(57)【要約】【課題】昨今の高速印画プリンタにて印画を行っても、高温高湿環境下で印画した際に、黒画像を形成した時の黒色の高濃度部に関して印画物表面が部分的にマット化する画質不良が発生せず、密着性も良好である熱転写受像シートを提供する。【解決手段】基材２の一方の面に、断熱層３、下引き層４、染料受容層５を順次積層形成した熱転写受像シート１である。断熱層３は、空隙を含むポリオレフィンフィルムである。下引き層４は、層形成後にポリオレフィンエマルジョンとＴｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンとの合計を５０質量％以上含む。染料受容層５は、Ｔｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンを含み、Ｔｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンの最低造膜温度を造膜助剤により１０℃以下とした塗布液を、塗布および乾燥して形成されたことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の一方の面に、断熱層、下引き層、染料受容層を順次積層形成した熱転写受像シートにおいて、
前記断熱層が、空隙を含むポリオレフィンフィルムであり、
前記下引き層が、層形成後にポリオレフィンエマルジョンとガラス転移温度（Ｔｇ）が４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンとの合計を５０質量％以上含み、
前記染料受容層が、ガラス転移温度がＴｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンを含みかつ前記Ｔｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンの最低造膜温度を造膜助剤により１０℃以下とした塗布液を、塗布および乾燥して形成されたことを特徴とする、熱転写受像シート。
【請求項２】
前記下引き層の前記ポリオレフィンエマルジョンに対する前記Ｔｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンの比率が、固形分比で１／３以上３以下の範囲であることを特徴とする、請求項１に記載の熱転写受像シート。
【請求項３】
前記下引き層の前記Ｔｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンが乳化剤を含まないことを特徴とする、請求項１または２に記載の熱転写受像シート。
【請求項４】
前記染料受容層の前記Ｔｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンが乳化剤を含まないことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の熱転写受像シート。
【請求項５】
基材の一方の面に、断熱層、下引き層、染料受容層が形成された熱転写受像シートの製造方法であって、
前記基材の一方の面に、空隙を含むポリオレフィンフィルムの前記断熱層を形成し、
前記断熱層の上面に、層形成後にポリオレフィンエマルジョンとガラス転移温度がＴｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンとの合計を５０質量％以上含むための塗布液を、塗布および乾燥して前記下引き層を形成し、
前記下引き層の上面に、ガラス転移温度がＴｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンを含んだ塗布液を、当該Ｔｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンの最低造膜温度を造膜助剤により１０℃以下として、塗布および乾燥して前記染料受容層を形成した、熱転写受像シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱転写方式のプリンタに使用される熱転写受像シートに関するもので、基材の一方の面に、断熱層、下引き層、染料受容層を順次積層形成した熱転写受像シート、および当該熱転写受像シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、熱転写記録媒体は、サーマルリボンと呼ばれ、熱転写方式のプリンタに使用されるインクリボンのことであり、基材の一方の面に熱転写層、その基材の他方の面に耐熱滑性層（バックコート層）を設けた構成となっている。ここで熱転写層は、インクの層であって、プリンタのサーマルヘッドに発生する熱によって、そのインクを昇華（昇華転写方式）あるいは溶融（溶融転写方式）させ、熱転写受像シート側に転写するものである。
【０００３】
現在、熱転写方式の中でも昇華転写方式は、プリンタの高機能化と合わせて各種画像を簡便にフルカラー形成できるため、デジタルカメラのセルフプリント、身分証明書などのカード類、アミューズメント用出力物等、広く利用されている。そういった用途の多様化と共に、小型化、高速化、低コスト化、また得られる印画物への耐久性を求める声も大きくなり、近年では基材シートの同じ側に、印画物への耐久性を付与する保護層等を重ならないように設けられた複数の熱転写層を持つ熱転写記録媒体がかなり普及してきている。
【０００４】
また、環境負荷を軽減するため、染料受容層や下引き層が水系である熱転写受像シートが求められている。そのような状況の中、用途の多様化と普及拡大に伴い、よりプリンタの印画速度の高速化が進むに従って、黒画像を形成した時に印画物表面が部分的にマット化する画質不良（コゲ）が、水系の熱転写受像シートでは特に発生しやすくなっている。
【０００５】
このような問題を解決するために、例えば特許文献１では、染料受容層には、架橋ゲル分率が２０％以上、Ｋ値が４０以上、および平均重合度が７５０以上である架橋ポリ塩化ビニル系樹脂、およびエポキシ変性シリコーンを含む離型剤をさらに含むことが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１２−２００９４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に提案されている熱転写受像シートを用いて、高温高湿環境下にて昨今の高速印画プリンタにて同じく印画を行ったところ、熱転写記録媒体の種類によっては、コゲ対策が不十分であることが確認された。また、密着性も不十分であり、熱転写受像シートの一部がインクリボンにとられてしまう現象トラレが発生した。さらに中空粒子起因と考えられる画質不良（不均一性）も発生している。
これまで染料受容層、下引き層、断熱層に関して、様々なバインダや添加剤、樹脂フィルム等を用いる報告がされているが、昨今の高速印画プリンタにおいて印画を行うと、高温・高湿下にてコゲ、基材密着性、画質が良好である熱転写受像シートは見出されていない状況である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、断熱層、下引き層、受容層に用いる材料を規定することで、上記課題を達成することを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、請求項１記載の発明は、基材の一方の面に、断熱層、下引き層、染料受容層を順次積層形成した熱転写受像シートにおいて、断熱層が、空隙を含むポリオレフィンフィルムであり、下引き層が、層形成後にポリオレフィンエマルジョンとガラス転移温度がＴｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンとの合計を５０質量％以上含み、染料受容層が、ガラス転移温度がＴｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンを含みかつＴｇ６０℃以上塩ビ共重合体エマルジョンの最低造膜温度を成膜助剤により１０℃以下とした塗布液を、塗布および乾燥して形成されたことを特徴とする、熱転写受像シートである。
【００１０】
請求項２記載の発明は、下引き層のポリオレフィンエマルジョンに対するＴｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンの比率が、固形分比で１／３以上３以下の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の熱転写受像シート請求項１に記載の熱転写受像シートである。
【００１１】
請求項３記載の発明は、下引き層がＴｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンが乳化剤を含まないことを特徴とする、熱転写受像シートである。
【００１２】
請求項４記載の発明は、染料受容層がＴｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンが乳化剤を含まないことを特徴とする、熱転写受像シートである。
【００１３】
請求項５記載の発明は、基材の一方の面に、断熱層、下引き層、染料受容層が形成された熱転写受像シートの製造方法であって、基材の一方の面に、空隙を含むポリオレフィンフィルムの断熱層を形成し、断熱層の上面に、層形成後にポリオレフィンエマルジョンとガラス転移温度がＴｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンとの合計を５０質量％以上含むための塗布液を、塗布および乾燥して下引き層を形成し、下引き層の上面に、ガラス転移温度がＴｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンを含んだ塗布液を、当該Ｔｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンの最低造膜温度を造膜助剤により１０℃以下として、塗布および乾燥して染料受容層を形成した、熱転写受像シートの製造方法である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、熱転写受像シートにおいて、昨今の高速印画プリンタにて印画を行っても、高温高湿環境下で印画した際に、黒画像を形成した時の黒色の高濃度部に関して印画物表面が部分的にマット化する画質不良が発生せず、密着性も良好であるという効果を発現する。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に基づく実施形態に係る熱転写受像シートの側断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明についてさらに詳細に説明する。図１は、熱転写受像シート１の模式図である。本発明の熱転写受像シート１は、少なくとも基材２、断熱層３、下引き層４、および染料受容層５より成る。
【００１７】
基材２は、従来公知のもので対応でき、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリプロピレンやポリエチレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリアミド等の合成樹脂のフィルム、および上質紙、中質紙、コート紙、アート紙、樹脂ラミネート紙などの紙類等を、単独でまたは組み合わされた複合体として使用可能である。
【００１８】
基材２の厚さは、印画物としてのコシ、強度や耐熱性等を考慮し、２５μｍ以上２５０μｍ以下の範囲のものが使用可能であるが、より好ましくは５０μｍ以上２００μｍ以下程度のものが好ましい。
【００１９】
次に、基材２の一方の面に設けられた断熱層３は、空隙を含むポリオレフィンフィルムであれば従来公知のもので対応できる。断熱層３としては、例えば画質に影響を与える平滑性や光沢性等を考慮し、発泡フィルムの片面または両面にスキン層を設けた複合フィルムを用いることが好ましい。また、断熱層３としてポリオレフィンフィルムを用いることで、中空粒子特有の画質不良（不均一性）を防ぐことができる。
【００２０】
断熱層３の厚さは、１０μｍ以上８０μｍ以下の範囲のものが使用可能であるが、より好ましくは２０μｍ以上６０μｍ以下程度のものが好ましい。
【００２１】
熱転写受像シート１は、断熱層３と染料受容層５の間に、少なくとも下引き層４を有する。本発明の下引き層４は、ポリオレフィンエマルジョンとガラス転移温度（以下、Ｔｇと記す）が４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンとを主成分として含むことにより、昨今の高速印画プリンタにて印画を行っても、高温高湿環境下で黒画像を形成した時の印画物表面が部分的にマット化するという画質不良が発生せず、断熱層３と下引き層４との間および下引き層４と染料受容層５との間の密着性を良好とすることができる。
【００２２】
ここで、上述の主成分とは、本発明の効果を損なわない限り、上記ポリオレフィンエマルジョンとＴｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンの他に、さらに他の成分が添加されていても良い旨を表す。具体的には、形成後の下引き層４全体からみて、ポリオレフィンエマルジョンとＴｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンとの合計が５０質量％超で含まれるという意味であるが、８０質量％以上含まれるのが好ましい。
【００２３】
また、下引き層４のポリオレフィンエマルジョンは、ポリオレフィンフィルムとの分子レベルの親和性が良好であり、断熱層３と下引き層４との間の密着性に寄与している。ポリオレフィンエマルジョンは、密着性向上のため塩素化されていないことが好ましい。一方、Ｔｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンは、下引き層４と染料受容層５との間の密着性に寄与している。染料受容層５にも塩ビ共重合体エマルジョンが含有されているため、下引き層４と、染料受容層５との界面に亀裂や空隙等が生じることなく、十分に密着することが可能となる。
【００２４】
ポリオレフィンエマルジョンおよびＴｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンは、公知のものが使用でき、特に限定されるものではない。塩ビ共重合体エマルジョンとしては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−アクリル共重合体、塩化ビニル−アクリル−エチレン共重合体等を挙げることができる。
【００２５】
Ｔｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンは、乳化剤を含まなくても良く、乳化剤がないことにより、耐水性が向上する。
【００２６】
下引き層４は、形成後に主成分として含まれることとなるポリオレフィンエマルジョンとＴｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンとを含有した塗布液を、塗布および乾燥して形成する。この下引き層４のポリオレフィンエマルジョン：塩ビ共重合体エマルジョンの比率は、２５：７５〜７５：２５が好ましい。換言すると、ポリオレフィンエマルジョンに対するＴｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンの比率を、固形分比で１／３以上３以下の範囲で設定することが好ましい。
【００２７】
下引き層４の厚さは、０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲のものが使用可能であるが、０．２μｍ以上１．０μｍ以下程度のものがより好ましい。０．１μｍ未満であると、下引き層４の膜厚調整が困難であり、膜厚が０．１μｍ未満でバラツキが生じると、印画濃度にバラツキが発生してしまう。また、断熱層３または／および染料受容層５との密着性に問題を抱える不安がある。一方、１．０μｍ超では、高速印画時における印画濃度が低くなってしまう。よって、コスト面の観点から１．０μｍ以下であることが好ましい。
【００２８】
次に、基材２の断熱層３側の最表面に設けられた染料受容層５は、少なくともＴｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンを含有し、最低造膜温度を成膜助剤により１０℃以下にする必要がある。
【００２９】
Ｔｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンは、公知のものが使用でき、特に限定されるものではない。例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−アクリル共重合体、塩化ビニル−アクリル−エチレン共重合体等を挙げることができる。Ｔｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンを用いることで、高い反射濃度を得ることができる。上記エマルジョンは乳化剤を含まなくても良く、乳化剤がないことにより耐水性が向上する。
【００３０】
コゲ発生のメカニズムは定かではないが、下引き層４および染料受容層５が吸湿し、その水分がランダムに気化することで、水分が気化した部分の印画物表面が部分的にマット化すると考えられる。そのため、吸湿性が比較的高い水系受像紙で発生しやすい。また、下引き層４と染料受容層５の濡れが悪い場合や、エマルジョンの造膜温度が高い場合、乾燥後に染料受容層５が均一に広がらず表面にクラックが発生する。その結果、下引き層４の吸湿性が大きくなり、水分の気化、コゲが発生しやすくなる。
【００３１】
さらに、熱転写記録媒体に染料バリア性を持たせるために、水系樹脂の層が含有されている場合、コゲはさらに発生しやすくなる。
【００３２】
理由は定かではないが、下引き層４の水分は染料受容層５を通過して蒸発するため、コゲは下引き層４の影響を強く受ける。コゲ発生を防ぐためには、染料受容層５表面のクラックを減らし、下引き層４からの水分の気化を防ぐことが必要である。
【００３３】
上記下引き層４と染料受容層５には、塩ビ共重合体エマルジョンが共に用いられ、かつ造膜温度を１０℃以下にすることで、染料受容層５表面にクラックが発生しづらい。さらに、下引き層４の塩ビ共重合体エマルジョンはＴｇが低く、最低造膜温度も水の沸点よりも大幅に低いため、突発的な水分の気化を防いでいる。これは、下引き層４内で水分が気化することなく染料受容層５へと移動しているためと推測している。
【００３４】
染料受容層５に用いられる造膜補助剤としては、例えばトリプロピレングリコールモノメチルエーテル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等の各種高沸点溶剤等が使用できる。その他、アセチレングリコール、アセチレングリコール等の揮発性が高いものを利用することも可能であり、これらを利用した場合は残留溶剤もほとんど発生することはない。これらは単独、あるいは２種以上を混合しても良い。
【００３５】
染料受容層５は、離型剤を含んでいても良い。離型剤としては、例えばシリコーン系、フッ素系、リン酸エステル系といった各種オイルやエマルジョン、界面活性剤や、金属酸化物、シリカ等の各種フィラー、ワックス類等が公知のものが使用できる。これらは単独、あるいは２種以上を混合しても良い。中でも、シリコーンエマルジョンを使用することが好ましい。
【００３６】
染料受容層５の厚さは、０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲のものが使用可能であるが、０．２μｍ以上８μｍ以下程度のものがより好ましい。また、必要に応じて架橋剤や酸化防止剤、蛍光染料や、公知の添加剤を含有しても良い。
【００３７】
また、本発明の熱転写受像シート１には、基材２と断熱層３とを貼り合わせるための接着層を設けても良い。接着層に用いられる材料としては、従来公知のもので対応でき、例えばポリエチレン等のポリオレフィン系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、酢酸ビニル系樹脂等が使用できる。その中でもポリエチレンやウレタン系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
【００３８】
また、本発明の熱転写受像シート１には、基材２の断熱層３が設けられている側とは反対側に、裏面層を設けても良い。裏面層は、プリンタ搬送性向上や、染料受容層５とのブロッキング防止、印画前後の熱転写受像シート１のカール防止のために設けられる。裏面層に用いられる材料としては、従来公知のもので対応でき、例えばポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド等のバインダ樹脂を用いることができる。また、必要に応じてフィラーや帯電防止剤等の、公知の添加剤を含有しても良い。
【実施例】
【００３９】
以下に、本発明の各実施例および各比較例に用いた材料を示す。なお、文中で「部」とあるのは、特に断りのない限り質量基準である。また、本発明は実施例に限定されるものではない。
【００４０】
（実施例１）
基材として厚さ１４０μｍの上質紙を使用し、一方の面に溶融押し出し法により厚さ３０μｍのポリエチレン樹脂層を形成した。また、発泡ポリプロピレンフィルムの片面にスキン層を設けた、厚さ４０μｍの断熱層を用意した。
【００４１】
次に、基材のポリエチレン樹脂層側とは反対側の面と、断熱層のスキン層を設けていない面との間に、ポリエチレン樹脂を溶融押し出ししてポリエチレン樹脂層を形成し、サンドラミ方式にて貼り合わせた。また、この溶融押し出ししたポリエチレン樹脂層の厚さは、１５μｍとなるように形成した。
【００４２】
発泡ポリプロピレンフィルムのスキン層側に、下引き層塗布液−１を、乾燥後の厚みが０．５μｍとなるように塗布、乾燥することで、下引き層を形成した。さらにその下引き層の上に、染料受容層塗布液−１を、乾燥後の厚みが３μｍとなるように塗布、乾燥することで、染料受容層を形成し、実施例１の熱転写受像シートを得た。なお、最低造膜温度はＪＩＳＫ６８２８−２に基づき測定を行った。
【００４３】
＜下引き層塗布液−１＞
ポリオレフィンエマルジョン                        ２５．３部
（アローベースＳＢ−１０１０、ユニチカ（株）製、固形分２５％）
塩ビ共重合体エマルジョン                          １４．７部
（ビニブラン２７８、日信化学工業（株）製、Ｔｇ３３℃、固形分４３％）
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル          ４．０部
純水                                              ５６．０部
＜染料受容層塗布液−１＞
塩ビ共重合体エマルジョン                          ４０．０部
（ビニブラン６０３、日信化学工業（株）製、Ｔｇ６３℃、固形分５０％）
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル          ４．０部
純水                                              ５５．０部
シリコーンエマルジョン                              １．０部
（ＢＹ ２２−７３６ ＥＸ、東レ・ダウコーニング（株）製）
造膜温度                                                ７℃
【００４４】
（実施例２）
実施例１で作製した熱転写受像シートにおいて、下引き層を下記組成の下引き層塗布液−２にした以外は、実施例１と同様にして、実施例２の熱転写受像シートを得た。
＜下引き層塗布液−２＞
ポリオレフィンエマルジョン                        １４．６部
（アローベースＳＢ−１０１０、ユニチカ（株）製、固形分２５％）
塩ビ共重合体エマルジョン                          ２５．４部
（ビニブラン２７８、日信化学工業（株）製、Ｔｇ３３℃、固形分４３％）
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル          ４．０部
純水                                              ５６．０部
【００４５】
（実施例３）
実施例１で作製した熱転写受像シートにおいて、下引き層を下記組成の下引き層塗布液−３にした以外は、実施例１と同様にして、実施例３の熱転写受像シートを得た。
＜下引き層塗布液−３＞
ポリオレフィンエマルジョン                        ３３．５部
（アローベースＳＢ−１０１０、ユニチカ（株）製、固形分２５％）
塩ビ共重合体エマルジョン                            ６．５部
（ビニブラン２７８、日信化学工業（株）製、Ｔｇ３３℃、固形分４３％）
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル          ４．０部
純水                                              ５６．０部
【００４６】
（実施例４）
実施例１で作製した熱転写受像シートにおいて、染料受容層を下記組成の染料受容層塗布液−２にした以外は、実施例１と同様にして、実施例４の熱転写受像シートを得た。
＜染料受容層塗布液−２＞
塩ビ共重合体エマルジョン                          ４０．０部
（ビニブラン７０１、日信化学工業（株）製、Ｔｇ７３℃、固形分３０％）
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル          ４．０部
純水                                              ５５．４部
シリコーンエマルジョン                              ０．６部
（ＢＹ ２２−７３６ ＥＸ、東レ・ダウコーニング（株）製）
造膜温度                                                ０℃
【００４７】
（実施例５）
実施例１で作製した熱転写受像シートにおいて、下引き層を下記組成の下引き層塗布液−４にした以外は、実施例１と同様にして、実施例５の熱転写受像シートを得た。
＜下引き層塗布液−４＞
ポリオレフィンエマルジョン                        ２１．８部
（アローベースＳＢ−１０１０、ユニチカ（株）製、固形分２５％）
塩ビ共重合体エマルジョン                          １８．２部
（ビニブラン７１１、日信化学工業（株）製、Ｔｇ３０℃、固形分３０％）
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル          ４．０部
純水                                              ５６．０部
【００４８】
（比較例１）
実施例１で作製した熱転写受像シートにおいて、下引き層を下記組成の下引き層塗布液−５にした以外は、実施例１と同様にして、比較例１の熱転写受像シートを得た。
＜下引き層塗布液−５＞
ポリオレフィンエマルジョン                        ４０．０部
（アローベースＳＢ−１０１０、ユニチカ（株）製、固形分２５％）
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル          ４．０部
純水                                              ５６．０部
【００４９】
（比較例２）
実施例１で作製した熱転写受像シートにおいて、下引き層を下記組成の下引き層塗布液−６にした以外は、実施例１と同様にして、比較例２の熱転写受像シートを得た。
＜下引き層塗布液−６＞
塩ビ共重合体エマルジョン                          ４０．０部
（ビニブラン２７８、日信化学工業（株）製、Ｔｇ３３℃、固形分４３％）
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル          ４．０部
純水                                              ５６．０部
【００５０】
（比較例３）
実施例１で作製した熱転写受像シートにおいて、下引き層を下記組成の下引き層塗布液−７にした以外は、実施例１と同様にして、比較例３の熱転写受像シートを得た。
＜下引き層塗布液−７＞
ポリオレフィンエマルジョン                        ２６．７部
（アローベースＳＢ−１０１０、ユニチカ（株）製、固形分２５％）
塩ビ共重合体エマルジョン                          １３．３部
（ビニブラン６０３、日信化学工業（株）製、Ｔｇ６３℃、固形分５０％）
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル          ４．０部
純水                                              ５６．０部
【００５１】
（比較例４）
実施例１で作製した熱転写受像シートにおいて、染料受容層を下記組成の染料受容層塗布液−３にした以外は、実施例１と同様にして、比較例４の熱転写受像シートを得た。
＜染料受容層塗布液−３＞
塩ビ共重合体エマルジョン                          ４０．０部
（ビニブラン２７８、日信化学工業（株）製、Ｔｇ３３℃、固形分４３％）
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル          ４．０部
純水                                              ５５．１部
シリコーンエマルジョン                              ０．９部
（ＢＹ ２２−７３６ ＥＸ、東レ・ダウコーニング（株）製）
造膜温度                                                ０℃
【００５２】
（比較例５）
実施例１で作製した熱転写受像シートにおいて、染料受容層を下記組成の染料受容層塗布液−４にした以外は、実施例１と同様にして、比較例５の熱転写受像シートを得た。
＜染料受容層塗布液−４＞
塩ビ共重合体エマルジョン                          ４０．０部
（ビニブラン６０３、日信化学工業（株）製、Ｔｇ６３℃、固形分５０％）
純水                                              ５９．０部
シリコーンエマルジョン                              １．０部
（ＢＹ ２２−７３６ ＥＸ、東レ・ダウコーニング（株）製）
造膜温度                                              ５８℃
【００５３】
＜熱転写記録媒体の作製＞
基材として、４．５μｍの片面易接着処理付きポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、その非易接着処理面に下記組成の耐熱滑性層塗布液を、乾燥後の塗布量が１．０ｇ／ｍ２となるように塗布、乾燥し、耐熱滑性層付き基材を得た。次に、耐熱滑性層付き基材の易接着処理面に、下記組成のプライマー層および熱転写層塗布液を、乾燥後の塗布量が１．０ｇ／ｍ２となるように塗布、乾燥して熱転写層を形成し、熱転写記録媒体を得た。
【００５４】
＜耐熱滑性層塗布液＞
シリコーン系アクリルグラフトポリマー              ５０．０部
（東亜合成（株）ＵＳ−３５０）
メチルエチルケトン                                ５０．０部
＜プライマー層塗布液＞
ポリビニルアルコール                                ２．５部
イソプロピルアルコール                            ３０．０部
純水                                              ６７．５部
＜熱転写層塗布液＞
Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー３６                        ２．５部
Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー６３                        ２．５部
ポリビニルアセタール樹脂                            ５．０部
トルエン                                          ４５．０部
メチルエチルケトン                                ４５．０部
【００５５】
＜印画評価＞
実施例１〜５、比較例１〜５の熱転写受像シートおよび熱転写記録媒体を使用し、印画速度が２．０ｍｓｅｃ／ｌｉｎｅ、解像度が３００×３００ＤＰＩの評価用サーマルプリンタにてベタ画像を印画し、最高反射濃度を測定した。なお、最高反射濃度は、Ｘ−ｒｉｔｅ５２８にて測定した値である。
また、熱転写受像紙シート、熱転写記録媒体、および評価用サーマルプリンタを４５℃８０％ＲＨ環境下に２時間保存した後、ベタ画像を印画し、コゲおよび密着性の評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００５６】
＜コゲ評価＞
コゲの評価は、以下の基準にて行った。△以上が実用上問題ないレベルである。
◎：熱転写媒体の抜け殻にもマット化の傾向が認められない。
○：マット化が認められない
△：マット化がごく僅かに認められる
×：マット化が認められる
【００５７】
＜密着性評価＞
密着性の評価は、印画物をセロハンテープ剥離し、以下の基準にて行った。△以上が実用上問題ないレベルである。
○：界面剥離が発生していない
△：断熱層と下引き層との間あるいは下引き層と染料受像層との間でごく僅かに剥離が認められる
×：断熱層と下引き層との間あるいは下引き層と染料受像層との間で剥離が認められる
【００５８】
【表１】
2015189020.tif 000003
【００５９】
表１に示す結果から分かるように、下引き層がポリオレフィンエマルジョンとＴｇ４０℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンとを主成分として含み、染料受容層がＴｇ６０℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンを含み、塩ビ共重合体エマルジョンの最低造膜温度を造膜助剤により１０℃以下とした実施例１〜５の熱転写受像シートは、高温高湿環境下で印画した際に、黒画像を形成した時の黒色の高濃度部に関して印画物表面が部分的にマット化する画質不良（コゲ）が発生せず、密着性も良好であり、本発明による効果が確認された。
【００６０】
下引き層のポリオレフィンエマルジョン：塩ビ共重合体エマルジョンの比率を２５：７５とした実施例２では、実用上の問題ない範囲で断熱層と下引き層との間の密着力の低下が確認された。下引き層のポリオレフィンエマルジョン：塩ビ共重合体エマルジョンの比率を７５：２５とした実施例３では、実用上の問題ない範囲で下引き層と染料受容層との間の密着力の低下が確認された。
実施例４、５にて下地層あるいは受像層に乳化剤を含有しない塩ビ共重合体エマルジョンを使用した場合、リボン抜け殻にもマット化の傾向が認められなかった。
【００６１】
これに対して、比較例１の熱転写受像シートは、下引き層にポリオレフィンエマルジョンを含有しないことで、密着性が悪化し、断熱層と下引き層との間で剥離が認められた。比較例２の熱転写受像シートは、下引き層に塩ビ共重合体エマルジョンを含有しないことで、密着性が悪化し、下引き層と染料受容層との間で剥離が認められた。
また、下引き層にＴｇ４０℃より大きい塩ビ共重合体エマルジョンを使用した場合、コゲの悪化が、染料受容層がＴｇ６０℃より小さい塩ビ共重合体エマルジョンを含んだ場合、最高反射濃度の低下が、それぞれ確認された。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明により得られる熱転写受像シートは、昇華転写方式のプリンタに使用することができ、プリンタの高速・高機能化と併せて、各種画像を簡便にフルカラー形成できるため、デジタルカメラのセルフプリント、身分証明書などのカード類、アミューズメント用出力物等に広く利用できる。
【符号の説明】
【００６３】
１：熱転写受像シート
２：基材
３：断熱層
４：下引き層
５：染料受容層
【図１】
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