(57)【要約】【課題】本願発明の目的は、新規な薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供することである。【解決手段】本発明の一実施形態による薄膜形成装置は、第１有機材料が貯蔵される第１貯蔵部と、第１貯蔵部と連結され、第１貯蔵部に貯蔵される第１有機材料を噴射する第１ノズル部と、第１ノズル部に隣接するように配置され、噴射された第１有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第１光照射部と、第２有機材料が貯蔵される第２貯蔵部と、第１ノズル部に隣接するように配置され、第２貯蔵部と連結され、第２貯蔵部に貯蔵される第２有機材料を噴射する第２ノズル部と、第２ノズル部に隣接するように配置され、噴射された第２有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第２光照射部と、を含む。【選択図】図１
2015130315.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１有機材料が貯蔵される第１貯蔵部と、
前記第１貯蔵部と連結された第１ノズル部であって、前記第１貯蔵部に貯蔵される前記第１有機材料を噴射する第１ノズル部と、
前記第１ノズル部に隣接するように配置された第１光照射部であって、前記第１有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第１光照射部と、
第２有機材料が貯蔵される第２貯蔵部と、
前記第１ノズル部に隣接するように配置された第２ノズル部であって、前記第２貯蔵部と連結されており、前記第２貯蔵部に貯蔵される前記第２有機材料を噴射する第２ノズル部と、
前記第２ノズル部に隣接するように配置された第２光照射部であって、前記第２有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第２光照射部と、
を含む薄膜形成装置。
【請求項２】
前記第１貯蔵部及び前記第２貯蔵部は、液状形態の前記第１有機材料及び前記第２有機材料を貯蔵し、前記第１有機材料及び前記第２有機材料を気化させる第１気化部及び第２気化部をさらに含む、請求項１に記載の薄膜形成装置。
【請求項３】
前記第１光照射部は、前記第１有機材料を硬化させる波長を有する光を照射し、前記第２光照射部は前記第２有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する、請求項１に記載の薄膜形成装置。
【請求項４】
長さ方向に延在し、並列に配置される第１ノズル部及び第２ノズル部と、
前記第１ノズル部と接続された第１貯蔵部であって、第１有機材料を貯蔵する第１貯蔵部と、
前記第２ノズル部と接続された第２貯蔵部であって、第２有機材料を貯蔵する第２貯蔵部と、
前記第１ノズル部の一側に隣接するように配置された第１光照射部、前記第１ノズル部と並列に延在される第１光照射部と、
前記第２ノズル部の他側に隣接するように配置された第２光照射部、前記第２ノズル部と並列に延在される第２光照射部と、
を含む薄膜形成装置。
【請求項５】
前記第１ノズル部及び前記第２ノズル部の上に、前記第１ノズル部及び前記第２ノズル部と対向するように基板が配置され、
前記基板の幅は、前記薄膜形成装置の延在方向の長さと対応する、請求項４に記載の薄膜形成装置。
【請求項６】
前記基板は、前記長さ方向に対して垂直な第１方向または前記第１方向と異なる第２方向に水平移動する、請求項５に記載の薄膜形成装置。
【請求項７】
前記基板が前記第１方向に移動することにより、前記基板上に薄膜が形成される第１スキャン、及び、前記基板が前記第２方向に移動することにより、前記基板上に薄膜が形成される第２スキャンが定義される、請求項６に記載の薄膜形成装置。
【請求項８】
前記第１スキャンの際、前記第１ノズル部は前記第１有機材料を前記基板に提供し、前記第１光照射部は、前記基板に向かって前記第１有機材料を硬化させる波長を有する第１紫外線を照射し、
前記第２スキャンの際、前記第２ノズル部は前記第２有機材料を前記基板に提供し、前記第２光照射部は、前記基板に向かって前記第２有機材料を硬化させる波長を有する第２紫外線を照射する、請求項７に記載の薄膜形成装置。
【請求項９】
前記第１スキャンの際、前記第１ノズル部及び前記第２ノズル部は、前記第１有機材料及び前記第２有機材料を前記基板に提供し、前記第１光照射部及び前記第２光照射部は、前記第１有機材料を硬化させる第１紫外線及び前記第２有機材料を硬化させる第２紫外線を前記基板に照射する、請求項７に記載の薄膜形成装置。
【請求項１０】
前記第１スキャンが行われた後、前記基板は前記長さ方向に沿って一定間隔シフトする、請求項７に記載の薄膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜形成装置及び薄膜形成方法に関し、より詳細には基板上に有機薄膜を形成する薄膜形成装置及び薄膜形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光素子は、自発光型素子であって、厚さを薄くし、かつ曲げられるディスプレイなどのような多様な製品に応用ことができる。しかし、このような有機発光素子は外部環境から流入する水分と酸素などに露出される場合、素子特性が急激に劣化する傾向がある。
【０００３】
したがって、有機発光素子を構成した後、カンやガラス基板を使用して封止するが、一般的にはＵＶあるいは熱硬化型エポキシやアクリルのような高分子材料をシーラント（ｓｅａｌａｎｔ）材として使用する。しかし、高分子材料は水分に対する防湿力が落ちるため、時間の経過につれ、有機発光素子側に流入する水分と酸素の影響によって輝度などのような特性が劣化し、寿命が減少する。これを防止するため、水分を吸湿する吸湿材をデバイスの内部に装着して、シーラントを通過した水分が有機発光素子に影響を与えることを防止する。しかし、このような方式は製造工程を複雑にし、ディスプレイ装置の重さ及び大きさが増加する問題点を引き起こす。
【０００４】
このような問題点を解決するため、表示素子を保護膜で覆い、封止する薄膜封止（ｆｉｌｍ  ｅｎｃａｐｓｕｌａｔｉｏｎ）技術が提案された。このような薄膜封止は有機膜または無機膜が少なくとも一回積層された積層構造を有する。このような積層構造を有する封止膜を形成するためには、基板上に薄膜を形成する技術が必要であり、このような必要に応じて基板上に薄膜を形成する装置及び方法に対する多様な技術的試みが行われている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、基板上に少なくとも一つの有機薄膜を形成する薄膜形成装置を提供することにある。
【０００６】
本発明が解決しようとする他の課題は、基板上に複数の有機膜を形成することにおいて、その工程時間を短縮させる薄膜形成装置を提供することにある。
【０００７】
本発明が解決しようとする他の課題は、基板上に少なくとも一つの有機薄膜を形成する薄膜形成方法を提供することにある。
【０００８】
本発明が解決しようとする他の課題は、基板上に複数の有機膜を形成することにおいて、その工程時間を短縮させる薄膜形成方法を提供することにある。
【０００９】
本発明の課題は、以上で言及した技術的課題に制限されず、言及されていない技術的課題又は他の技術的課題はこれ以降の記載から当業者に明確に理解できるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するための本発明の一実施形態による薄膜形成装置は、第１有機材料が貯蔵される第１貯蔵部と、第１貯蔵部と連結された第１ノズル部であって、第１貯蔵部に貯蔵される第１有機材料を噴射する第１ノズル部と、第１ノズル部に隣接するように配置された第１光照射部であって、噴射された第１有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第１光照射部と、第２有機材料が貯蔵される第２貯蔵部と、第１ノズル部に隣接するように配置された第２ノズル部であって、第２貯蔵部と連結されており、第２貯蔵部に貯蔵される第２有機材料を噴射する第２ノズル部と、第２ノズル部に隣接するように配置された第２光照射部であって、噴射された第２有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第２光照射部と、を含む。
【００１１】
前記課題を解決するための本発明の一実施形態による薄膜形成装置は、長さ方向に延長形成されて並列に配置される第１ノズル部及び第２ノズル部と、第１ノズル部に接続された第１貯蔵部であって、第１有機材料を貯蔵する第１貯蔵部と、第２ノズル部と接続された第２貯蔵部であって、第２有機材料を貯蔵する第２貯蔵部と、第１ノズル部の一側に隣接するように配置された第１紫外線ランプであって、第１ノズル部と並列に延長される第１紫外線ランプと、第２ノズル部の他側に隣接するように配置された第２紫外線ランプであって、第２ノズル部と並列に延長される第２紫外線ランプと、を含む。
【００１２】
前記課題を解決するための本発明の一実施形態による薄膜形成方法は、基板を第１方向に移動させて基板上に第１薄膜を形成する第１スキャン段階、及び、基板を第１方向と反対方向である第２方向に移動させて第２薄膜を形成する第２スキャン段階を含み、第１スキャン段階及び第２スキャン段階は、基板上に第１有機材料及び第２有機材料のうちいずれか一つ以上を提供する段階及び基板上に第１紫外線及び第２紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する段階を含む。
【００１３】
その他実施形態の具体的な内容は詳細な説明及び図面に含まれている。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の実施形態によれば、少なくとも次のような効果がある。
【００１５】
すなわち、基板上に複数個の有機薄膜を同時にまたは順次に形成することによって、工程時間を短縮できる。
【００１６】
本発明による効果は、以上で例示した内容によって制限されず、さらに多様な効果が本明細書内に記載されている。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態による有機薄膜形成装置のブロック図である。
【図２】本発明の他の実施形態による薄膜形成装置のブロック図である。
【図３】本発明の一実施形態による薄膜形成装置の平面図である。
【図４】図３のＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。
【図５】本発明の一実施形態による薄膜形成装置の断面図である。
【図６】本発明の一実施形態による薄膜形成装置の断面図である。
【図７】本発明の一実施形態による薄膜形成装置の平面図である。
【図８】図７の薄膜形成装置の断面図である。
【図９】本発明の一実施形態による薄膜形成装置によって薄膜が形成された基板の断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態による薄膜形成装置の平面図である。
【図１１】図１０の薄膜形成装置の断面図である。
【図１２】本発明の一実施形態による薄膜形成装置によって薄膜が形成された基板の断面図である。
【図１３】本発明の一実施形態による薄膜形成装置の断面図である。
【図１４】本発明の一実施形態による薄膜形成装置によって薄膜が形成された基板の断面図である。
【図１５】本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって基板上に形成される薄膜の断面図である。
【図１６】本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって基板上に形成される薄膜の断面図である。
【図１７】本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって基板上に形成される薄膜の断面図である。
【図１８】本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって基板上に形成される薄膜の断面図である。
【図１９】本発明の他の実施形態による薄膜形成装置の断面図である。
【図２０】本発明の他の実施形態による薄膜形成装置の動作を示す平面図である。
【図２１】本発明の他の実施形態による薄膜形成装置の動作を示す平面図である。
【図２２】本発明の他の実施形態による薄膜形成装置の動作を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明の利点及び特徴、これらを達成する方法は添付する図面と共に詳細に後述する実施形態において明確になるであろう。しかし、本発明は、以下で開示する実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で実現されるものであり、本実施形態は、単に本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであり、本発明は、請求項の範囲によってのみ定義される。
【００１９】
素子（ｅｌｅｍｅｎｔｓ）または層が他の素子または層の「上（ｏｎ）」と指称された場合、他の素子の真上にまたは中間に他の層または他の素子を介在する場合のすべてを含む。明細書全体において、同一の参照符号は同一の構成要素を指称する。
【００２０】
第１、第２などの用語が多数の素子又は構成要素を叙述するために使用されるが、これらの素子又は構成要素はこれらの用語によって制限されないことはいうまでもない。これらの用語は、単に一の構成要素を他の構成要素と区別するために使用するものである。したがって、以下で言及される第１構成要素は本発明の技術的思想内で第２構成要素であり得ることは勿論である。
【００２１】
以下、添付する図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【００２２】
図１は、本発明の一実施形態による有機薄膜形成装置のブロック図である。
【００２３】
図１を参照すると、本発明の一実施形態による薄膜形成装置は、第１有機材料が貯蔵される第１貯蔵部１２０と、第１貯蔵部１２０と連結される第１ノズル部１００であって、第１貯蔵部１２０に貯蔵される第１有機材料を噴射する第１ノズル部１００と、第１ノズル部１００に隣接するように配置された第１光照射部１１０であって、第１有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第１光照射部１１０と、第２有機材料が貯蔵される第２貯蔵部２２０と、第１ノズル部１００に隣接するように配置された第２ノズル部２００であって、第２貯蔵部２２０と連結されており、第２貯蔵部２２０に貯蔵される第２有機材料を噴射する第２ノズル部２００と、第２ノズル部２００に隣接するように配置された第２光照射部２１０であって、第２有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する第２光照射部２１０と、を含む。
【００２４】
第１貯蔵部１２０は第１有機材料を貯蔵する役割を果たす。第１貯蔵部１２０は、気体、液体または固体状態の第１有機材料を貯蔵する。すなわち、第１貯蔵部１２０に貯蔵される第１有機材料の相（ｐｈａｓｅ）が制限されるものではない。
【００２５】
第１有機材料は薄膜形成に使用されるすべての有機材料を含みうる。すなわち、現在の薄膜形成工程に使用される有機材料及び今後、技術の発展につれ使用される有機材料をすべて含みうる。すなわち、本明細書における有機材料が特定の種類の材料に制限されるものではない。
【００２６】
第１ノズル部１００は第１貯蔵部１２０と連結される。すなわち、第１貯蔵部１２０と第１ノズル部１００は連通しており、これによって、第１貯蔵部１２０に貯蔵される第１有機材料が第１ノズル部１００を介して噴射される。
【００２７】
第１ノズル部１００と第１貯蔵部１２０とは、例えば少なくとも一つの管やチューブなどの連結手段を介して連結される。ただし、これは例示的なものであって、第１ノズル部１００と第１貯蔵部１２０との連結方式がこれに制限されるものではない。
【００２８】
第１ノズル部１００は、第１貯蔵部１２０に貯蔵された第１有機材料を基板に向かって噴射する。たとえば、第１ノズル部１００は、第１貯蔵部１２０に貯蔵される有機材料を液状、気状またはエアゾール（ａｅｒｏｓｏｌ）状で噴射する。
【００２９】
第１光照射部１１０は第１ノズル部１００に隣接するように配置される。第１光照射部１１０は、第１ノズル部１００から噴射した第１有機材料に向かって光を照射する。言い換えると、第１光照射部１１０は、第１ノズル部１００から噴射して基板に提供された第１有機材料に向かって光を照射する。例えば、第１光照射部１１０は紫外線波長の光を照射する。ただし、これは例示的なものであり、光照射部１１０が照射する光の波長がこれに制限されるものではない。
【００３０】
第１有機材料の種類によって硬化波長が違う場合もある。すなわち、特定種類の有機材料は特定の範囲の波長を有する光を受けて硬化する。例示的に第１光照射部１１０は、第１有機材料に対応する波長を有する光を照射する。言い換えると、第１有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する。すなわち、第１有機材料の種類によって、第１光照射部１１０が照射する光の波長が変わる。
【００３１】
本発明の一実施形態による薄膜形成装置は、第２有機材料が貯蔵される第２貯蔵部２２０をさらに含む。第２貯蔵部２２０は、前述した第１貯蔵部１２０と実質的に同じである。
【００３２】
すなわち、第２貯蔵部２２０は第２有機材料を貯蔵する役割を果たす。第２貯蔵部２２０は気体、液体または固体状態の第２有機材料を貯蔵できる。すなわち、第２貯蔵部２２０に貯蔵される第２有機材料の相（ｐｈａｓｅ）が制限されるものではない。
【００３３】
第２有機材料は第１有機材料と異なる場合もあるが、これに制限されるものではない。第２有機材料は薄膜形成に使用されるすべての有機材料を含む。すなわち、現在薄膜形成工程に使用されている有機材料及び今後、技術の発展につれ使用される可能性がある有機材料をすべて含みうる。すなわち、本明細書における有機材料は特定の種類の材料に制限されるものではない。
【００３４】
第２ノズル部２００は第１ノズル部１００と実質的に同じである。すなわち、第２ノズル部２００は第２貯蔵部２２０と連結される。すなわち、第２貯蔵部２２０と第２ノズル部２００とは連通しすることができ、これによって第２貯蔵部２２０に貯蔵される第２有機材料は第２ノズル部２００を介して噴射される。
【００３５】
第２ノズル部２００と第２貯蔵部２２０とは、例示的に少なくとも一つの管やチューブなどの連結手段を介して連結される。ただし、これは例示的なものであり、第２ノズル部２００と第２貯蔵部２２０との連結方式がこれに制限されるものではない。
【００３６】
第２ノズル部２００は、第２貯蔵部２２０に貯蔵された第２有機材料を基板に向かって噴射する。例えば第２ノズル部２００は、第２貯蔵部２２０に貯蔵された有機材料を液状、気状またはエアゾール（ａｅｒｏｓｏｌ）状に噴射する。
【００３７】
第２ノズル部２００は第１ノズル部１００に隣接するように配置される。例示的な実施形態において、第２ノズル部２００は第１ノズル部１００と並列に配置される。これに関する詳しい説明は省略する。
【００３８】
第２光照射部２１０は第２ノズル部２００に隣接するように配置される。第２光照射部２１０は、第２ノズル部２００から噴射した第２有機材料に向かって光を照射する。言い換えると、第２光照射部２１０は、第２ノズル部２００から噴射して基板に提供された第２有機材料に向かって光を照射する。例えば第２光照射部２１０は紫外線波長の光を照射する。ただし、これは例示的なものであり光照射部２１０が照射する光の波長がこれに制限されるものではない。
【００３９】
第２有機材料の種類によって硬化波長が違う場合もある。すなわち、特定種類の有機材料は特定の範囲の波長を有する光を受けて硬化される。例えば第２光照射部２１０は、第２有機材料に対応する波長を有する光を照射する。言い換えると、第２有機材料を硬化させる波長を有する光を照射する。すなわち、第２有機材料の種類によって第２光照射部２１０が照射する光の波長が変わる。
【００４０】
前述した構成を含む本発明の一実施形態による薄膜形成装置１０００は基板上に少なくとも一つの有機薄膜を形成する。例示的な実施形態において、本発明の一実施形態による薄膜形成装置１０００と基板とは互いに相対移動し、このような相対移動により基板上に少なくとも一層以上の有機薄膜を形成できる。これに関する詳しい説明は後述する。
【００４１】
図２は、本発明の他の実施形態による薄膜形成装置１００１のブロック図である。
【００４２】
図２を参照すると、本発明の他の実施形態による薄膜形成装置１００１は第１貯蔵部１２０及び第２貯蔵部２２０に貯蔵された第１有機材料及び第２有機材料を気化させる第１気化部１３０及び第２気化部２３０をさらに含みうる。
【００４３】
例示的な実施形態において、第１貯蔵部１２０及び第２貯蔵部２２０は、液状の第１有機材料及び第２有機材料を貯蔵する。
【００４４】
第１気化部１３０及び第２気化部２３０は、第１貯蔵部１２０及び第２貯蔵部２２０に貯蔵された液状の第１有機材料及び第２有機材料を気化させる。すなわち、第１気化部１３０及び第２気化部２３０によって気化する第１有機材料及び第２有機材料は、第１ノズル部１００及び第２ノズル部を介して噴射される。言い換えると、第１ノズル部１００及び第２ノズル部２００は第１気化部１３０及び第２気化部２３０によって気化した状態の第１有機材料及び第２有機材料を噴射する。
【００４５】
以下では図面を参照して本発明のさらに具体的な実施形態について説明する。
【００４６】
図３は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置１００２の平面図である。図４は、図３のＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。
【００４７】
図３及び図４を参照すると、本発明の一実施形態による薄膜形成装置１００２は、長さ方向に延在する第１ノズル部１０１及び第２ノズル部１０２であって、並列に配置される第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１と、第１ノズル部１０１に接続された、第１有機材料を貯蔵する第１貯蔵部１２１と、第２ノズル部２０１に接続された、第２有機材料を貯蔵する第２貯蔵部２２１と、第１ノズル部１０１の一側に隣接するように配置された第１光照射部１１１であって、第１ノズル部１０１と並列に延在された第１光照射部１１１と、第２ノズル部２０１の他側に隣接するように配置された第２光照射部２１１であって、第２ノズル部２０１と並列に延在された第２光照射部２１１と、を含む。
【００４８】
例示的な実施形態において、第１ノズル部１０１は長さ方向に延在している。すなわち、第１ノズル部１０１は、長さ方向に延在されたバー（ｂａｒ）状を有する。第１ノズル部１０１は長さ方向に沿って延在するボディー部１０１ｂ及びボディー部１０１ｂ上に形成される少なくとも一つの噴射口１０１ａを有する。例示的な実施形態において、噴射口１０１ａは長さ方向に沿って整列して配置される。図３では、複数個の噴射口１０１ａが一列に整列して配置される場合を例示しているが、これは例示的なものであり、噴射口１０１ａの配列がこれに制限されるものではない。すなわち、噴射口１０１ａは少なくとも一つの行と少なくとも一つの列を有するマトリックス（ｍａｔｒｉｘ）状に配置されうる。
【００４９】
噴射口１０１ａは上部に向かって開放される。すなわち、例示的な実施形態において、噴射口１０１ａは固定され、噴射口１０１ａ上で基板が水平移動し、基板上に薄膜が形成される。基板上に薄膜が形成される具体的な過程については後述する。
【００５０】
第１ノズル部１０１の一端部には、第１貯蔵部１２１が配置される。第１貯蔵部１２１は第１有機材料を貯蔵し、第１ノズル部１０１と連結される。すなわち、第１貯蔵部１２１に貯蔵された第１有機材料は第１ノズル部１０１を介して噴射される。第１有機材料が液体、固体または気体状態で貯蔵されるのは前述した通りである。また、第１有機材料が液状である場合は、図面に示していないが、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置１００２は、第１有機材料を気化させる第１気化部をさらに含む。
【００５１】
第１光照射部１１１は、第１ノズル部１０１の一側に隣接するように配置される。第１光照射部１１１は長さ方向に沿って延在される。すなわち、第１光照射部１１１は第１ノズル部１０１と並列に配置される。例示的な実施形態において、第１光照射部１１１は第１紫外線ランプ（図示せず）を含む。
【００５２】
第１光照射部１１１は特定波長の第１紫外線を照射する。例えば、第１光照射部１１１が照射する第１紫外線は、基板に提供される第１有機材料を硬化させる波長を有する。すなわち、第１紫外線の波長は第１有機材料の種類によって異なる。
【００５３】
第２ノズル部２０１は、第１ノズル部１０１の他側に隣接するように配置される。第２ノズル部２０１は長さ方向に延在される。すなわち、第２ノズル部２０１はバー状を有する。第２ノズル部２０１は、長さ方向に沿って延在するボディー部２０１ｂ及びボディー部２０１ｂ上に形成される少なくとも一つの噴射口２０１ａを有する。例示的な実施形態において、噴射口２０１ａは長さ方向に沿って整列して配置される。図３では複数個の噴射口２０１ａが一列に整列して配置される場合を例示するが、これは例示的なものであり、噴射口２０１ａの配列がこれに制限されるのではない。すなわち、噴射口２０１ａは少なくとも一つの行と少なくとも一つの列を有するマトリックス（ｍａｔｒｉｘ）状に配置されうる。
【００５４】
噴射口２０１ａは上部に向かって開放される。すなわち、例示的な実施形態において、噴射口２０１ａは固定され、噴射口２０１ａ上で基板が水平移動し、基板上に薄膜が形成される。基板上に薄膜が形成される具体的な過程については後述する。
【００５５】
第２ノズル部２０１の他端部には、第２貯蔵部２２１が配置される。すなわち、第１貯蔵部１２１と第２貯蔵部２２１との間に第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１が配置される。ただし、これは例示的なものであり、第１貯蔵部１２１及び第２貯蔵部２２１の位置がこれに制限されるものではない。第１貯蔵部１２１及び第２貯蔵部２２１は、第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１と連結可能なすべての位置に配置されることができる。すなわち、本発明の範囲が第１貯蔵部１２１及び第２貯蔵部２２１の位置によって制限されるものではない。
【００５６】
第２貯蔵部２２１は第２有機材料を貯蔵し、第２ノズル部２０１と連結される。すなわち、第２貯蔵部２２１に貯蔵された第２有機材料は、第２ノズル部２０１を介して噴射される。第２有機材料が液体、固体または気体状態で貯蔵されるのは前述した通りである。また、第２有機材料が液状である場合、図面に示していないが、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置１００２は、第２有機材料を気化させる第２気化部をさらに含みうる。
【００５７】
第２光照射部２１１は第２ノズル部２０１の他側に隣接するように配置される。すなわち、第２光照射部２１１と第１光照射部１１１との間に第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１が配置される。第２光照射部２１１は長さ方向に沿って延在される。すなわち、第２光照射部２１１は、第２ノズル部１０１と並列に配置される。第２光照射部２１１は、第２紫外線ランプ（図示せず）を含みうる。
【００５８】
第２光照射部２１１は、特定波長の第２紫外線を照射する。例えば、第２光照射部２１１が照射する第２紫外線は、基板に提供される第２有機材料を硬化させる波長を有する。すなわち、第２紫外線の波長は第２有機材料の種類によって異なる。
【００５９】
以下では本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置の動作について詳しく説明する。
【００６０】
図５は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置の断面図である。
【００６１】
図５を参照すると、本発明の一実施形態による薄膜形成装置上には、基板５００が配置される。
【００６２】
本明細書で基板５００とは、画像を示すための表示基板であって、ＬＣＤ  （Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）表示基板、電気泳動表示基板（Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）表示基板、ＬＥＤ  （Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）表示基板、無機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）表示基板、ＦＥＤ  （Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）表示基板、ＳＥＤ（Ｓｕｒｆａｃｅ−ｃｏｎｄｕｃｔｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ−ｅｍｉｔｔｅｒ  Ｄｉｓｐｌａｙ）表示基板、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）表示基板及びＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）表示基板を含みうる。
【００６３】
ただし、前述した表示基板の種類は例示的なものであって、表示基板の種類がこれに制限されるものではない。また、表示基板は硬質基板だけでなく、曲げたり（ｂｅｎｄｉｎｇ）、折り折りたたんだり（ｆｏｌｄｉｎｇ）、丸めたり（ｒｏｌｌｉｎｇ）することが可能なフレキシブル基板を含む概念として理解することができる。
【００６４】
例示的な実施形態で本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置は、有機発光表示装置の封止膜を形成するのに利用される。すなわち、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置を利用して有機発光表示装置の封止膜を製造する。すなわち、本明細書において基板とは、封止膜形成前のいくつかの素子が形成された有機発光表示装置の基板でありうる。
【００６５】
基板５００は薄膜形成装置上に配置される。すなわち、基板５００の一の面と薄膜形成装置とが一定間隔離隔して、互いに対向するように配置される。
【００６６】
本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置は、薄膜形成装置上に配置される基板５００に対して相対的に移動する。すなわち、薄膜形成装置が固定され、薄膜形成装置の上部に配置される基板５００が水平方向に移動するか、又は、基板５００が固定され、薄膜形成装置が水平方向に移動する。
【００６７】
以下では説明の便宜上、薄膜形成装置が固定され、基板が水平移動する場合を例示するが、本発明の範囲がこれに制限されるものではないのはもちろんである。
【００６８】
図５で示すように、基板５００の幅ｗは、薄膜形成装置の延在方向の長さｄ１と実質的に同じである。すなわち、薄膜形成装置の延在方向の長さｄ１は、基板５００の幅に対応する。言い換えると、基板５００の一側辺と薄膜形成装置の延在方向とが並列に配置された状態で、基板５００は薄膜形成装置の延在方向と垂直な方向に移動する。これに伴い、基板５００の一側から他側まで薄膜形成装置の垂直方向上部を通過する。薄膜形成装置の延在方向の長さｄ１が基板５００の幅に対応する値を有する状態で、基板５００の一側から他側が薄膜形成装置の垂直方向上部を通過する場合、基板５００の前領域上には一つの薄膜が形成される。
【００６９】
ただし、これは例示的なものであって薄膜形成装置の延在方向の長さｄ１がこれに制限されるものではなく、薄膜形成装置の延在方向の長さｄ１は、基板５００の幅ｗより小さい場合もある。この場合、基板５００は薄膜形成装置の延在方向の長さ方向及び薄膜形成装置の延在方向に対して垂直な方向に少なくとも一回移動し、基板５００の全領域に薄膜を形成することができる。これに関する詳しい説明は後述する。
【００７０】
図６は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置の断面図である。
【００７１】
図６を参照すると、本発明の一実施形態による薄膜形成装置上に配置される基板５００は第１方向に移動する。
【００７２】
前述したように第１方向は、薄膜形成装置の延在方向に対して垂直な方向にありうる。
【００７３】
基板５００が第１方向に沿って移動することによって、基板５００の一側から始まって他側まで順次に薄膜形成装置の上部を通過する。すなわち、基板５００が第１方向に沿って移動すると、基板５００の一側から他側まで順次に薄膜が形成される。すなわち、基板５００が第１方向に沿って移動し、基板５００の他側が薄膜形成装置を通過すると基板５００の全領域には一つの薄膜が形成される。
【００７４】
基板５００が第１方向に沿って移動する場合、第１ノズル部１０１及び／または第２ノズル部２０１は、第１有機材料または第２有機材料を基板５００に向かって提供する。また、これと同時にまたは順次に、第１光照射部１１１及び／または第２光照射部２１１は、基板５００に向かって第１有機材料及び／または第２有機材料を硬化させる光を照射する。図７ないし図１２を参照してさらに詳細に説明する。
【００７５】
図７は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置の平面図である。図８は図７の薄膜形成装置の断面図である。図９は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置によって薄膜が形成された基板５００の断面図である。
【００７６】
図７ないし図９を参照すると、基板５００が第１方向に沿って移動して、これによって基板５００の一側から基板の他側まで順次に薄膜が形成される。
【００７７】
第１方向は、図７でｙ軸の負の方向である。すなわち、基板５００の一側辺が薄膜形成装置の長さ方向と並列に配置された状態で基板５００は第１方向、すなわち薄膜形成装置の長さ方向と垂直な方向に移動する。
【００７８】
図８を参照すると、基板５００の一側辺が薄膜形成装置に隣接すると、第１ノズル部１０１で第１有機材料が噴射される。すなわち、第１ノズル部１０１が基板５００に向かって第１有機材料を提供する。第１ノズル部１０１は、基板５００が移動することにより連続的または断続的に第１有機材料を噴射する。第１ノズル部１０１が第１有機材料を噴射すると同時にまたは順次に、第１光照射部１１１は、基板５００上に提供された第１有機材料に向かって光を照射する。これによって、基板５００上に提供された第１有機材料が硬化する。例えば第１光照射部１１１が第１有機材料を硬化させる第１紫外線を照射するのは前述した通りである。
【００７９】
前記した過程を経て基板５００が継続して移動し、基板５００の他側が薄膜形成装置を通過すると、基板５００上には、第１有機材料が硬化して形成された第１薄膜１４０が形成される（図９参照）。
【００８０】
説明の便宜上、基板５００が第１方向に移動し、基板５００上に薄膜が形成される過程を第１スキャンと定義する。第１スキャンは、基板５００一側から他側が薄膜形成装置を通過して基板５００上に薄膜が形成される過程である。すなわち、第１スキャンが行われると、基板５００一側から他側に至るまで、基板５００上の薄膜形成装置に対応する領域に薄膜が形成される。言い換えると、第１スキャンは基板５００の一側で他側まで薄膜が形成される過程を含みうる。
【００８１】
図１０は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置の平面図である。図１１は図１０の薄膜形成装置の断面図である。図１２は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置によって薄膜が形成された基板５００の断面図である。
【００８２】
図１０を参照すると、基板５００の他側が薄膜形成装置の上部を通過した後、すなわち、基板５００の他側が薄膜形成装置に隣接した状態で、基板５００は第１方向と反対方向である第２方向、すなわち、図１０でｙ軸の正の方向に移動する。
【００８３】
基板５００が第２方向に沿って移動し、これによって基板５００の他側から一側まで順次に薄膜が形成される。
【００８４】
基板５００の他側辺が薄膜形成装置の長さ方向と並列に配置された状態で、基板５００は第２方向、すなわち、薄膜形成装置の長さ方向と垂直な方向に移動する。
【００８５】
図１１を参照すると、基板５００の他側が薄膜形成装置に隣接すると、第２ノズル部２０１によって第２有機材料が噴射される。すなわち、第２ノズル部２０１が基板５００に向かって第２有機材料を提供する。第２ノズル部２０１は、基板５００が移動することにより連続的または断続的に第２有機材料を噴射する。第２ノズル部２０１が第２有機材料を噴射すると同時にまたは順次に、第２光照射部２１１は、基板５００上に提供された第２有機材料に向かって光を照射する。これによって、基板５００上に提供された第２有機材料が硬化する。
【００８６】
このような過程を経て基板５００が継続して移動し、基板５００の一側が薄膜形成装置を通過すると、基板５００上には、第２有機材料が硬化して形成された第２薄膜２４０が形成される。第２薄膜２４０は第１薄膜１４０と完全に重なっているか、又は第１薄膜１４０を完全に覆うように形成されるが、これに制限されるものではない。
【００８７】
説明の便宜上、基板５００が第２方向に移動し、基板５００上に薄膜が形成される過程を第２スキャンと定義する。第２スキャンは、基板５００の他側から一側まで薄膜形成装置を通過して基板５００上に薄膜が形成される過程である。すなわち、第２スキャンが行われると、基板５００他側から一側に至るまで、基板５００上の薄膜形成装置に対応する領域に薄膜が形成される。言い換えると、第２スキャンは基板５００の他側から一側まで薄膜が形成される過程を含みうる。
【００８８】
本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置で第１スキャン及び第２スキャンは、少なくとも一回は行われる。すなわち、第１スキャンが行われ、次いで第２スキャンが行われたり、第１スキャンが行われ、薄膜形成装置が長さ方向に一定間隔シフトした後、再び第２スキャンが開始され得、前記した順序に従い第１スキャン及び第２スキャンが繰り返して行われ得る。
【００８９】
図１３は、本発明の一実施形態による薄膜形成装置の断面図である。図１４は本発明の一実施形態による薄膜形成装置によって薄膜が形成された基板５００の断面図である。
【００９０】
図１３及び図１４を参照すると、例示的な実施形態で基板５００が第１方向に移動するとき、第１ノズル部１０１と第２ノズル部２０１とは、同時に第１有機材料及び第２有機材料を噴射する。すなわち、第１スキャンの際に第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１が同時に動作する点が図８の実施形態と違う点である。
【００９１】
具体的には、基板５００の一側が薄膜形成装置に隣接すると、第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１で第１有機材料及び第２有機材料を噴射する。すなわち、第１ノズル部１０１は第１有機材料を、第２ノズル部２０２は第２有機材料を各々基板５００上に提供する。第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１は、基板５００が移動することにより連続的または断続的に第１有機材料及び第２有機材料を噴射する。第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１が第１有機材料及び第２有機材料を噴射すると同時にまたは順次に、第１光照射部１１１及び第２光照射部２１１は、基板５００上に提供された第１有機材料及び第２有機材料に向かって光を照射する。すなわち、第１光照射部１１１は第１有機材料を硬化させる波長を有する第１紫外線を照射し、第２光照射部２１１は第２有機材料を硬化させる波長を有する第２紫外線を照射する。
【００９２】
このような過程を経て基板５００が継続して移動し、基板５００の他側が薄膜形成装置を通過すると、基板５００上には第１有機材料及び第２有機材料が混合した状態で硬化した第３薄膜３００が形成される（図１４参照）。
【００９３】
以上では基板５００上に第１薄膜１４０及び第２薄膜２４０が順次に積層された場合及び第１有機材料と第２有機材料とが混合した状態で硬化した第３薄膜３００が形成された場合を例示したが、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって形成される薄膜の様相はこれに制限されない。すなわち、第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１を調節することによって、多様な積層薄膜を形成できる。
【００９４】
図１５ないし図１８は、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって基板５００上に形成される薄膜を示す断面図である。
【００９５】
図１５を参照すると、第３薄膜３００上に第２薄膜２４０が配置される。
【００９６】
第１スキャンの際に第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１が第１有機材料及び第２有機材料を同時に噴射し、第１光照射部１１１と第２光照射部２１１が第１紫外線及び第２紫外線を照射することによって第３薄膜３００が形成される。
【００９７】
第３薄膜３００が形成された後、第２スキャンが行われる。第２スキャン段階で第２ノズル部２０１が第２有機材料を噴射し、第２光照射部２１１が第２紫外線を照射することによって第２薄膜２４０が形成される。
【００９８】
図１６を参照すると、第３薄膜３００上に第１薄膜１４０が配置される。
【００９９】
第１スキャンの際に第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１が第１有機材料及び第２有機材料を同時に噴射し、第１光照射部１１１と第２光照射部２１１とが第１紫外線及び第２紫外線を照射することによって第３薄膜３００が形成される。
【０１００】
第３薄膜３００が形成された後、第２スキャンが行われる。第２スキャン段階で第１ノズル部１０１が第１有機材料を噴射し、第１光照射部１１１が第１紫外線を照射することによって第１薄膜１４０が形成される。
【０１０１】
図１７を参照すると、第３薄膜３００が連続的に積層される。
【０１０２】
第１スキャンの際に第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１が第１有機材料及び第２有機材料を同時に噴射し、第１光照射部１１１と第２光照射部２１１とが第１紫外線及び第２紫外線を照射することによって、第１第３薄膜３００ａが形成される。次いで、第２スキャンの際に第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１が第１有機材料及び第２有機材料を同時に噴射し、第１光照射部１１１と第２光照射部２１１とが第１紫外線及び第２紫外線を照射することによって、第２第３薄膜３００ｂが形成される。すなわち、第１スキャン及び第２スキャンが互いに同じ種類の薄膜を形成する。これによって、一回のスキャンによって形成された薄膜より相対的に厚い薄膜を形成する。
【０１０３】
すなわち、図１７のように第１ノズル部１０１と第２ノズル部２０１とを同時に動作させて第３薄膜（３００ａ、３００ｂ）を形成することができる、又は、図１８のように第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１のうちいずれか一つのみを作動させて同じ薄膜を順次に積層することができる。図１８は、第１スキャン及び第２スキャンの際に第１ノズル部１０１のみを作動させた場合を例示する。
【０１０４】
以下、本発明の他の実施形態について説明する。以下の実施形態ですでに説明した構成と同様の構成については同じ参照番号で示し、重複する説明は省略または簡略にする。
【０１０５】
図１９は、本発明の他の実施形態による薄膜形成装置１００３の断面図である。
【０１０６】
図１９を参照すると、本発明の他の実施形態による薄膜形成装置１００３は、延在方向の長さが基板の幅に比べて相対的に小さい点が図５の実施形態と違う点である。
【０１０７】
例示的な実施形態において、薄膜形成装置１００３の延在方向の長さｄ２は基板５００の幅ｗに比べて相対的に小さい場合もある。薄膜形成装置１００３の延在方向の長さｄ２が基板５００の幅ｗに比べて相対的に小さい場合、薄膜形成のために薄膜形成装置１００３は第１スキャン及び第２スキャンを一回以上繰り返して行う。
【０１０８】
図２０ないし図２２を参照して本発明の他の実施形態について具体的に説明する。
【０１０９】
図２０ないし図２２は、本発明の他の実施形態による薄膜形成装置の動作を示す平面図である。
【０１１０】
図２０ないし図２２を参照すると、本発明の他の実施形態による薄膜形成装置は第１スキャン及び第２スキャンを一回以上行う。
【０１１１】
先に、基板５００の一側辺が薄膜形成装置の長さ方向と並列に配置された状態で、基板５００は第１方向、すなわち、薄膜形成装置の長さ方向に対して垂直な方向に移動する。すなわち、第１スキャンが行われる。
【０１１２】
基板５００が第１方向に移動することによって、第１ノズル部１０２及び第２ノズル部２０２のうちいずれか一つ以上のノズル部が作動し、基板５００上に第１有機材料及び第２有機材料のうちいずれか一つ以上を基板５００上に提供する。また、これに対応して第１光照射部１１２及び第２光照射部２１２のうちいずれか一つ以上が基板５００上に第１紫外線及び第２紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する。
【０１１３】
第１ノズル部１０２、第２ノズル部２０２、第１光照射部１１２及び第２光照射部２１２の動作は前に本発明の一実施形態による薄膜形成装置で説明した内容と実質的に同じであるため、これに関する詳しい説明は省略する。
【０１１４】
第１スキャンが終わると、薄膜形成装置は基板５００の他側に隣接するように配置される。この状態で、基板５００は薄膜形成装置の長さ方向、すなわち、第１方向または第２方向に対して垂直な第３方向に一定間隔シフトする。例示的な実施形態で基板５００は薄膜形成装置の延在方向の長さｄ２だけシフトするが、シフト距離がこれに制限されるものではない（図２１参照）。
【０１１５】
基板５００が長さ方向にシフトした後、第２スキャンが行われる。すなわち、基板５００の他側から一側まで順次に薄膜形成装置を通過し、これによって、基板５００上に順次に薄膜が形成される。
【０１１６】
図２０ないし図２２は、第１スキャン及び第２スキャンが各々一回ずつ行われた場合を例示するが、スキャン数がこれに制限されるものではない。すなわち、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置は第１スキャン、長さ方向シフト、及び第２スキャンを一回以上行う。すなわち、第１スキャン、長さ方向シフト、及び第２スキャンの順序を一回以上繰り返して行う。
【０１１７】
これによって、基板５００の全領域に少なくとも一層以上の有機薄膜を形成する。
【０１１８】
以下では本発明の一実施形態による薄膜形成方法について説明する。
【０１１９】
本発明の一実施形態による薄膜形成方法は、基板を第１方向に移動させて基板上に第１薄膜を形成する第１スキャン段階、基板を第１方向と反対方向である第２方向に移動させて第２薄膜を形成する第２スキャン段階を含み、第１スキャン段階及び第２スキャン段階は基板上に第１有機材料及び第２有機材料のうちいずれか一つ以上を提供する段階及び基板上に第１紫外線及び第２紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する段階を含む。
【０１２０】
本発明の一実施形態による薄膜形成方法は、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置によって行われる。ただし、本発明の一実施形態による薄膜形成方法がこれに制限されるものではない。
【０１２１】
先ず、基板５００を第１方向に移動させて基板５００上に第１薄膜を形成する第１スキャンが行われる。
【０１２２】
再び図７ないし図９を参照して第１スキャン段階について説明する。また、説明の便宜上、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置を利用して薄膜を形成する方法を説明するが、これによって範囲が制限されないのは前述した通りである。
【０１２３】
第１スキャン段階は、基板上に第１有機材料及び第２有機材料のうちいずれか一つ以上を提供する段階及び基板上に第１紫外線及び第２紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する段階を含む。基板上に第１有機材料及び第２有機材料のうちいずれか一つ以上を提供する段階は、第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１のうちいずれか一つ以上によって行われる。また、基板５００上に第１紫外線及び第２紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する段階は、第１光照射部１１１及び第２光照射部２１１のうちいずれか一つ以上によって行われる。ただし、これは例示的なものであって、これに制限されるものではない。これについてさらに具体的に説明する。
【０１２４】
以下では、第１ノズル部１０１が噴射する第１有機材料によって第１薄膜が形成される場合を例示して説明するが、これに制限されないのはもちろんである。すなわち、前述したように第１スキャン段階は第１有機材料、第２有機材料、第１有機材料及び第２有機材料が混合された薄膜のうちいずれか一つを形成する。
【０１２５】
第１方向は、図７でｙ軸の負の方向である。すなわち、基板５００の一側辺が薄膜形成装置の長さ方向と並列に配置された状態で、基板５００は第１方向すなわち、薄膜形成装置の長さ方向に対して垂直な方向に移動する。
【０１２６】
図８を参照すると、基板５００の一側辺が薄膜形成装置に隣接すると、第１ノズル部１０１によって第１有機材料が噴射される。すなわち、第１ノズル部１０１が基板５００に向かって第１有機材料を提供する。第１ノズル部１０１は基板５００が移動することにより連続的または断続的に第１有機材料を噴射する。第１ノズル部１０１が第１有機材料を噴射すると同時にまたは順次に第１光照射部１１１は基板５００上に提供された第１有機材料に向かって光を照射する。これによって、基板５００上に提供された第１有機材料が硬化される。例えば、第１光照射部１１１が第１有機材料を硬化させる第１紫外線を照射するのは、前述した通りである。
【０１２７】
前記した過程を経て基板５００が継続して移動し、基板５００の他側が薄膜形成装置を通過すると、基板５００上には第１有機材料が硬化して形成された第１薄膜１４０が形成される（図９参照）。
【０１２８】
第１スキャン段階後に、第２スキャン段階が行われる。第２スキャン段階は、基板を第１方向と反対方向である第２方向に移動させて第２薄膜を形成する段階である。
【０１２９】
再び図１０ないし図１２を参照して、第２スキャン段階について説明する。また、説明の便宜上、本発明のいくつかの実施形態による薄膜形成装置を利用して薄膜を形成する方法を説明するが、これによって範囲が制限されないのは前述した通りである。
【０１３０】
第２スキャン段階は、基板上に第１有機材料及び第２有機材料のうちいずれか一つ以上を提供する段階及び基板上に第１紫外線及び第２紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する段階を含む。基板上に第１有機材料及び第２有機材料のうちいずれか一つ以上を提供する段階は、第１ノズル部１０１及び第２ノズル部２０１のうちいずれか一つ以上によって行われる。また、基板５００上に第１紫外線及び第２紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する段階は、第１光照射部１１１及び第２光照射部２１１のうちいずれか一つ以上によって行われる。ただし、これは例示的なものであり、これに制限されるものではない。これについてさらに詳細に説明する。
【０１３１】
以下では第２ノズル部１０１が噴射する第２有機材料によって第２薄膜が形成される場合を例示して説明するが、これに制限されないのはもちろんである。すなわち、前述したように第２スキャン段階は第１有機材料、第２有機材料、第１有機材料及び第２有機材料が混合した薄膜のうちいずれか一つを形成する。
【０１３２】
図１０を参照すると、基板５００の他側が薄膜形成装置を通過した後、すなわち、基板５００の他側が薄膜形成装置に隣接した状態で、基板５００は第１方向と反対方向である第２方向、すなわち、図１０でｙ軸の正の方向に移動する。
【０１３３】
基板５００が第２方向に沿って移動し、これによって基板５００の他側から一側まで順次に薄膜が形成される。
【０１３４】
基板５００の他側辺が薄膜形成装置の長さ方向と並列に配置された状態で基板５００は第２方向、すなわち、薄膜形成装置の長さ方向と垂直な方向に移動する。
【０１３５】
図１１を参照すると、基板５００の他側が薄膜形成装置に隣接すると、第２ノズル部２０１から第２有機材料が噴射される。すなわち、第２ノズル部２０１が基板５００に向かって第２有機材料を提供する。第２ノズル部２０１は基板５００が移動することにより連続的または断続的に第２有機材料を噴射する。第２ノズル部２０１が第２有機材料を噴射すると同時にまたは順次に、第２光照射部２１１は、基板５００上に提供された第２有機材料に向かって光を照射する。これによって、基板５００上に提供された第２有機材料が硬化される。
【０１３６】
このような過程を経て基板５００が継続して移動し、基板５００の一側が薄膜形成装置を通過すると、基板５００上には、第２有機材料が硬化して形成された第２薄膜２４０が形成される。第２薄膜２４０は第１薄膜１４０と完全に重なるか、または第１薄膜１４０を完全に覆うように形成されるが、これに制限されるものではない。
【０１３７】
本発明の他の実施形態による薄膜形成方法は、第１スキャン段階と第２スキャン段階との間に基板を第１方向または第２方向と垂直な第３方向にシフトさせる段階をさらに含む。再び図２０ないし図２２を参照して詳細に説明する。
【０１３８】
先ず、基板５００の一側辺が薄膜形成装置の長さ方向と並列に配置された状態で基板５００は第１方向、すなわち、薄膜形成装置の長さ方向と垂直な方向に移動する。すなわち、第１スキャン段階が行われる。
【０１３９】
基板５００が第１方向に移動することによって、第１ノズル部１０２及び第２ノズル部２０２のうちいずれか一つ以上のノズル部が作動し、基板上に第１有機材料及び第２有機材料のうちいずれか一つ以上を基板５００上に提供する。また、これに対応し、第１光照射部１１２及び第２光照射部２１２のうちいずれか一つ以上が基板５００上に第１紫外線及び第２紫外線のうちいずれか一つ以上を照射する。
【０１４０】
第１ノズル部１０２、第２ノズル部２０２、第１光照射部１１２及び第２光照射部２１２の動作は前に本発明の一実施形態による薄膜形成装置で説明した内容と実質的に同じである。したがって、これに関する詳しい説明は省略する。
【０１４１】
第１スキャン段階が終わると、薄膜形成装置は基板５００の他側に隣接するように配置される。この状態で、基板５００は薄膜形成装置の長さ方向、すなわち、第１方向または第２方向と垂直な第３方向に一定間隔シフトする。例示的な実施形態で基板５００は、薄膜形成装置の延在方向の長さｄ２だけシフトするが、シフト距離がこれに制限されるものではない（図２１参照）。
【０１４２】
基板５００が長さ方向にシフトした後、第２スキャンが行われる。すなわち、基板５００の他側から一側まで順次に薄膜形成装置を通過し、これによって、基板５００上に順次に薄膜が形成される。
【０１４３】
以上添付された図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明のその技術的思想や必須の特徴を変更しない範囲で他の具体的な形態で実施され得ることを理解することができる。したがって、上記実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。
【符号の説明】
【０１４４】
１０００，１００１，１００２，１００３    薄膜形成装置
１１０，１１１    第１光照射部
１００，１０１，１０２    第１ノズル部
１２０，１２１    第１貯蔵部
２００，２０１，２０２    第２ノズル部
２１０，２１１    第２光照射部
２２０，２２１    第２貯蔵部
１３０    第１気化部
２３０    第２気化部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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