(57)【要約】【課題】架橋シリコーンゴムを含む絶縁層を有する絶縁電線において、耐熱性に優れる絶縁電線を提供すること。【解決手段】導体の周囲が架橋シリコーンゴムおよびシリカを含有する絶縁層で被覆され、前記シリカの含有量が、Ｓｉ換算で、前記架橋シリコーンゴムおよびシリカの合計に対し４０モル％以下であり、前記架橋シリコーンゴムが、オルガノ基としてフェニル基を有するシロキサン単位を含有し、その含有量が０．５モル％以上である絶縁電線とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導体の周囲が架橋シリコーンゴムおよびシリカを含有する絶縁層で被覆され、
前記シリカの含有量が、Ｓｉ換算で、前記架橋シリコーンゴムおよびシリカの合計に対し４０モル％以下であり、
前記架橋シリコーンゴムが、オルガノ基としてフェニル基を有するシロキサン単位を含有し、その含有量が０．５モル％以上であることを特徴とする絶縁電線。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は絶縁電線に関し、さらに詳しくは、自動車等の車両に好適に用いられる絶縁電線に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
自動車等の車両に使用される絶縁電線の絶縁材料には、塩化ビニル樹脂やハロゲン系難燃剤を配合したコンパウンドなどのハロゲンを含むものが用いられている。ハロゲンを含む絶縁材料は、焼却廃棄した場合に腐食性ガスを発生することがある。そこで、環境保護などの観点から、ハロゲンを含まない絶縁材料を用いる試みがある。
【０００３】
例えば特許文献１には、絶縁電線の絶縁材料として、架橋シリコーンゴムに水酸化アルミニウムを配合したノンハロゲン系の絶縁材料を用いることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３５５５１０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、従来の架橋シリコーンゴムを含む絶縁層を有する絶縁電線は、耐熱性が十分ではなかった。
【０００６】
本発明の解決しようとする課題は、架橋シリコーンゴムを含む絶縁層を有する絶縁電線において、耐熱性に優れる絶縁電線を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため本発明に係る絶縁電線は、導体の周囲が架橋シリコーンゴムおよびシリカを含有する絶縁層で被覆され、前記シリカの含有量が、Ｓｉ換算で、前記架橋シリコーンゴムおよびシリカの合計に対し４０モル％以下であり、前記架橋シリコーンゴムが、オルガノ基としてフェニル基を有するシロキサン単位を含有し、その含有量が０．５モル％以上であることを要旨とするものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係る絶縁電線によれば、絶縁層に含まれるシリカの含有量が、Ｓｉ換算で、架橋シリコーンゴムおよびシリカの合計に対し４０モル％以下であり、架橋シリコーンゴムが、オルガノ基としてフェニル基を有するシロキサン単位を含有し、その含有量が０．５モル％以上であることにより、耐熱性に優れる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
次に、本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００１０】
本発明に係る絶縁電線は、導体とこの導体の周囲を被覆する絶縁層とを有している。絶縁層は、架橋シリコーンゴムおよびシリカを含有している。
【００１１】
シリカを配合することで、架橋シリコーンゴムを含有する絶縁層の耐熱性を向上することができる。しかし、シリカの含有量が多すぎると、架橋シリコーンゴムを含有する組成物が硬くなりすぎる。そうすると、ハンドリング性が悪くなり、絶縁層を形成しにくくなる。また、絶縁層が硬くなると絶縁層の初期の伸びが低下する。初期の伸びが低下すると、熱履歴を受けた後の伸びが絶縁層に求められる伸びを満足しにくい。つまり、耐熱性が低下する。このため、シリカの含有量は、Ｓｉ換算で、架橋シリコーンゴムおよびシリカの合計に対し４０モル％以下とする。
【００１２】
一方、架橋シリコーンゴムを含有する絶縁層の耐熱性を向上するなどの観点から、シリカの含有量は、Ｓｉ換算で、架橋シリコーンゴムおよびシリカの合計に対し３モル％以上であることが好ましい。より好ましくは５モル％以上である。
【００１３】
架橋シリコーンゴムおよびシリカの合計に対するシリカの含有量および架橋シリコーンゴムの含有量は、固体ＮＭＲを用いて分析することができる。
【００１４】
架橋シリコーンゴムは、シロキサン鎖構造を持つものからなる。シロキサン鎖構造を持つシリコーンゴムは、ケイ素に塩素と有機基が結合したオルガノクロロシランを加水分解して得られるオルガノシラノールを脱水縮合（縮重合）することにより得られる。クロロ基が２つのオルガノジクロロシランのみからは鎖状シリコーンゴムが得られ、鎖状シリコーンゴムを過酸化物架橋、硫黄架橋、ヒドロシリル架橋などの方法で架橋することにより、架橋シリコーンゴム（空間網状シリコーンゴム）が得られる。クロロ基が３つのオルガノトリクロロシランを一部または全部に含むオルガノクロロシランからは上記の架橋を行わなくとも架橋シリコーンゴムが得られる。架橋シリコーンゴムは、絶縁電線の絶縁層として成形可能であればいずれの方法で得られるものでもよいが、押出成形しやすい観点から、架橋シリコーンゴムは鎖状シリコーンゴムを架橋することにより得られるものであることが好ましい。
【００１５】
鎖状シリコーンゴムは、一のケイ素に２つの側鎖（有機基）を持つシロキサン単位からなる。過酸化物による架橋は、炭化水素の脱水素によるラジカル化で進行することから、この場合、鎖状シリコーンゴムは、側鎖に炭化水素基を持つシロキサン単位を有していればよい。炭化水素基としては、アルキル基、フェニル基などが挙げられる。一方、硫黄架橋やヒドロシリル架橋では、側鎖にアルケニル基を持つシロキサン単位を有する必要がある。アルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基などが挙げられる。鎖状シリコーンゴムは、いずれの架橋方法を行うものでもよいが、側鎖にアルケニル基を持つシロキサン単位を導入する必要がないなどの観点から、過酸化物架橋を行うものであることが好ましい。
【００１６】
鎖状シリコーンゴムは、一のケイ素に結合する２つの側鎖（有機基）がともにアルキル基であるジアルキルシロキサン単位をベース単位とすることが好ましい。ベース単位とは５０モル％以上であることをいう。この場合、ベース単位は同じジアルキルシロキサン単位のみで構成されていてもよいし、異なるジアルキルシロキサン単位を含んでいてもよい。好ましくは前者である。ジアルキルシロキサン単位は、下記の式（１）により示すことができる。
【００１７】
【化１】
2015115153.tif 000002
【００１８】
式（１）において、Ｒ１およびＲ２はアルキル基である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。Ｒ１およびＲ２は、同じアルキル基であってもよいし、異なるアルキル基であってもよい。Ｒ１およびＲ２は、好ましくは同じアルキル基である。Ｒ１およびＲ２は、より好ましくはメチル基である。
【００１９】
鎖状シリコーンゴムは、ジアルキルシロキサン単位の他に、オルガノ基としてフェニル基を有するシロキサン単位を含有する。これにより、耐熱性を向上することができる。フェニル基を有するシロキサン単位としては、シロキサン単位中に１つのフェニル基を有するシロキサン単位（モノフェニルシロキサン単位）や、シロキサン単位中に２つのフェニル基を有するシロキサン単位（ジフェニルシロキサン単位）が挙げられる。鎖状シリコーンゴムは、これらのいずれか一方のみを有していてもよいし、これらの両方を有していてもよい。ジフェニルシロキサン単位は、耐熱性の向上により貢献する。モノフェニルシロキサン単位は、架橋速度の向上に貢献する。
【００２０】
鎖状シリコーンゴムにおいて、モノフェニルシロキサン単位は、同じモノフェニルシロキサン単位のみで構成されていてもよいし、異なるモノフェニルシロキサン単位を含んでいてもよい。好ましくは前者である。モノフェニルシロキサン単位は、下記の式（２）により示すことができる。式（２）において、Ｒ３はアルキル基もしくはアルケニル基である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。アルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基などが挙げられる。式（２）において、Ｒ３はアルキル基が好ましい。また、アルキル基としては、メチル基が好ましい。
【００２１】
【化２】
2015115153.tif 000003
【００２２】
ジフェニルシロキサン単位は、下記の式（３）により示すことができる。
【化３】
2015115153.tif 000004
【００２３】
フェニル基を有するシロキサン単位の含有量は、耐熱性の向上の観点から、０．５モル％以上である。フェニル基を有するシロキサン単位の含有量が０．５モル％未満では、絶縁電線に求められる耐熱性を満足できない。フェニル基を有するシロキサン単位の含有量は、耐熱性向上の効果に特に優れるなどの観点から、５モル％以上であることが好ましい。より好ましくは７モル％以上、さらに好ましくは１０モル％以上である。
【００２４】
一方、フェニル基を有するシロキサン単位の含有量の上限は、特に規定されるものではないが、立体障害による縮重合の遅延、過酸化物架橋の遅延などの観点から、５０モル％以下であることが好ましい。より好ましくは４０モル％以下、さらに好ましくは３０モル％以下である。なお、過酸化物架橋の遅延は、過酸化物架橋剤の配合量を多くすることで改善することは可能である。
【００２５】
鎖状シリコーンゴムは、ジアルキルシロキサン単位およびフェニル基を有するシロキサン単位のみで構成されていてもよいし、これらのシロキサン単位以外の他のシロキサン単位を含有していてもよい。好ましくは前者である。他のシロキサン単位としては、アルケニル基を持つシロキサン単位（ただし、アルケニル基およびフェニル基を持つシロキサン単位を除く）などが挙げられる。鎖状シリコーンゴムにおいて、上記アルケニル基を持つシロキサン単位は、同じアルケニル基を持つシロキサン単位のみで構成されていてもよいし、異なるアルケニル基を持つシロキサン単位を含んでいてもよい。好ましくは前者である。このようなシロキサン単位は、下記の式（４）により示すことができる。
【００２６】
【化４】
2015115153.tif 000005
【００２７】
式（４）において、Ｒ４はアルキル基またはアルケニル基であり、Ｒ５はアルケニル基である。Ｒ４は好ましくはアルキル基である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。好ましくはメチル基である。アルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基などが挙げられる。Ｒ４がアルケニル基である場合、Ｒ４およびＲ５は、同じアルケニル基であってもよいし、異なるアルケニル基であってもよい。
【００２８】
シロキサン単位がアルキル基を有するものであるか、フェニル基を有するものであるか、アルケニル基を有するものであるかなど、シロキサン単位の種類を同定し定量する方法としては、固体ＮＭＲを用いる方法がある。また、シリコーンゴムの原料となるオルガノクロロシランの配合割合からも求められる。
【００２９】
鎖状シリコーンゴムの架橋に用いることができる架橋剤としては、過酸化物架橋剤、ヒドロシリル架橋剤などが挙げられる。
【００３０】
過酸化物架橋剤としては、ジへキシルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサンなどのジアルキルパーオキサイド、ｎ−ブチル４，４−ジ（ｔ―ブチルパーオキサイド）バレレートなどのパーオキシケタールなどが挙げられる。
【００３１】
過酸化物架橋剤としては、具体的には、日油製のパーヘキシルＤ、パークミルＤ、パーヘキサＶ、パーブチルＤ、パーブチルＣ、パーヘキサ２５Ｂなどが挙げられる。
【００３２】
ヒドロシリル架橋剤としては、ヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキサンなどが挙げられる。ヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキサンは、１分子中に少なくとも２個のヒドロシリル基を有することが好ましい。ヒドロシリル架橋には、白金系触媒などのヒドロシリル化触媒を組み合わせて用いることができる。
【００３３】
架橋剤の配合量は、適宜決定することができる。架橋剤の配合量は、未架橋のシリコーンゴムおよびシリカの合計１００質量部に対し、０．０１〜１０質量部の範囲内とすることが好ましい。より好ましくは０．１〜１０質量部の範囲内、さらに好ましくは０．５〜７質量部の範囲内である。
【００３４】
未架橋のシリコーンゴムは、架橋剤を混練した後、加熱架橋させることで弾性体となるミラブル型（加熱架橋型）、或いは架橋前は液状である液状ゴム型のいずれを用いてもよい。液状ゴム型シリコーンゴムは、室温付近で架橋が可能な室温架橋型（ＲＴＶ）と、混合後１００℃付近で加熱すると架橋する低温架橋型（ＬＴＶ）がある。
【００３５】
未架橋のシリコーンゴムとしては、ミラブル型シリコーンゴムが好ましい。ミラブル型シリコーンゴムは、架橋温度が１８０℃以上と比較的高温であり安定性が良いので、混練の際の混合がし易く、作業性に優れるという利点がある。これに対し、液状ゴム型シリコーンゴムは、架橋温度が通常１２０℃程度と低温であるため、安定性が低く混練の際の発熱を低く抑制する必要があり、温度管理などの面から作業性にやや劣る。ミラブル型シリコーンゴムは、直鎖状のオルガノポリシロキサンを主原料（生ゴム）として、補強剤、充填剤（増量剤）、分散促進剤、その他添加剤などを配合したゴムコンパウンドとして市販されているものを用いてもよい。
【００３６】
本発明においては、絶縁層が、炭酸カルシウム粉末、酸化マグネシウム粉末、水酸化マグネシウム粉末の少なくとも１種以上を含有していてもよい。この場合、耐摩耗性を向上することができる。これらの粉末は、架橋シリコーンゴムを含む絶縁層の強度向上に効果がある。絶縁層の強度を向上させることにより、耐摩耗性を向上させることができる。つまり、架橋シリコーンゴムよりも削れにくいこれらの粉末を配合することにより、絶縁層の強度が向上し、耐摩耗性が高められる。このとき、絶縁層の摩耗は、これらの粉末が絶縁層から脱落することによって起こると推察される。
【００３７】
また、これらの粉末は、架橋シリコーンゴムを含む絶縁層の耐ガソリン性の向上に効果がある。シリコーンゴムはガソリンに接触すると膨潤しやすく、耐ガソリン性に劣るが、これらの粉末を用いることで、耐ガソリン性を向上することができる。これは、これらの粉末によりシリコーンゴム中にガソリンが浸透するのを抑え、ガソリンによるシリコーンゴムの膨潤が抑えられるためと推察される。
【００３８】
これらの粉末の含有量は、耐寒性の低下を抑える、耐熱性の低下を抑えるなどの観点から、架橋シリコーンゴム１００質量部に対し２０質量部以下であることが好ましい。より好ましくは１５質量部以下、さらに好ましくは１０質量部以下である。一方、耐摩耗性および耐ガソリン性を向上することができるなどの観点から、架橋シリコーンゴム１００質量部に対し０．１質量部以上であることが好ましい。より好ましくは０．２質量部以上、さらに好ましくは０．５質量部以上である。
【００３９】
炭酸カルシウム粉末、酸化マグネシウム粉末、あるいは水酸化マグネシウム粉末の平均粒径は、ハンドリング性の向上およびシリコーンゴムへの混合の際の時間短縮などの観点から、０．０１μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは０．０５μｍ以上である。また、耐寒性、耐摩耗性、耐ガソリン性を良好にしやすいなどの観点から、これらの粉末の平均粒径は、５．０μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは４．０μｍ以下である。平均粒径が小さいと、絶縁層が表面平滑性に優れ、摩擦力を受けたときに脱落しにくく、これによって耐摩耗性が向上する。また、平均粒径が小さいと、分散性が高まり、これによって耐摩耗性および耐寒性が向上する。なお、平均粒径は、レーザー光回折法などによる粒度分布測定装置を用いて累積重量平均値Ｄ５０（またはメジアン径）として求めることができる。
【００４０】
炭酸カルシウム粉末、酸化マグネシウム粉末、水酸化マグネシウム粉末は、凝集を抑える、シリコーンゴムとの親和性を高めるなどの観点から、表面処理されていてもよい。表面処理剤としては、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセンなどのα−オレフィンの単独重合体、もしくは相互共重合体、或いはそれらの混合物、脂肪酸、ロジン酸、シランカップリング剤などが挙げられる。
【００４１】
上記表面処理剤は、変性されていてもよい。変性剤としては、不飽和カルボン酸やその誘導体を用いることができる。具体的には不飽和カルボン酸としては、マレイン酸、フマル酸などが挙げられる。不飽和カルボン酸の誘導体としては、無水マレイン酸（ＭＡＨ）、マレイン酸モノエステル、マレイン酸ジエステルなどが挙げられる。このうちで好ましいのは、マレイン酸、無水マレイン酸などである。なお、これらの表面処理剤の変性剤は１種単独で使用しても、２種以上を併用してもいずれでもよい。
【００４２】
表面処理剤に酸を導入する方法としては、グラフト法や直接法などが挙げられる。また酸変性量としては、表面処理剤の０．１〜２０質量％、好ましくは０．２〜１０質量％、さらに好ましくは０．２〜５質量％である。
【００４３】
表面処理剤による表面処理方法としては、特に限定されるものではない。例えば、上記粉末に表面処理してもよいし、上記粉末の合成時に同時に処理してもよい。また処理方法としては、溶媒を用いた湿式処理でもよいし、溶媒を用いない乾式処理でもよい。湿式処理の際、好適な溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒などを用いることができる。また、絶縁層の組成物を調製する際に、表面処理剤を他のゴム原料などの材料と同時に混練してもよい。
【００４４】
炭酸カルシウム粉末には、化学反応によって作られる合成炭酸カルシウムと、石灰石を粉砕して作られる重質炭酸カルシウムとがある。合成炭酸カルシウムは、脂肪酸やロジン酸やシランカップリング剤などの表面処理剤で表面処理を行うことによりサブミクロン以下（数十ｎｍ程度）の一次粒子径の微粒子として用いることができる。表面処理された微粒子の平均粒径は一次粒子径で表される。一次粒子径は、電子顕微鏡観察により測定することができる。重質炭酸カルシウムは粉砕品であり、特段、脂肪酸などで表面処理を行わなくてもよく、数百ｎｍ〜１μｍ程度の平均粒径の粒子として用いることができる。炭酸カルシウム粉末としては、合成炭酸カルシウムおよび重質炭酸カルシウムのいずれを用いることもできる。
【００４５】
炭酸カルシウム粉末としては、具体的には、例えば、白石カルシウム社製の白艶華ＣＣ（平均粒径＝０．０５μｍ）、白艶華ＣＣＲ（平均粒径＝０．０８μｍ）、白艶華ＤＤ（平均粒径＝０．０５μｍ）、Ｖｉｇｏｔ１０（平均粒径＝０．１０μｍ）、Ｖｉｇｏｔ１５（平均粒径＝０．１５μｍ）、白艶華Ｕ（平均粒径＝０．０４μｍ）などが挙げられる。
【００４６】
酸化マグネシウムとしては、具体的には、例えば、宇部マテリアルズ社製のＵＣ９５Ｓ（平均粒径＝３．１μｍ）、ＵＣ９５Ｍ（平均粒径＝３．０μｍ）、ＵＣ９５Ｈ（平均粒径＝３．３μｍ）などが挙げられる。
【００４７】
水酸化マグネシウムは、海水から結晶成長法で合成するもの、塩化マグネシウムと水酸化カルシウムの反応で合成するものなどの合成水酸化マグネシウム、或いは天然に産出する鉱物を粉砕した天然水酸化マグネシウムなどを用いることができる。上記フィラーとしての水酸化マグネシウムとしては、具体的には、例えば、宇部マテリアルズ社製のＵＤ−６５０−１（平均粒径＝３．５μｍ）、ＵＤ６５３（平均粒径＝３．５μｍ）などが挙げられる。
【００４８】
絶縁層には、絶縁層の特性を損なわない範囲で、各種の添加剤を含有していても良いし、含有していなくてもよい。このような添加剤としては、絶縁電線の絶縁層に用いられる一般的な添加剤を挙げることができる。具体的には、難燃剤、充填剤、酸化防止剤、老化防止剤、顔料などを挙げることができる。
【００４９】
本発明に係る絶縁電線は、導体の周囲に絶縁層を押出成形することにより製造することができる。この場合、未架橋のシリコーンゴムを含む絶縁層用のゴム組成物を調製し、所定の温度にてこれを押出成形する。成形時の温度・時間により、未架橋のシリコーンゴムは架橋される。その後、シリコーンゴムの架橋を完了させるために、二次加硫（二次架橋）を行ってもよい。二次加硫は、例えばオーブンによる加熱で行われる。二次加硫は、シリコーンゴムの架橋を完了させる目的の他、シリコーンゴムに熱履歴を与えてシリコーンゴムの特性を熱安定化させる、過酸化物架橋の場合における残渣を除去するなどの目的で行われる。
【００５０】
本発明に係る絶縁電線は、また、導体の周囲に絶縁層用のゴム組成物を塗工して被覆層を形成し、加熱などの架橋手段により被覆層の未架橋ゴムを架橋することによっても製造することができる。
【００５１】
絶縁層用のゴム組成物は、未架橋のシリコーンゴムと、シリカと、必要に応じて配合される炭酸カルシウム粉末、酸化マグネシウム粉末、水酸化マグネシウム粉末、架橋剤などとを混練することにより調製することができる。ゴム組成物の成分を混練する際には、例えば、バンバリーミキサー、加圧ニーダー、混練押出機、二軸混練押出機、ロールなどの通常の混練機を用いることができる。
【００５２】
絶縁層用のゴム組成物の押出成形には、通常の絶縁電線の製造に用いられる電線押出成形機などを用いることができる。導体は、通常の絶縁電線に使用されるものを利用できる。例えば、銅系材料やアルミニウム系材料よりなる単線の導体や撚線の導体を挙げることができる。また、導体の径や絶縁層の厚みなどは特に限定されず、絶縁電線の用途などに応じて適宜決めることができる。
【００５３】
以上、本発明の実施の形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。例えば、上記態様の絶縁電線は、単一層の絶縁層から構成したが、本発明の絶縁電線は、２層以上の絶縁層から構成してもよい。
【００５４】
本発明に係る絶縁電線は、自動車、電子・電気機器に使用される絶縁電線に利用することができる。
【実施例】
【００５５】
以下、本発明の実施例、比較例を示す。
【００５６】
＜シリコーンゴムの合成＞
ケイ石を炭素で還元して、金属シリコンを得た。得られた金属シリコンに塩化メチルを反応させて、ジクロロジメチルシランを得た。また、得られた金属シリコンにクロロベンゼンを反応させて、ジクロロジフェニルシランを得た。また、得られた金属シリコンにクロロベンゼンおよび塩化メチルを反応させて、ジクロロメチルフェニルシランを得た。
ジクロロジメチルシランに対し所定量のジクロロメチルフェニルシランを混合しこれを縮重合させることにより、フェニルシラン基含有シリコーンゴムを得た。
また、ジクロロジメチルシランに対し所定量のジクロロジフェニルシランを混合しこれを縮重合させることにより、ジフェニルシラン基含有シリコーンゴムを得た。
また、ジクロロジメチルシランに対し所定量のジクロロメチルフェニルシランおよびジクロロジフェニルシランを混合しこれを縮重合させることにより、フェニルシラン基およびジフェニルシラン基含有シリコーンゴムを得た。
【００５７】
＜シリコーンゴム組成物の調製＞
得られたシリコーンゴムに対し、所定量のシリカ（東ソーシリカ社製「ニプシールＨＤ２」平均粒径３μｍ）、所定量の架橋剤（日本油脂社製「パーへキシルＤ」（ジ−ｔ−へキシルパーオキサイド））、所定量のフィラー（白石カルシウム社製、炭酸カルシウム粉末「Ｖｉｇｏｔ１５」（平均粒径＝０．１５μｍ）、実施例９のみ）を混合することにより、絶縁層用のシリコーンゴム組成物を調製した。
【００５８】
＜絶縁電線の作製＞
押出成形機を用いて、軟銅線を７本撚り合わせた軟銅撚線の導体（断面積０．５ｍｍ２）の外周に絶縁層用のシリコーンゴム組成物を０．２ｍｍ厚で押出被覆した（１８０℃×５分）。次いで、２００℃×４時間の条件で被覆層の熱処理を行うことにより、被覆層のシリコーンゴムの架橋を完了させた。これにより、実施例１〜９、比較例１〜６の絶縁電線を得た。
【００５９】
実施例１〜９、比較例１〜６の絶縁電線について、耐寒性試験、耐摩耗性試験、耐熱性試験を行い、評価した。その結果を表１及び表２に合わせて示す。試験方法及び評価は、下記の通りである。なお、表１及び表２において、シリコーンゴム組成物中のシリコーンゴム１〜１３およびシリカの含有量は、Ｓｉ換算で、モル％で表されている。また、架橋剤およびフィラーの含有量は、シリコーンゴムおよびシリカの合計１００質量部に対する質量部で表されている。
【００６０】
〔耐寒性試験方法〕
ＪＩＳ  Ｃ３００５に準拠して行った。すなわち作製した絶縁電線を３８ｍｍの長さに切断し試験片とした。この試験片を耐寒性試験機に装着し、所定の温度まで冷却し、打撃具で打撃して、試験片の打撃後の状態を観察した。５本の試験片を用いて、５本の試験片が全て割れた温度を耐寒温度とした。
【００６１】
〔耐摩耗性試験方法〕
社団法人自動車技術規格「ＪＡＳＯ  Ｄ６１８」に準拠して、ブレード往復法により試験を行った。すなわち、実施例、比較例の絶縁電線を７５０ｍｍの長さに切り出して試験片とした。そして、２３±５℃の室温下で試験片の被覆材（絶縁層）に対し軸方向に１０ｍｍ以上の長さでブレードを毎分５０回の速さで往復させ、導体に接するまでの往復回数を測定した。この際、ブレードにかかる荷重は、７Ｎとした。回数については２００回以上のものを合格「○」とし、２００回未満のものを不合格「×」とした。また、回数が３００回以上のものは特に優れる「◎」とした。
【００６２】
〔耐熱性試験方法〕
絶縁電線の導体を除去した絶縁層からなる円筒状サンプル（長さ１００ｍｍ）で初期および３００℃×３日後の伸びを測定した。伸びの残率が３０％以上であるものを合格「○」、このうち伸びの残率が５０％以上であるものを特に優れる「◎」とし、伸びの残率が３０％未満であるものを不合格「×」とした。
【００６３】
【表１】
2015115153.tif 000006
【００６４】
【表２】
2015115153.tif 000007
【００６５】
実施例１〜９および比較例１〜６から、架橋シリコーンゴムおよびシリカの合計に対するシリカの含有量が４０モル％以下であり、架橋シリコーンゴムにおけるフェニル基を有するシロキサン単位の含有量が０．５モル％以上であることにより、耐熱性に優れることがわかる。そして、実施例によれば、耐寒性および耐摩耗性にも優れることが確認できた。また、実施例５〜８から、架橋シリコーンゴムにおけるフェニル基を有するシロキサン単位の含有量が５モル％以上であることにより、耐熱性にさらに優れることがわかる。また、実施例９から、炭酸カルシウム粉末を添加することにより、耐摩耗性が向上することがわかる。
【００６６】
以上、本発明の実施の形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。