(57)【要約】【課題】高性能なＸ線発生装置用ヘッドおよびこれを備えたＸ線発生装置を提供する。【解決手段】ヘッド１０は、Ｘ線発生装置の内部で発生したＸ線をＸ線発生装置の外部に配置されたワークへ導くＸ線発生装置用ヘッドである。ヘッド１０は、電子線を発生するＸ線発生装置の本体に固定される固定端１１ｄを含むケース１１と、ケース１１よりも高いＸ線透過率を有し、ケース１１に取り付けられたウインドウ１２とを備えている。Ｘ線をワークへ導く方向を含む断面で見た場合に、ヘッド１０の幅ｗは、Ｘ線をワークＷＫへ導く方向に沿って固定端１１ｄから離れるに従って減少する。【選択図】図２
2015130334.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線発生装置の内部で発生したＸ線を前記Ｘ線発生装置の外部に配置された対象物へ導くＸ線発生装置用ヘッドであって、
前記Ｘ線発生装置における電子線を発生する本体に固定される固定端を含むケースと、
前記ケースよりも高いＸ線透過率を有し、前記ケースに取り付けられたウインドウとを備え、
前記Ｘ線を前記対象物へ導く方向を含む断面で見た場合に、前記Ｘ線発生装置用ヘッドの幅は、前記Ｘ線を前記対象物へ導く方向に沿って前記固定端から離れるに従って減少する、Ｘ線発生装置用ヘッド。
【請求項２】
電子線の照射によりＸ線を発生するターゲットであって、前記本体に前記ケースが固定された場合に、前記Ｘ線を前記対象物へ導く方向に沿って前記ウインドウよりも前記固定端に近い側に配置されたターゲットをさらに備えた、請求項１に記載のＸ線発生装置用ヘッド。
【請求項３】
前記ターゲットは前記ウインドウと接触している、請求項２に記載のＸ線発生装置用ヘッド。
【請求項４】
前記ウインドウは、前記本体に前記ケースが固定された場合に、前記ケースよりも前記Ｘ線を前記対象物へ導く方向に突出する突出部を含む、請求項１〜３のいずれかに記載のＸ線発生装置用ヘッド。
【請求項５】
前記突出部は、頂部と、前記頂部よりも前記ケース側に存在する肩部とを含み、
前記頂部および前記肩部の各々の平面度は、０より大きく１ｍｍ以下である、請求項４に記載のＸ線発生装置用ヘッド。
【請求項６】
前記Ｘ線を前記対象物へ導く方向を含む断面で見た場合に、前記ケースの幅は、前記固定端から離れるに従って減少し、
前記ウインドウは、平板状であり、前記ケースにおける前記固定端から最も遠い位置に取り付けられる、請求項１〜３のいずれかに記載のＸ線発生装置用ヘッド。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載のＸ線発生装置用ヘッドと、
前記本体とを備えた、Ｘ線発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線発生装置用ヘッドおよびこれを備えたＸ線発生装置に関し、より特定的には、操作性の高いＸ線発生装置用ヘッドおよびこれを備えたＸ線発生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、Ｘ線撮影は、医療分野における診断や産業機器分野における非破壊検査などに用いられている。
【０００３】
Ｘ線を発生するＸ線発生装置は、電子を放出する電子源と、電子源から放出された電子を集束するレンズ電極と、電子が衝突することでＸ線を発生するターゲットとを備えている。Ｘ線発生装置は、電子源から放出された電子をターゲットに衝突させ、その衝突エネルギーによりターゲットからＸ線を発生させる。発生したＸ線は、ウインドウを通じて外部の対象物へ放射される。Ｘ線発生装置には、透過型と反射型という２つの方式がある。透過型は、電子源からターゲットに向かう電子線の進行方向と同じ方面からＸ線を取り出す方式である。反射型は、電子源からターゲットに向かう電子線の進行方向とは異なる方向からＸ線を取り出す方式である。
【０００４】
図９は、従来の透過型Ｘ線発生装置のウインドウ付近の構成を模式的に示す断面図である。なお、本願の図では、ターゲットから照射されるＸ線の幅が点線で示されている。
【０００５】
図９を参照して、従来の透過型Ｘ線発生装置は、真空容器１３１と、ヘッド１１０とを備えている。ヘッド１１０は、真空容器１３１の図９中上部に固定されている。真空容器１３１およびヘッド１１０は真空（減圧）の空間を構成している。ヘッド１１０は、円筒形状であり、Ｘ線をターゲット１１３に導く方向（矢印ＡＲ２で示す方向）に沿って均一な幅を有している。ヘッド１１０は、ケース１１１と、ウインドウ１１２と、ターゲット１１３とを含んでいる。ケース１１１は、その上部に開口部を含んでいる。ウインドウ１１２は、ケース１１１の開口部を塞ぐようにケース１１１の上部に固定されている。ウインドウ１１２は平板状である。ターゲット１１３は、ウインドウ１１２における、Ｘ線発生装置の内部側（図９中下側）の面に蒸着されている。ターゲット１１３は、電子線の照射によりＸ線を発生する物質よりなっている。
【０００６】
従来の透過型Ｘ線発生装置は、矢印ＡＲ１で示すように電子線をターゲット１１３に照射することにより、ターゲット１１３からＸ線を発生させる。発生したＸ線は、ウインドウ１１２を通じて、矢印ＡＲ２で示す方向に照射される。
【０００７】
なお、従来の透過型Ｘ線発生装置は、たとえば下記特許文献１に開示されている。下記特許文献１には、電子放出源と、電子放出源から放出された電子の照射によりＸ線を発生する平板状のターゲットと、ターゲットから放出されたＸ線を遮蔽する遮蔽部材と、ターゲットの温度を検出するための温度センサーとを備えたＸ線発生装置が開示されている。ターゲットは、ターゲット基板と、ターゲット基板における電子放出源側の面に設けられたターゲット膜とを含んでいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１２−１８６１１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来の透過型Ｘ線発生装置には、性能が低いという問題があった。これについて以下に説明する。
【００１０】
図１０は、従来の透過型Ｘ線発生装置の問題を説明する図である。なお、本願の図では、平面状のテーブル内の互いに直交する２つの任意の方向をｘ軸およびｙ軸とし、テーブルの法線方向をｚ軸と記す。
【００１１】
図１０を参照して、透過型Ｘ線発生装置は、テーブル１４０上に配置されたワークＷＫに対してＸ線を照射する。ヘッド１１０の先端部とワークＷＫとの距離を一定に保ちつつ、透過型Ｘ線発生装置（またはテーブル１４０）をｘｙ平面内で移動することにより、ワークＷＫに対するＸ線の照射位置が変更可能である。また、透過型Ｘ線発生装置（またはテーブル１４０）を傾斜させることにより、ｚ軸に対するＸ線の照射角度が変更可能である。さらに、透過型Ｘ線発生装置は、Ｘ線発生装置（またはテーブル１４０）をｚ軸方向に移動することにより、Ｘ線撮影の倍率が変更可能である。
【００１２】
Ｘ線の照射角度が０である場合（Ｘ線の照射方向とｚ軸方向とが一致している場合）、透過型Ｘ線発生装置は、ヘッド１１０の先端部とワークＷＫとの距離が距離ｄ１となる状態ＳＴ１まで、テーブル１４０に接近することができる。その結果、透過型Ｘ線発生装置は高倍率でＸ線撮影を行うことができる。
【００１３】
一方、Ｘ線の照射角度が０より大きい角度である場合（Ｘ線の照射方向とｚ軸方向とが一致していない場合）、位置ＰＯにおいて透過型Ｘ線発生装置とテーブル１４０とが干渉するため、ヘッド１１０の先端部とワークＷＫとの距離を距離ｄ１まで縮めることはできない。透過型Ｘ線発生装置は、ヘッド１１０の先端部とワークＷＫとの距離が距離ｄ２（＞ｄ１）となる状態ＳＴ２までしか、テーブル１４０に接近することができない。その結果、Ｘ線の照射角度が０である場合に比べて低い倍率でしかＸ線撮影を行うことができない。
【００１４】
上記の問題は、透過型Ｘ線発生装置に限られるものではなく、反射型Ｘ線発生装置を含むＸ線発生装置全般において起こりうる問題である。
【００１５】
本発明は、上記課題を解決するためのものであり、その目的は、高性能なＸ線発生装置用ヘッドおよびこれを備えたＸ線発生装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の一の局面に従うＸ線発生装置用ヘッドは、Ｘ線発生装置の内部で発生したＸ線をＸ線発生装置の外部に配置された対象物へ導くＸ線発生装置用ヘッドであって、Ｘ線発生装置における電子線を発生する本体に固定される固定端を含むケースと、ケースよりも高いＸ線透過率を有し、ケースに取り付けられたウインドウとを備え、Ｘ線を対象物へ導く方向を含む断面で見た場合に、Ｘ線発生装置用ヘッドの幅は、Ｘ線を対象物へ導く方向に沿って固定端から離れるに従って減少する。
【００１７】
上記Ｘ線発生装置用ヘッドにおいて好ましくは、電子線の照射によりＸ線を発生するターゲットであって、本体にケースが固定された場合に、Ｘ線を対象物へ導く方向に沿ってウインドウよりも固定端に近い側に配置されたターゲットをさらに備える。
【００１８】
上記Ｘ線発生装置用ヘッドにおいて好ましくは、ターゲットはウインドウと接触している。
【００１９】
上記Ｘ線発生装置用ヘッドにおいて好ましくは、ウインドウは、本体にケースが固定された場合に、ケースよりもＸ線を対象物へ導く方向に突出する突出部を含む。
【００２０】
上記Ｘ線発生装置用ヘッドにおいて好ましくは、突出部は、頂部と、頂部よりもケース側に存在する肩部とを含み、頂部および肩部の各々の平面度は、０より大きく１ｍｍ以下である。
【００２１】
上記Ｘ線発生装置用ヘッドにおいて好ましくは、Ｘ線を対象物へ導く方向を含む断面で見た場合に、ケースの幅は、固定端から離れるに従って減少し、ウインドウは、平板状であり、ケースにおける固定端から最も遠い位置に取り付けられる。
【００２２】
本発明の他の局面に従うＸ線発生装置は、上記のいずれかのＸ線発生装置用ヘッドと、本体とを備える。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、高性能なＸ線発生装置用ヘッドおよびこれを備えたＸ線発生装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一実施の形態におけるＸ線撮影装置の構成を模式的に示す断面図である。
【図２】ヘッド１０の第１の構成を示す断面図である。
【図３】ヘッド１０の第２の構成を示す断面図である。
【図４】ヘッド１０の第３の構成を示す断面図である。
【図５】ヘッド１０の第４の構成を示す断面図である。
【図６】ヘッド１０の第５の構成を示す断面図である。
【図７】本発明の一実施の形態におけるＸ線発生装置の効果を説明する第１の図である。
【図８】本発明の一実施の形態におけるＸ線発生装置の効果を説明する第２の図である。
【図９】従来の透過型Ｘ線発生装置のウインドウ付近の構成を模式的に示す断面図である。
【図１０】従来の透過型Ｘ線発生装置の問題を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の一実施の形態について、図面に基づいて説明する。
【００２６】
図１は、本発明の一実施の形態におけるＸ線撮影装置の構成を模式的に示す断面図である。なお図１においては、一部の構成がブロックで示されている。
【００２７】
図１を参照して、本実施の形態のＸ線撮影装置は、Ｘ線発生装置１と、テーブル４０と、Ｘ線検出装置５０と、制御部８０と、操作部９０などを備えている。なおＸ線撮影装置は、Ｘ線発生装置１の内部を減圧するための真空ポンプ（減圧装置）などをさらに備えていてもよい。
【００２８】
Ｘ線発生装置１は、ヘッド１０（Ｘ線発生装置用ヘッドの一例）と、真空容器３１と、電子線発生部３２と、集束電極３３とを含んでいる。Ｘ線発生装置１は、ヘッド１０の一部であるターゲットに対して、矢印ＡＲ１で示す方向に電子線を照射することにより、ターゲットからＸ線を発生させる。Ｘ線発生装置１の内部で発生したＸ線は、矢印ＡＲ２で示すように、ヘッド１０によって、Ｘ線発生装置１の外部に配置されたワークＷＫへ導かれる。
【００２９】
真空容器３１は、テーブル４０側の端部に傾斜面３１ａを含んでいることが好ましい。傾斜面３１ａは、端面（図１中上下の端面）、および端面間に延在した側面のいずれに対しても傾斜している。
【００３０】
真空容器３１は、ガラスやセラミックスなどよりなっている。真空容器３１およびヘッド１０は真空（減圧）の内部空間を構成している。真空容器３１およびヘッド１０で構成される空間は、少なくとも、電子線発生部３２とヘッド１０のターゲットとの間を電子が飛翔することができる程度の真空度（たとえば１×１０-4Ｐａ以下の真空度）を有している。真空容器３１およびヘッド１０で構成される空間の真空度は、使用する電子線発生部３２の種類や、電子線発生部３２の動作温度などを考慮して適宜設定されることが好ましい。
【００３１】
電子線発生部３２は、電子線を発生する。電子線発生部３２は、熱陰極型であっても冷陰極型であってもよい。電子線発生部３２は、真空容器３１を貫通するように配置されている。電子線発生部３２は、真空容器３１の外部に露出した電流導入端子３２ａを介して制御部８０に電気的に接続されている。これにより、電子線発生部３２での電子線の強度がＸ線発生制御部８１によって制御される。
【００３２】
集束電極３３は、電子線発生部３２よりもヘッド１０側の位置において、電子線発生部３２と所定の間隔を空けて配置されている。集束電極３３に所定の電圧が印加されることにより、集束電極３３から電界が発生する。この電界により、電子線発生部３２から発生した電子が真空中に引き出されて電子線となる。また、この電界のレンズ効果によって、電子線発生部３２から発生した電子線は集束されて、ヘッド１０のターゲットに照射される。
【００３３】
テーブル４０は、ワークＷＫ（対象物の一例）を載置するためのものである。
【００３４】
Ｘ線検出装置５０は、ワークＷＫを透過したＸ線を受信し、受信したＸ線の強度を示す信号を制御部８０に送信する。
【００３５】
制御部８０は、Ｘ線発生装置１、Ｘ線検出装置５０、および操作部９０の各々と電気的に接続されており、Ｘ線撮影装置全体の制御を行う。制御部８０は、Ｘ線発生制御部８１と、位置角度調節部８２と、画像生成部８３とを含んでいる。
【００３６】
Ｘ線発生制御部８１は、電子線発生部３２および集束電極３３に印加する電圧、ならびにＸ線発生装置１内部の真空度などを制御することにより、Ｘ線発生装置１から発生するＸ線を制御する。
【００３７】
位置角度調節部８２は、Ｘ線発生装置１を移動させることにより、テーブル４０に対するＸ線発生装置１の位置（ｘ軸方向、ｙ軸方向、およびｚ軸方向の各々の位置）および角度（ｚ軸に対するＸ線の照射角度）を調節する。位置角度調節部８２は、Ｘ線発生装置１の代わりにテーブル４０を移動させることにより、テーブル４０に対するＸ線発生装置１の位置および角度を調節するものであってもよい。
【００３８】
画像生成部８３は、Ｘ線検出装置５０から受信した信号に基づいて、ワークＷＫのＸ線画像を生成する。
【００３９】
操作部９０は、Ｘ線検出装置に関する各種操作を操作者から受け付け、受け付けた操作に基づく信号を制御部８０に送信する。
【００４０】
ヘッド１０は、真空容器３１の図１中上部に固定されている。ヘッド１０は、Ｘ線発生装置１におけるヘッド１０を除く部分（以降、Ｘ線発生装置本体と記すことがある）に対して着脱可能であってもよいし、着脱不可であってもよい。ヘッド１０は、たとえば以下に説明する第１〜第５の構成のいずれかを有している。
【００４１】
図２は、ヘッド１０の第１の構成を示す断面図である。なお、図２〜図６の各々の断面図は、Ｘ線をワークＷＫへ導く方向を含む断面で見た場合のものである。図２〜図６において、Ｘ線をワークＷＫへ導く方向（側）（つまり、図２〜図６中上方向（側））を外部方向（側）と記し、Ｘ線をワークＷＫへ導く方向とは反対の方向（側）（つまり、図２〜図６中下方向（側））を内部方向（側）と記すことがある。
【００４２】
図２を参照して、第１の構成を有するヘッド１０は、ケース１１と、ウインドウ１２と、ターゲット１３とを含んでいる。
【００４３】
ケース１１は、Ｘ線発生装置本体（ここでは真空容器３１）に固定される。ケース１１は、たとえばガラスやセラミックスなどよりなっている。
【００４４】
ケース１１は、外部方向（図２中上方向）に沿って延在する基部１１ａと、基部１１ａよりも真空容器３１から離れた位置に存在し、外部方向に対して傾斜して延在する肩部１１ｂと、肩部１１ｂの端部に設けられた接続部１１ｃと、Ｘ線発生装置本体に固定される固定端１１ｄを含んでいる。基部１１ａはたとえば円筒形状を有している。接続部１１ｃは、肩部１１ｂに比べて厚みが小さくなっている。
【００４５】
ウインドウ１２は、Ｘ線発生装置本体にケース１１が固定された場合に、ケース１１よりも外部方向に突出している。言い換えれば、ウインドウ１２全体が突出部となっている。
【００４６】
ウインドウ１２は、頂部１２ａと、肩部１２ｂとを含んでいる。頂部１２ａは、ヘッド１０における最もワークＷＫに近い側（図２中最も上側）に存在している。外部に露出した側の頂部１２ａの面は、外部方向に対して垂直な方向（図２中横方向）に延在している。肩部１２ｂは頂部１２ａよりもケース１１側（図２中下側）に存在しており、外部方向に対して傾斜して延在している。肩部１２ｂの端部は、たとえばロウ付けなどによって接続部１１ｃに対して取り付けられている。頂部１２ａおよび肩部１２ｂはいずれも平面である。具体的には、頂部１２ａおよび肩部１２ｂの各々の平面度は、０より大きく１ｍｍ以下である。ここでの平面度は、ＪＩＳ（Ｊａｐａｎｅｓｅ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｓｔａｎｄａｒｄｓ）  Ｂ  ０６２１に規定される平面度であり、レーザー変位計でウインドウ１２表面の変位量の最大値と最小値の差分を読み取ることにより測定されるものである。
【００４７】
ウインドウ１２は、ケース１１よりも高いＸ線透過率を有している。ウインドウ１２は、高いＸ線透過率および高い熱伝導率を有し、空間の減圧雰囲気を維持可能な強度を有する材料よりなっている。具体的には、ウインドウ１２は、チタン、ダイヤモンドライクカーボン、またはベリリウムなどよりなっている。さらに、ウインドウ１２は、導電性を有する材料よりなっていることが好ましい。ウインドウ１２の厚みは、材料によって異なるが、０．２ｍｍ以上２ｍｍ以下であることが好ましい。
【００４８】
ターゲット１３は、Ｘ線発生装置本体にケース１１が固定された場合に、Ｘ線をワークＷＫへ導く方向に沿ってウインドウ１２よりも固定端１１ｄに近い側に配置されている。ターゲット１３はウインドウ１２の内部側の面と接触している。
【００４９】
ターゲット１３は、電子線の照射によりＸ線を発生する。ターゲット１３は、通常、原子番号２６以上の金属材料よりなっている。ターゲット１３は、熱伝導率が大きく融点が高いものが好ましい。具体的には、ターゲット１３は、タングステン、モリブデン、クロム、銅、コバルト、鉄、ロジウム、もしくはレニウムなどの金属、またはこれらの合金材料よりなっている。ターゲット１３の厚みは、材料によって異なるが、１μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましい。ターゲット１３は、スパッタや蒸着などの方法で形成されることが好ましい。またターゲット１３は、圧延や研磨などにより作製された薄膜によって形成されてもよい。
【００５０】
図２に示す断面で見た場合に、ヘッド１０の幅ｗは、外部方向に沿って固定端１１ｄから離れるに従って減少している。これは、ケース１１が肩部１１ｂを含んでおり、ウインドウ１２が肩部１２ｂを含んでいるためである。
【００５１】
なお、ヘッド１０は、Ｘ線をワークＷＫへ導く方向以外の方向に放射されたＸ線を遮蔽する遮蔽部材をさらに含んでいてもよい。
【００５２】
ヘッド１０は、図２に示す第１の構成を有する場合の他、たとえば図３に示す第２の構成、図４に示す第３の構成、図５に示す第４の構成、または図６に示す第５の構成などを有していてもよい。
【００５３】
図３は、ヘッド１０の第２の構成を示す断面図である。
【００５４】
図３を参照して、第２の構成を有するヘッド１０は、頂部１２ａを含む断面で見た場合に、頂部１２ａが、円弧状の断面形状を有している。第２の構成においても、ウインドウ１２全体が突出部となっている。頂部１２ａおよび肩部１２ｂが共通する円弧状の断面形状を有していてもよい。
【００５５】
なお、これ以外の構成は、第１の構成を有するヘッドと同じであるので、同一の部材には同一の符号を付し、その説明は繰り返さない。
【００５６】
図４は、ヘッド１０の第３の構成を示す断面図である。
【００５７】
図４を参照して、第３の構成を有するヘッド１０は、円筒形状のケース１１上面に取り付けられた基部１２ｃをさらに含んでいる。基部１２ｃは肩部１２ｂよりもケース１１側に存在している。ケース１１上面および基部１２ｃは、電子線の照射方向に対して垂直な方向（図４中横方向）に延在している。基部１２ｃは、たとえばロウ付けなどによってケース１１に対して取り付けられている。基部１２ｃは、頂部１２ａを含む断面で見た場合に、０より大きく０．５μｍ以下の表面粗さＲｙを有する平面である。ターゲット１３は、基部１２ｃには形成されておらず、頂部１２ａおよび肩部１２ｂに沿って形成されている。第３の構成においては、頂部１２ａおよび肩部１２ｂが突出部となっている。
【００５８】
図４に示す断面で見た場合に、ヘッド１０の幅ｗは、外部方向に沿って固定端１１ｄから離れるに従って減少している。これは、ケース１１が円筒形状である一方で、ウインドウ１２が肩部１２ｂを含んでいるためである。
【００５９】
なお、これ以外の構成は、第１の構成を有するヘッドと同じであるので、同一の部材には同一の符号を付し、その説明は繰り返さない。
【００６０】
図５は、ヘッド１０の第４の構成を示す断面図である。
【００６１】
図５を参照して、第４の構成を有するヘッド１０において、ケース１１は、外部方向（図５中上方向）に沿って延在する基部１１ａと、基部１１ａよりも真空容器３１から離れた位置に存在し、外部方向に対して傾斜して延在する肩部１１ｂと、肩部１１ｂの端部において、外部方向に対して垂直な方向（図５中横方向）に延在する接続部１１ｃと、Ｘ線発生装置本体に固定される固定端１１ｄを含んでいる。
【００６２】
ウインドウ１２は、平板状であり、ケース１１における固定端１１ｄから最も遠い位置に取り付けられている。ウインドウ１２は、接続部１１ｃ上に固定されている。ウインドウ１２の外径は、たとえば１０ｍｍ〜１ｍｍであり、より好ましくは５ｍｍ〜１ｍｍであり、さらに好ましくは３ｍｍ〜１ｍｍである。第４の構成を有するヘッド１０は、静電レンズ型で焦点径が１０μｍ〜０．５μｍの、より好ましくは５μｍ〜０．５μｍの、さらに好ましくは３μｍ〜０．５μｍのマイクロフォーカスＸ線源に適している。
【００６３】
ターゲット１３は、平板状であり、Ｘ線発生装置本体にケース１１が固定された場合に、ウインドウ１２よりも内部側に配置されている。ターゲット１３はウインドウ１２の内部側の面と接触している。
【００６４】
図５に示す断面で見た場合に、ヘッド１０（ケース１１）の幅ｗは、外部方向に沿って固定端１１ｄから離れるに従って減少している。これは、ウインドウ１２が平板状である一方で、ケース１１が肩部１１ｂを含んでいるためである。また、ケース１１内外において、外部方向に対する肩部１１ｂの角度はほぼ同じである。ケース１１内はテーパー状であり、ターゲット１３から内部方向に向かって見た場合、ケース１１内は徐々に広がった形状をしている。
【００６５】
なお、これ以外の構成は、第１の構成を有するヘッドと同じであるので、同一の部材には同一の符号を付し、その説明は繰り返さない。
【００６６】
第１の構成〜第４の構成を有するヘッドはいずれも、電子線の進行方向と同じ方面からＸ線を取り出す（ターゲットを透過したＸ線を取り出す）透過型Ｘ線発生装置用のヘッドである。透過型Ｘ線発生装置は、ターゲットとワークとの距離を小さくすることができ、Ｘ線撮影の倍率を高くすることができるという利点を有している。
【００６７】
一方、次に説明する第５の構成のヘッドは、電子線の進行方向とは異なる方向からＸ線を取り出す（ターゲットで反射したＸ線を取り出す）反射型のＸ線発生装置用のヘッドである。
【００６８】
図６は、ヘッド１０の第５の構成を示す断面図である。
【００６９】
図６を参照して、第５の構成を有するヘッド１０は、第１の構成を有するヘッドからターゲットを除外したものである。ターゲット１３は、真空容器３１およびヘッド１０で構成された内部空間において、ウインドウ１２から離れて配置されている。この場合、電子線発生部３２は、矢印ＡＲ２で示すＸ線の照射方向に対して傾斜した方向である矢印ＡＲ１で示す方向から、電子線をターゲット１３に対して照射する。
【００７０】
なお、これ以外の構成は、第１の構成を有するヘッドと同じであるので、同一の部材には同一の符号を付し、その説明は繰り返さない。
【００７１】
なお、第２、第３、または第４の構成を有するヘッドからターゲットを除外することも可能である。
【００７２】
続いて、本実施の形態の効果について説明する。
【００７３】
図７および図８は、本発明の一実施の形態におけるＸ線発生装置の効果を説明する図である。
【００７４】
図７を参照して、Ｘ線の照射角度が０である場合（Ｘ線の照射方向とｚ軸方向とが一致している場合）、Ｘ線発生装置１は、ヘッド１０の先端部とワークＷＫとの距離が距離ｄ１となる状態ＳＴ１まで、テーブル４０に接近することができる。その結果、高倍率でＸ線撮影を行うことができる。
【００７５】
Ｘ線の照射角度が０より大きい角度である場合（Ｘ線の照射方向とｚ軸方向とが一致していない場合）にも、Ｘ線発生装置１は、ヘッド１０の先端部とワークＷＫとの距離が距離ｄ１（またはほぼ距離ｄ１に等しい距離）となる状態ＳＴ３まで、テーブル４０に接近することができる。これは、本実施の形態におけるヘッド１０の幅が、外部方向に沿って固定端１１ｄから離れるに従って減少しているためである。その結果、Ｘ線の照射角度が０である場合に実現可能な高倍率を維持しつつ、Ｘ線の照射方向をｚ軸に対して傾斜させることができ、Ｘ線発生装置の高性能化を図ることができる。
【００７６】
図８（ａ）を参照して、従来の装置ではウインドウ１１２が大きな平面で構成されており、表面に凹凸のあるワークＷＫ（ここでは電子部品が搭載された回路基板）の窪んだ部分に対して、ヘッド１１０を近づけることができなかった。本実施の形態によれば、図８（ｂ）に示すように、表面に凹凸のあるワークＷＫの窪んだ部分に対して、ヘッド１０を近づけることができる。その結果、高倍率でのＸ線撮影を行うことができる。なお、図８（ｂ）では、第１の構成を有するヘッド１０を示したが、他の構成を有するヘッド１０でも同様の効果を得ることができる。
【００７７】
上述の実施の形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００７８】
１  Ｘ線発生装置
１０，１１０  ヘッド
１１，１１１  ケース
１１ａ  ケースの基部
１１ｂ  ケースの肩部
１１ｃ  ケースの接続部
１１ｄ  ケースの固定端
１２，１１２  ウインドウ
１２ａ  ウインドウの頂部
１２ｂ  ウインドウの肩部
１２ｃ  ウインドウの基部
１３，１１３  ターゲット
３１，１３１  真空容器
３１ａ  真空容器の傾斜面
３２  電子線発生部
３２ａ  電子線発生部の電流導入端子
３３  集束電極
４０，１４０  テーブル
５０  Ｘ線検出装置
８０  制御部
８１  Ｘ線発生制御部
８２  位置角度調節部
８３  画像生成部
９０  操作部
ＰＯ  干渉する位置
ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３  Ｘ線発生装置の状態
ＷＫ  ワーク
ｄ１，ｄ２  ヘッドの先端部とワークとの距離
ｗ  ヘッドの幅
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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