(57)【要約】      （修正有）【課題】感光体表面の焼きつきが抑制される画像形成装置の提供。【解決手段】導電性基体と下引層と下引層上に設けられた感光層とを有し、下引層が結着樹脂と金属酸化物粒子と金属酸化物粒子の表面に有するアントラキノン誘導体と一般式（１）で表される電子輸送材料とを含む。電子写真感光体を周速度５００ｍｍ／ｓ以上で駆動させる駆動装置、帯電装置、露光装置、現像装置、転写装置を備えた画像形成装置。2015179109.tif 000051【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と前記導電性基体上に設けられた下引層と前記下引層上に設けられた感光層とを有し、前記下引層が結着樹脂と金属酸化物粒子と前記金属酸化物粒子の表面に有するアントラキノン誘導体と下記一般式（１）で表される電子輸送材料とを含む電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を周速度５００ｍｍ／ｓ以上で駆動させる駆動手段と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備えた画像形成装置。
【化１】
2015179109.tif 000049
（一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。）
【請求項２】
前記電子写真感光体の表面に形成する前記静電潜像の形成開始位置が、単一画像に対応する前記静電潜像毎に同期する、請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記電子写真感光体の最表面層は、フッ素含有樹脂粒子とフッ化アルキル基含有共重合体を含む、請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記トナーの体積平均粒径は、２．０μｍ以上５．０μｍ以下である、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
導電性基体と前記導電性基体上に設けられた下引層と前記下引層上に設けられた感光層とを有し、前記下引層が結着樹脂と金属酸化物粒子と前記金属酸化物粒子の表面に有するアントラキノン誘導体と下記一般式（１）で表される電子輸送材料とを含む電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を周速度５００ｍｍ／ｓ以上で駆動させる駆動手段と、
を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【化２】
2015179109.tif 000050
（一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成装置及びプロセスカートリッジに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、支持基体と、中間層と、感光体層とを備えた電子写真感光体であって、前記中間層が、フェノール系樹脂と、水酸基を有する皮膜形成樹脂と、正孔輸送剤と、を含有するとともに、フェノール系樹脂の含有率を特定の範囲内の値とすることを特徴とする電子写真感光体が開示されている。
【０００３】
特許文献２には、導電性基体上に中間層および有機感光層を順次積層した電子写真感光体であり、前記中間層が、少なくともブロックイソシアネート化合物と、前記ブロックイソシアネート化合物中のイソシアネート基と反応可能な活性水素含有基を有する樹脂と、無機酸化物微粒子と、電子輸送剤とを水性媒体に溶解または分散させた中間層形成用塗布液を塗布および熱硬化することで得られ、１０μｍより大きくかつ５０μｍ以下の厚さを有することを特徴とする電子写真感光体が開示されている。
【０００４】
特許文献３には、支持体と、支持体上に設けられた下引層であって、少なくとも結着樹脂と金属酸化物粒子とアントラキノン構造を有する電子受容性化合物とを含み、前記電子受容性化合物の含有量が特定の範囲であり、且つ前記金属酸化物粒子の水に対する接触角が特定の範囲である下引層と、下引層上に設けられた感光層と、を有する電子写真感光体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−２１５１１９号公報
【特許文献２】特開２０１０−１２２４４０号公報
【特許文献３】特開２０１３−２４２４８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、電子写真感光体表面の焼きつきが抑制される画像形成装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
導電性基体と前記導電性基体上に設けられた下引層と前記下引層上に設けられた感光層とを有し、前記下引層が結着樹脂と金属酸化物粒子と前記金属酸化物粒子の表面に有するアントラキノン誘導体と下記一般式（１）で表される電子輸送材料とを含む電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を周速度５００ｍｍ／ｓ以上で駆動させる駆動手段と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備えた画像形成装置。
【０００８】
【化１】
2015179109.tif 000002
【０００９】
（一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。）
【００１０】
請求項２に係る発明は、
前記電子写真感光体の表面に形成する前記静電潜像の形成開始位置が、単一画像に対応する前記静電潜像毎に同期する、請求項１に記載の画像形成装置。
【００１１】
請求項３に係る発明は、
前記電子写真感光体の最表面層は、フッ素含有樹脂粒子とフッ化アルキル基含有共重合体を含む、請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。
【００１２】
請求項４に係る発明は、
前記トナーの体積平均粒径は、２．０μｍ以上５．０μｍ以下である、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【００１３】
請求項５に係る発明は、
導電性基体と前記導電性基体上に設けられた下引層と前記下引層上に設けられた感光層とを有し、前記下引層が結着樹脂と金属酸化物粒子と前記金属酸化物粒子の表面に有するアントラキノン誘導体と下記一般式（１）で表される電子輸送材料とを含む電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を周速度５００ｍｍ／ｓ以上で駆動させる駆動手段と、
を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【００１４】
【化２】
2015179109.tif 000003
【００１５】
（一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。）
【発明の効果】
【００１６】
請求項１に係る発明によれば、下引層が前記一般式（１）で表される電子輸送材料を含まない場合に比べ、下引層が金属酸化物粒子と前記アントラキノン誘導体とを含み、かつ、電子写真感光体を周速度５００ｍｍ／ｓ以上で駆動させる駆動手段を備えていても、電子写真感光体表面の焼きつきが抑制される画像形成装置が提供される。
【００１７】
請求項２に係る発明によれば、下引層が前記一般式（１）で表される電子輸送材料を含まない場合に比べ、電子写真感光体の表面に形成する前記静電潜像の形成開始位置が、単一画像に対応する前記静電潜像毎に同期しても、電子写真感光体表面の焼きつきが抑制される画像形成装置が提供される。
【００１８】
請求項３に係る発明によれば、下引層が前記一般式（１）で表される電子輸送材料を含まない場合に比べ、電子写真感光体の最表面層がフッ素含有樹脂粒子とフッ化アルキル基含有共重合体を含む形態であっても、電子写真感光体表面の焼きつきが抑制される画像形成装置が提供される。
【００１９】
請求項４に係る発明によれば、下引層が前記一般式（１）で表される電子輸送材料を含まない場合に比べ、トナーの体積平均粒径が２．０μｍ以上５．０μｍ以下であっても、電子写真感光体表面の焼きつきが抑制される画像形成装置が提供される。
【００２０】
請求項５に係る発明によれば、下引層が前記一般式（１）で表される電子輸送材料を含まない場合に比べ、下引層が金属酸化物粒子と前記アントラキノン誘導体とを含み、かつ、電子写真感光体を周速度５００ｍｍ／ｓ以上で駆動させる駆動手段を備えていても、電子写真感光体表面の焼きつきが抑制されるプロセスカートリッジが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】本実施形態の画像形成装置に用いる電子写真感光体の層構成の一例を示す模式断面図である。
【図３】本実施形態の画像形成装置に用いる電子写真感光体の層構成の他の例を示す模式断面図である。
【図４】本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
【図５】本実施形態に係る画像形成装置において、電子写真感光体の外周面に形成する静電潜像の位置を説明するための図である。
【図６】実施例におけるドット再現性の評価基準を示す写真である。
【図７】実施例における焼きつきの評価基準を示す図である。
【図８】実施例の耐摩耗性評価において形成する画像の概略を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の一例である実施形態について説明する。
【００２３】
＜画像形成装置及びプロセスカートリッジ＞
本実施形態に係る画像形成装置は、導電性基体と前記導電性基体上に設けられた下引層と前記下引層上に設けられた感光層とを有し、前記下引層が結着樹脂と金属酸化物粒子と前記金属酸化物粒子の表面に有するアントラキノン誘導体と前記一般式（１）で表される電子輸送材料とを含む電子写真感光体（以下「感光体」と称する場合がある）と、前記電子写真感光体を周速度５００ｍｍ／ｓ以上で駆動させる駆動手段と、前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。
【００２４】
また本実施形態に係るプロセスカートリッジは、導電性基体と前記導電性基体上に設けられた下引層と前記下引層上に設けられた感光層とを有し、前記下引層が結着樹脂と金属酸化物粒子と前記金属酸化物粒子の表面に有するアントラキノン誘導体と前記一般式（１）で表される電子輸送材料とを含む電子写真感光体と、前記電子写真感光体を周速度５００ｍｍ／ｓ以上で駆動させる駆動手段と、を備え、画像形成装置に着脱する。
【００２５】
本実施形態では、下引層が前記一般式（１）で表される電子輸送材料を含まない場合に比べ、下引層が金属酸化物粒子と前記アントラキノン誘導体とを含み、かつ、感光体を周速度５００ｍｍ／ｓ以上で駆動させる駆動手段を備えていても、感光体表面の焼きつきが抑制される。その理由は定かではないが、以下のように推測される。
【００２６】
感光体を周速度５００ｍｍ／ｓ以上で駆動させる駆動手段を備えた画像形成装置（以下「高速機」と称する場合がある）では、従来の画像形成装置（例えば感光体の周速度が４４０ｍｍ／ｓ以下である画像形成装置）に比べ、帯電、露光、及び除電等の電気的負荷が感光体に対して短時間に繰り返し加えられる。
【００２７】
特に、金属酸化物粒子と前記アントラキノン誘導体とを下引層に含む感光体を高速機に適用すると、高速機であっても電気的な長期安定性（サイクル安定性）が得られる一方で、感光体表面の焼きつきは生じやすくなる。ここで、感光体表面の焼きつきとは、例えば、同一画像を繰り返し形成した後にハーフトーン画像を形成すると、繰り返し形成した前記同一画像の履歴がハーフトーン画像に現れる現象等のように、画像の履歴が残る現象をいう。
すなわち、金属酸化物粒子と前記アントラキノン誘導体とを含む下引層は、優れた電荷ブロッキング性を有するがゆえに、例えば高速で同一画像を繰り返し形成すると、感光体の特定箇所が電気的負荷を受け続ける。そのため、その特定箇所のみにおいて下引層と感光層との界面に電荷が蓄積し、周囲との電位差による電位ムラが生じやすくなると考えられる。
【００２８】
一方本実施形態では、下引層が結着樹脂と金属酸化物粒子と前記金属酸化物粒子の表面に有するアントラキノン誘導体と前記一般式（１）で表される電子輸送材料とを含む感光体を高速機に適用している。そのため、高速機であっても、上記サイクル安定性を得つつ、感光体表面の焼きつきも抑制される。その理由は必ずしも明確でないものの、下引層に含まれる前記一般式（１）で表される電子輸送材料が、下引層と感光層との界面に蓄積された電荷を感光層に受け渡しているからであると考えられる。そして、それによって、高速機における電気的負荷の繰り返しにも耐える程度に電荷の蓄積が抑制され、感光体表面の焼きつきが抑制されていると推測される。
【００２９】
本実施形態では、電子写真感光体の表面に形成する前記静電潜像の形成開始位置が、単一画像に対応する前記静電潜像毎に同期する形態であっても、感光体表面の焼きつきが抑制される。
特に高速機においては、一度に多くの枚数の画像を形成することも多いが、静電潜像の形成開始位置を単一画像に対応する静電潜像毎に同期させることで、画像内における濃度ムラが抑制される。一方、上記形態の画像形成装置では、同一の静電潜像を感光体表面の同じ位置に形成するため、同期させない画像形成装置に比べてさらに感光体表面の焼きつきは起こりやすいと考えられる。
しかしながら本実施形態では、下引層が金属酸化物粒子と前記金属酸化物粒子の表面に有するアントラキノン誘導体と前記一般式（１）で表される電子輸送材料とを含む感光体を適用するため、上記形態の画像形成装置であっても、感光体表面の焼きつきは抑制される。
【００３０】
また本実施形態では、感光体の最表面層がフッ素含有樹脂粒子とフッ化アルキル基含有共重合体を含む形態であっても、感光体表面の焼きつきが抑制される。
上記形態の感光体を適用することで、感光体の耐摩耗性が向上して寿命が延びる一方、最表面層がフッ素含有樹脂粒子とフッ化アルキル基含有共重合体を有さない場合に比べて電気特性が下がり、感光体表面の焼きつきが起こりやすくなると考えられる。
しかし本実施形態では、下引層が金属酸化物粒子と前記金属酸化物粒子の表面に有するアントラキノン誘導体と前記一般式（１）で表される電子輸送材料とを含む感光体を適用するため、上記形態の感光体を適用しても、感光体表面の焼きつきは抑制される。
【００３１】
また本実施形態では、体積平均粒径が２．０μｍ以上５．０μｍ以下のトナー（以下「小径トナー」と称する場合がある）を用いる形態であっても、感光体表面の焼きつきが抑制される。
高画質化を達成する観点で上記小径トナーを用いる場合、従来の体積平均粒径が５μｍを超えるトナーを用いる場合に比べて、トナーの帯電性が低いため、現像電位を大きくする必要がある。そのため、感光体の帯電電位を高く設定する必要があり、感光体に与える電気的負荷も大きくなるため、感光体表面の焼きつきが起こりやすくなると考えられる。
しかし本実施形態では、下引層が金属酸化物粒子と前記金属酸化物粒子の表面に有するアントラキノン誘導体と前記一般式（１）で表される電子輸送材料とを含む感光体を適用するため、上記小径トナーを用い、感光体の帯電電位を高くしても、感光体表面の焼きつきは抑制される。
【００３２】
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る画像形成装置及びプロセスカートリッジについて詳細に説明する。
【００３３】
図１は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図１に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【００３４】
図１におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、電子写真感光体７を周速度５００ｍｍ／ｓ以上で駆動させる駆動装置１６（駆動手段の一例）、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【００３５】
なお、図１には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【００３６】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【００３７】
−電子写真感光体−
本実施形態において感光体は、少なくとも導電性基体と下引層と感光層とを有していればよい。また感光体は、感光層として、電荷輸送能と電荷発生能とを併せ持つ機能一体型の感光層を有していてもよいし、電荷輸送層と電荷発生層とを含む機能分離型の感光層を有していてもよい。さらには、保護層等のその他の層を設けてもよい。
【００３８】
図２は、本実施形態における感光体の層構成の一例を示す模式断面図であり、図２中、１は導電性基体、２は感光層、２Ａは電荷発生層、２Ｂは電荷輸送層、２Ｃは保護層、４は下引層を表す。
図２に示す感光体は、導電性基体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂ、保護層２Ｃがこの順に積層された層構成を有し、感光層２は電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂおよび保護層２Ｃの３層から構成される（第１の態様の感光体）。
尚、図２に示す感光体においては保護層２Ｃが最外表面を構成する最表面層である。
次に、電子写真感光体の各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する場合がある。
【００３９】
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００４０】
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００４１】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００４２】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００４３】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００４４】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００４５】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００４６】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００４７】
（下引層）
下引層は、前記の通り、結着樹脂と、金属酸化物粒子と、前記金属酸化物粒子の表面に有するアントラキノン誘導体と、前記一般式（１）で表される電子輸送材料と、を含み、必要に応じてその他の成分を含んでもよい。
【００４８】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００４９】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００５０】
・金属酸化物粒子（無機粒子）
本実施形態では、下引層中に無機粒子として金属酸化物粒子を含む。
金属酸化物粒子としては、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の粒子が挙げられる。
これらの中でも、金属酸化物粒子としては、細線再現性、残留電位の上昇抑制の観点から、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛の粒子がよい。
【００５１】
金属酸化物粒子としては、望ましくは粒径が１００ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の導電粉が望ましく用いられる。ここでいう粒径とは、平均１次粒径を意味する。金属酸化物粒子の平均１次粒径は、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）により観察し測定される値である。
金属酸化物粒子の粒径が１０ｎｍ以上であることにより、金属酸化物粒子の表面積が大きくなり過ぎず、分散液におけるムラの発生が抑制される。一方、金属酸化物粒子の粒径が１００ｎｍ以下であることにより、２次粒子、またはそれ以上の高次粒子が１μｍ程度の粒径になることが効果的に抑制され、下引層内で金属酸化物粒子の存在する部分と存在しない部分、いわゆる海島構造となることが抑制され、ハーフトーン濃度のムラなどの画質欠陥の発生が抑制される。
【００５２】
なお、金属酸化物粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
また、金属酸化物粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００５３】
金属酸化物粒子としては１０４Ω・ｃｍ以上１０１０Ω・ｃｍ以下の粉体抵抗とすることが望ましい。これにより、下引層は、電子写真プロセス速度に対応した周波数で適切なインピーダンスを得ることが実現され易くなる。
【００５４】
金属酸化物粒子は、分散性等の諸特性の改善の目的で、少なくとも１種のカップリング剤で表面処理されていることがよい。
カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、およびアルミネート系カップリング剤から選ばれる少なくとも１種であることがよい。
具体的なカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等のアルミネート系カップリング剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ビス（ジオクチルピロホスフェート）、イソプロピルトリ（Ｎ―アミノエチルーアミノエチル）チタネート等のチタネート系カップリング剤等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらのカップリング剤は２種以上を混合して使用してもよい。
【００５５】
カップリング剤の処理量は、金属酸化物粒子に対して、０．１質量％以上３質量％以下であることがよく、望ましくは０．３質量％以上２．０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上１．５質量％以下である。
【００５６】
なお、カップリング剤の処理量は、次のように測定する。
ＦＴ−ＩＲ法、２９Ｓｉ固体ＮＭＲ法、熱分析、ＸＰＳなどの分析法があるが、ＦＴ−ＩＲ法が最も簡便である。ＦＴ−ＩＲ法では通常のＫＢｒ錠剤法でも、ＡＴＲ法でもよい。少量の処理済金属酸化物粒子をＫＢｒと混合し、ＦＴ−ＩＲを測定することで、カップリング剤の処理量を測定する。
【００５７】
金属酸化物粒子は、上記カップリング剤で表面処理後、抵抗値の環境依存性等の改善のために熱処理を行ってもよい。熱処理温度は、例えば、１５０℃以上３００℃以下、処理時間は３０分以上５時間以下がよい。
【００５８】
金属酸化物粒子の含有量は、電気特性維持の観点から、下引層全体に対し、３０質量％以上８５質量％以下が望ましく、４０質量％以上８０質量％以下がより望ましい。
なお金属酸化物粒子は、１種のみ用いてもよく、材料、粒径、表面処理等が異なるものを２種以上併用してもよい。
【００５９】
・アントラキノン誘導体
金属酸化物粒子の表面に有するアントラキノン誘導体としては、例えば、アントラキノン骨格を有し、かつ、金属酸化物粒子の表面と化学反応する材料、またはアントラキノン骨格を有し、かつ、金属酸化物粒子の表面に吸着する材料が挙げられる。
またアントラキノン誘導体の具体例としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が挙げられ、さらに具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。
【００６０】
アントラキノン誘導体としては、材料の入手性、電子輸送能力の観点で、下記一般式（１１）又は下記一般式（１２）で示されるアントラキノン誘導体が好ましい。
【００６１】
【化３】
2015179109.tif 000004
【００６２】
一般式（１１）中、ｎ１およびｎ２は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。但し、ｎ１およびｎ２の少なくとも一方は、１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１およびｎ２が同時に０を表さない）。ｍ１およびｍ２は、各々独立に０または１の整数を表す。Ｒ１およびＲ２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、または炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。
【００６３】
【化４】
2015179109.tif 000005
【００６４】
一般式（１２）中、ｎ１、ｎ２、ｎ３、およびｎ４は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。但し、ｎ１およびｎ２の少なくとも一方は、１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１およびｎ２が同時に０を表さない）。また、ｎ３およびｎ４の少なくとも一方は、１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ３およびｎ４が同時に０を表さない）。ｍ１およびｍ２は、各々独立に０または１の整数を表す。Ｒ１およびＲ２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、または炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。ｒは、１以上１０以上の整数を表す。
【００６５】
一般式（１１）で示されるアントラキノン誘導体の中でも、細線再現性、残留電位の上昇抑制の観点から、Ｒ１およびＲ２が各々独立に炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を示す化合物がよい。
【００６６】
ここで、一般式（１１）中Ｒ１およびＲ２が表す炭素数１以上１０以下のアルキル基、および一般式（１２）中Ｒ１およびＲ２が表す炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、直鎖状、または分岐状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、望ましくは１以上８以下のアルキル基、より望ましくは１以上６以下のアルキル基である。
【００６７】
一般式（１１）中Ｒ１およびＲ２が表す炭素数１以上１０以下のアルコキシ基、および一般式（１２）中Ｒ１およびＲ２が表す炭素数１以上１０以下のアルコキシ基としては、直鎖状、または分岐状のいずれでもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、オクトキシ基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルコキシ基としては、望ましくは１以上８以下のアルコキシ基、より望ましくは１以上６以下のアルコキシ基である。
【００６８】
ここで、一般式（１１）で示されるアントラキノン誘導体の具体例を下記（１−１）乃至（１−１１）に、一般式（１２）で示される化合物の具体例を下記（１−１２）乃至（１−１３）に示す。但し、これらに限定されるものではない。
尚、下記具体例化合物を以下においては「例示化合物」と称し、例えば下記（１−１）の化合物であれば「例示化合物（１−１）」と称す。
また、下記例示化合物中、「Ｍｅ」はメチル基を表し、「Ｅｔ」はエチル基を表し、「Ｂｕ」はｎ−ブチル基を表し、「Ｃ８Ｈ１７」はｎ−オクチル基を表す。
【００６９】
【化５】
2015179109.tif 000006
【００７０】
【化６】
2015179109.tif 000007
【００７１】
また、一般式（１１）又は一般式（１２）で示されるアントラキノン誘導体以外のアントラキノン誘導体の具体例を下記（１−１４）に示す。但し、これらに限定されるものではない。
【００７２】
【化７】
2015179109.tif 000008
【００７３】
これらのアントラキノン誘導体は、１種のみ用いてもよく、２種以上併用してもよい。
また、上記アントラキノン誘導体とアントラキノン誘導体以外の電子受容性化合物とを併用してもよい。アントラキノン誘導体以外の電子受容性化合物としては、例えば、酸性基を持つ電子受容性化合物が適用される。この酸性基としては、水酸基（フェノール水酸基）、カルボキシル基、スルホニル基等が挙げられる。
【００７４】
アントラキノン誘導体以外の電子受容性化合物として具体的には、例えば、アントラキノン系以外のキノン系、クマリン系、フタロシアニン系、トリフェニルメタン系、アントシアニン系、フラボン系、フラーレン系、ルテニウム錯体、キサンテン系、ベンゾキサジン系、ポルフィリン系の化合物が挙げられる。
アントラキノン誘導体と併用し得る電子受容性化合物の具体例を下記（１−１５）乃至（１−２２）に示す。
【００７５】
【化８】
2015179109.tif 000009
【００７６】
【化９】
2015179109.tif 000010
【００７７】
アントラキノン誘導体を含む全電子受容性化合物の含有量は、化学反応または吸着する相手である金属酸化物粒子の表面積および金属酸化物粒子の含有量と、各材料の電子輸送能力から決められるが、通常は下引層全体に対し、０．０１質量％以上２０質量％以下の範囲がよく、より望ましくは０．１質量％以上１０質量％以下の範囲である。
電子受容性化合物の含有量が０．１質量％以上であることにより、アクセプター物質の効果が効率的に発現される。また、電子受容性化合物の含有量が２０質量％以下であることにより、金属酸化物粒子同士の凝集が抑制され、金属酸化物粒子の下引層内での分布のムラが抑制され、良好な導電路が形成される。
【００７８】
また、含有される電子受容性化合物の内、アントラキノン誘導体の比率は、５０質量％以上が望ましく、１００質量％に近いほど望ましい。
【００７９】
アントラキノン誘導体を金属酸化物粒子の表面に存在させる方法（すなわち、例えば金属酸化物粒子の表面と化学反応させる方法、又は金属酸化物粒子の表面に物理的に吸着させる方法）としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【００８０】
乾式法は、例えば、金属酸化物粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させたアントラキノン誘導体を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、アントラキノン誘導体を金属酸化物粒子の表面に存在させる方法である。アントラキノン誘導体の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。アントラキノン誘導体を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００８１】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、金属酸化物粒子を溶剤中に分散しつつ、アントラキノン誘導体を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、アントラキノン誘導体を金属酸化物粒子の表面に存在させる方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、アントラキノン誘導体を添加する前に金属酸化物粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００８２】
なお、アントラキノン誘導体を金属酸化物粒子の表面に存在させる前記処理は、表面処理剤による表面処理を金属酸化物粒子に施す前又は後に行ってよく、表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００８３】
・一般式（１）で表される電子輸送材料
前記の通り、下引層は、下記一般式（１）で表される電子輸送材料を含む。
【００８４】
【化１０】
2015179109.tif 000011
【００８５】
（一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。）
【００８６】
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００８７】
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
【００８８】
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【００８９】
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基等が挙げられる。
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアラルキル基としては、例えば、ベンジル基等が挙げられる。
これらの中でも、フェニル基が好ましい。
【００９０】
一般式（１）中、Ｒ１８が示すアルキル基としては、例えば、炭素数５以上１０以下の直鎖状のアルキル基、炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基が挙げられる。
炭素数５以上１０以下の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。
【００９１】
一般式（１）中、Ｒ１８が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基等が挙げられる。
【００９２】
一般式（１）中、Ｒ１８が示すアラルキル基としては、−Ｒ１９−Ａｒで示される基が挙げられる。但し、Ｒ１９は、アルキレン基を示す、Ａｒは、アリール基を示す。
Ｒ１９が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒが示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基等が挙げられる。
【００９３】
一般式（１）中、Ｒ１８が示すアラルキル基として具体的には、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。
【００９４】
一般式（１）で表される電子輸送材料として、感光体表面の焼きつきを抑制する観点から、Ｒ１８が炭素数５以上１０以下の直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す電子輸送材料が好ましく、特に、Ｒ１１〜Ｒ１７が各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を示し、かつ、Ｒ１８が炭素数５以上１０以下の直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。
【００９５】
以下、一般式（１）で表される電子輸送材料の例示化合物を示すがこれに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（１１−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１５は、「例示化合物（１１−１５）」と以下表記する。
【００９６】
【化１１】
2015179109.tif 000012
【００９７】
なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・Ｐｈ：フェニル基
【００９８】
一般式（１）で表される電子輸送材料の下引層全体に対する含有量は、０．１質量％以上２０質量％以下がよく、望ましくは１質量％以上１０質量％以下である。
一般式（１）で表される電子輸送材料の含有量が上記範囲内であることにより、上記範囲よりも少ない場合に比べて感光体表面の焼きつきが抑制され、上記範囲よりも多い場合に比べて電位安定性に優れるという利点がある。
【００９９】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【０１００】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【０１０１】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【０１０２】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【０１０３】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【０１０４】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【０１０５】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【０１０６】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【０１０７】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【０１０８】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【０１０９】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１１０】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１１１】
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【０１１２】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【０１１３】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０１１４】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【０１１５】
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
【０１１６】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【０１１７】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。
【０１１８】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。
【０１１９】
４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基材からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。
【０１２０】
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。ｎ−型の電荷発生材料としては、例えば、特開２０１２−１５５２８２号公報の段落［０２８８］〜［０２９１］に記載された化合物（ＣＧ−１）〜（ＣＧ−２７）が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、ｎ−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ−型とする。
【０１２１】
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【０１２２】
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。
【０１２３】
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１２４】
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
【０１２５】
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【０１２６】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【０１２７】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１２８】
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１２９】
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
【０１３０】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。
【０１３１】
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。
【０１３２】
【化１２】
2015179109.tif 000013
【０１３３】
構造式（ａ−１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）を示す。ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ６、ＲＴ７、及びＲＴ８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１３４】
【化１３】
2015179109.tif 000014
【０１３５】
構造式（ａ−２）中、ＲＴ９１及びＲＴ９２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。ＲＴ１０１、ＲＴ１０２、ＲＴ１１１及びＲＴ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ（ＲＴ１２）＝Ｃ（ＲＴ１３）（ＲＴ１４）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）を示し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１３６】
ここで、構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。
【０１３７】
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。
【０１３８】
電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
【０１３９】
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１４０】
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【０１４１】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【０１４２】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１４３】
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１４４】
（保護層）
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【０１４５】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【０１４６】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。
【０１４７】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。
【０１４８】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【０１４９】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。
【０１５０】
保護層は、フッ素含有樹脂粒子とフッ化アルキル基含有共重合体とを含むことが耐摩耗性の観点から望ましく、更に電荷輸送材料を含むことがより望ましい。また、電荷輸送材料としては反応性電荷輸送材料（すなわち上記反応性基含有電荷輸送材料）が望ましい。つまり、保護層は、反応性電荷輸送材料の重合体（または架橋体）と、フッ素含有樹脂粒子と、フッ化アルキル基含有共重合体と、を含む電荷輸送性硬化膜で構成されることが望ましい。
【０１５１】
・反応性電荷輸送材料
反応性電荷輸送材料は、前記反応性基含有電荷輸送材料の中でも、−ＯＨ、−ＯＲ１０（Ｒ１０は炭素数１以上１２以下のアルキル基を表す）、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、および、炭素二重結合を持つ官能基を有する基から選択される置換基の少なくとも１つを持つ電荷輸送材料の少なくとも１種であることがよい。特に、反応性電荷輸送材料としては、−ＯＨ、−ＯＲ１０、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、および、炭素二重結合を持つ官能基を有する基から選択される置換基を少なくとも２つ（さらには３つ）持つ電荷輸送材料が望ましい。この如く、電荷輸送材料に反応性官能基（当該置換基）が増えることで、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られやすくなる。
【０１５２】
反応性電荷輸送材料としては、下記一般式（Ｃ）で表される化合物であることが望ましい。
Ｆｒ−（Ｄ）ｎ３  ……一般式（Ｃ）
一般式（Ｃ）中、Ｆｒは電荷輸送能を有する化合物から誘導される有機基（電荷輸送骨格）を表し、Ｄは、−（−Ｒ１１−Ｚ）ｎ１（Ｒ１２）ｎ２−Ｙ（但し、Ｒ１１およびＲ１２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表し、Ｚは酸素、ＮＨ、または硫黄原子を表し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＲ１０（Ｒ１０は炭素数１以上１２以下のアルキル基を表す）、−ＮＨ２、−ＳＨまたは−ＣＯＯＨを表し、ｎ１は０または１を表し、ｎ２は０または１を表す。）、または炭素二重結合を持つ官能基を有する基を表し、ｎ３は１以上４以下の整数を表す。
【０１５３】
Ｄで表される炭素二重結合を持つ官能基を有する基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基（ビニルフェニル基）、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、およびそれらの誘導体から選択される少なくも一つを有する基が挙げられる。尚、特に、これら基を末端に有する基が望ましい。
【０１５４】
一般式（Ｃ）中、Ｆｒで表される「電荷輸送能を有する化合物から誘導される有機基」における電荷輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。
【０１５５】
そして、一般式（Ｃ）で表される化合物は、下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物であることが望ましい。
【０１５６】
【化１４】
2015179109.tif 000015
【０１５７】
一般式（Ｃ−１）中、ＡｒＣ１、ＡｒＣ２、ＡｒＣ３およびＡｒＣ４はそれぞれ独立に、置換または無置換のアリール基を表し、同一でも異なっていてもよい。
ＡｒＣ５は置換若しくは無置換のアリール基、または置換若しくは無置換のアリーレン基を表す。
【０１５８】
Ｄは、−（−Ｒ１１−Ｚ）ｎ１（Ｒ１２）ｎ２−Ｙ（但し、Ｒ１１およびＲ１２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表し、Ｚは酸素、ＮＨ、または硫黄原子を表し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＲ１０（Ｒ１０は炭素数１以上１２以下のアルキル基を表す）、−ＮＨ２、−ＳＨまたは−ＣＯＯＨを表し、ｎ１は０または１を表し、ｎ２は０または１を表す。）、または−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｆ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２（但し、Ｒ’は水素原子、またはメチル基を表し、ｄは１以上５以下の整数を表し、ｆは０または１を表す。）を表す。ｅはそれぞれの位置において独立に０または１を表し、Ｄの総数は１以上４以下である。ｋは０または１を表す。
【０１５９】
ＡｒＣ１乃至ＡｒＣ５に関し、置換アリール基および置換アリーレン基における置換基としては、Ｄ以外のものとして、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数６以上１０以下のアリール基等が挙げられる。
【０１６０】
一般式（Ｃ−１）中、Ｄが「−（−Ｒ１１−Ｚ）ｎ１（Ｒ１２）ｎ２−Ｙ」の場合、Ｒ１１およびＲ１２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基であり、ｎ１として望ましくは１であり、ｎ２として望ましくは１であり、Ｚとして望ましくは酸素である。
【０１６１】
一般式（Ｃ−１）においてＤの総数は、一般式（Ｃ）におけるｎ３に相当し、望ましくは２以上４以下であり、さらに望ましくは３以上４以下である。Ｄの総数を一分子中に２以上４以下、望ましくは３以上４以下とすると、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られる。
【０１６２】
一般式（Ｃ−１）中、ＡｒＣ１、ＡｒＣ２、ＡｒＣ３およびＡｒＣ４としては、下記式（１）乃至（７）のいずれかであることが望ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、各ＡｒＣ１、ＡｒＣ２、ＡｒＣ３およびＡｒＣ４に連結され得る「−（Ｄ）ｅ」と共に示す。
【０１６３】
【化１５】
2015179109.tif 000016
【０１６４】
式（１）乃至（７）中、Ｒ１３は水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、無置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、無置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換または無置換のアリーレン基を表し、Ｄおよびｅは一般式（Ｃ−１）における「Ｄ」および「ｅ」と同じであり、ｓは０または１を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。
【０１６５】
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記式（８）または（９）で表されるものが望ましい。
【０１６６】
【化１６】
2015179109.tif 000017
【０１６７】
式（８）または（９）中、Ｒ１７およびＲ１８はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、無置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、およびハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。
【０１６８】
式（７）中のＺ’としては、下記式（１０）乃至（１７）のいずれかで表されるものが望ましい。
【０１６９】
【化１７】
2015179109.tif 000018
【０１７０】
式（１０）乃至（１７）中、Ｒ１９およびＲ２０はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、無置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、およびハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑおよびｒはそれぞれ１以上１０以下の整数を表し、ｔはそれぞれ１以上３以下の整数を表す。
【０１７１】
上記式（１６）および（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のいずれかであることが望ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【０１７２】
【化１８】
2015179109.tif 000019
【０１７３】
一般式（Ｃ−１）中、ＡｒＣ５は、ｋが０のときはＡｒＣ１乃至ＡｒＣ４の説明で例示された上記式（１）乃至（７）のアリール基であり、ｋが１のときはかかる上記式（１）乃至（７）のアリール基から水素原子を除いたアリーレン基である。
【０１７４】
一般式（Ｃ）で表される化合物の具体例としては、特開２０１１−１７５０３８号公報に記載の化合物ｉ−１乃至化合物ｉ−２５、化合物ｉｉ−１乃至ｉｉ−５６、ｉｉｉ−１乃至ｉｉｉ−１９、ｉｖ−１乃至ｉｖ−４９、ｖ−１乃至ｖ−３、ｖｉ−１乃至ｖｉ−６、特開２０１１−１１２８０１号公報に記載の化合物Ｉ−１乃至化合物Ｉ−３１、および特開２０１１−２７８０８号公報に記載の化合物Ｉ−１乃至化合物Ｉ−３４が挙げられる。
【０１７５】
反応性電荷輸送材料は、電子写真感光体の耐摩耗性、画質特性、電気特性などの観点から、アルコキシ基を有する反応性電荷輸送材料および水酸基を有する反応性電荷輸送材料の少なくとも１種を含むことが望ましい。更には、アルコキシ基を有する反応性電荷輸送材料と水酸基を有する反応性電荷輸送材料との両者を含むことがより望ましい。
尚、フッ素含有樹脂粒子およびフッ化アルキル基含有共重合体を除いた最表面層（第一の態様では保護層２Ｃ）の全固形分に対する、アルコキシ基を有する反応性電荷輸送材料の添加量が１０質量％以上４０質量％以下であることが望ましく、更には１０質量％以上３５質量％以下がより望ましく、１０質量％以上３０質量％以下が特に望ましい。
【０１７６】
ここで、一般式（Ｃ−１）で示される化合物のうち、水酸基を有する反応性電荷輸送材料およびアルコキシ基を有する反応性電荷輸送材料の具体例を挙げる。但し、以下のものに限定されるものではない。
【０１７７】
【化１９】
2015179109.tif 000020
【０１７８】
【化２０】
2015179109.tif 000021
【０１７９】
【化２１】
2015179109.tif 000022
【０１８０】
【化２２】
2015179109.tif 000023
【０１８１】
【化２３】
2015179109.tif 000024
【０１８２】
【化２４】
2015179109.tif 000025
【０１８３】
【化２５】
2015179109.tif 000026
【０１８４】
【化２６】
2015179109.tif 000027
【０１８５】
【化２７】
2015179109.tif 000028
【０１８６】
反応性電荷輸送材料の含有量は、例えば、形成用組成物における固形分濃度として、フッ素含有樹脂粒子およびフッ化アルキル基含有共重合体を除く層全構成成分（固形分）に対し、８０質量％以上であり、望ましくは９０質量％以上、より望ましくは９５質量％以上である。
【０１８７】
・フッ素含有樹脂粒子
フッ素含有樹脂粒子としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ、別名「４フッ化エチレン樹脂」）、パーフルオロアルコキシフッ素樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリジクロロジフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルコキシエチレン共重合体などの粒子が挙げられる。
【０１８８】
中でも、電子写真感光体の耐摩耗性とクリーニング性の観点から、ポリテトラフルオロエチレン、およびテトラフルオロエチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体が望ましい。
フッ素含有樹脂粒子は、１種を単独でまたは２種以上を併用してもよい。
【０１８９】
フッ素含有樹脂粒子を構成するフッ素樹脂の重量平均分子量は、例えば、３０００以上５００万以下がよい。
【０１９０】
フッ素含有樹脂粒子の平均一次粒径は、例えば、０．０５μｍ以上１０μｍ以下であることが望ましく、より望ましくは０．１μｍ以上５μｍ以下である。
なお、フッ素含有樹脂粒子の平均一次粒径は、レーザ回折式粒度分布測定装置ＬＡ−９２０（堀場製作所製）を用いて、フッ素含有樹脂粒子が分散された分散液と同じ溶剤に希釈した測定液を屈折率１．３５で測定した値をいう。
【０１９１】
フッ素含有樹脂粒子の市販品としては、例えば、ルブロンシリーズ（ダイキン工業株式会社製）、テフロン（登録商標）シリーズ（デュポン製）、ダイニオンシリーズ（住友３Ｍ製）等が挙げられる。
【０１９２】
フッ素含有樹脂粒子の含有量は、層全構成成分（固形分全量）に対して、１質量％以上３０質量％以下がよく、望ましくは２質量％以上２０質量％以下であり、より望ましくは３質量％以上１５質量％以下である。
【０１９３】
・フッ化アルキル基含有共重合体
フッ化アルキル基含有共重合体は、フッ素含有樹脂粒子の分散安定性を保つ。フッ化アルキル基含有共重合体としては、例えば、下記構造式（Ｅ）および構造式（Ｆ）で表される繰り返し単位を持つフッ化アルキル基含有共重合体が挙げられる。当該フッ化アルキル基含有共重合体は、電子写真感光体の耐摩耗性とクリーニング性を向上させる観点から望ましい。
【０１９４】
【化２８】
2015179109.tif 000029
【０１９５】
構造式（Ｅ）および構造式（Ｆ）中、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３およびＲ１０４はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。Ｘ’は、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、または単結合を表す。Ｙ’は、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−（ＣｚＨ２ｚ−１（ＯＨ））−、または単結合を表す。Ｑは、−Ｏ−、または−ＮＨ−を表す。ｇ、ｈおよびｉはそれぞれ独立に、１以上の整数を表す。ｐ’、ｑ’、ｒ’およびｓ’はそれぞれ独立に、０または１以上の整数を表す。ｔ’は１以上７以下の整数を表す。ｚは１以上の整数を表す。
【０１９６】
ここで、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３およびＲ１０４で表される基としては、水素原子、メチル基、エチル基が望ましく、メチル基がより望ましい。
【０１９７】
Ｘ’およびＹ’で表されるアルキレン鎖（無置換アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖）としては、炭素数１以上１０以下のアルキレン鎖が望ましい。
Ｙ’で表される−（ＣｚＨ２ｚ−１（ＯＨ））−中のｚは、１以上１０以下の整数が望ましい。
ｐ’、ｑ’、ｒ’およびｓ’はそれぞれ独立に、０または１以上１０以下の整数が望ましい。
【０１９８】
フッ化アルキル基含有共重合体において、構造式（Ｅ）と構造式（Ｆ）との含有比、即ちｇ：ｈは、１：９乃至９：１が望ましく、３：７乃至７：３がより望ましい。
フッ化アルキル基含有共重合体は、構造式（Ｇ）で表される繰り返し単位をさらに含んでもよい。構造式（Ｇ）の含有量は、構造式（Ｅ）および構造式（Ｆ）の含有量の合計即ちｇ＋ｈとの比で、ｇ＋ｈ：ｊとして１０：０乃至７：３が望ましく、９：１乃至７：３がより望ましい。
【０１９９】
【化２９】
2015179109.tif 000030
【０２００】
構造式（Ｇ）中、Ｒ１０５およびＲ１０６は水素原子またはアルキル基を表す。ｊは１以上の整数を表す。
【０２０１】
Ｒ１０５、Ｒ１０６で表される基としては、水素原子、メチル基、エチル基が望ましく、メチル基がより望ましい。
【０２０２】
フッ化アルキル基含有共重合体の市販品としては、例えば、ＧＦ３００、ＧＦ４００（東亞合成社製）、サーフロンシリーズ（ＡＧＣセイミケキカル社製）、フタージェントシリーズ（ネオス社製）、ＰＦシリーズ（北村化学社製）、メガファックシリーズ（ＤＩＣ製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ製）等が挙げられる。
【０２０３】
フッ化アルキル基含有共重合体は、１種を単独でまたは２種以上を併用してもよい。
【０２０４】
フッ化アルキル基含有共重合体の重量平均分子量は、例えば、２０００以上２５００００以下がよく、望ましくは３０００以上１５００００以下であり、より望ましくは１００００以上１０００００以下である、更に望ましくは３００００以上１０００００以下である。
フッ化アルキル基含有共重合体の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される。
【０２０５】
フッ化アルキル基含有共重合体の含有量は、フッ素含有樹脂粒子の質量に対して０．５質量％以上１０質量％以下がよく、望ましくは１質量％以上７質量％以下である。
また、表面保護層におけるフッ素含有樹脂粒子およびフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量は、層全構成成分（固形分全量）に対して、１質量％以上４０質量％以下が望ましく、３質量％以上２０質量％以下がより望ましい。
【０２０６】
・グアナミン化合物、メラミン化合物
保護層の形成用の組成物には、電子写真感光体の耐摩耗性および電気的安定性をより向上させるために、グアナミン構造を有する化合物（以下、「グアナミン化合物」とも称する。）およびメラミン構造を有する化合物（以下、「メラミン化合物」とも称する。）から選択される少なくとも１種を含ませてもよい。つまり、保護層は、反応性電荷輸送材料と、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種との架橋体（架橋物）を含んで構成されてもよい。
【０２０７】
グアナミン化合物は、グアナミン骨格（構造）を有する化合物であり、例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミン等が挙げられる。
【０２０８】
グアナミン化合物としては、特に下記一般式（Ｈ）で表される化合物およびその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ｈ）で表される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。一般式（Ｈ）で表される化合物またはその多量体は、１種単独で用いもよいし、２種以上を併用してもよい。一般式（Ｈ）で表される化合物は、２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上する。
【０２０９】
【化３０】
2015179109.tif 000031
【０２１０】
一般式（Ｈ）中、ＲＨ１は、炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数６以上１０以下のフェニル基、または置換若しくは無置換の炭素数４以上１０以下の脂環式炭化水素基を表す。ＲＨ２乃至ＲＨ５はそれぞれ独立に、水素原子、−ＣＨ２−ＯＨ、または−ＣＨ２−Ｏ−ＲＨ６を表す。ＲＨ６は、炭素数１以上１０以下の直鎖状または分岐状のアルキル基を表す。
【０２１１】
ＲＨ１が炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基の場合、望ましくは炭素数が１以上８以下であり、より望ましくは炭素数が１以上５以下である。
ＲＨ１が置換若しくは無置換の炭素数６以上１０以下のフェニル基の場合、望ましくは炭素数が６以上８以下である。フェニル基が置換される場合の置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
【０２１２】
ＲＨ１が置換若しくは無置換の炭素数４以上１０以下の脂環式炭化水素基の場合、望ましくは炭素数が５以上８以下である。脂環式炭化水素基が置換される場合の置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
ＲＨ６で表される炭素数１以上１０以下の直鎖状または分岐状のアルキル基は、望ましくは炭素数が１以上８以下であり、より望ましくは炭素数が１以上６以下（例えば、メチル基、エチル基、ブチル基など）である。
【０２１３】
一般式（Ｈ）で表される化合物は、特に望ましくは、ＲＨ１が置換若しくは無置換の炭素数６以上１０以下のフェニル基で、ＲＨ２乃至ＲＨ５がそれぞれ独立に−ＣＨ２−Ｏ−ＲＨ６で表される化合物で、ＲＨ６がメチル基またはｎ−ブチル基である。
一般式（Ｈ）で表される化合物は、例えば、グアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、「実験化学講座」第４版、２８巻、４３０ページ）で合成される。
【０２１４】
以下に一般式（Ｈ）で表される化合物の具体例を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体を示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。
【０２１５】
【化３１】
2015179109.tif 000032
【０２１６】
【化３２】
2015179109.tif 000033
【０２１７】
【化３３】
2015179109.tif 000034
【０２１８】
【化３４】
2015179109.tif 000035
【０２１９】
【化３５】
2015179109.tif 000036
【０２２０】
【化３６】
2015179109.tif 000037
【０２２１】
【化３７】
2015179109.tif 000038
【０２２２】
【化３８】
2015179109.tif 000039
【０２２３】
一般式（Ｈ）で表される化合物の市販品としては、例えば、スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４８−５５、スーパーベッカミン（Ｒ）１３−５３５、スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４５−６０、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１２６（以上、ＤＩＣ社製）、ニカラックＢＬ−６０、ニカラックＢＸ−４０００（以上、日本カーバイド社製）などが挙げられる。
【０２２４】
一般式（Ｈ）で表される化合物（多量体を含む）は、合成後または市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチルなどの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。
【０２２５】
メラミン化合物は、メラミン骨格（構造）を有する化合物であり、特に下記一般式（Ｊ）で表される化合物およびその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ｊ）で表される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。一般式（Ｊ）で表される化合物またはその多量体は、１種単独で用いもよいし、２種以上を併用してもよい。一般式（Ｊ）で表される化合物は、２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上する。
【０２２６】
【化３９】
2015179109.tif 000040
【０２２７】
一般式（Ｊ）中、ＲＪ６乃至ＲＪ１１はそれぞれ独立に、水素原子、−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−Ｏ−ＲＪ１２、または−Ｏ−ＲＪ１２を表し、ＲＪ１２は、炭素数１以上５以下の直鎖状または分岐状のアルキル基を表す。当該アルキル基としてはメチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。
【０２２８】
一般式（Ｊ）で表される化合物は、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、「実験化学講座」第４版、２８巻、４３０ページ）で合成される。
以下に一般式（Ｊ）で表される化合物の具体例を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体を示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。
【０２２９】
【化４０】
2015179109.tif 000041
【０２３０】
一般式（Ｊ）で表される化合物の市販品としては、例えば、スーパーメラミＮｏ．９０（日油社製）、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１３９−６０（ＤＩＣ社製）、ユーバン２０２０（三井化学）、スミテックスレジンＭ−３（住友化学工業）、ニカラックＭＷ−３０（日本カーバイド社製）などが挙げられる。
【０２３１】
一般式（Ｊ）で表される化合物（多量体を含む）は、合成後または市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチルなどの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。
【０２３２】
グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも１種を用いる場合、反応性電荷輸送材料としては、アルコキシ基を有する反応性電荷輸送材料から選択される少なくとも１種を用いることが望ましく、さらに、水酸基を有する反応性電荷輸送材料から選択される少なくとも１種も用いることがより望ましい。
【０２３３】
この場合、グアナミン化合物およびメラミン化合物の総添加量は、フッ素含有樹脂粒子および前記フッ化アルキル基含有共重合体を除いた前記最表面層（保護層）の形成用組成物における全固形分に対して０．１質量％以上２５質量％以下であることが望ましく、０．１質量％以上２０質量％以下であることがより望ましく、１質量％以上２０質量％以下であることが更に望ましい。
保護層を上記構成とすることで、保護層がより密な硬化膜となり、電子写真感光体の耐摩耗性と電気特性がより向上する。
【０２３４】
保護層における、反応性電荷輸送材料の総含有量や、グアナミン化合物およびメラミン化合物の総含有量は、保護層を形成するための組成物におけるこれらの化合物の固形分濃度を調整することによって制御される。
【０２３５】
本実施形態では、保護層が、グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と、アルコキシ基を有する反応性電荷輸送材料と、水酸基を有する反応性電荷輸送材料と、が重合された重合体を含み、フッ素含有樹脂粒子およびフッ化アルキル基含有共重合体を除いた保護層の全固形分に対する前記グアナミン化合物及び前記メラミン化合物の総含有量（すなわち前記グアナミン化合物に由来する成分と前記メラミン化合物に由来する成分との総量）が０．１質量％以上２０質量％以下であり、かつ、フッ素含有樹脂粒子およびフッ化アルキル基含有共重合体を除いた保護層の全固形分に対する前記アルコキシ基を有する反応性電荷輸送材料の含有量（すなわち前記アルコキシ基を有する反応性電荷輸送材料に由来する成分の量）が１０質量％以上４０質量％以下であることが特に望ましい。
【０２３６】
以下、保護層について、さらに詳細に説明する。
保護層には、反応性電荷輸送材料（例えば一般式（Ｃ）で表される化合物）と共に、フェノール樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂などを併用してもよい。また、強度を向上させるために、スピロアセタール系グアナミン樹脂（例えば「ＣＴＵ−グアナミン」、味の素ファインテクノ（株）製）など、一分子中の官能基の個数がより多い化合物を当該架橋物中の材料に共重合させることも効果的である。
【０２３７】
保護層には、放電生成ガスを吸着しすぎないように、放電生成ガスによる酸化を効果的に抑制する目的から、フェノール樹脂などの他の熱硬化性樹脂を混合してもよい。
【０２３８】
保護層には、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤は、例えば、帯電装置で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を抑制する目的で用いられる添加剤である。
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、有機イオウ系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤が挙げられる。
【０２３９】
保護層には、界面活性剤を添加することがよい。界面活性剤としては、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造のうち少なくとも１種類以上の構造を含む界面活性剤であれば特に制限はないが、上記構造を複数有するものが電荷輸送有機化合物との親和性・相溶性が高く保護層用塗布液の成膜性が向上し、保護層のシワ及びムラが抑制されるため、好適に挙げられる。
【０２４０】
保護層には、膜の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、カップリング剤またはフッ素化合物と混合して用いてもよい。この化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。
【０２４１】
保護層には、放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、粒子分散性、粘度制御、トルク低減、磨耗量制御、ポットライフ（層形成用塗布液の保存性）の延長などの目的で、アルコールに溶解する樹脂を加えてもよい。
ここで、アルコールに溶解する樹脂とは、炭素数５以下のアルコールに１質量％以上溶解する樹脂を意味する。アルコールに溶解する樹脂としては、例えば、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が挙げられる。
【０２４２】
保護層には、残留電位を下げる目的、または強度を向上させる目的で、各種粒子を添加してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカおよびシリコーン粒子等が挙げられる。
また、保護層には、シリコーンオイル等の潤滑剤を添加してもよい。
【０２４３】
保護層には、金属、金属酸化物およびカーボンブラック等を添加してもよい。
【０２４４】
保護層は、反応性電荷輸送材料、および必要に応じて用いられるグアナミン化合物およびメラミン化合物を、酸触媒を用いて重合（架橋）させた硬化膜（架橋膜）であることが望ましい。酸触媒としては、酢酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸などの脂肪族カルボン酸；安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸などの芳香族カルボン酸；メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、などの脂肪族若しくは芳香族スルホン酸類などが用いられるが、含硫黄系材料（特には、有機スルホン酸およびその誘導体）を用いることが望ましい。
【０２４５】
ここで、触媒の配合量は、フッ素含有樹脂粒子およびフッ化アルキル基含有共重合体を除く層全構成成分（固形分）に対して、０．１質量％以上５０質量％以下の範囲であることが望ましく、特に１０質量％以上３０質量％以下が望ましい。この配合量が上記範囲未満であると、触媒活性が低すぎることがあり、上記範囲を超えると耐光性が悪くなることがある。なお、耐光性とは、感光層が室内光などの外界からの光にさらされたときに、照射された部分が濃度低下を起こす現象のことを言う。原因は、明らかではないが、特開平５−０９９７３７号公報にあるように、光メモリー効果と同様の現象が起こっているためと推定される。
【０２４６】
以上の構成の保護層は、上記成分を混合した保護層形成用塗布液を用いて形成される。保護層形成用塗布液の調製は、無溶媒で行うか、必要に応じて溶剤を用いて行ってもよい。かかる溶剤は１種を単独でまたは２種以上を混合して使用されるが、望ましくは沸点が１００℃以下のものである。溶剤としては、特に、少なくとも１種以上の水酸基を持つ溶剤（例えば、アルコール類等）を用いることがよい。
【０２４７】
また、上記成分を反応させて塗布液を得るときには、単純に混合、溶解させるだけでもよいが、室温（例えば２５℃）以上１００℃以下、望ましくは３０℃以上８０℃以下で、１０分以上１００時間以下、望ましくは１時間以上５０時間以下加温してもよい。また、この際に超音波を照射することも望ましい。これにより、おそらく部分的な反応が進行し、塗膜欠陥が少なく、厚さのバラツキが少ない膜が得られやすくなる。
【０２４８】
そして、保護層形成用塗布液を、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の公知の方法により塗布し、必要に応じて例えば温度１００℃以上１７０℃以下で加熱して硬化させることで、保護層が得られる。
【０２４９】
保護層の膜厚は、１μｍ以上１５μｍ以下が望ましく、より望ましくは３μｍ以上１０μｍ以下である。
【０２５０】
以上、図２に示す態様の感光体について説明したが、本実施形態の画像形成装置及びプロセスカートリッジに適用する感光体は、上記構成に限定されることはない。
【０２５１】
図３は、本実施形態における感光体の層構成の他の例を示す模式断面図であり、図３中に示した符号は、図２中に示したものと同義である。
図３に示す感光体は、導電性基体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂがこの順に積層された層構成を有し、感光層２は電荷発生層２Ａおよび電荷輸送層２Ｂの２層から構成される（第２の態様の感光体）。
尚、図３に示す感光体においては電荷輸送層２Ｂが最外表面を構成する最表面層である。
【０２５２】
第２の態様の感光体における導電性基体１、下引層４、電荷発生層２Ａとしては、前述の図２に示す第１の態様の感光体における導電性基体１、下引層４、電荷発生層２Ａがそのまま適用される。また、第２の態様の感光体における電荷輸送層２Ｂとしては、前述の図２に示す第１の態様の感光体における保護層２Ｃがそのまま適用される。
【０２５３】
また、図２に示す態様では上記の通り感光層２として電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂおよび保護層２Ｃの３層から構成される態様を示し、また図３に示す態様では上記の通り感光層２として電荷発生層２Ａおよび電荷輸送層２Ｂの２層から構成される態様を示した。しかし、この他にも図２および図３において、電荷発生層２Ａおよび電荷輸送層２Ｂを、導電性基体１側から順に電荷輸送層２Ｂ、電荷発生層２Ａの順に積層した態様であってもよい。
【０２５４】
以上、機能分離型の電子写真感光体を例に説明したが、例えば、電荷発生層２Ａおよび電荷輸送層２Ｂに替えて、電荷輸送能と電荷発生能とを併せ持つ機能一体型の感光層を有する態様等であってもよい。機能一体型の単層型感光層を形成する場合は、電荷発生材料の含有量は１質量％以上１０質量％以下程度が望ましく、より望ましくは１．５質量％以上５質量％以下である。また、電荷輸送材料の含有量は２０質量％以上７０質量％以下とすることが望ましい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法に準じて行われる。単層型感光層の厚さは５μｍ以上５０μｍ以下が望ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下がより望ましい。
【０２５５】
−駆動装置−
駆動装置１６は、感光体を周速度５００ｍｍ／ｓ以上で駆動させる。
ここで周速度は、感光体の外周面における速度を意味し、駆動装置１６によって回転する感光体の角速度と、感光体の回転軸から外周面までの距離と、から求められる。
前記周速度としては、例えば５００ｍｍ／ｓ以上８００ｍｍ／ｓ以下が挙げられ、好ましくは５００ｍｍ／ｓ以上７００ｍｍ／ｓ以下である。
駆動装置１６としては、例えばモータ等が挙げられるが、感光体を駆動させるものであれば特に限定されるものではなく、励磁力、空気圧、油圧等を用いて回転運動、振り子運動、往復運動等、繰り返し動作する構造であればよい。
【０２５６】
−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０２５７】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０２５８】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０２５９】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０２６０】
（トナー）
以下、現像装置１１に使用されるトナーについて説明する。
トナーの体積平均粒径としては、例えば２．０μｍ以上１２μｍ以下の範囲が挙げられるが、高画質化を実現する観点から２．０μｍ以上５．０μｍ以下であることが望ましく、２．０μｍ以上４．５μｍ以下がより望ましい。
なお、トナーの体積平均粒径は、例えばトナー粒子と外添剤とを含むトナーの場合、トナー粒子の体積平均粒径に相当する。
【０２６１】
トナー（トナー粒子）の体積平均粒径の測定は、以下のようにして行われる。
まず、分散剤として界面活性剤（望ましくはアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム）の５質量％水溶液２ｍｌ中に、測定試料を０．５ｍｇ以上５０ｍｇ以下加え、これを電解液１００ｍｌ以上１５０ｍｌ以下中に添加した。この測定試料を懸濁させた電解液を超音波分散器で１分間分散処理を行い、コールターマルチサイザーＩＩ型（ベックマン−コールター社製）により、アパーチャー径が１００μｍのアパーチャーを用いて、粒径が２．０μｍ以上６０μｍ以下の範囲の粒子の粒度分布を測定する。測定する粒子数は５０，０００とする。
得られた粒度分布を分割された粒度範囲（チャンネル）に対し、小粒径側から体積累積分布を引いて、累積５０％となる粒径を体積平均粒径Ｄ５０ｖとする。
【０２６２】
またトナー（トナー粒子）の平均円形度は、０．９００以上０．９９８以下であることがよく、望ましくは０．９５０以上０．９８０以下である。
トナー（トナー粒子）の平均円形度は、（円相当周囲長）／（周囲長）［（粒子像と同じ投影面積をもつ円の周囲長）／（粒子投影像の周囲長）］により求められる。具体的には、測定対象となるトナーを吸引採取し、扁平な流れを形成させ、ストロボ発光させることにより静止画像として粒子像を取り込み、その粒子像を画像解析するフロー式粒子像解析装置（例えばシスメックス社製のＦＰＩＡ−２１００）によって求める。なお、平均円形度を求める際のサンプリング数は３５００個である。
【０２６３】
またトナー（トナー粒子）の形状係数ＳＦ１は、１００以上１３０以下がよく、望ましくは１１０以上１２０以下である。
トナー（トナー粒子）の形状係数ＳＦ１は下記式により求められる。
式：ＳＦ１＝１００π×（ＭＬ）２／（４×Ａ）
上記式中、ＭＬは粒子の最大長、Ａは粒子の投影面積である。粒子の最大長と投影面積は、スライドガラス上にサンプリングした粒子を光学顕微鏡により観察し、ビデオカメラを通じて画像解析装置（ＬＵＺＥＸ  ＩＩＩ、ＮＩＲＥＣＯ社製）に取り込んで、画像解析を行うことにより求められる。この際のサンプリング数は１００個以上で、その平均値を用いて、上記式に示す形状係数を求める。
【０２６４】
・トナーの構成
トナーは、トナー粒子単独で構成されていてもよいし、トナー粒子と外添剤とを含んで構成されていてもよい。
【０２６５】
トナー粒子は、例えば、結着樹脂や、その他、着色剤、離型剤、その他内添剤等を含有して構成される。
【０２６６】
結着樹脂としては、特に制限はないが、スチレン類（例えばスチレン、クロロスチレン等）、モノオレフィン類（例えばエチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等）、ビニルエステル類（例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等）、１−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類（例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等）、ビニルエーテル類（例えばビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等）、ビニルケトン類（例えばビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等）等の単独重合体および共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。
【０２６７】
特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。
また、代表的な結着樹脂としては、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等も挙げられる。
【０２６８】
着色剤としては、磁性粉（例えばマグネタイト、フェライト等）、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等が代表的なものとして挙げられる。
【０２６９】
離型剤としては、例えば、炭化水素系ワックス；カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等の天然ワックス；モンタンワックス等の合成又は鉱物・石油系ワックス；脂肪酸エステル、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス；などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０２７０】
その他内添剤としては、例えば、磁性体、帯電制御剤、無機粉体等が挙げられる。
【０２７１】
外添剤としては、例えば、無機粒子が挙げられ、該無機粒子として、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＣｕＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＣａＯ、Ｋ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、ＺｒＯ２、ＣａＯ・ＳｉＯ２、Ｋ２Ｏ・（ＴｉＯ２）ｎ、Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２、ＣａＣＯ３、ＭｇＣＯ３、ＢａＳＯ４、ＭｇＳＯ４等が挙げられる。
【０２７２】
外添剤の表面は、予め疎水化処理をしてもよい。疎水化処理は、例えば疎水化処理剤に無機粒子を浸漬する等して行う。疎水化処理剤は特に制限されないが、例えば、シラン系カップリング剤、シリコーンオイル、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２７３】
・トナーの製造方法
トナーには、例えば、トナー粒子を得た後、外添剤と混合してもよい。
トナー粒子の製造方法としては、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂や、その他着色剤、離型剤その他内添剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液や、その他着色剤、離型剤その他内添剤等の分散液と、を混合し、凝集、加熱融着する乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体や、その他着色剤、離型剤その他内添剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂や、その他着色剤、離型剤その他内添剤等の溶液と、を水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等が挙げられる。
また、トナー粒子は、上記方法で得られたトナー粒子をコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造のトナー粒子としてもよい。
なお、トナー粒子の製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。
【０２７４】
そして、トナーは、外添剤を含む場合、トナー粒子および外添剤をヘンシェルミキサーまたはＶブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。
【０２７５】
（キャリア）
キャリアとしては、例えば、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉またはそれ等の表面に樹脂被覆を施したものが挙げられる。
なお、トナーとキャリアとの混合比（質量比）は、例えば、トナー：キャリア＝１：１００から３０：１００程度の範囲が挙げられる。
【０２７６】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０２７７】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０２７８】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０２７９】
本実施形態の画像形成装置１００では、まず、駆動装置１６によって回転する電子写真感光体７の表面が、帯電装置８によって帯電され、露光装置９が帯電された電子写真感光体７の外周面に静電潜像を書き込む。そして前記静電潜像は、現像装置１１によって現像されてトナー像として可視化され、その後前記トナー像は、転写装置４０が配置された位置まで搬送され、転写装置４０によって中間転写体５０の表面に静電的に転写される。
そして、転写装置４０によってトナー像が転写された後の電子写真感光体７の外周面は、クリーニング装置１３によって清掃された後、前記帯電、静電潜像の形成、現像、転写、及び清掃の工程が繰り返される。
一方、中間転写体５０の表面に転写されたトナー像は、例えば、不図示の二次転写装置によって記録媒体に転写され、必要に応じて不図示の定着装置によって前記記録媒体に定着されて、画像が得られる。
【０２８０】
本実施形態の画像形成装置１００は、前記の通り、形成された一枚の画像内における画像濃度ムラを抑制する観点から、露光装置９によって静電潜像の形成を開始する位置（以下「潜像形成開始位置」と称する場合がある）が、単一画像に対応する静電潜像毎に同期する形態であることが望ましい。
ここで「単一画像」とは、例えば繰り返し同一の画像を形成する場合、形成された各画像のことを言う。
【０２８１】
潜像形成開始位置が単一画像に対応する静電潜像毎に同期する形態としては、例えば、駆動装置１６と露光装置９とを制御する制御部（制御手段）を備える形態が挙げられる。
制御部は、画像形成装置１００全体の制御及び各種演算を行うコンピュータとして構成されている。具体的には、図示しないが、制御部は、例えば、ＣＰＵ（中央処理装置;Central Processing Unit）、各種プログラムを記憶したＲＯＭ（Read Only Memory）、プログラムの実行時にワークエリアとして使用されるＲＡＭ（Random Access Memory）、各種情報を記憶する不揮発性メモリ、及び入出力インターフェース（Ｉ／Ｏ）を備えている。ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、不揮発性メモリ、及びＩ／Ｏの各々は、例えば、バスを介して接続されている。
【０２８２】
ここで、画像形成装置１００内の各装置（例えば電子写真感光体７を駆動する駆動装置１６、帯電装置８、露光装置９、転写装置４０等）は、制御部のＩ／Ｏに接続されている。制御部は、例えば、画像形成装置１００内の各装置との間で情報の授受を行って、各装置を制御する。
【０２８３】
以下、電子写真感光体７の表面における潜像形成開始位置を、単一画像に対応する静電潜像毎に同期させる動作について、図を用いて説明する。なお、この動作は、制御部によって制御される。
【０２８４】
図５は、露光装置９によって電子写真感光体７の外周面に形成された静電潜像の位置関係を示す図である。図５中、Ｓは、電子写真感光体７の外周面における周長を示し、Ｇ１〜Ｇ３は、それぞれ形成する単一画像に対応する静電潜像を示し、Ａ１〜Ａ３は、それぞれ静電潜像Ｇ１〜静電潜像Ｇ３の潜像形成開始位置を示す。またＰ１及びＰ２は、それぞれ、静電潜像Ｇ１の潜像形成開始位置Ａ１と静電潜像Ｇ２の潜像形成開始位置Ａ２との間隔、及び静電潜像Ｇ２の潜像形成開始位置Ａ２と静電潜像Ｇ３の潜像形成開始位置Ａ３との間隔を示す。
なお図５は、単一画像に対応する静電潜像（すなわち、静電潜像Ｇ１、静電潜像Ｇ２、及び静電潜像Ｇ３のそれぞれ）における電子写真感光体７の周方向の長さが、電子写真感光体７の周長Ｓよりも長い形態を示しているが、周長Ｓよりも短い場合も同様である。
【０２８５】
図５に示す形態では、駆動装置１６によって回転する電子写真感光体７の外周面に、露光装置９によって、静電潜像Ｇ１、静電潜像Ｇ２、及び静電潜像Ｇ３がこの順に次々と形成される。
そして制御部は、例えば、潜像形成開始位置Ａ１と、潜像形成開始位置Ａ２と、潜像形成開始位置Ａ３と、が同期するように、駆動装置１６及び露光装置９を制御する。具体的には、例えば、潜像形成開始位置Ａ１と潜像形成開始位置Ａ２との間隔Ｐ１、及び潜像形成開始位置Ａ２と潜像形成開始位置Ａ３との間隔Ｐ２が、電子写真感光体７における周長Ｓの整数倍となるように、制御部が駆動装置１６及び露光装置９を制御する。それによって、電子写真感光体７の外周面のうち、同じ位置に対応する潜像形成開始位置Ａ１〜Ａ３から、それぞれ静電潜像Ｇ１〜Ｇ３の形成が開始される。
そのため、例えば、静電潜像Ｇ１〜Ｇ３が同一の画像である場合、静電潜像Ｇ１及び静電潜像Ｇ２の履歴が残っても、静電潜像Ｇ３を現像して得られた画像内の濃度ムラ等が発生しにくくなる。
【０２８６】
なお、例えば、潜像形成開始位置Ａ１が画像形成情報に基づいて不揮発性メモリ記憶され、記憶された潜像形成開始位置Ａ１に基づいて潜像形成開始位置Ａ２及び潜像形成開始位置Ａ３が決定されてもよい。
以上、潜像開始位置を単一画像に対応する静電潜像毎に同期させる形態について説明したが、本実施形態の画像形成装置は上記形態に限定されるものではない。
【０２８７】
図４は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図４に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０２８８】
なお、本実施形態に係る画像形成装置は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体７の周囲であって、転写装置４０よりも電子写真感光体７の回転方向下流側でクリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第１除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置８よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体７の表面を除電する第２除電装置を設けた形態であってもよい。
【０２８９】
また、本実施形態に係る画像形成装置は、上記構成に限られず、周知の構成、例えば、電子写真感光体７に形成したトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の画像形成装置を採用してもよい。
また本実施形態に係るプロセスカートリッジは、電子写真感光体７及び駆動装置１６を備えていればよく、帯電装置８、現像装置１１、及びクリーニング装置１３を備えていない形態でもよいし、必要に応じてさらに転写手段を備えていてもよい。
【０２９０】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【実施例】
【０２９１】
以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。尚、以下において「部」および「％」は、特に断りのない限り、質量基準を表す。
【０２９２】
<<感光体>>
［感光体１の作製］
−下引層の作製−
酸化亜鉛（平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と攪拌混合し、シランカップリング剤としてＫＢＭ６０３（信越化学工業製）１．２５部を添加し、２時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤で表面処理を施した酸化亜鉛粒子を得た。
【０２９３】
前記表面処理を施した酸化亜鉛粒子４１．３９部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１０部と、前述のアントラキノン誘導体の例示化合物（１−８）０．６部と、メチルエチルケトン３５部と、を３０分間攪拌して混合し、さらに前述の一般式（１）で表される電子輸送材料の例示化合物（１１−２）５部と、ブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学工業製）５部と、シリコーン樹脂粒子としてトスパール１２０（東芝シリコーン社製）３部と、レベリング剤（表面調整剤）としてシリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社製）０．０１部と、を添加し、サンドミルにて３時間の分散を行い、分散液（下引層形成用塗布液）を得た。
さらにこの分散液を、浸漬塗布法にて、直径８４ｍｍ、長さ３５７ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１８０℃にて４０分間の乾燥硬化を行い、厚さ２１μｍの下引層を得た。
【０２９４】
−電荷発生層の作製−
次に、電荷発生材料として、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜および２８．３゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶１部を、ポリビニルブチラール樹脂（積水化学工業製エスレックＢＭ−Ｓ）１部とともに酢酸ブチル１００部に加え、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてペイントシェーカーで１時間分散処理して電荷発生層形成用塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を前記下引層上に浸漬塗布し、１００℃にて８分間乾燥して、厚みが０．２μｍの電荷発生層を得た。
【０２９５】
−電荷輸送層の作製−
電荷輸送物質として下記構造式（２Ｂ−１）で表される化合物２．１部と、下記構造式（２Ｂ−２）で表される繰り返し単位で構成された高分子化合物（粘度平均分子量３９０００）２．９部と、をテトラヒドロフラン１０部及びトルエン５部に溶解させて、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
この電荷輸送層形成用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布し、１３５℃、３５分間乾燥して、厚みが２３μｍの電荷輸送層を得た。
【０２９６】
【化４１】
2015179109.tif 000042
【０２９７】
【化４２】
2015179109.tif 000043
【０２９８】
−表面保護層（保護層）の作製−
４フッ化エチレン樹脂粒子としてルブロンＬ−２（ダイキン工業製）１０部と、下記構造式（Ｅ）−１で表される繰り返し単位及び下記構造式（Ｆ）−１で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体（重量平均分子量５０，０００、ｌ：ｍ＝１：１、ｓ＝１、ｎ＝６０）０．５部と、をシクロペンタノン４０部に加えて攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。
【０２９９】
【化４３】
2015179109.tif 000044
【０３００】
次に、前述の反応性電荷輸送材料の例示化合物（Ｉ−８）８０部と、前述の反応性電荷輸送材料の例示化合物（Ｉ−２６）２０部と、ベンゾグアナミン樹脂（ニカラックＢＬ−６０、三和ケミカル社製）４部と、をシクロペンタノン２２０部に加えて溶解混合した後に、前記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて、攪拌混合し、分散液を得た。
【０３０１】
その後、得られた分散液に対し、微細な流路をもつ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興業製  ＹＳＮＭ−１５００ＡＲ）を用いて、７００ｋｇf／ｃｍ２まで昇圧しての分散処理を２５回繰返した後、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）０．１部を加えて、表面保護層形成用塗布液を得た。
この表面保護層形成用塗布液を、前記電荷輸送層の上に浸漬塗布し、１５９℃で３４分間加熱乾燥し、膜厚６μｍの表面保護層を得た。
以上のようにして、感光体１を得た。
【０３０２】
［感光体２の作製］
感光体１における表面保護層の作製において、ベンゾグアナミン樹脂の代わりにメチル化メラミン樹脂（ニカラックＭＷ−３０ＨＭ、三和ケミカル社製、既述の例示化合物（Ｊ）−２）に変更した以外は、感光体１と同様にして、感光体２を得た。
【０３０３】
［感光体３の作製］
感光体１における下引層の作製において、アントラキノン誘導体として例示化合物（１−８）の代わりに例示化合物（１−２）を用いた以外は、感光体１と同様にして、感光体３を得た。
【０３０４】
［感光体４の作製］
感光体１における下引層の作製において、アントラキノン誘導体として例示化合物（１−８）の代わりに例示化合物（１−６）を用いた以外は、感光体１と同様にして、感光体４を得た。
【０３０５】
［感光体５の作製］
感光体１における下引層の作製において、アントラキノン誘導体として例示化合物（１−８）の代わりに例示化合物（１−１１）を用いた以外は、感光体１と同様にして、感光体５を得た。
【０３０６】
［感光体６の作製］
感光体１における表面保護層の作製において、反応性電荷輸送材料の例示化合物（Ｉ−８）の添加量を４１部、反応性電荷輸送材料の例示化合物（Ｉ−２６）の添加量を４４部に変更した以外は、感光体１と同様にして、感光体６を得た。
【０３０７】
［感光体７の作製］
感光体１における表面保護層の作製において、反応性電荷輸送材料の例示化合物（Ｉ−８）の添加量を５０部、反応性電荷輸送材料の例示化合物（Ｉ−２６）の添加量を１９部、ベンゾグアナミン樹脂の添加量を２０．４部に変更した以外は、感光体１と同様にして、感光体７を得た。
【０３０８】
［感光体８の作製］
感光体１における表面保護層の作製において、反応性電荷輸送材料の例示化合物（Ｉ−８）の添加量を７０．２５部、ルブロンＬ−２の添加量を５部、フッ化アルキル基含有共重合体の添加量を０．２５部に変更した以外は、感光体１と同様にして、感光体８を得た。
【０３０９】
［感光体９の作製］
感光体１における表面保護層の作製において、反応性電荷輸送材料の例示化合物（Ｉ−８）の代わりに反応性電荷輸送材料の例示化合物（Ｉ−１６）を用いた以外は、感光体１と同様にして、感光体９を得た。
【０３１０】
［感光体１０の作製］
感光体１の作製において、表面保護層の作製を下記方法に変更した以外は、感光体１と同様にして、感光体１０を得た。
【０３１１】
−表面保護層の作製−
４フッ化エチレン樹脂粒子としてルブロンＬ−２（ダイキン工業製）１０部と、前記構造式（Ｅ）−１で表される繰り返し単位及び前記構造式（Ｆ）−１で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体（重量平均分子量５０，０００、ｌ：ｍ＝１：１、ｓ＝１、ｎ＝６０）０．５部と、をシクロペンタノン４０部に加えて攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。
【０３１２】
次に、下記の構成材料を、イソプロピルアルコール５部、テトラヒドロフラン３部、および蒸留水０．３部に溶解させ、イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーリスト１５Ｅ）０．５部を加え、室温（２５℃）で２４時間攪拌して加水分解を行った。
（構成材料）
・下記構造式で表される化合物（６）  ３７部
・メチルトリメトキシシラン          ３７部
・テトラメトキシシラン            ８．４部
・コロイダルシリカ                    ６部
なお、下記構造式中「Ｍｅ」はメチル基を表し、「ｉＰｒ」はイソプロピル基を表す。
【０３１３】
【化４４】
2015179109.tif 000045
【０３１４】
加水分解を行った後にイオン交換樹脂を濾過分離して得られた溶液に、アルミニウムトリスアセチルアセトナート（Ａｌ（ａｑａｑ）３）０．１部、および３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４部を加え、混合して溶解させた後、前記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて、攪拌混合し、分散液を得た。
【０３１５】
次いで、得られた分散液に対し、微細な流路をもつ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興業製ＹＳＮＭ−１５００ＡＲ）を用いて、７００ｋｇｆ／ｃｍ２まで昇圧しての分散処理を２０回繰返した後、ジメチルポリシロキサン（共栄社化学製グラノール４５０）１部、およびＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）０．１部を加えて、表面保護層形成用塗布液を得た。
この表面保護層形成用塗布液を、前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温（２５℃）で３０分風乾した後、１８０℃で１時間加熱処理して硬化させ、膜厚５μｍの表面保護層を形成した。
【０３１６】
［感光体１１の作製］
感光体１の作製において、表面保護層の作製を下記方法に変更した以外は、感光体１と同様にして、感光体１１を得た。
【０３１７】
−表面保護層の作製−
反応性電荷輸送材料の例示化合物（Ｉ−８）７５．５部と、反応性電荷輸送材料の例示化合物（Ｉ−２６）２０部と、ベンゾグアナミン樹脂（ニカラックＢＬ−６０、三和ケミカル社製）４．４部と、をシクロペンタノン２２０部に加え、混合して溶解させた後、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）０．１部を加えて、表面保護層形成用塗布液を得た。
この表面保護層形成用塗布液を、前記電荷輸送層の上に浸漬塗布し、１５９℃にて３４分間加熱乾燥し、膜厚６μｍの表面保護層を形成した。
【０３１８】
［感光体１２の作製］
感光体１における下引層の作製において、アントラキノン誘導体を用いなかった以外は、感光体１と同様にして、感光体１２を得た。
【０３１９】
［感光体１３の作製］
感光体１における下引層の作製において、一般式（１）で表される電子輸送材料を用いなかった以外は、感光体１と同様にして、感光体１３を得た。
【０３２０】
［感光体１４の作製］
感光体１における下引層の作製において、アントラキノン誘導体である例示化合物（１−８）の代わりに、アントラキノン誘導体以外の電子受容性化合物である例示化合物（１−１５）で表される化合物を用いた以外は、感光体１と同様にして、感光体１４を得た。
【０３２１】
［感光体１５の作製］
感光体１における下引層の作製において、一般式（１）で表される電子輸送材料の例示化合物（１１−２）の代わりに、下記構造式（４−１）で表される電子輸送材料を用いた以外は、感光体１と同様にして、感光体１４を得た。
【０３２２】
【化４５】
2015179109.tif 000046
【０３２３】
［感光体１６の作製］
感光体１１における下引層の作製において、一般式（１）で表される電子輸送材料を用いなかった以外は、感光体１１と同様にして、感光体１６を得た。
【０３２４】
［感光体１７の作製］
感光体１における下引層の作製において、一般式（１）で表される電子輸送材料として、例示化合物（１１−２）の代わりに例示化合物（１１−１４）を用いた以外は、感光体１と同様にして、感光体１７を得た。
【０３２５】
<<現像剤>>
［現像剤１］
（トナー粒子１の作製）
−樹脂粒子分散液の調製−
スチレン３７０ｇ、ｎ−ブチルアクリレート３０ｇ、アクリル酸８ｇ、ドデカンチオール２４ｇ、及び四臭化炭素４ｇを混合して溶解させたものを、非イオン性界面活性剤（ノニポール４００：三洋化成(株)製）６ｇ及びアニオン性界面活性剤（ネオゲンＳＣ：第一工業製薬(株)製）１０ｇをイオン交換水５５０ｇに溶解させた水溶液が入ったフラスコ中に加え、１０分間ゆっくり混合しながら乳化重合させ、これに過硫酸アンモニウム４ｇをイオン交換水５０ｇに溶解させた水溶液を投入した。
窒素置換を行った後、前記フラスコ内の液を攪拌しながら内容物が７０℃になるまでオイルバスで加熱し、５時間そのまま乳化重合を継続した。
その結果、体積平均粒径が１５０ｎｍ、ガラス転移温度Ｔｇが５８℃、重量平均分子量Ｍｗが１１５００の樹脂粒子が分散された樹脂粒子分散液が得られた。この分散液の固形分濃度は４０質量％であった。
【０３２６】
−着色剤分散液の調製−
・カーボンブラック（モーガルＬ：キャボット製）６０ｇ
・ノニオン性界面活性剤（ノニポール４００：三洋化成（株）製）６ｇ
・イオン交換水２４０ｇ
以上の成分を混合して溶解させ、ホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０：ＩＫＡ社製）を用いて１０分間攪拌し、その後、アルティマイザーにて分散処理して体積平均粒径が２５０ｎｍである着色剤（カーボンブラック）粒子が分散された着色剤分散剤を調製した。
【０３２７】
−離型剤分散液の調製−
・パラフィンワックス（ＨＮＰ０１９０：日本精蝋（株）製、溶融温度８５℃）１００ｇ
・カチオン性界面活性剤（サニゾールＢ５０：花王（株）製）５ｇ
・イオン交換水２４０ｇ
以上の成分を、丸型ステンレス鋼製フラスコ中でホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０：ＩＫＡ社製）を用いて１０分間分散した後、圧力吐出型ホモジナイザーで分散処理し、体積平均粒径が５５０ｎｍである離型剤粒子が分散された離型剤分散液を調製した。
【０３２８】
−トナー粒子１の作製―
・樹脂粒子分散液２３４部
・着色剤分散液３０部
・離型剤分散液４０部
・ポリ水酸化アルミニウム（浅田化学社製、Ｐａｈｏ２Ｓ）０．５部
・イオン交換水６００部
以上の成分を、丸型ステンレス鋼鉄フラスコ中でホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０：ＩＫＡ社製）を用いて混合し、分散した後、加熱用オイルバス中でフラスコ内を攪拌しながら３０℃まで加熱した。３０℃で２０分保持した後、体積平均粒径Ｄ５０が３．０μｍの凝集粒子が生成していることを確認した。
【０３２９】
更に加熱用オイルバスの温度を上げて４５℃で１時間保持し、体積平均粒径Ｄ５０は３．８μｍとなった。その後、この凝集体粒子を含む分散液に２６部の樹脂粒子分散液を追加した後、加熱用オイルバスの温度を５０℃まで上げて２０分間保持した。この凝集体粒子を含む分散液に、１Ｎ水酸化ナトリウムを追加して系のｐＨを５．０に調整した後、ステンレス製フラスコを密閉し、磁気シールを用いて攪拌を継続しながら８０℃まで加熱し、３時間保持した。冷却後、得られたトナー粒子を濾別し、イオン交換水で４回洗浄した後、凍結乾燥してトナー粒子１を得た。トナー粒子１の体積平均粒径Ｄ５０は４．１μｍ、形状係数ＳＦ１は１０５であった。
【０３３０】
（キャリア１の作製）
・フェライト粒子（平均粒径：５０μｍ）１００部
・トルエン１４部
・スチレン／メタクリレート共重合体（成分比：９０／１０）２部
・カーボンブラック（Ｒ３３０：キャボット社製）０．２部
まず、フェライト粒子を除く上記成分を１０分間スターラーで撹拌させて、分散した被覆液を調製した。次に、この被覆液とフェライト粒子を真空脱気型ニーダーに入れて、６０℃において３０分撹拌した後、さらに加温しながら減圧して脱気し、乾燥させることによりキャリア１を得た。このキャリア１は、１０００Ｖ／ｃｍの印加電界時の体積固有抵抗値が１０１１Ωｃｍであった。
【０３３１】
（現像剤１の作製）
上記トナー粒子１を１１００部と、ルチル型酸化チタン（粒径２０ｎｍ，ｎ−デシルトリメトキシシラン処理）１部と、シリカ（粒径４０ｎｍ，シリコーンオイル処理，気相酸化法）２．０部と、酸化セリウム（平均粒径０．７μｍ）１部と、高級脂肪酸アルコール（分子量７００の高級脂肪酸アルコール）及び４フッ化エチレン樹脂（ルブロンＬ−２）を質量比で５：１の割合でジェットミルで粉砕して平均粒径８．０μｍとしたもの０．３部と、を５Ｌヘンシェルミキサーで周速３０ｍ／ｓの条件にて１５分間混合を行った後、４５μｍの目開きのシーブを用いて粗大粒子を除去し、トナー１を得た。
また、上記キャリア１を１００部と、上記トナー１を５部と、をＶ−ブレンダーで、４０ｒｐｍの条件にて２０分間攪拌し、２１２μｍの目開きを有するシーブで篩分することにより現像剤１を得た。
【０３３２】
［現像剤２］
（トナー粒子２の作製）
・樹脂粒子分散液２３４部
・着色剤分散液３０部
・離型剤分散液４０部
・ポリ水酸化アルミニウム（浅田化学社製、Ｐａｈｏ２Ｓ）０．５部
・イオン交換水６００部
以上の成分を、丸型ステンレス鋼鉄フラスコ中でホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０：ＩＫＡ社製）を用いて混合し、分散した後、加熱用オイルバス中でフラスコ内を攪拌しながら４０℃まで加熱した。４０℃で３０分保持した後、体積平均粒径Ｄ５０が４．５μｍの凝集粒子が生成していることを確認した。
【０３３３】
更に加熱用オイルバスの温度を上げて５３℃で１時間保持し、体積平均粒径Ｄ５０は５．２μｍとなった。その後、この凝集体粒子を含む分散液に２６部の樹脂粒子分散液を追加した後、加熱用オイルバスの温度を５０℃まで上げて３０分間保持した。この凝集体粒子を含む分散液に、１Ｎ水酸化ナトリウムを追加して系のｐＨを７．０に調整した後、ステンレス製フラスコを密閉し、磁気シールを用いて攪拌を継続しながら８０℃まで加熱し、３．５時間保持した。冷却後、得られたトナー粒子を濾別し、イオン交換水で４回洗浄した後、凍結乾燥してトナー粒子２を得た。トナー粒子２の体積平均粒径Ｄ５０は６．０μｍ、形状係数ＳＦ１は１３５であった。
【０３３４】
（現像剤２の作製）
トナー粒子１の代わりにトナー粒子２を用いた以外は、トナー１と同様にして、トナー２を得た。
また、上記キャリア１を１００部と、上記トナー２を５部と、をＶ−ブレンダーで、４０ｒｐｍの条件にて２０分間攪拌し、２１２μｍの目開きを有するシーブで篩分することにより現像剤２を得た。
【０３３５】
<<実施例１>>
続いて、感光体１及び現像剤１を組み合わせて、画像形成装置（富士ゼロックス社製「Ｃｏｌｏｒ  １０００  Ｐｒｅｓｓ」）に装填した。上記画像形成装置における感光体の周速度（プロセススピード）は通常４４０ｍｍ／ｓで１分あたりＡ４用紙１００枚に画像を形成するものであるが、感光体の周速度が５２８ｍｍ／ｓ（１２０枚／分）又は６６０ｍｍ／ｓ（１５０枚／分）となるように改造し、下記表に示す周速度で評価を行った。
また、上記画像形成装置に対し、感光体の表面における潜像形成開始位置を単一画像に対応する静電潜像毎に同期させる機能（シンクロ機能）の有効（ＯＮ）及び無効（ＯＦＦ）にする設定が自由になる改造も行い、下記表に示す設定で評価を行った。
尚、特に断りのない限り、評価ごとに未使用の感光体を用いて画像形成を行った。また、評価用の記録媒体として、富士ゼロックス社製Ｊ紙（坪量：８２ｇ/ｍ２、紙厚：９７μｍ、ＩＳＯ白色度：８９％）を用いた。
【０３３６】
［電気特性評価］
室温２２℃湿度５５％ＲＨの環境下において、以下の設定と測定を実施した。
まず初期の感光体の電気特性評価として、画像形成装置に内蔵されている電位モニターを用いて、感光体表面電位が−７００Ｖになるようスコロトロン（非接触型帯電手段）のグリッド電圧を調整した。次に露光部電位が−２５０Ｖになるよう露光光量を設定した。この露光光量を用いて後述する耐摩耗性評価を行った後に、再び露光部電位を測定し、初期との差分をΔＶＬで表した。評価基準は以下の通りである。ΔＶＬの値（表中の括弧内の数値）及び評価結果を下記表に示す。
Ａ：ΔＶＬ＜１０
Ｂ：１０≦ΔＶＬ＜１５
Ｃ：１５≦ΔＶＬ
【０３３７】
［濃度安定性評価］
室温２２℃湿度５５％ＲＨの環境下において、以下の設定と測定を実施した。
前記電気特性評価に用いた感光体と同一構成且つ同一試作日の感光体において、前記電気特性評価と同様にグリッド電圧と露光光量を調整した。その後感光体を装着し、Ａ３サイズの記録媒体に、画像濃度Ｃｉｎ５０％の画像を１０００枚形成し、１枚目の画像と１０００枚目の画像とについて反射濃度を測定し、その差分ΔＤｏｕｔを以下の基準に従って評価した。
なお、上記反射濃度は、分光測色計（Ｘ−Ｒｉｔｅ９３８）を用いて測定された画像濃度（Ｄｏｕｔ）であり、具体的には、画像の中央と四隅との計５箇所を、１枚目及び１０００枚目のそれぞれについて測定し、５箇所の平均の差分を用いて評価を行った。評価基準は以下の通りである。ΔＤｏｕｔの値（表中の括弧内の数値）及び評価結果を下記表に示す。
Ａ：ΔＤｏｕｔ＜０．１０
Ｂ：０．１０≦ΔＤｏｕｔ＜０．１５
Ｃ：０．１５≦ΔＤｏｕｔ
【０３３８】
［ドット再現性評価］
前記濃度安定性評価で形成した１００枚目の画像について、ドット再現性を下記の基準に従って評価した。なお、図６に示す写真は、前記濃度安定性評価で形成した画像濃度Ｃｉｎ３０％の画像を顕微鏡（ＫＥＹＥＮＣＥ社製、型番：ＶＨＸ−９００）で１００倍に拡大した写真である。評価結果を下記表に示す。
Ａ：図６（Ａ）のごとくドットに乱れがない
Ｂ：図６（Ｂ）のごとくドットに少しトナーの飛び散りがみられる
Ｃ：図６（Ｃ）のごとくドットにトナーの飛び散りがみられる
【０３３９】
［焼きつき評価］
２８℃／８５％ＲＨの環境下において、前記電気特性評価と同様にグリッド電圧と露光光量を調整した。
その後、図７（ａ）に示すような格子状のチャート画像を１０００枚形成した後、連続して画像濃度Ｃｉｎ２０％の画像を出力し、格子状の画像（ゴースト）の現れ具合を目視にて観察し、以下の基準で評価した。なお画像はすべてＡ３の記録媒体に形成した。評価結果を下記表に示す。
Ａ：図７（Ａ）のごとく、格子状の画像が確認されない。
Ｂ：図７（Ｂ）のごとく、格子状の画像が若干確認される。問題ないレベル
Ｃ：図７（Ｃ）のごとく、格子状の画像がはっきり確認される。
【０３４０】
［耐摩耗性評価］
前記電気特性評価と同様にグリッド電圧と露光光量を調整した。その後、図８に示す画像を、感光体が１０万回転（誤差１％以内）するまで出力した（すなわち、Ａ３サイズの記録媒体５万枚に画像を形成した）。
なお、図８に示す画像は、具体的には、記録媒体の中央部に画像濃度Ｃｉｎ１００％の部分（図８中の「画像密度１００％」の部分）と、これを挟むように２箇所の画像濃度Ｃｉｎ３０％の部分（図８中の「画像密度３０％」の部分）と、が存在し、且つ全体の画像濃度Ｃｉｎが７．５％である画像である。
【０３４１】
予め測定しておいた使用前の感光体の膜厚（保護層の膜厚）と、１０万回転させた後の感光体の膜厚（保護層の膜厚）との差分を求め、感光体１０００回転あたりの摩耗量（ｎｍ／１０００回転）を算出し、以下の基準に従って評価した。
なお、感光体の膜厚は、周方向に４点（基点を任意に設定し、０°、９０°、１８０°、２７０°の４点）、軸方向に上端２０ｍｍ位置から１０ｍｍピッチで３３点、合計１３２点測定し、１３２点の平均値を求めた。測定には、膜厚測定器（例えばフィッシャースコープ社製パーマスコープなど）を用いてもよい。摩耗量（表中の括弧内の数値）及び評価結果を下記表に示す。
Ａ：２．５ｎｍ／１０００回転未満
Ｂ：２．５ｎｍ／１０００回転以上、３．５ｎｍ／１０００回転未満
Ｃ：３．５ｎｍ／１０００回転以上
【０３４２】
<<実施例２〜１５>>
用いた感光体および現像剤を下記表に記載のものに変更し、評価におけるシンクロ機能の設定、感光体の周速度、及び感光体表面電位を下記表に示すようにした以外は、実施例１と同様に評価を行った。評価結果を下記表に示す。
【０３４３】
<<比較例１〜６>>
用いた感光体および現像剤を下記表に記載のものに変更し、評価におけるシンクロ機能の設定、感光体の周速度、及び感光体表面電位を下記表に示すようにした以外は、実施例１と同様に評価を行った。結果を下記表に示す。
【０３４４】
【表１】
2015179109.tif 000047
【０３４５】
【表２】
2015179109.tif 000048
【０３４６】
上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、感光体表面の焼きつきが抑制されていることが分かる。
【符号の説明】
【０３４７】
１ 導電性基体、２ 感光層、２Ａ 電荷発生層、２Ｂ 電荷輸送層、２Ｃ 保護層、４ 下引層、７ 電子写真感光体、８ 帯電装置、９ 露光装置、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑材、４０ 転写装置、５０ 中間転写体、１００ 画像形成装置、１２０ 画像形成装置、１３１ クリーニングブレード、１３２ 繊維状部材、１３３ 繊維状部材、３００ プロセスカートリッジ、Ａ１〜Ａ３潜像形成開始位置、Ｇ１〜Ｇ３静電潜像、Ｐ１〜Ｐ２ 間隔、Ｓ 周長、
【図１】
2015179109.tif 000052
【図２】
2015179109.tif 000053
【図３】
2015179109.tif 000054
【図４】
2015179109.tif 000055
【図５】
2015179109.tif 000056
【図６】
2015179109.tif 000057
【図７】
2015179109.tif 000058
【図８】
2015179109.tif 000059