(57)【要約】【課題】  画素等の画像で表されたパターンのデータに対して局所的な補正処理を施すことを可能とする描画システムを提供すること。【解決手段】  本発明は、基板１４上にビームを照射してパターンを描画する描画装置群と、当該描画装置群にパターンに関する画像データを送信する送信部２３、２４とを有する描画システムに関する。送信部２３は描画装置群の複数台の描画装置に対して同一の画像データを送信し、複数台のうち少なくとも１台の描画装置は、前記同一の画像データと、当該同一の画像データの一部の画像を補正する補正用画像データとを用いて前記一部の画像を補正することを特徴とする。【選択図】  図１
2015191153.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にビームを照射してパターンを描画する描画装置群と、
前記描画装置群に前記パターンに関する画像データを送信する送信部とを有する描画システムであって、
前記送信部は前記描画装置群の複数台の描画装置に対して同一の画像データを送信し、前記複数台のうち少なくとも１台の描画装置は、前記同一の画像データと該同一の画像データの一部の画像を補正する補正用画像データとを用いて前記一部の画像を補正することを特徴とする描画システム。
【請求項２】
前記複数台の描画装置のうち少なくとも１台の描画装置が前記一部の画像を補正することで、前記複数台の描画装置のうち少なくとも１台の描画装置による各々の描画結果が所定の描画結果に近づくことを特徴とする請求項１に記載の描画システム。
【請求項３】
前記同一の画像データは、所定の描画結果に関する画像データであることを特徴とする請求項１又は２に記載の描画システム。
【請求項４】
前記送信部は、前記複数台の描画装置に対して前記同一の画像データを一度で送信する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の描画システム。
【請求項５】
前記画像データはビットマップ形式のデータであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の描画システム。
【請求項６】
前記同一の画像データと前記補正用画像データとを合成することで、前記一部の画像の画素の階調数を変更することを特徴とする請求項５に記載の描画システム。
【請求項７】
前記複数台の描画装置が第１のパターンの描画を終えてから第２のパターンの描画を開始するまでの間に、前記送信部は前記複数台の描画装置に対して前記同一の画像データを送信することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の描画システム。
【請求項８】
前記送信部は前記補正用画像データを前記少なくとも１台の描画装置に送信し、該少なくとも１台の描画装置が複数ある場合は、前記補正用画像データは各々の描画装置に対応する補正用画像データであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の描画システム。
【請求項９】
前記補正用画像データのデータ量は、前記同一の描画データのデータ量の１／１０以下であることを特徴とする請求項８に記載の描画システム。
【請求項１０】
前記描画装置群における作業工程と前記補正用画像データの有無とに関する情報に基づいて、前記送信部は前記補正用画像データを送信することを特徴とする請求項８又は９のいずれか１項に記載の描画システム。
【請求項１１】
基板上にビームを照射してパターンを描画する描画装置群の複数台の描画装置に対して前記パターンに関する同一の画像データを送信するステップと、
前記複数台のうち少なくとも１台の描画装置が、前記同一の画像データと該同一の画像データの一部の画像を補正する補正用画像データとを用いて前記同一の画像データの一部を補正するステップと、
前記補正後の画像データに基づいて前記複数台のうち少なくとも１台の描画装置が描画をするステップとを有することを特徴とする描画方法。
【請求項１２】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の描画システムにおいて、基板上にパターンを描画する工程と、
前記パターンを描画した基板を現像する工程とを有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画システム、描画方法及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板上にビームを照射してパターンを描画する描画装置では、スループットの低さが課題として知られている。特許文献１には２台の電子線描画装置を用いて同じパターンの形成を目標として描画する装置構成が開示されている。１つのメモリから２つの電子線描画装置に同一のパターンデータを送り、各々の電子線描画装置内のデータ補正制御部が、当該パターンデータに対して装置固有の補正パラメータやチップ固有の歪補正パラメータを掛ける補正を施す旨が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開昭６２−５７２１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、パラメータを掛けることでパターンのデータの全体に対して補正処理を施す特許文献１の手法では、描画すべきパターンが複雑である場合に補正しきれない箇所が生じ、装置ごとの描画結果のばらつきが大きくなる恐れが生じる。このような場合、近年の半導体の微細化に伴って描画結果に対する許容誤差が厳しくなってきていることから、欠陥パターンとして判断される描画結果が増加してしまう恐れがある。
【０００５】
そこで、本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、画素等の画像で表されたパターンのデータに対して局所的な補正処理を施すことが可能な描画システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
基板上にビームを照射してパターンを描画する描画装置群と、前記描画装置群に前記パターンに関する画像データを送信する送信部とを有する描画システムであって、前記送信部は前記描画装置群の複数台の描画装置に対して同一の画像データを送信し、前記複数台のうち少なくとも１台の描画装置は、前記同一の画像データと、該同一の画像データの一部の画像を補正する補正用画像データとを用いて前記一部の画像を補正することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、画素等の画像で表されたパターンのデータに対して局所的な補正処理を施すことができる。よって本発明を描画システムに適用すれば、描画装置群の各描画装置による、描画結果のばらつきを低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施形態１に係る描画システムを説明する図。
【図２】補正データの有無を示す図。
【図３】描画データを送信するまでの流れを説明する図。
【図４】共通データを示す図。
【図５】共通データによる描画結果のシミュレーション図。
【図６】補正パターンデータと補正データを示す図。
【図７】処理部の作業内容を示す図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明は電子線、イオンビーム、及びレーザビーム等の各種ビームを用いて基板上にパターンを形成する、描画装置群を有する描画システムに関する。以下の実施形態では、描画装置群として、電子線を用いてパターンを描画する描画装置を１０台有している描画システムを例に挙げて説明する。
【００１０】
［実施形態１］
（描画システム周囲の構成）
図１は実施形態１に係る、１０台の描画装置１０Ａ〜１０Ｊで同じパターンの描画結果が得られることを目標として描画する描画システム１００に関する。図１（ａ）は１０台の描画装置のうちの１台である、描画装置１０Ａの構成図である。なお、他の描画装置１０Ｂ〜１０Ｊの構成は描画装置１０Ａと同様であるため説明を省略する。
【００１１】
電子源１１から射出された電子線は、電子レンズ（不図示）や偏向器（不図示）、及び描画デバイス１２を有している光学系を介してステージ１３上に載置されているウエハ１４上に結像される。制御部１５の指示を受けた描画デバイス１２が、ウエハ１４上の所定位置における電子線照射のタイミングや照射量を制御する。ステージ１３の位置を制御する制御部１６の指示を受けて、ステージ１３がＸ、Ｙ、及びＺ軸方向に駆動する。
【００１２】
主制御部１７は制御部１５及び制御部１６や、不図示の各種計測器などを統括制御する。主制御部１７が、制御部１５及び制御部１６を同期するように制御することでウエハ１４上にパターンを形成する。処理部１８は、後述のデータサーバ２０から送られてくる描画データを処理する機能を有しており、制御部１５が描画デバイス１２を制御するための制御用データを作成する。処理部１８の機能については、後で詳述する。描画装置１０Ａの露光空間は真空チャンバー１９で囲われており、真空チャンバー１９内は真空ポンプ（不図示）で排気されている。
【００１３】
次に図１（ｂ）を用いて、本実施形態に係る描画システム１００とその周囲の構成について説明する。描画システム１００の周囲には、各種描画パターンのデータを作成する、作成部５０、作成部６０、及び作成部７０がある。これらの作成部５０、作成部６０及び作成部７０は、後述の各機能を有するのであれば、ＣＰＵやメモリ（ＲＯＭ、ＲＡＭ等）を備えた別個の情報処理装置であっても良いし、１つの情報処理装置であっても良い。あるいは本発明に係る描画システム１００の構成に含まれていても構わない。
【００１４】
作成部５０は、ユーザーが所望のパターンを描いたＣＡＤデータをベクターフォーマットのデータに変換する。ベクターフォーマットのデータ作成に際して、電子線照射時の前方散乱や後方散乱に基づいた近接効果補正、レジストヒーティングに関する補正、ローディング効果補正等の各種補正を実行する。
【００１５】
レジストヒーティングとは、描画中にレジストが徐々に温まることによってレジストの反応特性が変化する現象のことである。また、ローディング効果とは、描画パターンの粗密が影響して、現像時に現像むらが生じてしまい、エッチング後のパターンが所望の形状にならない現象のことをいう。
【００１６】
作成部６０は作成部５０から送られたベクターフォーマットのデータをレンダリング処理することにより、多階調の画素で表されたビットマップデータに変換する。作成部６０は作成した描画データを、データサーバ２０内のメモリ２１及び作成部７０に送る。作成部６０が作成したデータを、以下共通データ（同一の画像データ）と称す。共通データは、理想的な描画結果を示すデータである。
【００１７】
作成部７０は作成部６０から取得した共通データと、後に詳述する計測結果とに基づいて、補正データ（補正用画像データ）を作成する。補正データは画素で表されている共通データの一部の画素を補正するデータであって、各描画装置による描画結果を理想の描画結果に対して所定の許容誤差範囲内の描画結果（所定の描画結果）に近づけて描画結果のばらつきを低減するためのデータである。
【００１８】
作成部７０は補正データをメモリ２２に記憶する。ここで作成する補正データは共通データに比べてデータ量が十分に小さく、共通データに比べてかなり短時間でデータを送信することが可能なデータである。例えば、補正データのデータ量は、共通データの１／１０以下である。
【００１９】
描画システム１００は描画装置１０Ａ〜１０Ｊと、描画装置１０Ａ〜１０Ｊに共通データや補正データ等の描画データを送信するデータサーバ２０を有している。さらに、データサーバ２０に対して描画データの送信方法を指示する指令部３０とメモリ４０を有している。
【００２０】
描画装置１０Ａ〜１０Ｊは、送信部２３のみ、あるいは送信部２３と送信部２４とから送られたデータを用いて、１０台とも所定の描画結果に近づくように描画する。データサーバ２０は、メモリ２１、メモリ２２、送信部２３、送信部２４を有している。また、送信部２３と描画装置１０Ａ〜１０Ｊ、送信部２４と描画装置１０Ａ〜１０Ｊはイーサネット（登録商標）あるいは光ファイバ等のネットワーク経路２５で接続されている。
【００２１】
送信部２３、送信部２４はウエハ１４に形成するパターンに関する画像データを送信する。本実施形態では、送信部２３は共通データを、送信部２４は補正データを送信する。
【００２２】
送信部２３は、同一のパターンを目標として描画をする描画装置（複数台の描画装置）１０Ａ〜１０Ｊに対して、メモリ２１内の共通データを送信する。共通データの送信方法としては、ブロードキャスト方式や、マルチキャスト方式、リレー方式が挙げられる。ブロードキャスト方式では、送信部２３が一度データを送ると、送信部２３に接続されている全ての描画装置１０Ａ〜１０Ｊに対してデータが送信される。マルチキャスト方式は、送信部２３が一度データを送ると、送信部２３に接続されている描画装置１０Ａ〜１０Ｊのうち、指定した複数の描画装置に対してのみデータが送信される。
【００２３】
リレー方式は、１対１でのデータのやり取りをリレー式に伝達していく方式である。送信部２３がデータを送信するのは描画装置１０Ａ〜１０Ｊのうち１台の描画装置に対する一度のみであるが、前記１台の描画装置はデータを受信作業とほぼ並行して、他の描画装置に対しても同一のデータを送信する方式である。データの受信中にはデータに損失がないかどうか送信源と確認し合ったうえで他の描画装置に対してデータを送信する。データの欠損無しに送信できるという利点から、リレー方式はその他の方式に比べて好ましい。
【００２４】
送信部２４はメモリ２２内の補正データを、指令部３０の指示に基づいて送信する。送信方式としては、指定した１台の描画装置にのみデータを送信することが可能なユニキャスト方式とする。これにより、個々の描画装置に対応する補正データを送ることできる。
【００２５】
メモリ４０は各描画装置１０Ａ〜１０Ｊにおける作業工程と補正データの有無に関する情報を有している。その他、メモリ２２内に記憶されている補正データと、当該補正データに対応する描画装置とを関連付ける情報も記憶している。
【００２６】
図２は各描画装置１０Ａ〜１０Ｊにおける作業工程と補正データの有無に関する情報の例であり、製造製品と描画パターン、及び補正データの有無を示すデータである。×は補正データを送信しなくとも、所定の描画結果が得られる描画装置および描画パターンであることを示している。〇は補正データを送信する必要があることを示しており、補正データを用いて共通データの画素の一部を補正することで、補正データが送信されなかった描画装置による描画結果に近い描画結果を得ることが可能となる。
【００２７】
例えば、デバイスＡの１層目のパターンを形成する場合には、描画装置１０Ｅ及び描画装置１０Ｇが補正データを必要とすることを示している。指令部３０はこの情報に基づき、送信部２４に対して、描画装置１０Ｅには共通データを補正するための、描画装置１０Ｅ用の補正データを、描画装置１０Ｇには共通データを補正するための、描画装置１０Ｇ用の補正データを送信するように指示する。このように、補正データを用いて共通データを補正すべき描画装置（少なくとも１台の描画装置）が複数台ある場合には、送信部２４は各々の描画装置に対応する補正データを送信する。
【００２８】
描画システム１００が１０台の描画装置１０Ａ〜１０Ｊを有していることにより、１台あたりのスループットが１時間あたり５〜１０枚だとしても、１０台の描画装置によって描画することでスループットを５０〜１００枚にすることができる。
【００２９】
描画システム１００の内部又は外部には、ウエハ１４にレジストを塗布するコータデベロッパ（不図示）や、パターンを描画後のウエハ１４に対して後処理工程を施すその他の装置（不図示）が配置されている。ウエハ１４を搬送する共通の搬送系（不図示）も配置されている。これらの装置を１０台の描画装置１０Ａ〜１０Ｊが共有して使用することで、工場内に設置される各種機器の合計の設置面積の狭小化や、装置間構成の簡略化が可能となる。
【００３０】
（補正データの作成方法と送信方法）
描画装置１０Ａ〜１０Ｊを用いて描画を行う前処理として、作成部７０が補正データを作成する必要がある。図３に示すフローチャートを用いて、補正データの作成までの工程（Ｓ１０１〜Ｓ１０５）及び補正データの送信工程（Ｓ１０６〜Ｓ１０８）について説明する。なお、補正データの作成に先立ち作成部６０によって共通データは作成済みとする。
【００３１】
まず、送信部２３はメモリ２１に保存されている共通データを読み出し、全ての描画装置１０Ａ〜１０Ｊに対して共通データを送信して試し描画を行う（Ｓ１０１）。試し描画をしたウエハを現像すると、レジスト像のパターンが形成されたウエハが得られる。ユーザーは、光学式や二次電子検出方式等の欠陥検査装置（不図示）を用いて描画結果における欠陥の有無を検査する（Ｓ１０２）。欠陥検査装置により欠陥が検出された場合は、レビューＳＥＭやＣＤ−ＳＥＭを用いて欠陥箇所を高倍率で観察し、目標とした共通パターンと描画結果の差を詳細に確認する。
【００３２】
試し描画用の共通データを図４に示す。また、描画装置１０Ａ〜１０Ｃにおける描画結果の例として、描画装置１０Ａによって描画した結果を図５（ａ）に、描画装置１０Ｂによって描画した結果を図５（ｂ）に、描画装置１０Ｃによって描画した結果を図５（ｃ）に示す。所定の誤差範囲内の描画結果が得られている図５（ａ）や図５（ｃ）と比べて、図５（ｂ）に示す描画結果は目標としたパターンに対して欠陥の度合いが大きいことが分かる。
【００３３】
ユーザーはこの例に示すような描画結果を用いて、欠陥のあった描画結果をより所定の描画結果に近づけるための補正を、どの描画装置に対して施す必要があるかを判断する。
【００３４】
再び図３のフローチャートの説明に戻る。前述の欠陥検査の情報から、作成部７０は欠陥要因と考えられるパラメータを考慮しながら、補正が必要と判断された描画装置による描画結果が所定の描画結果に近づくような補正パターンデータを作成する（Ｓ１０３）。なお、欠陥要因となりうるパラメータ例として、ビーム径や光学系で生じる収差等が考えられる。
【００３５】
続いて作成部７０は、共通データと補正パターンデータの差から補正データを作成し（Ｓ１０４）、補正データをメモリ２２に記憶する（Ｓ１０５）。図６（ａ）に前述の描画装置１０Ｂの描画結果から作成された補正パターンデータを、図６（ｂ）に共通データと補正パターンデータから作成された補正データを例として示す。補正データは共通データや補正パターンデータに比べれば、データ量の小さなデータである。そのため、共通データや補正パターンデータの送信に要する時間よりも補正データの送信に要する時間の方が短くなる。
【００３６】
再び図３のフローチャートの説明に戻る。メモリ２１には全ての描画装置１０Ａ〜１０Ｊに送信する共通データが、メモリ２２にはＳ１０５において作成した補正データが記憶されている。指令部３０は、描画データを送るに際し、図２の表等を用いて共通データに対して補正が必要な描画装置があるかどうかを判断する（Ｓ１０６）。
【００３７】
共通データに対して補正が必要な描画装置がない（ＮＯ）と判断された場合は、指令部３０は送信部２３に対して一度で複数の描画装置１０Ａ〜１０Ｊに共通データを送るように指示する（Ｓ１０７）。ブロードキャスト方式の場合は、送信部２３が一度で送信すれば、同時に全ての描画装置１０Ａ〜１０Ｊに送信される。リレー方式の場合は、送信部２３が一度いずれかの描画装置に共通データを送信し、最終的には全ての描画装置１０Ａ〜１０Ｊにほぼ同時に送信される。一方、送信部２４にはデータの送信を指示しない。
【００３８】
共通データに対して補正が必要な描画装置がある（ＹＥＳ）と判断した場合は、指令部３０は、これらの描画装置には共通データに加えて補正データも送信するように指示を出す（Ｓ１０８）。指令部３０は送信部２３に、共通データを一度で複数の描画装置１０Ａ〜１０Ｊに送るように指示する。一方、指令部３０は送信部２４に対して補正が必要な描画装置に対してはメモリ２２から補正データを読み出し、その補正データに対応する描画装置に対して補正データを送るように指示する。
【００３９】
各描画装置の処理部１８は、送信部２３や送信部２４から受信した共通データや補正データを用いて描画デバイス１２を制御するための制御用データを作成する。制御用データの作成までの流れを図７に示す。
【００４０】
まず、受信した共通データや補正データが圧縮されていればそれを一度展開し、補正パターンデータを復元するための演算処理を行う。ここで行われる演算処理は、例えば、共通データと補正データとを合成することによって、共通データの一部の画素の階調数を変更する演算である。演算後（補正後）のデータに対してウエハ１４上の歪みを考慮したディストーション補正の処理を施す。さらに、照射位置、時刻、及び照射量の関係を示すデータに変換する処理等の変換処理も行って、制御部１５が描画デバイス１２を制御するための制御用データを作成する。
【００４１】
共通データのみを受信した場合は、共通データに対してそのまま同様の変換処理を施して制御用データを作成する。処理部１８は補正パターンデータを用いて作成した制御用データを制御部１５に送る。当該制御用データに従って制御部１５が描画デバイス１２に指示を出すことによってパターンが描画される。
【００４２】
所望の描画結果を得にくい描画装置が、共通データと補正用データを用いた補正処理を行うことで、２つの利点がある。１点目は、補正データを用いて共通データの一部を補正することにより、各々の描画装置における性能のばらつきに起因して生じる描画結果の欠陥度合いのばらつきを低減させ、従来よりも高精度な描画結果を得ることが可能となることである。
【００４３】
２点目は描画装置ごとの機差を補正しつつ、その補正に必要なデータの送信にかかる時間を短縮することができることである。共通データに補正が必要な描画装置に対して、仮に個々の描画装置に対応する補正パターンデータを個別に送信するシステムを構築してしまうと、送信部２３は各々のデータをユニキャスト方式で送信する必要がある。しかしながら補正パターンデータは共通データと同程度にデータ量が大きいため、全ての描画装置に対して描画データを送信し終えるまでに時間がかかりすぎてしまう。
【００４４】
一方、本実施形態によれば、データ容量が大きな共通データの送信は一度で済ませてしまうことが可能となり、データを送信開始してから描画を開始するまでの時間に必要な時間を短縮することが可能となる。さらに、各描画装置１０Ａ〜１０Ｊに送信すべき描画データを保存するメモリ２１とメモリ２２に必要な総容量を低減することも可能となる。
【００４５】
なお、補正データの作成の際には共通データから補正パターンデータを引いて差分を求めても、補正パターンデータから共通データを引いて差分を求めても構わない。最終的に描画装置の処理部１８による合成演算によって、描画装置に対応する補正パターンデータが作成されれば構わない。
【００４６】
補正パターンデータ作成（Ｓ１０３）後に、一度試し描画をして、所望の描画結果が得られるかどうか確認する工程を挿入しても良い。また、必ずしもウエハ１４上に形成していく全てのパターンを試し描画して補正データを作成しなくても構わない。描画装置における描画不良に関する要因が分かるのであれば、他のパターンにもその結果を反映させて補正データを作成することが好ましい。これにより補正データの作成までに要する時間を低減することが可能となる。
【００４７】
（実施例）
次に実施形態１の実施例について説明する。送信される描画パターンのデータは、繰り返しパターンの最少単位である１チップ分のデータである。
【００４８】
チップサイズが１０ｍｍ×１０ｍｍであって、２０ｍｍ×３０ｍｍの１ショット領域に６チップ分のパターンを形成する場合を考える。また、共通データや補正データ等の描画データの最小のグリッドサイズは５ｎｍ×５ｎｍであって、各々の領域に照射する電子線の照射量の階調を１６階調、すなわち４ｂｉｔとする。この場合、本実施例において作成部６０が作成する１チップ分あたりのデータ量は式（１）で表される。
【００４９】
【数１】
2015191153.tif 000003
【００５０】
よって、一般的な伝送速度１０Ｇｂｉｔ／ｓｅｃのネットワーク経路２５で送信すると、理想的には、２ＴＢ×（８ｂｉｔ／ｂｙｔｅ）／（１０Ｇｂｉｔ／ｓｅｃ）＝１６００ｓｅｃ＝２６分４０秒かかる。すなわち３０分弱の時間がかかることが分かる。補正パターンデータの場合も、同程度の時間がかかる。
【００５１】
次に、補正データについても同様に考える。最小の補正データを１μｍ×１μｍで考える場合、１つの補正データに必要なデータ量は、式（２）で表される。
【００５２】
【数２】
2015191153.tif 000004
【００５３】
仮に、１００００個の補正データを作成した場合でも、必要なデータ量は２００ＭＢである。よって、１０Ｇｂｉｔ／ｓｅｃのネットワーク経路２５で送信すると、理想的には、０．１６ｓｅｃで送信可能である。
【００５４】
（実施例１）
実施例１として、送信部２３が共通データを全ての描画装置１０Ａ〜１０Ｊに対してブロードキャスト方式で送信し、送信部２４が補正データをユニキャスト方式で補正が必要な描画装置に送る場合を説明する。送信部２３が一度データを送れば描画装置１０Ａ〜１０Ｊの１０台全てに共通データを送ることが可能であるため、計３０分弱で送信できる。また、補正データが必要な描画装置が多いとしても、前述の計算から数秒で済むと考えられるため、共通データの送信時間と合わせても計３０分程度で送信可能である。
【００５５】
（実施例２）
実施例２として、送信部２３が共通データをリレー方式で送信し、送信部２４が補正データをユニキャスト方式で送る場合を説明する。リレー方式の場合は、リレー方式に送信されていくデータに欠損が無いかどうかを確認する作業を行うため、実施例１の場合よりも少し多めに時間がかかる。仮に、効率が０．７となる場合には前述のブロードキャスト方式で伝送に要する時間を０．７で除して求める。すなわち、１６００ｓｅｃ／０．７＝２２８６ｓｅｃ＝３８分６秒要する。補正データの送信に要する時間は、実施例１と同様に数秒で済むため、計４０分程度で送信可能である。
【００５６】
（比較例）
本実施形態を利用しない場合、すなわち、共通データでは所望の描画結果が得られない描画装置に対して補正パターンデータを各々送信する場合を比較例として説明する。８台の描画装置で補正パターンデータをユニキャスト方式で送信し、残りの２台に対してはリレー方式で共通データを一度に送信する場合を例に挙げる。なお、補正パターンデータは共通データとほぼ同じデータ量であるため、以下の計算では共通データと同じ１６００ｓｅｃであるとする。
【００５７】
ユニキャスト方式では、１つの送信部２３からは１台分のデータずつしか送信することができないため、送信に必要な時間は、２２８６ｓｅｃ＋１６００ｓｅｃ×８＝２５１分２６秒＝４時間１１分２６秒、すなわち約４時間となる。また、データサーバ２０内で補正パターンデータを保存しておくメモリ容量も、共通データ９つ分に相当する容量が必要となる。
【００５８】
以上の実施例１、実施例２、比較例から、送信部２３や送信部２４から送信するデータの総容量は送信時間短縮の観点から小さいことが好ましいことが分かる。ユニキャスト方式で送信するのは、共通データよりも十分にデータ量の小さい補正データのみとなるような本実施形態を利用することが好ましい。データの送信に要する時間を十分に短縮することが可能となる。さらに、データサーバ２０内で保有するデータ量を大幅に削減する効果も得られる。
【００５９】
このようにして、本実施形態では、共通データと補正データとを用いて共通データを局所的に補正することで、各々の描画装置が所望の描画結果に近いパターンを描画することが可能となる。さらに、補正パターンデータのようにデータ容量の大きなデータを個々の描画装置に順次送る場合に比べて描画データの送信に要する時間を大幅に低減することが可能となる。
【００６０】
［実施形態２］
実施形態１では、１０台全ての描画装置１０Ａ〜１０Ｊを用いて同一製品の同一工程を実行する場合を例に説明した。本実施形態では、描画装置１０Ａ〜１０Ｊのうち、一部の描画装置ごとに製造製品や製品工程が異なる場合に関する形態である。メモリ４０内に、どの時間帯にどの描画装置に対してデータを送信すると、必要な製品製造のための描画に要する合計時間が短くなるかを予め計算しておいたレシピ情報が記憶されている点で実施形態１とは異なる。
【００６１】
実施形態２では描画装置１０Ａ〜１０ＥではデバイスＡを、描画装置１０Ｆ〜１０ＪではデバイスＢを製造する場合である。実施形態１とは異なり、描画装置によって扱う製品を異なるように設定することができる。
【００６２】
このように、異なった製品を組み合わせて製造する場合であっても、同一製品同一工程を扱う描画装置に対する共通データは一度で送信し、共通データに対して補正が必要な描画装置に対してはユニキャスト方式で補正データのみを送信する。共通データに比べて補正データはデータ量が小さくのデータサーバ２０内のデータ量を低減させ、かつデータの送信に要する時間を補正パターンデータを各々の描画装置に送信していく場合に比べて短くする。
【００６３】
製品が異なれば、必要なパターンのデータ量やそのパターンに要する送信時間も異なるため、描画装置１０Ａ〜１０Ｅで描画をしている最中に描画装置１０Ｆ〜１０Ｊにデータを送信することができる。これにより、全ての描画装置がデータ受信のために停止している時間や、描画装置１０Ａ〜１０Ｊの描画中にデータサーバ２０が停止している時間等、無駄な時間をなるべく減らしながら、描画システム１００全体での稼働率を上げることができる。
【００６４】
［その他の実施形態］
描画システム１００において描画装置１０Ａ〜１０Ｊがパターン描画中に、次のパターンとして必要なデータを保存するためのメモリを用意すると、そのデータ量の大きさから、かえって機器設置面積の増大につながる恐れがある。よって、送信部２３、送信部２４は、描画装置１０Ａ〜１０Ｊのうちの同一の目標のパターンを描画する複数の装置において、ある種類のパターン（第１のパターン）の描画を終えてから別種類のパターン（第２のパターン）の描画を開始するまでの間にデータの送信を行うことが好ましい。
【００６５】
ただし送信部２４が扱う補正データは、各描画装置内で記憶しておくことが可能な程度のデータ量であれば、複数種類のパターンを描画する前に予め送信して各描画装置内に格納しておいても良い。
【００６６】
また、描画システム１００全体でのスループットが１時間あたり１００枚とすると、１０台の描画装置で最大で４ロット分のウエハにパターンを描画する。すなわち、最大で４回、データを送信する可能性もあり、データの送信に要する時間は短ければ短いほど好ましい。以上のことから、本発明は、ロジック回路基板のパターンのように、複雑なパターンを扱うことから補正が必要になりやすく、かつ描画するパターンの切り替え回数が多い場合に本発明の描画システムは適している。
【００６７】
本発明における送信部とは、少なくとも送信部２３、送信部２４及び指令部３０の機能を有していれば良く、一体となって構成されていても良い。また、送信部２３、２４がデータを送る際に、必要に応じてデータを圧縮して送信しても構わない。メモリ２１、２２は同一のメモリとして構成されていても構わない。
【００６８】
共通データや補正データは、ベクターフォーマットでもビットマップ形式のデータ等の画像を扱うデータである。特に、予めビットマップ形式化したデータを送信する場合に、送信時間を大幅に低減できる効果がある。
【００６９】
本発明は、描画システム１００内の全ての描画装置において補正データが必要となる場合であっても前述と同様の効果を有する。所望の描画結果と共通データの示す画像がかけ離れていなければ、全ての描画装置に必要な補正データのデータ量が少ないことには変わりはない。そのため、共通データと補正データとを用いて共通データの一部を補正することによって、各々の描画装置による描画結果のばらつきを低減することはできる。
【００７０】
［物品の製造方法］
本発明の物品（半導体集積回路素子、液晶表示素子、ＣＤ−ＲＷ、フォトマスク等）の製造方法は、前述の描画システムによりパターンを描画する工程と、パターンが描画されたウエハやガラス等の基板を現像する工程とを含む。さらに、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含んでも良い。
【符号の説明】
【００７１】
１０Ａ〜１０Ｊ  描画装置
２３、２４  送信部
１００  描画システム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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