(57)【要約】【課題】配向膜の均一性を高め、配向膜を表示領域の周縁まで到達するように塗布した場合でも密封材と配向膜の接触が生じない液晶表示装置を提供し、また、配向膜の塗布後、配向膜のパターニング工程時間を削減して製造時間を短縮できる液晶表示装置を提供する。【解決手段】  本発明の一実施形態による液晶表示装置は、第１配向膜を含む下部表示板と、前記下部表示板に対向して、前記下部表示板の信号線の端部を露出する上部表示板と、前記下部表示板及び前記上部表示板の間に位置して、前記下部表示板及び前記上部表示板を結合させる密封材と、を含み、前記第１配向膜は、前記信号線の端部に重なる第１除去領域と、前記密封材と重なる第２除去領域の間に配置する塗布領域を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１配向膜及び信号線を含む下部表示板と、
前記下部表示板に対向して、前記下部表示板の前記信号線の端部を露出する上部表示板と、
前記下部表示板及び前記上部表示板の間に位置して、前記下部表示板及び前記上部表示板を結合させる密封材と、
を含み、
前記第１配向膜は、前記信号線の端部に重なる第１除去領域及び前記密封材に重なる第２除去領域の間に配置された塗布領域を含み、
前記第１除去領域及び前記第２除去領域の何れにも前記第１配向膜は存在しない、ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記上部表示板は第２配向膜を含み、
前記第２配向膜は前記密封材に重なる第３除去領域を含み、
前記第３除去領域は平面視図上において前記第１除去領域と離隔している、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１除去領域、前記第２除去領域、及び前記第３除去領域のうちの少なくとも一つは、互いに実質的に垂直に延在して交差する第１直線部及び第２直線部を含み、
前記第１直線部及び前記第２直線部は互いに交差する領域において、「┼」、「┤」、又はその回転した形態、若しくは、「┐」、又はその回転した形態の何れか一つの形態を有して交差する、ことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第２配向膜は、前記第３除去領域及び、前記第３除去領域に隣接した前記上部表示板の周縁の間に位置する塗布領域を含む、ことを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１除去領域及び、前記第１除去領域に隣接した前記下部表示板の周縁の間に前記第１配向膜の塗布領域を配置する、ことを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１除去領域は、前記下部表示板の第１周縁から前記第１周縁に対向する第２周縁まで連続的に直線形態に延在する、ことを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第３除去領域は、前記上部表示板の第３周縁から前記第３周縁に対向する第４周縁まで連続的に直線形態に延在する、ことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第２除去領域は前記第１除去領域と実質的に垂直に交差する、ことを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第２除去領域は、前記下部表示板の前記第１周縁から前記第２周縁まで連続的に直線形態に延在する、ことを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第１直線部及び前記第２直線部のうちの少なくとも一つの幅は一定である、ことを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１除去領域、前記第２除去領域、及び前記第３除去領域のうちの少なくとも二つの幅は互いに実質的に同一である、ことを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第１配向膜の塗布領域及び前記第２配向膜の塗布領域は前記密封材に重ならず、０以上の距離をおいて離隔している、ことを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記密封材に重なり、前記下部表示板及び前記上部表示板の間を電気的に接続する短絡部をさらに含み、
前記短絡部は前記第２除去領域及び前記第３除去領域に重なる、ことを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記信号線は複数の信号線を含み、
前記第１除去領域は、前記複数の信号線の端部に各々重なり、互いに分離されている複数の除去部を含み、
前記隣接する除去部の間には前記第１配向膜の塗布領域が位置する、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記上部表示板は第２配向膜を含み、
前記第２配向膜は前記密封材と重なる第３除去領域を含み、
前記第３除去領域は平面視図上前記第１除去領域と離隔している、ことを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記第２除去領域及び前記第３除去領域のうちの少なくとも一つは、互いに実質的に垂直に延在して交差する第１直線部及び第２直線部を含み、
前記第１直線部及び前記第２直線部は互いに交差する領域において、「┼」、「┤」、又はその回転した形態、若しくは、「┐」、又はその回転した形態の何れか一つの形態を有して交差する、ことを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記第３除去領域は、前記上部表示板の第３周縁から前記第３周縁に対向する第４周縁まで連続的に直線形態に延在する、ことを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記第２除去領域は、前記下部表示板の第１周縁から前記第１周縁と対向する第２周縁まで連続的に直線形態に延在する、ことを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
下部母基板の上に端部を含む複数の信号線を形成する段階と、
前記下部母基板の上に第１配向膜を塗布する段階と、
レーザビームを利用して前記第１配向膜をパターニングして、前記信号線の端部に重なる第１除去領域及び前記第１除去領域に隣接して平行に延在して前記第１除去領域から離隔している第２除去領域を形成する段階と、
前記下部母基板又は上部母基板の上に前記第２除去領域に重なる密封材を形成する段階と、
を含む、ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２０】
前記上部母基板の上に第２配向膜を塗布する段階と、
前記レーザビームを利用して前記第２配向膜をパターニングして、前記密封材に重なって前記第１除去領域から離隔している第３除去領域を形成する段階と、
をさらに含む、ことを特徴とする請求項１９に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２１】
前記第１除去領域、前記第２除去領域、及び前記第３除去領域のうちの少なくとも一つは、互いに実質的に垂直に延在して交差する第１直線部及び第２直線部を含み、
前記第１直線部及び前記第２直線部は互いに交差する領域において、「┼」、「┤」、又はその回転した形態、若しくは、「┐」、又はその回転した形態の何れか一つの形態を有して交差する、ことを特徴とする請求項２０に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２２】
前記レーザビームは、互いに直交する方向に移動してレーザビームを照射する第１レーザビーム照射部及び第２レーザビーム照射部を含む、ことを特徴とする請求項２１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２３】
前記レーザビームは、前記下部母基板又は前記上部母基板の第１周縁から前記第１周縁と対向する第２周縁まで連続的に直線形態に移動しながらレーザビームを照射する、ことを特徴とする請求項２２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２４】
前記レーザビームは、前記下部母基板又は前記上部母基板の前記第１周縁から前記第２周縁まで直線形態に移動しながら間歇的にレーザビーム照射を中断する、ことを特徴とする請求項２３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２５】
前記第１除去領域、前記第２除去領域、及び前記第３除去領域のうちの少なくとも二つの幅は互いに実質的に同一である、ことを特徴とする請求項２３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２６】
前記下部母基板及び前記上部母基板を各々セル単位に切断して複数の下部表示板及び複数の上部表示板を形成する段階と、
前記下部表示板及び前記上部表示板を合着する段階と、
をさらに含む、ことを特徴とする請求項２３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に係わり、特に配向膜パターンを含む液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
平板表示装置は、画面のサイズに比べて厚さが薄い表示装置をいい、幅広く使用される平板表示装置としては液晶表示装置（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ）、有機発光表示装置（ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｓｐｌａｙ）、電気泳動表示装置（ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃ  ｄｉｓｐｌａｙ）、及び電気湿潤表示装置（ｅｌｅｃｔｒｏｗｅｔｔｉｎｇ  ｄｉｓｐｌａｙ）などがある。
【０００３】
表示装置の一例として、液晶表示装置は、現在、幅広く使用されている平板表示装置の一つであって、画素電極と共通電極など電界生成電極（ｅｌｅｃｔｒｉｃ  ｆｉｅｌｄ  ｇｅｎｅｒａｔｉｎｇ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）と配向膜（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  ｆｉｌｍ）が形成されている二枚の表示板、二つの表示板の間に挿入されている液晶層、及び色表示のための複数のカラーフィルタを含む。配向膜は液晶分子の初期配向を決定し、電界生成電極は電界を生成して液晶層の液晶分子の配向を変える。このような液晶表示装置において、液晶層を通過する入射光は液晶分子の配向によってその偏光状態が変化し、このような偏光の変化は、該液晶表示装置を挟んで形成された偏光板（ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）によって光の透過率の変化として現れる。
【０００４】
液晶表示装置の製造方法の一例について簡単に説明すれば、下部母基板の上に複数の信号線、複数のスイッチング素子、及び複数の画素電極などを形成し、別途の上部母基板を備える。次に、下部母基板及び上部母基板の上に配向膜を塗布する。以降、硬化した配向膜をラビングして配向膜の高分子鎖が特定方向に整列するようにする。次に、下部母基板又は上部母基板の上に短絡部（ｓｈｏｒｔ＿ｐｏｉｎｔ）及びシーラント（ｓｅａｌａｎｔ、密封材）を形成し、それと同一の母基板又は異なる母基板の上にインクジェット方法などを利用して液晶を滴下する。次に、下部母基板及び上部母基板を合着した後、セル単位に切断して液晶表示装置を製造する。これとは異なり、下部母基板及び上部母基板を各々セル単位に切断して複数の下部表示板及び上部表示板を形成した後、各下部表示板及び各上部表示板を互いに合着することもできる。
【０００５】
配向膜は、完成された液晶表示装置で初期液晶分子の配列状態を決定する。配向膜を塗布する方法としてはインクジェットプリンティング、スピンコーティングなどがある。例えば、インクジェット方法を利用して配向膜をセルの表示領域に塗布する場合、塗布された配向膜の周縁の広がり程度が不均一になる場合がある。その際、配向膜が密封材（ｓｅａｌ、シーラント）と接触するか、又は映像を表示する表示領域の周縁まで到達しないように塗布される場合がある。後者のように、配向膜が表示領域の周縁部分まで塗布されない場合、液晶分子の配向が制御されないので、表示不良が生じる恐れがある。
【０００６】
これら問題点を防止するために、配向膜の塗布領域のマージンを大きくすると、表示領域と密封材との距離が増加して、液晶表示装置の表示領域を除いた周縁部分の幅が大きくなってしまう。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、配向膜の均一性を高め、配向膜を表示領域の周縁まで到達するように塗布した場合でも密封材と配向膜の接触が生じないようにすることにある。
また、本発明の他の目的は、配向膜の塗布後、配向膜のパターニング工程時間を減らすことにより、液晶表示装置の製造時間を短縮することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一実施形態による液晶表示装置は、第１配向膜及び信号線を含む下部表示板と、前記下部表示板に対向して、前記下部表示板の前記信号線の端部を露出する上部表示板と、前記下部表示板及び前記上部表示板の間に位置して、前記下部表示板及び前記上部表示板を結合させる密封材と、を含み、前記第１配向膜は、前記信号線の端部に重なる第１除去領域及び前記密封材に重なる第２除去領域の間に位置する塗布領域を含み、前記第１除去領域及び前記第２除去領域の何れにも前記第１配向膜は存在しない。
【０００９】
前記上部表示板は第２配向膜を含み、前記第２配向膜は前記密封材に重なる第３除去領域を含み、前記第３除去領域は平面視図上において前記第１除去領域と離隔してもよい。
前記第１除去領域、前記第２除去領域、及び前記第３除去領域のうちの少なくとも一つは、互いに実質的に垂直に延在して交差する第１直線部及び第２直線部を含み、前記第１直線部及び前記第２直線部は互いに交差する領域において、「┼」、「┤」、又はその回転した形態、若しくは、「┐」、又はその回転した形態の何れか一つの形態を有して交差してもよい。
前記第２配向膜は、前記第３除去領域及び、前記第３除去領域に隣接した前記上部表示板の周縁の間に位置する塗布領域を含んでもよい。
前記第１除去領域及び、前記第１除去領域に隣接した前記下部表示板の周縁の間に前記第１配向膜の塗布領域を配置してもよい。
前記第１除去領域は、前記下部表示板の第１周縁から前記第１周縁に対向する第２周縁まで連続的に直線形態に延在してもよい。
前記第３除去領域は、前記上部表示板の第３周縁から前記第３周縁に対向する第４周縁まで連続的に直線形態に延在してもよい。
前記第２除去領域は、前記第１除去領域と実質的に垂直に交差してもよい。
前記第２除去領域は、前記下部表示板の前記第１周縁から前記第２周縁まで連続的に直線形態に延在してもよい。
前記第１直線部及び前記第２直線部のうちの少なくとも一つの幅は一定であってもよい。
前記第１除去領域、前記第２除去領域、及び前記第３除去領域のうちの少なくとも二つの幅は互いに実質的に同一であってもよい。
前記第１配向膜の塗布領域及び前記第２配向膜の塗布領域は前記密封材に重ならず、０以上の距離をおいて離隔してもよい。
前記密封材に重なり、前記下部表示板及び前記上部表示板の間を電気的に接続する短絡部をさらに含み、前記短絡部は前記第２除去領域及び前記第３除去領域と重なってもよい。
前記信号線は複数の信号線を含み、前記第１除去領域は、前記複数の信号線の端部に各々重なり、互いに分離されている複数の除去部を含み、前記隣接する除去部の間には前記第１配向膜の塗布領域が位置してもよい。
前記上部表示板は第２配向膜を含み、前記第２配向膜は前記密封材と重なる第３除去領域を含み、前記第３除去領域は平面視図上前記第１除去領域と離隔してもよい。
前記第２除去領域及び前記第３除去領域のうちの少なくとも一つは、互いに実質的に垂直に延在して交差する第１直線部及び第２直線部を含み、前記第１直線部及び前記第２直線部は互いに交差する領域において、「┼」、「┤」、又はその回転した形態、若しくは、「┐」、又はその回転した形態の何れか一つの形態を有して交差してもよい。
前記第３除去領域は、前記上部表示板の第３周縁から前記第３周縁に対向する第４周縁まで連続的に直線形態に延在してもよい。
前記第２除去領域は、前記下部表示板の第１周縁から前記第１周縁と対向する第２周縁まで連続的に直線形態に延在してもよい。
【００１０】
本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法は、下部母基板の上に端部を含む複数の信号線を形成する段階と、前記下部母基板の上に第１配向膜を塗布する段階と、レーザビームを利用して前記第１配向膜をパターニングして、前記信号線の端部に重なる第１除去領域及び前記第１除去領域に隣接して平行に延在して前記第１除去領域から離隔している第２除去領域を形成する段階と、前記下部母基板又は上部母基板の上に前記第２除去領域に重なる密封材を形成する段階と、を含む。
【００１１】
前記上部表示板の上に第２配向膜を塗布する段階と、前記レーザビームを利用して前記第２配向膜をパターニングして、前記密封材に重なって前記第１除去領域から離隔している第３除去領域を形成する段階と、をさらに含んでもよい。
前記第１除去領域、前記第２除去領域、及び前記第３除去領域のうちの少なくとも一つは、互いに実質的に垂直に延在して交差する第１直線部及び第２直線部を含み、前記第１直線部及び前記第２直線部は互いに交差する領域において、「┼」、「┤」、又はその回転した形態、若しくは、「┐」、又はその回転した形態の何れか一つの形態を有して交差してもよい。
前記レーザビームは、互いに直交する方向に移動しながらレーザビームを照射する第１レーザビーム照射部及び第２レーザビーム照射部を含んでもよい。
前記レーザビームは、前記下部母基板又は前記上部母基板の第１周縁から前記第１周縁と対向する第２周縁まで連続的に直線形態に移動しながらレーザビームを照射してもよい。
前記レーザビームは、前記下部母基板又は前記上部母基板の前記第１周縁から前記第２周縁まで直線形態に移動しながら間歇的にレーザビーム照射を中断してもよい。
前記第１除去領域、前記第２除去領域、及び前記第３除去領域のうちの少なくとも二つの幅は互いに実質的に同一であってもよい。
前記下部母基板及び前記上部母基板を各々セル単位に切断して複数の下部表示板及び複数の上部表示板を形成する段階と、前記下部表示板及び前記上部表示板を合着する段階と、をさらに含んでもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の実施形態によれば、液晶表示装置において、第１配向膜は信号線の端部に重なる第１除去領域と密封材に重なる第２除去領域との間に位置する塗布領域を含んでいるので、配向膜の均一性を高め配向膜を表示領域の周縁まで到達するように塗布した場合でも密封材と配向膜の接触が生じないようにできる。また、液晶表示装置の製造過程において、配向膜を塗布した後、配向膜のパターニング工程時間を減らすことにより、液晶表示装置の製造時間を短縮できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施形態による液晶表示装置の配置図である。
【図２】本発明の一実施形態による液晶表示装置の配置図である。
【図３】図１の一部拡大図である。
【図４】本発明の一実施形態による液晶表示装置の表示領域の配置図である。
【図５】図１に示した液晶表示装置のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図の一例である。
【図６】図１に示した液晶表示装置のＩＶ−ＩＶ線に沿った断面図の一例である。
【図７】図１に示した液晶表示装置のＶ−Ｖ線に沿った断面図の一例である。
【図８】図１に示した液晶表示装置のＶＩ−ＶＩ線に沿った断面図の一例である。
【図９】本発明の一実施形態による液晶表示装置の一画素に対する配置図である。
【図１０】図９に示した液晶表示装置のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線に沿った断面図の一例である。
【図１１】本発明の一実施形態による液晶表示装置の一画素に対する配置図である。
【図１２】図１１に示した液晶表示装置のＸ−Ｘ線に沿った断面図の一例である。
【図１３】本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図の一例である。
【図１４】本発明の一実施形態による液晶表示装置の下部表示板の平面図である。
【図１５】図１４の一部拡大図である。
【図１６】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の中間段階中、下部母基板及び上部母基板の上に配向膜を塗布してパターニングする段階を示した配置図である。
【図１７】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の中間段階中、下部母基板及び上部母基板の上に配向膜を塗布してパターニングする段階を示した配置図である。
【図１８】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の中間段階中、下部母基板及び上部母基板の上に配向膜を塗布してパターニングする段階を示した配置図である。
【図１９】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の中間段階中、下部母基板及び上部母基板の上に配向膜を塗布してパターニングする段階を示した配置図である。
【図２０】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の中間段階中、下部母基板及び上部母基板の上に配向膜を塗布してパターニングする段階を示した配置図である。
【図２１】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の中間段階中、下部母基板及び上部母基板の上に配向膜を塗布してパターニングする段階を示した配置図である。
【図２２】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の中間段階中、下部母基板及び上部母基板の上に配向膜を塗布してパターニングする段階を示した配置図である。
【図２３】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法でレーザを利用して配向膜を選択的に除去する方法を示した断面図である。
【図２４】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で下部母基板及び上部母基板をセル単位に切断して生成した下部表示板又は上部表示板を示した配置図である。
【図２５】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で下部母基板及び上部母基板をセル単位に切断して生成した下部表示板又は上部表示板を示した配置図である。
【図２６】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で下部母基板及び上部母基板をセル単位に切断して生成した下部表示板又は上部表示板を示した配置図である。
【図２７】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で下部母基板及び上部母基板をセル単位に切断して生成した下部表示板又は上部表示板を示した配置図である。
【図２８】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で下部母基板及び上部母基板をセル単位に切断して生成した下部表示板又は上部表示板を示した配置図である。
【図２９】本発明の一実施形態による液晶表示装置の配置図である。
【図３０】本発明の一実施形態による液晶表示装置の配置図である。
【図３１】本発明の一実施形態による液晶表示装置の配置図である。
【図３２】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法でレーザを利用して選択的に除去された配向膜の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
添付した図面を参照しながら、本発明の実施形態について本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。しかし、本発明は種々の異なる形態に実現でき、ここで説明する実施形態に限られない。
【００１５】
図面において、種々の層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。明細書の全体にわたって類似する部分に対しては同一の図面符号を付けた。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上」にあるというとき、これは他の部分の「すぐ上」にある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も含む。一方、ある部分が他の部分の「すぐ上」にあるというときには、中間に他の部分がないことを意味する。
【００１６】
最初に、図１乃至図８を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について詳細に説明する。
【００１７】
図１及び図２は、各々本発明の一実施形態による液晶表示装置の配置図であり、図３は、図１の一部拡大図であり、図４は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の表示領域の配置図であり、図５は、図１に示した液晶表示装置のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図の一例であり、図６は、図１に示した液晶表示装置のＩＶ−ＩＶ線に沿った断面図の一例であり、図７は、図１に示した液晶表示装置のＶ−Ｖ線に沿った断面図の一例であり、図８は、図１に示した液晶表示装置のＶＩ−ＶＩ線に沿った断面図の一例である。
【００１８】
図１を参照すれば、本発明の一実施形態による液晶表示装置の表示板３００は、平面構造から見れば、映像が表示される領域である表示領域ＤＡ、及び表示領域の周辺に位置した周辺領域ＰＡを含む。図５乃至図８に示した断面構造から見れば、本発明の一実施形態による表示板３００は、互いに対向する下部表示板１００と上部表示板２００、及びそれらの間に挿入されている液晶層３を含む。
【００１９】
図１、図２及び図４を参照すれば、表示領域ＤＡは複数の信号線（ｓｉｇｎａｌ  ｌｉｎｅ）１２１（図４では、Ｇ１〜Ｇｎ）、１７１（図４では、Ｄ１〜Ｄｍ）、及びこれに接続してほぼ行列状に配列された複数の画素（ｐｉｘｅｌ）ＰＸを含む。
【００２０】
信号線は下部表示板１００に備えられており、ゲート信号（「走査信号」ともいう）を伝達する複数のゲート線（ｇａｔｅ  ｌｉｎｅ）１２１（図４では、Ｇ１〜Ｇｎ）、及びデータ電圧を伝達する複数のデータ線（ｄａｔａ  ｌｉｎｅ）１７１（図４では、Ｄ１〜Ｄｍ）を含む。ゲート線Ｇ１〜Ｇｎは、ほぼ（実質的に）行方向に延在して、互いにほぼ平行であり、データ線Ｄ１〜Ｄｍは、ほぼ列方向に延在して、互いにほぼ平行である。図面において、行方向はｘ方向として示し、列方向はｘ方向とほぼ直交するｙ方向として示す。
【００２１】
各画素ＰＸは、少なくとも一つのゲート線（Ｇ１〜Ｇｎの何れか）及び少なくとも一つのデータ線（Ｄ１〜Ｄｍの何れか）に接続されたスイッチング素子（図示せず）、及びスイッチング素子と接続されている少なくとも一つの画素電極（ｐｉｘｅｌ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１９１（例えば、後述する図９を参照）を含む。図７又は図８を合わせて参照すれば、各画素ＰＸは、画素電極１９１と共に電界を生成する対向電極２７０（例えば、後述する図７を参照）、及び画素電極１９１と対向電極２７０との間に配置する液晶層３をさらに含む。スイッチング素子は少なくとも一つの薄膜トランジスタを含む。対向電極２７０は共通電圧を伝達し、下部表示板１００又は上部表示板２００に配置される。図１乃至図８に示した実施形態では、対向電極２７０を上部表示板２００に配置する場合を示したが、これに限定されず、対向電極２７０は下部表示板１００に配置してもよい。
【００２２】
色表示を実現するためには各画素ＰＸが原色（ｐｒｉｍａｒｙ  ｃｏｌｏｒ）のうちの一つを固有に表示するか（空間分割）、又は各画素ＰＸが時間によって交互に原色のうちの一つを表示して（時間分割）、これら原色の空間的、又は時間的な合計によって所望の色が認識されるようにする。原色の例としては赤色、緑色、青色などの三原色、又は四原色が挙げられる。各画素ＰＸは、各画素電極に対応する所に位置して、原色の何れか一つを示すカラーフィルタをさらに含む。
【００２３】
図１を参照すれば、周辺領域ＰＡにはゲート線１２１（Ｇ１〜Ｇｎ）の端部１２９及びデータ線１７１（Ｄ１〜Ｄｍ）の端部１７９、密封材（ｓｅａｌａｎｔ）３１０、及び短絡部（ｓｈｏｒｔ  ｐｏｉｎｔ）３２０が配置される。
【００２４】
下部表示板１００の周辺領域ＰＡのうち、ゲート線１２１（Ｇ１〜Ｇｎ）の端部１２９及びデータ線１７１（Ｄ１〜Ｄｍ）の端部１７９が位置する領域は、上部表示板２００によって覆われずに露出している。
【００２５】
ゲート線１２１（Ｇ１〜Ｇｎ）の端部１２９は、下部表示板１００の周辺領域ＰＡの一部、例えば、図１では左側周縁領域に位置する。複数のゲート線１２１（Ｇ１〜Ｇｎ）の端部１２９はほぼｙ方向に整列している。ゲート線端部１２９は、他の層又はゲート駆動部（図示せず）との接続のために、ゲート線１２１（Ｇ１〜Ｇｎ）の他の部分より幅広である。
【００２６】
図５を参照すれば、端部１２９を含むゲート線１２１は、下部表示板１００の透明なガラス又はプラスチックなどからなる下部基板１１０の上に位置する。ゲート線１２１は金属などの導電性物質を含む。ゲート線１２１の上には窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）又は酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）などからなるゲート絶縁膜１４０が配置される。ゲート絶縁膜１４０の上には絶縁物質を含む保護膜１８０が配置される。一方、表示領域ＤＡにおいて、ゲート絶縁膜１４０と保護膜１８０との間には薄膜トランジスタ（図示せず）が配置される。ゲート絶縁膜１４０と保護膜１８０は、ゲート線１２１の端部１２９を露出するコンタクトホール１８２を含む。コンタクトホール１８２によって露出したゲート線の端部１２９の上には接触補助部材８２が位置する。接触補助部材８２は、ゲート線の端部１２９から保護膜１８０の上まで延長される。接触補助部材８２はゲート線１２１の端部１２９と電気的、物理的に接続し、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの導電性物質を含む。
【００２７】
さらに図１を参照すれば、データ線１７１（Ｄ１〜Ｄｍ）の端部１７９は、下部表示板１００の周辺領域ＰＡの一部、例えば、上側周縁領域に位置する。複数のデータ線１７１（Ｄ１〜Ｄｍ）の端部１７９はほぼｘ方向に整列されている。データ線１７１（Ｄ１〜Ｄｍ）の端部１７９は、他の層又はデータ駆動部（図示せず）との接続のために、データ線１７１（Ｄ１〜−Ｄｍ）の他の部分より幅広である。
【００２８】
図６を参照すれば、端部１７９を含むデータ線１７１は、下部表示板１００のゲート絶縁膜１４０の上に位置する。データ線１７１は金属などの導電性物質を含む。データ線１７１の上に保護膜１８０が配置され、保護膜１８０はデータ線１７１の端部１７９を露出するコンタクトホール１８７を含む。保護膜１８０の上に位置する接触補助部材８７は、コンタクトホール１８７を通じてデータ線１７１の端部１７９と電気的、物理的に接続される。接触補助部材８７はＩＴＯ、ＩＺＯなどの導電性物質を含む。
【００２９】
ゲート駆動部（図示せず）及びデータ駆動部（図示せず）は集積回路チップの形態で下部表示板１００の上に直接装着されて、その出力端子が各々接触補助部材８２、８７と接続するか、又はフレキシブル印刷回路膜（ｆｌｅｘｉｂｌｅ  ｐｒｉｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ  ｆｉｌｍ）（図示せず）の上に装着されて、ＴＣＰ（ｔａｐｅ  ｃａｒｒｉｅｒ  ｐａｃｋａｇｅ）の形態で下部表示板１００に付着して、その出力端子が接触補助部材８２、８７と接続される。
【００３０】
これとは異なり、ゲート駆動部又はデータ駆動部のうちの少なくとも一つは、信号線Ｇ１〜Ｇｎ、Ｄ１〜Ｄｍ及び薄膜トランジスタなどと共に表示板３００に集積される。例えば図２に示すように、ゲート駆動部が、チップ形態で備えられずに下部表示板１００に集積される（図示しないが、図２の左側に接する表示板３００の延伸部に集積される）。この場合、ゲート線１２１は、下部表示板１００に集積されたゲート駆動部の回路の出力端子に直接接続されるので、図２に示したように、ゲート線１２１の端部１２９は省略される。
【００３１】
本発明の他の実施形態によれば、ゲート駆動部及び／又はデータ駆動部は、表示領域ＤＡを基準として下部表示板１００の両側に位置される。この場合、図１に示したゲート線１２１の端部１２９の一部はゲート線１２１の右側端に位置し、及び／又はデータ線１７１の端部１７９の一部はデータ線１７１の下側に配置される。
【００３２】
さらに図１又は図２を参照すれば、密封材３１０は、下部表示板１００及び上部表示板２００の表示領域ＤＡの周りに形成されており、閉曲線を形成する。図８を参照すれば、密封材３１０は、下部表示板１００及び上部表示板２００を結合させて固定し、表示板１００、２００の間に液晶層３を閉じる。密封材３１０は透明なものであってもよく、不透明なものであってもよい。不透明な密封材はブラックカーボンなどの顔料を含んでもよい。
【００３３】
図１、図２及び図７を参照すれば、短絡部３２０は周辺領域ＰＡで表示板１００、２００の間に位置して、下部表示板１００の導電体及び上部表示板２００の導電体と接続される。例えば、短絡部３２０は、下部表示板１００から上部表示板２００側に、又は上部表示板２００から下部表示板１００側に共通電圧などの電気信号を伝達する。
【００３４】
さらに具体的に、図７を参照すれば、下部表示板１００は、下部基板１１０の上に位置する共通電圧伝達線１３１をさらに含む。共通電圧伝達線１３１の上又は下にはゲート絶縁膜１４０及び保護膜１８０が配置され得る。図７は、共通電圧伝達線１３１の上にゲート絶縁膜１４０及び保護膜１８０が順次に積層されている例を示す。このとき、ゲート絶縁膜１４０及び保護膜１８０は、共通電圧伝達線１３１を露出するコンタクトホール１８３を含む。保護膜１８０の上には接触補助部材８３が配置され、接触補助部材８３はコンタクトホール１８３を通じて共通電圧伝達線１３１と電気的、物理的に接続される。上部表示板２００は、上部基板２１０の上に位置する対向電極２７０をさらに含む。短絡部３２０は下部表示板１００の接触補助部材８３及び上部表示板２００の対向電極２７０を互いに電気的に接続して、共通電圧伝達線１３１が伝達する共通電圧Ｖｃｏｍを上部表示板２００の対向電極２７０に伝達できる。
【００３５】
短絡部３２０は、下部表示板１００及び上部表示板２００の間の間隔を維持できる導電性柱状の間隔材であるか、又は導電性を有する導電ボールで形成される。導電ボールは、密封材３１０に内在し得る。
【００３６】
短絡部３２０は、図１、図２及び図７に示した例では、密封材３１０が形成された領域と重なる所に位置しているが、これに限定されない。
また、短絡部３２０は表示板３００の構造によっては省略される。
【００３７】
一方、下部表示板１００又は上部表示板２００は遮光部材（ｌｉｇｈｔ  ｂｌｏｃｋｉｎｇ  ｍｅｍｂｅｒ）２２０及びカラーフィルタ２３０をさらに含み得る。図１乃至図８に示した実施形態ではカラーフィルタ２３０及び遮光部材２２０を下部表示板１００に配置した例を示す。さらに具体的に、カラーフィルタ２３０及び遮光部材２２０は保護膜１８０の上に位置し。この場合、カラーフィルタ２３０及び遮光部材２２０の上には、カラーフィルタ２３０及び遮光部材２２０が露出するのを防止する蓋膜（図示せず）がさらに配置される。蓋膜は、無機絶縁膜又は有機絶縁膜で形成される。
【００３８】
カラーフィルタ２３０は、主に表示領域ＤＡに位置し、原色（ｐｒｉｍａｒｙ  ｃｏｌｏｒ）のうちの一つを固有に表示する。原色の例としては赤色、緑色、青色の三原色、黄色（ｙｅｌｌｏｗ）、青緑色（ｃｙａｎ）、紫紅色（ｍａｇｅｎｔａ）の三原色、又は四原色などが挙げられる。本発明の他の実施形態によれば、カラーフィルタ２３０は、このような原色以外に原色の混合色又は白色（ｗｈｉｔｅ）を表示するカラーフィルタをさらに含み得る。各カラーフィルタ２３０は画素列又は画素行に沿って長く延在するように形成される。
【００３９】
遮光部材２２０は、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＰＡの双方に位置する。遮光部材２２０はブラックカーボン（ｂｌａｃｋ  ｃａｒｂｏｎ）などの顔料、及び／又は感光性の有機物質を含み得る。
【００４０】
表示領域ＤＡに位置する遮光部材２２０はブラックマトリックス（ｂｌａｃｋ  ｍａｔｒｉｘ）ともいい、画素ＰＸの間の光漏れを防止する。表示領域ＤＡの遮光部材２２０は一般に、隣接するカラーフィルタ２３０の間に位置する部分を含む。
【００４１】
本発明の他の実施形態によれば、遮光部材２２０は保護膜１８０の上に位置し、この場合、遮光部材２２０は下部表示板１００と上部表示板２００との間隔を維持する着色スペーサをさらに含み得る。
【００４２】
図１乃至図８を参照すれば、本発明の一実施形態による下部表示板１００及び上部表示板２００の内側面の上には配向膜（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  ｌａｙｅｒ）１１、２１が位置し、配向膜１１、２１はパターニングされて一部領域が除去されている。配向膜１１、２１は、水平又は垂直配向膜の何れかであるか、又は一定の方向にラビングされている。これとは異なり、配向膜１１、２１は光反応物質を含んで光配向される場合もある。
【００４３】
配向膜１１、２１はポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ、ＰＩ）などの配向膜材料を含む。配向膜１１、２１は、下部基板１１０及び上部基板２１０又はこれらの母基板上の全面の上に、インクジェットプリンティング又はスピンコーティングなどの方法で配向膜材料と溶媒を含む配向液を塗布して乾燥した後、パターニングして形成される。配向膜１１、２１のパターニングには例えばレーザビームを利用する。
【００４４】
下部表示板１００の配向膜１１は、パターニングされて除去された領域である複数の除去領域１１ｘａ（２本の境界線１１ｘａにより挟まれた領域、以下同様）、１１ｘｂ、１１ｘｃ、１１ｙａ、１１ｙｂ、１１ｙｃを含み、除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｘｃ、１１ｙａ、１１ｙｂ、１１ｙｃ以外の領域は、全て配向膜１１の塗布領域を形成する。
【００４５】
除去領域１１ｘａ及び除去領域１１ｘｂは互いに平行に延在して、ほぼｘ方向に延在する。除去領域１１ｙａ及び除去領域１１ｙｂは互いに平行に延在して、ほぼｙ方向に延在する。各除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂ（これらを第２除去領域という）はほぼ直線形態に延在する。ｘ方向に延在する除去領域１１ｘａ、１１ｘｂは、ｙ方向に延在する除去領域１１ｙａ、１１ｙｂと各々交差し、互いに交差する除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂは互いに接続されている。四つの除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂは合わせて表示領域ＤＡを取り囲んで閉じた領域を形成する。
【００４６】
互いに異なる方向に延在して接触する二つの除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂは、互いに交差する少なくとも一つの交差領域において、図１及び図２に示したように、「┼」又は「┤」、もしくは、その回転した形態を有する。この場合、図１及び図３を参照すれば、交差する二つの除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂの交差領域（例えば、１１ｘａと１１ｙｂの交差領域）で互いに相手の反対側にて突出した部分の長さｄ１は０より大きい。
【００４７】
除去領域１１ｘｂとこれと交差する除去領域１１ｙａ、１１ｙｂの交差領域で除去領域１１ｙａ、１１ｙｂが突出した部分を含む場合、除去領域１１ｘｂと、これと隣接した下部表示板１００の周縁との間には配向膜１１の塗布領域が存在する。同様に、除去領域１１ｙｂと、これと交差する除去領域１１ｘａ、１１ｘｂの交差領域において、除去領域１１ｘａ、１１ｘｂが突出した部分を含む場合、除去領域１１ｙｂと、これと隣接した下部表示板１００の周縁との間には配向膜１１の塗布領域が存在する。
【００４８】
しかし、これとは異なり、互いに交差する二つの除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂは、少なくとも一つの交差領域において、「┐」又はその回転した形態を有してもよい。この場合、突出した部分の長さｄ１は実質的に０であってもよい。
【００４９】
除去領域（第２除去領域）１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂは密封材３１０が位置する領域と重なる。さらに具体的に、閉曲線を形成する四つの除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂの端部の境界中に密封材３１０が位置し、密封材３１０と除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂの周縁との間の間隔ｄ２は、０より大きいか０と同じであってもよい。図１、図２、図７及び図８は、密封材３１０と除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂの周縁との間の間隔ｄ２が、０より大きい例を示す。
【００５０】
このように本発明の一実施形態によれば、密封材３１０と配向膜１１の塗布領域が重ならないので、配向膜１１の塗布領域と密封材３１０が重なることによって発生しうる不良、例えば、密封材３１０の接着力不良、密封材３１０によって取り囲まれた内部領域への透湿による表示板３００の信頼性低下、短絡部３２０の抵抗増加を防止できる。
【００５１】
除去領域１１ｘｃは、除去領域１１ｘａと隣接し、除去領域１１ｘａより外側に位置して除去領域１１ｘａに平行に延在する。除去領域１１ｙｃは、除去領域１１ｙａと隣接し、除去領域１１ｙａより外側に位置して除去領域１１ｙａにほぼ平行に延在する。各除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃ（これらを第１除去領域という）はほぼ直線形態に延在する。二つの除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃは互いに交差し、互いに接続されている。
【００５２】
二つの除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃは互いに交差し、その交差領域において図１に示したように、「┼」又は「┤」、もしくは、その回転した形態を有してもよい。この場合、除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃと、これに各々隣接した下部表示板１００の少なくとも二つの周縁との間には配向膜１１の塗布領域が存在する。
【００５３】
しかし、これとは異なり、二つの除去領域（第１除去領域）１１ｘｃ、１１ｙｃは、交差領域において、「┐」又はその回転した形態を有してもよい。
【００５４】
除去領域１１ｘｃは、データ線１７１の端部１７９と接続された接触補助部材８７が位置する領域と重なり、除去領域１１ｙｃは、ゲート線１２１の端部１２９と接続された接触補助部材８２が位置する領域と重なる。即ち、接触補助部材８２、８７は配向膜１１の塗布領域によって覆われずに露出した部分を含む。図１、図５及び図６に示した実施形態は、各接触補助部材８２、８７が全て除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃの境界内に位置して、配向膜１１の塗布領域によって覆われない例を示す。また、除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃは上部表示板２００によって覆われずに露出している。配向膜１１の除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃを通じて接触補助部材８２、８７はゲート駆動部又はデータ駆動部の出力端子と電気的に接続され、信号の印加を受けることができる。
【００５５】
ゲート駆動部又はデータ駆動部が表示領域ＤＡを基準として下部表示板１００の両側に位置する場合、ゲート線１２１の端部１２９又はデー線１７１の端部１７９は、下部表示板１００の両側に対向して位置し、この場合、図示していないが、配向膜１１の除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃも表示領域ＤＡを基準として下部表示板１００の両側に各々位置する。
【００５６】
本発明の一実施形態によれば、互いに隣接して平行に延在する二つの除去領域１１ｙａ、１１ｙｃの間、又は二つの除去領域１１ｘａ、１１ｘｃの間の間隔ｄ３は、０より大きい。
このようにして、信号線の端部（パッド領域の接触補助部材８２、８７）に重なる第１除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃ、及び、密封材３１０に重なる第２除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂの間に、幅ｄ３の配向膜１１の塗布領域を形成する（残す）ことにより、第１、第２除去領域の形成による表示領域ＤＡにおける配向の乱れを抑制すると共に、第２除去領域に配置された密封材３１０の信号線端部への逸出を防止できる。
【００５７】
即ち、二つの除去領域１１ｙａ、１１ｙｃ又は二つの除去領域１１ｘａ、１１ｘｃは、各々のレーザビーム照射工程を通して形成されるので、互いに離隔する。このように信号線のパッド領域の接触補助部材８２、８７と重なる除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃと、密封材３１０と重なる除去領域１１ｘａ、１１ｙａを、各々のレーザビーム照射工程を通して形成することにより、レーザビームが照射する領域を削減でき、小さいエネルギでも短時間内で配向膜１１をパターニングすることができるので、液晶表示装置の製造時間を短縮するのが可能である。
【００５８】
互いに交差する二つの除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂがその交差領域で少なくとも一つの突出部を含む場合、除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂの突出した部分の長さｄ１は、図１に示したように、二つの除去領域１１ｙａ、１１ｙｃの間隔、又は二つの除去領域１１ｘａ、１１ｘｃの間隔ｄ３より小さくてもよい。この場合、除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂは除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃと接触しない。しかし、これに限定されず、除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂの突出した部分の長さｄ１は、二つの除去領域１１ｙａ、１１ｙｃの間隔、又は二つの除去領域１１ｘａ、１１ｘｃの間隔ｄ３より大きいか同じであってもよい。
【００５９】
上部表示板２００の配向膜２１は、パターニングされて除去された領域である複数の除去領域２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂ（これらを第３除去領域という）を含む。除去領域２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂは、各々が対向する配向膜１１の除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂと同一の形状及び同一のサイズを有する。従って、除去領域（第３除去領域）２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂは密封材３１０が位置する領域と重なり、密封材３１０と除去領域２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂの周縁との間隔ｄ２は、０より大きいか０と同じであってもよい。図１、図２、図７及び図８は、密封材３１０と除去領域２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂの周縁との間隔ｄ２が、０より大きい例を示す。その他、配向膜２１の除去領域２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂに対する説明は上述した配向膜１１の除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂに対する説明と同様なので、詳細な説明は省略する。
【００６０】
このように本発明の一実施形態によれば、密封材３１０と配向膜２１の塗布領域が重ならないので、配向膜２１の塗布領域と密封材３１０が重なることによって発生しうる不良、例えば、密封材３１０の接着力不良、密封材３１０によって取り囲まれた内部領域への透湿による表示板３００の信頼性低下、短絡部３２０の抵抗増加を防止できる。
【００６１】
本発明の一実施形態によれば、配向膜１１の各除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｘｃ、１１ｙａ、１１ｙｂ、１１ｙｃの幅は一定である。また、密封材３１０と重なる除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂの幅は互いに同一であってもよく、異なってもよい。同様に、密封材３１０と重なる除去領域２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂの幅は互いに同一であってもよく、異なってもよい。また、下部表示板１００の配向膜１１の除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃの幅は、除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂの幅と同一であってもよく、異なってもよい。二つの除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃの幅も互いに同一であってもよく、異なってもよい。除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｘｃ、１１ｙａ、１１ｙｂ、１１ｙｃ及び除去領域２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂの幅は、レーザビームのサイズを調節して決定できる。
【００６２】
除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂの間の交差領域、除去領域２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂの間の交差領域、及び除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃの間の交差領域においては、レーザビームが二回照射されるので、配向膜１１、２１の下方に位置する層の一部が除去される場合がある。
【００６３】
液晶層３は誘電率異方性を有する液晶分子（図示せず）を含む。液晶分子は、液晶層３に電界がない状態で、その長軸が例えば、表示板１００、２００に対して平行に配向され、この場合、液晶分子は正の誘電率異方性を有する。液晶分子３１は、その長軸方向が下部表示板１００から上部表示板２００に至るまで螺旋状にねじれた構造を有するネマチック液晶分子であってもよい。本発明の他の実施形態によれば、液晶分子は、液晶層３に電界がない状態で、その長軸が表示板１００、２００に対してほぼ垂直に配向され、この場合、液晶分子は負の誘電率異方性を有する。
【００６４】
以下、図９及び図１０を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置の表示領域ＤＡに位置する画素ＰＸの構造の一例について説明する。上述した実施形態と同一の構成要素に対しては同一の図面符号を付け、同一の説明は省略して差異点を中心に説明することにし、これは以降にも同様である。
【００６５】
図９は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の一画素に対する配置図であり、図１０は、図９に示した液晶表示装置のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線に沿った断面図の一例である。
【００６６】
本発明の一実施形態による液晶表示装置は、互いに対向する下部表示板１００と上部表示板２００、及びその間の液晶層３を含む。
【００６７】
下部表示板１００について説明すれば、下部基板１１０の上にゲート電極１２４及び端部１２９を含むゲート線１２１を配置する。ゲート線１２１はゲート信号を伝達し、図上で主に横方向に延在する。ゲート線１２１の上にはゲート絶縁膜１４０が配置され、ゲート絶縁膜１４０の上には半導体１５４が配置される。半導体１５４は、非晶質シリコン、多結晶シリコン、又は酸化物半導体を含む。半導体１５４の上にはリン（ｐｈｏｓｐｈｏｒｕｓ）などのｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ＋水素化非晶質シリコンなどの物質、又はシリサイド（ｓｉｌｉｃｉｄｅ）で形成されるオーミックコンタクト部材１６３、１６７が配置される。オーミックコンタクト部材１６３、１６７は省略される場合がある。
【００６８】
オーミックコンタクト部材１６３、１６７の上には各々、データ線１７１及びドレイン電極１７７が配置される。データ線１７１はデータ信号を伝達し、図上で主に縦方向に延在してゲート線１２１と交差する。データ線１７１は、ドレイン電極１７７と対向する複数のソース電極１７３、及び端部１７９を含む。
【００６９】
ゲート電極１２４、ソース電極１７３、及びドレイン電極１７５は半導体１５４と共に一つの薄膜トランジスタ（ｔｈｉｎ  ｆｉｌｍ  ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）を形成し、薄膜トランジスタのチャネル（ｃｈａｎｎｅｌ）は、ソース電極１７３とドレイン電極１７５との間の半導体１５４内に形成される。
【００７０】
データ線１７１及びドレイン電極１７７の上には有機絶縁物質又は無機絶縁物質などからなる第１保護膜１８０ａが配置され、その上にカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが配置される。カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂは、例えば、画素ＰＸの列に沿ってデータ線１７１と平行な方向に延在し、赤色カラーフィルタ２３０Ｒ、緑色カラーフィルタ２３０Ｇ、及び青色カラーフィルタ２３０Ｂを含む。カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの上には無機絶縁膜又は有機絶縁膜からなる第２保護膜１８０ｂが配置される。第２保護膜１８０ｂは、カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの顔料などの不純物が液晶層３に流入するのを防止する。
【００７１】
第１保護膜１８０ａ及び第２保護膜１８０ｂは共に上述した実施形態の保護膜１８０に対応する。第１保護膜１８０ａ及び第２保護膜１８０ｂはドレイン電極１７７を露出するコンタクトホール１８５を含み、カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂはドレイン電極１７７を露出する開口部２３６を含む。また、第１及び第２保護膜１８０ａ、１８０ｂはデータ線１７１の端部１７９を露出するコンタクトホール１８７を含み、ゲート絶縁膜１４０と第１保護膜１８０ａ及び第２保護膜１８０ｂはゲート線１２１の端部１２９を露出するコンタクトホール１８２を含む。
【００７２】
第２保護膜１８０ｂの上には画素電極１９１及び接触補助部材８２、８７が配置される。画素電極１９１は、コンタクトホール１８５を通じてドレイン電極１７７と接続され、データ電圧の印加を受ける。接触補助部材８２はコンタクトホール１８２を通じてゲート線１２１の端部１２９と接続され、接触補助部材８７はコンタクトホール１８７を通じてデータ線１７１の端部１７９と接続される。画素電極１９１及び接触補助部材８２、８７はＩＴＯ又はＩＺＯなどの透明な導電物質で形成される。
【００７３】
次に、上部表示板２００について説明すれば、上部基板２１０の上に遮光部材２２０が配置され、その上に蓋膜２５０及び対向電極２７０が順次に配置される。しかし、図１０に示したのとは異なり、遮光部材２２０は下部表示板１００に形成され得る。
【００７４】
下部表示板１００の内側面の上には配向膜１１が塗布されており、上部表示板２００の内側面の上には配向膜２１が塗布されている。配向膜１１、２１は、表示板３００の周辺領域ＰＡでは、上述した実施形態のようにパターニングされている。
【００７５】
液晶層３は複数の液晶分子３１を含む。
【００７６】
次に、図１１及び図１２を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置の表示領域ＤＡに位置する画素ＰＸの構造の一例について説明する。
【００７７】
図１１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の一画素に対する配置図であり、図１２は、図１１に示した液晶表示装置のＸ−Ｘ線に沿った断面図の一例である。
【００７８】
本発明の一実施形態による液晶表示装置は、互いに対向する下部表示板１００と上部表示板２００、及びその間に注入されている液晶層３を含む。
【００７９】
上部表示板２００は上部基板２１０を含み、上部基板２１０の上には配向膜２１が塗布されている。配向膜２１は、表示板３００の周辺領域ＰＡでは上述した実施形態のようにパターニングされている。
【００８０】
下部表示板１００について説明すれば、下部基板１１０の上に複数のゲート線１２１を含むゲート導電体が配置される。ゲート線１２１はゲート電極１２４及び端部１２９を含む。ゲート導電体の上にはゲート絶縁膜１４０が配置され、その上に半導体１５４が配置される。半導体１５４の上にはオーミックコンタクト部材１６３、１６５が配置され、オーミックコンタクト部材１６３、１６５及びゲート絶縁膜１４０の上には、ソース電極１７３及び端部１７９を含むデータ線１７１と、ドレイン電極１７５を含むデータ導電体が形成されている。データ線１７１は、透過率を向上するために周期的に屈曲している。ドレイン電極１７５はソース電極１７３と対向する。ドレイン電極１７５は、ソース電極１７３とほぼ平行に延在する矩形状の部分と、ソース電極１７３の反対側の拡張部を含む。
【００８１】
データ導電体、ゲート絶縁膜１４０、及び半導体１５４の露出した部分の上には第１保護膜１８０ａが配置される。第１保護膜１８０ａの上にはカラーフィルタ２３０が配置される。カラーフィルタ２３０の上にはカラーフィルタ２３０に対する蓋膜として第２保護膜１８０ｂが配置される。第２保護膜１８０ｂは、ドレイン電極１７５の一部に対応する領域に形成されている開口部１８５ｂを含む。第２保護膜１８０ｂは省略される場合がある。
【００８２】
第２保護膜１８０ｂの上には対向電極２７０が配置される。対向電極２７０は面状で、下部基板１１０の全面の上に板状に形成される。隣接する画素ＰＸに配置する対向電極２７０は互いに接続されて、一定のサイズの共通電圧Ｖｃｏｍを伝達する。対向電極２７０はＩＴＯ又はＩＺＯなどの透明な導電物質で形成される。対向電極２７０は、ドレイン電極１７５の一部に対応する領域に形成されている開口部２７３を有する。
【００８３】
対向電極２７０の上には有機絶縁物質又は無機絶縁物質などからなる第３保護膜１８０ｃが配置される。第３保護膜１８０ｃは、その表面が平坦である。第１乃至第３保護膜（１８０ａ、１８０ｂ、１８０ｃ）は共に上述した実施形態における保護膜１８０に対応する。
【００８４】
第１保護膜１８０ａ及び第３保護膜１８０ｃはドレイン電極１７５を露出する共通のコンタクトホール１８５ａを含む。コンタクトホール１８５ａは第２保護膜１８０ｂの開口部１８５ｂの中に位置し、且つ対向電極２７０の開口部２７３の中に位置する。また、第１保護膜１８０ａ及び第３保護膜１８０ｃはデータ線１７１の端部１７９を露出する共通のコンタクトホール１８７を含み、第１保護膜１８０ａ及び第３保護膜１８０ｃとゲート絶縁膜１４０は、ゲート線１２１の端部１２９を露出する共通のコンタクトホール１８２を含む。
【００８５】
第３保護膜１８０ｃの上には画素電極１９１及び接触補助部材８２、８７を配置する。画素電極１９１は対向電極２７０と重なる複数の枝電極１９２を含む。隣接する枝電極１９２の間には電極が除去されたスリット９２が形成される。画素電極１９１の枝電極１９２はデータ線１７１にほぼ平行に延在する。画素電極１９１はコンタクトホール１８５ａを通じてドレイン電極１７５と物理的、電気的に接続して、ドレイン電極１７５から電圧の印加を受ける。接触補助部材８２はコンタクトホール１８２を通じてゲート線１２１の端部１２９と接続し、接触補助部材８７はコンタクトホール１８７を通じてデータ線１７１の端部１７９と接続する。
【００８６】
本発明の他の実施形態によれば、画素電極１９１と対向電極２７０の積層配置は互いに換わってもよい。この場合、画素電極１９１が画素ＰＸの領域を大部分満たす面状であってもよく、対向電極２７０は画素電極１９１と重なる複数の枝電極（図示せず）を含む。
【００８７】
画素電極１９１の上には配向膜１１が塗布されており、配向膜１１は、表示板３００の周辺領域ＰＡで上述した実施形態のようにパターニングされている。
【００８８】
本発明の一実施形態による遮光部材２２０は配向膜１１の上に配置されている。しかし、図示したのとは異なり、遮光部材２２０と配向膜１１の積層配置は交換されてもよい。
【００８９】
遮光部材２２０はスペーサ部２２１とメイン遮光部２２２を含む。スペーサ部２２１は下部表示板１００と上部表示板２００との離隔距離を維持する。メイン遮光部２２２はスペーサ２２１部分より薄い。メイン遮光部２２２は、ゲート線１２１を覆って、ゲート線１２１とほぼ平行に延在する第１遮光部２２０ａ、及びデータ線１７１を覆って、データ線１７１とほぼ平行に延在する第２遮光部２２０ｂを含む。第１遮光部２２０ａは薄膜トランジスタを覆う部分を含み、ドレイン電極１７５を露出するコンタクトホール１８５ａを覆う部分を含む。従って、遮光部材２２０は、コンタクトホール１８５ａ付近の大きい段差を埋めて表面を平坦化することにより、コンタクトホール１８５ａ周辺の光漏れを防止できる。
【００９０】
液晶層３は誘電率異方性を有する液晶分子（図示せず）を含む。液晶分子は、液晶層３に電界がない状態で、その長軸が表示板１００、２００に対して平行に配向され、この場合、液晶分子は正の誘電率異方性を有する。
画素電極１９１は薄膜トランジスタを通じてデータ電圧の印加を受け、対向電極２７０は共通電圧Ｖｃｏｍの印加を受ける。このことにより、画素電極１９１と対向電極２７０は液晶層３に電界を生成することにより、液晶分子が再配列される。再配列された液晶分子を通じて液晶層３を通過する光の偏光が変化し、所望の輝度の映像を表示する。本発明の一実施形態による画素電極１９１の枝電極１９２は、対向電極２７０と共に液晶層３にフリンジフィールドを形成して、液晶分子の配列方向を決定する。
【００９１】
次に、図１１及び図１３を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置の表示領域ＤＡに位置する画素ＰＸの構造の一例について説明する。
【００９２】
図１３は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面図の一例である。
【００９３】
本実施形態による液晶表示装置は、上述した図１１及び図１２に示した実施形態と大部分同様なので、差異点を中心に説明する。
【００９４】
先ず、下部表示板１００について説明すれば、下部基板１１０の上にゲート電極１２４を含むゲート線１２１を配置し、その上にゲート絶縁膜１４０を配置する。ゲート絶縁膜１４０の上には半導体１５４及びオーミックコンタクト部材１６３、１６５が形成される。オーミックコンタクト部材１６３、１６５及びゲート絶縁膜１４０の上には、ソース電極１７３を含むデータ線１７１と、ドレイン電極１７５を含むデータ導電体が形成されている。データ導電体、ゲート絶縁膜１４０、及び半導体１５４の露出した部分の上には第１保護膜１８０ａが配置される。
【００９５】
第１保護膜１８０ａの上にはカラーフィルタ２３０及び遮光部材２２０が配置される。遮光部材２２０は、ゲート線１２１を覆って、ゲート線１２１とほぼ平行に延在する第１遮光部２２０ａ、及びデータ線１７１を覆って、データ線１７１とほぼ平行に延在する第２遮光部２２０ｂを含む。
【００９６】
カラーフィルタ２３０及び遮光部材２２０の上には第２保護膜１８０ｂが配置される。第２保護膜１８０ｂは、ドレイン電極１７５の一部に対応する領域に形成されている開口部１８５ｂを含む。第２保護膜１８０ｂの開口部１８５ｂは遮光部材２２０の開口部２２の中に位置する。
【００９７】
第２保護膜１８０ｂの上には対向電極２７０が配置される。対向電極２７０は、ドレイン電極１７５の一部に対応する領域に形成されている開口部２７３を有する。対向電極２７０の上には第３保護膜１８０ｃが配置される。
【００９８】
第１保護膜１８０ａ及び第３保護膜１８０ｃにはドレイン電極１７５を露出するコンタクトホール１８５ａが形成されている。コンタクトホール１８５ａは、対向電極２７０の開口部２７３及び遮光部材２２０の開口部２２の中に位置する。第３保護膜１８０ｃの上には画素電極１９１が配置される。
【００９９】
画素電極１９１の上には配向膜１１が塗布されており、配向膜１１は、表示板３００の周辺領域ＰＡで上述した実施形態のようにパターニングされている。
【０１００】
配向膜１１の上には複数の着色部材３２５がさらに配置される。しかし、図示したこととは異なり、遮光部材２２０と配向膜１１の積層配置は交換されてもよい。
【０１０１】
着色部材３２５は、コンタクトホール１８５ａに対応する所に位置して、コンタクトホール１８５ａを覆って段差を補償し、光漏れを防止する補助遮光部３２７を含む。また、着色部材３２５は下部表示板１００と上部表示板２００との離隔距離を維持できるスペーサ部３２６をさらに含む。スペーサ部３２６と補助遮光部３２７は互いに分離されているか、又は、互いに接続されている。着色部材３２５はブラックカーボンなどの顔料を含むか、又は、感光性の有機物質を含む。
【０１０２】
図１１乃至図１３に示した実施形態のように、上部基板２１０の上に対向電極２７０を配置しない場合、周辺領域ＰＡにおける上述した短絡部３２０が省略される。
【０１０３】
次に、上述した図面と共に図１４及び図１５を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。
【０１０４】
図１４は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の下部表示板の平面図であり、図１５は、図１４の一部拡大図である。
【０１０５】
図１４を参照すれば、本発明の一実施形態による液晶表示装置は、上述した図１乃至図８に示した実施形態と大部分同様であるが、下部表示板１００の信号線の端部と重なる配向膜１１の除去領域が異なる。
【０１０６】
本実施形態によれば、下部表示板１００の配向膜１１は、データ線１７１の端部１７９と接続された各接触補助部材８７と重なる複数の除去部１１ｘｃ’を含み、除去部１１ｘｃ’の間には配向膜１１の塗布領域が存在する。複数の除去部１１ｘｃ’はｘ方向に一列に配列される。同様に、配向膜１１は、ゲート線１２１の端部１２９と接続された各接触補助部材８２と重なる複数の除去部１１ｙｃ’を含み、除去部１１ｙｃ’の間には配向膜１１の塗布領域が存在する。接触補助部材８２と重なる複数の除去部１１ｙｃ’はｙ方向に一列に配列される。
即ち、各接触補助部材８２、８７は、配向膜１１の塗布領域によって覆われずに露出した除去部１１ｘｃ’、１１ｙｃ’内に位置し、複数の除去部１１ｘｃ’、１１ｙｃ’は互いに分離されている。除去部１１ｘｃ’、１１ｙｃ’は、図１５に示したように、接触補助部材８２、８７より大きいが、これに限定されない。本実施形態においても、各接触補助部材８２、８７と重なって互いに分離されている除去部１１ｘｃ’、１１ｙｃ’と、これに隣接した除去領域１１ｘａ、１１ｙａとの間の間隔ｄ３は０より大きい。
【０１０７】
次に、上述した図面と共に図１６乃至図２８を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法について説明する。
【０１０８】
図１６乃至図２２は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法の中間段階中、下部母基板及び上部母基板の上に配向膜を塗布し、パターニングする段階を示した配置図であり、図２３は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で、レーザを利用して配向膜を選択的に除去する方法を示した断面図であり、図２４乃至図２８は、各々本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で、下部母基板及び上部母基板をセル単位に切断して生成した下部表示板又は上部表示板を示した配置図である。
【０１０９】
先ず、図１６及び図１７を参照すれば、下部母基板１の上に薄膜トランジスタなどを形成して、ほぼ行列状に配列されている複数の表示領域ＤＡ、及びその周辺の周辺領域ＰＡを形成する。上部母基板２の上にも下部母基板１に対応する複数の表示領域ＤＡ及び周辺領域ＰＡが形成される。表示領域ＤＡ及び周辺領域ＰＡに関する説明は上述したのと同様なので、詳細な説明は省略する。
【０１１０】
次に、図１８及び図１９を参照すれば、下部母基板１及び上部母基板２の全面の上にインクジェットプリンティング又はスピンコーティングなどの方法によって配向液を塗布し乾燥して、配向膜１１、２１を全面に各々形成する。以降配向膜１１、２１はラビング工程をさらに経てもよい。
【０１１１】
次に、図２０乃至図２２を参照すれば、レーザビームを利用して、上記全面形成された配向膜１１、２１をパターニングする。
【０１１２】
レーザビームは、配向膜１１、２１が含むポリイミドなどの配向物質と反応し、配向物質を燃焼させて配向膜１１、２１の一部を選択的に除去する。レーザビーム照射装置は、ほぼ２００ｎｍ乃至ほぼ６００ｎｍの波長を有するレーザビームを発生するが、これに限定されない。レーザビーム照射装置は、アルゴン（Ａｒ）を主反応ガスとして使用するエキシマレーザビーム照射装置であるが、これに限定されない。
【０１１３】
レーザビーム照射装置は、レーザビームを照射する少なくとも二つのレーザビーム照射部５ｘ、５ｙを含んでもよい。レーザビーム照射部５ｘは単数又は複数個配備される。レーザビーム照射部５ｘは、ｘ方向に移動しながらレーザビームを照射する。レーザビーム照射部５ｙも単数又は複数個配備され、ｙ方向に移動しながらレーザビームを照射する。即ち、レーザビーム照射部５ｘ、５ｙは、各々ｘ方向及びｙ方向に沿って直進運動できる。レーザビーム照射部５ｘ及びレーザビーム照射部５ｙは各々、一方向移動するよう駆動されるか、又は、往復移動するよう駆動される。
【０１１４】
レーザビーム照射部５ｘ及びレーザビーム照射部５ｙは同時に駆動されるか、又は、各々異なる時間に駆動される。例えば、レーザビーム照射部５ｘが先に駆動され、次いでレーザビーム照射部５ｙがレーザビーム照射部５ｘが休止中に駆動されるか、又は、これと逆の順に駆動される。若しくは、レーザビーム照射部５ｘとレーザビーム照射部５ｙが同時に駆動され始める。これとは異なり、レーザビーム照射部５ｘとレーザビーム照射部５ｙの駆動時間が異なり得る。
【０１１５】
レーザビーム照射部５ｘとレーザビーム照射部５ｙ各々の速度は、レーザビームのサイズ、強さなどのレーザ条件、及び形成しようとする配向膜１１、２１の除去領域のサイズ及び配向膜１１、２１の厚さなどの多様な工程条件によって変わる。レーザ条件は、レーザビーム照射装置のパワー、パルス周波数、波長、焦点距離、レーザビームサイズなどを調節して変更できる。
【０１１６】
図２３を参照すれば、レーザビーム照射装置は、レンズ５０を含み、レンズ５０の焦点位置を調節して、除去しようとする配向膜１１、２１に照射されるレーザビームの強さ及びサイズなどを調節できる。例えば、下部基板１１０又は上部基板２１０の上に保護膜１８０及び配向膜１１、２１が位置するとき、焦点が位置する焦点領域（ｆｏｃｕｓｅｄ  ａｒｅａ）ＦＡに配向膜１１、２１が位置するように調整するか、又は非焦点領域（ｄｅｆｏｃｕｓｅｄ  ａｒｅａ）ＤＦＡに配向膜１１、２１が位置するように調整することにより、除去しようとする配向膜１１、２１に照射されるレーザビームのサイズ及び強さなどを調節できる。
【０１１７】
さらに、図２０を参照すれば、レーザビーム照射部５ｘは、上部母基板２の配向膜２１に対してレーザビームを照射して、各表示領域ＤＡ周辺の除去領域２１ｘａ、２１ｘｂを形成し、レーザビーム照射部５ｙは、上部母基板２の配向膜２１に対してレーザビームを照射して、各表示領域ＤＡ周辺の除去領域２１ｙａ、２１ｙｂを形成する。レーザビーム照射部５ｘ、５ｙは、上部母基板２の一側周縁から向かい側の周縁まで一定の速度で直線移動して、レーザビームを連続的に照射する。従って、配向膜２１をパターニングする時間が最小化される。これにより、除去領域２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂは、上部母基板２の互いに対向する周縁の間に延在する連続的な直線形態で均一な幅を保有できる。
図２１を参照すれば、レーザビーム照射部５ｘは、下部母基板１の配向膜１１に対してレーザビームを照射して、各表示領域ＤＡ周辺の除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｘｃを形成し、レーザビーム照射部５ｙは、下部母基板１の配向膜１１に対してレーザビームを照射して、各表示領域ＤＡ周辺の除去領域１１ｙａ、１１ｙｂ、１１ｙｃを形成する。レーザビーム照射部５ｘ、５ｙは、下部母基板１の一側周縁から向かい側の周縁まで一定の速度で直線移動してレーザビームを連続的に照射する。この場合、除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃは、下部母基板１の互いに対向する周縁の間に延在する連続的な直線形態で均一な幅を保有できる。
【０１１８】
これとは異なり、レーザビーム照射部５ｘ、５ｙは、下部母基板１の一側周縁から対向する周縁まで一定の速度で直線移動してレーザビームを照射しながら、間歇的にレーザビーム照射を中断する。これにより、除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃと接触せず、各表示領域ＤＡ周辺のみに位置する除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂを形成できる。
【０１１９】
図２１に示したこととは異なり、図２２を参照すれば、除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃと交差して、下部母基板１の互いに対向する周縁の間で均一な幅で連続的に形成された除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂを形成するために、レーザビーム照射部５ｘ、５ｙは下部母基板１の一側周縁から向い側の周縁まで一定の速度で直線移動し、連続的にレーザビームを照射する。
【０１２０】
次に、下部母基板１又は上部母基板２の上に短絡部３２０及び密封材３１０を形成し、短絡部３２０及び密封材３１０を形成した母基板１又は２、若しくは、短絡部３２０及び密封材３１０を形成しなかった母基板１又は２の上にインクジェット方法などを利用して液晶物質を注入する。
【０１２１】
次に、下部母基板１及び上部母基板２を合着した後、セル単位に切断して合着した状態の複数の上部表示板２００及び下部表示板１００を形成する。
【０１２２】
次に、図２４を参照すれば、上部表示板２００で互いに隣接して交差する二つの除去領域２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂは、上述した通り、互いに交差するか、又は、交差しない。図２４は、互いに隣接する二つの除去領域２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂが交差領域で互いに交差して、各々突出した部分を含む場合を示し、突出した部分の長さｄ１は０より大きい。
【０１２３】
図２５は、上述した図２１に示した実施形態に従って下部母基板１の配向膜１１をパターニングした後形成された下部表示板１００であって、二つの除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃが互いに交差して、交差領域において、「┼」又は「┤」、もしくは、その回転した形態を有するように切断された例を示す。これにより、除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃと、これに各々隣接した下部表示板１００の少なくとも二つの周縁の間には、配向膜１１の塗布領域が存在する。本実施形態は上述した図１に示した実施形態と大部分同様である。
【０１２４】
図２６は、上述した図２１に示した実施形態に従って下部母基板１の配向膜１１をパターニングした後形成された下部表示板１００であって、二つの除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃが交差領域において、「┐」、又はその回転した形態を有するように切断された例を示す。これにより、除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃと、これに各々隣接した下部表示板１００の少なくとも二つの周縁の間には、配向膜１１の塗布領域が存在しない。また、図２６に示したように、除去領域１１ｘｂ、１１ｙｂの交差領域において、除去領域１１ｘｂ、１１ｙｂの突出した部分が残るように、下部母基板１が切断される。しかし、これとは異なり、除去領域１１ｘｂ、１１ｙｂの交差領域において、除去領域１１ｘｂ、１１ｙｂの突出した部分が残っておらず、下部表示板１００の周縁部分に配向膜１１が残っていないように、下部母基板１を切断し得る。
【０１２５】
図２７は、上述した図２２に示した実施形態に従って下部母基板１の配向膜１１をパターニングした後形成された下部表示板１００であって、二つの除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃが交差領域において、互いに交差して「┼」又は「┤」、もしくは、その回転した形態を有するように切断された例を示す。これにより、除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃと、これに各々隣接した下部表示板１００の少なくとも二つの周縁の間には、配向膜１１の塗布領域が存在する。
【０１２６】
図２８は、上述した図２２に示した実施形態に従って下部母基板１の配向膜１１をパターニングした後形成された下部表示板１００であって、二つの除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃが交差領域において、「┐」、又はその回転した形態を有するように切断された例を示す。これにより、除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃと、これに各々隣接した下部表示板１００の少なくとも二つの周縁の間には、配向膜１１の塗布領域が存在しない。また、図２８に示したように、除去領域１１ｘｂ、１１ｙｂの交差領域において、除去領域１１ｘｂ、１１ｙｂの突出した部分が残るように、下部母基板１が切断される。しかし、これとは異なり、除去領域１１ｘｂ、１１ｙｂの交差領域で除去領域１１ｘｂ、１１ｙｂの突出した部分が残っておらず、下部表示板１００の周縁部分に配向膜１１が残っていないように、下部母基板１を切断し得る。
【０１２７】
本発明の他の実施形態によれば、下部母基板１及び上部母基板２を各々切断した後に密封材３１０を形成し、下部表示板１００と上部表示板２００を合着した後、液晶物質を注入してもよい。
【０１２８】
このように本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法によれば、下部母基板１及び上部母基板２の全面の上に配向膜１１、２１を塗布した後、選択的に配向膜１１、２１を除去するので、製造時間を短縮することができ、配向膜１１、２１の均一性を高めて表示不良をなくすことができる。また、レーザビームを利用して配向膜１１、２１をパターニングするとき、レーザビームは下部母基板１又は上部母基板２の上で直線的に駆動されるので、パターニング時間を最小化することができる。また、密封材３１０と重なる配向膜１１の除去領域と、信号線の端部と重なる配向膜１１の除去領域を、別途のレーザビーム照射工程を通じて形成するので、レーザビームが照射する領域を減らすことができ、小さいエネルギーでも短時間内で配向膜１１をパターニングすることができて、液晶表示装置の製造時間を短縮するのが可能である。
【０１２９】
次に、上述した図面と共に図２９乃至図３１を各々参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。
【０１３０】
図２９乃至図３１は、各々本発明の一実施形態による液晶表示装置の配置図である。
【０１３１】
先ず、図２９を参照すれば、本実施形態による液晶表示装置は、上述した図１乃至図８に示した実施形態と大部分同様であるが、上述した図２６に示した切断方法によって形成された下部表示板１００を含む。従って、二つの除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃが交差領域において、「┐」、又はその回転した形態を有し、配向膜１１の除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃと、これに各々隣接した下部表示板１００の少なくとも二つの周縁の間には、配向膜１１の塗布領域が存在しない。また、図示したように、除去領域１１ｘｂ、１１ｙｂの交差領域又は除去領域２１ｘｂ、２１ｙｂの交差領域において、除去領域１１ｘｂ、１１ｙｂ又は除去領域２１ｘｂ、２１ｙｂの突出した部分が残っている。しかし、これとは異なり、除去領域１１ｘｂ、１１ｙｂ又は除去領域２１ｘｂ、２１ｙｂの交差領域において、除去領域１１ｘｂ、１１ｙｂ又は除去領域２１ｘｂ、２１ｙｂの突出した部分が残っておらず、下部表示板１００及び上部表示板２００の周縁部分に配向膜１１、２１が残っていなくてもよい。
【０１３２】
次に、図３０を参照すれば、本実施形態による液晶表示装置は、上述した図１乃至図８に示した実施形態と大部分同様であるが、上部母基板２を複数の上部表示板２００に切断するとき、隣接する二つの除去領域２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂが交差領域において、「┐」、又はその回転した形態を有するように、突出した部分を除去した上部表示板２００を含む。この場合、配向膜２１の除去領域２１ｘａ、２１ｘｂ、２１ｙａ、２１ｙｂと、これに各々隣接した上部表示板２００の周縁の間には、配向膜２１の塗布領域が存在しない。下部表示板１００も下部周縁部分に配向膜１１が残っていないように切断される。図２９においては、下部表示板１００の配向膜１１の除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃと、上部表示板２００の配向膜２１の除去領域２１ｘａ、２１ｙａとの間に、除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃの突出した部分がないことと示しているが、上述した図１に示したように、除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃの突出した部分が存在してもよい。
【０１３３】
次に、図３１を参照すれば、本実施形態による液晶表示装置は、上述した図１乃至図８に示した実施形態と大部分同様であるが、上述した図２２に示した実施形態のように、除去領域１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂを形成し、図２７に示した切断方法によって形成された下部表示板１００を含む。従って、二つの除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃが交差領域で互いに交差して、「┼」又は「┤」、もしくは、その回転した形態を有し、配向膜１１の除去領域１１ｘｃ、１１ｙｃと、これに各々隣接した下部表示板１００の少なくとも二つの周縁の間には、配向膜１１の塗布領域が存在する。
【０１３４】
この他にも、本発明の一実施形態による液晶表示装置は、上述した図２４乃至図２８に示した種々の実施形態及びその他の種々の方法により、下部母基板１及び上部母基板２を切断して形成した下部表示板１００及び上部表示板２００を含んでもよい。
【０１３５】
図３２は、本発明の一実施形態に従ってレーザビーム照射装置を利用して配向膜１１、２１を除去した断面を示す写真である。
【０１３６】
図３２を参照すれば、レーザビーム照射装置を利用してパターニングされた配向膜１１、２１の境界面が明瞭に形成され、配向膜１１、２１が除去された部分で配向膜１１、２１が完ぺきに除去されたことを確認できる。また、配向膜１１、２１の下部に配置する層に損傷がないことを確認できる。
【０１３７】
以上、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の種々の変形及び改良形態も本発明の権利範囲に属するものである。
【符号の説明】
【０１３８】
１  下部母基板
２  上部母基板
３  液晶層
５ｘ、５ｙ  レーザビーム照射部
１１、２１  配向膜
１１ｘａ、１１ｘｂ、１１ｙａ、１１ｙｂ  （配向膜１１の）除去領域、第２除去領域
１１ｘｃ、１１ｙｃ  （配向膜１１の）除去領域、第１除去領域
１１ｘｃ’、１１ｙｃ’  （配向膜１１の）除去部
２１ａ、２１ｘｂ，２１ｙａ、２１ｙｂ  （配向膜２１の）除去領域、第３除去領域
２２  （遮光部材の）開口部
３１  液晶分子
５０  レンズ
８２、８３、８７  接触補助部材
９２  （画素電極の枝電極の間の）スリット
１００、２００  下部表示板、上部表示板
１１０、２１０  下部基板、上部基板
１２１、Ｇ１〜Ｇｎ  ゲート線
１２４  ゲート電極
１２９  ゲート線の端部
１３１  共通電圧伝達線
１４０  ゲート絶縁膜
１５４  半導体
１６３、１６７  オーミックコンタクト部材
１７１、Ｄ１〜Ｄｍ  データ線
１７３  ソース電極
１７５、１７７  ドレイン電極
１７９  データ線の端部
１８０、１８０ａ、１８０ｂ、１８０ｃ  保護膜、第１保護膜、第２保護膜、第３保護膜
１８２、１８３、１８７  コンタクトホール
１８５  コンタクトホール
１８５ａ  （第１、第３保護膜の共通）コンタクトホール
１８５ｂ  （第２保護膜の）開口部
１９１  画素電極
１９２  （画素電極の）枝電極
２２０  遮光部材
２２１  （遮光部材の）スペーサ部
２２２  （遮光部材の）メイン遮光部
２２０ａ  （遮光部材の）第１遮光部
２２０ｂ  （遮光部材の）第２遮光部
２３０、２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂ  カラーフィルタ
２３６  （カラーフィルタの）開口部
２５０  蓋膜
２７０  対向電極
２７３  （対向電極の）開口部
３００  表示板
３１０  密封材（シーラント）
３２０  短絡部
３２５  着色部材
３２６  （着色部材の）スペーサ部
３２７  （着色部材の）補助遮光部
ＤＡ  表示領域
ＰＡ  周縁領域
ＰＸ  画素
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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