(57)【要約】【課題】  ビーム折り返し用ミラーの位置ずれが抑制された半導体レーザ装置を提供すること。【解決手段】  ベース部と、半導体レーザ素子と、半導体レーザ素子から出射されるレーザ光を反射させるビーム折り返し用ミラーを有するミラーマウントとを備え、ミラーマウントは、底面がベース部の表面に熱硬化性接着剤により固定されており、熱硬化性接着剤を介して対向するミラーマウントの底面とベース部の表面とにより、熱硬化性接着剤に気泡が噛み込むことを抑制するための気泡噛み込み抑制形状が形成されている半導体レーザ装置。【選択図】  図３
2015050366.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース部と、
半導体レーザ素子と、
前記半導体レーザ素子から出射されるレーザ光を反射させるビーム折り返し用ミラーを有するミラーマウントとを備え、
前記ミラーマウントは、底面が前記ベース部の表面に熱硬化性接着剤により固定されており、
前記熱硬化性接着剤を介して対向する前記ミラーマウントの底面と前記ベース部の表面とにより、前記熱硬化性接着剤に気泡が噛み込むことを抑制するための気泡噛み込み抑制形状が形成されていることを特徴とする半導体レーザ装置。
【請求項２】
前記ミラーマウントの底面が、前記ベース部の表面に対して非平行となる傾斜部を有していることを特徴とする請求項１に記載の半導体レーザ装置。
【請求項３】
前記ミラーマウントの底面に溝が形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体レーザ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体レーザ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体レーザ素子から出射されるレーザ光の進行方向を変更させるビーム折り返し用ミラーを有する半導体レーザ装置が知られている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【０００３】
このような半導体レーザ装置では、ビーム折り返し用ミラーは、ミラーマウントに接着されており、ミラーマウントがベース部に固定されている。ミラーマウントのベース部への固定は、接着強度の強い熱硬化性接着剤が使用されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−１８２１０４号公報
【特許文献２】特開２００１−２１５４４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
半導体レーザ装置の製造において、ベース部にミラーマウントを固定する際には、半導体レーザ素子より出射されるレーザ光が所望の進行方向に変更されるようにミラーマウントの位置を調整し、その状態でベース部に仮固定する。その後、熱硬化性接着剤を熱硬化させる。
【０００６】
しかしながら、ミラーマウントの位置を調整して仮固定しているにも関わらず、最終的な製品として完成した半導体レーザ装置の中には、ビーム折り返し用ミラーの位置がずれているものがあるといった問題があった。
【０００７】
本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ビーム折り返し用ミラーの位置ずれが抑制された半導体レーザ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
以上のような目的を達成するために、本発明者は、ビーム折り返し用ミラーの位置がずれてしまう原因について鋭意研究を行なった。その結果、ベース部にミラーマウントを仮固定する際に、熱硬化性接着剤に気泡が噛み込まないようにすると、位置ずれが抑制されることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
本発明の半導体レーザ装置は、
ベース部と、
半導体レーザ素子と、
前記半導体レーザ素子から出射されるレーザ光を反射させるビーム折り返し用ミラーを有するミラーマウントとを備え、
前記ミラーマウントは、底面が前記ベース部の表面に熱硬化性接着剤により固定されており、
前記熱硬化性接着剤を介して対向する前記ミラーマウントの前記底面と前記ベース部の前記表面とにより、前記熱硬化性接着剤に気泡が噛み込むことを抑制するための気泡噛み込み抑制形状が形成されていることを特徴とする。
【００１０】
上記構成によれば、熱硬化性接着剤を介して対向するミラーマウントの底面とベース部の表面とにより、熱硬化性接着剤に気泡が噛み込むことを抑制するための気泡噛み込み抑制形状が形成されている。従って、半導体レーザ装置の製造において、ベース部にミラーマウントを仮固定する際、熱硬化性接着剤に気泡が噛み込むことを抑制することができる。その結果、ビーム折り返し用ミラーの位置ずれを抑制することができる。
本発明者は、その理由として、仮固定時に熱硬化性接着剤に気泡が噛み込むと、その後の熱硬化工程において気泡が膨張し、これによりミラーマウントが位置ずれを起こすと推察している。すなわち、本発明では、仮固定時に熱硬化性接着剤に気泡が噛み込むことを抑制することにより、気泡の膨張によるミラーマウントの位置ずれが抑制されたと推察している。
【００１１】
仮固定時に熱硬化性接着剤に気泡が噛み込むと、その後の熱硬化工程において気泡が膨張し、これによりミラーマウントが位置ずれを起こす点について以下に説明する。
【００１２】
図９（ａ）〜図９（ｄ）は、従来の半導体レーザ装置の製造方法を説明するための正面模式図である。
従来、ミラーマウント１００の底面１０１は平面であり、ミラーマウント１００が接着剤１０４を介して固定されるベース部１０２の表面１０３も平面である。ミラーマウント１００の底面１０１とベース部１０２の表面１０３とは、平行となるように接着剤１０４を介して固定される。ここでは、接着剤として紫外線硬化樹脂が含有された熱硬化性接着剤を用いる場合について説明する。
【００１３】
まず、図９（ａ）に示すように、ベース部１０２の表面１０３に接着剤１０４が塗布される。接着剤は液状のものが用いられるため、その表面は波打った形状となっている。
次に、図９（ｂ）に示すように、ミラーマウント１００をベース部１０２方向に降下させる。この際、ミラーマウント１００の底面１０１がベース部１０２の表面１０３に平行な状態を保つように、降下させる。その後、ミラーマウント１００の底面１０１とベース部１０２の表面１０３とが所定の距離となった時点で降下を停止する。ミラーマウント１００の底面１０１とベース部１０２の表面１０３とを平行な状態を保ちながら近づけるため、表面の波打った接着剤１０４の凹部上面に空気が閉じ込められ、気泡１０６となる。
次に、図９（ｃ）に示すように、この状態で紫外線照射装置１０８を用いて紫外線を照射し、接着剤１０４の露出している部分を硬化させる。この紫外線による硬化は、ミラーマウント１００とベース部１０２との間から露出した部分のみを硬化させる工程である。
次に、接着剤１０４を熱硬化させる。このとき、加熱により気泡１０６が膨張し、接着剤１０４が完全に熱硬化していない状態（加熱による昇温により粘度のみ上昇し、熱硬化反応が進行していない状態）でミラーマウント１００が押し動かされ、その後、そのまま熱硬化が完了する。その結果、図９（ｄ）に示すように、ミラーマウント１００が傾く。
本発明者は、このようなメカニズムにより、ミラーマウントの位置ずれが発生するものと推察している。そして、上記本発明の構成により、気泡の膨張によるミラーマウントの位置ずれが抑制されたと推察している。
【００１４】
前記した本発明の構成においては、前記ミラーマウントの底面が、前記ベース部の表面に対して非平行となる傾斜部を有していても構わない。
【００１５】
前記ミラーマウントの底面が、前記ベース部の表面に対して非平行となる傾斜部を有していると、ベース部にミラーマウントを仮固定する際、前記傾斜部に沿って、気泡が外部へと排出される。従って、熱硬化性接着剤への気泡の噛み込みが抑制される。
【００１６】
前記した本発明の構成においては、前記ミラーマウントの底面に溝が形成されていても構わない。
【００１７】
前記ミラーマウントの底面に溝が形成されていると、溝と熱硬化性接着剤との間は、外部と連通しており気泡が閉じ込められることがない。すなわち、溝と熱硬化性接着剤との間においては、気泡の噛み込みがないため、熱硬化性接着剤全体として気泡の噛み込みが抑制される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の半導体レーザ装置によれば、ビーム折り返し用ミラーの位置ずれが抑制された半導体レーザ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】第１実施形態に係る半導体レーザ装置を模式的に示す斜視図である。
【図２】図１に示した半導体レーザ装置を光ファイバーに接続した様子を示す断面平面図である。
【図３】図１に示した半導体レーザ装置の部分拡大正面図である。
【図４】第１実施形態に係る半導体レーザ装置の製造方法を説明するための斜視図である。
【図５】接着剤を塗布した後の様子を示す部分拡大正面図である。
【図６】（ａ）は、第２実施形態に係る半導体レーザ装置の部分拡大正面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示した半導体レーザ装置の製造工程において、接着剤を塗布した後の様子を示す部分拡大正面図である。
【図７】（ａ）は、第３実施形態に係る半導体レーザ装置の部分拡大正面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示した半導体レーザ装置の製造工程において、接着剤を塗布した後の様子を示す部分拡大正面図である。
【図８】（ａ）は、第４実施形態に係る半導体レーザ装置の部分拡大正面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示した半導体レーザ装置の製造工程において、接着剤を塗布した後の様子を示す部分拡大正面図である。
【図９】（ａ）〜（ｄ）は、従来の半導体レーザ装置の製造方法を説明するための正面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の一実施形態に係る半導体レーザ装置につき、図面を参照しつつ説明する。なお、各図において図面の寸法比と実際の寸法比は必ずしも一致しない。
【００２１】
［第１実施形態］
図１は、第１実施形態に係る半導体レーザ装置を模式的に示す斜視図である。図２は、図１に示した半導体レーザ装置を光ファイバーに接続した様子を示す断面平面図である。
【００２２】
半導体レーザ装置１０は、筐体１２と、筐体１２の長辺側側壁１２ｂに設けられた複数の半導体レーザ素子１６と、筐体１２のベース部１２ａに設けられた複数のミラーマウント２０とを有する。
【００２３】
筐体１２は、矩形板状のベース部１２ａと、ベース部１２ａの一方の長辺から立ち上がった長辺側側壁１２ｂと、ベース部１２ａの一方の短辺から立ち上がった短辺側側壁１２ｃとを有する。短辺側側壁１２ｃの中央には、貫通穴１５が形成されており、貫通穴１５には、集光レンズ３０が嵌め込まれている。
【００２４】
長辺側側壁１２ｂには、矩形板状の板状部１４ａと、板状部１４ａの長辺に沿って等間隔に一列に配列された複数の円筒部１４ｂとを有するレーザーマウント１４が設けられている。
【００２５】
レーザーマウント１４の各円筒部１４ｂ内には、それぞれ１つの半導体レーザ素子１６が配置されている。これにより各半導体レーザ素子１６からは、互いにある程度平行なレーザ光が出射されることになる。
【００２６】
ミラーマウント２０は、直方体形状をしており、１つの長辺が角面取り（Ｃ面取り）されている。角面取りされた角面取り部には、ビーム折り返し用ミラー２４（以下、単にミラー２４ともいう）が図示しない接着剤により貼り付けられている。
【００２７】
ミラーマウント２０は、各半導体レーザ素子１６に対応付けて１つずつ設けられており、対応する半導体レーザ素子１６から出射されるレーザ光の進行方向を９０度変更できる位置にミラー２４がくるようにベース部１２ａに固定されている。また、各ミラーマウント２０は、他のミラーマウント２０によって反射されたレーザ光を遮らないように、順番に位置をずらしながら配置されている。図２に示す例では、各ミラーマウント２０は、左側のミラーマウント２０から１つずつ右にずれるに連れて半導体レーザ素子１６から遠ざかる方向（図２では下側）にずらすようにして配置されている。各ミラー２４により反射された各レーザ光は、集光レンズ３０で集光された後、短辺側側壁１２ｃのミラーマウント２０が配置されている側とは反対側に設けられた光ファイバー６０に入射されることとなる。
【００２８】
図３は、図１に示した半導体レーザ装置の部分拡大正面図である。
図３に示すように、ミラーマウント２０の底面２３は、中央部２３ｂが突出するように２つの平面２３ａが交差した山型の形状を有している。本実施形態では、ミラーマウント２０の底面２３の形状が、中央部２３ｂが突出するように２つの平面２３ａが交差した形状（以下、「凸状Ｖ字型」ともいう）となっており、平面２３ａがベース部１２ａの表面１３に対して非平行となる傾斜部を形成している。平面２３ａがベース部１２ａの表面１３に対して非平行となる傾斜部を形成しているため、半導体レーザ装置１０の製造において、ベース部１２ａにミラーマウント２０を仮固定する際、前記傾斜部に沿って、熱硬化性接着剤２６上の気泡が外部へと排出され、熱硬化性接着剤２６に気泡が噛み込むことが抑制されている。その結果、本実施形態に係る半導体レーザ装置１０は、ミラー２４の位置ずれが抑制されている。
【００２９】
熱硬化性接着剤２６としては、熱硬化性を有するものであれば特に限定されない。このような熱硬化性接着剤としては、従来公知の熱可塑性樹脂を含有するもの等が挙げられる。前記熱硬化性接着剤としては、熱硬化前にミラーマウントをベース部に仮固定可能なものであることが好ましい。仮固定とは、熱硬化性接着剤を熱硬化させるまでの間、熱硬化させる前の熱硬化性接着剤によりミラーマウントが動かないようにベース部に固定することをいう。仮固定を好適に行なうことを可能とする熱硬化性接着剤としては、紫外線硬化性樹脂が添加されたものを挙げることができる。紫外線硬化性樹脂が添加された熱硬化性接着剤を用いれば、紫外線硬化によりミラーマウントをベース部に仮固定することができる。また、熱硬化前にミラーマウントをベース部に仮固定可能な熱硬化性接着剤の構成として、熱硬化前に粘着性を有するものが挙げられる。このような熱硬化性接着剤としては、エラストマーが添加されたものを挙げることができる。これらの熱硬化性接着剤は、従来公知のものを採用することができる。本実施形態では、熱硬化性接着剤２６として紫外線硬化性樹脂が添加されたものを用いた場合について説明する。
【００３０】
ミラーマウント２０の底面２３とベース部１２ａの表面１３とは、所定の離間距離ｄ（図３参照）となるように硬化性接着剤２６を介して固定されている。前記離間距離ｄとしては、特に、制限されないが、適量の熱硬化性接着剤２６でミラーマウント２０をベース部１２ａに固定できる観点から、５０〜２０００μｍが好ましく、１００〜５００μｍがより好ましい。前記離間距離ｄとは、ベース部表面とミラーマウントの底面との距離のうち、最も遠い部分の距離をいう。
【００３１】
以上、本実施形態に係る半導体レーザ装置１０の構成について説明した。
【００３２】
次に、本実施形態に係る半導体レーザ装置１０の製造方法の一例について説明する。図４は、本実施形態に係る半導体レーザ装置の製造方法を説明するための斜視図である。図５は、接着剤を塗布した後の様子を示す部分拡大正面図である。
【００３３】
本実施形態に係る半導体レーザ装置１０の製造方法では、まず、筐体１２を準備する。また、各円筒部１４ｂ内にそれぞれ１つの半導体レーザ素子１６が配置されたレーザーマウント１４を準備する。また、ミラー２４が角面取り部に貼り付けられたミラーマウント２０を準備する。
【００３４】
次に、レーザーマウント１４を筐体１２の長辺側側壁１２ｂに設置する。設置方法は、レーザーマウント１４を長辺側側壁１２ｂに固定されれば特に限定されず、ネジ止めにより行なってもよく、接着剤により行なってもよい。
【００３５】
次に、筐体１２のベース部１２ａにミラーマウント２０を固定する。具体的には、以下のようにして行なう。
【００３６】
まず、筐体１２を図示しない保持台上に固定する。この際、ミラー２４に反射されたレーザ光１６ａが出射されるべき位置に、ターゲット５０を予め配置しておく。
【００３７】
次に、クランパ４０と記憶装置と外部より操作入力を行なうための入力部とを有する従来公知のクランプ装置を用い、クランパ４０によりミラーマウント２０を保持し、半導体レーザ素子１６の前まで移動させる。
【００３８】
次に、ミラーマウント２０の位置、及び、角度の微調整を行なう。具体的には、半導体レーザ素子１６からレーザ光を出射し、ミラー２４により反射されたレーザ光１６ａがターゲット５０の線５２に一致するようにクランパ４０の位置を微調整する。位置の微調整は、入力部から操作を入力すること等により行なうことができる。なお、ベース部１２ａの長辺方向をｘ軸、短辺方向をｙ軸、長辺側側壁１２ｂの高さ方向をｚ軸としたとき、クランプ装置としては、ｘ軸、ｙ軸、ｚ軸、ｙ軸回転方向、ｚ軸回転方向の５軸に微調整することができるものを用いることができ、前記記憶装置は、微調整後の位置を記憶することができる。
【００３９】
次に、ミラーマウント２０を上側（ｚ軸方向）に持ち上げる。なお、クランプ装置によるミラーマウント２０の持ち上げは、ベース部１２ａに対して真上に持ち上げることが通常であり、斜め方向に持ち上げることはない。
【００４０】
その後、図５に示すように、ベース部１２ａのミラーマウント２０を固定する箇所付近に熱硬化性接着剤２６を塗布する。熱硬化性接着剤２６の塗布方法は、特に限定されないが、ディスペンサーを用い、予め定められた量が吐出されるようにすることが好ましい。
【００４１】
次に、上側に持ち上げたミラーマウント２０を下側に移動させ、微調整した後の位置に戻す。ここで、ミラーマウント２０の底面２３の形状は、正面視で、中央部２３ｂが突出するように２つの平面２３ａが交差した形状となっており、平面２３ａがベース部１２ａの表面１３に対して非平行となる傾斜部を形成している。そのため、仮に熱硬化性接着剤２６の表面が波打った状態で塗布されていたとしても、傾斜部に沿って、空気が外部へと排出される。その結果、熱硬化性接着剤２６に気泡が噛み込むことを抑制することができる。
【００４２】
次に、クランパ４０でミラーマウント２０を保持した状態のままの状態で、紫外線を照射し、熱硬化性接着剤２６の露出している部分を硬化させ、ミラーマウント２０をベース部１２ａに仮固定する。この紫外線による硬化は、ミラーマウント２０とベース部１２ａとの間から露出した部分のみを硬化させる工程である。
【００４３】
同様にして、すべてのミラーマウント２０をベース部１２ａに仮固定した後、筐体１２を搭載物ごと加熱用オーブンに投入し、熱硬化性接着剤２６を熱硬化させる。
【００４４】
なお、本実施形態では、ベース部１２ａの表面１３に熱硬化性接着剤２６を塗布する場合について説明したが、熱硬化性接着剤の塗布方法はこの例に限定されず、ミラーマウントの底面に熱硬化性接着剤を塗布してもよい。また、ベース部の表面とミラーマウントの底面との両方に塗布してもよい。
【００４５】
以上より、半導体レーザ装置１０を製造することができる。
【００４６】
すなわち、本実施形態に係る半導体レーザ装置の製造方法は、
ミラーマウントの位置を微調整する工程と、
微調整後にミラーマウントとベース部との位置関係を相対的に遠ざけるように移動した後、熱硬化性接着剤を塗布する工程と、
熱硬化性接着剤の塗布後に、ミラーマウントとベース部の位置関係を微調整後の位置関係に戻し、ミラーマウントをベース部に仮固定する工程とを含む。
【００４７】
本実施形態に係る半導体レーザ装置１０の製造方法では、熱硬化性接着剤２６に気泡が噛み込むことが抑制されているため、気泡の膨張に基づくミラーマウント２０の位置ずれが抑制され、ミラー２４の位置ずれが抑制されている。
【００４８】
次に、ミラーマウントの底面の形状と、熱硬化前後でのミラーマウントの変化量との関係について評価した。
【００４９】
＜サンプルの準備＞
（サンプルＡ）
ミラーマウントの底面の形状が凸状Ｖ字型のものとして、横幅１０ｍｍ、縦幅５ｍｍ、高さの最も長い部分ｈ１（図５参照）１５ｍｍ、高さの最も短い部分ｈ２（図５参照）１４．５ｍｍのものを準備した。これをサンプルＡとした。
（サンプルＢ）
ミラーマウントの底面の形状が平面のものとして、横幅１０ｍｍ、縦幅５ｍｍ、高さ１５ｍｍのものを準備した。これをサンプルＢとした。
なお、横幅は、図４に示したｘ軸方向の長さ、縦幅はｙ軸方向の長さ、高さはｚ軸方向の長さをいう。
【００５０】
＜評価＞
上記にて説明したクランプ装置、及び、方法にてミラーマウントを筐体に仮固定した後、熱硬化性接着剤を熱硬化させた。なお、筐体には、ベース部の表面が平面であるものを用いた。
実施例１では、サンプルＡを用い、仮固定時のミラーマウントの底面とベース部表面との間の離間距離を０．５ｍｍとした。
比較例１では、サンプルＢを用い、仮固定時のミラーマウントの底面とベース部表面との間の離間距離を０．５ｍｍとした。
比較例２では、サンプルＢを用い、仮固定時のミラーマウントの底面とベース部表面との間の離間距離を０．２ｍｍとした。
比較例３では、サンプルＢを用い、仮固定時のミラーマウントの底面とベース部表面との間の離間距離を２ｍｍとした。
なお、ミラーマウントの底面の形状が凸状Ｖ字型である場合、ミラーマウントの底面とベース部表面との間の離間距離ｄ（図３参照）は、ベース部表面からミラーマウントの底面の最も遠い箇所までの距離とした。
本評価では、熱硬化性接着剤としてＥＭＬ社製の製品名：ＯＰＴＯＣＡＳＴ３４１１を用い、紫外線照射量は、１８０Ｊ／ｃｍ２、熱硬化時の加熱温度及び時間は、１１０℃にて３０分間とした。
熱硬化前後でのミラーマウントの角度変化量を表１に示す。なお、表１中、角度変化量とは、ｚ軸に回転方向の変化量を示している。
【００５１】
【表１】
2015050366.tif 000003
【００５２】
仮固定時のミラーマウントの底面とベース部表面との間の距離が同一である実施例１と比較例１とを比較すると、ミラーマウントの底面が凸状Ｖ字型の実施例１は、平面の比較例１に比して、熱硬化前後での変化量が少ないことがわかる。
また、比較例１に対してミラーマウントの底面とベース部表面との間の距離を短くした比較例２においても、長くした比較例３においても角度変化量の大きな改善はみられないことがわかる。このことより、ミラーマウントの底面とベース部表面とがいずれも平面であり平行である場合には、その離間距離を変更しても角度変化量が改善されないことがわかる。
以上より、上記角度変化量は、ミラーマウントの底面とベース部表面との離間距離ではなく、ミラーマウントの底面を凸状Ｖ字型とすることにより改善されたことがわかる。
【００５３】
上述した実施形態では、ミラーマウント２０の底面２３が凸状Ｖ字型形状である場合について説明した。しかしながら、本発明におけるミラーマウントの底面形状は、この例に限定されない。以下、他の実施形態について説明する。
【００５４】
図６（ａ）は、第２実施形態に係る半導体レーザ装置の部分拡大正面図である。図７（ａ）は、第３実施形態に係る半導体レーザ装置の部分拡大正面図である。図８（ａ）は、第４実施形態に係る半導体レーザ装置の部分拡大正面図である。図６（ａ）、図７（ａ）、及び、図８に示す半導体レーザ装置は、ミラーマウントの底面形状が、第１実施形態に係る半導体レーザ装置１０と異なり、他の点で共通する。従って、異なる点以外は、半導体レーザ装置１０の説明で用いたものと同一の符号を付し、共通する部分の説明は省略することとする。
【００５５】
［第２実施形態］
第２実施形態に係る半導体レーザ装置において、ミラーマウント７０の底面７３は、図６（ａ）に示すように、一端から他端に向けて傾斜した平面７３ａからなる。ミラーマウント７０の底面７３の形状が、一端から他端に向けて傾斜した平面７３ａからなり、平面７３ａがベース部１２ａの表面１３に対して非平行となる傾斜部を形成している。平面７３ａがベース部１２ａの表面１３に対して非平行となる傾斜部を形成しているため、当該半導体レーザ装置の製造において、ベース部１２ａにミラーマウント７０を仮固定する際、熱硬化性接着剤２６に気泡が噛み込むことが抑制されている。その結果、当該半導体レーザ装置は、ミラーの位置ずれが抑制されている。
【００５６】
図６（ｂ）は、図６（ａ）に示した半導体レーザ装置の製造工程において、接着剤を塗布した後の様子を示す部分拡大正面図である。図６（ａ）に示した半導体レーザ装置の製造工程においては、半導体レーザ装置１０の製造方法と同様に、ミラーマウントの位置、及び、角度の微調整を行なった後、ミラーマウントを上側（ｚ軸方向）に持ち上げ、ベース部１２ａのミラーマウントを固定する箇所付近に熱硬化性接着剤２６を塗布する（図６（ｂ）参照）。
【００５７】
次に、上側に持ち上げたミラーマウントを下側に移動させ、微調整した後の位置に戻す。ここで、ミラーマウント７０の底面７３の形状が、一端から他端に向けて傾斜した平面７３ａからなり、平面７３ａがベース部１２ａの表面１３に対して非平行となる傾斜部を形成している。そのため、仮に熱硬化性接着剤２６の表面が波打った状態で塗布されていたとしても、傾斜部に沿って、空気が外部へと排出される。その結果、熱硬化性接着剤２６に気泡が噛み込むことを抑制することができる。
【００５８】
［第３実施形態］
第３実施形態に係る半導体レーザ装置において、ミラーマウント８０の底面８３は、図７（ａ）に示すように、中央部８３ｂが突出するＵ字形状を有している。ミラーマウント８０の底面８３の形状が、中央部８３ｂが突出するＵ字形状を有しており、前記Ｕ字形状は、ベース部１２ａの表面１３に対して非平行となる傾斜部を形成している。前記Ｕ字形状がベース部１２ａの表面１３に対して非平行となる傾斜部を形成しているため、当該半導体レーザ装置の製造において、ベース部１２ａにミラーマウント８０を仮固定する際、熱硬化性接着剤２６に気泡が噛み込むことが抑制されている。その結果、当該半導体レーザ装置は、ミラーの位置ずれが抑制されている。
【００５９】
図７（ｂ）は、図７（ａ）に示した半導体レーザ装置の製造工程において、接着剤を塗布した後の様子を示す部分拡大正面図である。図７（ａ）に示した半導体レーザ装置の製造工程においては、半導体レーザ装置１０の製造方法と同様に、ミラーマウントの位置、及び、角度の微調整を行なった後、ミラーマウントを上側（ｚ軸方向）に持ち上げ、ベース部１２ａのミラーマウントを固定する箇所付近に熱硬化性接着剤２６を塗布する（図７（ｂ）参照）。
【００６０】
次に、上側に持ち上げたミラーマウントを下側に移動させ、微調整した後の位置に戻す。ここで、ミラーマウント８０の底面８３の形状が、中央部８３ｂが突出するＵ字形状を有しており、前記Ｕ字形状は、ベース部１２ａの表面１３に対して非平行となる傾斜部を形成している。そのため、仮に熱硬化性接着剤２６の表面が波打った状態で塗布されていたとしても、傾斜部に沿って、空気が外部へと排出される。その結果、熱硬化性接着剤２６に気泡が噛み込むことを抑制することができる。
【００６１】
［第４実施形態］
第４実施形態に係る半導体レーザ装置において、ミラーマウント９０の底面９３には、図８（ａ）に示すように、中央に凹溝９３ａが形成されている。ミラーマウント９０の底面９３に凹溝９３ａが形成されているため、凹溝９３ａの下側と熱硬化性接着剤２６との間は、外部と連通しており気泡が閉じ込められることがない。すなわち、凹溝９３ａの下側と熱硬化性接着剤２６との間においては、気泡の噛み込みがないため、熱硬化性接着剤全体として気泡の噛み込みが抑制される。
【００６２】
図８（ｂ）は、図８（ａ）に示した半導体レーザ装置の製造工程において、接着剤を塗布した後の様子を示す部分拡大正面図である。図８（ａ）に示した半導体レーザ装置の製造工程においては、半導体レーザ装置１０の製造方法と同様に、ミラーマウントの位置、及び、角度の微調整を行なった後、ミラーマウントを上側（ｚ軸方向）に持ち上げ、ベース部１２ａのミラーマウントを固定する箇所付近に熱硬化性接着剤２６を塗布する（図８（ｂ）参照）。
【００６３】
次に、上側に持ち上げたミラーマウントを下側に移動させ、微調整した後の位置に戻す。ここで、ミラーマウント９０の底面９３に凹溝９３ａが形成されているため、仮に熱硬化性接着剤２６の表面が波打った状態で塗布されていたとしても、凹溝９３ａの下側と熱硬化性接着剤２６との間は、外部と連通しており気泡が閉じ込められることがない。すなわち、凹溝９３ａの下側と熱硬化性接着剤２６との間においては、気泡の噛み込みがないため、熱硬化性接着剤全体として気泡の噛み込みが抑制される。なお、図８（ａ）、図８（ｂ）では、底面９３に凹溝９３ａが形成されている場合について説明したが、本発明においてミラーマウントの底面に形成する溝の形状は、溝と熱硬化性接着剤との間が外部と連通できる形状であれば、この例に限定されず、例えば、Ｖ溝であってもよい。
【００６４】
上述した第１実施形態〜第３実施形態では、ミラーマウントの底面が、ベース部の表面に対して非平行となる傾斜部を有している場合、すなわち、本発明の気泡噛み込み抑制形状が、平面からなるベース部の表面と、ベース部の表面に対して非平行となる傾斜部を有するミラーマウントの底面とから形成されている場合について説明した。また、上述した第４実施形態では、ミラーマウントの底面に溝が形成されている場合、すなわち、本発明の気泡噛み込み抑制形状が、平面からなるベース部の表面と、ミラーマウントの溝が形成された底面とから形成されている場合について説明した。しかしながら、本発明においては、ミラーマウントの底面が、ベース部の表面に対して非平行となる傾斜部を有し且つ溝が形成されていてもよい。このような例としては、例えば、図８（ａ）に示したミラーマウント９０の底面９３のうち、溝９３ａ以外の部分がベース部の表面に対して非平行となる傾斜部を有している構成が挙げられる。
【００６５】
また、上述した実施形態では、ミラーマウントの底面が、傾斜部を有する場合や、ミラーマウントの底面に溝が形成されている場合について説明したが、本発明においては、ベース部の表面が、ミラーマウントの底面に対して非平行となる傾斜部を有していてもよく、ベース部の表面に溝が形成されていてもよい。この場合、ミラーマウントの底面は平面であってもよく、ミラーマウント底面にも、傾斜部が形成されていたり、溝が形成されていてもよい。すなわち、本願発明における気泡噛み込み抑制形状は、ミラーマウントの底面とベース部の表面のいずれか一方、又は、両方に傾斜部や溝が形成されることにより、熱硬化性接着剤に気泡が噛み込むことを抑制するための形状が形成されていればよい。
【００６６】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は、上述した例に限定されるものではなく、本発明の構成を充足する範囲内で、適宜設計変更を行うことが可能である。
【符号の説明】
【００６７】
１０  半導体レーザ装置
１２  筐体
１２ａ  ベース部
１２ｂ  長辺側側壁
１２ｃ  短辺側側壁
１３  （ベース部の）表面
１４  レーザーマウント
１５  （短辺側側壁に形成された）貫通穴
１６  半導体レーザ素子
１６ａ  レーザ光
２０、７０、８０、９０  ミラーマウント
２３、７３、８３、９３  （ミラーマウントの）底面
２４  ミラー（ビーム折り返し用ミラー）
２６  熱硬化性接着剤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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