(57)【要約】      （修正有）【課題】ロール・ツー・ロールでの加工によってハードコート層を形成したフィルム基材を巻取る際に生じる中央部でのブロッキングや巻ズレといった巻異常を防止する手段を提供する。【解決手段】フィルム基材の少なくとも片面に、中間層と、ハードコート層４とを順に備えるハードコートフィルムであって、フィルム基材とハードコート層４の間に中間層が形成されており、中間層の端部膜厚が中間層の中央部膜厚の１．１倍以上１．５倍以下であり、端部形状が凸形状になっており、ハードコート層の厚みは、中間層の端部膜厚と中間層の中央部膜厚の差以下であるハードコートフィルム。【選択図】図３
2015069069.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム基材の少なくとも片面に、中間層と、ハードコート層とを順に備えるハードコートフィルムであって、
前記フィルム基材と前記ハードコート層の間に前記中間層が形成されており、前記中間層の端部膜厚が前記中間層の中央部膜厚の１．１倍以上１．５倍以下であり、端部形状が凸形状になっており、
前記ハードコート層の厚みは、前記中間層の端部膜厚と前記中間層の中央部膜厚の差以下であることを特徴とするハードコートフィルム。
【請求項２】
前記中間層が、電離放射線硬化型樹脂、光重合開始剤、および、溶剤からなる組成物により形成されることを特徴とする請求項１に記載のハードコートフィルム。
【請求項３】
前記電離放射線硬化型樹脂の重量平均分子量が２０００以下であることを特徴とする請求項２に記載のハードコートフィルム。
【請求項４】
前記組成物の表面張力が３０ｍＮ／ｍｍ以上であることを特徴とする請求項２または３に記載のハードコートフィルム。
【請求項５】
前記中間層の中央部膜厚が１０μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のハードコートフィルム。
【請求項６】
フィルム基材の少なくとも片面に、中間層と、ハードコート層とを順に形成するハードコートフィルムの製造方法であって、
前記中間層を、前記フィルム基材の上に、電離放射線硬化型樹脂、光重合開始剤、および、溶剤からなる組成物を用いて形成する工程を含み、
前記電離放射線硬化型樹脂の重量平均分子量が２０００以下であり、
前記組成物の表面張力が３０ｍＮ／ｍｍ以上であることを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ロール・ツー・ロールで搬送したフィルム基材にハードコート層を形成したハードコートフィルムおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイなどの普及が急速に進み、薄型フィルムでの高硬度・低反射率・高防汚性といった機能を有する光学フィルムが注目されている。液晶ディスプレイ用の偏光板保護フィルム、有機ＥＬディスプレイ等に用いられる円偏光板の保護フィルムは、様々な機能を持たせるために樹脂層が形成されている。機能層には、例えば帯電防止機能を持たせるための帯電防止層、反射を抑えるための反射防止層、表面硬度を向上させるためのハードコート層といったものがある。特に、ハードコート層については、ディプレイ用途では必須になっており、ハードコート層単層で用いるだけでなく反射防止層の下層の役割も果たしており重要な技術となっている。
【０００３】
そのような中、ディスプレイの大型化にともない、光学フィルムの基材として多く使用されているトリアセチルセルロースやポリエチレンテレフタレートも、広幅化・長尺化が進んでいる。製造面では、上記光学フィルムの殆どがロール・ツー・ロールでの加工が行われ、ハードコート層や低屈折率層を形成した後に巻取る際、ブロッキングや巻ズレといった巻異常が発生することが少なくない。ブロッキングは、ロール内でフィルム基材が接触することで様々な箇所で発生する。そのブロッキング部が剥離する際、フィルム基材が微小な変形を伴うため、ディスプレイ用途としては使用できない。また、巻ズレは、フィルム基材巻取り時に、微小な巻取りテンション変動により発生し、巻替えなどの対応を図らざるを得ない。そこで、ブロッキング対策や巻ズレといった巻異常防止の技術が、現在期待されている。
【０００４】
従来より、長巻のフィルムを取り扱う場合、フィルムの両側部にナールあるいはエンボッシングと呼ばれるフィルム面よりも嵩高くした部分を設けることにより、コアに巻き取られたロールの巻締まりや、フィルムのブロッキング、保存時の折れ込み等が発生しないようにする方法が知られている（例えば、特許文献１、２参照）。また、コーティング材料に耐ブロッキング剤として微粒子を添加する、もしくは微粒子添加層を形成するといった対策が知られている（例えば、特許文献３、４参照）。
【０００５】
しかしながら、ナールが存在しない基材へのコーティングや、耐ブロッキング剤の塗布が不可能な構成も存在するため、簡便にブロッキングもしくは巻きズレを改善できる施策が必要となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−２１１８０３号公報
【特許文献２】特許第３２２６１９０号公報
【特許文献３】特開２００９−２２９５０１号公報
【特許文献４】特開２０１２−２０６５０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ロール・ツー・ロールでの加工によってハードコート層を形成したフィルム基材を巻取る際に生じる中央部でのブロッキングや巻ズレといった巻異常を防止する手段を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の点を鑑み、鋭意研究を重ねた結果、フィルム基材とハードコート層の間に中間層を設け、その中間層に使用する組成物の物性値を限定し、中間層の両端部の膜厚が中央部より厚くなる現象を利用することにより、課題を解決出来ることを発明した。
【０００９】
本発明は、フィルム基材の少なくとも片面に、中間層と、ハードコート層とを順に備えるハードコートフィルムであって、前記フィルム基材と前記ハードコート層の間に前記中間層が形成されており、前記中間層の端部膜厚が前記中間層の中央部膜厚の１．１倍以上１．５倍以下であり、端部形状が凸形状になっており、前記ハードコート層の厚みは、前記中間層の端部膜厚と前記中間層の中央部膜厚の差以下であることを特徴とするハードコートフィルムである。
【００１０】
また、本発明は、前記中間層が、電離放射線硬化型樹脂、光重合開始剤、および、溶剤からなる組成物により形成されることを特徴とするハードコートフィルムである。
【００１１】
また、本発明は、前記電離放射線硬化型樹脂の重量平均分子量が２０００以下であることを特徴とするハードコートフィルムである。
【００１２】
また、本発明は、組成物の表面張力が３０ｍＮ／ｍｍ以上であることを特徴とするハードコートフィルムである。
【００１３】
また、本発明は、前記中間層の中央部膜厚が１０μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とするハードコートフィルムである。
【００１４】
また、本発明は、フィルム基材の少なくとも片面に、中間層と、ハードコート層とを順に形成するハードコートフィルムの製造方法であって、前記中間層を、前記フィルム基材の上に、電離放射線硬化型樹脂、光重合開始剤、および、溶剤からなる組成物を用いて形成する工程を含み、
前記電離放射線硬化型樹脂の重量平均分子量が２０００以下であり、前記組成物の表面張力が３０ｍＮ／ｍｍ以上であることを特徴とするハードコートフィルムの製造方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、ハードコートフィルムをロール・ツー・ロールで作製する際、フィルム基材とハードコート層の間に設けた中間層の端部を中央部より高くすることで、ロール内のフィルムを端部で支え、端部でブロッキングを発生させることで、中央部でのブロッキングを防止することができるとともに、フィルムの滑り性を低下させることで巻ズレ防止を図ることができるため、中央部でのブロッキングや巻ズレといった巻異常の不具合を解消することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の中間層塗布形成直後の一例の断面模式図である。
【図２】本発明の中間層塗布形成後、溶剤乾燥後の一例の断面模式図である。
【図３】本発明のハードコート塗布形成後の一例の断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明の実施の形態は、以下に記載する実施の形態に限定されうるものではなく、当業者の知識に基づいて設計の変更などの変形を加えることも可能であり、そのような変形が加えられた実施の形態も、本発明の実施の形態の範囲に含まれうるものである。
【００１８】
本発明のハードコートフィルムの製造方法について説明する。図１に本発明の塗布直後のコーティングフィルムの断面模式図を示した。ダイコーティング法を用いると、端部の塗料の広がりが中央部より大きく、中央部よりも塗布量が低くなる。その為、図１の１、２を比較すると２の方が膜厚が薄くなる。溶剤を含む塗料の場合、乾燥過程において、端部側が相対的に溶剤濃度が高くなる為、中央部と表面張力に差が出る。表面張力差が減るように、塗料が端部側に移動する為、結果として図２のとおり、端部の膜厚３が中央部より厚くなる。その上にハードコート層４を塗布形成すると図３の断面模式図になる。
【００１９】
フィルム基材は、公知の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらに耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより、機能を付加させたものも使用できる。また、フィルム基材は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでなく、複数の層を積層されたものであってもよい。フィルム基材の厚みは、限定するものではないが、用途に応じて、６μｍ以上２００μｍ以下が使用しやすい。
【００２０】
本発明の中間層に用いられる電離放射線硬化型樹脂としては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等のプレポリマーが挙げられる。これらの電離放射線硬化型樹脂は１種を用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
【００２１】
電離放射線硬化型樹脂として用いられる光重合性モノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。さらに表面硬度の向上を目的として（メタ）アクリルモノマーもしくはその重合体を加えることができる。
【００２２】
（メタ）アクリルモノマーとしては前記のモノマーに加え、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレートや、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等を用いることができる。
【００２３】
また、電離放射線硬化型材料は紫外線により硬化される為、光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いる事が出来る。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００重量部に対して０．１重量部〜１０重量部、好ましくは１重量部〜７重量部、更に好ましくは１重量部〜５重量部である。
重量平均分子量については、２０００以下が端部凸形状形成の点から好ましい。また、５００以上が巾手塗工膜厚均一性の点から好ましい。なお    分子量はゲルパーミエイションクロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定した重量平均分子量法値を示した。
【００２４】
更に、  中間層を形成する途液には、溶媒を加える必要がある。溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンの中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。
【００２５】
また、塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加える事も出来る。
【００２６】
上記の材料を十分に混合することにより、中間層形成用途液が完成する。
表面張力については、２０ｍＮ／ｍｍ以上が巾手塗工膜厚均一性の点から好ましい。また、３０ｍＮ／ｍｍ以上が端部凸形状形成の点から好ましい。なお表面張力は表面張力測定装置（協和界面科学株式会社製、ＣＢＶＰ−Ｚ）を用い、白金プレートを使用して２５℃で測定した。
【００２７】
中間層の形成方法としては、ダイコーティング法をはじめ、ウェットコーティング法とされる、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法等などにより透明基材の少なくとも片面に塗布することにより形成することができる。
【００２８】
中間層の端部膜厚は、中間層の中央部膜厚の１．１倍以上１．５倍以下であることが好ましい。中間層の端部膜厚が、中間層の中央部膜厚の１．１倍以下であると、中央部でのブロッキング防止効果が弱い為である。端部膜厚を均一に形成する為には、中間層の端部膜厚が、中間層の中央部膜厚の１．５倍以下であることが好ましく、中間層の中央部膜厚は１００μｍ以下が好ましい。
なお、中間層の端部膜厚は、端部付近で最も厚い膜厚のこととする。また、中間層の中央部膜厚は、中間層の中央部を中心にした幅１００ｍｍの領域を、１０ｍｍ間隔で計１１点計測した平均値とする。膜厚は、フィルメトリクス社の反射率分光法による測定器で計測した。
【００２９】
続いて、本発明のハードコート層に用いられる電離放射線硬化型樹脂としては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等のプレポリマーが挙げられる。これらの電離放射線硬化型樹脂は１種を用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
【００３０】
電離放射線硬化型樹脂として用いられる光重合性モノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。さらに表面硬度の向上を目的として（メタ）アクリルモノマーもしくはその重合体を加えることができる。
【００３１】
（メタ）アクリルモノマーとしては前記のモノマーに加え、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレートや、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等を用いることができる。
【００３２】
また、電離放射線硬化型材料は紫外線により硬化される為、光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いる事が出来る。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００重量部に対して０．１重量部〜１０重量部、好ましくは１重量部〜７重量部、更に好ましくは１重量部〜５重量部である。
【００３３】
更に、途液には、必要に応じて、溶媒を加える事が出来る。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、及びメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、及びγ−プチロラクトン等のエステル類、更には、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。
【００３４】
また、塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加える事も出来る。
【００３５】
上記の材料を十分に混合することにより、ハードコート層形成用途液が完成する。
【００３６】
ハードコート層の形成方法としては、ウェットコーティング法とされる、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等などにより透明基材の少なくとも片面に塗布することにより形成することができる。
【００３７】
ハードコート層を形成した後の巻取り条件については、巻締りが発生するレベルでの高テンションでは、耐ブロッキングや巻ズレ防止の効果が弱くなるため、用途に応じて１Ｎ／ｃｍ以上５Ｎ／ｃｍ以下を目安とする。
【実施例】
【００３８】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００３９】
［中間層形成用組成物］
電離放射線硬化型樹脂（アクリルモノマー）：ＵＡ１２２Ｐ（新中村化学社）・・・７６重量部
光ラジカル重合開始剤：イルガキュアー１８４（ＢＡＳＦ社）            ・・・・４重量部
溶剤：酢酸メチル                                                    ・・・２０重量部
［ハードコート層形成用組成物］
アクリルモノマー：ＰＥ―３Ａ（共栄社化学社製）                      ・・・４８重量部
光ラジカル重合開始剤：イルガキュアー１８４（ＢＡＳＦ社）            ・・・・２重量部
溶剤：酢酸エチル                                                    ・・・５０重量部
【００４０】
＜実施例１＞
フィルム基材である厚み４０μｍ、幅１３４０ｍｍのトリアセチルセルロースに、ダイコーティング法により、上記中間層形成用組成物を用いて、中央部膜厚５０μｍの中間層を塗布、乾燥し、メタルハライドランプにより２００ｍＪの紫外線を照射し中間層を作製した。その上に、ダイコーティング法により、上記ハードコート層形成用組成物を用いて、膜厚５μｍのハードコート層を塗布、乾燥し、メタルハライドランプにより２００ｍＪの紫外線を照射しハードコート層を作製した。作製したハードコートフィルムは、巻取りテンション２Ｎ／ｃｍで２０００ｍ巻取り、中央部でのブロッキング、巻ズレの評価を行った。
中間層の端部膜厚は６０μｍ、表面張力は３０ｍＮ／ｍｍ、電離放射線硬化型樹脂の重量平均分子量は１１００だった。
【００４１】
＜実施例２＞
中間層の中央部膜厚を２０μｍに変更し、ハードコート層の膜厚を３μｍに変更したほかは、実施例１と同様にハードコートを作製し、中央部でのブロッキング、巻ズレの評価を行った。
中間層の端部膜厚は２４μｍ、表面張力は３０ｍＮ／ｍｍ、電離放射線硬化型樹脂の重量平均分子量は１１００だった。
【００４２】
＜実施例３＞
中間層の中央部膜厚を１０μｍに変更し、中間層の端部膜厚が１４μｍになるように、溶剤量を調整し、ハードコート層の膜厚を３μｍに変更したほかは、実施例１と同様にハードコートを作製し、中央部でのブロッキング、巻ズレの評価を行った。表面張力は１００ｍＮ／ｍｍ、電離放射線硬化型樹脂の重量平均分子量は１１００だった。
【００４３】
＜実施例４＞
中間層の中央部膜厚を１００μｍに変更したほかは、実施例１と同様にハードコートを作製し、中央部でのブロッキング、巻ズレの評価を行った。
中間層の端部膜厚は１２０μｍ、表面張力は３０ｍＮ／ｍｍ、電離放射線硬化型樹脂の重量平均分子量は１１００だった。
【００４４】
＜実施例５＞
中間層の中央部膜厚を７５μｍに変更し、中間層の端部膜厚が８３μｍになるように、溶剤量を調整したほかは、実施例１と同様にハードコートを作製し、中央部でのブロッキング、巻ズレの評価を行った。表面張力は２０ｍＮ／ｍｍ、電離放射線硬化型樹脂の重量平均分子量は１１００だった。
【００４５】
＜実施例６＞
フィルム基材を厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレートに変更したほかは、実施例１と同様にハードコートを作製し、中央部でのブロッキング、巻ズレの評価を行った。
【００４６】
＜比較例１＞
ハードコート層の膜厚を１５μｍに変更したほかは、実施例１と同様にハードコートを作製し、中央部でのブロッキング、巻ズレの評価を行った。
【００４７】
＜比較例２＞
中間層の中央部膜厚を１００μｍに変更し、中間層の端部膜厚が１０５μｍになるように、溶剤量を調整したほかは、実施例１と同様にハードコートを作製し、中央部でのブロッキング、巻ズレの評価を行った。表面張力は２０ｍＮ／ｍｍ、電離放射線硬化型樹脂の重量平均分子量は１１００だった。
【００４８】
実施例、比較例の中央部でのブロッキングおよび巻ズレの評価の結果を表１に示す。
【００４９】
【表１】
2015069069.tif 000003
【００５０】
表１の通り、本発明により作製されたハードコートフィルムは、ロール状に巻取っても中央部でのブロッキングを発生させることはなく、また、巻ズレを発生させることなくロール状に巻取ることができた。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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