(57)【要約】【課題】砂埃等による耐傷付き性、及び生活環境由来の汚染時の傷付きも少ない光学フィルムを効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層と、表面保護層とを順に有する光学フィルムの製造方法であり、該表面保護層が金属アルコキシド及びその加水分解物から選ばれる少なくとも１種と、イオン性光塩基発生剤とを含有する表面保護層形成用組成物の硬化物であり、該表面保護層形成用組成物を前記ハードコート層上に塗布して未硬化組成物層を形成する工程と、該未硬化組成物層に光を照射して塩基を発生させる工程と、該未硬化組成物層を加熱して硬化させる工程とを含む、光学フィルムの製造方法である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層と、表面保護層とを順に有する光学フィルムの製造方法であって、該表面保護層が金属アルコキシド及びその加水分解物から選ばれる少なくとも１種と、イオン性光塩基発生剤とを含有する表面保護層形成用組成物の硬化物であり、該表面保護層形成用組成物を前記ハードコート層上に塗布して未硬化組成物層を形成する工程と、該未硬化組成物層に光を照射して塩基を発生させる工程と、該未硬化組成物層を加熱して硬化させる工程とを含む、光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記イオン性光塩基発生剤が酸性化合物と塩基性化合物との塩であり、該酸性化合物が下記一般式（１）で表される、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【化１】
2015028540.tif 000010
（式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、又は炭素数６〜８のアリール基を示す。Ｒ3〜Ｒ7は、それぞれ独立に水素原子、水酸基、又は有機基を示す。Ｒ1〜Ｒ7のうちの２つが、互いに結合して環を形成していてもよい。）
【請求項３】
前記一般式（１）において、Ｒ3〜Ｒ7のうちの１つが下記一般式（２）で表される基である、請求項２に記載の光学フィルムの製造方法。
【化２】
2015028540.tif 000011
（式中、Ｒ8〜Ｒ12は、それぞれ独立に水素原子又は有機基を示す。Ｒ8〜Ｒ12のうちの２つが、互いに結合して環を形成していてもよい。）
【請求項４】
前記酸性化合物が２−（３−ベンゾイルフェニル）プロピオン酸である、請求項２又は３に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記塩基性化合物がアミン化合物である、請求項２〜４のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記塩基性化合物がピロリジン、ピペリジン、シクロへキシルアミン、ジシクロへキシルアミン、イミダゾール、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、グアニジン、１，５，７−トリアザビシクロ［４．４．０］デカ−５−エン、及び下記一般式（３）〜（４）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である、請求項２〜５のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【化３】
2015028540.tif 000012
（式中、Ｒ13は単結合、又は炭素数１〜１０のアルキレン基を示し、Ｒ14は炭素数１〜１０のアルキレン基を示す。）
【請求項７】
前記イオン性光塩基発生剤が下記式（Ａ−１）〜（Ａ−３）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【化４】
2015028540.tif 000013
【請求項８】
前記表面保護層形成用組成物中のイオン性光塩基発生剤の含有量が、前記金属アルコキシド及びその加水分解物の合計量１００質量部に対し、０．０５〜１０質量部である、請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項９】
金属アルコキシドにおける金属原子が、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、バナジウム、亜鉛、ストロンチウム、インジウム、スズ、タンタル、タングステン、タリウム、アンチモン、及びセリウムから選ばれる１種以上である、請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記ハードコート層と前記表面保護層とが互いに隣接する構成であり、かつ該ハードコート層の屈折率が該表面保護層の屈折率よりも０．１０以上高いものである、請求項１〜９のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記表面保護層が更に無機中実微粒子を含む、請求項１〜１０のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１２】
前記ハードコート層が更に高屈折率微粒子を含む、請求項１〜１１のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１３】
前記未硬化組成物層の加熱温度が８０〜１００℃である、請求項１〜１２のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ等の画像表示装置に好適に用いられる、光学フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ等の画像表示装置において、画像表示部の表面保護及び反射防止を目的として、画像表示部の最表面に反射防止性を有する表面保護フィルムを設けることが知られている。反射防止フィルムとしては、プラスチックフィルム上に低屈折率層を有するものや、低屈折率層及び高屈折率層を各々１層以上積層した多層構造のものが知られている。このような低屈折率層を構成する材料としては珪素が一般に用いられており、珪素を含む薄膜層の形成方法としては、物理蒸着（ＰＶＤ）法や化学蒸着（ＣＶＤ）法、スパッタリング等によるドライプロセス法と、いわゆるゾル−ゲル法を用いるウェットプロセス法が知られている。ドライプロセス法では通常真空装置が必要とされるため、装置コスト等の観点からはウェットプロセス法が注目されている。
ゾル−ゲル法による薄膜形成は、例えば、金属アルコキシドと酸又は塩基性触媒とを含む溶液を塗布した後、加熱して加水分解及び縮重合反応を進行させることにより行われる。ここで、ゾル−ゲル膜形成用の塗布液に予め触媒を配合すると、塗布液中でゾル−ゲル反応が一部進行し、塗布液の保存安定性が問題となる場合があった。この問題を解決するため、ゾル−ゲル反応触媒として光又は熱により酸を発生する酸発生剤を用いる方法が知られている。酸発生剤は光又は熱エネルギーを与えた後に酸を発生するので、ゾル−ゲル膜形成用の塗布液中ではゾル−ゲル反応を加速することがなく、塗布液の保存安定性を向上させることができる。
例えば特許文献１及び２には、シラン化合物、及びゾル−ゲル反応の触媒として光又は熱酸発生剤を用い、ゾル−ゲル法により形成された層を有する反射防止フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２２９０５号公報
【特許文献２】特開２００７−３０１９７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、酸触媒を用いたゾル−ゲル反応は反応時間が長く、生産性が低い。また、反応時間を短くするために加熱温度を高くすると、フィルムに用いる基材が耐熱温度の高い材料に制限されるなどの問題があった。
【０００５】
また、近年、タブレット端末等の普及により、液晶ディスプレイ等の表示装置を屋内のみならず、屋外で使用するケースが増えてきている。そのため、砂埃の多い屋外でも傷がつきにくい、高硬度な表面保護材を備えた表示装置が求められている。
さらには、従来知られていなかった新しい課題として、タブレット端末やスマートフォンの操作時などに、食品、特に嗜好品由来の油分の付着や、洗剤や化粧品といった生活環境由来の汚染によって表示装置の画像表示部等が傷付きやすくなり、深刻な不具合を生じるという問題がある。画像表示装置の表面に防汚性を付与する方法としては従来、撥水性の有機膜等を設けることが知られているが、汚染物質をはじくなどの防汚性を有するのみでは、表面の傷つきに対する保護性能としては十分なものではなかった。
有機膜と比較して、無機膜は高硬度であるため、無機膜を最表面に有する表面保護材を表示装置の表面に設けることは、前述した砂埃による傷付き防止、及び汚染物質による汚染時の傷付き防止にも有効であると考えられる。
【０００６】
本発明は、砂埃等による耐傷付き性、及び生活環境に由来する汚染時にも耐傷付き性が高い光学フィルムを効率よく製造する方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、ゾル−ゲル法により形成される表面保護層を有する光学フィルムの製造において、該表面保護層の形成に、金属アルコキシド及びその加水分解物から選ばれる少なくとも１種と、特定の光塩基発生剤とを含有する表面保護層形成用組成物を用いることにより上記課題を解決できることを見出した。
すなわち本発明は、基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層と、表面保護層とを順に有する光学フィルムの製造方法であって、該表面保護層が金属アルコキシド及びその加水分解物から選ばれる少なくとも１種と、イオン性光塩基発生剤とを含有する表面保護層形成用組成物の硬化物であり、該表面保護層形成用組成物を前記ハードコート層上に塗布して未硬化組成物層を形成する工程と、該未硬化組成物層に光を照射して塩基を発生させる工程と、該未硬化組成物層を加熱して硬化させる工程とを含む光学フィルムの製造方法に関するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光学フィルムの製造方法によれば、砂埃等による耐傷付き性、及び生活環境に由来する汚染時の耐傷付き性が高い光学フィルムを効率よく製造することができる。得られる光学フィルムは、液晶ディスプレイ等の画像表示装置に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明により製造される光学フィルムの一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明により製造される光学フィルムの一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の光学フィルムの製造方法は、基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層と、表面保護層とを順に有する光学フィルムの製造方法であり、該表面保護層が金属アルコキシド及びその加水分解物から選ばれる少なくとも１種と、イオン性光塩基発生剤とを含有する表面保護層形成用組成物の硬化物であり、該表面保護層形成用組成物を前記ハードコート層上に塗布して未硬化組成物層を形成する工程と、該未硬化組成物層に光を照射して塩基を発生させる工程と、該未硬化組成物層を加熱して硬化させる工程とを含むことを特徴とする。
【００１１】
本発明において、後述する組成物等の溶液中の微粒子の平均粒径とは、該溶液中の微粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を体積累積分布で表した時の５０％粒径（ｄ５０メジアン径）を意味する。当該平均粒径は、日機装（株）製のＭｉｃｒｏｔｒａｃ粒度分析計、又はＮａｎｏｔｒａｃ粒度分析計を用いて測定することができる。
該溶液中における平均粒径は、粒子が凝集しない粒子であれば１次粒径の平均を表すものであり、粒子が凝集粒子である場合は、凝集粒子の分散粒径の平均を表すものである。
また、本発明において、光学フィルムを構成する各層における微粒子の平均粒径は、光学フィルムの断面の電子顕微鏡写真から、一次粒子の大きさを直接計測する方法で求めることができる。具体的には、微粒子の平均粒径は、個々の一次粒子の短軸径と長軸径を測定し、その平均を粒子の粒径として、次に１００個以上の粒子について、個々の粒子の体積を、前記粒径を有する直方体に近似して求めた体積平均粒径を微粒子の平均粒径とするものである。なお、電子顕微鏡は透過型（ＴＥＭ）又は走査型（ＳＥＭ）のいずれを用いても同じ結果を得ることができる。
【００１２】
（光学フィルム）
図１に例示されるように、本発明の製造方法により得られる光学フィルム１０は、基材１の少なくとも一方の面に、少なくともハードコート層２と、表面保護層３とを順に有するものである。光学フィルム１０は、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて他の層を有していてもよい。例えば図２に例示される光学フィルムのように、ハードコート層２と表面保護層３との間に、当該他の層として更に高屈折率層４を有する構成等が挙げられる。
表面保護性能の観点から、光学フィルム１０は表面保護層３を最表面に有することが好ましい。上記光学フィルム１０は、最表面に形成される表面保護層３が後述する特定の表面保護層形成用組成物の硬化物からなる。このことにより、光学フィルム１０は砂埃等による耐傷付き性に優れ、生活環境由来の汚染時の傷付きも少ないものとなる。
ここで、光学フィルムは通常、画像表示装置の最表面に設けられることから、表面保護性能に加えて反射防止性を有することが好ましい。この場合、表面保護層３を光学干渉層として利用する構成とすれば、光学フィルムの反射防止性がより高いものとなる点で好適である。
【００１３】
以下、図１及び図２を用いて、本発明で製造される光学フィルム１０についてより詳細に説明する。図１及び図２は、本発明で製造される光学フィルム１０の一例を示す断面図であり、表面保護層３が光学干渉層としての機能を兼ねる態様のフィルムを、特に「第一の態様の光学フィルム」という。また、第一の態様の光学フィルム以外、すなわち、表面保護層３が光学干渉層として機能しないフィルムを「第二の態様の光学フィルム」という。なお本発明において光学干渉層とは、光の干渉効果を利用することにより反射防止性を付与する層をいう。
表面保護性能に加えて高い反射防止性を有する観点から、本発明の方法で製造される光学フィルムは第一の態様の光学フィルムであることが好ましい。
【００１４】
第一の態様の光学フィルムとしては、図１に例示されるように、基材１の少なくとも一方の面に、少なくともハードコート層２と、表面保護層３とを順に有し、かつ表面保護層３を最表面に有する構成が挙げられる。第一の態様の光学フィルムは、基材１の少なくとも一方の面にハードコート層２と表面保護層３とを順に有していればよく、基材１の両面にそれぞれハードコート層２と表面保護層３とを有していてもよい。
表面保護層３を光学干渉層として利用し、高い反射防止性を付与する観点から、第一の態様の光学フィルムにおいて、表面保護層３の厚みｄは、ｄ＝ｍλ／４ｎを満たすものが好ましい。ここで、ｍは正の奇数を表し、ｎは表面保護層３の屈折率を表し、λは波長を表す。ｍは好ましくは１である。λは好ましくは４５０〜７００ｎｍであり、より好ましくは５００〜６００ｎｍである。
【００１５】
第一の態様の光学フィルムでは、反射防止性付与の観点から、表面保護層３が、隣接する層よりも低屈折率である低屈折率層３１であることが好ましい。本発明において、低屈折率層とは、少なくとも隣接する層よりも屈折率が低い層をいい、高屈折率層とは、少なくとも隣接する層よりも屈折率が高い層をいう。
低屈折率層３１と、該低屈折率層３１に隣接する層との屈折率差は、好ましくは０．１０以上、より好ましくは０．１５以上である。また低屈折率層３１の屈折率は、反射防止性の点から、好ましくは１．４７以下、より好ましくは１．４０以下である。
低屈折率層３１と隣接する層がハードコート層である場合には、ハードコート層が高屈折率微粒子を含む高屈折率ハードコート層２１であることが好ましい。これにより、光学干渉を利用した高い反射防止性を付与できる。高屈折率微粒子については後述する。
【００１６】
また図２に例示されるように、第一の態様の光学フィルムは、基材１の少なくとも一方の面に、ハードコート層２と、高屈折率層４と、表面保護層３とをこの順に有する構成であってもよい。この場合も、表面保護層３を最表面に有することが好ましい。図２の光学フィルムにおける表面保護層３の好ましい厚みｄは前記と同様である。また、反射防止性の観点から、表面保護層３は低屈折率層３１であることが好ましい。
低屈折率層３１を光学干渉層として利用し、高い反射防止性を付与する観点から、図２に例示される光学フィルムでは、低屈折率層３１と隣接する層が高屈折率層４であることが好ましい。
【００１７】
第一の態様の光学フィルムのうち好ましい態様は、図１においてハードコート層２と表面保護層３とが互いに隣接する構成であり、かつハードコート層２の屈折率が表面保護層３の屈折率よりも好ましくは０．１０以上、より好ましくは０．１５以上高いフィルムである。
【００１８】
次に、第二の態様の光学フィルムについて説明する。
第一の態様の光学フィルムは高い反射防止性を有する一方、表面保護層３が光学干渉層としての機能を兼ねるため、前述のように表面保護層３の厚みがある程度限定される。これに対し第二の態様の光学フィルムは表面保護層３が光学干渉層として機能しなくてよいため、厚みを厚くしてもよい。したがって第二の態様の光学フィルムは、第一の態様の光学フィルムよりも反射防止性には劣る反面、表面保護層の硬度が高く、第一の態様よりも更に砂埃等による耐傷付き性に優れ、生活環境由来の汚染時の傷付きも少ない光学フィルムとすることができる。
【００１９】
第二の態様の光学フィルムの好ましい態様は、基材１の少なくとも一方の面に、少なくともハードコート層２と、表面保護層３とを順に有し、かつ表面保護層３を最表面に有する。第二の態様の光学フィルムも、基材１の少なくとも一方の面にハードコート層２と表面保護層３とを順に有していればよく、基材１の両面にそれぞれハードコート層２と表面保護層３とを有していてもよい。砂埃等による耐傷付き性、生活環境由来の汚染時の耐傷付き性を更に向上させる観点から、第二の態様における表面保護層３の厚みは、好ましくは２００ｎｍ以上、より好ましくは３００ｎｍ以上、更に好ましくは４００ｎｍ以上である。また、カール防止の観点からは、表面保護層３の厚みは好ましくは２０００ｎｍ以下、より好ましくは１５００ｎｍ以下、更に好ましくは１２００ｎｍ以下である。
第二の態様の光学フィルムには第一の態様と同程度の反射防止性は付与しなくてよいが、画像表示装置等の最表面に設ける場合には、表面反射をできるだけ少なくし、反射劣化を抑制することが好ましい。この観点からは、第二の態様の光学フィルムにおいても表面保護層３は低屈折率層３１であることが好ましい。
【００２０】
低屈折率層３１の屈折率は、反射防止性の点から、第一の態様の光学フィルムと同様に、好ましくは１．４７以下、より好ましくは１．４０以下である。但し、第二の態様の光学フィルムでは、低屈折率層３１と該低屈折率層３１に隣接する層との界面での反射を抑制する点から、低屈折率層３１と、該低屈折率層３１に隣接する層との屈折率差が少ない方が好ましい。この場合の低屈折率層３１とその隣接層との屈折率差は、好ましくは０．０５以下、より好ましくは０．０３以下である。
すなわち、第二の態様の光学フィルムにおいて低屈折率層３１と隣接する層がハードコート層である場合には、ハードコート層２と低屈折率層３１との屈折率差が、好ましくは０．０５以下、より好ましくは０．０３以下である。ハードコート層２の屈折率は、ハードコート層を構成する材料の種類や配合量を選択することで調整できる。ハードコート層を構成する材料については後述する。
【００２１】
次に、上記光学フィルムを構成する各層及び材料について説明する。
【００２２】
＜基材＞
本発明に用いられる基材は、光透過性の高い基材であることが好ましく、従来公知の光学フィルムに用いられている樹脂基材等を適宜選択して用いることができる。
樹脂基材としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂を主体とするものが挙げられる。中でも、光透過性に優れ、屈折率異方性が小さい点から、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）又はアクリル系樹脂を用いることが好ましく、トリアセチルセルロースがより好ましい。
なお、「主体とする」とは、基材を構成する成分の中で最も含有割合が高いことを示す。また、主体とする成分の含有割合は、通常９０質量％以上であり、本発明の効果が損なわれない限り、添加物等が含まれていてもよいことを意味する。
【００２３】
また、トリアセチルセルロース基材は溶剤浸透性を有する点からも好ましい。
ハードコート層と基材とが隣接し、両者の屈折率が異なる場合には、ハードコート層と基材との界面に由来して界面反射や干渉縞が発生し、画像表示装置用の光学フィルムとして用いた場合に画像の視認性を低下させる場合がある。しかしながらこれらの溶剤浸透性基材にハードコート層形成用組成物を塗布した際、ハードコート層形成用組成物中の有機溶剤や低分子樹脂成分が基材に含浸するので、この状態でハードコート層形成用組成物を硬化させると、ハードコート層と基材との界面付近に浸透層が形成されて界面が不明瞭になる。その結果、ハードコート層と基材とで屈折率が異なる材料を用いた場合でも、界面反射や干渉縞を低減させることができるという効果を有する。
【００２４】
本発明に用いられる基材の全光線透過率は７０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。基材の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光線透過率の試験方法）により測定することができる。
また、本発明に用いられる基材の厚さは特に制限されず、適宜選択して用いることができる。通常、基材の厚さは、１０〜３００μｍであり、取り扱い性、強度及びハードコートフィルムの薄型化の点から、１５〜２００μｍとすることが好ましい。
【００２５】
上記基材には表面処理（例えば、ケン化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を施してもよく、プライマー層（接着剤層）を形成してもよい。本発明における基材とは、これらの表面処理及びプライマー層も含めたものをいう。
【００２６】
＜ハードコート層＞
ハードコート層は、光学フィルムに硬度を付与するために設けられ、光学フィルムに用いられる従来公知のハードコート層を用いることができる。硬度及び各種所望の性能を付与する観点から、ハードコート層は、ハードコート層形成用組成物の硬化物であることが好ましい。
なお、本発明においてハードコート層とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。本発明におけるハードコート層は、鉛筆硬度試験で３Ｈ以上であることが好ましく、４Ｈ以上であることがより好ましい。
【００２７】
≪ハードコート層形成用組成物≫
本発明に用いられるハードコート層形成用組成物としては、硬度、耐熱性、及び各種所望の性能を付与する観点から、熱又は電離放射線により硬化する組成物であることが好ましく、電離放射線硬化性組成物であることがより好ましい。電離放射線としては、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するもの、例えば、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるほか、Ｘ線、γ線等の電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も用いられる。
【００２８】
〔電離放射線硬化性化合物〕
ハードコート層形成用組成物が電離放射線硬化性組成物である場合には、該組成物は、樹脂成分として電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
【００２９】
多官能性（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
【００３０】
また、多官能性（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３１】
電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
【００３２】
〔微粒子〕
ハードコート層形成用組成物は、ハードコート層に硬度を付与するために微粒子を含有してもよい。
ハードコート層に硬度を付与するために用いられる微粒子（以下「高硬度微粒子」ともいう）は、無機微粒子でも有機微粒子でもよいが、高硬度を付与する観点から、無機微粒子であることが好ましい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ（ＳｉＯ2）、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、ジルコニア、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物微粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物微粒子等が挙げられる。その他、金属微粒子、金属硫化物微粒子、金属窒化物微粒子等を用いることもできる。ハードコート層に高硬度を付与する観点からは、シリカ又はアルミナが好ましい。
【００３３】
無機微粒子は、その表面の少なくとも一部に、当該無機微粒子同士、又は多官能の電離放射線硬化性化合物及び表面処理用化合物との間で架橋反応することが可能な光反応性官能基を有することが好ましい（以下、該微粒子を「反応性無機微粒子」ともいう）。反応性無機微粒子同士、又は反応性無機微粒子と多官能の電離放射線硬化性化合物及び表面処理用化合物の間で架橋反応することにより、ハードコートフィルムの硬度を更に向上させることができる。
反応性無機微粒子には、１粒子あたりコアとなる無機微粒子の数が２つ以上のものも含まれる。また、反応性無機微粒子は、粒径を小さくすることにより、ハードコート層のマトリクス内での、含有量あたりの架橋点の数を多くすることができる。
【００３４】
高硬度微粒子の平均粒径は、ハードコート層の厚みや、用いる微粒子の種類に応じて適宜調整すればよいが、通常、５〜１００ｎｍであり、５〜５０ｎｍであることが好ましく、１０〜５０ｎｍであることが好ましく、１０〜３０ｎｍであることがより好ましい。該微粒子は凝集粒子であってもよく、凝集粒子である場合は、二次粒径が上記範囲内であることが好ましい。高硬度微粒子の平均粒径が上記下限値以上であればハードコート層に十分な硬度を付与することができる。また高硬度微粒子の平均粒径が上記上限値以下であれば、ハードコート層は透明性に優れたものとなる。
【００３５】
高硬度微粒子の種類を選択することで、ハードコート層への硬度付与に加えて、屈折率の調節、帯電防止性等の各種機能を更に付与することもできる。
このうち、屈折率調節用の微粒子としては、低屈折率微粒子、高屈折率微粒子が挙げられる。本発明において低屈折率微粒子とは、屈折率が１．５０未満の微粒子をいい、屈折率１．４６以下であることが好ましい。また高屈折率微粒子とは、屈折率が１．５０以上の微粒子をいい、屈折率１．５０〜２．８０であることが好ましい。
【００３６】
ハードコート層形成用組成物が前記第一の態様の光学フィルムに用いるものである場合には、該ハードコート層形成用組成物は高屈折率微粒子を含むことが好ましい。高屈折率微粒子を含むハードコート層形成用組成物を用いることで、図１の光学フィルムにおけるハードコート層２を高屈折率ハードコート層２１とすることができる。更に高屈折率ハードコート層２１に隣接して所定の厚みの表面保護層３（低屈折率層３１）を積層することで、光学干渉を利用した高い反射防止性を有するフィルムとすることができる。
上記高屈折率微粒子としては、ハードコート層に高屈折率及び高硬度の両方を付与できる観点から高屈折無機微粒子が好ましく、例えば屈折率が１．５０以上の金属酸化物微粒子等が挙げられる。
高屈折率微粒子として用いられる金属酸化物微粒子の具体例としては、例えば、チタニア（ＴｉＯ2、屈折率：２．７１）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2、屈折率：２．１０）、酸化セリウム（ＣｅＯ2、屈折率：２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ2、屈折率：２．００）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．９５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、五酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ5、屈折率：２．０４）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）及びアンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ2Ｏ6、屈折率：１．９０〜２．００）等が挙げられる。また、上記金属酸化物を表面コーティングした微粒子を用いることもできる。
上記は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３７】
ハードコート層の透明性及び硬度を保持する観点から、高屈折率微粒子の平均粒径は、前述の高硬度微粒子と同様、通常５〜１００ｎｍであり、５〜５０ｎｍであることが好ましく、１０〜５０ｎｍであることが好ましく、１０〜３０ｎｍであることがより好ましい。
【００３８】
また、低屈折率微粒子としては、ハードコート層に低屈折率及び高硬度の両方を付与できる観点から、屈折率が１．５０未満の無機微粒子が好ましく、例えばシリカ（ＳｉＯ2）、氷晶石（Ｎａ3ＡｌＦ6）等が挙げられる。
ハードコート層の透明性及び硬度を保持する観点から、低屈折率微粒子の平均粒径は前述の高硬度微粒子と同様、通常５〜１００ｎｍであり、５〜５０ｎｍであることが好ましく、１０〜５０ｎｍであることが好ましく、１０〜３０ｎｍであることがより好ましい。
【００３９】
〔その他の成分〕
ハードコート層形成用組成物は、必要に応じて、更に、機能性付与を目的として防眩剤や防汚剤、帯電防止剤等、塗布性向上を目的としてレベリング剤等、ブロッキング防止を目的として易滑剤等、その他の成分を含んでいてもよい。
【００４０】
ハードコート層形成用組成物は、更に溶剤を含有してもよい。溶剤は、ハードコート層形成用組成物中の各成分と反応せず、当該各成分を溶解又は分散し得る溶剤の中から適宜選択して用いればよい。例えば、イソプロピルアルコール、エタノール等のアルコール系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶剤；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；及びこれらの混合溶剤が挙げられる。上記溶剤の中でも、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、又はこれらの混合溶剤を用いるのが好ましい。
【００４１】
ハードコート層形成用組成物中の前記電離放射線硬化性化合物の含有量は、通常、ハードコート層形成用組成物の全固形分に対して、前記微粒子を含有する場合には３０〜９５質量％であることが好ましく、４５〜９０質量％であることがより好ましく、６０〜９０質量％であることが更に好ましい。また、前記微粒子を含有しない場合には、７０〜１００質量％であることが好ましい。なお、本発明において、組成物の全固形分とは、組成物中の溶剤以外の全成分をいう。
また、光重合開始剤を用いる場合、その含有量は、通常、電離放射線硬化性化合物１００質量部に対して１〜２０質量部であり、２〜１５質量部であることが好ましく、４〜１０質量部であることがより好ましい。
【００４２】
ハードコート層形成用組成物が前記微粒子を含有する場合には、その総含有量は、ハードコート層形成用組成物の全固形分に対して５〜７０質量％であることが好ましく、１０〜５５質量％であることがより好ましい。含有量が５質量％以上であれば、ハードコート層に十分な硬度を付与することができる。また７０質量％以下であれば、ハードコート層が脆くなることによる硬度低下のおそれがない。
微粒子が屈折率調節用微粒子である場合も、ハードコート層の硬度の点から、ハードコート層形成用組成物中の微粒子の総含有量が上記範囲となることが好ましい。かつ、所望の屈折率を得る観点からは、ハードコート層形成用組成物の全固形分に対して１０〜４０質量％であることが更に好ましい。
【００４３】
ハードコート層形成用組成物の固形分濃度（組成物の全質量に対する全固形分の質量の割合）は、塗工性の点から、１０〜６０質量％であることが好ましく、２０〜５０質量％であることがより好ましい。
【００４４】
＜ハードコート層の形成方法＞
ハードコート層は、前記基材上にハードコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成し、必要に応じて乾燥工程を行った後、硬化させることにより形成できる。
ハードコート層形成用組成物を塗布する方法は、所望の厚みに均一に塗布できる方法であればよく、従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。例えば、グラビアコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法が挙げられる。
【００４５】
なお、ハードコート層と基材とが隣接し、両者の屈折率が異なる場合には、ハードコート層と基材との界面に由来して界面反射や干渉縞が発生し、画像表示装置用の光学フィルムとして用いた場合に画像の視認性を低下させる場合がある。この対策としては、前述のように基材としてトリアセチルセルロース基材等の溶剤浸透性基材を用いて、ハードコート層と基材との界面に含浸層を形成すること、あるいは、ハードコート層形成用組成物に配合する樹脂成分や微粒子の種類、量を選択してハードコート層と基材との屈折率差を少なくすること等が挙げられる。
その他、低屈折率微粒子又は高屈折率微粒子を含有するハードコート層を形成する場合には、当該ハードコート層中の微粒子がハードコート層の厚み方向に濃度勾配を生じるように、ハードコート層形成用組成物を塗布、及び乾燥することが好ましい。例えばハードコート層が高屈折率微粒子を含有し、かつ基材よりも高屈折率である場合には、ハードコート層の厚み方向において、基材側の高屈折微粒子の濃度が低くなるように濃度勾配を生じさせる。ハードコート層が高屈折率微粒子を含有し、かつ基材よりも低屈折率である場合には、ハードコート層の厚み方向において、基材側の高屈折微粒子の濃度が高くなるように濃度勾配を生じさせる。また、低屈折率微粒子、高屈折率微粒子等の微粒子を含有するハードコート層を形成する場合には、当該ハードコート層と基材との界面付近、あるいは前記溶剤浸透性基材を用いた場合には含浸層との界面において微粒子の一部が含浸されるように、ハードコート層形成用組成物を塗布、乾燥する方法を採用してもよい。
以上のような方法によりハードコート層の基材との屈折率差を減少させ、ハードコート層と基材との界面に由来して生じる干渉縞を低減させることができる。
【００４６】
次いで、必要に応じて乾燥工程を行った後、上記塗布層を硬化させる。ハードコート層形成用組成物が電離放射線硬化性組成物である場合には、電子線、紫外線等の電離放射線を照射して上記塗布層を硬化させる。電離放射線として電子線を用いる場合、その加速電圧については、用いる樹脂や層の厚みに応じて適宜選定できるが、通常は加速電圧７０〜３００ｋＶ程度で塗布層を硬化させることが好ましい。
電離放射線として紫外線を用いる場合には、通常、波長１９０〜３８０ｎｍの紫外線を含むものを放射する。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀燈、低圧水銀燈、メタルハライドランプ、カーボンアーク燈等が用いられる。
【００４７】
ハードコート層の厚み（硬化時）は、上記基材の強度や要求性能に応じて適宜選択することができ、通常０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍである。また、十分な硬度を発現させ、カールやクラックの発生を抑制する点から、より好ましくは３〜２０μｍの範囲である。
【００４８】
＜表面保護層＞
本発明において、表面保護層は、金属アルコキシド及びその加水分解物から選ばれる少なくとも１種（以下、「金属アルコキシド等」ともいう）と、イオン性光塩基発生剤とを含有する表面保護層形成用組成物の硬化物からなる。該硬化物は、金属アルコキシド及びその加水分解物のゾル−ゲル反応により得られ、無機材料を主成分とする層である。また、該ゾル−ゲル反応はイオン性光塩基発生剤から発生する塩基により触媒されるため、酸触媒を用いた場合よりも反応が速く、その結果、高度に架橋された緻密な層が得られていると考えられる。したがって、より高硬度で、砂埃等による耐傷付き性及び生活環境由来の汚染時の耐傷付き性にも優れた表面保護層となる。
【００４９】
≪表面保護層形成用組成物≫
上記表面保護層形成用組成物は、少なくとも、金属アルコキシド及びその加水分解物から選ばれる少なくとも１種（以下「金属アルコキシド等」ともいう）と、イオン性光塩基発生剤とを含有するものである。また本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて他の成分を含有してもよい。
【００５０】
〔金属アルコキシド等〕
表面保護層形成用組成物には、金属アルコキシド及びその加水分解物から選ばれる少なくとも１種が用いられる。金属アルコキシド等のゾル−ゲル反応により無機材料を主成分とした層を形成することができるので、砂埃等による耐傷付き性、及び生活環境由来の汚染時の耐傷付き性が高い表面保護層を得ることができる。
金属アルコキシドは、加水分解性を有するものの中から適宜選択して用いることができ、例えば下記一般式（Ａ）で表されるものが挙げられる。
（Ｒx）nＭ（ＯＲY）(m-n)    ・・・（Ａ）
（一般式（Ａ）中、Ｍは金属原子である。Ｒxは炭素数１〜８の有機基を表す。ＲYは、炭素数１〜１２のアルキル基を表し、ｍは金属原子Ｍの価数であり、ｎは０以上、ｍ以下の整数である。Ｒx及びＲYが複数ある場合、複数あるＲx、及び複数あるＲYは、互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【００５１】
本発明において有機基とは、炭素原子を１個以上有する基をいう。Ｒxにおける有機基としては、アルキル基又はフェニル基であることが好ましく、該アルキル基及びフェニル基は、更に置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。また、上記アルキル基は二重結合を有していてもよい。
ＲYは、炭素数１〜１２のアルキル基を表し、当該アルキル基中の水素原子が、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子に置換されていてもよい。
表面保護層の屈折率を低くする観点からは、上記アルキル基中の水素原子がフッ素原子に置換されていることが好ましい。一方、表面保護層の硬度を向上する点からは、上記アルキル基中の水素原子はハロゲン原子に置換されていないことが好ましい。
また、表面保護層の硬度を向上する点から、ＲYは炭素数１〜８であることが好ましく、１〜５であることがより好ましい。
一般式（Ａ）において、表面保護層の硬度を向上させ、砂埃等による耐傷付き性、及び生活環境由来の汚染時の耐傷付き性を向上する観点から、ｎは０又は１であることが好ましく、０であることがより好ましい。また、金属アルコキシドにおける金属原子Ｍは、好ましくは珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、バナジウム、亜鉛、ストロンチウム、インジウム、スズ、タンタル、タングステン、タリウム、アンチモン、及びセリウムから選ばれる１種以上である。表面保護層の砂埃等による耐傷付き性、及び生活環境由来の汚染時の耐傷付き性を向上する観点、かつ低屈折率性の観点からは、Ｍは珪素であることが好ましい。また、表面保護層の砂埃等による耐傷付き性、及び生活環境由来の汚染時の耐傷付き性を向上する観点、かつ高屈折率性の観点からは、Ｍはジルコニウム又はチタンが好ましい。
【００５２】
前記一般式（Ａ）における金属原子Ｍが珪素である場合、金属アルコキシドはアルコキシシランである。アルコキシシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
上記アルコキシシランのうち、表面保護層の砂埃等による耐傷付き性、及び生活環境由来の汚染時の耐傷付き性を向上する観点、及び反応性の点から、前記一般式（Ａ）におけるｎが０である、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン及びテトラブトキシシランから選ばれる１種以上が好ましく、テトラエトキシシランがより好ましい。
【００５３】
〔イオン性光塩基発生剤〕
表面保護層形成用組成物は、金属アルコキシド及びその加水分解物のゾル−ゲル反応の触媒として、イオン性光塩基発生剤を含有する。本発明においてイオン性光塩基発生剤とは、光照射により塩基を発生する性質を有する、酸性化合物と塩基性化合物との塩をいう。塩基発生時に照射する光は、波長１９０〜３８０ｎｍの紫外線を含むことが好ましい。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀燈、低圧水銀燈、メタルハライドランプ、カーボンアーク燈等が用いられる。
イオン性光塩基発生剤を用いると、ゾル−ゲル反応の直前又は同時に塩基を発生させることができるため、表面保護層形成用組成物を調製した直後にゲル化する等の不具合を回避し、該組成物の保存安定性を向上させることができる。
なお、イオン性を有さない光塩基発生剤は、表面保護層形成用組成物、及び該組成物に通常主溶剤として含まれる低級アルコール溶剤への溶解性が低いため、表面保護層形成用組成物の取り扱い性、均一塗布性等の点で本発明には適さない。
【００５４】
酸性化合物と塩基性化合物との塩であるイオン性光塩基発生剤において、該酸性化合物としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましく挙げられる。
【００５５】
【化１】
2015028540.tif 000003
【００５６】
（式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、又は炭素数６〜８のアリール基を示す。Ｒ3〜Ｒ7は、それぞれ独立に水素原子、水酸基、又は有機基を示す。Ｒ1〜Ｒ7のうちの２つが、互いに結合して環を形成していてもよい。）
また、塩基発生効率の観点から、上記一般式（１）中、Ｒ3〜Ｒ7のうちの１つが下記一般式（２）で表される基であることが好ましい。
【００５７】
【化２】
2015028540.tif 000004
【００５８】
（式中、Ｒ8〜Ｒ12は、それぞれ独立に水素原子又は有機基を示す。Ｒ8〜Ｒ12のうちの２つが、互いに結合して環を形成していてもよい。）
【００５９】
ここで、上記一般式（１）で表される酸性化合物と塩基性化合物との塩であるイオン性光塩基発生剤は、下記一般式（Ｘ）で表される。該イオン性光塩基発生剤は、前記酸性化合物と塩基性化合物とを混合するだけで以下のような酸塩基反応が進行し、複雑な合成経路を経ることなく簡単に調製することができるものである。
【００６０】
【化３】
2015028540.tif 000005
【００６１】
（上記式中、Ｒ1〜Ｒ7は前記と同じである。Ｚは塩基性化合物を示す。）
一般式（Ｘ）で表されるイオン性光塩基発生剤は、光を照射すると下記式で表される反応が進行し、容易に脱炭酸する。そのため量子収率が極めて高く、短時間かつ少量の光照射で充分な量の塩基を発生させることができる。
【００６２】
【化４】
2015028540.tif 000006
【００６３】
（上記式中、Ｒ1〜Ｒ7は前記と同じである。Ｚは塩基性化合物を示す。）
【００６４】
前記一般式（１）で表される酸性化合物の具体例としては、フェニル酢酸、ジフェニル酢酸、トリフェニル酢酸、２−フェニルプロピオン酸、２，２−ジフェニルプロピオン酸、２−フェニル酪酸、α−メトキシフェニル酢酸、マンデル酸、３−メチル−２−フェニル酪酸、２−（４−イソブチルフェニル）プロピオン酸、２−メトキシフェニル酢酸、３−メトキシフェニル酢酸、４−メトキシフェニル酢酸、２−ヒドロキシフェニル酢酸、３−ヒドロキシフェニル酢酸、４−ヒドロキシフェニル酢酸、３，４−ジメトキシフェニル酢酸、３，４−（メチレンジオキシ）フェニル酢酸、２，５−ジメトキシフェニル酢酸、３，５−ジメトキシフェニル酢酸、３，４，５−トリメトキシフェニル酢酸、２，４−ジニトロフェニル酢酸、４−ビフェニル酢酸、２−（３−ベンゾイルフェニル）プロピオン酸、１−ナフタレン酢酸、２−ナフタレン酢酸、６−メトキシ−α−メチル−２−ナフタレン酢酸等が挙げられる。
上記のうち、塩基発生効率の観点から、イオン性光塩基発生剤に用いる酸性化合物は２−（３−ベンゾイルフェニル）プロピオン酸であることがより好ましい。
【００６５】
イオン性光塩基発生剤に用いられる塩基性化合物は特に限定されない。例えば、アミン化合物、ピリジル基を含有する化合物、ヒドラジン化合物、アミド化合物、水酸化四級アンモニウム塩、メルカプト化合物、スルフィド化合物又はホスフィン化合物等が挙げられる。塩基性の観点からは、上記のうち、アミン化合物が好ましい。
上記アミンは特に限定されず、一級アミン、二級アミン及び三級アミンのいずれも用いることができるが、塩基性の観点から、ピロリジン、ピペリジン、シクロへキシルアミン、ジシクロへキシルアミン、イミダゾール、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、グアニジン、１，５，７−トリアザビシクロ［４．４．０］デカ−５−エン、及び下記一般式（３）〜（４）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種であることがより好ましい。
【００６６】
【化５】
2015028540.tif 000007
【００６７】
（式中、Ｒ13は単結合、又は炭素数１〜１０のアルキレン基を示し、Ｒ14は炭素数１〜１０のアルキレン基を示す。）
上記塩基性化合物のうち、シクロへキシルアミン、ジシクロへキシルアミン、及びグアニジンから選ばれる１種以上が更に好ましい。
【００６８】
なお、本発明に用いられるイオン性光塩基発生剤は、下記式（Ａ−１）〜（Ａ−３）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種であることが特に好ましい。
【００６９】
【化６】
2015028540.tif 000008
【００７０】
本発明に用いられるイオン性光塩基発生剤の市販品としては、和光純薬工業（株）のＷＰＢＧシリーズ「ＷＰＢＧ−０８２」（上記（Ａ−１）の化合物）、「ＷＰＢＧ−１６７」（上記（Ａ−２）の化合物）、「ＷＰＢＧ−１６８」（上記（Ａ−３）の化合物）等が挙げられる。
【００７１】
〔微粒子〕
表面保護層形成用組成物は、硬度を付与するため、及び屈折率を調節するため、更には各種機能を付与するために、微粒子を含有してもよい。該微粒子としては中実微粒子及び中空微粒子が挙げられ、所望の機能に応じて適宜選択することができる。
表面保護層の硬度を向上させ、かつ表面保護層形成時の硬化収縮を抑制して表面の凹凸を少なくし、砂埃等の耐傷付き性及び生活環境由来の汚染時の耐傷付き性を付与する観点から、表面保護層３は無機中実微粒子を含むことが好ましい。また、表面保護層３を低屈折率層３１とする場合等、表面保護層を低屈折率化する観点からは、表面保護層３は更に中空微粒子を含むことが好ましい。
【００７２】
〔無機中実微粒子〕
無機中実微粒子は、表面保護層の硬度を向上させ、かつ表面保護層形成時の硬化収縮を抑制して表面の凹凸を少なくし、砂埃等の耐傷付き性及び生活環境由来の汚染時の耐傷付き性を付与する観点から好ましく用いられる。
金属アルコキシド等をゾル−ゲル法により硬化させて得られた表面保護層は、無機中実微粒子を混合することにより硬度を付与し、かつ金属アルコキシド等の配合量を少なくすることができるため表面保護層形成時の硬化収縮も抑えられる。その結果、硬化収縮による膜のひび割れや凹凸が生じにくいので、表面の凹凸が少なく、高硬度を有する表面保護層を得ることができると考えられる。
【００７３】
本発明において無機中実微粒子とは、空隙を有しない無機微粒子をいう。当該無機中実微粒子は、内部が多孔質でも空洞でもないため、前記中空微粒子に比べて外部から粒子にかかる圧力（外圧）で潰れにくく、耐圧性に優れる。
上記無機中実微粒子は空隙を有しないため、屈折率は中空微粒子よりも高い。例えば無機中実微粒子がシリカ粒子の場合、その屈折率は好ましくは１．４２〜１．４６である。無機中実微粒子は非結晶状態であってもよく、結晶状態であってもよい。
【００７４】
無機中実微粒子としては、従来公知の反射防止フィルムやハードコートフィルム等に用いられている無機中実微粒子を用いることができる。例えば、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物及び金属フッ化物等が挙げられる。表面保護層を低屈折率にし、硬度を得る観点からは、シリカ微粒子が好ましい。
中実シリカ微粒子の形状は、略球状、鎖状、針状、板状、片状、棒状、繊維状のいずれであってもよい。表面保護層の硬度を向上させる点からは、略球状又は鎖状であることが好ましく、楕円球状シリカ微粒子又は鎖状シリカ微粒子であることがより好ましい。
また、表面保護層の硬度を向上させる点から、中実シリカ微粒子が、平均粒径が１〜１００ｎｍの略球状のシリカ微粒子３〜２０個が無機の化学結合により結合した異形シリカ微粒子であることがより好ましい。このような異形シリカ微粒子としては、例えば、日揮触媒化成（株）製「Ｖ−８８０３」等の市販品を用いることができる。
【００７５】
無機中実微粒子の平均粒径は、好ましくは１〜１００ｎｍ、より好ましくは１０〜７０ｎｍである。平均粒径が上記上限値以下であれば、得られる表面保護層は透明性に優れる。また、平均粒径が上記下限値以上であれば、高硬度の表面保護層となる。
【００７６】
〔中空微粒子〕
中空微粒子は、表面保護層を低屈折率にすることで表面反射率を低減させる場合に好ましく用いられる。
本発明において中空微粒子とは、外殻層に囲まれた内部が多孔質又は空洞であり、粒子内部に空気を含む粒子をいう。当該中空微粒子の屈折率としては、低屈折率性を付与する点から、好ましくは１．２０以上、１．４４以下であり、１．４０以下であることがより好ましい。
【００７７】
上記中空微粒子の外殻層は、無機物であっても有機物であってもよく、例えば、金属、金属酸化物、樹脂からなるものが挙げられる。表面保護層の硬度を向上させる観点からは無機物であることが好ましく、シリカがより好ましい。外殻層がシリカである場合、当該シリカは結晶性シリカ、アモルファスシリカのいずれであってもよい。
また、中空微粒子の形状は、略球状、鎖状、針状、板状、片状、棒状、繊維状等のいずれであってもよい。中でも、耐圧性を有しつつ空隙率を高くできることから、略球状であることが好ましく、楕円球状又は真球状であることがより好ましい。
なお、本発明において、略球状とは、楕円球状や、多面体をも含めた球体に近似できる形状を意味し、真球状も包含する概念である。
【００７８】
中空微粒子の平均粒径は、好ましくは１〜１００ｎｍであり、より好ましくは３０〜８０ｎｍである。平均粒径が上記上限値以下であれば、表面保護層は透明性に優れる。また、平均粒径が上記下限値以上であれば、当該中空微粒子を均一に分散しやすく、低屈折率性を付与しやすい。
【００７９】
本発明においては、平均粒径の異なる２種類以上の中空シリカ微粒子を組み合わせて用いてもよい。このような平均粒径の異なる２種類以上の中空シリカ微粒子を用いる場合、各中空シリカ微粒子は粒径が揃っていることが好ましく、具体的には、粒径の標準偏差が平均粒径の２０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。中空微粒子を添加すると通常は硬度が低下しやすいが、粒径にばらつきの少なく平均粒径が異なる２種類以上の中空シリカ微粒子を組み合わせて用いると、低屈折率化を達成しつつ、硬度低下を抑えることができる。
また、本発明において用いる中空シリカ微粒子は、金属アルコキシド等との反応性の点から、特に表面処理を施していないものであることが好ましい。シランカップリング剤等による表面処理を施していない中空シリカ微粒子は表面に水酸基を多く有するため、金属アルコキシド等との反応性が高い。
【００８０】
中空微粒子の具体例としては、特開平７−１３３１０５号公報、特開２００１−２３３６１１号公報等に開示された複合酸化物ゾルまたは中空シリカ微粒子が挙げられる。中でも、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製した中空シリカ微粒子が好ましい。
【００８１】
中空微粒子は、前述の無機中実微粒子と組み合わせて用いることが好ましい。これにより、表面保護層を低屈折率化しつつ硬度を付与することができる。この場合、表面保護層形成用組成物中の中空微粒子と無機中実微粒子の質量比は、中空微粒子１００質量部に対して、無機中実微粒子が５〜１００質量部であることが好ましく、１０〜７０質量部であることがより好ましく、２０〜５０質量部であることが更に好ましい。上記下限値以上であれば、表面保護層の硬度が特に優れるものとなる。一方、上記上限値以下であれば、表面保護層の屈折率を低下させやすい。
また、中空微粒子と、無機中実微粒子の平均粒径の比は、中空微粒子の平均一次粒径を１としたときに、無機中実微粒子の平均粒径が０．１〜１０であることが好ましく、０．２〜５であることがより好ましく、０．５〜２であることが更に好ましい。
【００８２】
〔溶剤〕
表面保護層形成用組成物は、塗布性向上の観点から、通常、溶剤を含有する。表面保護層形成用組成物に用いられる溶剤としては、表面保護層形成用組成物中の各成分と反応せず、当該各成分を均一に溶解ないし分散できること、及び塗布後のレベリング性、速乾性の観点から、アルコール系溶剤が好ましく、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロピルアルコール等の、炭素数１〜４の低級アルコール類が主成分であることがより好ましい。「主成分」とは、溶剤の全量に対する炭素数１〜４の低級アルコール類の量が好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上、更に好ましくは８０〜１００質量％であることを意味する。
その他、表面保護層形成用組成物の塗布性を阻害しない範囲で、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤等を更に含有してもよい。
上記溶剤は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８３】
〔その他の成分〕
表面保護層形成用組成物には、上記成分のほかに、更に、凝集防止効果及び沈降防止効果、その他、レベリング性などの特性の向上のため、各種界面活性剤を用いることができる。界面活性剤としては、シリコーンオイル、フッ素系界面活性剤、好ましくはパーフロロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤などが挙げられる。また、界面活性剤は形成される層の緻密さの観点から、表面保護層の内部に残りにくくブリードアウトしやすいものが好ましい。
さらに、表面保護層形成用組成物には、必要に応じて、帯電防止剤、防汚剤、着色剤（顔料、染料）、難燃剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、酸化防止剤、表面改質剤、アンチブロッキング剤などを添加することができる。
【００８４】
表面保護層形成用組成物中の金属アルコキシド等の合計の含有量は、表面保護層形成用組成物の固形分全量に対して、２０〜９９．９５質量％であることが好ましく、２０〜７０質量％であることがより好ましく、３０〜６０質量％であることが更に好ましい。上記範囲内であれば表面保護層が高硬度のものとなる。
イオン性光塩基発生剤の含有量は、ゾル−ゲル反応を促進させる観点から、金属アルコキシド等の合計量１００質量部に対し、０．０５〜１０質量部であることが好ましく、０．１〜５質量部であることがより好ましい。
【００８５】
無機中実微粒子を用いる場合には、その含有量は、表面保護層形成用組成物の固形分全量に対して、１〜８０質量％であることが好ましく、１０〜５０質量％であることがより好ましい。上記下限値以上であれば硬度を付与しやすいため、かつ表面保護層形成時の硬化収縮を抑制して表面の凹凸を少なくし、砂埃等の耐傷付き性及び生活環境由来の汚染時の耐傷付き性を付与できる。また、上記上限値以下であれば表面保護層が脆くなることによる硬度低下を防止できる。
また、中空微粒子を用いる場合には、その含有量は、表面保護層形成用組成物の固形分全量に対して、２０〜６０質量％であることが好ましく、３０〜５０質量％であることがより好ましい。上記下限値以上であれば低屈折率性を付与しやすく、上記上限値以下であれば表面保護層が脆くなることによる硬度低下を防止できる。
また、無機中実微粒子と中空微粒子の合計量は、表面保護層が脆くなることによる硬度低下防止の点から、表面保護層形成用組成物の全量に対して、８０質量％以下であることが好ましい。
また、溶剤の含有量は、表面保護層形成用組成物の全量に対して、６０〜９９質量％であることが好ましく、８０〜９８質量％であることがより好ましい。
【００８６】
＜高屈折率層＞
本発明における光学フィルム１０のうち、第一の態様の光学フィルムは、図２に例示されるように基材１の少なくとも一方の面に、ハードコート層２と、高屈折率層４と、表面保護層３とをこの順に有する構成であってもよい。高屈折率層４は少なくとも表面保護層３よりも屈折率が高い層であり、通常はハードコート層２と表面保護層３との間に、表面保護層３と隣接して設けられる。このような構成を有する第一の態様の光学フィルムは、高い反射防止性を有するものとなる。
【００８７】
高屈折率層は、通常、高屈折率微粒子を含有する高屈折率層形成用組成物を用いて形成され、該高屈折率層形成用組成物の硬化物であることが好ましい。高屈折率層形成用組成物に用いられる各成分は、前記ハードコート層形成用組成物において説明したものと同様のもの、もしくは前記表面保護層形成用組成物において、金属アルコキシド等における金属がジルコニウムやチタン等の高屈折率のゾル−ゲル材料であるもの等が好ましい。これらの高屈折率層は、前記ハードコート層あるいは表面保護層と同様の方法により形成することができる。
高屈折率層の屈折率は、適宜設定すればよいものであるが、通常１．５０〜２．８０である。
【００８８】
高屈折率層の厚みは、第一の態様の光学フィルムにおいて光学干渉を利用した高い反射防止性を付与する観点から、ｍ1λ1／４ｎ1〜ｍ1λ1／２ｎ1の範囲であることが好ましい。ここで、ｍ1は正の奇数を表し、ｎ1は高屈折率層４の屈折率を表し、λ1は波長を表す。ｍ1は好ましくは１であり、λ1は好ましくは４５０〜７００ｎｍである。
【００８９】
［光学フィルムの製造方法］
本発明の光学フィルムの製造方法は、基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層と、表面保護層とを順に有する光学フィルムの製造に係るものであり、前記表面保護層形成用組成物をハードコート層上に塗布して未硬化組成物層を形成する工程と、該未硬化組成物層に光を照射して塩基を発生させる工程と、該未硬化組成物層を加熱して硬化させる工程とを含むものである。
基材、ハードコート層、表面保護層、並びにハードコート層の形成方法については前述の通りである。
【００９０】
本発明の光学フィルムの製造方法では、金属アルコキシド及びその加水分解物から選ばれる少なくとも１種と、イオン性光塩基発生剤とを含有する表面保護層形成用組成物を塗布して未硬化組成物層を形成した後に、該未硬化組成物層に光を照射して、イオン性光塩基発生剤から塩基を発生させる。そして、このイオン性光塩基発生剤から発生した塩基が金属アルコキシド及びその加水分解物のゾル−ゲル反応を触媒する。したがって、本発明ではゾル−ゲル反応の直前又は同時に反応系内で塩基を発生させるため、表面保護層形成用組成物を調製した直後にゲル化するなどの不具合を回避し、組成物の保存安定性を向上させることができる。
またゾル−ゲル反応において塩基性触媒を用いると、酸触媒よりも反応の進行が速いため、表面保護層形成時の加熱温度を低くすることができ、かつ、高度に架橋された膜が得られる。その結果、より高硬度で、砂埃等による耐傷付き性や生活環境に由来する汚染時の耐傷付き性に優れる表面保護層を形成することができる。
【００９１】
本発明の光学フィルムの製造方法では、まず、前述のように基材の少なくとも一方の面にハードコート層を形成した後、該ハードコート層上に表面保護層形成用組成物を塗布して未硬化組成物層を形成する。
表面保護層形成用組成物を塗布する方法は、表面保護層形成用組成物を所望の厚みに均一に塗布できる方法であればよく、従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。例えば、グラビアコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法等が挙げられる。
なお、ハードコート層上に前述した高屈折率層等の任意の層を有している場合には、表面保護層形成用組成物は該任意の層上に塗布する。
【００９２】
次に、上記未硬化組成物層に光を照射して、該未硬化組成物層に含まれるイオン性光塩基発生剤から塩基を発生させる工程（以下、「塩基発生工程」ともいう）を行う。発生した塩基は、未硬化組成物層に含まれる金属アルコキシド及びその加水分解物のゾル−ゲル反応を加速する塩基触媒として作用する。
照射する光の光源、及び照射量は、イオン性光塩基発生剤の吸収波長及び吸収強度に応じて適宜選択すればよいが、照射する光は、波長１９０〜３８０ｎｍの紫外線を含むことが好ましい。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀燈、低圧水銀燈、メタルハライドランプ、カーボンアーク燈等が用いられる。また、光の照射量としては、一般に１０〜２０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲である。
【００９３】
また、本発明の光学フィルムの製造方法は、上記未硬化組成物層を加熱して硬化させる工程（以下「加熱工程」ともいう）を含む。該加熱工程は、塩基発生工程と同時に行ってもよく、塩基発生工程の前又は後のいずれの段階で行ってもよいが、塩基発生工程と同時か、塩基発生工程の前に行うことが好ましい。加熱工程を行うことにより未硬化組成物層に含まれる金属アルコキシド及びその加水分解物のゾル−ゲル反応が前記塩基触媒下にて進行し、未硬化組成物層が硬化して、ハードコート層上に表面保護層が形成される。
未硬化組成物層の加熱温度は、ゾル−ゲル反応を加速する観点、及び光学フィルムを構成する基材やハードコート層の耐熱性の観点から、好ましくは７０〜１５０℃であり、より好ましくは８０〜１００℃である。このように本発明では、比較的低い加熱温度でも効率よく反応を進行させることができる。
また、加熱時間は、生産性の観点から、好ましくは０．５〜５分、より好ましくは１〜３分である。
【００９４】
上記製造方法によれば、砂埃等による耐傷付き性、及び生活環境に由来する汚染時の耐傷付き性に優れる光学フィルムを効率よく製造することができる。また上記製造方法により得られた光学フィルムは、液晶ディスプレイ等の画像表示装置用の表面保護フィルムや反射防止フィルムとして好適に用いられる。
【実施例】
【００９５】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、実施例に記載の形態に限定されるものではない。
実施例及び比較例の光学フィルムの評価は以下のようにして行った。
【００９６】
＜落砂試験（非汚染時）＞
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの透過率を紫外可視分光光度計（（株）島津製作所製、ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて測定した（落砂試験前の透過率）。
次に、上記光学フィルムの表面保護層側が上面となるように、水平面に対して４５度の傾斜角度で配置し、当該光学フィルムから１ｍの高さより、当該光学フィルムに向かって砂を落下させた。その後、光学フィルムを洗浄し、上記と同様にして落砂試験後の透過率を測定した。
落砂試験後の透過率と落砂試験前の透過率との差を求めることにより、光学フィルムの硬度を評価した。落砂試験前後の透過率の差が小さいほど光学フィルムの硬度が高いことを示す。
なお、落砂試験に用いた砂は、黒色炭化ケイ素インゴット及び緑色炭化ケイ素インゴットを粉砕、分級して製造されたカーボランダムであり、この試験では、中心粒径が６００〜８５０μｍのカーボランダム＃２４を８００ｃｍ3使用した。
【００９７】
＜落砂試験（汚染時）＞
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの透過率を紫外可視分光光度計（（株）島津製作所製、ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて測定した（落砂試験前の透過率）。次に、上記光学フィルムの表面保護層側に、食器用洗剤（ファミリーフレッシュ、花王株式会社製）、サラダ油（日清サラダ油、日清オイリオ製）、乳液（ＳＫ−IIスキンシグネチャー、マックスファクター製）、日焼けオイル（Ｄａｒｋ  Ｔａｎｎｉｎｇ  Ｏｉｌ、ＨＡＷＡＩＩ  ＴＲＯＰＩＣ製）をそれぞれ塗布し、前記と同様にして落砂試験評価を行った。
【００９８】
＜屈折率＞
ハードコート層の屈折率は、紫外可視分光光度計（（株）島津製作所製、ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて、温度２３℃、波長５５０ｎｍにてハードコート層の反射率Ｒを測定し、下記式から算出した。
Ｒ＝（ｎ0−ｎ1）2／（ｎ0＋ｎ1）2
ｎ0；空気の屈折率
ｎ1；ハードコート層の屈折率
また、実施例及び比較例で得られた光学フィルムの表面保護層の屈折率は、紫外可視分光光度計（（株）島津製作所製、ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて表面保護層の反射スペクトル（分光反射率）を測定し、得られた反射スペクトルカーブのフィッティングにより算出した。
【００９９】
製造例１（ハードコート層形成用組成物１の調製）
以下の各成分を混合して、ハードコート層形成用組成物１を調製した。
・電離放射線硬化性化合物：ペンタエリスリトールトリアクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０、分子量：２９８及び３５２、電離放射線硬化性官能基数：３及び４）：３７質量部
・溶剤１：酢酸メチル：２５質量部
・溶剤２：メチルエチルケトン（ＭＥＫ）：１８質量部
・溶剤３：メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１８質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュア１８４）：２質量部
【０１００】
製造例２（ハードコート層形成用組成物２の調製）
以下の各成分を混合して、高屈折率であるハードコート層形成用組成物２を調製した。
・電離放射線硬化性化合物：ペンタエリスリトールトリアクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０、分子量：２９８及び３５２、電離放射線硬化性官能基数：３及び４）：２５質量部
・高屈折率微粒子：五酸化アンチモン微粒子（日揮触媒化成（株）製、商品名：Ｖ−４５６２、平均粒径：２０ｎｍ、固形分４０質量％、溶剤：メチルイソブチルケトン）：３０質量部
・溶剤１：酢酸メチル：２５質量部
・溶剤２：メチルエチルケトン（ＭＥＫ）：１８質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュア１８４）：２質量部
【０１０１】
製造例３（表面保護層形成用組成物１の調製）
以下の各成分を混合して、表面保護層形成用組成物１を調製した。
・テトラエトキシシランの加水分解物含有エタノール溶液（ＳｉＯ2としての固形分濃度１０％）：２０質量部
・イオン性光塩基発生剤（和光純薬工業（株）製、商品名：ＷＰＢＧ−０８２）：０．０５質量部
・中空シリカ微粒子（平均粒径５０ｎｍ、ＳｉＯ2としての固形分濃度２０％）：１０質量部
・中実コロイダルシリカ（日揮触媒化成（株）製、商品名：Ｖ−８８０３、平均粒径が２５ｎｍの略球状のシリカ微粒子２〜１０個が無機の化学結合により結合した異形シリカ微粒子、（平均粒径５０ｎｍ）ＳｉＯ2としての固形分濃度４０％）：２質量部
・イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）：６８質量部
【０１０２】
製造例４（表面保護層形成用組成物２の調製）
製造例３において、イオン性光塩基発生剤をＷＰＢＧ−０８２からＷＰＢＧ−１６７（和光純薬工業（株）製、商品名）に変更した以外は、製造例３と同様にして、表面保護層用形成組成物２を調製した。
【０１０３】
製造例５（表面保護層形成用組成物３の調製）
製造例３において、イオン性光塩基発生剤をＷＰＢＧ−０８２からＷＰＢＧ−１６８（和光純薬工業（株）製、商品名）に変更した以外は、製造例３と同様にして、表面保護層形成用組成物３を調製した。
【０１０４】
製造例６（表面保護層形成用組成物４の調製）
以下の各成分を混合して、表面保護層形成用組成物４を調製した。
・テトラエトキシシランの加水分解物含有エタノール溶液（ＳｉＯ2としての固形分濃度１０％）：２０質量部
・イオン性光塩基発生剤（和光純薬工業（株）製、商品名：ＷＰＢＧ−０８２）：０．０５質量部
・中実コロイダルシリカ（日揮触媒化成（株）製、商品名：Ｖ−８８０３、平均粒径が２５ｎｍの略球状のシリカ微粒子２〜１０個が無機の化学結合により結合した異形シリカ微粒子、（平均粒径５０ｎｍ）ＳｉＯ2としての固形分濃度４０％）：５質量部
・イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）：７５質量部
【０１０５】
比較製造例１（表面保護層形成用組成物５の調製）
製造例３において、イオン性光塩基発生剤を添加しなかったこと以外は、製造例３と同様にして表面保護層形成用組成物５を調製した。
【０１０６】
比較製造例２（表面保護層形成用組成物６の調製）
製造例３において、イオン性光塩基発生剤ＷＰＢＧ−０８２（和光純薬工業（株）製、商品名）０．０５質量部の代わりに、光酸発生剤である４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート（和光純薬工業（株）製、商品名：ＷＰＡＧ−３７０）を０．０５質量部用いたこと以外は、製造例３と同様にして表面保護層形成用組成物６を調製した。
【０１０７】
比較製造例３（表面保護層形成用組成物７の調製）
製造例３において、イオン性光塩基発生剤ＷＰＢＧ−０８２（和光純薬工業（株）製、商品名）の代わりに、イオン性を有しない光塩基発生剤（和光純薬工業（株）製、商品名：ＷＰＢＧ−０１８）を用いたこと以外は、製造例３と同様にして表面保護層形成用組成物７を調製した。しかしながら上記光塩基発生剤はイソプロピルアルコールに溶解せず、表面保護層形成用組成物７を用いても、均一な塗膜（未硬化組成物層）を形成することはできなかった。
【０１０８】
実施例１（光学フィルムの製造）
（１）ハードコート層の形成
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材（コニカミノルタ（株）製、商品名：ＫＣ４ＵＹ、厚さ４０μｍ）上にスロットダイコーターを用いて、製造例１で得られたハードコート層形成用組成物１を、塗布速度２０ｍ／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を８０℃で３０秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いで、その塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量８０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、硬化後膜厚７μｍのハードコート（ＨＣ）層を有するフィルム１を得た。ハードコート層の屈折率は１．５２であった。
【０１０９】
（２）表面保護層の形成
上記（１）で得られたフィルム１のＨＣ層上に、製造例３で得られた表面保護層形成用組成物１を上記（１）と同様にスロットダイコーターを用いて塗布して、未硬化組成物層を形成した。該未硬化組成物層に、紫外線照射装置を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い、塩基を発生させた。次いで、１００℃で２分加熱して未硬化組成物層を硬化させ、硬化後膜厚１００ｎｍの表面保護層を形成し、光学フィルムを得た。表面保護層の屈折率は１．３６であった。得られたフィルムを用いて前記評価を行った。結果を表１に示す。
なお、得られた光学フィルムを切断して切断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、表面保護層中の中空シリカ微粒子の平均粒径は５０ｎｍ、中実コロイダルシリカの平均粒径は５０ｎｍであった。
【０１１０】
実施例２（光学フィルムの製造）
実施例１において、表面保護層形成用組成物１の代わりに、製造例４で得られた表面保護層形成用組成物２を用いた以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。表面保護層の屈折率は１．３６であった。得られたフィルムを用いて前記評価を行った。結果を表１に示す。
【０１１１】
実施例３（光学フィルムの製造）
実施例１において、表面保護層形成用組成物１の代わりに、製造例５で得られた表面保護層形成用組成物３を用いた以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。表面保護層の屈折率は１．３６であった。得られたフィルムを用いて前記評価を行った。結果を表１に示す。
【０１１２】
実施例４（光学フィルムの製造）
実施例１において、表面保護層形成用組成物１の代わりに、製造例６で得られた表面保護層形成用組成物４を用いた以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。表面保護層の屈折率は１．４６であった。得られたフィルムを用いて前記評価を行った。結果を表１に示す。
なお、得られた光学フィルムを切断して切断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、表面保護層中の中実コロイダルシリカの平均粒径は５０ｎｍであった。
【０１１３】
実施例５（光学フィルムの製造）
実施例１において、ハードコート層形成用組成物１の代わりに、製造例２で得られたハードコート層形成用組成物２を用いた以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。ハードコート層の屈折率は１．５７であった。得られたフィルムを用いて前記評価を行った。結果を表１に示す。
【０１１４】
実施例６（光学フィルムの製造）
実施例１において、表面保護層の硬化後膜厚を１０００ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。得られたフィルムを用いて前記評価を行った。結果を表１に示す。
【０１１５】
比較例１（比較光学フィルムの製造）
実施例１において、表面保護層形成用組成物１の代わりに、比較製造例１で得られた表面保護層形成用組成物５を用いた以外は、実施例１と同様にして、比較例１の光学フィルムを得た。得られたフィルムを用いて前記評価を行った。結果を表１に示す。
【０１１６】
比較例２（比較光学フィルムの製造）
実施例１において、表面保護層形成用組成物１の代わりに、比較製造例２で得られた表面保護層形成用組成物６を用いた以外は、実施例１と同様にして、比較例２の光学フィルムを得た。得られたフィルムを用いて前記評価を行った。結果を表１に示す。
【０１１７】
【表１】
2015028540.tif 000009
【０１１８】
実施例１〜６の光学フィルムは、生活環境に由来する汚染時、及び非汚染時のいずれにおいても耐傷付き性に優れることが明らかとなった。特に比較例１及び２の光学フィルムと比べて、生活環境に由来する汚染時の耐傷付き性に優れる。
【産業上の利用可能性】
【０１１９】
本発明の光学フィルムの製造方法によれば、砂埃等による耐傷付き性、及び生活環境に由来する汚染時の耐傷付き性に優れる光学フィルムを効率よく製造することができる。該光学フィルムは、液晶ディスプレイ等の画像表示装置に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１２０】
１    基材
２    ハードコート層
３    表面保護層
４    高屈折率層
１０  光学フィルム
【図１】
2015028540.tif 000014
【図２】
2015028540.tif 000015