(57)【要約】【課題】基板の表面に積層された機能層に格子状に形成された複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成されたウエーハを、デバイスに悪影響を与えることなく個々のデバイスに分割することができるウエーハの加工方法を提供すること。【解決手段】ウエーハの加工方法は、外周余剰領域基板露出工程とアライメント工程と分割工程を備える。外周余剰領域基板露出工程ではウエーハＷの保護部材Ｇ側をチャックテーブル１１に保持し、基板Ｂの裏面Ｂｂの外周余剰領域ＧＲの樹脂皮膜Ｊを切削ブレード１２で切削して除去し基板Ｂを露出させる。アライメント工程では、露出した基板Ｂ上に赤外線カメラを位置づけて基板Ｂを透過して表面Ｂａ側の分割予定ラインを検出しアライメントを行う。分割工程では、アライメント結果に基づき切削ブレード１２で分割予定ラインに沿って裏面Ｂｂ側から切削を行い複数のデバイスＤに分割する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の分割予定ラインによって区画され複数のデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞して形成された外周余剰領域とから表面が構成され且つ基板の裏面に樹脂薄膜が被覆されたウエーハを、分割予定ラインに沿って分割するウエーハの加工方法であって、
ウエーハの表面に保護部材を貼着する保護部材貼着工程と、
該保護部材貼着工程が実施されたウエーハの該保護部材側をチャックテーブルに保持し、基板の裏面の外周余剰領域の該樹脂皮膜を切削ブレードで切削して除去し基板を露出させる外周余剰領域基板露出工程と、
該外周余剰領域基板露出工程を実施した後に、該露出した基板上に赤外線カメラを位置づけて該基板を透過して該表面側の分割予定ラインを検出しアライメントを行うアライメント工程と、
該アライメント工程を実施した後に、該アライメント結果に基づき切削ブレードで分割予定ラインに沿って該裏面側から切削を行い複数のデバイスに分割する分割工程と、
を備えるウエーハの加工方法。
【請求項２】
前記外周余剰領域基板露出工程においては、該保護部材側を回転するチャックテーブルに保持し、切削ブレードを該外周余剰領域に該当する領域に位置付けて基板に達するまで切り込ませた状態で該チャックテーブルを回転させて該外周余剰領域の該樹脂皮膜を円形に除去して該基板を露出させること、を特徴とする請求項１記載のウエーハの加工方法。
【請求項３】
前記外周余剰領域基板露出工程においては、
該保護部材側をチャックテーブルに保持し、
ウエーハの結晶方位を示す異形状部を基準に該外周余剰領域の対向する２つの外周縁と、該２つの外周縁が対向する方向と直交する方向に対向する他の２つの外周縁との合計４つの外周縁のうちの少なくとも３つの外周縁に、該切削ブレードにより直線状で基板に達する切削溝を形成して、該樹脂皮膜を除去して該基板を露出させること、を特徴とする請求項１記載のウエーハの加工方法。
【請求項４】
基板の表面のデバイス領域は機能層が積層して形成されており、
前記アライメント工程を実施した後に、アライメント結果に基づき基板の裏面側から分割予定ラインに沿って切削ブレードを位置付けて機能層に至らない一部を残して切削溝を形成する切削溝形成工程と、
該切削溝形成工程が実施されたウエーハを構成する基板の裏面にダイシングテープを貼着しダイシングテープの外周部を環状のフレームによって支持するとともに、該保護部材を剥離するウエーハ支持工程と、
該ウエーハ支持工程が実施されたウエーハを構成する機能層に形成された分割予定ラインに沿ってレーザー光線を照射し、機能層をアブレーション加工して切断する機能層切断工程と、を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１つ記載のウエーハの加工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の表面に積層された機能層に格子状に形成された複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成されたウエーハを、分割予定ラインに沿って分割するウエーハの加工方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近時においては、ＩＣ、ＬＳＩ等の半導体チップの処理能力を向上するために、シリコン等の基板の表面にＳｉＯＦ、ＢＳＧ（ＳｉＯＢ）等の無機物系の膜やポリイミド系、パリレン系等のポリマー膜である有機物系の膜からなる低誘電率絶縁体被膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）が積層された機能層によって半導体デバイスを形成せしめた形態の半導体ウエーハが実用化されている。上述したＬｏｗ−ｋ膜は、切削ブレードによって切削することが困難である。即ち、Ｌｏｗ−ｋ膜は雲母のように非常に脆いことから、切削ブレードにより分割予定ラインに沿って切削すると、Ｌｏｗ−ｋ膜が剥離し、この剥離が回路にまで達しデバイスに致命的な損傷を与えるという問題がある。
【０００３】
上記問題を解消するために、半導体ウエーハに形成された分割予定ラインに沿ってレーザー光線を照射し、分割予定ラインに沿ってレーザー加工溝を形成して機能層を分断し、このレーザー加工溝に切削ブレードを位置付けて切削ブレードと半導体ウエーハを相対移動することにより、半導体ウエーハを分割予定ラインに沿って切断するウエーハの分割方法が下記特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−６４２３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
而して、上記特許文献１に記載されたように半導体ウエーハに形成された分割予定ラインに沿ってレーザー光線を照射することにより分割予定ラインに沿ってレーザー加工溝を形成して機能層を分断し、このレーザー加工溝に切削ブレードを位置付けて半導体ウエーハを分割予定ラインに沿って切断するウエーハの分割方法は、次のような問題がある。
【０００６】
（１）レーザー加工溝の幅が十分であってもレーザー加工溝の側面に付着した溶融物に切削ブレードが接触して突発的にデバイスの外周に欠けが生ずる。
（２）レーザー加工溝を形成する際に機能層の除去が不十分であると切削ブレードのズレや倒れが発生してデバイスの機能層に剥離が生じる。
（３）切削ブレードの幅を超える範囲でレーザー加工溝を形成するために、分割予定ラインの幅を広くする必要があり、ウエーハに形成されるデバイスの数が減少する。
（４）機能層の表面にはＳｉＯ２、ＳｉＮ等を含むパシベーション膜が形成されているため、レーザー光線を照射するとパシベーション膜を透過して機能層の内部に達する。この結果、機能層の内部に達したレーザー光線のエネルギーが逃げ場を失い、回路が形成され密度が低いデバイス側に加工が広がる所謂アンダーカット現象が発生する。
【０００７】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術的課題は、基板の表面に積層された機能層に格子状に形成された複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成されたウエーハを、上記問題を解消して個々のデバイスに分割することができるウエーハの加工方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のウエーハの加工方法は、複数の分割予定ラインによって区画され複数のデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞して形成された外周余剰領域とから表面が構成され且つ基板の裏面に樹脂薄膜が被覆されたウエーハを、分割予定ラインに沿って分割するウエーハの加工方法であって、ウエーハの表面に保護部材を貼着する保護部材貼着工程と、該保護部材貼着工程が実施されたウエーハの該保護部材側をチャックテーブルに保持し、基板の裏面の外周余剰領域の該樹脂皮膜を切削ブレードで切削して除去し基板を露出させる外周余剰領域基板露出工程と、該外周余剰領域基板露出工程を実施した後に、該露出した基板上に赤外線カメラを位置づけて該基板を透過して該表面側の分割予定ラインを検出しアライメントを行うアライメント工程と、該アライメント工程を実施した後に、該アライメント結果に基づき切削ブレードで分割予定ラインに沿って該裏面側から切削を行い複数のデバイスに分割する分割工程と、を備えることを特徴とする。
【０００９】
上記ウエーハの加工方法では、前記外周余剰領域基板露出工程においては、該保護部材側を回転するチャックテーブルに保持し、切削ブレードを該外周余剰領域に該当する領域に位置付けて基板に達するまで切り込ませた状態で該チャックテーブルを回転させて該外周余剰領域の該樹脂皮膜を円形に除去して該基板を露出させることとすることができる。
【００１０】
上記ウエーハの加工方法では、前記外周余剰領域基板露出工程においては、該保護部材側をチャックテーブルに保持し、ウエーハの結晶方位を示す異形状部を基準に該外周余剰領域の対向する２つの外周縁と、該２つの外周縁が対向する方向と直交する方向に対向する他の２つの外周縁との合計４つの外周縁のうちの少なくとも３つの外周縁に、該切削ブレードにより直線状で基板に達する切削溝を形成して、該樹脂皮膜を除去して該基板を露出させることとすることができる。
【００１１】
上記ウエーハの加工方法では、基板の表面のデバイス領域は機能層が積層して形成されており、前記アライメント工程を実施した後に、アライメント結果に基づき基板の裏面側から分割予定ラインに沿って切削ブレードを位置付けて機能層に至らない一部を残して切削溝を形成する切削溝形成工程と、該切削溝形成工程が実施されたウエーハを構成する基板の裏面にダイシングテープを貼着しダイシングテープの外周部を環状のフレームによって支持するとともに、該保護部材を剥離するウエーハ支持工程と、該ウエーハ支持工程が実施されたウエーハを構成する機能層に形成された分割予定ラインに沿ってレーザー光線を照射し、機能層をアブレーション加工して切断する機能層切断工程と、を含むものとすることができる。
【発明の効果】
【００１２】
本願発明のウエーハの加工方法においては、ウエーハを構成する機能層の表面に貼着された保護部材側をチャックテーブルに保持し、基板の裏面側から分割予定ラインと対応する領域に切削ブレードを位置付けて機能層に至らない一部を残して切削溝を形成する切削溝形成工程と、該切削溝形成工程が実施されたウエーハを構成する基板の裏面にダイシングテープを貼着しダイシングテープの外周部を環状のフレームによって支持するとともに、該保護部材を剥離するウエーハ支持工程と、該ウエーハ支持工程が実施されたウエーハを構成する機能層に形成された分割予定ラインに沿ってレーザー光線を照射し、機能層をアブレーション加工して切断する機能層切断工程とを含んでいるので、次の作用効果が得られる。
【００１３】
（１）機能層切断工程によるアブレーション加工によって機能層に形成されるレーザー加工溝の側面に溶融物が付着しても、レーザー加工溝を切削ブレードで切削しないので、切削ブレードの接触によって突発的にデバイスの外周に欠けが生じるという問題が解消する。
【００１４】
（２）機能層切断工程によるアブレーション加工における機能層の除去が不十分であっても、基板の裏面側から形成された切削溝にレーザー加工溝が達すればウエーハを個々のデバイスに分割することができ、レーザー加工溝を切削ブレードで切削しないので、機能層に剥離が生じるという問題が解消する。
【００１５】
（３）切削ブレードの幅を超える幅のレーザー加工溝を形成する必要がないので、分割予定ラインの幅を狭くすることができ、ウエーハに形成することができるデバイスの数を増大することができる。
【００１６】
（４）機能層の表面にＳｉＯ２、ＳｉＮ等を含むパシベーション膜が形成されていても、機能層切断工程において機能層に分割予定ラインに沿ってレーザー光線を照射すると、基板の裏面側から形成された切削溝にエネルギーが逃げるので、所謂アンダーカットの問題が解消する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１（ａ）は、実施形態に係るウエーハの加工方法の保護部材貼着工程前のウエーハなどを示す斜視図であり、図１（ｂ）は、実施形態に係るウエーハの加工方法の保護部材貼着工程後のウエーハなどを示す斜視図である。
【図２】図２は、実施形態に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程の概要を示す斜視図である。
【図３】図３は、実施形態に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程の概要を示す断面図である。
【図４】図４は、実施形態に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程後のウエーハを示す平面図である。
【図５】図５は、実施形態に係るウエーハの加工方法のアライメント工程の概要を示す断面図である。
【図６】図６（ａ）は、実施形態に係るウエーハの加工方法の切削溝形成工程の切削ブレードをウエーハに切り込ませた状態を示す他の断面図であり、図６（ｂ）は、実施形態に係るウエーハの加工方法の切削溝形成工程の切削溝を形成した状態を示す他の断面図である。
【図７】図７（ａ）は、実施形態に係るウエーハの加工方法のウエーハ支持工程前の状態を示すウエーハなどの斜視図であり、図７（ｂ）は、実施形態に係るウエーハの加工方法のウエーハ支持工程のウエーハにダイシングテープを貼着した状態を示す断面図であり、図７（ｃ）は、実施形態に係るウエーハの加工方法のウエーハ支持工程のウエーハから保護部材を剥離した状態を示す斜視図である。
【図８】図８は、実施形態に係るウエーハの加工方法の機能層切断工程の概要を示す斜視図である。
【図９】図９は、実施形態に係るウエーハの加工方法が施されたウエーハの要部の断面図である。
【図１０】図１０は、実施形態の変形例１に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程後のウエーハを示す平面図である。
【図１１】図１１は、実施形態の変形例２に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程後のウエーハを示す平面図である。
【図１２】図１２は、実施形態の変形例３に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程後のウエーハを示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明を実施するための形態（実施形態）につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。
【００１９】
〔実施形態〕
実施形態に係るウエーハの加工方法を、図１から図９に基づいて説明する。図１は、実施形態に係るウエーハの加工方法の保護部材貼着工程の概要を示す斜視図、図２は、実施形態に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程の概要を示す斜視図、図３は、実施形態に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程の概要を示す断面図、図４は、実施形態に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程後のウエーハを示す平面図、図５は、実施形態に係るウエーハの加工方法のアライメント工程の概要を示す断面図、図６は、実施形態に係るウエーハの加工方法の切削溝形成工程の概要を示す他の断面図、図７は、実施形態に係るウエーハの加工方法のウエーハ支持工程の概要を示す図、図８は、実施形態に係るウエーハの加工方法の機能層切断工程の概要を示す斜視図、図９は、実施形態に係るウエーハの加工方法が施されたウエーハの要部の断面図である。
【００２０】
実施形態に係るウエーハの加工方法（以下、単に加工方法と呼ぶ）は、図１に示すウエーハＷを加工する加工方法であって、表面Ｂａに機能層ＦＬが積層されたウエーハＷの基板Ｂの裏面Ｂｂ側から切削溝ＣＲ（図６などに示す）を形成した後に、機能層ＦＬにレーザー光線Ｌ（図８に示す）を照射して個々のデバイスＤに分割する方法である。なお、本実施形態に係る加工方法により個々のデバイスＤに分割される加工対象としてのウエーハＷは、図１に示すように、厚さが１４０μｍのシリコン、サファイア、ガリウムなどを母材とする円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハで構成された基板Ｂと、基板Ｂの表面Ｂａに絶縁膜と回路を形成する機能膜が積層された機能層ＦＬとを備えている。ウエーハＷは、複数の分割予定ラインＳによって区画され複数のデバイスＤが形成されたデバイス領域ＤＲと、デバイス領域ＤＲを囲繞して形成された外周余剰領域ＧＲとから表面Ｂａが構成されている。また、基板Ｂの表面Ｂａのデバイス領域ＤＲは、前述した機能層ＦＬが積層して形成されている。また、ウエーハＷの基板Ｂの裏面Ｂｂに樹脂皮膜Ｊが被覆されている。樹脂皮膜Ｊは、ウエーハＷの製品番号などを印字する目的等で裏面Ｂｂに被覆されている。ウエーハＷには、ウエーハＷの結晶方位を示す異形状部としてのノッチＮが形成されている。
【００２１】
本実施形態では、機能層ＦＬを形成する絶縁膜は、ＳｉＯ２膜または、ＳｉＯＦ、ＢＳＧ（ＳｉＯＢ）等の無機物系の膜やポリイミド系、パリレン系等のポリマー膜である有機物系の膜からなる低誘電率絶縁体被膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）からなり、厚みが、１０μｍに設定されている。分割予定ラインＳ上の機能層ＦＬの表面は、図６に示すように、デバイスＤ上の機能層ＦＬの表面よりも若干低く形成されている。
【００２２】
実施形態に係る加工方法は、ウエーハＷを分割予定ラインＳに沿って分割する加工方法であって、保護部材貼着工程と、外周余剰領域基板露出工程と、アライメント工程と、分割工程とを備える。
【００２３】
実施形態に係る加工方法は、まず、保護部材貼着工程では、図１（ａ）に示すように、ウエーハＷの機能層ＦＬに保護部材Ｇを対向させた後、機能層ＦＬの表面即ちウエーハＷの表面に、図１（ｂ）に示すように、デバイスＤを保護するために保護部材Ｇを貼着する。なお、保護部材Ｇは、ポリエチレンフィルム等の樹脂シートやガラス基板等の剛性を有するハードプレートを用いることができる。そして、外周余剰領域基板露出工程に進む。
【００２４】
外周余剰領域基板露出工程では、保護部材貼着工程が実施されたウエーハＷの保護部材Ｇ側を切削装置１０（図２に示す）の軸心回りに回転するチャックテーブル１１の保持面１１ａに載置する。そして、チャックテーブル１１に図示しない真空吸引経路を介して接続された真空吸引源により保持面１１ａを吸引して、保護部材Ｇを介してウエーハＷをチャックテーブル１１の保持面１１ａに吸引保持する。
【００２５】
図２に示すように、基板Ｂの裏面Ｂｂの外周余剰領域ＧＲの外縁部の樹脂皮膜Ｊに切削装置１０の切削ブレード１２とを相対させた後、図３に示すように、切削ブレード１２を回転させながら降下させるとともに、チャックテーブル１１を軸心回りに回転させる。このように、切削ブレード１２を外周余剰領域ＧＲに該当する領域に位置付けて、基板Ｂに達するまで切り込ませた状態で、チャックテーブル１１を回転させて、外周余剰領域ＧＲの外縁部の樹脂皮膜Ｊを切削ブレード１２で全周に亘って切削する。
【００２６】
そして、図４に示すように、外周余剰領域ＧＲの外縁部の樹脂皮膜Ｊを切削ブレード１２で全周に亘って円形に除去し、外周余剰領域ＧＲの外縁部の基板Ｂを露出させる。なお、本発明でいう、「樹脂皮膜Ｊを円形に除去し」とは、樹脂皮膜Ｊを除去して露出する基板Ｂが円弧状をなすことをいい、露出する基板Ｂが円形であることのみならず、例えば、露出する基板Ｂが円の一部の円弧であることも含まれる。そして、アライメント工程に進む。なお、図４、後述する図１０〜図１２では、分割予定ラインＳを実線で示しているが、分割予定ラインＳが基板Ｂの表面Ｂａに形成されているので、外周余剰領域ＧＲの外縁部の露出させた基板Ｂ上には、分割予定ラインＳは、露出していない。
【００２７】
アライメント工程では、外周余剰領域基板露出工程を実施した後に、図５に示すように、外周余剰領域ＧＲの外縁部に露出した基板Ｂ上に切削装置１０の赤外線ＣＣＤなどを有する赤外線カメラ１３を位置づける。そして、赤外線カメラ１３が、基板Ｂを透過して表面Ｂａ側の分割予定ラインＳを検出する。基板Ｂの裏面Ｂｂの分割予定ラインＳと対応する領域と切削ブレード１２との位置合わせを行うためのパターンマッチングなどの画像処理を実行してアライメントを行う。そして、分割工程に進む。
【００２８】
分割工程は、アライメント工程を実施した後に、アライメント結果に基づき切削ブレード１２で分割予定ラインＳに沿って裏面Ｂｂ側から切削を行い、複数のデバイスＤに分割する工程である。分割工程は、切削溝形成工程と、ウエーハ支持工程と、機能層切断工程とを含んでいる。
【００２９】
切削溝形成工程では、アライメント工程を実施した後に、図６（ａ）に示すように、アライメント結果に基づき基板Ｂの裏面Ｂｂ側から分割予定ラインＳに沿って切削ブレード１２を位置付けて、切削ブレード１２が機能層ＦＬに至らない基板Ｂの一部を残して切削溝ＣＲ（図６（ｂ）などに示す）を順に形成する。分割予定ラインＳと対応する領域に切削溝ＣＲを形成する際には、機能層ＦＬの表面Ｂａから例えば厚みが３０μｍ程度の切り残しＵＰ（図６（ａ）及び図６（ｂ）に示す）が生じるように、切削ブレード１２を機能層ＦＬに至らないようにウエーハＷに切り込ませる。
【００３０】
切削溝形成工程においては、ウエーハＷの外周領域に未切削部ＵＣ（図７に示す）を残し、分割予定ラインＳに沿って切削溝ＣＲを形成する。即ち、切削溝形成工程では、ウエーハＷの外周領域に切削ブレード１２による切削加工が施されない未切削部ＵＣをウエーハＷの全周に亘って形成する。すべての分割予定ラインＳと対応する領域に切削溝ＣＲを形成すると、ウエーハ支持工程に進む。
【００３１】
ウエーハ支持工程では、図７（ａ）に示すように、ウエーハＷを収容する大きさの開口部を備えた環状のフレームＦの裏面に開口部を覆うように外周部が装着されたダイシングテープＴの粘着層が設けられた表面を、チャックテーブル１２に保持されたウエーハＷの基板Ｂの裏面Ｂｂに対向させる。そして、ダイシングテープＴとウエーハＷとを相対的に近付けて、図７（ｂ）に示すように、切削溝形成工程が実施されたウエーハＷを構成する基板Ｂの裏面ＢｂにダイシングテープＴを貼着して、ダイシングテープＴの外周部を環状のフレームＦによって支持する。そして、図７（ｃ）に示すように、ウエーハＷを構成する機能層ＦＬの表面に貼着されている保護部材Ｇを剥離する。そして、機能層切断工程に進む。
【００３２】
機能層切断工程では、ウエーハ支持工程が実施されたウエーハＷにレーザー光線Ｌを照射するレーザー加工装置２０のチャックテーブル２１（図８に示す）のポーラス状の保持面２１ａ上に、ダイシングテープＴを介してウエーハＷを載置する。チャックテーブル２１に図示しない真空吸引経路を介して接続された真空吸引源により保持面２１ａを吸引して、図８に示すように、ダイシングテープＴを介してウエーハＷの基板Ｂの裏面Ｂｂ側をチャックテーブル２１の保持面２１ａで吸引保持する。
【００３３】
そして、レーザー加工装置２０の図示しない撮像手段が取得した画像に基いて、アライメントを遂行する。その後、チャックテーブル２１とレーザー加工装置２０のレーザー光線照射手段２２とを相対的に移動手段により移動させながら、図８に示すように、チャックテーブル２１に保持されたウエーハＷを構成する機能層ＦＬに形成された分割予定ラインＳに沿って、ウエーハＷが吸収性を有する波長（例えば、３５５ｎｍ）のレーザー光線Ｌを分割予定ラインＳに順に照射する。そして、図９に示すように、切削溝形成工程において残存されている機能層ＦＬ及び基板Ｂの切り残しＵＰに切削溝ＣＲに達するレーザー加工溝ＬＲが形成される。この結果、切削溝形成工程において残存されている機能層ＦＬ及び基板Ｂの切り残しＵＰをアブレーション加工して切断する。
【００３４】
機能層切断工程において、機能層ＦＬ及び基板Ｂの一部の切り残しＵＰに形成されるレーザー加工溝ＬＲは、図９に示すように、切削溝ＣＲの幅よりも狭いので、分割予定ラインＳの幅を狭くすることができ、ウエーハＷに形成することができるデバイスＤの数を増加させることができる。すべての分割予定ラインＳにレーザー加工溝ＬＲを形成すると、ウエーハＷが貼着されているダイシングテープＴを拡張して、ウエーハＷを分割予定ラインＳに沿って個々のデバイスＤに分割し、分割された個々のデバイスＤをダイシングテープＴから取り外して、図示しないトレーまたは次工程であるダイボンディング工程に搬送する。
【００３５】
実施形態に係る加工方法によれば、切削溝形成工程後に機能層ＦＬをアブレーション加工する機能層切断工程を実施する。このために、機能層切断工程によるアブレーション加工によって機能層ＦＬに形成されるレーザー加工溝ＬＲの側面に溶融物が付着しても、レーザー加工溝ＬＲを切削ブレード１２で切削しないので、切削ブレード１２の接触によって突発的にデバイスＤの外周に欠けが生じるという問題を解消することができる。
【００３６】
また、切削溝形成工程ではウエーハＷの基板Ｂの裏面Ｂｂ側から切削溝ＣＲを形成し、機能層切断工程では基板Ｂの表面Ｂａに積層された機能層ＦＬをアブレーション加工するので、機能層切断工程によるアブレーション加工における機能層ＦＬの切断が不十分であっても、基板Ｂの裏面Ｂｂ側から形成された切削溝ＣＲにレーザー加工溝ＬＲが達すればウエーハＷを個々のデバイスＤに分割することができる。したがって、レーザー加工溝ＬＲを切削ブレード１２で切削しないので、機能層ＦＬに剥離が生じるという問題を解消することができる。
【００３７】
さらに、切削溝形成工程ではウエーハＷの基板Ｂの裏面Ｂｂ側から切削溝ＣＲを形成し、機能層切断工程では基板Ｂの表面に積層された機能層ＦＬをアブレーション加工するので、切削ブレード１２の幅を超える幅のレーザー加工溝ＬＲを形成する必要がない。したがって、分割予定ラインＳの幅を狭くすることができ、ウエーハＷに形成することができるデバイスＤの数を増加することができる。
【００３８】
切削溝形成工程ではウエーハＷの基板Ｂの裏面Ｂｂ側から切削溝ＣＲを形成し、機能層切断工程では基板Ｂの表面に積層された機能層ＦＬをアブレーション加工する。このために、機能層ＦＬの表面にＳｉＯ２、ＳｉＮ等を含むパシベーション膜が形成されていても、機能層切断工程において機能層ＦＬに分割予定ラインＳに沿ってレーザー光線Ｌを照射すると、基板Ｂの裏面Ｂｂ側から形成された切削溝ＣＲにエネルギーが逃げるので、所謂アンダーカットの問題を解消することができる。
【００３９】
さらに、切削溝形成工程では、ウエーハＷの外周領域に未切削部ＵＣを残して切削溝ＣＲを形成するので、ウエーハＷの切削溝ＣＲが形成された領域の剛性を向上することができる。したがって、ウエーハ支持工程において、ウエーハＷの基板Ｂの裏面ＢｂにダイシングテープＴを貼着し、ダイシングテープＴを剥離するハンドリングの最中にウエーハＷの撓みや搬送時の衝撃による予期しない切削溝ＣＲから進行する割れを抑制することができる。
【００４０】
また、外周余剰領域基板露出工程では、基板Ｂの裏面Ｂｂの外周余剰領域ＧＲの外縁部の樹脂皮膜Ｊを除去するので、アライメント工程において、赤外線カメラ１３により分割予定ラインＳを検出することができ、アライメントを確実に遂行することができる。したがって、切削溝形成工程において、基板Ｂの裏面Ｂｂ側から切削溝ＣＲを所望の位置に形成することができ、ウエーハＷを確実に個々のデバイスＤに分割することができる。
【００４１】
〔変形例１〕
実施形態の変形例１に係るウエーハの加工方法を、図１０に基づいて説明する。図１０は、実施形態の変形例１に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程後のウエーハを示す平面図である。なお、図１０において、実施形態と同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
【００４２】
実施形態の変形例１に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程では、保護部材Ｇ側をチャックテーブル１１に保持した後、図１０に示すように、ノッチＮを基準に外周余剰領域ＧＲの対向する２つの外周縁ＧＲ−１と、２つの外周縁ＧＲ−１が対向する方向と直交する方向に対向する他の２つの外周縁ＧＲ−２との合計４つの外周縁ＧＲ−１，ＧＲ−２のうちの少なくとも３つの外周縁ＧＲ−１，ＧＲ−２に、切削ブレード１２により直線状で基板Ｂに達する切削溝ＣＲ−１を形成する。そして、樹脂皮膜Ｊを除去して基板Ｂを露出させる。少なくとも３つの外周縁ＧＲ−１，ＧＲ−２に切削溝ＣＲ−１を形成するのは、３つの外周縁ＧＲ−１，ＧＲ−２のうち対向する２つの切削溝ＣＲ−１に基づいてＺ軸（図２に示す）回りの位置合わせ、２つの切削溝ＣＲ−１から露出する分割予定ラインＳのＹ軸（図２に示す）方向の位置合わせを行うためである。そして、残り１つの切削溝ＣＲ−１に基づいて、当該１つの切削溝ＣＲ−１から露出する分割予定ラインＳのＹ軸方向の位置合わせを行うためである。なお、図１０では、２つの外周縁ＧＲ−１と、２つの外周縁ＧＲ−１が対向する方向と直交する方向に対向する他の２つの外周縁ＧＲ−２との合計４つの外周縁ＧＲ−１，ＧＲ−２それぞれに直線状で基板Ｂに達する切削溝ＣＲ−１を形成している。切削溝ＣＲ−１の長手方向は、ウエーハＷの接線方向と平行である。
【００４３】
〔変形例２〕
実施形態の変形例２に係るウエーハの加工方法を、図１１に基づいて説明する。図１１は、実施形態の変形例２に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程後のウエーハを示す平面図である。なお、図１１において、実施形態と同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
【００４４】
実施形態の変形例２に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程では、保護部材Ｇ側をチャックテーブル１１に保持した後、図１１に示すように、ノッチＮを基準に外周余剰領域ＧＲの対向する２つの外周縁ＧＲ−１と、２つの外周縁ＧＲ−１が対向する方向と直交する方向に対向する他の２つの外周縁ＧＲ−２との合計４つの外周縁ＧＲ−１，ＧＲ−２のうちの少なくとも３つの外周縁ＧＲ−１，ＧＲ−２に、切削ブレード１２により外周余剰領域ＧＲの外縁部の樹脂皮膜Ｊを切削して、周方向に間隔をあけて基板Ｂに達する切削溝ＣＲ−２を形成する。そして、変形例１と同様に、樹脂皮膜Ｊを除去して基板Ｂを露出させる。なお、図１１では、２つの外周縁ＧＲ−１と、２つの外周縁ＧＲ−１が対向する方向と直交する方向に対向する他の２つの外周縁ＧＲ−２との合計４つの外周縁ＧＲ−１，ＧＲ−２それぞれに基板Ｂに達する切削溝ＣＲ−２を形成している。切削溝ＣＲ−２は、円弧状に湾曲しており、ウエーハＷの周方向に等間隔に４つ形成されている。
【００４５】
〔変形例３〕
実施形態の変形例３に係るウエーハの加工方法を、図１２に基づいて説明する。図１２は、実施形態の変形例３に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程後のウエーハを示す平面図である。なお、図１２において、実施形態と同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
【００４６】
実施形態の変形例３に係るウエーハの加工方法の外周余剰領域基板露出工程では、保護部材Ｇ側をチャックテーブル１１に保持した後、図１２に示すように、ノッチＮを基準に外周余剰領域ＧＲの外縁部の樹脂皮膜Ｊを切削ブレード１２で切削して、基板Ｂに達する半円状の切削溝ＣＲ−３を形成する。切削溝ＣＲ−３は、ウエーハＷの外周余剰領域ＧＲの外縁部に一つのみ形成されている。
【００４７】
前述した変形例１〜変形例３に係るウエーハの加工方法によれば、実施形態と同様に、外周余剰領域基板露出工程では、基板Ｂの裏面Ｂｂの外周余剰領域ＧＲの外縁部の樹脂皮膜Ｊを除去するので、アライメントを確実に遂行することができ、ウエーハＷを確実に個々のデバイスＤに分割することができる。
【００４８】
なお、本発明は上記実施形態、変形例に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
【符号の説明】
【００４９】
１１  チャックテーブル
１２  切削ブレード
１３  赤外線カメラ
Ｂ  基板
Ｂａ  表面
Ｂｂ  裏面
ＣＲ  切削溝
ＣＲ−１  切削溝
Ｄ  デバイス
ＤＲ  デバイス領域
Ｇ  保護部材
ＧＲ  外周余剰領域
ＧＲ−１，ＧＲ−２  外周縁
ＦＬ  機能層
Ｆ  環状のフレーム
Ｊ  樹脂皮膜
Ｌ  レーザー光線
Ｎ  ノッチ（異形状部）
Ｓ  分割予定ライン
Ｔ  ダイシングテープ
Ｗ  ウエーハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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