(57)【要約】【課題】本発明は液晶表示装置及びその液晶表示装置の製造方法に関し、詳細には硬度が向上した位相差補償フィルムを含む液晶表示装置及びその液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】液晶表示装置は、第１基板、第２基板、液晶層及び位相差補償フィルムを含む。前記第２基板は、前記第１基板に対向する。前記液晶層は、前記第１基板及び前記第２基板の間に配置される。前記位相差補償フィルムは、前記第１基板の一面に形成され、フルオリン樹脂を含む。したがって、前記位相差補償フィルムがフルオリン樹脂を含むことによって、硬度、防汚性及び耐スクラッチ性が向上し、位相差補償フィルムの損傷を防止することができる。【選択図】図３
2015055873.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に配置される液晶層と、
前記第１基板の一面に形成され、フルオリン樹脂を含む位相差補償フィルムを含む液晶表示装置。
【請求項２】
前記位相差補償フィルムの表面部のフルオリン元素比率が全体元素比率に対し２０原子％〜３０原子％であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記フルオリン樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン(ＰｏｌｙＴｅｔｒａＦｌｕｏｒｏ  Ｅｔｈｙｌｅｎｅ；ＰＴＦＥ)、フルオリンエチレンプロピレン(ｆｌｕｏｒｉｎａｔｅｄ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ；ＦＥＰ)、ペルフルオロアルコキシ(ｐｅｒｆｌｕｏｒｏ  ａｌｋｏｘｙ；ＰＦＡ)、エチレン−テトラフルオロエチレン(ｅｔｈｙｌｅｎｅ−Ｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ；ＥＴＦＥ)、ポリフッ化ビニリデン(ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｉｄｅｎ  ｆｌｕｏｒｉｄｅ；ＰＶＤＦ)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン(ｅｔｈｙｌｅｎｅ−ｃｈｌｏｒｏｔｒｉｆｌｕｏｒｏ ｅｔｈｙｌｅｎｅ；ＥＣＴＦＥ)、ポリクロロトリフルオロエチレン（ｐｏｌｙｃｈｌｏｒｏｔｒｉｆｌｕｏｒｏ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ；ＰＣＴＦＥ)及びこれらの組合からなったグループで１つ以上選択されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記位相差補償フィルムは、前記第１基板の下部に配置されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記位相差補償フィルムは、前記第２基板の上部に配置されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記位相差補償フィルムは、前記第１基板の下部及び前記第２基板の上部に配置されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記位相差補償フィルムは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記位相差補償フィルムの厚さは、１０ｕｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記位相差補償フィルムの硬度は、２Ｈ以上であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記位相差補償フィルムの表面エネルギーは、２５ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及びその液晶表示装置の製造方法に関し、詳細には、硬度が向上した位相差補償フィルムを含む液晶表示装置及びその液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、対面積が容易に薄型及び軽量化することができる平板ディスプレイ(ｆｌａｔ  ｐａｎｅｌ  ｄｉｓｐｌａｙ、ＦＰＤ)が表示装置として広く利用され、このような平板ディスプレイでは、液晶表示装置(ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ)、プラズマディスプレイパネル(ｐｌａｓｍａ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｐａｎｅｌ、ＰＤＰ)、有機発光表示装置(ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｓｐｌａｙ、ＯＬＥＤ)等が使われている。
【０００３】
液晶表示装置は、現在最も広く使われている平板表示装置の中の一つとして、液晶の特定の分子配列に電圧を印加し、分子配列を変換させ、このような分子配列の変換によって発光する液晶セルの複屈折性、旋光性、２色性及び光散乱特性などの光学的性質の変化を視覚変化で変換し、画像を表示するディスプレイ装置である。
【０００４】
前記表示装置の中の一つである液晶表示装置(ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ)は、液晶(ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ)を用い、画像を表示する。前記液晶表示装置は、他の表示装置に比べて厚さが薄く、重さが軽く、消費電力が少なく、低い駆動電圧を有するメリットがある。
【０００５】
前記液晶表示装置は、一般的に液晶の光透過率を用い、画像を表示する液晶表示パネル(ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｐａｎｅｌ)と、前記液晶表示パネルの下部に配置され、前記液晶表示パネルで光を提供するバックライトアセンブリ(ｂａｃｋ−ｌｉｇｈｔ  ａｓｓｅｍｂｌｙ)を含む。この際、前記バックライトアセンブリは、一般的に非偏光された光(ｎｏｎ  ｐｏｌａｒｉｚｅｄ  ｌｉｇｈｔ、偏向されていない光)を発生する。
【０００６】
したがって、前記液晶表示装置は、前記非偏光された光を用い、画像を実現することが難しいため、前記液晶表示パネルの上部及び下部に配置されて光を偏光させる偏光板をさらに含む。しかしながら、偏光板は、厚さが比較的に厚く、液晶表示装置の製造費用のうち、相当部分を占め、前記液晶表示装置の厚さ及び製造費用が増加する問題点が発生する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】公開特許第２０１２−１７３６０９号公報
【特許文献２】韓国公開特許第２０１２−００７９６９号公報
【特許文献３】公開特許第２０１２−１５５３０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
それに対し、本発明の技術的課題は、このような点で着眼され、本発明の目的は、硬度が向上した位相差補償フィルムを含む液晶表示装置を提供することにある。また、本発明の他の目的は、前記液晶表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記した本発明の目的を実現するための一実施例に係る液晶表示装置は、第１基板、第２基板、液晶層及び位相差補償フィルムを含む。
前記第２基板は、前記第１基板に対向する。前記液晶層は、前記第１基板及び前記第２基板の間に配置される。前記位相差補償フィルムは、前記第１基板の一面に形成され、フルオリン樹脂を含む。
【００１０】
本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムの表面部のフルオリン元素比率が全体元素比率に対し２０原子％〜３０原子％でもよい。
【００１１】
本発明の一実施例において、前記フルオリン樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン(ＰｏｌｙＴｅｔｒａＦｌｕｏｒｏ  Ｅｔｈｙｌｅｎｅ；ＰＴＦＥ)、フルオリンエチレンプロピレン(ｆｌｕｏｒｉｎａｔｅｄ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ；ＦＥＰ)、ペルフルオロアルコキシ(ｐｅｒｆｌｕｏｒｏ  ａｌｋｏｘｙ；ＰＦＡ)、エチレンテトラフルオロエチレン(ｅｔｈｙｌｅｎｅ−Ｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ；ＥＴＦＥ)、ポリフッ化ビニリデン(ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｉｄｅｎ  ｆｌｕｏｒｉｄｅ；ＰＶＤＦ)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン(ｅｔｈｙｌｅｎｅ−ｃｈｌｏｒｏｔｒｉｆｌｕｏｒｏ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ；ＥＣＴＦＥ)、ポリクロロトリフルオロエチレン(ｐｏｌｙｃｈｌｏｒｏｔｒｉｆｌｕｏｒｏ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ；ＰＣＴＦＥ)及びこれらの組合からなったグループから１つ以上選択されることができる。
【００１２】
本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムは、前記第１基板の下部に配置されてもよい。
【００１３】
本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムは、前記第２基板の上部に配置されてもよい。
【００１４】
本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムは、前記第１基板の下部及び前記第２基板の上部に配置されてもよい。
【００１５】
本発明の一実施例において、前記第２基板上に配置されたブラックマトリックスをさらに含み、前記位相差補償フィルムは、前記第２基板及び前記ブラックマトリックスの間に配置されることができる。
【００１６】
本発明の一実施例において、前記第２基板上に配置されたブラックマトリックスをさらに含み、前記位相差補償フィルムは、前記第２基板及び前記ブラックマトリックス上に配置されることができる。
【００１７】
本発明の一実施例において、前記第２基板上に配置されたオーバーコーティング層をさらに含み、前記位相差補償フィルムは、前記オーバーコーティング層上に配置されることができる。
【００１８】
本発明の一実施例において、前記第２基板上に配置された共通電極をさらに含み、前記位相差補償フィルムは、前記共通電極上に配置されることができる。
【００１９】
本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。
【００２０】
本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムの厚さは、１０ｕｍ以下でもよい。
【００２１】
本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムの硬度は、２Ｈ以上でもよい。
【００２２】
本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムの表面エネルギーは、２５ｍＮ／ｍ以下でもよい。
【００２３】
上記した本発明の目的を実現するための他の実施例に係る液晶表示装置の製造方法は、基板上にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物（retarder composition）を塗布し、リターダコーティング層（retarder coating layer）を形成する段階、前記リターダコーティング層を加熱する段階、前記リターダコーティング層が光学的異方性を有するように前記リターダコーティング層を紫外線ＵＶに露光する段階及び前記リターダコーティング層を熱処理し、位相差補償フィルムを形成する段階を含む。
【００２４】
本発明の一実施例において、前記基板は、第１基板及び前記第１基板に対向する第２基板を含んでもよい。
【００２５】
本発明の一実施例において、前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂１０重量％〜３０重量％、反応性メソゲン２０重量％〜４０重量％、光硬化性モノマ１重量％〜１０重量％、熱硬化剤１重量％〜１０重量％及び溶媒１０重量％〜３０重量％でもよい。
【００２６】
本発明の一実施例において、前記リターダ組成物を前記第１基板の下部に塗布してもよい。
【００２７】
本発明の一実施例において、前記リターダ組成物を前記第２基板の上部に塗布してもよい。
【００２８】
本発明の一実施例において、前記リターダ組成物を前記第１基板の下部及び前記第２基板の上部に塗布してもよい。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の実施例に係ると、位相差補償フィルムがフルオリン樹脂を含み、硬度、防汚性及び耐スクラッチ性が向上され、位相差補償フィルムの損傷を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の平面図である。
【図２】図１の第１画素の平面図である。
【図３】図１のＩ−Ｉ’線の沿った本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【図４】本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【図５】本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【図６】本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【図７】本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【図８】本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【図９】本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、図面を参照し、本発明の望ましい実施例を詳細に説明することにする。
【００３２】
本明細書において、特定の構造的乃至機能的説明は、単に本発明の実施例を説明するための目的として例示され、本発明の実施例は、多様な形態で実施され、本明細書に説明された実施例に限定されると解釈されず、本発明の思想及び技術範囲に含まれるすべての変更、均等物乃至代替物を含むこととして理解されなければならない。
【００３３】
ある構成要素が異なる構成要素に「連絡され」あるいは「接触され」と記載された場合、その他の構成要素に直接的に連絡されるが、または接触していることもあり得るが、間にまた他の構成要素が存在してもよいと、理解されなければならないだろう。反面、ある構成要素が異なる構成要素に「直接連絡され」あるいは「直接接触され」と記載された場合には、間にその他の構成要素が存在しないと理解されることができる。構成要素の間の関係を説明する他の表現、例えば、「〜間に」と「直接〜間に」または「〜に隣接する」と「〜に直接隣接する」等も同様に解釈されることができる。
【００３４】
本明細書で使われる用語は単に例示的な実施例を説明するために使われたことで、本発明を限定しようとする意図はない。単数の表現は文脈上、明白に異なることを意味しない限り、複数の表現を含む。本明細書において、「含む」または「有する」等の用語は実施された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品または、これらを組み合わせたものが存在することを指定しようとするものであって、一つまたは、それ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品または、これらを組み合わせたものなどの存在または、付加の可能性をあらかじめ排除しないものとして理解されなければならない。異なるように定義されない限り、技術的や科学的な用語を含め、本明細書で使われるすべての用語は本発明が属する技術分野で通常の知識を持った者によって一般的に理解されるのと同様の意味を有している。一般的に使われる事前に定義されているような用語は関連技術の文脈上有する意味と一致する意味を有すると解釈されるべきで、本出願において明白に定義しない限り、理想的や過度に形式的な意味と解釈されない。
【００３５】
第１、第２及び第３等の用語は、多様な構成要素を説明するために使うことができるが、これらの構成要素は前記用語によって限定されるのではない。前記用語は一つの構成要素をその他の構成要素から区別する目的で使われる。例えば、本発明の権利範囲から逸脱せずに、第１構成要素が第２構成要素または、第３構成要素などと命名され、同様に第２構成要素または、第３構成要素も交互的に命名することができる。
【００３６】
図１は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の平面図である。図２は、図１の第１画素の平面図である。図３は、図１のＩ−Ｉ’線の沿った本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【００３７】
図１を参照すれば、前記液晶表示装置は、複数のゲートラインＧＬ、複数のデータラインＤＬ及び複数の画素を含む。
【００３８】
前記ゲートラインＧＬは、第１方向Ｄ１に延びることができる。前記データラインＤＬは、前記第１方向Ｄ１と交差する第２方向Ｄ２に延びることができる。これとは異なり、前記ゲートラインＧＬは前記第２方向Ｄ２に延びることができ、前記データラインＤＬは前記第１方向Ｄ１に延びることができる。
【００３９】
前記画素は、マトリックス形態に配置される。前記画素は、前記ゲートラインＧＬ及び前記データラインＤＬにより定義される領域に配置されることができる。
【００４０】
各画素は、隣接したゲートラインＧＬ及び隣接したデータラインＤＬに連絡されることができる。
【００４１】
前記画素は、前記第２方向Ｄ２に長く延びる長方形状を有することができる。前記画素領域は、平面から見た際、一方向に長く延びた長方形状、Ｖ字状及びＺ字状など多様なこともある。Ｖ字状の場合、例えば、画素領域の第２方向の中央部分において第１方向に沿って屈曲している。また、Ｚ字状の場合、例えば、画素領域がジグザグ状に屈曲している。
【００４２】
図２及び図３を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置は、第１基板１００、第２基板２００、液晶層３００、位相差補償フィルム４００Ａ、第１偏光板５００及び第２偏光板６００を含む。
【００４３】
前記第１基板１００は、透明な絶縁基板である。例えば、ガラス基盤または、透明なプラスチック基板でもよい。前記第１基板１００は、画像を表示する複数の画素領域を有する。前記画素領域は、複数の列と複数の行を有するマトリックス形態で配列される。
【００４４】
前記画素は、スイッチング素子(ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ  ｅｌｅｍｅｎｔ)をさらに含む。例えば、前記スイッチング素子は、薄膜トランジスタ(Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ;ＴＦＴ)でもよい。前記スイッチング素子は、隣接したゲートラインＧＬ及び隣接したデータラインＤＬに連絡されることができる。前記スイッチング素子は、前記ゲートラインＧＬ及び前記データラインＤＬが交差する領域に配置されることができる。
【００４５】
前記第１基板１００上にゲート電極ＧＥ及びゲートラインＧＬを含むゲートパターンが配置される。前記ゲートラインＧＬは、前記ゲート電極ＧＥと電気的に連絡される。
【００４６】
前記第１基板１００上にゲート電極ＧＥ及びゲートラインＧＬを含むゲートパターン(未図示)が配置される。前記ゲートラインＧＬは、前記ゲート電極ＧＥと電気的に連絡される。
【００４７】
ゲート絶縁層１１０は、前記ゲートパターンが配置された前記第１基板１００上に配置され、前記ゲートパターンを絶縁する。
【００４８】
前記ゲート絶縁層１１０上に半導体パターンＳＭを形成する。前記半導体パターンＳＭは、前記ゲート電極ＧＥと重複して配置される。
【００４９】
前記半導体パターンＳＭが形成された前記ゲート絶縁層１１０上にデータラインＤＬ、ソース電極ＳＥ及びドレーン電極ＤＥを含むデータパターンが配置される。前記ソース電極ＳＥは、前記半導体パターンＳＭと重複し、前記データラインＤＬに電気的に連絡される。
【００５０】
前記ドレーン電極ＤＥは、前記半導体パターンＳＭ上に前記ソース電極ＳＥから離隔する。前記半導体パターンＳＭは、前記ソース電極ＳＥ及び前記ドレーン電極ＤＥの間に伝導チャネル(ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  ｃｈａｎｎｅｌ)を成し遂げる。
【００５１】
前記ゲート電極ＧＥ、前記ソース電極ＳＥ、前記ドレーン電極ＤＥ及び前記半導体パターンＳＭは、前記薄膜トランジスタＴＦＴを構成する。
【００５２】
前記ゲート絶縁層１１０上には、前記データラインＤＬが配置される。前記ゲート絶縁層１１０は、前記第１基板１００の全面積に配置されることができる。
【００５３】
前記ゲート絶縁層１１０は、有機乃至無機絶縁物質を含むことができる。例えば、前記ゲート絶縁層１１０は、ベンゾシクロブテン系樹脂、オレフィン(ｏｌｅｆｉｎ)系樹脂、ポリイミド(ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ)系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニル(ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ)系樹脂、シロキサン(ｓｉｌｏｘａｎｅ)系樹脂、シリコン(ｓｉｌｉｃｏｎ)系樹脂などを含むことができる。
【００５４】
データ絶縁層１２０は、前記データパターンが配置された前記ゲート絶縁層１１０上に配置され、前記データパターンを絶縁する。
【００５５】
前記データ絶縁層１２０は、前記ゲートラインＧＬ、前記データラインＤＬ及び前記スイッチング素子上に配置される。前記データ絶縁層１２０は、前記第１基板１００の全面積に配置されることができる。前記データ絶縁層１２０は、有機乃至無機絶縁物質を含むことができる。例えば、前記データ絶縁層１２０は、ベンゾシクロブテン系樹脂、オレフィン(ｏｌｅｆｉｎ)系樹脂、ポリイミド(ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ)系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニル(ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ)系樹脂、シロキサン(ｓｉｌｏｘａｎｅ)系樹脂、シリコン(ｓｉｌｉｃｏｎ)系樹脂などを含むことができる。
【００５６】
前記カラーフィルタ層ＣＦは、前記データ絶縁層１２０上に配置されることができる。
【００５７】
前記カラーフィルタ層ＣＦは、前記液晶層３００を透過する光に色を提供するためである。前記カラーフィルタ層ＣＦは、赤色カラーフィルタ(ｒｅｄ)、緑色カラーフィルタ(ｇｒｅｅｎ)、及び青色カラーフィルタ(ｂｌｕｅ)でもよい。
【００５８】
各カラーフィルタは、前記各画素領域に対応して提供される。互いに隣接した画素の間にそれぞれ異なる色を有するように配置されることができる。
【００５９】
本実施例では、前記カラーフィルタは、互いに隣接した画素領域の境界において一部が隣接したカラーフィルタによって重なることができる。それとは異なり、前記カラーフィルタは、第１方向Ｄ１に互いに隣接した画素領域の境界で離隔して形成されることができる。すなわち、前記カラーフィルタは、第１方向Ｄ１にゲートラインを境界にし、島(ｉｓｌａｎｄ)の形態で形成されることができる。
【００６０】
前記カラーフィルタ層ＣＦ上に第１オーバーコーティング層１３０を含むことができる。
【００６１】
前記第１オーバーコーティング層１３０は、前記カラーフィルタ層ＣＦ上に形成されて前記第１基板１００の表面を平坦化することができる。
【００６２】
前記第１オーバーコーティング層１３０は、有機乃至無機絶縁物質を含むことができる。例えば、前記第１オーバーコーティング層１３０は、ベンゾシクロブテン系樹脂、オレフィン(ｏｌｅｆｉｎ)系樹脂、ポリイミド(ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ)系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニル(ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ)系樹脂、シロキサン(ｓｉｌｏｘａｎｅ)系樹脂、シリコン(ｓｉｌｉｃｏｎ)系樹脂などを含むことができる。
【００６３】
前記第１オーバーコーティング層１３０上に画素電極(ｐｉｘｅｌ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ；ＰＥ)を形成することができる。
【００６４】
前記画素電極ＰＥは、コンタクトホールＣＨを通じ、前記薄膜トランジスタと電気的に連絡される。前記画素電極ＰＥは、前記画素領域内に配置されることができる。前記画素電極ＰＥには、前記薄膜トランジスタＴＦＴを通じ、階調電圧が印加される。例えば、前記画素電極ＰＥは、インジウムチンオキサイドＩＴＯ、インジウムジンクオキサイドＩＺＯ、アルミニウムジンクオキサイドＡＺＯのような透明導電体を含むことができる。例えば、前記画素電極ＰＥは、スリットパターンを含むことができる。
【００６５】
前記第２基板２００は、ガラス基盤または透明な絶縁基板である。例えば、ガラス基盤または透明なプラスチック基板でもよい。前記第２基板２００上には前記薄膜トランジスタと連絡された信号配線及び前記信号配線と重複して光を遮断するブラックマトリックスＢＭを含むことができる。
【００６６】
前記ブラックマトリックスＢＭは、前記第１基板１００上に配置された前記ゲートラインＧＬ、前記データラインＤＬ及び前記スイッチング素子が配置される領域に対応して配置されることができる。前記ブラックマトリックスＢＭはクロムＣｒまたは、クロム酸化物を含むことができる。
【００６７】
前記ブラックマトリックスＢＭは、第１方向に延びた複数のゲートラインと重複して光を遮断する。前記ブラックマトリックスＢＭは、画素の非表示領域(ｎｏｎ−ｄｉｓｐｌａｙ ａｒｅａ)に形成される。
【００６８】
前記ブラックマトリックスＢＭが形成された前記第２基板２００上に第２オーバーコーティング層２１０が形成されることができる。
【００６９】
前記第２オーバーコーティング層２１０は、前記ブラックマトリックスＢＭが形成された前記第２基板２００上に形成され、前記第２基板２００の表面を平坦化することができる。
【００７０】
前記第２オーバーコーティング層２１０は、有機乃至無機絶縁物質を含むことができる。例えば、前記第２オーバーコーティング層２１０は、ベンゾシクロブテン系樹脂、オレフィン(ｏｌｅｆｉｎ)系樹脂、ポリイミド(ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ)系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニル(ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ)系樹脂、シロキサン(ｓｉｌｏｘａｎｅ)系樹脂、シリコン(ｓｉｌｉｃｏｎ)系樹脂などを含むことができる。
【００７１】
前記第２オーバーコーティング層２１０上に共通電極ＣＥを形成することができる。
【００７２】
前記画素電極ＰＥ及び前記共通電極ＣＥに階調電圧が印加され、電界を形成する。例えば、前記共通電極ＣＥは、インジウムティンオキサイドＩＴＯ、インジウムジンクオキサイドＩＺＯ、アルミニウムジンクオキサイドＡＺＯのような透明導電体を含むことができる。例えば、前記共通電極ＣＥは、スリットパターンを含むことができる。
【００７３】
前記液晶層３００は、前記第１基板１００及び前記第２基板２００の間に配置される。
【００７４】
前記液晶層３００は、液晶分子(ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ ｍｏｌｅｃｕｌｅ)を含むことができる。前記液晶層は、前記第１電極及び前記第２電極の間に印加される電界によって液晶分子の配列を調節して前記画素の光透過率が調節される。
【００７５】
本実施例では前記液晶表示装置は、前記カラーフィルタ層ＣＦが液晶層３００の下部に形成され、前記ブラックマトリックスＢＭが前記液晶層３００の上部に形成されるＣＯＡ(ｃｏｌｏｒ ｆｉｌｔｅｒ ｏｎ ａｒｒａｙ)構造を有するが、それに限定されない。これと異なり、前記液晶表示装置は、前記ブラックマトリックスＢＭが前記液晶層３００の上部に形成されるＣＯＡ(ｃｏｌｏｒ ｆｉｌｔｅｒ ｏｎ ａｒｒａｙ)構造を有することができる。例えば、前記カラーフィルタ層ＣＦ及びブラックマトリックスＢＭは、前記液晶層３００の上部に配置されることができる。
【００７６】
未図示であるが、前記液晶表示装置は、前記液晶層３００の前記液晶分子を配向するための配向膜(未図示)を含むことができる。
【００７７】
前記配向膜(未図示)は、前記液晶層３００と前記第１オーバーコーティング層１３０との間、及び前記液晶層３００と第２オーバーコーティング層２１０との間に配置されることができる。
【００７８】
前記配向膜は、前記液晶層３００の前記液晶分子をフリーチルト(ｐｒｅ−ｔｉｌｔ)させるためである。前記配向膜は、配向液を用い、形成される。配向液を前記第１基板１００及び前記第２基板２００上に塗布した後、前記配向液を除去する。前記配向液は、スリットコーティング、スピンコーティングなど多様な方法で塗布されることができる。前記配向液を除去するために室温に置いたり熱を加えることができる。前記配向液は、ポリイミド(ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ;ＰＩ)のような配向物質を適切な溶媒に混合したものである。
【００７９】
それとは異なり、前記配向膜は、前記液晶層３００の種類によって、または、前記画素電極ＰＥ及び前記共通電極ＣＥの構造により省略されることができる。例えば、前記画素電極ＰＥがマイクロスリットを有し、別途の配向膜なしで前記液晶の初期配向が可能な場合に、前記配向膜が省略されることができる。または、前記液晶層３００の初期配向陽反応性メソゲン層が形成される場合にも前記配向膜が省略されることができる。
【００８０】
本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記第１基板１００の下部に配置される位相差補償フィルム４００Ａを含む。
【００８１】
前記位相差補償フィルム４００Ａは、フルオリン樹脂を含むことができる。
前記第１基板１００の下部にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物（retarder composition）を塗布(ｃｏａｔｉｎｇ)し、リターダコーティング層（retarder coating layer）を形成する。
前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤、溶媒を含む。
【００８２】
前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂１０重量％〜３０重量％、反応性メソゲン２０重量％〜４０重量％、光硬化性モノマ１重量％〜１０重量％、熱硬化剤１重量％〜１０重量％及び溶媒１０重量％〜３０重量％でもよい。
【００８３】
［フルオリン樹脂］
前記位相差補償フィルム４００Ａは、硬度を向上させ、防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。
【００８４】
前記フルオリン樹脂は、水素の位置がフルオリンで置換されている形態の化合物を使うことができる。
【００８５】
例えば、前記フルオリン樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン(ＰｏｌｙＴｅｔｒａＦｌｕｏｒｏ  Ｅｔｈｙｌｅｎｅ；ＰＴＦＥ)、フルオリンエチレンプロピレン(ｆｌｕｏｒｉｎａｔｅｄ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ;ＦＥＰ)、ペルフルオロアルコキシ(ｐｅｒｆｌｕｏｒｏ  ａｌｋｏｘｙ；ＰＦＡ)、エチレンテトラフルオロエチレン(ｅｔｈｙｌｅｎｅ−Ｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ；ＥＴＦＥ)、ポリフッ化ビニリデン(ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｉｄｅｎ  ｆｌｕｏｒｉｄｅ；ＰＶＤＦ)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン(ｅｔｈｙｌｅｎｅ−ｃｈｌｏｒｏｔｒｉｆｌｕｏｒｏ ｅｔｈｙｌｅｎｅ；ＥＣＴＦＥ)、ポリクロロトリフルオロエチレン(ｐｏｌｙｃｈｌｏｒｏｔｒｉｆｌｕｏｒｏ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ；ＰＣＴＦＥ)及びこれらの組合からなったグループで１つ以上選択されるが、それらに限定されない。
【００８６】
前記フルオリン樹脂を含むリターダ組成物を前記第１基板１００の下部に塗布して形成された前記位相差補償フィルム４００Ａの表面部のフルオリン元素比率が全体元素比率に対し２０元素％〜３０元素％の範囲でもよい。
【００８７】
前記フルオリン元素比率が２０元素％未満である場合、前記位相差補償フィルム４００Ａをスクラッチなどから保護するための十分な硬度を得難い。前記フルオリン元素比率が３０元素％超過である場合、位相遅延がほとんど起きなくなる問題点がある。
【００８８】
前記フルオリン樹脂の含有量は、１０重量％〜３０重量％でもよい。前記フルオリン樹脂の含有量が全体組成物に対し１０重量％未満である場合、硬度が２Ｈ以下を有し、前記位相差補償フィルム４００Ａの硬度、防汚性が低下し、３０重量％超過である場合、位相遅延特性が低下することがある。
【００８９】
［反応性メソゲン］
前記反応性メソゲンは、特定位相を有する。前記反応性メソゲンは、光硬化性反応性メソゲンである。前記反応性メソゲンは、脂肪族環(ａｌｉｐｈａｔｉｃ  ｒｉｎｇ)、芳香族環(ａｒｏｍａｔｉｃ  ｒｉｎｇ)等が含まれ、末端に複数の官能基を有することができる。
【００９０】
前記反応性メソゲンは、紫外線などの光に露出すれば、複数の反応性メソゲンは、開始剤(ｉｎｉｔｉａｔｏｒ)等と共に反応し、オリゴマー(ｏｌｉｇｏｍｅｒ)、ポリマー(ｐｏｌｙｍｅｒ)または、これらの混合物が形成されることができる。
【００９１】
したがって、一つ以上の前記官能基に光反応基を含むことができる。例えば、前記光反応基は、アクリレート(ａｃｒｙｌａｔｅ)、メタクリレート(ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ)、エポキシ(ｅｐｏｘｙ)、オキセタン(ｏｘｅｔｈａｎｅ)、ビニルエーテル(ｖｉｎｙｌ−ｅｔｈｅｒ)、スチレン(ｓｔｙｒｅｎｅ)またはチオレン(ｔｈｉｏｌｅｎｅ)反応期などを上げられる。
【００９２】
前記反応性メソゲンの含有量は、２０重量％〜４０重量％でもよい。前記反応性メソゲンの含有量が全体組成物に対し２０重量％未満である場合、位相遅延特性が低下し、４０重量％超過である場合、位相差補償フィルム４００Ａの柔軟性が低下することがある。
【００９３】
［光硬化性モノマ］
前記光硬化性モノマは、アクリレートモノマでもよい。前記アクリレートモノマは紫外線露光によって前記反応性メソゲンと反応することによって、前記リターダコーティング層を硬化させる。
【００９４】
例えば、前記アクリレートモノマは、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(ｄｉｐｅｎｔａｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ  ｈｅｘａａｃｒｙｌａｔｅ)、ジシクロペンタジエンアクリレート(ｄｉｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｅ  ａｃｒｙｌａｔｅ)、ジシクロペンタジエンメタクリレート(ｄｉｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｅ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ)、トリメチロールプロパントリアクリレート(ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐａｎｅ  ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ)、グリシジルメタクリレート(ｇｌｙｃｉｄｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ)、ジエチレングリコールジメタクリレート(ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ  ｄｉｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ)、エチレングリコールアクリレート(ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ)、エチレングリコールジメタクリレート(ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ  ｄｉｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ)等が使われ、これらはそれぞれ単独または混合して使われることができる。
【００９５】
前記光硬化性モノマの含有量は、１重量％〜１０重量％でもよい。前記光硬化性モノマの含有量が全体組成物に対し１重量％未満である場合、光硬化が十分に進行されず、塗膜の安定性が低下し、１０重量％を超過する場合、塗膜の柔軟性が低下することがある。
【００９６】
［熱硬化剤］
前記熱硬化剤は熱によって前記反応性メソゲンと反応し、前記リターダコーティング層を硬化させる。
【００９７】
例えば、前記熱硬化剤はアミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、イミダゾール系硬化剤などを含めるし、工程温度により適切に選択され、使われることができる。
【００９８】
具体的に、前記熱硬化剤では、ジアミノジフェニルメタン(ＤＤＭ、ｄｉａｍｉｎｏｄｉｐｈｅｎｙｌｍｅｔｈａｎｅ)、ジアミノジフェニルスルホン(ＤＤＳ、ｄｉａｍｉｎｏｄｉｐｈｅｎｙｌｓｕｌｆｏｎｅ)、テトラヒドロフタル酸無水物(ＴＨＰＡ、ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｐｈｔｈａｌｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ)、ヘキサヒドロフタル酸無水物(ＨＨＰＡ、ｈｅｘａｈｙｄｒｏｐｈｔｈａｌｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ)、メチルテトラヒドロフタル酸無水物(ＭｅＴＨＰＡ、ｍｅｔｈｙｌｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｐｈｔｈａｌｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ)、ナジックメチル無水物(ＮＭＡ、ｎａｄｉｃ  ｍｅｔｈｙｌａｎｈｙｄｒｉｄｅ)、加水分解メチルナジック無水物(ＨＮＭＡ、ｈｙｄｒｏｌｉｚｅｄ ｍｅｔｈｙｌｎａｄｉｃ ａｎｈｙｄｒｉｄｅ)、フタル酸無水物(ＰＡ、ｐｈｔｈａｌｉｃ ａｎｈｙｄｒｉｄｅ)、２−フェニル−４−メチル−ヒドロキシメチルイミダゾール(２−ｐｈｅｎｙｌ−４−ｍｅｔｈｙｌ−ｈｙｄｒｏｘｙｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｅ)、３−(３、４−ジクロロフェニル)−１、１−ジメチル尿素(ＤＣＭＵ、３−(３、４−ｄｉｃｈｌｏｒｏｐｈｅｎｙｌ)−１、１−ｄｉｍｅｔｈｙｌｕｒｅａ)、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ビフェニルエーテルブロックカルボン酸、多価カルボン酸の活性エステル、１−シアノエチル２−フェニルイミダゾール(ＴＣＩ、１−ｃｙａｎｏｅｔｈｙｌ ２−ｐｈｅｎｙｌ ｉｍｉｄａｚｏｌｅ)、１、１−ジメトキシ−Ｎ、Ｎ−ジメチルメタンアミン(１、１−ｄｉｍｅｔｈｏｘｙ−Ｎ、Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｎａｍｉｎｅ)、１−フェニルエチルアミン(１−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ)、２−(ジエトキシルアミノ)エチルアミン(２−(ｄｉｅｔｈｏｘｙｌａｍｉｎｏ)ｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ)、２−フェニルエチルアミン(２−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ)、３−メトキシプロピルアミン(３−ｍｅｔｈｏｘｙｐｒｏｐｙｌａｍｉｎｅ)、ブチルアミン(ｂｕｔｙｌａｍｉｎｅ)、シクロヘキシルアミン(ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌａｍｉｎｅ)、１−フェニルプロピルアミン(１−ｐｈｅｎｙｌｐｒｏｐｙｌａｍｉｎｅ)、ジ(２−エチルヘキシル)アミン(ｄｉ(２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ)ａｍｉｎｅ)、ジブチルアミン(ｄｉｂｕｔｙｌａｍｉｎｅ)、ジエチルアミン(ｄｉｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ)、ジエチレントリアミン(ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅｔｒｉａｍｉｎｅ)、ジメチルエチルアミン(ｄｉｍｅｔｈｙｌｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ)、ジプロピルアミン(ｄｉｐｒｏｐｙｌａｍｉｎｅ)、ジプロピレントリアミン(ｄｉｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  ｔｒｉａｍｉｎｅ)、イソプロピルアミン(ｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｉｎｅ)、Ｎ、Ｎ−ビス(３−アミンプロピル)メチルアミン(Ｎ、Ｎ−ｂｉｓ−(３−ａｍｉｎｅｐｒｏｐｙｌ)ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ)、Ｎ、Ｎ−ジメチルイソプロピルアミン(Ｎ、Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｉｎｅ)、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン(Ｎ−ｅｔｈｙｌｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｉｎｅ)、Ｎ−オクチルアミン(Ｎ−ｏｃｔｙｌａｍｉｎｅ)、Ｎ３−アミン３−(２−アミノエチルアミノ)プロピルアミン(Ｎ３−ａｍｉｎｅ３−(２−ａｍｉｎｏｅｔｈｙｌａｍｉｎｏ)ｐｒｏｐｙｌａｍｉｎｅ)、プロピルアミン(ｐｒｏｐｙｌａｍｉｎｅ)、トリブチルアミン(ｔｒｉｂｕｔｙｌａｍｉｎｅ)、トリプロピルアミンン(ｔｒｉｐｒｏｐｙｌａｍｉｎｅ)、トリス−(２−エチルヘキシル)アミン(Ｔｒｉｓ−(２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ)ａｍｉｎｅ)、ｔｅｒｔ−ブチルアミン(ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌａｍｉｎｅ、ジイソプロパノールアミン(ｄｉｉｓｏｐｒｏｐａｎｏｌａｍｉｎｅ)、メチルジエタノールアミン(ｍｅｔｈｙｌｄｉｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ)、Ｎ、Ｎ-ジメチルイソプロパノールアミン(Ｎ、Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌｉｓｏｐｒｏｐａｎｏｌａｍｉｎｅ)、Ｎ−メチルエタノールアミン(Ｎ−ｍｅｔｈｙｌｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ)、２、６−キシリジン(２、６−ｘｙｌｉｄｉｎｅ)、Ｎ−エチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル)アニリン(Ｎ−ｅｔｈｙｌ−Ｎ−(２−ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ)ａｎｉｌｉｎｅ)、エチレンジアミン(ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉａｍｉｎｅ)、イソホロンジアミン(ｉｓｏｐｈｏｒｏｎｅ ｄｉａｍｉｎｅ)、エチルエタノールアミン(ｅｔｈｙｌｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ)、Ｎ−(２−アミノエチル)エタノールアミン(Ｎ−(２−ａｍｉｎｏｅｔｈｙｌ)ｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ)、トリイソプロパノールアミン(ｔｒｉｉｓｏｐｒｏｐａｎｏｌａｍｉｎｅ)、ジエチレントリアミン(ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅｔｒｉａｍｉｎｅ)、エチレンジアミン(ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉａｍｉｎｅ)、Ｎ−(２−アミンエチル)エタノールアミン(Ｎ−(２−ａｍｉｎｅｔｈｙｌ)ｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ)、１−メトキシルイミダゾール(１−ｍｅｔｈｏｘｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｅ)、１−ビニルイミダゾール(１−ｖｉｎｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｅ)、Ｎ、Ｎ-ジメチルイソプロパノールアミン(Ｎ、Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌｉｓｏｐｒｏｐａｎｏｌａｍｉｎｅ)、Ｎ−エチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル)アニリン(Ｎ−ｅｔｈｙｌ−Ｎ−(２−ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ)ａｎｉｌｉｎｅ)、１−メチルイミダゾール(１−ｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｅ)、Ｎ、Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン(Ｎ、Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌａｍｉｎｅ)、トリメチルアミノエチルエタノールアミン(ｔｒｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｅｔｈｙｌｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ)等を例にあげることができる。これらはそれぞれ単独または混合して使われることができる。
【００９９】
前記熱硬化剤の含有量は１重量％〜１０重量％でもよい。前記熱硬化剤の含有量が全体組成物に対し、１重量％未満である場合、熱硬化が十分に進行されず、塗膜の安定性が低下し、１０重量％を超過する場合、塗膜の柔軟性が低下することがある。
【０１００】
［溶媒］
前記溶媒はケトン系、炭化水素系または、アルコール系溶剤を使うことができる。例えば、ケトン系溶剤は、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノンなどが例に挙げれるが、それに限定されない。例えば、炭化水素系溶媒は、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソールなどが例に挙げれるが、それに限定されない。例えば、アルコール系溶剤は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノールなどであることもあるが、それに限定されない。
【０１０１】
前記溶媒の含有量は、１０重量％〜３０重量％でもよい。前記溶媒の含有量が全体組成物に対し１０重量％未満である場合、前記リターダ組成物の粘度が過度に増加し、前記位相差補償フィルム４００Ａの均一性が低下される可能性があり、３０重量％を超過する場合、希望する前記位相差補償フィルム４００Ａの厚さを得難い。
【０１０２】
前記リターダ組成物は、光重合開始剤をさらに含むことができる。前記光重合開始剤は光によって分解され、ラジカルを生成することにより、前記光硬化性モノマの光重合を活性化する。
【０１０３】
例えば、前記光重合開始剤では、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ジエトキシアセトフェノン系化合物、ヒドロキシアセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、アントラキノン系化合物、α−アシルオキシムエステル系化合物、フェニルグリオキシル酸系化合物、ベンジル系化合物、アゾ系化合物、ジフェニルサルファイド系化合物、アシルホスフィンオキシル系化合物、有機色素系化合物、鉄−フタロシアニン系化合物などが使われることができる。これらはそれぞれ単独でまたは混合して使われることができる。
【０１０４】
具体的に、前記光重合開始剤では、１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン(１−ｐｈｅｎｙｌ−２−ｈｙｄｒｏｘｙ−２−ｍｅｔｈｙｌ ｐｒｏｐａｎｅ−１−ｏｎｅ)、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(１−ｈｙｄｒｏｘｙ ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ｐｈｅｎｙｌ ｋｅｔｏｎｅ)、アミノアセトフェノン(ａｍｉｎｏ ａｃｅｔｏｐｈｅｎｏｎｅ)、ベンジルジメチルケタール(ｂｅｎｚｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌ ｋｅｔａｌ)、安息香エーテル(ｂｅｎｚｏｉｎ ｅｔｈｅｒ)、チオキサントン(ｔｈｉｏｘａｎｔｈｏｎｅ)、２−エチルアントラキノン(２−ｅｔｈｙｌａｎｔｈｒａｑｕｉｎｏｎｅ、２−ＥＴＡＱ)、カンファーキノン(ｃａｍｐｈｏｒｑｕｉｎｏｎｅ)、アルファ−ナフトール(α−ｎａｐｈｔｏｌ)、２、４−ジエチルチオキサントン(２、４−ｄｉｅｔｈｙｌｔｈｉｏｘａｎｔｈｏｎｅ)、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド(ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｏｉｌ ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ ｏｘｉｄｅ)、ベンゾフェノン(ｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ)、２、２−ジエトキシアセトフェノン(２、２−ｄｉｅｔｈｏｘｙａｃｅｔｏｐｈｅｎｏｎｅ)、ベンゾイルイソプロピルエーテル(ｂｅｎｚｏｉｌｉｓｏｐｒｏｐｙｌｅｔｈｅｒ)等が使われることができる。
【０１０５】
前記光重合開始剤の含有量は、１重量％〜１０重量％でもよい。前記光重合開始剤の含有量が全体組成物に対し１重量％未満である場合、硬化が十分に進行されず、１０重量％を超過する場合、塗膜の柔軟性が低下することがある。
【０１０６】
前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれ、前記第１基板１００に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンの相分離が起き得る。
【０１０７】
一般的に前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、３０〜４５ｍＮ／ｍで大きい表面エネルギーを有する。それに対し、前記位相差補償フィルム４００Ａの表面エネルギーは２５ｍＮ／ｍ以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ａの表面エネルギーは１０〜２５ｍＮ／ｍでもよい。
【０１０８】
前記位相差補償フィルム４００Ａの硬度は、２Ｈ以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ａの硬度は２Ｈ〜５Ｈでもよい。
【０１０９】
前記リターダ組成物を塗布する方法では、スリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は溶液状態を成し、この際、粘性は１ｍＰａｓ〜５０ｍＰａｓの範囲を有することができる。
【０１１０】
前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第１基板１００を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層を表面温度７０℃〜１１０℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第１基板１００を加熱することによって、熱硬化剤及び反応性メソゲンなどの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれている溶媒を除去することができる。
【０１１１】
前記リターダコーティング層を紫外線ＵＶに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線ＵＶに露出し、光硬化性モノマ、反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。本実施例では、前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげ、説明したがそれに限定されない。
【０１１２】
それとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層は、それぞれ異なる波長の紫外線ＵＶに露出することができる。
【０１１３】
前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第１基板１００を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置は、オーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を１１０℃〜１３０℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じて前記リターダコーティング層の内部には紫外線が照射された方向に対し、垂直な方向にリタデイションが発現し得る。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。
【０１１４】
前記熱処理を通じ、前記第１基板１００の下部に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム４００Ａが形成されることができる。
【０１１５】
前記位相差補償フィルム４００Ａの厚さは、１０ｕｍ以下でもよい。望ましく、前記位相差補償フィルム４００Ａの厚さは５ｕｍ以下でもよい。
【０１１６】
前記位相差補償フィルム４００Ａは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。
【０１１７】
前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記リターダ組成物の相分離が起き得る。
【０１１８】
このような相分離を通じ、フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンは、前記反応性メソゲンに比べて低い表面エネルギーを有し、前記位相差補償フィルム４００Ａの外郭に移動することができる。すなわち、前記第１基板１００の下部に隣接し、前記リターダ組成物が配置され、前記リターダ組成物の下部に前記フルオリン樹脂及び前記フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンが配置される構造を有することができる。したがって、前記位相差補償フィルム４００Ａの硬度、防汚性及び耐スクラッチ性が向上することができる。
【０１１９】
前記液晶表示装置は、前記第１基板１００の下部に配置される第１偏光板５００及び前記第２基板２００上に配置される第２偏光板６００をさらに含むことができる。
【０１２０】
例えば、前記第１偏光板５００は、前記第１基板１００の下面に付着することができる。前記第１偏光板５００は、バックライトアセンブリ(未図示)から提供される光を偏光させることができる。前記第１偏光板５００は、第１偏光軸を有することができる。前記第１偏光板５００は、前記バックライトアセンブリから提供される光の中、前記第１偏光軸方向の光を通過させることができる。
【０１２１】
例えば、前記第２偏光板６００は、前記第２基板５００の表面に付着することができる。前記第２偏光板６００は、前記カラーフィルタ層ＣＦを通過した光を偏光させることができる。前記第２偏光板６００は、第２偏光軸を有することができる。前記第２偏光軸は、前記第１偏光軸と垂直でもよい。前記第２偏光板６００は、前記カラーフィルタ層ＣＦを通過した光の中、前記第２偏光軸方向の光を通過させることができる。
【０１２２】
本実施例に係る液晶表示装置は、前記第１偏光板５００が前記第１基板１００の下部に配置され、前記第２偏光板６００が前記第２基板２００の上部に配置されるオン−セル型(ｏｎ−ｃｅｌｌ  ｔｙｐｅ)で説明したが、それに限定されない。それとは異なり、第１偏光板及び第２偏光板は、液晶表示装置の第１基板及び第２基板の間に配置されるイン−セル型(ｉｎ−ｃｅｌｌ  ｔｙｐｅ)で形成されることができる。
【０１２３】
図４は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【０１２４】
図４を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置は第１基板１００、第２基板２００、液晶層３００、位相差補償フィルム４００Ｂ、第１偏光板５００及び第２偏光板６００を含む。
【０１２５】
図４に係る前記液晶表示装置は、前記位相差補償フィルム４００Ｂの構成を除いては図３に係る液晶表示装置と実質的に同一なので、重複する説明は省略したり簡略する。
【０１２６】
本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記第２基板２００の上部に配置される位相差補償フィルム４００Ｂを含む。
【０１２７】
前記位相差補償フィルム４００Ｂは、フルオリン樹脂を含むことができる。
【０１２８】
前記第２基板２００の上部にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物を塗布(ｃｏａｔｉｎｇ)し、リターダコーティング層を形成する。
【０１２９】
前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤、溶媒を含む。
【０１３０】
前記位相差補償フィルム４００Ｂは、硬度を向上させて防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。
【０１３１】
前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれ、前記第２基板２００に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。
【０１３２】
一般的に前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、３０〜４５ｍＮ／ｍで大きい表面エネルギーを有する。これに対し、前記位相差補償フィルム４００Ｂの表面エネルギーは２５ｍＮ／ｍ以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ｂの表面エネルギーは１０〜２５ｍＮ／ｍでもよい。
【０１３３】
前記位相差補償フィルム４００Ｂの硬度は、２Ｈ以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ｂの硬度は２Ｈ〜５Ｈでもよい。
【０１３４】
前記リターダ組成物を塗布する方法ではスリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は、溶液状態を成し、この際、粘性は１ｍＰａｓ〜５０ｍＰａｓの範囲を有することができる。
【０１３５】
前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第２基板２００を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層は、表面温度７０℃〜１１０℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第２基板２００を加熱することによって、熱硬化剤及び反応性メソゲンなどの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれている溶媒を除去することができる。
【０１３６】
前記リターダコーティング層を紫外線ＵＶに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線ＵＶに露出し、光硬化性モノマ、反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。
【０１３７】
本実施例では、前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげて説明したが、それに限定されない。
【０１３８】
それとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層は、それぞれ異なる波長の紫外線ＵＶに露出することができる。
【０１３９】
前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第２基板２００を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置は、オーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を１１０℃〜１３０℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じて前記リターダコーティング層の内部には紫外線が照射された方向に対し、垂直な方向にリタデイションが発現することができる。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。
【０１４０】
前記熱処理を通じ、前記第２基板２００の上部に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム４００Ｂが形成されることができる。
【０１４１】
前記位相差補償フィルム４００Ｂの厚さは１０ｕｍ以下でもよい。望ましく、前記位相差補償フィルム４００Ｂの厚さは５ｕｍ以下でもよい。
【０１４２】
前記位相差補償フィルム４００Ｂは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。
【０１４３】
前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。
【０１４４】
このような相分離を通じ、フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンは、前記反応性メソゲンに比べ、低い表面エネルギーを有し、前記位相差補償フィルム４００Ｂの外郭に移動することができる。すなわち、前記第２基板２００の上部に隣接し、前記反応性メソゲンが配置され、前記反応性メソゲンの上部に前記フルオリン樹脂及び前記フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンが配置される構造を有することができる。したがって、前記位相差補償フィルム４００Ｂの硬度、防汚性及び耐スクラッチ性が向上することができる。
【０１４５】
図５は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【０１４６】
図５を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置は、第１基板１００、第２基板２００、液晶層３００、位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂ、第１偏光板５００及び第２偏光板６００を含む。
【０１４７】
図５に係る前記液晶表示装置は、前記位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂの構成を除いては図３に係る液晶表示装置と実質的に同一なので、重複する説明は省略したり簡略する。
【０１４８】
本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記第１基板１００の下部に配置される位相差補償フィルム４００Ａ及び前記第２基板２００の上部に配置される位相差補償フィルム４００Ｂを含む。
【０１４９】
前記位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂは、フルオリン樹脂を含むことができる。
【０１５０】
前記第１基板１００の下部及び前記第２基板２００の上部にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物を塗布(ｃｏａｔｉｎｇ)し、リターダコーティング層を形成する。
【０１５１】
前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤及び溶媒を含む。
【０１５２】
前記位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂは、硬度を向上させて防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。
【０１５３】
前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれ、前記第１基板１００及び前記第２基板２００に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。
【０１５４】
一般的に前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、３０〜４５ｍＮ／ｍで大きい表面エネルギーを有する。これに対し、前記位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂの表面エネルギーは２５ｍＮ／ｍ以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂの表面エネルギーは１０〜２５ｍＮ／ｍでもよい。
【０１５５】
前記位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂの硬度は２Ｈ以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂの硬度は２Ｈ〜５Ｈでもよい。
【０１５６】
前記リターダ組成物を塗布する方法ではスリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は、溶液状態を成し、この際、粘性は１ｍＰａｓ〜５０ｍＰａｓの範囲を有することができる。
【０１５７】
前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第１基板１００及び前記第２基板２００を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層を表面温度７０℃〜１１０℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第１基板１００及び前記第２基板２００を加熱することによって、熱硬化剤などの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれる溶媒を除去することができる。
【０１５８】
前記リターダコーティング層を紫外線ＵＶに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線ＵＶに露出し、光硬化性モノマ、反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。本実施例では前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげて説明したが、それに限定されない。
【０１５９】
それとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層はそれぞれ異なる波長の紫外線ＵＶに露出することができる。
【０１６０】
前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第１基板１００及び前記第２基板２００を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置はオーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を１１０℃〜１３０℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じて前記リターダコーティング層の内部には紫外線が照射された方向に対し、垂直な方向にリタデイションが発現することができる。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。
【０１６１】
前記熱処理を通じ、前記第１基板１００の下部及び前記第２基板２００の上部に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂが形成されることができる。
【０１６２】
前記位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂの厚さは、１０ｕｍ以下でもよい。望ましくは前記位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂの厚さは５ｕｍ以下でもよい。
【０１６３】
前記位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。
【０１６４】
前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。
【０１６５】
このような相分離を通じ、フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンは、フルオリン官能基を含まない前記反応性メソゲンに比べ、低い表面エネルギーを有し、前記位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂの外郭に移動することができる。フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンは、前記第１基板１００及びフルオリン官能基を含まない前記反応性メソゲンの間に配置される。また、フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンは、前記第２基板２００及びフルオリン官能基を含まない前記反応性メソゲンの間に配置される。したがって、前記位相差補償フィルム４００Ａ及び４００Ｂの硬度、防汚性及び耐スクラッチ性が向上することができる。
【０１６６】
図６は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【０１６７】
図６を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置は、第１基板１００、第２基板２００、液晶層３００、ブラックマトリックスＢＭ、前記第２基板２００及び前記ブラックマトリックスＢＭの間に配置された位相差補償フィルム４００Ｃ、第１偏光板５００及び第２偏光板６００を含む。
【０１６８】
図６に係る前記液晶表示装置は、前記位相差補償フィルム４００Ｃの構成を除いては図３に係る液晶表示装置と実質的に同一なので、重複する説明は省略したり簡略する。
【０１６９】
本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記第２基板２００及びブラックマトリックスＢＭの間に配置される位相差補償フィルム４００Ｃを含む。
【０１７０】
前記位相差補償フィルム４００Ｃは、フルオリン樹脂を含むことができる。
【０１７１】
前記第２基板２００の下部にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物を塗布(ｃｏａｔｉｎｇ)し、リターダコーティング層を形成する。
【０１７２】
前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤及び溶媒を含む。
【０１７３】
前記位相差補償フィルム４００Ｃは、硬度を向上させて防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。
【０１７４】
前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれ、前記第２基板２００に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。
【０１７５】
一般的に前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、３０〜４５ｍＮ／ｍで大きい表面エネルギーを有する。それに対し、前記位相差補償フィルム４００Ｃの表面エネルギーは２５ｍＮ／ｍ以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ｃの表面エネルギーは１０〜２５ｍＮ／ｍでもよい。
【０１７６】
前記位相差補償フィルム４００Ｃの硬度は、２Ｈ以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ｃの硬度は２Ｈ〜５Ｈでもよい。
【０１７７】
このような相分離を通じ、フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンは、前記反応性メソゲンに比べ、低い表面エネルギーを有し、前記位相差補償フィルム４００Ｃの外郭に移動することができる。すなわち、前記第２基板２００の下部に隣接し、前記反応性メソゲンが配置され、前記反応性メソゲンの下部に前記フルオリン樹脂及び前記フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンが配置される構造を有することができる。したがって、前記位相差補償フィルム４００Ｃの硬度、防汚性及び耐スクラッチ性が向上することができる。
【０１７８】
前記リターダ組成物を塗布する方法ではスリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は、溶液状態を成し、この際に粘性は、１ｍＰａｓ〜５０ｍＰａｓの範囲を有することができる。
【０１７９】
前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第２基板２００を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層を表面温度７０℃〜１１０℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第２基板２００を加熱することによって、熱硬化剤などの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれる溶媒を除去することができる。
【０１８０】
前記リターダコーティング層を紫外線ＵＶに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線ＵＶに露出し、光硬化性モノマ及び反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。本実施例では前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげて説明したが、それに限定されない。
【０１８１】
それとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層はそれぞれ異なる波長の紫外線ＵＶに露出することができる。
【０１８２】
前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第２基板２００を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置は、オーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を１１０℃〜１３０℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じて前記リターダコーティング層の内部には紫外線が照射された方向に対して垂直な方向にリタデイションが発現することができる。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。
【０１８３】
前記熱処理を通じ、前記第２基板２００の下部に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム４００Ｃが形成されることができる。
【０１８４】
前記位相差補償フィルム４００Ｃの厚さは、１０ｕｍ以下でもよい。望ましく、前記位相差補償フィルム４００Ｃの厚さは５ｕｍ以下でもよい。
【０１８５】
前記位相差補償フィルム４００Ｃは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。
【０１８６】
前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で相分離が起きることができる。
【０１８７】
図７は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【０１８８】
図７を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置は第１基板１００、第２基板２００、液晶層３００、ブラックマトリックスＢＭ上に配置された位相差補償フィルム４００Ｄ、第１偏光板５００及び第２偏光板６００を含む。
【０１８９】
図７に係る前記液晶表示装置は、前記位相差補償フィルム４００Ｄの構成を除いては図３に係る液晶表示装置と実質的に同一なので、重複する説明は省略したり簡略する。
【０１９０】
本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記ブラックマトリックスＢＭ上に配置される位相差補償フィルム４００Ｄを含む。前記ブラックマトリックスＢＭは、前記第２基板２００の上に配置され、前記位相差補償フィルム４００Ｄは、前記第２基板２００の上に配置された前記ブラックマトリックスＢＭ上に配置される。
【０１９１】
前記位相差補償フィルム４００Ｄは、フルオリン樹脂を含むことができる。
【０１９２】
前記ブラックマトリックスＢＭ上にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物を塗布(ｃｏａｔｉｎｇ)し、リターダコーティング層を形成する。
【０１９３】
前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤及び溶媒を含む。
【０１９４】
前記位相差補償フィルム４００Ｄは、硬度を向上させ、防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。
【０１９５】
前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれ、前記第２基板２００に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。
【０１９６】
一般的に、前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、３０〜４５ｍＮ／ｍで大きい表面エネルギーを有する。これに対し、前記位相差補償フィルム４００Ｄの表面エネルギーは２５ｍＮ／ｍ以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ｄの表面エネルギーは１０〜２５ｍＮ／ｍでもよい。
【０１９７】
前記位相差補償フィルム４００Ｄの硬度は、２Ｈ以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ｄの硬度は２Ｈ〜５Ｈでもよい。
【０１９８】
前記リターダ組成物を塗布する方法では、スリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は、溶液状態を成し、この際、粘性は１ｍＰａｓ〜５０ｍＰａｓの範囲を有することができる。
【０１９９】
前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第２基板２００を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層を表面温度７０℃〜１１０℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第２基板２００を加熱することによって、熱硬化剤及び反応性メソゲンなどの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれている溶媒を除去することができる。
【０２００】
前記リターダコーティング層を紫外線ＵＶに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線ＵＶに露出し、光硬化性モノマ及び反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。本実施例では前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげて説明したが、それに限定されない。
【０２０１】
これとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層は、それぞれ異なる波長の紫外線ＵＶに露出することができる。
【０２０２】
前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第２基板２００を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置は、オーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を１１０℃〜１３０℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層の内部には紫外線が照射された方向に対して垂直な方向にリタデイションが発現することができる。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。
【０２０３】
前記熱処理を通じ、前記ブラックマトリックスＢＭ上に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム４００Ｄが形成されることができる。
前記位相差補償フィルム４００Ｄの厚さは１０ｕｍ以下でもよい。望ましく、前記位相差補償フィルム４００Ｄの厚さは５ｕｍ以下でもよい。
【０２０４】
前記位相差補償フィルム４００Ｄは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。
【０２０５】
前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記反応性メソゲンとの相分離が起きることができる。
【０２０６】
図８は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【０２０７】
図８を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置は、第１基板１００、第２基板２００、液晶層３００、第２オーバーコーティング層２１０上に配置された位相差補償フィルム４００Ｅ、第１偏光板５００及び第２偏光板６００を含む。
【０２０８】
図８に係る前記液晶表示装置は、前記位相差補償フィルム４００Ｅの構成を除いては図３に係る液晶表示装置と実質的に同一なので、重複する説明は省略したり簡略する。
【０２０９】
本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記第２オーバーコーティング層２１０上に配置される位相差補償フィルム４００Ｅを含む。前記第２オーバーコーティング層２１０は、前記第２基板２００の上に配置され、前記位相差補償フィルム４００Ｅは、前記第２基板２００の上に配置された第２オーバーコーティング層２１０上に配置される。
【０２１０】
前記位相差補償フィルム４００Ｅは、フルオリン樹脂を含むことができる。
【０２１１】
前記第２オーバーコーティング層２１０上にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物を塗布(ｃｏａｔｉｎｇ)し、リターダコーティング層を形成する。
【０２１２】
前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤及び溶媒を含む。
【０２１３】
前記位相差補償フィルム４００Ｅは、硬度を向上させて防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。
【０２１４】
前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれ、前記第２基板２００に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。
【０２１５】
一般的に前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、３０〜４５ｍＮ／ｍで大きい表面エネルギーを有する。それに対し、前記位相差補償フィルム４００Ｅの表面エネルギーは、２５ｍＮ／ｍ以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ｅの表面エネルギーは１０〜２５ｍＮ／ｍでもよい。
【０２１６】
前記位相差補償フィルム４００Ｅの硬度は、２Ｈ以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ｅの硬度は２Ｈ〜５Ｈでもよい。
【０２１７】
前記リターダ組成物を塗布する方法ではスリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は、溶液状態を成し、この際、粘性は１ｍＰａｓ〜５０ｍＰａｓの範囲を有することができる。
【０２１８】
前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第２基板２００を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層を表面温度７０℃〜１１０℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第２基板２００を加熱することによって、熱硬化剤及び反応性メソゲンなどの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれている溶媒を除去することができる。
【０２１９】
前記リターダコーティング層を紫外線ＵＶに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線ＵＶに露出し、光硬化性モノマ及び反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。本実施例では前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげて説明したが、それに限定されない。
【０２２０】
それとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層は、それぞれ異なる波長の紫外線ＵＶに露出することができる。
【０２２１】
前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第２基板２００を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置は、オーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を１１０℃〜１３０℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層の内部には、紫外線が照射された方向に対し、垂直な方向にリタデイションが発現することができる。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。
【０２２２】
前記熱処理を通じ、前記第２オーバーコーティング層２１０上に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム４００Ｅが形成されることができる。
【０２２３】
前記位相差補償フィルム４００Ｅの厚さは、１０ｕｍ以下でもよい。望ましく、前記位相差補償フィルム４００Ｅの厚さは５ｕｍ以下でもよい。
【０２２４】
前記位相差補償フィルム４００Ｅは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。
【０２２５】
前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。
【０２２６】
図９は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。
【０２２７】
図９を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置銀第１基板１００、第２基板２００、液晶層３００、共通電極ＣＥ上に配置された位相差補償フィルム４００Ｆ、第１偏光板５００及び第２偏光板６００を含む。
【０２２８】
図９に係る前記液晶表示装置は、前記位相差補償フィルム４００Ｆの構成を除いては図３に係る液晶表示装置と実質的に同一なので、重複する説明は省略したり簡略する。
【０２２９】
本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記共通電極ＣＥ上に配置される位相差補償フィルム４００Ｆを含む。前記共通電極ＣＥは、前記第２基板２００上に配置され、前記位相差補償フィルム４００Ｆは、前記第２基板２００の上に配置された前記共通電極ＣＥ上に配置される。
【０２３０】
前記位相差補償フィルム４００Ｆは、フルオリン樹脂を含むことができる。
【０２３１】
前記共通電極ＣＥ上にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物を塗布(ｃｏａｔｉｎｇ)し、リターダコーティング層を形成する。
【０２３２】
前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤及び溶媒を含む。
【０２３３】
前記位相差補償フィルム４００Ｆは、硬度を向上させて防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。
【０２３４】
前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれて前記第２基板２００に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。
【０２３５】
一般的に前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、３０〜４５ｍＮ／ｍで大きい表面エネルギーを有する。それに対し、前記位相差補償フィルム４００Ｆの表面エネルギーは２５ｍＮ／ｍ以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ｆの表面エネルギーは１０〜２５ｍＮ／ｍでもよい。
【０２３６】
前記位相差補償フィルム４００Ｆの硬度は、２Ｈ以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム４００Ｆの硬度は２Ｈ〜５Ｈでもよい。
【０２３７】
前記リターダ組成物を塗布する方法ではスリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は、溶液状態を成し、この際、粘性は１ｍＰａｓ〜５０ｍＰａｓの範囲を有することができる。
【０２３８】
前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第２基板２００を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層を表面温度７０℃〜１１０℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第２基板２００を加熱することによって、熱硬化剤及び反応性メソゲンなどの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれている溶媒を除去することができる。
【０２３９】
前記リターダコーティング層を紫外線ＵＶに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線ＵＶに露出し、光硬化性モノマ及び反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。本実施例では、前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげて説明したが、それに限定されない。
【０２４０】
それとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層は、それぞれ異なる波長の紫外線ＵＶに露出することができる。
【０２４１】
前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第２基板２００を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置はオーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を１１０℃〜１３０℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層の内部には、紫外線が照射された方向に対して垂直な方向にリタデイションが発現することができる。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。
【０２４２】
前記熱処理を通じ、前記共通電極ＣＥ上に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム４００Ｆが形成されることができる。
【０２４３】
前記位相差補償フィルム４００Ｆの厚さは１０ｕｍ以下でもよい。望ましく、前記位相差補償フィルム４００Ｆの厚さは５ｕｍ以下でもよい。
【０２４４】
前記位相差補償フィルム４００Ｆは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。
【０２４５】
前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。
【０２４６】
基板上に直接位相差補償フィルムを形成するので偏光板の製造費用を減らせ、補償フィルムの厚さを薄く形成でき、セルの厚さを減らすための基板のエッチング工程を省略することができる。したがって、製造費用が減少し、生産性が向上することができる。液晶注入の前に位相差補償フィルムを硬化し、液晶の損傷を防止することができ、液晶表示装置の表示品質が向上することができる。
【０２４７】
以上では実施例を参照して説明したが、当該技術分野の熟練した通常の技術者は下記の特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び領域から抜け出さない範囲内で本発明を多様に修正及び変更させる可能性があることを理解できるはずである。
【産業上の利用可能性】
【０２４８】
本発明の実施例に係る液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法は、多様な形態の液晶表示装置、有機発光表示装置などに適用されることができる。
【符号の説明】
【０２４９】
１００第１基板
１１０ゲート絶縁層
１２０データ絶縁層
１３０第１オーバーコーティング層
２００第２基板
２１０第２オーバーコーティング層
３００液晶層
４００Ａ、４００Ｂ、４００Ｃ、４００Ｄ、４００Ｅ、４００Ｆ  位相差補償フィルム
５００、６００      第１偏光板、第２偏光板
ＰＥ         画素電極
ＣＥ         共通電極
ＢＭ         ブラックマトリックス
ＣＦ         カラーフィルタ層
Ｄ１、Ｄ２          第１方向、第２方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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