(57)【要約】【課題】適度な表面摩擦抵抗を有し、且つ、機械的強度に優れた強化ガラスを提供することを目的とする。【解決手段】第１表面１０ａに凹凸が形成された表面部１０Ｓを有する板ガラス１０からなる強化ガラス１であって、表面部１０Ｓには、板ガラス１０を構成する原子のイオン交換によって当該板ガラス１０が化学的に強化された層である化学強化層１３ａが第１表面１０ａから所定の深さの厚みで形成されており、化学強化層１３ａの厚みは、第１表面１０ａの凹凸における凸部１１の高さ以上である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に凹凸が形成された表面部を有する板ガラスからなる強化ガラスであって、
前記表面部には、前記板ガラスを構成する原子のイオン交換によって当該板ガラスが化学的に強化された層である化学強化層が前記表面から所定の深さの厚みで形成されており、
前記化学強化層の厚みは、前記凹凸における凸部の高さ以上である
強化ガラス。
【請求項２】
前記化学強化層の厚みは、１００μｍ以上である
請求項１に記載の強化ガラス。
【請求項３】
前記凹凸における凸部の高さは、１０μｍ以上１００μｍ以下である
請求項２に記載の強化ガラス。
【請求項４】
前記化学強化層が形成された部分の前記板ガラスの屈折率は、前記化学強化層が形成されていない部分の前記板ガラスの屈折率より小さい
請求項１〜３のいずれか１項に記載の強化ガラス。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の強化ガラスを備えるタッチパネルであって、
前記強化ガラスの前記表面とは反対側の面にタッチセンサが形成されており、
前記強化ガラスの前記表面は、タッチ面である
タッチパネル。
【請求項６】
請求項５に記載のタッチパネルと、
有機ＥＬパネルとを備え、
前記タッチパネルは、前記強化ガラスの前記反対側の面と前記有機ＥＬパネルの光出射側の面とが対向するように配置されている
電子表示装置。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の強化ガラスを備えるトップエミッション型の有機ＥＬパネルであって、
前記強化ガラスは、前記有機ＥＬパネルの封止ガラスとして用いられている
有機ＥＬパネル。
【請求項８】
前記有機ＥＬパネルは、薄膜トランジスタが形成された基板を備え、
前記強化ガラスの厚みは、前記基板の厚みの３倍以上である
請求項７に記載の有機ＥＬパネル。
【請求項９】
前記強化ガラスの前記表面とは反対側の面にタッチセンサが形成されている
請求項７又は８に記載の有機ＥＬパネル。
【請求項１０】
板ガラスの表面に凹凸を形成する第１工程と、
前記板ガラスの表面部における当該板ガラスを構成する原子をイオン交換することにより、前記表面から所定の深さにおける当該板ガラスを化学的に強化して化学強化層を形成する第２工程とを含み、
前記第１工程は、第２工程の前に行われる
強化ガラスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、強化ガラス、強化ガラスを備えるタッチパネル、タッチパネルを備える電子表示装置、強化ガラスを備える有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）パネル、及び、強化ガラスの製造方法に関する。特に、携帯電話、スマートフォン、タブレット又はノートＰＣ等の電子表示装置に用いられるタッチパネルにおけるカバーガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、薄型や軽量、低消費電力等の特徴を有する携帯タイプの電子表示装置の需要が急速に伸びている。電子表示装置の入力装置としてはタッチパネルが主流となっている。そのため、カバーガラスと呼ばれるディスプレイ最表面のガラス基板は、薄くて高強度の強化ガラスが主に使用されている。
【０００３】
さらに、この強化ガラスとタッチセンサとを一体化するＯＧＳ（Ｏｎｅ  Ｇｌａｓｓ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）技術、又は、ディスプレイの内部にタッチセンサを組み込んだオンセルパネルやインセルパネル技術が既に実用化され始めている。
【０００４】
最近では、指等によるタッチ入力（指入力）だけではなく、スタイラスと呼ばれるペンによるタッチ入力（ペン入力）も可能な電子表示装置も発売されている。指やペンによるタッチ入力が可能な電子表示装置に使用されるカバーガラスには高い機械的強度が求められる。
【０００５】
強化ガラスは、板ガラスの機械的強度を大きくすることによって作製することができる。このような強化ガラスの製造方法としては、風冷強化法、結晶化強化法又は化学強化法等が知られている。
【０００６】
風冷強化法は、板ガラスをガラス軟化点温度付近の高温で加熱する必要がある。このため、板ガラスの形状制御が難しい場合には、寸法精度の厳しい用途にはコストが高くなる。また、軟化点温度が高いガラス組成で板ガラスが構成されている場合には、加熱温度を相当高くする必要があり製造設備等が高くなったり、ガラス板の厚みが薄い（例えば、２ｍｍ以下）場合には、板ガラスの強度化が難しかったりする等の問題があった。
【０００７】
また、結晶化強化法は、非晶質ガラスの内部に粒子径が１００ｎｍ以上の結晶粒子を形成することによりガラス全体を強化して、ガラス表面のマイクロクラックに起因するクラックの進展を結晶粒子で抑制する方法である。
【０００８】
また、化学強化法は、ガラスを構成する原子のイオン交換イオン交換等によってガラスを化学的に強化する方法である。例えば、特許文献１には、化学強化法を用いた強化ガラスが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００６−８３０４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、ガラスの機械的強度を維持しつつ、ガラス表面に適度な表面摩擦抵抗を生じさせることは難しい。
【００１１】
本発明は、このような課題を解決するためになされたものであり、適度な表面摩擦抵抗を有し、且つ、機械的強度に優れた強化ガラス及びその製造方法等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明に係る強化ガラスの一態様は、表面に凹凸が形成された表面部を有する板ガラスからなる強化ガラスであって、前記表面部には、前記板ガラスを構成する原子のイオン交換によって当該板ガラスが化学的に強化された層である化学強化層が前記表面から所定の深さの厚みで形成されており、前記化学強化層の厚みは、前記凹凸における凸部の高さ以上であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、適度な表面摩擦抵抗を有し、且つ、機械的強度に優れた強化ガラスを実現することができる。すなわち、本発明によれば、ガラスにおける表面摩擦抵抗の高抵抗化と機械的強度の高強度化との両立を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施の形態１に係る強化ガラスの部分断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る強化ガラスの製造方法の工程を示す図である。
【図３】本発明の実施の形態２に係る強化ガラスの部分断面図である。
【図４】本発明の実施の形態３に係るタッチパネル及び電子表示装置の断面図である。
【図５】本発明の実施の形態４に係る有機ＥＬパネルの断面図である。
【図６】従来の電子表示装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
（本発明の基礎となった知見）
本発明の実施の形態の説明に先立ち、本発明の基礎となった知見について、図６を用いて説明する。図６は、従来の電子表示装置の断面図である。
【００１６】
図６に示すように、従来の電子表示装置５は、タッチパネルを用いた表示装置であって、有機ＥＬパネル２００とタッチパネル４００とが接着材３００によって貼り合わされて構成となっている。有機ＥＬパネル２００は、ＴＦＴ基板２２０と、ＴＦＴ基板２２０上に配置された有機ＥＬ層２３０（発光素子層）と、有機ＥＬ層２３０の上に配置された封止基板２１０（封止ガラス）とを備える。
【００１７】
ＴＦＴ基板２２０は、基板２２１と、基板２２１上に積層された駆動回路層とを備える。駆動回路層には、駆動トランジスタＤｒＴｒ及びスイッチングトランジスタＳｗＴｒが設けられている。
【００１８】
駆動トランジスタＤｒＴｒは、ゲート電極Ｇ１と、ゲート絶縁膜２２２を介してゲート電極Ｇ１と対向するように形成された半導体層ＳＣ１（チャネル層）と、半導体層ＳＣ１の上に対向して形成された一対のソース電極Ｓ１及びドレイン電極Ｄ１とを有する。
【００１９】
同様に、スイッチングトランジスタＳｗＴｒは、ゲート電極Ｇ２と、ゲート絶縁膜２２２を介してゲート電極Ｇ２と対向するように形成された半導体層ＳＣ２（チャネル層）と、半導体層ＳＣ２の上に対向して形成された一対のソース電極Ｓ２及びドレイン電極Ｄ２とを有する。
【００２０】
このように構成される駆動トランジスタＤｒＴｒ及びスイッチングトランジスタＳｗＴｒは、層間絶縁膜（平坦化膜）２２３によって覆われている。
【００２１】
層間絶縁膜２２３上には、有機ＥＬ層２３０が形成されている。有機ＥＬ層２３０は、反射電極である陽極（アノード）２３１と、発光層を含む有機層２３２と、透明電極である陰極（カソード）２３３とが順次積層されて構成されている。
【００２２】
有機ＥＬ層２３０の上部には、薄膜封止膜２４０及び樹脂封止層２５０が形成されている。樹脂封止層２５０の上には封止基板２１０が配置されている。
【００２３】
タッチパネル４００は、カバーガラス（ガラス基板）と、カバーガラス４０１に形成されたタッチセンサ２とによって構成されている。タッチセンサ２は、第１導電層２ａと第２導電層２ｂと絶縁層２ｃとからなる。
【００２４】
このような構成の電子表示装置では、タッチ入力時における、視差、応答性及び表面摩擦抵抗等が課題となる。視差とは、タッチ入力する面（タッチ面）と表示が行われる面（表示面）との距離の差に起因して生じるものであり、タッチ面及び表示面を斜め方向から見たときのズレのことである。応答性とは、タッチ面に入力してから表示面に入力情報が表示されるまでの時間の差のことである。表面摩擦抵抗とは、入力手段（指、ペン）とタッチ面との摩擦抵抗のことである。
【００２５】
特に、ペン入力を行う際にはタッチ面とペン先との間には所望の摩擦抵抗が必要であるが、ペン入力の場合、鉛筆等で紙に文字を書く場合と比べて表面摩擦抵抗が非常に小さいことから入力操作性が悪いという問題がある。
【００２６】
具体的には、タッチ面がフラットなガラス表面である場合、タッチ面の表面摩擦抵抗が小さくなり、ペン入力を行ったときにペン先がガラス表面でつるつる滑って書きにくい。特に、先の尖ったペンで書く場合、ペン先とタッチ面との表面摩擦抵抗が非常に小さくなり、ペン先がタッチ面でつるつる滑りやすい。
【００２７】
一方、ガラス表面の表面摩擦抵抗を大きくしようとすると、ガラスの機械的強度が低下する。例えば、ガラス表面を単に粗くして表面摩擦抵抗を大きくすると、ガラスの機械的強度が低下する。
【００２８】
ガラスの機械的強度が低下すると、タッチ入力の際の押圧力によって、ガラス表面付近に存在するマイクロクラックによってガラスが欠けたりガラスにクラックが発生したりする場合がある。特に、ペン入力を行ったときにペン先による押圧力によってガラスに負荷がかかってクラック等が発生する。
【００２９】
そこで、ガラスを化学強化することも考えられる。例えば、化学強化法によって板ガラスを化学強化するとともにガラス表面に凹凸を形成することが考えられる。
【００３０】
しかしながら、本願発明者の検討によれば、単に板ガラスを化学強化してガラス表面に凹凸を形成しただけでは、ガラスの機械的強度を十分に維持させることが難しいことが分かった。また、化学強化されたガラスは、表面が硬くなって、表面に凹凸を形成することが難しいことも分かった。
【００３１】
また、図６に示す電子表示装置５では、有機層２３２で発光した光によって画像が表示されるが、有機ＥＬパネル２００の表示面側にはタッチセンサ２とカバーガラス４０１とが配置されているので、カバーガラス４０１の表面（タッチ面）と有機ＥＬパネル２００の表示面（表示位置）との距離ｄが存在する。
【００３２】
このため、カバーガラス４０１の表面にペンで文字を書く際に、ユーザはペン先を斜め方向から見ることになるので視差が発生する。距離ｄが大きくなればなるほど、視差も増加する。
【００３３】
しかも、カバーガラス４０１の表面は平坦面であるので、外光が反射して有機ＥＬパネル２００で表示される画像が見にくくなるという課題もある。このため、カバーガラス４０１の表面に、直接反射防止膜をコーティングしたり、アンチグレア処理を施したり、反射防止膜をコートしたフィルムを貼り付けたりしている。
【００３４】
本発明は、このような知見に基づいてなされたものであり、ガラスの機械的強度を維持しつつ、ガラス表面に適度な表面摩擦抵抗を生じさせることのできる強化ガラス及びその製造方法等を提供することを主目的とする。
【００３５】
あわせて、タッチ入力時における視差を軽減することのできる有機ＥＬパネル等を提供すること、及び、反射防止効果を有する有機ＥＬパネルや電子表示装置を提供することも目的とする。
【００３６】
上記の主目的を達成するために、本発明に係る強化ガラスの一態様は、表面に凹凸が形成された表面部を有する板ガラスからなる強化ガラスであって、前記表面部には、前記板ガラスを構成する原子のイオン交換によって当該板ガラスが化学的に強化された層である化学強化層が前記表面から所定の深さの厚みで形成されており、前記化学強化層の厚みは、前記凹凸における凸部の高さ以上であることを特徴とする。
【００３７】
本態様によれば、板ガラスの表面に細かな凹凸が形成されているので、表面に凹凸が形成されていない板ガラスと比べて表面摩擦抵抗を大きくすることができる。また、板ガラスの表面部には、厚みが凹凸の凸部の高さ以上の化学強化層が形成されているので、表面に凹凸が形成されていても板ガラスの機械的強度が低下することを抑制できる。これにより、板ガラスの機械的強度を維持しつつ、表面に適度な表面摩擦抵抗を生じさせることができる。
【００３８】
また、本発明に係る強化ガラスの一態様において、前記化学強化層の厚みは、１００μｍ以上であってもよい。
【００３９】
本態様によれば、表面に凹凸も化学強化層も形成されていない板ガラスと比べて板ガラスの機械的強度を向上させることができる。
【００４０】
また、本発明に係る強化ガラスの一態様において、前記凹凸における凸部の高さは、１０μｍ以上１００μｍ以下であってもよい。
【００４１】
本態様によれば、凹凸における凸部の高さが１０μｍ以上であるので、この強化ガラスをタッチパネルに用いた場合、適度な表面摩擦抵抗が得られるので、紙に鉛筆等で文字等を書くときの書き心地を再現することができる。また、凹凸における凸部の高さが１００μｍ以下であるので、この強化ガラスを電子表示装置等に用いた場合、凹凸に伴うヘイズの影響を抑えることができるので、表示面に表示された情報のぼやけを抑制できる。
【００４２】
また、本発明に係る強化ガラスの一態様において、前記化学強化層が形成された部分の前記板ガラスの屈折率は、前記化学強化層が形成されていない部分の前記板ガラスの屈折率より小さくてもよい。
【００４３】
本態様によれば、板ガラスの凹凸の表面から入射する光を反射させることができる。したがって、この強化ガラスを電子表示装置等に用いた場合に、反射防止膜をコーティングしたりアンチグレア処理を施したり反射防止膜をコートしたフィルムを貼り付けたりすることなく、反射防止効果を有する電子表示装置を実現することができる。
【００４４】
また、本発明に係るタッチパネルの一態様は、上記強化ガラスの一態様を備えるタッチパネルであって、前記強化ガラスの前記表面とは反対側の面にタッチセンサが形成されており、前記強化ガラスの前記表面は、タッチ面であることを特徴とする。
【００４５】
本態様によれば、適度な表面摩擦抵抗を有し、且つ、機械的強度に優れた強化ガラスを用いたタッチパネルを実現することができる。したがって、タッチ入力する際の押圧力によって強化ガラスにクラック等が発生することを軽減できるとともに、紙に文字等を書くときの書き心地を再現することができる。
【００４６】
また、本発明に係る電子表示装置の一態様は、上記タッチパネルと、有機ＥＬパネルとを備え、前記タッチパネルは、前記強化ガラスの前記反対側の面と前記有機ＥＬパネルの光出射側の面とが対向するように配置されていることを特徴とする。
【００４７】
本態様によれば、適度な表面摩擦抵抗を有し、且つ、機械的強度に優れた強化ガラスでタッチ面が構成されたタッチパネルと有機ＥＬパネルとを組み合わせることで電子表示装置を実現している。したがって、タッチ入力する際の押圧力によって強化ガラスにクラック等が発生することを軽減できるとともに、紙に文字等を書くときの書き心地を再現することができる。
【００４８】
また、本発明に係る有機ＥＬパネルの一態様は、上記強化ガラスの一態様を備えるトップエミッション型の有機ＥＬパネルであって、前記強化ガラスは、前記有機ＥＬパネルの封止ガラスとして用いられていることを特徴とする。
【００４９】
本態様によれば、封止ガラスが強化ガラスで構成された有機ＥＬパネルを得ることができる。したがって、耐衝撃性に優れた有機ＥＬパネルを実現することができる。
【００５０】
また、本発明に係る有機ＥＬパネルの一態様において、前記有機ＥＬパネルは、薄膜トランジスタが形成された基板を備え、前記強化ガラスの厚みは、前記基板の厚みの３倍以上であってもよい。
【００５１】
本態様によれば、有機ＥＬパネルの耐衝撃性を一層向上させることができ、指やペンで入力した場合であっても有機ＥＬパネルが壊れてしまうことを防止できる。
【００５２】
また、本発明に係る有機ＥＬパネルの一態様において、前記強化ガラスの前記表面とは反対側の面にタッチセンサが形成されていてもよい。
【００５３】
本態様によれば、タッチパネルにおけるタッチ面の板ガラスと有機ＥＬパネルの封止ガラスとが強化ガラスで兼用されたタッチセンサ付き有機ＥＬパネルを実現することができる。これにより、タッチパネルにおけるタッチ面の板ガラスと有機ＥＬパネルの封止ガラスとを別々に設けた場合と比べて、タッチ面と表示面との距離の差を小さくすることができる。したがって、タッチ入力時における視差を軽減することができる。
【００５４】
また、本発明に係る強化ガラスの製造方法の一態様は、板ガラスの表面に凹凸を形成する第１工程と、前記板ガラスの表面部における当該板ガラスを構成する原子をイオン交換することにより、前記表面から所定の深さにおける当該板ガラスを化学的に強化して化学強化層を形成する第２工程とを含み、前記第１工程は、第２工程の前に行われることを特徴とする。
【００５５】
本態様によれば、適度な表面摩擦抵抗を有し、且つ、機械的強度に優れた強化ガラスを容易に製造することができる。
【００５６】
以下、本発明の一実施の形態について、図面を用いて説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される、数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、工程（ステップ）、工程の順序等は、一例であって本発明を限定する主旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本発明の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。
【００５７】
なお、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。
【００５８】
（実施の形態１）
まず、本発明の実施の形態１に係る強化ガラス１について、図１を用いて説明する。図１は、本発明の実施の形態１に係る強化ガラスの部分断面図である。
【００５９】
図１に示すように、本実施の形態に係る強化ガラス１は、板ガラス１０によって構成されている。板ガラス１０は、例えば、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を主成分とするガラスからなり、これにリチウム（Ｌｉ）及びナトリウム（Ｎａ）等のアルカリ金属の酸化物が混入された酸化物系ガラスである。本実施の形態では、板ガラス１０として、二酸化珪素とアルカリ金属酸化物とからなるガラスの中に希土類酸化物を添加することによってガラス全体を強化した高強度ガラス素材を用いている。なお、板ガラス１０には、アルカリ土類金属の酸化物を混入してもよい。
【００６０】
板ガラス１０は、第１表面１０ａと当該第１表面１０ａとは反対側の面である第２表面１０ｂとを有する板状のガラス基板である。本実施の形態における板ガラス１０は、表面に細かな凹凸（凹凸構造）が形成された表面部１０Ｓ（表面層）を有する。つまり、板ガラス１０の第１表面１０ａは、凹凸形状の凹凸面となっており、複数の微小の凸部１１と複数の微小の凹部１２とによって構成されている。なお、本実施の形態において、第２表面１０ｂは、平坦面（フラット面）である。
【００６１】
第１表面１０ａの凹凸における凸部１１の高さ（凹部１２の深さ）Ｈは、１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。
【００６２】
凸部１１の高さが１０μｍ以上とすることによって、第１表面１０ａをタッチ面として強化ガラス１をタッチパネルに用いた場合、ペン先の細いペンを用いて当該タッチパネルにタッチ入力する際に適度な表面摩擦抵抗を生じさせることができる。これにより、紙に鉛筆等で文字等を書くときの書き心地を再現することができる。
【００６３】
また、凸部１１の高さ（凹部１２の深さ）Ｈが大きくなるとヘイズが大きくなり、強化ガラス１を電子表示装置等に用いた場合、強化ガラス１のヘイズの増大によって表示面に表示された情報がぼやけて見にくくなってしまうが、凸部１１の高さを１００μｍ以下とすることによって凹凸によるヘイズの増大を抑えることができる。これにより、表示面に表示された情報がぼやけてしまうことを抑制できる。なお、ヘイズ（ヘイズ値）は、全反射光における拡散光の割合で定義され、市販のヘイズメータ等で計測することができる。本実施の形態において、ヘイズは、７０％以下であることが好ましい。
【００６４】
表面部１０Ｓには、凹凸面である第１表面１０ａから所定の一定の深さの厚みで化学強化層１３ａ（圧縮強化層）が形成されている。本実施の形態では、第２表面１０ｂ側にも化学強化層１３ｂ（圧縮強化層）が形成されている。化学強化層１３ｂは、第２表面１０ｂから所定の一定の深さの厚みで形成されている。なお、凹凸面である第１表面１０ａ側に形成された化学強化層１３ａの厚みと、平坦面である第２表面１０ｂ側に形成された化学強化層１３ｂの厚みとは同じである。
【００６５】
化学強化層１３ａ及び１３ｂは、板ガラス１０を構成する原子のイオン交換によって当該板ガラス１０が化学的に強化された層であり、板ガラス１０に化学処理を施すことによって形成することができる。板ガラス１０の表面に化学強化層１３ａ及び１３ｂを形成することによって、ガラス表面である第１表面１０ａ及び第２表面１０ｂの付近に存在するマイクロクラックによって板ガラス１０にクラック等が発生することを抑制できる。
【００６６】
本実施の形態において、化学強化層１３ａの厚みＤ１は、第１表面１０ａの凹凸における凸部１１の高さＨ以上である。これにより、第１表面１０ａに凹凸が形成されていても板ガラス１０の機械的強度が低下することを抑制できる。つまり、第１表面１０ａに単に凹凸を形成しただけでは板ガラス１０の機械的強度が低下することになるが、板ガラス１０の表面部１０Ｓに、厚みが凹凸の凸部１１の高さ以上の化学強化層１３ａを形成することによって、板ガラス１０の機械的強度が低下することを抑制することができる。
【００６７】
以上、本実施の形態に係る強化ガラス１によれば、板ガラス１０の第１表面１０ａには、細かな凹凸が形成されているとともに厚みが凹凸の凸部１１の高さ以上の化学強化層１３ａが形成されている。これにより、板ガラス１０の機械的強度を維持しつつ、ガラス表面である第１表面１０ａに適度な表面摩擦抵抗を生じさせることができる。
【００６８】
また、本実施の形態において、化学強化層１３ａの厚みＤ１は、１００μｍ以上であることが好ましい。化学強化層１３ａの厚みＤ１を、凸部１１の高さＨ以上、且つ、１００μｍ以上とすることによって、板ガラス１０の機械的強度を向上させることができる。具体的には、本実施の形態における強化ガラス１の機械的強度は、表面に凹凸も化学強化層も形成されていない通常の板ガラスの機械的強度の６倍〜１２倍、あるいはそれ以上の超強化ガラス（いわゆる“割れないガラス”）を実現することができる。
【００６９】
次に、本発明の実施の形態に係る強化ガラス１の製造方法について、図２を用いて説明する。図２は、本発明の実施の形態１に係る強化ガラスの製造方法の工程を示す図であり、（ａ）は板ガラスを作製する工程、（ｂ）は板ガラスの表面に凹凸を形成する工程、（ｃ）は板ガラスの表面部に化学強化層を形成する工程を示している。
【００７０】
まず、図２（ａ）に示すように、板ガラス１０（ガラス基板）を作製する。具体的には、所定のガラス組成となるように調合したガラス原料を溶融し、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成型することによって板ガラス１０を作製する。例えば、溶融したガラス原料を楔形ガラス成型装置２０に通して成型して割断することによって所定形状の薄板の板ガラス１０を作製することができる。作製された板ガラス１０の両面は、いずれも高い平滑性を有している。
【００７１】
なお、本実施の形態では、オーバーフローダウンドロー法を例に説明したが、一般的なフロート法、ヒュージョン法、ダウンドロー法、又は、リードロー法等の他の方法を用いて板ガラス１０を成型してもよい。
【００７２】
次に、板ガラス１０の表面に凹凸を形成する。本実施の形態では、板ガラス１０の表面を荒らすことによって凹凸を形成している。具体的には、図２（ｂ）に示すように、スプレー装置３０によって板ガラス１０の片面に微細な研磨剤３１を含む圧縮空気を吹き付ける処理、いわゆるサンドブラスト工法と呼ばれる処理を行う。これにより、板ガラス１０のガラス表面に微細な凹凸を形成することができる。
【００７３】
なお、本実施の形態では、サンドブラスト工法を例に説明したが、マスクを用いたウエットエッチング法を用いて板ガラス１０の表面に微細な凹凸を形成してもよい。
【００７４】
次に、板ガラス１０の表面部における当該板ガラス１０を構成する原子をイオン交換することにより、第１表面１０ａから所定の深さにおける当該板ガラス１０を化学的に強化して化学強化層１３ａを形成する。
【００７５】
本実施の形態では、図２（ｃ）に示すように、加熱溶融した硝酸塩４１を入れた化学強化用塩浴炉４０の中に板ガラス１０を浸漬する。これにより、板ガラス１０の表面部１０Ｓ（図１参照）のリチウムイオン（Ｌｉ＋）がナトリウムイオン（Ｎａ＋）に置換するとともに、同表面部１０Ｓのナトリウムイオン（Ｎａ＋）がカリウムイオン（Ｋ＋）に置換するので、図１に示すように、板ガラス１０の表面部１０Ｓに化学強化層１３ａを形成することができる。
【００７６】
このようにして、強化ガラス１を作製することができる。なお、本実施の形態では、化学強化用塩浴炉４０の中に板ガラス１０を浸漬することによって、凹凸面である第１表面１０ａ側に化学強化層１３ａが形成されるだけではなく、化学強化層１３ａの形成原理と同様の原理によって、平坦面である第２表面１０ｂ側にも化学強化層１３ｂが形成される。また、本実施の形態では、厚みが２０μｍ〜５０μｍ程度の化学強化層１３ａ及び１３ｂが形成された。
【００７７】
以上、本実施の形態に係る強化ガラス１の製造方法によれば、板ガラス１０の表面に凹凸を形成した後で、化学強化法を用いて板ガラス１０の表面部１０Ｓに化学強化層１３ａを形成している。言い換えると、板ガラス１０に化学強化層１３ａを形成するよりも前に、板ガラス１０の表面に凹凸を形成している。
【００７８】
これにより、板ガラス１０の表面に凹凸と化学強化層を形成する場合であっても、板ガラス１０の表面に容易に凹凸を形成することができる。したがって、適度な表面摩擦抵抗を有し、且つ、機械的強度に優れた強化ガラス１を容易に製造することができる。
【００７９】
また、本実施の形態によれば、化学処理によって板ガラス１０の表面に凹凸を形成しているので、低コストで強化ガラス１を製造することができる。
【００８０】
なお、本実施の形態において、強化ガラス１を電子表示装置又は別のガラス基板と貼り合せて電子表示装置とする際に熱膨張係数が異なると温度変化で電子表示装置に反りが発生することがあるが、この課題を解決するためには、強化ガラス１の熱膨張係数を貼り合わせるガラス基板と同じ熱膨張係数に制御する必要がある。板ガラス１０の熱膨張係数を高めるには、アルカリ金属酸化物成分やアルカリ土類金属酸化物成分の含有量を増やしたり、ＳｉＯ2の含有量を減らしたりすればよい。一方、板ガラス１０の熱膨張係数を低下させるには、アルカリ金属酸化物成分やアルカリ土類金属酸化物成分の含有量を減らしたり、ＳｉＯ2の含有量を増やしたりすればよい。
【００８１】
（実施の形態２）
次に、本発明の実施の形態２に係る強化ガラス１Ａについて、図３を用いて説明する。図３は、本発明の実施の形態２に係る強化ガラスの部分断面図である。
【００８２】
図３に示すように、本実施の形態に係る強化ガラス１Ａは、実施の形態１と同様に、第１表面１０ａに細かな凹凸が形成された表面部１０Ｓを有する板ガラス１０によって構成されており、第１表面１０ａには複数の微小の凸部１１と複数の微小の凹部１２とが形成されている。
【００８３】
本実施の形態でも、表面部１０Ｓには、凹凸面である第１表面１０ａから所定の一定の深さの厚みで化学強化層１３ａ（圧縮強化層）が形成されており、平坦面である第２表面１０ｂ側にも化学強化層１３ｂが形成される。
【００８４】
本実施の形態でも、化学強化層１３ａの厚みＤ２は、第１表面１０ａの凹凸における凸部１１の高さＨ以上となっている。化学強化層１３ａ及び１３ｂの厚みは、例えば、１００μｍ〜２００μｍである。
【００８５】
また、化学強化層１３ａ及び１３ｂの屈折率（化学強化層１３ａが形成された部分の板ガラス１０の屈折率）は、化学強化層１３ａ及び１３ｂが形成されていない部分（化学強化処理が施されていない部分）の板ガラス１０の屈折率よりも小さい。例えば、化学強化層１３ａ及び１３ｂの屈折率が１．４〜１．５１であり、化学強化層１３ａ及び１３ｂが形成されていない部分の屈折率が１．５２である。
【００８６】
なお、本実施の形態における強化ガラス１Ａは、実施の形態１と同様の製造方法によって作製することができる。
【００８７】
以上、本実施の形態に係る強化ガラス１Ａによれば、実施の形態１のける強化ガラス１と同様に、板ガラス１０の第１表面１０ａには、細かな凹凸が形成されているとともに厚みが凹凸の凸部１１の高さ以上の化学強化層１３ａが形成されている。これにより、板ガラス１０の機械的強度を維持しつつ、ガラス表面である第１表面１０ａに適度な表面摩擦抵抗を生じさせることができる。
【００８８】
さらに、本実施の形態に係る強化ガラス１Ａによれば、化学強化層１３ａが形成された部分の板ガラス１０の屈折率が、化学強化層１３ａ及び１３ｂが形成されていない部分の板ガラス１０の屈折率よりも小さくなっている。これにより、強化ガラス１Ａに入射する光を反射させることができる。したがって、反射防止効果を有する強化ガラス１Ａを実現できる。以下、この点について説明する。
【００８９】
一般的に、媒質１と媒質２との界面における光の反射率Ｒは、媒質１の屈折率をｎ１とし、媒質２の屈折率をｎ２とすると、Ｒ＝（ｎ１−ｎ２）２／（ｎ１＋ｎ２）２で表すことができる。
【００９０】
したがって、空気層の屈折率をｎ１とし、化学強化層１３ａ（１３ｂ）が形成された部分の板ガラス１０の屈折率をｎ２とし、化学強化層１３ａ（又は１３ｂ）が形成されていない部分の板ガラス１０の屈折率をｎ３とすると、空気層と化学強化層１３ａ（１３ｂ）が形成された部分の板ガラス１０との界面における光の反射率Ｒ１は、Ｒ１＝（ｎ１−ｎ２）２／（ｎ１＋ｎ２）２で表すことができる。同様に、化学強化層１３ａ（１３ｂ）が形成された部分の板ガラス１０と化学強化層１３ａ（１３ｂ）が形成されていない部分の板ガラス１０との界面における光の反射率Ｒ２は、Ｒ２＝（ｎ２−ｎ３）２／（ｎ２＋ｎ３）２で表すことができる。したがって、強化ガラス１Ａの反射率Ｒは、Ｒ＝Ｒ１+Ｒ２として表すことができる。
【００９１】
例えば、ｎ１＝１．０（空気）、ｎ３＝１．５２（ガラス）とすると、板ガラス１０に化学強化層１３ａ（１３ｂ）が形成されていない場合、Ｒ＝（１．０−１．５２）２／（１．０＋１.５２）２＝４．３％となる。
【００９２】
一方、ｎ１＝１．０（空気）、ｎ３＝１．５２（ガラス）のときに、ｎ２＝１．４の化学強化層１３ａ（１３ｂ）が板ガラス１０に形成されている場合は、Ｒ１=２．７８%、Ｒ２＝０．１７％、Ｒ＝２．９５％となり、また、ｎ２＝１．５１の化学強化層１３ａ（１３ｂ）が板ガラス１０に形成されている場合は、Ｒ１＝４.１３％、Ｒ２＝０．０１％、Ｒ＝４．１４％となる。
【００９３】
このように、本実施の形態における強化ガラス１Ａによれば、別途第１表面１０ａに、反射防止膜をコーティングしたりアンチグレア処理を施したり反射防止膜をコートしたフィルムを貼り付けたりすることなく、反射防止効果を得ることができる。
【００９４】
また、本実施の形態でも、実施の形態１と同様に、化学強化層１３ａの厚みＤ２は１００μｍ以上であることが好ましく、また、第１表面１０ａの凹凸における凸部１１の高さ（凹部１２の深さ）Ｈは１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。
【００９５】
（実施の形態３）
次に、本発明の実施の形態３に係るタッチパネル１００及び電子表示装置３について、図４を用いて説明する。図４は、本発明の実施の形態３に係るタッチパネル及び電子表示装置の断面図である。
【００９６】
図４に示すように、電子表示装置３は、タッチパネル１００と有機ＥＬパネル２００とが接着材３００によって貼り合わされた構成となっている。接着材３００としては、例えば光学透明粘着両面テープ等の透明樹脂を用いることができる。
【００９７】
タッチパネル１００は、実施の形態１における強化ガラス１を備えている。つまり、強化ガラス１をカバーガラスとして用いている。タッチパネル１００は、当該強化ガラス１の第２表面１０ｂと有機ＥＬパネル２００の光出射側の面とが対向するように配置されている。
【００９８】
また、タッチパネル１００は、タッチセンサ２を備える。タッチセンサ２は、強化ガラス１の第２表面１０ｂに形成されている。つまり、強化ガラス１の第２表面１０ｂは、タッチセンサ２が形成される面である。一方、強化ガラス１の第１表面１０ａは、タッチ面（入力面）であり、ユーザの指やペンが接触する面である。
【００９９】
タッチセンサ２は、多点検出を行うことが可能に構成されており、例えば、行方向に形成された第１電極パターンを有する第１導電層２ａと、列方向に形成された第２電極パターンを有する第２導電層２ｂと、第１導電層２ａと第２導電層２ｂとを絶縁する絶縁層２ｃとによって構成されている。これにより、行方向及び列方向におけるユーザの指やペンの接触位置（位置座標）を検出することができる。
【０１００】
第１電極パターン及び第２電極パターンは、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等からなる透明電極である。また、絶縁層２ｃは、例えば透明樹脂やガラス板である。本実施の形態では、ガラス板の両面に所定のパターンで透明電極を形成することによって構成されたタッチセンサ２を用いた。
【０１０１】
また、本実施の形態におけるタッチセンサ２は、静電容量方式であり、例えばユーザの指先やペン先と第１電極パターン又は第２電極パターンとの間における静電容量の変化を検出することによって、ユーザの指やペン先の位置を特定する方式である。つまり、ユーザの指やペン等の高抵抗の容量体がタッチパネル１００に触れたときに生じる静電容量の変化によってどの位置に触れたのかを検出する方式である。
【０１０２】
なお、ペンには、それ自体から電波を発するアクティブ方式と単に容量として機能するパッシブ方式の２方式がある。また、別のペン入力方法として、アンテナコイルが形成された電磁誘導検出回路基板を有機ＥＬパネル２００の背面に配置して、コイルを有するペンの位置を検出する電磁誘導方式を用いてもよい。
【０１０３】
有機ＥＬパネル２００は、封止基板２１０と、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が形成されたＴＦＴ基板２２０と、有機ＥＬ層２３０とを備える。
【０１０４】
封止基板２１０は、透明基板であり、例えばガラス基板又は透明樹脂基板である。本実施の形態において、有機ＥＬパネル２００はトップエミッション型であるので、封止基板２１０は、光出射側の基板である。
【０１０５】
ＴＦＴ基板２２０は、例えばガラス基板にＴＦＴが形成されたものである。本実施の形態における有機ＥＬパネル２００は、アクティブマトリクス駆動方式であって、マトリクス状に配列された複数の画素を備える。したがって、ＴＦＴ基板２２０には各画素毎にＴＦＴが形成されており、例えば１画素に複数のＴＦＴが形成されている。
【０１０６】
有機ＥＬ層２３０は、例えば、発光層を含む有機層と、有機層を挟む陽極及び陰極とを備える。発光層は、複数の画素の各々に形成されている。各発光層は、赤色光を発する赤色発光層、緑色光を発する緑色発光層又は青色光を発する青色発光層である。
【０１０７】
以上、本実施の形態に係るタッチパネル１００及び電子表示装置３では、適度な表面摩擦抵抗を有し、且つ、機械的強度に優れた強化ガラス１が用いられている。
【０１０８】
これにより、強化ガラス１の第１表面１０ａ（タッチ面）にタッチ入力する際の押圧力によって強化ガラス１（板ガラス１０）にクラック等が発生することを軽減できる。また、電子表示装置３の表面（タッチパネル１００の表面）を直接ペンで擦った場合、強化ガラス１の第１表面１０ａには凹凸が形成されているので、ユーザに適度な表面摩擦抵抗を感じさせることができる。したがって、先の尖ったペンで書く場合であっても、ペン先が第１表面１０ａ（タッチ面）でつるつる滑ることがなくなり、紙に文字等を書くときの書き心地を再現することができる。
【０１０９】
また、本実施の形態では、有機ＥＬパネル２００を用いたが、有機ＥＬパネル２００に代えて液晶パネル又は電子ペーパ等の他のフラットパネルディスプレイを用いてもよい。つまり、タッチパネル１００を液晶パネル等に貼り合わせて電子表示装置を構成してもよい。
【０１１０】
また、本実施の形態では、タッチパネル１００と有機ＥＬパネル２００との間には接着材３００（透明樹脂）を形成したが、接着材３００を形成せずに、タッチパネル１００と有機ＥＬパネル２００との間は空気層であってもよい。この場合、タッチパネル１００と有機ＥＬパネル２００とは別の取り付け部材によって固定すればよい。なお、タッチパネル１００と有機ＥＬパネル２００との間の部材は、タッチパネル１００と有機ＥＬパネル２００との間の距離が所望の光学距離となるように選択すればよい。
【０１１１】
（実施の形態４）
次に、本発明の実施の形態４に係る有機ＥＬパネル４について、図５を用いて説明する。図５は、本発明の実施の形態４に係る有機ＥＬパネルの断面図である。
【０１１２】
図５に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬパネル４は、実施の形態１における強化ガラス１を備えるトップエミッション型の有機ＥＬパネルであり、封止ガラスとして強化ガラス１を用いている。つまり、本実施の形態では、有機ＥＬパネル４の封止ガラスを強化ガラス１が兼ねている。
【０１１３】
また、有機ＥＬパネル４は、タッチセンサ２を内蔵している。具体的には、有機ＥＬパネル４は、強化ガラス１とタッチセンサ２とからなるタッチパネル１００を備える。タッチセンサ２は、強化ガラス１の第２表面１０ｂに形成されている。
【０１１４】
以下、有機ＥＬパネル４の詳細な構成について、図５を用いて説明する。
【０１１５】
図５に示すように、有機ＥＬパネル４は、ＴＦＴ基板２２０と、ＴＦＴ基板２２０上に配置された有機ＥＬ層２３０（発光素子層）と、有機ＥＬ層２３０の上に配置されたタッチパネル１００とを備える。
【０１１６】
ＴＦＴ基板２２０は、基板２２１と、基板２２１上に積層された駆動回路層とを備える。基板２２１は、例えばガラス基板である。なお、有機ＥＬパネル４は、トップエミッション型の構造であるので、基板２２１は透明である必要はない。そのため、基板２２１は、シリコン基板等の非透明の基板であってもよい。また、基板２２１は、樹脂からなる透明又は不透明のフレキシブル基板で形成されていてもよい。
【０１１７】
駆動回路層には、駆動トランジスタＤｒＴｒ及びスイッチングトランジスタＳｗＴｒが画素ごとに設けられている。
【０１１８】
駆動トランジスタＤｒＴｒは、基板２２１上に所定形状でパターン形成されたゲート電極Ｇ１と、ゲート電極Ｇ１を覆うゲート絶縁膜２２２上に島状に形成されたチャネル層である半導体層ＳＣ１と、半導体層ＳＣ１の一部を覆い且つ互いに対向するように形成された一対のソース電極Ｓ１及びドレイン電極Ｄ１とを有する。
【０１１９】
同様に、スイッチングトランジスタＳｗＴｒは、基板２２１上に所定形状でパターン形成されたゲート電極Ｇ２と、ゲート電極Ｇ２を覆うゲート絶縁膜２２２上に島状に形成されたチャネル層である半導体層ＳＣ２と、半導体層ＳＣ２の一部を覆い且つ互いに対向するように形成された一対のソース電極Ｓ２及びドレイン電極Ｄ２とを有する。
【０１２０】
このように構成される駆動トランジスタＤｒＴｒ及びスイッチングトランジスタＳｗＴｒは、層間絶縁膜（平坦化膜）２２３によって覆われている。
【０１２１】
層間絶縁膜２２３上には、有機ＥＬ層２３０が形成されている。有機ＥＬ層２３０は、反射電極である陽極（アノード）２３１と、発光層を含む有機層２３２と、透明電極である陰極（カソード）２３３とが順次積層されて構成されている。有機層２３２は、電子輸送層、発光層及び正孔輸送層等の各層が積層されて構成されている。
【０１２２】
陽極２３１は、コンタクト電極を介して、駆動回路層における駆動トランジスタＤｒＴｒのドレイン電極Ｄ１と接続されている。
【０１２３】
層間絶縁膜２２３上には、隣接する画素の境界部分にバンクＢＮＫが形成されている。陽極２３１及び有機層２３２は、隣接するバンクＢＮＫによって構成される開口内に形成される。
【０１２４】
有機ＥＬ層２３０の上部には、薄膜封止膜２４０及び樹脂封止層２５０が形成される。そして、樹脂封止層２５０の上には、強化ガラス１及びタッチセンサ２からなるタッチパネル１００が配置されている。
【０１２５】
また、本実施の形態において、強化ガラス１の板ガラス（ガラス基板）１０は、ＴＦＴ基板２２０における基板２２１（ガラス基板）よりも厚みの大きいものを用いている。この場合、強化ガラス１（板ガラス１０）の厚みは、ガラス基板である基板２２１の厚みの３倍以上であるとよい。本実施の形態では、基板２２１として、厚みが０．５ｍｍのガラス基板を用いており、強化ガラス１の板ガラスとして、厚みが１．５ｍｍのガラス基板を用いている。
【０１２６】
以上、本実施の形態に係る有機ＥＬパネル４によれば、封止ガラスが強化ガラス１で構成されているので、耐衝撃性に優れた有機ＥＬパネルを実現することができる。
【０１２７】
また、本実施の形態に係る有機ＥＬパネル４では、有機層２３２と強化ガラス１との間に薄膜封止層２４０が形成されているので有機層２３２の劣化を抑制することができる。つまり、薄膜封止層２４０が形成されていないと、強化ガラス１はアルカリガラスであるのでアルカリイオン不純物が析出して有機層２３２に進入して有機層２３２が劣化することがあるが、薄膜封止層２４０を形成することによってアルカリイオン不純物の進入を遮断して有機層２３２を保護することができ、有機層２３２の劣化を抑制できる。このように、薄膜封止層２４０を形成することで、有機ＥＬパネルの封止ガラスとして強化ガラス１を容易に使用することが可能となる。
【０１２８】
また、本実施の形態に係る有機ＥＬパネル４では、強化ガラス１の第２表面１０ｂにタッチセンサ２が形成されており、封止ガラスである強化ガラス１の第１表面１０ａがタッチパネル１００のタッチ面を構成している。
【０１２９】
これにより、タッチパネル１００におけるタッチ面の板ガラスと有機ＥＬパネル４の封止ガラスとが強化ガラス１で兼用されたタッチセンサ付き有機ＥＬパネルを実現することができる。したがって、図５に示すように、図６に示す電子表示装置５と比べて、タッチ面と表示面との距離ｄの差を小さくすることができる。したがって、タッチ入力時における視差を軽減することができる。
【０１３０】
また、本実施の形態では、強化ガラス１（板ガラス１０）の厚みを基板２２１（ガラス基板）の厚みの３倍以上としている。
【０１３１】
これにより、有機ＥＬパネル４の耐衝撃性を一層向上させることができ、指やペンで入力した場合であっても有機ＥＬパネル４が壊れてしまうことを防止できる。
【０１３２】
（変形例）
以上、本発明に係る強化ガラス、タッチパネル、有機ＥＬパネル及び電子表示装置について、実施の形態に基づいて説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではない。
【０１３３】
例えば、上記の実施の形態１〜４では、強化ガラス１（板ガラス１０）の両面に化学強化層１３ａ及び１３ｂを形成したが、少なくともタッチ面となる第１表面１０ａ側に化学強化層１３ａを形成すればよい。
【０１３４】
また、上記の実施の形態３、４では、実施の形態１における強化ガラス１を用いたが、実施の形態２における強化ガラス１Ａを用いてもよい。この場合、強化ガラス１Ａは反射防止効果を有するので、タッチパネル１００の表面に別途反射防止膜をコーティングしたりアンチグレア処理を施したり反射防止膜をコートしたフィルムを貼り付けたりすることなく、反射防止効果を得ることができる。
【０１３５】
また、上記の実施の形態３、４では、上面発光方式であるトップエミッション型の有機ＥＬパネルを例に挙げたが、本発明はこれに限るものではない。
【０１３６】
また、上記の実施の形態では、強化ガラス１及び１Ａを表示装置に適用する例について説明したが、表示装置以外の製品にも適用することが可能である。
【０１３７】
その他、各実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１３８】
本発明に係る、強化ガラス、タッチパネル、有機ＥＬパネル及び電子表示装置は、指やペン等のタッチ入力を必要とする、携帯電話、スマートフォン、タブレット、ノートＰＣ又はウルトラブックＰＣ等のディスプレイ、又は、教育や医療、金融用途におけるディスプレイ等に有用である。
【符号の説明】
【０１３９】
１、１Ａ  強化ガラス
２  タッチセンサ
２ａ  第１導電層
２ｂ  第２導電層
２ｃ  絶縁層
３、５  電子表示装置
４、２００  有機ＥＬパネル
１０  板ガラス
１０ａ  第１表面
１０ｂ  第２表面
１０Ｓ  表面部
１１  凸部
１２  凹部
１３ａ、１３ｂ  化学強化層
２０  楔形ガラス成型装置
３０  スプレー装置
３１  研磨剤
４０  化学強化用塩浴炉
４１  硝酸塩
１００、４００  タッチパネル
２１０  封止基板
２２０  ＴＦＴ基板
２２１  基板
２２２  ゲート絶縁膜
２２３  層間絶縁膜
２３０  有機ＥＬ層
２３１  陽極
２３２  有機層
２３３  陰極
２４０  薄膜封止膜
２５０  樹脂封止層
３００  接着材
４０１  カバーガラス
【図１】
2015168611.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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