(57)【要約】【課題】パターン形成後に得られた電極上に塗布されるインクの隔壁開口内部全面の塗れ広がりの良好な感光性樹脂組成物を提供することにある。【解決手段】感光性樹脂組成物であって、電極が形成された基板上に前記感光性樹脂組成物を供給し、前記基板を９００ｒｐｍで７秒間回転させて前記感光性樹脂組成物からなる薄膜を形成し、前記薄膜が形成された基板を、６６Ｐａで減圧乾燥した後に１１０℃で１１０秒間プリベークし、次に、前記電極の表面が露出するように、前記プリベーク後の薄膜に２００ｍＪ／ｃｍ２で露光し、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて２３℃で８０秒間現像するフォトリソグラフィー法によって前記薄膜に開口を形成したときの、前記薄膜の開口部に露出された電極の表面自由エネルギーの極性成分の値が、１５ｍＮ／ｍ以上となる感光性樹脂組成物。【選択図】図１
2015179257.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性樹脂組成物であって、
電極が形成された基板上に前記感光性樹脂組成物を供給し、前記基板を９００ｒｐｍで７秒間回転させて前記感光性樹脂組成物からなる薄膜を形成し、前記薄膜が形成された基板を、６６Ｐａで減圧乾燥した後に１１０℃で１１０秒間プリベークし、次に、前記電極の表面が露出するように、前記プリベーク後の薄膜に２００ｍＪ／ｃｍ２で露光し、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて２３℃で８０秒間現像するフォトリソグラフィー法によって前記薄膜に開口を形成したときの、前記薄膜の開口部に露出された電極の表面自由エネルギーの極性成分の値が、１５ｍＮ／ｍ以上となる感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記感光性樹脂組成物は、下記（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を含む、請求項１記載の感光性樹脂組成物。
（Ａ）下記式［ｉ］で示される基を含む構造単位を有する樹脂
2015179257.tif 000029
［ｉ］
（式［ｉ］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨＯ、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、−ＣＯＲ７、−ＣＯＯＲ７、−ＯＣＯＲ７、または-ＯＲ７を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、少なくとも１つが、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＨまたは−ＣＨＯである。Ｒ７は、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜５のアルコキシアルキル基、アリール基またはベンジル基を表す。)
（Ｂ）重合性化合物
（Ｃ）重合開始剤
【請求項３】
前記構成単位が下記式［ｉｉ］で表される請求項２記載の感光性樹脂組成物。
2015179257.tif 000030
（式［ｉｉ］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、前述と同じ意味を表し、Ｒ６は、水素原子、メチル基またはエチル基を表す。）
【請求項４】
前記重合開始剤が光重合開始剤であり、ラジカル重合によって前記重合性化合物が重合する請求項２または請求項３記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５の少なくとも一つは、−ＣＯＯＨまたは−ＯＨであり、その他は水素原子である、請求項２〜４のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
撥液剤をさらに含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項７】
前記撥液剤が、炭素数４から６のペルフルオロアルキル基を有する不飽和化合物に由来する構造単位を含む重合体である請求項６記載の感光性樹脂組成物。
【請求項８】
前記電極が形成された基板は、スパッタリング装置にＩＴＯターゲットを装着し、加熱室にて３００℃に加熱後、スパッタ室にて、電力１．０５ｋＷ、アルゴンガス圧力０．６Ｐａ、成膜時間１１５秒にて、基板上に透明導電膜ＩＴＯを５０ｎｍ成膜し、さらに成膜後の基板を、大気中で２３０℃、３０分間アニール処理したＩＴＯ付きガラス基板である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物により形成した隔壁。
【請求項１０】
請求項９に記載の隔壁および電極を備える基板。
【請求項１１】
請求項１０に記載の基板を備える表示装置。
【請求項１２】
電極が形成された基板上に、感光性樹脂組成物を供給し、前記基板を９００ｒｐｍで７秒間回転させて前記感光性樹脂組成物からなる薄膜を形成する工程、
前記薄膜が形成された基板を、６６Ｐａで減圧乾燥した後に１１０℃で１１０秒間プリベークする工程、
前記電極の表面が露出するように、前記プリベーク後の薄膜に２００ｍＪ／ｃｍ２で露光し、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて２３℃で８０秒間現像するフォトリソグラフィー法によって前記薄膜に開口を形成する工程、および、
前記薄膜の開口部に露出された電極の表面自由エネルギーの極性成分の値に基づいて、電極のぬれ性を評価する工程を含む、基板評価方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は感光性樹脂組成物、隔壁、基板、表示装置および基板評価方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の表示装置等では、カラーフィルタ、液晶表示素子のＩＴＯ電極、有機ＥＬ表示素子、回路配線基板等が、インクジェット法などの塗布法により作製される。このような塗布法を用いて素子を形成する方法において、感光性樹脂組成物を用いて形成された隔壁が利用されている。
【０００３】
たとえば、電極が形成された基板上において、前記感光性樹脂組成物からなる薄膜を成膜した後に、前記電極の表面が露出するように、フォトリソグラフィー法によって前記薄膜に開口を形成することによって、電極上に開口を備える隔壁を設け、その後、隔壁の開口内に、薄膜材料を含むインクを滴下し、これを加熱乾燥等することによって、電極上に所定の薄膜を形成している。
【０００４】
このような感光性樹脂組成物としては、例えば、炭素数４〜６のフルオロアルキル基を有するα位置換アクリレートを重合して得られる重合体を含む感光性樹脂組成物が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−７３６０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のように、感光性樹脂組成物は、電極上に一旦成膜された後に、パターニングの際に電極上から除去されるものの、電極表面のインクに対する塗れ性は、感光性樹脂組成物の種類に応じて変化する。そのため、感光性樹脂組成物の種類によっては、電極上に供給されたインクが、電極上を塗れ広がらない場合があり、従来から提案されている感光性樹脂組成物では、隔壁開口内における電極上のインクの塗れ広がりについて、必ずしも十分に満足できない場合があった。したがって本発明の目的は、パターン形成後に得られた電極上に塗布されるインクの隔壁開口内部全面の塗れ広がりの良好な感光性樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、以下の［１］〜［１２］を提供するものである。
［１］感光性樹脂組成物であって、
電極が形成された基板上に前記感光性樹脂組成物を供給し、前記基板を９００ｒｐｍで７秒間回転させて前記感光性樹脂組成物からなる薄膜を形成し、前記薄膜が形成された基板を、６６Ｐａで減圧乾燥した後に１１０℃で１１０秒間プリベークし、次に、前記電極の表面が露出するように、前記プリベーク後の薄膜に２００ｍＪ／ｃｍ２で露光し、２．３８質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて２３℃で８０秒間現像するフォトリソグラフィー法によって前記薄膜に開口を形成したときの、前記薄膜の開口部に露出された電極の表面自由エネルギーの極性成分の値が、１５ｍＮ／ｍ以上となる感光性樹脂組成物。
【０００８】
［２］前記感光性樹脂組成物は、下記（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を含む、［１］記載の感光性樹脂組成物。
（Ａ）下記式［ｉ］で示される基を含む構造単位を有する樹脂
2015179257.tif 000003
［ｉ］
（式［ｉ］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨＯ、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、−ＣＯＲ７、−ＣＯＯＲ７、−ＯＣＯＲ７、または-ＯＲ７を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、少なくとも１つが、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＨまたは−ＣＨＯである。Ｒ７は、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜５のアルコキシアルキル基、アリール基またはベンジル基を表す。)
（Ｂ）重合性化合物
（Ｃ）重合開始剤
【０００９】
［３］前記構成単位が下記式［ｉｉ］で表される［２］記載の感光性樹脂組成物。
2015179257.tif 000004
（式［ｉｉ］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、前述と同じ意味を表し、Ｒ６は、水素原子、メチル基またはエチル基を表す。）
【００１０】
［４］前記重合開始剤が光重合開始剤であり、ラジカル重合によって前記重合性化合物が重合する［２］または［３］記載の感光性樹脂組成物。
【００１１】
［５］前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５の少なくとも一つは、−ＣＯＯＨまたは−ＯＨであり、その他は水素原子である、［２］〜［４］のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【００１２】
［６］撥液剤をさらに含む、［１］〜［５］のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【００１３】
［７］前記撥液剤が、炭素数４から６のペルフルオロアルキル基を有する不飽和化合物に由来する構造単位を含む重合体である［６］記載の感光性樹脂組成物。
【００１４】
［８］前記電極が形成された基板は、スパッタリング装置にＩＴＯターゲットを装着し、加熱室にて３００℃に加熱後、スパッタ室にて、電力１．０５ｋＷ、アルゴンガス圧力０．６Ｐａ、成膜時間１１５秒にて、基板上に透明導電膜ＩＴＯを５０ｎｍ成膜し、さらに成膜後の基板を、大気中で２３０℃、３０分間アニール処理したＩＴＯ付きガラス基板である、［１］〜［７］のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【００１５】
［９］［１］〜［８］のいずれかに記載の感光性樹脂組成物により形成した隔壁。
【００１６】
［１０］［９］に記載の隔壁および電極を備える基板。
【００１７】
［１１］［１０］に記載の基板を備える表示装置。
【００１８】
［１２］電極が形成された基板上に感光性樹脂組成物を供給し、前記基板を９００ｒｐｍで７秒間回転させて前記感光性樹脂組成物からなる薄膜を形成する工程、
前記薄膜が形成された基板を、６６Ｐａで減圧乾燥した後に１１０℃で１１０秒間プリベークする工程、
前記電極の表面が露出するように、前記プリベーク後の薄膜に２００ｍＪ／ｃｍ２で露光し、２．３８質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて２３℃で８０秒間現像するフォトリソグラフィー法によって前記薄膜に開口を形成する工程、および、
前記薄膜の開口部に露出された電極の表面自由エネルギーの極性成分の値に基づいて、電極のぬれ性を評価する工程を含む、基板評価方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の感光性樹脂組成物によれば、パターン形成後に、電極上に塗布されるインクの隔壁開口内部全面の塗れ広がりに優れた隔壁付き基板を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】表示装置１の一部を拡大して模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の一実施形態の表示装置１の一部を拡大して模式的に示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の感光性樹脂組成物は、電極が形成された基板上に前記感光性樹脂組成物を供給し、前記基板を９００ｒｐｍで７秒間回転させて前記感光性樹脂組成物からなる薄膜を形成し、前記薄膜が形成された基板を、６６Ｐａで減圧乾燥した後に１１０℃で１１０秒間プリベークし、次に、前記電極の表面が露出するように、前記プリベーク後の薄膜に２００ｍＪ／ｃｍ２で露光し、２．３８質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて２３℃で８０秒間現像するフォトリソグラフィー法によって前記薄膜に開口を形成したときの、前記薄膜の開口部に露出された電極の表面自由エネルギーの極性成分の値が、１５ｍＮ／ｍ以上となる感光性樹脂組成物である。
【００２２】
このような感光性樹脂組成物を用いて、電極が形成された基板上に隔壁を形成した場合、電極上に形成すべき薄膜材料を含むインクを電極上に塗布すると、インクが電極上で弾かれずに、電極上を塗れ広がるため、これを乾燥等によって固化することにより、隔壁の開口内の全面において、平坦な薄膜を形成することができる。
【００２３】
開口形成後の薄膜の開口部に露出された電極の表面自由エネルギーの極性成分の値は、１５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましいが、１５．５ｍＮ／ｍ以上であることがさらに好ましい。
【００２４】
塗れ性の観点からは、開口形成後の薄膜の開口部に露出された電極の表面自由エネルギーの極性成分の値は、その上限値を特に設定する必要はないが、通常、５０ｍＮ／ｍ以下であり、さらには４０ｍＮ／ｍ以下である。
【００２５】
本発明の感光性樹脂組成物中の樹脂としては、開口形成後の薄膜の開口部に露出された電極の表面自由エネルギーの極性成分の値が１５ｍＮ／ｍ以上であればとくに限定されないが、たとえば、一般的に用いられるアクリル樹脂、ポリイミド樹脂、シクロオレフィン樹脂、エポキシ樹脂等が例示され、これらの中でも、アクリル樹脂、エポキシ樹脂が好ましい。
【００２６】
感光性樹脂組成物は、下記（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を含むことが好ましい。
（Ａ）下記式［ｉ］で示される基を含む構造単位を有する樹脂
2015179257.tif 000005
［ｉ］
（Ｂ）重合性化合物
（Ｃ）重合開始剤
【００２７】
樹脂(Ａ）は、前記式[ｉ]で示される基を含む構造単位を有する樹脂であり、該構造単位は、単量体（ａ）（以下、「（ａ）」という場合がある）から導かれる。
【００２８】
（ａ）は、式［ｉ］で示される基とエチレン性不飽和２重結合とを有する単量体であることが好ましい。
【００２９】
また、式[ｉ]で示される基を含む構造単位は、下記式［ｉｉ］で表される構造単位であることが好ましい。すなわち（ａ）から導かれる構造単位は、下記式［ｉｉ］で表される構造単位であることが好ましい。
2015179257.tif 000006
上記式［ｉ］、［ｉｉ］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨＯ、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、−ＣＯＲ7、−ＣＯＯＲ7、−ＯＣＯＲ7、または−ＯＲ７を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、少なくとも１つは、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＨまたは−ＣＨＯである。Ｒ７は、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜５のアルコキシアルキル基、アリール基、またはベンジル基を表す。Ｒ６は、水素原子、メチル基またはエチル基を表す。
【００３０】
さらには、電極表面上の塗れ性の観点からは、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５のうちの少なくとも一つは、−ＣＯＯＨまたは−ＯＨであり、かつ、−ＣＯＯＨまたは−ＯＨとは異なるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、水素原子であることが好ましい。
【００３１】
なお、式［ｉ］、［ｉｉ］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、少なくとも１つが、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＨまたは−ＣＨＯである限りにおいて、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルコキシ基、−ＣＯＯＲ７、−ＯＣＯＲ７、−ＣＯＲ７、−ＣＮ、−ＮＨＲ７、−ＮＲ７Ｒ８、−ＮＯ２、−ＣＯＮＨ２、−ＣＯＮＨＲ７、−ＳＯＲ７または、−ＳＯ２Ｒ７であってもよい。ただし、Ｒ７は、前述と同じ意味をあらわす。Ｒ８は、Ｒ７とは独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜５のアルコキシアルキル基、アリール基、またはベンジル基を表す。
【００３２】
ハロゲン原子としては、Ｃｌ、ＢｒまたはＩが挙げられ、ＣｌまたはＢｒが好ましい。
【００３３】
炭素数１〜８のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ−プロポキシ基、ｎ−ブチル基、t−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、オクチル基が挙げられ、メチル基、またはエチル基が好ましい。
【００３４】
炭素数２〜５のアルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基、プロピルメチル基、プロピルエチル基が挙げられ、メトキシメチル基、メトキシエチル基が好ましい。
【００３５】
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基が例示される。ただし、これに限定される訳ではなく、置換基を有していてもよい。
【００３６】
（ａ）としては、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−メルカプトスチレン、３−メルカプトスチレン、４−メルカプトスチレン、２−ビニルアニリン、３−ビニルアニリン、４−ビニルアニリン、３−ジメチルアミノスチレン、３−ジエチルアミノスチレン、３−モノメチルアミノスチレン、３−モノエチルアミノスチレン、２−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−クロロスチレン、２−ブロモスチレン、３−ブロモスチレン、４−ブロモスチレン、ｏ−ビニル安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸、３−ビニルフタル酸、４−ビニルフタル酸、３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物、３−ビニルフタル酸モノメチルエステル、３−ビニルフタル酸モノエチルエステル、５−ビニルイソフタル酸、５−ビニルイソフタル酸モノメチルエステル、５−ビニルイソフタル酸モノエチルエステル、４−ビニルサリチル酸、５−ビニルサリチル酸、５−ビニルサリチルアルデヒド、５−ビニルアセチルサリチル酸、４−ビニルベンゼンスルホン酸エチル４−ビニルレゾルシノール、４−ビニルレゾルシノールモノメトキシメチルエーテル、４−ビニルレゾルシノールビスメトキシメチルエーテル、４−ビニルレゾルシノールモノメトキシエチルエーテル、４−ビニルレゾルシノールビスメトキシエチルエーテル、４−ビニルベンゾニトリル、４−ビニルベンゼンプロパン酸、４−ビニルベンゼンプロパン酸メチル等が挙げられ、好ましくは、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ビニル安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸である。尚、（ａ）は上記例示に限定される訳ではない。
【００３７】
さらには、本発明の感光性樹脂組成物は、樹脂（Ａ）以外の樹脂（以下「樹脂（Ａ１）」という場合がある）、溶剤（Ｄ）、重合開始助剤（Ｅ）、撥液剤（Ｆ）、界面活性剤（Ｇ）、密着力向上剤（Ｈ）からなる群から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
【００３８】
なお、本明細書においては、各成分として例示する化合物は、特に断りのない限り、単独で又は組合せて使用することができる。
【００３９】
樹脂（Ａ）は、さらに（ａ）以外の単量体（ｘ）（以下「（ｘ）」という場合がある）に由来する構造単位を含んでいてもよい。
【００４０】
（ｘ）としては、（ａ）以外の単量体であって、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有しないものであれば特に限定されないが、例えば、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する単量体（ｂ）（以下「（ｂ）」という場合がある）、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種の単量体（ｅ）（以下「（ｅ）」という場合がある）、その他の単量体（ｃ）（以下「（ｃ）」という場合がある）が挙げられ、これらの中でも、（ｂ）又は（ｃ）が好ましい。
【００４１】
（ｂ）は、炭素数２〜４の環状エーテル構造（例えば、オキシラン環、オキセタン環およびテトラヒドロフラン環からなる群から選ばれる少なくとも１種）を有する単量体であり、好ましくは炭素数２〜４の環状エーテル構造とエチレン性不飽和二重結合とを有する単量体であり、より好ましくは炭素数２〜４の環状エーテル構造と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体である。
【００４２】
（ｂ）としては、例えば、オキシラニル基を有する単量体（ｂ１）（以下「（ｂ１）」という場合がある）、オキセタニル基を有する単量体（ｂ２）（以下「（ｂ２）」という場合がある）、テトラヒドロフリル基を有する単量体（ｂ３）（以下「（ｂ３）」という場合がある）等が挙げられる。
【００４３】
（ｂ１）としては、直鎖状又は分枝鎖状の不飽和脂肪族炭化水素がエポキシ化された構造を有する単量体（ｂ１−１）（以下「（ｂ１−１）」という場合がある）、不飽和脂環式炭化水素がエポキシ化された構造を有する単量体（ｂ１−２）（以下「（ｂ１−２）」という場合がある）が挙げられる。
【００４４】
（ｂ１）としては、オキシラニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましく、不飽和脂環式炭化水素がエポキシ化された構造と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。これらの単量体であると、感光性樹脂組成物の保存安定性に優れる。
【００４５】
（ｂ１−１）としては、具体的には、グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、２，３−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，５−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，６−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，４−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、３，４，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、特開平７−２４８６２５号公報に記載される化合物等が挙げられる。
【００４６】
（ｂ１−２）としては、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン（例えば、セロキサイド２０００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート（例えば、サイクロマーＡ４００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート（例えば、サイクロマーＭ１００；ダイセル化学工業（株）製）、式（Ｉ）で表される化合物、式（ＩＩ）で表される化合物等が挙げられる。
2015179257.tif 000007
［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）において、Ｒ１及びＲ２は、水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子はヒドロキシ基で置換されていてもよい。Ｘ１及びＸ２は、単結合、−Ｒ３−、＊−Ｒ３−Ｏ−、＊−Ｒ３−Ｓ−、＊−Ｒ３−ＮＨ−を表す。Ｒ３は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。＊は、Ｏとの結合手を表す。］
【００４７】
炭素数１〜４のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
【００４８】
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
【００４９】
Ｒ１及びＲ２としては、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基が挙げられる。
【００５０】
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，２−ジイル基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基等が挙げられる。
【００５１】
Ｘ１及びＸ２としては、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、＊−ＣＨ２−Ｏ−（＊はＯとの結合手を表す）基、＊−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−基が挙げられ、より好ましくは単結合、＊−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−基が挙げられる。
【００５２】
式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−１５）のいずれかで表される化合物等が挙げられる。中でも、式（Ｉ−１）、式（Ｉ−３）、式（Ｉ−５）、式（Ｉ−７）、式（Ｉ−９）又は式（Ｉ−１１）〜式（Ｉ−１５）で表される化合物が好ましく、式（Ｉ−１）、式（Ｉ−７）、式（Ｉ−９）又は式（Ｉ−１５）で表される化合物がより好ましい。
【００５３】
2015179257.tif 000008
【００５４】
式（ＩＩ）で表される化合物としては、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−１５）のいずれかで表される化合物等が挙げられる。中でも、式（ＩＩ−１）、式（ＩＩ−３）、式（ＩＩ−５）、式（ＩＩ−７）、式（ＩＩ−９）又は式（ＩＩ−１１）〜式（ＩＩ−１５）で表される化合物が好ましく、式（ＩＩ−１）、式（ＩＩ−７）、式（ＩＩ−９）又は式（ＩＩ−１５）で表される化合物がより好ましい。
【００５５】
2015179257.tif 000009
式（Ｉ）で表される化合物及び式（ＩＩ）で表される化合物は、それぞれ単独で用いても、２種以上を併用してもよい。式（Ｉ）で表される化合物及び式（ＩＩ）で表される化合物を併用する場合、これらの含有比率〔式（Ｉ）で表される化合物：式（ＩＩ）で表される化合物〕はモル基準で、好ましくは５：９５〜９５：５、より好ましくは２０：８０〜８０：２０である。
【００５６】
（ｂ２）としては、オキセタニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましい。（ｂ２）としては、例えば、３−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオキシエチルオキセタン等が挙げられる。
【００５７】
（ｂ３）としては、テトラヒドロフリル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましい。
【００５８】
（ｂ３）としては、具体的には、テトラヒドロフルフリルアクリレート（例えば、ビスコートＶ＃１５０、大阪有機化学工業（株）製）、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等が挙げられる。
【００５９】
（ｅ）としては、不飽和カルボン酸類、不飽和カルボン酸無水物類が挙げられる。
不飽和カルボン酸類としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、１、４−シクロヘキセンジカルボン酸、メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、α−（ヒドロキシメチル）アクリル酸等が挙げられる。
【００６０】
不飽和カルボン酸無水物類としては、無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物等の不飽和ジカルボン酸類無水物等が挙げられる。
【００６１】
（ｃ）としては、（メタ）アクリル酸エステル類、Ｎ−置換マレイミド類不飽和ジカルボン酸ジエステル類、脂環式不飽和化合物類、スチレン類、その他のビニル化合物等が挙げられる。中でも、（メタ）アクリル酸エステル類、スチレン類が好ましい。
【００６２】
（メタ）アクリル酸エステル類としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート等のアルキルエステル類；
【００６３】
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートといわれている。
）、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デセン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート」といわれている。）、イソボルニル（メタ）アクリレート等のシクロアルキルエステル類；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキルエステル類；
フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等のアリール及びアラルキルエステル類等が挙げられる。
【００６４】
（メタ）アクリル酸エステル類の中でも、アルキルエステル類が好ましい。
【００６５】
不飽和ジカルボン酸ジエステル類としては、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等が挙げられる。
【００６６】
Ｎ−置換マレイミド類としては、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等が挙げられる。
【００６７】
脂環式不飽和化合物類としては、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ビス（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のビシクロ不飽和化合物類等が挙げられる。
【００６８】
スチレン類としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン等が挙げられる。中でも、スチレンが好ましい。
【００６９】
その他のビニル化合物としては、（メタ）アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニル、１，３−ブタジエン、イソプレン及び２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等が挙げられる。
【００７０】
樹脂（Ａ）は、（ａ）に由来する構造単位のみからなる樹脂でもよいが、（ａ）に由来する構造単位と（ｘ）に由来する構造単位とからなる樹脂が好ましい。
【００７１】
樹脂（Ａ）が（ａ）に由来する構造単位と（ｘ）に由来する構造単位とからなる樹脂である場合、（ａ）に使用する構造単位の酸性度に依存するが、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ａ）を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）に由来する構造単位；５〜７０モル％（より好ましくは１０〜６０モル％）
（ｘ）に由来する構造単位；３０〜９５モル％（より好ましくは４０〜９０モル％）
【００７２】
前記樹脂（Ａ）の構造単位の比率が、上記の範囲内にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性、耐熱性および機械強度が良好になる傾向がある。
【００７３】
特に前記Ｒ１〜Ｒ５のうちのいずれか１つが−ＣＯＯＨである場合、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ａ）を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）に由来する構造単位；５〜５０モル％
（ｘ）に由来する構造単位；５０〜９５モル％
【００７４】
樹脂（Ａ）は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著  発行所（株）化学同人  第１版第１刷  １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。
【００７５】
具体的には、（ａ）及び必要に応じて用いられる（ｘ）の所定量、重合開始剤並びに溶剤等を反応容器中に入れて、例えば、窒素により大気中の酸素を置換することにより、脱酸素雰囲気にし、攪拌しながら、加熱及び保温する方法が例示される。なお、ここで用いられる重合開始剤及び溶剤等は、特に限定されず、当該分野で通常使用されているもののいずれをも使用することができる。例えば、重合開始剤としては、アゾ化合物（２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス（２，４− ジメチルバレロニトリル）等）や有機過酸化物（ベンゾイルペルオキシド等）が挙げられ、溶剤としては、各単量体を溶解するものであればよく、感光性樹脂組成物の溶剤（Ｄ）として後述する溶剤等を用いることができる。得られる樹脂の分子量を調整するために、重合反応の際に連鎖移動剤を加えてもよい。連鎖移動剤としては、ｎ−ブタンチオール、ｔｅｒｔ−ブタンチオール、ｎ−ドデカンチオール、２−スルファニルエタノール、チオグリコール酸、チオグリコール酸エチル、チオグリコール酸２−エチルヘキシル、チオグリコール酸メトキシブチル、３−スルファニルプロピオン酸、スルファニル基含有シリコーン（ＫＦ−２００１：信越化学製）等のチオール類；クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素等のハロゲン化アルキル類等が挙げられる。
【００７６】
とくに、（ａ）がフェノール性ヒドロキシ基を有する場合、重合の際、（ａ）が有するフェノール性ヒドロキシ基を予め保護基で保護した単量体を用いてもよい。保護基としては、ｔｅｒｔ−ブチル基等の第三級アルキル基；アセチル基等のアシル基が挙げられる。
このような予め保護基で保護した単量体を用いて重合した後、該保護基を脱保護することにより樹脂（Ａ）を得ることができる。
【００７７】
なお、得られた重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。特に、この重合の際に溶剤として、後述する溶剤（Ｄ）と同一の溶剤を使用することにより、反応後の溶液をそのまま使用することができ、製造工程を簡略化することができる。
【００７８】
樹脂（Ａ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜５０，０００である。樹脂（Ａ）の重量平均分子量が、前記の範囲内にあると、塗布性に優れる傾向があり、また現像時に露光部の膜減りが生じにくく、さらに非露光部が現像で除去しやすい。
【００７９】
樹脂（Ａ）の分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、好ましくは１．１〜６．０であり、より好ましくは１．２〜４．０である。分子量分布が、前記の範囲にあると、現像性に優れる傾向がある。
【００８０】
樹脂（Ａ）の酸価は、２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、好ましくは４０〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは５０〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇである。このような範囲の酸価の樹脂を用いることにより、開口形成後の電極の表面自由エネルギーの極性成分の値を、１５ｍＮ／ｍ以上にすることができる。ここで酸価は樹脂１ｇを中和するに必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値であり、水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。
【００８１】
樹脂（Ａ）の含有量は、樹脂（Ａ）、樹脂（Ａ１）及び重合性化合物（Ｃ）の合計量に対して、好ましくは５〜９５質量％、より好ましくは２０〜８０質量％であり、特に好ましくは４５〜８０質量％である。樹脂（Ａ）の含有量が、前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の現像性、得られるパターンの密着性、耐溶剤性及び機械特性が良好になる傾向がある。
【００８２】
本発明の感光性樹脂組成物は、撥液剤（Ｆ）を含んでもよい。撥液剤（Ｆ）は、撥液性を発現させる樹脂であり、パターン形成後の構造物表面が構造物単体と比較して、撥液性が高ければ使用される物質は特に限定されないが、構造物表面のアニソール接触角が３０°以上となるものが好ましい。使用される撥液性を発現させる樹脂は、例えば、炭素数１〜８ペルフルオロアルキル基（炭素原子間にエーテル性酸素原子を有していてもよい）を有する構造単位が挙げられ、好ましくは、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有する単量体（ｄ）（以下「（ｄ）」という場合がある）に由来する構造単位を含む重合体である。
【００８３】
（ｄ）としては、式（ｄ−０）で表される化合物が挙げられる。
2015179257.tif 000010
［式（ｄ−０）中、Ｒｆは、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｒｄは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ベンジル基又は炭素数１〜２１のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。Ｘｄは、単結合、炭素数１〜１０の２価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜１０の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲｅ−、−Ｓ−又は−ＳＯ２−で置き換わっていてもよい。］
【００８４】
Ｒｆは、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基であり、ペルフルオロブチル基及びペルフルオロヘキシル基が好ましい。
【００８５】
Ｒｄにおける炭素数１〜２１のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等の直鎖状アルキル基；
イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１−メチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、１−エチルペンチル基、２−エチルペンチル基、３−エチルペンチル基、１−プロピルブチル基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル基、６−メチルヘプチル基、１−エチルヘキシル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル基、４−エチルヘキシル基、２−プロピルペンチル基、１−ブチルブチル基、１−ブチル−２−メチルブチル基、１−ブチル−３−メチルブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、１，１−ジメチルペンチル基、１，２−ジメチルペンチル基、１，３−ジメチルペンチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２，２−ジメチルペンチル基、２，３−ジメチルペンチル基、２，４−ジメチルペンチル基、３，３−ジメチルペンチル基、３，４−ジメチルペンチル基、１−エチル−１−メチルブチル基、２−エチル−３−メチルブチル基等の分枝鎖状アルキル基等が挙げられる。
【００８６】
Ｒｄとしては、水素原子、ハロゲン原子及びメチル基が好ましい。
【００８７】
Ｘｄにおける炭素数１〜１０の２価の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，２−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
【００８８】
Ｘｄにおける炭素数３〜１０の２価の脂環式炭化水素基としては、シクロプロパンジイル基、シクロブタンジイル基、シクロペンタンジイル基、シクロヘキサンジイル基、シクロヘプタンジイル基、シクロデカンジイル基等が挙げられる。
【００８９】
Ｘｄにおける炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフタレンジイル基等が挙げられる。
【００９０】
−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲｅ−、−Ｓ−又は−ＳＯ２−で置き換わったＸｄとしては、例えば、式（ｘｄ−１）〜式（ｘｄ−１０）で表される基等が挙げられる。
2015179257.tif 000011
【００９１】
Ｘｄとしては、炭素数１〜６のアルカンジイル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
【００９２】
（ｄ）としては、下記式（ｙｄ−１）で表される化合物が好ましい。
2015179257.tif 000012
（ｙｄ−１）
［式（ｙｄ−１）中、Ｒｈは、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｒｇは、水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。］
【００９３】
式（ｄ−０）で表される化合物としては、例えば、化合物（ｄ−１）〜化合物（ｄ−９４）等が挙げられる。表中、Ｘｄ欄に示した式番号は、上記に例示した基の式番号を表す。また、例えば、化合物（ｄ−１）は下記式（ｄ−１）で表される化合物である。
2015179257.tif 000013
【００９４】
【表１】
2015179257.tif 000014
2015179257.tif 000015
【００９５】
【表２】
2015179257.tif 000016
【００９６】
2015179257.tif 000017
【００９７】
樹脂（Ｆ）としては、（ｄ）に由来する構造単位と前記（ｅ）に由来する構造単位とを含む共重合体であることが好ましく、（ｄ）に由来する構造単位と（ｅ）に由来する構造単位と（ｂ）に由来する構造単位とを含む樹脂であることがより好ましい。樹脂（Ｆ）が（ｅ）に由来する構造単位を含むことにより、現像性に優れるため、残渣や現像に由来するムラが抑制される傾向がある。樹脂（Ｆ）が（ｂ）に由来する構造単位を含むことにより、耐溶剤性に優れる傾向があるため好ましい。また、樹脂（Ｆ）は（ｃ）に由来する構造単位を含んでいてもよい。（ｅ）、（ｂ）及び（ｃ）としては、上記と同じものが挙げられる。
【００９８】
樹脂（Ｆ）が、（ｅ）と（ｄ）との共重合体である場合、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ｆ）を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｅ）に由来する構造単位；５〜５０質量％（より好ましくは１０〜４０質量％）
（ｄ）に由来する構造単位；５０〜９５質量％（より好ましくは７０〜９０質量％）
【００９９】
樹脂（Ｆ）が、（ｅ）、（ｂ）及び（ｄ）の共重合体である場合、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ｆ）を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｅ）に由来する構造単位；５〜４０質量％（より好ましくは１０〜３０質量％）
（ｂ）に由来する構造単位；５〜８０質量％（より好ましくは１０〜７０質量％）
（ｄ）に由来する構造単位；１０〜８０質量％（より好ましくは２０〜７０質量％）
【０１００】
樹脂（Ｆ）が、（ｅ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）の共重合体である場合、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ｆ）を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｅ）に由来する構造単位；５〜４０質量％（より好ましくは１０〜３０質量％）
（ｂ）に由来する構造単位；5〜７０質量％（より好ましくは１０〜６０質量％）
（ｃ）に由来する構造単位；１０〜５０質量％（より好ましくは２０〜４０質量％）
（ｄ）に由来する構造単位；１０〜８０質量％（より好ましくは２０〜７０質量％）
【０１０１】
各構造単位の比率が、上記の範囲にあると、撥液性、現像性に優れる傾向がある。
【０１０２】
樹脂（Ｆ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜２０，０００、より好ましくは５，０００〜１５，０００である。樹脂（Ｆ）の重量平均分子量が、前記の範囲にあると、塗布性に優れる傾向があり、また現像時に露光部の膜減りが生じにくく、さらに非露光部が現像で除去しやすい。
【０１０３】
樹脂（Ｆ）の酸価は、通常、２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、好ましくは４０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇである。
【０１０４】
樹脂（Ｆ）の含有量は、樹脂（Ａ）、樹脂（Ａ１）及び重合性化合物（Ｂ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．００１〜１０質量部、より好ましくは０．０１〜５質量部である。樹脂（Ｆ）の含有量が前記の範囲内にあると、パターン形成の際に現像性に優れ、かつ得られるパターンは撥液性に優れる傾向がある。
【０１０５】
樹脂（Ａ１）は、樹脂（Ａ）及び樹脂（Ｆ）以外の樹脂であれば特に限定されない。樹脂（Ａ１）としては、
樹脂（Ａ１−１）：（ｅ）と（ｂ）とを重合してなる共重合体、
樹脂（Ａ１−２）：（ｅ）と（ｂ）と（ｃ）とを重合してなる共重合体、
樹脂（Ａ１−３）：（ｅ）と（ｃ）とを重合してなる共重合体、
樹脂（Ａ１−４）：（ｅ）と（ｃ）とを重合してなる共重合体に（ｂ）を反応させて得られる樹脂、
【０１０６】
樹脂（Ａ１−５）：（ｂ）と（ｃ）とを重合してなる共重合体に（ｅ）を反応させて得られる樹脂等が挙げられる。
【０１０７】
中でも、樹脂（Ａ１−１）、樹脂（Ａ１−２）が好ましい。
【０１０８】
樹脂（Ａ１−１）において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ａ１−１）を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｅ）に由来する構造単位；５〜６０モル％（より好ましくは１０〜５０モル％）
（ｂ）に由来する構造単位；４０〜９５モル％（より好ましくは５０〜９０モル％）
【０１０９】
樹脂（Ａ１−１）の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性が良好になる傾向がある。
【０１１０】
樹脂（Ａ１−２）において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ａ１−２）を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｅ）に由来する構造単位；２〜４５モル％（より好ましくは５〜４０モル％）
（ｂ）に由来する構造単位；２〜９５モル％（より好ましくは５〜８０モル％）
（ｃ）に由来する構造単位；１〜６５モル％（より好ましくは５〜６０モル％）
【０１１１】
樹脂（Ａ１−２）の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性が良好になる傾向がある。
【０１１２】
樹脂（Ａ１−３）において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ａ１−３）を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｅ）に由来する構造単位；２〜４０モル％（より好ましくは５〜３５モル％）
（ｃ）に由来する構造単位；６０〜９８モル％（より好ましくは６５〜９５モル％）
【０１１３】
樹脂（Ａ１−３）の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性が良好になる傾向がある。
【０１１４】
樹脂（Ａ１−１）〜（Ａ１−３）は、樹脂（Ａ）と同様の方法により製造することができる。
【０１１５】
樹脂（Ａ１−４）は、（ｅ）と（ｃ）との共重合体に、（ｂ）を反応させて得られる樹脂である。
【０１１６】
樹脂（Ａ１−４）は、例えば、二段階の工程を経て製造することができる。この場合も、上述した文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著  発行所（株）化学同人  第１版第１刷  １９７２年３月１日発行）に記載された方法、特開２００１−８９５３３号公報に記載された方法等を参考にして製造することができる。
【０１１７】
まず、第一段階として、上述した樹脂（Ａ）の製造方法と同様にして、（ｅ）と（ｃ）との共重合体を得る。
【０１１８】
この場合、上記と同様に、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。また、上記と同様のポリスチレン換算の重量平均分子量及び分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］とすることが好ましい。
【０１１９】
ただし、（ｅ）及び（ｃ）に由来する構造単位の比率が、前記の共重合体を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｅ）に由来する構造単位；５〜５０モル％（より好ましくは１０〜４５モル％）
（ｃ）に由来する構造単位；５０〜９５モル％（より好ましくは５５〜９０モル％）
【０１２０】
次に、第二段階として、得られた共重合体に由来する（ｅ）のカルボン酸又はカルボン酸無水物の一部を、前述の（ｂ）の環状エーテルと反応させる。環状エーテルの反応性が高く、未反応の（ｂ）が残存しにくいことから、樹脂（Ａ１−４）に用いられる（ｂ）としては（ｂ１）又は（ｂ２）が好ましく、（ｂ１−１）がより好ましい。
【０１２１】
具体的には、上記に引き続き、フラスコ内雰囲気を窒素から空気に置換し、（ｅ）のモル数に対して、５８０モル％の（ｂ）、カルボキシ基と環状エーテルとの反応触媒（例えばトリス（ジメチルアミノメチル）フェノール等）を（ｅ）、（ｂ）及び（ｃ）の合計量に対して０．００１〜５質量％、及び重合禁止剤（例えばハイドロキノン等）を（ｅ）、（ｂ）及び（ｃ）の合計量に対して０．００１〜５質量％をフラスコ内に入れて、６０〜１３０℃で、１〜１０時間反応させ、樹脂（Ａ１−４）を得ることができる。なお、重合条件と同様に、製造設備や重合による発熱量等を考慮し、仕込方法や反応温度を適宜調整することができる。
【０１２２】
また、この場合、（ｂ）のモル数は、（ｅ）のモル数に対して、１０〜７５モル％とすることが好ましく、より好ましくは１５〜７０モル％である。この範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性、耐熱性、機械強度及び感度のバランスが良好になる傾向がある。
【０１２３】
樹脂（Ａ１−５）は、第一段階として、上述した樹脂（Ａ）の製造方法と同様にして、（ｂ）と（ｃ）との共重合体を得る。
【０１２４】
この場合、上記と同様に、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。
【０１２５】
（ｂ）及び（ｃ）に由来する構造単位の比率が、前記の共重合体を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｂ）に由来する構造単位；５〜９５モル％（より好ましくは１０〜９０モル％）
（ｃ）に由来する構造単位；５〜９５モル％（より好ましくは１０〜９０モル％）
【０１２６】
さらに、樹脂（Ａ１−４）の製造方法と同様にして、（ｂ）と（ｃ）との共重合体中の（ｂ）に由来する環状エーテルに、（ｅ）が有するカルボン酸又はカルボン酸無水物を反応させることにより得ることができる。環状エーテルとカルボン酸又はカルボン酸無水物との反応により発生するヒドロキシ基に、さらにカルボン酸無水物を反応させてもよい。
【０１２７】
前記の共重合体に反応させる（ｅ）の使用量は、（ｂ）のモル数に対して５〜８０モル％であることが好ましい。環状エーテルの反応性が高く、未反応の（ｂ）が残存しにくいことから、（ｂ）としては（ｂ１）が好ましく、さらに（ｂ１−１）が好ましい。
【０１２８】
樹脂（Ａ１）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜５０，０００である。樹脂（Ａ１）の重量平均分子量が、前記の範囲にあると、塗布性に優れる傾向があり、また現像時に露光部の膜減りが生じにくく、さらに非露光部が現像で除去しやすい。
【０１２９】
樹脂（Ａ１）の分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、好ましくは１．１〜６．０であり、より好ましくは１．２〜４．０である。分子量分布が、前記の範囲にあると、現像性に優れる傾向がある。
【０１３０】
樹脂（Ａ１）の酸価は、通常、２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、好ましくは４０〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは５０〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇである。
【０１３１】
樹脂（Ａ１）を含有する場合、その含有量は、樹脂（Ａ）及び樹脂（Ａ１）の合計量に対して、好ましくは１〜８０質量％、より好ましくは１〜５０質量％である。樹脂（Ａ１）の含有量が、前記の範囲にあると、パターンを高感度で形成することができ、かつ現像性に優れる。
【０１３２】
樹脂（Ａ１）を含有する場合、その含有量は、樹脂（Ａ）及び樹脂（Ａ１）の合計量に対して、好ましくは１〜８０質量％、より好ましくは１〜５０質量％である。樹脂（Ａ１）の含有量が、前記の範囲にあると、パターンを高感度で形成することができ、かつ現像性に優れる。
【０１３３】
本発明の感光性樹脂組成物は、重合性化合物（Ｂ）を含むことが好ましい。
【０１３４】
重合性化合物（Ｂ）は、重合開始剤（Ｃ）から発生した活性ラジカルによって重合しうる化合物であって、例えば、エチレン性不飽和結合を有する化合物などであり、好ましくは（メタ）アクリル酸エステル化合物である。
【０１３５】
エチレン性不飽和結合を１つ有する重合性化合物（Ｂ）としては、前記（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）として挙げた化合物と同じものが挙げられ、中でも、（メタ）アクリル酸エステル類が好ましい。
【０１３６】
エチレン性不飽和結合を２つ有する重合性化合物（Ｂ）としては、１，３―ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１３７】
エチレン性不飽和結合を３つ以上有する重合性化合物（Ｂ）としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物等が挙げられる。  中でも、エチレン性不飽和結合を３つ以上有する重合性化合物（Ｂ）が好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートがより好ましい。
【０１３８】
重合性化合物（Ｂ）の含有量は、樹脂（Ａ）、樹脂（Ａ１）及び重合性化合物（Ｂ）の合計量に対して、好ましくは５〜９５質量％、より好ましくは２０〜８０質量％である。
【０１３９】
重合性化合物（Ｂ）の含有量が、前記の範囲にあると、感度や、得られるパターンの強度、平滑性、信頼性が良好になる傾向がある。
【０１４０】
本発明の感光性樹脂組成物は、重合開始剤（Ｃ）を含む。重合開始剤（Ｃ）としては、光又は熱の作用により重合を開始しうる化合物であれば特に限定されることなく、公知の重合開始剤を用いることができる。
【０１４１】
重合開始剤（Ｃ）として、例えば、オキシム化合物、アルキルフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、トリアジン化合物及びアシルホスフィンオキサイド化合物が挙げられる。また、特開２００８−１８１０８７号公報に記載された光及び／又は熱カチオン重合開始剤（例えば、オニウムカチオンとルイス酸由来のアニオンとから構成されているもの）を用いてもよい。中でも、ビイミダゾール化合物、アルキルフェノン化合物及びオキシム化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、特にアルキルフェノン化合物であることが好ましい。これらの化合物を含む重合開始剤であると、特に、高感度になる傾向があり好ましい。
【０１４２】
前記オキシム化合物は、式（ｄ１）で表される部分構造を有する化合物である。以下、＊は結合手を表す。
2015179257.tif 000018
【０１４３】
前記Ｏ−アシルオキシム化合物としては、例えば、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）ブタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）オクタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）−３−シクロペンチルプロパン−１−オン−２−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−｛２−メチル−４−（３，３−ジメチル−２，４−ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ）ベンゾイル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−３−シクロペンチルプロパン−１−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−３−シクロペンチルプロパン−１−オン−２−イミン等が挙げられる。イルガキュアＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２（以上、ＢＡＳＦ社製）、Ｎ−１９１９（ＡＤＥＫＡ社製）等の市販品を用いてもよい。
【０１４４】
前記アルキルフェノン化合物は、式（ｄ２）で表される部分構造又は式（ｄ３）で表される部分構造を有する化合物である。これらの部分構造中、ベンゼン環は置換基を有していてもよい。
2015179257.tif 000019
【０１４５】
式（ｄ２）で表される部分構造を有する化合物としては、例えば、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］ブタン−１−オン等が挙げられる。イルガキュア３６９、９０７、３７９（以上、ＢＡＳＦ社製）等の市販品を用いてもよい。
【０１４６】
式（ｄ３）で表される部分構造を有する化合物としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−イソプロペニルフェニル）プロパン−１−オンのオリゴマー、α，α−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。
【０１４７】
感度の点で、アルキルフェノン化合物としては、式（ｄ２）で表される部分構造を有する化合物が好ましい。
【０１４８】
前記ビイミダゾール化合物としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平６−７５３７２号公報、特開平６−７５３７３号公報等参照。）、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８−３８４０３号公報、特開昭６２−１７４２０４号公報等参照。）、４，４’５，５’−位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７−１０９１３号公報等参照。）等が挙げられる。好ましくは２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールが挙げられる。
【０１４９】
前記トリアジン化合物としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−(４−メトキシスチリル)−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【０１５０】
前記アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
【０１５１】
さらに重合開始剤（Ｃ）としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物；ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；９，１０−フェナンスレンキノン、２−エチルアントラキノン、カンファーキノン等のキノン化合物；１０−ブチル−２−クロロアクリドン、ベンジル、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等が挙げられる。これらは、後述の重合開始助剤（Ｅ）を添加してもよい。
【０１５２】
また、連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤として、特表２００２−５４４２０５号公報に記載されている重合開始剤を使用してもよい。
【０１５３】
前記の連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤は、樹脂（Ａ）に含まれうる構造単位となる単量体（ｃ）としても使用することができる。
【０１５４】
本発明の感光性樹脂組成物において、上述した重合開始剤（Ｃ）とともに、重合開始助剤（Ｅ）を用いることができる。重合開始助剤（Ｅ）は、重合開始剤（Ｃ）と組み合わせて用いられ、重合開始剤によって重合が開始された重合性化合物の重合を促進するために用いられる化合物、もしくは増感剤である。重合開始助剤（Ｅ）としては、チオキサントン化合物、アミン化合物、カルボン酸化合物、特開２００８−６５３１９号公報及び特開２００９−１３９９３２号公報記載の化合物等が挙げられる。
【０１５５】
チオキサントン化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等が挙げられる。
【０１５６】
アミン化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン等の脂肪族アミン化合物、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称；ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンのような芳香族アミン化合物が挙げられる。
【０１５７】
カルボン酸化合物としては、フェニルスルファニル酢酸、メチルフェニルスルファニル酢酸、エチルフェニルスルファニル酢酸、メチルエチルフェニルスルファニル酢酸、ジメチルフェニルスルファニル酢酸、メトキシフェニルスルファニル酢酸、ジメトキシフェニルスルファニル酢酸、クロロフェニルスルファニル酢酸、ジクロロフェニルスルファニル酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等の芳香族ヘテロ酢酸類が挙げられる。
【０１５８】
重合開始剤（Ｃ）と重合開始助剤（Ｅ）との組合せとしては、アセトフェノン化合物とチオキサントン化合物、アセトフェノン化合物と芳香族アミン化合物が挙げられ、具体的には、２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オンと２，４−ジエチルチオキサントン、２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オンと２，４−ジエチルチオキサントン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オンと２，４−ジエチルチオキサントン、２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オンと２−イソプロピルチオキサントンと４−イソプロピルチオキサントン、２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オンと４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オンと４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オンと４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１５９】
中でも、アセトフェノン化合物とチオキサントン化合物との組合せが好ましく、２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オンと２，４−ジエチルチオキサントン、２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オンと２−イソプロピルチオキサントンと４−イソプロピルチオキサントンがより好ましい。これらの組合せであると、高感度で、かつ可視光透過率の高いパターンが得られる。
【０１６０】
重合開始剤（Ｃ）の含有量は、樹脂（Ａ）、樹脂（Ａ１）及び重合性化合物（Ｂ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．５〜３０質量部、より好ましくは１〜２０質量部であり、さらに好ましくは１〜１０質量部である。重合開始剤（Ｃ）の含有量が前記の範囲にあると、高感度でパターンを得ることができる。
【０１６１】
重合開始助剤（Ｅ）の使用量は、樹脂（Ａ）、樹脂（Ａ１）及び重合性化合物（Ｂ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．１〜２０質量部、より好ましくは０．３〜１５質量部である。重合開始助剤（Ｅ）の量が前記の範囲にあると、高感度でパターンを得ることができ、得られるパターンは形状が良好である。
【０１６２】
本発明の感光性樹脂組成物は、溶剤（Ｄ）を含んでいてもよい。
【０１６３】
本発明において使用し得る溶剤としては、例えば、エステル溶剤（分子内に−ＣＯＯ−を含み、−Ｏ−を含まない溶剤）、エーテル溶剤（分子内に−Ｏ−を含み、−ＣＯＯ−を含まない溶剤）、エーテルエステル溶剤（分子内に−ＣＯＯ−と−Ｏ−とを含む溶剤）、ケトン溶剤（分子内に−ＣＯ−を含み、−ＣＯＯ−を含まない溶剤）、アルコール溶剤、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等の中から選択して用いることができる。
【０１６４】
エステル溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、２−ヒドロキシイソブタン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキサノールアセテート、γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。
【０１６５】
エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、アニソール、フェネトール、メチルアニソールなどが挙げられる。
【０１６６】
エーテルエステル溶剤としては、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどが挙げられる。
【０１６７】
ケトン溶剤としては、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、アセトン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロンなどが挙げられる。
【０１６８】
アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどが挙げられる。
【０１６９】
芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどが挙げられる。
【０１７０】
アミド溶剤としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられる。
【０１７１】
これらの溶剤は、単独でも２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１７２】
上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、１ａｔｍにおける沸点が１２０℃以上１８０℃以下である有機溶剤が好ましい。中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、３−メトキシブチルアセテート、３−メトキシ−１−ブタノール等が好ましい。溶剤（Ｄ）がこれらの溶剤であると、塗布時のムラを抑制し、塗膜の平坦性を良好にすることができる。
【０１７３】
本発明の感光性樹脂組成物における溶剤（Ｄ）の含有量は、感光性樹脂組成物の総量に対して、好ましくは６０〜９５質量％であり、より好ましくは７０〜９０質量％である。
言い換えると、感光性樹脂組成物の固形分は、好ましくは５〜４０質量％であり、より好ましくは１０〜３０質量％である。溶剤（Ｄ）の含有量が前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物を塗布した膜の平坦性が高い傾向がある。ここで、固形分とは、感光性樹脂組成物から溶剤（Ｄ）を除いた量のことをいう。
【０１７４】
また、本発明の感光性樹脂組成物は、さらに多官能チオール化合物（Ｔ）を含有していてもよい。多官能チオール化合物（Ｔ）とは、分子内に２個以上のスルファニル基（−ＳＨ）を有する化合物をいう。特に、脂肪族炭化水素基に由来する炭素原子と結合する２個以上のスルファニル基を有する化合物を用いると、本発明の感光性樹脂組成物の感度が高くなる傾向にある。
【０１７５】
多官能チオール化合物（Ｔ）としては、具体的には、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ビス（メチルスルファニル）ベンゼン、ブタンジオールビス（３−スルファニルプロピオネート）、ブタンジオールビス（３−スルファニルアセテート）、エチレングリコールビス（３−スルファニルアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルアセテート）、ブタンジオールビス（３−スルファニルプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルアセテート）、トリスヒドロキシエチルトリス（３−スルファニルプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルブチレート）、１，４−ビス（３−スルファニルブチルオキシ）ブタン等が挙げられる。
【０１７６】
多官能チオール化合物（Ｔ）の含有量は、重合開始剤（Ｃ）１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１０質量部、より好ましくは０．５〜７質量部である。多官能チオール化合物（Ｔ）の含有量が前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の感度が高くなり、また現像性が良好になる傾向があり好ましい。
【０１７７】
本発明の感光性樹脂組成物は界面活性剤（Ｇ）（ただし、樹脂（Ｆ）とは異なる。）を含有してもよい。界面活性剤としては、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。
【０１７８】
シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合を有する界面活性剤が挙げられる。
具体的には、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、ポリエーテル変性シリコーンオイルＳＨ８４００（商品名：東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）等が挙げられる。
【０１７９】
フッ素系界面活性剤としては、フルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。
具体的には、フロリナート（登録商標）ＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｒ３０（ＤＩＣ（株）製）、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ３８１、同Ｓ３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０５（旭硝子（株）製）、Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）等が挙げられる。
【０１８０】
フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合及びフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、メガファック（登録商標）Ｒ０８、同ＢＬ２０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７、同Ｆ４４３（ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。好ましくはメガファック（登録商標）Ｆ４７５が挙げられる。
【０１８１】
界面活性剤（Ｇ）の含有量は、感光性樹脂組成物の総量に対して、０．００１質量％以上０.２質量％以下であり、好ましくは０.００２質量％以上０．１質量％以下、より好ましくは０.０１質量％以上０．０５質量％以下である。界面活性剤をこの範囲で含有することにより、塗膜の平坦性を良好にすることができる。
【０１８２】
本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、密着力向上剤（Ｈ）、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、連鎖移動剤等の種々の添加剤を含んでもよい。
【０１８３】
上記の密着力向上剤（Ｈ）は、添加時、もしくは常温下での保管において、感光性樹脂組成物と反応することで固形物を析出させるものでなければ特に限定はされないが、例えば、シランカップリング剤のようなものが挙げられ、例えばＫＢＭ−３０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−９００７（信越化学工業株式会社製）、もしくはＺ−６０４０、Ｚ−６０４３、Ｚ−６０１１、Ｚ−６０２０、Ｚ−６０９４、Ｚ−６０６２、Ｚ−６０９４、Ｚ−６０３０、Ｚ−６５１９、Ｚ−６３００、Ｚ−６８８３（東レ・ダウコーニング株式会社製）等が挙げられる。
【０１８４】
本発明の感光性樹脂組成物は、顔料および染料などの着色剤を実質的に含有しない。すなわち、本発明の感光性樹脂組成物において、組成物全体に対する着色剤の含量は、例えば、好ましくは１質量％未満、より好ましくは０．５質量％未満である。
【０１８５】
本発明の感光性樹脂組成物は、光路長が１ｃｍの石英セルに充填し、分光光度計を使用して測定波長４００〜７００ｎｍの条件下で透過率を測定した場合の平均透過率が、好ましくは７０％以上であり、より好ましくは８０％以上である。
【０１８６】
本発明の感光性樹脂組成物は、塗膜にした際に、塗膜の平均透過率が、好ましくは９０％以上であり、さらに９５％以上となることがより好ましい。この平均透過率は、加熱硬化（例えば、１００〜２５０℃、５分〜３時間の条件で硬化）後の厚みが３μｍの塗膜を、分光光度計を使用して、測定波長４００〜７００ｎｍの条件下で測定した場合の平均値である。これにより、可視光領域での透明性に優れた塗膜を提供することができる。
【０１８７】
本発明の感光性樹脂組成物は、例えば、ガラス、金属、プラスチック等の基板、あるいは、カラーフィルタ、各種絶縁又は導電膜、駆動回路等が形成されたこれらの基板上に塗布し、所望の形状にパターニングして、パターンを形成することができる。さらに、このパターンを、表示装置等の構成部品の一部として形成して使用してもよい。
【０１８８】
まず、本発明の感光性樹脂組成物を、基板上に塗布し、以下に説明するフォトリソグラフィー法によってパターニングを行う。
【０１８９】
感光性樹脂組成物の塗布は、スピンコーター、スリット＆スピンコーター、スリットコーター、インクジェット、ロールコーター、ディップコーター等の種々の塗布装置を用いて行うことができる。
【０１９０】
次いで、乾燥又はプリベークして、溶剤等の揮発成分を除去して乾燥させることが好ましい。これにより、平滑な未硬化塗膜を得ることができる。
【０１９１】
この場合の塗膜の膜厚は、特に限定されず、用いる材料、用途等によって適宜調整することができ、例えば、１〜６μｍ程度である。
【０１９２】
さらに、得られた未硬化塗膜に、目的のパターンを形成するためのフォトマスクを介して、光、例えば、水銀灯、発光ダイオードから発生する紫外線等を照射する。この際のフォトマスクの形状は特に限定されず、形状や大きさは、パターンの用途に応じて選択すればよい。
【０１９３】
近年の露光機では、３５０ｎｍ未満の光を、この波長域をカットするフィルタを用いてカットしたり、４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、３６５ｎｍ付近の光を、これらの波長域を取り出すバンドパスフィルタを用いて選択的に取り出して、露光面全体に均一に略平行光線を照射したりすることができる。マスクアライナ、ステッパ等の装置を用いれば、このときマスクと基材との正確な位置合わせを行うことができる。
【０１９４】
露光後の塗膜を現像液に接触させて所定部分、例えば、非露光部（すなわち非画素部分）を溶解させ、現像することにより、目的とするパターン形状を得ることができる。
【０１９５】
現像方法は、液盛り法、ディッピング法、スプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基材を任意の角度に傾けてもよい。
【０１９６】
現像に使用する現像液は、塩基性化合物の水溶液が好ましい。
【０１９７】
塩基性化合物は、無機及び有機の塩基性化合物のいずれでもよい。
【０１９８】
無機の塩基性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸二水素ナトリウム、燐酸水素二アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、燐酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア等が挙げられる。
【０１９９】
有機の塩基性化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン等が挙げられる。
【０２００】
これらの無機及び有機の塩基性化合物の水溶液中の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは０．０３〜５質量％である。
【０２０１】
前記の現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。
【０２０２】
界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤又はカチオン系界面活性剤のいずれでもよい。
【０２０３】
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、その他のポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン／オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン等が挙げられる。
【０２０４】
アニオン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムやオレイルアルコール硫酸エステルナトリウムのような高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル硫酸ナトリウムやラウリル硫酸アンモニウムのようなアルキル硫酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムのようなアルキルアリールスルホン酸塩類等が挙げられる。
【０２０５】
カチオン系界面活性剤としては、例えば、ステアリルアミン塩酸塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライドのようなアミン塩又は第四級アンモニウム塩等が挙げられる。
【０２０６】
アルカリ現像液中の界面活性剤の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．０５〜８質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。
【０２０７】
現像後、水洗を行うことで、パターンを得ることができる。さらに必要に応じて、ポストベークを行ってもよい。ポストベークは、例えば、１５０〜２４０℃の温度範囲、１０〜１８０分間が好ましい。
【０２０８】
未硬化塗膜を露光する際に、パターンが形成されたフォトマスクを使用せず、全面に光照射を行うこと及び／又は現像を省略することで、パターンを有さない塗膜を得ることができる。
【０２０９】
本実施形態では、電極が形成された基板上に、前記感光性樹脂組成物からなる薄膜を上記のように形成し、次に、前記電極の表面が露出するように、上記のフォトリソグラフィー法によって前記薄膜に開口を形成する。
【０２１０】
次に、前記電極の表面自由エネルギーの極性成分の値に基づいて、電極のぬれ性を評価し、これによって、基板の評価を行うことができる。
【０２１１】
電極の表面自由エネルギーの極性成分の値が、たとえば１５ｍＮ／ｍ以上であれば、隔壁付基板として表示装置等に適用可能な基板と判定し、逆に、電極の表面自由エネルギーの極性成分の値が、１５ｍＮ／ｍ以下であれば、隔壁付基板として表示装置等に適用できない基板として判定することができる。
【０２１２】
さらには、この評価結果に基づいて、隔壁を形成するための感光性樹脂組成物の評価もすることができる。
【０２１３】
すなわち、電極が形成された基板上に、前記感光性樹脂組成物からなる薄膜を上記のように形成し、次に、前記電極の表面が露出するように、上記のフォトリソグラフィー法によって前記薄膜に開口を形成し、次に、前記電極の表面自由エネルギーの極性成分の値に基づいて、電極のぬれ性を評価し、これによって、感光性樹脂組成物の評価を行うことができる。本発明の基板評価方法の好ましい形態は、
電極が形成された基板上に、感光性樹脂組成物を供給し、前記基板を９００ｒｐｍで７秒間回転させて前記感光性樹脂組成物からなる薄膜を形成する工程、
前記薄膜が形成された基板を、６６Ｐａで減圧乾燥した後に１１０℃で１１０秒間プリベークする工程、
前記電極の表面が露出するように、前記プリベーク後の薄膜に２００ｍＪ／ｃｍ２で露光し、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて２３℃で８０秒間現像するフォトリソグラフィー法によって前記薄膜に開口を形成する工程、および、
前記薄膜の開口部に露出された電極の表面自由エネルギーの極性成分の値に基づいて、電極のぬれ性を評価する工程を含む、基板評価方法である。
【０２１４】
電極の表面自由エネルギーの極性成分の値が、たとえば１５ｍＮ／ｍ以上であれば、隔壁を形成するための感光性樹脂組成物として適用可能な感光性樹脂組成物と判定し、逆に、電極の表面自由エネルギーの極性成分の値が、１５ｍＮ／ｍ以下であれば、隔壁を形成するための感光性樹脂組成物として適用できない感光性樹脂組成物として判定することができる。
【０２１５】
電極の表面エネルギーの極性成分の値は、たとえば、電極表面上での所定の溶液の接触角を測定し、その値に基づいて、所定の計算式を用いて算出することができる。
【０２１６】
本実施形態では、たとえばＯｗｅｎｓａｎｄＷｅｎｄｔ法を用いて電極の表面エネルギーの極性成分の値を算出することができる。ＯｗｅｎｓａｎｄＷｅｎｄｔ法では、下記の式を適用する。
γｌ（１＋ｃｏｓθ）＝２（γｓｄ・γｌｄ）１／２＋２(γｓｐ・γｌｐ）１／２
（式中、γｌは液体の表面自由エネルギー、γｌｄは液体の表面自由エネルギーの分散力成分、γｌｐは液体の表面自由エネルギーの極性成分、γｓｄは固体の表面エネルギーの分散力成分、γｓｐは固体の表面自由エネルギーの極性成分、θは接触角をそれぞれ表す。）
【０２１７】
ここで未知数は２つ（γｓｄ、γｓｐ）であるので分散成分、極性成分が既知の２種類の液体を用いれば、これらγｓｄ、γｓｐを算出することができる。
【０２１８】
上記の式から、下記式が導かれ、下記式の一次回帰式から傾きが（γｓｐ）１／２、切片が（γｓｄ）１／２となる。
γｌ（１＋ｃｏｓθ）／２（γｌｄ)１／２  ＶＳ  （γｌｐ／γｌｄ）１／２
なお、分散成分、極性成分が既知の２種類の液体を用いれば電極の表面自由エネルギーの極性成分を算出することは可能であるが、たとえば極性成分が既知の３種類以上の溶媒（たとえば4種類）の溶媒を用い、基板面内の複数の点（たとえば３点）の接触角をそれぞれ測定し、平均を出すことで評価を実施することもできる。
【０２１９】
本発明の表示装置の一例として、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置について以下に説明する。
【０２２０】
図１は本発明の表示装置の一例である表示装置１の一部を拡大して模式的に示す断面図である。図２は本発明の表示装置の一例である表示装置１の一部を拡大して模式的に示す平面図である。表示装置１は主に、支持基板２と、この支持基板２上において予め設定される区画を画成する隔壁３と、隔壁３によって画成される区画に設けられる複数の有機ＥＬ素子４とを含んで構成される。
【０２２１】
支持基板２には、たとえばガラス基板、樹脂からなる基板、金属からなる基板、半導体からなる基板等が用いられる。
【０２２２】
隔壁３は支持基板２上においてたとえば格子状またはストライプ状に形成される。なお図２では実施の一形態として格子状の隔壁３が設けられた表示装置１を示している。同図中、隔壁３が設けられた領域にはハッチングを施している。
【０２２３】
支持基板２上には、隔壁３と支持基板２とによって規定される複数の凹部５（以下、開口部５という場合がある）が設定される。この開口部５が、隔壁３によって画成される区画に相当する。
【０２２４】
表示装置１における隔壁３は格子状に設けられる。そのため支持基板２の厚み方向Ｚの一方から見て（以下、「平面視で」ということがある。）、複数の開口部５がマトリクス状に配置されている。すなわち開口部５は行方向Ｘに所定の間隔をあけるとともに、列方向Ｙにも所定の間隔をあけて整列して設けられている。各開口部５の平面視における形状はとくに限定されない。たとえば開口部５は、平面視で略矩形状、略楕円状および小判形状などの形状に形成される。本実施形態では平面視で略矩形状の開口部５が設けられている。なお本明細書において上記の行方向Ｘおよび列方向Ｙは、支持基板の厚み方向Ｚに垂直な方向であって、かつ互いに垂直な方向を意味する。
【０２２５】
なお他の実施形態としてストライプ状の隔壁が設けられる場合、隔壁は、たとえば行方向Ｘに延在する複数本の隔壁部材が、列方向Ｙに所定の間隔をあけて配置されて構成される。この形態ではストライプ状の隔壁と支持基板とによって、ストライプ状の凹部が規定される。
【０２２６】
隔壁は支持基板から離間するにしたがって幅が狭くなるように形成されている。たとえば列方向Ｙに延在する隔壁を、その延在方向（列方向Ｙ）に垂直な平面で切断したときの断面形状は、支持基板から離間するにしたがって幅が狭くなるように形成されている。図１では等脚台形形状の隔壁が示されており、上底と、支持基板側の下底とを比べると、下底の方が上底よりも幅広である。なお実際に形成される隔壁の断面は必ずしも台形形状とはならず、台形形状の直線部分および角が丸みを帯びていることもある。
【０２２７】
隔壁は、前述したように、フォトリソグラフィー法によって形成することができる。本実施形態では、後述の有機ＥＬ素子の第１電極が形成された基板に、前記感光性樹脂組成物からなる薄膜を形成し、次に、前記電極の表面が露出するように、フォトリソグラフィー法によって前記薄膜に開口を形成することにより、隔壁が形成される。
【０２２８】
隔壁３は、その頂面が撥液性を示すことが好ましい。なお頂面とは、隔壁３の表面のうちで、支持基板２から最も離間した位置に存在する平面を意味する。頂面が撥液性を示す隔壁３を形成する方法としては、前述の撥液剤（Ｆ）を含む感光性樹脂組成物を用いる方法、または、隔壁形成後にその表面を撥液処理する方法が挙げられる。たとえば、フッ化物を含有する雰囲気中で隔壁３にプラズマ処理を行うことにより、隔壁３の表面に撥液性を付与することができる。本処理におけるフッ化物は気体状であり、フッ化物としては、ＣＦ４、ＣＨＦ３、ＣＨ２Ｆ２、Ｃ３Ｆ８、Ｃ４Ｆ６、Ｃ４Ｆ８などを用いることができる。このようなプラズマ処理を行うことにより、フッ素原子が隔壁３の表面に結合し、隔壁３に撥液性が付与される。
【０２２９】
隔壁３の頂面が撥液性を示すことで、隔壁３に囲まれた領域（開口部５）に供給されたインクが、隔壁３の頂面を伝わって隣の領域に溢れ出ることを防ぐことができる。
【０２３０】
有機ＥＬ素子４は隔壁３によって画成される区画（すなわち開口部５）に設けられる。
表示装置１における格子状の隔壁３が設けられる場合、各有機ＥＬ素子４はそれぞれ各開口部５に設けられる。すなわち有機ＥＬ素子４は、各開口部５と同様にマトリクス状に配置され、支持基板２上において、行方向Ｘに所定の間隔をあけるとともに、列方向Ｙにも所定の間隔をあけて整列して設けられている。
【０２３１】
隔壁３の形状およびその配置は、画素数および解像度などの表示装置の仕様や製造の容易さなどに応じて適宜設定される。たとえば隔壁３の行方向Ｘまたは列方向Ｙの幅は、５μｍ〜５０μｍ程度であり、隔壁３の高さは０．５μｍ〜５μｍ程度であり、行方向Ｘまたは列方向Ｙに隣り合う隔壁３間の間隔、すなわち開口部５の行方向Ｘまたは列方向Ｙの幅は、１０μｍ〜２００μｍ程度である。また第１電極６の行方向Ｘまたは列方向Ｙの幅はそれぞれ１０μｍ〜２００μｍ程度である。
【０２３２】
隔壁３は、本発明の感光性樹脂組成物から、前述のパターンの形成方法により形成することができる。
【０２３３】
なお他の実施形態としてストライプ状の隔壁が設けられる場合、有機ＥＬ素子４は行方向Ｘに延在する各開口部において、行方向Ｘにそれぞれ所定の間隔をあけて配置される。
【０２３４】
表示装置１には３種類の有機ＥＬ素子４が設けられる。すなわち（１）赤色の光を出射する赤色有機ＥＬ素子４Ｒ、（２）緑色の光を出射する緑色有機ＥＬ素子４Ｇ、および（３）青色の光を出射する青色有機ＥＬ素子４Ｂが設けられる。
【０２３５】
有機ＥＬ素子４は、第１電極、有機ＥＬ層、第２電極が、支持基板側からこの順で積層されて構成される。本明細書では第１電極６と第２電極１０との間に設けられる１または複数の層をそれぞれ有機ＥＬ層という。有機ＥＬ素子４は有機ＥＬ層として少なくとも１層の発光層を備える。なお有機ＥＬ素子は、１層の発光層に加えて、必要に応じて発光層とは異なる有機ＥＬ層をさらに備えることもある。たとえば第１電極６と第２電極１０との間には、有機ＥＬ層として、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、電子輸送層、および電子注入層などが設けられる。また第１電極６と第２電極１０との間には２層以上の発光層が設けられることもある。
【０２３６】
有機ＥＬ素子４は、陽極および陰極からなる一対の電極として、第１電極６と第２電極１０とを備える。第１電極６および第２電極１０のうちの一方の電極は陽極として設けられ、他方の電極は陰極として設けられる。本実施形態の表示装置１では、陽極として機能する第１電極６、正孔注入層として機能する第１の有機ＥＬ層７、発光層として機能する第２の有機ＥＬ層９、陰極として機能する第２電極１０がこの順で支持基板２上に積層されて構成されている。
【０２３７】
上記の第１電極６には、一般的に透明電極が使用される。透明電極であれば種類は限定されないが、例えば錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、酸化チタン透明電極、アルミドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）が挙げられ、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）が好ましい。
【０２３８】
第１電極６は有機ＥＬ素子４ごとに設けられる。すなわち有機ＥＬ素子４と同数の第１電極６が支持基板２上に設けられる。第１電極６は有機ＥＬ素子４の配置に対応して設けられ、有機ＥＬ素子４と同様にマトリクス状に配置される。なお隔壁３は、主に第１電極６を除く領域に格子状に形成されるが、さらに第１電極６の周縁部を覆うように形成されている（図１参照）。
【０２３９】
第１電極６に接して設けられる層（正孔注入層に相当する第１の有機ＥＬ層７）は、開口部５において第１電極６上にそれぞれ設けられる。この第１の有機ＥＬ層７は、必要に応じて、有機ＥＬ素子の種類ごとにその材料または膜厚を異ならせて設けられる。なお第１の有機ＥＬ層７の形成工程の簡易さの観点から、同じ材料、同じ膜厚で全ての第１の有機ＥＬ層７を形成してもよい。
【０２４０】
第１の有機ＥＬ層７は、第１の有機ＥＬ層７となる材料を含むインクを隔壁３に囲まれた領域（開口部５）に供給し、これを乾燥、加熱及び／又は光照射を行ってインクを固化させることにより形成される。インクを供給する方法は、特に限定されるわけではないが、インクジェット法やエアロゾルジェット法などの印刷法が挙げられる。
【０２４１】
第１電極６に接して設けられる層（第１の有機ＥＬ層７）の形成に使用されるインクの溶媒または分散媒は、第１の有機ＥＬ層７となる材料が溶解および／または分散する液体であれば特に限定されるものではないが、第１の有機ＥＬ層７となる材料を良好に溶解および／または分散させるために、極性溶媒を含むことがある。
【０２４２】
上記極性溶媒としては、一般的なものが用いられ、特に限定されるものではないが、例えば、アルコール類、ケトン類、グリコールエステル類、グリコールエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン及びジメチルスルホキシド、Ｎ−シクロヘキシル−２−ピロリジノン等が挙げられる。なお本明細書において、極性溶媒とは、溶媒のｓｐ（Solubility Parameter）値が１０以上のものを意味する。
【０２４３】
このように、第１電極６に接して設けられる層（第１の有機ＥＬ層７）の形成に使用されるインクが特に極性溶媒を含む場合、当該インクを隔壁の開口に供給したときに、第１電極６上において弾かれ、開口内の全面において均一に塗れ広がりにくいということが生じ易いが、上述したように、開口形成後の電極の表面自由エネルギーの極性成分の値が、１５ｍＮ／ｍ以上であれば、第１電極６上に供給されたインクが、隔壁の開口内の全面において均一に塗れ広がるため、平坦な、第１電極６に接して設けられる層（第１の有機ＥＬ層７）を形成することができる。
第１電極６に接して設けられる層（第１の有機ＥＬ層７）の形成に使用されるインクに含まれる極性溶媒以外の溶媒または分散媒には、シクロヘキシルベンゼン、アニソール、キシレン、トルエンなどが用いられる。
【０２４４】
発光層として機能する第２の有機ＥＬ層９は、開口部５において第１の有機ＥＬ層７上に設けられる。上述したように発光層は有機ＥＬ素子の種類に応じて設けられる。そのため赤色発光層９Ｒは赤色有機ＥＬ素子４Ｒが設けられる開口部５に設けられ、緑色発光層９Ｇは緑色有機ＥＬ素子４Ｇが設けられる開口部５に設けられ、青色発光層９Ｂは青色有機ＥＬ素子４Ｂが設けられる開口部５に設けられる。
【０２４５】
第２電極１０は有機ＥＬ素子４が設けられる表示領域において全面に形成される。すなわち第２電極１０は、第２の有機ＥＬ層９上だけでなく、隔壁３上にも形成され、複数の有機ＥＬ素子に亘って連続して形成されている。
【０２４６】
上述のように、支持基板２上に形成された複数の有機ＥＬ素子４を、封止層及び封止基板で覆うことにより（図示せず）、有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
【０２４７】
本発明の感光性樹脂組成物から得られるパターンは、高い塗れ性を持つものであるため、特に、インクジェット法でカラーフィルタ、液晶表示素子のＩＴＯ電極、有機ＥＬ表示素子及び回路配線基板等を作製するために用いられる隔壁として有用である。さらに、例えば、カラーフィルタ基板及び／又はアレイ基板の一部を構成するフォトスペーサ、パターニング可能なオーバーコート、層間絶縁膜、液晶配向制御用突起、マイクロレンズ、膜厚調整のためのコート層等、タッチパネル用の部材として有用であり、上記のようにして得られるパターンを有さない塗膜は、カラーフィルタ基板及び／又はアレイ基板の一部を構成するオーバーコートとして有用である。前記のカラーフィルタ基板及びアレイ基板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置及び電子ペーパー等に好適に用いられる。
【実施例】
【０２４８】
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。
【０２４９】
［合成例１］
還流冷却器、滴下ロートおよび攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６６部、メトキシプロパノール５２部を入れ撹拌しながら８５℃まで加熱した。次いで３、４−エポキシトリシクロ[５．２．１．０２，６]デカン−８及び／又は９−イルアクリレートの混合物２３３部、ｐ−ビニル安息香酸７７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１２５部、メトキシプロパノール１１５部の混合溶液を４時間かけてフラスコ内に滴下した。
一方、２、２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３２部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２１０部に溶解した混合溶液を５時間かけてフラスコ内に滴下した。滴下終了後、３時間同温度で保持した後、室温まで冷却して、Ｂ型粘度（２３℃）４６ｍＰａｓ、固形分３３．７％、溶液酸価８３ｍｇ−ＫＯＨ／ｇの共重合体（樹脂Ａ１ａ）溶液を得た。得られた樹脂Ａ１ａの重量平均分子量Ｍｗは７．７×１０３、分子量分布は１．９０であった。樹脂Ａ１ａは、以下の構造単位を有する。
2015179257.tif 000020
【０２５０】
（合成例２）
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気とし、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル１４０部を入れ、撹拌しながら７０℃まで加熱した。次いでメタクリル酸４０部；並びに単量体（Ｉ−１）及び単量体（ＩＩ−１）の混合物｛混合物中の単量体（Ｉ−１）：単量体（ＩＩ−１）のモル比＝５０：５０｝３６０部を、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル１９０部に溶解させた溶液を調製し、この溶液を、滴下ロートを用いて４時間かけて、フラスコ内に滴下した。
2015179257.tif 000021
一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３０部をジエチレングリコールエチルメチルエーテル２４０部に溶解させた溶液を、別の滴下ポンプを用いて５時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤溶液の滴下が終了した後、７０℃で４時間保持し、その後室温まで冷却して、固形分４２．３％の共重合体（樹脂Ａ１ｂ）の溶液を得た。得られた樹脂Ａ１ｂの重量平均分子量（Ｍｗ）は８．０×１０３、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．９１、酸価は６０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇであった。樹脂Ａ１ｂは、下記の構造単位を有する。
2015179257.tif 000022
【０２５１】
（合成例３）
冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、ｔ−ブトキシスチレン１７６部およびアゾビスブチロニトリル５．８部を入れ、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル２５０部を加えて溶解させて、７５℃で４時間重合させた。得られたポリｔ−ブトキシスチレン溶液に５％硫酸水溶液５０部を混合して、１００℃で３時間加水分解反応を行った。反応生成物を脱イオン水１０００部で３回洗浄し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５００部を加えて溶剤置換を行い、重量平均分子量（Ｍｗ）２４，０００のアルカリ可溶性樹脂（ポリヒドロキシスチレン、樹脂Ａｃ）を得た。
【０２５２】
（合成例４）
冷却管、攪拌機および温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１４５部を窒素置換しながら攪拌し、１２０℃に昇温した。ここにスチレン２０部、グリシジルメタクリレート５７部およびトリシクロデカン骨格を有するモノアクリレート（日立化成社製「ＦＡ−５１３Ｍ」）８２部を滴下し、さらに１４０℃で２時間攪拌し続けた。次に、反応容器内を空気置換し、アクリル酸２７部にトリスジメチルアミノメチルフェノール０．７部およびハイドロキノン０．１２部を加え、１２０℃で６時間反応を続けた。その後、テトラヒドロ無水フタル酸（ＴＨＰＡ）５２部と、トリエチルアミン０．７部を加え、１２０℃で３．５時間反応させ、重量平均分子量（Ｍｗ）約７，０００、固形分酸価８４ｍｇ・ＫＯＨ／ｇのアルカリ可溶性樹脂（樹脂Ａｄ）を得た。
【０２５３】
（合成例５）
冷却管、攪拌機および温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテル３６１部に、エポキシ樹脂（日本化薬製：ＸＤ−１０００）４００部を加え、９０℃で３時間溶解した。次にメタクリル酸１４２部、メトキノン０．２７部、ジメチルベンジルアミン１０．８部を加え、９０℃で１５時間反応した。その後、テトラヒドロ無水フタル酸２０１部を加え、９０℃で４時間反応し、プロピレングリコールモノメチルエーテル３８２部を加え、下記式で表される重量平均分子量（Ｍｗ）約２，０００、固形分酸価１０３ｍｇ・ＫＯＨ／ｇのアルカリ可溶性樹脂（樹脂Ａｅ）を得た。
2015179257.tif 000023
（式中、ｎは整数を表す。Ｍｅはメチル基を表す。）
【０２５４】
（合成例６）
冷却管、攪拌機および温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテル４５０部、ｐ−ビニル安息香酸５０部、Ｎ−フェニルマレイミド１２部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２０部及び２−エチルヘキシルメタクリレート１８部を仕込み、窒素ガスを注入しながら９２℃に加温した。次に２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）６部を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部に溶解させた溶液を加え、同温度にて３時間保持して重合した。その後、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３部を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２６．７部に溶解させた溶液を加え、反応溶液の温度を１００℃に上昇させ、この温度を１時間保持して重合することにより、バインダー樹脂（樹脂Ａｆ）の溶液（固形分濃度＝１６質量％）を得た。樹脂Ａｆの重量平均分子量（Ｍｗ）は９，８５０、数平均分子量（Ｍｎ）は５，１５０であった。
【０２５５】
（合成例７）
還流冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた四つ口フラスコ中にα−クロロアクリル酸３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル７８部、メタクリル酸１９．５部、イソボルニルメタクリレート１９．５部、グリシジルメタクリレート１３部、ドデカンチオール１２．７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２６６部を入れ、７０℃に加熱後、３０分間窒素気流下で撹拌した。これにアゾビスイソブチロニトリル１部を添加し、１８時間重合して、重量平均分子量（Ｍｗ）７，５００、固形分３３質量％、固形分酸価６８ｍｇＫＯＨ／ｇの重合体（樹脂Ｆａ）の溶液を得た。樹脂Ｆａは、以下の構造単位を有する。
2015179257.tif 000024
【０２５６】
合成例１〜７で得られた樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）の測定は、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行った。
装置；Ｋ２４７９（（株）島津製作所製）
カラム；ＳＨＩＭＡＤＺＵ  Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ  ＧＰＣ−８０Ｍ
カラム温度；４０℃
溶媒；ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
流速；１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器；ＲＩ
上記で得られたポリスチレン換算の重量平均分子量及び数平均分子量の比（Ｍｗ／Ｍｎ）を分子量分布とした。
【０２５７】
（実施例１〜５、比較例１〜３及び参考例１〜４）
＜感光性樹脂組成物１〜８の調整＞
実施例１〜５、比較例１及び参考例１〜４については、固形分量（％）が表３に記載の割合になるように、表３の成分をそれぞれ後述する溶剤（Ｄ）に混合して、感光性樹脂組成物を得た。
比較例２については、ＺｅｏｃｏａｔＣＰ１０１０（日本ゼオン株式会社製）を用いた。
比較例３については、ＳＵ−８３０００（株式会社日本化薬製）を、材料と同容量のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートにて希釈したものを用いた。以下、実施例１〜５の感光性樹脂組成物をそれぞれ感光性樹脂組成物１〜５と、比較例１〜３の感光性樹脂組成物をそれぞれ感光性樹脂組成物６〜８と、参考例１〜４の感光性樹脂組成物をそれぞれ感光性樹脂組成物９〜１２と記載する。
【０２５８】
【表３】
2015179257.tif 000025
【０２５９】
表３中各成分は以下のとおりである。樹脂の欄に記載した部数は、固形分換算の質量部を表す。
【０２６０】
樹脂（Ａ）；Ａａ：ｐ−ヒドロキシスチレンとアクリル酸ブチルとの共重合体〔共重合比は５０：５０、重量平均分子量；１２６００〕（マルカリンカー（登録商標）ＣＢＡ；丸善石油化学（株）製）
樹脂（Ａ）；Ａb：ｐ−ヒドロキシスチレンとスチレンとの共重合体〔共重合比は５０：５０、重量平均分子量；４０００〕（マルカリンカー（登録商標）ＣＳＴ；丸善石油化学（株）製）
樹脂（Ａ１）；Ａ１a：合成例１で得られた樹脂Ａ１ａ
樹脂（Ａ１）；Ａ１ｂ：合成例２で得られた樹脂Ａ１ｂ
樹脂（Ａ）；Ａｃ：合成例３で得られた樹脂Ａｃ
樹脂（Ａ）；Ａｄ；合成例４で得られた樹脂Ａｄ
樹脂（Ａ）；Ａｅ；合成例５で得られた樹脂Ａｅ
樹脂（Ａ）；Ａｆ；合成例６で得られた樹脂Ａｆ
重合性化合物（Ｂ）；Ｂａ：トリメチロールプロパントリアクリレート（Ａ−ＴＭＰＴ；新中村化学工業（株）製）
重合性化合物（Ｂ）；Ｂｂ：ジペンタエリスリトールポリアクリレート（Ａ−９５５０；新中村化学工業（株）製）
重合性化合物（Ｂ）；Ｂｃ：デコナールアクリレートＤＡ−３１４（ナガセケムテックス社製）
重合性化合物（Ｂ）；Ｂｄ：オグゾールＥＡ−２００（大阪ガスケミカル社製）  
重合開始剤（Ｃ）；Ｃａ；２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン（イルガキュア（登録商標）９０７；ＢＡＳＦ社製）
重合開始剤（Ｃ）；Ｃｂ；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア（登録商標）３０９；ＢＡＳＦ社製）
重合開始剤（Ｃ）；Ｃｃ；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール（保土ヶ谷化学工業（株）製）
重合開始助剤（Ｅ）；４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（ＥＡＢ−Ｆ；保土ヶ谷化学工業（株）製）
撥液剤（Ｆ）；Ｆａ；合成例７で得られた樹脂Ｆａ
撥液剤（Ｆ）；Ｆｂ；メガファック（登録商標）ＲＳ７２（ＤＩＣ社製）
界面活性剤（Ｇ）；Ｇａ；ポリエーテル変性シリコーン系界面活性剤「ＢＹＫ３３０」（ビックケミカル社製）
界面活性剤（Ｇ）；Ｇｂ；ポリエーテル変性フッ素系界面活性剤「Ｆ−５５０」（ビックケミカル社製）
密着力向上剤（Ｈ）；γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
着色分散液（Ｉ）；Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４／Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７／Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０＝５０／３５／１５（質量比）混合物１３質量部、分散剤ＢＹＫ−ＬＰＮ２１１１６（アミン価＝７３、酸価＝０、ビックケミー社製）溶液１０質量部（不揮発成分＝４０質量％）、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７７質量部を、ビーズミルにより１２時間混合・分散したもの
溶剤（Ｄ）は、下記の溶剤成分（Ｄａ）〜（Ｄｄ）を表４に示す割合で混合したものである。
溶剤（Ｄ）；Ｄａ；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
溶剤（Ｄ）；Ｄｂ；３−エトキシプロピオン酸エチル
溶剤（Ｄ）；Ｄｃ；プロピレングリコールモノメチルエーテル
溶剤（Ｄ）；Ｄｄ；３−メトキシブチルアセテート
感光性樹脂組成物の固形分量が表３の「固形分量（％）」となるように、表３の成分をそれぞれ溶剤（Ｄ）に混合した。
【０２６１】
【表４】
2015179257.tif 000026
【０２６２】
［基板洗浄］
洗浄装置（株式会社芝浦製作所製）にて、３７０ｍｍ×４７０ｍｍ×０．５ｍｍのガラス基板（コーニング社製イーグルＸＧ）を、純水を掛け流しながら、ブラシによる表面洗浄を３０秒実施し、さらに純水シャワーにより６０秒の追加洗浄を実施し、エアーにて乾燥を実施した。
【０２６３】
［透明導電膜付基板の作製］
上記により、洗浄を実施した基板を用いて、スパッタリング装置（ＵＬＶＡＣ社製インライン式スパッタリング装置、型式ＳＤＰ−５７０ＶＴ）に、ＩＴＯターゲット（東ソー株式会社製；９０％Ｉｎ２Ｏ３−１０％ＳｎＯ２）を装着し、加熱室にて３００℃に加熱後、スパッタ室にて、電力１．０５ｋＷ、アルゴンガス圧力０．６Ｐａ、成膜時間１１５秒にて、透明導電膜ＩＴＯを５０ｎｍ成膜した。さらに成膜後の基板を、大気中で２３０℃、３０分のアニールを実施し、ＩＴＯ付きガラス基板を得た。
【０２６４】
［隔壁付基板の作製］
（実施例１の隔壁付基板の作製）
上記にて作製した透明導電膜付基板に対して、ＵＶ−Ｏ３洗浄装置（日立ハイテクノロジ―社製；ＰＬ３−２００−１５）を用い、積算光量４００ｍＪ/cm2下で親水化処理を実施し、純水にて洗浄、エアーにて乾燥を実施した。この基板に対して、調整済みの感光性樹脂組成物１を３０ｇ滴下し、スピンコータにて９００ｒｐｍにて７秒回転させ、感光性樹脂組成物１からなる薄膜を塗布形成した。その後、真空乾燥装置（東京応化工業株式会社製；ＴＲ２８３４０ＣＰＤ−ＣＬＴ）にて６６Ｐａまで減圧乾燥を行い、ホットプレートにて１１０℃、１１０秒コンタクトしプリベークを実施した。次に、露光装置（日立ハイテクノロジ―社製；ＬＥ４０００Ａ）を用いて、露光を実施した。露光量は２００ｍＪ／ｃｍ２、Ｇａｐは１００μｍとした。フォトマスクには、パターン（遮光部の形状が、長軸方向３００μｍ、短軸方向１００μｍの長方形から、その四隅を円弧状にカットした形（長丸））が同一平面上に形成されたものを用いた。その後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（トクヤマ（株）製、トクソーＳＤ２５）を濃度が２．３８％となるように純水で希釈して調製した現像液を使用し、前記塗膜をシャワー現像機（セファテクノロジー株式会社製）にて、２３℃で８０秒間現像し、水洗およびエアー乾燥後、オーブン（エスペック社製：ＨＳＣ−４）中、２３０℃で２０分間ポストベークを行い、パターンを得た。
【０２６５】
（実施例２〜５、比較例１の隔壁付基板の作製）
感光性樹脂組成物１にかえて、感光性樹脂組成物２〜６を用いたこと以外は実施例１と同様にして実施例２〜５、比較例１の隔壁付基板を作製した。
【０２６６】
（比較例２の隔壁付基板の作製）
感光性樹脂組成物１にかえて、感光性樹脂組成物７を用いたこと、パターン（開口部の形状が、長軸方向３００μｍ、短軸方向１００μｍの長方形から、その四隅を円弧状にカットした形（長丸））が、同一平面上に形成されたフォトマスクを用いて露光を実施し、２３０℃で６０分間ポストベークを行ったこと以外は、実施例１と同様にして比較例２の隔壁付基板を作製した。
【０２６７】
（比較例３の隔壁付基板の作製）
感光性樹脂組成物１にかえて、感光性樹脂組成物８を用いたこと、現像液としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを用いて、２３℃で８０秒間揺動しながら浸漬して現像しこと以外は、実施例１と同様にして比較例３の隔壁付基板を作製した。
【０２６８】
感光性樹脂組成物１にかえて、感光性樹脂組成物９〜１２を用いたこと以外は実施例１と同様にして参考例１〜４の隔壁付基板を作製した。
【０２６９】
［塗れ性評価用溶液作製］
隔壁の塗れ性評価を実施する溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（和光純薬株式会社製、９９．５％以上）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（東京化成工業株式会社製、９９．０％以上）の２種類を選定した。選定した溶媒２種類は、粘度が低いため、インクジェット装置による隔壁への液の充填が可能となるよう、粘度の調整材料として、シクロヘキサノール（和光純薬株式会社製、９８．０％以上）を用いて、混合溶媒として使用した。
【０２７０】
また溶媒単体では、乾燥後の塗れ広がりを顕微鏡にて観察することが困難であるため、溶質として、ローダミンＢ（東京化成工業株式会社製、純度９５％以上）を用いた。
下記表５に示す３種類の溶液１、２、３を調整した。
【０２７１】
【表５】
2015179257.tif 000027
【０２７２】
［開口の確認方法］
パターニング後の基板を顕微鏡（ＯＬＩＭＰＵＳ社製ＭＸ６１Ｌ、レンズＬＭＰＦＬＮ１０ｘＢＤ）を用いて観察した場合に、前記倍率の顕微鏡にて存在確認が可能な有機膜を隔壁、また基板上に隔壁が存在し、かつ前記倍率の顕微鏡にて、有機膜が観察されず、電極が露出している部分を開口とする。
【０２７３】
［塗れ性評価］
隔壁内にインクジェット装置（ＵＬＶＡＣ社製Ｌｉｔｌｅｘ１２０Ｌ）を用いて、上記の溶液１、２、３を各隔壁内に２００ｐＬずつ、１０００箇所の隔壁へ充填し、乾燥後に溶質が隔壁端部まで、広がっているかについて顕微鏡（ＯＬＩＭＰＵＳ社製ＭＸ６１Ｌ、レンズＬＣＰＦＬＮ２０ｘＬＣＤ）を用いて、３０箇所の観察を実施し、３０箇所全てが塗れ広がっている場合に、塗れ性が良好であるとした。
【０２７４】
今回用いた隔壁では、撥液性がない状態で評価を実施しているものがあるため、溶液を充填した際に、隔壁からの漏れが発生する場合があるが、隔壁内に残った液にて、塗れ広がりの評価を実施した。
【０２７５】
［極性評価］
（接触角測定）
隔壁作製後の基板内でＩＴＯが露出した部分を用いて、純水、グリセロール（シグマアルドリッチ製、純度９９．５％以上）、ホルムアミド（シグマアルドリッチ社製、純度９９．５％以上）、ジヨードメタン（シグマアルドリッチ社製、純度９９％）の４種類の溶媒を用い、基板面内３点測定を実施し、平均を出すことで評価を実施した。
【０２７６】
（極性計算）
極性計算には、上述のＯｗｅｎｓａｎｄＷｅｎｄｔ法を適用した。本実施例では、上記の４種類の溶媒を使用して接触角を測定し、その値をもとに、下記ＵＲＬにおいて公開されている極性計算ソフトを使用して、ＯｗｅｎｓａｎｄＷｅｎｄｔ法に基づいて電極の表面自由エネルギーの極性成分の値を算出した。
＜ＵＲＬ：http://www007.upp.so-net.ne.jp/y-kondo/surface.htm＞
【０２７７】
実施例と比較例と参考例の結果を表６に示す。表６では、良好を「○」で示し、不良を「×」で示している。
【０２７８】
【表６】
2015179257.tif 000028
【０２７９】
以上の実施例の結果から、本発明の感光性樹脂組成物を用いると、電極表面が露出するパターンを形成した後のＩＴＯの表面は、表面自由エネルギーの極性成分の値が高く、ＩＴＯの表面の濡れ性に優れたパターンが得られることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０２８０】
本発明の感光性樹脂組成物によれば、電極表面上がぬれ性に優れたパターンを得ることができる。
【符号の説明】
【０２８１】
１    表示装置
２    支持基板
３    隔壁
４    有機ＥＬ素子
５    凹部（開口部）
６    第１電極
７    第１の有機ＥＬ層（正孔注入層）
９    第２の有機ＥＬ層（発光層）
１０    第２電極
【図１】
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【図２】
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