(57)【要約】【課題】固形分を速やかに溶解させることが可能な機能層形成用インクの製造方法、これを用いた有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。【解決手段】機能層形成用インクの製造方法は、低分子材料、高分子材料、あるいは低分子材料と高分子材料とを混合した混合物のいずれかの固形分を貧溶媒に分散させる工程と、固形分を分散させた貧溶媒に良溶媒を加えて、固形分を溶解させる工程と、を含み、貧溶媒に良溶媒を加えた総容積に対して、貧溶媒の容積比が１０％〜７０％であり、且つ貧溶媒と良溶媒とを混合可能であることを特徴とする。有機ＥＬ素子１３０の製造方法において、機能層１３２は、陽極としての画素電極１３１側から順に積層された正孔注入層１３２ａ、正孔輸送層１３２ｂ、発光層１３２ｃを含み、上記機能層形成用インクを用いて、正孔注入層１３２ａ、正孔輸送層１３２ｂ、発光層１３２ｃのうち少なくとも１層を形成する機能層形成工程を有する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光機能を有する機能層を形成する際に用いられる機能層形成用インクの製造方法であって、
低分子材料、高分子材料、あるいは前記低分子材料と前記高分子材料とを混合した混合物のいずれかの固形分を貧溶媒に分散させる工程と、
前記固形分を分散させた前記貧溶媒に良溶媒を加えて、前記固形分を溶解させる工程と、を含み、
前記貧溶媒に前記良溶媒を加えた総容積に対して、前記貧溶媒の容積比が１０％〜７０％であり、且つ前記貧溶媒と前記良溶媒とを混合可能であることを特徴とする機能層形成用インクの製造方法。
【請求項２】
前記貧溶媒の沸点が１５０℃以上３００℃以下であって、前記良溶媒の沸点が２５０℃以上３００℃以下であることを特徴とする請求項１に記載の機能層形成用インクの製造方法。
【請求項３】
前記貧溶媒は、直鎖アルカン系溶媒、脂肪族アルコール系溶媒、脂肪族エーテル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒の中から少なくとも１種が選ばれ、
前記良溶媒は、３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソプロピルビフェニルの中から少なくとも１種が選ばれることを特徴とする請求項１または２に記載の機能層形成用インクの製造方法。
【請求項４】
前記貧溶媒は、直鎖アルカン系溶媒、脂肪族アルコール系溶媒の中から少なくとも１種が選ばれ、
前記良溶媒は、３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソプロピルビフェニルの中から少なくとも１種が選ばれることを特徴とする請求項１または２に記載の機能層形成用インクの製造方法。
【請求項５】
前記貧溶媒は、４種の直鎖アルカン系溶媒（ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン）、５種の脂肪族アルコール系溶媒（ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノニルアルコール、デシルアルコール）、１４種の脂肪族エーテル系溶媒（ジペンチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、８種の芳香族炭化水素系溶媒（１，３−ジイソプロピルベンゼン、１，４−ジイソプロピルベンゼン、トリイソプロピルンベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン）の中から少なくとも１種が選ばれ、
前記良溶媒は、３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソプロピルビフェニルの中から少なくとも１種が選ばれることを特徴とする請求項１または２に記載の機能層形成用インクの製造方法。
【請求項６】
陽極と陰極との間に発光機能を有する機能層を備えた有機ＥＬ素子の製造方法であって、
前記機能層は、前記陽極側から順に積層された正孔注入層、正孔輸送層、発光層を含み、
低分子材料、高分子材料、あるいは前記低分子材料と前記高分子材料とが混合された混合物のいずれかの固形分を含む機能層形成用インクを用いて、前記正孔注入層、前記正孔輸送層、前記発光層のうち少なくとも１層を形成する機能層形成工程を有し、
前記機能層形成用インクは、請求項１または２に記載の機能層形成用インクの製造方法を用いて製造されたものであることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項７】
前記機能層形成工程では、前記機能層形成用インクを用いて、前記正孔注入層を形成することを特徴とする請求項６に有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項８】
前記機能層形成工程では、前記機能層形成用インクを用いて、前記正孔輸送層を形成することを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項９】
前記機能層形成工程では、前記機能層形成用インクを用いて、前記発光層を形成することを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光機能を有する機能層を形成する際に用いられる機能層形成用インクの製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
発光素子としての有機エレクトロルミネッセンス（Electro−Luminescence；ＥＬ）素子は、陽極と陰極との間に有機化合物からなる発光材料を含む機能層を有している。このような機能層を形成する方法としては、真空蒸着法などの気相プロセス（乾式法とも言う）や、機能層形成材料を溶媒に溶解あるいは分散させた溶液を用いる液相プロセス（湿式法あるいは塗布法とも言う）が知られている。一般的に、気相プロセスでは低分子材料が好適に用いられ、液相プロセスでは成膜性の観点から高分子材料が用いられている。高分子材料は、低分子材料に比べて発光効率や発光寿命の点で劣る場合があることが知られている。その一方で、液相プロセスは気相プロセスに比べて、大型基板上に有機ＥＬ素子を比較的に容易に形成できることから、継続的に開発が行われている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、高分子材料を湿式法により成膜した正孔注入・輸送層と、正孔注入・輸送層に積層され、低分子発光材料を湿式法により成膜した低分子発光層とを有する有機ＥＬ素子が開示されている。また、低分子発光材料としてアントラセン骨格やピレン骨格を有する有機化合物が示されている。
【０００４】
また、例えば、特許文献２には、有機ＥＬ素子の製造方法として、高分子材料であるトリフェニルアミン系ポリマーを主溶媒であるシクロヘキシルベンゼンと副溶媒であるキシレンで溶解させて塗布・乾燥することにより正孔注入輸送層を形成している。また、高分子材料であるポリオレフィン系材料に低分子材料である発光材料をドープした混合物を同じくシクロヘキシルベンゼンとキシレンとを含む溶媒に溶解させて、正孔注入輸送層上に塗布・乾燥させて発光層を形成する方法が示されている。
【０００５】
さらに、例えば、特許文献３には、正孔注入層及び正孔輸送層の形成方法として、低分子の層形成材料と高分子バインダーとの混合溶液からの成膜による方法が示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−１９０７５９号公報
【特許文献２】特開２００８−２２６６８６号公報
【特許文献３】特開２００９−２４５６５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記特許文献１〜特許文献３では、発光機能を有する機能層のうち有機化合物からなる、正孔注入層、正孔輸送層、発光層のいずれかを液相プロセスで形成する場合、低分子材料または高分子材料の有機化合物あるいは低分子材料と高分子材料の混合物である有機化合物を溶解させる溶媒として、以下の有機溶媒が示されている。
例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族系溶媒、ヘキサン、オクタンなどのパラフィン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、ピリジン、キノリンなどのアミン系溶媒、アセトニトリル、バレロニトリルなどのニトリル系溶媒、チオフェン、二硫化炭素などの硫黄系溶媒などが挙げられている。
しかしながら、上記有機溶媒に対する低分子材料や高分子材料の溶解度は、用いられる材料にもよるが必ずしも大きいわけではない。特に、低分子材料と高分子材料との混合物を用いた場合には、有機溶媒中で相互の分子間力によって低分子材料と高分子材料とが凝集してゲル化し易く、ゲル状の混合物を上記有機溶媒に完全に溶解させるまでに相当な時間（例えば２４時間以上）を要する、あるいはゲル状の混合物を完全に溶解させることができないおそれがあるという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００９】
［適用例］本適用例に係わる機能層形成用インクの製造方法は、発光機能を有する機能層を形成する際に用いられる機能層形成用インクの製造方法であって、低分子材料、高分子材料、あるいは前記低分子材料と前記高分子材料とを混合した混合物のいずれかの固形分を貧溶媒に分散させる工程と、前記固形分を分散させた前記貧溶媒に良溶媒を加えて、前記混合物を溶解させる工程と、を含み、前記貧溶媒に前記良溶媒を加えた総容積に対して、前記貧溶媒の容積比が１０％〜７０％であり、且つ前記貧溶媒と前記良溶媒とを混合可能であることを特徴とする。
【００１０】
本適用例によれば、固形分が分散された状態の貧溶媒に良溶媒が加えられるので、貧溶媒と良溶媒の混合溶媒中における該固形分のゲル化が抑制される。したがって、該固形分を良溶媒だけに溶解させる場合に比べて、速やかに該固形分を溶解させることができる。つまり、固形分を混合溶媒に速やかに溶解させることが可能な機能層形成用インクの製造方法を提供することができる。
また、機能層形成用インクが低分子材料と高分子材料とを含む場合、低分子材料を含まない場合に比べて、優れた光学特性を有する機能層を形成することができる。
【００１１】
上記適用例に係わる機能層形成用インクの製造方法において、前記貧溶媒の沸点が１５０℃以上３００℃以下であって、前記良溶媒の沸点が２５０℃以上３００℃以下であることを特徴とする。
この方法によれば、インクジェット法などの液滴吐出法により機能層を形成する場合に、機能層形成用インクの乾燥によるノズルの目詰まりなどが生じ難く、液滴吐出法に対して好適な機能層形成用インクを製造することができる。
【００１２】
上記適用例に係わる機能層形成用インクの製造方法において、前記貧溶媒は、直鎖アルカン系溶媒、脂肪族アルコール系溶媒、脂肪族エーテル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒の中から少なくとも１種が選ばれ、前記良溶媒は、３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソプロピルビフェニルの中から少なくとも１種が選ばれることを特徴とする。
この方法によれば、低分子材料と高分子材料の混合物を良溶媒だけに溶解させた場合の溶解時間に対して、混合溶媒における上記混合物の溶解時間を２０％以上短縮することができる。
【００１３】
上記適用例に係わる機能層形成用インクの製造方法において、前記貧溶媒は、直鎖アルカン系溶媒、脂肪族アルコール系溶媒の中から少なくとも１種が選ばれ、前記良溶媒は、３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソプロピルビフェニルの中から少なくとも１種が選ばれることを特徴とする。
この方法によれば、低分子材料と高分子材料の混合物を良溶媒だけに溶解させた場合の溶解時間に対して、混合溶媒における上記混合物の溶解時間を１／１０以下に短縮することができる。
【００１４】
上記適用例に係わる機能層形成用インクの製造方法において、前記貧溶媒は、４種の直鎖アルカン系溶媒（ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン）、５種の脂肪族アルコール系溶媒（ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノニルアルコール、デシルアルコール）、１４種の脂肪族エーテル系溶媒（ジペンチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、８種の芳香族炭化水素系溶媒（１，３−ジイソプロピルベンゼン、１，４−ジイソプロピルベンゼン、トリイソプロピルンベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン）の中から少なくとも１種が選ばれ、前記良溶媒は、３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソプロピルビフェニルの中から少なくとも１種が選ばれることを特徴とする。
この方法によれば、液滴吐出法を用いる場合に、より好適な機能層形成用インクを提供できる。
【００１５】
［適用例］本適用例に係わる有機ＥＬ素子の製造方法は、陽極と陰極との間に発光機能を有する機能層を備えた有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記機能層は、前記陽極側から順に積層された正孔注入層、正孔輸送層、発光層を含み、低分子材料、高分子材料、あるいは前記低分子材料と前記高分子材料とが混合された混合物のいずれかの固形分を含む機能層形成用インクを用いて、前記正孔注入層、前記正孔輸送層、前記発光層のうち少なくとも１層を形成する機能層形成工程を有し、前記機能層形成用インクは、上記適用例に記載の機能層形成用インクの製造方法を用いて製造されたものであることを特徴とする。
【００１６】
本適用例によれば、機能層形成用インクの製造に要する時間を短縮可能であることから、生産性において効率よく有機ＥＬ素子を製造することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供することができる。また、機能層形成用インクが低分子材料と高分子材料とを含んでいる場合、低分子材料を含まない場合に比べて、優れた光学特性を有する機能層を有する有機ＥＬ素子を形成することができる。
【００１７】
上記適用例に係わる有機ＥＬ素子の製造方法において、前記機能層形成工程では、前記機能層形成用インクを用いて、前記正孔注入層を形成することを特徴とする。
この方法によれば、優れた正孔注入性能を有する正孔注入層を効率的に形成することができる。
【００１８】
上記適用例に係わる有機ＥＬ素子の製造方法において、前記機能層形成工程では、前記機能層形成用インクを用いて、前記正孔輸送層を形成することを特徴とする。
この方法によれば、優れた正孔輸送性能を有する正孔輸送層を効率的に形成することができる。
【００１９】
上記適用例に係わる有機ＥＬ素子の製造方法において、前記機能層形成工程では、前記機能層形成用インクを用いて、前記発光層を形成することを特徴とする。
この方法によれば、優れた発光性能を有する発光層を効率的に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】有機ＥＬ装置の電気的な構成を示す等価回路図。
【図２】有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図。
【図３】有機ＥＬ装置の画素の構造を示す概略断面図。
【図４】有機ＥＬ素子の構成を示す模式断面図。
【図５】有機ＥＬ素子の製造方法を示すフローチャート。
【図６】（ａ）〜（ｅ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。
【図７】（ｆ）〜（ｈ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。
【図８】実施例１の正孔注入層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表。
【図９】実施例２の正孔注入層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表。
【図１０】実施例３の正孔注入層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表。
【図１１】実施例４の正孔注入層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表。
【図１２】実施例５の正孔輸送層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表。
【図１３】実施例６の正孔輸送層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表。
【図１４】実施例７の正孔輸送層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表。
【図１５】実施例８の正孔輸送層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表。
【図１６】実施例９の発光層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表。
【図１７】実施例１０の発光層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表。
【図１８】実施例１１の発光層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表。
【図１９】実施例１２の発光層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。
【００２２】
なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、または基板の上に他の構成物を介して配置される場合、または基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。
【００２３】
＜有機ＥＬ装置＞
まず、有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置について、図１〜図３を参照して説明する。図１は有機ＥＬ装置の電気的な構成を示す等価回路図、図２は有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図、図３は有機ＥＬ装置の画素の構造を示す概略断面図である。
【００２４】
図１に示すように、有機ＥＬ装置１００は、互いに交差する複数の走査線１１２及び複数のデータ線１１３と、複数のデータ線１１３のそれぞれに対して並列する電源線１１４とを有している。複数の走査線１１２が接続される走査線駆動回路１０３と、複数のデータ線１１３が接続されるデータ線駆動回路１０４とを有している。また、複数の走査線１１２と複数のデータ線１１３との各交差部に対応してマトリックス状に配置された複数の発光画素１０７を有している。
【００２５】
発光画素１０７は、発光素子である有機ＥＬ素子１３０と、有機ＥＬ素子１３０の駆動を制御する画素回路１１１とを有している。
【００２６】
有機ＥＬ素子１３０は、陽極としての画素電極１３１と、陰極としての対向電極１３４と、画素電極１３１と対向電極１３４との間に設けられた発光層を含む機能層１３２とを有している。このような有機ＥＬ素子１３０は電気的にダイオードとして表記することができる。なお、対向電極１３４は複数の発光画素１０７に亘る共通電極として形成されている。
【００２７】
画素回路１１１は、スイッチング用トランジスター１２１と、駆動用トランジスター１２２と、蓄積容量１２３とを含んでいる。２つのトランジスター１２１，１２２は、例えばｎチャネル型もしくはｐチャネル型の薄膜トランジスター（ＴＦＴ；Thin  Film  transistor）やＭＯＳトランジスターを用いて構成することができる。
【００２８】
スイッチング用トランジスター１２１のゲートは走査線１１２に接続され、ソースまたはドレインのうち一方がデータ線１１３に接続され、ソースまたはドレインのうち他方が駆動用トランジスター１２２のゲートに接続されている。
駆動用トランジスター１２２のソースまたはドレインのうち一方が有機ＥＬ素子１３０の画素電極１３１に接続され、ソースまたはドレインのうち他方が電源線１１４に接続されている。駆動用トランジスター１２２のゲートと電源線１１４との間に蓄積容量１２３が接続されている。
【００２９】
走査線１１２が駆動されてスイッチング用トランジスター１２１がオン状態になると、そのときにデータ線１１３から供給される画像信号に基づく電位がスイッチング用トランジスター１２１を介して蓄積容量１２３に保持される。該蓄積容量１２３の電位すなわち駆動用トランジスター１２２のゲート電位に応じて、駆動用トランジスター１２２のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用トランジスター１２２がオン状態になると、電源線１１４から駆動用トランジスター１２２を介して画素電極１３１と対向電極１３４とに挟まれた機能層１３２にゲート電位に応じた大きさの電流が流れる。有機ＥＬ素子１３０は、機能層１３２を流れる電流の大きさに応じて発光する。
なお、画素回路１１１の構成は、これに限定されるものではない。例えば、駆動用トランジスター１２２と画素電極１３１との間に、駆動用トランジスター１２２と画素電極１３１との間の導通を制御する発光制御用トランジスターを備えていてもよい。
【００３０】
図２に示すように、有機ＥＬ装置１００は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の発光（発光色）が得られる発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂを有している。各発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂは略矩形状であり、表示領域Ｅにおいてマトリックス状に配置されている。発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂのそれぞれには、対応する色の発光が得られる有機ＥＬ素子１３０が設けられている。同色の発光が得られる発光画素１０７が図面上において垂直方向（列方向あるいは発光画素１０７の長手方向）に配列し、異なる発光色の発光画素１０７が図面上において水平方向（行方向あるいは発光画素１０７の短手方向）にＲ，Ｇ，Ｂの順で配列している。すなわち、異なる発光色の発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂが所謂ストライプ方式で配置されている。
【００３１】
このような有機ＥＬ装置１００を表示装置として用いるならば、異なる発光色が得られる３つの発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂを１つの表示画素単位１０８として、それぞれの発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂは電気的に制御される。これによりフルカラー表示が可能となる。
【００３２】
なお、異なる発光色の発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂの平面形状と配置は、これに限定されるものではなく、例えば、デルタ方式、モザイク方式の配置であってもよい。また、発光画素１０７は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３色に対応して設けられることに限定されず、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）以外の例えば黄色（Ｙ）の発光が得られる発光画素１０７を含んでいてもよい。
【００３３】
図３に示すように、有機ＥＬ装置１００において、有機ＥＬ素子１３０は、陽極としての画素電極１３１と、画素電極１３１を区画する隔壁１３３と、画素電極１３１上に形成された発光層を含む機能層１３２とを有している。また、機能層１３２を介して画素電極１３１と対向するように形成された共通電極としての対向電極１３４を有している。
【００３４】
隔壁１３３は、画素電極１３１の周囲を一部覆って、複数の画素電極１３１をそれぞれ区画する無機絶縁材料からなる下層バンク１３３ａと、下層バンク１３３ａ上に形成され、多官能アクリル樹脂などの絶縁性を有する感光性樹脂材料からなる上層バンク１３３ｂとにより構成されている。
【００３５】
画素電極１３１は、素子基板１０１上に形成された駆動用トランジスター１２２の３端子のうちの１つに接続している。対向電極１３４は、例えば、ＧＮＤなどの固定電位が与えられている。画素電極１３１と対向電極１３４との間に駆動電位を印加することにより、画素電極１３１から機能層１３２に正孔が注入され、対向電極１３４から機能層１３２に電子が注入される。機能層１３２に含まれる発光層では、注入された正孔と電子が励起子（エキシトン）を形成し、励起子（エキシトン）が消滅する際（電子と正孔とが再結合する際）にエネルギーの一部が蛍光や燐光となって放出される。以降、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂに対応して設けられた有機ＥＬ素子１３０の機能層１３２を、発光色に対応させて機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂと呼ぶこともある。
【００３６】
本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、ボトムエミッション型の構造となっており、画素電極１３１と対向電極１３４との間に駆動電流を流して機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂで発光した光を対向電極１３４で反射させて素子基板１０１側から取り出す。したがって、素子基板１０１はガラスなどの透明基板を用いる。また、素子基板１０１に対して封着層１３５を介して対向配置される封止基板１０２は、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナなどのセラミックス、ステンレススチールなどの金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
【００３７】
素子基板１０１には、有機ＥＬ素子１３０を駆動する画素回路１１１が設けられている。すなわち、素子基板１０１の表面には、例えばシリコン酸化物（ＳｉＯ2）を主体とする下地絶縁膜１１５が形成され、その上には、駆動用トランジスター１２２の半導体層１２２ａが形成されている。半導体層１２２ａは例えばポリシリコンからなる。この半導体層１２２ａの表面には、例えばＳｉＯ2及び／またはＳｉＮを主体とするゲート絶縁膜１１６が形成されている。
【００３８】
また、半導体層１２２ａのうち、ゲート絶縁膜１１６を挟んでゲート電極１２６と重なる領域がチャネル領域とされている。なお、このゲート電極１２６は、図示省略された走査線１１２に電気的に接続されている。半導体層１２２ａ及びゲート電極１２６を覆って、ＳｉＯ2を主体とする第１層間絶縁膜１１７が形成されている。
【００３９】
また、半導体層１２２ａのうち、チャネル領域のソース側には、低濃度ソース領域及び高濃度ソース領域１２２ｃが設けられる一方、チャネル領域のドレイン側には低濃度ドレイン領域及び高濃度ドレイン領域１２２ｂが設けられて、所謂ＬＤＤ（Light  Doped  Drain）構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域１２２ｃは、ゲート絶縁膜１１６と第１層間絶縁膜１１７とに亘って開孔するコンタクトホール１２５ａを介して、ソース電極１２５に接続されている。このソース電極１２５は、電源線１１４（図示せず）の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域１２２ｂは、ゲート絶縁膜１１６と第１層間絶縁膜１１７とに亘って開孔するコンタクトホール１２４ａを介して、ソース電極１２５と同一配線層に設けられたドレイン電極１２４に接続されている。
【００４０】
ソース電極１２５及びドレイン電極１２４が形成された第１層間絶縁膜１１７の上層には、第２層間絶縁膜１１８が形成されている。この第２層間絶縁膜１１８は、画素回路１１１を構成する駆動用トランジスター１２２などや、ソース電極１２５、ドレイン電極１２４などによる表面の凹凸をなくすために形成されたものであり、第１層間絶縁膜１１７と同様にＳｉＯ2を主体として構成され、ＣＭＰ（Chemical  Mechanical  Polishing）などの平坦化処理が施されている。
【００４１】
そして、画素電極１３１が、この第２層間絶縁膜１１８の表面上に形成されると共に、第２層間絶縁膜１１８に設けられたコンタクトホール１１８ａを介してドレイン電極１２４に接続されている。すなわち、画素電極１３１は、ドレイン電極１２４を介して、半導体層１２２ａの高濃度ドレイン領域１２２ｂに接続されている。対向電極１３４は、ＧＮＤに接続されている。したがって、駆動用トランジスター１２２により、前述した電源線１１４から画素電極１３１に供給され対向電極１３４との間で流れる駆動電流が制御される。これにより、画素回路１１１は、所望の有機ＥＬ素子１３０を発光させカラー表示を可能としている。
【００４２】
機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂのそれぞれは、正孔注入層、正孔輸送層、発光層を含む複数の薄膜層からなり、画素電極１３１側からこの順で積層されている。本実施形態において、正孔注入層、正孔輸送層、発光層は、液滴吐出法（インクジェット法）を用いて成膜されている。機能層１３２の詳しい構成については、後述するが、正孔注入層、正孔輸送層、発光層のうち少なくとも１つの薄膜層が、低分子材料と高分子材料とを含んでいる。本実施形態において、低分子材料とは、分子量が１万以下のモノマーを指し、高分子材料とは重量平均分子量が１万以上のポリマーを指す。
【００４３】
このような有機ＥＬ素子１３０を有する素子基板１０１は、熱硬化型エポキシ樹脂などを封着部材として用いた封着層１３５を介して封止基板１０２と隙間なくベタ封止されている。
【００４４】
本実施形態の有機ＥＬ素子１３０は、後述する製造方法を用いて製造されており、正孔注入層、正孔輸送層、発光層のそれぞれがほぼ一定の膜厚と安定した膜形状（断面形状）を有しているため、異なる発光色が得られる機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂにおいてそれぞれ所望の発光効率と発光寿命とが得られる。
【００４５】
なお、本実施形態の有機ＥＬ素子１３０を備える有機ＥＬ装置１００は、ボトムエミッション型に限定されず、例えば画素電極１３１を光反射性の導電材料を用いて形成し、陰極としての対向電極１３４を透明な導電材料を用いて形成して、有機ＥＬ素子１３０の発光を画素電極１３１で反射させて、封止基板１０２側から取り出すトップエミッション型の構造としてもよい。また、トップエミッション型とする場合、有機ＥＬ素子１３０の発光色に対応させたカラーフィルターを各有機ＥＬ素子１３０に対応させて設ける構成としてもよい。さらには、有機ＥＬ装置１００がカラーフィルターを有する場合、有機ＥＬ素子１３０から白色発光が得られる構成としてもよい。
【００４６】
次に、有機ＥＬ素子１３０の構成について、図４を参照して説明する。図４は有機ＥＬ素子の構成を示す模式断面図である。
図４に示すように、有機ＥＬ素子１３０は、素子基板１０１上に形成された陽極としての画素電極１３１と、画素電極１３１に対向配置される陰極としての対向電極１３４と、画素電極１３１と対向電極１３４との間に挟持された機能層１３２とを有している。機能層１３２は、画素電極１３１側から順に積層された、正孔注入層１３２ａ、正孔輸送層１３２ｂ、発光層１３２ｃ、電子輸送層１３２ｄ、電子注入層１３２ｅを含んでいる。以降、有機ＥＬ素子１３０の各構成について詳しく説明する。
【００４７】
［画素電極］
画素電極１３１は、機能層１３２に対して正孔を注入するための電極であり、仕事関数が大きく、導電性に優れる透明電極材料を用いることが好ましい。該透明電極材料としては、例えば、ＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）、ＩＺＯ（Indium  Zinc  Oxide）、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、フッ素添加ＳｎＯ2、Ｓｂ添加ＳｎＯ2、ＺｎＯ、Ａｌ添加ＺｎＯ、Ｇａ添加ＺｎＯなどの金属酸化物、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕまたはこれらを含む合金などが挙げられる。また、これらのうちの２種以上を組み合わせて用いることもできる。これらの透明電極材料を蒸着や各種スパッタリング（ＲＦマグネトロンスパッタ）で成膜後、フォトリソグラフィ法でパターン形成を行う。画素電極１３１の厚みは特に限定されないが、１０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、３０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００４８】
［正孔注入層］
正孔注入層１３２ａは、画素電極１３１からの正孔の注入を容易にする機能を有するものである。このような正孔注入層１３２ａの材料としては、液相プロセスを用いて形成し得るように、導電性高分子材料（または導電性オリゴマー材料）に電子受容性ドーパントを添加したイオン伝導性正孔注入材料が好適に用いられる。このようなイオン伝導性正孔注入材料としては、例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）のようなポリチオフォン系正孔注入材料や、ポリアニリン−ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＡＮＩ／ＰＳＳ）のようなポリアニリン系正孔注入材料が使用できる。これらの正孔注入材料は、液滴吐出法（インクジェット法など）、スクリーン印刷などの液相プロセスを用いて塗布される。塗布後、乾燥、焼成を行い成膜化される。このような正孔注入層１３２ａの厚みは、特に限定されないが、５ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、正孔注入層１３２ａは、有機ＥＬ素子１３０を構成する、画素電極１３１、正孔輸送層１３２ｂ及び発光層１３２ｃの構成材料の種類及びその膜厚などの組み合わせによっては省略することもできる。
【００４９】
［正孔輸送層］
正孔輸送層１３２ｂは、正孔注入層１３２ａと発光層１３２ｃとの間に設けられ、発光層１３２ｃに対する正孔の輸送性（注入性）を向上させると共に、発光層１３２ｃから正孔注入層１３２ａに電子が侵入することを抑制するために設けられている。すなわち、発光層１３２ｃにおける正孔と電子との結合による発光の効率を改善するものである。本実施形態では、正孔輸送層１３２ｂは、低分子材料である正孔輸送材料と高分子材料とを含んでいる。上記正孔輸送材料は、特に限定されないがアミン化合物を用いることができる。例えば、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’ビフェニル−４，４’−ジアミン）、α−ＮＰＤ（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’ビス（１−ナフチル）−１，１’ビフェニル−４，４’−ジアミン）、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ（４，４’，４”−トリス（Ｎ−３−メチルフェニル−Ｎ−フェニルアミノ）トリフェニルアミン）、２−ＴＮＡＴＡ（４，４’，４”−トリス（Ｎ，Ｎ−（２−ナフチル）フェニルアミノ）トリフェニルアミン）、ＴＣＴＡ（トリス−（４−カルバゾイル−９−イル−フェニル）−アミンなどを用いることができる。
【００５０】
上記高分子材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンスルホン（ＰＥＳ）、ポリオレフィン（ＰＯ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセチレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレートなどのセルロースエステル類とそれら誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン類、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、ナイロン、ポリメチルメタクリエート（ＰＭＭＡ）、アクリル、ポリアリレート、有機無機ハイブリッド樹脂などを用いることができる。
低分子材料と高分子材料との混合物は、低分子材料の混合割合が重量比で０．１ｗｔ％〜９９．９ｗｔ％の範囲で用いることができる。
【００５１】
これらの正孔輸送材料（低分子材料）及び高分子材料を含む混合物もまた液滴吐出法（インクジェット法）、スクリーン印刷などの液相プロセスを用いて塗布される。塗布後、乾燥、焼成を行い成膜化される。本実施形態では、液相プロセスとして液滴吐出法（インクジェット法）を用いることから、高分子材料の重量平均分子量が１万以上３０万以下であることが好ましい。
また、詳しくは後述するが、本実施形態では、低分子材料と高分子材料とが混合された混合物（正孔輸送層形成材料）を、まず貧溶媒に分散させてから良溶媒を加えて、上記混合物を貧溶媒と良溶媒との混合溶媒に溶解させて機能層形成用インク（正孔輸送層形成用インク）としている。これにより、上記混合物を良溶媒だけに溶解させる場合に比べて、低分子材料と高分子材料とが分子間力で凝集してゲル化することを抑制し、上記混合物を上記混合溶媒に速やかに溶解させることができる。このような機能層形成用インク（正孔輸送層形成用インク）を用いれば、上記混合物が十分に溶解しており、ゲル状の上記混合物を含んでいないので、液滴吐出法（インクジェット法）により、安定した成膜が可能となる。正孔輸送層１３２ｂの厚みは、特に限定されないが、５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００５２】
［発光層］
発光層の材料は、特に限定されないが、例えば、赤色、緑色、青色の発光が得られる発光材料（ゲスト材料）と、注入された正孔と電子の再結合を効率的に促すことができるホスト材料とを含むことが好ましい。
【００５３】
ゲスト材料としては、例えばＩｒ（ｐｐｙ）３（Ｆａｃ−トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム）、Ｐｐｙ２Ｉｒ（ａｃａｃ）（ビス（２−フェニル−ピリジネイト−Ｎ，Ｃ２）イリジウム（アセチルアセトネイト））、Ｂｔ２Ｉｒ（ａｃａｃ）（ビス（２−フェニルベンゾチアゾレイト−Ｎ，Ｃ２'）イリジウム（III）（アセチルアセトネイト））、Ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）（ビス（２，２’−ベンゾチエニル）−ピリジネイト−Ｎ，Ｃ３）イリジウム（アセチルアセトネイト）、ＦＩｒｐｉｃ（イリジウム−ビス（４，６−ジフルオロフェニル−ピリジネイト−Ｎ，Ｃ．２．）−ピコリネイト）、Ｉｒ（ｐｍｂ）３（イリジウム−トリス（１−フェニル−３−メチルベンゾイミダゾリン−２−ピリジン−Ｃ，Ｃ（２）’））、ＦＩｒＮ４（（（イリジウム（III）−ビス（４，６−ジフルオロフェニルピリジネイト）（５−（ピリジン−２−イル）−テトラゾレイト））、Ｆｉｒｔａｚ（（イリジウム（III）−ビス（４，６−ジフルオロフェニルピリジネイト）（５−（ピリジン−２−イル）−１，２，４−トリアゾレイト））、ＰｔＯＥＰ（２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィリン，白金（II））のような燐光材料や、Ａｌｑ３（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドンのような蛍光材料を用いることができる。
【００５４】
ホスト材料としては、例えばＣＢＰ（４，４’−ビス（９−ジカルバゾイル）−２，２’−ビフェニル）、ＢＡｌｑ（ビス-（２−メチル−８−キノリノレイト）−４−（フェニルフェノレイト）アルミニウム）、ｍＣＰ（Ｎ，Ｎ−ジカルバゾルイル−３，５−ベンゼン：ＣＢＰ誘導体）、ＣＤＢＰ（４，４’−ビス（９−カルバゾルイル）２，２’−ジメチル−ビフェニル）、ＤＣＢ（Ｎ，Ｎ’−ジカルバソル−１，４−ジメテン−ベンゼン）、Ｐ０６（２，７−ビス（ジフェニルホスフィンオキサイド）−９，９−ジメチル）、ＳｉｍＣＰ（３，５−ビス（９−カルバゾイル）テトラフェニルシラン）、ＵＧＨ３（ｗ−ビス（トリフェニルシリル）ベンゼン）などを用いることができる。
このようなゲスト材料とホスト材料とを用いれば、液相プロセスだけでなく気相プロセスによっても発光層１３２ｃを形成することができる。発光層１３２ｃの厚みは、特に限定されないが、５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましい。
【００５５】
［電子輸送層］
電子輸送層１３２ｄは、対向電極１３４から電子輸送層１３２ｄに注入された電子を発光層１３２ｃに輸送する機能を有するものである。また、電子輸送層１３２ｄは、発光層１３２ｃから電子輸送層１３２ｄへ通過しようとする正孔をブロックする機能を有する場合もある。このような電子輸送層１３２ｄの材料としては、特に限定されないが、気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）や８−キノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）などの８−キノリノールなしいその誘導体を配位子とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−（４−ビフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ｔＢｕ−ＰＢＤ）、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＮＤ）のようなオキサジアゾール誘導体、シロール誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、イミダゾール誘導体などが好適に用いられる。また、これらの材料のうちの２種以上を組み合わせて用いることもできる。
電子輸送層１３２ｄの厚みは、特に限定されないが、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００５６】
［電子注入層］
電子注入層１３２ｅは、対向電極１３４から電子輸送層１３２ｄへの電子の注入効率を向上させる機能を有するものである。このような電子注入層１３２ｅの材料としては、特に限定されないが、気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、アルカリ金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物など）、アルカリ土類金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物など）、希土類金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物など）を用いることができる。電子注入層１３２ｅの厚みは、特に限定されないが、０．０１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、０．１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００５７】
なお、機能層１３２は、上記構成に限定されず、キャリア（正孔や電子）の流れを制御するための有機層や無機層を含んでいてもよい。
【００５８】
［対向電極］
対向電極１３４は、機能層１３２に対して電子を注入するための電極であり、仕事関数が小さい材料を用いることが好ましい。また、後述する陰極形成工程において、気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂ、Ａｕまたはこれらを含む合金などが用いられる。また、これらの材料のうちの２種以上を組み合わせて（例えば、複数層の積層体など）用いることもできる。対向電極１３４の厚さは特に限定されないが、例えば１００ｎｍ〜１０００ｎｍである。
【００５９】
なお、有機ＥＬ素子１３０における機能層１３２は、正孔注入層１３２ａ、正孔輸送層１３２ｂ、発光層１３２ｃを含んでいればよく。発光効率や発光寿命を改善するために、例えば、キャリアとしての正孔や電子の注入性や輸送性を改善したり、発光層１３２ｃ以外に正孔や電子が漏れることを防いだりする中間層を含んでいてもよい。
【００６０】
次に、より具体的な有機ＥＬ素子１３０の製造方法について、図５〜図７を参照して説明する。図５は有機ＥＬ素子の製造方法を示すフローチャート、図６（ａ）〜（ｅ）及び図７（ｆ）〜（ｈ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図である。なお、以降の有機ＥＬ素子１３０の製造方法の説明は、画素電極１３１を形成した後の工程から順次説明する。また、素子基板１０１に設けられる、画素電極１３１及び画素電極１３１が接続される画素回路１１１などは、前述したように公知の方法を用いて形成することができる。
【００６１】
図５に示すように、本実施形態の有機ＥＬ素子１３０の製造方法は、隔壁形成工程（ステップＳ１）と、正孔注入層形成工程（ステップＳ２）と、正孔輸送層形成工程（ステップＳ３）と、発光層形成工程（ステップＳ４）と、電子輸送層形成工程（ステップＳ５）と、電子注入層形成工程（ステップＳ６）と、陰極形成工程（ステップＳ７）とを有している。
【００６２】
図５のステップＳ１では、図６（ａ）に示すように、まず、画素電極１３１の外縁を覆って画素電極１３１を区画するように下層バンク１３３ａを形成する。下層バンク１３３ａの形成方法は、無機絶縁材料である例えば酸化シリコンを蒸着法やスパッタ法などの気相プロセスにより、画素電極１３１が形成された素子基板１０１の全面に亘って成膜する。そして、成膜された無機絶縁膜をフォトリソグラフィ法により画素電極１３１の表面が露出するようにパターニングする方法が挙げられる。下層バンク１３３ａの厚みは、およそ１００ｎｍ〜２００ｎｍである。次に、下層バンク１３３ａ上に上層バンク１３３ｂを形成する。上層バンク１３３ｂの形成方法は、例えば、下層バンク１３３ａが形成された素子基板１０１の表面に、多官能アクリル樹脂などの絶縁性を有する感光性樹脂材料をおよそ１μｍ〜３μｍ程度の厚みで塗布して乾燥することにより、感光性樹脂層を形成する。感光性樹脂材料の塗布方法としては、転写法、スリットコート法などが挙げられる。そして、発光画素１０７（図２参照）の形状に対応した露光用マスクを用いて感光性樹脂層を露光し、現像することにより断面が台形状の上層バンク１３３ｂを形成する。上層バンク１３３ｂは、画素電極１３１の外縁を覆う下層バンク１３３ａの部分が露出するように形成される。
【００６３】
また、画素電極１３１の表面及び露出した下層バンク１３３ａの部分が後述する機能層形成材料を含む溶液としての機能層形成用インクに対して好適な親液性を示すと共に、上層バンク１３３ｂの表面が同じく機能層形成用インクに対して撥液性を示すように、素子基板１０１に表面処理を施す。具体的には、まず、酸素（Ｏ2）ガスを処理ガスとするプラズマ処理を施して画素電極１３１の表面及び露出した下層バンク１３３ａの部分を親液化する。続いて、例えばＣＦ4などのフッ素系処理ガスを用いたプラズマ処理を施して上層バンク１３３ｂの表面を撥液化する。なお、フッ素系化合物などの撥液材料を含む感光性樹脂材料を塗布して上層バンク１３３ｂを形成してもよい。撥液材料を含む感光性樹脂材料を用いた場合には、上層バンク１３３ｂを形成した後に、画素電極１３１上の残渣を除去するために、ＵＶオゾン処理を施すことが好ましい。以降、隔壁１３３により区画された画素電極１３１を含む領域を膜形成領域と呼ぶ。そして、ステップＳ２へ進む。
【００６４】
図５のステップＳ２では、液相プロセスにより正孔注入層１３２ａを形成する。具体的には、まず、図６（ｂ）に示すように、前述した正孔注入材料と溶媒としての例えば水を含む溶液である機能層形成用インク６０を例えばインクジェットヘッド５０のノズルから膜形成領域に吐出する。インクジェットヘッド５０を用いることで、所定量の機能層形成用インク６０を液滴として精度よく膜形成領域に吐出することができる。吐出された機能層形成用インク６０は、親液化された画素電極１３１の表面で濡れ拡がると共に、撥液化された隔壁１３３で囲まれた膜形成領域において界面張力により盛り上がる。機能層形成用インク６０が塗布された素子基板１０１を例えば大気雰囲気下で加熱乾燥することで、図６（ｃ）に示すように、画素電極１３１上に正孔注入層１３２ａが形成される。露出した画素電極１３１の表面及び下層バンク１３３ａの部分が親液化されていたので、膜形成領域においてムラなく正孔注入層１３２ａが形成される。なお、本実施形態では、素子基板１０１上の各膜形成領域に同一材料からなる正孔注入層１３２ａを形成したが、後に形成される発光層１３２ｃに対応して正孔注入層１３２ａの材料を発光色ごとに変えてもよい。そしてステップＳ３へ進む。
【００６５】
図５のステップＳ３では、液相プロセスにより正孔輸送層１３２ｂを形成する。具体的には、まず、低分子材料である正孔輸送材料と高分子材料とを含む混合物を貧溶媒に分散させる。そして、上記混合物が分散された貧溶媒に良溶媒を加えて攪拌し、上記混合物を貧溶媒と良溶媒との混合溶媒に溶解させる。このようにして上記混合物が溶解した機能層形成用インク７０を、図６（ｄ）に示すように、インクジェットヘッド５０のノズルから膜形成領域に吐出する。液滴として吐出された所定量の機能層形成用インク７０は、隔壁１３３で囲まれた膜形成領域において界面張力により盛り上がる。機能層形成用インク７０が塗布された素子基板１０１を例えば窒素雰囲気下で加熱・乾燥することで、図６（ｅ）に示すように、正孔注入層１３２ａ上に正孔輸送層１３２ｂが形成される。低分子材料である正孔輸送材料と高分子材料とを含む上記混合物が溶解した機能層形成用インク７０を用いたので、上記混合物のゲル化が抑制される。また、機能層形成用インク７０の加熱・乾燥過程で、機能層形成用インク７０の粘度が上昇して、高分子材料を含む正孔注入層１３２ａの表面が機能層形成用インク７０に対して親液性を示さなくても、膜形成領域においてムラなく正孔輸送層１３２ｂが形成される。そして、ステップＳ４へ進む。
【００６６】
なお、上記混合物を分散させる貧溶媒としては、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカンなどの直鎖アルカン系溶媒、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノニルアルコール、デシルアルコールなどの脂肪族アルコール系溶媒、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテルなどの脂肪族エーテル系溶媒、１，３−ジイソプロピルベンゼン、１，４−ジイソプロピルベンゼン、トリイソプロピルンベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒が挙げられる。
【００６７】
また、上記混合物を０．１ｇ／Ｌ以上溶解可能な良溶媒としては、３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソプロピルビフェニル、ビスジメチルフェニルエタンなどが挙げられる。なお、上記良溶媒の中から上記混合物が分散された貧溶媒と混合可能である良溶媒が選ばれる。良溶媒は上記混合物を２０ｇ／Ｌ以上溶解可能であることがより好ましい。また、貧溶媒と良溶媒の総容積に対して貧溶媒の容積割合（容積比）は、１０％〜７０％の範囲であることが、上記混合物の溶解を速やかに行わせる点で好ましい。また、インクジェットヘッド５０のノズルから機能層形成用インク７０を液滴として安定して吐出するために、上記機能層形成用インク７０の粘度は２０ｃｐより低いことが好ましく、１０ｃｐ以下であることがより好ましい。また、上記機能層形成用インク７０の乾燥によるノズルの目詰まりを防ぐ観点から、貧溶媒の沸点（ｂｐ）が１５０℃以上であり、良溶媒の沸点（ｂｐ）が２５０℃以上であることが好ましい。さらに、膜形成領域に塗布された上記機能層形成用インク７０の乾燥性を考慮すると、貧溶媒及び良溶媒の沸点（ｂｐ）は３００℃以下であることが好ましい。
【００６８】
図５のステップＳ４では、液相プロセスにより発光層１３２ｃを形成する。具体的には、まず、図７（ｆ）に示すように、前述した発光層形成材料と溶媒としての例えばシクロヘキシルベンゼンとを含む機能層形成用インク８０をインクジェットヘッド５０のノズルから膜形成領域に吐出する。液滴として吐出された所定量の機能層形成用インク８０は、隔壁１３３で囲まれた膜形成領域において界面張力により盛り上がる。塗布された機能層形成用インク８０の乾燥方法としては、一般的な加熱乾燥に比べて溶媒成分を比較的均一に乾燥可能な減圧乾燥法を用いることが好ましい。膜形成領域には満遍なく所定量の機能層形成用インク８０が塗布されている。したがって、図７（ｇ）に示すように、乾燥後に形成された発光層１３２ｃは膜形成領域においてほぼ一定の膜厚と安定した膜形状（断面形状）を有する。そして、ステップＳ５〜ステップＳ７へ進む。
【００６９】
図５のステップＳ５〜ステップＳ７では、気相プロセスにより、電子輸送層１３２ｄ、電子注入層１３２ｅ、陰極としての対向電極１３４を形成する。具体的には、前述した各層の材料を例えば真空蒸着法により逐次成膜して、図７（ｈ）に示すように各層を積層形成する。特に、機能層１３２の熱による損傷を防止できるという点では、対向電極１３４を真空蒸着法で形成することが好ましい。また、機能層１３２に外部から水分や酸素などのガスが浸入して、機能層１３２の発光機能や発光寿命が低下することを防ぐために、対向電極１３４の表面を覆うように、ガスバリア性を有する例えばシリコンの酸化物や窒化物あるいはシリコンの酸窒化物などの無機材料を成膜してもよい。これにより、有機ＥＬ素子１３０ができあがる。
【００７０】
上記実施形態の効果は、以下の通りである。
（１）上記有機ＥＬ素子１３０とその製造方法によれば、機能層１３２のうち正孔注入層１３２ａ、正孔輸送層１３２ｂ、発光層１３２ｃが液相プロセス（液滴吐出法；インクジェット法）で形成され、電子輸送層１３２ｄ、電子注入層１３２ｅが気相プロセス（真空蒸着法）で形成されている。したがって、発光層１３２ｃなどの塗り分けが必要な層は、液相プロセスが用いられているので、機能層１３２に含まれる各薄膜層をすべて気相プロセスを用いて形成する場合に比べて、効率よく有機ＥＬ素子１３０を製造することができる。
（２）正孔注入層１３２ａ上に形成される正孔輸送層１３２ｂは、低分子材料である正孔輸送材料と高分子材料とを含む混合物を貧溶媒に分散させてから良溶媒を添加して攪拌し、貧溶媒と良溶媒とを含む混合溶媒に上記混合物を十分に溶解させた機能層形成用インク７０を用いて形成されている。したがって、低分子材料と高分子材料の混合物のゲル化が抑制され、機能層形成用インク７０の加熱・乾燥過程で、機能層形成用インク７０の粘度が上昇して、高分子材料を含む正孔注入層１３２ａの表面が機能層形成用インク７０に対して親液性を示さなくても、ムラなく正孔輸送層１３２ｂを成膜することができる。ゆえに、このような機能層１３２を備えた有機ＥＬ素子１３０は、所望の発光効率と発光寿命とを実現することができる。
（３）機能層形成用インク７０は、低分子材料（正孔輸送材料）と高分子材料とが混合された混合物をまず貧溶媒に分散させてから良溶媒を加える。良溶媒は貧溶媒と混合可能なものが選ばれており、混合溶媒における貧溶媒の容積割合は、１０％〜７０％の範囲となっている。したがって、混合溶媒中における低分子材料と高分子材料の混合物のゲル化が抑制され、貧溶媒に分散された状態の上記混合物を速やかに混合溶媒に溶解させることができる。すなわち、生産性において有機ＥＬ素子１３０を効率よく製造することができる。
（４）上記有機ＥＬ素子１３０を発光画素１０７に備えることにより、優れた表示品質（発光特性）と信頼性品質（発光寿命）とが両立された有機ＥＬ装置１００を提供することができる。
【００７１】
上記実施形態の有機ＥＬ素子１３０の製造方法では、低分子材料と高分子材料とを含む混合物が溶解した機能層形成用インク７０を用いて、正孔輸送層１３２ｂを形成したが、正孔注入層１３２ａ、発光層１３２ｃもまた、低分子材料と高分子材料とを含む混合物が溶解した機能層形成用インクを用いて形成することができる。
【００７２】
正孔注入層１３２ａの形成に用いられる低分子材料としては、4,4,N,N’−Dipheylcarbazole、N,N'−Bis（3−methylphenyl）−N,N’−bis（phenyl）benzidineなどが挙げられる。同じく正孔注入層１３２ａの形成に用いられる高分子材料としては、Polyvinylcarbazole、Poly[N,N'−bis（4−butylphenyl）−N,N'−bis（phenyl）−benzidine]などが挙げられる。なお、低分子材料と高分子材料の組み合わせは互いに同じ基本骨格を有するものが好ましい。
【００７３】
赤色の発光が得られる発光層１３２ｃの形成に用いられる低分子材料としては、Iridium（III）bis（2−（2'−benzothienyl）pridinato−N,C3'）（acetylacetonate）が挙げられる。同じく赤色の発光が得られる発光層１３２ｃの形成に用いられる高分子材料としては、Poly[{9,9−dihexyl−2,7−bis（1−cyanovinylene）fluorenylene}−alt−co−{2,5−bis（N,N'−diphenylamino）−1,4−phenylene}]が挙げられる。
緑色の発光が得られる発光層１３２ｃの形成に用いられる低分子材料としては、Ａｌｑ３（Tris（8−hydroxyquinolato）aluminium（III））が挙げられる。同じく緑色の発光が得られる発光層１３２ｃの形成に用いられる高分子材料としては、Poly[（9,9−dioctylfluorenyl−2,7−diyl）−co−（N,N'−diphenyl）−N,N'−di（p−butylphenyl）−1,4−diaminobenzene）]が挙げられる。
青色の発光が得られる発光層１３２ｃの形成に用いられる低分子材料としては、Iridium（III）bis（2−（4,6−diflurophenyl）pyridinato−N,C2'）picolinateが挙げられる。同じく青色の発光が得られる発光層１３２ｃの形成に用いられる高分子材料としては、Poly（9,9−dihexylfluorenyl−2,7−diyl）−End  capped  with  が挙げられる。
【００７４】
次に、低分子材料と高分子材料とを含む混合物が溶解した機能層形成用インクのより具体的な実施例を挙げて、機能層形成用インクの製造方法における効果について説明する。
図８は実施例１の正孔注入層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表、図９は実施例２の正孔注入層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表、図１０は実施例３の正孔注入層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表、図１１は実施例４の正孔注入層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表である。
図１２は実施例５の正孔輸送層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表、図１３は実施例６の正孔輸送層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表、図１４は実施例７の正孔輸送層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表、図１５は実施例８の正孔輸送層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表である。
図１６は実施例９の発光層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表、図１７は実施例１０の発光層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表、図１８は実施例１１の発光層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表、図１９は実施例１２の発光層形成用インクの構成と溶解時間の評価結果を示す表である。
なお、各実施例における低分子材料と高分子材料とを含む混合物の混合溶媒における溶解時間の評価は、当該混合物を当該実施例の良溶媒だけに溶解させた比較例における当該混合物の溶解時間を「１」として、比較し数値化したものである。
【００７５】
（実施例１）
実施例１の機能層形成用インクとしての正孔注入層形成用インクは、低分子材料であるN,N'−Bis（3−methylphenyl）−N,N’−bis（phenyl）benzidineと高分子材料であるPoly[N,N'−bis（4−butylphenyl）−N,N'−bis（phenyl）−benzidine]との混合物を１０Ｌ（リットル）の貧溶媒に分散させてから良溶媒を９０Ｌ（リットル）添加して攪拌し、混合溶媒（１００Ｌ）における溶解時間を測定した。また、上記混合物の上記混合溶媒に対する重量比は５ｗｔ％としている。つまり、５ｗｔ％に相当する上記混合物が良溶媒を添加してから上記混合溶媒に完全に溶解するまでの時間を測定した。
実施例１における貧溶媒としては、４種の直鎖アルカン系溶媒（ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン）、５種の脂肪族アルコール系溶媒（ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノニルアルコール、デシルアルコール）、１４種の脂肪族エーテル系溶媒（ジペンチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、８種の芳香族炭化水素系溶媒（１，３−ジイソプロピルベンゼン、１，４−ジイソプロピルベンゼン、トリイソプロピルンベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン）の合計３１種を用いた。これらの貧溶媒に組み合わせる良溶媒として、沸点（ｂｐ）が２７２℃の３−フェノキシトルエンを用いた。つまり、実施例１は、３１種の混合溶媒における上記混合物の溶解時間を示すものである。
【００７６】
図８に示すように、実施例１の正孔注入層形成用インクの製造方法によれば、比較例（溶解時間の指数１．０）に比べて０．１（１／１０）以下の時間で上記混合物を上記混合溶媒に溶解させることができた。溶解時間は、貧溶媒の選択によって異なり、概ね、直鎖アルカン系溶媒＝脂肪属アルコール系溶媒＞脂肪族エーテル系溶媒＞芳香族炭化水素系溶媒の順になっている。具体的には、直鎖アルカン系溶媒または脂肪属アルコール系溶媒を用いた場合には、比較例（１．０）に対して０．０２（１／５０）に短縮できた。脂肪族エーテル系溶媒を用いた場合には、概ね０．０６に短縮できた。芳香族炭化水素系溶媒を用いた場合は、０．１（１／１０）以下に短縮できた。芳香族炭化水素系溶媒の中でもトリイソプロピルベンゼンやノニルベンゼンを選択した場合には、直鎖アルカン系溶媒や脂肪属アルコール系溶媒を選択した場合とほぼ同等な溶解時間が得られる。
【００７７】
実施例２〜実施例４の機能層形成用インクとしての正孔注入層形成用インクは、実施例１に対して、混合溶媒における貧溶媒の容積割合（容積比）と、良溶媒とを異ならせたものであり、他の構成要素及び製造方法は実施例１と同じである。具体的には次の通りである。
【００７８】
（実施例２）
実施例２の正孔注入層形成用インクは、３０Ｌの貧溶媒と７０Ｌの良溶媒とを混合して１００Ｌの混合溶媒を構成している。つまり、混合溶媒における貧溶媒の容積割合は実施例１が１０％であったのに対して実施例２は３０％である。また、良溶媒として、沸点（ｂｐ）が２６８℃の２−イソプロピルナフタレンを用いた。
【００７９】
（実施例３）
実施例３の正孔注入層形成用インクは、５０Ｌの貧溶媒と５０Ｌの良溶媒とを混合して１００Ｌの混合溶媒を構成している。つまり、混合溶媒における貧溶媒の容積割合は５０％である。また、良溶媒として沸点（ｂｐ）が２９８℃のジベンジルエーテルを用いた。
【００８０】
（実施例４）
実施例４の正孔注入層形成用インクは、７０Ｌの貧溶媒と３０Ｌの良溶媒とを混合して１００Ｌの混合溶媒を構成している。つまり、混合溶媒における貧溶媒の容積割合は７０％である。また、良溶媒として沸点（ｂｐ）が２９１℃のイソプロピルビフェニルを用いた。
図９、図１０、図１１に示すように、実施例２〜実施例４の正孔注入層形成用インクの製造方法によれば、実施例１と同様に、比較例に比べて１０分の１以下の時間で上記混合物を上記混合溶媒に溶解させることができた。また、貧溶媒の選択に起因する溶解時間の傾向も実施例１と同じである。
【００８１】
（実施例５）
実施例５の機能層形成用インクとしての正孔輸送層形成用インクは、低分子材料である4,4',4''−tris(N,N'−phenyl−3−methylphenylamino）triphenylamineと高分子材料であるPoly[（9,9−dioctylfluorenyl−2,7−diyl）−co−（4,4'−（N−（4−sec−butylphenyl））diphenylamine）]との混合物を１０Ｌ（リットル）の貧溶媒に分散させてから良溶媒を９０Ｌ（リットル）添加して攪拌し、混合溶媒（１００Ｌ）における溶解時間を測定した。また、上記混合物の上記混合溶媒に対する重量比は５ｗｔ％としている。つまり、５ｗｔ％に相当する上記混合物が良溶媒を添加してから上記混合溶媒に完全に溶解するまでの時間を測定した。貧溶媒は、実施例１と同じ３１種から選ばれ、良溶媒は沸点（ｂｐ）が２７２℃の３−フェノキシトルエンを用いた。
【００８２】
図１２に示すように、実施例５の正孔輸送層形成用インクの製造方法によれば、比較例（溶解時間の指数１．０）に比べて、上記混合溶媒における上記混合物の溶解時間を２０％以上短縮することができた。具体的には、溶解時間は、貧溶媒の選択によって異なり、直鎖アルカン系溶媒、または脂肪属アルコール系溶媒を用いた場合には、比較例に対して０．０２（１／５０）に短縮できた。脂肪族エーテル系溶媒を用いた場合には、概ね０．１（１／１０）以下に短縮できた。芳香族炭化水素系溶媒を用いた場合は、０．８（４／５）〜０．１（１／１０）程度に短縮できた。芳香族炭化水素系溶媒の中でもトリイソプロピルベンゼンを選択した場合には、直鎖アルカン系溶媒や脂肪属アルコール系溶媒を選択した場合とほぼ同等な溶解時間が得られる。
【００８３】
実施例６〜実施例８の機能層形成用インクとしての正孔輸送層形成用インクは、実施例５に対して、混合溶媒における貧溶媒の容積割合（容積比）と、良溶媒とを異ならせたものであり、他の構成要素及び製造方法は実施例５と同じである。具体的には次の通りである。
【００８４】
（実施例６）
実施例６の正孔輸送層形成用インクは、３０Ｌの貧溶媒と７０Ｌの良溶媒とを混合して１００Ｌの混合溶媒を構成している。つまり、混合溶媒における貧溶媒の容積割合は実施例５が１０％であったのに対して実施例６は３０％である。また、良溶媒として、沸点（ｂｐ）が２６８℃の２−イソプロピルナフタレンを用いた。
【００８５】
（実施例７）
実施例７の正孔輸送層形成用インクは、５０Ｌの貧溶媒と５０Ｌの良溶媒とを混合して１００Ｌの混合溶媒を構成している。つまり、混合溶媒における貧溶媒の容積割合は５０％である。また、良溶媒として沸点（ｂｐ）が２９８℃のジベンジルエーテルを用いた。
【００８６】
（実施例８）
実施例８の正孔輸送層形成用インクは、７０Ｌの貧溶媒と３０Ｌの良溶媒とを混合して１００Ｌの混合溶媒を構成している。つまり、混合溶媒における貧溶媒の容積割合は７０％である。また、良溶媒として沸点（ｂｐ）が２９１℃のイソプロピルビフェニルを用いた。
図１３、図１４、図１５に示すように、実施例６〜実施例８の正孔輸送層形成用インクの製造方法によれば、実施例５と同様に、比較例（１．０）に対して、０．０２〜０．８程度に上記混合溶媒における上記混合物の溶解時間を短縮することができた。また、貧溶媒の種類に応じた溶解時間の短縮の程度も実施例５と同じである。
【００８７】
（実施例９）
実施例９の機能層形成用インクとしての発光層形成用インクは、低分子材料であるTris（8−hydroxyquinolato）aluminium（III）と高分子材料であるPoly[（9,9−dioctylfluorenyl−2,7−diyl）−co−（N,N'−diphenyl)−N,N'−di（ｐ−butylphenyl）−1,4−diamino−benzene]との混合物を１０Ｌ（リットル）の貧溶媒に分散させてから良溶媒を９０Ｌ（リットル）添加して攪拌し、混合溶媒（１００Ｌ）における溶解時間を測定した。また、上記混合物の上記混合溶媒に対する重量比は５ｗｔ％としている。つまり、５ｗｔ％に相当する上記混合物が良溶媒を添加してから上記混合溶媒に完全に溶解するまでの時間を測定した。貧溶媒は、実施例１と同じ３１種から選ばれ、良溶媒は沸点（ｂｐ）が２７２℃の３−フェノキシトルエンを用いた。
【００８８】
図１６に示すように、実施例９の発光層形成用インクの製造方法によれば、比較例（溶解時間の指数１．０）に比べて、上記混合溶媒における上記混合物の溶解時間を２０％以上短縮することができた。具体的には、溶解時間は、貧溶媒の選択によって異なり、直鎖アルカン系溶媒、または脂肪属アルコール系溶媒を用いた場合には、比較例（１．０）に対して０．０２（１／５０）に短縮できた。脂肪族エーテル系溶媒を用いた場合には、概ね０．０４〜０．２（１／５）以下に短縮できた。芳香族炭化水素系溶媒を用いた場合は、０．１〜０．８程度に短縮できた。芳香族炭化水素系溶媒の中でもトリイソプロピルベンゼンを選択した場合には、直鎖アルカン系溶媒や脂肪属アルコール系溶媒を選択した場合とほぼ同等な溶解時間が得られる。
【００８９】
実施例１０〜実施例１２の機能層形成用インクとしての発光層形成用インクは、実施例９に対して、混合溶媒における貧溶媒の容積割合（容積比）と、良溶媒とを異ならせたものであり、他の構成要素及び製造方法は実施例９と同じである。具体的には次の通りである。
【００９０】
（実施例１０）
実施例１０の発光層形成用インクは、３０Ｌの貧溶媒と７０Ｌの良溶媒とを混合して１００Ｌの混合溶媒を構成している。つまり、混合溶媒における貧溶媒の容積割合は実施例９が１０％であったのに対して実施例１０は３０％である。また、良溶媒として、沸点（ｂｐ）が２６８℃の２−イソプロピルナフタレンを用いた。
【００９１】
（実施例１１）
実施例１１の発光層形成用インクは、５０Ｌの貧溶媒と５０Ｌの良溶媒とを混合して１００Ｌの混合溶媒を構成している。つまり、混合溶媒における貧溶媒の容積割合は５０％である。また、良溶媒として沸点（ｂｐ）が２９８℃のジベンジルエーテルを用いた。
【００９２】
（実施例１２）
実施例１２の発光層形成用インクは、７０Ｌの貧溶媒と３０Ｌの良溶媒とを混合して１００Ｌの混合溶媒を構成している。つまり、混合溶媒における貧溶媒の容積割合は７０％である。また、良溶媒として沸点（ｂｐ）が２９１℃のイソプロピルビフェニルを用いた。
図１７、図１８、図１９に示すように、実施例１０〜実施例１２の発光層形成用インクの製造方法によれば、実施例９と同様に、比較例（１．０）に対して、０．０２〜０．８程度に上記混合溶媒における上記混合物の溶解時間を短縮することができた。また、貧溶媒の種類に応じた溶解時間の短縮の程度も実施例９と同じである。
【００９３】
なお、上記正孔注入層形成用インクにおいて、低分子材料として4，4’，N，N’−Diphenylcarbazoleを用い、高分子材料としてPolyvinylcarbazoleを用いた場合でも、実施例１〜実施例４と同じ評価結果が得られた。
【００９４】
また、上記発光層形成用インクにおいて、低分子材料としてIridium（III）bis（2−（2’−benzothienyl）pyridinato−N,C3’）（acetylacetonate）を用い、高分子材料としてPoly[{9,9−dihexyl−2,7−bis(1−cyanovinylene)fluorenylene}−alt−co−{2,5−bis(N,N’-diphenylamino)−1,4−phenylene}]を用いた場合、あるいは、低分子材料としてIridium（III）bis(2−(4,6−diflurophenyl)pyridinato−N,C2’)picolinateを用い、高分子材料としてPoly(9,9−dihexylfluorenyl−2,7−diyl)を用いた場合でも、上記実施例９〜実施例１２と同じ評価結果が得られた。
【００９５】
さらに、上記正孔注入層形成用インク、上記正孔輸送層形成用インク、上記発光層形成用インクのそれぞれにおいて、混合溶媒における貧溶媒の容積割合（容積比）を７０％を越えた値、例えば９０％とすると、良溶媒の容積割合が低下したために５ｗｔ％の混合物を十分に溶解させることができず、上記混合物のゲル化が生じて各インクが懸濁した。
【００９６】
実施例１〜実施例１２の評価結果を総括すると、以下の通りとなる。
低分子材料と高分子材料とを含む混合物をまず貧溶媒に分散させてから良溶媒を加え、混合溶媒における上記混合物の溶解時間を比較例（溶解時間の指数１．０）よりも短縮するには、貧溶媒の容積割合（容積比）を１０％〜７０％とすることが好ましい。
また、正孔注入層、正孔輸送層、発光層のそれぞれにおける低分子材料と高分子材料の選択に係わらず、３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソプロピルビフェニルの中から良溶媒を選択した場合には、貧溶媒として直鎖アルカン系溶媒または脂肪族アルコール系溶媒、あるいはトリイソプロピルベンゼンを選択することが好ましい。これにより、上記混合溶媒における上記混合物の溶解時間を比較例に対して１／５０程度に短縮することができる。
また、正孔注入層、正孔輸送層、発光層のそれぞれにおける低分子材料と高分子材料の選択に係わらず、芳香族炭化水素系溶媒の中から貧溶媒を選択した場合には、貧溶媒の沸点（ｂｐ）を２００℃以上とすることができるので、液滴吐出法（インクジェット法）を用いる場合に、より好適な機能層形成用インクとすることができる。
【００９７】
なお、上記実施例１〜実施例１２では、上記混合溶媒に含まれる上記混合物の含有量を５ｗｔ％としたが、これに限定されるものではない。上記混合溶媒における単位容積当たりの上記混合物の溶解度に応じて含有量を設定すればよい。
【００９８】
本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う機能層形成用インクの製造方法及び有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子、該有機ＥＬ素子を適用する有機ＥＬ装置もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
【００９９】
（変形例１）貧溶媒、良溶媒は上記実施例で用いた溶媒に限定されるものではなく、その他誘導体にも適用可能である。
具体例としては、ハロゲン化溶媒、炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、エーテル溶媒、アルコール溶媒、ケトン溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒、アミド溶媒が挙げられる。これらの有機溶媒は、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
ハロゲン化溶媒の具体例としては、四塩化炭素、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ビス（２−クロロエチル）エーテル、クロロメチルエチルエーテル、クロロメチルメチルエーテル、２−クロロエチルエチルエーテル、２−クロロエチルメチルエーテルが挙げられる。
炭化水素溶媒の具体例としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカヒドロナフタレン、石油エーテル、リグロイン、ビシクロヘキシルが挙げられる。
芳香族炭化水素溶媒の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、プソイドクメン、メシチレン、ブチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デカチルベンゼン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、デカリン、メチルナフタレンが挙げられる。
エーテル溶媒としては、ジエチルエーテル、エチルプロピルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、アニソール、メチルアニソール、ジフェニルエーテル、フェノキシトルエン、フェノキシキシレン、ジトリルエーテル、テトラヒドロフラン、ジヒドロフラン、ジオキサン、テトラヒドロピラン、４−メチル−１，３−ジオキサン、４−フェニル−１，３−ジオキサンが挙げられる。
アルコール溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、２−メチル−２−プロパノール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２，２−ジメチル−１−プロパノール、１−ヘキサノール、シクロペンタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、２，２−ジメチル−１−プロパノール、３−ヘキサノール、２−ヘキサノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−エチルブタノール、２，４−ジメチル−３−ペンタノール、３−ヘプタノール、４−ヘプタノール、２−ヘプタノール、１−ヘプタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサノールが挙げられる。
ケトン溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ−ブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルメチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、３−ヘキサノン、ジイソプロピルケトン、２−ヘキサノン、シクロペンタノン、４−ヘプタノン、イソ−アミルメチルケトン、３−ヘプタノン、２−ヘプタノン、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン、５−メチル−３−ヘプタノン、２−メチルシクロヘキサノン、ジイソブチルケトン、５−メチル−２−オクタノン、３−メチルシクロヘキサノン、２−シクロヘキセン−１−オン、４−メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノン、ベンジルアセトンが挙げられる。
ニトリル溶媒の具体例としては、アセトニトリル、アクリロニトリル、トリクロロアセトニトリル、プロピオニトリル、ピバロニトリル、イソブチロニトリル、ｎ−ブチロニトリル、メトキシアセトニトリル、２−メチルブチロニトリル、イソバレロニトリル、Ｎ−バレロニトリル、ｎ−カプロニトリル、３−メトキシプロピオニトリル、３−エトキシプロピオニトリル、３，３’−オキシジプロピオニトリル、ｎ−ヘプタンニトリル、グリコロニトリル（ｇｌｙｃｏｌｏｎｉｔｒｉｌｅ）、ベンゾニトリル、エチレンシアノヒドリン、スクシノニトリル、アセトンシアノヒドリン、３−ｎ−ブトキシプロピオニトリルが挙げられる。
スルホキシド溶媒の具体例としては、ジメチルスルホキシド、ジ−ｎ−ブチルスルホキシド、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシドが挙げられる。
アミド溶媒の具体例としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アシルアミド、２−アセトアミドエタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ−トルアミド、トリフルオロアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルドデカンアミド、エプシロン−カプロラクタム、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルホルムアミド、ホルムアミド、ピバルアミド、Ｎ−ブチルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−ホルミルエチルアミン、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホルムアミド、１−ホルミルピペリジン、Ｎ−メチルホルムアニリドが挙げられる。
なお、貧溶媒及び良溶媒は混合しても分離せず、容易に混ざり合う溶媒を選択することが好ましい。
【０１００】
（変形例２）正孔注入層、正孔輸送層、発光層に含まれる低分子材料と高分子材料は、上記実施例に用いられた材料に限定されない。
例えば、正孔注入層形成材料としては、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリアニリン及びその誘導体、ポリピロール及びその誘導体、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ｐ−ジアミノベンゼン及びその誘導体等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また正孔輸送層形成材料としては各種ｐ型の高分子材料や、各種ｐ型の低分子材料を単独または組み合わせて用いることができる。
ｐ型の高分子材料（有機ポリマー）としては、例えば、ポリ（２，７−（９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン）−（１，４−フェニレン−（（４−sec−ブチルフェニル）イミノ）−１，４−フェニレン（ＴＦＢ）等のポリアリールアミンのようなアリールアミン骨格を有するもの、フルオレン−ビチオフェン共重合体のようなフルオレン骨格を有するもの、フルオレン−アリールアミン共重合体のようなアリールアミン骨格及びフルオレン骨格の双方を有するもの、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）、ポリチニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂またはその誘導体等が挙げられる。
このようなｐ型の高分子材料は、他の化合物との混合物として用いることもできる。一例として、ポリチオフェンを含有する混合物としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン／スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）等が挙げられる。
一方、ｐ型の低分子材料としては、例えば、１，１−ビス（４−ジ−パラ−トリアミノフェニル）シクロへキサン、１，１’−ビス（４−ジ−パラ−トリルアミノフェニル）−４−フェニル−シクロヘキサンのようなアリールシクロアルカン系化合物、４，４’，４’’−トリメチルトリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ１）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（４−メトキシフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ２）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−メトキシフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ３）、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（α−ＮＰＤ）、ＴＰＴＥのようなアリールアミン系化合物、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−パラ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（パラ−トリル）−パラ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（メタ−トリル）−メタ−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）のようなフェニレンジアミン系化合物、カルバゾール、Ｎ−イソプロピルカルバゾール、Ｎ−フェニルカルバゾールのようなカルバゾール系化合物、スチルベン、４−ジ−パラ−トリルアミノスチルベンのようなスチルベン系化合物、ＯｘＺのようなオキサゾール系化合物、トリフェニルメタン、ｍ−ＭＴＤＡＴＡのようなトリフェニルメタン系化合物、１−フェニル−３−（パラ−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリンのようなピラゾリン系化合物、ベンジン（シクロヘキサジエン）系化合物、トリアゾールのようなトリアゾール系化合物、イミダゾールのようなイミダゾール系化合物、１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ジ（４−ジメチルアミノフェニル）−１，３，４，−オキサジアゾールのようなオキサジアゾール系化合物、アントラセン、９−（４−ジエチルアミノスチリル）アントラセンのようなアントラセン系化合物、フルオレノン、２，４，７，−トリニトロ−９−フルオレノン、２，７−ビス（２−ヒドロキシ−３−（２−クロロフェニルカルバモイル）−１−ナフチルアゾ）フルオレノンのようなフルオレノン系化合物、ポリアニリンのようなアニリン系化合物、シラン系化合物、１，４−ジチオケト−３，６−ジフェニル−ピロロ−（３，４−ｃ）ピロロピロールのようなピロール系化合物、フローレンのようなフローレン系化合物、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリンのようなポルフィリン系化合物、キナクリドンのようなキナクリドン系化合物、フタロシアニン、銅フタロシアニン、テトラ（ｔ−ブチル）銅フタロシアニン、鉄フタロシアニンのような金属または無金属のフタロシアニン系化合物、銅ナフタロシアニン、バナジルナフタロシアニン、モノクロロガリウムナフタロシアニンのような金属または無金属のナフタロシアニン系化合物、Ｎ，Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニルベンジジンのようなベンジジン系化合物等が挙げられ���。
【０１０１】
また、赤色の発光が得られる発光材料（以降、赤色発光材料と称す）としては、特に限定されず、各種の赤色の発光が得られる蛍光材料、燐光材料を１種または２種以上組み合わせて用いることができる。
上記蛍光材料としては、赤色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、ペリレン誘導体、ユーロピウム錯体、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、ポルフィリン誘導体、ナイルレッド、２−（１，１−ジメチルエチル）−６−（２−（２，３，６，７−テトラヒドロ−１，１，７，７−テトラメチル−１Ｈ，５Ｈ−ベンゾ（ｉｊ）キノリジン−９−イル）エテニル）−４Ｈ−ピラン−４Ｈ−イリデン）プロパンジニトリル（ＤＣＪＴＢ）、４−（ジシアノメチレン）−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）、ポリ[２−メトキシ−５−（２−エチルヘキシロキシ）−１，４−（１−シアノビニレンフェニレン）]、ポリ[｛９，９−ジヘキシル−２，７−ビス（１−シアノビニレン）フルオレニレン｝オルト- コ- ｛２，５−ビス（N,N’-ジフェニルアミノ）−１，４−フェニレン｝]、ポリ[{２−メトキシ−５−（２−エチルヘキシロキシ）−１，４−（１−シアノビニレンフェニレン）}−コ- {２，５−ビス（N,N’-ジフェニルアミノ）−１，４−フェニレン}]等を挙げられる。
上記燐光材料としては、赤色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられ、これら金属錯体の配位子の内の少なくとも１つがフェニルピリジン骨格、ビピリジル骨格、ポルフィリン骨格等を持つものも挙げられる。より具体的には、トリス（１−フェニルイソキノリン）イリジウム、ビス［２−（２’−ベンゾ［４，５−α］チエニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ３’］イリジウム（アセチルアセトネート）（ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ））、２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−１２Ｈ，２３Ｈ−ポルフィリン−白金（ＩＩ）、ビス［２−（２’−ベンゾ［４，５−α］チエニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ３’］イリジウム、ビス（２−フェニルピリジン）イリジウム（アセチルアセトネート）が挙げられる。
また、前述した赤色発光材料の他に、赤色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料を含んでいてもよい。
ホスト材料は、正孔と電子とを再結合して励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを赤色発光材料に移動（フェルスター移動またはデクスター移動）させて、赤色発光材料を励起する機能を有する。このようなホスト材料を用いる場合、例えば、ゲスト材料である赤色発光材料をドーパントとしてホスト材料にドープして用いることができる。
このようなホスト材料としては、用いる赤色発光材料に対して前述したような機能を発揮するものであれば、特に限定されないが、赤色発光材料が赤色蛍光材料を含む場合、例えば、ナフタセン誘導体、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体のようなアセン誘導体（アセン系材料）、ジスチリルアリーレン誘導体、ペリレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアミン誘導体、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）等のキノリノラト系金属錯体、トリフェニルアミンの４量体等のトリアリールアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、シロール誘導体、ジカルバゾール誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ベンゾピラン誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、キノリン誘導体、４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることもできる。
前述したような赤色発光材料（ゲスト材料）及びホスト材料を用いる場合、赤色発光層中における赤色発光材料の含有量（ドープ量）は、０．０１ｗｔ％〜１０ｗｔ％であるのが好ましく、０．１ｗｔ％〜５ｗｔ％であるのがより好ましい。赤色発光材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができる。
【０１０２】
また、緑色の発光が得られる発光材料（以降、緑色発光材料と称す）としては、特に限定されず、例えば、各種の緑色の発光が得られる蛍光材料、燐光材料が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
上記蛍光材料としては、緑色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、クマリン誘導体、キナクリドン及びその誘導体、９，１０−ビス［（９−エチル−３−カルバゾール）−ビニレニル］−アントラセン、ポリ（９，９−ジヘキシル−２，７−ビニレンフルオレニレン）、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−コ−（１，４−ジフェニレン−ビニレン−２−メトキシ−５−｛２−エチルヘキシルオキシ｝ベンゼン）］、ポリ［（９，９−ジオクチル−２，７−ジビニレンフルオレニレン）−オルト−コ−（２−メトキシ−５−（２−エトキシルヘキシルオキシ）−１，４−フェニレン）］等が挙げられる。
上記燐光材料としては、緑色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられ、具体的には、ファク−トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（Ｉｒ（ｐｐｙ）３）、ビス（２−フェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（アセチルアセトネート）、ファク−トリス［５−フルオロ−２−（５−トリフルオロメチル−２−ピリジン）フェニル−Ｃ，Ｎ］イリジウム等が挙げられる。
また、緑色発光層９中には、前述した緑色発光材料の他に、緑色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料が含まれていてもよい。
このようなホスト材料としては、前述した赤色発光層で説明したホスト材料と同様のものを用いることができる。
【０１０３】
また、青色の発光が得られる発光材料（以降、青色発光材料と称す）としては、例えば、各種の青色の発光が得られる蛍光材料、燐光材料が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上組み合わせて用いることができる。
上記蛍光材料としては、青色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、ジスチリルジアミン系化合物等のジスチリルアミン誘導体、フルオランテン誘導体、ピレン誘導体、ペリレン及びペリレン誘導体、アントラセン誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、クリセン誘導体、フェナントレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、テトラフェニルブタジエン、４，４’−ビス（９−エチル−３−カルバゾビニレン）−１，１’−ビフェニル（ＢＣｚＶＢｉ）、ポリ［（９．９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−コ−（２，５−ジメトキシベンゼン−１，４−ジイル）］、ポリ［（９，９−ジヘキシルオキシフルオレン−２，７−ジイル）−オルト−コ−（２−メトキシ−５−｛２−エトキシヘキシルオキシ｝フェニレン−１，４−ジイル）］、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−コ−（エチルニルベンゼン）］等が挙げられる。
上記燐光材料としては、青色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられ、具体的には、ビス［４，６−ジフルオロフェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ２’］−ピコリネート−イリジウム、トリス［２−（２，４−ジフルオロフェニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ２’］イリジウム、ビス［２−（３，５−トリフルオロメチル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ２’］−ピコリネート−イリジウム、ビス（４，６−ジフルオロフェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（アセチルアセトネート）等が挙げられる。
また、青色発光層中には、前述した青色発光材料の他に、青色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料が含まれていてもよい。
このようなホスト材料としては、前述した赤色発光層で説明したホスト材料と同様のものを用いることができる。
【０１０４】
（変形例３）機能層形成用インクは、低分子材料と高分子材料とが混合された混合物を固形分として含むことに限定されない。該固形分が低分子材料または高分子材料であっても、本発明を適用することができる。
【０１０５】
（変形例４）本発明が適用された有機ＥＬ素子１３０を備えた有機ＥＬ装置１００は、表示装置として用いられることに限定されない。例えば、照明装置、電気調光ガラス、感光体を露光する露光装置（プリンターヘッド）などに適用することができる。
【符号の説明】
【０１０６】
７０…機能層形成用インク、１００…有機ＥＬ装置、１３０…有機ＥＬ素子、１３１…陽極としての画素電極、１３２…機能層、１３２ａ…正孔注入層，１３２ｂ…正孔輸送層、１３２ｃ…発光層、１３４…陰極としての対向電極。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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