(57)【要約】【課題】凹凸構造の高さの変動が少ない凹凸構造付きフィルムの製造方法を提供する。【解決手段】フィルムの少なくとも一方の面に、レーザー装置から出光する波長範囲λ１〜λ２のレーザー光を照射し、凹凸構造を形成する照射工程を含み、前記照射工程は、波長範囲λ１〜λ２における前記フィルムの透過率の最大値Ｔｍａｘ％、最小値Ｔｍｉｎ％、及びこれらの平均値Ｔａｖｇ％が、（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）／（１００−Ｔａｖｇ）×１００≦１５を満たす条件で行う、凹凸構造付きフィルム製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムの少なくとも一方の面に、レーザー装置から出光する波長範囲λ１〜λ２のレーザー光を照射し、凹凸構造を形成する照射工程を含み、
前記照射工程は、波長範囲λ１〜λ２における前記フィルムの透過率の最大値Ｔｍａｘ％、最小値Ｔｍｉｎ％、及びこれらの平均値Ｔａｖｇ％が、下記式（１）：
（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）／（１００−Ｔａｖｇ）×１００≦１５・・・式（１）
を満たす条件で行う、凹凸構造付きフィルム製造方法。
【請求項２】
前記フィルムは、炭化水素重合体を含む、請求項１に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法。
【請求項３】
前記炭化水素重合体が、脂環式構造含有重合体である、請求項２に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法。
【請求項４】
前記レーザー装置が、炭酸ガスレーザー装置である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法。
【請求項５】
前記波長範囲λ１〜λ２は、中心波長として９．２〜９．４μｍの範囲中の波長を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法。
【請求項６】
前記フィルムが、基材層と、前記基材層の表面上に形成された易滑層とを含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法。
【請求項７】
前記フィルムが長尺フィルムであり、
前記照射工程が、前記フィルムの少なくとも一方の面であって、幅方向における少なくとも一方の端部に凹凸構造を形成する工程である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法により得られる凹凸構造付きフィルムを、フィルム幅方向に平行な軸を回転軸として巻回する工程を含む、凹凸構造付きフィルムロール体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹凸構造付きフィルムを製造する方法、及び凹凸構造付きフィルムのロール体を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光学フィルムなどのフィルムを製造する場合、ある程度の量をまとめて長尺状に製造し、このフィルムを巻回してフィルムロールとして保存することが行われている。
【０００３】
長尺のフィルムを巻回する際、フィルムの取り扱い性の向上のため、フィルムの端部に凹凸構造を付与することが知られている。このような凹凸構造は、ナールとも呼ばれることがあり、このような凹凸構造を付与する処理は、ナーリング処理、エンボス処理、ローレット処理等の名称で呼ばれる。ナーリング処理の具体的な操作としては、種々の方法が知られているが、特に効率的な方法として、フィルムにレーザー光を照射することにより凹凸構造を形成することが知られている（特許文献１〜３）。フィルムを巻回してロール体とするのに先立ち、フィルムの表面にかかる凹凸構造を設けて凹凸構造付きフィルムとすることにより、ロール体中のフィルム間の摩擦による傷の発生、フィルムのブロッキング（ロール体において、重なったフィルムの面が付着する現象）等の不所望な現象が低減され、フィルムの取り扱い性を向上させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−０１２４２９号公報
【特許文献２】特開２００９−０４０４９４号公報
【特許文献３】特開２０１２−１１８２３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
かかる不所望な現象を均一に低減し、且つロール体のしわ、ねじれ等の不具合を防止して巻き姿を良好なものとするため、かかる凹凸構造は、その高さが均一であることが望ましい。しかし、本発明者らは、レーザー光によりナーリング処理を行うと、形成された凹凸構造の高さが意図せず大きく変動し、それによりロール体のしわ、ねじれ等の不具合が発生する場合があることを見出した。
【０００６】
従って、本発明の目的は、凹凸構造の高さの変動が少ない凹凸構造付きフィルムを効率的に製造できる、凹凸構造付きフィルムの製造方法を提供することにある。
本発明のさらなる目的は、フィルム間の摩擦による傷の発生、フィルムのブロッキング、しわ、ねじれ等の少ない凹凸構造付きフィルムロール体を効率的に製造できる、凹凸構造付きフィルムロール体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上述した課題を解決するべく検討した結果、レーザー装置から出光するレーザー光の波長範囲と、その波長範囲におけるフィルムの光透過率とが、一定の関係を満たす場合に、凹凸構造の高さの変動が少ない凹凸構造付きフィルムが製造できることを見出した。本発明は、かかる知見に基づき完成された。
すなわち、本発明によれば、下記［１］〜［８］が提供される。
【０００８】
〔１〕  フィルムの少なくとも一方の面に、レーザー装置から出光する波長範囲λ１〜λ２のレーザー光を照射し、凹凸構造を形成する照射工程を含み、
前記照射工程は、波長範囲λ１〜λ２における前記フィルムの透過率の最大値Ｔｍａｘ％、最小値Ｔｍｉｎ％、及びこれらの平均値Ｔａｖｇ％が、下記式（１）：
（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）／（１００−Ｔａｖｇ）×１００≦１５・・・式（１）
を満たす条件で行う、凹凸構造付きフィルム製造方法。
〔２〕  前記フィルムは、炭化水素重合体を含む、〔１〕に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法。
〔３〕  前記炭化水素重合体が、脂環式構造含有重合体である、〔２〕に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法。
〔４〕  前記レーザー装置が、炭酸ガスレーザー装置である、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法。
〔５〕  前記波長範囲λ１〜λ２が、波長９．３μｍを含む、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法。
〔６〕  前記フィルムが、基材層と、前記基材層の表面上に形成された易滑層とを含む、〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法。
〔７〕  前記フィルムが長尺フィルムであり、
前記照射工程が、前記フィルムの少なくとも一方の面であって、幅方向における少なくとも一方の端部に凹凸構造を形成する工程である、〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法。
〔８〕  〔７〕に記載の凹凸構造付きフィルム製造方法により得られる凹凸構造付きフィルムを、フィルム幅方向に平行な軸を回転軸として巻回する工程を含む、凹凸構造付きフィルムロール体の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の凹凸構造付きフィルムの製造方法によれば、凹凸構造の高さの変動が少ない凹凸構造付きフィルムを効率的に製造できる。
本発明の凹凸構造付きフィルムロール体の製造方法によれば、フィルム間の摩擦による傷の発生、フィルムのブロッキング、しわ、ねじれ等の少ない凹凸構造付きフィルムロール体を効率的に製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本発明の製造方法の一実施形態を模式的に示す斜視図である。
【図２】図２は、本発明の製造方法における、様々な波長におけるフィルムの透過率のプロファイルの例を示すグラフである。
【図３】図３は、本願実施例において描いたレーザー光の照射の軌跡を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、実施形態及び例示物等を示して本発明について詳細に説明するが、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。以下の説明において、本発明の方法を実施するための部材の構成要素の方向が「平行」または「直交」とは、本発明の効果を著しく損なわない範囲内（例えば±５°）での誤差を含んでいてもよい。また、ある方向に「沿って」とは、ある方向に「平行に」という意味である。さらに、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」及び「メタクリル」を意味する。また、ここで「長尺」のフィルムとは、フィルムの幅に対して、少なくとも５倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。
【００１２】
〔１．凹凸構造付きフィルムの製造方法：概要〕
本発明の製造方法は、フィルムの少なくとも一方の面にレーザー装置から出光するレーザー光を照射し、凹凸構造を形成する照射工程を含む。フィルムにレーザー光を照射すると、レーザー光が照射された場所において局所的に熱溶融又はアブレーションが生じる。このため、レーザー光が照射された場所では、フィルムに、凹凸構造としての凸状の変形及び凹状の変形を生じさせることができる。
【００１３】
図１は、本発明の製造方法の一実施形態を模式的に示す斜視図である。この例において、フィルム１０は、搬送方向Ａに搬送される。製造ラインにおけるフィルムの流れ方向（図１中矢印ＭＤで示される）は、ＭＤ方向（ｍａｃｈｉｎｅ  ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）とも呼ばれ、通常は搬送される長尺のフィルムの長手方向と平行である。さらに、ＭＤ方向に垂直で且つ搬送されるフィルム面に平行な方向（図１中矢印ＴＤで示される）はＴＤ方向（ｔｒａｖｅｒｓｅ  ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）とも呼ばれ、通常は搬送される長尺のフィルムの幅方向と一致する。
【００１４】
照射工程においては、フィルム１０の幅方向の両方の端部１１及び１２の上面に対向するレーザー装置２０及び２１により、フィルム１０の両方の端部１１及び１２にレーザー光が照射される。かかるレーザー光の照射により、両方の端部１１及び１２に複数の凹凸構造１３０が形成される。その結果、フィルム幅方向の両方の端部に、帯状の、凹凸構造１３０を有する領域（以下、適宜「凹凸領域」という。）１１０及び１２０を備える、凹凸構造付きフィルム１００が製造される。
【００１５】
図１に示す例では、フィルム１０の一方の面にレーザー光を照射し、一方の面のみに凹凸構造を形成しているが、本発明の製造方法はこれに限られず、フィルムの両面にレーザー光を照射し、フィルムの両面に凹凸構造を形成してもよい。
【００１６】
図１の例に示す通り、本発明の製造方法に供するフィルムとしては、通常、長尺のフィルムを用い、フィルムの幅方向の両端部に凹凸構造を付与する。フィルムの幅方向の両端部に凹凸構造を付与することにより、凹凸構造付きフィルムロール体におけるフィルム間の摩擦による傷の発生及びブロッキングを低減することができる。ただし、凹凸構造を形成するフィルム面上の位置はこれには限られない。例えば、フィルムの幅方向の一方の端部のみに凹凸領域を設けてもよく、フィルム幅方向の両端部に加えて幅方向の中央部にも凹凸領域を設けてもよい。また、フィルムに機能を付与する目的で、フィルムの全面に凹凸構造を設けてもよい。
【００１７】
本発明の製造方法に供するフィルムの幅及び厚さには特に制限は無く、使用目的に応じた幅及び厚さのフィルムを適宜用いうる。フィルムの幅は、好ましくは７００ｍｍ以上、より好ましくは１０００ｍｍ以上、さらにより好ましくは１２００ｍｍ以上であり、好ましくは２５００ｍｍ以下、より好ましくは２２００ｍｍ以下、さらにより好ましくは２０００ｍｍ以下である。また、フィルムの厚さは、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは５μｍ以上、さらにより好ましくは２０μｍ以上であり、好ましくは１０００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下、さらにより好ましくは１５０μｍ以下である。
【００１８】
凹凸構造を、フィルムの取り扱い性を向上する目的でフィルムの幅方向の両端部に付与する場合、凹凸領域１１０の幅Ｗ１１０、及び凹凸領域１２０の幅Ｗ１２０のそれぞれは、２ｍｍ以上が好ましく、４ｍｍ以上がより好ましく、５ｍｍ以上が特に好ましく、また、１００ｍｍ以下が好ましく、８０ｍｍ以下がより好ましく、６０ｍｍ以下が特に好ましい。幅Ｗ１１０及びＷ１２０のそれぞれを前記下限値以上とすることによって巻きずれを安定して防止することができる。一方、幅Ｗ１１０及びＷ１２０のそれぞれを前記上限値以下とすることによって、有効領域の大きさを広く確保して製造コストを低減することができる。凹凸構造付きフィルムの有効領域とは、凹凸構造付きフィルムの凹凸構造が形成されていない領域のことを指し、図１に示す例では両方の端部１１０及び１２０の間の領域１４０に相当する。
【００１９】
凹凸構造の形状及び凹凸領域内のそれらの配置は、使用目的に応じた任意の形状及び配置としうる。レーザー光をフィルム表面に照射する軌跡を制御することにより、レーザー光により所望の形状の凹凸構造を描画することができる。個々の凹凸構造の形状（フィルム面に垂直な方向から観察した際の形状）の例としては、ドット状の形状、線形の形状、円形の形状、楕円形の形状、多角形の形状等の形状が挙げられる。凹凸構造の配置は、例えばフィルムの長手方向及び幅方向に沿って一定の規則性を有する配置、又はランダムな配置とすることができる。
【００２０】
〔２．照射工程〕
本発明の製造方法における照射工程は、照射するレーザー光の波長範囲λ１〜λ２（本願においては、λ１は波長範囲の最小値、λ２は波長範囲の最大値を表す。）におけるフィルムの透過率の最大値Ｔｍａｘ％、最小値Ｔｍｉｎ％、及びこれらの平均値Ｔａｖｇ％が、下記式（１）：
（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）／（１００−Ｔａｖｇ）×１００≦１５・・・式（１）
を満たす条件で行う。
【００２１】
ここで、フィルムの「透過率」とは、フィルムに入射したある波長の光のうち、フィルムを透過して出射する光の割合を百分率で示した数値である。透過率の測定は、用いるレーザー光の波長を測定範囲に含む分光器により行うことができる。
【００２２】
フィルムの透過率をλの関数：ｆ（λ）としたとき、波長範囲λ１〜λ２におけるフィルムの透過率の最大値及び最小値の平均値Ｔａｖｇは、以下の式（２）で与えられる。
【００２３】
Ｔａｖｇ＝（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）／２  ・・・式（２）
【００２４】
図２は、本発明の製造方法における、様々な波長におけるフィルムの透過率のプロファイルの例を示すグラフである。図２に示す例では、波長λ１におけるフィルムの透過率がＴｍａｘであり、波長λ２におけるフィルムの透過率がＴｍｉｎである。この例においては、出光波長範囲λ１〜λ２において、フィルムの透過率ｆ（λ）は、一次関数に近似することができるので、前記式（２）に基づいて求められるＴａｖｇは、λ１〜λ２における相加平均となる。さらにフィルムの反射率が透過率に対して無視できる程度に小さい場合は、λ１〜λ２における平均のフィルムの吸収率は１００−Ｔａｖｇとなる。
【００２５】
式（１）の条件を満たす照射工程を行うための照射条件の調整の例としては、下記（ａ）〜（ｃ）が挙げられる。
調整（ａ）：レーザー光の中心波長を変更する。
調整（ｂ）：レーザー光の波長範囲を狭くする。
調整（ｃ）：フィルムの材料を変更する。
【００２６】
したがって、フィルムの透過率のプロファイルと、レーザー装置の出光波長範囲とを照合し、これらが式（１）を満たすか否かを判定し、満たさない場合は前記調整（ａ）〜（ｃ）のいずれか１以上を行うことにより、凹凸構造付きフィルムの製造のためのレーザー光の照射条件を、本発明の製造方法に適したものに調整しうる。
【００２７】
前記調整（ａ）は、単にレーザー装置を変更するか、又はレーザー装置の操作条件を変更することにより行いうる。例えば、ある種のレーザー装置では、出光中心波長を複数の波長から選択することができるものがあるので、そのようなレーザー装置を用い、出光中心波長を変更することにより、照射条件の調整を行うことができる。
【００２８】
より具体的には、汎用される炭酸ガスレーザー装置には、中心波長を、１０．６μｍ付近の波長及び９．３μｍ付近の波長を含むいくつかの波長から選択しうるものがあり、通常は中心波長１０．６μｍの発振が最も効率が高く、高い出力が得やすいので、１０．６μｍ付近を中心波長とする照射が汎用される。一方、フィルムの材料として炭化水素重合体を主に含むものを用いた場合、当該フィルムの透過率のプロファイルでは１０．６μｍ付近に、図２の例に模式的に示すような大きな傾斜を有することがある。したがって、そのようなフィルムに、そのような炭酸ガスレーザー装置で凹凸構造を付与する場合は、中心波長を、それ以外の波長、例えば９．３μｍ付近の波長に変更することにより、良好な凹凸構造の付与を達成しうる。
また、中心波長がたとえば９．３μｍのレーザー装置をただ単に用いたとしても、出光波長範囲が特定範囲外（たとえば中心波長を中心として±０．０４μｍ超等）となる場合には、凹凸構造の高さに不具合となり得るほどの変動を来すことがあり好ましくない。すなわち、中心波長が９．３μｍのレーザー装置としては、出光波長範囲が特定範囲内（たとえば中心波長を中心として±０．０４μｍ以内等）であるものを用いることが好ましい。
【００２９】
前記調整（ｂ）は、レーザー装置として、チューナブルレーザー装置を用いることにより行いうる。チューナブルレーザー装置とは、出光波長範囲を狭くするための機構を備えたレーザー装置である。当該機構の例としては、回折格子を含んだ機構が挙げられる。このようなチューナブルレーザー装置を用いることにより、レーザー光の波長範囲を狭くすることができる。
【００３０】
前記調整（ｃ）のより具体的な例としては、単にフィルムの材料を構成する重合体の種類を変更する、フィルムの材料に吸収率を調整するための物質を配合する、といった調整が挙げられる。
【００３１】
本発明の製造方法に用いるレーザー装置としては、フィルムの加工に用いうる各種の形式のものを用いることができる。用いうるレーザー装置の例としては、ＡｒＦエキシマレーザー装置、ＫｒＦエキシマレーザー装置、ＸｅＣｌエキシマレーザー装置、ＹＡＧレーザー装置（特に、第３高調波若しくは第４高調波）、ＹＬＦ若しくはＹＶＯ４の固体レーザー装置（特に、第３高調波若しくは第４高調波）、Ｔｉ：Ｓレーザー装置、半導体レーザー装置、ファイバーレーザー装置、及び炭酸ガスレーザー装置が挙げられる。これらのレーザー装置の中でも、比較的安価であり、且つフィルムの加工に適した出力が効率的に得られる観点から、炭酸ガスレーザー装置が好ましい。
【００３２】
照射工程におけるレーザー光の波長範囲λ１〜λ２の中心波長は、特に限定されず、フィルムの加工に用いうる任意の波長としうる。例えば、中心波長が、９μｍ〜１２μｍの範囲内のいずれかの値であるレーザー光を用いうる。特に、レーザー装置として炭酸ガスレーザー装置を用いる場合、波長範囲λ１〜λ２が中心波長として１０．６μｍ付近の波長（たとえば１０．５〜１０．７μｍ）を含むレーザー光、及び波長範囲λ１〜λ２が中心波長として９．３μｍ付近の波長（たとえば９．２〜９．４μｍ）を含むレーザー光を用いることができ、特に波長範囲λ１〜λ２が波長９．３μｍを含むレーザー光を用いた場合、炭化水素重合体を含むフィルムの凹凸構造の形成を、特に良好に行うことができる。
【００３３】
照射工程におけるレーザー光の波長範囲の最大値と最小値との差λ２−λ１は、通常のレーザー装置を用い、前記調整（ｂ）以外の方法により調整を行う場合、好ましくは０．２μｍ以下、より好ましくは０．１μｍ以下である。一方、チューナブルレーザー装置を用い、前記調整（ｂ）を含む方法により調整を行う場合、λ２−λ１は好ましくは０．０２μｍ以下である。λ２−λ１の下限は特に限定されず、０以上としうる。
【００３４】
レーザー光の出力は、好ましくは１Ｗ以上、より好ましくは５Ｗ以上、さらに好ましくは１５Ｗ以上であり、好ましくは１２０Ｗ以下、より好ましくは１００Ｗ以下、さらに好ましくは８０Ｗ以下、さらにより好ましくは７０Ｗ以下である。レーザー光の出力を前記範囲の下限値以上にすることにより、レーザー光の照射量が不足するのを防止して、フィルムの表面に対して凹凸構造を安定して形成することができる。また、レーザー光の出力を前記範囲の上限値以下とすることにより、フィルムに貫通孔が生じるのを抑制できる。
【００３５】
本発明の凹凸構造付きフィルムの製造方法によれば、凹凸構造の高さの変動が少ない凹凸構造付きフィルムを製造することができる。凹凸構造の高さとは、フィルムの表面に形成された凹凸構造の最も高い部分と、フィルムの表面との高さの差である。凹凸構造の高さは、干渉型表面形状測定装置（ＺＹＧＯ社製「ＮｅｗＶｉｅｗ７２００」）を用いて測定しうる。凹凸構造の高さの変動は、安定性の評価として着目している長さを持つ凹凸構造つきフィルムサンプルから凹凸領域内の凸部をランダムに１００箇所抽出し、フィルムの表面に対して凸部が突出している高さを測定し、平均値、最大値、及び最小値を求め、平均値に対して最大値及び最小値が何パーセント変動しているかを計算することにより求めうる。安定性の評価として着目する長さとは、たとえばロールとして巻き取る場合であれば、ロール１本分のフィルム長さなどである。凹凸構造の高さの変動は、好ましくは±２０％以下、より好ましくは±１５％以下である。凹凸構造の高さの変動をこのように低い値とすることにより、凹凸構造付きフィルムロール体におけるフィルム間の摩擦による傷の発生及びブロッキングを、効果的に低減することができる。
【００３６】
〔３．フィルム〕
本発明の製造方法に供するフィルムは、特に限定されず、レーザー光により加工可能な各種のフィルムを用いうる。フィルムは、延伸フィルムであってもよく、未延伸フィルムであってもよい。
【００３７】
凹凸構造付きフィルムを光学フィルムとして使用する場合には、フィルムは、光学部材としての機能を発揮する観点から、通常は高い透明性を有していることが好ましい。具体的には、フィルムの全光線透過率は、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠して、日本電色工業社製「濁度計  ＮＤＨ−２０００」を用いて、５箇所測定し、それから求めた平均値である。
【００３８】
また、凹凸構造付きフィルムを光学フィルムとして使用する場合には、フィルムは、通常、ヘイズが小さいことが好ましい。具体的には、フィルムのヘイズは、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下、特に好ましくは２％以下である。ヘイズを低い値とすることにより、凹凸構造付きフィルムから切り出したフィルム片を表示装置に組み込んだ場合に、その表示装置の表示画像の鮮明性を高めることができる。ここで、ヘイズは、日本電色工業社製の濁度計「ＮＤＨ２０００」を用いて測定できる。
【００３９】
本発明の製造方法に供するフィルムは通常、各種の重合体を含む、熱可塑性樹脂の層を１層以上備えるフィルムである。かかる重合体としては、炭化水素重合体、（メタ）アクリル重合体およびポリエステル等が挙げられる。
【００４０】
〔３．１．炭化水素重合体〕
本発明の製造方法に供するフィルムは、炭化水素重合体を含むことが好ましい。「炭化水素重合体を含む」フィルムには、炭化水素重合体を含む樹脂の層を１層以上備えるフィルム、及び炭化水素重合体を含む樹脂の層の１層以上と、その他の層を１層以上とを備えるフィルムの両方が含まれる。
【００４１】
炭化水素重合体、特に脂環式構造含有重合体は、透明性及び成形性が良好であるため、光学フィルム等の用途に好適に用いられるが、その炭素及び水素から主に構成される構造に起因して、多くの場合波長１０．６μｍ付近においてその透過率プロファイルに大きな傾斜を有する。一方、汎用される炭酸ガスレーザー装置から出光される、中心波長１０．６μｍのレーザー光は、波長範囲が広いことが多い。通常、そのような広い波長範囲は、フィルムの成形の用途においては留意されないが、本発明者が見出したところによれば、かかるレーザー光の波長範囲の広さと、かかる炭化水素重合体の透過率の傾斜により、レーザー光の吸収量に、意図せぬ大きな変動が起き、このような意図せぬ変動は、ナーリング等の目的で微細な凹凸構造を形成する場合、看過しえない程度の凹凸構造の不均一をもたらす。そこで、本発明の製造方法により、凹凸構造の高さの変動を抑制することにより、炭化水素重合体を含むフィルムの透明性及び成形性等の利点を享受しながら、且つ均一な凹凸構造の効率的な形成を達成することができる。
【００４２】
炭化水素重合体とは、重合体の繰り返し単位の少なくとも一部が、炭化水素基である重合体をいう。炭化水素重合体中の、繰り返し単位である炭化水素基の割合は、使用目的に応じて適宜選択しうるが、好ましくは５５重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。
【００４３】
炭化水素重合体としては、脂環式構造含有重合体が好ましい。脂環式構造含有重合体とは、重合体の繰り返し単位中に脂環式構造を有する重合体であり、主鎖に脂環式構造を有する重合体、及び、側鎖に脂環式構造を有する重合体のいずれであってもよい。中でも、機械的強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有する重合体が好ましい。
【００４４】
脂環式構造としては、例えば、飽和脂環式炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和脂環式炭化水素（シクロアルケン、シクロアルキン）構造などが挙げられる。中でも、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が特に好ましい。
【００４５】
脂環式構造を構成する炭素原子数は、一つの脂環式構造あたり、好ましくは４個以上、より好ましくは５個以上であり、好ましくは３０個以下、より好ましくは２０個以下、特に好ましくは１５個以下の範囲であるときに、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性が高度にバランスされ、好適である。
【００４６】
脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択しうるが、好ましくは５５重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこの範囲にあると、フィルムの透明性および耐熱性の観点から好ましい。
【００４７】
脂環式構造含有重合体としては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体、及び、これらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系重合体は、透明性と成形性が良好なため、好適に用いることができる。
【００４８】
ノルボルネン系重合体としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体、又はそれらの水素化物；ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体、又はそれらの水素化物；等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環（共）重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適に用いることができる。「（共）重合体」とは、重合体及び共重合体のことをいう。
【００４９】
ノルボルネン構造を有する単量体としては、例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、７，８−ベンゾトリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３−エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、およびこれらの化合物の誘導体（例えば、環に置換基を有するもの）などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一または相異なって、複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン構造を有する単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００５０】
極性基の種類としては、例えば、ヘテロ原子、またはヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、スルホン酸基などが挙げられる。
【００５１】
ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類およびその誘導体；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエンおよびその誘導体；などが挙げられる。ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００５２】
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との開環共重合体は、例えば、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより得ることができる。
【００５３】
ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィンおよびこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィンおよびこれらの誘導体；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエンなどの非共役ジエン；などが挙げられる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００５４】
ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、例えば、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより得ることができる。
【００５５】
単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の単環を有する環状オレフィン系モノマーの付加重合体を挙げることができる。
【００５６】
環状共役ジエン系重合体としては、例えば、１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン系モノマーの付加重合体を環化反応して得られる重合体；シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系モノマーの１，２−または１，４−付加重合体；およびこれらの水素化物；などを挙げることができる。
【００５７】
ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキセン、ビニルシクロヘキサン等のビニル脂環式炭化水素系モノマーの重合体およびその水素化物；スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素系モノマーを重合してなる重合体に含まれる芳香環部分を水素化してなる水素化物；ビニル脂環式炭化水素系モノマー、またはビニル芳香族炭化水素系モノマーとこれらビニル芳香族炭化水素系モノマーに対して共重合可能な他のモノマーとのランダム共重合体若しくはブロック共重合体等の共重合体の、芳香環の水素化物；等を挙げることができる。前記のブロック共重合体としては、例えば、ジブロック共重合体、トリブロック共重合体またはそれ以上のマルチブロック共重合体、並びに傾斜ブロック共重合体等を挙げることもできる。
【００５８】
炭化水素重合体の分子量は使用目的に応じて適宜選定されるが、溶媒としてシクロヘキサンを用いて（但し、試料がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよい）ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常１０，０００以上、好ましくは１５，０００以上、より好ましくは２０，０００以上であり、通常１００，０００以下、好ましくは８０，０００以下、より好ましくは５０，０００以下である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度および成型加工性が高度にバランスされ好適である。
【００５９】
炭化水素重合体の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は通常１．２以上、好ましくは１．５以上、更に好ましくは１．８以上であり、通常３．５以下、好ましくは３．０以下、更に好ましくは２．７以下である。凹凸構造付きフィルムを光学フィルムとして使用する場合、炭化水素重合体の分子量分布が３．５を超えると低分子成分が増すため緩和時間の短い成分が増加し、一見同じ面内レターデーションＲｅを有するフィルムであっても高温暴露時の緩和が短時間で大きくなることが推定され、フィルムの安定性が低下するおそれがある。一方、分子量分布が１．２を下回るようなものは炭化水素重合体の生産性の低下とコスト増につながりうる。
【００６０】
炭化水素重合体のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択しうるが、好ましくは１３０℃以上、より好ましくは１３５℃以上であり、好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１４５℃以下である。ガラス転移温度が１３０℃を下回ると高温下における耐久性が悪化する可能性があり、１５０℃を上回るものは耐久性は向上するが通常の延伸加工が困難となる可能性がある。
【００６１】
凹凸構造付きフィルムを、光学フィルムとして使用する場合は、炭化水素重合体は、光弾性係数の絶対値が１０×１０−１２Ｐａ−１以下であることが好ましく、７×１０−１２Ｐａ−１以下であることがより好ましく、４×１０−１２Ｐａ−１以下であることが特に好ましい。光弾性係数Ｃは、複屈折をΔｎ、応力をσとしたとき、「Ｃ＝Δｎ／σ」で表される値である。炭化水素重合体の光弾性係数が１０×１０−１２Ｐａ−１を超えると、凹凸構造付きフィルムの面内レターデーションＲｅのバラツキが大きくなるおそれがある。
【００６２】
炭化水素重合体の飽和吸水率は、好ましくは０．０３重量％以下、さらに好ましくは０．０２重量％以下、特に好ましくは０．０１重量％以下である。飽和吸水率が上記範囲であると、フィルムの面内レターデーションＲｅ及び厚さ方向レターデーションＲｔｈの経時変化を小さくすることができる。また、凹凸構造付きフィルムを光学フィルムとして使用する場合、フィルムを備える偏光板及び液晶表示装置の劣化を抑制でき、長期的にディスプレイの表示を安定で良好に保つことができる。
【００６３】
飽和吸水率は、試験片を一定温度の水中に一定時間浸漬して増加した重量を、浸漬前の試験片の重量に対する百分率で表した値である。通常は、２３℃の水中に２４時間、浸漬して測定される。脂環式構造含有重合体における飽和吸水率は、例えば、脂環式構造含有重合体中の極性基の量を減少させることにより、前記の範囲に調節することができる。飽和吸水率をより低くする観点から、脂環式構造含有重合体は、極性基を有さないことが好ましい。
【００６４】
フィルムを構成する樹脂の層は、本発明の効果を著しく損なわない限り、脂環式構造含有重合体等の重合体に加えて、それ以外の任意成分を含んでいてもよい。任意成分の例を挙げると、顔料、染料等の着色剤；蛍光増白剤；分散剤；熱安定剤；光安定剤；紫外線吸収剤；耐電防止剤；酸化防止剤；滑剤；などの添加剤が挙げられる。なお、任意成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ただし、フィルムを構成する樹脂の層は、脂環式構造含有重合体等の重合体を、一般的には約５０％〜１００％、または約７０％〜１００％含むことが好ましい。
【００６５】
フィルムを構成する樹脂の層は、樹脂を公知のフィルム成形法で成形することによって得られる。フィルム成形法としては、例えば、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。中でも、溶剤を使用しない溶融押出法の方が、残留揮発成分量を効率よく低減させることができ、地球環境や作業環境の観点、及び製造効率に優れる観点から好ましい。溶融押出法としては、ダイスを用いるインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。得られた樹脂の層は、そのまま本発明の製造方法に供するフィルムとして用いることができる。または、得られた樹脂の層の表面上に、任意に易滑層、帯電防止層等の任意の層を形成し、これを本発明の製造方法に供するフィルムとして用いることもできる。
【００６６】
〔３．２．易滑層〕
本発明の製造方法に供するフィルムの好ましい態様として、基材層と、前記基材層の表面上に形成された易滑層とを含むものが好ましく挙げられる。フィルムがその表面に易滑層を備える場合、フィルムの滑り性を向上させることができ、フィルムのハンドリング性を良好なものとし、フィルム間の摩擦による傷の発生、ブロッキング及びしわを安定して抑制できる。
【００６７】
易滑層は、易接着層としての機能をも備えたものとしうる。易接着層とは、接着剤を介して凹凸構造付きフィルムの一部であるフィルム片を他の部材（例えば、偏光子等）と貼り付ける際に、接着剤によるフィルム片と他の部材との接着を補強して、より強固に接着させる機能を有する層である。
【００６８】
易滑層は、フィルムの片面に設けられてもよく、両面に設けられてもよい。フィルムの片面のみに易滑層が設けられる場合、レーザー光を照射する面は、易滑層を有する側の面でもよく、その反対側の面でもよい。
【００６９】
易滑層は、例えば、水系樹脂を含む層とすることが好ましい。水系樹脂とは、水を媒体とした溶液または分散液として調製されうる樹脂である。水系樹脂を含む水溶液又は水分散液を基材層の表面に塗布して乾燥することにより、基材層の表面に、水系樹脂の層を形成することができる。水系樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、およびそれぞれの樹脂のエマルジョンなどが挙げられ、好ましくは水系ウレタン樹脂が挙げられる。
【００７０】
水系ウレタン樹脂はポリウレタンと、必要に応じてその他の成分とを含む。ポリウレタンは、接着性が低い炭化水素重合体を含む基材層に対して強力に接着できるので、易滑層が基材層から剥離することを効果的に抑制することができる。水系ウレタン樹脂に含まれるポリウレタンとしては、例えば、（ｉ）１分子中に平均２個以上の活性水素を含有する成分と（ii）多価イソシアネート成分とを反応させて得られるポリウレタン；または、上記（ｉ）成分及び（ii）成分をイソシアネート基過剰の条件下で、反応に不活性で水との親和性の大きい有機溶媒中でウレタン化反応させてイソシアネート基含有プレポリマーとし、次いで、該プレポリマーを中和し、鎖延長剤を用いて鎖延長し、水を加えて分散体とすることによって製造されるポリウレタン；などが挙げられる。これらのポリウレタン中には酸構造（酸残基）を含有させてもよい。
【００７１】
なお、イソシアネート基含有プレポリマーの鎖伸長方法は公知の方法によればよく、例えば、鎖伸長剤として、水、水溶性ポリアミン、グリコール類などを使用し、イソシアネート基含有プレポリマーと鎖伸長剤とを、必要に応じて触媒の存在下で反応させればよい。
【００７２】
前記（ｉ）成分（すなわち、１分子中に平均２個以上の活性水素を含有する成分）としては、特に限定されるものではないが、水酸基性の活性水素を有するものが好ましい。このような化合物の具体例としては、次のようなものが挙げられる。
【００７３】
（１）ポリオール化合物
ポリオール化合物として、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、２，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサングリコール、２，５−ヘキサンジオール、ジプロピレングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、トリシクロデカンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、２，２−ジメチルプロパンジオール、１，４−ブタンジオールなどが挙げられる。
【００７４】
（２）ポリエーテルポリオール
ポリエーテルポリオールとして、例えば、前記のポリオール化合物のアルキレンオキシド付加物；アルキレンオキシドと環状エーテル（例えばテトラヒドロフランなど）との開環（共）重合体；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、エチレングリコール−プロピレングリコールの共重合体；グリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリオクタメチレングリコールなどのグリコール類；などが挙げられる。
【００７５】
（３）ポリエステルポリオール
ポリエステルポリオールとして、例えば、アジピン酸、コハク酸、セバシン酸、グルタル酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸等のジカルボン酸又はその無水物と、上記（１）で挙げられたようなエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタメチレンジオール、ネオペンチルグリコールなどのポリオール化合物とを、水酸基過剰の条件で重縮合させて得られたものなどが挙げられる。より具体的には、例えば、エチレングリコール−アジピン酸縮合物、ブタンジオール−アジピン縮合物、ヘキサメチレングリコール−アジピン酸縮合物、エチレングリコール−プロピレングリコール−アジピン酸縮合物、またはグリコールを開始剤としてラクトンを開環重合させたポリラクトンジオールなどが挙げられる。
【００７６】
（４）ポリエーテルエステルポリオール
ポリエーテルエステルポリオールとして、例えば、エーテル基含有ポリオール（例えば、前記（２）のポリエーテルポリオールやジエチレングリコール等）あるいは、これと他のグリコールとの混合物を上記（３）で例示したようなジカルボン酸又はその無水物に加えてアルキレンオキシドを反応させてなるものなどが挙げられる。より具体的には、例えば、ポリテトラメチレングリコール−アジピン酸縮合物などが挙げられる。
【００７７】
（５）ポリカーボネートポリオール
ポリカーカーボネートポリオールとしては、例えば、一般式ＨＯ−Ｒ−（Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ）ｘ−ＯＨ（ただし、式中、Ｒは炭素原子数１〜１２の飽和脂肪酸ポリオール残基を示す。また、ｘは分子の繰り返し単位の数を示し、通常５〜５０の整数である。）で示される化合物などが挙げられる。これらは、飽和脂肪族ポリオールと置換カーボネート（例えば、炭酸ジエチル、ジフェニルカーボネートなど）とを、水酸基が過剰となる条件で反応させるエステル交換法；前記飽和脂肪族ポリオールとホスゲンとを反応させるか、または必要に応じて、その後さらに飽和脂肪族ポリオールを反応させる方法；などにより得ることができる。
【００７８】
上記の（１）から（５）に例示したような化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００７９】
前記（ｉ）成分と反応させる（ii）成分（即ち、多価イソシアネート成分）としては、例えば、１分子中に平均２個以上のイソシアネート基を含有する脂肪族、脂環族または芳香族の化合物を使用してもよい。
【００８０】
脂肪族ジイソシアネート化合物としては、炭素原子数１〜１２の脂肪族ジイソシアネートが好ましく、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサンジイソシアネート、ヘキサンジイソシアネート（ＨＤＩ）などが挙げられる。脂環式ジイソシアネート化合物としては、炭素原子数４〜１８の脂環式ジイソシアネートが好ましく、例えば、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）などが挙げられる。芳香族イソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートなどが挙げられる。
【００８１】
また、水系ウレタン樹脂のうちでポリウレタンが酸構造を含有するもの（以下、適宜「酸構造含有水系ウレタン樹脂」という。）は、界面活性剤を使用せずに、若しくは界面活性剤の量が少なくても、水中に分散させることが可能となるので、易滑層の耐水性が良くなることが期待される。これを自己乳化型といい、界面活性剤を使用すること無く分子イオン性のみで、水中にポリウレタン樹脂が分散安定化しうることを意味する。このような水系ウレタン樹脂を用いた易滑層は、界面活性剤が不要であるために、炭化水素重合体樹脂、脂環式構造含有重合体樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、およびポリエステル樹脂との接着性に優れ、かつ高い透明性を維持できるため、好ましい。
【００８２】
酸構造としては、例えば、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホン酸基（−ＳＯ３Ｈ）等の酸基などを挙げることができる。また、酸構造は、ポリウレタンにおいて側鎖に存在していてもよく、末端に存在していてもよい。なお、酸構造は、１種類を用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００８３】
酸構造の含有量としては、水系ウレタン樹脂中の酸価として、好ましくは２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、より好ましくは２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であり、好ましくは２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では水分散性が不十分となりやすく、一方、酸価が２５０ｍｇＫＯＨ／ｇより大きいと易滑層の耐水性が劣る傾向となる。
【００８４】
ポリウレタンに酸構造を導入する方法は、従来から用いられている方法が特に制限なく使用できる。好ましい例を挙げると、ジメチロールアルカン酸を、前記（２）から（４）に記載したグリコール成分の一部もしくは全部と置き換えることによって、予めポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルエステルポリオール等にカルボキシル基を導入する方法が挙げられる。ここで用いられるジメチロールアルカン酸としては、例えば、ジメチロール酢酸、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロール酪酸などが挙げられる。なお、ジメチロールアルカン酸は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００８５】
また、ポリウレタンが含む酸構造の一部又は全部は、中和することが好ましい。酸構造を中和することにより、水系ウレタン樹脂の水分散性を向上させることができる。酸成分を中和する中和剤としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどの有機アミン；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアなどの無機塩基；などを挙げられる。なお、中和剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００８６】
ポリウレタンの数平均分子量は、１，０００以上が好ましく、より好ましくは２０，０００以上であり、１，０００，０００以下が好ましく、より好ましくは２００，０００以下である。
【００８７】
水系ウレタン樹脂として、市販されている水系ウレタン樹脂をそのまま使用することも可能である。水系ウレタン樹脂としては、例えば、旭電化工業（株）製の「アデカボンタイター」シリーズ、三井東圧化学（株）製の「オレスター」シリーズ、大日本インキ化学工業（株）製の「ボンディック」シリーズ、「ハイドラン」シリーズ、バイエル社製の「インプラニール」シリーズ、日本ソフラン（株）製の「ソフラネート」シリーズ、花王（株）製の「ポイズ」シリーズ、三洋化成工業（株）製の「サンプレン」シリーズ、保土谷化学工業（株）製の「アイゼラックス」シリーズ、第一工業製薬（株）製の「スーパーフレックス」シリーズ、ゼネカ（株）製の「ネオレッツ」シリーズなどを用いることができる。なお、水系ウレタン樹脂は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００８８】
また、易滑層は、微粒子を含むことが好ましい。したがって、易滑層が水系樹脂により形成される場合、当該水系樹脂は微粒子を含むことが好ましい。易滑層に微粒子を含ませることにより、易滑層の表面に凹凸が形成される。それによって巻き取りの際に易滑層が他の層と接触する面積が小さくなり、小さくなった面積分だけ易滑層の表面の滑り性を向上させて、凹凸構造付きフィルムを巻き取る際のシワの発生を抑制できる。
【００８９】
微粒子の平均粒子径は、通常１ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上であり、通常５００ｎｍ以下、好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。平均粒子径を前記範囲の下限値以上にすることにより易滑層の滑り性を効果的に高めることができ、前記範囲の上限値以下にすることによりヘイズを低く抑えることができる。なお、微粒子の平均粒子径としては、レーザー回折法によって粒径分布を測定し、測定された粒径分布において小径側から計算した累積体積が５０％となる粒子径（５０％体積累積径Ｄ５０）を採用する。
【００９０】
微粒子としては、無機微粒子、有機微粒子のいずれを用いてもよいが、水分散性の微粒子を用いることが好ましい。無機微粒子の材料を挙げると、例えば、シリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニア等の無機酸化物；炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、燐酸カルシウム等が挙げられる。また、有機微粒子の材料を挙げると、例えば、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、（メタ）アクリル系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、シリカが好ましい。シリカの微粒子は、シワの発生を抑制する能力及び透明性に優れ、ヘイズを生じ難く、着色が無いため、凹凸構造付きフィルムの光学特性に与える影響がより小さいからである。また、シリカはウレタン樹脂への分散性および分散安定性が良好だからである。また、シリカの微粒子の中でも、非晶質コロイダルシリカ粒子が特に好ましい。
なお、微粒子は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００９１】
易滑層に含まれる微粒子の量は、易滑層に含まれる重合体１００重量部に対し、通常０．５重量部以上、好ましくは５重量部以上、より好ましくは８重量部以上であり、通常２０重量部以下、好ましくは１８重量部以下、より好ましくは１５重量部以下である。微粒子の量を前記の範囲の下限値以上とすることにより、フィルムのハンドリング性を向上させることができるので、凹凸構造付きフィルムを巻回した場合にシワの発生を抑制できる。また、微粒子の量を前記範囲の上限値以下とすることにより、凹凸構造付きフィルムの白濁の無い外観を維持できる。
【００９２】
易滑層の厚みが１μｍ以下の場合、易滑層の機械強度を向上させる目的で、易滑層の製造に用いる水系樹脂には、更に架橋剤を含ませることが好ましい。架橋剤としては、水系樹脂に含まれる重合体が有する反応性基と反応する官能基を有する化合物であれば、特に制限なく使用することができる。例えば、水系樹脂として水系ウレタン樹脂を用いる場合には、架橋剤として水系エポキシ化合物、水系アミノ化合物、水系イソシアネート化合物、水系カルボジイミド化合物、水系オキサゾリン化合物等を使用することが、材料の汎用性の観点から好ましい。易滑層を易接着層として機能させたい場合、特に水系エポキシ化合物、水系アミノ化合物、水系オキサゾリン化合物を使用することが、接着性の観点から好ましい。
【００９３】
水系エポキシ化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上のエポキシ基を有する化合物であればよい。水系エポキシ化合物の例を挙げると、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール；１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコール類１モルと、エピクロルヒドリン２モルとのエーテル化によって得られるジエポキシ化合物；グリセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等の多価アルコール類１モルと、エピクロルヒドリン２モル以上とのエーテル化によって得られるポリエポキシ化合物；フタル酸、テレフタル酸、シュウ酸、アジピン酸等のジカルボン酸１モルと、エピクロルヒドリン２モルとのエステル化によって得られるジエポキシ化合物等のエポキシ化合物；などが挙げられる。
【００９４】
水系アミノ化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上のアミノ基を有する化合物であればよい。水系アミノ化合物の例を挙げると、カルボジヒドラジド、シュウ酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、セバチン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、イソフタール酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、グリコリック酸ジヒドラジド、ポリアクリル酸ジヒドラジド等のヒドラジド化合物、メラミン樹脂、ユリア樹脂、グアナミン樹脂などが挙げられる。
【００９５】
水系イソシアネート化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上の非ブロック型のイソシアネート基若しくはブロック型のイソシアネート基を有する化合物であればよい。非ブロック型のイソシアネート化合物としては、例えば、多官能イソシアネート化合物と一価又は多価のノニオン性ポリアルキレンエーテルアルコールとを反応させて得られる化合物が挙げられる。ブロック型イソシアネート化合物としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート（２，４−ＴＤＩ）、２，６−トリレンジイソシアネート（２，６−ＴＤＩ）、４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、メチルシクロヘキシルジイソシアネート（Ｈ６ＴＤＩ）、４，４´−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（Ｈ６ＸＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＨＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、ノルボルネンジイソシアネート（ＮＢＤＩ）、２，４，６−トリイソプロピルフェニルジイソシアネート（ＴＩＤＩ）、１，１２−ジイソシアネートドデカン（ＤＤＩ）、２，４，−ビス−（８−イソシアネートオクチル）−１，３−ジオクチルシクロブタン（ＯＣＤＩ）、ｎ−ペンタン−１，４−ジイソシアネート、およびこれらのイソシアヌレート変性体、アダクト変性体、ビュレット変性体、アロファネート変性体、並びに、これらの重合体で１個以上のイソシアネート基を有するものをポリオキシアルキレン基、カルボキシル基等で変性し、水溶性およびまたは水分散性にし、イソシアネート基をブロック剤（フェノール、ε−カプロラクタムなど）でマスクすることにより得られる化合物などが挙げられる。
【００９６】
水系カルボジイミド化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上のカルボジイミド結合（−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−）を有する化合物であればよい。２個以上のカルボジイミド結合を有する化合物は、例えば、２分子以上のポリイソシアネートとカルボジイミド化触媒とを用いて、２個のイソシアネート基を脱炭酸反応させてカルボジイミド結合を形成させる方法によって得ることができる。２個以上のカルボジイミド結合を有する化合物を作製する際に使用されるポリイソシアネートおよびカルボジイミド化触媒は特に制限されず、従来公知のものを使用することができる。
【００９７】
水系オキサゾリン化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上のオキサゾリン基を有する化合物であればよい。
【００９８】
架橋剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００９９】
易滑層が水系ウレタン樹脂で形成されている場合、架橋剤の量は、ポリウレタン１００重量部に対して、固形分で、通常１重量部以上、好ましくは５重量部以上であり、通常７０重量部以下、好ましくは６５重量部以下である。このような配合にすることにより、易滑層の強度と、水系ウレタン樹脂の水分散体の安定性を両立できることが可能となる。
【０１００】
さらに、易滑層には、必要に応じて、例えば、耐熱安定剤、耐候安定剤、レベリング剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、顔料、天然油、合成油、ワックス、架橋剤などを含ませてもよい。なお、これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１０１】
易滑層の厚みは、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０３μｍ以上が特に好ましく、また、５μｍ以下が好ましく、２μｍ以下がより好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。前記範囲内にあると、基材層と易滑層との十分な接着強度が得られ、かつ、フィルムの反りなどの欠陥を無くすことができる。
【０１０２】
基材層の厚みｔ１と易滑層の厚みｔ２との比ｔ２／ｔ１は、０．０００３以上が好ましく、０．００１０以上がより好ましく、０．００２５以上が特に好ましく、また、０．０１００以下が好ましく、０．００８０以下がより好ましく、０．００５０以下が特に好ましい。これにより、凹凸構造付きフィルムの高い透明性と高い滑り性との両立が可能となる。フィルムが基材層を２層以上備える場合にはそれらの基材層の厚みの合計が厚みｔ１となり、フィルムが易滑層を２層以上備える場合にはそれらの易滑層の厚みの合計が厚みｔ２となる。
【０１０３】
易滑層は、厚み２０μｍにおける鉛筆硬度がＨ以上であることが好ましい。前記範囲にすることにより、凹凸構造付きフィルムに耐擦傷性を付与することができる。
【０１０４】
基材層と易滑層との界面屈折率差は、０．０５以下であることが好ましい。界面屈折率差が前記範囲内にあると、フィルムを光が透過する際の光の損失を抑えることができる。
【０１０５】
易滑層の製造方法に制限は無い。易滑層は、例えば、重合体、粒子及び溶媒、並びに必要に応じて任意の成分を含む樹脂組成物を用意し、その樹脂組成物を基材層の表面に塗布して前記樹脂組成物の層を形成した後で、その樹脂組成物の層を硬化させることにより製造しうる。また、樹脂組成物の層の硬化は、例えば、紫外線等の活性エネルギー線の照射、加熱等により行ないうる。
【０１０６】
例えば、易滑層をウレタン樹脂により形成する場合は、基材層の表面に、水系ウレタン樹脂の水分散体を直接に塗布することにより、易滑層としてのウレタン樹脂層を形成してもよい。水系ウレタン樹脂の水分散体は、水系ウレタン樹脂が水に分散された液状の組成物であり、例えば、エマルション、コロイド分散系、水溶液などの形態としてもよい。
【０１０７】
水系ウレタン樹脂の水分散体には、水溶性の溶剤が含まれていてもよい。水溶性の溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどが挙げられる。なお、これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１０８】
水系ウレタン樹脂の水分散体に分散する水系ウレタン樹脂の粒子の粒径は、凹凸構造付きフィルムの光学特性の観点から、０．０１μｍ〜０．４μｍであることが好ましい。水系ウレタン樹脂粒子の粒径は、動的光散乱法により測定することができ、例えば、大塚電子（株）製の光散乱光度計ＤＬＳ−８０００シリーズにより測定することができる。
【０１０９】
水系ウレタン樹脂の水分散体の粘度は、１５ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、１０ｍＰａ・ｓ以下であるのが特に好ましい。水系ウレタン樹脂の分散体の粘度が前記範囲内にあると、基材層の表面に水系ウレタン樹脂の水分散体を均一に塗布することができる。水系ウレタン樹脂の水分散体の粘度は、音叉型振動式粘度計により２５℃の条件下で測定した値である。水系ウレタン樹脂の水分散体中の水系ウレタン樹脂の割合及び水系ウレタン樹脂の粒径などを変化させることにより、水系ウレタン樹脂の水分散体の粘度を調整することができる。
【０１１０】
水系樹脂を含む塗布液の塗布方法は特に限定されず、公知の塗布法を採用することができる。具体的な塗布法としては、例えば、ワイヤーバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、グラビアコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、スライドコート法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。
【０１１１】
易滑層を設ける前に、易滑層を設ける基材層の表面に改質処理を施し、基材層と易滑層との密着性をより向上させることが好ましい。基材層に対する表面改質処理としては、例えば、エネルギー線照射処理及び薬品処理等が挙げられる。エネルギー線照射処理としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。また、薬品処理としては、例えば、ケン化処理、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に浸漬し、その後、水で洗浄する方法が挙げられる。
【０１１２】
易滑層を易接着層としても機能させる場合、易滑層の表面には、親水化表面処理を施すことが好ましい。易滑層の表面は、通常は凹凸構造付きフィルムの一部であるフィルム片を他の部材と貼り合わせる際の貼り合せ面となる。したがって、この面の親水性を更に向上させることにより、フィルム片と他の部材との接着性を顕著に向上させることができる。
易滑層に対する親水性表面処理としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、火炎処理、紫外線照射処理などが挙げられる。中でも、処理効率の点などからコロナ放電処理及び大気圧プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。
【０１１３】
〔４．照射工程後の工程：ロール体の製造方法〕
照射工程を経て得られた凹凸構造付きフィルムは、必要に応じて、フィルム幅方向に平行な軸を回転軸として巻き取り、それにより凹凸構造付きフィルムのロール体を製造しうる。再び図１の例を参照して説明すると、得られた凹凸構造付きフィルム１００は、円筒形の巻芯１５０に、巻芯１５０の軸１５１が凹凸構造付きフィルム１００の幅方向と平行となるよう巻きつけられる。巻芯１５０を、その軸１５１を回転軸として回転させることにより、凹凸構造付きフィルム１００を巻回し、凹凸構造付きフィルムロール体１６０を得ることができる。凹凸構造付きフィルムロール体１６０は、凹凸構造付きフィルム１００の端部１１０及び１２０に高さの変動が抑制された凹凸構造１３０が形成されているので、しわ、ねじれ等の不具合が抑制され、保管及び運搬が容易なものとすることができる。
【０１１４】
図１に示す例では、ロール体１６０には凹凸構造付きフィルム１００のみを巻回しているが、本発明のロール体の製造方法はこれに限られず、凹凸構造付きフィルム１００とマスキングフィルム等の他の部材とを重ねた状態で巻回を行って、重なった凹凸構造付きフィルム１００のおもて面及び裏面が直接接しない状態のロール体を製造してもよい。しかしながら、本発明の凹凸構造付きフィルムの製造方法では、上に述べた特定の照射工程により凹凸構造を形成しているので、マスキングフィルムを用いず、凹凸構造付きフィルム１００のおもて面及び裏面が直接接するよう巻回しても、良好なロール体の巻回を行うことができる。特に、フィルムとして、易滑層を備えるものを採用することにより、特に良好にロール体の巻回を行うことができる。
【０１１５】
凹凸構造付きフィルムロール体１６０の巻回数に制限は無いが、通常４０回以上、好ましくは６０回以上であり、通常２７０００回以下、好ましくは１３０００回以下である。また、凹凸構造付きフィルムロール体１６０の外径に制限はないが、通常１６０ｍｍ以上、好ましくは１９０ｍｍ以上であり、通常２３００ｍｍ以下、好ましくは１２００ｍｍ以下である。凹凸構造付きフィルムの巻回速度に制限はないが、巻回速度が速すぎると空気の巻き込みを生じやすくなり、また巻回速度が遅すぎると製造効率が低下するため、通常５ｍ／分以上、好ましくは１０ｍ／分以上であり、通常３００ｍ／分以下、好ましくは２５０ｍ／分以下、より好ましくは２００ｍ／分以下である。
【実施例】
【０１１６】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。また、以下の説明において、量を表す「部」及び「％」は、特に断らない限り重量基準である。以下に述べる操作は、特に断らない限り、常温常圧の環境において行った。
【０１１７】
以下の実施例及び比較例において、凹凸構造付きフィルムの凹凸構造の高さ変動の評価、凹凸構造付きフィルムのロール体の状態の評価、並びにＴａｖｇ、Ｔｍａｘ及びＴｍｉｎの測定は、以下の通り行った。
【０１１８】
（凹凸構造の高さ変動の評価）
凹凸領域内の凸部をランダムに１００箇所抽出し、フィルムの表面に対して凸部が突出している高さを、干渉型表面形状測定装置（ＺＹＧＯ社製「ＮｅｗＶｉｅｗ７２００」）を用いて測定し、平均値、最大値、及び最小値を求め、平均値に対して最大値及び最小値が何パーセント変動しているかを計算した。結果を表１に示す。
【０１１９】
（凹凸構造付きフィルムのロール体の状態の評価）
凹凸構造付きフィルムのロール体の状態を、目視で、ねじれ、しわ等の不具合の有無について観察し、下記の評価基準に従って評価した。評価結果を表１に示す。
○：しわ及びねじれが確認されなかった。
△：しわ又はねじれが観察された。
×：顕著なしわ又はねじれが観察された。
【０１２０】
（Ｔａｖｇ、Ｔｍａｘ及びＴｍｉｎの測定）
実施例及び比較例のそれぞれにおいて、フィルム１０として用いたフィルムについて、Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ製「Ｓｐｅｃｔｒｕｍ１００」を用いて、透過する光の波長と透過率との関係を測定した。当該測定結果から、照射工程において用いたレーザー光の出光波長範囲における透過率、平均値Ｔａｖｇ、最大値Ｔｍａｘ、及び最小値Ｔｍｉｎを計算した。
【０１２１】
＜実施例１＞
（１−１．基材層の製造）
脂環式構造含有重合体樹脂（日本ゼオン社製「ＺＥＯＮＯＲ」；ガラス転移温度１３５℃）のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて７０℃で２時間乾燥した後、直径６５ｍｍのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するＴダイ式フィルム溶融押出し成形機を使用し、溶融樹脂温度２７０℃、Ｔダイの幅１５００ｍｍの成形条件で、厚さ１００μｍ、幅１２００ｍｍ、長さ２０００ｍの、基材層として用いるフィルムを製造した。
【０１２２】
（１−２．易滑層の形成）
温度計、攪拌機、窒素導入管および冷却管を備えた２０００ｍｌの四つ口フラスコに、ポリエステルポリオールであるマキシモールＦＳＫ−２０００（川崎化成工業社製、水酸基価５６ｍｇＫＯＨ／ｇ）８４０ｇと、多価イソシアネート成分であるトリレンジイソシアネート１１９ｇと、溶媒であるメチルエチルケトン２００ｇとを入れ、窒素を導入しながら７５℃で１時間反応させた。反応終了後、６０℃まで冷却し、酸構造を導入するためにジメチロールプロピオン酸３５．６ｇを加え、７５℃で反応させて、イソシアネート基（−ＮＣＯ基）の含有量が０．５％の酸構造含有水系ウレタン樹脂溶液を得た。次いで、この酸構造含有水系ウレタン樹脂溶液を４０℃にまで冷却し、水１５００ｇと、中和剤である水酸化ナトリウム１０．６ｇとを加え、ホモミキサーで高速撹拌することにより乳化を行った。この乳化液から加熱減圧下によりメチルエチルケトンを留去した後、シリカビーズ（日本アエロジル社製「アエロジル１３０」；平均粒子径１６ｎｍ）９９．５ｇを加え攪拌し、さらに固形分濃度が１０％になるように水を加えて中和処理し、水系ウレタン樹脂の水分散体を得た。
【０１２３】
工程（１−１）で得られた基材層として用いるフィルムの片面に、上記ウレタン樹脂の水分散体をリバースロール法で、乾燥後の膜厚が１００ｎｍになるように塗布した後、９０℃にて乾燥した。これにより、基材層の片面に易滑層を形成して、基材層及び易滑層を備えるフィルムを得た。得られたフィルムについて、下記（１−３）で用いたレーザー光の出光波長範囲におけるＴａｖｇ、Ｔｍａｘ及びＴｍｉｎを測定した。結果を表１に示す。
【０１２４】
（１−３．照射工程及びロール体の形成）
図１に模式的に示す形態で、工程（１−２）で得られたフィルムをフィルム１０として用いて照射工程を実施し、凹凸構造付きフィルム１００を製造した。
フィルム１０の易滑層を有する側の面に、レーザー装置２０及び２１からレーザー光を照射し、凹凸構造を有する凹凸領域１１及び１２を形成し、凹凸構造付きフィルム１００を製造した。凹凸領域１１及び１２の幅Ｗ１１０及びＷ１２０は、それぞれ１５ｍｍとした。フィルム１０を搬送するラインスピードは１０ｍ／分とした。
【０１２５】
レーザー装置２０及び２１としては、炭酸ガスレーザー装置を用い、レーザー装置の出力を２０Ｗ、出光波長の中心波長を１０．５９μｍ、出光波長範囲を、中心波長を中心として±０．０１μｍ以下とした。
【０１２６】
レーザー光のフィルム１０への照射は、炭酸ガスレーザー装置から発光した平行化したビームを、２枚のガルバノミラー（不図示）で反射し、ｆθレンズ（焦点距離２００ｍｍ）（不図示）を介して、搬送されるフィルム１０の表面に集光させることにより行った。ガルバノミラーの角度を制御することで、集光位置を、フィルム平面方向に移動させ、それにより、フィルム表面上へのレーザー光の照射の軌跡を制御した。
【０１２７】
本実施例において描いたレーザー光の照射の軌跡を、図３に示す。図３には、凹凸領域１１及び１２のうち凹凸領域１２のみを図示するが、凹凸領域１１においても、レーザー光の照射の軌跡は同様とした。レーザー光の照射の軌跡は、図３に示す通り、フィルム表面の凹凸領域内に多数の円４３０を描画するよう制御し、それにより円４３０に対応する形状の凹凸構造を形成した。個々の円４３０の直径は２．５ｍｍとした。円４３０は、幅１５ｍｍの凹凸領域内に、フィルム長尺方向に延長する５つの列を形成するよう配置した。図３中、線４１１〜４１５は、それぞれの列の円の中心を通る線であり、隣り合う線４１１〜４１５の間隔（矢印Ａ４１〜Ａ４４のそれぞれで示される距離）は２．５ｍｍとした。それぞれの列における、円４３０の中心間の距離（矢印Ａ４５及びＡ４６で示される距離）は６ｍｍとした。線４１１、４１３及び４１５上の円は幅方向に整列し、線４１２及び４１４上の円も幅方向に整列し、線４１１、４１３及び４１５上の幅方向に整列する円の中心を通る線４２１と、線４１２及び４１４上の幅方向に整列する円の中心を通る線４２２との距離（矢印Ａ４７及びＡ４８で示される距離）は３ｍｍとした。凹凸構造の形成速度を調整することにより、凹凸構造の高さは、１０μｍ程度とした。
【０１２８】
得られた凹凸構造付きフィルム１００を巻芯１５０に巻き取り、ロール体１６０を得た。
【０１２９】
（１−４．評価）
得られた凹凸構造付きフィルムについて、凹凸構造の高さの変動を評価した。加えて、凹凸構造付きフィルムのロール体の状態を評価した。結果を表１に示す。
【０１３０】
＜実施例２＞
レーザー装置として、炭酸ガスレーザー装置を用い、レーザー装置の出力を４０Ｗ、出光波長の中心波長を９．２７μｍ、出光波長範囲を、中心波長を中心として±０．０４μｍとした他は、実施例１と同様にして、フィルムに凹凸構造を形成し、凹凸構造付きフィルム及びロール体を得て、評価及び測定を行った。結果を表１に示す。
【０１３１】
＜実施例３＞
レーザー装置として、炭酸ガスレーザー装置を用い、レーザー装置の出力を４５Ｗ、出光波長の中心波長を１０．２μｍ、出光波長範囲を、中心波長を中心として±０．１μｍとした他は、実施例１と同様にして、フィルムに凹凸構造を形成し、凹凸構造付きフィルム及びロール体を得て、評価及び測定を行った。結果を表１に示す。
【０１３２】
＜比較例１＞
レーザー装置として、炭酸ガスレーザー装置を用い、レーザー装置の出力を２０Ｗ、出光波長の中心波長を１０．６０μｍ、出光波長範囲を、中心波長を中心として±０．０３μｍとした他は、実施例１と同様にして、フィルムに凹凸構造を形成し、凹凸構造付きフィルム及びロール体を得て、評価及び測定を行った。結果を表１に示す。
【０１３３】
＜比較例２＞
炭酸ガスレーザー装置を用い、レーザー装置の出力を４０Ｗ、出光波長の中心波長を９．３μｍ、出光波長範囲を、中心波長を中心として±０．２μｍとした他は、実施例１と同様にして、フィルムに凹凸構造を形成し、凹凸構造付きフィルム及びロール体を得て、評価及び測定を行った。結果を表１に示す。
【０１３４】
【表１】
2015189051.tif 000003
【０１３５】
１）顕著なねじれが観察された。
２）ねじれが観察された。
【０１３６】
表１に示す通り、レーザー光として式（１）の条件を満たすものを用いた実施例１〜３で得られた凹凸構造付きフィルムの凹凸構造の高さは、変動が抑制され、またロール体（凹凸構造付きロール体）の状態も、しわ、ねじれがなく良好であった。レーザー光として、式（１）の条件を満たさないものを用いた比較例１および２で得られた凹凸構造付きフィルムの凹凸構造の高さは、変動が大きく、またロール体の状態も、ねじれがあり良好ではなかった。
【符号の説明】
【０１３７】
１０  フィルム
１１，１２  端部
２０，２１  レーザー装置
１００  凹凸構造付きフィルム
１１０，１２０  凹凸領域
１３０  凹凸構造
１４０  領域
１５０  巻芯
１６０  凹凸構造付きフィルムロール体
Ａ  搬送方向
ＭＤ  ＭＤ方向
ＴＤ  ＴＤ方向
Ｗ１１０，Ｗ１２０  幅
【図１】
2015189051.tif 000004
【図２】
2015189051.tif 000005
【図３】
2015189051.tif 000006