(57)【要約】【課題】形成される着色層の密着性に優れると共に、着色層形成時の残渣の発生が抑制されたカラーフィルタの製造方法、下地層形成用組成物、および、有機ＥＬ表示装置を提供する。【解決手段】支持体上に、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．６０以上の下地層を形成する下地層形成工程と、下地層上に、（Ａ）着色剤、（Ｂ）重合開始剤、および（Ｃ）重合性化合物を含む、着色感放射線性組成物を用いて着色層を形成する着色層形成工程と、を含む、カラーフィルタの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．６０以上の下地層を形成する下地層形成工程と、
前記下地層上に、（Ａ）着色剤、（Ｂ）重合開始剤、および（Ｃ）重合性化合物を含む、着色感放射線性組成物を用いて着色層を形成する着色層形成工程と、
を含む、カラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記着色剤が顔料であり、その含有量が、前記着色感放射線性組成物の全質量に対して、４５質量％以上である、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記下地層が、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．６０以上の有機化合物を含有する、請求項１または２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記下地層がトリアジン環含有重合体を含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記トリアジン環含有重合体が、式（１Ａ）〜式（４Ａ）で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項４に記載のカラーフィルタの製造方法。
【化１】
2015007766.tif 000036
（式（１Ａ）中、Ｒ１ＡおよびＲ２Ａは、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表す。Ａｒは、芳香環および複素環のいずれか一方または双方を含む２価の有機基を表す。＊は結合位置を示す。
式（２Ａ）中、Ｒ１ＡおよびＲ２Ａは、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表す。Ａｒは、芳香環および複素環のいずれか一方または双方を含む２価の有機基を表す。Ｒ３Ａは、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルキルアミノ基、アルコキシシリル基含有アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基またはアリールオキシ基を表す。＊は結合位置を示す。
式（３Ａ）中、Ａｒは、芳香環および複素環のいずれか一方または双方を含む２価の有機基を表す。＊は結合位置を示す。
式（４Ａ）中、Ｒ４Ａ〜Ｒ９Ａは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、Ｗで置換されていてもよいフェニル基、またはＷで置換されていてもよいナフチル基を表す。Ｙ1およびＹ2は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基、または、Ｗで置換されていてもよいフェニレン基を表す。Ｗは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、またはヒドロキシ基を表し、ｎは、０または１以上の整数を表す。＊は結合位置を示す。）
【請求項６】
前記下地層中における前記トリアジン環含有重合体の含有量が、前記下地層全質量に対して、４０質量％以上である、請求項４または５に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記トリアジン環含有重合体の重量平均分子量が１０００〜１０００００である、請求項４〜６のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
前記下地層中に金属粒子または金属酸化物粒子が実質的に含まれない、請求項１〜７のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
カラーフィルタに含まれる着色層の下地層を形成するために使用される下地層形成用組成物であって、トリアジン環含有重合体を含有する下地層形成用組成物。
【請求項１０】
さらに、高屈折率低分子化合物としてフルオレン構造を有する化合物を含有する、請求項９に記載の下地層形成用組成物。
【請求項１１】
さらに、ＮａＣｌを含有する、請求項９または１０に記載の下地層形成用組成物。
【請求項１２】
有機ＥＬ素子と、下地層と、着色層とを有する有機ＥＬ表示装置であって、
前記下地層が、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．６０以上の下地層である、有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタの製造方法に係り、所定の屈折率を示す下地層を用いたカラーフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタは、固体撮像素子や液晶表示装置のディスプレイに不可欠な構成部品である。このようなカラーフィルタを形成するために、着色感放射線性組成物が主に使用されている（特許文献１）。なお、特許文献１においては、着色層の下地層（下塗り層）としてＣＴ−２０１０（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製））を使用する態様が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１９８４０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一方、近年、着色層の微細化に伴い、着色層の密着性のより一層の向上が求められている。また、同時に、着色層形成時の現像処理の際の残渣の発生のより一層の抑制も求められている。
本発明者らは、特許文献１に記載の下地層を用いてカラーフィルタの製造を実施した所、着色層の密着性、および、残渣の抑制の両者を昨今要求されるレベルで同時には満たしておらず、更なる改良が必要であることが知見された。
【０００５】
本発明は、上記実情に鑑みて、形成される着色層の密着性に優れると共に、着色層形成時の残渣の発生が抑制されたカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、所定の屈折率を示す下地層を使用することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
（１）  支持体上に、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．６０以上の下地層を形成する下地層形成工程と、
下地層上に、（Ａ）着色剤（好ましくは顔料）、（Ｂ）重合開始剤、および（Ｃ）重合性化合物を含む、着色感放射線性組成物を用いて着色層を形成する着色層形成工程と、
を含む、カラーフィルタの製造方法。
（２）  着色剤が顔料であり、その顔料の含有量が、着色感放射線性組成物の全質量に対して、４５質量％以上である、（１）に記載のカラーフィルタの製造方法。
（３）  下地層が、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．６０以上の有機化合物を含有する、（１）または（２）に記載のカラーフィルタの製造方法。
（４）  下地層がトリアジン環含有重合体を含有する、（１）〜（３）のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
（５）  トリアジン環含有重合体が、後述する式（１Ａ）〜式（４Ａ）で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも１種を含む、（４）に記載のカラーフィルタの製造方法。
（６）  下地層中におけるトリアジン環含有重合体の含有量が、下地層全質量に対して、４０質量％以上である、（４）または（５）に記載のカラーフィルタの製造方法。
（７）  トリアジン環含有重合体の重量平均分子量が１０００〜１０００００である、（４）〜（６）のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
（８）  下地層中に金属粒子または金属酸化物粒子が実質的に含まれない、（１）〜（７）のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
（９）  カラーフィルタに含まれる着色層の下地層を形成するために使用される下地層形成用組成物であって、トリアジン環含有重合体を含有する下地層形成用組成物。
（１０）  さらに、高屈折率低分子化合物としてフルオレン構造を有する化合物を含有する、（９）に記載の下地層形成用組成物。
（１１）  さらに、ＮａＣｌを含有する、（９）または（１０）に記載の下地層形成用組成物。
（１２）  有機ＥＬ素子と、下地層と、着色層とを有する有機ＥＬ表示装置であって、
下地層が、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．６０以上の下地層である、有機ＥＬ表示装置。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、形成される着色層の密着性に優れると共に、着色層形成時の残渣の発生が抑制されたカラーフィルタの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の有機ＥＬ表示装置の一態様の一部の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
なお、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
また、本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
また、本明細書中において、“（メタ）アクリレート”はアクリレートおよびメタクリレートを表し、“（メタ）アクリル”はアクリルおよびメタクリルを表し、“（メタ）アクリロイル”はアクリロイルおよびメタクリロイルを表す。また、本明細書中において、“単量体”と“モノマー”とは同義である。本発明における単量体は、オリゴマーおよびポリマーと区別され、重量平均分子量が２，０００以下の化合物をいう。本明細書中において、重合性化合物とは、重合性官能基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性官能基とは、重合反応に関与する基をいう。
本発明でいう「放射線」は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を含むものを意味する。本発明でいう「着色層」は、カラーフィルタに用いられる画素および／またはブラックマトリックスからなる層を意味する。
【００１０】
本発明のカラーフィルタの製造方法の特徴点としては、所定の屈折率を示す下地層を使用する点が挙げられる。この下地層を使用すると、着色層形成の際の露光時における乱反射が少なく、漏れ光による未露光部の残渣が少なくなると共に、着色層の密着性も向上する。
なかでも、下地層が後述するようにトリアジン環含有重合体を含む場合、トリアジン骨格が平面構造のため、着色層中のベンゼン環構造や着色剤中の平面構造とトリアジン骨格が分子間相互作用しやすく、着色層の密着性がより一層向上する。
【００１１】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、下地層形成工程と、着色層形成工程とを少なくとも備える。
以下、各工程で使用される材料および手順について詳述する。
【００１２】
＜下地層形成工程＞
下地層形成工程は、支持体上に、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．６０以上の下地層を形成する下地層形成工程である。
まず、本工程で使用される支持体について詳述し、その後下地層について詳述する。
【００１３】
（支持体）
支持体は、下地層を支持できる基材であれば、その種類は特に制限されない。例えば、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板（固体撮像素子用基板）（例えば、シリコン基板、酸化膜、窒化シリコン等）が挙げられる。また、これら支持体と後述する着色層の間には本発明の効果を損なわない限り中間層など他の層が設けられていてもよい。
なお、後述する着色層は、固体撮像素子用基板の撮像素子形成面側（おもて面）に形成されてもよいし、撮像素子非形成面側（裏面）に形成されてもよい。
固体撮像素子用基板における各撮像素子間や、固体撮像素子用基板の裏面には、遮光膜が設けられていてもよい。
【００１４】
（下地層）
下地層は、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．６０以上を示し、着色層の密着性がより向上する、または、残渣の発生がより抑制される点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する）で、１．６５以上が好ましく、１．７０以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、通常、２．０以下の場合が多い。
屈折率の測定方法としては、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製エリプソメーターを用いて測定できる。測定条件は、６３３ｎｍで、２５℃とし、５点の平均値を採用する。
【００１５】
下地層の厚みは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点から、０．２〜１．０μｍが好ましく、０．２〜０．４μｍがより好ましい。
【００１６】
下地層に含まれる成分は上記屈折率を示す材料であれば特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．６０以上の有機化合物が好ましく、トリアジン環含有重合体が好ましい。
なお、本発明の効果がより優れる点で、下地層中には金属粒子または金属酸化物粒子が実質的に含まれないことが好ましい。実質的に含まれないとは、下地層中における金属粒子および金属酸化物粒子の合計含有量が０．０１質量％以下であることを意図し、１００ｐｐｍ以下が好ましい。金属粒子または金属酸化物粒子が実質的に含まれないことにより、下地層の表面の平坦性がより向上し、結果として下地層上に配置される着色層との密着性がより優れる。
以下、トリアジン環含有重合体について詳述する。
【００１７】
（トリアジン環含有重合体（以後、単に重合体とも称する））
トリアジン環含有重合体はその構造中にトリアジン環を含む重合体であり、本発明の効果がより優れる点で、下記式（１Ａ）〜（４Ａ）で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも１種を有するトリアジン環含有重合体であることが好ましい。なお、式中、＊は結合位置を示す。
なお、トリアジン環含有重合体中において、式（１Ａ）〜（４Ａ）で表される繰り返し単位の合計含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、トリアジン環含有重合体中の全繰り返し単位に対して、５０〜１００モル％が好ましく、８０〜１００モル％がより好ましい。
【００１８】
【化１】
2015007766.tif 000002
【００１９】
上記式（１Ａ）中または式（２Ａ）中、Ｒ１ＡおよびＲ２Ａは、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表す。
Ｒ３Ａは、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルキルアミノ基、アルコキシシリル基含有アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基またはアリールオキシ基を表す。
【００２０】
上記アルキル基の炭素数としては、１〜２０が好ましく、重合体の耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数１〜１０がより好ましく、炭素数１〜３がより一層好ましい。また、その構造は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
上記アルコキシ基の炭素数としては、１〜２０が好ましく、重合体の耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数１〜１０がより好ましく、炭素数１〜３がより一層好ましい。また、そのアルキル部分の構造は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
上記アリール基の炭素数としては、６〜４０が好ましく、重合体の耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数６〜１６がより好ましく、炭素数６〜１３がより一層好ましい。
アラルキル基の炭素数としては、炭素数７〜２０が好ましく、そのアルキル部分は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
上記アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、アリールアミノ基の具体例としては、ＷＯ２０１０／１２８６６１号の段落００２０〜００２５の説明を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【００２１】
アルコキシシリル基含有アルキルアミノ基としては、モノアルコキシシリル基含有アルキルアミノ基、ジアルコキシシリル基含有アルキルアミノ基、トリアルコキシシリル基含有アルキルアミノ基のいずれでもよく、その具体例としては、ＷＯ２０１０／１２８６６１号の段落００２６に記載の基が挙げられる。
アリールオキシ基、アラルキルオキシ基の具体例としては、ＷＯ２０１０／１２８６６１号の段落００２７に記載の基が挙げられる。
【００２２】
Ａｒは、芳香環および複素環のいずれか一方または双方を含む２価の有機基を表す。芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などが挙げられる。また、複素環としては、ピリジン環、ピラゾール環、トリアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、オキサゾール環、チアジアゾール環、ピロール環、イソオキサゾール環、チオフェン環、キノリン環、イソキノリン環、ピリダジン環、ピリミジン環などが挙げられる。なお、Ａｒは芳香環および複素環以外に、２価の脂肪族炭化水素基（好ましくは炭素数１〜８）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｎ(Ｒ)−（Ｒ：アルキル基）、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、またはこれらを組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）を含んでいてもよい。
なかでも、Ａｒとしては、式（３）〜（１９）で示される基が好ましい。特に、式（６）〜（１９）で示される基が好ましく、式（６）、（８）、（９）、（１２）、（１３）および（１５）〜（１９）で示される基がより好ましい。
【００２３】
【化２】
2015007766.tif 000003
【００２４】
上記Ｒ1〜Ｒ128は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホン基、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表す。
Ｗ1、Ｗ2およびＷ3は、互いに独立して、単結合、ＣＲ130Ｒ131（Ｒ130およびＲ131は、互いに独立して、水素原子または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）を表す。）、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−ＮＲ129−（Ｒ129は、水素原子または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表す。）を表す。
これらアルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
また、Ｘ1およびＸ2は、互いに独立して、単結合、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基、または式（２０）で表される基を表す。
【００２５】
【化３】
2015007766.tif 000004
【００２６】
上記Ｒ132〜Ｒ135は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホン基、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表す。
Ｙ1およびＹ2は、互いに独立して、単結合または炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基を表す。
これらハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。
炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。
【００２７】
好適なＡｒとしては、フルオレン環を含有する２価の有機基が挙げられ、例えば、下記式（２１）または（２２）で示される２価の有機基が好適である。
【００２８】
【化４】
2015007766.tif 000005
【００２９】
式中、Ｒ136〜Ｒ159は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホン基、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基（ただし、Ｒ158およびＲ159は一緒になって環を形成していてもよい。）、または、炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表す。
ここで、ハロゲン原子としては、上記と同様のものが挙げられる。
炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基としては、上記と同様のものが挙げられる。
また、Ｒ158およびＲ159が一緒になって形成する環としては、シクロペンチル環、シクロヘキシル環等が挙げられる。
炭素数１〜１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基としては、上記と同様のものが挙げられる。
これらの中でも、Ｒ136〜Ｒ159としては、水素原子が好ましい。
【００３０】
上記式（３）〜（１９）、（２１）および（２２）で表される基の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３１】
【化５】
2015007766.tif 000006
【００３２】
これらの中でも、より高い屈折率の重合体が得られることから、下記式で示される基がより好ましい。
【００３３】
【化６】
2015007766.tif 000007
【００３４】
さらに、高屈折率を発現させるという点から、Ａｒ部分としては、フルオレン骨格やカルバゾール骨格等の環状骨格を有する剛直な構造が、Ａｒ部分が密に集まり易く、電子密度が向上するため好適であり、また、単純なベンゼン環も小さな構造であるため、Ａｒ部分が密に集まり易く、電子密度が向上するため好適である。
また、Ｗ1等のベンゼン環の連結基としては、高い水素結合能を有する、カルボニルを含む基やアミン等の官能基が、アミン部位の水素原子（Ｒ１Ａおよび／またはＲ２Ａが水素原子の場合）と水素結合を形成してよりＡｒ部分が密に集まり易く、電子密度が向上するため好適である。
以上のような観点から、下記式で示される基が好ましい。
【００３５】
【化７】
2015007766.tif 000008
【００３６】
より高い屈折率を発現するという点から下記式で示されるアリール基がより好ましい。
【００３７】
【化８】
2015007766.tif 000009
【００３８】
好適な繰り返し単位構造としては、下記式（２３）または（２４）で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３９】
【化９】
2015007766.tif 000010
【００４０】
また、重合体がハイパーブランチポリマーの場合、レジスト溶剤等の安全性の高い溶剤に対する該重合体の溶解性をより高めることを考慮すると、式（２５）で示される繰り返し単位構造を含むことが好ましい。
【００４１】
【化１０】
2015007766.tif 000011
【００４２】
式中、Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、およびＲ77〜Ｒ80は、上記と同じ意味を表す。
このような観点から、特に好適な繰り返し単位構造としては、下記式（２６）で示されるものが挙げられ、下記式（２７）で示される高分岐重合体（ハイパーブランチポリマー）が最適である。
【００４３】
【化１１】
2015007766.tif 000012
【００４４】
式中、Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａは、上記と同じ意味を表す。
【００４５】
【化１２】
2015007766.tif 000013
【００４６】
上記式（１Ａ）または式（２Ａ）で表される繰り返し単位を有するトリアジン環含有重合体の製造法は特に制限されず、ＷＯ２０１０／１２８６６１号の段落００５１〜段落００６９に記載の方法が挙げられる。
次に、式（３Ａ）について説明する。
【００４７】
【化１３】
2015007766.tif 000014
【００４８】
式（３Ａ）におけるＡｒは、芳香環および複素環のいずれか一方または双方を含む２価の有機基であれば特に限定されるものではないが、本発明においては、前述の式（３）〜（１９）で表される基のいずれかが好ましく、特に、式（１０）、（１１）、（１３）および（１４）で表される基のいずれかが好ましい。
また、式（１０）および（１１）の場合、それらのＷ1およびＷ2が、Ｓ（硫黄原子）であるものが好適である。
前述の式（３）〜（１９）で表される基の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４９】
【化１４】
2015007766.tif 000015
【００５０】
これらの中でも、より高い屈折率のポリマーが得られることから、下記式で示されるアリール基がより好ましい。
【００５１】
【化１５】
2015007766.tif 000016
【００５２】
さらに、より高い屈折率を発現するという点から、下記式で示されるアリール基がより好ましい。
【００５３】
【化１６】
2015007766.tif 000017
【００５４】
好適な繰り返し単位構造としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００５５】
【化１７】
2015007766.tif 000018
【００５６】
上記式（３Ａ）で表される繰り返し単位を有するトリアジン環含有重合体（ハイパーブランチポリマー）の製造法は特に制限されず、特開２０１２−９７１７５号の段落００３６〜段落００４８に記載の方法が挙げられる。
次に式（４Ａ）について説明する。
【００５７】
【化１８】
2015007766.tif 000019
【００５８】
上記式（４Ａ）中、Ｒ４Ａ〜Ｒ９Ａは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、Ｗで置換されていてもよいフェニル基、またはＷで置換されていてもよいナフチル基を表す。
Ｙ1およびＹ2は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表す。
Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基またはＷで置換されていてもよいフェニレン基を表す。
Ｗは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、またはヒドロキシ基を表し、ｎは、０または１以上の整数を表す。
アルキル基の炭素数は１〜１０であるが、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数１〜５がより好ましく、炭素数１〜３がより一層好ましい。
【００５９】
上記アルコキシ基の炭素数は、１〜１０であるが、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数１〜５がより好ましく、炭素数１〜３がより一層好ましい。また、そのアルキル部分の構造は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
アルキル基、アルコキシ基の構造は特に制限されず、特開２０１２−０９７１７６号の段落００１９、段落００２０に記載のアルキル基の説明を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【００６０】
Ｗで置換されていてもよいフェニル基の具体例としては、フェニル基、ｏ−ヒドロキシフェニル基、ｍ−ヒドロキシフェニル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｍ−メトキシフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基等が挙げられる。
Ｗで置換されていてもよいナフチル基の具体例としては、α−ナフチル基、β−ナフチル基等が挙げられる。
【００６１】
上記アルキレン基の炭素数は１〜１０であるが、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数１〜５がより好ましく、炭素数１〜３がより一層好ましい。また、その構造は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
アルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。
【００６２】
Ｗで置換されていてもよいフェニレン基の具体例としては、ｐ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｏ−フェニレン基や、これらのフェニレン基が有する水素原子の少なくとも１つが、Ｗで置換、すなわち、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、ヒドロキシ基で置換されたものが挙げられる。
【００６３】
上記式（４Ａ）において、Ｒ４Ａ〜Ｒ９Ａとしては、炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３のアルキル基がより好ましく、メチル基が最適である。
Ｙ1およびＹ2は、水素原子が好ましい。
Ｚ1およびＺ2は、炭素数１〜５のアルキレン基が好ましく、炭素数１〜３のアルキレン基がより好ましい。
ｎは、０または１以上の整数であれば、特に限定されるものではないが、好ましくは０または１〜８の整数である。
本発明における、好適な繰り返し単位構造としては、以下の各式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
なお、式中、ｎは上記と同じである。
【００６４】
【化１９】
2015007766.tif 000020
【００６５】
上記式（４Ａ）で表される繰り返し単位を有するトリアジン環含有重合体の製造法は特に制限されず、特開２０１２−９７１７６号の段落００２８〜段落００４４に記載の方法が挙げられる。
【００６６】
下地層中に含まれるトリアジン環含有重合体は、下記式（１０Ａ）で表される重合性単量体を少なくとも含む重合性単量体を硬化させて得られる重合体であることも好ましい。
【００６７】
【化２０】
2015007766.tif 000021
【００６８】
式（１０Ａ）中、Ｘ4〜Ｘ6のうち１つまたは２つは、式（１１Ａ）または式（１２Ａ）（式（１１Ａ）中、Ｒ142は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。）で表される基であり、Ｘ4〜Ｘ6のうちの残りは，式（１３Ａ）または式（１４Ａ）（式（１３Ａ）中、Ｒ143およびＲ144は、それぞれ独立してフェニル基またはナフチル基をあらわす。）で表される基である。
【００６９】
【化２１】
2015007766.tif 000022
【００７０】
重合体の重量平均分子量は特に限定されるものではないが、５００〜５００，０００が好ましく、１０００〜１００，０００がより好ましく、より耐熱性を向上させるとともに、収縮率を低くするという点から、２，０００以上が好ましく、より溶解性を高め、得られた溶液の粘度を低下させるという点から、５０，０００以下が好ましく、３０，０００以下がより好ましく、さらに１０，０００以下が好ましい。
なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣという）分析による標準ポリスチレン換算で得られる平均分子量である。
なお、本発明においては、市販の高屈折率樹脂を好適に用いることができる。以下にその商品名（製品番号）を列記しておく。
（１）超高屈折率、高耐熱コーティング材料：ＵＲ−１０８、ＵＲ−２０２、ＵＲ−５０１、ＨＲ−１０２（日産化学工業社製）
（２）厚膜用高屈折率コーティング材料：ＵＲ−１０８、ＵＲ−２０４、ＨＲ−２０１（日産化学工業社製）
（３）チオエポキシ樹脂ＬＰＨ１１０１（三菱ガス化学社製）
（４）エピスルフィド樹脂ＭＲ−１７４（三井化学社製）
（５）チオウレタン樹脂ＭＲ−７（三井化学社製）
【００７１】
下地層中における重合体の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、下地層全質量に対して、４０質量％以上が好ましく、７０〜９５質量％がより好ましい。
なお、下地層には上記重合体以外の他の成分（例えば、界面活性剤、密着向上剤など）が含まれていてもよい。界面活性剤、密着向上剤の例示としては、後述する着色感放射線性組成物に含まれる界面活性剤、密着向上剤で述べる例示が挙げられる。
【００７２】
下地層には、高屈折率低分子化合物がさらに含まれていてもよい。高屈折率低分子化合物は、高屈折率を発現する構造を有する低分子化合物（高屈折率低分子化合物）であればよく、重合性基が含まれていてもよい。つまり、高屈折率低分子化合物は、「重合性モノマー」（重合性基を含む化合物）でも、「低分子化合物」（重合性基を含まない化合物）でもよいが、「低分子化合物」が好ましい。
高屈折率低分子化合物の分子量は特に制限されないが、３０００以下が好ましく、８００以下がより好ましく、６００以下がさらに好ましい。
高屈折率低分子化合物は、下地層形成用組成物においては、感度調整剤としても機能し、含有量を好適化することで、膜の形成プロセスにおいて、歩留まりを向上させることができる。高屈折率低分子化合物の含有量は特に制限されないが、トリアジン環含有重合体の含有量を基準としてその１０質量％以下が好ましく、７質量％以下がより好ましく、５質量％以下が特に好ましい。高屈折率低分子化合物を微量入れることで、トリアジン環含有重合体単体と比較してさらに屈折率を高めることができる。
高屈折率低分子化合物としては、トリアジン環含有重合体の高屈折率を発現する構造と同じ構造を有することが好ましい。高屈折率低分子化合物は、具体的には、トリアジン環構造（式（Ａ））を有する化合物や、フルオレン構造（式（Ｂ））を有する化合物が挙げられる。また、上記トリアジン環構造を有する化合物、および、フルオレン構造を有する化合物は、さらに重合性基（例えば、ラジカル重合性基（例：（メタ）アクリロイル基またはビニル基））が含まれていてもよい。
また、上記高屈折率低分子化合物は、後述する下地層形成用組成物に含まれていてもよく、その含有量は上記範囲であることが好ましい。
【００７３】
【化２２】
2015007766.tif 000023
【００７４】
（下地層の形成方法）
下地層の形成方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、上述した重合体などの下地層を形成する材料を含む下地層形成用組成物を、支持体上に塗布して、必要に応じて硬化処理（例えば、加熱処理および／または露光処理）を実施する方法を採用できる。
塗布の方法は特に制限されず、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、バー塗布法などが挙げられる。
また、下地層形成用組成物は、透明な組成物であることが好ましく、より具体的には、組成物により膜厚１．０μｍの下地層を形成した時、下地層の厚み方向に対する光透過率が、４００〜７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上となるような組成物であることが好ましい。
すなわち、下地層は、膜厚１．０μｍにおいて、膜の厚み方向に対する光透過率が、４００〜７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上となるような膜が好ましい。
なお、上記光透過率は、４００〜７００ｎｍの波長領域全域に渡って、９５％以上であることが好ましく、９９％以上であることがより好ましく、１００％であることが最も好ましい。
下地層形成用組成物は、後述する着色剤を実質的に含有しないことが好ましい。より具体的には、着色剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０質量％であることが好ましい。
また、下地層形成用組成物には、必要に応じて、架橋剤、溶剤、界面活性剤、密着向上剤などが含まれていてもよい。溶剤、界面活性剤、密着向上剤のそれぞれの例示としては、後述する着色感放射線性組成物に含まれる溶剤、界面活性剤、密着向上剤で述べる例示が挙げられる。
【００７５】
なお、架橋剤としては、上述した重合体と反応し得る置換基を有する化合物であれば特に限定されるものではない。
そのような化合物としては、メチロール基、メトキシメチル基などの架橋形成置換基を有するメラミン系化合物、置換尿素系化合物、エポキシ基またはオキセタン基などの架橋形成置換基を含有する化合物、ブロック化イソシアナートを含有する化合物、酸無水物を有する化合物、（メタ）アクリル基を有する化合物、フェノプラスト化合物などが挙げられるが、耐熱性や保存安定性の観点から、エポキシ基、ブロックイソシアネート基、（メタ）アクリル基を有する化合物が好ましい。
【００７６】
なお、下地層形成用組成物には、ＮａＣｌなどの塩の含有量が少ないことが好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、５０質量ｐｐｍ以下がより好ましい。１質量ｐｐｍ以上が好ましく、５質量ｐｐｍ以上がより好ましい。塩の含有量が上記所定値以下の場合、膜の欠陥の発生がより抑制される。また、塩を微量添加することで、パターン形状の調整剤として機能し、フォトリソでパターンを形成するときに、所望のパターンを形成しやすくなる。塩の含有量は、ろ過により調整することができる。
【００７７】
＜着色層形成工程＞
着色層形成工程は、上記で述べた下地層上に、（Ａ）着色剤（好ましくは顔料）、（Ｂ）重合開始剤、および（Ｃ）重合性化合物を含む、着色感放射線性組成物を用いて着色層を形成する工程である。着色層の色は特に制限されず、使用される着色剤の種類によって適宜調整でき、例えば、赤色着色層、緑色着色層、青色着色層などが挙げられ、これらを下地層上に同時に配置してもよい。
以下では、まず、本工程で使用される着色感放射線性組成物について詳述し、その後工程の手順について詳述する。
【００７８】
（着色感放射線性組成物（以後、単に「組成物」「本発明の組成物」とも称する。）
着色感放射線性組成物には、（Ａ）着色剤（好ましくは顔料）、（Ｂ）重合開始剤、および（Ｃ）重合性化合物が少なくとも含まれる。
まず、各成分について詳述する。
【００７９】
（（Ａ）着色剤）
着色剤の種類は特に制限されず、有彩色系（赤色、マゼンタ色、黄色、青色、シアン色および緑色等）の顔料または染料や、黒色の顔料または染料が使用される。
有彩色系の顔料としては、従来公知の種々の無機顔料または有機顔料を用いることができる。また、無機顔料であれ有機顔料であれ、高透過率であることが好ましいことを考慮すると、なるべく細かいものの使用が好ましく、ハンドリング性をも考慮すると、上記顔料の平均一次粒子径は、０．０１μｍ〜０．１μｍが好ましく、０．０１μｍ〜０．０５ｍがより好ましい。
無機顔料としては、金属酸化物、金属錯塩等で示される金属化合物を挙げることができ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン、銀等の金属酸化物、および金属の複合酸化物を挙げることができる。チタンの窒化物、銀錫化合物、銀化合物なども使用することができる。
【００８０】
本発明において好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されるものではない。
Ｃ．Ｉ．ピグメント  イエロー１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４等、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等、
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド  １，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９
【００８１】
Ｃ．Ｉ．  ピグメント  グリーン  ７，１０，３６，３７，５８
Ｃ．Ｉ．ピグメント  バイオレット  １，１９，２３，２７，３２，３７，４２
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー  Ｂｌｕｅ  １，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，６０，６４，６６，７９，８０
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ  １
これら有機顔料は、単独若しくは色純度を上げるため種々組合せて用いることができる。
【００８２】
顔料としては、上述したように、無機顔料を用いてもよく、無機顔料としては、例えば、金属顔料、金属化合物や金属酸化物などからなる金属含有無機顔料、カーボンブラックなどが挙げられる。
また、組成物はカラーフィルタの着色領域（画素）の形成のみならず、ブラックマトリックスの形成に使用してもよく、ブラックマトリックス形成用組成物に用いられる黒色顔料としては、カーボン、チタンブラック、酸化鉄、酸化チタン、銀錫、銀などの他に、酸化チタンなどの金属酸化物を含有する金属混合物等からなる顔料が用いることができる。チタンブラックの市販品の例としては例えば、三菱マテリアル社製チタンブラック１０Ｓ、１２Ｓ、１３Ｒ、１３Ｍ、１３Ｍ−Ｃ、１３Ｒ、１３Ｒ−Ｎ、赤穂化成（株）ティラック（Ｔｉｌａｃｋ）Ｄなどが挙げられる。
【００８３】
顔料としては、平均粒子径（ｒ）が、２０ｎｍ≦ｒ≦３００ｎｍ、好ましくは１２５ｎｍ≦ｒ≦２５０ｎｍ、特に好ましくは３０ｎｍ≦ｒ≦２００ｎｍを満たす顔料が望ましい。このような平均粒子径の顔料を用いることにより、高コントラスト比であり、かつ高光透過率の画素を得ることができる。ここでいう「平均粒子径」とは、顔料の一次粒子（単微結晶）が集合した二次粒子についての平均粒子径を意味する。平均一次粒子径は、ＳＥＭまたはＴＥＭで観察し、粒子が凝集していない部分で粒子サイズを１００個計測し、平均値を算出することによって求めることができる。
また、本発明において使用しうる顔料の二次粒子の粒子径分布（以下、単に「粒子径分布」という。）は、（平均粒子径±１００）ｎｍに入る二次粒子が全体の７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上であることが望ましい。なお、本発明においては、粒子径分布は、散乱強度分布を用いて測定した。
上記した平均粒子径および粒子径分布を有する顔料は、市販の顔料を、場合により使用される他の顔料（平均粒子径は通常、３００ｎｍを超える。）と共に、好ましくは分散剤および溶剤と混合した顔料混合液として、例えばビーズミル、ロールミル等の粉砕機を用いて、粉砕しつつ混合・分散することにより調製することができる。このようにして得られる顔料は、通常、顔料分散液の形態をとる。
【００８４】
組成物に含有される顔料の含有量（濃度）としては、本発明の効果がより優れる点で、組成物の全固形分中、４０質量％以上であることが好ましく、４５質量％以上がより好ましく、５０質量％が更に好ましい。上限については特に制限はないが、好ましくは７５質量％以下である。
染料としては、特に制限はなく、公知の染料を適宜選択して使用できる。例えば、特開昭６４−９０４０３号公報、特開昭６４−９１１０２号公報、特開平１−９４３０１号公報、特開平６−１１６１４号公報、特登２５９２２０７号、米国特許第４，８０８，５０１号明細書、米国特許第５，６６７，９２０号明細書、米国特許第５，０５９，５００号明細書、特開平５−３３３２０７号公報、特開平６−３５１８３号公報、特開平６−５１１１５号公報、特開平６−１９４８２８号公報、特開平８−２１１５９９号公報、特開平４−２４９５４９号公報、特開平１０−１２３３１６号公報、特開平１１−３０２２８３号公報、特開平７−２８６１０７号公報、特開２００１−４８２３号公報、特開平８−１５５２２号公報、特開平８−２９７７１号公報、特開平８−１４６２１５号公報、特開平１１−３４３４３７号公報、特開平８−６２４１６号公報、特開２００２−１４２２０号公報、特開２００２−１４２２１号公報、特開２００２−１４２２２号公報、特開２００２−１４２２３号公報、特開平８−３０２２２４号公報、特開平８−７３７５８号公報、特開平８−１７９１２０号公報、特開平８−１５１５３１号公報等に記載の色素である。
化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系等の染料が使用できる。これらの染料は多量体であってもよい。
【００８５】
（分散剤）
なお、本発明の組成物では、顔料の分散性を更に向上させる観点から、分散剤を添加することが好ましい。
分散剤（以下、「顔料分散剤」ということがある）としては、高分子分散剤（例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物）、および、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、顔料誘導体等を挙げることができる。
高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
高分子分散剤は顔料の表面に吸着し、再凝集を防止する様に作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。一方で、顔料誘導体は顔料表面を改質することで、高分子分散剤の吸着を促進させる効果を有する。
【００８６】
本発明に用いうる顔料分散剤の具体例としては、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１（ポリアミドアミン燐酸塩）、１０７（カルボン酸エステル）、１１０（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアミド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、「ＢＹＫ−Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和ポリカルボン酸）、ＢＹＫ２００１」、ＥＦＫＡ社製「ＥＦＫＡ４０４７、４０５０、４０１０、４１６５（ポリウレタン系）、ＥＦＫＡ４３３０、４３４０（ブロック共重合体）、４４００、４４０２（変性ポリアクリレート）、５０１０（ポリエステルアミド）、５７６５（高分子量ポリカルボン酸塩）、６２２０（脂肪酸ポリエステル）、６７４５（フタロシアニン誘導体）、６７５０（アゾ顔料誘導体）」、味の素ファインテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、ＰＢ８２２」、共栄社化学社製「フローレンＴＧ−７１０（ウレタンオリゴマー）」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合体）」、楠本化成社製「ディスパロンＫＳ−８６０、８７３ＳＮ、８７４、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル）、ＤＡ−７０３−５０、ＤＡ−７０５、ＤＡ−７２５」、花王社製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ−Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物）」、「ホモゲノールＬ−１８（高分子ポリカルボン酸）」、「エマルゲン９２０、９３０、９３５、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）」、「アセタミン８６（ステアリルアミンアセテート）」、ルーブリゾール社製「ソルスパース５０００（フタロシアニン誘導体）、２２０００（アゾ顔料誘導体）、１３２４０（ポリエステルアミン）、３０００、１７０００、２７０００（末端部に機能部を有する高分子）、２４０００、２８０００、３２０００、３８５００（グラフト型高分子）」、日光ケミカル社製「ニッコールＴ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ−ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）」等が挙げられる。
これらの分散剤は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。本発明においては、特に、顔料誘導体と高分子分散剤とを組み合わせて使用することが好ましい。
【００８７】
本発明の組成物中における分散剤の含有量としては、顔料に対して、１〜１００質量％であることが好ましく、３〜１００質量％がより好ましく、５〜８０質量％がさらに好ましい。また、組成物の全固形分に対し、１０〜３０質量％であることが好ましい。
【００８８】
＜重合開始剤＞
本発明の組成物は、重合開始剤を含む。重合開始剤は１種類のみでも、２種類以上でもよく、２種類以上の場合は、合計量が下記範囲となる。例えば、重合開始剤の含有量は、本発明の組成物の固形分に対して、０．０１〜３０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましく、０．１〜１５質量％がさらに好ましい。この範囲内であると、良好な感度とパターン形成性が得られる。
重合開始剤としては、光、熱のいずれか或いはその双方により重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、光重合開始剤であることが好ましい。光で重合を開始させる場合、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。
また、熱で重合を開始させる場合には、１５０〜２５０℃で分解する重合開始剤が好ましい。
【００８９】
本発明に用いうる重合開始剤としては、少なくとも芳香族基を有する化合物であることが好ましく、例えば、アシルホスフィン化合物、アセトフェノン化合物、α−アミノケトン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、トリハロメチル化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、ジアゾニウム化合物、ヨードニウム化合物、スルホニウム化合物、アジニウム化合物、ベンゾインエーテル化合物、ケタール誘導体化合物、メタロセン化合物等のオニウム塩化合物、有機硼素塩化合物、ジスルホン化合物などが挙げられる。
感度の観点から、オキシム化合物、アセトフェノン化合物、α−アミノケトン化合物、トリハロメチル化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、および、チオール化合物が好ましい。
【００９０】
アセトフェノン化合物、トリハロメチル化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オキシム化合物としては、具体的には、特開２０１２−２０８４９４号公報段落０５０６〜０５１０（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の[０６２２〜０６２８]）等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
光重合開始剤としては、オキシム化合物、アセトフェノン化合物、および、アシルホスフィン化合物からなる群より選択される化合物が更に好ましい。より具体的には、例えば、特開平１０−２９１９６９号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィンオキシド系開始剤、および、既述のオキシム系開始剤、更にオキシム系開始剤として、特開２００１−２３３８４２号公報に記載の化合物も用いることができる。
オキシム系開始剤としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を用いることができる。アセトフェノン系開始剤としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、および、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９（商品名：いずれもＢＡＳＦジャパン社製）を用いることができる。またアシルホスフィン系開始剤としては市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９やＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（商品名：いずれもＢＡＳＦジャパン社製）を用いることができる。
オキシム系開始剤（オキシム系重合開始剤）としては、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０５１３（対応する米国特許出願公開第２０１２／２３５０９９号明細書の［０６３２］）以降の式（ＯＸ−１）、（ＯＸ−２）または（ＯＸ−３）で表される化合物の説明を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
オキシム系開始剤としては、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０４、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０９、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０５（常州強力電子新材料有限公司（CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO.,LTD）製）などの市販品も使用できる。また、特開２０１２−１１３１０４号公報の段落００９２欄から段落００９６欄に記載されている重合開始剤の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。このようなオキシム系開始剤を使用することで、硬化感度が高く、現像性が良好な樹脂組成物を提供することができる。上記オキシム系開始剤は、特開２０１２−１１３１０４号公報の００３０欄以降に説明されている化合物である。一般式としては、特開２０１２−１１３１０４号方法の請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表され、より好ましくは請求項３に記載の一般式（Ｉ−Ａ）で表されるものであり、これらの記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【００９１】
本発明では、重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。本発明に用いることができる増感剤としては、重合開始剤に対し、電子移動機構またはエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。
増感剤としては、例えば、特開２００８−３２８０３号公報の段落番号０１０１〜０１５４に記載される化合物が挙げられる。
本発明の組成物中における増感剤の含有量は、配合する場合、深部への光吸収効率と開始分解効率の観点から、固形分換算で、０．１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜１５質量％がより好ましい。
増感剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９２】
（重合性化合物）
重合性化合物としては、上記重合開始剤によって重合する化合物であればよく、公知の重合性化合物を使用できる。
なかでも、重合性の観点から、少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物を使用することもでき、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物を使用することが好ましい。
【００９３】
なかでも、着色層の密着性がより優れる点で、重合性化合物として、３つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物（以下、「多官能モノマー」ということがある）が好ましい。このような化合物は当該産業分野において広く知られているものであり、本発明においてはこれらを特に限定なく用いることができる。本発明における多官能モノマーは１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。本発明で用いる多官能モノマーは、（メタ）アクリレートモノマーが好ましい。
これらの具体的な化合物としては、特開２００９−２８８７０５号公報の段落番号００９５〜０１０８に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。
【００９４】
上記のほか、下記一般式（ＭＯ−１）〜（ＭＯ−６）で表される、ラジカル重合性モノマーも好適に用いることができる。なお、式中、Ｔがオキシアルキレン基の場合には、炭素原子側の末端がＲに結合する。
【００９５】
【化２３】
2015007766.tif 000024
【００９６】
式中、ｎは、それぞれ、０〜１４であり、ｍは、それぞれ、１〜８である。一分子内に複数存在するＲ、ＴおよびＺは、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。Ｔがオキシアルキレン基の場合には、炭素原子側の末端がＲに結合する。Ｒのうち少なくとも３つは、重合性基である。
ｎは０〜５が好ましく、１〜３がより好ましい。
ｍは１〜５が好ましく、１〜３がより好ましい。
Ｒは、
【００９７】
【化２４】
2015007766.tif 000025
【００９８】
が好ましく、
【００９９】
【化２５】
2015007766.tif 000026
【０１００】
がより好ましい。
上記一般式（ＭＯ−１）〜（ＭＯ−６）で表される、ラジカル重合性モノマーの具体例としては、特開２００７−２６９７７９号公報の段落番号０２４８〜段落番号０２５１に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。
【０１０１】
中でも、多官能モノマー等としては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては  ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては  ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３２０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては  ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては  ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ  ；日本化薬株式会社製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。
例えば、ＲＰ−１０４０（日本化薬株式会社製）などが挙げられる。
【０１０２】
本発明で用いる多官能モノマーは、特に好ましくは、下記一般式（ｉ）で表される化合物および一般式（ｉｉ）で表される化合物から選択される少なくとも１種である。
【０１０３】
【化２６】
2015007766.tif 000027
【０１０４】
一般式（ｉ）および（ｉｉ）中、Ｅは、それぞれ、−（（ＣＨ2）ｙＣＨ2Ｏ）−、または−（（ＣＨ2）ｙＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）−を表し、ｙは、それぞれ、１〜１０の整数を表し、Ｘは、それぞれ、水素原子、アクリロイル基、メタクリロイル基、または、カルボキシル基を表す。
一般式（ｉ）中、アクリロイル基およびメタクリロイル基の合計は３個または４個であり、ｍは、それぞれ、０〜１０の整数を表し、それぞれのｍの合計は１〜４０の整数である。
一般式（ｉｉ）中、アクリロイル基およびメタクリロイル基の合計は５個または６個であり、ｎは、それぞれ、０〜１０の整数を表し、それぞれｎの合計は１〜６０の整数である。
【０１０５】
上記式中、Ｅは、それぞれ、−（（ＣＨ2）ｙＣＨ２Ｏ）−、または−（（ＣＨ2）ｙＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）−を表し、−（（ＣＨ2）ｙＣＨ2Ｏ）−が好ましい。
ｙは、それぞれ、１〜１０の整数を表し、１〜５の整数が好ましく、１〜３がより好ましい。
Ｘは、それぞれ、水素原子、アクリロイル基、メタクリロイル基、または、カルボキシル基を表す。
一般式（ｉ）中、アクリロイル基およびメタクリロイル基の合計は３個または４個であり、４個が好ましい。
ｍは、それぞれ、０〜１０の整数を表し、１〜５が好ましい。それぞれのｍの合計は１〜４０の整数であり、４〜２０個が好ましい。
一般式（ｉｉ）中、アクリロイル基およびメタクリロイル基の合計は５個または６個であり、６個が好ましい。
ｎは、それぞれ、０〜１０の整数を表し、１〜５が好ましい。それぞれｎの合計は１〜６０の整数であり、４〜３０個が好ましい。
【０１０６】
多官能モノマーとしては、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。従って、エチレン性化合物が、上記のように混合物である場合のように未反応のカルボキシル基を有するものであれば、これをそのまま利用することができるが、必要において、上述のエチレン性化合物のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を導入してもよい。この場合、使用される非芳香族カルボン酸無水物の具体例としては、無水テトラヒドロフタル酸、アルキル化無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、アルキル化無水ヘキサヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸が挙げられる。
【０１０７】
本発明において、酸基を有するモノマーとしては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであり、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた多官能モノマーが好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトールおよび／またはジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ−３０５、Ｍ−５１０、Ｍ−５２０などが挙げられる。
酸基を有する多官能モノマーの好ましい酸価としては、０．１〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、特に好ましくは５〜３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。
【０１０８】
これらの多官能モノマーについて、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。本発明では、異なる官能数および／または異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。さらに、３官能以上８官能以下でエチレンオキサイド鎖長の異なる多官能モノマーを併用することが、組成物の現像性を調節することができ、優れたパターン形成能が得られるという点で好ましい。また、組成物に含有される他の成分（例えば、重合開始剤、着色剤（顔料）、樹脂等）との相溶性、分散性に対しても、多官能モノマーの選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や２種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板などの硬質表面との密着性を向上させる観点で特定の構造を選択することもあり得る。
【０１０９】
重合性化合物（特に、多官能モノマー）の濃度（配合率）は、本発明の効果がより優れる点で、組成物中の全固形分中１５質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることが好ましく、更には２５質量％以上であることが好ましい。上限については特に制限はないが、５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましい。
【０１１０】
（その他任意成分）
上記組成物には、（Ａ）顔料、（Ｂ）重合開始剤、および（Ｃ）重合性化合物以外の成分が含まれていてもよい。例えば、アルカリ可溶性樹脂、重合性基を有するアクリル系ポリマー、分散剤、溶剤、界面活性剤、重合禁止剤、密着向上剤、紫外線吸収剤などが挙げられる。
以下、任意成分について詳述する。
【０１１１】
（アルカリ可溶性樹脂）
アルカリ可溶性樹脂としては、線状有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。耐熱性の観点からは、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましく、現像性制御の観点からは、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。
アルカリ可溶性を促進する基（以下、酸基ともいう）としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基などが挙げられるが、溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものが好ましく、（メタ）アクリル酸が特に好ましいものとして挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
重合後に酸基を付与しうるモノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の水酸基を有するモノマー、グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基を有するモノマー、２−イソシアナートエチル（メタ）アクリレート等のイソシアネート基を有するモノマー等が挙げられる。これら酸基を導入するための単量体は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。アルカリ可溶性樹脂に酸基を導入するには、例えば、酸基を有するモノマーおよび／または重合後に酸基を付与しうるモノマー（以下「酸基を導入するための単量体」と称することもある。）を、単量体成分として重合するようにすればよい。
なお、重合後に酸基を付与しうるモノマーを単量体成分として酸基を導入する場合には、重合後に例えば酸基を付与するための処理が必要となる。
【０１１２】
アルカリ可溶性樹脂の製造には、例えば、公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類およびその量、溶剤の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めるようにすることもできる。
【０１１３】
アルカリ可溶性樹脂として用いられる線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましく、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック型樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他の単量体との共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適である。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、（イソ）ペンチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ-ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等、特開平１０−３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマーとして、Ｎ―フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等を挙げることができる。
（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、例えば、下記式（Ｘ）で表される繰り返し単位を与える単量体であることも好ましい。
【０１１４】
【化２７】
2015007766.tif 000028
【０１１５】
上記式（Ｘ）中、Ｒ１Ｘは水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２Ｘは炭素数２または３のアルキレン基を表し、Ｒ３Ｘは水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、ｎは１〜１５の整数を表す。上記式（Ｘ）で表される繰り返し単位は、側鎖に存在するベンゼン環のπ電子の効果により着色剤（特に、顔料）表面への吸着および／または配向性が良好となる。特に、この側鎖部分が、パラクミルフェノールのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド構造をとる場合には、その立体的な効果も加わり、着色剤（特に、顔料）に対しより良好な吸着および／または配向面を形成することができるため、より効果が高く好ましい。また、Ｒ３Ｘは水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表すが、炭素数１〜２０のアルキル基であることが好ましい。また、Ｒ３Ｘがアルキル基である場合には、中でも、炭素数が１〜１０であるアルキル基が好ましい。これは、Ｒ３Ｘが炭素数１〜１０のアルキル基である場合、このアルキル基が障害となり樹脂同士の接近を抑制し着色剤（特に、顔料）への吸着および／または配向を促進するが、炭素数が１０を越えるとアルキル基の立体障害効果が高くなりベンゼン環の着色剤（特に、顔料）表面への吸着および／または配向までをも妨げてしまう場合があるためである。この現象は、Ｒ３Ｘのアルキル基の鎖長が長くなるに従い顕著となり、炭素数が２０を越えるとベンゼン環の吸着および／または配向が極端に低下する。そのため、Ｒ３Ｘで表されるアルキル基は、炭素数が１〜２０の範囲となる。なお、Ｒ３Ｘで表されるアルキル基としては、無置換のアルキル基、またはフェニル基で置換されたアルキル基が好ましい。
【０１１６】
また、式（Ｘ）におけるＲ２Ｘは、現像性の観点から、炭素数２のアルキレン基であることが好ましい。
更に、式（Ｘ）におけるｎは、現像性の観点から、１〜１２の範囲が好ましい。
本発明における式（Ｘ）で表される繰り返し単位は、下記式（Ｙ）で表されるエチレン性不飽和単量体を用いて、アルカリ可溶性樹脂中に導入される。
【０１１７】
【化２８】
2015007766.tif 000029
【０１１８】
上記式（Ｙ）中、Ｒ１Ｘ、Ｒ２Ｘ、Ｒ３Ｘ、およびｎは、上記式（Ｘ）におけるＲ１Ｘ、Ｒ２Ｘ、Ｒ３Ｘ、およびｎと同義であり、好ましい例も同様である。
式（Ｙ）で表されるエチレン性不飽和単量体としては、フェノールエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノールプロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート等が挙げられる。
なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体は１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
【０１１９】
アルカリ可溶性樹脂としては、下記一般式（ＥＤ）で表される化合物を必須とする単量体成分を重合してなる樹脂も好ましい。
【０１２０】
【化２９】
2015007766.tif 000030
【０１２１】
式（ＥＤ）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基を表す。
式（ＥＤ）で示される化合物（以下「エーテルダイマー」と称することもある。）を必須とする単量体成分を重合してなる樹脂を使用することにより、耐熱性とともに透明性にも極めて優れた硬化塗膜を形成しうる。
エーテルダイマーを示す一般式（ＥＤ）中、Ｒ1およびＲ2で表される置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ステアリル基、ラウリル基、２−エチルヘキシル基等の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル等のアリール基；シクロヘキシル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ジシクロペンタジエニル基、トリシクロデカニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、２−メチル−２−アダマンチル基等の脂環式基；１−メトキシエチル基、１−エトキシエチル基等のアルコキシで置換されたアルキル基；ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基；等が挙げられる。これらの中でも特に、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等のような酸や熱で脱離しにくい１級または２級炭素の置換基が耐熱性の点で好ましい。
【０１２２】
エーテルダイマーの具体例としては、特開２０１２−２０８４９４号の公報段落０５６５（対応する米国特許出願公開第２０１２／２３５０９９号明細書の［０６９４］）のエーテルダイマーの説明を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
これらの中でも特に、ジメチル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジエチル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジシクロヘキシル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジベンジル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエートが好ましい。これらエーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。一般式（ＥＤ）で示される化合物由来の構造体は、その他の単量体を共重合させてもよい。
【０１２３】
アルカリ可溶性樹脂としては、特に、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体やベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレートからなる多元共重合体が好適である。この場合の他のモノマーとしては、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクレート／メタクリル酸共重合体などが挙げられる。
【０１２４】
アルカリ可溶性樹脂の酸価としては好ましくは３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは５０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、さらに好ましくは７０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇである。このような範囲とすることにより、未露光部の現像残渣を効果的に低減できる。
また、アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、２，０００〜５０，０００が好ましく、５，０００〜３０，０００がさらに好ましく、７，０００〜２０，０００が特に好ましい。
アルカリ可溶性樹脂の本発明の組成物中における含有量としては、組成物の全固形分に対して、１０〜５０質量％が好ましく、より好ましくは１５〜４０質量％であり、特に好ましくは２０〜３５質量％である。
【０１２５】
＜溶剤＞
本発明の組成物は、一般には、溶剤を用いて構成することができる。溶剤は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。
溶剤としては、エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸アルキル（例：オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル（例えば、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等））、３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例：３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル等（例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等））、２−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例：２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル等（例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル））、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチルおよび２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル（例えば、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル等）、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等、並びに、エーテル類として、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等、並びに、ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等、並びに、芳香族炭化水素類として、例えば、キシレン等が好適に挙げられる。
【０１２６】
これらの溶剤は、アルカリ可溶性樹脂の溶解性、塗布面状の改良などの観点から、２種以上を混合することも好ましい。この場合、特に好ましくは、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、およびプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選択される２種以上で構成される混合溶液である。
溶剤の組成物中における含有量は、塗布性の観点から、組成物の全固形分濃度が５〜８０質量％になる量とすることが好ましく、５〜６０質量％が更に好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましい。
【０１２７】
＜界面活性剤＞
本発明の組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
特に、本発明の組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μｍ程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３質量％〜４０質量％が好適であり、より好ましくは５質量％〜３０質量％であり、特に好ましくは７質量％〜２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
【０１２８】
フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、同Ｆ７８１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
【０１２９】
ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレートおよびプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル（ＢＡＳＦ社製のプルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１、パイオニンＤ−６１１２−Ｗ（竹本油脂（株）製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製））等が挙げられる。
カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体（商品名：ＥＦＫＡ−７４５、森下産業（株）製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、Ｗ００１（裕商（株）製）等が挙げられる。
アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）社製）等が挙げられる。
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング（株）製「トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ」、「トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ８４００」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「ＴＳＦ−４４４０」、「ＴＳＦ−４３００」、「ＴＳＦ−４４４５」、「ＴＳＦ−４４６０」、「ＴＳＦ−４４５２」、信越シリコーン株式会社製「ＫＰ３４１」、「ＫＦ６００１」、「ＫＦ６００２」、ビックケミー社製「ＢＹＫ３０７」、「ＢＹＫ３２３」、「ＢＹＫ３３０」等が挙げられる。
【０１３０】
界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。
界面活性剤の添加量は配合する場合、組成物の全質量に対して、０．００１質量％〜２．０質量％が好ましく、より好ましくは０．００５質量％〜１．０質量％である。
【０１３１】
＜重合禁止剤＞
本発明の組成物においては、該組成物の製造中または保存中において、多官能モノマーの不要な熱重合を阻止するために、少量の重合禁止剤を添加することが望ましい。
本発明に用いうる重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ｏ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
【０１３２】
更に、組成物は、増感色素や開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、或いは酸素による多官能モノマーの重合阻害を抑制する等の目的で共増感剤を含有してもよい。また、硬化皮膜の物性を改良するために、希釈剤、可塑剤、感脂化剤等の公知の添加剤を必要に応じて加えてもよい。
【０１３３】
重合禁止剤を用いる場合の添加量としては、組成物中の全固形分中、０．００１質量％〜０．０１５質量％の範囲であることが好ましく、０．０３質量％〜０．０９質量％がより好ましい。
【０１３４】
＜密着向上剤（密着促進剤）＞
本発明の組成物には、基板などの硬質表面との密着性を向上させるために、密着向上剤を添加することができる。
密着向上剤としては、シラン系カップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。
シランカップリング剤は、無機材料と化学結合可能な加水分解性基としてアルコキシシリル基を有するものが好ましい。また有機樹脂との間で相互作用または結合形成して親和性を示す基を有することが好ましく、そのような基としては（メタ）アクリロイル基、フェニル基、メルカプト基、グリシジル基、オキセタニル基を有するものが好ましく、その中でも（メタ）アクリロイル基またはグリシジル基を有するものが好ましい。
即ち、本発明に用いるシランカップリング剤としては、アルコキシシリル基と、（メタ）アクリロイル基またはエポキシ基と、を有する化合物であることが好ましく、具体的には下記構造の（メタ）アクリロイル−トリメトキシシラン化合物、グリシジル−トリメトキシシラン化合物等が挙げられる。
【０１３５】
【化３０】
2015007766.tif 000031
【０１３６】
また、本発明におけるシランカップリング剤は、一分子中に少なくとも２種の反応性の異なる官能基を有するシラン化合物も好ましく、特に、官能基としてアミノ基とアルコキシ基とを有するものが好ましい。このようなシランカップリング剤としては、例えば、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−メチルジメトキシシラン（信越化学工業社製、商品名 KBM-602）、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−トリメトキシシラン（信越化学工業社製、商品名 KBM-603）、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン（信越化学工業社製、商品名 KBE-602）、γ−アミノプロピル−トリメトキシシラン（信越化学工業社製、商品名 KBM-903）、γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン（信越化学工業社製、商品名 KBE-903）等がある。
【０１３７】
シランカップリング剤を用いる場合の添加量としては、組成物中の全固形分中、０．１質量％〜５．０質量％の範囲であることが好ましく、０．２質量％〜３．０質量％がより好ましい。
【０１３８】
＜重合性基を有するアクリル系ポリマー＞
本発明の組成物は、重合性基を有するアクリル系ポリマーを含有していてもよい。重合性基を有するアクリル系ポリマーが有する重合性基としては、エチレン性不飽和結合性基が例示され、（メタ）アクリロイル基またはビニル基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がさらに好ましい。
本発明で用いる重合性基を有するアクリル系ポリマーは、通常、重合性基を有する構成単位と、他の構成単位を含む。
本発明におけるアクリル系ポリマーとは（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミドのいずれか１種以上由来の繰り返し単位を有するビニル重合体をいう。
【０１３９】
重合性基を有するアクリル系ポリマーに含まれる、重合性基の割合としては、５〜５０であるのが好ましく、１０〜４０であるのがより好ましい。このような範囲とすることにより硬化と性と現像性の両立がより効果的に達成される。ここで、重合性基の割合とは、モル共重合比率を意味する。
【０１４０】
他の構成単位としては、例えば、酸基を含む構成単位が例示される。酸基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。
また、本発明で用いる重合性基を有するアクリル系ポリマーの酸価は、１０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、２０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましい。このような範囲とすることにより、パターン形成の際の、未露光部の溶解性を高めることが可能になる。本発明における酸価は、水酸化カリウム溶液との中和滴定によって得られた値をいう。
【０１４１】
重合性基を有するアクリル系ポリマーとしては、例えば、カルボキシル基含有樹脂にグリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル等のグリシジル基含有不飽和化合物やアリルアルコール、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシメタクリレート等の不飽和アルコールを反応させた樹脂、水酸基を有するカルボキシル基含有樹脂に遊離イソシアネート基含有不飽和化合物、不飽和酸無水物を反応させた樹脂、エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との付加反応物に多塩基酸無水物を反応させた樹脂、共役ジエン共重合体と不飽和ジカルボン酸無水物との付加反応物に水酸基含有多官能モノマーを反応させた樹脂、塩基処理によって脱離反応が生起され不飽和基を与える特定官能基を有する樹脂を合成し、該樹脂に塩基処理を施すことで不飽和基を生成させた樹脂等が代表的な樹脂として挙げられる。
重合性基を有するアクリル系ポリマーとしては、特開２００９−７９１５０の段落００４３〜００６７の説明を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。また、特開２００９−７９１５０の段落００６３〜００６７の高分子化合物１〜２２の説明を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【０１４２】
＜その他の成分＞
本発明の組成物には、上記必須成分や上記任意添加剤に加え、本発明の効果を損なわい限りにおいて、目的に応じてその他の成分を適宜選択して用いてもよい。
併用可能なその他の成分としては、例えば、バインダーポリマー、分散剤、増感剤、架橋剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、紫外線吸収剤などが挙げられ、更に基材表面への密着促進剤およびその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を併用してもよい。
これらの成分を適宜含有させることにより、形成する膜の安定性、膜物性などの性質を調整することができる。
これらの成分は、例えば、特開２０１２−００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の［０２３７］以降）の記載、特開２００８−２５００７４号公報の段落番号０１０１〜０１０２、段落番号０１０３〜０１０４および段落番号０１０７〜０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【０１４３】
＜組成物の調製＞
本発明の組成物の調製態様については特に制限されないが、例えば、本発明の必須成分、および、所望により併用される各種の添加剤を混合し、調製することができる。
本発明の組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルターで濾過することが好ましい。
フィルターろ過に用いるフィルターとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルターであれば特に限定されることなく用いることができる。
フィルターの材質の例としては、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ素樹脂；ナイロン−６、ナイロン−６，６等のポリアミド系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量を含む）；等が挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）が好ましい。
フィルターの孔径には特に限定はないが、例えば０．０１〜２０．０μｍ程度であり、好ましくは０．０１〜５μｍ程度であり、さらに好ましくは０．０１〜２．０μｍ程度である。
フィルターの孔径を上記範囲とすることにより、微細な粒子をより効果的に取り除くことができ、濁度をより低減することができる。
ここで、フィルターの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルターとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）または株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルターの中から選択することができる。
【０１４４】
フィルターろ過では、２種以上のフィルターを組み合わせて用いてもよい。
例えば、まず第１のフィルターを用いてろ過を行い、次に、第１のフィルターとは孔径が異なる第２のフィルターを用いてろ過を行うことができる。
その際、第１のフィルターでのフィルタリングおよび第２のフィルターでのフィルタリングは、それぞれ、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。
第２のフィルターは、上述した第１のフィルターと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。
【０１４５】
本発明の組成物は、インクジェットで塗布されることが好ましく、インクジェット記録装置に適用するのに好適な物性を有することが好ましい。
即ち、本発明の組成物をインクジェット記録方法に用いる場合には、吐出性を考慮し、吐出時の温度でのインク粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、５０ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましく、上記範囲になるように適宜組成比を調整し決定することが好ましい。
なお、２５℃（室温）での組成物の粘度は、好ましくは０．５ｍＰａ・ｓ以上２００ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは１ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ以下であり、さらに好ましくは２ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下である。室温での粘度を高く設定することにより、凹凸のある基板に適用した場合でも、組成物の液だれが防止され、その結果として均一な遮光膜の形成が可能となる。２５℃での粘度が２００ｍＰａ・ｓより大きいときには、組成物の搬送（装置内での液の輸送状態）に問題が生じる場合がある。
【０１４６】
本発明の組成物の表面張力は、好ましくは２０ｍＮ／ｍ〜４０ｍＮ／ｍ、より好ましくは２３ｍＮ／ｍ〜３５ｍＮ／ｍである。シリコン基板や金属配線表面に適用する場合、液だれ抑制の観点から２０ｍＮ／ｍ以上が好ましく、と基板等との密着性、親和性の観点から３５ｍＮ／ｍ以下が好ましい。
【０１４７】
＜工程の手順＞
本発明の組成物を用いて形成される着色層の製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。なかでも、着色感放射線性組成物を下地層上に付与して、着色感放射線性組成物層を形成する工程（以下、「着色感放射線性組成物層形成工程」ともいう）と、マスクを介して着色感放射線性組成物層をパターン露光する工程（以下、「露光工程」ともいう）と、露光後の着色感放射線性組成物層を現像して着色層（以下、「着色パターン」「着色画素」ともいう）を形成する工程（以下、「現像工程」ともいう）と、を含むことが好ましい。
以後、好適態様の各工程の手順について詳述する。
【０１４８】
（着色感放射線性組成物層形成工程）
着色感放射線性組成物層形成工程では、下地層上に、上記組成物を付与して着色感放射線性組成物層を形成する。
下地層上への本発明の組成物の適用方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用することができる。
着色感放射線性組成物層の膜厚としては、０．１μｍ〜１０μｍが好ましく、０．２μｍ〜５μｍがより好ましく、０．２μｍ〜３μｍがさらに好ましい。
支持体上に塗布された着色感放射線性組成物層は必要に応じて乾燥（プリベーク）してもよく、乾燥はホットプレート、オーブン等で５０℃〜１４０℃の温度で１０秒〜３００秒で行うことができる。
（露光工程）
露光工程では、着色感放射線性組成物層形成工程において形成された着色感放射線性組成物層を、例えば、ステッパー等の露光装置を用い、所定のマスクパターンを有するマスクを介してパターン露光する。
露光に際して用いることができる放射線（光）としては、特に、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく（特に好ましくはｉ線）用いられる。照射量（露光量）は３０〜１５００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましく、８０〜５００ｍＪ／ｃｍ2が最も好ましい。
【０１４９】
（現像工程）
次いでアルカリ現像処理等の現像を行うことにより、露光工程における光未照射部分の着色感放射線性組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。
現像液としては、下地の撮像素子や回路などにダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては通常２０℃〜３０℃であり、現像時間は、例えば、２０秒〜９０秒である。より残渣を除去するため、近年では１２０秒〜１８０秒実施する場合もある。さらには、より残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返す場合もある。
現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ−［５、４、０］−７−ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられ、これらのアルカリ剤を濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように純水で希釈したアルカリ性水溶液が現像液として好ましく使用される。
なお、現像液には無機アルカリを用いてもよく、無機アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウムなどが好ましい。
なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄（リンス）する。
【０１５０】
次いで、乾燥を施した後に加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。多色の着色層（着色パターン）を形成するのであれば、各色ごとに上記工程を順次繰り返して硬化皮膜を製造することができる。これによりカラーフィルタが得られる。
ポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理であり、通常１００℃〜２４０℃、好ましくは２００℃〜２４０℃の熱硬化処理を行う。
このポストベーク処理は、現像後の塗布膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。
なお、本発明の製造方法は、必要に応じ、上記以外の工程として、カラーフィルタの製造方法として公知の工程を有していてもよい。例えば、上述した、着色感放射線性組成物層形成工程、露光工程、および現像工程を行った後に、必要により、形成された着色層（着色パターン）を加熱および／または露光により硬化する硬化工程を含んでいてもよい。
【０１５１】
カラーフィルタにおける着色層（着色画素）の膜厚としては、２．０μｍ以下が好ましく、１．０μｍ以下がより好ましい。
また、着色層（着色画素）のサイズ（パターン幅）としては、２．５μｍ以下が好ましく、２．０μｍ以下がより好ましく、１．７μｍ以下が特に好ましい。
カラーフィルタは、液晶表示装置や固体撮像素子や有機ＥＬ表示装置に用いることができ、特に固体撮像用途や有機ＥＬ表示装置に好適である。液晶表示装置に用いた場合、比抵抗の低下に伴う液晶分子の配向不良が少なく、表示画像の色合いが良好で表示特性に優れる。
【０１５２】
本発明のカラーフィルタは、色相に優れ、且つ耐光性に優れた着色画素を有することから、特に液晶表示装置用のカラーフィルタとして好適である。このようなカラーフィルタを備えた液晶表示装置は、表示画像の色合いが良好で表示特性に優れた高画質画像を表示することができる。
本発明のカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、従来公知の冷陰極管の三波長管と組み合わせたときに高いコントラストを実現できるが、更に、赤、緑、青のＬＥＤ光源（ＲＧＢ−ＬＥＤ）をバックライトとすることによって輝度が高く、また、色純度の高い色再現性の良好な液晶表示装置を提供することができる。
【０１５３】
また、本発明のカラーフィルタは、固体撮像素子に好適に使用できる。
固体撮像素子の構成としては、本発明のカラーフィルタが備えられた構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
支持体上に、固体撮像素子（ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等かる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明のカラーフィルタを有する構成である。
更に、デバイス保護膜上であってカラーフィルタの下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。
【０１５４】
また、本発明は上述した下地層を有する有機ＥＬ表示装置にも関する。
以下に図面を参照して、本発明の有機ＥＬ表示装置の一実施態様について説明する。
図１は、下地層４０および着色層５０を含む有機ＥＬ表示装置１００の一態様の一部の断面図である。各画素は、例えば、白色光を発生する複数の有機ＥＬ素子２０と、着色層５０（５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂ）との組み合わせにより三原色（赤，緑および青）のいずれかの光を発生するものである。複数の有機ＥＬ素子２０のピッチ（中心間距離）Ｐは、例えば３０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下、具体的には例えば約２μｍないし３μｍである。ピッチｐは、０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。すなわち、この表示装置は、有機ＥＬ素子２０の寸法が極めて小さい、いわゆるマイクロディスプレイと呼ばれるものである。なお、この表示装置上には接眼レンズ（図示せず）が設けられており、使用者は、表示装置に表示された画像を、接眼レンズを通して拡大して見るようになっている。そのため、使用者が見ることができるのは、表示装置に表示された画像のうち、接眼レンズの取り込み角の範囲内の部分のみである。
【０１５５】
有機ＥＬ素子２０は、基板１０上に行列状に配置されると共に、保護膜３０により被覆されている。保護膜３０上には、接着層（図示せず）を間にして、ガラスなどよりなる封止用基板６０が全面にわたって貼り合わせられている。この封止用基板６０の基板１０側の表面に着色層５０が設けられている。
基板１０としては、ガラス基板などが使用される。
有機ＥＬ素子２０の構成は特に制限されず、構成を採用でき、通常、電極間に教示された発光層を含む場合が多い。
【０１５６】
保護膜３０は、例えば、厚みが０．５μｍないし１０μｍであり、窒化ケイ素（ＳｉＮ）により構成されている。接着層（図示せず）は、例えば紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂により構成されている。封止用基板６０は、接着層（図示せず）と共に有機ＥＬ素子２０を封止するものである。封止用基板６０は、例えば、有機ＥＬ素子２０で発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。
着色層５０は、有機ＥＬ素子２０で発生した白色光を、赤、緑または青の色光として取り出すためのものであり、複数の有機ＥＬ素子２０にそれぞれ対向する赤色着色層５０Ｒ、緑色着色層５０Ｇ、青色着色層５０Ｂを有している。赤色着色層５０Ｒ、緑色着色層５０Ｇ、および、青色着色層５０Ｂは、有機ＥＬ素子２０に対応して順に配置されている。赤色着色層５０Ｒ、緑色着色層５０Ｇ、および、青色着色層５０Ｂは、上述した着色剤などを含む着色感放射線性組成物より形成される層であり、着色剤の選択により、目的とする赤、緑または青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。
着色層５０は、着色層５０の一部には、半透過領域が設けられていてもよい。これにより、この表示装置では、有機ＥＬ素子２０の寸法が小さい場合にも、隣接する着色層を通過した光の回折による混色をより抑えることが可能となる。半透過領域は、着色層の一部に半透過膜が設けられていることにより、着色層の一部の透過率を可変させたものである。
着色層５０の下には、上述した、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．６０以上の下地層４０が設けられている。下地層４０が配置されることにより、着色層５０の密着性がより優れる。
【０１５７】
上述したように、マイクロディスプレイでは、有機ＥＬ素子の寸法が極めて小さい。そのため、有機ＥＬ素子に対応して設けられる着色層の大きさも極めて小さくなるため、より一層の密着性が着色層に求められる。本発明においては、上述した下地層上に着色層を配置することにより、寸法の極めて小さい着色層を密着性よく配置することが可能となる。
また、上述したように下地層に金属粒子または金属酸化物粒子が実質的に含まれない場合、下地層の平坦性が向上し、下地層上に配置される着色層の密着性が向上するため、マイクロディスプレイに好適に適用することができる。
【実施例】
【０１５８】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は、質量基準である。
【０１５９】
（製造例１：Ｒｅｄ顔料分散液の調製）
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、Ｒｅｄ顔料分散液を調製した。
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド  ２５４    １２．４部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド  １３９    ５．６部
・分散剤：ＢＹＫ社製  ＢＹＫ−２００１    ３．６部
・アルカリ可溶性樹脂１：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（＝７０／３０モル比、Ｍｗ：３００００、酸価：１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ）    ３．６部
・溶剤：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート    ７４．８部
【０１６０】
（製造例２：Ｇｒｅｅｎ顔料分散液の調製）
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、Ｇｒｅｅｎ顔料分散液を調製した。
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン  ３６    １０．８部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー  １５０    ７．２部
・分散剤：ＢＹＫ社製  ＢＹＫ−２００１    ３．６部
・上記アルカリ可溶性樹脂１    ３．６部
・溶剤：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート    ７４．８部
【０１６１】
（製造例３：Ｂｌｕｅ顔料分散液の調製）
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、Ｂｌｕｅ顔料分散液を調製した。
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー  １５：６    １４．４部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット  ２３    ３．６部
・分散剤：ＢＹＫ社製  ＢＹＫ−２００１    ３．６部
・上記アルカリ可溶性樹脂１    ３．６部
・溶剤：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート    ７４．８部
【０１６２】
（製造例４：赤色感放射線性組成物の調製）
下記の成分を混合して、赤色感放射線性組成物を調製した。
・Ｒｅｄ顔料分散液    ７０．０部
・上記アルカリ可溶性樹脂１    １．９部
・重合性化合物１：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製  商品名カヤラッドＤＰＨＡ）    ３．０部
・重合性化合物２：ペンタエリスリトールエチレンオキサイド変性テトラアクリレート（日本化薬社製  商品名ＲＰ−１０４０）    １．３部
・重合開始剤１：下記の構造（ＢＡＳＦ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１）    １．３部
・溶剤：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート    ２２．４部
【０１６３】
【化３１】
2015007766.tif 000032
【０１６４】
（製造例５：緑色感放射線性組成物の調製）
実施例１のＲｅｄ顔料分散液をＧｒｅｅｎ顔料分散液に置き換えた以外は、実施例１と同様の成分を用いて、緑色感放射線性組成物を調製した。
（製造例６：青色感放射線性組成物の調製）
実施例１のＲｅｄ顔料分散液をＢｌｕｅ顔料分散液に置き換えた以外は、実施例１と同様の成分を用いて、青色感放射線性組成物を調製した。
【０１６５】
（製造例７：下地材Ａ）
ＷＯ２０１０／１２８６６１を参考に、ｍ−フェニレンジアミン（２８．９４ｇ、０．２７ｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ社製）、２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン（３６．９１ｇ、０．２０ｍｏｌ、東京化成工業（株）製）、アニリン（５６．５３ｇ、０．６ｍｏｌ、純正化学（株）製）を用いて合成を行い、目的の高分子化合物Ａを４６．１２ｇ得た。得られた高分子化合物Ａは以下構造単位を有する化合物である。高分子化合物ＡのＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは４，９００、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは２．２１であった。
【０１６６】
【化３２】
2015007766.tif 000033
【０１６７】
空気下、１０ｍＬナスフラスコに上記で得られた高分子化合物Ａを２．０ｇ加え、溶媒としてシクロヘキサノン８．０ｇを加え、室温にて完全に溶解させ、高分子化合物Ａの２０質量％シクロヘキサノン溶液を調製した。
次いで、この２０質量％シクロヘキサノン溶液１．０ｇにシクロヘキサノン０．９４ｇを加え、その後、架橋剤としてエポキシ基を含有する化合物であるエポリードＧＴ−４０１（ダイセル化学工業（株）製）の１０質量％シクロヘキサノン溶液０．２０ｇ（ポリマーの固形分を１００質量部としたのに対して１０．０質量部）を加えた。さらに、密着促進剤として３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）の５質量％シクロヘキサノン溶液０．０４０ｇ（ポリマーの固形分を１００質量部としたのに対して１質量部）を加え、界面活性剤として、商品名メガファックＲ−３０（ＤＩＣ（株）製）の０．５質量％シクロヘキサノン溶液０．０４０ｇ（ポリマーの固形分を１００質量部としたのに対して０．１質量部）を加え、溶液が均一になるまで３時間撹拌した。撹拌後、溶質は完全に溶解し、薄黄色透明溶液として、固形分の総質量％が１０質量％のポリマーワニス（下地材Ａ）を得た。
【０１６８】
（製造例８：下地材Ｂ）
ＷＯ２０１０／１２８６６１を参考に、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン［２］（６．４８ｇ、０．０１８ｍｏｌ）、２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン［１］（４．０６ｇ、０．０２２ｍｏｌ）、アニリン（５．６４ｇ、０．０６ｍｏｌ）を用いて合成を行い、高分子化合物Ｂを１０．１ｇ得た。高分子化合物Ｂは以下構造単位を有する化合物である。高分子化合物ＢのＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは２，２００、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは１．５１であった。
【０１６９】
【化３３】
2015007766.tif 000034
【０１７０】
空気下、１０ｍＬナスフラスコに上記で得られた高分子化合物Ｂ２．０ｇを加え、溶媒としてシクロヘキサノン８．０ｇを加え、室温にて完全に溶解させ、高分子化合物Ｂの２０質量％シクロヘキサノン溶液を調製した。
次いで、この２０質量％シクロヘキサノン溶液１．０ｇに、シクロヘキサノン０．７２ｇを加え、その後、架橋剤としてエポキシ基を含有する化合物であるエポリードＧＴ−４０１（ダイセル化学工業（株）製）の１０質量％シクロヘキサノン溶液０．１５ｇ（ポリマーの固形分を１００質量部としたのに対して７．５質量部）を加えた。さらに、密着促進剤として３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）の２質量％シクロヘキサノン溶液０．１０ｇ（ポリマーの固形分を１００質量部としたのに対して１質量部）を加え、界面活性剤として、商品名メガファックＲ−３０（ＤＩＣ（株）製）の０．１質量％シクロヘキサノン溶液０．２０ｇ（ポリマーの固形分を１００質量部としたのに対して０．１質量部）を加え、溶液が均一になるまで３時間撹拌した。撹拌後、溶質は完全に溶解し、無色薄黄色溶液として、固形分の総質量％が１０質量％のポリマーワニス（下地材Ｂ）を得た。
【０１７１】
（製造例９：下地材Ｃ）
空気下、１０ｍＬナスフラスコに上記で得られた高分子化合物Ｂ２．０ｇを加え、溶媒としてシクロヘキサノン８．０ｇを加え、室温にて完全に溶解させ、高分子化合物Ｂの２０質量％シクロヘキサノン溶液を調製した。
次いで、この２０質量％シクロヘキサノン溶液１．０ｇにシクロヘキサノン０．７２ｇを加え、その後、架橋剤としてブロック化イソシアナートを含有する化合物であるＶＥＳＴＡＧＯＮ  Ｂ  １０６５（デグザＡＧ製）の１０質量％シクロヘキサノン溶液０．１０ｇ（ポリマーの固形分を１００質量部としたのに対して５質量部）を加えた。さらに、密着促進剤として２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）の２質量％シクロヘキサノン溶液０．１０ｇ（ポリマーの固形分を１００質量部としたのに対して１質量部）を加え、界面活性剤として、商品名メガファックＲ−３０（ＤＩＣ（株）製）の０．１質量％シクロヘキサノン溶液０．２０ｇ（ポリマーの固形分を１００質量部としたのに対して０．１質量部）を加え、溶液が均一になるまで３時間撹拌した。撹拌後、溶質は完全に溶解し、無色薄黄色溶液として、固形分の総質量％が１０質量％のポリマーワニス（下地材Ｃ）を得た。
【０１７２】
＜実施例１〜９、比較例１〜３＞
８インチシリコンウェハ上に、下地材Ａ〜ＣまたはＣＴ−２０１０（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）をスピンコートで均一に塗布して塗布膜を形成し、形成された塗布膜を１５０℃のホットプレートで２分間、更に３００℃のホットプレートで５分間加熱処理した。尚、スピンコートの塗布回転数は、上記加熱処理後の塗布膜の膜厚が約０．４μｍとなるように調整した。
以上のようにして、下地層付シリコンウェハを得た。
【０１７３】
次に、上記で製造した着色感放射線性組成物（赤色感放射線性組成物、青色感放射線性組成物、または、緑色感放射線性組成物）を、上記で得た下地層付シリコンウェハの下地層上に乾燥後の膜厚が０．６μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理(プリベーク)を行った。
次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、パターン露光は、２１行×１９列のマトリックス状に配列されたパターンの計３９９箇所に行なった。このとき、マトリックスのうちの上記２１行は、最小露光量を５００Ｊ／ｍ2とし、５００Ｊ／ｍ2間隔で１行ごとに露光量を増加させた条件となっており、一方の上記１９列は、焦点距離最適値（Ｆｏｕｃｕｓ ０．０μｍ）を中心として０．１μｍ間隔で焦点距離を変化させた条件となっている。すなわち、中央１列を焦点距離最適値とし、１列ごとに焦点距離を変化させた条件とし、１．１μｍ角の正方形ピクセルパターンが４ｍｍ×３ｍｍの範囲内に配列するように画像形成されるフォトマスクを用いた。
その後、露光された塗布膜が形成されているシリコンウェハをスピン・シャワー現像機（ＤＷ−３０型、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、ＣＤ−２０６０（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行い、シリコンウェハ上に着色層（着色パターン）を形成した。
着色層が形成されたシリコンウェハを純水でリンス処理を行い、その後スプレー乾燥した。
さらに、２００℃のホットプレートを用いて３００秒間加熱処理（ポストベーク）を行い、着色剤に対応した着色画素を有するシリコンウェハ（カラーフィルタ）を得た。
なお、各実施例および比較例で使用した下地層材料および着色感放射線性組成物の組み合わせは、後述する表１にまとめて示す。また、下地層の屈折率は、上述した方法（装置）で測定した。
【０１７４】
＜評価＞
（パターン形成性）
上記で得られたウエハ上に形成されている着色パターンを、測長ＳＥＭ（（株）日立製作所製  Ｓ−９２６０走査電子顕微鏡）を用いて測定し、露光部の着色パターンの寸法と未露光部の現像残りの程度をＳＥＭ像にて評価した。露光部と未露光部との間の現像液溶解度差がついており、露光部がマスクデザイン通りの寸法で画像形成されており、未露光部には溶解残渣がないことが望ましい。結果を下記表に示す。評価基準は、下記に示すが、Ａ、Ｂは実用レベルである。
（評価基準）
Ａ：露光部は画像がマスクサイズに対して１：１で形成されており、未露光部には溶解残渣はなく、パターン形状は良好な矩形であった。
Ｂ：露光部は画像がマスクサイズに対して１：１で形成されており、未露光部には溶解残渣はみられなかったが、パターン形状にやや乱れがあった。
Ｃ：露光部ではパターンは形成しているが、マスクサイズに対して１：１で形成されていないか、あるいは未露光部に現像不良がみられた。
Ｄ：未露光部がほとんど溶解せず、露光部もマスクサイズに対して１：１で形成されていなかった。
【０１７５】
（パターン密着性）
ウエハ上に形成されている着色パターンを、測長ＳＥＭ（（株）日立製作所製  Ｓ−９２６０走査電子顕微鏡）を用いて観察し、露光部の密着性を光学顕微像にて評価した。マスクサイズと同じパターンサイズが得られている露光量にてパターンハガレがないことが望ましい。結果を下記表に示す。評価基準は、下記に示すが、Ａ、Ｂは実用レベルである。
＜評価基準＞
Ａ：パターンハガレ全く見られない。
Ｂ：パターンハガレが１〜５画素見られる。
Ｃ：パターンハガレが６〜１００画素見られる。
Ｄ：パターンハガレが１０１画素以上見られる。
【０１７６】
各実施例および比較例の評価結果を、表１にまとめて示す。
なお、表１中、「Ｒｅｄ」は「赤色感放射線性組成物」、「Ｇｒｅｅｎ」は「緑色感放射線性組成物」、「Ｂｌｕｅ」は「青色感放射線性組成物」を意図する。
【０１７７】
【表１】
2015007766.tif 000035
【０１７８】
表１に示すように、本発明のカラーフィルタの製造方法においては、着色層の密着性に優れると共に、残渣の発生も抑制されていた。
一方、比較例に示すように、所定の屈折率を示さない下地層を使用した場合は、所望の効果が得られなかった。
【０１７９】
上述した下地材Ａ〜Ｃより形成される下地層を用いて、上述した図１の態様の有機ＥＬ表示装置（マイクロＯＬＥＤ）を作製した。より具体的には、基板（ガラス基板）上に、真空蒸着法により、第１電極、発光層、および、第２電極からなる有機ＥＬ素子を複数作製した。なお、図１に示す、有機ＥＬ素子間のピッチＰは２μｍであった。次に、保護層を配置し、保護層上に上述した下地材Ａを用いて、上記実施例と同様の手順に従って、下地層を作製した。さらに、上述した赤色感放射線性組成物、緑色感放射線性組成物、および、青色感放射線性組成物を用いて、各有機ＥＬ素子に対向する位置に赤色着色層、緑色着色層、および、青色着色層（各着色層の大きさ２μｍ×２μｍ）を形成し、さらにその上に封止用基板を配置した。
得られた有機ＥＬ表示装置中において、各着色層は優れた密着性を示すと共に、パターン形成性にも優れていた。
なお、上記下地材Ａの代わりに、下地材ＢおよびＣを使用しても、同様に所望の効果が得られた。
【０１８０】
下地材Ａにおいて、ＮａＣｌを５０質量ｐｐｍ、３０質量ｐｐｍ、または５質量ｐｐｍ添加したものをそれぞれ下地材Ａ−１、Ａ−２、Ａ−３とした。
下地材Ｂにおいて、ＮａＣｌを５０質量ｐｐｍ、３０質量ｐｐｍ、または５質量ｐｐｍ添加したものをそれぞれ下地材Ｂ−１、Ｂ−２、Ｂ−３とした。
下地材Ｃにおいて、ＮａＣｌを５０質量ｐｐｍ、３０質量ｐｐｍ、または５質量ｐｐｍ添加したものをそれぞれ下地材Ｃ−１、Ｃ−２、Ｃ−３とした。
これらの下地材を用いたこと以外は、実施例１〜９と同様にして下地層及びカラーフィルタを形成した。その結果、下地層の欠陥の発生が低減されていることが確認できた。
【０１８１】
下地材Ａにおいて、高屈折率低分子化合物（フルオレン構造を有する低分子化合物（上記式（Ｂ）））を高分子化合物Ａ全質量に対して、１０質量％、７質量％、または５質量％さらに添加し、それぞれ下地材Ａ−４、Ａ−５、Ａ−６とした。
下地材Ｂにおいて、高屈折率低分子化合物（フルオレン構造を有する低分子化合物（上記式（Ｂ）））を高分子化合物Ａ全質量に対して、１０質量％、７質量％、または５質量％さらに添加し、それぞれ下地材Ｂ−４、Ｂ−５、Ｂ−６とした。
下地材Ｃにおいて、高屈折率低分子化合物（フルオレン構造を有する低分子化合物（上記式（Ｂ）））を高分子化合物Ａ全質量に対して、１０質量％、７質量％、または５質量％さらに添加し、それぞれ下地材Ｃ−４、Ｃ−５、Ｃ−６とした。
これらの下地材を用いたこと以外は、実施例１〜９と同様にして下地層及びカラーフィルタを形成した。その結果、下地層の屈折率が向上することが確認できた。
【符号の説明】
【０１８２】
１０    基板
２０    有機ＥＬ素子
３０    保護膜
４０    下地層
５０    着色層
５０Ｒ    赤色着色層
５０Ｇ    緑色着色層
５０Ｂ    青色着色層
６０    封止用基板
１００    有機ＥＬ表示装置（マイクロＯＬＥＤ）
【図１】
2015007766.tif 000037