(57)【要約】【課題】優れた反射防止性、ハードコート性、透明性、耐擦傷性を備え、耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルムなどを提供する。【解決手段】反射防止フィルム１は、透明基材１０とハードコート層１１と中屈折率層１２と高屈折率層１３と低屈折率層１４とを備え、中屈折率層１２は、高屈折率微粒子１３１と、紫外線硬化型材料と、中屈折率層１２の膜厚と高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の０．５〜１．２倍の平均粒子径を有する微粒子１３２とを含み、低屈折率層１４の屈折率＜ハードコート層１１の屈折率＜中屈折率層１２の屈折率＜高屈折率層１３の屈折率の関係式を満たし、低屈折率層１４の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．００３〜０．０２０μｍで、且つ、低屈折率層１４の表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０３０〜１．０００ｍｍで、且つ、反射防止フィルム１のヘイズ値が０．３％以下である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に、互いに屈折率の異なる２層以上の薄膜層が設けられた反射防止フィルムであって、
透明基材と、
前記透明基材の少なくとも一方の面上に積層されたハードコート層と、
前記ハードコート層上に積層された中屈折率層と、
前記中屈折率層上に積層された高屈折率層と、
前記高屈折率層上に積層された低屈折率層とを備え、
前記中屈折率層は、高屈折率微粒子と、紫外線硬化型材料と、前記中屈折率層の膜厚と前記高屈折率層の膜厚と前記低屈折率層の膜厚とを合わせた膜厚の０．５〜１．２倍の平均粒子径を有する微粒子とを含み、
前記ハードコート層の屈折率ｎ（Ｈａｒｄ）と、前記中屈折率層の屈折率ｎ（Ｍｉｄｄｌｅ）と、前記高屈折率層の屈折率ｎ（Ｈｉｇｈ）と、前記低屈折率層の屈折率ｎ（Ｌｏｗ）とが、ｎ（Ｌｏｗ）＜ｎ（Ｈａｒｄ）＜ｎ（Ｍｉｄｄｌｅ）＜ｎ（Ｈｉｇｈ）の関係式を満たし、
前記低屈折率層の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．００３〜０．０２０μｍで、且つ、前記低屈折率層の表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０３０〜１．０００ｍｍで、且つ、前記反射防止フィルムのヘイズ値が０．３％以下であることを特徴とする、反射防止フィルム。
【請求項２】
前記反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以下であることを特徴とする、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記中屈折率層の屈折率が１．４７から１．７０までの範囲内にあり、前記高屈折率層の屈折率が１．５５から２．２０までの範囲内にあり、前記低屈折率層の屈折率が１．２５から１．４５までの範囲内にあることを特徴とする、請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする偏光板。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とするタッチパネル基板。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、互いに屈折率の異なる２層以上の薄膜層が設けられた反射防止フィルムと、その反射防止フィルムを備える偏光板、タッチパネル基板及び画像表示装置とに関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光等が入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射して、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須である。特に近年モバイル端末の普及が進み、日中の屋外においては、屋内にて使用する場合よりも強い外光にさらされるため、屋外でも視認性を損なわない、低反射率の反射防止フィルムが求められている。
【０００３】
また、定置設置型の画像表示装置に反射防止フィルムを適応する場合、その多くは、固定光源からの反射光を低減することが前提となっている。これは、外光の入射角が変化しないことを意味する。これに対し、モバイル端末の場合、屋外での使用や手元での操作がなされるため、外光の入射が様々な角度から起こり、さらに、視聴者も様々な角度でディスプレイを観察する場合が多くなる。よって、モバイル端末に対して反射防止フィルムを適応しようとした場合、正面からの反射光のみではなく、あらゆる入射角の光源に対しての反射光、特に反射光の色味について検討する必要がある。
【０００４】
これに対し、例えば反射防止フィルムの色付きを抑制する目的で、導電性金属酸化物と屈折率低減化物質、及び紫外線硬化型樹脂よりなる帯電防止層を形成する方法が示されている（例えば特許文献１）。
【０００５】
このような反射防止フィルムは、少なくとも最表面に例えば膜厚２００ｎｍ以下の薄膜層である低屈折率層を設け、その低屈折率層の光学干渉によって反射防止を行う。しかし、最も単純な構成である低屈折率層一層で反射防止を行う一層薄膜干渉型の場合は、反射率１％以下を満足するものがない。さらに、反射率０．５％以下を達成するための構造として、支持体と低屈折率層の間に高屈折率層を形成する二層薄膜干渉型、または、支持体と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層を順次形成する三層薄膜干渉型等、多層の光学干渉によって反射を防止する多層薄膜干渉型反射防止フィルムが知られている。
【０００６】
このような反射防止フィルムは、最表面に適切な膜厚の低屈折率層、場合により支持体との間に適宜高屈折率層、中屈折率層、ハードコート層などを形成することにより作製できる。低い反射率を実現するために低屈折率層にはできるだけ屈折率の低い材料が望まれる。また反射防止フィルムは最表面に用いられることから、ディスプレイ装置の保護膜としての機能が期待される。汚れやほこりが付着しにくいことや、耐擦傷性が強いことが求められる。厚さ１００ｎｍ前後の薄膜において高い耐擦傷性を実現するためには、皮膜自体の強度、および下層への密着性が必要である。
【０００７】
材料の屈折率を下げるには、フッ素原子を導入する、密度を下げる（空隙を導入する）という手段があるが、いずれも皮膜強度および密着性が損なわれ耐擦傷性が低下する方向であり、低い屈折率と高い耐傷性の両立は困難な課題であった。
【０００８】
そこで、低屈折率層の耐擦傷性を維持したまま、反射防止膜としての反射率を抑えるためには、支持体と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層などを順次形成する多層薄膜干渉型が有効である。特に、広い波長範囲で反射を防止し、反射色を抑えながら、低反射率とするために、三層薄膜干渉型が望ましい。
【０００９】
高屈折率層や中屈折率層を形成する際、高い屈折率を有する有機物質を使用すると、屈折率の上限が低く、かつ、可視域での色付きが起こりやすいといった問題がある。高屈折率層を形成するには、通常高い屈折率を有する無機微粒子をより微細に分散し、薄膜の中に導入する。高い屈折率を有する無機微粒子を微細な分散状態に保ったまま、より多くの無機微粒子を薄膜中に導入することで、より高い屈折率を有する透明な高屈折率層や中屈折率層が形成される。
【００１０】
一方、ディスプレイ表面に用いられる場合、視認性を高くするために、反射防止フィルムは高い透明性が要求される。反射防止フィルムの透明性を向上させるために、反射防止フィルム表面をなるべく平滑にし、外光の散乱をなくす方法がある。
【００１１】
しかし、この方法では、その平滑さ故にフィルムの滑り性が悪く、フィルムを重ねたり、ロール状にしたりする場合、ブロッキング（貼り付き）が発生してしまい、剥離する際にフィルム表面が荒れてしまう。そこで、このようなブロッキング対策としては、フィルムの両端にテープ等のスペーサーを挟む方法や、フィルム表面に微細な凹凸を付与する方法等がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００３−０４５２３４号公報
【特許文献２】特開２００５−１４４８５８号公報
【特許文献３】特開２０１２−２７４０１号公報
【特許文献４】特開２０１２−１３３０７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかし、これらの方法では、フィルム加工時にテープを除去する工程が煩雑である他、フィルム表面に微細な凹凸を付与することによりフィルムの透明性が劣化するという問題が発生する。
【００１４】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、優れたハードコート性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルムと、その反射防止フィルムを備える偏光板、タッチパネル基板及び画像表示装置とを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の目的は、下記反射防止フィルム、該反射防止フィルムを備える偏光板、タッチパネル基板または画像表示装置により達成される。
【００１６】
すなわち、第１の発明は、透明基材上に、互いに屈折率の異なる２層以上の薄膜層が設けられた反射防止フィルムであって、透明基材と、透明基材の少なくとも一方の面上に積層されたハードコート層と、ハードコート層上に積層された中屈折率層と、中屈折率層上に積層された高屈折率層と、高屈折率層上に積層された低屈折率層とを備え、中屈折率層は、高屈折率微粒子と、紫外線硬化型材料と、中屈折率層の膜厚と高屈折率層の膜厚と低屈折率層の膜厚とを合わせた膜厚の０．５〜１．２倍の平均粒子径を有する微粒子とを含み、ハードコート層の屈折率ｎ（Ｈａｒｄ）と、中屈折率層の屈折率ｎ（Ｍｉｄｄｌｅ）と、高屈折率層の屈折率ｎ（Ｈｉｇｈ）と、低屈折率層の屈折率ｎ（Ｌｏｗ）とが、ｎ（Ｌｏｗ）＜ｎ（Ｈａｒｄ）＜ｎ（Ｍｉｄｄｌｅ）＜ｎ（Ｈｉｇｈ）の関係式を満たし、低屈折率層の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．００３〜０．０２０μｍで、且つ、低屈折率層の表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０３０〜１．０００ｍｍで、且つ、反射防止フィルムのヘイズ値が０．３％以下であることを特徴とする。
【００１７】
第２の発明は、第１の発明において、反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以下であることを特徴とする。
【００１８】
第３の発明は、第１または第２の発明において、中屈折率層の屈折率が１．４７から１．７０までの範囲内にあり、高屈折率層の屈折率が１．５５から２．２０までの範囲内にあり、低屈折率層の屈折率が１．２５から１．４５までの範囲内にあることを特徴とする。
【００１９】
第４の発明は、第１〜第３のいずれかの発明の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする偏光板である。
【００２０】
第５の発明は、第１〜第３のいずれかの発明の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とするタッチパネル基板である。
【００２１】
第６の発明は、第１〜第３のいずれかの反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする画像表示装置である。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、上記のような反射防止フィルムを、画像表示装置や液晶表示装置に設置することにより、反射防止フィルム表面での視感平均反射率を０．５％以下の範囲内にすることができ、正面からの反射光の色相を低減するとともに、あらゆる角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減する、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、その反射防止フィルムを備える偏光板、タッチパネル基板、画像表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムを示す概略断面図
【図２】本発明の実施の形態２に係る反射防止フィルム付偏光板を示す概略断面図
【図３】本発明の実施の形態３に係る、反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図
【図４】本発明の実施の形態４に係る、反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の反射防止フィルムについて詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２５】
本発明の実施の形態に係る反射防止フィルムは、透明基材と、透明基材の少なくとも一方の面上にハードコート層と、ハードコート層上に中屈折率層と、中屈折率層上に高屈折率層と、高屈折率層上に低屈折率層とを備え、中屈折率層は、高屈折率微粒子と、紫外線硬化型材料と中屈折率層の膜厚と高屈折率層の膜厚と低屈折率層の膜厚とを合わせた膜厚の０．５〜１．２倍の平均粒子径を有する微粒子とを含み、ハードコート層の屈折率ｎ（Ｈａｒｄ）と、中屈折率層の屈折率ｎ（Ｍｉｄｄｌｅ）と、高屈折率層の屈折率ｎ（Ｈｉｇｈ）と、低屈折率層の屈折率ｎ（Ｌｏｗ）とが、ｎ（Ｌｏｗ）＜ｎ（Ｈａｒｄ）＜ｎ（Ｍｉｄｄｌｅ）＜ｎ（Ｈｉｇｈ）であり、低屈折率層の表面の中心線平均高さ（Ｒａ）が０．００３〜０．０２０μｍであり、かつ、低屈折率層の表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０３０〜１．０００ｍｍであり、反射防止フィルムのヘイズ値が０．３％以下であることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００２６】
そして、本実施形態に係る反射防止フィルムは、反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以下であることが好ましい。
【００２７】
視感平均反射率が０．５％以上となると、反射防止効果が不十分で、外光の映り込み等が起こりやすくなってしまう。
【００２８】
そして、本実施形態に係る反射防止フィルムは、中屈折率層の屈折率が１．４７から１．７０までの範囲内にあり、高屈折率層の屈折率が１．５５から２．２０までの範囲内にあり、低屈折率層の屈折率が１．２５から１．４５までの範囲内にあることが好ましい。
【００２９】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルム１を示す概略断面図である。反射防止フィルム１は、図１に示すように、透明基材１０の少なくとも一方の面上に、ハードコート層形成用塗液から形成されたハードコート層１１と、高屈折率微粒子１３１と微粒子１３２を含む中屈折率層形成用塗液から形成された中屈折率層１２と、高屈折率微粒子１３１を含む高屈折率層形成用塗液から形成された高屈折率層１３と、低屈折率微粒子１４１を含む低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層１４とを順次積層した積層体である。
【００３０】
図１は、透明基材１０の上面（表側の面）にだけ、ハードコート層１１と、中屈折率層１２と、高屈折率層１３と、低屈折率層１４とを形成した反射防止フィルム１の一例である。
【００３１】
まず、透明基材１０について説明する。透明基材１０としては、種々の有機高分子からなるフィルムを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材を用いることができる。透明基材１０としては、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものを用いることができる。特に、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムが好適に用いることができる。セルロース系フィルムは、複屈折が少なく、透明性、屈折率、分散等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性に優れている。さらに、セルロース系フィルムは、溶剤によって容易に溶解または膨潤するので、最も好ましく用いられる。
【００３２】
透明基材１０に、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加してもよい。また、透明基材１１の厚さは特に限定されるものではない。しかしながら、透明基材１１の厚さは、２０μｍ以上、２００μｍ以下が好ましい。ただし、透明基材１１として、トリアセチルセルロースフィルムを用いる場合には、透明基材１１の厚さは、４０μｍ以上、８０μｍ以下が好ましい。
【００３３】
次に、透明基材１０上に形成されるハードコート層１１について説明する。ハードコート層１１を形成するためには、まず、バインダマトリックス形成材料と透明基材１０を溶解または膨潤させる溶剤とを含むハードコート層形成用塗液を使用して塗膜を形成する。ハードコート層形成用塗液の塗工方法として、例えば、湿式成膜法を採用し、ハードコート層形成用塗液を透明基材１０上に塗布し、透明基材１０上に塗膜を形成する。その後、該塗膜に電離放射線を照射し、該塗膜を硬化させることにより、ハードコート層１１を形成することができる。
【００３４】
ハードコート層形成用塗液は、バインダマトリックス形成材料として、紫外線硬化型材料であるアクリル系材料を含んでいることが好ましい。アクリル系材料としては、多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコールおよび（メタ）アクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。また、これらの他にも、紫外線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００３５】
なお、本発明において、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」と「メタクリル」の両方を示し、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示し、「（メタ）アクリロイル」とは、「アクリロイル」と「メタクリロイル」の両方を示している。例えば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタクリレート」の両方を示している。
【００３６】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレート等のアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３７】
２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３８】
３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００３９】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成されるハードコート層１１の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００４０】
ハードコート層形成用塗液に含まれる溶剤としては、透明基材１０を溶解または膨潤させる溶剤を用いる。透明基材１０を溶解または膨潤させる溶剤を含むハードコート層形成用塗液を用いてハードコート層１１を形成することにより、透明基材１０とハードコート層１１との密着性を向上させることができる。すなわち、透明基材１０の成分とハードコート層１１の成分とが混在したハードコート層１１を形成することができ、得られる反射防止フィルム１において干渉ムラの発生を防ぐことができる。
【００４１】
透明基材１０としてセルロース系フィルムを用いた場合、セルロース系フィルム表面を溶解または膨潤させる溶剤としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられ、これらを単独で、もしくは２種類以上組み合わせて用いることができる。また、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトンおよびシクロヘキサノンの少なくとも１種類を用いることが好ましい。
【００４２】
また、ハードコート層１１に四級アンモニウムカチオンや導電性金属微粒子等を添加し、ハードコート層１１に導電性を付与しても構わない。
【００４３】
ハードコート層１１の形成方法としては、ウェットコーティング法とされる、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等を採用することができ、透明基材１０の少なくとも一方の面上にハードコート層形成用塗液を塗布することにより、ハードコート層１１を形成することができる。特に、ハードコート層１１は、薄く、均一に層を形成する必要性があることから、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。また、ハードコート層１１として、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることが好ましい。
【００４４】
ハードコート層１１を形成する際の塗膜の硬化方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を採用することができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、フュージョンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。
【００４５】
ハードコート層１１の膜厚は、３μｍ以上であれば十分な強度となるが、塗工精度、取扱いの点から、５μｍ以上、１０μｍ以下の範囲であることが好ましい。ハードコート層１１の膜厚が１０μｍを超えると、硬化収縮による透明基材１０の反り、ゆがみ、折れが発生する虞がある。なお、ハードコート層１１の膜厚が５μｍ以上、７μｍ以下の範囲であると、ハードコート層１１として非常に好ましい。
【００４６】
次に、ハードコート層１１上に形成される中屈折率層１２について説明する。中屈折率層１２は、高屈折率微粒子１３１と、中屈折率層１２の膜厚と高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の０．５〜１．２倍の平均粒子径を有する微粒子１３２とを含む中屈折率層形成用塗液をハードコート層１１の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき中屈折率層１２単層の膜厚（ｄ１）は、その膜厚（ｄ１）に中屈折率層１２の屈折率（ｎ１）を乗じることによって得られる光学膜厚（ｎ１ｄ１）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計されることが好ましい。中屈折率層形成用塗液としては、バインダマトリックス形成材料に高屈折率微粒子１３１及び微粒子１３２を分散させたものを用いることができる。
【００４７】
本発明の中屈折率層１２の屈折率は１．４７から１．７０までの範囲内にあることが望ましく、１．５０〜１．６５であることがさらに望ましい。中屈折率層１２の屈折率は、低屈折率層１４の屈折率と、高屈折率層１３の屈折率との間の値となるように調整される。
【００４８】
また、中屈折率層１２の膜厚は、光学干渉層としての特性から、５ｎｍ〜１μｍの範囲内にあることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍの範囲内にあることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍの範囲内にあることが最も好ましい。
【００４９】
高屈折率微粒子１３１としては、例えば、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＮｂＯ、ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＳｂＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ等の高屈折率材料からなる微粒子を用いることができる。屈折率の観点から、二酸化チタンの微粒子がより好ましい。このとき、光活性がより弱いルチル型の二酸化チタンの微粒子が好ましい。
【００５０】
なお、高屈折率微粒子１３１に対して表面処理を施してもよい。表面処理とは、無機化合物および／または有機化合物を用いて該粒子表面の改質を実施するものである。表面処理の実施により無機微粒子表面の濡れ性が調整され有機溶媒中での微粒子化、高屈折率層形成用組成物中での分散性や分散安定性が向上するため、表面処理を実施することが好ましい。粒子表面に物理化学的に吸着させる無機化合物としては、例えば、ケイ素を含有する無機化合物（ＳｉＯ2 等）、アルミニウムを含有する無機化合物［Ａｌ2Ｏ3，Ａｌ（ＯＨ）3 等］、コバルトを含有する無機化合物（ＣｏＯ2 ，Ｃｏ２Ｏ3 ，Ｃｏ3Ｏ4 等）、ジルコニウムを含有する無機化合物［ＺｒＯ2 ，Ｚｒ（ＯＨ）4 等］、鉄を含有する無機化合物（Ｆｅ2Ｏ3 等）等を用いることができる。
【００５１】
表面処理に用いる有機化合物の例には、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤を用いることができる。このような表面改質剤は、例えば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章（技術情報協会、２００１年刊行）等に記載されている。
【００５２】
具体的には、無機微粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物、カップリング化合物を用いることができる。無機微粒子表面と親和性を有する極性基としては、カルボキシ基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等を用いることができ、分子中に少なくとも１種を含有する化合物が好ましい。例えば、長鎖脂肪族カルボン酸（例えばステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等）、ポリオール類のポリ（メタ）アクリレート化合物（例えばペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ＥＣＨ（エピクロルヒドリン）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート等）、ホスホノ基含有化合物（例えばＥＯ（エチレンオキサイド）変性リン酸トリ（メタ）アクリレート等）、アルカノールアミン（エチレンジアミンＥＯ付加体（５モル）等）を用いることができる。
【００５３】
カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物を用いることができ、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。具体的には、例えば特開２０００−９９０８号公報、特開２００１−３１０４２３号公報の明細書中の段落［００１１］〜［００１５］記載の化合物等を用いることができる。これらの表面処理は、２種類以上を併用することもできる。
【００５４】
本発明に用いられる高屈折率微粒子１３１は、これをコアとして他の無機化合物からなるシェルを形成したコア／シェル構造の微粒子であることも好ましい。シェルとしては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｒから選ばれる少なくとも１種の元素からなる酸化物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−１６６１０４号公報に記載の内容が挙げられる。
【００５５】
本発明で使用される高屈折率微粒子１３１の形状は、特に限定されないが、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状または不定形状が好ましい。本発明における無機微粒子は、１種類の形状の微粒子を単独で用いてもよいが、２種類以上の形状の微粒子を併用して用いることもできる。
【００５６】
高屈折率微粒子１３１の平均粒子径は、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが好ましい。高屈折率微粒子１３１の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、中屈折率層１２のヘイズ値が高くなってしまい、反射防止フィルム１の透明性が低下する恐れがある。一方、高屈折率微粒子１３１の平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、中屈折率層１２における粒子の不均一性等の問題が生じる恐れがある。
【００５７】
本発明では、中屈折率層１２が高屈折率微粒子１３１を固形分中に１０重量部以上８０重量部以下含有することが望ましい。１０重量部未満だと、十分に高い屈折率を得ることが困難となり、８０重量部を超えると硬度不足等を引き起こし、粒子の脱落及び塗工中のフィルム表面への付着により、外観故障の原因となり好ましくない。
【００５８】
微粒子１３２は、中屈折率層１２の膜厚と高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の０．５〜１．２倍の平均粒子径を有し、好ましくは反射防止フィルム１のヘイズ値が後述する範囲となるようにすることができるものであればよく、特に限定されない。微粒子１３２としては、例えば、ポリメチルメタクリレート微粒子、ポリメチルメタクリレート−ポリスチレン共重合体微粒子等の透光性の有機樹脂粒子、又は、シリカ等の可視光散乱を起こさない大きさの無機フィラー等を用いることができる。
【００５９】
微粒子１３２（無機粒子）としては、屈折率が１．４０以上２．５０以下の範囲内にあることを特徴とし、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを用いることができる。その中でも特に二酸化ケイ素が好ましい。
【００６０】
微粒子１３２の平均粒子径は、中屈折率層１２の膜厚と高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の０．５〜１．２倍、より好ましくは０．６〜１．１倍である。微粒子１３２の平均粒子径が、中屈折率層１２の膜厚と高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の０．５倍未満の場合、バインダマトリックス内に微粒子１３２が完全に埋没してしまい、反射防止フィルム１の表面に凹凸を付与することができず、耐ブロッキング性の向上効果を発現させることができない。一方、微粒子１３２の平均粒子径が屈折率層１２の膜厚と高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の１．２倍を超える場合、中屈折率層１２上に高屈折率層１３を塗工する場合に塗工ムラが発生しやすくなったり、反射防止フィルム１表面の凹凸が大きくなってしまい、この凹凸部により表面に傷が付きやすくなってしまう。
【００６１】
微粒子１３２の含有量は、中屈折率層形成用塗液の全固形分１００重量部に対して０．５〜３．０重量部、好ましくは０．８〜２．５重量部である。微粒子１３２の含有量が０．５重量部未満の場合、ブロッキングを防ぐほどの凹凸を反射防止フィルム１の表面に付与することができない。一方、微粒子１３２の含有量が３．０重量部を超える場合、微粒子１３２を分散させることが困難となり、微粒子１３２の偏在を引き起こしてしまう。
【００６２】
なお、平均粒子径が屈折率層１２の膜厚と高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の０．５〜１．２倍である微粒子１３２を、中屈折率層用形成用塗液に添加する代わりに、ハードコート層形成用塗液に添加して、反射防止フィルム１の表面に凹凸を付ける場合、ハードコート層１１はある程度膜厚を有していなければ、ハードコート性を発現しない。それ故に、反射防止フィルム１の表面に凹凸を付与しようとすると、添加する微粒子１３２の粒子径も大きくする必要がある。しかし、微粒子１３２の粒子径を大きくすると、反射防止フィルム１のヘイズ値が上昇するという問題が起こる。また、最表面である低屈折率層１４に、中屈折率層１２の膜厚と高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚を合わせた膜厚の０．５〜１．２倍である微粒子１３２を添加するよりも、内部である中屈折率層１２に微粒子１３２を添加する方が、反射防止フィルム１の表面の凹凸がなだらかとなり、凹凸起因によるキズ付きを防ぐことができる。
【００６３】
中屈折率層１２を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、紫外線硬化型材料を含む。紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、又は、単官能性モノマーを含有する紫外線硬化型樹脂が用いられる。紫外線硬化型材料としては、例えば、ハードコート層１１に用いられる紫外線硬化型材料として例示した単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物であるアクリル系材料を用いることができる。
【００６４】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成される中屈折率層１２の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００６５】
なお、中屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒を加えることができる。溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から、塗工適性等を考慮して適宜選択して用いることができる。
【００６６】
また、バインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより中屈折率層１２を形成する場合には、中屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、具体例としては、アセトフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、チオキサンソン系化合物、トリアジン系化合物、ホスフィン系化合物、キノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チタノセン系化合物等を用いることができる。アセトフェノン系化合物としては、４ − フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン等が例示できる。また、ベンゾイン系化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等が例示できる。ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４ ’−メチルジフェニルサルファイド等が例示できる。オキシムエステル系化合物としては、エタノン,１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−(０−アセチルオキシム)、１，２−オクタジオン−１−[４−(フェニルチオ)−，２−(Ｏ−ベンゾイルオキシム)]等が例示できる。チオキサンソン系化合物としては、チオキサンソン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等が例示できる。トリアジン系化合物としては、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペニル−４，６−ビス（ トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（ トリクロロメチル）−６−スチリルｓ−トリアジン、２−（ ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４ ，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４ ’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等が例示できる。ホスフィン系化合物としては、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が例示できる。また、キノン��化合物としては、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等を例示できる。光重合開始剤は、例示したものを単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６７】
光重合開始剤の含有量は、固形分中に０．０１〜２０重量部、好ましくは０．０１〜５重量部で用いることができる。
【００６８】
また、中屈折率層形成用塗液には、その他の添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等を用いることができる。
【００６９】
中屈折率層１２を形成する方法としては、中屈折率層形成用塗液をハードコート層１１の表面に塗布して中屈折率層１２を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった真空中で中屈折率層１２を形成する真空成膜法による方法とに分けられるが、特に限定されるものではない。しかしながら、本発明においては、安価に反射防止フィルム１を製造することができるという点から、湿式成膜法を採用することが好ましい。
【００７０】
次に、中屈折率層１２上に形成される高屈折率層１３について説明する。高屈折率層１３は、高屈折率微粒子１３１を含む高屈折率層形成用塗液を中屈折率層１２の表面に塗布する湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき高屈折率層１３単層の膜厚（ｄ２）は、その膜厚（ｄ２）に高屈折率層１３の屈折率（ｎ２）を乗じることによって得られる光学膜厚（ｎ２ｄ２）が可視光の波長の１／２と等しくなるように設計されることが好ましい。高屈折率層形成用塗液としては、バインダマトリックス形成材料に高屈折率微粒子１３１を分散させたものを用いることができる。
【００７１】
本発明の高屈折率層１３の屈折率は、１．５５から２．２０までの範囲内にあることが望ましい。反射防止フィルム１の色付きを抑制する観点からは、１．５６〜１．８５の範囲内にあることが特に好ましい。高屈折率層１３の屈折率を調整する手段は、屈折率に対して支配的な高屈折微粒子１３１の種類及び添加量の少なくとも一方を調整することである。
【００７２】
また、高屈折率層１３の膜厚は、光学干渉層としての特性から、５ｎｍ〜１μｍの範囲内にあることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍの範囲内にあることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍの範囲内にあることが最も好ましい。
【００７３】
高屈折率層形成用塗液は、中屈折率層形成用塗液に用いた高屈折率微粒子１３１の添加量を変更することで、作製することができる。高屈折率微粒子１３１の種類は、中屈折率層形成用塗液に用いた高屈折率微粒子１３１と同じものでもよく、また異なる種類を用いてもよい。目的とする屈折率、添加量によって適宜変更することが出来る。
【００７４】
高屈折率層１３を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、紫外線硬化型材料を含む。紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、又は、単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。紫外線硬化型材料としては、中屈折率層１２に用いられる紫外線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。
【００７５】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成される高屈折率層１３の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００７６】
なお、高屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、中屈折率層１２の用いられる溶媒として例示したものを用いることができる。また、添加剤としては、例えば、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等が挙げられる。
【００７７】
また、バインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより高屈折率層１３を形成する場合には、高屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、中屈折率層形成用塗液に加えられる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。
【００７８】
高屈折率層１３を形成する方法としては、高屈折率層形成用塗液を中屈折率層１２の表面に塗布する方法など、中屈折率層１２を形成する方法として例示した方法を採用することができる。
【００７９】
次に、高屈折率層１３上に形成される低屈折率層１４について説明する。低屈折率層１４は、低屈折率微粒子１４１を含む低屈折率層形成用塗液を、高屈折率層１３の表面に塗布する湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき反射防止層である低屈折率層１４単層の膜厚（ｄ３）は、その膜厚（ｄ３）に低屈折率層１４の屈折率（ｎ３）を乗じることによって得られる光学膜厚（ｎ３ｄ３）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計されることが好ましい。低屈折率層形成用塗液としては、バインダマトリックス形成材料に低屈折率微粒子１４１を分散させたものを用いることができる。
【００８０】
本発明の低屈折率層１４の屈折率は、１．２５から１．４５までの範囲内にあることが望ましく、１．２５〜１．４０であることがさらに望ましい。低屈折率層１４の屈折率は、できるだけ低い方が空気（屈折率＝１）との屈折率に近づき、低反射率を実現しやすいものの、そのためには低屈折率材料を多量に添加する必要があるため、低屈折率層１４の屈折率が１．２５を下回ると、機械強度が低くなり傷がつきやすくなる。一方、低屈折率層１４の屈折率が１．４５を上回ると、空気との屈折率差が大きくなり、反射率が上昇してしまう。
【００８１】
また、低屈折率層１４の膜厚は、光学干渉層としての特性から、５ｎｍ〜１μｍの範囲内にあることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍの範囲内にあることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍの範囲内にあることが最も好ましい。
【００８２】
低屈折率微粒子１４１としては、例えば、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、もしくはＮａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折率材料からなる微粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有するシリカ粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有するシリカ粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（約１）とすることができるので、非常に低い屈折率を備える低屈折率微粒子１４１とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子、シェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。
【００８３】
低屈折率微粒子１４１の平均粒子径は、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率微粒子１４１の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層１４が白化して反射防止フィルム１の透明性が低下する恐れがある。一方、低屈折率微粒子１４１の平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、低屈折率層１４における粒子の不均一性等の問題が生じる恐れがある。
【００８４】
低屈折率層１４を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、紫外線硬化型材料を含む。紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、又は、単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。紫外線硬化型材料としては、中屈折率層１２に用いられる紫外線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。
【００８５】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成される低屈折率層１４の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００８６】
なお、低屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、中屈折率層１２の用いられる溶媒として例示したものを用いることができる。また、添加剤としては、例えば、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等が挙げられる。
【００８７】
また、バインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層１４を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、中屈折率層形成用塗液に加えられる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。
【００８８】
低屈折率層１４を形成する方法としては、低屈折率層形成用塗液を高屈折率層１３の表面に塗布する方法など、中屈折率層１２を形成する方法として例示した方法を採用することができる。
【００８９】
また、ハードコート層１１の屈折率ｎ（Ｈａｒｄ）と中屈折率層１２の屈折率ｎ（Ｍｉｄｄｌｅ）と高屈折率層１３の屈折率ｎ（Ｈｉｇｈ）と低屈折率層１４の屈折率ｎ（Ｌｏｗ）は、ｎ（Ｌｏｗ）＜ｎ（Ｈａｒｄ）＜ｎ（Ｍｉｄｄｌｅ）＜ｎ（Ｈｉｇｈ）の関係を満たすことが好ましい。これを満たさない場合、良好な反射防止機能を得られることができない。
【００９０】
なお、反射防止フィルム１においては、透明基材１０とハードコート層１１との間、またはハードコート層１１と中屈折率層１２との間、中屈折率層１２と高屈折率層１３との間、高屈折率層１３と低屈折率層１４との間に、他の機能層を設けても構わない。他の機能層としては、例えば、電磁波シールド性能を有する電磁波シールド層、赤外線吸収性能を有する赤外線吸収層、紫外線吸収性能を有する紫外線吸収層等を挙げることができる。
【００９１】
本発明の反射防止フィルム１は、透明基材１０上に、ハードコート層１１を有し、その上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して、低反射積層体が積層されている。低反射積層体の構成は、上述したように、屈折率の異なる３層を、中屈折率層１２（透明基材１０またはハードコート層１１よりも屈折率が高く、高屈折率層１３よりも屈折率の低い層）／高屈折率層１３／低屈折率層１４の順に積層したものであるが、異なる層構成であってもよい。
【００９２】
低反射積層体の好ましい層構成の例を下記に示す。下記構成において基材フィルムは、フィルムで構成された透明基材１０を指している。
・基材フィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／帯電防止層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・帯電防止層／基材フィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
なお、光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。帯電防止層は導電性ポリマー粒子または金属酸化物微粒子（例えば、ＡＴＯ、ＩＴＯ）を含む層であることが好ましく、塗布または大気圧プラズマ処理等によって設けることができる。
【００９３】
かくして得られる反射防止フィルム１は、低屈折率層１４表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が好ましくは０．００３〜０．０２０μｍ、さらに好ましくは０．００５〜０．０１５μｍであり、かつ、該低屈折率層１４表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が好ましくは０．０３０〜１．０００ｍｍ、さらに好ましくは０．０５０〜０．８００ｍｍである。また、反射防止フィルム１のヘイズ値は０．３％以下であることが好ましく、さらには０．２５％以下であることが好ましい。低屈折率層１４表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．００３μｍ未満の場合、または、低屈折率層１４表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が１．０００ｍｍを超える場合、反射防止フィルム１の表面が平坦となってしまい、ブロッキングが発生しやすくなる恐れがある。一方、低屈折率層１４表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０２０μｍを超える場合、または低屈折率層１４表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０３０ｍｍ未満である場合、表面の凹凸により反射防止フィルム１が白化しているように見える恐れがある。また、反射防止フィルム１のヘイズ値が０．３％を超える場合、反射防止フィルム１の透明性が低くなる恐れがある。
【００９４】
反射防止フィルム１は、ディスプレイ部材、画像装置の一部として好適に用いることができる。
【００９５】
（実施の形態２）
図２は、実施の形態１に係る反射防止フィルム１を備えた、本発明の実施の形態２に係る反射防止フィルム付偏光板２００を示す概略断面図である。なお、図２では、高屈折率微粒子１３１、微粒子１３２及び低屈折率微粒子１４１の記載を省略している。この点は、後述する図３及び図４も同じである。
【００９６】
図２に示すように、反射防止フィルム付偏光板２００は、反射防止フィルム１と偏光板２とを備えている。具体的に、反射防止フィルム１の透明基材１０のハードコート層１１が形成されていない面側に、偏光層２３および透明基材２１からなる偏光板２が配置されている。すなわち、透明基材１１の一方の面（図２では上面）に、透明基材１１側から順に、ハードコート層１１、中屈折率層１２、高屈折率層１３および低屈折率層１４が積層されており、透明基材１０のもう一方の面（図２では下面）に、透明基材１０側から順に、偏光層２３および透明基材２１が積層されている。なお、これら偏光層２３および透明基材２１は、特定に限定されるものではなく、通常、反射防止フィルム付偏光板に用いられるものを適宜用いることができる。
【００９７】
（実施の形態３）
図３は、反射防止フィルム付偏光板２００ａを備えた、本発明の実施の形態３に係る透過型液晶ディスプレイ３００の一例を示す概略断面図である。
【００９８】
透過型液晶ディスプレイ３００は、反射防止フィルム付偏光板２００ａと、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とを備え、反射防止フィルム付偏光板２００ａにおいて、反射防止フィルム１が形成されている面とは反対の面側に、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とがこの順に保持されている。液晶セル３は、反射防止フィルム付偏光板２００ａにおいて、透明基材１０に対してハードコート層１１が形成された側とは反対側に保持されている。反射防止フィルム付偏光板２００ａは、反射防止フィルム１と、反射防止フィルム１の透明基材１０側に偏光板２ａを備えている。偏光板２ａは、透明基材１０側から順に、透明基材２２と偏光層２３と透明基材２１とが積層されたものである。液晶セル３は、反射防止フィルム付偏光板２００ａの低屈折率層１４が形成されている面とは反対の面側、すなわち、透明基材２１側に保持されている。このとき、透過型液晶ディスプレイ３００において、反射防止フィルム１側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面側となる。
【００９９】
透過型液晶ディスプレイ３００は、反射防止フィルム１の透明基材１０と、偏光板２ａの透明基材２２とを別々に備える。
【０１００】
バックライトユニット５は、図示を省略するが、光源と光拡散板とを備える。液晶セル３は、図示を省略するが、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタが設けられ、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル３を挟むように設けられる偏光板２ａ及び偏光板４について、偏光板２ａは、透明基材２１と透明基材２２との間に偏光層２３が挟持された構造で、偏光板４は、透明基材４１と透明基材４２との間に偏光層４３が挟持された構造となっている。
【０１０１】
（実施の形態４）
図４は、透過型液晶ディスプレイの他の一例として、反射防止フィルム付偏光板２００ｂを備えた、本発明の実施の形態４に係る透過型液晶ディスプレイ４００を示す概略断面図である。
【０１０２】
図４に示す透過型液晶ディスプレイ４００は、反射防止フィルム付偏光板２００ｂと、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とを備え、反射防止フィルム付偏光板２００ｂにおいて、反射防止フィルム１が形成されている面とは反対の面側に、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とがこの順に保持されている。反射防止フィルム付偏光板２００ｂは、反射防止フィルム１と、反射防止フィルム１の透明基材１０側に偏光板２ｂを備えている。偏光板２ｂは、透明基材１０側から順に、偏光層２３と透明基材２１とが積層されたものである。液晶セル３は、反射防止フィルム付偏光板２００ｂの低屈折率層１４が形成されている面とは反対の面側、すなわち、透明基材２１側に保持されている。このとき、透過型液晶ディスプレイ４００において、反射防止フィルム１側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面側となる。
【０１０３】
透過型液晶ディスプレイ４００は、反射防止フィルム１のハードコート層１２が形成されていない面、すなわち、透明基材１１面に、偏光板２ｂとして、偏光層２３と透明基材２２とがこの順に設けられている。
【０１０４】
透過型液晶ディスプレイ３００と同様に、バックライトユニット５は、図示を省略するが、光源と光拡散板とを備える。液晶セル３は、図示を省略するが、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタが設けられ、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル３を挟むように設けられる偏光板２ｂ（反射防止フィルム付偏光板２００の一部）及び偏光板４について、偏光板２ｂは、透明基材２１と透明基材１０との間に偏光層２３が挟持された構造で、偏光板４は、透明基材４１と透明基材４２との間に偏光層４３が挟持された構造となっている。
【０１０５】
なお、本発明の透過型液晶ディスプレイ３００および４００は、他の機能性部材を備えていてもよい。他の機能性部材としては、例えば、バックライトユニット５から発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１０６】
（実施例）
以下に、ハードコート層形成用塗液、中屈折率層形成用塗液、高屈折率層形成用塗液および低屈折率層形成用塗液の調製例、ならびにこれらを用いた実施例および比較例を示す。
【０１０７】
＜調整例１＞
（ハードコート層形成用塗液）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート２５質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５質量部、ウレタンアクリレート５０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部を用い、これをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成用塗液、ＨＣ１を調整した。
【０１０８】
＜調整例２＞
（中屈折率層形成用塗液）
表１に示す組成（質量比）の混合物を、均一になるように攪拌混合した後、１μｍのフィルタで濾過して、ＭＲ１〜６の中屈折率層形成用塗液を固形分１０％にそれぞれ調整した。
【０１０９】
【表１】
2015084029.tif 000003
【０１１０】
表１の組成の具体的内容を以下に示す。
・高屈折率微粒子溶液：
・ＡＴＯ分散液：固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン
・ＺｒＯ2 分散液：固形分５０％、溶剤メチルイソブチルケトン
・粒子溶液（微粒子１３２を含む溶液）
・ＳｉＯ2 分散液：固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン
・Ａｌ2Ｏ3 分散液：固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン
・光重合開始剤
・Ｉｒｇ１８４：ＢＡＳＦ社製「イルガキュアー１８４」
・Ｉｒｇ９０７： チバ・ジャパン社製「イルガキュアー９０７」
・ＯＸＥ０１：チバ・ジャパン社製「イルガキュアーＯＸＥ０１」
・ＴＰＯ： チバ・ジャパン社製「ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ」
・紫外線硬化型樹脂：ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）
・溶剤：メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）
【０１１１】
＜調整例３＞
（高屈折率層形成用塗液）
表２に示す組成（質量比）の混合物を、均一になるように攪拌混合した後、１μｍのフィルタで濾過して、ＨＲ１〜３の低屈折率層形成用塗液を固形分１０％にそれぞれ調整した。
【０１１２】
【表２】
2015084029.tif 000004
【０１１３】
表２の組成の具体的内容を以下に示す。
・高屈折率微粒子溶液：
・ＴｉＯ２分散液：固形分５０％、溶剤メチルイソブチルケトン
・ＺｒＯ2分散液：固形分５０％、溶剤メチルイソブチルケトン
・ＡＴＯ分散液：固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン
・  光重合開始剤
・ＴＰＯ： チバ・ジャパン社製「ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ」
・Ｉｒｇ１８４：ＢＡＳＦ社製「イルガキュアー１８４」
・Ｉｒｇ９０７： チバ・ジャパン社製「イルガキュアー９０７」  
・紫外線硬化型樹脂：ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）
・溶剤：メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）
【０１１４】
＜調整例４＞
（低屈折率層形成用塗液）
表３に示す組成（質量比）の混合物を、均一になるように攪拌混合した後、１μｍのフィルタで濾過して、ＬＲ１〜４の低屈折率層形成用塗液を固形分１０％にそれぞれ調整した。
【０１１５】
【表３】
2015084029.tif 000005
【０１１６】
表３の組成の具体的内容を以下に示す。
・微粒子溶液：多孔質シリカ微粒子分散液（固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤：
・ＴＰＯ： チバ・ジャパン社製「ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ」
・Ｉｒｇ１８４：チバ・ジャパン社製「イルガキュアー１８４」
・紫外線硬化型樹脂：ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）
・溶剤：メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）
【０１１７】
実施例１（反射防止フィルムの作製）
図１に示す構成の反射防止フィルムを作製した。透明基材として、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム（株）製）を用いた。
【０１１８】
（１）ハードコート層の形成
透明基材の一方の面上に、上記で得たハードコート層形成用塗液ＨＣ１を塗布し、８０℃で６０秒間オーブンにて乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン（株）製、光源Ｈバルブ）を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行い、乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層を形成した。ハードコート層の膜厚は５μｍであり、波長５５０ｎｍでの屈折率は１．５２であった。
【０１１９】
（２）中屈折率層の形成
上記で形成したハードコート層上に中屈折率層形成用塗液ＭＲ１を塗布し、塗膜を形成した。紫外線照射装置を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行って塗膜を硬化させて、中屈折率層を形成した。中屈折率層の膜厚は７５ｎｍであり、波長５５０ｎｍでの屈折率は１．６０であった。
【０１２０】
（３）高屈折率層の形成
上記で形成した中屈折率層上に、高屈折率層形成用塗液ＨＲ１を塗布し、塗膜を形成した。紫外線照射装置を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行って塗膜を硬化させて、高屈折率層を形成した。高屈折率層の膜厚は１４２ｎｍであり、波長５５０ｎｍでの屈折率は１．８０であった。
【０１２１】
（４）低屈折率層の形成
上記で形成した高屈折率層上に、低屈折率層形成用塗液ＬＲ１を塗布し、塗膜を形成した。紫外線照射装置を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行って塗膜を硬化させて、低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。低屈折率層の膜厚は１００ｎｍであり、波長５５０ｎｍでの屈折率は１．３５であった。
【０１２２】
実施例２〜３、及び比較例１〜５では、表４に示すハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を組み合わせて反射防止フィルムを作製した。各層の膜厚と、波長５５０ｎｍでの屈折率を表４に示した。
【表４】
2015084029.tif 000006
【０１２３】
実施例２（反射防止フィルムの作製）
中屈折率層形成用塗液ＭＲ１の代わりに、中屈折率層形成用塗液ＭＲ２を、高屈折率層形成用塗液ＨＲ１の代わりに、高屈折率層形成用塗液ＨＲ２を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【０１２４】
実施例３（反射防止フィルムの作製）
低屈折率層形成用塗液ＬＲ１の代わりに、低屈折率層形成用塗液ＬＲ２を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【０１２５】
比較例１（反射防止フィルムの作製）
中屈折率層形成用塗液ＭＲ１の代わりに、中屈折率層形成用塗液ＭＲ３を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【０１２６】
比較例２（反射防止フィルムの作製）
中屈折率層形成用塗液ＭＲ１の代わりに、中屈折率層形成用塗液ＭＲ４を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【０１２７】
比較例３（反射防止フィルムの作製）
中屈折率層形成用塗液ＭＲ１の代わりに、中屈折率層形成用塗液ＭＲ５を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【０１２８】
比較例４（反射防止フィルムの作製）
中屈折率層形成用塗液ＭＲ１の代わりに、中屈折率層形成用塗液ＭＲ６を、低屈折率層形成用塗液ＬＲ１の代わりに、低屈折率層形成用塗液ＬＲ３を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【０１２９】
比較例５（反射防止フィルムの作製）
高屈折率層形成用塗液ＨＲ１の代わりに、高屈折率層形成用塗液ＨＲ３を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た
【０１３０】
実施例１〜３および比較例１〜５で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価を行った。
【０１３１】
（ヘイズ値）
上記で得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器（日本電色工業（株）製、ＮＤＨ−２０００）を使用し、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５−１９８１に記載の方法に準拠してヘイズ値を測定した。
【０１３２】
（平均視感反射率）
上記で得られた反射防止フィルムの低屈折率層の表面について、自動分光光度計（（株）日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち反射防止層が形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
【０１３３】
（反射色相）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、正面及び斜め４５°の色相を官能評価により実施した。判定基準を以下に示す。
○：正面から４５°の色相変化が明るい照明下でじっくりと評価すると分かる程度
×：正面から４５°の色相変化が分かる程度
なお、評価の際には、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
【０１３４】
（耐擦傷性）
上記得られた反射防止フィルムの低屈折率層の表面を、スチールウール（日本スチールウール（株）製、ボンスター＃００００）を用いて、荷重２５０ｇ／ｃｍ２で１０往復擦り、傷の有無を目視にて観察して評価した。判定基準を以下に示す。
○：傷が確認されなかった
×：傷が確認された
【０１３５】
（低屈折率層表面の中心線平均高さ（Ｒａ））
上記で得られた反射防止フィルムの低屈折率層について、非接触表面・層断面形状計測システム  ＶｅｒｔＳｃａｎ２．０高精度微細形状測定器（小坂研究所製サーフコーダーＥＴ４０００Ａ）を用い、低屈折率層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）を測定した。
【０１３６】
（低屈折率層表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ））
上記で得られた反射防止フィルムの低屈折率層について、非接触表面・層断面形状計測システム  ＶｅｒｔＳｃａｎ２．０高精度微細形状測定器（小坂研究所製サーフコーダーＥＴ４０００Ａ）を用い、低屈折率層表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ）を測定した。
【０１３７】
（耐ブロッキング性）
上記で得られた反射防止フィルムを１０ｃｍ角にカットし、このカットしたフィルムをガラス板上に５枚重ね、５０℃で２４時間静置した。その後、フィルム面積（１００ｃｍ２）に占めるブロッキング部分の面積を目視にて観察して評価した。判定基準を以下に示す。
○：フィルム面積に占めるブロッキング部分の面積が５０％未満である
×：フィルム面積に占めるブロッキング部分の面積が５０％以上である
【０１３８】
上記で行った評価結果を、以下の表５に示す。
【０１３９】
【表５】
2015084029.tif 000007
【０１４０】
表５に示す結果から、実施例１〜３で得られた反射防止フィルムは、平均視感反射率０．５％以下で、優れたハードコート性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れたものであることが分かる。
【０１４１】
これに対して、比較例１〜２で得られた反射防止フィルムは、耐ブロッキング性に劣り、比較例３で得られた反射防止フィルムは、ヘイズが高く、白化が発生しており透明性が劣ることが分かる。比較例４で得られた反射防止フィルムは、平均視感反射率が高く、表面凹凸の平均間隔[Sm]が大きい。また、比較例５で得られた反射防止フィルムは、平均視感反射率が０．５％以上、反射色相の色づきが非常に大きいフィルムであった。
【０１４２】
＜実施例４＞
（反射防止フィルム付き偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜（偏光層）を作製した。実施例２の鹸化処理済みの本発明の実施例１の反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール接着剤を用いて、反射防止フィルムの透明基材側（トリアセチルセルロース）が偏光膜側となるように偏光膜の片側を貼り付けた。光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイビューフィルムＳＡ１２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）を鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜のもう一方の側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。この偏光板の状態で、上記の（反射色相）の評価方法に準じた評価を行った結果、実施例１の反射防止フィルムを用いた偏光板は、外観不良もなく、反射率が低く抑えられていることが分かった。
【０１４３】
＜実施例５＞
さらに、実施例１の試料を、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。さらに、これらの表示装置に対して、上記の（反射色相）の評価方法に準じた評価を行った結果、本発明の反射防止フィルムを搭載した表示装置は、比較例の反射防止フィルムを搭載した表示装置に比較して、外観不良もなく反射率が低く抑えられていることが分かった。
【０１４４】
＜実施例６＞
実施例１の試料を、有機ＥＬ表示装置の表面、及びタッチパネル表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせ、更に、それらを粘着剤を介して試料の側を貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高いタッチパネルが得られた。さらに、これらのタッチパネルに対して、上記の（反射色相）の評価方法に準じた評価を行った結果、本発明の反射防止フィルムを搭載したタッチパネルは、外観不良もなく反射率が低く抑えられていることが分かった。
【産業上の利用可能性】
【０１４５】
本発明の反射防止フィルムは、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の画像表示装置や、タッチパネルを搭載した画像表示装置等に適用可能である。
【符号の説明】
【０１４６】
１    反射防止フィルム
１０、２１、２２、４１、４２    透明基材
１１    ハードコート層
１２    中屈折率層
１３    高屈折率層
１３１    高屈折率微粒子
１３２    微粒子
１４    低屈折率層
１４１    低屈折率微粒子
２、２ａ    偏光板
２３、４３    偏光層
２００、２００ａ    反射防止フィルム付偏光板
３    液晶セル
３００、４００    透過型液晶ディスプレイ
４    偏光板
５    バックライトユニット
【図１】
2015084029.tif 000008
【図２】
2015084029.tif 000009
【図３】
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【図４】
2015084029.tif 000011