(57)【要約】【課題】接触式吸引保持器と非接触式吸引保持器とを段取替えする際の効率を向上させることができる板状物の搬送装置および切削装置を提供すること。【解決手段】板状物の搬送装置は、板状物を保持する保持手段１０と、保持手段１０を所定の位置からチャックテーブルへと移動させる移動手段と、を備える。保持手段１０は、移動手段に連結した支持基台部１１と、支持基台部１１の下面１１ｂに配設された、板状物の上面Ｗａに接触して吸引保持する接触式吸引保持器１２と、支持基台部１１の下面１１ｂに配設された、エアーを噴出することで負圧を生成し板状物の上面Ｗａに対し非接触で吸引保持する非接触式吸引保持器１３と、接触式吸引保持器１２と非接触式吸引保持器１３のうち、一方を板状物に近接した作用位置に、他方を板状物から離間した非作用位置に位置付ける選択手段１４と、を有する。【選択図】図２
2015170719.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状物を保持する保持手段と、前記保持手段を所定の位置からチャックテーブルへと移動させる移動手段と、を備える板状物の搬送装置において、
前記保持手段は、
前記移動手段に連結した支持基台部と、
前記支持基台部の下面に配設された、板状物の上面に接触して吸引保持する接触式吸引保持器と、
前記支持基台部の下面に配設された、エアーを噴出することで負圧を生成し板状物の上面に対し非接触で吸引保持する非接触式吸引保持器と、
前記接触式吸引保持器と前記非接触式吸引保持器のうち、一方を板状物に近接した作用位置に、他方を板状物から離間した非作用位置に位置付ける選択手段と、を有する板状物の搬送装置。
【請求項２】
前記支持基台部に支持され、前記非接触式吸引保持器に保持された前記板状物の水平移動を規制する規制手段を前記板状物の外周領域に備えた請求項１記載の板状物の搬送装置。
【請求項３】
中央が凸状に湾曲した板状物を搬送する時に前記作用位置に位置づけられて板状物を吸引保持する前記接触式吸引保持器は、板状物の湾曲が外周部に比較して少ない板状物に対し中央寄りの位置に配設される請求項１または２記載の板状物の搬送装置。
【請求項４】
板状物が、被加工物を環状のフレームに装着された粘着テープに貼着した被加工物ユニットの時は、前記作用位置に位置づけられた前記接触式吸引保持器が前記フレームを吸引保持する請求項１または２記載の板状物の搬送装置。
【請求項５】
板状物を保持するチャックテーブルと、前記チャックテーブルに保持された板状物を切削ブレードで切削する切削手段と、を備える切削装置であって、
複数の板状物を収容するカセットを載置するカセット載置台と、切削された板状物を洗浄テーブルで保持して洗浄する洗浄手段と、前記カセット載置台に載置された前記カセットから板状物を搬出入する保持ハンドと、前記保持ハンドと前記チャックテーブルと前記洗浄テーブルとの間で板状物を搬送する搬送手段と、をさらに備え、
前記搬送手段は、請求項１から４のいずれか一項に記載の板状物の搬送装置である切削装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、板状物の搬送装置および切削装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウェーハは、抗折強度の高いチップを得るために、先ダイシング（いわゆるＤＢＧ（Dicing  Before  Grinding））という加工方法により加工される。先ダイシングでは、ウェーハのデバイスが形成された上面（デバイス面）側からハーフカットを施した後、裏面側を研削してチップに分離する。ハーフカットで用いられる切削装置（ダイサー）は、ウェーハのデバイス面を非接触式吸引保持器（いわゆるベルヌーイパッド）で保持し、デバイスを傷つけることなくデバイス面を吸引してウェーハを搬送する（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−１１９７８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、例えばＷＬ−ＣＳＰ（Wafer  Level  Chip  Size  Package）と呼ばれる、ウェーハの上面に樹脂が塗布されたデバイスでは、ウェーハが反っていたり、上面に樹脂が塗布されていないウェーハに比べて重量があったりするため、非接触式吸引保持器での安定した吸引が難しい。そこで、反っていたり重量があったりするウェーハを搬送する際には、ウェーハの上面に接触して吸引保持する接触式吸引保持器（いわゆるバキュームパッド）を用いる（ウェーハの上面に樹脂が塗布されているため、バキュームパッドが接触してもデバイスを傷つけない）。よって、上面に樹脂が塗布されていないウェーハ、上面に樹脂が塗布されているウェーハの二種類のウェーハを加工する場合、それぞれに対応した非接触式吸引保持器と接触式吸引保持器とを設置する必要があり、加工対象のウェーハに応じて各パッドを段取替え（すなわち交換）するには多くの時間がかかるため、効率的ではなかった。
【０００５】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、接触式吸引保持器と非接触式吸引保持器とを段取替えする際の効率を向上させることができる板状物の搬送装置および切削装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、板状物を保持する保持手段と、保持手段を所定の位置からチャックテーブルへと移動させる移動手段と、を備える板状物の搬送装置において、保持手段は、移動手段に連結した支持基台部と、支持基台部の下面に配設された、板状物の上面に接触して吸引保持する接触式吸引保持器と、支持基台部の下面に配設された、エアーを噴出することで負圧を生成し板状物の上面に対し非接触で吸引保持する非接触式吸引保持器と、接触式吸引保持器と非接触式吸引保持器のうち、一方を板状物に近接した作用位置に、他方を板状物から離間した非作用位置に位置付ける選択手段と、を有することを特徴とする。
【０００７】
また、上記板状物の搬送装置において、支持基台部に支持され、非接触式吸引保持器に保持された板状物の水平移動を規制する規制手段を板状物の外周領域に備えたことが好ましい。
【０００８】
また、上記板状物の搬送装置において、中央が凸状に湾曲した板状物を搬送する時に作用位置に位置づけられて板状物を吸引保持する接触式吸引保持器は、板状物の湾曲が外周部に比較して少ない板状物に対し中央寄りの位置に配設されることが好ましい。
【０００９】
また、上記板状物の搬送装置において、板状物が、被加工物を環状のフレームに装着された粘着テープに貼着した被加工物ユニットの時は、作用位置に位置づけられた接触式吸引保持器がフレームを吸引保持することが好ましい。
【００１０】
また、本発明は、板状物を保持するチャックテーブルと、チャックテーブルに保持された板状物を切削ブレードで切削する切削手段と、を備える切削装置であって、複数の板状物を収容するカセットを載置するカセット載置台と、切削された板状物を洗浄テーブルで保持して洗浄する洗浄手段と、カセット載置台に載置されたカセットから板状物を搬出入する保持ハンドと、保持ハンドとチャックテーブルと洗浄テーブルとの間で板状物を搬送する搬送手段と、をさらに備え、搬送手段は、上記板状物の搬送装置であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、選択手段によって、非接触式吸引保持器および接触式吸引保持器のうち、一方を選択的に作用位置に位置付け、かつ他方を選択的に非作用位置に位置付けるので、非接触式吸引保持器と接触式吸引保持器との段取替えが容易となる。したがって、本発明によれば、接触式吸引保持器と非接触式吸引保持器とを段取替えする際の効率を向上させることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、実施形態１に係る搬送装置の構成例を示す図である。
【図２】図２は、実施形態１に係る搬送装置の接触式吸引保持器により板状物を吸引保持している状態を示す断面図である。
【図３】図３は、実施形態１に係る搬送装置の非接触式吸引保持器により板状物を吸引保持している状態を示す断面図である。
【図４】図４は、実施形態２に係る搬送装置の構成例を示す図である。
【図５】図５は、実施形態３に係る切削装置の構成例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明を実施するための形態（実施形態）につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換または変更を行うことができる。
【００１４】
〔実施形態１〕
図１は、実施形態１に係る搬送装置の構成例を示す図である。図２は、実施形態１に係る搬送装置の接触式吸引保持器により板状物を吸引保持している状態を示す断面図である。図３は、実施形態１に係る搬送装置の非接触式吸引保持器により板状物を吸引保持している状態を示す断面図である。図１に示す板状物の搬送装置１は、板状物が湾曲板状物Ｗ１（図２参照）である場合には、湾曲板状物Ｗ１に対して接触して吸引保持し、湾曲板状物Ｗ１を搬送するものである。また、板状物の搬送装置１は、板状物が平坦板状物Ｗ２（図３参照）である場合には、平坦板状物Ｗ２に対して非接触で吸引保持し、平坦板状物Ｗ２を搬送するものである。搬送装置１は、図１に示すように、保持手段１０と、移動手段２０と、を含んで構成されている。
【００１５】
ここで、湾曲板状物Ｗ１は、図２に示すように、後述する接触式吸引保持器１２と接触して、接触式吸引保持器１２により吸引保持される板状物である。湾曲板状物Ｗ１は、例えば、半導体素子を構成する端子や配線などが上面Ｗａに形成され、これら端子や配線などを封止する封止樹脂が上面Ｗａに塗布された、いわゆるＷＬ−ＣＳＰ（Wafer  Level  Chip  Size  Package）等である。湾曲板状物Ｗ１は、搬送装置１により搬送可能な板状に形成されており、円形状の平板状、すなわち円板状に形成されている。湾曲板状物Ｗ１は、中心から外周に向かうにしたがって、徐々に鉛直方向の上方に向けて反り上がるように湾曲している。つまり、湾曲板状物Ｗ１は、中央が鉛直方向の下方に凸状に湾曲している。なお、湾曲板状物Ｗ１は、接触式吸引保持器１２が吸着して吸引保持することができる板状物であればよいので、ＷＬ−ＣＳＰの他に、上面Ｗａが樹脂などで覆われた板状物であってもよい。一方、平坦板状物Ｗ２は、図３に示すように、後述する非接触式吸引保持器１３と非接触で、非接触式吸引保持器１３により吸引保持される板状物である。平坦板状物Ｗ２は、特に限定されないが、半導体デバイスや光デバイスが上面Ｗａに形成された半導体ウェーハや光デバイスウェーハ、無機材料基板、延性樹脂材料基板、液晶ディスプレイドライバ等の各種電子部品等、各種加工材料である。平坦板状物Ｗ２は、湾曲板状物Ｗ１と同様に、搬送装置１により搬送可能な板状に形成されており、円板状に形成されている。平坦板状物Ｗ２は、水平面に対して平行で平坦に形成されている。
【００１６】
保持手段１０は、各板状物Ｗ１、Ｗ２を吸引保持するものである。保持手段１０は、図１および図２に示すように、支持基台部１１と、接触式吸引保持器１２と、非接触式吸引保持器１３と、選択手段１４と、規制手段１５と、固定手段１６と、を備えている。
【００１７】
支持基台部１１は、移動手段２０により移動させられるものである。支持基台部１１は、移動手段２０に連結されている。支持基台部１１は、水平面に対して平行な円板状に形成されている。支持基台部１１の鉛直方向の上面１１ａ側には、選択手段１４と、移動手段２０の後述するアーム部２１と、が取り付けられている。支持基台部１１の鉛直方向の下面１１ｂ側には、接触式吸引保持器１２と、非接触式吸引保持器１３と、規制手段１５と、が取り付けられている。支持基台部１１には、図２に示すように、接触式吸引保持器１２に対応する位置に挿通穴１１ｃが形成され、非接触式吸引保持器１３に対応する位置に取付穴１１ｄおよび挿通穴１１ｅが形成され、規制手段１５に対応する位置に装着穴１１ｆが形成されている。
【００１８】
挿通穴１１ｃは、選択手段１４の後述する軸部１４ｄが挿通される貫通穴である。挿通穴１１ｃは、鉛直方向に対して平行に貫通して形成されており、軸部１４ｄが鉛直方向に対して平行に上下動可能な大きさに形成されている。挿通穴１１ｃは、支持基台部１１に対して、挿通穴１１ｅより中央側、つまり中央寄りの位置に形成されている。挿通穴１１ｃは、支持基台部１１の周方向に等間隔をおいて三つ形成されている。取付穴１１ｄは、非接触式吸引保持器１３を固定するための固定手段１６が挿通される貫通穴である。取付穴１１ｄは、鉛直方向に対して平行に貫通して形成されており、固定手段１６の軸部１６ａが挿通可能で、かつ固定手段１６の頭部１６ｂが挿通できない大きさに形成されている。取付穴１１ｄは、挿通穴１１ｅを中心とする同心円上の周方向に等間隔をおいて三つ形成されている。つまり、取付穴１１ｄは、挿通穴１１ｅの周囲に配置されている。挿通穴１１ｅは、後述するエアー供給配管５１が挿通される貫通穴である。挿通穴１１ｅは、鉛直方向に対して平行に貫通して形成されており、エアー供給配管５１が挿通可能な大きさに形成されている。挿通穴１１ｅは、支持基台部１１に対して、挿通穴１１ｃより外周側、つまり外周寄りの位置に形成されている。挿通穴１１ｅは、支持基台部１１の周方向に等間隔をおいて三つ形成されている。装着穴１１ｆは、規制手段１５の後述する支持軸部１５ｃが挿通される貫通穴である。装着穴１１ｆは、鉛直方向に対して平行に貫通して形成されており、規制手段１５の支持軸部１５ｃが挿通可能で、かつ規制手段１５の鍔部１５ｂが挿通できない大きさに形成されている。装着穴１１ｆは、支持基台部１１に対して、挿通穴１１ｅより外周側に形成されている。装着穴１１ｆは、支持基台部１１の周方向に等間隔をおいて三つ形成されている。また、装着穴１１ｆは、周方向において、挿通穴１１ｅに対して等間隔をおいて配置されている。
【００１９】
接触式吸引保持器１２は、湾曲板状物Ｗ１の上面Ｗａに接触して、湾曲板状物Ｗ１を吸引保持するものである。接触式吸引保持器１２は、支持基台部１１の下面１１ｂに対して、選択手段１４により鉛直方向に対して平行に上下動可能に支持されている。つまり、接触式吸引保持器１２は、支持基台部１１の下面１１ｂに配設されている。また、接触式吸引保持器１２は、支持基台部１１に対して、非接触式吸引保持器１３より中央側、すなわち中央寄りの位置に配設されている。接触式吸引保持器１２は、支持基台部１１の周方向に等間隔をおいて三つ配置されている。接触式吸引保持器１２は、吸着パッド１２ａと、連結部１２ｂと、を一体に有している。
【００２０】
吸着パッド１２ａは、鉛直方向の上方から下方に向けて徐々に拡径される円錐台形状に形成されており、いわゆる吸盤状に形成されている。連結部１２ｂは、軸部１４ｄの鉛直方向の下端部に対して、着脱可能に取り付けられている。連結部１２ｂは、軸部１４ｄのエアー通路部１４ｆと連通し、吸着パッド１２ａとも連通しており、エアー通路部１４ｆと吸着パッド１２ａとを連通させる。連結部１２ｂは、軸部１４ｄの外径、すなわち支持基台部１１の挿通穴１１ｃの穴径より大きい大きさである。つまり、連結部１２ｂは、挿通穴１１ｃに対して挿通することができない大きさに形成されている。
【００２１】
非接触式吸引保持器１３は、エアーを噴出することで負圧を生成し、平坦板状物Ｗ２の上面Ｗａに対し非接触で、平坦板状物Ｗ２を吸引保持するものである。非接触式吸引保持器１３は、ベルヌーイの原理によって平坦板状物Ｗ２を吸引保持する、いわゆるベルヌーイチャックである。非接触式吸引保持器１３は、支持基台部１１の下面１１ｂに対して、固定手段１６により固定されている。つまり、非接触式吸引保持器１３は、支持基台部１１の下面１１ｂに配設されている。非接触式吸引保持器１３は、支持基台部１１の周方向に等間隔をおいて三つ配置されている。非接触式吸引保持器１３は、水平方向の幅より鉛直方向の高さが小さい扁平な円柱状に形成されている。非接触式吸引保持器１３は、鉛直方向の厚みが、接触式吸引保持器１２の鉛直方向の厚みより薄くなっている。非接触式吸引保持器１３は、取付穴１３ａと、エアー流入部１３ｂと、エアー流路１３ｃと、エアー噴出口１３ｄと、案内部１３ｅと、弾性部１３ｆと、を一体に有している。
【００２２】
取付穴１３ａは、固定手段１６の軸部１６ａと螺合するねじ穴である。取付穴１３ａは、支持基台部１１の下面１１ｂと対向する面（鉛直方向の上端面）に形成されている。エアー流入部１３ｂは、エアー供給配管５１のエアー通路部５１ａと連通し、図１に示すエアー供給源３０から供給されるエアーが流入する。エアー流入部１３ｂは、支持基台部１１の下面１１ｂと対向する面（鉛直方向の上端面）に形成されている。エアー流入部１３ｂは、鉛直方向の上端面の中央部に配置されている。エアー流路１３ｃは、エアー流入部１３ｂとエアー噴出口１３ｄとを連通している。エアー噴出口１３ｄは、流入したエアーを平坦板状物Ｗ２の上面Ｗａに向けて噴射する噴射口である。エアー噴出口１３ｄは、平坦板状物Ｗ２の上面Ｗａと対向する面（鉛直方向の下端面）に形成されている。エアー噴出口１３ｄは、鉛直方向視で円形状に形成されており、エアー流路１３ｃから鉛直方向の下端面に向けて、すなわち鉛直方向の上方から下方に向けて徐々に拡径して形成されている。エアー噴出口１３ｄは、鉛直方向の下端面の中央部に配置されている。エアー噴出口１３ｄは、非接触式吸引保持器１３により平坦板状物Ｗ２が吸引保持されると、図３に示すように、鉛直方向の下端面と上面Ｗａとの間で、鉛直方向の下端面に沿って放射状にエアーを外部に噴出する（同図に示す矢印ｆ）。案内部１３ｅは、流入したエアーをエアー噴出口１３ｄから放射状に外部に噴出するように案内するものである。案内部１３ｅの鉛直方向の下端面は、水平方向に対して平行で平坦に形成されており、鉛直方向視において、エアー噴出口１３ｄより小さい円形状に形成されている。案内部１３ｅの鉛直方向の下端面の位置は、非接触式吸引保持器１３の鉛直方向の下端面の位置より上方に位置している。弾性部１３ｆは、非接触式吸引保持器１３の鉛直方向の下端面を構成している。弾性部１３ｆは、例えば、非接触式吸引保持器１３により平坦板状物Ｗ２が吸引保持された瞬間に、平坦板状物Ｗ２が非接触式吸引保持器１３に接触しても、平坦板状物Ｗ２および上面Ｗａに形成されたデバイス等の破損を抑制することができる弾性を有している。
【００２３】
選択手段１４は、支持基台部１１に対して、接触式吸引保持器１２を鉛直方向に平行に上下動可能（つまり昇降可能）に支持している。また、選択手段１４は、吸引保持する対象が湾曲板状物Ｗ１である場合には、図２に示すように、接触式吸引保持器１２を非接触式吸引保持器１３より鉛直方向の下方に位置付けることで、接触式吸引保持器１２を湾曲板状物Ｗ１の上面Ｗａに近接した作用位置に位置付け、非接触式吸引保持器１３を湾曲板状物Ｗ１の上面Ｗａから離間した非作用位置に位置付ける。一方、選択手段１４は、吸引保持する対象が平坦板状物Ｗ２である場合には、図３に示すように、接触式吸引保持器１２を非接触式吸引保持器１３より鉛直方向の上方に位置付けることで、非接触式吸引保持器１３を平坦板状物Ｗ２の上面Ｗａに近接した作用位置に位置付け、接触式吸引保持器１２を平坦板状物Ｗ２の上面Ｗａから離間した非作用位置に位置付ける。つまり、選択手段１４は、接触式吸引保持器１２と非接触式吸引保持器１３のうち、一方を湾曲板状物Ｗ１または平坦板状物Ｗ２の上面Ｗａに近接した作用位置に、他方を湾曲板状物Ｗ１または平坦板状物Ｗ２の上面Ｗａから離間した非作用位置に位置付ける。選択手段１４は、昇降部１４ａと、支持部１４ｂと、を含んで構成されている。
【００２４】
昇降部１４ａは、支持基台部１１に対して、鉛直方向に平行に昇降自在に支持されるものである。昇降部１４ａは、規制部１４ｃと、規制部１４ｃから鉛直方向の下方に延在され、雄ねじが形成された軸部１４ｄと、規制部１４ｃから鉛直方向の上方に延在され、図１に示すエアー吸引配管６１に接続される接続部１４ｅと、を一体に有している。また、昇降部１４ａは、図１に示すエアー吸引経路６０と連通するエアー通路部１４ｆを有する円筒状に形成されている。規制部１４ｃは、鉛直方向視において、支持基台部１１の挿通穴１１ｃの穴径より大きく、支持部１４ｂより小さい六角形状に形成されている。軸部１４ｄの外周には、鉛直方向の全長にわたって、雄ねじが形成されている。軸部１４ｄの鉛直方向の下端部には、連結部１２ｂを介して吸着パッド１２ａが連結されている。
【００２５】
支持部１４ｂは、鉛直方向に平行に貫通するねじ穴１４ｇを有する円環状に形成されている。支持部１４ｂは、鉛直方向視において、支持基台部１１の挿通穴１１ｃの穴径より大きく、規制部１４ｃより大きい大きさである。ねじ穴１４ｇには、軸部１４ｄの雄ねじと螺合する雌ねじが形成されている。支持部１４ｂは、ねじ穴１４ｇと挿通穴１１ｃとが連通する位置で、支持基台部１１の上面１１ａに固定されている。
【００２６】
ここで、選択手段１４は、昇降部１４ａが下降する方向に回転（図２に示す矢印ｃ）されると、規制部１４ｃと支持部１４ｂとが当接するまで、軸部１４ｄを鉛直方向の下方に向けて移動させ、吸着パッド１２ａを下降させる。また、選択手段１４は、昇降部１４ａが下降する方向に回転され、規制部１４ｃと支持部１４ｂとが当接すると、昇降部１４ａが下降する方向に回転することを規制し、吸着パッド１２ａを作用位置に位置付ける（すなわち接触式吸引保持器１２を作用位置に位置付ける）。一方、選択手段１４は、昇降部１４ａが上昇する方向に回転（図３に示す矢印ｄ）されると、支持基台部１１の下面１１ｂと連結部１２ｂとが当接するまで、軸部１４ｄを鉛直方向の上方に向けて移動させ、吸着パッド１２ａを上昇させる。また、選択手段１４は、昇降部１４ａが上昇する方向に回転され、下面１１ｂと連結部１２ｂとが当接すると、昇降部１４ａが上昇する方向に回転することを規制し、吸着パッド１２ａを非作用位置に位置付ける（すなわち接触式吸引保持器１２を非作用位置に位置付ける）。つまり、選択手段１４は、接触式吸引保持器１２を作用位置に位置付けると、非接触式吸引保持器１３を非作用位置に位置付け、接触式吸引保持器１２を非作用位置に位置付けると、非接触式吸引保持器１３を作用位置に位置付ける。
【００２７】
規制手段１５は、非接触式吸引保持器１３に保持された平坦板状物Ｗ２の水平移動を規制するものである。規制手段１５は、平坦板状物Ｗ２の外周領域に備えられている。つまり、規制手段１５は、平坦板状物Ｗ２の外周領域と対向する位置に配設されている。規制手段１５は、支持基台部１１の周方向に等間隔をおいて三つ配置されている。ここで、外周領域とは、平坦板状物Ｗ２の少なくとも外周を含む領域であり、好ましくは外周より径方向の内側の一部（例えばデバイスが形成されていない部分）も含む領域である。規制手段１５は、図２に示すように、ブロック部１５ａと、鍔部１５ｂと、支持軸部１５ｃと、を備えている。
【００２８】
ブロック部１５ａは、図３に示すように、非接触式吸引保持器１３により吸引保持される平坦板状物Ｗ２の上面Ｗａと対向し、平坦板状物Ｗ２のエッジ（外周の縁）に接触する、いわゆるフリクションパッドである。ブロック部１５ａは、鉛直方向の下端面が、上面Ｗａと対向する対向面１５ｄである。対向面１５ｄは、支持基台部１１の径方向の外側から内側に向かうにしたがって、徐々に支持基台部１１の下面１１ｂとの間隔が狭くなる傾斜面である。対向面１５ｄは、非接触式吸引保持器１３により平坦板状物Ｗ２が吸引保持された際に、例えば、平坦板状物Ｗ２が径方向に移動することを規制し、かつ平坦板状物Ｗ２が周方向に移動（すなわち水平面内で回転）することを規制することができる程度の摩擦係数を有している。鍔部１５ｂは、鉛直方向視において、支持基台部１１の装着穴１１ｆの穴径より大きい。鍔部１５ｂは、支持軸部１５ｃと一体に形成されている。鍔部１５ｂは、支持基台部１１に対して、装着穴１１ｆから支持軸部１５ｃが抜け落ちないように、支持軸部１５ｃを支持する。支持軸部１５ｃは、鍔部１５ｂから鉛直方向の下方に延在され、装着穴１１ｆの穴径より小さい円柱状に形成されている。支持軸部１５ｃは、装着穴１１ｆに対して、鉛直方向に上下移動自在に挿通されている。支持軸部１５ｃの鉛直方向の下端部には、ブロック部１５ａが挿入固定されている。つまり、規制手段１５は、支持基台部１１に対して上下動可能に支持されている。
【００２９】
固定手段１６は、図２に示すように、支持基台部１１の下面１１ｂに対して、非接触式吸引保持器１３を固定するものである。固定手段１６は、非接触式吸引保持器１３の取付穴１３ａの雌ねじと螺合する雄ねじが形成された軸部１６ａと、支持基台部１１の取付穴１１ｄの鉛直方向の上端側で支持基台部１１と係合する頭部１６ｂと、を一体に有している。固定手段１６は、取付穴１１ｄ、１３ａに軸部１６ａが挿入され、取付穴１３ａに対して締め付けられることで、支持基台部１１の下面１１ｂに非接触式吸引保持器１３を固定する。
【００３０】
移動手段２０は、図１に示すように、保持手段１０を鉛直方向に平行に昇降させ、保持手段１０を水平面内で旋回させるものであり、保持手段１０を所定の位置からチャックテーブルへと移動させるものである。ここで、移動手段２０は、各板状物Ｗ１、Ｗ２に対して施される加工処理において、前工程（例えば、各板状物Ｗ１、Ｗ２の取り出し工程、切削工程、研削工程、研磨工程、位置合わせ工程など）が終了した各板状物Ｗ１、Ｗ２を、前工程の領域から後工程（例えば、洗浄工程、乾燥工程、各板状物Ｗ１、Ｗ２の収容工程など）を行う領域まで移動させるものであってもよい。つまり、移動手段２０は、保持手段１０により各板状物Ｗ１、Ｗ２を吸引保持するための位置（搬入位置）から、各板状物Ｗ１、Ｗ２を目的とする位置（搬出位置）まで移動させるものである。移動手段２０は、アーム部２１と、昇降部２２と、旋回部２３と、を含んで構成されている。
【００３１】
アーム部２１は、昇降部２２の鉛直方向の上端側から水平方向に延在されている。アーム部２１の一端には、支持基台部１１の上面１１ａに取り付けられる連結部２１ａが一体的に設けられている。アーム部２１は、支持基台部１１を支持しており、昇降部２２に支持されている。連結部２１ａは、支持基台部１１の上面１１ａに取り付けられ、固定されている。連結部２１ａは、支持基台部１１の中央に配置されている。昇降部２２は、鉛直方向に沿って昇降（同図に示す矢印ａ）することができる、例えばエアーピストン等である。昇降部２２の鉛直方向の上端側には、アーム部２１が設けられている。昇降部２２は、鉛直方向に沿って昇降することで、保持手段１０を昇降させる。旋回部２３は、モータ等の回転駆動源などを含み、昇降部２２を水平面内で回転（同図に示す矢印ｂ）させることで、保持手段１０を旋回部２３周りに旋回させる。
【００３２】
ここで、エアー供給源３０は、空気（エアー）を非接触式吸引保持器１３へ供給するものである。エアー供給源３０は、図１に示すように、エアーを供給するエアー供給路３１と、エアーの供給量を制御するエアー制御弁３２と、エアーをエアー供給経路５０とエアー供給路３３とに分配するエアー分配器３４と、エアーを真空吸引源４０へ供給するエアー供給路３３と、エアー供給路３３のエアーの供給量を制御するエアー制御弁３５と、を含んで構成されている。真空吸引源４０は、エアー供給路３３から供給されるエアーによって負圧を生成する、いわゆるエジェクタである。真空吸引源４０には、エアー吸引経路６０が接続されている。
【００３３】
エアー供給経路５０は、非接触式吸引保持器１３に接続されるエアー供給配管５１と、エアー供給配管５１に供給されるエアーの供給量を制御するエアー制御弁５２と、を備えている。エアー供給配管５１は、移動手段２０により保持手段１０の位置が変化する際に、その位置の変化に追従することができるように、例えばフレキシブルチューブ等の柔軟な配管である。エアー供給配管５１は、図２に示すように、エアー供給配管５１の先端の外周に形成された雄ねじと、エアー流入部１３ｂに形成された雌ねじとが螺合することで、エアー供給配管５１のエアー通路部５１ａとエアー流入部１３ｂとを連通する。
【００３４】
エアー吸引経路６０は、図１に示すように、接触式吸引保持器１２に接続されるエアー吸引配管６１と、エアー吸引配管６１の逆流を防止する逆止弁６２と、を備えている。エアー吸引配管６１は、エアー供給配管５１と同様に、柔軟な配管である。エアー吸引配管６１は、図２に示すように、エアー吸引配管６１内に接続部１４ｅが挿入され、接続部１４ｅが挿入された部分のエアー吸引配管６１の外周に結束バンド等を緊縛することで、エアー吸引配管６１とエアー通路部１４ｆとを連通する。つまり、エアー吸引配管６１は、昇降部１４ａに接続されている。また、エアー吸引配管６１は、昇降部１４ａの回転に伴ってねじれないように、昇降部１４ａの回転に追従して回転する回転機構を有することが好ましい。
【００３５】
次に、以上のように構成された板状物の搬送装置１の動作について説明する。
【００３６】
湾曲板状物Ｗ１を搬送する場合、図２に示すように、搬送装置１は、例えば作業員により昇降部１４ａが下降する方向に回転（同図に示す矢印ｃ）させられ、規制部１４ｃが支持部１４ｂに当接することで、接触式吸引保持器１２を作用位置に位置付ける。ここで、搬送装置１では、非接触式吸引保持器１３が接触式吸引保持器１２より鉛直方向の上方の非作用位置に位置付けられる。
【００３７】
搬送装置１は、旋回部２３により保持手段１０を旋回させ、前工程の所定の位置（搬入位置）、例えば、前工程における湾曲板状物Ｗ１を複数収容するカセットや湾曲板状物Ｗ１が保持されたチャックテーブルの上方まで、保持手段１０を移動させる。ここで、搬送装置１では、支持基台部１１の下面１１ｂと湾曲板状物Ｗ１の上面Ｗａとが対向され、鉛直方向視において、保持手段１０と湾曲板状物Ｗ１とが重なる。また、エアー供給経路５０では、エアー制御弁５２が閉止され、エアー供給配管５１へのエアーの供給が停止される。また、真空吸引源４０では、エアー供給路３３のエアー制御弁３５が開放され、エアー供給源３０からのエアーの供給により負圧が生成される。また、真空吸引源４０では、エアー制御弁３５によってエアー供給源３０からのエアーの供給量が調整されることで、生成される負圧が調整される。また、エアー吸引経路６０では、真空吸引源４０の負圧により、エアー吸引配管６１を介して吸着パッド１２ａからエアーが吸引される。
【００３８】
搬送装置１は、昇降部２２により保持手段１０を下降させ、保持手段１０を湾曲板状物Ｗ１へ接近させ、接触式吸引保持器１２を上面Ｗａに接触させる。ここで、搬送装置１では、吸着パッド１２ａが上面Ｗａに接触した状態で、湾曲板状物Ｗ１が吸引保持される。また、搬送装置１では、接触式吸引保持器１２が非接触式吸引保持器１３より中央寄りに配設されているため、湾曲板状物Ｗ１の外周側より平坦な中央側、すなわち湾曲板状物Ｗ１の湾曲が外周側に比較して少ない中央側が吸着パッド１２ａで吸引保持される。
【００３９】
搬送装置１は、昇降部２２により保持手段１０を上昇させ、湾曲板状物Ｗ１を上昇させた後、旋回部２３により保持手段１０を旋回させ、後工程の所定の位置（搬出位置）、例えば、後工程において湾曲板状物Ｗ１を複数収容するカセットや湾曲板状物Ｗ１を保持するチャックテーブルの上方まで移動させる。ここで、搬送装置１では、チャックテーブルに対して、湾曲板状物Ｗ１が対向配置される。
【００４０】
搬送装置１は、湾曲板状物Ｗ１がチャックテーブルに接触するまで、昇降部２２により保持手段１０を下降させた後、エアー制御弁３５を閉止する。ここで、搬送装置１では、エアー供給源３０から真空吸引源４０に供給されるエアーの供給が遮断され、接触式吸引保持器１２に作用する負圧が消滅し、接触式吸引保持器１２による湾曲板状物Ｗ１の吸引保持が解除され、湾曲板状物Ｗ１がチャックテーブルに載置される。
【００４１】
次に、平坦板状物Ｗ２を搬送する場合、図３に示すように、搬送装置１は、例えば作業員により昇降部１４ａが上昇する方向に回転（同図に示す矢印ｄ）させられ、接触式吸引保持器１２の連結部１２ｂが支持基台部１１の下面１１ｂに当接することで、接触式吸引保持器１２を非作用位置に位置付ける。ここで、搬送装置１では、非接触式吸引保持器１３が接触式吸引保持器１２より鉛直方向の下方の作用位置に位置付けられる。
【００４２】
搬送装置１は、旋回部２３により保持手段１０を旋回させ、前工程の所定の位置（搬入位置）、例えば、前工程における平坦板状物Ｗ２を複数収容するカセットや平坦板状物Ｗ２が保持されたチャックテーブルの上方まで、保持手段１０を移動させる。ここで、エアー供給経路５０では、エアー制御弁５２が開放され、エアー供給源３０からのエアーがエアー供給配管５１へ供給される。また、エアー供給経路５０では、エアー供給源３０からのエアーがエアー供給配管５１を介してエアー流入部１３ｂへ流入され、エアー噴出口１３ｄから噴射される。
【００４３】
搬送装置１は、昇降部２２により保持手段１０を下降させ、保持手段１０を平坦板状物Ｗ２へ接近させ、規制手段１５を平坦板状物Ｗ２に接触させる。ここで搬送装置１では、平坦板状物Ｗ２は非接触式吸引保持器１３に吸引保持されず、平坦板状物Ｗ２の外周に規制手段１５が接触されることで、平坦板状物Ｗ２の水平方向への移動が規制される。
【００４４】
搬送装置１は、昇降部２２により保持手段１０をさらに下降させ、規制手段１５が平坦板状物Ｗ２の外周に接触した状態で、非接触式吸引保持器１３を平坦板状物Ｗ２の上面Ｗａへ接近させる。ここで、搬送装置１では、エアー噴出口１３ｄから放射状にエアーが外部に噴射（同図に示す矢印ｆ）され、案内部１３ｅの鉛直方向の下端面の下方に負圧が発生（同図に示す矢印ｇ）する。また、搬送装置１では、発生した負圧により、平坦板状物Ｗ２が非接触式吸引保持器１３へ引き寄せられる。また、搬送装置１では、平坦板状物Ｗ２が負圧により非接触式吸引保持器１３へ引き寄せられすぎると、非接触式吸引保持器１３と平坦板状物Ｗ２の上面Ｗａとの間に流れるエアーにより形成されるエアー層が反発力として作用し、非接触式吸引保持器１３と上面Ｗａとの接触が阻止される。このため、搬送装置１では、非接触式吸引保持器１３により平坦板状物Ｗ２が非接触で吸引保持される。また、搬送装置１では、規制手段１５により平坦板状物Ｗ２の水平方向への移動が規制される。
【００４５】
搬送装置１は、昇降部２２により保持手段１０を上昇させ、平坦板状物Ｗ２を上昇させた後、旋回部２３により保持手段１０を旋回させ、後工程の所定の位置（搬出位置）、例えば、後工程において平坦板状物Ｗ２を複数収容するカセットや平坦板状物Ｗ２を保持するチャックテーブルの上方まで移動させる。ここで、搬送装置１では、チャックテーブルに対して、平坦板状物Ｗ２が対向配置される。
【００４６】
搬送装置１は、平坦板状物Ｗ２がチャックテーブルに接触するまで、昇降部２２により保持手段１０を下降させた後、エアー制御弁５２を閉止する。ここで、搬送装置１では、エアー供給源３０から非接触式吸引保持器１３へのエアーの供給が遮断され、案内部１３ｅの下方の負圧が消滅し、非接触式吸引保持器１３による平坦板状物Ｗ２の吸引保持が解除され、平坦板状物Ｗ２がチャックテーブルに載置される。
【００４７】
以上のように、実施形態１に係る板状物の搬送装置１によれば、選択手段１４により接触式吸引保持器１２を昇降させることで、接触式吸引保持器１２を作用位置または非作用位置に位置付けることができる。このため、搬送装置１によれば、選択手段１４により、接触式吸引保持器１２による吸引保持と、非接触式吸引保持器１３による吸引保持とを切り替えることができる。つまり、搬送装置１によれば、接触式吸引保持器１２と非接触式吸引保持器１３とを交換するための作業（交換作業）を行わずに、接触式吸引保持器１２と非接触式吸引保持器１３とを切り替えることができる。したがって、搬送装置１によれば、接触式吸引保持器１２と非接触式吸引保持器１３とを段取替え（すなわち交換）する際の効率を向上させることができるという効果を奏する。
【００４８】
また、搬送装置１によれば、選択手段１４により、接触式吸引保持器１２を作用位置または非作用位置に位置付けることで、非接触式吸引保持器１３を非作用位置または作用位置に位置付けるので、各吸引保持器１２、１３の位置（作用位置または非作用位置）を調整するための作業（調整作業）を省略することができる。
【００４９】
また、搬送装置１によれば、非接触式吸引保持器１３で平坦板状物Ｗ２を吸引保持する際に、平坦板状物Ｗ２の上面Ｗａの外周領域と対向する規制手段１５によって、平坦板状物Ｗ２の水平方向への移動を規制するため、非接触式吸引保持器１３により平坦板状物Ｗ２を安定して吸引保持することができる。
【００５０】
また、搬送装置１によれば、支持基台部１１に対して、接触式吸引保持器１２が非接触式吸引保持器１３より中央寄りに配設されているので、外周に向かうほど鉛直方向の上方に凸となる湾曲を有する湾曲板状物Ｗ１において、湾曲板状物Ｗ１の外周側より平坦となる内周側を吸引保持することができる。このため、搬送装置１によれば、接触式吸引保持器１２により湾曲板状物Ｗ１を安定して吸引保持することができる。
【００５１】
また、搬送装置１によれば、支持基台部１１に対して、非接触式吸引保持器１３が接触式吸引保持器１２より外周側に配設されているので、平坦板状物Ｗ２の外周側を吸引保持することができる。このため、搬送装置１によれば、非接触式吸引保持器１３により平坦板状物Ｗ２を安定して吸引保持することができる。
【００５２】
〔実施形態２〕
次に、実施形態２に係る搬送装置１Ａについて、図面を参照して説明する。図４は、実施形態２に係る搬送装置の構成例を示す図である。実施形態２に係る搬送装置１Ａは、接触式吸引保持器１２によりフレームＦを吸引保持する点で、上記の実施形態１に係る搬送装置１とは異なっている。なお、上記の実施形態１と共通する構成、作用、効果については、重複した記載はできるだけ省略する（以下で説明する他の実施形態でも同様である）。
【００５３】
図４に示す搬送装置１Ａは、ユニット板状物Ｗ３（図５参照）を吸引保持して搬送するものである。搬送装置１Ａは、保持手段１０Ａと、移動手段２０（図１参照）と、を含んで構成されている。
【００５４】
ここで、ユニット板状物Ｗ３は、接触式吸引保持器１２により吸引保持される板状物である。本実施形態では、ユニット板状物Ｗ３は、被加工物ユニットＵである。被加工物ユニットＵは、環状のフレームＦの開口に粘着テープＴを介して被加工物Ｗが保持されて構成されている。つまり、被加工物ユニットＵは、被加工物Ｗを環状のフレームＦに装着された粘着テープＴに貼着している。粘着テープＴは、一方の面に粘着層が形成されたテープであり、いわゆるダイシングテープである。被加工物Ｗは、特に限定されないが、例えば、湾曲板状物Ｗ１または平坦板状物Ｗ２など、板状に形成された各種加工材料等である。
【００５５】
保持手段１０Ａは、支持基台部１１と、接触式吸引保持器１２と、非接触式吸引保持器１３と、選択手段１４Ａと、規制手段１５と、固定手段１６と、支持アーム１７と、を備えている。
【００５６】
選択手段１４Ａは、昇降部１４ａにより構成されている。選択手段１４Ａは、支持アーム１７の先端側に配設されている。選択手段１４Ａは、支持基台部１１の周方向に等間隔をおいて四つ配置されている。選択手段１４Ａは、フレームＦに対応する位置、つまり接触式吸引保持器１２でフレームＦを吸引保持することができる位置に配置されている。選択手段１４Ａは、支持アーム１７の挿通穴１７ａの雌ねじと螺合されており、支持アーム１７に対して昇降可能である。選択手段１４Ａは、接触式吸引保持器１２を作用位置に位置付けると、非接触式吸引保持器１３を非作用位置に位置付け、接触式吸引保持器１２を非作用位置に位置付けると、非接触式吸引保持器１３を作用位置に位置付ける。また、選択手段１４Ａは、接触式吸引保持器１２でユニット板状物Ｗ３を吸引保持する際に、被加工物Ｗおよび粘着テープＴが規制手段１５に接触しないように、接触式吸引保持器１２が規制手段１５より鉛直方向の下方に位置することが好ましい。
【００５７】
支持アーム１７は、支持基台部１１の上面１１ａに設けられている。支持アーム１７は、アーム部２１の連結部２１ａから支持基台部１１の外周に向けて延在され、上面１１ａに沿って径方向に支持基台部１１の外周を超えて延在されている。支持アーム１７は、支持基台部１１の周方向に等間隔をおいて四つ配置されている。支持アーム１７の径方向の長さは、フレームＦに対応する長さに設定されている。支持アーム１７は、昇降部１４ａの規制部１４ｃと当接することで、昇降部１４ａが下降する方向に回転することを規制し、接触式吸引保持器１２を作用位置に位置付ける。また、支持アーム１７は、接触式吸引保持器１２の連結部１２ｂ（図３参照）と当接することで、昇降部１４ａが上昇する方向に回転することを規制し、接触式吸引保持器１２を非作用位置に位置付ける。
【００５８】
次に、上記のように構成された板状物の搬送装置１Ａの動作について説明する。
【００５９】
平坦板状物Ｗ２を搬送する場合、搬送装置１Ａは、例えば作業員により昇降部１４ａが上昇する方向に回転させられ、接触式吸引保持器１２の連結部１２ｂが支持アーム１７に当接することで、接触式吸引保持器１２を非作用位置に位置付ける。ここで、搬送装置１Ａでは、非接触式吸引保持器１３が接触式吸引保持器１２より鉛直方向の下方の作用位置に位置付けられる。
【００６０】
搬送装置１Ａは、搬入位置において、エアー供給配管５１にエアーを供給しつつ支持基台部１１を平坦板状物Ｗ２へ接近させ、規制手段１５が平坦板状物Ｗ２と接触して平坦板状物Ｗ２の水平方向への移動を規制した後、非接触式吸引保持器１３が非接触で平坦板状物Ｗ２を吸引保持する。
【００６１】
搬送装置１Ａは、吸引保持された平坦板状物Ｗ２を搬出位置へ搬送した後、エアー供給配管５１へのエアーの供給を遮断し、非接触式吸引保持器１３による吸引保持を解除し、平坦板状物Ｗ２を搬出位置へ搬出する。
【００６２】
次に、ユニット板状物Ｗ３を搬送する場合、搬送装置１Ａは、例えば作業員により昇降部１４ａが下降する方向に回転させられ、規制部１４ｃ（図２参照）が支持アーム１７に当接することで、接触式吸引保持器１２を作用位置に位置付ける。ここで、搬送装置１Ａでは、非接触式吸引保持器１３が接触式吸引保持器１２より鉛直方向の上方の非作用位置に位置付けられる。
【００６３】
搬送装置１Ａは、搬入位置において、昇降部１４ａと真空吸引源４０（図１参照）とを連通させた状態で、支持基台部１１をユニット板状物Ｗ３へ接近させ、接触式吸引保持器１２がフレームＦと接触して吸引保持し、接触式吸引保持器１２がユニット板状物Ｗ３を吸引保持する。
【００６４】
搬送装置１Ａは、吸引保持されたユニット板状物Ｗ３を搬出位置へ搬送した後、昇降部１４ａと真空吸引源４０との連通を遮断し、接触式吸引保持器１２による吸引保持を解除し、ユニット板状物Ｗ３を搬出位置へ搬出する。
【００６５】
以上のように、実施形態２に係る板状物の搬送装置１Ａによれば、板状物が被加工物ユニットＵの時には、作用位置に位置付けられた接触式吸引保持器１２がフレームＦを吸引保持する。つまり、搬送装置１Ａによれば、接触式吸引保持器１２によりユニット板状物Ｗ３を吸引保持することができる。したがって、搬送装置１Ａによれば、いわゆるフレーム搬送を行うことができるという効果を奏する。
【００６６】
〔実施形態３〕
次に、実施形態３に係る切削装置１００について、図面を参照して説明する。図５は、実施形態３に係る切削装置の構成例を示す図である。
【００６７】
切削装置１００は、板状物に対して切削加工を施す装置である。切削装置１００は、図５に示すように、カセット載置台１１０と、チャックテーブル１２０と、切削手段１３０と、洗浄手段１４０と、保持ハンド１５０と、第一搬送手段１６０と、第二搬送手段１７０と、を含んで構成されている。ここで、板状物は、特に限定はされないが、湾曲板状物Ｗ１、平坦板状物Ｗ２またはユニット板状物Ｗ３など、切削加工を施すことが可能な板状に形成された各種加工材料等である。
【００６８】
カセット載置台１１０は、複数の板状物を収容するカセット１１１を載置するものである。カセット載置台１１０は、装置本体１０１に対してカセット１１１を鉛直方向に昇降可能に支持する、いわゆるカセットエレベーターである。
【００６９】
チャックテーブル１２０は、板状物を保持面１２０ａで保持するものである。チャックテーブル１２０は、Ｘ軸移動基台１２１に支持されている。チャックテーブル１２０は、フレームＦを挟持するフレームチャックを有している。保持面１２０ａは、チャックテーブル１２０の鉛直方向の上端面であり、水平面に対して平行で平坦に形成されている。保持面１２０ａは、図示しない真空吸引源と連通され、真空吸引源の負圧により、板状物を吸引保持する。Ｘ軸移動基台１２１は、パルスモータやボールねじ等を含んで構成されるＸ軸移動手段により、装置本体１０１に対してＸ軸方向（加工送り方向に相当）に相対移動可能である。
【００７０】
切削手段１３０は、チャックテーブル１２０に保持された板状物を切削ブレード１３１で切削するものである。切削手段１３０は、チャックテーブル１２０に湾曲板状物Ｗ１または平坦板状物Ｗ２が保持される場合には、湾曲板状物Ｗ１または平坦板状物Ｗ２に対して切削加工を施し、チャックテーブル１２０にユニット板状物Ｗ３が保持される場合には、被加工物Ｗに対して切削加工を施す。切削手段１３０は、切削ブレード１３１と、スピンドル１３２と、ハウジング１３３と、を備えている。切削ブレード１３１は、極薄の円板状かつ環状に形成された切削砥石である。スピンドル１３２は、切削ブレード１３１を着脱可能に装着している。ハウジング１３３は、モータ等の駆動源を有しており、Ｙ軸方向の回転軸周りに回転自在にスピンドル１３２を支持している。ハウジング１３３は、Ｙ軸移動基台１３４およびＺ軸移動基台１３５により支持されている。Ｙ軸移動基台１３４は、パルスモータやボールねじ等を含んで構成されるＹ軸移動手段により、装置本体１０１に対してＹ軸方向（割り出し送り方向に相当）に相対移動可能である。Ｙ軸移動基台１３４は、装置本体１０１から立設される門型の支持基台１０２に支持されており、Ｚ軸移動基台１３５を支持している。Ｚ軸移動基台１３５は、パルスモータやボールねじ等を含んで構成されるＺ軸移動手段により、装置本体１０１に対してＺ軸方向（切り込み送り方向に相当）に相対移動可能である。Ｚ軸移動基台１３５は、Ｙ軸移動基台１３４に支持されており、ハウジング１３３を支持している。
【００７１】
洗浄手段１４０は、切削された板状物を洗浄テーブル１４１で保持して洗浄するものである。洗浄手段１４０は、チャックテーブル１２０と同様に板状物を吸引保持する洗浄テーブル１４１と、洗浄時には純水等の洗浄水を板状物に向けて噴射し、乾燥時にはエアー等を板状物に向けて噴射する図示しない噴射ノズルと、を備えている。
【００７２】
保持ハンド１５０は、カセット載置台１１０に載置されたカセット１１１から板状物を搬出入するものである。保持ハンド１５０は、湾曲板状物Ｗ１または平坦板状物Ｗ２の下面Ｗｂを支持することで、各板状物Ｗ１、Ｗ２を保持する。保持ハンド１５０は、カセット１１１から引き出した（搬出した）板状物を第一搬送手段１６０へ受け渡し、第二搬送手段１７０から洗浄・乾燥された板状物を受け取ってカセット１１１へ収容（搬入）する。なお、保持ハンド１５０は、ユニット板状物Ｗ３を保持する場合には、フレームＦに対して水平方向に挿抜されて、フレームＦの挟持または解放が行われる、いわゆるプッシュプルアームが用いられる。
【００７３】
第一搬送手段１６０は、第二搬送手段１７０とともに動くことにより、保持ハンド１５０とチャックテーブル１２０と洗浄テーブル１４１との間で板状物を搬送するものである。本実施形態では、第一搬送手段１６０は、保持ハンド１５０から受け渡された板状物を吸引保持してチャックテーブル１２０の保持面１２０ａへ搬送する。第一搬送手段１６０は、板状物を保持する保持手段１６１と、保持手段１６１を移動させる移動手段１６２と、を備える板状物の搬送装置である。つまり、第一搬送手段１６０は、実施形態１に係る搬送装置１、または実施形態２に係る搬送装置１Ａと同様に構成される搬送装置である。なお、第一搬送手段１６０は、板状物として湾曲板状物Ｗ１または平坦板状物Ｗ２を搬送する場合には、実施形態１に係る搬送装置１と同様に構成され、板状物としてユニット板状物Ｗ３を搬送する場合には、実施形態２に係る搬送装置１Ａと同様に構成される。
【００７４】
保持手段１６１は、実施形態１に係る搬送装置１の保持手段１０、または実施形態２に係る搬送装置１Ａの保持手段１０Ａと同様に構成される保持手段であり、支持基台部１１と接触式吸引保持器１２と非接触式吸引保持器１３と選択手段１４（図２参照）または選択手段１４Ａ（図４参照）とを含む保持手段である。移動手段１６２は、図示しないモータ等の駆動源を有しており、装置本体１０１に対して保持手段１６１をＹ軸方向およびＺ軸方向へ相対移動させる。移動手段１６２は、装置本体１０１から立設される支持基台１０３に支持されており、保持手段１６１を支持している。移動手段１６２は、保持手段１６１に接続されるアーム部１６２ａを有している。アーム部１６２ａは、移動手段１６２から鉛直方向の下方に延在されている。アーム部１６２ａの鉛直方向の下端には、支持基台部１１の上面１１ａに取り付けられる連結部２１ａ（図１参照）が一体的に設けられている。
【００７５】
第二搬送手段１７０は、第一搬送手段１６０とともに動くことにより、保持ハンド１５０とチャックテーブル１２０と洗浄テーブル１４１との間で板状物を搬送するものである。本実施形態では、第二搬送手段１７０は、切削された板状物をチャックテーブル１２０から吸引保持して洗浄テーブル１４１へ搬送し、洗浄・乾燥された板状物を洗浄テーブル１４１から吸引保持して保持ハンド１５０へ搬送する。第二搬送手段１７０は、板状物を保持する保持手段１７１と、保持手段１７１を移動させる移動手段１７２と、を備える板状物の搬送装置である。つまり、第二搬送手段１７０は、実施形態１に係る搬送装置１、または実施形態２に係る搬送装置１Ａと同様に構成される搬送装置である。なお、第二搬送手段１７０は、板状物として湾曲板状物Ｗ１または平坦板状物Ｗ２を搬送する場合には、実施形態１に係る搬送装置１と同様に構成され、板状物としてユニット板状物Ｗ３を搬送する場合には、実施形態２に係る搬送装置１Ａと同様に構成される。
【００７６】
保持手段１７１は、実施形態１に係る搬送装置１の保持手段１０、または実施形態２に係る搬送装置１Ａの保持手段１０Ａと同様に構成される保持手段であり、支持基台部１１と接触式吸引保持器１２と非接触式吸引保持器１３と選択手段１４（図２参照）または選択手段１４Ａ（図４参照）とを含む保持手段である。移動手段１７２は、図示しないモータ等の駆動源を有しており、装置本体１０１に対して保持手段１７１をＹ軸方向およびＺ軸方向へ相対移動させる。移動手段１７２は、支持基台１０３に支持されており、保持手段１７１を支持している。移動手段１７２は、保持手段１７１に接続されるアーム部１７２ａを有している。アーム部１７２ａは、移動手段１７２から鉛直方向の下方に延在されている。アーム部１７２ａの鉛直方向の下端には、支持基台部１１の上面１１ａに取り付けられる連結部２１ａ（図１参照）が一体的に設けられている。
【００７７】
次に、以上のように構成された切削装置１００の動作について説明する。
【００７８】
湾曲板状物Ｗ１に対して切削加工を施す場合、切削装置１００は、例えば作業員により各搬送手段１６０、１７０の昇降部１４ａが下降する方向に回転させられることで、接触式吸引保持器１２を作用位置に位置付ける。ここで、切削装置１００では、各搬送装置１６０、１７０は、実施形態１に係る搬送装置１と同様に構成されたものが用いられる。また、切削装置１００では、各搬送手段１６０、１７０の非接触式吸引保持器１３が接触式吸引保持器１２より鉛直方向の上方の非作用位置に位置付けられる。また、切削装置１００では、各搬送手段１６０、１７０の接触式吸引保持器１２には真空吸引源４０（図１参照）の負圧が作用され、各搬送手段１６０、１７０の非接触式吸引保持器１３とエアー供給源３０（図１参照）との連通が遮断される。
【００７９】
切削装置１００は、例えば作業員による切削加工の指示入力に基づいて、保持ハンド１５０がカセット１１１から湾曲板状物Ｗ１を引き出し、第一搬送手段１６０へ受け渡す。ここで、切削装置１００では、接触式吸引保持器１２が湾曲板状物Ｗ１の上面Ｗａと接触して吸引保持し、湾曲板状物Ｗ１が第一搬送手段１６０で吸引保持される。
【００８０】
切削装置１００は、第一搬送手段１６０により吸引保持される湾曲板状物Ｗ１をチャックテーブル１２０へ搬送した後、第一搬送手段１６０の接触式吸引保持器１２と真空吸引源４０との連通を遮断し、湾曲板状物Ｗ１を保持面１２０ａに載置する。ここで、切削装置１００では、保持面１２０ａにより湾曲板状物Ｗ１が吸引保持される。
【００８１】
切削装置１００は、切削ブレード１３１に向けて切削水を噴射しつつ、チャックテーブル１２０の保持面１２０ａに吸引保持された湾曲板状物Ｗ１に対して、予め設定された切削箇所について切削ブレード１３１を切り込むことで、切削加工を施す。
【００８２】
切削装置１００は、第二搬送手段１７０により、切削加工が施された湾曲板状物Ｗ１をチャックテーブル１２０から吸引保持し、湾曲板状物Ｗ１を洗浄テーブル１４１へ搬送した後、湾曲板状物Ｗ１を洗浄テーブル１４１に載置する。ここで、切削装置１００では、湾曲板状物Ｗ１を洗浄テーブル１４１へ搬送後、第二搬送手段１７０の接触式吸引保持器１２と真空吸引源４０との連通が遮断される。
【００８３】
切削装置１００は、洗浄テーブル１４１で湾曲板状物Ｗ１を吸引保持した状態で高速回転し、洗浄水を湾曲板状物Ｗ１に向けて噴射して洗浄した後、エアーを湾曲板状物Ｗ１に向けて噴射して乾燥させ、洗浄テーブル１４１の回転を停止する。
【００８４】
切削装置１００は、第二搬送手段１７０により、洗浄・乾燥された湾曲板状物Ｗ１を洗浄テーブル１４１から吸引保持し、湾曲板状物Ｗ１を保持ハンド１５０へ搬送した後、湾曲板状物Ｗ１を保持ハンド１５０に受け渡す。ここで、切削装置１００は、接触式吸引保持器１２と真空吸引源４０とを連通させることにより湾曲板状物Ｗ１が第二搬送手段１７０で吸引保持され、接触式吸引保持器１２と真空吸引源４０との連通を遮断することにより湾曲板状物Ｗ１が保持ハンド１５０へ受け渡される。
【００８５】
切削装置１００は、受け渡された湾曲板状物Ｗ１を保持ハンド１５０がカセット１１１に収容することで、湾曲板状物Ｗ１に対する加工動作を完了する。
【００８６】
次に、平坦板状物Ｗ２に対して切削加工を施す場合、切削装置１００は、例えば作業員により各搬送手段１６０、１７０の昇降部１４ａが上昇する方向に回転させられることで、接触式吸引保持器１２を非作用位置に位置付ける。ここで、切削装置１００では、各搬送装置１６０、１７０は、実施形態１に係る搬送装置１と同様に構成されたものが用いられる。また、切削装置１００では、各搬送装置１６０、１７０の非接触式吸引保持器１３が接触式吸引保持器１２より鉛直方向の下方の非作用位置に位置付けられる。また、切削装置１００では、各搬送手段１６０、１７０の接触式吸引保持器１２と真空吸引源４０との連通が遮断され、各搬送手段１６０、１７０の非接触式吸引保持器１３にはエアー供給源３０からのエアーが供給される。
【００８７】
切削装置１００は、例えば作業員による切削加工の指示入力に基づいて、保持ハンド１５０がカセット１１１から平坦板状物Ｗ２を引き出し、第一搬送手段１６０へ受け渡す。ここで、切削装置１００では、非接触式吸引保持器１３が平坦板状物Ｗ２の上面Ｗａと非接触で吸引保持し、平坦板状物Ｗ２が第一搬送手段１６０に非接触で吸引保持される。
【００８８】
切削装置１００は、第一搬送手段１６０により非接触で吸引保持される平坦板状物Ｗ２をチャックテーブル１２０へ搬送した後、第一搬送手段１６０の非接触式吸引保持器１３とエアー供給源３０との連通を遮断し、平坦板状物Ｗ２を保持面１２０ａに載置する。ここで、切削装置１００では、保持面１２０ａにより平坦板状物Ｗ２が吸引保持される。
【００８９】
切削装置１００は、保持面１２０ａに吸引保持された平坦板状物Ｗ２に対して切削手段１３０により切削加工を施した後、第二搬送手段１７０により、切削加工が施された平坦板状物Ｗ２をチャックテーブル１２０から非接触で吸引保持し、平坦板状物Ｗ２を洗浄テーブル１４１へ搬送し、平坦板状物Ｗ２を洗浄テーブル１４１に載置する。ここで、切削装置１００では、平坦板状物Ｗ２を洗浄テーブル１４１へ搬送後、第二搬送手段１７０の非接触式吸引保持器１３とエアー供給源３０との連通が遮断される。
【００９０】
切削装置１００は、洗浄テーブル１４１に吸引保持された平坦板状物Ｗ２に対して洗浄手段１４０により洗浄・乾燥した後、第二搬送手段１７０により、洗浄・乾燥された平坦板状物Ｗ２を洗浄テーブル１４１から非接触で吸引保持し、平坦板状物Ｗ２を保持ハンド１５０へ搬送し、平坦板状物Ｗ２を保持ハンド１５０に受け渡す。ここで、切削装置１００は、非接触式吸引保持器１３とエアー供給源３０とを連通させることにより平坦板状物Ｗ２が第二搬送手段１７０で吸引保持され、非接触式吸引保持器１３とエアー供給源３０との連通を遮断することにより平坦板状物Ｗ２が保持ハンド１５０へ受け渡される。
【００９１】
切削装置１００は、受け渡された平坦板状物Ｗ２を保持ハンド１５０がカセット１１１に収容することで、平坦板状物Ｗ２に対する加工動作を完了する。
【００９２】
次に、ユニット板状物Ｗ３に対して切削加工を施す場合、切削装置１００は、例えば作業員により各搬送手段１６０、１７０の昇降部１４ａが下降する方向に回転させられることで、接触式吸引保持器１２を作用位置に位置付ける。ここで、切削装置１００では、各搬送装置１６０、１７０は、実施形態２に係る搬送装置１Ａと同様に構成されたものが用いられる。また、切削装置１００では、各搬送装置１６０、１７０の非接触式吸引保持器１３が接触式吸引保持器１２より鉛直方向の上方の非作用位置に位置付けられる。
【００９３】
切削装置１００は、例えば作業員による切削加工の指示入力に基づいて、保持ハンド１５０がカセット１１１からユニット板状物Ｗ３を引き出し、第一搬送手段１６０へ受け渡す。ここで、切削装置１００では、接触式吸引保持器１２がフレームＦと接触して吸引保持し、ユニット板状物Ｗ３が第一搬送手段１６０に吸引保持される。また、切削装置１００では、保持ハンド１５０として、いわゆるプッシュプルアームが用いられる。
【００９４】
切削装置１００は、第一搬送手段１６０により吸引保持されるユニット板状物Ｗ３をチャックテーブル１２０へ搬送した後、第一搬送手段１６０の接触式吸引保持器１２と真空吸引源４０との連通を遮断し、ユニット板状物Ｗ３を保持面１２０ａに載置する。ここで、切削装置１００では、保持面１２０ａによりユニット板状物Ｗ３が吸引保持される。
【００９５】
切削装置１００は、保持面１２０ａに吸引保持されたユニット板状物Ｗ３に対して切削手段１３０により切削加工を施した後、第二搬送手段１７０により、切削加工が施されたユニット板状物Ｗ３をチャックテーブル１２０から吸引保持し、ユニット板状物Ｗ３を洗浄テーブル１４１へ搬送し、ユニット板状物Ｗ３を洗浄テーブル１４１に載置する。ここで、切削装置１００では、第二搬送手段１７０によりユニット板状物Ｗ３のフレームＦが接触式吸引保持器１２に接触して吸引保持され、ユニット板状物Ｗ３を洗浄テーブル１４１へ搬送後、第二搬送手段１７０の接触式吸引保持器１２と真空吸引源４０との連通が遮断される。
【００９６】
切削装置１００は、洗浄テーブル１４１に吸引保持されたユニット板状物Ｗ３に対して洗浄手段１４０により洗浄・乾燥した後、第二搬送手段１７０により、洗浄・乾燥されたユニット板状物Ｗ３を洗浄テーブル１４１から吸引保持し、ユニット板状物Ｗ３を保持ハンド１５０へ搬送し、ユニット板状物Ｗ３を保持ハンド１５０に受け渡す。ここで、切削装置１００は、接触式吸引保持器１２と真空吸引源４０とを連通させることによりユニット板状物Ｗ３が第二搬送手段１７０で吸引保持され、接触式吸引保持器１２と真空吸引源４０との連通を遮断することによりユニット板状物Ｗ３が保持ハンド１５０へ受け渡される。
【００９７】
切削装置１００は、受け渡されたユニット板状物Ｗ３を保持ハンド１５０がカセット１１１に収容することで、ユニット板状物Ｗ３に対する加工動作を完了する。
【００９８】
以上のように、実施形態３に係る切削装置１００によれば、上記の実施形態１に係る搬送装置１の効果および実施形態２に係る搬送装置１Ａの効果に加え、各搬送手段１６０、１７０により各板状物Ｗ１〜Ｗ３を搬送することができるので、各板状物Ｗ１〜Ｗ３が混在していても、各板状物Ｗ１〜Ｗ３に対して切削加工を施すことができるという効果を奏する。
【００９９】
なお、上記の実施形態１、２では、昇降部１４ａは、規制部１４ｃと軸部１４ｄとが一体に形成されていたが、例えば、規制部１４ｃが軸部１４ｄの雄ねじに螺合する、いわゆるナットであってもよい。これにより、軸部１４ｄに対して規制部１４ｃを回転させて上昇させることで、接触式吸引保持器１２を非作用位置に位置付けた際に、規制部１４ｃを支持部１４ｂに当接するロックナットのように作用させ、接触式吸引保持器１２を非作用位置に固定することができる。
【０１００】
また、上記の実施形態１、２では、選択手段１４、１４Ａは、作業員が昇降部１４ａを上昇する方向または下降する方向に回転させることにより、接触式吸引保持器１２を昇降させて非作用位置または作用位置に位置付けていたが、例えば、搬送装置１、１Ａによって制御されるアクチュエータ等により接触式吸引保持器１２を昇降させ、搬送装置１、１Ａによって制御されるロック機構により接触式吸引保持器１２を非作用位置または作用位置に位置付けるように構成してもよい。これにより、搬送装置１、１Ａによって接触式吸引保持器１２の昇降、作用位置または非作用位置への位置付けを実施することができるので、昇降部１４ａが作業員によって回転させられる作業を省略することができ、接触式吸引保持器１２と非接触式吸引保持器１３との段取替えの作業効率を向上させることができる。
【０１０１】
また、上記の実施形態１では、支持基台部１１に対して接触式吸引保持器１２が非接触式吸引保持器１３より中央寄りの位置に配設されていたが、搬送対象となる板状物の湾曲を許容することができる範囲で、支持基台部１１に対して接触式吸引保持器１２と非接触式吸引保持器１３とが同心円上に配設されていてもよい。
【０１０２】
また、上記の実施形態１では、接触式吸引保持器１２は、湾曲板状物Ｗ１を吸引保持していたが、これに限定されず、例えば、接触して吸引保持することが許容される板状の加工材料であれば、平坦な板状のものを吸引保持してもよいし、非接触式吸引保持器１３では吸引保持できない重量のものを吸引保持してもよい。
【０１０３】
また、上記の実施形態２では、接触式吸引保持器１２は、フレームＦと接触して吸引保持し、ユニット板状物Ｗ３を吸引保持していたが、接触式吸引保持器１２をさらに支持基台部１１に配設することで、支持基台部１１に配設された接触式吸引保持器１２により湾曲板状物Ｗ１を吸引保持するようにしてもよい。これにより、支持基台部１１に配設された接触式吸引保持器１２と、非接触式吸引保持器１３と、支持アーム１７に配設された接触式吸引保持器１２とにより、各板状物Ｗ１〜Ｗ３を吸引保持することができる。
【符号の説明】
【０１０４】
１  搬送装置
１０  保持手段
１１  支持基台部
１１ｂ  下面
１２  接触式吸引保持器
１３  非接触式吸引保持器
１４  選択手段
１５  規制手段
２０  移動手段
１００  切削装置
１１０  カセット載置台
１１１  カセット
１２０  チャックテーブル
１３０  切削手段
１３１  切削ブレード
１４０  洗浄手段
１４１  洗浄テーブル
１５０  保持ハンド
１６０  搬送手段
１７０  搬送手段
Ｆ  フレーム
Ｔ  粘着テープ
Ｕ  被加工物ユニット
Ｗ１  湾曲板状物（板状物）
Ｗ２  平坦板状物（板状物）
Ｗ３  ユニット板状物（板状物）
Ｗａ  上面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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