(57)【要約】【課題】入射角依存性がなく高反射率の反射層構造を持ち、これにより高い輝度を達成できる反射方式の発光装置を提供する。【解決手段】本発明の発光装置は、蛍光体層２の光出射側と反対側に設けられる反射層４との間に、蛍光体層２を構成する材料の屈折率よりも屈折率の低い材料から成る全反射膜６を設ける。好ましくは反射層４と全反射膜６との間に、光学多層膜からなる増反射膜５を設ける。全反射膜６、増反射膜５及び反射層４は、蛍光体層２の表面に順次成膜することに形成することができる。蛍光体層２が発する光のうち、全反射膜６に臨界角以上の角度で入射される光は全反射される。これにより反射層４、増反射膜５及び全反射膜６全体としての反射率を向上することができる。【選択図】図１
2015050124.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
励起光を発する光源と、前記光源からの励起光を受け、励起光と異なる波長の光を発する蛍光体層と、当該蛍光体層の励起光入射面と反対側に配置された反射層とを備えた発光装置であって、前記反射層と前記蛍光体層との間に、前記蛍光体層の屈折率より屈折率が低く、臨界角以上の角度で入射される光を全反射する全反射膜を備えることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発光装置であって、
前記全反射膜と前記反射層との間に、増反射膜をさらに有することを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項２に記載の発光装置であって、
前記増反射膜は、低屈折率材料の膜と高屈折率材料の膜を交互に積層してなる光学多層膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の発光装置であって、
前記蛍光体層と前記全反射膜との屈折率差が０．２以上であることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項４に記載の発光装置であって、
前記全反射膜は、ＳｉＯ２又はＭｇＦ２からなることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
前記光源は青色レーザーを発するものである請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＤ（レーザーダイオード）やＬＥＤ（発光ダイオード）などの光源と、光源からの光を吸収し蛍光を発する蛍光体とを組み合わせた発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＤやＬＥＤ等の固体光源と蛍光体を組み合わせた発光装置は、高輝度光源として、一般照明や自動車のヘッドランプなどの応用範囲が広がってきている。
【０００３】
光源を高輝度化する方法として、反射方式の装置が提案されている（特許文献１）。反射方式の発光装置では、光半導体と蛍光体層を空間的に離して配置し、蛍光体層側からの発光を反射方式で利用する。蛍光体層からの発光を反射するために、蛍光体層をアルミニウム等の反射性のよい金属基板に接合する、基板に光反射率が高い銀（Ａｇ）をコーティングするなどの手法が採用されている。このような反射方式の発光装置では、固体光源からの励起光によって励起された蛍光体層からの発光と、蛍光体層で反射する励起光の反射光の両方を利用することができるので、高輝度が達成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−６４４８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
蛍光体層における発光は、全方向に向かう光であり、反射基板（反射層）の反射面にはあらゆる入射角度で入射することになる。従って、反射層として用いられる材料は、角度依存性のないことが望まれる。銀は、すべての入射角で波長５００ｎｍ〜８００ｎｍに亘って９８％以上の高い反射率が得られ、優れた材料であるが、可視光領域で数％の光を吸収する。
【０００６】
一方、誘電体多層膜は、反射率を高めることが知られており、アルミニウム等の金属膜からなる反射層に誘電体多層膜を形成し反射率を高める手法がある。しかし、このような増反射膜は高い入射角、特に７０度以上の入射角における反射率が急激に低下するという性質を持つ。このため、仮に、反射方式の発光装置において、蛍光体層と銀反射膜との間に増反射膜を設けた場合、高い入射角での反射率が低下するため高輝度化を図ることができない。
【０００７】
本発明は、角度依存性がなく高反射率の反射層構造を持ち、これにより高い輝度を達成できる反射方式の発光装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明の発光装置は、蛍光体層の光出射側と反対側に設けられる反射層と蛍光体層との間に、反射層を構成する材料の屈折率よりも屈折率の低い材料から成る全反射膜を設ける。
【０００９】
すなわち本発明の発光装置は、励起光を発する光源と、前記光源からの励起光を受け、励起光を入射し、励起光と異なる波長の光を発する蛍光体層と、当該蛍光体層の励起光入射面と反対側に配置された反射層とを備えた発光装置であって、前記反射層と前記蛍光体層との間に、前記蛍光体層の屈折率より屈折率が低く、臨界角以上の角度で入射される光を全反射する全反射膜とを備えることを特徴とする。
【００１０】
本発明の発光装置の好適な態様は、全反射膜と反射層との間に、増反射膜をさらに有する。
【発明の効果】
【００１１】
反射層と蛍光体層との間に、全反射膜を介在させることにより、反射層で吸収される光の量を減らすことができ、発光体の高輝度化を図ることができる。特に反射層と全反射膜との間に増反射膜を設けた場合には、増反射膜が全反射膜で全反射されない臨界角以下の入射光について反射率を高めるとともに、全反射膜が増反射膜の反射角度依存性を補完するので、さらなる高輝度化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の発光装置の第一実施形態を示す断面図
【図２】第一実施形態の発光装置における光の光路を説明する図
【図３】第一実施形態における反射率の入射角依存性を示すグラフ
【図４】図３の反射率のシミュレーション方法を説明する図
【図５】第一実施形態の発光装置の製造方法の一例を示す図
【図６】本発明の発光装置の第二実施形態を示す断面図
【図７】第二実施形態における反射率の角度依存性を示すグラフ
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の発光装置の実施形態を、図面を参照して説明する。
図１は、各実施形態に共通する発光装置の全体構成を示す図である。この発光装置は、所定の波長の光を発する固体光源１と、固体光源１からの光を励起光として、励起光と異なる波長の光を発する蛍光体層２と、基板３と、図示しない支持構造や必要に応じて追加される光学部材とから構成されている。蛍光体層２と基板３との間には、反射層４が設けられており、蛍光体層２の反射層側とは反対の面が発光面（光出射面）となる。また実施形態の発光装置では、固体光源１は、蛍光体層２の発光面に対し斜めから励起光が入射するように、蛍光体層２に対し配置されている。
【００１４】
本実施形態の発光装置は、さらに、蛍光体層２と反射層４との間に、反射層４から順に、増反射膜５及び全反射膜６が設けられている。また図１では省略しているが、反射層４から上の層の側面には、各層側面からの光の漏れを防止するための白樹脂等の壁材を設けてもよい。壁材としては、シリコーン樹脂やエポキシ樹脂等の樹脂に、ＴｉＯ２、ＢＮ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＢａＳＯ４、ＳｉＯ２等の散乱材を分散させた所謂白樹脂と呼ばれる材料を用いることができる。
【００１５】
固体光源１には、紫外光から青色光領域に発光波長を持つ発光ダイオード（ＬＥＤ）やレーザーダイオード（ＬＤ）などが使用できる。本発明は、励起項強度が高い光源を使用した発光装置に特に有効であるため、レーザーダイオードを用いることが好ましい。具体的には、ＩｎＧａＮ系やＧａＮ系の半導体から構成され、波長４５０ｎｍの青色光を発光するレーザーダイオードが挙げられる。
【００１６】
蛍光体層２は、固体光源１が発する光を励起光として、励起光よりも長波長の光を発する蛍光体を含む層である。具体的には、赤色用として、ＣａＡｌＳｉＮ３：Ｅｕ２＋、（Ｃａ，Ｓｒ）ＡｌＳｉＮ３：Ｅｕ２＋、Ｃａ２Ｓｉ５Ｎ８：Ｅｕ２＋、（Ｃａ，Ｓｒ）２Ｓｉ５Ｎ８：Ｅｕ２＋、ＫＳｉＦ６：Ｍｎ４＋、ＫＴｉＦ６：Ｍｎ４＋等、黄色用として、Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｃｅ３＋（ＹＡＧ）、（Ｓｉ，Ｂａ）２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋、Ｃａｘ（Ｓｉ，Ａｌ）１２（Ｏ，Ｎ）１６：Ｅｕ２＋等、緑色用として、Ｌｕ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｃｅ３＋、Ｙ３（Ｇａ，Ａｌ）５Ｏ１２：Ｃｅ３＋、Ｃａ３Ｓｃ２Ｓｉ３Ｏ１２：Ｃｅ３＋、ＣａＳｃ２Ｏ４：Ｅｕ２＋、（Ｂａ，Ｓｒ）２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋、Ｂａ３Ｓｉ６Ｏ１２Ｎ２：Ｅｕ２＋、（Ｓｉ，Ａｌ）６（Ｏ，Ｎ）８：Ｅｕ２＋等の蛍光体を用いることができる。これらは１種類または２種類以上を混合して用いることができる。レーザーの青色光と上記黄色蛍光体を組み合わせた場合には、光源装置１からの発光は白色光となる。
【００１７】
蛍光体層２の形態は、蛍光体粉末をガラスや樹脂中に分散させたもの、ガラス母体に発光中心イオンを添加したガラス蛍光体、及び蛍光体セラミックス等を用いることができる。蛍光体粉末をガラスや樹脂中に分散させたものとして具体的には、上述した蛍光体の粉末をＰ２Ｏ３、Ｓｉ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３などの成分を含むガラス中に分散したものが挙げられる。ガラス蛍光体としては、Ｃｅ３＋やＥｕ２＋を賦活剤（発光中心イオン）として添加したＣａ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ系やＹ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ 系等の酸窒化物系ガラス蛍光体が挙げられる。蛍光体セラミックスとしては、上述した蛍光体組成から成り、樹脂成分を実質的に含まない焼結体が挙げられる。
【００１８】
これらの中でも蛍光体粉末の焼結体である蛍光体セラミックスが好ましい。蛍光体セラミックスは熱伝導性が高いため、蛍光体の発光が熱によって弱まる現象（温度消光）を低減することができる。蛍光体セラミックスのなかでも、焼結体中に光の散乱の原因となるポアや粒界の不純物を殆ど含まない透光性の高いものが特に好ましい。焼結体のポアは、焼結体を製造する際に用いる融剤の選択や焼結時の圧力や温度を調整することにより低減することができる。なおポアの残存量を評価する指標として蛍光体セラミックスの比重の値を用いることができ、その値が計算される理論値に対して９５％以上のものが特に望ましい。透光性の高い蛍光体セラミックスを用いることにより、励起光や蛍光を拡散により失うことなく蛍光層からの光の取り出し効率を高めることができる。
【００１９】
なお図１では、厚みが均一な平板状の蛍光体層２を示しているが、蛍光体層２は平板状のものではなく、例えば、球状や光出射面及び／又は光出射面と反対側の面が凸状または凹状のものなど種々の形状を取りえる。また平板状のものについて、特に限定されるものではないが、厚みは、５０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましい。このような範囲とすることにより、十分な輝度が得られ且つ側面からの光の損失を抑えることができる。好ましくは厚み１００μｍ以上１５０μｍ以下である。他の形状のものについても、平板状のものの厚みから類推される範囲の厚みとすることが好ましい。
【００２０】
蛍光体層２の光出射面すなわち固体光源１からの励起光が入射する面は、必要に応じて、励起光の反射を防止するための処理を施したり、公知の反射防止膜（不図示）を設けたりすることができる。
【００２１】
基板３は、蛍光体層２の支持基板として機能するとともに、蛍光体が発する熱を外部に逃がす放熱基板としても機能する。このため基板３は、高い伝熱特性、加工性を併せ持つ材料から形成することが好ましい。具体的には、酸化物セラミックス、非酸化物セラミックス（窒化物セラミックス）などのセラミックスや、Ａｌ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｆｅ、Ｐｄなどの金属またはそれを含む合金などを使用することができる。高い伝熱特性という点で特に金属が好ましい。
【００２２】
基板３の表面は、メッキ、スパッタ成膜、蒸着成膜など、必要に応じて表面処理を施してもよい。特に蛍光体層側表面には、反射層等との接着性を高めるための表面処理を施してもよい。また外側となる表面には、放熱性を高めるためにフィン形状を有していてもよい。
【００２３】
基板３は接合層７により、蛍光体層２等と接合される。接合層７は、耐熱性及び熱伝導性の良好な材料からなることが好ましい。具体的には、シリコーン樹脂等の有機系接着剤、ガラス等の無機系接着剤、ＡｕＳｎ、はんだ等の低融点金属ないし金属ろうなどを用いることができる。後述する反射層４を蛍光体層２に成膜して形成し、この反射層４を基板３に接合する場合には、接合層７は透光性である必要はないが、基板３の表面が反射層４を兼ねる場合或いは基板３の表面に反射層４を成膜する場合には、接合層７は透明シリコーン樹脂、ガラス等の透光性の材料を用いることが好ましい。
【００２４】
反射層４は、蛍光体層２が発生する光や蛍光体層２を透過した光を、蛍光体層２の光出射面側に反射するものであり、蛍光体層２の光出射面と反対側に、或いは基板３の表面に成膜することにより形成される。基板３自体が高い反射性を有する材料からなる場合は、基板３の表面が反射層４を兼ねることができる。成膜によって形成する反射層４の材料としては、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ等の金属が用いられる。特に波長依存性がなく、反射率が高いＡｇが好ましい。反射層４は、電子ビーム蒸着（ＥＢ）法、スパッタ法などによって形成することができる。反射層４の厚みは、好ましくは５０ｎｍ以上、より好ましくは１００ｎｍ以上である。厚みの上限については、厚みを厚くしても得られる効果は変わらず、成膜の時間が長時間化するだけであるので、１０００ｎｍ以下程度でよい。
【００２５】
反射層４は、必要に応じて、金属の膜を保護するための保護膜（不図示）を設けることができる。保護膜としては、Ｔｉ等の金属膜やＴｉＯ２等の金属酸化物の膜が用いられ、これらの膜はＥＢ法やスパッタ法などの公知の成膜技術により形成することができる。保護膜の厚みは、反射層４の厚みと同程度かそれより薄くてもよい。
【００２６】
増反射膜５は、低屈折率材料と高屈折率材料とを交互に積層した光学多層膜であり、各層の厚みが入射光の波長λの１／４に調整され、十分な層数とすることにより入射光を殆ど透過せず反射光にすることができる。従って、層の厚みは固体光源１からの光及び蛍光の波長を考慮して調整され、具体的には約１０ｎｍ〜１００ｎｍである。全体の厚みは約０．０１μｍ〜３μｍが好ましい。低屈折率材料としては、例えば、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４（チオライト）（ｎ＝１．３３）、ＡｌＦ３（ｎ＝１．３６）、ＣａＦ２（ｎ＝１．３８）、ＳｉＯ２（ｎ＝１．４５）、Ａｌ２Ｏ３（ｎ＝１．６４）等が用いられる。高屈折率材料としては、ＣｅＯ２（ｎ＝２．１３）、Ｔａ２Ｏ５（ｎ＝２．２０）、Ｔｉ３Ｏ５（ｎ＝２．３１）、ＴｉＯ２（ｎ＝２．３５）、Ｎｂ２Ｏ５（ｎ＝２．３７）等が用いられる。これら材料をスパッタリング、真空蒸着等の方法で順次成膜することによりに増反射膜５を形成することができる。
【００２７】
全反射膜６は、蛍光体層２に直接接する層であり、蛍光体層２の屈折率よりも小さい屈折率を持つ物質から構成される。全反射膜６を構成する材料の、蛍光体層との屈折率差は、好ましくは０．１以上、より好ましくは０．２以上である。典型的な蛍光体であるＹＡＧの屈折率は１．８５であるので、屈折率が１．６５以下であることが好ましい。このような低屈折率材料として、具体的には、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４（チオライト）（ｎ＝１．３３）、ＡｌＦ３（ｎ＝１．３６）、ＭｇＦ２（ｎ＝１．３８）、ＣａＦ２（ｎ＝１．４３）、ＳｉＯ２（ｎ＝１．４５）、Ａｌ２Ｏ３（ｎ＝１．６４）などを用いることができる。これらのうち成膜性の観点からはＳｉＯ２が好適である。また全反射性を含む性能の観点からはＭｇＦ２が好適である。
【００２８】
全反射膜６の厚みは、限定されるものではないが、好ましくは３００ｎｍ以上、より好ましくは５００ｎｍ以上である。また好ましくは２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下である。全反射膜６は、増反射膜５と同様にスパッタリング、真空蒸着等の方法で成膜することができる。
【００２９】
図２に示すように、蛍光体層２が発する光には方向性がなく全方向に向かうため、全反射膜６には入射する光の入射角は０度から９０度まで分布する。ここで全反射膜６は蛍光体層２よりも屈折率が低いので、蛍光体層２から全反射膜６に入射する光のうち臨界角θＴ以上の入射角の光は全反射される。蛍光体層２の屈折率をｎ１、全反射膜６の屈折率をｎ２とすると、スネルの法則より臨界角θＴは
ｓｉｎ（θＴ）＝ｎ２／ｎ１
で表される。例えば、蛍光体層２がＹＡＧ（ｎ＝１．８５）、全反射膜６がＳｉＯ２（ｎ＝１．４５）の場合、臨界角θＴは５１．６度となる。つまり５１．６度以上の入射角の光は全反射される。
【００３０】
臨界角以下の入射角の光は全反射膜６に入射する。ここで全反射膜６が光透過性の良好な材料から構成されている場合には、全反射膜６を透過する。全反射膜６を透過した光は、増反射膜５に入射される。増反射膜５に入射した光は、光学多層膜を通過する際に多重反射して透過方向に進む光は殆どゼロとなり、それらは反射光となって全反射膜６を介して蛍光体層２に戻る。増反射膜５の反射率は波長依存性が高いため所定の波長以外の光は、増反射膜５を透過して反射層４に到達するが、反射層４によって反射される。
【００３１】
このように全反射膜６は、蛍光体層２が発する光のうち入射角の大きい光を全反射して、増反射膜５と反射層４に向かうのを防止し、増反射膜５の増反射機能を十分に発揮させることができる。また増反射膜５を透過した光、すなわち増反射膜５の反射特性が低い波長の光は反射層４により反射される。これによって全反射膜６、増反射膜５及び反射層４全体として、高い反射率を達成することができる。
【００３２】
図３に、これらの光学膜による反射特性をシミュレーションした結果を示す。シミュレーションは、図４に示す媒質４１をＹＡＧ（１．８５）、全反射膜４２をＳｉＯ２（１．４５）、増反射膜４３をＳｉＯ２／Ｔａ２Ｏ５の多層膜（６層）、反射層４４を銀に設定し、媒質４１内に測定器が存在するものと仮定し、ＹＡＧの蛍光スペクトルのピーク波長を入射光の基準波長５１０ｎｍとし、入射角θが０度から９０度までの範囲における反射率（Ｐ波とＳ波の平均値）を計算したものである。また各層中の散乱性はないものとし、界面は鏡面（凹凸はない）と仮定した。図３中、破線は銀のみの反射率、点線は銀の上に増反射膜を設けた場合の反射率、実線は銀の上に増反射膜／全反射膜を設けた場合の反射率である。
【００３３】
図３に示すように、入射角０度から７０度の範囲では、銀のみの反射率よりも銀の上に増反射膜を設けた場合の反射率が向上するが、７０度を超えると極端に反射率が低下する。これは増反射膜を構成する多層膜の厚み（理想的にはλ／４）が入射角によって変化することに起因する。これに対し、増反射膜の上にさらに全反射膜を設けた場合には、入射角が臨界角以上の光は全反射されるため、増反射膜における反射率の影響を受けず、入射角７０度以上においても高い反射率を維持することができる。
【００３４】
次に本実施形態の発光装置の製造方法の一例を説明する。図５に示すように、製造工程は、大きく分けて、蛍光体層の製造工程５０１と、蛍光体層への成膜工程５０２と、基板への接合工程５０３とを含む。
【００３５】
Ｃｅ：ＹＡＧを用いた製造方法の一実施例を説明する。
＜蛍光体層の製造＞
原料粉末である硝酸イットリウム（６水和物）、硝酸アルミニウム（９水和物）、硝酸セリウム（６水和物）を化学量論比で秤量した後、水を加え撹拌し溶解した。この水溶液に、炭酸水素アンモニウム水溶液を滴下して沈殿物を形成し、ｐＨが８．５になった時点で３時間放置した。生成した沈殿物を遠心分離（３０００ｒｐｍ、５分×３回）にかけて分離し、沈殿物を１００℃で１２時間乾燥した。乾燥物を乳鉢及び乳棒を用いて砕いた後、９００℃で２時間仮焼成を行った。焼成物を乳鉢及び乳棒で砕いたのち、３０ＭＰａで所定形状の金型を用いて一軸金型成形を行い、成形した。さらに１５０ＭＰａで冷間静水圧成形（ＣＩＰ）を行って成形体とし、１７００℃の窒素雰囲気中で焼成を行い、焼結体とし、焼結体を研磨し鏡面加工した。
【００３６】
＜蛍光体層への成膜＞
鏡面加工された蛍光体層に、全反射膜、増反射膜をＥＢ法により成膜した。全反射膜は、ＳｉＯ２で、膜の厚みを１０００ｎｍとした。増反射膜はＳｉＯ２とＴａ２Ｏ５との多層膜で、層数は６、層の厚みは２６０ｎｍとした。なお膜の厚みや層の厚みは、成膜時間を制御することにより容易且つ高精度に制御することができる。全反射膜及び増反射膜を積層した蛍光体層の上に、さらにＡｇ合金の反射膜（１５０ｎｍ）、Ｔｉの保護膜（５０ｎｍ）を順次スパッタ法により成膜した。
【００３７】
＜基板への接合＞
所定の大きさの金属製（Ａｌ）の基板３を用意し、その上に接合層となるシリコーン樹脂をディスペンス工法により塗布した。次いで蛍光体層に形成した保護膜面を樹脂塗布液に載せ、加圧した後、１５０℃で４時間加熱し、シリコーン樹脂を硬化した。
【００３８】
以上説明した製造方法は実施例であって、本実施形態の発光装置の製造方法は上記の方法や条件、数値に限定されるものではない。
【００３９】
本実施形態の発光装置によれば、蛍光体層からの光を反射する反射層と、蛍光体層との間に、反射層から順に増反射膜及び全反射膜を設けたことにより、各光学膜（全反射膜、増反射膜及び反射層）がそれぞれの反射特性を補い、入射角依存性がない高い反射性を有するため、発光装置としての輝度を向上することができる。
【００４０】
＜第二実施形態＞
本実施形態の発光装置は、蛍光体層と反射層との間に蛍光体層を構成する材料の屈折率よりも屈折率が小さい材料からなる全反射膜を備えている点は、第一実施形態と同様である。但し、本実施形態の発光装置では、図６に示すように、第一実施形態で反射層と全反射膜との間に備えられていた増反射膜が省略されている。図６において、図１と同じ要素は同じ符号で示し、説明を省略する。
【００４１】
本実施形態の発光装置でも、蛍光体層２が発する光のうち全反射膜６に臨界角以上の入射角で入射する光が全反射されることは第一実施形態と同じであるが、全反射膜６に入射した光は直接反射層４に向かい、反射層４との界面で反射されて全反射膜６及び蛍光体層２を透過して蛍光体層２の出射面から出射される。
【００４２】
図７に、本実施形態の光学膜による反射特性をシミュレーションした結果を示す。シミュレーションの条件は第一実施形態と同様である。図７中、破線は銀のみの反射率、実線は銀の上に全反射膜を設けた場合の反射率である。参考のため、銀の上に増反射膜を設けた場合の反射率を点線で、銀の上に増反射膜／全反射膜を設けた場合の反射率（第一実施形態）を一点鎖線で示す。
【００４３】
図示するように、増反射膜を設けた場合に比べると比較的低入射角における反射率は低いが、全反射膜の臨界角以上の入射角の範囲では、全反射膜による反射率の向上効果が確認された。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明によれば高輝度の発光装置が提供される。この発光装置は、高輝度光源として利用できるほか、車両用灯具や一般的な照明装置にも適用することができる。
【符号の説明】
【００４５】
１・・・固体光源、２・・・蛍光体層、３・・・基板、４・・・反射層、５・・・増反射膜、６・・・全反射膜、７・・・接合層。
【図１】
2015050124.tif 000003
【図２】
2015050124.tif 000004
【図３】
2015050124.tif 000005
【図４】
2015050124.tif 000006
【図５】
2015050124.tif 000007
【図６】
2015050124.tif 000008
【図７】
2015050124.tif 000009