(57)【要約】【課題】ブロッキングを防止し、高い配向性能を有する位相差フィルムを提供する。【解決手段】本発明の位相差フィルム１は、基材１１と、配向層１２と、位相差層１３とが順次積層されており、表面に形成される位相差層１３の表面粗さＲａが３ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。この位相差フィルム１は、位相差層１３において、液晶化合物及びアンチブロッキング剤を含有する液相組成物を含み、そのアンチブロッキング剤の凝集径が１００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下である。または、配向層１２において、アンチブロッキング剤を含有する配向層用組成物を含み、そのアンチブロッキング剤の凝集径が１００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下である。【選択図】図１
2015084074.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、配向層と、位相差層とが順次積層されており、
前記位相差層の表面粗さＲａが３ｎｍ以上５００ｎｍ以下である位相差フィルム。
【請求項２】
前記位相差層は、液晶化合物及びアンチブロッキング剤を含有する液相組成物を含み、該アンチブロッキング剤の凝集径が１００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下である請求項１に記載の位相差フィルム。
【請求項３】
前記配向層は、アンチブロッキング剤を含有する配向層用組成物を含み、該アンチブロッキング剤の凝集径が１００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下である請求項１に記載の位相差フィルム。
【請求項４】
前記アンチブロッキング剤は、表面処理されたアンチブロッキング剤である請求項２又は３に記載の位相差フィルム。
【請求項５】
前記位相差層の厚さが、５００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下である請求項１乃至４のいずれかに記載の位相差フィルム。
【請求項６】
当該位相差フィルムの裏面におけるＪＩＳ  Ｂ  ０６０１  １９９４による表面粗さＲａが３ｎｍ以下である請求項１乃至５のいずれかに記載の位相差フィルム。
【請求項７】
前記位相差層の表面凹凸間隔が、０．０１ｎｍ以上５ｎｍ以下である請求項１乃至６のいずれかに記載の位相差フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイが注目を集め始めており、市販も始まっている。そして、今後のフラットパネルディスプレイにおいては、二次元表示とともに、三次元表示可能であることが、その性能として当然に求められることが予想され、二次元表示可能なフラットパネルディスプレイのほか、三次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。
【０００３】
フラットパネルディスプレイにおいて三次元表示をするには、通常、視聴者に対して何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを別個に表示することが必要とされる。右目用の映像と左目用の映像とを別個に表示する方法としては、例えば、パッシブ方式というものが知られている。このようなパッシブ方式の三次元表示方式について図を参照しながら説明する。図９はパッシブ方式の三次元表示の一例を示す概略図である。図９に示すようにこの方式では、まず、フラットパネルディスプレイを構成する画素を、右目用映像表示画素と左目用映像表示画素の２種類の複数の画素にパターン状に分割し、一方のグループの画素では右目用の映像を表示させ、他方のグループの画素では左目用の映像を表示させる。また、直線偏光板と当該画素の分割パターンに対応した位相差層が形成された位相差フィルムとを用い、右目用の映像と、左目用の映像とを互いに直交関係にある円偏光に変換する。さらに、視聴者には右目用レンズと左目用レンズとに互いに直交する円偏光レンズを採用した円偏光メガネを装着させ、右目用の映像が右目用レンズのみを通過し、かつ左目用の映像が左目用のレンズのみを通過するようにする。このようにして右目用の映像が右目のみに届き、左目用の映像が左目のみに届くようにすることによって三次元表示を可能とするものがパッシブ方式である。
【０００４】
このようなパッシブ方式では、位相差フィルムと、対応する円偏光メガネとを用いることにより容易に三次元表示が可能なものにできるという利点がある。
【０００５】
ところで、位相差フィルムを作製する際、トリアセチルセルロースのような位相差値の小さい透明樹脂フィルム上に作製する手法が広く知られている（特許文献１参照）。そして、位相差フィルムを作製するにあたっては、基材上に毎葉で作製し、積み重ねる手法と、長尺状の基材上に連続して作製し、作製した位相差フィルムを巻き取る手法とが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１３−００３３４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、毎葉で作製する際は、位相差フィルムを積み重ねるときに、また、長尺状の基材上に連続して作製する際は作製した位相差フィルムを巻き取るときに、位相差フィルム表面の液晶組成物を含有する位相差層と、位相差フィルム裏面とが貼りつき、いわゆるブロッキングが生じ得る。ブロッキングが生じると、位相差層における液晶組成物の一部が剥離することのほか、位相差フィルム裏面に転写し、結果として位相差フィルムの面内位相差が低下し得る。また、位相差フィルムの裏面に対し、防眩処理（ＡＧ処理）が広く行われているが、特に、基材表面に液晶組成物を塗工した後に、基材裏面に防眩処理を行おうとすると、一部に液晶組成物が付着した基材表面に対して防眩処理を行うことになるため、適切な防眩処理を施すことができないという課題もある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決するために、鋭意研究を重ねたところ、位相差層の表面にあえて一定の凹凸を与えることで、位相差フィルムの表裏の貼り付きが抑えられ、結果として配向性能の向上に繋がることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【０００９】
（１）本発明は、基材と、配向層と、位相差層とが順次積層されており、前記位相差層の表面粗さＲａが３ｎｍ以上５００ｎｍ以下である位相差フィルムである。
【００１０】
（２）また、本発明は、（１）の発明において、前記位相差層は、液晶化合物及びアンチブロッキング剤を含有する液相組成物を含み、該アンチブロッキング剤の凝集径が１００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下である位相差フィルムである。
【００１１】
（３）また、本発明は、（１）の発明において、前記配向層は、アンチブロッキング剤を含有する配向層用組成物を含み、該アンチブロッキング剤の凝集径が１００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下である位相差フィルムである。
【００１２】
（４）また、本発明は、（２）又は（３）の発明において、前記アンチブロッキング剤は、表面処理されたアンチブロッキング剤である位相差フィルムである。
【００１３】
（５）また、本発明は、（１）乃至（４）のいずれかの発明において、前記位相差層の厚さが、５００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下である位相差フィルムである。
【００１４】
（６）また、本発明は、（１）乃至（５）のいずれかの発明において、当該位相差フィルムの裏面におけるＪＩＳ  Ｂ  ０６０１  １９９４による表面粗さＲａが３ｎｍ以下である位相差フィルムである。
【００１５】
（７）また、本発明は、（１）乃至（６）のいずれかの発明において、前記位相差層の表面凹凸間隔が、０．０１ｎｍ以上５ｎｍ以下である位相差フィルムである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、表裏の貼り付きを抑え、結果として配向性能の向上に繋がる位相差フィルムを提供することができる。特に、位相差フィルムの裏面の表面粗さＲａが３ｎｍ以下であっても好適な結果を示すため、略平坦な基材表面に対して位相差層を形成した後に基材裏面に対して任意の防眩処理を施してもよいし、基材裏面に防眩処理を施した後の基材表面に対して位相差層を形成する場合であっても、防眩処理の種類を選ばない点で好適である。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１実施形態に係るパターン位相差フィルム１を示す概略断面図である。
【図２】第１実施形態に係るパターン配向膜２を示す概略図である。
【図３】第１実施形態に係るパターン位相差フィルム１の製造方法の一例を示す概略図である。
【図４】第１実施形態において、光配向方式によって配向パターンを形成する手法を模式的に示した図である。
【図５】第２実施形態に係る位相差フィルム５０を示す概略断面図である。
【図６】第１実施形態に係るパターン位相差フィルム断面のＳＥＭ画像である。
【図７】光学式表面性状測定機を用いて第１実施形態（実施例１−１等）に係るパターン位相差フィルム表面を解析したときの画像である。
【図８】光学式表面性状測定機を用いて第１実施形態（実施例５等）に係るパターン位相差フィルム表面を解析したときの画像である。
【図９】パッシブ方式による三次元画像表示の説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の具体的な実施形態について詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において適宜変更を加えて実施することができる。第１実施形態は、位相差フィルムが、２種類の配向パターンを交互に有するパターン位相差フィルムである場合の実施形態である。第２実施形態は、位相差フィルムが、このような２種類の配向パターンを有さず、１方向に配向する位相差フィルムである場合の実施形態である。
【００１９】
〔第１実施形態〕
＜パターン位相差フィルム１＞
図１は、本実施の形態に係るパターン位相差フィルム１を示す概略図である。なお、第１実施形態では「パターン位相差」を「位相差」と略記することがあるが、特に断りがない限り、「位相差」は、「パターン位相差」と同義である。
【００２０】
本実施の形態に係る位相差フィルム１は、基材１１と、配向層用組成物を含むパターン配向層１２と、液晶組成物を含む位相差層１３とが順次積層されており、表面に形成される位相差層１３に表面粗さＲａが３ｎｍ以上５００ｎｍ以下である凹凸が形成されている。
【００２１】
具体的に、この位相差フィルム１は、パターン配向層１２を構成する配向層用組成物、又は、位相差層１３を構成する液晶組成物のいずれか一方に、所定の大きさの凝集径のアンチブロック剤に含有させ、そのような配向層用組成物よりパターン配向層１２を、若しくは、液相組成物により位相差層１３を構成してなる。
【００２２】
［基材１１］
基材１１は、透明フィルム材であり、パターン配向層１２を支持する機能を有し、長尺に形成されている。
【００２３】
基材１１は、位相差が小さいことが好ましく、面内位相差（面内レターデーション値、以下「Ｒｅ値」ともいう。）が、０ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内であることが好ましく、０ｎｍ〜５ｎｍの範囲内であることがより好ましく、０ｎｍ〜３ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。Ｒｅ値が１０ｎｍを超えると、パターン配向膜を用いたフラットパネルディスプレイの表示品質が悪くなる可能性がある点で好ましくない。
【００２４】
ここで、Ｒｅ値とは、屈折率異方体の面内方向における複屈折性の程度を示す指標をいい、面内方向において屈折率が最も大きい遅相軸方向の屈折率をＮｘ、遅相軸方向に直交する進相軸方向の屈折率をＮｙ、屈折率異方体の面内方向に垂直な方向の厚さをｄとした場合に、
Ｒｅ［ｎｍ］＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ［ｎｍ］
で表わされる値である。Ｒｅ値は、例えば、位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器社製）を用い、平行ニコル回転法により測定することができる。また、本明細書においては、特に別段の記載をしない限り、Ｒｅ値は波長５８９ｎｍにおける値を意味するものとする。
【００２５】
基材１１の可視光領域における透過率は、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明フィルム基材の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００２６】
基材１１は、ロール状に巻き取ることができる可撓性を有するフレキシブル材であることが好ましい。このようなフレキシブル材としては、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類等を例示することができる。中でも、光学的等方性に優れ、光学的特性に優れたパターン配向膜を製造できる点でセルロース誘導体を用いることが好ましい。
【００２７】
セルロース誘導体の中でも、工業的に広く用いられ、入手が容易である点で、セルロースエステルを用いることが好ましく、セルロースアシレート類を用いることがより好ましい。
【００２８】
セルロースアシレート類としては、炭素数２〜４の低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものでもよい。
【００２９】
低級脂肪酸エステルの中でも、セルロースアセテートを特に好適に用いることができる。セルロースアセテートとしては、平均酢化度が５７．５％〜６２．５％（置換度：２．６〜３．０）のＴＡＣを用いることが最も好ましい。ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験方法）におけるアセチル化度の測定及び計算により求めることができる。なお、ＴＡＣの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。
【００３０】
基材１１の厚さは、パターン配向膜を用いて製造される位相差フィルムの用途等に応じて、その位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できる範囲内であれば特に限定されないが、通常、２５μｍ〜１２５μｍの範囲内であることが好ましく、４０μｍ〜１００μｍの範囲内であることがより好ましく、４０μｍ〜８０μｍの範囲内であることがさらに好ましい。厚さが２５μｍ未満であると、位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できない場合があり好ましくない。一方で、１２５μｍを超えると、位相差フィルムが長尺状である場合に、長尺状の位相差フィルムを裁断加工して枚葉の位相差フィルムとする際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があり好ましくない。
【００３１】
基材１１の表面及び裏面の表面粗さＲａは５００ｎｍ以下であることが好ましい。Ｒａが５００ｎｍを超えると、配向阻害、及び位相差ムラを生じる可能性があるため好ましくない。なお、本明細書において、表面粗さＲａは、表面粗さ測定機ＳＥ−３４００（小坂研究所製）によって測定した値とする。
【００３２】
基材１１は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。
【００３３】
ここで、基材１１においては、その表面、すなわち後述するパターン配向層１２が形成される面に、凹凸を形成させるようにしてもよい。また、パターン配向層１２を形成する表層にプライマー層（図示せず）を設け、そのプライマー層表面に凹凸を形成させるようにしてもよい。このように基材１１の表面又はプライマー層表面に対して凹凸を形成させることで、その凹凸が位相差フィルム１の最表面を構成する位相差層１３の表面に所定の表面粗さＲａの凹凸を生じさせることができる。
【００３４】
これにより、製造した位相差フィルム１を枚葉で積み重ねたり、ロール状に巻き取ったりする際に、その凹凸が、位相差層１３と位相差フィルム１の裏面との張り付き、いわゆるブロッキングを防止するようになり、結果として配向性能が向上した位相差フィルム１とすることができる。後述するような所定の凝集径を有するアンチブロッキング剤をパターン配向層１２又は位相差層１３に含有させて位相差層１３の表面に凹凸を生じさせるほか、このように、基材１１やプライマー層に凹凸を形成させることによっても、アンチブロッキング性を高めて、配向性を向上させることができる。
【００３５】
［パターン配向層１２］
図２は、パターン配向膜２の概略図である。パターン配向膜２は、アクリル基材１１上にパターン配向層用組成物（配向膜組成物）を塗工（塗膜）して硬化させて得られた硬化物からなり、このパターン配向膜２によりパターン配向層１２が形成される。
【００３６】
パターン配向層（単に「配向層」ともいう。）１２は、２種類の配向パターン（第１配向領域１２Ａ，第２配向領域１２Ｂ）を交互に有する。その配向パターン配向層１２は、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を用いて光照射によって配向させる光配向方式によって形成されてもよいし、紫外線硬化樹脂を基材１１に塗布し、この紫外線硬化樹脂の表面に対し、微細な凹凸形状からなる配向パターンが付された賦型用金型を用いて配向パターンを転写し、その後、紫外線硬化樹脂を硬化させる賦型ＵＶ方式によって形成されてもよい。
【００３７】
〔パターン配向層用組成物〕
光配向方式によってパターン配向層１２を形成する場合、パターン配向層１２は、以下に説明するパターン配向層用組成物（単に「配向層用組成物」ともいう。）を含有する。この配向層用組成物は、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を含有する。また、配向層用組成物中には、その光配向材料のほかに、所定の大きさの凝集径のアンチブロッキング剤を含有させることができる。
【００３８】
このように、本実施の形態においては、アンチブロッキング剤を含有した配向層用組成物を用いて基材１１上にパターン配向層１２を形成することで、そのパターン配向層１２上に形成する位相差層１３の表面に、所定の表面粗さＲａの凹凸を生じさせることができる。位相差フィルム１においては、このように、あえて位相差層１３の表面に所定の表面粗さＲａの凹凸が形成されてなることを特徴としており、これにより、その凹凸が、位相差層１３と位相差フィルム１の裏面との張り付き、いわゆるブロッキングを防止するようになり、結果として配向性能が向上した位相差フィルム１とすることができる。
【００３９】
ここで、本実施の形態においては、配向層用組成物中にアンチブロッキング剤を含有させてパターン配向層１２を形成することによって位相差フィルム１の最表面（位相差層１３の表面）に凹凸を生じさせることに限られない。後述するように、液晶組成物中に同様のアンチブロッキング剤を含有させて位相差層１３を形成することによって、その位相差層１３の表面に凹凸を生じさせるようにしてもよい。すなわち、配向層用組成物又は液相組成物のいずれか一方にアンチブロッキング剤を含有させて、それぞれ、パターン配向層１２又は位相差層１３を形成すればよい。本実施の形態においては、このように、パターン配向層１２又は位相差層１３のいずれか一方にアンチブロッキング剤を含有させることで位相差層１３に凹凸を生じさせることができるので、例えば、そのアンチブロッキング剤と各層を構成する組成物中の溶剤等との相性といったことの兼ね合いで、いずれかに含有させるかを決定すればよく、その自由度は極めて高い。
【００４０】
なお、位相差層１３の表面に過度な凹凸が形成され配向性能を損なわれないようにする範囲内で、配向層用組成物及び液晶組成物の両方にアンチブロッキング剤を含有させてもよい。
【００４１】
（光配向材料）
光配向材料とは、偏光紫外線の照射により配向規制力を発現できる材料をいう。配向規制力とは、光配向材料を含むパターン配向層を形成し、このパターン配向層上に棒状化合物からなる層を形成したとき、棒状化合物を所定の方向に配列させる機能をいう。
【００４２】
光配向材料は、偏光を照射することにより配向規制力を発現するものであれば特に限定されるものではない。このような光配向材料は、シス−トランス変化によって分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。本実施の形態においては、光異性化材料及び光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、光反応材料を用いることがより好ましい。光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能になる。したがって、光反応材料の方が、配向規制力の経時安定性において優れるからである。
【００４３】
光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応が生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応が生じることによって配向規制力を発現する光分解型材料、光結合反応が生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、及び光分解反応と光結合反応とが生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。本実施の形態においては、上述した光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、安定性及び反応性（感度）等の観点から光二量化型材料を用いることがより好ましい。
【００４４】
光二量化型材料は、光二量化反応を生じることにより配向規制力を発現できる材料であれば特に限定されないが、配向規制力が良好である点から、光二量化反応を生じる光の波長が２８０ｎｍ以上であることが好ましく、２８０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内であることがより好ましく、３００ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。
【００４５】
このような光二量化型材料としては、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、又はシンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマーが挙げられる。その中でも、配向規制力が良好である点で、シンナメート、クマリンの一方又は両方を有するポリマーが好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例としては、例えば特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報及びＷＯ２０１０／１５０７４８号公報に記載された化合物を挙げることができる。
【００４６】
なお、本実施の形態において用いられる光配向材料は、１種類のみであってもよく、２種類以上を用いてもよい。
【００４７】
（アンチブロッキング剤）
アンチブロッキング剤の種類としては、特に限定されるものでなく、例えば凝集シリカ、球状シリカ等が挙げられる。これらのアンチブロッキング剤は、表面処理されたものであってもよいし、表面処理されていないものでもよい。
【００４８】
ここで、本実施の形態においては、アンチブロッキング剤の凝集径に制約があり、パターン配向層１２におけるアンチブロッキング剤の凝集径が１００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下であることを要する。また、その凝集径が、３００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることがより好ましい。本明細書において、凝集径は、走査電子顕微鏡で粒子１００個を観察することによって測定される。パターン配向層１２におけるアンチブロッキング剤の凝集径が１００ｎｍ未満であると、そのパターン配向層１２上に形成される位相差層１３の表面粗さＲａが３ｎｍ未満になってしまう。すると、位相差フィルム１の表裏が貼り付き、位相差フィルム１を重ね合わせたり、ロール状に巻き取ったりする際に、位相差層１３と基材１１裏面とが貼りつき、いわゆるブロッキングが生じ得るため好ましくない。一方で、パターン配向層１２におけるアンチブロッキング剤の凝集径が１８００ｎｍを超えると、位相差層１３の表面粗さＲａが５００ｎｍを超えてしまい、適切な配向性能を得られない可能性があるため好ましくない。
【００４９】
アンチブロッキング剤の含有量としては、パターン配向層１２におけるアンチブロッキング剤の凝集径が５００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下になる量であれば特に限定されるものでない。目安として、配向層用組成物における、アンチブロッキング剤を除く他の固形分１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部であることが好ましく、０．５質量部以上１．０質量部以下であることがより好ましい。
【００５０】
アンチブロッキング剤に対する表面処理の有無は、特に限定されないが、シラノール基による水和が起こりにくくなる点、及び密着性を確保できる点で、表面処理されたものであることが好ましい。表面処理剤としては、シランカップリング剤、トリメチルシリル、ジメチルシリル、ジメチルポリシロキサン、アルキルシリル、スチレン／アクリルポリマー、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）等が挙げられる。その中でも、より残存シラノール基が少なくなる点で、トリメチルシリル又はジメチルポリシロキサンを用いて表面処理したアンチブロッキング剤とすることが好ましい。
【００５１】
（溶媒）
配向層用組成物に用いる溶媒は、光配向材料等を所望の濃度に溶解できるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール（以下「ＩＰＡ」という。）等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、溶媒は、１種類であってもよいし、２種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。
【００５２】
また、溶媒の量は、例えば光配向材料１００質量部に対して６００質量部〜３９００質量部であることが好ましい。６００質量部未満であると、光配向材料を均一に溶かすことができない可能性があり好ましくない。溶媒の量が３９００質量部を超えると、その溶媒の一部が残存し、基材１１上に配向層用組成物を塗工したときに残存した溶媒が基材１１に含浸して、光配向性と基材１１に対する密着性の両方が低下し好ましくない。
【００５３】
［位相差層１３］
位相差層１３は、重合性液晶組成物を含有する。この重合性液晶組成物は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する液晶化合物（以下、「棒状化合物」ともいう。）のほか、アンチブロッキング剤を含有させることができる。このように、本実施の形態においては、アンチブロッキング剤を含有する重合性液晶組成物を用い、あえて位相差層１３の表面に一定の凹凸を与えたことを特徴としており、これにより、その凹凸が、位相差層１３と位相差フィルム１の裏面との張り付き、いわゆるブロッキングを防止するようになり、結果として配向性能が向上した位相差フィルム１とすることができる。
【００５４】
なお、上述したように、位相差フィルム１の位相差層１３の表面の一定の凹凸は、パターン配向層用組成物中にアンチブロッキング剤を含有させてパターン配向層１２を形成することによっても生じさせることができる。したがって、そのアンチブロッキング剤は、パターン配向層用組成物又は液相組成物のいずれか一方に含有させて、それぞれ、パターン配向層１２又は位相差層１３を形成すればよく、また、位相差層１３の表面に過度な凹凸が形成され配向性能を損なわれないようにする範囲内で、配向層用組成物及び液晶組成物の両方にアンチブロッキング剤を含有させてもよい。
【００５５】
（棒状化合物）
棒状化合物は、屈折率異方性を有し、上述したパターン配向層１２における配向パターンに沿って規則的に配列することにより、所望の位相差性を付与する機能を有する。棒状化合物として、例えば、ネマチック相、ホメオトロピック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相を示す棒状化合物を用いることがより好ましい。
【００５６】
位相差層１３の水平方向の一方向をｘ方向とし、位相差層１３の水平方向であって、ｘ方向に垂直な方向をｙ方向とし、位相差層１３の高さ方向をｚ方向としたとき、ネマチック相を示す棒状化合物は、ｘ＞ｙ＝ｚの関係を有し、いわゆる＋Ａプレートに対応する。この場合、＋Ａプレートの「＋」は、棒状であることを示し、「Ａプレート」は、水平方向の屈折率楕円体であることを示す。
【００５７】
また、ホメオトロピック相を示す棒状化合物は、ｘ＝ｙ＜ｚの関係を有し、いわゆる＋Ｃプレートに対応する。この場合、＋Ｃプレートの「＋」は、棒状であることを示し、「Ｃプレート」は、垂直方向の屈折率楕円体であることを示す。
【００５８】
ネマチック相を示す棒状化合物として、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する棒状化合物は、柔軟性に優れるため、このような棒状化合物を用いることによって位相差フィルム１を透明性に優れたものにすることができる。
【００５９】
棒状化合物は、分子内に重合性官能基を有する。重合性官能基を有することにより、棒状化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくくなる。また、棒状化合物は、分子内に三次元架橋可能な重合性官能基を有することがより好ましい。三次元架橋可能な重合性官能基を有することにより、配列安定性をいっそう高めることができる。なお、「三次元架橋」とは、液晶性分子を互いに三次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることをいう。
【００６０】
重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、あるいは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、あるいはカチオン重合性官能基等が挙げられる。ラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも１つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。その中でも、プロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。
【００６１】
さらにまた、棒状化合物は、末端に重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような棒状化合物を用いることにより、例えば、互いに三次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた位相差フィルム１を形成することができる。なお、本実施の形態においては、片末端に重合性官能基を有する棒状化合物を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。
【００６２】
本実施の形態において用いられる棒状化合物の具体例としては、例えば、下記式（１）〜（１６）で表される化合物を例示できる。
【００６３】
【化１】
2015084074.tif 000003
【００６４】
棒状化合物の量としては、パターン配向層１２上に塗布する塗布方法に応じて、位相差層形成用塗工液の粘度を所望の値にできるものであれば特に限定されないが、その位相差層形成用塗工液中、５質量部〜４０質量部の範囲内の量とすることが好ましく、１０質量部〜３０質量部の範囲内の量とすることがより好ましい。５質量部未満であると、棒状化合物が少なすぎるために、位相差層１３への入射光を適切に配向できない可能性があるため好ましくない。一方で、３０質量部を超えると、位相差層形成用塗工液の粘度が高くなりすぎるため、作業性が劣ってしまい好ましくない。
【００６５】
棒状化合物は、１種類のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。例えば、棒状化合物として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する棒状化合物と、片末端に重合性官能基を１つ以上有する棒状化合物とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。また、信頼性確保の観点からは、両末端に重合性官能基を１つ以上有する棒状化合物が好ましいが、液晶配向の観点からは、両末端の重合性官能基が１つであることが好ましい。
【００６６】
（溶媒）
上述した棒状化合物は、通常溶媒に溶かされている。溶媒は、棒状化合物を均一に分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン（以下「ＣＨＮ」という。）等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール（以下「ＩＰＡ」という。）等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、溶媒は、１種類であってもよいし、２種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。
【００６７】
溶媒の量は、棒状化合物１００質量部に対して６６質量部以上９００質量部以下であることが好ましい。６６質量部未満であると、棒状化合物を均一に溶かすことができない可能性がある点で好ましくない。一方で、９００質量部を超えると、溶媒の一部が残存し、信頼性が低下する可能性、及び均一に塗工できない可能性がある点で好ましくない。
【００６８】
（アンチブロッキング剤）
アンチブロッキング剤は、配向層用組成物中に含有させるものと同様のものとすることができる。すなわち、その種類としては、特に限定されるものではなく、凝集シリカ、球状シリカ等が挙げられ、表面処理されたものであってもよいし、表面処理されていないものであってもよい。
【００６９】
また、そのアンチブロッキング剤の凝集径に制約があり、位相差層１３におけるアンチブロッキング剤の凝集径が１００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下であることを要し、３００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることがより好ましい。なお、凝集径は、走査電子顕微鏡で粒子１００個を観察することによって測定される。位相差層１３におけるアンチブロッキング剤の凝集径が１００ｎｍ未満であると、位相差層１３の表面粗さＲａが３ｎｍ未満になってしまい、パターン位相差フィルム１の表裏が貼り付き、パターン位相差フィルム１を重ね合わせたり、ロール状に巻き取ったりする際に、位相差層１３と基材１１裏面とが貼りつき、いわゆるブロッキングが生じ得るため好ましくない。一方で、位相差層１３におけるアンチブロッキング剤の凝集径が１８００ｎｍを超えると、位相差層１３の表面粗さＲａが５００ｎｍを超えてしまい、適切な配向性能を得られない可能性があるため好ましくない。
【００７０】
アンチブロッキング剤の含有量としては、位相差層１３におけるアンチブロッキング剤の凝集径が５００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下になる量であれば特に限定されるものでない。目安として、液晶組成物における、アンチブロッキング剤を除く他の成分１００質量部に対して０．０１質量部以上１質量部以下であり、０．０３質量部以上０．１質量部以下であると好ましい。
【００７１】
アンチブロッキング剤における表面処理の有無は、特に限定されないが、シラノール基による水和が起こりにくくなる点、及び密着性を確保できる点で、表面処理されたものであることが好ましい。表面処理剤として、シランカップリング剤、トリメチルシリル、ジメチルシリル、ジメチルポリシロキサン、アルキルシリル、スチレン／アクリルポリマー、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）等が挙げられる。その中でも、より残存シラノール基が少なくなる点で、トリメチルシリル又はジメチルポリシロキサンを用いて表面処理したアンチブロッキング剤とすることが好ましい。
【００７２】
（他の化合物）
重合性液晶組成物は、必要に応じて他の化合物を含むものであっても良い。他の化合物は、上述した棒状化合物の配列秩序を害するものでなければ特に限定されるものではなく、例えば、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤及びシランカップリング剤等を挙げることができる。
【００７３】
（重合開始剤）
重合開始剤として、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製Ｎ１７１７、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本実施の形態では、これらの光重合開始剤を１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７４】
光重合開始剤は、液晶の配向を大きく損なわない範囲で添加することが必要であり、棒状化合物１００質量部に対し、０．０１〜１５質量部であることが好ましく、０．１〜１２質量部であることがより好ましく、０．１〜１０質量部であることがさらに好ましく、０．５〜１０質量部であることがよりさらに好ましい。
【００７５】
また、重合開始剤のほか、重合開始助剤を併用してもよい。重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。
【００７６】
（重合禁止剤）
重合禁止剤は、棒状化合物の保存安定性を高めるために用いられる。重合禁止剤としては、例えば、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ−ｐ−ニトロフェニルメチル，ｐ−ベンゾキノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を用いることができる。その中でも、保存安定性の点から、ハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。
【００７７】
（界面活性剤）
界面活性剤は、棒状化合物の動的表面張力を調整し、位相差層１３の横スジムラを抑制するために用いられる。
【００７８】
界面活性剤の例としては、フッ素系界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基あるいはフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましく、その具体例としては、１，１，２，２−テトラフロロオクチル（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−プロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−オクチル（ｎ−ヘキシル）エーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−ブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコール（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−ペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−ブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−ペンチル）エーテル、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−デカン、１，１，２，２，８，８，９，９，１０，１０−デカフルオロ−ｎ−ドデカン、パーフルオロ−ｎ−ドデシルスルホン酸ナトリウムや、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルホスホン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム等のアニオン系界面活性剤、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、フッ素系アルキルエステル等のノニオン系界面活性剤、フルオロアルキルアンモニウムヨージド等のカチオン系界面活性剤、フルオロアルキルベタイン等の両性界面活性剤を挙げることができる。このうち、位相差層１３を液晶表示素子に用いた場合の電圧保持率を良好に維持できるという観点から、特にノニオン系界面活性剤が好適に用いられる。
【００７９】
フッ素系界面活性剤の市販品としては、商品名で、例えば、ＢＭ−１０００、同−１１００（以上、ＢＭ  ＣＨＥＭＩＥ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４４４、同Ｆ４７１、同Ｆ４７５、同Ｆ４７６、同Ｆ４７７、同Ｆ５５３、同Ｆ５５４（以上、ＤＩＣ社製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−１７１、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム社製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（以上、旭硝子社製）、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、新秋田化成社製）、フタージェントＦＴ−１００、同ＦＴ−１１０、同ＦＴ−１４０Ａ、同ＦＴ−１５０、同ＦＴ−２５０、同ＦＴ−２５１、同ＦＴＸ−２５１、同ＦＴＸ−２１８、同ＦＴ−３００、同ＦＴ−３１０、同ＦＴ−４００Ｓ（以上、ネオス社製）等を挙げることができる。
【００８０】
フッ素系界面活性剤は、液晶の配向を大きく損なわない範囲で添加することが好ましく、棒状化合物１００質量部に対して０．０１〜５質量部となるように添加することが好ましい。０．０１質量部以上となる量を添加することにより棒状化合物に十分な塗工性を付与することができ、横スジムラの良好な防止効果が発揮される。また、添加量を５質量部以下とすることによって、位相差層１３中の液晶に配向不良が生じることや位相差層１３の電気信頼性が低下することを抑制することができる。
【００８１】
（位相差層１３の厚さ）
位相差層１３の厚さは、５００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であることが好ましく、８００ｎｍ以上１２００ｎｍ以下であることがより好ましい。５００ｎｍ未満であると、位相差層１３が薄すぎて、適切な配向性能を得られない可能性があるため好ましくない。一方で、２０００ｎｍを超えると、位相差層１３の表面粗さＲａが３ｎｍ未満になってしまい、位相差フィルム１の表裏が貼り付き、その位相差フィルム１を重ね合わせたり、ロール状に巻き取ったりする際に、位相差層１３と基材１１裏面とが貼りつき、いわゆるブロッキングが生じ得るため好ましくない。
【００８２】
（位相差層１３の表面凹凸間隔）
位相差層１３の表面凹凸間隔は、０．０１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることが好ましい。表面の凹凸間隔が０．０１ｎｍ未満であると、充分な耐ブロッキング性を得られない可能性がある。一方で、表面の凹凸間隔が５ｎｍを超えると、配向阻害及び位相差ムラを生じる可能性がある。
【００８３】
＜位相差フィルム１の製造方法＞
以下では、光配向方式によってパターン位相差フィルム１の製造方法について説明するが、パターン位相差フィルム１は、賦型ＵＶ方式によって形成されたものであってもよい。
【００８４】
図３は、光配向方式による位相差フィルム１の製造工程の流れを模式的に示す図である。まず、（Ａ）ロール３１に巻き取った長尺フィルムから基材１１を提供し、この基材１１上に配向層用組成物３２を塗工する組成物塗工処理を行う。続いて、（Ｂ）この組成物を乾燥機３３で熱硬化させて薄膜状の配向層形成用層１２’を形成するパターン配向層形成用層形成処理を行う。続いて、（Ｃ）パターン配向層形成用層１２’に対して紫外線照射装置３４，３５から紫外線を照射する紫外線照射処理を行う。これら（Ａ）〜（Ｃ）の処理によってパターン配向層１２が形成される。
【００８５】
続いて、（Ｄ）位相差層形成用の重合性液晶組成物を含有する位相差層形成用塗工液の供給装置３６から位相差層形成用塗工液１３’を塗工し、位相差層形成用層を形成する位相差層形成用塗工液塗工処理を行う。その後、（Ｅ）乾燥機３７を用いて位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温することで、上述したパターン配向層１２が有する、右目用の領域に対応する第１配向領域１２Ａと、左目用の領域に対応する第２配向領域１２Ｂとの異なる配向方向に沿って、棒状化合物を配列させる配向処理を行う。この配向処理によって位相差層形成用層は、位相差層１３となる。
【００８６】
その後、（Ｆ）冷却機３８を用いて、基材１１／パターン配向層１２／位相差層１３からなる積層体を冷却する冷却処理を行い、（Ｈ）紫外線照射装置３９を用いて、重合性棒状化合物に紫外線を照射する。そして、（Ｉ）フィルムを巻き取りリール４０に巻き取った後、所望の大きさに切り出す切断処理を行う。このような工程を経て、位相差フィルム１が作製される。
【００８７】
［（Ａ）組成物塗工処理］
まず、ロール３１に巻き取った長尺フィルムから基材１１を提供し、この基材１１上にパターン配向層用組成物３２を塗工する組成物塗工処理を行う。
【００８８】
〔基材１１〕
基材１１は、裏面に防眩処理（ＡＧ処理）がなされているものを用いてもよいし、ＡＧ処理がなされていないものを用いてもよい。従来、ブロッキングを抑えるため、基材１１として、裏面に防眩処理（ＡＧ処理）が施され、裏面のＪＩＳ  Ｂ  ０６０１  １９９４による表面粗さＲａが３ｎｍを超えるものを用いることが好ましかったが、本実施の形態においては、裏面に防眩処理が施されていないもの、或いは裏面に防眩処理が施されているが、裏面の表面粗さＲａが３ｎｍ以下であるものであっても好適に用いることができるため、製造工程の自由度が高まる。
【００８９】
〔基材の提供〕
基材１１の提供にあたっては、長尺フィルムを連続的に搬送できるものであれば、特に限定されるものではなく、一般的な搬送手段を用いる方法を用いることができる。具体的には、ロール状の長尺フィルムを供給する巻き出し機及び長尺フィルムを巻き取る巻き取り機等を用いる方法、ベルトコンベア、搬送用ロール等を用いる方法を挙げることができる。また、エアの吐出と吸引とを行うことにより、長尺配向膜形成用フィルムを浮上させた状態で搬送する浮上式搬送台を用いる方法であっても良い。
【００９０】
また、搬送時の長尺フィルムへのテンション付与の有無については、長尺フィルムを安定的に連続搬送できる方法であれば特に限定されないが、所定のテンションを加えた状態で搬送されることが好ましい。より安定的に連続搬送することができるからである。
【００９１】
搬送手段の色としては、長尺フィルムに紫外線が照射される部位に配置される場合には、長尺フィルムを透過した紫外線を反射しない色であることが好ましい。具体的には、黒色であることが好ましい。このような黒色とする方法としては、例えば、表面をクロム処理する方法を挙げることができる。
【００９２】
ロール３１の形状としては、安定的に長尺フィルムを搬送することができるものであれば特に限定されるものではないが、長尺フィルムに紫外線が照射される部位に配置される場合には、長尺フィルムの表面と紫外線照射装置との距離を一定に保つことができるものであることが好ましく、通常、真円形状であることが好ましい。
【００９３】
〔パターン配向層用組成物３２の塗工〕
パターン配向層用組成物３２を塗工するにあたり、本実施の形態においては、グラビアコートの手法を適用してパターン配向層用組成物３２を塗工しているが、これに限るものではない。具体的には、グラビアコート法のほか、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法等を用いることができる。
【００９４】
パターン配向層形成用層１２’の厚さは、所望の平面性を達成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、０．１μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、０．１μｍ〜５μｍの範囲内であることがより好ましく、０．１μｍ〜３μｍの範囲内であることがさらに好ましい。
【００９５】
［（Ｂ）パターン配向層形成用層形成処理］
パターン配向層形成用層形成処理では、乾燥機３３を用いてパターン配向層用組成物３２を熱硬化させる。この処理では、パターン配向層用組成物３２が塗工された基材１１を乾燥機３３に導き、ここでパターン配向層用組成物３２を熱硬化させた後に、半乾きの状態で次の工程に送出する。
【００９６】
パターン配向層用組成物３２の硬化温度は、１００℃以上１３０℃以下であることが好ましい。硬化温度が１００℃未満であると、組成物を均一に熱硬化できず、薄膜が不均一になる可能性がある点で好ましくない。一方で、硬化温度が１３０℃を超えると、基材１１や薄膜が収縮する可能性があるため、好ましくない。
【００９７】
パターン配向層用組成物３２の硬化時間は、１分以上１０分未満であることが好ましい。硬化時間が１分未満であると、熱硬化できず、薄膜が不均一になる可能性がある点で好ましくない。一方で、硬化時間が１０分を超えると、ハジキや欠点が発生する可能性や、基材１１や薄膜が収縮する可能性があるため好ましくない。
【００９８】
［（Ｄ）紫外線照射処理］
続いて、パターン配向層形成用層１２’に対して紫外線を照射する紫外線照射処理について、図４を参照しながら詳しく説明する。
【００９９】
まず、図４（Ａ）に示すように、右目用の領域に対応する第１配向準備領域１２’Ａを遮光せず、左目用の領域に対応する第２配向準備領域１２’Ｂだけを遮光したマスク２１を介して、直線偏光による紫外線（偏光紫外線）をパターン配向層形成用層１２’に向けて照射することにより、遮光されていない第１配向準備領域１２’Ａを所望の方向に配向させる。続いて、図４（Ｂ）に示すように、第１配向準備領域１２’Ａだけを遮光し、第２配向準備領域１２’Ｂを遮光しないマスク２２を介して、１回目の照射とは偏光方向が９０度異なる直線偏光により紫外線をパターン配向層形成用層１２’に向けて照射し、遮光されていない第２配向準備領域１２’Ｂを所望の方向に配向させる。これら２回の紫外線照射により、２種類の配向パターンが形成される。
【０１００】
図４の例では、まず、第１配向準備領域１２’Ａに偏光紫外線を照射し、その後、第２配向準備領域１２’Ｂに偏光紫外線を照射しているが、この順番に限るものではない。例えば、まず、第２配向準備領域１２’Ｂに偏光紫外線を照射し、その後、第１配向準備領域１２’Ａに偏光紫外線を照射するようにしてもよい。
【０１０１】
また、図４では、１回目の照射及び２回目の照射の両方でマスク２１，２２を用いているが、１回目の照射だけでマスク２１を用い、２回目の照射ではマスク２２を用いない手法もある。この場合、まず、第１配向準備領域１２’Ａを遮光せず、第２配向準備領域１２’Ｂだけを遮光したマスク２１を介して、直線偏光による紫外線（偏光紫外線）をパターン配向層形成用層１２’に向けて照射することにより、遮光されていない第１配向準備領域１２’Ａを所望の方向に配向させる。続いて、１回目の照射とは偏光方向が９０度異なる直線偏光により紫外線をパターン配向層形成用層１２’の全面に照射し、１回目の照射では未露光の第２配向準備領域１２’Ｂを所望の方向に配向させる。
【０１０２】
マスクのパターン、すなわち、パターン照射のパターンは、右目用の領域に対応する第１配向領域１２Ａ（図２参照）と、左目用の領域に対応する第２配向領域１２Ｂ（同）とを安定的に形成できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば帯状パターン、モザイク状パターン、千鳥配置状パターン等を挙げることができる。その中でも、帯状のパターンであることが好ましく、特に、長尺フィルムの長手方向に互いに平行な帯状のパターンであること、すなわち、パターン照射が、長尺フィルムの長手方向に互いに平行な帯状のパターンに偏光紫外線を照射するものであることが好ましい。偏光紫外線の照射位置を固定し、長尺フィルムを長手方向に搬送することで容易に形成できるからである。また、精度良くパターン状に照射できるからである。また、位相差層１３における、右目用の領域に対応する第１位相差領域１３Ａ及び左目用の領域に対応する第２位相差領域１３Ｂが形成されているパターンと、表示装置に用いられるカラーフィルタ等において画素が形成されているパターンとを対応関係にすることが容易になるからである。
【０１０３】
マスクのパターン幅、すなわち、偏光紫外線の照射幅及び照射間隔（非照射幅）としては、同一であってもよく、あるいは異なっていてもよいが、右目用の領域に対応する領域の幅と左目用の領域に対応する領域との幅は同一であることが好ましい。位相差層１３における第１位相差領域１３Ａ及び第２位相差領域１３Ｂが形成されているパターンと、画素部が形成されているパターンとを対応関係にすることが容易になり、その結果、フラットパネルディスプレイを容易に製造できるからである。カラーフィルタのストライプラインと位置を合わせる場合は、右目用の領域に対応する領域及び左目用の領域に対応する領域が形成されたパターンとカラーフィルタのストライプパターンとが対応関係となるような幅で照射されることが好ましい。
【０１０４】
三次元表示用途の場合、パターン幅は、５０μｍ〜１０００μｍの範囲内であることが好ましく、１００μｍ〜８００μｍの範囲内であることがより好ましい。なお、ここでいうパターン幅は、基材１１が安定収縮状態である場合の、パターン配向層１２のパターン幅を指す。
【０１０５】
マスクを構成する材料としては、所望の開口部を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、紫外線による劣化がほとんどない金属や石英等を挙げることができる。具体的には、ＳＵＳ等の金属基板をエッチング加工、レーザー加工、又は電鋳加工によりパターンニングし、さらに必要に応じてニッケルメッキ等の表面処理を施したものを用いることができる。また、ソーダライムガラスや石英からなる基板上に、エマルジョン（銀塩）や、クロムからなる遮光膜を有するものとすることができる。
【０１０６】
その中でも、合成石英にＣｒをパターニングしたものであることが好ましい。温度・湿度変化等に対する寸法安定性と紫外線透過率とに優れ、パターン配向層用組成物の硬化物からなるパターン配向層形成用層１２’に精度良く紫外線を照射でき、結果として精度の高いパターン配向層１２を形成できるからである。
【０１０７】
合成石英マスクの厚さとしては、寸法精度良くパターンを形成できるものであれば特に限定されるものではないが、１ｍｍ〜２０ｍｍの範囲内であることが好ましく、５ｍｍ〜１８ｍｍの範囲内であることがより好ましく、９ｍｍ〜１６ｍｍの範囲内であることがさらに好ましい。厚さが上述の範囲内であることにより、たわまないものとすることができ、寸法精度の高いものとすることができるとともに、フォトマスクとしてハンドリングする際に重過ぎることがないからである。
【０１０８】
偏光紫外線の偏光方向は、右目用の領域に対応する領域に対する偏光方向と、左目用の領域に対応する領域に対する偏光方向とが異なるものであれば特に限定されるものではないが、両者の間で９０°異なるものであることが好ましい。第１位相差領域１３Ａと第２位相差領域１３Ｂとの間で屈折率が最も大きくなる方向（遅相軸方向）を互いに直交する関係とすることができることから、三次元表示が可能な表示装置をより好適に製造できるためである。
【０１０９】
９０°異なる方向とは、長尺位相差フィルム１を切り出した位相差フィルムを用いて三次元表示が可能な表示装置を形成した際に、精度良く三次元表示を行うことができるものであれば特に限定されるものではないが、通常、９０°±３°の範囲内であることが好ましく、９０°±２°程度の範囲内であることがより好ましく、９０°±１°程度の範囲内であることがさらに好ましい。高性能な三次元表示が可能な表示装置とすることができるからである。
【０１１０】
偏光紫外線は、集光されていても良いし、集光されていないものであっても良いが、パターン照射が搬送用ロール上の長尺フィルムに対して行われるような場合、すなわち、偏光紫外線が照射される領域内で、偏光紫外線の光源からの距離の差が生じる場合には、搬送方向に対して集光されていることが好ましい。光源からの距離による影響を低減し、パターン精度良く配向領域を形成することができるからである。
【０１１１】
集光方法としては、一般的に用いられる方法、例えば、所望の形状を有する集光リフレクターや集光レンズを用いる方法を挙げることができる。本実施の形態においては、偏光紫外線が搬送方向と直交する方向（幅方向）に対して平行光となるものであることが好ましく、平行化方法としては一般的に用いられる方法、例えば、所望の形状を有する集光リフレクターや集光レンズを用いる方法を挙げることができる。
【０１１２】
偏光紫外線の波長は、光配向材料等に応じて適宜設定されるものであり、一般的な光配向材料に配向規制力を発現させる際に用いられる波長とすることができ、具体的には、波長が２１０ｎｍ〜３８０ｎｍ、好ましくは２３０ｎｍ〜３８０ｎｍ、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜３８０ｎｍの照射光を用いることが好ましい。
【０１１３】
紫外線の光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）等が例示できる。中でも、メタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等を好ましく用いることができる。
【０１１４】
偏光紫外線の生成方法としては、偏光紫外線を安定的に照射できる方法であれば特に限定されるものではないが、一定方向の偏光のみが通過できる偏光子を介して紫外線照射する方法を用いることができる。
【０１１５】
このような偏光子としては、偏光光の生成に一般的に用いられるものを使用することができ、例えば、スリット状の開口部を有するワイヤーグリッド型偏光子や、石英板を複数枚積層してブリュースター角を利用して偏光分離する方法や、屈折率の異なる蒸着多層膜のブリュースター角を利用して偏光分離する方法を用いるもの等を挙げることができる。
【０１１６】
偏光紫外線の照射量は、所望の配向規制力を有する配向領域を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、波長３１０ｎｍである場合には、５ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましく、７ｍＪ／ｃｍ２〜３００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることがより好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２〜１００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることがさらに好ましい。十分な配向規制力を有する配向領域を形成することができるからである。
【０１１７】
偏光紫外線の照射距離、すなわち、偏光紫外線の照射を受ける長尺フィルムの搬送方向の距離としては、各露光処理で上述の照射量とすることができるものであれば特に限定されるものではなく、ライン速度等に応じて適宜設定することができる。照射距離が短い場合には、パターン精度の高いものとすることが容易となり、照射距離が長い場合には、ライン速度の速い場合でも十分な配向規制力を有する配向領域とすることができるといった利点がある。なお、照射距離を長くする方法としては、各露光処理での偏光紫外線の照射回数を複数回としたり、搬送方向に照射面積を広くする方法を挙げることができる。
【０１１８】
薄膜に対して偏光紫外線を照射する際、薄膜の温度が一定となるように温度調節することが好ましい。配向領域を精度良く形成することができるからである。薄膜の温度は、１５℃〜９０℃であることが好ましく、１５℃〜６０℃であることがより好ましい。温度調節の方法としては、一般的な加熱・冷却装置等の温度調節装置を用いる方法を挙げることができる。具体的には、所定の温度の空気を送風することができる送風装置を用いる方法や、搬送手段として温度調節可能なものを用いる方法、より具体的には、温度調節可能な搬送用ロールやベルトコンベア等を用いる方法を挙げることができる。
【０１１９】
［（Ｅ）位相差層形成用塗工液塗工処理］
図４に戻り、位相差層形成用塗工液塗工処理について説明する。本実施の形態では、位相差層形成用塗工液の供給装置３６から位相差層形成用塗工液を塗工している。具体的な塗工の方法としては、パターン配向層１２上に位相差層形成用塗工液からなる塗膜を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、（Ａ）組成物塗工処理で説明したものと同じものを例示できる。
【０１２０】
〔位相差層形成用層の厚さ〕
位相差層１３は棒状化合物が含有されることにより、位相差性を発現するものになっているところ、当該位相差性の程度は棒状化合物の種類及び位相差層１３の厚さに依存して決定されるものである。したがって、位相差層形成用層の厚さは、所定の位相差性を達成できる範囲内とするものであれば特に限定されるものではなく、位相差フィルム１の用途等に応じて適宜決定されるものである。
【０１２１】
［（Ｆ）配向処理］
続いて、位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、パターン配向層１２に含まれる第１配向領域１２Ａ及び第２配向領域１２Ｂの異なる配向方向に沿って、棒状化合物を配列させる。棒状化合物を配列させる方法としては、所望の方向に配列させることができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、乾燥機３７を用いて棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温することが挙げられる。
【０１２２】
本処理によって形成される位相差層１３のパターンは、パターン配向層１２のパターンと同一となり、右目用の領域に対応する第１配向領域１２Ａ上には、右目用の領域に対応する第１位相差領域１３Ａが形成され、左目用の領域に対応する第２配向領域１２Ｂ上には、左目用の領域に対応する第２位相差領域１３Ｂが形成される。
【０１２３】
［（Ｇ）冷却処理］
その後、冷却機３８を用いて、基材１１／パターン配向層１２／位相差層１３からなる積層体を冷却する冷却処理を行う。冷却処理は、積層体が室温になる程度まで行えばよい。
【０１２４】
［（Ｈ）硬化処理］
続いて、重合性棒状化合物を重合し硬化させる硬化処理を行う。重合性棒状化合物を重合させる方法としては、重合性棒状化合物が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよいが、適量の重合開始剤を加えて、活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。活性放射線としては、重合性棒状化合物を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光又は可視光を使用することが好ましく、具体的には、パターン配向層１２を形成する際に用いた紫外線と同様とすることができる。このような硬化処理を経ることにより、互いに重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた位相差層１３を形成できる。
【０１２５】
［（Ｉ）位相差フィルム１の作製］
続いて、フィルムを巻き取りリール４０に巻き取る。その後、フィルムを所望の大きさに切り出す。以上のような工程を経て、位相差フィルム１が作製される。
【０１２６】
〔第２実施形態〕
続いて、本発明の第２実施形態について説明する。第２実施形態は、位相差フィルムが、２種類の配向パターンを有さず、１方向に配向する位相差フィルムである場合の実施形態である。
【０１２７】
図５は、第２実施形態に係る位相差フィルム５０を説明するための図である。画像表示装置は、液晶表示パネルのパネル面に順次偏光板、１／２波長板、１／４波長板を配置し、液晶表示パネルの視野角特性を改善する。第２実施形態に係る位相差フィルム５０は、パネル面に配置する１／４波長板に対応する。なお、１／２波長板は、後述する位相差層５３の厚み、遅相軸の方向が異なる点を除いて、１／４波長板と同一に構成されることにより、以下においては、詳細な説明は省略する。
【０１２８】
第２実施形態に係る位相差フィルム５０は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材５１と、この基材５１の一方の面上に形成される配向層５２と、配向層５２の基材５１に対向する面上に形成される位相差層５３とを備える。そして、位相差フィルム５１は、配向層５２を構成する配向層用組成物、又は、位相差層５３を構成する液晶組成物のいずれか一方に、所定の大きさの凝集径のアンチブロック剤に含有させ、そのような配向層用組成物よりパターン配向層５２を、若しくは、液相組成物により位相差層５３を構成してなる。
【０１２９】
位相差フィルム５０は、パターン位相差フィルム１と同様に、位相差層５３が屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜の配向規制力によりパターンニングし、これにより透過光に対応する位相差を与える。また、位相差フィルム５０は、パターン位相差フィルム１と同様の紫外線硬化性樹脂の表面形状により配向膜が作製され、この配向膜は、全面が、一様に垂直方向に対して斜め傾く方向に延長するライン状凹凸形状により作製される。
【実施例】
【０１３０】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【０１３１】
（１）液晶組成物へのアンチブロッキング剤の添加
≪液晶組成物の調製≫
［液晶組成物Ａ〜Ｄの調製］
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）に溶かした液晶材料（商品名：ｌｉｃｒｉｖｕｅ（登録商標）  ＲＭＳ０３−０１３Ｃ，メルク社製）に、下記表１に記載の量のアンチブロッキング剤を均一に溶かし、液晶組成物Ａ〜Ｄを得た。液晶組成物Ａ〜Ｄは、ネマチック相の液晶組成物である。アンチブロッキング剤の液晶材料への溶解性は、いずれも良好であった。
【０１３２】
［液晶組成物Ｅ及びＦの調製］
下記式（１７）で表される液晶化合物３．８ｇ、光重合開始剤（製品名：イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）０．０６ｇ、増感剤（製品名：カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬社製）０．０２ｇ、下記式（１８）で表される垂直配向剤０．００２ｇ、及び下記表１に記載の量のアンチブロッキング剤を９．２ｇのメチルエチルケトンに均一に溶かし、液晶組成物Ｅ及びＦを得た。液晶組成物Ｅ及びＦは、ホメオトロピック相の液晶組成物である。
【化２】
2015084074.tif 000004
【化３】
2015084074.tif 000005
【０１３３】
【表１】
2015084074.tif 000006
【０１３４】
表１において、アンチブロッキング剤Ａ及びＢは次のとおりである。
アンチブロッキング剤Ａ：トリメチルシリル基で表面処理されたアンチブロッキング剤（製品名：ＲＸ２００，平均一次粒径１２ｎｍ，日本アエロジル社製）
アンチブロッキング剤Ｂ：ジメチルシリル基で表面処理されたアンチブロッキング剤（製品名：Ｒ９７４，平均一次粒径１２ｎｍ，日本アエロジル社製）
【０１３５】
≪２種類の配向パターンを有するパターン位相差フィルムの作製；実施例及び比較例≫
下記表２に示す実施例及び比較例に係るパターン位相差フィルムを作製した。
【０１３６】
【表２】
2015084074.tif 000007
【０１３７】
ここで、表２において、基材Ａ及びＢは次のとおりである。
基材Ａ：表面に防眩処理が施されたＴＡＣ基材（商品名：ＴＤ８０ＵＬ−Ｐ，厚さ：８０μｍ，裏面の表面粗さＲａ：０．２ｎｍ，富士フィルム社製）。ただし、裏面の表面粗さＲａは出願人による実測値である。
基材Ｂ：表面に防眩処理が施されたＴＡＣ基材（商品名：ＴＤ６０ＵＬ−Ｐ，厚さ：６０μｍ，裏面の表面粗さＲａ：０．２ｎｍ，富士フィルム社製）。ただし、裏面の表面粗さＲａは出願人による実測値である。
【０１３８】
具体的に、実施例及び比較例に係る位相差フィルムは、図３にて説明した製造工程を経て得た。なお、その際、基材は、幅１，０００ｍ、長さ２，０００ｍの長尺状でロール状に巻き取られているものを使用し、その基材の搬送速度は１０ｍ／ｍｉｎとした。
【０１３９】
まず、光二量化部位と熱架橋部位との両方を有する光配向材料（商品名：ＲＯＰ−１０３，ロリック社製）１００質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）９００質量部に溶解させてパターン配向層用組成物を得た。
【０１４０】
その後、表２に記載のＴＡＣ基材の裏面に、得られたパターン配向層用組成物を、硬化後の膜厚が２００μｍとなるようにグラビアコート法にて塗布した。そして、１００℃に調整した乾燥機内に１分間流し、溶媒を蒸発させた。これによって、厚さ２００μｍの薄膜が形成された。
【０１４１】
この薄膜に対して、ワイヤーグリッドを通した偏光紫外線（偏光軸がフィルムの搬送方向に対して４５°の方向）を原反の搬送方向と平行な方向に幅５００μｍのストライプパターンを、クロムで合成石英上に形成したマスクを介して照射した。続いて、マスクを通さないでワイヤーグリッドを通した偏光紫外線（偏光軸がフィルムの搬送方向に対して−４５°の方向）を照射した。このとき、紫外線照射装置は、「Ｈバルブ」（フュージョン社製）を用いた。また、偏光紫外線の波長は３１３ｎｍとし、積算光量は４０ｍＪ／ｃｍ２とした。なお、積算光量の測定は、紫外線光量計「ＵＶ−３５１」（オーク製作所社製）を用いて測定した。このような工程を経てパターン配向膜を得た。
【０１４２】
続いて、偏向紫外線の照射後、時間をおかずに、パターン配向膜のパターン配向層上に、表１に記載の液晶組成物をダイコート法にて塗布した。その後、６０℃に調整した第１乾燥機内に１分間、９５℃に調整した第２乾燥機内に０．５分間、１０５℃に調整した第３乾燥機内に０．５分間流し、室温近傍まで冷却した。
【０１４３】
積層体を乾燥、冷却した後、パターン配向膜形成時に用いた紫外線照射装置と同型の紫外線照射装置を用いて、波長２６０ｎｍの紫外線を積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ２となるまで照射した。そして、フィルムを巻き取りリールに巻き取った後、長さ方向に２００ｍｍ毎に切り出し、幅１００ｍｍ、長さ１００ｍｍの位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムは、２枚積み重ね、８０℃で３時間保管した。
【０１４４】
≪２種類の配向パターンを有しない位相差フィルムの作製；実施例及び比較例≫
下記表３に示す実施例及び比較例に係る位相差フィルムを作製した。
【０１４５】
【表３】
2015084074.tif 000008
【０１４６】
表３において、基材Ｃは次のとおりである。
基材Ｃ：ＴＡＣ基材（商品名：ＴＤ６０ＵＬ−Ｐ，厚さ：６０μｍ，裏面の表面粗さＲａ：０．２ｎｍ，富士フィルム社製）。ただし、表面粗さＲａは出願人による実測値である。
【０１４７】
基材Ｃは、便宜的に基材Ｂと同じ材料であるが、表面に防眩処理が施されていない点で、基材Ｂと異なる。
【０１４８】
実施例及び比較例に係る位相差フィルムは、次に記載の手法によって得た。なお、その際、基材は、幅１，０００ｍ、長さ２，０００ｍの長尺状でロール状に巻き取られているものを使用し、その基材の搬送速度は１０ｍ／ｍｉｎとした。
【０１４９】
まず、光二量化部位と熱架橋部位との両方を有する光配向材料（商品名：ＲＯＰ−１０３，ロリック社製）１００質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）９００質量部に溶解させてパターン配向層用組成物を得た。
【０１５０】
その後、表３に記載のＴＡＣ基材の裏面に、得られたパターン配向層用組成物を、硬化後の膜厚が２００μｍとなるようにグラビアコート法にて塗布した。そして、１００℃に調整した乾燥機内に１分間流し、溶媒を蒸発させた。これによって、厚さ２００μｍの薄膜が形成された。
【０１５１】
この薄膜に対して、ワイヤーグリッドを通した偏光紫外線（偏光軸がフィルムの搬送方向に対して４５°の方向）を照射した。このとき、紫外線照射装置は、「Ｈバルブ」（フュージョン社製）を用いた。また、偏光紫外線の波長は３１３ｎｍとし、積算光量は４０ｍＪ／ｃｍ２とした。なお、積算光量の測定は、紫外線光量計「ＵＶ−３５１」（オーク製作所社製）を用いて測定した。このような工程を経てパターン配向膜を得た。
【０１５２】
続いて、偏向紫外線の照射後、時間をおかずに、パターン配向膜のパターン配向層上に、表１に記載の液晶組成物をダイコート法にて塗布した。その後、６０℃に調整した第１乾燥機内に１分間、９５℃に調整した第２乾燥機内に０．５分間、１０５℃に調整した第３乾燥機内に０．５分間流し、室温近傍まで冷却した。
【０１５３】
積層体を乾燥、冷却した後、配向膜形成時に用いた紫外線照射装置と同型の紫外線照射装置を用いて、波長２６０ｎｍの紫外線を積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ２となるまで照射した。そして、フィルムを巻き取りリールに巻き取った後、長さ方向に２００ｍｍ毎に切り出し、幅１００ｍｍ、長さ１００ｍｍの位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムは、２枚積み重ね、８０℃で３時間保管した。
【０１５４】
≪評価≫
実施例及び比較例に係るパターン位相差フィルムについて、その位相差層におけるアンチブロッキング剤の凝集径、位相差層の表面粗さＲａ、ブロッキングの有無、液晶組成物の基材裏面への転写及び配向性を評価した。
【０１５５】
［位相差層におけるアンチブロッキング剤の凝集径］
位相差層におけるアンチブロッキング剤の凝集径は、高分解能電界放出形走査電子顕微鏡Ｓ−４８００（日立ハイテク社製）を用いてパターン位相差フィルムの断面を５０，０００倍に拡大したときの画像における粒子１００個を観察することによって測定した。下記表４に結果を示す。
【０１５６】
［位相差層の表面粗さＲａ］
位相差層の表面粗さＲａは、実施例及び比較例に係るパターン位相差フィルムについて、表面粗さ測定機ＳＥ−３４００（小坂研究所製）を用いて測定した。下記表４に結果を示す。
【０１５７】
［液晶組成物の基材裏面への転写］
実施例及び比較例に係るパターン位相差フィルムについて、液晶組成物の基材裏面への転写の有無を目視で観察した。評価は、「優」、「良」、「不可」の３段階とし、評価基準は以下のとおりとした。下記表４に結果を示す。
優：貼りつき跡なし。
良：基材の５割未満の領域に貼りつき跡が見られる。
不可：基材の５割以上の領域に貼りつき跡が見られる。
【０１５８】
［配向性］
配向性の評価は、実施例及び比較例に係るパターン位相差フィルムについて目視評価することによって行った。評価は、「優」、「良」、「不可」の３段階とし、評価基準は以下のとおりとした。下記表４に結果を示す。
優：アンチブロッキング剤を用いない場合と同等レベル。
良：：消光位時に白い部分が目立つレベル。
不可：全く配向しない。
【０１５９】
【表４】
2015084074.tif 000009
【０１６０】
表４にまとめた結果に示されるように、液晶化合物及びアンチブロッキング剤を含有する液晶組成物を含む位相差層を表面に有し、この位相差層におけるアンチブロッキング剤の凝集径が５００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である場合においては、基材として表面に防眩処理が施された基材Ａ，Ｂを用いた場合、表面に防眩処理が施されていない基材Ｃを用いた場合のいずれであっても、位相差フィルムの表裏の貼り付きが抑えられ、結果として高い配向性能を有する位相差フィルムとなることが確認された（実施例１−１，２−１，３−１，４−１）。
【０１６１】
一方、アンチブロッキング剤の含有量が多すぎると、位相差層におけるアンチブロッキング剤の凝集径が大きくなりすぎるため、位相差層の表面粗さＲａが５００ｎｍを超えるようになってしまい、結果として適切な配向性能が得られないことが確認された（比較例１−１，２−１，３−１）。
【０１６２】
また、アンチブロッキング剤の含有量が少なすぎると、位相差層におけるアンチブロッキング剤の凝集径が小さすぎるため、位相差層の表面粗さＲａが３ｎｍ未満となってしまい、位相差フィルムの表裏が貼り付き、位相差フィルムを重ね合わせたり、ロール状に巻き取ったりする際に、位相差層と基材の裏面とが貼りつき、いわゆるブロッキングが生じることが確認された（比較例１−２，２−２，３−２，４−２）。
【０１６３】
また、アンチブロッキング剤に用いる表面処理剤の種類によっては、アンチブロッキング剤の含有量が適切であっても、位相差層におけるアンチブロッキング剤の凝集径が充分でないため、位相差層の表面粗さＲａが３ｎｍ未満になってしまい、位相差フィルムの表裏が貼り付き、位相差フィルムを重ね合わせたり、ロール状に巻き取ったりする際に、位相差層と基材の裏面とが貼りつき、いわゆるブロッキングが生じることが確認された（比較例１−３，２−３）。
【０１６４】
［位相差フィルム断面のＳＥＭ画像］
実施例と比較例との間で耐ブロッキング性に差が生じた要因を確認するため、位相差フィルムの断面のＳＥＭ画像を撮影した。図６は、高分解能電界放出形走査電子顕微鏡Ｓ−４８００（日立ハイテク社製）を用いて位相差フィルムの断面を５０，０００倍に拡大したときの画像である。
【０１６５】
図６（ａ）に示されるように、実施例（実施例１−１）に係る位相差フィルムの場合、位相差層におけるアンチブロッキング剤の凝集径が５００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることから、位相差フィルムの表裏の貼り付きを適切に抑えられたことが分かる。一方で、図６（ｂ）及び図６（ｃ）に示されるように、比較例（比較例１−２，１−３）に係る位相差フィルムでは、位相差層におけるアンチブロッキング剤の凝集径が充分な大きさとなっていないことから、位相差フィルムの表裏の貼り付きが生じてしまったことが分かる。
【０１６６】
［位相差フィルムの表面性状］
また、実施例と比較例との間で耐ブロッキング性に差が生じた要因を確認するため、位相差フィルムの表面性状を解析した。図７は、光学式表面性状測定機Ｚｙｇｏ  Ｎｅｗ  Ｖｉｅｗ  ６３００（Ｚｙｇｏ社製）を用いてパターン位相差フィルムの表面を解析したときの画像である。図７（ａ）に示されるように、実施例（実施例１−１）に係る位相差フィルムの場合、位相差層の表面に充分な凹凸が生じており、このことが位相差フィルムの表裏の貼り付きを適切に抑えられたことに寄与したものと予想される。一方で、図７（ｂ）及び図７（ｃ）に示されるように、比較例（比較例１−２，１−３）に係る位相差フィルムでは、位相差層の表面に充分な凹凸が生じなかったために、このことが位相差フィルムの表裏の貼り付きが生じたことの一因であると予想される。
【０１６７】
（２）配向層用組成物へのアンチブロッキング剤の添加
≪配向層用組成物の調製≫
光二量化部位と熱架橋部位との両方を有する光配向材料（商品名：ＲＯＰ−１０３，ロリック社製）１００質量部を、ＰＧＭＥ９００質量部に溶解させ、さらに下記表５に記載の量のアンチブロッキング剤Ａを均一に溶かし、配向層用組成物Ａ、Ｂを得た。
【０１６８】
【表５】
2015084074.tif 000010
【０１６９】
なお、アンチブロッキング剤Ａは、トリメチルシリル基で表面処理されたアンチブロッキング剤（製品名：ＲＸ２００，平均一次粒径１２ｎｍ，日本アエロジル社製である。
【０１７０】
≪位相差フィルムの作製；実施例及び比較例≫
下記表６に示す実施例及び比較例に係る位相差フィルムを作製した。実施例５及び比較例５に係る位相差フィルムは、２種類の配向パターンを有するパターン位相差フィルムである。実施例６及び比較例６に係る位相差フィルムは、２種類の配向パターンを有しない位相差フィルムである。
【０１７１】
【表６】
2015084074.tif 000011
【０１７２】
表７において、基材Ａは、表面に防眩処理が施されたＴＡＣ基材（商品名：ＴＤ８０ＵＬ−Ｐ，厚さ：８０μｍ，裏面の表面粗さＲａ：０．２ｎｍ，富士フィルム社製）である。
ただし、裏面の表面粗さＲａは出願人による実測値である。基材Ｃは、表面に防眩処理が施されていないＴＡＣ基材（商品名：ＴＤ６０ＵＬ−Ｐ，厚さ：６０μｍ，裏面の表面粗さＲａ：０．２ｎｍ，富士フィルム社製）である。ただし、表面粗さＲａは出願人による実測値である。
【０１７３】
〔実施例５及び比較例５に係るパターン位相差フィルムの作製〕
実施例５及び比較例５に係るパターン位相差フィルムは、図３にて説明した製造工程を経て、パターン位相差フィルムを得た。なお、その際、基材は、幅１，０００ｍ、長さ２，０００ｍの長尺状でロール状に巻き取られているものを使用し、その基材の搬送速度は１０ｍ／ｍｉｎとした。
【０１７４】
まず、ＴＡＣ基材（基材Ａ）の裏面に、調製したパターン配向層用組成物を、硬化後の膜厚が２００μｍとなるようにグラビアコート法にて塗布した。そして、１００℃に調製した乾燥機内に１分間流し、溶媒を蒸発させた。これによって、厚さ２００μｍの薄膜が形成された。
【０１７５】
形成された薄膜に対して、ワイヤーグリッドを通した偏光紫外線（偏光軸がフィルムの搬送方向に対して４５°の方向）を原反の搬送方向と平行な方向に幅５００μｍのストライプパターンを、クロムで合成石英上に形成したマスクを介して照射した。続いて、マスクを通さないでワイヤーグリッドを通した偏光紫外線（偏光軸がフィルムの搬送方向に対して−４５°の方向）を照射した。このとき、紫外線照射装置は、「Ｈバルブ」（フュージョン社製）を用いた。また、偏光紫外線の波長は３１３ｎｍとし、積算光量は４０ｍＪ／ｃｍ２とした。なお、積算光量の測定は、紫外線光量計「ＵＶ−３５１」（オーク製作所社製）を用いて測定した。このような工程を経てパターン配向膜を得た。
【０１７６】
続いて、偏向紫外線の照射後、時間をおかずに、パターン配向膜のパターン配向層上に、液晶組成物をダイコート法にて塗布した。液晶組成物は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）に液晶材料（商品名：ｌｉｃｒｉｖｕｅ（登録商標）  ＲＭＳ０３−０１３Ｃ，メルク社製）を均一に溶かしたものを用いた。その後、６０℃に調整した第１乾燥機内に１分間、９５℃に調整した第２乾燥機内に０．５分間、１０５℃に調整した第３乾燥機内に０．５分間流し、室温近傍まで冷却した。
【０１７７】
積層体を乾燥、冷却した後、パターン配向膜形成時に用いた紫外線照射装置と同型の紫外線照射装置を用いて、波長２６０ｎｍの紫外線を積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ２となるまで照射した。そして、フィルムを巻き取りリールに巻き取った後、長さ方向に２００ｍｍ毎に切り出し、幅１００ｍｍ、長さ１００ｍｍの位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムは、２枚積み重ね、８０℃で３時間保管した。
【０１７８】
〔実施例６及び比較例６に係る位相差フィルムの作製〕
実施例６及び比較例６に係る位相差フィルムは、次に記載の手法によって得た。なお、その際、基材は、幅１，０００ｍ、長さ２，０００ｍの長尺状でロール状に巻き取られているものを使用し、その基材の搬送速度は１０ｍ／ｍｉｎとした。
【０１７９】
まず、光二量化部位と熱架橋部位との両方を有する光配向材料（商品名：ＲＯＰ−１０３，ロリック社製）１００質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）９００質量部に溶解させて配向層用組成物を得た。
【０１８０】
その後、表６に記載のＴＡＣ基材の裏面に、得られた配向層用組成物を、硬化後の膜厚が２００μｍとなるようにグラビアコート法にて塗布した。そして、１００℃に調整した乾燥機内に１分間流し、溶媒を蒸発させた。これによって、厚さ２００μｍの薄膜が形成された。
【０１８１】
この薄膜に対して、ワイヤーグリッドを通した偏光紫外線（偏光軸がフィルムの搬送方向に対して４５°の方向）を照射した。このとき、紫外線照射装置は、「Ｈバルブ」（フュージョン社製）を用いた。また、偏光紫外線の波長は３１３ｎｍとし、積算光量は４０ｍＪ／ｃｍ２とした。なお、積算光量の測定は、紫外線光量計「ＵＶ−３５１」（オーク製作所社製）を用いて測定した。このような工程を経て配向膜を得た。
【０１８２】
続いて、偏向紫外線の照射後、時間をおかずに、配向膜の配向層上に、液晶組成物をダイコート法にて塗布した。液晶組成物は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）に液晶材料（商品名：ｌｉｃｒｉｖｕｅ（登録商標）  ＲＭＳ０３−０１３Ｃ，メルク社製）を均一に溶かしたものを用いた。その後、６０℃に調整した第１乾燥機内に１分間、９５℃に調整した第２乾燥機内に０．５分間、１０５℃に調整した第３乾燥機内に０．５分間流し、室温近傍まで冷却した。
【０１８３】
積層体を乾燥、冷却した後、配向膜形成時に用いた紫外線照射装置と同型の紫外線照射装置を用いて、波長２６０ｎｍの紫外線を積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ２となるまで照射した。そして、フィルムを巻き取りリールに巻き取った後、長さ方向に２００ｍｍ毎に切り出し、幅１００ｍｍ、長さ１００ｍｍの位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムは、２枚積み重ね、８０℃で３時間保管した。
【０１８４】
≪評価≫
［位相差層におけるアンチブロッキング剤の凝集径］
位相差層におけるアンチブロッキング剤の凝集径は、高分解能電界放出形走査電子顕微鏡Ｓ−４８００（日立ハイテク社製）を用いて、実施例及び比較例に係る位相差フィルムの断面を５０，０００倍に拡大したときの画像における粒子１００個を観察することによって測定した。下記表７に結果を示す。
【０１８５】
［位相差層の表面粗さＲａ］
位相差層の表面粗さＲａは、実施例及び比較例に係る位相差フィルムについて、表面粗さ測定機ＳＥ−３４００（小坂研究所製）を用いて測定した。下記表７に結果を示す。
【０１８６】
［液晶組成物の基材裏面への転写］
実施例及び比較例に係る位相差フィルムについて、液晶組成物の基材裏面への転写の有無を目視で観察した。評価は、「優」、「良」、「不可」の３段階とし、評価基準は以下のとおりとした。下記表７に結果を示す。
優：貼りつき跡なし。
良：基材の５割未満の領域に貼りつき跡が見られる。
不可：基材の５割以上の領域に貼りつき跡が見られる。
【０１８７】
［配向性］
配向性の評価は、実施例及び比較例に係る位相差フィルムについて目視評価することによって行った。評価は、「優」、「良」、「不可」の３段階とし、評価基準は以下のとおりとした。下記表７に結果を示す。
優：アンチブロッキング剤を用いない場合と同等レベル。
良：：消光位時に白い部分が目立つレベル。
不可：全く配向しない。
【０１８８】
【表７】
2015084074.tif 000012
【０１８９】
表７にまとめた結果に示されるように、実施例５に係るパターン位相差フィルム、及び実施例６に係る位相差フィルムでは、配向層におけるアンチブロッキング剤の凝集径が５００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下となり、このような場合においては、位相差フィルムの表裏の貼り付きが効果的に抑えられ、また、高い配向性能を有する位相差フィルムとなることが確認された。
【０１９０】
一方で、比較例５に係るパターン位相差フィルム、及び比較例６に係る位相差フィルムの結果に示されるように、アンチブロッキング剤の含有量が少なすぎると、配向層におけるアンチブロッキング剤の凝集径が小さすぎるため、位相差層の表面粗さＲａが３ｎｍ未満となってしまい、位相差フィルムの表裏が貼り付き、パターン位相差フィルムを重ね合わせたり、ロール状に巻き取ったりする際に、位相差層と基材の裏面とが貼りつき、いわゆるブロッキングが生じることが確認された。
【０１９１】
［位相差フィルムの表面性状］
実施例５及び比較例５に係る位相差フィルムの表面性状を解析した。図８は、光学式表面性状測定機Ｚｙｇｏ  Ｎｅｗ  Ｖｉｅｗ  ６３００（Ｚｙｇｏ社製）を用いて位相差フィルムの表面を解析したときの画像である。図８（ａ）が位相差フィルムＡの表面解析画像であり、図８（ｂ）が位相差フィルムＢの表面解析画像である。なお、画像中の大小の斑点状の部分がフィルム表面の凸部を示す。
【０１９２】
図８（ａ）に示されるように、実施例５に係る位相差フィルムの最表面である位相差層の表面には充分な凹凸が生じていることが確認された。したがって、このことにより、位相差フィルムの表裏の貼り付きが適切に抑えられたことに寄与したものと考えられる。
【０１９３】
一方で、図８（ｂ）に示されるように、比較例５に係るパターン位相差フィルムの位相差層の表面には充分な凹凸が生じなかった。このことが、パターン位相差フィルムの表裏の貼り付きが生じたことの一因であると考えられる。
【符号の説明】
【０１９４】
１  第１の実施形態に係るパターン位相差フィルム
２  パターン配向膜
１１  基材
１２  パターン配向層
１３  位相差層
５０  第２の実施形態に係る位相差フィルム
５１  基材
５２  パターン配向層
５３  位相差層
【図１】
2015084074.tif 000013
【図２】
2015084074.tif 000014
【図３】
2015084074.tif 000015
【図４】
2015084074.tif 000016
【図５】
2015084074.tif 000017
【図９】
2015084074.tif 000018
【図６】
2015084074.tif 000019
【図７】
2015084074.tif 000020
【図８】
2015084074.tif 000021