(57)【要約】【課題】クラッシュを起こすことなく既存のＨＤＤケースに収容でき、優れた製造時の取り扱い性を示すことでチャンファ不良の発生を抑制することができるとともに、記録容量を増大させたＨＤＤ用ガラス基板を提供する。【解決手段】周縁にチャンファ面が形成されたＨＤＤ用ガラス基板であって、直径（φｄ）が６５．０８ｍｍ以下であり、径方向における前記チャンファ面の長さ（Ｃｄ）が０．０７ｍｍ以上であり、下記式を満たすことを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板。（φｄ−６５．０ｍｍ）／２＋（０．１５ｍｍ−Ｃｄ）≧０．１ｍｍ【選択図】図１
2015069663.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周縁にチャンファ面が形成されたＨＤＤ用ガラス基板であって、
直径（φｄ）が６５．０８ｍｍ以下であり、
径方向における前記チャンファ面の長さ（Ｃｄ）が０．０７ｍｍ以上であり、
下記式を満たす、ＨＤＤ用ガラス基板。
（φｄ−６５．０ｍｍ）／２＋（０．１５ｍｍ−Ｃｄ）≧０．１ｍｍ 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＨＤＤ用ガラス基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）は、様々な用途に使用されており、増々高容量化されている。ＨＤＤに搭載されるディスク（基板）の種類としては、主にガラス基板とアルミニウム基板とが知られている。中でもガラス基板は、耐衝撃性が優れている。近年、ガラス基板には、さらなる耐衝撃性に加え、ＨＤＤの高容量化、小型化に伴い、基板サイズを充分に活かした設計が求められている。
【０００３】
ガラス基板の取り扱い性を高める方法として、ガラス基板の周縁に面取り面（チャンファ面）を形成する方法が知られている（特許文献１）。チャンファ面は、たとえば、外径・チャンファ研磨用の砥石を用いてガラス基板の外周面を研磨（研削）することにより形成される。所望の大きさのチャンファ面が形成されたガラス基板は、製造時に使用される冶具への固定や取り扱いにおいて欠け（チッピングとも言う）等が発生しにくく、取り扱い性に優れる。
【０００４】
ところで、近年の高容量化されたＨＤＤとして、たとえば直径（φｄ）が６５ｍｍのガラス基板を使用し、規格上は片面で５００ＧＢの記録容量を有するものが開発されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−１０８３５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このようなＨＤＤでは、実際にコンピュータに実装されると５００ＧＢのうち２〜３ＧＢは記録できず、４９７〜４９８ＧＢしか使用できないことがある。このようなガラス基板において、規格と同様に５００ＧＢの記録容量を確保するためには、ガラス基板の主表面に形成される記録領域を０．７％程度増やす（記録面を大きくする）必要がある。
【０００７】
ガラス基板の記録面を大きくする方法として、ガラス基板の直径（外径）を大きくする方法が考えられる。しかしながら、記録容量を２〜３ＧＢ増やすためには、ガラス基板の直径を、たとえば０．２ｍｍ大きくする必要がある。しかしながら、このように大きくした直径のガラス基板は、既存のＨＤＤケース（たとえばガラス基板の収納スペースの寸法が６５．１ｍｍ）に収まらない場合がある。また、仮に収まったとしてもガラス基板の直径には製造上のばらつき（公差、±０．０２ｍｍ程度）が存在するため動作時にケースと衝突して破損する虞がある。また、直径を大きくしたガラス基板を収容できるようケースの寸法を大きくすることは、ＨＤＤの小型化の要請に反する。
【０００８】
本発明は、このような従来の問題に鑑みてなされたものであり、クラッシュすることなく既存のＨＤＤケースに収容でき、優れた耐衝撃性を示しつつ、記録容量を増大させたＨＤＤ用ガラス基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、ガラス基板の直径だけでなく、チャンファ面の長さにも着目し、これらが所定の関係となるよう調整することにより上記課題が解決されることを見出して、本発明を完成させた。
【００１０】
すなわち、本発明の一局面によるＨＤＤ用ガラス基板は、周縁にチャンファ面が形成されたＨＤＤ用ガラス基板であって、直径（φｄ）が６５．０８ｍｍ以下であり、径方向における前記チャンファ面の長さ（Ｃｄ）が０．０７ｍｍ以上であり、下記式を満たすことを特徴とする。
（φｄ−６５．０ｍｍ）／２＋（０．１５ｍｍ−Ｃｄ）≧０．１ｍｍ
【００１１】
上記構成によれば、ガラス基板の直径の増大分とチャンファ面の減少分とを合わせて、記録面を半径あたり０．１ｍｍ以上拡げることができる。その結果、ガラス基板の記録領域が増大されるため、ＨＤＤを高容量化することができる。また、直径φｄが６５．０８ｍｍ以下であるため、ガラス基板は、製造上のばらつき（公差）がたとえば±０．０２ｍｍ存在する場合であっても、既存のケース（たとえばガラス基板の収納スペースの寸法が６５．１ｍｍ）に収容することができる。さらに、チャンファ面の長さＣｄが０．０７ｍｍ以上であるため、チャンファ製造時における精度を加味しても製造時におけるチッピング等を防止するというチャンファ面の機能を確保することができる。その結果、得られたガラス基板は、製造時に使用される冶具への固定や取り扱いにおいて欠け等が発生しにくいとともに、製造時における取り扱い性に優れ、チッピング等の故障を防止しながら、高容量のガラス基板において必要とされる記録領域の増加を達成することができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、クラッシュを起こすことなく既存のＨＤＤケースに収容でき、優れた製造時の取り扱い性を示すことでチッピング等の故障の発生を抑制するとともに、記録容量を増大させたＨＤＤ用ガラス基板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、本発明の一実施形態のガラス基板の径方向の断面図である。
【図２】図２は、主表面と外周面との接続部分にチャンファ面が形成される様子を説明する模式図である。
【図３】図３は、径方向の長さが小さいチャンファ面が形成される様子を説明する模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
＜ＨＤＤ用ガラス基板＞
以下、本発明のＨＤＤ用ガラス基板の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。本発明のＨＤＤ用ガラス基板（以下、ガラス基板ともいう）は、周縁にチャンファ面が形成されている。また、ガラス基板は、直径φｄ、径方向におけるチャンファ面の長さＣｄ、および直径φｄとチャンファ面の長さＣｄとが所定の関係を満たすことにより、優れた製造時の取り扱い性を示すことでチッピング等の故障の発生を抑制するとともに、高容量の記録媒体用途において必要とされる程度に記録領域が増大されている。
【００１５】
図１は、本実施形態のガラス基板の径方向の断面図である。図１に示されるように、本実施形態のガラス基板１００は、扁平な円盤形状であり、中心孔１１０を有する。ガラス基板１００は、上下の主表面１２０のほか、中心孔１１０の周囲に形成された内周面１３０と、外周に形成された外周面１４０とを有する。上下の主表面１２０と外周面１４０との接続部分には、面取り加工が施されたチャンファ面１５０が形成されている。記録領域は、主表面１２０に形成される領域であり、高容量化されたＨＤＤ用ガラス基板では通常は主表面１２０とチャンファ面１５０との接続部分の近傍にまで形成される。
【００１６】
ガラス基板の径方向におけるチャンファ面の長さＣｄは、０．０７ｍｍ以上０．０９ｍｍ以下である。すなわち、従来のガラス基板のチャンファ面の長さを０．１５ｍｍとすると、ガラス基板のチャンファ面の長さＣｄは、従来よりも０．０６〜０．０８ｍｍ減らされている。しかしながら、チャンファ面の長さＣｄを０．０７ｍｍ以上としているため、たとえば外径・チャンファ研磨用の砥石を用いてガラス基板の外周面を研磨（研削）することによりチャンファ面を形成する場合（後述する図２参照）、砥石が上下に位置ずれしたとしても、チャンファ面が主表面と外周面との接続部分に適切に形成される。その結果、得られるガラス基板は、製造時に使用される冶具への固定や取り扱いにおいて欠け等が発生しにくく、優れた取り扱い性が確保され、結果としてガラス基板におけるチッピング等の故障の発生を抑制できる。一方、ガラス基板は、チャンファ面の長さが０．０９ｍｍ以下となるよう形成される（すなわち従来よりも０．０６ｍｍ以上チャンファ面の長さが小さくされる）ため、その減少分を後述する主表面（記録面）の増大分として利用することができる。その結果、チャンファ面の長さＣｄを上記範囲となるよう調整することにより、ガラス基板の記録容量を増大させることができる。
【００１７】
なお、チャンファ面は、外周面と主表面との接続部分のほか、内周面と主表面との接続部分に形成されていてもよい。内周面と主表面との接続部分にチャンファ面が形成されることにより、ガラス基板は、たとえばＨＤＤに搭載するために把持される際に欠け等が発生しにくい。
【００１８】
チャンファ面が形成される角度は特に限定されず、主表面に対してたとえば４０〜５０°となるよう形成されてもよい。本実施形態では、チャンファ面は、主表面に対して約４５°となるよう形成されている。チャンファ面の形状は特に限定されず、主表面に対して所定の角度で形成された傾斜面であってもよく、外周縁に向かって段階的に傾斜角が変えられた傾斜面であってもよく、連続的に傾斜角が変えられた湾曲面であってもよい。チャンファ面を形成する方法は特に限定されず、たとえば外径・チャンファ研磨用の砥石を用いてガラス基板の外周面を研磨（研削）することにより形成することができる。チャンファ面を形成する方法の詳細については後述する。
【００１９】
ガラス基板の直径φｄは、６５．０４ｍｍ以上６５．０８ｍｍ以下である。すなわち、従来のガラス基板の直径を６５．０ｍｍとすると、ガラス基板の直径φｄは、０．０４〜０．０８ｍｍ拡大されている。ガラス基板の直径φｄが６５．０４ｍｍ以上であるため、主表面の記録面が拡大され、記録容量が増大される。一方、ガラス基板の直径φｄが６５．０８ｍｍ以下であるため、ガラス基板を既存のＨＤＤケースに収容することができる。より具体的には、既存のＨＤＤケースにおける磁気ディスク化されたガラス基板の収容スペースの寸法をたとえば６５．１ｍｍとすると、ガラス基板の直径φｄが６５．０８ｍｍである場合、製造上の公差を０．０２ｍｍ考慮したとしても、上記収容スペースに収容することができる。そのため、このような直径のガラス基板は、既存のＨＤＤケースに収容でき、小型化の要請を満たす。
【００２０】
本実施形態のガラス基板は、直径φｄおよびチャンファ面の長さＣｄとが、下記式を満たすことを特徴とする。
（φｄ−６５．０ｍｍ）／２＋（０．１５ｍｍ−Ｃｄ）≧０．１ｍｍ
【００２１】
上記式は、従来のガラス基板の外径が６５．０ｍｍであり、径方向におけるチャンファ面の長さが０．１５ｍｍであることに基づいて規定されている。上記式は、従来のガラス基板と比較して、本実施形態のガラス基板の記録面が、半径あたり０．１ｍｍ以上拡大されていることを示している。具体的には、上記式の左辺のうち、「（φｄ−６５．０ｍｍ）／２」は、ガラス基板の直径を大きくすることによってもたらされる、記録面の半径あたりの拡大分を示しており、「０．１５ｍｍ−Ｃｄ」は、チャンファ面の長さを小さくすることによってもたらされる、記録面の半径あたりの拡大分を示している。本実施形態のガラス基板は、上記式に示されるとおり、ガラス基板の直径φｄを大きくしつつ、チャンファ面の長さＣｄを小さくすることにより、記録面を、半径あたり０．１ｍｍ以上拡大させている。その結果、ガラス基板の記録容量が増大されるため、得られるＨＤＤの高容量化が実現される。この際、上記のとおりガラス基板の直径φｄの大きさは６５．０８ｍｍ以下であるため、ガラス基板は、既存のＨＤＤケースに収容することができる。また、上記のとおりチャンファ面の長さＣｄは０．０７ｍｍ以上であるため、製造時の取り扱い性が確保され、チッピング等の発生が充分に抑制される。
【００２２】
以上、本実施形態によれば、クラッシュを起こすことなく既存のＨＤＤケースに収容でき、優れた耐衝撃性を示しつつ、記録容量が増大されたガラス基板を提供することができる。
【００２３】
＜ガラス基板の製造方法＞
以下、本発明のガラス基板を製造する方法について説明する。なお、本発明のガラス基板は、上記した直径φｄ、チャンファ面の長さＣｄを有し、これらが上記式を満たせばよく、製造方法は特に限定されない。そのため、以下の製造方法は例示であり、適宜設計変更が可能である。
【００２４】
まず、ガラス基板を構成する各成分の原料として、各々相当する酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等が所望の割合に秤量され、充分に混合される（調合原料）。次いで、調合原料は、たとえば１３００〜１５５０℃に加熱された電気炉中の白金坩堝等に投入され、溶融清澄後、撹拌均質化される。得られた溶融ガラスは、フロート法によりシート形状のガラスブロックとされ、研削砥石で切り出される。なお、ガラスブロックは、フロート法によらず、プレス成形により形成されてもよい。
【００２５】
ガラスブロックは、ガラス転移点付近の温度で１〜３時間保持された後に、徐冷され、歪み取りが行われる。その後、ガラスブロックは、円盤形状にスライスされ、内周および外周を同心円としてコアドリルにより切り出されて、中心孔が形成されたガラス基板とされる。
【００２６】
このようにして得られたガラス基板は、内周面および外周面が砥石により研削される。また、主表面と内周との接続部分、および主表面と外周面との接続部分に面取り加工が施され、チャンファ面が形成される。
【００２７】
具体的には、チャンファ面は、内周面、外周面を、それぞれ内径・チャンファ研磨用の砥石、外径・チャンファ研磨用の砥石を用いて研磨（研削）することにより形成される。図２は、主表面１２０と外周面１４０との接続部分にチャンファ面１５０を形成する様子を説明する模式図であり、図２（ａ）は、外周面１４０を砥石２００に接触させる前の状態を示し、図２（ｂ）は、外周面１４０を砥石２００に接触させた状態を示している。砥石２００には、ガラス基板１００の外周面１４０が接触する面２１０に、チャンファ面１５０の反転形状が形成されており、このような砥石２００にガラス基板１００の外周面１４０を接触させて研磨（研削）することにより、主表面１２０と外周面１４０との接続部分にはチャンファ面１５０が形成される。
【００２８】
本実施形態のガラス基板には、上記のとおり径方向の長さＣｄが０．０７ｍｍ以上のチャンファ面が形成される。このような長さのチャンファ面を形成する場合、仮に砥石の位置がわずかに上下に移動した場合であっても、主表面と外周面との接続部分には、適切な大きさのチャンファ面が形成される。この場合、得られるガラス基板には、充分なチャンファ面が形成されるため、製造時に使用される冶具への固定や取り扱いにおいて欠け等が発生しにくく、ガラス基板は耐衝撃性が優れる。なお、図３は、径方向の長さが０．０７ｍｍ未満のチャンファ面を形成する場合において、砥石の位置が移動したことにより適切な大きさのチャンファ面が形成されない様子を説明する模式図である。図３に示されるように、０．０７ｍｍ未満の長さのチャンファ面を形成する場合には、砥石２００の位置が上下に移動することにより、砥石２００の反転形状が形成された面２１０が上下均等に外周面１４０に接触せず、チャンファ面１５０が適切に形成されない。図３に示される例では、チャンファ面１５０は、上側の主表面１２０と外周面１４０との接続部分に大きく形成されるものの、下側の主表面１２０と外周面１４０との接続部分には形成されていない。このような場合、得られるガラス基板は、充分なチャンファ面が均等に形成されていないため、製造時に使用される冶具への固定や取り扱いにおいて欠け等が発生しやすく、耐衝撃性が劣る。
【００２９】
内周面および外周面の研削（研磨）には、たとえば、研磨剤を含むスラリーが使用される。研磨剤は、粒径が１〜５μｍの酸化セリウムを使用し、水に分散させてスラリー状にして用いるのが好ましい。また、水と研磨剤との混合比率は、概ね１：９〜３：７程度が好ましい。該研磨剤は、遊離砥粒であることが好ましい。遊離砥粒を用いて研磨することで、ガラス基板を効率的に鏡面化することができる。
【００３０】
次いで、ガラス基板は、さらにその両主表面が粗研磨および精密研磨される。
【００３１】
粗研磨は、たとえば研磨パッドと研磨液を使用する両面研磨機を用いて行われる。研磨パッドとしては、たとえば発泡ウレタン等の硬質パッドが使用される。研磨剤としては、たとえば粒径が０．６〜２．５μｍの酸化セリウムを水に分散させてスラリー状にしたものが使用される。研磨剤は、遊離砥粒であることが好ましい。
【００３２】
精密研磨は、たとえば研磨パッドと研磨液を使用する両面研磨機を用いて行われる。研磨パッドとしては、たとえば発泡ウレタンやスウェード等の軟質パッドが使用される。研磨剤としては、たとえば粒径が２０μｍ程度のコロイダルシリカを水に分散させてスラリー状にしたものが使用される。
【００３３】
なお、粗研磨および精密研磨を行った後に、硝酸カリウム（５０ｗｔ％）と硝酸ナトリウム（５０ｗｔ％）の混合溶液に浸漬させることにより化学強化を行ない、その後、化学強化層を除去してもよい。
【００３４】
その後、ガラス基板は、必要に応じて超音波による洗浄、水リンス洗浄、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）洗浄等により清浄に洗浄される。これらの工程を経たガラス基板は、キズ、割れ、異物の付着等の有無を、目視や光学表面アナライザを用いて検査された後、異物等が表面に付着しないように、清浄な環境中で、専用収納カセットに収納され、真空パックされた後に出荷される。
【００３５】
また、ガラス基板は、磁気薄膜（磁性膜）が形成され、情報記録媒体（メディア）とすることができる。その際、磁性膜が形成される前にＮａＯＨ溶液等を用いたアルカリ洗浄によりガラス基板上のごくわずかなパーティクル（異物）が除去される。なお、磁性膜を形成する方法は特に限定されず、たとえば、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリング、無電解めっきにより形成する方法等の従来公知の方法を採用することができる。
【００３６】
磁性膜に用いる磁性材料としては特に限定されず、従来公知の磁性材料を用いることができる。磁性材料は、たとえば、高い保磁力を得るために、結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などを用いることができる。また、記録用のメディアを作製する場合には、Ｃｏ−Ｐｔ合金のように、遷移金属元素と貴金属元素とからなる合金であって、遷移金属元素（Ｃｏ）と貴金属元素（Ｐｔ）との原子含有量がほぼ等しい合金や、遷移金属元素（Ｃｏ）と貴金属元素（Ｐｔ）との原子含有量がほぼ等しく、かつ、Ｎｉの原子含有量が０．１％以上５０％以下であるＣｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金や、遷移金属元素（Ｃｏ及びＮｉ）と貴金属元素（Ｐｔ）との原子含有量がほぼ等しいＣｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金や、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金や、Ｆｅ−Ｐｔ合金と、Ｃｕ酸化物とを含有した薄膜を形成することが好ましい。この場合、薄膜の下部には、ソフト磁性層（保磁力の小さな材料、Ｃｏ系アモルファスなど）を積層することが好ましい。
【００３７】
また、磁気ヘッドの滑りをよくするために、磁性膜の表面に潤滑剤をコーティングしてもよい。さらに必要に応じて、磁性膜には、下地層や保護層を設けてもよい。下地層および保護層は、磁性膜の種類に応じて選択される。
【００３８】
なお、本実施形態では、落下強度対策として、ガラス基板の主表面以外の外周面や内周面に化学強化処理を行う工程を採用してもよいし、ガラス基板に生じた傷のエッジ緩和処理として、ガラス基板をフッ化水素浸漬処理に供する工程を採用してもよい。また、本実施形態では、化学強化を精密研磨の前に行う等の設計変更が可能である。
【実施例】
【００３９】
以下、本発明のガラス基板を実施例により詳述する。なお、本発明のガラス基板は、以下に示す実施例になんら限定されるものではない。
【００４０】
＜実施例１＞
ガラス素材として、３〜１０ｗｔ％のＬｉ２Ｏ、４〜１３ｗｔ％のＮａ２Ｏ、５〜２３ｗｔ％のＡｌ２Ｏ３および５８〜７５ｗｔ％のＳｉＯ２を含むものを用い、溶融したガラス素材をフロート法によりシート状に成形し、直径が約６６ｍｍの円盤形状のガラス基板前駆体を作製した。ガラス基板前駆体の厚みは１．０５ｍｍとした。コアドリルにより中心孔を開け、内周面および外周面を研削（研磨）し、チャンファ面を形成した。ガラス基板の主表面に粗研磨および精密研磨を行ない、その後洗浄し、ガラス基板を作製した。得られたガラス基板の直径は６５．０４ｍｍ、主表面と外周面との接続部分に形成されたチャンファ面の径方向の長さは、０．０７ｍｍであった。
【００４１】
＜実施例２〜３、比較例１〜３＞
表１に記載の直径およびチャンファ面の長さとなるよう条件を調整した以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。
【００４２】
実施例１〜３、比較例１〜３により作製されたガラス基板について、以下の評価方法にしたがって、クラッシュ率、チャンファ不良を評価した。結果を表１に示す。
【００４３】
（クラッシュ率）
ガラス基板を磁性膜等を製膜してメディアを作成し、その後、ＨＤＤに搭載した。得られたＨＤＤを、外周部のヘッド浮上量３ｎｍという条件で運転させ、クラッシュを発生したガラス基板の割合を評価した。評価は、３００枚行った。ＨＤＤにおいて、クラッシュの発生は許容されないため、クラッシュの発生は０％であることが求められる。なお、クラッシュとは、ＨＤＤの動作時において、ＨＤＤの外装部材と記録媒体との接触が発生し、ＨＤＤにおいて何らかのエラーを検出された場合を表す。
【００４４】
（チャンファ不良）
ガラス基板のチャンファ面を目視または一般的な光学顕微鏡により観察し、チャンファ不良の割合を評価した。評価は、３００枚行った。チャンファ不良の割合は、小さいほど好ましく、０．５％以下であれば実用の範囲内であるといえる。
【００４５】
【表１】
2015069663.tif 000003
【００４６】
表１に示されるように、直径φｄが６５．０８ｍｍ以下であり、チャンファ面の長さＣｄが０．０７ｍｍ以上であり、下記式を満たす（すなわち半径あたりの記録面の拡大量が０．１０ｍｍ以上である）実施例１〜３により作製したガラス基板は、クラッシュがなく、チャンファ不良も見られなかった。
（φｄ−６５．０ｍｍ）／２＋（０．１５ｍｍ−Ｃｄ）≧０．１ｍｍ
【００４７】
一方、チャンファ面の長さＣｄのみを小さくすることにより記録面を半径あたり０．１０ｍｍ拡大させた比較例１により作製したガラス基板は、クラッシュは発生しなかったものの、チャンファ不良が発生した。また、直径φｄのみを大きくすることにより記録面を半径あたり０．１０ｍｍ拡大させた比較例１により作製したガラス基板は、チャンファ不良は発生しなかったものの、クラッシュ率が大きくなった。さらに、従来と同様の寸法のガラス基板である比較例３で作製したガラス基板は、クラッシュを発生せず、チャンファ不良も見られなかったが、記録面が半径あたり０．１０ｍｍ以上拡大されず、記録容量は増大されなかった。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
本発明のガラス基板は、クラッシュを起こすことなく既存のＨＤＤケースに収容でき、優れた製造時の取り扱い性を示すことでチャンファ不良の発生が抑制されるとともに、記録容量が増大されている。そのため、高容量化されたＨＤＤ用ガラス基板の分野において有用である。
【符号の説明】
【００４９】
１００  ガラス基板
１１０  中心孔
１２０  主表面
１３０  内周面
１４０  外周面
１５０  チャンファ面
２００  砥石 
【図１】
2015069663.tif 000004
【図２】
2015069663.tif 000005
【図３】
2015069663.tif 000006