(57)【要約】【課題】パーティクルの発生を抑制する。【解決手段】液ヘッド１００は、処理液の供給管２４ｂの一端と接続された入口１０２ａと、処理液を吐出するノズルＮと接続された吐出口１０２ｂと、処理液を上流側に戻す排出管２４ｃの一端と接続された循環口１０２ｃと、入口１０２ａと吐出口１０２ｂとを連通させるが入口１０２ａ及び吐出口１０２ｂと循環口１０２ｃとを連通させない吐出位置と、入口１０２ａと循環口１０２ｃとを連通させるが入口１０２ａ及び循環口１０２ｃと吐出口１０２ｂとを連通させない循環位置の間で動作する切替ブロック１０４Ａとを備える。【選択図】図５
2015179728.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体の供給ラインの一端と接続された入口と、
液体を吐出するノズルと接続された吐出口と、
液体を上流側に戻す循環ラインの一端と接続された循環口と、
前記入口と前記吐出口とを連通させるが前記入口と前記循環口とを連通させず且つ前記吐出口と前記循環口とを連通させない第１の状態と、前記入口と前記循環口とを連通させるが前記入口と前記吐出口とを連通させず且つ前記循環口と前記吐出口とを連通させない第２の状態とを切り替える切替部とを備える、流路切替装置。
【請求項２】
前記切替部は、
前記入口、前記吐出口及び前記循環口が形成された筐体と、
前記筐体内に配置された切替ブロックと、
前記切替ブロックを前記筐体内において動作させる駆動部と
を有し、
前記切替ブロックは、前記駆動部から動力を受けて、前記入口と前記吐出口とを連通させるが前記入口と前記循環口とを連通させず且つ前記吐出口と前記循環口とを連通させない吐出位置と、前記入口と前記循環口とを連通させるが前記入口と前記吐出口とを連通させず且つ前記循環口と前記吐出口とを連通させない循環位置との間で動く、請求項１に記載の流路切替装置。
【請求項３】
前記切替ブロックには、互いに交わらない第１及び第２の貫通孔が形成されており、
前記切替ブロックが前記吐出位置にあるときには、前記第１の貫通孔の各端がそれぞれ前記入口及び前記吐出口に接続されることで前記第１の貫通孔が前記入口と前記吐出口とを連通すると共に、前記第２の貫通孔が前記入口、前記吐出口及び前記循環口から選択されるいずれの２点も連通しておらず、
前記切替ブロックが前記循環位置にあるときには、前記第２の貫通孔の各端がそれぞれ前記入口及び前記循環口に接続されることで前記第２の貫通孔が前記入口と前記循環口とを連通すると共に、前記第１の貫通孔が前記入口、前記吐出口及び前記循環口から選択されるいずれの２点も連通していない、請求項２に記載の流路切替装置。
【請求項４】
前記切替ブロックには、互いに交わらない貫通孔及び凹部が形成されており、
前記切替ブロックが前記吐出位置にあるときには、前記貫通孔の各端がそれぞれ前記入口及び前記吐出口に接続されることで前記貫通孔が前記入口と前記吐出口とを連通すると共に、前記凹部が前記入口、前記吐出口及び前記循環口から選択されるいずれの２点も連通しておらず、
前記切替ブロックが前記循環位置にあるときには、前記凹部が前記入口及び前記循環口に接続されることで前記凹部が前記入口と前記循環口とを連通すると共に、前記貫通孔が前記入口、前記吐出口及び前記循環口から選択されるいずれの２点も連通していない、請求項２に記載の流路切替装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の流路切替装置と、
前記供給ライン上に配置され、前記供給ラインを通じて液体を前記流路切替装置に送り出すポンプ装置と、
前記供給ラインにおいて前記循環ラインによって液体が戻される箇所よりも下流側に配置されたフィルタ装置と、
前記切替部が前記第１及び第２の状態のいずれにあるかを示す信号を出力する出力部と、
前記出力部から出力された信号に基づいて、前記切替部が前記第１の状態にあるときは前記入口及び前記吐出口を通じて液体を前記ノズルから吐出させる吐出動作と、前記切替部が前記第２の状態にあるときは前記入口及び前記循環口を通じて液体を前記循環ラインに戻させる循環動作とを実行する制御部とを更に備える、液供給システム。
【請求項６】
前記フィルタ装置と前記流路切替装置との間に配置され、前記ノズルから吐出される液体の流量を制御するためのバルブをさらに備える、請求項５に記載の液供給システム。
【請求項７】
液体の供給ラインの一端と接続された入口と、液体を吐出するノズルと接続された吐出口と、液体を上流側に戻す循環ラインの一端と接続された循環口と、前記入口、前記吐出口及び前記循環口のうちのいずれか２つの間の連通状態を切り替える切替部とを備える流路切替装置の前記切替部を動作させ、前記流路切替装置を、前記入口と前記吐出口とが連通するが前記入口と前記循環口とが連通せず且つ前記吐出口と前記循環口とが連通しない第１の状態とすることと、
前記流路切替装置が前記第１の状態にあるときに、前記供給ライン上に配置されたフィルタ装置を通過した液体の流量を所定の大きさに制御可能な流量制御弁を開放して、前記入口及び前記吐出口を介して前記ノズルから液体を吐出させることと、
前記流量制御弁を閉塞して、前記ノズルからの液体の吐出を停止させることと、
前記切替部を動作させ、前記流路切替装置を、前記入口と前記循環口とが連通するが前記入口と前記吐出口とが連通せず且つ前記循環口と前記吐出口とが連通しない第２の状態とすることと、
前記流路切替装置が前記第２の状態にあるときに、前記流量制御弁を開放して、前記入口及び前記循環口を通じて液体を前記循環ラインに戻させることとを有する、液供給方法。
【請求項８】
液体の供給ラインの一端と接続された入口と、液体を吐出するノズルと接続された吐出口と、液体を上流側に戻す循環ラインの一端と接続された循環口と、前記入口、前記吐出口及び前記循環口のうちのいずれか２つの間の連通状態を切り替える切替部とを備える流路切替装置の前記切替部を動作させ、前記流路切替装置を、前記入口と前記循環口とが連通するが前記入口と前記吐出口とが連通せず且つ前記循環口と前記吐出口とが連通しない第１の状態とすることと、
前記流路切替装置が前記第１の状態にあるときに、前記供給ライン上に配置されたフィルタ装置を通過した液体の流量を所定の大きさに制御可能な流量制御弁を開放して、前記入口及び前記循環口を通じて液体を前記循環ラインに戻させることと、
前記流量制御弁を閉塞して、前記循環口から前記循環ラインへの液体の流出を停止させることと、
前記切替部を動作させ、前記流路切替装置を、前記入口と前記吐出口とが連通するが前記入口と前記循環口とが連通せず且つ前記吐出口と前記循環口とが連通しない第２の状態とすることと、
前記流路切替装置が前記第２の状態にあるときに、前記流量制御弁を開放して、前記入口及び前記吐出口を介して前記ノズルから液体を吐出させることとを有する、液供給方法。
【請求項９】
請求項５又は６に記載の液供給システムにおいて前記吐出動作と前記循環動作とを前記制御部に実行させるためのプログラムを記録した、コンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、流路切替装置、液供給システム、液供給方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、基板の表面に基板処理のための各種液体をノズルから吐出させる液処理装置を開示する。液処理装置は、液体を貯留する容器とノズルとを接続する供給配管と、供給配管上に配置されたフィルタ装置と、供給配管上であってフィルタ装置の下流側に配置されたポンプと、供給配管のうちポンプの下流側とフィルタ装置の上流側とを接続する循環配管とを備える。
【０００３】
この液処理装置によれば、容器から供給された液体は、供給配管を介してフィルタ装置及びポンプの順に流れノズルから吐出される。一方、ノズルからの液体の吐出が停止されている場合には、ポンプから流出した液体が循環配管を介して供給配管のうちフィルタ装置の上流側に戻され、再びフィルタ装置を通過した後にポンプに到達する。そのため、ノズルからの液体が停止されている場合でも、液処理装置内で液体がフィルタ装置を循環するので、液体がフィルタ装置において滞留しパーティクルが増加することが抑制される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−２１１５２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の液処理装置によれば、ノズルからの液体の吐出が停止されている間、供給配管のうち循環配管が分岐している分岐部の下流側からノズルにかけては、液体が循環せずに滞留する。そのため、分岐部からノズルにかけて、液体の滞留に伴うパーティクルの増加が懸念されていた。
【０００６】
そこで、本開示は、パーティクルの発生を抑制することが可能な流路切替装置、液供給システム、液供給方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体を説明する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の一つの観点に係る流路切替装置は、液体の供給ラインの一端と接続された入口と、液体を吐出するノズルと接続された吐出口と、液体を上流側に戻す循環ラインの一端と接続された循環口と、入口と吐出口とを連通させるが入口と循環口とを連通させず且つ吐出口と循環口とを連通させない第１の状態と、入口と循環口とを連通させるが入口と吐出口とを連通させず且つ循環口と吐出口とを連通させない第２の状態とを切り替える切替部とを備える。
【０００８】
本開示の一つの観点に係る流路切替装置では、切替部によって、入口と吐出口とを連通させるが入口と循環口とを連通させず且つ吐出口と循環口とを連通させない第１の状態と、入口と循環口とを連通させるが入口と吐出口とを連通させず且つ循環口と吐出口とを連通させない第２の状態とが切り替えられる。そのため、第１の状態では、流路切替装置の入口から流入した液体が吐出口から流出し、直ちにノズルから吐出される。一方、第２の状態では、流路切替装置の入口から流入した液体が循環口から流出し、循環ラインによって液体が上流側に戻される。従って、液体が吐出されるノズルの直前において、液体を循環させることができる。その結果、液体が滞留し難くなるので、パーティクルの発生を極めて抑制することが可能となる。
【０００９】
切替部は、入口、吐出口及び循環口が形成された筐体と、筐体内に配置された切替ブロックと、切替ブロックを筐体内において動作させる駆動部とを有し、切替ブロックは、駆動部から動力を受けて、入口と吐出口とを連通させるが入口と循環口とを連通させず且つ吐出口と循環口とを連通させない吐出位置と、入口と循環口とを連通させるが入口と吐出口とを連通させず且つ循環口と吐出口とを連通させない循環位置との間で動いてもよい。この場合、筐体と切替ブロックとの位置関係を相対的に変化させるだけで、吐出位置と循環位置とが切り替えられる。そのため、簡単な構成によりパーティクルの発生を抑制することが可能となる。
【００１０】
切替ブロックには、互いに交わらない第１及び第２の貫通孔が形成されており、切替ブロックが吐出位置にあるときには、第１の貫通孔の各端がそれぞれ入口及び吐出口に接続されることで第１の貫通孔が入口と吐出口とを連通すると共に、第２の貫通孔が入口、吐出口及び循環口から選択されるいずれの２点も連通しておらず、切替ブロックが循環位置にあるときには、第２の貫通孔の各端がそれぞれ入口及び循環口に接続されることで第２の貫通孔が入口と循環口とを連通すると共に、第１の貫通孔が入口、吐出口及び循環口から選択されるいずれの２点も連通していなくてもよい。
【００１１】
切替ブロックには、互いに交わらない貫通孔及び凹部が形成されており、切替ブロックが吐出位置にあるときには、貫通孔の各端がそれぞれ入口及び吐出口に接続されることで貫通孔が入口と吐出口とを連通すると共に、凹部が入口、吐出口及び循環口から選択されるいずれの２点も連通しておらず、切替ブロックが循環位置にあるときには、凹部が入口及び循環口に接続されることで凹部が入口と循環口とを連通すると共に、貫通孔が入口、吐出口及び循環口から選択されるいずれの２点も連通していなくてもよい。
【００１２】
本開示の他の観点に係る液供給システムは、上記の流路切替装置と、供給ライン上に配置され、供給ラインを通じて液体を流路切替装置に送り出すポンプ装置と、供給ラインにおいて循環ラインによって液体が戻される箇所よりも下流側に配置されたフィルタ装置と、切替部が第１及び第２の状態のいずれにあるかを示す信号を出力する出力部と、出力部から出力された信号に基づいて、切替部が第１の状態にあるときは入口及び吐出口を通じて液体をノズルから吐出させる吐出動作と、切替部が第２の状態にあるときは入口及び循環口を通じて液体を循環ラインに戻させる循環動作とを実行する制御部とを更に備える。
【００１３】
本開示の他の観点に係る液供給システムでは、上記の流路切替装置と同様に、パーティクルの発生を極めて抑制することが可能となる。
【００１４】
本開示の他の観点に係る液供給システムは、フィルタ装置と流路切替装置との間に配置され、ノズルから吐出される液体の流量を制御するためのバルブをさらに備えてもよい。この場合、ノズルから吐出される液体の流量をバルブによって所望の大きさに設定できる。
【００１５】
本開示の他の観点に係る液供給方法は、液体の供給ラインの一端と接続された入口と、液体を吐出するノズルと接続された吐出口と、液体を上流側に戻す循環ラインの一端と接続された循環口と、入口、吐出口及び循環口のうちのいずれか２つの間の連通状態を切り替える切替部とを備える流路切替装置の切替部を動作させ、流路切替装置を、入口と吐出口とが連通するが入口と循環口とが連通せず且つ吐出口と循環口とが連通しない第１の状態とすることと、流路切替装置が第１の状態にあるときに、供給ライン上に配置されたフィルタ装置を通過した液体の流量を所定の大きさに制御可能な流量制御弁を開放して、入口及び吐出口を介してノズルから液体を吐出させることと、流量制御弁を閉塞して、ノズルからの液体の吐出を停止させることと、切替部を動作させ、流路切替装置を、入口と循環口とが連通するが入口と吐出口とが連通せず且つ循環口と吐出口とが連通しない第２の状態とすることと、流路切替装置が第２の状態にあるときに、流量制御弁を開放して、入口及び循環口を通じて液体を循環ラインに戻させることとを有する。
【００１６】
本開示の他の観点に係る液供給方法は、液体の供給ラインの一端と接続された入口と、液体を吐出するノズルと接続された吐出口と、液体を上流側に戻す循環ラインの一端と接続された循環口と、入口、吐出口及び循環口のうちのいずれか２つの間の連通状態を切り替える切替部とを備える流路切替装置の切替部を動作させ、流路切替装置を、入口と循環口とが連通するが入口と吐出口とが連通せず且つ循環口と吐出口とが連通しない第１の状態とすることと、流路切替装置が第１の状態にあるときに、供給ライン上に配置されたフィルタ装置を通過した液体の流量を所定の大きさに制御可能な流量制御弁を開放して、入口及び循環口を通じて液体を循環ラインに戻させることと、流量制御弁を閉塞して、循環口から循環ラインへの液体の流出を停止させることと、切替部を動作させ、流路切替装置を、入口と吐出口とが連通するが入口と循環口とが連通せず且つ吐出口と循環口とが連通しない第２の状態とすることと、流路切替装置が第２の状態にあるときに、流量制御弁を開放して、入口及び吐出口を介してノズルから液体を吐出させることとを有する。
【００１７】
本開示の他の観点に係るこれらの液供給方法では、上記の流路切替装置と同様に、パーティクルの発生を極めて抑制することが可能となる。また、流量制御弁を用いているので、ノズルから吐出される液体の流量を所望の大きさに設定できる。
【００１８】
本開示の他の観点に係るコンピュータ読み取り可能な記録媒体は、上記の液供給システムにおいて吐出動作と循環動作とを制御部に実行させるためのプログラムを記録している。本開示の他の観点に係るコンピュータ読み取り可能な記録媒体は、上記の液供給システムと同様に、パーティクルの発生を極めて抑制することが可能となる。本明細書において、コンピュータ読み取り可能な記録媒体には、一時的でない有形の媒体（non-transitory computer recording medium）（例えば、各種の主記憶装置又は補助記憶装置）や、伝播信号（transitory computer recording medium）（例えば、ネットワークを介して提供可能なデータ信号）が含まれる。
【発明の効果】
【００１９】
本開示に係る流路切替装置、液供給システム、液供給方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体によれば、パーティクルの発生を抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１は、塗布・現像装置を示す斜視図である。
【図２】図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【図３】図３は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線断面図である。
【図４】図４は、現像処理ユニットを示す断面図である。
【図５】図５は、切替ブロックが吐出位置にある場合の液ヘッドを示す断面図である。
【図６】図６は切替ブロックを示す図であり、（ａ）は斜め上方から見た切替ブロックを示し、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ断面を示す。
【図７】図７は、処理液がノズルから吐出される場合の液供給システムを示す図である。
【図８】図８は、処理液が循環する場合の液供給システムを示す図である。
【図９】図９は、切替ブロックが循環位置にある場合の液ヘッドを示す断面図である。
【図１０】図１０は切替ブロックの他の例を示す図であり、（ａ）は斜め上方から見た切替ブロックを示し、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ断面を示す。
【図１１】図１１は切替ブロックの他の例を示す図であり、（ａ）は斜め上方から見た切替ブロックを示し、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ断面を示す。
【図１２】図１２は切替ブロックの他の例を示す図であり、（ａ）は斜め上方から見た切替ブロックを示し、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ断面を示す。
【図１３】図１３は切替ブロックの他の例を示す図であり、（ａ）は斜め上方から見た切替ブロックを示し、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ断面を示し、（ｃ）は（ａ）のＣ−Ｃ断面を示す。
【図１４】図１４は液ヘッドの他の例を示す図であり、（ａ）は切替ブロックが吐出位置にある場合を示し、（ｂ）は切替ブロックが循環位置にある場合を示す。
【図１５】図１５は、液供給システムの他の例を示す図である。
【図１６】図１６は、液供給システムの他の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の実施形態について図面を参照して説明するが、以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
【００２２】
［塗布・現像装置の構成］
まず、図１〜図３に示される塗布・現像装置１の構成の概要について説明する。塗布・現像装置１は、露光装置Ｅ１による露光処理の前に、ウエハＷの表面にレジスト材料を塗布してレジスト膜を形成する処理を行う。塗布・現像装置１は、露光装置Ｅ１による露光処理の後に、ウエハＷの表面に形成されたレジスト膜の現像処理を行う。本実施形態において、ウエハＷは円板状を呈するが、円形の一部が切り欠かれていたり、多角形などの円形以外の形状を呈するウエハを用いてもよい。ウエハＷは、例えば、半導体基板、ガラス基板、マスク基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）基板その他の各種基板であってもよい。
【００２３】
塗布・現像装置１は、図１及び図２に示されるように、キャリアブロックＢＫ１と、処理ブロックＢＫ２と、インターフェースブロックＢＫ３と、塗布・現像装置１の制御手段として機能する制御装置ＣＵとを備える。本実施形態において、キャリアブロックＢＫ１、処理ブロックＢＫ２、インターフェースブロックＢＫ３及び露光装置Ｅ１は、この順に直列に並んでいる。
【００２４】
キャリアブロックＢＫ１は、図１及び図３に示されるように、キャリアステーション１２と、搬入・搬出部１３とを有する。キャリアステーション１２は、複数のキャリア１１を支持する。キャリア１１は、複数枚のウエハＷを密封状態で収容する。キャリア１１は、ウエハＷを出し入れするための開閉扉（図示せず）を一側面１１ａ側に有する。キャリア１１は、側面１１ａが搬入・搬出部１３側に面するように、キャリアステーション１２上に着脱自在に設置される。
【００２５】
搬入・搬出部１３は、図１〜図３に示されるように、キャリアステーション１２上の複数のキャリア１１にそれぞれ対応する開閉扉１３ａを有する。側面１１ａの開閉扉と搬入・搬出部１３の開閉扉１３ａとが同時に開放されると、キャリア１１内と搬入・搬出部１３内とが連通する。搬入・搬出部１３は、図２及び図３に示されるように、受け渡しアームＡ１を内蔵している。受け渡しアームＡ１は、キャリア１１からウエハＷを取り出して処理ブロックＢＫ２に渡す。受け渡しアームＡ１は、処理ブロックＢＫ２からウエハＷを受け取ってキャリア１１内に戻す。
【００２６】
処理ブロックＢＫ２は、図１〜図３に示されるように、キャリアブロックＢＫ１に隣接すると共に、キャリアブロックＢＫ１と接続されている。処理ブロックＢＫ２は、図１及び図２に示されるように、下層反射防止膜形成ブロック（ＢＣＴブロック）１４と、レジスト膜形成ブロック（ＣＯＴブロック）１５と、上層反射防止膜形成ブロック（ＴＣＴブロック）１６と、現像処理ブロック（ＤＥＶブロック）１７とを有する。ＤＥＶブロック１７、ＢＣＴブロック１４、ＣＯＴブロック１５及びＴＣＴブロック１６は、底面側からこの順に並んで配置されている。
【００２７】
ＢＣＴブロック１４は、図２に示されるように、塗布ユニット（図示せず）と、加熱・冷却ユニット（図示せず）と、これらのユニットにウエハＷを搬送する搬送アームＡ２とを内蔵している。塗布ユニットは、反射防止膜形成用の処理液をウエハＷの表面に塗布する。加熱・冷却ユニットは、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、その後例えば冷却板によりウエハＷを冷却する。こうして、ウエハＷの表面上に下層反射防止膜が形成される。
【００２８】
ＣＯＴブロック１５は、図２に示されるように、塗布ユニット（図示せず）と、加熱・冷却ユニット（図示せず）と、これらのユニットにウエハＷを搬送する搬送アームＡ３とを内蔵している。塗布ユニットは、レジスト膜形成用の処理液（レジスト材料）を下層反射防止膜の上に塗布する。加熱・冷却ユニットは、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、その後例えば冷却板によりウエハＷを冷却する。こうして、ウエハＷの下層反射防止膜上にレジスト膜が形成される。レジスト材料は、ポジ型でもよいし、ネガ型でもよい。
【００２９】
ＴＣＴブロック１６は、図２に示されるように、塗布ユニット（図示せず）と、加熱・冷却ユニット（図示せず）と、これらのユニットにウエハＷを搬送する搬送アームＡ４とを内蔵している。塗布ユニットは、反射防止膜形成用の処理液をレジスト膜の上に塗布する。加熱・冷却ユニットは、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、その後例えば冷却板によりウエハＷを冷却する。こうして、ウエハＷのレジスト膜上に上層反射防止膜が形成される。
【００３０】
ＤＥＶブロック１７は、図２及び図３に示されるように、複数の現像処理ユニットＵ１と、複数の加熱・冷却ユニットＵ２と、これらのユニットにウエハＷを搬送する搬送アームＡ５と、これらのユニットを経ずに処理ブロックＢＫ２の前後間でウエハＷを搬送する搬送アームＡ６とを内蔵している。
【００３１】
現像処理ユニットＵ１は、後述するように、露光されたレジスト膜の現像処理を行う。加熱・冷却ユニットＵ２は、例えば熱板によるウエハＷの加熱を通じて、ウエハＷ上のレジスト膜を加熱する。加熱・冷却ユニットＵ２は、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却する。加熱・冷却ユニットＵ２は、ポストエクスポージャベーク（ＰＥＢ）、ポストベーク（ＰＢ）等の加熱処理を行う。ＰＥＢは、現像処理前にレジスト膜を加熱する処理である。ＰＢは、現像処理後にレジスト膜を加熱する処理である。
【００３２】
図１〜図３に示されるように、処理ブロックＢＫ２のうちキャリアブロックＢＫ１側には、棚ユニットＵ１０が設けられている。棚ユニットＵ１０は、複数のセルＣ３０〜Ｃ３８を有する。セルＣ３０〜Ｃ３８は、ＤＥＶブロック１７とＴＣＴブロック１６との間において上下方向に並んで配置されている。棚ユニットＵ１０の近傍には、昇降アームＡ７が設けられている。昇降アームＡ７は、セルＣ３０〜Ｃ３８の間でウエハＷを搬送する。
【００３３】
処理ブロックＢＫ２のうちインターフェースブロックＢＫ３側には、棚ユニットＵ１１が設けられている。棚ユニットＵ１１は、複数のセルＣ４０〜Ｃ４２を有する。セルＣ４０〜Ｃ４２は、ＤＥＶブロック１７に隣接して、上下方向に並んで配置されている。
【００３４】
インターフェースブロックＢＫ３は、図１〜図３に示されるように、処理ブロックＢＫ２及び露光装置Ｅ１の間に位置すると共に、処理ブロックＢＫ２及び露光装置Ｅ１のそれぞれに接続されている。インターフェースブロックＢＫ３は、図２及び図３に示されるように、受け渡しアームＡ８を内蔵している。受け渡しアームＡ８は、処理ブロックＢＫ２の棚ユニットＵ１１から露光装置Ｅ１にウエハＷを渡す。受け渡しアームＡ８は、露光装置Ｅ１からウエハＷを受け取り、棚ユニットＵ１１にウエハＷを戻す。
【００３５】
制御装置ＣＵは、制御用のコンピュータであり、図１に示されるように、記憶部ＣＵ１と、制御部ＣＵ２とを有する。記憶部ＣＵ１は、塗布・現像装置１の各部や露光装置Ｅ１の各部を動作させるためのプログラムを記憶している。記憶部ＣＵ１は、例えば半導体メモリ、光記録ディスク、磁気記録ディスク、光磁気記録ディスクである。当該プログラムは、記憶部ＣＵ１とは別体の外部記憶装置や、伝播信号などの無形の媒体にも含まれ得る。これらの他の媒体から記憶部ＣＵ１に当該プログラムをインストールして、記憶部ＣＵ１に当該プログラムを記憶させてもよい。制御部ＣＵ２は、記憶部ＣＵ１から読み出したプログラムに基づいて、塗布・現像装置１の各部や露光装置Ｅ１の各部の動作を制御する。
【００３６】
［塗布・現像装置１の動作］
次に、塗布・現像装置１の動作の概要について説明する。まず、キャリア１１がキャリアステーション１２に設置される。このとき、キャリア１１の一側面１１ａは、搬入・搬出部１３の開閉扉１３ａに向けられる。続いて、キャリア１１の開閉扉と、搬入・搬出部１３の開閉扉１３ａとが共に開放され、受け渡しアームＡ１により、キャリア１１内のウエハＷが取り出され、処理ブロックＢＫ２の棚ユニットＵ１０のうちいずれかのセルに順次搬送される。
【００３７】
ウエハＷが受け渡しアームＡ１により棚ユニットＵ１０のいずれかのセルに搬送された後、ウエハＷは、昇降アームＡ７により、ＢＣＴブロック１４に対応するセルＣ３３に順次搬送される。セルＣ３３に搬送されたウエハＷは、搬送アームＡ２によってＢＣＴブロック１４内の各ユニットに搬送される。搬送アームＡ２によってウエハＷがＢＣＴブロック１４内を搬送される過程で、ウエハＷの表面上に下層反射防止膜が形成される。
【００３８】
下層反射防止膜が形成されたウエハＷは、搬送アームＡ２によってセルＣ３３の上のセルＣ３４に搬送される。セルＣ３４に搬送されたウエハＷは、昇降アームＡ７によって、ＣＯＴブロック１５に対応するセルＣ３５に搬送される。セルＣ３５に搬送されたウエハＷは、搬送アームＡ３によりＣＯＴブロック１５内の各ユニットに搬送される。搬送アームＡ３によってウエハＷがＣＯＴブロック１５内を搬送される過程で、下層反射防止膜上にレジスト膜が形成される。
【００３９】
レジスト膜が形成されたウエハＷは、搬送アームＡ３によってセルＣ３５の上のセルＣ３６に搬送される。セルＣ３６に搬送されたウエハＷは、昇降アームＡ７によって、ＴＣＴブロック１６に対応するセルＣ３７に搬送される。セルＣ３７に搬送されたウエハＷは、搬送アームＡ４によってＴＣＴブロック１６内の各ユニットに搬送される。搬送アームＡ４によってウエハＷがＴＣＴブロック１６内を搬送される過程で、レジスト膜上に上層反射防止膜が形成される。
【００４０】
上層反射防止膜が形成されたウエハＷは、搬送アームＡ４によってセルＣ３７の上のセルＣ３８に搬送される。セルＣ３８に搬送されたウエハＷは、昇降アームＡ７によってセルＣ３２に搬送された後、搬送アームＡ６によって棚ユニットＵ１１のセルＣ４２に搬送される。セルＣ４２に搬送されたウエハＷは、インターフェースブロックＢＫ３の受け渡しアームＡ８により露光装置Ｅ１に渡され、露光装置Ｅ１においてレジスト膜の露光処理が行われる。露光処理が行われたウエハＷは、受け渡しアームＡ８によりセルＣ４２の下のセルＣ４０，Ｃ４１に搬送される。
【００４１】
セルＣ４０，Ｃ４１に搬送されたウエハＷは、搬送アームＡ５により、ＤＥＶブロック１７内の各ユニットに搬送され、現像処理が行われる。これにより、ウエハＷの表面上にレジストパターン（凹凸パターン）が形成される。レジストパターンが形成されたウエハＷは、搬送アームＡ５によって棚ユニットＵ１０のうちＤＥＶブロック１７に対応したセルＣ３０，Ｃ３１に搬送される。セルＣ３０，Ｃ３１に搬送されたウエハＷは、昇降アームＡ７によって、受け渡しアームＡ１がアクセス可能なセルに搬送され、受け渡しアームＡ１によって、キャリア１１内に戻される。
【００４２】
なお、上述した塗布・現像装置１の構成及び動作は一例にすぎない。塗布・現像装置１は、塗布ユニットや現像処理ユニット等の液処理ユニットと、加熱・冷却ユニット等の前処理・後処理ユニットと、搬送装置とを備えていればよい。すなわち、これら各ユニットの個数、種類、レイアウト等は適宜変更可能である。
【００４３】
［現像処理ユニットの構成］
次に、現像処理ユニットＵ１について、さらに詳しく説明する。現像処理ユニットＵ１は、図４に示されるように、回転保持部２０と、昇降装置２２と、処理液供給部２４とを備える。
【００４４】
回転保持部２０は、電動モータ等の動力源を内蔵した本体部２０ａと、本体部２０ａから鉛直上方に延びる回転軸２０ｂと、回転軸２０ｂの先端部に設けられたチャック２０ｃとを有する。本体部２０ａは、動力源により回転軸２０ｂ及びチャック２０ｃを回転させる。チャック２０ｃは、ウエハＷの中心部を支持し、例えば吸着によりウエハＷを略水平に保持する。すなわち、回転保持部２０は、ウエハＷの姿勢が略水平の状態で、ウエハＷの表面Ｗａに対して垂直な中心軸（鉛直軸）周りでウエハＷを回転させる。本実施形態では、図４に示されるように、回転保持部２０は、上方から見て逆時計回りにウエハＷを回転させる。
【００４５】
昇降装置２２は、回転保持部２０に取り付けられており、回転保持部２０を昇降させる。具体的には、昇降装置２２は、搬送アームＡ５とチャック２０ｃとの間でウエハＷの受け渡しを行うための上昇位置（受け渡し位置）と、現像処理を行うための下降位置（現像位置）との間で、回転保持部２０（チャック２０ｃ）を昇降させる。
【００４６】
回転保持部２０の周囲には、カップ３０が設けられている。ウエハＷが回転すると、ウエハＷの表面に供給された処理液が周囲に振り切られて落下するが、カップ３０は、当該落下した処理液を受け止める収容器として機能する。カップ３０は、回転保持部２０を囲む円環形状の底板３１と、底板３１の外縁から鉛直上方に突出した円筒状の外壁３２と、底板３１の内縁から鉛直上方に突出した円筒状の内壁３３とを有する。
【００４７】
外壁３２の全部分は、チャック２０ｃに保持されたウエハＷよりも外側に位置する。外壁３２の上端３２ａは、下降位置にある回転保持部２０に保持されたウエハＷよりも上方に位置する。外壁３２の上端３２ａ側の部分は、上方に向かうにつれて内側に傾いた傾斜壁部３２ｂとなっている。内壁３３の全部分は、チャック２０ｃに保持されたウエハＷの外縁よりも内側に位置する。内壁３３の上端３３ａは、下降位置にある回転保持部２０に保持されたウエハＷよりも下方に位置する。
【００４８】
内壁３３と外壁３２との間には、底板３１の上面から鉛直上方に突出した仕切壁３４が設けられている。すなわち、仕切壁３４は、内壁３３を囲んでいる。底板３１のうち、外壁３２と仕切壁３４との間の部分には、液体排出孔３１ａが形成されている。液体排出孔３１ａには、排液管３５が接続されている。底板３１のうち、仕切壁３４と内壁３３との間の部分には、気体排出孔３１ｂが形成されている。気体排出孔３１ｂには、排気管３６が接続されている。
【００４９】
内壁３３の上には、仕切壁３４よりも外側に張り出す傘状部３７が設けられている。ウエハＷ上から外側に振り切られて落下した処理液は、外壁３２と仕切壁３４との間に導かれ、液体排出孔３１ａから排出される。仕切壁３４と内壁３３との間には、処理液から発生したガス等が進入し、当該ガスが気体排出孔３１ｂから排出される。
【００５０】
内壁３３に囲まれる空間の上部は、仕切板３８により閉塞されている。回転保持部２０の本体部２０ａは仕切板３８の下方に位置する。チャック２０ｃは仕切板３８の上方に位置する。回転軸２０ｂは仕切板３８の中心部に形成された貫通孔内に挿通されている。
【００５１】
処理液供給部２４は、図４及び図５に示されるように、処理液の液供給システム２４ａ（詳しくは後述する）と、液ヘッド（流路切替装置の一形態）１００と、移動体２４ｄとを有する。液ヘッド１００は、供給管２４ｂ（供給ラインの一形態）及び排出管２４ｃ（循環ラインの一形態）をそれぞれ介して液供給システム２４ａに接続される。液ヘッド１００は、制御装置ＣＵからの制御信号を受けて液供給システム２４ａから供給された処理液を、ノズルＮからウエハＷの表面Ｗａに吐出する。ノズルＮは、ウエハＷの表面Ｗａに向けて下方に開口している。なお、処理液としては、ウエハＷを処理するための各種の液体を用いることができ、例えば、レジスト液、シンナー液、現像液、リンス液、純水などが挙げられる。
【００５２】
液ヘッド１００は、図５に示されるように、筐体１０２（切替部の一形態）と、切替ブロック１０４Ａ（切替部の一形態）と、駆動部１０６，１０８（切替部の一形態）と、センサ１１０，１１２とを有する。筐体１０２は、直方体形状を呈しており、内部に切替ブロック１０４Ａを収容可能な空間Ｖを有している。筐体１０２には、対向する一対の側壁のうち一方に入口１０２ａ及び循環口１０２ｃが形成されていると共に、当該一対の側壁のうち他方に吐出口１０２ｂが形成されている。筐体１０２の少なくとも表面は、切替ブロック１０４Ａとの間のすべり性を高めるために、フッ素樹脂で形成されていてもよい。
【００５３】
入口１０２ａは、供給管２４ｂの一端と接続されている。吐出口１０２ｂは、ノズルＮの基端と接続されている。循環口１０２ｃは、排出管２４ｃの一端と接続されている。入口１０２ａと吐出口１０２ｂとは、図５の上下方向から見て重なり合っている。入口１０２ａと循環口１０２ｃとは、切替ブロック１０４Ａの長手方向において一直線上に並んでいる。吐出口１０２ｂと循環口１０２ｃとは、図５の上下方向から見て重なり合っていない。
【００５４】
切替ブロック１０４Ａは、図５及び図６に示されるように、直方体形状を呈しており、筐体１０２内の空間Ｖ内に収容されている。図６に示されるように、切替ブロック１０４Ａは、側面ＳＦ１〜ＳＦ６を有する。側面ＳＦ１，ＳＦ２は、図６（ｂ）の高さ方向において互いに対向している。側面ＳＦ３，ＳＦ４は、図６（ｂ）の左右方向において互いに対向していると共に、側面ＳＦ１，ＳＦ２と隣り合っている。側面ＳＦ５，ＳＦ６は、図６（ｂ）の奥行方向において互いに対向していると共に、側面ＳＦ１〜ＳＦ４と隣り合っている。切替ブロック１０４Ａの少なくとも表面は、筐体１０２との間のすべり性を高めるために、フッ素樹脂で形成されていてもよい。
【００５５】
切替ブロック１０４Ａの側面ＳＦ２と側面ＳＦ３とで形成される角部には、マグネット１０４ｃが設けられている。切替ブロック１０４Ａの側面ＳＦ２と側面ＳＦ４とで形成される角部には、マグネット１０４ｄが設けられている。
【００５６】
図５の上下方向において、切替ブロック１０４Ａの高さは、空間Ｖの高さと略同一に設定されている。図５の奥行方向において、切替ブロック１０４Ａの幅は、空間Ｖの幅と略同一に設定されている。図５の左右方向において、切替ブロック１０４Ａの長さは、空間Ｖの幅よりも小さく設定されている。従って、切替ブロック１０４Ａは、その高さ方向及び幅方向における移動が制限されているが、その長手方向において移動が可能である。
【００５７】
切替ブロック１０４Ａには、図５及び図６に示されるように、互いに交わらない貫通孔１０４ａ，１０４ｂが設けられている。貫通孔１０４ａは、図６（ｂ）における上下方向に切替ブロック１０４Ａを貫通して延びている。すなわち、貫通孔１０４ａの一端は側面ＳＦ１に位置しており、貫通孔１０４ａの他端は側面ＳＦ２に位置している。貫通孔１０４ａは、入口１０２ａと吐出口１０２ｂとを流体的に連通し得る一方で、入口１０２ａと循環口１０２ｃとを流体的に連通し得ないと共に吐出口１０２ｂと循環口１０２ｃとを流体的に連通し得ない。
【００５８】
貫通孔１０４ｂは、図５及び図６に示されるように、切替ブロック１０４Ａ内においてＣ字形状を呈するように切替ブロック１０４Ａを貫通して延びている。すなわち、貫通孔１０４ｂの一端及び他端は共に側面ＳＦ１に位置している。貫通孔１０４ｂは、入口１０２ａと循環口１０２ｃとを流体的に連通しうる一方で、入口１０２ａと吐出口１０２ｂとを流体的に連通し得ないと共に吐出口１０２ｂと循環口１０２ｃとを流体的に連通し得ない。
【００５９】
駆動部１０６，１０８は、切替ブロック１０４Ａをその長手方向において筐体１０２内で移動させる。駆動部１０６は、配管１０６ａを介して筐体１０２に接続されており、空間Ｖと流体的に接続されている。配管１０６ａは、筐体１０２のうち長手方向の一端側に設けられている。駆動部１０８は、配管１０８ａを介して筐体１０２に接続されており、空間Ｖと流体的に接続されている。配管１０８ａは、筐体のうち長手方向の他端側に設けられている。
【００６０】
駆動部１０６が配管１０６ａを介して空間Ｖ内（図５において、筐体１０２の左側壁と切替ブロック１０４Ａの左側面ＳＦ３とで画成された部分）に空気を供給すると共に、駆動部１０８が配管１０８ａを介して空間Ｖ内（図５において、筐体１０２の右側壁と切替ブロック１０４Ａの右側面ＳＦ４とで画成された部分）から空気を吸引すると、切替ブロック１０４Ａは図５の右側に移動する。一方、駆動部１０６が配管１０６ａを介して空間Ｖ内（図５において、筐体１０２の左側壁と切替ブロック１０４Ａの左側面ＳＦ３とで画成された部分）から空気を吸引すると共に、駆動部１０８が配管１０８ａを介して空間Ｖ内（図５において、筐体１０２の右側壁と切替ブロック１０４Ａの右側面ＳＦ４とで画成された部分）に空気を供給すると、切替ブロック１０４Ａは図５の左側に移動する。
【００６１】
センサ１１０，１１２は、例えば磁気センサである。センサ１１０は、マグネット１０４ｃの磁界を検出することにより、切替ブロック１０４の位置を検出する。具体的には、センサ１１０は、切替ブロック１０４が図５において筐体１０２の左側壁に当接又は近接したか否かを検出する。マグネット１０４ｃの磁界に基づいてセンサ１１０がＯＮになった場合には、切替ブロック１０４は、貫通孔１０４ｂが入口１０２ａと循環口１０２ｃとを流体的に連通する循環位置に位置する（図８及び図９参照）。
【００６２】
センサ１１２は、マグネット１０４ｄの磁界を検出することにより、切替ブロック１０４の位置を検出する。具体的には、センサ１１２は、切替ブロック１０４が図５において筐体１０２の右側壁に当接又は近接したか否かを検出する。マグネット１０４ｄの磁界に基づいてセンサ１１２がＯＮになった場合には、切替ブロック１０４は、貫通孔１０４ａが入口１０２ａと吐出口１０２ｂとを流体的に連通する吐出位置に位置する（図５及び図７参照）。
【００６３】
図４に戻って、移動体２４ｄは、アーム２４ｅを介して液ヘッド１００に接続されている。移動体２４ｄは、制御装置ＣＵからの制御信号を受けて、外壁３２の外側において水平に延びるガイドレール４０上を移動することで、液ヘッド１００を水平方向に移動させる。これにより、液ヘッド１００は、下降位置にあるウエハＷの上方で且つウエハＷの中心軸に直交する直線上を、ウエハＷの径方向に沿って移動する。
【００６４】
［液供給システムの構成の詳細］
続いて、図７を参照して、液供給システム２４ａの詳細について説明する。液供給システム２４ａは、同図に示されるように、液ボトルＢと、液タンクＬＥと、ポンプ装置Ｐと、フィルタ装置Ｆと、トラップＴと、アウトトラップＯＴと、配管Ｄ１〜Ｄ９と、バルブＶ１〜Ｖ９と、レギュレータＲと、圧力計Ｍとを備える。
【００６５】
配管Ｄ１の上流端は、Ｎ２ガス源に接続されている。配管Ｄ１の下流端は、液ボトルＢの上蓋近傍に位置するように、液ボトルＢの上蓋部分に接続されている。配管Ｄ１上には、上流側からこの順に、レギュレータＲ、圧力計Ｍ及びバルブＶ１が設けられている。レギュレータＲは、自身を流れる液に付与する圧力の大きさを調整し、それにより液の流量を制御する圧力制御弁である。バルブＶ１は、空気を利用して弁を開閉（オン／オフ）させるエアオペレートバルブである。液ボトルＢは、処理液の供給源として機能する。
【００６６】
配管Ｄ２は、配管Ｄ１から分岐している。配管Ｄ２の上流端は、圧力計ＭとバルブＶ１との間で配管Ｄ１に接続されている。配管Ｄ２の下流端は、液タンクＬＥの上蓋近傍に位置するように、液タンクＬＥの上蓋部分に接続されている。液タンクＬＥは、液ボトルＢから排出された処理液を一時的に貯留する貯留部として機能する。配管Ｄ２上には、バルブＶ２が設けられている。バルブＶ２は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
【００６７】
配管Ｄ３の上流端は、液ボトルＢの下底近傍に位置するように、液ボトルＢの上蓋部分に接続されている。配管Ｄ３の下流端は、液タンクＬＥの上蓋寄りに位置するように、液タンクＬＥの上蓋部分に接続されている。配管Ｄ３上には、バルブＶ３が設けられている。バルブＶ３は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
【００６８】
配管Ｄ４（供給ラインの一形態）の上流端は、液タンクＬＥの下底部分に接続されている。配管Ｄ４の下流端は、液ヘッド１００の入口１０２ａに接続されており、図５に示される供給管２４ｂの一部をなしている。配管Ｄ４上には、上流側から順に、フィルタ装置Ｆ、トラップＴ、ポンプ装置Ｐ、アウトトラップＯＴ及びバルブＶ４が設けられている。フィルタ装置Ｆは、処理液に含まれるパーティクルなどの異物を除去する。トラップＴは、フィルタ装置Ｆの出口から排出された処理液内に残存する気泡を取り除く。ポンプ装置Ｐは、液タンクＬＥ内の処理液を吸引して液ヘッド１００に向けて送り出す。アウトトラップＯＴは、ポンプ装置Ｐの出口から排出された処理液内に残存する気泡を取り除く。バルブＶ４は、流量制御機能を有するバルブであり、ノズルＮから吐出される処理液の流量を所定の大きさに制御可能である。
【００６９】
配管Ｄ５の上流端は、液タンクＬＥの上蓋近傍に位置するように、液タンクＬＥの上蓋部分に接続されている。液タンクＬＥ内の気体は、配管Ｄ５を通じて系外（システム外）に排気される。配管Ｄ５上には、バルブＶ５が設けられている。バルブＶ５は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
【００７０】
配管Ｄ６の上流端は、フィルタ装置Ｆの排気口に接続されている。配管Ｄ６の下流端は、バルブＶ５の下流側において配管Ｄ５に接続されている。そのため、処理液がフィルタ装置Ｆを通過する際に処理液から分離された気体が、配管Ｄ６を通じて系外（システム外）に排気される。配管Ｄ６上には、バルブＶ６が設けられている。バルブＶ６は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
【００７１】
配管Ｄ７の上流端は、トラップＴの排気口に接続されている。配管Ｄ７の下流端は、バルブＶ５の下流側において配管Ｄ５に接続されている。そのため、トラップＴにおいて処理液から分離された気体が、配管Ｄ７を通じて系外（システム外）に排気される。配管Ｄ７上には、バルブＶ７が設けられている。バルブＶ７は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
【００７２】
配管Ｄ８の上流端は、アウトトラップＯＴの排気口に接続されている。配管Ｄ８の下流端は、バルブＶ５の下流側において配管Ｄ５に接続されている。そのため、アウトトラップＯＴにおいて処理液から分離された気体が、配管Ｄ８を通じて系外（システム外）に排気される。配管Ｄ８上には、バルブＶ８が設けられている。バルブＶ８は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
【００７３】
配管Ｄ９（循環ラインの一形態）の上流端は、液ヘッド１００の循環口１０２ｃに接続されており、図５に示される排出管２４ｃの一部をなしている。配管Ｄ９の下流端は、配管Ｄ３のうちバルブＶ３の下流側に接続されている。配管Ｄ９上には、バルブＶ９が設けられている。バルブＶ９は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
【００７４】
［液供給システムの動作］
続いて、以上の構成を有する液供給システム２４ａの動作について説明する。まず、ウエハＷに処理液を供給する場合には、制御装置ＣＵは駆動部１０６，１０８に指示して切替ブロック１０４Ａを吐出位置（図５及び図７参照）に位置させる。この状態で、制御装置ＣＵはバルブＶ１，Ｖ３〜Ｖ８に指示してこれらの弁を開放させると共に、残余のバルブＶ２，Ｖ９に指示してこれらの弁を閉塞させる。これにより、Ｎ２ガス源からのＮ２ガスが配管Ｄ１を通じて液ボトルＢに流入し、液ボトルＢ内の処理液が配管Ｄ３を通じて液タンクＬＥ内に移送される。
【００７５】
制御装置ＣＵはポンプ装置Ｐに指示してポンプ装置Ｐを作動させると、液タンクＬＥ内の処理液が配管Ｄ４を通じて液ヘッド１００の入口１０２ａに供給される。液ヘッド１００において切替ブロック１０４Ａは吐出位置にあるので、液ヘッド１００の入口１０２ａに供給された処理液は、貫通孔１０４ａ、吐出口１０２ｂ及びノズルＮを通じて、ノズルＮから吐出される（ステップ１）。このとき、処理液からはフィルタ装置Ｆによってパーティクルが十分に除去されているので、ノズルＮからウエハＷの表面Ｗａに吐出される処理液は比較的清浄である。
【００７６】
ノズルＮからの処理液の吐出処理が終了すると、ノズルＮ及び貫通孔１０４ａに処理液が残存しないよう、これらの内部にある処理液を吸引する処理（サックバック処理）を行う（ステップ２）。ノズルＮ及び貫通孔１０４ａに処理液が滞留しないよう、シンナー等の有機溶剤をノズルＮから吸引し、これらの内部に有機溶剤を満たしてもよい。その後、制御装置ＣＵはバルブＶ４に指示してこの弁を閉塞させる。
【００７７】
次に、処理液をウエハＷに供給せずに系内（システム内）で循環させる場合には、制御装置ＣＵは駆動部１０６，１０８に指示して切替ブロック１０４Ａを循環位置（図８及び図９参照）に位置させる（ステップ３）。センサ１１０がマグネット１０４ｃの磁界を検出してＯＮになった旨の信号を制御装置ＣＵが受信すると、制御装置ＣＵはバルブＶ２，Ｖ４〜Ｖ９に指示してこれらの弁を開放させると共に、残余のバルブＶ１，Ｖ３に指示してこの弁を閉塞させる（ステップ４）。これにより、Ｎ２ガス源からのＮ２ガスが配管Ｄ１，Ｄ２を通じて液タンクＬＥに流入する。
【００７８】
制御装置ＣＵはポンプ装置Ｐに指示してポンプ装置Ｐを作動させると、液タンクＬＥ内の処理液が配管Ｄ４を通じて液ヘッド１００の入口１０２ａに供給される。液ヘッド１００において切替ブロック１０４Ａは循環位置（図８及び図９参照）にあるので、液ヘッド１００の入口１０２ａに供給された処理液は、貫通孔１０４ｂ及び循環口１０２ｃを通じて配管Ｄ９に排出され、その後、液タンクＬＥ内に再び戻される。こうして、処理液は、配管Ｄ４，Ｄ９を循環する（ステップ５）。この循環動作の際、処理液はフィルタ装置Ｆを通過するので、フィルタ装置Ｆによって処理液からのパーティクル等の除去処理が行われる。
【００７９】
この循環動作から、ノズルＮから処理液の吐出を行う吐出動作に移行する際には、まず、制御装置ＣＵは、ポンプ装置Ｐに指示してポンプ装置Ｐの動作を停止させると共に、バルブＶ４に指示してこの弁を閉塞させる。これにより、処理液の循環が停止する（ステップ６）。次に、制御装置ＣＵは駆動部１０６，１０８に指示して切替ブロック１０４Ａを吐出位置（図５及び図７参照）に位置させる（ステップ７）。センサ１１２がマグネット１０４ｄの磁界を検出してＯＮになった旨の信号を制御装置ＣＵが受信すると、制御装置ＣＵはバルブＶ１，Ｖ３〜Ｖ８に指示してこれらの弁を開放させると共に、残余のバルブＶ２，Ｖ９に指示してこれらの弁を閉塞させる（ステップ８）。その後、ノズルＮから少量の処理液を予備的に吐出させた（ダミー吐出ともいう）後、ノズルＮをウエハＷの上方に位置させて、ノズルＮから処理液をウエハＷ上に正式に吐出させる（ステップ１）。なお、ダミー吐出の目的は、ノズルＮや貫通孔１０４ａ内に滞留した可能性のある処理液や有機溶剤を排液として排出し、清浄な処理液をウエハＷに供給することにある。
【００８０】
［作用］
以上のような本実施形態では、切替ブロック１０４Ａは、駆動部１０６，１０８から動力を受けて、入口１０２ａと吐出口１０２ｂとを連通させるが入口１０２ａ及び吐出口１０２ｂと循環口１０２ｃとを連通させない吐出位置と、入口１０２ａと循環口１０２ｃとを連通させるが入口１０２ａ及び循環口１０２ｃと吐出口１０２ｂとを連通させない循環位置との間で移動する。そのため、吐出位置では、液ヘッド１００の入口１０２ａから流入した処理液が吐出口１０２ｂから流出し、直ちにノズルＮから吐出される。一方、循環位置では、液ヘッド１００の入口１０２ａから流入した処理液が循環口１０２ｃから流出し、配管Ｄ９によって処理液が上流側（液タンクＬＥ内）に戻される。従って、処理液が吐出されるノズルＮの直前において、処理液を循環させることができる。その結果、処理液が系内（システム内）で滞留し難くなるので、パーティクルの発生を極めて抑制することが可能となる。また、筐体１０２と切替ブロック１０４Ａとの位置関係を相対的に変化させるだけで、吐出位置と循環位置とが切り替えられる。そのため、簡単な構成によりパーティクルの発生を抑制することが可能となる。
【００８１】
［他の実施形態］
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の要旨の範囲内で種々の変形を上記の実施形態に加えてもよい。例えば、切替ブロックの形状は、直方体形状以外の他の形状であってもよい。図１０に、円柱形状を呈する切替ブロック１０４Ｂを示す。この場合、回転が規制された状態で切替ブロック１０４Ｂがその長手方向において往復移動しうる。切替ブロック１０４Ｂの断面形状は、正円形状であってもよいし、楕円形状であってもよい。切替ブロック１０４Ｂは、切替ブロック１０４Ａと比較して、より滑らかに筐体１０２内を移動しうる。
【００８２】
貫通孔１０４ｂが設けられた切替ブロック１０４Ａに代えて、図１１に示されるように、凹部１０４ｅが設けられた切替ブロック１０４Ｃを用いてもよい。同様に、貫通孔１０４ｂが設けられた切替ブロック１０４Ｂに代えて、図１２に示されるように、凹部１０４ｅが設けられた切替ブロック１０４Ｄを用いてもよい。図１１及び図１２において、これらの凹部１０４ｅは半円形状を呈しているが、入口１０２ａと循環口１０２ｃとを流体的に連通し得る機能を有していれば、凹部１０４ｅの形状は半円形状に限られない。なお、凹部１０４ｅと貫通孔１０４ａとは互いに交わっていない。また、凹部１０４ｅの長手方向は、切替ブロック１０４Ａの長手方向に沿って延びており、凹部１０４ｅと貫通孔１０４ａとは切替ブロック１０４Ａの長手方向において一直線上に並んでいる。
【００８３】
吐出位置と循環位置とを切り替えるために、図１３及び図１４に示されるように、円柱形状を呈する切替ブロック１０４Ｅを回転させてもよい。切替ブロック１０４Ｅは、貫通孔１０４ａと凹部１０４ｅとが切替ブロック１０４Ａの長手方向において一直線上に並んでいない点で、図１２に示される切替ブロック１０４Ｄと相違する。具体的には、切替ブロック１０４Ｅにおいて、貫通孔１０４ａの両端における開口の法線と、凹部１０４ｅの開口の法線とは、ねじれの位置にある。
【００８４】
図１４（ａ）に示されるように、切替ブロック１０４Ｅが吐出位置にあるときは、貫通孔１０４ａの両端における開口はそれぞれ入口１０２ａ及び吐出口１０２ｂと対向しているので、貫通孔１０４ａは、入口１０２ａと吐出口１０２ｂとを流体的に連通する。凹部１０４ｅの開口は筐体１０２の内壁面と対向しているので、凹部１０４ｅは、入口１０２ａ、吐出口１０２ｂ及び循環口１０２ｃのいずれにも流体的に連通していない。一方、図１４（ｂ）に示されるように、切替ブロック１０４Ｅが循環位置にあるときは、凹部１０４ｅの開口は入口１０２ａ及び循環口１０２ｃと対向しているので、凹部１０４ｅは、入口１０２ａと循環口１０２ｃとを流体的に連通する。貫通孔１０４ａの開口は筐体１０２の内壁面と対向しているので、貫通孔１０４ａは、入口１０２ａ、吐出口１０２ｂ及び循環口１０２ｃのいずれにも流体的に連通していない。切替ブロック１０４Ｅは、切替ブロック１０４Ａと同様に、空気の供給及び吸引によって回転駆動されてもよいし、切替ブロック１０４Ｅに動力的に接続されたモータによって回転駆動されてもよい。
【００８５】
切替ブロック１０４Ａ〜１０４Ｅは静止したままとし、筐体１０２を駆動させてもよい。切替ブロック１０４Ａ〜１０４Ｅも筐体１０２も静止したままとし、筐体１０２と切替ブロック１０４Ａ〜１０４Ｅとの間に介在する駆動部材を設け、当該駆動部材を駆動させることで、処理液のノズルＮからの吐出と系内（システム内）における循環とを切り替えるようにしてもよい。
【００８６】
図７及び図８に示される液供給システム２４ａとは異なる構成を有する液供給システムに、本実施形態に係る液ヘッド１００を適用してもよい。例えば、図１５に示される液供給システム２４ａは、配管Ｄ４上に設けられている要素の点で、図７及び図８に示される液供給システム２４ａとは異なる。具体的には、配管Ｄ４上には、上流側から順に、ポンプ装置Ｐ、フィルタ装置Ｆ、流量計ＦＭ及びバルブＶ４が設けられている。
【００８７】
図１６に示される液供給システム２４ａも、配管Ｄ４上に設けられている要素の点で、図７及び図８に示される液供給システム２４ａとは異なる。具体的には、配管Ｄ４上には、上流側から順に、ポンプ装置ＦＰ、フィルタ装置Ｆ、ポンプ装置ＤＰ及びバルブＶ４が設けられている。ポンプ装置ＦＰは、液タンクＬＥ内の処理液を吸引してフィルタ装置Ｆに供給するフィードポンプとして機能する。ポンプ装置ＤＰは、フィルタ装置Ｆから処理液を吸引して液ヘッド１００に向けて処理液を送り出すディスペンスポンプとして機能する。フィルタ装置Ｆの下流側にポンプ装置ＤＰが位置することにより、処理液に大きな圧力を印加することなく、所定の速度で処理液を濾過することが可能となる。
【００８８】
ポンプ装置ＦＰの上蓋部とポンプ装置ＤＰの上蓋部とは、配管Ｄ１０により接続されている。配管Ｄ１０上には、ポンプ装置ＤＰ寄りにバルブＶ１０が設けられている。バルブＶ１０が開放されると、処理液が配管Ｄ１０を通じてポンプ装置ＤＰからポンプ装置ＦＰに戻される。この場合、処理液が再びフィルタ装置Ｆを通過するので、処理液中に残存する気体を処理液から分離することが促進される。
【００８９】
本実施形態では、切替ブロックを用いて吐出状態（第１の状態）と循環状態（第２の状態）とを切り替えたが、これらの状態を切り替えることが可能な他の代替手段や代替要素を採用してもよい。例えば、液ヘッド１００が切替ブロックを有しておらず、液ヘッド１００がその内部に、入口１０２ａと吐出口１０２ｂとを接続する第１の配管と、第１の配管から分岐して延び且つ循環口１０２ｃに接続される第２の配管と、第１の配管のうち第２の配管との分岐点と吐出口１０２ｂとの間に配置された第１のバルブと、第２の配管に配置された第２のバルブとを有していてもよい。第１のバルブが開放されると共に第２のバルブが閉塞されると、吐出状態が生ずる。一方で、第１のバルブが閉塞されると共に第２のバルブが開放されると、循環状態が生ずる。
【符号の説明】
【００９０】
１…塗布・現像装置、２４ａ…液供給システム、２４ｂ…供給管、２４ｃ…排出管、１００…液ヘッド、１０２…筐体、１０２ａ…入口、１０２ｂ…吐出口、１０２ｃ…循環口、１０４Ａ〜１０４Ｅ…切替ブロック、１０４ａ，１０４ｂ…貫通孔、１０４ｅ…凹部、１０６，１０８…駆動部、ＣＵ…制御装置、Ｄ１〜Ｄ９…配管、Ｆ…フィルタ装置、Ｐ，ＦＰ，ＤＰ…ポンプ装置、Ｕ１…現像処理ユニット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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