(57)【要約】【課題】本発明では、散乱層自身の平坦性を改善することで、散乱層上に形成される各層への影響を最小限に抑え、ダークスポットや短絡の発生をなくし、有機ＥＬ装置の寿命を長くすることを目的とする。【解決手段】平均一次粒子径が２００〜８００ｎｍである光散乱粒子（Ｅ）と、一次粒子の短軸径が５〜６０ｎｍである無機酸化物微粒子（Ｆ）と、ポリエステル分散剤（Ｄ）とを含むことを特徴とする光散乱層用樹脂組成物により解決される。【選択図】図１
2015114588.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均一次粒子径が２００〜８００ｎｍである光散乱粒子（Ｅ）と、一次粒子の短軸径が５〜６０ｎｍである無機酸化物微粒子（Ｆ）と、ポリエステル分散剤（Ｄ）とを含むことを特徴とする光散乱層用樹脂組成物。
【請求項２】
無機酸化物微粒子（Ｆ）が、酸化チタンを含むことを特徴とする請求項１記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項３】
ポリエステル分散剤（Ｄ）の、重量平均分子量が２，０００〜２５，０００であり、かつ酸価が５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることを特徴とする請求項１または２記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項４】
ポリエステル分散剤（Ｄ）が、ポリオール（ａ）の水酸基と、ポリカルボン酸無水物（ｂ）の酸無水物基とを反応させてなる、ポリオール部位（Ａ）とポリカルボン酸部位（Ｂ）とを交互に有するポリエステル分散剤であって、ポリオール部位（Ａ）の一部又は全部が、Ｓ原子を介して、エチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合してなるビニル重合体部位（Ｃ）を有することを特徴とする請求項１〜３いずれか１項記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項５】
ポリエステル分散剤（Ｄ）が、エチレン性不飽和単量体（ｃ）を、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基を有する化合物（ａ１）の存在下、ラジカル重合してなる片末端に２つの水酸基を有するビニル重合体（ａ２）を少なくとも含むポリオール（ａ）中の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）を少なくとも含むポリカルボン酸無水物（ｂ）中の酸無水物基とを、反応させてなるポリエステル分散剤、または分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物（ａ１）を少なくとも含むポリオール（ａ）中の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）を少なくとも含むポリカルボン酸化合物（ｂ）中の酸無水物基とを反応させてなるポリエステル（ｄ）の存在下、ビニル重合体部位（Ｃ）を形成するエチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合してなるポリエステル分散剤であることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項６】
テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）が、下記一般式（１）または一般式（２）で表されることを特徴とする請求項５記載の光散乱層用樹脂組成物。
一般式（１）：
【化１】
2015114588.tif 000055
［一般式（１）中、ｋは１または２である。］
一般式（２）：
【化２】
2015114588.tif 000056
［一般式（２）中、Ｑ1は、直接結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＳＯ2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、一般式（３）：
【化３】
2015114588.tif 000057
で表される基、または一般式（４）：
【化４】
2015114588.tif 000058
で表される基である。］
【請求項７】
ビニル重合体部位（Ｃ）の重量平均分子量が、１，０００〜２０，０００であることを特徴とする請求項４〜６いずれか１項記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項８】
エチレン性不飽和単量体（ｃ）が、下記一般式（５）で表わされる単量体を含むことを特徴とする請求項４〜７いずれか１項記載の光散乱層用樹脂組成物。
一般式（５）：
【化５】
2015114588.tif 000059
［一般式（５）中、Ｒ32は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐状若しくは環状アルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又は下記一般式（６）で表される化合物であり、Ｒ31は、水素原子、又はメチル基である。］
一般式（６）：
【化６】
2015114588.tif 000060
［一般式（６）中、Ｒ33は、炭素数１〜８の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基であり、Ｒ34は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐状若しくは環状アルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基、又は置換基を有していてもよいフェニレン基であり、ｎは、１〜３０の整数である。］
【請求項９】
ビニル重合体部位（Ｃ）のガラス転移温度が、５０℃未満であることを特徴とする請求項４〜８いずれか１項記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項１０】
さらに、光重合開始剤（Ｈ）を含むことを特徴とする請求項１〜９いずれか１項記載の光散乱層用樹脂組成物。
【請求項１１】
請求項１〜１０いずれか１項記載の光散乱層用樹脂組成物を用いて形成される光散乱層。
【請求項１２】
透光性基板上に、請求項１１記載の光散乱層と、透光性を有する第１の電極と、発光層を含む少なくとも１つの有機層と、光反射性を有する第２の電極とが順次積層された有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項１３】
照明装置または表示装置である請求項１２記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬともいう）装置の発光効率を高めるために用いられる光散乱層用樹脂組成物、該光散乱層用樹脂組成物から形成される光散乱層、並びに該光散乱層を具備する有機ＥＬ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、電界を印加することにより、陽極より注入された正孔と陰極より注入された電子との再結合エネルギーにより蛍光性物質などが発光する原理を利用した自発光素子である。有機ＥＬ素子は、照明装置あるいは表示装置の用途等において、近年活発な研究開発が行われている。
本明細書において、「有機ＥＬ装置」とは、有機ＥＬ照明装置および有機ＥＬ表示装置等の有機ＥＬ素子を用いた装置全般を指す。
【０００３】
例えば、有機ＥＬ表示装置は、従来のＣＲＴやＬＣＤと比較して、視認性および視野角の面で利点を有すると共に、軽量化、薄層化およびフレキシブル性といった優れた特徴を有している。しかしながら、一般に、発光層を含む有機層の屈折率が１．６〜２．１と空気より高い。そのため、発光した光の界面での全反射あるいは干渉が起こり易く、光取り出し効率は２０％に満たず、大部分の光を損失している。
【０００４】
有機ＥＬ装置の基本構造は、透光性基板上に、透光性電極、発光層を含む少なくとも１つの有機層、および背面電極を順次積層した構造である。アクティブマトリクス型の有機ＥＬ装置では、例えば、上記有機層上に、上記背面電極をなす複数の画素電極とそのスイッチング素子であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）とがマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板が積層される。
【０００５】
有機層から発光した光は、直接、またはアルミニウムなどで形成される背面電極で反射され、透光性基板から出射する。その際、発生した光は、透光性基板側に効率的に取り出されることが好ましい。しかしながら、屈折率の異なる隣接層界面に入射する角度によっては、光は全反射を起こし、素子内部を面方向に全反射しながら進む導波光となり、内部で吸収されて減衰してしまい外部に取り出すことができない。この導波する光の割合は隣接層の相対屈折率で決まる。一般的な有機ＥＬ装置の場合、屈折率ｎの関係は例えば、空気（ｎ＝１．０）／透光性基板（ｎ＝１．５）／透光性電極（ｎ＝２．０）／有機層（ｎ
＝１．７）／背面電極である。この場合、大気（空気）に放出されず素子内部を導波する光の割合は約８１％となり、発光量全体の約１９％しか有効に利用できないこととなる。
【０００６】
光の取り出し効率を向上させる手法として、透光性基板/透光性電極界面に光散乱層を設けることが提案されている（例えば特許文献１〜３参照）が、光散乱層は粒径が比較的大きい光散乱粒子を含むため、散乱層表面の凹凸度合い（平坦性）が悪化することが多い。
また、それにより散乱層上に形成する透光性電極の表面もそれに追従して表面が凹凸となり、ダークスポットや短絡の原因となってしまう。このような問題を解決するために、散乱層上に平坦層を形成することや層構成を工夫することによる改善が提案されている。（特許文献４参照）
しかし、複雑な工程を必要とすることや層構成が限定されてしまうことから、有機ＥＬ装置の形成においてデメリットが発生してしまうのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−２９６４２９号公報
【特許文献２】特開２００５−１９０９３１号公報
【特許文献３】特開２００９−１１０９３０号公報
【特許文献４】特開２０１２−０６９９２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明では、散乱層自身の平坦性を改善することで、散乱層上に形成される各層への影響を最小限に抑え、ダークスポットや短絡の発生をなくし、有機ＥＬ装置の寿命を長くすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、平均一次粒子径が２００〜８００ｎｍである光散乱粒子（Ｅ）と、一次粒子の短軸径が５〜６０ｎｍである無機酸化物微粒子（Ｆ）と、ポリエステル分散剤（Ｄ）とを含む光散乱層用樹脂組成物により、良好な光学特性（透明性、屈折率）を有すことで優れた光取り出し効率向上効果をもたらすとともに、平坦性を付与できる組成物が得られることを見出し、本発明に至った。
【００１０】
すなわち本発明は、平均一次粒子径が２００〜８００ｎｍである光散乱粒子（Ｅ）と、一次粒子の短軸径が５〜６０ｎｍである無機酸化物微粒子（Ｆ）と、ポリエステル分散剤（Ｄ）とを含むことを特徴とする光散乱層用樹脂組成物に関する。
【００１１】
また本発明は、無機酸化物微粒子（Ｆ）が、酸化チタンを含むことを特徴とする前記光散乱層用樹脂組成物に関する。
【００１２】
また本発明は、ポリエステル分散剤（Ｄ）の、重量平均分子量が２，０００〜２５，０００であり、かつ酸価が５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることを特徴とする前記光散乱層用樹脂組成物に関する。
【００１３】
また本発明は、ポリエステル分散剤（Ｄ）が、ポリオール（ａ）の水酸基と、ポリカルボン酸無水物（ｂ）の酸無水物基とを反応させてなる、ポリオール部位（Ａ）とポリカルボン酸部位（Ｂ）とを交互に有するポリエステル分散剤であって、ポリオール部位（Ａ）の一部又は全部が、Ｓ原子を介して、エチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合してなるビニル重合体部位（Ｃ）を有することを特徴とする前記光散乱層用樹脂組成物に関する。
【００１４】
また本発明は、ポリエステル分散剤（Ｄ）が、エチレン性不飽和単量体（ｃ）を、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基を有する化合物（ａ１）の存在下、ラジカル重合してなる片末端に２つの水酸基を有するビニル重合体（ａ２）を少なくとも含むポリオール（ａ）中の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）を少なくとも含むポリカルボン酸無水物（ｂ）中の酸無水物基とを、反応させてなるポリエステル分散剤、または分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物（ａ１）を少なくとも含むポリオール（ａ）中の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）を少なくとも含むポリカルボン酸化合物（ｂ）中の酸無水物基とを反応させてなるポリエステル（ｄ）の存在下、ビニル重合体部位（Ｃ）を形成するエチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合してなるポリエステル分散剤であることを特徴とする前記光散乱層用樹脂組成物に関する。
【００１５】
また本発明は、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）が、下記一般式（１）または一般式（２）で表されることを特徴とする前記光散乱層用樹脂組成物に関する。
一般式（１）：
【化１】
2015114588.tif 000003
［一般式（１）中、ｋは１または２である。］
一般式（２）：
【化２】
2015114588.tif 000004
［一般式（２）中、Ｑ１は、直接結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＳＯ2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、一般式（３）：
【化３】
2015114588.tif 000005
で表される基、または一般式（４）：
【化４】
2015114588.tif 000006
で表される基である。］
【００１６】
また本発明は、ビニル重合体部位（Ｃ）の重量平均分子量が、１，０００〜２０，０００であることを特徴とする前記光散乱層用樹脂組成物に関する。
【００１７】
また本発明は、エチレン性不飽和単量体（ｃ）が、下記一般式（５）で表わされる単量体を含むことを特徴とする前記光散乱層用樹脂組成物に関する。
一般式（５）：
【化５】
2015114588.tif 000007
［一般式（５）中、Ｒ32は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐状若しくは環状アルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又は下記一般式（６）で表される化合物であり、Ｒ31は、水素原子、又はメチル基である。］
一般式（６）：
【化６】
2015114588.tif 000008
［一般式（６）中、Ｒ33は、炭素数１〜８の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基であり、Ｒ34は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐状若しくは環状アルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基、又は置換基を有していてもよいフェニレン基であり、ｎは、１〜３０の整数である。］
【００１８】
また本発明は、ビニル重合体部位（Ｃ）のガラス転移温度が、５０℃未満であることを特徴とする前記光散乱層用樹脂組成物に関する。
【００１９】
また本発明は、さらに光重合開始剤（Ｈ）を含むことを特徴とする前記光散乱層用樹脂組成物に関する。
【００２０】
また本発明は、前記光散乱層用樹脂組成物を用いて形成される光散乱層に関する。
【００２１】
また本発明は、透光性基板上に、前記光散乱層と、透光性を有する第１の電極と、発光層を含む少なくとも１つの有機層と、光反射性を有する第２の電極とが順次積層された有機エレクトロルミネッセンス装置に関する。
【００２２】
また本発明は、照明装置または表示装置である前記有機エレクトロルミネッセンス装置に関する。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、有機ＥＬ装置の光取出し効率向上のために透光性電極と透光性基板との間に設置する光散乱層として用いることが出来、光取り出し効率向上、透過率、平坦性に優れた光散乱層用樹脂組成物、これを用いて形成された光散乱層、並びに、この光散乱層を具備する有機ＥＬ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】ボトム・エミッション構造のＥＬ素子の模式断面図
【図２】薄膜印刷装置の模式断面図
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例（代表例）であり、本発明はその要旨を超えない限りこれらの内容に特定されない。
【００２６】
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本願では、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」、又は「（メタ）アクリルアミド」と表記した場合には、特に説明がない限り、それぞれ、「アクリレート及び／又はメタクリレート」、「アクリル酸及び／又はメタクリル酸」、又は「アクリルアミド及び／又はメタクリルアミド」を表すものとする。
【００２７】
「光散乱層用樹脂組成物」
本発明の光散乱層用樹脂組成物は、平均一次粒子径が２００〜８００ｎｍである光散乱粒子（Ｅ）と、一次粒子の短軸径が５〜６０ｎｍである無機酸化物微粒子（Ｆ）と、ポリエステル分散剤（Ｄ）とを含むことを特徴とする。
【００２８】
＜光散乱粒子（Ｅ）＞
本発明の光散乱層用樹脂組成物における光散乱粒子（Ｅ）は、平均一次粒子径が２００〜８００ｎｍである。光散乱粒子（Ｅ）の平均一次粒子径が２００ｎｍ未満であると、充分な散乱効果が現れない上に、バインダー組成物の屈折率に影響を与えてしまう。また、８００ｎｍより大きいと、散乱強度（ヘイズ値）が高くても散乱角度が狭くなるため、全反射に有効な散乱が得られず、取り出し効率が低くなったり、光取り出し効率の波長による変化が大きくなり色調が変化しやすくなる。より好ましくは、２５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００２９】
（光散乱粒子（Ｅ）平均一次粒子径測定）
本発明において、光散乱粒子（Ｅ）の「平均一次粒子径」とは、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）を使用して、電子顕微鏡写真から一次粒子の大きさを直接計測する方法で測定することができる。測定方法として具体的には、個々の光散乱粒子（Ｅ）の一次粒子の短軸径と長軸径を計測し、平均をその一次粒子の平均一次粒子径とする。
なお、樹脂粒子の場合には合成時に溶剤を含むため、真空乾燥機にて乾燥し、溶剤を飛ばしてから粒子径を観測することができる。乾燥により凝集が起き複数の粒子が塊として付着していることがあるが、この場合は１つ１つの粒子に着目して粒子径を測定すれば問題がない。
【００３０】
光散乱粒子（Ｅ）は、有機ＥＬ装置内で全反射により導波している光を散乱し、取り出す効果を有するものであれば特に限定されず、有機粒子であっても、無機粒子であってもよい。
有機粒子としては、メタクリル酸エステル共重合体ビーズ、アクリル−スチレン共重合体ビーズ、メラミン樹脂ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリスチレンビーズ、架橋ポリスチレンビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ、およびベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド縮合物ビーズ等が用いられる。無機粒子としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、および酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ3）等が用いられる。これらは、単独で用いても２種類以上を併用してもよい。
【００３１】
光散乱粒子（Ｅ）は、有機粒子の場合は乾燥により凝集を起こすため、合成時の溶剤のまま用いることが好ましいが、乾燥された有機粒子や無機粒子を分散する場合には、凝集をほぐすために分散剤や界面活性剤を用い、分散機を用いる方法が好ましい。
ここで用いる分散剤としては、ポリエステル分散剤（Ｄ）を用いることが好ましく、それにより、良好な平坦性を得ることが出来る。
分散機としては、ペイントコンディショナー（レッドデビル社製）、ボールミル、サンドミル（シンマルエンタープライゼス社製「ダイノーミル」等）、アトライター、パールミル（アイリッヒ社製「ＤＣＰミル」等）、コボールミル、ホモミキサー、ホモジナイザー（エム・テクニック社製「クレアミックス」等）、湿式ジェットミル（ジーナス社製「ジーナスＰ Ｙ 」、ナノマイザー社製「ナノマイザー」）、微小ビーズミル（寿工業（株）社製「スーパーアペックミル」および「ウルトラアペックミル」）、超音波分散機等が使用できる。
分散機にメディアを使う場合には、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナビーズ、磁性ビーズ、およびポリスチレンビーズ等を用いることが好ましい。分散に関しては、２種類以上の分散機、または大きさの異なる２種類以上のメディアをそれぞれ用い、段階的に実施しても差し支えない。
【００３２】
（光散乱粒子（Ｅ）分散液の分散粒子径測定）
光散乱粒子（Ｅ）分散液の平均粒子径は、例えば日機装（株）社製「ナノトラックＵＰＡ」等を用いて測定することができる。具体的には、固形分重量％濃度を２０％に調節した光散乱粒子分散液を、分散液と同じ溶媒で満たしたセル内へ数滴たらし、信号レベルが最適値になった濃度で測定することができる。
【００３３】
光散乱粒子（Ｅ）分散液の粒度分布としては、変動係数が３０％以下であることが好ましい。「変動係数」とは、粒子径の標準偏差を平均粒子径で除した値の百分率で表されるものであり、平均粒子径に対するばらつきの大きさの指標となる。変動係数が３０％より大きいと、光取り出し効率の波長による変化が大きくなり、色調が変化しやすいため、好ましくない場合がある。より好ましくは変動係数が２０％以下である。
【００３４】
光散乱粒子（Ｅ）分散液の平均粒子径および粒度分布は、無機粒子の場合は分散条件、例えば分散機、分散媒、分散時間、および分散剤等を適宜調整することによって好適な範囲に調整することが可能である。また、有機粒子の場合は、重合温度、および重合組成等の合成条件、あるいは、分散機、分散媒、分散時間、および分散剤等の分散条件によって調整できる。
【００３５】
光散乱粒子（Ｅ）の使用量は、光散乱層用樹脂組成物の固形分中、１〜３０重量％が好ましく、１〜２０重量％がより好ましい。１重量％未満では充分な散乱効果が現れないおそれがあり、３０重量％を超えると粒子同士が凝集しやすく、光散乱層の表面粗さが大きくなるおそれがある。
【００３６】
光散乱粒子（Ｅ）の屈折率としては例えば、メタクリル酸エステル共重合体ビーズ：１．４５〜１．６０、アクリル−スチレン共重合体ビーズ：１．５〜１．６、メラミン樹脂ビーズ：１．６５、ＳｉＯ2：１．４５、ＺｒＯ2：２．２、およびＴｉＯ2：２．５である。
好ましくはバインダー組成物との屈折率差が大きく出来るトリフルオロエチルメタクリレート共重合体ビーズ：１．４６、およびＴｉＯ2：２．５である。
本明細書において、「光散乱粒子の屈折率」は、無機酸化物微粒子を構成する材料のバルクの屈折率を意味する。バルク材料の屈折率は、アッベ屈折率計あるいはＶ ブロック方式の屈折率計を用いて測定することができる。
【００３７】
＜無機酸化物微粒子（Ｆ）＞
本発明の樹脂組成物は、一次粒子の短軸径が５〜６０ｎｍである無機酸化物微粒子（Ｆ）を含む。これにより、樹脂組成物を任意の屈折率に調整することが出来る。
【００３８】
一次粒子の短軸径が６０ｎｍを超えると、塗膜としたときの透明性が低下し、表面粗さが悪化する。一次粒子の短軸径が５ｎｍ未満の場合には入手性の観点からも好ましくなく、また凝集力が高いために安定な分散体を得ることが難しい。
【００３９】
無機酸化物微粒子（Ｆ）の短軸径と長軸径のアスペクト比は、１〜１０であることが好ましく、１〜６であることがより好ましい。アスペクト比が１０を超えると、無機酸化物分散液の粒径分布が広くなり、透過率が下がりやすいため好ましくない場合がある。
【００４０】
本発明で用いられる無機酸化物微粒子（Ｆ）は、可視光域において１．８〜２．８の屈折率を有することが望ましい。
なかでも、無機酸化物微粒子（Ｆ）の屈折率は、通常１．８〜２．５であるから、無機酸化物微粒子（Ｆ）を分散体とし樹脂組成物に添加することにより、アクリル樹脂の屈折率１．４〜１．５程度と比べて、光散乱層全体の屈折率を向上させることが可能である。
【００４１】
本明細書において、「無機酸化物微粒子（Ｆ）の屈折率」とは、無機酸化物微粒子を構成する材料のバルクの屈折率を意味する。バルク材料の屈折率は、アッベ屈折率計あるいはＶ ブロック方式の屈折率計を用いて測定することができる。
【００４２】
無機酸化物微粒子（Ｆ）としては、具体的には、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、五酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、および酸化亜鉛（ＺｎＯ）から成る群から選択された少なくとも１種の材料から成る粒子が挙げられる。
【００４３】
これらの中でも、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、および酸化スズ（ＳｎＯ2）が好ましい。酸化チタン（ＴｉＯ2）、および酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）が、透光性、分散性、耐候性、および耐光性等の観点から特に好ましい。最も好ましくは酸化チタン（ＴｉＯ2）である。
【００４４】
（無機酸化物微粒子（Ｆ）の一次粒子の粒子径測定）
本発明でいう無機酸化物微粒子（Ｆ）の一次粒子の短軸径は、凝集を加味しない個々の粒子径のことを示し、透過型（ＴＥＭ）電子顕微鏡を使用して、電子顕微鏡写真から一次粒子の大きさを直接計測する方法で測定することができる。測定方法として具体的には、個々の無機酸化物微粒子（Ｆ）の一次粒子の短軸径を計測し、平均をその一次粒子の短軸径とした。
同様にして無機酸化物微粒子（Ｆ）の一次粒子の長軸径も計測することができる。なお、アスペクト比が０．９〜１．１の範囲内であり、形状がほぼ球状である場合には、個々の無機酸化物微粒子（Ｆ）の一次粒子の短軸径と長軸径の平均値をその一次粒子の短軸径とした。
【００４５】
＜無機酸化物微粒子（Ｆ）分散体＞
無機酸化物微粒子（Ｆ）は、粉体をそのまま用いることができる他、分散状態を保つことができるため、予め溶剤に分散した分散液を用いても構わない。分散方法は、光散乱粒子（Ｅ）と同様、無機酸化物微粒子（Ｆ）の表面状態に合わせた分散剤を用い、分散機を用いる方法が好ましい。中でもポリエステル分散剤（Ｄ）を用いることが最も好ましい。
【００４６】
無機酸化物微粒子（Ｆ）を含有する分散体および樹脂組成物は、可視光波長領域、光路長１ｍｍにおける光透過率が８０％以上が好ましく、より好ましくは８５％以上である。この光透過率は、分散体および樹脂組成物における無機酸化物微粒子（Ｆ）の含有率により異なる。
【００４７】
本発明の光散乱層用樹脂組成物で用いられる無機酸化物微粒子（Ｆ）の配合量は、光散乱層用樹脂組成物中、８０重量％以下であるのが好ましく、６０重量％以下がより好ましい。８０重量％を超えると、粒子同士が凝集したりするため塗膜が脆くなったりするおそれがある。
【００４８】
無機酸化物微粒子（Ｆ）は、有機化合物や有機金属化合物などで表面被膜処理されていることが好ましい。表面被膜処理の方法としては、前処理法とインテグラルブレンド法があげられるが、本発明では前処理法が好ましい。前処理法には湿式法、乾式法があり、湿式法には水処理法と溶媒処理法がある。
【００４９】
水処理法には、直接溶解法、エマルジョン法およびアミンアダクト法などがある。湿式法は、有機溶剤や水に対して表面処理剤を溶解または懸濁させ、これに無機酸化物微粒子を添加し、このような溶液を数分から１時間程度撹拌して混合し、場合によっては加熱処理を施した後に、濾過などの工程を経て乾燥し、このようにして無機酸化物微粒子表面を被覆する方法である。なお、有機溶剤や水に対して無機酸化物微粒子を分散した懸濁液に表面処理剤を添加しても構わない。表面処理剤としては、直接溶解法では水に溶解する品種、エマルジョン法では水中乳化可能型の品種、アミンアダクト法ではリン酸残基を有する品種が適用できる。アミンアダクト法では、トリアルキルアミンやトリアルキロールアミンなどの３級アミンを少量添加することによって調整液をｐＨ＝７〜１０にし、かつ中和発熱反応による液温の上昇を抑えるために冷却しながら処理することが好ましく、その他の工程は他の湿式法と同様に処理することで表面被覆が可能である。湿式法において使用可能な表面処理剤としては、使用する有機溶剤や水に溶解したり懸濁可能なものに限られる。
【００５０】
分散溶媒としては水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールなどのアルコール類；エチレングリコールなどの多価アルコール類およびその誘導体；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジメチルジメチルアセトアミドなどのケトン類；ジメチルエーテル、ＴＨＦ、等のエーテル類；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；トルエン、キシレンなどの非極性溶媒；２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレートなどのアクリレート類その他一般の有機溶媒が使用できる。分散溶媒の量は通常粒子１００重量部に対して１００〜２０００重量部である。
【００５１】
乾式法は、無機酸化物微粒子に直接表面処理剤を添加し、ミキサで撹拌し混合することによって表面を被覆する方法である。一般的に、無機酸化物微粒子表面の水分を除去するために予備乾燥を行うことが好ましい。たとえば、ヘンシェルミキサなどの混合機を用いて数十ｒｐｍ（１分間当たりの回転数）で１００℃前後の温度にて予備乾燥を行った後、表面処理剤を直接もしくは有機溶剤や水に溶解もしくは分散し混合した溶液を添加する。その際、乾燥空気や窒素ガスで噴霧処理することによって、より均一に混合することができる。
【００５２】
インテグラルブレンド法は、塗料の分野で一般的に使用される方法であり、無機酸化物微粒子樹脂とを混練する際に表面処理剤を添加して表面を被覆する。
【００５３】
本発明の無機酸化物微粒子（Ｆ）の表面被膜処理に使用できる表面処理剤としては、有機化合物及び有機金属化合物の少なくとも１つが用いられる。これら化合物の具体例としては、メチルハイドロジェンポリシロキサン、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサンなどの各種のシリコーンオイル、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ｎ−オクタデシルジメチル（３−（トリメトキシシリル）プロピル）アンモニウムクロライドなどの各種のアルキルシラン、トリフルオロメチルエチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランなどの各種のフルオロアルキルシラン、特にビニルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤に代表される、シラン系、チタン系、アルミ系、アルミナ−ジルコニア系などの各金属系カップリング剤の有機金属化合物、イソステアリン酸、ステアリン酸などの脂肪酸やそれらの金属塩、さらに界面活性剤などの有機化合物いずれの処理剤も使用可能であり、これらを単独、または二種以上を混合して用いることができる。特にこれを含むコーティング組成物から得る塗膜に硬度、密着性、耐擦傷性を発現させる場合、表面処理はアルミニウム、ケイ素、ジルコニウムを含む無機化合物による処理を含むことが好ましく、特に水酸化アルミニウムで被覆されているものが特に好ましい。
【００５４】
表面被膜処理後の無機酸化物微粒子（Ｆ）中の当該表面処理剤の含有量は、５〜２０重量％であることが好ましい。表面処理剤の含有量が５重量％未満である場合には、無機酸化物微粒子の凝集を防ぐための効果が得られにくい場合がある。一方、表面処理剤の含有量が２０重量％より多い場合には、表面被膜処理後の無機酸化物微粒子（Ｆ）に含まれる高屈折率成分が相対的に少なくなり、樹脂組成物の屈折率を充分に上げることが出来ない場合がある。
【００５５】
一般に、これら微細な粉体粒子は凝集力が非常に強く、一次粒子がクラスター状に凝集し二次凝集体を形成している。従って、これら表面被膜処理されている凝集粉体をそのまま分散媒に添加し、撹拌混合するだけでは分散液にはならない。無機酸化物微粒子（Ｆ）の分散液をなすには、それらの粉体に機械的にエネルギーを加え、粒子間の凝集を解きほぐし、粒子本来の一次粒径に近いところまで細かく粉砕することによって、コーティング塗膜とした時の可視光透明性を発現することができるものである。その際には後述するように、分散剤を添加することが分散安定化のために好ましい。本発明では、機械的エネルギーを加えて凝集をときほぐす際に使用する分散剤は、当該表面処理剤には含まないこととする。
【００５６】
機械的な粉砕分散装置としては、ビーズミル、ジェットミル、アトライター、サンドミル等公知なものが使用可能であるが、特に、ビーズを用いたビーズミルを使用した場合、無機酸化物微粒子（Ｆ）の分散液が短時間で得られやすく、好ましい。ビーズミルの具体例としては、アシザワファインテック（株）製ミニゼータ、ラボスター、スターミルＬＭＺ、スターミルＺＲＳ、寿工業（株）製ウルトラアペックスミル、アイメックス（株）製  マックスビスコミル等が使用可能である。分散時間は、使用されるビーズ径、ビーズ材質、ビーズミルの周速などにより変わるが、一般に０．０３〜０．５ｍｍ程度のビーズ径で、アルミナ、ジルコニア等のセラミックビーズの使用が適する。ビーズミルでの粉砕時間は２０分〜５時間程度、より好ましくは３０分〜３時間程度が好ましい。
分散媒は、水、有機溶剤問わず使用可能であるが、より好ましくは水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ダイアセトンアルコール等のアルコール類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類などの極性溶剤、及びそれらの混合溶剤が好ましい。
【００５７】
粉砕分散時には、分散安定性の観点から分散剤を用いることが好ましく、特に、ポリエステル分散剤（Ｄ）を添加して分散することが好ましい。ポリエステル分散剤（Ｄ）を用いて分散することで、より平坦性に優れた塗膜を形成することが出来るからである。
【００５８】
また、その他の分散剤を同時に、あるいは単独で用いても良く、樹脂型分散剤やシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、変性シリコーンオイル等のシリコーン系分散剤などの公知のものを使用することが可能である。粉砕分散時に使用する分散剤は、無機粉体表面に吸着配向するような有機官能基を有しており、粉砕にて微細化した微粒子を保護する役割を担うため、分散安定性の高い分散液を調製する場合には必須である。有機官能基としては、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、アミノ基、イミノ基、及びこれらの塩、アミド基、アセチルアセトナート基が挙げられる。特にカルボキシル基、リン酸基、及びこれらのナトリウム塩、アンモニウム塩基が好ましい。
【００５９】
樹脂型分散剤においては、ポリエステル分散剤（Ｄ）以外に、上記官能基を側鎖に有する樹脂型分散剤を用いてもよい。具体的な商品名としては、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１８２、２１５５、２０２２（ビックケミー社製）、またはポイス５２０、５２１、５３２Ａ、２１００（花王（株）製）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１０２、１１１、１８０（ビックケミー社製）、アロンＴ−４０（東亞合成（株）製）などが使用可能である。
【００６０】
これら分散剤は、粉体と分散媒をビーズミルで機械的に粉砕分散する際に共存させるのが好ましい。粉体と分散媒だけで機械的粉砕分散したのち、分散剤を添加した場合、目標とする分散液の平均粒径まで凝集が解けないことがある。
【００６１】
分散液中の無機酸化物微粒子（Ｆ）の固形分濃度としては、１〜８０重量％、より好ましくは２〜６５重量％が好ましい。１重量％より少ない量では樹脂組成物の全固形分濃度が小さすぎて、適当な膜厚の塗膜が得られないため好ましくない場合があり、８０重量％を超えると、高粘度化するなどのハンドリング上の不便が生じやすい。なお、上記分散剤の使用量は、無機酸化物微粒子（Ｆ）固形分１００重量部に対して、分散剤有効成分で０．５〜３０重量部、好ましくは１〜２０重量部が好ましい。０．５重量部より少ないと、分散剤添加効果が現れ難く、３０重量部よりも多いと過剰な分散剤が塗膜の耐擦傷性、耐候性の低下をもたらし、樹脂組成物が十分な屈折率を得ることが出来ない場合がある。
【００６２】
本発明の無機酸化物微粒子（Ｆ）は酸化チタンを含むことが好ましい。このような粒子を用いることで、優れた光学特性（透明性、屈折率）、光取り出し効率を有する塗膜を形成することができる。
【００６３】
酸化チタンの場合、結晶形として、ルチル、アナターゼ、ブルッカイトの３種類が存在するが、本発明では、屈折率の観点からルチル型が好ましい。
【００６４】
酸化チタンは、表面処理前の酸化チタンを前述した方法にて表面処理して用いるのでもよく、平均一次粒子径が５ｎｍ〜６０ｎｍである市販品の表面被膜処理後の酸化チタン粒子を用いても良い。
【００６５】
以下に、本発明の一次粒子の短軸径が５〜６０ｎｍのルチル型酸化チタンの市販品について例示する。
テイカ株式会社製
「ＭＴ−５００ＳＡ」（短軸径：３５ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＭＴ−５００Ｔ」（短軸径：３５ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＳＭＴ−５００ＳＡＳ」（短軸径：３５ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＳＭＴ−５００ＳＡＭ」（短軸径：３５ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＳＭＴ−１００ＳＡＳ」（短軸径：１５ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＭＴＹ−１００ＳＡＳ」（短軸径：１５ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＭＴ−１００ＳＡ」（短軸径：１５ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＭＴ−１００ＡＱ」（短軸径：１５ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＭＴ−１００ＴＶ」（短軸径：１５ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＭＴ−１００Ｚ」（短軸径：１５ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＭＴ−１５０ＥＸ」（短軸径：１５ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＭＴ−１００ＷＰ」（短軸径：１５ｎｍ、シリカ表面処理など）、
「ＭＴ−０５」（短軸径：１０ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＭＴＹ−０２」（短軸径：１０ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＭＴＹ−１１０Ｍ３Ｓ」（短軸径：１０ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＭＴ−０１」（短軸径：１０ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ) 3表面処理など）、
「ＭＴ−１０ＥＸ」（短軸径：１０ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＪＭＴ−１５０ＩＢ」（短軸径：１５ｎｍ、アルキルシラン表面処理など）、
「ＪＭＴ−１５０ＡＱ」（短軸径：１５ｎｍ、アルキルシラン表面処理など）、
「ＪＭＴ−１５０ＦＩ」（短軸径：１５ｎｍ、アルキルシラン表面処理など）、
「ＪＭＴ−１５０ＡＮＯ」（短軸径：１５ｎｍ、アルキルシラン表面処理など）、
石原産業株式会社製
「ＴＴＯ−５１Ａ」（短軸径：１０ｎｍ、長軸径：３０ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理）、
「ＴＴＯ−５１Ｃ」（短軸径：１０ｎｍ、長軸径：３０ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＴＴＯ−５５Ａ」（短軸径：３０ｎｍ、長軸径：５０ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理）、
「ＴＴＯ−５５Ｃ」（短軸径：３０ｎｍ、長軸径：５０ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＴＴＯ−Ｓ−２」（短軸径：１５ｎｍ、長軸径：７５ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＭＰＴ−１３６」（短軸径：１５ｎｍ、長軸径：７５ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＴＴＯ−Ｖ−３」（短軸径：１０ｎｍ、長軸径：６０ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
チタン工業株式会社製
「ＳＴ−４５５」（短軸径：２０ｎｍ、長軸径：１２０ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
「ＳＴ−４５５ＷＳ」（短軸径：２０ｎｍ、長軸径：１２０ｎｍ、シリカ表面処理）、
「ＳＴ−４８５ＳＡ１５」（短軸径：８ｎｍ、長軸径：１００ｎｍ、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理など）、
日本アエロジル株式会社製
「二酸化チタン  Ｐ２５」（短軸径：２１ｎｍ）、
「二酸化チタン  Ｔ８０５」（短軸径：２１ｎｍ）
が挙げられる
この中でも、Ａｌ(ＯＨ)3表面処理が施されている酸化チタンが好ましい。
【００６６】
また、その他の無機酸化物微粒子を用いてもよい。その他の無機酸化物微粒子としては、下記のものが挙げられる。
【００６７】
ケイ素の酸化物微粒子分散体として市販されている商品としては、日産化学工業（株）製ＭＡ−ＳＴ−ＭＳ、ＩＰＡ−ＳＴ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＭＳ、ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ、ＥＧ−ＳＴ、ＮＰＣ−ＳＴ−３０、ＭＥＫ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、ＭＩＢＫ−ＳＴ、ＮＢＡ−ＳＴ、ＸＢＡ−ＳＴ、ＤＭＡＣ−ＳＴ、ＳＴ−ＵＰ、ＳＴ−ＯＵＰ、ＳＴ−２０、ＳＴ−４０、ＳＴ−Ｃ、ＳＴ−Ｎ、ＳＴ−Ｏ、ＳＴ−５０、ＳＴ−ＯＬ等、触媒化成工業（株）製中空シリカＣＳ６０−ＩＰＡ等を挙げることができる。また粉体シリカとしては、日本アエロジル（株）製アエロジル１３０、アエロジル３００、アエロジル３８０、アエロジルＴＴ６００、アエロジルＯＸ５０、旭硝子（株）製シルデックスＨ３１、Ｈ３２、Ｈ５１、Ｈ５２、Ｈ１２１、Ｈ１２２、日本シリカ工業（株）製Ｅ２２０Ａ、Ｅ２２０、富士シリシア（株）製ＳＹＬＹＳＩＡ４７０、日本板硝子（株）製ＳＧフレ−ク等を挙げることができる。
【００６８】
アルミニウムの酸化物微粒子分散体として市販されている商品としては、日産化学工業（株）製アルミナゾル−１００、アルミナゾル−２００、アルミナゾル−５２０、住友大阪セメント（株）製ＡＳ−１５０Ｉ、ＡＳ−１５０Ｔが挙げられる。
【００６９】
ジルコニアの酸化物微粒子分散体として市販されている商品としては、日産化学工業（株）製ＺＲ−４０ＢＬ、ＺＲ−３０ＢＳ、ＺＲ−３０ＢＦ、ＺＲ−３０ＡＬ、ＺＲ−３０ＡＨ等、住友大阪セメント（株）製ＨＸＵ−１１０ＪＣを挙げることができる。その他、ジルコニアの酸化物微粒子分散液は特許４６９２６３０号公報記載の方法等で得ることができる。
【００７０】
その他、亜鉛等の酸化物微粒子分散体の市販品としては、シーアイ化成（株）製ナノテック等を挙げることができる。
【００７１】
（無機酸化物微粒子（Ｆ）の分散粒径）
無機酸化物微粒子（Ｆ）分散液の分散粒子径は、例えば日機装（株）社製「ナノトラックＵＰＡ」等を用いて測定することができる。固形分重量％濃度を２０％に調節した光散乱粒子分散液を、分散液と同じ溶媒で満たしたセル内へ数滴たらし、信号レベルが最適値になった濃度で測定することができる。
【００７２】
本発明における無機酸化物微粒子（Ｆ）の分散粒径は１０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であることが好ましい。平均一次粒子径が７０ｎｍを超えると、塗膜としたときの透明性が低下したり、表面粗さが悪化する場合がある。分散粒径が１０ｎｍ未満の場合には安定性の観点から好ましくない場合がある。
【００７３】
＜ポリエステル分散剤（Ｄ）＞
本発明の樹脂組成物はポリエステル分散剤（Ｄ）を含み、ポリエステル分散剤（Ｄ）としては、主鎖および側鎖にエステル骨格を有していれば、制限がなく用いることができる。好ましくは、主鎖にエステル骨格を有している分散剤である。
より好ましくは、ポリエステル分散剤（Ｄ１）、（Ｄ２）等が挙げられる。主鎖にエステル骨格を含むことで、光散乱粒子、または無機酸化物微粒子の親和基として作用する。
なかでも、光散乱粒子（Ｅ）または無機酸化物微粒子（Ｆ）を分散するために用いることが好ましく、エステル骨格を有することにより、光散乱粒子（Ｅ）または無機酸化物微粒子（Ｆ）表面への吸着能が高く、分散安定性と相溶性に優れるとともに、優れた平坦性を有し、塗膜内での凝集や突出を防止することが可能となる。
【００７４】
ポリエステル分散剤（Ｄ）は、光散乱粒子（Ｅ）と無機酸化物微粒子（Ｆ）のどちらの分散に用いるのでも良いが、無機酸化物微粒子（Ｆ）を分散するために用いることが、樹脂組成物の安定性と塗膜の平坦性の面から好ましい。また、光散乱粒子（Ｅ）と無機酸化物微粒子（Ｆ）の両方においてポリエステル分散剤（Ｄ）にて分散されることが、平坦性の面から最も好ましい。
【００７５】
一般に、分散剤は光散乱粒子、または無機酸化物微粒子に吸着する部位と、光散乱粒子、または無機酸化物微粒子担体や分散媒である溶剤に親和性の高い部位との構造を持ち合わせ、この２つの部位のバランスで分散剤の性能が決まる。つまり、分散性を発現させるためには、分散剤の光散乱粒子、または無機酸化物微粒子に吸着する性能と分散媒である溶剤への親和性がともに非常に重要である。
【００７６】
本発明におけるポリエステル分散剤（Ｄ）は、なかでも酸性基を有する分散剤であることが好ましく、特に、芳香族カルボキシル基を有する酸性樹脂型分散剤が好ましい。なかでも、片末端に水酸基を有する重合体と、芳香族トリカルボン酸無水物及び／又は芳香族テトラカルボン酸二無水物とを反応させてなる分散剤であることが最も好ましい。このような樹脂型分散剤としては、例えば、特許第４０２０１５０号明細書、特開２００７−１４０４８７号公報、国際公開２００８／００７７７６号パンフレット、特開２０１０−１６３５００号公報や特開２０１０−２２３９８８号公報等に開示されており、流動性と分散性の両立といった優れた効果を発揮する。
【００７７】
光散乱粒子、または無機酸化物微粒子への吸着性の観点から、芳香族環を２つ以上有するテトラカルボン酸二無水物は、適した骨格であり、分散安定性にも優れることから好ましい。
【００７８】
［ポリエステル分散剤（Ｄ１）］
特開２００７−１４０４８７号公報等に記載の好ましい樹脂型分散剤としては、下記式で示されるポリエステル分散剤（Ｄ１）が挙げられる。
（ＨＯＯＣ−）m1−Ｒ54−（−ＣＯＯ−［−Ｒ56−ＣＯＯ−］q−Ｒ55）t
［式中、Ｒ54は４価のテトラカルボン酸化合物残基、Ｒ55はモノアルコール残基、Ｒ56はラクトン残基、ｍ１は２または３、ｑは１〜５０の整数、ｔは（４−ｍ１）を表す。］
【００７９】
［ポリエステル分散剤（Ｄ２）］
本発明のポリエステル分散剤（Ｄ）としては、光散乱粒子、または無機酸化物微粒子分散体の安定性がより良い点から、ポリオール（ａ）の水酸基と、ポリカルボン酸無水物（ｂ）の酸無水物基を反応させてなる、ポリオール部位（Ａ）とポリカルボン酸部位（Ｂ）を交互に有するポリエステル分散剤であって、ポリオール部位（Ａ）の一部又は全部が、Ｓ原子を介して、エチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合してなるビニル重合体部位（Ｃ）を有するポリエステル分散剤（Ｄ２）であることがより好ましい。
このとき、主鎖のポリカルボン酸部位（Ｂ）が、光散乱粒子、または無機微粒子吸着基として、側鎖のビニル重合体部位（Ｃ）が光散乱粒子、または無機酸化物微粒子担体親和基として、作用する。
このようなポリエステル分散剤は、国際公開２００８／００７７７６号パンフレット等に記載されている。
【００８０】
ポリエステル分散剤（Ｄ２）は、エチレン性不飽和単量体（ｃ）を、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基を有する化合物（ａ１）の存在下、ラジカル重合してなる片末端に２つの水酸基を有するビニル重合体（ａ２）を少なくとも含むポリオール（ａ）中の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）を少なくとも含むポリカルボン酸無水物（ｂ）中の酸無水物基とを、反応させてなることによって得られる。
【００８１】
また、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物（ａ１）を少なくとも含むポリオール（ａ）中の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）を少なくとも含むポリカルボン酸化合物（ｂ）中の酸無水物基とを反応させてなるポリエステル（ｄ）の存在下、ビニル重合体部位（Ｃ）を形成するエチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合することによっても得られる。
【００８２】
ポリエステル分散剤（Ｄ２）の各構成要素について説明する。
《エチレン性不飽和単量体（ｃ）》
エチレン性不飽和単量体（ｃ）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、オキセタン(メタ)アクリレート等、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のアルコキシポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリルアミド、およびＮ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等のＮ置換型（メタ）アクリルアミド類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のアミノ基含有（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリロニトリル等のニトリル類、及びこれらの混合物があげられる。
【００８３】
また、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニル類等、およびこれらの混合物を併用して用いてもよい。
【００８４】
また、カルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体を併用することもできる。カルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸などから１種または２種以上を選択することができる。
【００８５】
ポリエステル分散剤（Ｄ２）は、これらエチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合してなるビニル重合体部位（Ｃ）を有するものであり、このビニル重合体部位（Ｃ）のガラス転移温度（以下Ｔｇと略記する。）が、５０℃未満であることが好ましい。
【００８６】
しかしこれらのエチレン性不飽和単量体（ｃ）は、その単独重合体のガラス転移温度（以下Ｔｇと略記する。）が、必ずしも５０℃未満のものばかりではなく、必要に応じて、単独重合体のＴｇが高い単量体と単独重合体のＴｇが低い単量体を共重合することによって、本発明のポリエステル分散体にＴｇが５０℃未満のビニル重合体部位（Ｃ）を形成することができる。
【００８７】
本発明のポリエステル分散剤（Ｄ２）の一分子には、このＴｇが５０℃未満のビニル重合体部位（Ｃ）が多数存在し、光散乱粒子、または無機酸化物微粒子担体および溶剤への親和性部位として機能する。このビニル重合体部位（Ｃ）が５０℃以上では、感光性組成物として製膜する際、現像工程における現像残渣が悪化する場合がある。一般に、タッチパネル用絶縁膜などの製膜工程では現像工程が必要であり、現像耐性が求められるため、Ｔｇが高いために剛直性のある分子を含むことで生じる架橋反応効率の低下は現像耐性にも影響を及ぼす。このためビニル重合体部位（Ｃ）のＴｇは、３０℃以下がより好ましい。ビニル重合体部位（Ｃ）のＴｇの下限は特にないが、−５０℃を下回る材料は一般に長いアルキル鎖を有し、光散乱粒子、または無機微粒子の分散性が悪化するおそれがあるため、注意が必要である。
【００８８】
本発明で言うビニル重合体部位（Ｃ）のＴｇとは、共重合するエチレン性不飽和単量体（ｃ）それぞれの単独重合体のＴｇから、下記のＦｏｘの式で算出し
た値を示している。
【００８９】
Ｆｏｘの式
１／Ｔｇ＝Ｗ１／Ｔｇ１＋Ｗ２／Ｔｇ２＋・・・＋Ｗｎ／Ｔｇｎ
Ｗ１からＷｎは、使用している単量体の重量分率を示し、Ｔｇ１からＴｇｎは、単量体の単独重合体のガラス転移温度（単位は絶対温度「Ｋ」）を示す。
【００９０】
主な単量体の単独重合体のＴｇを下記に例示する。
【００９１】
ｎ−ブチルアクリレート：−４５℃（２２８Ｋ）
ｎ−ブチルメタクリレート：１８℃（２９１Ｋ）
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート：１０７℃（３８０Ｋ）
エチルアクリレート：−２２℃（２５１Ｋ）
シクロヘキシルアクリレート：８３℃（３５６Ｋ）
ベンジルメタクリレート：５４℃（３２７Ｋ）
２‐メトキシエチルアクリレート：−５０℃（２２３Ｋ）
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート：４１℃（３１４Ｋ）
アクリル酸：１０５℃（３７８Ｋ）
メタクリル酸：２２８℃（５０１Ｋ）
２‐エチルヘキシルメタクリレート：−１０℃（２６３Ｋ）
２‐ヒドロキシエチルアクリレート：−１５℃（２５８Ｋ）
２‐ヒドロキシブチルアクリレート：−４０℃（２３３Ｋ）
２‐エチルヘキシルアクリレート：−７０℃（２０３Ｋ）
メタクリル酸メチル：１０５℃（３７８Ｋ）
メタクリル酸：２２８℃（５０１Ｋ）
アクリル酸：１０５℃（３７８Ｋ）
イソボルニルアクリレート：９４℃（３６７Ｋ）
イソボルニルメタクリレート：１８０℃（４５３Ｋ）
ジシクロペンタニルアクリレート：１２０℃（３９３Ｋ）
ジシクロペンタニルメタクリレート：１７５℃（４４８Ｋ）
アダマンチルアクリレート：１５３℃（４２６Ｋ）
アダマンチルメタクリレート：２５０℃（５２３Ｋ）
【００９２】
例えば、上記方法で計算を行うとメタクリル酸メチル９０重量部、エチルアクリレート
１０重量部を用いて合成したエチレン性不飽和単量体をラジカル重合してなるビニル重合体部位のガラス転移温度は８６．８℃となる。
【００９３】
特に、Ｔｇを５０℃未満とするためには、単独重合体のＴｇが低いエチレン性不飽和単量体を共重合組成に含有することが必要である。前記エチレン性不飽和単量体の中でも以下のものは、Ｔｇが低く、ポリエステル分散剤のビニル重合体部位のＴｇを低くするには効果的である。
そのため、上記エチレン性不飽和単量体（ｃ）の中でも、ｎ-ブチルアクリレート、エ
チルアクリレート、２‐メトキシエチルアクリレート、２‐エチルヘキシルメタクリレート、２‐ヒドロキシエチルアクリレート、２‐ヒドロキシブチルアクリレート、２‐エチルヘキシルアクリレート等が好ましい。
【００９４】
また、本発明においては、エチレン性不飽和単量体（ｃ）の中でも、無機酸化物微粒子分散性の観点から、下記一般式（５）で表わされる単量体が好ましい。下記一般式（５）で表される単量体の使用量は、ビニル重合体（ａ２）を構成する単量体全体に対して５重量％以上含まれることが好ましい。５重量％以上であれば、溶剤に対する親和性の効果がより優れ、無機酸化物微粒子の分散性と現像耐性のバランスの観点から、１０〜４０重量％がより好ましく、１５〜３５重量％が最も好ましい。
【００９５】
一般式（５）：
【化７】
2015114588.tif 000009
［一般式（５）中、Ｒ32は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐状若しくは環状アルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよいフェニル基又は、下記一般式（６）で表される化合物であり、Ｒ31は、水素原子、又はメチル基である。］
一般式（６）：
【化８】
2015114588.tif 000010
［一般式（６）中、Ｒ33は、炭素数１〜８の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基であり、Ｒ34は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐状若しくは環状アルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよいフェニレン基であり、ｎは、１〜３０の整数である。］
【００９６】
一般式（５）中、Ｒ32の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、ラウリル基（ドデシル基）、パルミチル基（ヘキサデシル基）、ステアリル基（オクタデシル基）、イソステアリル基、ウンデセニル基、オレイル基、シクロヘキシル基、ジシクロヘキシル基、ジシクロヘキセニル基、フェニル基、ノニルフェニル基、又はパラクミルフェニル基等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００９７】
一般式（５）中、Ｒ31の具体例としては、水素原子、又はメチル基が挙げられる。
【００９８】
一般式（６）中、Ｒ33の具体例としては、エチレン基、エチレン基とプロピレン基、プロピレン基、エチレン基とテトラメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、又はオクタメチレン基等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００９９】
一般式（６）中、Ｒ34の具体例としては、前記一般式（５）中のＲ32と同様の置換基が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１００】
《ポリオール（ａ）》
《分子内に２つの水酸基と１つのチオール基を有する化合物（ａ１）》
本発明に使用する分子内に２つの水酸基と１つのチオール基を有する化合物（ａ１）としては、例えば、１−メルカプト−１，１−メタンジオール、１−メルカプト−１，１−エタンジオール、３−メルカプト−１，２−プロパンジオール（チオグリセリン）、２−メルカプト−１，２−プロパンジオール、２−メルカプト−２−メチル−１，３−プロパンジオール、２−メルカプト−２−エチル−１，３−プロパンジオール、１−メルカプト−２，２−プロパンジオール、２−メルカプトエチル−２−メチル−１，３−プロパンジオール、２−メルカプトエチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、等が挙げられる。
【０１０１】
《ビニル重合体（ａ２）》
発明に使用する片末端に２つの水酸基を有し、かつビニル重合体部位（Ｃ）のビニル重合体（ａ２）は、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物（ａ１）を、目的とするビニル重合体（ａ２）の分子量にあわせて、1種類以上のエチレン性不飽和単量体（ａ１）と、任意に重合開始剤とを混合して加熱することで得ることができる。
【０１０２】
２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物（ａ１）は、エチレン性不飽和単量体（ｃ）１００重量部に対して、０．５〜３０重量部を用い、塊状重合または溶液重合を行うのが好ましく、より好ましくは３〜１２重量部、さらに好ましくは４〜１２重量部、特に好ましくは５〜９重量部である。０．５重量部未満であると、ビニル重合体部位（Ｃ）の分子量が高すぎて、無機微粒子担体および溶剤に対する親和性部位として、その絶対量が増えてしまい、分散性の効果自体が低下する場合があり、３０重量部を超えると、ビニル重合体部位（Ｃ）の分子量が低すぎて、無機微粒子担体および溶剤に対する親和性部位として、その立体反発の効果がなくなると共に、無機微粒子の凝集を抑えることが困難になる場合がある。
【０１０３】
反応温度は、４０〜１５０℃、好ましくは５０〜１１０℃である。４０℃未満では十分に重合が進行せず、１５０℃以上では高分子量化が進む等、分子量のコントロールが困難になる。
【０１０４】
ビニル重合体部位（Ｃ）の重量平均分子量は、１，０００〜２０，０００が好ましく、より好ましくは２０００〜１２，０００、さらに好ましくは２，０００〜１０，０００、特に好ましくは３，０００〜８，０００である。この部位が無機微粒子担体および溶剤への親和性部位となる。ビニル重合体部位（Ｃ）の重量平均分子量が１，０００未満では、無機微粒子担体および溶剤に対する親和性部位として、その立体反発の効果がなくなると共に、無機微粒子の凝集を抑えることが困難になる場合がある。また、２０，０００を超えると、無機微粒子担体および溶剤に対する親和性部位として、その絶対量が増えてしまい、分散性の効果自体が低下する場合がある。さらに、分散体の粘度が高くなる場合がある。
ビニル重合体（ａ２）は、分子量を上記範囲に調整することが容易であり、かつ、溶剤への親和性も良好である。
【０１０５】
重合の際、エチレン性不飽和単量体（ｃ）１００重量部に対して、任意に０．００１〜５重量部のラジカル重合開始剤を使用することができる。ラジカル重合開始剤としては、アゾ系化合物および有機過酸化物を用いることができる。アゾ系化合物の例としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリック酸）、２，２’−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］等が挙げられる。有機過酸化物の例としては、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシビバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ジアセチルパーオキシド等があげられる。これらのラジカル重合開始剤は、単独で、もしくは２種類以上組み合わせて用いることができる。
【０１０６】
溶液重合の場合には、重合溶媒として、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、トルエン、キシレン、アセトン、ヘキサン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、等が用いられるが特にこれらに限定されるものではない。これらの重合溶媒は、２種類以上混合して用いても良い。重合反応に使用した溶媒は、反応終了後、蒸留等の操作により取り除くか、あるいはそのまま次の工程の溶剤として使用したり、製品の一部として使用することもできる。
【０１０７】
《その他のポリオール》
ポリオール（ａ）中に含まれる化合物（ａ１）以外のポリオール、およびポリオール（ａ）中に含まれるビニル重合体（ａ２）以外のポリオール（以下、合わせてその他のポリオールと略記する。）としては、公知のものを使用し得る。それらのうちでも、特に代表的なもののみを例示するにとどめれば、次のグループ（１）〜（７）に属するものがある。
（１）エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−ビス（ヒドロキシメチル）シクロヘサン、ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＡ、ヒドロキシピバリルヒドロキシピバレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、グリセリンもしくは、ヘキサントリオールの如き多価アルコール類；（２）ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシテトラメチレングリコール、ポリオキシプロピレンポリオキシテトラメチレングリコールもしくは、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンポリオキシテトラメチレングリコールの如き、各種のポリエーテルグリコール類；
（３）上記した各種の多価アルコール類と、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、テトラヒドロフラン、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテルまたはアリルグリシジルエーテルの如き各種の（環状）エーテル結合含有化合物との開環重合によって得られる変性ポリエーテルポリオール類；
（４）上記した各種の多価アルコール類の１種以上と、多価カルボン酸類との共縮合によって得られるポリエステルポリオール類であって、多価カルボン酸類が、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、１，２，５−ヘキサントリカルボン酸、１，４−シクロヘキサンヒカルボン酸、１，２，４−ベンゼントリカルボン酸、１，２，５−ベンゼントリカルボン酸、１，２，４−シクロヘキサトリカルボン酸または２，５，７−ナフタレントリカルボン酸などで特に代表されるものを用いて得られるポリオール類；
（５）上記した各種の多価アルコール類の１種以上と、ε−カプロラクトン、δ−バレロラクトンもしくは３−メチル−δ−バレロラクトンの如き各種のラクトン類との重縮合反応によって得られるラクトン系ポリエステルポリオール類、あるいは、
上記した各種の多価アルコール類と、多価カルボン酸類と、各種のラクトン類との重縮合反応によって得られるラクトン変性ポリエステルポリオール類；
（６）ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、水添ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、一価および／または多価アルコール類のグリシジルエーテル、あるいは、一塩基酸および／または多塩基酸類のグリシジルエステルの如き各種のエポキシ化合物を、ポリエステルポリオールの合成時に、１種以上併用して得られるエポキシ変性ポリエステルポリオール類；（７）ポリエステルポリアミドポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリペンタジエンポリオール、ひまし油、ひまし油誘導体、水添ひまし油、水添ひまし油誘導体、水酸基含有アクリル系共重合体、水酸基含有含フッ素化合物または水酸基含有シリコン樹脂などが挙げられる。
【０１０８】
これら（１）〜（７）に示された任意に添加する、その他のポリオールは、単独使用でも２種以上の併用でもよいことは勿論であるが、その重量平均分子量としては、相溶性や分散安定性の観点から、４０〜１０，０００が好ましく、より好ましくは、１００〜２，０００であり、さらに好ましくは、１００〜１，０００である。重量平均分子量が、４０未満では、相溶性や分散安定性を改善する効果はなく、重量平均分子量が、１０，０００以上では、かえって相溶性が悪くなる。
【０１０９】
その他のポリオールの一分子中の水酸基の数は、目的とする分散剤が合成できれば特に限定はないが、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基を有する化合物以外のジオール（ａ５）が好ましい。特に、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）と反応することで、主鎖に無機酸化物微粒子吸着基となるカルボキシル基を規則的に並べることができ、無機酸化物微粒子分散に有利である。水酸基が二つより多いポリオールを多く用いると、ポリエステルの主鎖が分岐して複雑かつ嵩高くなり、分散効果が得られにくくなる。ポリエステル分散剤の分子量調整や、分散液の粘度調整のため等、設計の観点から最小限に止めるべきである。配合量に関しては、後述する。
【０１１０】
《ポリカルボン酸無水物（ｂ）》
本発明に使用するポリカルボン酸無水物（ｂ）は、少なくともテトラカルボン酸二無水物（ｂ１）を含んでいることが好ましい。テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）の二つの無水物基は、ポリオール（ａ）の水酸基と反応することによって、ポリエステル分散剤の主鎖に無機微粒子吸着基となるカルボキシル基を規則的に並べることができ、無機微粒子分散に有利である。
【０１１１】
本発明に使用するテトラカルボン酸二無水物（ｂ１）としては、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、３，５，６−トリカルボキシノルボルナン−２−酢酸二無水物、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ［２，２，２］−オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物などの脂肪族テトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、エチレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、プロピレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、ブチレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３’，４，４’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルメタン二無水物、９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物、９，９−ビス[４−（３，４−ジカ
ルボキシフェノキシ）フェニル]フルオレン二無水物、３，４−ジカルボキシ−１，２，
３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレンコハク酸二無水物、３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−６−メチル−１−ナフタレンコハク酸二無水物、などの芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【０１１２】
本発明で使用されるテトラカルボン酸二無水物は上記に例示した化合物に限らず、カルボン酸無水物基を２つ持てばどのような構造をしていてもかまわない。これらは単独で用いても、併用してもかまわない。テトラカルボン酸二無水物は、ポリオールとの反応により、ポリエステルの一単位に二個のカルボキシル基を有する分散剤を形成するため、無機微粒子吸着性の観点から、本発明のポリエステル分散剤の構成要素として好ましい。
【０１１３】
さらに、本発明に好ましく使用されるものは、無機微粒子に対する吸着性の観点から、芳香族テトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、芳香族環を二つ以上有するテトラカルボン酸二無水物である。芳香族カルボン酸は、脂肪族カルボン酸に比べて無機微粒子吸着能が高く、さらに、芳香族環を二つ以上有するカルボン酸は、無機微粒子吸着に適した骨格であり、耐熱性も高い。
【０１１４】
具体的には、下記一般式（１）または一般式（２）で表される芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【０１１５】
一般式（１）：
【化９】
2015114588.tif 000011
［一般式（１）中、ｋは１または２である。］
一般式（２）：
【化１０】
2015114588.tif 000012
［一般式（２）中、Ｑ1は、直接結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＳＯ2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、一般式（３）：
【０１１６】
【化１１】
2015114588.tif 000013
で表される基、または一般式（４）：
【０１１７】
【化１２】
2015114588.tif 000014
で表される基である。］
また、分子中にカルボン酸無水物基を１つ持つ化合物や３つ以上持つ化合物を併用、すなわち、本発明に使用するポリカルボン酸無水物（ｂ）中に含まれるテトラカルボン酸二無水物（ｂ１）以外のポリカルボン酸無水物も使用することができる。
【０１１８】
本発明に使用するポリカルボン酸無水物（ｂ）中に含まれるテトラカルボン酸二無水物（ｂ１）以外のポリカルボン酸無水物は、ジカルボン酸無水物、トリカルボン酸無水物、５個以上カルボン酸を有する化合物の無水物が挙げられるが、無機酸化物微粒子に対する吸着性の観点から、ポリエステル分散剤の設計上、ポリオールとの反応によりポリエステル分散剤の一単位に二つのカルボキシル基が生成するトリカルボン酸無水物（ｂ２）が好ましい。トリカルボン酸無水物（ｂ２）も、ポリオールの水酸基１個としか反応しないので、ポリエステル分散剤の分子量設計等の観点から最小限に止めるべきである。配合量に関しては、後述する。
【０１１９】
トリカルボン酸無水物（ｂ２）としては、まず、脂肪族トリカルボン酸無水物、または芳香族トリカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族トリカルボン酸無水物としては、例えば、３−カルボキシメチルグルタル酸無水物、１，２，４−ブタントリカルボン酸−１，２−無水物、ｃｉｓ−プロペン−１，２，３−トリカルボン酸−１，２−無水物、１，３，４−シクロペンタントリカルボン酸無水物などが挙げられる。芳香族トリカルボン酸としては、例えば、ベンゼントリカルボン酸無水物（１，２，３−ベンゼントリカルボン酸無水物、トリメリット酸無水物［１，２，４−ベンゼントリカルボン酸無水物］など）、ナフタレントリカルボン酸無水物（１，２，４−ナフタレントリカルボン酸無水物、１，４，５−ナフタレントリカルボン酸無水物、２，３，６−ナフタレントリカルボン酸無水物、１，２，８−ナフタレントリカルボン酸無水物など）、３，４，４’−ベンゾフェノントリカルボン酸無水物、３，４，４’−ビフェニルエーテルトリカルボン酸無水物、３，４，４’−ビフェニルトリカルボン酸無水物、２，３，２’−ビフェニルトリカルボン酸無水物、３，４，４’−ビフェニルメタントリカルボン酸無水物、３，４，４’−ビフェニルスルホントリカルボン酸無水物などが挙げられる。本発明に好ましく使用されるものは、無機酸化物微粒子に対する吸着性の観点から、上記のうち芳香族トリカルボン酸無水物である。
【０１２０】
《ポリエステル分散剤（Ｄ）の合成》
《ポリエステルの合成》
まず、本発明のポリエステル分散剤（Ｄ）のポリエステル合成の過程について、ジオール（ａａ）とテトラカルボン酸二無水物（ｂ１）の反応を例に説明する。
【０１２１】
本発明に使用するテトラカルボン酸二無水物（ｂ１）は、水酸基と反応してエステル結合を形成し、かつ、生成するポリエステル主鎖上にペンダントカルボキシル基を残すことができる。２つの水酸基を有するジオール（ａ５）のモル量をａ、テトラカルボン酸二無水物のモル量をｂとし、ｉ）ａ＞ｂ、ｉｉ）ａ＝ｂ、およびｉｉｉ）ａ＜ｂとしたときのテトラカルボン酸二無水物（ｂ）とポリオール（ａ）との反応を、下記一般式（２６）、（２７）、および（２８）に示す。下記一般式（２６）の生成物中に残っている酸無水物基を加水分解すれば、この反応による生成物は、構造式中のＸ1部分にカルボキシル基を
２個または３個を有しており、この複数のカルボキシル基が無機酸化物微粒子の吸着部位として有効である。
【０１２２】
一般式（２６）：
ｉ）ａ＞ｂ
【化１３】
2015114588.tif 000015
【０１２３】
一般式（２７）：
ｉｉ）ａ＝ｂ
【化１４】
2015114588.tif 000016
【０１２４】
一般式（２８）：
ｉｉｉ）ａ＜ｂ
【化１５】
2015114588.tif 000017
【０１２５】
しかしながら、Ｘ1に結合しているカルボキシル基が１個のみである場合では、高い分散性、流動性、および保存安定性を発現せず好ましくない。
【０１２６】
本発明におけるＸ1は、テトラカルボン酸二無水物が水酸基と反応した後の反応残基、Ｙはポリオール化合物が酸無水物基と反応した後の反応残基である。Ｘ1の形態として好ましくは、一般式（１）または一般式（２）で示したテトラカルボン酸二無水物が、ポリオール化合物と反応した後の反応残基である。
【０１２７】
《ポリエステル分散剤（Ｄ２）の合成》
本発明の好ましいポリエステル分散剤（Ｄ２）は、前記一般式（２６）〜（２８）に示したポリエステルの合成の説明中、ジオール（ａａ）中のＹに、Ｓ原子を介してビニル重合体（Ｃ）を導入したものである。
【０１２８】
導入方法は、以下の二つの方法が挙げられる。
（１）ビニル重合体部位（Ｃ）を形成するエチレン性不飽和単量体（ｃ）を、分子内に２つの水酸基と1つのチオール基を有する化合物（ａ１）の存在下、ラジカル重合してなる片末端に２つの水酸基を有するビニル重合体（ａ２）を少なくとも含むポリオール（ａ）中の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）を少なくとも含むポリカルボン酸無水物（ｂ）中の酸無水物基とを、反応する。
（２）分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物（ａ１）を少なくとも含むポリオール（ａ）中の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）を少なくとも含むポリカルボン酸無水物（ｂ）中の酸無水物基とを、反応させてなるポリエステル（ｄ）の存在下、ビニル重合体部位（Ｃ）を形成するエチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合する。
【０１２９】
ここで、（２）の、後でビニル重合体部位（Ｃ）を導入する方法を例に、主な四つ合成パターンを示す。（１）と（２）では、ビニル重合体部位（Ｃ）の導入を先に行うか後で行うかの違いで、原料と反応条件が同じであれば、理論上は同じものができるが、諸条件により分子量等が若干異なることがある。
【０１３０】
（２）の合成パターン１）
下記一般式（２９）は、片末端に２つの水酸基と一つのチオール基を有する化合物（ａ１）の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）の酸無水物基を反応し得られたポリエステル（ｄ１）の存在下、ビニル重合体部位（Ｃ）を形成するエチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合した合成パターン１である。理論的に、（ａ１）のモル比をａ（整数）、（ｂ１）のモル比をｂ（整数）、ｂ＝ａ−１とし、安定性の観点から、酸無水物基が残らないように末端を水酸基にした場合である。分子量は、ａを変えることによって調整される。
【０１３１】
一般式（２９）：
【化１６】
2015114588.tif 000018
実際に合成する場合は、酸無水物が残らないように、理論値よりａを過剰にすることが多い。ｂ＞ａにして、酸性基を増やす場合には、無水物基を必要量の水で加水分解して使用する。片末端に２つの水酸基と一つのチオール基を有する化合物（ａ１）の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）の酸無水物基とのモル比は、２ｂ／２ａ＝ｂ／ａ＝０．３〜１．２が好ましい。０．３未満であると、一分子中の酸無水物残基が少なくなり、無機酸化物微粒子に対する吸着が不十分になり、１．２を超えると、酸無水物基が残り、保存安定性に問題が生じることが多く、加水分解しても、酸性基が過剰になり無機酸化物微粒子担体や溶剤への相溶性が悪くなる。無機酸化物微粒子分散性と安定性の観点から、ｂ／ａ＝０．４〜０．８がより好ましい。
【０１３２】
（２）の合成パターン２）
下記一般式（３０）は、片末端に２つの水酸基と一つのチオール基を有する化合物（ａ１）およびその他のジオール（ａ５）の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）の酸無水物基を反応し得られたポリエステル（ｄ２）の存在下、ガラス転移温度が５０℃未満のビニル重合体部位（Ｃ）を形成するエチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合した合成パターン２である。（ａ１）のモル量をａ（整数）、（ａ５）のモル量をα（整数）、（ｂ１）のモル量をｂ（整数）、ｂ＝ａ＋α-１とし、安定性の観点から、酸無水物
基が残らないように末端を水酸基にした場合である。その他のジオール（ａ５）の種類や、ａとαの比率を変えることによって分子量、溶解性、およびカルボキシル基の密度を調整する。
【０１３３】
一般式（３０）：
【化１７】
2015114588.tif 000019
【０１３４】
実際に合成する場合は、酸無水物が残らないように、理論値より（ａ＋α）を過剰にすることが多い。ｂ＞（ａ＋α）にして、酸性基を増やす場合には、無水物基を必要量の水で加水分解して使用する。片末端に２つの水酸基と一つのチオール基を有する化合物（ａ１）およびその他のジオール（ａａ）の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）の酸無水物基とのモル比は、２ｂ／２（ａ＋α）＝ｂ／（ａ＋α）＝０．３〜１．２が好ましい。０．３未満であると、一分子中の酸無水物残基が少なくなり、無機酸化物微粒子に対する吸着が不十分になり、１．２を超えると、酸無水物基が残り、保存安定性に問題が生じることが多いく、加水分解しても、酸性基が過剰になり無機酸化物微粒子担体や溶剤への相溶性が悪くなる。無機微粒子分散性と安定性の観点から、ｂ／ａ＝０．６〜０．８がより好ましい。
【０１３５】
ａ＝０は、ビニル重合体部（Ｃ）がないので、ポリエステル分散剤（Ｄ２）に相当しない。その他のジオール（ａ５）は、ポリエステル分散剤の分子量、粘度、あるいは相溶性を調整するために使用される。（合成パターン２）のように他のジオール（ａ５）を使用する場合、他のジオール（ａ５）と片末端に２つの水酸基と一つのチオール基を有する化合物（ａ１）とのモル比は、α／ａ＝０．１〜２．０が好ましい。０．１未満では、ジオール（ａ５）を使用する効果はなく、２．０を超えると、ガラス転移温度５０℃未満のビニル重合体部位（Ｃ）の密度が低くなり、分散性に悪影響を及ぼす。
【０１３６】
（２）の合成パターン３）
下記一般式（３１）は、片末端に２つの水酸基と一つのチオール基を有する化合物（ａ１）の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）およびトリカルボン酸無水物（ｂ２）の酸無水物基を反応し得られたポリエステル（ｄ３）の存在下、ガラス転移温度が５０℃以上のビニル重合体部位（Ｃ）を形成するエチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合した合成パターン４である。（ａ１）のモル量をａ、（ｂ１）のモル量をｂ、（ｂ２）のモル量をβ、ｂ＝ａ−１、β＝１とし、ａを変えることによって主鎖の分子量を調整し、トリカルボン酸（ｂ２）によって片末端がポリカルボン酸部位（Ｂ）になる。
【０１３７】
一般式（３１）：
【化１８】
2015114588.tif 000020
β＝２とした場合は、両末端がポリカルボン酸部位（Ｂ）になる。
【０１３８】
実際に合成する場合は、酸無水物が残らないように、理論値よりａを過剰にすることが多い。（ｂ＋β）＞ａにして、酸性基を増やす場合には、無水物基を必要量の水で加水分解して使用する。ただし、トリカルボン酸無水物（ｂ２）は単官能なので、理論上、ａ＝ｂ＋１、β≦２の場合、（ｂ２）によりポリエステル末端反応が停止されるので、酸無水物基は残らない。片末端に２つの水酸基と一つのチオール基を有する化合物（ａ１）の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）およびトリカルボン酸（ｂ２）の酸無水物基とのモル比は、（ｂ＋β）／ａ＝０．３〜１．２が好ましい。０．３未満であると、一分子中の酸無水物残基が少なくなり、無機酸化物微粒子に対する吸着が不十分になり、１．２を超えると、酸無水物基が残り、保存安定性に問題が生じることが多いく、加水分解しても、酸性基が過剰になり無機酸化物微粒子担体や溶剤への相溶性が悪くなる。無機酸化物微粒子分散性と安定性の観点から、（ｂ＋β）／ａ＝０．６〜０．８がより好ましい。
【０１３９】
トリカルボン酸無水物（ｂ２）は、ポリエステル分散剤の末端をポリカルボン酸部位（Ｂ）にする等、ポリエステル分散剤の分子量とポリカルボン酸部位の絶対量を調整する場合に使用する。ただし、ｂ＝０の場合は、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）を使用しないことになるので、本発明の範囲外である。（合成パターン３）のようにトリカルボン酸無水物（ｂ２）を使用する場合は、トリカルボン酸無水物（ｂ２）とテトラカルボン酸二無水物（ｂ１）のモル比は、β／ｂ＝０．１〜１０が好ましい。０．１未満では、末端にポリカルボン酸部位（Ｂ）を有するポリエステルが少なく、トリカルボン酸無水物（ｂ２）を併用する効果が得られない。１０を超えると、ポリエステル主鎖の長さと、ポリカルボン酸部位（Ｂ）の数と、ビニル重合体部位（Ｃ）の数とのバランスが悪くなり、分散安定性が悪くなることが多い。β／ｂ＝０．５〜３が好ましい。
【０１４０】
（２）の合成パターン４）
下記一般式（３２）は、片末端に２つの水酸基と一つのチオール基を有する化合物（ａ１）およびその他のジオール（ａ５）の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）とトリカルボン酸無水物（ｂ２）の酸無水物基を反応し得られたポリエステル（ｄ４）の存在下、ガラス転移温度が５０℃未満のビニル重合体部位（Ｃ）を形成するエチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合した合成パターン４である。（ａ１）のモル量をａ（整数）、（ａ５）のモル比をα（整数）、（ｂ１）のモル比をｂ、（ｂ２）のモル比をβ、ｂ＝ａ＋α−１、β＝１、ａ１＞ｂ１とし、ａとαの比を変えることによって主鎖の分子量および性状を調整し、トリカルボン酸無水物（ｂ２）によって方末端がポリカルボン酸部位（Ｂ）になる。
【０１４１】
一般式（３２）：
【化１９】
2015114588.tif 000021
β＝２とした場合は、両末端がポリカルボン酸部位（Ｂ）になる。
【０１４２】
実際に合成する場合は、酸無水物が残らないように、理論値より（ａ＋α）を過剰にすることが多い。（ｂ＋β）＞（ａ＋α）にして、酸性基を増やす場合には、無水物基を必要量の水で加水分解して使用する。ただし、トリカルボン酸無水物（ｂ２）は単官能なので、理論上、（ａ＋α）＝ｂ＋１、β≦２の場合、（ｂ２）によりポリエステル末端反応が停止されるので、酸無水物基は残らない。片末端に２つの水酸基と一つのチオール基を有する化合物（ａ１）およびその他のジオール（ａ５）の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）およびトリカルボン酸無水物（ｂ２）の酸無水物基とのモル比は、（ｂ＋β）／（ａ＋α）＝０．３〜１．２が好ましい。０．３未満であると、一分子中の酸無水物残基が少なくなり、無機酸化物微粒子に対する吸着が不十分になり、１．２を超えると、酸無水物基が残り、保存安定性に問題が生じることが多いく、加水分解しても、酸性基が過剰になり無機酸化物微粒子担体や溶剤への相溶性が悪くなる。無機酸化物微粒子分散性と安定性の観点から、（ｂ＋β）／（ａ＋α）＝０．６〜０．８がより好ましい。
他のジオール（ａ５）は、ポリエステル分散剤の分子量、粘度、あるいは相溶性を調整するために使用される。（合成パターン２）のように他のジオール（ａ５）を使用する場合、他のジオール（ａ５）と片末端に２つの水酸基と一つのチオール基を有する化合物（ａ１）とのモル比は、α／ａ＝０．１〜２．０が好ましい。０．１未満では、ジオール（ａ５）を使用する効果はなく、２．０を超えると、ガラス転移温度５０℃未満のビニル重合体部位（Ｃ）の密度が低くなり、分散性に悪影響を及ぼす場合がある。
【０１４３】
トリカルボン酸無水物（ｂ２）は、ポリエステル分散剤の末端をポリカルボン酸部位（Ｂ）にする等、ポリエステル分散剤の分子量とポリカルボン酸部位の絶対量を調整する場合に使用する。（合成パターン４）のようにトリカルボン酸無水物（ｂ２）を使用する場合は、トリカルボン酸無水物（ｂ２）とテトラカルボン酸二無水物（ｂ１）のモル比は、β／ｂ＝０．１〜１０が好ましい。０．１未満では、末端にポリカルボン酸部位（Ｂ）を有するポリエステルが少なく、トリカルボン酸無水物（ｂ２）を併用する効果が得られない。１０を超えると、ポリエステル主鎖の長さと、ポリカルボン酸部位（Ｂ）の数と、ビニル重合体部位（Ｃ）の数とのバランスが悪くなり、分散安定性が悪くなることが多い。β／ｂ＝０．５〜３が好ましい。
【０１４４】
（反応触媒）
本発明のポリエステル（ｄ）およびポリエステル分散剤の製造に用いられる触媒としては、公知の触媒を使用することができる。触媒としては３級アミン系化合物が好ましく、例えばトリエチルアミン、トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等が挙げられる。
【０１４５】
（反応溶剤）
本発明のポリエステル、およびポリエステル分散剤（Ｄ）は、これまで挙げた原料のみで製造することも可能であるが、高粘度になり反応が不均一になるなどの問題を回避すべく、溶剤を用いるのが好ましい。使用される溶剤としては、特に限定はなく、公知のものを使用できる。例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン、アセトニトリル等が挙げられる。反応に使用した溶媒は、反応終了後、蒸留等の操作により取り除くか、あるいはそのまま次の工程の溶剤として使用したり、製品の一部として使用することもできる。
【０１４６】
（反応温度）
ポリエステル合成の反応温度は５０℃〜１８０℃、好ましくは８０℃〜１４０℃の範囲で行う。反応温度が５０℃以下では反応速度が遅く、１８０℃以上ではカルボキシル基と水酸基がエステル化反応してしまい、酸価の減少や、ゲル化を起こしてしまう場合がある。反応の停止は、赤外吸収で酸無水物の吸収がなくなるまで反応させるのが理想であるが、ポリエステルの酸価が５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲に入ったとき、または、水酸基価が２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲に入った時に反応を止めてもよい。
【０１４７】
（１）の合成パターン）
前記合成パターン１〜４で表される２）の方法で得られたチオール基とポリカルボン酸無水物残基（カルボキシル基）を有するポリエステル（ｄ１）〜（ｄ４）の存在下、チオール基を連鎖異動剤として、ビニル重合体部位（Ｃ）を形成するエチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合することによって、ポリエステル（ｄ）にビニル重合体部位（Ｃ）を導入することができる。目的とする分散剤の分子量にあわせて、エチレン性不飽和単量体（ｃ）を任意に重合開始剤とを混合して加熱することで分散剤が得られる。分子内の２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物（ａ１）単位１重量部に対して、エチレン性不飽和単量体を３〜１００重量部用い、塊状重合または溶液重合を行うのが好ましい。より好ましくは８〜２５重量部、さらに好ましくは１０〜２０重量部である。反応温度は４０〜１５０℃、好ましくは５０〜１１０℃である。
【０１４８】
その他、詳細な重合方法は、前記に記載した通りである。
【０１４９】
１）の方法では、例えば、一般式（３３）に示す通り、合成パターン１〜４の2つの水酸基と1つのチオール基を有する化合物（ａ１）の−ＳＨが、−Ｓ−〔ビニル重合体部（Ｃ）〕に最初から置き換わり、ポリエステル（ｄ１）〜（ｄ４）存在下のラジカル重合の工程がないだけで、同じポリエステルの合成経路で本発明のポリエステル分散剤が製造される。
【０１５０】
一般式（３３）：
【化２０】
2015114588.tif 000022
【０１５１】
（分子量）
得られたポリエステル分散剤の重量平均分子量は、好ましくは、２，０００〜２５，０００より好ましくは４，０００〜２０，０００、さらに好ましくは６，０００〜１５，０００、特に好ましくは７，０００〜１２，０００である。重量平均分子量が２０００未満であれば無機微粒子分散体の安定性が低下する場合があり、２５，０００を超えると樹脂間の相互作用が強くなり、無機微粒子分散体の増粘が起きる場合がある。
【０１５２】
（酸価）
また、得られたポリエステル分散剤の酸価は、５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。より好ましくは１０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、さらに好ましくは、１５〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、特に好ましくは、２０〜８０ｍｇＫＯＨ／ｇである。酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では、無機微粒子吸着能が低下し分散性に問題がでる場合があり、２００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、樹脂間の相互作用が強くなり無機微粒子分散体の粘度が高くなる場合がある。
【０１５３】
以上のように、ポリオール（ａ）の水酸基と、ポリカルボン酸無水物（ｂ）の酸無水物基とを反応させてなるポリエステルの主鎖に、ポリオール部位（Ａ）とポリカルボン酸部位（Ｂ）を交互に有するポリエステル分散剤において、ポリオール部位（Ａ）の一部又は全部に、Ｓ原子を介して、エチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合してなるビニル重合体部位（Ｃ）を有するポリエステル分散剤（Ｄ）が得られる。
【０１５４】
本発明のポリエステル分散剤は、一般式（３４）に示す様に、主鎖に無機微粒子吸着部となる複数のポリカルボン酸部位（Ｂ）と、側鎖として溶剤および無機酸化物微粒子担体の親和性が高い複数のビニル重合体部位（Ｃ）とを有しているため、無機酸化物微粒子分散体の分散に好適で、かつ無機微粒子分散体担体親和性部の耐熱性が高い。また、光散乱粒子や無機酸化物微粒子の表面を規則正しく被膜するため、塗膜形成時に表面に粒子が突出することを防ぎ、平坦性を高める。
【０１５５】
一般式（３４）
【化２１】
2015114588.tif 000023
SHAPE  \* MERGEFORMAT
本発明で言うエチレン性不飽和単量体をラジカル重合してなるビニル重合体部位（Ｃ）とは、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）またはトリカルボン酸無水物（ｂ２）由来の部位を含まない連続した部位であり、通常、本発明のポリエステル分散剤を構成する１分子中には、複数のビニル重合体部位（Ｃ）が含まれる。
【０１５６】
本発明のポリエステル分散剤（Ｄ）の一分子には、ビニル重合体部位（Ｃ）が多数存在し、無機酸化物微粒子担体および溶剤への親和性部位として機能する。このビニル重合体部位（Ｃ）のＴｇの実用上の下限・上限は特にないが、５０℃未満の場合は平坦性がさらに向上するため特に好ましい。
【０１５７】
ポリエステル分散剤（Ｄ）の配合量は、光散乱粒子（Ｅ）または無機酸化物微粒子（Ｆ）の分散に用いる場合、光散乱粒子（Ｅ）または無機酸化物微粒子（Ｆ）１００重量部に対し、好ましくは１〜２００重量部、さらに好ましくは２〜１７５重量部、最も好ましくは５〜１５０重量部である。１重量部以上であれば分散安定性の効果が確認でき、２００重量部以下であると、担体となるポリエステル分散剤（Ｄ）を入れる余地が十分であり、平坦性等の実用上の問題が生じることもない。
また、光散乱層用樹脂組成物１００重量％中、好ましくは１〜５０重量％、さらに好ましくは１〜４０重量％、最も好ましくは２〜３０重量％である。この範囲にあると、平坦性の効果がより優れたものとすることができる。
【０１５８】
＜樹脂（Ｇ）＞
本発明の光散乱層用樹脂組成物は樹脂（Ｇ）を含む。樹脂（Ｇ）を含むことにより、塗膜として用いる場合の成膜性、硬度、基材への密着性に優れたものとすることができる。
また、後述するように、樹脂が酸性基を含む場合、光散乱層用樹脂組成物に現像性を付与し、アルカリ現像液によりパターニングすることができるようになるため好ましく、さらには無機酸化物微粒子（Ｆ）が水酸化アルミニウムにて表面被膜処理されている場合に、この無機酸化物微粒子（Ｆ）との高い親和性を有することとなり、透過率と平坦性に優れた塗膜を得ることが出来るため、好ましい。
【０１５９】
樹脂（Ｇ）としては、可視光領域の４００〜７００ｎｍの全波長領域において透過率が好ましくは８０％以上、より好ましくは９５％以上の樹脂が好ましい。樹脂（Ｇ）には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、および感光性樹脂等が含まれ、これらを単独で、または２種以上混合して用いることができる。
【０１６０】
樹脂（Ｇ）の含有量は、成膜性の観点から、光散乱層用樹脂組成物、５〜７０重量％であることが好ましく、１０〜６０重量％がより好ましい。
【０１６１】
熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ブチラール樹脂、スチレンーマレイン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル樹脂、ビニル系樹脂、アルキッド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、セルロース類、ポリエチレン（HDPE、LDPE）、ポリブタジエン、およびポリイミド樹脂等が挙げられる。
【０１６２】
熱硬化性樹脂としては例えば、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フマル酸樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、尿素樹脂、アミノ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、乾性油、合成乾性油、等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。前記熱可塑性樹脂の熱架橋剤として、組み合わせても使用できる。
【０１６３】
感光性樹脂としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の反応性の置換基を有する線状高分子にイソシアネート基、アルデヒド基、エポキシ基等の反応性置換基を有する（メタ）アクリル化合物やケイヒ酸を反応させて、（メタ）アクリロイル基、スチリル基等の光架橋性基を該線状高分子に導入した樹脂が用いられる。また、スチレン−無水マレイン酸共重合物やα−オレフィン−無水マレイン酸共重合物等の酸無水物を含む線状高分子をヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリル化合物によりハーフエステル化したものも用いられる。しかし、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【０１６４】
また、アルカリ現像型感光性組成物の形態で用いる場合には、酸性基含有エチレン性不飽和単量体を共重合した樹脂、あるいは後述する樹脂（ｇ１）のように、重合後に酸基を付与しうるエチレン性不飽和単量体を、エチレン性不飽和単量体成分として重合した樹脂を用いることが好ましい。また、さらに光感度を向上させるために、エチレン性不飽和二重結合を有する感光性樹脂を用いることもできる。
酸性置換基含有エチレン性不飽和単量体を共重合したアクリル系アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボキシル基、スルホン基等の酸性置換基を有する樹脂が挙げられる。
【０１６５】
酸性置換基含有エチレン性不飽和単量体を用いて共重合する場合には、例えば、（メタ）アクリル酸やイタコン酸、クロトン酸、ｏ−、ｍ−、ｐ−ビニル安息香酸、（メタ）アクリル酸のα位ハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロ、シアノ置換体等のモノカルボン酸等のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（不飽和一塩基酸）、Ｎ−ヒドロキシフェニルマレイミド等のフェノール性水酸基を有するエチレン性不飽和単量体、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等の多塩基酸無水物等を用いることができる。
【０１６６】
樹脂（Ｇ）の二重結合当量は、３５０ｇ/ｍｏｌ以上１３００ｇ/ｍｏｌ以下であることが好ましく、３５０ｇ/ｍｏｌ以上１０００ｇ/ｍｏｌ以下であることが最も好ましい。
樹脂（Ｇ）の二重結合当量が１３００ｇ/ｍｏｌより大きいと現像速度が遅くなり、仮にパターニングが出来たとしても残渣が多い塗膜となってしまう場合がある。二重結合当量が３５０ｇ/ｍｏｌ未満であると、架橋成分が多すぎて安定性が悪かったり、塗膜が脆くなったりしてしまう場合がある。
【０１６７】
また、樹脂（Ｇ）の平均分子量Ｍｗは、５０００以上２００００以下であることが好ましく、５０００以上１５０００以下であることが最も好ましい。樹脂（Ｇ）の平均分子量Ｍｗが２００００より大きい時は現像速度が遅くなり塗膜に残渣が残る場合があり、５０００未満の時は耐薬品性が悪くなる場合がある。
【０１６８】
これらの中でも本発明の樹脂（Ｇ）としては、平坦性に優れ、ダークスポット発生が少なく、かつ現像性に優れた光散乱層用樹脂組成物を得ることが出来るため、後述する樹脂（ｇ１）、あるいは樹脂（ｇ２）を含むことが好ましい。
【０１６９】
［樹脂（ｇ１）］
樹脂（ｇ１）は、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（Ｇ１）と、（Ｇ１）以外の下記エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-１）、（Ｇ２-２）、（Ｇ２-３）、および（Ｇ２-４）からなる群より選ばれる他の１種類以上のエチレン性不飽和単量体（Ｇ２）とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖エポキシ基に、不飽和一塩基酸（Ｇ３）のカルボキシル基を付加反応させ、更に、生成した水酸基に、多塩基酸無水物（Ｇ４）を反応させ、エチレン性不飽和二重結合およびカルボキシル基を導入した樹脂である。
【０１７０】
《エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（Ｇ１）》
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（Ｇ１）としては例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−グリシドキシエチル（メタ）アクリレート、３，４エポキシブチル（メタ）アクリレート、及び３，４エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートが挙げられ、これらは、単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。次工程の不飽和一塩基酸との反応性の観点で、グリシジル（メタ）アクリレートが好ましい。
【０１７１】
《他のエチレン性不飽和単量体（Ｇ２）》
他のエチレン性不飽和単量体（Ｇ２）としては、下記（Ｇ２-１）、（Ｇ２-２）、（Ｇ２-３）、および（Ｇ２-４）が挙げられ、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（Ｇ１）以外のものである。
【０１７２】
以下に、エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-１）、（Ｇ２-２）、（Ｇ２-３）、および（Ｇ２-４）について、順に説明する。本明細書においては、各単量体の含有重量％は各構成単位を樹脂（ｇ１）にもたらす前駆体の重量％である。
【０１７３】
《エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-１）》
エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-１）は、一般式（１１）及び一般式（１２）に示す芳香族環基による環状構造を有するものであって、硬度向上に寄与する。樹脂（ｇ１）の全構成単位の重量を基準として、エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-１）は、現像性の観点から、２〜８０重量％であることが好ましい。２重量％未満では、現像性が低下する場合がある。また、８０重量％を越えると、アルカリ現像液への溶解速度が遅くなり、現像時間が長く生産性が悪化する場合がある。
【０１７４】
一般式（１１）：
【化２２】
2015114588.tif 000024
一般式（１２）：
【化２３】
2015114588.tif 000025
[一般式（１１）及び（１２）中、Ｒ1は、水素原子、またはベンゼン環を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基である。]
【０１７５】
エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-１）としては、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、インデン、アセチルナフテン、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、メチロール化メラミンの（メタ）アクリル酸エステル等のモノマー・オリゴマー、または一般式（１３）に示すエチレン性不飽和単量体等が挙げられる。これらは、樹脂（ｇ１）の側鎖にベンゼン環を導入できるので特に好ましい。樹脂（ｇ１）の側鎖にベンゼン環を導入することよって、側鎖ベンゼン環が現像性改善に効果がある。更に、ベンジルアクリレート及び／またはベンジルメタクリレートは、現像残渣の観点から、最も好ましい。
【０１７６】
一般式（１３）：
【化２４】
2015114588.tif 000026
（一般式（１３）中、Ｒ6は、水素原子、またはメチル基であり、Ｒ7は、炭素数２若しくは３のアルキレン基であり、Ｒ8は、ベンゼン環を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、ｎは、１〜１５の整数である。）
【０１７７】
一般式（１３）に示されるエチレン性不飽和単量体としては、例えば、
第一工業製薬社製ニューフロンティア  ＣＥＡ〔ＥＯ変性クレゾールアクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：メチル基、ｎ＝１または２、〕、ＮＰ−２〔ｎ−ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：ｎ−ノニル基、ｎ＝２〕、Ｎ−１７７Ｅ〔ｎ−ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：ｎ−ノニル基、ｎ＝１６〜１７〕、若しくはＰＨＥ〔フェノキシエチルアクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ＝１〕、
ダイセル社製、ＩＲＲ１６９〔エトキシ化フェニルアクリレート（ＥＯ  １ｍｏｌ）、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ＝１〕、またはＥｂｅｃｒｙｌ１１０〔エトキシ化フェニルアクリレート（ＥＯ  ２ｍｏｌ）、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ＝２〕、
東亞合成社製アロニックス  Ｍ−１０１Ａ〔フェノールＥＯ変性（ｎ≒２）アクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ≒２〕、Ｍ−１０２〔フェノールＥＯ変性（ｎ≒４）アクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ≒４〕、Ｍ−１１０〔パラクミルフェノールＥＯ変性（ｎ≒１）アクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：パラクミル、ｎ≒１〕、Ｍ−１１１〔ｎ−ノニルフェノールＥＯ変性（ｎ≒１）アクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：ｎ−ノニル基、ｎ≒１〕、Ｍ−１１３〔ｎ−ノニルフェノールＥＯ変性（ｎ≒４）アクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：ｎ−ノニル基、ｎ≒４〕、若しくはＭ−１１７〔ｎ−ノニルフェノールＰＯ変性（ｎ≒２．５）アクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：プロピレン基、Ｒ8：ｎ−ノニル基、ｎ≒２．５〕、
共栄社製ライトアクリレート  ＰＯ−Ａ〔フェノキシエチルアクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ＝１〕、Ｐ−２００Ａ〔フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ≒２〕、ＮＰ−４ＥＡ〔ノニルフェノールＥＯ付加物アクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：ｎ−ノニル基、ｎ≒４〕、若しくはＮＰ−８ＥＡ〔〔ノニルフェノールＥＯ付加物アクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：ｎ−ノニル基、ｎ≒８〕、またはライトエステル  ＰＯ〔フェノキシエチルメタクリレート、Ｒ6：メチル基、Ｒ7：プロピレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ＝１〕、
日油社製ブレンマー  ＡＮＥ−３００〔ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：−ノニル基、ｎ≒５〕、ＡＮＰ−３００〔ノニルフェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：プロピレン基、Ｒ8：ｎ−ノニル基、ｎ≒５〕、４３ＡＮＥＰ−５００〔ノニルフェノキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−アクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基及びプロピレン基、Ｒ8：−ノニル基、ｎ≒５＋５〕、７０ＡＮＥＰ−５５０〔ノニルフェノキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−アクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基及びプロピレン基、Ｒ8：ｎ−ノニル基、ｎ≒９＋３〕、７５ＡＮＥＰ−６００〔ノニルフェノキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−アクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基及びプロピレン基、Ｒ8：ｎ−ノニル基、ｎ≒５＋２〕、ＡＡＥ−５０〔フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ＝１〕、ＡＡＥ−３００〔フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ≒５．５〕、ＰＡＥ−５０〔フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、Ｒ6：メチル基、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ＝１〕、ＰＡＥ−１００〔フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、Ｒ6：メチル基、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ＝２〕、若しくは４３ＰＡＰＥ−６００Ｂ〔フェノキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−メタクリレート、Ｒ6：メチル基、Ｒ7：エチレン基及びプロピレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ≒６＋６〕、
新中村化学社製ＮＫ  ＥＳＴＥＲ  ＡＭＰ−１０Ｇ〔フェノキシエチレングリコールアクリレート（ＥＯ１ｍｏｌ）、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ＝１〕、ＡＭＰ−２０Ｇ〔フェノキシエチレングリコールアクリレート（ＥＯ２ｍｏｌ）、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ≒２〕、ＡＭＰ−６０Ｇ〔フェノキシエチレングリコールアクリレート（ＥＯ６ｍｏｌ）、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ≒６〕、ＰＨＥ−１Ｇ〔フェノキシエチレングリコールメタクリレート（ＥＯ１ｍｏｌ）、Ｒ6：メチル基、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ＝１〕、
大阪有機化学社製ビスコート  ＃１９２〔フェノキシエチルアクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ＝１〕、あるいは、
日本化薬製ＳＲ−３３９Ａ〔２−フェノキシエチレングリコールアクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：水素原子、ｎ＝１〕，若しくはＳＲ−５０４（エトキシ化ノニルフェノールアクリレート、Ｒ6：水素原子、Ｒ7：エチレン基、Ｒ8：ｎ−ノニル基〕等が挙げられるが、これらに限定することなく、２種類以上併用することもできる。
【０１７８】
一般式（１３）で示されるエチレン性不飽和単量体において、Ｒ8のアルキル基の炭素数は１〜２０であるが、より好ましくは１〜１０である。アルキル基は、直鎖状アルキル基だけでなく、分岐状アルキル基及び置換基としてベンゼン環を有するアルキル基も含まれる。Ｒ8のアルキル基の炭素数が１〜１０のときは基材への密着性が高まるが、炭素数が１０を超えると、長いアルキル基が、基材との密着を妨げる傾向を示す。この傾向は、Ｒ8のアルキル基の炭素鎖長が長くなるに従い顕著となり、炭素数が２０を超えると、基材との密着が極端に低下する。Ｒ8で表されるベンゼン環を有するアルキル基としては、ベンジル基、２−フェニル（イソ）プロピル基等を挙げることができる。側鎖ベンゼン環が一つ増えることによって、現像性が向上する。
【０１７９】
一般式（１３）で示されるエチレン性不飽和単量体において、ｎは、１〜１５の整数が好ましい。ｎが１５を越えると、親水性が増して溶媒和の効果が小さくなると共に、樹脂（ｇ１）の粘度が高くなり、これを用いた感光性組成物の粘度も高くなり、流動性に影響を与える場合がある。溶媒和の観点から、ｎは、１〜４が特に好ましい。
【０１８０】
《エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-２）》
エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-２）は、化学式（１４）及び化学式（１５）に示す脂肪族環基による環状構造を有するものであって、塗膜に硬度を付与、及び、アルカリ現像液に対する疎水性部位として機能する。樹脂（ｇ１）の全構成単位の重量を基準として、エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-１）は、現像性と硬度付与の観点から、樹脂全体に対し、２〜４０重量％であることが好ましい。２重量％未満では、現像性と硬度が不足し、高品質なタッチパネル用塗膜が得られないといった問題が生じる場合がある。また、現像時の疎水性が不足するために画素部のパターン剥れや欠けの問題が生じる。４０重量％を越えると、アルカリ現像液への溶解速度が遅くなり、現像時間が長く塗膜の生産性が悪くなる場合がある。
【０１８１】
化学式（１４）：
【化２５】
2015114588.tif 000027
【０１８２】
化学式（１５）：
【化２６】
2015114588.tif 000028
【０１８３】
エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-２）としては、一般式（１６）に示すエチレン性不飽和単量体、または一般式（１７）に示すエチレン性不飽和単量体等が挙げられる。
一般式（１６）：
【化２７】
2015114588.tif 000029
【０１８４】
一般式（１７）：
【化２８】
2015114588.tif 000030
[一般式（１６）、一般式（１７）中、Ｒ9は、水素原子、またはメチル基であり、Ｒ10は、炭素数２若しくは３のアルキレン基であり、ｍは、１〜１５の整数である。]
【０１８５】
一般式（１６）に示されるエチレン性不飽和単量体としては、例えば、
日立化成社製ファンクリル  ＦＡ−５１３Ａ〔ジシクロペンタニルアクリレート、Ｒ9：水素原子、Ｒ10：なし、ｍ＝０〕、またはＦＡ−５１３Ｍ〔ジシクロペンタニルメタクリレート、Ｒ9：メチル、Ｒ10：なし、ｍ＝０〕等が挙げられるが、これらに限定することなく、２種類以上併用することもできる。
【０１８６】
一般式（１７）に示されるエチレン性不飽和単量体としては、例えば、
日立化成社製ファンクリル  ＦＡ−５１１Ａ〔ジシクロペンテニルアクリレート、Ｒ9：水素原子、Ｒ10：なし、ｍ＝０〕、ＦＡ−５１２Ａ〔ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、Ｒ9：水素原子、Ｒ10：エチレン基、ｍ＝１〕、ＦＡ−５１２Ｍ〔ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、Ｒ9：メチル基、Ｒ10：エチレン基、ｍ＝１〕、またはＦＡ−５１２ＭＴ〔ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、Ｒ9：メチル基、Ｒ10：エチレン基、ｍ＝１〕等が挙げられるが、これらに限定することなく、２種類以上併用することもできる。
【０１８７】
《エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-３）》
エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-３）は、下記一般式（４０）で表わされるエチレン性不飽和単量体である。
一般式（４０）：
【化２９】
2015114588.tif 000031
[一般式（４０）中、Ｒ21およびＲ22は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基を表す。]
【０１８８】
一般式（４０）中、Ｒ21およびＲ22で表される、置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、ステアリル、ラウリル、２−エチルヘキシル等の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル等のアリール基；シクロヘキシル、ｔ−ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、２−メチル−２−アダマンチル等の脂環式基；１−メトキシエチル、１−エトキシエチル等のアルコキシで置換されたアルキル基；ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基；等が挙げられる。これらの中でも特に、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等のような酸や熱で脱離しにくい炭化水素基が耐熱性の点で好ましい。なお、Ｒ21およびＲ22は、同種の炭化水素基であってもよいし、異なる炭化水素基であってもよい。
【０１８９】
エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-３）の具体例としては、例えば、ジメチル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジエチル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｎ−プロピル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（イソプロピル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｎ−ブチル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（イソブチル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｔ−ブチル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｔ−アミル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ステアリル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ラウリル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（２−エチルヘキシル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（１−メトキシエチル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（１−エトキシエチル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジベンジル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジフェニル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジシクロヘキシル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｔ−ブチルシクロヘキシル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ジシクロペンタジエニル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（トリシクロデカニル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（イソボルニル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジアダマンチル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（２−メチル−２−アダマンチル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート等が挙げられる。これらの中でも特に、ジメチル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジエチル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジシクロヘキシル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジベンジル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエートが好ましく、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
【０１９０】
樹脂（ｇ１）を得る際の単量体成分中におけるエチレン性不飽和単量体（Ｇ２-３）の割合は、特に制限されないが、全単量体成分中２〜６０重量％、好ましくは５〜５５重量％、さらに好ましくは５〜５０重量％であるのがよい。エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-３）の量が多すぎると共重合の際、低分子量のものを得ることが困難になったり、あるいはゲル化し易くなったりするおそれがあり、一方、少なすぎると、透明性や耐熱性などの塗膜性能が不充分となるおそれがある。
【０１９１】
《エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-４）》
エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-４）は、エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-１）、（Ｇ２-２）、（Ｇ２-３）以外のその他のエチレン性不飽和単量体であって、エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-１）、（Ｇ２-２）、（Ｇ２-３）と共重合可能であればとくに制限は無い。なかでも、水酸基を有するエチレン性不飽和単量体、水酸基を有するエチレン性不飽和単量体、側鎖型環状エーテル含有単量体が好ましい。
【０１９２】
水酸基を有するエチレン性不飽和単量体としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−若しくは３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−若しくは３−若しくは４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、又はシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類が挙げられ、これらは、単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。また、上記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートに、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、及び／又はブチレンオキシド等を付加重合させたポリエーテルモノ（メタ）アクリレートや、（ポリ）γ−バレロラクトン、（ポリ）ε−カプロラクトン、及び／又は（ポリ）１２−ヒドロキシステアリン酸等を付加した（ポリ）エステルモノ（メタ）アクリレートも使用できる。塗膜異物抑制の観点から、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、又はグリセロール（メタ）アクリレートが好ましい。
【０１９３】
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和単量体としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、又は１，１−ビス〔（メタ）アクリロイルオキシ〕エチルイソシアネート等が挙げられるが、これらに限定することなく、２種類以上併用することもできる。
【０１９４】
側鎖型環状エーテル含有単量体としては、たとえば、テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格、ラクトン骨格の郡から選ばれる少なくとも１つの骨格を含有する不飽和化合物である。
テトラヒドロフラン骨格としては、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−メタクリロイルオキシ−プロピオン酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフラン−３−イルエステルなど；
フラン骨格としては、２−メチル−５−（３−フリル）−１−ペンテン−３−オン、フルフリル（メタ）アクリレート、１−フラン−２−ブチル−３−エン−２−オン、１−フラン−２−ブチル−３−メトキシ−３−エン−２−オン、６−（２−フリル）−２−メチル−１−ヘキセン−３−オン、６−フラン−２−イル−ヘキシ−１−エン−３−オン、アクリル酸２−フラン−２−イル−１−メチル−エチルエステル、６−（２−フリル）−６−メチル−１−ヘプテン−３−オンなど；
テトラヒドロピラン骨格としては、（テトラヒドロピラン−２−イル）メチルメタクリレート、２，６−ジメチル−８−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−オクト−１−エン−３−オン、２−メタクリル酸テトラヒドロピラン−２−イルエステル、１−（テトラヒドロピラン−２−オキシ）−ブチル−３−エン−２−オンなど；
ピラン骨格としては、４−（１，４−ジオキサ−５−オキソ−６−ヘプテニル）−６−メチル−２−ピロン、４−（１，５−ジオキサ−６−オキソ−７−オクテニル）−６−メチル−２−ピロンなど；
ラクトン骨格としては、２−プロペン酸２−メチル−テトラヒドロ−２−オキソ−３−フラニルエステル、２−プロペン酸２−メチル−７−オキソ−６−オクサビシクロ［３．２．１］オクト−２−イルエステル、２−プロペン酸２−メチル−ヘキサヒドロ−２−オキソ−３，５−メタノ−２Ｈ−シクロペンタ［ｂ］フラン−７−イルエステル、２−プロペン酸２−メチル−テトラヒドロ−２−オキソ−２Ｈ−ピラン−３−イルエステル、２−プロペン酸（テトラヒドロ−５−オキソ−２−フラニル）メチルエステル、２−プロペン酸ヘキサヒドロ−２−オキソ−２，６−メタノフロ［３，２−ｂ］−６−イルエステル、２−プロペン酸２−メチル−２−（テトラヒドロ−５−オキソ−３−フラニル）エチルエステル、２−プロペン酸２−メチル−デカヒドロ−８−オキソ−５，９−メタノ−２Ｈ−フロ［３，４−ｇ］−１−ベンゾピラン−２−イルエステル、２−プロペン酸２−メチル−２−［（ヘキサヒドロ−２−オキソ−３，５−メタノ−２Ｈ−シクロペンタ［ｂ］フラン−６−イル）オキシ］エチルエステル、２−プロペン酸３−オキソ−３−［（テトラヒドロ−２−オキソ−３−フラニル）オキシ］プロピルエステル、２−プロペン酸２−メチル−２−オキシ−１−オクサスピロ［４．５］デク−８−イルエステルなどが挙げられる。
これらのうちテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートが着色、入手性の点から好ましい。これら側鎖型環状エーテル含有単量体は単独で用いても２種以上を複合して用いても構わない。
【０１９５】
樹脂（ｇ１）を得る際の単量体成分中における前記側鎖型環状エーテル含有単量体の割合は、特に制限されないが樹脂（ｇ１）の全構成単位の重量を基準として、１０〜８０重量％、好ましくは２０〜７０重量％、さらに好ましくは３０〜６０重量％であるのがよい。側鎖型環状エーテル含有単量体の量が多すぎると、親水性が強くなりすぎてアルカリ現像時に表面が白化したり、パターンが欠けたり、基材への密着性が低下し易くなったりするおそれがあり、一方、少なすぎると、耐熱性などの性能が不充分となる恐れがある。
【０１９６】
その他の共重合可能な単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸メチル２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル等の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物；Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のＮ−置換マレイミド類；ブタジエン、イソプレン等のブタジエンまたは置換ブタジエン化合物；エチレン、プロピレン、塩化ビニル、アクリロニトリル等のエチレンまたは置換エチレン化合物；酢酸ビニル等のビニルエステル類；等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、スチレンが、透明性が良好で、耐熱性を損ないにくい点で好ましい。これら共重合可能な他の単量体は、１種のみ用いても２種以上を併用してもよい。
【０１９７】
前記単量体成分の重合反応の方法としては、特に制限はなく、従来公知の各種重合方法を採用することができるが、特に、溶液重合法によることが好ましい。なお、重合温度や重合濃度（重合濃度＝［単量体成分の全重量／（単量体成分の全重量＋溶媒重量）］×１００とする）は、使用する単量体成分の種類や比率、目標とするポリマーの分子量によって異なるが、好ましくは、重合温度４０〜１５０℃、重合濃度５〜５０％とするのがよく、さらに好ましくは、重合温度６０〜１３０℃、重合濃度１０〜４０％とするのがよい。
【０１９８】
＜不飽和一塩基酸（Ｇ３）＞
不飽和一塩基酸（Ｇ３）としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ｏ−、ｍ−、ｐ−ビニル安息香酸、（メタ）アクリル酸のα位ハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロ、シアノ置換体等のモノカルボン酸等が挙げられ、これらは、単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。
【０１９９】
＜多塩基酸無水物（Ｇ４）＞
多塩基酸無水物（Ｇ４）としては、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等が挙げられ、これらは単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。カルボキシル基の数を増やす等、必要に応じて、トリメリット酸無水物等のトリカルボン酸無水物を用いたり、ピロメリット酸二無水物等のテトラカルボン酸二無水物を用いて、残った無水物基を加水分解すること等もできる。また、多塩基酸無水物として、ラジカル重合性二重結合を有する、テトラヒドロ無水フタル酸、又は無水マレイン酸を用いると、更にラジカル重合性二重結合を増やすことができる。
【０２００】
《樹脂（ｇ２）》
樹脂（ｇ２）は、不飽和一塩基酸（Ｇ３）等のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体と、前記エチレン性不飽和単量体（Ｇ２-１）、（Ｇ２-２）、（Ｇ２-３）、および（Ｇ２-４）からなる群より選ばれる他の１種類以上のエチレン性不飽和単量体（Ｇ２）とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖カルボキシル基の一部に、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（Ｇ１）を付加反応させ、エチレン性不飽和二重結合およびカルボキシル基を導入した樹脂である。
【０２０１】
樹脂（ｇ２）の含有量は、成膜性の観点から、光散乱層用樹脂組成物中、５〜７０重量％であることが好ましく、１０〜６０重量％がより好ましい。
【０２０２】
＜カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体＞
カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体としては、不飽和一塩基酸（Ｇ３）で記載した（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ｏ−、ｍ−、ｐ−ビニル安息香酸、（メタ）アクリル酸のα位ハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロ、シアノ置換体等のモノカルボン酸と、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、テレフタル酸、Ｎ−ヒドロキシフェニルマレイミド等のフェノール性水酸基を有するエチレン性不飽和単量体などが挙げられる。これらは単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。
【０２０３】
＜熱反応性化合物＞
本発明の光散乱層用樹脂組成物は、塗膜耐久性を更に付与すべく、更に熱反応性化合物を添加する事が出来る。前記熱反応性化合物は、常温下では非反応性であるが、例えば、１００℃以上（好ましくは１５０℃以上）の温度で、架橋反応、重合反応、重縮合反応、又は重付加反応性を示す化合物である。熱反応性化合物の分子量は、特に限定されるものではないが、好ましくは５０〜２０００、より好ましくは１００〜１０００である。
【０２０４】
熱反応性化合物としては、例えば、メラミン化合物、ベンゾグアナミン化合物、カルボジイミド化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、フェノール化合物、ベンゾオキサジン化合物、ブロック化カルボン酸化合物、ブロック化イソシアネート化合物、アクリレート系モノマー、及びシランカップリング剤からなる群から選ばれる化合物１種若しくは２種以上を用いることができる。特に好ましくは、少なくともメラミン化合物もしくはベンゾグアナミン化合物を含む熱反応性化合物である。
【０２０５】
メラミン化合物又はベンゾグアナミン化合物としては、例えば、イミノ基、メチロール基、アルコキシメチル基を有するものが挙げられる。その中でも、アルコキシアルキル基を含有するメラミン化合物又はベンゾグアナミン化合物が好ましい。アルコキシアルキル基を含有するメラミン化合物又はベンゾグアナミン化合物を用いた場合、本発明の光散乱層用樹脂組成物の保存安定性が著しく向上する。
【０２０６】
アルコキシアルキル基を含有するメラミン化合物又はベンゾグアナミン化合物としては、例えば、ヘキサメトキシメチロールメラミン、ヘキサブトキシメチロールメラミン、テトラメトキシメチロールベンゾグアナミン、テトラブトキシメチロールベンゾグアナミン等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【０２０７】
メラミン化合物の市販品の具体例としては以下のものが挙げられる。但し、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【０２０８】
三和ケミカル社製ニカラックＭＷ−３０Ｍ、ＭＷ−３０、ＭＷ−２２、ＭＳ−２１、ＭＳ−１１、ＭＷ−２４Ｘ、ＭＳ−００１、ＭＸ−００２、ＭＸ−７３０、ＭＸ７５０、ＭＸ−７０８、ＭＸ−７０６、ＭＸ−０４２、ＭＸ−０３５、ＭＸ−４５、ＭＸ−５００、ＭＸ−５２０、ＭＸ−４３、ＭＸ−４１７、ＭＸ−４１０、ＭＸ−３０２、日本サイテックスインダストリー社製サイメル３００、３０１、３０３、３５０、３７０、３２５、３２７、７０３、７１２、０１、２８５、２３２、２３５、２３６、２３８、２１１、２５４、２０４、２０２、２０７、マイコート５０６、５０８、２１２、７１５などが挙げられる。
【０２０９】
その中でも好適なのは、アルコキシアルキル基含有のメラミン化合物である、三和ケミカル社製ニカラックＭＷ−３０Ｍ、ＭＷ−３０、ＭＷ−２２、ＭＳ−２１、ＭＸ−４５、ＭＸ−５００、ＭＸ−５２０、ＭＸ−４３、ＭＸ−３０２、日本サイテックスインダストリー社製サイメル３００、３０１、３０３、３５０、２８５、２３２、２３５、２３６、２３８、マイコート５０６、５０８である。
【０２１０】
ベンゾグアナミン化合物の市販品の具体例としては、例えば、三和ケミカル社製ニカラックＢＸ−４０００、ＳＢ−４０１、ＢＸ−３７、ＳＢ−３５５、ＳＢ−３０３、ＳＢ３０１、ＢＬ−６０、ＳＢ−２５５、ＳＢ−２０３、ＳＢ−２０１、日本サイテックスインダストリー社製サイメル１１２３、マイコート１０５、１０６、１１２８などが挙げられる。
【０２１１】
その中でも好適なのは、アルコキシアルキル基含有のベンゾグアナミン化合物である、三和ケミカル社製ニカラックＢＸ−４０００、ＳＢ−４０１、日本サイテックスインダストリー社製サイメル１１２３である。
【０２１２】
エポキシ化合物としては、ビスフェノールＡ系エポキシ化合物／または樹脂、水素化ビスフェノールＡ系エポキシ化合物／または樹脂、ビスフェノールＦ系エポキシ化合物／または樹脂、水素化ビスフェノールＦ系エポキシ化合物／または樹脂、ノボラック型エポキシ化合物／または樹脂、環式脂肪族系エポキシ化合物／または樹脂、複素環式エポキシ化合物／または樹脂、グリシジルエーテル系化合物／または樹脂、グリシジルエステル系化合物／または樹脂、グリシジルアミン系化合物／または樹脂、エポキシ化油等のエポキシ化合物／または樹脂；前記エポキシ化合物／または樹脂の臭素化誘導体や、トリス（グリシジルフェニル）メタン、トリグリシジルイソシアヌレート等が挙げられる。
これらのエポキシ化合物／または樹脂は、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【０２１３】
エポキシ化合物の市販品としては、例えば、エピコート８０７、エピコート８１５、エピコート８２５、エピコート８２７、エピコート８２８、エピコート１９０Ｐ、エピコート１９１Ｐ（以上は商品名；油化シェルエポキシ（株）製）、エピコート１００４、エピコート１２５６（以上は商品名；ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ（商品名；三井化学（株）製）、ＥＰＰＮ−５０１Ｈ、５０２Ｈ（商品名；日本化薬（株）製）、ＪＥＲ １０３２Ｈ６０（商品名；ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＪＥＲ １５７Ｓ６５、１５７Ｓ７０（商品名；ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＰＮ−２０１（商品名；日本化薬（株）製）、ＪＥＲ１５２、ＪＥＲ１５４（以上は商品名；ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＯＣＮ−１０２Ｓ、ＥＯＣＮ−１０３Ｓ、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＥＯＣＮ−１０２０（以上は商品名；日本化薬（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、ＥＨＰＥ−３１５０（以上商品名；ダイセル化学工業（株）製）、デナコールＥＸ−８１０、ＥＸ−８３０、ＥＸ−８５１、ＥＸ−６１１、ＥＸ−５１２、ＥＸ−４２１、ＥＸ−４１１、ＥＸ−３２１、ＥＸ−３１３、ＥＸ−２０１、ＥＸ−１１１（以上は商品名；ナガセケムテックス（株）製）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０２１４】
これらのなかでも、好ましくは、セロキサイド２０２１Ｐ、ＥＨＰＥ−３１５０、ＥＸ−６１１、ＥＸ−４１１、ＥＸ−３２１、またはＥＸ−３１３であり、さらに好ましくは、ＥＸ−６１１、ＥＸ−４１１、ＥＸ−３２１，ＥＸ−３１３である。
【０２１５】
フェノール化合物としては、例えば、フェノール類とアルデヒド類を酸性触媒下で反応させたノボラック型フェノール化合物、塩基性触媒下で反応させたレゾール型フェノール化合物どちらも用いることができる。フェノール類としては、例えば、オルトクレゾール、パラクレゾール、パラフェニルフェノール、パラノニルフェノール、２，３−キシレノール、フェノール、メタクレゾール、３，５−キシレノール、レゾルシノール、カテコール、ハイドロキノン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＢ、ビスフェノールＥ、ビスフェノールＨ、ビスフェノールＳ等を挙げることができる。アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒドを挙げることができる。フェノール類とアルデヒド類は、それぞれ１種を単独で、又は２種以上を混合して用いられる。
【０２１６】
ブロック化イソシアネート化合物のイソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トルイジンイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４'−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−２，４'−ジイソシアネート、ビス（４−イソシアネートシクロヘキシル）メタン、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等のジイソシアネート、これらジイソシアネートのイソシアヌレート体、トリメチロールプロパンアダクト型、ビウレット型、イソシアネート残基を有するプレポリマー（ジイソシアネートとポリオールから得られる低重合体）及びイソシアネート残基を有するウレトジオン等を挙げることができるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【０２１７】
ブロック化イソシアネート化合物のブロック剤としては、例えば、フェノール（解離温度１８０℃以上）、ε−カプロラクタム（解離温度１６０〜１８０℃）、オキシム（解離温度１３０〜１６０℃）、又は活性メチレン（１００〜１２０℃）等を挙げることができるが、必ずしもこれに限定されるものではない。また、１種を単独で、あるいは２種以上を併用して用いられる。
【０２１８】
＜多官能モノマー（Ｊ）＞
本発明の光散乱層用樹脂組成物は、多官能モノマー（Ｊ）を含むことが好ましい。多官能モノマー（Ｊ）には、紫外線や熱などにより硬化して透明樹脂を生成するモノマーもしくはオリゴマーが含まれる。多官能モノマー（Ｊ）の中でも、酸性基を有する多官能モノマー、または１分子中に７個以上のエチレン性二重不飽和結合を有する多官能モノマー（Ｊ１）が現像性に優れるために好ましい。
【０２１９】
多官能モノマー（Ｊ）として例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の各種アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル等が挙げられる。
【０２２０】
市販品としては、Ｍ−３５０（ トリメチロールプロパンエチレンオキサイド 変性トリアクリレート）、Ｍ−４５０（ ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート）、Ｍ−４０２（ ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート）（東亜合成社製）、カヤラッドＤＰＣＡ３０（カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ−ト）（日本化薬社製）などが挙げられる。
【０２２１】
また、酸性基を有する多官能モノマーを含むことが好ましく、例えば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸との遊離水酸基含有ポリ（メタ）アクリレート類と、ジカルボン酸類とのエステル化物；多価カルボン酸と、モノヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類とのエステル化物等を挙げることができる。具体例としては、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等のモノヒドロキシオリゴアクリレートまたはモノヒドロキシオリゴメタクリレート類と、マロン酸、こはく酸、グルタル酸、テレフタル酸等のジカルボン酸類との遊離カルボキシル基含有モノエステル化物；プロパン−１，２，３−トリカルボン酸（トリカルバリル酸）、ブタン−１，２，４−トリカルボン酸、ベンゼン−１，２，３−トリカルボン酸、ベンゼン−１，３，４−トリカルボン酸、ベンゼン−１，３，５−トリカルボン酸等のトリカルボン酸類と、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のモノヒドロキシモノアクリレートまたはモノヒドロキシモノメタクリレート類との遊離カルボキシル基含有オリゴエステル化物等を挙げることができる。
【０２２２】
また、下記一般式（１８）により表わされる化合物も好ましく使用できる。
一般式（１８）：
（Ｈ2Ｃ＝Ｃ(Ｒ51)ＣＯＯ）h−Ｘ−（ＯＣＯＣＨ(Ｒ9)ＣＨ2Ｓ(Ｒ50)ＣＯＯＨ）i
[一般式（１８）中、Ｒ51は水素原子またはメチル基、Ｒ50は炭素数１〜１２の炭化水素基、Ｘは（ｈ＋ｉ）価の炭素数３〜６０の有機基、ｈは２〜１８の整数、ｉは１〜３の整数を示す。]
【０２２３】
ここで、一般式（１８）で表される化合物は、例えば、以下の方法により容易に得ることができる。
（１）Ｘで表される有機基を与える化合物をアクリル酸とエステル化してアクリル化させた後、得られた化合物にメルカプト化合物を付加させる方法
（２）Ｘで表される有機基を与える化合物をポリイソシアネート化合物で変性させた後、得られた化合物に水酸基を有するアクリレート化合物でアクリル化させた後、得られた化合物にメルカプト化合物を付加させる方法
（３）Ｘで表される有機基を与える化合物をアクリル酸とエステル化してアクリル化させた後、ポリイソシアネート化合物で変性させ、得られた化合物にメルカプト化合物を付加させる方法。
【０２２４】
Ｘで表される有機基を与える化合物としては、ペンタエリスリトール、ペンタエリスリトールのカプロラクトン変性物、ペンタエリスリトールのポリイソシアネート変性物、及びジペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールのカプロラクトン変性物、ジペンタエリスリトールのポリイソシアネート変性物を挙げることができる。
【０２２５】
メルカプト化合物としては、例えば、メルカプト酢酸、２-メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸、ｏ−メルカプト安息香酸、２−メルカプトニコチン酸、メルカプトコハク酸などが挙げられる。
【０２２６】
［１分子中に７個以上のエチレン性二重不飽和結合を有する多官能モノマー（Ｊ１）］
これら多官能モノマーの中でも、１分子中に７個以上のエチレン性不飽和結合を有する多官能モノマー（Ｊ１）を含むことで、より現像性に優れるものとなるために好ましい。
【０２２７】
７個以上のエチレン性不飽和結合を有する多官能モノマー（Ｊ１）として例えば、下記一般式（１９）で表される多官能モノマーであることが好ましい。
なかでも、現像性に優れるものとなるために７〜１６個のエチレン性不飽和結合を有する多官能モノマーであることが好ましく、さらに７〜１２個である場合がより好ましい。
【０２２８】
一般式（１９）：
【化３０】
2015114588.tif 000032
[一般式（１９）において、ｎは０〜４の整数であり、Ｒ2はエーテル基、アルキレン基、トリレン基、アリーレン基、カルボニル基、スルホニル基、エステル基、および一般式（２０）で表される構造を有する２価の基からなる群より選ばれるいずれかであり、Ｒ3は水素原子またはメチル基であり、Ｒ4はヒドロキシル基、カルボキシル基、および（メタ）アクリロイルオキシ基からなる群より選ばれるいずれかである。]
【０２２９】
一般式（２０）：
【化３１】
2015114588.tif 000033
[一般式（２０）において、Ｒ5は脂肪族、脂環式または芳香族の構造を表す。]
【０２３０】
一般式（１９）で表される化合物の中でも、Ｒ2はエーテル基、または一般式（２０）で表される構造を有する２価の基であることが、表面硬度と密着性において好ましい。
【０２３１】
Ｒ2がエーテル基であるものとしては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと多官能イソシアネートを反応させて得られる化合物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと四塩基酸二無水物を反応させて得られる化合物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと多官能エポキシ化合物を反応させて得られる化合物等を挙げることができる。
【０２３２】
多官能イソシアネートの具体例としては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等を挙げることができる。
また、四塩基酸二無水物の具体例としては、無水ピロメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセリンビス（アンヒドロトリメリテートモノアセテート）、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロヘキシセンテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
また、多官能エポキシ化合物の具体例としては、トリス（グリシジルフェニル）メタン、トリグリシジルイソシアヌレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ノボラック型エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【０２３３】
一般式（１９）においてＲ2がエーテル基である多官能性モノマーの中でも、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、ペンタペンタエリスリトールウンデカ（メタ）アクリレート、またはペンタペンタエリスリトールドデカ（メタ）アクリレートが好ましい。
これらのなかでも、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、またはペンタペンタエリスリトールドデカ（メタ）アクリレートが最も好ましく、これらを混合して含むものであっても良い。
【０２３４】
このような多官能モノマー（Ｊ１）として市販品では、例えば、ビスコート＃８０２（トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、テトラペンタエリスリトールデカアクリレート、およびペンタペンタエリスリトールドデカアクリレートの混合物、大阪有機化学工業株式会社製）を挙げることができる。
【０２３５】
Ｒ5が、一般式（２０）で表される構造を有する２価の基である場合、さらにｎ＝１でかつＲ4が（メタ）アクリロイル基であれば、表面硬度の面でより好ましい。
【０２３６】
このような多官能モノマー（Ｊ１）として市販品では、例えば、ＴＯ−２３２３、ＴＯ−２３２４、ＴＯ−２３２５、ＴＯ−２３２６、ＴＯ−２３２７及びＴＯ−２３２８（東亜合成株式会社製）を挙げることができる。
【０２３７】
多官能モノマー（Ｊ１）の含有量としては樹脂組成物の固形分の合計１００重量％中、５〜２０重量％の量で用いることが好ましい。この場合、５重量％より多官能モノマー（Ｊ１）が少ないと、表面硬度アップや耐溶剤性付与という効果が得られず、２０重量％より多いと、相対的に酸化チタン粒子や光散乱粒子の添加量が減少し、高い屈折率を得ることが出来ない。より好ましくは、５〜１５重量％である。
【０２３８】
＜光重合開始剤（Ｈ）＞
本発明の樹脂組成物には、該組成物を紫外線照射により硬化させて硬化膜を形成するため、またはフォトリソグラフィー法による塗膜を形成するために、光重合開始剤（Ｈ）を加えて調製することが好ましい。
【０２３９】
光重合開始剤（Ｈ）としては、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン等のアセトフェノン系光重合開始剤、１，２−オクタジオン−１−［４−（フェニルチオ）−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサンソン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系光重合開始剤、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリル−ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等のトリアジン系光重合開始剤、ボレート系光重合開始剤、カルバゾール系光重合開始剤、またはイミダゾール系光重合開始剤等が用いられる。
これらの光重合性化合物は、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【０２４０】
なかでもアセトフェノン系光重合開始剤、およびオキシムエステル系光重合開始剤は、加熱工程時に黄変が少なく透過率が高くなることから、好ましい。アセトフェノン系光重合開始剤としては、具体的にはイルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製）、イルガキュア３７９（ＢＡＳＦ社製）、イルガキュア３７９ＥＧ（ＢＡＳＦ社製）などがある。
【０２４１】
さらにそのなかでも、オキシムエステル系光重合開始剤は、感度が高く、添加量を少なくすることが出来ることがら、その分無機酸化物微粒子添加量を増やし屈折率を高くすることが出来ることから、特に好ましい。これらはそれぞれを単独で用いても良く、ともに含んでいても良い。
オキシムエステル系光重合開始剤のなかでも、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（ｏ−アセチルオキシム））は、加熱工程時に黄変がより小さく、塗膜としての透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い感光性組成物を提供することができるため、より好ましい。これらはそれぞれを単独で用いても良く、ともに含んでいても良い。具体的には、イルガキュアＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、イルガキュアＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）などである。
【０２４２】
光重合開始剤（Ｈ）は、感光性樹脂組成物の固形分の合計１００重量％中、０．５〜１０重量％の量で用いることが好ましく、透過率の観点から０．５〜５重量％の量で用いることがより好ましい。
【０２４３】
本発明の樹脂組成物は、さらに増感剤として、α−アシロキシエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアンスラキノン、４，４’−ジエチルイソフタロフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン等の化合物を併用することもできる。
増感剤は、光重合開始剤（Ｈ）１００重量部に対して、０．１〜１５０重量部の量で用いることができる。
【０２４４】
＜酸化防止剤＞
本発明の光散乱層用樹脂組成物には酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤は、加熱工程を経ることによる黄変等による透過率の低下を抑制することができる。そのため、酸化防止剤を含むことで、加熱工程時の黄変を防止し、透過率の高い塗膜を得る事ができる。
【０２４５】
本発明における「酸化防止剤」とは、紫外線吸収機能、ラジカル補足機能、または、過酸化物分解機能を有する化合物であればよく、具体的には、酸化防止剤としてヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、リン系、イオウ系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒドロキシルアミン系、サルチル酸エステル系、およびトリアジン系の化合物があげられ、公知の紫外線吸収剤、酸化防止剤等が使用できる。これらの酸化防止剤の中でも、塗膜の透過率と感度の両立の観点から、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤およびイオウ系酸化防止剤が好ましい。フェノール系のなかでも特に、立体障害性の高いヒンダードフェノール系酸化防止剤がより好ましい。
【０２４６】
［フェノール系酸化防止剤］
例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、Ｎ，Ｎ'−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、トリエチレングリコール−ビス｛３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、１，６−ヘキサンジオール−ビス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、ペンタエリスリチル−テトラキス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ベンゼンなどが挙げられ、単独又は２種以上を使用してもよい。
【０２４７】
なかでも、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ'−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、及びトリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレートからなる群から選ばれるヒンダードフェノール系酸化防止剤は、光硬化性の面から好ましい。
ヒンダードフェノール系酸化防止剤として具体的には、ヨシノックスＢＨＴ（＝２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、トミノックスＴＴ（＝テトラキス−［メチレン−３−（３，５'−ジ−ｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン）、ヨシノックスＳＲ、ヨシノックスＢＢ、ヨシノックス２２４６Ｇ、ヨシノックス４２５、ヨシノックス２５０、ヨシノックス９３０、トミノックスＳＳ、トミノックス９１７、ＧＳＹ−３１４（以上、エーピーアイコーポレーション製）、ＩＲＧＡＮＯＸ２４５、ＩＲＧＡＮＯＸ２５９、ＩＲＧＡＮＯＸ５６５、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５、ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６、ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８、ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５、ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６、ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５ＷＬ、ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２、ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０（以上、ＢＡＳＦ・ジャパン社製）、アデカスタブＡＯ−７０、アデカスタブＡＯ−５０、アデカスタブＡＯ−３３０、アデカスタブＡＯ−２０、アデカスタブＡＯ−３０、アデカスタブＡＯ−８０（以上、旭電化工業社製）、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＢＢＭ、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＭ、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＳ、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＡ−８０、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＢＰ−１０１、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＢＰ−７６、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＢＰ−１０１（以上、住友化学社製）が挙げられる。
【０２４８】
［アミン系酸化防止剤］
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）（１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ〔｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチル｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、ポリ〔（６−モルホリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの重縮合物、Ｎ，Ｎ′−４，７−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン等が挙げられる。その他ヒンダードアミン構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等も使用することが出来る。
【０２４９】
ヒンダードアミン系酸化防止剤として具体的には、サノールＬＳ−７７０、サノールＬＳ−７６５、サノールＬＳ−６２２ＬＤ、キマソープ９４４（以上、三共株式会社）、ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ−３３４６（以上、サンケミカル株式会社製）、ノックラック２２４、ノックラックＣＤ、Ｕｖａｓｉｌ２９９−２９９ＬＭ（以上、大内新興化学工業社製）、ＭＡＲＫ ＬＡー６３、ＭＡＲＫＬＡ−６８（以上、旭電化工業社製）、ＴＩＮＵＶＩＮ １４４、ＴＩＮＵＶＩＮ ３１２（以上、ＢＡＳＦ・ジャパン社製）が挙げられる。
【０２５０】
［リン系酸化防止剤］
リン系酸化防止剤としては、市販されているものを使用できるが、トリス［２，４−ジ−（ｔｅｒｔ）−ブチルフェニル］ホスフィントリス［２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２−［（４，６，９，１１−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−２−イル）オキシ］エチル］アミン、亜りん酸エチルビス（２，４−ジｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）が挙げられ、これらからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、これらは１種又は２種以上を使用することができる。
リン系酸化防止剤として具体的には、ＩＲＧＡＦＯＳ１６８、ＩＲＧＡＦＯＳ１２、ＩＲＧＡＦＯＳ３８、ＩＲＧＡＦＯＳＥＰＱ、（以上、ＢＡＳＦ・ジャパン社製）、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＰ−１６（住友化学社製）、アデカスタブＰＥＰ−４Ｃ、アデカスタブＰＥＰ−８Ｆ、アデカスタブＰＥＰ−８、アデカスタブＰＥＰ−４５、アデカスタブＰＥＰ−１１Ｃ、アデカスタブＰＥＰ−２４Ｇ、アデカスタブＰＥＰ−３６、アデカスタブＨＰ−１０、アデカスタブＰ、アデカスタブＣ、アデカスタブＱＬ、アデカスタブ１３５Ａ、アデカスタブ１１７８、アデカスタブ１５００、アデカスタブ２１１２、アデカスタブ３０１０、アデカスタブ５２２Ａ、アデカスタブＴＰＰ（以上、旭電化工業社製）、ＧＳＹ−２０２（以上、エーピーアイコーポレーション製）、ＳＡＮＫＯＨＣＡ（三光株式会社製）、ＪＰＨ１２００、ＪＰ３０２、ＪＰＭ３１３、ＪＰ３０４、ＪＰ３０８、ＪＰＰ１００、ＪＰ３３３Ｅ、ＪＰ３１８Ｅ、ＪＰ３１２（以上、エーピーアイコーポレーション製）が挙げられる。
【０２５１】
［イオウ系酸化防止剤］
イオウ系酸化防止剤は分子中にイオウを含む酸化防止剤である。このような含イオウ系酸化防止剤としては市販されているものを使用できるが、３，３'−チオジプロパン酸ジ
オクタデシル、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジパルミチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、４，４’−チオビス−３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］が挙げられ、これらからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、これらは１種又は２種以上を使用することができる。
イオウ系酸化防止剤として具体的には、ＩＲＧＡＮＯＸＰＳ８００ＦＤ、ＩＲＧＡＮＯＸＰＳ８０２ＦＤ（以上、ＢＡＳＦ・ジャパン社製）、アデカスタブＡＯ−５０３、アデカスタブＡＯ−４１２Ｓ（以上、旭電化工業社製）、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＴＰＬ−Ｒ、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＴＰＭ、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＴＰＳ、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＴＰ−Ｄ、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＴＬ、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＭＢ（以上、住友化学社製）、ＤＬＴＰ「ヨシトミ」、ＤＳＴＰ「ヨシトミ」，ＤＭＴＰ「ヨシトミ」、ＤＴＴＰ「ヨシトミ」（以上、エーピーアイコーポレーション製）が挙げられる。
【０２５２】
ベンゾトリアゾール系酸化防止剤としては、ベンゾトリアゾール構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等を使用することが出来る。
【０２５３】
ベンゾトリアゾール系酸化防止剤として具体的には、トミソープ６００（吉富ファインケミカル製）、ＴＩＮＵＶＩＮ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ３２７、ＴＩＮＵＶＩＮ Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ３２８（以上、ＢＡＳＦ・ジャパン社製）、ＶＩＯＳＯＲＢ５８３、ＶＩＯＳＯＲＢ５９０（共同薬品社製）が挙げられる。
【０２５４】
ベンゾフェノン系酸化防止剤としては、ベンゾフェノン構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等を使用することが出来る。
【０２５５】
ベンゾフェノン系酸化防止剤としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、４−ドデシロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシベンゾフェノン、２，２'ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２'ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシベンゾフェノン、２，２'，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５スルフォベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２'−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−クロロベンゾフェノン、ＬＡ−５１（以上、旭電化工業社製）等が挙げられる。その他ベンゾフェノン構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等も使用することが出来る。
【０２５６】
ベンゾフェノン系酸化防止剤として具体的には、トミソープ８００（エーピーアイコーポレーション製）、ＬＡ−５１（旭電化工業社製）が挙げられる。
【０２５７】
トリアジン系酸化防止剤としては、２，４−ビス（アリル）−６−（２−ヒドロキシフェニル）１，３，５−トリアジン等が挙げられる。その他トリアジン構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等も使用することが出来る。
【０２５８】
トリアジン系酸化防止剤として具体的には、ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ−１１６４（サンケミカル株式会社製）が挙げられる。
【０２５９】
ヒドロキシルアミン系酸化防止剤として、具体的には、ＩＲＧＡＳＴＡＢＦＳ０４２（以上、ＢＡＳＦ・ジャパン社製）等の化合物を使用することが出来る。
【０２６０】
サルチル酸エステル系酸化防止剤としては、サリチル酸フェニル、サリチル酸ｐ−オクチルフェニル、サリチル酸ｐ−ｔｅｒｔブチルフェニル等が挙げられる。その他サルチル酸エステル構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等も使用することが出来る。
【０２６１】
これらの酸化防止剤は、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【０２６２】
酸化防止剤の含有量は、樹脂組成物の固形分合計１００重量％中、０．１重量％以上４重量％未満であることが好ましい。０．１重量％より少ない場合は、酸化防止剤が不足するため黄変防止効果が得られにくく、４重量％より多い場合には紫外線露光時に発生するラジカルを補足してしまうため、樹脂組成物の硬化が不十分となることがある。
【０２６３】
＜有機溶剤＞
本発明の樹脂組成物には有機溶剤を含有することができる。当該有機溶剤は、樹脂組成物作製時に添加しても良いし、光散乱粒子（Ｂ）または無機酸化物微粒子（Ｆ）の分散体を作製する際に使用しても良い。
有機溶剤としては、例えば１，２，３−トリクロロプロパン、１，３−ブタンジオール、１，３−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，４−ジオキサン、２−ヘプタノン、２−メチル−１，３−プロパンジオール、３，５，５−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノン、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メチル−１，３−ブタンジオール、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテート、３−メトキシブタノール、３−メトキシブチルアセテート、４−ヘプタノン、ｍ−キシレン、ｍ−ジエチルベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−ブチルベンゼン、ｎ−プロピルアセテート、Ｎ−メチルピロリドン、ｏ−キシレン、ｏ−クロロトルエン、ｏ−ジエチルベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｐ−クロロトルエン、ｐ−ジエチルベンゼン、ｓｅｃ−ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、γ―ブチロラクトン、イソブチルアルコール、イソホロン、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノターシャリーブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノール、シクロヘキサノールアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ダイアセトンアルコール、トリアセチン、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ベンジルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノール、酢酸ｎ−���ミル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、酢酸プロピル、二塩基酸エステル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｎ−オクタノール、ｎ−ヘキサノール等が挙げられる。
これらの有機溶剤は、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【０２６４】
これらの有機溶剤のなかでも溶解性、乾燥性の観点からプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含むことで、乾燥後の透明性に優れる塗膜を得ることができる。
【０２６５】
さらに溶剤の乾燥性を考慮し、ダイコートや印刷法などにおいては１６０℃以上の高沸点溶剤を含むことが好ましく、たとえば、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール（ｂｐ１７４℃）、１，３−ブタンジオール（ｂｐ２０３℃）、３−メチル−１，３−ブタンジオール（ｂｐ２０３℃）、２−メチル−１，３−プロパンジオール（ｂｐ２１３℃）、ジイソブチルケトン（ｂｐ１６８．１℃）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ｂｐ１７１．２℃）、エチレングリコールモノヘキシルエーテル（ｂｐ２０８．１℃）、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ｂｐ１９１．５℃）、エチレングリコールジブチルエーテル（ｂｐ２０３．３℃）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（ｂｐ１９４．０℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（ｂｐ２０２．０℃）、ジエチレングリコールジエチルエーテル（ｂｐ１８８．４℃）、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル（ｂｐ２０７．３℃）、プロピレングリコールモノブチルエーテル（ｂｐ１７０．２℃）、プロピレングリコールジアセテート（ｂｐ１９０．０℃）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ｂｐ１８７．２℃）、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル（ｂｐ１９７．８℃）、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル（ｂｐ２１２．０℃）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル（ｂｐ１７５℃）、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル（ｂｐ２０６．３℃）、３−エトキシプロピオン酸エチル（ｂｐ１６９．７℃）、３−メトキシブチルアセテート（ｂｐ１７２．５℃）、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテート（ｂｐ１８８℃）、γ−ブチロラクトン（ｂｐ２０４℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ｂｐ１６６．１℃）、Ｎ−メチルピロリドン（ｂｐ２０２℃）、ｐ−クロロトルエン（ｂｐ１６２．０℃）、ｏ−ジエチルベンゼン（ｂｐ１８３．４℃）、ｍ−ジエチルベンゼン（ｂｐ１８１．１℃）、ｐ−ジエチルベンゼン（ｂｐ１８３．８℃）、ｏ−ジクロロベンゼン（ｂｐ１８０．５℃）、ｍ−ジクロロベンゼン（ｂｐ１７３．０℃）、ｎ−ブチルベンゼン（ｂｐ１８３．３℃）、ｓｅｃ−ブチルベンゼン（ｂｐ１７８．３℃）、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン（ｂｐ１６９．１℃）、シクロヘキサノール（ｂｐ１６１．１℃）、シクロヘキシルアセテート（ｂｐ１７３℃）、メチルシクロヘキサノール（ｂｐ１７４℃）等が挙げられる。１６０℃以上の高沸点溶剤は溶剤の全量を基準として５〜５０重量％が好ましい。
【０２６６】
有機溶剤は、本発明の樹脂組成物の固形分合計１００重量部に対して、１００〜５０００重量部の量で用いることができる。
【０２６７】
＜その他の成分＞
本発明の樹脂組成物には、その他必要に応じて、密着促進添加剤、単官能モノマー、界面活性剤、貯蔵安定剤、レベリング剤、光安定剤などを使用することもできる。
＜密着促進添加剤＞
本発明の光散乱層用樹脂組成物は、さらに密着促進添加剤を含むことでガラス基材、ＩＴＯなどとの密着性が向上するために好ましい。
密着促進添加剤としては、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。
【０２６８】
中でもシラン系の添加剤を含むとガラス基材、ＩＴＯなどとの密着性が向上するため好ましく、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越シリコーン「ＫＢＭ−５０３」）がより好ましく、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越シリコーン「ＫＢＭ−４０３」）、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（信越シリコーン「ＫＢＭ−８０３」）が特に好ましい。
【０２６９】
＜シラン化合物（Ｋ）＞
本発明の樹脂組成物では、密着促進添加剤としてシラン化合物（Ｋ）をさらに含むことが好ましい。シランカップリング剤（Ｋ）としては公知のものが特に制限なく用いられるが、具体的にはビニル基、エポキシ基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、またはイソシアネート基等を有するシランカップリング剤が挙げられる。
これらのなかでも、透光性基板あるいは透光性電極と光散乱層との密着性が向上するために、ウレタン骨格またはアミド骨格を有する下記一般式（２１）で表されるシラン化合物が好ましい。
【０２７０】
例えば３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、および３−イソシアネートプロピルトリプロパキシシラン等のイソシアネート基含有シラン化合物は、光散乱層用樹脂組成物中の溶剤、樹脂、単量体、水分と反応して白濁したり、ゲル化したりする場合がある。また、その硬化塗膜は安定して密着性を発現できない場合がある。
対して、一般式（２１）で表されるシラン化合物（Ｋ）は、イソシアネート基のような高い反応性部位を持たないため、熱的、および化学的に安定であり、光散乱層用樹脂組成物中でも経時安定性に優れており、安定して良好な密着性を示すことができる。
【０２７１】
一般式（２１）：
【化３２】
2015114588.tif 000034
【０２７２】
[一般式（２１）中、Ｒ1は炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜３０のアルアルキル基、または炭素数７〜３０のアルカリール基を表す。Ｘは炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜２０のアリーレン基、または炭素数１〜２０のアルコキシレン基を表す。
Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は互いに独立して、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜３０のアルアルキル基、炭素数７〜３０のアルカリール基、置換基を有するシロキサン基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、または水素原子を表す。]
【０２７３】
本発明で用いられるシラン化合物（Ｋ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００以上５０００未満が好ましい。シラン化合物（Ｋ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が２００未満の場合、充分な密着性が得られない場合があり、５０００以上の場合、エッチャント耐性が悪化するため好ましくない場合がある。
【０２７４】
本発明の光散乱層用樹脂組成物で用いられるシラン化合物（Ｋ）の使用量は、光散乱層用樹脂組成物中、３質量％以上５０質量％未満であるのが好ましく、１０〜４０質量％がより好ましい。３質量％未満では充分な密着性が得られず、５０質量％を超えると透過率が低下する場合がある。
【０２７５】
シラン化合物（Ｋ）は、樹脂組成物の固形分の合計１００重量％中、０．１〜１０重量％の量で用いることが好ましい。密着性の観点から０．１重量％未満では密着促進添加剤量が少ないために密着性改善効果が得られにくく、１０重量％を超える場合は樹脂組成物中の樹脂や多官能単量体、光重合開始剤などが相対的に減少するため、密着性や表面硬度などの特性が悪化する傾向がある。
【０２７６】
一般式（２１）で表わされるシラン化合物としては、例えば（３−カルバメートエチル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートエチル）プロピルトリメトキシシラン、（３−カルバメートエチル）プロピルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートプロピル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートプロピル）プロピルトリメトキシシラン、（３−カルバメートプロピル）プロピルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートブチル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートブチル)プロピルトリメトキシシラン、（３−カルバメートブチル)プロピルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートブチル)ブチルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートブチル）プロピルメチルジエトキシシラン、（３−カルバメートペンチル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、３−カルバメートオクチル）ペンチルトリブトキシシラン、（３−カルバメートエチル）プロピルシリルトリクロライド、（３−カルバメートエチル）プロピルトリメチルシラン、３−カルバメートエチル）プロピルジメチルシラン、３−カルバメートエチル）プロピルトリブチルシラン、３−カルバメートエチル）エチル-ｐ-キシレントリエトキシシラン、および３−カルバメートエチル）-ｐ-フェニレントリエトキシシランなどが挙げられる。
一般式（２１）で表わされるシラン化合物は、光散乱層用樹脂組成物に、加水分解物であるシラノール化合物の形態で、あるいは縮合物であるポリオルガノシロキサン化合物の形態で添加してもよい。
【０２７７】
［貯蔵安定剤］
貯蔵安定剤としては、例えばベンジルトリメチルクロライド、ジエチルヒドロキシアミンなどの４級アンモニウムクロライド、乳酸、シュウ酸などの有機酸およびそのメチルエーテル、ｔ−ブチルピロカテコール、トリエチルホスフィン、トリフェニルフォスフィンなどの有機ホスフィン、亜リン酸塩等が挙げられる。貯蔵安定剤は、樹脂組成物の合計１００重量％中、０．１〜５重量％の量で用いることができる。
【０２７８】
［レベリング剤］
本発明の樹脂組成物には、透明基板上での組成物のレベリング性をよくするため、レベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤としては、主鎖にポリエーテル構造又はポリエステル構造を有するジメチルシロキサンが好ましい。主鎖にポリエーテル構造を有するジメチルシロキサンの具体例としては、東レ・ダウコーニング社製ＦＺ−２１２２、ビックケミー社製ＢＹＫ−３３０などが挙げられる。主鎖にポリエステル構造を有するジメチルシロキサンの具体例としては、ビックケミー社製ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３７０などが挙げられる。主鎖にポリエーテル構造を有するジメチルシロキサンと、主鎖にポリエステル構造を有するジメチルシロキサンとは、併用することもできる。レベリング剤の含有量は通常、樹脂組成物の合計１００重量％中、０．００３〜０．５重量％用いることが好ましい。
【０２７９】
レベリング剤として特に好ましいものとしては、分子内に疎水基と親水基を有するいわゆる界面活性剤の一種で、親水基を有しながらも水に対する溶解性が小さく、着色組成物に添加した場合、その表面張力低下能が低いという特徴を有し、さらに表面張力低下能が低いにも拘らずガラス板への濡れ性が良好なものが有用であり、泡立ちによる塗膜の欠陥が出現しない添加量において十分に帯電性を抑止できるものが好ましく使用できる。このような好ましい特性を有するレベリング剤として、ポリアルキレンオキサイド単位を有するジメチルポリシロキサンが好ましく使用できる。ポリアルキレンオキサイド単位としては、ポリエチレンオキサイド単位、ポリプロピレンオキサイド単位があり、ジメチルポリシロキサンは、ポリエチレンオキサイド単位とポリプロピレンオキサイド単位とを共に有していてもよい。
【０２８０】
また、ポリアルキレンオキサイド単位のジメチルポリシロキサンとの結合形態は、ポリアルキレンオキサイド単位がジメチルポリシロキサンの繰り返し単位中に結合したペンダント型、ジメチルポリシロキサンの末端に結合した末端変性型、ジメチルポリシロキサンと交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマー型のいずれであってもよい。ポリアルキレンオキサイド単位を有するジメチルポリシロキサンは、東レ・ダウコーニング株式会社から市販されており、例えば、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２１３０、ＦＺ−２１６６、ＦＺ−２１９１、ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０７が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０２８１】
レベリング剤には、アニオン性、カチオン性、ノニオン性、または両性の界面活性剤を補助的に加えることも可能である。界面活性剤は、２種以上混合して使用しても構わない。
レベリング剤に補助的に加えるアニオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のアルカリ塩、アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステルなどが挙げられる。
【０２８２】
レベリング剤に補助的に加えるカオチン性界面活性剤としては、アルキル４級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物が挙げられる。レベリング剤に補助的に加えるノニオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレングリコールモノラウレートなどの；アルキルジメチルアミノ酢酸ベタインなどのアルキルベタイン、アルキルイミダゾリンなどの両性界面活性剤、また、フッ素系やシリコーン系の界面活性剤が挙げられる。
【０２８３】
＜光散乱層用樹脂組成物の製造方法＞
本発明の光散乱層用樹脂組成物は、光散乱粒子（Ｅ）、無機酸化物微粒子（Ｆ）、ポリエステル分散剤（Ｄ）に、必要に応じて光重合開始剤（Ｈ）と樹脂（Ｇ）、有機溶剤、添加剤、多官能モノマー（Ｊ）、シラン化合物（Ｋ）、密着促進添加剤、着色剤、連鎖移動剤、可塑剤、表面調整剤、紫外線防止剤、光安定化剤、酸化防止剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、消泡剤、粘度調整剤、ワックス、界面活性剤、レベリング剤等、その他成分を混合攪拌して製造することができる。製造方法は特に限定されるものではなく、粒子と上記材料を均一に混合するのに用いられる方法であれば良く、通常用いられる従来公知の方法で何ら構わない。
【０２８４】
ポリエステル分散剤（Ｄ）は、単体として光散乱層用樹脂組成物に添加されても良い。
また、無機酸化物微粒子（Ｆ）の分散に用いる（無機酸化物微粒子（Ｆ）分散体）、または光散乱粒子（Ｅ）の分散に用いる（光散乱粒子（Ｅ）分散体）ことで、光散乱層用樹脂組成物に添加されるのでも良い。さらには、ポリエステル分散剤（Ｄ）を用いて、無機酸化物微粒子（Ｆ）と光散乱粒子（Ｅ）等を同時に分散しても良い。
【０２８５】
分散安定性と平坦性の点からは、ポリエステル分散剤（Ｄ）を用いて無機酸化物微粒子（Ｆ）を分散し、無機酸化物微粒子（Ｆ）分散体とすることが好ましい。とくに好ましくは、ポリエステル分散剤（Ｄ）を用いて無機酸化物微粒子（Ｆ）および光散乱粒子（Ｅ）のそれぞれを分散し、無機酸化物微粒子（Ｆ）分散体および光散乱粒子（Ｅ）分散体とを得て、それぞれの分散体を混合し、光散乱層用樹脂組成物とする場合である。
【０２８６】
本発明の樹脂組成物は、遠心分離、焼結フィルタ、メンブレンフィルタ等の手段にて、５μｍ以上の粗大粒子、好ましくは１μｍ以上の粗大粒子、さらに好ましくは０．５μｍ以上の粗大粒子および混入した塵、異物の除去を行うことが好ましい。
【０２８７】
「光散乱層」
本発明の光散乱層は、上記の本発明の光散乱層用樹脂組成物を用いて形成されたものである。
本発明の光散乱層は、例えば、ガラスなどの透光性基板上に光散乱層用樹脂組成物を塗布、および乾燥し、得られた塗膜を加熱、あるいは紫外線や電子線等の照射を施し硬化させることによって得られる。塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばロッドまたはワイヤーバーなどを用いた方法；および、マイクログラビアコーティング、グラビアコーティング、ダイコーティング、カーテンコーティング、リップコーティング、スロットコーティングまたはスピンコーティングなどの各種コーティング方法を用いることができる。
光散乱層用樹脂組成物を用いて、光散乱層を透光性基板上にパターニングする場合は、
１）印刷方式により透光性基板上に直接パターニングを行う方法  と、
２）フォトリソグラフィー方式によりパターニングを行う方法を用いることが出来る。
【０２８８】
１）印刷方式では、フレキソ印刷、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷、オフセット印刷、反転オフセット印刷、スクリーン印刷、凸版印刷、インクジェット印刷等の通常の印刷方式で行うことができる。
２）フォトリソグラフィー方式では、感光性樹脂組成物の形態で使用する。その場合、
２−１）本発明の光散乱層用樹脂組成物を透光性基板に直接塗布、乾燥させた後、もしくは
２−２）フィルム基材（以下セパレートフィルムと称す）上に溶剤に溶解させた上記樹脂組成物を塗工後、溶剤を乾燥させることにより得られる感光性ドライフィルムを、透光性基板に張り合わせたのち、ラミネートや真空ラミネートによって、透光性基板への密着および気泡等の除去を行う事により光散乱層を形成した後に、溶液現像またはアルカリ現像工程によってパターン形成を行う。現像に際しては、アルカリ現像液として炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液が使用され、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、ジメチルベンジルアミン、トリエタノールアミン等の有機アルカリを用いることもできる。また、現像液には、消泡剤や界面活性剤を添加することもできる。なお、紫外線露光感度を上げるために、上記感光性樹脂組成物を塗布乾燥後、水溶性あるいはアルカリ水溶性樹脂、例えばポリビニルアルコールや水溶性アクリル樹脂等を塗布乾燥し酸素による重合阻害を防止する膜を形成した後、紫外線露光を行うこともできる。
【０２８９】
光散乱層の厚みは特に限定されないが、通常、０．５〜２０μｍであることが好ましい。また、本発明の樹脂組成物は、光散乱層用途として使用することが出来る。特に有機ＥＬ装置の光散乱層用途として使用されることが好ましいが、とくにこの用途に限定されるものではない。
【０２９０】
また、本発明の光散乱層を、有機ＥＬ装置に適用した場合、光散乱層の屈折率の波長依存性が大きいと、各色画素で輝度が変わりホワイトバランスが崩れるという問題が生じる場合があるため、当該光散乱層は、各波長での屈折率の差が少ないことが好ましい。具体的には、プリズムカプラーにより測定した波長473nm、594nm、633nmでの屈折率をそれぞれｎ(473)、ｎ(594)、ｎ(633)とするとき、ｎ(473)/ｎ(594)、ｎ(633)/ｎ(594)の値が0.2〜2.0であることが好ましく、更に好ましくは0.5〜1.5であることが好ましく、更に好ましくは0.95〜1.05であることが好ましい。
【０２９１】
「有機ＥＬ装置」
本発明の有機ＥＬ装置は、光散乱層用樹脂組成物から形成される光散乱層を具備する有機ＥＬ素子を含むものである。有機ＥＬ素子の構造は特に限定されないが、基本構造の例として、透光性基板上に、透光性電極、発光層を含む少なくとも１つの有機層（有機ＥＬ層）、背面電極、ＴＦＴ基板を順次積層し、陽極側から光を取り出すボトム・エミッションという構造が挙げられる。また、もう一つの例として、ＴＦＴ基板上に、背面電極、発光層を含む少なくとも１つの有機層（有機ＥＬ層）、透光性電極、封止層を順次積層し、陰極側から光を取り出すトップ・エミッションという構造が挙げられる。これらの方法や技術は、城戸淳二著、「有機ＥＬのすべて」、日本実業出版社（２００３年発行）に記載されている。
【０２９２】
有機エレクトロルミネッセンス装置としては、透光性基板上に、請求項１１記載の光散乱層と、透光性を有する第１の電極と、発光層を含む少なくとも１つの有機層と、光反射性を有する第２の電極とが順次積層されたものであることが好ましい。
【０２９３】
図面を参照して、本発明に係る一実施形態の有機ＥＬ装置の構造について説明する。図１は、本実施形態の１つの例であるボトム・エミッション構造の模式断面図である。本実施形態の有機ＥＬ装置１は、透光性基板１１上に、光散乱層１２と、透光性を有する第１の電極（陽極、透光性電極）１３と、発光層を含む少なくとも１つの有機層（有機ＥＬ層）１４と、光反射性を有する第２の電極（陰極、背面電極）１５とが順次積層されたものである。
光散乱層１２が、上記の本発明の光散乱層用樹脂組成物を用いて形成された層である。
【０２９４】
有機ＥＬ装置は、有機ＥＬ照明装置または有機ＥＬ表示装置等に利用できる。
アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置では、異なる複数の色を発光する複数の発光層がマトリクス状にアレイ形成される。また、ドットごとに第２の電極（陰極、背面電極）１５からなる画素電極とそのスイッチング素子であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）が形成されたＴＦＴ基板が備えられる。
【０２９５】
本発明の光散乱層が具備される部位として、例えば以下のような場合が考えられる。
ボトム・エミッション構造の場合、例えば以下のような場合が考えられる。
（１）透光性基板／光散乱層／透光性電極／有機ＥＬ層／背面電極
（２）光散乱層／透光性基板／透光性電極／有機ＥＬ層／背面電極
（３）光散乱層／透光性基板／光散乱層／透光性電極／有機ＥＬ層／背面電極
【０２９６】
トップ・エミッション構造の場合、例えば以下のような場合が考えられる。
（４）基板／背面電極／有機ＥＬ層／透光性または半透光性電極／光散乱層／保護基板
（５）基板／背面電極／有機ＥＬ層／透光性または半透光性電極／封止層／光散乱層／
保護基板
（６）基板／背面電極／有機ＥＬ層／透光性または半透光性電極／封止層／保護基板／
光散乱層
（７）基板／背面電極／有機ＥＬ層／透光性または半透光性電極／光散乱層／保護基板
／光散乱層
このとき透光性基板と透光性電極との間に光散乱層を具備した有機ＥＬ素子を含むものが、光取り出し効率の観点からより好ましい。
【０２９７】
ボトム・エミッション構造の製造方法としては、上記のように透光性基板上に光散乱層を設けた後、光散乱層の上に透光性電極を形成する。透光性電極の材料としては、金属、合金、無機酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材料である。
具体例としては、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、および酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性無機酸化物；
金、銀、クロム、およびニッケル等の金属；
ヨウ化銅および硫化銅などの他の無機導電性物質；
ポリアニリン、ポリチオフェン、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、およびポリピロールなどの有機導電性物質；
およびこれらの混合物または積層物などが挙げられる。
好ましくは導電性無機酸化物であり、特に、生産性、高導電性、および透光性等の点からＩＴＯが好ましい。
【０２９８】
また、透光性を保ちながら有機ＥＬ層への電子あるいは正孔の注入性を制御するために、金属類とＩＴＯを積層して透光性電極とすることも可能である。ここで、極薄の金属の厚さとしては０．１ｎｍ〜２０ｎｍが透光性を保つ観点で好ましい。また、ここで言う金属類としては、アルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、およびＫ等）およびそのフッ化物；
アルカリ土類金属（例えばＭｇ、およびＣａ等）およびそのフッ化物；
金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、およびこれらを含む混合金属；
リチウム−アルミニウム合金およびこれを含む混合金属；
ＬｉＦ／Ａｌ合金およびこれを含む混合金属；
マグネシウム−銀合金およびこれを含む混合金属；
インジウム、およびイッテリビウム等の希土類金属等が挙げられる。
この中で、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金およびそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金およびその混合金属等である。
【０２９９】
透光性電極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常５０ｎｍ 〜３００ｎｍ程度が好ましい。
透光性電極の形成方法としては、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法（ゾル−ゲル法など）、および溶解物や分散物の塗布などの方法が用いられる。形成した透光性電極は、所望に応じて、エッチング処理を行い、パターンを形成する。さらに、洗浄その他の処理により、装置の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めることも可能である。例えばＩＴＯの場合、ＵＶ−オゾン処理などが効果的である。
【０３００】
次に、上記のように光散乱層の表面に透光性電極を設けた後、透光性電極の表面に有機ＥＬ層を形成する。
有機ＥＬ層は発光層を含み、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、または電子輸送層などを含んでいてもよい。これらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。
【０３０１】
正孔注入層、および正孔輸送層の材料は、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれかを有しているものであればよい。その具体例としては、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（ Ｎ−ビニルカルバゾール）誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、およびポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー等が挙げられる。
【０３０２】
発光層の材料は、電界印加時に、陽極、正孔注入層または正孔輸送層から正孔を注入することができると共に、陰極、電子注入層、または電子輸送層から電子を注入することができる機能、注入された電荷を移動させる機能、および、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層を形成することができるものであれば何でもよい。例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、および８ − キノリノール誘導体の金属錯体または希土類錯体に代表される各種金属錯体；
および、ポリチオフェン、ポリフェニレン、およびポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物等が挙げられる。
【０３０３】
発光層となる発光材料の具体例を下記に挙げるが、以下の具体的に例示したものに限定されるものではない。
【０３０４】
青色の発光は、例えば、ペリレン、２，５，８，１１−テトラ−ｔ−ブチルペリレン（略：ＴＢＰ）、および９，１０−ジフェニルアントラセン誘導体などをゲスト材料として用いることによって得られる。また、４，４'−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル（略：ＤＰＶＢｉ）などのスチリルアリーレン誘導体、９，１０−ジ−２−ナフチルアントラセン（略：ＤＮＡ）、および９，１０−ビス（２−ナフチル）−２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラセン（略：ｔ−ＢｕＤＮＡ）などのアントラセン誘導体から得ることもできる。また、ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）等のポリマーを用いてもよい。
【０３０５】
緑色の発光は、クマリン３０、クマリン６などのクマリン系色素、ビス［２−（２，４−ジフルオロフェニル）ピリジナト］ピコリナトイリジウム（略：ＦＩｒｐｉｃ）、およびビス（２−フェニルピリジナト）アセチルアセトナトイリジウム（略：Ｉｒ（ｐｐｙ）（ａｃａｃ））などをゲスト材料として用いることによって得られる。また、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（略：Ａｌｑ3）、ＢＡｌｑ、Ｚｎ（ＢＴＺ）、およびビス（２−メチル−８−キノリノラト）クロロガリウム（略：Ｇａ（ｍｑ）2Ｃｌ）などの金属錯体からも得ることができる。また、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）等のポリマーを用いてもよい。
【０３０６】
橙色から赤色の発光は、ルブレン、４−（ジシアノメチレン）−２−［ｐ−（ジメチルアミノ）スチリル］−６−メチル−４Ｈ−ピラン（略：ＤＣＭ１）、４−（ジシアノメチレン）−２−メチル−６−（９−ジュロリジル）エチニル−４Ｈ−ピラン（略：ＤＣＭ２）、４−（ジシアノメチレン）−２，６−ビス［ｐ−（ジメチルアミノ）スチリル］−４Ｈ−ピラン（略：ＢｉｓＤＣＭ）、ビス［２−（２−チエニル）ピリジナト］アセチルアセトナトイリジウム（略：Ｉｒ（ｔｈｐ）2（ａｃａｃ））、およびビス（２−フェニルキノリナト）アセチルアセトナトイリジウム（略：Ｉｒ（ｐｑ）（ａｃａｃ））などをゲスト材料として用いることによって得られる。ビス（８−キノキリノラト）亜鉛（略：Ｚｎｑ2）、ビス［２−シンナモイル−８−キノリノラト］亜鉛（略：Ｚｎｓｑ2）などの金属錯体からも得ることができる。また、ポリ（２，５−ジアルコキシ−１，４−フェニレンビニレン）等のポリマーを用いてもよい。
【０３０７】
白色の発光は、有機ＥＬ積層構造体の各層のエネルギー準位を規定し、トンネル注入を利用して発光させるもの（欧州特許第０３９０５５１号公報）、同じくトンネル注入を利用する素子で実施例として白色発光素子が記載されているもの（特開平３−２３０５８４号公報）、二層構造の発光層が記載されているもの（特開平２−２２０３９０号公報および特開平２−２１６７９０号公報）、発光層を複数に分割してそれぞれ発光波長の異なる材料で構成されたもの（特開平４−５１４９１号公報）、青色発光体（蛍光ピ−ク３８０〜４８０ｎｍ）と緑色発光体（４８０〜５８０ｎｍ）とを積層させ、さらに赤色蛍光体を含有させた構成のもの（特開平６−２０７１７０号公報）、青色発光層が青色蛍光色素を含有し、緑色発光層が赤色蛍光色素を含有した領域を有し、さらに緑色蛍光体を含有する構成のもの（特開平７−１４２１６９号公報）等が挙げられる。
【０３０８】
電子注入層および電子輸送層の材料は、陰極から電子を注入する機能、電子を輸送する機能、または陽極から注入された正孔を障壁する機能を有しているものであればよい。具体例としては、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、シロール誘導体、フタロシアニン誘導体、および８−キノリノール誘導体の金属錯体；
メタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾール、およびベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等が挙げられる。
【０３０９】
正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層および電子輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１０ｎｍ〜５００ｎｍが好ましい。各層は単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複層構造であってもよい。
これらの層の形成方法は特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、分子積層法、コーティング法（スピンコート法、キャスト法、およびディップコート法など）、およびＬＢ（Langmuir Blodgett）法などの方法が用いられる。好ましくは抵抗加熱蒸着法、およびコーティング法である。
【０３１０】
最後に、有機ＥＬ層の表面に背面電極を形成する。負極である背面電極は、電子注入層、電子輸送層、または発光層などに電子を供給するものであり、隣接する層との密着性、イオン化ポテンシャル、および安定性等を考慮して選
ばれる。背面電極は光反射性を有することが好ましい。背面電極の材料としては、金属、合金、導電性無機酸化物、他の導電性化合物、およびこれらの混合物を用いることができる。具体例としては、アルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、およびＫ等）およびそのフッ化物；
アルカリ土類金属（例えばＭｇ、およびＣａ等）およびそのフッ化物；
金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、およびこれらを含む混合金属；
リチウム−アルミニウム合金およびこれを含む混合金属；
ＬｉＦ／Ａｌ合金およびこれを含む混合金属；
マグネシウム−銀合金およびこれを含む混合金属；
インジウム、およびイッテリビウム等の希土類金属等が挙げられる。好ましくは仕事関数が４ｅＶ以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金およびそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金およびその混合金属等である。また、光反射性を保ちながら有機層への電子あるいは正孔の注入性を制御するために、上記の背面電極の材料とＩＴＯを積層して背面電極とすることも可能である。
【０３１１】
背面電極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１００ｎｍ〜１μｍが好ましい。背面電極の作製には、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、およびコーティング法などの方法が用いられる。金属を単体で蒸着することも、二成分以上を同時に蒸着することもできる。複数の金属を同時に蒸着して合金電極を形成することも可能であり、またあらかじめ調整した合金を蒸着させてもよい。
【０３１２】
トップ・エミッション構造の製造方法としては、ＴＦＴ等の基板上に背面電極、有機ＥＬ層、透光性電極、光散乱層を順次積層する方法が挙げられる。ここで記載する背面電極、有機ＥＬ層、透光性電極、光散乱層の材料、積層法等はボトム・エミッションの製造方法で述べたものと同じものを使用することができる。
【０３１３】
また、上記有機ＥＬ素子の温度、湿度、雰囲気等に対する安定性向上のために、素子の表面や層間に保護層を設けたり、樹脂等により素子全体を被覆や封止を施したりしても良い。特に素子全体を被覆や封止する際には、溶融ガラスや光によって硬化する光硬化性樹脂等が好適に使用される。
【０３１４】
本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子に印加する電流は通常、直流であるが、パルス電流や交流を用いてもよい。電流値、電圧値は、素子破壊しない範囲内であれば特に制限はないが、素子の消費電力や寿命を考慮すると、なるべく小さい電気エネルギーで効率良く発光させることが望ましい。
【０３１５】
本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子の駆動方法は、パッシブマトリクス法のみならず、アクティブマトリックス法での駆動も可能である。これらの方法や技術は、城戸淳二著、「有機ＥＬのすべて」、日本実業出版社（２００３年発行）に記載されている。
【０３１６】
上記のように形成される有機ＥＬ装置の透光性電極と背面電極との間に電圧を印加することによって有機ＥＬ層で発光した光は、透光性電極から、光散乱層を透過し、さらに透光性基板を透過して取り出される。有機ＥＬ層で発光した光が光散乱層を通過する際に、光が散乱されて指向性が変化し、全反射された光が導波することが抑制される。
【０３１７】
本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子は種々の形態においても適用可能である。例えば、本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子は、フルカラー表示素子としても利用可能である。フルカラー化方式の主な方式としては、３色塗り分け方式、色変換方式、カラーフィルター方式が挙げられる。３色塗り分け方式では、シャドウマスクを使った蒸着法や、インクジェット法や印刷法が挙げられる。また、特表２００２−５３４７８２や、Ｓ．Ｔ．Ｌｅｅ，  ｅｔ  ａｌ．，  Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ  ｏｆ  ＳＩＤ'０２，  ｐ．７８４（２００２）に記載されているレーザー熱転写法（Ｌａｓｅｒ  Ｉｎｄｕｃｅｄ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｉｍａｇｉｎｇ、ＬＩＴＩ法ともいわれる）も用いることができる。色変換方式では、色発光の発光層を使って、蛍光色素を分散した色変換（ＣＣＭ）層を通して、色より長波長の緑色と赤色に変換する方法である。カラーフィルター方式では、白色発光の有機ＥＬ発光素子を使って、液晶用カラーフィルターを通して３原色の光を取り出す方法であるが、これら３原色に加えて、一部白色光をそのまま取り出して発光に利用することで、素子全体の発光効率をあげることもできる。
【０３１８】
さらに、本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子は、マイクロキャビティ構造を採用しても構わない。これは、有機ＥＬ素子は、発光層が陽極と陰極との間に挟持された構造であり、発光した光は陽極と陰極との間で多重干渉を生じるが、陽極及び陰極の反射率、透過率などの光学的な特性と、これらに挟持された有機層の膜厚とを適当に選ぶことにより、多重干渉効果を積極的に利用し、素子より取り出される発光波長を制御するという技術である。これにより、発光色度を改善することも可能となる。この多重干渉効果のメカニズムについては、Ｊ．Ｙａｍａｄａ等によるＡＭ−ＬＣＤ  Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｐａｐｅｒｓ，ＯＤ−２，ｐ．７７〜８０（２００２）に記載されている。
【０３１９】
本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子は、マルチフォトンエミッション素子構造を採用しても良い。マルチフォトンエミッションとは、少なくとも一層の発光層を含む複数個の発光ユニットを、電荷発生層を介して直列に接続するように積層させた素子構造である（例えば、特許第３９３３５９１号公報参照）。このような素子構造によれば、１ユニット素子と同じ電流量で、複数の各発光層からの発光が同時に得られるため、発光ユニットの個数倍相当の電流効率および外部量子効率を得ることができる。
【０３２０】
以上述べたように、本発明の光散乱層を具備する有機ＥＬ素子は、壁掛けテレビ等のフラットパネルディスプレイや各種の平面発光体として、さらには、複写機やプリンター等の光源、液晶ディスプレイや計器類等の光源、表示板、標識灯等への応用が考えられる。
【実施例】
【０３２１】
以下に、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、以下の実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するものではない。特に明記しない限り、「部」は「重量部」を表し、「％」は重量％を示す。
【０３２２】
先ず、ポリエステル分散剤・ポリエステル分散剤のビニル重合体部位（Ｃ）・樹脂（Ｇ）の重量平均分子量（Ｍｗ）、樹脂（Ｇ）の二重結合当量、ポリエステル分散剤・樹脂（Ｇ）の酸価、光散乱粒子の平均一次粒子径、無機酸化物微粒子の一次粒子の短軸径、および光散乱粒子分散液・無機酸化物微粒子分散液の分散粒子径の測定方法と、ポリエステル分散剤のビニル重合部位（Ｃ）のガラス転移温度の算出方法とについて説明する。
【０３２３】
（重量平均分子量（Ｍｗ））
重量平均分子量（Ｍｗ）は、昭和電工（株）社製のゲル浸透クロマトグラフィーＧＰＣ−１０１を用いて測定した。溶媒としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用い、ポリスチレン換算分子量を求めた。
【０３２４】
（二重結合当量）
二重結合当量とは、分子中に含まれる二重結合量の尺度となるものであり、同じ分子量の化合物であれば、二重結合当量の数値が小さいほど二重結合の導入量が多くなる。二重結合当量は下記式により算出した。
[二重結合当量]＝[二重結合を持つモノマー成分の分子量]／[二重結合を持つモノマー成分の分子中の全モノマーに対する重量比]
【０３２５】
（酸価）
ポリエステル分散剤溶液または樹脂溶液０．５〜１ｇに、アセトン８０ｍｌおよび水１０ｍｌを加えて攪拌して均一に溶解させ、０．１ｍｏｌ／ＬのＫＯＨ水溶液を滴定液として、自動滴定装置（「ＣＯＭ−５５５」平沼産業製）を用いて滴定し、樹脂溶液の酸価を測定した。そして、樹脂溶液の酸価と樹脂溶液の固形分濃度から、樹脂の固形分あたりの酸価を算出した。
【０３２６】
（光散乱粒子の平均一次粒子径）
光散乱粒子の平均一次粒子径は、透過型（ＴＥＭ）電子顕微鏡を使用して、電子顕微鏡写真から一次粒子の大きさを直接計測し、１００個の光散乱粒子の短軸径と長軸径を計測した、その平均値を一次粒子径とした。
なお、樹脂粒子の場合には合成時に溶剤を含むため、１００℃の真空乾燥機にて１時間乾燥し、溶剤を飛ばしてから粒子径を観測した。乾燥により凝集が起き複数の粒子が塊として付着していることがあるが、この場合は１つ１つの粒子に着目して径を測定する方法を用いた。
【０３２７】
（無機酸化物微粒子の一次粒子の短軸径）
透過型（ＴＥＭ）電子顕微鏡を使用して、電子顕微鏡写真から一次粒子の大きさを直接計測し、１００個の無機酸化物微粒子の短軸径を計測し、その平均値を一次粒子の短軸径とした。
【０３２８】
（光散乱粒子分散液、無機酸化物微粒子分散液の分散粒子径）
日機装（株）社製「ナノトラックＵＰＡ」を用いて測定した。固形分重量％濃度を２０％に調節した光散乱粒子分散液を、分散液と同じ溶媒で満たしたセル内へ数滴たらし、信号レベルが最適値になった濃度で測定を行った。
【０３２９】
（ビニル重合部位（Ｃ）のガラス転移温度の算出法）
ビニル重合部位（Ｃ）のガラス転移温度は、ラジカル重合に使用したエチレン性不飽和単量体（ｃ）それぞれの単独重合体のガラス転移温度（カタログ値）と重量分率から、下記Ｆｏｘの式で算出した。
【０３３０】
Ｆｏｘの式
１／Ｔｇ＝Ｗ１／Ｔｇ１＋Ｗ２／Ｔｇ２＋・・・＋Ｗｎ／Ｔｇｎ
（Ｗ１からＷｎは、使用している単量体の重量分率を示し、Ｔｇ１からＴｇｎは、単量体の単独重合体のガラス転移温度（単位は絶対温度「Ｋ」）を示す。）
【０３３１】
続いて、ポリエステル分散剤（Ｄ）、樹脂（Ｇ）溶液、光散乱粒子分散液、無機酸化物微粒子分散液、およびシラン化合物の製造方法について説明する。
【０３３２】
＜ポリエステル分散剤（Ｄ）の製造方法＞
（ポリエステル分散剤（Ｄ−１））
（第一工程）
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた４口フラスコに、ジメチルテレフタレート５５９部、プロピレングリコール４２０部、グリセリン２１．２部、酢酸亜鉛０．２部、テトラブチルオルソチタネート０．０２５部を仕込み、窒素気流下にて撹拌しながら１６０〜２２０℃でエステル交換反応を行った。理論量のメタノールの９５％（１７５ｇ）以上が留出したらこのフラスコ内を徐々に減圧し、１〜３トール、２４０℃で３時間反応を行い、末端に水酸基を有するポリエステルを得た。
（第二工程）
次にフラスコ内を窒素で減圧解除を行い、２００℃まで徐々に冷却した。２００℃になったら無水コハク酸６５部を加え１時間反応し反応を終了した。
シクロヘキサノンに溶解し、不揮発分を５０重量％に調整し、重量平均分子量１２，０００、酸価４０ｍｇＫＯＨ／ｇのポリエステル分散剤（Ｄ−１）のシクロヘキサン溶液を得た。
【０３３３】
【表１】
2015114588.tif 000035
【０３３４】
（ポリエステル分散剤（Ｄ−２））
（第一工程）
ガス導入管、温度計、コンデンサー、および攪拌機を備えた反応容器に、１−ドデカノール６２．６部、ε−カプロラクトン２８７．４部、および触媒としてモノブチルスズ（ＩＶ）オキシド０．１部を仕込み、窒素ガスで置換した後、１２０℃で４時間加熱、撹拌した。固形分測定により９８％が反応したことを確認し第一の工程を終了した。この反応生成物の重量平均分子量は２０００であった。
（第二工程）
上記反応生成物にピロメリット酸二無水物３６．６部を追加し１００℃で５時間反応させた。酸価の測定で９７％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認し第二の工程を終了した。
シクロヘキサノンで固形分調整することにより不揮発分５０％の溶液を調整し、重量平均分子量４０００、酸価５０ｍｇＫＯＨ／ｇのポリエステル分散剤（Ｄ−２）のシクロヘキサノン溶液を得た。
【０３３５】
【表２】
2015114588.tif 000036
【０３３６】
（ポリエステル分散剤（Ｄ−３））
（第一工程）
ガス導入管、温度計、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、ｎ−ブチルアクリレート（ｎ−ＢＡ）２００部、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）８００部を仕込み、窒素ガスで置換した。反応容器内を８０℃に加熱して、１，３−ジメルカプト−２−プロパノール４４部を添加して、１２時間反応した。固形分測定により９５％が反応したことを確認した。
（第二工程）
次に、第一工程で得られた溶液を５００部、ピロメリット酸無水物（ＰＭＡ）７．４部、触媒として１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）１．４部を仕込み、１２０℃で７間反応させた。酸価の測定で９８％以上の酸無水物がハーフエステル化するまで反応させた。
反応溶液を冷却して、シクロヘキサノンで固形分調整することにより不揮発分５０％の溶液を調整し、重量平均分子量２００００、酸価は１８ｍｇＫＯＨ／ｇ、ビニル重合部位（Ｃ）のガラス転移温度６１℃のポリエステル分散剤（Ｄ−３）のシクロヘキサノン溶液を得た。
【０３３７】
【表３】
2015114588.tif 000037
【０３３８】
（ポリエステル分散剤（Ｄ−４））
（第一工程）
ガス導入管、温度計、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、ｎ-ブチルアクリレート５部、ｔｅｒｔ-ブチルメタクリレート２０部、２‐メトキシエチルアクリレート５０部、メチルメタクリレート１５部、を仕込み、窒素ガスで置換した。反応容器内を８０℃に加熱して、３−メルカプト−１，２−プロパンジオール６部に、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１部をシクロヘキサノン４５．７部に溶解した溶液を添加して、１０時間反応した。固形分測定により９５％が反応したことを確認した。このとき、重量平均分子量が４０００であった。
（第二工程）
次に、第一工程で得られた溶液を１４１．８部、ピロメリット酸二無水物９．７部、シクロヘキサノン７０部、触媒として１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン０．２部を追加し、１２０℃で７時間反応させた。酸価の測定で９８％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認し反応を終了した。
反応終了後、不揮発分を５０重量％に調製し、重量平均分子量８１００、酸価５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、ビニル重合部位（Ｃ）のガラス転移温度２２．５℃のポリエステル分散剤（Ｄ-４）のシクロヘキサノン溶液を得た。
【０３３９】
（ポリエステル分散剤（Ｄ-５）〜（Ｄ-２１））
表４〜５に記載した原料と仕込み量（重量部）を用いた以外はポリエステル分散剤（Ｄ−４）と同様にして合成を行い、ポリエステル分散剤（Ｄ-５）〜（Ｄ-２１）のシクロヘキサノン溶液を得た。
【０３４０】
【表４】
2015114588.tif 000038
【０３４１】
【表５】
2015114588.tif 000039
【０３４２】
表４、表５の各略号は以下のとおりである。
ｎ-ＢＡ：ｎ-ブチルアクリレート
ＥＡ：エチルアクリレート
ＣＨＡ：シクロヘキシルアクリレート
ＢｚＭＡ：ベンジルメタクリレート
ｔ-ＢＭＡ：ｔｅｒｔ-ブチルメタクリレート
２‐ＭＴＡ：２‐メトキシエチルアクリレート
ＭＭＡ：メチルメタクリレート
ＭＡＡ：メタクリル酸
ＡＩＢＮ：２，２‘−アゾビスイソブチロニトリル
ＰＭＡ：ピロメリット酸二無水物（ダイセル化学工業株式会社製）
ＢＰＤＡ：３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学株式会社製）
ＢＰＡＦ：９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物（ＪＦＥケミカル株式会社製）
ＴＭＡ：トリメリット酸無水物（三菱ガス化学株式会社製）
ＤＢＵ：１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン（サンアプロ株式会社製）
【０３４３】
＜樹脂（Ｇ）溶液の製造方法＞
（樹脂溶液（Ｇ−１））
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、ＰＧＭＥＡと略すことがある)１００部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら１２０℃に加熱して、同温度で滴下管よりベンジルメタクリレート５０．０部、メタクリル酸１５．８部、メタクリル酸メチル２０．０部、アゾビスイソブチロニトリル２．５部の混合物を２．５時間かけて滴下し重合反応を行い、重量平均分子量が約１５０００の樹脂溶液を得た。不揮発分が４０重量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加して樹脂溶液（Ｇ−１）を調製した。
【０３４４】
（樹脂溶液（Ｇ−２））
（第一工程）
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら１００℃に加熱して、同温度で滴下管よりベンジルメタクリレート５０．０部、メタクリル酸１８．０部、メタクリル酸メチル２０．０部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０部、およびアゾビスイソブチロニトリル３．５部の混合物を２時間かけて滴下し、さらに１００℃で５時間撹拌して重合反応を行った。
（第二工程）
次にフラスコ内を空気置換し、グリシジルメタクリレート２１．６部にトリスジメチルアミノメチルフェノール１．０部、およびハイドロキノン０．１部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３０部に溶解して投入し、１１０℃で６時間反応を続け固形分酸価＝６０ｍｇＫＯＨ/ｇとなったところで反応を終了し、重量平均分子量が約１００００の樹脂溶液を得た。不揮発分が４０重量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加して樹脂溶液（Ｇ−２）を調製した。
【０３４５】
（樹脂溶液（Ｇ−３））
（工程１）
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら１２０℃に加熱して、同温度で滴下管よりＭ１１０（パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート）１７．２部、メチルメタクリレート２５．０部、ベンジルメタクリレート７．２部、グリシジルメタクリレート１８．２部、およびこの段階における前駆体の化合に要する触媒としてアゾビスイソブチロニトリル１．０部の混合物を２．５時間かけて滴下し重合反応を行った。
（工程２）
次にフラスコ内を空気置換し、メタクリル酸１１．０部およびこの段階における前駆体の化合に要する触媒としてトリスジメチルアミノメチルフェノール０．３部、及びハイドロキノン０．１部を投入し、１２０℃で５時間反応を行い、重量平均分子量が約１９０００の樹脂溶液を得た。投入したメタクリル酸はグリシジルメタクリレート構成単位のエポキシ基末端にエステル結合するので樹脂構造中にカルボキシル基を生じさせない。
（工程３）
さらに無水フタル酸２１．４部およびこの段階における前駆体の化合に要する触媒として、トリエチルアミン０．５部を加え１２０℃で４時間反応させた。加えた無水フタル酸は無水カルボン酸部位が開裂して生じた２個のカルボキシル基の一方が樹脂構造中の水酸基にエステル結合し、他方がカルボキシル基末端を生じさせる。
反応終了後、不揮発分が４０％重量になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加して樹脂溶液（Ｇ−３）を得た。
【０３４６】
（樹脂溶液（Ｇ−４））
樹脂溶液（Ｇ−３）の各原料の配合比を表６の組成、および配合量（重量部）に変えた以外は樹脂溶液（Ｇ−３）と同様の方法にて合成反応を行い、不揮発分が４０重量％の樹脂溶液（Ｇ−４）を調製した。
【０３４７】
【表６】
2015114588.tif 000040
【０３４８】
表６中の各略号は以下のとおりである。
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
Ｍ１１０：パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート
ＢｚＭＡ：ベンジルメタクリレート
ＧＭＡ：グリシジルメタクリレート
ＭＭＡ：メチルメタクリレート
ＭＡＡ：メタクリル酸
ＤＣＰＭＡ：ジシクロペンタニルメタクリレート
Ｓｔ：スチレン
ＡＡ：アクリル酸
ＡＩＢＮ：２，２‘−アゾビスイソブチロニトリル
【０３４９】
＜光散乱粒子分散液の製造方法＞
（光散乱粒子分散液（Ｅ−１））
平均一次粒子径が２５０ｎｍの酸化チタン粒子「石原産業社製タイペークＣＲ−９７」１５部に、分散媒としてメチルイソブチルケトン７７．９部、およびポリエステル分散剤（Ｄ−１）７．１部を加えた。ジルコニアビーズ（１．２５ｍｍ）をメディアとして用い、ダイノミルで１時間分散処理を行い、光散乱粒子分散液（Ｅ−１）（酸化チタン粒子分散液）を作製した。
光散乱粒子分散液（Ｅ−１）の組成と、分散機、粒子の平均一次粒子径、分散液中の分散粒子径を表７に示す。
【０３５０】
（光散乱粒子分散液（Ｅ−２）、（Ｅ−３）、（Ｅ−５）、（Ｅ−６））
表７記載の配合組成（仕込み組成、および配合量（重量部））および分散機にそれぞれ変更した以外は、光散乱粒子分散液（Ｅ−１）の製造と同様の方法で、光散乱粒子分散液（Ｅ−２）、（Ｅ−３）、（Ｅ−５）、（Ｅ−６）を作製した。
【０３５１】
（光散乱粒子分散液（Ｅ−４））
窒素雰囲気下、メタノール５８部および水３２部の混合溶剤中で、メチルメタクリレート（和光純薬社製）４．５部、トリフルオロエチルメタクリレート（和光純薬社製）５部、およびアリルメタクリレート（和光純薬社製）０．５部を、２，２'−アゾビス（２−アミジノプロパン)ジヒドロクロリド（和光純薬社製、Ｖ−５０）０．０２５部を用いて６０℃で８時間重合した。その後、ＰＧＭＥＡ１２３部を加え、ストリッピングによりメタノールおよび水を除去し、光散乱粒子分散液（Ｅ−４）（アクリル樹脂粒子ＰＧＭＥＡ分散液）を作製した。
【０３５２】
【表７】
2015114588.tif 000041
【０３５３】
表７中の各略号は以下の通りである。
酸化チタン１：石原産業社製タイペークＣＲ−９７
シリカ１：日本触媒社製シーホスターＫＥ−Ｅ１５０
シリカ２：日本触媒社製シーホスターＫＥ−Ｓ３０
メラミン：日本触媒社製エポスターＳ６
ＢＹＫ−２１５５：ビックケミー社製「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１５５」；塩基性基を有するブロック共重合体
【０３５４】
＜無機酸化物微粒子分散液の製造方法＞
（無機酸化物微粒子分散液（Ｆ−１））
一次粒子の短軸径が１５ｎｍのアルミナ粒子（日産化学工業（株）製、アルミナゾル−２００）１５部に、分散媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５部、分散剤としてポリエステル分散剤（Ｄ−１）１０部を加えた。得られた液に対して、２段階の分散処理を行った。前分散として、ジルコニアビーズ（平均径：１．２５ｍｍ）をメディアとして用い、ペイントシェイカーで１時間分散した。本分散として、ジルコニアビーズ（平均径：０．１ｍｍ）をメディアとして用い、寿工業（株）社製分散機ＵＡＭ−０１５で７時間分散した。以上のようにして、無機酸化物微粒子分散液（Ｆ−１）（アルミナ粒子分散液）を作製した。
【０３５５】
（無機酸化物微粒子分散液（Ｆ−２）〜（Ｆ−２５））
表８〜１２記載の組成、配合量（重量部）、および分散機にそれぞれ変更した以外は、無機酸化物微粒子分散液（Ｆ−１）と同様の方法で、無機酸化物微粒子分散液（Ｆ−２）〜（Ｆ−２５）を作製した。
【０３５６】
【表８】
2015114588.tif 000042
【０３５７】
【表９】
2015114588.tif 000043
【０３５８】
【表１０】
2015114588.tif 000044
【０３５９】
【表１１】
2015114588.tif 000045
【０３６０】
【表１２】
2015114588.tif 000046
【０３６１】
表８〜１２中の各略号は以下の通りである。
アルミナ：  日産化学工業（株）製、アルミナゾル−２００  粒径１５ｎｍ
ジルコニア：  日産化学工業（株）製ＺＲ−３０ＢＦ  粒径２０ｎｍ
酸化チタン１：  ＭＴＹ−７００ＢＳ（テイカ株式会社製）  シリコーン処理品  粒径８０ｎｍ
酸化チタン２：  ＭＴ−０５（テイカ株式会社製）粒径１０ｎｍ
ＢＹＫ−２１５５：ビックケミー社製「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１５５」；塩基性基を有するブロック共重合体
【０３６２】
＜シラン化合物の製造方法＞
（シラン化合物（Ｋ−１））
反応槽として冷却管を付けたフラスコを準備し、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＥ−９００７」）１００部、およびエタノール（キシダ化学社製）１００部をよく攪拌混合したものを準備し、窒素置換した。その後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を６０℃まで昇温した。反応槽の温度が６０℃に安定してから、さらに６時間攪拌した。ＦＴ−ＩＲスペクトルにより反応が終了したことを確認し、反応槽の温度を常温まで下げ、窒素置換した容器に取り出し、シラン化合物（Ｋ−１）を得た。重量平均分子量（Ｍｗ）は約２８０であった。
【０３６３】
［実施例１］
（光散乱層用樹脂組成物Ｒ１）
下記の材料を加え、均一になるように撹拌および混合し、メッシュ径５μｍのフィルタで濾過し、光散乱層用樹脂組成物Ｒ１を作製した。
・光散乱粒子分散液（Ｅ―１）                              １３．３３部
・無機酸化物微粒子分散液（Ｆ−１）                        ６０．０  部
・レベリング材                                              ０．０２部
ＢＹＫ３３０（固形分１００％）
・ＰＧＭＥＡ                                              ２２．６５部
・シクロヘキサノン                                          ４．０  部
【０３６４】
［実施例２〜４２、比較例１〜６］
（光散乱層用樹脂組成物Ｒ２〜Ｒ４８）
表１３〜１５に示した配合組成とした以外は実施例１の光散乱層用樹脂組成物Ｒ１と同様にして、光散乱層用樹脂組成物Ｒ２〜Ｒ４８を得た。
【０３６５】
【表１３】
2015114588.tif 000047
【０３６６】
【表１４】
2015114588.tif 000048
【０３６７】
【表１５】
2015114588.tif 000049
【０３６８】
表１３〜１５中の各略号は以下の通りである。
Ｍ４０２：東亞合成社製アロニックスＭ４０２
ＤＰＣＡ３０：日本化薬（株）社製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−３０
（カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ−ト）
Ｉｒｇ９０７：ＢＡＳＦ社製イルガキュア９０７
ＯＸＥ-０１：ＢＡＳＦ社製イルガキュアＯＸＥ０1、
ＢＹＫ３３０：ビックケミー社製ＢＹＫ３３０（固形分１００％）
ＫＢＭ-４０３：信越シリコーン社製
（３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）
ＥＨＰＥ−３１５０：ダイセル化学工業（株）社製ＥＨＰＥ−３１５０
ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０：ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０
エポスターＭＸ０５０Ｗ：日本触媒（株）社製エポスターＭＸ０５０Ｗ  ポリメタクリル酸メチル系粒子、粒径７５ｎｍ
【０３６９】
＜光散乱層用樹脂組成物の評価＞
得られた光散乱層用樹脂組成物は下記の装置または方法により評価を行った。
【０３７０】
（光散乱層の可視光透過率）
光散乱層用樹脂組成物を、１００ｍｍ×１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製ガラス「イーグル２０００」）に、スピンコーターを用いて２３０℃２０分加熱後の仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように塗布した。次に、得られた塗布基板を１１０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した後、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、露光量５０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線露光を行った。塗布基板を２３０℃で２０分加熱、放冷後、顕微分光光度計（オリンパス光学社製「ＯＳＰ−ＳＰ１００」）を用い、得られた塗膜の波長４００ｎｍにおける透過率を求めた。下記基準に基づき、評価した。
透過率８５％以上：優良（◎）
透過率８０％以上８５％未満：良（○）、
透過率８０％未満：不可（×）
【０３７１】
（平坦性）
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た光散乱層用樹脂組成物塗布基板について、３次元構造解析顕微鏡（ＺＹＧＯシステムキヤノン・マーケティング・ジャパン(株)製）を用いて、塗膜の表面粗さ（Ｒａ）を測定した。表面粗さ（Ｒａ）とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１・ＪＩＳ Ｂ００３１に定義される算術平均粗さを示す。
下記基準に基づき、評価した。
表面粗さ１００Å未満：優（◎）、
表面粗さ１００Å以上１５０Å未満：良（○）、
表面粗さ１５０Å以上２００Å未満：可（△）、
表面粗さ２００Å以上：不可（×）
【０３７２】
（ボトム・エミッション構造のＥＬ素子の評価（光取り出し効率））
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た光散乱層用樹脂組成物塗布基板上に、ＩＴＯセラミックターゲット（Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０：１０（重量比））を用い、ＤＣスパッタリング法にて厚さ１５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成し、透光性電極（陽極）とした。
フォトレジストを用いて上記ＩＴＯ膜をエッチングして、発光面積が５ｍｍ×５ｍｍとなるようにパターンを形成した。超音波洗浄を行った後、低圧紫外線ランプを用いてオゾン洗浄した。ついで、ＩＴＯ面上に、真空蒸着法により、下記のように有機ＥＬ層を順次形成した。
まず、正孔注入層として、ＣｕＰｃを１５ｎｍの厚さに形成した。次に、正孔輸送層として、α−ＮＰＤを、５０ｎｍの厚さに形成した。次に、表１６に示す赤色の発光層を４０ｎｍの厚さに形成し、表５に示す電子注入層を３０ｎｍの厚さに形成した。
その後、ＭｇとＡｇを共蒸着し、厚さ１００ｎｍのＭｇＡｇを形成後、ＭｇＡｇの酸化防止の観点から、さらに、その上にＡｇを５０ｎｍ形成し、背面電極（陰極）とした。
真空蒸着装置から取り出したのち、陰極電極側に紫外線硬化性エポキシ樹脂を滴下し、その上にスライドガラスを被せ、高圧紫外線ランプを用いてエポキシ樹脂を硬化させ、素子を封止した。
上記と同様にして、表１６に示す発光層と電子注入層を使用し、青色、緑色、および白色の発光素子をそれぞれ作製した。
別途、評価用に、基材として光散乱層を形成していないガラス基板を用いた以外は、上記と同様の方法にてＥＬ素子を得た。
【０３７３】
【表１６】
2015114588.tif 000050
【０３７４】
表１６の発光体を用いて得られたそれぞれの発光素子について、室温において順方向電流を１０ｍＡ／ｃｍ2通電し、発光外観（ダークスポット、ムラ）を観察した。また、コニカミノルタセンシング（株）社製分光放射輝度計「ＣＳ−２０００」により正面輝度を測定し、光散乱層を形成していない基板で作製したＥＬ素子の正面輝度を基準とし、白色発光素子の正面輝度の向上率を算出した。発光スペクトルの測定は、大塚電子（株）社製ＭＣＰＤ−９８００を用いて行なった。下記基準に基づき、評価した。
【０３７５】
（光取り出し効率）
正面輝度向上率  １．５倍以上  ：優（◎）、
正面輝度向上率  １．２倍以上〜１．５倍未満  ：良（○）
正面輝度向上率  １．０５倍以上〜１．２倍未満  ：可（△）、
正面輝度向上率  １．０５倍未満  ：不可（×）
【０３７６】
【表１７】
2015114588.tif 000051
【０３７７】
【表１８】
2015114588.tif 000052
【０３７８】
表１７、１８に示すように、特定の粒径を有する、光散乱粒子（Ｅ）および無機酸化物微粒子（Ｆ）と、ポリエステル分散剤（Ｄ）とを含有する散乱膜用樹脂組成物を用いることにより、光取り出し効率と平坦性が両立できていた。
【０３７９】
とくに、ポリエステル分散剤（Ｄ）として、特定の分子量、および酸価を有し、特定構造を有する分散剤を用いた場合、平坦性の面でさらに良好な結果が得られた。
実施例２５、３１〜４２では、さらに高いレベルで平坦性と光取り出し効率を両立することが出来た。実施例２５では、最も平坦性が良好となった。
【０３８０】
実施例３２〜３８においては、感光性樹脂、感度の高い開始剤やモノマーと併用することで透過率、光取り出し効率、平坦性全てにおいて優れた樹脂組成物を得ることが出来ていた。
【０３８１】
＜トップ・エミッション構造及び塗布型構造の有機ＥＬ素子の評価（光取り出し効率）＞
（トップ・エミッション構造Ａ）
イソプロピルアルコールで超音波洗浄した後乾燥窒素ガスで乾燥したガラス基板の上に、厚さ１００ｎｍとなる条件でアルミニウムを真空蒸着法で成膜し、その後、ＩＴＯセラミックターゲット（Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０重量％：１０重量％）から、ＤＣスパッタリング法にて厚さが２０ｎｍのＩＴＯ膜を形成し、発光面積が５mm×５mmとなるようにパターニングして、アルミニウムとＩＴＯの積層体から成る背面電極（陽極）を形成した。
次いで、真空から取り出すことなく、ＩＴＯ面上に真空蒸着法により、下記のように有機ＥＬ層を順次形成した。まず、正孔注入／正孔輸送層として、α−ＮＰＤを、４０ｎｍの厚さに形成した。次に表１９記載のＨ１とＩｒ−１を蒸着速度が１００：６になるように調節し、３０ｎｍの厚さに形成した。次いで、正孔ブロック層として、ＢＡｌｑを、１０ｎｍの厚さに形成した。更に、電子輸送層として、Ａｌｑ３を、２０ｎｍの厚さに形成した。次に、マグネシウムを真空蒸着法で２ｎｍの厚さに形成し、更に、ＩＴＯセラミックターゲット（Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０重量％：１０重量％）から、ＤＣスパッタリング法にて厚さが１００ｎｍのＩＴＯ膜を形成して、アルミニウムとＩＴＯの積層体による透光性電極（陰極）とした。最後に、ガラス基板及び透過率の測定用に作製した実施例１〜４２、比較例１〜６の光散乱層用樹脂組成物塗布基板を封止用基板として用い、周囲にシール材としてエポキシ系光硬化型接着剤を適用し、これを前記基板の散乱膜側と密着させ、ガラス基板側からＵＶ光を照射して、硬化・封止した。
光取り出し効率を評価したところ、実施例１〜４２、比較例１〜６で得られた結果と同様であった。
【０３８２】
（トップ・エミッション構造Ｂ）
イソプロピルアルコールで超音波洗浄した後乾燥窒素ガスで乾燥したガラス基板の上に、厚さ１００ｎｍとなる条件でアルミニウムを真空蒸着法で成膜し、その後、フッ化リチウムを真空蒸着法で成膜し、厚さが０．５ｎｍのフッ化リチウム膜を形成し、発光面積が５mm×５mmとなるようにパターニングして、アルミニウムとフッ化リチウムの積層体から成る背面電極（陰極）を形成した。次いで、真空から取り出すことなく、フッ化リチウム面上に真空蒸着法により、下記のように有機ＥＬ層を順次形成した。まず、電子輸送層として、Ａｌｑ３を、２０ｎｍの厚さに形成した。次いで、正孔ブロック層として、ＢＡｌｑを、１０ｎｍの厚さに形成した。次に表１９記載のＨ１とＩｒ−１を蒸着速度が１００：６になるように調節し、３０ｎｍの厚さに形成した。次に正孔注入／正孔輸送層として、α−ＮＰＤを、４０ｎｍの厚さに形成した。次いでＩＴＯセラミックターゲット（Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０重量％：１０重量％）から、ＤＣスパッタリング法にて厚さが１５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成して、ＩＴＯの透光性電極（陽極）とした。最後に、ガラス基板及び透過率の測定用に作製した実施例１〜４２、比較例１〜６の光散乱層用樹脂組成物塗布基板を封止用基板として用い、周囲にシール材としてエポキシ系光硬化型接着剤を適用し、これを前記基板の散乱膜側と密着させ、ガラス基板側からＵＶ光を照射して、硬化・封止した。
光取り出し効率を評価したところ、実施例１〜４２、比較例１〜６で得られた結果と同様であった。
【０３８３】
【表１９】
2015114588.tif 000053
【０３８４】
（塗布型構造）
透過率の測定用に作製したものと同じ方法で得た実施例１〜４２、比較例１〜６の光散乱層用樹脂組成物塗布基板上に、ＩＴＯセラミックターゲット（Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０質量％：１０重量％）から、ＤＣスパッタリング法にて厚さが１５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成し、透光性電極（陽極）とした。これとは別に、光散乱層を形成せず、ガラス基板上に、直接、上記と同様にＩＴＯ膜を形成し、透光性電極（陽極）とした。その後、この両透光性電極に対し、フォトレジストを用いてＩＴＯ膜をエッチングして、発光面積が５mm×５mmとなるようにパターンを形成した。超音波洗浄を行ったのち、低圧紫外線ランプを用いてオゾン洗浄した。洗浄したＩＴＯ電極付きガラス板上に、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ポリ(３，４−エチレンジオキシ)−２，５−チオフェン／ポリスチレンスルホン酸、Ｂａｙｅｒ社製ＢＡＹＴＲＯＮ  Ｐ  ＶＰ  ＣＨ８０００）をスピンコート法にて製膜し、膜厚４０ｎｍの正孔注入層を得た。次いで、ＰＶＫ（Ｐｏｌｙ（９−ｖｉｎｙｌｃａｒｂａｚｏｌｅ）、シグマアルドリッチ社製）を６０％および、表２０記載のＩｒ−２を３％およびＥＴＭ−１の３７％の重量比で全体で２．０ｗｔ％の濃度となるようにトルエンに溶解させ、スピンコーティング法により７０ｎｍの膜厚の発光層を得た。さらにその上に、Ｃａを２０ｎｍ蒸着した後、Ａｌを２００ｎｍ蒸着して電極を形成して有機ＥＬ素子を得た。最後に、陰極電極側に紫外線硬化性エポキシ樹脂を滴下し、その上にスライドガラスを被せ、高圧紫外線ランプを用いてエポキシ樹脂を硬化させ、素子を封止した。
光取り出し効率を評価したところ、実施例１〜４２、比較例１〜６で得られた結果と同様であった。
【０３８５】
【表２０】
2015114588.tif 000054
【０３８６】
＜感光性ドライフィルムとしての評価＞
実施例１〜４２、比較例１〜６で用いられた光散乱層用樹脂組成物を１２μＰＥＴフィルム（東レ・デュポン株式会社製Ｓ−１２）上に乾燥膜厚が２μｍとなるように均一塗工して１００℃で５分乾燥させた後、室温まで冷却し、二軸延伸ポリプロピレンフィルム（ＯＰＰフィルム）を光散乱層用樹脂組成物側にラミネートして感光性ドライフィルムを得た。感光性ドライフィルムからＯＰＰフィルムを剥がし、ガラス基板（コーニング社製ガラス  イーグル２０００）に真空ラミネートした。真空ラミネート条件は加熱温度６０℃、真空時間６０秒、真空到達圧２ｈＰａ、圧力０．４ＭＰａ、加圧時間６０秒でおこなった。
次に、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、露光量５０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線露光を行った。更に、得られた基板を２３０℃で２０分加熱、放冷し光散乱層を得た。得られた光散乱層について、前記同様に素子作成及び評価を行い、光散乱層の、ボトム・エミッション型ＥＬ素子の評価（光取り出し効率）、平坦性、現像性、透過率を評価したところ、実施例１〜４２、比較例１〜６で得られた結果と同様であった。
【０３８７】
＜各種印刷プロセスによる光散乱層用樹脂組成物の評価＞
（ａ）反転オフセット印刷
（反転オフセット印刷性）
図２に示す薄膜印刷装置を用いて、ガラス基板上に、実施例１〜４２、比較例１〜６の光散乱層用樹脂組成物を乾燥塗膜厚が２μｍとなるように適宜アニロックスロールを交換しながら線幅１００μｍの直線の連続印刷を行い、直線形状の観察を行った。
どれも連続印刷３０版以上が連続して直線パターンを印刷することが出来た。
【０３８８】
（平坦性、透過率、屈折率）
【０３８９】
図２に示す薄膜印刷装置を用いて、ガラス基板上に、実施例１〜４２、比較例１〜６の光散乱層用樹脂組成物を２３０℃２０分加熱後の仕上がり膜厚が２μｍとなるように適宜アニロックスロールを交換しながら印刷し、ガラス基板上に１００ｍｍ×１００ｍｍのスクエアの光散乱層を形成した。次に、１１０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した。その後、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、露光量５０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線露光を行った。塗布基板を２３０℃で２０分加熱して光散乱層を得た。得られた光散乱層について、前記同様にボトム・エミッション型有機ＥＬ素子の作成及び評価を行った。
【０３９０】
光散乱層の、ボトム・エミッション型ＥＬ素子の評価（光取り出し効率）、平坦性、現像性、透過率を評価したところ、実施例１〜４２、比較例１〜６で得られた結果と同様であった。
【０３９１】
（ｂ）フレキソ印刷
（フレキソ印刷性）
ＣＩ型６色フレキソ印刷機（Ｗｉｎｄｍｏｅｌｌｅｒ＆ＨｏｅｌｓｃｈｅｒＫＧ社製「ＳＯＬＯＦＬＥＸ」（ＣＩ型６色機）の第二ユニットに１００ミクロンのラインアンドスペースパターンを有するフレキソ版（Ｄ ＳＦ版）を装着し、１６５線のアニロックスロール（セル容量２６．５ｃｍ２／ｍ３） を用いてガラス基板上に乾燥塗膜厚が２μｍとなるように実施例１〜４２、比較例１〜６の光散乱層用樹脂組成物を順次印刷し、アニロックスロールから連続して版へ光散乱層用樹脂組成物が転移するか否かを目視判定した。
全て転移性は良好であった。
【０３９２】
（平坦性、透過率、屈折率）
ＣＩ型６色フレキソ印刷機（Ｗｉｎｄｍｏｅｌｌｅｒ＆ＨｏｅｌｓｃｈｅｒＫＧ社製「ＳＯＬＯＦＬＥＸ」（ＣＩ型６色機）の第二ユニットに１００ｍｍ×１００ｍｍのスクエアパターンを有するフレキソ版（Ｄ ＳＦ版）を装着し、１６５線のアニロックスロール（セル容量２６．５ｃｍ2／ｍ3） を用いてガラス基板上に２３０℃２０分加熱後の仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように実施例１〜４２、比較例１〜６の光散乱層用樹脂組成物を順次印刷した。次に、１１０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した。その後、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、露光量５０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線露光を行った。塗布基板を２３０℃で２０分加熱して光散乱層を得た。得られた光散乱層について、前記同様にボトム・エミッション型有機ＥＬ素子の作成及び評価を行った。
光散乱層の、ボトム・エミッション型ＥＬ素子の評価（光取り出し効率）、平坦性、現像性、透過率を評価したところ、実施例１〜４２、比較例１〜６で得られた結果と同様であった
【０３９３】
（ｃ）グラビア印刷
（グラビア印刷性）
実施例１〜４２、比較例１〜６の光散乱層用樹脂組成物をグラビア校正機を利用して版深３０ミクロンの腐蝕版を用い、ガラス基板上に、乾燥塗膜厚が２μｍとなるように線幅１００μｍの直線の連続印刷を行い、直線形状の観察を行った。全て、連続印刷３０版以上が連続して直線パターンを印刷できた。
【０３９４】
（平坦性、透過率、屈折率）
実施例１〜４２、比較例１〜６の光散乱層用樹脂組成物をグラビア校正機を利用して版深３０ミクロンの腐蝕版を用い、ガラス基板上に２３０℃２０分加熱後の仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように順次印刷した。次に、１１０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した。その後、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、露光量５０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線露光を行った。塗布基板を２３０℃で２０分加熱して光散乱層を得た。得られた光散乱層について、前記同様にボトム・エミッション型有機ＥＬ素子の作成及び評価を行った。
光散乱層の、ボトム・エミッション型ＥＬ素子の評価（光取り出し効率）、平坦性、現像性、透過率を評価したところ、実施例１〜４２、比較例１〜６で得られた結果と同様であった
【０３９５】
（ｄ）インクジェット（ＩＪ）印刷
（ＩＪ印刷性）
実施例１〜４２、比較例１〜６で得られたインキを、４〜１０ＫＨｚの周波数変化が可能なピエゾヘッドを有するインクジェットプリンターでＰＥＴ基板に吐出し、印字状態を目視で観察し、下記の基準で吐出安定性を評価した。
全てにおいて、所定位置に正確に連続印字、間欠印字ができた。
【０３９６】
（平坦性、透過率、屈折率）
実施例１〜４２、比較例１〜６で得られた光散乱層用樹脂組成物を、４〜１０ＫＨｚの周波数変化が可能なピエゾヘッドを有するインクジェットプリンターでガラス基板上に１００ｍｍ×１００ｍｍのスクエアパターンを２３０℃２０分加熱後の仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように順次印刷した。次に、１１０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した。その後、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、露光量５０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線露光を行った。塗布基板を２３０℃で２０分加熱して光散乱層を得た。得られた光散乱層について、前記同様にボトム・エミッション型有機ＥＬ素子の作成及び評価を行った。
光散乱層の、ボトム・エミッション型ＥＬ素子の評価（光取り出し効率）、平坦性、現像性、透過率を評価したところ、実施例１〜４２、比較例１〜６で得られた結果と同様であった
【０３９７】
以上の結果から、本発明の光散乱層用樹脂組成物で形成される光散乱層は、反転オフセット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷などの各種印刷法により形成可能であり、スピンコーターで途工、現像した場合と同様の結果が得られた。
【０３９８】
また、透光性基板上に、光散乱層用感光性樹脂組成物を用いて形成された光散乱層と、透光性を有する第１の電極と、発光層を含む少なくとも１つの有機層と、光反射性を有する第２の電極とが順次積層された有機エレクトロルミネッセンス装置は、照明装置または表示装置として優れた性能を有することが確認できた。
【符号の説明】
【０３９９】
１  有機ＥＬ装置
１１  透光性基板
１２  光散乱層
１３  透光性電極
１４  発光層を含む少なくとも１つの有機層（有機ＥＬ層）
１５  背面電極
２１  ディスペンサ
２２  ドクター
２３  アニロックスロール
２４  版胴
２５  凸版
２６  シリコーンゴムブランケット胴
２７  基板
２８  印刷テーブル
２９  光散乱層用樹脂組成物
【図１】
2015114588.tif 000061
【図２】
2015114588.tif 000062