(57)【要約】【課題】偏光方向の安定化を図ることができる面発光レーザーを提供すること。【解決手段】本発明に係る面発光レーザー１００は、基板１０と、基板１０上方に設けられた積層体２と、少なくとも一部が積層体２上方に設けられた電極８２と、電極８２と電気的に接続されており、ワイヤーボンディングされるパッド８４と、を含み、積層体２は、基板１０上方に設けられた第１ミラー層２０と、第１ミラー層２０上方に設けられた活性層３０と、活性層３０上方に設けられた第２ミラー層４０と、を含み、平面視において、第１歪付与部２ａと、第２歪付与部２ｂと、第１歪付与部２ａと第２歪付与部２ｂとの間に設けられ、活性層３０で発生した光を共振させる共振部２ｃと、を有し、平面視において、パッド８４は、第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂの少なくとも一方とは重ならない位置に設けられている。【選択図】図１
2015119147.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上方に設けられた積層体と、
少なくとも一部が前記積層体上方に設けられた電極と、
前記電極と電気的に接続されており、ワイヤーボンディングされるパッドと、
を含み、
前記積層体は、前記基板上方に設けられた第１ミラー層、前記第１ミラー層上方に設けられた活性層、および前記活性層上方に設けられた第２ミラー層を含み、
平面視において、前記積層体は、第１歪付与部と、第２歪付与部と、前記第１歪付与部と前記第２歪付与部との間に設けられ、前記活性層で発生した光を共振させる共振部と、を有し、
平面視において、前記パッドは、前記第１歪付与部および前記第２歪付与部の少なくとも一方とは重ならない位置に設けられていることを特徴とする、面発光レーザー。
【請求項２】
請求項１において、
平面視において、前記パッドは、前記共振部とは重ならない位置に設けられていることを特徴とする、面発光レーザー。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記第１歪付与部は、第１幅を有し、
前記第２歪付与部は、第２幅を有し、
前記共振部は、前記第１幅および前記第２幅の少なくとも一方よりも広い第３幅を有することを特徴とする、面発光レーザー。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の面発光レーザーを含む、原子発振器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、面発光レーザーおよび原子発振器に関する。
【背景技術】
【０００２】
面発光レーザー（ＶＣＳＥＬ：Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ｃａｖｉｔｙ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ）は、例えば、量子干渉効果のひとつであるＣＰＴ（Ｃｏｈｅｒｅｎｔ  Ｐｏｐｕｌａｔｉｏｎ  Ｔｒａｐｐｉｎｇ）を利用した原子発振器の光源として用いられる。
【０００３】
面発光レーザーは、一般的に、共振器が等方的な構造を有するため、共振器から射出されるレーザー光の偏光方向の制御が困難であった。例えば特許文献１には、歪み付加部によって共振器に歪みを生じさせて複屈折を発生させ、レーザー発振によって得られるレーザー光の偏光方向を、安定化させる面発光レーザーが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−５４８３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の面発光レーザーでは、歪み付加部と上部電極のボンディングパッドとの位置関係については考慮されていない。そのため、特許文献１に記載の面発光レーザーでは、ワイヤーボンディングの際に歪み付加部に損傷を与える可能性がある。歪み付加部が損傷を受けた場合には、垂直共振器に加えられる応力が十分でなく、レーザー光の偏光方向を安定化させることができない場合がある。
【０００６】
本発明のいくつかの態様に係る目的の１つは、偏光方向の安定化を図ることができる面発光レーザーを提供することにある。また、本発明のいくつかの態様に係る目的の１つは、上記面発光レーザーを含む原子発振器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る面発光レーザーは、
基板と、
前記基板上方に設けられた積層体と、
少なくとも一部が前記積層体上方に設けられた電極と、
前記電極と電気的に接続されており、ワイヤーボンディングされるパッドと、
を含み、
前記積層体は、前記基板上方に設けられた第１ミラー層、前記第１ミラー層上方に設けられた活性層、および前記活性層上方に設けられた第２ミラー層を含み、
平面視において、前記積層体は、第１歪付与部と、第２歪付与部と、前記第１歪付与部と前記第２歪付与部との間に設けられ、前記活性層で発生した光を共振させる共振部と、を有し、
平面視において、前記パッドは、前記第１歪付与部および前記第２歪付与部の少なくとも一方とは重ならない位置に設けられている。
【０００８】
このような面発光レーザーでは、ワイヤーボンディングされるパッドは、第１歪付与部および第２歪付与部の少なくとも一方とは重ならない位置に設けられているので、ワイヤ
ーボンディングの際に第１歪付与部および第２歪付与部の少なくとも一方が損傷を受ける可能性を低減できる。そのため、このような面発光レーザーでは、レーザー光の偏光方向の安定化を図ることができる。
【０００９】
なお、本発明に係る記載では、「上方」という文言を、例えば、「特定のもの（以下、「Ａ」という）の「上方」に他の特定のもの（以下、「Ｂ」という）を形成する」などと用いる場合に、Ａ上に直接Ｂを形成するような場合と、Ａ上に他のものを介してＢを形成するような場合とが含まれるものとして、「上方」という文言を用いている。
【００１０】
本発明に係る面発光レーザーにおいて、
平面視において、前記パッドは、前記共振部とは重ならない位置に設けられている。
【００１１】
このような面発光レーザーでは、ワイヤーボンディングされるパッドは、共振部とは重ならない位置に設けられているので、ワイヤーボンディングの際に共振部が損傷を受ける可能性を低減できる。そのため、このような面発光レーザーでは、レーザー光の安定化を図ることができる。
【００１２】
本発明に係る面発光レーザーにおいて、
前記第１歪付与部は、第１幅を有し、
前記第２歪付与部は、第２幅を有し、
前記共振部は、前記第１幅および前記第２幅の少なくとも一方よりも広い第３幅を有する。
【００１３】
このような面発光レーザーでは、第１歪付与部および第２歪付与部によって共振部に付与される応力を大きくすることができるので、共振部の活性層に大きな歪みを生じさせることができる。そのため、このような面発光レーザーでは、レーザー光の偏光方向の安定化を図ることができる。
【００１４】
本発明に係る原子発振器は、
本発明に係る面発光レーザーを含む。
【００１５】
このような原子発振器では、本発明に係る面発光レーザーを含むため、例えば、λ／４板を介して、ガスセルに円偏光の光を安定して照射することができ、原子発振器の周波数安定性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本実施形態に係る面発光レーザーを模式的に示す平面図。
【図２】本実施形態に係る面発光レーザーを模式的に示す断面図。
【図３】本実施形態に係る面発光レーザーを模式的に示す平面図。
【図４】本実施形態に係る面発光レーザーを模式的に示す断面図。
【図５】本実施形態に係る面発光レーザーを模式的に示す平面図。
【図６】本実施形態に係る面発光レーザーを模式的に示す断面図。
【図７】本実施形態に係る面発光レーザーを模式的に示す断面図。
【図８】本実施形態に係る面発光レーザーを模式的に示す断面図。
【図９】本実施形態に係る面発光レーザーの製造工程を模式的に示す断面図。
【図１０】本実施形態に係る面発光レーザーの製造工程を模式的に示す断面図。
【図１１】本実施形態に係る面発光レーザーの製造工程を模式的に示す断面図。
【図１２】本実施形態に係る面発光レーザーの製造工程を模式的に示す断面図。
【図１３】本実施形態に係る原子発振器の機能ブロック図。
【図１４】共鳴光の周波数スペクトラムを示す図。
【図１５】アルカリ金属原子のΛ型３準位モデルと第１側帯波および第２側帯波の関係を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
【００１８】
１．  面発光レーザー
まず、本実施形態に係る面発光レーザーについて、図面を参照しながら説明する。図１は、本実施形態に係る面発光レーザー１００を模式的に示す平面図である。図２は、本実施形態に係る面発光レーザー１００を模式的に示す図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。図３は、本実施形態に係る面発光レーザー１００を模式的に示す平面図である。図４は、本実施形態に係る面発光レーザー１００を模式的に示す図３のＩＶ−ＩＶ線断面図である。
【００１９】
なお、便宜上、図２では、積層体２を簡略化して図示している。また、図３では、面発光レーザー１００の積層体２以外の部材の図示を省略している。また、図１〜図４では、互いに直交する３つの軸として、Ｘ軸、Ｙ軸、およびＺ軸を図示している。
【００２０】
面発光レーザー１００は、図１〜図４に示すように、基板１０と、第１ミラー層２０と、活性層３０と、第２ミラー層４０と、電流狭窄層４２と、コンタクト層５０と、第１領域６０と、第２領域６２と、樹脂層（絶縁層）７０と、第１電極８０と、第２電極８２と、を含む。
【００２１】
基板１０は、例えば、第１導電型（例えばｎ型）のＧａＡｓ基板である。
【００２２】
第１ミラー層２０は、基板１０上に形成されている。第１ミラー層２０は、第１導電型の半導体層である。第１ミラー層２０は、図４に示すように、高屈折率層２４と低屈折率層２６とを交互に積層した分布ブラッグ反射型（ＤＢＲ）ミラーである。高屈折率層２４は、例えば、シリコンがドープされたｎ型のＡｌ0.12Ｇａ0.88Ａｓ層である。低屈折率層２６は、例えば、シリコンがドープされたｎ型のＡｌ0.9Ｇａ0.1Ａｓ層である。高屈折率層２４と低屈折率層２６との積層数（ペア数）は、例えば１０ペア以上５０ペア以下であり、具体的には４０．５ペアである。
【００２３】
活性層３０は、第１ミラー層２０上に設けられている。活性層３０は、例えば、ｉ型のＩｎ0.06Ｇａ0.94Ａｓ層とｉ型のＡｌ0.3Ｇａ0.7Ａｓ層とから構成される量子井戸構造を３層重ねた多重量子井戸（ＭＱＷ）構造を有している。
【００２４】
第２ミラー層４０は、活性層３０上に形成されている。第２ミラー層４０は、第２導電型（例えばｐ型）の半導体層である。第２ミラー層４０は、高屈折率層４４と低屈折率層４６とを交互に積層した分布ブラッグ反射型（ＤＢＲ）ミラーである。高屈折率層４４は、例えば、炭素がドープされたｐ型のＡｌ0.12Ｇａ0.88Ａｓ層である。低屈折率層４６は、例えば、炭素がドープされたｐ型のＡｌ0.9Ｇａ0.1Ａｓ層である。高屈折率層４４と低屈折率層４６との積層数（ペア数）は、例えば３ペア以上４０ペア以下であり、具体的には２０ペアである。
【００２５】
第２ミラー層４０、活性層３０、および第１ミラー層２０は、垂直共振器型のｐｉｎダイオードを構成している。第１電極８０と第２電極８２との間にｐｉｎダイオードの順方向の電圧を印加すると、活性層３０において電子と正孔との再結合が起こり、発光が生じ
る。活性層３０で発生した光は、第１ミラー層２０と第２ミラー層４０との間を往復し（多重反射し）、その際に誘導放出が起こって、強度が増幅される。そして、光利得が光損失を上回ると、レーザー発振が起こり、コンタクト層５０の上面から、垂直方向に（第１ミラー層２０と活性層３０との積層方向に）レーザー光が射出する。
【００２６】
電流狭窄層４２は、第１ミラー層２０と第２ミラー層４０との間に設けられている。図示の例では、電流狭窄層４２は、活性層３０上に設けられている。電流狭窄層４２は、第１ミラー層２０または第２ミラー層４０の内部に設けることもできる。この場合においても、酸化狭窄層４２は、第１ミラー層２０と第２ミラー層４０との間に設けられるとみなす。電流狭窄層４２は、開口部４３が形成された絶縁層である。電流狭窄層４２は、第１電極８０と第２電極８２とによって垂直共振器に注入される電流が平面方向（第１ミラー層２０と活性層３０との積層方向と直交する方向）に広がることを防ぐことができる。
【００２７】
コンタクト層５０は、第２ミラー層４０上に設けられている。コンタクト層５０は、第２導電型の半導体層である。具体的には、コンタクト層５０は、炭素がドープされたｐ型のＧａＡｓ層である。
【００２８】
第１領域６０は、図４に示すように、積層体２を構成する第１ミラー層２０の側方に設けられている。第１領域６０は、第１ミラー層２０と（図示の例では第１ミラー層２０の一部と）連続して設けられた、複数の酸化層６を含む。具体的には、第１領域６０は、第１ミラー層２０を構成している低屈折率層（例えばＡｌ0.9Ｇａ0.1Ａｓ層）２６と連続する層が酸化された酸化層６と、第１ミラー層２０を構成している高屈折率層（例えばＡｌ0.12Ｇａ0.88Ａｓ層）２４と連続する層４と、が交互に積層されて構成されている。
【００２９】
第２領域６２は、積層体２を構成する第２ミラー層４０の側方に設けられている。第２領域６２は、第２ミラー層４０と連続して設けられた、複数の酸化層１６を含む。具体的には、第２領域６２は、第２ミラー層４０を構成している低屈折率層（例えばＡｌ0.9Ｇａ0.1Ａｓ層）４６と連続する層が酸化された酸化層１６と、第２ミラー層４０を構成している高屈折率層（例えばＡｌ0.12Ｇａ0.88Ａｓ層）４４と連続する層１４と、が交互に積層されて構成されている。平面視において（第１ミラー層２０と活性層３０との積層方向から見て）、第１領域６０と第２領域６２とにより、酸化領域８が構成されている。
【００３０】
第１ミラー層２０、活性層３０、第２ミラー層４０、電流狭窄層４２、コンタクト層５０、第１領域６０、および第２領域６２は、積層体２を構成している。図１および図２に示す例では、積層体２は、樹脂層７０によって囲まれている。
【００３１】
図３に示す例では、平面視において、Ｙ軸方向における積層体２の長さは、Ｘ軸方向における積層体２の長さよりも長い。すなわち、積層体２の長手方向は、Ｙ軸方向である。平面視において、積層体２は、例えば、積層体２の中心を通りＸ軸に平行な仮想直線に関して、対称である。また、平面視において、積層体２は、例えば、積層体２の中心を通りＹ軸に平行な仮想直線に関して、対称である。
【００３２】
積層体２は、図３に示すように平面視において、第１歪付与部（第１部分）２ａと、第２歪付与部（第２部分）２ｂと、共振部（第３部分）２ｃと、を含む。
【００３３】
第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂは、平面視において、共振部２ｃを挟んでＹ軸方向に対向している。第１歪付与部２ａは、平面視において、共振部２ｃから＋Ｙ軸方向に突出している。第２歪付与部２ｂは、平面視において、共振部２ｃから−Ｙ軸方向に突出している。第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂは、共振部２ｃと一体に設けられている。
【００３４】
第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂは、活性層３０に歪みを付与して、活性層３０にて発生する光を偏光させる。ここで、光を偏光させるとは、光の電場の振動方向を一定にすることをいう。第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂを構成する半導体層（第１ミラー層２０、活性層３０、第２ミラー層４０、電流狭窄層４２、コンタクト層５０、第１領域６０、および第２領域６２）は、活性層３０に付与する歪みを発生させる発生源となる。第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂは、複数の酸化層６を有する第１領域６０と、複数の酸化層１６を有する第２領域６２と、を有しているため、活性層３０に大きな歪みを付与することができる。
【００３５】
共振部２ｃは、第１歪付与部２ａと第２歪付与部２ｂとの間に設けられている。Ｘ軸方向における共振部２ｃの長さは、Ｘ軸方向における第１歪付与部２ａの長さまたはＸ軸方向における第２歪付与部２ｂの長さよりも大きい。共振部２ｃの平面形状（第１ミラー層２０と活性層３０との積層方向から見た形状）は、例えば、円である。
【００３６】
ここで、Ｘ軸方向における共振部２ｃの長さとは、例えば、Ｘ軸方向における共振部２ｃの長さのうちの最大の長さである。また、Ｘ軸方向における第１歪付与部２ａの長さとは、例えば、Ｘ軸方向における第１歪付与部２ａの長さのうちの最大の長さである。また、Ｘ軸方向における第２歪付与部２ｂの長さとは、例えば、Ｘ軸方向における第２歪付与部２ｂの長さのうちの最大の長さである。
【００３７】
共振部２ｃは、活性層３０で発生した光を共振させる。すなわち、共振部２ｃでは、垂直共振器が形成される。
【００３８】
樹脂層７０は、積層体２の少なくとも側面に設けられている。図１に示す例では、樹脂層７０は、第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂを覆っている。すなわち、樹脂層７０は、第１歪付与部２ａの側面、第１歪付与部２ａの上面、第２歪付与部２ｂの側面、および第２歪付与部２ｂの上面に設けられている。樹脂層７０は、第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂを完全に覆っていてもよいし、第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂの一部を覆っていてもよい。樹脂層７０の材質は、例えば、ポリイミドである。なお、本実施形態では、第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂに歪みを付与するために樹脂層７０としているが、樹脂層７０に対応する構成は少なくとも絶縁の機能を有すればよいため、絶縁材料であれば樹脂でなくてもよい。
【００３９】
図３に示す例では、平面視において、Ｙ軸方向における樹脂層７０の長さは、Ｘ軸方向における樹脂層７０の長さよりも大きい。すなわち、樹脂層７０の長手方向は、Ｙ軸方向である。樹脂層７０の長手方向と積層体２の長手方向とは、一致している。
【００４０】
第１電極８０は、第１ミラー層２０上に設けられている。第１電極８０は、第１ミラー層２０とオーミックコンタクトしている。第１電極８０は、第１ミラー層２０と電気的に接続されている。第１電極８０としては、例えば、第１ミラー層２０側から、Ｃｒ層、ＡｕＧｅ層、Ｎｉ層、Ａｕ層の順序で積層したものを用いる。第１電極８０は、活性層３０に電流を注入するための一方の電極である。なお、図示はしないが、第１電極８０は、基板１０の下面に設けられていてもよい。
【００４１】
第２電極８２は、コンタクト層５０上（積層体２上）に設けられている。第２電極８２は、コンタクト層５０とオーミックコンタクトしている。図示の例では、第２電極８２は、さらに樹脂層７０上に形成されている。第２電極８２は、コンタクト層５０を介して、第２ミラー層４０と電気的に接続されている。第２電極８２としては、例えば、コンタクト層５０側から、Ｃｒ層、Ｐｔ層、Ｔｉ層、Ｐｔ層、Ａｕ層の順序で積層したものを用い
る。第２電極８２は、活性層３０に電流を注入するための他方の電極である。
【００４２】
第２電極８２は、パッド８４と電気的に接続されている。図示の例では、第２電極８２は、引き出し配線８６を介して、パッド８４と電気的に接続されている。パッド８４は、樹脂層７０上に設けられている。パッド８４および引き出し配線８６の材質は、例えば、第２電極８２の材質と同じである。パッド８４は、ワイヤーボンディングされるパッドである。
【００４３】
パッド８４は、平面視において、第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂの少なくとも一方とは重ならない位置に設けられている。図１に示す例では、パッド８４は、平面視において、第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂのいずれとも重ならない位置に設けられている。また、図１に示す例では、パッド８４は、平面視において、共振部２ｃとは重ならない位置に設けられている。
【００４４】
ここで、積層体２および樹脂層７０について、より詳細に説明する。図５は、面発光レーザー１００を模式的に示す平面図であって、図２に示す積層体２近傍の拡大図である。図６は、面発光レーザー１００を模式的に示す図５のＶＩ−ＶＩ線断面図である。図７は、面発光レーザー１００を模式的に示す図５のＶＩＩ−ＶＩＩ線断面図である。図８は、面発光レーザー１００を模式的に示す図５のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線断面図である。
【００４５】
なお、便宜上、図５〜図８では、積層体２を簡略化して図示している。また、図５〜図８では、互いに直交する３つの軸として、Ｘ軸、Ｙ軸、およびＺ軸を図示している。
【００４６】
積層体２は、基板１０の上方に設けられている。積層体２は、第１幅（Ｘ軸方向の長さ）を有する第１歪付与部２ａと、第２幅を有する第２歪付与部２ｂと、第１幅および第２幅よりも広い第３幅を有する共振部２ｃと、を有している。図示の例では、第１幅と第２幅は、同じ幅である。
【００４７】
なお、第１幅とは、例えば、第１歪付与部２ａと第２歪付与部２ｂとが対向する方向（Ｙ軸方向）に直交する方向（Ｘ軸方向）において、第１歪付与部２ａの幅のうちの最大をとる幅のことである。第２幅とは、例えば、第１歪付与部２ａと第２歪付与部２ｂとが対向する方向に直交する方向において、第２歪付与部２ｂの幅のうちの最大をとる幅のことである。第３幅とは、例えば、第１歪付与部２ａと第２歪付与部２ｂとが対向する方向に直交する方向において、共振部２ｃの幅のうちの最大をとる幅のことである。
【００４８】
第１歪付与部２ａは、図５〜図８に示すように、上面１０２と、第１側面１０４と、第２側面１０６と、第３側面１０８と、を有している。第１側面１０４、第２側面１０６および第３側面１０８は、上面１０２と連続（接続）している。第１側面１０４は、第１歪付与部２ａの−Ｘ軸方向側の側面である。第２側面１０６は、第１歪付与部２ａの＋Ｘ軸方向側の側面である。第３側面１０８は、第１歪付与部２ａの＋Ｙ軸方向側の側面である。第３側面１０８は、第１側面１０４および第２側面１０６に接続されている。
【００４９】
第２歪付与部２ｂは、上面１１２と、第１側面１１４と、第２側面１１６と、第３側面１１８と、を有している。第１側面１１４、第２側面１１６および第３側面１１８は、上面１１２と連続（接続）している。第１側面１１４は、第２歪付与部２ｂの−Ｘ軸方向側の側面である。第２側面１１６は、第２歪付与部２ｂの＋Ｘ軸方向側の側面である。第３側面１１８は、第２歪付与部２ｂの−Ｙ軸方向側の側面である。第３側面１１８は、第１側面１１４および第２側面１１６に接続されている。
【００５０】
樹脂層７０は、第１歪付与部２ａの少なくとも一部を覆っている。すなわち、樹脂層７
０は、第１歪付与部２ａの少なくとも一部の上面１０２と、第１歪付与部２ａの少なくとも一部の第１側面１０４と、第１歪付与部２ａの少なくとも一部の第２側面１０６と、に設けられている。図示の例では、樹脂層７０は、第１歪付与部２ａの全体を覆っている。具体的には、樹脂層７０は、上面１０２全体と、第１側面１０４全体と、第２側面１０６全体と、第３側面１０８全体と、に設けられている。
【００５１】
樹脂層７０は、さらに、第２歪付与部２ｂの少なくとも一部を覆っている。すなわち、樹脂層７０は、第２歪付与部２ｂの少なくとも一部の上面１１２と、第２歪付与部２ｂの少なくとも一部の第１側面１１４と、第２歪付与部２ｂの少なくとも一部の第２側面１１６と、に設けられている。図示の例では、樹脂層７０は、第２歪付与部２ｂの全体を覆っている。具体的には、樹脂層７０は、上面１１２全体と、第１側面１１４全体と、第２側面１１６全体と、第３側面１１８全体と、に設けられている。
【００５２】
図示の例では、樹脂層７０は、積層体２の側面全体と、第１歪付与部２ａの上面１０２の少なくとも一部（具体的には全部）と、第２歪付与部２ｂの上面１１２の少なくとも一部（具体的には全部）と、に設けられている。
【００５３】
樹脂層７０は、熱を与えることで硬化する樹脂であり、樹脂層７０を硬化するための加熱処理（キュア）において収縮する。さらに、樹脂層７０は、上記加熱処理から常温に戻す際において収縮する。樹脂層７０の熱膨張係数は、基板１０の熱膨張係数（基板１０がＧａＡｓ基板の場合は６．５程度）よりも大きい。そのため、樹脂層７０は、基板１０よりも収縮しやすい。
【００５４】
なお、上記では、ＡｌＧａＡｓ系の面発光レーザーについて説明したが、本発明に係る面発光レーザーは、発振波長に応じて、例えば、ＧａＩｎＰ系、ＺｎＳＳｅ系、ＩｎＧａＮ系、ＡｌＧａＮ系、ＩｎＧａＡｓ系、ＧａＩｎＮＡｓ系、ＧａＡｓＳｂ系の半導体材料を用いてもよい。
【００５５】
面発光レーザー１００は、例えば、以下の特徴を有する。
【００５６】
面発光レーザー１００では、ワイヤーボンディングされるパッド８４は、第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂの少なくとも一方とは重ならない位置に設けられているので、ワイヤーボンディングの際に第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂの少なくとも一方が損傷を受ける可能性を低減できる。そのため、面発光レーザー１００では、レーザー光の偏光方向の安定化を図ることができる。
【００５７】
また、面発光レーザー１００では、ワイヤーボンディングされるパッド８４は、共振部２ｃとは重ならない位置に設けられているので、ワイヤーボンディングの際に共振部２ｃが損傷を受ける可能性を低減できる。そのため、このような面発光レーザー１００では、レーザー光の安定化を図ることができる。
【００５８】
また、面発光レーザー１００では、積層体２は、第１歪付与部２ａと、第２歪付与部２ｂと、共振部２ｃと、を有し、第１歪付与部２ａの少なくとも一部を覆う樹脂層７０が設けられている。ここで、樹脂層７０は、熱を与えることで硬化する樹脂であり、樹脂層７０を硬化するための加熱処理（キュア）において収縮する。さらに、樹脂層７０は、上記加熱処理から常温に戻す際において収縮する。この樹脂層７０の収縮によって、面発光レーザー１００では、第１歪付与部２ａにより共振部２ｃに付与する応力を大きくすることができ、共振部２ｃの活性層３０に大きな歪みを生じさせることができる。そのため、面発光レーザー１００では、レーザー光の偏光方向の安定化を図ることができる。
【００５９】
面発光レーザー１００では、このように、レーザー光の偏光方向を安定させることができるため、例えば、面発光レーザー１００を原子発振器の光源として用いた場合に、λ／４板を介して、ガスセルに円偏光の光を安定して照射することができる。その結果、原子発振器の周波数安定度を高めることができる。例えば、面発光レーザーから射出されるレーザー光の偏光方向が不安定な場合、λ／４板を介して得られる光が楕円偏光となる場合や、円偏光の回転方向が変動してしまう場合がある。
【００６０】
このように、面発光レーザー１００では、レーザー光の偏光方向を安定させることができるため、λ／４板を介して、ガスセルに円偏光の光を安定して照射することができ、原子発振器の周波数安定性を高めることができる。
【００６１】
面発光レーザー１００では、樹脂層７０は、第１歪付与部２ａの全体を覆っている。そのため、面発光レーザー１００では、樹脂層７０が第１歪付与部２ａの一部しか覆っていない場合に比べて、第１歪付与部２ａにより共振部２ｃに付与する応力を大きくすることができる。
【００６２】
面発光レーザー１００では、樹脂層７０は、第１歪付与部２ａの上面１０２全体と、第２歪付与部２ｂの上面１１２全体と、に設けられている。そのため、面発光レーザー１００では、例えば樹脂層７０が上面１０２，１１２の一部しか覆っていない場合に比べて、第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂにより共振部２ｃに付与する応力を大きくすることができる。
【００６３】
２．  面発光レーザーの製造方法
次に、本実施形態に係る面発光レーザーの製造方法について、図面を参照しながら説明する。図９〜図１２は、本実施形態に係る面発光レーザー１００の製造工程を模式的に示す断面図であって、図２に対応している。
【００６４】
図９に示すように、基板１０上に、第１ミラー層２０、活性層３０、酸化されて電流狭窄層４２となる被酸化層４２ａ、第２ミラー層４０、およびコンタクト層５０を、この順でエピタキシャル成長させる。エピタキシャル成長させる方法としては、例えば、ＭＯＣＶＤ（Ｍｅｔａｌ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＭＢＥ（Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｂｅａｍ  Ｅｐｉｔａｘｙ）法が挙げられる。
【００６５】
図１０に示すように、コンタクト層５０、第２ミラー層４０、被酸化層４２ａ、活性層３０、および第１ミラー層２０をパターニングして、積層体２を形成する。パターニングは、例えば、フォトリソグラフィーおよびエッチングによって行われる。
【００６６】
図１１に示すように、被酸化層４２ａを酸化して、電流狭窄層４２を形成する。被酸化層４２ａは、例えば、ＡｌxＧａ1-xＡｓ（ｘ≧０．９５）層である。例えば、４００℃程度の水蒸気雰囲気中に、積層体２が形成された基板１０を投入することにより、ＡｌxＧａ1-xＡｓ（ｘ≧０．９５）層を側面から酸化して、電流狭窄層４２を形成する。
【００６７】
面発光レーザー１００の製造方法では、上記の酸化工程において、第１ミラー層２０を構成する層を、側面から酸化して第１領域６０を形成する。さらに、第２ミラー層４０を構成する層を、側面から酸化して第２領域６２を形成する。具体的には、４００℃程度の水蒸気雰囲気によって、第１ミラー層２０および第２ミラー層４０を構成するＡｌ0.9Ｇａ0.1Ａｓ層のヒ素が酸素に置き換わり、第１領域６０および第２領域６２が形成される。第１領域６０および第２領域６２は、例えば４００℃程度の高温から室温に戻すときに収縮し、第２領域６２の上面６３は、基板１０側に傾斜する（図４参照）。第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂは、第１領域６０および第２領域６２の収縮に起因する歪み
を（応力を）活性層３０に付与することができる。
【００６８】
図１２に示すように、積層体２を取り囲んで、第１歪付与部２ａおよび第２歪付与部２ｂを覆うように樹脂層７０を形成する。樹脂層７０は、例えば、スピンコート法等を用いて第１ミラー層２０の上面および積層体２の全面にポリイミド樹脂等からなる層を形成し、該層をパターニングすることにより形成される。パターニングは、例えば、フォトリソグラフィーおよびエッチングによって行われる。次に、樹脂層７０を加熱処理（キュア）することにより硬化させる。本加熱処理によって、樹脂層７０は、収縮する。さらに、樹脂層７０は、加熱処理から常温に戻す際において収縮する。
【００６９】
図２に示すように、コンタクト層５０上および樹脂層７０上に第２電極８２を形成し、第１ミラー層２０上に第１電極８０を形成する。第１電極８０および第２電極８２は、例えば、真空蒸着法およびリフトオフ法の組合せ等により形成される。なお、第１電極８０および第２電極８２を形成する順序は、特に限定されない。また、第２電極８２を形成する工程で、パッド８４および引き出し配線８６（図１参照）を形成してもよい。
【００７０】
以上の工程により、面発光レーザー１００を製造することができる。
【００７１】
３．  原子発振器
次に、本実施形態に係る原子発振器について、図面を参照しながら説明する。図１３は、本実施形態に係る原子発振器１０００を示す機能ブロック図である。
【００７２】
原子発振器１０００は、図１３に示すように、光学モジュール１１００と、中心波長制御部１２００と、高周波制御部１３００と、を含んで構成されている。
【００７３】
光学モジュール１１００は、本発明に係る面発光レーザー（図示の例では、面発光レーザー１００）と、ガスセル１１１０と、光検出部１１２０と、を有する。
【００７４】
図１４は、面発光レーザー１００が射出する光の周波数スペクトラムを示す図である。図１５は、アルカリ金属原子のΛ型３準位モデルと第１側帯波Ｗ１および第２側帯波Ｗ２の関係を示す図である。面発光レーザー１００から射出される光は、図１４に示す、中心周波数ｆ0（＝ｃ／λ0：ｃは光の速さ、λ0はレーザー光の中心波長）を有する基本波Ｆと、中心周波数ｆ0に対して上側サイドバンドに周波数ｆ1を有する第１側帯波Ｗ１と、中心周波数ｆ0に対して下側サイドバンドに周波数ｆ2を有する第２側帯波Ｗ２と、を含む。第１側帯波Ｗ１の周波数ｆ1は、ｆ1＝ｆ0＋ｆmであり、第２側帯波Ｗ２の周波数ｆ2は、ｆ2＝ｆ0−ｆmである。
【００７５】
図１５に示すように、第１側帯波Ｗ１の周波数ｆ1と第２側帯波Ｗ２の周波数ｆ2との周波数差が、アルカリ金属原子の基底準位ＧＬ１と基底準位ＧＬ２とのエネルギー差ΔＥ12に相当する周波数と一致している。したがって、アルカリ金属原子は、周波数ｆ1を有する第１側帯波Ｗ１と、周波数ｆ2を有する第２側帯波Ｗ２と、によってＥＩＴ現象を起こす。
【００７６】
ガスセル１１１０は、容器中に気体状のアルカリ金属原子（ナトリウム原子、ルビジウム原子、セシウム原子等）が封入されたものである。このガスセル１１１０に対して、アルカリ金属原子の２つの基底準位のエネルギー差に相当する周波数（波長）を有する２つの光波が照射されると、アルカリ金属原子がＥＩＴ現象を起こす。例えば、アルカリ金属原子がセシウム原子であれば、Ｄ１線における基底準位ＧＬ１と基底準位ＧＬ２のエネルギー差に相当する周波数が９．１９２６３・・・ＧＨｚなので、周波数差が９．１９２６３・・・ＧＨｚの２つの光波が照射されるとＥＩＴ現象を起こす。
【００７７】
光検出部１１２０は、ガスセル１１１０に封入されたアルカリ金属原子を透過した光の強度を検出する。光検出部１１２０は、アルカリ金属原子を透過した光の量に応じた検出信号を出力する。光検出部１１２０としては、例えば、フォトダイオードを用いる。
【００７８】
中心波長制御部１２００は、光検出部１１２０が出力する検出信号に応じた大きさの駆動電流を発生させて面発光レーザー１００に供給し、面発光レーザー１００が射出する光の中心波長λ0を制御する。面発光レーザー１００、ガスセル１１１０、光検出部１１２０、中心波長制御部１２００を通るフィードバックループにより、面発光レーザー１００が射出するレーザー光の中心波長λ0が微調整されて安定する。
【００７９】
高周波制御部１３００は、光検出部１１２０が出力する検出結果に基づいて、第１側帯波Ｗ１および第２側帯波Ｗ２の波長（周波数）差が、ガスセル１１１０に封入されたアルカリ金属原子の２つの基底準位のエネルギー差に相当する周波数に等しくなるように制御する。高周波制御部１３００は、光検出部１１２０が出力する検出結果に応じた変調周波数ｆm（図１４参照）を有する変調信号を発生させる。
【００８０】
面発光レーザー１００、ガスセル１１１０、光検出部１１２０、高周波制御部１３００を通るフィードバックループにより、第１側帯波Ｗ１と第２側帯波Ｗ２との周波数差がアルカリ金属原子の２つの基底準位のエネルギー差に相当する周波数と極めて正確に一致するようにフィードバック制御がかかる。その結果、変調周波数ｆmは極めて安定した周波数になるので、変調信号を原子発振器１０００の出力信号（クロック出力）とすることができる。
【００８１】
次に、原子発振器１０００の動作について、図１３〜図１５を参照しながら説明する。
【００８２】
面発光レーザー１００から射出されたレーザー光は、ガスセル１１１０に入射する。面発光レーザー１００から射出される光は、アルカリ金属原子の２つの基底準位のエネルギー差に相当する周波数（波長）を有する２つの光波（第１側帯波Ｗ１、第２側帯波Ｗ２）を含んでおり、アルカリ金属原子がＥＩＴ現象を起こす。ガスセル１１１０を透過した光の強度は光検出部１１２０で検出される。
【００８３】
中心波長制御部１２００および高周波制御部１３００は、第１側帯波Ｗ１と第２側帯波Ｗ２との周波数差がアルカリ金属原子の２つの基底準位のエネルギー差に相当する周波数と極めて正確に一致するように、フィードバック制御を行う。原子発振器１０００では、ＥＩＴ現象を利用し、第１側帯波Ｗ１と第２側帯波Ｗ２との周波数差ｆ1−ｆ2が基底準位ＧＬ１と基底準位ＧＬ２とのエネルギー差ΔＥ12に相当する周波数からずれた時の光吸収挙動の急峻な変化を検出し制御することで、高精度な発振器をつくることができる。
【００８４】
上述した実施形態および変形例は一例であって、これらに限定されるわけではない。例えば、各実施形態および各変形例を適宜組み合わせることも可能である。
【００８５】
本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【符号の説明】
【００８６】
２…積層体、２ａ…第１歪付加部、２ｂ…第２歪付加部、２ｃ…共振部、４…層、６…酸化層、８…酸化領域、１０…基板、１４…層、１６…酸化層、２０…第１ミラー層、２４…高屈折率層、２６…低屈折率層、３０…活性層、４０…第２ミラー層、４２…電流狭窄層、４２ａ…被酸化層、４３…開口部、４４…高屈折率層、４６…低屈折率層、５０…コンタクト層、６０…第１領域、６２…第２領域、６３…上面、７０…樹脂層、８０…第１電極、８２…第２電極、８２ａ…開口部、８４…パッド、８６…引き出し配線、１００…面発光レーザー、１０２…上面、１０４…第１側面、１０６…第２側面、１０８…第３側面、１１２…上面、１１４…第１側面、１１６…第２側面、１１８…第３側面、１０００…原子発振器、１１００…光モジュール、１１１０…ガスセル、１１２０…光検出部、１２００…中心波長制御部、１３００…高周波制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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