(57)【要約】【課題】高精細のパターンを優れた寸法精度で繰り返し印刷可能とするスクリーン印刷用の金属メッシュ織物及びこの金属メッシュ織物を利用したスクリーン印刷用スクリーン版を提供する。【解決手段】金属線材からなる縦糸及び横糸が互いに交差するように製織された構造を有する金属メッシュ織物であって、前記縦糸及び前記横糸の少なくとも一方が、タングステン又はタングステン合金であり、前記タングステン又はタングステン合金の糸の表面には、平均厚さが１５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下のタングステン又はタングステン合金の酸化物被膜が形成されており、かつ波長３７５ｎｍの光を前記金属メッシュ織物に照射した場合の反射率であって、前記金属メッシュ織物を所定枚数以上重ねた場合にほぼ一定の値となる反射率が６％以下であることを特徴とする印刷用金属メッシュ織物。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属線材からなる縦糸及び横糸が互いに交差するように製織された構造を有する金属メッシュ織物であって、前記縦糸及び前記横糸の少なくとも一方が、タングステン又はタングステン合金であり、前記タングステン又はタングステン合金の糸の表面には、平均厚さが１５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下のタングステン又はタングステン合金の酸化物被膜が形成されており、かつ波長３７５ｎｍの光の反射率であって、前記金属メッシュ織物を所定枚数以上重ねた場合にほぼ一定の値となる前記反射率が６％以下であることを特徴とする印刷用金属メッシュ織物。
【請求項２】
前記タングステン又はタングステン合金の糸は、線径が１６μm以下であり、前記金属メッシュ織物における前記縦糸及び横糸のそれぞれの２５．４ｍｍあたりの本数が３００本以上であることを特徴とする請求項１に記載の印刷用金属メッシュ織物。
【請求項３】
前記所定枚数が３枚であることを特徴とする請求項１または２に記載の印刷用金属メッシュ織物。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１つに記載の印刷用金属メッシュ織物を用いたことを特徴とする印刷用スクリーン版。
【請求項５】
画像形成用スクリーンと、該画像形成用スクリーンを枠に支持する支持体用スクリーンとを備え、前記支持体用スクリーンが合成繊維からなる織物構造体であり、前記画像形成用スクリーンとして請求項１から３のいずれか１つに記載の前記金属メッシュ織物を用いることを特徴とする印刷用スクリーン版。
【請求項６】
前記画像形成用スクリーン内において印刷対象の画像に対応する印刷用のパターンが形成される画像形成部の面積が、前記画像形成用スクリーンの全体の面積に対して４５％以上であることを特徴とする請求項５に記載の印刷用スクリーン版。
【請求項７】
前記印刷用スクリーン版に形成される印刷用のパターンは、最小のパターン幅または最小のパターンドット径が３０μｍ以下であることを特徴とする請求項４から６のいずれか１つに記載の印刷用スクリーン版。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高精細なパターンをスクリーン印刷で行う場合に用いる金属メッシュ織物およびスクリーン版に関するものである。より詳しくは、高精細のパターンを優れた寸法精度で繰り返し印刷可能とするスクリーン印刷用の金属メッシュ織物及びこの金属メッシュ織物を利用したスクリーン印刷用スクリーン版の提供に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来からスクリーン印刷が使用されているプリント回路、ＩＣ回路、各種ディスプレイ装置の電子部品基板の印刷、太陽電池電極印刷等をはじめとする印刷法における電子部品関係の用途は、近年ますます高精細化が望まれている。すなわち高精細なパターンを寸法精度良く印刷する技術が必要とされている。
【０００３】
一般に、スクリーン印刷に用いられる版は、一定の張力を付与された状態で版枠に固定されたメッシュや多孔金属板をスクリーンとし、そのスクリーン面に感光性樹脂（エマルジョン）でメッシュ開口や金属板孔部の所定部分を閉塞することでペーストの透過する領域、すなわち印刷パターンを形成している。
【０００４】
スクリーン印刷は、版のスクリーン面を被印刷面から一定距離（クリアランス）を隔てて平行に配置し、スキージによりペーストをスクリーンの開口部に充填しながらスクリーンを一時的に被印刷面に押し付け、スクリーンの弾性変形を利用した復元力に基づいて直ちに離隔させる（版離れ）ことによって、ペーストを被印刷面に塗布することで行われる。この版離れ性は印刷品質に大きな影響を与える重要な因子であり、適切な版離れ性を確保する目的で、スクリーンには所定の張力が付与されている。
【０００５】
高精細なパターンを優れた寸法精度で印刷するためには、特に良好な版離れ性が必要である。クリアランスを大きくとるほど版離れ性はよくなるが、スクリーンがスキージにより受ける変形すなわち伸びも大きくなるため、スクリーンの寿命を低下させることとなる。さらに、スクリーンの伸びが大きいと、版表面に形成したパターンの変形が大きくなったり、印刷中におけるスキージの印圧バランスやペースト物性の微妙な変動が印刷品質、特にパターンの寸法精度に悪い影響を与えることとなる。
【０００６】
そこで、繰り返し印刷しても高精細なパターンを優れた寸法精度で形成するためには、線径の細い繊維を高密度に織ったメッシュで版離れ性を確保した上でクリアランスを極力小さくとれるスクリーン版が必要となる。
【０００７】
版離れ性を確保しつつクリアランスを小さくするには版のスクリーン張力を高く、すなわち紗張り時のテンションを高くすることで達成される。スクリーン張力を高くするには、高強度で低伸度すなわち高弾性率のスクリーン用メッシュ材料が必要である。
【０００８】
スクリーンとしては合成繊維メッシュ、金属繊維メッシュともに用いることができるが、高精細な印刷、すなわち細い又は微細なパターンをスクリーン印刷にて形成するには、合成繊維では製造が難しい20μm以下の細い線材を、高密度で織ることのできる金属繊維を利用した金属繊維メッシュが適している。金属繊維としてはステンレスが広く利用されているが、スクリーンの伸び縮みの繰り返しにより、印刷回数の増加に伴い金属の弾性限界すなわち降伏点を越えるため、印刷精度が経時的に劣ることなどにより適切な印刷が行えなくなり耐久性に課題が残る。また、ステンレスの強度を上げるために焼入れなどの処理を行った高強度ステンレスのメッシュも用いられているが、初期の印刷精度の向上は達成されるものの、繰り返し印刷での耐久性は不十分である。
【０００９】
スクリーンメッシュを高弾性率化するために、ステンレスメッシュの表面に金属メッキを施したり（特許文献１、特許文献４）、ＤＬＣ（ダイアモンド・ライク・カーボン）膜を形成したり（特許文献２）、基材となるオーステナイト系ステンレス鋼の周縁部側に炭素を拡散浸透させた硬化層を形成する（特許文献３）などの方法が提案されている。
【００１０】
スクリーン印刷用の版のパターンは、一定の張力を付与された状態で版枠に固定された所定メッシュの画像形成部分に、例えば１〜１００μｍ程度の厚さの感光性樹脂膜を形成し、この表面に所望パターンのポジ型の画像フィルムやガラスマスクを重ねて紫外線照射する（露光）ことによりネガ型パターンを硬化させ、その後硬化していない所望パターン部の樹脂膜を洗浄除去する（現像）ことで形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開平４−１５１６６６号公報
【特許文献２】特開２００８−１８７１４号公報
【特許文献３】特開２０１２−１４０７３５号公報
【特許文献４】特開平９−１２３６３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかし、高精細印刷に適する金属繊維は合成繊維に比べて光が乱反射しやすいことから、感光剤を感光させる際の光の乱反射により、硬化させる必要のない領域の感光剤も硬化させてしまい、いわゆるハレーションと呼ばれる現象の影響がより大きい場合がある。すなわちポジ型パターンのエッジ部が乱反射の光により硬化してしまい、洗浄により樹脂膜をパターン通りに除去することができず、線幅が不安定になったり樹脂片が残留するなどの不都合を生ずることとなる。このような版を用いて印刷を行った場合、印刷パターンのライン幅などが所定より細くなったり断線したりする現象が生ずるなどの問題があるため、特に高精細なパターン形成では、光の乱反射を抑えることは極めて重要である。
【００１３】
光の乱反射を抑えるために、ステンレス等の金属細線を編んで形成したスクリーンの表面を、黒色クロムメッキや黒色ニッケルメッキ等の黒色処理や電着塗装による着色処理を行う方法が、特許文献４に提案されている。また、特許文献３にはオーステナイト系ステンレス鋼を母材とする金属メッシュ織物の表面に黒色クラッド層を形成することで、通常の軟質金属メッシュ織物のスクリーン印刷用版に比べて、反射率を低く抑えることで感光樹脂の解像度を向上させることが記載されている。
【００１４】
基材表面に金属メッキを施す特許文献１や特許文献４の方法、およびＤＬＣ膜を形成する特許文献２や基材の周縁部側に炭素を拡散浸透させた硬化層を形成する特許文献３などの何れの方法においても、これらの加工は金属繊維のメッシュを製織した後での煩雑な処理となるために、品質の安定性の問題や生産性が劣ることによる製造コストの上昇などの課題がある。さらに金属メッキやＤＬＣ膜を形成する方法では、形成された被膜の効果によって初期的にはスクリーンメッシュの弾性率は向上するものの、継続的な使用による被膜クラックの発生や基材からの剥離等により、耐久性を十分に維持することは困難である。
【００１５】
また、光の乱反射を抑えるためにスクリーンメッシュを黒色に着色する特許文献３や特許文献４の方法は、黒色に着色された金属メッシュ織物は視認性が著しく劣ることにより、例えば製版工程にてメッシュに張力を掛けて枠に固定する紗張り作業などで、メッシュが見えづらい事により不用意に折り曲げてしまう等、取扱性に難点がある。さらに、黒色メッキや電着塗装による方法では印刷版として使用中のメッシュの変形に対し、メッキや塗装被膜が追随できずに剥離し印刷耐久性が劣ったり、剥離した被膜微粉が印刷ペーストに混入する等の問題がある。
【００１６】
本発明は、高精細のパターンを優れた寸法精度で繰り返し印刷可能とするスクリーン印刷用の金属メッシュ織物及びこの金属メッシュ織物を利用したスクリーン印刷用スクリーン版を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
すなわち第１の発明は、金属線材からなる縦糸及び横糸が互いに交差するように製織された構造を有する金属メッシュ織物であって、前記縦糸及び前記横糸の少なくとも一方が、タングステン又はタングステン合金であり、前記タングステン又はタングステン合金の糸の表面には、平均厚さが１５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下のタングステン又はタングステン合金の酸化物被膜が形成されており、かつ波長３７５ｎｍの光の反射率であって、前記金属メッシュ織物を所定枚数以上重ねた場合にほぼ一定の値となる前記反射率が６％以下であることを特徴とする印刷用金属メッシュ織物である。
【００１８】
さらに第２の発明は、前記第１の発明において、前記タングステン又はタングステン合金の糸は、線径が１６μm以下であり、前記金属メッシュ織物における前記縦糸及び横糸のそれぞれの２５．４ｍｍあたりの本数が３００本以上であることを特徴とする。
【００１９】
さらに第３の発明は、第１または第２の発明において、前記所定枚数が３枚であることを特徴とする。
【００２０】
さらに第４の発明は、前記第１から第３のいずれかの発明における印刷用金属メッシュ織物を用いたことを特徴とする印刷用スクリーン版である。
【００２１】
さらに第５の発明は、画像形成用スクリーンと、該画像形成用スクリーンを枠に支持する支持体用スクリーンとを備え、前記支持体用スクリーンが合成繊維からなる織物構造体であり、前記画像形成用スクリーンが請求項１から３のいずれか１つに記載の前記金属メッシュ織物を用いることを特徴とする印刷用スクリーン版である。
【００２２】
さらに第６の発明は、第５の発明において、前記画像形成用スクリーン内において印刷対象の画像に対応する印刷用のパターンが形成される画像形成部の面積が、前記画像形成用スクリーンの全体の面積に対して４５％以上であることを特徴とする。
【００２３】
さらに第７の発明は、第４から第６のいずれかの発明において、前記印刷用スクリーン版に形成される印刷用のパターンは、最小のパターン幅または最小のパターンドット径が３０μｍ以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、高精細のパターンを優れた寸法精度で繰り返し印刷可能とするスクリーン印刷用の金属メッシュ織物及びこの金属メッシュ織物を利用したスクリーン印刷用スクリーン版を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本実施形態の高精細パターン印刷用金属メッシュ織物の構成の概要を示す構成図である。
【図２】メッシュ織物の応力―歪曲線のモデル図
【図３】本実施形態の低反射率スクリーンメッシュでの乳剤硬化の部分モデル図
【図４】高反射率スクリーンメッシュでの乳剤硬化の部分モデル図
【図５】酸化被膜の平均厚さが２５ｎｍのタングステン線断面の走査電子顕微鏡写真
【図６】酸化被膜の平均厚さが５２ｎｍのタングステン線断面の走査電子顕微鏡写真
【図７】通常のタングステン線断面の走査電子顕微鏡写真
【図８】代表的なコンビネーション版の模式図
【図９】ガラスマスクのポジパターン図
【図１０】解像性が良好なパターンの代表的写真
【図１１】解像性が不良なパターンの代表的写真
【図１２】印刷結果の評価位置を表す図
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明の金属メッシュ織物の実施形態について詳述する。図１は、本実施形態の高精細パターン印刷用金属メッシュ織物（以下、単に「金属メッシュ織物」とも記載する。）１の構成を示す構成図である。図１（ａ）は金属メッシュ織物１の平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ’矢印位置における金属メッシュ織物１の断面図である。本実施形態の金属メッシュ織物１は、スクリーン印刷用の高精細パターン印刷用金属メッシュ織物であり、織物を構成する縦糸及び横糸の少なくとも一方がタングステン又はタングステン合金からなり、その糸表面には１５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下のタングステンの酸化物被膜層が形成されるものであるのが好ましい。
【００２７】
そして、本実施形態の金属メッシュ織物１は、その反射率の特性が、本実施形態の金属メッシュ織物１を重ねていった場合に、ある枚数以上で反射率がほぼ一定の値になった際の波長３７５ｎｍの光の反射率が６％以下であることが好ましい。言い換えれば、金属メッシュ織物を複数枚重ねていき、光を照射した場合の波長３７５ｎｍの光の反射率がほぼ変化しない状態となる枚数以上重ねられた状態における、波長３７５ｎｍの光の反射率が６％以下であるものが好ましい。なお、本実施形態の金属メッシュ織物１の場合には、波長３７５ｎｍの光の反射率は、３枚以上でほぼ一定となる。反射率が変化しなくなるメッシュ織物の重畳枚数は、糸径、メッシュ数、オープニングエリア（開口率）等の条件によって変化するが、本実施形態の金属メッシュ織物の場合には、３枚以上であれば反射率はほぼ一定となり、そのほぼ一定となる反射率が上述の通り６％以下であることが好ましい。
【００２８】
具体的には本実施形態の金属メッシュ織物１は、縦糸２と、横糸３とを備える（図１においては、図面上下方向の糸を縦糸２として示している。）。そして縦糸２と横糸３の少なくとも一方がタングステン又はタングステン合金であり、タングステン又はタングステン合金の糸の表面には酸化物被膜４が形成される。図１では、縦糸２も横糸３もタングステン（又はタングステン合金）の糸である場合を例示しており、表面に酸化物被膜４が形成されている。金属メッシュ織物１は、縦糸２と横糸３が互いに交差するように製織される。酸化物被膜４は、平均厚さ１５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の厚みのバラつきのより小さいタングステンの酸化物被膜あるいはタングステン合金の酸化物被膜である。
【００２９】
ここで、タングステン及びタングステン合金の性質について説明する。タングステン及びタングステン合金は金属材料中で最も高い弾性率を示す材料の１つであり、タングステンでは３８０〜４１１ＧＰａと通常のステンレスに比べて約２倍の弾性率を有する。すなわち素材そのものが低伸度かつ高強度であるとの特性に加え、応力・ひずみ曲線における降伏応力と引張り強度（破断強度）とが比較的近いとの力学的な特徴がある。
【００３０】
本実施形態では、このようなタングステンの高弾性率の特性を用いることにより、印刷時に版離れの良いスクリーン印刷版の作製が可能となる。版と被印刷物とのクリアランスを狭くしても版離れが適切に行なえるため、版に形成した印刷パターンの変形が抑制され、位置精度に優れた高品質の印刷が可能となる。
【００３１】
一般に広く使用されているステンレスメッシュにおいては、スクリーンの伸び縮みの繰り返しにより、印刷回数の増加に伴い金属の弾性限界すなわち降伏点を越えるため、印刷精度が経時的に劣ってきて印刷パターンの再現性が難しかったり版の寿命の判定が難しいとの問題がある。特に高精細なパターン印刷において、印刷精度の経時的劣化や版寿命判定の困難さは、製品の歩留まりに直接的に影響を与える点で極めて重要な要素となる。
【００３２】
ここで、図２はタングステンメッシュとステンレスメッシュとについての、応力−歪曲線のモデル図である。図２では、標準的なステンレスメッシュの応力−歪曲線１１と、本実施形態のタングステンメッシュの応力−歪曲線１２とを示す。ステンレスメッシュの曲線では、ステンレスメッシュの降伏点１３と、ステンレスメッシュの破断点１５と、を示している。また、タングステンメッシュの曲線では、タングステンメッシュの降伏点１４と、タングステンメッシュの破断点１６と、を示している。
【００３３】
ステンレスメッシュでの上述のような特徴は、図２にモデル的に示すように、ステンレス素材固有の引張り強度に比べて降伏応力が小さいということに起因している。
【００３４】
一方、タングステンメッシュについては、図２に示すタングステンメッシュのモデル的な応力・歪曲線に示すように、ステンレスメッシュと異なり、その応力・歪曲線がほぼ全領域において直線的な関係を示す。すなわち降伏点が引張り強度の近傍にあることにより、印刷精度の経時的変化が極めて少なく再現性の良い印刷が行えるとともに、繰り返し使用による版の寿命は、メッシュを構成する糸の破断などの現象の発現により容易に判断が可能となる。また引張り強度も通常のステンレスに比べて凡そ１．５倍ほどあることから耐久性も優れ、再現性良く繰り返し多くの印刷が可能となるものである。
【００３５】
次に、本実施形態の金属メッシュ織物１を用いた高精細パターン印刷用スクリーン版（以下、単にスクリーン版とも記載する。）に対して所望のパターンを形成する処理について説明する。図３は、本実施形態の所望のパターンが形成されたスクリーン版を形成する過程を示すモデル図である。図３（ａ）は、スクリーン版を構成する金属メッシュ織物１の断面であって、メッシュの画像形成部分に感光性樹脂膜を形成し、その表面に所望のパターンのポジ型の画像フィルム（マスク）を重ねて紫外線照射を行って露光させ、ネガ型パターンを硬化させている際の紫外線の透過の仕方の概略を示している。図３（ｂ）は、図３（ａ）の露光処理後に、硬化していない所望パターン部の樹脂膜を洗浄等で除去（現像）することにより得られたパターン（所定のパターンの感光性樹脂膜３１）が形成された、金属メッシュ１の断面図である。
【００３６】
スクリーン印刷用のスクリーン版は、一定の張力を付与された金属メッシュ織物の画像形成部分に感光性乳剤の塗布・乾燥を繰り返して所定厚みの感光性樹脂膜を形成する直接法が広く用いられている。さらに、感光性樹脂膜からなるフィルムを金属メッシュ織物に転写する直間法も、その簡便性や特徴を生かして使用されている。何れの方法でも所定厚さの感光性樹脂膜を形成後、その表面に所望パターンのポジパターンの画像フィルムやガラスマスクを重ねて紫外線照射することでネガ型パターンを硬化させた後、未硬化の樹脂膜部分を洗浄除去して所望のパターンを形成する。図３（ａ）では、スクリーン版を構成する金属メッシュ織物１上に塗布等によって感光性樹脂４０の層（膜）が形成され、さらに表面に形成するスクリーン版のパターンに対応するマスクパターンを有するマスク２０が載せられている。この状態で、マスク２０側から矢印で示すように紫外線２４が照射されている状態を示している。
【００３７】
この図３（ａ）に示す状態では、樹脂を硬化させる部分についてはマスク２０の開口部であるネガパターン部２２を通過する紫外線２４が樹脂内部まで透過し、感光性樹脂が硬化する。一方、樹脂を除去する部分（図３（ｂ）において樹脂が除去されて形成されるパターンの開口部３２に相当する部分）については、マスク２０の紫外線を透過しないポジパターン部２３によって紫外線が遮蔽され、感光性樹脂は硬化しないままとなる。
【００３８】
そして本実施形態の金属メッシュ織物１では、縦糸あるいは横糸である糸２１が、露光用の光である紫外線の反射率が低い。紫外線の反射率が低いと、糸に当たって反射し周囲に紫外線が散乱することが抑制される。散乱した光は、図３（ａ）において反射光２５として示している。そうすると、ポジパターン部２３によって紫外線が遮蔽されている部分の感光性樹脂、つまり硬化させない範囲の感光性樹脂に近い位置でマスクを通過して入射した光が、糸によって反射して、硬化させない範囲の樹脂側に入ってしまうことが効果的に抑制される。これにより、もともとのマスクパターン通りに精度良く、金属メッシュ織物１に感光性樹脂によるパターンを形成することができ、高精細な印刷用スクリーンを提供することができる。
【００３９】
一方、従来のメッシュ織物によるスクリーン版では、反射率が大きく、高精細のパターンを形成することができない。図４には、従来の糸３５を使用するスクリーン版（メッシュ織物３０）に対して感光性樹脂４０の層を形成してマスク２０を重ね、紫外光２４を照射して樹脂を硬化させて感光性樹脂膜３１による所望のパターンを形成する過程を示す図である。図４（ａ）は図３（ａ）と同様に紫外光が照射されている状態のメッシュ織物の断面を示し、図４（ｂ）は図３（ｂ）と同様に硬化していない樹脂を洗浄して所望のパターンが形成されたメッシュ織物の断面を示す。
【００４０】
図４（ａ）に示すように、スクリーンメッシュの反射率が大きいと反射光２５である紫外光はポジパターン部２３の周縁部にまで及ぶことにより、周縁部の硬化させる必要のない感光性樹脂４０も部分的に硬化してしまう。このため次工程での洗浄除去にて、本来除去されるべき範囲の樹脂が硬化して周縁部が残ることなる。そうすると、感光性樹脂が除去されて形成される、スクリーン印刷のインクペーストが透過する領域は所望のパターン幅より狭いものとなったり洗浄にて除去できないなどの不都合が生ずることとなる。特にインクを通すためのパターンの幅やドットの径がより小さいものである場合ほど、周縁部の樹脂の硬化の影響は大きくなり、印刷の精度が低下する。これに対して、本実施形態では、メッシュの糸での反射率が低いので、硬化させる必要の無い周縁部への紫外光の乱反射が少なく、余分な硬化が抑制されることで、ポジパターンに忠実なパターン形成が可能となる。
【００４１】
以下さらに本実施形態の金属メッシュ織物１によるスクリーン版を用いることにより、マスクのパターン通りの高精細なパターンを形成することができる理由をより詳細に説明する。
【００４２】
本実施形態で用いられるタングステンまたはタングステン合金の糸表面には、酸化物被膜層が形成されている。酸化物被膜は、糸がタングステンである場合にはタングステンの酸化物による膜である。タングステン合金の場合には、タングステン元素と合金を形成する他の金属元素と酸素元素とが分散して形成される酸化物の膜である。この酸化物被膜層によって、感光性樹脂膜をマスクパターンに応じて硬化させるため紫外光が吸収され、結果的に紫外光の反射率が低減され、硬化させる必要のない感光性樹脂側への乱反射を効果的に抑制できる。糸の表面に形成される酸化物被膜は、平均厚みが１５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であることが好ましい。酸化物被膜層の平均厚みが１５ｎｍ以上であると、紫外光を十分に吸収でき反射が抑制されるため好ましい。厚みの好ましい範囲の上限である１２０ｎｍについては、平均厚みが１２０ｎｍより厚くなっても反射率の低減効果が少なくなること、また厚い酸化物被膜層を形成するための加工条件が厳しくなったり、加工によるメッシュの糸の素材の強度等に影響があるなどの点から、１２０ｎｍ以下が好ましい。本実施形態において酸化物被膜層の平均厚みは、金属メッシュ織物１の糸の線断面をクロスセクションポリッシャー（ＣＰ）で研磨し、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）でその線断面を撮像し、ＳＥＭ画像から糸に形成されている酸化物被膜層の厚みを等間隔で１０点測定し、その測定値の平均値を平均厚みとした。
【００４３】
ここで、本実施形態の金属メッシュ織物１の糸の実際の断面構造を示すＳＥＭ画像の一例を示す。図５および図６は、酸化物被膜層を表面に有する本実施形態の金属メッシュ織物１の一例の糸の断面のＳＥＭ画像である。図７は、参考として酸化被膜をほとんど有さない糸の断面のＳＥＭ画像である。
【００４４】
本実施形態の金属メッシュ織物１の縦糸２と横糸３の少なくともの一方は、図５、図６に示すような厚みのバラつきの少ない酸化物被膜層が、糸の全周に渡って形成されていることが好ましい。そして、図５の例では、酸化物被膜の厚みは１８ｎｍ〜３０ｎｍであり、平均厚みは２５ｎｍである。平均厚みは、上述の通り１０点の測定値の平均値である。この平均厚み２５ｎｍの糸の金属メッシュ織物１に対して波長３７５ｎｍの紫外光を照射した場合の反射率は３．２％であった。なお、この反射率は、金属メッシュ織物１を３枚重ねた状態における反射率である。
【００４５】
図６の例では酸化物被膜の平均厚みは５２ｎｍである。この糸を用いた金属メッシュ織物における３７５ｎｍの紫外光の反射率（３枚重畳時）は４．７％であった。
【００４６】
ＳＥＭ画像は示さないが、さらに酸化物被膜を厚くした平均厚み１１０ｎｍの糸を用いた金属メッシュ織物の反射率は５．５％であった。しかしながら酸化物被膜層の厚みが１２０ｎｍ以上になると反射率は６％より大きくなり、厚くなりすぎても反射率の抑制効果は少なくなることが明らかとなった。この原因は明確ではないが、酸化物被膜層を均一に厚く形成するためには加工条件である温度や加工時間、液相加工の場合には液のｐＨや温度や電流密度が強い条件となるため、形成される酸化物被膜の結晶構造が変化する等により、酸化物被膜層で吸収される紫外線量が変化するものと考えられる。
【００４７】
一方、図７に参考として示した酸化物被膜層がほとんど形成されていないタングステン糸を用いたメッシュ織物の場合には、紫外光が酸化物被膜層において吸収されなくなるので紫外光の反射率が大きくなる。糸の表面の凹凸部で部分的に酸化物被膜層が形成されてはいるが、図中の糸の外周面の８０％ほどでは殆ど酸化物被膜層の形成は無く、酸化物被膜があっても５ｎｍ以下程度の極薄いものである。すなわち、表面の８０％ほどには酸化物被膜層が形成されていないか、あっても極薄膜状であり、表面全体では斑状に被膜層が存在する状態である。このような不均一な酸化物被膜層しか形成されていないメッシュ織物の場合には、波長３７５ｎｍの紫外光の反射率は１１.５％（３枚重畳時）であった。このような金属メッシュ織物では、硬化させる樹脂に隣接する硬化させる必要の無い範囲の感光性樹脂にまで紫外光が乱反射（ハレーション）して、マスクパターン通りの高精細なパターンを形成することが難しいので好ましくない。
【００４８】
さらに、本実施形態の金属メッシュ織物１は、物性の観点からは、上述のように同じ金属メッシュ織物１をそれ以上重ねても波長３７５ｎｍの光を照射した場合の反射率がほぼ変化しない状態となる枚数重ねられた状態における、３７５ｎｍの光の反射率が６％以下となる金属メッシュ織物１であることが好ましい。本実施形態では反射率が３枚以上でほぼ一定となって変化しなくなるので、３枚重畳した場合に３７５ｎｍの光の反射率が６％以下であるのが好ましい。これは、金属メッシュ織物を用いたスクリーン印刷において広く用いられる感光性樹脂であるジアゾ樹脂タイプの感光性樹脂が硬化するために必要な紫外光の波長である、極大吸収波長が３７５ｎｍであり、金属メッシュ織物１を所定枚数（本実施形態では３枚）重ねた状態での波長３７５ｎｍの紫外光の反射率が６％以下であれば、当該金属メッシュ織物１をスクリーン版５０として用いた場合に、露光時の周縁部への紫外光の散乱を確実に低減することができるためである。
【００４９】
より具体的に説明すると、まず、メッシュを使ったスクリーン版にパターンを形成するための感光性樹脂としては、ジアゾ樹脂を架橋剤とするタイプ、スチリルピリジニウム（SBQ）を付加したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いるタイプ、そしてアクリロイル基、アクリルアミド基の重合架橋反応を利用するタイプが単独または組合わせて用いられている。この内もっとも広く使用されているジアゾ樹脂タイプでは、その極大吸光波長が３７５ｎｍの紫外域にあり、露光用光源としてメタルハライドランプや超高圧水銀灯が一般的に使用されている。また、ＳＢＱのタイプでは極大吸光波長が３４０ｎｍにあり、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドの何れのタイプでも使用できる。
【００５０】
感光性樹脂の光の吸収特性は、その波長によって変化する。本実施形態では感光性樹脂が硬化するときの樹脂の吸収波長としてジアゾ樹脂タイプにおける極大吸収波長である３７５ｎｍ、およびＳＢＱタイプでの極大吸収波長３４０ｎｍの吸収特性ともに、それぞれに対して使用される乳剤に応じて重要である。しかしながら両波長での吸収特性はほぼ同様の傾向を示すためどちらの波長を基準として反射率を規定してもよい。本実施形態においては３７５ｎｍの波長の光の反射率の値で実施形態の金属メッシュ織物１の構成を特定する。
【００５１】
そして上述の通り、本実施形態の金属メッシュ織物１は、金属メッシュ織物１を所定枚数（本実施形態では３枚）以上重ねた状態での波長３７５ｎｍの紫外光の反射率が６％以下であることが好ましい。本実施形態におけるメッシュ織物１の反射率は上述の通り、開口部を有するメッシュ織物を複数枚重ねた場合に、それ以上の枚数をさらに重ねても反射率が変化しない枚数を重ねた場合の反射率である。本実施形態の金属メッシュ織物１の場合には、具体的には３枚以上重ねてその反射率を測定した場合の値である。本明細書における反射率は、特に記載がない限り、３枚以上重ねた状態での反射率を指す。
【００５２】
金属メッシュ織物１の反射率が６％より大きくなると、ネガ型画像フィルムの周縁部にまで紫外光が及ぶことにより周縁部の樹脂膜が硬化してしまい、次工程での洗浄除去にて硬化した周縁部の一部が残り、スクリーン版における正確なパターンの形成が出来なくなるので、６％以下が好ましい。
【００５３】
樹脂膜の周縁部の硬化に与える反射率の影響は、使用するスクリーンメッシュの糸径、メッシュ織物の縦糸又は横糸に平行な２５．４ｍｍ長さあたりの横糸又は縦糸の本数（メッシュ数）、樹脂膜の厚み、積算露光量などによってもその程度は変化する。
【００５４】
また、紫外光の反射によって硬化する必要の無い周縁部の硬化による影響は、スクリーン印刷時における印刷パターンの高精細さの程度や、ペースト物性や印刷条件によっても変化するが、特に、印刷パターン最小の線幅またはドットの径（つまり、スクリーン版でのインクが通る部分の大きさ）が、３０μｍ以下であるような高精細なパターンである場合には、反射率の影響が一層顕著になる。
【００５５】
例えば紫外線反射率が１ポイント高いことにより１μｍの印刷線幅が細くなるような影響を想定すると、１００μｍパターン幅への影響度は１/１００＝０．０１、すなわち１％であるが、３０μｍパターン幅のような細線での影響度は３．３％、２０μｍパターン幅では５％、１５μｍパターン幅では６．７％と、高細線になるほど大きくなる。従って紫外線反射率を５ポイント低下させることが出来れば２０μｍパターン幅では２５％の細線化への悪影響が除去できると試算される。
【００５６】
実際の印刷パターンにおいては、線幅が一様に細くなるということではなく、メッシュの存在する部分や特にメッシュの交点部に対応する部分に於いてペーストの広がりが抑制されるため、ギザリと呼ばれるパターン端部がのこぎりの刃状となったり、かすれたり、断線したりなどの現象となる。これらの現象は、パターン幅が狭くなるほど飛躍的に顕著となる。
【００５７】
３０μｍ以下の高精細なパターン形成に用いる金属線材の線径は１６μｍ以下、また縦・横のメッシュ数はそれぞれ３００以上であることが好ましく、さらに波長３７５ｎｍの紫外光の反射率が６％以下が望ましく、より望ましくは５％以下、更に望ましくは４％以下である。
【００５８】
本実施形態では、上述の反射率を達成するために、上述の通り、金属メッシュ織物１を構成するタングステンあるいはタングステン合金の糸の表面に平均厚みが１５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の均一な酸化被膜層が形成されていることにより、酸化被膜層が形成されていない、あるいはあっても殆ど形成されて無い場合や不完全な場合の反射率に比べて、４〜８ポイント程度、紫外線反射率を低減することができる。従って、高細線のパターンにおいても断線やギザリの現象がより効果的に抑制された、高細線の印刷がより安定して可能となる。
【００５９】
本実施形態の金属メッシュ織物１の材料は、タングステンまたはタングステン合金である。タングステン合金としてはタングステンに加えてレニウム、オスミウム、タンタル、モリブデンから選ばれる少なくとも１種以上の金属を成分に含む合金が好ましい。この中で特にレニウムとの合金はタングステンの高い弾性率、及び応力・ひずみ曲線における降伏応力と引張り強度（破断強度）とが比較的近いとの力学的な特徴を維持しつつ、強度、伸度ともに高くする効果を持つのでより好ましい素材といえる。なお、金属メッシュ織物１の材料には、タングステンあるいはタングステン合金以外に、不可避的に混入する不可避的不純物が含まれることは許容される。不可避的不純物は、原料にもともと含まれていた、もしくは製造過程での混入により含まれる成分であり、意図的に入れたものではない成分である。
【００６０】
タングステンまたはタングステン合金の表面に酸化物被膜層を形成する方法としては、乾式法、湿式法などを用いることが出来る。
【００６１】
乾式法としては、空気中または酸素濃度をコントロールした環境雰囲気中で線素材を高温にて一定時間暴露するという、熱処理により酸化物被膜層を形成する方法が挙げられる。酸素濃度、雰囲気温度および暴露時間をコントロールすることによって、形成される酸化被膜の厚みを制御することが可能である。
【００６２】
酸素濃度、雰囲気温度、暴露時間は適宜設定して任意の厚みの酸化物被膜層を形成することが出来る。通常の空気（酸素２１％）を用いる場合では、４００℃から８００℃程度の雰囲気温度範囲で１０秒から３０分程度の暴露により均一な酸化被膜層の形成が可能である。酸素濃度を高くしたり雰囲気温度を高くすることにより曝露時間を短縮することも可能である。生産性、製造コストおよび均一な酸化被膜層の形成という製品品質を考慮してこれらの条件を選定すればよい。
【００６３】
湿式法としては、水溶液中での電気化学プロセスを利用して酸化物皮膜層を形成する方法が挙げられる。ｐＨ７以下の酸性溶液中にてタングステンあるいはタングステン合金の線素材を陽極として直流または交流電位を印加することにより酸化物被膜層を形成する。
【００６４】
ｐＨ７以下にするために用いる酸は、燐酸、蓚酸、酢酸、硝酸、塩酸、硫酸などの有機酸、無機酸など特に限定されない。これらのｐＨ７以下の酸の水溶液中にて、線素材を陽極として１〜４０Ｖ程度の直流電圧を印加すればよい。電気化学反応は室温でも十分に進行するが、ｐＨや温度および印加電圧によっても酸化物被膜の形成に要する時間は変化する。いずれにしろ、使用する酸やその濃度、溶液の温度、印加電圧、加工時間などを適宜組合わせて酸化被膜を形成すればよい。
【００６５】
乾式法、湿式法のいずれにおいても、タングステンあるいはタングステン合金の線素材の表面に酸化物被膜層を形成し、その後、製織してメッシュとしてもよいし、先に製織によりメッシュとした後に、メッシュ全面に酸化物被膜層を形成してもよい。好ましくは、線素材の段階で酸化物被膜層を形成するのがよい。線素材の周囲前面に厚みのバラつきの少ない酸化物被膜層を容易に形成できるためである。なお、酸化物被膜層はその平均厚さが１２０ｎｍ以下であれば線素材表面に強固に形成されるため、製織工程における摩擦や擦れにより酸化物被膜層が剥離したり脱落することはないので、製織後も均一な酸化物被膜層が維持される。
【００６６】
照射された紫外光は酸化物被膜層により吸収されることでその反射率が抑制される為、酸化物被膜層は線素材の周囲全体にわたって形成されていることが好ましい。
【００６７】
上述の通り酸化物被膜層の厚みとしては、平均厚みとして１５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下が好ましい。酸化物被膜の形成が乾式法であれ湿式法であれ加工条件によりある程度の厚みむらが生ずるため、平均厚みが１５ｎｍ未満であると酸化物被膜が十分に形成されていない部分が生じてしまう場合があり、製織後のメッシュとしての反射率が安定しない場合がある。また平均厚みとして１２０ｎｍより厚く形成しても反射率の抑制効果の向上は少なく、加工条件が厳しくなることによる製造工程の複雑化や品質の安定性、生産性やコストの点から１２０ｎｍ以下が好ましい。また過度に酸化物被膜層を厚くすることにより機械的強伸度の低下が生じたり、スクリーン版として繰り返しの使用時において、剥離した酸化物皮膜層が印刷物のペースト中に混入するなどの不都合が生じる場合があるので好ましくない。
【００６８】
上記した如き酸化物被膜層を形成した金属糸を用いてメッシュ織物を製造する方法については特に限定されず、縦糸又は横糸の、少なくとも一方がタングステン又はタングステン合金からなるよう、公知の方法で製織すればよい。すなわち織組織を工夫したり、糸の絡み合い部分の形態を工夫したり、太さの異なる金属糸を交織したり、或いはそれらを適宜組み合わせたりしてもよい。例えば、太さの異なる繊維を交織することにより、オープニングエリアをあまり落とさず、しかも金属糸の絡み合い部分において繊維の屈曲が大きくなるので、印刷されるインクの厚みがより厚い厚め印刷を可能なものとすることもできる。ここで、オープニングエリアとはメッシュ織物を平面視した時の、メッシュ織物を構成する縦糸及び横糸の各１ピッチ内における開口部（糸の存在しない部分）の面積占有率をいい、使用した糸の糸径とメッシュ数とから得られる計算値である。
【００６９】
金属メッシュ織物の構成は特に限定されないが、印刷対象の最小パターン線幅や最小のパターンドットの径が３０μｍ以下の高精細な場合には、使用する金属線材の線径は１６μｍ以下、メッシュ数は３００以上が好ましい。ここでメッシュ数とはメッシュ織物の縦糸又は横糸に平行な２５．４ｍｍ（１インチ）長さ当たりの縦糸又は横糸の本数を意味する。
【００７０】
現在スクリーン印刷で一般的に対応できる最小のパターン線幅やパターンドット径は８０μｍ程度といわれており、スクリーンメッシュや乳剤の選定・設計、更には基材に対応したペースト特性を工夫すること等により５０μｍ、４０μｍ程度への印刷が可能となりつつある段階である。
【００７１】
３０μｍ以下の高精細なパターンを印刷対象とする場合、使用する線材の径はパターン幅以下、好ましくはパターン幅の２/３倍以下、より好ましくは１/２倍以下である。しかしながら線径が細くなるほど線材の強度は弱くなることから、メッシュ織物としてスクリーン印刷を可能とする強度を有するためにはメッシュ数を多くすることが好ましい。
【００７２】
パターンを形成するインクペーストはメッシュ織物の開口部分を通過して基材に転写される。メッシュ織物における開口部分の面積のメッシュ織物全体の面積に対する割合はオープニングエリア（開口率）と呼ばれ、メッシュ織物の重要な特性値ひとつである。メッシュ数と糸径とから算出されるオープニングエリアはメッシュ数に反比例する関係であるため、強度を維持するためにメッシュ数を増加するとオープニングエリアが小さくなり、ペーストの透過量も少なくなることで断線やギザリなどの現象を生じ易くなるとの２律背反的な関係となる。
【００７３】
タングステンは３８０〜４１１ＧＰａと通常のステンレスに比べて約２倍の弾性率を有し、さらに破断強度は約１．５倍であることから、線径を細くしてもメッシュ数の増加割合は低く抑えることが可能である。３０μｍ以下の高精細なパターンを形成するために用いるスクリーンとしては１６μｍ以下の細い線材を用いてメッシュ数３００以上の織物とすればよい。
【００７４】
さらに２０μｍ以下の一層高精細なパターンを形成する場合には、線材としては１３μｍ以下でメッシュ数４００以上、さらに１５μｍ以下の超高精細なパターンの形成では線径１１μｍ以下の線材を５００メッシュ以上の高メッシュ数でのメッシュ織物とすることが好ましい。いずれにしろ、タングステンの高い弾性率や破断強度の特性より、再現性の高い優れた寸法精度で繰り返し印刷を可能とするスクリーン印刷用メッシュ織物とすることが出来る。
【００７５】
１６μｍ以下、特に１３μｍや１１μｍの極細い径の線材を高メッシュ数で製織できる材料は極めて限定されることとなり、この点において高い弾性率や破断強度を有するタングステンやタングステン合金は極めて有用な材料といえる。本実施形態の金属メッシュ織物１は、さらにタングステンの酸化被膜層を表面に一様に形成して紫外線の反射率を抑制することで、３０μｍ以下、さらには２０μｍ、１５μｍという超高精細なパターンの形成を可能とするものである。
【００７６】
次に、本実施形態の金属メッシュ織物１を用いたスクリーン印刷用のコンビネーションスクリーン版について説明する。
【００７７】
スクリーン印刷に用いられる版は、合成繊維のメッシュや金属繊維のメッシュに張力を掛けて樹脂や金属製の枠に接着固定した、枠内部のスクリーンとなる部分が単一の素材からなる「全面張りスクリーン版」と、枠に接着される周辺部の合成繊維のメッシュと、版の中央部に形成される実際に画像形成に用いられる画像形成部となる金属メッシュ等で構成される複数の素材からなる「コンビネーションスクリーン版」とが使用されている。コンビネーションスクリーン版における合成繊維スクリーンは、一般に、支持体スクリーンと呼ばれる。代表的なコンビネーションスクリーン版１００の概略図を図８に示す。
【００７８】
図８のコンビネーションスクリーン版１００は、枠１０１と、画像形成用スクリーン１０２と、支持体用スクリーン１０３と、を備える。枠１０１は、スクリーン版を保持する保持枠である。画像形成用スクリーン１０２は、コンビネーションスクリーン版１００の内、実際に画像を形成するパターンが形成される部分のスクリーンであり、本実施形態では金属メッシュ織物１である。支持体用スクリーン１０３は、枠１０１に固定され、画像形成用スクリーン１０２を支持する、画像形成用スクリーン１０２の周囲のスクリーンであり、上述のように合成繊維等の材料で形成されるスクリーンである。
【００７９】
全面張り版として金属繊維メッシュを用いることもできるが、金属繊維として広く利用されているステンレスは、スクリーンの伸び縮みの繰り返しにより、印刷回数の増加に伴い金属の弾性限界すなわち降伏点を越えるため、全面張り版として使用した場合は特に印刷精度の経時的低下が著しくなる傾向が有り、耐久性に課題が残る。
【００８０】
また、高精細な印刷、すなわち細い又は微細なパターンをスクリーン印刷にて形成するには、合成繊維では製造が難しい２０μｍ以下の細い線材を、高密度で織ることのできる金属繊維メッシュが適しているが、このような金属繊維メッシュは製造コストが高く、全面張り版としての使用はコスト的にも不利となるため、画像形成に用いられる部分に金属メッシュ織物を用いたコンビネーションスクリーン版として使用されることが多い。
【００８１】
金属繊維としてタングステンまたはタングステン合金を用いる場合には、その応力・歪曲線がほぼ全領域において直線的な関係を示すため、印刷精度の経時的変化が極めて少なく再現性の良い印刷が可能である。また降伏点が破断強度の近傍にあるとの力学的特徴から、スクリーン版としての画像形成部分の局部的な変形が抑制され、画像形成部分におけるパターンの形成領域を広く取ることが出来、スクリーンとしての利用率が高められるとの効果も有る。さらに引張り強度も通常のステンレスに比べて凡そ１．５倍ほどあることから耐久性にも優れ、再現性良く繰り返し多くの印刷が可能となる。
【００８２】
タングステンまたはタングステン合金はヤング率が高いとの特性上、版の製造時とくに紗張り時に張力をかけた際の張力バランスの僅かな不均一によるメッシュ破損などが生じ易く、製品歩留まりの観点よりコンビネーションスクリーン版として使用することが好ましい。
【００８３】
コンビネーションスクリーン版１００においては、印刷時のクリアランスによる伸びを支持体スクリーンに負担させるため、支持体用スクリーン１０３には、弾性の高い、すなわちヤング率の低い素材であるナイロンやポリエステルからなる織物構造体を使用し、画像形成部には画像パターンの変形が少なくなるようヤング率の高い素材として金属繊維からなる織物構造体やメタルマスク等が一般に使用されている。
【００８４】
（コンビネーションスクリーン版の作成方法）
次に本実施形態における高精細パターン印刷用の金属メッシュ織物を用いたコンビネーションスクリーン版１００の代表的な作製方法について以下に記述する。
【００８５】
第１の作製方法は、接着後の張力低下分を考慮した高めの張力で支持体用スクリーンを枠１０１に紗張りした後、所定寸法の画像形成用スクリーン１０２（本実施形態では、金属メッシュ織物１）を支持体用スクリーン１０３の所定位置に接着し、その後画像形成用スクリーン部にある支持体用スクリーンを切断除去するものであり、従来の多くのコンビネーションスクリーン版はこの方法で作成されている。
【００８６】
また第２の作製方法として、あらかじめ中央部を繰り抜いた支持体用スクリーン１０３に画像形成用スクリーン１０２を接着した一体スクリーンを用い、全面張り版と呼ばれる単一の合成繊維スクリーンからなるスクリーン版と同様の方法によりコンビネーションスクリーン版１００を作製することもできる。
【００８７】
さらに第３の作製方法として、支持体用スクリーン１０３を紗張り機上にて軽く張力を掛けた仮の紗張り状態（第１ステップ）とし、所定寸法の画像形成用スクリーン１０２を支持体用スクリーン１０３の所定位置に接着し、その後画像形成用スクリーン部にある支持体用スクリーンを切断除去する。さらに紗張り機に所定の張力をかけて（第２ステップ）支持体用スクリーン１０３を枠１０１に接着するとの２ステップで張力をかける方法や、第４の作製方法として、支持体スクリーン１０３と画像形成用スクリーン１０２との両方にほぼ同一の所定張力を掛けた状態で接着し、その後不要部分を切断除去するなどの方法がある。
【００８８】
いずれにしろ、上述した作製方法に限定されるものではなく、版を作製するのに適したいかなる冶具や設備、方法を用いてもよい。本実施形態におけるタングステンやタングステン合金のような極めて高いヤング率の素材を用いる場合、支持体用スクリーン１０３として従来のポリエステルやナイロンを用いることも出来るが、高弾性率・高強度の合成繊維を用いることが好ましい。より高精細・高位置精度の印刷が可能となるためである。
【００８９】
高弾性率・高強度の合成繊維としては、例えば、アラミド、ポリアリレート、超高分子量ポリエチレン、ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾール（ＰＢＯ）、ポリパラフェニレンベンゾビスチアゾール（ＰＢＴ）、ポリパラフェニレンベンゾビスイミダゾール（ＰＢＩ）、炭素繊維、その他液晶ポリマーや、上記材質を主成分とした２種以上の素材、例えば芯鞘型複合繊維などがある。
【００９０】
このような高弾性率・高強度の合成繊維を支持体用スクリーン１０３とし、タングステンやタングステン合金の金属メッシュを画像形成用スクリーン１０２とした組合わせによるコンビネーションスクリーン版１００の作製では、あらかじめ中央部を繰り抜いた支持体用スクリーン１０３に画像形成用スクリーン１０２を接着した一体スクリーンを用いて、全面張り版と同様の方法により作製するのが、画像形成用スクリーン１０２面内の張力分布が均一になり易く、高精細・高位置精度で高耐久性の版を作製するのに特に適している。
【００９１】
上記のように支持体用スクリーン１０３として高弾性率・高強度の合成繊維を用い、画像形成用スクリーン１０２としてタングステンやタングステン合金の金属メッシュを用いたコンビネーションスクリーン版１００では、高精細・高位置精度で高耐久性の版が作製できることに加えて、画像形成用スクリーン１０２内における画像形成部の面積割合を多く取ることが可能となる。すなわち高価な画像形成用スクリーン１０２の利用率を上げられるとの効果がある。本実施形態の場合には、パターンを形成して画像を形成可能な画像形成部の範囲を４５％以上にすることができる。
【００９２】
すなわち、従来のポリエステル製のスクリーンを支持体用スクリーン１０３とし、通常のステンレス製メッシュを画像形成用スクリーン１０２としたコンビネーションスクリーン版１００の場合、画像形成用スクリーン１０２の全面積に対する画像形成部、すなわち印刷パターンを形成する部分の面積割合は２５％から４５％程度であった。
【００９３】
これはステンレスメッシュにおいては、スクリーンの伸び縮みの繰り返しにより、印刷回数の増加に伴い金属の弾性限界すなわち降伏点を越えるため、印刷精度が経時的に劣ってくるため、特に周縁部すなわちコンビネーションスクリーン版のうち画像形成用スクリーン版の支持体用スクリーンに近い部分においては劣化の影響が大きくなるため、画像形成用スクリーンの一辺の１／２から２／３の範囲を画像形成部としていることによる。
【００９４】
これに対してタングステン及びタングステン合金は金属材料中で最も高い弾性率を示す材料の１つであり、タングステンでは３８０〜４１１ＧＰａと通常のステンレスに比べて約２倍の弾性率を有するとの特性に加え、応力・ひずみ曲線における降伏応力と引張り強度（破断強度）とが比較的近いとの力学的な特徴により、繰り返し印刷における印刷精度の経時的変化が極めて少なく再現性の良い印刷を行うことができる。このため従来では使用することが出来なかった、画像形成用スクリーン１０２の一辺の３/４から４/５程度の周縁部（支持体用スクリーン１０３に近い側）近傍まで印刷パターンを形成することが可能となる。この場合の画像形成用スクリーン１０２の全面積に対する画像形成部の面積割合は５６％から６４％となる。
【００９５】
（スクリーン版に感光性樹脂によってパターンを形成する方法について）
枠に張られたスクリーンメッシュに感光膜を形成する方法には、直接感光液を塗布して感光膜を形成する方法（直接法）、あらかじめプラスチックフィルム上に形成された感光膜をスクリーン上に転写する方法（直間法）、プラスチックフィルム上にコートされた感光性樹脂に、焼付け・現像作業を行い、フィルム上に形成したパターンをスクリーン上に転写する方法（間接法）がある。本実施形態ではスクリーンメッシュ上に形成された感光膜にポジのパターンを形成したガラスマスクやフィルムを密着し、紫外線照射により硬化させてパターンを形成することから、直接法や直間法が好ましい。
【００９６】
直接法における感光液の塗布方法は、バケット塗布、スピナー塗布、フローコーターなどの方法があるが、最も一般的にはバケット法が用いられている。バケット法では垂直に保持されたスクリーンメッシュに感光液を入れたバケットのドクター部を押し当て、バケットをスクリーンに接触させながら下部から上部へと移動させながら一定量の感光液をスクリーン上に塗布し乾燥させる。この塗布・乾燥工程を繰り返すことにより所定厚さの感光膜を形成する。
【００９７】
感光膜の厚さは印刷物の所要厚さにより適宜設定されるが、本実施形態のスクリーン版において目的とするような３０μｍ以下の高精細なパターンを形成するには感光膜の厚さは３０μｍ以下程度に薄いほうが好ましい。特にスクリーンメッシュの反射率は、感光膜の厚さが薄いほどパターン形成への影響が大きいので、本実施形態のタングステンの表面に平均厚さが１５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下のタングステン酸化物の被膜を均一に形成したスクリーンメッシュでは、感光膜の厚さは２０μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下、更に好ましくは１０μｍ以下である。そのような厚みにすることで極めて解像性に優れたパターンを形成することが出来る。ただし、感光膜の厚さが５μｍ未満、特に３μｍ未満になるとメッシュの交点部が印刷パターンの痕跡として残り、印刷パターンの厚みむらとなったり、繰り返し印刷時に感光膜に亀裂が生ずるなどの不都合が起こり易くなるので３μｍ以上が好ましく、より好ましくは５μｍ以上である。
【００９８】
さらに、形成された感光膜の表面平滑性も高精細な印刷を達成するために制御されていることが好ましく、感光膜表面の粗さとして算術平均粗さＲａが１μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以下がより好ましく、０．３μｍ以下がさらにより好ましい。特に１５μｍ以下の極めて高精細なパターンの印刷を達成するには、感光膜表面の算術平均粗さＲａは０．３μｍ以下とするのが好ましい。
【００９９】
本実施形態による、表面に平均厚さが１５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下のタングステン酸化物の被膜を均一に形成したタングステン又はタングステン合金のスクリーンメッシュを用いて、解像性に優れた版を作製し高精細な印刷を達成するには、前記のような感光膜を形成することも重要である。
【０１００】
形成した感光膜は露光機にセットされ、ポジのパターンを形成したガラスマスクやフィルムマスクを圧着法や真空法を用いて密着し、紫外線照射により硬化させ(露光)、紫外線の当たらなかった部分の感光膜を現像液で溶解除去（現像）してパターンを形成する。
【０１０１】
感光膜の基材となる感光性樹脂にはジアゾ樹脂を架橋剤とするタイプ、スチリルピリジニウム（ＳＢＱ）を付加したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いるタイプ、そしてアクリロイル基、アクリルアミド基の重合架橋反応を利用するタイプが単独または組合わせて用いられている。この内もっとも広く使用されているジアゾ樹脂タイプでは、その極大吸光波長が３７５ｎｍの紫外域にあり、露光用光源としてメタルハライドランプや超高圧水銀灯が一般的に使用されている。また、ＳＢＱのタイプでは極大吸光波長が３４０ｎｍにあり、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドの何れのタイプでも使用できる。
【０１０２】
高精細なパターンを形成するには極大吸光波長の乱反射を抑制することが重要であり、露光用の光を感光膜に対して９０度の角度で照射することが望ましく、またスクリーンメッシュの反射率を低減することが極めて効果的である。
【０１０３】
以上説明した本実施形態の金属メッシュ織物１およびスクリーン版の効果を説明する。
【０１０４】
本実施形態によれば、金属材料中で最も高い弾性率を示す材料の１つであるタングステン又はタングステン合金を用いるので、印刷時に版離れの良いスクリーン印刷版の作製が可能となる。すなわち版と被印刷物とのクリアランスを狭くすることが出来るので、版に形成した印刷パターンの変形が抑制され、位置精度の優れた高品質の印刷が可能となる。
【０１０５】
また、応力・ひずみ曲線における降伏応力と引張り強度（破断強度）とが比較的近いとの力学的な特徴により、繰り返して印刷を行っても印刷精度の経時的変化が極めて少ない再現性の良い印刷を、従来のメッシュ等を用いたスクリーンに比べて著しく多く行うことができる。
【０１０６】
また、印刷パターンの変形が抑制され、かつ繰り返し印刷での印刷精度の経時変化が極めて少ないことから、従来では使用することが出来なかった画像形成用スクリーン１０２の周縁部近傍まで印刷パターンを形成することが可能となり、高価な画像形成用スクリーン１０２の利用率を向上することができる。
【０１０７】
さらに、本実施形態ではタングステンまたはタングステン合金の糸表面に平均厚さが１５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下のタングステンの酸化被膜層が形成され、金属メッシュ織物を所定枚数（本実施形態では３枚）以上重ねた状態において、波長３７５ｎｍの光の反射率は６％以下である。本実施形態の金属メッシュ織物を用いたスクリーン版にパターンを形成するには感光性樹脂膜に紫外光を照射してマスクパターンに応じて硬化させるが、酸化被膜層の吸収効果により、ネガパターン部に入射した紫外光の反射が抑制され、マスクパターンに忠実な印刷パターンを形成することが可能となる。
【０１０８】
本実施形態によればタングステンやタングステン合金が高強度の材料であることから細い線材でのスクリーン製織が可能となり、更に酸化被膜層による紫外光の反射抑制効果との組合わせにより３０μｍ以下、特に２０μｍや１５μｍといった従来の材料では形成が困難であった印刷パターンを有する印刷版の作製が可能となる。これらの高精細のパターンを、繰り返し印刷しても印刷精度の経時的変化が極めて少ない再現性の良い印刷が行えるスクリーン版を提供することができる。
【実施例】
【０１０９】
次に、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【０１１０】
（実施例１）
以下のようにして、画像形成用スクリーンと支持体用スクリーンを有するコンビネーションスクリーン版を作製した。まず画像形成用スクリーンとして、表面に２５ｎｍの平均厚みの酸化被膜層を全面に形成した１６μｍの線径のタングステン線を用いて３２５メッシュに織り込まれたタングステンスクリーンメッシュを、縦糸方向に対して２３°の角度を持って２４０ｍｍ×２４０ｍｍの正方形に切り出した。支持体用スクリーンとしてポリアリレート製の繊維径２３μｍの糸を３３０メッシュに織り込んだＶ３３０（株式会社ＮＢＣメッシュテック製、商品名Ｖスクリーン）を、その一辺を縦糸方向に対して平行として５００ｍｍ×５００ｍｍの正方形に切り出し、画像形成用および支持体用の２枚の正方形メッシュの対応する辺を平行として中心部を重ね、タングステンスクリーンメッシュの周縁部を、接着部幅を各１０ｍｍとして接着剤にて支持体用スクリーンに接着した。その後接着部の内側でタングステンスクリーンと重なる部分の支持体用メッシュを切り離して画像形成用スクリーンと支持体用スクリーンとが一体となったコンビネーションスクリーン版用の一体スクリーンを得た。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光の反射率（３枚重ねた状態での反射率。以下の反射率も同様。）は３．２％であった。
【０１１１】
枠部として、アルミ製枠体（外形寸法：320mm×320mm、内形寸法：290mm×290mm、厚さ20mm、肉厚1.5mmの中空構造）を用い、枠体の１辺と前記コンビネーションスクリーン版用の一体スクリーンにおける支持体用スクリーンの縦糸方向とが平行となるよう配置し、定法により紗張りした。ここで、画像形成用スクリーン部の中央部での張力は、テンションゲージSTG-75B（サン技研社製）を用いた測定で１．０ｍｍであった。
【０１１２】
コンビネーションスクリーン版用の一体スクリーンを紗張りした枠体をバケットタイプのコーティングマシンに垂直に取り付けてコンビネーションスクリーン版を得た。そしてこのコンビネーションスクリーン版にジアゾ系の感光性乳剤（株式会社ＮＢＣメッシュテック製、商品名Ｖ１乳剤）をバケット法による塗布・乾燥を１０回繰り返すことにより、１０μｍ厚さの感光性樹脂膜を形成した。
【０１１３】
感光性樹脂膜を形成したコンビネーションスクリーン版及び図９に示すポジパターンを形成したガラスマスクを露光機（株式会社プロテック製、型式ＳＰ−１０００ＦＬ）にセットし、圧着法によりコンビネーションスクリーン版の感光性樹脂膜にガラスマスクを密着した。ポジパターンの形成部分は１５０ｍｍ×１５０ｍｍとし、この範囲を直交する２辺となるＸ方向、Ｙ方向それぞれ等間隔に３×３で９分割した。そして、分割された各々の領域にパターンの線幅が１０μｍから５０μｍのポジパターンを有する図９に示すガラスマスクを配置した。このコンビネーションスクリーン版に対してメタルハライドランプを光源として７．２ｍＷ／ｃｍ２のパワーにて適正露光量となる１００秒の露光を行った。その後４０℃の温水中にて洗浄することで、未硬化の感光膜を溶解除去しパターンを形成したコンビネーションスクリーン版とした。
【０１１４】
なお、図９のガラスマスクのパターンは、図９の下段右のパターンが最も線幅（印刷する線の幅）の小さいパターン幅１０μｍであり、下段中がパターン幅１５μｍ、下段左がパターン幅２０μｍ、中段右のパターンがパターン幅２５μｍ、中段中がパターン幅３０μｍ、中段左がパターン幅３５μｍ、上段右のパターンがパターン幅４０μｍ、上段中がパターン幅４５μｍ、上段左が最も線幅の大きいパターン幅５０μｍのパターンである。
【０１１５】
（実施例２）
実施例１における画像形成用スクリーンに用いるタングステン線の表面の酸化被膜層の平均厚みが（ａ）５２ｎｍ、（ｂ）１１０ｎｍとしたタングステンスクリーンを用いた以外は、実施例１と同じ仕様のコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光での反射率は（ａ）４．７％、（ｂ）５．５％であった。
【０１１６】
（実施例３）
実施例１における画像形成用スクリーンとして、（ａ）表面に１８ｎｍの平均厚みの酸化被膜層を全面に形成した１３μｍの線径のタングステン線、（ｂ）表面に１５ｎｍの平均厚みの酸化被膜層を全面に形成した１１μｍの線径のタングステン線を、それぞれ用いて（ａ）４５０メッシュ、（ｂ）５２０メッシュに織り込まれたタングステンスクリーンメッシュを用い、画像形成用スクリーン部の中央部での張力を、テンションゲージSTG-75B（サン技研社製）を用いた測定で（ａ）１．１ｍｍ、（ｂ）１．２ｍｍとし、露光時間を(ａ)９０秒、（ｂ）８５秒とした以外は、実施例１と同様に版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光の反射率は（ａ）３．７％、（ｂ）３．９％であった。
【０１１７】
（実施例４）
実施例１におけるガラスマスクのポジパターンの形成部分を（ａ）１２０ｍｍ×１２０ｍｍ、（ｂ）１８０ｍｍ×１８０ｍｍとした以外は、実施例１と同じ仕様の版を作製した。
【０１１８】
（実施例５）
実施例１において、ジアゾ系の感光性乳剤（株式会社ＮＢＣメッシュテック製、商品名Ｖ１乳剤）の塗布・乾燥を２０回繰り返すことにより、感光性樹脂膜の厚さを２０μｍとして、露光時間を２２０秒とした以外は実施例１と同じ仕様の版を作製した。
【０１１９】
(実施例６)
画像形成用スクリーンとして、表面に２１ｎｍの厚みの酸化被膜層を全面に形成した１６μｍの線径の、レニウムを３重量％含むタングステン合金線を用いて３２５メッシュに織り込まれたスクリーンメッシュを用いた以外は実施例１と同じ仕様のコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光の反射率は４．１％であった。
【０１２０】
（実施例７）
画像形成用スクリーンとして、表面に２５ｎｍの厚みの酸化被膜層を全面に形成した１６μｍの線径のタングステン線を縦糸とし、線径１６μｍの通常のステンレス線を横糸として３２５メッシュに織り込まれたスクリーンメッシュを用いた以外は実施例１と同じ仕様のコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光の反射率は５．９％であった。
【０１２１】
（比較例１）
実施例１における画像形成用スクリーンに用いるタングステン線において、本実施形態にて説明した酸化被膜層形成の処理を行わないものであり、その表面はタングステン線の周囲全長の２０％程度に断続的に厚み５〜２０ｎｍの酸化被膜が形成されているが、全体の８０％程度にはほとんど酸化被膜層が形成されていない通常のタングステンメッシュ（Ｗ４０−３２５−０１６、株式会社ＮＢＣメタルメッシュ製）を用いた以外は、実施例１と同じ仕様のコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光の反射率は１１．５％であった。
【０１２２】
（比較例２）
画像形成用スクリーンとして、１６μｍの線径のステンレス線を用いて３２５メッシュに織り込まれたステンレスクリーンメッシュ（Ｍ１０−３２５−１６、株式会社ＮＢＣメタルメッシュ製）を用い、支持体用スクリーンとしてポリエステル製のＵＸ２３０Ｔ（式会社ＮＢＣメッシュテック製）を用い、ガラスマスクのポジパターンの形成部分を（ａ）  １５０ｍｍ×１５０ｍｍ、（ｂ）  １２０ｍｍ×１２０ｍｍとし、画像形成用スクリーン部の中央部での張力を（ａ）、（ｂ）ともに１．１ｍｍとした以外は実施例１と同様な方法でコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光の反射率は１２．１％であった。
【０１２３】
（比較例３）
画像形成用スクリーンとして、１６μｍの線径の高強度のステンレス線を用いて３２５メッシュに織り込まれたステンレスクリーンメッシュ（Ｍ３０−３２５−１６、株式会社ＮＢＣメタルメッシュ製）を用い、支持体用スクリーンとしてポリアリレート製のＶ３３０（株式会社ＮＢＣメッシュテック製、商品名Ｖスクリーン）を用い、画像形成用スクリーン部の中央部での張力を１．０ｍｍとした以外は実施例１と同様な方法でコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光の反射率は１２．５％であった。
【０１２４】
（比較例４）
実施例１における画像形成用スクリーンに用いるタングステン線の表面の酸化被膜層の厚みを１３８ｎｍとしたタングステンスクリーンを用いた以外は、実施例１と同じ仕様のコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光の反射率は６．５％であった。
【０１２５】
（比較例５）
実施例１における画像形成用スクリーンに用いるタングステン線の表面の酸化被膜層の厚みを１１ｎｍとしたタングステンスクリーンを用いた以外は、実施例１と同じ仕様のコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光の反射率は７．６％であった。比較例５は、本実施形態の酸化被膜層の好ましい厚みの下限値よりも小さい厚みの酸化被膜層が形成された例であり、糸の全周にわたって完全には酸化被膜が十分に形成されていない部分が生じてしまう例である。
【０１２６】
（酸化被膜層の平均厚さ測定）
画像形成部を構成したものと同じメッシュのタングステン線の断面をクロスセクションポリッシャー（ＣＰ）で研磨し、走査電子顕微鏡（日本電子株式会社、型式７５００Ｆ）で撮影した。酸化被膜層の平均厚さとしては、タングステン線断面のＳＥＭ画像の外周部を、ほぼ等間隔で酸化被膜層厚さ１０点を測定し、その平均値を用いた。
【０１２７】
（反射率の測定）
反射率は分光光度計（日本分光株式会社製、型式Ｖ−６７０）を用いて測定した。メッシュ織物は縦糸・横糸のある実体部と、印刷時にインクが透過する空隙部とから構成されており、光束を投射しても空隙部では光が透過してしまうため、同じ材質のメッシュでも種類により反射率が異なることとなる。そこでメッシュを複数枚重ねてその反射率を測定してゆき、その値が一定値を示す時の反射率を用いた。本発明での実施例、比較例では何れの場合でも３枚以上のメッシュを重ねた状態では、反射率がほぼ一定となったので、３枚のメッシュを重ねたもので反射率を測定した。
【０１２８】
（解像性の評価方法）
実施例１〜７及び比較例１〜５において、座標計測機ＰＣＭ−１３００（株式会社ソキア製）を用い、版のパターン部を拡大して目視観察により評価した。上述の図９に示した１０〜５０μｍのパターン幅のマスクを用いてパターンを形成した場合に、乳剤（感光性樹脂）残りのないパターン幅を解像可能とし、９分割した全区分（９パターン）においての解像状態から、下記の規準により５段階の評価ランクを付与した。
【０１２９】
評価ランクＡＡＡ＝９区分全てで１５μｍ解像可能、ＡＡ＝９区分全てで２０μｍ解像可能、Ａ＝９区分全てで３０μｍかつ５区分以上で２０μｍ解像可能、Ｂ＝５区分以上で３０μ解像可能、Ｃ＝４区分以下でのみ３０μmの解像が可能。
【０１３０】
ここで代表的な解像可能例として、図１０に実施例１においてパターンの幅が２０μｍの場合を示し、また乳剤がパターン部に残る例として、図１１に比較例１においてパターンの幅が２０μｍの場合を示した。図１０および図１１において、多数の上下に延びるラインが、感光膜によってメッシュ織物に形成されたパターンの一部である。実施例の図１０に示す画像では、上下のライン状のパターン以外には、感光性樹脂が残っていないことが分かる。一方、比較例の図１１に示す画像では、上下のライン状のパターンの間に、感光性樹脂が残っていることが分かる。紫外光の周囲への散乱によって、硬化させる必要の無い樹脂まで硬化してしまい、図１１の画像に示すようにライン状のパターン以外にも樹脂が残っている。
【０１３１】
実施例１〜７及び比較例１〜５における画像形成部および支持体部に用いたスクリーンの種類、画像形成部のタングステン酸化被膜層の平均厚さ、反射率の値及び画像形成部の全面積に対するパターン形成部の面積割合（利用率）とともに、解像性の評価結果を表１に示した。十分な高精細パターンといえるためには、３０μｍ以下の線幅やドット径がパターン形成部のほぼ全面で確実に解像できることが必要であるので、評価ランクとしてＡランク以上が必要である。
【０１３２】
【表１】
2015089672.tif 000003
【０１３３】
平均の酸化被膜厚さが１５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下である実施例１から５、およびレニウムとの合金である実施例６、また縦糸にタングステン、横糸にステンレスを用いた実施例７のいずれにおいても、波長３７５ｎｍの光の反射率が６％以下であり、いずれも９分割した全区分（全９パターン）において３０μｍの解像が可能であった。特に、糸径が１３μｍの実施例３ａや１１μｍである実施例３ｂではメッシュ数が高いことと反射率が４％未満であることにより、９分割した全区分において実施例３ａでは２０μｍ、実施例３ｂでは１５μｍの解像が可能であった。これに対してタングステン線の周囲２０％程度に部分的に酸化被膜層が形成されているだけで、反射率が１１．５である通常のタングステンメッシュを用いた比較例１では、９分割の区分中の３区分のみにて３０μｍが解像可能であるにとどまっている。また、平均の酸化被膜層厚さは１１ｎｍであるが、タングステン線の周囲のほぼ全面に酸化被膜層が形成されない可能性がある比較例５の場合、反射率は７．６％となり、９分割の区分中の７区分のみにて３０μｍが解像可能であるに留まった。さらに、実施例１と同じ線径、メッシュ数のステンレスメッシュである比較例２では、反射率が１２．１％と高いことも有り、９分割の区分中の２区分のみにて３０μｍの解像が可能であった。
【０１３４】
（印刷実験条件）
実施例および比較例で作成したコンビネーションスクリーン版の各々について、以下に示す印刷機及び印刷条件により印刷試験を行った。
印刷機：マイクロテック製ＭＴ−３０２Ｚ
スキージ：ウレタンゴム製平スキージ
スキージ硬度：７０°
スキージ角度：７０°
スキージ幅：２００ｍｍ
印刷速度：５０ｍｍ／ｓｅｃ
総圧：２００Ｋｐａ
実印圧：＋３０Ｋｐａ
使用ペースト：セイコーアドバンス製ＵＳ２００、粘度１２０ポイズ（２５℃）
印刷対象：平板ガラス
温湿度：２２℃〜２３℃、５０〜６０％
なお、クリアランスは各版において版離れできる最小の距離とした。
【０１３５】
（印刷精度及び耐久性の評価方法）
使用初期における印刷精度と、所定枚数印刷後の印刷精度（耐久性）と、を以下の方法で評価した。実施例、比較例のメッシュ織物を用いた版に、矩形の四隅と各辺における各辺を３等分する位置にマーク（例えば、トンボなどと呼ばれる印）を印刷するパターンを形成し、そのパターンによって印刷を行って実際に印刷されたパターンにおけるマークとマークの間の距離を測定し、その基準の距離との変化の量によって精度を評価した。
【０１３６】
具体的には、図１２に示すような矩形において、各両矢印の先端の位置にマークを印刷するパターンを版に形成した。つまり、Ｘ１の両矢印（図１２における矩形の最も下方の左右方向の両矢印）の両端の位置、Ｘ２の両端の位置、Ｘ３の両端の位置、Ｘ４の両端の位置、Ｙ２の両矢印（矩形の上下方向の両矢印）の両端の位置、Ｙ３の両端の位置にそれぞれマークを印刷するパターンを版に形成する。なお、Ｙ１、Ｙ４、Ｚ１、Ｚ２の両端のマークは、Ｘ１やＸ４の両端と共通のマークである。
【０１３７】
そして、実際に平板ガラス上に印刷された印刷パターンにおいて、各両矢印の両端のマーク間の距離を測定する。たとえば、Ｘ１であれば、Ｘ１の両矢印の先端の位置に対応するマーク間の距離であり、Ｚ２であれば、矩形の左上のマークから右下のマークまでの距離である。Ｘ１〜Ｚ２まで計１０組のマーク間の距離を測定する。
【０１３８】
マーク間の距離は、座標計測機ＰＣＭ−１３００（株式会社ソキア製）で測定した。そして、印刷された印刷パターンでの各マーク間の距離と、各マーク間の距離に対応する基準の距離との偏差の絶対値を求め、各値の偏差の算術平均値を求めて平均値により印刷精度を評価した。平均値は、以下に示す表２および表３の「平均」として示している数値である。
【０１３９】
印刷精度の評価は、作製したコンビネーションスクリーン版の使用初期の段階における印刷精度と、耐久性を評価するために印刷に版を所定回数使用した後の段階における印刷精度とを求めて行った。初期の印刷精度としては、１００枚目の平板ガラス上に印刷された印刷パターンについての各マーク間の距離（Ｘ１〜Ｚ４）を測定した。各マーク間の距離の基準は、そのパターンの印刷に用いたスクリーン版におけるそれぞれのマーク間の距離を測定して各マーク間の距離の基準とした。そして、印刷されたパターンの各マーク間の距離と、対応するスクリーン版におけるマーク間の距離との差を求めて評価した。つまり、実際に印刷されたパターンとその印刷に用いたスクリーン版とを比較して精度を評価した。具体的には、Ｘ１の偏差が２μｍとなった場合であれば、例えば、印刷されたパターンのＸ１に対応するマーク間の距離が２０．００２ｍｍで、その印刷に用いたスクリーン版における対応するＸ１の距離が２０．０００ｍｍの場合、偏差が２μｍとなる。
【０１４０】
また耐久性の評価としては、３０００枚目の実際の印刷パターンの各マーク間の距離を測定した。各マーク間の距離の基準は、１００枚目の実際の印刷パターンの各マーク間の距離を測定してそれぞれのマーク間の距離の基準とした。つまり、印刷使用初期の印刷パターン（基準）と、多数の印刷に使用した後の３０００枚目の印刷パターンとを比較して精度を求め、耐久性の評価とした。具体的には、Ｙ３の偏差が５μｍとなった場合には、例えば、３０００枚目の印刷されたパターンにおけるＹ３の両端の位置のマーク間の距離が２０．０２６ｍｍであり、１００枚目の印刷されたパターンにおけるＹ３の両端の位置のマーク間の距離が２０．０２１ｍｍの場合、偏差が５μｍとなる。
【０１４１】
評価結果として初期の印刷精度として各測定位置での偏差の絶対値と平均値とを表２に示した。
【０１４２】
【表２】
2015089672.tif 000004
【０１４３】
表２に示す結果から分かるように、通常のステンレスに比べて約２倍の弾性率を示すタングステン線でのメッシュを用いた実施例１と同一の径及びメッシュ数で通常のステンレスである比較例２ａとを比較すると、初期精度の平均値がタングステン（実施例１）では１１．９μｍとステンレス（比較例２ａ）の２４．７μｍに比べて半分以下であり、極めて精度が優れている。また画像形成部の利用率を６６．９％に上げた実施例４ｂにおいても、比較例２より初期精度が優れており、本発明によれば、優れた初期精度を維持しつつ画像形成用スクリーンの利用率を向上することが可能であることがわかる。比較例２ｂでは画像形成部の利用率を、一般的なスクリーン版での利用率と同等の３０％程度とすることで、比較例２ａ（利用率４６．５％）より初期精度は向上するものの（２４．７から１７．１）、利用率４６．５％の実施例１（１１．９）より劣り、利用率が２倍以上である実施例４ｂとほぼ同等であることがわかる。縦糸にタングステン、横糸に通常のステンレスを用いた実施例７では、初期精度は通常のステンレスに比べ十分に優れ、高強度のステンレスと比べても同等以上の精度が得られた。
【０１４４】
酸化被膜層がタングステン線の周囲全体には形成されてない比較例１や、周囲全体に形成されていない可能性がある比較例５、また酸化被膜層の厚みが１２０ｎｍより厚い場合である比較例４では、波長３７５ｎｍの光の反射率が６％より大きいことより解像性は劣るものの、印刷精度、すなわちスクリーン版と印刷物とのパターンのずれは実施例１と同等となる。これはタングステン固有の高い弾性率によるものである。
【０１４５】
また、耐久性の評価結果を表３に示した。
【０１４６】
【表３】
2015089672.tif 000005
【０１４７】
１００枚目の印刷パターンを基準とした場合の、３０００枚目の印刷パターンの基準からの偏差によって評価した耐久性評価においては、応力・歪曲線における降伏点と破断点が近接しており、ほぼ全領域において直線関係を示すタングステンメッシュである、実施例１〜５及びタングステンとレニウムとの合金である実施例６や縦糸にタングステン、横糸に通常のステンレスを用いた実施例７のすべてに於いて、耐久性の評価となる印刷３０００枚後の平均的なずれは全て１０μｍ以内に収まっている。つまり、１００枚目の印刷から３０００枚目の印刷においての印刷パターンの経時変化が１０μｍ未満であるという極めて高い耐久性を有することが分かった。これに対して通常のステンレスを用いた比較例２ａでは２倍以上のズレを示しており、画像形成部の利用率を３０％程度に抑えた実施例４ａと、ステンレスで同等の利用率である比較例２ｂとの比較では２．８μｍ（実施例４ａ）と１４．３μｍ（比較例２ｂ）となり耐久性に著しい差異があり、やはり本発明の実施例は極めて高い耐久性も得られることがわかる。さらに利用率を６６．９％とした実施例４ｂにおいても、耐久性は８．８μｍと通常のステンレスでの利用率３０％程度の比較例２ｂ（１４．３μｍ）より優れていることより、タングステンメッシュであれば多数回使用後も高い精度を維持しつつ、高い利用率が可能であることが明らかとなった。つまり従来よりも利用率を大幅に上げても、耐久性が維持されることが分かった。
【０１４８】
またレニウムとの合金である実施例６でも、タングステンの高い弾性率と、降伏点と破断点とが近接しているとの力学的特徴が維持され、実施例１と同等の優れた耐久性を有している。さらに縦糸にタングステン、横糸に通常のステンレスを用いた実施例７では、耐久性においては通常のステンレスの比較例２ａと比べて平均的ズレは１／２以下、高強度ステンレス（比較例３）と比べても十分に優れていることがわかる。
【０１４９】
ここで比較例１と比較例５は、初期の印刷精度と同様タングステン固有の力学的特徴により実施例１とほぼ同等の優れた耐久性を有する。初期印刷精度が実施例１と同等の比較例４の耐久性が劣るのは、厚い酸化被膜層を形成するための処理条件が強すぎることによりメッシュ自体の強度が低下したためと考えられる。（なお、比較例はいずれも解像度の面で本発明の実施例のような優れた解像性は得られない。）
【符号の説明】
【０１５０】
１：金属メッシュ織物
２：縦糸
３：横糸
４：酸化被膜
11：標準的なステンレスメッシュの応力―歪曲線
12：本実施形態のタングステンメッシュの応力―歪曲線
13：ステンレスメッシュの降伏点
14：タングステンメッシュの降伏点
15：ステンレスメッシュの破断点
16：タングステンメッシュの破断点
20：マスク
21：実施形態のスクリーン糸
22：ネガパターン部
23：ポジパターン部
24：紫外光
25：反射光
30：高反射率スクリーンメッシュでの版断面の部分モデル図
32：判断面モデルの開口部
100：コンビネーションスクリーン版
101：枠
102：画像形成用スクリーン
103：支持体用スクリーン
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４  ：Ｘ方向距離の測定位置
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４  ：Ｙ方向距離の測定位置
Ｚ１、Ｚ２            ：Ｚ方向距離の測定位置
【図１】
2015089672.tif 000006
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図９】
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【図１２】
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【図５】
2015089672.tif 000012
【図６】
2015089672.tif 000013
【図７】
2015089672.tif 000014
【図８】
2015089672.tif 000015
【図１０】
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【図１１】
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