０等の溶媒塗布手段により配向膜２０に溶媒を塗布するだけで、極めて簡単に液晶層３０に図柄３２を形成することができる。また、液晶層３０を形成した後、加熱したホログラム原版を押し当てる等の図柄形成のための余計な外力を加える必要がないため、液晶層３０にダメージを与えることもない。よって、上記製造方法により、偽造防止機能や意匠性を付与した光学フィルムを、液晶層にダメージを与えることなく簡易に製造することができる。以下、上記製造方法に用いる各材料及び各工程について、より詳細に説明する。
【００２２】
基板１０は、配向膜２０及び液晶層３０の支持体として機能するものであり、液晶層３０上に透光性保護フィルム５０が形成された後、基板１０は配向膜２０と共に剥離除去される。このような機能を有する支持基板としては、例えばポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルアルコール、セルロース系プラスチックスや、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）、ノルボルネン系樹脂などの鎖式または脂環式ポリオレフィン等から形成されたプラスチックフィルムやシート等が挙げられる。
【００２３】
また、基板１０としては、プラスチックフィルムやシートの表面にシリコン処理等の表面処理をしたもの、あるいは、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂またはパラフィン系のワックスをコーティングしたもの等も使用することができる。さらに、基板１０としては、プラスチックフィルムやシートに対して、エンボス加工等の物理的変形処理、親水化処理、疎水化処理等を行ったものも使用することができる。
【００２４】
基板１０の厚みは、通常８〜２００μｍ、好ましくは１５〜１５０μｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍである。厚みが８μｍより薄い場合、光学フィルム製造時のハンドリング性が低下する傾向がある。また、厚みが２００μｍより厚い場合には、基板１０を配向膜２０とともに液晶層３０から剥離する際の作業性が低下する傾向がある。
【００２５】
配向膜２０は、液晶材料を配向させる機能を有する層である。なお、基板１０が配向膜２０を兼ねていてもよい。配向膜２０を構成する材料としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート等が挙げられる。これらの中でも、溶媒塗布工程において一部の領域２２の配向能を消失させやすいことから、ポリビニルアルコール、ポリイミドが好ましい。また、配向能を消失させる溶媒として水を使用でき、溶媒塗布工程がより容易となることから、配向膜２０の材料にはポリビニルアルコールを用いることが特に好ましい。
【００２６】
配向膜２０は、例えば、その構成材料を溶媒に溶解させた溶液を基板１０上に塗布し、乾燥させて成膜した後、ラビング処理して配向能を付与することにより形成することができる。
【００２７】
配向膜２０を形成する際に用いる溶媒は、使用する材料に応じて適宜選択されるが、例えば、水、エタノール、イソプロピルアルコール等が挙げられる。なお、配向膜２０の形成時に用いる溶媒は、基板１０を溶解しないものであることが好ましい。そのため、配向膜２０の構成材料及び基板１０の構成材料は、互いに溶解する溶媒が異なる材料を選択することが好ましい。
【００２８】
乾燥は、使用する溶媒に応じた条件で加熱処理することで行われる。乾燥条件は、使用する溶媒の種類や膜厚等によって適宜調整すればよいが、通常、３０〜２００℃で２０〜６０秒である。
【００２９】
配向膜２０の配向処理は、公知の方法を用いて行うことができるが、大きく分類すると、ラビング処理によるものとそれ以外の方法によるものとがある。ラビング処理としては、図１（ｂ）に示すようにラビングロール７０を用いて行う方法がある。それ以外の配向処理方法としては、紫外光配向装置、軟Ｘ線配向装置等を用いて行う方法がある。
【００３０】
溶媒塗布工程において使用する溶媒としては、配向膜２０の配向能を消失させることが可能なものであれば特に制限されないが、通常、配向膜２０の構成材料を溶解可能な溶媒が用いられる。溶媒塗布工程において使用する溶媒としては、上述した配向膜２０を形成する際に用いる溶媒と同様のものを用いてもよく、異なるものを用いてもよく、複数の溶媒を組み合わせて用いてもよい。また、配向膜２０の材料として、例えばポリビニルアルコールを用いた場合、溶媒塗布工程において使用する溶媒としては、水を含む溶媒を用いることが好ましい。
【００３１】
溶媒塗布方法は、溶媒を配向膜２０に塗布可能な方法であれば特に制限はなく、図１（ｃ）に示すようなスタンプ８０を用いる方法のほか、霧吹きでの噴霧、インクジェットプリンターでの印刷、グラビア印刷、凸版印刷等が挙げられる。
【００３２】
溶媒の塗布量は、配向膜２０の一部の領域２２の配向能を消失させることができる量であればよく、適宜調整される。
【００３３】
配向膜２０の一部の領域２２に溶媒を塗布した後、当該溶媒を乾燥させる。乾燥条件は、使用する溶媒の種類等によって適宜調整すればよいが、通常、室温で１０〜３０秒である。
【００３４】
配向膜２０の厚みは、通常０．３〜３μｍ、好ましくは０．６〜２μｍ、さらに好ましくは０．８〜１．４μｍである。厚みが０．３μｍより薄い場合、基板１０の微細な傷などの欠陥の影響を受けやすくなる傾向があり、３μｍより厚い場合、乾燥ムラが発生しやすくなる傾向がある。
【００３５】
液晶層３０は、配向膜２０上に液晶材料を含む液晶性組成物を塗布し、加熱により液晶材料を配向させた後、配向を固定することで形成することができる。液晶材料としては、コレステリック液晶、ネマティック液晶、スメクティック液晶等が挙げられ、中でもコレステリック液晶が図柄３２の視認性の観点から好ましい。以下、液晶層３０がコレステリック液晶層である場合について詳述する。
【００３６】
コレステリック液晶層は、高分子液晶、低分子液晶またはこれらの混合物等を主成分とする液晶性組成物を用いて形成することができる。
【００３７】
高分子液晶としては、コレステリック配向が固定化できるものであれば特に制限はなく、主鎖型、側鎖型高分子液晶等のいずれでも使用することができる。具体的には、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステルイミドなどの主鎖型液晶ポリマー、並びに、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリマロネート、ポリシロキサンなどの側鎖型液晶ポリマーなどが挙げられる。これらの中でも、コレステリック配向を形成する上で配向性がよく、合成も比較的容易である液晶性ポリエステルが好ましい。ポリマーの構成単位としては、例えば芳香族または脂肪族ジオール単位、芳香族または脂肪族ジカルボン酸単位、芳香族または脂肪族ヒドロキシカルボン酸単位を好適な例として挙げることができる。
【００３８】
また、低分子液晶としては、例えばアクリロイル基、ビニル基、エポキシ基等の官能基を導入したビフェニル誘導体、フェニルベンゾエート誘導体、スチルベン誘導体などを基本骨格としたものが挙げられる。また、低分子液晶としては、ライオトロピック性を示すもの、サーモトロピック性を示すもののいずれも用いることができるが、サーモトロピック性を示すものが作業性等の観点からより好適である。
【００３９】
コレステリック配向を固定化する方法は公知の方法を用いることができる。例えば高分子液晶を液晶材料として用いる場合には、配向膜２０上に高分子液晶を塗布した後、熱処理等によってコレステリック液晶相を発現させ、その状態から急冷してコレステリック配向を固定化する方法を用いることができる。また、低分子液晶を液晶材料として用いる場合には、配向膜２０上に低分子液晶を塗布した後、熱処理等によってコレステリック液晶相を発現させ、その状態を維持したまま光、熱または電子線等により架橋させてコレステリック配向を固定化する方法等を適宜採用することができる。
【００４０】
また、コレステリック液晶層の耐熱性等を向上させるために、液晶性組成物に高分子液晶や低分子液晶の他に、例えばビスアジド化合物やグリシジルメタクリレート等の架橋剤を添加することもできる。これらの架橋剤を添加することにより、コレステリック液晶相を発現させた状態で架橋させることができる。さらに、液晶性組成物には、二色性色素、染料、顔料等の各種添加剤を適宜添加することもできる。
【００４１】
液晶層３０の構成は、通常、上述したコレステリック液晶層等の１層の液晶層からなるが、必要に応じて複数の液晶層を積層してなる構成であってもよい。
【００４２】
液晶層３０の厚みは、通常０．３〜２０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍ、さらに好ましくは０．７〜３μｍである。厚みが０．３μｍ未満であると、特異な光学特性効果を有効に発現できない恐れがあり、２０μｍを超えると、乾燥ムラが発生しやすくなる傾向がある。なお、液晶層３０が複数の液晶層を積層したものである場合は、その全液晶層の厚みの合計が上記範囲に入ることが望ましい。
【００４３】
上述したように、液晶層３０には、配向膜２０の配向能が消失した一部の領域２２上の領域において、液晶材料の配向状態が他の領域とは異なる部分が形成され、それによって図柄３２が形成される。
【００４４】
液晶層３０上には、接着剤４０を介して透光性保護フィルム５０が貼り付けられる。接着剤４０としては、液晶層３０と透光性保護フィルム５０とを接着可能なものであり、当該接着剤４０を通して液晶層３０に形成された図柄３２を視認可能な程度に透明なものであれば特に限定されず、従来公知の様々な粘・接着剤を用いることができる。具体的には、ホットメルト型接着剤、光または電子線硬化型の反応性接着剤等を適宜用いることができる。これらの中でも、作業性等の観点から反応性接着剤が好ましい。
【００４５】
ホットメルト型接着剤としては特に制限はないが、作業性等の観点から、ホットメルトの作業温度が２５０℃以下、好ましくは８０〜２００℃、さらに好ましくは１００〜１６０℃程度のものが好ましい。ホットメルト型接着剤として具体的には、例えばエチレン・酢酸ビニル共重合体系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、熱可塑性ゴム系、ポリアクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂、石油系樹脂、テルペン系樹脂、ロジン系樹脂等をベース樹脂とするホットメルト接着剤を用いることができる。
【００４６】
反応性接着剤としては、光または電子線重合性を有するプレポリマーおよび／またはモノマーに、必要に応じて他の単官能または多官能性モノマー、各種ポリマー、安定剤、光重合開始剤、増感剤等を配合して用いることができる。
【００４７】
光または電子線重合性を有するプレポリマーとしては、具体的にはポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレート、ポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ポリオールアクリレート、ポリオールメタクリレート等を例示することができる。また、光または電子線重合性を有するモノマーとしては、単官能アクリレート、単官能メタクリレート、２官能アクリレート、２官能メタクリレート、３官能以上の多官能アクリレート、多官能メタクリレート等が例示できる。また、これらは市販品を用いることもでき、例えばアロニックス（アクリル系特殊モノマー、オリゴマー；東亞合成（株）製）、ライトエステル（共栄社化学（株）製）、ビスコート（大阪有機化学工業（株）製）等も本発明に用いることができる。
【００４８】
また、光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン誘導体類、アセトフェノン誘導体類、ベンゾイン誘導体類、チオキサントン類、ミヒラーケトン、ベンジル誘導体類、トリアジン誘導体類、アシルホスフィンオキシド類、アゾ化合物等を用いることができる。
【００４９】
本発明に用いることができる光または電子線硬化型の反応性接着剤の粘度は、接着剤の加工温度等により適宜選択するものであり一概にはいえないが、通常２５℃で１０〜２０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは５０〜１０００ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは１００〜５００ｍＰａ・ｓである。粘度が１０ｍＰａ・ｓより低い場合、所望の厚さが得られ難くなる。また、２０００ｍＰａ・ｓより高い場合には、作業性が低下する恐れがあり望ましくない。粘度が上記範囲から外れている場合には、適宜、溶剤やモノマー割合を調整し所望の粘度にすることが好ましい。
【００５０】
また、光硬化型の反応性接着剤を用いた場合、その接着剤の硬化方法としては公知の硬化手段、例えば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を使用することができる。また、露光量は、用いる反応性接着剤の種類により異なるため一概にはいえないが、通常５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００５１】
また、電子線硬化型の反応性接着剤を用いた場合、その接着剤の硬化方法としては、電子線の透過力や硬化力により適宜選定されるものであり一概にはいえないが、通常、加速電圧が５０〜１０００ｋＶ、好ましくは１００〜５００ｋＶの条件で照射して硬化することができる。
【００５２】
接着剤４０の厚みは特に限定されないが、通常０．５〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。また、接着剤４０の形成方法としては、例えばロールコート法、ダイコート法、バーコート法、カーテンコート法、エクストルージョンコート法、グラビアロールコート法、スプレーコート法、スピンコート法等の公知の方法を用いることができる。
【００５３】
透光性保護フィルム５０としては、当該透光性保護フィルム５０を通して液晶層３０に形成された図柄３２を視認可能な程度に透明なものであれば特に限定されないが、例えば、トリアセチルセルロース、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、アモルファスポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等から形成されるフィルムが挙げられる。これらの中でも、加工性の観点から、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが好ましい。
【００５４】
透光性保護フィルム５０の厚みは特に限定されないが、通常８〜２００μｍ、好ましくは２０〜１００μｍである。
【００５５】
配向膜２０及び基板１０を液晶層３０から剥離する方法は特に限定されないが、例えば、配向膜２０や基板１０の角または端部に粘着テープを貼り付けて人為的に剥離する方法、ロール等を用いて機械的に剥離する方法、構造材料全てに対する貧溶媒に浸漬した後に機械的に剥離する方法、貧溶媒中で超音波をあてて剥離する方法、配向膜２０または基板１０と液晶層３０との熱膨張係数の差を利用し、温度変化を与えて剥離する方法等により行うことができる。
【００５６】
液晶層３０／接着剤４０／透光性保護フィルム５０からなる光学フィルム１００は、偽造防止用、装飾用等として使用することができる。光学フィルム１００は、液晶層３０の側に粘着剤などを塗布して、ラベル、タグ、化粧箱、梱包材、包装材などに貼り付けて使用することができる。また、光学フィルム１００は、液晶層３０の側にホットメルト剤を塗布した上でホットメルト剤の側をラベルなどに接触させ、透光性保護フィルム５０の側からホットスタンプをし、接着剤４０及び透光性保護フィルム５０を剥離して用いることもできる。
【００５７】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。
【実施例】
【００５８】
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００５９】
（合成例１：コレステリック液晶化合物の合成）
蒸留精製したテトラヒドロフラン１８０ｇに、４−（６−アクリロイロキシヘキシルオキシ）安息香酸１５１．３ｇ（５１８ｍｍｏｌ）と２，６−ジターシャリーブチル−４−メチルフェノール１．５ｇとを溶解した後、ジイソプロピルエチルアミン７０．１ｇ（５４３ｍｍｏｌ）を加え、溶液を得た。この溶液を、メタンスルホニルクロリド６２．１ｇ（５４３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を−１０℃に冷却したもの中に攪拌しながら滴下した。滴下終了後、該反応液を０℃まで昇温してさらに攪拌した後、メチルヒドロキノン２９．８７ｇ（２４６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を反応液中に滴下した。さらに反応液を攪拌し、４−ジメチルアミノピリジン３．０ｇ（２５ｍｍｏｌ）をトリエチルアミン６２．４ｇ（６１７ｍｍｏｌ）に溶解したものを反応液中に滴下した。滴下後、反応液を０℃で１時間攪拌し、次いで室温に昇温してさらに５時間攪拌した。反応終了後、反応液を１０００ｍｌの酢酸エチルで希釈し、分液ロートに移した後、１規定塩酸で分液し、さらに有機層を１規定塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和硫酸マグネシウム水溶液で洗浄した。有機層に１００ｇの無水硫酸マグネシウムを加えて室温で１時間攪拌することにより脱水・乾燥し、硫酸マグネシウムを濾別後、ロータリーエバポレーターにより濃縮してメチルヒドロキノン−ビス（４−（６−アクリロイロキシヘキシルオキシ）安息香酸）エステルを粗生成物として得た。該粗生成物を酢酸エチル／メタノールにより再結晶することによりメチルヒドロキノン−ビス（４−（６−アクリロイロキシヘキシルオキシ）安息香酸）エステル１４６．９ｇを白色結晶として得た（収率８５．２％）。得られた化合物のＧＰＣによる純度は９８．７％であった。ＧＰＣは、溶出溶媒としてテトラヒドロフランを用い、高速ＧＰＣ用充填カラム（ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ−１０００ＨＸＬ）を装着した東ソー製ＧＰＣ分析装置ＣＣＰ＆８０００（ＣＰ−８０００、ＣＯ−８０００、ＵＶ−８０００）により行った。得られたメチルヒドロキノン−ビス（４−（６−アクリロイロキシヘキシルオキシ）安息香酸）エステルを偏光顕微鏡下、メトラーホットステージで観察すると、室温では結晶相であり、８５℃付近でネマティック相に転移し、さらに加熱すると１１５℃付近で等方相となることが確認された。
【００６０】
（実施例１）
ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）フィルム上に、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）４質量％、純水７６．８質量％、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）１９．２質量％からなる溶液を、乾燥後の厚みで１．２μｍとなるように塗布し、４０℃から１３０℃まで順次高温となる乾燥炉で３６秒間乾燥させて配向膜を形成した。この配向膜に対して、ラビング布を貼り付けたラビングロールを用いてラビング処理を施した。
【００６１】
水とエタノールの混合溶媒（水：エタノール＝２：１（質量比））を付着させたスタンプを上記配向膜上に０．２秒間押し当てることで、溶媒を配向膜に塗布した。その後、溶媒を塗布した部分を室温で１５秒間乾燥させた。
【００６２】
上記配向膜上に、合成例１で得られたコレステリック液晶化合物１２質量％、ＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）８８質量％からなる溶液を、乾燥後の厚みで１．３μｍとなるように塗布し、５０℃から１１０℃まで徐々に温度が上昇する乾燥炉で４分間加熱して乾燥させた。次いで、１９３℃に加熱した熱処理炉に５分間放置して液晶を配向させ、室温まで急冷して配向を固定し、コレステリック液晶層を形成した。
【００６３】
上記液晶層上に、紫外線硬化型接着剤（東亞合成（株）製、商品名：アロニックスＵＶ−３６３０）を介してＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムを貼り付け、高圧水銀灯により光照射を行って接着剤を硬化させた。その後、液晶層から配向膜及びＰＥＮフィルムを剥離し、液晶層／接着剤／ＴＡＣフィルムからなる光学フィルムを得た。
【００６４】
得られた光学フィルムの液晶層にはスタンプの図柄が形成されていることが確認された。光学フィルムに形成された図柄は、鮮明で容易に視認可能なものであった。また、液晶層へのダメージの発生も確認されなかった。
【符号の説明】
【００６５】
１０…基板、２０…配向膜、２２…一部の領域（溶媒塗布部）、３０…液晶層、３２…図柄、４０…接着剤、５０…透光性保護フィルム、７０…ラビングロール、８０…スタンプ。
【図１】
2015191010.tif 000003