(57)【要約】      （修正有）【課題】基板を安全に保護し、基板の回転による磨耗粉の発生を抑制し、かつ基板を容易に整列できる基板収納容器を提供する。【解決手段】容器本体２の開口部５を開閉自在に着脱可能な蓋体３と、を備える基板収納容器１であって、容器本体２には、対向する一対の内側壁にそれぞれ形成され基板Ｗを支持する支持部材１１と、開口部５と対向する側に形成され奥側溝部１２ａ，１２ｄを備えたストッパー壁面１２とを備え、蓋体３には、リテーナ４を有し、そのリテーナ４には、複数の基板Ｗに接触する弾性片１７と、弾性片１７に形成される保持溝１８ａ，１８ｂと、を備え、容器本体２に蓋体３を固定したときに、基板Ｗが保持溝１８ａ，１８ｂと奥側溝部１２ａ，１２ｄとによって保持され、その保持の状態にて仮想平面Ｖを形成し、保持溝１８ａ，１８ｂおよび奥側溝部１２ａ，１２ｄの少なくともいずれか一方が仮想平面Ｖに対して傾斜あるいは湾曲して形成されている。【選択図】図９
2015053329.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を収納する少なくとも一方を開口した容器本体と、その容器本体の開口部を開閉自在に着脱可能な蓋体と、を備える基板収納容器であって、
上記容器本体は、
対向する一対の内側壁にそれぞれ形成され、上記基板を支持する支持部材と、
上記開口部と対向する側に形成され、奥側溝部を備えたストッパー壁面と、
を有し、
上記蓋体は、上記開口部側の上記基板の周縁に接触するリテーナを有し、
上記リテーナは、
複数の上記基板に接触する弾性片と、
上記弾性片に形成される保持溝と、
を有し、
上記容器本体に上記蓋体を固定したときに、上記基板のそれぞれは、上記保持溝と上記奥側溝部とによって保持され、その保持の状態にて仮想平面を形成し、
上記保持溝および上記奥側溝部の少なくともいずれか一方は、上記仮想平面に対して傾斜あるいは湾曲して形成されていることを特徴とする基板収納容器。
【請求項２】
前記容器本体に前記蓋体を取り付けて固定したときに、前記基板が前記保持溝と前記奥側溝部とによって保持されかつ前記支持部材から離れるように、前記保持溝と、前記奥側溝部と、前記支持部材とを形成していることを特徴とする請求項１に記載の基板収納容器。
【請求項３】
前記保持溝および前記奥側溝部の少なくとも一方の傾斜あるいは湾曲方向は、前記蓋体が取り除かれた状態の前記容器本体の前記支持部材に支持された前記基板の撓み方向と同じ方向であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板収納容器。
【請求項４】
前記保持溝および前記奥側溝部の少なくとも一方の傾斜あるいは湾曲方向は、前記蓋体が取り除かれた状態の前記容器本体の前記支持部材に支持された前記基板の撓み方向と逆方向であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板収納容器。
【請求項５】
前記保持溝と前記奥側溝部とはそれぞれ一対形成されていて、一対の前記保持溝および一対の前記奥側溝部の少なくともいずれか一方は、それらの傾斜あるいは湾曲方向が前記容器本体に収納される前記基板の中心を通り前記基板の挿入方向と平行な中心線に対して線対称になるように形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板収納容器。
【請求項６】
前記保持溝と前記奥側溝部とはそれぞれ一対形成されていて、一対の前記保持溝および一対の前記奥側溝部の少なくともいずれか一方は、それらの傾斜あるいは湾曲方向が前記容器本体に収納される前記基板の中心を通り前記基板の挿入方向と平行な中心線に対して非対称になるように形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板収納容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコン、ガリウム砒素、サファイヤ、ガラス等からなる円形の基板を収納する基板収納容器に関し、より詳しくは、容器本体や蓋体に取り付けられて基板の周縁部を保持する基板収納容器のリテーナの保持溝及び容器本体の奥側に形成される保持溝の形態に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体ウェーハ基板等に代表される基板の大口径化に伴い、フロントオープンボックスタイプの基板収納容器が製造および販売されている。当該基板収納容器は、複数枚の基板を整列収納するフロントオープン型の容器本体と、当該容器本体の開口正面を開閉自在に着脱可能な蓋体とから主に構成されている。基板収納容器内に収納された基板は、容器内にて一枚ずつ支持されているが、容器に振動や衝撃が加えられることに起因して容器内で自転する場合がある。基板が容器内で自転すると、当該基板とそれを容器内で支持している支持部材との摩擦によって、磨耗粉が発生する可能性があり、基板の汚染リスクが増大する。これを防止するための一つの手段として、容器本体の奥側側壁の保持溝と、蓋体の裏面に配置されるリテーナの保持溝とによって基板の保持力を最適化する提案がなされている（特許文献１を参照）。
【０００３】
また、別の手段として、容器本体の側壁のうち背面側の側壁の内面に、左右一対の位置規制壁を形成し、蓋体を容器本体に取り付けたときに、リテーナの溝と位置規制壁の溝とによって基板を挟持する方法も提案されている（特許文献２を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−３５３８９８号公報
【特許文献２】特開２００２−００９１４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記従来から公知の基板収納容器は、基板の前方側をリテーナの保持溝により、また同基板の後方側を支持部材の奥側溝部によって保持する機構を有する。保持溝および奥側溝部は、容器本体の支持部材に支持される基板の仮想平面に対して平行に形成されている。しかし、基板が大口径化し、あるいはバックグラインドされて厚さが薄くなると、基板は、自重で撓みやすくなり、水平状態から僅かに湾曲した状態で支持部材に支持されるようになる。この結果、保持溝（および奥側溝部）と基板とは、部分的に強く接触する状態となり、保持溝（および奥側溝部）の全領域で均等に基板を保持することが難しくなり、回転し易くなる。このように、上述の保持溝および奥側溝部の形態では、基板収納容器の搬送時の振動や衝撃に伴う基板の回転を完全に抑止することは困難である。なお、蓋体と容器本体の構造を工夫して、保持溝と奥側溝部とによる基板の挟持力を高めることにより、基板の回転を抑制することは可能である。しかし、収納する基板の枚数が多いと、蓋体と容器本体との締め付け力が過度に増大してしまい、蓋体の開閉装置の負荷の増大および蓋体の変形といった問題が生じる恐れがある。このような理由から、蓋体と容器本体との締め付けを過度に増大させることなく、基板の回転をより確実に防止する要望が高まっている。
【０００６】
また、複数の基板が別個に回転してしまうと、基板の表面に電子回路を形成する際、基板の周縁部に切り欠かれた位置決め用のノッチを揃え直さなければならず、作業に時間を要するという問題もある。
【０００７】
本発明は、上記の課題に鑑みなされたもので、基板の外径がより大きくあるいはその厚さがより薄くなっても、基板を安全に保護し、基板の回転による磨耗粉の発生を抑制し、かつ基板を容易に整列できる基板収納容器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するための本発明の一形態は、基板を収納する少なくとも一方を開口した容器本体と、その容器本体の開口部を開閉自在に着脱可能な蓋体とを備える基板収納容器であって、容器本体には、対向する一対の内側壁にそれぞれ形成され基板を支持する支持部材と、開口部と対向する側に形成され奥側溝部を備えたストッパー壁面とを備え、支持部材によって基板を支持する仮想平面が形成され、蓋体には、開口部側の基板の周縁に接触するリテーナを備え、さらに、リテーナには、複数の基板に接触する弾性片と、弾性片に形成される保持溝とを備え、容器本体に蓋体を固定したときに、基板のそれぞれが保持溝と奥側溝部とによって保持され、その保持の状態にて仮想平面を形成し、保持溝および奥側溝部の少なくともいずれか一方が仮想平面に対して傾斜あるいは湾曲して形成されている基板収納容器である。
【０００９】
本発明の別の形態は、さらに、容器本体に蓋体を取り付けて固定したときに、基板が保持溝と奥側溝部とによって保持されかつ支持部材から離れるように、保持溝と奥側溝部と支持部材とを形成している基板収納容器である。
【００１０】
本発明の別の形態は、また、保持溝および奥側溝部の少なくとも一方の傾斜あるいは湾曲方向を、蓋体が取り除かれた状態の容器本体の支持部材に支持された基板の撓み方向と同じ方向とする基板収納容器である。
【００１１】
本発明の別の形態は、また、保持溝および奥側溝部の少なくとも一方の傾斜あるいは湾曲方向を、蓋体が取り除かれた状態の容器本体の支持部材に支持された基板の撓み方向と逆方向とする基板収納容器である。
【００１２】
本発明の別の形態は、また、保持溝と奥側溝部とはそれぞれ一対形成されていて、一対の保持溝および一対の奥側溝部の少なくともいずれか一方を、それらの傾斜あるいは湾曲方向が容器本体に収納される基板の中心を通り基板の挿入方向と平行な中心線に対して線対称になるように形成した基板収納容器である。
【００１３】
本発明の別の形態は、また、保持溝と奥側溝部とはそれぞれ一対形成されていて、一対の保持溝および一対の奥側溝部の少なくともいずれか一方を、それらの傾斜あるいは湾曲方向が容器本体に収納される基板の中心を通り基板の挿入方向と平行な中心線に対して非対称になるように形成した基板収納容器である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、基板の外径がより大きくあるいはその厚さがより薄くなっても、基板を安全に保護し、基板の回転による磨耗粉の発生を抑制し、かつ基板を容易に整列できる基板収納容器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】図１は、第一実施形態に係る基板収納容器の展開斜視図を示す。
【図２】図２は、図１の基板収納容器を組み立てた状態の主要斜視図を示す。
【図３】図３は、図２の基板収納容器を垂直方向（Ａ−Ａ線断面）にて切断した断面図を示す。
【図４】図４は、図２の基板収納容器を水平方向（Ｂ−Ｂ線断面）にて切断した断面図を示す。
【図５】図５は、図１の蓋体の裏面図を示す。
【図６】図６は、図３の容器本体の奥側溝部の部分拡大断面図を示す。
【図７】図７は、図５の蓋体に取り付けられるリテーナの拡大正面図を示す。
【図８】図８は、図４に示すリテーナの保持溝によって基板の蓋体側を保持する状況を示す。
【図９】図９は、図８の矢印方向に見たリテーナの保持溝および基板の仮想平面を示す。
【図１０】図１０は、図８の矢印方向に見て、基板が自重によって下方に撓んだ際にその基板が保持溝により保持される状況を示す。
【図１１】図１１は、第二実施形態に係る基板収納容器の弾性片であって図８の矢印方向と同方向に見たリテーナの保持溝と、基板の仮想平面とを示す。
【図１２】図１２は、第二実施形態における基板収納容器において、図８の矢印方向と同方向に見てその基板が保持溝により保持される状況を示す。
【図１３】図１３は、第三実施形態に係る基板収納容器の弾性片であって図８の矢印方向と同方向に見たリテーナの保持溝と、基板の仮想平面とを示す。
【図１４】図１４は、第三実施形態における基板収納容器において、図８の矢印方向と同方向に見てその基板が保持溝により保持される状況を示す。
【図１５】図１５は、第四実施形態に係る基板収納容器の蓋部から見た奥側溝部と、基板の仮想平面とを示す。
【図１６】図１６は、第五実施形態に係る基板収納容器の蓋部から見た奥側溝部と、基板の仮想平面とを示す。
【図１７】図１７は、第六実施形態に係る基板収納容器の蓋部から見た奥側溝部と、基板の仮想平面とを示す。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
次に、本発明の各実施形態について、図面を参照しながら説明する。
【００１７】
＜第一実施形態＞
図１は、第一実施形態に係る基板収納容器の展開斜視図を示す。図２は、図１の基板収納容器を組み立てた状態の主要斜視図を示す。図３は、図２の基板収納容器を垂直方向（Ａ−Ａ線断面）にて切断した断面図を示す。図４は、図２の基板収納容器を水平方向（Ｂ−Ｂ線断面）にて切断した断面図を示す。図５は、図１の蓋体の裏面図を示す。
【００１８】
第一実施形態に係る基板収納容器１は、基板Ｗを収納する少なくとも一方を開口した容器本体２と、その容器本体２の開口部５を開閉自在に着脱可能な蓋体３と、を備える。開口部５は、左側壁、右側壁、上面壁、下面壁からそれぞれ拡開するように突出形成されていて、その内周縁に蓋体３を収納可能な形態を有する。開口部５は、その内周縁において対向する上下縁に、蓋体３を係止するための複数の係止凹部６を各一対備える。容器本体２は、その外壁に、基板収納容器１を搬送するためのロボティックフランジ７、マニュアルハンドル８、サイドレール９といった搬送部品を備える。また、容器本体２は、その底面に、ボトムプレート１０を備える。ボトムプレート１０は、基板収納容器１の位置決めおよびセンシングなどに利用される。
【００１９】
容器本体２は、左右の内側壁のそれぞれに、基板Ｗを略水平に支持する支持部材１１を備える。容器本体２内の左右の内側壁は、それぞれの高さ方向に、支持部材１１を複数段備える。支持部材１１は、棚状に形成されていて、その開口部５側に、基板Ｗの開口方向への移動を規制するための段差１１ａを有する。また、支持部材１１は、開口部５と反対方向となる奥側に、基板Ｗの奥側への移動を規制するためのストッパー壁面１２を有する。ストッパー壁面１２は、縦断面Ｖ字形状に２つの傾斜面から形成される奥側溝部１２ａ，１２ｄを有する。このため、支持部材１１上に支持された基板Ｗは、奥側溝部１２ａの下側傾斜面１２ｂと、奥側溝部１２ｄの下側傾斜面１２ｅとにより、位置が規制される。したがって、蓋体３を容器本体２に取り付けた際に、基板Ｗは、後述するリテーナ４の保持溝１８ａ、１８ｂ（以後、総称して、「保持溝１８」とも称する）と、支持部材１１の奥側溝部１２ａ，１２ｄの最深部との間で保持される。支持部材１１の基板支持領域には、基板Ｗと支持部材１１との接触面積を低減するための突起を形成するのが好ましい。
【００２０】
図６は、図３の容器本体の奥側溝部の部分拡大断面図を示す。
【００２１】
左右一対の支持部材１１の内の一方の支持部材１１のストッパー壁面１２は、Ｖ字形状に形成される上側傾斜面１２ｃおよび下側傾斜面１２ｂを備える。同様に、左右一対の支持部材１１の内の他方の支持部材１１のストッパー壁面１２は、Ｖ字形状に形成される上側傾斜面１２ｆおよび下側傾斜面１２ｅを備える。ストッパー壁面１２は、後述する蓋体３のリテーナ４の保持溝１８とそれぞれ向き合うように配置されている。蓋体３を容器本体２に固定した際、支持部材１１に支持された基板Ｗの開口側先端は、保持溝１８の下側の傾斜面と接触して、徐々に奥側へと押される。この結果、基板Ｗとその奥側の奥側溝部１２ａ，１２ｄとの接触部は、下側傾斜面１２ｂ，１２ｅを上方へと移動する。このように、蓋体３を容器本体２に取り付けた際には、基板Ｗは、リテーナ４の保持溝１８ａ，１８ｂの最深部と、奥側溝部１２ａ，１２ｄの最深部との間で、支持部材１１から持ち上げられ、保持される。すなわち、容器本体２に蓋体３を取り付けて固定したときには、基板Ｗが保持溝１８ａ，１８ｂと奥側溝部１２ａ，１２ｄとによって保持され、かつ支持部材１１から離れるように、保持溝１８ａ，１８ｂと、奥側溝部１２ａ，１２ｄと、支持部材１１とが形成されている。容器本体２に蓋体３を取り付けて固定した際、上側傾斜面１２ｃ，１２ｆは、それらの最深部から上方への基板Ｗの移動を規制する。
【００２２】
蓋体３は、容器本体２と向き合う面（裏面）に、基板Ｗを保持するリテーナ４を備える。リテーナ４は、開口部５側に位置する基板Ｗの周縁に接触可能な構成部である。蓋体３は、その側壁または裏面に、シール形成用のガスケット１３を備える。また、蓋体３は、その内部に、一対の施錠機構１４を備える。施錠機構１４は、蓋体３に軸止されて、外部から回転操作可能な回転体１４ａと、これに連動して上下方向の直線運動を行うラッチバー１４ｂと、ラッチバー１４ｂの先端の係止爪１４ｃとを備える。係止爪１４ｃが蓋体３の側壁にある貫通穴１５から突出して容器本体２の係止凹部６に係止されることにより、蓋体３を容器本体２に固定することができる。
【００２３】
図７は、図５の蓋体に取り付けられるリテーナの拡大正面図を示す。
【００２４】
リテーナ４は、略矩形の枠体部１６と、枠体部１６から内側に突出する複数対の弾性片１７を備える。各弾性片１７は、基板Ｗを保持するための保持溝１８を有する。枠体部１６は、蓋体３に位置決めされて、蓋体３に設けられるリテーナ固定部と係合することにより、蓋体３に固定される。保持溝１８は、容器本体２の内部から蓋体３の裏面に向かって見たときに、断面Ｖ字状または断面Ｕ字状の溝であり、最深部若しくは最深部近傍にて基板Ｗを保持可能である。容器本体２から蓋体３を取り外すときには、基板Ｗは、その開口側端部がリテーナ４の保持溝１８ａ，１８ｂから引き離され、続いて、その奥側の接触端部が奥側溝部１２ａ，１２ｄの下側傾斜面１２ｃ，１２ｅから滑り落ちて、再び支持部材１１に当接して、支持部材１１上に支持される。
【００２５】
図８は、図４に示すリテーナの保持溝によって基板の蓋体側を保持する状況を示す。図９は、図８の矢印方向に見たリテーナの保持溝および基板の仮想平面を示す。
【００２６】
図７及び図９に示すように、リテーナ４の弾性片１７は、その先端に保持溝１８を備える。容器本体２に蓋体３を固定したときに、基板Ｗのそれぞれは、保持溝１８ａ，１８ｂと奥側溝部１２ａ，１２ｄとによって保持され、その保持の状態にて仮想平面Ｖを形成する。仮想平面Ｖは、水平面であっても水平から傾斜した傾斜面であっても良い。保持溝１８ａ，１８ｂは、仮想平面Ｖに対して傾斜するように形成されている。この実施形態では、保持溝１８は、互いに対向近接状態のリテーナ４の２本の弾性片１７間に向かって鋭角θにて下方傾斜する。なお、保持溝１８ａ，１８ｂは、直線状に下方傾斜する他、角度を徐々に変えながら湾曲していても良い。このため、保持溝１８ａ，１８ｂに挟まれた基板Ｗは、保持溝１８ａ，１８ｂから矢印Ｆの方向の力を受ける（図９を参照）。すなわち、基板Ｗの各保持溝１８ａ，１８ｂに挟まれた領域は、互いに上下反対方向から力Ｆを受けて挟持された状態になる。
【００２７】
図１０は、図８の矢印方向に見て、基板が自重によって下方に撓んだ際にその基板が保持溝により保持される状況を示す。
【００２８】
支持部材１１上に支持された基板Ｗは、自重によって、その中央部分を最下点とするように撓む。保持溝１８ａ，１８ｂの傾斜あるいは湾曲方向は、蓋体３が取り除かれた状態の容器本体２の支持部材１１に支持された基板Ｗの撓み方向と同じ方向である。ここで、「同じ方向」とは、傾斜角度あるいは湾曲の軌道が完全一致する場合に限定されず、右上がりか、右下がりかという２パターンに大別して同じパターンで有れば同じ方向であるというように広義に解釈される。以下の実施形態でも同様である。このように、保持溝１８ａ，１８ｂを基板Ｗの撓みを考慮した角度に傾斜あるいは湾曲させておくと、基板収納容器１がロボティックフランジ７を上にした状態において、基板Ｗは保持溝１８ａ，１８ｂの全域に亘って均一の力で保持でき、容器本体２に振動や衝撃が加わった際に、基板Ｗが回転するのをより効果的に防止できる。一方、基板収納容器１を運搬する際には、ロボティックフランジ７は垂直方向上方ではなく、横方向になる。この状態では、重力方向が基板Ｗの径方向になるため、基板Ｗは、その中央部分を最下点として撓むことはない。よって、運搬時には、基板Ｗは、保持溝１８ａ，１８ｂによって、図９中の矢印Ｆの力を受けて挟持されることになる。したがって、運搬時において、基板Ｗの回転をより効果的に防止できる。
【００２９】
なお、この実施形態では、保持溝１８ａ，１８ｂを仮想平面Ｖに対して傾斜させているが、奥側溝部１２ａ，１２ｄのみを、あるいは保持溝１８ａ，１８ｂと奥側溝部１２ａ，１２ｄの両方を、仮想平面Ｖに対して傾斜あるいは湾曲させても良い。すなわち、保持溝１８ａ，１８ｂと奥側溝部１２ａ，１２ｄとをそれぞれ一対形成し、当該一対の保持溝１８ａ，１８ｂおよび当該一対の奥側溝部１２ａ，１２ｄの少なくともいずれか一方を、それらの傾斜あるいは湾曲方向が容器本体２に収納される基板Ｗの中心を通り基板Ｗの挿入方向と平行な中心線に対して線対称になるように形成することができる。
【００３０】
＜第二実施形態＞
次に、基板収納容器の第二実施形態について説明する。第二実施形態において、第一実施形態と共通する部分については、同じ符号にて示すこととし、その説明を省略する。
【００３１】
図１１は、第二実施形態に係る基板収納容器の弾性片であって図８の矢印方向と同方向に見たリテーナの保持溝と、基板の仮想平面とを示す。図１２は、第二実施形態における基板収納容器において、図８の矢印方向と同方向に見てその基板が保持溝により保持される状況を示す。
【００３２】
図１１に示すように、リテーナ４の各段に存在する２本の弾性片１７は、基板Ｗの中央側に向かって仮想平面Ｖに対して鋭角θにて上方傾斜する保持溝１９ａ，１９ｂを備える。すなわち、保持溝１９ａ，１９ｂは、容器本体２の内部から蓋体３の裏面に向かって見たときに、逆Ｖ字形状を有する。なお、保持溝１９ａ，１９ｂは、直線状に上方傾斜する他、角度を徐々に変えながら湾曲していても良い。このため、図１２に示すように、保持溝１９ａ，１９ｂに挟まれた基板Ｗは、保持溝１９ａ，１９ｂから矢印Ｆの方向の力を受ける。すなわち、基板Ｗの各保持溝１９ａ，１９ｂに挟まれた領域は、互いに上下反対方向から力Ｆを受けて、挟持された状態になる。ここで、保持溝１９ａ，１９ｂは、容器本体２から蓋体３を取り除いて支持部材１１が基板Ｗを支持した状態の撓みが、中央側が高く、外側が低くなる場合に好適なものである。このように、保持溝１９ａ，１９ｂの傾斜方向は、蓋体３が取り除かれた状態の容器本体２の支持部材１１に支持された基板Ｗの撓み方向と同じ方向であり、基板Ｗの撓みと近似するように中央側が高く、外側が低くなるように傾斜（または湾曲）するように形成されている。したがって、基板Ｗがその中央部分を高くするように撓んでいる状態において、基板Ｗは保持溝１９ａ，１９ｂの全域に亘って均一の力で保持できるので、容器本体２に振動や衝撃が加わった時に基板Ｗが回転するのをより効果的に防止できる。
【００３３】
なお、変形例として、支持部材１１上に基板Ｗを支持した状態の撓みが、第一実施形態のように、中央側が低く、外側が高くなる場合には、保持溝１９ａ，１９ｂの傾斜方向は、その基板Ｗの撓み方向と逆方向となる。このような場合、基板Ｗは保持溝１９ａ，１９ｂによって部分的に挟持されるが、容器本体２に振動や衝撃が加わった時に基板Ｗが回転するのを効果的に防止できる。さらに、第一実施形態と同様、基板収納容器１を運搬する際には、ロボティックフランジ７は垂直方向上方ではなく、横方向になる。よって、運搬時には、基板Ｗは、保持溝１９ａ，１９ｂによって、図１１中の矢印Ｆの力を受けて挟持されることになる。したがって、運搬時において、基板Ｗの回転をより効果的に防止できる。
【００３４】
なお、この実施形態では、保持溝１９ａ，１９ｂを仮想平面Ｖに対して傾斜させているが、奥側溝部１２ａ，１２ｄのみを、あるいは保持溝１９ａ，１９ｂと奥側溝部１２ａ，１２ｄの両方を、仮想平面Ｖに対して傾斜あるいは湾曲させても良い。すなわち、保持溝１９ａ，１９ｂと奥側溝部１２ａ，１２ｄとをそれぞれ一対形成し、当該一対の保持溝１９ａ，１９ｂおよび当該一対の奥側溝部１２ａ，１２ｄの少なくともいずれか一方を、それらの傾斜あるいは湾曲方向が容器本体２に収納される基板Ｗの中心を通り基板Ｗの挿入方向と平行な中心線に対して線対称になるように形成することができる。
【００３５】
＜第三実施形態＞
次に、基板収納容器の第三実施形態について説明する。第三実施形態において、第一実施形態と共通する部分については、同じ符号にて示すこととし、その説明を省略する。
【００３６】
図１３は、第三実施形態に係る基板収納容器の弾性片であって図８の矢印方向と同方向に見たリテーナの保持溝と、基板の仮想平面とを示す。図１４は、第三実施形態における基板収納容器において、図８の矢印方向と同方向に見てその基板が保持溝により保持される状況を示す。
【００３７】
図１３に示すように、リテーナ４の各段に存在する弾性片１７は、互いに同じ方向に仮想平面Ｖに対して鋭角θにて傾斜する保持溝２０ａ，２０ｂを備える。具体的には、保持溝２０ａは、基板Ｗの中央側、すなわち、保持溝２０ａと保持溝２０ｂとの間に向かって下方傾斜する。一方、保持溝２０ｂは、基板Ｗの外縁に向かって下方傾斜する。すなわち、一対の保持溝２０ａ，２０ｂは、同じ方向に傾斜するように、基板Ｗの中心線に対して左右非対称形に設けられている。この場合、図１４に示すように、基板Ｗは、保持溝２０ａ，２０ｂの形状に沿う形で矯正されて保持される。基板Ｗは、保持溝２０ａ，２０ｂによる保持部分において、図１３中の矢印Ｆの力を受ける。基板Ｗが保持溝２０ａ，２０ｂにより矯正されて保持されることで、基板Ｗに撓みと逆方向に矯正される変曲点が生じて、撓みを抑制することができる。すなわち、一方の保持溝２０ａに保持される基板Ｗがある方向に撓もうとしても、他方の保持溝２０ｂが基板Ｗをその逆方向に持ち上げるように保持しているので、撓む力が相殺される。このため、基板Ｗを保持溝２０ａ，２０ｂ全域で保持でき、基板Ｗが回転するのを効果的に防止できる。この例では、左右一対の保持溝２０ａ，２０ｂの高さを同一とせずに高低差を設けておく方が、基板Ｗに過度のストレスを与えずに保持できる点で、より好ましい。
【００３８】
なお、この実施形態では、保持溝２０ａ，２０ｂを仮想平面Ｖに対して傾斜させているが、奥側溝部１２ａ，１２ｄのみを、あるいは保持溝２０ａ，２０ｂと奥側溝部１２ａ，１２ｄの両方を、仮想平面Ｖに対して傾斜あるいは湾曲させても良い。すなわち、保持溝２０ａ，２０ｂと奥側溝部１２ａ，１２ｄとをそれぞれ一対形成し、当該一対の保持溝２０ａ，２０ｂおよび当該一対の奥側溝部１２ａ，１２ｄの少なくともいずれか一方を、それらの傾斜あるいは湾曲方向が容器本体２に収納される基板Ｗの中心を通り基板Ｗの挿入方向と平行な中心線に対して非対称になるように形成することができる。
【００３９】
＜第四実施形態＞
次に、基板収納容器の第四実施形態について説明する。第四実施形態において、第一実施形態と共通する部分については、同じ符号にて示すこととし、その説明を省略する。
【００４０】
図１５は、第四実施形態に係る基板収納容器の蓋部から見た奥側溝部と、基板の仮想平面とを示す。
【００４１】
この実施形態では、奥側溝部２１ａ，２１ｄは、第一実施形態の保持溝１８ａ，１８ｂと同様に、基板Ｗの中央に向かって仮想平面Ｖに対して鋭角θにて下方傾斜または湾曲するように形成されている。すなわち、奥側溝部２１ａ，２１ｄは、容器本体２から蓋体３を取り除いて支持部材１１が基板Ｗを支持した状態の奥側の撓みが、中央側が低く、外側が高くなる場合に好適なものであって、基板Ｗの撓みと近似するように中央側が外側よりも低くなるように傾斜または湾曲するように形成されている。
【００４２】
このように、奥側溝部２１ａ，２１ｄを基板Ｗの撓みを考慮した角度に傾斜または湾曲させると、基板収納容器１がロボティックフランジ７を上にした状態において、基板Ｗは奥側溝部２１ａ，２１ｄの全域に亘って均一の力で保持でき、容器本体２に振動や衝撃が加わった時に基板Ｗが回転するのを効果的に防止できる。一方、基板収納容器１を運搬する際には、ロボティックフランジ７は垂直方向上方ではなく、横方向になる。この状態では、重力方向が基板Ｗの径方向になるため、基板Ｗは、その中央部分を最下点として撓むことはない。よって、運搬時には、基板Ｗは、奥側溝部２１ａ，２１ｄによって、図１５中の矢印Ｆの力を受けて挟持されることになる。したがって、運搬時において、基板Ｗの回転をより効果的に防止できる。
【００４３】
なお、この実施形態では、奥側溝部２１ａ，２１ｄを仮想平面Ｖに対して傾斜させているが、保持溝１８ａ，１８ｂ、保持溝１９ａ，１９ｂ若しくは保持溝２０ａ，２０ｂ（以後、「保持溝１８ａ，１８ｂ等」という）と奥側溝部２１ａ，２１ｄの両方を、仮想平面Ｖに対して傾斜あるいは湾曲させても良い。すなわち、保持溝１８ａ，１８ｂ等と奥側溝部２１ａ，２１ｄとをそれぞれ一対形成し、当該一対の保持溝１８ａ，１８ｂ等および当該一対の奥側溝部２１ａ，２１ｄの少なくともいずれか一方を、それらの傾斜あるいは湾曲方向が容器本体２に収納される基板Ｗの中心を通り基板Ｗの挿入方向と平行な中心線に対して線対称になるように形成することができる。
【００４４】
＜第五実施形態＞
次に、基板収納容器の第五実施形態について説明する。第五実施形態において、第一実施形態と共通する部分については、同じ符号にて示すこととし、その説明を省略する。
【００４５】
図１６は、第五実施形態に係る基板収納容器の蓋部から見た奥側溝部と、基板の仮想平面とを示す。
【００４６】
この実施形態では、奥側溝部２２ａ，２２ｄは、第四実施形態の奥側溝部２１ａ，２１ｄと反対側、すなわち、基板Ｗの中央に向かって仮想平面Ｖに対して鋭角θにて上方傾斜するように形成されている。すなわち、奥側溝部２２ａ，２２ｄは、容器本体２から蓋体３を取り除いて支持部材１１が基板Ｗを支持した状態の奥側の撓みが、中央側が高く、外側が低くなる場合に好適なものであって、基板Ｗの撓みと近似するように中央側が外側よりも高くなるように傾斜して形成されている。
【００４７】
このように、奥側溝部２２ａ，２２ｄを基板Ｗの撓みを考慮した角度に傾斜させると、基板収納容器１がロボティックフランジ７を上にした状態において、基板Ｗは奥側溝部２２ａ，２２ｄの全域に亘って均一の力で保持でき、容器本体２に振動や衝撃が加わった時に基板Ｗが回転するのを効果的に防止できる。一方、基板収納容器１を運搬する際には、ロボティックフランジ７は垂直方向上方ではなく、横方向になる。この状態では、重力方向が基板Ｗの径方向になる。よって、運搬時には、基板Ｗは、奥側溝部２２ａ，２２ｄによって、図１６中の矢印Ｆの力を受けて挟持されることになり、その結果、基板Ｗの回転を効果的に防止できる。
【００４８】
なお、この実施形態では、奥側溝部２２ａ，２２ｄを仮想平面Ｖに対して傾斜させているが、保持溝１８ａ，１８ｂ等と奥側溝部２２ａ，２２ｄの両方を、仮想平面Ｖに対して傾斜あるいは湾曲させても良い。すなわち、保持溝１８ａ，１８ｂ等と奥側溝部２２ａ，２２ｄとをそれぞれ一対形成し、当該一対の保持溝１８ａ，１８ｂ等および当該一対の奥側溝部２２ａ，２２ｄの少なくともいずれか一方を、それらの傾斜あるいは湾曲方向が容器本体２に収納される基板Ｗの中心を通り基板Ｗの挿入方向と平行な中心線に対して線対称になるように形成することができる。
【００４９】
＜第六実施形態＞
次に、基板収納容器の第六実施形態について説明する。第六実施形態において、第一実施形態と共通する部分については、同じ符号にて示すこととし、その説明を省略する。
【００５０】
図１７は、第六実施形態に係る基板収納容器の蓋部から見た奥側溝部と、基板の仮想平面とを示す。
【００５１】
図１７に示すように、奥側溝部２３ａ，２３ｄは、互いに同じ方向に仮想平面Ｖに対して鋭角θにて傾斜する。具体的には、奥側溝部２３ａは、基板Ｗの中央側、すなわち、奥側溝部２３ａと奥側溝部２３ｄとの間に向かって下方傾斜する。奥側溝部２３ｄは、基板Ｗの外縁に向かって下方傾斜する。すなわち、一対の奥側溝部２３ａ，２３ｄは、同じ方向に傾斜するように、基板Ｗの中心線に対して左右非対称形に設けられている。この場合、基板Ｗは、奥側溝部２３ａ，２３ｄの形状に沿う形で矯正されて保持される。基板Ｗは、奥側溝部２３ａ，２３ｄによる保持部分において、図１７中の矢印Ｆの力を受ける。基板Ｗが奥側溝部２３ａ，２３ｄにより矯正されて保持されることで、基板Ｗに撓みと逆方向に矯正される変曲点が生じて、撓みを抑制することができる。すなわち、一方の奥側溝部２３ａに保持される基板Ｗがある方向に撓もうとしても、他方の奥側溝部２３ｄが基板Ｗをその逆方向に持ち上げるように保持しているので、撓む力が相殺される。このため、基板Ｗを奥側溝部２３ａ，２３ｄ全域で保持でき、基板Ｗが回転するのを効果的に防止できる。この例では、左右一対の奥側溝部２３ａ，２３ｄの高さを同一とせずに高低差を設けておく方が、基板Ｗに過度のストレスを与えずに保持できる点で、より好ましい。
【００５２】
なお、この実施形態では、奥側溝部２３ａ，２３ｄを仮想平面Ｖに対して傾斜させているが、保持溝１８ａ，１８ｂ等と奥側溝部２３ａ，２３ｄの両方を、仮想平面Ｖに対して傾斜あるいは湾曲させても良い。すなわち、保持溝１８ａ，１８ｂ等と奥側溝部２３ａ，２３ｄとをそれぞれ一対形成し、当該一対の保持溝１８ａ，１８ｂ等および当該一対の奥側溝部２３ａ，２３ｄの少なくともいずれか一方を、それらの傾斜あるいは湾曲方向が容器本体２に収納される基板Ｗの中心を通り基板Ｗの挿入方向と平行な中心線に対して非対称になるように形成することができる。
【００５３】
＜その他の実施形態＞
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、上述の各実施形態に限定されず、以下のように種々変形して実施することができる。
【００５４】
上記第一実施形態では、奥側溝部１２ａ，１２ｄとリテーナ４の保持溝１８ａ，１８ｂの各最深部の高さが支持部材１１の上面の高さよりも上面に位置するようにし、これら１２ａ，１２ｄ，１８ａ，１８ｂの間で基板Ｗを支持部材１１から持ち上げる形態の基板収納容器１について説明したが、これに限らず、リテーナ４の保持溝１８ａ，１８ｂの各最深部のみが支持部材１１の上面の高さよりも上面に位置させ、基板Ｗの開口側５の端部のみを持ち上げて保持する構造を採用しても良い。また、リテーナ４の保持溝１８ａ，１８ｂおよび奥側溝部１２ａ，１２ｄの各最深部が支持部材１１の上面の高さ位置とほぼ等しくなるようにして、基板Ｗを支持部材１１上で支持する構造を採用しても良い。また、奥側溝部１２ａ，１２ｄは、容器本体２とは別部材として形成され、容器本体２に取り付けられ、あるいは一体化されても良い。これらの変形例は、第一実施形態以外の実施形態においても同様に採用可能である。
【００５５】
上述の各実施形態では、例示的なリテーナ４の構造を示しているが、枠体部１６から伸びる弾性片１７が、片持ち梁構造に限らず、弾性片１７の中央部で連結された両持ち梁構造を有するものでも良い。また、保持溝１８も、各段の弾性片１７に２個ずつ形成される場合に限定されず、各段の弾性片１７に１個のみあるいは合計３個以上形成されていても良い。同様に、ストッパー壁面１２の各段に２個の奥側溝部１２ａ，１２ｄ（以後、奥側溝部１２ａ等という）を備えている場合に限定されず、１個のみあるいは合計３個以上の奥側溝部１２ａ等を備えるようにしても良い。また、保持溝１８ａ，１８ｂ等の個数および奥側溝部１２ａ等の個数によらず、保持溝１８ａ，１８ｂ等および奥側溝部１２ａの内の少なくとも１つについて、仮想平面Ｖに対して溝を傾斜あるいは湾曲させるようにすれば良く、保持溝１８ａ，１８ｂ等および奥側溝部１２ａの全ての溝を傾斜あるいは湾曲させなくても良い。
【００５６】
また、上述の各実施形態の各構成部位は、互いに組み合わせられる範囲において、互いに組み合わせても良い。例えば、保持溝１８ａ，１８ｂと奥側溝部２２ａ，２２ｄとを組み合わせ、あるいは保持溝１８ａ，１８ｂと奥側溝部２３ａ，２３ｄとを組み合わせても良い。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明は、半導体ウェーハやガラス基板等の円形の基板を収納する基板収納容器に用いることができる。
【符号の説明】
【００５８】
１    基板収納容器
２    容器本体
３    蓋体
４    リテーナ
５    開口部
１１    支持部材
１２    ストッパー壁面
１２ａ，１２ｄ，２１ａ，２１ｄ，２２ａ，２２ｄ，２３ａ，２３ｄ    奥側溝部
１７    弾性片
１８（１８ａ，１８ｂ），１９ａ，１９ｂ，２０ａ，２０ｂ    保持溝
Ｗ    基板
Ｖ    仮想平面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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