(57)【要約】【課題】液晶表示装置から出射される高エネルギー可視光を遮断することができ、視認角特性に優れた光拡散部材およびその光拡散部材を備えた表示装置を提供する。【解決手段】支持基材２０と、支持基材２０の一方の面２０ａに、粘着層２１を介して積層された光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面２２ａに形成された遮光層２３と、基材２２の一方の面２２ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部２４と、を備え、支持基材２０、粘着層２１または光拡散部２４の少なくとも１つが、波長４９５ｎｍ以下の光の透過量を低減する層であるか、または、支持基材２０、粘着層２１または光拡散部２４の少なくとも１つに隣接して、波長４９５ｎｍ以下の光の透過量を低減する層が設けられている光拡散部材１５。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性を有する支持基材と、前記支持基材の一方の面に、粘着層を介して積層された光透過性を有する基材と、前記基材の一方の面に形成された黒色層と、前記基材の一方の面において前記黒色層の形成領域以外の領域に形成された光拡散部と、を備え、
前記光拡散部が、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有し、
前記光拡散部の前記光入射端面から前記光射出端面までの高さが前記黒色層の層厚よりも大きく、
前記支持基材、前記基材、前記粘着層または前記光拡散部の少なくとも１つが、波長４９５ｎｍ以下の光の透過量を低減する層であるか、または、前記支持基材、前記基材、前記粘着層または前記光拡散部の少なくとも１つに隣接して、波長４９５ｎｍ以下の光の透過量を低減する層が設けられていることを特徴とする光拡散部材。
【請求項２】
光透過性を有する基材と、前記基材の一方の面に形成された黒色層と、前記基材の一方の面において前記黒色層の形成領域以外の領域に形成された光拡散部と、を備え、
前記光拡散部が、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有し、
前記光拡散部の前記光入射端面から前記光射出端面までの高さが前記黒色層の層厚よりも大きく、
前記基材、前記粘着層または前記光拡散部の少なくとも１つが、波長４９５ｎｍ以下の光の透過量を低減する層であるか、または、前記基材、前記粘着層または前記光拡散部の少なくとも１つに隣接して、波長４９５ｎｍ以下の光の透過量を低減する層が設けられていることを特徴とする光拡散部材。
【請求項３】
請求項１記載の光拡散部材が視認側に配置されたことを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項２記載の光拡散部材が視認側に配置されたことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光拡散部材および表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話機等をはじめとする携帯型電子機器、もしくはテレビジョン、パーソナルコンピューター等のディスプレイとして、液晶表示装置が広く用いられている。ところが、一般に液晶表示装置は、正面からの視認性に優れる反面、視野角が狭いことが従来から知られており、視野角を広げるための様々な工夫がなされている。その一つとして、液晶パネル等の表示体から射出される光を拡散させるための部材（以下、光拡散部材と称する）を表示体の視認側に備える構成が考えられる。
【０００３】
例えば、下記の特許文献１には、シート本体と、シート本体内の射出面側に埋め込まれ、射出面側に向かって広がる複数の略くさび形部分と、を備えた視野角拡大フィルムが開示されている。この視野角拡大フィルムは、略くさび形部分の側面は折れ面によって構成されており、側面の各折れ面と入射面の垂線とがなす角度が射出面側に近付くに従って大きくなっている。この視野角拡大フィルムは、略くさび形部分の側面をこのような構成とすることで、入射面に対して垂直に入射する光を側面で複数回全反射させ、拡散角度を大きくしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１５７２１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、液晶表示装置から出射される波長３８０〜４９５ｎｍの高エネルギー可視光（ＨＥＶｌｉｇｈｔ：ｈｉｇｈ−ｅｎｅｒｇｙ  ｖｉｓｉｂｌｅ  ｌｉｇｈｔ）が、眼精疲労の原因の１つとして指摘されている。高エネルギー可視光は、可視光線の中で最も強く、直進するエネルギーを持つため、目の角膜や水晶体で吸収されずに網膜まで到達し、網膜の機能低下を引き起こすことがあると言われている。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、液晶表示装置から出射される高エネルギー可視光を遮断することができ、視認角特性に優れた光拡散部材およびその光拡散部材を備えた表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の光拡散部材は、光透過性を有する支持基材と、前記支持基材の一方の面に、粘着層を介して積層された光透過性を有する基材と、前記基材の一方の面に形成された黒色層と、前記基材の一方の面において前記黒色層の形成領域以外の領域に形成された光拡散部と、を備え、前記光拡散部が、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有し、前記光拡散部の前記光入射端面から前記光射出端面までの高さが前記黒色層の層厚よりも大きく、前記支持基材、前記基材、前記粘着層または前記光拡散部の少なくとも１つが、波長４９５ｎｍ以下の光の透過量を低減する層であるか、または、前記支持基材、前記基材、前記粘着層または前記光拡散部の少なくとも１つに隣接して、波長４９５ｎｍ以下の光の透過量を低減する層が設けられていることを特徴とする。
【０００８】
本発明の光拡散部材は、光透過性を有する基材と、前記基材の一方の面に形成された黒色層と、前記基材の一方の面において前記黒色層の形成領域以外の領域に形成された光拡散部と、を備え、前記光拡散部が、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有し、前記光拡散部の前記光入射端面から前記光射出端面までの高さが前記黒色層の層厚よりも大きく、前記基材、前記粘着層または前記光拡散部の少なくとも１つが、波長４９５ｎｍ以下の光の透過量を低減する層であるか、または、前記基材、前記粘着層または前記光拡散部の少なくとも１つに隣接して、波長４９５ｎｍ以下の光の透過量を低減する層が設けられていることを特徴とする。
【０００９】
本発明の表示装置は、本発明の光拡散部材が視認側に配置されたことが好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、表示装置の広視野角化を図ることができるとともに、波長４９５ｎｍ以下の光の透過量を低減して、観察者の眼精疲労の防止を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】第一実施形態の液晶表示装置を示す概略図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図２】第一実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
【図３】光拡散部材を構成する遮光層の平面的な形状を示す概略平面図である。
【図４】アクリル系樹脂からなる透明の基材の透過スペクトルを示すグラフである。
【図５】アゾ化合物からなる黄色い色素を添加したアクリル系樹脂からなる基材の透過スペクトルを示すグラフである。
【図６】液晶パネルの縦断面図である。
【図７】光拡散部材の製造方法を示すフローチャートである。
【図８】光拡散部材の製造工程を、順を追って示す斜視図である。
【図９】液晶パネルを構成する、画素と遮光層との配置関係を示す平面図である。
【図１０】光拡散部材の製造において、光拡散部材を個片化する工程を示す図である。
【図１１】第二実施形態の液晶表示装置を示す概略図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図１２】第二実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
【図１３】第三実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。
【図１４】第三実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
【図１５】第四実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。
【図１６】第四実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
【図１７】アゾ化合物からなる黄色い色素を添加したネガ型感光性樹脂からなる基材の透過スペクトルを示すグラフである。
【図１８】第五実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。
【図１９】第五実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
【図２０】第六実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。
【図２１】第六実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
【図２２】第七実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。
【図２３】第七実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の光拡散部材および表示装置の実施の形態について説明する。
なお、本実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００１３】
（１）第一実施形態
以下、本発明の第一実施形態について、図１〜図１０を参照して説明する。
本実施形態では、表示装置として透過型の液晶表示素子を備えた液晶表示装置の例を挙げて説明する。
なお、以下の全ての図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
【００１４】
図１は、本実施形態の液晶表示装置を示す概略図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面図である。図２は、本実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
本実施形態の液晶表示装置（表示装置）１０は、バックライト（光源）１１と、第１偏光板１２と、液晶パネル１３と、第２偏光板１４と、光拡散部材１５とから概略構成されている。
図１では、液晶パネル１３を模式的に１枚の板状に図示しているが、その詳細な構造については後述する。
観察者は、光拡散部材１５が配置された図１における液晶表示装置１０の上側から表示を見ることになる。よって、以下の説明では、光拡散部材１５が配置された側を視認側と称し、バックライト１１が配置された側を背面側と称する。
【００１５】
本実施形態の液晶表示装置１０においては、バックライト１１から射出された光を液晶パネル１３で変調し、変調した光によって所定の画像や文字等を表示する。また、液晶パネル１３から射出された光が光拡散部材１５を透過すると、射出光の角度分布が光拡散部材１５に入射する前よりも広がった状態となって光が光拡散部材１５から射出される。これにより、観察者は広い視野角を持って表示を視認できる。
【００１６】
液晶パネル１３は、スイッチング素子等が形成されたＴＦＴ基板１６と、ＴＦＴ基板１６に対向して配置されたカラーフィルター基板１７と、ＴＦＴ基板１６とカラーフィルター基板１７との間に挟持された液晶層１８とから概略構成されている。また、カラーフィルター基板１７における液晶層１８と対向する面側に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色の色素が含まれるカラーフィルター１９が設けられている。
【００１７】
光拡散部材１５は、光透過性を有する支持基材２０と、支持基材２０の一方の面（背面側の面）２０ａに、粘着層２１を介して積層された光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面（背面側の面）２２ａに形成された複数の黒色層（以下、「遮光層」と言う。）２３と、基材２２の一方の面２２ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部２４とから概略構成されている。
光拡散部２４は、基材２２側（支持基材２０側）に光射出端面２４ａを有するとともに基材２２側と反対側に光射出端面２４ａの面積よりも大きい面積の光入射端面２４ｂを有している。
また、光拡散部２４の光射出端面２４ａから光入射端面２４ｂまでの高さが遮光層２３の層厚よりも大きくなっている。
また、遮光層２３と光拡散部２４の側面２４ｃとで区画される空間が中空部２５であり、中空部２５に、空気等の気体が満たされている。
なお、基材２２と、遮光層２３と、光拡散部２４と、中空部２５とから構成されるものを、光拡散基板３０と言う。
【００１８】
光拡散部材１５の支持基材２０の視認側（一方の面２０ａとは反対側）または基材２２の視認側（一方の面２２ａとは反対側）に、反射防止層、偏光フィルター層、帯電防止層、防眩処理層、防汚処理層のうちの少なくとも１つを設けた構成としてもよい。この構成によれば、基材２２（支持基材２０）の視認側に設ける層の種類に応じて、外光反射を低減する機能、塵埃や汚れの付着を防止する機能、傷を防止する機能等を付加することができ、視野角特性の経時劣化を防ぐことができる。
【００１９】
光拡散部２４の側面２４ｃの傾斜角度（基材２２の一方の面２２ａと、光拡散部２４の側面２４ｃとのなす角度）は、６０°以上９０°以下が好ましい。光拡散部２４の側面２４ｃの傾斜角度は、光拡散部材１５から射出する際に、入射光を十分に拡散することが可能な角度であれば、特に限定されない。
また、本実施形態において、光拡散部２４には、上記の中空部２５において、多数の側面２４ｃが存在し、それらの側面２４ｃの傾斜角度は一定になっているが、本実施形態はこれに限定されるものではない。多数の側面２４ｃのうち、少なくとも１つの傾斜角度が、他の側面２４ｃの傾斜角度と異なっていてもよい。また、多数の側面２４ｃのうち、少なくとも１つの傾斜角度が場所によって異なっていてもよい。
【００２０】
また、光拡散部材１５において、支持基材２０の視認側（一方の面２０ａとは反対側）または基材２２の視認側（一方の面２２ａとは反対側）の法線方向から見た遮光層２３の平面的な形状は、特に限定されるものではないが、少なくとも長軸と短軸とを有する異方性形状をなしていることが好ましい。
【００２１】
具体的には、遮光層２３は、例えば、図３（Ａ）に示すように、細長い楕円形状の遮光層２３Ａであってもよい。
あるいは、図３（Ｂ）に示すように、細長い長方形状の遮光層２３Ｂであってもよい。
あるいは、図３（Ｃ）に示すように、細長い八角形状の遮光層２３Ｃであってもよい。
あるいは、図３（Ｄ）に示すように、細長い長方形の対向する２辺を外側に湾曲させた形状の遮光層２３Ｄであってもよい。
あるいは、図３（Ｅ）に示すように、縦横比が異なる２つの長方形を直交する２方向に交差させた形状の遮光層２３Ｅであってもよい。
あるいは、図３（Ｆ）に示すように、二等辺三角形状の遮光層２３Ｆであってもよい。
あるいは、図３（Ｇ）に示すように、菱形状の遮光層２３Ｇであってもよい。
【００２２】
また、各遮光層２３の平面形状をそれぞれ異ならせ、種々の異方性の方位（図３（Ａ）〜（Ｇ）参照）を持つ異なる複数種類のサイズ、形状のものを混在させるようにしてもよい。
【００２３】
光拡散部材１５を構成する支持基材２０としては、波長３８０〜４９５ｎｍの領域に吸収を有し、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収する透明樹脂製（光透過性）の基材が用いられる。
このような透明樹脂製の基材としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル（ポリメチルメタクリレート、ＰＭＭＡ）等のアクリル系樹脂やポリカーボネート系樹脂からなる透明（光透過性）の基材が用いられる。
ここで、図４に、アクリル系樹脂からなる透明の基材の透過スペクトルを示す。図４から、アクリル系樹脂からなる透明の基材は、波長４００ｎｍ以下の透過率が低下しており、紫外光および高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収することが分る。
【００２４】
また、光拡散部材１５を構成する支持基材２０としては、アクリル系ポリマー、オレフィン系ポリマー、ビニル系ポリマー、セルロース系ポリマー、アミド系ポリマー、フッ素系ポリマー、ウレタン系ポリマー、シリコーン系ポリマー、イミド系ポリマー等からなる適宜な透明樹脂製（光透過性）や強化ガラス等の基材に、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収する吸収剤（以下、「ＨＥＶ吸収剤」と言う。）が所定量添加されたものを用いることもできる。
支持基材２０としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム、ポリイミド（ＰＩ）フィルム、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）フィルム等の透明樹脂製や強化ガラス等の基材に、ＨＥＶ吸収剤が所定量添加されたものが好ましく用いられる。
支持基材２０は、基材２２よりも厚みが大きく、かつ剛性が高い。なお、支持基材２０は、上記材料に限定されることは無く、基材２２よりも厚みが多くかつ剛性が高いものであって、さらに光透過性を有するものであれば適宜選択可能である。
基材２２は、相対的に剛性が高い支持基材２０の粘着層２１を介して貼り合わされているので、皺や弛みの発生が抑制されたものとなっている。よって、基材２２の一方の面２２ａ側に形成された光拡散部２４は、良好な光拡散特性を発揮することが可能となっている。
【００２５】
ＨＥＶ吸収剤としては、波長３８０〜４９５ｎｍの領域に吸収を有し、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収するものが用いられる。このようなＨＥＶ吸収剤としては、例えば、アクリル系樹脂の微粒子や、メチン染料、ベンズイミダゾロン化合物、イソインドリノン化合物、アゾ化合物、キノフタロン化合物等の黄色い色素等が用いられる。アクリル系樹脂の微粒子としては、粒径が０．５μｍ〜２０μｍのものが好ましい。
透明樹脂製の基材に、このようなＨＥＶ吸収剤を添加することにより、支持基材２０は、青色の波長の高エネルギー可視光（ＨＥＶ）の一部を選択的に吸収して透過量を減少させ、赤色および緑色の波長の光を透過する。
ここで、図５に、アゾ化合物からなる黄色い色素を添加したアクリル系樹脂からなる基材の透過スペクトルを示す。図５から、アクリル樹脂だけの場合よりも、効果的に高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収していることが分る。
このように、支持基材２０は、光拡散部２４の光入射端面２４ｂから入射した高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収し、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を支持基材２０の視認側に透過しないようにする。
【００２６】
ただし、支持基材２０の厚さは、耐熱性や機械的強度を損なわない程度に薄い方が好ましい。その理由は、支持基材２０の厚さが厚くなる程、表示のボヤケが生じるおそれがあるからである。また、支持基材２０の全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１の規定で９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られる。
【００２７】
粘着層２１を構成する粘着剤としては、ゴム系、アクリル系、シリコーン系、ビニルアルキルエーテル系、ポリビニルアルコール系、ポリビニルピロリドン系、ポリアクリルアミド系、セルロース系等の粘着剤等、接着対象に応じた粘着性物質を用いることができる。特に、透明性や耐候性等に優れる粘着性物質が好ましく用いられる。
【００２８】
光拡散部材１５を構成する基材２２としては、一般に、熱可塑性ポリマーや熱硬化性樹脂、光重合性樹脂等の樹脂類等が用いられる。アクリル系ポリマー、オレフィン系ポリマー、ビニル系ポリマー、セルロース系ポリマー、アミド系ポリマー、フッ素系ポリマー、ウレタン系ポリマー、シリコーン系ポリマー、イミド系ポリマー等からなる適宜な透明樹脂製（光透過性）の基材を用いることができる。
基材２２としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム、ポリイミド（ＰＩ）フィルム等の透明樹脂製の基材、ガラス製の基材等が好ましく用いられる。
【００２９】
ただし、基材２２の厚さは、耐熱性や機械的強度を損なわない程度に薄い方が好ましい。その理由は、基材２２の厚さが厚くなる程、表示のボヤケが生じるおそれがあるからである。また、基材２０の全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１の規定で９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られる。
【００３０】
遮光層２３は、例えば、ブラックレジスト等の光吸収性および感光性を有する有機材料で構成されている。このほか、Ｃｒ（クロム）やＣｒ／酸化Ｃｒの多層膜等の金属膜、黒色インクに用いられるような顔料・染料、多色のインクを混合して黒色系インクとしたものを用いて、遮光層２３を形成してもよい。これらの材料以外でも、遮光性を有する材料であれば、遮光層２３の材料として用いることができる。
【００３１】
光拡散部２４は、基材２２の一方の面２２ａに塗布したネガ型感光性樹脂を硬化してなるものである。
ネガ型感光性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の光透過性および感光性を有する有機材料が挙げられる。
【００３２】
以下、液晶パネル１３の具体的な構成について説明する。
ここでは、液晶パネル１３として、アクティブマトリクス方式の透過型液晶パネルを例示するが、本実施形態に適用可能な液晶パネルは、アクティブマトリクス方式の透過型液晶パネルに限定されるものではない。本実施形態に適用可能な液晶パネルは、例えば、半透過型（透過・反射兼用型）液晶パネルや反射型液晶パネルであってもよく、さらには、各画素がスイッチング用薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｉｔｏｒ、以下、「ＴＦＴ」と略す。）を備えていない単純マトリクス方式の液晶パネルであってもよい。
【００３３】
図６は、液晶パネル１３の縦断面図である。
液晶パネル１３は、図６に示すように、スイッチング素子基板としてのＴＦＴ基板３１（図１におけるＴＦＴ基板１６に相当）と、ＴＦＴ基板３１に対向して配置されたカラーフィルター基板３２（図１におけるカラーフィルター基板１７に相当）と、ＴＦＴ基板３１とカラーフィルター基板３２との間に挟持された液晶層３３と、を有している。液晶層３３は、ＴＦＴ基板３１と、カラーフィルター基板３２と、ＴＦＴ基板３１とカラーフィルター基板３２とを所定の間隔をおいて貼り合わせる枠状のシール部材（図示せず）と、によって囲まれた空間内に封入されている。本実施形態の液晶パネル１３は、例えば、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型で表示を行うものであり、液晶層３３には誘電率異方性が負の垂直配向液晶が用いられる。ＴＦＴ基板３１とカラーフィルター基板３２との間には、これら基板間の間隔を一定に保持するための球状のスペーサー３４が配置されている。なお、表示型については、上記のＴＮ型に限らず、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ、垂直配向）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型等を用いることができる。
【００３４】
ＴＦＴ基板３１には、表示の最小単位領域である画素（図示せず）がマトリクス状に複数配置されている。ＴＦＴ基板３１には、複数のソースバスライン（図示せず）が、互いに平行に延在するように形成されるとともに、複数のゲートバスライン（図示せず）が、互いに平行に延在し、かつ、複数のソースバスラインと直交するように形成されている。
したがって、ＴＦＴ基板３１上には、複数のソースバスラインと複数のゲートバスラインとが格子状に形成され、隣接するソースバスラインと隣接するゲートバスラインとによって区画された矩形状の領域が一つの画素となる。ソースバスラインは、後述するＴＦＴのソース電極に接続され、ゲートバスラインは、ＴＦＴのゲート電極に接続されている。
【００３５】
ＴＦＴ基板３１を構成する透明基板３５の液晶層３３側の面に、半導体層３６、ゲート電極３７、ソース電極３８、ドレイン電極３９等を有するＴＦＴ４０が形成されている。
透明基板３５には、例えば、ガラス基板を用いることができる。透明基板３５上に、例えば、ＣＧＳ（Ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ  Ｇｒａｉｎ  Ｓｉｌｉｃｏｎ：連続粒界シリコン）、ＬＰＳ（Ｌｏｗ−ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  Ｐｏｌｙ−Ｓｉｌｉｃｏｎ：低温多結晶シリコン）、α−Ｓｉ（Ａｍｏｒｐｈｏｕｓ  Ｓｉｌｉｃｏｎ：非結晶シリコン）等の半導体材料からなる半導体層３６が形成されている。また、透明基板３５上に、半導体層３６を覆うようにゲート絶縁膜４１が形成されている。ゲート絶縁膜４１の材料としては、例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、もしくは、これらの積層膜等が用いられる。
ゲート絶縁膜４１上には、半導体層３６と対向するようにゲート電極３７が形成されている。ゲート電極３７の材料としては、例えば、Ｗ（タングステン）／ＴａＮ（窒化タンタル）の積層膜、Ｍｏ（モリブデン）、Ｔｉ（チタン）、Ａｌ（アルミニウム）等が用いられる。
【００３６】
ゲート絶縁膜４１上に、ゲート電極３７を覆うように第１層間絶縁膜４２が形成されている。
第１層間絶縁膜４２の材料としては、例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、もしくは、これらの積層膜等が用いられる。
第１層間絶縁膜４２上に、ソース電極３８およびドレイン電極３９が形成されている。
ソース電極３８は、第１層間絶縁膜４２とゲート絶縁膜４１とを貫通するコンタクトホール４３を介して半導体層３６のソース領域に接続されている。同様に、ドレイン電極３９は、第１層間絶縁膜４２とゲート絶縁膜４１とを貫通するコンタクトホール４４を介して半導体層３６のドレイン領域に接続されている。
ソース電極３８およびドレイン電極３９の材料としては、上述のゲート電極３７と同様の導電性材料が用いられる。
第１層間絶縁膜４２上に、ソース電極３８およびドレイン電極３９を覆うように第２層間絶縁膜４５が形成されている。
第２層間絶縁膜４５の材料としては、上述の第１層間絶縁膜４２と同様の材料、もしくは、有機絶縁性材料が用いられる。
【００３７】
第２層間絶縁膜４５上に、画素電極４６が形成されている。画素電極４６は、第２層間絶縁膜４５を貫通するコンタクトホール４７を介してドレイン電極３９に接続されている。よって、画素電極４６は、ドレイン電極３９を中継用電極として半導体層３６のドレイン領域に接続されている。
画素電極４６の材料としては、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、インジウム錫酸化物）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ、インジウム亜鉛酸化物）等の透明導電性材料が用いられる。
この構成により、ゲートバスラインを通じて走査信号が供給され、ＴＦＴ４０がオン状態となったときに、ソースバスラインを通じてソース電極３８に供給された画像信号が、半導体層３６、ドレイン電極３９を経て画素電極４６に供給される。また、画素電極４６を覆うように第２層間絶縁膜４５上の全面に配向膜４８が形成されている。この配向膜４８は、液晶層３３を構成する液晶分子を垂直配向させる配向規制力を有している。なお、ＴＦＴの形態としては、図６に示したボトムゲート型ＴＦＴであってもよいし、トップゲート型ＴＦＴであってもよい。
【００３８】
一方、カラーフィルター基板３２を構成する透明基板４９の液晶層３３側の面には、ブラックマトリクス５０、カラーフィルター５１、平坦化層５２、対向電極５３、配向膜５４が順次形成されている。
ブラックマトリクス５０は、画素間領域において光の透過を遮断する機能を有しており、Ｃｒ（クロム）やＣｒ／酸化Ｃｒの多層膜等の金属、もしくは、カーボン粒子を感光性樹脂に分散させたフォトレジストで形成されている。
カラーフィルター５１には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色の色素が含まれており、ＴＦＴ基板３１上の一つの画素電極４６にＲ，Ｇ，Ｂのいずれか一つのカラーフィルター５１が対向して配置されている。
平坦化層５２は、ブラックマトリクス５０およびカラーフィルター５１を覆う絶縁膜で構成されており、ブラックマトリクス５０およびカラーフィルター５１によってできる段差を緩和して平坦化する機能を有している。
平坦化層５２上には対向電極５３が形成されている。対向電極５３の材料としては、画素電極４６と同様の透明導電性材料が用いられる。
また、対向電極５３上の全面に、垂直配向規制力を有する配向膜５４が形成されている。
カラーフィルター５１は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色以上の多色構成としてもよい。
【００３９】
図１に示すように、バックライト１１は、発光ダイオード、冷陰極管等の光源６１と、光源６１から射出された光の内部反射を利用して液晶パネル１３に向けて射出させる導光板６２と、を有している。バックライト１１は、光源が導光体の端面に配置されたエッジライト型でもよく、光源が液晶パネル１３の直下に配置された直下型でもよい。本実施形態で用いるバックライト１１には、光の射出方向を制御して指向性を持たせたバックライト、いわゆる指向性バックライトを用いることが望ましい。光拡散部材１５の光拡散部２４にコリメートまたは略コリメートした光を入射させるような指向性バックライトを用いることでボヤケを少なくし、さらに光の利用効率を高めることができる。上記の指向性バックライトは、導光板６２内に形成する反射パターンの形状や配置等を最適化することで実現できる。また、バックライト１１と液晶パネル１３との間には、偏光子として機能する第１偏光板１２が設けられている。また、液晶パネル１３と光拡散部材１５との間には、検光子として機能する第２偏光板１４が設けられている。
【００４０】
本実施形態によれば、光拡散部材１５を構成する支持基材２０として、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収するものを用いることにより、液晶表示装置１０の広視野角化を図ることができるとともに、波長３８０〜４９５ｎｍの光の透過量を低減して、観察者の眼精疲労の防止を図ることができる。
【００４１】
なお、本実施形態では、光拡散部材１５の基材２２と液晶パネル１３との間に、第２偏光板１４が設けられた場合を例示したが、基材２２と第２偏光板１４との間に、基材２２の屈折率と第２偏光板１４の屈折率との間の屈折率を有する部材が介在していてもよい。
【００４２】
次に、液晶表示装置の製造方法を説明する。
図７は、光拡散部材１５の製造方法を示すフローチャートである。
図８（Ａ）〜（Ｅ）は、光拡散部材１５の製造工程を、順を追って示す斜視図である。
上記構成の液晶表示装置１０を構成する光拡散部材１５の製造工程を中心に、液晶表示装置１０の製造方法について説明する。
液晶パネル１３の製造工程の概略を先に説明する。
最初に、図６に示す、ＴＦＴ基板３１とカラーフィルター基板３２をそれぞれ作製する。その後、ＴＦＴ基板３１のＴＦＴ４０が形成された側の面と、カラーフィルター基板３２のカラーフィルター５１が形成された側の面とを対向させて配置する。そして、ＴＦＴ基板３１とカラーフィルター基板３２とをシール部材を介して貼り合わせる。その後、ＴＦＴ基板３１とカラーフィルター基板３２とシール部材とによって囲まれた空間内に液晶を注入する。以上の工程を経て、液晶パネル１３が完成する。
そして、このようにして作製された液晶パネル１３のＴＦＴ基板３１の側の外面に、光学接着剤等を用いて第１偏光板１２を貼り合わせる。
なお、ＴＦＴ基板３１やカラーフィルター基板３２の製造方法は常法によればよく、その説明を省略する。
【００４３】
次に、光拡散部材１５の製造工程を説明する。
先ず、図８（Ａ）に示すように、厚さが１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる基材２２を準備し、スピンコート法等を用いて、この基材２２の一方の面に遮光層２３の材料として、カーボンおよび紫外線吸収剤（酸化チタン）を含有したブラックネガレジストを塗布し、膜厚１５０ｎｍの塗膜７１を形成する。
次いで、上記の塗膜７１を形成した基材２２をホットプレート上に載置し、温度９０℃で塗膜のプリベークを行う。これにより、ブラックネガレジスト中の溶媒が揮発する。
【００４４】
次いで、露光装置を用い、平面形状が楕円形の複数の開口パターン８１が形成されたフォトマスク８０を介して塗膜７１に光Ｌを照射し、露光を行う。このとき、波長３６５ｎｍのｉ線、波長４０４ｎｍのｈ線、波長４３６ｎｍのｇ線の混合線を用いた露光装置を使用する。露光量は１００ｍＪ／ｃｍ２とする。
【００４５】
図８（Ａ）に示すように、遮光層２３の形成時に用いるフォトマスク８０は、ランダムに配置された複数の楕円形の開口パターン８１を有している。フォトマスク８０を設計する際には、最初に開口パターン８１を一定のピッチで規則的に配置しておき、次にランダム関数を用いて例えば開口パターン８１の中心点等、各開口パターン８１の基準位置データに揺らぎを持たせ、開口パターン８１の位置をばらつかせることにより、ランダムに配置された複数の開口パターン８１を有するフォトマスク８０を製作することができる。
【００４６】
上記のフォトマスク８０を用いて露光を行った後、専用の現像液を用いてブラックネガレジストからなる塗膜７１の現像を行い、１００℃で乾燥し、図８（Ｂ）に示すように、平面形状が円形の複数の遮光層２３を基材２２の一方の面２２ａに形成する（図７に示すステップＳ１）。本実施形態の場合、後の工程でブラックネガレジストからなる遮光層２３をマスクとして透明ネガレジストの露光を行い、中空部２５を形成する。そのため、フォトマスク８０の開口パターン８１の位置が中空部２５の形成位置に対応する。楕円形の遮光層２３は、後の工程の光拡散部２４の非形成領域（中空部２５）に対応する。
【００４７】
なお、本実施形態では、ブラックネガレジストを用いたフォトリソグラフィー法によって遮光層２３を形成したが、この構成に代えて、本実施形態の開口パターン８１と遮光パターンとが反転したフォトマスクを用いれば、光吸収性を有するポジレジストを用いることもできる。もしくは、蒸着法や印刷法等を用いてパターニングした遮光層２３を直接形成してもよい。
【００４８】
遮光層２３は、基材２２の主面の法線方向（Ｚ軸方向）から見てランダムに配置されている。
図９は、液晶パネル１３を構成する、画素１００と遮光層２３との配置関係を示す平面図である。
図９に示すように、液晶パネル１３の画素１００と遮光層２３を平面的に見た場合、液晶パネル１３の１ドットに対応する部分に、遮光層２３の一部が少なくとも１つ位置するようにすることが望ましい。このとき、液晶パネル１３の１つの画素１００は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３ドット１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂから構成される。これにより、１つの画素１００内に、少なくとも１つの中空部２５が形成されるので、１つのドット１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂの情報を確実に広げた状態で視認者側に射出させることができる。
そのため、例えば、光拡散部材１５を、モバイル機器等に用いる画素ピッチが小さい液晶パネルと組み合わせたときに、広視野角化を図ることができる。
【００４９】
次いで、図８（Ｃ）に示すように、スリットコート、スピンコート、印刷等の手法を用いて、遮光層２３の上を覆うように、基材２２の一方の面２２ａの全面に、光拡散部２４の材料としてアクリル樹脂からなる透明ネガレジスト（ネガ型感光性樹脂）を塗布し、膜厚２５μｍの塗膜（ネガ型感光性樹脂層）９１を形成する（図７に示すステップＳ２）。
次いで、上記の塗膜９１を形成した基材２２をホットプレート上に載置し、温度９５℃で塗膜９１のプリベークを行う。これにより、透明ネガレジスト中の溶媒が揮発する。
【００５０】
次いで、図８（Ｄ）に示すように、基材２２側から遮光層２３をマスクとして塗膜９１に拡散光Ｆを照射し、露光を行う（図７に示すステップＳ３）。
このとき、波長３６５ｎｍのｉ線、波長４０４ｎｍのｈ線、波長４３６ｎｍのｇ線の混合線を用いた露光装置を使用する。露光量は１００ｍＪ／ｃｍ２とする。露光工程では、平行光または拡散光を用いる。また、露光装置から射出された平行光を拡散光Ｆとして基材２２に照射する手段として、露光装置から射出された光の光路上にヘイズ５０程度の拡散板を配置する。拡散光Ｆで露光を行うことにより、塗膜９１は、遮光層２３の非形成領域から外側に広がるように放射状に露光される。これにより、順テーパ状の中空部２５が形成され、光拡散部２４の中空部２５と面する部分には逆テーパ状の側面が形成される。
その後、必要に応じて上記の塗膜９１を形成した基材２２をホットプレート上に載置し、温度９５℃で塗膜９１のポストエクスポージャーベイク（ＰＥＢ）を行う。
【００５１】
次いで、専用の現像液を用いて透明ネガレジストからなる塗膜９１の現像を行い、１００℃でポストベークし、図８（Ｅ）に示すように、複数の中空部２５を有する光拡散部２４を基材２２の一方の面２２ａに形成する（図７に示すステップＳ４）。
ポストベークの代わりに、紫外線にて光拡散部の重合を促進させるポストキュアを行っても良い。
【００５２】
以上、図８（Ａ）〜（Ｄ）の工程を経て、光拡散部材１５の母材（光拡散基板３０）が完成する。光拡散基板３０の全光線透過率は、９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られ、光拡散部材１５に求められる光学性能を十分に発揮できる。全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１の規定によるものである。
【００５３】
次いで、光拡散基板３０における光拡散部２４の光入射端面２４ｂに第２偏光板１４の母材を、接着剤層を介して貼付する（図７に示すステップＳ５）。
【００５４】
そして、貼付された光拡散基板３０と第２偏光板１４の母材との貼合体を切断することにより、液晶表示装置１０の平面視サイズに対応した光拡散基板３０を個片化する（図７に示すステップＳ６）。
この工程では、図１０に示すように、光拡散基板３０の強散乱方向Ｖｓと第２偏光板１４の一辺とが平行となるように、光拡散基板３０を個片化する。
例えば、図１０に示すように、貼合体１０５は、光拡散基板３０の拡散性が相対的に強い方位角方向Ｖｓと、個片化後の光拡散基板３０の外形をなす短辺と、が概ね平行となる（一致する）ように仮想切断ラインＣＬに沿って切断される。
以上の工程により、光拡散部材１５が完成する。
【００５５】
完成した光拡散部材１５を、図１に示すように、支持基材２０（基材２２）を視認側に向け、第２偏光板１４を液晶パネル１３に対向させた状態で、光学接着剤等を用いて液晶パネル１３に貼付する。
以上の工程により、本実施形態に係る液晶表示装置１０が得られる。
【００５６】
なお、本実施形態では、光拡散基板３０と第２偏光板１４の母材とを貼付した貼合体１０５を、液晶表示装置１０の平面視サイズに切断することにより光拡散基板３０を作製したが、本実施形態これに限定されない。本実施形態にあっては、例えば、光拡散基板３０と第２偏光板１４の母材とをそれぞれ液晶表示装置１０の平面視サイズに切断した後に、光拡散基板３０と第２偏光板１４を貼付して、作製してもよい。
【００５７】
また、本実施形態では、第２偏光板１４と光拡散部材１５とを貼合して積層体を形成した後、その積層体を液晶パネル１３に貼付することで液晶表示装置１０を形成したが、本実施形態これに限定されない。本実施形態にあっては、例えば、図８（Ａ）〜（Ｄ）の工程の後、光拡散部材１５の母材を液晶表示装置１０の平面視サイズに切断して光拡散部材１５とした後、この光拡散部材１５を予め第２偏光板１４が貼りつけられた液晶パネル１３に貼付して液晶表示装置１０を作製してもよい。
【００５８】
また、本実施形態では、光拡散部材１５が、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面２２ａに形成された複数の遮光層２３と、基材２２の一方の面２２ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部２４とを備えてなるものである場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されるものではない。本実施形態にあっては、光拡散部材１５が、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面２２ａに法線方向（Ｚ軸方向）から見てランダムに形成された複数の光拡散部２４と、基材２２の一方の面２２ａにおいて、光拡散部２４の形成領域以外の領域に形成された遮光層２３とを備えてなるものであってもよい。
この場合、光拡散部材１５の製造方法において、基材２２の一方の面２２ａに、ランダムに開口部を有する遮光層２３を形成し、基材２２の一方の面２２ａに、遮光層２３を覆うように光透過性を有するネガ型感光性樹脂層を形成し、遮光層２３およびネガ型感光性樹脂層を形成した基材２２の一方の面２２ａと反対側の面から、遮光層２３の開口部を通してネガ型感光性樹脂層に対して拡散光を照射し、ネガ型感光性樹脂層を露光し、露光が終わったネガ型感光性樹脂層を現像して光拡散部２４を基材２２の一方の面２２ａ側に形成してもよい。
【００５９】
（２）第二実施形態
以下、本発明の第二実施形態について、図１１および図１２を参照して説明する。
本実施形態では、表示装置として透過型の液晶表示素子を備えた液晶表示装置の例を挙げて説明する。
なお、以下の全ての図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
図１１において、図１に示したものと同一の構成には同一符号を付して、その説明を省略する。また、図１２において、図２に示したものと同一の構成には同一符号を付して、その説明を省略する。
【００６０】
図１１は、本実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。図１２は、本実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
本実施形態の液晶表示装置（表示装置）１１０は、バックライト（光源）１１と、第１偏光板１２と、液晶パネル１３と、第２偏光板１４と、光拡散部材１２０とから概略構成されている。
光拡散部材１２０は、光透過性を有する支持基材２０と、支持基材２０の一方の面（背面側の面）２０ａに形成（積層）された光学多層膜１２１と、光学多層膜１２１の支持基材２０と接する面とは反対側の面１２１ａに、粘着層２１を介して積層された光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面（背面側の面）２２ａに形成された複数の遮光層２３と、基材２２の一方の面２２ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部２４とから概略構成されている。
【００６１】
光学多層膜１２１としては、高屈折率層と低屈折率層が交互に複数積層されたものが用いられる。
このような光学多層膜１２１としては、例えば、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）が多層にして積層されたものが挙げられる。
【００６２】
光学多層膜１２１は、光拡散部２４の光入射端面２４ｂから入射した高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を選択的に反射し（液晶パネル１３側に反射する）、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を支持基材２０の視認側に透過しないようにする。
【００６３】
本実施形態によれば、光拡散部材１２０を構成する支持基材２０の一方の面（背面側の面）２０ａに、高屈折率層と低屈折率層が交互に複数積層されて構成される光学多層膜１２１を積層することにより、液晶表示装置１１０の広視野角化を図ることができるとともに、波長４９５ｎｍ以下の光の透過量を低減して、観察者の眼精疲労の防止を図ることができる。
【００６４】
本実施形態の光拡散部材１２０も、上述の第一実施形態の光拡散部材１５と同様に製造することができるが、例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）にＨＥＶ吸収剤が添加された支持基材と、支持基材の一方の面に積層された光学多層膜と、光学多層膜の支持基材と接する面とは反対側の面に、粘着層を介して積層された厚さが１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる基材とから構成される基材を用いる。
【００６５】
なお、本実施形態では、光拡散部材１２０が、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面２２ａに形成された複数の遮光層２３と、基材２２の一方の面２２ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部２４とを備えてなるものである場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されるものではない。本実施形態にあっては、光拡散部材１２０が、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面２２ａにに法線方向（Ｚ軸方向）から見てランダムに形成された複数の光拡散部２４と、基材２２の一方の面２２ａにおいて、光拡散部２４の形成領域以外の領域に形成された遮光層２３とを備えてなるものであってもよい。
【００６６】
（３）第三実施形態
以下、本発明の第三実施形態について、図１３および図１４を参照して説明する。
本実施形態では、表示装置として透過型の液晶表示素子を備えた液晶表示装置の例を挙げて説明する。
なお、以下の全ての図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
図１３において、図１に示したものと同一の構成には同一符号を付して、その説明を省略する。また、図１４において、図２に示したものと同一の構成には同一符号を付して、その説明を省略する。
【００６７】
図１３は、本実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。図１４は、本実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
本実施形態の液晶表示装置（表示装置）１３０は、バックライト（光源）１１と、第１偏光板１２と、液晶パネル１３と、第２偏光板１４と、光拡散部材１４０とから概略構成されている。
光拡散部材１４０は、光透過性を有する支持基材２０と、支持基材２０の一方の面（背面側の面）２０ａに、粘着層１４１を介して積層された光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面（背面側の面）２２ａに形成された複数の遮光層２３と、基材２２の一方の面２２ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部２４とから概略構成されている。
【００６８】
粘着層１４１を構成する粘着剤としては、例えば、ゴム系、アクリル系、シリコーン系、ビニルアルキルエーテル系、ポリビニルアルコール系、ポリビニルピロリドン系、ポリアクリルアミド系、セルロース系等の粘着剤に、アクリル系樹脂の微粒子や、メチン染料、ベンズイミダゾロン化合物、イソインドリノン化合物、アゾ化合物、キノフタロン化合物等の黄色い色素等からなるＨＥＶ吸収剤が所定量添加されたものが用いられる。
【００６９】
粘着層１４１は、光拡散部２４の光入射端面２４ｂから入射した高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収し、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を支持基材２０の視認側に透過しないようにする。
【００７０】
本実施形態によれば、光拡散部材１４０を構成する支持基材２０の一方の面（背面側の面）２０ａに、ＨＥＶ吸収剤が添加された粘着層１４１を設けることにより、液晶表示装置１３０の広視野角化を図ることができるとともに、波長３８０〜４９５ｎｍの光の透過量を低減して、観察者の眼精疲労の防止を図ることができる。
【００７１】
本実施形態の光拡散部材１４０も、上述の第一実施形態の光拡散部材１５と同様に製造することができるが、例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）にＨＥＶ吸収剤が添加された支持基材と、支持基材の一方の面に積層された光学多層膜と、光学多層膜の支持基材と接する面とは反対側の面に、粘着層を介して積層された厚さが１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる基材とから構成される基材を用いる。
【００７２】
なお、本実施形態では、光拡散部材１４０が、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面２２ａに形成された複数の遮光層２３と、基材２２の一方の面２２ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部２４とを備えてなるものである場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されるものではない。本実施形態にあっては、光拡散部材１４０が、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面２２ａに法線方向（Ｚ軸方向）から見てランダムに形成された複数の光拡散部２４と、基材２２の一方の面２２ａにおいて、光拡散部２４の形成領域以外の領域に形成された遮光層２３とを備えてなるものであってもよい。
【００７３】
（４）第四実施形態
以下、本発明の第四実施形態について、図１５および図１６を参照して説明する。
本実施形態では、表示装置として透過型の液晶表示素子を備えた液晶表示装置の例を挙げて説明する。
なお、以下の全ての図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
図１５において、図１に示したものと同一の構成には同一符号を付して、その説明を省略する。また、図１６において、図２に示したものと同一の構成には同一符号を付して、その説明を省略する。
【００７４】
図１５は、本実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。図１６は、本実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
本実施形態の液晶表示装置（表示装置）１５０は、バックライト（光源）１１と、第１偏光板１２と、液晶パネル１３と、第２偏光板１４と、光拡散部材１６０とから概略構成されている。
光拡散部材１６０は、光透過性を有する支持基材２０と、支持基材２０の一方の面（背面側の面）２０ａに、粘着層２１を介して積層された光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面（背面側の面）２２ａに形成された複数の遮光層２３と、基材２２の一方の面２２ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部１６１とから概略構成されている。
光拡散部１６１は、上述の光拡散部２４と同様の構造をなし、基材２２側（支持基材２０側）に光射出端面１６１ａを有するとともに基材２２側と反対側に光射出端面１６１ａの面積よりも大きい面積の光入射端面１６１ｂを有している。
また、光拡散部１６１の光射出端面１６１ａから光入射端面１６１ｂまでの高さが遮光層２３の層厚よりも大きくなっている。
また、遮光層２３と光拡散部１６１の側面１６１ｃとで区画される空間が中空部１６２であり、中空部１６２に、空気等の気体が満たされている。
【００７５】
光拡散部１６１は、基材２２の一方の面２２ａに塗布したネガ型感光性樹脂を硬化してなるものである。
光拡散部１６１を構成するネガ型感光性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の光透過性および感光性を有する有機材料に、アクリル系樹脂の微粒子や、メチン染料、ベンズイミダゾロン化合物、イソインドリノン化合物、アゾ化合物、キノフタロン化合物等の黄色い色素等からなるＨＥＶ吸収剤が所定量添加されたものが用いられる。
【００７６】
光拡散部１６１は、その光入射端面１６１ｂから入射した高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収し、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を支持基材２０の視認側に透過しないようにする。
ここで、図１７に、アゾ化合物からなる黄色い色素を添加したネガ型感光性樹脂からなる基材の透過スペクトルを示す。図１７から、ネガ型感光性樹脂だけの場合よりも、効果的に高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収していることが分る。なお、ネガ型感光性樹脂のみからなる基材は、波長４００ｎｍ以下の透過率が低下する透過スペクトルを示す。
【００７７】
本実施形態によれば、光拡散部材１６０を構成する光拡散部１６１をＨＥＶ吸収剤が添加されたネガ型感光性樹脂で形成することにより、液晶表示装置１５０の広視野角化を図ることができるとともに、波長５００ｎｍ以下の光の透過量を低減して、観察者の眼精疲労の防止を図ることができる。
【００７８】
本実施形態の光拡散部材１６０も、上述の第一実施形態の光拡散部材１５と同様に製造することができるが、光拡散部を形成する工程において、ＨＥＶ吸収剤が添加された透明ネガレジスト（ネガ型感光性樹脂）を用いる。
【００７９】
なお、本実施形態では、光拡散部材１６０が、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面２２ａに形成された複数の遮光層２３と、基材２２の一方の面２２ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部１６１とを備えてなるものである場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されるものではない。本実施形態にあっては、光拡散部材１６０が、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面２２ａに法線方向（Ｚ軸方向）から見てランダムに形成された複数の光拡散部１６１と、基材２２の一方の面２２ａにおいて、光拡散部１６１の形成領域以外の領域に形成された遮光層２３とを備えてなるものであってもよい。
【００８０】
（５）第五実施形態
以下、本発明の第五実施形態について、図１８および図１９を参照して説明する。
本実施形態では、表示装置として透過型の液晶表示素子を備えた液晶表示装置の例を挙げて説明する。
なお、以下の全ての図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
図１８において、図１に示したものと同一の構成には同一符号を付して、その説明を省略する。また、図１９において、図２に示したものと同一の構成には同一符号を付して、その説明を省略する。
【００８１】
図１８は、本実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。図１９は、本実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
本実施形態の液晶表示装置（表示装置）１７０は、バックライト（光源）１１と、第１偏光板１２と、液晶パネル１３と、第２偏光板１４と、光拡散部材１８０とから概略構成されている。
光拡散部材１８０は、光透過性を有する基材１８１と、基材１８１の一方の面（背面側の面）１８１ａに形成された複数の遮光層２３と、基材１８１の一方の面１８１ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部２４とから概略構成されている。
【００８２】
光拡散部材１８０を構成する基材１８１としては、波長３８０〜４９５ｎｍの領域に吸収を有し、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収する透明樹脂製（光透過性）の基材が用いられる。
このような透明樹脂製の基材としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル（ポリメチルメタクリレート、ＰＭＭＡ）等のアクリル系樹脂やポリカーボネート系樹脂からなる透明（光透過性）の基材が用いられる。
【００８３】
また、光拡散部材１８０を構成する基材１８１としては、アクリル系ポリマー、オレフィン系ポリマー、ビニル系ポリマー、セルロース系ポリマー、アミド系ポリマー、フッ素系ポリマー、ウレタン系ポリマー、シリコーン系ポリマー、イミド系ポリマー等からなる適宜な透明樹脂製（光透過性）や強化ガラス等の基材に、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収する吸収剤（以下、「ＨＥＶ吸収剤」と言う。）が所定量添加されたものを用いることもできる。
基材１８１としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム、ポリイミド（ＰＩ）フィルム、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）フィルム等の透明樹脂製や強化ガラス等の基材に、ＨＥＶ吸収剤が所定量添加されたものが好ましく用いられる。
【００８４】
ＨＥＶ吸収剤としては、波長３８０〜４９５ｎｍの領域に吸収を有し、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収するものが用いられる。このようなＨＥＶ吸収剤としては、例えば、アクリル系樹脂の微粒子や、メチン染料、ベンズイミダゾロン化合物、イソインドリノン化合物、アゾ化合物、キノフタロン化合物等の黄色い色素等が用いられる。アクリル系樹脂の微粒子としては、粒径が０．５μｍ〜２０μｍのものが好ましい。
透明樹脂製の基材に、このようなＨＥＶ吸収剤を添加することにより、基材１８１は、青色の波長の高エネルギー可視光（ＨＥＶ）の一部を選択的に吸収して透過量を減少させ、赤色および緑色の波長の光を透過する。
このように、基材１８１は、光拡散部２４の光入射端面２４ｂから入射した高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収し、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を基材１８１の視認側に透過しないようにする。
【００８５】
ただし、基材１８１の厚さは、耐熱性や機械的強度を損なわない程度に薄い方が好ましい。その理由は、基材１８１の厚さが厚くなる程、表示のボヤケが生じるおそれがあるからである。また、基材１８１の全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１の規定で９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られる。
【００８６】
基材１８１は、光拡散部２４の光入射端面２４ｂから入射した高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収し、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を基材１８１の視認側に透過しないようにする。
【００８７】
本実施形態によれば、光拡散部材１８０を構成する基材１８１として、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収するものを用いることにより、液晶表示装置１７０の広視野角化を図ることができるとともに、波長３８０〜４９５ｎｍの光の透過量を低減して、観察者の眼精疲労の防止を図ることができる。
【００８８】
本実施形態の光拡散部材１８０も、上述の第一実施形態の光拡散部材１５と同様に製造することができるが、長尺の基材として、例えば、ＨＥＶ吸収剤が添加されたトリアセチルセルロースからなる基材を用いる。
【００８９】
なお、本実施形態では、光拡散部材１８０が、光透過性を有する基材１８１と、基材１８１の一方の面１８１ａに形成された複数の遮光層２３と、基材１８１の一方の面１８１ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部２４とを備えてなるものである場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されるものではない。本実施形態にあっては、光拡散部材１８０が、光透過性を有する基材１８１と、基材１８１の一方の面１８１ａに法線方向（Ｚ軸方向）から見てランダムに形成された複数の光拡散部２４と、基材１８１の一方の面１８１ａにおいて、光拡散部２４の形成領域以外の領域に形成された遮光層２３とを備えてなるものであってもよい。
【００９０】
（６）第六実施形態
以下、本発明の第六実施形態について、図２０および図２１を参照して説明する。
本実施形態では、表示装置として透過型の液晶表示素子を備えた液晶表示装置の例を挙げて説明する。
なお、以下の全ての図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
図２０において、図１に示したものと同一の構成には同一符号を付して、その説明を省略する。また、図２１において、図２に示したものと同一の構成には同一符号を付して、その説明を省略する。
【００９１】
図２０は、本実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。図２１は、本実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
本実施形態の液晶表示装置（表示装置）１９０は、バックライト（光源）１１と、第１偏光板１２と、液晶パネル１３と、第２偏光板１４と、光拡散部材２００とから概略構成されている。
光拡散部材２００は、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面（背面側の面）２２ａに形成された複数の遮光層２３と、基材２２の一方の面２２ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部２４と、光拡散部２４の光入射端面２４ｂに設けられた粘着層２０１とから概略構成されている。
【００９２】
粘着層２０１を構成する粘着剤としては、例えば、ゴム系、アクリル系、シリコーン系、ビニルアルキルエーテル系、ポリビニルアルコール系、ポリビニルピロリドン系、ポリアクリルアミド系、セルロース系等の粘着剤に、アクリル系樹脂の微粒子や、メチン染料、ベンズイミダゾロン化合物、イソインドリノン化合物、アゾ化合物、キノフタロン化合物等の黄色い色素等からなるＨＥＶ吸収剤が所定量添加されたものが用いられる。
【００９３】
粘着層２０１は、光拡散部２４の光入射端面２４ｂ側から入射する高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を吸収し、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を基材２２の視認側に透過しないようにする。
また、粘着層２０１を介して、光拡散部材２００が液晶パネル１３に積層される。
【００９４】
本実施形態によれば、光拡散部２４の光入射端面２４ｂに、ＨＥＶ吸収剤が添加された粘着層２０１を設けることにより、液晶表示装置１９０の広視野角化を図ることができるとともに、波長３８０〜４９５ｎｍの光の透過量を低減して、観察者の眼精疲労の防止を図ることができる。
【００９５】
本実施形態の光拡散部材２００も、上述の第一実施形態の光拡散部材１５と同様に製造することができるが、光拡散部材の母材と第２偏光板の母材とを貼付する前に、光拡散部材の母材における第２偏光板の母材を貼付する面に、ＨＥＶ吸収剤が添加された粘着剤からなる粘着層を設け、この粘着層を介して、光拡散部材の母材に第２偏光板の母材を貼付する。
【００９６】
なお、本実施形態では、光拡散部材２００が、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面２２ａに形成された複数の遮光層２３と、基材２２の一方の面２２ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部２４とを備えてなるものである場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されるものではない。本実施形態にあっては、光拡散部材２００が、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面２２ａに法線方向（Ｚ軸方向）から見てランダムに形成された複数の光拡散部２４と、基材２２の一方の面２２ａにおいて、光拡散部２４の形成領域以外の領域に形成された遮光層２３とを備えてなるものであってもよい。
【００９７】
（７）第七実施形態
以下、本発明の第七実施形態について、図２２および図２３を参照して説明する。
本実施形態では、表示装置として透過型の液晶表示素子を備えた液晶表示装置の例を挙げて説明する。
なお、以下の全ての図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
図２２において、図１に示したものと同一の構成には同一符号を付して、その説明を省略する。また、図２３において、図２に示したものと同一の構成には同一符号を付して、その説明を省略する。
【００９８】
図２２は、本実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。図２３は、本実施形態の光拡散部材を示す概略断面図である。
本実施形態の液晶表示装置（表示装置）２１０は、バックライト（光源）１１と、第１偏光板１２と、液晶パネル１３と、第２偏光板１４と、光拡散部材２２０とから概略構成されている。
光拡散部材２２０は、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面（背面側の面）２２ａに形成された複数の遮光層２３と、基材２２の一方の面２２ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部２４と、基材２２の視認側の面（一方の面２２ａとは反対側の面）２２ｂに形成（積層）された光学多層膜２２１とから概略構成されている。
【００９９】
光学多層膜２２１としては、高屈折率層と低屈折率層が交互に複数積層されたものが用いられる。
このような光学多層膜２２１としては、例えば、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）が多層にして積層されたものが挙げられる。
【０１００】
光学多層膜２２１は、光拡散部２４の光入射端面２４ｂから入射した高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を選択的に反射し（液晶パネル１３側に反射する）、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を基材２２の視認側に透過しないようにする。
【０１０１】
本実施形態によれば、光拡散部材２２０を構成する基材２２の視認側の面２２ｂに、高屈折率層と低屈折率層が交互に複数積層されて構成される光学多層膜２２１を積層することにより、液晶表示装置２１０の広視野角化を図ることができるとともに、波長３８０〜４９５ｎｍの光の透過量を低減して、観察者の眼精疲労の防止を図ることができる。
【０１０２】
本実施形態の光拡散部材２２０も、上述の第一実施形態の光拡散部材１５と同様に製造することができるが、長尺の基材として、例えば、基材と、基材の他方の面（視認側となる面）に積層された光学多層膜とから構成される基材を用いる。また、本実施形態では、視認側の最外層をなす光学多層膜２２１が、高エネルギー可視光（ＨＥＶ）を反射するので、液晶パネル１３から射出された光が、光拡散部材２２０のその他の部材（その他の層）で吸収または反射されることがないので、表示が劣化することがない。
【０１０３】
なお、本実施形態では、光拡散部材２２０が、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面２２ａに形成された複数の遮光層２３と、基材２２の一方の面２２ａにおいて遮光層２３の形成領域以外の領域に形成された光拡散部２４とを備えてなるものである場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されるものではない。本実施形態にあっては、光拡散部材２２０が、光透過性を有する基材２２と、基材２２の一方の面２２ａに法線方向（Ｚ軸方向）から見てランダムに形成された複数の光拡散部２４と、基材２２の一方の面２２ａにおいて、光拡散部２４の形成領域以外の領域に形成された遮光層２３とを備えてなるものであってもよい。
【０１０４】
また、本実施形態では、光拡散部材２２０が、液晶パネル１３に直接接合されている場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されるものではない。本実施形態にあっては、光拡散部材２２０が、粘着層を介して、液晶パネル１３に貼付されていてもよい。
【産業上の利用可能性】
【０１０５】
本発明は、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイ等の各種表示装置に利用可能である。
【符号の説明】
【０１０６】
１０・・・液晶表示装置（表示装置）、１１・・・バックライト（光源）、１２・・・第１偏光板、１３・・・液晶パネル、１４・・・第２偏光板、１５・・・光拡散部材、１６・・・ＴＦＴ基板、１７・・・カラーフィルター基板、１８・・・液晶層、１９・・・カラーフィルター、２０・・・支持基材、２１・・・粘着層、２２・・・基材、２３・・・黒色層（遮光層）、２４・・・光拡散部、２５・・・中空部、３１・・・ＴＦＴ基板、３２・・・カラーフィルター基板、３３・・・液晶層、３４・・・スペーサー、３５・・・透明基板、３６・・・半導体層、３７・・・ゲート電極、３８・・・ソース電極、３９・・・ドレイン電極、４０・・・ＴＦＴ、４１・・・ゲート絶縁膜、４２・・・第１層間絶縁膜、４３，４４，４７・・・コンタクトホール、４５・・・第２層間絶縁膜、４６・・・画素電極、４８・・・配向膜、４９・・・透明基板、５０・・・ブラックマトリクス、５１・・・カラーフィルター、５２・・・平坦化層、５３・・・対向電極、５４・・・配向膜、６１・・・光源、６２・・・導光板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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