(57)【要約】      （修正有）【課題】高周波帯域において高損失の磁性金属粒子集合体及び電波吸収体を提供する。【解決手段】Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉからなる第１の群より選択された少なくとも１種類の磁性金属を含む、互いにその一部が結合している複数の平均粒径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の磁性金属粒子１０を備える、平均粒径が１５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の磁性金属粒子集合体１００、及びこれを用いた電波吸収体２００である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉからなる第１の群より選択された少なくとも１種類の磁性金属を含み、互いにその一部が結合している複数の平均粒径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の磁性金属粒子を備える、平均粒径が１５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の磁性金属粒子集合体。
【請求項２】
前記磁性金属粒子集合体の比透磁率の虚部の周波数依存性が２個の周波数でピークを有することを特徴とする請求項１記載の磁性金属粒子集合体。
【請求項３】
前記磁性金属粒子集合体の比透磁率の実部の周波数依存性が２個の周波数でピークを有することを特徴とする請求項１または請求項２記載の磁性金属粒子集合体。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３いずれか一項記載の磁性金属粒子集合体を備えることを特徴とする電波吸収体。
【請求項５】
前記電波吸収体中の前記磁性金属粒子集合体の体積充填率が１０％以上６０％以下であることを特徴とする請求項４記載の電波吸収体。
【請求項６】
電気抵抗率が１０ＭΩ・ｃｍ以上であることを特徴とする請求項４または請求項５記載の電波吸収体。
【請求項７】
Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉからなる第１の群より選択された少なくとも１種類の磁性金属と、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｍｎ、希土類元素、Ｂａ及びＳｒからなる第２の群より選択された少なくとも１種類の金属と、を含むコア部と、前記コア部を覆い前記コア部に含まれる前記第２の群より選択された少なくとも１種類の前記金属を含む被覆層と、を有し、互いにその一部が結合している複数の平均粒径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の磁性金属粒子を備える、平均粒径が１５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の磁性金属粒子集合体。
【請求項８】
前記磁性金属粒子集合体の比透磁率の虚部の周波数依存性が２個の周波数でピークを有することを特徴とする請求項７記載の磁性金属粒子集合体。
【請求項９】
前記磁性金属粒子集合体の比透磁率の実部の周波数依存性が２個の周波数でピークを有することを特徴とする請求項７または請求項８記載の磁性金属粒子集合体。
【請求項１０】
前記被覆層が、炭化水素ガス反応生成物、炭化物及び有機化合物からなる第３の群より選択された少なくとも１種類の炭素材料を含む炭素含有材料層をさらに含むことを特徴とする請求項７ないし請求項９いずれか一項記載の磁性金属粒子集合体。
【請求項１１】
請求項７ないし請求項１０いずれか一項記載の磁性金属粒子集合体を備えることを特徴とする電波吸収体。
【請求項１２】
前記電波吸収体中の前記磁性金属粒子集合体の体積充填率が１０％以上６０％以下であることを特徴とする請求項１１記載の電波吸収体。
【請求項１３】
電気抵抗率が１０ＭΩ・ｃｍ以上であることを特徴とする請求項１１または請求項１２いずれか一項記載の電波吸収体。
【請求項１４】
前記コア部に含まれる前記第２の群より選択された少なくとも１種類の前記金属を含む酸化物粒子をさらに含むことを特徴とする請求項１１ないし請求項１３いずれか一項記載の電波吸収体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施の形態は、磁性金属粒子集合体及び電波吸収体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁性材料を用いた磁気損失型の電波吸収体は、一般に誘電損失型や導電損失型の電波吸収体と比較して広帯域の吸収特性を備える。もっとも、１〜１８ＧＨｚという超広帯域において、特性に優れた磁気損失型の電波吸収体は、必ずしも実現していない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−３５８４９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
発明が解決しようとする課題は、ＧＨｚ帯超の超広帯域において高損失の磁性金属粒子集合体及び電波吸収体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
実施の形態の磁性金属粒子集合体は、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉからなる第１の群より選択された少なくとも１種類の磁性金属を含み、互いにその一部が結合している複数の平均粒径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の磁性金属粒子を備え、平均粒径が１５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
【０００６】
また、他の実施形態の電波吸収体は、前記実施の形態の磁性金属粒子集合体を備える。
【０００７】
また、他の実施形態の磁性金属粒子集合体は、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉからなる第１の群より選択された少なくとも１種類の磁性金属と、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｍｎ、希土類元素、Ｂａ及びＳｒからなる第２の群より選択された少なくとも１種類の金属と、を含むコア部と、前記コア部を覆い前記コア部に含まれる前記第２の群より選択された少なくとも１種類の前記金属を含む被覆層と、を有し、互いにその一部が結合している複数の平均粒径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の磁性金属粒子を備え、平均粒径が１５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
【０００８】
また、他の実施形態の電波吸収体は、前記他の実施の形態の磁性金属粒子集合体を備える。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施の形態の電波吸収体の、比透磁率の周波数依存性を示す図である。
【図２】実施の形態の電波吸収体の模式断面図である。
【図３】実施の形態の磁性金属粒子集合体が結合する様子を示した図である。
【図４】実施の形態の電波吸収体の模式断面図である。
【図５】実施の形態の磁性金属粒子集合体が結合する様子を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を用いて本発明の実施の形態を説明する。
【００１１】
本実施の形態の電波吸収体は、磁性金属粒子集合体を備える。磁性金属粒子集合体は、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉからなる第１の群より選択された少なくとも１種類の磁性金属を含み、互いにその一部が結合している複数の平均粒径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の磁性金属粒子を備える。磁性金属粒子集合体の平均粒径は、１５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
【００１２】
図１は、本実施の形態の電波吸収体の、比透磁率の周波数依存性を示す図である。横軸は周波数、縦軸は複素比透磁率（比透磁率虚部、比透磁率実部）である。
【００１３】
図１に示すように、本実施の形態の電波吸収体２００の比透磁率虚部は、４〜１８ＧＨｚに現われる主となるピークのほかに、１〜４ＧＨｚにもピークが出現し、１〜１８ＧＨｚという超広帯域において、高損失で高い電波吸収特性が得られることがわかる。なお、比透磁率の磁性金属粒子集合体１００の組成依存性は、体積充填率への依存性と比較すればきわめて小さい範囲に収まっている。
【００１４】
なお、電波吸収体２００における体積充填率は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ：Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ）を用いて磁性金属粒子の粒径により５０万倍あるいは１００万倍を選択して得られた写真を画像処理することで算出することが可能である。
【００１５】
図２は、実施の形態の電波吸収体２００の模式断面図である。
【００１６】
（電波吸収体）
電波吸収体２００は、複数の磁性金属粒子１０の一部が互いに結合してなる磁性金属粒子集合体１００と、磁性金属粒子集合体１００を結合する結合層３０と、を備える。
【００１７】
本実施の形態の電波吸収体２００は、上記構成を備えることにより、高周波帯域、たとえば１〜１８ＧＨｚという超広帯域において、優れた電波吸収特性を実現する。
【００１８】
（磁性金属粒子集合体）
磁性金属粒子集合体１００は、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉからなる第１の群より選択された少なくとも１種類の磁性金属を含み、互いにその一部が結合している複数の平均粒径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の磁性金属粒子を備える、平均粒径が１５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の結合体である。ここで、磁性金属粒子１０の結合は、磁性金属粒子１０を構成する元素の相互拡散を伴ってなされていることを特徴とする。なお、図２は被覆層がない場合である。
【００１９】
磁性金属粒子集合体１００は、複数の磁性金属粒子１０の結合により構成される。この結合の程度は、例えば図２に示されるように、その元の磁性金属粒子１０の大きさ・形状を推測できる程度である。これにより、元の磁性金属粒子１０の大きさ・形状に起因する、たとえば４ＧＨｚ付近から１８ＧＨｚ付近といった高い周波数帯における良好な電波吸収特性と、複数の磁性金属粒子１０の結合により作製された磁性金属粒子集合体１００の大きさ・形状に起因する、たとえば１ＧＨｚ付近から４ＧＨｚ付近といった低い周波数帯における良好な電波吸収特性と、を両立することができる。なお、かかる結合により形成された部分をネッキング１４と呼ぶ。また、ネッキング１４を形成している複数の磁性金属粒子１０すべての直径より、ネッキング１４の断面部の直径は短い。たとえば、図中右の磁性金属粒子集合体１００においては、ネッキング１４を形成する磁性金属粒子１０の２個の直径２Ｒ１及び２Ｒ２よりも、ネッキング１４の断面部の直径２ｒは小さい。
【００２０】
磁性金属粒子集合体１００の平均粒径は、１５ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、好ましくは１５ｎｍ以上２００ｎｍ以下、さらに好ましくは１５ｎｍ以上９０ｎｍ以下であることが望ましい。これを下回ると、磁性金属粒子集合体１００の磁性に超常磁性が生じ、得られる部材の磁束量が低下する恐れがある。一方これを上回ると、得られる部材の高周波領域で渦電流損が大きくなり、本発明が目的とする、高周波領域での磁気特性が低下する恐れがある。
【００２１】
なお、磁性金属粒子集合体１００の形態はこれらに限定されず、さまざまな形態をとり得る。磁性金属粒子１０の結合の程度は、図２で示したものに限定されるものではない。また、電波吸収体２００の内部には、結合しない磁性金属粒子１０も存在し得る。
【００２２】
磁性金属粒子集合体１００の平均粒径の求め方は、例えば、ＴＥＭを用いて磁性金属粒子の粒径により５０万倍あるいは１００万倍を選択して得られた視野（写真）中の磁性金属粒子集合体１００に対して外接する円を描き、その円の直径をその磁性金属粒子集合体１００の粒径とする。この場合、ＴＥＭにより得られた視野は四角形であるため、その視野の対角線上の磁性金属粒子集合体１００について求めて平均化することにより、磁性金属粒子集合体１００の平均粒径を求めることができる。
【００２３】
（磁性金属粒子）
磁性金属粒子１０は、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉからなる第１の群より選択された１または２以上の磁性金属からなる、平均粒径１０ｎｍ以上５０ｎｍの粒子である。
【００２４】
磁性金属粒子１０に含まれる第１の群より選択された磁性金属としては、Ｆｅ、Ｃｏ、及びＮｉの単体であっても良いが、それらを含む合金であっても良い。特にＦｅ基合金、Ｃｏ基合金、ＦｅＣｏ基合金が、高い飽和磁化を実現できるために好ましい。Ｆｅ基合金は、第２成分としてＮｉ，Ｍｎ，Ｃｕなどを含有することができる。例えばＦｅＮｉ合金、ＦｅＭｎ合金、ＦｅＣｕ合金を挙げることができる。Ｃｏ基合金は、第２成分としてＮｉ，Ｍｎ，Ｃｕなどを含有することができる。例えばＣｏＮｉ合金、ＣｏＭｎ合金、ＣｏＣｕ合金を挙げることができる。ＦｅＣｏ基合金の例としては、第２成分としてＮｉ，Ｍｎ，Ｃｕなどを含有する合金を挙げることができる。例えばＦｅＣｏＮｉ合金、ＦｅＣｏＭｎ合金、ＦｅＣｏＣｕ合金を挙げることができる。これらの第２成分は、この磁性金属粒子１０を用いた複合部材では磁気損失を低下させて高周波磁気特性を向上させるために効果的な成分である。
【００２５】
磁性金属粒子１０には、炭素原子、あるいは窒素原子が固溶されていても良い。
【００２６】
磁性金属粒子１０に含まれる第１の群、第２の群の元素の組成分析は、例えば以下の方法で行うことができる。例えばＡｌのような非磁性金属の分析は、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ）発光分析などの方法を挙げることができる。ＩＣＰ発光分析によれば、弱酸などにより溶解した磁性金属粒子１０の部分と、アルカリや強酸などにより被覆層２０が溶解した残留物、及び粒子全体との分析結果を比較することにより、磁性金属の組成を確認し、すなわち磁性金属粒子１０中の非磁性金属の量を分離測定できる。
【００２７】
磁性金属粒子１０に含まれる第１の群に属する成分に対する、第２の群に属する成分の固溶状態は、X線回折（ＸＲＤ：Ｘ−ｒａｙ Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）で測定した格子定数から判断できる。例えば、ＦｅにＡｌ、炭素、が固溶すると、Ｆｅの格子定数は固溶量に応じて変化する。何も固溶していないｂｃｃ−Ｆｅの場合、格子定数は理想的には２．８６程度であるが、Ａｌが固溶すると格子定数は大きくなり、５ａｔ％程度のＡｌの固溶で格子定数は０．００５〜０．０１程度大きくなる。１０ａｔ％程度のＡｌ固溶では、０．０１〜０．０２程度大きくなる。また炭素がｂｃｃ−Ｆｅに固溶しても格子定数は大きくなり、０．０２質量％程度の炭素固溶で０．００１程度大きくなる。この様に、磁性金属粒子１０のＸＲＤ測定を行うことによって、磁性金属粒子の格子定数を求め、その大きさによって固溶しているかどうか、またどの程度固溶しているのかを容易に判断できる。また、固溶しているかどうかはＴＥＭによる粒子の電子線回折パターンからも確認できる。
【００２８】
磁性金属粒子１０は、多結晶、単結晶のいずれの形態でもよいが、単結晶であることが好ましい。単結晶を含む粒子を用いた複合部材を高周波デバイスに用いる際、磁化容易軸を揃えることが可能になって磁気異方性を制御することができる。従って、多結晶の磁性金属粒子１０を含有する高周波磁性材料に比べて高周波特性を向上させることができる。
【００２９】
磁性金属粒子１０は、粒度分布での平均粒径が１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、好ましくは１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが望ましい。平均粒径を１０ｎｍ未満にすると、超常磁性が生じて得られる複合部材の磁束量が低下するおそれがある。一方、平均粒径が１０００ｎｍを超えると、得られる複合部材の高周波領域で渦電流損が大きくなり、目的とする高周波領域での磁気特性が低下するおそれがある。磁性金属粒子１０において、粒径が大きくなると、磁気構造としては単磁区構造よりも多磁区構造の方がエネルギー的に安定になる。この時、多磁区構造の磁性金属粒子１０は単磁区構造のそれに比べて得られる複合部材の透磁率の高周波特性が低下する。
【００３０】
このようなことから、磁性金属粒子１０を高周波用磁性部材として使用する場合は、単磁区構造を有する磁性金属粒子１０として存在させることが好ましい。単磁区構造を保つ磁性金属粒子１０の限界粒径は、５０ｎｍ程度以下であるため、その磁性金属粒子１０の平均粒径は５０ｎｍ以下にすることが好ましい。以上の点から、磁性金属粒子１０は平均粒径が１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、好ましくは１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが望ましい。
【００３１】
磁性金属粒子１０の平均粒径は、例えば、ＴＥＭを用いて磁性金属粒子の粒径により５０万倍あるいは１００万倍を選択して得られた視野（写真）の対角線上の磁性金属粒子１０の粒径を求めて平均化することにより求めることができる。互いにその一部が結合した磁性金属粒子１０においては、図２の点線で示したように、結合していない磁性金属粒子１０の部分から結合した部分にその外形を外挿して粒径を求め、それを平均化して平均粒径を求めることができる。
【００３２】
磁性金属粒子１０は、球状でもよいが、大きいアスペクト比（例えば１０以上）を持つ偏平状、棒状であってもよい。棒状には回転楕円体も含む。ここで、「アスペクト比」とは高さと直径の比（高さ／直径）を指す。球状の場合は、高さも直径と等しくなるためアスペクト比は１になる。偏平状粒子のアスペクト比は（直径／高さ）である。棒状のアスペクト比は（棒の長さ／棒の底面の直径）である。但し、回転楕円体のアスペクト比は（長軸／短軸）となる。なお、アスペクト比が１以上の磁性金属粒子１０の粒径は、TEMあるいはSEM観察により求めたその磁性金属粒子１０の高さと直径の平均、棒の長さと棒の底面の直径の平均、または長軸と短軸の平均とする。
【００３３】
アスペクト比を大きくすると、形状による磁気異方性を付与することができ、透磁率の高周波特性を向上させることができる。その上、磁性金属粒子１０を一体化して所望の部材を作製する際に磁場によって容易に配向させることが可能になり、さらに透磁率の高周波特性を向上させることができる。また、アスペクト比を大きくすることによって、単磁区構造となるコア部の限界粒径を大きくする、例えば９０ｎｍを超える粒径にすることができる。球状の磁性金属粒子１０の場合には単磁区構造になる限界粒径が９０ｎｍ程度である。
【００３４】
アスペクト比の大きな偏平状の磁性金属粒子１０では限界粒径を大きくでき、透磁率の高周波特性は劣化しない。一般に粒径の大きな粒子の方が合成し易いため、製造上の観点からアスペクト比が大きい方が有利になる。さらに、アスペクト比を大きくすることによって、所望の部材を作製する際、充填率を大きくすることができるため、部材の体積当たり、質量当たりの飽和磁化を大きくすることができ、結果として透磁率も大きくすることが可能となる。
【００３５】
本実施形態にかかる磁性金属粒子集合体１００は、磁性金属粒子集合体１００の比透磁率の虚部の周波数依存性が２個の周波数でピークを有する磁性金属粒子集合体１００である。これにより、たとえば１ＧＨｚ〜１８ＧＨｚといった超広帯域において、大きな吸収特性を有することができる。なお、周波数範囲はこれに限定されるものではない。また、磁性金属粒子集合体１００の大きさや形態により、３個以上の周波数でピークを有することもあり得る。
【００３６】
本実施形態にかかる磁性金属粒子集合体１００は、磁性金属粒子集合体１００の比透磁率の実部の周波数依存性が２個の周波数でピークを有する磁性金属粒子集合体１００である。これにより、たとえば１ＧＨｚ〜１８ＧＨｚといった超広帯域において、大きな吸収特性を有することができる。なお、周波数範囲はこれに限定されるものではない。磁性金属粒子集合体１００の大きさや形態により、３個以上の周波数でピークを有することもあり得る。
【００３７】
図３（ａ）〜（ｄ）は、加熱前と加熱後の複数の磁性金属粒子１０を示したものである。本実施形態における複数の磁性金属粒子を結合させることにより磁性金属粒子集合体を作製する際の加熱温度は、６００度以上８００度以下であることが望ましい。図３（ａ）に、加熱前の複数の磁性金属粒子１０を示す。図３（ｂ）に、加熱温度が６００℃未満である場合の、加熱後の複数の磁性金属粒子１０を示す。この場合には、加熱温度が十分に高くないため、各磁性金属粒子１０内での原子の相互拡散がおこらない。そのため、複数の磁性金属粒子１０の形態は、図３（ａ）に示した加熱前のものと同一である。
【００３８】
図３（ｂ）に示された磁性金属粒子１０の比透磁率は、元の磁性金属粒子１０の形態に起因する、たとえば４〜１８ＧＨｚの間でピークを有する。
【００３９】
図３（ｃ）に、加熱温度が６００℃以上８００℃以下である場合の、加熱後の複数の磁性金属粒子１０を示す。この場合には、各磁性金属粒子１０内及び磁性金属粒子１０間での原子の相互拡散が、元の磁性金属粒子１０の形態をある程度保ちつつ互いにその一部が結合する程度におこる。そのため、作製された磁性金属粒子集合体１００の形態は、複数の磁性金属粒子１０が結合されたものであり、かつ、元の磁性金属粒子１０の、粒径等といった形態上の特徴が、ある程度認識されるものとなる。
【００４０】
図３（ｃ）に示された磁性金属粒子集合体１００の比透磁率は、元の磁性金属粒子１０の形態上の特徴に起因する、たとえば４〜１８ＧＨｚでピークを有する。さらに、複数の磁性金属粒子１０が結合した金属粒子集合体の形態に起因する、１〜４ＧＨｚでピークを有する。結果として、図３（ｃ）に示された磁性金属粒子集合体１００は、広周波数帯域で高い電波吸収を示す。
【００４１】
図３（ｄ）に、加熱温度が８００℃を超える場合の、加熱後の複数の磁性金属粒子１０を示す。この場合には、磁性金属粒子１０間での原子の相互拡散が非常に強くおこる。そのため、作製された磁性金属粒子集合体１００の形態は、元の磁性金属粒子１０の形態上の特徴が認識できない、一つの球状となる。
【００４２】
図３（ｄ）に示された磁性金属粒子集合体１００の比透磁率は、一つの球状となった磁性金属粒子集合体１００の形態に起因する、１〜４ＧＨｚでピークを有する。
【００４３】
このように、複数の磁性金属粒子を結合させることにより磁性金属粒子集合体を作製する際の加熱温度が６００℃以上８５０℃以下であることが望ましい。より好ましい加熱温度は、相互拡散による個々の磁性金属粒子１０の結合の仕方と形態の保ち方の釣り合いが取れる、６５０℃以上８００℃以下であり、さらに好ましくは６５０℃以上７５０℃以下である。
【００４４】
電波吸収体２００中の磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は、１０％以上６０％以下であることが好ましい。より好ましくは、１５％以上５０％以下である。上記範囲を上回ると、金属的な性質が現れることで反射率が高くなり電波吸収特性が劣化する。これに対して上記範囲を下回ると、飽和磁化が低下し、それにより磁気特性に由来する電波吸収特性が低下するおそれがある。また、実用的な電波吸収特性を実現するために必要な厚さが厚くなりすぎるおそれがある。
【００４５】
なお、電波吸収体２００における体積充填率は、例えば、ＴＥＭを用いて磁性金属粒子の粒径により５０万倍あるいは１００万倍を選択して得られた写真を画像処理することで算出することが可能である。
【００４６】
電波吸収体２００の電気抵抗率は、１０ＭΩ・ｃｍ以上であることが好ましい。より好ましくは１００ＭΩ・ｃｍ以上、さらに好ましくは１０００ＭΩ・ｃｍ以上である。この範囲であれば、電波の反射が抑制され、高損失で高い電波吸収特性が得られるからである。なお、電気抵抗率は、直径１５ｍｍ、厚さ１ｍｍのディスク形状の電波吸収体２００の表裏面に、スパッタリング処理により直径５ｍｍのＡｕ電極を付与し、これらＡｕ電極間に１０Ｖの電圧を付加した際の電流値を読み取ることで導出する。また電流値は時間依存性を有するため、電圧を付加してから２分経過した際の値を用いて、電気抵抗率を見積もるものとする。
【００４７】
（被覆層を備える複数の磁性金属粒子が結合した磁性金属粒子集合体）
図４（ａ）〜（ｂ）は、被覆層２０を備える複数の磁性金属粒子１０が結合した磁性金属粒子集合体１００により作製した電波吸収体２００の図である。この磁性金属粒子集合体は、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉからなる第１の群より選択された少なくとも１種類の磁性金属と、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｍｎ、希土類元素、Ｂａ及びＳｒからなる第２の群より選択された少なくとも１種類の金属と、を含むコア部と、コア部を覆いコア部に含まれる第２の群より選択された少なくとも１種類の金属を含む被覆層と、を備える、互いにその一部が結合している複数の平均粒径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の磁性金属粒子を備える、平均粒径が１５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の磁性金属粒子集合体である。ここで、磁性金属粒子１０の結合は、磁性金属粒子１０の元素の相互拡散を伴い結合していることを特徴とする。なお、図４及び図５の記載において、図２及び図３の記載と重複が生じる場合には、その記載を省略することがある。また、磁性金属粒子集合体１００の形態はこれらに限定されず、さまざまな形態をとり得る。
【００４８】
Ｍｇ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｃａ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｎ，Ｍｎ，希土類元素、Ｂａ及びＳｒからなる第２の群より選択された少なくとも１種類の金属が含まれることにより、この磁性金属粒子１０を用いて複合部材を構成することにより高透磁率化することができる。また、第２の群の金属元素の酸化物は、標準生成ギブスエネルギーが小さく、酸化し易い。従って磁性金属粒子１０の表面付近にある第２の群の元素が酸化物層２１を形成しやすい。また、酸化物層２１に第２の群の元素が含まれることにより、複合部材を構成し、電気的絶縁性が安定する。
【００４９】
磁性金属粒子１０に含まれる磁性金属（第１の群の金属元素）としては、金属元素単体であっても良いが、合金であっても良い。特にＦｅ基合金、Ｃｏ基合金、ＦｅＣｏ基合金が高い飽和磁化を実現できるために好ましい。Ｆｅ基合金は、第２成分としてＮｉ，Ｍｎ，Ｃｕなどを含有する、例えばＦｅＮｉ合金、ＦｅＭｎ合金、ＦｅＣｕ合金を挙げることができる。Ｃｏ基合金は、第２成分としてＮｉ，Ｍｎ，Ｃｕなどを含有する、例えばＣｏＮｉ合金、ＣｏＭｎ合金、ＣｏＣｕ合金を挙げることができる。ＦｅＣｏ基合金は、第２成分としてＮｉ，Ｍｎ，Ｃｕなどを含有する合金を挙げることができる。例えばＦｅＣｏＮｉ合金、ＦｅＣｏＭｎ合金、ＦｅＣｏＣｕ合金を挙げることができる。これらの第２成分は、この磁性金属粒子１０を用いた複合部材では磁気損失を低下させて高周波磁気特性を向上させるために効果的な成分である。
【００５０】
磁性金属の中でも、特にＦｅＣｏ基合金を用いることが好ましい。ＦｅＣｏ中のＣｏ量は、熱的安定性及び耐酸化性と２テスラ以上の飽和磁化を満足させる点から１０原子％以上５０原子％以下にすることが好ましい。更に好ましいＦｅＣｏ中のＣｏ量は、より飽和磁化を高める観点から２０原子％以上４０原子％以下の範囲である。
【００５１】
第２の群に属する元素としては、中でも、Ａｌ，Ｓｉは磁性金属粒子１０の主成分であるＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉと固溶し易く、磁性金属粒子１０の熱的安定性の向上に寄与するために好ましい。特に、Ａｌを用いた場合は熱的安定性及び耐酸化性が高くなるために好ましい。また、第２の群に属する元素に、別の種類の第２の群に属する元素を添加する事によって、特性を向上させる事も可能である。添加元素としては、希土類元素のような活性金属元素を選択する事によって、得られる複合部材の高周波透磁率や熱的安定性、耐酸化性等の諸特性を更に向上できるため、好ましい。例えば、ＡｌもしくはＳｉを少なくとも１つ含む元素に、Ｙなどの希土類元素を添加する事が好ましい。あるいは、別の種類の第２の群に属する添加元素の価数を、第２の群に属する元素の価数と異なるものにする事によっても、同様の効果が期待できる。更には、別の種類の第２の群に属する添加元素の原子半径を、第２の群に属する元素の原子半径よりも大きくする事によっても、同様の効果が期待できる。
【００５２】
磁性金属粒子１０に含まれる第２の群の元素量は、第１の元素の量に対して、０．００１質量％以上２０質量％以下の量で含有することが好ましい。第２の群の元素の含有量がそれぞれ２０質量％を超えると、磁性金属粒子１０の飽和磁化を低下させるおそれがある。高い飽和磁化と固溶性の観点からより好ましい量としては、１質量％以上１０質量％以下の範囲で配合されることが望ましい。
【００５３】
磁性金属粒子１０には、炭素原子、あるいは窒素原子が固溶されていても良い。
【００５４】
磁性金属粒子１０に含まれる第１の群、第２の群の元素の組成分析は、例えば以下の方法で行うことができる。例えばＡｌのような非磁性金属の分析は、ＩＣＰを挙げることができる。ＩＣＰ発光分析によれば、弱酸などにより溶解した磁性金属粒子１０の部分と、アルカリや強酸などにより被覆層２０が溶解した残留物、及び粒子全体との分析結果を比較することにより、磁性金属粒子１０の組成を確認し、すなわち磁性金属粒子１０中の非磁性金属の量を分離測定できる。
【００５５】
磁性金属粒子１０に含まれる第１の群に属する成分に対する、第２の群に属する成分の固溶状態は、ＸＲＤで測定した格子定数から判断できる。例えば、ＦｅにＡｌ、炭素、が固溶すると、Ｆｅの格子定数は固溶量に応じて変化する。何も固溶していないｂｃｃ−Ｆｅの場合、格子定数は理想的には２．８６程度であるが、Ａｌが固溶すると格子定数は大きくなり、５ａｔ％程度のＡｌの固溶で格子定数は０．００５〜０．０１程度大きくなる。１０ａｔ％程度のＡｌ固溶では、０．０１〜０．０２程度大きくなる。また炭素がｂｃｃ−Ｆｅに固溶しても格子定数は大きくなり、０．０２質量％程度の炭素固溶で０．００１程度大きくなる。この様に、磁性金属粒子１０のＸＲＤ測定を行うことによって、磁性金属の格子定数を求め、その大きさによって固溶しているかどうか、またどの程度固溶しているのかを容易に判断できる。また、固溶しているかどうかはＴＥＭによる粒子の電子線回折パターンからも確認できる。
【００５６】
磁性金属粒子１０の平均粒径は、例えば、ＴＥＭを用いて磁性金属粒子の粒径により５０万倍あるいは１００万倍を選択して得られた視野（写真）の対角線上の磁性金属粒子１０の粒径を求めて平均化することにより求めることができる。互いにその一部が結合した磁性金属粒子１０においては、図４の点線で示したように、結合していない磁性金属粒子１０の部分から結合した部分にその外形を外挿して粒径を求め、それを平均化して平均粒径を求めることができる。なお、被覆層２０の厚みは磁性金属粒子１０の粒径に含まないものとする。
【００５７】
図４（ａ）と図４（ｂ）は、それぞれ被覆層２０の形態が異なる磁性金属粒子１０で作製された電波吸収体２００を示すものである。具体的には、図４（ａ）に用いられた磁性金属粒子１０は、後述する磁性金属粒子集合体１００の製造方法の（３）酸化工程において、酸化物層２１が磁性金属粒子１０と炭素含有材料層２２との界面で形成されたものである。また、図４（ｂ）に用いられた磁性金属粒子１０は、後述する磁性金属粒子集合体１００の製造方法の（３）酸化工程において、炭素含有材料層２２が部分的に酸化分解して酸化物層２１が形成されたものである。なお、後述する、磁性金属粒子集合体１００の製造方法において必要に応じて採用される、（４）脱酸素工程がおこなわれた場合等には、炭素含有材料層２２が除去されることがある。
【００５８】
被覆層２０は、前述の通り、上記コア部１２の少なくとも一部を被覆するものであり、酸化物層２１を少なくとも含んでいる。さらに炭素含有材料層２２を含んでいても良い。酸化物層２１、炭素含有材料層２２の形態は特に規定しないが、好ましくは、酸化物層２１がコア部１２に密着した構成が好ましい。
【００５９】
電波吸収体２００には、磁性金属粒子集合体１００の他に、酸化物粒子２５を含有する場合がある。この酸化物粒子２５は、磁性金属粒子１０の酸化物層２１が剥離してできたものである。酸化物粒子２５は、磁性金属粒子１０及び酸化物層２１と共通の第２の群に属する元素を含む。磁性金属粒子１０から酸化物層２１が剥離しなかった場合には、電波吸収体２００に酸化物粒子２５は含まれない場合がある。
【００６０】
本実施形態にかかる磁性金属粒子集合体１００は、磁性金属粒子集合体１００の比透磁率の虚部の周波数依存性が２個の周波数でピークを有する磁性金属粒子集合体１００である。これにより、たとえば１ＧＨｚ〜１８ＧＨｚといった超広帯域において、大きな吸収特性を有することができる。なお、周波数範囲はこれに限定されるものではない。また、磁性金属粒子集合体１００の大きさや形態により、３個以上の周波数でピークを有することもあり得る。
【００６１】
本実施形態にかかる磁性金属粒子集合体１００は、磁性金属粒子集合体１００の比透磁率の実部の周波数依存性が２個の周波数でピークを有する磁性金属粒子集合体１００である。これにより、たとえば１ＧＨｚ〜１８ＧＨｚといった超広帯域において、大きな吸収特性を有することができる。なお、周波数範囲はこれに限定されるものではない。磁性金属粒子集合体１００の大きさや形態により、３個以上の周波数でピークを有することもあり得る。
【００６２】
図５（ａ）〜（ｄ）は、加熱前と加熱後の複数の磁性金属粒子１０を示したものである。なお、後述する、磁性金属粒子集合体１００の製造方法において必要に応じて採用される、（４）脱酸素工程がおこなわれた場合等には、炭素含有材料層２２が除去されることがある。本実施形態における複数の磁性金属粒子を結合させることにより磁性金属粒子集合体を作製する際の加熱温度は、６００℃以上８５０℃以下であることが望ましい。図５（ａ）に、加熱前の複数の磁性金属粒子１０を示す。図５（ｂ）に、加熱温度が６００℃未満である場合の、加熱後の複数の磁性金属粒子１０を示す。この場合には、加熱温度が十分に高くないため、各磁性金属粒子１０内での原子の相互拡散がおこらない。そのため、複数の磁性金属粒子１０の形態は、図５（ａ）に示した加熱前のものと同一である。
【００６３】
図５（ｂ）に示された磁性金属粒子１０の比透磁率は、元の磁性金属粒子１０の形態に起因する、４〜１８ＧＨｚの間でピークを有する。
【００６４】
図５（ｃ）に、加熱温度が６００℃以上８００℃以下である場合の、加熱後の複数の磁性金属粒子１０を示す。この場合には、各磁性金属粒子１０内及び磁性金属粒子１０間での原子の相互拡散が、元の磁性金属粒子１０の形態をある程度保ちつつその一部が互いに結合する程度に、適度におこる。そのため、作製された磁性金属粒子集合体１００の形態は、複数の磁性金属粒子１０が結合されたものであり、かつ、元の磁性金属粒子１０の、粒径等といった形態上の特徴が、ある程度認識されるものとなる。
【００６５】
図５（ｃ）に示された磁性金属粒子集合体１００の比透磁率は、元の磁性金属粒子１０の形態上の特徴に起因する、４〜１８ＧＨｚでピークを有する。さらに、複数の磁性金属粒子１０が結合した金属粒子集合体の形態に起因する、１〜４ＧＨｚでピークを有する。結果として、図５（ｃ）に示された磁性金属粒子集合体１００は、広周波数帯域で高い電波吸収を示す。
【００６６】
図５（ｄ）に、加熱温度が８００℃を超える場合の、加熱後の複数の磁性金属粒子１０を示す。この場合には、磁性金属粒子１０間での原子の相互拡散が非常に強くおこる。そのため、作製された磁性金属粒子集合体１００の形態は、元の磁性金属粒子１０の形態上の特徴が認識できない、一つの球状となる。
【００６７】
図５（ｄ）に示された磁性金属粒子集合体１００の比透磁率は、一つの球状となった磁性金属粒子集合体１００の形態に起因する、１〜４ＧＨｚでピークを有する。
【００６８】
このように、磁性金属粒子１０を結合させて磁性金属粒子結合体を作製する際の加熱温度は、６００℃以上８５０℃以下であることが好ましい。より好ましい当該加熱温度は、相互拡散による個々の磁性金属粒子１０の結合の仕方と形態の保ち方の釣り合いが取れる、６５０℃以上８００℃以下であり、さらに好ましくは６５０℃以上７５０℃以下である。なお、磁性金属粒子１０内には、被覆層２０を構成する元素が拡散することがある。しかしかかる拡散は、電波吸収特性には特に問題がない。
【００６９】
（被覆層／酸化物層）
被覆層２０は、前述の通り、上記コア部１２の少なくとも一部を被覆するものであり、酸化物層２１を少なくとも含んでいる。さらに炭素含有材料層２２を含んでいても良い。酸化物層２１、炭素含有材料層２２の形態は特に規定しないが、好ましくは、酸化物層２１がコア部１２に密着した構成が好ましい。また、酸化物層２１の方がコア部１２より第１の群の磁性金属に対する第２の群の金属元素の割合が高い事が好ましい。何故ならば粒子の耐酸化性がより向上するからである。
【００７０】
酸化物層２１は、上記コア部１２の構成成分である第２の群の元素のうちの少なくとも１種類の元素を含む。すなわち、コア部１２と酸化物層２１は共通の第２の群の元素を有する。酸化物層２１においては、このコア部１２と共通の元素が酸化物を形成している。上記酸化物層２１は、コア部１２の第２の群の元素を酸化させて得た層であることが好ましい。
【００７１】
上記酸化物層２１の厚さは、０．０１〜５ｎｍの範囲であることが好ましい。この範囲を上回ると、磁性金属の構成比が減少し、粒子の飽和磁化を低下させる恐れがある。また、この範囲を下回ると、酸化物層２１による耐酸化性の安定化の効果を期待することはできない。
【００７２】
酸化物層２１中の酸素量は、特に規定されるものでは無いが、好ましくは、磁性金属粒子１０として酸素量を測定した際に、粒子全体に対して、酸素が０．５質量％以上１０質量％以下含有される事が良く、さらに好ましくは１質量％以上１０質量％以下、さらに好ましくは２質量％以上７質量％以下、である事が好ましい。この範囲を上回ると、磁性金属の構成比が減少し、粒子の飽和磁化を低下させる恐れがある。また、この範囲を下回ると、酸化物層２１による耐酸化性の安定化の効果を期待することはできない。
【００７３】
酸素量の定量方法は、例えば炭素含有材料層２２が磁性粒子金属表面を被覆する場合は、Ｈｅガスなどの不活性雰囲気にてカーボン容器内に２〜３ｍｇに秤量した測定試料を、助燃剤としてＳｎカプセル用いて、高周波加熱により２０００℃程度に加熱して行う。酸素測定は、高温加熱により試料中の酸素とカーボン容器とが反応し、生成する二酸化炭素を検出する事で酸素量を算出できる。また、主鎖が炭化水素から成る有機化合物で磁性粒子を被覆する場合は、温度コントロールと燃焼雰囲気を変更することで、酸化物層２１由来の酸素量のみを分離定量して行う。第１粒子集合体を占める酸素量が０．５質量％以下では被覆層２０に占める酸化物層２１の割合が少なくなり、この結果、耐熱性と熱的信頼性が劣る。第１粒子集合体を占める酸素量が１０質量％以上の場合には、酸化物層２１の剥離性が増す。
【００７４】
（被覆層／炭素含有材料層）
被覆層２０の一部を構成する炭素含有材料層２２としては、炭化水素ガス反応生成物、炭化物及び有機化合物からなる第３の群より選択された少なくとも１種類の炭素材料を採用することができる。この層が存在することによって、コア部１２の金属材料の酸化をより効果的に抑制することができ、耐酸化性が向上する。
【００７５】
炭素含有材料層２２は、平均厚さが、０．１ｎｍ以上１０ｎｍ以下、さらに好ましくは、１ｎｍ以上５ｎｍ以下の厚さを有することが好ましい。なお、ここで言う厚さとは、磁性金属粒子１０の中心と外縁を結ぶ直線に沿った長さを言う。炭素含有材料層２２の厚さを１ｎｍ未満にすると、耐酸化性が不十分になる。さらに、複合部材の抵抗が著しく低下して渦電流損失を発生し易くなり、透磁率の高周波特性を劣化するおそれがある。
【００７６】
一方、炭素含有材料層２２の厚さが１０ｎｍを超えると、炭素含有材料層２２で覆われた磁性金属粒子１０を一体化して所望の部材を作製する際、酸化物層２１の厚さ分だけ部材中に含まれる磁性金属の充填率が低下して、得られる複合部材の飽和磁化の低下、それによる透磁率の低下を招くおそれがある。
【００７７】
また、炭素含有材料層２２の膜厚はＴＥＭ観察によって求めることが可能である。
【００７８】
炭化水素ガス反応生成物とは、磁性金属粒子１０表面で、炭化水素ガスを分解して生成する材料を被膜として用いるものである。炭化水素ガスとしては、例えばアセチレンガス、プロパンガス、メタンガス等が挙げられる。この反応生成物は、確定的ではないが、炭素の薄膜を含有しているものと考えられる。この炭素含有材料層２２としては、適度な結晶性を有するものであることが好ましい。
【００７９】
炭素含有材料層２２の結晶性の評価は、具体的には、炭化水素気化温度で炭素含有材料層２２の結晶性を評価する方法が有る。ＴＧ−ＭＳ（熱天秤・質量分析）等の装置を使い、大気圧下での水素ガスフロー下での分析により、炭化水素（例えば質量数１６）の発生をモニターして、発生量がピークとなる温度より評価する。前述の炭化水素気化温度が、３００℃〜６５０℃の範囲にある事が好ましく、さらに４５０〜５５０℃の範囲にあると良い。何故なら、炭化水素気化温度が６５０℃以上の場合は、炭素含有材料層２２が緻密すぎて、酸化物層２１の生成が妨げられる。また３００℃以下では炭素含有材料層２２の欠陥が多すぎて過度の酸化が進行する。
【００８０】
上記炭素含有材料層２２は、炭化物であっても良い。この場合の炭化物は、磁性金属粒子１０を形成する第１、または第２の元素群の炭化物をあげる事ができる。中でも炭化珪素、炭化鉄は安定な炭化物であるため、適度な熱的信頼性を有するため好ましい。
【００８１】
上記炭素含有材料層２２は、有機化合物であっても良い。また、この有機化合物層は、上記炭化水素ガス反応生成物の表面に形成されたものであっても良い。有機化合物とは、主鎖が、炭素、水素、酸素、窒素の何れ以下より構成された有機ポリマー類またはオリゴマー類であることが望ましい。
【００８２】
この有機化合物は、常温・常圧において固体の材料である。例えば、天然化合物であれ、合成化合物であれ、有機ポリマー類またはオリゴマー類から選択することができる。本実施の形態のポリマー類またはオリゴマー類は、公知のラジカル重合または重縮合によって得ることができる。
【００８３】
上記有機化合物は、例えば、ポリオレフィン類、ポリビニル類、ポリ（ビニルアルコール）類、ポリエステル類、ポリ（乳酸）類、ポリ（グリコール酸）類、ポリスチレン類、ポリ（（メタ）アクリル酸メチル）類、ポリアミド類、及びポリウレタン類、ポリセルロース類、及びエポキシ化合物の単独重合体、またはこれらの共重合体から選択することができる。また、その有機化合物は、ゼラチン、ペクチン、またはカラギーナンなどの天然高分子からなる多糖から選択することができる。
【００８４】
有機化合物からなる炭素含有材料層２２は、２ｎｍ以上の厚さを有することが好ましい。
【００８５】
上記有機化合物の酸素透過係数は、常温・常圧の状態で、１×１０−１７［ｃｍ３（ＳＴＰ）・ｃｍ／ｃｍ２・ｓ・Ｐａ］以上のものを用いることが好ましい。この酸素透過係数以下の場合は、酸化物−炭素−金属粒子集合体、すなわち磁性金属粒子１０の形成において、酸化物層２１の形成が進まず、特性の劣化を引き起こす可能性があるので好ましくない。
【００８６】
酸素透過係数の測定においては、公知の技術にて測定可能なものであり、例えばＪＩＳ  Ｋ７１２６−１：2006（プラスチック−フィルム及びシート−ガス透過度試験方法−第１部：差圧法）に準じた差圧式のガスクロ法で行うことが出来る。すなわち、有機化合物のフィルムを用意し、これを境に、一方は加圧、他方の透過側は減圧に行う方法で測定することで評価することが出来る。その際、透過したガスをガスクロマトグラフにて分離し、熱伝導度検出器（ＴＣＤ）及び水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ）により、時間あたりのガス透過量を求めることで、酸素透過係数を算出することができる。
【００８７】
本実施の形態において、金属含有粒子複合部材を形成する以前の酸化物層２１と炭素含有材料層２２とは、以下の作用を示す。
【００８８】
炭素含有材料層２２のみから構成されると、炭素含有材料層２２の亀裂等により磁性金属粒子１０の酸化が急激に進行し、部分的に発熱を伴うため、周囲の粒子を巻き込んで酸化が連鎖的に進行し、磁性金属粒子１０の磁気特性低下の原因となる。
【００８９】
また、酸化物層２１のみから構成される場合は、酸化物組成に不均一な部分が生じ、第２の群の金属の酸化物を含有せず第１の群の元素を主体とする酸化物層２１が存在する部位が増える可能性がある。第２の群の元素の酸化物は元素拡散を抑制しコア部１２に対する保護性が高いが、第１の群の元素の酸化物は元素拡散が第２群の元素の酸化物より大きくコア部１２に対する保護性が劣る。従って、酸化物層２１に第１の群の元素の酸化物が多いと、コア部１２の過剰な酸化が進行し、金属含有粒子複合部材として磁性材料を構成した場合その機能が弱まる。
【００９０】
酸化物層２１と炭素含有材料層２２とから適切に構成されることにより、磁性金属粒子１０の耐酸化性を良好に維持できる。また、酸化物層２１の剥離性を抑制でき、耐熱性に優れ、金属含有粒子複合部材として構成した場合、長時間の磁気特性の熱的安定性に優れた磁性材料が提供される。
【００９１】
酸化物層２１と炭素含有材料層２２の割合は、好ましくは酸化物層２１と炭素含有材料層２２の質量割合が１：２０〜１：１の範囲が良い。
【００９２】
電波吸収体２００中の磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は、１０％以上６０％以下であることが好ましい。より好ましくは、１５％以上５０％以下である。上記範囲を上回ると、金属的な性質が現れることで反射率が高くなり電波吸収特性が劣化する。これに対して上記範囲を下回ると、飽和磁化が低下し、それにより磁気特性に由来する電波吸収特性が低下するおそれがある。また、実用的な電波吸収特性を実現するために必要な厚さが厚くなりすぎるおそれがある。
【００９３】
なお、電波吸収体２００における体積充填率は、例えば、ＴＥＭを用いて磁性金属粒子の粒径により５０万倍あるいは１００万倍を選択して得られた写真を画像処理することで算出することが可能である。なお、被覆層２０は金属粒子の体積に含めず、コア部１２のみを磁性金属粒子１０の体積として扱うものとする。
【００９４】
電波吸収体２００の電気抵抗率は、１０ＭΩ・ｃｍ以上であることが好ましい。より好ましくは１００ＭΩ・ｃｍ以上、さらに好ましくは１０００ＭΩ・ｃｍ以上である。この範囲であれば、電波の反射が抑制され、高損失で高い電波吸収特性が得られるからである。なお、電気抵抗率は、直径１５ｍｍ、厚さ１ｍｍのディスク形状の電波吸収体２００の表裏面に、スパッタリング処理により直径５ｍｍのＡｕ電極を付与し、これらＡｕ電極間に１０Ｖの電圧を付加した際の電流値を読み取ることで導出する。また電流値は時間依存性を有するため、電圧を付加してから２分経過した際の値を用いて、電気抵抗率を見積もるものとする。
【００９５】
（磁性金属粒子集合体の製造方法）
本実施の形態の磁性金属粒子集合体１００の製造方法について一例を示す。
（１）Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉからなる第１の群から選ばれる少なくとも一種類の磁性金属元素と、Ｍｇ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｃａ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｎ，Ｍｎ，希土類元素、Ｂａ及びＳｒからなる第２の群より選ばれる少なくとも一種類の金属元素をプラズマ中に投入し金属含有粒子を形成する工程（合金粒子形成工程）。
（２）上記金属含有粒子表面に炭素含有材料層２２を被覆する工程（炭素被覆工程）。
（３）上記炭素で被覆した金属含有合金粒子を酸素含有雰囲気下で酸化する工程（酸化工程）。
（４）さらに、必要に応じて採用される上記（２）の炭素被覆工程で形成した炭素被覆を除去する工程（脱炭素工程）。
（５）磁性金属粒子１０を加熱処理し、粒子間の結合を付与する工程（拡散結合工程）
である。なお、第２の群より選ばれる金属元素を含有しない場合には、たとえば、上記の工程のうち、（１）の合金粒子形成工程と、上記（５）の拡散結合工程を用いる。
【００９６】
以下それぞれの工程（１）〜（５）について説明する。
（（１）：合金粒子形成工程）
磁性粒子の製造には、熱プラズマ法等を利用することが好ましい。以下、熱プラズマ法を利用した磁性粒子の製造方法を説明する。
【００９７】
まず、高周波誘導熱プラズマ装置にプラズマ発生用のガスとして例えばアルゴン（Ａｒ）を主成分とするガスを流入しプラズマを発生させる。次いで、プラズマ内に、磁性金属粉末（第１の群に属する金属）及び第２の群に属する金属粉末を噴霧する。
【００９８】
磁性金属粒子１０を製造する工程は、熱プラズマ法に限られるものではないが、熱プラズマ法により行われることが、材料組織をナノレベルで制御しやすく、且つ、大量合成が可能であるためが好ましい。
【００９９】
なお、アルゴンガス中に噴霧する金属粉末としては、第１の群の磁性金属と第２の群の金属が固溶した平均粒径１μｍ以上１０μｍ以下の磁性金属粉末を用いる事も可能である。平均粒径１μｍ以上１０μｍ以下の固溶粉末は、アトマイズ法等で合成される。固溶粉末を用いることで、熱プラズマ法によって、均一な組成の磁性金属粒子１０を合成できる。
【０１００】
なお、磁性金属粒子１０に窒素が固溶したものも高い磁気異方性を有する点で好ましい。窒素を固溶させるためには、プラズマ発生用ガスとしてアルゴンと共に窒素を導入する等の方法が考えられるが、これに限定されるものではない。
【０１０１】
（（２）：炭素被覆工程）
次に、磁性金属粒子１０に炭素含有材料層２２で覆う工程について説明する。
この工程としては、（ａ）磁性金属粒子１０表面で、炭化水素ガスを反応させる方法、（ｂ）磁性金属粒子１０表面で、磁性金属粒子１０を構成する金属元素と炭素を反応させ、炭化物とする方法、（ｃ）炭化水素からなる主鎖を有する有機化合物を用いて、磁性金属粒子１０表面を被覆する方法などがあげられる。
【０１０２】
上記第１の（ａ）の方法である炭化水素ガス反応方法は、キャリアガスを炭化水素ガスと共に磁性金属粒子１０表面に導入し、反応させて、その反応生成物で、磁性金属粒子１０表面を被覆するものである。用いられる炭化水素ガスは、特に限定されるものでは無いが、例えばアセチレンガス、プロパンガス、メタンガス等が挙げられる。
【０１０３】
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉを主成分とする合金は、炭化水素ガスを分解し炭素を析出させる触媒として知られている。この反応によって、良好な炭素含有材料層２２を形成する事が可能となる。すなわち、触媒作用を示す適当な温度範囲、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉを主成分とする合金粒子と炭化水素ガスを接触させ、磁性金属粒子１０同士が接触することを防ぐカーボン層を得るものである。
【０１０４】
上記、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉを主成分とする合金粒子と炭化水素ガスの反応温度は、炭化水素ガス種によって異なるが、一般に、２００℃以上、１０００℃以下が好ましい。これより低い温度では炭素の析出量が少なすぎては被覆として不十分ものとなる。またこれより高い温度では炭素のポテンシャルが高すぎて析出が過剰に進むためである。
【０１０５】
また、炭素含有材料層２２を形成する金属と炭化水素ガスとの反応温度は、炭素含有材料層２２の安定性、即ち結晶性に影響する。高い反応温度で形成された炭素含有材料層２２は、高い温度で炭化水素ガス化し、低い反応温度で形成された炭素含有材料層２２は低い温度で炭化水素ガス化する。
【０１０６】
この様に炭素含有材料層２２の安定性は水素中での加熱実験により評価する事が可能である。ＴＧ−ＭＳ法等の装置により炭化水素気化温度を、ガス化濃度がピークとなる温度を測定する事により評価ができる。例えば質量番号１６の炭化水素ガス発生がピークとなる温度を熱分解ピーク温度とし、このピーク温度が高い程、炭素含有材料層２２が高安定性、低い程低安定性とする事ができる。
【０１０７】
また、炭素を含む原料を炭素含有材料層２２となる原料と同時噴霧する方法も考えられる。この方法で用いる炭素を含む原料は純粋な炭素等が考えられるが、特にこれに限定されるものではない。
【０１０８】
上記２つ目の（ｂ）の方法は、磁性金属粒子１０に均質な炭素を被覆する事ができるという点から望ましいが、磁性金属粒子１０表面を炭素で被覆する工程は、必ずしも上記２つの方法に限定されるものではない。
【０１０９】
磁性金属粒子１０表面の金属元素を炭化する方法としては、公知の方法を採用することができる。例えば、ＣＶＤによりアセチレンガスやメタンガスとの反応により形成する方法がある。この方法によれば、炭化珪素や炭化鉄などの熱的に安定な炭素含有材料層２２を形成することができる。
【０１１０】
次に、上記（ｃ）の有機化合物を被覆する方法としては、様々な公知の方法を採用することができる。例えば、物理化学的ナノカプセル化法、及び、化学的ナノカプセル化法が知られている。物理化学的方法は、相分離またはコア−シェルベーション、及びその他既知のナノカプセル化のための物理化学的方法から選択することができる。化学的方法は、界面重縮合、界面重合、分散媒中の重合、ｉｎ−ｓｉｔｕ重縮合、乳化重合、及びその他既知のナノカプセル化のための化学的方法から選択することができる。有機化合物の被覆層は、共有結合なしで、物理的結合によって磁性金属粒子１０ないしは酸化物層２１と結合している。
【０１１１】
上記の方法により、磁性金属粒子１０と、２ｎｍより厚いポリマー被覆された複合粒子を得ることが可能となる。
【０１１２】
また、上記方法以外に、ポリマー溶液中に磁性金属粒子１０を投入し、ホモジナイズすることで有機化合物からなるシェルを構成することも可能である。産業上においては、この方法を用いる方が簡便で好ましい。
【０１１３】
この方法においては、必ずしも粒子夫々を単体で存在させる必要はなく、磁性金属粒子１０間に、所望の厚みの有機化合物層が形成された凝集体として存在しても良い。
【０１１４】
（（３）：酸化工程）
上記工程で得られる炭素で被覆した磁性金属粒子１０を、酸素存在下で酸化する工程について説明する。酸化物層２１は、磁性金属粒子１０と炭素含有材料層２２との界面で形成されるか、または、炭素含有材料層２２が部分的に酸化分解して酸化物層２１を形成する。
【０１１５】
この処理によって、磁性金属粒子１０が酸化されるが、特に、磁性金属粒子１０に含まれる第２の群に属する金属を酸化する事が望ましい。すなわち、Ｍｇ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｃａ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｎ，Ｍｎ，希土類元素、Ｂａ及びＳｒから選ばれる少なくとも１つの金属が酸化され、磁性金属粒子１０の表面に酸化物層２１が形成される。
【０１１６】
酸化雰囲気は、大気や、酸素、ＣＯ２等の酸化性雰囲気、水蒸気を含んだガス等、であれば良く、特に限定されるものではない。酸素を用いる場合は、酸素濃度が高いと酸化が瞬時に進行し、過剰な発熱などにより粒子が凝集する恐れがある。そのためＡｒ、Ｎ２等の不活性ガス中に酸素を５％以下含むガスであることが望ましく、より望ましくは０．００１％〜３％の範囲が望ましいが特にこれに限定されるものでは無い。
【０１１７】
上記雰囲気での酸化は加熱環境下で行っても良い。この場合の温度は、特に限定されるものでは無いが、室温から３００℃程度までの温度が好ましい。何故なら、これ以下の温度では酸化の進行が起こり難く、またこれ以上の温度では、酸化の進行が激しく、同時に粒子の凝集が起こるからである。
【０１１８】
上記、酸化工程で用いる雰囲気ガスと温度は、上記炭素含有材料層２２の結晶性、すなわち安定性と膜厚とのバランスによって選択する事が好ましい。すなわち、安定性が高い炭素含有材料層２２を適用した場合は、酸素ポテンシャルが高い状態を、また安定性が低い炭素含有材料層２２を適用した場合は、酸素ポテンシャルが低い状態で酸化するのが好ましい。
【０１１９】
また、厚さが厚い炭素含有材料層２２を適用した場合は、酸素ポテンシャルが高い状態で、薄い炭素含有材料層２２を適用した場合は、酸素ポテンシャルが低い状態で酸化するのが好ましい。また酸化が短時間で行われる場合、酸素ガス濃度が１０％程度の濃度でも良い。以上のような、製造方法によって、被覆層２０が炭素含有材料層２２と酸化物層２１からなる磁性金属粒子１０を製造することが可能となる。
【０１２０】
（（４）：脱炭素工程）
上記工程までによって得られた磁性金属粒子１０を、例えば水素雰囲気中で、数百度で加熱すると、磁性金属粒子１０の炭素含有材料層２２が除去される。従って、磁性金属粒子１０の少なくとも一部の表面を酸化物層２１が被覆する磁性金属粒子１０を含む磁性金属粒子１０が得られる。この工程によって、金属含有粒子複合部材を得る時の粒子の充填率を高めることができる。
また、前述の有機ポリマー類やオリゴマー類といった有機化合物を除去する場合には、酸素もしくは水素存在下で熱分解し、分解除去することもできる。
【０１２１】
熱処理の雰囲気は特に規定しないが、炭素を炭化水素ガス化する還元雰囲気下と、炭素を酸化炭素ガス化する酸化性雰囲気下が考えられる。
【０１２２】
一般に第２の群の元素から構成される酸化物層２１は、還元性・酸化性いずれの雰囲気ガス中においても１０００℃近くの高温まで安定で、分解・ガス化し難い。一方で、炭素または炭化物層は、水素中数百度の加熱において、炭化水素ガスとなりガス化する事ができる。同様に、酸化雰囲気中に数百度の加熱においても酸化炭素ガスとなりガス化する事ができる。このため、加熱雰囲気を選ぶ事により、酸化物層２１を残し、炭素含有材料層２２のみを選択的に除去する事ができる。
【０１２３】
還元雰囲気としては、例えば水素もしくはメタン等の還元性気体を含む窒素またはアルゴンの雰囲気、を挙げることができる。より好ましいのは、濃度５０％以上の水素ガス雰囲気である。これは炭素含有材料層２２の除去効率が向上するからである。
【０１２４】
酸化性雰囲気は、酸素、二酸化炭素、水蒸気等の酸素原子を含む気体と、上記酸素原子を含む気体と窒素、アルゴンとの混合気体が挙げられる。
【０１２５】
また、還元性気体を含む窒素またはアルゴンの雰囲気は、気流であることが好ましく、その気流の流速は１０ｍＬ／分以上にすることが好ましい。
【０１２６】
還元雰囲気中での加熱温度は特に規定されるものでなく、１００℃〜８００℃の温度で行うことが好ましい。その中でも３００℃以上８００℃以下が好ましい。加熱温度を１００℃未満にすると還元反応の進行が遅くなるおそれがある。一方、８００℃を超えると、析出した金属微粒子の凝集・粒成長が短時間で進行するおそれがある。
【０１２７】
また、さらに好ましくは、炭素含有材料層２２の結晶性、すなわち炭素含有材料層２２の安定性を基準に選択する事が好ましい。すなわち、高安定性を有する炭素含有材料層２２の場合は比較的高温で、低安定性を有する炭素含有材料層２２の場合は比較的低温が良い。
【０１２８】
熱処理温度と時間は、少なくとも炭素含有材料層２２を還元できる条件であれば、特に限定されるものではない。
【０１２９】
還元性気体による炭素除去処理後の第１粒子集合体に含有される炭素量は、１質量％以下である事が好ましい。何故なら電気的な影響が低減されるからである。
【０１３０】
酸化性雰囲気による炭素除去は、空気、酸素−アルゴン、酸素−窒素等の混合ガス、露点を制御した加湿アルゴン、または加湿窒素等が挙げられる。
【０１３１】
酸化性雰囲気による炭素除去法は、できるだけ低い酸素分圧で実施する事が好ましい。上述の方法とは別に、水素と、酸素原子を含む混合気体とを利用して炭素含有材料層２２の除去を行う方法を採用する事ができる。この場合、炭素除去と酸化を同時に進行させる事もできるため、より安定な酸化物層２１を形成する事が可能となる。
【０１３２】
混合気体としては、特に限定されないが、水素と、アルゴン−酸素との混合気体、露点を制御した水素ガス等を上げることができる。
【０１３３】
このようにして得られた磁性金属粒子１０も、表面が酸化膜で覆われており凝集しにくい。
【０１３４】
また、この脱炭素工程を行う前に、磁性金属粒子１０を酸素含有雰囲気または不活性雰囲気下で、プラズマ照射またはエネルギー線照射し、炭素含有材料層２２の結晶性にダメージを与えることで、炭素含有材料層２２の酸素透過性を制御し、炭素含有材料層２２下に適度な厚さの酸化物層２１を形成させることができる。好ましいエネルギー線としては、電子ビーム、イオンビームなどから選ばれる。使用できる酸素含有雰囲気の酸素分圧は、１０Ｐａ以上、１０３Ｐａ以下であることが好ましい。この範囲を上回ると、プラズマ、電子ビーム、イオンビームが励起または発生し難くなり、この範囲を下回ると、プラズマまたはエネルギー線照射の効果を期待することができない。
【０１３５】
（（５）：拡散結合工程）
上記工程までによって得られた磁性金属粒子１０を、例えば水素雰囲気中で、数百度で加熱すると、磁性金属粒子１０同士の相互拡散を伴い、お互いが拡散結合し、磁性金属粒子集合体１００が得られる。この工程により、磁性金属粒子集合体１００の平均粒径は、１５ｎｍ以上９０ｎｍ以下にすることができる。
【０１３６】
磁性金属粒子１０が拡散結合することで、磁性金属粒子１０が有する比透磁率の周波数特性、すなわち比透磁率虚部において４〜１８ＧＨｚに現われるピーク以外に、磁性金属粒子集合体１００の形状に由来する１〜４ＧＨｚのピークが出現するようになる。材料の磁気損失が高い場合、材料内部での電磁波の熱エネルギーへの変換量が増大するため、吸収体としての吸収特性が高まるといえる。この拡散結合は、たとえば１００％水素ガスや水素−窒素混合ガス（たとえば水度濃度３％程度）などの還元雰囲気下で行うことが好ましい。
【０１３７】
（結合層３０（バインダー））
上記実施の形態によって製作された磁性金属粒子集合体１００は、図２に示すように、樹脂や無機材料などのバインダー（結合層３０）と混合・成形され、所要の形状、たとえば、シート状の電波吸収体２００として用いられる。結合層３０は、磁性金属粒子集合体１００よりも高抵抗であり、例えば、樹脂で形成される。
【０１３８】
電波吸収体２００の形状は用途に応じて、バルク（ペレット状、リング状、矩形状など）、シートを含む膜状等の形態をとり得る。
【０１３９】
この実施形態に係る磁性金属粒子集合体１００及び電波吸収体２００において、材料組織はＩＣＰ発光分析で、回折パターン（固溶の確認を含む）はＴＥＭ回折、ＸＲＤで、構成元素の同定及び定量分析はＩＣＰ発光分析、蛍光Ｘ線分析、ＥＰＭＡ（Electron Probe Micro-Analysis）、ＥＤＸ、ＳＩＭＳ、ＴＧ−ＭＳ、赤外線吸収法による酸素・炭素分析等で、それぞれ判別もしくは分析可能である。
【０１４０】
バインダー（結合層）として樹脂を用いる場合には、特に限定されないが、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ニトリル−ブタジエン系ゴム、スチレン−ブタジエン系ゴム、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂、或いはそれらの共重合体が用いられる。
【０１４１】
また、樹脂の代わりに酸化物、窒化物、炭化物などの無機材料をバインダーとして用いてもよい。無機材料は、具体的にはＭｇ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｃａ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｎ，Ｍｎ，希土類元素、Ｂａ及びＳｒからなる群から選ばれる少なくとも１つの金属を含む酸化物、ＡｌＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＣ等を挙げることができる。
【０１４２】
磁性シートの作製方法は、特に限定されないが、例えば磁性金属粒子１０と、樹脂と、溶媒とを混合し、スラリーとし、塗布、乾燥することで作製することができる。また、磁性金属粒子１０と樹脂との混合物をプレスしてシート状あるいはペレット状に成型してもよい。更に、磁性金属粒子１０を溶媒中に分散させ、電気泳動などの方法により堆積してもよい。
【０１４３】
磁性シートは、積層構造にしてもよい。積層構造にすることによって容易に厚膜化することが可能になるのみならず、非磁性絶縁性層と交互に積層することによって高周波磁気特性を向上させることが可能となる。すなわち、磁性金属粒子集合体１００を含む磁性層を厚さ１００μｍ以下のシート状に形成し、このシート状磁性相を厚さ１００μｍ以下の非磁性絶縁性酸化物層２１と交互に積層する。このような積層構造によって、高周波磁気特性が向上する。磁性層単層の厚さを１００μｍ以下にすることによって、面内方向に高周波磁場を印加した時に、反磁界の影響を小さくすることができ、透磁率を増大させることが可能になるのみならず透磁率の高周波特性が向上する。積層方法は特に限定されないが、磁性シートを複数枚重ねてプレスなどの方法で圧着したり、加熱、焼結させたりすることによって積層することができる。
【実施例】
【０１４４】
以下に、実施例を比較例と対比しながらより詳細に説明する。
【０１４５】
（実施例１）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０１４６】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０１４７】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径１０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０１４８】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で６００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径２０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０１４９】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０１５０】
（実施例２）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０１５１】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０１５２】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径１０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０１５３】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で７００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径３０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０１５４】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０１５５】
（実施例３）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０１５６】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０１５７】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径１０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０１５８】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で７５０℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径５０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０１５９】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０１６０】
（実施例４）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０１６１】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０１６２】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径１０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０１６３】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で８００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径１０５ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０１６４】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０１６５】
（実施例５）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０１６６】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０１６７】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径３０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０１６８】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で６５０℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径５０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０１６９】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０１７０】
（実施例６）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０１７１】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０１７２】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径３０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０１７３】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で７００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径８０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０１７４】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０１７５】
（実施例７）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０１７６】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０１７７】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径３０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０１７８】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で７５０℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径１１５ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０１７９】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０１８０】
（実施例８）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０１８１】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０１８２】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径３０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０１８３】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で８００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径１３０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０１８４】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０１８５】
（実施例９）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０１８６】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０１８７】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径５０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０１８８】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で７００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径８０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０１８９】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０１９０】
（実施例１０）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０１９１】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０１９２】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径５０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０１９３】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で８００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径１４０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０１９４】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０１９５】
（比較例１）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０１９６】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０１９７】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径５ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０１９８】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で６００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径２０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０１９９】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０２００】
（比較例２）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２０１】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２０２】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径５ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２０３】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で７００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径２５ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２０４】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０２０５】
（比較例３）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２０６】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２０７】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径５ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２０８】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で８００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径１００ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２０９】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０２１０】
（比較例４）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２１１】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２１２】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径５ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２１３】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で８５０℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径１５０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２１４】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０２１５】
（比較例５）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２１６】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２１７】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径５ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２１８】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で９００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径２２５ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２１９】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０２２０】
（比較例６）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２２１】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２２２】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径１０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２２３】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で９００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径２３５ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２２４】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０２２５】
（比較例７）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２２６】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２２７】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径３０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２２８】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で９００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径２５０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２２９】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０２３０】
（比較例８）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２３１】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２３２】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径５０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２３３】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で９００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径２５０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２３４】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０２３５】
（比較例９）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２３６】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２３７】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径１００ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２３８】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で８００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径１５０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２３９】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０２４０】
（比較例１０）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２４１】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２４２】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径１００ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２４３】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で９００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径２５０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２４４】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを質量比で１００：３０の割合で混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３０％相当であった。
【０２４５】
実施例及び比較例で得られた磁性金属粒子１０を含む電波吸収体２００を同軸管テストフィクスチュア（(株)関東電子応用開発 CSH2-APC7）に装荷し、Sパラメータの反射係数S11、透過係数S21から磁気損失係数ｔａｎδｍ（μ’’／μ’）を算出する。試料は内径3.04 mm、外形 7.00 mm、厚さ2 mm以内のリング形状とした。判定は、優良なものを◎、良いものを○、良くないものを×とした。
【０２４６】
【表１】
2015084409.tif 000003
【０２４７】
表１より、磁性金属粒子１０の平均粒径が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下、磁性金属粒子集合体１００の粒径が１５ｎｍ以上２００ｎｍ以下、加熱温度が６００℃以上８００℃以下のときに、優れた電波吸収体２００の特性が得られることが明らかとなった。
【０２４８】
（実施例１１）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２４９】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２５０】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径３０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２５１】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で８００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径１３０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２５２】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は１５．２％であった。
【０２５３】
（実施例１２）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２５４】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２５５】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径３０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２５６】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で８００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径１３０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２５７】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は２５％であった。
【０２５８】
（実施例１３）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２５９】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２６０】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径３０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２６１】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で８００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径１３０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２６２】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は３６．７％であった。
【０２６３】
（実施例１４）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２６４】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２６５】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径３０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２６６】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で８００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径１３０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２６７】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は４９．２％であった。
【０２６８】
（比較例１１）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２６９】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２７０】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径３０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２７１】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で８００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径１３０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２７２】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は８．１％であった。
【０２７３】
（比較例１２）
高周波誘導熱プラズマ装置のチャンバー内にプラズマ発生用ガスとしてアルゴンを４０Ｌ／分で導入し、プラズマを発生させる。このチャンバー内のプラズマに原料である平均粒径１０μｍのＦｅ粉末と平均粒径１０μｍのＣｏ粉末と、平均粒径３μｍのＡｌ粉末をＦｅ：Ｃｏ：Ａｌが総量に対する質量比で６９：３１：５になるようにアルゴン（キャリアガス）と共に３Ｌ／分で噴射する。
【０２７４】
同時に、チャンバー内に炭素被覆の原料としてメタンガスをＡｒキャリアガスと共に導入し、ガス温度と粉末温度を制御して、ＦｅＣｏＡｌ合金粒子を炭素で被覆された磁性金属粒子１０を得る。
【０２７５】
この炭素被覆磁性金属粒子を、約５分間酸化し、炭素含有材料層２２と酸化物層２１で被覆された、平均粒径３０ｎｍの磁性金属粒子１０を得る。
【０２７６】
上記炭素被覆磁性金属粒子を、水素雰囲気中で８００℃、１時間加熱し、炭素の除去と伴に、磁性金属粒子１０の拡散結合を付与し、平均粒径１３０ｎｍの磁性金属粒子集合体１００を得る。
【０２７７】
このような磁性金属粒子集合体１００と樹脂とを混合し、厚膜化して評価用材料とする。磁性金属粒子集合体１００の体積充填率は６５％であった。
【０２７８】
実施例及び比較例で得られた磁性金属粒子１０を含む電波吸収体２００を同軸管テストフィクスチュア（(株)関東電子応用開発 CSH2-APC7）に装荷し、Sパラメータの反射係数S11、透過係数S21から磁気損失係数ｔａｎδｍ（μ’’／μ’）を算出する。試料は内径3.04 mm、外形 7.00 mm、厚さ2 mm以内のリング形状とした。判定は、優良なものを◎、良いものを○、良くないものを×とした。
【０２７９】
【表２】
2015084409.tif 000004
【０２８０】
表２より、磁性金属粒子集合体１００の体積充填率が１０％以上６０％以下であるときに、優れた電波吸収体２００の特性が得られることが明らかとなった。
【０２８１】
なお上記の実施例及び比較例は被覆層２０を有する磁性金属粒子１０を用いたものであるが、被覆層２０を有しない磁性金属粒子１０についても同様の結果が得られた。
【０２８２】
以上、本発明のいくつかの実施形態及び実施例を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態及び実施例は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態や実施例及びその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【０２８３】
１０        磁性金属粒子
１２        コア部
１４        ネッキング
２０        被覆層
２１        酸化物層
２２        炭素含有材料層
２５        酸化物粒子
３０        結合層
１００      磁性金属粒子集合体
２００      電波吸収体
【図１】
2015084409.tif 000005
【図２】
2015084409.tif 000006
【図３】
2015084409.tif 000007
【図４】
2015084409.tif 000008
【図５】
2015084409.tif 000009