(57)【要約】【課題】塗布法と低分子材料を含有するインクとの組み合わせで、均一な発光が得られる有機ＥＬ素子を形成する。【解決手段】有機ＥＬ素子の製造方法は、画素電極と、画素電極の周囲を囲む隔壁とで構成される塗布領域に機能層形成材料を含有するインクを塗布する工程を有し、該工程は、インクの隔壁の側面に対する接触角θｂｃとし、インクが塗布される塗布領域の表面に対する接触角θｌｃとした場合に、下記の式（１）〜（３）を満たすように上記インクを塗布する工程を含むことを特徴とする。  θｂｃ≦θｌｃ・・・・（１）  θｂｃ≦５度・・・・・（２）  θｌｃ≦２０度・・・・（３）【選択図】図５
2015076220.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、画素電極を形成する第１の工程と、
前記画素電極の周囲を囲む隔壁を形成する第２の工程と、
前記隔壁で囲まれた塗布領域に機能層形成材料を含有するインクを塗布する第３の工程と、
塗布された前記インクを乾燥させて前記塗布領域に機能層を形成する第４の工程と、を含み、
前記第２の工程は、前記画素電極の表面に対して交差する前記隔壁の側面が、前記画素電極の表面に対して４０度〜６０度の角度をなすように前記隔壁を形成し、
前記第３の工程は、前記インクの前記隔壁の側面に対する接触角をθｂｃとし、前記インクが塗布される前記塗布領域の表面に対する接触角をθｌｃとした場合に、下記の式（１）〜（３）を満たすように前記インクを塗布する工程を含むことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
θｂｃ≦θｌｃ・・・・（１）
θｂｃ≦５度・・・・・（２）
θｌｃ≦２０度・・・・（３）
【請求項２】
前記機能層は前記画素電極上に順次積層された正孔注入層、正孔輸送層、発光層の３層を少なくとも含み、前記３層のうちの少なくとも１層を、上記式（１）〜（３）を満たすように前記インクを滴下して形成することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
前記インクは高分子材料のみ、または低分子材料のみ、もしくは高分子材料と低分子材料の混合物を含む前記機能層形成材料を含有していることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項５】
請求項４に記載の有機ＥＬ装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ装置、及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）装置は、一対の電極間に少なくとも発光層を含む機能層を有してなる有機ＥＬ素子を備え、かかる有機ＥＬ素子の発光により照明、画像表示等を行う装置である。そして、カラー画像の表示に用いられる有機ＥＬ装置の場合、赤色（Ｒ）光を発光する機能層を有する有機ＥＬ素子と、緑色（Ｇ）光を発光する機能層を有する有機ＥＬ素子と、青色（Ｂ）光を発光する機能層を有する有機ＥＬ素子とを含む少なくとも３種類の有機ＥＬ素子が基板上に規則的に配置された構成を有している。
【０００３】
かかる複数種の機能層を形成する方法として、ＩＪ（インクジェット）法に代表される塗布法がある。ＩＪ法とは、基板上に、上記一対の電極のうちの一方の電極を平面視で囲む隔壁を形成し、かかる隔壁で囲まれた領域内に機能層形成材料を含有するインク（機能液）をインクジェットヘッドのノズルから吐出し、塗布された該インクを乾燥させることにより機能層を形成する方法である。かかる塗布法によれば、真空蒸着法などの気相プロセスに比べて複数種の機能層を低コストで形成できるため、カラー画像を表示可能な有機ＥＬ装置を高い生産性で製造できる。そして、機能層形成材料として、近年、高分子材料だけでなく、低分子材料も用いられている（特許文献１及び特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１９０７５９号公報
【特許文献２】特開２０１１−１０８４６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、塗布法に適した高分子材料を用いる前提の隔壁等の構成のままで、上述の低分子材料を含有するインクを用いた場合、形成された機能層に不具合が発生するおそれがあった。具体的には、低分子材料を含有するインクは流動性が高く、また、インク中の分子同士が分子間相互作用により凝集するため、低分子材料が偏って成膜された成膜不良が発生した。したがって、成膜不良によって均一な発光が得られないことが有り得るという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例にかかる有機ＥＬ素子の製造方法は、基板上に、画素電極を形成する第１の工程と、上記画素電極の周囲を囲む隔壁を形成する第２の工程と、上記隔壁で囲まれた塗布領域に機能層形成材料を含有するインクを塗布する第３の工程と、塗布された上記インクを乾燥させて上記塗布領域に機能層を形成する第４の工程と、を含み、上記第２の工程は、上記画素電極の表面に対して交差する上記隔壁の側面が、上記画素電極の表面に対して４０度〜６０度の角度をなすように上記隔壁を形成し、上記第３の工程は、上記インクの上記隔壁の側面に対する接触角をθｂｃとし、上記インクが塗布される上記塗布領域の表面に対する接触角をθｌｃとした場合に、下記の式（１）〜（３）を満たすように上記インクを塗布する工程を含むことを特徴とする。
θｂｃ≦θｌｃ・・・・（１）
θｂｃ≦５度・・・・・（２）
θｌｃ≦２０度・・・・（３）
【０００８】
本適用例の有機ＥＬ素子の製造方法によれば、隔壁の側面の傾斜角度を例えば６０度を越える角度とする場合に比べて、インクが接する隔壁の側面積が拡大された状態で塗布領域と隔壁とで形成される凹部内にインクが供給される。すなわち従来の製造方法と比較して、形成されるべき機能層の膜厚に対する隔壁の側面積が拡大された状態でインクが塗布される。隔壁の側面積の拡大は、インクの乾燥により隔壁の側面に対して機能層が成膜され始めるピニング位置の選択幅の拡大に寄与するため好適なピニングが可能となる。また隔壁の側面に対するインクの接触角が塗布領域よりも低い、すなわち隔壁の側面が塗布領域の表面に比べて撥液性が低いことも好適なピニングの形成に寄与する。その結果、膜厚の均一性が高い機能層の形成が可能となり、均一な発光を有する有機ＥＬ素子を得ることができる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例の有機ＥＬ素子の製造方法において、上記機能層は上記画素電極上に順次積層された正孔注入層、正孔輸送層、発光層の３層を少なくとも含み、上記３層のうちの少なくとも１層を、上記式（１）〜（３）を満たすように上記インクを滴下して形成することを特徴とする。
この様な製造方法によれば、機能層を形成する各層のうちの少なくとも一層を、高い膜厚均一性で形成できる。したがって、均一な発光を有する有機ＥＬ素子を得ることができる。
【００１０】
［適用例３］上記適用例の有機ＥＬ素子の製造方法において、上記インクは高分子材料と低分子材料とを含む上記機能層形成材料を含有していることを特徴とする。
【００１１】
上述したように本適用例の製造方法は隔壁の側面積が拡大されており、かつ、隔壁の側面が塗布領域の表面に比べて撥液性が低く形成されている。したがって、この様な製造方法であれば、流動性の高い低分子インク（低分子材料を含む上記機能層形成材料を含有しているインク）を用いても凝集等を起こすことなく成膜でき、膜厚の均一性が高い機能層の形成が可能となり、発光効率、及び寿命等が改善された有機ＥＬ素子を得ることができる。
【００１２】
［適用例４］本適用例にかかる有機ＥＬ装置は、上述の有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子を備えたことを特徴とする。
本適用例の構成によれば、優れた表示品質を有する有機ＥＬ装置を提供できる。
【００１３】
［適用例５］本適用例にかかる電子機器は、上述の有機ＥＬ装置を搭載したことを特徴とする。
本適用例の構成によれば、優れた表示品質を有する電子機器を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】有機ＥＬ装置の電気的な構成を示す等価回路図。
【図２】有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図。
【図３】有機ＥＬ装置の画素の構造を示す概略断面図。
【図４】有機ＥＬ素子の製造方法を示すフローチャート。
【図５】（ａ）〜（ｄ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。
【図６】（ｅ）〜（ｈ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。
【図７】（ｉ）〜（ｋ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。
【図８】機能層形成材料の分子同士の凝集の態様を示す図。
【図９】隔壁側面の傾斜角の効果を示す図。
【図１０】接触角の測定方法を示す図。
【図１１】接触角θの測定対象物を示す図。
【図１２】従来の隔壁を用いた場合において、低分子の正孔注入層形成材料を含む機能液を用いて正孔注入層を形成した状態を示す図。
【図１３】正孔注入層を拡大して示す図。
【図１４】電子機器を説明する図であり、（ａ）は電子機器としてのヘッドマウントディスプレイ（ＨＭＤ）を示す概略図、（ｂ）は電子機器としてのデジタルカメラを示す概略図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。
【００１６】
また、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、または基板の上に他の構成物を介して配置される場合、または基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。
【００１７】
（実施形態１）
＜有機ＥＬ装置＞
まず、有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置の一例について、図１〜図３を参照して説明する。図１は有機ＥＬ装置の電気的な構成を示す等価回路図、図２は有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図、図３は有機ＥＬ装置の画素の構造を示す概略断面図である。
【００１８】
図１に示すように、有機ＥＬ装置１００は、互いに交差する複数の走査線１１２及び複数のデータ線１１３と、複数のデータ線１１３のそれぞれに対して並列する電源線１１４とを有している。複数の走査線１１２が接続される走査線駆動回路１０３と、複数のデータ線１１３が接続されるデータ線駆動回路１０４とを有している。また、複数の走査線１１２と複数のデータ線１１３との各交差部に対応してマトリックス状に配置された複数の発光画素１０７を有している。
【００１９】
発光画素１０７は、有機ＥＬ素子１３０と、有機ＥＬ素子１３０の駆動を制御する画素回路１１１とを有している。
【００２０】
有機ＥＬ素子１３０は、陽極としての画素電極１３１と、対向電極（陰極）１３４と、画素電極１３１と対向電極１３４との間に設けられた機能層１３７とを有している。この様な有機ＥＬ素子１３０は電気的にダイオードとして表記することができる。なお、詳しくは後述するが、対向電極１３４は複数の発光画素１０７に亘る共通電極として形成されている。
【００２１】
画素回路１１１は、スイッチング用トランジスター１２１と、駆動用トランジスター１２２と、蓄積容量１２３とを含んでいる。２つのトランジスター１２１，１２２は、例えばｎチャネル型もしくはｐチャネル型の薄膜トランジスター（ＴＦＴ；Thin  Film  transistor）やＭＯＳトランジスターを用いて構成することができる。
【００２２】
スイッチング用トランジスター１２１のゲートは走査線１１２に接続され、ソースまたはドレインのうち一方がデータ線１１３に接続され、ソースまたはドレインのうち他方が駆動用トランジスター１２２のゲートに接続されている。
駆動用トランジスター１２２のソースまたはドレインのうち一方が有機ＥＬ素子１３０の画素電極１３１に接続され、ソースまたはドレインのうち他方が電源線１１４に接続されている。駆動用トランジスター１２２のゲートと電源線１１４との間に蓄積容量１２３が接続されている。
【００２３】
走査線１１２が駆動されてスイッチング用トランジスター１２１がオン状態になると、そのときにデータ線１１３から供給される画像信号に基づく電位がスイッチング用トランジスター１２１を介して蓄積容量１２３に保持される。該蓄積容量１２３の電位すなわち駆動用トランジスター１２２のゲート電位に応じて、駆動用トランジスター１２２のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用トランジスター１２２がオン状態になると、電源線１１４から駆動用トランジスター１２２を介して画素電極１３１と対向電極１３４とに挟まれた機能層１３７にゲート電位に応じた大きさの電流が流れる。有機ＥＬ素子１３０は、機能層１３７を流れる電流の大きさに応じて発光する。
なお、画素回路１１１の構成は、これに限定されるものではない。例えば、駆動用トランジスター１２２と画素電極１３１との間に、駆動用トランジスター１２２と画素電極１３１との間の導通を制御する発光制御用トランジスターを備えていてもよい。
【００２４】
図２に示すように、有機ＥＬ装置１００は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、３色の発光画素１０７を備えた素子基板１０１と、素子基板１０１に所定の間隔を置いて対向配置された封止基板１０２とを備えている。封止基板１０２は、複数の発光画素１０７が設けられた発光領域１０６を封着するように、高い気密性を有する封着剤を用いて素子基板１０１に貼り合わされている。
なお、以下の記載において、符号の末尾にアルファベットのＲ（ｒ）、Ｇ（ｇ）、Ｂ（ｂ）の何れかが付加されている場合、Ｒ（ｒ）が付加されている構成要素は赤色光に対応する要素であり、Ｇ（ｇ）が付加されている構成要素は緑色光に対応する要素であり、Ｂ（ｂ）が付加されている構成要素は青色光に対応する要素である。そしてアルファベットが付加されていない場合は、総称であるとする。
【００２５】
発光画素１０７は、有機ＥＬ素子１３０（図３参照）を備えるものであって、同色の発光が得られる発光画素１０７が、図面上の縦方向に配列した所謂ストライプ方式となっている。なお、実際には、発光画素１０７は微細なものであり、図示の都合上拡大して現している。また、発光画素１０７の配置は、ストライプ方式に限定されず、デルタ方式やモザイク方式であってもよい。
【００２６】
素子基板１０１は、封止基板１０２よりも一回り大きく、額縁状に張り出した部分には、発光画素１０７の前述した画素回路１１１と接続される２つの走査線駆動回路１０３及び１つのデータ線駆動回路１０４が設けられている。走査線駆動回路１０３、データ線駆動回路１０４は、例えば、電気回路が集積されたＩＣとして素子基板１０１に実装してもよいし、走査線駆動回路１０３及びデータ線駆動回路１０４を素子基板１０１の表面に直接形成してもよい。
【００２７】
素子基板１０１の端子部１０１ａには、これらの走査線駆動回路１０３やデータ線駆動回路１０４と外部駆動回路とを接続するための中継基板１０５が実装されている。中継基板１０５は、例えば、フレキシブル回路基板などを用いることができる。
【００２８】
図３に示すように、有機ＥＬ装置１００において、有機ＥＬ素子１３０は、陽極としての画素電極１３１と、画素電極１３１を区画する隔壁１３３と、画素電極１３１上に形成された有機発光層を含む機能層１３７とを有している。そしてさらに、機能層１３７を介して画素電極１３１と対向するように形成された陰極としての対向電極１３４を有している。なお、対向電極１３４は、画素電極１３１のように有機ＥＬ素子１３０ごとに形成されているのではなく、複数の有機ＥＬ素子１３０に共通し、少なくとも発光領域１０６の全域に亘って形成されている。したがって、対向電極１３４は共通電極である。
【００２９】
隔壁１３３は、多官能アクリル樹脂などの絶縁性を有する感光性樹脂材料からなり、発光画素１０７を構成する画素電極１３１の周囲を一部覆って、複数の画素電極１３１をそれぞれ区画するように設けられている。かかる隔壁１３３で囲まれた領域が、塗布領域Ａである。機能層１３７は、塗布領域Ａ内に形成される。
本実施形態の有機ＥＬ装置１００においては、画素電極１３１の表面に対して交差する隔壁１３３の側面が、画素電極１３１の表面に対して４０度〜６０度の角度をなすように形成されている。詳細は後述するが、隔壁１３３の側面がかかる角度を有することにより、後述する機能層１３７の膜厚均一性等が向上しており、有機ＥＬ装置の表示性能の向上に寄与している。
【００３０】
画素電極１３１は、素子基板１０１上に形成された駆動用トランジスター１２２の３端子のうちの１つに接続されており、例えば、透明電極材料であるＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）を厚さ１００ｎｍ程度に成膜した電極である。
対向電極１３４は、例えばＡｌやＡｇなどの光反射性を有する金属材料や、該金属材料と他の金属（例えばＭｇ）との合金などにより形成されている。
【００３１】
本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、ボトムエミッション型の構造となっており、画素電極１３１と対向電極１３４との間に駆動電流を流して機能層１３７で発光した光を対向電極１３４で反射させて素子基板１０１側から取り出す。したがって、素子基板１０１はガラスなどの透明基板を用いる。また、封止基板１０２は、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
【００３２】
素子基板１０１には、有機ＥＬ素子１３０を駆動する画素回路１１１が設けられている。すなわち、素子基板１０１の表面には、例えばシリコン酸化物（ＳｉＯ2）を主体とする下地絶縁膜１１５が形成され、その上には例えばポリシリコンなどからなる半導体層１２２ａが形成されている。この半導体層１２２ａの表面には、ＳｉＯ2及び／又はＳｉＮを主体とするゲート絶縁膜１１６が形成されている。
【００３３】
また、半導体層１２２ａのうち、ゲート絶縁膜１１６を挟んでゲート電極１２６と重なる領域がチャネル領域とされている。なお、このゲート電極１２６は、図示しない走査線１１２の一部である。一方、半導体層１２２ａを覆い、ゲート電極１２６を形成したゲート絶縁膜１１６の表面には、ＳｉＯ2を主体とする第１層間絶縁膜１１７が形成されている。
【００３４】
また、半導体層１２２ａのうち、チャネル領域のソース側には、低濃度ソース領域及び高濃度ソース領域１２２ｃが設けられる一方、チャネル領域のドレイン側には低濃度ドレイン領域及び高濃度ドレイン領域１２２ｂが設けられて、所謂ＬＤＤ（Light  Doped  Drain）構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域１２２ｃは、ゲート絶縁膜１１６と第１層間絶縁膜１１７とにわたって開孔するコンタクトホール１２５ａを介して、ソース電極１２５に接続されている。このソース電極１２５は、電源線１１４（図示せず）の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域１２２ｂは、ゲート絶縁膜１１６と第１層間絶縁膜１１７とにわたって開孔するコンタクトホール１２４ａを介して、ソース電極１２５と同一配線層に設けられたドレイン電極１２４に接続されている。
【００３５】
ソース電極１２５及びドレイン電極１２４が形成された第１層間絶縁膜１１７の上層には、第２層間絶縁膜１１８が形成されている。この第２層間絶縁膜１１８は、画素回路１１１を構成する駆動用トランジスター１２２などや、ソース電極１２５、ドレイン電極１２４などによる表面の凹凸をなくすために形成されたものであり、第１層間絶縁膜１１７と同様にＳｉＯ2を主体として構成され、ＣＭＰなどの平坦化処理が施されている。
【００３６】
そして、画素電極１３１が、この第２層間絶縁膜１１８の表面上に形成されると共に、第２層間絶縁膜１１８に設けられたコンタクトホール１１８ａを介してドレイン電極１２４に接続されている。すなわち、画素電極１３１は、ドレイン電極１２４を介して、半導体層１２２ａの高濃度ドレイン領域１２２ｂに接続されている。対向電極１３４は、ＧＮＤに接続されている。したがって、駆動用トランジスター１２２により、前述した電源線１１４から画素電極１３１に供給され対向電極１３４との間で流れる駆動電流が制御される。これにより、画素回路１１１は、所望の有機ＥＬ素子１３０を発光させカラー表示を可能としている。
【００３７】
機能層１３７は、有機膜からなる正孔注入層、正孔輸送層、発光層を含む複数の薄膜層からなり、画素電極１３１側からこの順で積層されている。
正孔注入層は、画素電極１３１からの正孔の注入を容易にする機能を有するものである。
正孔輸送層は、正孔注入層と発光層との間に設けられ、発光層に対する正孔の輸送性（注入性）を向上させると共に、発光層から正孔注入層に電子が侵入することを抑制するために設けられている。すなわち、発光層における正孔と電子との結合による発光の効率を改善する機能を有するものである。
発光層では、注入された正孔と電子が励起子（エキシトン）を形成し、励起子（エキシトン）が消滅する際（電子と正孔とが再結合する際）にエネルギーの一部が蛍光や燐光となって放出される。すなわち発光層は通電により発光を生じさせる機能を有するものである。なお、機能層１３７の構成は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層を有する構成に限定されず、キャリア（正孔や電子）の流れを制御するための有機層や無機層を含んでいてもよい。
【００３８】
本実施形態において、これらの薄膜層は後述する製造方法を用いて製造されており、正孔注入層、正孔輸送層、発光層のそれぞれが、ほぼ均一な膜厚と安定した膜形状（断面形状）を有している。異なる発光色が得られる機能層１３７ｒ，１３７ｇ，１３７ｂにおいてそれぞれ所望の発光効率と発光寿命とが得らており、有機ＥＬ装置の表示性能が向上している。なお、上記各層の形成材料等については後述する。
【００３９】
この様な有機ＥＬ素子１３０を有する素子基板１０１は、熱硬化型エポキシ樹脂等を封着部材として用いた封着層１３５を介して封止基板１０２と隙間なくベタ封止されている。
【００４０】
なお、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、ボトムエミッション型に限定されず、例えば画素電極１３１を光反射性の導電材料を用いて形成し、対向電極１３４を透明な導電材料を用いて形成して、有機ＥＬ素子１３０の発光を画素電極１３１で反射させて、封止基板１０２側から取り出すトップエミッション型の構造としてもよい。また、トップエミッション型とする場合、有機ＥＬ素子１３０の発光色に対応させたカラーフィルターを各有機ＥＬ素子１３０に対応させて設ける構成としてもよい。さらには、有機ＥＬ装置１００がカラーフィルターを有する場合、有機ＥＬ素子１３０から白色発光が得られる構成としてもよい。
【００４１】
＜有機ＥＬ素子の製造方法＞
次に、より具体的な有機ＥＬ素子１３０の製造方法について、図４〜図７を参照して説明する。図４は有機ＥＬ素子の製造方法を示すフローチャート、図５（ａ）〜（ｄ）、図６（ｅ）〜（ｈ）及び図７（ｉ）〜（ｋ）は本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図である。
なお、有機ＥＬ装置１００を構成する要素のうち、有機ＥＬ素子１３０以外の要素、すなわち、画素回路１１１及び画素回路１１１に電気的に接続された画素電極１３１等（図１及び図３参照）は、公知の製造方法を用いて形成することができる。したがって、図５〜図７では、画素回路１１１等の図示を省略している。そして、以降の有機ＥＬ素子１３０の製造方法の説明は、画素電極１３１を形成した後の工程から順次説明する。
【００４２】
図４に示すように、本実施形態の有機ＥＬ素子１３０の製造方法は、隔壁形成工程（ステップＳ１）と、正孔注入層形成工程（ステップＳ２）と、正孔輸送層形成工程（ステップＳ３）と、発光層形成工程（ステップＳ４）と、対向電極形成工程（ステップＳ５）と、を少なくとも備えている。
【００４３】
ステップＳ１の隔壁形成工程は、感光性樹脂層形成工程と、プレベーク工程と、露光工程と、現像工程と、ポストベーク工程と、の５工程を有している。
【００４４】
感光性樹脂層形成工程では、図５（ａ）に示すように画素電極１３１が形成された素子基板１０１の表面に、撥液剤１４１を含む感光性樹脂材料をおよそ１μｍ〜３μｍ程度の厚さで塗布した後、乾燥させることにより、感光性樹脂層１４０を形成する。塗布方法としては、スピンコート法、転写法、スリットコート法などが挙げられる。感光性樹脂材料としては、ネガ型の多官能アクリル樹脂を挙げることができる。また、撥液剤１４１としては、例えば、フッ素系化合物やシロキサン系化合物を挙げることができる。本実施形態では、フッ素系化合物を０．５ｗｔ％〜１０ｗｔ％程度の範囲内で含んだ多官能アクリル樹脂を主成分とする樹脂溶液をスピンコート法により塗布して、膜厚が略２μｍの感光性樹脂層１４０を形成した。
【００４５】
プレベーク工程では上述の感光性樹脂層１４０を、大気雰囲気中で１１０℃〜１２０℃で２分間加熱処理するプレベーク処理を実施する。かかる処理により、感光性樹脂層１４０中に略均一に分布していた撥液剤１４１が、図５（ｂ）に示すように、感光性樹脂層１４０の表面近傍、より具体的には表面からおよそ１．５μｍ以内に移動して密集した状態となる。
【００４６】
露光工程では、図５（ｃ）に示すように、塗布領域Ａに対応した遮光部１５１と透光部１５２とを有する露光用マスク１５０を用いて、ネガ型の感光性樹脂層１４０を露光する。遮光部１５１と画素電極１３１とがほぼ重なるように、素子基板１０１と露光用マスク１５０との位置を合せて、紫外線により露光する。露光条件としては、例えば、紫外線の露光量が５４０ｍＷ／ｃｍ2、露光時間が６５秒である。感光性樹脂層１４０において露光された部分は高分子化が進み、現像液に対して不溶化する。
【００４７】
現像工程では、露光された感光性樹脂層１４０を現像し、図５（ｄ）に示すように隔壁１３３及び該隔壁１３３に囲まれた領域である塗布領域Ａを形成する。現像条件としては、素子基板１０１を回転させながら、現像液として２．３８ｗｔ％（０．２６１Ｎ）のＴＭＡＨ（TetraMethyl  Ammonium  Hydroxide；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）溶液を塗布する方法が挙げられる。現像時間はおよそ３０秒である。
【００４８】
上述したように、現像前の感光性樹脂層１４０において、撥液剤１４１は感光性樹脂層１４０の表面からおよそ１．５μｍ以内に密集している。したがって、現像工程により形成された隔壁１３３の厚み方向において、画素電極１３１から０．５μｍ以内は撥液剤１４１を含まないあるいは少ない部分、すなわち後述するように隔壁１３３が形成された場合において側面が親液性を有する部分となる。
【００４９】
また、上述のプレベーク処理により、隔壁１３３の側面を画素電極１３１の表面に対して傾斜させることができる。表１に、プレベーク温度と、現像工程により形成された隔壁１３３の側面の、画素電極１３１の表面に対する傾斜角を示す。なお、プレベーク時間は全て２分間である。
【００５０】
【表１】
2015076220.tif 000003
【００５１】
表１に示すように、プレベーク温度が９０℃の場合、隔壁１３３の側面は画素電極１３１の表面に対して９０度の角度（垂直）となる。そしてプレベーク温度の上昇に伴い、該角度が減少する。本実施形態の有機ＥＬ素子１３０の製造方法では、上述したようにプレベーク温度を１１０℃〜１２０℃に設定している。したがって、現像工程により形成される隔壁１３３の傾斜角は略４５度となる。
【００５２】
ポストベーク工程では、隔壁１３３が形成された素子基板１０１をポストベーク（加熱）する。（撥液剤１４１の偏析工程）。ポストベークの方法としては、例えば、２２０℃に加温されたオーブン中に素子基板１０１を６０分ほど放置する方法が挙げられる。また、ランプアニール法によるポストベークを実施してもよい。以上の工程により、素子基板１０１上に画素電極１３１を囲む隔壁１３３と該隔壁１３３で囲まれた領域である塗布領域Ａが形成される。
【００５３】
このように、隔壁１３３の側面を傾斜させる理由は、流動性の高い低分子の機能層形成材料を含む機能液を塗布したときに、該機能層形成材料の分子同士が凝集して、膜厚均一性が損なわれることを抑制するためである。図８はかかる機能層形成材料の分子同士の凝集の態様を示す図である。図９は隔壁の側面に傾斜角を設けたことの効果を示す図である。
【００５４】
図９に示すように、隔壁１３３の画素電極１３１に対する角度が９０度に近い場合、塗布領域Ａに吐出された、機能液（符号無し）に含まれている機能層形成材料の固形分（小点で図示）は減圧乾燥後、膜化される過程において固形分が画素中央へ凝集する傾向がある。すなわち、図９に示すように、隔壁が９０度に近い場合、９０度より小さい図８と比較して、隔壁からインクに対してインクを隔壁内に収めようとする力が強く働く。よってインクが画素中央へ強く押し込められ、乾燥過程において固形分が画素中央へ凝集しやすくなる。また、９０度に近い隔壁では、図８と比較して、隔壁の側面積が狭い為、固形分の隔壁側面に対するピニングポイントが少なくなる。よって、固形分が画素中央へ凝集しやすくなる。このようにして形成された正孔注入層（及びその他の各層）の膜厚均一性は、図１２に示すように低下し、完成後の有機ＥＬ素子１３０において均一な発光が得られない可能性がある。
一方、隔壁１３３の側面に傾斜を設けた場合、図１３に示すように、膜厚均一性が向上した正孔注入層（及びその他の各層）を得ることができ、均一な発光状態を有する有機ＥＬ素子１３０を得ることができる。
なお、図中の小点は分布状態すなわち分布密度の差を模式的に表現したものである。機能層形成材料は溶解あるいは分散しているため、機能液なかにおいて目視可能な点としては存在していない。
【００５５】
次に、ステップＳ２の正孔注入層形成工程を実施する。正孔注入層形成工程は、機能液を塗布領域Ａに塗布する工程（塗布工程）と、塗布された該機能液を乾燥・固化する工程（固化工程）とを含んでいる。本実施形態における機能液の塗布は、ＩＪ法にて行う。具体的には、図６（ｅ）に示すように、正孔注入層形成材料を含む機能液７０を、液体吐出装置（本体は不図示）の吐出ヘッド（インクジェットヘッド）５０から塗布領域Ａに液滴として吐出する。
そして本実施形態では、かかる塗布工程を、機能液７０の隔壁１３３の側面に対する接触角をθｂｃとし、機能液７０の塗布領域Ａの表面に対する接触角をθｌｃとした場合に、下記の式（１）〜（３）を満たすように行う。
θｂｃ≦θｌｃ・・・・（１）
θｂｃ≦５度・・・・・（２）
θｌｃ≦２０度・・・・（３）
【００５６】
ここで接触角について説明する。本実施形態における接触角は静滴法により求めたものである。図１０に静滴法による接触角の測定方法を示す。図１０に示すように、基板上に形成された対象となる構成要素（隔壁１３３及び画素電極１３１）の材料層の上に評価用の機能液を液滴として滴下する。滴下された機能液の体積が４μｌ以下ならば液滴を球の一部として見なすことができる。
なお、塗布領域Ａに吐出された機能液７０は隔壁１３３の上端まで盛り上がるが、固化工程において体積が縮小し、固化の直前には画素電極１３１と隔壁１３３の下部にのみ接触する。そのため、隔壁１３３の材料層としては撥液剤１４１を含有していない状態の感光性樹脂材料を用いて測定している。
材料層上における機能液７０の接触角θは、以下の数式で与えられる。
θ＝２ｔａｎ−１ｈ／ｒ  （ｈは液滴の高さ、ｒは材料層上における液滴の半径）
例えば、光学的に材料層上の液滴を撮像して、液滴の高さｈと半径ｒとを計測すれば、接触角θを求めることができる。あるいは、液滴の接点Ｄと頂点Ｅとを結ぶ線分ＤＥと材料層の表面とがなす角度を求めれば、その角度がθ／２であることから接触角θを求めることができる。
【００５７】
なお、接触角θのうち、塗布領域Ａの表面（上面）に対する接触角θは、対象となる表面が工程によって異なる。図１１は、接触角θの測定対象物を示す図である。θｌｃは塗布領域Ａの表面（上面）に対する接触角の測定対象を示しθｂｃは、隔壁１３３の側面に対する接触角θの測定対象を示している。
図１１に示すように、正孔注入層１３２ａを形成する場合（工程では）、画素電極１３１上に機能液７０が塗布されるため、画素電極１３１の形成材料であるＩＴＯが、塗布領域Ａの表面に対する接触角θの測定対象となる。
そして正孔輸送層１３２ｃを形成する場合（工程では）、正孔注入層１３２ａ上に機能液８０（後述）が塗布されるため、乾燥・固化された正孔注入層１３２ａが、塗布領域Ａの表面に対する接触角θの測定対象となる。
そして発光層１３２を形成する場合（工程では）、正孔輸送層１３２ｃ上に機能液９０（後述）が塗布されるため乾燥・固化された正孔輸送層１３２ｃが、塗布領域Ａの表面に対する接触角θの測定対象となる。
一方、隔壁１３３の側面に対する接触角θｂｃの測定対象は、上述のように上記の３工程において共通である。
【００５８】
上記各接触角は、吐出される機能液の成分等と、機能液が吐出される領域の形成材料の親液性の度合い等によって定まる。そして、本実施形態においては、隔壁１３３と画素電極１３１の形成材料は上述した通りに決まっている。したがって、接触角は機能液の材質、特に機能層形成材料に加えられる溶媒によって定まる。
本実施形態における機能液７０は、４，４’，Ｎ，Ｎ’−Ｄｉｐｈｅｎｙｌｃａｒｂａｚｏｌｅ、またはＮ，Ｎ’−Ｂｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（ｐｈｅｎｙｌ）ｂｅｎｚｉｄｉｎｅを、溶媒としてのジペンチルエーテルに溶解したものである。かかる構成の機能液７０であれば、上述の接触角（θｂｃ≦θｌｃ（画素電極１３１に対する接触角）、θｂｃ≦５度、θｌｃ≦２０度）の条件を満たすことが実験で確認されている。
【００５９】
塗布工程が終了した後、固化工程を実施する。固化工程は、上述の機能液７０を真空乾燥させた後、大気雰囲気中において２００℃で３０分間の加熱することにより焼成する工程である。かかる工程により、機能液７０の溶媒成分を蒸発させて除去され、図６（ｆ）に示すように塗布領域Ａの画素電極１３１上に正孔注入層１３２ａが形成される。
【００６０】
図１３は、（図６（ｆ）に示す）正孔注入層１３２ａを拡大して示す図である。図示するように、正孔注入層１３２ａにおける周縁部すなわち隔壁１３３に接する部分は、該隔壁１３３に沿うように盛り上がっている。かかる現象はピニングと呼ばれている。
本実施形態の有機ＥＬ素子１３０の製造方法によれば、機能液７０の、隔壁１３３（の下部）に対する接触角θｂｃが、画素電極１３１に対する接触角θｌｃよりも小さい。そのため、吐出された機能液７０が、隔壁１３３に弾かれることなく、良好な接触状態を保つことができる。かかる状態で上述の固化工程を実施することで、良好なピニングを形成し、画素電極１３１上における正孔注入層１３２ａの膜厚均一性を向上できる。
また、隔壁１３３における傾斜した側面の存在も、良好なピニングの形成に寄与している。隔壁１３３の画素電極１３１に対する側面の傾斜角が（垂直に比べて）緩やかになることによって、隔壁１３３の側面積が拡大し、機能液７０の固化工程におけるピニング位置の選択の幅が広がるため、流動性の高い低分子材料を含有する機能液７０を用いても、このようにピニングが良好に形成されると推定される。
ピニングが良好に形成されることにより、正孔注入層１３２ａの内側の部分、すなわち平面視で画素電極１３１と重なる領域における膜厚（層厚）均一性が向上する。すなわち、平坦な正孔注入層１３２ａが形成される。
【００６１】
図１２は、比較例として、隔壁１３３の傾斜角が大きい（すなわち略垂直）、かつ、接触角θｂｃが上述の条件を満たさない場合において、上述の機能液７０すなわち低分子の正孔注入層形成材料を含む機能液７０を用いて正孔注入層１３２ａを形成した状態を示す図である。
図示するように、隔壁１３３の側面積が狭くかつ隔壁１３３の側面が吐出された機能液７０に対して親和的でないため、ピニングが良好に形成されず、画素電極１３１上における正孔注入層１３２ａの膜厚（層厚）均一性が悪化している。
それに対し、本実施形態の有機ＥＬ素子１３０の製造方法では、隔壁１３３の側面が４０度〜５０度の角度で傾斜しているため、流動性が高い低分子材料を含有する機能液７０を用いても形成後の膜の状態（すなわち膜厚均一性）を良好に保つことができる。なお、隔壁１３３の側面の傾斜角と形成後の膜の状態との関係については後述する。
【００６２】
次に、ステップＳ３の正孔輸送層形成工程を実施する。すなわち、正孔注入層１３２ａの上層に正孔輸送層１３２ｃを形成する。正孔輸送層形成工程は、上述の正孔注入層形成工程と同様に、機能液を塗布領域Ａに塗布する工程（塗布工程）と、塗布された該機能液を乾燥・固化する工程（固化工程）とを含んでいる。そして機能液の塗布は、正孔注入層形成工程と同様にＩＪ法にて行う。具体的には、図６（ｇ）に示すように、（低分子材料の）正孔輸送層形成材料を含む機能液８０を、吐出ヘッド５０から塗布領域Ａ（の正孔注入層１３２ａ上）に液滴として吐出する。
【００６３】
そして本実施形態では、かかる塗布工程を、機能液８０の隔壁１３３の側面に対する接触角θｂｃと塗布領域Ａに対する接触角θｌｃとを、上述の式（１）〜（３）を満たすように行う点も正孔注入層形成工程と共通している。ただし本工程では、塗布領域Ａにすでに正孔注入層１３２ａが形成されているので、接触角θｌｃは、機能液８０の正孔注入層１３２ａに対する接触角である点は上述の正孔注入層形成工程と異なっている。
塗布工程が終了した後、固化工程を実施する。固化工程としては、上述の機能液８０を真空乾燥させた後、不活性気体雰囲気中で１３０℃で３０分間の加熱を実施する。かかる工程により、機能液８０の溶媒成分を蒸発させて除去され、図６（ｈ）に示すように塗布領域Ａの正孔注入層１３２ａ上に正孔輸送層１３２ｃが形成される。
【００６４】
本工程は、上述の正孔注入層１３２ａの形成時と同様に、４５度の傾斜角を有する隔壁１３３で囲まれた塗布領域Ａ内に接触角θｂｃ，θｌｃが上述の式（１）〜（３）を満たすように機能液８０を吐出している。したがって流動性の高い低分子材料を含有する機能液８０を用いても、良好なピニングの形成が可能となり、膜厚（層厚）均一性が向上した正孔輸送層１３２ｃを形成することができる。
【００６５】
ここで、機能液８０について説明する。機能液８０は、低分子の正孔輸送層材料である４，４’，４’’−ｔｒｉｓ（Ｎ，Ｎ−ｐｈｅｎｙｌ−３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅを、溶媒としてのジペンチルエーテルに溶解することで生成されている。かかる構成の機能液８０であれば、上述の接触角（θｂｃ≦θｌｃ、θｂｃ（正孔注入層１３２ａに対する接触角）≦５度、θｌｃ≦２０度）の条件を満たすことが実験で確認されている。
【００６６】
次に、ステップＳ４の発光層形成工程を実施する。すなわち、正孔輸送層１３２ｃの上層に発光層１３２（１３２ｒ，１３２ｂ，１３２ｇ）を形成する。発光層形成工程は、上述の各工程と同様に、機能液９０を塗布領域Ａに塗布する工程（塗布工程）と、塗布された該機能液を乾燥・固化する工程（固化工程）とを含んでいる。そして機能液９０の塗布は、正孔注入層形成工程と同様にＩＪ法にて行う。具体的には、図７（ｉ）に示すように、（低分子材料の）発光層形成材料（発光材料）を含む機能液９０を、吐出ヘッド５０から塗布領域Ａ（の正孔輸送層１３２ｃ上）に液滴として吐出する。
ただし、本工程では吐出する機能液９０が３種類ある点で上述の各工程と異なっている。本実施形態で製造する有機ＥＬ装置１００はカラー表示可能な有機ＥＬ装置であり、赤色（Ｒ）光を発光する有機ＥＬ素子１３０Ｒと緑色（Ｇ）光を発光する有機ＥＬ素子１３０Ｇと青色（Ｂ）光を発光する有機ＥＬ素子１３０Ｂと、の、計３種類の有機ＥＬ素子１３０を有している。
【００６７】
そして有機ＥＬ装置１００は、かかる発光色を、発光層１３２を形成する材料によって得ている。したがって、機能液９０は、赤色光発光材料を含有する機能液９０Ｒと緑色光発光材料を含有する機能液９０Ｇと青色光発光材料を含有する機能液９０Ｂと、の計３種類が用いられている。そして、有機ＥＬ素子１３０Ｒは機能液９０Ｒを固化させて得られる赤色発光層１３２ｒを有しており、有機ＥＬ素子１３０Ｇは機能液９０Ｇを固化させて得られる赤色発光層１３２ｇを有しており、有機ＥＬ素子１３０Ｂは機能液９０Ｂを固化させて得られる赤色発光層１３２ｂを有している。なお、各発光色に対応する発光材料については後述する。
【００６８】
発光層形成工程も、上述の各工程と同様に、塗布工程を機能液９０の隔壁１３３の側面に対する接触角θｂｃと塗布領域Ａに対する接触角θｌｃとが、上述の式（１）〜（３）を満たすように実施する。
そして本工程では、塗布領域Ａにすでに正孔輸送層１３２ｃが形成されているので、接触角θｌｃは、機能液９０の正孔輸送層１３２ｃに対する接触角である。塗布工程が終了した後、固化工程を実施する。固化工程としては、上述の機能液９０を真空乾燥させた後、不活性気体雰囲気中で、１３０℃で１０分間の加熱を実施する。かかる工程により、機能液９０の溶媒成分を蒸発させて除去され、図７（ｊ）に示すように膜形成領域Ａの正孔輸送層１３２ｃ上に発光層１３２（１３２ｒ，１３２ｇ，１３２ｂ）が形成される。
【００６９】
本工程は、上述の各工程と同様に、４５度の傾斜角を有する隔壁１３３で囲まれた塗布領域Ａ内に接触角θｂｃ，θｌｃが上述の式（１）〜（３）を満たすように機能液９０を吐出している。したがって流動性の高い低分子材料を含有する機能液９０を用いても、良好なピニングの形成が可能となり、膜厚（層厚）均一性が向上した発光層１３２（１３２ｒ，１３２ｇ，１３２ｂ）を形成することができる。これにより、正孔注入層１３２ａ、正孔輸送層１３２ｃ、発光層１３２（１３２ｒ，１３２ｇ，１３２ｂ）を含む機能層１３７ｒ，１３７ｇ，１３７ｂが形成される。
【００７０】
ここで、機能液９０について説明する。機能液９０は低分子材料である、下記３種類のうちの何れかの発光材料を、溶媒としてのジペンチルエーテルに溶解することで生成されている。
赤色光発光材料としては、例えば、Iridium（III）bis（2−（2'−benzothienyl）pridinato−N,C3'）（acetylacetonate）が挙げられる。
緑色光発光材料としては、例えば、Ａｌｑ３（Tris（8−hydroxyquinolato）aluminium（III））が挙げられる。
青色光発光材料としては、例えば、Iridium（III）bis（2−（4,6−diflurophenyl）pyridinato−N,C2'）picolinateが挙げられる。
かかる構成の機能液９０であれば、上述の接触角（θｂｃ≦θｌｃ（正孔輸送層１３２ｃに対する接触角）、θｂｃ≦５度、θｌｃ≦２０度）の条件を満たすことが実験で確認されている。
【００７１】
発光層１３２の形成が終了したら、次に、ステップＳ５の対向電極形成工程を実施する。ステップＳ５では、図７（ｋ）に示すように、隔壁１３３と各機能層１３７ｒ，１３２ｇ，１３２ｂとを覆うように対向電極１３４を形成する。これにより有機ＥＬ素子１３０が構成される。
対向電極１３４の材料としては、アルミニウム（Ａｌ）や銀（Ａｇ）とマグネシウム（Ｍｇ）の合金などが用いられる。機能層１３７ｒ，１３７ｇ，１３７ｂに近い側に仕事関数が小さいＣａ、Ｂａ、ＬｉＦの膜を形成してもよい。また、対向電極１３４の上にＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を積層してもよい。このようにすれば、対向電極１３４の酸化を防止することができる。対向電極１３４の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。特に機能層１３７ｒ，１３７ｇ，１３７ｂの熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。
以上の工程により、図７（ｋ）に示すように、低分子材料を含む材料で形成された機能層１３７を有する有機ＥＬ素子１３０（１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂ）を形成することができる。
【００７２】
なお、有機ＥＬ素子１３０の形成後、基板接着工程が実施される。基板接着工程は、有機ＥＬ素子１３０が形成された素子基板１０１の全面に封着層１３５を形成して、該封着層１３５により素子基板１０１と封止基板１０２とを接着して、素子基板１０１上に形成されている有機ＥＬ素子１３０等を封止する工程である（図３参照）。かかる工程により有機ＥＬ装置１００が形成される（図３参照）。
【００７３】
以上のような有機ＥＬ素子１３０の製造方法によれば、隔壁１３３の側面に傾斜角を付与し、かつ、塗布された機能液の接触角θｂｃ，θｌｃも制御することにより、上述の低分子材料を含有する機能液を用い、かつ塗布法を用いて機能層１３７を形成しても、膜厚均一性の向上した機能層１３７を有する有機ＥＬ素子１３０を製造することができる。したがって、膜厚の不均一による輝度ムラ等の発光不良が低減された有機ＥＬ素子１３０を得ることができる。そして該有機ＥＬ素子１３０を備えることにより所望の発光特性が実現され、見映えのよいカラー表示が可能な有機ＥＬ装置１００を得ることができる。
【００７４】
表２は、本実施形態による効果を、比較例と共に示す図である。隔壁１３３の側面の傾斜角を９０度から４０度まで変化させた場合における成膜状態（膜厚均一性等）と発光状態とを評価したものである。成膜状態については、×：分子の凝集により膜厚が不均一な状態、△：分子の凝集により膜厚が一部不均一な状態、○：分子の凝集が認められず膜厚が均一な状態、の３段階で評価している。発光状態については、２段階のみの評価である。そして成膜状態については機能層１３７を構成する３層について個々に評価し、発光状態は有機ＥＬ素子１３０について行っている。なお、接触角θｂｃ，θｌｃは、全て上述の式（１）〜（３）に示す条件で行っている。
【００７５】
【表２】
2015076220.tif 000004
【００７６】
表２に示すように、成膜状態と発光状態の双方とも、隔壁１３３の側面の傾斜角が４０度〜６０度の範囲であれば良好な結果を示している。したがって、本実施形態の有機ＥＬ素子１３０の製造方法のように隔壁１３３の傾斜角が４５度であれば良好な発光が可能な有機ＥＬ素子１３０を形成できる。
【００７７】
＜機能液＞
上記の実施形態における機能液（７０，８０，９０）については、上述したもの以外にも、各種の材料を各種の溶媒と組み合わせて用いることができる。以下、上述の有機ＥＬ素子、すなわち傾斜角が略４５度の隔壁１３３を有する有機ＥＬ素子の製造方法において、実際に実験を行い、効果を確認した材料について述べる。
【００７８】
＜機能液７０＞
正孔注入層１３２ａの形成に用いる機能液７０としては、上述の２種類の低分子の正孔注入層材料以外に、高分子の正孔注入層材料であるPoly vinyl carbazole、またはＰｏｌｙ［Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（４−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（ｐｈｅｎｙｌ）−  ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ］を用いての実験も行った。そしてかかる実験は、上述の計４種類の正孔注入層材料のそれぞれの単独、あるいは２種類以上の組み合わせたもの（混合したもの）を用いて実験を行った。
そして溶媒についても、ジペンチルエーテルの他に、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、N-メチルピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキサイド、ブチロラクトン、1,3-ジイソプロピルベンゼン1,4-ジイソプロピルベンゼン、トリイソプロピルベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、3-フェノキシトルエン、2-イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソオプロピルビフェニル、を用いて実験を行った。
【００７９】
上記実験の結果、溶媒に３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソオプロピルビフェニル、の４種類を用いた場合を除き、隔壁１３３の側面に対する接触角θｂｃ≦５度、かつ、塗布領域Ａに対する接触角θｌｃ≦２０度の条件を満足し、成膜状態（膜厚均一性）も良好であるという結果が得られた。なお、溶媒が上記の４種類である場合、θｂｃ≦５度の条件は満たせたが、θｌｃ≦２０度の条件を満たせず、成膜状態（膜厚均一性）も△、すなわち分子の凝集により膜厚が一部不均一な状態という結果となった。
【００８０】
一方、比較例として隔壁１３３の傾斜角が６０度を超える場合、より具体的には７０ないし８０度の場合において、上述の構成の機能液７０を用いた実験も行った。その結果、溶媒に３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソオプロピルビフェニル、の４種類を用いた場合を除き、接触角θｂｃ≦５度、かつ、接触角θｌｃ≦２０度の条件は満たすことができたが、成膜状態（膜厚均一性）は△、すなわち分子の凝集により膜厚が一部不均一な状態という結果となった。したがって、隔壁１３３の傾斜角を６０度以下、より具体的には略４５度としたことの効果が確認された。
なお、溶媒が３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソオプロピルビフェニル、の４種類の場合はθｌｃ≦２０度の条件を満たせず、成膜状態（膜厚均一性）も×、すなわち分子の凝集により膜厚が不均一な状態という結果となった。
【００８１】
また機能液７０については、正孔注入層形成材料としてのポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を加えた混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を、溶媒としての、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノニルアルコール、デシルアルコール、ヘキサノール、ジペンチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、N-メチルピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキサイド、ブチロラクトン、３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソオプロピルビフェニル、と組み合わせたものを用いた場合についても実験を行った。
【００８２】
上記実験の結果、溶媒に３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソオプロピルビフェニルの４種類を用いた場合を除き、隔壁１３３の側面に対する接触角θｂｃ≦５度、かつ、塗布領域Ａに対する接触角θｌｃ≦２０度の条件を満足し、成膜状態（膜厚均一性）も良好であるという結果が得られた。なお、溶媒が上記の４種類である場合、θｂｃ≦５度の条件は満たせたが、θｌｃ≦２０度の条件を満たせず、成膜状態（膜厚均一性）も△、すなわち分子の凝集により膜厚が一部不均一な状態という結果となった。
【００８３】
一方、比較例として隔壁１３３の傾斜角が６０度を超える場合、より具体的には７０ないし８０度の場合において、上述の構成、すなわち正孔注入層形成材料としてＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含む機能液７０を用いた実験も行った。その結果、溶媒に３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソオプロピルビフェニル、の４種類を用いた場合を除き、接触角θｂｃ≦５度、かつ、接触角θｌｃ≦２０度の条件は満たすことができたが、成膜状態（膜厚均一性）は△、すなわち分子の凝集により膜厚が一部不均一な状態という結果となった。したがって、隔壁１３３の傾斜角を６０度以下、より具体的には略４５度としたことの効果が確認された。
なお、溶媒が３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソオプロピルビフェニル、の４種類の場合はθｌｃ≦２０度の条件を満たせず、成膜状態（膜厚均一性）も×、すなわち分子の凝集により膜厚が不均一な状態という結果となった。
【００８４】
＜機能液８０＞
正孔輸送層１３２ｃの形成に用いる機能液８０としては、上述の低分子の正孔輸送層材料としての（４，４’，４’’−ｔｒｉｓ（Ｎ，Ｎ−ｐｈｅｎｙｌ−３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ）以外に、高分子の正孔輸送層材料であるＰｏｌｙ［（９，９−ｄｉｏｃｔｙｌｆｌｕｏｒｅｎｙｌ−２，７−ｄｉｙｌ）−ｃｏ−（４，４’−（Ｎ−（４−ｓｅｃ−  ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｄｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ）］ を用いての実験も行った。そしてかかる実験は、上述の２種類の正孔輸送層材料のそれぞれの単独、組み合わせたもの（混合したもの）を用いて実験を行った。そして溶媒についても、ジペンチルエーテルの他に、各種の溶媒を単独で、あるいは組み合わせて用いた実験を行った。
【００８５】
単独の溶媒としては、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、N-メチルピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキサイド、ブチロラクトン、1,3-ジイソプロピルベンゼン、1,4-ジイソプロピルベンゼン、トリイソプロピルベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソオプロピルビフェニル、を用いた場合についても実験を行った。
【００８６】
複数の溶媒を組み合わせた溶媒とは、３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソプロビルビフェニルのうちのいずれか（以下、「第２溶媒」と称する）を、以下に記載の第１溶媒と混合して得られた溶媒である。
第１溶媒は、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノニルアルコール、デシルアルコール、ヘキサノール、ジペンチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルプロピルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、N-メチルピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキサイド、ブチロラクトン、ブチロラクトン、1,3-ジイソプロピルベンゼン、1,4-ジイソプロピルベンゼン、トリイソプロピルベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、３-フェノキシトルエン、のいずれかである。
第１溶媒と第２溶媒の混合比率については、第１溶媒と第２溶媒の比を、１０：９０、３０：７０、５０：５０、７０：３０、の４種類について実験を行った。
【００８７】
そしてさらに、上述の実験は、塗布領域Ａに対する接触角θｌｃの測定において下地となる正孔注入層１３２ａの形成材料として、段落００７８に記載の計４種類の正孔注入層材料のそれぞれの単独、あるいは２種類以上の組み合わせたもの（以下、「均一系材料」と称する）を用いた場合と、（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を用いた場合の、それぞれについて実施した。そしてさらに、比較例としての隔壁１３３の傾斜角が６０度を超える場合、より具体的には７０ないし８０度の場合についても上記の機能液８０を用いた実験を行った。結果は以下の通りである。
【００８８】
単独の溶媒と、均一系材料の下地と、の組み合わせで隔壁１３３の傾斜角が略４５度の場合、全ての溶媒において、接触角θｂｃ≦５度、かつ、接触角θｌｃ≦２０度の条件を満足し、成膜状態（膜厚均一性）も良好であるという結果が得られた。
また、第１溶媒と第２溶媒とを混合して得られた溶媒と、均一系材料の下地と、の組み合わせで１３３の傾斜角が略４５度の場合も、全ての溶媒において、接触角θｂｃ≦５度、かつ、接触角θｌｃ≦２０度の条件を満足し、成膜状態（膜厚均一性）も良好であるという結果が得られた。
【００８９】
一方、比較例である隔壁１３３の傾斜角が７０ないし８０度の場合、単独の溶媒を用いた場合と、第１溶媒と第２溶媒とを混合して得られた溶媒を用いた場合の双方において、接触角θｂｃ≦５度、かつ、接触角θｌｃ≦２０度の条件は満たすことができたが、成膜状態（膜厚均一性）は△、すなわち分子の凝集により膜厚が一部不均一な状態という結果となった。したがって、隔壁１３３の傾斜角を６０度以下、より具体的には略４５度としたことの効果が確認された。
【００９０】
傾斜角が略４５度の隔壁１３３と（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の下地の組み合わせで、単独の溶媒を用いた場合は、溶媒に３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソオプロピルビフェニルの４種類を用いた場合を除き、接触角θｂｃ≦５度、かつ、接触角θｌｃ≦２０度の条件を満足し、成膜状態（膜厚均一性）も良好であるという結果が得られた。なお、溶媒が上記の４種類である場合、θｂｃ≦５度の条件は満たせたが、θｌｃ≦２０度の条件を満たせず、成膜状態（膜厚均一性）も△、すなわち分子の凝集により膜厚が一部不均一な状態という結果となった。
【００９１】
傾斜角が略４５度の隔壁１３３と（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の下地の組み合わせで、第１溶媒と第２溶媒とを混合して得られた溶媒を用いた場合、第１溶媒が３−フェノキシトルエンである場合を除き、接触角θｂｃ≦５度、かつ、接触角θｌｃ≦２０度の条件を満足し、成膜状態（膜厚均一性）も良好であるという結果が得られた。第１溶媒が３−フェノキシトルエンである場合は、θｂｃ≦５度の条件は満たせたが、θｌｃ≦２０度の条件を満たせず、成膜状態（膜厚均一性）も△、すなわち分子の凝集により膜厚が一部不均一な状態という結果となった。
【００９２】
比較例として傾斜角が７０ないし８０度の隔壁１３３と（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の下地の組み合わせで、単独の溶媒を用いた場合は、溶媒に３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソオプロピルビフェニルの４種類を用いた場合を除き、接触角θｂｃ≦５度、かつ、接触角θｌｃ≦２０度の条件は満たすことができたが、成膜状態（膜厚均一性）が△、すなわち分子の凝集により膜厚が一部不均一な状態という結果となった。
【００９３】
また、溶媒が３−フェノキシトルエン、２−イソプロピルナフタレン、ジベンジルエーテル、イソオプロピルビフェニルの４種類のうちのいずれかである場合、接触角θｂｃ≦５度の条件は満たすことができたが、θｌｃ≦２０度の条件を満たせず、成膜状態（膜厚均一性）も×、すなわち分子の凝集により膜厚が不均一な状態という結果となった。
【００９４】
同じく比較例として傾斜角が７０ないし８０度の隔壁１３３と（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の下地の組み合わせで、第１溶媒と第２溶媒とを混合して得られた溶媒を用いた場合、第１溶媒に３−フェノキシトルエンを用いた場合を除き、接触角θｂｃ≦５度、かつ、接触角θｌｃ≦２０度の条件は満たすことができたが、成膜状態（膜厚均一性）が△、すなわち分子の凝集により膜厚が一部不均一な状態という結果となった。また、第１溶媒に３−フェノキシトルエンを用いた場合、接触角θｂｃ≦５度の条件は満たすことができたが、θｌｃ≦２０度の条件を満たせず、成膜状態（膜厚均一性）も×、すなわち分子の凝集により膜厚が不均一な状態という結果となった。
【００９５】
以上の結果により、正孔輸送層１３２ｃの形成時においても隔壁１３３の傾斜角を６０度以下、より具体的には略４５度としたことの効果が確認された。
【００９６】
＜機能液９０＞
発光層１３２（１３２ｒ，１３２ｂ，１３２ｇ）の形成に用いる機能液９０に含まれる発光材料として、上述の実施形態では、低分子材料である、赤色光発光材料としてのIridium（III）bis（2−（2'−benzothienyl）pridinato−N,C3'）（acetylacetonate）と、緑色光発光材料としてのＡｌｑ３（Tris（8−hydroxyquinolato）aluminium（III））と、青色光発光材料としてのIridium（III）bis（2−（4,6−diflurophenyl）pyridinato−N,C2'）picolinateと、を用いている。
【００９７】
しかし、低分子材料のみではなく、高分子材料を用いての実験も行った。高分子材料として、赤色光発光材料としては、Ｐｏｌｙ［｛９，９−ｄｉｈｅｘｙｌ−２，７−ｂｉｓ（１−ｃｙａｎｏｖｉｎｙｌｅｎｅ）ｆｌｕｏｒｅｎｙｌ−ｅｎｅ｝−ａｌｔ−ｃｏ−｛２，５−ｂｉｓ（Ｎ，Ｎ’−ｄｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）−１，４−ｈｅｎｙｌｅｎｅ｝］を用いた。緑色光発光材料としては、Poly(9,9-dihexylfluorenyl-2,7-diyl) を用いた。青色光発光材料としては、Ｐｏｌｙ［（９，９−ｄｉｏｃｔｙｌｆｌｕｏｒｅｎｙｌ−２，７−ｄｉｙｌ）−ｃｏ−（Ｎ，Ｎ’−ｄｉｐｈｅｎｙｌ）−Ｎ，Ｎ’−ｄｉ（ｐ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）  １，４−ｄｉａｍｉｎｏ−  ｂｅｎｚｅｎｅ）］を用いた。そしてかかる実験は、高分子材料を単独で用いた場合、あるいは低分子材料と高分子材料を混合した場合についての双方を実施している。
【００９８】
そして溶媒についても、ジペンチルエーテルの他に、各種の溶媒を用いて実験を行った。ここで、溶媒については、上述の正孔輸送層１３２ｃの形成の実験で用いたものと同一である。すなわち単独の溶媒、あるいは第１溶媒と第２溶媒と混合して得られた溶媒であり、混合比率も同一である。そのため、個々の溶媒の名称についての記載は省略する。以下、実験の結果を述べる。
【００９９】
単独の溶媒と傾斜角が略４５度の隔壁１３３との組み合わせ場合、全ての溶媒において、接触角θｂｃ≦５度、かつ、接触角θｌｃ≦２０度の条件を満足し、成膜状態（膜厚均一性）も良好であるという結果が得られた。また、第１溶媒と第２溶媒とを混合して得られた溶媒を用いた場合も、全ての溶媒において、接触角θｂｃ≦５度、かつ、接触角θｌｃ≦２０度の条件を満足し、成膜状態（膜厚均一性）も良好であるという結果が得られた。
【０１００】
一方、比較例である隔壁１３３の傾斜角が７０ないし８０度の場合、単独の溶媒を用いた場合と、第１溶媒と第２溶媒とを混合して得られた溶媒を用いた場合の双方において、接触角θｂｃ≦５度、かつ、接触角θｌｃ≦２０度の条件は満たすことができたが、成膜状態（膜厚均一性）は△、すなわち分子の凝集により膜厚が一部不均一な状態という結果となった。したがって、隔壁１３３の傾斜角を６０度以下、より具体的には略４５度としたことの効果が確認された。
【０１０１】
＜変形例＞
本発明の実施の態様は、上述の実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能である。そのような変更を伴う有機ＥＬ素子１３０の製造方法並びに該有機ＥＬ素子１３０の製造方法を適用する有機ＥＬ装置１００の製造方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
【０１０２】
（変形例１）
上述の有機ＥＬ装置１００において、正孔注入層１３２ａ、正孔輸送層１３２ｃ、発光層１３２の計３層が、上述の式（１）〜（３）で規定される条件で形成されている。しかし、上記の３層の一部のみを上述の式（１）〜（３）で規定される条件で形成する態様も可能である。一部とは、上記の３層のいずれかの層のみ、あるいは上記の３層のうちのいずれかの２層の組み合わせである。隔壁１３３等の構成が同一であっても機能液の溶媒等の変更により、上述の式（１）〜（３）で規定される条件を満たさなくなることはあり得る。
【０１０３】
（変形例２）
上述の有機ＥＬ装置１００において、隔壁１３３を構成する感光性樹脂材料はネガ型であった。しかし感光性樹脂材料はネガ型に限定されず、ポジ型を用いることもできる。
【０１０４】
（変形例３）
上述の有機ＥＬ装置１００において、機能層１３７を構成する層のうち、発光層１３２（ｒ，ｇ，ｂ）のみが発光色毎に異なっていた。しかし他の層、すなわち正孔注入層１３２ａや正孔輸送層１３２ｃも、発光色毎に形成材料を異ならせることも可能である。
【０１０５】
（変形例４）
上述の有機ＥＬ装置１００は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、三色の発光画素１０７を有することに限定されず、黄（Ｙ）の発光画素１０７を含む構成としてもよい。かかる構成によれば、色再現性を向上させることができる。
【０１０６】
（変形例５）
上述の有機ＥＬ装置１００は、ボトムエミッション型であった。しかし、トップエミッション型であっても本発明の実施対象とすることができる。
【０１０７】
（変形例６）
上述の有機ＥＬ装置１００は、発光層１３２の上層に対向電極１３４が形成されている。しかし発光層１３２と対向電極１３４との間に、電子輸送層を形成してもよい。さらに、電子輸送層と対向電極１３４との間に電子注入層を形成してもよい。電子輸送層は、対向電極１３４から注入された電子を発光層１３２に輸送する機能と、発光層１３２から対向電極１３４へ通過しようとする正孔をブロックする機能と、を有する層である。電子注入層は、対向電極１３４から上述の電子輸送層への電子の注入効率を向上させる機能を有する層である。双方とも蒸着法で形成することが好ましい。
【０１０８】
電子輸送層の材料としては、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）や８−キノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）などの８−キノリノールあるいはその誘導体を配位子とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−（４−ビフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ｔＢｕ−ＰＢＤ）、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＮＤ）のようなオキサジアゾール誘導体、シロール誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、イミダゾール誘導体などを用いることができる。電子輸送層の厚みは特に限定されないが、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【０１０９】
電子注入層の材料としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、アルカリ金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物など）、アルカリ土類金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物など）、希土類金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物など）を用いることができる。
電子注入層の厚みは、０．０１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、０．１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【０１１０】
（実施形態２）
＜電子機器＞
図１４（ａ）は、電子機器としてのヘッドマウントディスプレイ（ＨＭＤ）を示す概略図である。図１４（ｂ）は、電子機器としてのデジタルカメラを示す概略図である。以下、図１４（ａ）及び図１４（ｂ）を参照して、上述の実施形態１に係る有機ＥＬ装置１００を搭載した電子機器を説明する。
【０１１１】
図１４（ａ）に示すように、ヘッドマウントディスプレイ（ＨＭＤ）１０００は、左右の目に対応して設けられた２つの表示部１００１を有している。観察者Ｍはヘッドマウントディスプレイ１０００を眼鏡のように頭部に装着することにより、表示部１００１に表示された文字や画像などを見ることができる。例えば、左右の表示部１００１に視差を考慮した画像を表示すれば、立体的な映像を見て楽しむこともできる。
表示部１００１には、実施形態１に係る有機ＥＬ装置１００が搭載されている。有機ＥＬ装置１００は、機能層１３７の膜厚の均一性が向上し均一な発光が得られる有機ＥＬ素子１３０を有しているので、画像表示品質の向上したヘッドマウントディスプレイ１０００を提供することができる。
【０１１２】
図１４（ｂ）に示すように、デジタルカメラ２０００は、撮像素子などの光学系を有する本体２００１を有している。本体２００１には、撮像した画像などを表示するモニター２００２と、被写体を視認するための電子ビューファインダー２００３とが設けられている。モニター２００２及び電子ビューファインダー２００３には、実施形態１に係る有機ＥＬ装置１００が搭載されている。有機ＥＬ装置１００は、機能層１３７の膜厚の均一性が向上し均一な発光が得られる有機ＥＬ素子１３０を有しているので、画像表示品質の向上したデジタルカメラ２０００を提供することができる。
【０１１３】
なお、有機ＥＬ装置１００が搭載される電子機器は、上述したヘッドマウントディスプレイ１０００やデジタルカメラ２０００に限定されない。例えば、パーソナルコンピューターや携帯型情報端末、ナビゲーター、ビューワー、ヘッドアップディスプレイなどの表示部を有する電子機器が挙げられる。
【符号の説明】
【０１１４】
５０…吐出ヘッド、７０…機能液、８０…機能液、９０，９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂ…機能液、１００…有機ＥＬ装置、１０１…素子基板、１０１ａ…端子部、１０２…封止基板、１０３…走査線駆動回路、１０４…データ線駆動回路、１０５…中継基板、１０６…発光領域、１０７…発光画素、１１１…画素回路、１１２…走査線、１１３…データ線、１１４…電源線、１１５…下地絶縁膜、１１６…ゲート絶縁膜、１１７…第１層間絶縁膜、１１８…第２層間絶縁膜、１１８ａ…コンタクトホール、１２１…スイッチング用トランジスター、１２２…駆動用トランジスター、１２２ａ…半導体層、１２２ｂ…高濃度ドレイン領域、１２２ｃ…高濃度ソース領域、１２３…蓄積容量、１２４…ドレイン電極、１２４ａ…コンタクトホール、１２５…ソース電極、１２５ａ…コンタクトホール、１２６…ゲート電極、１３０…有機ＥＬ素子、１３１…画素電極、１３２…発光層、１３３…隔壁、１３４…対向電極、１３５…封着層、１３７…機能層、１４０…感光性樹脂層、１４１…撥液剤、１５０…露光用マスク、１５１…遮光部、１５２…透光部、１０００…ヘッドマウントディスプレイ、１００１…表示部、２０００…デジタルカメラ、２００１…本体、２００２…モニター、２００３…電子ビューファインダー。
【図１】
2015076220.tif 000005
【図２】
2015076220.tif 000006
【図３】
2015076220.tif 000007
【図４】
2015076220.tif 000008
【図５】
2015076220.tif 000009
【図６】
2015076220.tif 000010
【図７】
2015076220.tif 000011
【図８】
2015076220.tif 000012
【図９】
2015076220.tif 000013
【図１０】
2015076220.tif 000014
【図１１】
2015076220.tif 000015
【図１２】
2015076220.tif 000016
【図１３】
2015076220.tif 000017
【図１４】
2015076220.tif 000018