(57)【要約】【課題】マスクの上側面に突出した溶接ビードによってマスクの上側面に密着する基板の損傷を防止し、マスクとマスクフレームの溶接によってマスクに形成された蒸着用パターンが損傷するのを防止できる蒸着用マスク組立体を提供する。【解決手段】  本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体は、蒸着パターンが形成されたマスクと、マスクの周縁が固定されるとともに、中央に開口部が形成されたマスクフレームと、を含み、互いに対向するマスクの周縁に形成された第１面と、開口部に隣接したマスクフレームの第１面とが互いに溶接される。【選択図】図１
2015004129.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着パターンが形成されたマスクと、
前記マスクの周縁が固定されるとともに、中央に開口部が形成されたマスクフレームと、を含み、
互いに対向する前記マスクの前記周縁に形成された第１面と、前記開口部に隣接した前記マスクフレームの第１面とが互いに溶接される、蒸着用マスク組立体。
【請求項２】
前記マスクフレームの前記第１面を貫く複数の溶接孔が形成される、請求項１に記載の蒸着用マスク組立体。
【請求項３】
前記複数の溶接孔は、前記開口部の周りに沿って形成される、請求項２に記載の蒸着用マスク組立体。
【請求項４】
前記開口部は四角形状である、請求項１〜３のいずれか１つに記載の蒸着用マスク組立体。
【請求項５】
前記マスクフレームは、前記マスクフレームの前記第１面から下方に延長された第２面をさらに含む、請求項１〜４のいずれか１つに記載の蒸着用マスク組立体。
【請求項６】
前記第２面は、前記開口部の周りに沿って閉曲線を形成する、請求項５に記載の蒸着用マスク組立体。
【請求項７】
前記マスクフレームは、前記マスクフレームの前記第２面と対向する第３面をさらに含む、請求項５または請求項６に記載の蒸着用マスク組立体。
【請求項８】
前記第３面は、前記第２面の外側に形成される、請求項７に記載の蒸着用マスク組立体。
【請求項９】
互いに対向する前記第２面及び第３面の間に溶接棒が挿入される溶接棒挿入溝が形成される、請求項７または請求項８に記載の蒸着用マスク組立体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着用マスク組立体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
表示装置、特に有機発光表示装置は、基板上に薄膜を蒸着して製造される。現在、表示装置の薄膜を蒸着することに使用される蒸着用マスク組立体は、通常、フォトリソグラフィ法を適用したエッチング法、及びフォトリソグラフィ法と電気分解法を利用した電鋳法を利用して製作される。このような蒸着用マスク組立体は、蒸着対象物、即ち、表示素子が形成される基板に配置し、蒸着マスクを通じて蒸着物を基板に提供することによって、所望の形態のパターンを基板上に蒸着する。
【０００３】
一般に、マスク組立体は、マスクとマスクフレームを溶接して固定するが、マスク上側に溶接ビード（ｗｅｌｄ  ｂｅａｄ）が突出して形成される。これにより、蒸着工程時に基板をマスクの上側面に密着させると、突出した溶接ビードによって基板が損傷する問題が発生する。
【０００４】
また、マスクとマスクフレームを溶接する過程で、溶接破片が飛び散ってマスク上に存在する蒸着用パターンを損傷させる問題が発生する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の一実施形態は、マスクの上側面に突出した溶接ビードによってマスクの上側面に密着する基板の損傷を防止し、マスクとマスクフレームの溶接によってマスクに形成された蒸着用パターンが損傷するのを防止できる蒸着用マスク組立体を提供することに目的がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体は、蒸着パターンが形成されたマスクと、前記マスクの周縁が固定されるとともに、中央に開口部が形成されたマスクフレームと、を含み、互いに対向する前記マスクの前記周縁に形成された第１面と、前記開口部に隣接した前記マスクフレームの第１面とが互いに溶接される。
【０００７】
このとき、前記マスクフレームの前記第１面を貫く複数の溶接孔が形成されてもよい。
【０００８】
このとき、前記複数の溶接孔は、前記開口部の周りに沿って形成されてもよい。
【０００９】
このとき、前記開口部は、四角形状に形成してもよい。
【００１０】
このとき、前記マスクフレームは、前記マスクフレームの前記第１面から下方に延長された第２面をさらに含んでもよい。
【００１１】
このとき、前記第２面は、前記開口部の周りに沿って閉曲線を形成してもよい。
【００１２】
このとき、前記マスクフレームは、前記マスクフレームの前記第２面と対向する第３面をさらに含んでもよい。
【００１３】
このとき、前記第３面は、前記第２面の外側に形成されてもよい。
【００１４】
このとき、互いに対向する前記第２面及び第３面の間に溶接棒が挿入される溶接棒挿入溝が形成されてもよい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体は、マスクの上側面に突出した溶接ビードによる基板の損傷を防止し、マスクとマスクフレームの溶接によるマスクに形成された蒸着用パターンの損傷を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体の平面図である。
【図２】本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体の側面図である。
【図３】図２に示されたマスクとマスクフレームの結合過程を示す。
【図４】図２に示されたマスクとマスクフレームの結合過程を示す。
【図５】図２に示されたマスクとマスクフレームの結合過程を示す。
【図６】本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体を利用して蒸着工程を行う状態図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、添付した図面を参照しながら、本発明の実施形態について本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は種々の異なる形態に実現でき、ここで説明する実施形態に限られない。図面において、本発明を明確に説明するために説明上不必要な部分は省略し、明細書の全体にわたって同一または類似する構成要素に対しては同一の参照符号を付けた。
【００１８】
また、図面において、各構成の大きさ及び厚さは、説明の便宜のために任意で示したので、本発明が必ずしも示されたものに限られることではない。
【００１９】
図面における種々の層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。また、図面において、説明の便宜のために、一部層及び領域の厚さを誇張して示した。層、膜、領域、板などの部分が他の部分「の上」に、または「上」にあるというとき、これは他の部分の「すぐ上」にある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も含み、必ずしも重力方向を基準として上側に位置するのを意味することではない。
【００２０】
また、明細書の全体において、ある部分がある構成要素を「含む」というとき、これは特に反対になる記載がない限り、他の構成要素を除くことではなく、他の構成要素をさらに含んでもよいことを意味する。
【００２１】
図１及び図２を参照すれば、本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体は、マスク組立体の製造過程でマスクに形成された蒸着パターンの損傷を防止し、マスクとマスクフレームを互いに溶接する溶接ビード（ｗｅｌｄ  ｂｅａｄ）による蒸着対象物である基板の損傷を防止することができる。
【００２２】
本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体は、マスク１００と、マスクフレーム２００とを含む。
【００２３】
図１を参照すれば、マスク１００は四角の板状であってもよい。しかし、マスク１００の形状はこれに限定されず、多様な形状にしてもよい。
【００２４】
このとき、マスク１００には蒸着パターン１１０が形成される。蒸着パターン１１０は、マスク表面を貫く複数の開口が一定の形態でマスク表面に形成されたものである。微細蒸着物が前記蒸着パターンを貫いて蒸着対象物の基板に蒸着されることによって、基板に所望の形態のパターンで薄膜が形成される。
【００２５】
このとき、マスク１００の周縁１２０はマスクフレーム２００に固定される。蒸着工程中マスク１００に形成された蒸着パターン１１０が動かないように、マスク１００はマスクフレーム２００に固く固定される。
【００２６】
本発明の一実施形態によれば、マスク１００の周縁１２０に形成された第１面１２１が、マスクフレーム２００の第１面２３１に結合する。さらに詳細には、マスク１００の周縁１２０の第１面１２１が、前記マスク１００の周縁１２０の第１面１２１と互いに対向するマスクフレーム２００の第１面２３１に結合する。
【００２７】
マスク１００の周縁１２０は、溶接によってマスクフレーム２００に結合する。本発明の一実施形態によれば、マスク１００の周縁１２０の第１面１２１がマスクフレーム２００の第１面２３１に溶接される。
【００２８】
このとき、マスクフレーム２００にはマスクフレーム２００の第１面２３１に沿って複数の溶接孔２１０が形成される。
【００２９】
図３及び図４を参照すれば、複数の溶接孔２１０は、マスクフレーム２００の第１面２３１を貫いて形成される。マスクフレーム２００の下方で溶接棒６００を利用して、複数の溶接孔２１０を通じて露出されるマスク１００の周縁１２０の第１面１２１を溶接する。
【００３０】
このとき、図２に示されているように、溶接によって発生する溶接ビード３００がマスクフレーム２００の下方に突出する。
【００３１】
図１及び図２を参照すれば、マスクフレーム２００は四角の枠形状に形成されてもよい。即ち、マスクフレーム２００は、中央に四角形状の開口部１３０が形成された枠形状であってもよい。
【００３２】
このとき、マスクフレーム２００の開口部を通じてマスク１００の蒸着パターン１１０が露出されるように、マスク１００の周縁１２０がマスクフレーム２００に固定される。即ち、マスク１００の周縁１２０が開口部１３０の周縁２３０に固定される。
【００３３】
図２を参照すれば、マスクフレーム２００にはマスクフレーム２００の第１面２３１から下方に延長された第２面２３２が形成される。
【００３４】
マスクフレーム２００の第２面２３２は、溶接時発生する火花によって蒸着パターン１１０が損傷するのを防止する。即ち、マスクフレーム２００の第２面２３２は、溶接火花が蒸着パターン１１０に飛散するのを防止する障壁（ｆｅｎｃｅ）の役割を果たす。
【００３５】
さらに詳細には、溶接時発生する溶接火花が、マスクフレーム２００の開口部１３０を通じてマスク１００の蒸着パターン１１０に飛散するのを防止することができる。
【００３６】
このとき、マスクフレーム２００の第２面２３２は、開口部１３０の周りに沿って閉曲線を形成してもよい。さらに詳細には、第２面２３２は開口部１３０の周りを取り囲むように形成され、これによって溶接火花が開口部１３０を通じて蒸着パターン１１０に飛散するのを防止することができる。
【００３７】
一方、本発明の一実施形態によれば、マスクフレーム２００は、前記第２面２３２と互いに対向する第３面２３３をさらに含んでもよい。このとき、第３面２３３は第２面２３２の外側に形成される。
【００３８】
そして、第３面２３３は、第２面２３２と同様に、第２面２３２の周りに沿って閉曲線を形成してもよい。
【００３９】
図２に示されているように、第２面２３２と第３面２３３とが互いに対向することによって、溶接棒６００が投入される溶接棒挿入溝２２０が形成される。
【００４０】
溶接棒挿入溝２２０が形成されると、溶接時発生する溶接火花などがマスクフレーム２００の側面方向、即ち、外側方向に飛散するのを防止することができる。
【００４１】
このとき、溶接棒挿入溝２２０は、複数の溶接孔２１０と平行に形成されてもよい。そして、溶接棒挿入溝２２０は、図２に示されているように、一定の深さを有するように形成される。溶接棒挿入溝２２０は、溶接棒から発生する火花などがマスク１００の蒸着パターン１１０に飛散しないほどの深さを有する。
【００４２】
図３乃至図５を参照すれば、マスク１００がマスクフレーム２００に固定される過程が分かる。
【００４３】
図３及び図４において、マスク１００の周縁１２０がマスクフレーム２００の開口部の周縁２３０上側に位置する。
【００４４】
次に、図５に示されているように、溶接孔２１０を通じた溶接によって、マスク１００の周縁１２０の第１面１２１と、開口部１３０の第１面２３１とが互いに結合する。
【００４５】
このとき、マスク１００の第１面１２１を溶接することによって、溶接ビード３００がマスク１００の下方に突出する。即ち、図６に示されているように、基板４００と接触するマスク１００の上側面と反対方向に溶接ビード３００が突出する。
【００４６】
図６を参照すれば、基板に薄膜を形成する過程は、基板４００をマスク１００の上側面に接触させて、マスク１００下方で蒸着装置５００から出てきた微細な蒸着物質を基板４００上に蒸着させて行われる。
【００４７】
このとき、基板４００とマスク１００の上側面との間に溶接ビード３００が存在しないので、溶接ビード３００による基板の損傷を防止することができる。
【００４８】
本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体は、マスク１００とマスクフレーム２００を溶接する溶接ビードがマスク１００の下方に突出して、蒸着過程における基板の損傷を防止することができ、溶接時発生する火花などによるマスク１００の蒸着パターン１２０の損傷を防止することができる。
【００４９】
以上、本発明は限定された実施形態と図面を通じて説明されたが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者によって、本発明の技術思想と特許請求の範囲の均等範囲内で多様な修正及び変形が可能である。
【符号の説明】
【００５０】
１００  マスク、
１１０  蒸着パターン、
１２０  周縁、
１２１，２３１  第１面、
２３２  第２面、
２３３  第３面、
１３０  開口部、
２００  マスクフレーム、
２１０  溶接孔、
２２０  溶接棒挿入溝、
２３０  周縁、
３００  溶接ビード、
４００  基板、
５００  蒸着装置、
６００  溶接棒。
【図１】
2015004129.tif 000003
【図２】
2015004129.tif 000004
【図３】
2015004129.tif 000005
【図４】
2015004129.tif 000006
【図５】
2015004129.tif 000007
【図６】
2015004129.tif 000008