(57)【要約】【課題】高屈折率かつ高透明で、アウトガスの発生が少ない高屈折率膜（高屈折率層）を提供することができる光学用組成物を提供すること。【解決手段】金属酸化物微粒子、バインダー樹脂、及び、溶媒を含む光学用組成物であって、基板上に塗布し、溶媒を除去することで得られた厚み１μｍの膜の含水量は、昇温脱離ガス分析装置を用いて、１．０×１０−８〜３．５×１０−７Ｐａの減圧度で、室温から毎分１０℃ずつ２００℃まで昇温し３０分保持することで測定した場合に、３．０×１０−７ｍｏｌ／ｃｍ２以下であることを特徴とする、光学用組成物。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属酸化物微粒子、バインダー樹脂、及び、溶媒を含む光学用組成物であって、
基板上に塗布し、溶媒を除去することで得られた厚み１μｍの膜の含水量は、昇温脱離ガス分析装置を用いて、１．０×１０−８〜３．５×１０−７Ｐａの減圧度で、室温から毎分１０℃ずつ２００℃まで昇温し３０分保持することで測定した場合に、３．０×１０−７ｍｏｌ／ｃｍ２以下であることを特徴とする、光学用組成物。
【請求項２】
平均１次粒子径が１５〜３００ｎｍである金属酸化物微粒子の分散体を用いて得られる、請求項１に記載の光学用組成物。
【請求項３】
前記金属酸化物微粒子は、酸化ジルコニウム微粒子、酸化チタン微粒子及びチタン酸バリウム微粒子からなる群より選択される少なくとも１種である、請求項１又は２に記載の光学用組成物。
【請求項４】
前記バインダー樹脂は、インデン、テトラリン、フルオレン、キサンテン、アントラセン及びベンズアントラセンからなる群より選択される少なくとも１種に由来する縮環構造を有する縮環構造含有樹脂である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学用組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学用組成物を用いて得られ、屈折率が１．６〜２．１であることを特徴とする薄膜又は成形体。
【請求項６】
請求項５に記載の薄膜又は成形体を備えた光学デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学用組成物、該光学用組成物を用いて得られた薄膜又は成形体、及び、該薄膜又は成形体を備えた光学デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、レンズ材料等の光学材料の分野では、高屈折性、透明性等に優れた光学材料の開発が進められており、例えば、特許文献１には、このような特性を有する光学材料として、粒子サイズ１〜１５ｎｍの無機微粒子（酸化ジルコニウム、酸化チタン、これらの混合物等）を１〜７０質量％含有し、１００ｐｐｍ以下の濃度で塩素元素を含有し、有機酸か無機酸の少なくとも一方を含有し、かつ、前記有機酸と前記無機酸の合計濃度が前記無機微粒子の固形分濃度に対して０．１５倍未満である無機微粒子分散液が提案されている。
【０００３】
一方、光学デバイスの１つである有機ＥＬ照明では、光取り出し率の向上を図るべく、金属酸化物からなる微粒子を用いた高屈折材料層を設けることが検討されている。
しかしながら、金属酸化物の微粒子は水分を吸着する性質を有しており、水分を吸着した微粒子を用いて高屈折材料層を形成した場合、微粒子に吸着していた水分が原因でアウトガスが発生し、有機ＥＬ素子の性能に悪影響を与えることが考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２９８６５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そのため、特許文献１に記載されたような無機微粒子分散液を用いて、有機ＥＬ照明に高屈折材料層を設けた場合、有機ＥＬ素子の性能に悪影響を与えることが懸念されたため、高屈折率かつ高透明で、アウトガスの発生が少ない高屈折率膜（高屈折率層）を提供することができる光学材料に対する要望が高まっていた。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、高屈折率かつ高透明で、アウトガスの発生が少ない高屈折率膜（高屈折率層）を提供することができる光学材料を提供するために鋭意検討を行い、光学用組成物において、特定の平均１次粒子径を有する金属酸化物微粒子の分散体を用いることによりその目的を達成することができることを見出し、本発明を完成した。
【０００７】
すなわち、本発明は、
［１］金属酸化物微粒子、バインダー樹脂、及び、溶媒を含む光学用組成物であって、
基板上に塗布し、溶媒を除去することで得られた厚み１μｍの膜の含水量は、昇温脱離ガス分析装置を用いて、１．０×１０−８〜３．５×１０−７Ｐａの減圧度で、室温から毎分１０℃ずつ２００℃まで昇温し３０分保持することで測定した場合に、３．０×１０−７ｍｏｌ／ｃｍ２以下であることを特徴とする、光学用組成物；
［２］平均１次粒子径が１５〜３００ｎｍである金属酸化物微粒子の分散体を用いて得られる、［１］の光学用組成物；
［３］上記金属酸化物微粒子は、酸化ジルコニウム微粒子、酸化チタン微粒子及びチタン酸バリウム微粒子からなる群より選択される少なくとも１種である、［１］又は［２］の光学用組成物；
［４］上記バインダー樹脂は、インデン、テトラリン、フルオレン、キサンテン、アントラセン及びベンズアントラセンからなる群より選択される少なくとも１種に由来する縮環構造を有する縮環構造含有樹脂である、［１］〜［３］のいずれかの光学用組成物；
［５］［１］〜［４］のいずれかの光学用組成物を用いて得られ、屈折率が１．６〜２．１であることを特徴とする薄膜又は成形体；並びに
［６］［５］の薄膜又は成形体を備えた光学デバイス
に関する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光学用組成物は、特定の平均１次粒子径を有する金属酸化物微粒子の分散体を用いて得られるものであるため、高屈折率かつ高透明で、水分由来のアウトガスの発生が少ない高屈折率膜を形成するのに適しており、そのため、光学部材や光学デバイスに好適に用いることができる。
また、本発明の薄膜又は成形体は、本発明の光学用組成物を用いて得られたため、高屈折率かつ高透明で、水分由来のアウトガスの発生が少ない高屈折率膜（高屈折率層）となる。
さらに、本発明の光学デバイスは、本発明の薄膜又は成形体を備えるため、光学特性や、水分の存在が悪影響を及ぼし得る有機ＥＬ素子等の用途での信頼性に優れる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
［１］光学用組成物
まず、本発明の光学用組成物について説明する。
本発明の光学用組成物は、金属酸化物微粒子、バインダー樹脂、及び、溶媒を含む光学用組成物であって、
基板上に塗布し、溶媒を除去することで得られた厚み１μｍの膜の含水量は、昇温脱離ガス分析装置を用いて、１．０×１０−８〜３．５×１０−７Ｐａの減圧度で、室温から毎分１０℃ずつ２００℃まで昇温し３０分保持することで測定した場合に、３．０×１０−７ｍｏｌ／ｃｍ２以下であることを特徴とする。
【００１０】
（金属酸化物微粒子、及び、金属酸化物微粒子の分散体）
上記金属酸化物微粒子は、酸化ジルコニウム微粒子（以下、ＺｒＯ２微粒子ともいう）、酸化チタン微粒子（以下、ＴｉＯ２微粒子ともいう）及びチタン酸バリウム微粒子（以下、ＢａＴｉＯ３微粒子ともいう）からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記金属酸化物微粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、楕円球状、直方体や長方体などの四方体状などの粉粒状、円柱状、円盤状、楕円盤状、鱗片状などの多角板状、針状等が挙げられる。これらの微粒子の平均１次粒子径は上記の通りであり、微粒子が球状ではない場合、平均１次粒子径は金属酸化物微粒子の外接球の粒子径とする。
【００１１】
本発明の光学用組成物は、平均１次粒子径が１５〜３００ｎｍである金属酸化物微粒子の分散体を用いて得られることが好ましい。金属酸化物微粒子の平均１次粒子径を上記範囲にすることにより、金属酸化物微粒子の表面積が小さくなる結果、水分の吸着を低減することができるため、膜を形成した際のアウトガスの発生を抑制することができるとともに、高屈折率で、かつ、高い透明性を有する膜を形成することができる。
一方、上記平均１次粒子径が１５ｎｍ未満では、水分の吸着を十分に低減することができず、また、上記平均１次粒子径が３００ｎｍを超えると、膜を形成した際にその透明性が大きく低下することがある。
上記金属酸化物微粒子の平均１次粒子径は、１５〜１００ｎｍがより好ましく、２０〜５０ｎｍがさらに好ましい。
【００１２】
上記金属酸化物微粒子の平均１次粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）や走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）により測定した観察像から統計処理により算出される値である。
ここで、統計処理による算出は、ＳＥＭ画像からランダムに選んだ１０００個の粒子について、直径を測定し、３ｎｍ区分のヒストグラムを作成したときの、下記数式（Ａ）を用いた算出により行ったものである。当該数式（Ａ）で得られた数平均１次粒子径Ｄｎｐを、本発明の平均１次粒子径とした。
Ｄｎｐ＝Σｎiｄi／Σｎi・・・（Ａ）
Ｄｎｐ： 数平均１次粒子径
ｄｉ：ヒストグラムのｉ番目の直径
ｎｉ：頻度
【００１３】
上記平均１次粒子径を有する金属酸化物微粒子の分散体は、平均１次粒子径が１５〜３００ｎｍの金属酸化物微粒子を分散媒に加え、ビーズミルといった当該分野で通常使用される手段により分散させることで製造することができる。
【００１４】
また、上記金属酸化物微粒子の分散に用いる分散媒としては、後述の溶媒と同じものを用いることができ、金属酸化物微粒子を分散し得る限り、その使用量は特に制限されるものではない。
【００１５】
また、上記金属酸化物微粒子は、表面処理されたものであっても良い。表面処理とは、カップリング剤等、微粒子表面に存在する水酸基と反応し得る化合物を結合させる処理を言う。表面処理は、金属酸化物微粒子を溶媒に分散させた後で、酸性条件下でカップリング剤を混合し、作用させることにより行うことが出来る。
表面処理剤としては、特に限定されないが、シランカップリング剤やチタンカップリング剤が挙げられ、例えば、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシシラン類；３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシシラン類；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ジメチルビニルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン等のビニルシラン類；Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミノシラン類；Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩等の第四級アンモニウム塩類；ｐ−スチリルトリメトキシシラン；フェニルトリメトキシシラン；イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルジアクリルイソステアロイルチタネート等のチタネート類；等が挙げられる。これらの表面処理剤は、単独で使用しても良く、２種以上を併用しても良い。これらの表面処理剤の中では、反応性官能基を有し、縮環構造含有樹脂と共に硬化し、薄膜や成形体中に金属酸化物微粒子を固定化できることから、エポキシシラン類や（メタ）アクリロキシシラン類が好ましい。
【００１６】
金属酸化物微粒子の含有量は、特に限定されないが、本発明の光学用組成物中３０〜９０重量％であることが好ましく、５０〜８０重量％であることがより好ましい。
金属酸化物微粒子の含有量が３０重量％未満であると、高屈折な膜を成膜することができず、また、９０重量％を超えると、成膜時に粒子が凝集し、成膜が困難となることがある上、光学デバイスとした際にアウトガス量が増えることがある。
【００１７】
（バインダー樹脂）
上記バインダー樹脂は、特に限定されないが、インデン、テトラリン、フルオレン、キサンテン、アントラセン及びベンズアントラセンからなる群より選択される少なくとも１種に由来する縮環構造を有する縮環構造含有樹脂であることが好ましく、例えば、エポキシエステル樹脂（Ｅ）、多価カルボン酸樹脂（Ｇ）等を用いることができる。
エポキシエステル樹脂（Ｅ）は、下記一般式（１）で表されるエポキシ樹脂（Ａ）と単塩基性カルボン酸（Ｂ）とを反応させることにより、又は、下記一般式（１０） で表されるアルコール化合物（Ｃ）とグリシジルエステル化合物（Ｄ）とを反応させることにより、得ることができる。エポキシエステル樹脂（Ｅ）としては、分散性や耐熱性に優れることから、キサンテン又はフルオレンに由来する縮環構造を有するものが好ましい。
【００１８】
【化１】
2015189596.tif 000002
【００１９】
一般式（１）中、Ｙ１〜４は、各々独立して下記一般式（２）又は下記一般式（３）で表される基であり、ｐ１〜４は、各々独立して０から４の整数である。
【００２０】
【化２】
2015189596.tif 000003
【００２１】
一般式（２）中、Ｙ５〜６は、各々独立して一般式（２）又は下記一般式（３）で表される基であり、ｐ５〜６は、各々独立して０から４の整数である。一般式（１）においてＹ１〜４が一般式（２）で表される基であり、かつ、一般式（２）においてＹ５〜６が一般式（２）で表される基である場合、一般式（１）におけるＹ１〜４は、一般式（２）で表される基を構成単位とするオリゴマーを形成している。
【００２２】
【化３】
2015189596.tif 000004
【００２３】
一般式（１）、（２）中、Ｚは、下記式（４）〜（９）に示すような、インデン、テトラリン、フルオレン、キサンテン、アントラセン、及び、ベンズアントラセンからなる群から選択される少なくとも１種に由来する縮環構造を含む二価基であり、Ｒ１〜６は、各々独立して、炭素数１から１０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基若しくはアルケニル基、炭素数１から５のアルコキシ基、置換基を有していてもよいフェニル基、又は、ハロゲン原子であり、ｑ１〜６は、各々独立して０から４の整数であり、ｓ１〜２は、各々独立して０から１０の整数である。また、一般式（１）〜（３）中、Ｒ７〜１４は、各々独立して水素原子又はメチル基であり、ｍ１〜８は、各々独立して０から１０の整数である。ここで、複数個のＲ１〜１４、Ｙ１〜６は同一でも良いし、異なっていても良い。また、一般式（１）は、構造式が左右対称であっても、非対称であっても良い。
【００２４】
【化４】
2015189596.tif 000005
【００２５】
【化５】
2015189596.tif 000006
【００２６】
【化６】
2015189596.tif 000007
【００２７】
【化７】
2015189596.tif 000008
【００２８】
【化８】
2015189596.tif 000009
【００２９】
【化９】
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【００３０】
【化１０】
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【００３１】
一般式（１０）中、Ｚは前記と同じであり、Ｒ１５〜１６は、各々独立して炭素数１から１０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基若しくはアルケニル基、炭素数１から５のアルコキシ基、置換基を有していてもよいフェニル基、又は、ハロゲン原子であり、ｆ１〜２は、各々独立して０から４の整数であり、Ｒ１７〜１８は、各々独立して水素原子又はメチル基であり、ｍ９〜１０は、各々独立して０から１０の整数であり、ｒ１〜２は、各々独立して１から５までの整数である。ここで、複数個のＲ１５〜１８は同一でも良いし、異なっていても良い。また、一般式（１０）は、構造式が左右対称であっても、非対称であっても良い。
【００３２】
単塩基性カルボン酸（Ｂ）としては、カルボキシル基を１つ有する化合物であれば特に限定されず、例えば、（メタ）アクリル酸、シクロプロパンカルボン酸、２，２，３，３−テトラメチル−１−シクロプロパンカルボン酸、シクロペンタンカルボン酸、２−シクロペンテニルカルボン酸、２−フランカルボン酸、２−テトラヒドロフランカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、４−プロピルシクロヘキサンカルボン酸、４−ブチルシクロヘキサンカルボン酸、４−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸、４−ヘキシルシクロヘキサンカルボン酸、４−へプチルシクロヘキサンカルボン酸、４−シアノシクロヘキサン−１−カルボン酸、４−ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸、１，３，４，５−テトラヒドロキシシクロヘキサン−１−カルボン酸、２−（１，２−ジヒドロキシ−４−メチルシクロヘキシル）プロピオン酸、シキミ酸、３−ヒドロキシ−３，３−ジフェニルプロピオン酸、３−（２−オキソシクロヘキシル）プロピオン酸、３−シクロヘキセン−１−カルボン酸、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸水素アルキル、シクロヘプタンカルボン酸、ノルボルネンカルボン酸、テトラシクロドデセンカルボン酸、１−アダマンタンカルボン酸、（４−トリシクロ［５．２．１．０２．６］デカ−４−イル）酢酸、ｐ−メチル安息香酸、ｐ−エチル安息香酸、ｐ−オクチル安息香酸、ｐ−デシル安息香酸、ｐ−ドデシル安息香酸、ｐ−メトキシ安息香酸、ｐ−エトキシ安息香酸、ｐ−プロポキシ安息香酸、ｐ−ブトキシ安息香酸、ｐ−ペンチルオキシ安息香酸、ｐ−ヘキシルオキシ安息香酸、ｐ−フルオロ安息香酸、ｐ−クロロ安息香酸、ｐ−クロロメチル安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、ペンタクロロ安息香酸、４−アセトキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸、ｏ−ベンゾイル安息香酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｏ−（アセトキシベンゾイルオキシ）安息香酸、テレフタル酸モノメチルエステル、イソフタル酸モノメチルエステル、イソフタル酸モノシクロヘキシルエステル、フェノキシ酢酸、クロロフェノキシ酢酸、フェニルチオ酢酸、フェニル酢酸、２−オキソ−３−フェニルプロピオン酸、ｏ−ブロモフェニル酢酸、ｏ−ヨードフェニル酢酸、メトキシフェニル酢酸、６−フェニルヘキサン酸、ビフェニルカルボン酸、α−ナフトエ酸、β−ナフトエ酸、アントラセンカルボン酸、フェナントレンカルボン酸、アントラキノン−２−カルボン酸、インダンカルボン酸、１，４−ジオキソ−１，４−ジヒドロナフタレン−２−カルボン酸、３，３−ジフェニルプロピオン酸、ニコチン酸、イソニコチン酸、ケイ皮酸、３−メトキシケイ皮酸、４−メトキシケイ皮酸、キノリンカルボン酸等が挙げられる。これらは単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。特に好適な単塩基性カルボン酸（Ｂ）としては、放射線重合性官能基を導入できる不飽和基を含有するものが良く、例えば、（メタ）アクリル酸が好ましい。ここで、放射線重合性官能基とは、各種の放射線により重合反応を起こす性質を有する官能基をいう。「放射線」とは、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線、分子線、γ線、シンクロトロン放射線、プロトンビーム線などを包含する。
【００３３】
グリシジルエステル化合物（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸グリシジル、酢酸グリシジル、酪酸グリシジル、安息香酸グリシジル、ｐ−エチル安息香酸グリシジル、（テレ）フタル酸グリシジル等が挙げられる。これらは単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。これらの中では、単塩基性カルボン酸グリシジルが特に好適であり、中でも放射線重合性官能基を導入できる不飽和基を含有するものが良く、例えば、（メタ）アクリル酸グリシジルが好ましい。
【００３４】
一般式（１）で表されるエポキシ樹脂（Ａ）と単塩基性カルボン酸（Ｂ）との反応、及び、一般式（１０）で表されるアルコール化合物（Ｃ）とグリシジルエステル化合物（Ｄ）との反応は、いずれも必要に応じて適切な溶媒を用いて、５０〜１２０℃の温度範囲において５〜３０時間行なわれる。溶媒としては、例えば、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキシブチル−１−アセテート等のアルキレンモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のアルキレンモノアルキルエーテル類；メチルエチルケトン、メチルアミルケトン等のケトン類；コハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、マロン酸ジエチル、シュウ酸ジブチル等のエステル類等が挙げられる。これらの中では、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及び３−メトキシブチル−１−アセテートが好ましい。さらに、必要に応じて触媒及び重合禁止剤を用いることが出来る。触媒としては、例えば、ホスホニウム塩類、第４級アンモニウム塩類、ホスフィン化合物類、第３級アミン化合物類、イミダゾール化合物類等が挙げられ、その配合量は、特に限定されないが、反応物全体の０．０１〜１０重量％であることが好ましい。また、重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、４−メチルキノリン、フェノチアジン、２，６−ジイソブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール等が挙げられ、その配合量は、通常、反応物全体の５重量％以下である。
【００３５】
多価カルボン酸樹脂（Ｇ）は、エポキシエステル樹脂（Ｅ）と、多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）とを反応させることにより、得ることができる。
【００３６】
多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）としては、ジカルボン酸、テトラカルボン酸等の複数のカルボキシル基を有するカルボン酸又はその無水物であれば特に限定されず、例えば、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、グルタル酸等のジカルボン酸又はその無水物；トリメリット酸又はその無水物；ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸等のテトラカルボン酸又はその二無水物等が挙げられる。
【００３７】
多価カルボン酸樹脂（Ｇ）としては、例えば、下記一般式（１１）又は下記一般式（１２）で表される樹脂が挙げられる。
【００３８】
【化１１】
2015189596.tif 000012
【００３９】
【化１２】
2015189596.tif 000013
【００４０】
一般式（１１）、（１２）中、Ｚは、インデン、テトラリン、フルオレン、キサンテン、アントラセン、及び、ベンズアントラセンからなる群から選択される少なくとも1種に由来する縮環構造を含む二価基であり、Ａ１、Ａ３はテトラカルボン酸二無水物の残基、Ａ２、Ａ４はジカルボン酸無水物の残基である。また、ｕ、ｕ２は平均値であり、０から１３０である。
【００４１】
一般式（１１）、（１２）において、Ｚは、キサンテン又はフルオレンに由来する縮環構造を含む二価基であることが好ましい。多価カルボン酸樹脂（Ｇ）の屈折率が高く、金属酸化物微粒子との屈折率差を小さくできる点で有利なためである。
【００４２】
多価カルボン酸樹脂（Ｇ）は、エポキシエステル樹脂（Ｅ）と多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）とを反応させることにより得られる。この反応において、得られる樹脂の耐熱性や耐熱黄変性を向上させるために多価アルコール類を共存させることも出来る。
【００４３】
多価アルコール類としては、特に限定されないが、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，６−ノナンジオール、１，９−ノナンジオール等の脂肪族ジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールＡ等の脂環式ジオール、ビスフェノールＡのエチレンオキシド、プロピレンオキシド付加体等の芳香族ジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ジペンタエリスリトール等の三価以上のアルコール等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００４４】
この反応において、エポキシエステル樹脂（Ｅ）、多価アルコール類、及び、多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）の添加順序は特に問わない。例えば、これらを同時に混合して反応させても良いし、エポキシエステル樹脂（Ｅ）と多価アルコールとを混合し、次いで、多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）を添加、混合しても良い。また、これらの反応生成物にさらに多塩基性カルボン酸を添加し、反応させてもよい。
【００４５】
多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）の種類を適宜選択することによって、構造の異なる種々の縮環構造を有する多価カルボン酸樹脂（Ｇ−ａ）や、多価アルコールを反応させた多価カルボン酸樹脂（Ｇ−ｂ）を製造することができる。具体的には、例えば、以下の（Ｇ−ａ−ｉ）〜（Ｇ−ａ−ｉｉｉ）、（Ｇ−ｂ−ｉ）〜（Ｇ−ｂ−ｉｉｉ）に示す第１〜第６の多価カルボン酸樹脂が調製されるが、これらは例示である。
【００４６】
（Ｇ−ａ−ｉ）第１の多価カルボン酸樹脂：エポキシエステル樹脂（Ｅ）と、１種類の多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）とを混合し、反応させて得られる樹脂；（Ｇ−ａ−ｉｉ）第２の多価カルボン酸樹脂：エポキシエステル樹脂（Ｅ）と、２種類以上の多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）の混合物（例えば、ジカルボン酸無水物及びテトラカルボン酸二無水物の混合物）とを混合し、反応させて得られる樹脂；及び、（Ｇ−ａ−ｉｉｉ）第３の多価カルボン酸樹脂：エポキシエステル樹脂（Ｅ）と、テトラカルボン酸又はその二無水物とを反応させ、得られた反応生成物に、さらにジカルボン酸又はその無水物を反応させて得られる樹脂。
【００４７】
（Ｇ−ｂ−ｉ）第４の多価カルボン酸樹脂：エポキシエステル樹脂（Ｅ）と、多価アルコールと、１種類の多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）とを混合し、反応させて得られる樹脂；（Ｇ−ｂ−ｉｉ）第５の多価カルボン酸樹脂：エポキシエステル樹脂（Ｅ）と、多価アルコールと、２種類以上の多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）の混合物（例えば、ジカルボン酸無水物及びテトラカルボン酸二無水物の混合物）とを混合し、反応させて得られる樹脂；及び、（Ｇ−ｂ−ｉｉｉ）第６の多価カルボン酸樹脂：エポキシエステル樹脂（Ｅ）と、多価アルコールと、テトラカルボン酸又はその二無水物とを反応させ、得られた反応生成物に、さらにジカルボン酸又はその無水物を反応させて得られる樹脂。
【００４８】
このようにして得られる、構造の異なる種々の縮環構造を有する多価カルボン酸樹脂（Ｇ−ａ）又は（Ｇ−ｂ）は、それぞれ、目的の用途に応じて利用される。
【００４９】
なお、「多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）」とは、「特定の多塩基性カルボン酸及びそれに対応する無水物のうちの少なくとも一方」という意味であり、例えば、多塩基性カルボン酸がフタル酸であれば、フタル酸及びフタル酸無水物のうちの少なくとも一方を指していう。また、「２種類以上の多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）の混合物」とは、少なくとも２種類の多塩基性カルボン酸又はその無水物が同時に存在することをいう。従って、（Ｇ−ａ−ｉｉ）及び（Ｇ−ｂ−ｉｉ）の方法においては、少なくとも２種類の多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）が反応に関与する。
【００５０】
多価カルボン酸樹脂（Ｇ）は、上記いずれの方法においても、エポキシエステル樹脂（Ｅ）、多価アルコール、多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）を、上記例示の方法（順序）で溶媒に溶解（懸濁）し、加熱して反応させることにより製造される。溶媒としては、例えば、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルキレングリコールモノアルキルエーテル類と酢酸とのエステル系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒等が挙げられる。また、必要に応じて触媒を添加することが出来る。触媒としては、例えば、ホスホニウム塩類、第４級アンモニウム塩類、ホスフィン化合物類、第３級アミン化合物類、イミダゾール化合物類が挙げられ、その配合量は、特に限定されないが、反応物全体の０．０１〜１０重量％であることが好ましい。
【００５１】
上記反応の反応温度は、特に限定されないが、５０〜１３０℃であることが好ましく、７０〜１２０℃であることがより好ましい。反応温度が５０℃未満では反応がスムーズに進行せず、未反応の多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）が残存することがある。一方、１３０℃を超えると、カルボキシル基と水酸基の縮合が一部起こり、急激に分子量が増大することがある。
【００５２】
多価カルボン酸樹脂（Ｇ）の製造において、多価アルコールを使用する場合、エポキシエステル樹脂（Ｅ）の水酸基と多価アルコールの水酸基とのモル比（エポキシエステル樹脂（Ｅ）の水酸基／多価アルコールの水酸基）は、特に限定されないが、９９／１〜５０／５０であることが好ましく、９５／５〜６０／４０であることがより好ましい。多価アルコールの水酸基のモル比が５０を超えると、多価カルボン酸樹脂（Ｇ）の分子量が急激に増大し、ゲル化の恐れがある。また、モル比が１未満では、耐熱性や耐熱変色性を向上させにくい傾向がある。
【００５３】
多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）の配合量は、特に限定されないが、エポキシエステル樹脂（Ｅ）の水酸基（多価アルコールを使用する場合は、多価アルコールの水酸基との合計）１当量（モル）に対して、酸無水物基換算で０．１〜１当量であることが好ましく、０．４〜１当量であることがより好ましい。配合量が０．１当量未満では、多価カルボン酸樹脂（Ｇ）の分子量が充分高くならず、多価カルボン酸樹脂（Ｇ）を含む光学用組成物の硬化物の耐熱性が不充分となったり、現像後も光学用組成物が基板上に残存する場合がある。一方、配合量が１当量を超える場合には、未反応の多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）が残存し、多価カルボン酸樹脂（Ｇ）の分子量が低くなり、多価カルボン酸樹脂（Ｇ）を含む光学用組成物の現像性が劣る場合がある。なお、酸無水物基換算とは、使用する多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）に含まれるカルボキシル基及び酸無水物基を全て酸無水物基に換算したときの量を示す。
【００５４】
第２、第３、第５、第６の多価カルボン酸樹脂（Ｇ）の製造に際しては、２種類以上の多塩基性カルボン酸又はその無水物（Ｆ）を用いる。一般的には、ジカルボン酸無水物とテトラカルボン酸二無水物とが用いられる。ジカルボン酸無水物とテトラカルボン酸二無水物との割合（ジカルボン酸無水物／テトラカルボン酸二無水物）は、モル比で１／９９〜９０／１０であることが好ましく、５／９５〜８０／２０であることがより好ましい。ジカルボン酸無水物の割合が１未満では、樹脂粘度が高くなり、作業性が低下するおそれがある。また、多価カルボン酸樹脂（Ｇ）の分子量が大きくなりすぎるため、多価カルボン酸樹脂（Ｇ）を含む光学用組成物を用いて基板上に塗膜を形成し、露光を行った場合に、露光部が現像液に溶解しにくくなり、目的のパターンが得られにくくなる傾向にある。一方、ジカルボン酸無水物の割合が９０を超えると、多価カルボン酸樹脂（Ｇ）の分子量が小さくなりすぎるため、多価カルボン酸樹脂（Ｇ）を含む光学用組成物を用いて基板上に塗膜を形成した際に、プリベーク後の塗膜にスティッキングが残るなどの問題が生じやすくなる。
【００５５】
本発明の光学用組成物において、多価カルボン酸樹脂（Ｇ）は、放射線重合性官能基を含有することが好ましく、具体的には、（メタ）アクリロイル基などの不飽和基を含有することが好ましい。多価カルボン酸樹脂（Ｇ）が放射線重合性官能基を含有する樹脂である場合、本発明の光学用組成物は光硬化性を有するため、感光性複合樹脂組成物（Ｈ）として利用することが出来る。ここで、感光性とは、各種の放射線により化学反応を起す性質を言い、このような放射線としては、波長の長いものから順に、可視光線、紫外線、電子線、Ｘ線、α線、β線、およびγ線が挙げられる。これらの中で、経済性および効率性の点から、実用的には、紫外線が最も好ましい放射線である。紫外線としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、アーク灯、キセノンランプなどのランプから発振される紫外光を好適に使用することができる。紫外線よりも波長の短い放射線は、化学反応性が高く、理論的には紫外線より優れているが、経済性の観点から紫外線が実用的である。
【００５６】
バインダー樹脂の含有量は、特に限定されないが、本発明の光学用組成物中、上記金属酸化物微粒子１００重量部に対して１０〜１００重量部であることが好ましく、１５〜５０重量部であることがより好ましい。
バインダー樹脂の含有量が１０重量部未満であると、成膜時に微粒子が凝集し、膜にクラックが入ることがあり、また、１００重量部を超えると、屈折率が十分に高くならないことがある。
【００５７】
なお、本発明の光学用組成物は、バインダー樹脂として上述のものを使用するが、硬化物とした際、これらのバインダー樹脂は比較的高い屈折率を示すため、上記バインダー樹脂を使用することで、上記金属酸化物微粒子の使用量を減らせる結果、アウトガス量の発生を低減できる利点がある。
また、本発明の光学用組成物において、上記バインダー樹脂は上記金属酸化物微粒子の分散剤としても作用するため、後述の分散剤を使用しないか、又は使用したとしてもその使用量を減らすことができるため、光学デバイスとした際の屈折率の低下等の不都合を回避することができる利点がある。
【００５８】
（溶媒）
上記溶媒としては、特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキシブチル−１−アセテート等のアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、コハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、マロン酸ジエチル、シュウ酸ジブチル等のエステル類等が挙げられる。これらの中では、エチレングリコールエーテル類、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ケトン類及びエステル類が好ましく、３−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート及びメチルアミルケトンがより好ましく使用される。これらの溶媒は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５９】
溶媒の含有量は、特に限定されないが、本発明の光学用組成物中に５〜９５重量％であることが好ましく、３０〜９０重量％であることがより好ましい。
溶媒の含有量が５重量％未満であると、分散状態の維持が難しくなることがあり、また、９５重量％を超えると、厚膜化が難しくなることがある。
【００６０】
本発明の光学用組成物は、金属酸化物微粒子、バインダー樹脂及び溶媒以外に、必要に応じて、分散剤、硬化剤等の任意成分を含有していてもよい。
【００６１】
（分散剤）
分散剤としては、特に限定されず、例えば、ポリアクリル酸系分散剤、ポリカルボン酸系分散剤、リン酸系分散剤、シリコン系分散剤等が挙げられる。これらの分散剤は、単独で使用しても良く、２種以上を併用しても良い。
本発明の光学用組成物が分散剤を含有する場合、その含有量は、金属酸化物微粒子１００重量部に対して、１０重量部以下が好ましく、５重量部以下がより好ましい。
【００６２】
（硬化剤）
硬化剤としては、特に限定されず、例えば、α−アミノアルキルフェノン系の光重合開始剤等が挙げられる。これらの硬化剤は、単独で使用しても良く、２種以上を併用しても良い。
本発明の光学用組成物が硬化剤を含有する場合、その含有量は、バインダー樹脂１００重量部に対して、０．１〜２０重量部が好ましく、１〜１０重量部がより好ましい。
【００６３】
本発明の光学用組成物は、基板上に塗布し、溶媒を除去することで得られた厚み１μｍの膜の含水量が、昇温脱離ガス分析装置を用いて、１．０×１０−８〜３．５×１０−７Ｐａの減圧度で、室温から毎分１０℃ずつ２００℃まで昇温し３０分保持することで測定した場合に、３．０×１０−７ｍｏｌ／ｃｍ２以下である。
含水量が３．０×１０−７ｍｏｌ／ｃｍ２以下であることにより、水分の存在が原因となるアウトガスの発生が低いレベルに留まるため、このアウトガスの発生が性能低下を引き起こすことが懸念される光学部材や光学デバイスに好適に用いることができる。
なお、本明細書において、「溶媒を除去する」とは、基材に光学用組成物を塗布後、１分間〜１時間、８０〜２００℃の加熱処理を行うことをいう。
上記光学用組成物の製膜後の含水量は、用いる金属酸化物微粒子の平均１次粒子径、組成等を適宜選択することにより、制御することができる。
【００６４】
本発明の光学用組成物を用いて得られた薄膜又は成形体の屈折率は、特に限定されないが、１．６〜２．１であることが好ましい。上記薄膜又は成形体の屈折率は、本発明の光学用組成物が含有する金属酸化物微粒子の平均１次粒子径、バインダー樹脂の配合量等を適宜選択することにより、制御することができる。
【００６５】
上記光学用組成物の製造方法は特に限定されず、各成分を同時に添加し混合してもよいし、溶媒に他の成分を添加し混合する操作を逐次行ってもよい。また、例えば、金属酸化物微粒子として、２種以上の金属酸化物微粒子を含有する場合は、各金属酸化物微粒子の分散体を同時に又は別々に溶媒に分散させてもよい。
【００６６】
［２］薄膜、成形体及び光学デバイス
上記光学用組成物は、アウトガスの発生の少ない高屈折率材料とすることができるため、光学部材、薄膜や成形体の形で、光学デバイスに極めて好適に用いることができる。
特に、本発明の光学用組成物は、アウトガスの発生により性能が低下するおそれがあり、また、高屈折率や高透明性が要求される光学デバイスに好適に使用される。
このような光学デバイスの具体例としては、例えば、有機ＥＬ照明、有機ＥＬディスプレイ、タッチパネル、液晶ディスプレイ、ＣＭＯＳイメージセンサー等が挙げられる。
【００６７】
以下、光学デバイスが有機ＥＬ照明である場合を例に本発明の光学デバイスについてさらに説明する。
有機ＥＬ照明は、有機ＥＬ素子層とその上に積層された透明電極層及びガラス層とを備えている。そして、有機ＥＬ素子層及び透明電極層の屈折率（１．９〜２．０）とガラス層の屈折率（約１．５）とが大きく異なることに起因して光取り出し効率が低くなる。
そのため、本発明の光学デバイスに係る有機ＥＬ照明では、上記透明電極層と上記ガラス層との間に高屈折率膜が配設されており、この高屈折率膜が本発明の光学用組成物を用いて形成されている。そのため、上記有機ＥＬ照明は光取り出し効率に優れている。
また、有機ＥＬ素子は水分により性能低下の悪影響を受けるが上記高屈折率膜はアウトガスの発生が少ないため、上記不都合を回避することができる。
なお、上記有機ＥＬ照明において、高屈折率膜の屈折率は、有機ＥＬ素子層及び透明電極層の屈折率に近いことが好ましい。
なお、上記光学デバイスは、有機ＥＬ照明に限定されるわけではなく、高屈折率膜を備えた光学デバイスであればよい。
【００６８】
上記光学デバイスにおける、上記高屈折率膜は、下記の方法により形成することができる。
すなわち、本発明の光学用組成物を従来公知の種々の方法にて塗布し、その後、組成に応じた加熱処理（乾燥又は硬化処理）や電離放射線の照射を行うことにより形成することができる。
【実施例】
【００６９】
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００７０】
１．使用原料
１−１．金属酸化物微粒子
酸化ジルコニウム（第一稀元素化学工業株式会社製、ＵＥＰ−１００、平均１次粒子径１０ｎｍ）
酸化ジルコニウム（第一稀元素化学工業株式会社製、ＵＥＰ−５０、平均１次粒子径２０ｎｍ）
酸化ジルコニウム（第一稀元素化学工業株式会社製、ＵＥＰ、平均１次粒子径４０ｎｍ）
酸化チタン（昭和電工株式会社製、スーパータイタニア  Ｆ−６、平均１次粒子径１５ｎｍ）
【００７１】
１−２．溶媒
シクロヘキサノン（シノペック社製）
プロピレングリコールモノメチルエーテル（日本乳化剤株式会社製、ＰＧＭＥ）
【００７２】
１−３．分散剤
高分子型分散剤（ビッグケミー・ジャパン株式会社製、ＢＹＫ−１１８、有効成分１００％）
【００７３】
１−４．硬化剤
２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７）
【００７４】
２．縮環構造含有樹脂（バインダー樹脂）の合成
（製造例１）縮環構造含有樹脂Ａの合成
３００ｍｌ四つ口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル（大阪ガスケミカル株式会社製：オグソールＰＧ）１１５ｇ（エポキシ当量２７０ｇ／ｅｑ）、触媒としてトリエチルベンジルアンモニウムクロライド６００ｍｇ、重合禁止剤として２，６−ジイソブチルフェノール３０ｍｇ、及びアクリル酸３６ｇを仕込み、これに１０ｍＬ／分の速度で空気を吹き込みながら９０〜１００℃で加熱溶解した。次に、これを徐々に１２０℃まで昇温させた。溶液は透明粘稠となったがそのまま攪拌を継続した。この間、酸価を測定し、１．０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満になるまで加熱攪拌を続け、淡黄色透明で固体状の縮環構造含有エポキシエステル樹脂を得た。酸価が目標に達するまで１５時間を要した。この縮環構造含有エポキシエステル樹脂に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（日本乳化剤社株式会製、ＰＧＭＥＡ）６５ｇを加えて溶解した後、無水ピロメリット酸（ＰＭＤＡ）１５ｇ、テトラヒドロ無水フタル酸（ＴＨＰＡ）７．６ｇ及び臭化テトラエチルアンモニウム０．１ｇを混合し、これを徐々に昇温して１１０〜１１５℃で１４時間反応させた。このようにして、縮環構造含有樹脂ＡのＰＧＭＥＡ溶液を得た。酸無水物の消失はＩＲスペクトルにより確認した。また、この縮環構造含有樹脂Ａは、上記多価カルボン酸樹脂（Ｇ−ａ−ｉｉ）に相当する。
【００７５】
３．光学用組成物
（実施例１〜４、比較例１）
表１に示す配合量で溶媒、縮環構造含有樹脂（バインダー樹脂）、分散剤を混合し、その後、金属酸化物微粒子を添加し、メディア型分散機（ビーズミル）を用いて混合し、金属酸化物微粒子を分散させ、さらに硬化剤を混合することにより光学用組成物を得た。得られた光学用組成物を用いて、後述する方法により分散後の平均粒子径、及び、塗膜の含水量を算出した。結果を表１に示す。なお、表１において、溶媒、分散剤及びバインダー樹脂の配合量は、金属酸化物微粒子１００重量部に対する重量部を示し、硬化剤の配合量は、バインダー樹脂１００重量部に対する重量部を示す。
【００７６】
４．薄膜の形成方法
各実施例及び比較例で得られた光学用組成物を、スピンナーを用いてガラス基板上に塗布した後、９０℃のホットプレート上で２分間プリベークして、厚み約１μｍの塗膜を形成した。塗膜表面に、窒素雰囲気下で、２５０Ｗの高圧水銀ランプを用いて、波長４０５ｎｍにて光強度９．５ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を露光量１０００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射し、塗膜を硬化させて薄膜を得た。得られた薄膜について、後述する方法により全光線透過率、ヘイズ値、屈折率を評価した。結果を表１に示す。
【００７７】
５．評価方法
５−１．分散後の平均粒子径
各実施例及び比較例で得られた光学用組成物について、Ｍａｌｖｅｒｎ社製ゼータサイザーナノＺＳを用いて、動的光散乱法にて測定した散乱強度分布に基づきＺ−平均粒子径を算出した。
【００７８】
５−２．全光線透過率
スガ試験機株式会社製ヘーズメーターＨＺ−２を用いて測定した。
【００７９】
５−３．ヘイズ値
スガ試験機株式会社製ヘーズメーターＨＺ−２を用いて測定した。
【００８０】
５−４．屈折率
光干渉式膜質測定機を用いて、波長６３３ｎｍにおける屈折率を測定した。
【００８１】
５−５．含水量
各実施例及び比較例で得られた光学用組成物を、スピンナーを用いてシリコン基板上に塗布した後、９０℃のホットプレート上で２分間プリベークして、厚み約１μｍの塗膜を形成した。塗膜表面に、窒素雰囲気下で、２５０Ｗの高圧水銀ランプを用いて、波長４０５ｎｍにて光強度９．５ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を露光量１０００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射し、塗膜を硬化させて薄膜を得た。
次に、昇温脱離ガス分析装置（電子科学株式会社製、ＥＭＤ−ＷＡ１０００Ｓ／ｗ）内に、作製した塗膜を基板ごと投入し、装置内を減圧度１．０×１０−８〜３．５×１０−７Ｐａとした。
その後、装置内を室温から毎分１０℃ずつ２００℃まで昇温した後に３０分保持し、塗膜から蒸発した水分量を測定した。
結果を表１に示した。
【００８２】
【表１】
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【００８３】
表１に示したように、本発明の光学用組成物によれば、高屈折率かつ高透明で、アウトガスの発生の少ない高屈折率膜を提供することができることが明らかとなった。