(57)【要約】【課題】立体感のある凹凸を加飾印刷層に形成しつつ、且つ高い表面強度を有する成形品を提供することが可能な、インモールド転写箔及びそれを用いた成形品を提供する。【解決手段】ベースフィルム１の一方の面に、離型層２と、アフターキュアタイプの紫外線硬化樹脂からなるハードコート層３と、紫外線硬化樹脂からなる凹凸形成層６と、インキ反射層７と、接着層８をこの順で積層したインモールド転写箔１００であって、ハードコート層３と凹凸形成層６との間に、紫外線遮断層４を介挿する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースフィルムの一方の面に、離型層と、アフターキュアタイプの紫外線硬化樹脂からなるハードコート層と、紫外線硬化樹脂からなる凹凸形成層と、反射層と、接着層と、をこの順で積層したインモールド転写箔であって、
前記ハードコート層と前記凹凸形成層との間に、紫外線遮断層を介挿したことを特徴とするインモールド転写箔。
【請求項２】
前記紫外線遮断層は、水酸基及び紫外線吸収性の官能基を有するアクリルポリマーと、イソシアネート化合物との硬化物であることを特徴とする請求項１に記載したインモールド転写箔。
【請求項３】
前記凹凸形成層は、ウレタンアクリレートオリゴマーと、イソシアネート化合物と、体質顔料とを少なくとも含む紫外線硬化樹脂であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載したインモールド転写箔。
【請求項４】
前記反射層は、アルミニウムフィラー及びパール顔料のうち少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１から請求項３のうちいずれか１項に記載したインモールド転写箔。
【請求項５】
前記反射層は、錫蒸着膜であり且つ全光線透過率が５％以上であることを特徴とする請求項１から請求項３のうちいずれか１項に記載したインモールド転写箔。
【請求項６】
請求項１から請求項５のうちいずれか１項に記載したインモールド転写箔を用い、インモールド射出成形法で製造されたことを特徴とする成形品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インモールド転写箔に関し、さらに詳しくは、工業製品の加飾に適したインモールド転写箔に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
インモールド転写箔を用いた成形品は、日用品や生活用品等の機器本体、食品や各種物品の容器類、電子機器や事務用品等の筐体類等に用いられる。
インモールド転写箔とは、基材となるベースフィルム上に、例えば、離型層、印刷層、接着層を形成したプラスチック加飾成形用の転写箔である。また、インモールド成形は、一対の射出成形用金型間にインモールド転写箔を供給し、射出成形用金型によって形成されるキャビティに加熱加圧した成形樹脂を充填した後、ベースフィルム及び離型層を剥離させて、成形樹脂に印刷層を転写して装飾を行う成形方法である。
【０００３】
表面強度の高い成形品を得るためのインモールド転写箔としては、離型層上に紫外線未照射時でも固体である紫外線硬化性樹脂をハードコート層として形成し、その上に、加飾印刷層、接着層等を形成したものがある。このタイプのインモールド転写箔は、アフターキュアタイプのインモールド転写箔と呼ばれ、射出成形で成形物の表面にハードコート層及び加飾印刷層を転写した後、紫外線を照射してハードコート層を硬化することで、箔の成形性（クラック耐性）と硬度を両立している。なお、このアフターキュアタイプのインモールド転写箔の場合、成形前に紫外線を照射し、ハードコート層を硬化させてしまうと、成形性が損なわれて外観不良となる。
【０００４】
従来のインモールド転写箔は、文字や絵柄等をベースフィルム上に平面的に印刷しただけの構造であるため、加飾表現において、立体感が乏しいという問題があった。
この問題に対し、立体感を表現する方法として、成形品表面は平滑であるが、加飾印刷層内で凹凸形成して立体感を出す方法がある（例えば、特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３８１３７９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載の方法等、立体表現の凹凸形成には、紫外線硬化型のスクリーンインキでスクリーン印刷することが多く、この印刷工程で紫外線照射を行なうため、アフターキュアタイプのインモールド転写箔は使用できないという問題がある。
また、工業製品は、長期に亘る使用や、過酷な環境下における使用が予想されるため、工業製品の加飾に用いるインモールド転写箔には、転写後の成形品に対し、表面強度の高い転写箔が求められる。
【０００７】
そこで、離型層の上にハードコート層を形成し、その上に、印刷層、接着層等を形成したインモールド転写箔を、工業製品の加飾に用いることが望ましい。
しかしながら、インモールド転写箔で用いられるハードコート層の多くは、紫外線硬化樹脂から形成されるため、紫外線硬化樹脂を用いて凹凸形成層を設けると、成形前にインモールド転写箔に紫外線を照射しなければならず、成形前に紫外線硬化性樹脂からなるハードコート層を硬化させてしまう。このため、インモールド転写箔の成形性が損なわれ、不良品が発生しやすいといった問題が生じる。
【０００８】
本発明は、このような問題点を解決しようとするものであり、立体感のある凹凸を加飾印刷層に形成しつつ、且つ高い表面強度を有する成形品を提供することが可能な、インモールド転写箔及びそれを用いた成形品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するために、本発明の一態様は、ベースフィルムの一方の面に、離型層と、アフターキュアタイプの紫外線硬化樹脂からなるハードコート層と、紫外線硬化樹脂からなる凹凸形成層と、反射層と、接着層と、をこの順で積層したインモールド転写箔であって、
前記ハードコート層と前記凹凸形成層との間に、紫外線遮断層を介挿したことを特徴とするインモールド転写箔である。
【００１０】
また、本発明の一態様は、前記紫外線遮断層は、水酸基及び紫外線吸収性の官能基を有するアクリルポリマーと、イソシアネート化合物との硬化物であることを特徴とするインモールド転写箔である。
また、本発明の一態様は、前記凹凸形成層は、ウレタンアクリレートオリゴマーと、イソシアネート化合物と、体質顔料とを少なくとも含む紫外線硬化樹脂であることを特徴とするインモールド転写箔である。
【００１１】
また、本発明の一態様は、前記反射層は、アルミニウムフィラー及びパール顔料のうち少なくとも一方を含むことを特徴とするインモールド転写箔である。
また、本発明の一態様は、前記反射層は、錫蒸着膜であり且つ全光線透過率が５％以上であることを特徴とするインモールド転写箔である。
また、本発明の一態様は、前記インモールド転写箔を用い、インモールド射出成形法で製造されたことを特徴とする成形品である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の一態様であれば、凹凸形成時の紫外線によって、ハードコート層の架橋硬化が進行せず、優れた成形性（耐クラック性等）を保持することが可能となるため、高い表面強度を有し、立体感に優れた成形品を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の第一実施形態のインモールド転写箔の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の第一実施形態のインモールド転写箔を用いた成形品の概略構成を示す図である。
【図３】本発明の第二実施形態のインモールド転写箔の概略構成を示す図である。
【図４】本発明の第二実施形態のインモールド転写箔を用いた成形品の概略構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
（第一実施形態）
以下、本発明の第一実施形態（以下、本実施形態と記載する）について、図面を参照しつつ説明する。
（インモールド射出成形法）
インモールド射出成形法とは、インモールド転写箔を準備する工程と、インモールド転写箔を射出成形用金型内へ挿入する工程と、射出成形用金型へ樹脂を射出成形して密着させることで、樹脂の表面にインモールド転写箔を転写する工程と、樹脂の冷却後に射出成形用金型を開放し、ベースフィルム及び離型層を剥離して成形品を取り出す工程の四つの工程からなる射出成形法である。なお、本発明において、紫外線とＵＶは同じ意味である。
【００１５】
（全体構成）
図１は、本実施形態のインモールド転写箔の概略構成を示す図であり、インモールド転写箔を側方から見た断面模式図である。また、図２は、本実施形態のインモールド転写箔を用いた成形品の概略構成を示す図であり、成形品を側方から見た断面模式図である。
図１中に示すように、インモールド転写箔１００は、ベースフィルム１と、離型層２と、ハードコート層３と、紫外線遮断層４と、加飾印刷層５と、凹凸形成層６と、インキ反射層７と、接着層８を備えている。
【００１６】
なお、本実施形態では、一例として、図１中に示すように、紫外線遮断層４と凹凸形成層６との間に、アンカー層や色インキによる加飾印刷層５を介挿した場合を示しているが、インモールド転写箔１００の構成は、これに限定するものではなく、例えば、ハードコート層３と紫外線遮断層４との間や、インキ反射層７と接着層８との間に、加飾印刷層５を介挿してもよい。
また、図２中に示すように、インモールド転写箔１００を用いた成形品２００は、射出成形樹脂１１と、インモールド転写箔１００が備えるハードコート層３、紫外線遮断層４、凹凸形成層６、インキ反射層７、接着層８を備えている。
【００１７】
（インモールド転写箔１００、成形品２００の具体的な構成）
以下、図１及び図２を参照して、インモールド転写箔１００及び成形品２００の具体的な構成について説明する。
・ベースフィルム１
ベースフィルム１を形成する材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂等を用いることが可能である。好ましくは、耐熱性、機械的強度の点で、ポリエチレンテレフタレート樹脂のフィルムが最適である。
【００１８】
・離型層２
離型層２は、ベースフィルム１の一方の面（図１中では、下方の面）上に形成されている。
離型層２の材質としては、必要な離型性を備えた樹脂であれば特に限定されないが、本実施形態のインモールド転写箔１００では、オレフィン変成したアクリルメラミン樹脂やアクリルウレタン樹脂を用いることが好ましい。また、離型層２の形成方法としては、周知の印刷法や塗工法を用いることが可能である。
【００１９】
・ハードコート層３
ハードコート層３は、転写後にベースフィルム１を剥離した際に、成形品２００の最表面層となる層であり、アフターキュアタイプの紫外線硬化樹脂を含む層である。
また、ハードコート層３の材料としては、例えば、タックフリー状態であり、被転写物に転写した後、紫外線を照射することで架橋可能な樹脂からなる材料が好適である。ここで、転写後に架橋する理由としては、本実施形態のインモールド転写箔１００は、射出成形や加熱転写法で使用されることが多いが、予め架橋すると、転写の延伸時にクラックが生じやすく、外観不良となるためである。
【００２０】
なお、転写前にタックフリー性（溶剤分を蒸発させただけでべとつきがなくなること）を実現する方法としては、主に、以下に記載する三つの方法（第一〜第三の方法）がある。
第一の方法は、高分子型のアクリレートやメタクリレートを使用する方法である。
第二の方法は、液状または半液状の紫外線硬化樹脂を、イソシアネート／ポリオール樹脂やエポキシ樹脂／アミン類等の架橋系で少し硬化させて、タックフリーとする方法である。
【００２１】
第三の方法は、紫外線やエレクトロンビームを僅かに照射して、半硬化状態にする方法である。
また、第一の方法の場合、タックフリーで且つ射出成形時に樹脂が流れないようにするためには、重量平均分子量４万以上で、且つガラス転移温度が６０℃以上であるアクリロイル基やメタクリロイル基を含有するアクリル樹脂（アクリルアクリレート）を材料とすることが好ましい。これは、重量平均分子量が４万未満の場合、タックフリー性が十分でなく、上塗り性に問題があるほか、成形時にウォッシュアウトが発生しやすいためである。また、重量平均分子量が１０万を超える場合、ラジカル反応性が低くなり、架橋時の硬度が上がらないことがあるためである。このようなアクリルアクリレートは、一般的に、紫外線硬化型樹脂に使用されるオリゴマーやモノマーと比較して、タックフリー性や硬化収縮が少ない等のメリットがある反面、高分子樹脂であるため、紫外線硬化性が劣る傾向にあり、表面硬度が劣ることを補うためにも、ナノシリカ粒子を添加する必要がある。また、その添加量は、アクリルアクリレート樹脂に対して１０重量％未満では、硬度への効果が見られない。一方、４０重量％を超えると、脆くなりすぎて耐摩性が悪い。したがって、最適な添加量は、アクリルアクリレート樹脂に対して１０重量％以上４０重量％以下の範囲内である。なお、重量平均分子量は、ＧＰＣ測定でスチレン換算によって算出された値である。さらに、最適な範囲は、重量平均分子量は、６万以上８万以下の範囲内であり、ナノシリカ粒子量は、１５重量％以上３５重量％未満の範囲内である。
なお、ハードコート層３の形成方法としては、周知の印刷法や塗工法を用いることが可能である。
【００２２】
・紫外線遮断層４
紫外線遮断層４の材料としては、例えば、ハードコート層３と密着性を有する材料であって、光の波長として２００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の範囲内の光を吸収または反射をすることで、紫外線の透過を遮断または減少可能な性能を持つ材料を用いることが可能である。
【００２３】
ここで、紫外線遮断能を有する材料としては、例えば、酸化亜鉛、酸化セシウム等の金属酸化物フィラー、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、オギザニリド系紫外線吸収剤等の有機紫外線吸収剤、または、これらの紫外線吸収性剤を共有結合させた樹脂を用いることが可能である。
【００２４】
しかしながら、紫外線吸収剤は、一般的に低分子である材料が多く、ハードコート層３や凹凸形成層６への移行も起こりやすく、ハードコート層３や凹凸形成層６の形成時における硬化が不十分となり、各層間の密着性不良や、ブロッキング、射出成形時の熱で凹凸形状の変形を起こすことがある。
そのため、紫外線遮断層４の材料として使用する樹脂としては、分子内に紫外線吸収性の官能基を有するポリマー（紫外線吸収性ポリマー）が好ましい。さらに、密着性の観点から、紫外線遮断層４の材料は、水酸基及び紫外線吸収性の官能基を有するアクリルポリマーとイソシアネート化合物との硬化物とすることが好ましい。
【００２５】
このように、紫外線遮断層４の材料を２液硬化系アクリル樹脂とすることで、射出成形時の熱に耐え、アクリル系紫外線硬化樹脂との親和性が高くなり、密着性が良好なものとなる。
また、イソシアネート化合物とは、トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）及びこれらのプレポリマーを指す。
【００２６】
紫外線遮断能の目安としては、ｉ線（波長３６５ｎｍ）の透過率が１０％未満であることが望ましい。なぜなら、紫外線硬化性樹脂により凹凸形成する際には、凹凸形成層６に対して５００ｍＪ／ｃｍ２以上１０００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内の光量の紫外線を照射する必要があり、この時、形成されているハードコート層３に対して、射出成形前に凡そ１００ｍＪ／ｃｍ２以上の紫外線が照射されてしまうと、架橋反応の進行により射出成形時の延伸に追従できず、ハードコート層３にクラックが発生してしまうからである。
【００２７】
・加飾印刷層５
加飾印刷層５の材料としては、例えば、適切な色の顔料または染料を着色剤として含有する着色インキを用いる。
加飾印刷層５の形成方法としては、例えば、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、インクジュエット法等の通常の印刷法を用いることが可能である。好ましくは、多色刷りや階調表現が可能で、且つ、大量生産に適しているグラビア印刷法で印刷するのが良い。
【００２８】
・凹凸形成層６
凹凸形成層６は、ＵＶ厚盛インキによるスクリーン印刷法やＵＶインクジェット法、又は、離型性凹凸フィルムとベースフィルムとを液状紫外線硬化樹脂で挟み、離型性凹凸フィルム側からＵＶ照射して硬化し、離型性凹凸フィルムを剥離することによって形成が可能である。
【００２９】
凹凸形成層６の凹凸デザインは、幾何学模様やヘアライン形状等立体感を表現可能であるものであれば、何を用いても良い。なお、離型性凹凸フィルムによる凹凸形成の場合、ホログラムやフォトニック結晶といった微細な表現も可能である。
これらの紫外線硬化樹脂による凹凸形成は、熱硬化樹脂による凹凸形成に比較して、凹凸形状の再現性が良好であり、製造時間の短縮が可能である。
【００３０】
凹凸形成層６の材料としては、例えば、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有するモノマー、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート等のオリゴマー、紫外線によってラジカルを発生する重合開始剤からなる紫外線硬化性樹脂を用いることが可能である。
また、凹凸形成層６の材料としては、上述した材料の中でも、ウレタンアクリレートオリゴマーと、イソシアネート化合物、体質顔料を少なくとも含む紫外線硬化樹脂が最適である。一般的に、紫外線硬化樹脂に使用されるオリゴマーとしては、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートがあるが、凹凸形成層６では、層間の密着性と成形時の延伸性の観点から、ウレタンアクリレートが良い。
【００３１】
さらに、凹凸形成層６の材料としては、層間の密着性を向上させるため、イソシアネート化合物を添加することが好ましい。イソシアネート化合物の添加量としては、紫外線硬化性オリゴマーに対して１重量％以上１０重量％以下の範囲内が好ましい。また、凹凸形成層６に体質顔料を添加することで、凹凸形状に散乱成分が加わり、立体感が増す効果と、体質顔料のチクソ性による凹凸形成時の形状安定性効果、表面積増加による密着性向上効果がある。ここで、体質顔料とは、無色透明な顔料（又は白色顔料）であって、シリカやアルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の微粒子を指す。
【００３２】
・インキ反射層７
インキ反射層７は、光を反射又は散乱する層であって、凹凸形成層６の凹凸構造が可視化できればよい。
インキ反射層７の材料を、メジウムインキや墨インキ等のような材料とした場合、凹凸構造は埋まってほとんど見えない。一方、インキ反射層７の材料を、アルミニウムフィラーやパール顔料のような高輝性材料とした場合、凹凸構造によって、局所的にフィラーや顔料の配向を乱されるため、凹凸構造が際立って見える。
【００３３】
また、インキ反射層７の材料を、アルミニウムフィラーやパール顔料のような高輝性材料とした場合、アルミニウム蒸着膜のように連続した反射膜でないため、成形時にクラックが発生し難く、認識されにくい。ここで、アルミニウムフィラーとは、アルミニウムからなる燐片状、不定形状の粒子であって、表面未処理品以外に、耐久性や意匠性向上のため、表面コートしているフィラーもある。また、パール顔料とは、雲母に酸化チタン、酸化鉄のような金属酸化膜をコートした顔料であって、屈折率の高い金属酸化膜層と、屈折率の低い雲母及びその周辺媒体との境で光が反射・干渉する顔料である。
【００３４】
・接着層８
接着層８は、成形品２００の表面に上記の各層を接着するものである。
接着層８の材料としては、例えば、射出成形樹脂１１に適した感熱性または感圧性の樹脂を適宜使用する。
接着層８の形成方法としては、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等の印刷法を用いることが可能である。特に、膜厚・生産性の点から、グラビア印刷法で印刷するのが望ましい。なお、インキ反射層７が成形品２００に対して充分接着性を有しており、接着層としての効果も備えている場合には、接着層８を設けなくても良い。
【００３５】
以上、各層を上記のように積層して、本実施形態のインモールド転写箔１００を形成する。
【００３６】
（成形品２００の製造方法）
以下、図１及び図２を参照して、成形品２００の製造方法について説明する。
成形品２００は、インモールド転写箔１００を用いた射出成形により製造する。
インモールド転写箔１００の射出成形は、インモールド転写箔１００を射出成形用金型内へ挿入し、インモールド転写箔１００の加飾印刷層５側から射出成形用金型のキャビティ内へ射出成形樹脂１１を射出成形することで、射出成形樹脂１１の表面にインモールド転写箔１００を転写する。さらに、射出成形樹脂１１を冷却した後、射出成形用金型を解放し、インモールド転写箔１００のベースフィルム１及び離型層２を剥離して、成形品２００を取り出すという公知の順序で行うことが可能である。
この方法により、立体感を有する成形品２００（図２参照）を製造することが可能となる。
【００３７】
（第二実施形態）
次に、本発明の第二実施形態（以下、本実施形態と記載する）について、図１及び図２を参照しつつ、図３及び図４を用いて説明する。なお、上述した第一実施形態と同様の構成については、説明を省略する場合がある。
【００３８】
（全体構成）
図３は、本実施形態のインモールド転写箔の概略構成を示す図であり、インモールド転写箔を側方から見た断面模式図である。また、図４は、本実施形態のインモールド転写箔を用いた成形品の概略構成を示す図であり、成形品を側方から見た断面模式図である。
図３中に示すように、インモールド転写箔１００は、ベースフィルム１と、離型層２と、ハードコート層３と、紫外線遮断層４と、加飾印刷層５と、凹凸形成層６と、接着層８と、蒸着反射層９と、プライマー層１０を備えている。
【００３９】
なお、本実施形態では、一例として、図３中に示すように、紫外線遮断層４と凹凸形成層６との間に、アンカー層や色インキによる加飾印刷層５を介挿した場合を示しているが、インモールド転写箔１００の構成は、これに限定するものではなく、例えば、ハードコート層３と紫外線遮断層４との間に、加飾印刷層５を介挿してもよい。
また、図４中に示すように、インモールド転写箔１００を用いた成形品２００は、射出成形樹脂１１と、インモールド転写箔１００が備えるハードコート層３、紫外線遮断層４、凹凸形成層６、接着層８、蒸着反射層９、プライマー層１０を備えている。
【００４０】
（インモールド転写箔１００、成形品２００の具体的な構成）
以下、図１から図４を参照して、インモールド転写箔１００及び成形品２００の具体的な構成について説明する。
・ベースフィルム１
ベースフィルム１の材料としては、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂等を用いることが可能である。好ましくは、耐熱性、機械的強度の点で、ポリエチレンテレフタレート樹脂のフィルムが最適である。
【００４１】
・離型層２
離型層２の材質としては、必要な離型性を備えた樹脂であれば特に限定されないが、本実施形態のインモールド転写箔１００では、オレフィン変成したアクリルメラミン樹脂やアクリルウレタン樹脂を用いることが好ましい。また、離型層２の形成方法としては、周知の印刷法や塗工法を用いることが可能である。
【００４２】
・ハードコート層３
ハードコート層３は、転写後にベースフィルム１を剥離した際に、成形品２００の最表面層となる層である。
また、ハードコート層３の材料は、タックフリー状態であり、被転写物に転写後、紫外線を照射することで架橋可能な樹脂からなることが好適である。ここで、転写後に架橋する理由としては、この転写箔は、射出成形や加熱転写法で使用されることが多いが、予め架橋すると、転写の延伸時にクラックが生じやすく、外観不良となるためである。また、転写前にタックフリー性を実現する方法としては、主に、以下に示す三つの方法（第一〜第三の方法）がある。
【００４３】
第一の方法は、高分子型のアクリレートやメタクリレートを使用する方法である。
第二の方法は、液状または半液状の紫外線硬化樹脂を、イソシアネート／ポリオール樹脂やエポキシ樹脂／アミン類等の架橋系で少し硬化させてタックフリーとする方法である。
第三の方法は、紫外線やエレクトロンビームを僅かに照射して半硬化状態にする方法である。
【００４４】
また、第一の方法の場合、タックフリーで且つ射出成形時に樹脂が流れないようにするには、重量平均分子量４万以上で、且つガラス転移温度が６０℃以上であるアクリロイル基やメタクリロイル基を含有するアクリル樹脂（アクリルアクリレート）が好ましい。これは、重量平均分子量が４万未満の場合、タックフリー性が十分でなく、上塗り性に問題があるほか、成形時にウォッシュアウトが発生しやすいためである。また、重量平均分子量が１０万を超える場合、ラジカル反応性が低くなり、架橋時の硬度が上がらないことがあるためである。このようなアクリルアクリレートは、一般的に、紫外線硬化型樹脂に使用されるオリゴマーやモノマーに比較し、タックフリー性や硬化収縮が少ない等のメリットがある反面、高分子樹脂であるため、紫外線硬化性が劣る傾向にあり、表面硬度が劣ることを補うためにも、ナノシリカ粒子を添加する必要がある。その添加量は、アクリルアクリレート樹脂に対して１０重量％未満では、硬度への効果が見られず、４０重量％を超えると脆くなりすぎて耐摩性が悪いため、最適な添加量は、アクリルアクリレート樹脂に対して１０重量％以上４０重量％以下の範囲内である。なお、重量平均分子量は、ＧＰＣ測定でスチレン換算によって算出された値である。さらに、最適な範囲は、重量平均分子量は、６万以上８万以下の範囲内であり、ナノシリカ粒子量は、１５重量％以上３５重量％未満の範囲内である。
ハードコート層３の形成方法としては、周知の印刷法や塗工法を用いることが可能である。
【００４５】
・紫外線遮断層４
紫外線遮断層４の材料としては、例えば、ハードコート層３と密着性を有する材料であって、光の波長として２００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の範囲内の光を吸収、または反射することで、紫外線の透過を遮断若しくは減少させる性能を持つ材料を用いることが可能である。
【００４６】
紫外線遮断能を有する材料としては、酸化亜鉛、酸化セシウム等の金属酸化物フィラー、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、オギザニリド系紫外線吸収剤等の有機紫外線吸収剤、または、これらの紫外線吸収性剤を共有結合させた樹脂を用いることが可能である。
【００４７】
しかしながら、紫外線吸収剤は、一般的に低分子である材料が多く、ハードコート層３や凹凸形成層６への移行も起こりやすく、ハードコート層３や凹凸形成層６の形成時における硬化が不十分となり、各層間の密着性不良やブロッキング、射出成形時の熱で凹凸形状変形を起こすことがある。
そのため、紫外線遮断層４の材料として使用する樹脂としては、分子内に紫外線吸収性の官能基を有するポリマー（紫外線吸収性ポリマー）の使用が好ましい。さらに、密着性の観点から、紫外線遮断層４の材料としては、水酸基及び紫外線吸収性の官能基を有するアクリルポリマーとイソシアネート化合物との硬化物とすることが好ましい。
【００４８】
このように、紫外線遮断層４の材料を２液硬化系アクリル樹脂とすることで、射出成形時の熱に耐え、アクリル系紫外線硬化樹脂との親和性も高くなり、密着性が良好なものとなる。
また、イソシアネート化合物とは、トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）及びこれらのプレポリマーを指す。
【００４９】
紫外線遮断能の目安としては、ｉ線（波長３６５ｎｍ）の透過率が１０％未満であることが望ましい。なぜなら、紫外線硬化性樹脂により凹凸形成する際には、凹凸形成層６に対して５００ｍＪ／ｃｍ２以上１０００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内の光量の紫外線を照射する必要があり、この時、形成されているハードコート層３に対して、射出成形前に凡そ１００ｍＪ／ｃｍ２以上の紫外線が照射されてしまうと、架橋反応の進行により射出成形時の延伸に追従できず、ハードコート層３にクラックが発生してしまうからである。
【００５０】
・加飾印刷層５
加飾印刷層５の材料としては、例えば、適切な色の顔料または染料を着色剤として含有する着色インキを用いる。
加飾印刷層５の形成方法としては、例えば、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、インクジュエット法等の通常の印刷法を用いることが可能である。好ましくは、多色刷りや階調表現が可能で、且つ、大量生産に適しているグラビア印刷法で印刷するのが良い。
【００５１】
・凹凸形成層６
凹凸形成層６は、ＵＶ厚盛インキによるスクリーン印刷法やＵＶインクジェット法、または、離型性凹凸フィルムとベースフィルムとを液状紫外線硬化樹脂で挟み、離型性凹凸フィルム側からＵＶ照射して硬化し、離型性凹凸フィルムを剥離することによって、凹凸の形成が可能である。
【００５２】
凹凸形成層６の凹凸デザインは、幾何学模様やヘアライン形状等立体感を表現可能なものであれば、何を用いても良い。なお、離型性凹凸フィルムにより凹凸を形成する場合、ホログラムやフォトニック結晶といった微細な表現も可能である。
これら紫外線硬化樹脂による凹凸形成は、熱硬化樹脂による凹凸形成に比較して、凹凸形状の再現性が良好であり、製造時間の短縮が可能である。
【００５３】
凹凸形成層６の材料としては、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するモノマー、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート等のオリゴマー、紫外線によってラジカルを発生する重合開始剤からなる紫外線硬化性樹脂を用いることが可能である。
また、凹凸形成層６の材料としては、上述した材料の中でも、ウレタンアクリレートオリゴマーと、イソシアネート化合物、体質顔料を少なくとも含む紫外線硬化樹脂が最適である。一般的に、紫外線硬化樹脂に使用されるオリゴマーとしては、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートがあるが、凹凸形成層６では、層間の密着性と成形時の延伸性の観点から、ウレタンアクリレートが良い。
【００５４】
さらに、凹凸形成層６の材料としては、層間の密着性を向上させるため、イソシアネート化合物を添加することが好ましい。イソシアネート化合物の添加量としては、紫外線硬化性オリゴマーに対して１重量％以上１０重量％以下の範囲内が好ましい。また、凹凸形成層６に体質顔料を添加することで、凹凸形状に散乱成分が加わり、立体感が増す効果と、体質顔料のチクソ性による凹凸形成時の形状安定性効果、表面積増加による密着性向上効果がある。ここで、体質顔料とは、無色透明な顔料（又は白色顔料）であって、シリカやアルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の微粒子を指す。
【００５５】
・接着層８
接着層８は、成形品２００の表面に上記の各層を接着するものである。
接着層８の材料としては、例えば、射出成形樹脂１１に適した感熱性あるいは感圧性の樹脂を適宜使用する。
接着層８の形成方法としては、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等の印刷法を用いることが可能である。特に、膜厚・生産性の点からグラビア印刷法で印刷するのが望ましい。なお、プライマー層１０が成形品に対して充分接着性を有しており、接着層としての効果も備えている場合には、接着層８を別に設けなくても良い。
【００５６】
・蒸着反射層９
蒸着反射層９としては、不連続膜（海島構造）を形成する錫蒸着膜を使用するのが好ましい。
ここで、錫蒸着膜の全光線透過率が５％未満となる場合、不連続膜でなくなり、導電性が増し、電波透過性が低下するため好ましくない。さらに、錫蒸着膜の全光線透過率が５％未満となる場合、成形時の樹脂の伸びにスズ蒸着膜が追従できなく、クラックが発生し易く、認識されやすい。
一方、錫蒸着膜の全光線透過率が２５％を超えると、光反射性の低下が顕著になり、薄暗い外観となり意匠が好ましくない。
したがって、蒸着反射層９は、特に、全光線透過率が５％以上２５％以下の範囲内の錫蒸着膜により形成することが好ましい。
【００５７】
・プライマー層１０
プライマー層１０としては、錫蒸着膜と密着が良く、錫膜の酸化を防止できるものが好適であるため、塩酢ビ系樹脂やメラミン系樹脂が好ましい。また、蒸着反射層９は、ハーフ蒸着（透過性がある）であるため、プライマー層１０に白色インキを使用すれば、アルミニウム蒸着膜に近い明るい反射色となり、プライマー層１０に墨インキを使用すれば、クロム蒸着膜に近い落ち着いた反射色となる。
以上、各層を上記のように積層して、本実施形態のインモールド転写箔１００を形成する。
【００５８】
（成形品２００の製造方法）
以下、図３及び図４を参照して、成形品２００の製造方法について説明する。
成形品２００は、インモールド転写箔１００を用いた射出成形により製造する。
インモールド転写箔１００の射出成形は、インモールド転写箔１００を射出成形用金型内へ挿入し、インモールド転写箔１００の加飾印刷層５側から射出成形用金型のキャビティ内へ射出成形樹脂１１を射出成形することで、射出成形樹脂１１の表面にインモールド転写箔１００を転写する。さらに、射出成形樹脂１１を冷却した後、射出成形用金型を解放し、インモールド転写箔１００のベースフィルム１及び離型層２を剥離して、成形品２００を取り出すという公知の順序で行うことが可能である。
この方法により、立体感を有する成形品２００（図４参照）を製造することが可能となる。
【実施例１】
【００５９】
以下、本発明の実施例について、図１から図４を参照するとともに、比較例に基づく比較結果を用いて説明する。なお、以下に、本発明の実施例及び比較例を示すが、本発明は、これに限定されるものではない。
（実施例１）
ベースフィルム１としてポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム（東レ製５０Ｔ６０）を用い、ベースフィルム１の上に、メラミン樹脂系を材料として用いた離型層２と、紫外線硬化性のアクリル樹脂系を材料として用いたハードコート層３を形成した。さらに、樹脂として２液硬化型紫外線吸収ポリマー（新中村化学製バナレジンＵＶＡ−５５ＭＨＢ）を用い、硬化剤として日本ポリウレタン製コロネートＬを用いて、紫外線遮断層４を形成した。
【００６０】
続いて、加飾印刷層５として、ウレタン系色インキでスクリーン印刷法にて絵柄を形成し、次に、以下に示す処方のＵＶ厚盛インキにてスクリーン印刷法で印刷して凹凸を形成し、直後に紫外線照射（高圧水銀灯  積算光量８００ｍＪ／ｃｍ２）で凹凸を架橋硬化して、凹凸を固定化して凹凸形成層６を形成した。
続いて、以下に示す反射インキをスクリーン印刷法で形成して、インキ反射層７を形成した。その後、アクリル／塩酢ビ系接着剤をスクリーン印刷法で形成し、実施例１のインモールド転写箔１００を得た。
【００６１】
・ＵＶ厚盛インキ
帝国インキ製ＵＶ厚盛インキ（ＵＶＦＩＸ）・・・・・・・・・・・・・・１００重量部
富士シリシア製シリカ粉末（サイロホービック２００）・・・・・・・・・・・５重量部
旭化成ケミカル製イソシアネート化合物（２４Ａ１００）・・・・・・・・・・５重量部
【００６２】
・反射インキ
東洋インキ製２液アクリル系スクリーンインキ（ＳＳ１６）・・・・・・・１００重量部
メルク製パール顔料（イリオジン１００）・・・・・・・・・・・・・・・・・５重量部
上記のインモールド転写箔１００を射出成形用金型に固定し、型締めしてＰＣ／ＡＢＳ樹脂である射出成形樹脂１１を射出成形した。そして、冷却した後、射出成形用金型を開放し、インモールド転写箔１００のベースフィルム１を離型層２とともに射出成形品から剥離した後、射出成形品の表面に、高圧水銀灯を用いて、積算光量１０００ｍJ／ｃｍ２の紫外線を照射し、ハードコート層３を架橋硬化させることにより、高い表面強度を有し、且つ立体感を有する成形品２００を得た。
【００６３】
（実施例２）
ベースフィルム１としてポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム（東レ製５０Ｔ６０）を用い、ベースフィルム１の上に、アクリルウレタン樹脂系を材料として用いた離型層２と、紫外線硬化性のアクリル樹脂系を材料として用いたハードコート層３を形成した。さらに、樹脂として２液硬化型紫外線吸収ポリマー（新中村化学製バナレジンＵＶＡ−５５ＭＨＢ）を用い、硬化剤として日本ポリウレタン製コロネートＬを用いて、紫外線遮断層４を形成した。
【００６４】
続いて、加飾印刷層５として、ウレタン系色インキでスクリーン印刷法にて絵柄を形成し、次に、以下に示す処方のＵＶ厚盛インキにてスクリーン印刷法で印刷して凹凸を形成し、直後に紫外線照射（高圧水銀灯  積算光量８００ｍＪ／ｃｍ２）で凹凸を架橋硬化して、凹凸を固定化して凹凸形成層６を形成した。
続いて、錫を材料として、真空蒸着法で全光線透過率が５％となるように形成して、蒸着反射層９を形成した。次に、以下に示す処方のプライマーインキにてプライマー層１０をグラビア印刷法で形成し、その後、アクリル／塩酢ビ系接着剤をスクリーン印刷法で形成して、実施例２のインモールド転写箔１００を得た。
【００６５】
・ＵＶ厚盛インキ
帝国インキ製ＵＶ厚盛インキ（ＵＶＦＩＸ）・・・・・・・・・・・・・・１００重量部
富士シリシア製シリカ粉末（サイロホービック２００）・・・・・・・・・・・５重量部
旭化成ケミカル製イソシアネート化合物（２４Ａ１００）・・・・・・・・・・５重量部
【００６６】
・プライマーインキ
東洋インキ製塩酢ビウレタン系グラビアインキ白色（ファインスター）・・１００重量部
旭化成ケミカル製イソシアネート化合物（２４Ａ１００）・・・・・・・・・・５重量部
上記のインモールド転写箔１００を射出成形用金型に固定し、型締めしてＰＣ／ＡＢＳ樹脂である射出成形樹脂１１を射出成形した。そして、冷却した後、射出成形用金型を開放し、インモールド転写箔１００のベースフィルム１を離型層２とともに射出成形品から剥離した後、射出成形品の表面に、高圧水銀灯を用いて、積算光量１０００ｍJ／ｃｍ２の紫外線を照射し、ハードコート層３を架橋硬化させることにより、高い表面強度を有し、且つ立体感を有する成形品２００を得た。
【００６７】
（比較例）
ベースフィルム１としてポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム（東レ製５０Ｔ６０）を用い、ベースフィルム１の上に、アクリルウレタン樹脂系を材料として用いた離型層２と、紫外線硬化性のアクリル樹脂系を材料として用いたハードコート層３を形成した。さらに、加飾印刷層５として、ウレタン系色インキでスクリーン印刷法にて絵柄を形成した。
【００６８】
次に、帝国インキ製ＵＶ厚盛インキ（ＵＶＦＩＸ）にてスクリーン印刷法で印刷して凹凸を形成し、直後に紫外線照射（高圧水銀灯  積算光量８００ｍＪ／ｃｍ２）で凹凸を架橋硬化して、凹凸を固定化して凹凸形成層６を形成した。
続いて、アルミニウムを材料として、真空蒸着法で全光線透過率が５％になるように蒸着して、蒸着反射層９を形成した。さらに、大日精化工業製ＶＭ−ＰＥＡＲＬにてプライマー層１０をグラビア印刷法で形成し、その後、アクリル／塩酢ビ系接着剤をスクリーン印刷法で形成し、比較例のインモールド転写箔１００を得た。
【００６９】
上記のインモールド転写箔１００を射出成形用金型に固定し、型締めしてＰＣ／ＡＢＳ樹脂である射出成形樹脂１１を射出成形した。そして、冷却した後、射出成形用金型を開放し、インモールド転写箔１００のベースフィルム１を離型層２とともに射出成形品から剥離した後、射出成形品の表面に、高圧水銀灯を用いて、積算光量１０００ｍJ／ｃｍ２の紫外線を照射し、ハードコート層３を架橋硬化させることにより、高い表面強度を有し、且つ立体感を有する成形品２００を得た。
【００７０】
（評価）
実施例１、２及び比較例について、成形性、密着性、立体感、電波透過性について評価を行った。評価結果を表１に示した。
なお、各項目の評価方法を、以下に示す。
・成形性：射出成形した際にクラックがないこと。
クラックなし：○
クラックあり：×
【００７１】
・密着性：１ｍｍ碁盤目のクロスカットを行なった後、ニチバン製セロテープ（登録商標）で剥離。
剥離なし：○
５％未満剥離あり：△
５％以上剥離あり：×
・立体感：目視評価。
立体感あり：○
立体感なし：×
【００７２】
・電波透過性：８００ＭＨｚ電波の減衰率（ｄＢ）が１ｄＢ未満。
減衰率１ｄＢ未満：○
減衰率１ｄＢ以上：×
【００７３】
【表１】
2015085589.tif 000003
実施例１及び実施例２では、成形性、密着性、立体感、電波透過性で優れるが、比較例では、立体感以外は規格を満たすことはできなかった。
これにより、実施例１及び実施例２のインモールド転写箔１００及び成形品２００は、比較例のインモールド転写箔１００及び成形品２００よりも、特に、成形性、密着性、電波透過性が優れていることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明により得られた転写フィルムは、家電製品、住宅機器、事務機器、自動車部品等に利用されるパネル部材等の表面保護と加飾に用いることが可能である。
【符号の説明】
【００７５】
１    ベースフィルム
２    離型層
３    ハードコート層
４    紫外線遮断層
５    加飾印刷層
６    凹凸形成層
７    インキ反射層
８    接着層
９    蒸着反射層
１０  プライマー層
１１  射出成形樹脂
１００  インモールド転写箔
２００  成形品
【図１】
2015085589.tif 000004
【図２】
2015085589.tif 000005
【図３】
2015085589.tif 000006
【図４】
2015085589.tif 000007