(57)【要約】【課題】指紋拭取り性に優れると共に、所定の波長範囲の光反射率をフラット化して反射光の着色を抑制できる反射防止フィルムを提供する。【解決手段】透明基材フィルム上に、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の４層がこの順で設けられている。低屈折率層は、（ａ）Ｃ２〜Ｃ７のパーフルオロアルキル鎖を含有する（メタ）アクリレート５．０〜１５．０質量％と、（ｂ）アクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン又はアクリル基を有するポリエステル変性ポリジメチルシロキサン２．０〜８．０質量％と、（ｃ）前記（ａ）成分及び（ｂ）成分と共重合可能な重合性二重結合をもつ含フッ素化合物９．０〜７０．０質量％と、（ｄ）中空シリカ微粒子２２．０〜８３．０質量％と、（ｅ）光重合開始剤１．０〜１０．０質量％とからなる低屈折率層用樹脂組成物を硬化させてなる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルム上に、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の４層がこの順で設けられており、前記低屈折率層が、
（ａ）Ｃ２〜Ｃ７のパーフルオロアルキル鎖を含有する（メタ）アクリレート５．０〜１５．０質量％と、
（ｂ）アクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン又はアクリル基を有するポリエステル変性ポリジメチルシロキサン２．０〜８．０質量％と、
（ｃ）前記（ａ）成分及び（ｂ）成分と共重合可能な重合性二重結合をもつ含フッ素化合物９．０〜７０．０質量％と、
（ｄ）中空シリカ微粒子２２．０〜８３．０質量％と、
（ｅ）光重合開始剤１．０〜１０．０質量％とからなり、
前記（ｂ）成分の含有量が前記（ａ）成分の含有量より少なく、且つ、前記（ａ）〜（ｅ）成分の合計が１００質量％である低屈折率層用樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とする、反射防止フィルム。
【請求項２】
前記ハードコート層の屈折率が１．５０〜１．５６、
前記中屈折率層の屈折率が１．５７〜１．６３、
前記高屈折率層の屈折率が１．７７〜１．８３、
前記低屈折率層の屈折率が１．２９〜１．３７
であることを特徴とする、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記ハードコート層の屈折率をｎＨＣ、膜厚をｄＨＣ、前記中屈折率層の屈折率をｎＭ、膜厚をｄＭ、前記高屈折率層の屈折率をｎＨ、膜厚をｄＨ、前記低屈折率層の屈折率をｎＬ、膜厚をｄＬとした場合、下記（１）〜（４）が成り立つことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の反射防止フィルム。
ｎＭ-ｎＨＣ≧０．０５・・・（１）
４５０ｎｍ/４ｎＭ＜ｄＭ＜５６０ｎｍ/４ｎＭ・・・（２）
４５０ｎｍ/２ｎＨ＜ｄＨ＜５６０ｎｍ/２ｎＨ・・・（３）
４５０ｎｍ/４ｎＬ＜ｄＬ＜５６０ｎｍ/４ｎＬ・・・（４）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルの表面等に適用される反射防止フィルムに関し、特に、防汚性及び反射防止性に優れ、反射光の着色抑制効果の高い反射防止フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、画像表示部に直接触れることにより、情報を入力できるデバイスとしてタッチパネルが広く用いられている。当該タッチパネルは、外光が写りこんで反射されると画像の視認性が低下するため、その表面には、一般的に反射防止フィルムが貼着される。また、タッチパネルはほぼ日常的に外気と接触したり人の手に触れられるため、汚れや指紋などがその表面に付着し、視認性の悪化や美観を損ねたりする問題もある。
【０００３】
この問題を解決するために、外光の反射防止性と共に防汚性も兼ね備えた反射防止フィルムが、例えば特許文献１や特許文献２に提案されている。特許文献１は、透明基材フィルムの一方の面に、ハードコート層と低屈折率層とを積層した反射防止フィルムであって、低屈折率層にポリジメチルシロキサン構造を有するシリコーン材料を加えることで、防汚性の付与が図られている。また、特許文献２は、透明基材フィルム上に、ハードコート層と低屈折率層、及び必要に応じてハードコート層と低屈折率層との間に該ハードコート層よりも屈折率の高い高屈折率層を積層した反射防止フィルムであって、フッ素系界面活性剤を低屈折率層へ加えることで、防汚性の付与が図られている。具体的には、低屈折率層は、多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤とを、多官能（メタ）アクリル系化合物：フッ素系界面活性剤＝９９．９：０．１〜９０：１０（重量比）の割合で含有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−１５４１７７号公報
【特許文献２】特開２００８−１２２６０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１に記載の反射防止フィルムでは、マジックインキなどに対する汚れ防止性能は優れるが、低屈折率層にポリジメチルシロキサン構造を有するシリコーン材料を加えただけでは、指紋の付着防止性や付着した指紋の拭取り性に対する性能が不足する課題を有する。また、反射防止層が低屈折率層の１層のみで構成されているため、視感度波長範囲（光の波長５００〜６５０ｎｍ）において反射防止性にバラツキ（強弱）があり、ある特定波長の光に対する反射率を効果的に下げることができないため、反射光が着色してしまうおそれがあった。
【０００６】
また、特許文献２に記載の反射防止フィルムでは、フッ素系界面活性剤の配合量が少ないため、指紋の付着防止性や付着した指紋の拭取り性が不足するといった課題があった。
さらに、反射防止層が低屈折率層と高屈折率層の２層のみで構成されているため、やはり視感度波長範囲（光の波長５００〜６５０ｎｍ）において反射防止性にバラツキ（強弱）があり、ある特定波長の光に対する反射率のみが極端に低下しまい、反射光が着色してしまうおそれがあった。
【０００７】
そこで、本発明の目的とするところは、指紋の付着防止性や拭取り性、及び反射防止性に優れ、反射光の着色抑制効果の高い、反射防止フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
そのための手段として、本発明の反射防止フィルムは、透明基材フィルム上に、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の４層がこの順で設けられている。そして、前記低屈折率層は、（ａ）Ｃ２〜Ｃ７のパーフルオロアルキル鎖を含有する（メタ）アクリレート５．０〜１５．０質量％と、（ｂ）アクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン又はアクリル基を有するポリエステル変性ポリジメチルシロキサン２．０〜８．０質量％と、（ｃ）前記（ａ）成分及び（ｂ）成分と共重合可能な重合性二重結合をもつ含フッ素化合物９．０〜７０．０質量％と、（ｄ）中空シリカ微粒子２２．０〜８３．０質量％と、（ｅ）光重合開始剤１．０〜１０．０質量％とからなり、前記（ｂ）成分の含有量が前記（ａ）成分の含有量より少なく、且つ、前記（ａ）〜（ｅ）成分の合計が１００質量％である低屈折率層用樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とする。
【０００９】
このとき、前記ハードコート層の屈折率が１．５０〜１．５６、前記中屈折率層の屈折率が１．５７〜１．６３、前記高屈折率層の屈折率が１．７７〜１．８３、前記低屈折率層の屈折率が１．２９〜１．３７であることが好ましい。
【００１０】
また、前記ハードコート層の屈折率をｎＨＣ、膜厚をｄＨＣ、前記中屈折率層の屈折率をｎＭ、膜厚をｄＭ、前記高屈折率層の屈折率をｎＨ、膜厚をｄＨ、前記低屈折率層の屈折率をｎＬ、膜厚をｄＬとした場合、下記（１）〜（４）が成り立つことが好ましい。
ｎＭ-ｎＨＣ≧０．０５・・・（１）
４５０ｎｍ/４ｎＭ＜ｄＭ＜５６０ｎｍ/４ｎＭ・・・（２）
４５０ｎｍ/２ｎＨ＜ｄＨ＜５６０ｎｍ/２ｎＨ・・・（３）
４５０ｎｍ/４ｎＬ＜ｄＬ＜５６０ｎｍ/４ｎＬ・・・（４）
【００１１】
なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」と「メタクリレート」の双方を含む意味である。また、本発明において数値範囲を示す「○○〜××」とは、特に明示しない限り「○○以上××以下」を意味する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、低屈折率層用樹脂組成物の組成を適切に設定したことで、指紋の付着防止性や拭取り性に優れる反射防止フィルムを提供することができる。また、透明基材フィルム上に、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層をこの順で積層した４層構造の反射防止層を設けていることで、視感度反射率を低下させて的確に反射防止機能を発揮させながら、一定の波長範囲の光に対する反射率をフラット化することができ、反射光の着色を防止することができる。
【００１３】
このとき、ハードコート層の屈折率を１．５０〜１．５６、中屈折率層の屈折率を１．５７〜１．６３、高屈折率層の屈折率を１．７７〜１．８３、及び低屈折率層の屈折率を１．２９〜１．３７に設定することで、視感度反射率０．５％未満を達成することができる。
【００１４】
また、上記式（１）〜（４）が同時に成り立つよう設定することで、光の波長５００〜６５０ｎｍの視感度波長範囲において反射率をフラット化することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本実施形態の反射防止フィルムは、透明基材フィルム上に、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層が、透明基材フィルム側からこの順で順次形成されている。以下に、この反射防止フィルムの構成要素について順に説明する。
【００１６】
〔透明基材フィルム〕
透明基材フィルムは、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ノルボルネン系樹脂、又はシクロオレフィン樹脂等の透明樹脂からなるフィルムを使用できる。ポリエステル樹脂からなるフィルムとしては東レ株式会社製ＰＥＴフィルム（ルミラーＵ−４０３）、ポリカーボネート樹脂からなるフィルムとしては帝人化成株式会社製ポリカーボネートフィルム（ＰＣ−２１５１）、トリアセチルセルロース樹脂からなるフィルムとしては富士フィルム株式会社製トリアセチルセルロースフィルム（フジタック）、ノルボルネン系樹脂からなるフィルムとしてはＪＳＲ株式会社製アートンフィルム、シクロオレフィン樹脂からなるフィルムとしては日本ゼオン株式会社製ゼオノアフィルム（ＺＦ１４，ＺＦ１６）等が挙げられる。
【００１７】
透明基材フィルムの膜厚は、通常２５〜４００μｍ程度、好ましくは２５〜２００μｍ程度である。また、これらの透明基材フィルムには、ハードコート層と透明基材フィルムとの密着力を高めるため、易接着層と呼ばれる層を設けることもできる。透明基材フィルムには、各種の添加剤が含有されていてもよい。そのような添加剤として、例えば紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤等が挙げられる。
【００１８】
〔ハードコート層〕
ハードコート層は、反射防止フィルムの表面強度を担保するための層である。ハードコート層の屈折率は、１．５０〜１．５６の範囲内のものが好ましい。ハードコートの屈折率が１．５０未満の場合、或いは１．５６を超える場合には、透明基材フィルムとハードコート層の屈折率差から生じる干渉により、干渉ムラが顕著に表れるため好ましくない。
【００１９】
また、ハードコート層の膜厚は、１〜１０μｍが好ましい。ハードコート層の膜厚が１μｍ未満の場合には、十分な表面強度が得られないため好ましくない。その一方、膜厚が１０μｍを超える場合には、耐屈曲性の低下等の問題が生じるため好ましくない。
【００２０】
〔ハードコート層用樹脂組成物〕
ハードコート層の材料としては、従来より反射防止フィルム等に用いられている公知のものであれば、特に制限されない。例えば、テトラエトキシシラン等の反応性珪素化合物や、活性エネルギー線硬化型樹脂を用いることができ、これらを混合してもよい。そして、これらに光重合開始剤を加えて調製したハードコート層用塗液に紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射して硬化させてハードコート層を形成することができる。
【００２１】
活性エネルギー線硬化型樹脂としては、例えば単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートなどが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとして具体的には、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸（ポリ）エチレングリコール基含有（メタ）アクリル酸エステル等が好ましい。多官能（メタ）アクリレートとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン変性アクリレート等の（メタ）アクリロイル基を２個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。なお、本明細書では、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートを指す。また、同様に、後述の「（メタ）アクリル単量体」は、アクリル単量体及びメタクリル単量体を指し、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基及びメタクリロイル基を指す。
【００２２】
これらのうち生産性及び硬度を両立させる観点より、鉛筆硬度（評価法：ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−４）がＨ以上となる活性エネルギー線硬化型樹脂を含む組成物の硬化物であることが好ましい。そのような活性エネルギー線硬化型樹脂を含む組成物としては特に限定されるものではないが、例えば、公知の活性エネルギー線硬化型樹脂、又は公知の活性エネルギー線硬化型樹脂を２種類以上混合して調製したもの、紫外線硬化性ハードコート材として市販されているものを用いることができる。
【００２３】
光重合開始剤は、紫外線（ＵＶ）等の活性エネルギー線によりハードコート層用塗液を硬化させて塗膜を形成する際の重合開始剤として用いられる。光重合開始剤としては、活性エネルギー線照射により重合を開始するものであれば特に限定されず、公知の化合物を使用できる。例えば、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、２，２−ジメトキシ１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。
【００２４】
塗液の溶媒は、この種の反射防止フィルム等において各層形成用の塗液に従来から使用されている公知のものであれば特に制限は無く、例えばアルコール系、ケトン系、エステル系の溶媒が適時選択できる。
【００２５】
更に、ハードコート層は、その他添加剤を含有していても良い。その他の添加剤としては、屈折率調整用の無機粒子、帯電防止剤、表面調整剤等が挙げられる。帯電防止剤としては、ＡＴＯ微粒子、ＩＴＯ微粒子などのような導電性金属酸化物微粒子や、ＰＥＤＯＴのような導電性ポリマーや、４級アンモニウム塩などの界面活性剤を使用することができる。表面調整剤としては、ポリジメチルシロキサンなどのシリコン系レベリング剤や、アクリル系レベリング剤を使用することができる。
【００２６】
〔中屈折率層〕
次に、中屈折率層について説明する。中屈折率層は、後述する高屈折率層との有意な屈折率差及び後述の低屈折率層との有意な屈折率差により、反射防止効果を発現させるための層である。中屈折率層の屈折率は、ハードコート層及び低屈折率層よりも高く、かつ、高屈折率層よりも低く設定される。中屈折率層の屈折率は、１．５７〜１．６３の範囲内のものが好ましい。中屈折率層の屈折率が１．５７未満の場合、或いは１．６３を超える場合には、中屈折率層と他の層との屈折率差から生じる干渉のバランスが悪くなり、反射スペクトルをフラットにすることが困難となる。
【００２７】
また、ハードコート層の屈折率をｎＨＣ、膜厚をｄＨＣ、中屈折率層の屈折率をｎＭ、膜厚をｄＭとした場合、下記（１）及び（２）が成り立つように設定される。
ｎＭ-ｎＨＣ≧０．０５・・・（１）
４５０ｎｍ/４ｎＭ＜ｄＭ＜５６０ｎｍ/４ｎＭ・・・（２）
ｎＭ-ｎＨＣ＜０．０５となる場合、ハードコート層との屈折率差が小さくなることで、ハードコート層と中屈折率層界面での反射光と中屈折率層と高屈折率層界面での反射光の強め合うような干渉が弱くなるため、反射防止性能が十分に発揮されない。また、反射スペクトルがフラットにならず（Ｗ字型になってしまう）、反射色の色ムラが目立ってしまう。また、ｄＭを４５０ｎｍ/４ｎＭ以下とすると、ハードコート層と中屈折率層界面での反射光と中屈折率層と高屈折率層界面での反射光の最もの強め合う波長（最大反射率波長）域が３８０ｎｍ以下となってしまうため、中屈折率層上へ高屈折率層及び低屈折率層を設けた際に、反射率を効果的に下げることが困難となる。また、ｄＭが５６０ｎｍ/４ｎＭ以上の場合、ハードコート層と中屈折率層界面での反射光と中屈折率層と高屈折率層界面での反射光の最も強め合う波長（最大反射率波長）域が７８０ｎｍ以上となってしまうため、中屈折率層上へ高屈折率層及び低屈折率層を設けた際に、反射率を効果的に下げることが困難となる。
【００２８】
〔中屈折率層形成用組成物〕
中屈折率層は、前記中屈折率層の屈折率の範囲において、従来より反射防止フィルム等に用いられる公知のものであれば特に制限されず、ベースとなる有機材料に、屈折率調整用の無機材料を適宜添加したものを用いることができる。
【００２９】
例えば、重合硬化したものの屈折率が１．６〜１．８の重合性単量体を含む組成物に、屈折率調整用の無機材料として、例えば酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化シラン、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化錫、ＩＴＯ等の微粒子を添加すればよい。中でも、導電性や帯電防止能の観点より、酸化錫、酸化アンチモン及びＩＴＯ等の微粒子が好ましい。重合硬化した後の屈折率が１．６〜１．８となる重合性単量体としては、２−ビニルナフタレン、４−ブロモスチレン、９−ビニルアントラセン等が挙げられる。
【００３０】
また、多官能ウレタンアクリレートまたは多官能（メタ）アクリレートと金属酸化物微粒子とを含む混合物も好適に使用される。多官能ウレタンアクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどが挙げられる。このような材料における市販されているものとしては、日本合成化学工業（株）製の紫光ＵＶ７６００Ｂ、ＵＶ７６３０、ＵＶ７６４０Ｂが挙げられる。
【００３１】
多官能（メタ）アクリレートとしては、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することにより硬化反応を生じる樹脂を使用でき、その種類は特に制限されない。この多官能（メタ）アクリレートとしては、例えばジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ビス（３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン等の多官能アルコール（メタ）アクリル誘導体や、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、さらに紫外線硬化性ハードコート材として市販されているもの等が挙げられる。
【００３２】
中屈折率層を構成する材料は、その上にオーバーコートされる高屈折率層と同じ材料で配合されることが、中屈折率層と高屈折率層の層間の密着性を高めることができるため、好ましい。例えば、高屈折率層が酸化チタン及びウレタンアクリレートの組成物で形成される場合、中屈折率層に使用される組成物も酸化チタンとウレタンアクリレートの混合物で形成される方が好ましい。
【００３３】
中屈折率層形成用組成物には、本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分として各種添加剤を添加することができる。そのような添加剤としては、例えば、光重合開始剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤及びレベリング剤等の添加剤が挙げられる。
【００３４】
光重合開始剤としては、紫外線照射による重合開始能を有するものであれば何れでもよい。例えば、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、２，２−ジメトキシ１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。これらの光重合開始剤は単独又は混合物として用いることができる。
【００３５】
〔高屈折率層〕
次に、高屈折率層について説明する。高屈折率層は、前述した中屈折率層との有意な屈折率差及び後述の低屈折率層との有意な屈折率差により、反射防止効果を発現させるための層である。高屈折率層の屈折率は、ハードコート層及び中屈折率層及び低屈折率層のいずれの層よりも高く設定される。
【００３６】
高屈折率層の屈折率は、１．７７〜１．８３の範囲内のものが好ましい。高屈折率層の屈折率が１．７７未満の場合、或いは１．８３を超える場合には、中屈折率層と他の層との屈折率差から生じる干渉のバランスが悪くなり、反射スペクトルをフラットにすることが困難となる。
【００３７】
また、高屈折率層の屈折率をｎＨ、膜厚をｄＨとした場合、下記（３）が成り立つように設定される。
４５０ｎｍ/２ｎＨ＜ｄＨ＜５６０ｎｍ/２ｎＨ・・・（３）
ｄＨを４５０ｎｍ/２ｎＭ以下とすると、高屈折率層を設けた際に最小反射率波長（反射率が最小となる光の波長）が３８０ｎｍ以下となってしまい、低屈折率層を設けた際に可視光領域の反射率が単調増加になるような反射スペクトルとなってしまうため、反射スペクトルをフラットにすることが困難となる。一方、ｄＨが５６０ｎｍ/２ｎＭ以上の場合、高屈折率層を設けた際に最小反射率波長（反射率が最小となる光の波長）が６５０ｎｍ以上となってしまい、低屈折率層を設けた際に可視光領域の反射率が単調減少になるような反射スペクトルとなってしまうため、反射スペクトルをフラットにすることが困難となる。
【００３８】
〔高屈折率層形成用組成物〕
高屈折率層は、前記高屈折率層の屈折率の範囲において、従来より反射防止フィルム等に用いられる公知のものであれば特に制限されず、ベースとなる有機材料に、屈折率調整用の無機材料を適宜添加したものを用いることができる。ベースとなる有機材料や屈折率調整用の無機材料としては、中屈折率層と同様のものを使用でき、これらの材料の組み合わせや配合バランスにより、求める屈折率に調整すればよい。
【００３９】
高屈折率層を構成する材料は、その下地としてコートされる中屈折率層と同じ材料で配合されることが、中屈折率層と高屈折率層の層間の密着性を高めることができるため、好ましい。例えば、中屈折率層が酸化チタン及びウレタンアクリレートの組成物で形成される場合、高屈折率層に使用される組成物も酸化チタンとウレタンアクリレートの混合物で形成される方が好ましい。
【００４０】
高屈折率層形成用組成物には、本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分として各種添加剤を添加することができる。そのような添加剤としては、例えば、中屈折率層と同様の光重合開始剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤及びレベリング剤等の添加剤が挙げられる。
【００４１】
〔低屈折率層〕
次に、低屈折率層について説明する。低屈折率層の屈折率は、ハードコート層、中屈折率層、及び高屈折率層の屈折率より低く設定されることを要件とし、その屈折率は１．２９〜１．３７の範囲である。該屈折率が１．２９未満の場合には十分に硬い層を形成することが困難である。その一方、屈折率が１．３７を超える場合には十分な視感度反射率を得ることが難しい。
【００４２】
〔低屈折率層用樹脂組成物〕
低屈折率層用樹脂組成物は、（ａ）Ｃ２〜Ｃ７のパーフルオロアルキル鎖を含有する（メタ）アクリレートと、（ｂ）アクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン又はアクリル基を有するポリエステル変性ポリジメチルシロキサンと、（ｃ）（ａ）成分及び（ｂ）成分と共重合可能な重合性二重結合をもつ含フッ素化合物と、（ｄ）中空シリカ微粒子と、（ｅ）光重合開始剤とからなる。なお、（ｂ）成分の含有量は（ａ）成分の含有量より少ない。
【００４３】
〔（ａ）成分〕
Ｃ２〜Ｃ７のパーフルオロアルキル鎖を含有する（メタ）アクリレートは、防汚性機能を発現するためのものであり、低屈折率層表面を触った際の指紋の付着性を弱めることができる。Ｃ２〜Ｃ７のパーフルオロアルキル鎖を含有する（メタ）アクリレートとしては、具体的には、ダイキン工業（株）製オプツールＤＡＣ−ＨＰ，ＤＩＣ（株）製メガファックＲＳ−７５等が挙げられる。
【００４４】
Ｃ２〜Ｃ７のパーフルオロアルキル鎖を含有する（メタ）アクリレートは、低屈折率層用樹脂組成物中に５．０〜１５．０質量％含まれる。含有量が５．０質量％未満では、低屈折率層表面を触った際の指紋の付着性を効果的に弱めることが出来ない。一方、１５.０質量％を超えると、指紋の拭取り性が悪化する。
【００４５】
〔（ｂ）成分〕
アクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン又はアクリル基を有するポリエステル変性ポリジメチルシロキサンは、低屈折率層表面に付着した指紋の拭取り性を良好とすることが出来る。アクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン又はアクリル基を有するポリエステル変性ポリジメチルシロキサンとしては、具体的には、ビックケミー・ジャパン（株）製ＢＹＫ−ＵＶ  ３５００，ＢＹＫ−ＵＶ  ３５３０，ＢＹＫ−ＵＶ  ３５７０等が挙げられる。
【００４６】
アクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン又はアクリル基を有するポリエステル変性ポリジメチルシロキサンは、低屈折率層用樹脂組成物中に、２．０〜８．０質量％含まれる。含有量が２．０質量％未満では、低屈折率層表面に付着した指紋の拭取り性が向上しない。一方、８．０質量％を越えると、低屈折率層表面を触った際の指紋の付着性を弱めることが出来ない。
【００４７】
〔（ｃ）成分〕
（ａ）成分及び（ｂ）成分と共重合可能な重合性二重結合をもつ含フッ素化合物は、低屈折率層へ硬度を付与する事が出来る。（ａ）成分及び（ｂ）成分と共重合可能な重合性二重結合をもつ含フッ素化合物は、低屈折率層用樹脂組成物中に９．０〜７０．０質量％含まれる。含有量が９．０質量％未満では、低屈折率層の硬度不足や、透過率の低下が生じる。一方、７０．０質量％を越えると、指紋の拭取り性が向上しない。
【００４８】
（ａ）成分及び（ｂ）成分と共重合可能な重合性二重結合をもつ含フッ素化合物としては、特に制限されるものではないが、例えば含フッ素単官能（メタ）アクリレート、含フッ素多官能（メタ）アクリレート、含フッ素イタコン酸エステル、含フッ素マレイン酸エステル等の単量体、それらの重合体、及び重合性二重結合をもつ含フッ素反応性ポリマー等が挙げられる。
【００４９】
含フッ素単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば１−（メタ）アクリロイロキシ−１−パーフルオロアルキルメタン、１−（メタ）アクリロイロキシ−２−パーフルオロアルキルエタン等が挙げられる。パーフルオロアルキル基は炭素数１〜８の直鎖状、分枝状又は環状のものが挙げられる。
【００５０】
含フッ素多官能（メタ）アクリレートとしては、含フッ素２官能（メタ）アクリレート、含フッ素３官能（メタ）アクリレート及び含フッ素４官能（メタ）アクリレートが好ましい。含フッ素２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−３−パーフルオロアルキルブタン、２−ヒドロキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロアルキル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナート、α，ω−ジ（メタ）アクリロイルオキシメチルパーフルオロアルカン等が挙げられる。パーフルオロアルキル基は炭素数１〜１１の直鎖状、分枝状又は環状のものが、パーフルオロアルカン基は直鎖状のものが好ましい。これらの含フッ素２官能（メタ）アクリレートは、使用に際して単独又は混合物として用いることができる。
【００５１】
含フッ素３官能（メタ）アクリレートの例としては、例えば、２−（メタ）アクリロイルオキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロアルキル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナート等が挙げられる。パーフルオロアルキル基は炭素数１〜１１の直鎖状、分枝状又は環状のものが好ましい。
【００５２】
含フッ素４官能（メタ）アクリレートの例としては、α，β，ψ，ω−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−αＨ，αＨ，βＨ，γＨ，γＨ，χＨ，χＨ，ψＨ，ωＨ，ωＨ−パーフルオロアルカン等が好ましい。パーフルオロアルカン基は炭素数１〜１４の直鎖状のものが好ましい。使用に際しては、含フッ素４官能（メタ）アクリレートは、単独又は混合物として用いることができる。
【００５３】
また、重合性二重結合をもつ含フッ素反応性ポリマーとしては、含フッ素エチレン性モノマーに由来する主鎖を有し、架橋硬化のための反応性基をもつものである。反応性基としては、（メタ）アクリロイルオキシ基、α−フルオロアクリロイルオキシ基、エポキシ基等が挙げられる。このような溶媒可溶性で重合性二重結合をもつ含フッ素反応性ポリマーは高分子量であるため、フッ素を含有しながらも成膜性が良好で、成膜後に反応性基を利用して架橋硬化することで硬化層を得ることができる。
【００５４】
係る重合性二重結合をもつ含フッ素反応性ポリマーは、重合性二重結合をもつ基の含有率が通常１〜２０質量％、好ましくは５〜１５質量％であり、また質量（重量）平均分子量が通常１，０００〜５００,０００、好ましくは３，０００〜２００,０００である。具体的な含フッ素反応性ポリマーとしては、下記一般式（１）で示されるパーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサノネノール）を、下記一般式（２）で示される過酸化物で重合させて得られるホモポリマーに、α−フルオロアクリル酸フルオライド：ＣＨ2＝ＣＦＣＯＦを反応させて水酸基をフルオロアクリレートに置換した生成物が挙げられる。
【化１】
2015055659.tif 000002
【化２】
2015055659.tif 000003
【００５５】
〔（ｄ）成分〕
中空シリカ微粒子は、屈折率を積極的に低くするために配合されるものである。中空シリカ微粒子の屈折率は製法によって異なるが、１．２５〜１．３７であることが好ましい。中空シリカ微粒子としては、屈折率を低くするものであれば特に限定されず、公知の中空シリカ微粒子を使用できる。具体的には、日揮触媒化成（株）製アクリル修飾中空シリカ微粒子スルーリア４３２０等が挙げられる。
【００５６】
中空シリカ微粒子は、低屈折率層中に２２．０〜８３．０質量％含まれることが好ましい。シリカ微粒子の含有量が２２．０質量％未満では、低屈折率層の屈折率を後述の範囲とすることが出来ない。一方、シリカ微粒子の含有量が８３．０質量％より多いと、塗膜強度が弱くなるため好ましくない。
【００５７】
〔（ｅ）成分〕
光重合開始剤は、紫外線（ＵＶ）等の活性エネルギー線により低屈折率層用塗液を硬化させて塗膜を形成する際の重合開始剤として用いられる。光開始剤としては、活性エネルギー線照射により重合を開始するものであれば特に限定されず、公知の化合物を使用できる。例えば、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、２，２−ジメトキシ１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。
【００５８】
光重合開始剤は、低屈折率層用樹脂組成物中に１．０〜１０．０質量％含まれる。光重合開始剤の含有量が１．０質量％未満では、低屈折率層の硬化が不十分となる。一方、光重合開始剤の含有量が１０．０質量％を超えると、光重合開始剤が不必要に多くなり好ましくない。なお、上記（ａ）〜（ｅ）成分の合計含有量は１００質量％である。
【００５９】
〔ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層の形成〕
ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層の形成方法は特に制限されず、例えばドライコーティング法、ウェットコーティング法等の塗布方法により各塗液を透明基材フィルム上に順に塗布し、硬化させる方法を採用することができる。塗布方法としては、生産性や生産コストの面より、特にウェットコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法は公知の方法でよく、例えばロールコート法、ダイコート法、スピンコート法、そしてディップコート法等が代表的なものとして挙げられる。これらの中では、ロールコート法等、連続的に塗膜を形成できる方法が生産性の点より好ましい。形成された塗膜は、加熱や紫外線、電子線等の活性エネルギー線照射によって硬化反応を行うことにより硬化被膜を形成することができる。
【００６０】
＜反射防止フィルムの利用＞
本実施形態の反射防止フィルムは、高い防汚性、かつ、高い反射防止効果を求められる用途に好適に用いることができる。特に、電子画像表示装置の表面に使用することができる。電子画像表示装置としては、例えばタッチネル、電子黒板、プラズマディスプレイ、液晶表示装置、有機ＥＬディスプレイ等が挙げられる。そして、その画面表面に直接、又は画面の前面に配置される板に接着層を介して密着させて用いることができる。
【実施例】
【００６１】
（ハードコート層用塗液α１の調製）
ハードコート層塗液は、紫外線硬化型樹脂として日本合成化学工業（株）製、紫光ＵＶ７６００Ｂ〕を１００質量部、帯電防止剤としてジメチルアミノエチルアクリレート塩化メチル（ＣＨ２＝Ｃ（Ｈ）ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｋＮ＋（ＣＨ３）３・Ｃｌ−）６０質量部とブチルメタクリレート４０質量部よりなる４級アンモニウム塩系共重合体を５質量部、光重合開始剤としてＢＡＳＦジャパン（株）製、イルガキュア９０７を５質量部混合し、固形分濃度が４０質量部となるようにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を混合してハードコート層用塗液を得た。
【００６２】
（ハードコート層用塗液α２〜α５の調製）
α１と同じ材料を、表１に示す配合（質量部）にてα1と同様に調整した。なお、製造例α２〜α３には、シリカ微粒子（分散液）として日産化学工業（株）製、ＭＩＢＫ−ＳＴ(固形分濃度３０％、粒子径１５ｎｍ)、酸化チタン微粒子（分散液）としてＣＩＫナノテック（株）製、ＲＴＴＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｎ２４をそれぞれ使用した。
【００６３】
【表１】
2015055659.tif 000004
【００６４】
（中屈折率層用塗液β1の調製）
紫外線硬化型樹脂としてウレタンアクリレート〔分子量１４００、６０℃における粘度が２５００〜４５００Ｐａ・ｓ、日本合成化学工業（株）製、紫光ＵＶ７６００Ｂ〕７６質量部、酸化チタン微粒子（分散液）〔ＣＩＫナノテック（株）製、ＲＴＴＭＥＫ２５ＷＴ％−Ｆ０２〕を固形分換算で２４質量部、光重合開始剤〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕を５質量部、及びメチルエチルケトン５００質量部を混合し、中屈折率層用塗液（含酸化チタン微粒子硬化性塗液）を得た。
【００６５】
（中屈折率層用塗液β２〜β５の調製）
β１と同じ材料を、表２に示す配合（質量部）にてβ1と同様に調整した。
【表２】
2015055659.tif 000005
【００６６】
（高屈折率層用塗液γ1〜γ６の調製）
β１と同じ材料を、表３に示す配合（質量部）にてβ1と同様に調整した。なお、ＤＰＨＡは、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートである。
【表３】
2015055659.tif 000006
【００６７】
（（ｃ）含フッ素化合物δ１の製造）
四つ口フラスコにパーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビスフルオロメチル−３，６−ジオキサノネノール）１０４部とビス（２，２，３，３，４，４５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプタノイル）パーオキサイドの８質量％パーフルオロヘキサン溶液１１部を入れた。そして、その中空部を窒素置換した後、窒素気流下２０℃で２４時間撹拌して高粘度の固体を得た。得られた固体をジエチルエーテルに溶解させたものをパーフルオロヘキサンに注ぎ、分離後に真空乾燥させて無色透明なポリマーを得た。
【００６８】
このポリマーを１９Ｆ−ＮＭＲ（核磁気共鳴スペクトル）、１Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ（赤外線吸収スペクトル）により分析したところ、上記アリルエーテルの構造単位からなる側鎖末端に水酸基を有する含フッ素ポリマーであった。ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフ）により測定した数平均分子量は７２,０００、質量平均分子量は１１８,０００あった。
【００６９】
得られたヒドロキシル基含有含フッ素アリルエーテルポリマー５部とメチルエチルケトン（ＭＥＫ）４３部、ピリジン１部を四つ口フラスコ中に仕込み、５℃以下に氷冷した。そして、窒素気流下で撹拌しながらα−フルオロアクリル酸フルオライド１部をＭＥＫ９部に溶解したものを１０分間かけて滴下した。これにより、（ａ）成分及び（ｂ）成分と共重合可能な重合性二重結合をもつ含フッ素化合物δ１の溶液を得た。
【００７０】
（低屈折率層用組成物ＬＬ１−１の調製）
低屈折率層用組成物ＬＬ１-１は、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を溶媒として、固形分濃度が５質量％となるように、（ａ）Ｃ２〜Ｃ７のパーフルオロアルキル鎖を含有する（メタ）アクリレート〔信越化学工業（株）製、ＤＡＣ−ＨＰ〕５．０質量％と、（ｂ）アクリル基を有するポリエステル変性ポリジメチルシロキサン〔ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫＵＶ−３５７０〕４．０質量％と、（ｃ）溶媒可溶性の含フッ素反応性ポリマー（δ１）を固形分換算で４３質量％と、（ｄ）粒子径が６０ｎｍの中空シリカ微粒子〔日輝触媒化成工業株式会社製、スルーリア４３２０〕４３質量％と、（ｅ）光重合開始剤〔ＢＡＳＦジャパン株式会社製、イルガキュア９０７（Ｉ−９０７）〕５質量％とを混合して得た。
【００７１】
（低屈折率層用組成物ＬＬ１−２〜ＬＬ１−１３（実施例用）の調製）
表４に示す配合（質量％）にて、ＬＬ１−１と同様に調整した。なお、（ａ）成分である「ＲＳ−７５」は、ＤＩＣ（株）製のＣ２〜Ｃ７のパーフルオロアルキル鎖を含有する（メタ）アクリレートである。また、（ｂ）成分であるＢＹＫＵＶ−３５００及びＢＹＫＵＶ−３５３０は、ビックケミー・ジャパン（株）製のアクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンである。また、（ｅ）成分であるＩ−１８４は、ＢＡＳＦジャパン株式会社製のイルガキュア１８４である。
【表４】
2015055659.tif 000007
【００７２】
（低屈折率層用組成物ＬＬ２−１〜ＬＬ２−１２（比較例用）の調製）
表５に示す配合（質量％）にて、ＬＬ１−１と同様に調整した。なお、（ａ）成分である「Ｆ−５５８」は、ＤＩＣ（株）製のＣ２〜Ｃ７のパーフルオロアルキル鎖を含有する（メタ）アクリレートである。また、（ｂ）成分であるＢＹＫＵＶ３３１は、ビックケミー・ジャパン（株）製のアクリル基を有さないポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンである。
【表５】
2015055659.tif 000008
【００７３】
（実施例１−１）
ハードコート層形成用組成物〔α１〕を、透明基材フィルムとして厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上にロールコーターにて乾燥膜厚が４μｍとなるように塗布し、８０℃で２分間乾燥した。なお、上記乾燥膜厚が実質的にハードコート層の膜厚である。その後、１２０Ｗ高圧水銀灯〔日本電池（株）製〕により紫外線を照射し（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２）、ハードコート層形成用組成物を硬化させてハードコート層を形成した。このハードコート層の屈折率は１．５３であった。
【００７４】
次いで、このハードコート層上に製造例β１で製造された高屈折率層形成用組成物を、乾燥時の厚さが８６nｍとなるように塗布した後、窒素雰囲気下で紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、１２０Ｗ高圧水銀灯）を用いて３００ｍＪの紫外線を照射し、高屈折率層形成用組成物を硬化させて高屈折率層を形成した。この高屈折率層の屈折率は１．６０であった。
【００７５】
さらに、この中屈折率層上に製造例γ１で製造された高屈折率層形成用組成物を、乾燥時の厚さが１４２nｍとなるように塗布した後、窒素雰囲気下で紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、１２０Ｗ高圧水銀灯）を用いて３００ｍＪの紫外線を照射し、高屈折率層形成用組成物を硬化させて高屈折率層を形成した。この高屈折率層の屈折率は１．８０であった。
【００７６】
最後に、この高屈折率層上に上記低屈折率層用組成物を乾燥時の厚さが９９nｍとなるように塗布した後、窒素雰囲気下で紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、１２０Ｗ高圧水銀灯）を用いて３００ｍＪの紫外線を照射し、低屈折率層用組成物を硬化させて低屈折率層を形成した。この低屈折率層の屈折率は１．３４であった。
【００７７】
（実施例１-２〜１-１９）
表６に示す構成にて、実施例１-１と同様に作製した。
【表６】
2015055659.tif 000009
【００７８】
（比較例1−１〜１−１７）
表７に示す構成にて、実施例１-１と同様に作製した。
【表７】
2015055659.tif 000010
【００７９】
得られた各実施例及び比較例の反射防止フィルムにおいて、指紋拭き取り性、反射する光の着色抑制効果、反射防止特性、物理的特性（カール性）を測定し評価した。その結果も表６及び表７に示す。なお、各項目の測定方法は次の通りである。
【００８０】
＜膜厚＞
膜厚の測定は、光学積層体の断面をＴＥＭ写真で観察することにより行った。
【００８１】
＜屈折率＞
一方の面に易接着層が付与されている屈折率１．６５のＰＥＴフィルム〔商品名：「A4100」、東洋紡（株）製〕を基材として、易接着層が付与されていない面上に測定したい被膜を１００ｎｍ程度の膜厚で形成し、反射分光膜厚計（大塚電子（株）製「ＦＥ３０００」を持いてフィルム上に形成された被膜について２７０〜１０４０nmの範囲で絶対反射率を測定した。得られた絶対反射率のスペクトルの実測値から、代表的な波長分散の近似式としてｎ-Ｃａｕｃｈｙの分散式を引用し、未知のパラメーターを絶対反射率のスペクトル非線形最小二乗法によって求めて、波長５８９nmにおける屈折率を算出した。
【００８２】
＜指紋拭取り性＞
人工指脂液（尿素１ｇ、乳酸４．６ｇ、ピロリン酸ナトリウム８ｇ、食塩７ｇ、エタノール２０ｍＬを蒸留水で１Ｌに希釈したもの）を１滴反射防止フィルム表面に滴下する。その後、日本製紙クレシア（株）製キムワイプを用い、人工指脂液を馴染ませる。続いて、東レ（株）製トレシーを用いて５往復拭取りを実施した後、表面の跡を目視で観察し下記の３段階で評価した。
○：人工指脂液の跡が無い場合
△：人工指脂液の跡が一部残る場合
×：人工指脂液の跡が残る場合
【００８３】
＜視感度反射率＞
測定面の裏面反射を除くため、裏面をサンドペーパーで粗し、黒色塗料で塗り潰したものを分光光度計〔日本分光（株）製、商品名：Ｕ−ｂｅｓｔ５６０〕により、光の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの５°、−５°正反射スペクトルを測定した。得られる光の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳ  Ｚ８７０１で想定されているＸＹＺ表色系における、反射による物体色の三刺激値Ｙを視感度反射率（％）とした。
【００８４】
＜反射色abクロマ及び彩度Cab*＞
測定面の裏面反射を除くため、裏面をサンドペーパーで粗し、黒色塗料で塗り潰したものを分光光度計〔日本分光（株）製、商品名：Ｕ−ｂｅｓｔ５６０〕により、光の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの５°、−５°正反射スペクトルを測定した。得られる光の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳＺ８７２０に規定される色空間ＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*表色系を計算し、求めたa*、b*値から彩度Cab*＝｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2を計算した。
【００８５】
＜４５０〜６５０ｎｍの領域における反射率の最大値と最小値の差＞
測定面の裏面反射を除くため、裏面をサンドペーパーで粗し、黒色塗料で塗り潰したものを分光光度計〔日本分光（株）製、商品名：Ｕ−ｂｅｓｔ５６０〕により、光の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの５°、−５°正反射スペクトルを測定した。得られる光の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの分光反射率の４５０〜６５０NMの領域における反射率の最大値と最小値の差を読み取った。
【００８６】
＜着色抑制効果＞
１０ｃｍ×１０ｃｍサイズのガラス板の片面にアクリル系粘着シートを使用して反射防止フィルムを貼り合せ、もう片方の面に黒色フィルムを貼り合せたサンプルを作製した。このサンプルを、三波長蛍光灯管の下で観察し、裏面の黒色フィルムの黒色が、自然な黒色に見える場合を○、黒色が白茶けたり、反射防止フィルムの着色がきつく、黒っぽく見えない場合を× として評価した。
【００８７】
＜耐擦傷性＞
反射防止フィルム表面を#0000のスチールウールに250gfの荷重をかけて、ストローク幅25mm、速度30mm/secで１０往復摩擦したあとの表面を目視で観察し、以下の○、×で評価した。※スチールウールは約10mmφにまとめ、表面が均一になるようにカット、摩擦して均したものを使用した。
◎：傷が0〜10本    ○：傷が11本から20本    ×：傷が21本以上
【００８８】
＜カール性試験＞
１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズの反射防止フィルムを作成し、反射防止フィルムを水平面に置いた際の４隅のカール高さを測定し、下記の基準により判定する。
○：カール高さが２０ｍｍ未満
△：カール高さが２０ｍｍ以上５０ｍｍ未満
×：カール高さが５０ｍｍ以上
【００８９】
＜表面抵抗率＞
ＪＩＳ Ｋ ６９１１−１９９５に準拠して、デジタル絶縁計〔東亜ディーケーケー（株）製、ＳＭ−８２２０〕を用いて測定した。
【００９０】
表６の結果より、各実施例の反射防止フィルムは、指紋拭き取り性が良好で、ＪＩＳＺ８７２０に基づくＣＩＥ標準イルミナントＤ６５に対するＪＩＳＺ８７０１に基づく視感度反射率Ｙが０．５％以下であり、光の波長５００〜６５０ｎｍの領域における反射率の最大値と最小値の差が１％以下であり、かつＪＩＳＺ８７２０に基づくＣＩＥ標準イルミナントＤ６５に対するＪＩＳＺ８７２９に基づくａｂクロマＣａｂ＊＝｛（ａ＊）２＋（ｂ＊）２｝１／２が１０以下であったため、着色抑制効果が良好であり、さらに、耐擦傷性も良好であった。また、表面抵抗率が１０１２Ω/□未満であるために、埃が付着しにくく、また、カール性も良好であった。
【００９１】
これに対し表７の結果より、比較例１−１〜１−９は、それぞれ下記の理由により指紋拭き取り性が悪い。
比較例１-１：（a）成分の含有量が少ない。
比較例１-２：（a）成分の含有量が多い。
比較例１-３：（b）成分がない。
比較例１-４：（b）成分の含有量が少ない。
比較例１-５：（b）成分の含有量が多い。
比較例１-６：（b）成分の含有量が多く、かつ、（ｂ）＞(a)。
比較例１-７：(a)成分の含有量と（b成分の含有量が同じ（(a)＞（b）ではない）。
比較例１-８：(a)成分の含有量が（b）成分の含有量より少ない。
比較例１-９：(a)成分の含有量と（b成分の含有量が同じ（(a)＞（b）ではない）。
【００９２】
比較例１-１０〜１-１３は、それぞれ下記の理由により耐擦傷性が弱い。
比較例１-１０：（e)が入っていない。
比較例１-１１：重合性基のない(a)を使用している。
比較例１-１２：重合性基のない(b)を使用している。
【００９３】
比較例１-１３〜１-１７は、それぞれ下記の理由により着色抑制効果が小さい。
比較例１-１３：中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の膜厚が薄い。
比較例１-１４：中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の膜厚が厚い。
比較例１-１５：ハードコート層と中屈折率層の屈折率差が０．０５より小さい。
比較例１-１６：ハードコ-ト層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の屈折率が低い。
比較例１-１７：ハードコ-ト層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の屈折率が高い。