(57)【要約】【課題】厚く、かつ、均一な厚みのレジスト膜を有するロール金型の製造方法の提供。【解決手段】レジスト膜を外周面に有するロール金型の製造方法である。この製造方法は、塗布工程（Ｓ１）と、乾燥工程（Ｓ３）と、を含む。塗布工程（Ｓ１）では、ロール体を回転させるとともにレジスト液をロール体の外周面に塗布する。乾燥工程（Ｓ３）では、塗布工程（Ｓ１）から引き続いてロール体を回転させつつ、ロール体の外周面に塗布したレジスト液を乾燥する。なお、塗布工程（Ｓ１）と乾燥工程（Ｓ３）との間に、ロール体を塗布工程（Ｓ１）から引き続いて回転させつつ、塗布装置から乾燥機へ移動させる移動工程（Ｓ２）をさらに含めてもよい。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジスト膜を外周面に有するロール金型の製造方法であって
ロール体を回転させるとともにレジスト液を前記ロール体の外周面に塗布する塗布工程と、
前記塗布工程から引き続いて前記ロール体を回転させつつ、前記ロール体の外周面に塗布した前記レジスト液を乾燥する乾燥工程と、
を含むロール金型の製造方法。
【請求項２】
前記塗布工程と前記乾燥工程との間に、
前記ロール体を前記塗布工程から引き続いて回転させつつ、塗布装置から乾燥機へ移動させる移動工程をさらに含む請求項１に記載されるロール金型の製造方法。
【請求項３】
前記レジスト膜の厚みが１μｍ以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載されるロール金型の製造方法。
【請求項４】
前記レジスト膜の厚みが５μｍ以上であることを特徴とする請求項３に記載されるロール金型の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つに記載されるロール金型の製造方法で使用する製造装置であって、
前記ロール体にレジスト液を塗布する塗布手段と、
前記ロール体を支持して回転させる支持手段と、
塗布した前記レジスト液を乾燥する乾燥手段と、を有し、
前記ロール体の支持手段は、回転移動台車であって、
前記回転移動台車は、
前記ロール体を両端で支持する支持機構と、
前記ロール体を回転させるモータと、
前記モータの回転を制御する回転制御部と、
前記ロール体の高さと水平度とを調整できる位置調整機構と、
前記ロール体を回転させつつ移動させる移動機構と、を備えることを特徴とする製造装置。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか１つに記載されるロール金型の製造方法で使用する製造装置であって、
前記ロール体にレジスト液を塗布する塗布手段と、
前記ロール体を支持して回転させる支持手段と、
塗布した前記レジスト液を乾燥する乾燥手段と、を有し、
前記支持手段が前記ロール体を回転させた状態で、
前記塗布手段は、前記ロール体から離れる方向に移動することを特徴とする製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はロール金型の製造方法及びその製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レジスト膜を外周面に有するロール体がある。
【０００３】
例えば、特許文献１では、円筒状のワークをフォトレジスト液に浸漬した後、ワークを回転させつつフォトレジスト液から引き上げて乾燥させるロール金型の製造方法が開示されている。このような製造方法によれば、遠心力がフォトレジスト液にかかる重力の影響を弱めて、厚みの均一なレジスト膜に覆われたロール金型が得られる。
【０００４】
また、特許文献２では、塗布装置により感光体をドラムに塗布した後、赤外線乾燥装置によりドラムを回転させつつ感光体を乾燥させる製造方法が開示されている。詳細には、ドラムは、感光体を塗布された後で、レールにより、塗布装置から赤外線乾燥装置へ移動する。このような製造方法によれば、遠心力が感光体にかかる重力の影響を弱めて、厚みの均一な感光体に覆われた感光体ドラムが得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２１６８７５号公報
【特許文献２】特開２００７−１８８００３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、厚いレジスト膜を外周面に有するロール金型が要求されている。特許文献１で開示される製造方法では、厚いレジスト膜を形成するためにレジスト液を多く付着させると、レジスト液がワーク外周面から垂れてしまい、厚みの均一な膜が得られないことがあった。また、重力の影響を弱めるために、ワークをさらに速く回転させると、レジスト液が過剰に攪拌される。気泡がレジスト液中に生じ、レジスト液が気泡を有するままワーク外周面に付着することがあった。また、レジスト液が液槽内で波打って、そのままワーク外周面に付着する。これらにより、厚みの均一な膜が得られないことがあった。
【０００７】
また、特許文献２で開示される製造方法では、レジスト液を多く付着させると、レジスト液がワーク外周面から垂れてしまい、厚みの均一な膜が得られないことがあった。
【０００８】
本発明の目的は、上記した状況を鑑みてなされたものであり、厚く、かつ、厚みの均一なレジスト膜を外周面に有するロール金型の製造方法及びその製造装置を提供するところにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明にかかるロール金型の製造方法は、
レジスト膜を外周面に有するロール金型の製造方法であって
ロール体を回転させるとともにレジスト液を前記ロール体の外周面に塗布する塗布工程と、
前記塗布工程から引き続いて前記ロール体を回転させつつ、前記ロール体の外周面に塗布した前記レジスト液を乾燥する乾燥工程と、
を含む。
【００１０】
このような構成によれば、厚く、かつ、厚みの均一なレジスト膜を外周面に有するロール金型を製造することができる。
【００１１】
また、前記塗布工程と前記乾燥工程との間に、前記ロール体を前記塗布工程から引き続いて回転させつつ、塗布装置から乾燥機へ移動させる移動工程をさらに含むことを特徴としてもよい。また、前記レジスト膜の厚みが１μｍ以上であることを特徴としてもよい。また、前記レジスト膜の厚みが５μｍ以上であることを特徴としてもよい。
【００１２】
他方、本発明にかかるロール金型の製造装置は、
上記したロール金型の製造方法で使用する製造装置であって、
前記ロール体にレジスト液を塗布する塗布手段と、
前記ロール体を支持して回転させる支持手段と、
塗布した前記レジスト液を乾燥する乾燥手段と、を有し、
前記ロール体の支持手段は、回転移動台車であって、
前記回転移動台車は、
前記ロール体を両端で支持する支持機構と、
前記ロール体を回転させるモータと、
前記モータの回転を制御する回転制御部と、
前記ロール体の高さと水平度とを調整できる位置調整機構と、
前記ロール体を回転させつつ移動させる移動機構と、を備える。
【００１３】
他方、本発明にかかるロール金型の製造装置は、
上記したロール金型の製造方法で使用する製造装置であって、
前記ロール体にレジスト液を塗布する塗布手段と、
前記ロール体を支持して回転させる支持手段と、
塗布した前記レジスト液を乾燥する乾燥手段と、を有し、
前記支持手段が前記ロール体を回転させた状態で、
前記塗布手段は、前記ロール体から離れる方向に移動する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、厚く、かつ、厚みの均一なレジスト膜を外周面に有するロール金型の製造方法及びその製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】第１実施形態にかかる製造方法により得られるロール金型の斜視図である。
【図２】第１実施形態にかかる製造装置の模式図である。
【図３】第１実施形態にかかる製造装置の要部の正面図及び側面図である。
【図４】第１実施形態にかかる製造方法のフローチャートを示す図である。
【図５】第１実施形態にかかる製造方法の模式図である。
【図６】第１実施形態にかかる製造方法の模式図である。
【図７】第１実施形態にかかる製造方法の模式図である。
【図８】第２実施形態にかかる製造装置の模式図である。
【図９】第２実施形態にかかる製造方法のフローチャートを示す図である。
【図１０】第２実施形態にかかる製造方法の模式図である。
【図１１】第２実施形態にかかる製造方法の模式図である。
【図１２】第２実施形態にかかる製造方法の模式図である。
【図１３】ロール金型の外周面におけるレジスト膜厚を示す図である。
【図１４】ロール金型の外周面におけるレジスト膜厚を示す図である。
【図１５】ロール金型の外周面におけるレジスト膜厚を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
（第１実施形態）
図１を参照して第１実施形態にかかる製造方法により得られるロール金型について説明する。図１は、第１実施形態にかかるロール金型の斜視図を示す。
【００１７】
図１に示すように、ロール金型１は、ロール体３と、レジスト膜２と、を含む。ロール体３は、軸部４を両端に有する円筒体である。軸部４は、ロール体３の軸方向に沿って、ロール体３の両端から延びる。ロール体３は金属材料からなる。このような金属材料として、例えば、鉄鋼、アルミニウム合金が挙げられる。ロール体３の外周面は、レジスト膜２に覆われている。
【００１８】
次に、図２及び３を用いて、ロール金型１を製造するために用いる製造装置について説明する。図２は、第１実施形態にかかる製造装置の模式図を示す。図３は、第１実施形態にかかる製造装置の要部の正面図及び側面図を示す。なお、ここでは、ロール金型１を製造するためのワークとしてロール体３を用いて説明する。
【００１９】
図２に示すように、製造装置５０は、スプレーコータ１０と、回転支持台車２０と、乾燥機３０と、を備える。
【００２０】
図３に示すように、スプレーコータ１０は、液体タンク１１と、ガスタンク１２と、スプレーノズル１３と、リニアスライダ１４と、塗布コントローラ１５と、を備える。スプレーコータ１０は、所定の位置に固定される塗布装置である。
【００２１】
液体タンク１１は、レジスト液を貯蔵しているタンクである。レジスト液は、例えば、レジストと有機溶剤とを混合した液を利用することができる。また、レジスト膜２の厚みを大きくするためには、高い粘度を有するレジスト液が好ましい。例えば、粘度４０ｃＰを有するレジスト液でも利用することができる。
【００２２】
ガスタンク１２は、圧縮空気を貯蔵しているタンクである。ガスタンク１２の代わりに、コンプレッサを利用することができる。
【００２３】
スプレーノズル１３は、液体タンク１１からレジスト液を供給されるとともに、ガスタンク１２から空気を供給される。スプレーノズル１３は、レジスト液と空気とを混合して、霧状に吐出する。空気の供給量に応じて、レジスト液の吐出量と、吐出する範囲とが設定される。
【００２４】
リニアスライダ１４は、スプレーノズル１３を搭載して、そのリニアガイドに沿って平行移動させることができる。スプレーノズル１３の平行移動の速度及び距離を変更することで、レジストの膜厚が設定される。
【００２５】
塗布コントローラ１５は、図示しない電源に接続されて、電流を供給されている。また、塗布コントローラ１５は、ガスタンク１２のバルブ１６及びスプレーノズル１３のバルブを開閉して、空気及びレジスト液の供給量をそれぞれ調節する。また、塗布コントローラ１５は、リニアスライダ１４によるスプレーノズル１３の平行移動の速度及び距離を設定する。
【００２６】
図３に示すように、回転支持台車２０は、チャック部２１と、モータ２２と、回転制御部２３と、ベース部２４と、車輪２５と、アジャスタボルト２６と、を備える。回転支持台車２０は、ワークとしてのロール体３を回転させたまま、移動することができる。回転支持台車２０は、スプレーコータ１０に供給する電源とは別の電源（図示略）に接続されて、電流を供給されている。そのため、スプレーコータ１０が動作を停止しても、回転支持台車２０は、ロール体３を回転させたまま移動することができる。
【００２７】
チャック部２１は、ロール体３の軸部４をチャックして、ロール体３を回転可能に支持することができる。モータ２２は、チャック部２１を介して、ロール体３を回転させる。
【００２８】
回転制御部２３は、ケーブル２７を介してモータ２２に接続されている。回転制御部２３は、モータ２２に制御信号を送り、ワークの回転を制御する。回転制御部２３は、ベース部２４の主面上に脱着可能に設置されている。回転制御部２３は、ベース部２４から取外し、ベース部２４から離れた箇所に置くことができる。ケーブル２７は、乾燥機３０の扉３３（後述）とその扉枠に挟まれてもケーブルとしての機能を維持できるように必要な機械的強度を少なくとも有する。ケーブル２７として、例えば、ガラス繊維により被覆される電線を利用することができる。
【００２９】
ベース部２４は、ロール体３、チャック部２１、モータ２２、回転制御部２３、及び、ケーブル２７を台車として搭載できるように必要な機械的強度を少なくとも有する長方形状の板状体である。
【００３０】
車輪２５は、ベース部２４の四隅にアジャスタボルト２６を介して回転可能に設置されている。
【００３１】
アジャスタボルト２６は、ベース部２４の上面の高さ及び水平度を調整することができる。アジャスタボルト２６を調整することにより、軸部４が水平面に沿うように、ロール体３の高さ及び向きが容易に調整される。
【００３２】
再び図２を参照すると、乾燥機３０は、加熱室３１と、ヒータ３２と、扉３３と、を備える。加熱室３１が、外気から遮断されており、所定の温度に保たれる。ヒータ３２は、加熱室３１の上部に設置されており、加熱室３１の内部に向けて、温風を送風する。扉３３は、加熱室３１の側部に設置されており、回転支持台車２０を加熱室３１に容易に出し入れするための開閉可能な扉である。また、扉３３は、回転制御部２３を加熱室３１の内部から外部へ容易に移動するための開閉可能な扉である。
【００３３】
なお、上記した第１実施形態では、ヒータ３２を用いたが、赤外線を照射する赤外線照射部、又は、加熱室３１の内部を減圧する減圧部を利用してもよい。
【００３４】
（製造方法）
次に、図４に沿って図５〜７を用いて、第１実施形態にかかる製造方法について説明する。図４は、第１実施形態にかかる製造方法のフローチャートを示す。図５〜７は、第１実施形態にかかる製造方法の模式図を示す。ここでは、ロール体３をワークとし、ロール金型１を製造する場合を例として説明する。
【００３５】
まず、製造に先立って、ロール体３を回転支持台車２０に支持させて、ロール体３の位置と向きとを調整する。詳細には、ロール体３の軸部４をチャック部２１にチャックして、ロール体３の軸が水平面に沿うようにアジャスタボルト２６が調整される。さらに、レジスト液をロール体３に塗布できるように、ロール体３とスプレーノズル１３との距離を調整する。さらに、ロール体３の軸方向がリニアスライダ１４のリニアガイドに沿うように、ロール体３の向きを調整する。
【００３６】
図５に示すように、回転支持台車２０がロール体３を回転させつつ、スプレーコータ１０がレジスト液をロール体３の外周面に吐出して塗布する（塗布工程Ｓ１）。詳細には、回転制御部２３が、ワーク回転数を設定し、回転を開始させる。塗布コントローラ１５が、ガスタンク１２のバルブ１６及びスプレーノズル１３のバルブを開く。これにより、スプレーノズル１３が、回転しているロール体３にレジスト液を霧状に吐出して、塗布を行う。この塗布の間、必要に応じて、リニアスライダ１４がスプレーノズル１３を往復移動させる。所定時間塗布すると、ガスタンク１２のバルブ１６及びスプレーノズル１３のバルブを閉めて、リニアスライダ１４を止める。ここで、レジスト液がロール体３の外周面に付着する。
【００３７】
図６に示すように、回転支持台車２０が、ロール体３を回転させつつ、乾燥機３０に向かって移動する（回転支持台車移動工程Ｓ２）。詳細には、回転支持台車２０が塗布工程Ｓ１から引き続いてロール体３を回転させ続け、扉３３が開く。回転支持台車２０がロール体３を回転させつつ、ロール体３の軸を水平面に沿わせたまま、スプレーコータ１０から乾燥機３０に向かって移動し、加熱室３１に入室する。
【００３８】
図７に示すように、回転支持台車２０がロール体３を引き続き回転させつつ、乾燥機３０が、ロール体３に付着したレジスト液を乾燥する（乾燥工程Ｓ３）。詳細には、回転支持台車２０がロール体３を回転させ続け、回転制御部２３が乾燥機３０の外へ置かれ、の扉３３が閉められる。さらに、ヒータ３２が、回転したままのロール体３に向けて、温風を送る。ロール体３に付着したレジスト液が乾燥し、レジスト膜２がロール体３の外周面に形成される。回転支持台車２０を乾燥機３０から取り出し、ロール体３の回転を停止させる。
【００３９】
以上、塗布工程Ｓ１〜乾燥工程Ｓ３を経ると、ロール金型１が得られる。さらに、以下の露光工程及び現像工程を経ると、凹凸形状を外周面に有するロール金型１を得ることができる。
【００４０】
レーザビームを走査しながらレジスト膜２に照射して、レジスト膜２を露光する（露光工程）。用いるレーザビームの波長は、特に限定されることなく、レジスト膜の種類に応じて選定される。レーザビームの波長は、例えば、３５１ｎｍ、３６４ｎｍ、４５８ｎｍ、４８８ｎｍ（Ａｒ＋レーザの発振波長）、３５１ｎｍ、４０６ｎｍ、４１３ｎｍ（Ｋｒ＋レーザの発振波長）、３５２ｎｍ、４４２ｎｍ（Ｈｅ−Ｃｄレーザの発振波長）、３５５ｎｍ、４７３ｎｍ（半導体励起固体レーザのパルス発振波長）、３７５ｎｍ、４０５ｎｍ、４４５ｎｍ、４８８ｎｍ（半導体レーザ）などを選択することができる。
【００４１】
続いて、レジスト膜２を現像する（現像工程）。レジストの現像は、ロール金型１を現像液に浸漬するなどの公知方法により実施することができる。現像液としては、特に制限されることなく、アルカリ現像液を用いることができる。アルカリ現像液としては、例えば、ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）がある。現像工程では、露光量に応じてレジスト膜２の一部が除去されて、凹凸形状がレジスト膜２の表面上に形成される。
【００４２】
これらの露光工程及び現像工程を経ると、凹凸形状を外周面に有するロール金型１が得られる。レジスト膜２の厚みが大きくなるほど、凹凸形状の高さの範囲が大きい。
【００４３】
以上、上記した第１実施形態にかかる製造方法によれば、塗布工程Ｓ１では、ワークとしてのロール体３を回転させたまま、レジスト液を塗布するので、レジスト液にかかる重力の影響を弱めて、レジスト液をワークにさらに密着させ得る。また、塗布工程Ｓ１から乾燥工程Ｓ３まで引き続いてワークを回転し、レジスト液にかかる外力が平衡状態を保ったまま乾燥することができ、均一な厚みのレジスト膜を形成させる。また、塗布工程Ｓ１から乾燥工程Ｓ３まで、ワークの回転軸が水平面に沿ったままワークを回転し、ワークの傾きによる抗力の変動を抑制し、レジスト液にかかる外力が平衡状態を保ち、均一な厚みのレジスト膜を形成する。
【００４４】
また、上記した第１実施形態にかかる製造方法によれば、１μｍ以上又は５μｍ以上の厚みを有するレジスト膜に覆われたロール金型１が得られる。これによれば、露光工程及び現像工程を経ると、高さ１μｍ以上又は５μｍ以上の凹凸形状を外周面に有するロール金型１を得ることができる。
【００４５】
また、上記した第１実施形態にかかる製造装置によれば、厚く、かつ、均一な厚みのレジスト膜を有するロール金型１が得られる。アジャスタボルト２６を調整すると、ベース部の高さ及び水平面を調整することで、様々なサイズのワークにレジスト膜を形成することができる。また、ワークを回転させたまま移動することができるので、様々な乾燥機を利用することができる。
【００４６】
（第２実施形態）
次に、図８を用いて、第２実施形態にかかる製造装置を説明する。図８は、第２実施形態にかかる製造装置の模式図を示す。第２実施形態にかかる製造装置は、第１実施形態にかかる製造装置と同一の構成と異なる構成とをそれぞれ有する。同一の構成については同一の符号を付して説明する。
【００４７】
図８に示すように、製造装置２５０は、スプレーコータ２１０と、回転支持台２２０と、乾燥機２３０と、を備える。製造装置２５０は、製造装置５０と同様に、ロール体３の外周面にレジスト膜２を形成することのできる装置である。
【００４８】
スプレーコータ２１０は、液体タンク１１と、ガスタンク１２と、スプレーノズル１３と、リニアスライダ１４と、塗布コントローラ１５と、ベース部２１７と、車輪２１８とを備える。スプレーコータ２１０は、スプレーコータ１０と異なり、容易に移動することができる塗布装置である。
【００４９】
ベース部２１７は、液体タンク１１、ガスタンク１２、スプレーノズル１３、リニアスライダ１４、及び、塗布コントローラ１５を搭載できるように必要な機械的強度を少なくとも有する長方形状の板状体である。
【００５０】
車輪２１８は、ベース部２１７の底面の四隅に回転可能に設置されている。スプレーコータ２１０は、車輪２１８の回転により、容易に移動することができる。
【００５１】
回転支持台２２０は、チャック部２１と、モータ２２と、回転制御部２３と、ベース部２４と、支持脚２２８と、を備える。回転支持台２２０は、所定箇所に固定されたまま、ロール体３を回転させることができる。回転支持台２２０は、スプレーコータ１０に供給する電源とは別の電源（図示略）に接続されて、電流を供給されている。そのため、スプレーコータ２１０が動作を停止しても、回転支持台２２０はロール体３を回転させることができる。
【００５２】
支持脚２２８は、ベース部２４の四隅を支持する柱状体である。支持脚２２８は、加熱室２３１（後述）内部、例えば、ヒータ２３２の下方に設置される。
【００５３】
乾燥機２３０は、加熱室２３１と、ヒータ２３２と、扉２３３と、を備える。加熱室２３１が、外気から遮断されており、所定の温度に保たれる。
【００５４】
加熱室２３１は、回転支持台２２０とスプレーコータ２１０とを少なくとも含むことのできる容積を有する。
【００５５】
ヒータ２３２は、加熱室２３１の上部に設置されており、回転支持台２２０に向けて、温風を送風する。
【００５６】
扉２３３は、加熱室２３１の側部に設置されており、回転制御部２３を加熱室２３１に容易に出し入れするための開閉可能な扉である。
【００５７】
なお、上記した第２実施形態では、ヒータ２３２を加熱室２３１に設置したが、赤外線を照射する赤外線照射部を加熱室２３１に設置してもよい。
【００５８】
上記した第１実施形態及び第２実施形態では、スプレーコータ１０、２１０をそれぞれ用いたが、ロールコータ、ダイコータ、又は、バーコータを用いてもよい。
【００５９】
（製造方法）
次に、図１０〜１２を用いて図９に沿って、実施形態２にかかる製造方法について説明する。図９は、実施形態２にかかる製造方法のフローチャートを示す。図１０〜１２は、実施形態２にかかる製造方法の模式図を示す。ここでは、第１実施形態にかかる製造方法と同様に、ロール体３をワークとし、ロール金型１を製造する場合を例として説明する。
【００６０】
まず、製造に先立って、ロール体３を回転支持台２２０に支持させる。詳細には、ロール体３の軸部４をチャック部２１にチャックする。さらに、レジスト液をロール体３に塗布できるように、ロール体３とスプレーノズル１３との距離を調整する。
【００６１】
図１０に示すように、塗布工程Ｓ１と同様に、回転支持台２２０がロール体３を回転させつつ、スプレーコータ２１０がレジスト液をロール体３の外周面に吐出して塗布する（塗布工程Ｓ２１）。
【００６２】
次いで、図１１に示すように、回転支持台２２０がロール体３を引き続き回転させつつ、スプレーコータ２１０がロール体３から離れるように移動する（スプレーコータ移動工程Ｓ２２）。
【００６３】
最後に、図１２に示すように、回転支持台２２０がロール体３を引き続き回転させつつ、乾燥機３０が、ロール体３に付着したレジスト液を乾燥する（乾燥工程Ｓ２３）。ロール体３に付着したレジスト液が乾燥し、レジスト膜２がロール体３の外周面に形成されると、ロール体３の回転を停止させる。
【００６４】
なお、上記した第２実施形態にかかる製造方法では、塗布工程Ｓ２１、スプレーコータ移動工程Ｓ２２、乾燥工程Ｓ２３の順に実施したが、乾燥工程Ｓ２３をスプレーコータ移動工程Ｓ２２と同時に開始しても構わない。また、上記した第２実施形態にかかる製造方法では、スプレーコータ移動工程Ｓ２２を有するが、スプレーコータ移動工程Ｓ２２を省略しても構わない。
【００６５】
以上、塗布工程Ｓ２１、スプレーコータ移動工程Ｓ２２、乾燥工程Ｓ２３を経ると、ロール金型１が得られる。さらに、第１実施形態にかかる製造方法と同様に、露光工程及び現像工程を経ると、凹凸形状を外周面に有するロール金型１を得ることができる。
【００６６】
以上、上記した第２実施形態にかかる製造装置によれば、厚く、かつ、均一な厚みのレジスト膜を有するロール金型１が得られる。また、塗布装置がワークから離れる方向に移動し、その後、乾燥機がレジスト液を乾燥するため、ワークの移動に伴う塵埃の付着リスクを低減することができる。
【００６７】
（評価実験）
次に、上記した第１及び第２実施形態にかかる製造方法と、比較例としての製造方法とを用いて、以下の示す製造条件でロール金型を製造し、得られたロール金型のレジスト膜の評価を行った。比較例としての製造方法は、第１実施形態にかかる製造方法と、表１に示すように、各工程でのワークの回転数のみ異なる。第１及び第２実施形態にかかる製造方法、及び、比較例として別の製造方法により得られたロール金型はそれぞれ、実施例１、２、比較例１、２とした。以下、その製造方法の一部詳細について説明する。
【００６８】
【表１】
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【００６９】
ロール体３として、アルミニウム合金からなる円筒状体を用いた。ロール体３の回転軸に対して偏芯が小さくなるように加工した。また、ロール体３の表面には鏡面加工を施した。
【００７０】
回転制御部２３としては、ステッピングモータにより回転を制御する回転制御装置を用いた。この回転制御装置は、回転数を０から５００ｒｐｍまで０．１ｒｐｍ刻みで設定することができる。ここで、ロール体３の回転数は、５０ｒｐｍに設定した。
【００７１】
塗布工程Ｓ１及びＳ２１では、レジスト液として、市販のレジストとＰＧＭＥＡ（Propylene Glycol Monoethyl Ether Acetate）とを１：１で混合した液を用いた。液体タンク１１を０．５ＭＰａの空気圧力により加圧し、スプレーノズル１３からレジスト液を噴出させた。レジスト液の噴出量は、０．２ｃｃ／ｍｉｎとした。レジスト液が噴出してから、スプレーノズル１３をロール体３の軸方向に沿って往復運動させた。リニアスライダ１４の往復速度は、１５０ｍｍ／ｓｅｃとした。スプレーノズル１３とロール体３の外周面との距離は、２５ｍｍとした。スプレー時間は、２０秒とした。レジスト液の塗布が完了した後に、リニアスライダ１４による平行移動を停止した。引き続いてロールを５０ｒｐｍで回転させ続けた。
【００７２】
回転支持台車移動工程Ｓ２、及び、スプレーコータ移動工程Ｓ２２では、乾燥機３０、２３０は、加熱室３１、２３１をそれぞれ予め８０℃に加温しておいた。塗布工程Ｓ１、Ｓ２１の完了後、スプレーコータ１０又は回転支持台２２０を移動させた。スプレーコータ１０と乾燥機３０との間で、モータ２２に電源を供給し続けられるように、予め十分な長さのケーブル２７を用いた。
【００７３】
乾燥工程Ｓ３及びＳ２３では、乾燥を７０分間行った。ロール体３の回転数は、塗布工程Ｓ１での回転数と同じ５０ｒｐｍとした。
【００７４】
（測定方法）
次に、レジスト膜厚の測定方法について説明する。
【００７５】
実施例１、比較例１及び２では、乾燥工程Ｓ３の完了後、ロール体３の回転を停止し、回転支持台車２０ごとロール金型１を乾燥機３０から搬出した。乾燥機３０から搬出して８時間経った後、回転支持台車２０にロール金型１をセットした状態にて、ロール金型１の外周面の各位置におけるレジスト膜２の厚さを測定した。
【００７６】
実施例２では、乾燥工程Ｓ２３の完了後、ロール体３の回転を停止した。停止してから８時間経った後、回転支持台２２０にロール金型１をセットした状態にて、ロール金型１の外周面の各位置におけるレジスト膜２の厚さを測定した。
【００７７】
（測定結果）
次に、図１１及び１２を用いて、レジスト膜厚の測定結果について説明する。図１１及び１２は、ロール金型の外周面におけるレジスト膜厚を示す。
【００７８】
図１１に示すように、実施例１では、レジスト膜厚の平均値は１９．９μｍ、膜厚ムラは±３．８％と良好な値を示した。なお、膜厚ムラは、ロール金型１の外周面の各位置における測定値の分散値である。
【００７９】
また、実施例２では、レジスト膜厚の平均値及び膜厚ムラは、実施例１とほぼ同じ値を示した。
【００８０】
一方、図１２に示すように、比較例１では、レジスト液を塗布してからロール体３の回転を止めたが、レジスト膜厚の平均値は１８．７６μｍと、実施例１と比べて大きく変化しなかった。一方、膜厚ムラは±２０．７％と、実施例１と比較して大きかった。これは、レジスト液を塗布してから、ロール体３の回転を止めたことで、レジスト液が重力の影響を受けて、ロール体３の外周面から垂れしてしまったと考えられる。
【００８１】
一方、図１５に示すように、比較例２では、レジスト膜厚の平均値は、１８．８２μｍと実施例１と比べて大きく変化しなかった。一方、膜厚ムラは±１２．３％と、比較例１と同様に、実施例１と比較して大きかった。これは、レジスト液を塗布してから、ロール体３の回転を止めたまま、移動したことで、レジスト液が重力の影響を受けて、ロール体３の外周面から垂れしてしまったと考えられる。
【００８２】
なお、実施例１及び２にかかるロール金型１を回転させながら波長４０５ｎｍのレーザ光を照射して露光した（露光工程）。続いて、ＴＭＡＨ２．３８％現像液にロール金型１を３分間浸漬させて現像を行った。レジスト膜２の表面に微細凹凸パターンが作製され、微細凹凸パターンを表面に有するロール金型１が得られた。
【符号の説明】
【００８３】
１  ロール金型、      ２  レジスト膜、      ３  ロール体、      ４  軸部、
５０、２５０  製造装置、      
１０、２１０  スプレーコータ、      
１１  液体タンク、      １２  ガスタンク、      １３  スプレーノズル、
１４  リニアスライダ、      １５  塗布コントローラ、      １６  バルブ、
２１７  ベース部、      ２１８  車輪、
２０  回転支持台車、      ２２０  回転支持台、      
２１  チャック部、      ２２  モータ、      ２３  回転制御部、      
２４  ベース部、      ２５  車輪、      ２６  アジャスタボルト、      
２７  ケーブル、      ２２８  支持脚、
３０、２３０  乾燥機、      ３１、２３１  加熱室、      ３２、２３２  ヒータ、
３３、２３３  扉、
Ｓ１、Ｓ２１  塗布工程、      
Ｓ２  回転支持台車移動工程、      Ｓ２２  スプレーコータ移動工程、
Ｓ３、Ｓ２３  乾燥工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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