(57)【要約】      （修正有）【課題】正の複屈折性、逆波長分散性及び耐水性を同時に満たした新規な逆波長分散フィルム用樹脂組成物を提供する。【解決手段】修飾多糖類（Ａ）を含有する逆波長分散フィルム用樹脂組成物であって、（Ａ）が光二量化反応性化合物（Ｂ）により多糖類（ａ）中の少なくとも１つのヒドロキシル基及び／又は少なくとも１つのアミノ基を化学修飾して光二量化反応性基を導入した修飾多糖類である逆波長分散フィルム用樹脂組成物。光二量化反応性化合物（Ｂ）が桂皮酸骨格含有化合物（ｂ１）、マレイミド骨格含有化合物（ｂ２）、クマリン骨格含有化合物（ｂ３）、スチルベン骨格含有化合物（ｂ４）及びアントラセン骨格含有化合物（ｂ５）からなる群より選ばれる少なくとも１種である逆波長分散フィルム用樹脂組成物。；この逆波長分散フィルム用樹脂組成物から形成される逆波長分散フィルム又はシート。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
修飾多糖類（Ａ）を含有する逆波長分散フィルム用樹脂組成物であって、（Ａ）が光二量化反応性化合物（Ｂ）により多糖類（ａ）中の少なくとも１つのヒドロキシル基及び／又は少なくとも１つのアミノ基を化学修飾して光二量化反応性基を導入した修飾多糖類である逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
【請求項２】
多糖類（ａ）が、デンプン、グリコーゲン、セルロース、キチン、キトサン、アガロース、カラギーナン、ヘパリン、ヒアルロン酸、ペクチン、キシログルカン及びキサンタンガム並びにこれらを光二量化反応性化合物（Ｂ）以外で化学修飾した多糖からなる群より選ばれる少なくとも１種の多糖である請求項１に記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
【請求項３】
修飾多糖類（Ａ）において、光二量化反応性化合物（Ｂ）で化学修飾された官能基の割合が、多糖類（ａ）中のヒドロキシル基及びアミノ基の合計数を基準として０．００１〜１００％である請求項１又は２に記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
【請求項４】
光二量化反応性化合物（Ｂ）が桂皮酸骨格含有化合物（ｂ１）、マレイミド骨格含有化合物（ｂ２）、クマリン骨格含有化合物（ｂ３）、スチルベン骨格含有化合物（ｂ４）及びアントラセン骨格含有化合物（ｂ５）からなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項１〜３のいずれかに記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
【請求項５】
桂皮酸骨格含有化合物（ｂ１）が桂皮酸、４−メチル桂皮酸、４−（トリフルオロメチル）桂皮酸、４−メトキシ桂皮酸及び４−ヒドロキシ桂皮酸並びにこれらの酸無水物、酸ハロゲン化物及びエステル化物からなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項３に記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
【請求項６】
多糖類（ａ）がアシル化セルロース（ａ１）及び／又はエーテル化セルロース（ａ２）である請求項１〜５のいずれかに記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
【請求項７】
アシル化セルロース（ａ１）が、炭素数が２〜１９のアシル基で置換されたアシル化セルロースである請求項６に記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
【請求項８】
アシル化セルロース（ａ１）が、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基及びバレリル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有するエステル化セルロースである請求項６又は７に記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
【請求項９】
エーテル化セルロース（ａ２）が、アルキルの炭素数が１〜１８のアルキルエーテル基で置換されたエーテル化セルロースである請求項６に記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
【請求項１０】
エーテル化セルロース（ａ２）が、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシメトキシル基及びヒドロキシエトキシル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有するエーテル化セルロースである請求項６又は９に記載の逆長分散フィルム用樹脂組成物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物から形成される逆波長分散フィルム又はシート。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれかに記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物から形成されるフィルム又はシートを、延伸処理した後、紫外線を照射する工程を含む逆波長分散フィルム又はシートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、逆波長分散フィルム用樹脂組成物及びこれからなる逆波長分散フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
セルロースアセテートは、難燃性、透明性、表面外観及び電気絶縁性などに優れるので、様々な分野で用いられている。
セルロースアセテートの用途の一つである逆波長分散フィルムとしては、正の複屈折性と逆波長分散性を満たす樹脂が求められており、これらを満足する樹脂として、脂肪族アシル基及び／又は芳香族アシル基を有するアセチル基置換度２．５未満のセルロースアセテート（特許文献１及び２）が開発されている。しかしながら、耐水性が不良であるという課題を有している。
また、位相差フィルム用セルロース誘導体として、（メタ）アクリロイル基の重合により架橋構造を導入したセルロース誘導体も検討されているが（特許文献３）、正の複屈折性、逆波長分散性及び耐水性を同時に満たすことができていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−０３７１６１号公報
【特許文献２】特開２００８−０９５０２６号公報
【特許文献３】国際公開第２００６／０９０７００号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、正の複屈折性、逆波長分散性及び耐水性を同時に満たした新規な逆波長分散フィルム用樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、本発明に到達した。
すなわち本発明は、修飾多糖類（Ａ）を含有する逆波長分散フィルム用樹脂組成物であって、（Ａ）が光二量化反応性化合物（Ｂ）により多糖類（ａ）中の少なくとも１つのヒドロキシル基及び／又は少なくとも１つのアミノ基を化学修飾して光二量化反応性基を導入した修飾多糖類である逆波長分散フィルム用樹脂組成物；この逆波長分散フィルム用樹脂組成物から形成される逆波長分散フィルム又はシートである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の逆波長分散フィルム用樹脂組成物を用いれば、正の複屈折性、逆波長分散性及び耐水性を同時に満たした逆波長分散フィルムを得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
本発明の逆波長分散フィルム用樹脂組成物は、修飾多糖類（Ａ）を含有する逆波長分散フィルム用樹脂組成物であって、（Ａ）が光二量化反応性化合物（Ｂ）により多糖類（ａ）中の少なくとも１つのヒドロキシル基及び／又は少なくとも１つのアミノ基を化学修飾して光二量化反応性基を導入した修飾多糖類である逆波長分散フィルム用樹脂組成物である。
逆波長分散フィルムとは、長波長になるほど複屈折率が大きくなる機能を有するフィルムを指す。
【０００８】
本発明における多糖類（ａ）としては、従来知られている多糖が含まれ、特に制限はなく使用でき、具体的には、デンプン（アミロース及びアミロペクチンを含む）、グリコーゲン、セルロース、キチン、キトサン、アガロース、カラギーナン、ヘパリン、ヒアルロン酸、ペクチン、キシログルカン及びキサンタンガム並びにこれらの有する官能基を光二量化反応性化合物（Ｂ）以外で化学修飾した多糖からなる群より選ばれる少なくとも１種の多糖が含まれる。
【０００９】
光二量化反応性化合物（Ｂ）以外で化学修飾した多糖としては、化学修飾した公知の多糖が含まれる。正の複屈折性、逆波長分散性及び耐水性の観点から、化学修飾した公知のセルロースが好ましい。化学修飾したセルロースとしては、例えば、アシル化セルロース（ａ１）、エーテル化セルロース（ａ２）及びエーテル化アシル化セルロース（ａ３）が含まれる。
【００１０】
アシル化セルロース（ａ１）としては、水酸基で一部置換されていてもよい炭素数が２〜１９のアシル基で置換されたアシル化セルロースが含まれ、例えば、セルロースとカルボン酸又はラクトンとの反応物が挙げられる。
カルボン酸としては、炭素数２〜１９のものが含まれ、例えば、酢酸、酪酸、２−エチルヘキサン酸、ｎ−オクチル酸、ネオデカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸及び安息香酸等が挙げられる。カルボン酸は、酸ハロゲン化物｛ハロゲンとしては、例えば、Ｆ、Ｃｌ及びＢｒ等｝であってもよい。また、これらは、１種を用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
ラクトンとしては、炭素数２〜１９のものが含まれ、β−ラクトン（β−プロピオラクトン等）、γ−ラクトン（γ−ブチロラクトン等）、δ−ラクトン（δ−バレロラクトン等）、ε−ラクトン（ε−カプロラクトン等）、大環状ラクトン（エナントラクトン、ウンデカノラクトン、ドデカラクトン等）及び芳香族ラクトン（３，４−ジヒドロクマリン）等が挙げられる。これらは、１種を用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
水酸基で一部置換されていてもよい炭素数が２〜１９のアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、ベンゾイル基、６−ヒドロキシヘキサノイル基（ＨＯ−Ｃ5Ｈ10−ＣＯ−）及び３−（２−ヒドロキシフェニル）プロピオニル基等が挙げられる。
（ａ１）として、具体的には、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセチルブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース及びアセチル３−（２−ヒドロキシフェニル）プロピオニルセルロース等が挙げられる。
（ａ１）のうち、耐水性の観点から、水酸基で一部置換されていてもよい炭素数が２〜１９のアシル基で置換されたアシル化セルロースが好ましく、さらに好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基及びバレリル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有するアシル化セルロースであり、次にさらに好ましくはジアセチルセルロース、アセチルブチリルセルロース及びアセチルプロピオニルセルロースである。
【００１１】
エーテル化セルロース（ａ２）としては、水酸基又はカルボキシル基で一部置換されていてもよいアルキルの炭素数が１〜１８のアルキルエーテル基又は炭素数６〜１８の芳香族アルキルエーテル基で置換されたエーテル化セルロースが含まれる。
アルキルエーテル基としては、水酸基又はカルボキシル基で一部置換されていてもよいアルキルの炭素数が１〜１８のアルキルエーテル基が含まれ、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシメトキシ基、ヒドロキシエトキシ基及びカルボキシメトキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有するものが含まれる。
芳香族アルキルエーテル基としては、１−フェニルエトキシ基及び２−フェニルエトキシ基等が挙げられる。
アルキルエーテル基としては、耐水性の観点から、水酸基又はカルボキシル基で一部置換されていてもよいアルキルの炭素数が１〜１８のアルキルエーテル基が好ましく、さらに好ましくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシメトキシル基及びヒドロキシエトキシル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基である。
芳香族アルキルエーテル基としては、耐水性の観点から、１−フェニルエトキシ基及び２−フェニルエトキシ基が好ましい。
（ａ２）として、具体的には、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、１−フェニルエチルセルロース、２−フェニルエチルセルロース及びカルボキシメチルセルロース等が挙げられる。
（ａ２）のうち、耐水性の観点から、水酸基又はカルボキシル基で一部置換されていてもよいアルキルの炭素数が１〜１８のアルキルエーテル基で置換されたエーテル化セルロースが好ましく、さらに好ましくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシメトキシル基及びヒドロキシエトキシル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有するエーテル化セルロースであり、次にさらに好ましくはエチルセルロース及びメチルセルロースであり、最も好ましくはエチルセルロースである。
【００１２】
エーテル化アシル化セルロース（ａ３）としては、水酸基又はカルボキシル基で一部置換されていてもよいアルキルの炭素数が１〜１８のアルキルエーテル基及び水酸基で一部置換されていてもよい炭素数が２〜１９のアシル基を有するセルロースが含まれ、具体的には、ヒドロキシプロピルメチルセルロースヘキサヒドロフタレート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートフタレート及びヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート等が挙げられる。
エーテル基及びアシル基として好ましいものは、（ａ１）及び（ａ２）と同様である。
（ａ３）のうち、耐水性の観点から、１−フェニルエチルセルロースアセテート、２−フェニルエチルセルロースアセテート、エチルセルロースベンゾエート、エチルセルロース６−ヒドロキシヘキサノエート及びエチルセルロース３−（２−ヒドロキシフェニル）プロピオネートが好ましい。
【００１３】
多糖類（ａ）としては、正の複屈折性、逆波長分散性及び耐水性の観点から、セルロース、キチン、キトサン及び化学修飾したセルロースが好ましく、さらに好ましくは化学修飾したセルロースであり、次にさらに好ましくはアシル化セルロース（ａ１）及び／又はエーテル化セルロース（ａ２）である。
【００１４】
本発明において光二量化反応性化合物（Ｂ）とは、ヒドロキシル基及び／又はアミノ基と反応し得る官能基と光で二量化し得る光二量化反応性基とを有する化合物である。
ヒドロキシル基と反応し得る官能基としては、カルボキシル基、エステル基、アミド基、ハロゲン基及びグリシジル基等が挙げられる。
アミノ基と反応し得る官能基としては、カルボキシル基、エステル基、アミド基、ハロゲン基及びグリシジル基等が挙げられる。
光二量化反応性基としては、光二量化反応をし得る二重結合、光二量化反応をしうる部位を有する芳香族縮合環を有する基等が含まれ、具体的には、シンナモイル基、クマリン基、チミン基、キノン基、マレイミド基、カルコン基及びウラシル基等が挙げられる。
これらの光二量化反応性基は、少なくとも１種類含まれていればよく、２種以上が含まれていてもよい。
光二量化反応性基が１種類である場合には、同種の光二量化反応性基のみが存在するため架橋構造の形成（または二量化）を制御し易い。一方、２種以上が含まれている場合には、異種の光二量化反応性基は架橋構造を形成（二量化）する光の波長が異なる場合があり、異なる光の波長を用いて架橋構造を形成させる必要がある場合がある。
【００１５】
（Ｂ）としては、桂皮酸骨格含有化合物（ｂ１）、マレイミド骨格含有化合物（ｂ２）、クマリン骨格含有化合物（ｂ３）、スチルベン骨格含有化合物（ｂ４）、アントラセン骨格含有化合物（ｂ５）及びカルコン骨格含有化合物（ｂ６）が含まれる。
（Ｂ）は１種を用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
【００１６】
桂皮酸骨格含有化合物（ｂ１）としては、桂皮酸骨格｛Ｐｈ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−｝を有する炭素数９〜２０の化合物が含まれ、具体的には、桂皮酸及び桂皮酸骨格中のフェニル基の水素原子の一部又は全部が置換されたもの｛（２、３又は４）−メチル桂皮酸、（２、３又は４）−エチル桂皮酸、（２、３又は４）−ホルミル桂皮酸、（２、３又は４）−ニトロ桂皮酸、（２、３又は４）−（トリフルオロメチル）桂皮酸、（２、３又は４）−メトキシ桂皮酸、（２、３又は４）−ヒドロキシ桂皮酸等｝並びにこれらの酸無水物、酸ハロゲン化物及びエステル化物｛炭素数１〜１２のヒドロキシル基を有する化合物とのエステル化物が含まれ、ヒドロキシル基を有する化合物としては、例えば、炭素数１〜１２のアルキルアルコール等｝等が挙げられる。
（ｂ１）のうち、逆波長分散性の観点から、桂皮酸骨格｛Ｐｈ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−｝を有する炭素数９〜２０の化合物が好ましく、さらに好ましくは桂皮酸、４−メチル桂皮酸、４−（トリフルオロメチル）桂皮酸、４−メトキシ桂皮酸及び４−ヒドロキシ桂皮酸並びにこれらの酸無水物、酸ハロゲン化物及びエステル化物からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、次にさらに好ましくは桂皮酸、二桂皮酸無水物、桂皮酸ハロゲン化物及び桂皮酸のエステル化物からなる群より選ばれる少なくとも１種である。
【００１７】
マレイミド骨格含有化合物（ｂ２）としては、マレイミド骨格を有する炭素数４〜２０の化合物が含まれ、具体的には、マレイミド、２−（２，５−ジヒドロ−２，５−ジオキソ−１Ｈ−ピロール−１−イル）プロピオン酸、Ｎ−フェニルマレインイミド、４−（メチルフェニル）マレインイミド、Ｎ−ビニルマレインイミド、Ｎ−カルバモイルマレインイミド、Ｎ，Ｎ’−（１，２−フェニレン）ビス（マレインイミド）、Ｎ，Ｎ’−（１，３−フェニレン）ビス（マレインイミド）及びＮ−（４−フルオロフェニル）−２，３−ジクロロマレインイミド等が挙げられる。
（ｂ２）のうち、逆波長分散性の観点から、マレイミド骨格を有する炭素数４〜１２の化合物が好ましい。
【００１８】
クマリン骨格含有化合物（ｂ３）としては、クマリン骨格を有する炭素数９〜２０の化合物が含まれ、具体的には、クマリン、（３，４−、５，６−、６，７−又は７，８−）ジヒドロクマリン、（３，４−、５，６−、６，７−、７，８−、５，７−、６，８−又は５，８−）ジメトキシクマリン、（５、６、７又は８）−ヒドロキシ−４−メチルクマリン、（５、６、７又は８）−メチルクマリン、（５，６−、６，７−、７，８−、５，７−、６，８−又は５，８−）ジメチルクマリン及びクマリン−３−カルボン酸等が挙げられる。
（ｂ３）のうち、逆波長分散性の観点から、クマリン骨格を有する炭素数９〜１５の化合物が好ましい。
【００１９】
スチルベン骨格含有化合物（ｂ４）としては、スチルベン骨格｛Ｐｈ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ｝並びにヒドロキシル基及び／又はアミノ基と反応し得る官能基を有する炭素数１４〜３２の化合物が含まれ、具体的には、ヒドロキシル基及び／又はアミノ基と反応し得る官能基としてカルボキシル基を有するもの｛（３又は４）−スチルベンカルボン酸、４，４’−スチルベンジカルボン酸及び３’−（ベンジルオキシ）−３−ヒドロキシ−４’−メトキシ−α，２−スチルベンジカルボン酸等｝並びにこれらの酸無水物、塩化物及びエステル化物、スルホ基を有するもの｛４，４’−ジニトロスチルベン−２，２’−ジスルホン酸、２，２’−（１，１’−ビフェニル−４，４’−イレンジビニレン）ビス（ベンゼンスルホン酸ナトリウム）及び４，４’−ビニレンビス（３−スルホナトベンゼンジアゾニウム）等｝等が挙げられる。
（ｂ４）のうち、逆波長分散性の観点から、スチルベン骨格｛Ｐｈ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ｝並びにヒドロキシル基及び／又はアミノ基と反応し得る官能基を有する炭素数１４〜３２の化合物が好ましく、さらに好ましくはカルボキシル基を有するものが好ましく、特に好ましくはスチルベンカルボン酸である。
【００２０】
アントラセン骨格含有化合物（ｂ５）としては、アントラセン骨格並びにヒドロキシル基及び／又はアミノ基と反応し得る官能基を有する炭素数１４〜３２の化合物が含まれ、具体的には、ヒドロキシル基及び／又はアミノ基と反応し得るハロゲン基を有するもの｛２−クロロアントラセン、９−（ブロモメチル）アントラセン、７−クロロメチル−１２−メチルベンゾ［ａ］アントラセン及び１１−フルオロ−７，１２−ジメチルベンゾ［ａ］アントラセン等 ｝並びにカルボキシル基を有するもの｛１−アントラセンカルボン酸及び２−アントラセンカルボン酸等｝等が挙げられる。
（ｂ５）のうち、逆波長分散性の観点から、カルボキシル基を有するものが好ましく、さらに好ましくは１−アントラセンカルボン酸及び２−アントラセンカルボン酸である。
【００２１】
カルコン骨格含有化合物（ｂ６）としては、カルコン骨格並びにヒドロキシル基及び／又はアミノ基と反応し得る官能基を有する炭素数１５〜３２の化合物が含まれ、具体的には、ヒドロキシル基及び／又はアミノ基と反応し得るハロゲン基を有するもの｛４’−クロロカルコン、４−クロロ−４’−ブロモカルコン、４’−ヨードカルコン及び４’−（メチルチオ）−４−クロロカルコン等｝、カルボキシル基を有する化合物｛２’−カルボキシメトキシ−４，４’−ビス（３−メチル−２−ブテニルオキシ）−α，β−ジヒドロカルコン等｝等が挙げられる。
【００２２】
光二量化反応性化合物（Ｂ）としては、逆波長分散性の観点から、桂皮酸骨格含有化合物（ｂ１）、マレイミド骨格含有化合物（ｂ２）、クマリン骨格含有化合物（ｂ３）、スチルベン骨格含有化合物（ｂ４）及びアントラセン骨格含有化合物（ｂ５）からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく、さらに好ましくは桂皮酸骨格含有化合物（ｂ１）、マレイミド骨格含有化合物（ｂ２）、スチルベン骨格含有化合物（ｂ４）及びアントラセン骨格含有化合物（ｂ５）からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、次にさらに好ましくは２−（２，５−ジヒドロ−２，５−ジオキソ−１Ｈ−ピロール−１−イル）プロピオン酸、スチルベンカルボン酸、１−アントラセンカルボン酸、２−アントラセンカルボン酸、桂皮酸、４−メチル桂皮酸、４−（トリフルオロメチル）桂皮酸、４−メトキシ桂皮酸及び４−ヒドロキシ桂皮酸並びにこれらの酸無水物、酸ハロゲン化物及びエステル化物からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、特に好ましくは桂皮酸、４−メチル桂皮酸、４−（トリフルオロメチル）桂皮酸、４−メトキシ桂皮酸及び４−ヒドロキシ桂皮酸並びにこれらの酸無水物、酸ハロゲン化物及びエステル化物からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、最も好ましくは４−メチル桂皮酸、桂皮酸、二桂皮酸無水物、桂皮酸ハロゲン化物及び桂皮酸のエステル化物からなる群より選ばれる少なくとも１種である。
【００２３】
本発明において、修飾多糖類（Ａ）は、ヒドロキシル基及び／又はアミノ基を有する多糖類（ａ）において、（ａ）の少なくとも１つのヒドロキシル基及び／又は少なくとも１つのアミノ基が上記光二量化反応性化合物（Ｂ）で化学修飾されてなるものである。
（Ａ）は、ヒドロキシル基及び／又はアミノ基を有する化合物と、ヒドロキシル基及び／又はアミノ基と反応し得る官能基｛カルボキシル基等｝を有する化合物とを反応させる際に用いられる公知の方法を用いて、多糖類（ａ）及び光二量化反応性化合物（Ｂ）を化学反応させることにより得ることができる。
【００２４】
修飾多糖類（Ａ）において、光二量化反応性化合物（Ｂ）で化学修飾された官能基の割合は、多糖類（ａ）中のヒドロキシル基及びアミノ基の合計数を基準として、逆波長分散性及び耐水性の観点から、０．００１〜１００％が好ましく、さらに好ましくは０．１〜８０％である。
化学修飾された官能基の導入率は、1Ｈ−ＮＭＲによって求めることができる。具体的には、下記測定法によって測定される。
＜（Ｂ）で化学修飾された官能基の割合の測定方法＞
修飾前の多糖類（ａ）及び修飾多糖類（Ａ）の1Ｈ−ＮＭＲを測定する。それぞれの測定結果で得られた下記積分値を下記数式（１）に当てはめることにより、（Ｂ）で修飾された官能基の割合（％）を算出する。
（Ｂ）で修飾された官能基の割合（％）＝［（ＴO＋ＴN）／Ｔ4−（ＳO＋ＳN）／Ｓ4］／［（ＴO＋ＴN）／Ｔ4］×１００  （１）
ＳO＝修飾多糖類（Ａ）のヒドロキシル基の水素原子の積分値
ＳN＝｛修飾多糖類（Ａ）の１級アミノ基の水素原子の積分値／２｝＋２級アミノ基の水素原子の積分値
Ｓ4＝修飾多糖類（Ａ）を構成する単糖ユニットの４位の炭素原子に直結している水素原子のＮＭＲ積分値
ＴO＝多糖類（ａ）のヒドロキシル基の水素原子の積分値
ＴN＝｛多糖類（ａ）の１級アミノ基の水素原子の積分値／２｝＋｛多糖類（ａ）の２級アミノ基の水素原子の積分値｝
Ｔ4＝多糖類（ａ）を構成する単糖ユニットの４位の炭素原子に直結している水素原子のＮＭＲ積分値
溶媒：重水素化ジメチルスルホキシド
装置：ＡＶＡＮＣＥ３００（日本ブルカー株式会社製）
周波数：３００ＭＨｚ
【００２５】
修飾多糖類（Ａ）の分子量（数平均分子量（Ｍｎ）、単一の化合物の場合は分子量）は、成膜性及び耐水性の観点から、好ましくは１万〜５０万であり、更に好ましくは２万〜３０万であり、特に好ましくは３万〜１５万である。
【００２６】
本発明における数平均分子量（Ｍｎ）とは、下記条件にて測定されるものである。
装置 ：ゲルパーミエイションクロマトグラフィー
溶媒 ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
基準物質 ：ポリスチレン
サンプル濃度：３ｍｇ／ｍｌ
カラム固定相：ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｂ
カラム温度 ：４０℃
検出器：ＲＩ検出器
【００２７】
本発明の逆波長分散フィルム用樹脂組成物は、修飾多糖類（Ａ）を含有するものであるが、（Ａ）以外に、多糖類（ａ）を含んでも良い。
多糖類（ａ）としては、正の複屈折性、逆波長分散性及び耐水性の観点から、アシル化セルロース（ａ１）、エーテル化セルロース（ａ２）及びエーテル化アシル化セルロース（ａ３）が好ましく、さらに好ましくはエーテル化セルロース（ａ２）である。
【００２８】
多糖類（ａ）を含む場合、逆波長分散フィルム用樹脂組成物中の（Ａ）の含有量（重量％）は、逆波長分散フィルム用樹脂組成物の重量を基準として、逆波長分散性の観点から、７０〜９９．９５が好ましく、さらに好ましくは９０〜９９．９５である。
逆波長分散フィルム用樹脂組成物中の（ａ）の含有量（重量％）は、逆波長分散フィルム用樹脂組成物の重量を基準として、耐水性及び逆波長分散性の観点から、０．０５〜３０が好ましく、さらに好ましくは０．０５〜１０である。
【００２９】
本発明の逆波長分散フィルム用樹脂組成物は、耐光性の観点から、活性エネルギー線によりラジカルを発生させる活性エネルギー線ラジカル開始剤及び熱によりラジカルを発生させる熱ラジカル開始剤等のラジカル開始剤を含んでいないことが好ましい。
本発明の逆波長分散フィルム用樹脂組成物中の修飾多糖類（Ａ）が有する光二量化反応性基は、ラジカル開始剤を含んでいなくても、紫外線によって二量化することができる。また、ラジカル開始剤を含んでいない場合、経時的に黄変することがないので好ましい。
【００３０】
本発明の逆波長分散フィルム用樹脂組成物は、さらに必要により有機溶剤及びレベリング剤等を添加することができる。
【００３１】
有機溶剤としては、グリコールエーテル（エチレングリコールモノアルキルエーテル及びプロピレングリコールモノアルキルエーテル等）、ケトン（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン等）、エステル（エチルアセテート、ブチルアセテート、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、乳酸メチル及びプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート等）、芳香族炭化水素（トルエン、キシレン及びメシチレン等）、アルコール（メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ゲラニオール、リナロール及びシトロネロール等）、アミド（Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド等）、スルホキシド（ジメチルスルホキシド）及びエーテル（テトラヒドロフラン、１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン及び１，８−シネオール等）等が挙げられる。これらは、１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
有機溶剤の添加量は、組成物の粘度の観点から、逆波長分散フィルム用樹脂組成物の重量に対して０〜４００重量％であることが好ましく、更に好ましくは３〜３５０重量％、特に好ましくは５〜３００重量％である。
【００３２】
レベリング剤としては、フッ素系のレベリング剤（パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物等）、シリコーン系のレベリング剤（アミノポリエーテル変性シリコーン、メトキシ変性シリコーン及びポリエーテル変性シリコーン等）が挙げられる。レベリング剤の添加量は、逆波長分散フィルム用樹脂組成物の重量に対して、添加効果及び透明性の観点から好ましくは０〜２０重量％、更に好ましくは０．０５〜１０重量％、特に好ましくは０．１〜５重量％である。
【００３３】
本発明の逆波長分散フィルム用樹脂組成物は、更に、使用目的に合わせて、無機微粒子、分散剤、消泡剤、チクソトロピー性付与剤、スリップ剤、難燃剤、帯電防止剤、酸化防止剤及び紫外線吸収剤等、逆波長分散フィルム組成物に添加可能な公知の添加剤を添加することができる。具体的には、公知文献（特開２０１２−０８８４０８等）等に記載のものが挙げられる。
【００３４】
本発明の逆波長分散フィルム用樹脂組成物は、塗料及びインキ等に従来使用されている顔料を添加できる。顔料の添加量は、逆波長分散フィルム用樹脂組成物の重量に対して、隠蔽性の観点から、好ましくは０〜３００重量％、更に好ましくは０〜２００重量％である。
【００３５】
顔料としては、黄鉛、亜鉛黄、紺青、硫酸バリウム、カドミウムレッド、酸化チタン、亜鉛華、ベンガラ、アルミナ、炭酸カルシウム、群青、カーボンブラック、グラファイト及びチタンブラック等が挙げられる。
【００３６】
本発明の逆波長分散フィルム用樹脂組成物は、顔料を用いる場合その分散性及び逆波長分散フィルム用樹脂組成物の保存安定性を向上させるために、顔料分散剤を添加できる。
顔料分散剤としては、ビックケミー社製顔料分散剤（Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ−Ｕ、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１、１０３、１０６、１１０、１６１、１６２、１６４、１６６、１６７、１６８、１７０、１７４、１８２、１８４及び２０２０等）、味の素ファインテクノ（株）製顔料分散剤（アジスパーＰＢ７１１、ＰＢ８２１、ＰＢ８１４、ＰＮ４１１及びＰＡ１１１等）、ルーブリゾール（株）製顔料分散剤（ソルスパーズ５０００、１２０００、３２０００、３３０００及び３９０００等）が挙げられる。これらの顔料分散剤は１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。顔料分散剤の添加量は、逆波長分散フィルム用樹脂組成物の重量に対して、隠蔽性の観点から好ましくは０〜２０重量％、更に好ましくは０〜１０重量％である。
【００３７】
本発明の逆波長分散フィルム用樹脂組成物は、基材に塗布したり、押出成形等することにより用いることができる。
基材としては、離型ＰＥＴ等が挙げられる。
基材への塗布方法としては、スピンコート、ロールコート及びスプレーコート等の公知のコーティング法並びに平版印刷、カルトン印刷、金属印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷及びグラビア印刷といった公知の印刷法を適用できる。また、微細液滴を連続して吐出するインクジェット方式の塗布も適用できる。
塗工膜厚は、乾燥後の膜厚として、乾燥性、耐摩耗性、耐溶剤性及び耐汚染性の観点から、０．５〜３００μｍが好ましく、さらに好ましくは１〜２５０μｍである。
【００３８】
本発明の逆波長分散フィルム用樹脂組成物が有機溶剤を含有する場合は、塗工後に乾燥することが好ましい。乾燥方法としては、例えば熱風乾燥（ドライヤー等）が挙げられる。乾燥温度は、塗膜の平滑性及び外観の観点から、１０〜２００℃が好ましく、さらに好ましくは３０〜１５０℃である。
【００３９】
また、逆波長分散フィルム用樹脂組成物が有機溶剤を含まない場合は、溶融混合しても良い。また、フィルム及びシートの成形方法としては、射出成形、圧縮成形、カレンダ成形、スラッシュ成形、回転成形、押出成形、ブロー成形、フィルム成形（キャスト法、テンター法及びインフレーション法等）等が挙げられる。
【００４０】
本発明の逆波長分散フィルム又はシートは、上記逆波長分散フィルム用樹脂組成物から形成されるものである。
【００４１】
本発明の逆波長分散フィルム及びシートは透明であることが好ましい。
逆波長分散フィルム及びシートのへーズ値は、透明性の観点から、３％以下であることが好ましい。
逆波長分散フィルム及びシートの全光線透過率は、着色性及び透明性の観点から、８５％以上であることが好ましい。
【００４２】
逆波長分散フィルム又はシートの製造方法としては、フィルム延伸性、正の複屈折性及び逆波長分散性の観点から、逆波長分散フィルム用樹脂組成物から形成されるフィルム又はシートを、延伸処理した後、紫外線を照射する工程を含む逆波長分散フィルムの製造方法が好ましい。
【００４３】
延伸処理の温度は、高い正の複屈折性の観点から、逆波長分散フィルム用樹脂組成物中の修飾多糖類（Ａ）のガラス転移温度（Ｌ）（℃）を基準として、（Ｌ−２０）℃〜（Ｌ＋２０）℃が好ましく、さらに好ましくは（Ｌ−１０）℃〜（Ｌ＋１０）℃である。
修飾多糖類（Ａ）のガラス転移温度は、示差走査熱量計｛例えば、セイコーインスツル（株）製ＤＳＣ２０、ＳＳＣ／５８０｝を用いて、ＡＳＴＭＤ３４１８−８２に規定の方法（ＤＳＣ法）で測定できる。
【００４４】
延伸は、縦、横又は斜めだけの一軸延伸でもよく、同時又は逐次二軸延伸でもよい。
延伸の度合いは、ヘイズ、高い正の複屈折性及び耐水性の観点から、１５０〜３００％が好ましく、さらに好ましくは１８０〜２２０％である。
【００４５】
延伸後の逆波長分散フィルム又はシートの厚さは、高い正の複屈折性の観点から、１０〜２００μｍが好ましく、さらに好ましくは３０〜１２０μｍである。
【００４６】
紫外線の照射量は、耐水性及び逆波長分散性の観点から、１００〜１００００ｍＪ/ｃｍ2が好ましく、さらに好ましくは５００〜１００００ｍＪ/ｃｍ2である。
紫外線の波長は、（Ａ）中の光二量化反応性基の種類によって適宜選択することができ、光二量化反応性の観点から、１００〜４００ｎｍが好ましく、さらに好ましくは１４０〜３８０ｎｍである。
【００４７】
紫外線照射後の逆波長分散フィルム又はシートの光二量化率（％）は、耐水性及び逆波長分散性の観点から、１０〜８０％が好ましく、さらに好ましくは２０〜７０％である。
光二量化率は、下記測定方法によって測定できる。
＜光二量化率＞
紫外−可視光光度計ＵＶ−２４００（（株）島津製作所製）を用いて光二量化部位である二重結合に起因する吸収ピークを測定し、紫外線照射前後の変化の割合を光二量化率とする。
【実施例】
【００４８】
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に規定しない限り、％は重量％、部は重量部を示す。
【００４９】
＜製造例１〜３０＞
［修飾多糖類（Ａ）の合成］
下記表１及び２に記載の量の多糖類（ａ）をシクロヘキサノン１５０部に加え、１２０℃で２時間撹拌した。ｐ−トルエンスルホン酸５部を加え、下記表１及び表２に記載の量の光二量化反応性化合物（Ｂ）を加え、１３０℃で８時間撹拌し、反応後溶液を得た。得られた反応後溶液を１０００部のメタノールに再沈殿した。生成した白色沈殿をろ過後、減圧下６０℃で乾燥し、修飾多糖類（Ａ−１）〜（Ａ−３０）の白色粉末を得た。得られた修飾多糖類（Ａ−１）〜（Ａ−３０）について、数平均分子量、ガラス転移温度、光二量化反応性化合物（Ｂ）で化学修飾された官能基の割合を測定した。結果を表１及び表２に示す。
【００５０】
＜比較製造例１〜９＞
下記表３に記載の量の多糖類（ａ）を用いて、光二量化反応性化合物（Ｂ）に代えて光非二量化反応性化合物（Ｂ’）を用いて、上記同様の製造方法にて、修飾多糖類（Ａ’−１）〜（Ａ’−９）を得た。得られた修飾多糖類（Ａ’−１）〜（Ａ’−９）について、数平均分子量、ガラス転移温度、光非二量化反応性化合物（Ｂ’）で化学修飾された官能基の割合を測定した。結果を表３に示す。
【００５１】
【表１】
2015044902.tif 000002
【００５２】
【表２】
2015044902.tif 000003
【００５３】
【表３】
2015044902.tif 000004
【００５４】
なお、表１〜３の各成分は下記を用いた。
デンプン−１：日本コーンスターチ（株）製、「コーンスターチホワイト」
セルロース：日本製紙ケミカル（株）製、「ＫＣフロックＷ−５０ＧＫ」
デンプン−２：（株）林原製、「アミロースＥＸ−Ｉ」
ヒドロキシプロピルセルロース：日本曹達（株）製、「ＮＩＳＯＯ  ＨＰＣ」
エチルセルロース：ダウケミカル（株）製、「エトセル」
メチルセルロース：信越化学（株）製、「ＭＥＴＯＬＯＳＥ  ＳＭ−８０００」
セルロースアセテート−１：（株）ダイセル製、「酢酸セルロースＬ−２０」
セルロースアセテート−２：イーストマンケミカル社製、「ＣＡ３２０−Ｓ」
セルロースアセテートプロピオネート−１：イーストマンケミカル社製、「ＣＡＰ４８２−０．５」
セルロースアセテートプロピオネート−２：イーストマンケミカル社製、「ＣＡＰ４８２−２．０」
セルロースアセテートブチレート−１：イーストマンケミカル社製、「ＣＡＢ５５１−０．２」
セルロースアセテートブチレート−２：イーストマンケミカル社製、「ＣＡＢ３８１−０．５」
桂皮酸：東京化成工業（株）製
４−メチル桂皮酸：東京化成工業（株）製
１−アントラセンカルボン酸：東京化成工業（株）製
２−アントラセンカルボン酸：東京化成工業（株）製
２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−ピロール−１―イル）−プロピオン酸：Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ社製
４−スチルベンカルボン酸：Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ社製
安息香酸：東京化成工業（株）製
４−フェニル安息香酸：東京化成工業（株）製
アクリル酸：東京化成工業（株）製
２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド：ＢＡＳＦ社製「ルシリン  ＴＰＯ」
【００５５】
修飾多糖類（Ａ）の数平均分子量は、下記条件にて測定した。
装置 ：ゲルパーミエイションクロマトグラフィー
［「Ａｌｌｉａｎｃｅ  ＧＰＣ  Ｖ２０００」、Ｗａｔｅｒｓ（株）製］
検出器：ＲＩ検出器
溶媒 ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
基準物質 ：ポリスチレン
サンプル濃度：３ｍｇ／ｍｌ
カラム固定相：ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｂ
カラム温度 ：４０℃
【００５６】
修飾多糖類（Ａ）のガラス転移温度は、セイコーインスツル（株）製ＤＳＣ２０、ＳＳＣ／５８０を用いて、ＡＳＴＭＤ３４１８−８２に規定の方法（ＤＳＣ法）で測定した。
【００５７】
修飾多糖類（Ａ）について、光二量化反応性化合物（Ｂ）で化学修飾された官能基の割合は下記測定法で測定した。なお、比較製造例１〜６及び８〜９で得た修飾多糖類（Ａ’−１）〜（Ａ’−６）及び（Ａ’−８）〜（Ａ’−９）については、下記測定法で光非二量化反応性化合物（Ｂ’）で化学修飾された官能基の割合を測定した。
＜（Ｂ）で化学修飾された官能基の割合の測定方法＞
修飾前の多糖類（ａ）及び修飾多糖類（Ａ）の1Ｈ−ＮＭＲを測定した。それぞれの測定結果で得られた下記積分値を下記数式（１）に当てはめることにより、（Ｂ）で修飾された官能基の割合（％）を算出した。
（Ｂ）で修飾された官能基の割合（％）＝［（ＴO＋ＴN）／Ｔ4−（ＳO＋ＳN）／Ｓ4］／［（ＴO＋ＴN）／Ｔ4］×１００  （１）
ＳO＝修飾多糖類（Ａ）のヒドロキシル基の水素原子の積分値
ＳN＝｛修飾多糖類（Ａ）の１級アミノ基の水素原子の積分値／２｝＋２級アミノ基の水素原子の積分値
Ｓ4＝修飾多糖類（Ａ）を構成する単糖ユニットの４位の炭素原子に直結している水素原子のＮＭＲ積分値
ＴO＝多糖類（ａ）のヒドロキシル基の水素原子の積分値
ＴN＝｛多糖類（ａ）の１級アミノ基の水素原子の積分値／２｝＋｛多糖類（ａ）の２級アミノ基の水素原子の積分値｝
Ｔ4＝多糖類（ａ）を構成する単糖ユニットの４位の炭素原子に直結している水素原子のＮＭＲ積分値
溶媒：重水素化ジメチルスルホキシド
装置：ＡＶＡＮＣＥ３００（日本ブルカー株式会社製）
周波数：３００ＭＨｚ
【００５８】
＜実施例１〜３０、比較例１〜７＞
製造例１〜３０で製造した（Ａ−１）〜（Ａ−３０）及び比較製造例１〜７で製造した（Ａ’−１）〜（Ａ’−７）それぞれ１００部に、溶剤として１,３−ジオキソラン３５０部をそれぞれ配合し、ディスパーサーで均一に混合し、実施例１〜３０及び比較例１〜７の逆波長分散フィルム用樹脂組成物を作製した。
【００５９】
＜比較例８＞
比較製造例８で製造した（Ａ’−８）１００部に、溶剤として１,３−ジオキソラン３５０部、開始剤として２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド０．５部を配合し、ディスパーサーで均一に混合し、比較例８の逆波長分散フィルム用樹脂組成物を作製した。
【００６０】
＜比較例９＞
比較製造例９で製造した（Ａ’−９）１００部に、溶剤として１,３−ジオキソラン３５０部、開始剤として２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド２．５部を配合し、ディスパーサーで均一に混合し、比較例９の逆波長分散フィルム用樹脂組成物を作製した。
【００６１】
＜実施例３１〜６０＞
実施例１〜３０で得た各逆波長分散フィルム用樹脂組成物を、表面処理を施した厚さ１２０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム［東洋紡（株）製「コスモシャイン」］に、アプリケーターを用いて膜厚１２０μｍとなるように塗布して、８０℃で２時間乾燥した。乾燥後、ＰＥＴフィルムから剥離することで、乾燥後フィルムを得た。
得られたフィルムは、ラボ用二軸延伸装置［（株）紫山科学器械製作所製「ＳＳ−７０」］にて、表４に記載の温度で２００％まで延伸し、延伸後フィルムとした。
この延伸後フィルムに、ベルトコンベア式高圧水銀ランプ［アイグラフィックス（株）製「ＥＹＥ  ＧＲＡＮＤＡＧＥ  ＥＣＳ−３０１Ｇ」］にて波長３２０〜４００ｎｍの光を５００ｍＪ／ｃｍ2照射することで、実施例３１〜６０の逆波長分散フィルムを得た。
【００６２】
＜実施例６１〜９０＞
実施例１〜３０で得た各逆波長分散フィルム用樹脂組成物を用いて、実施例１と同様に延伸後フィルムを作成した。
この延伸後フィルムに、ベルトコンベア式高圧水銀ランプ［アイグラフィックス（株）製「ＥＹＥ  ＧＲＡＮＤＡＧＥ  ＥＣＳ−３０１Ｇ」］にて波長３２０〜４００ｎｍの光を３０００ｍＪ／ｃｍ2照射することで、実施例６１〜９０の逆波長分散フィルムを得た。
【００６３】
＜比較例１０〜１６＞
比較例１〜７で得た各逆波長分散フィルム用樹脂組成物を用いる以外は実施例１と同様にして、延伸後フィルムを作成した。この延伸後フィルムを比較例１０〜１６の逆波長分散フィルムとした。
【００６４】
＜比較例１７〜１８＞
比較例８〜９で得た各逆波長分散フィルム用樹脂組成物を用いる以外は実施例１と同様にして、延伸後フィルムを作成した。
この延伸後フィルムに、ベルトコンベア式高圧水銀ランプ［アイグラフィックス（株）製「ＥＹＥ  ＧＲＡＮＤＡＧＥ  ＥＣＳ−３０１Ｇ」］にて波長３２０〜４００ｎｍの光を５００ｍＪ／ｃｍ2照射することで、比較例１７〜１８の逆波長分散フィルムを得た。
【００６５】
［光二量化率］
紫外−可視光光度計ＵＶ−２４００（（株）島津製作所製）を用いて、実施例３１〜９０において、延伸後フィルム及び逆波長分散フィルムについて、光二量化部位である二重結合に起因する波長２７０ｎｍにおける吸収ピークを測定し、下記数式（２）により二量化率を算出した。結果を表４に示す。
二量化率（％）＝｛（延伸後フィルムの吸収ピーク）−（逆波長分散フィルムの吸収ピーク）｝／（延伸後フィルムの吸収ピーク）×１００  （２）
【００６６】
［架橋率］
赤外分光光度計ＦＴＩＲ−８４００（（株）島津製作所製）を用いて、比較例１７〜１８において、延伸後フィルム及び逆波長分散フィルムについて、アクリロイル基に起因する波長１６２０〜１６４０ｃｍ-1における吸収ピークを測定し、下記数式（３）により架橋率を算出した。結果を表４に示す。
架橋率（％）＝｛（延伸後フィルムの吸収ピーク値）−（逆波長分散フィルムの吸収ピーク値）｝／（延伸後フィルムの吸収ピーク値）×１００  （３）
【００６７】
［フィルムの性能評価］
作成した逆波長分散フィルムを用いて、下記（１）〜（３）の評価を行った。結果を表４に示す。
（１）透過率（透明性）
ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準拠し、全光線透過率測定装置［商品名「ｈａｚｅ−ｇａｒｄｄｕａｌ」ＢＹＫ  ｇａｒｄｎｅｒ社製］を用いて透過率を測定した。透過率は、基材であるＰＥＴフィルムの透過率をブランクとして測定した値であり、いずれも単位は％である。
【００６８】
（２）正の複屈折性及び逆波長分散性
大塚電子（株）製「ＲＥＴＳ−１００」にて波長４５０ｎｍ、５９０ｎｍ及び６３０ｎｍの光に対する面内リタデーション（Ｒｅ）を測定した。
正の複屈折性としては、波長５９０ｎｍでのリタデーション値をフィルム膜厚で割った値を示す。なお、この値が大きいほど、正の複屈折性が高いことを示す。
逆波長分散性としては、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５９０）及びＲｅ（６３０）／Ｒｅ（５９０）の値を示す。なお、Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５９０）及びＲｅ（６３０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６３０ｎｍでの面内リタデーションを指す。Ｒe（４５０）／Ｒe（５９０）＝０．９０±０．０３かつＲe（６３０）／Ｒe（５９０）＝１．０６±０．０３であるものが、逆波長分散性がさらに良好であるものである。
その中でも、Ｒe（４５０）／Ｒe（５９０）が下限（０．８７）に近く、Ｒe（６３０）／Ｒe（５９０）が上限（１．０９）に近いものが逆波長分散性が特に好ましいものである。
【００６９】
（３）耐水性
逆波長分散フィルムを４８時間、４０℃に温調した水に浸漬した後、面内リタデーション（波長５９０ｎｍ）を測定し、浸漬前のリタデーション（波長５９０ｎｍ）からの変化率（％）を算出した。変化率が低いほど、耐水性が高いことを示す。
【表４】
2015044902.tif 000005
【００７０】
表４の結果から、本発明の実施例１〜３０の逆波長分散フィルム用樹脂組成物を用いて作成した実施例３１〜９０の逆波長分散フィルムは、高い正の複屈折性、逆波長分散性及び耐水性を同時に兼ね備えていることが分かる。
一方、比較例１〜９の従来の逆波長分散フィルム用樹脂組成物を用いて作成した比較例１０〜１８の逆波長分散フィルムは、逆波長分散性と耐水性が両立できないことが分かる。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明の逆波長分散フィルム用樹脂組成物は、透明性、正の複屈折性、逆波長分散性及び耐水性に優れているため、特に逆波長分散フィルム又はシートとして有用である。また、位相差フィルム又はシートとしても有用である。