(57)【要約】【課題】薄膜であっても高い透明性と所望の膜特性（特には高い防錆性）とを両立することができる硬化膜を有する硬化膜付き透明基材の製造方法を提供すること。【解決手段】透明基材上に、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、特定の光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物を含む感光層を設け、感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に感光層の上記所定部分以外を除去し、基材の一部又は全部を被覆する感光性樹脂組成物の硬化膜を形成する、硬化膜付き透明基材の製造方法。【選択図】図２
2015014783.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物及び下記一般式（３）で表される化合物からなる群より選択される１種以上の光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物を含む感光層を設け、該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に前記感光層の前記所定部分以外を除去し、前記基材の一部又は全部を被覆する前記感光性樹脂組成物の硬化膜を形成する、硬化膜付き透明基材の製造方法。
【化１】
2015014783.tif 000017
［式（１）中、Ｒ及びＲ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基、又はフェニル基を示し、Ｒ２は、ＯＨ、ＣＯＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ又はＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨを示す。］
【化２】
2015014783.tif 000018
［式（２）中、Ｒ３は、各々独立に炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ４は、ＮＯ２又はＡｒＣＯ（ここで、Ａｒはアリール基を示す。）を示し、Ｒ５及びＲ６は、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。］
【化３】
2015014783.tif 000019
［式（３）中、Ｒ７は、炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ８は、アセタール結合を有する有機基を示し、Ｒ９及びＲ１０は、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。なお、芳香環には、Ｒ８以外の置換基を有してもよい。］
【請求項２】
前記感光層は４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が８５％以上である、請求項１に記載の硬化膜付き透明基材の製造方法。
【請求項３】
ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０である、請求項１又は２に記載の硬化膜付き透明基材の製造方法。
【請求項４】
支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた前記感光性樹脂組成物を含む感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、当該感光性エレメントの感光層を前記基材上に転写して前記感光層を設ける、請求項１〜３のいずれか一項に記載の硬化膜付き透明基材の製造方法。
【請求項５】
バインダーポリマーと、光重合性化合物と、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物及び下記一般式（３）で表される化合物からなる群より選択される１種以上の光重合開始剤と、を含有し、透明基材上に硬化膜を形成するために用いられる、感光性樹脂組成物。
【化４】
2015014783.tif 000020
［式（１）中、Ｒ及びＲ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基、又はフェニル基を示し、Ｒ２は、ＯＨ、ＣＯＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ又はＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨを示す。］
【化５】
2015014783.tif 000021
［式（２）中、Ｒ３は、各々独立に炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ４は、ＮＯ２又はＡｒＣＯ（ここで、Ａｒはアリール基を示す。）を示し、Ｒ５及びＲ６は、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。］
【化６】
2015014783.tif 000022
［式（３）中、Ｒ７は、炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ８は、アセタール結合を有する有機基を示し、Ｒ９及びＲ１０は、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。なお、芳香環には、Ｒ８以外の置換基を有してもよい。］
【請求項６】
４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が８５％以上である、請求項５に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項７】
ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０である、請求項５又は６に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項８】
支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた請求項５〜７のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物を含む感光層と、を備える、感光性エレメント。
【請求項９】
前記感光層の厚みが１０μｍ以下である、請求項８に記載の感光性エレメント。
【請求項１０】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法により得られる硬化膜付き透明基材を備える、電子部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化膜付き透明基材の製造方法、それに用いる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに電子部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
パソコン、テレビ等の大型電子機器からカーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ、ＦＡ機器等の表示機器などには、液晶表示素子又はタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これらの液晶表示素子又はタッチパネルには透明導電電極材からなる電極が設けられている。透明導電電極材としては、酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）、酸化インジウム又は酸化スズが知られている。これらの材料は高い可視光透過率を示すことから液晶表示素子用基板等に用いる電極材として主流になっている。
【０００３】
タッチパネルは、すでに各種の方式が実用化されている。近年、静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。静電容量方式タッチパネルでは、導電体である指先がタッチ入力面に接触すると、指先と導電膜との間で静電容量が結合し、コンデンサを形成する。このため、静電容量方式タッチパネルは、指先の接触位置における電荷の変化を捉えることによって、その座標を検出している。
【０００４】
特に、投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備える。その操作性の良さから、携帯電話、携帯型音楽プレーヤといった小型の表示装置を有する機器における表示面上の入力装置として、投影型静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。
【０００５】
一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸とによる２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、当該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造を形成している。これらの電極としてはＩＴＯが用いられる。
【０００６】
ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるから、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるための重要な要素である。額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために、金属配線が必要となるが、額縁面積の狭小化を図るためには、金属配線の幅を狭くする必要がある。ＩＴＯの導電性は充分に高くないので、一般的に金属配線は銅により形成される。
【０００７】
しかしながら、上述のようなタッチパネルにおいては、指先に接触される際に水分、塩分等の腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、金属配線が腐食し、電極と駆動用回路との間の電気抵抗の増加、又は、断線のおそれがあった。
【０００８】
金属配線の腐食を防ぐために、金属上に絶縁層を形成した静電容量方式の投影型タッチパネルが開示されている（例えば、下記特許文献１を参照）。このタッチパネルでは、二酸化ケイ素層をプラズマ化学気相成長法（プラズマＣＶＤ法）で金属上に形成し、金属の腐食を防いでいる。しかしながら、この手法はプラズマＣＶＤ法を用いるため、高温処理が必要となり基材が限定される、製造コストが高くなる等の問題があった。
【０００９】
ところで、必要な箇所にレジスト膜等の硬化膜を設ける方法として、所定の基材上に感光性樹脂組成物からなる感光層を設けて、この感光層を露光及び現像する方法が知られている（例えば、下記特許文献２〜４を参照）。また、特許文献５及び６には、上記方法により、タッチパネル用の絶縁膜、保護膜等の硬化膜を形成することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１１−２８５９４号公報
【特許文献２】特開平７−２５３６６６号公報
【特許文献３】特開２００５−９９６４７号公報
【特許文献４】特開平１１−１３３６１７号公報
【特許文献５】特開２０１０−２７０３３号公報
【特許文献６】特開２０１１−２３２５８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
感光性樹脂組成物による硬化膜の作製は、プラズマＣＶＤ法に比べてコストの削減が期待できる。しかし、タッチパネル用基材のような透明基材上に硬化膜を形成する場合、硬化膜の厚みが大きいと、膜がある箇所と膜がない箇所とで段差が目立つことがある。そのため、形成される硬化膜はできるだけ薄くすることが好ましい。
【００１２】
しかし、透明基材上に、感光性樹脂組成物を含む感光層を厚み１０μｍ以下で設け、硬化膜を形成する場合、高い透明性と高い防錆性とを両立することが困難であることを本発明者らは見出した。また、上記特許文献５又は６に記載されている感光性樹脂組成物では、薄膜で透明性の高い硬化膜を形成することが可能であるが、高い防錆性と両立させる上では改善の余地があった。
【００１３】
本発明は、薄膜であっても高い透明性と所望の膜特性とを両立することができる硬化膜を有する硬化膜付き透明基材の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、透明基材上に薄膜で形成した場合であっても高い透明性と所望の膜特性とを両立することができる、硬化膜を形成することが可能な感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに硬化膜付き透明基材を備える電子部品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、特定の光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物を用いることで、薄膜（例えば、１０μｍ以下の厚み）で硬化膜を形成した場合であっても、高い透明性と高い防錆性とを両立することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１５】
本発明は、透明基材上に、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物及び下記一般式（３）で表される化合物からなる群より選択される１種以上の光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物を含む感光層を設け、感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に感光層の上記所定部分以外を除去し、基材の一部又は全部を被覆する感光性樹脂組成物の硬化膜を形成する、硬化膜付き透明基材の製造方法を提供する。
【００１６】
【化１】
2015014783.tif 000003
［式（１）中、Ｒ及びＲ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基、又はフェニル基を示し、Ｒ２は、ＯＨ、ＣＯＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ又はＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨを示す。］
【化２】
2015014783.tif 000004
［式（２）中、Ｒ３は、各々独立に炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ４は、ＮＯ２又はＡｒＣＯ（ここで、Ａｒはアリール基を示す。）を示し、Ｒ５及びＲ６は、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。］
【化３】
2015014783.tif 000005
［式（３）中、Ｒ７は、炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ８は、アセタール結合を有する有機基を示し、Ｒ９及びＲ１０は、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。なお、芳香環には、Ｒ８以外の置換基を有してもよい。］
【００１７】
本発明によれば、薄膜であっても高い透明性と所望の膜特性（特には高い防錆性）とを両立することができる硬化膜を有する硬化膜付き透明基材を得ることができる。
【００１８】
本発明の方法により上記の効果が得られる理由を本発明者らは以下のとおり考えている。まず、従来の感光性樹脂組成物では、主に紫外領域から可視光領域の光を利用した光反応を用いているため、吸収が可視光領域に及ぶ光開始剤成分を使用することが多い。顔料、染料等が必要な用途の場合も多く、透明性を確保することが困難である。また、高い防錆性を発現させるためには、感光性樹脂組成物の硬化性を充分に向上させる必要があると考えられる。硬化性を充分に向上させるためには、吸収が可視光領域に及ぶ光開始剤成分の添加量の増量、又は高エネルギー量の活性光線の光開始剤への照射が必要となる。しかし、高エネルギー量の活性光線の照射による光開始剤の黄変が考えられ、透明性を確保することが、より困難になると考えられる。本発明においては、上記特定のオキシムエステル化合物が、可視光領域の吸収が少なく、かつ高圧水銀ランプ等の紫外光領域のスペクトルと吸収波長が重なることにより、黄変を抑えつつ、吸収効率をあげ、光反応が促進されることで、得られる硬化膜が高い透明性を保持しつつ防錆性を両立できると本発明者らは推察する。
【００１９】
また、本発明の硬化膜付き透明基材の製造方法において、上記感光層は４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が８５％以上であることが好ましい。
【００２０】
透明基材の硬化膜を形成する場合、最終製品（例えば、タッチパネル）の視認性又は美観を考慮して、硬化膜の透明性はより高いことが好ましい。しかし、従来の感光性樹脂組成物では、主に紫外領域から可視光領域の光を利用した光反応を用いているため、吸収が可視光領域に及ぶ光開始剤成分を使用することが多い。また、顔料、染料等が必要な用途の場合も多く、透明性を確保することが困難である。これに対して、本発明の硬化膜付き透明基材の製造方法では、上記特定の感光層を設け、活性光線の照射を行うことにより、感光層の可視光透過率の最小値を８５％以上とした場合であっても、所望の膜特性（特には充分な防錆性）を得ることができる。
【００２１】
また、上記感光層はＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０であることが好ましい。この場合、硬化膜を、例えばタッチパネルのセンシング領域にある電極上に保護膜としてパターンを形成しても、視認性及び美観が損なわれることを充分防止することができる。
【００２２】
また、本発明の硬化膜付き透明基材の製造方法においては、支持フィルムと、支持フィルム上に設けられた上記感光性樹脂組成物を含む感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、当該感光性エレメントの感光層を上記基材上に転写して感光層を設けることができる。この場合、感光性エレメントを用いることにより、膜厚が均一な感光層を簡便に形成できる。
【００２３】
本発明はまた、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、上記一般式（１）で表される化合物、上記一般式（２）で表される化合物及び上記一般式（３）で表される化合物からなる群より選択される１種以上の光重合開始剤と、を含有し、透明基材上に硬化膜を形成するために用いられる、感光性樹脂組成物を提供する。
【００２４】
本発明の感光性樹脂組成物によれば、所定の透明基材上に、薄膜であっても高い透明性と所望の膜特性（特には高い防錆性）とを両立することができる硬化膜を形成することができる。
【００２５】
本発明の感光性樹脂組成物は、透明基材を搭載する電子部品の視認性又は美観の観点から、４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が８５％以上であることが好ましい。また、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０であることが好ましい。
【００２６】
本発明はまた、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた上記本発明に係る感光性樹脂組成物を含む感光層と、を備える感光性エレメントを提供する。
【００２７】
本発明の感光性エレメントによれば、所定の透明基材上に、薄膜であっても高い透明性と所望の膜特性（特には高い防錆性）とを両立することができ、良好なパターン形状を有する硬化膜を形成することができる。
【００２８】
本発明はまた、透明基材上に、上記本発明に係る方法により得られる硬化膜付き透明基材を備える電子部品を提供する。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、薄膜であっても高い透明性と所望の膜特性（特には高い防錆性）とを両立することができる硬化膜を有する硬化膜付き透明基材の製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、薄膜であっても、高い透明性と所望の膜特性（特には高い防錆性）とを両立することができる、硬化膜を形成することが可能な感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに硬化膜付き透明基材を備える電子部品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】図１（ａ）は、本発明の一実施形態に係る感光性エレメントの模式断面図であり、図１（ｂ）は、本発明の一実施形態に係る保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法を説明するための模式断面図である。
【図２】図２（ａ）は、本発明の一実施形態に係る保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法を説明するための模式断面図であり、図２（ｂ）は、本発明の一実施形態に係る保護膜付きタッチパネル用基材の模式断面図である。
【図３】図３は、本発明の一実施形態に係る静電容量式タッチパネルを示す模式平面図である。
【図４】図４（ａ）は、図３中のＩＶａ−ＩＶａ線に沿った部分断面図であり、図４（ｂ）は、別の実施形態に係る静電容量式タッチパネルにおける図４（ａ）に対応する部分の部分断面図である。
【図５】図５は、本発明の別の実施形態に係る静電容量式タッチパネルを示す模式平面図である。
【図６】図６は、透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの一例を示す模式平面図である。
【図７】図７は、図６の一部切欠き斜視図である。
【図８】図８は、図７のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線に沿った部分断面図である。
【図９】図９は、透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図であり、（ａ）は透明電極を備える基板を示す一部切欠き斜視図であり、（ｂ）は得られる静電容量式タッチパネルを示す一部切欠き斜視図である。
【図１０】図１０は、透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図であり、（ａ）は図９中のＸａ−Ｘａ線に沿った部分断面図であり、（ｂ）は絶縁膜を設ける工程を示す部分断面図であり、（ｃ）は図９中のＸｃ−Ｘｃ線に沿った部分断面図である。
【図１１】図１１は、本発明の一実施形態に係る静電容量式タッチパネルを示す部分平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味し、「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。
【００３２】
また、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
【００３３】
さらに本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
【００３４】
本実施形態に係る硬化膜付き透明基材の製造方法は、透明基材上に、本発明に係る感光性樹脂組成物を含む感光層を設け、感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に、感光層の上記所定部分以外を除去し、基材の一部又は全部を被覆する感光性樹脂組成物の硬化膜を形成する。本発明に係る感光性樹脂組成物は、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、後述する特定の光重合開始剤と、を含有する。
【００３５】
上記透明基材としては、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラス等のガラス板；ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマ等のプラスチック基板、セラミック板等の基板が挙げられる。透明基材は、４００〜７００ｎｍの波長域での最小光透過率が８５％以上であるものが好ましい。
【００３６】
上記感光層は、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた上記感光性樹脂組成物を含む感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、当該感光性エレメントの感光層を上記透明基材上に転写することで設けることができる。
【００３７】
図１（ａ）は、本発明に係る感光性エレメントの一実施形態を示す模式断面図である。図１（ａ）に示される感光性エレメント１は、支持フィルム１０と、支持フィルム１０上に設けられた本発明に係る感光性樹脂組成物を含む感光層２０と、感光層２０の支持フィルム１０とは反対側に設けられた保護フィルム３０とからなる。
【００３８】
本実施形態の感光性エレメント１は、透明基材上に硬化膜を形成するために好適に用いることができる。
【００３９】
本明細書において、透明基材の硬化膜は、例えばタッチパネルに用いる場合、電極を有するセンシング領域、金属配線を有する額縁領域、又はその他の領域に設けることができる。タッチパネル用基材の硬化膜は、いずれかの領域のみに設けてもよく、複数の領域に設けてもよい。さらには、センシング領域に形成された電極の一部に設ける等、硬化膜を設ける位置及び範囲は、その使用の目的等に応じて適宜選択することが可能である。
【００４０】
支持フィルム１０としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン等からなるフィルムが挙げられる。
【００４１】
支持フィルム１０の厚さは、被覆性の確保と、支持フィルム１０を介して活性光線を照射する際の感度の低下を抑制する観点から、５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましく、１５〜４０μｍであることがさらに好ましく、２０〜３５μｍであることが特に好ましい。
【００４２】
感光層２０を構成する本発明に係る感光性樹脂組成物は、バインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、後述する特定の光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）と、を含有する。
【００４３】
本実施形態において、（Ａ）成分は、（ａ１）（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、及び（ａ２）（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を含有する共重合体が好適である。
【００４４】
（ａ１）（メタ）アクリル酸由来の構成単位の含有量は、防錆性に優れる点から、（Ａ）成分を構成するモノマーの全質量を基準として、２０質量％以下であることが好ましく、１８質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以下であることが更に好ましい。
【００４５】
（ａ２）（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、及び（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステルが挙げられる。
【００４６】
（ａ２）（メタ）アクリル酸アルキルエステル由来の構成単位の含有量は、（Ａ）成分を構成するモノマーの全質量を基準として、９０質量％以下であることが好ましく、８９質量％以下であることがより好ましく、８８質量％であることが更に好ましい。
【００４７】
上記共重合体は、更に、上記の（ａ１）成分及び／又は（ａ２）成分と共重合しうるその他のモノマーを構成単位に含有していてもよい。
【００４８】
上記の（ａ１）成分及び／又は（ａ２）成分と共重合し得るその他のモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロニトリル、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、スチレン、及びビニルトルエンが挙げられる。（Ａ）成分であるバインダーポリマーを合成する際、上記のモノマーは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４９】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーの重量平均分子量は、解像度の見地から、１０，０００〜２００，０００であることが好ましく、１５，０００〜１５０，０００であることがより好ましく、３０，０００〜１５０，０００であることが更に好ましく、３０，０００〜１００，０００であることが特に好ましく、４０，０００〜１００，０００であることが極めて好ましい。なお、重量平均分子量の測定条件は、本願明細書の実施例と同一の測定条件とする。
【００５０】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーの酸価は、防錆性、パターニング性に優れる点では、７５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、７５〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、７５〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが更に好ましい。
【００５１】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーの酸価は、次のようにして測定することができる。
すなわち、まず、酸価の測定対象であるバインダーポリマー１ｇを精秤する。上記精秤したバインダーポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解する。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１Ｎの水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液を用いて滴定を行う。測定対象であるバインダーポリマーのアセトン溶液を中和するのに必要なＫＯＨのｍｇ数を算出することで、酸価を求める。バインダーポリマーを合成溶媒、希釈溶媒等と混合した溶液を測定対象とする場合には、次式により酸価を算出する。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定したバインダーポリマーを含有する溶液の重量（ｇ）を示し、Ｉは測定したバインダーポリマーを含有する溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
なお、バインダーポリマーを合成溶媒、希釈溶媒等の揮発分と混合した状態で配合する場合は、精秤前に予め、揮発分の沸点よりも１０℃以上高い温度で１〜４時間加熱し、揮発分を除去してから酸価を測定することもできる。
【００５２】
（Ｂ）成分である光重合性化合物としては、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を用いることができる。
【００５３】
エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば、一官能ビニルモノマー、二官能ビニルモノマー、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーが挙げられる。
【００５４】
上記一官能ビニルモノマーとしては、例えば、上記（Ａ）成分の好適な例である共重合体の合成に用いられるモノマーとして例示した（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及びそれらと共重合可能なモノマーが挙げられる。
【００５５】
上記二官能ビニルモノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリオキシエチレンポリオキシプロピレンジ（メタ）アクリレート（２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、水酸基及びエチレン性不飽和基を有する化合物（例えば、β−ヒドロキシエチルアクリレート、β−ヒドロキシエチルメタクリレート等）と多価カルボン酸（例えば、無水フタル酸等）とのエステル化物等が挙げられる。
【００５６】
上記少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等の多価アルコールとα，β−不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタアクリル酸等）とを反応させて得られる化合物；トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレート等のグリシジル基含有化合物とα，β−不飽和カルボン酸とを付加反応して得られる化合物；ジグリセリン（メタ）アクリレート等のジグリセリンとα，β−不飽和カルボン酸とを付加して得られる化合物などが挙げられる。
【００５７】
これらの中でも、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーを含有することが好ましい。さらに、電極腐食の抑制力及び現像容易性の観点から、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物及びトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物及びトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種を含むことがより好ましい。
【００５８】
ここで、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレートとは、ジペンタエリスリトールと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記のエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が６であることが好ましいが、エステル結合の数が１〜５の化合物が混在していてもよい。
【００５９】
また、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物とは、トリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記のエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が３であることが好ましいが、エステル結合の数が１〜２の化合物が混在していてもよい。また、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物は、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート化合物が２量化した化合物を用いてもよい。
【００６０】
上記の化合物は、１種を単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。
【００６１】
少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーと、一官能ビニルモノマー、又は二官能ビニルモノマーを組み合わせて用いる場合、使用する割合に特に制限はないが、光硬化性及び電極腐食の抑制力を得る観点から、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーの割合が、感光性樹脂組成物に含まれる光重合性化合物の合計量１００質量部に対して、３０質量部以上であることが好ましく、５０質量部以上であることがより好ましく、７５質量部以上であることが更に好ましい。
【００６２】
本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、それぞれ（Ａ）成分が３５〜８５質量部、（Ｂ）成分が１５〜６５質量部であることが好ましく、（Ａ）成分が４０〜８０質量部、（Ｂ）成分が２０〜６０質量部であることがより好ましく、（Ａ）成分が５０〜７０質量部、（Ｂ）成分が３０〜５０質量部であることが更に好ましく、（Ａ）成分が５５〜６５質量部、（Ｂ）成分が３５〜４５質量部であることが特に好ましい。特に、透明性を維持し、パターンを形成する点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が、３５質量部以上であることが好ましく、４０質量部以上であることがより好ましく、５０質量部以上であることが更に好ましく、５５質量部以上であることが特に好ましい。
【００６３】
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、塗布性あるいは感光性エレメントでのフィルム形成性を充分に確保しつつ、充分な感度が得られ、光硬化性、現像性、及び電極腐食の抑制力を充分に確保することができる。
【００６４】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、光重合開始剤として、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物及び下記一般式（３）で表される化合物からなる群より選択される１種以上の光重合開始剤を含む。このような感光性樹脂組成物を用いることにより、透明基材上に、薄膜であっても充分な防錆性を有する硬化膜を形成することができる。当該硬化膜は、透明性にも充分優れる。
【００６５】
【化４】
2015014783.tif 000006
【００６６】
式（１）中、Ｒ及びＲ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基、又はフェニル基を示し、Ｒ２は、ＯＨ、ＣＯＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ又はＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨを示す。なお、芳香環には、Ｒ２以外の置換基を有してもよい。
【００６７】
【化５】
2015014783.tif 000007
【００６８】
式（２）中、Ｒ３は、炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ４は、ＮＯ２又はＡｒＣＯ（ここで、Ａｒはアリール基を示す。）を示し、Ｒ５及びＲ６は、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。なお、芳香環には、Ｒ４以外の置換基を有してもよい。
【００６９】
【化６】
2015014783.tif 000008
【００７０】
式（３）中、Ｒ７は、炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ８は、アセタール結合を有する有機基を示し、Ｒ９及びＲ１０は、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。なお、芳香環には、Ｒ８以外の置換基（メチル基等）を有してもよい。
【００７１】
上記一般式（１）中、Ｒ及びＲ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基、又はフェニル基を示すが、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基又はフェニル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基又はフェニル基であることがより好ましく、メチル基、シクロペンチル基又はフェニル基であることが更に好ましい。また、Ｒ２は、ＯＨ、ＣＯＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ又はＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨを示すが、Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ又はＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることが好ましく、Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ又はＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることがより好ましい。
【００７２】
上記一般式（２）中、Ｒ３は、炭素数１〜６のアルキル基を示すが、プロピル基であることが好ましい。Ｒ４は、ＮＯ２又はＡｒＣＯを示すが、Ａｒはアリール基を示し、Ａｒとしては、トリル基が好ましい。また、Ｒ５及びＲ６は、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示すが、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましい。
【００７３】
上記一般式（３）中、Ｒ７は、炭素数１〜６のアルキル基を示すが、エチル基であることが好ましい。また、Ｒ８はアセタール結合を有する有機基であるが、下記式（３−１）に示す化合物が有する置換基であることが好ましい。さらに、Ｒ９及びＲ１０は、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示すが、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
【００７４】
上記一般式（１）で表される化合物としては、例えば、下記式（１−１）で表される化合物が挙げられる。これは、アデカクルーズＮＣＩ−９３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）として入手可能である。
【００７５】
【化７】
2015014783.tif 000009
【００７６】
上記一般式（２）で表される化合物としては、例えば、下記式（２−１）及び（２−２）で表される化合物が挙げられる。これらの化合物は、それぞれＤＦＩ−０９１、ＤＦＩ−０２０（いずれもダイトーケミックス株式会社製、商品名）として入手可能である。
【００７７】
【化８】
2015014783.tif 000010
【００７８】
【化９】
2015014783.tif 000011
【００７９】
上記一般式（３）で表される化合物としては、例えば、下記式（３−１）で表される化合物が挙げられる。アデカオプトマーＮ−１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）として入手可能である。
【００８０】
【化１０】
2015014783.tif 000012
【００８１】
光重合開始剤は、上記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物及び下記一般式（３）で表される化合物からなる群より選択される１種以上の光重合開始剤（オキシムエステル化合物）以外の光重合開始剤を併用して使用することもできる。このような光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパノン−１等の芳香族ケトン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体；Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体；クマリン系化合物；２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系化合物；３級アミン化合物；オキサゾール系化合物などが挙げられる。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。
【００８２】
（Ｃ）成分である光重合開始剤の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１〜２０質量部であることが好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましく、２〜５質量部であることが更に好ましい。（Ｃ）成分の含有量は、光感度及び解像性に優れる点では、０．１質量部以上が好ましく、可視光透過率に優れる点では、２０質量部以下であることが好ましい。
【００８３】
本実施形態の感光性樹脂組成物には、その他、必要に応じて、紫外線吸収剤、シランカップリング剤等の密着性付与剤、レベリング剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、重合禁止剤などを、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、各々０．０１〜２０質量部程度含有させることができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用できる。
【００８４】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が８５％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。
【００８５】
ここで、感光性樹脂組成物の可視光透過率は以下のようにして求めることができる。まず、支持フィルム上に感光性樹脂組成物を含有する塗布液を、乾燥後の厚みが１０μｍ以下となるように塗布し、これを乾燥することにより、感光性樹脂組成物層（感光層）を形成する。次に、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層（感光層）が接するようにラミネータを用いてラミネートする。こうして、ガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された測定用試料を得る。次に、得られた測定用試料に紫外線を照射して感光層を光硬化した後、紫外可視分光光度計を用いて、測定波長域４００〜７００ｎｍにおける透過率を測定する。
【００８６】
一般的な可視光波長域の光線である４００〜７００ｎｍの波長域における透過率の最小値が８５％以上であれば、例えば、タッチパネル（タッチセンサー）のセンシング領域の透明電極を保護する場合、タッチパネル（タッチセンサー）の額縁領域の金属層（例えば、ＩＴＯ電極上に銅層を形成した層）を保護したときにセンシング領域の端部から硬化膜が見える場合等において、センシング領域での画像表示品質、色合い、輝度が低下することを充分抑制することができる。
【００８７】
また、本実施形態の感光性樹脂組成物は、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０であることが好ましく、０．０〜０．７であることがより好ましく、０．１〜０．４であることが更に好ましい。可視光透過率の最小値が８５％以上である場合と同様に、センシング領域の画像表示品質、色合いの低下防止の観点からも、ｂ＊が−０．２以上１．０以下であることが好ましい。なお、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊は、例えばコニカミノルタ製分光測色計「ＣＭ−５」を使用し、ｂ＊が０．１〜０．２である厚さ０．７ｍｍのガラス基板に厚み１０μｍ以下の感光性樹脂組成物層を形成し、紫外線を照射して感光性樹脂組成物層を光硬化した後、Ｄ６５光源、視野角２°に設定して測定することにより求められる。
【００８８】
また、本実施形態の感光性樹脂組成物は、解像度をより向上させる観点から、３６５ｎｍにおける吸光度が、０．４以下であることが好ましい。また、３３４ｎｍにおける吸光度が、０．４以上であることが好ましい。感光性樹脂組成物を含む感光層が上記の吸光特性を有することにより、漏れ光をより吸収しやすくなり、漏れ光によるオキシムエステル化合物の分解を抑制することが可能となる。
【００８９】
上記吸光度は、ＵＶ分光光度計（株式会社日立製作所製、分光光度計Ｕ−３３１０）を用いて測定できる。測定は、測定側に、支持フィルム上に任意の膜厚で上記感光層を形成した感光性エレメントを置き、リファレンス側に、支持フィルムを置き、吸光度モードにより３００〜７００ｎｍまでを連続測定し、３３４ｎｍ、３６５ｎｍにおける値を読みとることにより行われる。
【００９０】
上記の範囲に吸光度を調整する方法としては、例えば、オキシムエステル化合物と紫外線吸収剤との併用、及び感光層の膜厚の制御等が挙げられる。
【００９１】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、基材上に感光層を形成するために用いることができる。例えば、感光性樹脂組成物を溶媒に均一に溶解又は分散させて得ることのできる塗布液を調製し、透明基材上に塗布することで塗膜を形成し、乾燥により溶媒を除去することで感光層を形成することができる。
【００９２】
溶媒としては、各成分の溶解性、塗膜形成のし易さ等の点から、ケトン、芳香族炭化水素、アルコール、グリコールエーテル、グリコールアルキルエーテル、グリコールアルキルエーテルアセテート、エステル、ジエチレングリコール、クロロホルム、塩化メチレン等を用いることができる。これらの溶媒は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上の溶媒からなる混合溶媒として用いてもよい。
【００９３】
上記溶媒の中でも、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等を用いることが好ましい。
【００９４】
本発明の感光性樹脂組成物は感光性エレメントのように、感光性フィルムに製膜して用いることが好ましい。感光性フィルムを、タッチパネル用電極を有する透明基材上に積層することにより、ロールツーロールプロセスが容易に実現できる、溶剤乾燥工程が短縮できる等、製造工程の短縮及びコスト低減に大きく貢献することができる。
【００９５】
感光性エレメント１の感光層２０は、本実施形態の感光性樹脂組成物を含有する塗布液を調製し、これを支持フィルム１０上に塗布、乾燥することにより形成できる。塗布液は、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物を構成する各成分を溶媒に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。
【００９６】
溶媒としては、特に制限はなく、公知のものが使用でき、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム、塩化メチレンが挙げられる。これら溶媒は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上の溶媒からなる混合溶媒として用いてもよい。
【００９７】
塗布方法としては、例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、及びダイコーティング法が挙げられる。
【００９８】
乾燥条件に特に制限はないが、乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、０．５〜３０分とすることが好ましい。
【００９９】
感光層の厚みは、透明基材、電極等の保護に充分な効果を発揮し、かつ部分的な硬化膜形成により生じるタッチパネル（タッチセンサー）表面の段差が極力小さくなるよう、乾燥後の厚みで１μｍ以上９μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上８μｍ以下であることがより好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが更に好ましいく、３μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。
【０１００】
本実施形態においては、感光層２０の可視光透過率の最小値が８５％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。また、感光層２０のＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０であることが好ましく、０．０〜０．７であることがより好ましく、０．１〜０．４であることが更に好ましい。また、感光層２０の、３６５ｎｍにおける吸光度が、０．４以下であることが好ましい。感光層２０の、３３４ｎｍにおける吸光度が、０．４以上あることが好ましい。
【０１０１】
感光層２０の粘度は、感光性エレメントをロール状とした場合に、感光性エレメント１の端面から感光性樹脂組成物がしみ出すことを１カ月以上防止する点、及び、感光性エレメント１を切断する際に感光性樹脂組成物の破片が基板に付着して引き起こされる活性光線を照射する際の露光不良、現像残り等を防止する点から、３０℃において、１５〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２０〜９０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、２５〜８０ｍＰａ・ｓであることが更に好ましい。
【０１０２】
なお、上記の粘度は、感光性樹脂組成物から形成される直径７ｍｍ、厚さ２ｍｍの円形の膜を測定用試料とし、この試料の厚さ方向に、３０℃及び８０℃で１．９６×１０−２Ｎの荷重を加えたときの厚さの変化速度を測定し、この変化速度からニュートン流体を仮定して粘度に換算した値である。
【０１０３】
保護フィルム３０（カバーフィルム）としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、及びポリエチレン−酢酸ビニル共重合体とポリエチレンとの積層フィルム等からなるフィルムが挙げられる。
【０１０４】
保護フィルム３０の厚さは、５〜１００μｍ程度が好ましいが、ロール状に巻いて保管する観点から、７０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましく、４０μｍ以下であることが特に好ましい。
【０１０５】
感光性エレメント１は、ロール状に巻いて保管し、あるいは使用できる。
【０１０６】
本発明においては、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物及び溶媒を含有する塗布液を、タッチパネル用電極を有する透明基材（タッチパネル用基材）上に塗布し、乾燥して、感光性樹脂組成物を含む感光層２０を設けてもよい。この用途の場合においても、感光層は上述した、膜厚、可視光線透過率、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊、吸光度の条件を満たすことが好ましい。
【０１０７】
次に、本発明に係る硬化膜付き透明基材の製造方法について説明する。本発明の硬化膜付き透明基材の製造方法は、タッチパネル用電極の保護膜等のように薄膜による保護が要求される電子部品の保護膜、特には、静電容量式タッチパネルの金属電極の保護膜の形成に好適に用いることができる。
【０１０８】
本発明に係る硬化膜付き透明基材の製造方法の一実施形態として、タッチパネル用電極の保護膜を有する保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法について説明する（図１（ｂ）、図２を参照）。図１及び図２は、本発明の一実施形態に係る保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法の一例を説明するための模式断面図である。
【０１０９】
本実施形態の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法は、タッチパネル用電極２１０及び２２０を有する透明基材２００（タッチパネル用基材）上に、上記の本実施形態に係る感光性樹脂組成物を含み、厚みが１０μｍ以下である感光層２０を設ける第１工程（図１（ｂ）を参照）と、感光層２０の所定部分を、紫外線を含む活性光線Ｌの照射により硬化させる第２工程（図２（ａ）を参照）と、活性光線の照射後に所定部分以外の感光層（感光層の活性光線が照射されていない部分）を除去し、電極の一部又は全部を被覆する感光性樹脂組成物層（感光層）の硬化膜パターンからなる保護膜２２を形成する第３工程（図２（ｂ）を参照）と、を備える。こうして、保護膜付きタッチパネル用基材３００が得られる。得られる保護膜付きタッチパネル用基材は、タッチ入力シートである保護膜付きタッチパネル（タッチセンサー）として用いることができる。
【０１１０】
本実施形態で使用されるタッチパネル用基材としては、透明基材上にタッチパネル用電極が設けられたものが挙げられる。透明基材２００としては、一般にタッチパネル（タッチセンサー）用として用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板等の基板が挙げられる。この基板上には、保護膜となる硬化膜を形成する対象となるタッチパネル用電極が設けられる。電極としては、ＩＴＯ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ等の電極、ＴＦＴなどが挙げられる。また、基板上には、基板と電極との間に絶縁層が設けられていてもよい。タッチパネル用基材は、４００〜７００ｎｍの波長域での最小光透過率が８５％以上であるものが好ましい。
【０１１１】
図１（ｂ）に示されるタッチパネル用電極２１０及び２２０を有するタッチパネル用基材は、例えば、以下の手順で得ることができる。ＰＥＴフィルム等の透明基材２００上に、ＩＴＯ、Ｃｕの順にスパッタ法により金属膜を形成した後、金属膜上にエッチング用感光性フィルムを貼り付け、所望のレジストパターンを形成し、不要なＣｕを塩化鉄水溶液等のエッチング液で除去した後、レジストパターンをはく離除去する。
【０１１２】
本実施形態の第１工程では、本実施形態の感光性エレメント１の保護フィルム３０を除去した後、感光性エレメント１を加熱しながら、タッチパネル用基材のタッチパネル用電極２１０及び２２０が設けられている表面に感光層２０を圧着することにより転写し、積層する（図１の（ｂ）を参照）。
【０１１３】
圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。
【０１１４】
加熱圧着する場合の加熱温度は、感光層２０とタッチパネル用基材との密着性、並びに、感光層２０とタッチパネル用電極２１０及び２２０との密着性を充分確保しながら、感光層２０の構成成分が熱硬化あるいは熱分解されにくいよう、１０〜１８０℃とすることが好ましく、２０〜１６０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることが更に好ましい。
【０１１５】
また、加熱圧着時の圧着圧力は、感光層２０とタッチパネル用基材との密着性を充分確保しながら、タッチパネル用基材の変形を抑制する観点から、線圧で５０〜１×１０５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０２〜５×１０４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０２〜４×１０４Ｎ／ｍとすることが更に好ましい。
【０１１６】
感光性エレメント１を上記のように加熱すれば、タッチパネル用基材を予熱処理することは必要ではないが、感光層２０とタッチパネル用基材との密着性を更に向上させる点から、タッチパネル用基材を予熱処理することが好ましい。このときの予熱温度は、３０〜１８０℃とすることが好ましい。
【０１１７】
本実施形態においては、感光性エレメントを用いる代わりに、本実施形態の感光性樹脂組成物及び溶媒を含有する塗布液を調製してタッチパネル用基材のタッチパネル用電極２１０及び２２０が設けられている表面に塗布し、乾燥して感光層２０を形成することができる。
【０１１８】
感光層２０は、上述した膜厚、可視光線透過率、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊、吸光度の条件を満たすことが好ましい。
【０１１９】
本実施形態の第２工程では、感光層２０の所定部分に、フォトマスク２３０を介して、活性光線Ｌをパターン状に照射する（図２の（ａ）を参照）。
【０１２０】
活性光線を照射する際、感光層２０上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま活性光線を照射することができ、不透明の場合には除去してから活性光線を照射する。感光層２０の保護という点からは、支持フィルム１０として透明な重合体フィルムを用い、この重合体フィルムを残存させたまま、それを通して活性光線を照射することが好ましい。
【０１２１】
活性光線Ｌの照射に用いられる活性光線の光源としては、公知の活性光源が使用でき、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等が挙げられ、紫外線を有効に放射するものであれば特に制限されない。
【０１２２】
このときの、活性光線Ｌの照射量は、通常、１×１０２〜１×１０４Ｊ／ｍ２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線照射量が、１×１０２Ｊ／ｍ２未満では、光硬化の効果が不充分となる傾向があり、１×１０４Ｊ／ｍ２を超えると、感光層２０が変色する傾向がある。
【０１２３】
本実施形態においては、３６５ｎｍにおける吸光度が０．４以下であり、３３４ｎｍにおける吸光度が０．４以上である感光層２０と、超高圧水銀灯、３５５ｎｍ、３６４ｎｍ等に発振をもつＵＶレーザなどの活性光線の光源との組合せが好ましい。
【０１２４】
本実施形態の第３工程では、活性光線の照射後の感光層を現像液で現像して活性光線が照射されていない部分（すなわち、感光層の所定部分以外）を除去し、電極の一部又は全部を被覆する厚みが１０μｍ以下の本実施形態の感光性樹脂組成物の硬化膜パターンからなる保護膜２２を形成する（図２の（ｂ）を参照）。形成される保護膜２２は所定のパターンを有することができる。
【０１２５】
なお、活性光線の照射後、感光層２０に支持フィルム１０が積層されている場合にはそれを除去した後、活性光線が照射されていない部分を現像液により除去する現像が行われる。
【０１２６】
現像方法としては、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により現像を行い、不要部を除去する方法等が挙げられ、中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いることが好ましいものとして挙げられる。
【０１２７】
アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミンなどが挙げられ、中でも、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいものとして挙げられる。
【０１２８】
また、炭酸ナトリウムの水溶液も好ましく用いられ、例えば、２０〜５０℃の炭酸ナトリウムの希薄溶液（０．５〜５質量％水溶液）が好適に用いられる。
【０１２９】
現像温度及び時間は、本実施形態の感光性樹脂組成物の現像性に合わせて調整することができる。
【０１３０】
また、アルカリ水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させることができる。
【０１３１】
また、現像後、光硬化後の感光層２０に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸、無機酸又はこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により酸処理（中和処理）することができる。
【０１３２】
さらに、酸処理（中和処理）の後、水洗する工程を行うこともできる。
【０１３３】
現像後、必要に応じて、活性光線の照射（例えば、５×１０３〜２×１０４Ｊ／ｍ２）により、硬化膜パターンを更に硬化させてもよい。なお、本実施形態の感光性樹脂組成物は、現像後の加熱工程なしでも金属に対して優れた密着性を示すが、必要に応じて、現像後の活性光線の照射の代わりに、又は活性光線の照射と合わせて、加熱処理（８０〜２５０℃）を施してもよい。
【０１３４】
上述のように、本実施形態の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、透明基材上に硬化膜を形成するための使用（硬化膜としての樹脂硬化膜パターン形成材料としての使用）、タッチパネル用基材の保護膜を形成するための使用（保護膜としての樹脂硬化膜パターン形成材料としての使用）等に好適である。感光性樹脂組成物の上記使用については溶媒と混合した塗布液を用いて保護膜を形成することができる。
【０１３５】
また、本発明は、本発明に係る感光性樹脂組成物を含む樹脂硬化膜パターン形成材料を提供することができる。この樹脂硬化膜パターン形成材料は、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物を含むことができ、更に上述した溶媒を含有する塗布液であることが好ましい。
【０１３６】
（電子部品及びその製造方法）
本実施形態に係る電子部品は、本実施形態に係る硬化膜付き透明基材を備える。硬化膜付き透明基材は、透明基材上に、本実施形態に係る感光性樹脂組成物の硬化物（硬化膜等）を備えている。本実施形態に係る電子部品において、硬化膜は、例えば、保護部材（保護膜等）、絶縁部材（絶縁膜等）などとして用いることもできる。
【０１３７】
本実施形態に係る電子部品としては、例えば、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、太陽電池モジュール、プリント配線板及び電子ペーパが挙げられる。
【０１３８】
以下、図３〜図５を参照しつつ、本実施形態に係る電子部品、及びその製造方法（硬化膜パターンの使用例、保護膜の使用箇所）について更に説明する。
【０１３９】
図３は、本発明の一実施形態に係る静電容量式タッチパネルの一例を示す模式平面図である。図４（ａ）は、図３中のＩＶａ−ＩＶａ線に沿った部分断面図であり、図４（ｂ）は、別の実施形態に係る静電容量式タッチパネルにおける図４（ａ）に対応する部分の部分断面図であり、図５は、静電容量式タッチパネルの別の例を示す模式平面図である。
【０１４０】
図３及び図４（ａ）に示されるタッチパネル（静電容量式タッチパネル）４００は、透明基板（透明基材）４０１の片面に、タッチ位置座標を検出するためのタッチ画面４０２を有している。透明基板４０１上には、タッチ画面４０２の領域の静電容量変化を検出するための透明電極４０３及び透明電極４０４が交互に配置されている。透明電極４０３，４０４は、それぞれタッチ位置の静電容量の変化を検出する。これにより、透明電極４０３は、Ｘ位置座標の信号を検出し、透明電極４０４は、Ｙ位置座標の信号を検出する。
【０１４１】
透明基板４０１上には、透明電極４０３，４０４において検出したタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための引き出し配線４０５が配置されている。引き出し配線４０５と、透明電極４０３，４０４とは、直接接続されていると共に、透明電極４０３，４０４上に配置された接続電極４０６を介して接続されている（図４（ａ）を参照）。なお、図４（ｂ）に示すように、引き出し配線４０５と、透明電極４０３，４０４とは、接続電極４０６を介さずに直接接続されていてもよい。引き出し配線４０５の一端は、透明電極４０３，４０４に接続されており、引き出し配線４０５の他端は、外部回路と接続するための接続端子４０７に接続されている。
【０１４２】
引き出し配線４０５、接続電極４０６及び接続端子４０７上には保護膜４２２が配置されている。図４（ａ）に示す部分断面図においては、透明電極４０４の一部、並びに、引き出し配線４０５及び接続電極４０６の全部が保護膜４２２で覆われている。本実施形態に係る感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、引き出し配線４０５、接続電極４０６及び接続端子４０７を保護するための保護膜４２２として硬化物（硬化膜パターン）を形成するために好適に用いることができる。
【０１４３】
また、このような保護膜４２２は、センシング領域にある電極を同時に保護することもできる。例えば、図３では、保護膜４２２により、引き出し配線４０５、接続電極４０６、センシング領域の一部の電極、及び、接続端子４０７の一部を保護している。保護膜を配置する位置は適宜変更してもよい。例えば、図５に示すように、タッチ画面４０２を全て保護するように保護膜４２３を配置してもよい。
【０１４４】
上記タッチパネルは、例えば、上述した保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法（図１（ｂ）、図２を参照）と同様にして作製することができる。
【０１４５】
本実施形態に係る感光性エレメントを用いたタッチパネル４００の製造方法について説明する。まず、透明基板４０１上に、Ｘ位置座標を検出するための透明電極４０３を形成する。続いて、絶縁層（図示せず）を介して、Ｙ位置座標を検出するための透明電極４０４を形成する。透明電極４０３，４０４の形成方法としては、例えば、透明基板４０１上に配置された透明電極層をエッチングする方法を用いることができる。
【０１４６】
次に、透明基板４０１上に、外部回路と接続するための引き出し配線４０５、及び、引き出し配線４０５と透明電極４０３，４０４とを接続する接続電極４０６を形成する。引き出し配線４０５及び接続電極４０６は、透明電極４０３，４０４の形成後に形成してもよく、透明電極４０３，４０４の形成時に同時に形成してもよい。引き出し配線４０５及び接続電極４０６の形成方法としては、例えば、金属スパッタリング後にエッチングする方法を用いることができる。引き出し配線４０５は、例えば、フレーク状の銀を含有する導電ペースト材料を用いて、スクリーン印刷法により、接続電極４０６の形成時に同時に形成することができる。次に、引き出し配線４０５と外部回路とを接続するための接続端子４０７を形成する。
【０１４７】
前記工程により透明基材４０１上に形成された透明電極４０３、透明電極４０４、引き出し配線４０５、接続電極４０６及び接続端子４０７を覆うように、本実施形態に係る感光性エレメントの感光層２０を圧着し、これらの構成部材上に感光層２０を転写する。次に、所望の形状のフォトマスクを介して、感光層２０に対してパターン状に活性光線Ｌを照射して光硬化部を形成する。活性光線Ｌを照射した後、現像を行い、感光層２０における光硬化部以外の部分を除去する。これにより、感光層２０の光硬化部からなる保護膜４２２が形成される。以上により、保護膜４２２を備えるタッチパネル（保護膜４２２付きタッチパネル用基材を備えるタッチパネル）４００を製造することができる。
【０１４８】
次に、図６〜１０を用いて、感光性エレメントを用いて得られる電子部品及びその製造方法の第３実施形態として、透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネル及びその製造方法の一例を説明する。図６は、タッチパネルの一例を示す模式平面図である。図７は、図６の一部切欠き斜視図である。図８は、図７のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線に沿った部分断面図である。図９は、タッチパネルの製造方法を説明するための一部切欠き斜視図であり、図９（ａ）は、透明電極を備える基板を示す一部切欠き斜視図であり、図９（ｂ）は、静電容量式タッチパネルを示す一部切欠き斜視図である。図１０は、タッチパネルの製造方法を説明するための部分断面図であり、図１０（ａ）は、図９（ａ）のＸａ−Ｘａ線に沿った部分断面図であり、図１０（ｂ）は、絶縁膜を形成する工程を示す部分断面図であり、図１０（ｃ）は、図９（ｂ）のＸｃ−Ｘｃ線に沿った部分断面図である。
【０１４９】
図６〜８に示すタッチパネル（静電容量式タッチパネル）５００は、透明基板（透明基材）５０１上に、静電容量変化を検出する透明電極５０３及び透明電極５０４を有している。透明電極５０３は、Ｘ位置座標の信号を検出する。透明電極５０４は、Ｙ位置座標の信号を検出する。透明電極５０３及び透明電極５０４は、同一平面上に存在している。透明電極５０３，５０４には、タッチパネルとしての電気信号を制御するドライバ素子回路（図示せず）の制御回路に接続するための引き出し配線５０５ａ及び引き出し配線５０５ｂが接続されている。透明電極５０３と透明電極５０４とが交差する部分において透明電極５０３と透明電極５０４との間には、絶縁膜５２４が配置されている。
【０１５０】
図９〜１０を用いて、タッチパネル５００の製造方法について説明する。タッチパネル５００の製造方法では、例えば、透明導電材料を用いた公知の方法により、透明電極５０３、及び、透明電極５０４を形成するための導電材料部が透明基板５０１上に予め形成された基板を用いてもよい。例えば、図９（ａ）及び図１０（ａ）に示すように、透明電極５０３と、透明電極５０４を形成するための導電材料部５０４ａとが予め形成された基板を用意する。次に、図１０（ｂ）に示すように、透明電極５０３及び透明電極５０４が交差することとなる透明電極５０３の一部（透明電極５０３における導電材料部５０４ａ同士に挟まれる部分）上に、本実施形態に係る感光性樹脂組成物を含む感光層を設け、露光及び現像することにより絶縁膜５２４を形成する。続いて、図９（ｂ）及び図１０（ｃ）に示すように、公知の方法により、透明電極５０４のブリッジ部５０４ｂとして導電パターンを絶縁膜５２４上に形成する。導電材料部５０４ａ同士をブリッジ部５０４ｂにより導通することにより透明電極５０４が形成される。そして、引き出し配線５０５ａ，５０５ｂを形成することによりタッチパネル５００が得られる。本実施形態に係る感光性エレメントは、絶縁膜５２４として硬化物（硬化膜パターン）を形成するために好適に用いることができる。
【０１５１】
透明電極５０３，５０４は、例えば、ＩＴＯ等を用いた公知の方法により形成されていてもよい。引き出し配線５０５ａ，５０５ｂは、透明導電材料の他、Ｃｕ、Ａｇ等の金属などを用いた公知の方法で形成することができる。また、タッチパネル５００の製造方法では、引き出し配線５０５ａ，５０５ｂが予め形成された基板を用いてもよい。
【０１５２】
次に、図１１を用いて、電子部品の第４実施形態として、タッチパネルの一例を説明する。図１１は、タッチパネルの一例を示す部分平面図である。図１１に示されるタッチパネル６００は、タッチパネルの狭額縁化を意図したものである。
【０１５３】
タッチパネル６００は、透明基板（透明基材）６０１、透明電極６０４、配線（透明電極配線）６０４ａ、引き出し配線６０５及び絶縁膜（絶縁フィルム、例えば透明絶縁膜）６２５を有している。透明電極６０４及び配線６０４ａは、透明基板６０１上に配置されている。配線６０４ａは、透明電極６０４から延びている。絶縁膜６２５は、透明電極６０４の端部、及び、配線６０４ａ上に配置されている。引き出し配線６０５は、絶縁膜６２５上に配置されている。一部の透明電極６０４の端部の上方において、絶縁膜６２５に開口部６０８が形成されている。透明電極６０４及び引き出し配線６０５は、開口部６０８を介して接続及び導通されている。本実施形態に係る感光性エレメントは、絶縁膜６２５として硬化物（樹脂硬化膜パターン）を形成するために好適に用いることができる。
【実施例】
【０１５４】
以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１５５】
［バインダーポリマー溶液（Ａ１）の作製］
撹拌機、還流冷却器、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が６５，０００のバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ１）を得た。
【０１５６】
【表１】
2015014783.tif 000013
【０１５７】
なお、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの測定条件を以下に示す。
＜ＧＰＣ測定条件＞
ポンプ：日立  Ｌ−６０００型（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
試料濃度：ＮＶ（不揮発分濃度）５０質量％の樹脂溶液を１２０ｍｇ採取、５ｍＬのＴＨＦに溶解
注入量：２００μＬ
圧力：４．９ＭＰａ
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立  Ｌ−３３００型ＲＩ（株式会社日立製作所製、製品名）
【０１５８】
［酸価の測定方法］
また、酸価は、次のようにして測定した。まず、バインダーポリマーの溶液を、１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、酸価を測定すべきポリマー１．０ｇを精秤した後、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、バインダーポリマーのアセトン溶液を中和するのに必要なＫＯＨのｍｇ数を次式により算出し、酸価を求めた。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の重量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
【０１５９】
（実施例１）
［感光性樹脂組成物を含有する塗布液（Ｖ−１）の調製］
表２に示す材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、硬化膜を形成するための感光性樹脂組成物を含有する塗布液を調製した。
【０１６０】
【表２】
2015014783.tif 000014
【０１６１】
［感光性エレメント（Ｅ−１）の作製］
支持フィルムとして厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、上記で調製した感光性樹脂組成物を含有する塗布液を支持フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶媒を除去し、感光性樹脂組成物からなる感光層（感光性樹脂組成物層）を形成した。得られた感光層の厚さは５μｍであった。
【０１６２】
次いで、得られた感光層の上に、さらに、２５μｍの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィルムとして張り合わせて、硬化膜を形成するための感光性エレメント（Ｅ−１）を作製した。
【０１６３】
［硬化膜の透過率の測定］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ１ｍｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、このときの線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
【０１６４】
次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置した。厚み５．０μｍの感光層の硬化膜（硬化膜パターン）を有する透過率測定用試料を得た。
【０１６５】
次いで、得られた試料を分光光度計Ｕ−３３１０（株式会社日立製作所製）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍで可視光透過率の最小値を測定した。
【０１６６】
得られた硬化膜の可視光透過率最小値は、９２．０９％であり、良好な透過率を確保できていた。
【０１６７】
［硬化膜のｂ＊の測定］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）の保護フィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光層及び支持体フィルムが積層された基板を作製した。
【０１６８】
次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置した。厚み５．０μｍの感光層の硬化物からなる保護膜（硬化膜パターン）を有するｂ＊測定用試料を得た。
【０１６９】
次いで、得られた試料をコニカミノルタ株式会社製、分光測色計（ＣＭ−５）を使用して、光源設定Ｄ６５、視野角２°でＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊を測定した。
【０１７０】
硬化膜のｂ＊は０．５３であり、良好なｂ＊を有していることが確認された。
【０１７１】
［感光層の感光特性］
ＰＥＴフィルム（厚さ１２５μｍ、東洋紡績製、商品名Ａ４３００）に感光性エレメントのカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、ラミネータ（日立化成株式会社製、商品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａの条件でラミネートした。活性光線の照射は、高圧水銀灯を有する露光機（株式会社オーク製作所製）ＥＸＭ―１２０１のマイラーＰＥＴ上に設置し、そのフィルターを介して所定量の活性光線を照射することにより行った。活性光線の照射後から室温で１０分間放置した後、支持フィルムであるポリエチレンテレフタレートを除去し、３０℃の１％炭酸ナトリウム水溶液で活性光線が照射されていない部分の感光性樹脂組成物層を６０秒間スプレー現像した。スプレー現像後、株式会社オーク製作所製の紫外線照射装置を使用して１Ｊ／ｃｍ２の紫外線照射を行った。評価における感度は、日立化成株式会社製の４１段ステップタブレットにて６／２１段を得るための必要量の露光量とした。また、ライン幅／スペース幅が６／６〜４７／４７（単位：μｍ）の配線パターンを有するＰＥＴ製のフォトマスクを密着させ、６／２１段得られる露光量におけるパターンを光学顕微鏡により観察し、ライン・アンド・スペースとして残ったライン幅（μｍ）から解像度（μｍ）を求めた。
【０１７２】
［硬化膜の塩水噴霧試験（人工汗液耐性評価試験）］
得られた感光性エレメントのカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工株式会社製）上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
【０１７３】
次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置した。厚み５．０μｍの硬化膜が形成された人工汗液耐性評価用試料を得た。
【０１７４】
次いで、ＪＩＳ規格（Ｚ  ２３７１）を参考に、塩水噴霧試験機（スガ試験機株式会社製、ＳＴＰ−９０Ｖ２）を用いて、試験槽内に前述の試料を載置し、濃度５０ｇ／Ｌの塩水（ｐＨ＝６．７）を試験槽温度３５℃、噴霧量１．５ｍＬ／ｈで４８時間噴霧した。噴霧終了後、塩水を拭き取って、評価用試料の表面状態を観察し、以下の評点に従って評価した。表３に測定結果を示す。
Ａ  ：  保護膜表面に全く変化なし。
Ｂ  ：  保護膜表面にごくわずかな痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｃ  ：  保護膜表面に痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｄ  ：  保護膜表面に痕跡があり、かつ銅が変色する。
【０１７５】
（実施例２〜５、比較例１〜７）
表２及び表３に示す感光性樹脂組成物を含有する塗布液を用いた以外は、実施例１と同様に感光性エレメントを作製し、透過率の測定、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊、感光特性、塩水噴霧について評価した。なお、表２及び表３中の数値は質量部を示している。
【０１７６】
【表３】
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【０１７７】
表２及び表３の成分の記号は以下の意味を示す。
（Ａ）成分
（Ａ１）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１２／５８／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量６５，０００、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ
【０１７８】
（Ｂ）成分
Ｔ−１４２０：ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｔ−１４２０（Ｔ）、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬株式会社製）
【０１７９】
（Ｃ）成分
ＮＣＩ−９３０：アデカクルーズＮＣＩ−９３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）
Ｎ−１９１９：アデカオプトマーＮ−１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製）
ＤＦＩ−０９１：ダイトーケミックス株式会社製
他の光重合開始剤
ＮＣＩ−８３１：アデカクルーズＮＣＩ−８３１（株式会社ＡＤＥＫＡ製）
ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０２：エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（ＢＡＳＦ株式会社製）
ＤＦＩ−０２０：ダイトーケミックス株式会社製
Ｉ−９０７：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＢＡＳＦ株式会社製）
ＤＥＴＸ：ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＸ−Ｓ、２，４―ジエチルチオキサントン（日本化薬株式会社製）
Ｉ−２９５９：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２９５９、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ株式会社製）
Ｎ−１７１７：１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン（株式会社ＡＤＥＫＡ製）
２−ＭＢＩ：２−メルカプトベンゾイミダゾール（東京化成工業株式会社製）
ＥＡＢ：４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（保土ヶ谷化学株式会社製）
【０１８０】
その他
ＡＷ５００：Ａｎｔａｇｅ  Ｗ−５００、２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（川口化学株式会社製）
ＰＭ２１：光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル（日本化薬株式会社製）
Ｂ−６０３０：５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール（千代田ケミカル株式会社製、商品名：チオエールＢ−６０３０）
ＳＨ−３０：シリコーンレベリング剤（東レ・ダウコーニング株式会社製）
メチルエチルケトン：東燃化学株式会社製
【０１８１】
下記表４に示すように、光重合開始剤として上記特定のオキシムエステル化合物を用いた実施例１〜４においては、５μｍの膜厚において高い透明性を有しながら、高い防錆性（塩水噴霧試験）を両立することができた。一方、比較例１、５においては、高い防錆性（塩水噴霧試験）を得ることができたが、黄色味が強かった。また、比較例１では解像度の低下が大きかった。比較例２〜４及び６〜７においては、高い防錆性（塩水噴霧試験）を得ることができなかった。
【０１８２】
【表４】
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【符号の説明】
【０１８３】
１…感光性エレメント、１０…支持フィルム、２０…感光層、２２，４２２，４２３…保護膜、３０…保護フィルム、２００…透明基材、２１０，２２０…タッチパネル用電極、２３０…フォトマスク、３００…保護膜付きタッチパネル用基材、４００，５００，６００…タッチパネル、４０１，５０１，６０１…透明基板、４０２…タッチ画面、４０３，４０４，５０３，５０４，６０４…透明電極、４０５，５０５ａ，５０５ｂ，６０５…引き出し配線、４０６…接続電極、４０７…接続端子、５０４ａ…導電材料部、５０４ｂ…ブリッジ部、５２４，６２５…絶縁膜、６０４ａ…配線（透明電極配線）、６０８…開口部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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