(57)【要約】【課題】  液晶分子の配向状態が領域によって異なる液晶層を高い生産効率で形成する。【解決手段】  一実施形態に係る光学フィルムの製造方法は、液晶組成物を含有する複数種類の溶液を配向基板フィルム上の異なる領域にそれぞれ塗布する工程であり、塗布された複数種類の溶液がストライプ状の平面パターンを構成する、該工程と、複数種類の溶液を乾燥させて配向基板フィルム上に該複数種類の溶液に由来する複数の液晶層をそれぞれ形成する工程と、複数の液晶層の液晶物質を配向させ、該液晶物質の配向を固定化する工程と、を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶組成物を含有する複数種類の溶液を配向基板フィルム上の異なる領域にそれぞれ塗布する工程であり、塗布された前記複数種類の溶液がストライプ状の平面パターンを構成する、該工程と、
前記複数種類の溶液を乾燥させて前記配向基板フィルム上に該複数種類の溶液に由来する複数の液晶層をそれぞれ形成する工程と、
前記複数の液晶層の液晶分子を配向させ、該液晶分子の配向を固定化する工程と、
を含む、
光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記複数の液晶層が、コレステリック配向液晶層である、
請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記液晶組成物はカイラル剤を含有し、
前記複数種類の溶液は、前記カイラル剤の濃度が互いに異なっている、
請求項１又は２に記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、光学フィルムの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶層を含み、光を透過又は反射させることによって視覚的効果を与える光学フィルムが利用されている。一般的に、このような光学フィルムにおいては、液晶組成物を含む単一種類の溶液を配向基板フィルム上に均一に塗布し、当該溶液から溶剤を揮発させ、その後加熱して液晶相を発現させることで液晶分子が所定方向に配向された液晶層を配向基板フィルム上に形成する。
【０００３】
このような技術分野では、意匠性を向上させるために、液晶分子の配向状態が領域によって異なる液晶層を形成する技術が知られている。例えば、特許文献１には、光酸発生剤が添加された配向膜上に紫外線透過率が互いに異なる３種類のハーフトーンマスクをストライプ状に配置し、当該ハーフトーンマスクを介して配向膜に紫外線を照射し、配向膜中の光酸発生剤の分解の程度を領域によって変化させることによって、位相差が互いに異なる第１〜第３の位相差領域がストライプ状に形成された配向膜を得る方法が記載されている。この方法では、バーコーターを用いてディスコティック液晶を含む溶液を当該配向膜上に均一に塗布し、その後当該溶液を加熱することにより第１〜第３の位相差領域上に配向状態が互いに異なる液晶層を形成し、次いで紫外線を照射することにより液晶分子の配向状態を固定化している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−４７７８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記特許文献１に記載の方法では、液晶分子の配向状態が領域によって異なる液晶を形成することができるが、複数のハーフトーンマスクを用いて互いに異なる配向能を有する複数の領域を配向膜に形成する工程を従来の製造工程に追加する必要がある。このため、特許文献１に記載の方法は生産効率が低いという問題がある。
【０００６】
したがって、本技術分野においては、液晶分子の配向状態が領域によって異なる液晶層を高い生産効率で形成することができる光学フィルムの製造方法が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
一側面に係る光学フィルムの製造方法は、液晶組成物を含有する複数種類の溶液を配向基板フィルム上の異なる領域にそれぞれに塗布する工程であり、塗布された複数種類の溶液がストライプ状の平面パターンを構成する、該工程と、複数種類の溶液を乾燥させて配向基板フィルム上に該複数種類の溶液に由来する複数の液晶層をそれぞれ形成する工程と、複数の液晶層の液晶物質を配向させ、該液晶物質の配向を固定化する工程と、を含む。
【０００８】
上記方法では、複数種類の溶液が配向基板フィルム上にストライプ状に塗布され、配向基板フィルム上に複数種類の溶液に由来する複数の液晶層がそれぞれ形成される。当該複数の液晶層の液晶分子が配向された際の当該液晶層の配向状態は、溶液の種類によって異なってくるので、上記方法によれば液晶分子の配向状態が領域によって異なる液晶層を形成することができる。また、上記方法では、配向基板フィルム上に複数種類の溶液を塗布すればよく、配向基板フィルムに領域によって異なる配向能を付与するような新たな工程を必要としない。したがって、上記方法によれば、液晶分子の配向状態が領域によって異なる液晶層を高い生産効率で形成することができる。
【０００９】
一形態では、複数の液晶層が、コレステリック配向液晶層であってもよい。また、一形態では、液晶組成物はカイラル剤を含有し、複数種類の溶液は、カイラル剤の濃度が互いに異なっていてもよい。本形態では、複数の液晶層毎にカイラル剤によって付与されるねじり力が異なることとなるので、複数の液晶層において異なる螺旋ピッチを有するコレステリック相が発現される。コレステリック液晶は螺旋ピッチに応じた波長の光を選択的に反射するので、本形態によれば、選択反射波長が領域によって異なる光学フィルムを作製することができる。
【発明の効果】
【００１０】
以上説明したように、本発明の種々の側面及び種々の形態によれば、液晶分子の配向状態が領域によって異なる液晶層を高い生産効率で形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】一実施形態に係る光学フィルムの製造方法を示す流れ図である。
【図２】図１に示す方法の各工程によって製造される光学フィルムを模式的に示す図である。
【図３】（ａ）はスリットダイコーター法において利用することができるスリットダイの一例を示す分解斜視図であり、（ｂ）はスリットダイの吐出部の側面図である。
【図４】（ａ）はスリットダイコーター法において利用することができるスリットダイの別の一例を示す分解斜視図であり、（ｂ）はスリットダイの吐出部の側面図である。
【図５】（ａ）はスリットダイコーター法において利用することができるスリットダイの別の一例を示す分解斜視図であり、（ｂ）はスリットダイの吐出部の側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して種々の実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。
【００１３】
図１は、一実施形態に係る光学フィルムの製造方法Ｍを示す流れ図である。図１に示す方法Ｍにより、配向基板フィルム上に液晶分子の配向状態が領域によって異なる液晶層が形成された光学フィルム１が作製される。
【００１４】
方法Ｍでは、まず工程Ｓ１において、配向基板フィルム１０が準備される。図２（ａ）は、工程Ｓ１において準備される配向基板フィルム１０の一例を模式的に示す図である。
【００１５】
配向基板フィルム１０は、光学フィルムの支持体として利用されるものであり、一例では、８〜２００μｍ、より詳細には１５〜１５０μｍ、更に詳細には２０〜１００μｍの膜厚を有し得る。配向基板フィルム１０は、その上に形成される液晶層内の液晶分子を配向する配向能を有するものであれば特に限定されない。配向基板フィルム１０としては、例えばポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルアルコール、セルロース系プラスチックスや、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ(４−メチル−１−ペンテン)、ノルボルネン系樹脂等の鎖式または脂環式ポリオレフィン等から形成されたプラスチックフィルムやシートが例示される。
【００１６】
配向基板フィルム１０は、例えば、ベースフィルム及びベースフィルム上に形成された配向膜を有していてもよい。配向膜を構成する材料としては高分子化合物を用いることができる。配向膜は、例えばポリイミド、アルキル鎖変性系ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルメタクリレート等によって構成される。
【００１７】
また、配向基板フィルム１０の表面には、シリコン処理等の表面処理、またアクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂あるいはパラフィン系のワックスがコーティングされていてもよい。このコーティングには、エンボス加工等の物理的変形処理、親水化処理、疎水化処理といった加工又は処理が施されていてもよい。
【００１８】
一実施形態では、配向基板フィルム１０の表面には、ラビング処理が施されていてもよい。ラビング処理は、配向基板フィルム１０の表面にラビング布を所定方向に沿って擦り付けることによって行われる。このラビング処理により、液晶層内の液晶分子は、配向基板フィルム１０との界面において配向基板フィルム１０にラビング布を擦り付ける方向に並ぶ。なお、配向基板フィルム１０は、一定の長さを有する連続したフィルムであり、工業的にはロール状に巻かれた形態で供給され得るような連続フィルムであってもよい。ただし、配向基板フィルム１０は必ずしもロール状に巻かれた形態で供給される必要はなく、例えば折り畳まれたものであってもよい。
【００１９】
図１の説明に戻り、方法Ｍでは、次いで工程Ｓ２が行われる。工程Ｓ２においては、液晶組成物を含有する複数種類の溶液が配向基板フィルム１０上の異なる領域にそれぞれ塗布される。具体的に複数種類の溶液は、配向基板フィルム１０上にストライプ状に塗布される。ここで複数種類の溶液とは、成分が互いに異なる液晶組成物を含む溶液、又は、成分の配合比が互いに異なる液晶組成物を含む溶液を示している。
【００２０】
工程Ｓ２において塗布される複数種類の溶液が含有する液晶組成物としては、ネマチック液晶組成物、スメクチック液晶組成物、コレステリック液晶組成物等を採用し得る。以下では、液晶組成物としてコレステリック液晶組成物を含有する例について説明する。コレステリック液晶は、ねじれのないネマチック液晶にカイラル剤を添加することで、液晶分子に螺旋構造を形成させたものであり、螺旋の周期（螺旋ピッチ）に対応した波長の光を選択的に反射する特性を持つ。コレステリック液晶の螺旋ピッチは、コレステリック液晶組成物に添加されるカイラル剤の濃度に依存する。工程Ｓ２において塗布される複数種類の溶液の液晶組成物がコレステリック液晶組成物である場合には、複数種類の溶液は、添加されるカイラル剤の濃度が互いに異なるものとされていてもよい。
【００２１】
また、コレステリック組成物としては、高分子コレステリック液晶、低分子コレステリック液晶、及びこれらの混合物が例示される。
【００２２】
高分子コレステリック液晶としては、コレステリック配向が固定化できるものであれば特に制限はなく、主鎖型、側鎖型高分子液晶を用いることができる。具体的には、高分子コレステリック液晶としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステルイミド等の主鎖型液晶ポリマー、あるいはポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリマロネート、ポリシロキサンといった側鎖型液晶ポリマーが例示される。一例では、コレステリック配向を形成する上で配向性がよく、合成も比較的容易である液晶性ポリエステルを用いることができる。ポリマーの構成単位としては、例えば芳香族あるいは脂肪族ジオール単位、芳香族あるいは脂肪族ジカルボン酸単位、芳香族あるいは脂肪族ヒドロキシカルボン酸単位が例示される。
【００２３】
また低分子コレステリック液晶としては、例えばアクリロイル基、ビニル基やエポキシ基等の官能基を導入したビフェニル誘導体、フェニルベンゾエート誘導体、スチルベン誘導体等を基本骨格としたものを用いることができる。また、低分子コレステリック液晶としては、ライオトロピック性液晶、サーモトロピック性液晶の何れを用いてもよいが、サーモトロピック性を示すものが作業性、プロセス等の観点からより望ましい。
【００２４】
カイラル剤としては、液晶材料を所望のコレステリック構造に配向し得る任意の適切な材料が採用される。当該カイラル剤は重合性でも非重合性でもよく、また液晶性でも非液晶性でもよい。このようなカイラル剤を用いることにより、液晶組成物を硬化して得られたコレステリック液晶フィルムの螺旋ピッチを所望の範囲に制御することができ、その結果、選択反射の帯域幅を所望の範囲に制御することができる。カイラル剤は、１種のみを用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００２５】
また、工程Ｓ２において塗布される複数種類の溶液は、更に溶剤を含有し得る。溶剤としては、コレステリック液晶組成物を溶解可能なものであれば特に限定されないが、例えば、一般的にアセトン、メチルエチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ブトキシエチルアルコール、ヘキシルオキシエチルアルコール、メトキシ−２−プロパノール、ベンジルオキシエタノールなどのエーテルアルコール類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸エチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル類、フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系などやこれらの混合系が用いられる。また、配向基板フィルム１０上に均一な塗膜を形成するために、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤等を溶液に添加してもよい。
【００２６】
また、複数種類の溶液には架橋剤が加えられてもよい。架橋性基の例としては、例えばビスアジド化合物やグリシジルメタクリレート等が例示される。更に、複数種類の溶液には、二色性色素、染料、顔料等の各種添加剤を添加することもできる。
【００２７】
図２（ｂ）は、工程Ｓ２において配向基板フィルム１０上に複数種類の溶液が塗布された例を模式的に示す図である。図２（ｂ）に示す例では、配向基板フィルム１０上に２種類の溶液１２ａ及び溶液１２ｂが塗布され、塗布された溶液１２ａ，１２ｂがストライプ状の平面パターンを構成している。溶液１２ａ，１２ｂは、何れもコレステリック液晶組成物を含んでおり、添加されるカイラル剤の濃度が互いに異なっている。なお、配向基板フィルム１０上に塗布される溶液は２種類に限定されず、３種類以上の溶液がストライプ状に塗布されてもよい。
【００２８】
工程Ｓ２において、複数種類の溶液、即ち溶液１２ａ，１２ｂは、スリットダイコーター法、バーコーター法、グラビア印刷法、インクジェット印刷法等の塗布方法を用いて配向基板フィルム１０上に塗布することができるが、塗布方法はこれらに限定されるものではない。
【００２９】
以下では、溶液１２ａ、１２ｂをスリットダイコーター法を用いてストライプ状に塗布する方法の一例について説明する。図３（ａ）はスリットダイコーター法において利用することができるスリットダイ２０の分解斜視図であり、図３（ｂ）はスリットダイ２０の吐出部の側面図である。工程Ｓ２では、スリットダイ２０を配向基板フィルム１０の表面に対して相対的に移動させながら後述する吐出部Ｅから溶液１２ａ，１２ｂを配向基板フィルム１０上に吐出することにより、溶液１２ａ，１２ｂを配向基板フィルム１０上にストライプ状に塗布する。
【００３０】
図３に示すように、スリットダイ２０は、下部ブロック２２及び上部ブロック３０を含んでおり、当該下部ブロック２２及び上部ブロック３０が互いに対面するように結合されて構成されている。下部ブロック２２の縁部には下部リップ２２ａが設けられている。上部ブロック３０の縁部には、上部リップ３０ａが設けられている。下部リップ２２ａと上部リップ３０ａとの間には、溶液１２ａ，１２ｂを配向基板フィルム１０に向けて吐出するための吐出部Ｅが形成される。また、図３（ｂ）に示すように、下部ブロック２２及び上部ブロック３０は側壁３４によって側方から閉じられている。
【００３１】
下部ブロック２２には、その幅方向に沿って延び、塗布される溶液を一時的に滞留させる溝状のマニホールド２４が設けられている。マニホールド２４の内部には、複数の溶液供給部２６ａ，２６ｂが設けられている。複数の溶液供給部２６ａ，２６ｂは、溶液１２ａ，１２ｂを貯留する複数の貯留部にそれぞれ接続されており、当該貯留部内の溶液１２ａ，１２ｂをマニホールド２４内にそれぞれ供給する。複数の溶液供給部２６ａ，２６ｂは、マニホールド２４の延在方向において交互に配置されている。また、下部ブロック２２のマニホールド２４と下部リップ２２ａとに挟まれた領域は、上部ブロック３０と間隙を介して離間しており、この間隙がマニホールド２４に連通するスリットを構成している。
【００３２】
溶液供給部２６ａ，２６ｂからマニホールド２４内に供給された溶液１２ａ，１２ｂは、当該スリットを通過して吐出部Ｅから配向基板フィルム１０上に吐出される。また、マニホールド２４内の複数の溶液供給部２６ａ，２６ｂの間には、当該複数の溶液供給部２６ａ，２６ｂを個別に仕切る下部仕切板２８が設けられている。また、上部ブロック３０には、下部仕切板２８に対応する位置から上部リップ３０ａまで延びる上部仕切板３２が立設されている。この下部仕切板２８及び上部仕切板３２は、複数の溶液供給部２６ａ，２６ｂから供給される溶液１２ａ、１２ｂが互いに混和しないようにスリット内部を仕切ると共に、吐出部Ｅをスリットダイ２０の幅方向で分割している。
【００３３】
このようなスリットダイ２０を用いることにより、複数の溶液供給部２６ａ，２６ｂから供給される溶液１２ａ、１２ｂは、互いに混和することなく、分割された複数の吐出部Ｅから配向基板フィルム１０上に吐出される。その結果、配向基板フィルム１０上に溶液１２ａ、１２ｂが互いに平行な帯状、即ちストライプ状に塗布される。
【００３４】
次に、溶液１２ａ、１２ｂをスリットダイコーター法を用いてストライプ状に塗布する方法の別の一例について説明する。図４は、ダイコーター法において利用することができるスリットダイ４０を示している。図４（ａ）はスリットダイ４０の分解斜視図であり、図４（ｂ）はスリットダイ４０の吐出部の側面図である。スリットダイ４０は、配向基板フィルム１０の表面に対して相対的に移動しながら吐出部Ｅから溶液１２ａ，１２ｂを配向基板フィルム１０上に吐出することにより、溶液１２ａ，１２ｂを配向基板フィルム１０上にストライプ状に塗布する。
【００３５】
図４に示すように、スリットダイ４０は、下部ブロック４２及び上部ブロック５０を含んでおり、当該下部ブロック４２及び上部ブロック５０が互いに対面するように結合されて構成される。下部ブロック４２の縁部には下部リップ４２ａが設けられている。上部ブロック５０の縁部には、上部リップ５０ａが設けられている。下部リップ４２ａと上部リップ５０ａとの間には、溶液１２ａ，１２ｂを配向基板フィルム１０上に吐出する吐出部Ｅが形成される。
【００３６】
下部ブロック４２は下部ブロック２２と同様の構成を備えているが、下部ブロック４２のマニホールド２４と下部リップ４２ａとに挟まれた領域には、スリットダイ４０の厚さ方向に突出する複数の凸部４４、及び、当該複数の凸部４４の間に位置する複数の凹部４６が形成されている。スリットダイ４０の幅方向において、複数の凸部４４及び複数の凹部４６の端部は複数の下部仕切板２８の位置と一致するように設けられている。
【００３７】
また、上部ブロック５０において複数の凸部４４に対面する位置には複数の凹部５４が設けられており、上部ブロック５０において複数の凹部４６に対面する位置には複数の凸部５２が設けられている。また、複数の凸部４４及び複数の凸部５２の幅は、複数の凹部４６及び複数の凹部５４の幅よりも僅かに大きく形成されている。これにより、複数の凸部４４及び複数の凸部５２の幅方向の端部は互いに接触している。更に、複数の凸部５２は、間隙を介して複数の凹部４６と対面している。複数の凹部５４は、間隙を介して複数の凸部４４と対面している。これらの間隙はマニホールド２４に連通する独立したスリットを構成している。
【００３８】
このようなスリットダイ４０では、下部ブロック４２と上部ブロック５０が結合されることにより、独立した複数のスリットがスリットダイ４０の内部に形成される。これにより、スリットダイ４０では、複数の溶液供給部２６ａ，２６ｂから供給される溶液１２ａ、１２ｂは、互いに混和することなく独立した吐出部Ｅから配向基板フィルム１０上に吐出される。その結果、配向基板フィルム１０上に溶液１２ａ、１２ｂが互いに平行な帯状、即ちストライプ状に塗布される。
【００３９】
更に、溶液１２ａ、１２ｂをスリットダイコーター法を用いてストライプ状に塗布する方法の別の一例について説明する。図５は、スリットダイコーター法において利用することができるスリットダイ６０を示している。図５（ａ）はスリットダイ６０の分解斜視図であり、図５（ｂ）はスリットダイ６０の吐出部の側面図である。スリットダイ６０は、配向基板フィルム１０の表面に対して相対的に移動しながら吐出部Ｅから溶液１２ａ，１２ｂを配向基板フィルム１０上に吐出することにより、溶液１２ａ，１２ｂを配向基板フィルム１０上にストライプ状に塗布する。
【００４０】
図５に示すように、スリットダイ６０は、下部ブロック６２及び上部ブロック７０を含んでおり、下部ブロック６２及び上部ブロック７０が互いに対面するように結合されて構成されている。下部ブロック６２の縁部には下部リップ６２ａが設けられている。上部ブロック７０の縁部には、上部リップ７０ａが設けられている。下部リップ６２ａと上部リップ７０ａとの間には、溶液１２ａ，１２ｂを配向基板フィルム１０上に吐出する吐出部Ｅが形成されている。
【００４１】
下部ブロック６２は下部ブロック２２と同様の構成を備えているが、下部ブロック６２のマニホールド２４には単一の溶液供給部６４が形成されている。溶液供給部６４は、マニホールド２４内に溶液１２ａ、１２ｂの何れか一方、例えば溶液１２ａを供給する。また、上部ブロック７０の上部リップ７０ａには、下部リップ６２ａ側に突出する複数の突出部７２が吐出部Ｅの一部を塞ぐように設けられている。このスリットダイ６０では、溶液供給部６４から供給される例えば溶液１２ａが、吐出部Ｅのうち突出部７２が設けられていない部分から配向基板フィルム１０に向けて吐出される。
【００４２】
このスリットダイ６０では、吐出部Ｅの一部が突出部７２により塞がれているので、配向基板フィルム１０上の突出部７２に対応する領域には溶液１２ａ、１２ｂの何れか一方、例えば溶液１２ａが塗布されない未塗工領域が形成される。この未塗工領域に、スリットダイ６０を用いて溶液１２ａ又は溶液１２ｂのうち未塗工の溶液、例えば溶液１２ｂを塗布することにより、配向基板フィルム１０上に溶液１２ａ、１２ｂを互いに平行な帯状、即ちストライプ状に塗布することができる。
【００４３】
図１の説明に戻り、方法Ｍでは次いで工程Ｓ３が行われる。工程Ｓ３では、工程Ｓ２において配向基板フィルム１０上に塗布された溶液１２ａ，１２ｂを乾燥させて配向基板フィルム１０上に溶液１２ａ，１２ｂに由来する複数の液晶層１４ａ，１４ｂをそれぞれ形成する。溶液１２ａ，１２ｂを乾燥させる方法は任意の方法を採用し得るが、例えば工程Ｓ３では、溶液１２ａ，１２ｂが塗布された配向基板フィルム１０を温風送風炉といった熱処理炉内に搬送し、配向基板フィルム１０を加熱して溶液１２ａ，１２ｂを乾燥させることにより溶液１２ａ，１２ｂに含まれる溶剤を除去する。これにより、配向基板フィルム１０上には液晶層１４ａ，１４ｂが形成される。液晶層１４ａ，１４ｂは、ストライプ状の平面パターンを構成する。
【００４４】
工程Ｓ３においては、配向基板フィルム１０上の溶液１２ａ，１２ｂは、コレステリック液晶材料が固体から液晶へ転移する温度（以下、「液晶転移温度」という）よりも低い温度で加熱され得る。一例では、配向基板フィルム１０は、５０℃から１１０℃まで徐々に炉内の温度が昇温される熱処理炉内において４分間加熱されてもよい。図２（ｃ）は、工程Ｓ３において配向基板フィルム１０上に液晶層１４ａ，１４ｂが形成された光学フィルム１を模式的に示す図である。工程Ｓ３で形成される液晶層１４ａ，１４ｂは、一例では、０．３μｍ〜２０μｍ、より詳細には０．５μｍ〜１０μｍ、更に詳細には０．７μｍ〜３μｍの膜厚を有し得る。
【００４５】
次いで、方法Ｍでは、工程Ｓ４が行われる。工程Ｓ４では、液晶層１４ａ，１４ｂの液晶分子が配向される。具体的には、工程Ｓ４では、液晶層１４ａ，１４ｂの温度が液晶転移温度よりも高い温度になるように光学フィルム１が加熱される。これにより、液晶層１４ａ，１４ｂは固相から液晶相に相転移して流動性を有するようになる。工程Ｓ４において液晶層１４ａ，１４ｂの加熱温度は、例えば１８０℃〜２００℃の範囲内の温度とすることができる。工程Ｓ４によって、液晶層１４ａ，１４ｂの液晶分子は配向基板フィルム１０の配向能に応じた向きに容易に配向される。また、液晶層１４ａ，１４ｂの液晶組成物に含まれるカイラル剤の濃度は互いに異なるので、液晶層１４ａ，１４ｂのコレステリック液晶の螺旋ピッチは、液晶層１４ａ，１４ｂの液晶組成物に含まれるカイラル剤の濃度にそれぞれ対応する長さに設定される。即ち、液晶層１４ａ，１４ｂは、互いに異なる螺旋ピッチを有するコレステリック相が発現されたコレステリック液晶層となる。なお、一実施形態では、工程Ｓ３及び工程Ｓ４を明確に分離して行うことなく、両工程を同一の熱処理炉内において連続的に行ってもよい。
【００４６】
方法Ｍでは、次いで工程Ｓ５が行われる。工程Ｓ５では液晶層１４ａ，１４ｂの液晶分子の配向が固定される。工程Ｓ５では、例えば液晶層１４ａ，１４ｂを液晶転移温度以下の温度、例えば常温まで冷却する。これにより、液晶層１４ａ，１４ｂはガラス状態となって流動性を失い、液晶分子は液晶相での配向状態で固定化される。このようにして、配向基板フィルム１０上に液晶分子の配向状態が互いに異なる液晶層１４ａ，１４ｂが得られる。
【００４７】
以上説明した実施形態によれば、配向基板フィルム１０上に互いに異なる螺旋ピッチを有するコレステリック相が発現されたコレステリック配向液晶層が形成される。即ち、液晶層１４ａ，１４ｂは、液晶分子の配向状態が領域によって異なるコレステリック液晶層である。コレステリック液晶は螺旋ピッチに応じた波長の光を選択的に反射するので、本形態によれば、選択反射波長が領域によって異なる意匠性の高い光学フィルムを作製することができる。
【００４８】
以上、種々の実施形態について説明したが、上述した実施形態に限定されることなく種々の変形態様を構成可能である。例えば、液晶層１４ａ，１４ｂの液晶分子の配向の固定化は、上記のように液晶層１４ａ，１４ｂを液晶転移温度以下に冷却する方法に限られず、配向後に電子線、紫外線等による光架橋によって配向を固定化する方法を用いてもよい。また、上記実施形態では、溶液１２ａ，１２ｂがコレステリック液晶組成物を含有しているが、溶液１２ａ，１２ｂに含有される液晶組成物はコレステリック液晶組成物に限定されず、コレステリック液晶組成物とは異なる液晶組成物を含有していてもよい。
【符号の説明】
【００４９】
１…光学フィルム、１０…配向基板フィルム、１２ａ，１２ｂ…溶液、１４ａ，１４ｂ…液晶層。
【図１】
2015191096.tif 000003
【図２】
2015191096.tif 000004
【図３】
2015191096.tif 000005
【図４】
2015191096.tif 000006
【図５】
2015191096.tif 000007