(57)【要約】【課題】  従来のクリアコート剤は、有機重合体によるものが多く、光劣化や経年劣化の問題があった。シリコンのような無機系のクリアコート剤も開発されているが、高温乾燥が必要で、簡便な使用に問題があった。また従来のクリアコート剤は、親油性のものが殆どで、油脂汚れを防止することはできない問題があった。【解決手段】  本発明によれば、水道水のようにシリカを含んだ水に、３０〜４０テラヘルツの共鳴電磁波を、一致条件下で照射することにより、シリカイオンを溶存した弱アルカリ性で界面活性力の大きく、汚損除去と汚損防止能力の高いクリアコート剤とその生成方法を提供する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水道水のようにシリカを含んだ水に、特定の周波数の共鳴電磁波を、特定の温度条件下で、一定時間照射し、当該水の水素結合による水の分子間結合を分離するとともに、シリカをイオン化し、当該水に溶存することを特徴としたクリアコート剤とその生成方法。
【請求項２】
請求項１に記載の共鳴電磁波の照射は、３０テラヘルツから４０テラヘルツの共鳴電磁波を放射するアルミニュームやセラミックやカーボンにより照射することを特徴としたクリアコート剤とその生成方法。
【請求項３】
請求項１に記載の共鳴電磁波の照射は、摂氏２０度から１００度の温度条件で照射することを特徴としたクリアコート剤とその生成方法。
【請求項４】
請求項１に記載の共鳴電磁波の照射は、２時間から１２時間であることを特徴としたクリアコート剤とその生成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、水道水のようにシリカを混在している水に、３０〜４０テラヘルツの共鳴電磁波を照射し、当該水の水素結合による水の分子間結合を分離し、当該水を、水分子クラスターの小さい弱アルカリ性で酸化還元電位が還元側の水として活性化するとともに、当該水に混在するシリカをイオン化し溶存することにより、簡便に被塗布面を洗浄し、当該塗布面にシリカの透明膜を形成するクリアコート剤とその生成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】  従来、表面の物体表面の汚損防止に、クリアコート剤が開発されているが、有機物質を使用したものが殆どである。【０００３】  また、表面汚損防止性能を高めるため無機系のシリコンを使用したものも開発されている。
【特許文献１】  特許公開２００４−２７７４８２
【特許文献２】  特許公開２００８−２４８２３
【特許文献３】  特許公開２０１２−４１４８２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】  従来のクリアコート剤は有機物質を使用したものが殆どで、光劣化や経年劣化に問題があり、また塗布面に、親油性の塗膜を形成し指紋や油脂分が付着しやすくなるため、カビの発生による汚損防止性能に問題があった。【０００５】  また、上記の欠点を解決するために、親水性表面を形成するシリコン系のクリアコート剤も開発されているが、塗布後に高温乾燥が必要な場合が多く、簡便に使用できる汎用性に問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】  このような課題を解決するために本発明者は、３０〜４０テラヘルツの共鳴電磁波を発振するよう加熱及び加圧されたセラミックや金属物質から発振される電磁波を、２０℃〜１００℃の温度条件下で、２〜１２時間、水やシリカに照射することで、当該物質が活性化され、当該水の水素結合が分離され低分子量化し、当該水のＰＨ値が１．５〜２程大きくなり弱アルカリ化し、酸化還元電位が還元側になり、当該水が活性化するとともに、当該水に混在するシリカが、イオン化することを見出し、本発明をなすに至った。【０００７】  すなわち、上記課題を解決するために、本発明では、３０〜４０テラヘルツの共鳴電磁波を、水道水等のシリカを混在した水に照射することで、シリカイオンを溶存したクラスターの小さい、弱アルカリ性の活性水を生成する。【０００８】  また、３０〜４０テラヘルツの共鳴電磁波で活性化されたシリカイオンを含む水を物体表面に噴霧すると、クラスターの微細な弱アルカリ性の水が、物体表面の微細な凹凸面に浸み込み、当該凹凸面に付着した汚損を剥離する。そして当該剥離汚損を柔らかい布や紙で軽くぬぐい取ると、汚損の除去された微細な凹凸部にシリカイオンが残り、結果としてシリカのクリアコート膜を、物体表面に形成する。
【発明の効果】
【０００９】  本発明のクリアコート剤の生成装置によれば、小型で簡便な装置により、３０〜４０テラヘルツの共鳴電磁波を、２０〜１００℃の温度条件下で、２〜１２時間、水道水等のシリカを混在した水に照射するだけで、シリカイオンを溶存した弱アルカリ性でクラスターの微細な酸化還元電位が還元側の活性水となり、効果が明確で、持続性の高いクリアコート剤を、低コストで効率良く生成できる。【００１０】  本発明のクリアコート剤は、３０〜４０テラヘルツの共鳴電磁波で、同じ固有振動数を有する水分子の水素結合を共振励起し、当該水素結合を分離し、水のクラスターを微細化することにより、弱アルカリ性で、還元電位の大きい活性水となり、シリカイオンを多く含むため、物体表面の汚損が除去できるとともに物体表面に汚損防止のクリアコートを同時に行える。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】  以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
図１は、本発明のクリアコート剤の生成方法の立面図を示す。
図２は、本発明のクリアコート剤の生成方法の平面図を示す。
図３は、本発明のクリアコート剤の使用効果のフローを示す。【００１２】  図１に示すように、原水入口管１から、水道水のようなシリカを含んだ原水を、３０〜４０テラヘルツの共鳴電磁波放射体４を取り付けた浮体３を、固定策５により係留しているタンク２に供給する。【００１３】  タンク２に供給された原水は、ヒーター１３により、２０℃〜１００℃に保たれる。【００１４】  テラヘルツ放射体４から３０〜４０テラヘルツの共鳴電磁波６が発振され、タンク２内の原水の水分子クラスター７の水素結合を共振励起し、当該水素結合を分離し、電子９と水素イオン８を水中に放出し、水分子クラスターが微細で、弱アルカリ性の、酸化還元電位が還元側の活性水を生成する。【００１５】  タンク５の底部に敷かれたシリカ１０は、共鳴電磁波６による共振作用で励起された電子を放出し、シリカイオン１１として、微細化した水分子クラスター７に安定して溶存され、クリアコート剤出口管１２から吐出される。【００１６】  図３の（状態Ａ）及び（状態Ｂ）に示すように、前述の方法で生成されたクリアコート剤２１を、対象物体２２の表面に噴霧すると、クラスターの微細化した弱アルカリ性のクリアコート剤２１は、対象物体２２の表面の微細な凹凸に浸み込み、汚損物質２４を剥離し、浮上させる。【００１７】  剥離され浮上した汚損物質２４を、柔らかい布や紙で拭き取ると、対象物体２２の表面の凹凸部に、クリアコート剤２１に溶存しているシリカイオン２３が入り込み、対象物体２２の表面に、親水性で油脂分をはじく防汚効果の高い透明な膜を形成する。
【実施例】
【００１８】  本発明による生成方法で生成されたクリアコート剤を、２０人が試用し、携帯電話やパソコンの画面に噴霧し、約１０秒後に柔らかい布や紙で、当該画面を拭き取ったところ、汚れが除去されるとともに、当該物体表面に親水性の透明な被覆が施され、指紋等の油脂汚れが付着しにくくなったことを、全員が確認した。
【産業上の利用可能性】
【００１９】  本発明は、汚損除去および汚損防止用としてだけでなく、抗菌防かび剤を添加することにより、塗布面の抗菌や防かび処理を、同時に１回の処理で行うことができるので、医療器具や調理器具の洗浄や抗菌防かび処理にも広く使用できる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】は、本発明の生成方法の立面図を示す。
【図２】は、本発明のＡ矢視を示す。
【図３】は、本発明のクリアコート剤の使用効果のフローを示す。
【符号の説明】
【００２１】  １    原水入口管
２    タンク
３    浮体
４    共鳴電磁波放射体
５    固定用索
６    共鳴電磁波
７    水分子クラスター
８    水素イオン
９    電子
１０  シリカ
１１  シリカイオン
１２  クリアコート剤出口管
１３  ヒーター
２１  クリアコート剤
２２  対象物体
２３  シリカイオン
２４  汚損物質
【図１】
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【図２】
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【図３】
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