(57)【要約】      （修正有）【課題】メタルバック層が不連続であることによりひき起こされるノイズ発生や画質不安定を防止することができるイメージ管を提供する。【解決手段】真空外囲器の一方の端部の入射部に入射した放射線を光、更に電子線に変換し、電子線を加速および集束し、真空外囲器の他方の端部の出射部で光に変換して、放射線による画像情報を光学像に変換するイメージ管において、出射部は真空外囲器の一部となるフェースプレート（蛍光膜形成部６１１、基部６１２）の真空側に出射側蛍光膜６２、その上にメタルバック層６４が形成される。蛍光膜形成部６１１の側面６１３をなだらかな傾斜を有するように、特に角度θが４５°以上になるように形成する。そしてメタルバック層が側面を介して出射フェース融着板まで接続されるように形成する。側面がなだらかな傾斜を有するので、凹凸部６１４が形成されていたとしても、連続したメタルバック層を形成することが容易となる。【選択図】図４
2015170459.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部の雰囲気を大気圧よりも減圧された状態に維持可能な真空外囲器と、
前記真空外囲器の一方の端部に設けられ、
入射した放射線を光に変換する入射側蛍光膜と、
前記入射側蛍光膜により変換された前記光を電子線に変換する光電変換膜と、
を有する入射部と、
前記真空外囲器の内部に設けられ、前記光電変換膜からの前記電子線を加速させる陽極と、
前記真空外囲器の他方の端部に設けられ、
前記真空外囲器の他方の端部側に接合され、前記陽極が設けられる出射フェース融着板と、
前記出射フェース融着板に設けられる基部と、前記基部の前記陽極側の面から突出する蛍光膜形成部と、を有するフェースプレートと、
前記蛍光膜形成部の前記陽極側の面に設けられ、前記光電変換膜からの前記電子線を光に変換する出射側蛍光膜と、
前記出射側蛍光膜を覆うメタルバック層と、
を有する出射部と、
を備え、
前記蛍光膜形成部の側面は、なだらかな傾斜を有し、
前記メタルバック層は、前記蛍光膜形成部の側面を介して、前記出射フェース融着板まで伸びているイメージ管。
【請求項２】
前記蛍光膜形成部の側面と、前記蛍光膜形成部の前記出射側蛍光膜が設けられる面と垂直な方向と、がなす角度が４５°以上である請求項１記載のイメージ管。
【請求項３】
前記蛍光膜形成部の側面の接線と、前記蛍光膜形成部の前記出射側蛍光膜が設けられる面と垂直な方向と、がなす角度が４５°以上である請求項１記載のイメージ管。
【請求項４】
前記なだらかな傾斜は、前記蛍光膜形成部の前記出射側蛍光膜が設けられる面の周縁の全域に設けられている請求項１記載のイメージ管。
【請求項５】
前記なだらかな傾斜は、前記蛍光膜形成部の前記出射側蛍光膜が設けられる面の周縁の一部の領域に設けられている請求項１記載のイメージ管。  
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、イメージ管に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線、γ線、中性子線などの放射線による画像情報を光学像などに変換するイメージ管がある。  
イメージ管は、いわゆるイメージインテンシファイア（Image Intensifier）として、医療用診断装置や工業用非破壊検査装置などに広く用いられている。  
この様なイメージ管においては、出射側蛍光膜における帯電防止、および蛍光の反射のために、出射側蛍光膜を覆うメタルバック層が設けられている。  
ここで、メタルバック層の厚みが厚くなると、画像特性が劣化するおそれがある。  
そのため、メタルバック層は、真空蒸着法などを用いて形成されている。  
ところが、メタルバック層が形成される面には、研磨加工時に凹凸部が形成される場合がある。メタルバック層が形成される面に凹凸部があると、連続したメタルバック層を形成することができず、ノイズが発生したり、画質が不安定となったりするおそれがある。  そのため、メタルバック層が形成される面に凹凸部があっても、連続したメタルバック層が形成でき、出力画像の低ノイズ化及び安定化を図ることができる技術の開発が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１７１７７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明が解決しようとする課題は、出力画像の低ノイズ化及び安定化を図ることができるイメージ管を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
実施形態に係るイメージ管は、内部の雰囲気を大気圧よりも減圧された状態に維持可能な真空外囲器と、前記真空外囲器の一方の端部に設けられ、入射した放射線を光に変換する入射側蛍光膜と、前記入射側蛍光膜により変換された前記光を電子線に変換する光電変換膜と、を有する入射部と、前記真空外囲器の内部に設けられ、前記光電変換膜からの前記電子線を加速させる陽極と、前記真空外囲器の他方の端部に設けられ、前記真空外囲器の他方の端部側に接合され、前記陽極が設けられる出射フェース融着板と、前記出射フェース融着板に設けられる基部と、前記基部の前記陽極側の面から突出する蛍光膜形成部と、を有するフェースプレートと、前記蛍光膜形成部の前記陽極側の面に設けられ、前記光電変換膜からの前記電子線を光に変換する出射側蛍光膜と、前記出射側蛍光膜を覆うメタルバック層と、を有する出射部と、を備えている。  
前記蛍光膜形成部の側面は、なだらかな傾斜を有している。  
前記メタルバック層は、前記蛍光膜形成部の側面を介して、前記出射フェース融着板まで伸びている。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】本実施の形態に係るイメージ管１を例示するための模式断面図である。
【図２】出射部６を例示するための模式断面図である。
【図３】比較例に係る蛍光膜形成部６１１ａの側面６１３ａに形成された凹凸部６１４を例示するための模式断面図である。
【図４】（ａ）〜（ｂ）は、蛍光膜形成部６１１の側面６１３の形態を例示するための模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。  
また、以下においては、一例として、Ｘ線による画像情報を光学像などに変換するＸ線イメージ管について説明する。
【０００８】
図１は、本実施の形態に係るイメージ管１を例示するための模式断面図である。  
なお、図１中のＬはＸ線を、Ｍは電子線を、Ｎは可視光像を、Ｔは被写体をそれぞれ表している。  
図１に示すように、イメージ管１には、真空外囲器２、入射部３、集束電極４、陽極５、封着部２３、出射部６、高圧電源７、電源回路８、およびＸ線発生装置９が設けられている。
【０００９】
真空外囲器２は、筒状を呈し、内部の雰囲気を大気圧よりも減圧された状態に維持する。この場合、真空外囲器２の内部は、高真空（例えば、１０−８Ｔｏｒｒ〜１０−９Ｔｏｒｒ程度）とされる。  
真空外囲器２の一方の端部には、開口である入射窓２１が設けられている。  
真空外囲器２の他方の端部には、開口である出射窓２２が設けられている。
【００１０】
入射部３は、真空外囲器２の入射窓２１を塞ぐように設けられている。  
入射部３には、入射膜３１、入射側蛍光膜３２、および光電変換膜３３が設けられている。  
入射膜３１は、真空外囲器２の外部に面している。入射膜３１の外部に面する面は、入射面となっている。入射膜３１には、放射線であるＸ線Ｌが入射する。また、入射膜３１は、陰極として機能する。入射膜３１は、例えば、アルミニウムなどから形成されている。入射膜３１の厚み寸法は、例えば、１ｍｍ程度とすることができる。  
入射側蛍光膜３２は、入射膜３１と光電変換膜３３との間に設けられている。  
入射側蛍光膜３２は、入射膜３１を介して入射したＸ線Ｌを光に変換する。  
入射側蛍光膜３２は、例えば、ヨウ化セシウム（ＣｓＩ）を含む。  
入射側蛍光膜３２の厚み寸法は、例えば、３５０μｍ程度とすることができる。  
入射側蛍光膜３２は、例えば、真空蒸着法を用いて、入射膜３１の入射面側とは反対側の面上に蒸着することで形成することができる。  
光電変換膜３３は、真空外囲器２の内部に面している。  
光電変換膜３３には、入射側蛍光膜３２により変換された光が入射する。  
光電変換膜３３は、入射した光を電子線Ｍに変換する。  
光電変換膜３３は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を含む。  
光電変換膜３３の厚み寸法は、例えば、０．１２μｍ程度とすることができる。  
光電変換膜３３は、例えば、真空蒸着法を用いて、入射側蛍光膜３２の入射膜３１側とは反対側の面上に蒸着することで形成することができる。
【００１１】
集束電極４は、真空外囲器２の内部に設けられている。集束電極４は、光電変換膜３３から放射された電子線Ｍを制御する。  
集束電極４には、フォーカス用集束電極４１と、視野可変用集束電極４２とが設けられている。  
フォーカス用集束電極４１は、入射部３側に設けられている。フォーカス用集束電極４１は、光電変換膜３３から放射された電子線Ｍの焦点位置を制御する。  
視野可変用集束電極４２は、出射部６側に設けられている。視野可変用集束電極４２は、光電変換膜３３から放射された電子線Ｍの照射領域を制御する。
【００１２】
陽極５は、真空外囲器２の内部に設けられている。陽極５は、集束電極４と、出射部６の間に設けられている。  
陽極５は、集束電極４により集束させた電子線Ｍを加速させる。  
陽極５は、筒状を呈し、イメージ管１の軸方向に貫通する孔部を有している。集束電極４により集束された電子線Ｍは、陽極５の孔部を通って、出射部６に入射する。
【００１３】
封着部２３は、環状を呈し、真空外囲器２の出射窓２２側の端部に融着されている。  
出射部６は、真空外囲器２の出射窓２２を塞ぐように設けられている。  
後述する出射部６の出射フェース融着板６３は、封着部２３に気密に溶接されている。  出射部６は、陽極５により加速させた電子線Ｍを光に変換し、可視光像Ｎとして出射する。  
なお、出射部６に関する詳細は後述する。
【００１４】
高圧電源７は、真空外囲器２の外部に設けられている。高圧電源７は、例えば、真空外囲器２を保持する図示しない真空外囲器ケースに設けることができる。  
高圧電源７は、集束電極４、陽極５、および後述するメタルバック層６４に高電圧を印加する。  
なお、集束電極４に印加される電圧は、集束電圧となる。  
この場合、フォーカス用集束電極４１には数１００Ｖ程度、視野可変用集束電極４２には数１０００Ｖの電圧が印加される。  
また、陽極５に印加される電圧は、陽極電圧となる。  
この場合、陽極５には、２５ｋＶ〜３０ｋＶ程度の電圧が印加される。    
メタルバック層６４には、２５ｋＶ〜３０ｋＶ程度の電圧が印加される。
【００１５】
電源回路８は、高圧電源７、フォーカス用集束電極４１、視野可変用集束電極４２、陽極５、メタルバック層６４、陰極である入射膜３１、およびアースであるグランド（ＧＮＤ）８１を接続することで構成されている。  
なお、陰極である入射膜３１は接地されている。
【００１６】
Ｘ線発生装置９は、発生させたＸ線をイメージ管１の入射膜３１に向けて放射する。  
Ｘ線発生装置９は、例えば、Ｘ線を発生させる回転陽極Ｘ線管と、回転陽極Ｘ線管に高電圧を印加する高圧電源を備えたものとすることができる。  
回転陽極Ｘ線管は、印加された高電圧により加速させた電子をターゲットに衝突させることでＸ線を発生させる。
【００１７】
次に、出射部６についてさらに説明する。  
図２は、出射部６を例示するための模式断面図である。  
図２に示すように、出射部６には、フェースプレート６１、出射側蛍光膜６２、出射フェース融着板６３、およびメタルバック層６４が設けられている。
【００１８】
フェースプレート６１は、基部６１２と、蛍光膜形成部６１１を有する。  
基部６１２は、円板状を呈し、出射フェース融着板６３に接合されている。  
蛍光膜形成部６１１は、円板状を呈し、基部６１２の陽極５側の面（電子線Ｍが入射する側の面）から突出している。蛍光膜形成部６１１の主面６１１１（出射側蛍光膜６２が設けられる面）の平面寸法は、基部６１２の平面寸法よりも短くなっている。  
すなわち、フェースプレート６１は、２段の段付き構造を有している。  
基部６１２と、蛍光膜形成部６１１は、一体に形成されている。  
フェースプレート６１は、ガラスなどの光透過性を有する材料から形成されている。  
そのため、出射側蛍光膜６２において発生させた光（可視光像Ｎ）をイメージ管１の外部に取り出すことができる。
【００１９】
出射側蛍光膜６２は、膜状を呈し、蛍光膜形成部６１１の主面６１１１に設けられている。  
出射側蛍光膜６２は、メタルバック層６４を介して入射した電子線Ｍを光に変換し、可視光像Ｎとして出射する。
【００２０】
出射フェース融着板６３は、環状を呈している。出射フェース融着板６３の電子線Ｍが入射する側の面とは反対側の面には、凹部６３１が設けられている。  
蛍光膜形成部６１１は、環状の出射フェース融着板６３の内側に位置している。  
出射フェース融着板６３の凹部６３１には、フェースプレート６１の基部６１２が融着されている。  
すなわち、基部６１２の陽極５側の面の周縁部分は、凹部６３１の底面に融着されている。
【００２１】
例えば、フェースプレート６１の基部６１２と、出射フェース融着板６３との融着部分に高周波電力を印加して、局所的に高熱を発生させることで、フェースプレート６１と出射フェース融着板６３とを融着することができる。  
ここで、フェースプレート６１の厚みが薄くなっている部分である基部６１２の周縁部分と、出射フェース融着板６３とを融着しているので、フェースプレート６１の中央部分への熱の影響を抑制することができる。
【００２２】
出射フェース融着板６３の材料の熱膨張係数は、フェースプレート６１の材料の熱膨張係数になるべく近くなるようにするのが好ましい。  
また、出射側蛍光膜６２に残る余剰な電子を、メタルバック層６４および出射フェース融着板６３を介して放出することを考慮すると、出射フェース融着板６３の材料は導電性材料であることが好ましい。  
例えば、フェースプレート６１の材料がガラスの場合には、出射フェース融着板６３の材料は、コバールなどとすることができる。
【００２３】
出射フェース融着板６３の電子線Ｍが入射する側の面には、陽極５が接合されている。  例えば、陽極５に設けられた鍔部と、出射フェース融着板６３の周縁部分とを接合することができる。  
前述したように、出射フェース融着板６３の電子線Ｍが入射する側の周縁部分６３５は、封着部２３に気密に溶接されている。
【００２４】
メタルバック層６４は、出射側蛍光膜６２の表面、環状の出射フェース融着板６３の内側に露出するフェースプレート６１の表面、および筒状の陽極５の内側に露出する出射フェース融着板６３の表面を覆うように設けられている。  
すなわち、メタルバック層６４は、蛍光膜形成部６１１の側面６１３を介して、出射フェース融着板６３まで伸びている。  
メタルバック層６４は、出射側蛍光膜６２に残る余剰な電子を出射フェース融着板６３を介して放出する。すなわち、メタルバック層６４は、出射側蛍光膜６２における帯電を防止する。  
また、メタルバック層６４は、陽極５と同電位になるように接続されるのが好ましい。  メタルバック層６４と陽極５を同電位とすれば、メタルバック層６４を透過する電子線Ｍが減速するのを抑制することができる。  
そのため、メタルバック層６４は、導電性材料から形成されている。
【００２５】
また、メタルバック層６４は、出射側蛍光膜６２において発生し、陽極５側に向かう光をフェースプレート６１側に反射する。  
そのため、メタルバック層６４は、出射側蛍光膜６２において発生した光に対する反射率が高い材料から形成されている。  
メタルバック層６４は、例えば、アルミニウムやアルミニウム合金などから形成することができる。
【００２６】
ここで、メタルバック層６４の厚みが厚くなると、電子線Ｍが透過し難くなる。またさらに、メタルバック層６４の厚みが厚くなると、メタルバック層６４からの反射電子あるいは２次電子の発生量が多くなる。  
そのため、メタルバック層６４の厚みを厚くしすぎると、画像特性（例えば、コントラスト、解像度、輝度など）が劣化するおそれがある。  
メタルバック層６４の厚みは、例えば、２００ｎｍ〜３５０ｎｍ程度とすることが好ましい。  
メタルバック層６４は、例えば、真空蒸着法、スパッタリングなどの物理的気相成長（PVD；Physical Vapor Deposition）法、化学的気相成長（CVD；Chemical Vapor Deposition）法などを用いて形成することができる。
【００２７】
前述したように、フェースプレート６１と、出射フェース融着板６３とを融着する際の熱の影響を抑制するために、フェースプレート６１は、基部６１２から突出する蛍光膜形成部６１１を有している。  
基部６１２から突出する蛍光膜形成部６１１は、研磨加工法を用いて形成することができる。  
ところが、研磨加工法を用いて、基部６１２から突出する蛍光膜形成部６１１を形成すると、蛍光膜形成部６１１の側面６１３に凹凸部６１４が形成される場合がある。  
また、研磨加工においては、砥石の角部などの摩耗をなくすことができず、時間とともに凹凸部６１４の発生が増加することになる。
【００２８】
図３は、比較例に係る蛍光膜形成部６１１ａの側面６１３ａに形成された凹凸部６１４を例示するための模式断面図である。  
前述したように、メタルバック層６４は、真空蒸着法、物理的気相成長法、化学的気相成長法などを用いて形成される。  
この場合、図３に示すように、メタルバック層６４となる蒸着物６４１は、蛍光膜形成部６１１ａの主面６１１ａ１にほぼ垂直な方向から側面６１３ａに入射する。
【００２９】
そのため、蛍光膜形成部６１１ａの側面６１３ａに凹凸部６１４が形成されていると、蒸着物６４１が、凹凸部６１４の内部に侵入し難くなる。  
その結果、凹凸部６１４がある部分において、連続したメタルバック層６４を形成することが困難となる。  
連続したメタルバック層６４を形成することができないと、不連続となっている部分において電位差が生じてスパークが発生する。スパークが発生すると、出射された可視光像Ｎにブレやぼやけなどが発生し、正確な画像診断などを行うことが困難となる。
【００３０】
本発明者らの得た知見によれば、蛍光膜形成部６１１の側面６１３が、なだらかな傾斜を有するものとすれば、凹凸部６１４が形成されたとしても、連続したメタルバック層６４を形成することが容易となる。この場合、仮に、メタルバック層６４が不連続となる部分が生じたとしても、メタルバック層６４が不連続となる部分は大幅に少なくなるので、ノイズの低減や画質の向上を図ることができる。  
また、なだらかな傾斜は、蛍光膜形成部６１１の主面６１１１の周縁の一部の領域に設けられていればよい。  
ただし、なだらかな傾斜が、蛍光膜形成部６１１の主面６１１１の周縁の全域に設けられているようにすれば、ノイズのさらなる低減や画質のさらなる向上を図ることができる。
【００３１】
図４（ａ）〜（ｂ）は、蛍光膜形成部６１１の側面６１３の形態を例示するための模式断面図である。  
図４（ａ）〜（ｂ）に示すように、蛍光膜形成部６１１の側面６１３が、なだらかな傾斜を有するものとすれば、蒸着物６４１が、凹凸部６１４の内部に侵入し易くなる。  
そのため、凹凸部６１４が形成されたとしても、連続したメタルバック層６４を形成することが容易となる。  
この場合、側面６１３の形態は、図４（ａ）に示すように直線からなるものであってもよいし、図４（ｂ）に示すように曲線と直線からなるものであってもよいし、図４（ｃ）に示すように曲線からなるものであってもよい。
【００３２】
なお、図４（ｂ）は、側面６１３の主面６１１１側が曲線からなり、側面６１３の基部６１２側が直線からなる場合であるが、これに限定されるわけではない。曲線からなる部分、および直線からなる部分の数、配置は適宜変更することができる。  
また、図４（ｃ）は、側面６１３の主面６１１１側が蛍光膜形成部６１１の径方向外側に突出する曲線からなり、側面６１３の基部６１２側が蛍光膜形成部６１１の径方向内側に突出する曲線からなる場合である。
【００３３】
また、本発明者らの得た知見によれば、側面６１３と、蛍光膜形成部６１１の主面６１１１（出射側蛍光膜６２が設けられる面）と垂直な方向とがなす角度θが４５°以上となれば、連続したメタルバック層６４を形成することがさらに容易となる。  
側面６１３の直線からなる部分においては、側面６１３と、蛍光膜形成部６１１の主面６１１１と垂直な方向とがなす角度θが４５°以上となればよい。  
側面６１３の曲線からなる部分においては、側面６１３の接線と、蛍光膜形成部６１１の主面６１１１と垂直な方向とがなす角度θが４５°以上となればよい。
【００３４】
また、本発明者らの得た知見によれば、研磨加工法に用いる砥石の刃先における角部の曲率半径が大きくなるような側面６１３の形態とすることが好ましい。  
この場合、図４（ｃ）に示すように、側面６１３の形態が曲線からなるようにすれば、角部の曲率半径が大きくなるようにすることができる。  
砥石の刃先における角部の曲率半径が大きくなれば、砥石の刃先における摩耗を抑制することができるので、凹凸部６１４の発生を抑制することができる。  
その結果、連続したメタルバック層６４を形成することがさらに容易となる。
【００３５】
次に、本実施の形態に係るイメージ管１の作用について説明する。  
図１に示すように、Ｘ線発生装置９から放射されたＸ線Ｌは、検査対象の被写体Ｔ（図中では人間）を透過して、入射部３に入射する。  
入射部３に入射したＸ線Ｌ（Ｘ線像）は、入射側蛍光膜３２により光（蛍光像）に変換される。
【００３６】
入射側蛍光膜３２により変換された光は、光電変換膜３３により、光電子である電子線Ｍへと変換される。  
この際、光の明暗（蛍光像の強度）に比例した強度を有する電子線Ｍに変換される。光電変換膜３３により変換された電子線Ｍは、真空外囲器２の内部を出射部６側へ向けて伝播する。電子線Ｍが伝播する際、真空外囲器２の内部に設けられた集束電極４により、電子線Ｍは加速・集束される。この加速・集束は、高圧電源７により集束電極４に電圧が印加されることで行われる。そして、出射部６側に設けられた陽極５の近傍において焦点が形成されるように、集束電極４に印加される電圧が制御される。
【００３７】
陽極５と、出射部６に設けられた出射側蛍光膜６２との間においては、陽極５の近傍において集束した電子線Ｍが発散するとともに、陽極５により加速される。  
この際、フォーカス用集束電極４１および視野可変用集束電極４２により、電子線Ｍは、出射側蛍光膜６２上に照射されるように制御される。
【００３８】
出射側蛍光膜６２上に照射された電子線Ｍは、出射側蛍光膜６２により光へと変換される。この際、出射側蛍光膜６２により変換された光は、真空外囲器２の外部方向だけではなく、陽極５側の方向にも照射される。  
陽極５側の方向に照射された光は、メタルバック層６４により反射されて、真空外囲器２の外部方向に照射される。  
真空外囲器２の外部方向に照射された光は、可視光像Ｎとして出射部６から出射する。  出射部６から出射した可視光像Ｎは、例えば、図示しないＣＣＤカメラなどにより電気信号に変換される。変換された電気信号は、被写体Ｔに関する画像情報（出射像）として用いられる。
【００３９】
ここで、高圧電源７により、集束電極４（フォーカス用集束電極４１、視野可変用集束電極４２）に高電圧が印加される。これにより、陽極５にも高電圧の陽極電圧が印加される。そのため、陽極電圧が印加された陽極５により、電子線Ｍをさらに加速させることができる。この際、陽極５に接触しているメタルバック層６４にも同し電圧が印加されるため、メタルバック層６４によっても電子線Ｍが加速されることになる。この場合、メタルバック層６４における陽極５と同じ電圧が印加される領域は、メタルバック層６４のうち、出射側蛍光膜６２を覆っている部分であればよい。  
また、メタルバック層６４は、出射側蛍光膜６２全体に高電圧を印加することで電子線Ｍを加速させるだけではなく、出射側蛍光膜６２における帯電防止、および前述した光を反射させる機能を有する。そのため、メタルバック層６４に不連続な部分が生じると、メタルバック層６４の不連続な部分における出射側蛍光膜６２の能力低下、ひいては、ぼやけや出射光量の低下が発生するおそれがある。
【００４０】
本実施の形態に係るイメージ管１によれば、出射フェース融着板６３からフェースプレート６１の間において、厚みが薄く、連続したメタルバック層６４を形成することができる。  
そのため、出射フェース融着板６３を介して、メタルバック層６４と陽極５とを確実に導通させることができる。  
その結果、出射像のコントラストや解像度などの画像特性の向上、画像のブレや画像のぼやけなどの発生の抑制、低ノイズ化、画質の安定化などを図ることができる。
【００４１】
以上、本実施の形態に係るイメージ管１について例示をしたが、イメージ管１が備える各要素の形状、数、配置、材料などは、本発明の特徴が失われない限り変更することができる。
【００４２】
以上、本発明のいくつかの実施形態を例示したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更などを行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、前述の各実施形態は、相互に組み合わせて実施することができる。
【符号の説明】
【００４３】
１  イメージ管、２  真空外囲器、３  入射部、４  集束電極、５  陽極６  出射部、７  高圧電源、８  電源回路、９  Ｘ線発生装置、２３  封着部、３１  入射膜、３２  入射側蛍光膜、３３  光電変換膜、４１  フォーカス用集束電極、４２  視野可変用集束電極、６１  フェースプレート、６２  出射側蛍光膜、６３  出射フェース融着板、６４  メタルバック層、６１１  蛍光膜形成部、６１２  基部、６１３  側面、６１１１  主面、Ｍ  電子線、Ｎ  可視光像、Ｔ  被写体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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