(57)【要約】【課題】接触子の移動方向に直交する方向において小型化可能な接触式変位計を提供する。【解決手段】投光部３０によりスケール５０に非平行光が照射される。スケール５０の複数のスリットを透過した非平行光が受光部４０により受光され、受光量分布を示す受光信号が出力される。受光部４０から出力された受光信号に基づいて、受光部４０での受光量分布において受光量が極大または極小となる複数の位置が複数のピーク位置として検出される。補正情報および検出された複数のピーク位置に基づいて、スケール５０の複数のスリットのうち、検出された少なくとも１つのピーク位置に対応する少なくとも１つのスリットの位置と基準位置との距離が算出される。補正情報は、受光部４０での受光量分布における複数のピーク位置間の距離とスケール５０における複数のピーク位置にそれぞれ対応する複数のスリット間の距離との関係を示す。【選択図】図１
2015034770.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筺体と、
一方向に移動可能に前記筺体に支持された接触子と、
前記一方向に並ぶ複数の透光部を有し、前記接触子とともに前記一方向に移動可能に構成されたスケールと、
前記スケールに非平行光を照射する投光部と、
前記スケールの複数の透光部を透過した前記非平行光を受光し、受光量分布を示す受光信号を出力する受光部と、
前記受光部から出力された受光信号に基づいて、前記受光部での受光量分布において受光量が極大または極小となる複数の位置を複数のピーク位置として検出する検出部と、
前記受光部での受光量分布における複数のピーク位置間の距離と前記スケールにおける前記複数のピーク位置にそれぞれ対応する複数の透光部間の距離との関係を示す補正情報、および前記検出部により検出された複数のピーク位置に基づいて、前記スケールの前記複数の透光部のうち、前記検出部により検出された少なくとも１つのピーク位置に対応する少なくとも１つの透光部の位置と基準位置との距離を算出する算出部とを備え、
前記投光部、前記スケールおよび前記受光部は、前記一方向と交差する方向に並ぶように前記投光部および前記受光部が前記筺体に設けられる、接触式変位計。
【請求項２】
前記スケールの前記複数の透光部の各々は、当該透光部を含む予め定められた位置関係を有する複数の透光部間の距離に基づく識別値を用いて一意的に識別可能に配列され、
前記接触式変位計は、
前記スケールの前記複数の透光部についての複数の識別値を記憶する第１の記憶部をさらに備え、
前記算出部は、前記検出部により検出された複数のピーク位置および前記第１の記憶部に記憶された前記複数の識別値に基づいて、前記検出部により検出された少なくとも１つのピーク位置に対応する少なくとも１つの透光部を識別する、請求項１記載の接触式変位計。
【請求項３】
前記複数の識別値の各々は、予め定められた位置関係を有する３つ以上のピーク位置の間の距離の比を含む、請求項２記載の接触式変位計。
【請求項４】
前記複数の識別値の各々は、隣り合うピーク位置間の距離を含む、請求項２記載の接触式変位計。
【請求項５】
前記算出部は、前記検出部により検出された複数のピーク位置のうち少なくとも２つのピーク位置間の距離を算出し、前記識別された少なくとも１つの透光部に基づいて前記少なくとも２つのピーク位置に対応する少なくとも２つの透光部を識別し、前記算出された少なくとも２つのピーク位置間の距離と前記識別された少なくとも２つの透光部間の距離との関係を示す値を前記補正情報として算出し、前記算出された補正情報に基づいて前記検出部により検出された少なくとも１つのピーク位置に対応する少なくとも１つの透光部の位置と基準位置との距離を算出する、請求項３または４記載の接触式変位計。
【請求項６】
前記受光部での受光量分布における複数のピーク位置間の距離と前記スケールにおける前記複数のピーク位置にそれぞれ対応する複数の透光部間の距離との関係を示す補正情報を予め記憶する第２の記憶部をさらに備え、
前記第２の記憶部に記憶された補正情報に基づいて前記検出部により検出された少なくとも１つのピーク位置に対応する少なくとも１つの透光部の位置と基準位置との距離を算出する、請求項３または４記載の接触式変位計。
【請求項７】
前記受光部での受光量分布における複数のピーク位置間の距離と前記スケールにおける前記複数のピーク位置にそれぞれ対応する複数の透光部間の距離との関係を示す補正情報を予め記憶する第２の記憶部をさらに備え、
前記算出部は、前記第２の記憶部に記憶される前記補正情報に基づいて前記第２の前記検出部により検出された複数のピーク位置を複数の透光部の位置に相当する複数の位置に補正し、前記補正された複数の位置および前記第１の記憶部に記憶された前記複数の識別値に基づいて、前記検出部により検出された少なくとも１つのピーク位置に対応する少なくとも１つの透光部を識別する、請求項２記載の接触式変位計。
【請求項８】
前記検出部は、前記受光部から出力された受光信号の受光量分布にデータ処理を行うことにより、前記受光部の画素よりも小さい単位で複数のピーク位置を検出する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の接触式変位計。
【請求項９】
前記基準位置は、前記スケールでの前記投光部の光軸の位置である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の接触式変位計。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、接触子を用いた接触式変位計に関する。
【背景技術】
【０００２】
接触式変位計は、対象物の表面に当接されるとともに一方向に直線的に移動可能な接触子を有する（例えば、特許文献１参照）。特許文献１の接触式変位計は、発光素子、ラインセンサおよび移動スケールを含む。移動スケールは、接触子に接続される。移動スケールには、接触子が移動可能な方向に沿って所定のパターンが配列される。
【０００３】
発光素子から発せられた光は、コリメータレンズを通過することによって略平行光となり、移動スケールを通過してラインセンサに照射される。ラインセンサが読み取った受光信号に基づいて、接触子の変位が算出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２３６４９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１の接触式変位計においては、移動スケールを通過した光の干渉を利用することにより、ラインセンサの画素よりも小さい単位（サブピクセル単位）で接触子の変位を算出することが可能である。しかしながら、光を平行化するためのコリメータレンズ等の光学素子を発光素子と移動スケールとの間に設ける必要があるため、接触子の移動方向に直交する方向において接触式変位計を小型化することは困難である。
【０００６】
本発明の目的は、接触子の移動方向に直交する方向において小型化可能な接触式変位計を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
（１）本発明に係る接触式変位計は、筺体と、筺体に対して一方向に移動可能に構成された接触子と、一方向に並ぶ複数の透光部を有し、接触子とともに一方向に移動可能に構成されたスケールと、スケールに非平行光を照射する投光部と、スケールの複数の透光部を透過した非平行光を受光し、受光量分布を示す受光信号を出力する受光部と、受光部から出力された受光信号に基づいて、受光部での受光量分布において受光量が極大または極小となる複数の位置を複数のピーク位置として検出する検出部と、受光部での受光量分布における複数のピーク位置間の距離とスケールにおける前記複数のピーク位置にそれぞれ対応する複数の透光部間の距離との関係を示す補正情報、および検出部により検出された複数のピーク位置に基づいて、スケールの複数の透光部のうち、検出部により検出された少なくとも１つのピーク位置に対応する少なくとも１つの透光部の位置と基準位置との距離を算出する算出部とを備え、投光部、スケールおよび受光部は、一方向と交差する方向に並ぶように配置されるものである。
【０００８】
この接触式変位計においては、投光部によりスケールに非平行光が照射される。受光部によりスケールの複数の透光部を透過した非平行光が受光され、受光量分布を示す受光信号が出力される。受光部から出力された受光信号に基づいて、受光部での受光量分布において受光量が極大または極小となる複数の位置が複数のピーク位置として検出される。補正情報および検出された複数のピーク位置に基づいて、スケールの複数の透光部のうち、検出された少なくとも１つのピーク位置に対応する少なくとも１つの透光部の位置と基準位置との距離が算出される。
【０００９】
補正情報は、受光部での受光量分布における複数のピーク位置間の距離とスケールにおける前記複数のピーク位置にそれぞれ対応する複数の透光部間の距離との関係を示す。そのため、スケールに非平行光を照射した場合でも、ピーク位置に対応する透光部の位置を算出することができる。したがって、光を平行化するためのコリメータレンズ等の光学素子を投光部とスケールとの間に設ける必要がない。これにより、接触子の移動方向に直交する方向において接触式変位計を小型化することができる。
【００１０】
（２）スケールの複数の透光部の各々は、当該透光部を含む予め定められた位置関係を有する複数の透光部間の距離に基づく識別値を用いて一意的に識別可能に配列され、接触式変位計は、スケールの複数の透光部についての複数の識別値を記憶する第１の記憶部をさらに備え、算出部は、検出部により検出された複数のピーク位置および第１の記憶部に記憶された複数の識別値に基づいて、検出部により検出された少なくとも１つのピーク位置に対応する少なくとも１つの透光部を識別してもよい。
【００１１】
この場合、複数の識別値に基づいて、複数の透光部の各々を識別することができる。したがって、スケールの移動前に光の照射範囲内に位置する透光部がスケールの移動後に光の照射範囲外に位置する場合でも、スケールの移動前に光の照射範囲内にある一の透光部の位置と、スケールの移動後に光の照射範囲内にある他の透光部の位置とに基づいて接触子の変位を算出することができる。これにより、投光部からスケールへの光の照射範囲よりも長い寸法を有する接触子の変位を算出することができる。
【００１２】
（３）複数の識別値の各々は、予め定められた位置関係を有する３つ以上のピーク位置の間の距離の比を含んでもよい。
【００１３】
この構成によれば、受光部の受光面とスケールとの平行度が低い場合でも、複数のピーク位置にそれぞれ対応する複数の透光部を識別することができる。それにより、筺体、接触子、投光部、受光部およびスケールの組立の精度が緩和される。その結果、接触式変位計のコストを低減することができる。
【００１４】
（４）複数の識別値の各々は、隣り合うピーク位置間の距離を含んでもよい。この場合、複数のピーク位置にそれぞれ対応する複数の透光部を容易に識別することができる。
【００１５】
（５）算出部は、検出部により検出された複数のピーク位置のうち少なくとも２つのピーク位置間の距離を算出し、識別された少なくとも１つの透光部に基づいて少なくとも２つのピーク位置に対応する少なくとも２つの透光部を識別し、算出された少なくとも２つのピーク位置間の距離と識別された少なくとも２つの透光部間の距離との関係を示す値を補正情報として算出し、算出された補正情報に基づいて検出部により検出された少なくとも１つのピーク位置に対応する少なくとも１つの透光部の位置と基準位置との距離を算出してもよい。
【００１６】
この場合、複数のピーク位置のうち少なくとも２つのピーク位置間の距離およびこれらのピーク位置に対応する少なくとも２つの透光部の距離に基づいて補正情報が算出される。したがって、受光部の受光面とスケールとの平行度が低い場合、および受光部の受光面とスケールとの平行度が接触子の移動に伴って変動する場合でも、透光部の位置を正確に算出することができる。それにより、筺体、接触子、投光部、受光部およびスケールの組立の精度が緩和される。その結果、接触式変位計のコストを低減することができる。
【００１７】
（６）接触式変位計は、受光部での受光量分布における複数のピーク位置間の距離とスケールにおける複数のピーク位置にそれぞれ対応する複数の透光部間の距離との関係を示す補正情報を予め記憶する第２の記憶部をさらに備え、第２の記憶部に記憶された補正情報に基づいて検出部により検出された少なくとも１つのピーク位置に対応する少なくとも１つの透光部の位置と基準位置との距離を算出してもよい。
【００１８】
この場合、予め第２の記憶部に記憶された補正情報に基づいて、透光部の位置を容易かつ高速に算出することができる。
【００１９】
（７）接触式変位計は、受光部での受光量分布における複数のピーク位置間の距離とスケールにおける複数のピーク位置にそれぞれ対応する複数の透光部間の距離との関係を示す補正情報を予め記憶する第２の記憶部をさらに備え、算出部は、第２の記憶部に記憶される補正情報に基づいて第２の検出部により検出された複数のピーク位置を複数の透光部の位置に相当する複数の位置に補正し、補正された複数の位置および第１の記憶部に記憶された複数の識別値に基づいて、検出部により検出された少なくとも１つのピーク位置に対応する少なくとも１つの透光部を識別してもよい。
【００２０】
この場合、予め第２の記憶部に記憶された補正情報に基づいて、透光部の位置を容易かつ高速に算出することができる。また、補正された複数のピーク位置間の距離を用いて、少なくとも１つのピーク位置に対応する少なくとも１つの透光部を高い精度で識別することができる。
【００２１】
（８）検出部は、受光部から出力された受光信号の受光量分布にデータ処理を行うことにより、受光部の画素よりも小さい単位で複数のピーク位置を検出してもよい。この場合、接触子の変位を高い精度で算出することができる。
【００２２】
（９）基準位置は、スケールでの投光部の光軸の位置であってもよい。この場合、基準位置を容易に定めることができる。
【００２３】
（１０）筺体は、一方向に延びる形状を有してもよい。この場合、接触式変位計が全体として細長い形状を有する。それにより、狭い空間を通して測定対象物の変位を測定することが可能となる。また、接触式変位計の保管および携帯を容易に行うことができる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、接触子の移動方向に直交する方向において接触式変位計を小型化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る接触式変位計の構成を示すブロック図である。
【図２】図１の接触式変位計の筺体を示す図である。
【図３】スケール上における複数のスリットの配置を示す模式図である。
【図４】図３のスケールの一部の拡大平面図を示す。
【図５】図３のスケールの他の一部の拡大平面図を示す。
【図６】図３のスケールのさらに他の一部の拡大平面図を示す。
【図７】受光データにより表される受光量分布を示す図およびその拡大図を示す。
【図８】投光部、スケールおよび受光部の関係を示す模式図である。
【図９】受光面の範囲Ｄ内の受光量分布における複数のピーク位置を示す模式図である。
【図１０】スリットの絶対位置の算出手順を説明するための図である。
【図１１】変位算出処理を示すフローチャートである。
【図１２】第２の実施の形態におけるスリットの番号の特定手順を説明するための図である。
【図１３】第４の実施の形態におけるスリットの番号の特定手順を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
［１］第１の実施の形態
（１）接触式変位計の構成
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る接触式変位計の構成を示すブロック図である。図２は、図１の接触式変位計１００の筺体を示す図である。図２（ａ）は筺体内の構成を示し、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ部の拡大図を示す。以下、本実施の形態に係る接触式変位計１００について、図１および図２を参照しながら説明する。
【００２７】
図１に示すように、接触式変位計１００は、筺体１０、接触子２０、投光部３０、受光部４０、スケール５０、制御部６０および表示部７０を含む。投光部３０、受光部４０およびスケール５０は、筺体１０内に収容される。また、図２（ａ），（ｂ）に示すように、筺体１０内にはシャフト１１、バネ１２、スケール保持部１３および光学系保持部１４が収容される。
【００２８】
本例においては、筺体１０は接触子２０と略同程度の外径を有する。したがって、接触式変位計１００は、全体として細長い形状を有する。それにより、狭い空間を通して測定対象物の変位を測定することが可能となる。また、接触式変位計１００の保管および携帯を容易に行うことができる。
【００２９】
接触子２０は、筺体１０に対して一方向に移動可能にシャフト１１の一端に取り付けられる。シャフト１１はボールベアリングを含む。また、スケール保持部１３は、バネ１２を介してシャフト１１の他端に取り付けられる。スケール５０は、長尺状の板部材からなり、スケール保持部１３により保持される。スケール５０は、例えばガラスにより形成される。
【００３０】
図２（ｂ）に示すように、光学系保持部１４は、接触子２０に向かって平行に延びる２つの支持片１４ａ，１４ｂを有する。光学系保持部１４の一方の支持片１４ａの内側の面には、投光部３０および電気回路３１が取り付けられる。電気回路３１は、投光部３０に電力を供給する。一方、光学系保持部１４の他方の支持片１４ｂの内側の面には、回路基板４１を介して受光部４０が取り付けられる。光学系保持部１４の２つの支持片１４ａ，１４ｂ間にスケール５０が配置される。
【００３１】
この状態で、シャフト１１、バネ１２、スケール保持部１３および光学系保持部１４が筺体１０に収容される。これにより、筺体１０内で投光部３０および受光部４０がスケール５０を挟んで対向する。スケール５０は、投光部３０の光軸に略直交するように配置される。スケール５０は複数のスリットを有する。各スリットには、固有の番号が付与されている。スケール５０の複数のスリットの配置については後述する。
【００３２】
投光部３０は、例えばＬＥＤ（発光ダイオード）である。投光部３０は、ＬＤ（レーザダイオード）等の他の発光素子であってもよい。投光部３０には、光を平行化するためのコリメータレンズ等の光学素子が設けられない。したがって、投光部３０から出射された光は、所定の角度で広がりながらスケール５０の一部のスリットを通過して受光部４０により受光される。
【００３３】
受光部４０は、一方向に配列された複数の受光素子を有するラインセンサである。複数の受光素子が複数の画素を構成する。本例においては、各受光素子はＣＭＯＳ（相補性金属酸化膜半導体）である。各受光素子は、ＣＣＤ（電荷結合素子）等の他の素子であってもよい。受光部４０は、一方向に配列される複数の画素からなる受光面を有する。受光部４０の受光面は、投光部３０の光軸に略直交するように配置される。受光部４０からは、受光面上での受光量分布を示すアナログの電気信号（以下、受光信号と呼ぶ）が回路基板４１を通して図１の制御部６０に出力される。
【００３４】
本例においては、図１の制御部６０は、筺体１０と表示部７０とを接続するケーブル内に設けられる。これにより、筺体１０を小型化することができる。図１に示すように、制御部６０は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）６１、メモリ６２およびＡ／Ｄ（アナログ／デジタル）変換器６３を含む。
【００３５】
受光部４０から出力される受光信号は、Ａ／Ｄ変換器６３により一定のサンプリング周期でサンプリングされるとともにデジタル信号に変換される。Ａ／Ｄ変換器６３から出力されるデジタル信号は、受光量分布を示す受光データとしてメモリ６２に順次蓄積される。また、メモリ６２には、後述する接触子２０の変位算出プログラムが記憶されるとともに、接触子２０の変位算出処理に用いる位置算出データが記憶されている。
【００３６】
メモリ６２に蓄積された受光データは、ＣＰＵ６１に与えられる。ＣＰＵ６１は、メモリ６２により与えられた受光データおよびメモリ６２に記憶された位置算出データに基づいて接触子２０の変位算出プログラムを実行する。これにより、接触子２０の変位を算出するための変位算出処理が実行される。表示部７０は、例えば７セグメント表示器により構成される。表示部７０はドットマトリクス表示器により構成されてもよい。ＣＰＵ６１は、変位算出処理により算出された接触子２０の変位を表示部７０に表示させる。
【００３７】
本例においては、一組の筺体１０、接触子２０、投光部３０、受光部４０、スケール５０および制御部６０により一の測定ヘッド１００Ｈが構成される。一の表示部７０に複数の測定ヘッド１００Ｈを接続することが可能である。この構成によれば、測定対象物の複数の部分に複数の測定ヘッド１００Ｈの複数の接触子２０をそれぞれ当接させることにより、測定対象物の複数の部分の厚みを同時に測定することができる。また、複数の測定ヘッド１００Ｈによる測定値に基づいて、測定対象物の厚みの最大値、最小値、平均値または平坦度等を評価値として得ることができる。
【００３８】
測定値または評価値を示すデータは、メモリ６２に記憶される。また、ＣＰＵ６１は、図示しないインタフェースを通してデータを外部に与えることができる。本例においては、ＣＰＵ６１は、ＢＣＤ（Binary Corded Decimal）出力を外部のプログラマブルコントローラに与えることができる。また、ＣＰＵ６１は、外部のパソコンまたはプログラマブルコントローラとＲＳ−２３２Ｃ規格に従うシリアル通信を行うことができる。
【００３９】
（２）スケールのスリット
図３は、スケール５０上における複数のスリットの配置を示す模式図である。図４は、図３のスケール５０の一部の拡大平面図を示す。図５は、図３のスケール５０の他の一部の拡大平面図を示す。図６は、図３のスケール５０のさらに他の一部の拡大平面図を示す。図３〜図６においては、スリットが棒線で示される。
【００４０】
図３〜図６に示すように、本実施の形態においては、スケール５０に４０個のスリットｓ１〜ｓ４０がこの順で並ぶように形成されている。スリットｓ１〜ｓ４０には、それぞれ１番〜４０番の固有の番号が付与されている。スリットの数は本実施の形態の数に限定されない。
【００４１】
スリットｓ１〜ｓ４０は、所定個のスリットごとに隣り合うスリット間の距離が変化するように配置されている。本実施の形態では、スリットｓ１〜ｓ４０は、５個のスリットごとに隣り合うスリット間の距離が変化するように配置されている。すなわち、ｋ＝１，２，…，１０とすると、スリットｓ（４×ｋ−３），ｓ（４×ｋ−２），ｓ（４×ｋ−１），ｓ（４×ｋ），ｓ（４×ｋ＋１）間の距離はｍｋである。
【００４２】
例えば、スリットｓ１，ｓ２，ｓ３，ｓ４，ｓ５間の距離はｍ１であり、スリットｓ５，ｓ６，ｓ７，ｓ８，ｓ９間の距離はｍ２である。隣り合うスリット間の距離ｍ１〜ｍ１０は、図１の投光部３０により出射される光の波長よりも大きい。本実施の形態では、距離ｍ１〜ｍ１０はそれぞれ異なる。なお、本例においては、４１番目のスリットｓ４１は設けられていないが、設けられてもよい。
【００４３】
順に並ぶ５個のスリットのうち両端のスリット間の距離を以下のように定義する。ｋ＝１，２，…，９とすると、スリットｓ（４×ｋ−３），ｓ（４×ｋ＋１）間の距離をＭ１ｋとし、スリットｓ（４×ｋ−２），ｓ（４×ｋ＋２）間の距離をＭ２ｋとする。また、スリットｓ（４×ｋ−１），ｓ（４×ｋ＋３）間の距離をＭ３ｋとし、スリットｓ（４×ｋ），ｓ（４×ｋ＋４）間の距離をＭ４ｋとする。
【００４４】
例えば、スリットｓ１，ｓ５間の距離はＭ１１であり、スリットｓ５，ｓ９間の距離はＭ１２である。また、スリットｓ２，ｓ６間の距離はＭ２１であり、スリットｓ６，ｓ１０間の距離はＭ２２である。本実施の形態では、距離Ｍ１１〜Ｍ１９，Ｍ２１〜Ｍ２９，Ｍ３１〜Ｍ３９，Ｍ４１〜Ｍ４９はそれぞれ異なる。
【００４５】
次に、上記の距離のうち隣り合う各２つの距離の比を以下のように定義する。ｋ＝１，２，…，８とすると、Ｍ１（ｋ＋１）／Ｍ１ｋ，Ｍ２（ｋ＋１）／Ｍ２ｋ，Ｍ３（ｋ＋１）／Ｍ３ｋ，Ｍ４（ｋ＋１）／Ｍ４ｋをそれぞれＮ１ｋ，Ｎ２ｋ，Ｎ３ｋ，Ｎ４ｋとする。
【００４６】
例えば、Ｍ１２／Ｍ１１はＮ１１であり、Ｍ１３／Ｍ１２はＮ１２である。また、Ｍ２２／Ｍ２１はＮ２１であり、Ｍ２３／Ｍ２２はＮ２２である。各比Ｎ１１〜Ｎ１８，Ｎ２１〜Ｎ２８，Ｎ３１〜Ｎ３８，Ｎ４１〜Ｎ４８は予め算出され、位置算出データとして図１のメモリ６２に記憶されている。
【００４７】
比Ｎ１１〜Ｎ１８，Ｎ２１〜Ｎ２８，Ｎ３１〜Ｎ３８，Ｎ４１〜Ｎ４８はそれぞれ異なる。それにより、上記の比を特定することにより、変位算出処理において、投光部３０からの光が通過したスリットを識別することができる。なお、比Ｎ１１〜Ｎ１８，Ｎ２１〜Ｎ２８，Ｎ３１〜Ｎ３８，Ｎ４１〜Ｎ４８がそれぞれ異なるならば、スリットｓ１〜ｓ４０間の距離ｍ１〜ｍ１０が全て異ならなくてもよい。
【００４８】
（３）受光量ピークの位置の検出
投光部３０から出射された光は、スケール５０に含まれる複数のスリットｓ１〜ｓ４０の一部を通過して受光部４０に入射する。したがって、メモリ６２に蓄積される受光データにより表される受光量分布には、投光部３０からの光が通過した複数のスリットにそれぞれ対応する複数のピーク（以下、受光量ピークと呼ぶ）が現われる。
【００４９】
図７（ａ）は受光データにより表される受光量分布を示す図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）のＢ部の拡大図を示す。図７において、横軸は受光部４０の画素の位置（以下、画素位置と呼ぶ）を示し、縦軸は受光量を示す。
【００５０】
図７（ａ）の受光量分布にデータ処理を行うことにより、受光部４０の画素よりも小さい単位（サブピクセル単位）で複数の受光量ピークの位置を検出する。以下、受光量ピークの位置をピーク位置と呼ぶ。図７（ｂ）には、画素位置ｐ１〜ｐ１１における受光量分布が示される。
【００５１】
ここで、受光量分布にデータ処理を行わない場合には、画素位置ｐ７がピーク位置となる。真のピーク位置は、画素位置ｐ６，ｐ７間にある。そこで、受光量分布にデータ処理を行うことにより、サブピクセル単位で真のピーク位置ｐｉを算出する。
【００５２】
サブピクセル単位で真のピーク位置ｐｉを検出するために、種々の公知の方式によるデータ処理を用いることができる。例えば、受光量分布に重心処理を行うことにより、真のピーク位置ｐｉを検出してもよい。あるいは、放物線等の種々の曲線を受光量分布にフィッティングさせることにより真のピーク位置ｐｉを検出してもよい。
【００５３】
図８は、投光部３０、スケール５０および受光部４０の関係を示す模式図である。図８に示すように、投光部３０から出射された光は、所定の角度で広がりながらスケール５０の範囲Ｃ内の複数のスリットを通過して受光部４０の受光面の範囲Ｄ内に入射する。
【００５４】
上記のように、受光データを用いたデータ処理により受光面の範囲Ｄ内の受光量分布における複数のピーク位置がサブピクセル単位で検出される。検出された複数のピーク位置は、スケール５０の範囲Ｃ内の複数のスリットにそれぞれ対応する。
【００５５】
図９は、受光面の範囲Ｄ内の受光量分布における複数のピーク位置を示す模式図である。図９の横軸は受光部４０の画素位置を示す。図９においては、受光データのデータ処理により検出された複数のピーク位置ｇ１〜ｇ１７が黒丸印で示される。
【００５６】
（４）スリットの特定
光が通過したスケール５０の部分（図８に矢印Ｃで示す範囲）がスケール５０全体のいずれの部分に位置するかは不明である。したがって、光が通過したスリットは不明であるとともに、図９に示される各ピーク位置ｇ１〜ｇ１７がどのスリットに対応するかは不明である。本実施の形態においては、以下の手順によりスリットを特定する。
【００５７】
図９に示すように、順に並ぶ所定個のピーク位置のうち両端のピーク位置間の距離が算出される。本実施の形態では、順に並ぶ５個のピーク位置のうち両端のピーク位置ｇ１，ｇ５間の距離Ｌ１が算出される。また、順に並ぶ５個のピーク位置のうち両端のピーク位置ｇ５，ｇ９間の距離Ｌ２が算出される。さらに、順に並ぶ５個のピーク位置のうち両端のピーク位置ｇ９，ｇ１４間の距離Ｌ３が算出される。
【００５８】
次に、距離Ｌ１に対する距離Ｌ２の比Ｒ１が算出される。また、距離Ｌ２に対する距離Ｌ３の比Ｒ２が算出される。算出した比Ｒ１，Ｒ２が予め図１のメモリ６２に記憶された複数の比Ｎ１１〜Ｎ１８，Ｎ２１〜Ｎ２８，Ｎ３１〜Ｎ３８，Ｎ４１〜Ｎ４８に照合される。
【００５９】
ここで、複数の比Ｎ１１〜Ｎ１８，Ｎ２１〜Ｎ２８，Ｎ３１〜Ｎ３８，Ｎ４１〜Ｎ４８から比Ｒ１，Ｒ２に最も近い２個の比が抽出される。これにより、光が通過した複数のスリットの番号を特定することができるとともに、複数のピーク位置ｇ１〜ｇ１７と光が通過した複数のスリットとをそれぞれ対応付けることができる。
【００６０】
一例として、仮に比Ｎ２５，２６が比Ｒ１，Ｒ２にそれぞれ最も近い場合、スリット間の距離Ｍ２５，Ｍ２６，Ｍ２７（図５）がピーク位置間の距離Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３にそれぞれ相当する。したがって、ピーク位置ｇ１〜ｇ１７がスリットｓ１８〜ｓ３４にそれぞれ対応する。また、光が通過した複数のスリットの番号はそれぞれ１８番〜３４番であることが特定される。
【００６１】
（５）接触子の絶対位置
上記の方法で、受光量分布における複数のピーク位置に対応するそれぞれ複数のスリットの番号が特定される。この時点で、スケール５０の複数のスリット間の距離は既知であるが、各スリットの絶対位置は未知である。以下の手順により、スケール５０の任意のスリットの絶対位置を算出する。
【００６２】
図１０は、スリットの絶対位置の算出手順を説明するための図である。図１０の手順においては、投光部３０からの光が通過した任意のスリットｓｑの絶対位置が算出される。ここで、スリットｓｑの絶対位置は、投光部３０の光軸３０ｏからのスリットｓｑの距離Ｍｘである。
【００６３】
スリットｓｑを挟んで位置する２個のスリットｓｐ，ｓｒが予め選択される。図１０の例においては、スリットｓｐ，ｓｒはスリットｓｑの両隣に位置するスリットであり、スリットｓｐ，ｓｒ間の距離はＭｑである。上記の方法により、スリットｓｐ，ｓｑ，ｓｒの番号が特定されるため、距離Ｍｑも特定される。投光部３０からの光がスリットｓｐ〜ｓｒを通過することにより、スリットｓｐ〜ｓｒにそれぞれ対応するピーク位置ｇｐ，ｇｑ，ｇｒに受光量分布のピークが現われる。
【００６４】
受光部４０の受光面での光軸３０ｏの位置（以下、光軸位置と呼ぶ）Ｐ０は既知である。受光データに基づいて、光軸位置Ｐ０からのピーク位置ｇｑまでの距離Ｌｘが算出されるとともに、ピーク位置ｇｐ，ｇｒ間の距離Ｌｑが算出される。続いて、距離Ｍｑに対する距離Ｌｑの比（Ｌｑ／Ｍｑ）が倍率Ｒとして算出される。その後、距離Ｌｘを倍率Ｒで除することにより、距離Ｍｘが算出される。
【００６５】
各スリットから接触子２０の先端までの距離は既知である。したがって、スリットｓｑの絶対位置に基づいて、接触子２０の絶対位置を算出することができる。上記のスリットの絶対位置の算出手順によれば、接触子２０の移動に伴って受光部４０の受光面に対してスケール５０が傾斜した場合でも、接触子２０の絶対位置を正確に算出することができる。
【００６６】
図１の接触子２０が測定対象物の表面に当接することにより、接触子２０が変位する。接触子２０が測定対象物の表面に当接する前の接触子２０の絶対位置を接触子２０が測定対象物の表面に当接したときの接触子２０の絶対位置から減算することにより、接触子２０の変位を算出することができる。
【００６７】
このように、スリットｓ１〜ｓ４０の絶対位置の変化に基づいて接触子２０の変位が算出される。そのため、接触子２０が測定対象物の表面に当接する前の任意のスリットの位置、接触子２０が測定対象物の表面に当接した後の他の任意のスリットの位置およびスリット間の距離に基づいて接触子２０の変位を算出することができる。
【００６８】
したがって、接触子２０が測定対象物の表面に当接したことにより一部のスリットが投光部３０からの光の照射範囲外に変位した場合でも、他のスリットの絶対位置を算出することにより、接触子２０の変位を算出することができる。これにより、投光部３０からスケールへの光の照射範囲よりも長い寸法を有する接触子２０の変位を算出することができる。
【００６９】
（６）変位算出処理
図１１は、変位算出処理を示すフローチャートである。図１１を用いてＣＰＵ６１による接触子２０の変位算出処理を説明する。
【００７０】
ＣＰＵ６１は、図１のメモリ６２に蓄積されたデジタル信号から受光データを取得する（ステップＳ１）。次に、ＣＰＵ６１は、受光データに基づいて受光量分布における複数のピーク位置を検出する（ステップＳ２）。ピーク位置の検出は、受光データにより示される受光量分布にデータ処理を行い、受光量が真のピークとなる位置を検出することにより行われる。
【００７１】
続いて、ＣＰＵ６１は、複数のピーク位置に基づいて光が通過したスリットの番号を特定する（ステップＳ３）。本実施の形態においては、図９の距離Ｌ１〜Ｌ３が算出されるとともに、比Ｒ１，Ｒ２が算出される。比Ｒ１，Ｒ２が予めメモリ６２に記憶された複数の比Ｎ１１〜Ｎ１８，Ｎ２１〜Ｎ２８，Ｎ３１〜Ｎ３８，Ｎ４１〜Ｎ４８に照合されることにより、複数のピーク位置と光が通過した複数のスリットとが対応付けられる。また、光が通過した複数のスリットの番号が特定される。
【００７２】
その後、ＣＰＵ６１は、任意のスリットｓｑの補正量を決定する（ステップＳ４）。本実施の形態においては、補正量は倍率Ｒである。補正量は、図１０の投光部３０の光軸３０ｏからスリットｓｑまでの距離に応じて決定される。補正量の決定においては、ピーク位置ｇｑを挟んで位置する２個のピーク位置ｇｐ，ｇｒ間の距離Ｌｑが測定される。スリットｓｑを挟んで位置する２個のスリットｓｐ，ｓｒ間の距離Ｍｑに対する距離Ｌｑの比を算出することにより補正量が決定される。
【００７３】
次に、ＣＰＵ６１は、ピーク位置ｇｑおよび決定された補正量に基づいて、スリットｓｑの絶対位置を特定する（ステップＳ５）。スリットｓｑの絶対位置の特定においては、光軸位置Ｐ０からピーク位置ｇｑまでの距離Ｌｘが算出される。距離Ｌｘを倍率Ｒで除することにより、投光部３０の光軸３０ｏからのスリットｓｑの距離Ｍｘが算出され、スリットｓｑの位絶対置が特定される。
【００７４】
最後に、ＣＰＵ６１は、接触子２０の変位を算出する（ステップＳ６）。本実施の形態においては、投光部３０からの光が通過した複数のスリットについて絶対位置を算出し、複数のスリットの絶対位置にそれぞれ対応する接触子２０の絶対位置を複数算出する。算出された接触子２０の複数の絶対位置を平均することにより、接触子２０の絶対位置を算出する。接触子２０の絶対位置の変化を算出することにより、接触子２０の変位を算出する。
【００７５】
これにより、接触子２０の変位を高い精度で算出することができる。また、スケール５０のスリットへの塵埃等の付着により、そのスリットに対応するピーク位置が検出されなかった場合でも、算出される接触子２０の変位の誤差を低減することができる。
【００７６】
なお、スケール５０は所定の厚みを有するため、光軸３０ｏから近い位置にあるスリットを通過した光の屈折は、光軸３０ｏから遠い位置にあるスリットを通過した光の屈折よりも小さい。したがって、光軸３０ｏから近い位置にあるスリットの絶対位置の算出の精度は、光軸３０ｏから遠い位置にあるスリットの絶対位置の算出の精度よりも高い。
【００７７】
そのため、上記の接触子２０の絶対位置の算出においては、光軸３０ｏから近い位置にあるスリットの絶対位置の重みを光軸３０ｏから遠い位置にあるスリットの絶対位置の重みよりも大きくして接触子２０の複数の絶対位置が平均される。これにより、接触子２０の絶対位置をより正確に算出することができる。
【００７８】
（７）効果
本実施の形態においては、投光部３０によりスケール５０に非平行光が照射され、スケール５０の複数のスリットを透過した非平行光が受光部４０により受光される。この場合、受光部４０での受光量分布における複数のピーク位置間の距離とスケール５０における複数のピーク位置にそれぞれ対応する複数のスリット間の距離との関係を示す倍率Ｒを用いて任意のピーク位置に対応するスリットの絶対位置を算出することができる。したがって、光を平行化するためのコリメータレンズ等の光学素子を投光部３０とスケール５０との間に設ける必要がない。これにより、接触子２０の移動方向に直交する方向において接触式変位計１００を小型化することができる。
【００７９】
また、本実施の形態においては、スケール５０の複数のスリットの各々は、当該スリットを含む予め定められた位置関係を有する複数のスリット間の距離に基づく識別値を用いて一意的に識別可能に配列される。それにより、検出された複数のピーク位置のうち予め定められた予め定められた関係有する複数のピーク位置間の距離の比に基づいて、複数のピーク位置に対応するスリットの位置が識別される。したがって、受光部４０の受光面とスケール５０との平行度が低い場合、または受光部４０の受光面とスケール５０との平行度が接触子２０の移動に伴って変動する場合でも、スケール５０の各スリットを正確に識別することができる。
【００８０】
さらに、スケール５０の各スリットの識別後に、任意のスリットの位置を算出するための倍率Ｒが算出され、倍率Ｒに基づいて任意のスリットと投光部３０の光軸３０ｏとの距離が算出される。したがって、受光部４０の受光面とスケール５０との平行度が低い場合、または受光部４０の受光面とスケール５０との平行度が接触子２０の移動に伴って変動する場合でも、接触子２０の絶対位置を正確に算出することができる。
【００８１】
それにより、筺体１０、接触子２０、投光部３０、受光部４０およびスケール５０の組立の精度が緩和される。その結果、接触式変位計のコストを低減することができる。
【００８２】
［２］第２の実施の形態
（１）変位算出処理
第２の実施の形態に係る接触式変位計１００について、第１の実施の形態に係る接触式変位計１００と異なる点を説明する。
【００８３】
本実施の形態においては、投光部３０と受光部４０とスケール５０との距離に基づいて定めた倍率が位置算出データとして予め図１のメモリ６２に記憶されている。また、図３〜図６のスケール５０のスリット間の３９個の距離ｍ１〜ｍ１０がスリットｓ１〜ｓ４０の配列に対応するようにメモリ６２に記憶されている。
【００８４】
予めメモリ６２に記憶される倍率は、例えば投光部３０の光軸３０ｏ付近におけるスリット間の距離に対する複数のピーク位置間の距離の倍率である。この倍率は、投光部３０とスケール５０との間の距離に対する投光部３０と受光部４０との間の距離の比であり、既知である。
【００８５】
本実施の形態においては、図１１のステップＳ３において、図１０の手順に代えて以下の手順により光が通過したスリットの番号を特定する。図１２は、第２の実施の形態におけるスリットの番号の特定手順を説明するための図である。図１２の例においては、光が通過した複数のスリットにそれぞれ対応する複数のピーク位置ｇ１〜ｇ１７が黒丸印で示される。
【００８６】
図１２に示すように、隣り合うピーク位置ｇ１〜ｇ１７間の距離ａ１〜ａ１６を算出する。次に、光軸位置Ｐ０から各ピーク位置ｇ１〜ｇ１７までの距離をメモリ６２に記憶された倍率で除することにより、距離ａ１〜ａ１６をそれぞれ距離ｂ１〜ｂ１６に補正する。
【００８７】
補正された距離ｂ１〜ｂ１６の配列を予めメモリ６２に記憶されたスケール５０の複数の距離ｍ１〜ｍ１０の配列と照合する。これにより、光が通過した複数のスリットの番号を特定することができるとともに、複数のピーク位置ｇ１〜ｇ１７と光が通過した複数のスリットとをそれぞれ対応付けることができる。
【００８８】
上記のように、本例においては、予めメモリ６２に記憶される倍率は、投光部３０の光軸３０ｏ付近におけるスリット間の距離に対する複数のピーク位置間の距離の倍率である。しかしながら、投光部３０から出射された光は所定の角度で広がるため、光軸３０ｏの遠い位置における実際の倍率は、光軸３０ｏ付近における倍率よりも僅かに（例えば２％程度）大きい。
【００８９】
そのため、光軸３０ｏに近い位置におけるピーク位置間の距離の配列は、光軸３０ｏから遠い位置におけるピーク位置間の距離の配列よりも高い精度で距離ｍ１〜ｍ１０の配列に一致する。したがって、光軸３０ｏ付近のピーク位置間の距離の配列の重みを大きくしてピーク位置間の距離の配列を複数の距離ｍ１〜ｍ１０の配列と照合してもよい。
【００９０】
本実施の形態における図１１のステップＳ４〜Ｓ６の処理は、第１の実施の形態におけるステップＳ４〜Ｓ６の処理と同様である。ステップＳ４において、任意のスリットｓｑの補正量として、スリット間の距離に対する複数のピーク位置間の距離の倍率を算出する。
【００９１】
ステップＳ４において算出される倍率は、光軸３０ｏからの距離に応じた倍率という点で、予めメモリ６２に記憶された倍率とは異なる。光軸３０ｏからの距離に応じた倍率を用いることにより、ステップＳ５においてスリットｓｑの位置を正確に特定することができる。
【００９２】
（２）効果
本実施の形態においては、スケール５０の複数のスリット間の距離が複数のスリットの配列に対応するように予めメモリ６２に記憶されている。ピーク位置間の複数の距離が予めメモリ６２に記憶された複数のスリット間の距離と照合されることにより、複数のピーク位置に対応するスリットの位置が識別される。この場合、複数のピーク位置にそれぞれ対応する複数のスリットを容易に識別することができる。
【００９３】
［３］第３の実施の形態
（１）変位算出処理
第３の実施の形態に係る接触式変位計１００について、第２の実施の形態に係る接触式変位計１００と異なる点を説明する。
【００９４】
投光部３０の光軸３０ｏに直交する方向を光軸直交方向と呼ぶ。本実施の形態における筺体１０、接触子２０、投光部３０、受光部４０およびスケール５０は、比較的高い精度で組み立てられる。具体的には、光軸直交方向に対する受光部４０の受光面の平行度がより高く、光軸直交方向に対する接触子２０およびスケール５０の平行度がより高く、接触子２０およびスケール５０は光軸直交方向に対して平行度を保った状態で移動する。そのため、任意のスリットの位置を算出するための倍率が、投光部３０、受光部４０、接触子２０およびスケール５０の相対的な位置関係に基づいて一意的に定まる。
【００９５】
光軸３０ｏからの距離に応じた倍率は、投光部３０から出射される光の広がり角に基づいて算出することができる。本実施の形態においては、光軸３０ｏからの距離に応じた倍率は既知である。具体的には、光軸３０ｏからの距離に応じた倍率を示すテーブルが、位置算出データとして予め図１のメモリ６２に記憶されている。ここで、テーブルは、光軸３０ｏからの距離と倍率との対応関係を示す。あるいは、光軸３０ｏからの距離に応じて倍率を算出するための数式が位置算出データとして予めメモリ６２に記憶されている。
【００９６】
本実施の形態のステップＳ４においては、メモリ６２に記憶されたテーブルまたは式に基づいて光軸３０ｏからの距離に応じた倍率をスリットの補正量として決定する。その後のステップＳ５においては、決定された補正量に基づいて、スリットｓｑの位置を特定する。スリットｓｑの位置の特定においては、図１０に示すように、光軸位置Ｐ０からピーク位置ｇｑまでの距離Ｌｘを算出する。距離Ｌｘをピーク位置ｇｑにおける倍率で除することにより、投光部３０の光軸３０ｏからのスリットｓｑの距離Ｍｘを算出し、スリットｓｑの絶対位置を特定する。
【００９７】
その後、ステップＳ６の処理が行われる。本実施の形態におけるステップＳ６の処理は、第２の実施の形態におけるステップＳ６の処理と同様である。
【００９８】
（２）効果
本実施の形態においては、光軸３０ｏからの距離に応じた複数のピーク位置間の距離に対する複数のスリット間の距離の倍率が、メモリ６２に予め記憶されている。そのため、メモリ６２に予め記憶された倍率に基づいて、スリットの位置を容易かつ高速に算出することができる。
【００９９】
［４］第４の実施の形態
（１）変位算出処理
第４の実施の形態に係る接触式変位計１００について、第３の実施の形態に係る接触式変位計１００と異なる点を説明する。
【０１００】
本実施の形態における筺体１０、接触子２０、投光部３０、受光部４０およびスケール５０は、比較的高い精度で組み立てられる。そのため、任意のスリットの位置を算出するための倍率が、投光部３０、受光部４０、接触子２０およびスケール５０の相対的な位置関係に基づいて一意的に定まる。
【０１０１】
本実施の形態においては、図１１のステップＳ１，Ｓ２，Ｓ４，Ｓ３，Ｓ５，Ｓ６の順で変位算出処理が行われる。本実施の形態のステップＳ４においては、メモリ６２に記憶されたテーブルまたは式に基づいて光軸３０ｏからの距離に応じた倍率をスリットの補正量として決定する。その後のステップＳ３においては、図１２の手順に代えて以下の手順によりスリットの番号を特定する。
【０１０２】
図１３は、第４の実施の形態におけるスリットの番号の特定手順を説明するための図である。図１３の例においては、光が通過した複数のスリットにそれぞれ対応する複数のピーク位置ｇ１〜ｇ１７が黒丸印で示される。
【０１０３】
図１３に示すように、隣り合うピーク位置ｇ１〜ｇ１７間の距離ａ１〜ａ１６を測定する。次に、投光部３０の光軸３０ｏから各ピーク位置ｇ１〜ｇ１７までの距離を算出した各ピーク位置ｇ１〜ｇ１７における倍率で除することにより、距離ａ１〜ａ１６をそれぞれ距離ｃ１〜ｃ１６に補正する。距離ｃ１〜ｃ１６は、投光部３０からスケール５０に平行光が照射された場合におけるピーク位置ｇ１〜ｇ１７間の距離ａ１〜ａ１６に相当する。
【０１０４】
補正された距離ｃ１〜ｃ１６の配列を予めメモリ６２に記憶されたスケール５０の複数の距離ｍ１〜ｍ１０の配列と照合する。これにより、光が通過した複数のスリットの番号を特定することができるとともに、複数のピーク位置ｇ１〜ｇ１７と光が通過した複数のスリットとをそれぞれ対応付けることができる。
【０１０５】
その後、ステップＳ５，Ｓ６の処理が行われる。本実施の形態におけるステップＳ５，Ｓ６の処理は、第３の実施の形態におけるステップＳ５，Ｓ６の処理と同様である。
【０１０６】
（２）効果
本実施の形態においては、光軸３０ｏからの距離に応じた複数のピーク位置間の距離に対する複数のスリット間の距離の倍率が、メモリ６２に予め記憶されている。そのため、メモリ６２に予め記憶された倍率に基づいて、任意のスリットの位置を容易かつ高速に算出することができる。また、本実施の形態においては、補正された複数のピーク位置間の距離を用いて、任意のピーク位置に対応するスリットを高い精度で識別することができる。
【０１０７】
［５］他の実施の形態
（１）上記実施の形態において、スケール５０は複数のスリットを有するが、これに限定されない。スケール５０は、複数のスリットに代えて、他の複数の透光部を有してもよい。
【０１０８】
（２）上記実施の形態において、制御部６０は、筺体１０と表示部７０とを接続するケーブル内に設けられるが、これに限定されない。筺体１０が十分に大きい収容空間を有する場合には、制御部６０は筺体１０に収容されてもよい。あるいは、制御部６０は筺体１０とは異なる筺体に収容されてもよい
（３）上記実施の形態において、スケール５０での光軸３０ｏの位置を基準としたスリットｓｑの位置が絶対位置として算出されるが、これに限定されない。スケール５０の任意の位置を基準としたスリットｓｑの位置が絶対位置として算出されてもよい。
【０１０９】
（４）上記実施の形態において、受光量ピークは、投光部３０からの光がスリットを通過することにより受光量分布に現われる受光量の極大のピークであるが、これに限定されない。受光量ピークは、投光部３０からの光がスケール５０のスリット以外の部分（遮光部）で遮られることにより受光量分布に現われる受光量の極小のピークであってもよい。
【０１１０】
（５）第１の実施の形態において、２つの比Ｒ１，Ｒ２が予め記憶された複数の比に照合されることにより複数のピーク位置と光が通過した複数のスリットとがそれぞれ対応付けられるが、これに限定されない。１つの比Ｒ１または比Ｒ２が予め記憶された複数の比に照合されることにより複数のピーク位置と光が通過した複数のスリットとがそれぞれ対応付けられてもよい。
【０１１１】
（６）第１の実施の形態において、スリットｓｐ，ｓｒ間の距離Ｍｑに対するピーク位置ｇｐ，ｇｒ間の距離Ｌｑの比を算出することにより補正量が決定されるが、これに限定されない。第３または第４の実施の形態と同様に、光軸３０ｏからの距離に応じた倍率を示すテーブル、または光軸３０ｏからの距離に応じて倍率を算出するための数式が予めメモリ６２に記憶されてもよい。この場合、倍率Ｒに代えて、メモリ６２に記憶されたテーブルまたは式に基づいて光軸３０ｏからの距離に応じた倍率がスリットの補正量として決定される。
【０１１２】
（７）第２の実施の形態において、予めメモリ６２に記憶される倍率は、投光部３０の光軸３０ｏ付近におけるスリット間の距離に対する複数のピーク位置間の距離の倍率であるが、これに限定されない。予めメモリ６２に記憶される倍率は、任意の位置におけるスリット間の距離に対する複数のピーク位置間の距離の倍率であってもよい。
【０１１３】
［６］請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
【０１１４】
上記実施の形態においては、筺体１０が筺体の例であり、接触子２０が接触子の例であり、スリットｓ１〜ｓ４０が投光部の例であり、スケール５０がスケールの例であり、投光部３０が投光部の例であり、受光部４０が受光部の例である。ＣＰＵ６１が検出部、算出部および処理装置の例であり、メモリ６２が第１および第２の記憶部の例であり、接触式変位計１００が接触式変位計の例である。
【０１１５】
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
【産業上の利用可能性】
【０１１６】
本発明は、種々の接触式変位計に有効に利用することができる。
【符号の説明】
【０１１７】
１０  筺体
１１  シャフト
１２  バネ
１３  スケール保持部
１４  光学系保持部
１４ａ，１４ｂ  支持片
２０  接触子
３０  投光部
３０ｏ  光軸
３１  電気回路
４０  受光部
４１  回路基板
５０  スケール
６０  制御部
６１  ＣＰＵ
６２  メモリ
６３  Ａ／Ｄ変換器
７０  表示部
１００  接触式変位計
１００Ｈ  測定ヘッド
ｇ１〜ｇ１７，ｇｐ〜ｇｒ  ピーク位置
ｓ１〜ｓ４０，ｓｐ〜ｓｒ  スリット
【図１】
2015034770.tif 000003
【図２】
2015034770.tif 000004
【図３】
2015034770.tif 000005
【図４】
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【図５】
2015034770.tif 000007
【図６】
2015034770.tif 000008
【図７】
2015034770.tif 000009
【図８】
2015034770.tif 000010
【図９】
2015034770.tif 000011
【図１０】
2015034770.tif 000012
【図１１】
2015034770.tif 000013
【図１２】
2015034770.tif 000014
【図１３】
2015034770.tif 000015