(57)【要約】【課題】ハードコート性、透明性、ブロッキング防止性及び他の層との密着性に優れ、かつ透明導電層を積層した際にパターニング性が良好なハードコートフィルム、これを用いた該透明導電性フィルム及びタッチパネルを提供する。【解決手段】紫外線吸収剤を含有するフィルム基材（１）の少なくとも一面にハードコート層（２ａ、２ｂ）を有するハードコートフィルム（２）において、ハードコート層（２ａ、２ｂ）を、アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー（Ａ）５０〜９０重量部、微粒子（Ｂ）０．１〜１重量部、有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）５〜５０重量部、光重合開始剤（Ｄ）１〜１０重量部（ただし、モノマーもしくはオリゴマー（Ａ）と、微粒子（Ｂ）と、有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）との合計を１００重量部とする）を少なくとも含有する硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて形成する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線吸収剤を含有するフィルム基材の少なくとも一面にハードコート層を有するハードコートフィルムであって、
前記ハードコート層が、
アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー（Ａ）５０〜９０重量部、
微粒子（Ｂ）０．１〜１重量部、
有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）５〜５０重量部、
光重合開始剤（Ｄ）１〜１０重量部
（ただし、アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー（Ａ）と、微粒子（Ｂ）と、有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）との合計を１００重量部とする）
を少なくとも含有する硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて形成されたものであることを特徴とする、ハードコートフィルム。
【請求項２】
前記微粒子（Ｂ）の平均粒子径が、０．１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする、請求項１に記載のハードコートフィルム。
【請求項３】
前記有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）が、Ｓｉ（ＯＲ）４またはＲ’mＳｉ（ＯＲ）4-m（ここで、ＲおよびＲ’は有機基であり、ｍは１または２である）で表される有機ケイ素化合物またはその縮合物であることを特徴とする、請求項１または２に記載のハードコートフィルム。
【請求項４】
前記フィルム基材が、ポリエチレンテレフタレートよりなることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のハードコートフィルム。
【請求項５】
前記ハードコート層の膜厚が、１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のハードコートフィルム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のハードコートフィルムの前記ハードコート層上に少なくとも透明電極層が積層されていることを特徴とする、透明導電性フィルム。
【請求項７】
前記フィルム基材の両面に前記ハードコート層が設けられた、請求項１〜５のいずれかに記載のハードコートフィルムの各ハードコート層上に少なくとも透明電極層が積層されていることを特徴とする、透明導電性フィルム。
【請求項８】
請求項６または７に記載の前記透明導電性フィルムを備える、タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコートフィルム、並びに、これを用いた透明導電性フィルム及びタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラスチック製品は加工性、軽量化の観点で良好であることから、様々なガラス製品がプラスチック製に置き換わりつつある。プラスチック製品の表面は傷つきやすいため、表面硬度や耐擦傷性を付与する目的で表面にハードコート層を設けたり、ハードコート層を設けたフィルムを貼合したりする場合がある。
【０００３】
また、従来のガラス製品においても、破損した際の飛散防止のためにプラスチックフィルムを貼合することが行われている。このプラスチックフィルム表面の硬度強化のために、フィルム表面にハードコート層を形成することが広く行われおり、ハードコート層は、特にＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬ等の表示装置、タッチパネルなどの最表面等に設けられている。
【０００４】
ＰＥＴフィルムなどの熱可塑性フィルムにハードコーティングを施す場合、製造工程で、ロール状に巻回して保存したりすることがある。ハードコートを形成したＰＥＴフィルムなどの樹脂基材層上に別の層状体を重ねた場合に、層間に粘着力や化学的な力が働いて付着状態になり、各層状体を利用するときに、各層状体を剥がすための力が必要であったり、付着力が強くなって剥がすのが困難になったり、あるいはむりやり剥がそうとすると層状体の破壊が起こったりすることがある。
【０００５】
そこで、ハードコートフィルムの貼り付きを抑制することを目的として、例えば、２種の樹脂成分を含む樹脂組成物を基材上に塗布し、塗布後に相分離により１種の樹脂成分を析出させ、表面に微細な凹凸を形成する技術（例えば、特許文献１参照）などが提案されているが、加熱温度により凹凸の大きさがばらつくため、透明性を損なうことがある。
【０００６】
一方、透明導電性フィルムは、透明基材上に金属酸化物等の透明薄膜からなる多層膜を形成することで得られる。この多層膜の形成方法としては、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といったドライコーティング法が提案されている。
【０００７】
上記透明導電性フィルムには同時に高い耐久性が要求される。要求される耐久性の一つが各層の密着性の向上である。特に高温高湿度環境下での耐久性試験における密着性の低下は、タッチパネルとして利用する際の経年劣化や機械的耐久性の低下に直接関連する重要な課題であるため、当該環境での高い密着性が求められる。
【０００８】
蒸着面等との密着性を向上させることを目的として、例えば、モノマー成分として分子内に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物とシリカを含有する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に、更に酸基含有エチレン性不飽和化合物を含有させる技術（例えば、特許文献２参照）などが提案されているが、特に高温高湿度環境下での耐久性試験によるさらなる密着性の向上が求められている。
【０００９】
また、上記透明導電性フィルムを用いたタッチパネルの方式としては、抵抗膜式、静電容量式などが挙げられる。特に、静電容量式はマルチタッチが可能であり、モバイル機器などの用途に多く採用されている。
【００１０】
静電容量式のタッチパネルは、パターンを形成した透明導電層を用いる。この透明導電層にパターンを形成する方法として、例えば、特許文献３に記載されるようにレジストを用いてパターンを形成するフォトリソグラフィ法があるが、フォトリソグラフィ法は、多くの製造工程を要する。特に、基板の両面に透明導電層を設けてパターンを形成する場合、片面ずつレジスト塗布、露光、現像などの工程を経るため、製造工程が煩雑になる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００７−１８２５１９号公報
【特許文献２】特開２００７−０１６１４５号公報
【特許文献３】特開平１−１９７９１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、かかる従来技術の課題に鑑みてなされたもので、その目的は、ハードコート性、透明性、ブロッキング防止性及び他の層との密着性に優れ、かつ透明電極層を積層した際にパターニング性が良好なハードコートフィルム、並びに、これを用いた透明導電性フィルム及び該透明導電性フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題は、下記の手段によって解決できる。
【００１４】
本発明に係るハードコートフィルムは、紫外線吸収剤を含有するフィルム基材の少なくとも一面にハードコート層を有する。ハードコート層は、アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー（Ａ）５０〜９０重量部、微粒子（Ｂ）０．１〜１重量部、有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）５〜５０重量部、光重合開始剤（Ｄ）１〜１０重量部（ただし、アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー（Ａ）と、微粒子（Ｂ）と、有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）との合計を１００重量部とする）を少なくとも含有する硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて形成されたものである。
【００１５】
微粒子（Ｂ）の平均粒子径は、０．１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。
【００１６】
有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）は、Ｓｉ（ＯＲ）４またはＲ’mＳｉ（ＯＲ）4-m（ここで、ＲおよびＲ’は有機基であり、ｍは１または２である）で表される有機ケイ素化合物またはその縮合物であることが好ましい。
【００１７】
フィルム基材は、ポリエチレンテレフタレートよりなることが好ましい。
【００１８】
ハードコート層の膜厚は、１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。
【００１９】
また、本発明に係る透明導電性フィルムは、上記のハードコートフィルムのハードコート層上に少なくとも透明電極層が積層されたものである。
【００２０】
また、本発明に係る透明導電性フィルムは、フィルム基材の両面にハードコート層が設けられた上記のハードコートフィルムの各ハードコート層上に少なくとも透明電極層が積層されていても良い。
【００２１】
また、本発明に係るタッチパネルは、上記のいずれかの透明導電性フィルムを備えるものである。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、ハードコート性、透明性、ブロッキング防止性及び他の層との密着性に優れ、かつ透明電極層を積層した際にパターニング性が良好なハードコートフィルム、並びに、これを用いた透明導電性フィルム及びタッチパネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】実施の形態に係るフィルム基材を示す模式断面図
【図２】実施の形態に係るハードコートフィルムの模式断面図
【図３】実施の形態に係る透明導電性フィルムの実施の形態を示す模式断面図
【図４】実施の形態に係るタッチパネルの実施の形態を示す模式断面図
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明のハードコートフィルム、透明導電性フィルム、タッチパネルについて説明する。
【００２５】
図１は、実施の形態に係るフィルム基材を示す模式断面図である。
【００２６】
フィルム基材（１）は、樹脂フィルム（１１）に少なくとも紫外線吸収剤（１２）を分散させたものである。図３で及び４で後述するように、基材フィルム（１）は、タッチパネル（４）の基材として使用されるものであり、基材フィルム（１）の両面にレジストを塗布し、両面のレジストをそれぞれ露光することより、透明電極（３ａ、３ｂ）が形成される。フィルム基材（１）として、紫外線吸収剤（１２）を含む樹脂フィルム（１１）を用いることによって、レジストの露光時に、一方面のレジストに吸収されなかった紫外線が他方面のレジストに達することを抑制できる。したがって、紫外線を用いたレジストの露光処理によって、基材フィルム（１）の表裏に異なるパターンの透明導電層（３ａ、３ｂ）を形成することができる。
【００２７】
樹脂フィルム（１１）は、特に限定されるものではなく、公知のプラスチックフィルムの中から適宜選択して用いることができる。具体的には、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエステルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、セロハン、ナイロンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリアセテートフィルム、ポリスチレンフィルム、アクリル系フィルム、耐熱性・エンプラ系フィルム、フッ素樹脂フィルム、トリアセチルセルロースフィルム等のプラスチックフィルムが挙げられる。樹脂フィルム（１１）の厚みは、特に限定はしないが、好ましくは２５μｍ以上５００μｍ以下であり、より好ましくは５０μｍ以上３００μｍ以下である。また、樹脂フィルム（１１）は、紫外線吸収剤（１２）の他に、種々の添加剤や安定剤を含んでもよい。添加剤や安定剤としては、例えば、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、または、易接着剤等が挙げられる。フィルム基材（１）に対しては、フィルム基材（１）に積層される層（例えば、後述するハードコート層（２））とフィルム基材（１）との密着性を向上させるために、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理、または、薬品処理等が施されてもよい。
【００２８】
紫外線吸収剤（１２）としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、サリシレート系、トリアジン系、または、シアノアクリルレート系等の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤は、重合性のビニル基を有していることが好ましく、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリルオキシエチルフェニル）２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−４−（メタクリルオキシ）ベンゾフェノン、フェニル−５−メタクリルオキシメチルサリシレートが挙げられる。紫外線吸収剤は、上記群から選択される１つであってもよいし、上記群から選択される２つ以上であってもよい。紫外線吸収剤（１２）の含有量は、フィルム基材（１）の全体重量に対して０．２重量％以上２０重量％以下であることが好ましい。紫外線吸収剤（１２）の含有量がフィルム基材（１）の全重量の０．２重量％未満である場合、露光時における紫外線の吸収が十分でなく、フィルム基材（１）の一方面のレジストの露光時に他方面のレジストが露光されることを抑制する効果が十分でなく、２０重量％より大きいとフィルムの色調が悪化し黄色変色するため好ましくない。
【００２９】
図２は、実施の形態に係るハードコートフィルムの模式断面図である。
【００３０】
図２に示すハードコートフィルム（２）は、図１に示したフィルム基材（１）の両面にハードコート層（２ａ、２ｂ）を設けたものである。
【００３１】
ハードコート層（２ａ、２ｂ）は、アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー（Ａ）、微粒子（Ｂ）、有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）を少なくとも含有する硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて形成される。
【００３２】
モノマーもしくはオリゴマー（Ａ）としては、乾燥時の温度に耐え、透明性を維持できる樹脂が好ましい。さらに硬化後の機械特性及び透明性、耐薬品性、耐熱性はもちろんのこと、塗布加工時の低粘度化等の諸物性を考慮した場合、モノマーもしくはオリゴマー（Ａ）として、具体的には３官能以上のアクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマーを用いることが好ましい。３官能以上のアクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマーを用いることにより、３次元架橋された樹脂を得ることができる。３官能以上のアクリレートとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステルアクリレート等が好ましい。特に好ましいのは、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレートおよびポリエステルアクリレートである。これらは単独で用いても良いし、２種以上併用しても構わない。また、これら３官能以上のアクリレートの他にエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、等のいわゆるアクリル系樹脂を併用することが可能である。
【００３３】
アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー（Ａ）と、微粒子（Ｂ）と、有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）との合計重量を１００重量部としたときに、モノマーもしくはオリゴマー（Ａ）の添加量は、５０〜９０重量部である。モノマーもしくはオリゴマー（Ａ）の添加量がこの範囲を超えると、ハードコート層（２ａ、２ｂ）と透明電極層（３ａ、３ｂ）との密着性が低下し、この範囲を下回るとハードコート性能やフィルム基材（１）との密着性が低下する。
【００３４】
微粒子（Ｂ）としては、例えば、無機微粒子やポリマー微粒子を使用できる。無機微粒子の例としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。中でも、濁度が低くなる二酸化珪素が好ましい。また、ポリマー微粒子の例としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。中でも、濁度が低くなるシリコーン樹脂が好ましい。
【００３５】
アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー（Ａ）と、微粒子（Ｂ）と、有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）との合計重量を１００重量部としたときに、微粒子（Ｂ）の添加量は、０．１〜１重量部である。微粒子（Ｂ）の添加量がこの範囲を超えるとハードコート性や透明性が低下し、この範囲を下回るとブロッキング防止性が低下する。
【００３６】
微粒子（Ｂ）の平均粒子径は０．１〜１０μｍが好ましい。微粒子（Ｂ）の平均粒子径がこの範囲を超えるとハードコート性や透明性が低下し、この範囲を下回るとブロッキング防止性が低下する。
【００３７】
有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）としては、例えばビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のビニルシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等のメタクロキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリロキシシラン等を用いることができる。中でも、ビニルトリメトキシシランおよび３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランの使用が有効である。
【００３８】
アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー（Ａ）と、微粒子（Ｂ）と、有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）との合計重量を１００重量部としたときに、有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）の添加量は、５〜５０重量部である。有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）の添加量がこの範囲を超えるとハードコート性が低下し、この範囲を下回ると透明電極層（３ａ、３ｂ）との密着性が低下する。
【００３９】
光重合開始剤（Ｄ）としては、例えば、２，２−エトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｐ−クロロベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、２−クロロチオキサントン等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
【００４０】
アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー（Ａ）と、微粒子（Ｂ）と、有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）との合計重量を１００重量部としたときに、光重合開始剤（Ｄ）の添加量は、１〜１０重量部である。光重合開始剤（Ｄ）の添加量がこの範囲を超えると透明性が低下し、この範囲を下回るとハードコート性が低下する。
【００４１】
ハードコート層（２ａ、２ｂ）を硬化させる方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を用いることができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、フュージョンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００ 〜８００ｍＪ／ｃｍ２程度である。
【００４２】
ハードコート層（２ａ、２ｂ）の膜厚は１〜１０μｍの範囲が好ましい。ハードコート層（２ａ、２ｂ）の膜厚がこの範囲を超えるとブロッキング防止性が低下し、この範囲を下回るとハードコート性が低下する。
【００４３】
ハードコート層（２ａ、２ｂ）は、ウェットコーティング法（ ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等）によりフィルム基材（１）の少なくとも片面に塗工される。
【００４４】
図３は、実施の形態に係る透明導電性フィルムの実施の形態を示す模式断面図である。
図３に示す透明導電性フィルム（３）は、図２に示したハードコートフィルム（２）の両面に透明電極層（３ａ、３ｂ）を設けたものである。
【００４５】
透明電極層（３ａ、３ｂ）の材料としては、透明導電性フィルム（３）に要求される特性や用途に応じて種々の材料が使用できる。例えば、透明電極層（３ａ、３ｂ）の材料としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、および、酸化スズのいずれか１つ、または、それらの２種類もしくは３種類の混合酸化物が挙げられる。また、上記の材料に、さらに添加物が加えられてもよい。
【００４６】
透明電極層（３ａ、３ｂ）は、公知の成膜方法によってハードコートフィルム（２）の少なくとも片面に形成される。例えば、透明電極層（３ａ、３ｂ）が酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）から形成される場合には、透明電極層（３ａ、３ｂ）は、真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相析出法やＣＶＤ法等の化学的気相析出法等によって形成される。
【００４７】
なお、透明導電性フィルム（３）は、ハードコート層（２ａ、２ｂ）と透明電極層（３ａ、３ｂ）との間に、他の層を備えていてもよい。他の層としては、例えば、透明導電性フィルム（３）における可視光の透過特性を調整するための層等が挙げられる。
【００４８】
透明電極層（３ａ、３ｂ）は、所定の形状にパターニングされる。例えば、透明電極層（３ａ）は、Ｘ方向に延びる複数の導電領域が、Ｘ方向と直交するＹ方向に間をあけて並設されたパターンを有する。そして、透明電極層（３ａ）と対向する透明電極層（３ｂ）は、Ｙ方向に延びる複数の導電領域が、Ｘ方向に間をあけて並設されたパターンを有する。導電領域は、例えば、直線形状や、複数のひし形が一方向に繋げられた形状に形成される。隣接する導電領域の間の領域は、導電領域と絶縁された非導電領域となる。導電領域の各々は、導電領域に形成される静電容量の変化を、電流の変化によって検出する回路に接続されている。人の指等が導電領域に接近すると、静電容量が変化する。この静電容量の変化が検出されることに基づいて、人の指等の接触位置が判定される。
【００４９】
透明電極層（３ａ、３ｂ）は、波長４００ｎｍにおける光線透過率が６０％以上であり、かつ、波長３６５ｎｍにおける光線透過率が２０％以下であることが好ましい。光線透過率が上記の範囲であると、紫外線によってレジストが露光されるときに、一方のレジストに吸収されなかった光が他方のレジストに達することが的確に抑えられる。また、こうした効果を高めるためには、フィルム基材１の波長４００ｎｍにおける光線透過率が８０％以上であり、かつ、波長３６５ｎｍにおける光線透過率が２０％以下であることがより好ましい。
【００５０】
図４は、実施の形態に係るタッチパネルの実施の形態を示す模式断面図である。
【００５１】
タッチパネル（４）は、フィルム基材（１）の表面側の透明電極層（３ａ）上に、接着層（４２）を介してガラス等からなるカバー層（４１）等を積層することによって構成される。カバー層（４１）の表面が、人の指等の接触面となる。さらに、基材（１）の裏面側の透明電極層（３ｂ）には、保護層（４３）が積層される。
【００５２】
以上説明したように、本実施形態に係るハードコートフィルム（２）、透明導電性フィルム（３）及びタッチパネル（４）が有するハードコート層（２ａ、２ｂ）は、
・アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー（Ａ）：５０〜９０重量部、
・微粒子（Ｂ）：０．１〜１重量部、
・有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）：５〜５０重量部、
・光重合開始剤（Ｄ）：１〜１０重量部
（ただし、アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー（Ａ）と、微粒子（Ｂ）と、有機ケイ素化合物またはその縮合物（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）との合計を１００重量部とする）
を少なくとも含有する硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させたものである。この硬化性樹脂組成物を用いることにより、ハードコート性、透明性、ブロッキング防止性及び透明電極層（３ａ、３ｂ）との密着性、透明電極層を積層する際のパターニング性に優れたハードコートフィルム（２）、透明導電性フィルム（３）及びタッチパネル（４）を実現することができる。
【実施例】
【００５３】
上述した透明性導電性積層体が有する特性について、以下に挙げる具体的な実施例、および、比較例を用いて説明する。
【００５４】
＜実施例１＞
（１）ハードコートフィルムの作製
ＵＶ吸収剤を含有したフィルム基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社；テトロンＨＢ３−７５）を使用した。このフィルム基材上に、下記組成のハードコート層形成用塗工液１を、バーコーティング法により乾燥後の膜厚が５μｍになるように塗布し、乾燥させた。その後、高圧水銀灯により６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してハードコート層を形成した。同様の手順を裏面についても繰り返し、図２に示す層構成を有するハードコートフィルムを作製した。
［ハードコート層形成用塗工液１］
・モノマーもしくはオリゴマー：ペンタエリスリトールトリアクリレート（共栄社化学株式会社；ライトアクリレートＰＥ−３Ａ）  ７０重量部
・微粒子：シリコーン微粒子（ＧＥ東芝シリコーン株式会社；トスパール１２０）  ０．５重量部
・有機ケイ素化合物またはその縮合物：３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社；ＫＢＭ−５１０３）  ２５重量部
・光重合開始剤：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦジャパン株式会社；ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）  ４．５重量部
・酢酸エチル  １００重量部
【００５５】
（２）透明導電性フィルムの作製
上記手順により作製したハードコートフィルムの上に透明電極層を、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜することにより形成した。このとき、スパッタリングターゲットとして、酸化スズを１０重量％含有するＩＴＯを使用した。また、透明電極層の厚みを２０ｎｍとした。同様の手順を裏面についても繰り返し、ハードコート層の両面に透明導電性フィルムを作製した。
【００５６】
＜比較例１＞
下記組成のハードコート層形成用塗工液２を用いたことを除き、実施例１と同じ手順により、比較例１のハードコートフィルム、及び、透明導電性フィルムを作製した。
［ハードコート層形成用塗工液２］
・ペンタエリスリトールトリアクリレート  ７０．５重量部
・シリコーン微粒子  ０重量部
・３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン  ２５重量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン  ４．５重量部
・酢酸エチル  １００重量部
【００５７】
＜比較例２＞
下記組成のハードコート層形成用塗工液３を用いたことを除き、実施例１と同じ手順により、比較例２のハードコートフィルム、及び、透明導電性フィルムを作製した。
［ハードコート層形成用塗工液３］
・ペンタエリスリトールトリアクリレート  ６８．５重量部
・シリコーン微粒子  ２重量部
・３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン  ２５重量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン  ４．５重量部
・酢酸エチル  １００重量部
【００５８】
＜比較例３＞
下記組成のハードコート層形成用塗工液４を用いたことを除き、実施例１と同じ手順により、比較例３のハードコートフィルム、及び、透明導電性フィルムを作製した。
［ハードコート層形成用塗工液４］
・ペンタエリスリトールトリアクリレート  ９４重量部
・シリコーン微粒子  ０．５重量部
・３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン  １重量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン  ４．５重量部
・酢酸エチル  １００重量部
【００５９】
＜比較例４＞
下記組成のハードコート層形成用塗工液５を用いたことを除き、実施例１と同じ手順により、比較例４のハードコートフィルム、及び、透明導電性フィルムを作製した。
［ハードコート層形成用塗工液５］
・ペンタエリスリトールトリアクリレート  ３５重量部
・シリコーン微粒子  ０．５重量部
・３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン  ６０重量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン  ４．５重量部
・酢酸エチル  １００重量部
【００６０】
＜比較例５＞
下記組成のハードコート層形成用塗工液６を用いたことを除き、実施例１と同じ手順により、比較例５のハードコートフィルム、及び、透明導電性フィルムを作製した。
［ハードコート層形成用塗工液６］
・ペンタエリスリトールトリアクリレート  ７４重量部
・シリコーン微粒子  ０．５重量部
・３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン  ２５重量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン  ０．５重量部
・酢酸エチル  １００重量部
【００６１】
＜比較例６＞
下記組成のハードコート層形成用塗工液７を用いたことを除き、実施例１と同じ手順により、比較例６のハードコートフィルム、及び、透明導電性フィルムを作製した。
［ハードコート層形成用塗工液７］
・ペンタエリスリトールトリアクリレート  ５９．５重量部
・シリコーン微粒子  ０．５重量部
・３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン  ２５重量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン  １５重量部
・酢酸エチル  １００重量部
【００６２】
＜比較例７＞
フィルム基材として、ＵＶ吸収剤を含有しないフィルムである、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社；ルミラーＴ６０−７５）を用いたことを除き、実施例１と同じ手順により、比較例７のハードコートフィルム、及び、透明導電性フィルムを作製した。
【００６３】
＜評価方法＞
実施例１の透明導電性フィルム、及び、比較例１〜７の透明導電性フィルムに対し、下記の方法に従って、性能を評価した。評価結果を表１に示す。
【００６４】
（ａ）ハードコート性
ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準じ、鉛筆引っかき試験機により透明導電性フィルム上のすり傷を評価した。２Ｈの硬度の鉛筆を５本使用して試験を行い、すり傷の発生しなかった本数により評価した。
○：５本すべてですり傷なし
△：３本〜４本ですり傷なし
×：０本〜２本ですり傷なし
【００６５】
（ｂ）透明性
写像性測定器（日本電色工業株式会社製、ＮＤＨ−２０００）を使用して全光線透過率を測定した。
○：全光線透過率９０％以上
×：全光線透過率９０％未満
【００６６】
（ｃ）ブロッキング防止性
透明導電性フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出し、フィルム同士を重ね合わせてガラス板に挟み、２５０ｇ／ｃｍ２の荷重をかけた状態で、２５℃／６５％ＲＨの環境試験槽に２４時間放置し、ブロッキングの有無を評価した。
○：ブロッキングなし
×：ブロッキングあり
【００６７】
（ｄ）信頼性試験後密着性
透明導電性フィルムを８５℃／８５％ＲＨの環境試験槽に２４０時間投入する信頼性試験を実施した。信頼性試験実施後、透明導電性フィルムの透明電極層表面を、１マスが１ｍｍ角で１０マス×１０マス＝１００マスとなるように碁盤目状に切り込みを入れた後、粘着テープ（ニチバン株式会社製、工業用２４ｍｍ巾セロテープ（登録商標））を用いて各マスの剥離試験を行い、１００マスのうちの残存数（剥離が生じなかったマスの数）で評価した。
○：１００マスすべてが残存
△：１マス〜９９マスが残存
×：０マスが残存
【００６８】
（ｅ）パターニング性
透明導電性フィルムの両面にレジストを塗布し、表面から下記露光条件でレジスト露光を行い、裏面側のレジストの感光の有無を評価した。
○：裏面側のレジストの感光なし
×：裏面側のレジストの感光あり
［露光条件］
・レジスト： サンフォートＡＫ−４０２１（旭化成イーマテリアルズ株式会社）
・光源：超高圧水銀ランプ（ウシオ電機株式会社）
・露光量：１００ｍＪ／ｃｍ２
【００６９】
【表１】
2015182457.tif 000003
【００７０】
実施例１の透明導電性フィルムは、紫外線吸収剤を含有したポリエチレンテレフタレートフィルム上に、ペンタエリスリトールトリアクリレート、シリコーン微粒子、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを含有したハードコート層を形成することにより、ハードコート性、透明性、ブロッキング防止性、透明電極層との密着性、パターニング性ともに良好であることが示された。
【００７１】
これに対して、ハードコート層にシリコーン微粒子を含有していない比較例１の透明導電性フィルムは、ブロッキング防止性が不十分であった。シリコーン微粒子の含有量が上述した範囲を超える比較例２の透明導電性フィルムは、透明性が不十分であった。
【００７２】
３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランの含有量が上述した範囲を下回る比較例３の透明導電性フィルムは、信頼性試験後密着性が不十分であった。３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランの含有量が上述した範囲を超える比較例４の透明導電性フィルムは、ハードコート性が不十分であった。
【００７３】
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンの含有量が上述した範囲を下回る比較例５の透明導電性フィルムは、ハードコート性が不十分であった、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンの含有量が上述した範囲を超える比較例６の透明導電性フィルムは、透明性が不十分であった。
【００７４】
ポリエチレンテレフタレートフィルムに紫外線吸収剤を含有していない比較例７は、透明電極層形成時のパターニング性が不十分であった。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明は、表示装置等の表面を保護するためのハードコートフィルム、ハードコート層を備えた透明導電性フィルム及びタッチパネル等に利用できる。
【符号の説明】
【００７６】
１      フィルム基材
１１    樹脂フィルム
１２    紫外線吸収剤
２      ハードコートフィルム
２ａ    ハードコート層
２ｂ    ハードコート層
３      透明導電性フィルム
３ａ    透明電極層
３ｂ    透明電極層
４      タッチパネル
４１    カバー層
４２    粘着層
４３    保護層
【図１】
2015182457.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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