(57)【要約】      （修正有）【課題】平置き姿勢のガラス基板の辺部にエッチング処理を施すにあたって、的確なエッチング処理の実行を可能とするエッチング方法を提供する。【解決手段】平置き姿勢の帯状のガラスフィルム２の辺部２ａにエッチング処理を施す方法であって、横向きに開口して辺部２ａに沿う方向に延びる主流路７の流路内で、表面張力を利用して辺部２ａに沿ったエッチング液４の流れを形成することでエッチング処理を施すと共に、主流路７に供給したエッチング液４を、主流路７から開口とは反対側に分岐する副流路９から排出するようにした。【選択図】図１
2015182918.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平置き姿勢のガラス基板の辺部にエッチング処理を施す方法であって、
横向きに開口して前記辺部に沿う方向に延びる主流路の流路内で、表面張力を利用して前記辺部に沿ったエッチング液の流れを形成することでエッチング処理を施すと共に、
前記主流路に供給したエッチング液を、該主流路から開口とは反対側に分岐する副流路から排出することを特徴とするガラス基板のエッチング方法。
【請求項２】
前記主流路に下方からエッチング液を供給すると共に、前記副流路から下方にエッチング液を排出することを特徴とする請求項１に記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項３】
前記主流路に供給されるエッチング液を貯留する第一貯留槽と、前記副流路から排出されたエッチング液を貯留する第二貯留槽とを設け、
前記第一貯留槽におけるエッチング液の液面高さＨ１と、前記主流路を流れるエッチング液の液面高さＨ２と、前記第二貯留槽におけるエッチング液の液面高さＨ３とが、液面高さＨ１＞液面高さＨ２＞液面高さＨ３の関係を満たすように調節すると共に、
液面高さＨ１と液面高さＨ２との高低差と、液面高さＨ２と液面高さＨ３との高低差とが略同一となるように調節することを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項４】
前記第一貯留槽と前記第二貯留槽との各々について、貯留槽の容積を超過した分のエッチング液を貯留槽から溢れ出させることで、液面高さＨ１と液面高さＨ３とをそれぞれ制御することを特徴とする請求項３に記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項５】
前記ガラス基板を前記辺部に沿う方向に搬送して、該辺部に前記主流路内を通過させると共に、
前記辺部に沿ったエッチング液の流れの方向を、前記ガラス基板の搬送方向と同方向としたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項６】
前記ガラス基板を前記辺部に沿う方向に搬送して、該辺部に前記主流路内を通過させると共に、
前記辺部に沿ったエッチング液の流れの方向を、前記ガラス基板の搬送方向と逆方向としたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のガラス基板のエッチング方法。
【請求項７】
開口を挟んで対向する前記主流路の上壁と下壁との各々について、開口側の先端部を疎水性部材で構成すると共に、
前記下壁における前記疎水性部材の横向きの長さを、前記上壁における前記疎水性部材の横向きの長さよりも長くしたことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のガラス基板のエッチング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平置き姿勢のガラス基板の辺部にエッチング処理を施すガラス基板のエッチング方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
帯状のガラスフィルムの幅寸法を変更する方法の一つとして、ロール・トゥー・ロールを利用したレーザー割断がある。この方法は、ガラスフィルムをロール状に巻き取ったガラスロールから連続的にガラスフィルムを巻き外して搬送すると共に、搬送中のガラスフィルムの幅方向における両端をレーザーの照射によって切断する。そして、両端が切断されたガラスフィルムを再びロール状に巻き取ってガラスロールとする方法である。
【０００３】
レーザー割断によってガラスフィルムに形成された切断端面は、レーザー割断の特性から高い強度を有するが、この切断端面にも不可避的に微小クラック等の欠陥が発生する場合があり、ガラスフィルムの破断を誘発する原因となる。そこで、この欠陥を除去することを目的として、切断端面を含むガラスフィルムの辺部にエッチング処理を施し、当該辺部の強化を図ることが通例となっている。
【０００４】
特許文献１には、エッチング処理によってガラス基板の辺部を強化するための装置が開示されている。同文献には、横向きに開口して辺部に沿う方向に延びる「コ」の字状の流路の流路内で、エッチング液の表面張力を利用して平置き姿勢のガラス基板の辺部にエッチング処理を施し、当該辺部を強化するための基板処理装置が開示されている。
【０００５】
同装置では、流路内にエッチング液の流れを形成するための構成として、（１）開口を挟んで対向する流路の上壁と下壁とのうち、上壁にエッチング液を流入させる流入口を設けると共に、下壁にエッチング液を流出させる流出口を設けた構成と、（２）上壁と下壁との双方にエッチング液を流入させる流入口を設けると共に、上壁と下壁とを連続させる側壁にエッチング液を流出させる流出口を設けた構成とが採用されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−１２５６４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に開示された基板処理装置を、ガラスフィルムをはじめとするガラス基板の辺部へのエッチング処理に使用した場合には、以下のような解決すべき問題が生じている。
【０００８】
すなわち、この基板処理装置について、上記の（１）と（２）とのいずれの構成においても、エッチング液の流入口と流出口とは、共に流路の長手方向に沿ってスリット状に設けられている。そのため、流入口と流出口とが、流路の長手方向と直交する同一の断面上に存在する構成となっている。
【０００９】
これにより、上記の（１）の構成では、上壁側から流入したエッチング液が流路内を満たす前に、下壁側から流出を始めることになる。また、上記の（２）の構成では、上壁側と下壁側との双方から流入したエッチング液が流路内を満たす前に、側壁側に流出を始めることになる。そのため、流路内を流れるエッチング液の流量が安定しないという不具合が発生していた。
【００１０】
このような不具合が生じると、上壁とガラス基板の辺部、及び下壁とガラス基板の辺部の間に表面張力によって形成されるエッチング液のメニスカスについて、その形状を安定的に維持することが不可能となる。その結果、ガラス基板の辺部へのエッチング処理を的確に実行することが困難となり、処理不良を起こした辺部に欠陥が残存してしまう問題を招いていた。
【００１１】
上記事情に鑑みなされた本発明は、平置き姿勢のガラス基板の辺部にエッチング処理を施すにあたって、的確なエッチング処理の実行を可能とすることを技術的課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために創案された本発明は、平置き姿勢のガラス基板の辺部にエッチング処理を施す方法であって、横向きに開口して辺部に沿う方向に延びる主流路の流路内で、表面張力を利用して辺部に沿ったエッチング液の流れを形成することでエッチング処理を施すと共に、主流路に供給したエッチング液を、主流路から開口とは反対側に分岐する副流路から排出することに特徴付けられる。
【００１３】
このような方法によれば、主流路に供給されたエッチング液は、ガラス基板の辺部に沿って流れた後、主流路から開口とは反対側に分岐する副流路へと流出し、当該副流路から排出されることになる。そのため、主流路内がエッチング液で満たされる前に、エッチング液が主流路から流出し始めるような事態の発生を抑制することができる。これにより、主流路内を流れるエッチング液の流量を安定させやすくなり、エッチング液のメニスカスの形状を安定的に維持することが可能となる。その結果、ガラス基板の辺部に対して、的確にエッチング処理を実行することができる。
【００１４】
上記の方法において、主流路に下方からエッチング液を供給すると共に、副流路から下方にエッチング液を排出することが好ましい。
【００１５】
主流路に上方からエッチング液を供給した場合、ガラス基板の上面側でのエッチング液の流量が、下面側でのエッチング液の流量に対して過大となる恐れがある。しかしながら、主流路に下方からエッチング液を供給すれば、主流路に流入したエッチング液は、後続のエッチング液によって押し上げられ、必然的に上方にしか逃げ場がない状態となる。そのため、ガラス基板の下面側のみでなく、上面側にも万遍なくエッチング液を行き亘らせることが可能となる。これにより、上面側と下面側との間でエッチング液の流量を均等化しやすくなる。また、主流路に下方から供給したエッチング液を、副流路から下方に排出することで、主流路へのエッチング液の流入量と、主流路からのエッチング液の流出量とのバランスを取りやすくなる。
【００１６】
上記の方法において、主流路に供給されるエッチング液を貯留する第一貯留槽と、副流路から排出されたエッチング液を貯留する第二貯留槽とを設け、第一貯留槽におけるエッチング液の液面高さＨ１と、主流路を流れるエッチング液の液面高さＨ２と、第二貯留槽におけるエッチング液の液面高さＨ３とが、液面高さＨ１＞液面高さＨ２＞液面高さＨ３の関係を満たすように調節すると共に、液面高さＨ１と液面高さＨ２との高低差と、液面高さＨ２と液面高さＨ３との高低差とが略同一となるように調節することが好ましい。ここで、「液面高さＨ１と液面高さＨ２との高低差と、液面高さＨ２と液面高さＨ３との高低差とが略同一」とは、両高低差のうち、大きい方の値が小さい方の値の１．０３倍以下であることを意味する。
【００１７】
このようにすれば、液面高さＨ１と液面高さＨ２との高低差と、液面高さＨ２と液面高さＨ３との高低差とを略同一とすることで、主流路に供給されるエッチング液の流量と、副流路から排出されるエッチング液の流量とを均等化しやすくなる。そのため、主流路内を流れるエッチング液の流量を安定させる上で有利となる。
【００１８】
上記の方法において、第一貯留槽と第二貯留槽との各々について、貯留槽の容積を超過した分のエッチング液を貯留槽から溢れ出させることで、液面高さＨ１と液面高さＨ３とをそれぞれ制御することが好ましい。
【００１９】
このようにすれば、貯留槽の容積を超過した分のエッチング液が、当該貯留槽から溢れ出ていくため、液面高さＨ１と液面高さＨ３との各々を、各貯留槽が満杯となったときの高さに容易に維持することができる。これにより、両液面高さＨ１，Ｈ３を極めて簡便に制御することが可能である。その結果、主流路内を流れるエッチング液の流量を安定させる上で、より有利である。
【００２０】
上記の方法において、ガラス基板を辺部に沿う方向に搬送して、辺部に主流路内を通過させると共に、辺部に沿ったエッチング液の流れの方向を、ガラス基板の搬送方向と同方向としてもよい。
【００２１】
このようにすれば、ガラス基板の搬送方向と、主流路内におけるエッチング液の流れの方向とが同方向となるため、主流路内を通過する辺部によってエッチング液の流れに乱れが生じるような事態の発生を抑制することができる。その結果、エッチング液のメニスカスの形状を、さらに安定的に維持することが可能となる。
【００２２】
上記の方法において、ガラス基板を辺部に沿う方向に搬送して、辺部に主流路内を通過させると共に、辺部に沿ったエッチング液の流れの方向を、ガラス基板の搬送方向と逆方向としてもよい。
【００２３】
このようにすれば、ガラス基板の搬送方向と、主流路内におけるエッチング液の流れの方向とが逆方向となるため、ガラス基板の辺部へのエッチング処理を効率的に実行することができる。
【００２４】
上記の方法において、開口を挟んで対向する主流路の上壁と下壁との各々について、開口側の先端部を疎水性部材で構成すると共に、下壁における疎水性部材の横向きの長さを、上壁における疎水性部材の横向きの長さよりも長くすることが好ましい。
【００２５】
主流路内において、ガラス基板の上面側に形成されるエッチング液のメニスカスと、下面側に形成されるエッチング液のメニスカスとでは、下面側の方が開口側に向かって出っ張りやすい。そのため、下壁における疎水性部材の横向きの長さを、上壁における疎水性部材の横向きの長さよりも長くすれば、メニスカスの形状を安定的に維持する上で好適である。
【発明の効果】
【００２６】
以上のように、本発明によれば、平置き姿勢のガラス基板の辺部にエッチング処理を施すにあたって、的確なエッチング処理の実行が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に用いる基板処理装置を示す平面図である。
【図２】図１におけるＡ−Ａ断面を示す断面図である。
【図３】図１におけるＢ−Ｂ断面を示す断面図である。
【図４】本発明の他の実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に用いる基板処理装置を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態に係るガラス基板のエッチング方法について、添付の図面を参照して説明する。なお、以下の説明で参照する図面において、白抜き矢印は全てエッチング液の流れの方向を表している。また、以下に説明する実施形態では、エッチング処理の対象となるガラス基板として、厚みが１０μｍ〜３００μｍの帯状のガラスフィルムを用いている。
【００２９】
まず、本発明の実施形態に係るガラス基板のエッチング方法に用いる基板処理装置について説明する。
【００３０】
図１は、基板処理装置１を示す平面図である。図２、図３は、それぞれ図１におけるＡ−Ａ断面、Ｂ−Ｂ断面を示す断面図である。これらの図に示すように、基板処理装置１は、図示省略の搬送手段（例えば、ローラー、ベルトコンベア等）によって平置き姿勢で搬送される帯状のガラスフィルム２の辺部２ａにエッチング処理を施す処理部３と、処理部３にエッチング液４を供給する薬液供給部５と、処理部３からエッチング液４を回収する薬液回収部６とを備えている。この基板処理装置１では、図１に示すように、ガラスフィルム２を幅方向に挟んで二つの処理部３が対向するように配置されており、ガラスフィルム２の一方側の辺部２ａと他方側の辺部２ａとに対して、同時にエッチング処理を施す構成とされている。また、一つの処理部３に対して、薬液供給部５と薬液回収部６とが一つずつ設けられている。
【００３１】
処理部３は、主たる構成要素として、横向きに開口してガラスフィルム２の辺部２ａに沿う方向に延びる主流路７と、主流路７から開口８とは反対側に分岐する副流路９とを備えている。
【００３２】
主流路７内では、開口８を挟んで対向する上壁１０と下壁１１との間を、ガラスフィルム２の搬送方向と同方向にエッチング液４が流れている。そして、主流路７の開口８側では、図２の部分拡大図（Ｃ部の拡大図）に示すように、上壁１０とガラスフィルム２の辺部２ａ、及び下壁１１とガラスフィルム２の辺部２ａの間に、表面張力によってエッチング液４のメニスカスが形成される。これにより、図１にクロスハッチングで表すように、主流路７内を連続的に通過するガラスフィルム２の辺部２ａにエッチング処理が施される。なお、上壁１０及び下壁１１の各々における開口８側の先端部１０ａ，１１ａは、疎水性部材で構成されている。そして、上壁１０側と下壁１１側との間で、疎水性部材の開口側先端（図２，図３において両先端部１０ａ，１１ａの右端）の位置は、ガラスフィルム２の幅方向における同じ位置で揃っている。これに対し、疎水性部材の反開口側先端（図２，図３において両先端部１０ａ，１１ａの左端）の位置は、ガラスフィルム２の幅方向において下壁１１側が上壁１０側に比べて、より反開口側に食い込んだ位置にある。このため、下壁１１側の疎水性部材は、上壁１０側の疎水性部材よりも横向きの長さ（図２，図３において左右方向の長さ）が長くなっている。また、両先端部１０ａ，１１ａの各々には、面取り加工が施されており、両先端部１０ａ，１１ａによって開口８がテーパー状に形成されている。
【００３３】
ここで、主流路７の長さとしては、１５０ｍｍ〜３００ｍｍであることが好ましい。また、主流路７内を流れるエッチング液４の流量は、３０ｍｌ／ｍｉｎ〜２００ｍｌ／ｍｉｎであることが好ましい。さらに、メニスカスとガラスフィルム２の上下面とがなす接触角θは、４０°以上であることが好ましい。加えて、上壁１０と下壁１１との離間距離は、２ｍｍ〜５ｍｍであることが好ましい。また、テーパーを形成するための両先端部１０ａ，１１ａの面取り寸法は、共にＣ３〜Ｃ５であることが好ましい。さらに、疎水性部材としては、ＰＴＦＥ、ＰＦＡ、ＦＥＰ、ＦＫＭ、ＦＰＭ等のフッ素樹脂を使用することが可能である。
【００３４】
主流路７の上流端における底部には、主流路７内に下方からエッチング液４を供給するための供給口１２が設けられている。また、供給口１２は、主流路７の下壁１１に形成された下に凸な部分円筒状の溝１３と接続されている。この溝１３は、主流路７の全長に亘って形成されると共に、溝１３の底部の高さ位置が、副流路９の底部の高さ位置よりも下方となるように形成されている。これにより、空の状態の主流路７内をエッチング液４で満たしていく際、その初期段階においては、溝１３内のみをエッチング液４が流れる。
【００３５】
ここで、溝１３の容積は、１０ｃｍ３〜１００ｃｍ３であることが好ましい。また、開口８の口が最大に開いた箇所から、溝１３の幅方向における中心（部分円筒の対称軸）までの水平距離は、１０ｍｍ〜２５ｍｍであることが好ましい。
【００３６】
副流路９は、主流路７の下流端の近傍から開口８とは反対側に分岐している。この副流路９は、主流路７と直交する方向に沿って水平に延びている。副流路９の下流端における底部には、主流路７から副流路９へと流出したエッチング液を、当該副流路９から下方に排出するための排出口１４が設けられている。この排出口１４は、上方から下方に向かって漸次に排出口１４の断面積が縮小していくようにテーパー状に形成されている。また、排出口１４の上方には、エッチング液４に混入した空気を除去するための空気抜き孔１５が設けられている。
【００３７】
ここで、主流路７の下流端から、主流路７と副流路９とが分岐する分岐部までの距離は、２０ｍｍ〜３５ｍｍであることが好ましい。また、副流路９の全長は、１０ｍｍ以上であることが好ましい。さらに、空気抜き孔１５の径は、５ｍｍ〜１０ｍｍであることが好ましい。
【００３８】
薬液供給部５は、主流路７（処理部３）に供給されるエッチング液４を貯留する第一貯留槽１６を備えている。第一貯留槽１６の底部は、主流路７に設けられた供給口１２とチューブ１７を介して接続されており、底部から流出したエッチング液４が主流路７へと供給される。また、第一貯留槽１６には、ポンプ（図示省略）によって薬液プール（図示省略）から汲み上げられたエッチング液４が、チューブ１８を介して上方から補充される。そして、第一貯留槽１６に上方から補充されるエッチング液４は、当該第一貯留槽１６の底部から流出するエッチング液４よりも多くなるように調節されている。さらに、第一貯留槽１６の周壁の一部は堰１６ａとなっており、第一貯留槽１６の容積を超過した分のエッチング液４が、堰１６ａを乗り越えて第一貯留槽１６から溢れ出す構成となっている。これにより、第一貯留槽１６におけるエッチング液４の液面高さＨ１が略一定となるように制御される。加えて、第一貯留槽１６におけるエッチング液４の液面高さＨ１は、主流路７を流れるエッチング液４の液面高さＨ２よりも高くなる構成となっている。なお、第一貯留槽１６から溢れ出たエッチング液４は、チューブ１９を介して薬液プールへと戻される。
【００３９】
薬液回収部６は、副流路９（処理部３）から排出されたエッチング液４を貯留する第二貯留槽２０を備えている。第二貯留槽２０の底部は、副流路９に設けられた排出口１４とチューブ２１を介して接続されており、副流路９から排出されたエッチング液４が底部から第二貯留槽２０へと流入する。また、第二貯留槽２０には、ポンプによって薬液プールから汲み上げられたエッチング液４が、チューブ２２を介して上方から供給される。さらに、第二貯留槽２０の周壁の一部は堰２０ａとなっており、第二貯留槽２０の容積を超過した分のエッチング液４が、堰２０ａを乗り越えて第二貯留槽２０から溢れ出す構成となっている。これにより、第二貯留槽２０におけるエッチング液４の液面高さＨ３が略一定となるように制御される。加えて、第二貯留槽２０におけるエッチング液４の液面高さＨ３は、主流路７を流れるエッチング液４の液面高さＨ２よりも低くなる構成となっている。なお、第二貯留槽２０から溢れ出たエッチング液４は、チューブ２３を介して薬液プールへと戻される。
【００４０】
ここで、液面高さＨ１と液面高さＨ２との高低差と、液面高さＨ２と液面高さＨ３との高低差とは、共に１ｍｍ〜３ｍｍであることが好ましい。なお、これらの液面高さＨ１〜Ｈ３の基準となる高さ位置は、任意の高さ位置とすることができる。また、両高低差のうち、大きい方の値は、小さい方の値の１．０３倍以下となるように調節されており、両高低差は略同一となるように調節されている。さらに、両チューブ１７，２１の長さとしては、１００ｍｍ〜１０００ｍｍであることが好ましい。また、チューブ１７の内径とチューブ２１の内径とを比較した場合、チューブ２１の内径をチューブ１７の内径よりも大きくすることが好ましく、チューブ１７の内径としては、３ｍｍ〜５ｍｍ、チューブ２１の内径としては、５ｍｍ〜７ｍｍとすることが好ましい。さらに、チューブ１７〜１９，２１〜２３については、疎水性を有していることが好ましい。加えて、これらのチューブ１７〜１９，２１〜２３の両端の接続部（例えば、チューブ１７における供給口１２との接続部、第一貯留槽１６との接続部）についても、疎水性を有していることが好ましい。
【００４１】
以下、上記の基板処理装置１を用いた本発明の実施形態に係るガラス基板のエッチング方法の作用・効果について説明する。
【００４２】
このガラス基板のエッチング方法によれば、主流路７に供給されたエッチング液４は、ガラスフィルム２の辺部２ａに沿って流れた後、主流路７から開口８とは反対側に分岐する副流路９へと流出し、当該副流路９から排出されることになる。そのため、主流路７内がエッチング液４で満たされる前に、エッチング液４が主流路７から流出し始めるような事態の発生を抑制することができる。
【００４３】
また、溝１３が、主流路７の全長に亘って形成されると共に、溝１３の底部の高さ位置が、副流路９の底部の高さ位置よりも下方となるように形成されている。これにより、空の状態の主流路７内をエッチング液４で満たしていく際、その初期段階においては、溝１３内のみをエッチング液４が流れる。そのため、エッチング液４が主流路７から副流路９へと流出し始める前に、少なくとも溝１３の容積の分のエッチング液４で、主流路７内を満たすことができる。
【００４４】
さらに、この方法では、液面高さＨ１〜Ｈ３が、液面高さＨ１＞液面高さＨ２＞液面高さＨ３の関係を満たすように調節されると共に、液面高さＨ１と液面高さＨ２との高低差と、液面高さＨ２と液面高さＨ３との高低差とが略同一となるように調節されている。このため、主流路７に供給されるエッチング液４の流量と、副流路９から排出されるエッチング液４の流量とを均等化しやすくなる。従って、主流路７内を流れるエッチング液４の流量を安定させる上で有利である。
【００４５】
なお、本実施形態においては、第一貯留槽１６と第二貯留槽２０との各々について、ポンプによって薬液プールから汲み上げられたエッチング液４が、チューブ１８，２２を介して上方から供給（補充）されている。このため、第一貯留槽１６と第二貯留槽２０との双方が空の状態で基板処理装置１の稼働を開始した後、迅速に液面高さＨ１＞液面高さＨ２＞液面高さＨ３の関係を作り出すことが可能である。
【００４６】
加えて、第一貯留槽１６と第二貯留槽２０との各々について、これらの容積を超過した分のエッチング液４が堰１６ａ、２０ａを乗り越えて溢れ出ていくため、液面高さＨ１と液面高さＨ３との各々を、各貯留槽１６，２０が満杯となったときの高さに容易に維持することができる。これにより、両液面高さＨ１，Ｈ３を極めて簡便に制御することが可能である。その結果、主流路７内を流れるエッチング液４の流量を安定させる上で、より有利である。
【００４７】
また、この方法では、主流路７に供給口１２を通じて下方から供給したエッチング液４を、副流路９から排出口１４を通じて下方に排出している。これにより、主流路７へのエッチング液４の流入量と、主流路７からのエッチング液４の流出量とのバランスを取りやすくなる。
【００４８】
以上のことから、このガラス基板のエッチング方法によれば、主流路７内を流れるエッチング液４の流量を安定させやすくなり、エッチング液４のメニスカスの形状を安定的に維持することが可能となる。その結果、ガラスフィルム２の辺部に対して、的確にエッチング処理を実行することができる。
【００４９】
さらに、このガラス基板のエッチング方法によれば、下記のような作用・効果をも得ることが可能である。
【００５０】
主流路７に上方からエッチング液４を供給した場合、ガラスフィルム２の上面側でのエッチング液４の流量が、下面側でのエッチング液４の流量に対して過大となる恐れがある。しかしながら、この方法のようにエッチング液４を下方から供給すれば、主流路７に流入したエッチング液４は、後続のエッチング液４によって押し上げられ、必然的に上方にしか逃げ場がない状態となる。そのため、ガラスフィルム２の下面側のみでなく、上面側にも万遍なくエッチング液４を行き亘らせることが可能となる。これにより、上面側と下面側との間でエッチング液４の流量を均等化しやすくなる。
【００５１】
さらに、開口８を挟んで対向する上壁１０と下壁１１との両者間で、下壁１１側の疎水性部材が、上壁１０側の疎水性部材よりも横向きの長さが長くなっている。ここで、主流路７内において、ガラスフィルム２の上面側に形成されるエッチング液４のメニスカスと、下面側に形成されるエッチング液４のメニスカスとでは、下面側の方が開口８側に向かって出っ張りやすい。そのため、下壁１１側の疎水性部材を長くしたことで、メニスカスの形状を安定的に維持する上で好適となる。
【００５２】
加えて、この方法では、ガラスフィルム２の搬送方向とエッチング液４の流れ方向とが同方向となっている。そのため、主流路７内を通過する辺部２ａによってエッチング液４の流れに乱れが生じるような事態の発生を抑制することができ、エッチング液４のメニスカスの形状を、さらに安定的に維持することが可能となる。
【００５３】
また、副流路９において、排出口１４の上方に空気抜き孔１５を設けたことで、例えば、チューブ２１にエッチング液４に混入した気泡が詰まり、これに起因して主流路７の開口８からエッチング液４が溢れ出すような不具合の発生を、好適に防止することが可能である。
【００５４】
ここで、本発明に係るガラス基板のエッチング方法は、上記の実施形態で説明した態様に限定されるものではない。例えば、上記の実施形態では、主流路における下流端の近傍から副流路が分岐する構成となっている。しかしながら、この限りではなく、主流路と副流路とが分岐する分岐部の位置は、主流路における任意の位置とすることができる。また、上記の実施形態では、副流路が主流路と直交する方向に延びているが、副流路は、主流路から開口とは反対側に分岐する構成である限り、任意の方向に延びる構成としてよい。すなわち、平面視で主流路から副流路が斜め方向に分岐する構成であってもよい。さらには、例えば、図４（ａ），（ｂ）に示すように、副流路９が主流路７の上流側に向かって折り返される構成としてもよい。なお、これらの場合においても、副流路９の全長は、１０ｍｍ以上であることが好ましい。
【００５５】
また、上記の実施形態では、主流路に形成された溝が下に凸な部分円筒状に形成されているが、この限りではなく、任意の形状に形成して構わない。例えば、その断面が矩形となるように溝を形成してもよいし、部分楕円となるように形成してもよい。さらに、上記の実施形態では、主流路に下方からエッチング液を供給すると共に、副流路から下方にエッチング液を排出する態様となっているが、必ずしもこの限りではなく、任意の方向からエッチング液を主流路に供給してよいし、任意の方向へ副流路からエッチング液を排出してよい。加えて、主流路にエッチング液を供給する位置（上記の実施形態においては、供給口の位置）についても、当該主流路における任意の位置としてよい。
【００５６】
また、上記の実施形態では、第一貯留槽と第二貯留槽との各々について、その容積を超過した分のエッチング液が堰を乗り越えて溢れ出すことで、液面高さＨ１と液面高さＨ３とが制御されているが、この限りではない。例えば、両貯留槽の各々について、水位センサーを設置し、この水位センサーからの信号に基づいて開閉する弁によって液面高さＨ１と液面高さＨ３とを制御してもよい。さらには、第一貯留槽と第二貯留槽との各々について、貯留槽自体を上下動させることで、液面高さＨ１と液面高さＨ３とを制御してもよい。加えて、上記の実施形態では、液面高さＨ１と液面高さＨ２との高低差と、液面高さＨ２と液面高さＨ３との高低差とが略同一となるように調節されているが、このように調節されていない場合であっても本発明の効果を得ることが可能である。ただし、両高低差を略同一としない場合であっても、両高低差のうち、大きい方の値が小さい方の値の３倍以下となるように調節することが好ましく、２倍以下となるように調節することがより好ましく、１．５倍以下となるように調節することがさらに好ましい。
【００５７】
また、上記の実施形態では、エッチング処理の対象となるガラス基板として帯状のガラスフィルムを用いているが、例えば、ガラス基板として矩形の板ガラスを用いてもよい。この場合、複数枚の板ガラスを連続的に搬送し、その各々の辺部に対してエッチング処理を施すような態様としてもよい。
【００５８】
また、上記の実施形態では、ガラスフィルムの搬送方向とエッチング液の流れ方向とが同方向となっているが、逆方向であってもよい。そして、ガラスフィルムの搬送方向とエッチング液の流れ方向とを逆方向とした場合には、ガラスフィルムの辺部へのエッチング処理を効率的に実行することが可能である。さらには、上述のように、ガラス基板として矩形の板ガラスを用いる場合には、搬送が停止された状態の板ガラスの辺部に対してエッチング処理を施す態様としてもよい。
【００５９】
また、上記の実施形態では、ガラスフィルムの一方側の辺部と、他方側の辺部との各々に対して、同時にエッチング処理を施す態様となっているが、両辺部に対して別々にエッチング処理を施す態様としてもよい。例えば、ガラスフィルムの搬送経路の上流側において、一方側の辺部に対してエッチング処理を施した後、搬送経路の下流側において、他方側の辺部に対してエッチング処理を施す態様としてもよい。さらには、基板処理装置をガラスフィルムの搬送経路に沿って複数設置する態様としてもよい。
【符号の説明】
【００６０】
２          ガラスフィルム
２ａ        辺部
４          エッチング液
７          主流路
８          開口
９          副流路
１０        上壁
１０ａ      上壁の先端部
１１        下壁
１１ａ      下壁の先端部
１６        第一貯留槽
２０        第二貯留槽
Ｈ１        液面高さ
Ｈ２        液面高さ
Ｈ３        液面高さ
【図１】
2015182918.tif 000003
【図２】
2015182918.tif 000004
【図３】
2015182918.tif 000005
【図４】
2015182918.tif 000006