(57)【要約】【課題】本発明は、板状体の表面に局所的に発生する研磨筋の凹凸のばらつきを均一化させて、板状体の表面全面における平坦度を向上させる板状体の研磨装置、板状体の研磨方法、及び板状体の製造方法を提供する。【解決手段】研磨装置２０の研磨具２２は、ガラス板Ｇの幅Ｗよりも小さい直径Ｄ１で構成され、自転され、かつ公転されながらガラス板Ｇの表面を研磨する。研磨具２２は、ガラス板Ｇの移動中心線Ｌを基準として対を成して配置され、移動方向に沿って位置をずらした千鳥状に配置され、各々の研磨具２２が移動中心線Ｌを越えてガラス板Ｇを研磨する。対を成す一対の研磨具２２が研磨具ユニット２４として構成される。最後列の研磨具ユニット２４Ａの研磨具２２Ａ、２２Ｂの公転軸Ｐ４の位置が、ガラス板Ｇの移動方向に対する他の研磨具ユニット２４の各研磨具２２、２２の公転軸Ｐ４の位置に対してずらされる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状体を所定の方向に移動させながら、自転及び公転する複数の円形の研磨具を前記板状体の表面に押し付けて板状体の表面を連続研磨する板状体の研磨装置であって、前記板状体の幅よりも直径が小さい前記研磨具が、前記板状体の移動中心線を基準として対を成して配置された研磨具ユニットを備え、前記研磨具ユニットが、前記板状体の移動方向に沿って複数列備えられた板状体の研磨装置において、
前記板状体の移動方向の終点に配置された最後列の研磨具ユニット、及び前記最後列の研磨具ユニットに隣接して前記移動方向の上流側に配置された複数列の研磨具ユニットのうち、後段の研磨具ユニットの少なくとも一つの研磨具ユニットの研磨具の公転軸の位置が、前記板状体の移動方向に対する他の研磨具ユニットの研磨具の公転軸の位置に対してずらされていることを特徴とする板状体の研磨装置。
【請求項２】
板状体を所定の方向に移動させながら、自転及び公転する複数の円形の研磨具を前記板状体の表面に押し付けて板状体の表面を連続研磨する板状体の研磨装置であって、前記板状体の幅よりも直径が小さい複数の前記研磨具が、前記板状体の移動方向に直交する方向又は移動方向に傾斜した方向に並設された研磨具ユニットを備え、前記研磨具ユニットが、前記板状体の移動方向に沿って複数列備えられた板状体の研磨装置において、
前記板状体の移動方向の終点に配置された最後列の研磨具ユニット、及び前記最後列の研磨具ユニットに隣接して前記移動方向の上流側に配置された複数列の研磨具ユニットのうち、後段の研磨具ユニットの少なくとも一つの研磨具ユニットの研磨具の公転軸の位置が、前記板状体の移動方向に対する他の研磨具ユニットの研磨具の公転軸の位置に対してずらされていることを特徴とする板状体の研磨装置。
【請求項３】
前記少なくとも一つの研磨具ユニットは、前記最後列の研磨具ユニットを含む少なくとも一つの研磨具ユニットである請求項１又は２に記載の板状体の研磨装置。
【請求項４】
前記少なくとも一つの研磨具ユニットの前記板状体に対する研磨圧力が、前記他の研磨具ユニットの研磨圧力よりも低圧に設定される請求項１、２又は３に記載の板状体の研磨装置。
【請求項５】
前記少なくとも一つの研磨具ユニットの隣接する二つの研磨具の公転軸の間隔が、前記他の研磨具ユニットの隣接する二つの研磨具の公転軸の間隔よりも狭い請求項１から４のいずれか１項に記載の板状体の研磨装置。
【請求項６】
前記少なくとも一つの研磨具ユニットの複数の研磨具のうち、両側に配置された一対の研磨具の公転軸が、前記他の研磨具ユニットの複数の研磨具のうち、両側に配置された一対の研磨具の公転軸よりも、前記板状体の移動中心線に近接して配置される請求項１から５のいずれか１項に記載の板状体の研磨装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の板状体の研磨装置を使用して板状体の表面を研磨することを特徴とする板状体の研磨方法。
【請求項８】
請求項７に記載の板状体の研磨方法を備えたことを特徴とする板状体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、板状体の研磨装置、板状体の研磨方法、及び板状体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
板状体、特に、液晶表示装置、プラズマディスプレイ装置、有機ＥＬ表示装置等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ：Flat Panel Display）用のガラス板は、その製造方法の一例として、フロート法と称される製造方法によって製造される。この製造方法は、溶融ガラスをフロートバスにて帯状ガラス板に成形する成形工程、及び帯状ガラス板を所定サイズの矩形状のガラス板に切断する切断工程等を備える。
【０００３】
成形工程では、フロートバスの表面性状に起因してガラス板の表面に微小な凹凸や筋状のうねりが発生する。このため、切断工程の後工程に、ガラス板の表面を研磨する研磨工程が備えられている。
【０００４】
研磨工程の研磨装置によって、ガラス板の表面の微小な凹凸やうねりが除去される。これによって、ＦＰＤ用のガラス板に要求される平坦度を満足した、厚さ０．０５〜２．０ｍｍのガラス板に製造される。
【０００５】
ガラス板の研磨装置としては、特許文献１、２等に開示された連続式研磨装置が知られている。
【０００６】
特許文献１の連続式研磨装置は、ガラス板を保持してガラス板を水平方向に移動させるテーブル、及びテーブルの移動経路の上方で、移動方向に沿って配置された複数の円形の研磨具（研磨パッド）を備える。特許文献１では、ガラス板の幅よりも直径が大きな研磨具を、ガラス板の移動方向に沿って配置した連続式研磨装置、及びガラス板の幅よりも直径が小さい複数の研磨具を、ガラス板の移動方向に沿って千鳥状に配置（zigzag alignment）した連続式研磨装置が開示されている。また、研磨具が、発泡ポリウレタンによって構成される点も特許文献１に開示されている。
【０００７】
特許文献２の連続式研磨装置は、ガラス板を吸着保持したテーブルを、移動手段によって連続的に研磨装置に移動させ、研磨装置の複数の円形の研磨具によってガラス板の表面全面を研磨する。
【０００８】
また、特許文献２では、ガラス板の表面欠点の多い部位と、少ない部位とを研磨レーンとして分別し、それぞれの研磨レーンにおいて所望の研磨量となるように複数の研磨具を分散して配置することが開示されている。
【０００９】
なお、ガラス板の表面の疵（凹凸）、平坦度は、特許文献３に開示された検査装置によって検査することができる。
【００１０】
一方、近年の傾向である表示サイズの大型化、表示性能の高品位化に伴い、ＦＰＤ用のガラス板は、より高度な平坦度が要求されている。つまり、ガラス板の表面には電気回路が組み込まれるため、その表面にわずかな疵があっても色ムラ（Color Unevenness）が発生するからである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２０１１−８３８８８号公報
【特許文献２】ＷＯ２０１１／７４６１５号公報
【特許文献３】特許第４６４５０６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、特許文献１、２に開示された連続式研磨装置では、自転及び公転する円形の研磨具によって、ガラス板の表面に微細な凹凸の研磨筋（疵）が形成されるという問題があった。
【００１３】
図５は、ガラス板Ｇの表面に形成された第１の研磨筋Ａ及び第２の研磨筋Ｂと一対の円形の研磨具１、１との位置関係を模式的に示した平面図である。一対の円形の研磨具１、１は、ガラス板Ｇの幅よりも直径が小さく、ガラス板Ｇの移動方向に沿って千鳥状に配置され、自転及び公転している。
【００１４】
研磨筋は２種類に分類され、第１の研磨筋Ａは、ガラス板Ｇの矢印Ｘで示す移動方向に沿って形成され、第２の研磨筋Ｂは、移動方向に直交する方向に沿って形成される。すなわち、連続式研磨装置では、研磨具１の無数の接線のうち、移動方向に平行な方向の第１の接線Ｃに沿って第１の研磨筋Ａが形成され、そして、移動方向に直交する方向の第２の接線Ｄに沿って第２の研磨筋Ｂが形成されるという特性を有する。第１の接線Ｃ及び第２の接線Ｄ以外の接線に沿った研磨筋は、ガラス板Ｇが研磨具１を通過した際に略消去される、または、研磨筋Ａ、Ｂに比べて小さい。
【００１５】
このような研磨筋Ａ、Ｂは微細ではあるが、近年の高度な平坦度化の要求を満足するためには、研磨筋Ａ、Ｂの発生を阻止する必要があった。
【００１６】
本発明は、前記のような問題に鑑みてなされたものであり、板状体の表面に局所的に発生する研磨筋の凹凸のばらつきを均一化させて、板状体の表面全面における平坦度を向上させる板状体の研磨装置、板状体の研磨方法、及び板状体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本願発明者は、複数の研磨具が千鳥状に配置された従来の連続式研磨装置において、板状体の移動中心線に対し、移動中心線に直交する方向における複数の全ての研磨具の公転軸の位置が一定である点に着目し、これに起因して研磨筋が局所的に形成されることを突き止めた。
【００１８】
前記目的を達成する本発明の一態様は、板状体を所定の方向に移動させながら、自転及び公転する複数の円形の研磨具を前記板状体の表面に押し付けて板状体の表面を連続研磨する板状体の研磨装置であって、前記板状体の幅よりも直径が小さい前記研磨具が、前記板状体の移動中心線を基準として対を成して配置された研磨具ユニットを備え、前記研磨具ユニットが、前記板状体の移動方向に沿って複数列備えられた板状体の研磨装置において、前記板状体の移動方向の終点に配置された最後列の研磨具ユニット、及び前記最後列の研磨具ユニットに隣接して前記移動方向の上流側に配置された複数列の研磨具ユニットのうち、後段の研磨具ユニットの少なくとも一つの研磨具ユニットの研磨具の公転軸の位置が、前記板状体の移動方向に対する他の研磨具ユニットの研磨具の公転軸の位置に対してずらされていることを特徴とする板状体の研磨装置を提供する。
【００１９】
本発明の一態様は、板状体の幅よりも直径が小さい円形の研磨具が、板状体の移動中心線を基準として対を成して配置された研磨具ユニットを有する研磨装置を対象としている。
【００２０】
前記目的を達成する本発明の一態様は、板状体を所定の方向に移動させながら、自転及び公転する複数の円形の研磨具を前記板状体の表面に押し付けて板状体の表面を連続研磨する板状体の研磨装置であって、前記板状体の幅よりも直径が小さい複数の前記研磨具が、前記板状体の移動方向に直交する方向又は移動方向に傾斜した方向に並設された研磨具ユニットを備え、前記研磨具ユニットが、前記板状体の移動方向に沿って複数列備えられた板状体の研磨装置において、前記板状体の移動方向の終点に配置された最後列の研磨具ユニット、及び前記最後列の研磨具ユニットに隣接して前記移動方向の上流側に配置された複数列の研磨具ユニットのうち、後段の研磨具ユニットの少なくとも一つの研磨具ユニットの研磨具の公転軸の位置が、前記板状体の移動方向に対する他の研磨具ユニットの研磨具の公転軸の位置に対してずらされていることを特徴とする板状体の研磨装置を提供する。
【００２１】
本発明の一態様は、板状体の幅よりも直径が小さい円形の研磨具が、板状体の移動方向に直交する方向又は移動方向に傾斜した方向に並設された研磨具ユニットを有する研磨装置を対象としている。
【００２２】
上記二つの態様の研磨装置において、後段の研磨具ユニットの少なくとも一つの研磨具ユニットの研磨具の公転軸の位置が、板状体の移動方向に対する他の研磨具ユニットの研磨具の公転軸の位置に対してずらされている。よって、他の研磨具ユニットに起因して局所的に形成される研磨筋は、前記少なくとも一つの研磨具ユニットによって研削される。これにより、局所的に発生する研磨筋の凹凸のばらつきが均一化されるので、板状体の表面全面における平坦度が向上する。
【００２３】
本発明の一態様は、前記少なくとも一つの研磨具ユニットは、前記最後列の研磨具ユニットを含む少なくとも一つの研磨具ユニットであることが好ましい。
【００２４】
本発明の一態様によれば、仕上げ用の研磨具ユニットに相当する、最後列の研磨具ユニットを含む少なくとも一つの研磨具ユニット（以下、「仕上げ用の研磨具ユニット」ともいう。）の公転軸の位置が、板状体の移動方向に対する他の研磨具ユニットの公転軸の位置に対してずらされている。よって、他の研磨具ユニットに起因して局所的に形成された研磨筋は、仕上げ用の研磨具ユニットよって研削される。これにより、局所的に発生する研磨筋の凹凸のばらつきが均一化されるので、板状体の表面全面における平坦度が向上する。
【００２５】
本発明の一態様は、前記少なくとも一つの研磨具ユニットの前記板状体に対する研磨圧力が、他の研磨具ユニットの研磨圧力よりも低圧に設定されることが好ましい。
【００２６】
本発明の一態様によれば、前記少なくとも一つの研磨具ユニットの研磨圧力を、他の研磨具ユニットの研磨圧力よりも低圧に設定することにより、前記少なくとも一つの研磨具ユニットによって板状体の表面を仕上げ加工（鏡面加工等）することができる。なお、前記少なくとも一つの研磨具ユニットの研磨圧力を、他の研磨具ユニットの研磨圧力に対して４０％以上に設定すれば、研磨筋を良好に研削でき、研磨筋の凹凸のばらつきを均一化できる。また、前記少なくとも一つの研磨具ユニットの研磨圧力が、他の研磨具ユニットの研磨圧力未満の場合には、前記少なくとも一つの研磨具ユニットによって新たな研磨筋が発生し難くなる。
【００２７】
本発明の一態様は、前記少なくとも一つの研磨具ユニットの隣接する二つの研磨具の公転軸の間隔が、前記他の研磨具ユニットの隣接する二つの研磨具の公転軸の間隔よりも狭いことが好ましい。
【００２８】
本発明の一態様は、前記少なくとも一つの研磨具ユニットの複数の研磨具のうち、両側に配置された一対の研磨具の公転軸が、前記他の研磨具ユニットの複数の研磨具のうち、両側に配置された一対の研磨具の公転軸よりも、前記板状体の移動中心線に近接して配置されることが好ましい。
【００２９】
前記目的を達成するために本発明は、本発明の板状体の研磨装置を使用して板状体の表面を研磨することを特徴とする板状体の研磨方法を提供する。
【００３０】
本発明の一態様によれば、板状体の表面に局所的に発生する研磨筋の凹凸のばらつきを均一化させることができるので、板状体の表面全面における平坦度が向上する。
【００３１】
前記目的を達成するために本発明は、本発明の板状体の研磨方法を備えたことを特徴とする板状体の製造方法を提供する。
【００３２】
本発明の一態様によれば、本発明の研磨方法によって、板状体の表面に局所的に発生する研磨筋の凹凸のばらつきを均一化させることができるので、板状体の表面全面における平坦度が向上する。
【００３３】
本願明細書に記載した「後段の研磨具ユニット」とは、研磨装置の下流側半分に配置された複数の研磨具ユニットを指し、前段の研磨具ユニットとは、研磨装置の上流側半分に配置された複数の研磨具ユニットを指す。つまり、例えば、研磨具ユニットの数が１６の場合、上流側半分の１番目から８番目の研磨具ユニットが前段の研磨具ユニットになり、９番目から１６番目の研磨具ユニットが後段の研磨具ユニットになる。また、研磨具ユニットの数が１５の場合には、上流側の１番目から７番目の研磨具ユニットが前段の研磨具ユニットになり、８番目から１６番目の研磨具ユニットが後段の研磨具ユニットになる。
【００３４】
したがって、「後段の研磨具ユニットの少なくとも一つの研磨具ユニット」とは、研磨具ユニットの数が１６の場合、９番目から１６番目の研磨具ユニットのうちの少なくとも一つの研磨具ユニットとなる。すなわち、「最後列の研磨具ユニットを含む少なくとも一つの研磨具ユニット」に限定されるものではなく、その上位概念に相当するものである。
【発明の効果】
【００３５】
本発明によれば、後段の研磨具ユニットの少なくとも一つの研磨具ユニットの公転軸の位置を、板状体の移動方向に対する他の研磨具ユニットの公転軸の位置に対してずらしたので、局所的に発生する研磨筋の凹凸のばらつきを均一化でき、板状体の表面全面における平坦度が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】第１の実施形態の研磨装置の後段部分の要部平面図
【図２】従来の連続式研磨装置とガラス板の研磨状態とを模式的に示した平面図
【図３】図１に示した研磨装置とガラス板の研磨状態とを模式的に示した平面図
【図４】第２の実施形態の研磨装置の後段部分の要部平面図
【図５】ガラス板の表面に形成された研磨筋と研磨具との位置関係を示した模式図
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、添付図面に従って本発明に係る板状体の研磨装置、板状体の研磨方法、及び板状体の製造方法の好ましい実施形態について詳説する。
【００３８】
以下に説明する実施形態の研磨装置は、ＦＰＤ用のガラス板を製造する製造装置に組み込まれる連続式研磨装置である。
【００３９】
〔ガラス板の製造装置（製造工程）〕
ガラス板の製造装置は、製造工程の上流側から下流側に向かって、溶融ガラスを帯状ガラス板に成形する成形装置（成形工程）、帯状ガラス板を所定サイズの矩形状のガラス板に切断する切断装置（切断工程）、ガラス板の縁部を研削する研削装置（面取り工程）、ガラス板の表面を研磨する実施形態の研磨装置（研磨工程）、洗浄装置（洗浄工程）、及び検査装置（検査工程）等を備えて構成される。
【００４０】
そして、実施形態のガラス板の製造装置及び製造方法によれば、以下述べる実施形態の研磨装置及び研磨方法を備えることにより、溶融ガラスから、ＦＰＤ用のガラス板に要求される厚さ（例えば、０．０５〜２．０ｍｍ）及び平坦度を満足したガラス板を製造できる。
【００４１】
〔研磨対象のガラス板〕
研磨対象のガラス板としては、大型（例えば、一辺が１０００ｍｍ以上）であり、そのなかでも第７世代（１９００×２２００ｍｍ）以上のガラス板であることが好ましい。すなわち、第８世代（２２００ｍｍ×２４００ｍｍ）、第９世代（２４００ｍｍ×２８００ｍｍ）、及び第１０世代（２８００ｍｍ×３０００ｍｍ）のガラス板であっても適用できる。
【００４２】
〔第１の実施形態の研磨装置２０の構成〕
図１は、第１の実施形態の研磨装置２０の後段部分の要部平面図である。
【００４３】
研磨装置２０を構成する複数の円形の研磨具２２、２２…は、ガラス板Ｇの幅Ｗよりも小さい直径Ｄ１で構成され、自転機構（不図示）によって回転軸Ｐ３を中心に回転され、かつ公転機構（不図示）によって公転軸Ｐ４を中心に公転されながらガラス板Ｇの表面を研磨する。
【００４４】
ガラス板Ｇは、テーブル１４に接着された吸着シート（不図示）にその裏面が吸着保持される。そしてガラス板Ｇは、テーブル１４を図１の矢印Ｘ方向（ガラス板Ｇの移動方向）に水平移動させる不図示の移動手段によって所定の速度で連続的に水平移動される。そして、ガラス板Ｇの表面は、水平移動中に移動経路の上方に設置された複数の研磨具２２、２２…に押圧当接され、自転及び回転する研磨具２２、２２…によって、ＦＰＤ用のガラス板に要求される厚さ及び平坦度に順次研磨される。
【００４５】
研磨具２２は、ガラス板Ｇの移動中心線Ｌを基準として対を成して配置されるとともに、移動方向に沿って位置をずらした千鳥状に配置され、各々の研磨具２２が移動中心線Ｌを越えてガラス板Ｇを研磨する。そして、対を成す一対の研磨具２２、２２が研磨具ユニット２４として構成され、この研磨具ユニット２４が、テーブル１４によるガラス板Ｇの移動方向に沿って１０〜２０列程度、好ましくは１４〜１６列程度（１ユニット＝１列）配置されている。
【００４６】
ところで、従来の研磨装置では、複数の全ての研磨具ユニットの研磨具が千鳥状に規則的に配置されていたため、ガラス板Ｇの表面に局所的に研磨筋が形成されていた（図５参照）。
【００４７】
これに対して、研磨装置２０では、局所的に形成される研磨筋の発生を阻止するために、後段の研磨具ユニットの少なくとも一つの研磨具の配置位置を、他の研磨具ユニットの配置位置に対してずらしている。
【００４８】
すなわち、研磨装置２０では、仕上げ用の研磨具ユニットに相当する、最後列の研磨具ユニット２４Ａの研磨具２２Ａ、２２Ｂの配置位置が、他の研磨具ユニット２４、２４…の各研磨具２２、２２の規則的な配置位置に対してずらされている。つまり、ガラス板Ｇの移動方向に直交する方向における研磨具２２Ａの公転軸Ｐ４と研磨具２２Ｂの公転軸Ｐ４との間隔Ｊが、他の研磨具ユニット２４の研磨具２２の公転軸Ｐ４と研磨具２２の公転軸Ｐ４との間隔Ｋよりも狭く設定されている。また、研磨具２２Ａ、２２Ｂの公転軸Ｐ４、Ｐ４が、研磨具ユニット２４の研磨具２２、２２の公転軸Ｐ４、Ｐ４よりも、移動中心線Ｌに近接して配置されている。
【００４９】
具体的には、研磨対象のガラス板ＧがＧ８サイズのものである場合、研磨具２２Ａの公転軸Ｐ４と研磨具２２Ｂの公転軸Ｐ４との間隔Jが、Ｇ７サイズのガラス板を研磨するのに最適な間隔に設定される。
【００５０】
更に具体的には、
ガラス板Ｇのサイズ：Ｇ８
研磨具２２、２２Ａ、２２Ｂの直径：１２００ｍｍ〜１７５０ｍｍ、好ましくは１５００ｍｍ〜１７５０ｍｍ
研磨具２２、２２Ａ、２２Ｂの公転半径Ｒ：５０ｍｍ〜１００ｍｍ、好ましくは７０ｍｍ〜８０ｍｍ
研磨具ユニット２４の研磨具２２、２２の間隔Ｋ：１０００ｍｍ〜１３００ｍｍ、好ましくは７００ｍｍ〜１３００ｍｍ
ガラス板Ｇの移動中心線Ｌを基準として対を成して配置された一方の研磨具２２と他方の研磨具２２との研磨時における重なり量が１００ｍｍ以上
研磨具２２の研磨時における移動中心線Ｌからのはみ出し量の最小値をＱ、最大値をＳとした時、２５ｍｍ≦Ｑ≦１００ｍｍ、１７５ｍｍ≦Ｓ≦２５０ｍｍ
において、研磨具ユニット２４Ａの研磨具２２Ａ、２２Ｂの間隔Ｊが５００〜８００ｍｍに設定されている。
【００５１】
上記研磨具ユニット２４の設定によって、研磨具ユニット２４では、研磨具２２の自公転の合成方向変化が小さくなるので、ガラス板Ｇに付く研磨模様が目立ち難くなり、かつ研磨具ユニット２４の研磨具２２、２２の継ぎ目（エッジ）において生じる研磨ムラを抑えることができる。そして、上記研磨具ユニット２４Ａの設定によって、以下に述べるように、ガラス板Ｇの表面全面における平坦度が向上するという効果が得られる。
【００５２】
〔第１の実施形態の研磨装置２０の特徴〕
第１の実施形態の研磨装置２０は、ガラス板Ｇの幅Ｗよりも直径Ｄ１が小さい円形の研磨具２２が、ガラス板Ｇの移動中心線Ｌを基準として対を成して配置された連続式研磨装置を対象としている。
【００５３】
この研磨装置２０において、仕上げ用の研磨具ユニットに相当する、最後列の研磨具ユニット２４Ａの研磨具２２Ａの公転軸Ｐ４と研磨具２２Ｂの公転軸Ｐ４との間隔Ｊが、他の研磨具ユニット２４の研磨具２２の公転軸Ｐ４と研磨具２２の公転軸Ｐ４との間隔Ｋに対して狭くなるようにずらされている。
【００５４】
したがって、他の研磨具ユニット２４の研磨具２２に起因して局所的に形成された研磨筋の凹凸が、仕上げ用の研磨具ユニット２４Ａの研磨具２２Ａ、２２Ｂによって研削される。この研磨方法によって、局所的に発生する研磨筋の凹凸のばらつきが均一化されるので、ガラス板Ｇの表面全面における平坦度が向上する。
【００５５】
また、研磨具２２Ａ、２２Ｂの公転軸Ｐ４、Ｐ４を、研磨具２２、２２の公転軸Ｐ４、Ｐ４よりも移動中心線Ｌに近接して配置したので、ガラス板Ｇの表面全面における平坦度が更に向上する。
【００５６】
図２は、従来の連続式研磨装置とガラス板Ｇの表面の研磨状態とを模式的に示した平面図である。すなわち、図２には、全ての研磨具ユニット２４の研磨具２２、２２の公転軸Ｐ４の間隔が間隔Ｋに設定された従来の連続式研磨装置が開示され、かつ、この連続式研磨装置によって研磨されたガラス板Ｇの表面の研磨状態が示されている。
【００５７】
図２のガラス板Ｇの表面において、濃い黒色の斑な部分が研磨筋の発生個所であり、エリアＥ、Ｆに示す箇所に凹凸の大きい研磨筋が発生している。この研磨筋は、研磨具２２の接線のうち、矢印Ｘで示すガラス板Ｇの移動方向に直交する方向の第２の接線Ｄ（図５参照）に沿って形成されたものである。なお、ガラス板Ｇの研磨筋は、特許文献３に開示された検査装置によって検査した。
【００５８】
図３は、図１に示した研磨装置２０とガラス板Ｇの表面の研磨状態とを模式的に示した平面図である。すなわち、図３には、最後列の研磨具ユニット２４Ａの研磨具２２Ａ、２２Ｂの間隔が間隔Ｊに設定された連続式研磨装置が開示され、かつ、この連続式研磨装置によって研磨されたガラス板Ｇの表面の研磨状態が示されている。
【００５９】
図３の研磨具ユニット２４Ａの研磨具２２Ａ、２２Ｂによって、図２に示したガラス板ＧのエリアＥ、Ｆに存在する凹凸の大きい研磨筋が研削される。これにより、図３のガラス板Ｇの表面には、研磨筋を示す濃い黒色の斑な部分がほとんど存在しない。したがって、研磨具ユニット２４Ａの研磨具２２Ａ、２２Ｂによって、局所的に発生する研磨筋の凹凸のばらつきが均一化されるので、ガラス板Ｇの表面全面における平坦度が向上する。
【００６０】
また、仕上げ用の研磨具２２Ａ、２２Ｂの研磨圧力を、他の研磨具２２の研磨圧力よりも低圧に設定することが好ましい。これにより、研磨具２２Ａ、２２Ｂよってガラス板Ｇの表面全面を仕上げ加工（鏡面加工等）できる。具体的には、研磨具２２Ａ、２２Ｂの研磨圧力を、他の研磨具２２の研磨圧力に対して４０％以上に設定することが好ましい。これにより、研磨筋を良好に研削でき、研磨筋の凹凸のばらつきを均一化できる。また、仕上げ用の研磨具２２Ａ、２２Ｂの研磨圧力が他の研磨具２２の研磨圧力未満の場合には、研磨具２２Ａ、２２Ｂによって新たな研磨筋が発生し難くなる。
【００６１】
なお、第１の実施形態では、最後列の研磨具ユニット２４Ａの研磨具２２Ａ、２２Ｂの間隔Ｊのみを変更したが、これに限定されるものではなく、最後列の研磨具ユニット２４Ａ及び研磨具ユニット２４Ａに隣接して移動方向の上流側に配置された複数の研磨具ユニット２４のうち、最後列の研磨具ユニット２４Ａを含む少なくとも一つの研磨具ユニットの公転軸Ｐ４の位置がずらされていれば、同様の効果を奏する。また、後段の研磨具ユニット２４のうち少なくとも一つの研磨具ユニット２４の公転軸Ｐ４の位置をずらしても、同様の効果を奏する。
【００６２】
また、間隔Ｊは、前記数値に限定されるものではなく、研磨筋を研磨具２２Ａ、２２Ｂによって研削できる間隔であればよい。
【００６３】
〔第２の実施形態の研磨装置〕
〔第２の実施形態の研磨装置３０の構成〕
図４は、第２の実施形態の研磨装置３０の後段部分の要部平面図である。
【００６４】
研磨装置３０を構成する複数の円形の研磨具３２、３２…は、ガラス板Ｇの幅Ｗよりも小さい直径Ｄ２で構成され、自転機構（不図示）によって回転軸Ｐ５を中心に回転され、かつ公転機構（不図示）によって公転軸Ｐ６を中心に公転されながらガラス板Ｇの表面を研磨する。
【００６５】
ガラス板Ｇは、テーブル１４に接着された吸着シート（不図示）にその裏面が吸着保持される。そしてガラス板Ｇは、テーブル１４を図４の矢印Ｘ方向（ガラス板Ｇの移動方向）に水平移動させる不図示の移動手段によって所定の速度で連続的に水平移動される。そして、ガラス板Ｇの表面は、水平移動中に移動経路の上方に設置された複数の研磨具３２、３２…に押圧当接され、自転及び回転する研磨具３２、３２…によって、ＦＰＤ用のガラス板に要求される厚さ及び平坦度に順次研磨される。
【００６６】
研磨装置３０は、ガラス板Ｇの移動中心線Ｌに対して傾斜した方向に複数台（図４では３台）配置されて構成される研磨具ユニット３４を複数備える。また、１つの研磨具ユニット３４において、３台の研磨具３２、３２、３２を公転させて各々の研磨エリアを重複させることにより、ガラス板Ｇの表面全面が研磨される。
【００６７】
そして、複数の研磨具ユニット３４が、ガラス板Ｇの移動方向に沿って１０〜２０列程度、好ましくは１４〜１６列程度（１ユニット＝１列）配置されている。
【００６８】
ところで、従来の研磨装置では、複数の全ての研磨具ユニットの研磨具が規則的に配置されていたため、ガラス板Ｇの表面に局所的に研磨筋が形成されていた（図５参照）。
【００６９】
これに対して、研磨装置３０では、局所的に形成される研磨筋の発生を阻止するために、一部の研磨具ユニットの研磨具の配置位置を他の研磨具ユニットの配置位置に対してずらしている。
【００７０】
すなわち、研磨装置３０では、仕上げ用の研磨具ユニットに相当する、最後列の研磨具ユニット３４Ａの研磨具３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃの公転軸Ｐ６の位置が、他の研磨具ユニット３４の研磨具３２、３２、３２の公転軸Ｐ６の位置に対してずらされている。つまり、ガラス板Ｇの移動方向に直交する方向における研磨具３２Ａの公転軸Ｐ６と研磨具３２Ｂの公転軸Ｐ６との間隔Ｎ、及び研磨具３２Ｂの公転軸Ｐ６と研磨具３２Ｃの公転軸Ｐ６との間隔Ｎが、他の研磨具ユニット３４の研磨具３２の公転軸Ｐ６と研磨具３２の公転軸Ｐ６との間隔Ｍよりも狭く設定されている。
【００７１】
また、研磨具ユニット３４Ａの３台の研磨具３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃのうち、外側に配置された研磨具３２Ａ、３２Ｃの公転軸Ｐ４、Ｐ４が、研磨具ユニット３４の３台の研磨具３２のうち、外側に配置された２台の研磨具３２、３２の公転軸Ｐ４、Ｐ４よりも、移動中心線Ｌに近接して配置されている。
【００７２】
〔第２の実施形態の研磨装置３０の特徴〕
第２の実施形態の研磨装置３０は、ガラス板Ｇの幅Ｗよりも直径Ｄ２が小さい円形の研磨具３２が、ガラス板Ｇの移動中心線Ｌに対して傾斜して並列配置された連続式研磨装置を対象としている。
【００７３】
この研磨装置３０において、仕上げ用の研磨具ユニットに相当する、最後列の研磨具ユニット３４Ａの研磨具３２Ａの公転軸Ｐ６と研磨具３２Ｂの公転軸Ｐ６との間隔Ｎ、及び研磨具３２Ｂの公転軸Ｐ６と研磨具３２Ｃとの公転軸Ｐ６の間隔Ｎが、他の研磨具ユニット３４の研磨具３２の公転軸Ｐ６と研磨具３２の公転軸Ｐ６との間隔Ｍに対して狭くなるようにずらされている。
【００７４】
したがって、他の研磨具ユニット３４、３４…に起因して局所的に形成された研磨筋の凹凸が、仕上げ用の研磨具ユニット３４Ａの研磨具３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃによって研削される。この研磨方法によって、局所的に発生する研磨筋の凹凸のばらつきが均一化されるので、ガラス板Ｇの表面全面における平坦度が向上する。
【００７５】
また、研磨具３２Ａ、３２Ｃの公転軸Ｐ４、Ｐ４を、研磨具ユニット３４の３台の研磨具３２のうち、外側に配置された２台の研磨具３２、３２の公転軸Ｐ４、Ｐ４よりも、移動中心線Ｌに近接して配置したので、ガラス板Ｇの表面全面における平坦度が更に向上する。
【００７６】
仕上げ用の研磨具ユニット３４Ａの研磨圧力を、他の研磨具ユニット３４の研磨圧力よりも低圧に設定することが好ましい。これにより、仕上げ用の研磨具ユニット３４Ａによってガラス板Ｇの表面全面を仕上げ加工（鏡面加工等）できる。具体的には、仕上げ用の研磨具ユニット３４Ａの研磨圧力を、他の研磨具ユニット３４の研磨圧力に対して４０％以上に設定することが好ましい。これにより、研磨筋を良好に研削でき、研磨筋の凹凸のばらつきを均一化できる。また、仕上げ用の研磨具ユニット３４Ａの研磨圧力が他の研磨具ユニット３４の研磨圧力未満の場合には、研磨具ユニット３４Ａによって新たな研磨筋が発生し難くなる。
【００７７】
なお、第２の実施形態では、最後列の研磨具ユニット３４Ａの間隔Ｎのみを変更したが、これに限定されるものではなく、最後列の研磨具ユニット３４Ａ及び研磨具ユニット３４Ａに隣接して移動方向の上流側に配置された複数の研磨具ユニット３４、３４…のうち、最後列の研磨具ユニット３４Ａを含む少なくとも一つの研磨具ユニットの各研磨具の間隔が変更されていれば、同様の効果を奏する。また、後段の研磨具ユニット３４のうち少なくとも一つの研磨具ユニット３４の公転軸Ｐ４の位置をずらしても、同様の効果を奏する。
【００７８】
更に、研磨具ユニット３４を構成する複数の研磨具３２、３２…を移動中心線Ｌに対して直交する方向に配置してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００７９】
本発明の板状体の研磨装置は、建材用やミラー用等の一般的なガラス板にも適用でき、金属製又は樹脂製の板状体であっても適用可能である。
【符号の説明】
【００８０】
Ｇ…ガラス板、１０…研磨装置、１２…研磨具、１２Ａ…研磨具、１４…テーブル、２０…研磨装置、２２…研磨具、２２Ａ…研磨具、２２Ｂ…研磨具、２４…研磨具ユニット、２４Ａ…研磨具ユニット、３０…研磨装置、３２…研磨具、３２Ａ…研磨具、３２Ｂ…研磨具、３２Ｃ…研磨具、３４…研磨具ユニット、３４Ａ…研磨具ユニット
【図１】
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【図４】
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【図５】
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【図２】
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【図３】
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